【誤訳訂正書】
【提出日】平成24年5月15日(2012.5.15)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００３】
投影システムの最終エレメントと基板の間の空間を充填するべく、比較的屈折率の大きい液体中、たとえば水中に、リソグラフィック投影装置の基板を浸す方法が提案されている。この方法のポイントは、液体中では露光放射の波長がより短くなるため、より小さいフィーチャを画像化することができることである。（また、液体の効果は、システムの有効ＮＡが大きくなり、かつ、焦点深度が長くなることにあると見なすことができる。）固体粒子（たとえば石英）が懸濁した水を始めとする他の液浸液が提案されている。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１５】
液体供給システムは、第１及び第２の液浸液を分離するための膜を有していることが好ましい。これは、２種類の液浸液を最終エレメント及び基板に対して適切に拘束するべく配置することができる数ある方法のうちの１つである。膜の材料には石英を使用することができ、その厚さは、０．１ｍｍと５ｍｍの間であることが好ましい。この方法によれば、投影システムの最終エレメントを第２の液浸液から保護することができ、かつ、投影ビームの品質に悪影響を及ぼすことはほとんどない。他の解決法を利用することも可能である。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２１】
本発明のこの態様は、犠牲体を液浸液中に溶解させ、それにより犠牲体の下流側のコンポーネントに対する液浸液の作用を小さくすることによって成り立っている。たとえば、犠牲体が保護すべきコンポーネントと同じ材料でできている場合、液浸液が犠牲体の材料で実質的に飽和し、したがってそれ以上液浸液中にその材料が溶解し得なくなるため、その材料でできているコンポーネントが保護される。石英は、このような材料の実施例の１つである。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４１】
図５は、投影システムＰＬと基板ステージＷＴ上に配置された基板Ｗの間の液体リザーバ１０を示したものである。液体リザーバ１０には、入口／出口ダクト１３を介して提供される比較的屈折率が大きい液体１１、たとえば水が充填されている。この液体は、この液体中における投影ビームの放射波長を、空気中若しくは真空中における波長より短くする効果を有しており、したがってより小さいフィーチャを解像することができる。とりわけ投影ビームの波長及びシステムの開口数によって投影システムの解像限界が決定されることは良く知られている。また、液体が存在することにより、有効開口数が大きくなると考えることができ、さらに、固定開口数においては、液体は、被写界深度の改善に有効である。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４２】
液体リザーバ１０は、投影レンズＰＬの画像視野の周りの基板Ｗに対して好ましくは非接触シールを形成し、投影システムＰＬと対向する基板の主表面と、投影システムＰＬの最終エレメント（たとえば、投影システム若しくは投影システムの最終光学エレメントを密閉する「アブシュラススプラット」）との間の空間を充填するべく液体を閉じ込めている。液体リザーバは、投影レンズＰＬの最終エレメントの下方に、最終エレメントを取り囲んで配置されたシール部材１２によって形成されており、したがって液体拘束システムＬＣＳは、基板の局部領域上にのみ液体を提供している。シール部材１２は、投影システムの最終エレメントとセンサ（若しくは基板Ｗ）の空間に液体を充填するための液体拘束システムＬＣＳの一部を形成している。この液体は、投影レンズの下方のシール部材１２内の空間に充填される。シール部材１２は、液体のバッファを提供するべく、投影レンズの底部エレメントの上方にわずかに伸び、最終エレメントの上方に液体が上昇している。シール部材１２は、上端部が投影システム若しくは投影システムの最終エレメントの形状に密に整合した、たとえば丸い形をした内部周囲を有している。該内部周囲の底部は、画像視野の形状に密に整合した、必ずしもその必要はないがたとえば長方形の開口を形成しており、投影ビームは、この開口を通過している。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４３】
液体１１は、シール・デバイス１６によって液体リザーバ１０内に閉じ込められている。図５に示すように、このシール・デバイスは、非接触シールすなわちガス・シールである。このガス・シールは、シール部材１２と基板Ｗの間のギャップに入口１５を介して加圧状態で提供され、かつ、第１の出口１４から抽出されるガス、たとえば空気若しくは合成空気によって形成されている。ガス入口１５の超過圧力、第１の出口１４の真空レベル及びギャップの幾何学は、リソグラフィック装置の光軸に向かって内側に向かう、液体１１を閉じ込める高速空気流が存在するようになされている。あらゆるシールと同様、若干の液体がたとえば第１の出口１４から漏れる可能性がある。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４４】
図２及び３は、同じく、１つ又は複数の入口ＩＮ、１つ又は複数の出口ＯＵＴ、基板Ｗ及び投影レンズＰＬの最終エレメントによって画定される液体リザーバを示したものである。図５に示す液体拘束システムと同様、図２及び３に示す液体拘束システムも、１つ又は複数の入口ＩＮ及び１つ又は複数の出口ＯＵＴを備えており、投影システムの最終エレメントと基板の主表面の局部領域との間の空間に液体を供給している。
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４６】
図６は、投影システムＰＬの最終エレメント２０を詳細に示したものである。図６に示す実施例では、最終エレメントは、第１のコンポーネント２５及び第２のコンポーネント２７を備えた最終光学エレメント２０である。投影システムＰＬの最終エレメント２０は、複屈折を示す材料を使用して最終エレメントを構築することができるよう、第１及び第２のコンポーネント２５、２７からなっている。１５７ｎｍで照射するための好ましい材料はＣａＦ２である。ＣａＦ２は透過性ではあるが、１５７ｎｍの波長で複屈折特性を示す。石英は、１５７ｎｍではほとんど透過性ではない。また、ＣａＦ２は、１９３ｎｍでの照射にも好ましく、この波長の場合、石英を使用することも可能であるが、石英レンズは、これらの波長におけるコンパクションの問題を抱えており、そのためにレンズの微小部分に放射が集束し、褪色（暗くなる）、より多くの熱の吸収及びチャネル切断の原因になっている。
【誤訳訂正９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４８】
投影システムＰＬの残りの光学エレメントには、ＣａＦ２以外の材料を使用することができる。投影ビームの強度は、最終エレメントの強度が最も強く、かつ、最も弱いため、その材料に石英が使用されている場合、コンパクションの問題を抱えるのはこの最終エレメントである可能性が最も高い。
【誤訳訂正１０】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５３】
保護コーティング４０の使用は、投影システムＰＬの最終エレメント２０がＣａＦ２からなっている場合に何ら限定されない。たとえば、最終エレメントが石英からなっている場合（アブシュラススプラットが最終エレメントである場合に典型的に見られるように）、同じく液浸液１１中への石英の溶解若しくは液浸液１１との石英の反応による問題が存在する可能性があり、この場合にも保護層４０が必要である。
【誤訳訂正１１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６４】
たとえば、投影システムＰＬの最終エレメント、たとえばアブシュラススプラット９０（最終レンズ・エレメント）が石英からなり、かつ、液浸液と接触しており、また、犠牲体のうちの少なくとも１つが石英からなっている場合、犠牲ユニット８０を通過する際に液浸液（水であっても良い）が石英で飽和し、液浸液が液体拘束システムＬＣＳ及びアブシュラススプラット９０に到達すると、液浸液と石英の作用が小さくなる。
【誤訳訂正１２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６７】
図９に示す本発明による他の実施例では、投影システムの最終エレメント２０は、溶融シリカプレート４５によって保護されている。このプレートの厚さは、５０μｍから５ｍｍまでの範囲であり、最終エレメント２０に接触結合若しくは接着剤結合されている。接触結合の場合、接着剤は使用されず、結合表面が滑らかに、かつ、十分に浄化され、それにより直接１つに結合される。最終エレメントへの結合後、溶融シリカプレートが所望の厚さに研削され、研磨されるが、これにより極めて薄い板を処理する場合に固有の困難性が回避される。継ぎ目の周囲には液体を漏らさないシール４６を提供することができる。
【誤訳訂正１３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６８】
最終エレメントと溶融シリカプレートを１つに接触結合させる場合、最終エレメントと保護溶融シリカプレートの継ぎ目の周囲のシール４６は、とりわけ望ましい。この形態の結合によって並外れて強力な結合が提供されるが、ＣａＦと溶融シリカのように異種類の材料を結合する場合、温度変化及び熱勾配によって結合が「息をする」ことになり、２種類の材料の差動熱膨張若しくは収縮によって、応力が緩和されるまでそれらを分離させることになる。熱分離の場合、通常、結合は極めて迅速に改質するが、たとえば保護層を研磨している間、或いは保護層を研削している間、若しくはリソグラフィック投影装置の使用時において、最終エレメントと液体が接触する際にこの熱分離が生じると、液体がギャップ中に引き込まれることになる。
【誤訳訂正１４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６９】
使用可能なシールの形態の１つは、適切なプリカーソル（シリコーン流体（つまり様々な炭化水素側鎖を備えた様々な長さのＳｉ−Ｏ鎖からなる流体）、オルトケイ酸テトラエチル、テトラシロキサンデカメチル及びオルトケイ酸テトラブチルなど）を塗布し、かつ、該プリカーソルをＳｉＯに光変換するべくＤＵＶ光で照射することによって形成されたＳｉＯの層である。この形態のシールには、溶融シリカプレートと同様の硬度を有しているため、同様の速度で研磨することができる利点がある。
【誤訳訂正１５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００７１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００７１】
また、オルトケイ酸テトラエチルを継ぎ目の周囲に塗布し、次に、シールを形成する溶融シリカの薄層を形成するべく室温で分解させることにより、さらに他の形態のシールが形成される。しかしながらこのシールは、どちらかと言えば脆いため、取扱いには注意が必要である。
【誤訳訂正１６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００８４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００８４】
１０  液体リザーバ
１１、４７  液体（液浸液）
１２  シール部材
１３  入口／出口ダクト
１４、ＯＵＴ  第１の出口
１５、１０２、ＩＮ  入口
１６  シール・デバイス
２０  投影システムの最終エレメント（最終光学エレメント）
２５  第１のコンポーネント
２７  第２のコンポーネント
４０  保護コーティング（保護層）
４５  溶融シリカプレート（保護プレート）
４６  シール
４８  保護コーティングの内部層（第１のＳｉＯ層）
４９  保護コーティングの外部層（第２のＳｉＯ層）
５０  膜
７０  第１の液浸液
７５  第２の液浸液
８０  犠牲ユニット
８５  犠牲体
９０  アブシュラススプラット
１００  液体供給システム
１０４  ドレン
ＡＤ  調整器
Ｂ  放射ビーム
ＢＤ  ビーム引渡しシステム
Ｃ  目標部分
ＣＯ  コンデンサ
ＩＦ  位置センサ
ＩＬ  照明システム（イルミネータ）
ＩＮ  インテグレータ
Ｍ１、Ｍ２  マスク位置合せマーク
ＭＡ  パターン化デバイス
ＭＴ  支持構造
Ｐ１、Ｐ２  基板位置合せマーク
ＰＭ  第１のポジショナ
ＰＬ、ＰＳ  投影システム（投影レンズ）
ＰＷ  第２のポジショナ
ＳＯ  放射源
Ｗ  基板
ＷＴ  基板テーブル（基板ステージ）