【事件の表示】
　平成９年特許願第２６３９７２号「スピン処理装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１１年４月１３日出願公開、特開平１１−１０２８８３号〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯 
　本願は、平成９年９月２９日の出願であって平成１９年７月１２日付けで拒絶査定がなされ（平成１９年７月２４日発送）、これに対し、平成１９年８月２３日に拒絶査定不服審判の請求がなされるとともに、平成１９年９月２５日付けで明細書についての手続補正がなされたものである。 
 　 
２．平成１９年９月２５日付けの手続補正についての補正却下の決定 
　［補正却下の決定の結論］ 
　平成１９年９月２５日付けの手続補正（以下「本件補正」という）を却下する。 
　
　［理由］ 
（１）補正後の本願発明 
　本件補正により、特許請求の範囲の請求項１は、次のように補正された。
「ワ−クを回転させて処理するスピン処理装置において、
　回転駆動される回転テ−ブルと、
　この回転テ−ブルの周辺部に周方向に所定間隔で設けられ上端に上記ワ−クの周縁部を保持する保持部が設けられた複数の保持部材と、
　上記回転テ−ブルに設けられこの回転テ−ブルの回転にともない上記ワ−クの下面に空気流が発生するのを規制する規制手段を具備し、
　上記規制手段は、内部に上記保持部材を収容して
上記保持部材の上端の上記保持部を除く部分とともに
（下線部は補正個所を示す） 
 　 
（２）補正の目的 
　前記補正は、請求項１に記載した発明を特定するために必要な事項である「規制手段」の「周壁部」について、「内部に上記保持部材を収容して上記回転テ−ブルの周辺部を覆う」を、「内部に上記保持部材を収容して
上記保持部材の上端の上記保持部を除く部分とともに
 　 
（３）独立特許要件 
　そこで、本件補正後の前記請求項１に記載された発明（以下「本願補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか）について以下に検討する。 
 　 
（３−１）引用例の記載事項 
　原査定の拒絶の理由に引用された、特開平１−２１６５４２号公報（以下「引用例」という）には、図面と共に次の事項が記載されている。 
 　　 
　ア「本発明は、半導体ウエハー、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用ガラス基板、光ディスク用樹脂基板、メガネ用レンズ等の被洗浄物の両面を精密洗浄する両面洗浄装置における保持爪開閉装置に関するものである。」（第１頁右下欄第５−９行） 
　
　イ「又、保持爪の開きを防止するためのカウンターウエイトが、高速回転時にファンと同様な運動をすることになり、雰囲気を乱し、その乱気流が洗浄した汚物を霧状に巻上げ、洗浄作業完了後に被洗浄物上に落下するという現象が発生し、精密洗浄には適さないという問題点があった。」（第２頁右上欄第９−１４行） 
　
　ウ「本発明の実施例を第１図乃至第３図に基いて詳細に説明すると、回転円盤１の外周に一対の保持部材２，２′を放射線状に多数（本実施例においては６個）突設する。回転円盤１は外周部上面に一段低くした段部３を設け、保持部材２，２′は回転円盤１の外周に、上端を回転円盤１よりも上側に位置させるように形成している。そして、保持部材２，２′間に下部をカウンターウエイトの役目を果たすような形状に形成したカウンターウエイト兼用の取付板４を位置させ、ピン５で保持部材２，２′に回動自在に取付けている。
　前記取付板４は内側にコ字形をした作動溝６を突設させ、上面に分銅状をした保持爪７を有する爪保持柱８を固定している。」（第２頁右下欄第７−２０行）
　
　エ「一方、回転円盤１及び取付板４の周面は箱形をしたカバー１７で覆うようになっている。このカバー１７は上壁１８を前記多数の固定ピン１６の上面に乗架し、ネジ１９で固定し、カバー１７の下端は水平壁２０により取付板４の下面を覆っている。又、上壁１８は各爪保持柱８を挿通する案内孔２１…を細長く穿孔して爪保持柱８が開閉できるようになっている。」（第３頁左上欄第１２−１９行）
　
　オ「その後シリンダ２８を逆方向に駆動して昇降軸１４を下降させ、作動盤１５で各取付板４を逆方向に回動させて保持爪７を内側に向って閉じ、被洗浄物Ａを保持する。
　次に、搬送装置を後退させ、モータ１１により回転シャフト９を回転させて回転円盤１を介して保持爪７及び被洗浄物Ａを回転させる。この際、作動盤１５は回転円盤１に固定した固定ビン１６により共に回転し、カバー１７も固定ビン１６で固定されているので共に回転する。
　この被洗浄物Ａは低速回転中に、図示を省略した高水圧ノズルより純水等を噴射して洗浄を行い、乾燥時には高速回転させられるようになっている。」（第３頁右上欄第１８行−同頁左下欄第１１行）
　
　カ「又、カバーにより各回転部材を包囲しているので乱気流の発生を防止し、汚物の再付着を阻止して精密洗浄を行うことができる。」（第３頁右下欄第１３−１５行）
　
　上記記載事項について検討すると、記載ア、ウによれば、回転円盤１と、この回転円盤１の周縁部に周方向に所定間隔で設けられ保持爪７及び爪保持柱８が設けられた複数の取付板４を具備した保持爪開閉装置が示されている。
　
　記載イ、カによれば、回転にともない乱気流が発生するのを規制するカバー１７が示されている。
　
　記載エによれば、カバー１７が、内部に取付板４を収容して取付板４とともに回転円盤１の周辺部を覆う周壁部およびこの周壁部の上端に設けられ爪保持柱８を突出させる案内孔２１が形成された上壁１８からなることが示されている。
　
　記載オによれば、回転駆動される回転円盤１と、回転円盤１に設けられるカバー１７を具備し、被洗浄物Ａを回転させて洗浄することが示されている。
　
　上記記載ア〜カの記載事項及び図示内容を総合し、本願補正発明の記載ぶりに則って整理すると、引用例には、次の発明（以下「引用発明」という）が記載されている。 
 　 
「被洗浄物Ａを回転させて洗浄する保持爪開閉装置において、
　回転駆動される回転円盤１と、
　この回転円盤１の周辺部に周方向に所定間隔で設けられ上端に上記被洗浄物Ａの周縁部を保持する保持爪７が設けられた複数の取付板４及び爪保持柱８と、
　上記回転円盤１に設けられこの回転円盤１の回転にともない上記被洗浄物Ａの下面に乱気流が発生するのを規制するカバー１７を具備し、
　上記カバー１７は、内部に上記取付板４を収容して上記取付板４とともに上記回転円盤１の周辺部を覆う周壁部およびこの周壁部の上端に設けられ上記保持爪７に保持される被洗浄物Ａの下面に所定間隔で離間対向するとともに上記保持爪７及び上記爪保持柱８を突出させる案内孔２１が形成された上壁１８からなる保持爪開閉装置。」 
 　 
（３−２）対比 
　本願補正発明と引用発明とを対比すると、各文言の意味、機能または作用等からみて、引用発明の「被洗浄物Ａ」は、本願補正発明の「ワーク」に相当し、以下同様に、「洗浄」は「処理」に、「保持爪開閉装置」は「スピン処理装置」に、「回転円盤１」は「回転テーブル」に、「保持爪７」は「保持部」に、「取付板４及び爪保持柱８」は「保持部材」に、「乱気流」は「空気流」に、「カバー１７」は「規制手段」に、「案内孔２１」は「開口部」に、「上壁１８」は「鏡板部」に、それぞれ相当する。 
 　　　 
　そこで、本願補正発明の用語を用いて表現すると、両者は次の点で一致する。 
 　　 
（一致点） 
「ワークを回転させて処理するスピン処理装置において、
　回転駆動される回転テーブルと、
　この回転テーブルの周辺部に周方向に所定間隔で設けられ上端に上記ワークの周縁部を保持する保持部が設けられた複数の保持部材と、
　上記回転テーブルに設けられこの回転テーブルの回転にともない上記ワークの下面に空気流が発生するのを規制する規制手段を具備し、
　上記規制手段は、上記回転テーブルの周辺部を覆う周壁部およびこの周壁部の上端に設けられ上記保持部に保持されるワークの下面に所定間隔で離間対向するとともに開口部が形成された鏡板部からなるスピン処理装置。」 
 　 
　そして、両者は次の点で相違する（対応する引用発明の用語を（　）内に示す）。 
 　　　 
（相違点）
　本願補正発明では、規制手段は、内部に保持部材を収容して上記保持部材の上端の上記保持部を除く部分を周壁部で覆い、保持部だけを開口部から突出させているのに対して、引用発明では、規制手段（カバー１７）が保持部材の一部（取付板４）だけを収容して上記保持部材の一部（取付板４）だけを周壁部で覆い、保持部（保持爪７）だけでなく保持部材の他の一部（爪保持柱８）も開口部（案内孔２１）から突出させている点。
 　 
（３−３）相違点の判断 
　上記相違点について検討する。 
　ワークの下面の汚染を防止することは、当該分野における周知の課題であり、その課題を解決するためにワ−クの下面側に形成される空間部を小さくすることは、例えば原審において提示した特開平７−１３０６９５号公報に記載されているように本願出願前周知の技術事項である。
　
　そのため、引用発明において、ワーク（被洗浄物Ａ）の下面側に形成される空間部を小さくするために、規制手段（カバー１７）が保持部材の一部（取付板４）だけを収容して上記保持部材の一部（取付板４）だけを周壁部で覆い、保持部（保持爪７）だけでなく保持部材の他の一部（爪保持柱８）も開口部（案内孔２１）から突出させるのに換えて、規制手段（カバー１７）が保持部材の一部（取付板４）だけでなく保持部材の他の一部（爪保持柱８）も収容して上記保持部材の上端の上記保持部を除く部分（取付板４及び爪保持柱８）を周壁部で覆い、保持部（保持爪７）だけを開口部（案内孔２１）から突出させるようにすることは、当業者が容易に想到し得たことである。
　
　そして、本願補正発明による効果も、引用発明及び周知の技術事項から当業者が予測し得た程度のものであって、格別のものとはいえない。 
 　 
　したがって、本願補正発明は、引用発明及び周知の技術事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるので、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができない。 
 　 
（３−４）むすび 
　以上のとおり、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。 
 　 
３．本願発明 
　本件補正は、上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明（以下「本願発明」という）は、平成１９年６月１１日付けの手続補正書により補正された明細書の、特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される、以下のとおりのものである。 
 　 
「ワ−クを回転させて処理するスピン処理装置において、
　回転駆動される回転テ−ブルと、
　この回転テ−ブルの周辺部に周方向に所定間隔で設けられ上端に上記ワ−クの周縁部を保持する保持部が設けられた複数の保持部材と、
　上記回転テ−ブルに設けられこの回転テ−ブルの回転にともない上記ワ−クの下面に空気流が発生するのを規制する規制手段を具備し、
　上記規制手段は、内部に上記保持部材を収容して上記回転テ−ブルの周辺部を覆う周壁部およびこの周壁部の上端に設けられ上記保持部に保持されるワ−クの下面に所定間隔で離間対向するとともに上記保持部だけを突出させる開口部が形成された鏡板部からなることを特徴とするスピン処理装置。」
 　 
４．引用例の記載事項 
　原査定の拒絶の理由に引用された引用例、及び、その記載事項は、前記「２.（３−１）」に記載したとおりである。 
 　 
５．対比・判断 
　本願発明は、前記「２．（１）」の本願補正発明から、「上記保持部材の上端の上記保持部を除く部分とともに」との特定事項を省いたものである。　　　 
　そうすると、本願発明の発明特定事項をすべて含み、さらに、他の発明特定事項を付加したものに相当する本願補正発明が、前記「２．（３−３）」に示したとおり、引用発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、同様に、引用発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものである。 
 　 
６．むすび 
　以上のとおり、本願発明は、引用発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができない。 
 　　 
　そうすると、本願は、他の請求項に係る発明について検討するまでもなく拒絶すべきものである。 
 　　 
　よって、結論のとおり審決する。