【事件の表示】
　特願２００２−７００３８「シリカ混合研磨分散液」拒絶査定不服審判事件〔平成１５年９月２５日出願公開、特開２００３−２６８３５３〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　この出願は、平成１４年３月１４日の出願であって、平成１９年５月１４日付けで拒絶理由が通知され、同年７月１３日に意見書及び手続補正書が提出され、同年１１月２１日に拒絶査定がされ、これに対し、同年１２月２６日に拒絶査定に対する審判が請求され、平成２０年４月１７日に請求書についての手続補正書が提出されたものである。
　そして、本審判事件について当審が審理の上、平成２１年１２月９日付けで審理終結通知をしたところ、同月２５日付けで、請求人から審理再開申立書が提出された。
　
第２　本願発明
　この出願の発明は、平成１９年７月１３日の手続補正により補正された明細書（以下、「本願明細書」という。）の特許請求の範囲に記載されたとおりのものであって、その請求項１に係る発明（以下、「本願発明１」という。）は、以下のとおりのものである。
「ヒュームドシリカ０．０１〜３０ｗｔ％とコロイダルシリカ０．０１〜３０ｗｔ％とを共に含有したシリカ混合研磨分散液において、前記分散液を塩基性物質を含有する水中に添加し、３０μｍ以下の孔径のフィルターを通過させるようにしたシリカ混合研磨分散液。」
　
第３　原査定の拒絶の理由
　原査定は、「この出願については、平成１９年　５月１４日付け拒絶理由通知書に記載した理由２によって、拒絶をすべきものです。」というものであって、その「理由２」は、「この出願の下記の請求項に係る発明は、その出願前に日本国内又は外国において、頒布された下記の刊行物に記載された発明…に基いて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。」というものである。
　その「請求項に係る発明」及び「下記の刊行物」とは、「請求項１〜４」、及び、
「１.特開２０００−３４５１４４号公報
２.特開２００１−３３８９００号公報
３.特開２００１−３４２４５５号公報
４.特開２０００−８０３５０号公報
５.国際公開第０１／０３２７９３号」
である。
　そして、その「備考」に、「引用例１、引用例２（…）、引用例３、引用例４（…）、引用例５には、ヒュームドシリカとコロイダルシリカを含有する研磨用組成物が記載されている。…また、粗大粒子を除去する等のためにフィルターを通過させることは、当業者が適宜なし得る事項にすぎない。
　そして、本願発明は、従来技術に比べ格別優れたものとはいえない。」
と記載されている。
　なお、本願発明１は、上記請求項３のうちの請求項１を引用する発明に相当する。
　
第４　当審の判断
　当審は、本願発明１は、引用例１である特開２０００−３４５１４４号公報に記載された発明に基づいてその出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者（当業者）が容易に発明をすることができたものであるから特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない、と判断する。
　以下、詳述する。
　
１　引用例１に記載された事項　
　　引用例１（特開２０００−３４５１４４号公報）には、以下の事項が記載されている。
1a「【特許請求の範囲】
【請求項１】  水、ヒュームドシリカおよびヒュームドシリカを除く平均一次粒子径が４０〜６００ｎｍの球状シリカを含んでなることを特徴とする研磨剤。」
1b「【０００７】
【発明の実施の形態】本発明におけるヒュームドシリカは特に制限されず、公知のものを用いることができる。一般には、平均一次粒子径（以下、一次粒子径とも略記する）が７〜７０ｎｍ（比表面積が４００〜４０ｍ２／ｇ）のヒュームドシリカが入手可能であり、本発明に用いることができる。特に一次粒子径が９〜６０ｎｍ（比表面積が３００〜４５ｍ２／ｇ）のヒュームドシリカは、優れた研磨効果を発現するために好適である。」
1c「【００１０】本発明における他の成分は、ヒュームドシリカを除く平均一次粒子径が４０〜６００ｎｍの球状シリカであれば公知のものを制限なく用いることができる。研磨剤の研磨速度の向上効果を勘案すると、球状シリカの一次粒子径は６０〜３００ｎｍ、さらに９０〜２００ｎｍであることが好ましい。」
1d「【００２８】本発明において特に研磨速度の向上効果が高いのは、層間絶縁膜（ＳｉＯ２膜）を研磨する場合である。この場合にはアンモニアやＫＯＨ等のアルカリ剤を用いて研磨剤のｐＨを１０〜１１．５の範囲に調整することが好ましい。この場合、研磨剤中の全シリカの濃度は５〜１５重量％の範囲が好適であるが、本発明の研磨剤は従来の研磨剤に比べて研磨速度が高いため、より低いシリカ濃度で従来品と同等の研磨速度を達成できるという特徴を有する。また、２０〜４０重量％の高濃度の研磨剤を調製し、２〜８倍に希釈して使用することも可能なため、本発明は研磨剤のコスト削減、物流費の削減、研磨後の廃棄物の削減等においても顕著な効果がある。」
1e「【００３３】
【実施例】…
（球状コロイダルシリカの合成例）内容積約４リットルのジャケット付き反応器にメタノールおよびアンモニア水（２５重量％）をそれぞれ１８００ｇおよび２００ｇ仕込み、よく混合して反応液を調製した。次に、反応液の温度を２０℃に保ちつつ、１８０ｒｐｍの回転数で攪拌しながらメチルシリケート（Ｓｉ（ＯＣＨ３）４）を２．５ｇ／ｍｉｎの速度で、アンモニア水（１２重量％）を１．４ｇ／ｍｉｎの速度で、それぞれ別々に反応液中に液中同時滴下した。メチルシリケートの滴下を開始してから約１０分後に徐々に反応液が白濁し始め、シリカ粒子が生成していることがわかった。滴下開始から８時間後に滴下を終了したが、合計でメチルシリケートを１２００ｇ、アンモニア水を６６０ｇ滴下した。さらに１時間攪拌を続けた後、系内の懸濁液を取り出した。取り出した懸濁液は均一な乳白色スラリーで、その重量は約３８００ｇで、シリカ粒子を約４６０ｇ含んでいた。
【００３４】上記で合成したシリカスラリーは、…メタノールとアンモニアを除去した。純水を加えながらさらに蒸留を続け…シリカ濃度が１５重量％になるように調整した。なお、上記のシリカスラリーのｐＨは７．３であった。
【００３５】上記シリカ粒子の電子顕微鏡像を画像解析装置を用いて解析した結果、平均一次粒子径は１３９ｎｍ、一次粒子径の変動係数は１９％、シリカ粒子の外接円に対する内接円の直径の比は０．７８であった。…」
1f「実施例１及び２
比表面積が９０ｍ２/ｇ（一次粒子径は３０ｎｍ）のヒュームドシリカと球状シリカとして上記合成例による球状コロイダルシリカを所定量混合し、さらにアンモニア（実施例１）またはＫＯＨ（実施例２）を所定量添加して、全シリカ量が１３重量％になるように純水で希釈して原料スラリーを調製した。上記の原料スラリーを高せん断性の分散機（高圧ホモジナイザー；ナノマイザー製ナノマイザー、ＬＡ−３１）を用いて研磨剤を調製した。上記研磨剤を用いて層間絶縁膜に対する研磨性能を評価した。」
1g　表１
　
表２
　
1h　
　
　
２　引用例１に記載された発明
　引用例１は、「水、ヒュームドシリカおよびヒュームドシリカを除く平均一次粒子径が４０〜６００ｎｍの球状シリカを含んでなることを特徴とする研磨剤」（摘示1a）に関し記載するものであって、その「平均一次粒子径が４０〜６００ｎｍの球状シリカ」としては、具体例である実施例１，２における上記研磨剤は、「（球状コロイダルシリカの合成例）」（摘示1e）により合成された、「平均一次粒子径は１３９ｎｍ」の球状コロイダルシリカが用いられている。その実施例１，２の研磨剤は、「比表面積が９０ｍ２/ｇ（一次粒子径は３０ｎｍ）のヒュームドシリカ」に上記コロイダルシリカを、全シリカに対し０〜１００（摘示1gの表１，２参照。なお、この０〜１００の単位は、この研磨剤による研磨速度の結果を示す図１，２（摘示1h）の横軸の記載からみて、重量％であると認められる。）混合し、アンモニア又はＫＯＨを所定量添加したものを、全シリカ量が１３重量％になるように純水で希釈して分散して調整した、研磨剤の水分散液であることが記載されている（摘示1f)。
　この実施例１，２に記載された研磨剤スラリーを、本願発明１の表現ぶりにあわせて記載すると、「ヒュームドシリカと全シリカに対し０〜１００重量％のコロイダルシリカと、全シリカを１３重量％及びアンモニア又はＫＯＨ、水を含有したシリカ混合研磨分散液」ということができ、そのうち両者のシリカを共に含む組成物は、コロイダルシリカが全シリカの５〜７０重量％のものである。それらの組成物のシリカの配合割合を、１３重量％の分散液における値に換算すると、コロイダルシリカ０．６５〜９．１重量％となり、ヒュームドシリカ１２．３５〜３．９重量％となる。
　そうすると、引用例１には、
「ヒュームドシリカ１２．３５〜３．９重量％とコロイダルシリカ０．６５〜９．１重量％及びアンモニア又はＫＯＨ、水とを含有したシリカ混合研磨分散液」
の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されているということができる。
　
３　本願発明１と引用発明との対比
　本願発明１と引用発明とを対比すると、引用発明における「ヒュームドシリカ１２．３５〜３．９重量％とコロイダルシリカ０．６５〜９．１重量％」は、本願発明１における「ヒュームドシリカ０．０１〜３０ｗｔ％とコロイダルシリカ０．０１〜３０ｗｔ％」に包含され、引用発明の「アンモニア又はＫＯＨ」は、本願発明１における「塩基性物質」に相当するから、両者は、
「ヒュームドシリカ０．０１〜３０ｗｔ％とコロイダルシリカ０．０１〜３０ｗｔ％とを共に含有し、塩基性物質を添加したシリカ混合研磨分散液」
である点において一致し、以下の点において相違する。
Ａ　本願発明１は、「前記分散液を塩基性物質を含有する水中に添加し、３０μｍ以下の孔径のフィルターを通過させるようにした」ものであるのに対し、引用発明においては、そのようにしたものであるかは明らかではない点
（以下、「相違点Ａ」という。）
　
４　相違点Ａについての判断
（１）引用発明は、ヒュームドシリカとコロイダルシリカとアンモニアやＫＯＨ等の塩基性物質を含有する水分散液（摘示1f）であるシリカ混合研磨分散液という点で本願発明１と同じであり、本願明細書の記載をみても、特に、本願発明１において「前記分散液を塩基性物質を含有する水中に添加する」方法とする点に特段の意義も認められないから、引用発明における水分散液とするための方法を、「前記分散液を塩基性物質を含有する水中に添加する」方法とすることは、当業者が適宜なし得る設計事項であると認められる。
　また、「３０μｍ以下の孔径のフィルターを通過させるようにした」ことについて、本願明細書には、以下の記載があるだけである。
「また、前記分散液を塩基性物質を含有する水中に添加し、３０μｍ以下の孔径のフィルターを通過させるようにしたことで、分散液中の粗大粒子が除去できるという利点がある。ここで、２０μｍ以下の孔径のフィルターを通過させるようにすると更に分散液中の粗大粒子が除去できるという利点があり、１０μｍ以下の孔径のフィルターを通過させるようにするとより粗大粒子が除去できるという利点がある。」（段落【０００８】）
　すなわち、本願明細書には、分散液を特定孔径のフィルターを通過させることにより、「（分散液中の）粗大粒子が除去できるという利点がある」と記載されているのみである。
　そして、研磨分散液において３０μｍ以下の孔径のフィルターを通過させて粗大粒子を除去することは、その出願前周知慣用の技術［必要ならば、原査定で引用された、特開平３−６０４２０号公報（３頁左下欄）、特開２００２−１２８５４号公報（段落【００２６】）等を参照］である。
　そうすると、引用発明の研磨分散液において、粗大粒子を除去するために周知慣用技術である孔径３０μｍ以下の孔径のフィルターを通過させることは、当業者が適宜採用し得る設計事項であるといえる。
　そして、本願明細書をみても、そのことによる効果が予測の域を超える格別顕著なものであると認めるに足るものはない。
　
（２）請求人の主張について
ア　請求人は、平成２０年４月１７日に請求書についての手続補正書において、以下のとおりの主張をする。
　
　「３０μｍ以下のフィルター」による処理は、調製時凝集体の単なるフィルター濾過だけでなく、将来の凝集体の種になる凝集核を除去して、スラリーの安定性を向上させ、粒子系増加率を抑えるという技術的意義を有する。
　この技術的意義に関し、対比実験を行い、その結果を平成１９年７月１３日付意見書において、参考図１に示した。
　本願明細書はその全体に亘って、凝集によるスクラッチの発生など、長期の分散安定性を課題としており、分散液調整時のフィルター濾過による単純な保有粒子径の大きさを問題とするものではない。「分散液中の粗大粒子が除去できる」ことで、凝集による粗大粒子の成長をさらに抑制し、もって本願課題であるスラリーの分散安定性を達成することは明確に理解される。
　しかるに、拒絶査定中の周知技術として挙げられた「研磨分散液を孔径３０μ以下のフィルターを通して粗大粒子を除去する」旨の文献記載は、いずれも本願発明１のように“粒子径の変化率を抑える”ものではないという点で、本願発明１と技術的意義が相違する。このため、これらフィルター通過の記載をもって本願発明１に容易に想到することはできない。
　引用例１のものは「長期保存時の凝集核の除去」及びこれによる「分散安定性」という技術的意義を有さず、また、引用例１には、その示唆もされていない。
　本願発明１は、３０μｍ以下のフィルター処理を行うことで、分散液中の粗大粒子が除去でき、調整後の使用において粒子成長が好適に抑えられ、これによりこの出願の課題である「シリカの分散安定性」を解決することができる。
　
イ　上記請求人の主張は、『「３０μｍ以下のフィルター」による処理は、調製時凝集体の単なるフィルター濾過だけでなく、将来の凝集体の種になる凝集核を除去して、スラリーの安定性を向上させ、粒子系増加率を抑えるという技術的意義を有する』ことを前提とするものである。
　そこで、この『「３０μｍ以下のフィルター」による処理は、調製時凝集体の単なるフィルター濾過だけでなく、将来の凝集体の種になる凝集核を除去して、スラリーの安定性を向上させ、粒子系増加率を抑えるという技術的意義を有する』ことについて、さらに、「スラリーの安定性」についての本願明細書の記載を検討する。
　本願明細書には、【発明が解決しようとする課題】として、
「研磨レートとシリカの分散安定性とを両立させることができるシリカ系研磨分散液を提供しようとするもの」（段落【０００５】）と記載され、
「前記課題を解決するためこの発明では次のような技術的手段を講じている。
（１）この発明のシリカ混合研磨分散液は、ヒュームドシリカ０．０１〜３０ｗｔ％とコロイダルシリカ０．０１〜３０ｗｔ％とを共に含有したシリカ混合研磨分散液において、前記分散液を塩基性物質を含有する水中に添加し、３０μｍ以下の孔径のフィルターを通過させるようにしたことを特徴とする。」（段落【０００６】）と記載されている。
　そして、「シリカの分散安定性」について、
「ヒュームドシリカ粒子はゼータ電位が低く粒子相互間の反発力が弱い性質がある。一方、コロイダルシリカ粒子はゼータ電位が高く粒子相互間の反発力が強い性質がある。ここでヒュームドシリカ粒子相互間にコロイダルシリカ粒子が混在すると、ヒュームドシリカ粒子はゼータ電位が高いコロイダルシリカ粒子との反発力によって凝集し難くなる。
　すなわち、ヒュームドシリカを０．０１〜３０ｗｔ％とコロイダルシリカを０．０１〜３０ｗｔ％とを共に含有せしめることにより、図１の「ヒュームドシリカ粒子とコロイダルシリカ粒子のシリカ混合研磨分散液の混合比率とゼータ電位との関係」のグラフに示すように、分散液の系全体としてのゼータ電位がヒュームドシリカ単独の場合（グラフの左端のColloidal Silica Concentration(%)が「０％」の点）よりも絶対値として上昇し、シリカ粒子間の反発力が増大する。…
　また、前記分散液を塩基性物質を含有する水中に添加し、３０μｍ以下の孔径のフィルターを通過させるようにしたことで、分散液中の粗大粒子が除去できるという利点がある。ここで、２０μｍ以下の孔径のフィルターを通過させるようにすると更に分散液中の粗大粒子が除去できるという利点があり、１０μｍ以下の孔径のフィルターを通過させるようにするとより粗大粒子が除去できるという利点がある。」（段落【０００７】〜【０００８】）と記載されている。
　さらに、「シリカの分散安定性」について、
「（２）上記シリカ混合研磨分散液において、…としてもよい。このように構成すると、分散液が240時間の振盪試験でメジアン粒子径の成長率が5%以下という優れた分散安定性を有することとなる。」（段落【０００９】）と「振盪試験」により測定・評価されることが記載され、その「振盪試験」による測定・評価とは、
「５０ｍｌの遠沈管にスラリーを２０ｍｌ入れ、縦型振盪機にセットし、振盪速度が３１０ｓｐｍ、振盪ストロークが４０ｍｍで試験を開始する。そして、２４０時間経過後に遠沈管を取り外し、分散液のメジアン粒子径を測定して振盪前と比較するものである。」（段落【００１０】）と記載されている。
　本願明細書におけるこれらの記載によれば、この出願の発明に係る「分散安定性」が良いとは、２４０時間の振盪試験におけるシリカ混合研磨分散液のメジアン粒子径の成長率が、ヒュームドシリカ単独のシリカ研磨分散液における成長率より低いことをいうと認められ、この効果は、「ヒュームドシリカを約0.01〜30wt%とコロイダルシリカを約0.01〜30wt%とを
共に含有する
単独の場合
　そして、本願明細書には実施例として、「ヒュームドシリカ粒子（比表面積82平方m/g）を用い、このヒュームドシリカパウダーを水に分散させＤＩwaterとアンモニアとで調整し、そのスラリー（13wt%, pH10.5）を製作した。」（段落【００１４】）という、ヒュームドシリカスラリーと、「コロイダルシリカ粒子（粒子径70nm）を用い、このコロイダルシリカパウダーを水に分散させＤＩwaterとアンモニアとで調整し、そのスラリー（13wt%,pH10.5）を作製した。」（段落【００１５】）という、コロイダルシリカスラリーとを混合撹拌して作成した３種類のシリカ混合研磨分散液（混合後のヒュームドシリカ濃度は、それぞれ、12.48wt%、30wt%、50wt%）、及び、比較用の「ヒュームドシリカ粒子（比表面積82平方m/g）のみを用いたシリカ研磨分散液（13wt%, pH10.5）」（段落【００２０】）の各スラリー試料について、凝集に対する安定性を振盪試験によって評価したことが記載されている。振盪試験の結果が図２のグラフに示され、そこには、コロイダルシリカ粒子の混合比率が３０ｗｔ％以上のスラリー試料は、２４０時間の振盪試験においてもメジアン粒子径の成長率が５％未満であることが示され、「ヒュームドシリカスラリーとコロイダルシリカスラリーを
混合することにより
　そうすると、本願明細書の実施例の記載によれば、上記「ヒュームドシリカとコロイダルシリカとのシリカ混合研磨分散液」において、２４０時間の振盪試験におけるメジアン粒子径の成長率は、コロイダルシリカ粒子の混合比率が大きいと高まること、良好な分散安定性（上記成長率が５%未満）は、上記「ヒュームドシリカとコロイダルシリカとのシリカ混合研磨分散液」において、「コロイダルシリカ粒子の混合比率が30wt%以上」とすることによりもたらされるものであることが認められる。なお、これらの実施例において用いられた「ヒュームドシリカとコロイダルシリカとのシリカ混合研磨分散液」が、フィルタ処理したものであるのか、いかなる孔径のフィルタによって処理したものであるか等フィルタ処理については、触れるところはない。
　以上によれば、本願明細書には、この出願の発明に係る研磨分散液の上記分散安定性には、分散液の系全体としてのゼータ電位が影響すること、ヒュームドシリカとコロイダルシリカの混合比率が影響すること、が示されているとしても、上記分散安定性に、将来の凝集体の種になる凝集核の存在が影響すること、さらに、その凝集核の大きさが影響すること、さらに加えて、凝集核のうち３０μｍを超える大きさの核の存在が影響すること、について何ら記載も示唆もされてはいないといえる。
　そうすると、上記請求人の主張する、『「３０μｍ以下のフィルター」による処理は、調製時凝集体の単なるフィルター濾過だけでなく、将来の凝集体の種になる凝集核を除去して、スラリーの安定性を向上させ、粒子系増加率を抑えるという技術的意義を有する』ことは、本願明細書に記載ないし示唆されていることとはいえない。
　
ウ　確かに、平成１９年７月１３日提出の意見書添付の確認的試験の結果（参考図１）には、請求人がいうとおり「４０μｍのフィルター処理をしたものは、試験日数４日後で粒子径増加率が１５０％近くになり、１０日後（審決注：２４０時間後）には２６０％を大きく超えることとなる」のに対し、「３０μｍのフィルター処理をしたものは、シェーカー試験日数４日後の粒子径増加率が１１０〜１２０％程度であり、１０日後でも粒子径増加率が１３０％未満であった。」ことが示されているといえる（ただし、この試験が、具体的にいかなる試料を用いてなされたものかは明らかではない。）。
　しかし、このことは、上記意見書において初めて示されたことであって、本願明細書に記載ないし示唆されていることとはいえない。
　
エ　本願明細書に『「３０μｍ以下のフィルター」による処理は、調製時凝集体の単なるフィルター濾過だけでなく、将来の凝集体の種になる凝集核を除去して、スラリーの安定性を向上させ、粒子系増加率を抑えるという技術的意義を有する』ことが記載ないし示唆されているとはいえないことは上記イのとおりであり、このような出願に当たり開示していない技術的事項を根拠に、本願発明１の特許性（進歩性）を主張することは許されるものではない。すなわち、このような出願に当たり開示していない技術的事項を後に明らかにして、その技術的事項を根拠に、出願発明の特許性（進歩性）を主張することが許されることになれば、出願時を基準時として、出願発明につき公開の対価として特許という独占権を与える特許制度の目的に反する結果となることが明らかであるからである（平成１３年（行ケ）４２４号判決参照）。
　したがって、出願に当たり開示していない技術的事項である、『「３０μｍ以下のフィルター」による処理は、調製時凝集体の単なるフィルター濾過だけでなく、将来の凝集体の種になる凝集核を除去して、スラリーの安定性を向上させ、粒子系増加率を抑えるという技術的意義を有する』ことを前提とする請求人の上記主張は、採用することはできない。
　
５　まとめ
　以上のとおり、本願発明１は、引用例１に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができない。
　　
第５　審理再開申立について
１　審理再開申立
　当審が本審判事件について審理の上平成２１年１２月９日付けで審理終結通知をしたところ、同月２５日付けで請求人から審理再開申立書が提出された。
　請求人は、この審理再開申立書の「〔１〕重大な証拠資料の提出とその技術的説明」の項において、「前記審理終結通知と入れ違いに証拠資料が揃い」として、凝集性に関する補充試験結果を提出するとともに、
（１）　凝集性に関する補充試験結果の技術的説明
（２）　本願発明の使用環境に関する補充説明
（３）　ゼータ電位の上昇に関する技術説明
（４）　引用発明との相違認定に関する判示と対比説明
の各説明を行っている。
　さらに、「〔２〕補正の余地の検討結果」の項において「補正による新たな発明特定事項の追加の余地を検討している」として、
 イ「半導体製造工程で半導体ウエハーの研磨スラリーとして使用されるシリカ混合研磨分散液」 
 ロ「半導体ウエハーの研磨スラリー用として４日以上の２４０時間の振蕩試験における分散安定性を必要とする」 
 ハ「振蕩日数４日経過後にメジアン粒子径成長率が１０５％未満である」 
の事項を挙げ、「〔３〕面談による技術説明」の項において「改めて面談による技術的説明を希望する」、とし、「〔４〕」の項において「上記のとおり、重大な証拠資料の提出とその技術的説明並びに補正の余地の検討結果の提示、あるいは面談による技術説明を準備しており、本審判事件については審理再開の適切な理由がある」としている。 
　
２　審理再開申立の理由の検討
 〔１〕重大な証拠資料の提出とその技術的説明について
（１）凝集性に関する補充試験結果の技術的説明について
　凝集性に関する補充試験結果として「参考図Ａ」及び「参考図Ｂ」が提示された。
　これらの試験結果は、平成１９年７月１３日提出の意見書添付の確認的試験の結果（参考図１）が『フィルター孔径を３０μｍ、４０μｍでのみ比較したものであったため、構成要件Ｂ（審決注：本願発明１の「前記分散液を塩基性物質を含有する水中に添加し、３０μｍ以下の孔径のフィルターを通過させるようにした」の要件）による「長期保存時の凝集核の除去」「分散安定性」がフィルター孔径の臨海的意義と結び付きにくい証拠資料となっていた。』（審決注：「臨海」は「臨界」の誤記と認められる。以下、書き換えて記載する。）というとおり、「フィルター孔径の臨界的意義」を裏付けるためのものと認められる。
　しかしながら、上記第４　４（２）で示したとおり、「長期保存時の凝集核の除去」や「分散安定性」における「フィルター孔径の臨界的意義」については、出願に当たり本願明細書に開示されていない技術的事項であって、その技術的事項を根拠に、出願発明の特許性（進歩性）を主張することは許されないものである。
　したがって、これらの結果及びその説明によっては、上記第４　５の結論は影響を受けないから、本件審決の結論も影響を受けない。
　
（２）本願発明の使用環境に関する補充説明について
　シェーカー（振盪）試験は、「半導体製造工程で半導体ウエハーの研磨スラリーとして使用される」シリカ混合研磨分散液に「特有の過酷な使用環境、保存環境を再現するもの」であり、この振盪試験で「３０μｍ付近に凝集性の大きな臨界的意義を有する」旨主張する。
　しかし、「半導体製造工程で半導体ウエハーの研磨スラリーとして使用される」シリカ研磨分散液は、保管、運送されるものであって、請求人のいう「特有の過酷な使用環境、保存環境」にあること及び凝集等により粗大粒子を生成しやすいことはその出願前に周知のこと（例えば、特開平２−２５７６２７号公報等を参照）であり、上記用途におけるシリカ研磨分散液の分散安定性をみるためには、上記状況を再現した試験をすることは当然のことである。そして、そのような再現試験における「３０μｍ付近に凝集性の大きな臨界的意義を有する」点は、上記のとおり、出願に当たり本願明細書に開示されていない技術的事項であって、その技術的事項を根拠に、出願発明の特許性（進歩性）を主張することは許されないものである。
　したがって、これらの結果及びその説明によっては、上記第４　５の結論は影響を受けないから、本件審決の結論も影響を受けない。
　
（３）ゼータ電位の上昇に関する技術説明について
　この説明は、『本願発明の構成要件Ｅ「分散液の系全体としてのゼータ電位が絶対値として３４．０ｍＶ以上」に関し、』と請求項３に係る発明についてのものである。
　本件審決は、本願発明１（請求項１に係る発明）が特許を受けることができるものではないから、この出願は拒絶すべきものである、と判断するものであるから、請求項３に係る発明の特定事項である構成要件Ｅについての説明によっては、本件審決の結論は影響を受けない。
　
（４）引用発明との相違認定に関する判示と対比説明について
　『本願構成要件Ｂのフィルター処理は、引用発明に示される単なる濾過フィルタとしての粗大粒子径の除去ではなく、「振蕩を繰り返す過酷な使用条件下でも凝集核の増加を抑え長期保存時の分散安定性に優れる品質を保つことができる」という、従来にない特有の技術的意義を示すものである。』ことを前提に、（周知技術においては）「本願発明に言うフィルター処理の技術的意義は示唆されていない。よって当業者にとって、上記公報記載の発明に基づいて、本願発明構成要件Ｂにいう「前記分散液を塩基性物質を含有する水中に添加」したのちの「３０μｍ以下の孔径の」フィルター処理を適用することはできない。』とし、「課題に共通性のない引用発明に基づく容易想到性が否定された旨が判示されている」判例資料の提示を検討しており、「上記判例資料は、本願の特許性（構成要件Ｂ、Ｅに関する進歩性の判断）に拘わる重大な証拠資料に関するものである」と主張する。
　しかし、その主張の前提である『「振蕩を繰り返す過酷な使用条件下でも凝集核の増加を抑え長期保存時の分散安定性に優れる品質を保つことができる」という、従来にない特有の技術的意義』は、上記のとおり、それを根拠に、出願発明の特許性（進歩性）を主張することは許されないものである。
　したがって、この主張によっては、本件審決の結論は影響を受けない。
　
（５）まとめ
　以上のとおり、（１）ないし（４）の説明ないし主張によっては、本件審決の結論は影響を受けない。
　
〔２〕補正の余地の検討結果について
　「補正による新たな発明特定事項の追加の余地を検討している」として「発明特定事項」イないしハが提示された。これが補正案の提示であってその補正案の検討を求める趣旨であるかは不明であるが、仮に補正案の検討を求める趣旨であるとすると、その求めは補正を補正可能期間に限って認めることとした特許法の定める補正制度と相容れないものであるから、補正案の提示及びその補正案の検討の求めを根拠に、審理を再開することはできない。
　さらに、「発明特定事項」イないしハが、この出願に係る請求項１ないし４に係るいずれの発明を特定するものであるのか明らかではなく、補正案としての体もなしていない。
　加えて、仮に、これらがそれぞれ本願発明１を特定する事項であると解しても、下記のとおり、補正後の発明はいずれも特許を受けることができないものである。
　よって、仮にこれらの補正案を採用したとしても、本件審決の結論は変わるものではない。
　
（１）イの特定事項について
　引用発明のシリカ研磨分散液も「半導体デバイスを研磨する」（請求項２）ものであって、半導体製造工程で半導体ウエハーの研磨するものといえる。
　そうすると、イの特定事項は、補正後の発明と引用発明との相違点とはならない。
　
（２）ロの特定事項、ハの特定事項について
　ロの特定事項の前段については、引用発明のシリカ研磨分散液も上記のとおり「半導体ウエハーの研磨スラリー」といえる。ロの特定事項の後段の「４日以上の２４０時間の振蕩試験における
分散安定性を必要とする
分散安定性を必要とする
　そうすると、ロ、ハの特定事項は、補正後の発明と引用発明との相違点とはならない。
　
（３）以上のとおり、 本願発明１をイないしハの事項によって特定した発明としても、それら補正後の発明と引用発明との相違点は、本願発明１と引用発明との相違点と同じであり、この相違点についての判断は上記第４　４で示したのと同じであるから、補正後の発明は、特許を受けることができないものである。
　よって、仮にこれらの補正案を採用したとしても、本件審決の結論は変わるものではない。
　
〔３〕面談による技術説明について
　「上記資料の提出ないしは技術的説明、補正案の提示に関し」、請求人は「改めて面談による技術的説明を希望」している。
　しかしながら、この面接において説明されるところの、「上記資料の提出ないしは技術的説明」、「補正案の提示」のいずれも、上記のとおり、本件審決の結論を左右するものではない。
　そうすると、上記面談をしたとしても本件審決の結論が変わることはないといえる。
　
〔４〕まとめ
　以上のとおり、〔１〕ないし〔３〕の理由はいずれも、本件審決の結論を左右するものではないから、請求人の審理再開の申立は採用することができない。
　
 第６　むすび
　以上のとおり、本願発明１は特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、その余の発明について検討するまでもなく、この出願は、拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。