【事件の表示】
　特願２００２−１３１２４７「反射防止シートの製造方法、反射防止シート、光学素子および画像表示装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１５年１１月１４日出願公開、特開２００３−３２２７０４〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、平成１４年５月７日の出願であって、平成１８年４月１０日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、平成１８年５月１１日に拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに、平成１８年６月８日付けで手続補正がなされたものである。
　
２．平成１８年６月８日付けの手続補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　　平成１８年６月８日付けの手続補正を却下する。
［理由］
（１）補正後の本願発明
　本件補正により、特許請求の範囲の請求項１は、
　「平均粒子径０．５〜１０μｍの微粒子を透明樹脂層に分散含有させることで、表面に凹凸形状が形成されている透明樹脂層を有するシートの当該透明樹脂層表面に、当該透明樹脂層よりも屈折率が低い屈折率材料を含有する塗工液を塗工する工程（１）および当該塗工液に硬化処理を施す工程（２）を含み、反射防止層を形成する反射防止シートの製造方法において、
　前記透明樹脂層表面に、前記塗工工程（１）を施した後に、風を吹きつける風乾工程（３）を風乾時間１〜１５秒間施し、次いで硬化工程（２）を、走行しているシートに対して連続して施すことを特徴とする反射防止シートの製造方法。」
と補正された。
　上記補正は、請求項１に記載した発明を特定するために必要な事項である「透明樹脂層」について「平均粒子径０．５〜１０μｍの微粒子を透明樹脂層に分散含有させることで、」との限定を付加し、同じく「硬化工程」について「走行しているシートに対して連続して」との限定を付加し、そして、「硬化処理を施して反射防止層を形成する工程（２）を含む」という記載を「硬化処理を施す工程（２）を含み、反射防止層を形成する」と補正するものであり、それぞれ、特許法第１７条の２第４項第２号の特許請求の範囲の減縮、同項第３号の誤記の訂正を目的とするものに該当する。
　そこで、本件補正後の前記請求項１に記載された発明（以下、「本願補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか）について以下に検討する。
　
（２）引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された特開２００２−１２０３４６号公報（以下、「引用例１」という。）には、
　「本発明は、構造体の製造方法に関し、より詳細には、反射防止膜積層体等として適当な耐擦傷性や透明性に優れた構造体が効率的に得られる製造方法に関する。」（段落【０００１】）、
　「【００１６】
【発明の実施の形態】本発明の構造体の製造方法につき、反射防止膜積層体を例に採って、具体的に説明する。したがって、本発明の第１層が、反射防止膜積層体における低屈折率膜に該当し、第２層が、反射防止膜積層体における高屈折率膜に該当する。本発明の実施形態は、例えば、図１または図２に示すような反射防止膜積層体１６、２４を対象としたものであって、図１に示すように、ハードコート層を含まない反射防止膜積層体１６を対象とすることもできるし、あるいは、図２に示すように、ハードコート層１８を含む反射防止膜積層体２４を対象とすることもできる。そして、本発明の反射防止膜積層体の製造方法に関する実施形態によれば、表面側の第１層と、これに下方で接する第２層とを含む構造体の製造方法において、以下の工程（１）および（２）を含むことを特徴としている。
（１）表面粗さＲ２（ＪＩＳ  Ｂ０６０１に準拠のＲｚ）が０．０１〜２μｍの高屈折率膜（第２層）を形成する工程
（２）表面粗さＲ１（ＪＩＳ  Ｂ０６０１に準拠のＲｚ）が２μｍ以下であって、膜厚をＤ１としたときに、Ｒ１／Ｄ１の比率が０．０１〜２である低屈折率膜（第１層）を形成する工程（ただし、Ｒ１≦Ｒ２）
【００１７】１．高屈折率膜を形成する工程
（１）形成方法１
高屈折率膜を形成する工程において、高屈折率膜用硬化性組成物を基材に対して塗布（コーティング）して、まず塗膜を形成することが好ましい。このようなコーテイング方法としては、特に制限されるものでないが、例えば、ディッピング法、スプレー法、バーコート法、ロールコート法、スピンコート法、カーテンコート法、グラビア印刷法、シルクスクリーン法、またはインクジェット法等のコーテイング方法を用いることができる。なお、このようなコーテイング方法を適宜選択して採用することにより、高屈折率膜表面に凹凸を形成することが容易となる。
【００１８】次いで、高屈折率膜を形成する工程において、図１１（ｂ）等に示すように、高屈折率膜用硬化性組成物を紫外線硬化または電子線硬化することが好ましい。この場合、例えば、紫外線照射装置（メタルハライドランプや高圧水銀ランプ等）を用い、０．００１〜１０Ｊ／ｃｍ2の光照射条件とすることが好ましい。この理由は、このような照射条件であれば、十分硬化した高屈折率膜が得られる一方、製造時間が過度に長くなることが無いためである。したがって、照射条件を、０．０１〜５Ｊ／ｃｍ2とすることがより好ましく、０．１〜３Ｊ／ｃｍ2とすることがさらに好ましい。なお、高屈折率膜用硬化性組成物中の粒子の種類、平均粒子径、粒子の添加量、溶剤種、あるいは高屈折率膜の膜厚等の条件を変更することにより、光照射するだけで高屈折率膜の表面に凹凸を設けることが可能である。
・・・。
【００２３】１（原文は丸数字）（Ａ）無機酸化物粒子（Ａ）成分としての、無機酸化物粒子の平均粒子径（数平均粒子径、以下、同様である。）を０．１μｍ以下の値とすることが好ましい。この理由は、無機酸化物粒子の平均粒子径が０．１μｍを超えると、構造体において無機酸化物粒子を均一に分散させることが困難となり、また、製造時に、高屈折率膜用硬化性組成物において無機酸化物粒子が沈降しやすくなり、保存安定性に欠ける場合があるためである。また、無機酸化物粒子の平均粒子径が０．１μｍを超えると、得られる反射防止膜の透明性が低下したり、濁度（ヘイズ値）が上昇する場合があるためである。したがって、無機酸化物粒子の平均粒子径を０．０８μｍ以下の値とするのがより好ましく、０．０５μｍ以下の値とするのがさらに好ましい。なお、無機酸化物粒子の平均粒子径は、電子顕微鏡によって測定される粒径の数平均値である。」（段落【００１６】〜【００２３】）、
　「【００４３】２．低屈折率膜（第１層）を形成する工程
（１）形成方法
低屈折率膜を形成する工程において、高屈折率膜と同様に、低屈折率膜用硬化性組成物を塗工して、塗膜を形成することが好ましい。次いで、高屈折率膜の一部と反応させて、全体として強固な塗膜を形成できることから、低屈折率膜用硬化性組成物からなる塗膜を熱硬化することが好ましい。この場合、３０〜２００℃、０．１〜１８０分間の条件で加熱するのが好ましい。この理由は、このような加熱条件であれば、基材や形成される反射防止膜を損傷することなく、より効率的に反射防止性に優れた反射防止膜積層体を得ることができるためである。したがって、低屈折率膜を形成する際の加熱条件としては、５０〜１６０℃、０．２〜１２０分間の条件で加熱することがより好ましく、６０〜１４０℃、０．５〜６０分間の条件で加熱することがさらに好ましい。
【００４４】（２）低屈折率膜用硬化性組成物
低屈折率膜を形成するための低屈折率膜用硬化性組成物としては、特に制限されるものでないが、例えば、以下の（ａ）〜（ｄ）成分から構成してあることが好ましい。
（ａ）水酸基を有する含フッ素共重合体
（ｂ）水酸基と反応し得る官能基を有する熱硬化剤
（ｃ）硬化触媒
（ｄ）有機溶剤
　・・・。
【００４９】４（原文は丸数字）有機溶剤
低屈折率膜用硬化性組成物に使用する有機溶剤としては、屈折率膜用硬化性組成物に使用する有機溶剤と同様の種類を使用することが好ましい。また、有機溶剤の添加量を、水酸基を有する含フッ素共重合体１００重量部に対して、５００〜１０，０００重量部の範囲内の値とすることが好ましい。この理由は、かかる有機溶剤の添加量が１００重量部未満となると、均一な膜厚を有する低屈折率膜を形成することが困難となる場合があるためであり、一方、１０，０００重量部を超えると、低屈折率膜用硬化性組成物の保存安定性が低下する場合があるためである。」（段落【００４３】〜【００４９】）、
　「【００６７】［実施例１］
（１）低屈折率膜用硬化性組成物の調製
・・・。
【００６８】２（原文は丸数字）低屈折率膜用硬化性組成物の調製
攪拌機付の容器内に、１（原文は丸数字）で得られた水酸基を有する含フッ素共重合体１００ｇと、サイメル３０３（三井サイテック（株）製、アルコキシ化メチルメラミン化合物）１１．１ｇと、メチルイソブチルケトン（以下、ＭＩＢＫと称する。）３７３６ｇとをそれぞれ添加し、１１０℃、５時間の条件で攪拌し、水酸基を有する含フッ素共重合体とサイメル３０３とを反応させた。次いで、キャタリスト４０４０（三井サイテック（株）製、固形分濃度４０重量％）１１．１ｇをさらに添加し、１０分間攪拌して、粘度１ｍＰａ・ｓ（測定温度２５℃）の低屈折率膜用硬化性組成物（以下、塗布液Ａと称する場合がある。）を得た。
【００６９】なお、得られた低屈折率膜用硬化性組成物から得られる低屈折率膜の屈折率を測定した。すなわち、低屈折率膜用硬化性組成物を、ワイヤーバーコータ（＃３）を用いて、シリコンウエファ（膜厚１μｍ）上に塗工し、室温で５分間風乾して、塗膜を形成した。次いで、オーブンを用いて、１４０℃、１分間の加熱条件で塗膜を熱硬化させ、０．３μｍの膜厚の低屈折率膜を形成した。得られた低屈折率膜におけるＮａ−Ｄ線の屈折率を、測定温度２５℃の条件で、分光エリプソメーターを用いて測定した。その結果、屈折率は１．４０であった。
【００７０】（２）高屈折率膜用硬化性組成物の調製
・・・。
【００７１】２（原文は丸数字）高屈折率膜用硬化性組成物の調製
攪拌機付きの容器内に、アンチモンドープ酸化スズ分散液（石原テクノ（株）製、ＳＮＳ−１０Ｍ、分散溶媒メチルエチルケトン、アンチモンドープ酸化スズ含量２７．４重量％、固形分３０重量％、動的光散乱法による重量平均粒子径４０ｎｍ、数平均粒子径２２ｎｍ、以下、ＡＴＯ微粒子分散液と称する場合がある。）２６０ｇと、１（原文は丸数字）で製造した反応性アルコキシシラン２５ｇと、蒸留水０．３ｇと、ｐ−ヒドロキシフェニルモノメチルエーテル０．０３ｇとを混合し、６５℃で、加熱攪拌した。５時間後、オルト蟻酸メチルエステル８ｇを添加し、さらに１時間加熱した。これに光重合開始剤として、イルガキュア９０７（チバスペシャルティケミカルズ（株）製）６．１ｇと、ＭＩＢＫ１７０８ｇとを添加して、高屈折率膜用硬化性組成物（固形分５重量％、固形分中のＡＴＯ微粒子量７８重量％、以下、塗布液Ｂと称する場合がある。）を得た。なお、得られた高屈折率膜用硬化性組成物の屈折率を、低屈折率膜用硬化性組成物と同様に測定した。その結果、屈折率は１．６８であった。
【００７２】（３）ハードコート層の作成
乾燥空気下、反応性アルコキシシラン８．７ｇと、メチルエチルケトン分散シリカゾル（日産化学工業（株）製、商品名：ＭＥＫ−ＳＴ、平均粒径２２ｎｍ、シリカ濃度３０重量％）９１．３ｇと、イソプロピルアルコール０．２ｇと、イオン交換水０．１ｇとからなる混合液を、８０℃、３時間の条件で攪拌後、オルト蟻酸メチルエステル１．４ｇを添加し、さらに１時間同一温度で攪拌した。室温まで冷却後、トリメチロールプロパントリアクリレート（新中村化学工業（株）製、商品名：ＮＫエステルＡ−ＴＭＰＴ）２１．９ｇと、トリメチロ−ルプロパントリオキシエチルアクリレ−ト（新中村化学工業（株）製、商品名ＮＫエステルＡ−ＴＭＰＴ−３ＥＯ）１０．９５ｇと、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（チバスペシャルティケミカルズ（株）製、商品名：イルガキュア１８４）３．２７ｇを混合して、ハードコート組成物（以下、塗布液Ｃと称する場合がある。）を調製した。
【００７３】（４）反射防止膜積層体の作成
得られた塗布液Ｃを、ワイヤーバーコータ（＃１２）を用いて、ポリエステルフィルムＡ４３００（東洋紡績（株）製、膜厚１８８μｍ、）上に塗工し、オーブン中、８０℃、１分間の条件で乾燥して、塗膜を形成した。次いで、大気中、メタルハライドランプを用いて、０．３Ｊ／ｃｍ2の光照射条件で塗膜を紫外線硬化させ、膜厚１０μｍであって、屈折率１．４９のハードコート層を形成した。次いで、得られた塗布液Ｂを、ワイヤーバーコータ（＃３）を用いて、ハードコート層上に塗工し、オーブン中、８０℃、１分間の条件で乾燥して、塗膜を形成した。次いで、大気中、メタルハライドランプを用いて、０．３Ｊ／ｃｍ2の光照射条件で塗膜を紫外線硬化させ、膜厚０．０５μｍであって、屈折率１．６８の高屈折率膜を形成した。さらに、得られた塗布液Ａを、高屈折率膜上に、ワイヤーバーコータ（＃３）を用いて塗工し、室温で５分間風乾して、塗膜を形成した。この塗膜を、オーブンを用いて１４０℃、１分の条件で加熱し、膜厚０．０５μｍであって、屈折率１．４０の低屈折率膜とした。なお、低屈折率膜における表面粗さ（Ｒｚ）は、ＪＩＳ  Ｂ６０１に準拠して測定した。すなわち、表面形状測定器Ｄｅｋｔａｋ３０３０（日本真空技術（株）製）を用いて、低屈折率膜における表面粗さ（Ｒｚ）を測定した。得られた結果を表１に示す。」（段落【００６７】〜【００７３】）
との記載が認められ、これらの記載によれば、引用例１には、
　「平均粒子径０．１μｍ以下の無機酸化物粒子を高屈折率膜に分散させ、表面に凹凸を形成された高屈折率膜を有する基材の前記高屈折率膜表面に、低屈折率膜用硬化性組成物を塗工する工程および前記低屈折率膜用硬化性組成物を熱硬化させる工程を含み、反射防止層を形成する反射防止膜積層体の製造方法において、
　前記高屈折率膜表面に、前記低屈折率膜用硬化性組成物を塗工する工程を施した後に、風乾工程を風乾時間５分間施し、次いで熱硬化させる工程を施すことを特徴とする反射防止膜積層体の製造方法。」
との発明（以下、「引用例１発明」という。）が開示されていると認めることができる。
　
（３）対比・判断
　そこで、本願補正発明と引用例１発明とを比較すると、引用例１発明の「無機酸化物粒子」は、本願補正発明の「微粒子」に相当し、以下同様に、「高屈折率膜」は「透明樹脂層」に、「高屈折率膜を有する基材」は「透明樹脂層を有するシート」に、「低屈折率膜用硬化性組成物」は「透明樹脂層よりも屈折率が低い屈折率材料を含有する塗工液」に、「熱硬化させる工程」は「硬化処理を施す工程」に、「反射防止膜積層体」は「反射防止シート」に、それぞれ相当する。さらに、引用例１発明の「風乾工程を風乾時間５分間施し、」は、本願発明の「風を吹きつける風乾工程（３）を風乾時間１〜１５秒間施し、」の上位概念である「風乾工程（３）を施し、」に相当するといえるから、両者は、
　「微粒子を透明樹脂層に分散含有させ、表面に凹凸形状が形成されている透明樹脂層を有するシートの当該透明樹脂層表面に、当該透明樹脂層よりも屈折率が低い屈折率材料を含有する塗工液を塗工する工程（１）および当該塗工液に硬化処理を施す工程（２）を含み、反射防止層を形成する反射防止シートの製造方法において、
　前記透明樹脂層表面に、前記塗工工程（１）を施した後に、風乾工程（３）を施し、次いで硬化工程（２）を施すことを特徴とする反射防止シートの製造方法。」
の点で一致し、以下の点で相違している。
　
［相違点１］
　透明樹脂層について、本願補正発明は、「平均粒子径０．５〜１０μｍの微粒子を透明樹脂層に分散含有させることで、表面に凹凸形状が形成されている」というものであるのに対して、引用例１発明は、「平均粒子径０．１μｍ以下の無機酸化物粒子を高屈折率膜に分散させ」ているにとどまる点。
　
［相違点２］
　透明樹脂層表面に、塗工工程を施した後に、風乾工程を施し、次いで硬化工程を施す場合に、本願補正発明は、「塗工工程（１）を施した後に、風を吹きつける風乾工程（３）を風乾時間１〜１５秒間施し、次いで硬化工程（２）を、走行しているシートに対して連続して施す」というものであるのに対して、引用例１発明は、「塗工する工程を施した後に、風乾工程を風乾時間５分間施し、次いで熱硬化させる工程を施す」というものである点。
　
　次に相違点について検討する。
［相違点１］について
　本願補正発明の平均粒子径についての数値限定は、臨界的意義が認められないものであるところ、引用例１の段落【００１８】には、高屈折率膜用硬化性組成物中の粒子の平均粒子径を変更することにより、光照射するだけで高屈折率膜の表面に凹凸を設けることが可能である旨の記載がある。さらに、引用例１発明と同種の反射防止膜の製造において、高屈折率層に含有される微粒子の粒径を１〜１０μｍとすることにより、その表面に凹凸形状を形成することが周知（特開２００１−２８１４０６号公報、特開２００１−２８１４０７号公報等を参照）であることを勘案すると、前記周知技術を引用例１発明に適用することにより、当業者が本願補正発明のこの相違点に係る構成を想到することは容易になしえたものと認められる。
　
［相違点２］について
　本願補正発明と引用例１発明の風乾工程は、いずれも硬化工程の前の乾燥工程であることは明らかである。
　また、この相違点に係る本願補正発明の「走行しているシート」の「シート」という用語は、一般に、帯状ではなく枚葉紙状のものを表すが、本願の発明の詳細な説明の段落【００８１】には、「約２００ｍの反射防止シートＢ」というように「シート」が帯状のものを表すように使われている。しかしながら、仮に本願補正発明の「走行しているシート」が帯状であったとしても、フラットパネル表示装置においては、防眩フィルムの表面に凹凸が形成された透明膜を形成する場合、塗膜、乾燥、硬化の各処理を連続的に行うために、帯状のフィルムを用いることが周知（特開平７−２９４７０８号公報を参照）であることを勘案すると、引用例１発明の高屈折率膜を有する基材を帯状とし、塗工工程、風乾工程、硬化工程を連続して施すことは、当業者が容易に想到しえたものと認められる。
　次に、風乾時間については、請求人も、平成１８年６月８日付けの手続補正書の［請求の理由］の「ニ請求項１に係わる発明と引用文献との対比」において、「１５秒間が、課題に対して臨界的意義を有するものではありません。風乾時間１〜１５秒間は、製造効率の点で採用した値です。」（６頁９〜１１行）と述べているように、数値限定に臨界的意義は認められない。
　また、引用例１発明の風乾は、風を吹きつけるものであるかどうか特に記載がないものの、引用例１の段落【００４９】には、低屈折率膜用硬化性組成物に使用する有機溶剤の添加量が所定の範囲外の値であった場合に、均一な膜厚を有する低屈折率膜を形成することが困難となる場合がある旨の記載があり、これは、均一な膜厚を有する低屈折率膜を形成することが課題の一つであることを示唆するものと認められる。ところで、液晶表示板等においては、透明基板上に反射防止用の表面硬化透明塗料を塗工後、乾燥する工程を行う時、その溶剤が多量である場合は、乾燥のための風乾時間を短縮するために熱風乾燥炉を使用することが周知（特開昭６４−１９３０１号公報を参照）であることを勘案すると、引用例１発明の風乾に熱風を用い、風乾時間を短縮することは当業者が容易に想到しえたものと認められる。
　結局、前記各周知技術を引用例１発明に適用して塗工工程、風乾工程、硬化工程を連続して施す際に、熱風乾燥炉の設備の能力や溶剤の濃度等を考慮することにより風乾時間を適宜定め、本願補正発明のこの相違点に係る構成のようにすることは当業者が容易に想到しえたものと認められる。
　
　そして、本願補正発明の作用効果も、引用例１及び周知技術から当業者が予測できる範囲のものである。
　したがって、本願補正発明は、引用例１に記載された発明及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
（４）むすび
　以上のとおり、本件補正は、特許法第１７条の２第５項の規定で準用する同法第１２６条第５項に規定される独立特許要件を満たしていないものであり、特許法第１５９条第１項で準用する同法第５３条第１項の規定によって却下すべきものである。
　
３．本願発明について
　平成１８年６月８日付けの手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明（以下、同項記載の発明を「本願発明」という。）は、平成１７年１０月７日付け手続補正書の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される、以下のとおりのものである。
　「表面に凹凸形状が形成されている透明樹脂層を有するシートの当該透明樹脂層表面に、当該透明樹脂層よりも屈折率が低い屈折率材料を含有する塗工液を塗工する工程（１）および当該塗工液に硬化処理を施して反射防止層を形成する工程（２）を含む反射防止シートの製造方法において、
　前記透明樹脂層表面に、前記塗工工程（１）を施した後に、風を吹きつける風乾工程（３）を風乾時間１〜１５秒間施し、次いで硬化工程（２）を施すことを特徴とする反射防止シートの製造方法。」
　
（１）引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された引用例、および、その記載事項は、前記「２．（２）」に記載したとおりである。
　
（２）対比・判断
　本願補正発明の「硬化処理を施す工程（２）を含み、反射防止層を形成する」は、本願発明の「硬化処理を施して反射防止層を形成する工程（２）を含む」に相当するから、本願発明は、実質的に、前記２．で検討した本願補正発明から「透明樹脂層」の限定事項である「平均粒子径０．５〜１０μｍの微粒子を透明樹脂層に分散含有させることで、」との構成を省き、「硬化工程」の限定事項である「走行しているシートに対して連続して」との構成を省いたものである。
　そうすると、本願発明の構成要件を全て含み、さらに他の構成要件を付加したものに相当する本願補正発明が、前記「２．（３）」に記載したとおり、引用例１に記載された発明及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、同様の理由により、引用例１に記載された発明及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
（３）むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用例１に記載された発明及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。