【事件の表示】
　特願２００３−５６０９３４「硬Ｘ線に曝露される多層体用の保護層」拒絶査定不服審判事件〔平成１５年　７月２４日国際公開、ＷＯ０３／６０９２４、平成１７年　５月２６日国内公表、特表２００５−５１５４４８〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
Ｉ　手続の経緯
　本願は、平成１４年１０月３１日（パリ条約による優先権主張、平成１４年１月１０日、米国）に出願された国際出願であって、平成１９年１０月１１日付けで拒絶査定がなされ、これを不服として、平成２０年１月１５日に拒絶査定不服審判の請求がなされるとともに、同年２月１４日付けで手続補正がなされたものである。
　その後、当審において、平成２１年４月２１日付けで、いわゆる最後の拒絶理由が通知され、これに対して、同年９月１８日付けで意見書ならびに手続補正書が提出された。
　
II　平成２１年９月１８日付け手続補正についての補正却下の決定
〔補正却下の決定の結論〕
　平成２１年９月１８日付け手続補正（以下、「本件補正」という。）を却下する。
〔理由〕
１　本件補正の内容
　本件補正は、特許請求の範囲を補正するものであって、補正前（平成２０年２月１４日付け手続補正書によって補正。以下、同じ。）の特許請求の範囲の請求項１，３，１０，および１２に記載されていた、「Ｘ線」を「硬Ｘ線」と補正する（以下、「補正事項１」という。）とともに、同、「実質的にＸ線を吸収する構造」を「Ｘ線の反射に寄与しない」と補正する（以下、「補正事項２」という。）ものである。なお、前記請求項１，３，１０，および１２以外の請求項は、いずれも、上記補正事項１，２がなされている前記請求項１，３，１０，および１２を、直接あるいは間接的に引用して記載されている。
　
２　本件補正の目的
　本件補正の補正事項１，２の目的について検討すると、
　補正事項１は、「Ｘ線」について、そのエネルギー（波長）を限定するものであるので、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２（以下、単に「特許法第１７条の２」という。）第４項第２号に掲げる、特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。また、補正事項２は、当審における平成２１年４月２１日付け拒絶理由通知に係る拒絶の理由に示す事項について釈明することを目的としていることが明らかであるので、特許法第１７条の２第４項第４号に掲げる、明りょうでない記載の釈明を目的とするものである。
　したがって、本件補正は、特許法第１７条の２第４項第２号に掲げる、特許請求の範囲の減縮を目的とする補正を含むものであり、当該減縮を目的とする補正は、すべての請求項についてなされているといえる。
　そこで、本件補正後の特許請求の範囲の請求項１に記載されている発明特定事項により特定される発明（以下、「本願補正発明」という。）が、特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか否か、すなわち、特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項に規定する要件を満たすか否かを以下に検討する。
　
３　本願補正発明
　本願補正発明は、次のとおりのものである。
「Ｘ線を回折するための光学素子において、
　基板と、
　前記基板とは反対方向を向いた外表面を含み、かつ硬Ｘ線を回折する能力を有する、前記基板に付加された回折構造体と、
　Ｘ線の反射に寄与しない構造を有する、前記外表面に付加された保護層とを含み、
　前記保護層が多層構造体を含み、
　前記多層構造体が層の組を含み、該層の組が、第１層と、該第１層とは異なる材料でできた第２層とを含み、
　前記第１層を構成する第１材料が、ケイ素、炭素、Ｂ４Ｃ，Ｂｅ，Ｌｉ，Ｂ，Ａｌ，およびＳｃから成る群から選択され、
　前記第２層を構成する第２材料が、ケイ素、炭素、Ｂ４Ｃ，Ｂｅ，Ｌｉ，Ｂ，Ａｌ，およびＳｃから成る群から選択される、Ｘ線を回折するための光学素子。」
　
４　引用文献
（４−１）刊行物１
　当審において平成２１年４月２１日付けで通知した拒絶理由（以下、「当審拒絶理由」という。）において提示した、本願の優先日前に頒布された刊行物である特表２００１−５２３００７号公報（以下、「刊行物１」という。）には、以下の技術的事項の記載がある。
（ア）「【請求項１】
　多重層反射性コーティング上に堆積されたシリコンまたはベリリウムを含む下層、および
下層上に堆積された少なくとも１つの上層を含んでなり、この上層は酸化および腐食に抵抗性を示し、かつその下側の層を酸化から保護する材料を含む、極紫外または軟Ｘ線用途に使用するために設計された多重層反射性コーティング用不動態化オーバーコート二重層。
　　【請求項２】
　オーバーコート二重層の上層と下層が最適の厚さを有し、両層の厚さが、二層オーバーコートがその下側の多重層コーティングと位相が整合するように選択される、請求項１に記載のオーバーコート二重層。
　　【請求項３】
　オーバーコート二重層の上層と下層が厚さを有し、上層の厚さが、その下側の層を酸化から保護するように選択され、そして下層の厚さは、オーバーコート二重層がその下側の多重層コーティングと位相が整合するように選択される、請求項１に記載のオーバーコート二重層。
　　【請求項４】
　上層が純元素、炭化物、酸化物、硼化物および窒化物から選択される、請求項１に記載のオーバーコート二重層。
　　【請求項５】
　上層が炭化モリブデン、パラジウム、白金、金、炭素、炭化硼素、硼化モリブデン、窒化硼素、酸化モリブデン、窒化シリコン、炭化シリコン、酸化ベリリウムおよび酸化シリコンから選択される、請求項４に記載のオーバーコート二重層。
　　【請求項６】
　オーバーコート二重層の上層と下層が、約１５ｎｍより短い操作波長で、垂直入射反射率が最大となるように最適化された厚さを有する、請求項１に記載のオーバーコート二重層。」
（イ）「【０００６】
発明の概要
　本発明は、軟Ｘ線または極紫外用途のための、多重層反射性コーティング用の不動態化オーバーコート二重層およびそのような層を製造する方法である。これらの不動態化された層は、顕微鏡検査、天文学、分光学、レーザー研究、レーザー穿孔および光学、シンクロトロン光学、並びに投射リソグラフィーなどの用途における軟Ｘ線および極紫外波長に対する反射性の光学的コーティングに有用である。
　　　【０００７】
　不動態化オーバーコート二重層（キャッピング二重層とも呼ばれる）は、多重層コーティングの最上層の上に堆積されて、多重層コーティングが酸化および腐食されるのを防止し、これによりＥＵＶ光学性能を改善する。多重層コーティングは、各種の材料、たとえばモリブデン−シリコン、炭化モリブデン−シリコン、モリブデン−ベリリウムおよび炭化モリブデン−ベリリウム、からなる交互層を含むことができる。不動態化二重層は、酸化または腐食に抵抗性の元素材料または化合物の少なくとも一つの上層の下に、シリコンまたはベリリウムの層を含んでなる。オーバーコート二重層は、オーバーコートの安定性を向上するために、二つの元々の層の間に第三層を追加することにより、三重層（または多重層）に拡張することができる。この第三層は、その外側の二層が互いに隣り合う場合に比べて、その二つの層に化学的により適合性である必要がある。二つの層からなるオーバーコートが、ここでの開示の目的のためには一般に十分であり、二重層の態様に力点を置いて記述する。
　　　【０００８】
　上層のための酸化抵抗性材料として、純元素、たとえば炭素およびパラジウム、または化合物材料、たとえば炭化物、硼化物、窒化物および酸化物、が挙げられる。特定例として、炭化モリブデン、炭化硼素、硼化モリブデン、窒化硼素、酸化モリブデン、窒化シリコン、酸化ベリリウム、炭化シリコンおよび酸化シリコンが挙げられる。
　　　【０００９】
　オーバーコート二重層を形成する各々の層の厚さは、約０．５〜５ｎｍの範囲であり、その厚さは、操作するＥＵＶ波長範囲において、最高の反射率をもたらすように選択される。オーバーコート二重層の厚さは、典型的には、その下側の多重層コーティングにおける対になった交互層の厚さとは異なる。オーバーコート中の二つの層の厚さは、十分な化学的保護をもたらすように、またＥＵＶ光学性能が最大となるように、個々に最適化される。今日までに、これらのキャップされた多重層ミラーは、Ｍｏ−Ｓｉについて、１３．０〜１３．５ｎｍの波長範囲において、少なくとも６７％であることが示されており、またＭｏ−Ｂｅについて、１１．２〜１２．０ｎｍの波長範囲において、少なくとも６９％であることが示されている。」
（ウ）「【００１１】
　極紫外（ＥＵＶ）リソグラフィー用途に設計された多重層コーティング１６は、典型的には、モリブデン（Ｍｏ）とシリコン（Ｓｉ）、またはモリブデンとベリリウム（Ｂｅ）からなる４０〜１００の交互層の周期的なスタック（積み重ね）で形成される。他の構造も可能であるが（例えば、非周期的スタック、他の材料または二つより多い材料との多重層スタック）、Ｍｏ−ＳｉおよびＭｏ−Ｂｅの組み合わせは、通常、ＥＵＶ波長領域（すなわち、約１５ｎｍより短い）において、高い垂直入射反射率（少なくとも６０％）を示す。Ｍｏ−ＳｉまたはＭｏ−Ｂｅを多重層スタックとして用いた場合には、多重層コーティング１６の最上層は典型的にはモリブデン（吸収材料）である。しかしながら、モリブデンは空気中で安定ではないので、オーバーコート二重層を追加することが必要である。リソグラフィー用途の多重層コーティング１６は、典型的には、超研磨溶融シリカまたは低膨張材料のような超平滑仕上げの光学的に平らなまたは形作られた基材２２上に堆積される。
　　　【００１２】
　オーバーコート二重層１０の下層１２は、スペーサー材料のシリコンまたはベリリウムのいずれかで形成される。上層１４は、下層１２上に堆積または成長され、酸化および腐食に抵抗性を示し、また酸素、窒素および水蒸気等の通常の大気ガス種に低い化学反応性を有する材料を含んでなる。ここでの開示の目的にとって、上層の「堆積(deposition)」は、「堆積すること」と「成長すること」の両方の概念を包含することが意図されている。この上層１４は、その下側の多重層コーティング１６を化学的に不動態化および保護し、またコーティングの高い反射率を保持させる。
　　　【００１３】
　本発明はオーバーコート二重層に限定されるものではなく、第三層を含んで、図示的に図１Ｂで示されるような三重層を形成することをも包含する。オーバーコート三重層３０は、下層３２、保護上層３４および上層３４と下層３２の間に堆積された中間層３６から形成される。下層３２はシリコンまたはベリリウムのいずれかを含んでなり、基材４０上に形成された多重層コーティング３８上に堆積される。上層３４は腐食および酸化に抵抗性を示す材料を含んでなる。中間層３６は、上層３４と下層３２の両方に化学的に適合性である必要があり、典型的には腐食に抵抗性の材料を含んでなる。上層３４と下層３２が、それら相互におけるよりも、中間層３６と適合性がより高い場合には、中間層３６は、オーバーコート３０の安定化をもたらす。中間層３６または（オーバーコート四重層におけるような）複数の中間層は、その外側の層を構成する材料の混合物である化合物を含んでいてもよい。
　　　【００１４】
　上層１４、３４および中間層３６に適当な材料として、化合物材料、たとえば炭化物、硼化物、窒化物および酸化物、並びに腐食や酸化に高い抵抗性を有する純元素、たとえば炭素、パラジウム、白金および金、が挙げられる。選択された材料は、堆積された場合に、連続的で平滑な層を形成できるものである必要がある。好ましい材料として、炭化モリブデン、パラジウム、炭素、炭化硼素、硼化モリブデン、窒化硼素、酸化モリブデン、窒化シリコン、炭化シリコン、酸化ベリリウムおよび酸化シリコンが挙げられる。炭化物、硼化物、窒化物および酸化物は硬い材料であるので、上層はまた、その下側の層を磨耗から機械的に保護する。」
（エ）「【００１８】
　本発明においては、オーバーコート二重層１０の厚さは、最高のＥＵＶ反射率を得るために、その下側の多重層コーティング１６と最善の位相整合をもたらすように調節される。オーバーコート二重層１０の厚さは、典型的にはその下側の多重層コーティング１６の周期の厚さ２４とは相違するが、これは主としてオーバーコート二重層１０においては異なった材料が使用されるためであり、また表面で層が空気（真空）界面にある（接している）ためである。Ｍｏ−ＳｉおよびＭｏ−Ｂｅ系については、オーバーコート二重層の各層の厚さは、０．５〜５ｎｍの範囲である。
　　　【００１９】
　実際には、オーバーコート二重層１０の各層の最適な厚さは、波長に対する反射率の一連の計算を行うことにより決定される。この際、問題の層の厚さは各回の計算のたびに増加され、一方他の層の厚さは固定されたままである。さらに詳しくは、下層の厚さを固定しながら上層の厚さを段階的に増加させて計算を行う毎に、最大のピーク反射率を与える上層の厚さを選択しなくてはならない。同様に、上層の厚さを固定しつつ、多重層反射率を計算するたびに下層の厚さを増加させることができる。このアプローチは、三つ以上の層を有するオーバーコートに拡張して適用し得る。」
（オ）「【００２４】
　図２および図３は、上層が周囲の空気中に存在する夾雑物と反応しない平滑で連続的かつ均質な層を形成すると仮定して、オーバーコート二重層の上層の最適な厚さは約１．０〜２．５ｎｍの範囲であることを示している。しかしながら、良好な化学的バリヤーを形成するためには、オーバーコート二重層の上層は計算された最適な厚さよりも厚くなくてはいけない場合がある。上層の厚さを増大させねばならないこれらの場合には、位相整合の損失を部分的に補償するために、下層の厚さを同時に減少させる必要がある。下層の計量厚さは、次いで、より厚い上層を考慮して、最適化しなければならない。
　　　【００２５】
　オーバーコート二重層の上層および下層のこの最適化は、図４に図示されている。図４は、下層が固定の厚さを有する場合およびその厚さが各々の上層の厚さに対して最適化されている場合における、オーバーコート二重層の上層の厚さに対する、垂直入射から５度における７０層のＭｏ−Ｂｅ多重層コーティングのピーク反射率を示す。この例における下層はＢｅであり、また上層はＭｏ２ＣかＰｄのいずれかである。下層の厚さは固定の場合に３．１８ｎｍであり、最適化されている場合には０．５０ｎｍから３．１８ｎｍまで変動する。多重層スタック中のＭｏ層の厚さは２．６４ｎｍであり、多重層スタック中のＢｅ層の厚さは３．１８ｎｍである。
　　　【００２６】
　図４は、３．１８ｎｍ厚のＢｅ層上で、上層（Ｍｏ２ＣまたはＰｄ）の厚さがその最適な厚さ以上に増大するにつれて、ピーク反射率がより急速に低下することを示している。Ｂｅ下層の厚さをＭｏ２ＣまたはＰｄのより厚い上層に対して再最適化した場合には、ピーク反射率はより高い値のままである。従って、好ましいオーバーコート二重層は、（１）その下側の多重層スタック中のＢｅまたはＳｉ層よりも薄い、ＢｅまたはＳｉ下層、および（２）より良い保護をもたらし、かつその下側の多重層スタックと最適な位相整合を保持するように、対応する形でより厚い上層、とを含んでなる。オーバーコート多重層（すなわち、三重層またはそれより多い層）の場合には、各層の厚さは、腐食および酸化に抵抗性を示しかつその下側の層を保護する上で有効である上層を与えつつ、ＥＵＶ性能を最大にするように、二重層の場合と同様な手法で最適化される必要がある。」
（カ）【図１Ａ】
　図１Ａには、オーバーコート二重層を有する多重層反射性コーティングの構成を示す図が図示され、基板２２上に多重層コーティング１６が設けられ、その上に下層１２と上層１４とからなるオーバーコート二重層１０が設けられることを見て取ることができる。
　
　これらの記載からして、刊行物１には次の発明が記載されているといえる。
「典型的には、モリブデンとシリコン、またはモリブデンとベリリウムからなる４０〜１００の交互層の周期的なスタックで形成された、軟Ｘ線または極紫外用途のための多重層コーティング上にオーバーコート二重層を設けた多重層反射性コーティングであって、
オーバーコート二重層は、基板上に設けられた多重層コーティングの上に設けられ、多重層コーティングが酸化および腐食されるのを防止してＥＵＶ光学性能を改善する、少なくとも下層と上層とからなり、
下層は、シリコンまたはベリリウムのいずれかで形成され、
上層は、炭化モリブデン、パラジウム、白金、金、炭素、炭化硼素、硼化モリブデン、窒化硼素、酸化モリブデン、窒化シリコン、炭化シリコン、酸化ベリリウムおよび酸化シリコンから選択され、
オーバーコート二重層の上層と下層の厚さは、より良い保護をもたらし、かつその下側の多重層スタックと最適な位相整合を保持するように、対応する形でより厚い上層と薄い下層とを含む、最適化された厚さである、
多重層反射性コーティング」（以下、「引用発明」という。）
　
（４−２）刊行物２
　本願の優先日前に頒布された刊行物である特開平５−１８０９９３号公報（以下、「刊行物２」という。）には、以下の技術的事項の記載がある。（下線は当審で付加した。）
（キ）「【０００５】これらの問題を解決するため、多層薄膜の干渉、つまりブラツグ反射を利用した多層膜反射鏡が用いられる。多層膜反射鏡は、基材上に屈折率の異なる物質を交互に多数積層した構造であり、各々の層界面からの反射光が干渉により強め合いＸ線の反射率を向上させることができる。反射光が強め合うときの入射角度θと多層膜の一周期の長さｄの関係は、いわゆるブラツグ条件である、つぎの式；ｍλ＝２ｄｓｉｎθで表される。ここで、ｍは正の整数、λはＸ線の波長である。このときのθは、臨界角θc より大きくできるので、全反射を利用した反射鏡よりは入射角度を大きくとれる利点がある。ただし、入射Ｘ線の波長が数Å以下（硬Ｘ線）と短くなると、膜厚ｄが原子間距離より短くなるので、硬Ｘ線に対してはθを小さくしなければならない。
（ク）「【００１１】本発明者らの検討によれば、プラスチツクフイルムなどの可撓性基材を用いて実用的な反射鏡を作製するには、表面粗さが中心線平均粗さで積層構造の１周期
の厚さの１／３以下の基材を用いる必要がある。しかも、短い波長のＸ線に対して上記のような積層構造のブラツグ反射で臨界角よりも大きな角度に反射を得るためには、上記積層構造の１周期をできるだけ小さくしなければならない。特に、数Å程度の波長のＸ線の場合、１周期は数十Å程度になり、基材として使用できるプラスチツクフイルムは限られてくる。また、この限られたプラスチツクフイルムを用いても、研磨した無機物基材を用いた場合のような高い反射率を得ることは、一般に難しい。
【００１２】本発明は、上記のような事情に鑑み、プラスチツクフイルムなどの可撓性基材を用いて、その表面粗さに影響されることのない高い反射率を得ることができるＸ線反射鏡を提供することを目的としている。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の目的を達成するために、鋭意検討した結果、プラスチツクフイルムなどの可撓性基材と反射層との間に、基材の表面粗さを小さくするための緩衝層を介在させることにより、表面粗さの大きな可撓性基材であつても、反射層を構成する積層構造の各層界面の平坦性が向上し、これにより高い反射率を示すＸ線反射鏡が得られることを見い出し、本発明を完成するに至つた。
【００１４】すなわち、本発明は、プラスチツクフイルムなどの可撓性基材上に、この基材の表面粗さを小さくする緩衝層が設けられ、この上にＸ線領域での屈折率の異なる層が周期的に積層されていることを特徴とするブラツグ反射によりＸ線を反射させるＸ線反射鏡に係るものである。」
（ケ）「【００２０】このようにして緩衝層を形成したのち、この上に反射層としての積層構造を形成して、本発明のＸ線反射鏡を得る。積層構造の形成は、従来と同じであり、スパツタリング法やイオンビ―ムスパツタ法あるいは真空蒸着法などにより、Ｘ線に対して比較的δの大きい層つまり屈折率の低い層と、比較的δの小さい層つまり屈折率の高い層とを、交互に積層すればよい。
【００２１】ここで、
屈折率の低い層としては、白金、金、イリジウム、鉄、ニツケル、タングステン、モリブテン、タンタルなどが用いられ、屈折率の高い層としては、炭素、珪素、ベリリウムなどが用いられる。屈折率の程度は、入射Ｘ線の波長により変わるので一概にいえないが、数nm以下の波長のＸ線に対しては、屈折率の高い層としては炭素またはこれを含む化合物がよく、屈折率の低い層としては白金、タングステンまたはこれらを含む化合物がよい。たとえば、波長０．１５４nmのＸ線に対しては、炭素のδ，βはそれぞれ７．２／１０
６
，１．１／１０
８
であり、タングステンのδ，βはそれぞれ４．５／１０
５
 ，３．７／１０
６
 である
　
（４−３）刊行物３
　本願の優先日前に頒布された刊行物である特開９−３１８８００号公報（以下、「刊行物３」という。）には、以下の技術的事項の記載がある。（下線は当審で付加した。）
（コ）「【０００２】
【従来の技術】Ｘ線用多層膜反射鏡は、屈折率の相異なる材料より成る薄膜を基板上に交互に積層形成し、その人工格子によるブラック回折を利用してＸ線を反射させるものである。特に、硬Ｘ線用多層膜反射鏡、高入射角用多層膜反射鏡は多層膜の周期長が数ｎｍ程度と非常に短くなり、薄膜の島状成長により連続膜を形成することが難しく、薄膜の粗さを小さくすることが困難であった。従って、得られる反射率は理論値と比較して非常に低いものとなる。
【０００３】多層膜反射鏡は、通常、アモルファス薄膜或は多結晶薄膜により構成される。
波長０．０１ｎｍ近傍の多層膜反射鏡は、屈折率の相異なる材料として、例えばＷ／Ｂ
４
Ｃを使用して構成され
【０００４】また、Ｘ線用の多層膜反射鏡は、
膜を構成する物質の光学的な性質に着目してＷ、Ｍｏその他の重金属元素とＢ、Ｃその他の軽元素の組み合わせにより構成される
　
５　本願補正発明と引用発明との対比
　そこで、本願補正発明と引用発明とを対比する。
　引用発明の、「軟Ｘ線」と本願補正発明の「硬Ｘ線」とは、「Ｘ線」である点で共通する。
　そして、当業者の技術常識を参酌すれば、引用発明の「典型的には、モリブデンとシリコン、またはモリブデンとベリリウムからなる４０〜１００の交互層の周期的なスタックで形成された、軟Ｘ線または極紫外用途のための多重層コーティング」は、本願補正発明の「Ｘ線を回折する能力を有する」「回折構造体」に相当し、引用発明の「軟Ｘ線または極紫外用途のための多重層コーティング上にオーバーコート二重層を設けた多重層反射性コーティング」が、本願補正発明の「Ｘ線を回折するための光学素子」に相当することは明らかであるし、引用発明において「オーバーコート二重層は、基板上に設けられた多重層コーティングの上に設けられ」るのであるから、引用発明の「多重層コーティング」が基板と反対方向に向く外表面を有することは明らかである。
　また引用発明の「酸化および腐食されるのを防止」が、保護機能を意味することは明らかであるので、引用発明の「オーバーコート二重層」は、「多重層コーティングの上に設けられ」、「多重層コーティングが酸化および腐食されるのを防止してＥＵＶ光学性能を改善する」ことは、本願補正発明の「（回折構造体の）外表面に付加された保護層」である構成と一致する。そうすると、引用発明の「オーバーコート二重層は」「少なくとも下層と上層とからな」ることは、本願補正発明の「前記保護層が多層構造体」からなる構成と一致する。
　さらに、引用発明の「（オーバーコート二重層の）前記下層は、シリコンまたはベリリウムのいずれかで形成され、
前記上層は、炭化モリブデン、パラジウム、白金、金、炭素、炭化硼素、硼化モリブデン、窒化硼素、酸化モリブデン、窒化シリコン、炭化シリコン、酸化ベリリウムおよび酸化シリコンから選択され」ることと、本願補正発明の「前記多層構造体が層の組を含み、該層の組が、第１層と、該第１層とは異なる材料でできた第２層とを含み、
　前記第１層を構成する第１材料が、ケイ素、炭素、Ｂ４Ｃ，Ｂｅ，Ｌｉ，Ｂ，Ａｌ，およびＳｃから成る群から選択され、
　前記第２層を構成する第２材料が、ケイ素、炭素、Ｂ４Ｃ，Ｂｅ，Ｌｉ，Ｂ，Ａｌ，およびＳｃから成る群から選択される」との事項とを対比すると、両者は、「前記多層構造体が層の組を含み、該層の組が、第１層と、該第１層とは異なる材料でできた第２層とを含み、
　前記第１層を構成する第１材料が、ケイ素、Ｂｅから成る群から選択され、
　前記第２層を構成する第２材料が、炭素、Ｂ４Ｃから成る群から選択される」点で一致することは明らかである。
　
　してみると、両者は、
「Ｘ線を回折するための光学素子において、
　基板と、
　前記基板とは反対方向を向いた外表面を含み、かつＸ線を回折する能力を有する、前記基板に付加された回折構造体と、
　前記外表面に付加された保護層とを含み、
　前記保護層が多層構造体を含み、
　前記多層構造体が層の組を含み、該層の組が、第１層と、該第１層とは異なる材料でできた第２層とを含み、
　前記第１層を構成する第１材料が、ケイ素、Ｂｅから成る群から選択され、
　前記第２層を構成する第２材料が、炭素、Ｂ４Ｃから成る群から選択される、
Ｘ線を回折するための光学素子。」である点で一致し、以下の点で相違する。
（相違点１）
　回折対象とするＸ線が、本願補正発明は「硬Ｘ線」であるのに対し、引用発明は「軟Ｘ線または極紫外」である点。
（相違点２）
　保護層が、本願補正発明は「Ｘ線の反射に寄与しない構造を有する」のに対し、引用発明は「オーバーコート二重層の上層と下層の厚さは、より良い保護をもたらし、かつその下側の多重層スタックと最適な位相整合を保持するように、対応する形でより厚い上層と薄い下層とを含む、最適化された厚さである」とされる点。
　
６　検討、判断
　上記相違点について検討する。
（６−１）相違点１について
　交互層の周期的なスタックで形成された多重層を、硬Ｘ線の反射鏡として用いることは、刊行物２，３に記載されている（前記「４」の摘記（キ）〜（コ）参照）ように、本願の優先日前公知の事項であるし、前記交互層の材料として、刊行物２ならびに刊行物３には、本願明細書の【００１０】段落に記載されている材料である、「Ｗ，Ｎｉ，Ｍｏ，Ｆｅ，Ｔａ，Ｐｔ」と「ケイ素，炭素、Ｂｅ」の組み合わせ、ならびに、「Ｗ，Ｍｏ」と「Ｂ４Ｃ，Ｂ，Ｃ」の組み合わせが、それぞれ例示されている（特に、前記「４」の摘記（キ）〜（コ）の下線部参照）。
　ここで、引用発明の多重層コーティングは、「典型的には、モリブデンとシリコン、またはモリブデンとベリリウムからなる４０〜１００の交互層の周期的なスタックで形成され」たものであり、引用発明の多層膜コーティングの材料も、前記した刊行物２，３に例示されている材料の組み合わせに含まれている。
　してみると、引用発明の「多重層コーティング」が、軟Ｘ線または極紫外用途のみならず、対象とするＸ線の波長に応じて各層の厚さを変更した上で、「硬Ｘ線」用途にも適用可能であることは、当業者が容易に想到し得る事項である。
（６−２）相違点２について
　引用発明の「オーバーコート二重層」を設ける目的は、「多重層コーティングが酸化および腐食されるのを防止」するというものであって、引用発明において「オーバーコート二重層の上層と下層の厚さは、より良い保護をもたらし、かつその下側の多重層スタックと最適な位相整合を保持するように、対応する形でより厚い上層と薄い下層とを含む、最適化された厚さ」とすることに関して、刊行物１には、「良好な化学的バリヤーを形成するためには、オーバーコート二重層の上層は計算された最適な厚さよりも厚くなくてはいけない場合がある」ため「位相整合の損失を部分的に補償するために、」「下層の計量厚さは、次いで、より厚い上層を考慮して、最適化しなければならない」旨、記載され（前記摘記（オ）の段落【００２４】参照）、オーバーコート二重層の上層および下層の最適化について図示した【図４】には、下層の厚さを最適化した場合には、最適化せず固定とした場合に比して反射率が向上すること、ならびに、オーバーコート層厚さを所定値以上とした場合には、オーバーコート層厚さが０、すなわち、オーバーコート二重層を設けていない場合よりも反射率が低下することが読み取れる。
　そうすると、刊行物１には、オーバーコート二重層が、それを設けていない場合と比較して「反射に寄与していない」態様についても記載されているといえる。
　そして、オーバーコート二重層を多重層コーティング上に設ける、すなわち、保護層を回折構造体の外表面に付加するに際し、「多重層コーティングが酸化および腐食されるのを防止」する機能を優先させるか、「反射率」を優先させるかは、単なる設計的事項にすぎない。
　してみると、引用発明において、オーバーコート二重層をＸ線の反射に寄与しない厚さとすることにより、多重層コーティングの酸化や腐食防止機能を優先すること、すなわち、保護層を、「Ｘ線の反射に寄与しない構造を有する」よう構成し、回折構造体を酸化や腐食から保護するようにすることは、当業者が容易に想到し得る事項である。
　
　そして、本願補正発明が奏する作用効果も、引用発明、刊行物２および刊行物３に記載された技術的事項から当業者が予測できる範囲のものである。
　なお、本願の発明の詳細な説明の記載を参酌しても、多層構造体からなる保護層によるＸ線の反射への寄与や保護作用が、Ｘ線のエネルギーと何らかの関係を有していて、「硬Ｘ線」を回折対象とし、保護層用材料として特定の材料を選択したことによって、引用発明から予測できない格別顕著な効果を奏するものであるとも認められない。
　
　よって、本願補正発明は、刊行物１ないし３に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
７　本件補正についての結び
　以上のとおり、本願補正発明は、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものであるから、本件補正は、特許法第１７条の２第５項で準用する同法第１２６条第５項に規定する要件を満たさないものであり、特許法第１５９条第１項で読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
III　本願発明について
１　本願発明
　平成２１年９月１８日付け手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の特許請求の範囲に記載された発明は、平成２０年２月１４日付け手続補正書によって補正された、特許請求の範囲の請求項１乃至１９に記載されたとおりのものであるところ、その請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、次のとおりのものである。
「Ｘ線を回折するための光学素子において、
　基板と、
　前記基板とは反対方向を向いた外表面を含み、かつＸ線を回折する能力を有する、前記基板に付加された回折構造体と、
　実質的にＸ線を吸収する構造を有する、前記外表面に付加された保護層とを含み、
　前記保護層が多層構造体を含み、
　前記多層構造体が層の組を含み、該層の組が、第１層と、該第１層とは異なる材料でできた第２層とを含み、
　前記第１層を構成する第１材料が、ケイ素、炭素、Ｂ４Ｃ，Ｂｅ，Ｌｉ，Ｂ，Ａｌ，およびＳｃから成る群から選択され、
　前記第２層を構成する第２材料が、ケイ素、炭素、Ｂ４Ｃ，Ｂｅ，Ｌｉ，Ｂ，Ａｌ，およびＳｃから成る群から選択される、Ｘ線を回折するための光学素子。」
　
２　引用刊行物の記載事項
　当審拒絶理由において提示した、本願の優先日前に頒布された刊行物である刊行物１の記載事項は、前記「II〔理由〕４引用文献（４−１）刊行物１」に記載したとおりである。
　
３　本願発明と引用発明との対比、検討・判断
　本願発明は、上記「II〔理由〕３　本願補正発明」で検討した本願補正発明において、補正事項１に係る「Ｘ線」について、そのエネルギー（波長）を限定する「硬（Ｘ線）」という限定事項を削除し、本願補正発明の「Ｘ線の反射に寄与しない」との発明特定事項を、「実質的にＸ線を吸収する構造」という発明特定事項としたものに相当する。
　そして、本願補正発明と引用発明とを対比した結果は、上記「II〔理由〕５本願補正発明と引用発明との対比」に記載したとおりである。
　そうすると、本願発明と引用発明とは、
「Ｘ線を回折するための光学素子において、
　基板と、
　前記基板とは反対方向を向いた外表面を含み、かつＸ線を回折する能力を有する、前記基板に付加された回折構造体と、
　前記外表面に付加された保護層とを含み、
　前記保護層が多層構造体を含み、
　前記多層構造体が層の組を含み、該層の組が、第１層と、該第１層とは異なる材料でできた第２層とを含み、
　前記第１層を構成する第１材料が、ケイ素、Ｂｅから成る群から選択され、
　前記第２層を構成する第２材料が、炭素、Ｂ４Ｃから成る群から選択される、
Ｘ線を回折するための光学素子。」である点で一致し、
（相違点３）
　保護層が、本願発明は「実質的にＸ線を吸収する構造」であるのに対し、引用発明は「オーバーコート二重層の上層と下層の厚さは、より良い保護をもたらし、かつその下側の多重層スタックと最適な位相整合を保持するように、対応する形でより厚い上層と薄い下層とを含む、最適化された厚さである」とされる点で相違する。
　
　ここで、上記相違点３について検討すると、本願発明の「実質的にＸ線を吸収する構造」との発明特定事項は、当審拒絶理由において記載が明りょうでないと指摘した事項であって、請求人の提出した平成２１年９月１８日付け意見書、ならびに、同日付け手続補正書による補正内容からして、当該事項が「Ｘ線の反射に寄与しない構造を有する」ことを意味することは、明らかである。
　そうすると、上記「相違点３」は、「II〔理由〕５　本願補正発明と引用発明との対比」に記載した「相違点２」と、実質的に同一である。そして、「相違点２」については、「II〔理由〕６　検討、判断」で検討したとおり、引用発明において、オーバーコート二重層をＸ線の反射に寄与しない厚さとすることにより、多重層コーティングの酸化や腐食防止機能を優先すること、すなわち、保護層を「Ｘ線の反射に寄与しない構造」、すなわち、「実質的にＸ線を吸収する構造」を有する構成とし、回折構造体を酸化や腐食から保護するようにすることは、当業者が容易に想到し得る事項であり、保護層を上記のごとく構成することにより、引用発明からは想定できない格別顕著な効果が奏されるとも認められない。
　してみると、本願発明は、引用発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
４　むすび
　以上のとおり、本願の請求項１に係る発明は、本願の優先日前に頒布された刊行物である刊行物１に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明することができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものである。
　したがって、その余の請求項に係る発明について論及するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。