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【手続補正書】
【提出日】平成24年6月8日(2012.6.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画素領域の外側に、前記画素領域から離れた第１領域および前記画素領域と前記第１領域との間の第２領域を有する撮像素子と、
空間部を介して前記画素領域を覆う平板部と、
前記空間部に面する内壁を有し、前記第１領域に固定された枠部と、を備えた固体撮像装置であって、
前記内壁は、第１部分と、前記第１部分に続く第２部分とを前記平板部側から順に有し、
前記空間部から前記内壁への入射光が前記第１部分で反射して前記第２領域へ入射するように、前記第１部分が前記撮像素子の受光面の垂線に対して前記画素領域側へ傾斜しており、前記受光面の垂線に対する前記第２部分の角度が、前記第１部分の前記受光面の垂線に対する角度よりも小さいことを特徴とする固体撮像装置。
【請求項２】
前記空間部から前記内壁への入射光が前記第２部分で反射して前記第２領域へ入射するように、前記第１領域および前記第２領域が設けられている請求項１に記載の固体撮像装置。
【請求項３】
前記入射光の前記受光面の垂線に対する角度をθＡ、前記第１部分の任意の位置における前記受光面の垂線に対する前記第１部分の角度をθＢ、前記受光面に垂直な方向における前記内壁の長さをＨ、前記受光面に垂直な方向における前記第１部分の長さをＨ１、前記受光面と平行な方向における前記画素領域から前記第２部分までの距離をＬ１としたとき、Ｈｔａｎ（θＡ−２θＢ）＋（Ｈ１）ｔａｎθＢ≦Ｌ１の関係式を満たすことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の固体撮像装置。
【請求項４】
画素領域の外側に、前記画素領域から離れた第１領域および前記画素領域と前記第１領域との間の第２領域を有する撮像素子と、
空間部を介して前記画素領域を覆う平板部と、
前記空間部に面する内壁を有し、前記第１領域に固定された枠部と、を備えた固体撮像装置であって、
前記内壁は、前記撮像素子の受光面の垂線に対して前記画素領域側へ傾斜した第１部分と、前記第１部分に続く、前記受光面に対して垂直な第２部分とを前記平板部側から順に有し、
前記空間部から前記内壁への入射光の前記受光面の垂線に対する角度をθＡ、前記第１部分の任意の位置における前記第１部分の前記受光面の垂線に対する傾斜角をθＢ、前記受光面に垂直な方向における前記内壁の長さをＨ、前記受光面に垂直な方向における第１部分の長さをＨ１、前記受光面に垂直な方向における第２部分の長さをＨ２、前記受光面と平行な方向における前記画素領域から前記第２部分までの距離をＬ１としたとき、
Ｈ２ｔａｎθＡ≦Ｌ１  ・・・（１）
Ｈｔａｎ（θＡ−２θＢ）＋（Ｈ１）ｔａｎθＢ≦Ｌ１  ・・・（２）
の関係式を満たすことを特徴とする固体撮像装置。
【請求項５】
前記第１部分が曲面であり前記第２部分が平面であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の固体撮像装置。
【請求項６】
前記第１部分の前記平板部側の端部が前記画素領域の直上より外側に位置することを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の固体撮像装置。
【請求項７】
前記第２領域に光吸収部材が設けられていることを特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の固体撮像装置。
【請求項８】
前記画素領域に設けられたマイクロレンズを有し、前記光吸収部材が前記マイクロレンズと同一層に配置されていること、または、前記画素領域に設けられたカラーフィルタを有し、前記光吸収部材が前記カラーフィルタと同一層に配置されていることを特徴とする請求項７に記載の固体撮像装置。
【請求項９】
前記撮像素子は前記第１領域より外側に、凹凸を有する第３領域を有することを特徴とする請求項１乃至８のいずれかに記載の固体撮像装置。
【請求項１０】
前記枠部は、前記枠部を構成する複数の部品と、前記複数の部品を相互に固定するための、前記複数の部品より弾性係数が小さい樹脂と、を有すること、または、
前記枠部は枠形状の部品を有し、前記平板部と前記枠形状の部品とが、前記枠形状の部品より弾性係数が小さい樹脂で固定されていることを特徴とする請求項１乃至９のいずれかに記載の固体撮像装置。
【請求項１１】
前記撮像素子の前記平板部側とは反対側に固定された配線基板と、前記撮像素子と前記配線基板との間で信号を転送するための導電部と、前記導電部を封止する封止部材と、を有する請求項１乃至１０のいずれかに記載の固体撮像装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
そして、上記目的を達成するために、本発明の第１の観点は、画素領域の外側に、前記画素領域から離れた第１領域および前記画素領域と前記第１領域との間の第２領域を有する撮像素子と、空間部を介して前記画素領域を覆う平板部と、前記空間部に面する内壁を有し、前記第１領域に固定された枠部と、を備えた固体撮像装置であって、前記内壁は、第１部分と、前記第１部分に続く第２部分とを前記平板部側から順に有し、前記空間部から前記内壁への入射光が前記第１部分で反射して前記第２領域へ入射するように、前記第１部分が前記撮像素子の受光面の垂線に対して前記画素領域側へ傾斜しており、前記受光面の垂線に対する前記第２部分の角度が、前記第１部分の前記受光面の垂線に対する角度よりも小さいことを特徴とする。
そして、上記目的を達成するために、本発明の第２の観点は、画素領域の外側に、前記画素領域から離れた第１領域および前記画素領域と前記第１領域との間の第２領域を有する撮像素子と、空間部を介して前記画素領域を覆う平板部と、前記空間部に面する内壁を有し、前記第１領域に固定された枠部と、を備えた固体撮像装置であって、前記内壁は、前記撮像素子の受光面の垂線に対して前記画素領域側へ傾斜した第１部分と、前記第１部分に続く、前記受光面に対して垂直な第２部分とを前記平板部側から順に有し、前記空間部から前記内壁への入射光の前記受光面の垂線に対する角度をθＡ、前記第１部分の任意の位置における前記第１部分の前記受光面の垂線に対する傾斜角をθＢ、前記受光面に垂直な方向における前記内壁の長さをＨ、前記受光面に垂直な方向における第１部分の長さをＨ１、前記受光面に垂直な方向における第２部分の長さをＨ２、前記受光面と平行な方向における前記画素領域から前記第２部分までの距離をＬ１としたとき、
Ｈ２ｔａｎθＡ≦Ｌ１・・・（１）
Ｈｔａｎ（θＡ−２θＢ）＋（Ｈ１）ｔａｎθＢ≦Ｌ１・・・（２）
の関係式を満たすことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成24年5月24日(2012.5.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ブロックと、
発振波長の異なる複数のレーザダイオードとを有し、
前記ブロックには底面と２つの側面を有する溝が形成され、
前記複数のレーザダイオードは、前記溝の底面および２つの側面のうち、２面以上に配置されていて、前記複数のレーザーダイオードは同じ方向にレーザ光を出射することを特徴とする多波長半導体レーザ装置。
【請求項２】
前記２つの側面は、前記底面から溝の開口方向に向かって広がっていることを特徴とする請求項１に記載の多波長半導体レーザ装置。
【請求項３】
ブロックと、
発振波長の異なる２つのレーザダイオードとを有し、
前記ブロックには２つの側面を有する断面Ｖ字型の溝が形成され、
前記２つのレーザダイオードは、前記溝の両側面上にひとつづつ配置されていて、前記２つのレーザーダイオードは同じ方向にレーザ光を出射することを特徴とする多波長半導体レーザ装置。
【請求項４】
ブロックと、
発振波長の異なる複数のレーザダイオードとを有し、
前記ブロックには３つの側面を有する矩形状の突起部が形成され、
前記複数のレーザダイオードは、前記突起部の３つの側面にひとつづつ配置されていて、前記複数のレーザーダイオードは同じ方向にレーザ光を出射することを特徴とする多波長半導体レーザ装置。
【請求項５】
第１の側面と第２の側面を有する突起部が形成されているブロックと、
発振波長の異なる複数のレーザダイオードとを有し、
前記ブロックには前記第１の側面と交差する第１の平面と前記第２の側面と交差する第２の平面とが形成され、
前記レーザダイオードは、第１の側面、第２の側面、第１の平面、第２の平面のうち２つ以上の面に配置されていて、複数のレーザーダイオードは同じ方向にレーザ光を出射する
ことを特徴とする多波長半導体レーザ装置。
【請求項６】
前記第１の平面と前記第２の平面に２つのレーザダイオードがひとつづつ配置されていることを特徴とする請求項５に記載の多波長半導体レーザ装置。
【請求項７】
前記第１の側面と前記第２の側面に２つのレーザダイオードがひとつづつ配置されていることを特徴とする請求項５に記載の多波長半導体レーザ装置。
【請求項８】
ブロックと、
２波長レーザダイオードと、
前記２波長レーザダイオードとは発振波長の異なるレーザダイオードとを有し、
前記ブロックには２つの側面を有する断面Ｖ字型の溝が形成され、
前記２つのレーザダイオードは、前記溝の両側面上にひとつづつ配置されていて、前記２つのレーザーダイオードは同じ方向にレーザ光を出射することを特徴とする多波長半導体レーザ装置。
【請求項９】
前記ブロックは、ステムに載置されていることを特徴とする請求項１から８のいずれか１項に記載の多波長半導体レーザ装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
この発明に係る多波長半導体レーザ装置は、ブロックと、発振波長の異なる複数のレーザダイオードとを有し、前記ブロックには底面と２つの側面を有する溝が形成され、前記複数のレーザダイオードは、前記溝の底面および２つの側面のうち、２面以上に配置されていて、前記複数のレーザーダイオードは同じ方向にレーザ光を出射することを特徴とするものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
また、この発明に係る多波長半導体レーザ装置は、ブロックと、発振波長の異なる２つのレーザダイオードとを有し、前記ブロックには２つの側面を有する断面Ｖ字型の溝が形成され、前記２つのレーザダイオードは、前記溝の両側面上にひとつづつ配置されていて、前記２つのレーザーダイオードは同じ方向にレーザ光を出射することを特徴とするものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、この発明に係る多波長半導体レーザ装置は、ブロックと、発振波長の異なる複数
のレーザダイオードとを有し、前記ブロックには３つの側面を有する矩形状の突起部が形成され、前記複数のレーザダイオードは、前記突起部の３つの側面にひとつづつ配置されていて、前記複数のレーザーダイオードは同じ方向にレーザ光を出射することを特徴とするものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また、この発明に係る多波長半導体レーザ装置は、第１の側面と第２の側面を有する突起部が形成されているブロックと、発振波長の異なる複数のレーザダイオードとを有し、前記ブロックには前記第１の側面と交差する第１の平面と前記第２の側面と交差する第２の平面とが形成され、前記レーザダイオードは、第１の側面、第２の側面、第１の平面、第２の平面のうち２つ以上の面に配置されていて、複数のレーザーダイオードは同じ方向にレーザ光を出射することを特徴とするものである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
本実施の形態では、ブロック１０３に形成した溝１０５を、その断面形状が開口方向に向かって広がった形状としたが、本発明はこの形状に限定されるものではなく、溝１０５の対向する側面１０９が互いに平行な面、すなわち図２におけるＬ１、Ｌ２がＬ１＝Ｌ２であってもよく、さらにはＬ１＞Ｌ２であっても構わない。特に、本実施の形態のように溝１０５の断面形状が開口方向に向かって広がった形状（Ｌ１＜Ｌ２）とすることにより、ＬＤ１１１のダイボンドおよびワイヤボンディングをより容易に行うことができる。
【手続補正書】
【提出日】平成24年4月17日(2012.4.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板本体と、
前記基板本体の第１の面に設けられ、はんだを介して、半導体チップがフリップチップ接続されるパッドと、
前記基板本体の第１の面に設けられ、前記パッドの一方の端部と接続された第１の配線パターンと、
前記基板本体の第１の面に設けられ、前記パッドの他方の端部と接続された第２の配線パターンと、
前記基板本体の第１の面に設けられ、前記第１の配線パターンの一部及び前記第２の配線パターンを露出する絶縁層と、を有し、
前記第１の配線パターン及び前記第２の配線パターンの前記絶縁層から露出する面は、各々、前記はんだの母材となる材料が形成される面であり、
前記第２の配線パターンの形状は、湾曲形状である配線基板。
【請求項２】
前記第１の配線パターンは、前記絶縁層に覆われた第１の配線部と、前記パッドの一方の端部及び前記第１の配線部と接続され前記絶縁層から露出する第２の配線部と、を有し、
前記第２の配線部は、前記第２の配線部が接続された前記第１の配線部の端部と前記パッドの一方の端部とを結ぶ第１の直線上に配置されており、
前記第２の配線パターンは、前記パッドの他方の端部と接続され、前記第１の直線の延長線上に配置された第３の配線部と、前記第３の配線部と一体的に構成され、湾曲形状とされた第４の配線部と、を有する請求項１記載の配線基板。
【請求項３】
前記絶縁層は、前記第１の配線部と前記第２の配線部との境界部分に対応する第１の辺を有し、
前記第２及び第３の配線部は、前記第１の辺に対して直交しない方向に延在する請求項２記載の配線基板。
【請求項４】
前記半導体チップと対向する部分の前記基板本体を貫通する貫通ビアを更に有し、
前記第１の配線パターンは、前記基板本体の第１の面側に配置された部分の前記貫通ビアの一方の端部及び前記パッドの一方の端部と接続されている請求項１ないし３のうち、いずれか１項記載の配線基板。
【請求項５】
前記基板本体の第１の面の反対側に位置する前記基板本体の第２の面に、前記貫通ビアの他方の端部と電気的に接続された外部接続用パッドを設けた請求項４記載の配線基板。
【請求項６】
請求項１ないし５のうち、いずれか１項記載の配線基板と、
電極パッドを有した前記半導体チップと、
前記電極パッドに設けられ、前記はんだを介して、前記パッドと電気的に接続される内部接続端子と、を備えた半導体装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
本発明の一観点によれば、基板本体と、前記基板本体の第１の面に設けられ、はんだを介して、半導体チップがフリップチップ接続されるパッドと、前記基板本体の第１の面に設けられ、前記パッドの一方の端部と接続された第１の配線パターンと、前記基板本体の第１の面に設けられ、前記パッドの他方の端部と接続された第２の配線パターンと、前記基板本体の第１の面に設けられ、前記第１の配線パターンの一部及び前記第２の配線パターンを露出する絶縁層と、を有し、前記第１の配線パターン及び前記第２の配線パターンの前記絶縁層から露出する面は、各々、前記はんだの母材となる材料が形成される面であり、前記第２の配線パターンの形状は、湾曲形状である配線基板が提供される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成24年8月30日(2012.8.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
二つの半導体基板を互いに貼り合わせる、基板貼り合わせ装置であって、
一方の前記半導体基板を保持するステージと、
前記一方の半導体基板の重ね合わせる面が上向きになる第一の位置と、前記一方の半導体基板の重ね合わせる面が下向きになる第二の位置との間で前記ステージを移動させるステージ駆動部と、
前記ステージの移動により重ね合わせる面が下向きになった前記一方の半導体基板と、他の半導体基板との位置合わせを行う位置合わせ装置と、
前記位置合わせ装置により位置合わせされた前記二つの基板を加圧する加圧装置と、
を備える基板貼り合わせ装置。
【請求項２】
前記ステージが前記第一の位置から前記第二の位置に移動する場合に、前記一方の半導体基板が落下することを防止する脱落防止部を備える請求項１に記載の基板貼り合わせ装置。
【請求項３】
前記ステージを、摺動することなく移動可能に支持する支持部を有する請求項１に記載の基板貼り合わせ装置。
【請求項４】
前記ステージと前記支持部との間の間隙の変化に基づいて、前記ステージにかかる荷重を検出する荷重検出部を備える請求項３に記載の基板貼り合わせ装置。
【請求項５】
少なくとも前記一方の半導体基板を保持した状態で搬送される基板ホルダを備え、
前記基板ホルダは、前記一方の半導体基板を保持した状態で前記ステージに保持され、前記ステージ駆動部の駆動により前記一方の基板と一体的に移動する請求項１から４のいずれか１項に記載の基板貼り合わせ装置。
【請求項６】
前記ステージには、前記基板ホルダを前記ステージに吸着する吸着部が設けられており、
前記基板ホルダは、前記一方の半導体基板を吸着することにより保持し、前記ステージに保持された状態で前記一方の半導体基板への吸着力が維持される請求項５に記載の基板貼り合わせ装置。
【請求項７】
前記ステージは、前記位置合わせ装置の第一のステージであり、
前記位置合わせ装置は、二つの前記半導体基板のうち他方の前記半導体基板を保持する第二のステージを有し、
前記ステージ駆動部は、前記第一のステージを、前記一方の半導体基板および前記他方の半導体基板の重ね合わせる面が互いに向かい合うまで移動させる請求項１から６のいずれか１項に記載の基板貼り合わせ装置。
【請求項８】
前記ステージ駆動部が前記第一のステージを回転させる間に、前記第二のステージに半導体基板を装填する基板装填部を更に有する請求項７に記載の基板貼り合わせ装置。
【請求項９】
前記第一のステージおよび前記第二のステージが同じ向きにある場合に、前記第一のステージおよび前記第二のステージの一方が他方を避ける位置に退避する請求項７または８に記載の基板貼り合わせ装置。
【請求項１０】
二つの半導体基板を互いに貼り合わせる、基板貼り合わせ方法であって、
一方の前記半導体基板の重ね合わせる面が上向きになるように前記一方の半導体基板をステージに保持する保持段階と、
前記一方の半導体基板の前記重ね合わせる面が下向きになるように前記ステージを移動させる移動段階と、
前記ステージの移動により前記重ね合わせる面が下向きになった前記一方の半導体基板と、他の半導体基板との位置合わせを行う位置合わせ段階と、
前記位置合わせ段階により位置合わせされた前記二つの基板を加圧する加圧段階と、
を含む基板貼り合わせ方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】基板貼り合わせ装置および基板貼り合わせ方法
【手続補正書】
【提出日】平成24年9月10日(2012.9.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
貼り合わせ面を有する基板を、前記貼り合わせ面および基板保持部を下向きにして、前記貼り合わせ面と反対側の面を基板保持部に向けた状態で前記基板保持部に対して着脱するときに前記基板を下方から支持するプッシュアップピンであって、
前記基板保持部に向けて伸び、前記基板保持部に対して移動するピン本体と、
前記ピン本体に設けられ、前記貼り合わせ面に接触しないように前記基板を支持する支持部と、
を備えるプッシュアップピン。
【請求項２】
前記支持部は、前記ピン本体の先端部に設けられている請求項１に記載のプッシュアップピン。
【請求項３】
前記支持部は、前記基板の縁部に接触する請求項１または２に記載のプッシュアップピン。
【請求項４】
前記支持部は、前記基板の下縁に斜めに接触する請求項１から３のいずれか１項に記載のプッシュアップピン。
【請求項５】
前記ピン本体は上下方向に延在し、前記支持部は前記ピン本体から斜めに延在する請求項１から４のいずれか１項に記載のプッシュアップピン。
【請求項６】
互いに積層して接合された基板のうち、外径の最も大きな基板を支持する請求項１から５のいずれか１項に記載のプッシュアップピン。
【請求項７】
前記基板が搭載されるステージと、
前記ステージに配された、請求項１から請求項６のいずれか１項に記載のプッシュアップピンと
を備える基板貼り合わせ装置。
【手続補正書】
【提出日】平成24年5月15日(2012.5.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
それぞれ電極集電体の表面に電極活物質が担持された正極及び負極を、その間にセパレータを介在させつつ、巻芯の周囲に巻回した発電要素を備える巻回型の電池において、最内周に位置する正極又は負極の何れかと極性が異なる電極活物質が導電性を有する基材から構成される巻芯の外表面に担持され、且つ、最内周に位置する正極又は負極の何れかと巻芯の外表面との間にセパレータを介在させると共に、極性が巻芯と同じ正極又は負極の何れかと巻芯とが電気的に接続されることを特徴とする電池。
【請求項２】
前記巻芯は、前記最内周に位置する正極又は負極の何れかと別体であることを特徴とする請求項１に記載の電池。
【請求項３】
正極は、電極集電体の表面両面に電極活物質が塗工され、負極は、電極集電体の表面両面に電極活物質が塗工され、巻芯は、導電性を有する基材から構成されると共に、外表面に電極活物質が塗工され、極性が巻芯と同じ正極又は負極の何れかと電気的に接続される請求項１又は２に記載の電池。
【請求項４】
正極用又は負極用の何れか一方の電極集電体の表面片面に電極活物質を塗工し、この一部を切断してこの切断した一部を塗工面が表となるように巻回して巻芯を作製すると共に、電極集電体の反対面に電極活物質を塗工して正極又は負極の何れか一方の電極を作製し、また、正極用又は負極用の何れか他方の電極集電体の表面両面に電極活物質を塗工して正極又は負極の何れか他方の電極を作製し、内側から、セパレータ、正極又は負極の何れか他方の電極、セパレータ、正極又は負極の何れか一方の電極の順となるよう、これらを巻芯の周囲に巻回して発電要素を作製することを特徴とする発電要素の作製方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また、本発明に係る電池においては、巻芯は、最内周に位置する正極又は負極の何れかと別体とすることができる。
また、本発明に係る電池においては、正極は、電極集電体の表面両面に電極活物質が塗工され、負極は、電極集電体の表面両面に電極活物質が塗工され、巻芯は、導電性を有する基材から構成されると共に、外表面に電極活物質が塗工され、極性が巻芯と同じ正極又は負極の何れかと電気的に接続される構成を採用することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成24年4月6日(2012.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
矩形形状の半導体チップを備え、
前記半導体チップは、
（ａ）半導体基板と、
（ｂ）前記半導体基板の素子形成面に形成された突起形状の複数のバンプ電極とを有し、
前記半導体チップには、前記半導体チップの端部から所定距離内の端部領域と、前記端部領域以外の内部領域が存在する半導体装置であって、
前記半導体チップの前記端部領域における厚さは、前記半導体チップの前記内部領域における厚さよりも薄いことを特徴とする半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成24年4月13日(2012.4.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９２】
改質触媒層における改質可能流量ＦｋＣＡＬＣは、改質触媒層の温度Ｔの関数（温度の関数であることを明示する場合にはＦｋＣＡＬＣ（Ｔ）と表す）として、予め実験により求めることができる。また、実験により求めた関数を、安全側に温度を補正したりしたうえで、改質可能流量とすることもできる。なお、ＦｋＣＡＬＣ（Ｔ）の単位は例えばｍｏｌ／ｓである。
【手続補正書】
【提出日】平成24年1月25日(2012.1.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電解質膜の両側に一対の電極を設けた電解質膜・電極構造体と長方形状のセパレータとが積層されるとともに、積層方向両端にエンドプレートが配設される燃料電池スタックであって、
前記セパレータには、コネクタに接続されて外部へ電流を取り出す電流取り出し端子が設けられる一方、
前記コネクタに接続されるハーネスは、ケース部材内に配設されるとともに、
前記ケース部材は、前記エンドプレートに固定されることを特徴とする燃料電池スタック。
【請求項２】
請求項１記載の燃料電池スタックにおいて、前記電流取り出し端子は、前記セパレータの前記長方形状の短辺側一方の角部に設けられるとともに、
前記ケース部材は、前記エンドプレートの短辺側に固定されることを特徴とする燃料電池スタック。
【請求項３】
請求項１又は２記載の燃料電池スタックにおいて、前記ケース部材は、前記コネクタを覆うカバー部を設けることを特徴とする燃料電池スタック。
【請求項４】
請求項３記載の燃料電池スタックにおいて、前記カバー部は、前記ケース部材に対して傾動可能に構成されることを特徴とする燃料電池スタック。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の燃料電池スタックにおいて、前記ケース部材内には、略Ｌ字状に屈曲する仕切り板が設けられるとともに、
前記ハーネスは、整列した状態で配置されることを特徴とする燃料電池スタック。
【手続補正書】
【提出日】平成23年12月28日(2011.12.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被施療者が着座する座部と、
当該座部に連接され当該被施療者の背中を支持する背もたれ部と、
当該背もたれ部に当該被施療者の少なくとも背部をマッサージするマッサージ手段とを備え、
前記座部に、前記被施療者の右臀部を押圧する右臀部用エアバッグと前記被施療者の左臀部を押圧する左臀部用エアバッグとが所定の距離を空けて併設され、前記所定の距離に対応する前記被施療者の腰部及び臀部に対して前記マッサージ手段で施療することを特徴とするマッサージ機。
【請求項２】
請求項１に記載のマッサージ機において、
前記背もたれ部を前記被施療者の後方向に傾動させるリクライニング手段を備え、
前記リクライニング手段が、前記背もたれ部を傾動させると共に、前記座部を傾動させることを特徴とするマッサージ機。
【請求項３】
請求項２に記載のマッサージ機において、
前記リクライニング手段が、
前記座部と前記背もたれ部とがなす角度を維持したまま前記座部及び前記背もたれ部を傾動させることを特徴とするマッサージ機。
【請求項４】
請求項２に記載のマッサージ機において、
前記リクライニング手段が、
前記座部と前記背もたれ部とがなす角度を大きくしながら前記被施療者の後方向に前記座部及び前記背もたれ部を傾動させることを特徴とするマッサージ機。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれかに記載のマッサージ機において、
前記被施療者の大腿部と接触して当該被施療者の大腿部を昇降させる大腿部昇降手段を備え、
前記大腿部昇降手段が、少なくとも前記エアバッグ及び／又は前記リクライニング手段と連係して動作することを特徴とするマッサージ機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明に係るマッサージ機は、被施療者が着座する座部と、当該座部に連接され当該被施療者の背中を支持する背もたれ部と、当該背もたれ部に当該被施療者の少なくとも背部をマッサージするマッサージ手段とを備え、前記座部に、前記被施療者の右臀部を押圧する右臀部用エアバッグと前記被施療者の左臀部を押圧する左臀部用エアバッグとを所定の距離を空けて併設し、前記所定の距離に対応する前記被施療者の腰部及び臀部に対して前記マッサージ手段で施療するものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
このように、本発明においては臀部用エアバッグによる刺激でマッサージを行うと共に、被施療者の腰部から臀部近傍に対してマッサージ手段により良好にマッサージを行うことができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明に係るマッサージ機は、前記背もたれ部を前記被施療者の後方向に傾動させるリクライニング手段を備え、前記リクライニング手段が、前記背もたれ部を傾動させると共に、前記座部を傾動させるものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明に係るマッサージ機は、前記リクライニング手段が、前記座部と前記背もたれ部とがなす角度を維持したまま前記座部及び前記背もたれ部を傾動させるものである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
本発明に係るマッサージ機は、前記リクライニング手段が、前記座部と前記背もたれ部とがなす角度を大きくしながら前記被施療者の後方向に前記座部及び前記背もたれ部を傾動させるものである。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本発明に係るマッサージ機は、前記被施療者の大腿部と接触して当該被施療者の大腿部を昇降させる大腿部昇降手段を備え、前記大腿部昇降手段が、少なくとも前記エアバッグ及び／又は前記リクライニング手段と連係して動作するものである。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成24年8月17日(2012.8.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
座部と該座部の前端において出没可能に連結した足載せ部とを有した椅子式マッサージ機であって、
該足載せ部に人体の脚部を保持するための脚保持部を設け、且つ該脚保持部で保持した人体脚部を左右に揺動させるための揺動機構を設け、
当該揺動機構は、前記足載せ部の幅方向に横架した上下一対のレールと、当該レールに沿って往復スライド動作が可能なスライド体を備えることを特徴とする椅子式マッサージ機。
【請求項２】
前記上下一対のレールは、前記足載せ部の幅方向に直線状に延伸しており、
前記スライド体は、当該上下一対のレールの内部を転動する各転動ローラを備えている請求項１に記載の椅子式マッサージ機。
【請求項３】
前記脚保持部は、前記スライド体の表側において固設されており、幅方向に往復スライド動作を行う請求項１又は２に記載の椅子式マッサージ機。
【請求項４】
前記脚保持部として人体脚部を挿入載置する左右一対の凹部を設けると共に、各凹部の内部左右側面に、前記空気給排装置の給排気により膨縮する膨縮袋を設け、
当該凹部の内部に対設した前記左右の膨縮袋のうち、凹部の左右揺動における移動方向とは逆方向側の膨縮袋を膨張させる、請求項１〜３の何れか一項に記載の椅子式マッサージ機。
【手続補正書】
【提出日】平成24年4月13日(2012.4.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
細胞を培養するための方法において、
ａ．半透過性膜によって区画されておらず、かつ少なくとも一部が非孔性気体透過材料からなる細胞培養装置を形成する工程と、
ｂ．前記細胞培養装置に一定体積の媒質と動物の細胞とを入れる工程と、
ｃ．前記細胞培養装置を細胞培養のために適切な組成を有する雰囲気ガスを有する細胞培養位置に配置する工程であって、前記媒質は、媒質の最も上位の位置が最も下位の位置よりも２ｃｍを超えた高さにあるように配置する工程と、
ｄ．前記媒質中で前記細胞を重力によって沈降させる工程と、
ｅ．前記細胞が重力によって前記媒質中で沈降した後に、静止細胞培養の様式にて前記細胞を培養する工程とを備える、細胞を培養するための方法。
【請求項２】
前記細胞培養装置を前記細胞培養位置に配置した後で前記細胞を静止細胞培養の様式にて培養する工程を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記静止細胞培養の様式では前記装置は前記媒質を撹拌するための手段を備えていない、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記静止細胞培養の様式では前記装置は前記媒質の動きを生じさせるための手段を備えていない、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記静止細胞培養の様式では前記装置は前記媒質を混合するため動きを生じさせるための手段を備えていない、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記媒質は該媒質の前記最も下位の位置から３．２ｃｍを超えて存在する、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記媒質は該媒質の前記最も下位の位置から４．０ｃｍを超えて存在する、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記媒質は該媒質の前記最も下位の位置から５．０９ｃｍを超えて存在する、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記媒質は該媒質の前記最も下位の位置から６．０ｃｍを超えて存在する、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
細胞を培養するための方法において、
ｆ．単一区画からなるとともに、少なくとも底部が少なくとも部分的に非孔性気体透過材料からなる細胞培養装置を形成する工程と、
ｇ．前記単一区画に一定体積の媒質と動物の細胞とを入れる工程と、
ｈ．前記細胞培養装置の底部が前記単一区画の最下面をなす位置に前記細胞培養装置が配置されたときに、前記媒質が前記底部の最も下位の位置から２．０ｃｍを越えてあるように前記媒質の体積を調整する工程と、
ｉ．前記細胞培養装置を細胞培養のために適切な組成を有する雰囲気ガスを有する細胞培養位置に配置する工程であって、前記細胞培養装置は前記底部が前記単一区画の前記最下面をなすように配置される、細胞培養位置に配置する工程と、
ｊ．前記媒質中で前記細胞を重力によって沈降させる工程と、
ｋ．前記細胞が重力によって前記媒質中で沈降した後に、静止細胞培養の様式にて前記細胞を培養する工程とを備える、細胞を培養するための方法。
【請求項１１】
前記静止細胞培養の様式では前記装置は前記媒質を撹拌するための手段を備えていない、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記静止細胞培養の様式では前記装置は前記媒質の動きを生じさせるための手段を備えていない、請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
前記静止細胞培養の様式では前記装置は前記媒質を混合するため動きを生じさせるための手段を備えていない、請求項１０に記載の方法。
【請求項１４】
前記媒質は該媒質の前記最も下位の位置から３．２ｃｍを超えて存在する、請求項１０に記載の方法。
【請求項１５】
前記媒質は該媒質の前記最も下位の位置から４．０ｃｍを超えて存在する、請求項１０に記載の方法。
【請求項１６】
前記媒質は該媒質の前記最も下位の位置から５．０９ｃｍを超えて存在する、請求項１０に記載の方法。
【請求項１７】
前記媒質は該媒質の前記最も下位の位置から６．０ｃｍを超えて存在する、請求項１０に記載の方法。
【請求項１８】
細胞を培養するための方法において、
ａ．半透過性膜によって区画されておらず、かつ少なくとも一部が非孔性で湾曲していない気体透過材料からなる、内部で細胞を培養するための細胞培養装置を形成する工程と、ｂ．単一区画に一定体積の媒質と動物の細胞とを細胞懸濁液ではない方式で入れる工程と、
ｃ．前記細胞培養装置の底部が前記単一区画の最下面をなす位置に前記細胞培養装置が配置されたときに、前記媒質が前記底部の最も下位の位置から２．０ｃｍを越えてあるように前記媒質の体積を調整する工程と、
ｄ．前記細胞培養装置を細胞沈降位置に配置して前記細胞のうちの少なくとも一部を前記
非構成で湾曲していない気体透過材料の少なくとも一部に沈降させ、及び、前記細胞培養装置が前記細胞沈降位置に配置されたときに、前記媒質が前記底部の最も下位の位置から２．０ｃｍを越えてあるように前記媒質の体積を調整する工程と、
ｅ．前記細胞培養装置を細胞培養のために適切な組成を有する雰囲気ガスを有する細胞培養位置に配置する工程であって、前記細胞の少なくとも一部が前期非孔性で湾曲していない気体透過材料の少なくとも一部にあるように、細胞培養位置に配置する工程を備える、細胞を培養するための方法。
【請求項１９】
前記細胞培養装置を前記細胞培養位置に配置した後で前記細胞を静止細胞培養の様式にて培養する工程を含む、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記静止細胞培養の様式では前記装置は前記媒質を撹拌するための手段を備えていない、請求項１８に記載の方法。
【請求項２１】
前記静止細胞培養の様式では前記装置は前記媒質の動きを生じさせるための手段を備えていない、請求項１８に記載の方法。
【請求項２２】
前記静止細胞培養の様式では前記装置は前記媒質を混合するため動きを生じさせるための手段を備えていない、請求項１８に記載の方法。
【請求項２３】
前記媒質は該媒質の前記最も下位の位置から３．２ｃｍを超えて存在する、請求項１８に記載の方法。
【請求項２４】
前記媒質は該媒質の前記最も下位の位置から４．０ｃｍを超えて存在する、請求項１８に記載の方法。
【請求項２５】
前記媒質は該媒質の前記最も下位の位置から５．０９ｃｍを超えて存在する、請求項１８に記載の方法。
【請求項２６】
前記媒質は該媒質の前記最も下位の位置から６．０ｃｍを超えて存在する、請求項１８に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年9月4日(2012.9.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
弱められた、大動脈瘤性の、或いは、破裂された通路又は導管のための１つの一般的な外科的介入は、元の健康な通路又は導管の機能性の一部又は全部をもたらすために、且つ／或いは、不全又は欠陥場所に亘る、ある長さの既存の通路又は導管壁を交換することによって、残余の血管の完全性を保持するために、管腔内プロテーゼを使用することを含む。管腔内プロテーゼは一体構造であっても、多数のプロテーゼモジュールで構成されてもよい。管腔内プロテーゼは、所望の用途に依存して、単一管状装置又は二叉分岐装置であり得る。
［先行技術文献］
【特許文献１】米国特許出願第１０／９６２，６３２号明細書
【特許文献２】米国特許出願第１２／５４８，１２０号明細書
【特許文献３】米国特許出願第２００９／０３０５０２（Ａ１）号明細書
【特許文献４】米国特許出願第２００５／１０２０２１（Ａ１）号明細書
【特許文献５】米国特許出願第２０１０／０６３５７６（Ａ１）号明細書
【特許文献６】欧州特許出願第１６７３０３９（Ａ１）号明細書
【手続補正書】
【提出日】平成24年2月28日(2012.2.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
複数のレンズと、
光軸方向前端部と後端部との双方に開口した中空形状を有し、該前端部開口と該後端部開口との双方を分割する分割面で複数に分割されて光軸回りの周回方向についてそれぞれが半周以下の領域を分担する複数のレンズ枠片が繋ぎ合わされて形成された、前記複数のレンズを収容するレンズ枠と、
前記レンズ枠片を組み立てた状態の前記レンズ枠の前端部と後端部のそれぞれに被さり、該前端部と該後端部をそれぞれ押さえる、前端部押さえ環および後端部押さえ環とを備えたことを特徴とするレンズ鏡胴。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
光軸方向前端部と後端部との双方に開口した中空形状であって複数のレンズを収容するレンズ枠が、該前端部開口と該後端部開口との双方を分割する分割面で複数に分割されて光軸回りの周回方向についてそれぞれが半周以下の領域を分担する複数のレンズ枠片からなり、該複数のレンズ枠片の一つに該複数のレンズを配置し、
前記レンズ枠片を、前記複数のレンズを内部に収容した状態のレンズ枠形状に繋ぎ合わせ、前記レンズ枠片を組み立てた状態の前記レンズ枠の前端部と後端部のそれぞれに前端部押さえ環および後端部押さえ環を被せて、該前端部と該後端部をそれぞれ該前端部押さえ環および該後端部押さえ環で押さえることを特徴とするレンズ鏡胴組立方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
上記目的を達成する本発明の第１のレンズ鏡胴は、
複数のレンズと、
光軸方向前端部と後端部との双方に開口した中空形状を有し、この前端部開口とこの後端部開口との双方を分割する分割面で複数に分割されて光軸回りの周回方向についてそれぞれが半周以下の領域を分担する複数のレンズ枠片が繋ぎ合わされて形成された、上記複数のレンズを収容するレンズ枠と、
上記レンズ枠片を組み立てた状態の上記レンズ枠の前端部と後端部のそれぞれに被さり、該前端部と該後端部をそれぞれ押さえる、前端部押さえ環および後端部押さえ環とを備えたことを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
また、上記目的を達成する本発明の第１のレンズ鏡胴組立方法は、
光軸方向前端部と後端部との双方に開口した中空形状であって複数のレンズを収容するレンズ枠が、この前端部開口とこの後端部開口との双方を分割する分割面で複数に分割されて光軸回りの周回方向についてそれぞれが半周以下の領域を分担する複数のレンズ枠片からなり、この複数のレンズ枠片の一つにこの複数のレンズを配置し、
上記レンズ枠片を、上記複数のレンズを内部に収容した状態のレンズ枠形状に繋ぎ合わせ、上記レンズ枠片を組み立てた状態の上記レンズ枠の前端部と後端部のそれぞれに前端部押さえ環および後端部押さえ環を被せて、前端部と後端部をそれぞれ前端部押さえ環および後端部押さえ環で押さえることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成24年2月28日(2012.2.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のレンズと、
光軸方向両端に開口し、前記複数のレンズを収容する中空が形成され、内面と、外面とを有し、さらに前記内面と前記外面とに貫通して光軸方向に延びた溝が形成されたレンズ枠とを備え、
前記レンズ枠がさらに、前記内面の、前記溝に連続した位置に形成された、光軸回りの周回方向に該溝と合わせて半周以上を占めるとともに該光軸方向に延びた、前記中空に収容された前記複数のレンズとの間に隙間を有する凹部を備えたことを特徴とするレンズ鏡胴。
【請求項２】
前記レンズ枠の内面に、前記溝の反対側にて前記凹部間に挟まれ、前記レンズと接して支持することにより、前記レンズを位置決めする支持部を有する請求項１記載のレンズ鏡胴。
【請求項３】
前記レンズ枠が、セラミック製である請求項１又は２記載のレンズ鏡胴。
【請求項４】
前記溝を覆う覆い部材をさらに備える請求項１から３のうちのいずれか１項記載のレンズ鏡胴。
【請求項５】
前記溝内に入り込んで前記レンズ枠内に収容された前記複数のレンズを前記内面に押し当てる押当部材をさらに備える請求項１から３のうちのいずれか１項記載のレンズ鏡胴。
【請求項６】
前記複数のレンズにおける隣接するレンズ間に配置されて該複数のレンズとともに前記レンズ枠に接着固定された間隔環をさらに備える請求項１から５のうちのいずれか１項記載のレンズ鏡胴。
【請求項７】
光軸方向両端に開口し、複数のレンズを収容する中空が形成され、内面と、外面とを有し、さらに前記内面と前記外面とに貫通して光軸方向に延びた溝が形成されたレンズ枠であって、該内面の、前記溝に連続した位置に形成された、光軸回りの周回方向に該溝と合わせて半周以上を占めるとともに該光軸方向に延びた、前記中空に収容された前記複数のレンズとの間に隙間を有する凹部を有するレンズ枠の中に、該複数のレンズを前記溝寄りに偏芯させながら収容させ、
前記レンズ枠内に収容させた前記複数のレンズを、前記溝内に入り込む押当部材で前記内面に押し当てることを特徴とするレンズ鏡胴組立方法。
【請求項８】
前記押当部材で前記複数のレンズを前記内面に押し当てた状態のまま、該押当部材を前記レンズ枠に固定する請求項７記載のレンズ鏡胴組立方法。
【請求項９】
前記押当部材により前記内面に押し当てられた状態の前記複数のレンズを、前記レンズ枠に接着固定し、
前記押当部材を前記溝内から取り外す請求項７記載のレンズ鏡胴組立方法。
【請求項１０】
さらに、前記溝を覆い部材で覆う請求項９記載のレンズ鏡胴組立方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明のレンズ鏡胴は、光軸方向両端に開口し、複数のレンズを収容する中空が形成されたレンズ枠が、内面と外面とに貫通して光軸方向に延びた溝が形成されたものである。従って、本発明のレンズ鏡胴によれば、このレンズ鏡胴の組み立て時において、複数のレンズをその溝寄りに偏芯させながらレンズ枠内に収容させることができ、その溝を利用して、複数のレンズが内面に接した状態でそれら複数のレンズをレンズ枠に位置決めさせることができる。よって、本発明のレンズ鏡胴によれば、レンズ枠内に複数のレンズを収容させるときに、両者が擦れて削れカスが発生することが回避される。このため、削れカスに起因して光学性能が悪化することが防止される。
また、本発明のレンズ鏡胴は、レンズ枠の内面に、溝の反対側にて凹部間に挟まれ、レンズと接して支持することにより、レンズを位置決めする支持部を有することが好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成24年10月3日(2012.10.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料に含まれる試料成分を時間方向に分離するクロマトグラフ部と、試料成分由来のイオンに対する解離操作を伴うMS2分析と解離操作を伴わないMS分析とを選択的に実施可能な質量分析部と、を組み合わせたクロマトグラフ質量分析装置において、
a)MS分析により得られるMSスペクトルに基づいてMS2分析のプリカーサイオンを選択するための選択条件をユーザが入力設定するための手段であって、該選択条件の一つとして、任意のプリカーサイオンに対するMS2分析が実行された後にプリカーサイオンの選択から除外する質量電荷比範囲を定めるべく、実行されたMS2分析のプリカーサイオンの質量電荷比に対する質量電荷比の差を規定する情報を入力設定する選択条件設定手段と、
b)MSスペクトルを取得するためのMS分析と後記プリカーサ選択手段により指示されたプリカーサイオンに対するMS2分析とが繰り返し実行されるように前記質量分析部を制御する分析制御手段と、
c)MS分析により取得されたMSスペクトルについて前記選択条件設定手段により設定された選択条件に従ってプリカーサイオンを抽出して前記分析制御手段に指示する手段であって、該選択条件に適合したイオンをプリカーサイオンに設定したMS2分析を所定回数繰り返して実行した後に、該プリカーサイオンの質量電荷比に対して前記選択条件設定手段により設定されている質量電荷比差で定まる除外質量電荷比範囲をプリカーサイオンの選択から所定時間除外するプリカーサ選択手段と、
を備えることを特徴とするクロマトグラフ質量分析装置。
【手続補正書】
【提出日】平成24年8月15日(2012.8.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
自動変速機の油圧機構に制御圧を供給するレギュレータバルブが配置されたレギュレータバルブボディと、
該レギュレータバルブボディに近接して配置され、前記レギュレータバルブにパイロット圧を供給するソレノイドバルブが配置されたソレノイドバルブボディと、
該ソレノイドバルブボディに形成され、前記レギュレータバルブからの作動油を排出する排出油路と、
該排出油路の作動油の温度を検出する油温検出部とを備え、
前記レギュレータバルブボディの上方に前記ソレノイドバルブボディを配置し、前記排出油路に油溜り部を設け、該油溜り部に貯留する作動油の温度を前記油温検出部が検出することを特徴とするコントロールバルブユニット。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、本発明のコントロールバルブユニットにおいて、前記レギュレータバルブボディの上方に前記ソレノイドバルブボディを配置し、前記排出油路に油溜り部を設け、該油溜り部に貯留する作動油の温度を前記油温検出部が検出する。
【手続補正書】
【提出日】平成24年4月16日(2012.4.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
しかしながら、一々、バケット型手動運搬具とスコップの両方を準備して、状況に応じて持ち替えることは厄介なことであり、また、作業性も低下させるものであった。
【手続補正書】
【提出日】平成24年10月11日(2012.10.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
雄ロータと、雌ロータと、前記雄ロータと前記雌ロータを同期駆動するためのタイミングギアとを有し、吸入側から吸込まれたガスを圧縮する圧縮機本体と、
前記圧縮機本体の吸入側に設けられ吸入ガス量を制御するオンオフ式制御弁と、
前記圧縮機本体の吐出側に設けられ前記圧縮機本体から吐出される圧縮ガスの圧力を検出する吐出圧力検出手段と、前記圧縮機本体に隣り合って配置され、前記オンオフ式制御弁を前記吐出圧力検出手段が検出した吐出圧力に応じて制御する制御装置と、を備えたスクリュー圧縮機において、
全負荷運転と無負荷運転を切り替える上限圧力設定値および下限圧力設定値を、全負荷運転と無負荷運転の双方を含む１サイクルの時間内における全負荷運転の割合に基づいて前記制御装置が変更するために、全負荷運転及び無負荷運転のそれぞれのサイクル時間を検出する検出手段を前記制御装置に設けたことを特徴とするスクリュー圧縮機。
【請求項２】
スクリュー圧縮機に接続される負荷側の圧力を検出する末端圧力検出手段を設け、前記末端圧力検出手段が検出した圧力に基づいて前記制御装置が前記オンオフ式制御弁を制御することを特徴とする請求項１に記載のスクリュー圧縮機。
【請求項３】
前記制御装置にスクリュー圧縮機の運転条件および運転状態を表示する表示器を設け、前記表示器は表示ボタンを有し、表示ボタンが押されると前記表示器は表示内容を運転条件からテンキーに切り替えるものであることを特徴とする請求項１または２に記載のスクリュー圧縮機。
【請求項４】
吸入側にオンオフ式制御弁を、吐出側に吐出圧力検出手段を、それぞれ有するスクリュー圧縮機に設けられ、前記オンオフ式制御弁を前記吐出圧力検出手段が検出した吐出圧力に応じて制御する制御装置において、
全負荷運転と無負荷運転を切り替える上限圧力設定値および下限圧力設定値を、全負荷運転と無負荷運転の双方を含む１サイクルの時間内における全負荷運転の割合に基づいて前記制御装置が変更するために、全負荷運転及び無負荷運転のそれぞれのサイクル時間を検出する検出手段を設けたことを特徴とするスクリュー圧縮機の制御装置。
【請求項５】
スクリュー圧縮機の運転条件および運転状態を表示する表示器を有し、前記表示器は表示ボタンを備え、前記表示ボタンが押されると前記表示器は表示内容を運転条件からテンキーに切り替えるものであることを特徴とする請求項４に記載のスクリュー圧縮機の制御装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記目的を達成するための本発明の特徴は、雄ロータと、雌ロータと、前記雄ロータと前記雌ロータを同期駆動するためのタイミングギアとを有し、吸入側から吸込まれたガスを圧縮する圧縮機本体と、前記圧縮機本体の吸入側に設けられ吸入ガス量を制御するオンオフ式制御弁と、前記圧縮機本体の吐出側に設けられ前記圧縮機本体から吐出される圧縮ガスの圧力を検出する吐出圧力検出手段と、前記圧縮機本体に隣り合って配置され、前記オンオフ式制御弁を前記吐出圧力検出手段が検出した吐出圧力に応じて制御する制御装置と、を備えたスクリュー圧縮機において、全負荷運転と無負荷運転を切り替える上限圧力設定値および下限圧力設定値を、全負荷運転と無負荷運転の双方を含む１サイクルの時間内における全負荷運転の割合に基づいて前記制御装置が変更するために、全負荷運転及び無負荷運転のそれぞれのサイクル時間を検出する検出手段を前記制御装置に設けたことにある。