【事件の表示】
　特願２００３−３５７６４４「円筒状基材の塗布方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１６年３月１１日出願公開、特開２００４−７４１５９〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成７年５月２６日に出願した特願平７−１２８０２３号の一部を平成１５年１０月１７日に新たな特許出願としたものであって、平成１８年１２月１８日付けの拒絶理由通知に対して、平成１９年３月５日に意見書及び手続補正書が提出されたところ、同年３月２６日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、同年５月７日に拒絶査定に対する審判請求がなされたものである。
　
第２　本願発明
　本願に係る発明は、平成１９年３月５日付け手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１〜３に記載されるとおりのものであって、そのうち、請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、以下のとおりである。
「エンドレスに形成された連続周面を有する円筒状基材を移動させながら、塗布液を、前記基材側に開口する塗布液流出口を有する塗布液分配スリットを通して、前記基材周面を取り囲むように基材全周にわたって近接形成されたホッパー塗布面に設けられたエンドレスの塗布液流出口から該ホッパー塗布面にあるスライド面上に流出させ、前記基材とホッパー塗布面の先端部に連続的に供給させて塗布する方法において、前記塗布液の粘度を１０以上６００ミリパスカル・秒未満、前記基材表面及びホッパーの先端部の間隙を５０〜５００μｍ、並びに前記塗布液分配スリット間隙を５０〜５００μｍとし、前記基材の移動速度を５〜３０ｍｍ／ｓｅｃとしたことを特徴とする円筒状基材の塗布方法。」
　
第３　原査定の拒絶の理由
　原査定の拒絶の理由は、
「この出願の下記の請求項に係る発明は、その出願前に日本国内又は外国において頒布された下記の刊行物に記載された発明に基いて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　　　　　　　記　　　（引用文献等については引用文献等一覧参照）
・請求項１−３
・文献１−３　
　・・・
　　　　　　　　　　引　用　文　献　等　一　覧
１.特開昭６０−０９３４４２号公報
２.特開昭６１−００８１６４号公報
３.特開昭６２−２１３８７２号公報 」
という理由を含むものである。
　
第４　引用刊行物の記載事項
　原査定の拒絶の理由に引用された、本願出願前に頒布された刊行物には、以下の事項が記載されている。
(１)　刊行物１（特開昭６０−０９３４４２号公報）に記載された事項
(1-a)　「電子写真感光体基材の如く、エンドレスに形成された連続周面を有する基材を移動させながら液を塗布するビード塗布装置において、ホツパーエツジ（唇状部）が基材周面を取囲むように且つ該基材周面との間に２以上の重畳塗布液層からなるビードを架橋可能な間隔を維持するように、ホツパー装置が配置されており、該ホツパー装置には、前記塗布液ビードの重畳層の各々に、塗布液を重畳の関係で供給する塗布液分配室が基材周面を取囲むように設けられていることを特徴とする電子写真記録体基材等の塗布装置」（特許請求の範囲）
(1-b)　「本発明に係る塗布装置は、エンドレスに形成された連続面を有する基材の外面上に塗布する装置において、２以上の塗布液分配室及び塗布液分配室の各々につながる塗布液分配スリツトの各々が連続であり、各塗布液分配室に塗布液を供給する塗布液供給手段が各塗布液分配室に連続してあり、各塗布液分配スリツトの内側に位置し、塗布液分配スリツトの各塗布液流出口の下側に連続して下方斜めに傾斜しかつエンドレスに形成された連続面を有する基材外寸よりやや大なる寸法において終端をなすように構成された液スライド面を有し、エンドレスに形成された連続面を有する基材外寸より０．０５〜１ｍｍ大きく、液スライド面終端より下方に延びる長さ０．１〜１０ｍｍ好ましくは０．５〜４ｍｍのホツパーエツジ（唇状部）を有している塗布装置とするのがよい。」（２頁右下欄１６行〜３頁左上欄１１行）
(1-c)　「本発明の塗布装置は、エンドレスに形成された連続面を有する基材が円筒形である場合塗布液分配スリツトが円形であり該円筒形基材直径よりやや大なる直径（０．０５〜１ｍｍ大なる直径）のホツパーエツジ（円周状終端部）をもち、かつ円錐状斜面をもつ塗布装置を用いることによつて好適に塗布できる。
本発明の塗布装置による塗布は次のようにして行なわれる。即ち、電子写真感光体の如く、エンドレスに形成された連続周面を有する基材を塗布する場合において、該基材を取り囲むように且つ該周面との間に間隙を維持するようにホツパーを設け、該間隙に、基材周面に対向するホツパーエツジ（唇状部）と基材周面とを架橋する塗布液ビードを形成し、該ビードに対して、１つの塗布液層が他の塗布液層を連続的に且つ同時に供給して、各個別の層が明確な重畳関係に維持される如くなし、前記基材をその周面が前記塗布液ビードと交叉し且つ接触するように連続的に移動させ、基材周面が、塗布液ビードの重畳層の外端部に係合して結合層を同時に引出し同時重畳塗布される。」（３頁左下欄７行〜右下欄７行）
(1-d)　「５Ａ，５Ｂは塗布液分配スリツトで、端部を持たず基材外周を取り囲むように連続して形成されている。」（３頁右下欄１８〜２０行）
(1-e)　「各々異なる塗布液Ｓ１，Ｓ２は、必要量だけ図示しないポンプによりパイプ４Ａ，４Ｂを介して各々分配室３Ａ，３Ｂに供給される。そこで塗布液Ｓ１，Ｓ２は円筒形ドラムの円周方向に分配され、分配スリツト５Ａ，５Ｂを経て各々塗布液流出口６Ａ，６Ｂよりスライド部７上に円周方向に均一に流出し、該スライド部７上を流下しながら前記塗布液Ｓ１，Ｓ２は二層形成され、前記スライド部７を介してホツパーエツジ８より円筒形基材１０の外周面１１との間に架橋してビードを形成し、該ビードによつて該基材外周面１１に二層の層状Ｌ１，Ｌ２塗布される。
本発明の好ましい実施態様では、ホツパーエツジ径と円筒形基材外径との差は０．０５〜１ｍｍの範囲であるが、好ましくは０．１〜０．６ｍｍの範囲である。」（４頁左上欄３〜１８行）
(1-f)　「本装置において塗布される塗布液の粘度は０．５〜７００ｃｐの範囲で、好ましくは１〜５００ｃｐの範囲である。本装置において塗布された塗布膜は円筒形基材円周方向に、継ぎ目なく分配室分配スリツト及びスライド部が配置されているため塗布された塗膜は、継ぎ目なく均一なものである。又塗膜厚は塗布液供給量と円筒形の移動速度により決定されるため容易にコントロールが可能であり同時に塗布速度は浸漬法に比べはるかに速くできる。」（４頁右上欄１〜１０行）
(1-g)　「塗布はエンドレスに形成された連続面を有する基材自体が移動しても塗布装置が移動しても良く、更に基材（円筒形ドラム）を回転してもよい。」（４頁右下欄１５〜１８行）
(1-h)　「以上のように本発明の塗布装置は、エンドレスに形成された連続面上に傷つけることなく、性質の異なる２以上の塗布液を一度の塗布工程で同時に２以上の層状に、しかも均一な膜厚が得られるよう塗布することが可能であり、その膜厚制御も容易であり、迅速かつ高い生産性を有する。」（５頁左上欄６〜１１行）
(1-i)　「第１図
」（５頁左下欄）
(1-j) 　「第２図
」（５頁右下欄上）
(1-k)　「第３図
」（５頁右下欄下）
　
(２)　刊行物２（特開昭６１−００８１６４号公報）に記載された事項
(2-a)　「円筒形基材の外周面上に塗液を塗布する装置であって、送液手段により供給された塗液を塗布スリットに分配するための塗液分配室及び前記基材外周をとり囲むように連続してなる終端のない前記分配室からつながれた前記塗布スリットを有し、該スリットは前記基材外周面に向けて水平もしくは上向き傾斜となっていることを特徴とする塗布装置。」（特許請求の範囲）
(2-b)　「本発明の目的は円筒形基材外周面上に均一な薄膜を形成することのできる、特に電子写真感光体ドラムを製造するのに適した塗布装置を提供するにある。
　本発明の別の目的は円筒形基材外周面上に均一な薄膜を形成すると共に、生産性に優れた塗布装置を提供するにある。」（２頁左上欄５〜１１行）
(2-c)　「塗布部６と円筒形基材の外周面との間隔は塗液の塗膜厚によって調節されるが、通常約０．０３〜約１．０ｍｍ、好ましくは約０．１〜約０．５ｍｍが適当な範囲である。スリット５の間隔（巾）は通常０．０５〜１．０ｍｍ程度が適当な範囲であるが、塗液の粘度や流量により異なり必ずしも、この範囲に限定されない。」（２頁左下欄７〜１３行）
(2-d)　「本発明の塗布装置で塗布される塗液の粘度は一般的には０．５〜５０００ｃｐ（センチポイズ）好ましくは１〜１０００ｃｐの範囲である。」（２頁右下欄３〜５行）
(2-e)　「内径１２０．５ｍｍφ、スリット巾２５０μｍ、スリットの上向傾斜度１０°に設計された第１図で示される本発明の塗布装置を使用し、ポリスチレン１０重量部、銅フタロシアニン２重量部、キシレン８８重量部を含有する粘度５０ｃｐの塗液を、１２０ｍｍφのアルミニウム管の外周面上に、塗布厚がウェットで１００μｍになるように塗布した。塗液の流量を調節し、アルミニウム管の上昇速度を１ｍ／分、３ｍ／分および５ｍ／分、塗布流量を各々３８ｃｃ／分、１１３ｃｃ／分及び１８９ｃｃ／分で塗布したところいずれも均一な塗布膜を得ることができた。」（２頁右下欄８〜１９行）
(2-f)　「本発明の塗布装置によれば、円筒形基材外周面上への塗液の塗布量は、被塗布材である円筒形基材の移動速度と塗液の供給流量により決定することができ、浸漬塗布法やリング塗布法のように塗液の粘度に左右されない。従って、塗液の供給流量をコントロールすることにより、円筒形基材の移動速度を所望の速度とすることができるので、高速塗布が可能となると共に、円筒形基材の移動速度と塗液供給量が一定に保持される限り、均一な薄膜を得ることができる。」（３頁左上欄１〜１０行）
(2-g)　「第１図
」（３頁下欄）
　
(３)　刊行物３（特開昭６２−２１３８７２号公報）に記載された事項
(3-a)　被塗布基材の円外周面上に塗布液を（１）塗布液供給パイプ、（２）前記塗布液供給パイプに少なくとも１箇所で接続し、被塗布基材の外周をとり囲むように連続する塗布液分配室、（３）前記塗布液分配室から被塗布基材の外周をとり囲むように連続してつながれた塗布液分配スリットを通じて塗布する装置において、該塗布液分配室の垂直方向断面積が塗布液供給パイプ接続位置において最大であり、該接続位置より離れるにしたがって減少するようにしたことを特徴とする塗布装置。」（特許請求の範囲）
(3-b)　「本発明の目的は広い範囲の膜厚と極めて高い表面平滑性の塗布層をその塗布液の物性に制限されることなく得ることができる。筒基材の円外周面上に電子写真感光体を被覆するに適した塗布装置を提供することである。」（２頁左上欄４〜８行）
(3-c)　「塗布液供給手段から供給された塗布液４は一旦塗布液分配室２に溜められ、これに連結する塗布液分配スリット３に塗布液４が均一に分配される。塗布液分配スリット３の幅は１０μｍ〜１０００μｍ程度でよく、好ましくは約５０μｍ〜約５００μｍである。」（２頁右上欄１５〜２０行）
(3-d)　「塗布液分配スリット３に充満した塗布液４は流出口から微小間隔、一般には０．０３〜１ｍｍ程度の距離を保って上に垂直移動する円筒形状体５の外周面上に塗布される。塗布量は円筒形状体５の移動速度と塗布液供給手段での流量とで決まり、それらの設定によって所望とする広範囲の塗布量を任意に塗布することが出来る。一般には１〜１０ｍｍ／分あるいはそれ以上の移動速度で塗布することができる。」（２頁左下欄１〜９行）
(3-e)　「本発明の塗布装置を用いて塗布される液の粘度は、広い範囲にわたって選択することができるが通常は０．５〜１０００ｃｐ程度、好ましくは１〜５００ｃｐである。」（３頁左上欄１３〜１６行）
(3-f)　「（Ｅ）実施例
塗布液供給パイプの径１０ｍｍφ１コを使用し、塗布液分配室内の垂直方向断面積が塗布液供給パイプとの接続位置で最大２．２５ｃｍ２とし最小０．６４ｃｍ２にいたる縦方向変動型の塗布液分配室、塗布スリット巾１５０μｍ、スリット流出口と円筒形状体７との間隔２００μｍの塗布装置を作成した。一方、ポリエチレン１０ｇと銅フタロシアニン２ｇを含みキシレンで１００ｍｌに調整した液を十分に分散して塗布液を調整し塗布液分配スリット３の上部付近まで充満させた。
１１６φのアルミニウム管（長さ３３ｃｍ）を昇降手段により１分間当り３．６ｍの速度で上昇させ、１分間当たり１６４ｍｌの割合で送液し塗布した。更に前記塗布液をキシレンで５００ｍｌに調整し、同様の操作を繰り返した。乾燥後に電位を測定したところ、円周方向及び長さ方向において２％以内の電位のフレがあるだけであり極めて高い表面平滑性の塗布層が得られることが確認された。」（３頁右上欄１〜１９行）
(3-g)　「第１図
」（３頁右下欄上）
　
第５　当審の判断
１　刊行物に記載された発明
刊行物１には以下の記載がある。
・「電子写真感光体基材の如く、エンドレスに形成された連続周面を有する基材を移動させながら液を塗布するビード塗布装置において、ホツパーエツジ（唇状部）が基材周面を取囲むように且つ該基材周面との間に２以上の重畳塗布液層からなるビードを架橋可能な間隔を維持するように、ホツパー装置が配置されており、該ホツパー装置には、前記塗布液ビードの重畳層の各々に、塗布液を重畳の関係で供給する塗布液分配室が基材周面を取囲むように設けられていることを特徴とする電子写真記録体基材等の塗布装置」（摘示(1-a)）
・「本発明の塗布装置は、エンドレスに形成された連続面を有する基材が円筒形である場合塗布液分配スリツトが円形であり該円筒形基材直径よりやや大なる直径（０．０５〜１ｍｍ大なる直径）のホツパーエツジ（円周状終端部）をもち、かつ円錐状斜面をもつ塗布装置を用いることによつて好適に塗布できる。」（摘示(1-c)）
・「塗布液Ｓ１，Ｓ２は円筒形ドラムの円周方向に分配され、分配スリツト５Ａ，５Ｂを経て各々塗布液流出口６Ａ，６Ｂよりスライド部７上に円周方向に均一に流出し、該スライド部７上を流下しながら前記塗布液Ｓ１，Ｓ２は二層形成され、前記スライド部７を介してホツパーエツジ８より円筒形基材１０の外周面１１との間に架橋してビードを形成し、該ビードによつて該基材外周面１１に二層の層状Ｌ１，Ｌ２塗布される。」（摘示(1-e)）
　
　以上によれば、刊行物１には、
「エンドレスに形成された連続周面を有する基材を移動させながら液を塗布する塗布装置を用い、塗布液は円筒形ドラムの円周方向に分配され、分配スリツトを経て各々塗布液流出口よりスライド部上に円周方向に均一に流出し、該スライド部上を流下しながら前記塗布液は二層形成され、前記スライド部を介してホツパーエツジより円筒形基材の外周面との間に架橋してビードを形成し、該ビードによって該基材外周面に二層の層状塗布がされる、円筒形基材の塗布方法。」
の発明（以下「引用発明」という。）が記載されていると認められる。
　
２　本願発明と引用発明との対比
(１)　本願発明における「エンドレスに形成された連続周面を有する円筒状基材を移動させながら」に対応する部分について
　刊行物１には「基材（円筒形ドラム）を回転してもよい」（摘示(1-g)）と記載されているように、引用発明の基材は円筒形、すなわち円筒状であることは明らかであるから、引用発明における「エンドレスに形成された連続周面を有する基材を移動させながら」は、本願発明における「エンドレスに形成された連続周面を有する円筒状基材を移動させながら」に対応する。
　
(２)　本願発明における「塗布液を、前記基材側に開口する塗布液流出口を有する塗布液分配スリットを通して・・・塗布液流出口から・・・流出させ」に対応する部分について
ア　刊行物１の第１図（摘示(1-i)）、第２図（摘示(1-j)）及び第３図（摘示(1-k)）から明らかなように、刊行物１の塗布液流出口６Ａ及び６Ｂは基材側に開口しているので、引用発明の「塗布液流出口」は本願発明の「基材側に開口する塗布液流出口」に対応する。
イ　刊行物１に「本発明の塗布装置は、エンドレスに形成された連続面を有する基材が円筒形である場合塗布液分配スリツトが円形であり該円筒形基材直径よりやや大なる直径（０．０５〜１ｍｍ大なる直径）のホツパーエツジ（円周状終端部）をもち、かつ円錐状斜面をもつ塗布装置を用いることによつて好適に塗布できる。」（摘示(1-c)）と記載されていることからみて、引用発明の「分配スリツト」は「塗布液分配スリツト」と同義であるから、引用発明の「分配スリツト」は本願発明の「塗布液分配スリット」に対応する。そして、刊行物１の第１図（摘示(1-i)）に示されるように、刊行物１の「分配スリツト」は「塗布液流出口」（６Ａ及び６Ｂ）を有することが明らかである。
ウ　したがって、引用発明における「塗布液は・・・、分配スリツトを経て・・・塗布液流出口より・・・流出し」は、本願発明における「塗布液を、前記基材側に開口する塗布液流出口を有する塗布液分配スリットを通して・・・流出させ」に対応する。
　
(３)　本願発明における、（塗布液を、・・・）「前記基材周面を取り囲むように基材全周にわたって近接形成されたホッパー塗布面に設けられたエンドレスの塗布液流出口から該ホッパー塗布面にあるスライド面上に」（流出させ）に対応する部分について
ア　まず、本願発明における「ホッパー塗布面」の意義を検討する。
　本願発明においては「ホッパー塗布面に設けられたエンドレスの塗布液流出口」及び「ホッパー塗布面にあるスライド面上」と規定されていることから明らかなように、本願発明における「ホッパー塗布面」は、「スライド面」及び「塗布液流出口」を含む面である。そうすると、本願発明における「ホッパー塗布面」とは、塗布に直接関係する先端部だけではなく、「スライド面」及び「塗布液流出口」を含む、ホッパー型塗布装置の内側方向の全体面を意味すると解される。そして、刊行物１の第１図（摘示(1-i)）、第２図（摘示(1-j)）及び第３図（摘示(1-k)）から明らかなように、引用発明においてはホツパー装置の内側に基材を配置して塗布を行っていることから、ホツパー装置の内側方向の全体面が本願発明における「ホッパー塗布面」に相当する。また、刊行物１の第１図（摘示(1-i)）、第２図（摘示(1-j)）及び第３図（摘示(1-k)）には、ホッパー塗布面が基材周面を取り囲むように基材全周にわたって近接形成されていること、及び、塗布液流出口がホッパー塗布面に設けられていることが示されている。
　よって、引用発明における「塗布液流出口」は、本願発明における「前記基材周面を取り囲むように基材全周にわたって近接形成されたホッパー塗布面に設けられた・・・塗布液流出口」に対応する。
イ　刊行物１には、「５Ａ，５Ｂは塗布液分配スリツトで、端部を持たず基材外周を取り囲むように連続して形成されている。」（摘示(1-d)）と記載されており、また、「本装置において塗布された塗布膜は円筒形基材円周方向に、継ぎ目なく分配室分配スリツト及びスライド部が配置されているため塗布された塗膜は、継ぎ目なく均一なものである。」（摘示(1-f)）と記載されている。
　ここで、上記「第５　２（２）イ」で検討したように、刊行物１の摘示(1-f)に記載の「分配スリツト」と摘示(1-d)に記載の「塗布液分配スリツト」とは同義である。
　してみると、刊行物１においては、「塗布液分配スリツト」は「端部を持たず基材外周を取り囲むように連続して形成されて」おり、また、「円筒形基材円周方向に、継ぎ目なく分配室分配スリツト及びスライド部が配置されている」ことから判断すると、引用発明の「塗布液分配スリツト」は「エンドレスの塗布液分配スリツト」であるということができる。
　また、刊行物１の第１図（摘示(1-i)）及び「塗布液分配スリツトの各塗布液流出口」（摘示(1-b)）との記載から、引用発明において「塗布液流出口」は塗布液分配スリツトの出口を意味していると解される。すると、「塗布液分配スリツト」がエンドレスであるということは、その出口である「塗布液流出口」もエンドレスであることは当然であるから、引用発明における「塗布液流出口」は、本願発明における「エンドレスの塗布液流出口」に対応する。
ウ　刊行物１の第１図（摘示(1-i)）、第２図（摘示(1-j)）及び第３図（摘示(1-k)）から、「スライド部」がホッパー塗布面にあることは明らかであるから、引用発明において（塗布液は・・・）「スライド部上に」（・・・流出し）と記載されていることからすれば、引用発明において（塗布液は・・・）「スライド部上に」（・・・流出し）ということは、塗布液をスライド部の面上に流出させることを意味することが明らかである。
　してみると、「塗布液をスライド部上に流出」することと、「塗布液をスライド面上に流出」することとは、実質的には何ら相違しない。
　よって、引用発明における（塗布液は・・・）「スライド部上に」（・・・流出し）は、本願発明の（塗布液を・・・）「該ホッパー塗布面にあるスライド面上に」（流出させ）に対応する。
エ　したがって、引用発明における、（塗布液は・・・）「塗布液流出口よりスライド部上に」（・・・流出し）は、本願発明における、（塗布液を、・・・）「前記基材周面を取り囲むように基材全周にわたって近接形成されたホッパー塗布面に設けられたエンドレスの塗布液流出口から該ホッパー塗布面にあるスライド面上に」（流出させ）に対応する。
　
(４)　本願発明における、（塗布液を、・・・）「前記基材とホッパー塗布面の先端部に連続的に供給させて塗布する」に対応する部分について
ア　刊行物１の第１図（摘示(1-i)）から、「ホツパーエツジ」がホッパー塗布面の先端部に位置していることが見てとれるから、引用発明における「ホツパーエツジ」は、本願発明における「ホッパー塗布面の先端部」に対応する。
イ　刊行物１には
・「各々異なる塗布液Ｓ１，Ｓ２は、必要量だけ図示しないポンプによりパイプ４Ａ，４Ｂを介して各々分配室３Ａ，３Ｂに供給される。そこで塗布液Ｓ１，Ｓ２は円筒形ドラムの円周方向に分配され、分配スリツト５Ａ，５Ｂを経て各々塗布液流出口６Ａ，６Ｂよりスライド部７上に円周方向に均一に流出し、該スライド部７上を流下しながら前記塗布液Ｓ１，Ｓ２は二層形成され、前記スライド部７を介してホツパーエツジ８より円筒形基材１０の外周面１１との間に架橋してビードを形成し、該ビードによつて該基材外周面１１に二層の層状Ｌ１，Ｌ２塗布される。」（摘示(1-e)）
・「本装置において塗布される塗布液の粘度は０．５〜７００ｃｐの範囲で、好ましくは１〜５００ｃｐの範囲である。本装置において塗布された塗布膜は円筒形基材円周方向に、継ぎ目なく分配室分配スリツト及びスライド部が配置されているため塗布された塗膜は、継ぎ目なく均一なものである。又塗膜厚は塗布液供給量と円筒形の移動速度により決定されるため容易にコントロールが可能であり同時に塗布速度は浸漬法に比べはるかに速くできる。」（摘示(1-f)）
と記載されている。すなわち、刊行物１における塗布液は、必要量だけポンプにより供給され、分配スリツトを経て塗布液流出口よりスライド部上に円周方向に均一に流出し、該スライド部上を流下しながら塗布液は、前記スライド部を介してホツパーエツジより円筒形基材の外周面との間に架橋してビードを形成し、該ビードによって該基材外周面に層状塗布され、その結果、塗布された塗布膜は、継ぎ目なく均一なものである。
　してみると、引用発明において、塗布液が連続的に供給されていることは明らかである。
ウ　したがって、引用発明における（塗布液は・・・）「ホツパーエツジより円筒形基材の外周面との間に・・・塗布がされる」は、本願発明における（塗布液を・・・）「前記基材とホッパー塗布面の先端部に連続的に供給させて塗布する」に対応する。
　
(５)　なお、
ア　引用発明は（塗布液は）「円筒形ドラムの円周方向に分配され・・・（塗布液流出口よりスライド部上に）円周方向に均一に（流出）」と規定するのに対し、本願発明にはかかる規定がなされていない点
イ　引用発明は「各々（塗布液流出口より・・・流出し）、該スライド部上を流下しながら前記塗布液は二層形成され」ると規定するのに対し、本願発明にはかかる規定がなされていない点
ウ　引用発明は「前記スライド部を介して・・・架橋してビードを形成し、該ビードによって該基材外周面に・・・層状塗布がされる」と規定するのに対し、本願発明にはかかる規定がなされていない点
で形式的に相違する。
　しかしながら、上記アの点については、本願の図面【図１】〜【図４】を参酌すれば、塗布液分配室及び塗布液分配スリットが円周方向にわたって設けられていることから、塗布液が円周方向に分配されていることは明らかであるし、本願明細書の【００１６】には「本発明の塗布方法によるときは、塗布液が高粘度のときも、円筒状基材に対して膜厚変動がなく、塗布液のビード切れ、塗布ムラ、色ムラがない優れた塗布方法を提供することとなった。」と記載されていることからみて、塗布液は円周方向に均一に流出していると解される。よって、本願発明においても（塗布液は）「円筒形ドラムの円周方向に分配され・・・（塗布液流出口よりスライド部上に）円周方向に均一に（流出）」する態様が包含されているので、上記アの点は実質的な相違点ではない。
　また、上記イの点については、本願明細書の段落【００２２】に「図３は、同一塗布装置から塗布液ＬＡ，ＬＢによる塗布層を同時に円筒状基材１上に形成させるいわゆる同時重層塗布装置を示している。・・・かかる塗布装置においては、・・・基材表面に２層の塗布液ＬＡ，ＬＢが同時に塗布される。」と、基材表面に２層の塗布液が同時に塗布されることが記載されていることからみて、本願発明においても「各々（塗布液流出口より・・・流出し）、該スライド部上を流下しながら前記塗布液は二層形成され」る態様が包含されているので、上記イの点は実質的な相違点ではない。
　さらに、上記ウの点については、本願明細書の段落【００１９】に
「図１に示されるように・・・前記塗布ヘッド１０には、基材１側に開口する塗布液流出口１１を有する幅狭の塗布液分配スリット（スリットと略称する）１２が水平方向に形成されている。このスリット１２は環状の塗布液分配室１３に連通し、この環状の塗布液分配室１３には貯留タンク４内の感光液Ｌを圧送ポンプ５により供給管１４を介して供給するようになっている。他方、スリット１２の塗布液流出口１１の下側には、連続して下方に傾斜し基材の外寸よりやや大なる寸法で終端をなすように形成されたスライド面１５が形成されている。さらに、このスライド面１５終端より下方に延びる唇状部１６が形成されている。かかる塗布装置による塗布においては、基材１を引き上げる過程で、塗布液Ｌをスリット１２から押し出し、スライド面１５に沿って流下させると、スライド面終端に至った感光液は、そのスライド面終端と基材１の外周面との間にビードを形成した後、基材表面に塗布される。」
と、スライド面終端より下方に延びる唇状部が形成されて、スライド面終端に至った感光液は、そのスライド面終端と基材１の外周面との間にビードを形成した後、基材表面に塗布されることが記載されていることからみて、本願発明においても「前記スライド部を介して・・・架橋してビードを形成し、該ビードによって該基材外周面に・・・層状塗布がされる」という態様が包含されているので、上記ウの点は実質的な相違点ではない。
　
(６)　以上の点を考慮して、本願発明と引用発明とを対比すると、両者は、
「エンドレスに形成された連続周面を有する円筒状基材を移動させながら、塗布液を、前記基材側に開口する塗布液流出口を有する塗布液分配スリットを通して、前記基材周面を取り囲むように基材全周にわたって近接形成されたホッパー塗布面に設けられたエンドレスの塗布液流出口から該ホッパー塗布面にあるスライド面上に流出させ、前記基材とホッパー塗布面の先端部に連続的に供給させて塗布する円筒状基材の塗布方法。」
の点で一致するが、以下のア〜エの点で相違すると認められる。
ア　本願発明が「塗布液の粘度を１０以上６００ミリパスカル・秒未満」と規定するのに対し、引用発明においては塗布液の粘度について特に規定していない点
イ　本願発明が「基材表面及びホッパーの先端部の間隙を５０〜５００μｍ」と規定するのに対し、引用発明においては基材表面及びホッパーの先端部の間隙について特に規定していない点
ウ　本願発明が「塗布液分配スリット間隙を５０〜５００μｍとし」と規定するのに対し、引用発明においては塗布液分配スリット間隙について特に規定していない点
エ　本願発明が「基材の移動速度を５〜３０ｍｍ／ｓｅｃとした」と規定するのに対し、引用発明においては基材の移動速度について特に規定していない点
(以下、これらの相違点を、それぞれ「相違点ア」〜「相違点エ」という。)
　
３　相違点についての判断
(１)　相違点アについて
　刊行物１には「本装置において塗布される塗布液の粘度は０．５〜７００ｃｐの範囲で、好ましくは１〜５００ｃｐの範囲である。」（摘示(1-f)）と記載されているところ、粘度の単位の「ｃｐ」は「ミリパスカル・秒」と同義であるから、上記の「０．５〜７００ｃｐ」は「０．５〜７００ミリパスカル・秒」に対応する。
　そうすると、引用発明には「塗布液の粘度を１０以上６００ミリパスカル・秒未満」とする態様を包含しているので、相違点アは実質的な相違点ではない。
　また、刊行物１には「本装置において塗布される塗布液の粘度は
０．５〜７００ｃｐ
１〜５００ｃｐ
　
(２)　相違点イについて
　刊行物１には「本発明の好ましい実施態様では、ホツパーエツジ径と円筒形基材外径との差は０．０５〜１ｍｍの範囲である」（摘示(1-e)）と記載されている。
　ところで、刊行物１には「本装置において塗布された塗布膜は円筒形基材円周方向に、継ぎ目なく分配室分配スリツト及びスライド部が配置されているため塗布された塗膜は、継ぎ目なく均一なものである。」（摘示(1-f)）と記載されていることからみて、引用発明におけるホツパーエツジと円筒形基材とのセンターが一致することにより「塗布された塗膜は、継ぎ目なく均一なもの」となっていることは当然であるから、引用発明における、本願発明の「基材表面及びホッパーの先端部の間隙」に相当する距離は、「ホツパーエツジ径と円筒形基材外径との差」である「０．０５〜１ｍｍ」の１／２となるので、「０．０２５〜０．５ｍｍ」、すなわち「２５〜５００μｍ」である。
　してみると、本願発明と引用発明とは、「基材表面及びホッパーの先端部の間隙を５０〜５００μｍ」とする点において一致しているから、相違点イは実質的な相違点ではない。
　また、刊行物１には「本発明の好ましい実施態様では、ホツパーエツジ径と円筒形基材外径との差は
０．０５〜１ｍｍ
０．１〜０．６ｍｍ
　
(３)　相違点ウについて
　刊行物２に「本発明の目的は円筒形基材外周面上に均一な薄膜を形成することのできる、特に電子写真感光体ドラムを製造するのに適した塗布装置を提供するにある。」（摘示(2-b)）と記載され、また、刊行物３に「本発明の目的は広い範囲の膜厚と極めて高い表面平滑性の塗布層をその塗布液の物性に制限されることなく得ることができる。筒基材の円外周面上に電子写真感光体を被覆するに適した塗布装置を提供することである。」（摘示(3-b)）と記載されているように、刊行物２に記載された発明及び刊行物３に記載された発明は、引用発明と同様に、電子写真感光体基材の如く円筒形基材への塗布方法に関する発明である。
　そして、刊行物２には「スリット５の間隔（巾）は通常０．０５〜１．０ｍｍ程度が適当な範囲であるが、塗液の粘度や流量により異なり必ずしも、この範囲に限定されない。」（摘示(2-c)）と記載され、また具体的に「内径１２０．５ｍｍφ、スリット巾２５０μｍ、スリットの上向傾斜度１０°に設計された第１図で示される本発明の塗布装置を使用」（摘示(2-e)）とも記載されている。さらに、刊行物３には「塗布液分配スリット３の幅は１０μｍ〜１０００μｍ程度でよく、好ましくは約５０μｍ〜約５００μｍである。」（摘示(3-c)）と記載され、実施例において「塗布液供給パイプの径１０ｍｍφ１コを使用し、塗布液分配室内の垂直方向断面積が塗布液供給パイプとの接続位置で最大２．２５ｃｍ２とし最小０．６４ｃｍ２にいたる縦方向変動型の塗布液分配室、塗布スリット巾１５０μｍ、スリット流出口と円筒形状体７との間隔２００μｍの塗布装置を作成した。」（摘示(3-f)）も記載されている。
　すなわち、本願発明と同様に、電子写真感光体基材の如く円筒形基材への塗布方法に関する発明である刊行物２に記載の発明及び刊行物３に記載の発明において、塗布液分配スリット間隙として、本願発明と重複する数値範囲のものが用いられている。
　してみると、引用発明と技術分野において共通する刊行物２及び刊行物３に記載された技術を参酌して、引用発明において「塗布液分配スリット間隙を５０〜５００μｍとし」と規定することは当業者が容易になし得ることである。
　
(４)　相違点エについて
　先に(３)でも述べたように、刊行物２に記載された発明及び刊行物３に記載された発明は、引用発明と同様に、電子写真感光体基材の如く円筒形基材への塗布方法に関する発明である。
　そして、刊行物２には「塗液の流量を調節し、アルミニウム管の上昇速度を１ｍ／分、３ｍ／分および５ｍ／分、塗布流量を各々３８ｃｃ／分、１１３ｃｃ／分及び１８９ｃｃ／分で塗布したところいずれも均一な塗布膜を得ることができた。」（摘示(2-e)）と記載されているところ、アルミニウム管の上昇速度が１ｍ／分である場合、これを本願発明で規定する移動速度の単位に換算すると、１６．７ｍｍ／ｓｅｃとなる。
　また、刊行物３には「塗布量は円筒形状体５の移動速度と塗布液供給手段での流量とで決まり、それらの設定によって所望とする広範囲の塗布量を任意に塗布することが出来る。一般には１〜１０ｍｍ／分あるいはそれ以上の移動速度で塗布することができる。」（摘示(3-d)）と記載されているところ、後述するように、ここに記載されている「１〜１０ｍｍ／分」は「１〜１０ｍ／分」の誤記であることが明らかであるから、その点を考慮して「１〜１０ｍ／分」を本願発明で規定する移動速度の単位に換算すると、刊行物３に記載されている円筒形状体の移動速度は、「基材の移動速度を１６．７〜１６７ｍｍ／ｓｅｃとした」ものに相当する。
（注．上記の刊行物３に記載されている円筒形状体の移動速度である「１〜１０ｍｍ／分」が「１〜１０ｍ／分」の誤記であることが明らかであるのは、以下の理由による。
　すなわち、刊行物３には「１１６φのアルミニウム管（長さ３３ｃｍ）を昇降手段により１分間当り３．６ｍの速度で上昇させ、１分間当たり１６４ｍｌの割合で送液し塗布した。」（摘示(3-f)）との記載があるところ、ここにいう「１分間当り３．６ｍの速度」という速度と（摘示(3-d)）における「１〜１０ｍｍ／分」という速度とは、速度の単位が異なるので、「１〜１０ｍｍ／分」又は「１分間当り３．６ｍの速度」という速度の単位に関する記載の何れかに誤記があることは明らかである。
　そこで検討すると、先に述べたように、刊行物２には「塗液の流量を調節し、アルミニウム管の上昇速度を１ｍ／分、３ｍ／分および５ｍ／分、塗布流量を各々３８ｃｃ／分、１１３ｃｃ／分及び１８９ｃｃ／分で塗布したところいずれも均一な塗布膜を得ることができた。」（摘示(2-e)）と記載されていることからみて、刊行物２においては基材（アルミニウム管）の上昇速度を１ｍ／分、３ｍ／分および５ｍ／分としているのであるから、基材の上昇速度に関し、刊行物３における「１分間当り３．６ｍの速度」が正しく、刊行物３における「１〜１０ｍｍ／分」は「１〜１０ｍ／分」の誤記であることは明らかである。）
　してみると、引用発明と技術分野において共通する刊行物２及び刊行物３に記載された技術を参酌して、引用発明において、刊行物２及び刊行物３に記載された技術と重複する範囲である、「基材の移動速度を５〜３０ｍｍ／ｓｅｃとした」と規定することは当業者が容易になし得ることである。
　
４　効果について
　本願発明の効果は、「塗布液が高粘度のときも、円筒状基材に対して膜厚変動がなく、塗布液のビード切れ、塗布ムラ、色ムラがない」（段落【００１６】）というものである。
　これに対し、引用発明においても、「本装置において塗布される塗布液の粘度は０．５〜７００ｃｐの範囲で、好ましくは１〜５００ｃｐの範囲である。本装置において塗布された塗布膜は円筒形基材円周方向に、継ぎ目なく分配室分配スリツト及びスライド部が配置されているため塗布された塗膜は、継ぎ目なく均一なものである。」（摘示（1-f））とされているところ、先に３(１)で述べたように本願発明と引用発明とは塗布液の粘度の点において実質的な相違点は存在しないし、しかも、引用発明において「塗布された塗膜は、継ぎ目なく均一なものである」ということは、当然に、本願発明の効果である「円筒状基材に対して膜厚変動がなく、塗布液のビード切れ、塗布ムラ、色ムラがない」ことを意味していると解されるから、本願発明が引用発明に比し格別顕著な技術的効果を奏し得たものとは認められない。
　
５　小括
　以上のとおり、上記各相違点は実質的な相違点ではないか、当業者が容易になし得るものであり、また、本願発明が上記各相違点により格別顕著な効果を奏するものとも認められないから、本願発明は、刊行物１に記載された発明（引用発明）、刊行物２に記載された発明及び刊行物３に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであって、特許法２９条２項の規定により特許を受けることができないものである。
　
６　請求人の主張について
　請求人は審判請求書についての平成１９年５月３１日付けの手続補正書において、概略、以下の主張をしている。
「引用文献１は、塗布液をスライド部を経て塗布液を塗布するタイプの装置に関する発明でありますが、引用文献２及び３は、塗布液をスライド部を経ず、いわゆる押し出し塗布を行うタイプの発明に関するものであって、明らかにこれらの発明は相互に関連して議論をしてはならないものであり、当業者は、引用文献１に引用文献２、３の発明の技術を組み合わせて論じることは、通常、することはない」
　しかしながら、先に３(３)及び(４)で述べたように、刊行物２に記載された発明及び刊行物３に記載された発明は、引用発明と同様に、電子写真感光体基材の如く円筒形基材への塗布方法に関する発明で技術分野が共通しているから、引用発明において刊行物２及び刊行物３に記載された技術を参酌することは当業者が容易になし得ることである。
　したがって、請求人の主張は、上記５の判断を左右するものではない。
　
第６　結語
　以上のとおり、本願は、その余の請求項に係る発明について判断するまでもなく、拒絶をすべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。