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　特願２００１−１９２６１１号「スパークプラグ」拒絶査定不服審判事件〔平成１５年１月１０日出願公開、特開２００３−７４２４号〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯・本願発明
　本願は、平成１３年６月２６日の出願であって、その請求項１に係る発明は、平成１５年１１月４日付け手続補正書によって補正された明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される次のとおりのものと認める。（以下、「本願発明」という。）
「中心電極と主体金具との間にアルミナ系セラミックからなる絶縁体を配したスパークプラグにおいて、その絶縁体の表面の少なくとも一部を覆う形態で酸化物主体の釉薬層が形成され、該釉薬層が、
　Ｐｂ成分の含有量がＰｂＯ換算にて１ｍｏｌ％以下とされ、
　Ｓｉ成分をＳｉＯ２に酸化物換算した値にて４０〜６０ｍｏｌ％、Ｂ成分をＢ２Ｏ３に酸化物換算した値にて２０〜４０ｍｏｌ％、Ｚｎ成分をＺｎＯに酸化物換算した値にて０．５〜２５ｍｏｌ％、Ｂａ及び／又はＳｒ成分を、ＢａＯないしＳｒＯに酸化物換算した値にて合計で０．５〜１５ｍｏｌ％含有するとともに、Ｚｎ成分と、Ｂａ成分及び／又はＳｒ成分とは、Ｚｎ成分はＺｎＯ、Ｂａ成分はＢａＯ、Ｓｒ成分はＳｒＯにそれぞれ酸化物換算した値にて、合計で８〜３０ｍｏｌ％とされ、
　アルカリ金属成分として、ＮａはＮａ２Ｏ、ＫはＫ２Ｏ、ＬｉはＬｉ２Ｏに酸化物換算した値にて、Ｋを必須とする１種又は２種以上を合計で２〜１２ｍｏｌ％の範囲にて含有し、
　さらに、Ｂｉ、Ｓｂ及び希土類元素ＲＥ（ただし、Ｓｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ及びＬｕからなる群より選ばれるもの）から選ばれる１種又は２種以上（以下、必須流動改善成分という）を、ＢｉはＢｉ２Ｏ３に、ＳｂはＳｂ２Ｏ５に、ＲＥは、ＣｅはＣｅＯ２、ＰｒはＰｒ７Ｏ１１、他はＲＥ２Ｏ３にそれぞれ酸化物換算した値にて合計で０．１〜５ｍｏｌ％含有することを特徴とするスパークプラグ。」
　
２．引用刊行物
　これに対して、原査定の拒絶の理由に引用された、本願出願前に頒布された特開２００１−３９７３３号公報（以下、「引用刊行物」という。）には、図１とともに以下のような事項が記載されている。
（ア）「セラミック材料をコーティングするための無鉛釉薬であって，　該無鉛釉薬は，１６〜４９％（重量％を意味する。以下，同様。）のＳｉＯ２と，１５〜３５％のＢ２Ｏ３と，０〜１０％のＡｌ２Ｏ３と，０〜１０％のＺｎＯとを含有していることを特徴とする無鉛釉薬。」（【請求項１】）
（イ）「請求項１〜６のいずれか１項において，上記無鉛釉薬は，さらに，１〜２５％のＢｉ２Ｏ３を含有していることを特徴とする無鉛釉薬。」（【請求項７】）
（ウ）「【解決しようとする課題】本発明はかかる従来の問題点に鑑み，低温での焼付けが可能な無鉛釉薬並びにこれを用いたスパークプラグ及びその製造方法を提供しようとするものである。」（段落【０００４】）
（エ）「次に本発明の無鉛釉薬の組成について説明する。ＳｉＯ２及びＢ２Ｏ３は，主としてホウケイ酸ガラスの成分である。」（段落【０００７】）
（オ）「請求項４の発明のように，上記無鉛釉薬は，さらに，Ｌｉ２Ｏ，Ｎａ２Ｏ，及びＫ２Ｏのグループから選ばれる１種または２種以上を含有することが好ましい。Ｌｉ２Ｏ，Ｎａ２Ｏ，Ｋ２Ｏは，アルカリ金属酸化物であり，釉薬の融点を下げる成分である。これらを成分とすることにより，釉面の平滑性が向上する。」（段落【００１６】）
（カ）「請求項７の発明のように，上記無鉛釉薬は，さらに，１〜２５％のＢｉ２Ｏ３を含有していることが好ましい。Ｂｉ２Ｏ３は，釉薬の融点を低下させる効果がある。Ｂｉ２Ｏ３の含有量が１％未満の場合には，釉薬の融点が高くなるおそれがある。２５％を超えると釉面の滑らかさがなくなるおそれがある。」（段落【００１９】）
（キ）「絶縁碍子がアルミナからなる場合には，その線膨張係数に近い線膨張係数５０〜８０×１０−７／℃を持つ釉薬層であれば，ヒビ割れなどの問題がなく焼付けできるが，ガラスは転移点で線膨張係数が急激に大きくなる。したがって，釉薬の１００〜３００℃の線膨張係数は，５０〜７５×１０−７／℃の範囲であることが好ましい。この範囲を逸脱する場合には，焼付けによって釉薬にヒビ割れが生じるおそれがある。
また，請求項１０の発明のように，上記無鉛釉薬を絶縁碍子の表面に塗布し，９００℃以下の温度で焼付けすることを特徴とするスパークプラグの製造方法がある。この製造方法では，上記の低温焼付が可能な無鉛釉薬を用いて絶縁碍子をコーティングしている。そのため，９００℃以下の低温で無鉛釉薬を焼付けることができ，低コストで焼付けを行うことができる。」（段落【００２６】〜【００２７】）
（ク）「【発明の実施の形態】実施形態例１
本発明の実施形態に係る無鉛釉薬及びこれを用いたスパークプラグについて，図１を用いて説明する。表１に示すごとく，無鉛釉薬の原料を所定の割合で配合し，１４００℃で溶解させ，冷却し，フレーク状ガラス片を得た。ガラス片をボールミルで平均粒径５〜１５μｍまで湿式粉砕し，粉砕ガラス１００重量部に対して，カオリン，ベントナイトなどの粘土分１１重量部及び有機バインダー０．４重量部を添加し，釉薬スラリーとした。なお，有機バインダーとしては，例えば，カルボキシメチルセルロース（ＣＭＣ）を用いた。この釉薬スラリーを，成形焼成後のアルミナ製絶縁碍子表面にスプレーまたはローラーにて塗布した。
次いで，図１に示すごとく，絶縁碍子１の穴部１０に中心電極２を挿入し，封着ガラス３及びレジスタ４を充填し，最後に，端子５１を有するステム５を挿入した。次いで，これを８５０℃に設定した電気炉に入れ，釉薬の焼付け及び中心電極，ステム及びレジスタの封着を同時に行った。その後，焼付後の絶縁碍子１を，接地電極６１を取付けたハウジング６の中に挿着し，かしめ固定した。以上により，スパークプラグ７を得た。」（段落【００３１】〜【００３２】）
（ケ）表１の試料４〜１０には、発明の実施形態として、以下のような釉薬の組成が示されている。
試料４：ＳｉＯ２が４３．０重量％、Ｂ２Ｏ３が２１．５重量％、Ｎａ２Ｏが４．７重量％、Ｋ２Ｏが１．２重量％、ＺｎＯが１．６重量％、ＣａＯが６．７重量％、ＢａＯが１８．０重量％、Ａｌ２Ｏ３が３．３重量％
試料５：ＳｉＯ２が４３．０重量％、Ｂ２Ｏ３が２１．５重量％、Ｎａ２Ｏが２．７重量％、Ｋ２Ｏが１．２重量％、ＺｎＯが３．６重量％、ＣａＯが６．７重量％、ＢａＯが１８．０重量％、Ａｌ２Ｏ３が３．３重量％
試料６：ＳｉＯ２が４３．０重量％、Ｂ２Ｏ３が２３．５重量％、Ｎａ２Ｏが５．２重量％、Ｋ２Ｏが１．６重量％、ＺｎＯが２．１重量％、ＣａＯが４．７重量％、ＢａＯが１７．０重量％、Ａｌ２Ｏ３が２．９重量％
試料７：ＳｉＯ２が４１．０重量％、Ｂ２Ｏ３が２５．５重量％、Ｎａ２Ｏが５．０重量％、Ｋ２Ｏが２．０重量％、ＺｎＯが２．０重量％、ＣａＯが５．３重量％、ＢａＯが１５．８重量％、Ａｌ２Ｏ３が３．４重量％
試料８：ＳｉＯ２が３８．０重量％、Ｂ２Ｏ３が２７．５重量％、Ｎａ２Ｏが５．２重量％、Ｋ２Ｏが１．６重量％、ＺｎＯが２．１重量％、ＣａＯが４．７重量％、ＢａＯが１７．０重量％、Ａｌ２Ｏ３が２．９重量％
試料９：ＳｉＯ２が３８．０重量％、Ｂ２Ｏ３が２８．０重量％、Ｌｉ２Ｏが２．０重量％、Ｎａ２Ｏが２．０重量％、Ｋ２Ｏが２．５重量％、ＺｎＯが４．０重量％、ＢａＯが６．５重量％、Ａｌ２Ｏ３が２．０重量％、ＺｒＯ２が６．０重量％、Ｂｉ２Ｏ３が９．０重量％
試料１０：ＳｉＯ２が３８．０重量％、Ｂ２Ｏ３が２８．０重量％、Ｌｉ２Ｏが１．０重量％、Ｎａ２Ｏが２．０重量％、Ｋ２Ｏが２．５重量％、ＺｎＯが４．０重量％、ＢａＯが６．５重量％、Ａｌ２Ｏ３が２．０重量％、ＺｒＯ２が３．０重量％、Ｂｉ２Ｏ３が１３．０重量％
　上記（ア）〜（ケ）の記載事項及び図面の図示内容を、表１の試料４に注目して、総合すると、引用刊行物には、以下の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されていると認められる。
「セラミック材であるアルミナ製絶縁碍子１の穴部１０に中心電極２を挿入し、絶縁碍子１をハウジング６の中に挿着してかしめ固定したスパークプラグ７において、アルミナ製絶縁碍子表面に無鉛釉薬の釉薬スラリーを塗布し釉薬の焼付けを行うものであって、無鉛釉薬は主としてホウケイ酸ガラスの成分であるＳｉＯ２及びＢ２Ｏ３と，Ａｌ２Ｏ３，ＺｎＯを含有するものであり、その組成が、
ＳｉＯ２が４３．０重量％、Ｂ２Ｏ３が２１．５重量％、ＺｎＯが１．６重量％、ＢａＯが１８．０重量％、Ｎａ２Ｏが４．７重量％、Ｋ２Ｏが１．２重量％、ＣａＯが６．７重量％、Ａｌ２Ｏ３が３．３重量％であるスパークプラグ７。」
　
３．対比・判断
　本願発明と引用発明とを対比すると、後者の「ハウジング６」は、その構造からみて、前者の「主体金具」に相当し、後者の「セラミック材であるアルミナ製絶縁碍子１」はその機能・構造からみて、前者の「アルミナ系セラミックからなる絶縁体」に相当し、後者の「セラミック材であるアルミナ製絶縁碍子１の穴部１０に中心電極２を挿入し、絶縁碍子１をハウジング６の中に挿着してかしめ固定した」構造は、前者の「中心電極と主体金具との間にアルミナ系セラミックからなる絶縁体を配した」構造に相当する。
　また、後者は、「アルミナ製絶縁碍子表面に無鉛釉薬の釉薬スラリーを塗布し釉薬の焼付けを行う」から、アルミナ製絶縁碍子表面には無鉛釉薬の釉薬層が形成され、後者の「無鉛釉薬は主としてホウケイ酸ガラスの成分であるＳｉＯ２及びＢ２Ｏ３と，Ａｌ２Ｏ３，ＺｎＯを含有するもの」であるから、上記釉薬層は酸化物主体の釉薬層であるといえるので、後者は、前者の「絶縁体の表面の少なくとも一部を覆う形態で酸化物主体の釉薬層が形成され」に相当する構成を有しているといえる。
　後者の無鉛釉薬は鉛の成分を含まないものであるから、後者の上記釉薬層は、前者の「該釉薬層が、Ｐｂ成分の含有量がＰｂＯ換算にて１ｍｏｌ％以下とされ」ることと共通している。
　後者の組成をｍｏｌ％にて書き直すと、ＳｉＯ２が５１．１ｍｏｌ％、Ｂ２Ｏ３が２１．９ｍｏｌ％、ＺｎＯが１．４１ｍｏｌ％、ＢａＯが８．３９ｍｏｌ％、Ｎａ２Ｏが５．４１ｍｏｌ％、Ｋ２Ｏが０．９１ｍｏｌ％、ＣａＯが８．５４ｍｏｌ％、Ａｌ２Ｏ３が２．３１ｍｏｌ％となり、ＺｎＯとＢａＯの合計は９．８０ｍｏｌ％、Ｎａ２ＯとＫ２Ｏの合計は６．３２ｍｏｌ％となっている。
　そしてこれらの酸化物からなる釉薬を焼き付けるのであるから、できあがる釉薬層についても、それぞれの酸化物の含有量が、上記それぞれの酸化物を形成する成分の含有量についての酸化物換算した値であるといえる。
　そうすると、両者は、
「中心電極と主体金具との間にアルミナ系セラミックからなる絶縁体を配したスパークプラグにおいて、その絶縁体の表面の少なくとも一部を覆う形態で酸化物主体の釉薬層が形成され、該釉薬層が、
　Ｐｂ成分の含有量がＰｂＯ換算にて１ｍｏｌ％以下とされ、
　Ｓｉ成分をＳｉＯ２に酸化物換算した値にて４０〜６０ｍｏｌ％、Ｂ成分をＢ２Ｏ３に酸化物換算した値にて２０〜４０ｍｏｌ％、Ｚｎ成分をＺｎＯに酸化物換算した値にて０．５〜２５ｍｏｌ％、Ｂａ又はＳｒ成分を、ＢａＯないしＳｒＯに酸化物換算した値にて合計で０．５〜１５ｍｏｌ％含有するとともに、Ｚｎ成分と、Ｂａ成分及び／又はＳｒ成分とは、Ｚｎ成分はＺｎＯ、Ｂａ成分はＢａＯ、Ｓｒ成分はＳｒＯにそれぞれ酸化物換算した値にて、合計で８〜３０ｍｏｌ％とされ、
　アルカリ金属成分として、ＮａはＮａ２Ｏ、ＫはＫ２Ｏ、ＬｉはＬｉ２Ｏに酸化物換算した値にて、Ｋを必須とする１種又は２種以上を合計で２〜１２ｍｏｌ％の範囲にて含有するスパークプラグ。」である点で、一致し、以下の点で両者は相違しているものと認められる。
（１）本願発明が「Ｂｉ、Ｓｂ及び希土類元素ＲＥ（ただし、Ｓｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ及びＬｕからなる群より選ばれるもの）から選ばれる１種又は２種以上（以下、必須流動改善成分という）を、ＢｉはＢｉ２Ｏ３に、ＳｂはＳｂ２Ｏ５に、ＲＥは、ＣｅはＣｅＯ２、ＰｒはＰｒ７Ｏ１１、他はＲＥ２Ｏ３にそれぞれ酸化物換算した値にて合計で０．１〜５ｍｏｌ％含有する」のに対して、引用発明は上記の成分を含有していない点。
　
　そこで、上記相違点について検討する。
　引用刊行物の摘示事項（キ）や（ク）に示されるように、引用発明は、焼付けの温度を９００℃以下に下げて低コストで焼付けを行うことができるように、無鉛釉薬の融点を下げようとするものであり、８５０℃での焼付けが実施形態とされている。
　そこで、より低温で無鉛釉薬の焼付けができるよう、融点を下げるために、引用刊行物の摘示事項（カ）の示唆に基づいて、釉薬に試料９や１０程度のＢｉ２Ｏ３を加えることは、当業者が容易になし得ることと認められる。
　摘示事項（ケ）から、試料９及び１０のＢｉ２Ｏ３はそれぞれ９．０及び１３．０重量％であるから、Ｂｉ２Ｏ３がその重量％となるように試料４に加えて、ｍｏｌ％で計算すると、本願発明の含有量の範囲内となる。
　そしてＢｉを加えることにより流動性が向上する効果についても、例えば、特開２００１−１３９３４５号公報、特開平９−３０８３４号公報、特開平８−９１８７２号公報や、特開平１０−８７３４０号公報等に示されるように、ガラス成分の添加物として周知の効果であって、当業者が予測しうる範囲であるといえる。
　してみると、上記相違点に係る本願発明の構成とすることは、当業者が容易になし得たことと認められる。
　
４．むすび
　したがって、本願発明は、引用刊行物に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。