【事件の表示】
　特願２００２−２６５００８号「有機ＥＬ素子及びその製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１６年　４月　２日出願公開、特開２００４−１０３４４２号〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　
　本願は、平成１４年９月１１日の出願であって、平成２０年３月１０日付けで手続補正がなされ、平成２０年６月２日付けで手続補正がなされた後、平成２０年６月２７日付けで、平成２０年６月２日付けの手続補正が却下されるとともに、同日付けで拒絶査定がなされ、これに対して、平成２０年８月１２日に拒絶査定不服審判の請求がなされるとともに、平成２０年９月１１日付けで手続補正がなされたものである。
　
２．平成２０年９月１１日付けの手続補正（以下、「本件補正」という。）についての補正の却下の決定
　
［補正却下の決定の結論］
　平成２０年９月１１日付けの手続補正を却下する。
［理由］
（１）補正後の本願発明
　本件補正により、特許請求の範囲の請求項１は、
「基板上にアノード電極、有機材料層及びカソード電極を有する発光部が設けられた有機ＥＬ素子の製造方法であって、
　前記発光部を保護するための２層の保護層を形成する工程を有し、
　当該保護層形成工程は、原料モノマーとして、ジアミンモノマーである４，４′−ジアミノジフェニルメタン（ＭＤＡ）と、酸成分モノマーである４，４′−ジフェニルメタンジイソシアナート（ＭＤＩ）とを用い、蒸着重合によって厚さ２００ｎｍ〜３０００ｎｍのポリ尿素膜を前記発光部上に全面成膜により形成した後、当該ポリ尿素膜に紫外線を照射して架橋させてバッファ層を形成する工程と、前記バッファ層上にＳｉＮｘ又はＳｉＯＮからなるバリア層を形成する工程とを有する有機ＥＬ素子の製造方法。」
と補正された。
　
　本件補正は、本件補正前の請求項３に記載した発明を特定するために必要な事項である「ポリ尿素膜の形成」について「ポリ尿素膜を前記発光部上に全面成膜により形成」との限定を付加するものであり、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項第２号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とする補正に該当する。
　
　そこで、本件補正後の請求項１に係る発明（以下、「本願補正発明」という。）が、特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反しないか）について検討する。
　
（２）引用例
　原査定の拒絶理由に引用された特開平７−１６９５６９号公報（以下、「引用例１」という。）、及び同じく特開平８−２２２３６８号公報（以下、「引用例２」という。）には、以下の技術事項が記載されている。
　
ａ．引用例１；
　
記載事項ア．【特許請求の範囲】の項中【請求項５】、【請求項８】
「【請求項５】その少なくとも一方が透明または半透明の互いに対向する一対の電極間に有機発光材料を挟持してなる構造体の外側に、封止層を形成する有機ＥＬ素子の製造方法において、
前記構造体の外側に封止層を形成する工程が、封止層形成モノマーを蒸着重合によって前記構造体の外側に積層する工程を含むものであることを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。・・・
【請求項８】前記封止層の厚さが１μｍ〜１ｍｍであることを特徴とする請求項５〜７のいずれか１項記載の有機ＥＬ素子の製造方法。」
　
記載事項イ．【課題を解決するための手段】の項中【００３９】
「２．封止層
前記構造体の外側に配設される封止層は、素子内部に酸素や水分の侵入を防止するために設けられる。本発明に用いられる封止層は、封止層形成モノマーを蒸着重合によって前記構造体の外側に積層して形成する。」
　
記載事項ウ．【課題を解決するための手段】の項中【００４１】〜【００４３】
「【００４１】（２）封止層形成モノマー（当審注：「（２）」は丸数字の２）
本発明に用いられる封止層形成モノマーとしては、上記蒸着重合によって構造体上に積層され、封止層を形成しうるものであれば特に制限はないが、たとえばエポキシ系モノマー、光重合をするケイ皮酸エステル類モノマー、および熱重合をするカルベン類モノマーからなる群から選ばれる一以上のモノマーからなるものを挙げることができる。たとえば、エポシキ系モノマーとしては、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、ブチレンオキシド、スチレンオキシド、ケイ皮酸エステル類モノマーとしてはケイ皮酸エチル、ケイ皮酸ベンゾエイト等を挙げることができ、カルベン類モノマーとしては、イソシアノ酢酸エチル、フェニルイソシアナート、ジアゾブタン等を挙げることができる。
【００４２】（３）重合条件（当審注：「（３）」は丸数字の３）
重合条件については、特に制限はなく、封止層形成モノマーの種類に応じて適宜選択することができる。たとえば、封止層形成モノマーとして光重合するケイ皮酸エステルモノマーを用いる場合には紫外線を照射しながら積層、形成（蒸着）し、熱重合するカルベン類モノマーを用いる場合には蒸着時にボートを５０〜２００℃で加熱しながら蒸着することを挙げることができる。
【００４３】エポキシ系モノマーを用いる場合には、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、ブテンオキシド、スチレンオキシド等をボートの温度を２０〜２００℃で加熱しながら蒸着することを挙げることができる。・・・」
　
記載事項エ．【課題を解決するための手段】の項中【００４５】
「なお、この封止層と構造体との間に、またはこの封止層のさらに外側に、酸素や水分を遮断、吸収、吸蔵もしくは消費する物質、またはその物質を含有する材料からなる保護層、または封止層を形成してもよい。」
　
記載事項オ．【００５０】
「【発明の効果】以上、説明したように本発明によって封止層形成時の熱による劣化を防止し、長期に亘って安定な発光特性が維持されるとともに長寿命の有機ＥＬ素子を提供することができる。」
　
記載事項カ．【図１】
　引用例１の図１には、一対の電極間に有機発光材料を挟持してなる構造体が基板上に設けられ、封止層が、一対の電極間に有機発光材料を挟持してなる構造体上に全面成膜により形成されていることが図示されている。
　
　記載事項ア．〜カ．の記載内容からして、引用例１には、
「基板上に一対の電極間に有機発光材料を挟持してなる構造体が設けられた有機ＥＬ素子の製造方法において、
　前記構造体の外側に封止層を形成する工程と、封止層の外側に保護層を形成する工程を有し、
　前記構造体の外側に封止層を形成する工程が、たとえばエポキシ系モノマー、光重合するケイ皮酸エステル類モノマー、および熱重合するカルベン類モノマーからなる群から選ばれる一以上のモノマーからなる封止層形成モノマーを、紫外線を照射しながらまたは加熱しながら蒸着重合によって前記構造体の外側に厚さ１μｍ〜１ｍｍ積層し、前記構造体上に全面成膜により形成する工程であり、
　前記封止層の外側に保護層を形成する工程が、封止層の外側に、酸素や水分を遮断する物質、またはその物質を含有する材料からなる保護層を形成する工程である有機ＥＬ素子の製造方法。」
の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されているといえる。
　
ｂ．引用例２；
　
記載事項キ．【特許請求の範囲】の項中【請求項３】〜【請求項５】
「【請求項３】真空中でポリ尿素原料モノマーを蒸発させ、これを基板上に陽極、有機化合物膜、陰極で構成された有機エレクトロルミネッセンス素子の陰極上で蒸着重合させて、ポリ尿素膜を形成した後、該ポリ尿素に紫外線照射で架橋させてポリ尿素保護膜を形成することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の形成方法。
【請求項４】前記有機化合物膜は少なくとも発光層を備えた膜であることを特徴とする請求項第３項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【請求項５】前記ポリ尿素原料モノマーはジアミンモノマーと、ジイソシアナートモノマーであることを特徴とする請求項第３項または第４項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。」
　
記載事項ク．【００３８】〜【００５０】
「【００３８】次に図２に示す装置を用いて図１に示す有機ＥＬ素子の製造例を比較例とともに説明する。
【００３９】実施例１
　本実施例は正孔輸送層をＴＰＤ膜とし、発光層をＡｌｑ３膜とし、その成膜を成膜室１２内の蒸発源を２個の並設せる色素蒸発源２２（ａ、ｂ）を用いて行うこととした。・・・
【００４７】次に、陰極形成室１３と保護膜形成室１４との間のゲートバルブ１６を開き、陰極６を形成した基板２を保護膜形成室１４内に搬送系１７で搬送した後、陰極形成室１３と保護膜形成室１４との間のゲートバルブ１６を閉じた。
【００４８】そして、保護膜形成室１４内を真空排気系３７により圧力１．３３×１０−３Ｐａ（１×１０−５Ｔｏｒｒ）を維持した状態で、蒸発源３９内の原料モノマーＹ（４，４′−ジアミノジフェニルメタン：以下ＭＤＡという）の温度を熱電対４３で測定しながらヒーター３８で１００℃に加熱すると共に、蒸発源４０内の原料モノマーＺ（４，４′−ジフェニルメタンジイソシアナート：以下ＭＤＩという）の温度を熱電対４４で測定しながらヒーター３８で７０℃に加熱し、ＭＤＡ：ＭＤＩのモノマー組成比が１：１なるように夫々の蒸発レートを設定後、シャッター４１の開閉操作によりＭＤＡとＭＤＩを蒸発させて、膜厚モニター４２により陰極６上に３００Å（０．０３μｍ）／分の析出速度で膜厚１００００Å（１μｍ）に堆積させた後、陰極６上で重合させてポリ尿素膜を形成した。
【００４９】次に、保護膜形成室１４と紫外線処理室１５との間のゲートバルブ１６を開き、ポリ尿素膜を形成した基板２を紫外線処理室１５内に搬送系１７で搬送した後、保護膜形成室１４と紫外線処理室１５との間のゲートバルブ１６を閉じた。
【００５０】そして、紫外線処理室１５内を真空排気系４５により圧力０．６７Ｐａ（５×１０−３Ｔｏｒｒ）を維持した状態で、紫外線ランプ４６より中心波長２５４ｎｍ、１０Ｗの光（紫外線）をポリ尿素膜に３０分間照射して、図１に示す２層構造のポリ尿素保護膜７を備える有機ＥＬ素子１を作成した。」
　
記載事項ケ．【発明の効果】の項中【００８８】
「本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法によるときは、陰極上へのポリ尿素保護膜の形成を蒸着重合法でポリ尿素膜を成膜し、その後該ポリ尿素膜に紫外線を照射するようにしたので、オリゴマー状態のポリ尿素膜を架橋して網目構造状の耐水性、耐熱性、耐久性に優れた高分子化された高分子膜に改質することが出来るから、陰極の腐食をポリ尿素保護膜で防止した長寿命の有機エレクトロルミネッセンス素子を極めて容易に製造することが出来る方法を提供する効果がある。また、ポリ尿素保護膜の形成を室温で行えるためにポリ尿素膜の成膜時の発熱に伴う素子の劣化が大幅に低減することが出来る。」
　
（３）対比
　本願補正発明と引用発明とを対比する。
　
（ａ）引用発明の「一対の電極間に有機発光材料を挟持してなる構造体」は、本願補正発明の「発光部」に相当し、引用発明の「基板上に一対の電極間に有機発光材料を挟持してなる構造体が設けられた有機ＥＬ素子の製造方法」は、本願補正発明の「基板上にアノード電極、有機材料層及びカソード電極を有する発光部が設けられた有機ＥＬ素子の製造方法」に相当する。
　
（ｂ）引用発明の「構造体の外側に」「形成する」「封止層」及び「封止層の外側に」「形成する」「保護層」はいずれも、本願補正発明の「前記発光部を保護するための保護層」に相当するから、引用発明の「前記構造体の外側に封止層を形成する工程と、封止層の外側に保護層を形成する工程を有し」は、本願補正発明の「前記発光部を保護するための２層の保護層を形成する工程を有し」に相当する。
　また、引用発明の「構造体の外側に」「形成する」「封止層」は、「構造体」と「封止層の外側に」「形成する」「保護層」との間に存在する層であるから、本願補正発明の「バッファ層」に相当し、引用発明の「封止層の外側に」「形成する」「保護層」は、本願補正発明の「バッファ層上に」「形成する」「バリア層」に相当するから、引用発明は、本願補正発明の「バッファ層を形成する工程」及び「バリア層を形成する工程」を有しているといえる。
　
（ｃ）引用発明の「たとえばエポキシ系モノマー、光重合するケイ皮酸エステル類モノマー、および熱重合するカルベン類モノマーからなる群から選ばれる一以上のモノマーからなる封止層形成モノマー」と本願補正発明の「原料モノマーとして、ジアミンモノマーである４，４′−ジアミノジフェニルメタン（ＭＤＡ）と、酸成分モノマーである４，４′−ジフェニルメタンジイソシアナート（ＭＤＩ）」とは「原料モノマー」である点で共通している。
　
（ｄ）引用発明の「封止層」の厚さ「１μｍ〜１ｍｍ」は、「ｎｍ」に換算すると、「１０００ｎｍ〜１００００００ｎｍ」となり、この厚さの範囲は、本願補正発明の「バッファ層」の厚さの範囲である「２００ｎｍ〜３０００ｎｍ」を含んでいる。
　
（ｅ）引用発明の「保護層」が形成される「封止層の外側」は、本願補正発明の「バッファ層上」に相当する。
　
　（ａ）〜（ｅ）に記載したことからして、本願補正発明と引用発明とは、　　　　
「基板上にアノード電極、有機材料層及びカソード電極を有する発光部が設けられた有機ＥＬ素子の製造方法であって、前記発光部を保護するための２層の保護層を形成する工程を有し、当該保護層形成工程は、原料モノマーの蒸着重合を含む厚さ２００ｎｍ〜３０００ｎｍの膜を前記発光部上に全面成膜により形成してバッファ層を形成する工程と、前記バッファ層上にバリア層を形成する工程とを有する有機ＥＬ素子の製造方法。」
である点で一致し、次の相違点が存在する。
　
相違点（Ａ）；
　バッファ層を形成する工程が、本願補正発明では、原料モノマーとして、ジアミンモノマーである４，４′−ジアミノジフェニルメタン（ＭＤＡ）と、酸成分モノマーである４，４′−ジフェニルメタンジイソシアナート（ＭＤＩ）とを用い、蒸着重合によってポリ尿素膜を形成した後、当該ポリ尿素膜に紫外線を照射して架橋させて形成する工程であるのに対して、引用発明は、たとえばエポキシ系モノマー、光重合するケイ皮酸エステル類モノマー、および熱重合するカルベン類モノマーからなる群から選ばれる一以上のモノマーからなる封止層形成モノマーを、紫外線を照射しながらまたは加熱しながら蒸着重合によって形成する工程である点。
　
相違点（Ｂ）；
　バリア層が、本願補正発明では、ＳｉＮｘ又はＳｉＯＮからなるのに対して、引用発明では、酸素や水分を遮断する物質、またはその物質を含有する材料からなる点。
　
（４）当審の判断
　上記相違点について検討する。
　
相違点（Ａ）について；
　
　引用例２には、有機ＥＬ素子の技術分野において、発光部上に形成される保護層の原料モノマーとして、４，４′−ジアミノジフェニルメタン（ＭＤＡ）と、４，４′−ジフェニルメタンジイソシアナート（ＭＤＩ）とを用い、蒸着重合によってポリ尿素膜を形成した後、該ポリ尿素膜に紫外線を照射して架橋させると、網目構造状の耐水性、耐熱性、耐久性に優れている保護層を形成できることが記載（前記記載事項ク．ケ．参照）されており、また、引用例１には、「本発明に用いられる封止層形成モノマーとしては、上記蒸着重合によって構造体上に積層され、封止層を形成しうるものであれば特に制限はない」と、原料モノマーは、エポキシ系モノマー、ケイ皮酸エステル類モノマー、およびカルベン類モノマーに限定されるわけではないことが記載（前記記載事項ウ．参照）されているのであるから、引用発明の原料モノマーとして、引用例２に記載されたポリ尿素膜形成用の原料モノマーを採用し得ない格別の事情もない。
　
　したがって、引用例２の記載内容を勘案して、引用発明の封止層を形成する工程における原料モノマーとして、４，４′−ジアミノジフェニルメタン（ＭＤＡ）と、４，４′−ジフェニルメタンジイソシアナート（ＭＤＩ）とを採用し、蒸着重合によってポリ尿素膜を形成した後、該ポリ尿素膜に紫外線を照射して架橋させることにより封止層を形成するようにすること、すなわち上記相違点（Ａ）に係る本願補正発明の発明特定事項とすることは、当業者であれば容易になし得ることである。
　
相違点（Ｂ）について；
　
　有機ＥＬ素子の技術分野において、バッファ層上のバリア層として、水分を遮断する窒化シリコンを用いることは、例えば、特開平１０−３１２８８３号公報（【００３５】参照）、特開２０００−２２３２６４号公報（【請求項８】、【請求項１０】、【００２５】、【００３１】参照。）にも記載されているように周知技術であり、引用発明の封止層上の保護層として、窒化シリコン、すなわちＳｉＮｘを採用して、上記相違点（Ｂ）に係る本願補正発明の発明特定事項とすることは、当業者であれば容易になし得ることである。
　
　また、本願補正発明の効果についても、引用発明、引用例２に記載された発明、及び前記周知技術から予測される範囲のものである。
　
　したがって、本願補正発明は、引用例１、２に記載された発明及び前記周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができない。
　
（５）むすび
　以上のとおり、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するものであるから、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
３．本願発明について
　
　平成２０年９月１１日付けの手続補正は前記のとおり却下され、また、平成２０年６月２日付けの手続補正は既に却下されているので、本願の特許請求の範囲の請求項３に係る発明（以下、同項記載の発明を「本願発明」という。）は、平成２０年３月１０日付けの手続補正により補正された明細書の特許請求の範囲の請求項３に記載された以下のとおりのものである。
　
「基板上にアノード電極、有機材料層及びカソード電極を有する発光部が設けられた有機ＥＬ素子の製造方法であって、
　前記発光部を保護するための２層の保護層を形成する工程を有し、
　当該保護層形成工程は、原料モノマーとして、ジアミンモノマーである４，４′−ジアミノジフェニルメタン（ＭＤＡ）と、酸成分モノマーである４，４′−ジフェニルメタンジイソシアナート（ＭＤＩ）とを用い、蒸着重合によって厚さ２００ｎｍ〜３０００ｎｍのポリ尿素膜を形成した後、当該ポリ尿素膜に紫外線を照射して架橋させてバッファ層を形成する工程と、前記バッファ層上にＳｉＮｘ又はＳｉＯＮからなるバリア層を形成する工程とを有する有機ＥＬ素子の製造方法。」
　
（１）引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された引用例の記載事項は、前記「２．（２）」に記載したとおりである。
　　
（２）対比・判断
　本願発明は、前記「２．（１）」で検討した本願補正発明の「ポリ尿素膜の形成」の限定事項である「ポリ尿素膜を前記発光部上に全面成膜により形成」との構成を省いたものである。
　そうすると、本願発明の構成要件を全て含み、さらに他の構成要件を付加したものに相当する本願補正発明が、前記「２．（４）」に記載したとおり、引用例１、２に記載された発明及び前記周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、同様の理由により、引用例１、２に記載された発明及び前記周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
（３）むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用例１、２に記載された発明及び前記周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。