【手続補正書】
【提出日】平成24年3月8日(2012.3.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対向配置された上部電極および下部電極と、
前記上部電極および前記下部電極間に、板状をなし、一方の面と他方の面とに被処理面を有するワークを、前記一方の被処理面が前記上部電極と対向し、前記他方の被処理面が前記下部電極と対向するように載置する載置部と、
前記一方の被処理面と前記上部電極との間、および前記他方の被処理面と前記下部電極との間に処理ガスを供給する処理ガス供給手段と、
前記上部電極および前記下部電極間へ通電してプラズマを発生させる通電手段と、を備えていることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項２】
前記上部電極および前記下部電極が互いに対向した状態を維持しつつ、前記上部電極および前記下部電極と前記ワークとを相対的に移動する移動手段を有し、
前記移動手段により、前記上部電極および前記下部電極と前記ワークとを相対的に移動することにより、前記一方の被処理面および前記他方の被処理面をプラズマ処理することを特徴とする請求項１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項３】
前記一方の被処理面に対するプラズマ処理条件と、前記他方の被処理面に対するプラズマ条件と、を別々に設定することができることを特徴とする請求項１または２に記載のプラズマ処理装置。
【請求項４】
前記移動手段は、前記プラズマ処理中に、前記上部電極と前記一方の被処理面との離間距離および前記下部電極と前記他方の被処理面との離間距離の少なくとも一方を変化させることができることを特徴とする請求項３に記載のプラズマ処理装置。
【請求項５】
前記移動手段は、前記上部電極と前記下部電極との離間距離を一定に保ったまま、前記上部電極および前記下部電極と前記ワークとを前記ワークの厚さ方向に相対的に移動することにより、前記上部電極と前記一方の被処理面との離間距離および前記下部電極と前記他方の被処理面との離間距離を変化させることを特徴とする請求項４に記載のプラズマ処理装置。
【請求項６】
前記載置部は、前記ワークの縁部を支持するように構成されていることを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項に記載のプラズマ処理装置。
【請求項７】
前記載置部は、誘電体材料を主材料として構成されていることを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１項に記載のプラズマ処理装置。
【請求項８】
対向配置された上部電極および下部電極と、
前記上部電極および前記下部電極間に、板状をなし、一方の面と他方の面とに被処理面を有するワークを、前記一方の被処理面が前記上部電極と対向し、前記他方の被処理面が前記下部電極と対向するように載置する載置台と、
前記一方の被処理面と前記上部電極との間、および前記他方の被処理面と前記下部電極との間に処理ガスを供給する処理ガス供給手段と、
前記上部電極および前記下部電極間へ通電する通電手段と、を備えているプラズマ処理装置を準備する工程と、
前記ワークを前記載置台に載置する工程と、
前記処理ガス供給手段により前記一方の被処理面および前記他方の被処理面に前記処理ガスを供給するとともに、前記通電手段により前記上部電極および前記下部電極間へ通電し、前記処理ガスを活性化させてプラズマを発生させ、前記一方の被処理面側に発生した前記プラズマにより前記一方の被処理面に対するプラズマ処理と、前記他方の被処理面側に発生した前記プラズマにより前記他方の被処理面に対するプラズマ処理を同時に行う工程と、
を含むことを特徴とするプラズマ処理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法に関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の目的は、プラズマ処理の工程数削減および処理時間短縮を図ることができるとともに、第１の被処理面および第２の被処理面に対して所望のプラズマ処理を行うことができるプラズマ処理装置およびプラズマ処理方法を提供することにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
［適用例１］
本発明のプラズマ処理装置は、対向配置された上部電極および下部電極と、
前記上部電極および前記下部電極間に、板状をなし、一方の面と他方の面とに被処理面を有するワークを、前記一方の被処理面が前記上部電極と対向し、前記他方の被処理面が前記下部電極と対向するように載置する載置部と、
前記一方の被処理面と前記上部電極との間、および前記他方の被処理面と前記下部電極との間に処理ガスを供給する処理ガス供給手段と、
前記上部電極および前記下部電極間へ通電してプラズマを発生させる通電手段と、を備えていることを特徴とする。
これにより、ワークの一方の被処理面と他方の被処理面とを同時にプラズマ処理することができるため、プラズマ処理の工程数削減および処理時間短縮を図ることができる。また、プラズマ処理中の一方の被処理面および他方の被処理面の温度差を少なくする（無くす）ことができるため、ワークの撓みを防止または抑制し、一方の被処理面および他方の被処理面に対して所望のプラズマ処理を行うことができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
［適用例２］
本発明のプラズマ処理装置では、前記上部電極および前記下部電極が互いに対向した状態を維持しつつ、前記上部電極および前記下部電極と前記ワークとを相対的に移動する移動手段を有し、
前記移動手段により、前記上部電極および前記下部電極と前記ワークとを相対的に移動することにより、前記一方の被処理面および前記他方の被処理面をプラズマ処理することが好ましい。
これにより、一方の被処理面および他方の被処理面を、それぞれ、局所的にかつ連続的にプラズマ処理することができる。そのため、一方の被処理面（他方の被処理面）上の複数の領域に対して、それぞれ、異なる条件でプラズマ処理することが可能となる。したがって、ワークに対するプラズマ処理精度が向上する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
［適用例３］
本発明のプラズマ処理装置では、前記一方の被処理面に対するプラズマ処理条件と、前記他方の被処理面に対するプラズマ条件と、を別々に設定することができることが好ましい。
これにより、一方の被処理面と他方の被処理面とで異なるプラズマ処理を行うことができるため、ワークに対して幅広いプラズマ処理を行うことができ、プラズマ処理装置の利便性が向上する。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
［適用例４］
本発明のプラズマ処理装置では、前記移動手段は、前記プラズマ処理中に、前記上部電極と前記一方の被処理面との離間距離および前記下部電極と前記他方の被処理面との離間距離の少なくとも一方を変化させることができることが好ましい。
これにより、上部電極および一方の被処理面の離間距離と、下部電極および他方の被処理面の離間距離とを異ならせることができるため、比較的簡単に、一方の被処理面に対するプラズマ処理条件と、他方の被処理面に対するプラズマ処理条件とを異ならすことができる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
［適用例５］
本発明のプラズマ処理装置では、前記移動手段は、前記上部電極と前記下部電極との離間距離を一定に保ったまま、前記上部電極および前記下部電極と前記ワークとを前記ワークの厚さ方向に相対的に移動することにより、前記上部電極と前記一方の被処理面との離間距離および前記下部電極と前記他方の被処理面との離間距離を変化させることが好ましい。
これにより、特に、水晶等の結晶性材料で構成されたワークの薄肉化を行う際に、薄肉化を行いつつ、簡単に、ワークの上面と格子面（下面と格子面）のなす角を修正することができる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
［適用例６］
本発明のプラズマ処理装置では、前記載置部は、前記ワークの縁部を支持するように構成されていることが好ましい。
これにより、簡単な構成でかつ確実に、一方の被処理面を上部電極側に露出させ、他方の被処理面を下部電極側に露出させた状態でワークを支持することができる。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
［適用例７］
本発明のプラズマ処理装置では、前記載置部は、誘電体材料を主材料として構成されていることが好ましい。
これにより、上部電極と載置部との間で、不本意な放電（不安定な放電）が発生するのを防止することができる。そのため、一方の被処理面の全域を、所望の安定なプラズマによりプラズマ処理することができ、一方の被処理面に対するプラズマ処理精度が向上する。他方の被処理面についても、これと同様の効果が得られる。
［適用例８］
本発明のプラズマ処理方法は、対向配置された上部電極および下部電極と、
前記上部電極および前記下部電極間に、板状をなし、一方の面と他方の面とに被処理面を有するワークを、前記一方の被処理面が前記上部電極と対向し、前記他方の被処理面が前記下部電極と対向するように載置する載置台と、
前記一方の被処理面と前記上部電極との間、および前記他方の被処理面と前記下部電極との間に処理ガスを供給する処理ガス供給手段と、
前記上部電極および前記下部電極間へ通電する通電手段と、を備えているプラズマ処理装置を準備する工程と、
前記ワークを前記載置台に載置する工程と、
前記処理ガス供給手段により前記一方の被処理面および前記他方の被処理面に前記処理ガスを供給するとともに、前記通電手段により前記上部電極および前記下部電極間へ通電し、前記処理ガスを活性化させてプラズマを発生させ、前記一方の被処理面側に発生した前記プラズマにより前記一方の被処理面に対するプラズマ処理と、前記他方の被処理面側に発生した前記プラズマにより前記他方の被処理面に対するプラズマ処理を同時に行う工程と、
を含むことを特徴とする。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
このようなエッチング方法によれば、ワーク１０を薄肉化しつつ、ワーク１０の上面と格子面とのなす角（ワーク１０の下面と格子面とのなす角）を高精度に修正することができる。
以上、本発明のプラズマ処理装置およびプラズマ処理方法を、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれらに限定されるものではなく、各部の構成は、同様の機能を有する任意の構成のものに置換することができる。また、他の任意の構成物や、工程が付加されていてもよい。