【手続補正書】
【提出日】平成24年7月26日(2012.7.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レジストが塗布され、露光された後の基板を水平に保持して、鉛直軸回りに回転させる基板保持部を各々備え、横方向に配列された複数の現像処理部と、
これら複数の現像処理部に共通に設けられ、前記基板保持部に保持された基板の表面に現像液を供給するための第１のノズルと、
この第１のノズルを各現像処理部間で搬送するための駆動機構と、
各現像処理部に夫々設けられる第２のノズルと、
を備え、
前記第２のノズルは、前記第１のノズルにより現像液が供給された基板に対して、当該基板が乾燥することを防ぐために現像液を供給し、次いで前記基板を洗浄するためにリンス液を供給し、次いで前記基板を乾燥させるために乾燥ガスを供給することを特徴とする現像装置。
【請求項２】
前記第１のノズルを待機させるための待機部と、
前記駆動機構の動作を制御するために制御信号を出力する制御部と、
を備え、
前記駆動機構は、前記待機部と各現像処理部との間で前記第１のノズルを移動させ、
前記制御部は、第１のノズルが一の基板処理部の基板に現像液を供給した後、他の基板処理部に当該第１のノズルから現像液の供給を受けていない基板が搬送されている場合は、当該第１のノズルを他の基板処理部に搬送するように制御信号を出力し、
第１のノズルが一の基板処理部の基板に現像液を供給した後、他の基板処理部に当該第１のノズルから現像液の供給を受けていない基板が搬送されていない場合は、当該第１のノズルを前記待機部に搬送するように制御信号を出力することを特徴とする請求項１記載の現像装置。
【請求項３】
前記第１のノズルは、前記基板保持部に保持された基板の表面に現像液を帯状に供給し、
前記駆動機構は、各現像処理部にて当該第１のノズルから吐出された現像液の帯状領域の一端側が基板の中央に向いた状態で、基板の表面における中央部及び周縁部の一方から他方に移動するように第１のノズルを移動させることを特徴とする請求項１または２記載の現像装置。
【請求項４】
前記第２のノズルは、第１のノズルにより現像液の液膜が形成された基板の中心部に、円形状または前記帯状領域よりも長さが短い帯状に現像液を供給することを特徴とする請求項１ないし３のいずれか一つに記載の現像装置。
【請求項５】
第１のノズルは、扁平状に開口した第１の吐出口を備えることを特徴とする請求項１ないし４のいずれか一つに記載の現像装置。
【請求項６】
第２のノズルは、略円形に開口した第２の吐出口を備えることを特徴とする請求項１ないし５のいずれか一つに記載の現像装置。
【請求項７】
第２のノズルから供給される現像液の流量は、第１のノズルから供給される現像液の流量よりも小さいことを特徴とする請求項１ないし６のいずれか一に記載の現像装置。
【請求項８】
レジストが塗布され、露光された後の複数の基板を横方向に夫々配列された現像処理部に各々設けられた複数の基板保持部に保持する工程と、
これら複数の現像処理部に共通に設けられ、前記基板保持部に保持された基板の表面に現像液を供給するための第１のノズルを一の現像処理部に移動させる工程と、
前記現像処理部の基板保持部に保持された基板を鉛直軸周りに回転させながら、前記第１のノズルから当該基板に現像液を供給する工程と、
次いで各現像処理部に夫々設けられる第２のノズルから、前記基板が乾燥することを防ぐために当該基板に現像液を供給する工程と、
次いで前記第２のノズルから前記基板を洗浄するためにリンス液を当該基板に供給する工程と、
次いで前記第２のノズルから前記基板を乾燥させるための乾燥ガスを前記基板に供給する工程と、
を備えることを特徴とする現像方法。
【請求項９】
前記第１のノズルが一の基板処理部の基板に現像液を供給した後、他の基板処理部に当該第１のノズルから現像液の供給を受けていない基板が搬送されている場合は、当該第１のノズルを他の基板処理部に搬送する工程と、
前記第１のノズルが一の基板処理部の基板に現像液を供給した後、他の基板処理部に当該第１のノズルから現像液の供給を受けていない基板が搬送されていない場合は、当該第１のノズルを前記待機部に搬送する工程と、
を備えることを特徴とする請求項８記載の現像方法。
【請求項１０】
前記第１のノズルは、前記基板保持部に保持された基板の表面に現像液を帯状に供給するためのノズルであり、
前記第１のノズルから当該基板に現像液を供給する工程は、第１のノズルから吐出された現像液の帯状領域の一端側が基板の中央に向いた状態で、現像液の供給位置を基板の表面における中央部及び周縁部の一方から他方に移動するように第１のノズルを移動させる工程を含むことを特徴とする請求項８または９記載の現像方法。
【請求項１１】
前記第２のノズルは、第１のノズルにより現像液の液膜が形成された基板の中心部に、円形状または前記帯状領域よりも長さが短い帯状に現像液を供給することを特徴とする請求項８ないし１０のいずれか一つに記載の現像方法。
【請求項１２】
第２のノズルから供給される現像液の流量は、第１のノズルから供給される現像液の流量よりも小さいことを特徴とする請求項８ないし１１のいずれか一つに記載の現像方法。
【請求項１３】
レジストが塗布され、露光された後の基板に対する現像を行う現像装置に用いられるコンピュータプログラムが記憶された記憶媒体であって、
前記コンピュータプログラムは、請求項８ないし１２のいずれか一に記載の現像方法を実施するためのものであることを特徴とする記憶媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の現像装置は、レジストが塗布され、露光された後の基板を水平に保持して、鉛直軸回りに回転させる基板保持部を各々備え、横方向に配列された複数の現像処理部と、
これら複数の現像処理部に共通に設けられ、前記基板保持部に保持された基板の表面に現像液を供給するための第１のノズルと、
この第１のノズルを各現像処理部間で搬送するための駆動機構と、
各現像処理部に夫々設けられる第２のノズルと、
を備え、
前記第２のノズルは、前記第１のノズルにより現像液が供給された基板に対して、当該基板が乾燥することを防ぐために現像液を供給し、次いで前記基板を洗浄するためにリンス液を供給し、次いで前記基板を乾燥させるために乾燥ガスを供給することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
例えば前記第１のノズルを待機させるための待機部と、前記駆動機構の動作を制御するために制御信号を出力する制御部と、を備え、前記駆動機構は、前記待機部と各現像処理部との間で前記第１のノズルを移動させ、前記制御部は、第１のノズルが一の基板処理部の基板に現像液を供給した後、他の基板処理部に当該第１のノズルから現像液の供給を受けていない基板が搬送されている場合は、当該第１のノズルを他の基板処理部に搬送するように制御信号を出力し、第１のノズルが一の基板処理部の基板に現像液を供給した後、他の基板処理部に当該第１のノズルから現像液の供給を受けていない基板が搬送されている場合は、当該第１のノズルを前記待機部に搬送するように制御信号を出力する。例えば、前記第１のノズルは、前記基板保持部に保持された基板の表面に現像液を帯状に供給し、前記駆動機構は、各現像処理部にて当該第１のノズルから吐出された現像液の帯状領域の一端側が基板の中央に向いた状態で、現像液の供給位置を、基板の表面における中央部及び周縁部の一方から他方に移動するように第１のノズルを移動させる。また、前記第２のノズルは、第１のノズルにより現像液の液膜が形成された基板の中心部に、円形状または前記帯状領域よりも長さが短い帯状に現像液を供給してもよい。第１のノズルは、扁平状に開口した第１の吐出口を備えていてもよい。第２のノズルは、略円形に開口した第２の吐出口を備えていてもよい。例えば第２のノズルから供給される現像液の流量は、第１のノズルから供給される現像液の流量よりも小さい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明の現像方法は、レジストが塗布され、露光された後の複数の基板を横方向に夫々配列された現像処理部に各々設けられた複数の基板保持部に保持する工程と、
これら複数の現像処理部に共通に設けられ、前記基板保持部に保持された基板の表面に現像液を供給するための第１のノズルを一の現像処理部に移動させる工程と、
前記現像処理部の基板保持部に保持された基板を鉛直軸周りに回転させながら、前記第１のノズルから当該基板に現像液を供給する工程と、
次いで各現像処理部に夫々設けられる第２のノズルから、前記基板が乾燥することを防ぐために当該基板に現像液を供給する工程と、
次いで前記第２のノズルから前記基板を洗浄するためにリンス液を前記基板に供給する工程と、
次いで前記第２のノズルから前記基板を乾燥させるための乾燥ガスを当該基板に供給する工程と、
を備えることを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
前記現像方法は、前記第１のノズルが一の基板処理部の基板に現像液を供給した後、他の基板処理部に当該第１のノズルから現像液の供給を受けていない基板が搬送されているときは、当該第１のノズルを他の基板処理部に搬送する工程と、第１のノズルが一の基板処理部の基板に現像液を供給した後、他の基板処理部に当該第１のノズルから現像液の供給を受けていない基板が搬送されているときは、当該第１のノズルを前記待機部に搬送する工程と、を備えていてもよい。前記第１のノズルは、前記基板保持部に保持された基板の表面に現像液を帯状に供給するためのノズルであり、前記第１のノズルから当該基板に現像液を供給する工程は、第１のノズルから吐出された現像液の帯状領域の一端側が基板の中央に向いた状態で、現像液の供給位置を基板の表面における中央部及び周縁部の一方から他方に移動するように第１のノズルを移動させる工程を含んでいてもよい。前記第２のノズルは、第１のノズルにより現像液の液膜が形成された基板の中心部に、円形状または前記帯状領域よりも長さが短い帯状に現像液を供給してもよい。例えば第２のノズルから供給される現像液の流量は、第１のノズルから供給される現像液の流量よりも小さい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
本発明の現像装置は、駆動機構により各現像処理部間を搬送され、各現像処理部の基板に現像液を供給する第１のノズルと、第１のノズルから現像液が供給された基板の乾燥を防止するために現像液を供給する第２のノズルとを備えている。このように処理に応じて現像液ノズルを使い分けることにより、例えば第１のノズルのみを用いて、そのノズルからの吐出量を変化させて基板に現像液を供給する場合に比べて、その基板への現像液の供給が不安定になることが抑えられる。また各ノズルごとにその吐出される現像液の形状に合わせて、基板への現像液の供給量を調整することができるので、基板へ供給する現像液の省液化を図ることができる。