【事件の表示】
　特願２００５−　３３６１８「変動する走査速度に対する感度を低下させる被変調リソグラフィビーム」拒絶査定不服審判事件〔平成１７年　７月２８日出願公開、特開２００５−２０３８０２〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本件出願は平成１７年１月１３日（パリ条約による優先権主張　平成１６年１月１３日、米国）の特許出願であって、平成２０年１月２５日付けで拒絶理由が通知され、同年３月２４日付けで意見書及び手続補正書が提出されたが、同年４月９日付けで拒絶査定がなされたため、これを不服として同年７月１０日に本件審判請求がなされるとともに、同年７月２４日付けで特許請求の範囲について手続補正がなされ、同日付けで同年７月１０日付けの審判請求書の請求の理由について手続補正がなされたものである。
　
第２　補正の却下の決定
　
［補正の却下の決定の結論］
　平成２０年７月２４日付けの特許請求の範囲についての手続補正（以下「本件補正」という。）を却下する。
　
［理由］
１　本件補正の内容
　本件補正は、平成２０年３月２４日付けの手続補正により補正された特許請求の範囲についての
　
「【請求項１】
リソグラフィ装置であって、
放射線のビームを供給するように構成された照明システムと、
パターニングデバイスを支持するように構成された支持構造とを有し、前記パターニングデバイスがビームの断面にパターンを与え、さらに、
基板を保持するように構成された基板ホルダと、
パターン形成したビームを前記基板の目標部分に投影するように構成された投影システムと、
パターン形成したビームと前記基板とを相互に対して移動するように構成された走査機構と、
走査速度信号に基づいてパターン形成ビームの属性を変調するように構成された変調器とを有し、前記走査速度信号が、前記基板に対するパターン形成ビームの走査速度を示し、
前記変調器が、前記投影システムと前記照明システムとの少なくとも一方のスリットの幅を変調して、パターン形成したビームの幅を変調するように構成され、
さらに、
第一制限要素と、
第二制限要素と、
前記第一および第二制限要素を駆動するように構成された駆動機構とを有し、
前記スリットが、前記第一制限要素と第二制限要素との間に形成され、
前記駆動機構が前記第一制限要素を駆動し、前記第一制限要素を加速して、前記スリット幅を変調し、遅延後に、前記第一制限要素の加速とほぼ同様の方法で前記第二制限要素を駆動し、前記第二制限要素を加速して、前記スリット幅を変調し、
駆動機構が、前記走査速度信号に基づいて前記第一制限要素の加速、前記第二制限要素、および前記遅延を決定するリソグラフィ装置。
　　【請求項２】
前記被変調属性が、パターン形成ビームの有効パワーを含む、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
　　【請求項３】
前記被変調属性が、前記照明システムに付随する光源の有効パワーを含む、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
　　【請求項４】
前記変調器が、前記照明システムに伴う光源の繰返し率を変調する、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
　　【請求項５】
前記変調器が、パターン形成したビームを減衰する可変減衰器を駆動するように構成される、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
　　【請求項６】
前記変調器が、走査速度にほぼ比例して、パターン形成したビームの単位時間当たりの総露光エネルギを変調するように構成される、請求項５に記載のリソグラフィ装置。
　　【請求項７】
前記変調器がさらに、減速または加速中に前記基板の前記目標部分へのパターン形成ビームの投影を開始するように構成される、請求項６に記載のリソグラフィ装置。
　　【請求項８】
デバイス製造方法であって、
基板を設けることと、
放射線のビームを設けることと、
前記放射線ビームの断面にパターンを与えることと、
パターンを形成した放射線のビームを前記基板の目標部分に投影することと、
パターン形成したビームと前記基板を相互に対して移動することと、
前記基板に対するパターン形成ビームの走査速度に基づいて、パターン形成ビームの属性を変調することとを含み、
さらに、
第一制限要素と第二制限要素との間にスリットを形成することと、
投影システムと照明システムとの少なくとも一方のスリットの幅を変調して、パターン形成したビームの幅を変調することを含み、
前記ビームの幅を変調する際には、駆動機構が前記第一制限要素を駆動し、前記第一制限要素を加速して、前記スリット幅を変調し、遅延後に、前記第一制限要素の加速とほぼ同様の方法で前記第二制限要素を駆動し、前記第二制限要素を加速して、前記スリット幅を変調し、駆動機構が、前記走査速度信号に基づいて前記第一制限要素の加速、前記第二制限要素、および前記遅延を決定することを含むデバイス製造方法。
　　【請求項９】
前記被変調属性が、パターン形成ビームの有効パワーを含む、請求項８に記載のデバイス製造方法。
　　【請求項１０】
前記被変調属性が、前記照明システムに付随する光源の有効パワーを含む、請求項８に記載のデバイス製造方法。
　　【請求項１１】
前記被変調属性が、前記照明システムに伴う光源の繰返し率を含む、請求項８に記載のデバイス製造方法。
　　【請求項１２】
前記被変調属性が、パターン形成ビームの減衰を含む、請求項８に記載のデバイス製造方法。
　　【請求項１３】
前記被変調属性が、走査速度にほぼ比例した、パターン形成したビームの単位時間当たりの総露光エネルギを含む、請求項８に記載のデバイス製造方法。
　　【請求項１４】
リソグラフィ装置で、
放射線のビームを供給する手段と、
パターニング手段を支持する手段とを有し、前記パターニング手段が投影ビームの断面にパターンを与え、さらに、
基板を保持する手段と、
パターンを形成したビームを前記基板の目標部分に投影する手段と、
パターンを形成したビームと基板とを相互に移動させる手段と、
走査速度の変動に対する感度を低下させるために、パターンを形成したビームと前記基板とが相互に対して移動するにつれて、走査速度を示す走査速度信号に基いてパターン形成ビームの属性を変調する手段とを有し、
前記変調する手段が、前記投影システムと前記放射線手段との少なくとも一方のスリットの幅を変調して、パターン形成したビームの幅を変調するように構成され、
さらに、
第一制限手段と、
第二制限手段と、
前記第一および第二制限手段を駆動する駆動手段とを有し、
前記スリットは、前記第一と第二制御手段との間で画成され、
前記駆動手段が前記第一制限手段を駆動し、前記第一制限手段を加速して、前記スリット幅を変調し、遅延後に、前記第一制限手段の加速とほぼ同様の方法で前記第二制限手段を駆動し、前記第二制限手段を加速して、前記スリット幅を変調し、
駆動手段が、前記走査速度信号に基づいて前記第一制限手段および、前記第二制限手段の加速、および前記遅延を決定するリソグラフィ装置。
　　【請求項１５】
前記被変調属性が、パターン形成ビームの有効パワーを含む、請求項１４に記載のリソグラフィ装置。
　　【請求項１６】
前記被変調属性が、前記放射線手段に付随する光源の有効パワーを含む、請求項１４に記載のリソグラフィ装置。
　　【請求項１７】
前記変調器が、前記放射線手段に伴う前記照明システムの光源の繰返し率を変調する、請求項１４に記載のリソグラフィ装置。
　　【請求項１８】
前記変調する手段が、パターンを形成したビームを減衰させる可変減衰器を駆動するように構成される、請求項１４に記載のリソグラフィ装置。
　　【請求項１９】
前記変調手段が、前記走査速度にほぼ比例して、パターン形成したビームの単位時間当たりの総露光エネルギを変調するように構成される、請求項１４に記載のリソグラフィ装置。
　　【請求項２０】
前記変調する手段がさらに、減速または加速中に前記基板の前記目標部分へのパターン形
成ビームの投影を開始するように構成される、請求項１９に記載のリソグラフィ装置。
　　【請求項２１】
リソグラフィ装置であって、
放射線のビームを供給するように構成された照明システムと、
パターニングデバイスを支持するように構成された支持構造とを有し、前記パターニングデバイスがビームの断面にパターンを与え、さらに、
基板を保持するように構成された基板ホルダと、
パターン形成したビームを前記基板の目標部分に投影するように構成された投影システムと、
パターン形成したビームと前記基板とを相互に対して移動するように構成された走査機構と、
走査速度信号に基づいてパターン形成ビームの属性を変調するように構成された変調器とを有し、前記走査速度信号が、前記基板に対するパターン形成ビームの走査速度を示し、さらに、
第一制限要素と、
第一制限要素と自身との間にスリットが形成されるように、第一制限要素に対して配置された第二制限要素とを有し、前記スリットが、パターンを形成したビームに対応するように開口を画定する幅を有し、さらに、
第一および第二制限要素を駆動する駆動手段とを有し、
変調器が、第一制限要素を加速し、遅延の後に第二制限要素を加速するように駆動機構に指示することによって、スリット幅を変調し、第一および第二制限要素の加速および遅延は、走査速度信号に基づき、
変調器が、走査速度信号に基づいて、照明システムに付随する光源の輝度も変調するリソグラフィ装置。
　　【請求項２２】
リソグラフィ装置であって、
放射線のビームを供給するように構成された照明システムと、
パターニングデバイスを支持するように構成された支持構造とを有し、前記パターニングデバイスがビームの断面にパターンを与え、さらに、
基板を保持するように構成された基板ホルダと、
パターン形成したビームを前記基板の目標部分に投影するように構成された投影システムと、
パターン形成したビームと前記基板とを相互に対して移動するように構成された走査機構と、
走査速度信号に基づいてパターン形成ビームの属性を変調するように構成された変調器とを有し、前記走査速度信号が、前記基板に対するパターン形成ビームの走査速度を示し、さらに、
第一制限要素と、
第一制限要素と自身との間にスリットが形成されるように、第一制限要素に対して配置された第二制限要素とを有し、前記スリットが、パターンを形成したビームに対応するように開口を画定する幅を有し、さらに、
第一および第二制限要素を駆動する駆動手段とを有し、
変調器が、第一制限要素を加速し、遅延の後に第二制限要素を加速するように駆動機構に指示することによって、スリット幅を変調し、第一および第二制限要素の加速および遅延は、走査速度信号に基づき、
変調器が、走査速度信号に基づいて、照明システムに付随する光源の繰返し率も変調するリソグラフィ装置。」
　
の記載を、
　
「【請求項１】
リソグラフィ装置であって、
放射線のビームを供給するように構成された照明システムと、
パターニングデバイスを支持するように構成された支持構造とを有し、前記パターニングデバイスがビームの断面にパターンを与え、さらに、
基板を保持するように構成された基板ホルダと、
パターン形成したビームを前記基板の目標部分に投影するように構成された投影システムと、
パターン形成したビームと前記基板とを相互に対して移動するように構成された走査機構と、
走査速度信号に基づいてパターン形成ビームの属性を変調するように構成された変調器とを有し、前記走査速度信号が、前記基板に対するパターン形成ビームの走査速度を示し、
前記変調器が、パルス当たりのビームのエネルギーを制御するとともに前記投影システムと前記照明システムとの少なくとも一方のスリットの幅を変調して、パターン形成したビームの幅を変調するように構成され、
さらに、
第一制限要素と、
第二制限要素と、
前記第一および第二制限要素を駆動するように構成された駆動機構とを有し、
前記スリットが、前記第一制限要素と第二制限要素との間に形成され、
前記駆動機構が前記第一制限要素を駆動し、前記第一制限要素を加速して、前記スリット幅を変調し、遅延後に、前記第一制限要素の加速とほぼ同様の方法で前記第二制限要素を駆動し、前記第二制限要素を加速して、前記スリット幅を変調し、
駆動機構が、前記走査速度信号に基づいて前記第一制限要素の加速、前記第二制限要素、および前記遅延を決定するリソグラフィ装置。
　　【請求項２】
前記被変調属性が、パターン形成ビームの有効パワーを含む、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
　　【請求項３】
前記被変調属性が、前記照明システムに付随する光源の有効パワーを含む、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
　　【請求項４】
前記変調器が、前記照明システムに伴う光源の繰返し率を変調する、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
　　【請求項５】
前記変調器が、パターン形成したビームを減衰する可変減衰器を駆動するように構成される、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
　　【請求項６】
前記変調器が、走査速度にほぼ比例して、パターン形成したビームの単位時間当たりの総露光エネルギを変調するように構成される、請求項５に記載のリソグラフィ装置。
　　【請求項７】
前記変調器がさらに、減速または加速中に前記基板の前記目標部分へのパターン形成ビームの投影を開始するように構成される、請求項６に記載のリソグラフィ装置。
　　【請求項８】
デバイス製造方法であって、
基板を設けることと、
放射線のビームを設けることと、
前記放射線ビームの断面にパターンを与えることと、
パターンを形成した放射線のビームを前記基板の目標部分に投影することと、
パターン形成したビームと前記基板を相互に対して移動することと、
前記基板に対するパターン形成ビームの走査速度に基づいて、パターン形成ビームの属性を変調することとを含み、
さらに、
第一制限要素と第二制限要素との間にスリットを形成することと、
パルス当たりのビームのエネルギーを制御するとともに投影システムと照明システムとの少なくとも一方のスリットの幅を変調して、パターン形成したビームの幅を変調することを含み、
前記ビームの幅を変調する際には、駆動機構が前記第一制限要素を駆動し、前記第一制限要素を加速して、前記スリット幅を変調し、遅延後に、前記第一制限要素の加速とほぼ同様の方法で前記第二制限要素を駆動し、前記第二制限要素を加速して、前記スリット幅を変調し、駆動機構が、前記走査速度信号に基づいて前記第一制限要素の加速、前記第二制限要素、および前記遅延を決定することを含むデバイス製造方法。
　　【請求項９】
前記被変調属性が、パターン形成ビームの有効パワーを含む、請求項８に記載のデバイス製造方法。
　　【請求項１０】
前記被変調属性が、前記照明システムに付随する光源の有効パワーを含む、請求項８に記載のデバイス製造方法。
　　【請求項１１】
前記被変調属性が、前記照明システムに伴う光源の繰返し率を含む、請求項８に記載のデバイス製造方法。
　　【請求項１２】
前記被変調属性が、パターン形成ビームの減衰を含む、請求項８に記載のデバイス製造方法。
　　【請求項１３】
前記被変調属性が、走査速度にほぼ比例した、パターン形成したビームの単位時間当たりの総露光エネルギを含む、請求項８に記載のデバイス製造方法。
　　【請求項１４】
リソグラフィ装置で、
放射線のビームを供給する手段と、
パターニング手段を支持する手段とを有し、前記パターニング手段が投影ビームの断面にパターンを与え、さらに、
基板を保持する手段と、
パターンを形成したビームを前記基板の目標部分に投影する手段と、
パターンを形成したビームと基板とを相互に移動させる手段と、
走査速度の変動に対する感度を低下させるために、パターンを形成したビームと前記基板とが相互に対して移動するにつれて、走査速度を示す走査速度信号に基いてパターン形成ビームの属性を変調する手段とを有し、
前記変調する手段が、パルス当たりのビームのエネルギーを制御するとともに前記投影システムと前記放射線手段との少なくとも一方のスリットの幅を変調して、パターン形成したビームの幅を変調するように構成され、
さらに、
第一制限手段と、
第二制限手段と、
前記第一および第二制限手段を駆動する駆動手段とを有し、
前記スリットは、前記第一と第二制御手段との間で画成され、
前記駆動手段が前記第一制限手段を駆動し、前記第一制限手段を加速して、前記スリット幅を変調し、遅延後に、前記第一制限手段の加速とほぼ同様の方法で前記第二制限手段を駆動し、前記第二制限手段を加速して、前記スリット幅を変調し、
駆動手段が、前記走査速度信号に基づいて前記第一制限手段および、前記第二制限手段の加速、および前記遅延を決定するリソグラフィ装置。
　　【請求項１５】
前記被変調属性が、パターン形成ビームの有効パワーを含む、請求項１４に記載のリソグラフィ装置。
　　【請求項１６】
前記被変調属性が、前記放射線手段に付随する光源の有効パワーを含む、請求項１４に記載のリソグラフィ装置。
　　【請求項１７】
前記変調器が、前記放射線手段に伴う前記照明システムの光源の繰返し率を変調する、請求項１４に記載のリソグラフィ装置。
　　【請求項１８】
前記変調する手段が、パターンを形成したビームを減衰させる可変減衰器を駆動するように構成される、請求項１４に記載のリソグラフィ装置。
　　【請求項１９】
前記変調手段が、前記走査速度にほぼ比例して、パターン形成したビームの単位時間当たりの総露光エネルギを変調するように構成される、請求項１４に記載のリソグラフィ装置。
　　【請求項２０】
前記変調する手段がさらに、減速または加速中に前記基板の前記目標部分へのパターン形成ビームの投影を開始するように構成される、請求項１９に記載のリソグラフィ装置。
　　【請求項２１】
リソグラフィ装置であって、
放射線のビームを供給するように構成された照明システムと、
パターニングデバイスを支持するように構成された支持構造とを有し、前記パターニングデバイスがビームの断面にパターンを与え、さらに、
基板を保持するように構成された基板ホルダと、
パターン形成したビームを前記基板の目標部分に投影するように構成された投影システムと、
パターン形成したビームと前記基板とを相互に対して移動するように構成された走査機構と、
走査速度信号に基づいてパターン形成ビームの属性を変調するように構成された変調器とを有し、前記走査速度信号が、前記基板に対するパターン形成ビームの走査速度を示し、さらに、
第一制限要素と、
第一制限要素と自身との間にスリットが形成されるように、第一制限要素に対して配置された第二制限要素とを有し、前記スリットが、パターンを形成したビームに対応するように開口を画定する幅を有し、さらに、
第一および第二制限要素を駆動する駆動手段とを有し、
変調器が、第一制限要素を加速し、遅延の後に第二制限要素を加速するように駆動機構に指示することによって、スリット幅を変調し、第一および第二制限要素の加速および遅延は、走査速度信号に基づき、
変調器が、走査速度信号に基づいて、パルス当たりのビームのエネルギーを制御するとともに照明システムに付随する光源の輝度も変調するリソグラフィ装置。
　　【請求項２２】
リソグラフィ装置であって、
放射線のビームを供給するように構成された照明システムと、
パターニングデバイスを支持するように構成された支持構造とを有し、前記パターニングデバイスがビームの断面にパターンを与え、さらに、
基板を保持するように構成された基板ホルダと、
パターン形成したビームを前記基板の目標部分に投影するように構成された投影システムと、
パターン形成したビームと前記基板とを相互に対して移動するように構成された走査機構と、
走査速度信号に基づいてパターン形成ビームの属性を変調するように構成された変調器とを有し、前記走査速度信号が、前記基板に対するパターン形成ビームの走査速度を示し、さらに、
第一制限要素と、
第一制限要素と自身との間にスリットが形成されるように、第一制限要素に対して配置された第二制限要素とを有し、前記スリットが、パターンを形成したビームに対応するように開口を画定する幅を有し、さらに、
第一および第二制限要素を駆動する駆動手段とを有し、
変調器が、第一制限要素を加速し、遅延の後に第二制限要素を加速するように駆動機構に指示することによって、スリット幅を変調し、第一および第二制限要素の加速および遅延は、走査速度信号に基づき、
変調器が、走査速度信号に基づいて、パルス当たりのビームのエネルギーを制御するとともに照明システムに付随する光源の繰返し率も変調するリソグラフィ装置。」
　
と補正するものである。
　
２　本件補正の適否の検討
（１）目的要件についての検討
　本件補正が、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法（以下単に「特許法という。）第１７条の２第４項に規定する要件を満たすか否かを検討する。
　本件補正は、本件補正前の請求項１〜７，２１〜２２の「変調器」について、「変調器」が「パルス当たりのビームのエネルギーを制御する」ものでもあると限定し、本件補正前の請求項８〜１３の「ビーム」を「変調する」態様について、「パルス当たりのビームのエネルギーを制御する」という態様でも「ビーム」を「変調する」と限定し、本件補正前の請求項１４〜２０の「変調する手段」について、「変調する手段」が「パルス当たりのビームのエネルギーを制御する」ものでもあると限定する補正であるから、本件補正の補正の目的は、特許法第１７条の２第４項第２号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」に該当する。
　したがって、本件補正は、特許法第１７条の２第４項の規定に適合する。
　
（２）独立特許要件についての検討
　上記（１）で検討したとおり、本件補正のうち本件補正前の請求項１を本件補正後の請求項１とする補正の目的は特許法第１７条の２第４項第２号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」であるから、本件補正が特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項に規定する要件を満たすか否か、すなわち、本件補正後の請求項１に係る発明（以下「本件補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるか否かを検討する。
　
ア　本件補正発明の認定
　本件補正後の請求項１には、「駆動機構が、前記走査速度信号に基づいて・・・、前記第二制限要素、・・・を決定する」ことが記載されているが、本件補正後の請求項１に「前記第一制限要素の加速とほぼ同様の方法で前記第二制限要素を駆動し、前記第二制限要素を加速」すると記載されていること、本件補正後の請求項１に「前記第一制限要素の加速」と記載されていること、及び、本件出願の明細書（以下図面を含めて「本件明細書等」という。）に「第一および第二制限要素の加速または速度」（段落【００６２】）と記載されていることに照らし、本件補正後の請求項１の「駆動機構が、前記走査速度信号に基づいて・・・、前記第二制限要素、・・・を決定する」ことは、「駆動機構が、前記走査速度信号に基づいて・・・、前記第二制限要素の加速、・・・を決定する」の誤記と認める。
　すると、本件補正後の請求項１に係る発明は、本件補正により補正された特許請求の範囲の請求項１の記載に照らし、次のとおりのものと認める。
　
「リソグラフィ装置であって、
放射線のビームを供給するように構成された照明システムと、
パターニングデバイスを支持するように構成された支持構造とを有し、前記パターニングデバイスがビームの断面にパターンを与え、さらに、
基板を保持するように構成された基板ホルダと、
パターン形成したビームを前記基板の目標部分に投影するように構成された投影システムと、
パターン形成したビームと前記基板とを相互に対して移動するように構成された走査機構と、
走査速度信号に基づいてパターン形成ビームの属性を変調するように構成された変調器とを有し、前記走査速度信号が、前記基板に対するパターン形成ビームの走査速度を示し、
前記変調器が、パルス当たりのビームのエネルギーを制御するとともに前記投影システムと前記照明システムとの少なくとも一方のスリットの幅を変調して、パターン形成したビームの幅を変調するように構成され、
さらに、
第一制限要素と、
第二制限要素と、
前記第一および第二制限要素を駆動するように構成された駆動機構とを有し、
前記スリットが、前記第一制限要素と第二制限要素との間に形成され、
前記駆動機構が前記第一制限要素を駆動し、前記第一制限要素を加速して、前記スリット幅を変調し、遅延後に、前記第一制限要素の加速とほぼ同様の方法で前記第二制限要素を駆動し、前記第二制限要素を加速して、前記スリット幅を変調し、
駆動機構が、前記走査速度信号に基づいて前記第一制限要素の加速、前記第二制限要素の加速、および前記遅延を決定するリソグラフィ装置。」
　
イ　引用刊行物の記載事項
　原査定の拒絶理由に引用され、本件出願の優先日前に頒布された刊行物である特開平７−１３５１５８号公報（以下「引用例１」という。）には、以下の（ア）〜（エ）の記載が図面とともにある。
　
（ア）「【請求項２】  露光光で原板と基板を走査することにより前記原板のパターンを介して前記基板を露光する装置において、前記走査の加速時／または減速時に前記原板のパターンを介して前記基板を露光する露光手段を有し、前記露光手段が、前記加速時及び／または減速時の前記基板に対する露光量がほぼ一定になるよう前記走査の速度に応じて前記露光光の強度を変える強度変調手段を有することを特徴とする走査型露光装置。」
　
（イ）「【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は走査型露光装置及び該走査型露光装置を用いるデバイス製造方法に関し、特にＩＣ、ＬＳＩ等の半導体チップ、液晶素子、磁気ヘッド及びＣＣＤ（撮像素子）等のデバイスを製造するための走査型露光装置及び該走査型露光装置を用いる各種デバイスの製造方法に関する。」
　
（ウ）「【０００２】
【従来の技術】図６は従来の半導体デバイス製造用の走査型露光装置を示しており、この装置は、スリット状露光光７１によりレチクル１０上を照明し、投影レンズ系１５によりレチクル１０の回路パターン７０をウエハ１４上に縮小投影し、レチクル１０及びウエハ１４を、各々露光光７１と投影レンズ系１５に対し、投影レンス系１５の縮小倍率と同じ速度比で図示されている様に各々逆方向に走査することにより、レチクル１０全面のパターンをウエハ１４上の領域７２に転写する。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】この露光装置は、主に露光の均一性を確保するためにレチクル１０とウエハ１４の各々が一定速度に到達してから露光を開始する。
【０００４】この様子をレチクル１０側を例にし、図７を用いて以下に説明する。
【０００５】図７から解る様に、パターン７０上を完全にスリット状露光光７１が走査するためには、パターン７０の幅Ｌにスリット状の露光光７１の幅ｌ１を加えた距離だけ走査すればよい。
【０００６】しかし、この露光装置では、走査速度が一定になってから露光を開始するようになっていたため、加速及び減速のための余計なストロークｌ２，ｌ３を必要とし、従って露光に余計な時間を費やしていた。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は露光時間が短い走査型露光装置と該走査型露光装置を用いるデバイス製造方法を提供することにある。」
　
（エ）「【００１２】
【実施例】図１は本発明の一実施例であるデバイス製造用走査型露光装置の概略図を示しており、図１において、１は露光光を発生する水銀灯ランプ、２は水銀灯ランプ１からの光を集光する楕円ミラー、３はコンデンサレンズ、４はコンデンサレンズ３により集光された光を長方形に整形する光学系、５は回転方向に透過率が連続的に変化しているＮＤフィルター回転板、６はＮＤフィルター回転板５を回転させるモータ、７は光路を９０°曲げる為の平面ミラー、８はレチクル面の照度を検出するホトセンサー、９はコンデンサレンズ、１０はレチクル、１１はレチクル１０を保持しているレチクルステージ、１２はレチクルステージ１１を図示してある方向にスキャン駆動をさせるリニアモータ、１３はレチクルステージ１１に固定されているバーミラー、１４はミラー１３にレーザ光を当ててレチクルステージ１１の速度を検出するレーザ干渉計、１５はレチクル１０上のデバイスパターンをウエハ１６上に縮小投影するための投影レンズ系、１６はウエハ、１７はウエハ１６を保持しているウエハチャック、１８はウエハチャック１７を保持しているウエハステージ、１９はウエハステージ１８を図示してある方向にスキャン駆動をさせるリニアモータ、２０はウエハステージ１８に固定されているバーミラー、２１はミラー２０にレーザ光を当ててウエハステージ１８の速度を検出するレーザ干渉計、３０はレチクルステージ１１と、ウエハステージ１８の制御を行なうためのＣＰＵ、３１はＣＰＵ３０により実行されるプログラムコードを記憶しているＲＯＭ、３２はＣＰＵ３０がデータの書き込み、読み出しに使用しているＲＡＭ，３３はＣＰＵ３０から野（当審注：「野」は「の」の誤記と認める。）レチクルステージ１１のスキャン速度指令値を保持するためのメモリー３４はメモリー３３からのデジタルデータをアナログデータに変換するＡＤコンバータ、３５はＡＤコンバータ３４からのアナログ値をリニアモータ１２を駆動するために増幅するドライバー、３６はＣＰＵ３０からのウエハステージ１８のスキャン速度指令値を保持するためのメモリー、３７はメモリー３６からのデジタルデータをアナログデータに変換するＡＤコンバータ、３８はＡＤコンバータ３７からのアナログ値をリニアモータ１９を駆動するために増幅するドライバー、３９はレチクルステージ１１側のレーザ干渉計１４から出力されるスキャン速度に比例したパルス列を積分カウントして位置情報にする為のカウンタ、４０はウエハステージ１８側のレーザ干渉計２１から出力されるスキャン速度に比例したパルス列を積分カウントして位置情報にする為のカウンタ、４１はレチクル面照度を検出するホトセンサー８からの光電流信号を電圧信号に変換する為の電流電圧変換器、４２は電流電圧変換器４１の電圧出力信号をデジタルデータに変換するＡＤコンバータ、４４はＣＰＵ３０からのＮＤフィルター回転板５の位置（角度）指令値を保持するためのメモリー、４５はメモリー４４からのデジタルデータである位置指令値をアナログデータに変換するＤＡコンバータ、４６はＤＡコンバータ４５からのアナログデータである位置指令値を受け取り、その位置にＮＤフィルター回転板を駆動するドライバ、４７はＣＰＵ３０���らの水銀灯ランプへの投入電力指令値を保持するためのメモリー、４８はメモリー４７からのデジタルデータである水銀灯ランプへの投入電力指令値をアナログデータに変換するＤＡコンバータ、４９はＤＡコンバータ４８からのアナログデータである投入電力指令値を受け取り、水銀灯ランプ１をドライブする点灯装置電源である。
【００１３】本実施例の露光装置は、レチクルステージ１１とウエハステージ１８の位置が各々、レーザ干渉計１４、２１からの各々速度に比例したパルス信号を位置カウンタ３９、４０で積算カウントすることによりリアルタイムに計測可能なようになっている。走査露光時には、ＣＰＵ３０はＲＯＭ３１に予め書き込まれているプログラムにより、レチクル１０とウエハ１６が予め決められた位置関係を保ちつつ投影レンズ系１５の倍率と同一の速度比で互いに逆方向に駆動される。
【００１４】又、本露光装置では、走査露光中のレチクル面の照度をセンサ８により検出可能になっており、レチクル１０とウエハ１６のスキャンスピードが一定速度の領域においては、常にレチクル面の照度が一定になる様に、ＣＰＵ３０がＲＯＭ３１に予め書き込まれているプログラムにより、水銀灯１に対する投入電力を、点灯装置電源４９への投入電力指令値を制御することにより制御する様にしている。
【００１５】露光装置で特徴的なことは、回転方向に透過率が連続的に変化しているようなＮＤフィルター回転板５を照明系内に持っていることであり、このＮＤフィルター回転板５は、レチクルステージ１１、ウエハステージ１８のスキャン速度指令値を保持するためのメモリー３３、３６に書き込まれるスキャン速度指令値に比例したレチクル面の照度を達成する為、ＣＰＵ３０からレチクルステージ１１、ウエハステージ１８の位置に依存したスキャン速度指令値がメモリー３３、３６に書き込まれるのに同期して、ＣＰＵ３０からＮＤフィルター回転板５の位置指令値がメモリー４４に書き込まれ、制御される。この位置指令値はＤＡコンバータ４５によりアナログデータに変換されて、ＮＤフィルター回転板５を駆動するドライバ４６に入力され、ドライバ４６は、ＮＤフィルター回転板５を、回転可能に支持しているモータ６により指令位置に駆動し、走査における加速時及び／又は減速時にもウエハ１６に対する露光量がほぼ一定になるようにしている。
【００１６】露光装置では、まず走査露光の前に、ＮＤフィルター回転５（当審注：「ＮＤフィルター回転５」は「ＮＤフィルター回転板５」の誤記と認める。）を回転させて、透過率ほぼ１００％の完全透光状態にし、センサ８でレチクル面の照度を検出し、照度が所定の値になるように水銀灯ランプ１に対する投入電力を制御する。
【００１７】次に、レチクル１０上のアライメントマークと、ウエハ１６上の複数のチップ上にあるアライメントマークの相対位置を走査露光時と同様の走査動作を実行しながら、不図示のアライメントマーク検出系にて検出する。この動作により、レチクル１０のパターンとウエハ１６上の各チップとの位置関係がわかり、レチクルステージ１１、ウエハステージ１８の走査露光時の相対位置をどの様に制御すべきかが決まる。
【００１８】上記動作の後、レチクルステージ１１、ウエハステージ１８は上記動作により決めた相対位置関係を保ちつつ、スキャン走査露光動作に入る。この際、従来露光装置では、図７に示す様な加速ストローク１２が必要であったものが、本発明のスキャンタイプの半導体露光装置では、レチクル１１のパターン７０の直前から走査露光を開始する。露光を開始する直前は、ＮＤフィルター回転板５が完全遮光の状態になっており、露光がパターン７０に領域にかかると、その時のレチクル１１側のスキャンスピードに比例したレチクル面照度が達成される様に、ＮＤフィルター回転板５を制御する。走査露光の間、特に、加速時間、減速時間の間、レチクル面照度を常時センサー８により検出しており、この検出されたレチクル面照度が目標とするレチクル面照度と一致しない場合には、ＮＤフィルター回転板５のさらなる補正駆動を行なう。このレチクル面照度の制御は減速時にも加速時と同様に行なわれ、１チップの走査露光が完了する。さらに、この様な動作がウエハ１６上の全てのチップについて行なわれ、１枚のウエハの処理が完了することになる。
【００１９】本実施例では、レチクル面の照度を制御する為に、露光光の強度を変調する手段としてＮＤフィルター回転多５（当審注：「ＮＤフィルター回転多５」は「ＮＤフィルター回転板５」の誤記と認める。）を用いていたが、これ以外に図２に示すような光軸に対する角度を変化させることにより透過率が連続的に可変な干渉フィルター７０や図３に示すような光軸に対して開口部の大きさが連続的に可変な絞り、又、上記レチクル面照度を制御する機構が露光量制御のためのシャター機能を併用する様な構成も実施可能である。」
　
　原査定の拒絶理由に引用され、本件出願の優先日前に頒布された刊行物である特開平７−５７９８５号公報（以下「引用例２」という。）には、以下の（オ）〜（ク）の記載が図面とともにある。
　
（オ）「【請求項１】光束を射出する照明光学系と、該照明光学系中に配置され、前記光束の原板に対する照明領域を設定する照明領域設定手段と、前記光束の照射中に前記照明領域と前記原板とを相対移動する駆動手段とを備え、前記原板の像を、前記原板と同期して移動する感光基板上に転写する走査型露光装置において、
前記駆動手段による前記相対移動の加減速中に前記照明領域設定手段を駆動して前記照明領域を変更する照明領域変更手段を備え、
前記加減速中に、前記原板の像を前記感光基板上に転写することを特徴とする走査型露光装置。
【請求項２】前記照明領域変更手段による変更量を前記駆動手段による駆動量に応じて制御する変更量設定手段を備えることを特徴とする請求項１に記載の走査型露光装置。」
　
（カ）「【０００２】
【産業上の利用分野】本発明は走査型露光装置に関し、例えば大型液晶表示素子を製造するものに適用して好適なものである。
【０００３】
【従来の技術】従来、この種の走査型露光装置として図７に示すような構造のものが使用されている。この走査型露光装置１は超高圧水銀ランプ等を光源２とするもので、光源２から射出された露光光を楕円鏡３によつて集光し、その後、集光された露光光をダイクロイツクミラー４によつて反射して波長選択フイルタ５に導くようになされている。波長選択フイルタ５は露光に必要な波長の光のみを取り出すようになされ、透過した光をフライアイインテグレータ６によつて均一な照度分布をもつ光束に変換している。
【０００４】この光束はスリツト形状の開口を有するブラインド７によつてスリツト状に整形され、開口を通過したスリツト状の光束のみが反射ミラー８を介してコンデンサレンズ９の方向に反射されるようになされている。コンデンサレンズ９はこのスリツト状の光束をレチクル１０上に結像し、レチクル上のパターン像を投影レンズ１１を介してガラスプレート１２上に結像するようになされている。この際、ガラスプレート１２上に結像されるのはスリツト状のパターン像であり、レチクル１０上に形成されているレチクルパターンの一部の像である。そこで走査型露光装置１はレチクル１０を保持するレチクルステージ１３とガラスプレート１２を保持するプレートステージ１４を同期をとつてスリツト状の光束に対して走査させ、レチクル１０上に形成されているレチクルパターンの全てをガラスプレート１２上に転写するようになされている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところでこの走査型露光装置１は、レチクル１０及びガラスプレート１２が静止状態から加速されて等速運動に移つた後（同期制御状態に移つた後）の期間を露光に用いている。すなわち一定速度で移動しているレチクル１０とガラスプレート１２がスリツト状の照明領域の下を通過するようにレチクルステージ１３及びプレートステージ１４を制御していた。そしてレチクル１０の全領域が照明領域の下部を通過してレチクルパターンの全てがガラスプレート１２へ転写された後、レチクルステージ１３及びプレートステージ１４を一定速度から減速して静止させていた。
【０００６】このように静止状態から一定速度に達するまでの加速期間と一定速度から静止状態まで減速するまでの減速期間とは従来露光に使用されておらず、露光に要する全時間にとつて無駄な時間となつている。従つて作業効率が悪くスループツトが低い問題があつた。またレチクルステージ１３及びプレートステージ１４が照明領域を通過するのに要する距離に加えて加減速に要する距離を制御ストロークに加えて確保する必要があるためステージの移動ストロークが長くなる問題があつた。
【０００７】本発明は以上の点を考慮してなされたもので、従来に比してスループツトが高く、かつステージが必要な移動ストロークの短い走査型露光装置を提案しようとするものである。」
　
（キ）「【０００８】
【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するため本発明においては、光束を射出する照明光学系２〜６、８〜１０と、該照明光学系中に配置され、光束の原板１０に対する照明領域ＡＲを設定する照明領域設定手段２１と、光束の照射中に照明領域ＡＲと原板１３とを相対移動する駆動手段２３とを備え、原板１０の像を、原板１０と同期して移動する感光基板１２上に転写する走査型露光装置において、駆動手段２３による相対移動の加減速中に照明領域設定手段２１を駆動して照明領域ＡＲを変更する照明領域変更手段２２を備え、加減速中に、原板１０の像を感光基板１２上に転写するようにする。
【０００９】
【作用】原板１０と感光基板１２を同期させて加減速している期間に照明領域ＡＲを設定する照明領域設定手段２１を駆動して照明領域ＡＲの大きさを変更することにより、感光基板１２に転写される原板１０の像の露光量を加減速中も感光基板１２の位置によらず同じに設定することができる。これにより原板１０と感光基板１２が等速移動する期間の前後の期間である加減速期間も露光に使用することができ、露光に要する時間を全体として短縮することができる。」
　
（ク）「【００１０】
【実施例】以下図面について、本発明の一実施例を詳述する。
【００１１】図７との対応部分に同一符号を付して示す図１において、２０は全体として走査型露光装置を示し、ブラインド２１の開口の大きさをレチクルステージ１３及びプレートステージ１４と同期させて可動し得るようにしたことを除いて同様の構成を有している。これにより走査型露光装置２０は、従来使用されていなかつた加速期間と減速期間を露光期間として使用できるようになされている。この例の場合、光源２、楕円鏡３、ダイクイツクミラー４、波長選択フイルタ５、フライアイインテグレータ６、反射ミラー８、コンデンサレンズ９、投影レンズ１０は全体として正立等倍の光学系を形成している。
【００１２】ブラインド２１はブラインド制御部２２によつて駆動制御されるようになされている。ここでブラインド制御部２２は位置計測用デイジタルマイクロメータ、モータ及び駆動機構の他、駆動回路及びマイクロコンピユータでなる制御回路によつて構成されている。このブラインド制御部２２によつてブラインド２１の開口幅は０〜全開幅（この実施例の場合、走査方向に対して10〔mm〕）の範囲で可変される。この開口を透過した光束によつて照明される領域が照明領域ＡＲとなる。
【００１３】レチクルステージ１３はレチクルステージ計測制御部２３によつて駆動制御されるようになされている。ここでレチクルステージ計測制御部２３は位置計測手段を位置計測用レーザ干渉計とすることを除いてブラインド制御部２２と同様の構成でなる。またプレートステージ１４はプレートステージ計測制御部２４によつて駆動制御されるようになされている。このプレートステージ計測制御部２４はレチクルステージ計測制御部２３と同様の構成でなる。
【００１４】これら３つの制御部、すなわちブラインド制御部２２、レチクルステージ計測制御部２３及びプレートステージ計測制御部２４は、例えばマイクロコンピユータからなる制御回路によつて構成される同期制御部２５によつてそれぞれ同期駆動されるようになされている。
【００１５】以上の構成において、走査型露光装置２０による露光動作について説明する。ここで走査型露光装置２０は、静止状態にあるレチクルステージ１３及びプレートステージ１４の加速開始と同時に露光を開始し、この際、ブラインド２１をレチクルステージ１３およびプレートステージ１４の加速度に対応した一定加速度で走査方向に駆動して開口を開く。この様子を図２〜図４を用いて説明する。
【００１６】ここで図２はレチクルステージ１３及びプレートステージ１４と同時に加速を開始したブラインド２１が全開幅に達して停止し、その後レチクル１０およびプレート１２の各点が露光されるまでの期間における位置関係を模式的に表したものである。また図３はそのときのレチクル１０およびガラスプレート１２上の点Ｐ0 の速度および位置と、ブラインド２１上の点ｂ0 の速度および位置を表すと共に、レチクル１０およびガラスプレート１２上の点Ｐ0 〜Ｐ3 における各部の露光時間等を表したものである。
【００１７】ただし露光条件は、１回の露光動作によつて露光されるガラスプレート１２の各点の露光量が場所によらず照射時間が 0.1〔秒〕となるように制御されている。また初期状態におけるブラインド２１、レチクル１０及びガラスプレート１２はそれぞれ図２（Ａ）に示す位置関係に配置されている。すなわちブラインド２１は開口を閉じた状態であり、レチクル１３及びガラスプレート１４の一端が閉状態にある開口直下に一致する位置に配置されているものとする。
【００１８】まず同期制御部２５がブラインド制御部２２、レチクルステージ計測制御部２３及びプレートステージ計測制御部２４に対し、同時に露光開始命令を与える。ただしブラインド２１、レチクル１０およびガラスプレート１２の同期ずれのため点Ｐ0 が露光されない危険を防ぐため、誤差が生じない範囲でレチクルステージ１３およびプレートステージ１４の駆動開始タイミングをブラインド２１に対して若干遅らせる必要がある。
【００１９】この命令を受けたブラインド制御部２２は図３（Ｃ）に示すように、ブラインド２１をレチクル１０及びガラスプレート１２と同じ一定加速度で加速し、開口を閉じた状態から走査方向に開くように移動させる。ここで図３（Ｃ）はブラインド２１のうち可動ブラインドの開口側端点ｂ0 の移動速度を時間軸を横軸にとつて表したものである。図からも分かるように、この例の場合、端点ｂ0 は1000〔mm／s2〕の加速度によつて加速される。このように駆動されるブラインド２１の端点ｂ0 の初期位置からの距離を縦軸にとつて表すと図３（Ｄ）に示すような軌跡を描く。
【００２０】またレチクルステージ計測制御部２３及びプレートステージ計測制御部２４は図３に示すように、レチクル１０及びガラスプレート１２をそれぞれ同じく1000〔mm／s2〕によつて同期制御状態を保ちながら加速し、照明領域ＡＲ中を通過させる。このときレチクル１０及びガラスプレート１２上の点Ｐ0 における初期位置からの距離を縦軸にとつて表すと、図３（Ｂ）に示すような軌跡を描く。
【００２１】このように露光が開始されてから 0.1〔秒〕が経過したとき、ブラインド２１、レチクル１０及びガラスプレート１２は最高速 100〔mm／s 〕に達する。このときブラインドの開口幅は全開幅の丁度半分にあたる 5〔mm〕である（図２（Ｂ））。この時点以後、レチクル１０及びガラスプレート１２は一定速度のまま走行し、一定速度による同期制御状態に移行する。これに対してブラインド２１は0.1〔秒〕を経過した後は加速期間（ 0〔秒〕〜 0.1〔秒〕）と逆の加速特性−1000〔mm／s2〕で減速される。そして露光開始から 0.2〔秒〕経過したとき静止する。この時点でブラインド２１の開口幅は全開幅になる（図２（Ｃ））。
【００２２】ところでこれらの期間における各領域の露光量はレチクル１０及びガラスプレート１２の位置によらず一定である（図３（Ｅ）〜図３（Ｈ））。ここで図３（Ｅ）の斜線部分はレチクル１０及びガラスプレート１２の右端の点Ｐ0 が照明光に照射され、露光されている時間を示している。この図からも分かるように右端の点Ｐ0 はレチクル１０とガラスプレート１２が 0.1〔秒〕まではブラインド２１と同じ加速度で移動するため照明光が照射されているのに対し、その後はブラインド２１が減速し始めるため点Ｐ0 がブラインド２１の開口部分を追い越すことになり照明光が当たらなくなることが分かる。従つて照明光によつて照明されている時間は 0.1〔秒〕である。
【００２３】また図３（Ｆ）、図３（Ｇ）、図３（Ｈ）の斜線部分はレチクル１０及びガラスプレート１２の右端からそれぞれ 2〔mm〕、 3〔mm〕及び 6〔mm〕内側に位置する点Ｐ１、Ｐ２及びＰ３の各点における領域が照明光によつて照射されている時間を表している。各点の露光は各点が固定側プラインドの端部に達した時点により開始され、各点が可動側ブラインドの端部を追い越したとき終了するが、図からも分かるようにいずれにしても 0.1〔秒〕後に露光光が当たらなくなる。また各点Ｐ１、Ｐ２及びＰ３間の全ての点についても露光量は同じになることが確かめられている。
【００２４】因にガラスプレート１２の右端からの距離をｘ〔mm〕とすると、各点が露光を開始される時刻ｔ0 〔秒〕は、次式
【数１】
及び
【数２】
によつて求めることができる。従つてこの例の場合、各点Ｐ０、Ｐ１、Ｐ２及びＰ３の照明開始時刻は２式より 0〔秒〕、 0.063〔秒〕、 0.077〔秒〕及び0.11〔秒〕であることが分かる。
【００２５】このようにブラインド２１の開口幅が全開幅（10〔mm〕）に達した後はブラインド２１の開口幅は全開幅に維持される。このときレチクル１０及びガラスプレート１２は既に 100〔mm／s 〕の等速移動に移つているため、走査型露光装置２０はレチクル１０及びガラスプレート１２の右端から５〔mm〕以上内側に位置するレチクル１０及びガラスプレート１２の各点は５〔mm〕以内の各点の時と同様いずれも照明領域ＡＲを 0.1〔秒〕かけて通過し、この間、露光光の照射を受けることになる。
【００２６】やがて等速移動を続けるレチクル１３及びガラスプレート１４の左端から15〔mm〕の点が照明領域の端部に達すると、走査型露光装置２０はレチクル１０及びガラスプレート１２の等速移動を維持する一方、ブラインド２１を閉じる方向（等速移動方向に対して反対の方向）に加速し始める（図４（Ｃ))。ここで図４（Ａ）〜図４（Ｄ）はそれぞれ図３（Ａ）〜図３（Ｄ）に対応し、図４（Ａ）はレチクル１０及びガラスプレート１２上の点ｂ0 の移動速度を示し、図４（Ｂ）は点ｂ0 の通過位置を表している。同じく図４（Ｃ）はブラインド２１上の点Ｐ0 の移動速度を示し、図４（Ｄ）は点Ｐ0 の通過位置を表している。
【００２７】その後、レチクル１０及びガラスプレート１２の左端から 5〔mm〕の点が照明領域の端部に達すると、走査型露光装置２０はレチクル１０及びガラスプレート１２の等速移動を中止して一定加速度による減速制御に移行する（図４（Ａ))。一方、先の期間の加速によつて最高速（− 100〔mm／s 〕）に達したブラインド２１は、この時点を境に一定加速度による減速を開始する。この際の加速度の大きさはブラインド２１、レチクル１０及びガラスプレート１２について同じである。そしてレチクル１０及びガラスプレート１２の左端が照明領域ＡＲの端部に達して静止したとき、ブラインド２１はその開口が閉じられる。
【００２８】このようにブラインド２１が閉じ始めた後に、照明領域ＡＲを通過するレチクル１０及びガラスプレート１２の各点と露光量との関係は、図３（Ｅ）〜図３（Ｈ）の時間軸を逆方向に見た関係と同じと考えることができ、各点の露光量はそれぞれ 0.1〔秒〕になる。このように加速期間及び減速期間についてもガラスプレート１２を等速移動中における露光量と同じ露光量によつて露光することができる。
【００２９】以上の構成によれば、ブラインド２１をレチクル１０及びガラスプレート１２に同期させて開閉駆動させ、露光中にブラインド２１の開口の大きさが変わるように制御したことにより、レチクル１０及びガラスプレート１２の等速移動中だけでなく加減速中も含めてレチクル１０上のパターンをガラスプレート１２上に転写させることができる。これにより１回の露光動作に要する時間を従来に比して短縮することができ、スループツトを一段と向上させることができる。またこれによりレチクル１０及びガラスプレート１２のストロークに要する距離も一段と短縮することができる。」
　
ウ　引用例１に記載された発明の認定
　引用例１の上記記載事項（ア）〜（エ）から、引用例１には次の発明が記載されていると認めることができる。
　
「露光光を発生する水銀灯ランプ、前記水銀灯ランプからの光を集光する楕円ミラー、コンデンサレンズ、前記コンデンサレンズにより集光された光を長方形に整形する光学系、前記露光光の強度を変える強度変調手段、レチクル、前記レチクルを保持しているレチクルステージ、ウエハ、前記ウエハを保持しているウエハステージ、前記レチクル上のデバイスパターンを前記ウエハ上に縮小投影するための投影レンズ系、前記レチクルステージをスキャン駆動をさせるリニアモータ、前記ウエハステージをスキャン駆動をさせるリニアモータを備え、前記露光光で前記レチクルと前記ウエハを走査することにより前記レチクルのデバイスパターンを介して前記ウエハを露光する走査型露光装置において、
前記レチクルと前記ウエハのスキャンスピードが一定速度の領域においては、常にレチクル面の照度が一定になり、
前記レチクル及び前記ウエハの走査における加速時及び減速時にも前記ウエハに対する露光量がほぼ一定になるように、前記レチクル及び前記ウエハの走査速度に応じて前記強度変調手段によって前記露光光の強度を変える、
走査型露光装置。」（以下「引用発明１」という。）
　
エ　本件補正発明と引用発明１の一致点及び相違点の認定
（ア）引用発明１の「走査型露光装置」は、本件補正発明の「リソグラフィ装置」に相当する。
　
（イ）本件補正発明の「放射線のビームを供給するように構成された照明システム」について、本件明細書等には、「照明システムは、放射線の投影ビームの誘導、成形、あるいは制御を行う屈折、反射、および反射屈折光学構成要素などの様々なタイプの光学構成要素も含むことができ」る（段落【００３３】）、「放射線・・・の投影ビームＰＢを供給するように構成された照明システムＳＯ、ＩＬを有し、この特定の例では、放射線システムは放射線ソースＳＯも有」する（段落【００３７】）、「照明装置ＩＬは放射線ソースＳＯから放射線のビームを受け取る。ソースとリソグラフィ装置とは、例えばソースがプラズマ放電ソースである場合に、別個の存在でよい。このような場合、ソースはリソグラフィ装置の一部を形成すると見なされず、放射線ビームは、例えば適切な集光ミラーおよび／またはスペクトル純度フィルタなどを有する放射線集光器の助けにより、ソースＳＯから照明装置ＩＬへと渡される。他の場合、例えばソースが水銀ランプの場合は、ソースが装置の一体部品でもよい。ソースＳＯおよび照明装置ＩＬは、放射線システムと呼ぶことができる。」（段落【００３９】）と記載されているから、本件補正発明の「放射線のビームを供給するように構成された照明システム」は、「放射線ソースＳＯ」及び前記「放射線ソースＳＯ」から放射線のビームを受け取り放射線の投影ビームの誘導、成形、あるいは制御を行う光学構成要素からなるものであると認めることができる。
　したがって、引用発明１の「露光光を発生する水銀灯ランプ」、「前記水銀灯ランプからの光を集光する楕円ミラー」、「コンデンサレンズ」及び「前記コンデンサレンズにより集光された光を長方形に整形する光学系」は、本件補正発明の「放射線のビームを供給するように構成された照明システム」に相当する。
　
（ウ）引用発明１の「レチクル」、「前記レチクルを保持しているレチクルステージ」は、それぞれ、本件補正発明の「パターニングデバイス」、「パターニングデバイスを支持するように構成された支持構造」に相当する。
　また、引用発明１では「レチクル上のデバイスパターンを前記ウエハ上に縮小投影する」から、引用発明１の「レチクル」が「露光光」の断面に「デバイスパターン」を与えていることは明らかである。したがって、引用発明１の「レチクル」が「露光光」の断面に「デバイスパターン」を与えることは、本件補正発明の「前記パターニングデバイスがビームの断面にパターンを与え」ることに相当する。
　
（エ）引用発明１の「ウエハ」、「前記ウエハを保持しているウエハステージ」は、それぞれ、本件補正発明の「基板」、「基板を保持するように構成された基板ホルダ」に相当する。
　
（オ）引用発明１の「前記レチクル上のデバイスパターンを前記ウエハ上に縮小投影するための投影レンズ系」は、本件補正発明の「パターン形成したビームを前記基板の目標部分に投影するように構成された投影システム」に相当する。
　
（カ）引用発明１の「走査型露光装置」では、「露光光を発生する水銀灯ランプ」を走査駆動する手段を備えず、「前記レチクルステージをスキャン駆動をさせるリニアモータ、前記ウエハステージをスキャン駆動をさせるリニアモータを備え、前記露光光で前記レチクルと前記ウエハを走査することにより前記レチクルのデバイスパターンを介して前記ウエハを露光する」から、引用発明１の「走査型露光装置」では、「レチクル上のデバイスパターン」が与えられた「露光光」の位置は固定されており、「前記ウエハステージをスキャン駆動をさせるリニアモータ」によって、「レチクル上のデバイスパターン」が与えられた「露光光で」「前記ウエハを走査」しているということができる。
　したがって、引用発明１の「レチクル上のデバイスパターン」が与えられた「露光光で」「前記ウエハを走査する」「前記ウエハステージをスキャン駆動をさせるリニアモータ」は、本件補正発明の「パターン形成したビームと前記基板とを相互に対して移動するように構成された走査機構」に相当する。
　
（キ）引用発明１の「走査型露光装置」では、「露光光を発生する水銀灯ランプ」を走査駆動する手段を備えず、「前記レチクルステージをスキャン駆動をさせるリニアモータ、前記ウエハステージをスキャン駆動をさせるリニアモータを備え、前記露光光で前記レチクルと前記ウエハを走査することにより前記レチクルのデバイスパターンを介して前記ウエハを露光する」から、引用発明１の「走査型露光装置」では、「露光光」の位置は固定されており、引用発明１の「ウエハの走査速度」は、「ウエハ」に対する「露光光」の走査速度であるということができる。
　また、引用発明１の「走査型露光装置」では、「前記レチクルと前記ウエハのスキャンスピードが一定速度の領域においては、常にレチクル面の照度が一定になり」、「前記レチクル及び前記ウエハの走査における加速時及び減速時にも前記ウエハに対する露光量がほぼ一定になるように、前記レチクル及び前記ウエハの走査速度に応じて前記強度変調手段によって前記露光光の強度を変える」から、引用発明１の「強度変調手段」は「ウエハの走査速度」を示す信号に基づいて「露光光の強度を変え」ていることは明らかである。
　さらに、本件補正発明の「パターン形成ビームの属性を変調するように構成された変調器」について、本件明細書等には、「図２のリソグラフィ装置は、さらにパターン形成されたビームの属性またはパラメータを変調する変調器ＭＯＤを有する。図１（当審注：「図１」は「図２」の誤記と認める。）で示した実施形態では、変調器ＭＯＤは、投影ビームの輝度またはそのビーム幅のような照明システムＩＬの属性またはパラメータを変調する。」（段落【００４７】）と記載されるとともに図２が示されているから、本件補正発明の「パターン形成ビームの属性を変調するように構成された変調器」には、「パターニングデバイス」の光源側（上流側）に配置されて「パターン形成ビームの属性を変調するように構成された変調器」も含まれると認めることができる。
　したがって、引用発明１の「前記レチクル及び前記ウエハの走査における加速時及び減速時にも前記ウエハに対する露光量がほぼ一定になるように、前記レチクル及び前記ウエハの走査速度に応じて」「露光光の強度を変える」「強度変調手段」と、本件補正発明の「前記基板に対するパターン形成ビームの走査速度を示」す「走査速度信号に基づいてパターン形成ビームの属性を変調するように構成された変調器」であって、「前記変調器が、パルス当たりのビームのエネルギーを制御するとともに前記投影システムと前記照明システムとの少なくとも一方のスリットの幅を変調して、パターン形成したビームの幅を変調するように構成され」ることとは、「前記基板に対するパターン形成ビームの走査速度を示」す「走査速度信号に基づいてパターン形成ビームの属性を変調するように構成された変調器」であって、「前記変調器が、ビームのエネルギーを制御するように構成され」る点で一致する。
　
（ク）以上から、本件補正発明と引用発明１とは、
　
「リソグラフィ装置であって、
放射線のビームを供給するように構成された照明システムと、
パターニングデバイスを支持するように構成された支持構造とを有し、前記パターニングデバイスがビームの断面にパターンを与え、さらに、
基板を保持するように構成された基板ホルダと、
パターン形成したビームを前記基板の目標部分に投影するように構成された投影システムと、
パターン形成したビームと前記基板とを相互に対して移動するように構成された走査機構と、
走査速度信号に基づいてパターン形成ビームの属性を変調するように構成された変調器とを有し、前記走査速度信号が、前記基板に対するパターン形成ビームの走査速度を示し、
前記変調器が、ビームのエネルギーを制御するように構成されるリソグラフィ装置。」
　
である点で一致し、以下の点で相違する。
　
〈相違点１〉
　本件補正発明の「放射線のビーム」は「パルス」状であり、「変調器」が「パルス当たりのビームのエネルギーを制御する」ものであるのに対し、引用発明１の「露光光」及び「光強度変調手段」にはそのような限定がなされていない点。
　
〈相違点２〉
　本件補正発明の「変調器」は「前記投影システムと前記照明システムとの少なくとも一方のスリットの幅を変調して、パターン形成したビームの幅を変調するように構成され」、「さらに」、「第一制限要素と」、「第二制限要素と」、「前記第一および第二制限要素を駆動するように構成された駆動機構とを有し」、「前記スリットが、前記第一制限要素と第二制限要素との間に形成され」、「前記駆動機構が前記第一制限要素を駆動し、前記第一制限要素を加速して、前記スリット幅を変調し、遅延後に、前記第一制限要素の加速とほぼ同様の方法で前記第二制限要素を駆動し、前記第二制限要素を加速して、前記スリット幅を変調し」、「駆動機構が、前記走査速度信号に基づいて前記第一制限要素の加速、前記第二制限要素の加速、および前記遅延を決定する」ものでもあるのに対し、引用発明１の「強度変調手段」にはこのような限定がない点。
　
オ　相違点についての判断
（ア）相違点１について
　走査型露光装置の技術分野において、光源としてパルス状の光源を用いることは、本件出願の優先日当時において当業者に周知の技術的事項である（例えば、原査定の拒絶理由に引用された特開平９−１１５８２５号公報（請求項３、段落【００１３】、【００２９】等）、特開２００３−１３３２１６号公報（請求項３、段落【００１３】、【００２６】等）を参照。）。
　したがって、引用発明１の「露光光を発生する」手段として、上記周知のパルス状の光源を採用し、それに伴って、前記パルス状の光源から発生する「露光光」を引用発明１の「露光光の強度を変える強度変調手段」に通過させることより、パルス当たりの「露光光」のエネルギーを制御することは、当業者にとって容易に想到し得る。
　したがって、上記相違点１に係る本件補正発明の発明特定事項を採用することは、当業者にとって想到容易である。
　
（イ）相違点２について
ａ　引用例２の上記記載事項（オ）〜（ク）及び図面に照らし、引用例２には、光束を射出する照明光学系と、該照明光学系中に配置され、前記光束のレチクルに対する照明領域を設定する２枚の遮光部材からなるブラインドと、前記光束の照射中に前記照明領域と前記レチクル及び感光基板とを相対移動する駆動手段とを備え、前記レチクルの像を前記感光基板上に転写する走査型露光装置において、前記駆動手段による前記相対移動の加減速中に前記２枚の遮光部材からなるブラインドのうち可動ブラインドを駆動して前記ブラインドの開口幅を変更して前記照明領域を変更する照明領域変更手段を備え、前記レチクル及び前記感光基板の加速期間及び減速期間についても前記レチクル及び前記感光基板の等速移動中における露光量と同じ露光量で前記感光基板を露光することができるように、前記照明領域変更手段による前記ブラインドの開口幅の変更量を前記駆動手段による駆動量に応じて制御する変更量設定手段を備え、これにより前記レチクル及び前記感光基板が等速移動する期間の前後の期間である前記レチクル及び前記感光基板の加減速期間も露光に使用することができる走査型露光装置が記載されている（なお、引用例２の上記記載事項（オ）〜（ク）及び図面並びに本件出願の優先日当時の技術常識から、「ブラインド」が２枚の遮光部材からなることは明らかである。）。また、引用例２には、前記レチクル及び前記感光基板の加速期間及び減速期間についても前記レチクル及び前記感光基板の等速移動中における露光量と同じ露光量で前記感光基板を露光することができるように、前記照明領域変更手段による前記ブラインドの開口幅の変更量を前記駆動手段による駆動量に応じて制御するに当たり、前記レチクル及び前記感光基板が、停止状態から、加速移動、等速移動、減速移動、停止の順に運動するのに合わせて、前記ブラインドの開口が閉じた状態から、前記２枚の遮光部材からなるブラインドのうち可動ブラインドを走査方向に加速して前記ブラインドの開口幅を大きくし、前記ブラインドの開口幅が全開幅に達した後は前記ブラインドの開口幅を全開幅に維持し、その後、前記ブラインドの開口幅を大きくしたときの時間軸を逆方向から見た関係と同じとなるように前記可動ブラインドを反対の方向に加速して前記ブラインドの開口幅を小さくし、前記ブラインドの開口を閉じることも記載されている（引用例２の上記記載事項（ク）の段落【００１５】〜【００２８】及び図２〜４を参照。）。
　
ｂ　そして、引用発明１と引用例２に記載された発明とは、走査型露光装置の技術分野において、従来、レチクル及び前記レチクルのパターンが転写される基板の走査速度が一定になってから露光を開始していたものを、前記レチクル及び前記基板の走査速度が一定になる前後の加速時及び減速時にも露光できるように、前記レチクル及び前記基板の加速時、前記レチクル及び前記基板の走査速度が一定の時及び前記レチクル及び前記基板の減速時において前記基板への露光量が一定となるように前記露光量を制御する点で共通するから、引用発明１が解決しようとする課題と引用例２に記載された発明が解決しようとする課題は、走査型露光装置において、前記レチクル及び前記基板の走査速度が一定になる前後の加速時及び減速時にも露光できるようにする点で同じであるということができる。
　また、一般に、同じ技術課題を解決するために２通りの解決手段が存在する場合に、２つの解決手段を併用することは、本件出願の優先日当時において当業者に周知の技術的事項である。加えて、露光装置の分野では、露光光の光路中に光量を変化させる部材を２つ配置して、前記光量を変化させる２つの部材を併用して前記露光光の光量を調整することは、本件出願の優先日当時において当業者に周知の技術的事項であり（例えば、特開平１０−８３９５３号公報（段落【００４７】〜【００４９】、【０１３８】等を参照。「減光板２３」及び「光量絞り１０」が、露光光の光量を変化させる２つの部材に相当する。）、特開平１０−２２９０３８号公報（段落【００２７】等を参照。「２組のＮＤフィルタ」が、露光光の光量を変化させる２つの部材に相当する。）を参照。）、このように光量を変化させる２つの部材を併用することによって露光光の光量を調整すると透過率がより細かく調整できることも、本件出願の優先日当時において当業者に周知の技術的事項である（例えば、特開平１０−２２９０３８号公報（段落【００２７】等）を参照。）。
　すると、引用発明１と引用例２に記載された発明との間で共通する前記課題を解決するべく、前記レチクル及び前記基板の加速時、前記レチクル及び前記基板の走査速度が一定の時及び前記レチクル及び前記基板の減速時において前記基板への露光量が一定となるように前記露光量を制御するとともに、前記露光量の制御をより細かく行うために、引用発明１の「レチクル」の前または後ろに引用例２に記載された発明の２枚の遮光部材からなる「ブラインド」を設け、引用発明１の「強度変調手段」と引用例２に記載された発明の２枚の遮光部材からなる「ブラインド」とを併用して「露光光の強度を変える」ようにすることは、当業者にとって容易に想到し得る。
　
ｂ　また、２枚の遮光部材からなるブラインドにより、スリット状の開口が閉じた状態から、スリット状の開口を全開幅とし、その後、再び、スリット状の開口が閉じた状態とする際、引用例２に記載された発明のように、前記２枚の遮光部材からなる「ブラインド」のうち「可動ブラインド」のみ一方向に動かし、その後、前記「可動ブラインド」を逆方向に動かすようにするか、前記２枚の遮光部材からなるブラインドの一方の遮光部材を一方向に動かした後、前記２枚の遮光部材からなるブラインドの他方の遮光部材を前記一方向と同方向に動かすようにするかは、当業者が適宜なし得る設計的事項であるうえ、２枚の遮光部材からなるブラインドにおいて後者のような遮光部材の動かし方は、本件出願の優先日当時において当業者に周知の技術的事項である（例えば、特開平４−１９６５１３号公報（公報第４頁左上欄第１９行〜左下欄第５行、第６頁右上欄第５行〜第７頁左上欄第１７行、第１，２，４図）を参照。）。
　したがって、引用例２に記載された発明の２枚の遮光部材からなる「ブラインド」により、スリット状の開口が閉じた状態から、スリット状の開口を全開幅とし、その後、再び、スリット状の開口が閉じた状態とする際、一方の遮光部材を一方向に動かした後、他方の遮光部材を前記一方向と同方向に動かすようにすることは、当業者にとって容易に想到し得る。
　
ｃ　以上検討したとおりであるから、上記相違点２に係る本件補正発明の発明特定事項を採用することは、当業者にとって想到容易である。
　
カ　本件補正発明の独立特許要件の判断
（ア）以上のとおり、引用発明１に上記相違点１〜２に係る本件補正発明の発明特定事項を採用することは、当業者にとって想到容易である。
　
（イ）また、本件補正発明の効果も、引用例１，２に記載された発明及び周知技術から当業者が予測し得る程度のものに過ぎない。
　なお、請求人は、平成２０年３月２４日付けの意見書において、本件補正発明では、「スリット幅を変調する際、第一の制限要素を加速してスリット幅を変調し、遅延後に、ほぼ同様の方法で第二制限要素を加速してスリット幅を変調するため、“一方の制限要素のみを駆動してスリット幅を変調する場合”と比較して精度良くスリット幅を調整等することが可能とな」るのに対し、引用例２に記載された発明は、「あくまで“一方を固定側ブラインドとし、他方を可動側ブラインドとしてスリット幅を調整する”ものであります。かかる構成では、本願発明１の如く精度良くスリット幅を調整等することは極めて困難にな」ると主張している。しかし、スリット幅の調整の精度に関する請求人の上記主張は、実験結果等に裏付けられた主張ではなく、また、本件出願の優先日当時の技術常識であるとも認めることができないから、請求人の上記主張は採用できない。
　また、請求人は、平成２０年７月２４日付けの手続補正により補正された同年７月１０日付けの審判請求書の請求の理由において、本件補正発明によれば、「単にスリット幅を変調してビームの幅を変調する構成と比較して、基板の目標部分に対する露光量を精度良く、かつ、広い範囲でコントロールすることが可能となる（例えば、段落番号００２２）。」「ここで、スリット幅を変調してビームの幅を変調する構成においては、スリット幅（開口）を調整するために各制限要素を移動させる必要があるが（例えば、段落番号００６０〜００６２）、各制限要素の走査速度や移動距離などを正確にコントロールするのは難しく、また、各制限要素の駆動機構の能力によっては、制限要素の走査速度を上限値や下限値を小さな値に設定する必要があり、走査速度の変化を補償する期間（図３ｂに示す期間Tscan２参照）を短く設定せざるを得ない場合も生じる。」「一方、本願発明によれば、ビームの幅を変調するだけでなく、パルス当たりのビームエネルギーを制御することで、たとえ制限要素の走査速度の上限値や下限値が小さな値に設定されたとしても、パターン形成したビームの単位時間当たりの総露光量を正確かつ広い範囲で調整することができ、上記走査速度の変化を補償する期間を長く設定することが可能となる。」と主張している。しかし、本件明細書等の段落【００２２】には、「単にスリット幅を変調してビームの幅を変調する構成と比較して、基板の目標部分に対する露光量を精度良く、かつ、広い範囲でコントロールすることが可能となる」ことは記載されていないから、請求人の上記主張のうち、本件明細書等の段落【００２２】を例示しながら、「単にスリット幅を変調してビームの幅を変調する構成と比較して、基板の目標部分に対する露光量を精度良く、かつ、広い範囲でコントロールすることが可能となる」と主張する点は採用できない。また、請求人が主張する上記効果は、引用例１，２に記載された発明及び周知技術から当業者が予測し得る程度の効果である。
　
（ウ）したがって、本件補正発明は引用例１，２に記載された発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができない。
　
（３）むすび
　以上検討したとおり、本件補正は、特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するから、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　よって、上記補正の却下の決定の結論のとおり決定する。
　
第３　本件審判請求についての判断
１　本件発明の認定
　本件補正が却下されたから、平成２０年３月２４日付けの手続補正により補正された明細書、特許請求の範囲及び図面に基づいて審理する。
　上記第２の２（２）アに記載した理由と同様の理由により、平成２０年３月２４日付けの手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１の「駆動機構が、前記走査速度信号に基づいて・・・、前記第二制限要素、・・・を決定する」ことは、「駆動機構が、前記走査速度信号に基づいて・・・、前記第二制限要素の加速、・・・を決定する」の誤記と認める。
　したがって、本件出願の請求項１に係る発明は、平成２０年３月２４日付けで補正された特許請求の範囲の請求項１の記載に照らし、次のとおりのものと認める。
　
「リソグラフィ装置であって、
放射線のビームを供給するように構成された照明システムと、
パターニングデバイスを支持するように構成された支持構造とを有し、前記パターニングデバイスがビームの断面にパターンを与え、さらに、
基板を保持するように構成された基板ホルダと、
パターン形成したビームを前記基板の目標部分に投影するように構成された投影システムと、
パターン形成したビームと前記基板とを相互に対して移動するように構成された走査機構と、
走査速度信号に基づいてパターン形成ビームの属性を変調するように構成された変調器とを有し、前記走査速度信号が、前記基板に対するパターン形成ビームの走査速度を示し、
前記変調器が、前記投影システムと前記照明システムとの少なくとも一方のスリットの幅を変調して、パターン形成したビームの幅を変調するように構成され、
さらに、
第一制限要素と、
第二制限要素と、
前記第一および第二制限要素を駆動するように構成された駆動機構とを有し、
前記スリットが、前記第一制限要素と第二制限要素との間に形成され、
前記駆動機構が前記第一制限要素を駆動し、前記第一制限要素を加速して、前記スリット幅を変調し、遅延後に、前記第一制限要素の加速とほぼ同様の方法で前記第二制限要素を駆動し、前記第二制限要素を加速して、前記スリット幅を変調し、
駆動機構が、前記走査速度信号に基づいて前記第一制限要素の加速、前記第二制限要素の加速、および前記遅延を決定するリソグラフィ装置。」（以下「本件発明」という。）
　
２　引用刊行物の記載事項及び引用例１記載の発明の認定
　原査定の拒絶理由に引用され、本件出願の優先日前に頒布された刊行物である引用例１〜２には、上記第２の２（２）イに摘記したとおりの事項が記載されており、引用例１に記載された発明は、上記第２の２（２）ウに記載したとおりである。
　
３　対比・判断
　本件発明は、本件補正発明の発明特定事項から、上記第２の２（１）で述べた限定事項を省いたものである。
　そして、本件発明の発明特定事項をすべて含み、他の発明特定事項を付加したものに相当する本件補正発明が、上記第２の２（２）に記載したとおり、引用例１，２に記載された発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本件発明も、上記第２の２（２）で示した理由と同様の理由により、引用例１，２に記載された発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
４　むすび
　以上のとおり、本件発明は引用例１，２に記載された発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本件発明は特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　そして、本件発明が特許を受けることができない以上、本件出願のその余の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本件出願は拒絶されるべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。