【事件の表示】
　特願２００１−１０１９６「研磨性スラリー」拒絶査定不服審判事件〔平成１３年１２月１４日出願公開、特開２００１−３４２４５６〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯・本願発明
　この出願は、平成１３年１月１８日（パリ条約による優先権主張　２０００年１月１８日　米国（ＵＳ））の出願であって、平成１８年２月１４日付けで拒絶理由が通知され、同年８月９日に意見書及び手続補正書が提出され、同年８月２５日に拒絶査定がされ、これに対し、同年１１月２９日に拒絶査定に対する審判が請求され、平成１９年２月２２日付けで審判請求書についての手続補正書が提出されたものであって、その発明は、平成１８年８月９日の手続補正により補正がされた特許請求の範囲に記載されたとおりのものであるところ、その請求項１に記載された発明（以下、「本願発明」という。）は、以下のとおりのものである。
　
　「５μｍ以下の平均粒子直径を有する研磨性粒子と、少なくとも０．５総重量％の、Ａｌ（ＮＯ３）３及びＮＨ４ＮＯ３よりなる群の少なくとも１種から選択される酸化剤と、０．０５〜２総重量％の、過塩素酸塩、過沃素酸塩、過硫酸塩、硝酸第二鉄、硝酸セリウムアンモニウム、過安息香酸、亜硝酸塩化合物、過硼酸塩化合物、次亜塩素酸塩化合物及び亜塩素酸塩化合物よりなる群から選択される少なくとも１種の補助酸化剤と、残りの水とからなる研磨性スラリーであって、０．１〜０．２９μｍ／分の総ニッケル素材除去速度を有する研磨性スラリー。」
　　
第２　原査定の拒絶の理由の概要
　原査定は、「この出願については、平成１８年２月１４日付け拒絶理由通知書に記載した理由３によって、拒絶をすべきものである。」というものであるところ、その「理由３」は以下の理由を含むものである。
　
「３．…この出願の下記の請求項に係る発明は、その出願前日本国内又は外国において頒布された下記の刊行物に記載された発明に基いて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
　　　　　　記　　　（引用例については引用文献等一覧参照）
…
（理由３）
請求項１，２　　引用例１〜３
…
１.特開平１０−１２１０３５号公報
２.…」（以下、上記引用文献１を、「刊行物１」という。）
　
３　当審の判断
　当審は、本願発明は、上記の拒絶の理由により拒絶すべきものであると判断する。以下、詳述する。
　　　　　　　　　　　　　　　　
（１）刊行物１に記載された事項
　この出願の優先権主張日前に頒布されたことが明らかな刊行物である、刊行物１（特開平１０−１２１０３５号公報）には、以下の事項が記載されている。
1a　「【特許請求の範囲】
【請求項１】水、酸化チタニウム微粒子、研磨促進剤からなる磁気ディスク基板研磨用組成物。」　
1b　「【０００７】従って、本発明の目的は、磁気ディスクの表面粗さが小さく、かつ突起や研磨傷を発生させず、高密度記録が達成可能であり、しかも経済的な速度で研磨できる磁気ディスク基板の研磨用組成物を提供することにある。」
1c　「【００１２】本発明の研磨用組成物に研磨材として含まれる酸化チタニウム微粒子の二次粒子の平均粒子径が０．１〜１．０μｍであることが好ましい。」
1d　「【００１３】酸化チタニウム微粒子の研磨速度は二次粒子径に依存するところが大きく、二次粒子径が大きくなると研磨速度は高まるが、研磨傷が発生し易くなり、それによってミッシングパルスエラーが生ずる場合があり、低浮上型ハードディスク基板として実用上許容される程度の研磨傷に抑えることが困難となる。従って、酸化チタニウム微粒子の最大の二次粒子の平均粒子径は１．０μｍ以下であることが好ましい。一方、研磨速度を高めること、面だれを低減することから二次粒子の平均粒子径は０．１μｍ以上が好ましい。」
1e　「【００１６】本発明の研磨用組成物において酸化チタニウムは機械的研磨作用をなしているが、さらに研磨能率を高めるため、基板に対して化学的な作用をする研磨促進剤を添加する。研磨促進剤としては硝酸アルミニウム（Ａｌ（ＮＯ３）３）、硫酸アルミニウム（Ａｌ２ＳＯ４）３）、…リンゴ酸（Ｃ４Ｈ６Ｏ５）等が用いられる。これらの中でアルミニウム塩が好ましく、とりわけ硝酸アルミニウムが好ましい。研磨促進剤は基板に対して腐食作用等の化学的に作用し、これに酸化チタニウムによる機械的研磨作用が加わって研磨能率が大幅に向上する。さらに研磨促進剤の他に水溶性の酸化剤を加えることも研磨性能を高める上で有効である。水溶性の酸化剤としては過酸化水素（Ｈ２Ｏ２）、硝酸、過マンガン酸カリウム（ＫＭｎＯ４）、過塩素酸（ＨＣｌＯ４）、過塩素酸ソーダ（ＮａＣｌＯ４）、次亜塩素酸ソーダ（ＮａＣｌＯ）などが用いられる。その濃度は高すぎても効果が増さないので１０重量％以下が適当である。
1f　「【００１７】研磨促進剤の添加量は１〜２０重量％、好ましくは２〜１５重量％である。…」
1g　「【００１９】本発明の研磨用組成物を適用する磁気ハードディスク基板は格別限定されるものではないが、アルミニウム基板、とくに、例えばＮｉＰを無電解メッキしたアルミニウム基板に本発明の組成物を適用すると酸化チタニウムによる機械的研磨作用と研磨促進剤による化学的研磨作用とが相俟って、高品質の研磨面が工業的有利に得られる研磨方法は一般にスラリー状研磨材に用いられる研磨パッドを磁気ディスク基板面上に摺り合せ、パッドと基板の間にスラリーを供給しながらパッドまたは基板を回転する方法である。本発明の研磨用組成物により研磨した基板からつくられた磁気ディスクは突起や研磨傷は極めて少なく、また表面荒さ（Ｒａ）も３〜５Å位であり、平滑性に優れている。」
1h　「【００２０】
【実施例】以下、本発明の実施例について具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
（実施例１〜２０）昭和タイタニウム（株）製の高純度酸化チタニウムのスーパータイタニア  Ｆ−１（平均一次粒子径０．１μｍ、ルチル化率５０重量％）および同Ｆ−２（平均一次粒子径０．０６μｍ、ルチル化率１６重量％）をそれぞれ沈降分級し、表１に示す平均二次粒子径０．３〜１．０μｍの範囲の各種の酸化チタニウムをまず得た。…次に、研磨材として上記の酸化チタニウムおよび研磨促進剤、場合により更に酸化剤を表１に示す割合で添加し、種々の水性研磨用組成物を調製し、以下に示す研磨装置および研磨条件で研磨を行った。…」
1i　「【００２６】　　＊＊ 【表１】 
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　」
1j　「【００２８】
【発明の効果】本発明の研磨用組成物を用いてディスクの研磨を行うと、表面粗さが小さく、かつ研磨傷の殆どない研磨面が得られ、しかも高い速度で研磨することができる。研磨したディスクを用いた磁気ディスクは低浮上型ハードディスクとして有用であり、高密度記録が可能である。特に、研磨したディスクを用いた磁気ディスク磁気抵抗効果を利用したＭＲヘッド用メディアに代表される高記録密度媒体（５００Ｍｂｉｔ／ｉｎｃｈ２ 以上の記録密度を有する）として有用度が高いが、それ以下のメディアにおいても高信頼性媒体であると言う観点で有用である。」
　
（２）刊行物１に記載された発明
　刊行物１は、「水、酸化チタニウム微粒子、研磨促進剤からなる磁気ディスク基板研磨用組成物。」（摘示1a）に関し記載するものである。
　その「酸化チタニウム微粒子」は、「研磨用組成物に研磨材として含まれる」（摘示1c）ものであり、その酸化チタニウム微粒子の「二次粒子の平均粒子径が０．１〜１．０μｍであることが好ましい。」（摘示1c）とされるものである。また、その「研磨促進剤」は「さらに研磨能率を高めるため、基板に対して化学的な作用をする」（摘示1e）ものであり、具体的には、「とりわけ硝酸アルミニウムが好ましい」（摘示1e）とされ、その添加量は「１〜２０重量％、好ましくは２〜１５重量％である」（摘示1f）とされている。
　さらに、上記研磨組成物には、「研磨促進剤の他に水溶性の酸化剤を加える」（摘示1e）ことが「研磨性能を高める上で有効である」（摘示1e）とされ、その濃度は「高すぎても効果が増さないので１０重量％以下が適当である」（摘示1e）とされている。
　そして、この研磨組成物は、水性媒体に固体の酸化チタニウム微粒子研磨材が分散されたもの、すなわち「スラリー」（摘示1g）であるといえる。
　そうすると、刊行物１には「水、酸化チタニウム微粒子、研磨促進剤からなる磁気ディスク基板研磨用組成物」（摘示1a）について、酸化チタニウム微粒子は、研磨材であり、その二次粒子の平均粒子径が０．１〜１．０μｍであることが好ましいものであり、研磨促進剤は、硝酸アルミニウムで、好ましくは２〜１５重量％含まれるものであり、さらに、水溶性の酸化剤を１０重量％以下含む、研磨組成物スラリーが記載されているといえる。
　刊行物１に記載されたこの研磨組成物スラリーを、本願発明の表現ぶりにならって記載すると、刊行物１には、
　「二次粒子の平均粒子径０．１〜１．０μｍを有する酸化チタニウム研磨材微粒子と、２〜１５重量％のＡｌ（ＮＯ３）３と、１０重量％以下の水溶性の酸化剤と、残りの水とからなる研磨組成物スラリー」
の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されているということができる。
　
イ　本願発明と引用発明との対比
　本願発明と引用発明とを対比すると、引用発明の「酸化チタニウム研磨材微粒子」は本願発明の「研磨性粒子」といえ、その「平均粒子直径」は組成物中における大きさ、すなわち、二次粒子の平均粒子直径をいうものと認められるから、引用発明の「二次粒子の平均粒子径０．１〜１．０μｍ」は、本願発明の「５μｍ以下の平均粒子直径」に包含される。
　また、引用発明の「Ａｌ（ＮＯ３）３」は、本願発明の「Ａｌ（ＮＯ３）３及びＮＨ４ＮＯ３よりなる群の少なくとも１種から選択される酸化剤」に相当し、その量「２〜１５重量％」は、本願発明における「少なくとも０．５総重量％」に包含される。そして、引用発明の「１０重量％以下の水溶性の酸化剤」も本願発明の「０．０５〜２総重量％の、過塩素酸塩、過沃素酸塩、過硫酸塩、硝酸第二鉄、硝酸セリウムアンモニウム、過安息香酸、亜硝酸塩化合物、過硼酸塩化合物、次亜塩素酸塩化合物及び亜塩素酸塩化合物よりなる群から選択される少なくとも１種の補助酸化剤」もともに「所定添加剤」ということができ、引用発明の「研磨組成物スラリー」は本願発明の「研磨性スラリー」に他ならないから、本願発明と引用発明とは、
　「５μｍ以下の平均粒子直径を有する研磨性粒子と、少なくとも０．５総重量％の、Ａｌ（ＮＯ３）３及びＮＨ４ＮＯ３よりなる群の少なくとも１種から選択される酸化剤と、所定添加剤と、残りの水とからなる研磨性スラリー」
の点で一致し、以下Ａ、Ｂの点で相違が認められる。
　　
Ａ　「所定添加剤」が、本願発明は「０．０５〜２総重量％の、過塩素酸塩、過沃素酸塩、過硫酸塩、硝酸第二鉄、硝酸セリウムアンモニウム、過安息香酸、亜硝酸塩化合物、過硼酸塩化合物、次亜塩素酸塩化合物及び亜塩素酸塩化合物よりなる群から選択される少なくとも１種の補助酸化剤」であるのに対して、引用発明は「１０重量％以下の水溶性の酸化剤」である点
Ｂ　研磨性スラリーが、本願発明は「０．１〜０．２９μｍ／分の総ニッケル素材除去速度を有する」のに対して、引用発明はその除去速度が明らかではない点
（以下、それぞれ「相違点Ａ」、「相違点Ｂ」という。）
　
ウ　相違点についての検討
（ア）相違点Ａについて
　引用発明の「水溶性の酸化剤」について、刊行物１には、具体的な物質として、「過酸化水素（Ｈ２Ｏ２）、硝酸、過マンガン酸カリウム（ＫＭｎＯ４）、過塩素酸（ＨＣｌＯ４）、過塩素酸ソーダ（ＮａＣｌＯ４）、次亜塩素酸ソーダ（ＮａＣｌＯ）など」（摘示1e）が用いられることが示されている。そうすると、引用発明の「水溶性の酸化剤」として、具体的に挙げられた物質である、過塩素酸ソーダ（ＮａＣｌＯ４）、次亜塩素酸ソーダ（ＮａＣｌＯ）を用い、さらにその際の添加量は「１０重量％以下」とされ、「水溶性の酸化剤」を添加した具体例においては、１．０％（実施例１０）、０．２％（実施例１１）が示されているのであるから、引用発明において、「所定添加剤」を、「０．０５〜２総重量％の、過塩素酸塩、…次亜塩素酸塩化合物よりなる群から選択される少なくとも１種の補助酸化剤」とすることは、当業者にとって何ら困難なことであるとは認められない。
　
（イ）相違点Ｂについて
　刊行物１に記載された研磨性スラリーは、「磁気ディスクの表面粗さが小さく、かつ突起や研磨傷を発生させず、高密度記録が達成可能であり、しかも経済的な速度で研磨できる磁気ディスク基板の研磨用組成物」（摘示1b）であって、「表面粗さが小さく、かつ研磨傷の殆どない研磨面が得られ、しかも高い速度で研磨することができる」（摘示1j）というものであるから、「高い速度で研磨することができるもの」、すなわち、研磨対象物質の除去速度が高いものであると認められる。そして、引用発明の研磨対象には「ＮｉＰを無電解メッキしたアルミニウム基板」（摘示1g）が包含され、研磨対象物質にニッケル素材が包含されるから、「総ニッケル素材除去速度」が高いものであるといえる。具体的な除去速度の値は、研磨対象や、研磨条件、さらに研磨性スラリーの砥粒の大きさ、種類、その量割合などによって変化するものであり（例えば、砥粒の大きさによって変化することは、摘示1dに、砥粒の種類によって変化することは、摘示1i（表１）の実施例と比較例１、２との対比、砥粒の量割合によって異なることは、同表の実施例１〜４間の対比等）から、必要に応じ適宜数値、例えば、「０．１〜０．２９μｍ／分」とすることは、当業者にとって適宜なし得ることであると認められる。
　
（ウ）効果について
　本願発明の課題ないし効果は、「金属基材の表面荒さを低減させるためのスラリーを提供することである。本発明の他の目的は、研磨方法を促進させるためのスラリーを提供することである。更に本発明の目的は、研磨特性が高められ且つ表面欠陥が最小限にされる…コロイド研磨性スラリーを提供することである。更に本発明の他の目的は、コンピューター用ハードディスクのためのＮｉ−Ｐめっき基材に対して改善された研磨性能を与える研磨性スラリーを提供することである。」（段落【０００９】）と認められる。
　しかるに、刊行物１においても、「本発明の研磨用組成物を用いてディスクの研磨を行うと、表面粗さが小さく、かつ研磨傷の殆どない研磨面が得られ、しかも高い速度で研磨することができる。」（摘示1j）、「アルミニウム基板、とくに、例えばＮｉＰを無電解メッキしたアルミニウム基板に本発明の組成物を適用すると酸化チタニウムによる機械的研磨作用と研磨促進剤による化学的研磨作用とが相俟って、高品質の研磨面が工業的有利に得られ（る）」（摘示1g）というものであるから、本願発明の上記効果は、刊行物１の記載から予期しうる程度ものである。
　　
エ　まとめ
　以上のとおり、本願発明は、刊行物１に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができない。
　
オ　審判請求人の主張について
（ア）　審判請求人は平成１９年２月２２日付けの審判請求書についての手続補正書において、本願発明は、刊行物１の記載から当業者が容易に発明をすることができたものではない、として以下の主張をする。
ａ　「引用例１（審決注：本審決書の「刊行物１」である。以下同じ。）…の実施例において具体的に研磨特性が確かめられているのは、研磨促進剤としての硝酸アルミニウムと、酸化剤としての過酸化水素及び硝酸との組合せのみであり（引用例１の表１…参照）、本願所定の酸化剤と補助酸化剤との組合せについての具体的な記載は一切存在しない。
　従って、本願発明は、引用例１…に記載された発明又は引用例１…に記載されているに等しい発明であるとはいえない。」
ｂ　「本願発明によれば、本願所定の酸化剤と補助酸化剤との組合せによって、「研磨速度が５０％〜２５０％まで大いに高められる」（本願明細書［００１２］）という優れた効果が得られる。この効果は、本願の実施例の記載から裏付けられる。…
　これに対して、引用例１…には、「さらに研磨促進剤の他に水溶性の酸化剤を加えることも研磨性能を高める上で有効である」（…）旨の記載があるが、引用例１の表１…をみる限り、研磨促進剤と酸化剤との組合せによる研磨速度の有意な増加は認められない。…この結果からは、硝酸アルミニウムと過酸化水素等との組合せでも硝酸アルミニウム単独の場合と同等の研磨速度が得られることは分かるものの、硝酸アルミニウムと他の酸化剤との組合せによる相乗効果までは予測できない。
　従って、本願発明の所定の酸化剤と補助酸化剤との組合せによって奏される効果は、引用例１…には記載されていない有利な効果であって、本願出願時の技術常識から当業者が予測できたものではないといえる。」
ｃ　「引用例１…における、硝酸アルミニウムと過酸化水素及び硝酸とを組合せても硝酸アルミニウム単独の場合に対して研磨速度が有意に増加しないことが実験で確かめられたという事実及び「さらに研磨促進剤の他に水溶性の酸化剤を加えることも研磨性能を高める上で有効である」旨の記載は、“研磨促進剤と「研磨性能を高める」酸化剤の過酸化水素又は硝酸とを組み合わせてみたところで研磨速度の有意な増加が望めないのであるから、当該研磨促進剤と他の酸化剤とを組み合わせても研磨速度の有意な増加は望めそうにない”という認識を生じさせるものである。このような認識の下で、当業者がわざわざ本願発明の所定の酸化剤と補助酸化剤との組合せを創作してニッケル除去速度の向上を試みるということは考えにくい。よって、これらの事実及び記載は、引用例１…の記載から本願発明に容易に想到できたとの論理付けを妨げるものであるといえる。」
　
（イ）　しかしながら、以下のとおり上記各主張は、いずれも上記エの判断を左右するものとはいえない。
ａ　主張ａについて
　上記アのとおり、刊行物１に「本願所定の酸化剤と補助酸化剤との組合せ」の発明が記載されていると認定するものでも、本願発明が刊行物１に記載されている（に等しい）発明であると認定するものでもない。したがって、審判請求人の主張ａは当を得ないものであって、採用することはできない。
　
ｂ　主張ｂについて
（ａ）　主張ｂは、本願発明の所定の酸化剤と補助酸化剤との組合せによって奏される研磨速度向上効果は、引用例１には記載されていない有利な効果であって、本願出願時の技術常識から当業者が予測できたものではない、ということを根拠に本願発明は特許すべきものであると主張すると認められる。
（ｂ）　まず、本願発明の構成自体は想到の容易なものであったことは、既に上記ウの（ア）、（イ）で述べたとおりである。このように構成につき容易想到性が認められる発明に対して、それにもかかわらず、それが有する効果を根拠として特許を与えることが正当化されるためには、その発明が現実に有する効果が、当該構成のものの効果として予想されるところと比べて格段に異なることを要するものというべきである（平成１２年（行ケ）２３８号判決等参照）。
（ｃ）　そこで、審判請求人が主張する、本願発明の酸化剤と補助酸化剤との組合せが有する研磨速度向上効果について、引用発明の硝酸アルミニウムと特定の水溶性の酸化剤の組合せによって奏されると予測される研磨速度向上効果に比べて格段に異なるといえるかについて検討する。
　本願発明は、「補助酸化剤」をさらに「酸化剤」に加えて研磨性スラリーに添加することにより、研磨性スラリーによる「基材の除去を促進させる」（段落【００１０】）という効果を奏するとされるものであり、具体例においても、ニッケル−燐めっきしたメモリーハードディスクを本願発明の研磨性スラリーによって研磨したときに「除去速度」が高まるという効果を奏することが認められる。
　他方、引用発明の「水溶性の酸化剤」を添加する技術的意義について、刊行物１には、「本発明の研磨用組成物において酸化チタニウムは機械的研磨作用をなしているが、さらに研磨能率を高めるため、基板に対して化学的な作用をする研磨促進剤を添加する。…さらに研磨促進剤の他に水溶性の酸化剤を加えることも研磨性能を高める上で有効である。」（摘示1e）と、「水溶性の酸化剤」を、「研磨促進剤」に加え組成物に添加することにより、研磨組成物スラリーの研磨性能をさらに高めることが認められ、この効果は、本願発明の「補助酸化剤の添加」の研磨速度向上と同質の効果である。
　そして、具体例についてみると、本願明細書の表１（段落【００２３】）において、「補助酸化剤」の添加の有無のみにおいて相違する、試料Ｂと試料１〜３の「除去速度」をみると、試料Ｂ（補助酸化剤無し）が「０．１０」、試料１〜３が、それぞれ、「０．２２」（ＫＩＯ４）、「０．１４」（（ＮＨ４）２Ｓ２Ｏ８）、「０．１２」（Ａｌ（ＣｌＯ４）３）と記載されていることから、「補助酸化剤」を添加することによって「除去速度」が増加することが認められる。また、「酸化剤」と組み合わせる「補助酸化剤」が相違すると、「除去速度」の増加の程度が大きく異なることも認められる。
　他方、刊行物１の表１（摘示1i）において、「水溶性の酸化剤」の添加の有無のみにおいて相違する、実施例７と実施例１０、１１の「研磨レート」をみると、実施例７（水溶性の酸化剤無し）が「０．３２」、実施例１０、１１が、それぞれ「０．３６」（Ｈ２Ｏ２）、「０．３５」（硝酸）と記載され、「水溶性の酸化剤」を添加することによって「研磨レート」は、１０％前後も大きくなっていることが認められるから、「研磨レート」は、「水溶性の酸化剤」のＨ２Ｏ２や硝酸を添加することによって、有意に増加するということができる。そして、実施例に示された水溶性の酸化剤の過塩素酸ソーダ（ＮａＣｌＯ４）、次亜塩素酸ソーダ（ＮａＣｌＯ）は、Ｈ２Ｏ２や硝酸と並記されているものであるから、過塩素酸ソーダや次亜塩素酸ソーダを添加したときも「研磨研磨レート」は有意に増加すると予測される。
　なお、研磨速度の増加程度が本願発明の具体例においては刊行物１の具体例におけるよりも大きめであることが認められるとしても、本願発明は様々な「補助酸化剤」物質を包含するものであり、「補助酸化剤」の種類に応じて研磨速度向上効果が大きく変動するものであることを考慮すれば、多様な補助酸化剤の組合せを包含する本願発明すべての研磨速度向上効果が格段に異なるとまでいうことはできない。
（ｄ）　（ｂ）のとおり、本願発明に特許を与えることが正当化されるためには、本願発明が現実に有する効果が、当該構成のものの効果として予想されるところと比べて格段に異なることを要するところ、上記のとおり、本願発明の研磨速度向上効果は、刊行物１の記載から予想されるものに比し格段に異なるということができない。
　したがって、研磨速度向上効果を根拠として本願発明の特許性を主張する審判請求人の主張ｂは、採用することはできない。
　
ｃ　主張ｃについて
　主張ｃは、刊行物１の具体例によって「硝酸アルミニウムと過酸化水素及び硝酸とを組合せても硝酸アルミニウム単独の場合に対して研磨速度が有意に増加しないことが実験で確かめられた」ことを前提とするものである。しかし、上記のとおり、刊行物１の具体例によって「研磨速度が有意に増加」することが示されるというべきなのであるから、主張ｃは、採用することはできない。
　
第４　むすび
　以上のとおり、本願発明は特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、その余の発明について検討するまでもなく、この出願は、拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。