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　平成　５年特許願第　５５７６５号「磁気記録体の製造装置の基板ホルダー」拒絶査定不服審判事件〔平成　６年　９月２０日出願公開、特開平　６−２６４２３７〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続きの経緯・本願発明
　本願発明は、平成５年３月１６日にした特許出願であって、平成１５年３月１７日になされた手続補正が平成１５年４月３日付けで補正却下の決定がなされ、平成１５年１０月２日付けで拒絶査定がなされ、それに対し、同年１１月１３日付けで拒絶査定に対する審判請求とともに手続補正がなされたものである。
　そして、その請求項１に係る発明は、平成１５年１１月１３日付けで提出された手続補正書により補正された本願明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される次のとおりのものである（以下、「本願発明」という。）。
「スパッタ法により非磁性基板上に下地膜となるＣｒ膜を形成し、更に５ａｔ％以上のＣｒを含有するＣｏ合金磁性膜を形成して成る磁気記録体の製造装置内に設置され、非磁性基板を保持する基板ホルダーを通して基板に直流のバイアス電圧を印加する磁気記録体の製造装置の基板ホルダーにおいて、基板の中心部より下部に位置する基板の受部が基板ホルダーに開口された透口の開口縁に４個以上突設され、該受部には基板の厚み以上の溝が形成されており、基板の端縁と受部の溝底部との接触部分以外には空隙が形成され、かつ該受部間に幅２ｍｍ以上で長さ３ｍｍ以上の櫛形状の空隙を有することを特徴とする磁気記録体の製造装置の基板ホルダー。」
２．引用文献に記載された発明
　これに対して、原査定の拒絶の理由に引用文献３として引用された特開平４−７０９号公報（以下、「引用文献」という。）には次の事項が記載されている。
（２−１）「支持台の保持部に保持された非磁性基板にスパッタリングして、磁気記録媒体を製造する方法において、該保持部が高熱伝導性材料で構成され、その長さが該非磁性基板円周の１／１０以下である支持台を用いることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。」（請求項２）、
（２−２）「従来、一般にインライン型製造法の場合、支持台に多数の非磁性基板（以下、基板という）を収納して、スパッタリング装置内を移動させることによって、下地Ｃｒ層、磁性層、保護層を形成して、磁気記録媒体としている。第１図に示す保持部３は支持台と同一の材質で、一体構造をなしているが、基板が挿入される基板装入部５である溝を有し、その長さは基板の円周の１／２〜１／５程度であった。」（第２頁左上欄第１３行〜同右上欄第１行）、
（２−３）「本発明に使用する支持台１及びその保持部３の一例を第１図に示す。本発明の製造方法に於いて、基板はアルミニウム合金、ガラス、セラミックスなど強度と平滑性が出せるものを使用できる。アルミニウム合金の場合にはＮｉ−Ｐのメッキを施し、その表面をポリッシングし、さらに磁気の配向性を促すためにテキスチャリング処理を施す。この基材を本発明に使用する支持台に保持して、減圧下で基板の温度をあげて下地Ｃｒ層、磁性層、保護層をスパッタリングによって形成する。磁性層としてはＣｏ−Ｃｒ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｈｆ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｚｒなどの合金とすることができる。」（第２頁左下欄第１４行〜同右下欄第５行）、
（２−４）「第４図、第５図のように長さの極端に小さいものは複数個とりつけて基板の保持を安定させる。」（第３頁左上欄第１９行〜同右上欄第１行）、
（２−５）「＜実施例１〜２＞＜比較例１〜２＞
　Ｎｉ−Ｐメッキしたアルミニウム合金基板（外径９５ｍｍ、内径２５ｍｍ、厚さ１．３ｍｍ）の表面を精密研磨した後、テキスリャリング処理を施して、基板を準備した。」（第３頁左下欄第１７行〜同右下欄第１行）、
（２−６）「＜実施例３〜６＞＜比較例３〜６＞
　実施例１〜２と同様の処理を施して、基板を準備した。」（第４頁左下欄第１〜３行）、
（２−７）「第４図に示す形状を有し、保持部の長さが０．５ｍｍである保持用治具を支持台の穴の下方に第６図に示すように３ケ所（保持部の長さは基板の円周の１／２００）に設置し保持部とした支持台を準備した（実施例４，６）。この場合、第６図に示すように保持具固定部を支持台に固定し基板を基板装入部に設置した。」（第４頁左下欄第６〜１２行）、
（２−８）第３図、第４図及び第５図には「基板装入部と保持具固定部を備えた保持部」が示されている。
（２−９）第６図には、「保持具固定部を支持台に固定し、基板装入部に基板を設置した保持部を支持台の穴の下方開口縁に約９０°の角度で３ケ所設置して基板を支持台に設置する」ものが示されており、また、凹形部分を有する基板装入部を備えた保持部を使用する場合は、基板と保持部とは基板の円周と保持部の基板装入部の凹形部分の底部だけが接触することから、「基板の円周と保持部の基板装入部の凹形部分の底部との接触部分以外には空隙が形成された」ものが示されているといえる。
　そして、記載事項（２−１）〜（２−９）を本願発明の記載に則って整理すると、引用文献には、「非磁性基板上に下地Ｃｒ層を形成し、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｎｉなどの合金を磁性層とする磁気記録媒体を製造するスパッタリング装置内に設置される非磁性基板を保持する基板支持台において、基板装入部を備えた保持部が支持台の穴の下方開口縁に複数個設置され、基板の円周と保持部の基板装入部の凹形部分の底部との接触部分以外には空隙が形成された磁気記録媒体の製造装置の基板支持台。」の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されているといえる。
３．対比・判断
　本願発明と引用発明を対比すると、引用発明の「磁気記録媒体」、「基板支持台」、「穴」、「保持部」及び「基板装入部」が、それぞれ、本願発明の「磁気記録体」「基板ホルダー」、「透口」、「基板の受部」及び「溝」に相当するから、両者は、「スパッタ法により非磁性基板上に下地膜となるＣｒ膜を形成し、更にＣｒを含有するＣｏ合金磁性膜を形成して成る磁気記録体の製造装置内に設置される基板ホルダーにおいて、基板の中心部より下部に位置する基板の受部が基板ホルダーに開口された透口の開口縁に設けられ、該受部には基板の厚み以上の溝が形成されており、基板の端縁と受部の溝底部との接触部分以外には空隙が形成されることを特徴とする磁気記録体の製造装置の基板ホルダー。」である点で一致し、以下の点で相違する。
（ａ）本願発明ではＣｏ合金が「５ａｔ％以上」のＣｒを含有するのに対して、引用発明はＣｒの含有量については記載されていない点。
（ｂ）本願発明では「非磁性基板を保持する基板ホルダーを通して基板に直流のバイアス電圧を印加する」のに対して、引用発明はバイアス電圧を印加することについては記載のない点。
（ｃ）本願発明では受部が「４個以上突設され」るのに対して、引用発明では、「複数個設置され」る点。
（ｄ）本願発明では「基板の受部間に幅２ｍｍ以上で長さ３ｍｍ以上の櫛形状の空隙を有する」のに対して、引用発明では空隙の幅と長さについて特定のない点。
　そこで、上記の相違点について検討する。
（ｉ）相違点（ａ）、（ｂ）について
　本願の明細書において従来技術として挙げられ、原審の拒絶の理由において引用文献１として引用された特公平４−５０６５３号公報にも記載されるように、５ａｔ％以上のＣｒを含有するＣｏ合金磁性膜を形成した面内記録型磁気記録体の製造装置内に設置される非磁性の基板を載置するトレイを介して基板に直流のバイアス電圧を印加することが周知であるといえる。
　そして、この周知技術を金属アルミニウムで形成された支持台を用いる引用発明に適用することに何等の阻害要因はない。
（ｉｉ）相違点（ｃ）について
　引用発明で基板の中心部より下部に位置する基板の受部の数は複数個であって（記載事項（２−４）参照）、実施例３のように３個に限定されるものとは認められず、さらに、上記の受部の個数が多い程基板の保持安定度が増すことは明らかであるから、引用発明の受部の数を４個以上とすることは当業者であれば容易に想到し得ることである。
（ｉｉｉ）相違点（ｄ）について
　上記のように引用発明に対して「基板の中心部より下部に位置する基板の受部が基板ホルダーに開口された透口の開口縁に４個以上突設されている」ものとすることは当業者であれば容易に想到し得ることであり、記載事項（２−５）〜（２−９）から、引用発明の実施例４でも複数の保持部間には支持台の厚さで、外径９５ｍｍの基板の円周角４５度に相当する外周の１／８以下の長さ（約３７．３ｍｍ）の空隙が必然的に形成されることになり、該空隙の大きさは、本願発明の櫛形状の空隙の大きさに類似するものということができる。そして、空隙の形状も複数の保持部間に存在する以上本願発明でいう「櫛形状」と異なるものではない。
　さらに、該空隙の大きさについては受部の個数や基板の大きさ等に応じて設計されるものであり、また、本願発明で大きさが幅２ｍｍで長さ３ｍｍであることを境にして効果が格段に向上すると認められないから、本願発明の空隙の大きさの数値範囲の限定に臨界的な意義があると認められない。
　そうすると、引用発明において「基板の受部間に幅２ｍｍ以上で長さ３ｍｍ以上の櫛形状の空隙を有するものとする」ことは当業者であれば適宜に設定し得ることである。
　そして、上記の各相違点を採用することにより奏される効果も当業者であれば予測し得る範囲内のものである。
　したがって、本願発明は、引用文献に記載された発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
４．審判請求人の主張について
　本件請求人は、審判請求書（第５頁第１９〜２３行）で、「本願発明の基板ホルダーは、基板と基板ホルダーとの接触部分が多く、基板の端縁側にも基板表面に堆積する金属膜が回り込みやすいので、基板が絶縁性の非磁性基板であってもバイアス電圧を基板に安定して印加することができ、そのため保磁力が大幅に向上した磁気記録体を極めて容易に製造できるという作用・効果を奏する（訂正明細書の段落［００１２］及び［００４２］参照）。」と主張しているが、本願発明は基板を単に「非磁性基板」としか特定しておらず、該基板は絶縁性の非磁性基板の他に導電性の非磁性基板も含むので請求人の該主張は、本願発明の構成に基づくものでなく、失当であり採用することができない。
　また、審判請求書（第５頁第９〜１５行）で、「引用文献３には、本願発明の上記幅に対応する保持部(３)の長さが、第３図の保持部(３)の場合で基板(４)の円周の１／２以下または第４図及び第５図の保持用治具の場合で基板(４)の円周の１／１０以下であると記載されているものの、本願発明の上記長さに対応する基板挿入部(５)の高さが明示されていない上に、基板挿入部(５)が１個または３個しか設けられていないため、引用文献３では基板挿入部(５)間の空隙が櫛形状とはなり得ない点で、両者は構成上の相違がある。」とする点も、どうして挿入部が３個のものでは櫛形状とはなり得ないかの説明もなく、しかも、引用発明においても３個に限定されるものでもないので、独自の見解に基づく主張として採用することができない。
５．むすび
　以上のとおりであるから、本願発明は、引用文献に記載された発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。