Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成24年2月27日(2012.2.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のフォトダイオードを有し、前記複数のフォトダイオードのそれぞれの周辺にフォトダイオードの信号電荷を蓄積及び転送するための転送電極を有する撮像素子と、連続読み出しモード駆動パルスを発生するパルス発生部と、外部同期部を有する撮像装置と、外部同期信号を発生し、撮像装置出力を記録し処理する装置とを有する撮像システムにおいて、
前記発生された外部同期信号の垂直同期信号から、連続読み出し周期の１／２より短い時間後に前記複数のフォトダイオードの信号電荷を前記転送電極に読み出し転送するパルスを電極に印加する回路を撮像装置を有することを特徴とした撮像システム。
【請求項２】
複数のフォトダイオードを有し、前記複数のフォトダイオードのそれぞれの周辺にフォトダイオードの信号電荷を蓄積及び転送するための転送電極を有する撮像素子と、連続読み出しモード駆動パルス発生部と、外部同期部を有する撮像装置と、外部同期信号を発生し、撮像装置出力を記録し処理する装置とを有する撮像システムにおける前記撮像装置において、
前記発生された外部同期信号の垂直同期パルスから、連続読み出し周期の１／２より短い時間後に前記複数のフォトダイオードの信号電荷を前記転送電極に読み出し転送する回路有することを特徴とする撮像装置。
【請求項３】
複数のフォトダイオードを有し、前記複数のフォトダイオードのそれぞれの周辺にフォトダイオードの信号電荷を蓄積及び転送するための転送電極を有する撮像素子と、連続読み出しモード駆動パルス発生部と、外部同期部を有する撮像装置と、外部同期信号を発生し、撮像装置出力を記録し処理する装置とを有する撮像システムにおける撮像方法において、
前記発生された外部同期信号の垂直同期パルスから、連続読み出し周期の１／２より短い時間後に前記複数のフォトダイオードの信号電荷を前記転送電極に読み出し転送することを特徴とする撮像方法。
【請求項４】
映像信号を出力する撮像素子と、
設定されたフレームレートおよび露光時間情報に基づいて露光と転送のタイミングを制御するパルスを生成して前記撮像素子に出力するパルス発生部と、を備え、
前記撮像素子が、前記パルスの立ち上がりのタイミングで露光を開始し、前記パルスの立ち下がりのタイミングで露光を終了して転送を開始するモードを有し、
該モードにおいて、設定したフレームレートで、露光時間を複数回切り替えて映像を取得し、該映像を表示することを特徴とする撮像装置。
【請求項５】
設定されたフレームレートおよび露光時間情報に基づいて露光と転送のタイミングを制御するパルスを生成して、所定の入力垂直同期信号のタイミングではなく、前記パルスの立ち上がりのタイミングで露光を開始し、前記パルスの立ち下がりのタイミングで露光を終了して転送を開始することで映像信号を取得するモードを有し、
該モードにおいて、設定したフレームレートで、露光時間を複数回切り替えて映像を取得し、該映像を表示することを特徴とする撮像方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】撮像システム、撮像装置および撮像方法
【手続補正書】
【提出日】平成24年2月23日(2012.2.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電極パッドを有している基板と、
励振電極、前記電極パッドを平面視して前記電極パッドと重なっている接続電極、及び平面視して前記励振電極と前記接続電極との間にマーカー電極が配置され、且つ少なくとも前記接続電極と前記マーカー電極との間に光透過性を有する領域があり、前記基板に搭載されている振動片と、
を含み、
前記電極パッドの前記励振電極側に位置する外縁が、平面視で、前記接続電極と前記マーカー電極との間に配置されていることを特徴とする振動デバイス。
【請求項２】
請求項１において、
前記振動片には、
前記励振電極と前記接続電極を電気的に接続する引き出し電極が配置され、
前記マーカー電極は、
前記引き出し電極から延出して設けられていることを特徴とする振動デバイス。
【請求項３】
請求項１において、
前記振動片には、
前記励振電極と前記接続電極を電気的に接続する引き出し電極が配置され、
前記マーカー電極は、前記引き出し電極から離間して配置されていることを特徴とする振動デバイス。
【請求項４】
請求項３において、
前記マーカー電極は、複数の個別電極を含むことを特徴とする振動デバイス。
【請求項５】
振動片に、励振電極、接続電極、及び平面視して前記励振電極と前記接続電極との間に配置されたマーカー電極、を形成する工程と、
平面視で、前記接続電極と前記マーカー電極との間に、パッケージに配置された電極パッドの前記励振電極側に位置する外縁を配置する工程と、
前記電極パッドと前記接続電極とを接続部材を用いて接続する工程と、
を含むことを特徴とする振動デバイスの製造方法。
【請求項６】
請求項５において、
前記振動片は、少なくとも前記接続電極と前記マーカー電極との間に光透過性を有する領域があり、
前記外縁を配置する工程は、
前記振動片を透かして前記外縁を認識することを特徴とする振動デバイスの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】振動デバイス及び振動デバイスの製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、パッケージ内に振動片が収納された振動デバイス、および振動デバイスの製造方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は、上記課題の少なくとも一つを解決するように、以下の適用例または形態として実現され得る。
本発明のある実施形態に係る振動デバイスは、電極パッドを有している基板と、励振電極、前記電極パッドを平面視して前記電極パッドと重なっている接続電極、及び平面視して前記励振電極と前記接続電極との間にマーカー電極が配置され、且つ少なくとも前記接続電極と前記マーカー電極との間に光透過性を有する領域があり、前記基板に搭載されている振動片と、を含み、前記電極パッドの前記励振電極側に位置する外縁が、平面視で、前記接続電極と前記マーカー電極との間に配置されていることを特徴とする。
本発明のある別の実施形態に係る振動デバイスは、前記振動片には、前記励振電極と前記接続電極を電気的に接続する引き出し電極が配置され、前記マーカー電極は、前記引き出し電極から延出して設けられていることを特徴とする。
本発明のある別の実施形態に係る振動デバイスは、前記振動片には、前記励振電極と前記接続電極を電気的に接続する引き出し電極が配置され、前記マーカー電極は、前記引き出し電極から離間して配置されていることを特徴とする。
本発明のある別の実施形態に係る振動デバイスは、前記マーカー電極は、複数の個別電極を含むことを特徴とする。
本発明のある別の実施形態に係る振動デバイスの製造方法は、振動片に、励振電極、接続電極、及び平面視して前記励振電極と前記接続電極との間に配置されたマーカー電極、を形成する工程と、平面視で、前記接続電極と前記マーカー電極との間に、パッケージに配置された電極パッドの前記励振電極側に位置する外縁を配置する工程と、前記電極パッドと前記接続電極とを接続部材を用いて接続する工程と、を含むことを特徴とする。
本発明のある別の実施形態に係る振動デバイスの製造方法は、前記振動片は、少なくとも前記接続電極と前記マーカー電極との間に光透過性を有する領域があり、前記外縁を配置する工程は、前記振動片を透かして前記外縁を認識することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成24年3月13日(2012.3.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画素が２次元的に配列された撮像素子であって、撮影レンズにより結像される被写体像を光電変換して画像生成用の信号を生成する撮像用画素と、複数の前記撮像用画素の間に離散的に配置され、前記撮影レンズの瞳領域を分割して、分割された瞳領域からの被写体像を光電変換して位相差検出用の信号を生成する焦点検出用画素とを有する撮像素子と、
前記複数の画素の全画素の信号を読み出す全画素読み出しモードと、前記複数の画素の信号を間引いて読み出す間引き読み出しモードとを切り替える切り替え手段と、
前記切り替え手段により前記間引き読み出しモードに切り替えられた場合に、画像生成のために用いられる撮像行と、前記焦点検出用画素を有する焦点検出行とで、独立して電荷の蓄積制御を行う制御手段と、
を備えることを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
前記間引き読み出しモードにおいて、前記撮像行を構成する画素の信号と、前記焦点検出行を構成する画素の信号の読み出しがシリアルに行われることを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
前記間引き読み出しモードにおいて、前記撮像行を構成する画素の信号の読み出し周期に対して、前記焦点検出行を構成する画素の信号の読み出し周期が、同一または長いことを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項４】
前記撮像素子は、ＣＭＯＳ型の撮像素子であることを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月9日(2012.11.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ドレイン領域とソース領域がひとつずつゲート電極を挟んで交互に配置された、複数のトランジスタが一体化したマルチフィンガータイプのＥＳＤ保護用のＮ型ＭＯＳトランジスタを有する半導体装置であって、
前記ドレイン領域は外部接続端子と電気的に接続され、
前記ソース領域は、前記ソース領域上に配置され接続された第１のメタル配線と、一定の大きさを有するビアホールによって前記第１のメタル配線と接続された第２のメタル配線とを介してグランド電位供給ラインと電気的に接続されており、
前記ビアホールの数が、前記グランド電位供給ラインからの距離に応じて、遠くなるほど数多く配置されている半導体装置。
【請求項２】
前記第２のメタル配線は前記ＥＳＤ保護用のＮ型ＭＯＳトランジスタのチャネル幅方向と垂直な方向から配線されており、前記第１のメタル配線は前記ＥＳＤ保護用のＮ型ＭＯＳトランジスタのチャネル幅方向と水平な方向に配置されており、前記第２のメタル配線と前記第１のメタル配線とは、前記ソース領域の上の領域にて前記ビアホールにより接続されている請求項１記載の半導体装置。
【請求項３】
前記グランド電位供給ラインから最も離れた位置に配置されたソース領域上のビアホールの配置個数と、グランド電位供給ラインから最も近い位置に配置されたソース領域上のビアホール配置個数との比が３を超えない請求項１記載の半導体装置。
【請求項４】
ドレイン領域とソース領域がひとつずつゲート電極を挟んで交互に配置された、複数のトランジスタが一体化したマルチフィンガータイプのＥＳＤ保護用のＮ型ＭＯＳトランジスタを有する半導体装置であって、
前記ドレイン領域は外部接続端子と電気的に接続され、
前記ソース領域は、前記ソース領域上に配置され接続された第１のメタル配線と、前記第１のメタル配線上に配置されたビアホールによって前記第１のメタル配線と接続された第２のメタル配線とを介してグランド電位供給ラインと電気的に接続されており、
前記ソース領域においては、前記グランド電位供給ラインに接続された前記第２のメタル配線の配線抵抗と、前記ビアホールよる接続抵抗とを加算したそれぞれの抵抗値が互いに等しい半導体装置。
【請求項５】
前記ビアホールは一定の大きさを有し、前記第１のメタル配線上に配置された前記ビアホールの数を変えることで前記それぞれの抵抗値を互いに概ね等しくする請求項４記載の半導体装置。
【請求項６】
前記ビアホールは一定の幅を有する線状ビアホールであり、前記第１のメタル配線上に配置された前記線状ビアホールの長さを変えることで前記それぞれの抵抗値を互いに概ね等しくする請求項４記載の半導体装置。
【請求項７】
前記第２のメタル配線は、前記グランド電位供給ラインからの距離が遠いほど、前記ＥＳＤ保護用のＮ型ＭＯＳトランジスタの幅と平行する方向の配線幅が大きい請求項４記載の半導体装置。
【請求項８】
ドレイン領域とソース領域がひとつずつゲート電極を挟んで交互に配置された、複数のトランジスタが一体化したマルチフィンガータイプのＥＳＤ保護用のＮ型ＭＯＳトランジスタを有する半導体装置であって、
前記ドレイン領域は外部接続端子と電気的に接続され、
前記ソース領域は、前記ソース領域上に配置され接続された第１のメタル配線と、一定の幅を有する線状ビアホールによって前記第１のメタル配線と接続された第２のメタル配線とを介してグランド電位供給ラインと電気的に接続されており、
前記線状ビアホールの長さが、前記グランド電位供給ラインからの距離に応じて、遠くなるほど長くなるよう配置されている半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成24年3月9日(2012.3.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
成分（Ａ）、成分（Ｂ）及び成分（Ｃ）を含み、かつ植物由来樹脂を２５質量％以上含む環境配慮型熱可塑性エラストマー組成物であって、前記成分（Ａ）はアクリル酸アルキルエステル及びアクリル酸アルコキシアルキルエステルの少なくとも１種を主成分とし、かつエポキシ基含有単量体を０．５〜１５質量％含む単量体混合物を共重合して得られるアクリルゴムが４０〜７０質量部であり、前記成分（Ｂ）は植物由来樹脂が３０〜６０質量部であり、前記成分（Ｃ）はエチレン及び極性単量体から形成されるオレフィン系重合体セグメントと、少なくともアクリル酸アルキルエステルを含むビニル系単量体から形成されるビニル系共重合体セグメントとからなるグラフト共重合体又はその前駆体であって、かつオレフィン系重合体セグメントとビニル系共重合体セグメントとのうちの一方のセグメントがマトリックス相を形成し、他方のセグメントが前記マトリックス相中に分散相を形成する前記グラフト共重合体又はその前駆体が成分（Ａ）及び成分（Ｂ）の合計１００質量部に対して１〜１５質量部である前記環境配慮型熱可塑性エラストマー組成物。
【請求項２】
前記に示す成分（Ａ）、成分（Ｂ）及び成分（Ｃ）に、成分（Ｄ）としてさらに可塑剤を成分（Ａ）１００質量部に対して６０質量部以下含有することを特徴とする請求項１に記載の環境配慮型熱可塑性エラストマー組成物。    
【請求項３】
前記に示す成分（Ａ）、成分（Ｂ）、成分（Ｃ）及び成分（Ｄ）からなる環境配慮型熱可塑性エラストマー組成物を、成分（Ａ）の１００質量部に対して０．０５〜５質量部の架橋剤で動的架橋することによって得られる請求項１または２のいずれかに記載の環境配慮型熱可塑性エラストマー組成物。
【請求項４】
架橋剤がポリカルボン酸である請求項３に記載の環境配慮型熱可塑性エラストマー組成物。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の環境配慮型熱可塑性エラストマー組成物を成形して得られる成形品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
第４の発明は、架橋剤がポリカルボン酸とする第３の発明に記載の環境配慮型熱可塑性エラストマー組成物。
また、第５の発明は、第１の発明〜第４の発明の環境配慮型熱可塑性エラストマー組成物を成形して得られる成形品である。
【手続補正書】
【提出日】平成23年11月10日(2011.11.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
分散樹脂（Ａ）、顔料（Ｂ）、およびレベリング剤（Ｃ）を含んでなる印刷インキであり、分散樹脂（Ａ）が、芳香族カルボキシル基を有する樹脂型分散剤（Ａ−１）と、３級アミノ基を有するビニル系樹脂（Ａ−２）とを含んでなる分散樹脂である印刷インキ。
【請求項２】
芳香族カルボキシル基を有する樹脂型分散剤（Ａ−１）が、水酸基を有する重合体（Ａ−３）と、芳香族トリカルボン酸無水物（Ａ−４ａ）および／または芳香族テトラカルボン酸二無水物（Ａ−４ｂ）とを反応させてなる樹脂型分散剤である請求項１記載の印刷インキ。
【請求項３】
３級アミノ基を有するビニル系樹脂（Ａ−２）のアミン価が、５０〜５００ｍｇＫＯＨ／ｇである請求項１または２いずれか記載の印刷インキ。
【請求項４】
水酸基を有する重合体（Ａ−３）が、片末端に水酸基を有する重合体（Ａ−３ａ）または側鎖に水酸基を有する重合体（Ａ−３ｂ）である請求項２または３記載の印刷インキ。
【請求項５】
片末端に水酸基を有する重合体（Ａ−３ａ）が、片末端に２つの水酸基を有する重合体（Ａ−３ｃ）である請求項４記載の印刷インキ。
【請求項６】
更に下記一般式（１）で表される顔料誘導体（Ｄ）を含んでなる請求項１〜５いずれか記載の印刷インキ。
一般式（１）：
Ｇ6−Ｚ6ｑ
（一般式（１）中、
Ｇ6は、ｑ価の色素原型化合物残基であり、
Ｚ6は、塩基性置換基、酸性置換基、または中性置換基であり、
ｑは、１〜４の整数である。）
【請求項７】
顔料誘導体（Ｄ）が、酸性置換基を有する顔料誘導体（Ｄ）である請求項６記載の印刷インキ。
【請求項８】
更に熱反応性化合物（Ｅ）を含んでなる請求項１〜７いずれか記載の印刷インキ。
【請求項９】
更に溶剤（Ｆ）を含んでなる請求項１〜８いずれか記載の印刷インキ。
【請求項１０】
カラーフィルタ基板用である請求項１〜９いずれか記載の印刷インキ。
【請求項１１】
請求項１〜１０いずれか記載の印刷インキにより形成された印刷層を担持してなるカラーフィルタ基板。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
前記の課題は、分散剤（Ａ）と、顔料（Ｂ）と、レベリング剤（Ｃ）とを含んでなる印刷インキであり、分散樹脂（Ａ）が、芳香族カルボキシル基を有する樹脂型分散剤（Ａ−１）と、３級アミノ基を有するビニル系樹脂（Ａ−２）とを含んでなる分散樹脂である印刷インキによって解決することができる。
本発明による印刷インキの更に別の好ましい態様においては、３級アミノ基を有するビニル系樹脂（Ａ−２）のアミン価が、５０〜５００ｍｇＫＯＨ／ｇである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成24年4月2日(2012.4.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
特許文献４には、-(CF2)nO- の繰り返し単位と-CH2NRR′末端基とから構成される安定化化合物を含む磁気ディスク用潤滑剤が記載されている。得られた化合物をペルフルオロポリエーテルの添加剤として使用することにより、良好な安定性効果を得ることができるものの、さらに安定性を改善する必要がある。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
フッ素系潤滑油組成物の添加剤成分として用いられる含フッ素化合物は、窒素原子を有するため、分子構造中に非共役電子対を持ち、金属表面に適正な配位能を発揮する。また、分子骨格中にアミド結合を持つことにより、金属表面との配位能をより安定化させるといった働きも併せ持っている。これらの高い配位能により、金属表面への吸着が強くなり、耐摩擦摩耗性、熱安定性、防錆性、ガスに対する金属保護能力などを発揮することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
含フッ素化合物の製造に用いられるパーフルオロポリエーテル酸フロライドは、公知の方法で容易に得ることができ、一般的にはヘキサフルオロプロピレンオキサイドをフッ化セシウム触媒およびテトラグライム溶媒の存在下でオリゴマー化反応させると、一般式〔IV〕に示されるようなパーフルオロポリエーテルが得られる。
2010254737.tif 000001
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また、分岐構造を持たないパーフルオロポリエーテル酸フロライドも、公知の方法で得ることができる。その一例として、一般式〔V〕に示されるようなテトラフルオロエチレンオキサイドの光酸化重合によりテトラフルオロエチレンオキサイド単位とジフルオロメトキシ単位が不規則に結合したものが挙げられる。
CF3O(CF2O)p(CF2CF2O)qCF2COF                                        〔V〕
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
以上の例に示される如く、フルオロカーボン基Rfは炭素数1〜2のパーフルオロアルキレン基または分岐パーフルオロアルキレン基であり、具体的には-CF2-、-CF2CF2-、-CF(CF3)-基が示される。
【手続補正書】
【提出日】平成24年4月2日(2012.4.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
フッ素系潤滑油組成物の添加剤成分として用いられる含フッ素化合物は、窒素原子を有するため、分子構造中に非共役電子対を持ち、金属表面に適正な配位能を発揮する。また、分子骨格中にアミド結合を持つことにより、金属表面との配位能をより安定化させるといった働きも併せ持っている。これらの高い配位能により、金属表面への吸着が強くなり、金表面、銀表面、金メッキ表面、銀メッキ表面等の貴金属表面、銅表面、少量の添加元素、例えばAg、Cd、Cr、Be、Be-Co、Te、Zn、Sn、Al、Ni、Si、Pb等との銅合金の表面に対しすぐれた耐摩擦摩耗性を発揮することができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
含フッ素化合物の製造に用いられるパーフルオロポリエーテル酸フロライドは、公知の方法で容易に得ることができ、一般的にはヘキサフルオロプロピレンオキサイドをフッ化セシウム触媒およびテトラグライム溶媒の存在下でオリゴマー化反応させると、一般式〔IV〕に示されるようなパーフルオロポリエーテルが得られる。
2010254738.tif 000001
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、分岐構造を持たないパーフルオロポリエーテル酸フロライドも、公知の方法で得ることができる。その一例として、一般式〔V〕に示されるようなテトラフルオロエチレンオキサイドの光酸化重合によりテトラフルオロエチレンオキサイド単位とジフルオロメトキシ単位が不規則に結合したものが挙げられる。
CF3O(CF2O)p(CF2CF2O)qCF2COF                                        〔V〕
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
以上の例に示される如く、フルオロカーボン基Rfは炭素数1〜2のパーフルオロアルキレン基または分岐パーフルオロアルキレン基であり、具体的には-CF2-、-CF2CF2-、-CF(CF3)-基が示される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
調製されたグリースを、いずれも厚さ2mmの銀メッキプレート〔Ag〕、銅合金(C1100)プレート〔Cu〕、金メッキプレート〔Au〕およびステンレス鋼S45Cプレート〔Fe〕上に0.25mmの厚さで塗布し、トライボギア表面性測定機(新東化学製)にグリース塗布各金属プレートおよび用いられた金属と同材質のボールをセットし、次の測定条件下で摩擦摩耗試験を行って、試験後の各金属プレートの摩耗深さ(単位：μm)を測定した。
荷重：80gf
試験温度：80℃または140℃
摺動速度：50mm／秒
摺動距離(片道)：20mm
摺動回数：20,000回
【手続補正書】
【提出日】平成24年4月10日(2012.4.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
［実施例１］
非熱収縮性フィルム（１２０℃における熱収縮率１０％未満、厚み５０μｍ、ポリエチレンテレフタレートフィルム、コスモシャインA4300：東洋紡績社）の一方の面に、下記処方の接着層塗布液をバーコーター法により塗布、乾燥させて、厚み５μｍの接着層を形成し、熱収縮性フィルム（１２０℃における熱収縮率７０％以上、厚み３０μｍ、ポリエチレンテレフタレートフィルム、スペースクリーンS7053：東洋紡績社）と貼り合せて実施例１の基材フィルムを作製した。
【手続補正書】
【提出日】平成24年4月20日(2012.4.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ナフテン成分（％ＣＮ）が３８〜５４、芳香族成分（％ＣＡ）が１０未満、残部がパラフィン成分（％ＣＰ）である基油を含み、前記基油は、光学式ＥＨＬ油膜厚さ測定器により測定される８０℃の中心油膜厚さが１５０ｎｍ以上であることを特徴とする潤滑油。
【請求項２】
基油は、光学式ＥＨＬ油膜厚さ測定器により測定される中心油膜厚さから算出される８０℃の圧力粘性係数（平均）が９．０ＧＰａ−１以上である請求項１に記載の潤滑油。
【請求項３】
前記基油が、ナフテン成分（％ＣＮ）が４０〜４５、パラフィン成分（％ＣＰ）５５〜６０である請求項１または２記載の潤滑油。
【請求項４】
前記基油が、ナフテン成分（％ＣＮ）が４０、パラフィン成分（％ＣＰ）が６０である請求項１ないし３のいずれかに記載の潤滑油。
【請求項５】
トリアゾール誘導体、及び／又は、ポリシロキサンを含む請求項１ないし４のいずれかに記載の潤滑油。
【請求項６】
潤滑油が、転がり接触または転がり滑り接触系に用いられる潤滑油である請求項１ないし５のいずれかに記載の潤滑油。
【手続補正書】
【提出日】平成24年2月29日(2012.2.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光透過セルと、水溶液と、光触媒電極と、対極とからなる光触媒水素生成デバイスであって、前記水溶液中に微粒子固体物を分散させ、物理的攪拌し、電極に付着した気泡を除去又は拡散する光触媒水素生成デバイス。
【請求項２】
前記微粒子固体物が光透過性物質である請求項１に記載の光触媒水素生成デバイス。
【請求項３】
前記光透過性物質の光透過率が８０％以上である請求項２に記載の光触媒水素生成デバイス。
【請求項４】
前記光透過性物質がシリカである請求項２に記載の光触媒水素生成デバイス。
【請求項５】
前記光透過性物質がゼオライトである請求項２に記載の光触媒水素生成デバイス。
【請求項６】
前記微粒子固体物の粒径が６４μｍ以下である請求項１に記載の光触媒水素生成デバイス。
【請求項７】
前記水溶液中の前記微粒子固体物の含有率が、０．００１重量％から２０重量％である請求項１に記載の光触媒水素生成デバイス。
【請求項８】
前記光触媒電極、または前記対極の表面が水平面に対して傾斜している請求項１に記載の光触媒水素生成デバイス。
【請求項９】
前記物理攪拌は、プロペラ式攪拌機による攪拌である請求項１に記載の光触媒水素生成デバイス。
【請求項１０】
前記物理攪拌は、汲み上げポンプによる攪拌である請求項１に記載の光触媒水素生成デバイス。
【請求項１１】
前記物理攪拌は、水温の熱対流による攪拌である請求項１に記載の光触媒水素生成デバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成24年3月6日(2012.3.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２種以上の単量体α１〜αｎ（ただし、ｎは２以上の整数を表す。）を重合して、構成単位α’１〜α’ｎ（ただし、α’１〜α’ｎは単量体α１〜αｎからそれぞれ導かれる構成単位を表す。）からなる重合体（Ｐ）を製造する方法であって、
予め反応器内に、前記単量体α１〜αｎを第１の組成で含有する第１の溶液を仕込む工程と、該反応器内に前記単量体α１〜αｎを第２の組成で含有する第２の溶液を滴下する工程と、前記第２の溶液を滴下する工程が終了した後に重合温度で保持する工程を更に有し、
前記第２の組成は、重合体（Ｐ）における構成単位α’１〜α’ｎの含有比率の目標値を表わす設計組成と同じであり、
前記第１の組成は、該設計組成と、重合に用いられる各単量体の反応性を加味して予め求められた組成である、重合体の製造方法。
【請求項２】
前記重合体（Ｐ）における設計組成（単位：モル％）が、α’１：α’２：…：α’ｎであるとき、第１の組成（単位：モル％）をα１：α２：…：αｎで表わし、下記（１）〜（３）の方法で求められるファクターをＦ１、Ｆ２、…Ｆｎで表わすと、α１＝α’１／Ｆ１、α２＝α’２／Ｆ２、…αｎ＝α’ｎ／Ｆｎである、請求項１記載の重合体の製造方法。
（１）まず単量体組成が設計組成α’１：α’２：…：α’ｎと同じである単量体混合物と溶剤を含有する滴下溶液を、溶剤のみを入れた反応器内に一定の滴下速度で滴下し、滴下開始からの経過時間がｔ１、ｔ２、ｔ３…のときに、それぞれ反応器内に残存している単量体α１〜αｎの組成（単位：モル％）Ｍ１：Ｍ２：…：Ｍｎと、ｔ１からｔ２までの間、ｔ２からｔ３までの間、…にそれぞれ生成した重合体における構成単位α’１〜α’ｎの比率（単位：モル％）Ｐ１：Ｐ２：…：Ｐｎを求める。
（２）前記Ｐ１：Ｐ２：…：Ｐｎが、設計組成α’１：α’２：…：α’ｎに最も近い時間帯「ｔｍからｔｍ＋１までの間（ｍは１以上の整数。）」を見つける。
（３）該「ｔｍからｔｍ＋１までの間」におけるＰ１：Ｐ２：…：Ｐｎの値と、経過時間ｔｍにおけるＭ１：Ｍ２：…：Ｍｎの値とから、下記式により、ファクターＦ１、Ｆ２、…Ｆｎを求める。Ｆ１＝Ｐ１／Ｍ１、Ｆ２＝Ｐ２／Ｍ２、…Ｆｎ＝Ｐｎ／Ｍｎ。
【請求項３】
前記（１）で用いた滴下溶液に最初に含まれていた単量体の合計量に対する、上記経過時間ｔｍにおいて、反応器内に存在する単量体の合計量の割合Ｗ０（単位：質量％）を求め、前記第１の溶液に含まれる単量体の合計量と、第２の溶液に含まれる単量体の合計量との質量比（第１の溶液：第２の溶液）をＷ０：（１００−Ｗ０）とする、請求項２記載の重合体の製造方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の製造方法により得られるレジスト用重合体。
【請求項５】
請求項４に記載のレジスト用重合体、および活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するレジスト組成物。
【請求項６】
請求項５に記載のレジスト組成物を、基板の被加工面上に塗布してレジスト膜を形成する工程と、該レジスト膜に対して、露光する工程と、露光されたレジスト膜を現像液を用いて現像する工程とを含む、パターンが形成された基板の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
前記課題を解決するために、本発明の重合体の製造方法は、２種以上の単量体α１〜αｎ（ただし、ｎは２以上の整数を表す。）を重合して、構成単位α’１〜α’ｎ（ただし、α’１〜α’ｎは単量体α１〜αｎからそれぞれ導かれる構成単位を表す。）からなる重合体（Ｐ）を製造する方法であって、予め反応器内に、前記単量体α１〜αｎを第１の組成で含有する第１の溶液を仕込む工程と、該反応器内に前記単量体α１〜αｎを第２の組成で含有する第２の溶液を滴下する工程と、前記第２の溶液を滴下する工程が終了した後に重合温度で保持する工程を更に有し、前記第２の組成は、重合体（Ｐ）における構成単位α’１〜α’ｎの含有比率の目標値を表わす設計組成と同じであり、前記第１の組成は、該設計組成と、重合に用いられる各単量体の反応性を加味して予め求められた組成である。
【手続補正書】
【提出日】平成24年4月27日(2012.4.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
【化１】
2010254847.tif 000001
［一般式（１）中、Ｒ1は水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す。Ｒ2は水素原子、ヒドロキシル基、アミノ基、アルキル基、アリール基、カルバモイル基、−ＣＯＯＭ基、−ＣＯＯＲ9基、又は−ＣＯＮＲ10Ｒ11基を表す。Ｒ3はヒドロキシル基、又はアミノ基を表す。Ｒ4乃至Ｒ8は各々独立して、水素原子、又は１価の置換基を表す。Ｒ9乃至Ｒ10は各々独立して、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す。Ｒ11は、水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す。Ｍは水素原子、又はカウンターカチオンを表す。但し、Ｒ4乃至Ｒ8の少なくとも１つは、下記一般式（２）の構造である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
【化２】
2010254847.tif 000002
（一般式（２）中のＡは２価の連結基を表す。＊は、結合部位を表す。ｎは３乃至７の整数値を表す。）］
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で表されることを特徴とする色素化合物。
【化１】
2010254847.tif 000003
［一般式（１）中、Ｒ1は水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す。Ｒ2は水素原子、ヒドロキシル基、アミノ基、アルキル基、アリール基、カルバモイル基、−ＣＯＯＭ基、−ＣＯＯＲ9基、又は−ＣＯＮＲ10Ｒ11基を表す。Ｒ3はヒドロキシル基、又はアミノ基を表す。Ｒ4乃至Ｒ8は各々独立して、水素原子、又は１価の置換基を表す。Ｒ9乃至Ｒ10は各々独立して、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す。Ｒ11は、水素原子、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す。Ｍは水素原子、又はカウンターカチオンを表す。但し、Ｒ4乃至Ｒ8の少なくとも１つは、下記一般式（２）の構造である。
【化２】
2010254847.tif 000004
（一般式（２）中のＡは２価の連結基を表す。＊は、結合部位を表す。ｎは３乃至７の整数値を表す。）］
【請求項２】
前記一般式（２）中のＡが、下記一般式（３）乃至（６）で表されるいずれかの構造であることを特徴とする請求項１に記載の色素化合物。
【化３】
2010254847.tif 000005
［式（３）乃至（６）中の＊＊は、パーフルオロアルキル基との結合部位を表す。］
【請求項３】
前記一般式（１）中のＲ2が、−ＣＯＯＭ基（Ｍは水素原子、又はカウンターカチオンを表す）であることを特徴とする請求項１又は２に記載の色素化合物。
【請求項４】
前記一般式（１）中のＲ4乃至Ｒ8の少なくとも１つが、前記一般式（２）で表される構造であり、残りの置換基がそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、−ＣＯＯＭ基（Ｍは水素原子、又はカウンターカチオンを表す）のいずれかであることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の色素化合物。
【請求項５】
前記一般式（２）中のＡが、前記式（３）又は（４）で表される構造であることを特徴とする請求項２乃至４のいずれか１項に記載の色素化合物。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか１項に記載の色素化合物を少なくとも１種含有する顔料分散剤。
【請求項７】
請求項６に記載の顔料分散剤と、該顔料分散剤により分散されたアゾ顔料を含有することを特徴とする顔料組成物。
【請求項８】
前記アゾ顔料が、式（７）で表されることを特徴とする請求項７に記載の顔料組成物。
【化４】
2010254847.tif 000006
【請求項９】
請求項７又は８に記載の顔料組成物と、分散媒として有機溶媒とを含むことを特徴とする顔料分散体。
【請求項１０】
少なくとも、結着樹脂、着色剤及びワックス成分を有するトナー母粒子を含有するトナーであって、前記着色剤として請求項７又は８に記載の顔料組成物を含有することを特徴とするイエロートナー。
【請求項１１】
前記トナーの母粒子が、水系媒体中で、懸濁重合法或いは懸濁造粒法によって得られるものであることを特徴とする請求項１０に記載のイエロートナー。
【手続補正書】
【提出日】平成24年4月27日(2012.4.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【化１】
2010254845.tif 000001
［式（１）中、Ｒ1は、水素原子、アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。Ｒ2は、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。Ｒ3乃至Ｒ7はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、ニトロ基、アセチルアミノ基、ヒドロキシ基、スルファモイル基、アルキル基、アルコキシ基又はＣＯＮＲ8Ｒ9基を表し、Ｒ3乃至Ｒ7の少なくとも一つはＣＯＮＲ8Ｒ9基である。Ｒ8は、アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。Ｒ9は、水素原子、アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。］
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）で表されることを特徴とする色素化合物。
【化１】
2010254845.tif 000002
［式（１）中、Ｒ1は、水素原子、アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。Ｒ2は、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。Ｒ3乃至Ｒ7はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、ニトロ基、アセチルアミノ基、ヒドロキシ基、スルファモイル基、アルキル基、アルコキシ基又はＣＯＮＲ8Ｒ9基を表し、Ｒ3乃至Ｒ7の少なくとも一つはＣＯＮＲ8Ｒ9基である。Ｒ8は、アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。Ｒ9は、水素原子、アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。］
【請求項２】
前記一般式（１）中のＲ1が、フェニル基であることを特徴とする請求項１に記載の色素化合物。
【請求項３】
前記一般式（１）中のＲ2が、炭素原子数１乃至４のアルキル基であることを特徴とする請求項１又は２に記載の色素化合物。
【請求項４】
前記一般式（１）中のＲ8とＲ9の合計炭素原子数が８以上であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の色素化合物。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか１項に記載の一般式（１）で表される色素化合物を少なくとも１種含有することを特徴とする顔料分散剤。
【請求項６】
請求項５に記載の顔料分散剤と、該顔料分散剤により分散されたアゾ顔料を含有することを特徴とする顔料組成物。
【請求項７】
該アゾ顔料と該顔料分散剤との質量組成比が１００：０．５乃至１００：１０であることを特徴とする請求項６に記載の顔料組成物。
【請求項８】
該アゾ顔料が、式（２）で表されることを特徴とする請求項６又は７に記載の顔料組成物。
【化２】
2010254845.tif 000003
【請求項９】
請求項６乃至８のいずれか１項に記載の顔料組成物と、有機溶媒とを含むことを特徴とする顔料分散体。
【請求項１０】
該有機溶媒がスチレンモノマーであることを特徴とする請求項９に記載の顔料分散体。
【手続補正書】
【提出日】平成24年4月27日(2012.4.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【化１】
2010254842.tif 000001
［一般式（１）中、Ｒ1は、水素原子、アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。Ｒ2は、ＣＯＯＭ基（Ｍは水素原子もしくはカウンターカチオンを表す）又はアミノ基を表す。Ｒ3乃至Ｒ7はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、ニトロ基、アセチルアミノ基、ヒドロキシ基、スルファモイル基、アルキル基、アルコキシ基、ＣＯＯＲ8基又はＣＯＮＲ9Ｒ10基（Ｒ8乃至Ｒ9はそれぞれ独立して、アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。Ｒ10は、水素原子、アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。）を表す。Ｒ3乃至Ｒ7の少なくとも一つはＣＯＯＲ8基又はＣＯＮＲ9Ｒ10基である。］
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で表されることを特徴とする色素化合物。
【化１】
2010254842.tif 000002
［一般式（１）中、Ｒ1は、水素原子、アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。Ｒ2は、ＣＯＯＭ基（Ｍは水素原子もしくはカウンターカチオンを表す）又はアミノ基を表す。Ｒ3乃至Ｒ7はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、ニトロ基、アセチルアミノ基、ヒドロキシ基、スルファモイル基、アルキル基、アルコキシ基、ＣＯＯＲ8基又はＣＯＮＲ9Ｒ10基（Ｒ8乃至Ｒ9はそれぞれ独立して、アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。Ｒ10は、水素原子、アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。）を表す。Ｒ3乃至Ｒ7の少なくとも一つはＣＯＯＲ8基又はＣＯＮＲ9Ｒ10基である。］
【請求項２】
前記一般式（１）中、Ｒ1がフェニル基であることを特徴とする請求項１に記載の色素化合物。
【請求項３】
前記一般式（１）中、Ｒ8乃至Ｒ10の炭素原子数の合計が８以上であることを特徴とする請求項１又は２に記載の色素化合物。
【請求項４】
一般式（１）中、Ｒ8乃至Ｒ10がアルキル基又はアラルキル基で表されることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の色素化合物。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか１項に記載の一般式（１）で表される色素化合物を少なくとも１種含有することを特徴とする顔料分散剤。
【請求項６】
請求項５に記載の顔料分散剤と、該顔料分散剤により分散されたアゾ顔料を含有することを特徴とする顔料組成物。
【請求項７】
該アゾ顔料と該顔料分散剤との質量組成比が１００：０．５乃至１００：１０であることを特徴とする請求項６に記載の顔料組成物。
【請求項８】
該アゾ顔料が、下記式（２）で表されることを特徴とする請求項６又は７に記載の顔料組成物。
【化２】
2010254842.tif 000003
【請求項９】
請求項６乃至８のいずれか１項に記載の顔料組成物と有機溶媒を含むことを特徴とする顔料分散体。
【請求項１０】
該有機溶媒がスチレンモノマーであることを特徴とする請求項９に記載の顔料分散体。
【手続補正書】
【提出日】平成24年4月27日(2012.4.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【化１】
2010254846.tif 000001
［一般式（１）中、Ｒ1は、水素原子、アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表し、Ｒ2は、ＣＯＯＲ8基又はＣＯＮＲ9Ｒ10基を表し（Ｒ8及びＲ9は、アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表し、Ｒ10は、水素原子、アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。）、Ｒ3乃至Ｒ7はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、アセチルアミノ基、スルファモイル基、アルキル基、アルコキシ基、ＣＯＯＲ11基、ＣＯＮＲ12Ｒ13基（Ｒ11及びＲ12はそれぞれ独立して、アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表し、Ｒ13は、水素原子、アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。）、スルホン酸基、カルボン酸基、スルホン酸塩基又はカルボン酸塩基を表す。但し、一般式（１）中には、スルホン酸基、カルボン酸基、スルホン酸塩基及びカルボン酸塩基からなる群から選ばれる官能基が１つ又は２つ存在する。］
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で表される色素化合物。
【化１】
2010254846.tif 000002
［一般式（１）中、Ｒ1は、水素原子、アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表し、Ｒ2は、ＣＯＯＲ8基又はＣＯＮＲ9Ｒ10基を表し（Ｒ8及びＲ9は、アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表し、Ｒ10は、水素原子、アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。）、Ｒ3乃至Ｒ7はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、アセチルアミノ基、スルファモイル基、アルキル基、アルコキシ基、ＣＯＯＲ11基、ＣＯＮＲ12Ｒ13基（Ｒ11及びＲ12はそれぞれ独立して、アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表し、Ｒ13は、水素原子、アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。）、スルホン酸基、カルボン酸基、スルホン酸塩基又はカルボン酸塩基を表す。但し、一般式（１）中には、スルホン酸基、カルボン酸基、スルホン酸塩基及びカルボン酸塩基からなる群から選ばれる官能基が１つ又は２つ存在する。］
【請求項２】
前記一般式（１）中、Ｒ1がフェニル基であることを特徴とする請求項１に記載の色素化合物。
【請求項３】
前記一般式（１）中、Ｒ2がＣＯＮＲ9Ｒ10基（Ｒ9及びＲ10は、それぞれ独立してアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。）であることを特徴とする請求項１又は２に記載の色素化合物。
【請求項４】
前記一般式（１）中、Ｒ9及びＲ10の合計炭素原子数が１０以上であることを特徴とする請求項３に記載の色素化合物。
【請求項５】
前記一般式（１）中にカルボン酸基及び／又はその塩を１つ又は２つ有することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の色素化合物。
【請求項６】
分子内に有する全てのカルボン酸基及び／又はその塩の置換位置が、前記一般式（１）中のＲ3乃至Ｒ7のいずれかの位置であることを特徴とする請求項５に記載の色素化合物。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか１項に記載の色素化合物を少なくとも１種含有することを特徴とする顔料分散剤。
【請求項８】
請求項７に記載の顔料分散剤と、該顔料分散剤により分散されたアゾ顔料を含有することを特徴とする顔料組成物。
【請求項９】
該アゾ顔料と該顔料分散剤との質量組成比が１００：０．５乃至１００：１０である請求項８に記載の顔料組成物。
【請求項１０】
該アゾ顔料が、式（２）で表されることを特徴とする請求項８又は９に記載の顔料組成物。
【化２】
2010254846.tif 000003
【請求項１１】
請求項８乃至１０のいずれか１項に記載の顔料組成物と有機溶媒を含むことを特徴とする顔料分散体。
【請求項１２】
該有機溶媒がスチレンモノマーであることを特徴とする請求項１１に記載の顔料分散体。
【手続補正書】
【提出日】平成24年8月3日(2012.8.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
油性の皮膚を予防する及び／又は処置するための化粧的方法において、
該方法は、個人の皮膚の表面に、集合体又は凝集体の形で集合化されていない多孔性粒子であって、１０μｍ以下の体積平均直径、及び１ｍ2／ｇ以上の比表面積を有する前記多孔性粒子を局所的に施与する工程を少なくとも含み、
該多孔性粒子は、ナイロン６、ナイロン６−６、ナイロン１２、及びナイロン６−１２の粒子から選択され、かつ該粒子の少なくとも内部に存在するところの少なくとも１の化粧的に又は医薬的に活性な化合物を含み、
該化合物は、角質溶解剤又は落屑剤から選択される、
前記方法。
【請求項２】
該粒子が、３〜７５０ｍ2／ｇの範囲の比表面積を有することを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
該粒子が、０．２〜５ｇ／ｃｍ3の範囲の体積当たりの質量を有することを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
該粒子が、０．５〜８μｍの範囲の体積平均直径を有することを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
該粒子が、０．５〜１０μｍの範囲の数平均直径を有することを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
該粒子が、３以下の分散度を有することを特徴とする、請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
該粒子が、粉末の形で提供されることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
活性化合物：活性化合物を除く多孔性粒子の重量比が、1／100〜1／1であることを特徴とする、請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
該粒子が、
トリクロサン、IPBC（ヨウ化−3−プロピニル−2−ブチルカーバメート）、ベンズアルコニウムクロライド、クロロヘキシジン、トタロール(商標)（トタラ−８，１１，１３−トリエン−１３−オールを含む植物抽出物）から選択される抗生剤；
過酸化ベンゾイル；
α−ビサボロール、グリチルリジン酸２カリウム、グリチルレチン酸およびその誘導体、エラグ酸、ウルソル酸、並びにそれらの混合物から選択される抗炎症剤；
から選択される、別の化粧的に活性な化合物をさらに含むことを特徴とする、請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
該別の化粧的に活性な化合物がトタロール(商標) （トタラ−８，１１，１３−トリエン−１３−オールを含む植物抽出物）、グリチルレチン酸及びその誘導体、並びにそれらの混合物から選択される、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
活性化合物が、活性化合物と粒子との合計重量に対して５〜３０重量％の範囲の活性剤の量において該多孔性粒子中に存在することを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６９】
しかし、任意の追加的な化粧的に又は医薬的に活性な化合物、任意的な添加剤、及び任意的な担体が組成物中で活性化合物の放出を起こさないことを保証するように注意される。
【手続補正書】
【提出日】平成24年3月19日(2012.3.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）
ＲＯ−（ＥＯ）n−Ｈ      （１）
（式中、Ｒは炭素数１２の直鎖のアルキル基を示し、ＥＯはエチレンオキシ基を示し、ｎは４又は５の整数を示す。）
で表される化合物（Ａ）を含有する、繊維製品用抗真菌剤組成物。
【請求項２】
更に、陽イオン界面活性剤（Ｂ）を含有する請求項１記載の繊維製品用抗真菌剤組成物。
【請求項３】
一般式（１）
ＲＯ−（ＥＯ）n−Ｈ      （１）
（式中、Ｒは炭素数１２の直鎖のアルキル基を示し、ＥＯはエチレンオキシ基を示し、ｎは４又は５の整数を示す。）
で表される化合物（Ａ）を１０ｐｐｍ以上、１００，０００ｐｐｍ以下の濃度で含有する繊維製品用抗真菌剤組成物を繊維製品に接触させる繊維製品の真菌抑制方法。
【請求項４】
前記繊維製品用抗真菌剤組成物が、更に、陽イオン界面活性剤（Ｂ）を含有する請求項３記載の繊維製品の真菌抑制方法。