【事件の表示】
　特願２００５−５１３３１０「電磁波遮蔽積層体およびこれを用いたディスプレイ装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１７年　３月　３日国際公開、ＷＯ２００５／０２０６５５〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯 
　本願は、２００４年８月２０日（優先権主張２００３年８月２５日、日本国）を国際出願日とする出願であって、平成１９年１月４日付で拒絶の理由が通知され、平成１９年３月１２日付で手続補正がなされ、平成１９年４月２日付で拒絶査定がなされ、これに対し、平成１９年５月１０日に拒絶査定不服審判の請求がなされるとともに、平成１９年６月１１日付で手続補正がなされたものである。 
　 
第２　平成１９年６月１１日付けの手続補正についての補正の却下の決定 
　
【補正の却下の決定の結論】 
　平成１９年６月１１日付の手続補正（以下、「本件補正」という。）を却下する。 
　　 
【決定の理由】
［１］本件補正の内容 
　　本件補正は、特許請求の範囲を、次の（１−１）から次の（１−２）のとおりに補正するものである。 　 
（１−１） 
「【請求項１】
  透明な基材上に電磁波遮蔽膜が３〜６層積層された電磁波遮蔽積層体であって、
  前記電磁波遮蔽膜が、前記基材側から順に、屈折率が２．０以上である物質からなる第１の高屈折率層、
  酸化亜鉛を主成分とする第１の酸化物層、
  銀を主成分とする導電層
  および屈折率が２．０以上である物質からなる第２の高屈折率層を有し、前記第１および／または第２の高屈折率層が酸化ニオブを主成分とする層であり、
前記第１および第２の高屈折率層は、各々幾何学的膜厚が２０〜５０ｎｍであることを特徴とする電磁波遮蔽積層体。
【請求項２】
  前記電磁波遮蔽膜が、前記導電層と前記第２の高屈折率層との間に、
  第２の酸化物層を有する請求項１に記載の電磁波遮蔽積層体。
【請求項３】
  前記導電層における銀の含有量が９９．８原子％以上である請求項１または２に記載の電磁波遮蔽積層体。
【請求項４】
  前記第２の酸化物層が酸化亜鉛を主成分とする酸化物層である請求項２または３に記載
の電磁波遮蔽積層体。
【請求項５】
  前記電磁波遮蔽膜が、前記基材側から２以上積層された請求項１〜４のいずれか一項に記載の電磁波遮蔽積層体。
【請求項６】
  透明な基材上に電磁波遮蔽膜が３〜６層積層された電磁波遮蔽積層体であって、
  前記電磁波遮蔽膜が、前記基材側から順に、屈折率が２．０以上である物質からなる第１の高屈折率層、
  酸化亜鉛を主成分とする第１の酸化物層、
  銀を主成分とする導電層
  および屈折率が２．０以上である物質からなる第２の高屈折率層を有し、  前記電磁波遮蔽膜間で直接接する前記第１の高屈折率層と前記第２の高屈折率層が一括して成膜された１つの層からなり、
  前記第１および第２の高屈折率層がそれぞれ酸化ニオブを主成分とする幾何学的膜厚が２０〜５０ｎｍの層であることを特徴とする電磁波遮蔽積層体。
【請求項７】
  前記各電磁波遮蔽膜が、前記導電層と前記第２の高屈折率層との間に、
  第２の酸化物層を有する請求項６に記載の電磁波遮蔽積層体。
【請求項８】
  画像を表示するためのディスプレイ画面と、
  該ディスプレイ画面の視認側に設けられた請求項１〜７のいずれか一項に記載の電磁波遮蔽積層体とを備えることを特徴とするディスプレイ装置。」　
（１−２） 
「【請求項１】
  透明な基材上に電磁波遮蔽膜が３〜６層積層された電磁波遮蔽積層体であって、
  前記電磁波遮蔽膜が、前記基材側から順に、屈折率が２．０以上である物質からなる第１の高屈折率層、
  酸化亜鉛を主成分とする第１の酸化物層、
  銀を主成分とする導電層
  および屈折率が２．０以上である物質からなる第２の高屈折率層を有し、  前記導電層は前記第１の酸化物層に直接接し、
  前記第１および／または第２の高屈折率層が酸化ニオブを主成分とする層であり、
  前記第１および第２の高屈折率層は、各々幾何学的膜厚が２０〜５０ｎｍであることを特徴とする電磁波遮蔽積層体。
【請求項２】
  前記電磁波遮蔽膜が、前記導電層と前記第２の高屈折率層との間に、第２の酸化物層を有する請求項１に記載の電磁波遮蔽積層体。
【請求項３】
  前記導電層における銀の含有量が９９．８原子％以上である請求項１または２に記載の電磁波遮蔽積層体。
【請求項４】
  前記第２の酸化物層が酸化亜鉛を主成分とする酸化物層である請求項２または３に記載の電磁波遮蔽積層体。
【請求項５】
  前記電磁波遮蔽膜が、前記基材側から２以上積層された請求項１〜４のいずれか一項に記載の電磁波遮蔽積層体。
【請求項６】
  透明な基材上に電磁波遮蔽膜が３〜６層積層された電磁波遮蔽積層体であって、
  前記電磁波遮蔽膜が、前記基材側から順に、屈折率が２．０以上である物質からなる第１の高屈折率層、
  酸化亜鉛を主成分とする第１の酸化物層、
  銀を主成分とする導電層
  および屈折率が２．０以上である物質からなる第２の高屈折率層を有し、  前記導電層は前記第１の酸化物層に直接接し、
  前記電磁波遮蔽膜間で直接接する前記第１の高屈折率層と前記第２の高屈折率層が一括して成膜された１つの層からなり、
  前記第１および第２の高屈折率層がそれぞれ酸化ニオブを主成分とする幾何学的膜厚が２０〜５０ｎｍの層であることを特徴とする電磁波遮蔽積層体。
【請求項７】
  前記各電磁波遮蔽膜が、前記導電層と前記第２の高屈折率層との間に、第２の酸化物層を有する請求項６に記載の電磁波遮蔽積層体。
【請求項８】
  画像を表示するためのディスプレイ画面と、
  該ディスプレイ画面の視認側に設けられた請求項１〜７のいずれか一項に記載の電磁波遮蔽積層体とを備えることを特徴とするディスプレイ装置。」　
［２］本件補正の適否
　本件補正は、補正前の特許請求の範囲の請求項１及び請求項６において、「前記導電層は前記第１の酸化物層に直接接し、」との記載事項を新たに付加し、補正前の「酸化亜鉛を主成分とする第１の酸化物層、銀を主成分とする導電層」について、「酸化亜鉛を主成分とする第１の酸化物層」と「銀を主成分とする導電層」との具体的な層構造の関係を特定するものであるから、発明を特定するために必要な事項を限定するものであり、また、本件補正後の請求項１及び請求項６に記載された発明は、本件補正前の請求項１及び請求項６に記載された発明と発明の産業上の利用分野及び解決しようとする課題を一にするものであるから、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項第２号に掲げる「特許請求の範囲の減縮（第３６条第５項の規定により請求項に記載した発明を特定するために必要な事項を限定するものであって、その補正前の当該請求項に記載された発明とその補正後の当該請求項に記載される発明の産業上の利用分野及び解決しようとする課題が同一であるものに限る。）」を目的とするものに該当する。      
　そこで、本件補正後の前記請求項６に記載された発明（以下、「本願補正発明６」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか）について以下に検討する。
　
＜独立特許要件についての検討＞
　
［２−１］刊行物及び刊行物の主な記載事項
　原査定の拒絶の理由に引用文献１として引用された、「特開２０００−５９０８２号公報」（以下、「刊行物１」という。）、引用文献２として引用された「特表２００２−５３５７１３号公報」（以下、「刊行物２」という。）、及び、引用文献４として引用された「特開２０００−２９４９８０号公報」（以下、「刊行物３」という。）には、次の事項が記載されている。　
（１）刊行物１：特開２０００−５９０８２号公報
　
（１ａ）「【特許請求の範囲】
【請求項１】  透明基板の一方の面に電磁波遮断膜が被覆された電磁波遮断板と、前記電磁波遮断膜面に設けられた保護膜とを有する電磁波フィルタであって、前記電磁波遮断膜を、透明基板側から５５０ｎｍの波長における屈折率が１．７〜２．７の誘電体層と銀主成分層をこの順に交互に積層した９層の積層体とし、前記銀主成分層の厚みを５〜２０ｎｍとすることにより、前記電磁波遮断膜のシート抵抗を２Ω／□以下、かつ、波長８５０ｎｍにおける近赤外線透過率を１５％以下としたことを特徴とするプラズマディスプレイパネル用の電磁波フィルタ。
【請求項２】  前記銀主成分層は、銀に対して０．１原子％以上０．５原子％未満のパラジウムを含有させたことを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル用の電磁波フィルタ。
　・・・
　（中略）
　・・・
【請求項１１】  前記誘電体層を、酸化錫主成分層と酸化亜鉛主成分層の多層積層体とし、銀主成分層に接する層を酸化亜鉛主成分層としたことを特徴とする請求項１〜１０のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル用の電磁波フィルタ。
【請求項１２】  前記誘電体層の最外層を酸化錫層としたことを特徴とする請求項１１に記載のプラズマディスプレイパネル用の電磁波フィルタ。」
　
（１ｂ）「【００３４】なかでも導電性である酸化亜鉛は、銀主成分層に下地として積層すると、酸化亜鉛の結晶格子のピッチが銀のそれと非常に近いため比抵抗の低い（結晶性の高い）銀の膜成長に適しているので好ましい。また酸化亜鉛は、雰囲気中の銀に対する腐食性ガスに含まれる硫黄成分などを吸着して硫黄成分の銀層への直接到達を妨げ、銀層を保護するので好ましい。また、酸化亜鉛にアルミニウムやガリウムなどの金属を少量含有させた酸化亜鉛主成分層は、導電性が増加するので、また後述する成膜時において利点があるので好ましい。
【００３５】酸化錫やインジウムと亜鉛の複合酸化物は、導電性があり、かつ非晶質の膜とすることができるので腐食性ガスに対するガスバリヤ性が高く、電磁波遮断膜の耐湿熱性を向上させるので好ましい。これらは大気などの環境中の腐食性ガスたとえばＨ2Ｓ、ＳＯ2、ＮＯx、ＨＣlなどから銀層を保護する点でも好ましい。
【００３６】上記理由から、本発明の誘電体層について、その最表面層または各層を酸化錫と酸化亜鉛あるいは酸化錫とアルミニウム含有酸化亜鉛（ＺＡＯと略記する）の２層構成とするのが好ましい。この場合、銀層に下地として接する膜を酸化亜鉛系の膜とするのが上記結晶格子の関係から好ましい。」
　
（１ｃ）「【００５０】以下に本発明を実施例と比較例により説明する。
表１〜表４の説明
・ガラス板：厚み２ｍｍのソーダライムシリカ組成のフロートガラス板
・ＺＡＯ：６重量％のアルミニウムを含有する酸化亜鉛層
・ＡｇＰｄ０．４：銀に対してパラジウムを０．４原子％含有する銀主成分層
・（  ）内の数値は厚みで、電磁波遮断膜はｎｍ単位、粘着層および保護膜はμｍ単位で表示。
・第１、第３、第５、第７、第９層目の誘電体層の多層構成は、透明基板に近い順に上から下へ記載した。」
　
（１ｄ）「【表１】、【表２】
構成　　　　実施例１・・・　実施例６　　　　実施例７
透明基板　　ガラス板　　　　ガラス板　　　　ガラス板
第１層　　　SnO2(34)　　　　SnO2(40)　　　　SnO2(26)
　　　　　　ZAO(7)　　　　　ZAO(12)　　　　ZAO(6)
第２層　　　AgPd0.4(10)　　　AgPd0.4(10)　　AgPd0.4(10)
第３層　　　ZAO(7)　　　　　ZAO(8)　　　　　ZAO(5)
　　　　　　SnO2(62)　　　　SnO2(73)　　　　SnO2(45)
　　　　　　ZAO(7)　　　　　ZAO(8)　　　　　ZAO(5)
第４層　　　AgPd0.4(11)　　　AgPd0.4(11)　　AgPd0.4(11)
第５層　　　ZAO(7)　　　　　ZAO(8)　　　　　ZAO(5)
　　　　　　SnO2(60)　　　　SnO2(71)　　　　SnO2(44)
　　　　　　ZAO(7)　　　　　ZAO(8)　　　　　ZAO(5)
第６層　　　AgPd0.4(11)　　　AgPd0.4(11)　　AgPd0.4(11)
第７層　　　ZAO(7)　　　　　ZAO(8)　　　　　ZAO(5)
　　　　　　SnO2(62)　　　　SnO2(73)　　　　SnO2(45)
　　　　　　ZAO(7)　　　　　ZAO(8)　　　　　ZAO(5)
第８層　　　AgPd0.4(10)　　　AgPd0.4(10)　　AgPd0.4(10)
第９層　　　ZAO(7)　　　　　ZAO(8)　　　　　ZAO(5)
　　　　　　SnO2(32)　　　　SnO2(38)　　　　SnO2(23)」
　
（２）刊行物２：特表２００２−５３５７１３号公報
　
（２ａ）「【００１２】
　・・・本発明の１つの目的は、プラズマディスプレイパネルと共に使用するフィルム又はフィルタを提供することである。
本発明の別の目的は、反射防止のＥＭＩ遮蔽、明暗の向上、及び赤外線遮蔽能力を提供し且つ消費者の安全性の基準にも適合する、プラズマディスプレイパネルフィルタを提供することである。
　【００１３】
　本発明の更に別の目的は、１つ又は２つ以上の導電膜と、その後、第二の基板に積層するため透明な基板上に形成された１つ又は２つ以上の誘電層とを有するプラズマディスプレイパネルフィルタを提供することである。」
　
（２ｂ）「【０００７】
　遮蔽膜の好ましい実施の形態は、導電性材料から成る１つ又は２つ以上の層と、これと交番的に配置される誘電体の１つ又は２つ以上の層とを備えている。導電性材料は、銀材料が好ましいが、特に、銀、銅、金及びインジウムスズ酸化物のような、色々な導電性金属又はその他の材料を含むことができる。誘電材は、ニオブ五酸化物が好ましいが、特に、ニオブ五酸化物、二酸化チタン、スズ酸化物のような色々な材料を含むことができる。」
　
（２ｃ）「【００２７】
・・・
具体的には、フィルム２７は、４つの誘電層５０、５４、５８、６１と、互いに挿置した３つの導電層５１、５５、５９とを有している。
      【００２８】
  図３を参照すると、層５０、５４、５８、６１は、少なくとも１．７、好ましくは約２．２乃至２．８の屈折率を有する比較的高屈折率の誘電材である。」
　
（３）刊行物３：特開２０００−２９４９８０号公報
　
（３ａ）「【特許請求の範囲】
【請求項１】  透明基板の一方の面に、前記透明基板側から誘電体層と銀層とがこの順に交互に繰り返し積層された（２ｎ＋１（ｎ≧１））層の積層体を含む透光性電磁波遮断膜が被覆された電磁波遮断膜付き基板において、前記誘電体層は、５５０ｎｍの波長における屈折率が１．６〜２．７の帯電防止性金属酸化物層を含むことを特徴とする透光性電磁波フィルタ。
　・・・
　（中略）
　・・・
【請求項８】  前記帯電防止性金属酸化物層を、モリブデンを含む主成分が酸化ニオブの層で構成したことを特徴とする請求項１または２に記載の透光性電磁波フィルタ。」
　
（３ｂ）「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、陰極線管（ＣＲＴ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）、プラズマディスプレイパネル等の表示装置の前面に設置して、表示装置から放出される電磁波をカットする電磁波フィルタおよびその製造方法に関する。」
　
（３ｃ）「【００４１】本発明の誘電体層を形成する金属酸化物層は、５５０ｎｍの波長における屈折率が１．６〜２．７の帯電防止性の金属酸化物を含むことが必要である。本発明で用いられる金属酸化物層の主成分は、酸化インジウム、酸化錫、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化ニオブ、酸化チタニウムが例示できる。これらの金属酸化物に少量の金属酸化物を添加させて半導体的性質を付与し、帯電防止性を付与する。好ましい帯電防止性を確保するための層の比抵抗は５Ωｃｍ以下であるのが好ましい。０．５Ωｃｍ以下であるのがより好ましく、０．０５Ωｃｍ以下であるのがさらに好ましい。」
　
［２−２］本願補正発明６についての当審の判断 
　
（１）刊行物１に記載された発明   
　刊行物１の（１ａ）の「【請求項１】  透明基板の一方の面に電磁波遮断膜が被覆された電磁波遮断板と、前記電磁波遮断膜面に設けられた保護膜とを有する電磁波フィルタであって、前記電磁波遮断膜を、透明基板側から５５０ｎｍの波長における屈折率が１．７〜２．７の誘電体層と銀主成分層をこの順に交互に積層した９層の積層体とし、前記銀主成分層の厚みを５〜２０ｎｍとすることにより、前記電磁波遮断膜のシート抵抗を２Ω／□以下、かつ、波長８５０ｎｍにおける近赤外線透過率を１５％以下としたことを特徴とするプラズマディスプレイパネル用の電磁波フィルタ。」との記載によれば、刊行物１には、「透明基板の一方の面に電磁波遮断膜が被覆された電磁波遮断板」が記載されており、前記電磁波遮断膜は、透明基板側から５５０ｎｍの波長における屈折率が１．７〜２．７の誘電体層と銀主成分層をこの順に交互に積層した９層の積層体、すなわち、透明基板側から前記誘電体層の５層と銀主成分層の４層とをこの順に交互に積層した積層体であるということがいえる。
　
　そして、（１ａ）の「【請求項１１】  前記誘電体層を、酸化錫主成分層と酸化亜鉛主成分層の多層積層体とし、銀主成分層に接する層を酸化亜鉛主成分層としたことを特徴とする請求項１〜１０のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル用の電磁波フィルタ。【請求項１２】  前記誘電体層の最外層を酸化錫層としたことを特徴とする請求項１１に記載のプラズマディスプレイパネル用の電磁波フィルタ。」との記載によれば、前記電磁波遮断膜の前記誘電体層は、酸化錫主成分層と酸化亜鉛主成分層の多層積層体であり、前記銀主成分層に直接接する層を酸化亜鉛主成分層とし、また、最外層を酸化錫層とするものであるから、これらの具体的な積層関係の態様を示す、（１ｄ）の表１、表２の実施例１、６及び７の記載を合わせ見ると、前記電磁波遮断膜は、透明基板側から順に第１〜９層よりなり、第１、３、５、７、９層が「誘電体層」であり、第２、４、６、８層が「銀主成分層」であり、第１層が、順に「酸化錫主成分層」、「酸化亜鉛主成分層」、第３〜７層が、順に「酸化錫主成分層」、「酸化亜鉛主成分層」、「酸化錫主成分層」、第９層が、順に「酸化亜鉛主成分層」、「酸化錫主成分層」である。
　
　ここで、前記電磁波遮断膜を、前記透明基板側から順に整理すると、前記電磁波遮断膜は、「前記透明基板側から順に、誘電層である酸化錫主成分層、酸化亜鉛主成分層、銀主成分層、酸化亜鉛主成分層を積層する積層体」を積層単位として、順に４層の同一構造の積層単位、すなわち、同一構造の第１の積層単位、第２の積層単位、第３の積層単位、及び、第４の積層単位を積層し、最外層に酸化錫主成分層を積層するものであり、前記銀主成分層は、前記酸化亜鉛主成分層に直接接するものである。
　また、（１ｄ）の実施例１、６及び７における酸化錫主成分層の括弧内の数値は、（１ｃ）によれば、ｎｍ単位で示される膜厚値であり、前記第１の積層単位の酸化錫主成分層は、各実施例の第１層の酸化錫主成分層であるから、その膜厚は、２６ｎｍ〜４０ｎｍであり、前記第２〜第４の積層単位の酸化錫主成分層は、それぞれ各実施例の第３層、第５層及び第７層の酸化錫主成分層であるから、その膜厚は、４４〜７３ｎｍであり、最外層の酸化錫主成分層は、各実施例の第９層の酸化錫主成分層であるから、その膜厚は、２３ｎｍ〜３８ｎｍであるということができる。
　
　また、プラズマディスプレイの電磁波フィルタの分野において、１．７〜２．７の屈折率を有する材料は、高屈折率材料にあたることは、技術常識であるから（要すれば、刊行物２の（２ｃ）、特開平１１−７７８７３号公報の【００１１】を参照。）、前記「屈折率が１．７〜２．７の誘電体層である酸化錫主成分層」は、「屈折率が１．７〜２．７の高屈折率誘電体層」である「酸化錫主成分層」ということができる。
　
　以上の記載及び認定事項について、前記積層単位の酸化亜鉛主成分層を透明基板に近い順に番号を付することにより区別した上で、本願補正発明の記載ぶりに則り整理すると、刊行物１には、次の発明が記載されているといえる。
　
「透明基板の一方の面に電磁波遮断膜が被覆された電磁波遮断板であって、　前記電磁波遮断膜は、前記透明基板側から順に、屈折率が１．７〜２．７の高屈折率誘電体層、
　第１の酸化亜鉛主成分層、
　銀主成分層、
　第２の酸化亜鉛主成分層から成り、
　前記銀主成分層は、前記酸化亜鉛主成分層に直接接しており、
　前記高屈折率誘電体層が酸化錫主成分層である積層体を積層単位とし、
　第１の積層単位から第４の積層単位までの４層を積層し、さらに、最外層に屈折率が１．７〜２．７の高屈折率誘電体層を有し、該高屈折率誘電体層が酸化錫主成分層であり、
　前記第１の積層単位の前記高屈折率誘電体層である酸化錫主成分層の膜厚は、２６ｎｍ〜４０ｎｍであり、
　前記第２〜第４の積層単位のそれぞれの前記高屈折率誘電体層である酸化錫主成分層の膜厚は、４４ｎｍ〜６６ｎｍであり、
　前記最外層の前記高屈折率誘電体層である酸化錫主成分層の膜厚は、２３ｎｍ〜３８ｎｍである、電磁波遮断板。」
　
（２）本願補正発明６と刊行物１発明との対比
　本願補正発明６と刊行物１発明とを対比すると、刊行物１発明の「透明基板」、「電磁波遮断板」は、それぞれ、本願補正発明６の「透明な基材」、「電磁波遮蔽積層体」に相当する。
　また、本願補正発明６の「幾何学的膜厚」とは、実際の膜厚をいうことは技術常識であるから、刊行物１発明の「膜厚」と、本願補正発明６の「幾何学的膜厚」とは一致する。
　
　また、本願補正発明６の各電磁波遮蔽膜と刊行物１発明の各積層単位を対比すると、刊行物１発明は、第１〜第４の積層単位を有するから、本願補正発明６において、電磁波遮蔽膜が４層積層された電磁波遮蔽積層体に対応するものといえる。
　そして、刊行物１発明の第１の積層単位の、高屈折率誘電体層と、第１の酸化亜鉛主成分層と、銀主成分層とは、それぞれ、本願補正発明６の１層目の電磁波遮蔽膜の、第１の高屈折率層と、酸化亜鉛を主成分とする第１の酸化物層と、銀を主成分とする導電層とに対応し、刊行物１発明の第２の積層単位の、第１の酸化亜鉛主成分層と、銀主成分層とは、それぞれ、本願補正発明６の２層目の電磁波遮蔽膜の、酸化亜鉛を主成分とする第１の酸化物層と、銀を主成分とする導電層とに対応し、よって、刊行物１発明の第２の積層単位の高屈折率誘電体層は、本願補正発明６の１層目の電磁波遮蔽膜の第２の高屈折率層及び２層目の電磁波遮蔽膜の第１の高屈折率層に対応するものといえる。
　
　そこで、刊行物１発明の第１の積層単位の高屈折率誘電体層と本願補正発明６の１層目の電磁波遮蔽膜の第１の高屈折率層を対比すると、前者の膜厚は２６ｎｍ〜４０ｎｍであり、また、後者の膜厚は、２０〜５０ｎｍであるから、両者は、いずれも高屈折率層であって、膜厚の点においても一致するものである。
　また、刊行物１発明の第２の積層単位の高屈折率誘電体層は、前記したとおり、本願補正発明６の１層目の電磁波遮蔽膜の第２の高屈折率層及び２層目の電磁波遮蔽膜の第１の高屈折率層に対応するところ、刊行物１発明の第２の積層単位の高屈折率誘電体層の膜厚は、４４ｎｍ〜６６ｎｍであるのに対し、それに対応する本願補正発明６の１層目の電磁波遮蔽膜の第２の高屈折率層及び２層目の電磁波遮蔽膜の第１の高屈折率層の膜厚は、それぞれ、２０〜５０ｎｍであるから、その和は、４０ｎｍ〜１００ｎｍであり、両者は膜厚において一致するものであって、しかも、本願補正発明６の１層目の電磁波遮蔽膜の第２の高屈折率層と２層目の電磁波遮蔽膜の第１の高屈折率層は、直接接しており、一括して成膜されるもの、すなわち、一層で形成されるものであるから、両者は層構造においても一致するものである。
　そして、かかる点は、刊行物１発明の第３の積層単位の高屈折率誘電体層と、本願補正発明６の２層目の電磁波遮蔽膜の第２の高屈折率層及び３層目の電磁波遮蔽膜の第１の高屈折率層との関係、並びに、刊行物１発明の第４の積層単位の高屈折率誘電体層と、本願補正発明６の３層目の電磁波遮蔽膜の第２の高屈折率層及び４層目の電磁波遮蔽膜の第１の高屈折率層との関係についても同様である。
　また、刊行物１発明の最外層の前記高屈折率誘電体層は、本願補正発明６の４層目の電磁波遮蔽膜の第２の高屈折率層に対応し、前者の膜厚は、２３ｎｍ〜３８ｎｍであり、また、後者の膜厚は、２０〜５０ｎｍであるから、両者は、いずれも高屈折率層であって、膜厚の点においても一致しているものといえる。
　
　次に、本願補正発明６の「酸化亜鉛を主成分とする第１の酸化物層」と、その対応関係にある、刊行物１発明の「酸化亜鉛主成分層」とを対比する。　刊行物１発明の「酸化亜鉛主成分層」は、（１ｂ）の記載によれば、「酸化亜鉛にアルミニウムやガリウムなどの金属を少量含有させた酸化亜鉛主成分層」であり、「アルミニウム含有酸化亜鉛（ZAOと略記する）」を含み、その組成は、（１ｃ）の「表１〜表４の説明　・・・　ＺＡＯ：６重量％のアルミニウムを含有する酸化亜鉛層」との記載によれば、酸化亜鉛を９４重量％含有するから、原子比換算では、９０原子％程度を含有するものであるところ、本願補正発明６の「酸化亜鉛を主成分とする第１の酸化物層」は、本願明細書の「【００２９】酸化亜鉛を主成分とする物質とは、酸化亜鉛が８０原子％以上、好ましくは９０原子％以上含まれることを意味する。具体的には、実質的に酸化亜鉛（ＺｎＯ）のみからなるものであってもよい」との記載によれば、酸化亜鉛が８０原子％以上を含むものを意味するのであるから、本願補正発明６の酸化亜鉛を主成分とする第１の酸化物層と刊行物１発明の酸化亜鉛主成分層とは一致する。
　
　また、同様に、本願補正発明６の「銀を主成分とする導電層」と、その対応関係にある、刊行物１発明の「銀主成分層」とを対比する。
　刊行物１発明の「銀主成分層」は、（１ａ）の「【請求項２】前記銀主成分層は、銀に対して０．１原子％以上０．５原子％未満のパラジウムを含有させた」との記載によれば、銀に対して、パラジウムを原子％にて、０．１原子％以上０．５原子％未満の範囲で添加したものであるから、銀の含有量は、９９．５原子％以上９９．９原子％以下であるところ、本願補正発明６の「銀を主成分とする導電層」は、本願明細書の「【００４１】（導電層）・・・ここで、銀を主成分とする物質とは、該物質に含まれる全金属に対して、銀の含有量が９９．８原子％以上であることを意味する。銀を主成分とする物質としては、銀単体、銀にパラジウム、白金、金、イリジウム、ロジウム、銅およびビスマスから選ばれる少なくとも一種の金属が混入している合金が挙げられる。」との記載によれば、銀の含有量が、９９．８原子％以上の銀−パラジウム合金を含むものであるから、本願補正発明６の「銀を主成分とする導電層」と刊行物１発明の「銀主成分層」とは一致する。
　
　そうすると、本願補正発明６と刊行物１発明とは、
「透明な基材上に電磁波遮蔽膜が４層積層された電磁波遮蔽積層体であって、
  前記電磁波遮蔽膜が、前記基材側から順に、第１の高屈折率層、
  酸化亜鉛を主成分とする第１の酸化物層、
  銀を主成分とする導電層
  および第２の高屈折率層を有し、
  前記導電層は前記第１の酸化物層に直接接し、
  前記第１および第２の高屈折率層は、各々幾何学的膜厚が２０〜５０ｎｍである電磁波遮蔽積層体。」
　である点において一致し、以下の点において相違する。
　
相違点：
　本願補正発明６は、前記第１および第２の高屈折率層が屈折率が２．０以上である酸化ニオブを主成分とする層であるのに対し、刊行物１発明は、前記第１および第２の高屈折率層が酸化錫主成分層である点。
　
（３）相違点についての判断
　
　刊行物２や刊行物３にも記載されているように、プラズマディスプレイフィルタに用いる透光性の電磁波遮断膜を、透明基板側から誘電体層と銀層とをこの順に交互に繰り返して成る積層体とし、屈折率が１．６〜２．７、或いは、１．７〜２．８の高屈折率を有する金属酸化物で成る前記誘電体層の材料として酸化ニオブを用いることは周知（刊行物２の（２ａ）、（２ｂ）、（２ｃ）、刊行物３の（３ａ）（３ｂ）を参照。）であり、しかも、刊行物２の（２ｂ）や刊行物３の（３ｃ）には、前記酸化ニオブと同様に酸化錫が用いられることも記載されている。
　そうすると、刊行物１発明と同じくプラズマディスプレイの電磁波フィルタの技術分野に属する、刊行物２、刊行物３に記載された周知技術を刊行物１発明に適用し、屈折率が１．７〜２．７の高屈折率誘電体層を酸化錫主成分層に代えて酸化ニオブ主成分層とすることは、当業者が容易に想到し得たものである。　
　よって、前記相違点は、当業者が容易になし得たものである。
　
（４）小括
　したがって、本願補正発明６は、刊行物１発明に刊行物２、３に記載された周知技術を組み合わせることにより当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際に独立して特許を受けることができないものである。
　
［２−３］むすび
　以上のとおり、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する特許法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
第３　本願発明についての審決
　
［１］本願発明
　
　平成１９年６月１１日付けの手続補正は上記のとおり却下されたので、本願発明は、平成１９年３月１２日付けで補正された明細書の特許請求の範囲の請求項１〜８に記載された事項により特定されたものであるところ、その請求項６に係る発明は、次のとおりのものである。
「透明な基材上に電磁波遮蔽膜が３〜６層積層された電磁波遮蔽積層体であって、
  前記電磁波遮蔽膜が、前記基材側から順に、屈折率が２．０以上である物質からなる第１の高屈折率層、
  酸化亜鉛を主成分とする第１の酸化物層、
  銀を主成分とする導電層
  および屈折率が２．０以上である物質からなる第２の高屈折率層を有し、  前記電磁波遮蔽膜間で直接接する前記第１の高屈折率層と前記第２の高屈折率層が一括して成膜された１つの層からなり、
　前記第１および第２の高屈折率層がそれぞれ酸化ニオブを主成分とする幾何学的膜厚が２０〜５０ｎｍであることを特徴とする電磁波遮蔽積層体。」（以下、「本願発明６」という。）
  　
［２］原査定の理由の概要
　原審における拒絶査定の理由は、本願の請求項１〜８に係る発明は、その出願前日本国内又は外国において頒布された次の引用文献１〜４に記載された発明に基いて、その出願前のその発明の属する技術分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができない、というものである。
　
　引用文献１：特開２０００−５９０８２号公報（「刊行物１」）
　引用文献２：特表２００２−５３５７１３号公報（「刊行物２」）
　引用文献３：特開２００２−６１０６号公報
　引用文献４：特開２０００−２９４９８０号公報（「刊行物３」）
　
［３］刊行物の主な記載事項及び刊行物１発明の認定
　原査定の拒絶の理由に引用された刊行物１（特開２０００−５９０８２号公報）、刊行物２（特表２００２−５３５７１３号公報）、刊行物３（特開２０００−２９４９８０号公報）の主な記載事項は、前記「第２　【決定の理由】［２−１］」に記載したとおりである。
　また、刊行物１発明は、前記「第２　【決定の理由】［２−２］（１）」に記載したとおりである。
　
［４］当審の判断    
　前記「第２　【決定の理由】［２−２］」において、その独立特許要件を検討した本願補正発明６は、前記「第２　【決定の理由】［１］」に示すとおり、本願発明において、「酸化亜鉛を主成分とする第１の酸化物層、銀を主成分とする導電層」について、「前記導電層は前記第１の酸化物層に直接接し、」と特定することにより、発明を特定するために必要な事項を限定するものであり、そして、このように発明を特定するために必要な事項をより狭い範囲に限定的に減縮した本願補正発明６が、刊行物１発明、及び、刊行物２、刊行物３に記載された前記周知技術に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであると認められることは、前記「第２　【決定の理由】［２−２］」に示すとおりであるから、本願発明６も、「第２　【決定の理由】［２−２］」に記載したと同様の理由により、刊行物１発明、及び刊行物２、刊行物３に記載された前記周知技術に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
［５］むすび
　以上のとおり、本願発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、その余の発明について検討するまでもなく、本願は、拒絶すべきでものである。 
　
　よって、結論のとおり審決する。