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　特願２００１−２８６１３１「入力装置およびその製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１５年　４月　４日出願公開、特開２００３−　９９１８５〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は，平成１３年９月２０日の出願であって，平成１８年４月１０日付けの拒絶の理由の通知に対して，同年６月１５日付けで意見書及び手続補正書が提出されたが，同年１２月１４日付けで拒絶の査定をされ，これに対し，平成１９年１月１７日に拒絶査定不服審判の請求がなされるとともに，同年２月１５日付けで手続補正書が提出されたものである。
　　　　　　　　
２．平成１９年２月１５日付の手続補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　平成１９年２月１５日付の手続補正を却下する。
［理由］
（１）補正後の本願発明
　本件補正により，補正前の特許請求の範囲の請求項１は，補正後の請求項１として，
「静電容量の変化に基づいて座標位置を検出するために互いに直交して配置された複数のＸ電極層と複数のＹ電極層とが、検出基板（１０）に設けられた入力装置において、
　前記検出基板（１０）の一方の面に、前記Ｘ電極層と前記Ｙ電極層のうちの一方の電極層（ｘ）が形成され、複数の前記一方の電極層（ｘ）の表面に、絶縁性樹脂が塗布されて絶縁膜（１２）が形成されて、この絶縁膜（１２）の表面に、前記Ｘ電極層と前記Ｙ電極層のうちの他方の電極層（ｙ）が複数形成され、前記一方の電極層（ｘ）と前記他方の電極層（ｙ）とが前記絶縁膜（１２）を挟んで対向しており、
　前記検出基板（１０）の前記面には、複数の切り替え電極層（２２，２３，２４）が形成され、前記絶縁性樹脂の塗布工程で前記絶縁膜（１２）にスルーホール（ｈ）が形成されて、前記他方の電極層（ｙ）が前記スルーホール（ｈ）内で前記切り替え電極層（２２，２３，２４）と個別に接続されていることを特徴とする入力装置。」と補正された。
　
　上記補正のうち，本件補正前の請求項１に記載した発明を特定するために必要な事項である「一方の電極層（ｘ），他方の電極層（ｙ）及び絶縁膜（１２）」，「前記一方の電極層（ｘ）」及び「他方の電極層（ｙ）が形成され」について「前記一方の電極層（ｘ）と前記他方の電極層（ｙ）とが前記絶縁膜（１２）を挟んで対向しており」，「複数の」及び「複数」との限定を付加する補正並びに本件補正前の請求項１に記載した発明を特定するために必要な事項である「スルーホール（ｈ）を介して」について「前記スルーホール（ｈ）内で」と限定する補正は，特許法１７条の２第４項第２号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　また，上記補正のうち，「絶縁性樹脂が塗布されて形成された絶縁膜（１２）が形成されて」を「絶縁性樹脂が塗布されて絶縁膜（１２）が形成されて」に，「複数の切り替え電極層（２２，２３，２４）が形成されて」を「複数の切り替え電極層（２２，２３，２４）が形成され」に，及び「前記絶縁膜（１２）に形成されたスルーホール（ｈ）」を「前記絶縁膜（１２）にスルーホール（ｈ）が形成されて」にした補正は，特許法１７条の２第４項第３号の誤記の訂正を目的とするものに該当する。
　そこで，本件補正後の請求項１に記載された発明（以下「本願補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか）について以下に検討する。
　
（２）引用例の記載
　原査定の拒絶の理由に引用された特表平９−５１１０８６号公報（平成９年１１月４日国内公表。以下「引用例」という。）には，図面とともに次の事項が記載されている。
　
Ａ．「本発明は、キーパッドアレイ、デジタイジングタブレット、タッチ画面または電子マウスを構成でき、「接触感知」表面領域、以下タッチパッドという、に接触しまたはきわめて接近しているユーザの指または他の物体の位置を、多数の導体エレメントに対するその指の静電容量的効果によって決定する（以下キーストロークという）多入力近接検出器／タッチパッドシステムの構成、および、特に接触感知領域が比較的大きくなる場合の、キーパッドの感度の最適化に向けられている。この明細書中、「指」という表現は、タッチパッドで検出可能な静電容量的影響をもたらす任意の物体を含むものとする。」（第５頁第２２行目〜第６頁第１行目）
　
Ｂ．「本発明は、さらに、タッチパッドの有効面上の任意の点におけるユーザの指の検出を可能にし、この場合には、個々のキーパッドとして解釈されるタッチパッドの所定領域、または「箱」を割り当てるように電子走査メカニズムを配置することができる。
　このようなタッチパッドシステムにとって基本的に重要なのは、静電容量の通常の変動と比べたときの指の近接に対する装置の感度である。これは、前述したような故意の「キーストローク」を確実に表示し、そしてその指の位置を高い精度で決定するのを保証する。指の位置は、「箱」またはタッチパッドの所定領域が１組の可能な箱または所定領域から活性化されているディジタル表現でも、また、たとえば、ｘｙ座標による位置のアナログ表現でもよい。」（第６頁第１９行目〜同頁第２８行目）
　
Ｃ．「図１および図２ａを参照して、本発明の一実施態様によると、薄い誘電膜１０を備え、その上に、一端または両端が適当に接続された第１シリーズの平行な導体エレメント１２を形成する電気的導電材料のパターンが、一方の面上にスクリーン印刷法または類似の石版印刷法などの適当な技術により付着されている。薄い誘電膜１０の他方の面上には、同様の技術により、一端または両端が適当に接続されそして第１シリーズと直交するが電気的には接触していない第２シリーズの平行な導体エレメント１４を形成する電気的導電材料のパターンを備えている。したがって、第１および第２シリーズの導体エレメントは複数の交点２０を形成する。これら導体エレメント１２、１４に適した材料は、たとえば、銀をベースにした導電性インクである。タッチパッドが表示システムの前で使用されている場合に導体エレメントの可視性を低くする場合には、酸化インジウムが適当な材料である。」（第８頁第２３行目〜第９頁第６行目）
　
Ｄ．「また、導電性エレメントは別の方法で重ね合わせることもできる。たとえば、図２ｂでは、薄い誘電膜１０の上に第１シリーズの導体エレメント１２を付着し、その上に絶縁層１３を付着する。それから、その絶縁層の上に第２シリーズの導電性エレメント１４を付着する。したがって、絶縁層１３は第１および第２シリーズの導電性エレメントの間に膜構造を形成する。」（第９頁第１２行目〜同頁第１６行目）
　
Ｅ．「導体エレメント１２や導体エレメント１４に対する接続は、導体エレメント１２、１４と同様の方法で付着および／または限定された別の導電性エレメント３２、３４によってそれぞれなされる。タッチパッド走査システムへの接続はコネクタ３０により適当な接続システムを用いて行われる。」（第９頁第２４行目〜同頁第２７行目）
　
Ｆ．「必要なら、図４および図５に示すように誘電膜１０の適当な位置に穴３６を設けて導体エレメントを誘電膜１０の反対側の面のエレメントと電気的に接続することができる。このとき、前記穴３６は導電性材料で詰まっており、これを通して、たとえば導体エレメント１２が導体エレメント３２に接続されているため、コネクタ３０は誘電膜１０の一方の面との接触が要求されるのみである。」（第１１頁第２２行目〜同頁第２６行目）
　
　上記Ｅの記載及び図１を参照すると，複数の導体エレメント１２は，コネクタ３０に接続する複数の導体エレメント３２に個別に接続され，複数の導体エレメント１４は，コネクタ３０に接続する複数の導体エレメント３４に個別に接続されているといえる。
　
　以上の記載によれば，引用例には，次の発明（以下「引用発明」という。）が記載されている。
　
「静電容量の通常の変動と比べたときの指の近接に対する装置の感度によって，その指の位置をｘｙ座標による位置のアナログ表現で検出し，
　複数の導体エレメント１２及び複数の導体エレメント１２と直交する複数の導体エレメント１４を備え，
　誘電膜１０の上に複数の導体エレメント１２を付着し，その上に絶縁層１３を付着し，その絶縁層１３の上に複数の導電性エレメント１４を付着することにより，絶縁層１３は複数の導電性エレメント１２及び複数の導電性エレメント１４の間に膜構造を形成し，
　複数の導体エレメント１２は，コネクタ３０に接続する複数の導体エレメント３２に個別に接続され，
　複数の導体エレメント１４は，コネクタ３０に接続する複数の導体エレメント３４に個別に接続される，
タッチパッド。」
　
（３）対比
　本願補正発明と引用発明を対比する。
　引用発明の「誘電膜１０」，「導体エレメント１２」，「導体エレメント１４」，「絶縁層１３」及び「タッチパッド」は，本願補正発明の「検出基板（１０）」，「Ｘ電極層」，「Ｙ電極層」及び「絶縁膜（１２）」及び「入力装置」に相当する。
　引用発明において，静電容量の通常の変動と比べたときの指の近接に対する装置の感度によって，その指の位置をｘｙ座標による位置のアナログ表現で検出する構成は，本願補正発明の「静電容量の変化に基づいて座標位置を検出する」に相当する。また，複数の導体エレメント１２及び複数の導体エレメント１４は，誘電膜１０に設けられることは明らかである。
　引用発明において，誘電膜１０の上に複数の導体エレメント１２を付着し，その上に絶縁層１３を付着し，その絶縁層１３の上に複数の導電性エレメント１４を付着する構成は，本願補正発明の「前記検出基板（１０）の一方の面に、前記Ｘ電極層と前記Ｙ電極層のうちの一方の電極層（ｘ）が形成され、複数の前記一方の電極層（ｘ）の表面に絶縁膜（１２）が形成されて、この絶縁膜（１２）の表面に、前記Ｘ電極層と前記Ｙ電極層のうちの他方の電極層（ｙ）が複数形成され」る構成に相当する。また，引用発明において，導体エレメント１２及び導電性エレメント１４が絶縁層１３を挟んで対向しているのは明らかである。
　
　すると，本願補正発明と引用発明とは，次の点で一致する。
＜一致点＞
「静電容量の変化に基づいて座標位置を検出するために互いに直交して配置された複数のＸ電極層と複数のＹ電極層とが，検出基板（１０）に設けられた入力装置において，
　前記検出基板（１０）の一方の面に，前記Ｘ電極層と前記Ｙ電極層のうちの一方の電極層（ｘ）が形成され，複数の前記一方の電極層（ｘ）の表面に，絶縁膜（１２）が形成されて，この絶縁膜（１２）の表面に，前記Ｘ電極層と前記Ｙ電極層のうちの他方の電極層（ｙ）が複数形成され，前記一方の電極層（ｘ）と前記他方の電極層（ｙ）とが前記絶縁膜（１２）を挟んで対向している入力装置。」　
　
　一方，両者は次の点で相違する。
＜相違点１＞
　本願補正発明では，絶縁膜（１２）にスルーホール（ｈ）が形成され，検出基板（１０）の面には，複数の切り替え電極層（２２，２３，２４）が形成され，他方の電極層（ｙ）がスルーホール（ｈ）内で切り替え電極層（２２，２３，２４）と個別に接続されているのに対し，引用発明では，この点について記載がない点。
＜相違点２＞
　本願補正発明では，絶縁膜（１２）が絶縁性樹脂が塗布されて形成され，絶縁性樹脂の塗布工程で絶縁膜（１２）にスルーホール（ｈ）が形成されるのに対し，引用発明では，この点について記載がない点。
　
（４）当審の判断
　上記相違点について検討する。
＜相違点１についての検討＞
　引用発明には，絶縁膜の両面にそれぞれ設けられた一方の電極層（ｘ）及び他方の電極層（ｙ）をどのようにコネクタに接続するのか具体的な記載がない。
　しかしながら，引用発明は，引用例に記載された発明の実施の形態（上記（２）で摘記した記載事項Ｃ，Ｅ及びＦ）の変形例であるところ，引用例には，誘電膜１０の両面に設けられた導体エレメント１２及び導体エレメント１４を誘電膜１０の一方の面でコネクタ３０に接続するために，誘電膜１０に穴３６を設け，穴３６は導電性材料で詰まっており，導体エレメント１２又は導体エレメント１４が穴３６内で誘電膜１０の反対側の面の導体エレメント３２又は導体エレメント３４（本願補正発明の「切り替え電極層（２２，２３，２４）」に相当。）と接続させる技術が記載されている。
　そうすると，引用発明において一方の電極層（ｘ）及び他方の電極層（ｙ）をコネクタ等に接続するについて，上記引用例に記載された技術を適用して，絶縁膜（１２）にスルーホール（ｈ）が形成され，検出基板（１０）の面には，複数の切り替え電極層（２２，２３，２４）が形成され，他方の電極層（ｙ）がスルーホール（ｈ）内で切り替え電極層（２２，２３，２４）と個別に接続されているように構成することは，当業者が容易に想到し得ることである。
　
＜相違点２についての検討＞
　一般的に，絶縁膜等の膜を合成樹脂を塗布することにより形成することは周知である。
　そして，本願発明の，絶縁性樹脂の塗布工程で絶縁膜にスルーホールを形成することに関し，発明の詳細な説明には，具体的にどのようにスルーホールを形成するかについては一切記載がなく，発明の詳細な説明からは塗布工程でどのようにスルーホールが形成されるのか明らかではないが，絶縁膜を印刷法により塗布して形成する際に，ビアホール（本願補正発明の「スルーホール（ｈ）」に相当。）を形成することは，特開平１０−１０７４３２号公報（特に，第２頁の【０００３】及び図４参照。）及び特開平４−１８０２９２号公報（特に，第１頁右下欄及び第２図参照。）に記載されているように，本出願前周知である。したがって，引用発明において，絶縁膜（１２）が絶縁性樹脂が塗布されて形成され，絶縁性樹脂の塗布工程で絶縁膜（１２）にスルーホール（ｈ）が形成されるように構成することは，当業者が適宜なし得ることである。
　
　また，本願補正発明の構成によって生じる効果も，当業者が予測できるものである。
　したがって，本願補正発明は，引用発明及び周知技術に基づいて，当業者が容易に発明をすることができたものであるから，特許法２９条２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
（５）むすび
　以上のとおり，本件補正は，平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するので，同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
３．本願発明について
　平成１９年２月１５日付の手続補正は上記のとおり却下されたので，本願の請求項１に係る発明（以下，「本願発明」という。）は，平成１８年６月１５日付手続補正書の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される，以下のとおりのものである。
　
「静電容量の変化に基づいて座標位置を検出するために互いに直交して配置された複数のＸ電極層と複数のＹ電極層とが、検出基板（１０）に設けられた入力装置において、
　前記検出基板（１０）の一方の面に、前記Ｘ電極層と前記Ｙ電極層のうちの一方の電極層（ｘ）が形成され、前記一方の電極層（ｘ）の表面に、絶縁性樹脂が塗布されて形成された絶縁膜（１２）が形成されて、この絶縁膜（１２）の表面に、前記Ｘ電極層と前記Ｙ電極層のうちの他方の電極層（ｙ）が形成されており、
　前記検出基板（１０）の前記面には、複数の切り替え電極層（２２，２３，２４）が形成されて、前記絶縁性樹脂の塗布工程で前記絶縁膜（１２）に形成されたスルーホール（ｈ）を介して、前記他方の電極層（ｙ）と前記切り替え電極層（２２，２３，２４）とが個別に接続されていることを特徴とする入力装置。」
　　
（１）引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された引用例及びその記載事項は，前記２．（２）に記載したとおりである。　
　
（２）当審の判断
　本願発明は，前記２．で検討した本願補正発明から「一方の電極層（ｘ），他方の電極層（ｙ）及び絶縁膜（１２）」，「前記一方の電極層（ｘ）」及び「他方の電極層（ｙ）が形成され」の限定事項である「前記一方の電極層（ｘ）と前記他方の電極層（ｙ）とが前記絶縁膜（１２）を挟んで対向しており」，「複数の」及び「複数」との構成を省き，また，「前記スルーホール（ｈ）内で」との限定を「スルーホール（ｈ）を介して」に戻し，さらに，誤記の訂正を目的とした補正をもとに戻したものである。
　そうすると，本願発明の構成要件をすべて含み，さらに他の構成要件を付加し，構成要件を限定したものに相当する本願補正発明が，前記２．（４）に記載したとおり，引用発明及び周知技術に基づいて，当業者が容易に発明をすることができたものであるから，本願発明も同様の理由により，引用発明及び周知技術に基づいて，当業者が容易に発明をすることができたものである。　
　
（３）むすび
　以上のとおり，本願発明は，引用発明及び周知技術に基づいて，当業者が容易に発明をすることができたものであるから，特許法第２９条２項の規定により特許を受けることができない。
　よって，結論のとおり審決する。