Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成23年12月12日(2011.12.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所望の平均粒子径を有する硬化性ポリエステル樹脂を含有する粒子を含むエマルジョンを作製する方法であって、該方法が、
所望の平均粒子径及び該所望の粒子径のばらつきの少なくとも一方を選択することと、
転相により硬化性ポリエステル樹脂を含むエマルジョンを形成することと、
前記転相における、溶媒比、中和率、及び温度を、下記伝達関数に従って制御することと、を含む方法：
Ｙ＝Ｚ１×｛５７５−［（４４７．４）（ＳＲ）］−［（１６３．７５）（ＮＲ）］＋［（０．３２８５）（Ｔ）（ＳＲ）］｝；及び
Ｓ＝Ｚ２×｛７８９−［（２．８７）（Ｔ）］＋［（２５６．９）（ＳＲ）］−［（５８６．４）（ＮＲ）］＋［（２．２７）（Ｔ）（ＮＲ）］−［（２５０．８）（ＳＲ）（ＮＲ）］｝；
ここで、Ｙは前記所望の平均粒子径（ｎｍ）を表し、Ｓは、前記所望の粒子径のばらつき（ｎｍ）を表し、ＳＲは総固形分に対する溶媒比（重量）を表し、ＮＲは中和率を表し、Ｔは温度（Ｋ）を表し、Ｚ１及びＺ２は独立して、０．８〜１．２である誤差因子を表す。
【請求項２】
前記転相により硬化性ポリエステル樹脂を含むエマルジョンを形成することが、前記硬化性ポリエステル樹脂を有機溶媒と転相溶媒との溶液中へ溶解して混合物を形成すること；中和剤を添加すること；水を添加すること；及び有機溶媒を除去すること、を含む請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年12月14日(2011.12.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
バルク形態で存在するジエン−ベースのポリマーを、いかなる有機溶媒も用いずに、そして非担持の白金族金属含有触媒の存在下に水素化にかける工程を含むジエン−ベースのポリマー中の炭素−炭素二重結合の選択的水素化方法であって、前記白金族金属がパラジウムおよび白金からなる群から選択される方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年12月9日(2011.12.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
トルクコンバータにおいて、
横方向の回転軸線が設けられており、
内径と、軸方向内側環状面とを有するカバーが設けられており、
内径と、軸方向内側環状面とを有するインペラシェルが設けられており、
外径と、円周と、軸方向外側環状面とを有する環状のバッキングプレートが設けられており、カバーと、インペラシェルと、バッキングプレートとが、回転軸線を中心として回転するように操作的に配置されており、バッキングプレートが、回転軸線に対して実質的に直交しており、カバーの内径が実質的にインペラシェルの内径と等しく、カバーの軸方向内側環状面とインペラシェルの軸方向内側環状面とが、バッキングプレートの軸方向外側環状面に固定して取り付けられていることを特徴とする、トルクコンバータ。
【請求項２】
環状のバッキングプレートがさらに、該バッキングプレートの外径から軸方向に延びた環状壁部を有している、請求項１記載のトルクコンバータ。
【請求項３】
カバーの軸方向内側環状面とインペラシェルの軸方向内側環状面とが、少なくとも１つの溶接によってバッキングプレートの軸方向外側環状面に固定して取り付けられている、請求項１記載のトルクコンバータ。
【請求項４】
少なくとも１つの溶接が金属不活性ガス溶接によって形成されている、請求項３記載のトルクコンバータ。
【請求項５】
カバーが、スタンピングされた金属から形成されている、請求項１記載のトルクコンバータ。
【請求項６】
回転軸線を中心として回転しかつバッキングプレートからトルクを受け取るように操作的に配置された少なくとも１つの係合するコンポーネントが設けられている、請求項１記載のトルクコンバータ。
【請求項７】
少なくとも１つの係合するコンポーネントが設けられており、バッキングプレートがさらに、回転軸線に対して実質的に直交しておりかつ係合するコンポーネントと摩擦係合している環状面を有しており、係合するコンポーネントが、摩擦係合を介してバッキングプレートからトルクを受け取るように操作的に配置されている、請求項１記載のトルクコンバータ。
【請求項８】
少なくとも１つの係合するコンポーネントが、環状プレートである、請求項７記載のトルクコンバータ。
【請求項９】
回転軸線に沿って連続的に配置された複数の係合するコンポーネントが設けられており、該係合するコンポーネントが、回転軸線を中心として回転しかつバッキングプレートからトルクを受け取るように操作的に配置されている、請求項１記載のトルクコンバータ。
【請求項１０】
複数の係合するコンポーネントが、複数のクラッチプレートを含み、これらのクラッチプレートが、これらのクラッチプレートの間の複数の摩擦係合を介して互いにトルクを伝達するように操作的に配置されている、請求項９記載のトルクコンバータ。
【手続補正書】
【提出日】平成23年12月12日(2011.12.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
閉鎖ピストン３通路トルクコンバータにおけるピストンプレート回転防止機構において、
半径方向内面を有するカバーと、
環状プレートを含む駆動プレートと、
ピストンプレートとが設けられており、該ピストンプレートが、軸方向内側クラウンと、前側環状縁部と、軸方向スカートと、後側環状縁部とを有しており、カバーと、駆動プレートと、ピストンプレートとが、回転の横方向軸線を中心として回転するように作用的に配置されており、ピストンプレートが、ピストンプレートがカバーに対して軸方向可動でありかつ回転方向で不動であるようにカバー又は駆動プレートに取り付けられていることを特徴とする、閉鎖ピストン３通路トルクコンバータにおけるピストンプレート回転防止機構。
【請求項２】
板ばねが設けられており、ピストンプレートがさらに第１の半径方向内側環状面を有しており、ピストンプレートがカバーに対して軸方向に可動でありかつ回転方向で不動であるように、板ばねが、カバーの半径方向内面及びピストンの第１の半径方向内側面に取り付けられている、請求項１記載の閉鎖ピストン３通路トルクコンバータにおけるピストンプレート回転防止機構。
【請求項３】
カバーがさらに、半径方向内面に固定して取り付けられた半径方向内側環状コンポーネントを含み、ピストンプレートがカバーに対して軸方向に可動でありかつ回転方向で不動であるように、板ばねが、カバーの半径方向内側環状コンポーネント及びピストンの第１の半径方向内側面に取り付けられている、請求項２記載の閉鎖ピストン３通路トルクコンバータにおけるピストンプレート回転防止機構。
【請求項４】
カバーがさらに、半径方向内側面から軸方向に押出し成形された少なくとも１つのドッグを有しており、ピストンプレートが、前側環状縁部から軸方向に延びた少なくとも１つの受容エレメントを有しており、ピストンプレートがカバーに対して軸方向に可動でありかつ回転方向で不動であるように、前記受容エレメントが、少なくともドッグに軸方向に滑り係合するように作用的に配置されている、請求項１記載の閉鎖ピストン３通路トルクコンバータにおけるピストンプレート回転防止機構。
【請求項５】
カバーが、半径方向内側面から軸方向に押出し成形された複数のドッグを有しており、ピストンプレートがカバーに対して軸方向に可動でありかつ回転方向で不動であるように、ピストンプレートが、複数のドッグに軸方向に滑り係合するように作用的に配置された複数の受容エレメントを有している、請求項４記載の閉鎖ピストン３通路トルクコンバータにおけるピストンプレート回転防止機構。
【請求項６】
さらに、概して平坦な、細長い板ばねが設けられており、
該板ばねが、
第１の開口、第２の開口及びタブを有する第１のセグメントと、
第２のセグメントと、
第３のセグメントとを有しており、ピストンプレートがさらに、後側環状縁部に沿って軸方向スカートに少なくとも１つのプレート切欠を有しており、駆動プレートが、少なくとも１つの開口を有しておりかつカバーに回転方向で固定されており、少なくとも１つのプレート切欠が板ばねの第３のセグメント受容するように作用的に配置されており、板ばねの第３のセグメントがプレート切欠に固定されており、板ばねの第１のセグメントがリベットによって駆動プレートに取り付けられており、板ばねのタブが駆動プレートの開口内へ延びており、これにより、ピストンプレートがカバーに対して軸方向に可動でありかつ回転方向で不動であるようにピストンプレートを駆動プレートに取り付けている、請求項１記載の閉鎖ピストン３通路トルクコンバータにおけるピストンプレート回転防止機構。
【請求項７】
板ばねの第３のセグメントがウイングタブを有しており、該ウイングタブが、第３のセグメントがプレート切欠に挿入された時にピストンプレートのプレート切欠に対して予荷重を提供しこれにより第３のセグメントをプレート切欠に固定するように作用的に配置されている、請求項６記載の閉鎖ピストン３通路トルクコンバータにおけるピストンプレート回転防止機構。
【請求項８】
プレート切欠が、該プレート切欠の概して中央に配置された、軸方向に延びた突起を有しており、板ばねの第３のセグメントが、第３のセグメントがプレート切欠に挿入された時に突起を受容するように作用的に配置された開口を有している、請求項６記載の閉鎖ピストン３通路トルクコンバータにおけるピストンプレート回転防止機構。
【請求項９】
ピストンプレートが駆動プレートに直接取り付けられている、請求項１記載の閉鎖ピストン３通路トルクコンバータにおけるピストンプレート回転防止機構。
【請求項１０】
ピストンプレートが、後側環状縁部から軸方向に延びた少なくとも１つの薄板金リベットを有しており、駆動プレートが、少なくとも１つの薄板金リベットを受容するように作用的に配置された少なくとも１つの開口を有しており、少なくとも１つの板金リベットが少なくとも１つの開口内に固定されている、請求項９記載の閉鎖ピストン３通路トルクコンバータにおけるピストンプレート回転防止機構。
【請求項１１】
ピストンプレートの後側環状縁部が駆動プレートに溶接されている、請求項９記載の閉鎖ピストン３通路トルクコンバータにおけるピストンプレート回転防止機構。
【手続補正書】
【提出日】平成24年4月3日(2012.4.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ドアが閉まり始めて閉止直前まで回転区間においてのみドアに回転を伝える回転装置と、閉止直前以後から密閉までの回転区間においてのみドアに回転を伝える密閉装置とを備え、閉止直前に上記回転装置が上記密閉装置を始動させる仕事をすることを特徴とするドアであって、
上記密閉装置はドア或いはドア枠に設けた回転支軸IJ3の周りに回転自在に軸支される回転体J3を備え、上記回転体J3がドアに回転を伝えてドアを
密閉する装置であって、
上記回転体J3はトグルバネによって付勢され、閉止直前以前は静止位置にあって待機し、閉止直前に上記静止位置から離れて回転し、閉止直前以後に密閉装置が始動するドア。
【請求項２】
ドアが閉まり始めて閉止直前まで回転区間においてのみドアに回転を伝える回転装置と、閉止直前以後から密閉までの回転区間においてのみドアに回転を伝える密閉装置とを備え、閉止直前に上記回転装置が上記密閉装置を始動させる仕事をすることを特徴とするドアであって、
上記密閉装置はドア或いはドア枠に設けた回転支軸IJ3の周りに回転自在に軸支される回転体J3と、ドア或いはドア枠に設けた回転支軸Iａの周りに回転自在に軸支されるリンクＡと、上記リンクＡの先端部に設けた回転支軸Iｂに装着する車輪Bと、回転体J3の外縁部に設けた摺動面Ｋ３と、上記摺動面Ｋ３が上記車輪Bを押圧して上記車輪Bが上記摺動面Ｋ３に沿って移動するように、上記回転体J3を付勢するバネU3と、上記リンクＡの片方の回転を阻止する当りGaとを備え、
閉止直前以前に、上記バネU3が上記リンクＡを上記当りGaに当接する方向に付勢して上記リンクＡを静止させ、閉止直前に上記リンクＡが上記当りGaから離れるようにすることによって、閉止直前以後に上記バネU3の上記回転体J3を付勢する方向が、上記リンクＡが上記当りGaから離れる方向に切り替わり、密閉装置が始動するドア。
【請求項３】
上記回転装置が停止した後ドアが動慣性で回転し続けて、上記回転装置に代わってドアが上記密閉装置を始動させる請求項１〜３の何れか1項に記載するドア。
【請求項４】
ドアに設けた回転体支軸の周りに回転自在に軸支され、先端部に減速カム車輪BBを装着する減速回転体J3と、ドア枠に設けた滑走摺動面Ｋ4とを備え、閉止直前に上記先端部車輪が、上記滑走体J4に設ける滑走摺動面Ｋ4に沿って移動するドア。
【請求項５】
上記滑走面Ｋ4の形状はドアが閉止する直前の上記ドア上部回転支軸の位置を中心とする円の一部であるドア。
【請求項６】
ドアに設けた回転体支軸の周りに回転自在に軸支され、先端部に減速カム車輪BBを装着する減速回転体J3と、ドア枠に設けた滑走体支軸の周りに回転自在に軸支される滑走体J4とを備え、閉止直前に上記先端部車輪が、上記滑走体J4に設ける滑走摺動面Ｋ4に沿って移動するドアであって、
上記滑走体は上記減速カム車輪BBが上記滑走摺動面Ｋ4を押圧する方向と反対方向に付勢するバネを備え、上記減速カム車輪BBが上記滑走摺動面Ｋ4を押圧するとき、上記減速カム車輪BBの進行に抵抗するように上記滑走摺動面K4が傾斜して減速するドア。
【請求項７】
前記減速カム車輪が取り付く先端部と異なる先端部にもう１つの車輪を取り付けた前記減速回転体と、該減速回転体が軸支される上記ドア上部回転支軸と異なる位置のもう１つのドア上部回転支軸の周りに回転自在に軸支される回転車輪と、ドア枠に設けた滑走体回転支軸と異なる位置のもう１つのドア枠回転支軸の周りに回転自在に軸支され、上記もう１つの車輪Ｂ或いは上記回転車輪が接触しながら移動する滑走面を有するカム体とを備え、
ドアが閉まる直前で上記もう１つの車輪と上記回転車輪の上記カム体との接触が入れ替わるドア。
【請求項８】
駆動部の回転体に設けられるリンク回転支軸に回転自在に軸支されるリンクと、駆動部の回転体に設けられる接触体に接触しながら回転することによって、バネの支点を回転軸の位置に留めて、上記バネの力を上記駆動部の回転体に作用しないようにし、離れて回転することによって、バネの支点を回転軸の位置から遠ざけて、上記バネの力を上記駆動部の回転体に作用させることを特徴とするバネの装置を有するドア。
【請求項９】
駆動部の回転軸の近傍に設けられる回転軸に回転自在に軸支され、減速アームに施された長穴内を移動しながら回転軸の周りを公転し、回転体の先端に取付けられる車輪を有する減速装置で、車輪が回転軸から離れるに従い、アームの回転速度が遅くなり回転モーメントが大きくなることを特徴とする減速装置を有するドア。
【手続補正書】
【提出日】平成23年12月1日(2011.12.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
タングステン膜を製造する方法であって、
基板上にタングステン核生成層を堆積する工程と、
前記タングステン核生成層の堆積が完了した後であって、かつ、前記タングステン核生成層上にバルク層を形成する前に、前記タングステン核生成層の表面を複数の還元剤パルスに曝すことにより、堆積した前記タングステン核生成層の表面に処理操作をする工程と、
を備え、
前記処理操作の間における前記基板の温度は、前記タングステン核生成層を堆積する間における前記基板の温度よりも高いことを特徴とする、
タングステン膜を製造する方法。
【請求項２】
前記還元剤は、ボロン含有還元剤であることを特徴とする請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
前記還元剤パルスの数は、２から８であることを特徴とする請求項１に記載の製造方法。
【請求項４】
前記タングステン核生成層の堆積が完了した後に、前記基板を約３７５℃から４１５℃に加熱する工程を備え、前記基板の温度は前基板の表面を前記複数の還元剤パルスに曝す間において、約３７５℃から４１５℃に維持されることを特徴とする請求項１に記載の製造方法。
【請求項５】
前記複数の還元剤パルスにおける各パルスは、パルス時間を有し、前記パルス時間は、約０．５から５秒であることを特徴とする請求項１に記載の製造方法。
【請求項６】
前記複数の還元剤パルスにおける各パルスは、パルス時間を有し、少なくとも２つの還元剤パルスの前記パルス時間は異なることを特徴とする請求項１に記載の製造方法。
【請求項７】
前記還元剤パルス間のインターバル時間は、約２から５秒であることを特徴とする請求項１に記載の製造方法。
【請求項８】
前記還元剤パルス間のインターバル時間は、少なくとも２つのインターバル時間で異なることを特徴とする請求項１に記載の製造方法。
【請求項９】
前記処理操作の間の前記基板の温度は、前記タングステン核生成層を堆積する間の前記基板の温度よりも少なくとも約２５℃高いことを特徴とする請求項１に記載の製造方法。
【請求項１０】
前記タングステン核生成層の上にバルクタングステン層を堆積させる工程を備え、
前記タングステン核生成層の堆積とバルクタングステン層の堆積の間においては、前記基板上に実質的にタングステンは堆積されないことを特徴とする請求項１に記載の製造方法。
【請求項１１】
前記基板上に形成された前記タングステン膜は、シート抵抗の不均一性が５％未満であることを特徴とする請求項１に記載の製造方法。
【請求項１２】
前記基板上に形成された前記タングステン膜の抵抗率は、５００オングストロームの厚さのタングステン膜では、約１５マイクロオームセンチメートル未満であることを特徴とする請求項１に記載の製造方法。
【請求項１３】
反応チャンバ内で基板上にタングステン膜を製造する方法であって、
（ａ）前記基板を反応チャンバ内に配置する工程と、
（ｂ）パルス核生成層プロセスによって、前記基板上にタングステン核生成層を堆積させる工程と、
（ｃ）前記基板を約３９５℃に加熱し、温度を安定させる工程と、
（ｄ）前記基板の温度を約３９５℃に維持しつつ、前記核生成層を２から８パルスのジボランにさらす工程であって、前記ジボランは約１００から５００ｓｃｃｍの流量であり、約０．５から５秒のパルス時間、およびパルス間においてはパルス動作なしに約２から５秒のインターバル時間を有する工程と、
（ｅ）前記基板の温度を約３９５℃に維持する工程と、
（ｆ）前記核生成層をタングステン含有前駆物質にさらす工程と、
（ｇ）前記タングステン核生成層上にタングステンバルク層を堆積させて前記タングステン膜を形成する工程と、
を備えるタングステン膜を製造する方法。
【請求項１４】
基板上にタングステン膜を堆積させる装置であって、
ａ）マルチステーション基板堆積チャンバを備え、
前記マルチステーション基板堆積チャンバは、
ｉ）基板サポート、および、前記基板をガスのパルスにさらすための１つ以上のガス入口、を有するタングステン核生成層堆積ステーションと、
ｉｉ）基板サポート、および、前記基板をガスのパルスにさらすための１つ以上のガス入口、を有する還元剤暴露ステーションと、
ｉｉｉ）基板サポート、および、前記基板をガスにさらすための１つ以上のガス入口、を有するタングステンバルク層堆積ステーションと、
を備え、
ｂ）前記マルチステーション基板堆積チャンバにおける動作を制御するコントローラと、
を備え、
前記コントローラが制御する前記動作は、
ｉ）前記タングステン核生成層堆積ステーション内で、還元剤パルス、パージガスパルス、およびタングステン含有前駆物質パルスのサイクルを複数発生させることにより、前記基板の表面にタングステン核生成層を形成することと、
ｉｉ）前記還元剤暴露ステーションにおいて、複数の還元剤パルスを発生させ、前記複数の還元剤パルス間においてはパルス動作をさせないことと、
ｉｉｉ）前記タングステンバルク層堆積ステーションにタングステン含有前駆物質、および還元剤を放つことと、
を含む、装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】タングステン膜の製造方法および装置
【手続補正書】
【提出日】平成24年5月22日(2012.5.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
階段下地に下地調整材と階段被覆材を重ねて設けた階段被覆構造であって、下地調整材は硬質の合成樹脂又は金属によって踏み面調整部と、段鼻調整部と、その下方に延びる蹴上げ調整部と、蹴上げ調整部の下端の水切り部とを一体に形成したものであり、階段被覆材は軟質の合成樹脂又はゴムによって踏み面被覆部と、段鼻被覆部と、その下方に延びる蹴上げ被覆部とを一体に形成したものであることを特徴とする階段被覆構造。
【請求項２】
下地調整材の蹴上げ調整部の下部前面側に、階段被覆材の段鼻被覆部の下方に延びる蹴上げ被覆部の下端部を差し込む剥離防止溝を形成したことを特徴とする請求項１に記載の階段被覆構造。
【請求項３】
下地調整材の少なくとも踏み面調整部の下面に、踏み面調整部の横幅方向に延びる断面が下広がり形状の凸条、又は／及び、踏み面調整部の横幅方向に延びる断面がＶ字形状の凸条を、互いに平行に複数形成したことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の階段被覆構造。
【請求項４】
下地調整材の踏み面調整部の上面を、後端に近づくほど高さが徐々に減少又は増加するように傾斜させたことを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の階段被覆構造。
【請求項５】
下地調整材の踏み面調整部の下面に形成した複数の凸条の高さを、踏み面調整部の最も前端寄りに位置する凸条が最も高く、後端に近い凸条ほど低くなるように徐々に減少させて、踏み面調整部の上面を、後端に近づくほど高さが徐々に減少するように傾斜させるか、又は、下地調整材の踏み面調整部の下面に形成した複数の凸条の高さを、踏み面調整部の最も前端寄りに位置する凸条が最も低く、後端に近い凸条ほど高くなるように徐々に増加させて、踏み面調整部の上面を、後端に近づくほど高さが徐々に増加するように傾斜させたことを特徴とする請求項３又は請求項４に記載の階段被覆構造。
【請求項６】
下地調整材の踏み面調整部の後端に沿って排水溝を設けたことを特徴とする請求項４又は請求項５に記載の階段被覆構造。
【請求項７】
下地調整材の少なくとも踏み面調整部の上面に、踏み面調整部の横幅方向に延びる小溝を互いに平行に複数形成したことを特徴とする請求項１ないし請求項６のいずれかに記載の階段被覆構造。
【請求項８】
下地調整材の踏み面調整部を前後に複数分割し、分割体の端部を前後方向にスライド可能に重ねて接合したことを特徴とする請求項１ないし請求項７のいずれかに記載の階段被覆構造。
【請求項９】
階段被覆材が、踏み面被覆部の後端から上方へ折り曲げる蹴上げ被覆部を更に一体に形成したものであることを特徴とする請求項１ないし請求項８に記載の階段被覆構造。
【請求項１０】
下地調整材の踏み面調整部が、階段下地の踏み面の前縁部を被覆するだけの小さな前後寸法を有することを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の階段被覆構造。
【請求項１１】
階段被覆材を重ねて階段下地に取付ける略Ｌ字形状の断面を備えた下地調整材であって、硬質の合成樹脂又は金属によって踏み面調整部と、段鼻調整部と、その下方に延びる蹴上げ調整部と、蹴上げ調整部の下端の水切り部とを一体に形成したことを特徴とする下地調整材。
【請求項１２】
蹴上げ調整部の下部前面側に、階段被覆材の段鼻被覆部の下方に延びる蹴上げ被覆部の下端部を差し込む剥離防止溝を形成したことを特徴とする請求項１１に記載の下地調整材。
【請求項１３】
踏み面調整部が、階段下地の踏み面の前縁部を被覆するだけの小さな前後寸法を有することを特徴とする請求項１１又は請求項１２に記載の下地調整材。
【請求項１４】
蹴上げ調整部の裏面に、階段被覆材の踏み面被覆部の後端から上方へ折り曲げる蹴上げ被覆部の厚み寸法に等しいか、若しくは若干大きい突出寸法を有するスペーサを形成したことを特徴とする請求項１１ないし請求項１３のいずれかに記載の下地調整材。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
一方、階段の踏み面をカバーする踏み面部と、これとほぼ垂直に形成された蹴込み面をカバーする蹴込み部を備えた階段用補修材であって、一体に構成されたＬ字型の金属基板、及び、該金属基板の少なくとも踏み面部表面に塗装された耐摩耗性塗料からなる階段用補修材を使用し、既設階段の踏み面をレベル調整した後、上記階段用補修材の踏み面部を既設階段の踏み面に取り付ける階段の補修方法も知られている（特許文献２）。
【特許文献１】特開２００３−２９３５３９号公報
【特許文献２】特開２００３−１８４２５２号公報
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
しかしながら、上記特許文献１の階段構造をはじめとして、柔軟な合成樹脂製の被覆材やゴム製の被覆材で階段を被覆する場合は、柔軟な被覆材が階段下地の表面に追従し易いという利点を有する反面、階段下地に破損箇所（例えば段鼻の一部欠損など）や大きい凹凸（例えばモルタル仕上げが不良で踏み面の不陸が激しいものなど）がある場合には、被覆材で被覆し難いことがあり、無理やりに被覆すると、昇降時に被覆材が破損する恐れがあった。また、階段下地に凹凸があると、被覆材の表面にも凹凸ができたり、被覆材の剥離や浮き上がりが生じたりするため、水溜まりの原因や転倒事故の原因になるという問題もあった。このため、下地がモルタル仕上げの階段では、被覆材を貼り付ける前に、階段下地をモルタルで補修したり補正仕上げをしなければならない場合が多く、手間と時間がかかっていた。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
一方、特許文献２のような耐摩耗性塗料を塗装した金属基板からなる階段用補修材を用いて階段を補修する場合は、階段下地の補修作業を省略することが可能となるが、このような階段用補修材は、長期に亘って良好な防滑性を発揮し難く、意匠性、衝撃緩和性、防音性なども劣るという問題があった。
【手続補正書】
【提出日】平成24年9月25日(2012.9.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
時分割多重でデータを送信する複数の基地局と、該基地局と無線通信を行う移動局と、全体を制御する中央制御装置を備え、複数の前記基地局が周波数を共通に使用して前記データが重ならないように交互にデータを送信する無線システムであって、
複数の前記基地局の送信タイミングのずれを前記中央制御装置に送信する前記移動局の送信タイミングずれ送信手段と、
前記送信タイミングのずれを受信し、前記送信タイミングの補正量を計算する前記中央制御装置の補正量計算手段と、
前記補正量を複数の前記基地局に送信する前記中央制御装置の補正量送信手段と、
前記補正量から前記送信タイミングを補正する前記基地局の送信タイミング補正手段を備えたことを特徴とする無線システム。
【請求項２】
前記送信タイミングのずれは、前記データから検出される同期信号により取り出されることを特徴とする、請求項１記載の無線システム。
【請求項３】
前記基地局が複数の周波数を共通に使用して交互にデータを送信したときでも、前記移動局の前記送信タイミングずれ送信手段は、複数の前記周波数ごとに前記送信タイミングのずれを前記中央制御装置に送信することを特徴とする、請求項１または請求項２記載の無線システム。
【請求項４】
前記移動局の前記送信タイミングずれ送信手段が複数の前記周波数ごとの前記送信タイミングのずれを前記中央制御装置に送信したときに、前記中央制御装置は複数の前記周波数ごとの前記送信タイミングのずれを受信し、複数の前記周波数ごとの前記送信タイミングの前記補正量を計算し、基地局に送信することを特徴とする、請求項３記載の無線システム。
【請求項５】
時分割多重でデータを送信する複数の基地局と、該基地局と無線通信を行う移動局と、全体を制御する中央制御装置を備え、複数の前記基地局が周波数を共通に使用して前記データが重ならないように交互にデータを送信する無線システムのデータ送信方法であって、
複数の前記基地局の送信タイミングのずれを前記中央制御装置に送信する前記移動局の送信タイミングずれ送信工程と、
前記送信タイミングのずれを受信し、前記送信タイミングの補正量を計算する前記中央制御装置の補正量計算工程と、
前記補正量を複数の前記基地局に送信する前記中央制御装置の補正量送信工程と、
前記補正量から前記送信タイミングを補正する前記基地局の送信タイミング補正工程を備えたことを特徴とするデータ送信方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年10月5日(2012.10.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
通信相手装置との間で実行する処理がユーザにより選択されたか否かを判定する判定手段と、
処理ごとの優先度に基づいて、実行する処理を決定する決定手段と、
前記通信相手装置との通信の切断した後に前記通信相手装置と再接続すると、前記決定手段により決定された処理を実行する実行手段と、を有し、
前記実行手段は、前記通信相手装置との通信の切断から再接続までにユーザにより選択された処理があると前記判定手段により判定された場合は、該選択された処理を実行することを特徴とする通信装置。
【請求項２】
前記通信相手装置の機能情報を前記通信相手装置から取得する取得手段と、
前記取得手段により取得した前記機能情報に基づいて、処理ごとに優先度を設定する設定手段とをさらに有することを特徴とする請求項１に記載の通信装置。
【請求項３】
前記決定手段は、前記通信装置の機能情報に付与された優先度と前記通信相手装置の機能情報に付与された優先度とに基づいて、実行する処理を決定することを特徴とする請求項１または２に記載の通信装置。
【請求項４】
前記実行手段は、前記通信相手装置との通信を切断してから前記通信相手装置と再接続するまでの時間に応じて、処理を実行することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の通信装置。
【請求項５】
前記実行手段は、前記通信相手装置が処理するデータを前記通信相手装置に送信することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の通信装置。
【請求項６】
前記通信相手装置を識別するための識別子に基づいて、前記通信相手装置と再接続したことを確認する確認手段をさらに有することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の通信装置。
【請求項７】
ユーザに処理を選択させる選択手段をさらに有することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の通信装置。
【請求項８】
前記通信装置と前記通信相手装置とが実行できる処理に応じて、ユーザに処理を選択させることなく、前記実行手段は処理を実行することを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の通信装置。
【請求項９】
ユーザにより処理が選択されると、該選択された処理の優先度を他の処理よりも高く設定する設定手段をさらに有することを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の通信装置。
【請求項１０】
前記決定手段が決定した処理と、前記通信相手装置が決定した処理とが異なっている場合、エラーを通知する通知手段をさらに有することを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の通信装置。
【請求項１１】
コンピュータにより実行され、通信装置の制御を行うためのプログラムであって、
通信相手装置との間で実行する処理がユーザにより選択されたか否かを判定する判定工程と、
処理ごとの優先度に基づいて、実行する処理を決定する決定工程と、
前記通信相手装置との通信の切断してから所定の時間内に前記通信相手装置と再接続すると、前記決定工程において決定された処理を実行する実行工程と、を有し、
前記実行工程は、前記通信相手装置との通信の切断から再接続までにユーザにより選択された処理があると前記判定工程において判定された場合は、該選択された処理を実行することを特徴とするプログラム。
【請求項１２】
近接無線通信手段と、
前記近接無線通信手段を用いて通信接続した場合に実行する処理を自動で決定する決定手段と、
前記近接無線通信手段を用いて通信接続した場合に実行する処理をユーザ操作に基づいて、選択する選択手段と、
前記決定手段により決定した処理より前記選択手段により選択した処理を優先して実行するよう制御する制御手段とを有することを特徴とする通信装置。
【請求項１３】
近接無線通信手段を備えた通信装置の制御方法であって、
前記近接無線通信手段を用いて通信接続した場合に、自動で決定した第１の処理より、ユーザ操作に基づいて選択した第２の処理を優先して実行するよう制御する制御工程とを有することを特徴とする通信装置の制御方法。
【請求項１４】
コンピュータに請求項１３に記載の制御方法を実行させるためのプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成23年12月8日(2011.12.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】  次に各液処理ユニット２への薬液の供給機構について説明すると、ノズルアーム２４に設けられたノズルは上面側供給ライン４７に接続されており、この上面側供給ライン４７はＩＰＡ供給ライン４１１と薬液供給中間ライン４４とに分岐している。ＩＰＡ供給ライン４１１はＩＰＡ供給部３１に接続されており、このＩＰＡ供給部３１は高い揮発性を利用してウエハＷを乾燥させるためのＩＰＡをウエハＷの上面側に供給する役割を果たす。ＩＰＡ供給ライン４１１にはマスフローコントローラ４２が介設されており、所定量のＩＰＡをノズルアーム２４に供給することができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】  本実施の形態において、既述のロット情報取得部５３においては、例えば全ての優先ロットについて優先ウエハＷＰの枚数に関する情報が取得される一方、優先度や許容処理時間に関する情報は入力側の必要に応じていずれか一方の情報を取得することができるようになっている。また記憶部５２には、例えば割り振り台数設定テーブル５２２や優先度設定テーブル５２３、処理時間推定テーブル５２４が記憶されている。そして優先度、許容処理時間のいずれの情報も取得しなかった場合、または優先度に関する情報を取得した場合には、割り振り台数設定テーブル５２２及び優先度設定テーブル５２３を用いて優先処理ユニット２Ｐに割り振る処理ユニット２の台数が決定される。一方、許容処理時間に関する情報を取得した場合には、処理時間推定テーブル５２４を用いて優先処理ユニット２Ｐに割り振る台数を決定するようになっている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】  図６は、割り振り台数設定テーブル５２２、優先度設定テーブル５２３及びこれらのテーブル５２２、５２３を用いて優先処理ユニット２Ｐへの割り振り台数を決定する手法を示した説明図である。割り振り台数設定テーブル５２２には、優先ロットのＦＯＵＰ６内に収納された優先ウエハＷＰの枚数に応じて選択される優先処理ユニット２Ｐの基準の割り振り台数が記憶されている。本例に係る割り振り台数設定テーブル５２２では、優先ウエハＷＰが１枚〜９枚のときには優先ウエハＷＰと同数の優先処理ユニット２Ｐが割り振られ、優先ウエハＷＰが１０枚以上のときには１０台の優先処理ユニット２Ｐが割り振られるようになっている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】  次にロット情報取得部５３にて取得した許容処理時間に基づいて優先処理ユニット２Ｐの割り振り台数を決定する手法について図７を参照しながら説明する。図７は、処理時間推定テーブル５２４の一例を示しており、表の左右方向の列は優先処理ユニット２Ｐの割り振り台数を表しており、上下方向の行は優先ウエハＷＰの枚数が記載されている。そしてこれら各行と列とが交差するセル内には、その優先処理ユニット２Ｐの割り振り台数にて対象枚数の優先ウエハＷＰを処理したときに、要する概略の推定処理時間が記憶されている。例えば、４枚の優先ウエハＷＰを３台の優先処理ユニット２Ｐを用いて液処理を行った場合には、処理を終えるまでの概略の推定処理時間は「Ｔ０４０３」であることが分かる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】  ここで図８に示した模式図において図８に向かって上から２行のカラム（ＦＯＵＰ載置部１１に接続した状態で示してある）が下段側の液処理ブロック１４ｂ内の液処理ユニット２（１〜１０）を示し、その下の２行のカラムが上段側の液処理ブロック１４ｂ内の液処理ユニット２（１１〜２０）を示している。また当図では、搬送部１２や受け渡し部１３、プロセスアーム１４１ａ、１４１ｂなどの記載は省略してある。当該模式図の構成については、後述する図１０〜図２４においても同様である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】  以上に説明した構成を備えた液処理装置１の作用について説明する。液処理装置１にて処理を開始すると、搬入出アーム１２１はＦＯＵＰ載置部１１に載置されたＦＯＵＰ６からウエハＷを取り出し、第１の受け渡し棚１３３内にウエハＷを載置する。昇降搬送機構１３４は、当該第１の受け渡し棚１３３からウエハＷを取り出して、各液処理ブロック１４ａ、１４ｂに対応する第２の受け渡し棚１３１ａ、１３１ｂにウエハＷを順次載置する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】  液処理を終えたウエハＷは搬入時とは逆の経路で第２の受け渡し棚１３１ａ、１３１ｂ、昇降搬送機構１３４、第１の受け渡し棚１３３、搬入出アーム１２１へと受け渡され、ＦＯＵＰ載置部１１のＦＯＵＰ６内に格納される。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】  図９のフロー図に示すように、液処理装置１の稼動を開始すると（スタート）、通常のスケジュールに基づいてＦＯＵＰ載置部１１に載置されたＦＯＵＰ６からウエハＷを搬出し、各ウエハＷについての液処理を実行する。本例に係る液処理装置１では、例えば図１０（ａ）に示すように、ＦＯＵＰ載置部１１に１番目のＦＯＵＰ６（Ａ）が載置されると、ここから１番目のウエハＷ（Ａ-１）が取り出され、例えば下段側の液処理ブロック１４ｂの前方側から見て左手、最奥位置の液処理ユニット２（１）に搬入されて液処理が開始される。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７５】  このほか上述の例では、ウエハＷの枚数や優先度、許容処理時間に応じて優先処理ユニット２Ｐに割り振る例について説明したが、優先処理ユニット２Ｐの台数や位置は変更しなくてもよい。例えば図８に示した下段側の１０台の液処理ユニット２（１〜１０）については、優先ロットが搬送されてきた場合には常に優先処理ユニット２Ｐに割り振るように固定してもよい。    さらには、上述の液処理装置１においては、各々１０台の液処理ユニット２を備える液処理ブロック１４ａ、１４ｂが上下に２段積み重ねられた例を用いて説明したが、各液処理ブロック１４ａ、１４ｂに設けられる液処理ユニット２の台数、液処理ブロック１４ａ、１４ｂの数を適宜増減してもよいことは勿論である。
【手続補正書】
【提出日】平成24年9月25日(2012.9.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理手順及び処理条件が定義されたレシピを実行する基板処理装置と、前記基板処理装置に接続される群管理装置と、を備える基板処理システムであって、
前記群管理装置は、
異常現象が発生した前記基板処理装置を特定する装置特定情報に関連づけて前記基板処理装置の種別を特定する装置種別特定情報を読み出し可能に格納し、前記レシピの実行中に生じた異常現象を特定する異常現象特定情報、及び前記装置種別特定情報に関連づけて前記異常現象の発生要因の解析に必要な検証項目を特定する検証項目特定情報を読み出し可能に格納する格納手段と、
前記異常現象特定情報及び前記装置特定情報を含む基本情報の入力を受け付け、前記格納手段を参照して前記装置特定情報に関連づけられた前記装置種別特定情報を取得し、前記異常現象特定情報及び前記装置種別特定情報に関連づけられた前記検証項目特定情報を抽出し、抽出した前記検証項目特定情報を含む検証項目テーブルを作成する解析支援手段と、を備えることを特徴とする基板処理システム。
【請求項２】
処理手順及び処理条件が定義されたレシピを実行する基板処理装置に接続される群管理装置であって、
異常現象が発生した前記基板処理装置を特定する装置特定情報に関連づけて前記基板処理装置の種別を特定する装置種別特定情報を読み出し可能に格納し、前記レシピの実行中に生じた異常現象を特定する異常現象特定情報、及び前記装置種別特定情報に関連づけて前記異常現象の発生要因の解析に必要な検証項目を特定する検証項目特定情報を読み出し可能に格納する格納手段と、
前記異常現象特定情報及び前記装置特定情報を含む基本情報の入力を受け付け、前記格納手段を参照して前記装置特定情報に関連づけられた前記装置種別特定情報を取得し、前記異常現象特定情報及び前記装置種別特定情報に関連づけられた前記検証項目特定情報を抽出し、抽出した前記検証項目特定情報を含む検証項目テーブルを作成する解析支援手段と、
を備えることを特徴とする群管理装置。
【請求項３】
処理手順及び処理条件が定義されたレシピを実行する基板処理装置の情報解析方法であって、
異常現象が発生した前記基板処理装置を特定する装置特定情報に関連づけて前記基板処理装置の種別を特定する装置種別特定情報を読み出し可能に格納し、前記レシピの実行中に生じた異常現象を特定する異常現象特定情報、及び前記装置種別特定情報に関連づけて前記異常現象の発生要因の解析に必要な検証項目を特定する検証項目特定情報を読み出し可能に格納する格納工程と、
前記レシピの進行状況又は前記基板処理装置の状態を示すデータを受信する工程と、
前記異常現象特定情報及び前記装置特定情報を含む基本情報の入力を受け付け、前記格納手段を参照して前記装置特定情報に関連づけられた前記装置種別特定情報を取得し、前記異常現象特定情報及び前記装置種別特定情報に関連づけられた前記検証項目特定情報を抽出し、抽出した前記検証項目特定情報を含む検証項目テーブルを作成する工程と、
を有する基板処理装置の情報解析方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年10月9日(2012.10.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板への不純物拡散成分の印刷に用いられる拡散剤組成物であって、
アルコキシシランの加水分解生成物（Ａ）と、
アルコキシチタンの加水分解生成物、アルコキシジルコニウムの加水分解生成物、チタニア微粒子およびジルコニア微粒子のうち、少なくとも１種を含む成分（Ｂ）と、
不純物拡散成分（Ｃ）と、
有機溶剤（Ｄ）と、
を含有することを特徴とする拡散剤組成物。
【請求項２】
前記アルコキシシランが下記式（１）で表される請求項１に記載の拡散剤組成物。
【化１】
2011082247.tif 000001
（１）式中、Ｒ１は水素原子、アルキル基、またはフェニル基であり、Ｒ２はアルキル基又はフェニル基であり、ｌは０、１、もしくは２である。
【請求項３】
前記アルコキシチタンが下記式（２）で表される請求項１または２に記載の拡散剤組成物。
【化２】
2011082247.tif 000002
（２）式中、Ｒ３、Ｒ４はアルキル基であり、ｍは０、１、もしくは２である。
【請求項４】
前記アルコキシジルコニウムが下記式（３）で表される請求項１乃至３のいずれか１項に記載の拡散剤組成物。
【化３】
2011082247.tif 000003
（３）式中、Ｒ５、Ｒ６はアルキル基であり、ｎは０、１、もしくは２である。
【請求項５】
組成物全体に対するＳｉＯ２換算固形物の質量と組成物全体に対するＴｉＯ２換算固形物の質量との質量比（ＳｉＯ２換算固形分量：ＴｉＯ２換算固形分量）が８５：１５〜９８：２の範囲である請求項１乃至３のいずれか１項に記載の拡散剤組成物。
【請求項６】
前記不純物拡散成分（Ｃ）は、Ｖ族元素の化合物を含むことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の拡散剤組成物。
【請求項７】
半導体基板に、請求項１乃至６のいずれか１項に記載の拡散剤組成物を印刷してパターンを形成するパターン形成工程と、
前記拡散剤組成物の不純物拡散成分（Ｃ）を前記半導体基板に拡散させる拡散工程と、
を含むことを特徴とする不純物拡散層の形成方法。
【請求項８】
請求項７に記載の不純物拡散層の形成方法により不純物拡散層が形成された半導体基板を備えたことを特徴とする太陽電池。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５４】
次に、図１（１Ｂ）に示すように、拡散剤組成物２および拡散剤組成物３がパターニングされた半導体基板１を、たとえば、電気炉等の拡散炉内に載置して焼成し、拡散剤組成物２中のＮ型の不純物拡散成分（Ｃ）、および拡散剤組成物３中のＰ型の不純物拡散成分を半導体基板１の表面から半導体基板１内に拡散させる。なお、拡散炉に代えて、慣用のレーザーの照射により半導体基板１を加熱してもよい。このようにして、Ｎ型の不純物拡散成分（Ｃ）が半導体基板１内に拡散して、Ｎ型不純物拡散層４が形成され、また、Ｐ型の不純物拡散成分が半導体基板１内に拡散して、Ｐ型不純物拡散層５が形成される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６９】
１  半導体基板、  ２，３  拡散剤組成物、  ４  Ｎ型不純物拡散層、  ５  Ｐ型不純物拡散層、  ６  パッシベーション層、  ６ａ  コンタクトホール、  ７  シリコン窒化膜、  ８，９  電極、  １０  太陽電池
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月29日(2012.6.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
両面に配線層を有し、該配線層が基板内部を通して相互に電気的に接続された配線基板と、
前記配線基板の一方の面側の配線層にバンプにより電気的に接続され、実装される第１の電子部品が有する熱膨張係数と同じ値もしくはこれに近似した値の熱膨張係数を有する第１のインターポーザと、
前記配線基板の他方の面側の配線層にバンプにより電気的に接続され、実装される第２の電子部品が有する熱膨張係数と同じ値もしくはこれに近似した値の熱膨張係数を有する第２のインターポーザと、
前記配線基板と、前記第１、第２のインターポーザとの間に充填されたアンダーフィル樹脂とを備えたことを特徴とするインターポーザ実装配線基板。
【請求項２】
前記第１、第２の各インターポーザは、その基材がシリコンから形成されており、前記配線基板は、その基材が樹脂から形成されていることを特徴とする請求項１に記載のインターポーザ実装配線基板。
【請求項３】
前記第１、第２の各インターポーザは、前記配線基板を挟んで対向する位置に配設されていることを特徴とする請求項１又は２に記載のインターポーザ実装配線基板。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか一項に記載のインターポーザ実装配線基板と、
前記第１のインターポーザの前記配線基板に対向する側と反対側の面に実装された第１の電子部品と、
前記第２のインターポーザの前記配線基板に対向する側と反対側の面に実装された第２の電子部品とを備えたことを特徴とする電子部品装置。
【請求項５】
前記第１の電子部品は、前記第２の電子部品と比べて動作時の発熱量が大きいデバイスであることを特徴とする請求項４に記載の電子部品装置。
【請求項６】
さらに、前記第１の電子部品と熱的に結合され、かつ、前記第２の電子部品から熱的に遮断された放熱部材を備えたことを特徴とする請求項５に記載の電子部品装置。
【請求項７】
さらに、前記配線基板の前記第２のインターポーザが実装されている側の面に、外部接続端子が接合されていることを特徴とする請求項５又は６に記載の電子部品装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
上記の従来技術の課題を解決するため、本発明の一形態によれば、両面に配線層を有し、該配線層が基板内部を通して相互に電気的に接続された配線基板と、前記配線基板の一方の面側の配線層にバンプにより電気的に接続され、実装される第１の電子部品が有する熱膨張係数と同じ値もしくはこれに近似した値の熱膨張係数を有する第１のインターポーザと、前記配線基板の他方の面側の配線層にバンプにより電気的に接続され、実装される第２の電子部品が有する熱膨張係数と同じ値もしくはこれに近似した値の熱膨張係数を有する第２のインターポーザと、前記配線基板と、前記第１、第２のインターポーザとの間に充填されたアンダーフィル樹脂とを備えたことを特徴とするインターポーザ実装配線基板が提供される。