【事件の表示】
　特願２００３−１０２９０１「乾燥装置及び方法、ＥＬ表示デバイスの製造装置及び製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１６年１１月　４日出願公開、特開２００４−３１１２０６〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成１５年４月７日に出願され、平成２０年７月１５日付けで拒絶理由が通知され、同年９月５日付けで手続補正がなされたところ、同年９月２５日付けで拒絶査定がなされ、これに対して、同年１０月２２日に拒絶査定不服審判の請求がなされるとともに、同日付けで手続補正がなされたものである。
　その後、当審において平成２１年９月８日付けで審尋を行い、これに対して同年１０月２０日付けで回答書が提出されている。
　
　
第２　補正の却下の決定
［結論］
　平成２０年１０月２２日付けの手続補正（以下、「本件補正」という。）を却下する。
［理由］
１　本件補正の内容
　本件補正の補正事項は、以下のとおりである。
　平成２０年９月５日付け手続補正における、明細書の特許請求の範囲の各独立形式請求項に対し、
（１）その発明特定事項である乾燥対象の材料を、基板に「格子状に配置」したものに限定する補正
（２）その発明特定事項である複数のノズルを、「格子状」に配置したものに限定する補正
（３）その発明特定事項である噴射されたガスの制御を、基板の中心部から外周部にかけて「同心四角形状」に制御したものに限定する補正
、及び
（４）明細書の発明の詳細な説明において、上記（１）〜（３）の特許請求の範囲の補正と整合をとる補正
　
　そして、上記補正事項（１）〜（３）は、いずれも本件補正前の発明特定事項を限定したものであって、いわゆる限定的減縮を目的とする補正であるから、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法（以下、「平成１８年改正前特許法」という。）第１７条の２第４項第２号に掲げる特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　
　
２　独立特許要件について
　上記したとおり、本件補正は、平成１８年改正前特許法第１７条の２第４項第２号に掲げる特許請求の範囲の減縮を目的とする補正を含むものであるので、以下に、本件補正後における特許請求の範囲に記載されている事項により特定される発明が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定を満たすか）を、請求項１に係る発明（以下、「本件補正発明」という。）について検討する。
　
（１）本件補正発明
　本件補正発明は、本件補正により補正された明細書の、特許請求の範囲の請求項１に記載される次のとおりのものと認める。
「【請求項１】　基板に格子状に配置された材料層を乾燥させる乾燥装置であって、
　所定の雰囲気を維持するチャンバと、
　ガスを噴射させるノズルが格子状に複数個配置されたガス噴射部と、
　前記噴射部から噴射されたガスの流量或いは流速が前記基板の中心部から外周部にかけて同心四角形状に減少するように前記ガスの噴射を制御する調整弁と
を備えること特徴とする乾燥装置。」
　
（２）刊行物
ア　引用例１
　原査定の拒絶の理由に引用され、本願の出願前に頒布された刊行物である特開２００１−３４１２９６号公報（以下、「引用例１」という。）には、以下の事項が図面とともに記載されている。（後述の「イ　引用発明１の認定」において、特に参照した箇所に下線を付した。）
（１ａ）「【０００２】
【従来の技術】近年、液晶ディスプレイに替わる自発光型ディスプレイとして、
有機ＥＬ素子（陽極と陰極との間に有機物からなる発光層を設けた構造の発光素子）を画素に対応させて備える有機ＥＬディスプレイ
【０００３】例えば「Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．５１（１２），２１  Ｓｅｐｔｅｍｂｅｒ  １９８７  ９１３頁」には、低分子量の有機材料からなる発光層を蒸着法で成膜することが記載されている。また、「Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．７１（１），７  Ｊｕｌｙ  １９９７  ３４頁〜」には、高分子量の有機材料からなる発光層を塗布法で成膜することが記載されている。
【０００４】
ディスプレー用の有機ＥＬ素子では、基板上の各画素位置に陽極を形成し、各陽極の上に発光層を配置する必要がある。したがって、発光層の配置をインクジェット法で行うことができれば、塗布とパターニングが同時にできる
【０００５】発光層の配置をインクジェット法で行うためには、液状の材料を使用する必要があるが、発光層材料としてＰＰＶ等の高分子材料を用いる場合は、例えばその前駆体溶液を使用することでインクジェット法による配置が可能である。ＰＰＶ系高分子材料からなる発光層をインクジェット法で配置することについては、特開平１１−４０３５８号公報、特開平１１−５４２７０号公報、特開平１１−３３９９５７号公報等に記載されている。
【０００６】従来のインクジェット法による液体配置では、例えば、図１（ａ）に示すように、基板１より小さいインクジェットヘッド２を用い、ヘッド２のノズル列３の長さに対応させて基板１面内を複数の領域１１〜１５に分け、ヘッド２のノズル３からの液体吐出を、基板１またはヘッド２を移動させながら各領域毎に順次行っている。」
　
（１ｂ）「【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この方法では、吐出する液体の溶媒が密度の大きな溶媒であると、液滴から蒸発した溶媒蒸気が基板面内に留まり易い。そのため、例えば図１（ｂ）に示すように、基板上への配置順が早い液滴Ａと遅い液滴Ｂとを比較すると、配置順が遅い液滴Ｂは、前記溶媒蒸気の分圧が高い雰囲気で液体の吐出が行われることになる。その結果、液滴Ｂの乾燥速度は液滴Ａよりも遅くなる。また、先に配置された液滴Ａも、基板面内に留まった溶媒蒸気の影響を受けて、乾燥後に再溶解したり、乾燥速度が遅くなったりすることがある。
【０００８】そのため、分子量や極性の異なる複数の高分子材料が密度の大きな溶媒に溶解している溶液を、従来のインクジェット法で基板上に配置すると、乾燥速度の遅い液滴は複数の高分子材料が相分離した状態の薄膜になり易い。また、
基板面内での各液滴の乾燥速度が異なると、基板面内の位置によって、得られる薄膜の状態が異なることになる
【０００９】以上のことから、有機ＥＬディスプレイで、発光層の配置を従来のインクジェット法で行うと、画素間や画素内で輝度が異なる状態になる恐れがある。本発明は、このような従来技術の問題点に着目してなされたものであり、インクジェット法による薄膜の形成方法において、
吐出する液体の溶媒が密度の大きな溶媒である場合でも、基板面内での均一性の高い薄膜が得られるようにすることを課題とする
　
（１ｃ）「【００１０】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するために、本発明は、液体吐出口を基板に対して相対的に移動させながら、液体吐出口から基板上の各位置に向けて、薄膜形成材料と溶媒とを含む液体を吐出することにより、基板上の各位置に順次液滴を配置する工程を有するインクジェット法による薄膜形成方法において、基板上に先に配置されている液滴から蒸発した溶媒蒸気を強制的に基板面内から除去しながら、後の液滴の配置を行うことを特徴とするインクジェット法による薄膜の形成方法を提供する。
【００１１】・・・（略）・・・
【００１２】これにより、配置順の遅い位置の液滴の方が早い位置の液滴よりも液滴の乾燥速度が遅くなることが防止される。また、配置順の早い位置の液滴が乾燥後に再溶解したり、この液滴の乾燥速度が遅くなったりすることが防止される。また、液滴の乾燥速度が遅くなることが防止されることによって、吐出液体として、分子量や極性の異なる複数の高分子材料が密度の大きな溶媒に溶解している溶液を使用する場合でも、複数の高分子材料が相分離した状態の薄膜になることが防止される。」
　
（１ｄ）「【００５４】また、インクジェット法による薄膜形成は、
グローブボックス等の閉じられた空間で行われることがあるが、閉じられた空間で、基板面に気体を吹き付けて溶媒蒸気の除去を行う場合には
　
（１ｅ）図１（ａ）〜（ｂ）から、
基板１が、平面視で矩形
　
イ　引用発明１の認定
　上記記載事項及び図面を総合すると、引用例１には、次の発明（以下、「引用発明１」という。）が記載されている。
「平面視矩形の基板上に、画素に対応させて配置された発光層を有する有機ＥＬディスプレイの薄膜形成に関し、均一性の高い薄膜を得るために、前記発光層の液状の材料が、基板面内の位置によって各液滴の乾燥速度が異ならないように乾燥を行う、閉じられた空間であるグローブボックス。」
　
　
ウ　引用例２
　原査定の拒絶の理由に引用され、本願の出願前に頒布された刊行物である特開平８−３２１４４９号公報（以下、「引用例２」という。）には、以下の事項が図面とともに記載されている。（後述の「エ　引用発明２の認定」において、特に参照した箇所に下線を付した。）
（２ａ）「【特許請求の範囲】
【請求項１】  垂直軸回りに回転する水平姿勢の被塗布基板の上面にホトレジストを供給して塗布するとともに、前記被塗布基板の回転中心から外周にかけて漸次低減する風速分布の空気を、前記被塗布基板の上方から吹き付けて前記ホトレジストを乾燥するホトレジスト塗布方法。
【請求項２】  カップと、このカップの内部で
垂直軸回りに回転して被塗布基板を水平状態に保持する真空チャックと、前記被塗布基板の主表面にホトレジストを供給するレジスト供給ノズルと、前記被塗布基板の主表面に空気を送る空調送風機と、前記空調送風機の送風経路途中に設けられ前記被塗布基板に送られる空気の風速分布を前記真空チャックの垂直軸心に対して同心円状に調整可能な風速調整手段とを備えたホトレジスト塗布装置
【請求項３】　・・・（略）・・・
【請求項４】  風速調整手段が、
空調送風機に接続され真空チャックの垂直軸心に対して同心円状に設置した吹き出しノズル群と、この吹き出しノズル群の各送風路に設けた風量調整用のバルブ群と、このバルブ群を制御する制御装置
　
（２ｂ）「【００２２】・・・（略）・・・この発明の他の実施例を図３に示す。なお、図１に示した実施例と同一部分は同一符号を付してその説明を省略する。
【００２３】
空調送風機３０より送り出された温度および湿度が一定の空気は、風量調整用のバルブ群３１によって分割されるとともに、制御装置となるホストコンピューター３２の命令によってバルブ群３１が個別に制御されて風速が調整され、モーター１２の回転軸心に対して同心円状に設置した吹き出しノズル群３３から被塗布基板２１に対して放出される
【００２４】具体例としては、被塗布基板１０に８インチ径のシリコンウェハー、レジスト供給ノズル１４より滴下されるホトレジストに２３．５℃に温度制御されたノボラック系のポジ型ホトレジストを使用し、ホトレジストの塗布乾燥時におけるモーター１２の回転数は４０００ｒｐｍであり、ホトレジストの仕上がり平均塗布膜厚は１μｍである。空調送風機３０から送り出される空気は、温度２３℃、湿度４０％に制御されており、カップ１３の内部は、５ｍｍＡｑに減圧されている。同心円状吹き出しノズル群３３から吹き出す空気流３４の平均風速は０．３ｍ／ｓであるが、空気流３４の分布が均一な場合は、被塗布基板１０の外周部レジスト膜厚がやや厚くなる傾向があるので、
同心円状吹き出しノズル群３３の中心部より外周部の風速を下げることで、面内膜厚均一性は最適となる
【００２５】このように構成されたホトレジスト塗布方法およびホトレジスト塗布装置によると、モーター１２の回転軸心に対して同心円状に設置した吹き出しノズル群３３に供給する空気を調整することで、被塗布基板１０に送られる空気の流速分布を基板表面の中心から同心円状に調整することができる。よって、
塗布乾燥時におけるホトレジスト溶媒の乾燥速度を被塗布基板面内で微妙に調整でき、微妙な膜厚誤差の補正が可能
　
（２ｃ）「【００２６】
【発明の効果】請求項１の方法によれば、被塗布基板の回転中心から外周にかけて漸次低減する風速分布の空気を、被塗布基板の上方から吹き付けるので、塗布乾燥時におけるホトレジスト溶媒の乾燥速度を被塗布基板面内で微妙に調整でき、微妙な膜厚誤差の補正が可能で、ホトレジストの種類や塗布膜厚の変更にも容易に対処することができる。
【００２７】請求項２の構成によれば、風速調整手段によって、被塗布基板に送られる空気の風速分布を、被塗布基板を水平状態に保持する真空チャックの垂直軸心に対して同心円状に調整することができ、塗布乾燥時におけるホトレジスト溶媒の乾燥速度を被塗布基板面内で微妙に調整でき、微妙な膜厚誤差の補正が可能で、ホトレジストの種類や塗布膜厚の変更にも容易に対処することができる。
【００２８】・・・（略）・・・
【００２９】請求項４の構成によれば、被塗布基板を水平状態に保持する真空チャックの垂直軸心に対して同心円状に設置した吹き出しノズル群に供給する空気を調整することで、被塗布基板に送られる空気の流速分布を真空チャックの垂直軸心に対して同心円状に調整することができる。よって、塗布乾燥時におけるホトレジスト溶媒の乾燥速度を被塗布基板面内で微妙に調整でき、微妙な膜厚誤差の補正が可能で、ホトレジストの種類や塗布膜厚の変更にも容易に対処することができる。」
　
エ　引用発明２の認定
　上記記載事項を総合すると、引用例２には、次の発明（以下、「引用発明２」という。）が記載されている。
「垂直軸回りに回転して被塗布基板を水平状態に保持する真空チャックと、前記被塗布基板の主表面にホトレジストを供給するレジスト供給ノズルと、前記被塗布基板の主表面に空気を送る空調送風機と、
空調送風機に接続され真空チャックの垂直軸心に対して同心円状に設置した吹き出しノズル群と、この吹き出しノズル群の各送風路に設けた風量調整用のバルブ群と、このバルブ群を制御する制御装置とを備え、
前記制御装置の命令によって前記バルブ群が個別に制御されて風速が調整され、
同心円状に設置した前記吹き出しノズル群の中心部より外周部の風速を下げることで、塗布乾燥時におけるホトレジスト溶媒の乾燥速度を被塗布基板面内で微妙に調整し、最適な面内膜厚均一性を得るホトレジスト塗布装置。」
　
　
（３）対比
 　本件補正発明と引用発明１とを対比する。
ア　引用発明１の「平面視矩形の基板上に、画素に対応させて配置された発光層」と、本件補正発明の「基板に格子状に配置された材料層」とは、「基板に配置された材料層」である点で一致する。
　
イ　引用発明１のグローブボックスは、「閉じられた空間」であって、その内部で乾燥を行うのであるから、内部の雰囲気を維持する乾燥装置であるといえる。
　よって、引用発明１の「乾燥を行う、閉じられた空間であるグローブボックス」は、本件補正発明の「所定の雰囲気を維持するチャンバ」を備える「乾燥装置」に相当する。
　　
（４）一致点・相違点
　してみれば、本件補正発明と引用発明１とは、以下の発明である点で一致する。
一致点
「基板に配置された材料層を乾燥させる乾燥装置であって、
　所定の雰囲気を維持するチャンバを備える乾燥装置。」
　
　したがって、本件補正発明と引用発明１とは、次の点で相違する。
相違点１
　基板上に配置された材料層が、本件補正発明では「格子状」に配置されているのに対し、引用発明１は、このような発明特定事項を有していない点。
相違点２
　本件補正発明が「ガスを噴射させるノズルが格子状に複数個配置されたガス噴射部と、前記噴射部から噴射されたガスの流量或いは流速が前記基板の中心部から外周部にかけて同心四角形状に減少するように前記ガスの噴射を制御する調整弁」を有しているのに対し、引用発明１は、このような発明特定事項を有していない点。
　
（５）当審の判断
　上記相違点について検討する。
ア　相違点１について
　引用発明１の画素は有機ＥＬディスプレイの画素であり、有機ＥＬディスプレイの画素を「格子状」に配列することは周知の技術的事項にすぎず、このような周知の格子状の配列を採用するかどうかは、当業者にとって単なる設計的事項にすぎない。
　よって、引用発明１に周知の技術的事項を適用して上記相違点１に係る本件補正発明の発明特定事項を得ることは、当業者が容易になし得たことである。
　
イ　相違点２について
　引用発明２のホトレジスト塗布装置が、ホトレジスト膜の成膜に関し、塗布されたホトレジスト膜の乾燥装置としても機能していることは明らかである。
　そして、引用発明２の「空調送風機に接続され真空チャックの垂直軸心に対して同心円状に設置した吹き出しノズル群」は、本件補正発明の「ガスを噴射させるノズル」が「複数個配置されたガス噴射部」に相当する。
　また、引用発明２の「この吹き出しノズル群の各送風路に設けた風量調整用のバルブ群」は、「制御装置の命令によって」「個別に制御されて風速が調整され」、「同心円状に設置した前記吹き出しノズル群の中心部より外周部の風速を下げる」ものであるから、本件補正発明の「前記噴射部から噴射されたガスの流量或いは流速が前記基板の中心部から外周部にかけて」「減少するように前記ガスの噴射を制御する調整弁」に相当する。
　してみると、引用発明２は、相違点２に係る発明特定事項のうち「格子状」及び「同心四角形状」という発明特定事項を除いた構成を備えていることになる。
　
　ここで、引用発明１と引用発明２とは、ともに薄膜形成時の乾燥という共通する技術分野に属するものである。また、引用発明１は「均一性の高い薄膜を得るために、前記発光層の液状の材料が、基板面内の位置によって各液滴の乾燥速度が異ならないよう」な乾燥を、引用発明２は「塗布乾燥時におけるホトレジスト溶媒の乾燥速度を被塗布基板面内で微妙に調整し、最適な面内膜厚均一性を得」るような乾燥を、それぞれ行おうとしているのであるから、引用発明１と引用発明２とは、ともに基板面内における乾燥速度を一定にし、膜質の均一性を図るという共通の課題を有するものである。
　してみれば、引用発明１に引用発明２を適用することは、当業者が容易になし得たことである。
　そして、引用発明１の基板は「平面視矩形」であるから、引用発明１に引用発明２を適用する際に、引用発明２の吹き出しノズル群の配置を、「同心円状」から「格子状」に変え、吹き出しノズル群の中心部より外周部の風速を「同心四角形状」に減少するように制御することは、当業者が適宜なし得ることであって困難性を要することではない。
　
　したがって、引用発明１に引用発明２を適用して上記相違点２に係る本件補正発明の発明特定事項を得ることは、当業者が容易になし得たことである。
　
　
ウ　作用効果について
　本件補正発明の奏する作用効果についても、引用発明１及び引用発明２が、ともに基板面内における乾燥速度を一定にし、膜質の均一性を図るものであるから、本件補正発明の奏する作用効果は引用発明１〜２に開示されているといえ、格別のものということができない。
　
エ　まとめ
　よって、本件補正発明は、引用例１に記載された発明、引用例２に記載された発明、及び周知の技術的事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
　
（６）本件補正発明のむすび
　以上のとおり、本件補正発明は、特許出願の際独立して特許を受けることができないものであるから、本件補正は、平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下されるべきものである。
　
　
第３　本願発明について
１　本願発明
　本件補正は上記のとおり却下されたので、当審が審理すべき発明は、平成２０年９月５日付けの手続補正書によって補正された明細書の特許請求の範囲の請求項１〜８に記載された事項により特定されるものであるところ、その請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、次のとおりのものである。
「【請求項１】　基板に形成された材料層を乾燥させる乾燥装置であって、
　所定の雰囲気を維持するチャンバと、
　ガスを噴射させるノズルが複数個形成されたガス噴射部と、
　前記噴射部から噴射されたガスの流量或いは流速が前記基板の中心部から外周部にかけて減少するように前記ガスの噴射を制御する調整弁と
を備えること特徴とする乾燥装置。」
　
２　引用例、その記載事項、及び引用発明の認定
　原査定の拒絶の理由で引用された引用例１〜２、その記載事項、及び引用発明１〜２は、上記「第２」「２　独立特許要件について」の「（２）刊行物」に記載したとおりである。
　
３　対比・判断
　本願発明は、上記「第２」「２　独立特許要件について」で検討した本件補正発明から、上記「第２」「１　本件補正の内容」で述べた補正事項（１）〜（３）の限定を解除したものに相当する。
　そうすると、本願発明のすべての発明特定事項を含み、かつその発明特定事項を限定したものに相当する本件補正発明が、前記「第２」「２」の「（５）当審の判断」に記載したとおり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、本願発明も、同様の理由により、特許を受けることができないものである。
　
４　むすび
　以上のとおり、本願の請求項１に係る発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものである。
　そして、本願の請求項１に係る発明が特許を受けることができない以上、本願のその余の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶されるべきものである。
　
　よって、結論のとおり審決する。