【手続補正書】
【提出日】平成23年11月25日(2011.11.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】蒸着用基板、蒸着用基板の作製方法、および蒸着方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、前記基板表面を露呈する複数の開口部を有する反射層と、
前記基板表面上の透光性を有する第１の断熱層と、前記反射層上の透光性を有する第２の断熱層と、
前記第１の断熱層上の第１の光吸収層と、前記第２の断熱層上の第２の光吸収層と、
前記第１の光吸収層上の第１の材料層と、前記第２の光吸収層上の第２の材料層とを有し、
前記第１の断熱層と前記第２の断熱層の膜厚は等しく、
前記第１の光吸収層と前記第２の光吸収層の膜厚は等しく、
前記第１の材料層と前記第２の材料層の膜厚は等しく、
前記反射層の膜厚は、前記第１及び前記第２の断熱層、前記第１及び前記第２の光吸収層、並びに前記第１及び前記第２の材料層のそれぞれの膜厚よりも大きいことを特徴とする蒸着用基板。
【請求項２】
請求項１において、
前記蒸着用基板を用いた蒸着の際に、前記蒸着基板に照射する光に対する前記第１及び前記第２の断熱層の透過率は６０％以上であることを特徴とする蒸着用基板。
【請求項３】
基板上に、前記基板表面を露呈する複数の開口部を有する、反射層及び前記反射層上の断熱層でなる積層体と、
前記基板表面上の透光性を有する第１の光吸収層と、前記積層体上の第２の光吸収層と、
前記第１の光吸収層上の第１の材料層と、前記第２の光吸収層上の第２の材料層とを有し、
前記第１の光吸収層と前記第２の光吸収層の膜厚は等しく、
前記第１の材料層と前記第２の材料層の膜厚は等しく、
前記積層体の膜厚は、前記第１及び前記第２の光吸収層、並びに前記第１及び前記第２の材料層のそれぞれの膜厚よりも大きいことを特徴とする蒸着用基板。
【請求項４】
請求項３において、
前記断熱層に用いる材料の熱伝導率は、前記反射層および前記第１及び前記第２の光吸収層に用いる材料の熱伝導率よりも小さいことを特徴とする蒸着用基板。
【請求項５】
請求項３または請求項４のいずれか一において、
前記断熱層は、酸化チタン、酸化珪素、窒化酸化珪素、酸化ジルコニウムのいずれかを含むことを特徴とする蒸着用基板。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一において、
前記反射層は、前記蒸着用基板を用いた蒸着の際に、前記蒸着基板に照射する光に対する反射率が８５％以上であることを特徴とする蒸着用基板。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一において、
前記反射層は、アルミニウム、銀、金、白金、銅、アルミニウムを含む合金、または銀を含む合金のいずれかを含むことを特徴とする蒸着用基板。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか一において、
前記第１及び前記第２の光吸収層は、前記蒸着用基板を用いた蒸着の際に、前記蒸着基板に照射する光に対する反射率が７０％以下であることを特徴とする蒸着用基板。
【請求項９】
請求項１乃至請求項８のいずれか一において、
前記第１及び前記第２の光吸収層は、窒化チタン、窒化タンタル、その他金属窒化物、チタン、カーボンのいずれかを含むことを特徴とする蒸着用基板。
【請求項１０】
基板上に、前記基板表面を露呈する複数の開口部を有する反射層を形成し、
前記基板表面上及び前記反射層上の一面に透光性を有する断熱層を形成することによって、前記基板表面上の第１の断熱層と前記反射層上の第２の断熱層とをそれぞれ分離形成し、
前記第１及び前記第２の断熱層上の一面に光吸収層を形成することによって、前記第１の断熱層上の第１の光吸収層と、前記第２の断熱層上の第２の光吸収層とをそれぞれ分離形成し、
前記第１及び前記第２の光吸収層上の一面に材料層を形成することによって、前記第１の光吸収層上の第１の材料層と、前記第２の光吸収層上の第２の材料層とをそれぞれ分離形成し、
前記反射層の膜厚は、前記第１及び前記第２の断熱層、前記第１及び前記第２の光吸収層、並びに前記第１及び前記第２の材料層のそれぞれの膜厚よりも大きいことを特徴とする蒸着用基板の作製方法。
【請求項１１】
基板上に、前記基板表面を露呈する複数の開口部を有する、反射層及び前記反射層上の断熱層とでなる積層体を形成し、
前記基板表面上及び前記積層体上の一面に光吸収層を形成することによって、前記基板表面上の第１の光吸収層と、前記積層体上の第２の光吸収層とをそれぞれ分離形成し、
前記第１及び前記第２の光吸収層上の一面に材料層を形成することによって、前記第１の光吸収層上の第１の材料層と、前記第２の光吸収層上の第２の材料層とをそれぞれ分離形成し、
前記反射層の膜厚は、前記第１及び前記第２の断熱層、前記第１及び前記第２の光吸収層、並びに前記第１及び前記第２の材料層のそれぞれの膜厚よりも大きいことを特徴とする蒸着用基板の作製方法。
【請求項１２】
基板の一方の面上に、前記基板表面を露呈する複数の開口部を有する反射層と、
前記基板表面上の透光性を有する第１の断熱層と、前記反射層上の透光性を有する第２の断熱層と、
前記第１の断熱層上の第１の光吸収層と、前記第２の断熱層上の第２の光吸収層と、
前記第１の光吸収層上の第１の材料層と、前記第２の光吸収層上の第２の材料層とを有し、
前記第１の断熱層と前記第２の断熱層の膜厚は等しく、
前記第１の光吸収層と前記第２の光吸収層の膜厚は等しく、
前記第１の材料層と前記第２の材料層の膜厚は等しく、
前記反射層の膜厚は、前記第１及び前記第２の断熱層、前記第１及び前記第２の光吸収層、並びに前記第１及び前記第２の材料層のそれぞれの膜厚よりも大きい第１の基板の一方の面と、
第２の基板の被成膜面とを対向させ、かつ近接させた状態で配置し、
前記第１の基板の他方の面側から光を照射し、
前記反射層の前記開口部と重なる位置にある前記第１の材料層を選択的に加熱し、
前記第１の材料層を前記第２の基板の被成膜面に蒸着させることを特徴とする蒸着方法。
【請求項１３】
基板の一方の面上に、前記基板表面を露呈する複数の開口部を有する、反射層及び前記反射層上の断熱層でなる積層体と、
前記基板表面上の透光性を有する第１の光吸収層と、前記積層体上の第２の光吸収層と、
前記第１の光吸収層上の第１の材料層と、前記第２の光吸収層上の第２の材料層とを有し、
前記第１の光吸収層と前記第２の光吸収層の膜厚は等しく、
前記第１の材料層と前記第２の材料層の膜厚は等しく、
前記積層体の膜厚は、前記第１及び前記第２の光吸収層、並びに前記第１及び前記第２の材料層のそれぞれの膜厚よりも大きい第１の基板の一方の面と、
第２の基板の被成膜面とを対向させ、かつ近接させた状態で配置し、
前記第１の基板の他方の面側から光を照射し、
前記積層体の前記開口部と重なる位置にある前記第１の材料層を選択的に加熱し、
前記第１の材料層を前記第２の基板の被成膜面に蒸着させることを特徴とする蒸着方法。
【請求項１４】
請求項１３において、
前記断熱層に用いる材料の熱伝導率は、前記反射層および前記第１及び前記第２の光吸収層に用いる材料の熱伝導率よりも小さいことを特徴とする蒸着方法。
【請求項１５】
請求項１２乃至請求項１４のいずれか一において、
前記反射層により前記光を反射することによって、前記第２の材料層は蒸着させないことを特徴とする蒸着方法。
【請求項１６】
請求項１２乃至請求項１５のいずれか一において、
前記光は、赤外光であることを特徴する蒸着方法。