【事件の表示】
　特願２００５−１４９６２６「質量分析装置およびその使用方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１８年１２月　７日出願公開、特開２００６−３２９６６２〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯 
　本願は，平成１７年５月２３日に特許出願されたものであって，平成２０年６月２７日付けで拒絶査定がされ，これに対し，同年７月３１日に拒絶査定不服審判の請求がなされるとともに，同年８月２９日付けで手続補正がなされたものである。さらに，平成２１年１２月１０日付けで審尋がなされ，回答書が平成２２年２月２日付けで請求人より提出されたものである。
　
　
第２　平成２０年８月２９日付けの手続補正（以下，「本件補正」という。）についての補正却下の決定 
　
 　［補正却下の決定の結論］ 
 　　平成２０年８月２９日付けの手続補正を却下する。 
　
 　［理由］ 
１　補正後の請求項１に記載された発明　
　
　本件補正は，特許請求の範囲の請求項１を，平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前（以下，「平成１８年改正前」という。）の特許法第１７条の２第４項第２号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的として，次のとおりに補正するものである。　
　
「【請求項１】
　
分析対象ガスが存在する真空装置に装着される
　前記電気系部に，前記測定部の操作部および測定結果の表示部が配設されていることを特徴とする質量分析装置。」
　
　そこで，補正後の請求項１に係る発明（以下，「補正発明」という。）が特許出願の際に独立して特許を受けることができるものであるか（平成１８年改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか）について，以下検討する。　
　
　
２　引用刊行物の記載事項
　本願出願日前に頒布され，原査定の拒絶の理由において引用された刊行物である特開昭６１−１３０４８５号公報（以下，「引用例１」という。）には，図面とともに，次の事項が記載されている。 
　
（１−ア）
「２．特許請求の範囲
（１）残留ガス分圧をモニタすべき真空チャンバと，該真空チャンバに連通して結合された分析室と，該分析室内を高真空状態に保持する高真空排気系と，上記真空チャンバから上記分析室内に導入された残留ガスの分圧を分析する四重極質量分析計と，上記真空チャンバから上記分析室に導入される残留ガスの分圧を上記四重極質量分析計の分析可能な圧力に変換する圧力変換オリフィスとを備えたことを特徴とする真空モニタ装置。」（第１頁左下欄４〜１３行）
　
（１−イ）
「３．発明の詳細な説明
〔産業上の利用分野〕
　この発明は，膜形成に用いる種々の真空装置，特にスパッタリング装置において，膜形成中の真空の質をモニタする真空モニタ装置に関するものである。」（第１頁左下欄１４〜１９行）
　
（１−ウ）
「〔従来の技術〕
・・・次に動作について説明する。スパッタリング装置により形成される膜の純度は，真空チャンバ１内の残留ガス（Ｈ２Ｏ，Ｎ２，Ｏ２等）により大きく影響される。従って良質な膜を得るためにはこの残留ガスを所定値以下に管理することが必要となる。
　そして第３図に示す従来のスパッタリング装置では，この残留ガス量の管理を電離真空計のような高真空測定用ゲージ８あるいは四重極質量分析計１０により行なっていた。
　即ち，従来のスパッタリン装置において，膜を形成する場合，まず真空チャンバ１内を高真空ボンプ３により排気し，その時の到達真空度を高真空測定用ゲージ８により読み取るか，あるいは四重極質量分析計１０により残留ガス分圧を読み取り，それが所定値（例えば５×１０−７Ｔｏｒｒ）以下であることを確認する。
　次にグロー放電を起こさせるためのＡｒガスを真空チャンバ１内に導入し，ピラニーゲージシュルツ形電離真空形，バラトロンゲージのような低真空測定用ゲージ９によりチャンバｌ内圧力が所定値（例えば２〜２０×１０−３Ｔｏｒｒ）であることを確認する。
　その後，初めてスパッタターゲット２に高電圧を印加してグロー放電を起こし，スパッタリングによる膜形成を行なうようにしていた。」（第１頁左下欄２０行〜第２頁左上欄１４行）
　
（１−エ）
「〔発明が解決しようとする問題点〕
・・・連続型装置のように，真空チャンバ１内にＡｒガスを流し続け，グロー放電を維持しながら膜形成を行なうとともに，ロード用予備排気室４及びアンロード用予備排気室５を利用して基板７を出し入れする方式では，膜形成時の残留ガスはこれを全く管理できないという欠点があった。これは，後者の方式では，真空チャンバ１内は常時Ａｒガスが流れて，２〜２０×１０−３Ｔｏｒｒの圧力となっているので，高真空測定用ゲージ８や四重極質量分析計１０は使用できず，また低真空測定用ゲージ９ではその雰囲気中の５×１０−７Ｔｏｒｒの残留ガス（全体の圧力の２５〜２５０ｐｐｍに相当）を全く検知できないためである。
　この発明は上記のような従来のものの欠点を除去するためになされたもので，真空チャンバ内の残留ガスを正確にモニタできる真空モニタ装置を堤供することを目的としている。」（第２頁左上欄１５行〜同頁右上欄１７行）
　
（１−オ）
「〔問題点を解決するための手段〕
　この発明に係る真空モニタ装置は，高真空排気系を有する分析室を圧力変換オリフィスを介して真空チャンバに結合し，この分析室内に四重極質量分析計を配設するようにしたものである。」（第２頁右上欄１８行〜同頁左下欄２行）
　
（１−カ）
「〔実施例〕
　以下，本発明の実施例を図について説明する。
　第２図は本発明の一実施例による真空モニタ装置を示す。図において，１は残留ガス分圧をモニタすべき真空チャンバ，１２は真空チャンバ１に連通して結合された分析室，１３は真空チャンバ１と分析室１３との間に設けられた仕切り弁，１４は真空チャンバ１と分析室１２との間に圧力差を設けるための圧力変換オリフィス，１５は分析室１２を高真空状態に保持する排気用高真空ポンプ（高真空排気系），１６は分析室ベーキング用ヒータ，１０は分析室１２に取付けられた四重極質量分析計，１７は四重極質量分析計１０の出力信号が設定値以上となった場合にアラームを発するアラーム回路である。」（第２頁左下欄９行〜同頁右下欄３行）
　
（１−キ）
「次に作用効果について説明する。
　真空チャンバ１内の残留ガス（Ｈ２Ｏ，Ｎ２，Ｏ２等）分圧を測定できる四重極質量分析計１０の動作圧力上限は，およそ２×１０−５Ｔｏｒｒ程度であるのに対し，スパッタリング中の真空チャンバ１内圧力は２〜２０×１０−３Ｔｏｒｒ程度で，四重極質量分析計１０の動作圧力上限に比し１００〜１０００倍高い圧力である。
　例えば，真空チャンバ１内圧力が１０ｍＴｏｒｒの場合を考えてみる。四重極質量分析計１０を２×１０−５Ｔｏｒｒで動作させるためには，真空チャンバ１内圧力を１／５００におとす必要があり，そのためには真空チャンバ１とは別の分析室１２を設け，その間に圧力変換用オリフィス１４を入れ，分析室１２内を高真空ポンプ１５で排気すればよい。
・・・
　そして本装置においては，真空チャンバ１内がスパッタリング時の圧力であっても，四重極質量分析計１０によって残留ガス分析が行なわれ，四重極質量分析計１０の各残留ガス分圧の出力信号値はアラーム回路１７で処理されて管理限界値に相当する設定電圧と比較され，スパッタリング中の突発的なリーク，予備排気室から過度の残留ガスの混入等が検知されるとアラームが発せられ，又アラーム回路１７の出力によってスパッタリング装置の電源（図示せず）がｏｆｆされることとなる。」（第２頁右下欄４行〜第３頁右上欄３行）
　
（１−ク）
「また本装置では，アラーム回路で四重極質量分析計の出力を処理してアラームを発するようにしたので，残留ガスの管理が容易であり，しかもアラーム回路の出力によって装置の電源を自動的にｏｆｆする等の処理が可能となって装置及び膜質の信頼性を保証できる。
　なお上記実施例では１つの残留ガス（例えばＨ２Ｏ）分圧のみをモニタする場合について示したが，第２図に示すように，四重極質量分析計１０から一定時間毎に出力される複数の残留ガス（例えば，Ｈ２Ｏ，Ｎ２，Ｏ２，Ａｒ，Ｈ２）分圧を時分割回路１８で処理し，各々の残留ガス分圧についてアラーム回路１７を設けるようにすれば，真空に関するトラブル発生時の診断，及び対策が容易となる。例えば，Ｎ２によるアラームの場合はエアー・リーク，Ｈ２Ｏの場合は水のリークあるいは予備排気室からの大量の残留ガスの持ち込みなどが考えられる。さらにＡｒの残留ガス分圧をモニタし，Ａｒ流量コントロール系１１にフィードバックすることによりＡｒ圧力のコントロールも可能となり，トータル的な真空モニタシステムとなる。」（第３頁右上欄１２行〜同頁左下欄１３行）
　
　以上の記載を総合すると，上記引用例には，次の発明が開示されていると認められる。　
「残留ガス分圧をモニタすべき真空チャンバ１と，該真空チャンバ１に連通して結合された分析室１２と，該分析室１２に取付けられた四重極質量分析計１０とを備え，四重極質量分析計１０から一定時間毎に出力される複数の残留ガス分圧の出力信号値が，時分割回路１８およびアラーム回路１７で処理されて管理限界値に相当する設定電圧と比較され，スパッタリング中の突発的なリーク，予備排気室から過度の残留ガスの混入等が検知されるとアラームが発せられる真空モニタ装置。」（以下，「引用発明」という。）
　
　また，同様に，本願出願日前に頒布され，原査定の拒絶の理由において引用された刊行物である特開２００２−１４０８０号公報（以下，「引用例２」という。）には，図面とともに，次の事項が記載されている。　
　
（２−ア）
「【００３４】
【発明の実施の形態】実施の形態１
図１はこの発明の実施形態１に係る発電機内部ガスの監視装置を用いて発電機の冷却ガスの監視を行っている状態を示す模式図である。ここでは，発電機２０は，水素冷却式大型タービン発電機である。図１において，監視装置１００は，・・・分離用セパレータ２１により引き出された微粒子を分析するための質量分析装置２２と，・・・構成装置の制御するとともに，質量分析装置２２による分析データの解析を行い，解析結果の表示や過熱判定を行うコンピュータ装置２４と，分離用セパレータ２１，質量分析装置２２およびコンピュータ装置２４が収納された筐体２５と，・・・とを備えている。・・・」
　
　また，本願出願日前に頒布され，原査定において周知例として引用された刊行物である特表平５−５００７２６号公報（以下，「周知例１」という。）には，図面とともに，次の事項が記載されている。
　
（３−ア）
「以上，簡単に述べてきたが，発明の以上の目的およびその他の目的は，サンプル・コンセントレータ−，ガスクロマトグラフ，ガスクロマトグラフ質量分析器インタフェース，等級分析質量分析器，マイクロコンピュータ各１台，ならびにシステムの操作に必要なエレクトロニクスと電源が小型，独立型の単一の格納装置に入り，また搭載コンピュータ・ディスプレイ画面をも含む，小型質量分析器システムを提供することによって達成される。」（第５頁左上欄４〜９行）
　
（３−イ）
「本発明の小型質量分析器１０は，搭載マイクロコンピュータ２４，データ収集装置２６，ならびにコントロール・エレクトロニクス２８によって制御される。」（第７頁左上欄２３〜２４行）
　
（３−ウ）
「マイクロコンピュータ・システム２４は，分析の解析結果を表示するのに使用することができるし，制御診断情報を，たとえばキャリア・ガスの供給および真空のレベルなどを，たとえばそれらの値を平らなプレート・ディスプレイ２１８上に表示するなどの形で表示をすることができる。」（第７頁右上欄１９〜２２行）
　
（３−エ）
「また，後述するが，オペレータが瞬時小型質量分析器システム１０と情報交換を行ったり，その制御を行えるよう，ヒンジ付きフロント・カバー２０５の一部として，標準コンピュータ・タイプのキーボード２２０が提供されている。」（第８頁右上欄２〜４行）
　
（３−オ）
「イオン源３４は，フリンジング・フィールド効果を削減する電界分流器を使用して，電気セクターの一方の端に接続されている。試料の特定のイオン化粒子は，電気セクター３６の２つの平行プレートにより確立された電界３７中を移動する。電気セクター３６は，静電分析器として機能し，イオン源３４により生成されたイオンを偏向させる半径方向電界３７を作り出す。電気セクター３６で発生された偏向は，イオンのエネルギーに比例する。このため，入ってきたときに，エネルギーがわずかに異なるイオンは濾過され，イオンが定められた高いエネルギーを持って電気セクター３６を出るようにしている。イオンは，電気セクター３６を出て，永久磁石アセンブリ４０により形成される磁気分析計に向う。
磁気分析器は，質量対電荷の相対的比率に従って，イオンを分離する。質量分析計システムが高真空に保たれるよう，一体型イオン・ポンプ４２が使用されている。または，必要とされる高真空状態を作るために，高真空ポンプ２２を真空囲い２０，２０ａに外部的に接続してもよい。
永久磁石アセンブリ４０の磁場の中のイオンの軌道は，その運動量に比例するため，イオン源３４の加速電圧を変えることにより，希望の質量のイオンを出口スリット４５を通してイオン探知器４４に送ることができる。
永久磁石アセンブリ４０の磁場を通過するイオンは，その運動量により偏向されるので，わずかに速度（エネルギーの作用）の異なる同じ質量のイオンは，異なる経路をたどる。このため，電気セクターまたは静電分析器３６がない場合，磁気アセンブリ４０により作られる映像幅は広がり，分解能はかなり低くなる。
イオンは，永久磁石アセンブリ４０の磁界を通過し，出口スリット４５を出ると，イオン探知器４４に入る。イオン探知器４４は，イオン電流の相対強度を測定するために使用される。この情報は，アナログ信号からデジタル信号に変換され，データ収集エレクトロニクス２６およびマイクロコンピュータ２４に送られ，処理される。」（第８頁左下欄８〜同頁右下欄６行）
　
（３−カ）
「本発明の質量分析器システム１０は，４種類の異なったサイクル，即ち，モードで操作できる。もちろん，モードを追加することもできる。第１は直接ＭＳモードである。本モードは，通常，大気の複雑な分析というより，むしろ特定の化合物がサンプリングした大気中に存在したかどうかの決定に使用できる。・・・
本モードの場合，通常，オペレータは，化合物Ｘが存在するかどうかを質問する。直接ＭＳモードの場合，オペレータは，数個の選択項目の中から選択してシステム１０に人力できる。第１の選択項目は，求めている化合物である。２番目の選択項目は，化合物の検索に使用したいサンプリングプロセス時間である。この時間は，通常，搭載サンプリングポンプ２０６か，前述の空気吸入システム２２８から空気試料を引き込み，薄膜セパレータｌ６ａを通過して，排出するまでの時間である。サンプリングポンプ２０６は，試料を薄膜１６ａを通過させるために使用される。図１４および図の説明に記載の通り，オペレータが選択する試料サイクルに応じて，コンピュータ２４がコントロールし開閉する一連のバルブがある。本システムは，通常分離システムに存在する，あるいは，手動でポイントａからポイントｂに伝搬される各種の物質を統合する。分析グレード質量分析器，および，支持，分析，運転の各サブシステムは，本システムによって一体化されたパケージとなっている。オペレータは，簡単なキーボード機能で選択することができる。」（第１６頁左上欄１２行〜同頁右上欄８行）
　
（３−キ）
「システム１０によれば，オペレータがオペレータの選択で特定仕合物の特定走査の質量スペクトルをグラフ形状で表示させることもできる。」（第１６頁右下欄２２〜２３行）
　
３　当審の判断 
（１）補正発明と引用発明の対比 
ア　引用発明では，「真空チャンバ１」と「分析室１２」とが連通結合しており，「分析室１２」は高真空状態に保持される（上記摘記事項（１−ア）を参照。）のであるから，引用発明の「真空チャンバ１」と「分析室１２」は，両者で真空装置を構成しているといえる。そして，引用発明の「四重極質量分析計１０」は，「分析室１２」に取付けられているのであるから，「真空装置」に取付けられている，すなわち，「真空装置」に装着されているといえる。また，引用発明における「残留ガス」は，四重極質量分析計１０で分析されるのであるから，「分析対象ガス」であるといえる。
　以上のことから，引用発明の「四重極質量分析計１０」は，「分析対象ガスが存在する真空装置に装着され」ているといえる。
　
イ　特開平１０−２５３５９３号公報の段落【０００２】に記載されているように，四重極質量分析計は，分析対象ガスをイオン化し，当該イオンを質量電荷比によって分離して，どの元素のガスがどの程度存在しているかを分析するものであることが技術常識である。そうすると，引用発明における「複数の残留ガス分圧」が，「質量電荷比ごとの分圧」を意味するものであることは，明らかである。また，引用発明では，「複数の残留ガス分圧の出力信号値」が出力されているのであるから，「複数の残留ガス分圧」すなわち「質量電荷比ごとの分圧」が測定されていることは自明である。
　以上のことから，引用発明の「四重極質量分析計１０」は，「質量電荷比ごとの分圧の測定部」を備えているといえる。
　
ウ　引用発明において，「複数の残留ガス分圧の出力信号値」を「一定時間毎に出力」するためには，四重極質量分析計１０の電極間に印加する電圧等を制御する必要があることが明らかであって，電圧等の制御は電子回路により行うことが技術常識であるから，引用発明の「四重極質量分析計１０」は，測定部の測定動作を制御する電気系部を備えていることが自明である。
　
エ　引用発明の「アラーム」と，補正発明における「表示部」は，測定結果の「出力部」である点において共通する。
　
オ　引用発明の「真空モニタ装置」は，四重極質量分析計１０を含んでいるのであるから，「質量分析装置」であるといえる。
　
　してみると，両者は， 
　
（一致点）
「分析対象ガスが存在する真空装置に装着され，質量電荷比ごとの分圧の測定部と，前記測定部の測定動作を制御する電気系部と，を備えた質量分析装置であって，測定結果の出力部が配設されていることを特徴とする質量分析装置。」
　
の点で一致し，以下の点で相違する。
　
（相違点１）質量分析装置が真空装置に装着されている点に関し，補正発明では，質量分析装置の「測定部」が「真空装置」に装着されているのに対し，引用発明では，質量分析装置のどの部分が「真空装置」に装着されているかが不明な点。
　
（相違点２）補正発明では，「測定部」と「測定部の測定動作を制御する電気系部」とが一体的に連結されているのに対し，引用発明はそのような構成ではない点。
　
（相違点３）補正発明では，「測定部の測定動作を制御する電気系部」に，「測定部の操作部」および「測定結果の表示部」が配設されているのに対し，引用発明はそのような構成ではない点。
　
（２）相違点１について
　四重極質量分析計を真空装置に装着するに際しては，四重極質量分析計の「測定部」を，直接，「真空装置」に装着するものと，管路等の媒介物を介して装着するものとが存在することは技術常識である。直接，「真空装置」に装着した例としては，例えば，特開平１０−１４２１９８号公報（以下，「周知例２」という。）の段落【００１１】における「分析検出部２は直結した真空チャンバ１から検出ガスを導入し」の記載，および，【図１】を参照。
　してみると，引用発明において，四重極質量分析計の「測定部」を，直接，「真空装置」に装着し，上記相違点１における補正発明のようにすることは，当業者が適宜選択する程度の設計的事項であるといえる。
　
（３）相違点２について
　質量分析装置の「測定部」と「測定部の測定動作を制御する電気系部」とを一体的に設けることは，当該分野において，本願出願前に周知の技術的事項である。例えば，引用例２に関する上記摘記事項（２−ア）には，測定部を有することが明らかな「質量分析装置２２」，および，測定部の測定動作を制御する電気系部である「コンピュータ装置２４」が，筐体２５を介して一体的に連結されていることが示され，周知例１に関する上記摘記事項（３−ア），（３−イ）および（３−オ）には，質量分析器の測定部である「イオン源３４」，「電気セクター３６」，「永久磁石アセンブリ４０」および「イオン検知器４４」と，質量分析器の測定部の測定動作を制御する「マイクロコンピュータ２４」とが，単一の格納装置を介して一体的に連結されていることが示され，周知例２の【図１】には，測定部である「分析検出部２」と，測定部の測定動作を制御する「制御回路部３」とが一体的に連結した配置が示されている。
　そして，引用発明も，「測定部」と「測定部の測定動作を制御する電気系部」を有する質量分析装置であるから，引用発明に，質量分析装置における上記周知技術を適用し，「測定部」と「測定部の測定動作を制御する電気系部」とを一体的に設けるようにすることは，当業者であれば，容易に想到し得るものといえる。
　また，「測定部」と「測定部の測定動作を制御する電気系部」とを一体的に設けるに際し，補正発明および上記周知例２のように「一体的に連結」して設けるか，上記引用例２および周知例１のように「筐体等を介して一体的に連結」して設けるかは，当業者が適宜選択する程度の設計的事項であって，機能の上で格別な違いはない。
　以上のことから，引用発明に，上記周知技術を適用し，上記相違点２における補正発明のようにすることは，当業者であれば何ら困難性はなく，容易に想到し得るものといえる。
　
（４）相違点３について
　まず，補正発明では，「測定部の測定動作を制御する電気系部」に，「測定部の操作部」が配設されている点について検討する。
　質量分析装置において，測定の開始・終了，圧力等の測定環境の設定，測定対象ガスの選択等を指示する操作部，すなわち，「測定部の操作部」を設けることは，ごく一般的に行われている事項であって，当該「測定部の操作部」を「測定部の測定動作を制御する電気系部」に設けることも，本願出願前に周知の技術的事項である。例えば，周知例１に関する上記摘記事項（３−イ），（３−エ）および（３−カ）には，質量分析器の測定部の測定動作を制御する「マイクロコンピュータ２４」を内蔵する格納装置に，測定部の測定モードを選択する「キーボード２２０」を設けることが示され，特開２０００−２９８０７３号公報（以下，「周知例３」という。）の段落【００３７】および【００３８】には，「コントローラ９０」すなわち「測定部の測定動作を制御する電気系部」を内蔵するリークディテクタ５０に，「コントロールパネル８４」すなわち「測定部の操作部」を設けることが示され，特開２００２−１０７２６０号公報（以下，「周知例４」という。）の段落【００２１】には，従来例として，表示部や操作部とリークディテクタ本体とが一体となっている点が示されている。
　そして，引用発明も「測定部の測定動作を制御する電気系部」を有する質量分析装置であるから，引用発明に，質量分析装置における上記周知技術を適用し，「測定部の測定動作を制御する電気系部」に，「測定部の操作部」を配設するようにすることは，当業者であれば，容易に想到し得るものといえる。
　
　次に，補正発明では，「測定部の測定動作を制御する電気系部」に，「測定結果の表示部」が配設されている点について検討する。
　質量分析装置において，測定結果の出力部を「測定部の測定動作を制御する電気系部」に設けることは，本願出願前に周知の技術的事項である。例えば，引用例２に関する上記摘記事項（２−ア）には，「解析結果の表示や加熱判定を行うコンピュータ装置２４」と記載され，周知例１に関する上記摘記事項（３−ウ）には，「マイクロコンピュータ・システム２４は，分析の解析結果を表示するのに使用することができる」と記載され，周知例２の段落【００１６】および【００２１】には，表示装置５を制御回路部３に取付ける点，および，分析検出装置が検出した検出データをその作業場所において表示装置５上に表示する点が示され，周知例４の段落【００２１】には，従来例として，表示部や操作部とリークディテクタ本体とが一体となっている点が示されている。
　そして，引用発明も「測定部の測定動作を制御する電気系部」および「測定結果の出力部」を有する質量分析装置であるから，質量分析装置における上記周知技術を適用して，「測定部の測定動作を制御する電気系部」に，「測定結果の出力部」を配設するようにすることは，当業者であれば，容易に想到し得るものといえる。
　また，測定結果の出力部の出力形態として「アラーム」を採用したものと，「表示部」を採用したものとが存在することは技術常識であるから，両者のうちどちらを選択するかは当業者が適宜決定する程度の設計的事項であるといえる。
　
　以上のことから，引用発明に，上記周知技術を適用し，上記相違点３における補正発明のようにすることは，当業者であれば何ら困難性はなく，容易に想到し得るものといえる。
　
　そして，本願明細書に記載された補正発明によってもたらされる効果は，引用例１の記載事項，および，周知の技術的事項から，当業者であれば予測することができる程度のものである。  
　
　したがって，補正発明は，引用発明および周知技術に基づいて，当業者が容易に発明をすることができたものであるから，特許法第２９条第２項の規定により，特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
（５）むすび
　以上のとおりであるから，本件補正は，平成１８年改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するので，同法第１５９条第１項の規定において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により，却下すべきものである。 
　
　
第３　本願発明について
　
１　本願発明
　以上のとおり，平成２０年８月２９日付けの手続補正は，却下されることとなったから，本件特許出願人が特許を受けようとする発明として特定する事項は，平成２０年５月１３日付けの手続補正によって補正された特許請求の範囲の請求項１〜８に記載されたとおりのものと認められ，その請求項１は，次のとおりである。（以下，「本願発明」という。）　
　
「【請求項１】　
　質量電荷比ごとの分圧の測定部と，前記測定部に一体的に連結されて前記測定部の測定動作を制御する電気系部と，を備えた質量分析装置であって，
　前記電気系部に，前記測定部の操作部および測定結果の表示部が配設されていることを特徴とする質量分析装置。」 
　
２　引用刊行物の記載事項　
　原査定の拒絶の理由に引用された引用例およびその記載事項は，上記「第２　２　引用刊行物の記載事項」に記載したとおりである。
　
３　当審の判断　
　本願発明は，補正発明から，「分析対象ガスが存在する真空装置に装着される」との限定を省いたものである。
　そうすると，本願発明の構成要件をすべて含み，さらに他の構成要件を付加したものに相当する補正発明が，上記「第２　３　当審の判断」において検討のとおり，引用発明および周知技術に基づいて，当業者が容易に発明をすることができたものであるから，本願発明も同様の理由により，引用発明および周知技術に基づいて，当業者が容易に発明をすることができたものであるというべきである。
　
４　むすび　
　以上のとおり，本願発明は，特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないから，その余の請求項に係る発明について検討するまでもなく，本願は拒絶されるべきものである。　
　
　よって，結論のとおり審決する。