【事件の表示】
　特願２００２−２９５３７４「多探針走査型顕微鏡の探針相対位置校正テンプレート」拒絶査定不服審判事件〔平成１６年　４月３０日出願公開、特開２００４−１３２７４５〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯 
　本願は、平成１４年１０月８日の出願であって、平成１９年９月１９日付けで拒絶理由が通知され、同年１１月２６日付けで手続補正（以下、「本件補正１」という。）がなされたが、平成２０年９月５日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、同年１０月１４日に拒絶査定不服審判の請求がなされるとともに、同年１１月６日付けにて手続補正（以下、「本件補正２」という。）がなされたものである。
　さらに、平成２２年１月２７日付けで審尋がなされ、回答書が同年４月２日付けで請求人より提出されたものである。
　 
第２　本件補正２についての補正の却下の決定　 
［補正の却下の決定の結論］　 
　平成２０年１１月６日付け手続補正を却下する。　 
　　 
［理由］　 
１　補正後の本願発明　 
　本件補正２により、特許請求の範囲の請求項１は、
「【請求項１】　多探針走査型顕微鏡のＸ−Ｙ走査領域上に、複数のナノスケールの校正パターンが、一定間隔を持って２次元マトリックス状に配列されており、それぞれの校正パターンには、校正パターンの座標を特定するインデックスナンバーが割り当てられており、これらの校正パターンが探針により読取り可能である、複数の探針間の相対位置校正及び走査距離校正をナノスケールの精度で行う多探針走査型顕微鏡の探針相対位置校正テンプレートであって、
前記校正パターンのそれぞれは、ドット要素が２次元マトリックス状に配列されてなり、前記ドット要素の値は２値により選択されるものであり、前記各校正パターンのＸ−Ｙ走査領域における方向性に関する情報と長さに関する情報のそれぞれが、その校正パターンに配置した２以上のドット要素の２値選択の組合わせにより記録されてい
と補正された。（下線は補正箇所を示す。）　 
　
　上記本件補正２により、請求項１は「前記各校正パターンのＸ−Ｙ走査領域における方向性に関する情報と長さに関する情報のそれぞれが、その校正パターンに配置した２以上のドット要素の２値選択の組合わせにより記録されている」を含むものなった。
　一方、願書に最初に添付した明細書又は図面（以下、「出願当初明細書」という。）には、長さに関する情報について、「【００２４】図６に、校正パターンが２次元に配列されている探針相対位置校正テンプレートを用いた相対位置校正に関する概要図を示す。Ｘ−Ｙ走査領域（６１）において、列方向および行方向に一定の間隔ｄｘ、ｄｙをそれぞれ設け、列方向の長さがＩｘ、行方向の長さがＩｙであるＮ×Ｎ個の校正パターン（６２）が形成される。校正パターンの座標を特定するためのインデックスナンバーとして、左から順に（０，０）〜（Ｎ−１，Ｎ−１）の値が割り当てられている。２本の探針（６３および６４）によって読みとられた校正パターン（６５および６６）にそれぞれ割り振られている値が（ｉｘ，ｉｙ）および（ｊｘ，ｊｙ）であれば、２本の探針間には、行方向に｜ｉｘ−ｉｙ｜個，列方向に｜ｊｘ−ｊｙ｜個の校正パターン分の間隔（一定間隔ｄｘ、ｄｙ分を含む）が存在することになり、実際の距離は、行方向：（Ｉｘ＋ｄｘ）Ｘ｜ｉｘ−ｉｙ｜，列方向（ｊｘ−ｊｙ）×｜ｉｘ−ｉｙ｜で与えられる。」と記載されている。
　つまり、出願当初明細書には、校正パターンのＸ−Ｙ走査領域における長さに関する情報（ＩｘおよびＩｙ）については記載されているが、校正パターンのＸ−Ｙ走査領域における長さに関する情報を校正パターンに配置した２以上のドット要素の２値選択の組合わせにより記録していることは記載されていないし、示唆もされてない。
　そうすると、本件補正２は、出願当初明細書の範囲内においてされたものとはいえない。
　したがって、本件補正２は、平成１４年法律第２４号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第３項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。 
　
第３　本願発明について　 
１　本願発明　 
　本件補正２は、上記のとおり却下されることとなったので、本願の請求項１〜４に係る発明は、本件補正１により補正された特許請求の範囲の請求項１〜４に記載された事項により特定されたものであって、その請求項１に係る発明は、次のとおりであると認める。　 
「【請求項１】　多探針走査型顕微鏡のＸ−Ｙ走査領域上に、複数の
ナノスケールの
、複数の探針間の相対位置校正及び走査距離校正をナノスケールの精度で行う
２
と長さに関する情報
　
２　引用刊行物およびその記載事項　 
（１）　本願出願前に頒布され、原査定の拒絶の理由に引用された刊行物である特開平２−１４１６０１号公報（以下、「刊行物１」という。）には、「標準試料及び位置補正方法」について、図面とともに次の事項が記載されている。（下線は当審で付与した。） 　
　
ア　
「〔産業上の利用分野〕
　本発明は、高倍率で測定領域の狭い測定機器で、希望する任意の場所に測定領域を位置決めするため、他の測定機器と複合化した装置において、
両者の測定位置のズレ量を求め、補正することができる位置合わせ用の標準試料に関する
走査型トンネル顕微鏡（ＳＴＭ）と
走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）等との複合装置において、両者の測定位置の関係を求めるための標準試料
　
イ　
「第２図は、第１図の主パターン（Ｐ）部２０の拡大説明図である。
主パターン（Ｐ）部２０は、ピッチＨで格子２４が形成され、この格子２４内部には識別用パターンＱ、Ｑ・・・が形成されている。この例ではピッチＨは１０μｍで縦・横に巾１μｍでの格子により１６分割し、１６１□μｍの主パターン部２０をなしている
この主パターン部２０は、分割された格子内に、１６進数０〜Ｆを用いて２桁で行と列を示す、すべて異なるパターンＱ，Ｑ・・・が識別用パターンとして設けられている。また、このパターン及び格子（斜線部分）は、図の白部分に対して相対的に段差となるよう形成され（例えば、数百人程度の薄膜パターン），識別できるようになっている。」
　　 
　そうすると、これらの記載と図面を総合すると、刊行物１には、次の発明が記載されていると認められる。　 
　
「主パターン（Ｐ）部２０は、ピッチＨで格子２４が形成され、
この主パターン部２０は、分割された格子内に、１６進数０〜Ｆを用いて２桁で行と列を示す、すべて異なるパターンＱ，Ｑ・・・が識別用パターンとして設けられており、
このパターン及び格子が相対的に段差となるよう形成され識別できるようになっている 、
走査型トンネル顕微鏡（ＳＴＭ）と走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）等との複合装置において、両者の測定位置のズレ量を求め、補正することができる位置合わせ用の標準試料であって、
ピッチＨは１０μｍで縦・横に巾１μｍでの格子により１６分割し、主パターン部２０をなしている標準試料。」（以下、「引用発明」という。）　 
　
（２）　本願出願前に頒布され、原査定の拒絶の理由に引用された刊行物である特開平７−１３４１３７号公報（以下、「刊行物２」という。）には、図面とともに次の事項が記載されている。 （下線は当審で付与した。）　 
　
ア
「【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、トンネル顕微鏡や原子間力顕微鏡等のプローブ顕微鏡を用いて試料の表面形状、電気特性、磁気特性等を測定し、又は試料表面を加工するプローブ顕微鏡装置に関する。」
　
イ
「【０００９】本発明の目的は、上記従来技術における課題を解決し、プローブ顕微鏡を取り付け取外す交換を行なうことなく、複数種の測定を行なうことができるプローブ顕微鏡装置を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するため、本発明は、試料をＸ軸およびＹ軸方向に移動させるＸＹステージと、このＸＹステージの移動を高精度で測定する測定手段と、前記試料と対向する探針を有するプローブ顕微鏡とを備えたプローブ顕微鏡装置において、
前記プローブ顕微鏡とは精度又は測定目的が異なる他の少なくとも１つのプローブ顕微鏡を設ける
【００１１】さらに、本発明は、上記各構成における
各プローブ顕微鏡の探針の相互の間隔を測定する
　
（３）　本願出願前に頒布された刊行物である特開平７−２８７０２３号公報（以下、「刊行物３」という。）には、図面とともに次の事項が記載されている。（下線は当審で付与した。）
　
ア
「【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、プロフィルメーター（profilometer）、特に走査トンネリング顕微鏡（ＳＴＭ）および原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）の較正標準と、前記較正標準を製作する方法と、前記較正標準を用いてサブナノメータ範囲の特徴を測定したりプロフィルメーターを較正する方法とに関する。」
　
イ
「【００１５】
【実施例】図１の（ｃ）の較正標準を製造するための処理シーケンスは、図１の（ａ）から始まる。・・・」
　
ウ
「【００２１】・・・図１の（ｃ）に、横方向寸法（先端径）が約１０ｎｍの極めて鋭いブレード３を有する較正標準を示す。支持構造に使用される単結晶材料の質に応じて、Ｖ字溝は、少なくとも数十μｍにわたって極めて平行になる。」
　
エ
「【００３５】図４の（ｄ）に、走査型トンネル顕微鏡検査に使用される円錐形チップのチップ半径とテーパ角度の正確な特性測定に特に適したもう１つの
較正標準を示す
【００３６】上の図１の（ａ）で説明したものと同様の条件から始めて、溝の代わりに、支持構造の表面１１に垂直な側壁３１ａおよび３１ｂを有するトレンチ構造３０を、支持構造１にエッチングする。これを図４の（ａ）に示す。
トレンチ構造３０の幅は、特性を測定するチップに依存するが、通常は、約０．１μｍから約１０μｍの範囲内である。
　
（４）　本願出願前に頒布され、原査定の拒絶の理由に引用された刊行物である特開平１０−２０６５００号公報（以下、「刊行物４」という。）には、図面とともに次の事項が記載されている。（下線は当審で付与した。）
　
ア
「【００７９】・・・図１３は校正試料の変形例３のブロックパターンを示す図、図１４はブロックを拡大して示す図である。
【００８０】
校正試料１２０は、位置検出ブロックＰ００〜Ｐ７７がマトリクス状に並んでいる。このブロックＰ００〜Ｐ７７には、Ｘ方向に延在する凹凸部が無く、Ｙ方向に延在する凹凸部により位置情報がコード化されている
コード部１２２〜１２５等は、夫々幅５μｍのビット部６個からなる。
・・・
【００８４】尚、上記実施例では、境界部とコード部とを分離させた構成としたが、これに限らず、凹部の深さを変えることによりコード部の中に境界部を形成することも可能である。また、
上記実施例では、コード部を凹凸により２値化している
　
　　 
３　当審の判断　 
（１）対比　 
ア　引用発明と本願発明とを対比すると、その構造・機能からみて、引用発明の「主パターン（Ｐ）部２０」及び「パターンＱ」は、それぞれ本願発明の「探針走査型顕微鏡のＸ−Ｙ走査領域」及び「校正パターン」に相当することが明らかである。
　
イ　引用発明の「走査型トンネル顕微鏡（ＳＴＭ）と走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）等との複合装置」と、本願発明の「多探針走査型顕微鏡」とは、「走査型顕微鏡等の複合装置」である点で共通する。
　
ウ　引用発明の「標準試料」は、「走査型トンネル顕微鏡（ＳＴＭ）と走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）等との複合装置において、両者の測定位置のズレ量を求め、補正することができる位置合わせ用の」もので「主パターン（Ｐ）部２０」が形成されたものであるから、本願発明の「多探針走査型顕微鏡の探針相対位置校正テンプレート」とは、「走査型顕微鏡等の複合装置の探針相対位置校正テンプレート」である点で共通する。
　
エ　引用発明の「主パターン（Ｐ）部２０は、ピッチＨで格子２４が形成され、」は、「ピッチＨ」が一定間隔を意味し、「格子」が「２次元マトリックス状」を意味するのであるから、本願発明の「探針走査型顕微鏡のＸ−Ｙ走査領域上に、複数の」「校正パターンが、一定間隔を持って２次元マトリックス状に配列されており」に相当する。
　
オ　引用発明の「この主パターン部２０は、分割された格子内に、１６進数０〜Ｆを用いて２桁で行と列を示す、すべて異なるパターンＱ，Ｑ・・・が識別用パターンとして設けられ」は、「行と列を示す」ことが、座標を特定することであり、「１６進数０〜Ｆを用いて２桁で」、「すべて異なるパターンＱ，Ｑ・・・が識別用パターンとして設けられ」が、「インデックスナンバー」に相当するので、本願発明の「校正パターンには、校正パターンの座標を特定するインデックスナンバーが割り当てられており」に相当する。
　
カ　走査型トンネル顕微鏡（ＳＴＭ）と走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）は主パターン部２０を「探針により読取」ることは明らかであるから、引用発明の「このパターン及び格子が相対的に段差となるよう形成され識別できるようになっている」は、本願発明の「これらの校正パターンが探針により読取り可能である」に相当する。
　
キ　一辺の長さが特定された格子では、格子の長さの情報は特定されており、また、格子自体が方向性を有しているから、引用発明の「ピッチＨは１０μｍで縦・横に巾１μｍでの格子により１６分割し、主パターン部２０をなしている」と
本願発明の「マトリックスパターンにおける少なくとも２つ以上のドット要素が、校正パターンのＸ−Ｙ走査領域における方向性に関する情報と長さに関する情報を有する」とは、
「マトリックスパターンが、校正パターンのＸ−Ｙ走査領域における方向性に関する情報と長さに関する情報を有する」点で共通する。
　
　そうすると、両者は、　 
（一致点）  
　「走査型顕微鏡等の複合装置のＸ−Ｙ走査領域上に、複数の校正パターンが、一定間隔を持って２次元マトリックス状に配列されており、それぞれの校正パターンには、校正パターンの座標を特定するインデックスナンバーが割り当てられており、これらの校正パターンが探針により読取り可能である、複数の探針間の相対位置校正及び走査距離校正を行う走査型顕微鏡等の探針相対位置校正テンプレートであって、校正パターンのＸ−Ｙ走査領域における方向性に関する情報と長さに関する情報を有することを特徴とする走査型顕微鏡等の複合装置の探針相対位置校正テンプレート。」である点で一致し、以下の点で相違するといえる。　 
　　 
（相違点１）　
　走査型顕微鏡等の複合装置について、本願発明では「多探針走査型顕微鏡」であるのに対して、引用発明では「走査型トンネル顕微鏡（ＳＴＭ）と走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）との複合装置」である点。　　
　
（相違点２）　
　校正パターン大きさについて、本願発明では「ナノスケールの」ものであり、校正をナノスケールの精度で行うのに対して、引用発明で精度についての特定がない点。　　
　
（相違点３）　
　校正パターンのＸ−Ｙ走査領域における方向性に関する情報と長さに関する情報について、本願発明では「２次元マトリックス状に配列されたドット要素からなるマトリックスパターンであり、マトリックスのドット要素の値が２値により選択されるとともに、」「少なくとも２つ以上のドット要素が、校正パターンのＸ−Ｙ走査領域における方向性に関する情報と長さに関する情報を有する」ものであるのに対して、引用発明では、「ピッチＨは１０μｍで縦・横に巾１μｍでの格子により１６分割し、主パターン部２０をなしている」点。　　
　
（２）相違点についての判断　 
　まず，相違点１を検討するに、
　走査型顕微鏡等の複合装置として多探針走査型顕微鏡すなわち、複数の探針をもつものは、２（２）イによれば刊行物２に「前記プローブ顕微鏡とは精度又は測定目的が異なる他の少なくとも１つのプローブ顕微鏡を設ける・・・各プローブ顕微鏡の探針の相互の間隔を測定する」と記載されており、また、特開２００２−１６８７５４号公報【００２８】及び図３、特開２００１−１８５５９３号公報に記載されているように周知である。
　したがって、引用発明の走査型顕微鏡等の複合装置を、周知の多探針走査型顕微鏡に限定することは、当業者が容易に想到するものといえる。
　
　次に，相違点２を検討するに、 
　校正パターン大きさについて、本願明細書の実施例４には、校正パターンの一辺の長さが、７５０ｎｍ（０．７５μｍ）が記載されており、本願発明のナノスケールの精度とは１μｍより小さい精度であると読み取れる。
　一方、引用発明には、一辺１０μｍのパターンＱが特定されている。
　また、２（３）エによれば、刊行物３には、「較正標準を示す。」「トレンチ構造３０の幅は、特性を測定するチップに依存するが、通常は、約０．１μｍから約１０μｍの範囲内である。」と記載されているように、校正パターンの大きさとして、ナノスケールは周知である。
　しかも、スケールの大きさを、要求精度に応じて変えることは技術常識である。
　してみると、引用発明の校正パターン大きさを「ナノスケールの」ものとして、校正をナノスケールの精度で行うことは、当業者が必要に応じて適宜成し得る設計事項にすぎない。
　
　次に，相違点３を検討するに、 
　２（４）アによれば、刊行物４には、「校正試料１２０は、位置検出ブロックＰ００〜Ｐ７７がマトリクス状に並んでいる。このブロックＰ００〜Ｐ７７には、Ｘ方向に延在する凹凸部が無く、Ｙ方向に延在する凹凸部により位置情報がコード化されている」「コード部を凹凸により２値化している」と記載されており、これは「一列に配列されたバー要素からなるバーコードパターンであり、バー要素の値が２値により選択される」ことを意味し、同じく２（４）アによれば、刊行物４には、「コード部１２２〜１２５等は、夫々幅５μｍのビット部６個からなる。」と記載されており、これは長さの情報であり、方向はコード部等の形状から明らかであるから、刊行物４には、本願発明の「バー要素が、校正パターンのＸ−Ｙ走査領域における方向性に関する情報と長さに関する情報を有する」に対応する構成が記載されている。
　そして、バーコードに関しては、一列に配列されたバー要素からなるバーコードよりも、２次元マトリックス状に配列されたドット要素からなる二次元コードの方がより多くの情報量を持ち得る点において優位であることは自明であって、そのようなの二次元コードが本願出願前に周知である。
　また、「少なくとも２つ以上のドット要素」との限定は、「一つのドット要素では、方向が特定できない」場合の必然的な限定にすぎない。
　そして、引用発明も刊行物４の記載事項も、共に校正用試料を用いた探針走査型顕微鏡の位置測定を含むものである。
　してみると、引用発明の「ピッチＨは１０μｍで縦・横に巾１μｍでの格子により１６分割し、主パターン部２０をなしている」構成に、刊行物４に記載された上記構成を情報量の多い二次元コードとした「２次元マトリックス状に配列されたドット要素からなるマトリックスパターンであり、マトリックスのドット要素の値が２値により選択されるとともに、少なくとも２つ以上のドット要素が、校正パターンのＸ−Ｙ走査領域における方向性に関する情報と長さに関する情報を有する」構成を採用して相違点３における本願発明の構成とすることは、当業者が容易に想到するものと認められる。
　　 
　そして、本願明細書に記載された効果も、引用発明、刊行物４の記載事項および上記周知の事項から、当業者が予測し得る範囲のものであり、格別顕著なものといえない。　 
　
第４　むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用発明、刊行物４の記載事項および周知の事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。 
　したがって、その他の請求項について言及するまでもなく、本願出願は拒絶されるべきものである。　 
　よって、結論のとおり審決する。