(57)【要約】  殺菌活性に優れ、安全性に優れ、且つ工業的に有利に合成できる、式（II）などで表されるアリールアミジン化合物、ならびにこれを有効成分として含有する殺菌剤または植物病害防除剤を提供する。【化１】2015087857.tif 000184  式中、Ｇは、炭素原子または窒素原子を示し、Ｑは、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、または−Ｎ（Ｒ9）−などを示し、ＸおよびＺはそれぞれ独立にアルキレン基などを示し、Ｙは−Ｎ（−Ａ−Ｒ7）−などを示し、Ｗは、単結合または−Ｎ（Ｒ8）−を示し、Ｒ1〜Ｒ６はそれぞれ独立に水素原子、炭化水素基、ヘテロシクリル基などを示し、Ｒ３０は、Ｃ１〜６アルキル基などを示し、ｐは、０〜４のいずれかの整数である。
2015087857.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（I）で表される化合物またはその塩。
【化１】
2015087857.tif 000177
（式（I）中、
Ａｒは、無置換の若しくは置換基を有する二価の芳香族炭化水素残基、または無置換の若しくは置換基を有する二価の複素環式化合物残基を示し、
Ｑは、単結合、無置換の若しくは置換基を有するフェニレン、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、または−Ｎ（Ｒ9）−を示す。Ｒ９は、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。
ＸおよびＺは、それぞれ独立に、無置換の若しくは置換基を有するアルキレン基、無置換の若しくは置換基を有するアルケニレン基、無置換の若しくは置換基を有するアルキニレン基、−Ｔa−Ｏ−Ｔb−、または−Ｔａ−Ｎ（Ｒ２０）−Ｔｂ−を示す。ＴａおよびＴｂは、それぞれ独立に、無置換の若しくは置換基を有するアルキレン基を示し、Ｒ２０は、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。
Ｙは、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−、−ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）−、または式（Ia）
【化２】
2015087857.tif 000178
（式（Ia）中、Ａは、単結合、−Ｃ（＝Ｏ）−、または−ＳＯ２−を示し、Ｒ７は、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、または無置換の若しくは置換基を有するアミノ基を示す。）を示し、
Ｗは、単結合、または−Ｎ（Ｒ8）−を示す。Ｒ８は、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。
Ｒ1〜Ｒ6は、それぞれ独立に、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。Ｒ１とＲ２、Ｒ２とＲ３、Ｒ４とＲ５、またはＲ５とＲ６とが一緒になって結合して、４〜８員環を形成していてもよい。Ｒ１〜Ｒ３いずれかひとつとＡｒが一緒になって結合して、４〜８員環を形成していてもよい。）
【請求項２】
前記式（I）が式（II）で表される請求項１に記載の化合物またはその塩。
【化３】
2015087857.tif 000179
（式（II）中、
Ｇは、炭素原子または窒素原子を示し、
Ｑ、Ｘ、Ｙ、Ｚ、およびＷは、請求項１に記載の通りである。
Ｒ1〜Ｒ6は、それぞれ独立に、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、または無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。Ｒ１とＲ２、Ｒ２とＲ３、Ｒ４とＲ５、またはＲ５とＲ６とが一緒になって結合して、４〜８員環を形成していてもよい。
Ｒ３０は、Ｃ１〜６アルキル基、Ｃ３〜８シクロアルキル基、Ｃ６〜１０アリール基、３〜６員ヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、Ｃ１〜６アルコキシ基、Ｃ６〜１０アリールオキシ基、カルボキシル基、ハロゲノ基、Ｃ１〜６ハロアルキル基、Ｃ６〜１０ハロアリール基、Ｃ１〜６ハロアルコキシ基、アミノ基（ＮＨ2で表される基）、Ｃ１〜６アルキル置換アミノ基、Ｃ６〜１０アリールアミノ基、Ｃ１〜７アシルアミノ基、Ｃ１〜６アルコキシカルボニルアミノ基、Ｃ１〜６アルキルチオ基、Ｃ６〜１０アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、Ｃ７〜１１アラルキルチオ基、Ｃ１〜６アルキルスルフィニル基、Ｃ６〜１０アリールスルフィニル基、ヘテロアリールスルフィニル基、Ｃ７〜１１アラルキルスルフィニル基、Ｃ１〜６アルキルスルホニル基、Ｃ６〜１０アリールスルホニル基、ヘテロシクリルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基を示す。Ｒ１〜Ｒ３いずれかひとつとＲ３０が一緒になって結合して、４〜８員環を形成していてもよい。
ｐは、Ｒ３０の個数を示し、０〜４のいずれかの整数である。）
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の化合物またはその塩から選ばれる少なくとも一つを有効成分として含有する殺菌剤。
【請求項４】
請求項１または請求項２に記載の化合物またはその塩から選ばれる少なくとも一つを含有する植物病害防除剤。
【請求項５】
式（III-1）で表される化合物。
【化４】
2015087857.tif 000180
（式（III-1）中、
Ｌは、脱離基を示し、
Ｑは、単結合、無置換の若しくは置換基を有するフェニレン、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、または−Ｎ（Ｒ9）−を示す。
Ｒ9は、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。
Ａｒは、無置換の若しくは置換基を有する二価の芳香族炭化水素残基、または無置換の若しくは置換基を有する二価の複素環式化合物残基を示し、
Ｘは、無置換の若しくは置換基を有するアルキレン基、無置換の若しくは置換基を有するアルケニレン基、無置換の若しくは置換基を有するアルキニレン基、−Ｔa−Ｏ−Ｔb−、または−Ｔａ−Ｎ（Ｒ２０）−Ｔｂ−を示し、ＴａおよびＴｂは、それぞれ独立に、無置換の若しくは置換基を有するアルキレン基を示し、Ｒ２０は、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。
Ｒ10〜Ｒ12は、それぞれ独立に、水素原子またはｔ−ブトキシカルボニル基を示す。ただし、Ｒ10〜Ｒ12のうち１つ以上が、ｔ−ブトキシカルボニル基である。）
【請求項６】
式（III-2）で表される化合物。
【化５】
2015087857.tif 000181
（式（III-2）中、
Ａｒは、無置換の若しくは置換基を有する二価の芳香族炭化水素残基、または無置換の若しくは置換基を有する二価の複素環式化合物残基を示し、
Ｑは、単結合、無置換の若しくは置換基を有するフェニレン、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、または−Ｎ（Ｒ9）−を示す。Ｒ9は、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。
Ｘ1は、無置換の若しくは置換基を有するアルキレン基、無置換の若しくは置換基を有するアルケニレン基、無置換の若しくは置換基を有するアルキニレン基、−Ｔa−Ｏ−Ｔb−、または−Ｔａ−Ｎ（Ｒ２０）−Ｔｂ−を示し、ＴａおよびＴｂは、それぞれ独立に、無置換の若しくは置換基を有するアルキレン基を示し、Ｒ２０は、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。
Ｒ10〜Ｒ12は、それぞれ独立に、水素原子またはｔ−ブトキシカルボニル基を示す。ただし、Ｒ10〜Ｒ12のうち１つ以上が、ｔ−ブトキシカルボニル基である。）
【請求項７】
式（IV-1）または式（IV-2）で表される化合物。
【化６】
2015087857.tif 000182
（式（IV-1）中、
Ｌ40は、脱離基またはアルデヒドを示し、
Ｂｏｃは、ｔ−ブトキシカルボニル基を示し、
ｎ１は、２、３、または６〜１０の整数を示す。）
【化７】
2015087857.tif 000183
（式（IV-2）中、
Ｌ41は、脱離基またはアルデヒドを示し、
Ｂｏｃは、ｔ−ブトキシカルボニル基を示し、
ｎ２は、２、３、または５〜１０の整数を示す。）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、アリールアミジン化合物および殺菌剤に関する。より詳細に、本発明は、優れた殺菌活性を有し、安全性に優れ、且つ工業的に有利に合成できる新規なアリールアミジン化合物、ならびに該アリールアミジン化合物を有効成分として含有する殺菌剤または植物病害防除剤に関する。また、前記アリールアミジン化合物を製造するための中間体に関する。
本願は、２０１３年１２月１０日に日本に出願された特願２０１３−２５４９７３号、２０１４年４月１５日に日本に出願された特願２０１４−０８４０１６号、２０１４年９月２４日に日本に出願された特願２０１４−１９４４５４号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１、２または３は、ある種のアリールアミジン化合物が真菌や植物病害菌の防除効果を有すると述べている。そして該アリールアミジン化合物を有効成分として含有する抗真菌剤や植物病害防除剤などを提案している。また、該アリールアミジン化合物の合成に適した中間体を開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】ＷＯ２０１３／０６２０２４Ａ１
【特許文献２】ＷＯ２００６／０１１４９９Ａ１
【特許文献３】ＷＯ２００７／０７４８６８Ａ１
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の課題は、殺菌活性に優れ、安全性に優れ、且つ工業的に有利に合成できる新規なアリールアミジン化合物を提供すること、該アリールアミジン化合物を有効成分として含有する殺菌剤または植物病害防除剤を提供すること、並びに前記アリールアミジン化合物を製造するための中間体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、以下の態様を包含する。
（１）  式（I）で表される化合物またはその塩。【０００６】
【化１】
2015087857.tif 000003
【０００７】
（式（I）中、
Ａｒは、無置換の若しくは置換基を有する二価の芳香族炭化水素残基、または無置換の若しくは置換基を有する二価の複素環式化合物残基を示し、
Ｑは、単結合、無置換の若しくは置換基を有するフェニレン、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、または−Ｎ（Ｒ9）−を示す。Ｒ９は、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。
ＸおよびＺは、それぞれ独立に、無置換の若しくは置換基を有するアルキレン基、無置換の若しくは置換基を有するアルケニレン基、無置換の若しくは置換基を有するアルキニレン基、−Ｔa−Ｏ−Ｔb−、または−Ｔａ−Ｎ（Ｒ２０）−Ｔｂ−を示す。ＴａおよびＴｂは、それぞれ独立に、無置換の若しくは置換基を有するアルキレン基を示し、Ｒ２０は、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。
Ｙは、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−、−ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）−、または式（Ia）【０００８】
【化２】
2015087857.tif 000004
【０００９】
（式（Ia）中、Ａは、単結合、−Ｃ（＝Ｏ）−、または−ＳＯ２−を示し、Ｒ７は、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、または無置換の若しくは置換基を有するアミノ基を示す。）を示し、
Ｗは、単結合、または−Ｎ（Ｒ8）−を示す。Ｒ８は、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。
Ｒ1〜Ｒ6は、それぞれ独立に、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。Ｒ１とＲ２、Ｒ２とＲ３、Ｒ４とＲ５、またはＲ５とＲ６とが一緒になって結合して、４〜８員環を形成していてもよい。Ｒ１〜Ｒ３いずれかひとつとＡｒが一緒になって結合して、４〜８員環を形成していてもよい。）
（２）  式（II）で表される化合物またはその塩。【００１０】
【化３】
2015087857.tif 000005
【００１１】
（式（II）中、
Ｇは、炭素原子または窒素原子を示し、
Ｑは、単結合、無置換の若しくは置換基を有するフェニレン、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、または−Ｎ（Ｒ9）−を示す。Ｒ９は、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。
ＸおよびＺは、それぞれ独立に、無置換の若しくは置換基を有するアルキレン基、無置換の若しくは置換基を有するアルケニレン基、無置換の若しくは置換基を有するアルキニレン基、−Ｔa−Ｏ−Ｔb−、または−Ｔａ−Ｎ（Ｒ２０）−Ｔｂ−を示す。ＴａおよびＴｂは、それぞれ独立に、無置換の若しくは置換基を有するアルキレン基を示し、Ｒ２０は、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。
Ｙは、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−、−ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）−、または式（Ia）【００１２】
【化４】
2015087857.tif 000006
【００１３】
（式（Ia）中、Ａは、単結合、−Ｃ（＝Ｏ）−、または−ＳＯ２−を示し、Ｒ７は、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、または無置換の若しくは置換基を有するアミノ基を示す。）で示される基を示す。
Ｗは、単結合、または−Ｎ（Ｒ8）−を示す。Ｒ８は、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。
Ｒ1〜Ｒ6は、それぞれ独立に、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、または無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。Ｒ１とＲ２、Ｒ２とＲ３、Ｒ４とＲ５、またはＲ５とＲ６とが一緒になって結合して、４〜８員環を形成していてもよい。
Ｒ３０は、Ｃ１〜６アルキル基、Ｃ３〜８シクロアルキル基、Ｃ６〜１０アリール基、３〜６員ヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、Ｃ１〜６アルコキシ基、Ｃ６〜１０アリールオキシ基、カルボキシル基、ハロゲノ基、Ｃ１〜６ハロアルキル基、Ｃ６〜１０ハロアリール基、Ｃ１〜６ハロアルコキシ基、アミノ基（ＮＨ2で表される基）、Ｃ１〜６アルキル置換アミノ基、Ｃ６〜１０アリールアミノ基、Ｃ１〜７アシルアミノ基、Ｃ１〜６アルコキシカルボニルアミノ基、Ｃ１〜６アルキルチオ基、Ｃ６〜１０アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、Ｃ７〜１１アラルキルチオ基、Ｃ１〜６アルキルスルフィニル基、Ｃ６〜１０アリールスルフィニル基、ヘテロアリールスルフィニル基、Ｃ７〜１１アラルキルスルフィニル基、Ｃ１〜６アルキルスルホニル基、Ｃ６〜１０アリールスルホニル基、ヘテロシクリルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基を示す。Ｒ１〜Ｒ３いずれかひとつとＲ３０が一緒になって結合して、４〜８員環を形成していてもよい。
ｐは、Ｒ３０の個数を示し、０〜４のいずれかの整数である。）
（３）  前記（１）または（２）に記載の化合物またはその塩から選ばれる少なくとも一つを有効成分として含有する殺菌剤。
（４）  前記（１）または（２）に記載の化合物またはその塩から選ばれる少なくとも一つを含有する植物病害防除剤。
（５）  式（III-1）で表される化合物。【００１４】
【化５】
2015087857.tif 000007
【００１５】
（式（III-1）中、
Ｌは、脱離基を示し、
Ｑは、単結合、無置換の若しくは置換基を有するフェニレン、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、または−Ｎ（Ｒ9）−を示す。
Ｒ9は、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。
Ａｒは、無置換の若しくは置換基を有する二価の芳香族炭化水素残基、または無置換の若しくは置換基を有する二価の複素環式化合物残基を示し、
Ｘは、無置換の若しくは置換基を有するアルキレン基、無置換の若しくは置換基を有するアルケニレン基、無置換の若しくは置換基を有するアルキニレン基、−Ｔa−Ｏ−Ｔb−、または−Ｔａ−Ｎ（Ｒ２０）−Ｔｂ−を示し、ＴａおよびＴｂは、それぞれ独立に、無置換の若しくは置換基を有するアルキレン基を示し、Ｒ２０は、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。
Ｒ10〜Ｒ12は、それぞれ独立に、水素原子またはｔ−ブトキシカルボニル基を示す。ただし、Ｒ10〜Ｒ12のうち１つ以上が、ｔ−ブトキシカルボニル基である。）
（６）  式（III-2）で表される化合物。【００１６】
【化６】
2015087857.tif 000008
【００１７】
（式（III-2）中、
Ａｒは、無置換の若しくは置換基を有する二価の芳香族炭化水素残基、または無置換の若しくは置換基を有する二価の複素環式化合物残基を示し、
Ｑは、単結合、無置換の若しくは置換基を有するフェニレン、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、または−Ｎ（Ｒ9）−を示す。Ｒ9は、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。
Ｘ1は、無置換の若しくは置換基を有するアルキレン基、無置換の若しくは置換基を有するアルケニレン基、無置換の若しくは置換基を有するアルキニレン基、−Ｔa−Ｏ−Ｔb−、または−Ｔａ−Ｎ（Ｒ２０）−Ｔｂ−を示し、ＴａおよびＴｂは、それぞれ独立に、無置換の若しくは置換基を有するアルキレン基を示し、Ｒ２０は、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。
Ｒ10〜Ｒ12は、それぞれ独立に、水素原子またはｔ−ブトキシカルボニル基を示す。ただし、Ｒ10〜Ｒ12のうち１つ以上が、ｔ−ブトキシカルボニル基である。）
（７）  式（IV-1）または式（IV-2）で表される化合物。【００１８】
【化７】
2015087857.tif 000009
【００１９】
（式（IV-1）中、
Ｌ40は、脱離基またはアルデヒドを示し、
Ｂｏｃは、ｔ−ブトキシカルボニル基を示し、
ｎ１は、２、３、または６〜１０の整数を示す。）【００２０】
【化８】
2015087857.tif 000010
【００２１】
（式（IV-2）中、
Ｌ41は、脱離基またはアルデヒドを示し、
Ｂｏｃは、ｔ−ブトキシカルボニル基を示し、
ｎ２は、２、３、または５〜１０の整数を示す。）
【発明の効果】
【００２２】
本発明に係る第一の実施形態のアリールアミジン化合物（式（I）または式（II）で表される化合物またはその塩）は、殺菌活性に優れ、安全性に優れ、且つ工業的に有利に合成することができる。当該アリールアミジン化合物を有効成分として含有する殺菌剤若しくは植物病害防除剤は、リンゴ黒星病、キュウリ灰色かび病、コムギうどんこ病、トマト疫病、コムギ赤さび病などの植物病害の防除価に特に優れている。
本発明に係る第二の実施形態のアリールアミジン化合物（式（III-1）または式（III-2）で表される化合物）及びグアニジン化合物（式（IV-1）または式（IV-2）で表される化合物）は、本発明の第一の実施形態のアリールアミジン化合物（式（I）または式（II）で表される化合物またはその塩）を安価に製造するための中間体として有用である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
まず、本発明において、「無置換の」の用語は、母核となる基のみであることを意味する。「置換基を有する」との記載がなく母核となる基の名称のみで記載しているときは、別段の断りがない限り「無置換の」の意味である。
一方、「置換基を有する」の用語は、母核となる基のいずれかの水素原子が、母核と同一または異なる構造の基で置換されていることを意味する。従って、「置換基」は、母核となる基に結合した他の基である。置換基は１つであってもよいし、２つ以上であってもよい。２つ以上の置換基は同一であってもよいし、異なるものであってもよい。
「Ｃ１〜６」などの用語は、母核となる基の炭素原子数が１〜６個などであることを表している。この炭素原子数には、置換基の中にある炭素原子の数を含まない。例えば、置換基としてエトキシ基を有するブチル基は、Ｃ２アルコキシＣ４アルキル基に分類する。
【００２４】
「置換基」は化学的に許容され、本発明の効果を有する限りにおいて特に制限されない。以下に「置換基」となり得る基を例示する。
メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基などのＣ１〜６アルキル基；
ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基（アリル基）、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、１−メチル−２−プロペニル基、２−メチル−２−プロペニル基などのＣ２〜６アルケニル基；
エチニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、１−ブチニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、１−メチル−２−プロピニル基などのＣ２〜６アルキニル基；
シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などのＣ３〜８シクロアルキル基；
２−シクロペンテニル基、３−シクロヘキセニル基、４−シクロオクテニル基などのＣ４〜８シクロアルケニル基；
【００２５】
フェニル基、ナフチル基などのＣ６〜１０アリール基；
ベンジル基、フェネチル基などのＣ７〜１１アラルキル基；
３〜６員ヘテロシクリル基；
ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基、シクロヘキシルカルボニル基などのＣ１〜７アシル基；
【００２６】
ヒドロキシル基；
メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基などのＣ１〜６アルコキシ基；
ビニルオキシ基、アリルオキシ基、プロペニルオキシ基、ブテニルオキシ基などのＣ２〜６アルケニルオキシ基；
エチニルオキシ基、プロパルギルオキシ基などのＣ２〜６アルキニルオキシ基；
フェノキシ基、ナフトキシ基などのＣ６〜１０アリールオキシ基；
ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基などのＣ７〜１１アラルキルオキシ基；
【００２７】
ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基などのＣ１〜７アシルオキシ基；
メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、ｉ−プロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基などのＣ１〜６アルコキシカルボニル基；
メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｎ−プロポキシカルボニルオキシ基、ｉ−プロポキシカルボニルオキシ基、ｎ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ基などのＣ１〜６アルコキシカルボニルオキシ基；
カルボキシル基；
【００２８】
フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、イオド基などのハロゲノ基；
クロロメチル基、クロロエチル基、トリフルオロメチル基、１，２−ジクロロ−ｎ−プロピル基、１−フルオロ−ｎ−ブチル基、パーフルオロ−ｎ−ペンチル基などのＣ１〜６ハロアルキル基；
２−クロロ−１−プロペニル基、２−フルオロ−１−ブテニル基などのＣ２〜６ハロアルケニル基；
４，４−ジクロロ−１−ブチニル基、４−フルオロ−１−ペンチニル基、５−ブロモ−２−ペンチニル基などのＣ２〜６ハロアルキニル基；
４−クロロフェニル基、４−フルオロフェニル基、２，４−ジクロロフェニル基などのＣ６〜１０ハロアリール基；
トリフルオロメトキシ基、２−クロロ−ｎ−プロポキシ基、２，３−ジクロロブトキシ基などのＣ１〜６ハロアルコキシ基；
２−クロロプロペニルオキシ基、３−ブロモブテニルオキシ基などのＣ２〜６ハロアルケニルオキシ基；
４−フルオロフェニルオキシ基、４−クロロ−１−ナフトキシ基などのＣ６〜１０ハロアリールオキシ基；
クロロアセチル基、トリフルオロアセチル基、トリクロロアセチル基、４−クロロベンゾイル基などのＣ１〜７ハロアシル基；
【００２９】
アミノ基（ＮＨ2で表される基）；
メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基などのＣ１〜６アルキル置換アミノ基；
アニリノ基、ナフチルアミノ基などのＣ６〜１０アリールアミノ基；
ベンジルアミノ基、フェネチルアミノ基などのＣ７〜１１アラルキルアミノ基；
ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、プロパノイルアミノ基、ブチリルアミノ基、ｉ−プロピルカルボニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などのＣ１〜７アシルアミノ基；
メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｎ−プロポキシカルボニルアミノ基、ｉ−プロポキシカルボニルアミノ基などのＣ１〜６アルコキシカルボニルアミノ基；
アミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、Ｎ−フェニル−Ｎ−メチルアミノカルボニル基などの無置換若しくは置換基を有するアミノカルボニル基；
イミノメチル基、（１−イミノ）エチル基、（１−イミノ）−ｎ−プロピル基などのイミノＣ１〜６アルキル基；
Ｎ−ヒドロキシ−イミノメチル基、（１−（Ｎ−ヒドロキシ）−イミノ）エチル基、（１−（Ｎ−ヒドロキシ）−イミノ）プロピル基、Ｎ−メトキシ−イミノメチル基、（１−（Ｎ−メトキシ）−イミノ）エチル基などの無置換の若しくは置換基を有するＮ−ヒドロキシイミノＣ１〜６アルキル基；
【００３０】
メルカプト基；
メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、ｉ−プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、ｉ−ブチルチオ基、ｓ−ブチルチオ基、ｔ−ブチルチオ基などのＣ１〜６アルキルチオ基；
フェニルチオ基、ナフチルチオ基などのＣ６〜１０アリールチオ基；
チアゾリルチオ基、ピリジルチオ基などのヘテロアリールチオ基；
ベンジルチオ基、フェネチルチオ基などのＣ７〜１１アラルキルチオ基；
メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、ｔ−ブチルスルフィニル基などのＣ１〜６アルキルスルフィニル基；
フェニルスルフィニル基などのＣ６〜１０アリールスルフィニル基；
チアゾリルスルフィニル基、ピリジルスルフィニル基などのヘテロアリールスルフィニル基；
ベンジルスルフィニル基、フェネチルスルフィニル基などのＣ７〜１１アラルキルスルフィニル基；
メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ｔ−ブチルスルホニル基などのＣ１〜６アルキルスルホニル基；
フェニルスルホニル基などのＣ６〜１０アリールスルホニル基；
チアゾリルスルホニル基、ピリジルスルホニル基などのヘテロアリールスルホニル基；
ベンジルスルホニル基、フェネチルスルホニル基などのＣ７〜１１アラルキルスルホニル基；
アミノカルボニルオキシ基；
エチルアミノカルボニルオキシ基、ジメチルアミノカルボニルオキシ基などのＣ１〜６アルキル置換アミノカルボニルオキシ基；
【００３１】
トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基などのトリＣ１〜６アルキル置換シリル基；
トリフェニルシリル基などのトリアリール置換シリル基；
シアノ基；ニトロ基；オキソ基
また、これらの「置換基」は、当該置換基中のいずれかの水素原子が、異なる構造の基で置換されていてもよい。
【００３２】
また、上記の「３〜６員ヘテロシクリル基」とは、窒素原子、酸素原子および硫黄原子からなる群から選ばれる１〜４個のヘテロ原子を環の構成原子として含むものである。ヘテロシクリル基は、単環および多環のいずれであってもよい。多環ヘテロシクリル基は、少なくとも一つの環がヘテロ環であれば、残りの環が飽和脂環、不飽和脂環または芳香環のいずれであってもよい。「３〜６員ヘテロシクリル基」としては、３〜６員飽和ヘテロシクリル基、５〜６員ヘテロアリール基、５〜６員部分不飽和ヘテロシクリル基などを挙げることができる。
【００３３】
３〜６員飽和ヘテロシクリル基としては、アジリジニル基、エポキシ基、ピロリジニル基、テトラヒドロフラニル基、チアゾリジニル基、ピペリジル基、ピペラジニル基、モルホリニル基、ジオキソラニル基、ジオキサニル基などを挙げることができる。
【００３４】
５員ヘテロアリール基としては、ピロリル基、フリル基、チエニル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、トリアゾリル基、オキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、テトラゾリル基などを挙げることができる。
６員ヘテロアリール基としては、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダニジル基、トリアジニル基などを挙げることができる。
【００３５】
実施形態１  《殺菌剤などの有効成分となり得るアリールアミジン化合物》
本発明の実施形態１に係るアリールアミジン化合物は、式（I）で表される化合物（以下、化合物（I）と表記することがある。）またはその塩、好ましくは式（II）で表わされる化合物（以下、化合物（II）と表記することがある。）またはその塩である。
【００３６】
【化９】
2015087857.tif 000011
【００３７】
【化１０】
2015087857.tif 000012
【００３８】
式（I）中のＡｒは、無置換の若しくは置換基を有する二価の芳香族炭化水素残基、または無置換の若しくは置換基を有する二価の複素環式化合物残基を示す。
「二価の芳香族炭化水素残基」は、芳香族炭化水素中の水素原子２個が抜けて形成される基である。芳香族炭化水素は単環および多環のいずれであってもよい。多環の芳香族炭化水素は、少なくとも一つの環が芳香環であれば、残りの環が飽和脂環、不飽和脂環または芳香環のいずれであってもよい。
「芳香族炭化水素」としては、ベンゼン、ナフタレン、アズレン、インデン、インダン、テトラリンなどを挙げることができる。これらのうち、ベンゼン又はナフタレンが好ましく、ベンゼンがより好ましい。
【００３９】
「二価の複素環式化合物残基」は複素環式化合物中の水素原子２個が抜けて形成される基である。複素環式化合物は単環の複素環式化合物および多環の複素環式化合物のいずれであってもよい。単環の複素環式化合物としては、五員環の複素環式化合物、六員環の複素環式化合物などを挙げることができる。多環の複素環式化合物は、少なくとも一つの環が複素環であれば、残りの環が飽和脂環、不飽和脂環または芳香環のいずれであってもよい。
「複素環式化合物」は、窒素原子、酸素原子および硫黄原子からなる群から選ばれる１〜４個のヘテロ原子を環の構成原子として含む環状化合物である。
「単環の複素環式化合物」としては、イミダゾール、ピラゾール、オキサゾール、チアゾール、トリアゾール、テトラゾール、ピロール、フラン、チオフェンなどの五員芳香族複素環式化合物や、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、トリアジンなどの六員芳香族複素環式化合物や、ピロリジン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロチオフェン、チアゾリンなどの五員飽和複素環式化合物や、ピペリジン、テトラヒドロピラン、テトラヒドロチオピランなどの六員飽和複素環式化合物や、ピロリン、イミダゾリン、ピラゾリン、オキサゾリン、イソオキサゾリンなどの五員部分不飽和複素環式化合物などを挙げることができる。
「多環の複素環式化合物」としては、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、イソインドール、ベンズイミダゾール、プリン、キノリン、イソキノリン、キノキサリン、シンノリン、プテリジン、クロメン、イソクロメンなどを挙げることができる。
これらの中でも、六員芳香族複素環式化合物又は多環の複素環式化合物が好ましく、ピリジンまたはベンゾフランがより好ましい。
【００４０】
「二価の芳香族炭化水素残基」および「二価の複素環式化合物残基」上の置換基としては、Ｃ１〜６アルキル基、Ｃ３〜８シクロアルキル基、Ｃ６〜１０アリール基、３〜６員ヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、Ｃ１〜６アルコキシ基、Ｃ６〜１０アリールオキシ基、カルボキシル基、ハロゲノ基、Ｃ１〜６ハロアルキル基、Ｃ６〜１０ハロアリール基、Ｃ１〜６ハロアルコキシ基、アミノ基（ＮＨ2で表される基）、Ｃ１〜６アルキル置換アミノ基、Ｃ６〜１０アリールアミノ基、Ｃ１〜７アシルアミノ基、Ｃ１〜６アルコキシカルボニルアミノ基、Ｃ１〜６アルキルチオ基、Ｃ６〜１０アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、Ｃ７〜１１アラルキルチオ基、Ｃ１〜６アルキルスルフィニル基、Ｃ６〜１０アリールスルフィニル基、ヘテロアリールスルフィニル基、Ｃ７〜１１アラルキルスルフィニル基、Ｃ１〜６アルキルスルホニル基、Ｃ６〜１０アリールスルホニル基、ヘテロアリールスルホニル基、シアノ基、ニトロ基などが好ましい。これらの中でも、Ｃ１〜６アルキル基、Ｃ１〜６アルコキシ基、ハロゲノ基、又は、シアノ基がより好ましい。
【００４１】
式（I）または式（II）中のＱは、単結合、無置換の若しくは置換基を有するフェニレン、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、または−Ｎ（Ｒ9）−を示す。これらの中でも、Ｑは、単結合、無置換の若しくは置換基を有するフェニレン、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、または−Ｓ−であることが好ましい。
【００４２】
「置換基を有するフェニレン」の置換基としては、Ｃ１〜６アルキル基、Ｃ３〜８シクロアルキル基、Ｃ６〜１０アリール基、３〜６員ヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、Ｃ１〜６アルコキシ基、Ｃ６〜１０アリールオキシ基、カルボキシル基、ハロゲノ基、Ｃ１〜６ハロアルキル基、Ｃ６〜１０ハロアリール基、Ｃ１〜６ハロアルコキシ基、アミノ基（ＮＨ2で表される基）、Ｃ１〜６アルキル置換アミノ基、Ｃ６〜１０アリールアミノ基、Ｃ１〜７アシルアミノ基、Ｃ１〜６アルコキシカルボニルアミノ基、Ｃ１〜６アルキルチオ基、Ｃ６〜１０アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、Ｃ７〜１１アラルキルチオ基、Ｃ１〜６アルキルスルフィニル基、Ｃ６〜１０アリールスルフィニル基、ヘテロアリールスルフィニル基、Ｃ７〜１１アラルキルスルフィニル基、Ｃ１〜６アルキルスルホニル基、Ｃ６〜１０アリールスルホニル基、ヘテロアリールスルホニル基、シアノ基、ニトロ基などが好ましい。
【００４３】
Ｒ９は、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。
【００４４】
無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基は、炭化水素化合物中の水素原子１個が抜けて形成される基である。炭化水素化合物としては、メタン、エタン、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタンなどの飽和炭化水素化合物、エチレン、アセチレン、プロピレンなどの不飽和炭化水素化合物、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘキセンなどの脂環式炭化水素化合物、ベンゼン、ナフタレンなどの芳香族炭化水素化合物などを挙げることができる。
【００４５】
無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基は、複素環式化合物中の水素原子１個が抜けて形成される基である。ヘテロシクリル基としては、アジリジニル基、エポキシ基、ピロリジニル基、テトラヒドロフラニル基、チアゾリジニル基、ピペリジル基、ピペラジニル基、モルホリニル基、ジオキソラニル基、ジオキサニル基；ピロリル基、フリル基、チエニル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、トリアゾリル基、オキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、テトラゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダニジル基、トリアジニル基などを挙げることができる。
【００４６】
無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基などを挙げることができる。
無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、ｉ−プロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、ｓ−ブトキシカルボニル基、ｉ−ブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基などを挙げることができる。
【００４７】
無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基としては、フェノキシ基、ナフトキシ基などを挙げることができる。
【００４８】
無置換の若しくは置換基を有するアミノ基としては、アミノ基（ＮＨ2で表される基）、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基などのＣ１〜６アルキル置換アミノ基；アニリノ基、ナフチルアミノ基などのＣ６〜１０アリールアミノ基；ベンジルアミノ基、フェネチルアミノ基などのＣ７〜１１アラルキルアミノ基；ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、プロパノイルアミノ基、ブチリルアミノ基、ｉ−プロピルカルボニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などのＣ１〜７アシルアミノ基；メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｎ−プロポキシカルボニルアミノ基、ｉ−プロポキシカルボニルアミノ基などのＣ１〜６アルコキシカルボニルアミノ基などを挙げることができる。
【００４９】
無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基としては、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ｎ−プロピルスルホニル基、ｉ−プロピルスルホニル基、ｎ−ブチルスルホニル基、ｓ−ブチルスルホニル基、ｉ−ブチルスルホニル基、ｔ−ブチルスルホニル基などを挙げることができる。
【００５０】
無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基としては、フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基などを挙げることができる。
【００５１】
無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基としては、アジリジニルスルホニル基、エポキシスルホニル基、ピロリジニルスルホニル基、テトラヒドロフラニルスルホニル基、チアゾリジニルスルホニル基、ピペリジルスルホニル基、ピペラジニルスルホニル基、モルホリニルスルホニル基、ジオキソラニルスルホニル基、ジオキサニルスルホニル基；ピロリルスルホニル基、フリルスルホニル基、チエニルスルホニル基、イミダゾリルスルホニル基、ピラゾリルスルホニル基、オキサゾリルスルホニル基、イソオキサゾリルスルホニル基、チアゾリルスルホニル基、イソチアゾリルスルホニル基、トリアゾリルスルホニル基、オキサジアゾリルスルホニル基、チアジアゾリルスルホニル基、テトラゾリルスルホニル基、ピリジルスルホニル基、ピラジニルスルホニル基、ピリミジニルスルホニル基、ピリダニジルスルホニル基、トリアジニルスルホニル基などを挙げることができる。
【００５２】
無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基としては、メチルカルボニル基、エチルカルボニル基、ｎ−プロピルカルボニル基、ｉ−プロピルカルボニル基、ｎ−ブチルカルボニル基、ｓ−ブチルカルボニル基、ｉ−ブチルカルボニル基、ｔ−ブチルカルボニル基などを挙げることができる。
【００５３】
無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基としては、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基などを挙げることができる。
【００５４】
無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基としては、アジリジニルカルボニル基、エポキシカルボニル基、ピロリジニルカルボニル基、テトラヒドロフラニルカルボニル基、チアゾリジニルカルボニル基、ピペリジルカルボニル基、ピペラジニルカルボニル基、モルホリニルカルボニル基、ジオキソラニルカルボニル基、ジオキサニルカルボニル基；ピロリルカルボニル基、フリルカルボニル基、チエニルカルボニル基、イミダゾリルカルボニル基、ピラゾリルカルボニル基、オキサゾリルカルボニル基、イソオキサゾリルカルボニル基、チアゾリルカルボニル基、イソチアゾリルカルボニル基、トリアゾリルカルボニル基、オキサジアゾリルカルボニル基、チアジアゾリルカルボニル基、テトラゾリルカルボニル基、ピリジルカルボニル基、ピラジニルカルボニル基、ピリミジニルカルボニル基、ピリダニジルカルボニル基、トリアジニルカルボニル基などを挙げることができる。
【００５５】
式（I）または式（II）中のＸおよびＺは、それぞれ独立に、無置換の若しくは置換基を有するアルキレン基、無置換の若しくは置換基を有するアルケニレン基、無置換の若しくは置換基を有するアルキニレン基、−Ｔa−Ｏ−Ｔb−、または−Ｔａ−Ｎ（Ｒ２０）−Ｔｂ−を示す。ＴａおよびＴｂは、それぞれ独立に、無置換の若しくは置換基を有するアルキレン基を示す。Ｒ２０は、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示し、より好ましくは水素原子を示す。
式（I）または式（II）中のＸは、Ｃ２〜１０アルキレン基であるのが好ましく、Ｃ２〜６アルキレン基であるのがより好ましい。式（I）または式（II）中のＺは、Ｃ２〜１２アルキレン基であるのが好ましく、Ｃ４〜１０アルキレン基であるのがより好ましい。
「アルキレン基」としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−１，３−ジイル基（別名：トリメチレン基）、プロパン−１，２−ジイル基（別名：プロピレン基）、ブタン−１，４−ジイル基、ブタン−１，３−ジイル基、ブタン−１，２−ジイル基、ペンタン−１，５−ジイル基、ヘキサン−１，６−ジイル基、ヘプタン−１，７−ジイル基、オクタン−１，８−ジイル基などを挙げることができる。
【００５６】
「アルキレン基」上の置換基としては、Ｃ１〜６アルキル基、Ｃ６〜１０アリール基、ヒドロキシル基、Ｃ１〜６アルコキシ基、Ｃ６〜１０アリールオキシ基、カルボキシル基、ハロゲノ基、Ｃ１〜６ハロアルキル基、Ｃ６〜１０ハロアリール基、Ｃ１〜６ハロアルコキシ基、アミノ基（ＮＨ2で表される基）、Ｃ１〜６アルキル置換アミノ基、Ｃ６〜１０アリールアミノ基、Ｃ１〜７アシルアミノ基、Ｃ１〜６アルキルチオ基、Ｃ６〜１０アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、Ｃ１〜６アルキルスルフィニル基、Ｃ１〜６アルキルスルホニル基、Ｃ６〜１０アリールスルホニル基、ヘテロアリールスルホニル基、シアノ基、オキソ基などが好ましい。
【００５７】
式（I）または式（II）中のＹは、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−、−ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）−、または式（Ia）：
【００５８】
【化１１】
2015087857.tif 000013
【００５９】
（式（Ia）中、Ａは、単結合、−Ｃ（＝Ｏ）−、または−ＳＯ２−を示し、Ｒ７は、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、または無置換の若しくは置換基を有するアミノ基を示す。）で示される基を示す。これらの中でも、Ｙは、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−、または式（Ia）で示される基であることが好ましい。式（Ia）におけるＡは、単結合又は−Ｃ（＝Ｏ）−であることが好ましく、Ｒ７は、水素原子、又は、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基（より好ましくは、Ｃ１〜６アルキル置換アミノ基で置換されていてもよいＣ１〜６アルキル基、又はフェニル基を示す）であることがより好ましい。
【００６０】
式（I）または式（II）中のＷは、単結合、または−Ｎ（Ｒ8）−を示し、より好ましくは、−Ｎ（Ｒ8）−を示す。Ｒ８は、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示し、より好ましくは、水素原子を示す。
【００６１】
式（I）または式（II）中のＲ1〜Ｒ6は、それぞれ独立に、水素原子、無置換の若しくは置換基を有する炭化水素基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシ基、無置換の若しくは置換基を有するアルコキシカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールオキシ基、または無置換の若しくは置換基を有するアミノ基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルスルホニル基、無置換の若しくは置換基を有するアルキルカルボニル基、無置換の若しくは置換基を有するアリールカルボニル基、または無置換の若しくは置換基を有するヘテロシクリルカルボニル基を示す。これらの中でも、Ｒ1〜Ｒ6は、それぞれ独立に、水素原子、Ｃ１〜６アルキル置換アミノ基で置換されていてもよいＣ１〜６アルキル基、Ｃ２〜６アルケニル基、無置換の若しくは置換基を有するＣ１〜６アルキルスルホニル基であることがより好ましい。
Ｒ１とＲ２、Ｒ２とＲ３、Ｒ４とＲ５、またはＲ５とＲ６とが一緒になって結合して、４〜８員環を形成していてもよい。これらの中でも、Ｒ１とＲ２とが 一緒になって１，４，５，６−テトラヒドロピリミジン、４，５−ジヒドロ−１Ｈ−イミダゾール、または、イミダゾールを形成しているのが好ましい。
【００６２】
式（II）中のＧは、炭素原子または窒素原子を示す。
【００６３】
式（II）中のＲ３０は、Ｃ１〜６アルキル基、Ｃ３〜８シクロアルキル基、Ｃ６〜１０アリール基、３〜６員ヘテロシクリル基、ヒドロキシル基、Ｃ１〜６アルコキシ基、Ｃ６〜１０アリールオキシ基、カルボキシル基、ハロゲノ基、Ｃ１〜６ハロアルキル基、Ｃ６〜１０ハロアリール基、Ｃ１〜６ハロアルコキシ基、アミノ基（ＮＨ2で表される基）、Ｃ１〜６アルキル置換アミノ基、Ｃ６〜１０アリールアミノ基、Ｃ１〜７アシルアミノ基、Ｃ１〜６アルコキシカルボニルアミノ基、Ｃ１〜６アルキルチオ基、Ｃ６〜１０アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、Ｃ７〜１１アラルキルチオ基、Ｃ１〜６アルキルスルフィニル基、Ｃ６〜１０アリールスルフィニル基、ヘテロアリールスルフィニル基、Ｃ７〜１１アラルキルスルフィニル基、Ｃ１〜６アルキルスルホニル基、Ｃ６〜１０アリールスルホニル基、ヘテロシクリルスルホニル基、シアノ基、ニトロ基を示す。これらの中でも、Ｒ３０は、好ましくは、Ｃ１〜６アルキル基、Ｃ１〜６アルコキシ基、ハロゲノ基、又は、シアノ基を示す。
式（II）中のＲ１〜Ｒ３いずれかひとつとＲ３０が一緒になって結合して、４〜８員環を形成していてもよい。
式（II）中のｐは、Ｒ３０の個数を示し、０〜４のいずれかの整数であり、好ましくは０又は１であり、より好ましくは０である。
【００６４】
式（I）または式（II）で表される化合物として具体的に、以下で示す化合物を挙げることができる。
【００６５】
【化１２】
2015087857.tif 000014
【００６６】
【表１】
2015087857.tif 000015
【００６７】
【表２】
2015087857.tif 000016
【００６８】
【表３】
2015087857.tif 000017
【００６９】
【表４】
2015087857.tif 000018
【００７０】
【表５】
2015087857.tif 000019
【００７１】
【表６】
2015087857.tif 000020
【００７２】
【化１３】
2015087857.tif 000021
【００７３】
【表７】
2015087857.tif 000022
【００７４】
【表８】
2015087857.tif 000023
【００７５】
【表９】
2015087857.tif 000024
【００７６】
【表１０】
2015087857.tif 000025
【００７７】
【表１１】
2015087857.tif 000026
【００７８】
【化１４】
2015087857.tif 000027
【００７９】
【表１２】
2015087857.tif 000028
【００８０】
【表１３】
2015087857.tif 000029
【００８１】
【表１４】
2015087857.tif 000030
【００８２】
【表１５】
2015087857.tif 000031
【００８３】
【表１６】
2015087857.tif 000032
【００８４】
【化１５】
2015087857.tif 000033
【００８５】
【表１７】
2015087857.tif 000034
【００８６】
【表１８】
2015087857.tif 000035
【００８７】
【表１９】
2015087857.tif 000036
【００８８】
【表２０】
2015087857.tif 000037
【００８９】
【表２１】
2015087857.tif 000038
【００９０】
【表２２】
2015087857.tif 000039
【００９１】
【表２３】
2015087857.tif 000040
【００９２】
表中＊は、アミジノ基との結合位置を意味し、＊＊はＱとの結合位置を意味する。
【００９３】
【化１６】
2015087857.tif 000041
【００９４】
【表２４】
2015087857.tif 000042
【００９５】
【表２５】
2015087857.tif 000043
【００９６】
【表２６】
2015087857.tif 000044
【００９７】
【表２７】
2015087857.tif 000045
【００９８】
【表２８】
2015087857.tif 000046
【００９９】
【表２９】
2015087857.tif 000047
【０１００】
表中＊は結合位置を示す。
【０１０１】
本発明に係る化合物（I）または化合物（II）には、水和物、各種溶媒和物や結晶多形などが含まれる。さらに、本発明に係る化合物（I）または化合物（II）は、不斉炭素原子、二重結合などに基づく立体異性体、互変異性体およびそれらの混合物を包含する。
【０１０２】
本発明に係る化合物（I）または（II）の塩は、農園芸学的に許容される塩であれば、特に制限されない。例えば、塩酸、硫酸などの無機酸の塩；酢酸、乳酸などの有機酸の塩；リチウム、ナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属の塩；カルシウム、マグネシウムなどのアルカリ土類金属の塩；鉄、銅などの遷移金属の塩；アンモニア、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、ヒドラジンなどの有機塩基の塩などを挙げることができる。化合物（I）または（II）の塩は、化合物（I）または（II）から公知の手法によって得ることができる。
【０１０３】
本発明の実施形態１に係るアリールアミジン化合物は、その製造方法によって特に限定されない。本発明の実施形態１に係るアリールアミジン化合物は、例えば、特許文献１〜３などに記載されている公知の方法や、他の公知の方法を組み合わせることにより合成することができる。
本発明の実施形態１に係るアリールアミジン化合物の製造に好適な方法として、下記式（III-1）で示される化合物（以下、アリールアミジン化合物（III-1）と称する）、下記式（III-2）で示される化合物（以下、アリールアミジン化合物（III-2）と称する）、下記式（IV-1）で示される化合物（以下、グアニジン化合物（IV-1）と称する）、または下記式（IV-2）で示される化合物（以下、グアニジン化合物（IV-2）と称する）を経由する製造方法を挙げることができる。アリールアミジン化合物（III-1）、アリールアミジン化合物（III-2）、グアニジン化合物（IV-1）またはグアニジン化合物（IV-2）を経由することにより本発明の実施形態１に係るアリールアミジン化合物を純度良く製造することができる。
【０１０４】
【化１７】
2015087857.tif 000048
【０１０５】
【化１８】
2015087857.tif 000049
【０１０６】
【化１９】
2015087857.tif 000050
【０１０７】
【化２０】
2015087857.tif 000051
【０１０８】
実施形態２  《製造中間体》
本発明の実施形態２に係るアリールアミジン化合物（III-1）は、式（III-1）で表される化合物である。本発明の実施形態２に係るアリールアミジン化合物（III-2）は式（III-2）で表される化合物である。
【０１０９】
式（III-1）および式（III-2）中のＡｒ及びＱは、式（I）中のＡｒ及びＱと同様である。
【０１１０】
式（III-1）および式（III-2）中のＲ10、Ｒ11、Ｒ12は、それぞれ独立して水素原子またはｔ−ブトキシカルボニル基を示す。ただし、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12のうち１つ以上がｔ−ブトキシカルボニル基である。
【０１１１】
式（III-1）中のＸは、式（I）中のＸと同様である。
式（III-2）中のＸ1は、式（I）中のＸと同様である。
【０１１２】
式（III-1）中のＬは、脱離基を示す。脱離基としては、例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子；メチルスルホニルオキシ基等のアルキルスルホニルオキシ基；４−メチルフェニルスルホニルオキシ基等のアリールスルホニルオキシ基；トリフルオロメチルスルホニルオキシ基等のハロアルキルスルホニルオキシ基；などを挙げることができる。これらのうち、Ｌは、ハロゲン原子であるのが好ましい。
本発明に係る化合物（III-1）または化合物（III-2）には、不斉炭素原子、二重結合などに基づく立体異性体、互変異性体およびそれらの混合物を包含する。
【０１１３】
《合成方法》
本発明の実施形態１に係るアリールアミジン化合物の合成方法ならびに本発明の実施形態２に係る化合物の合成方法を具体的に例示する。
【０１１４】
合成方法１
化合物（１）とジハロゲン化合物（２）を反応させて化合物（３）を得た後、化合物（３）とアジド化合物を反応させて化合物（４）を得ることができる。化合物（４）のアジド基を還元することにより、アミノ基を有する化合物（５）を得ることができる。化合物（５）のアミノ基と化合物（６）を反応させることにより、シアノ基を有する化合物（７）を得ることができる。化合物（７）を塩酸などで酸処理することにより、本発明に係るアリールアミジン化合物（８）を得ることができる。
【０１１５】
【化２１】
2015087857.tif 000052
【０１１６】
式中、Ａｒ、Ｘ、Ｚは前記式（I）に記載されたＡｒ、Ｘ、Ｚと同じものを示し、Ｈａｌはハロゲン原子を示す。
【０１１７】
合成方法２  （化合物（III-1）を経由する合成方法）
化合物（１）を塩酸等の酸で処理し、アミジン化合物（９）を得た後、アミジノ基をｔ-ブトキシカルボニル基で保護して化合物（１０）を得ることができる。化合物（１０）と化合物（２）を反応させて化合物（III-1）を得た後、ジアミン化合物（１２）と反応させて化合物（１３）を得ることができる。得られた化合物（１３）と化合物（１４）を反応させて化合物（１５）を得た後、保護基Ｐを脱保護して本発明に係るアリールアミジン化合物（１６）を得ることができる。
【０１１８】
【化２２】
2015087857.tif 000053
【０１１９】
式中、Ａｒ、Ｘ、Ｚ、Ｑは前記式（I）に記載されたＡｒ、Ｘ、Ｚ、Ｑと同じものを示し、Ｌ、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12は式（III-1）に記載されたＬ、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12と同じものを示し、Ｐは保護基を示す。Ｔｆはトリフルオロメタンスルホニル基を示す。
【０１２０】
合成方法３  （化合物（III-2）を経由する合成方法）
前記化合物（１０）と化合物（１７）を反応させて化合物（１８）を得た後、アルコールの保護基を脱保護することにより、化合物（１９）を得ることができる。化合物（１９）のアルコールを酸化することにより、化合物（III-2）を得ることができる。得られた化合物（III-2）と化合物（１２）を還元的アミノ化反応に付し、化合物（１３）を得ることができる。前記と同様に化合物（１３）から、本発明に係るアリールアミジン化合物（１６）を得ることができる。
【０１２１】
【化２３】
2015087857.tif 000054
【０１２２】
式中、Ａｒ、Ｌ、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12は、式（III-１）に記載された、Ａｒ、Ｌ、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12と同じものを示し、Ｘ1は、式（III-１）に記載された、Ｘ1と同じものを示す。また、Ｐ、Ｐ’は保護基を示す。Ｔｆはトリフルオロメタンスルホニル基を示す。
【０１２３】
本発明の実施形態２に係るグアニジン化合物（IV-1）は式（IV-1）で表される化合物である。本発明の実施形態２に係るグアニジン化合物（IV-2）は式（IV-2）で表される化合物である。
【０１２４】
式（IV-1）および式（IV-2）中のＬ40およびＬ41は、脱離基またはアルデヒドを示す。脱離基としては、例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子；メチルスルホニルオキシ基等のアルキルスルホニルオキシ基；４−メチルフェニルスルホニルオキシ基等のアリールスルホニルオキシ基；トリフルオロメチルスルホニルオキシ基等のハロアルキルスルホニルオキシ基；などを挙げることができる。これらのうち、Ｌ40およびＬ41は、ハロゲン原子であるのが好ましい。
【０１２５】
式（IV-1）および式（IV-2）中のＢｏｃは、ｔ−ブトキシカルボニル基を示す。
【０１２６】
式（IV-1）中のｎ１は、２、３、または６〜１０の整数を示す。
【０１２７】
式（IV-2）中のｎ２は、２、３、または５〜１０の整数を示し、好ましくは５〜１０の整数を示す。
【０１２８】
合成方法４  （化合物（IV-1）または化合物（IV-２）を経由する合成方法）
前記化合物（III-１）とアジド化合物を反応させて化合物（３０）を得ることができる。化合物（３０）のアジド基を還元することにより、アミノ基を有する化合物（３１）を得ることができる。
化合物（IV-1）のＬ40と化合物（３１）のアミノ基を求核置換反応させるか、または化合物（IV-1）のＬ40と化合物（３１）のアミノ基を還元的アミノ化反応させることにより、化合物（３２）を得ることができる。最後に塩酸などの酸性条件下、化合物（３２）の保護基を脱保護することにより、本発明に係るアリールアミジン化合物（１６）を得ることができる。
また、化合物（IV-2）のＬ41と化合物（３１）のアミノ基を求核置換反応させるか、または化合物（IV-2）のＬ41と化合物（３１）のアミノ基を還元的アミノ化反応させることにより、化合物（３３）を得ることができる。最後に塩酸などの酸性条件下、化合物（３３）の保護基を脱保護することにより、本発明に係るアリールアミジン化合物（１６）を得ることができる。
【０１２９】
【化２４】
2015087857.tif 000055
【０１３０】
式中、Ａｒ、Ｘ、ＺおよびＱは前記式（I）に記載されたＡｒ、Ｘ、ＺおよびＱと同じものを示し、Ｌ、Ｒ10、Ｒ11およびＲ12は式（III-1）に記載されたＬ、Ｒ10、Ｒ11およびＲ12と同じものを示し、Ｌ40およびｎ１は前記式（IV-1）に記載されたＬ40およびｎ１と同じものを示し、Ｌ41およびｎ２は前記式（IV-2）に記載されたＬ41およびｎ２と同じものを示し、Ｂｏｃはｔ-ブトキシカルボニル基を示す。
【０１３１】
合成反応終了後は、有機合成化学における通常の後処理操作、および、必要により従来公知の分離精製手段を施すことによって、目的物を効率よく単離することができる。
目的物の構造は、1Ｈ−ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトル、マススペクトルの測定や、元素分析などにより、同定・確認することができる。
【０１３２】
実施形態３  《殺菌剤、植物病害防除剤》
本発明に係る殺菌剤若しくは植物病害防除剤は、化合物（I）若しくは（II）またはその塩からなる群から選ばれる少なくとも１つを含有するものである。
本発明の殺菌剤若しくは植物病害防除剤に含有されるアリールアミジン化合物の量は、製剤全体に対して、好ましくは０．０１〜９０重量％、より好ましくは０．０５〜８５重量％である。
【０１３３】
本発明の殺菌剤若しくは植物病害防除剤は、農薬としてとり得る形態、即ち、水和剤、粒剤、粉剤、乳剤、水溶剤、懸濁剤、顆粒水和剤などの農薬製剤の形態で使用することができる。
固体の製剤に用いられる添加剤および担体としては、大豆粉、小麦粉などの植物性粉末、珪藻土、燐灰石、石こう、タルク、ベントナイト、パイロフィライト、クレーなどの鉱物性微粉末、安息香酸ソーダ、尿素、芒硝などの有機および無機化合物などを挙げることができる。
液体の製剤に用いられる溶剤としては、ケロシン、キシレンおよび石油系の芳香族炭化水素、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アルコール、アセトン、トリクロロエチレン、メチルイソブチルケトン、鉱物油、植物油、水などを挙げることができる。
【０１３４】
さらに、これらの製剤において均一かつ安定な形態をとるために、必要に応じ界面活性剤を添加することができる。
添加することができる界面活性剤は特に限定されない。例えば、ポリオキシエチレンが付加したアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンが付加したアルキルエーテル、ポリオキシエチレンが付加した高級脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンが付加したソルビタン高級脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンが付加したトリスチリルフェニルエーテルなどの非イオン性界面活性剤、ポリオキシエチレンが付加したアルキルフェニルエーテルの硫酸エステル塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、高級アルコールの硫酸エステル塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、ポリカルボン酸塩、リグニンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩のホルムアルデヒド縮合物、イソブチレン−無水マレイン酸共重合体などを挙げることができる。
【０１３５】
このようにして得られる、水和剤、乳剤、フロアブル剤、水溶剤、若しくは顆粒水和剤は水で所定の濃度に希釈して、溶解液、懸濁液あるいは乳濁液として植物に散布する方法で使用される。また、粉剤・粒剤はそのまま植物に散布する方法で使用される。
【０１３６】
本発明の殺菌剤若しくは植物病害防除剤は、花卉、芝、牧草を含む農園芸作物の栽培に際し発生する種々の病害の防除に、種子処理、茎葉散布、土壌施用または水面施用などにより使用することができる。
【０１３７】
本発明の殺菌剤若しくは植物病害防除剤の施用量は、気象条件、製剤形態、施用時期、施用方法、施用場所、防除対象病害、対象作物などにより異なるが、通常１ヘクタール当たり有効成分量にして好ましくは１〜１，０００ｇ、より好ましくは１０〜１００ｇである。
水和剤、乳剤、懸濁剤、水溶剤、顆粒水和剤などを水で希釈して施用する場合、その施用濃度は好ましくは１〜１，０００ｐｐｍ、より好ましくは１０〜２５０ｐｐｍである。
【０１３８】
本発明の殺菌剤若しくは植物病害防除剤は、広範囲の種類の糸状菌、例えば、藻菌類（Oomycetes）、子のう（嚢）菌類（Ascomycetes），不完全菌類（Deuteromycetes）、担子菌類（Basidiomycetes）に属する菌に対し優れた殺菌力を有する。
本発明の殺菌剤若しくは植物病害防除剤の適用が好ましい病害としては、リンゴの黒星病、キュウリの灰色かび病、コムギのうどんこ病、トマトの疫病、コムギの赤さび病、水稲のいもち病、キュウリのつる割病などを挙げることができる。
本発明の殺菌剤若しくは植物病害防除剤は薬害が少なく、魚類や温血動物への毒性が低く、安全性の高い薬剤である。
【０１３９】
本発明の殺菌剤若しくは植物病害防除剤には、他の殺菌剤や殺虫・殺ダニ剤、殺線虫剤、殺土壌害虫剤、駆虫剤、植物生長調節剤、共力剤等と混合または併用することもできる。
【実施例】
【０１４０】
以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明する。なお、本発明は以下の実施例によって制限を受けるものではなく、本発明の趣旨に適合し得る範囲で適宜に変更を加えて実施することが勿論可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に包含される。【０１４１】
実施例１
（工程１）４−（４−ブロモブトキシ）ベンゾニトリルの合成【０１４２】
【化２５】
2015087857.tif 000056
【０１４３】
４−シアノフェノール５ｇをアセトニトリル７０ｍＬに溶解させ、これに室温で炭酸カリウム６．３９ｇと１，４−ジブロモブタン４５．３ｇを加えた。反応混合物を加熱還流させ、同温で５時間撹拌した。反応混合物を室温に冷却し、それに水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、ろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、４−（４−ブロモブトキシ）ベンゾニトリルを９．５３ｇ、収率８９．３％で得た。【０１４４】
（工程２）  ４−（４−アジドブトキシ）ベンゾニトリルの合成【０１４５】
【化２６】
2015087857.tif 000057
【０１４６】
４−（４−ブロモブトキシ）ベンゾニトリル８ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド８０ｍＬに溶解させ、これに室温でアジ化ナトリウム８．１９ｇを加えた。反応混合物を７０℃に昇温し、同温で４時間撹拌した。反応混合物を室温に冷却し、それに水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、ろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、４−（４−アジドブトキシ）ベンゾニトリル６．８５ｇを得た。【０１４７】
（工程３）  ４−（４−アミノブトキシ）ベンゾニトリルの合成【０１４８】
【化２７】
2015087857.tif 000058
【０１４９】
４−（４−アジドブトキシ）ベンゾニトリル３ｇをメタノール３０ｍＬに溶解させ、これに室温でパラジウム炭素３００ｍｇを加え、反応系内を水素で置換し、室温で６時間撹拌した。反応混合物をセライト（登録商標：Celite Corporation製）で濾過し、残渣を酢酸エチルで洗浄した。この濾液を減圧濃縮し、４−（４−アミノブトキシ）ベンゾニトリルを９２８．８ｍｇ、収率３５．２％で得た。【０１５０】
（工程４）  ４−[４−（８−シアノオクチルアミノ）ブトキシ]ベンゾニトリルの合成【０１５１】
【化２８】
2015087857.tif 000059
【０１５２】
４−（４−アミノブトキシ）ベンゾニトリル３６６ｍｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍＬに溶解させ、これに室温で９−ブロモノナンニトリル４２０ｍｇ、炭酸カリウム７９６ｍｇ、およびヨウ化ナトリウム２８７ｍｇを加えた。反応混合物を５０℃に昇温し、５０℃で４時間撹拌した。反応混合物を室温に冷却し、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、ろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、４−[４−（８−シアノオクチルアミノ）ブトキシ]ベンゾニトリルを２９５．７ｍｇ、収率４７．０％で得た。【０１５３】
（工程５）  ４−[４−[（９−アミノ−９−イミノ−ノニル）アミノ]ブトキシ]ベンズアミジン三塩酸塩の合成【０１５４】
【化２９】
2015087857.tif 000060
【０１５５】
塩化アンモニウム２１０ｍｇをトルエン５ｍＬに懸濁させ、これに室温で２Ｍのトリメチルアルミニウムトルエン溶液１．８５ｍＬを加え、室温で３０分間撹拌した。そして反応混合物に室温でトルエン６ｍＬとテトラヒドロフラン６ｍＬに溶解させた４−[４−（８−シアノオクチルアミノ）ブトキシ]ベンゾニトリル４５１ｍｇを加えた。反応混合物を８０℃に昇温し、８０℃で一晩撹拌した。反応混合物を室温に冷却した。その後、室温でシリカゲル７ｇとテトラヒドロフラン１５ｍＬを加えて１時間撹拌した。反応混合物をセライト（登録商標：Celite Corporation製）でろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣からＧＰＣにより目的物のフリー体を精製した。フリー体をメタノール３ｍＬに溶解させ、これに室温で４Ｎの塩化水素ジオキサン溶液０．５ｍＬを加え、室温で一時間撹拌した。反応混合物を減圧濃縮し、４−[４−[（９−アミノ−９−イミノ−ノニル）アミノ]ブトキシ]ベンズアミジン三塩酸塩（化合物番号：１）を５３．１ｍｇ、収率１０．４％で得た。【０１５６】
実施例２
（工程１）  ４−アミジノフェノール塩酸塩の合成【０１５７】
【化３０】
2015087857.tif 000061
【０１５８】
４−シアノフェノール１ｇをエタノール２ｍＬに溶解させ、これに室温で４Ｍ塩化水素ジオキサン溶液１４ｍＬを加え、同温で一週間撹拌した。反応混合物を減圧濃縮し、得られた残渣をエタノール２５ｍＬに溶解させ、これに室温で炭酸アンモニウム３．２３ｇを加えた。同温で一晩撹拌し、反応混合物を減圧濃縮し、４−アミジノフェノール塩酸塩を収率約１００％で得た。【０１５９】
（工程２）  ｔ−ブチル  Ｎ−（４−ヒドロキシベンゼンカルボキシイミドイル）カルバメートの合成【０１６０】
【化３１】
2015087857.tif 000062
【０１６１】
４−アミジノフェノール塩酸塩５００ｍｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド７ｍＬに溶解させ、これに室温でトリエチルアミン８８０ｍＬと二炭酸ジｔ−ブチル１．３９ｇを加えた。同温で一晩撹拌させた。その後、反応混合物に水を加え、ろ過を行った。得られた残渣をエタノール１２ｍＬに溶解させ、これに室温で１０％水酸化ナトリウム水溶液１０ｍＬを加え、同温で１．５時間撹拌した。反応混合物を減圧濃縮し、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過し、減圧濃縮し、ｔ−ブチル  Ｎ−（４−ヒドロキシベンゼンカルボキシイミドイル）カルバメートを５３８ｍｇ、収率７８．７％で得た。【０１６２】
（工程３）  ｔ−ブチル  Ｎ−[４−（３−ブロモプロポキシ）ベンゼンカルボキシイミドイル]カルバメートの合成【０１６３】
【化３２】
2015087857.tif 000063
【０１６４】
ｔ−ブチル  Ｎ−（４−ヒドロキシベンゼンカルボキシイミドイル）カルバメート３００ｍｇをアセトニトリル４ｍＬに溶解させ、これに室温で炭酸カリウム１７６ｍｇとジブロモプロパン１．２８ｇを加えた。反応混合物を加熱還流させ、同温で４時間撹拌した。反応混合物を室温に冷却し、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、ｔ−ブチル  Ｎ−[４−（３−ブロモプロポキシ）ベンゼンカルボキシイミドイル]カルバメートを２８７．７ｍｇ、収率６３．３％で得た。【０１６５】
（工程４）  ｔ−ブチル  Ｎ−[４−[３−（７−アミノヘプチルアミノ）プロポキシ]ベンゼンカルボキシイミドイル]カルバメートの合成【０１６６】
【化３３】
2015087857.tif 000064
【０１６７】
ｔ−ブチル  Ｎ−[４−（３−ブロモプロポキシ）ベンゼンカルボキシイミドイル]カルバメート７００ｍｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド７ｍＬに溶解させ、これに室温で炭酸カリウム５４１ｍｇとジアミノヘプタン５１０ｍＬを加え、同温で５時間撹拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、ろ過し、その後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、ｔ−ブチル  Ｎ−[４−[３−（７−アミノヘプチルアミノ）プロポキシ]ベンゼンカルボキシイミドイル]カルバメートを５２１ｍｇ、収率６５．４％で得た。【０１６８】
（工程５）  ｔ−ブチル  Ｎ−[４−[３−[７−[[Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔ−ブトキシカルボニル）カルバミイミドイル]アミノ]ヘプチルアミノ]プロポキシ]ベンゼンカルボキシイミドイル]カルバメートの合成【０１６９】
【化３４】
2015087857.tif 000065
【０１７０】
ｔ−ブチル  Ｎ−[４−[３−（７−アミノヘプチルアミノ）プロポキシ]ベンゼンカルボキシイミドイル]カルバメート５２１ｍｇをアセトニトリル８ｍＬに溶解させ、これに室温でジイソプロピルエチルアミン２４８ｍｇとＧｏｏｄｍａｎ試薬（１，３−ビス(ｔ−ブトキシカルボニル)−２−(トリフルオロメチルスルホニル)グアニジン）７０４ｍｇを加え、同温で４時間撹拌させた。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、ろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、ｔ−ブチル  Ｎ−[４−[３−[７−[[Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔ−ブトキシカルボニル）カルバミイミドイル]アミノ]ヘプチルアミノ]プロポキシ]ベンゼンカルボキシイミドイル]カルバメート（化合物番号：２）を３９６．５ｍｇ、収率４９．２％で得た。【０１７１】
実施例３
４−[３−（７−グアニジノヘプチルアミノ）プロポキシ]ベンズアミジン  三塩酸塩の合成【０１７２】
【化３５】
2015087857.tif 000066
【０１７３】
ｔ−ブチル  Ｎ−[４−[３−[７−[[Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔ−ブトキシカルボニル）カルバミイミドイル]アミノ]ヘプチルアミノ]プロポキシ]ベンゼンカルボキシイミドイル]カルバメート３９６ｍｇをジクロロメタン４ｍＬに溶解させ、これに室温で水０．４ｍＬとトリフルオロ酢酸４ｍＬを加え、同温で一晩撹拌した。反応混合物を減圧濃縮した。得られた残渣をメタノールとジクロロメタン（１：２）混合溶媒３ｍＬに溶解させ、これに室温で１０％水酸化ナトリウム水溶液４ｍＬを加え、同温で１．５時間撹拌した。反応混合物に水を加え、メタノールとジクロロメタン（１：２）混合溶媒で抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、ろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をメタノール３ｍＬに溶解させた。この溶液に室温で４Ｎ塩化水素ジオキサン溶液０．５ｍＬを加え、同温で１時間撹拌した。反応混合物を減圧濃縮し、４−[３−（７−グアニジノヘプチルアミノ）プロポキシ]ベンズアミジン  三塩酸塩（化合物番号：３）を２１６．４ｍｇ、収率７７．４％で得た。【０１７４】
実施例４〜２２
実施例２または３と同様の手法にて、本発明に係る化合物を合成した。合成した化合物の一部について、その構造を下記表に示す。【０１７５】
【表３０】
2015087857.tif 000067
【０１７６】
【表３１】
2015087857.tif 000068
【０１７７】
表中、Ｂｏｃは、ｔ−ブトキシカルボニル基を意味する。【０１７８】
実施例２３
（工程１）  ６−（４−ブロモブトキシ）ニコチノニトリルの合成【０１７９】
【化３６】
2015087857.tif 000069
【０１８０】
６−（４−ヒドロキシブトキシ）ニコチノニトリル１．１ｇをジクロロメタン２５ｍＬに溶解した後に、室温で四臭化炭素２．９ｇとトリフェニルフォスフィン２．３ｇを加えた。１７時間攪拌した後に溶媒を減圧留去した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、６−（４−ブロモブトキシ）ニコチノニトリル１．０ｇを得た。融点４１−４３℃。【０１８１】
（工程２）  ｔ−ブチル  Ｎ−[Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｎ’−[８−[４−[（５−シアノ−２−ピリジル）オキシ]ブチルアミノ]オクチル]カルバイミドイル]カルバメートの合成【０１８２】
【化３７】
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【０１８３】
６−（４−ブロモブトキシ）ニコチノニトリル０．２６ｇと、ｔ−ブチル  Ｎ−[（８−アミノオクチルアミノ）−（ｔ−ブトキシカルボニルアミノ）メチレン]カルバメート０．４２ｇをジメチルホルムアミド３ｍＬに溶解した。炭酸カリウム０．２１ｇを加えて１７時間攪拌した。溶媒を減圧留去した後にシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、ｔ−ブチル  Ｎ−[Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｎ’−[８−[４−[（５−シアノ−２−ピリジル）オキシ]ブチルアミノ]オクチル]カルバイミドイル]カルバメート０．１８ｇを得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：８．４５（ｓ，１Ｈ），７．７６（ｄ，１Ｈ），６．７７（ｄ，１Ｈ），４．３６（ｔ，２Ｈ），３．３７（ｍ，２Ｈ），２．６５（ｔ，２Ｈ），２．５６（ｔ，２Ｈ），１．８０（ｍ，２Ｈ），１．４４−１．６２（ｍ，２４Ｈ），１．２８−１．３２（ｍ，８Ｈ）．【０１８４】
（工程３）  ｔ−ブチル  Ｎ−[８−[[Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル]アミノ]オクチル]−Ｎ−[４−[[５−（Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）−２−ピリジル]オキシ]ブチル]カルバメートの合成【０１８５】
【化３８】
2015087857.tif 000071
【０１８６】
ｔ−ブチル  Ｎ−[Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｎ’−[８−[４−[（５−シアノ−２−ピリジル）オキシ]ブチルアミノ]オクチル]カルバイミドイル]カルバメート０．１８ｇをテトラヒドロフラン３ｍＬに溶解して、氷冷下にリチウムビス(トリメチルシリル)アミド（１．３Ｍテトラヒドロフラン溶液）２ｍLを添加した。室温で２４時間攪拌した後に飽和塩化アンモニウム水溶液で反応を停止した。ジクロロメタン、メタノールの混合溶媒で抽出した後に有機層を濃縮した。得られた混合物をジメチルホルムアミド３ｍＬに溶解した後にトリエチルアミン０．３２ｇ、ジ−ｔ−ブチル  ジカーボネート０．３５ｇを加えた。室温で２８時間攪拌した後に反応液に水を加えて、酢酸エチルで抽出した。溶媒を減圧留去した後にシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、ｔ−ブチル  Ｎ−[８−[[Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル]アミノ]オクチル]−Ｎ−[４−[[５−（Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）−２−ピリジル]オキシ]ブチル]カルバメート（化合物番号：２３）０．０６ｇを得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ１１．４８（ｓ，１Ｈ），８．６０（ｓ，１Ｈ），８．２８（ｓ，１Ｈ），８．１２（ｄ，１Ｈ），６．７２（ｄ，１Ｈ），４．３３（ｔ，２Ｈ），３．３５（ｂｒ，２Ｈ），３．１０−３．１７（ｍ，４Ｈ），１．６２−１．７５（ｍ，８Ｈ），１．４２−１．５３（ｍ，３６Ｈ），１．２０−１．３０（ｍ，８Ｈ）．【０１８７】
実施例２４
６−（４−（（８−グアニジノオクチル）アミノ）ブトキシ）ニコチンイミドアミド  四塩酸塩の合成【０１８８】
【化３９】
2015087857.tif 000072
【０１８９】
ｔ−ブチル  Ｎ−[８−[[Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル]アミノ]オクチル]−Ｎ−[４−[[５−（Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）−２−ピリジル]オキシ]ブチル]カルバメート ０．０６ｇをジクロロメタン５ｍＬに溶解してトリフルオロ酢酸１ｍＬを添加した。室温で１６時間攪拌した後に溶媒留去した後にメタノール５ｍLに溶解した。室温で塩化水素（４Ｍジオキサン溶液）３ｍLを加えた後に３時間攪拌した。溶媒を減圧留去することで６−（４−（（８−グアニジノオクチル）アミノ）ブトキシ）ニコチンイミドアミド塩酸塩（化合物番号：２４）２５ｍｇを得た。
1ＨＮＭＲ（ＭｅＯＨ−ｄ４）：δ８．６４（ｓ，１Ｈ），８．０７（ｄ，１Ｈ），６．９７（ｄ，１Ｈ），４．４６（ｂｒ，２Ｈ），３．００−３．１７（ｍ，６Ｈ），１．８５−１．９５（ｍ，Ｈ），１．５９−１．７０（ｍ，４Ｈ），１．３５−１．４０（ｍ，８Ｈ）．【０１９０】
実施例２５、２６
実施例２３または２４と同様の手法にて、本発明に係る化合物を合成した。合成した化合物の一部について、その構造を下記表に示す。【０１９１】
【表３２】
2015087857.tif 000073
【０１９２】
表中、Ｂｏｃは、ｔ−ブトキシカルボニル基を意味する。【０１９３】
実施例２７
（工程１）ｔ−ブチル  Ｎ［４−（４−アミノブトキシ）ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメートの合成【０１９４】
【化４０】
2015087857.tif 000074
【０１９５】
ｔ−ブチル  Ｎ−[４−（３−ブロモブトキシ）ベンゼンカルボキシイミドイル]カルバメート４ｇをジメチルホルムアミド４０ｍＬに溶解させ、室温でアジ化ナトリウム２．８ｇを加えた。反応混合物を７０℃に加熱し、同温で５時間攪拌した。反応混合物を室温に冷却後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、減圧濃縮を行った。得られた残渣を酢酸エチル３０ｍＬに溶解させ、室温で１０％パラジウム炭素３００ｍｇを加えた。反応系内を水素ガスで置換し、室温で１４時間攪拌した。室温で反応混合物にメタノール２０ｍＬを加え、同温で４時間攪拌した。反応混合物をセライト（登録商標：Celite Corporation製）でろ過後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、ｔ−ブチル  Ｎ−[４−（４−アミノブトキシ）ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメートを１．０９９ｇ、収率３３．２％で得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ＝１．５５（ｓ，８Ｈ），１．９０−１．７６（ｍ，４Ｈ），２．９８（ｔ，２Ｈ），４．０２（ｔ，２Ｈ），６．９０（ｄ，２Ｈ），７．８３（ｄ，２Ｈ）．【０１９６】
（工程２）  ｔ−ブチル  Ｎ−[Ｎ’−（７−ブロモヘプチル）−Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−カルバイミドイル]カルバメートの合成【０１９７】
【化４１】
2015087857.tif 000075
【０１９８】
１，７−ジブロモヘプタン１ｇをジメチルホルムアミド１５ｍＬに溶解させ、室温で炭酸カリウム６４０ｍｇとｔ−ブチル  Ｎ−（Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）カルバメート２．９８ｇを加えた。反応混合物を５０℃に過熱し、同温で４時間攪拌した。反応混合物を室温に冷却後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、減圧濃縮を行った。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、ｔ−ブチル  Ｎ−[Ｎ’−（７−ブロモヘプチル）−Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−カルバイミドイル]カルバメート（化合物番号：２７）を１．３４４ｇ、収率８０．０％で得た。【０１９９】
【表３３】
2015087857.tif 000076
【０２００】
（工程３）ｔ−ブチル  Ｎ−[４−[４−[７−[ビス（ｔ−ブトキシカルボニルアミノ）メチレンアミノ]ヘプチルアミノ]ブトキシ]ベンゼンカルボキシイミドイル]カルバメートの合成【０２０１】
【化４２】
2015087857.tif 000077
【０２０２】
ｔ−ブチル  Ｎ−[４−（４−アミノブトキシ）ベンゼンカルボキシイミドイル]カルバメート１．０９９ｇをジメチルホルムアミド１５ｍＬに溶解させ、室温で炭酸カリウム５１０ｍｇとｔ−ブチル  Ｎ−[Ｎ’−（７−ブロモヘプチル）−Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−カルバイミドイル]カルバメート１．３４ｇを加え、同温で５時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、減圧濃縮を行った。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、ｔ−ブチル  Ｎ−[４−[４−[７−[ビス（ｔ−ブトキシカルボニルアミノ）メチレンアミノ]ヘプチルアミノ] ブトキシ]ベンゼンカルボキシイミドイル]カルバメート（化合物番号：４）を５５８ｍｇ、収率２７．３％で得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ＝１．３４−２．２０（ｍ，６Ｈ），１．４９（ｓ，９Ｈ），１．５１（ｓ，９Ｈ），１．７２−１．６０（ｍ，６Ｈ），１．９０−１．８０（ｍ，２Ｈ），２．５９（ｔ，２Ｈ），２．６７（ｔ，２Ｈ），３．８８（ｔ，２Ｈ），４．０２（ｔ，２Ｈ），６．９０（ｄ，２Ｈ），７．８４（ｄ，２Ｈ）．【０２０３】
（工程４）４−［４−（７−グアニジノヘプチルアミノ）ブトキシ］ベンズアミジン  三塩酸塩の合成【０２０４】
【化４３】
2015087857.tif 000078
【０２０５】
ｔ−ブチル  Ｎ−［４−［４−［７−［ビス（ｔ−ブトキシカルボニルアミノ）メチレンアミノ］ヘプチルアミノ］ブトキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート５５８ｍｇをジクロロメタン５ｍＬに溶解させ、室温でトリフルオロ酢酸５ｍＬを加え、同温で一晩攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、得られた残渣をメタノール５ｍＬに溶解させ、室温で４Ｍ塩化水素ジオキサン溶液５ｍＬを加えた。同温で２時間攪拌し、反応混合物を減圧濃縮する事で４−［４−（７−グアニジノヘプチルアミノ）ブトキシ］ベンズアミジン  三塩酸塩（化合物番号：５）を３９０ｍｇ、収率９８．２％で得た。【０２０６】
合成例１
ｔ−ブチル  N−［２−［ｔ−ブトキシカルボニル−［Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｃ−メチルスルファニル−カルボイミドイル］アミノ］エチル］−Ｎ−メチル−カルバメートの合成【０２０７】
【化４４】
2015087857.tif 000079
【０２０８】
１，３−ビス（ｔ−ブトキシカルボニル）−２−メチル−チオシュードウレア（２．３８ｇ）、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｎ−メチル−２−アミノエタノール（２．０２ｇ）およびトリフェニルホスフィン（３．３３ｇ）のテトラヒドロフラン（３０ｍＬ）溶液に、０℃にてジイソプロピルアゾジカルボキシレート（１．９Ｍ、６．５ｍＬ）を滴下した。その後、加熱還流下、一終夜撹拌した。室温まで冷却後、反応溶液を減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、表題化合物を３．５６ｇ（収率９７％）得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１．４６（ｓ，９Ｈ）、１．４９（ｓ，９Ｈ）、１．５１（ｓ，９Ｈ）、２．３８（ｓ，３Ｈ）、２．９０（ｓ，３Ｈ）、３．３５−３．５５（ｍ，２Ｈ）、３．５７−３．７１（ｍ，２Ｈ）．【０２０９】
合成例２
ｔ−ブチル  Ｎ−［Ｎ−（７−アミノヘプチル）−Ｎ'−ｔ−ブトキシカルボニル−カルバイミドイル］−Ｎ−［２−［ｔ−ブトキシカルボニル（メチル）アミノ］エチル］カルバメートの合成【０２１０】
【化４５】
2015087857.tif 000080
【０２１１】
合成例１で得られたｔ−ブチル  Ｎ−［Ｎ−（７−アミノヘプチル）−Ｎ'−ｔ−ブトキシカルボニル−カルバイミドイル］−Ｎ−［２−［ｔ−ブトキシカルボニル（メチル）アミノ］エチル］カルバメート１ｇのテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）溶液に、室温にて１，７−ジアミノヘプタン（１．０５ｇ）のテトラヒドロフラン（８ｍＬ）溶液を滴下した。５０℃にて攪拌後、反応溶液を減圧濃縮した。残渣をアミノシリカを用いたカラムクロマトグラフィーにより精製し、表題化合物を１．１４ｇ（収率９７％）得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１．２６−１．７４（ｍ，３７Ｈ）、２．６８（ｔ，２Ｈ）、２．８８（ｓ，３Ｈ）、３．０６−３．３３（ｍ，２Ｈ）、３．３８（ｔ，２Ｈ）、３．５５−３．９２（ｍ，２Ｈ）．【０２１２】
合成例３
合成例２と同様の方法で、以下の化合物を合成した。
ｔ−ブチル  Ｎ−［Ｎ−（８−アミノオクチル）−Ｎ’−ｔ−ブトキシカルボニル−カルバイミドイル］−Ｎ−［２−［ｔ−ブトキシカルボニル（メチル）アミノ］エチル］カルバメート【０２１３】
【化４６】
2015087857.tif 000081
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１．１２−１．７６（ｍ，３９Ｈ）、２．６７（ｔ，２Ｈ）、２．８８（ｓ，３Ｈ），３．０６−３．３３（ｍ，２Ｈ）、３．３８（ｔ，２Ｈ）、３．５５−３．８９（ｍ，２Ｈ）．【０２１４】
合成例４
合成例２と同様の方法で、以下の化合物を合成した。
ｔ−ブチル  Ｎ−［Ｎ−（７−アミノヘプチル）−Ｎ’−ｔ−ブトキシカルボニル−カルバイミドイル］−Ｎ−メチル−カルバメート【０２１５】
【化４７】
2015087857.tif 000082
【０２１６】
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１．２５−１．６５（ｍ，３０Ｈ）、２．６８（ｔ，２Ｈ）、３．１２（ｓ，３Ｈ）、３．２１（ｄｄ，２Ｈ）．【０２１７】
合成例５
合成例２と同様の方法で、以下の化合物を合成した。
ｔ−ブチル  Ｎ−［Ｎ−（７−アミノヘプチル）−Ｎ’−ｔ−ブトキシカルボニル−カルバイミドイル］−Ｎ−（２−ブテニル）カルバメート  （Ｅ／Ｚ＝５／１）【０２１８】
【化４８】
2015087857.tif 000083
【０２１９】
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１．１９−１．７４（ｍ，３３Ｈ）、２．６８（ｔ，２Ｈ）、３．２１（ｄｄ，２Ｈ）、４．１７（ｄ，１．７Ｈ，Ｅ−ｉｓｏｍｅｒ）、４．３１（ｄ，０．３Ｈ，Ｚ−ｉｓｏｍｅｒ）、５．３８−５．７６（ｍ，２Ｈ）．【０２２０】
実施例２８〜３９
合成例２〜５で得られた化合物を用いて、実施例２３または２４と同様の手法にて、本発明に係る化合物を合成した。合成した化合物の一部について、その構造を表に示す。【０２２１】
【表３４】
2015087857.tif 000084
【０２２２】
表中Ｂｏｃは、ｔ−ブトキシカルボニル基を意味する。【０２２３】
実施例４０
（工程１）ｔ−ブチル  Ｎ−［（ｔ−ブトキシカルボニルアミノ）−［７−［（２−ニトロフェニル）スルホニルアミノ］ヘプチルアミノ］メチレン］カルバメートの合成【０２２４】
【化４９】
2015087857.tif 000085
【０２２５】
１，７−ジアミノヘプタン（３．９ｇ）のエタノール（３０ｍＬ）溶液に、０℃に２−ニトロベンゼンスルホニルクロリド（２．２ｇ）のエタノール（３０ｍＬ）溶液を滴下した。０℃にて３時間攪拌後、反応溶媒を留去した後に水を加えて、酢酸エチルで抽出した。有機層を濃縮後、テトラヒドロフラン（３０ｍL）に溶解して、1，３−ビス（ｔ−ブトキシカルボニル）−２−メチルイソチオウレア（３．５ｇ）を添加した。室温で３．５時間攪拌後、溶媒留去した後に、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、表題化合物（３．３ｇ）を得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１．２６−１．３２（ｍ，６Ｈ）、１．４６−１．６５（ｍ，２２Ｈ）、３．１０（ｍ，２Ｈ）、３．３７（ｍ，２Ｈ）、７．７４−７．７８（ｍ，２Ｈ）、７．８７（ｍ，１Ｈ）、８．１４（ｍ，１Ｈ）．【０２２６】
（工程２）ｔ−ブチル  Ｎ−［４−［４−［７−［［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］ヘプチル−（２−ニトロフェニル）スルホニル−アミノ］ブトキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメートの合成【０２２７】
【化５０】
2015087857.tif 000086
【０２２８】
工程１で得られたｔ−ブチル  Ｎ−［（ｔ−ブトキシカルボニルアミノ）−［７−［（２−ニトロフェニル）スルホニルアミノ］ヘプチルアミノ］メチレン］カルバメート（０．１５ｇ）をテトラヒドロフラン（３ｍＬ）に溶解した。Ｎ−［（ｔ−ブトキシカルボニルアミノ）−［７−［（２−ニトロフェニル）スルホニルアミノ］ヘプチルアミノ］メチレン］カルバメート（０．３１ｇ）を加えた後に、０℃でトリフェニルホスフィン（０．１４ｇ）、ジエチルアゾジカルボキシレート（２．２Ｍトルエン溶液、０．２５ｍＬ）を添加した。室温で１７時間攪拌した後、反応溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、表題化合物（化合物番号：４０、０．１７ｇ）を得た。【０２２９】
【表３５】
2015087857.tif 000087
【０２３０】
（工程３）ｔ−ブチル  Ｎ−［４−［４−［７−［［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］ヘプチルアミノ］ブトキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメートの合成【０２３１】
【化５１】
2015087857.tif 000088
【０２３２】
工程２で得られたｔ−ブチル  Ｎ−［４−［４−［７−［［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］ヘプチル−（２−ニトロフェニル）スルホニル−アミノ］ブトキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート（０．８５ｇ）をアセトニトリル（５ｍＬ）に溶解した後に、炭酸カリウム（０．４１ｇ）、チオフェノール（０．３３ｇ）を添加した。室温で１８時間攪拌した後に、反応溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、表題化合物（化合物番号：４、０．６４ｇ）を得た。【０２３３】
実施例４０−２
ｔ−ブチル  Ｎ−［４−［４−［７−［［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］ヘプチル−（２−ニトロフェニル）スルホニル−アミノ］ブトキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメートの合成【０２３４】
【化５２】
2015087857.tif 000089
【０２３５】
ｔ−ブチル  （（４−（４−ブロモブトキシ）フェニル）（イミノ）メチル）カルバメート（０．４１ｇ）と、実施例４０工程１で得られたｔ−ブチル  Ｎ−［（ｔ−ブトキシカルボニルアミノ）−［７−［（２−ニトロフェニル）スルホニルアミノ］ヘプチルアミノ］メチレン］カルバメート（０．５６ｇ）をジメチルホルムアミド（３ｍＬ）に溶解した。炭酸カリウム（０．１７ｇ）を加えて室温で１７時間攪拌した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、表題化合物（化合物番号：４０、０．６８ｇ）を得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１．２２−１．２５（ｍ，６Ｈ）、１．４７−１．５５（ｍ，３１Ｈ）、１．６８−１．７５（ｍ，４Ｈ）、３．２４−３．３５（ｍ，６Ｈ）、３．９７（ｍ，２Ｈ）、６．８５（ｄ，２Ｈ）、７．５９−７．６５（ｍ，３Ｈ）、７．８４（ｄ，２Ｈ）、７．９９（ｓ，１Ｈ）．【０２３６】
合成例６
（工程１）４−（４，５−ジヒドロ−１Ｈ−イミダゾール−２−イル）フェノールの合成【０２３７】
【化５３】
2015087857.tif 000090
【０２３８】
４−ヒドロキシベンゾニトリル（１．５ｇ）をエチレンジアミン（１５ｍＬ）に溶解させ、室温で五硫化二リン（１．６８ｇ）を加えた。反応混合物を１２０℃に昇温し、同温で一晩撹拌した。反応混合物を室温まで冷却後、水を加え、析出した結晶をろ取し、表題化合物を２．０２ｇ（定量的）得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：３．５５−３．６２（ｍ，４Ｈ）、６．７１（ｄ，２Ｈ）、７．６１（ｄ，２Ｈ）．【０２３９】
（工程２）ｔ−ブチル  ２−（４−ｔ−ブトキシカルボニルオキシフェニル）−４，５−ジヒドロイミダゾール−１−カルボキシレートの合成【０２４０】
【化５４】
2015087857.tif 000091
【０２４１】
工程１で得られた４−（４，５−ジヒドロ−１Ｈ−イミダゾール−２−イル）フェノール（１ｇ）をジメチルホルムアミド（１０ｍＬ）に溶解させ、室温でトリエチルアミン（１．８７ｇ）、ジ−ｔ−ブチルジカーボネート（３．３６ｇ）を加え、同温で一晩撹拌した。反応混合物に水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、表題化合物を２．００ｇ（収率８９．７％）得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１．２７（ｓ，９Ｈ）、１．５６（ｓ，９Ｈ）、３．９２−４．０２（ｍ，４Ｈ）、７．１８（ｄ，２Ｈ）、７．５２（ｄ，２Ｈ）．【０２４２】
（工程３）ｔ−ブチル  ２−（４−ヒドロキシフェニル）−４，５−ジヒドロイミダゾール−１−カルボキシレートの合成【０２４３】
【化５５】
2015087857.tif 000092
【０２４４】
工程２で得られたｔ−ブチル  ２−（４−ｔ−ブトキシカルボニルオキシフェニル）−４，５−ジヒドロイミダゾール−１−カルボキシレート（２．００ｇ）をメタノール（１５ｍＬ）に溶解させ、室温で１０％水酸化ナトリウム水溶液（７ｍＬ）を加えた。同温で４時間撹拌させ、反応混合物を減圧濃縮した。得られた残渣に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、表題化合物を８２５ｍｇ（収率５７．３％）得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１．３１（ｓ，９Ｈ）、３．９１（ｄｄｄ，２Ｈ）、３．９８（ｄｄｄ，２Ｈ）、６．６５（ｄ，２Ｈ）、７．３２（ｄ，２Ｈ）．【０２４５】
（工程４）ｔ−ブチル  ２−［４−（４−ブロモブトキシ）フェニル］−４，５−ジヒドロイミダゾール−１−カルボキシレートの合成【０２４６】
【化５６】
2015087857.tif 000093
【０２４７】
工程３で得られたｔ−ブチル  ２−（４−ヒドロキシフェニル）−４，５−ジヒドロイミダゾール−１−カルボキシレート（３００ｇ）をジメチルホルムアミド（５ｍＬ）に溶解させ、０℃で水素化ナトリウム（５２ｍｇ）を加えた。同温で１５分撹拌後、１，６−ジブロモブタン（１．２３ｇ）を加えた。反応混合物を室温まで昇温し、同温で５時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、表題化合物を４９３ｍｇ（定量的）得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１．３２（ｓ，９Ｈ）、１．９０−１．９８（ｍ，２Ｈ）、２．１２−２．０４（ｍ，２Ｈ）、３．４９（ｔ，２Ｈ）、３．９１（ｄｄｄ，２Ｈ）、４．００−３．９５（ｍ，２Ｈ）、４．０２（ｔ，２Ｈ）、６．８６（ｄ，２Ｈ）、７．４７（ｄ，２Ｈ）．【０２４８】
合成例７
ｔ−ブチル  ２−［４−（４−ブロモブトキシ）フェニル］−４，５−ジヒドロイミダゾール−１−カルボキシレートの合成【０２４９】
【化５７】
2015087857.tif 000094
【０２５０】
４−（４，５−ジヒドロ−１Ｈ−イミダゾール−２−イル）フェノールを用いた以外は、合成例６と同様にして表題化合物を得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１．１６（ｓ，９Ｈ）、１．８９−２．００（ｍ，２Ｈ）、２．０４−２．１２（ｍ，２Ｈ）、３．４９（ｔ，２Ｈ）、３．５９（ｔ，２Ｈ）、３．６９（ｔ，２Ｈ）、４．０２（ｔ，２Ｈ）、６．８７（ｄ，２Ｈ）、７．４２（ｄ，２Ｈ）．【０２５１】
実施例４１〜４５
合成例６、７で得られた化合物を用いて、実施例２、３、４０と同様の手法にて、本発明に係る化合物を合成した。合成した化合物の一部について、その構造を表に示す。【０２５２】
【表３６】
2015087857.tif 000095
【０２５３】
表中Ｂｏｃは、ｔ−ブトキシカルボニル基を意味する。【０２５４】
実施例４６
（工程１）ベンジル  4−（４−（Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル）フェノキシ）ブタノエートの合成【０２５５】
【化５８】
2015087857.tif 000096
【０２５６】
ｔ−ブチル（（４−ヒドロキシフェニル）（イミノ）メチル）カルバメート（１．２ｇ）をアセトニトリル（１５ｍＬ）に溶解した後に、ベンジル  ４−ブロモブタノエート（１．４ｇ）および炭酸カリウム（０．８３ｇ）を加えた。６０℃で９時間攪拌した後に、ろ過を行い、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、表題化合物（１．７ｇ）を得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１．５４（ｓ，９Ｈ）、２．１３（ｍ，２Ｈ）、２．５７（ｔ，２Ｈ）、４．０３（ｔ，２Ｈ）、５．１２（ｓ，２Ｈ）、６．８６（ｄ，２Ｈ）、７．３４（ｍ，５Ｈ）、７．８１（ｄ，２Ｈ）．【０２５７】
（工程２）４−（４−（Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル）フェノキシ）ブタン酸【０２５８】
【化５９】
2015087857.tif 000097
【０２５９】
工程１で得られたベンジル  4−（４−（Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル）フェノキシ）ブタノエート（１．７ｇ）を酢酸エチル（２０ｍＬ）に溶解した後に、１０％パラジウムカーボン（０．２ｇ）を加えた。水素雰囲気下として、室温で一昼夜攪拌した後に、セライト（登録商標：Celite Corporation製）でろ過をした。溶媒を減圧留去した後に、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、表題化合物（１．４ｇ）を得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１．４４（ｓ，９Ｈ）、１．９４（ｍ，２Ｈ）、２．３９（ｔ，２Ｈ）、４．０５（ｔ，２Ｈ）、６．９９（ｄ，２Ｈ）、７．９３（ｄ，２Ｈ）．【０２６０】
（工程３）ｔ−ブチル  Ｎ−［４−［４−［７−［［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］ヘプチルアミノ］−４−オキソ−ブトキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメートの合成【０２６１】
【化６０】
2015087857.tif 000098
【０２６２】
工程２で得られた４−（４−（Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル）フェノキシ）ブタン酸（０．３２ｇ）をジメチルホルムアミド（５ｍＬ）に溶解した後に、ジイソプロピルエチルアミン（０．１５ｇ）と｛｛［（１−シアノ−２−エトキシ−２−オキソエチリデン）アミノ］オキシ｝−４−モルホリノメチレン｝ジメチルアンモニウムヘキサフルオロりん酸塩（０．４７ｇ）とｔ−ブチル  Ｎ−［（７−アミノヘプチルアミノ）−（ｔ−ブトキシカルボニルアミノ）メチレン］カルバメート（０．４１ｇ）を加えた。室温にて１昼夜攪拌した後に、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、表題化合物（化合物番号：４７、０．３８ｇ）を得た。【０２６３】
実施例４７
４−（４−カルバイミドイルフェノキシ）−Ｎ−（７−グアニジノヘプチル）ブタンアミド  ２塩酸塩の合成【０２６４】
【化６１】
2015087857.tif 000099
【０２６５】
実施例４６で得られたｔ−ブチル  Ｎ−［４−［４−［７−［［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］ヘプチルアミノ］−４−オキソ−ブトキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート（０．３８ｇ）をジクロロメタン（５ｍＬ）に溶解して、トリフルオロ酢酸（１．５ｍＬ）を加えた。室温で一昼夜攪拌した後に、溶媒を減圧留去した。メタノール（３ｍＬ）、塩化水素（４Ｍジオキサン溶液、３ｍＬ）を加え、室温で２．５時間攪拌した後に、溶媒を減圧留去することで、表題化合物（化合物番号：４６、０．２５ｇ）を得た。【０２６６】
実施例４８、４９
実施例４６、４７と同様の手法にて、本発明に係る化合物を合成した。合成した化合物の一部について、その構造を表に示す。【０２６７】
【表３７】
2015087857.tif 000100
【０２６８】
表中Ｂｏｃは、ｔ−ブトキシカルボニル基を意味する。【０２６９】
実施例５０
ｔ−ブチル  Ｎ−［４−［４−［アセチル−［７−［［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］ヘプチル］アミノ］ブトキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメートの合成【０２７０】
【化６２】
2015087857.tif 000101
【０２７１】
実施例４０工程３で得られたｔ−ブチル  Ｎ−［４−［４−［７−［［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］ヘプチルアミノ］ブトキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート（１００ｍｇ）をジクロロメタン（３ｍＬ）に溶解させ、室温でトリエチルアミン（３９ｍｇ）、無水酢酸（１６ｍｇ）を加え、同温で３時間撹拌した。反応混合物に水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、表題化合物（化合物番号：５１）を９０ｍｇ（収率８５．７％）得た。【０２７２】
実施例５１〜５３
実施例５０および実施例３と同様の手法にて、本発明に係る化合物を合成した。合成した化合物の一部について、その構造を表に示す。【０２７３】
【表３８】
2015087857.tif 000102
【０２７４】
表中Ｂｏｃは、ｔ−ブトキシカルボニル基を意味する。【０２７５】
実施例５４
ｔ−ブチル  Ｎ−［４−［４−［７−［［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］ヘプチル−メチル−アミノ］ブトキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメートの合成【０２７６】
【化６３】
2015087857.tif 000103
【０２７７】
実施例４０工程３で得られたｔ−ブチル  Ｎ−［４−［４−［７−［［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］ヘプチルアミノ］ブトキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート（２２４ｍｇ）をジクロロメタン（５ｍＬ）に溶解させ、０℃でホルマリン溶液（１０ｍｇ）を加えた。室温まで昇温した後、同温で１時間撹拌した。０℃まで冷却した後、同温でアセトキシ水素化ホウ素ナトリウム（１７８ｍｇ）を加えた。室温まで昇温した後、６時間撹拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、表題化合物（化合物番号：５５）を１１９ｍｇ（収率５２．２％）得た。【０２７８】
実施例５５〜５７
実施例５４および実施例３と同様の手法にて、本発明に係る化合物を合成した。合成した化合物の一部について、その構造を表に示す。【０２７９】
【表３９】
2015087857.tif 000104
【０２８０】
表中Ｂｏｃは、ｔ−ブトキシカルボニル基を意味する。【０２８１】
合成例８
（工程１）４−（４−（（ｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ）ブトキシ）−３−クロロベンゾニトリルの合成【０２８２】
【化６４】
2015087857.tif 000105
【０２８３】
４−（（ｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ）ブタン−１−オール（４．５ｇ）をジメチルホルムアミド（６０ｍＬ）に溶解した後に、０℃で水素化ナトリウム（０．９６ｇ）を加えた。３０分攪拌後、３−クロロ−４−フルオロベンゾニトリル（３．１ｇ）を加えて、室温で１８時間攪拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を停止した後に、酢酸エチルで抽出した。有機層を濃縮した後に、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、表題化合物（３．０ｇ）を得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：０．０４０（ｓ，６Ｈ）、０．８８（ｓ，９Ｈ）、１．７１（ｍ，２Ｈ）、１．９３（ｍ，２Ｈ）、３．６９（ｔ，２Ｈ），４．１１（ｔ，２Ｈ）、６．９４（ｄ，１Ｈ）、７．５１（ｄ，１Ｈ）、７．６４（ｓ，１Ｈ）．【０２８４】
（工程２）ｔ−ブチル  （（３−クロロ−４−（４−ヒドロキシブトキシ）フェニル）（イミノ）メチル）カルバメートの合成【０２８５】
【化６５】
2015087857.tif 000106
【０２８６】
工程１にて得られた４−（４−（（ｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ）ブトキシ）−３−クロロベンゾニトリル（３．３ｇ）をテトラヒドロフラン（２０ｍＬ）に溶解して、室温でリチウムジイソプロピルアミド（１．３Ｍテトラヒドロフラン溶液、１０ｍＬ）を滴下した。１９時間攪拌後、室温にてリチウムジイソプロピルアミド（１．３Ｍテトラヒドロフラン溶液、５ｍＬ）を滴下して、２１時間攪拌した。反応溶液に塩化水素（４Ｍジオキサン溶液、２０ｍＬ）、メタノール２０ｍＬを加えて１．５時間攪拌した。溶媒留去した残渣をジメチルホルムアミド（２０ｍＬ）に溶解した後に、トリエチルアミン（５．０ｇ）、ジ−ｔ−ブチルジカーボネート（３．２ｇ）を添加した。室温で３．５時間攪拌した後に、水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層の溶媒を減圧留去した後にシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、表題化合物（１．１ｇ）を得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１．５２（ｓ，９Ｈ）、  １．７８（ｍ，２Ｈ）、  １．９５（ｍ，２Ｈ）、４．７３（ｍ，２Ｈ）、４．０９（ｍ，２Ｈ）、６．８８（ｄ，１Ｈ）、７．７３（ｄ，１Ｈ）、７．９２（ｓ，１Ｈ）．【０２８７】
合成例９
（工程１）ｔ−ブチル  （（３−ブロモ−４−ヒドロキシフェニル）（イミノ）メチル）カルバメートの合成【０２８８】
【化６６】
2015087857.tif 000107
【０２８９】
３−ブロモ−４−ヒドロキシベンゾニトリル（５．２ｇ）をメタノール（６０ｍＬ）に溶解した後、０℃にて塩酸ガスを吹き込んだ。一昼夜攪拌した後に溶媒を減圧留去した後、メタノール（３０ｍＬ）、アンモニア（７Ｍメタノール溶液、１５ｍＬ）を加えて４８時間攪拌した。溶媒を減圧留去した後に、ジメチルホルムアミド（６０ｍＬ）を加えてからトリエチルアミン（７．９ｇ）、ジ−ｔ−ブチルジカーボネート（１４．２ｇ）を添加した。室温にて一昼夜攪拌した後に、１０％水酸化ナトリウム水溶液を加えて、３時間攪拌した。酢酸エチルで抽出後、有機層を濃縮し、表題化合物（４．４ｇ）を得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１．５０（ｓ，９Ｈ）、７．１０（ｄ，１Ｈ）、７．６２（ｄ，１Ｈ）、７．９８（ｓ，１Ｈ）．【０２９０】
（工程２）ｔ−ブチル  （（３−ブロモ−４−（４−ブロモブトキシ）フェニル）（イミノ）メチル）カルバメート【０２９１】
【化６７】
2015087857.tif 000108
【０２９２】
工程１で得られたｔ−ブチル  （（３−ブロモ−４−ヒドロキシフェニル）（イミノ）メチル）カルバメート（４．４ｇ）をアセトニトリル（５０ｍＬ）に溶解した後に、１，４−ジブロモブタン（９．１ｇ）、炭酸カリウム（２．３ｇ）を加えた。６０℃で８時間攪拌後にセライト（登録商標：Celite Corporation製）でろ過をして、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、表題化合物（２．２ｇ）を得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１．４４（ｓ，９Ｈ）、２．０３（ｍ，２Ｈ）、２．１２（ｍ，２Ｈ）、３．５２（ｔ，２Ｈ）、４．１０（ｍ，２Ｈ）、６．８６（ｄ，１Ｈ）、７．７８（ｄ，１Ｈ）、８．０９（ｓ，１Ｈ）．【０２９３】
合成例１０
（工程１）３−ブロモ−４−（４−（（ｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ）ブトキシ）ベンゾニトリルの合成【０２９４】
【化６８】
2015087857.tif 000109
【０２９５】
４−（（ｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ）ブタン−１−オール（２．０ｇ）をテトラヒドロフラン（３０ｍＬ）に溶解した後に、０℃で水素化ナトリウム（０．４８ｇ）を加えた。３０分攪拌後、３−ブロモ−４−フルオロベンゾニトリル（２．２ｇ）を加えて、室温で４時間攪拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を停止した後に、酢酸エチルで抽出した。有機層を濃縮した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、表題化合物（３．４ｇ）を得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：０．０４０（ｓ，６Ｈ）、０．８８（ｓ，９Ｈ）、１．７２（ｍ，２Ｈ）、１．９３（ｍ，２Ｈ）、３．６９（ｔ，２Ｈ）、４．１１（ｔ，２Ｈ）、６．８９（ｄ，１Ｈ）、７．５５（ｄ，１Ｈ）、７．８１（ｓ，１Ｈ）．【０２９６】
（工程２）４−（４−（（ｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ）ブトキシ）−３−メチルベンゾニトリルの合成【０２９７】
【化６９】
2015087857.tif 000110
【０２９８】
工程１で得られた３−ブロモ−４−（４−（（ｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ）ブトキシ）ベンゾニトリル（３．３ｇ）をジオキサン（２５ｍＬ）、水（５ｍＬ）に溶解した後に、炭酸カリウム（１．４ｇ）、トリメチルボロキシン（１．６ｇ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（０．５０ｇ）を加えた。２４時間加熱還流した後に酢酸エチルで抽出した。有機層を濃縮後にシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、表題化合物（２．４ｇ）を得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：０．０４０（ｓ，６Ｈ）、０．８８（ｓ，９Ｈ）、１．７１（ｍ，２Ｈ）、１．８８（ｍ，２Ｈ）、２．２０（ｓ，３Ｈ）、３．６７（ｔ，２Ｈ）、４．０３（ｔ，２Ｈ）、６．８１（ｄ，１Ｈ）、７．３９（ｓ，１Ｈ）、７．４５（ｄ，１Ｈ）．【０２９９】
（工程３）ｔ−ブチル  （（４−（４−ヒドロキシブトキシ）−３−メチルフェニル）（イミノ）メチル）カルバメートの合成【０３００】
【化７０】
2015087857.tif 000111
【０３０１】
工程２で得られた４−（４−（（ｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ）ブトキシ）−３−メチルベンゾニトリルを用いて、合成例８工程２と同様の手法にて、表題化合物を合成した。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１．５４（ｓ，９Ｈ）、１．７７（ｍ，２Ｈ）、１．９１（ｍ，２Ｈ）、２．２２（ｓ，３Ｈ）、３．７２（ｍ，２Ｈ）、４．０３（ｔ，２Ｈ）、６．７９（ｄ，１Ｈ）、７．６６（ｄ，１Ｈ）、７．６９（ｓ，１Ｈ）．【０３０２】
合成例１１
（工程１）４−（４−（（ｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ）ブトキシ）−３−フルオロベンゾニトリルの合成【０３０３】
【化７１】
2015087857.tif 000112
【０３０４】
４−（（ｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ）ブタン−１−オール（４．５ｇ）をジメチルホルムアミド（６０ｍＬ）に溶解した後に、０℃で水素化ナトリウム（０．９６ｇ）を加えた。３０分攪拌後、３，４−ジフルオロベンゾニトリル（２．８ｇ）を加えて、室温で１８時間攪拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を停止した後に、酢酸エチルで抽出した。有機層を濃縮した後に、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、表題化合物（３．６ｇ）を得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：０．０４０（ｓ，６Ｈ）、０．８８（ｓ，９Ｈ）、１．６９（ｍ，２Ｈ）、１．９１（ｍ，２Ｈ）、３．６８（ｔ，２Ｈ）、４．１１（ｔ，２Ｈ）、６．９９（ｍ，１Ｈ）、７．３３（ｍ，１Ｈ）、７．３８（ｄ，１Ｈ）．【０３０５】
（工程２）ｔ−ブチル  （（３−フルオロ−４−（４−ヒドロキシブトキシ）フェニル）（イミノ）メチル）カルバメート【０３０６】
【化７２】
2015087857.tif 000113
【０３０７】
工程１で得られた４−（４−（（ｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ）ブトキシ）−３−フルオロベンゾニトリルを用いて、合成例８工程２と同様の手法にて、表題化合物を合成した。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１．５２（ｓ，９Ｈ）、１．７５（ｍ，２Ｈ）、１．９３（ｍ，２Ｈ）、３．７１（ｔ，２Ｈ）、４．０９（ｔ，２Ｈ）、６．９４（ｍ，１Ｈ）、７．５９（ｍ，１Ｈ）、７．６５（ｄ，１Ｈ）．【０３０８】
合成例１２
（工程１）４−（４−（（ｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ）ブトキシ）−３−メトキシベンゾニトリルの合成【０３０９】
【化７３】
2015087857.tif 000114
【０３１０】
４−ヒドロキシ−３−メトキシベンゾニトリル（１．４９ｇ）、４−（（ｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ）ブタン−１−オール（２．２ｇ）をテトラヒドロフラン（３０ｍＬ）に溶解した後に、０℃にてトリフェニルフォスフィン（３．９ｇ）、ジエチルアゾジカルボキシレート（２．２Ｍトルエン溶液、７．５ｍＬ）を加えた。室温にて１時間攪拌後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、表題化合物（３．３ｇ）を得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：０．０３３（ｓ，６Ｈ）、０．８７（ｓ，９Ｈ）、１．６７（ｍ，２Ｈ）、１．９２（ｍ，２Ｈ）、３．６７（ｔ，２Ｈ）、３．８６（ｓ，３Ｈ）、４．０８（ｔ，２Ｈ）、６．８７（ｄ，１Ｈ）、７．０５（ｓ，１Ｈ）、７．２３（ｄ，１Ｈ）．【０３１１】
（工程２）ｔ−ブチル（（４−（４−ヒドロキシブトキシ）−３−メトキシフェニル）（イミノ）メチル）カルバメート【０３１２】
【化７４】
2015087857.tif 000115
【０３１３】
工程１で得られた４−（４−（（ｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ）ブトキシ）−３−メトキシベンゾニトリルを用いて、合成例８工程２と同様の手法にて、表題化合物を合成した。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１．５３（ｓ，９Ｈ）、１．７５（ｍ，２Ｈ）、１．９５（ｍ，２Ｈ）、３．７２（ｍ，２Ｈ）、３．９１（ｓ，３Ｈ）、４．０７（ｍ，２Ｈ）、６．８３（ｄ，１Ｈ）、７．３２（ｄ，１Ｈ）、７．４７（ｓ，１Ｈ）．【０３１４】
実施例５８〜８６
合成例８〜１２で得られた化合物などを用い、実施例４０または４０−２と同様の手法にて、本発明に係る化合物を合成した。合成した化合物の一部について、その構造を表に示す。【０３１５】
【表４０】
2015087857.tif 000116
【０３１６】
【表４１】
2015087857.tif 000117
【０３１７】
表中Ｂｏｃは、ｔ−ブトキシカルボニル基を意味する。【０３１８】
合成例１３
（工程１）ｔ−ブチル  Ｎ−［２−［（４−ヒドロキシベンゼンカルボイミドイル）アミノ］エチル］−Ｎ−メチル−カルバメートの合成【０３１９】
【化７５】
2015087857.tif 000118
【０３２０】
メチル  ４−ヒドロキシベンゼンカルボイミデート（１ｇ）をメタノール（２０ｍＬ）に溶解させ、０℃でトリエチルアミン（４ｍＬ）、ｔ−ブチル  Ｎ−（２−アミノエチル）−Ｎ−メチル−カルバメート（１．１１ｇ）を加えた。反応混合物を室温まで昇温し、同温で一晩撹拌した。反応混合物を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、表題化合物を１．０１ｇ（収率６５．２％）得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１．４２（ｓ，９Ｈ）、２．７９（ｓ，３Ｈ）、３．３０−３．５０（ｍ，４Ｈ）、６．５０−６．６４（ｍ，２Ｈ）、７．３０−７．３９（ｍ，２Ｈ）．【０３２１】
（工程２）ｔ−ブチル  Ｎ−［２−［ｔ−ブトキシカルボニル−（４−ヒドロキシベンゼンカルボイミドイル）アミノ］エチル］−Ｎ−メチル−カルバメートの合成【０３２２】
【化７６】
2015087857.tif 000119
【０３２３】
工程１で得られたｔ−ブチル  Ｎ−［２−［（４−ヒドロキシベンゼンカルボイミドイル）アミノ］エチル］−Ｎ−メチル−カルバメートを用いて合成例６工程２と同様の手法で表題化合物を得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１．４０−１．５０（ｍ，１８Ｈ）、２．９２（ｓ，３Ｈ）、３．４６−３．６０（ｍ，４Ｈ）、６．５０−６．６２（ｍ，２Ｈ）、７．２０（ｄ，２Ｈ）．【０３２４】
（工程３）ｔ−ブチル  Ｎ−［４−（４−ブロモブトキシ）ベンゼンカルボキシイミドイル］−Ｎ−［２−［ｔ−ブトキシカルボニル（メチル）アミノ］エチル］カルバメートの合成【０３２５】
【化７７】
2015087857.tif 000120
【０３２６】
工程２で得られたｔ−ブチル  Ｎ−［２−［ｔ−ブトキシカルボニル−（４−ヒドロキシベンゼンカルボイミドイル）アミノ］エチル］−Ｎ−メチル−カルバメートを用いて合成例９工程２と同様の手法で表題化合物を得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１．１７（ｓ，９Ｈ）、１．４５（ｓ，９Ｈ）、１．９２−２．００（ｍ，２Ｈ）、２．０３−２．１２（ｍ，２Ｈ）、２．９０（ｓ，３Ｈ）、３．４８（ｔ，２Ｈ）、３．９２−４．０６（ｍ，４Ｈ）、６．８５（ｄ，２Ｈ）、７．３０−７．４２（ｍ，２Ｈ）．【０３２７】
合成例１４
（工程１）ｔ−ブチル  （（４−（４−ブロモブトキシ）フェニル）（（メチルスルホニル）イミノ）メチル）カルバメートの合成【０３２８】
【化７８】
2015087857.tif 000121
【０３２９】
ｔ−ブチル  （（４−（４−ブロモブトキシ）フェニル）（イミノ）メチル）カルバメート（０．４５ｇ）をジクロロメタン（５ｍＬ）に溶解した後に、トリエチルアミン（０．１８ｇ）、メシルクロリド（０．１６ｇ）を加えた。室温で一昼夜攪拌した後に、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、表題化合物（０．３２ｇ）を得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１．４２（ｓ，９Ｈ）、１．９７（ｍ，２Ｈ）、２．０３（ｍ，２Ｈ）、３．１２（ｓ，３Ｈ）、３．４８（ｔ，２Ｈ）、４．０４（ｔ，２Ｈ）、６．８９（ｄ，２Ｈ）、７．５６（ｄ，２Ｈ）．【０３３０】
（工程２）４−（４−ブロモブトキシ）−Ｎ−（メチルスルホニル）ベンズイミダミドの合成【０３３１】
【化７９】
2015087857.tif 000122
【０３３２】
工程１で得られたｔ−ブチル  （（４−（４−ブロモブトキシ）フェニル）（（メチルスルホニル）イミノ）メチル）カルバメート（０．３２ｇ）をジクロロメタン（３ｍＬ）に溶解した後にトリフルオロ酢酸（１ｍＬ）を加えた。室温で１７時間攪拌した後に、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、表題化合物（０．２２ｇ）を得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１．９７（ｍ，２Ｈ）、２．０６（ｍ，２Ｈ）、３．０９（ｓ，３Ｈ）、３．４８（ｔ，２Ｈ）、４．０５（ｔ，２Ｈ）、６．９２（ｄ，２Ｈ）、７．７６（ｄ，２Ｈ）．【０３３３】
実施例８７〜９０
合成例１３、１４で得られた化合物を用い、実施例４０または４０−２と同様の手法にて、本発明に係る化合物を合成した。合成した化合物の一部について、その構造を表に示す。【０３３４】
【表４２】
2015087857.tif 000123
【０３３５】
表中Ｂｏｃは、ｔ−ブトキシカルボニル基を意味する。【０３３６】
合成例１５
（工程１）５−（４−（（ｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ）ブトキシ）ピコリノニトリルの合成【０３３７】
【化８０】
2015087857.tif 000124
【０３３８】
４−（（ｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ）ブタン−１−オール（３．４ｇ）をジメチルホルムアミド（４５ｍＬ）に溶解した後に、０℃で水素化ナトリウム（０．７２ｇ）を加えた。３０分攪拌後、５−フルオロピコリノニトリル（１．８ｇ）を加えて、室温で一昼夜攪拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を停止した後に、酢酸エチルで抽出した。有機層を濃縮した後に、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、表題化合物（１．１ｇ）を得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：０．０４０（ｓ，６Ｈ）、０．８８（ｓ，９Ｈ）、１．６７（ｍ，２Ｈ）、１．９０（ｍ，２Ｈ）、３．６７（ｍ，２Ｈ）、４．０９（ｍ，２Ｈ）、７．２０（ｄ，１Ｈ）、７．６２（ｄ，１Ｈ）、８．３４（ｓ，１Ｈ）．【０３３９】
（工程２）ｔ−ブチル  （（５−（４−ヒドロキシブトキシ）ピリジン−２−イル）（イミノ）メチル）カルバメート【０３４０】
【化８１】
2015087857.tif 000125
【０３４１】
工程１で得られた５−（４−（（ｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ）ブトキシ）ピコリノニトリルを用いて合成例８工程２と同様の手法で表題化合物を得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１．５５（ｓ，９Ｈ）、１．９７−２．０９（ｍ，４Ｈ）、３．４９（ｔ，２Ｈ）、４．０９（ｔ，２Ｈ）、７．２２（ｄ，１Ｈ）、８．２２（ｓ，１Ｈ）、８．４０（ｄ，１Ｈ）．【０３４２】
（工程３）４−（（６−（Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル）ピリジン−３−イル）オキシ）ブチル  メタンスルホネートの合成【０３４３】
【化８２】
2015087857.tif 000126
【０３４４】
ｔ−ブチル  （（５−（４−ヒドロキシブトキシ）ピリジン−２−イル）（イミノ）メチル）カルバメート（０．８ｇ）をジクロロメタン（１２ｍＬ）に溶解して、０℃にてトリエチルアミン（０．７８ｇ）、塩化メタンスルホニル（０．４０ｇ）を加えた。溶媒を減圧留去した後に、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、表題化合物（０．８５ｇ）を得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１．５５−１．６０（ｍ，１１Ｈ）、１．９７（ｍ，２Ｈ）、３．０１（ｓ，３Ｈ）、４．０９（ｍ，２Ｈ）、４．３０（ｍ，２Ｈ）、７．２１（ｄｄ，１Ｈ）、８．２２（ｄ，１Ｈ）、８．３８（ｄ，１Ｈ）．【０３４５】
（工程４）ｔ−ブチル  （（５−（４−ブロモブトキシ）ピリジン−２−イル）（イミノ）メチル）カルバメートの合成【０３４６】
【化８３】
2015087857.tif 000127
【０３４７】
工程３で得られた４−（（６−（Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル）ピリジン−３−イル）オキシ）ブチル  メタンスルホネート（０．８５ｇ）をアセトニトリル（１０ｍＬ）に溶解して室温で臭化リチウム（０．３８ｇ）を加えた。４０℃で４時間攪拌後に溶媒を減圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、表題化合物（０．４９ｇ）を得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１．５５（ｓ，９Ｈ）、１．９７−２．０９（ｍ，４Ｈ）、３．４９（ｔ，２Ｈ）、４．０９（ｔ，２Ｈ）、７．２２（ｄ，１Ｈ）、８．２２（ｓ，１Ｈ）、８．４０（ｄ，１Ｈ）．【０３４８】
合成例１６
（工程１）６−（３−（（ｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ）プロポキシ）ニコチノニトリルの合成【０３４９】
【化８４】
2015087857.tif 000128
【０３５０】
３−（（ｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ）プロパン−１−オール（１．９ｇ）をテトラヒドロフラン（３０ｍＬ）に溶解した後に、０℃で水素化ナトリウム（０．４８ｇ）を加えた。３０分攪拌後、６−クロロニコチノニトリル（１．５ｇ）を加えて、室温で一昼夜攪拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を停止した後に、酢酸エチルで抽出した。有機層を濃縮した後に、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、表題化合物（２．７ｇ）を得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：０．０２２（ｓ，６Ｈ）、０．８７（ｓ，９Ｈ）、１．９８（ｍ，２Ｈ）、３．７５（ｔ，２Ｈ）、４．４５（ｔ，２Ｈ）、６．７７（ｄ，１Ｈ）、７．７５（ｄ，１Ｈ）、８．４６（ｓ，１Ｈ）．【０３５１】
（工程２）ｔ−ブチル  （（６−（３−ヒドロキシプロポキシ）ピリジン−３−イル）（イミノ）メチル）カルバメート【０３５２】
【化８５】
2015087857.tif 000129
【０３５３】
工程１で得られた６−（３−（（ｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ）プロポキシ）ニコチノニトリルを用いて合成例８工程２と同様の手法で表題化合物を得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１．５３（ｓ，９Ｈ）、１．９９（ｍ，２Ｈ）、３．７０（ｔ，２Ｈ）、４．５４（ｔ，２Ｈ）、６．７５（ｄ，１Ｈ）、８．１２（ｄ，１Ｈ）、８．５７（ｓ，１Ｈ）．【０３５４】
実施例９１〜１００
合成例１５、１６で得られた化合物を用い、実施例４０または４０−２と同様の手法にて、本発明に係る化合物を合成した。合成した化合物の一部について、その構造を表に示す。【０３５５】
【表４３】
2015087857.tif 000130
【０３５６】
表中Ｂｏｃは、ｔ−ブトキシカルボニル基を意味する。【０３５７】
合成例１７
（工程１）２−（３−（（ｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ）プロピル）ベンゾフラン−５−カルボニトリルの合成【０３５８】
【化８６】
2015087857.tif 000131
【０３５９】
２−（３−ヒドロキシプロピル）ベンゾフラン−５−カルボニトリル（８．３ｇ）をジメチルホルムアミド（２０ｍＬ）に溶解した後に、イミダゾール（６．８ｇ）、塩化ｔ−ブチルジメチルシリル（７．２ｇ）を加えた。室温で１時間攪拌した後に、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、表題化合物（１１．５ｇ）を得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：０．０４３（ｓ，６Ｈ）、０．８９（ｓ，９Ｈ）、１．９５（ｍ，２Ｈ）、２．８７（ｍ，２Ｈ）、３．６８（ｔ，２Ｈ）、６．４４（ｓ，１Ｈ）、７．４４−７．４８（ｍ，２Ｈ）、７．８０（ｓ，１Ｈ）．【０３６０】
（工程２）ｔ−ブチル  （（２−（３−ヒドロキシプロピル）ベンゾフラン−５−イル）（イミノ）メチル）カルバメートの合成【０３６１】
【化８７】
2015087857.tif 000132
【０３６２】
工程１で得られた２−（３−（（ｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ）プロピル）ベンゾフラン−５−カルボニトリルを用いて合成例８工程２と同様の手法で表題化合物を得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１．５５（ｓ，９Ｈ）、２．０１（ｍ，２Ｈ）、２．８９（ｍ，２Ｈ）、３．７４（ｍ，２Ｈ）、６．４３（ｓ，１Ｈ）、７．４１（ｄ，１Ｈ）、７．７０（ｄ，１Ｈ）、８．０５（ｓ，１Ｈ）．【０３６３】
合成例１８
（工程１）ｔ−ブチル  Ｎ−（６−ヒドロキシナフタレン−２−カルボイミドイル）カルバメートの合成【０３６４】
【化８８】
2015087857.tif 000133
【０３６５】
６−ヒドロキシ−２−ナフトニトリルを用いて合成例９工程１と同様の手法を用いて表題化合物を合成した。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１．５４（ｓ，９Ｈ）、７．１１−７．１６（ｍ，２Ｈ）、７．７０（ｄ，１Ｈ）、７．７９（ｄｄ，１Ｈ）、７．８３（ｄ，１Ｈ）、８．２６−８．３１（ｍ，１Ｈ）．【０３６６】
（工程２）ｔ−ブチル  Ｎ−［６−（２−ブロモエトキシ）ナフタレン−２−カルボキシイミドイル］カルバメートの合成【０３６７】
【化８９】
2015087857.tif 000134
【０３６８】
工程１で得られたｔ−ブチル  Ｎ−（６−ヒドロキシナフタレン−２−カルボイミドイル）カルバメートを用いて合成例９工程２と同様の手法で表題化合物を得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１．５６（ｓ，９Ｈ）、３．７２（ｔ，２Ｈ）、４．４３（ｔ，２Ｈ）、７．１４（ｄ，１Ｈ）、７．２３（ｄｄ，１Ｈ）、７．７５（ｄ，２Ｈ）、７．８２−７．９０（ｍ，２Ｈ）、８．３８（ｓ，１Ｈ）．【０３６９】
実施例１０１〜１１０
合成例１７、１８で得られた化合物を用い、実施例４０または４０−２と同様の手法にて、本発明に係る化合物を合成した。合成した化合物の一部について、その構造を表に示す。【０３７０】
【表４４】
2015087857.tif 000135
【０３７１】
表中Ｂｏｃは、ｔ−ブトキシカルボニル基を意味する。【０３７２】
実施例１１１
（工程１）ｔ−ブチル  Ｎ−［４−（４−ホルミルフェニル）ベンゼンカルボイミドイル］カルバメートの合成【０３７３】
【化９０】
2015087857.tif 000136
【０３７４】
ｔ−ブチル  Ｎ−（４−ブロモベンゼンカルボイミドイル）カルバメート（５００ｍｇ）をトルエン（３ｍＬ）に溶解させ、室温にてエタノール（２ｍＬ）、水（１ｍＬ）を加えた。さらに同温で（４−ホルミルフェニル）ボロン酸（２５０ｍｇ）、炭酸カリウム（６９２ｍｇ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（１９３ｍｇ）を加えた。反応混合物を８０℃に昇温し、同温で６時間撹拌した。反応混合物を室温まで冷却し、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、表題化合物を３５０ｍｇ（収率６４．６％）得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：７．７０（ｄ，２Ｈ）、７．７８（ｄ，２Ｈ）、８．０２−７．９６（ｍ，４Ｈ）．【０３７５】
（工程２）ｔ−ブチル  Ｎ−［４−［４−［［７−［［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］ヘプチルアミノ］メチル］フェニル］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメートの合成【０３７６】
【化９１】
2015087857.tif 000137
【０３７７】
工程１で得られたｔ−ブチル  Ｎ−［４−（４−ホルミルフェニル）ベンゼンカルボイミドイル］カルバメート（１１５ｍｇ）をメタノール（３ｍＬ）に溶解させ、室温でｔ−ブチル  Ｎ−［（７−アミノヘプチルアミノ）−（ｔ−ブトキシカルボニルアミノ）メチレン］カルバメート（１００ｍｇ）を加えた。同温で１時間撹拌後、水素化ホウ素ナトリウム（１０．７ｍｇ）を加え、同温で３時間撹拌した。反応混合物を減圧濃縮後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、表題化合物（化合物番号：１１２）を１３３ｍｇ（収率６３．６％）得た。【０３７８】
合成例１９
（工程１）４−（４−ヒドロキシブチルスルファニル）ベンゾニトリルの合成【０３７９】
【化９２】
2015087857.tif 000138
【０３８０】
４−フルオロベンゾニトリル（９５０ｍｇ）をアセトニトリル（１０ｍＬ）に溶解させ、室温で炭酸カリウム（１．３ｇ）、４−スルファニルブタン−１−オール（１ｇ）を加え、同温で５時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、表題化合物を６６０ｍｇ（収率４０．５％）得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１．７０−１．８６（ｍ，４Ｈ）、３．０３（ｄｄ，２Ｈ）、３．７０（ｄｄ，２Ｈ）、７．３０（ｄ，２Ｈ）、７．５２（ｄ，２Ｈ）．【０３８１】
（工程２）４−［４−［ｔ−ブチル（ジメチル）シリル］オキシブチルスルファニル］ベンゾニトリルの合成【０３８２】
【化９３】
2015087857.tif 000139
【０３８３】
４−（４−ヒドロキシブチルスルファニル）ベンゾニトリル（６６０ｍｇ）をジクロロメタン（８ｍＬ）に溶解させ、０℃でトリエチルアミン（６５９ｍｇ）、塩化ｔ−ブチルジメチルシリル（５９０ｍｇ）、４−ジメチルアミノピリジン（４０ｍｇ）を加えた。反応混合物を室温まで昇温し、同温で４時間攪拌した。反応混合物に水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、表題化合物を９７８ｍｇ（収率９３．４％）得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：０．００（ｓ，６Ｈ）、０．８４（ｓ，９Ｈ）、１．５９−１．６９（ｍ，２Ｈ）、１．７０−１．８５（ｍ，２Ｈ）、２．９４−３．０３（ｍ，２Ｈ）、３．５９−３．６５（ｍ，２Ｈ）、７．２４（ｄ，２Ｈ）、７．４７（ｄ，２Ｈ）．【０３８４】
（工程３）ｔ−ブチル  Ｎ−［４−（４−ヒドロキシブチルスルファニル）ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメートの合成【０３８５】
【化９４】
2015087857.tif 000140
【０３８６】
工程２で得られた４−［４−［ｔ−ブチル（ジメチル）シリル］オキシブチルスルファニル］ベンゾニトリルを用いて合成例８工程２と同様の手法で表題化合物を得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１．５５（ｓ，９Ｈ）、１．６８−１．８２（ｍ，４Ｈ）、３．０１（ｄｄ，２Ｈ）、３．６７（ｄｄ，２Ｈ）、７．３０（ｄ，２Ｈ）、７．７６（ｄ，２Ｈ）．【０３８７】
（工程４）ｔ−ブチル  Ｎ−［４−（４−ブロモブチルスルファニル）ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメートの合成【０３８８】
【化９５】
2015087857.tif 000141
【０３８９】
工程３で得られたｔ−ブチル  Ｎ−［４−（４−ヒドロキシブチルスルファニル）ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメートを用いて合成例１５工程３、４と同様の手法で表題化合物を得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１．５４（ｓ，９Ｈ）、１．８０−１．９２（ｍ，２Ｈ）、１．９８−２．０８（ｍ，２Ｈ）、３．０１（ｄｄ，２Ｈ）、３．４４（ｄｄ，２Ｈ）、７．２６−７．３６（ｍ，２Ｈ）、７．７１−７．８０（ｍ，２Ｈ）．【０３９０】
合成例２０
（工程１）４−（（３−（（ｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ）プロポキシ）メチル）ベンゾニトリルの合成【０３９１】
【化９６】
2015087857.tif 000142
【０３９２】
３−（（ｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ）プロパン−１−オール（１．１ｇ）をテトラヒドロフラン（１８ｍＬ）に溶解した後に、０℃で水素化ナトリウム（０．２６ｇ）を加えた。１５分攪拌後、４−（ブロモメチル）ベンゾニトリル（０．９８ｇ）を加えて、室温で１７時間攪拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液を加えて反応を停止した後に、酢酸エチルで抽出した。有機層を濃縮した後に、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、表題化合物（１．２ｇ）を得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：０．０３０（ｓ，６Ｈ）、０．８７（ｓ，９Ｈ）、１．８２（ｍ，２Ｈ）、３．５８（ｔ，２Ｈ）、３．７１（ｔ，２Ｈ）、４．５４（ｓ，２Ｈ）、７．４２（ｄ，２Ｈ）、７．６１（ｄ，２Ｈ）．【０３９３】
（工程２）ｔ−ブチル  （（４−（（３−ヒドロキシプロポキシ）メチル）フェニル）（イミノ）メチル）カルバメートの合成【０３９４】
【化９７】
2015087857.tif 000143
【０３９５】
工程１で得られた４−（（３−（（ｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ）プロポキシ）メチル）ベンゾニトリルを用いて合成例８工程２と同様の手法で表題化合物を得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１．５４（ｓ，９Ｈ）、１．８７（ｍ，２Ｈ）、３．６５（ｔ，２Ｈ）、３．７７（ｍ，２Ｈ）、４．５５（ｓ，２Ｈ）、７．３７（ｄ，２Ｈ）、７．８２（ｄ，２Ｈ）．【０３９６】
実施例１１２〜１２１
実施例１１１と同様の手法にて、本発明に係る化合物を合成した。また、合成例１９、２０で得られた化合物を用い、実施例４０または４０−２と同様の手法にて、本発明に係る化合物を合成した。合成した化合物の一部について、その構造を表に示す。【０３９７】
【表４５】
2015087857.tif 000144
【０３９８】
表中Ｂｏｃは、ｔ−ブトキシカルボニル基を意味する。【０３９９】
実施例１２２
（工程１）ｔ−ブチル  Ｎ−［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］−Ｎ−［６−［ｔ−ブチル（ジメチル）シリル］オキシヘキサ−３−インニル］カルバメートの合成【０４００】
【化９８】
2015087857.tif 000145
【０４０１】
６−［ｔ−ブチル（ジメチル）シリル］オキシヘキサ−３−インニル−１−オール（１．５ｇ）をテトラヒドロフラン（３０ｍＬ）に溶解させ、０℃でトリフェニルホスフィン（１．７３ｇ）、ｔ−ブチル  Ｎ−［ビス（ｔ−ブトキシカルボニルアミノ）メチレン］カルバメート（３．５４ｇ）、ジエチル  アゾジカルボキシレート（２．２Ｍトルエン溶液）（２．９９ｍＬ）を加えた。反応混合物を室温まで昇温し、同温で６時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、表題化合物を１．４８ｇ（収率３９．６％）得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：０．０７（ｓ，６Ｈ）、０．８９（ｓ，９Ｈ）、１．４７−１．５５（ｍ，２７Ｈ）、２．３１−２．３８（ｍ，２Ｈ）、２．４９−２．５５（ｍ，２Ｈ）、３．６７（ｔ，２Ｈ）、３．９１（ｔ，２Ｈ）．【０４０２】
（工程２）ｔ−ブチル  Ｎ−［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］−Ｎ−（６−ヒドロキシヘキサ−３−インニル）カルバメートの合成【０４０３】
【化９９】
2015087857.tif 000146
【０４０４】
工程１で得られたｔ−ブチル  Ｎ−［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］−Ｎ−［６−［ｔ−ブチル（ジメチル）シリル］オキシヘキサ−３−インニル］カルバメート（１．４８ｇ）をテトラヒドロフラン（１５ｍＬ）に溶解させ、０℃でテトラブチルアンモニウムフルオリド（１Ｍテトラヒドロフラン溶液）（２．７ｍＬ）を加えた。反応混合物を室温まで昇温し、同温で５時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、表題化合物を１．０２ｇ（収率８７．２％）得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１．４８−１．５４（ｍ，２７Ｈ）、２．３６−２．４２（ｍ，２Ｈ）、２．５０−２．５６（ｍ，２Ｈ）、３．６６（ｄｄ，２Ｈ）、３．９６（ｔ，２Ｈ）．【０４０５】
（工程３）ｔ−ブチル  Ｎ−（Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル）−Ｎ−［６−［４−［４−（Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）フェノキシ］ブチル−（２−ニトロフェニル）スルホニル−アミノ］ヘキサ−３−インニル］カルバメートの合成【０４０６】
【化１００】
2015087857.tif 000147
【０４０７】
工程２で得られたｔ−ブチル  Ｎ−［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］−Ｎ−（６−ヒドロキシヘキサ−３−インニル）カルバメート（２２１ｍｇ）をテトラヒドロフラン（４ｍＬ）に溶解させ、０℃でトリフェニルホスフィン（１５９ｍｇ）、ｔ−ブチル  Ｎ−［４−［４−［（２−ニトロフェニル）スルホニルアミノ］ブトキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート（２００ｍｇ）、ジエチル  アゾジカルボキシレート（２．２Ｍトルエン溶液）（２７７μＬ）を加えた。反応混合物を室温まで昇温し、同温で６時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、表題化合物（化合物番号：１２４）を１１５ｍｇ（収率３０．５％）得た。【０４０８】
合成例２１
（工程１）ｔ−ブチル  Ｎ−［４−［４−［ｔ−ブチル（ジメチル）シリル］オキシブタ−２−インオキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメートの合成【０４０９】
【化１０１】
2015087857.tif 000148
【０４１０】
４−ブロモブタ−２−インオキシ−ｔ−ブチル−ジメチル−シラン（２７４ｍｇ）をアセトニトリル（４ｍＬ）に溶解させ、室温で炭酸カリウム（１５８ｍｇ）、ｔ−ブチル  Ｎ−（４−ヒドロキシベンゼンカルボキシイミドイル）カルバメート（２４６ｍｇ）を加えた。反応混合物を６０℃まで昇温し、同温で７時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、表題化合物を２２５  ｍｇ（収率５１．７％）得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：０．０９（ｓ，６Ｈ）、０．８９（ｓ，９Ｈ）、１．５５（ｓ，９Ｈ）、４．３４（ｓ，２Ｈ）、４．７７（ｓ，２Ｈ）、６．９９（ｄ，２Ｈ）、７．８３（ｄ，２Ｈ）．【０４１１】
（工程２）ｔ−ブチル  Ｎ−［４−（４−ヒドロキシブタ−２−インオキシ）ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメートの合成【０４１２】
【化１０２】
2015087857.tif 000149
【０４１３】
工程１で得られたｔ−ブチル  Ｎ−［４−［４−［ｔ−ブチル（ジメチル）シリル］オキシブタ−２−インオキシ］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート（２２５ｍｇ）をテトラヒドロフラン（３ｍＬ）に溶解させ、０℃でテトラブチルアンモニウムフルオリド（１Ｍテトラヒドロフラン溶液）（５６４μＬ）を加えた。反応混合物を室温まで昇温し、同温で４時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、表題化合物を１３１ｍｇ（収率８０．４％）得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１．５５（ｓ，９Ｈ）、４．３１（ｓ，２Ｈ）、４．７８（ｓ，２Ｈ）、６．９９（ｄ，２Ｈ）、７．８３（ｄ，２Ｈ）．【０４１４】
実施例１２３〜１２７
実施例１２２と同様の手法にて、本発明に係る化合物を合成した。また、合成例２１で得られた化合物を用い、実施例４０または４０−２と同様の手法にて、本発明に係る化合物を合成した。合成した化合物の一部について、その構造を表に示す。【０４１５】
【表４６】
2015087857.tif 000150
【０４１６】
表中Ｂｏｃは、ｔ−ブトキシカルボニル基を意味する。【０４１７】
合成例２２
（工程１）４−（５−ヒドロキシペンタ−１−インイル）ベンゾニトリルの合成【０４１８】
【化１０３】
2015087857.tif 000151
【０４１９】
４−ブロモベンゾニトリル（２ｇ）をジイソプロピルアミン（２０ｍＬ）に溶解させ、室温で４−ペンチン−１−オール（１．２ｇ）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（３８３ｍｇ）、よう化銅（６２ｍｇ）を加えた。反応混合物を７０℃まで昇温し、同温で一晩撹拌した。反応混合物を室温まで冷却し、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、表題化合物を１．８５ｇ（９２．０％）得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１．８８（ｔｄ，２Ｈ），２．５７（ｔ，２Ｈ），３．８２（ｄｄ，２Ｈ），７．４６（ｄ，２Ｈ），７．５７（ｄ，２Ｈ）．【０４２０】
（工程２）４−［５−［ｔ−ブチル（ジメチル）シリル］オキシペンタ−１−インイル］ベンゾニトリルの合成【０４２１】
【化１０４】
2015087857.tif 000152
【０４２２】
工程１で得られた４−（５−ヒドロキシペンタ−１−インイル）ベンゾニトリル（１．８５ｇ）をジクロロメタン（２０ｍＬ）に溶解させ、０℃でトリエチルアミン（２．０ｇ）、塩化ｔ−ブチルジメチルシリル（１．６６ｇ）、４−ジメチルアミノピリジン（１２２ｍｇ）を加えた。反応混合物を室温まで昇温し、同温で３時間撹拌した。反応混合物に水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、表題化合物を２．８４ｇ（収率９４．６％）得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：０．０７（ｓ，６Ｈ），０．９１（ｓ，９Ｈ），１．８２（ｔｄ，２Ｈ），２．５１（ｔ，２Ｈ），３．７５（ｔ，２Ｈ），７．４５（ｄ，２Ｈ），７．５６（ｄ，２Ｈ）．【０４２３】
（工程３）ｔ−ブチル  Ｎ−［４−（５−ヒドロキシペンタ−１−インイル）ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメートの合成【０４２４】
【化１０５】
2015087857.tif 000153
【０４２５】
工程２で得られた４−［５−［ｔ−ブチル（ジメチル）シリル］オキシペンタ−１−インイル］ベンゾニトリル（２ｇ）をテトラヒドロフラン（２０ｍＬ）に溶解させ、室温でリチウムビス(トリメチルシリル)アミド（１．３Ｍテトラヒドロフラン溶液）（７．２ｍＬ）を加えた。同温で１時間撹拌後、塩化水素（４Ｍジオキサン溶液）（２０ｍＬ）、メタノール（２０ｍＬ）を加え、室温で２時間撹拌後、反応混合物を減圧濃縮した。得られた残渣をジメチルホルムアミド（２０ｍＬ）に溶解させ、０℃でトリエチルアミン（２．７ｇ）、ジ−ｔ−ブチルジカーボネート（２．９２ｇ）を加えた。反応混合物を室温まで昇温し、同温で４時間撹拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、表題化合物を１．２４ｇ（収率６１．３％）得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１．５５（ｓ，９Ｈ）、１．８８（ｔｄ，２Ｈ）、２．５７（ｔ，２Ｈ）、３．８２（ｄｄ，２Ｈ）、７．４４（ｄ，２Ｈ）、７．７９（ｄ，２Ｈ）．【０４２６】
（工程４）５−［４−（Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）フェニル］ペンタ−４−インイル  メタンスルホネートの合成【０４２７】
【化１０６】
2015087857.tif 000154
【０４２８】
工程３で得られたｔ−ブチル  Ｎ−［４−（５−ヒドロキシペンタ−１−インイル）ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート（５００ｍｇ）をジクロロメタン（５ｍＬ）に溶解させ、０℃でトリエチルアミン（４００ｍｇ）、塩化メタンスルホニル（２２７ｍｇ）、４−ジメチルアミノピリジン（２０ｍｇ）を加えた。反応混合物を室温まで昇温し、同温で４時間撹拌した。反応混合物に水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、表題化合物を６４０ｍｇ（定量的）得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１．５５（ｓ，９Ｈ）、２．０６（ｔｄ，２Ｈ）、２．６１（ｔ，２Ｈ）、３．０４（ｓ，３Ｈ）、４．４１（ｔ，２Ｈ）、７．４４（ｄ，２Ｈ）、７．７９（ｄ，２Ｈ）．【０４２９】
（工程５）ｔ−ブチル  Ｎ−［４−（５−ブロモペンタ−１−インイル）ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメートの合成【０４３０】
【化１０７】
2015087857.tif 000155
【０４３１】
工程４で得られた５−［４−（Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルカルバイミドイル）フェニル］ペンタ−４−インイル  メタンスルホネート（６４６  ｍｇ）をアセトニトリル（７ｍＬ）に溶解させ、室温で臭化リチウム（２９５ｍｇ）を加えた。反応混合物を５０℃まで昇温し、同温で５時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、表題化合物を４８５ｍｇ（収率７８．１％）得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１．５５（ｓ，９Ｈ），２．２０−２．１２（ｍ，２Ｈ），２．６３（ｔ，２Ｈ），３．６２−３．５４（ｍ，３Ｈ），７．４４（ｄ，２Ｈ），７．７８（ｄ，２Ｈ）．【０４３２】
実施例１２８〜１３２
合成例２２で得られた化合物を用い、実施例４０−２と同様の手法にて、本発明に係る化合物を合成した。合成した化合物の一部について、その構造を表に示す。【０４３３】
【表４７】
2015087857.tif 000156
【０４３４】
表中Ｂｏｃは、ｔ−ブトキシカルボニル基を意味する。【０４３５】
実施例１３３
ｔ−ブチル  Ｎ−［４−［５−［７−［［（Ｚ）−Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］ヘプチルアミノ］ペンタ−１−エンイル］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメートの合成【０４３６】
【化１０８】
2015087857.tif 000157
【０４３７】
ｔ−ブチル  Ｎ−［４−［５−［７−［［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］ヘプチルアミノ］ペンタ−１−インイル］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート（化合物番号：１２９、１００  ｍｇ）をメタノール（２ｍＬ）に溶解させ、室温でリンドラー触媒（１０ｍｇ）を加えた。同温で系内を水素置換し、３時間撹拌した。反応混合物をろ過し、ろ液を減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、表題化合物（化合物番号：１３４）（アルケン／アルカン＝４／１）を５５ｍｇ（収率５５．６％）得た。【０４３８】
実施例１３４
ｔ−ブチル  Ｎ−［４−［５−［７−［［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］ヘプチルアミノ］ペンチル］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメートの合成【０４３９】
【化１０９】
2015087857.tif 000158
【０４４０】
ｔ−ブチル  Ｎ−［４−［５−［７−［［Ｎ，Ｎ’−ビス（ｔ−ブトキシカルボニル）カルバイミドイル］アミノ］ヘプチルアミノ］ペンタ−１−インイル］ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート（化合物番号：１２９、２００ｍｇ）をメタノール（５ｍＬ）に溶解させ、室温で１０％パラジウム炭素（２０ｍｇ）を加えた。同温で系内を水素置換し、一晩撹拌した。反応混合物をろ過し、ろ液を減圧濃縮する事で表題化合物（化合物番号：１３６）を１７５ｍｇ（収率８７．１％）得た。【０４４１】
実施例１３５、１３６
実施例１３３、１３４と同様の手法にて、本発明に係る化合物を合成した。合成した化合物の一部について、その構造を表に示す。【０４４２】
【表４８】
2015087857.tif 000159
【０４４３】
表中Ｂｏｃは、ｔ−ブトキシカルボニル基を意味する。【０４４４】
合成例２３
ｔ−ブチル−Ｎ−［［３−（３−アミノプロポキシ）プロピルアミノ］−（ｔ−ブトキシカルボニルアミノ）メチレン］カルバメートの合成【０４４５】
【化１１０】
2015087857.tif 000160
【０４４６】
３−（３−アミノプロポキシ）プロパン−１−アミン（１．５ｇ）をジクロロメタン（３０ｍＬ）に溶解させ、室温にてジイソプロピルエチルアミン（９７７ｍｇ）、Ｇｏｏｄｍａｎ試薬（２．９８ｇ）を加え、同温で４時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、表題化合物を２．０２ｇ（収率７１．４％）得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１．４９（ｓ，９Ｈ）、１．５０（ｓ，９Ｈ）、１．７４（ｔｔ，２Ｈ）、１．８３（ｔｔ，２Ｈ）、２．７９（ｔ，２Ｈ）、３．４９−３．５８（ｍ，６Ｈ）．【０４４７】
実施例１３７、１３８
合成例２３で得られた化合物を用い、実施例２３，２４と同様の手法にて、本発明に係る化合物を合成した。合成した化合物の一部について、その構造を表に示す。【０４４８】
【表４９】
2015087857.tif 000161
【０４４９】
表中Ｂｏｃは、ｔ−ブトキシカルボニル基を意味する。【０４５０】
実施例１３９
（工程１）ｔ−ブチル  Ｎ−［（ｔ−ブトキシカルボニルアミノ）−［５−［（２，２，２−トリフルオロアセチル）−［２−［（２，２，２−トリフルオロアセチル）アミノ］エチル］アミノ］ペンチルアミノ］メチレン］カルバメートの合成【０４５１】
【化１１１】
2015087857.tif 000162
【０４５２】
２，２，２−トリフルオロ−Ｎ−［２−［（２，２，２−トリフルオロアセチル）アミノ］エチル］アセトアミド（５．５６ｇ）及びｔ−ブチル  （Ｎ−［（５−ブロモペンチルアミノ）−（ｔ−ブトキシカルボニルアミノ）メチレン］カルバメート（３．００ｇ）のジメチルホルムアミド（３０ｍＬ）溶液に炭酸カリウム（３．０５ｇ）を加え室温で８日間反応させた。その後、反応混合物を水に注ぎ入れ、酢酸エチルで抽出した。有機層を合わせ無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、ろ過した。ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、表題化合物を２．１４ｇ（収率５０％）得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１．３２（ｄｔ，２Ｈ），１．４８（ｔ，９Ｈ），１．５２（ｔ，９Ｈ），１．５７−１．７６（ｍ，４Ｈ），３．４２（ｔ，２Ｈ），３．５３−３．６９（ｍ，４Ｈ），３．９０（ｔ，２Ｈ），７．４８（ｂｒ．ｓ，１Ｈ），９．２５（ｂｒ．ｓ，２Ｈ）．【０４５３】
（工程２）４−［３−［２−（５−グアニジノペンチルアミノ）エチルアミノ］プロポキシ］ベンズアミジン  ４塩酸塩の合成【０４５４】
【化１１２】
2015087857.tif 000163
【０４５５】
工程１で得られたｔ−ブチル  Ｎ−［（ｔ−ブトキシカルボニルアミノ）−［５−［（２，２，２−トリフルオロアセチル）−［２−［（２，２，２−トリフルオロアセチル）アミノ］エチル］アミノ］ペンチルアミノ］メチレン］カルバメート（１．２１ｇ）及びｔ−ブチル  Ｎ−［４−（４−ブロモブトキシ）ベンゼンカルボキシイミドイル］カルバメート（１．２０ｇ）のジメチルホルムアミド（２４ｍＬ）溶液に炭酸カリウム（０．３８ｇ）を加え５０℃で一晩反応させた。その後、反応混合物を室温に冷却し水に注ぎ入れ、酢酸エチルで抽出した。有機層を合わせ無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、ろ過した。ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、化合物Ａを０．５７ｇ（収率３２％）得た。【０４５６】
次いで、得られた化合物Ａ（０．５７ｇ）をメタノール（５７ｍＬ）に溶解させ、室温で炭酸カリウム（０．９０ｇ）を加え、同温で３日間撹拌した。その後、反応混合物を減圧濃縮し、得られた残渣を水に注ぎ入れクロロホルムで抽出した。有機層を合わせ無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、ろ過した。ろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し化合物Ｂを０．２８ｇ（収率６３％）得た。【０４５７】
次いで、化合物Ｂ（０．３７ｇ）をジクロロメタン（１８ｍＬ）に溶解させ、室温でトリフルオロ酢酸（９ｍＬ）を加えた。同温で一晩撹拌した後、減圧濃縮した。得られた残渣をメタノール（５ｍＬ）に溶解させ、室温で塩化水素ジオキサン溶液（４Ｍ，１５  ｍＬ）を加え、同温で１時間撹拌し、減圧濃縮し、表題化合物（化合物番号：１３９）を０．４９ｇ（定量的）得た。【０４５８】
実施例１４０
実施例１３９と同様の手法にて、本発明に係る化合物を合成した。合成した化合物の一部について、その構造を表に示す。【０４５９】
【表５０】
2015087857.tif 000164
【０４６０】
表中Ｂｏｃは、ｔ−ブトキシカルボニル基を意味する。【０４６１】
実施例１４１〜１４８
実施例２または３と同様の手法にて、本発明に係る化合物を合成した。合成した化合物の一部について、その構造を表に示す。【０４６２】
【表５１】
2015087857.tif 000165
【０４６３】
表中Ｂｏｃは、ｔ−ブトキシカルボニル基を意味する。表中ＤＢＳは、ドデシルベンゼンスルホン酸を意味する。【０４６４】
合成例２４
（工程１）ｔ−ブチル  ２−［４−（５−ヒドロキシペント−１−インイル）フェニル］イミダゾール−１−カルボキシレートの合成【０４６５】
【化１１３】
2015087857.tif 000166
【０４６６】
ｔ-ブチル  ２−（４−ブロモフェニル）−１Ｈ−イミダゾール−１−カルボキシレートを用いて合成例２２工程１と同様の手法で表題化合物を合成した。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１．４３（ｓ，９Ｈ），１．８７（ｔｔ，２Ｈ），２．５６（ｔ，２Ｈ），３．８４（ｄｄ，２Ｈ），７．０６（ｄ，１Ｈ），７．４２（ｄ，２Ｈ），７．４６−７．５２（ｍ，３Ｈ）．【０４６７】
（工程２）ｔ−ブチル  ２−［４−（５−ブロモペント−１−インイル）フェニル］イミダゾール−１−カルボキシレートの合成【０４６８】
【化１１４】
2015087857.tif 000167
【０４６９】
工程１で得られたｔ−ブチル  ２−［４−（５−ヒドロキシペント−１−インイル）フェニル］イミダゾール−１−カルボキシレートを用いて、合成例２２工程４および５と同様の手法で表題化合物を合成した。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１．４４（ｓ，９Ｈ），２．１５（ｔｔ，２Ｈ），２．６３（ｔ，２Ｈ），３．５９（ｔ，２Ｈ），７．０７（ｄ，１Ｈ），７．４３（ｄ，２Ｈ），７．４７−７．５２（ｍ，３Ｈ）．【０４７０】
合成例２５
（工程１）４−（４−（（ｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ）ブトキシ）−２−フルオロベンゾニトリルの合成【０４７１】
【化１１５】
2015087857.tif 000168
【０４７２】
２−フルオロ−４−ヒドロキシベンゾニトリルを用いて合成例１２工程１と同様の手法で表題化合物を合成した。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：０．０６（ｓ，６Ｈ），０．９０（ｓ，９Ｈ），１．６１−１．７２（ｍ，２Ｈ），１．８１−１．９２（ｍ，２Ｈ），３．６８（ｔ，２Ｈ），４．０３（ｔ，２Ｈ），６．６９（ｄｄ，１Ｈ），６．７５（ｄｄ，１Ｈ），７．５０（ｄｄ，１Ｈ）．【０４７３】
（工程２）６−［４−［ｔ−ブチル（ジメチル）シリル］オキシブトキシ］−１，２−ベンズオキサゾール−３−アミンの合成【０４７４】
【化１１６】
2015087857.tif 000169
【０４７５】
工程１で得られた４−（４−（（ｔ−ブチルジメチルシリル）オキシ）ブトキシ）−２−フルオロベンゾニトリル（４ｇ）をジメチルホルムアミド（８５ｍＬ）に溶解させ、室温で水（１４ｍＬ）、炭酸カリウム（１０．２８ｇ）、アセトヒドロキサム酸（２．７８ｇ）を加えた。反応混合物を８０℃まで昇温し、同温で一晩攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、表題化合物を２．３１ｇ（収率５５．５％）得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：０．０６（ｓ，６Ｈ），０．９０（ｓ，９Ｈ），１．６６−１．７５（ｍ，２Ｈ），１．８４−１．９４（ｍ，２Ｈ），３．６８（ｔ，２Ｈ），４．０４（ｔ，２Ｈ），６．８２−６．８６（ｍ，２Ｈ），７．３５（ｄ，１Ｈ）．【０４７６】
（工程３）ｔ−ブチル  Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｎ−［６−［４−［ｔ−ブチル（ジメチル）シリル］オキシブトキシ］−１，２−ベンズオキサゾール−３−イル］カルバメートの合成【０４７７】
【化１１７】
2015087857.tif 000170
【０４７８】
工程２で得られた６−［４−［ｔ−ブチル（ジメチル）シリル］オキシブトキシ］−１，２−ベンズオキサゾール−３−アミン（２．３１ｇ）をジクロロメタンに溶解させ、０℃でトリエチルアミン（１．３９ｇ）、ジ−ｔ−ブチルジカーボネート（１．９４ｇ）、４−ジメチルアミノピリジン（８３ｍｇ）を加えた。反応混合物を室温まで昇温し、同温で一晩攪拌した。反応混合物に水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、表題化合物をを１．６４ｇ（収率４４．６％）得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：０．０７（ｓ，６Ｈ），０．９１（ｓ，９Ｈ），１．４０（ｓ，１８Ｈ），１．６８−１．７６（ｍ，２Ｈ），１．８８−１．９４（ｍ，２Ｈ），３．７１（ｔ，２Ｈ），４．０７（ｔ，２Ｈ），６．９５−６．９９（ｍ，２Ｈ），７．３６（ｄ，１Ｈ）．【０４７９】
（工程４）ｔ−ブチル  Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｎ−［６−（４−ヒドロキシブトキシ）−１，２−ベンズオキサゾール−３−イル］カルバメートの合成【０４８０】
【化１１８】
2015087857.tif 000171
【０４８１】
工程３で得られたｔ−ブチル  Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｎ−［６−［４−［ｔ−ブチル（ジメチル）シリル］オキシブトキシ］−１，２−ベンズオキサゾール−３−イル］カルバメート（１．６４ｇ）をテトラヒドロフラン（２０ｍＬ）に溶解させ、０℃でテトラブチルアンモニウムフルオリド（１Ｍテトラヒドロフラン溶液）（３．４ｍＬ）を加えた。反応混合物を室温まで昇温し、同温で５時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、表題化合物を１．０２ｇ（収率７９．２％）得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１．４１（ｓ，１８Ｈ），１．７５−１．８４（ｍ，２Ｈ），１．９１−２．０２（ｍ，２Ｈ），３．７６（ｄｄ，２Ｈ），４．０９（ｔ，２Ｈ），６．９３−７．００（ｍ，２Ｈ），７．３７（ｄ，１Ｈ）．【０４８２】
合成例２６
（工程１）４−ヒドロキシ−Ｎ−メチル−ベンズアミジンの合成【０４８３】
【化１１９】
2015087857.tif 000172
【０４８４】
メチル  ４−ヒドロキシベンゼンカルボキシイミデート（２．５ｇ）をメタノール（４０ｍＬ）に溶解させ、０℃でトリエチルアミン（１３ｍＬ）、メチルアミン（４０％メタノール溶液）（２．０７ｇ）を加えた。反応混合物を室温まで昇温し、同温で４時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、表題化合物を得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：３．０５（ｓ，３Ｈ），６．８４（ｄ，２Ｈ），７．５５（ｄ，２Ｈ）．【０４８５】
（工程２）［４−（Ｎ’−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｎ−メチル−カルバイミドイル）フェニル）  ｔ−ブチル  カルバメートの合成【０４８６】
【化１２０】
2015087857.tif 000173
【０４８７】
工程１で得られた４−ヒドロキシ−Ｎ−メチル−ベンズアミジンを用いて合成例６工程２と同様の手法で表題化合物を得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１．１４（ｓ，９Ｈ），１．５７（ｓ，９Ｈ），３．３７（ｂｒｓ，３Ｈ），７．１９（ｄ，２Ｈ），７．３６−７．４８（ｍ，２Ｈ）．【０４８８】
（工程３）ｔ−ブチル−Ｎ−［（４−ヒドロキシフェニル）−（メチルアミノ）メチレン］カルバメートの合成【０４８９】
【化１２１】
2015087857.tif 000174
【０４９０】
工程２で得られた［４−（Ｎ’−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｎ−メチル−カルバイミドイル）フェニル）  ｔ−ブチル  カルバメートを用いて、合成例６工程３と同様の手法で表題化合物を得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１．２１（ｓ，９Ｈ），３．３２（ｓ，３Ｈ），６．８０（ｄ，２Ｈ），７．３１（ｄ，２Ｈ）．【０４９１】
（工程４）ｔ−ブチル−Ｎ−［［４−（４−ブロモブトキシ）フェニル］−（メチルアミノ）メチレン］カルバメートの合成【０４９２】
【化１２２】
2015087857.tif 000175
【０４９３】
工程３で得られたｔ−ブチル−Ｎ−［（４−ヒドロキシフェニル）−（メチルアミノ）メチレン］カルバメートを用いて、合成例６工程４と同様の手法で表題化合物を得た。
1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：１．１８（ｓ，９Ｈ），１．９２−２．０１（ｍ，２Ｈ），２．０２−２．１３（ｍ，２Ｈ），３．３４（ｓ，３Ｈ），３．５０（ｔ，２Ｈ），４．００−４．０６（ｍ，２Ｈ），６．８６−６．９２（ｍ，２Ｈ），７．３６（ｄ，１Ｈ），７．６７（ｄ，１Ｈ）．【０４９４】
実施例１４９〜１５４
合成例２４〜２６で得られた化合物を用い、実施例４０または４０−２と同様の手法にて、本発明に係る化合物を合成した。合成した化合物の一部について、その構造を表に示す。【０４９５】
【表５２】
2015087857.tif 000176
【０４９６】
表中Ｂｏｃは、ｔ−ブトキシカルボニル基を意味する。【０４９７】
製剤実施例（乳剤）
本発明化合物                  ５．６２  質量部
界面活性剤                    ４．４９  質量部
ジメチルホルムアミド        ８９．８９  質量部
以上を混合溶解して、有効成分５．６２質量％の乳剤を得た。【０４９８】
（リンゴ黒星病防除試験）
前記製剤実施例の配合処方で調製された乳剤を有効成分１２５ｐｐｍになるように水で希釈した。素焼きポットで栽培したリンゴ幼苗（品種「王林」、３〜４葉期）に、前記希釈液を散布した。室温で自然乾燥させた。その後、リンゴ黒星病菌（Venturia inaequalis）の分生胞子を接種し、明暗を１２時間毎に繰り返す２０℃、高湿度の室内に２週間保持した。葉上の病斑出現状態を無処理と比較し防除効果を調べた。【０４９９】
化合物７、９、１９、２２、２８、３０、３２、３４、３６、４１、４３、４６、５８、６１、６４、６６、６８、７１、７４、７７、８０、８２、８４、８７、８９、９１、９３、９５、９８、１０１、１０３、１０５、１０８、１１５、１１８、１２０、１２５、１２８、１３０、１３３、１３５、１３７、１３９、１４１、１４３、および１４７について前記リンゴ黒星病防除試験を行った。いずれの化合物も７５％以上の防除価を示した。【０５００】
（キュウリ灰色かび病防除試験）
前記製剤実施例の配合処方で調製された乳剤を有効成分１２５ｐｐｍになるように水で希釈した。素焼きポットで栽培したキュウリ幼苗（品種「ときわ地這」、子葉期）に、前記希釈液を散布した。室温で自然乾燥した後、キュウリ灰色かび病菌（Botrytis cinerea）の分生胞子懸濁液を滴下接種し、暗所、２０℃、高湿度の室内に４日間保持した。葉上の病斑出現状態を無処理と比較調査し、防除効果を求めた。【０５０１】
化合物７、９、１３、１９、２２、２８、３０、３２、３４、３６，３８、４１、４３、４６、４８、５２、５４、５６、５８、６１、６４、６６、６８、７１、７４、７７、８０、８２、８４、８７、８９、９１、９３、９５、９８、１０１、１０３、１０５、１０８、１１１、１１５、１１８、１２０、１２２、１２５、１２８、１３０、１３３、１３５、１３７、１３９、１４１、１４２、１４３、１４４、および１４７について前記キュウリ灰色かび病防除試験を行った。いずれの化合物も７５％以上の防除価を示した。【０５０２】
（コムギうどんこ病防除試験）
前記製剤実施例の配合処方で調製された乳剤を有効成分１２５ｐｐｍになるように水で希釈した。素焼きポットで栽培したコムギ幼苗（品種「チホク」、１．０〜１．２葉期）に前記希釈液を散布した。葉を風乾させた後、コムギうどんこ病菌（Erysiphe graminis f.sp.tritici）の分生胞子を振り払い接種し、２２〜２５℃の温室で７日間保持した。葉上の病斑出現状態を無処理と比較調査し、防除効果を求めた。【０５０３】
化合物７、９、１９、２８、３０、３２、３４、３６、３８、４１、４３、４６、４８、５４、５６、５８、６１、６４、６６、６８、７１、７４、７７、８０、８２、８４、８７、９１、９３、９５、９８、１０１、１０３、１０５、１１１、１１３、１１５、１１８、１２０、１２２、１２５、１２８、１３０、１３３、１３５、１３９、１４１、１４２、１４３、１４４、および１４７について前記コムギうどんこ病防除試験を行った。いずれの化合物も７５％以上の防除価を示した。【０５０４】
（トマト疫病防除試験）
前記製剤実施例の配合処方で調製された乳剤を有効成分１２５ｐｐｍになるように水で希釈した。素焼きポットで栽培したトマト幼苗（品種「レジナ」、４〜５葉期）に、前記希釈液を散布した。葉を風乾させた後、トマト疫病菌（Phytophthora infestans）の遊走子嚢懸濁液を噴霧接種し、明暗を１２時間毎に繰り返す高湿度の恒温室（２０℃）に４日間保持した。葉上の病斑出現状態を無処理と比較調査し、防除価を求めた。【０５０５】
化合物７、９、３４、４１、４３、５８、６１、６４、６８、７１、７７、８２、８４、８７、９３、９８、１０５、１０８、１１５、１２０、１２８、１３０、１３９、および１４３について前記トマト疫病防除試験を行った。いずれの化合物も７５％以上の防除価を示した。【０５０６】
（コムギ赤さび病防除試験）
前記製剤実施例の配合処方で調製された乳剤を有効成分１２５ｐｐｍになるように水で希釈した。素焼きポットで栽培したコムギ幼苗（品種「農林６１号」、１．０〜１．２葉期）に前記希釈液を散布した。葉を風乾させた後、コムギ赤さび病菌（Puccinia recondita）の夏胞子を振り払い接種し、２２〜２５℃の温室で１０日間保持した。葉上の病斑出現状態を無処理と比較調査し、防除効果を求めた。
化合物７、９、１９、２２、３４、４１、４３、５４、５６、６１、６４、６６、６８、７１、７４、７７、８２、８４、８７、９１、９３、９８、１０１、１０３、１０５、１１１、１１３、１１５、１２０、１２８、１３０、１３３、１３５、１４２、１４３、１４４、および１４７について前記コムギ赤さび病防除試験を行った。いずれの化合物も７５％以上の防除価を示した。
【産業上の利用可能性】
【０５０７】
本発明に係る第一の実施形態のアリールアミジン化合物（式（I）または式（II）で表される化合物またはその塩）は、殺菌活性に優れ、安全性に優れ、且つ工業的に有利に合成することができる。当該アリールアミジン化合物を有効成分として含有する第三の実施形態の殺菌剤若しくは植物病害防除剤は、リンゴ黒星病、キュウリ灰色かび病、コムギうどんこ病、トマト疫病、コムギ赤さび病などの植物病害の防除価に特に優れている。
本発明に係る第二の実施形態のアリールアミジン化合物（式（III-1）または式（III-2）で表される化合物）及びグアニジン化合物（式（IV-1）または式（IV-2）で表される化合物）は、本発明の第一の実施形態のアリールアミジン化合物（式（I）または式（II）で表される化合物またはその塩）を安価に製造するための中間体として有用である。
【国際調査報告】
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