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　特願２００１−１９５２４７号「スパークプラグ」拒絶査定不服審判事件〔平成１４年６月２１日出願公開、特開２００２−１７５８６３号〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯・本願発明
　本願は、平成１３年６月２７日（優先権主張平成１２年９月２９日）の出願であって、その請求項１に係る発明は、平成１５年１１月４日付け手続補正書によって補正された明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される次のとおりのものと認める。（以下、「本願発明」という。）
「中心電極と主体金具との間にアルミナ系セラミックからなる絶縁体を配したスパークプラグにおいて、その絶縁体の表面の少なくとも一部を覆う釉薬層が形成され、該釉薬層は、
　Ｐｂ成分の含有量がＰｂＯ換算にて１ｍｏｌ％以下とされ、
　ＳｉＯ２に酸化物換算した値にて５〜６０ｍｏｌ％のＳｉ成分と、Ｂ２Ｏ３に酸化物換算した値にて３〜５０ｍｏｌ％のＢ成分とからなる第一成分を３５〜８０ｍｏｌ％と、Ｚｎ成分とアルカリ土類金属成分Ｒ（ただし、ＲはＣａ、Ｓｒ、Ｂａから選ばれる１種又は２種以上）との少なくともいずれかからなる第二成分とを、ＺｎはＺｎОに、Ｒは組成式ＲОに酸化物換算した値にて合計で１２〜６０ｍｏｌ％とを含有するとともに、それら第一成分と第二成分との合計含有量が６５〜９８ｍｏｌ％であり、かつ、Ｚｎ成分と、Ｂａ成分及び／又はＳｒ成分とは、Ｚｎ成分はＺｎＯ、Ｂａ成分はＢａＯ、Ｓｒ成分はＳｒＯにそれぞれ酸化物換算した値にて、合計で１２〜３０ｍｏｌ％とされ、
　また、アルカリ金属成分として、ＮａはＮａ２Ｏ、ＫはＫ２Ｏ、ＬｉはＬｉ２Ｏに酸化物換算した値にて、それらの１種又は２種以上を合計で２〜１５ｍｏｌ％の範囲にて含有するものであり、
　また、前記絶縁体には、軸線方向中間位置においてその外周面に周方向の突出部が形成され、
　該軸線方向において前記中心電極の先端に向かう側を前方側として、前記突出部に対し後方側に隣接する絶縁体本体部の基端部外周面が円筒面状に形成され、
　前記釉薬層はその基端部外周面を覆う形で形成され、かつ該基端部外周面にてＪＩＳ：Ｂ０６０１に規定された方法に従い測定した前記絶縁体本体部の表面粗さにおいてその最大高さＲｙが１５〜３５μｍとし、同様に測定した前記釉薬層の表面粗さ曲線においてその最大高さＲｙが１０μｍ以下とされていることを特徴とするスパークプラグ。」
　なお、本願発明は絶縁体本体部の表面粗さにおいてその最大高さＲｙが１５〜３５μｍと特定するものであるが、当該特定事項は本件出願の優先権の主張の基礎となる先の特許出願の願書に最初に添付した明細書又は図面に記載されたものではないから、本願発明について特許法第４１条第２項は適用されず、先の出願の時にされたものとはみなされない。
　
２．引用刊行物
　これに対して、原査定の拒絶の理由に引用された、本願出願前に頒布された特開２０００−４８９３１号公報（以下、「引用刊行物」という。）には、図１〜１２とともに以下のような事項が記載されている。
（ア）「中心電極と、
前記中心電極の外側に配置された主体金具と、
その主体金具に一端が結合されて前記中心電極と対向するように配置された接地電極と、
前記中心電極と前記主体金具との間において、前記中心電極の外側を覆うように配置される絶縁体と、
その絶縁体の表面の少なくとも一部を覆う形態で形成される酸化物主体の釉薬層とを有し、
該釉薬層を構成する釉薬は、カチオン成分の主体（以下、主カチオン成分という）がＳｉ、Ｂ、Ｚｎ及びＢａと、Ｎａ、Ｋ及びＬｉから選ばれる２種（以下、この２種の成分を共添加アルカリ金属成分という）とからなり、Ｓｉ成分をＳｉＯ２に酸化物換算した重量にて１８〜３５重量％、Ｂ成分をＢ２Ｏ３に酸化物換算した重量にて２５〜４０重量％、Ｚｎ成分をＺｎＯに酸化物換算した重量にて１０〜２５重量％、Ｂａ成分をＢａＯに酸化物換算した重量にて７〜２０重量％含有するとともに、前記共添加アルカリ金属成分については、ＮａはＮａ２Ｏ、ＫはＫ２Ｏ、ＬｉはＬｉ２Ｏに酸化物換算した重量にて、それぞれ３〜９重量％の範囲にて含有することを特徴とするスパークプラグ。」（【請求項１】）
（イ）「自動車エンジン等の内燃機関の点火用に使用されるスパークプラグは、一般に、接地電極が取り付けられる主体金具の内側に、アルミナ系セラミック等で構成された絶縁体が配置され、その絶縁体の内側に中心電極が配置された構造を有する。絶縁体は主体金具の後方側開口部から軸方向に突出し、その突出部の内側に端子金具が配置され、これがガラスシール工程により形成される導電性ガラスシール層や抵抗体等を介して中心電極と接続される。そして、その端子金具を介して高圧を印加することにより、接地電極と中心電極との間に形成されたギャップに火花放電が生ずることとなる。
ところが、プラグ温度が高くなったり、周囲の湿度が上昇したりするなどの条件が重なると、高圧印加してもギャップに飛火せず、絶縁体突出部の表面を回り込む形で端子金具と主体金具との間で放電する、いわゆるフラッシュオーバ現象が生じることがある。そのため、一般に使用されているほとんどのスパークプラグにおいては、主にこのフラッシュオーバ現象防止のために絶縁体表面に釉薬層が形成されている。他方、釉薬層は、絶縁体表面を平滑化して汚染を防止したり、化学的あるいは機械的強度を高めるといった役割も果たす。」（段落【０００２】及び【０００３】）
（ウ）「スラリーの粘度が極端に高くなると（例えば１０００ｍＰａ・ｓを超えて高くなると）、均一な釉薬粉末塗布層が得にくくなり、また、気泡等が巻き込まれる可能性も高くなる。しかしながら、上記のようなアルカリ金属成分とＢ成分との含有量範囲を選択することで、粘度が小さく流動性に富む釉薬スラリーを容易に調製することが可能となり、厚さが均一で欠陥の少ない釉薬層を得やすくなるものと考えられる。
なお、アルカリ金属成分及びＢ成分の含有量が減少すれば、釉薬の軟化温度、すなわち釉焼温度が上昇することにつながるが、すでに説明した通り、この軟化温度の上昇を抑制するために従来は、多量のＰｂＯを釉薬中に配合していた。しかしながら、上記第二の構成では、ＰｂＯに代えてＴｉ及びＺｒ系の酸化物成分を配合することで、釉薬の軟化温度上昇を抑制しつつＰｂ成分の含有量を大幅に削減すること、具体的にはＰｂＯ換算にて０．１重量％以下とすることに成功している。従って、前記した本発明の第二の課題が解決される。なお、Ｐｂ成分は、釉薬原料等から不可避的に混入するものを除いて実質的に含有されないことがさらに望ましい。」（段落【００２５】及び【００２６】）
（エ）「（実施例１）図１及び図２は、本発明の第一の構成に係るスパークプラグの一実施例を示す。該スパークプラグ１００は、筒状の主体金具１、先端部２１が突出するようにその主体金具１の内側に嵌め込まれた絶縁体２、先端に形成された発火部３１を突出させた状態で絶縁体２の内側に設けられた中心電極３、及び主体金具１に一端が溶接等により結合されるとともに他端側が側方に曲げ返されて、その側面が中心電極３の先端部と対向するように配置された接地電極４等を備えている。」（段落【００７４】）
（オ）「絶縁体２は、内部に自身の軸方向に沿って中心電極３を嵌め込むための貫通孔６を有し、全体が以下の絶縁材料により構成されている。すなわち、該絶縁材料はアルミナを主体に構成され、Ａｌ成分を、Ａｌ２Ｏ３に換算した重量にて８５〜９８重量％（望ましくは９０〜９８重量％）含有するアルミナ系セラミック焼結体として構成される。」（段落【００７７】）
（カ）「図１に示すように、絶縁体２の軸方向中間には、周方向外向きに突出する突出部２ｅが例えばフランジ状に形成されている。そして、絶縁体２には、中心電極３（図１）の先端に向かう側を前方側として、該突出部２ｅよりも後方側がこれよりも細径に形成された本体部２ｂとされている。一方、突出部２ｅの前方側にはこれよりも細径の第一軸部２ｇと、その第一軸部２ｇよりもさらに細径の第二軸部２ｉがこの順序で形成されている。なお、本体部２ｂの外周面後端部にはコルゲーション部２ｃが形成されている。また、第一軸部２ｇの外周面は略円筒状とされ、第二軸部２ｉの外周面は先端に向かうほど縮径する略円錐面状とされている。」（段落【００７９】）
（キ）「他方、主体金具１の後方側開口部内面と、絶縁体２の外面との間には、フランジ状の突出部２ｅの後方側周縁と係合するリング状の線パッキン６２が配置され、そのさらに後方側にはタルク等の充填層６１を介してリング状の線パッキン６０が配置されている。そして、絶縁体２を主体金具１に向けて前方側に押し込み、その状態で主体金具１の開口縁をパッキン６０に向けて内側に加締めることにより加締め部１ｄが形成され、主体金具１が絶縁体２に対して固定されている。」（段落【００８１】）
（ク）「図３に示すように、絶縁体２の表面、具体的にはコルゲーション部２ｃを含む本体部２ｂの外周面と、第一軸部２ｇの外周面とに釉薬層２ｄが形成されている。釉薬層２ｄの形成厚さは１０〜１５０μｍ、望ましくは２０〜５０μｍとされる。なお、図１に示すように、本体部２ｂに形成された釉薬層２ｄは、その軸方向前方側が主体金具１の内側に所定長入り込む形で形成される一方、後方側は本体部２ｂの後端縁位置まで延びている。」（段落【００８６】）
（ケ）「（実施例２）以下、本発明の第二の構成に係るスパークプラグの実施例について説明する。該実施例２のスパークプラグの構成は、釉薬層の組成を除いて、実施例１と全く同一であり、釉薬層以外の部分についての説明は、図１〜図７を援用してその詳細な説明を省略する。釉薬層２ｄは、主カチオン成分がＳｉ、Ｂ、Ｚｎ及びＢａと、Ｔｉ及びＺｒから選ばれる少なくとも１種とからなり、Ｓｉ成分をＳｉＯ２に酸化物換算した重量にて２０〜４０重量％、Ｂ成分をＢ２Ｏ３に酸化物換算した重量にて２０〜３５重量％、Ｚｎ成分をＺｎＯに酸化物換算した重量にて１５〜２５重量％、Ｂａ成分をＢａＯに酸化物換算した重量にて１０〜２３重量％含有するとともに、Ｔｉ及びＺｒは、ＴｉはＴｉＯ２に、ＺｒはＺｒＯ２にそれぞれ酸化物換算した重量にて合計で２〜１０重量％含有し、かつＮａ、Ｋ及びＬｉから選ばれる少なくとも１種をアルカリ金属成分として、ＮａはＮａ２Ｏ、ＫはＫ２Ｏ、ＬｉはＬｉ２Ｏに酸化物換算した重量にて、その合計含有量を１２重量％以下とし、さらにＰｂの含有量をＰｂＯに酸化物換算した形にて０．１重量％以下とした釉薬にて構成されている。」（段落【０１００】）
（コ）表５の試料１には、釉薬の組成の実施例として
Ｓｉ成分をＳｉＯ２に酸化物換算した重量にて２６．５重量％、
Ｂ成分をＢ２Ｏ３に酸化物換算した重量にて２１．６重量％、
Ｚｎ成分をＺｎＯに酸化物換算した重量にて２１．４重量％、
Ｂａ成分をＢａＯに酸化物換算した重量にて１２．７重量％、
Ｌｉ成分をＬｉ２Ｏに酸化物換算した重量にて０．９重量％、
Ｋ成分をＫ２Ｏに酸化物換算した重量にて４．５重量％、
Ｎａ成分をＮａ２Ｏに酸化物換算した重量にて４．３重量％、
Ｔｉ成分をＴｉＯ２に酸化物換算した重量にて５．７重量％、
Ｚｒ成分をＺｒＯ２に酸化物換算した重量にて２．４重量％
含有するものが示されている。
その他、表５には、以下の組成の試料が、実施例として示されている。
試料２：ＳｉＯ２が２４．７重量％、Ｂ２Ｏ３が２４．１重量％、ＺｎＯが１７．４重量％、ＢａＯが１７．４重量％、Ｌｉ２Ｏが０．５重量％、Ｋ２Ｏが４．８重量％、Ｎａ２Ｏが５．３重量％、ＴｉＯ２が３．７重量％、ＺｒＯ２が２．１重量％
試料３：ＳｉＯ２が２８．８重量％、Ｂ２Ｏ３が２７．７重量％、ＺｎＯが１６．２重量％、ＢａＯが１２．８重量％、Ｌｉ２Ｏが０．１重量％、Ｋ２Ｏが３．７重量％、Ｎａ２Ｏが３．５重量％、ＴｉＯ２が３．４重量％、ＺｒＯ２が３．８重量％
試料４：ＳｉＯ２が３１．９重量％、Ｂ２Ｏ３が２５．４重量％、ＺｎＯが１８．１重量％、ＢａＯが１３．２重量％、Ｌｉ２Ｏが１．５重量％、Ｋ２Ｏが３．３重量％、Ｎａ２Ｏが２．８重量％、ＴｉＯ２が２．１重量％、ＺｒＯ２が１．７重量％
試料５：ＳｉＯ２が３３．７重量％、Ｂ２Ｏ３が２１．９重量％、ＺｎＯが１６．４重量％、ＢａＯが１３．８重量％、Ｌｉ２Ｏが０．１重量％、Ｋ２Ｏが２．４重量％、Ｎａ２Ｏが３．１重量％、ＴｉＯ２が４．７重量％、ＺｒＯ２が３．９重量％
試料７：ＳｉＯ２が３７．８重量％、Ｂ２Ｏ３が２６．９重量％、ＺｎＯが１６．８重量％、ＢａＯが１２．２重量％、Ｌｉ２Ｏが０．４重量％、Ｋ２Ｏが０．５重量％、Ｎａ２Ｏが０．７重量％、ＴｉＯ２が３．８重量％、ＺｒＯ２が０．９重量％
試料１１：ＳｉＯ２が２５．３重量％、Ｂ２Ｏ３が２３．６重量％、ＺｎＯが１６．８重量％、ＢａＯが２２．７重量％、Ｌｉ２Ｏが０．０重量％、Ｋ２Ｏが４．２重量％、Ｎａ２Ｏが４．８重量％、ＴｉＯ２が０．２重量％、ＺｒＯ２が２．４重量％
試料１２：ＳｉＯ２が２７．４重量％、Ｂ２Ｏ３が２３．５重量％、ＺｎＯが１９．７重量％、ＢａＯが１５．４重量％、Ｌｉ２Ｏが０．０重量％、Ｋ２Ｏが５．１重量％、Ｎａ２Ｏが４．１重量％、ＴｉＯ２が２．７重量％、ＺｒＯ２が２．１重量％
　上記（ア）〜（コ）の記載事項及び図面の図示内容を、特に表５の試料１に注目して、総合すると、引用刊行物には、以下の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されていると認められる。
「中心電極３と、
前記中心電極３の外側に配置された主体金具１と、
前記中心電極３と前記主体金具１との間において、前記中心電極３の外側を覆うように配置されるアルミナ系セラミックで構成された絶縁体２と、
その絶縁体２の表面の少なくとも一部を覆う形態で形成される酸化物主体の釉薬層２ｄとを有し、該釉薬層２ｄを構成する釉薬は、
Ｐｂ成分を実質的に含有しないか、含有していてもその含有量がＰｂＯ換算にて０．１重量％以下であり、
Ｓｉ成分をＳｉＯ２に酸化物換算した重量にて２６．５重量％、
Ｂ成分をＢ２Ｏ３に酸化物換算した重量にて２１．６重量％、
Ｚｎ成分をＺｎＯに酸化物換算した重量にて２１．４重量％、
Ｂａ成分をＢａＯに酸化物換算した重量にて１２．７重量％、
Ｌｉ成分をＬｉ２Ｏに酸化物換算した重量にて０．９重量％、
Ｋ成分をＫ２Ｏに酸化物換算した重量にて４．５重量％、
Ｎａ成分をＮａ２Ｏに酸化物換算した重量にて４．３重量％、
Ｔｉ成分をＴｉＯ２に酸化物換算した重量にて５．７重量％、
Ｚｒ成分をＺｒＯ２に酸化物換算した重量にて２．４重量％
含有するものであり、
　また、前記絶縁体２の軸方向中間には、周方向外向きに突出する突出部２ｅが形成され、
　中心電極３の先端に向かう側を前方側として、前記突出部２ｅよりも後方側がこれよりも細径に形成された本体部２ｂとされ、その外周面が円筒状であり、
　釉薬層２ｄが、絶縁体２の本体部２ｂの外周面に、軸方向前方側が主体金具１の内側に所定長入り込む形で、後方側は本体部２ｂの後端縁位置まで延びて形成されているスパークプラグ。」
　
３．対比・判断
　本願発明と引用発明とを対比すると、後者の「中心電極３と、前記中心電極３の外側に配置された主体金具１と、前記中心電極３と前記主体金具１との間において、前記中心電極１の外側を覆うように配置されるアルミナ系セラミックで構成された絶縁体２」なる配置構成は、前者の「中心電極と主体金具との間にアルミナ系セラミックからなる絶縁体を配した」配置構成と同様であり、後者の「Ｐｂ成分を実質的に含有しないか、含有していてもその含有量がＰｂＯ換算にて０．１重量％以下であ」る釉薬により構成される釉薬層２ｄは、前者の「Ｐｂ成分の含有量がＰｂＯ換算にて１ｍｏｌ％以下とされ」る釉薬層に相当する。
　また、引用発明の釉薬層２ｄに用いられる釉薬について、重量％で表された配合比をｍｏｌ％で書き直すと、
Ｓｉ成分をＳｉＯ２に酸化物換算した値にて３３．１ｍｏｌ％、
Ｂ成分をＢ２Ｏ３に酸化物換算した値にて２３．１ｍｏｌ％、
Ｚｎ成分をＺｎＯに酸化物換算した値にて１９．８ｍｏｌ％、
Ｂａ成分をＢａＯに酸化物換算した値にて６．２ｍｏｌ％、
Ｎａ成分をＮａ２Ｏに酸化物換算した値にて５．２ｍｏｌ％、
Ｋ成分をＫ２Ｏに酸化物換算した値にて３．６ｍｏｌ％、
Ｌｉ成分をＬｉ２Ｏに酸化物換算した値にて２．２ｍｏｌ％、
Ｔｉ成分をＴｉＯ２に酸化物換算した値にて５．３ｍｏｌ％、
Ｚｒ成分をＺｒＯ２に酸化物換算した値にて１．５ｍｏｌ％となり、
Ｓｉ成分とＢ成分を酸化物換算した値の合計で５６．２ｍｏｌ％、
Ｚｎ成分とＢａ成分を酸化物換算した値の合計で２６．０ｍｏｌ％、
上記Ｓｉ成分とＢ成分及びＺｎ成分とＢａ成分を酸化物換算した値の合計で８２．２ｍｏｌ％、
アルカリ金属であるＮａ成分、Ｋ成分、Ｌｉ成分をそれぞれ酸化物換算した値の合計で１１．０ｍｏｌ％となるから、上記各成分のｍｏｌ％については、各々、本願発明で限定する範囲に包含される。
　さらに、後者の「前記絶縁体２の軸方向中間には、周方向外向きに突出する突出部２ｅが形成され」る構造は、前者の「前記絶縁体には、軸線方向中間位置においてその外周面に周方向の突出部が形成され」る構造に相当し、後者の「中心電極３の先端に向かう側を前方側として、前記突出部２ｅよりも後方側がこれよりも細径に形成された本体部２ｂとされ、その外周面が円筒状であ」る構造は、前者の「軸線方向において前記中心電極の先端に向かう側を前方側として、前記突出部に対し後方側に隣接する絶縁体本体部の基端部外周面が円筒面状に形成され」る構造に相当し、後者の「絶縁体２の本体部２ｂの外周面」は前者の「絶縁体本体部の基端部外周面」に相当する。
　そして、前者の「釉薬層はその基端部外周面を覆う形で形成され」と、後者の「釉薬層２ｄが、絶縁体２の本体部２ｂの外周面に、軸方向前方側が主体金具１の内側に所定長入り込む形で、後方側は本体部２ｂの後端縁位置まで延びて形成され」とは、釉薬層について、絶縁体本体部の基端部外周面の少なくとも一部を覆う形で形成されている点で共通している。
　そうすると、両者は、
「中心電極と主体金具との間にアルミナ系セラミックからなる絶縁体を配したスパークプラグにおいて、その絶縁体の表面の少なくとも一部を覆う釉薬層が形成され、該釉薬層は、
　Ｐｂ成分の含有量がＰｂＯ換算にて１ｍｏｌ％以下とされ、
　ＳｉＯ２に酸化物換算した値にて５〜６０ｍｏｌ％のＳｉ成分と、Ｂ２Ｏ３に酸化物換算した値にて３〜５０ｍｏｌ％のＢ成分とからなる第一成分を３５〜８０ｍｏｌ％と、Ｚｎ成分とアルカリ土類金属成分Ｒ（ただし、ＲはＣａ、Ｓｒ、Ｂａから選ばれる１種又は２種以上）との少なくともいずれかからなる第二成分とを、ＺｎはＺｎОに、Ｒは組成式ＲОに酸化物換算した値にて合計で１２〜６０ｍｏｌ％とを含有するとともに、それら第一成分と第二成分との合計含有量が６５〜９８ｍｏｌ％であり、かつ、Ｚｎ成分と、Ｂａ成分及び／又はＳｒ成分とは、Ｚｎ成分はＺｎＯ、Ｂａ成分はＢａＯ、Ｓｒ成分はＳｒＯにそれぞれ酸化物換算した値にて、合計で１２〜３０ｍｏｌ％とされ、
　また、アルカリ金属成分として、ＮａはＮａ２Ｏ、ＫはＫ２Ｏ、ＬｉはＬｉ２Ｏに酸化物換算した値にて、それらの１種又は２種以上を合計で２〜１５ｍｏｌ％の範囲にて含有するものであり、
　また、前記絶縁体には、軸線方向中間位置においてその外周面に周方向の突出部が形成され、
　該軸線方向において前記中心電極の先端に向かう側を前方側として、前記突出部に対し後方側に隣接する絶縁体本体部の基端部外周面が円筒面状に形成され、
　前記釉薬層はその基端部外周面の少なくとも一部を覆う形で形成されるスパークプラグ。」である点で、一致し、以下の点で両者は相違しているものと認められる。
（１）釉薬層について、本願発明が絶縁体本体部の「基端部外周面を覆う形で形成され」ているのに対して、引用発明は「絶縁体２の本体部２ｂの外周面に、軸方向前方側が主体金具１の内側に所定長入り込む形で、後方側は本体部２ｂの後端縁位置まで延びて形成され」ている点。
（２）本願発明が絶縁体本体部の「基端部外周面にてＪＩＳ：Ｂ０６０１に規定された方法に従い測定した前記絶縁体本体部の表面粗さにおいてその最大高さＲｙが１５〜３５μｍとし、同様に測定した前記釉薬層の表面粗さ曲線においてその最大高さＲｙが１０μｍ以下とされている」のに対し、引用発明がそのように構成されているか否か不明である点。
　
　そこで、上記相違点について検討する。
ア．まず、相違点（１）について検討する。
　引用発明も主体金具１の内側に所定長入り込むように釉薬層が設けられるものであるから、よりフラッシュオーバを確実に防止するように、この層を基端部外周面の全面を覆うように設ける程度のことは、当業者にとって適宜なし得ることであり、また、例えば、特開２０００−３１３６８１号公報に示すように、全面に釉薬層を設けることが周知であることからも、当該相違点に係る本願発明の特定事項とすることに格別の困難性は認められない。
  イ．次に相違点（２）について検討する。
　引用刊行物の摘示事項（イ）に示すように、釉薬層は、フラッシュオーバ現象防止のために設けられるものであって、絶縁体表面を平滑化して汚染を防止したり、化学的あるいは機械的強度を高めるためのものである。一般に表面を滑らかにして放電を防止することは、技術常識であり、上記のようにスパークプラグの絶縁体の表面を滑らかにすることは、例えば、特開２００１−３９７３３号公報の段落【００２４】に、釉面が平滑であるためにプラグキャップの装着性がよいことや、汚れの付着も少なく、絶縁抵抗性も確保できることが示されているように、常套手段であるといえる。
　してみると、よりよい絶縁性、汚損防止性、フラッシュオーバ防止性を求め、同時にプラグキャップの装着性も考慮して、釉薬層を滑らかとすること、そして釉薬や形状、電圧に応じて、実験等により、表面の粗さについて、その最大高さを１０μｍ以下と規定することは、当業者が、必要に応じて適宜なし得ることと認められる。
　そして、その釉薬層の下地である絶縁体本体部の表面粗さについても、釉薬や塗布方法等、各条件に応じて、上記釉薬層の表面の粗さを実現できるように、これを規定することに格別の困難性が認められない。
　以上のように、相違点（２）に係る本願発明の特定事項とすることは、当業者が容易になし得ることと認められる。
　そして上記相違点（１）及び（２）について合わせ考えても、本願発明の効果が格別であるとは認められない。
　
４．むすび
　したがって、本願発明は、引用発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。