【手続補正書】
【提出日】平成23年12月19日(2011.12.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】電気光学装置の製造方法および電気光学装置の製造装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
大気圧よりも低い圧力下で処理剤を気化させ、前記処理剤の雰囲気に被処理基板を晒すことで前記被処理基板上に前記処理剤の被膜を形成する表面処理工程を有し、
前記表面処理工程の後に、前記被処理基板を冷却する冷却工程と、前記被処理基板の表面に水分を供給する水分供給工程と、を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項２】
前記水分供給工程において、飽和水蒸気量未満の水蒸気を含む気体を前記被処理基板の表面に供給し、
前記冷却工程において、前記被処理基板を前記気体の露点温度以下の温度に冷却することを特徴とする請求項１記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項３】
前記水分供給工程において、前記被処理基板の表面に水を噴射し、
前記冷却工程において、前記被処理基板を前記水の沸点以下の温度に冷却することを特徴とする請求項１記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項４】
前記表面処理工程の後、前記水分供給工程よりも前に、前記被処理基板の周囲の気体を、水蒸気を含まない乾燥気体に置換するパージ工程を有することを特徴とする請求項１ないし３のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項５】
前記水分供給工程及び前記冷却工程の後に、前記被処理基板を加熱する加熱処理工程を有することを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項６】
前記表面処理工程よりも前に、前記被処理基板の表面の水分を除去する水分除去工程を実行することを特徴とする請求項１ないし請求項５のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項７】
前記処理剤が、下記一般式（１）で表されるシランカップリング剤であることを特徴とする請求項１ないし請求項６のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
【化１】
2010170036.tif 000001
【請求項８】
前記被処理基板上に無機膜を有し、当該無機膜の表面に前記被膜を形成することで前記被処理基板上に配向膜を形成することを特徴とする請求項１ないし７のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項９】
被処理基板を配置する成膜室と、
前記成膜室内を減圧する減圧装置と、
処理剤を気化させる処理剤気化装置と、
前記処理剤気化装置に対してキャリアガスを供給するガス供給装置と、
前記被処理基板に飽和水蒸気量未満の水蒸気を含む水蒸気含有ガスを供給する水蒸気供給装置と、
前記被処理基板を前記水蒸気含有ガスの露点温度以下の温度に冷却する冷却装置と、
を有することを特徴とする電気光学装置の製造装置。
【請求項１０】
被処理基板を配置する成膜室と、
前記成膜室内を減圧する減圧装置と、
処理剤を気化させる処理剤気化装置と、
前記処理剤気化装置に対してキャリアガスを供給するガス供給装置と、
前記被処理基板に水を噴射する水噴射装置と、
前記被処理基板を前記水の沸点以下の温度に冷却する冷却装置と、
を有することを特徴とする電気光学装置の製造装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記の課題を解決するために、本発明の電気光学装置の製造方法は、大気圧よりも低い圧力下で処理剤を気化させ、前記処理剤の雰囲気に被処理基板を晒すことで前記被処理基板上に前記処理剤の被膜を形成する表面処理工程を有し、前記表面処理工程の後に、前記被処理基板を冷却する冷却工程と、前記被処理基板の表面に水分を供給する水分供給工程と、を有することを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、本発明の電気光学装置の製造方法は、前記水分供給工程において、飽和水蒸気量未満の水蒸気を含む気体を前記被処理基板の表面に供給し、前記冷却工程において、前記被処理基板を前記気体の露点温度以下の温度に冷却することを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、本発明の電気光学装置の製造方法は、前記水分供給工程において、前記被処理基板の表面に水を噴射し、前記冷却工程において、前記被処理基板を前記水の沸点以下の温度に冷却することを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
また、本発明の電気光学装置の製造方法は、前記表面処理工程の後、前記水分供給工程よりも前に、前記被処理基板の周囲の気体を、水蒸気を含まない乾燥気体に置換するパージ工程を有することを特徴とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
また、本発明の電気光学装置の製造方法は、前記水分供給工程及び前記冷却工程の後に、前記被処理基板を加熱する加熱処理工程を有することを特徴とする。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
また、本発明の電気光学装置の製造方法は、前記表面処理工程よりも前に、前記被処理基板の表面の水分を除去する水分除去工程を実行することを特徴とする。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
また、本発明の電気光学装置の製造方法は、前記処理剤が、下記一般式（１）で表されるシランカップリング剤であることを特徴とする。
【化１】
2010170036.tif 000002
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
また、本発明の電気光学装置の製造方法は、前記被処理基板上に無機膜を有し、当該無機膜の表面に前記被膜を形成することで前記被処理基板上に配向膜を形成することを特徴とする。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
また、本発明の電気光学装置の製造装置は、被処理基板を配置する成膜室と、前記成膜室内を減圧する減圧装置と、処理剤を気化させる処理剤気化装置と、前記処理剤気化装置に対してキャリアガスを供給するガス供給装置と、前記被処理基板に飽和水蒸気量未満の水蒸気を含む水蒸気含有ガスを供給する水蒸気供給装置と、前記被処理基板を前記水蒸気含有ガスの露点温度以下の温度に冷却する冷却装置と、を有することを特徴とする。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
また、本発明の電気光学装置の製造装置は、被処理基板を配置する成膜室と、前記成膜室内を減圧する減圧装置と、処理剤を気化させる処理剤気化装置と、前記処理剤気化装置に対してキャリアガスを供給するガス供給装置と、前記被処理基板に水を噴射する水噴射装置と、前記被処理基板を前記水の沸点以下の温度に冷却する冷却装置と、を有することを特徴とする。