(57)【要約】【課題】塗布処理を行う複数の処理ユニットに清浄な気体を均一の流下させることできる共通のフィルタエレメントを具備する空気清浄用フィルタ装置を提供すること。【解決手段】基板に液処理を施す液処理カップを複数備える液処理ユニットの上部から下方に位置する少なくとも前記複数の処理カップ面に対して均一な気流を流下させるためのフィルタエレメントを具備する空気清浄用フィルタ装置において、濾過基材をプリーツ加工し、保形部材によってプリーツ形状が保持されるフィルタエレメント１０と、少なくとも前記濾過基材の上面の濾過前気体が通過する濾過領域に被着される合成樹脂製の不織布シート５２と、不織布シートの上側を押さえて固定するラス網部材５３と、を具備する。【選択図】  図７
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【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
基板に液処理を施す液処理カップを複数備える液処理ユニットの上部から下方に位置する少なくとも前記複数の処理カップ面に対して均一な気流を流下させるためのフィルタエレメントを具備する空気清浄用フィルタ装置において、
山谷折状にプリーツ加工された濾過基材の四辺を保形部材によってプリーツ形状が保持されるフィルタエレメントと、少なくとも前記濾過基材の上面の濾過前気体が通過する濾過領域に被着される合成樹脂製の不織布シートと、前記不織布シートの上側を押さえて固定する網目状の押さえ部材と、を具備することを特徴とする空気清浄用フィルタ装置。
【請求項２】
前記押さえ部材の上面における濾過前気体が通過する濾過領域に合成樹脂製の不織布シートを更に被着してなることを特徴とする請求項１に記載の空気清浄用フィルタ装置。
【請求項３】
前記フィルタエレメントを収容すると共に、前記フィルタエレメントの上方に気流通路を有するエレメントケースと、前記気流通路内において前記保形部材の対向する両端から内方に向けて傾斜させた整流板と、をさらに具備し、前記整流板は、前記両端から流入させた前記濾過前気体を当てて通過させる複数の通気孔を有していることを特徴とする請求項１又は２に記載の空気清浄用フィルタ装置。
【請求項４】
前記複数の通気孔は、傾斜下部から傾斜上部に沿って開口率を小さくしていることを特徴とする請求項３に記載の空気清浄用フィルタ装置。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案は、例えば半導体製造装置内に組み込まれる空気清浄用のフィルタ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイス製造プロセスの一つである基板上にレジストパターンを形成する工程は、基板例えば半導体ウエハ（以下、ウエハという。）にレジスト膜を形成し、フォトマスクを用いてこのレジスト膜を露光した後、現像処理を行うことにより所望のパターンを得る一連の工程により行われ、これら一連の工程は従来から塗布、現像装置によって行われている。
【０００３】
これらの処理装置内では浮遊パーティクルを気流によって上から下に流して排気するように気流のコントロールがなされている。近年の塗布、現像装置は塗布ユニットや現像ユニットを積み重ねて配置するレイアウトとなっており、そのために一つのユニットの高さにも制約があり極力高さを抑える構造となっている。また、複数の処理カップを一つのユニット区画内に並べて配置する方法がとられている（特許文献１）。
【０００４】
例えば、特許文献１の装置の様に塗布ユニットや現像ユニットの構成の様な装置のダウンサイジングに合わせてフィルタエレメントの厚み方向も縮めて薄くして基板処理装置の高さを抑える必要がある。また、同様の理由から処理カップの一つに対して一つのフィルタエレメントを組み込む構造にすると、給気ダクトの取り付け数が増えて、フィルタエレメントの取り付けに要する占有面積が増えて結果的に装置も大きくなってしまう。そのため複数の処理カップを並べた一区画内に共通のフィルタエレメント設けて複数の処理カップ上部から気流をカップ間同士で異ならない様に供給しなければならないことが求められる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００９−２７８０２７号公報（図１、図２）
【考案の概要】
【考案が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、フィルタエレメントの厚みを抑えて薄くすると気体を濾過して流すためのフィルタ部材のプリーツ形状のピッチや山折の高さや、フィルタエレメントの設置ダクトの形状などの影響を受けて複数のカップ間で風量間差の無い均一な気流を供給することが難しくなる。
【０００７】
本考案はこのような事情の下になされたものであり、その目的は複数の処理ユニットに清浄な気体を均一の流下させることできる共通のフィルタエレメントを具備する空気清浄用フィルタ装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
このため本考案は、基板に液処理を施す液処理カップを複数備える液処理ユニットの上部から下方に位置する少なくとも前記複数の処理カップ面に対して均一な気流を流下させるためのフィルタエレメントを具備する空気清浄用フィルタ装置において、山谷折状にプリーツ加工された濾過基材の四辺を保形部材によってプリーツ形状が保持されるフィルタエレメントと、少なくとも前記濾過基材の上面の濾過前気体が通過する濾過領域に被着される合成樹脂製の不織布シートと、前記不織布シートの上側を押さえて固定する網目状の押さえ部材と、を具備することを特徴とする。この場合、前記押さえ部材の上面における濾過前気体が通過する濾過領域に合成樹脂製の不織布シートを更に被着してもよい。
【０００９】
この様に構成することによって、厚みのないフィルタエレメントであっても濾過基材の上面に不織布を敷くことで濾過前気体が濾過基材を通過する速度を揃えることができる。これにより夫々の処理カップ面と対向させる位置から処理カップの位置が違っても差のない均一な気流を流下させることができる。この場合、前記押さえ部材の上面における濾過前気体が通過する濾過領域に合成樹脂製の不織布シートを更に被着することにより、更に気流の分布を均一にすることができる。
【００１０】
本考案において、前記フィルタエレメントを収容すると共に、前記フィルタエレメントの上方に気流通路を有するエレメントケースと、前記気流通路内において前記保形部材の対向する両端から内方に向けて傾斜させた整流板と、をさらに具備し、前記整流板に前記両端から流入させた前記濾過前気体を当てて通過させる複数の通気孔を有している方が好ましい。この場合、前記通気孔は傾斜上部に沿って開口率を小さくしている方がさらに好ましい。
【００１１】
この様に構成することによって、フィルタエレメントを収めるエレメントケースの向かい合う両端側から濾過前気体を流入させる構成に対し、フィルタエレメントの全面に対して濾過前気体を整流させて濾過領域に均等に当たるようにすることができる。
【考案の効果】
【００１２】
以上に詳述したように本考案では、厚みの薄いフィルタエレメントの濾過前気体がフィルタ面の濾過領域に当たる場所によって発生する濾過基材を通過する際の気流のばらつきに対して不織布を設けるので、フィルタエレメントの濾過領域全面に対して均等な圧損を作用させることができる。圧損を作用させてから通過させることで濾過前気体がフィルタエレメント内部を通過する気流のばらつきを抑えることができる。また、濾過領域の面に対して濾過前気体が当たる流量を整流板によって均等になるように適正化させることで、濾過前気体がフィルタエレメント内を通過するばらつきをなくすことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本考案に係るフィルタ装置を適用した基板処理装置を示す平面図である。
【図２】前記基板処理装置の液処理ユニットを示す平面断面図（ａ）とその断面図（ｂ）である。
【図３】前記基板処理装置を示す概略断面図である。
【図４】本考案におけるフィルタエレメントの概略斜視図である。
【図５】本考案におけるフィルタエレメントの濾過部材の拡大図である。
【図６】従来のＵＬＰＡフィルタの設置構成図である。
【図７】本考案に係るフィルタ装置の設置構成図である。
【図８】本考案における整流板をフィルタエレメントに備えた断面図である。
【図９】本考案における整流板の異なる形態を示す断面斜視図である。
【図１０】本考案に係るフィルタ装置の別の形態を示す設置構成図である。
【考案を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下に、この考案の最良の実施形態について、例えば塗布、現像装置に適用される形態について添付図面に基づいて詳細に説明する。図１は、本考案を適用する基板に処理液を供給して基板に液処理を施すモジュールを有する塗布、現像装置の実施の形態の平面図を示し、図２は液処理を施すモジュールである液処理モジュールの構成を説明する平面断面図及びその断面図であり、図３は概略断面図である。
【００１５】
塗布、現像装置は、基板であるウエハＷが例えば２５枚密閉収納されたキャリア２０を搬入出するためのキャリアブロックＳ１と、複数個例えば５個の単位ブロックＢ１〜Ｂ５を縦に配列して構成された処理ブロックＳ２と、インターフェイスブロックＳ３と、露光装置Ｓ４と、を備えている。
【００１６】
前記キャリアブロックＳ１には、前記キャリア２０を複数個載置可能な載置台２１と、この載置台２１から見て前方の壁面に設けられる開閉部２２と、開閉部２２を介してキャリア２０からウエハＷを取り出すためのトランスファーアームＣとが設けられている。このトランスファーアームＣは、後述する単位ブロックＢ１，Ｂ２の受け渡しステージＴＲＳ１，ＴＲＳ２との間でウエハＷの受け渡しを行うように、進退自在、昇降自在、鉛直軸回りに回転自在、及びキャリア２０の配列方向に移動自在に構成されている。
【００１７】
キャリアブロックＳ１の奥側には筐体２４にて周囲を囲まれる処理ブロックＳ２が接続されている。処理ブロックＳ２は、この例では、下方側から、下段側の２段が現像処理を行うための第１及び第２の単位ブロック（ＤＥＶ層）Ｂ１，Ｂ２、レジスト膜の上層側に形成される反射防止膜（以下「第１の反射防止膜」という）の形成処理を行うための第３の単位ブロック（ＴＣＴ層）Ｂ３、レジスト液の塗布処理を行うための第４の単位ブロック（ＣＯＴ層）Ｂ４、レジスト膜の下層側に形成される反射防止膜（以下「第２の反射防止膜」という）の形成処理を行うための第５の単位ブロック（ＢＣＴ層）Ｂ５として割り当てられている。ここで前記ＤＥＶ層Ｂ１，Ｂ２が現像処理用の単位ブロック、ＴＣＴ層Ｂ３、ＣＯＴ層Ｂ４、ＢＣＴ層Ｂ５が塗布膜形成用の単位ブロックに相当する。
【００１８】
続いて第１〜第５の単位ブロックＢ（Ｂ１〜Ｂ５）の構成について説明する。これら各単位ブロックＢ１〜Ｂ５は、ウエハＷに対して薬液を塗布するための液処理ユニットと、前記液処理ユニットにて行なわれる処理の前処理及び後処理を行なうための各種の加熱・冷却系の処理ユニットと、前記液処理ユニットと加熱・冷却系の処理ユニットとの間でウエハＷの受け渡しを行うための専用の搬送手段であるメインアームＡ１〜Ａ５と、を備えている。
【００１９】
これら単位ブロックＢ１〜Ｂ５は、この例では、各単位ブロックＢ１〜Ｂ５の間で、前記液処理ユニットと、加熱・冷却系の処理ユニットと、搬送手段との配置レイアウトが同じに形成されている。ここで配置レイアウトが同じであるとは、各処理ユニットにおけるウエハＷを載置する中心つまり液処理ユニットにおける後述するスピンチャックの中心や、加熱ユニットや冷却ユニットにおける加熱プレートや冷却プレートの中心が同じという意味である。
【００２０】
先ずＤＥＶ層Ｂ１，Ｂ２は同様に構成されているので、図１に示すＤＥＶ層Ｂ１を例にして説明する。このＤＥＶ層Ｂ１のほぼ中央には、ＤＥＶ層Ｂ１の長さ方向（図中Ｙ軸方向）に、キャリアブロックＳ１とインターフェイスブロックＳ３とを接続するためのウエハＷの搬送領域Ｒ１が形成されている。
【００２１】
この搬送領域Ｒ１のキャリアブロックＳ１側から見た両側には、手前側（キャリアブロックＳ１側）から奥側に向かって右側に、前記液処理ユニットとして、現像処理を行うための複数個の現像処理部を備えた現像ユニット３１が設けられている。各単位ブロックは、手前側から奥側に向かって左側に、順に加熱・冷却系のユニットを多段化した例えば４個の棚ユニットＵ１，Ｕ２，Ｕ３，Ｕ４が設けられており、この図では現像ユニット３１にて行なわれる処理の前処理及び後処理を行なうための各種ユニットを複数段、例えば２段ずつに積層した構成とされている。こうして前記搬送領域Ｒ１は区画されており、例えばこの区画された搬送領域Ｒ１に清浄エアを噴出させて排気することにより、当該領域内のパーティクルの浮遊を抑制するようになっている。
【００２２】
上述の前処理及び後処理を行うための各種ユニットの中には、詳細を図示しない露光後のウエハＷを加熱処理するポストエクスポージャーベーキングユニットなどと呼ばれている加熱ユニットや、この加熱ユニットにおける処理の後にウエハＷを所定温度に調整するための冷却ユニットや、現像処理後のウエハＷを水分を飛ばすために加熱処理するポストベーキングユニット等と呼ばれている加熱ユニット等が含まれている。これら加熱ユニットや冷却ユニット等の各処理ユニットは、加熱するための処理容器内に収納されており、棚ユニットＵ１〜Ｕ４は、前記処理容器が２段ずつ積層されて構成され、各処理容器の搬送領域Ｒ１に臨む面にはウエハ搬出入口５２が形成されている。
【００２３】
前記搬送領域Ｒ１には前記メインアームＡ１が設けられている。このメインアームＡ１は、当該ＤＥＶ層Ｂ１内の全てのモジュール（ウエハＷが置かれる場所）、例えば棚ユニットＵ１〜Ｕ４の各処理ユニット、現像ユニット３１、後述する棚ユニットＵ５と棚ユニットＵ６の各部との間でウエハの受け渡しを行うように構成されており、このために進退自在、昇降自在、鉛直軸回りに回転自在、Ｙ軸方向に移動自在に構成されている。
【００２４】
また搬送領域Ｒ１のキャリアブロックＳ１と隣接する領域は、第１のウエハ受け渡し領域Ｒ２となっていて、この領域Ｒ１には、図１及び図３に示すように、トランスファーアームＣとメインアームＡ１がアクセスできる位置に棚ユニットＵ５が設けられると共に、この棚ユニットＵ５に対してウエハＷの受け渡しを行うための基板受け渡し手段をなす受け渡しアームＤを備えている。
【００２５】
前記棚ユニットＵ５は、図３に示すように、各単位ブロックＢ１〜Ｂ５のメインアームＡ１〜Ａ５との間でウエハＷの受け渡しを行うように、この例では各単位ブロックＢ１〜Ｂ５は夫々、１個以上例えば２個の受け渡しステージＴＲＳ１〜ＴＲＳ５を備えており、これにより受け渡しステージを多段に積層した受け渡しステージ群が構成されている。また受け渡しアームＤは各受け渡しステージＴＲＳ１〜ＴＲＳ５に対してウエハＷの受け渡しを行うことができるように、進退自在及び昇降自在に構成されている。またＤＥＶ層Ｂ１，Ｂ２の受け渡しステージＴＲＳ１、ＴＲＳ２は、この例ではトランスファーアームＣとの間でもウエハＷの受け渡しが行なわれるように構成され、キャリアブロック用受け渡しステージを成している。
【００２６】
さらにこの例では、第２の単位ブロックＢ２は２個の受け渡しステージＴＲＳ−Ｆを備えており、この受け渡しステージＴＲＳ−ＦはトランスファーアームＣによりウエハＷを処理ブロックＳ２に搬入するための専用の受け渡しステージとして用いられる。
【００２７】
さらにまた搬送領域Ｒ１のインターフェイスブロックＳ３と隣接する領域には、図１及び図３に示すように、ＤＥＶ層Ｂ１，Ｂ２のメインアームＡ１，Ａ２がアクセスできる位置に棚ユニットＵ６が設けられている。この棚ユニットＵ６は、図３に示すように、各ＤＥＶ層Ｂ１，Ｂ２のメインアームＡ１，Ａ２との間でウエハＷの受け渡しを行うように、この例では各ＤＥＶ層Ｂ１，Ｂ２は、１個以上例えば２個の受け渡しステージＴＲＳ６，ＴＲＳ７を備えている。
【００２８】
また前記塗布膜形成用の単位ブロックＢ３〜Ｂ５は、いずれも同様に構成されている。ＴＣＴ層Ｂ３は、ＣＯＴ層Ｂ４と同様に構成され、液処理ユニットとして、ウエハＷに対して第１の反射防止膜の形成処理を行うための第１の反射防止膜形成ユニットが設けられている。ＢＣＴ層Ｂ５は、液処理ユニットとして、ウエハＷに対して第２の側反射防止膜の形成処理を行うための第２の反射防止膜形成ユニット３４が設けられている。
【００２９】
例えばＣＯＴ層Ｂ４を例にして図２（ａ），（ｂ）を用いて説明すると、液処理ユニットとしてウエハＷに対してレジスト液の塗布処理を行うための塗布ユニット３０が設けられている。この塗布ユニット３０では、ウエハＷはメインアームＡ４により搬入出口３９を介して処理容器３０内に搬入され、予め決定された塗布部（処理カップ）３２，３３，３４のいずれかのスピンチャック４２に受け渡される。そして供給ノズル３５から当該ウエハＷの中央部にレジスト液を供給すると共に、スピンチャック４２をモータ４１により回転させ、レジスト液を遠心力によりウエハＷの径方向に広げ、ウエハＷ表面にレジストの液膜を形成させる。こうしてレジストの液膜が形成されたウエハＷは搬入出口３９を介してメインアームＡ４により塗布ユニット３２の外部に搬出される。
【００３０】
このような塗布ユニット３０では、３個の塗布部（処理カップ）３２〜３４が共通の塗布ユニット３０の内部に設けられているので処理雰囲気は同じでなければならない。また、供給ノズル３５は共有して利用するために横方向に伸びる直動レール３７にノズル基台３６で塗布部（処理カップ）３２〜３４に移動できる。各塗布部（処理カップ）の横に塗布基板の周縁部の塗布膜を除去するためのサイドリンスノズル３８が備えてある。
【００３１】
ＣＯＴ層Ｂ４の棚ユニットＵ１〜Ｕ４には、レジスト液塗布前にウエハＷを所定温度に調整するための冷却ユニット（図示せず）や、レジスト液塗布後のウエハＷを加熱処理する加熱ユニット２３を備えている。ＤＥＶ層Ｂ１，Ｂ２も液処理が異なるだけで同様に構成されている。そしてこのＣＯＴ層Ｂ４では、メインアームＡ４により、棚ユニットＵ５の受け渡しステージＴＲＳ４と、塗布ユニット３２と、棚ユニットＵ１〜Ｕ４の各処理ユニットと、に対してウエハＷの受け渡しが行われるようになっている。
【００３２】
一方、処理ブロックＳ２における棚ユニットＵ６の奥側には、インターフェイスブロックＳ３を介して露光装置Ｓ４が接続されている。インターフェイスブロックＳ３には、処理ブロックＳ２のＤＥＶ層Ｂ１，Ｂ２の棚ユニットＵ６の各部と露光装置Ｓ４とに対してウエハＷの受け渡しを行うためのインターフェイスアームＢを備えている。このインターフェイスアームＢは、処理ブロックＳ２と露光装置Ｓ４との間に介在するウエハＷの搬送手段をなすものであり、この例では、前記ＤＥＶ層Ｂ１，Ｂ２の受け渡しステージＴＲＳ６，ＴＲＳ７に対してウエハＷの受け渡しを行うように、進退自在、昇降自在、鉛直軸回りに回転自在に構成されている。ここで前記受け渡しステージＴＲＳ６，ＴＲＳ７はインターフェイス用受け渡しステージに相当するものである。
【００３３】
このように本実施の形態では、５段に積層された各単位ブロックＢ１〜Ｂ５の間で、上述の受け渡しアームＤにより、夫々受け渡しステージＴＲＳ１〜ＴＲＳ５、ＴＲＳ−Ｆを介して、自由にウエハＷの受け渡しを行なうことができると共に、上述のインターフェイスアームＢにより、現像処理用の単位ブロックＢ１，Ｂ２を介して処理ブロックＳ２と露光装置Ｓ４との間でウエハＷの受け渡しを行なうことができるように構成されている。
【００３４】
本願考案をより詳細に説明する。図２（ｂ）は塗布部（処理カップ）３２〜３４の断面である。上処理カップ４０に囲われてスピンチャック４２とスピンチャックを回転させるモータ４１と排気４３がそれぞれの塗布部（処理カップ）３２〜３４に備えてある。その塗布部（処理カップ）３２〜３４の直上にはＵＬＰＡフィルタ５０が設けられている。このＵＬＰＡフィルタ５０の両側から濾過前の所定の温度湿度の調整された気体を供給してＵＬＰＡフィルタ５０でパーティクルが濾過される。
【００３５】
このＵＬＰＡフィルタ５０から供給されるエア雰囲気は塗布部（処理カップ）３２〜３４の処理雰囲気が同じでなければプロセス的な間差が出てしまう。そのため、処理カップに流下される気体（ダウンフロー）を形成するエアの供給や、このエアの排気を行う手段についても共用化されている。この点はＵＬＰＡフィルタ５０を塗布部（処理カップ）３２〜３４毎に設けるよりもフィルタ取付け機構や占有面積を削減できる。塗布部（処理カップ）３２〜３４は共通の雰囲気内に配置されているので、各塗布部（処理カップ）３２〜３４にて常に同じ雰囲気内でレジスト液の塗布処理を行うことができて、雰囲気に影響されるレジスト液の塗布処理を間差なく均一に行うことができる。
【００３６】
またＵＬＰＡフィルタ５０は塗布ユニット３０を積層するために厚みを薄くすることが求められており、ＵＬＰＡフィルタ５０を構成するフィルタエレメント１０（具体的には、後述する濾過基材）の厚みｈが例えば１５ｍｍ以上３５ｍｍ以下の範囲で選択される。その構造の詳細は図４及び図５に示される山谷折状にプリーツ加工された濾過基材１１を矩形に並べ四方を例えばアルミ材の保形部材１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄで囲うものであり、これをフィルタエレメント１０と称している。なお、濾過基材１１の上部には、ジグザグ状に屈曲された線材からなるプリーツ保持金具１４が被着されており、このプリーツ保持金具１４によって濾過基材１１のプリーツ形状が保持されている。
【００３７】
図６にはＵＬＰＡフィルタ５０がフィルタエレメント１０を取付けするエレメントケース５１に収められている断面図を示している。このエレメントケース５１は、フィルタエレメント１０を収容すると共に、フィルタエレメント１０の上方に左右に位置する送風ダクトＲ，Ｌに連通する気流通路５１ａを有しており、送風ダクトＲ，Ｌの向かい合う両端側から濾過前気体を流入させるように構成されている。
【００３８】
フィルタエレメント１０は前述した塗布部（処理カップ）３２〜３４をカバーする濾過領域を有しないとならないために横長のサイズとなり両側の送風ダクトＲ，Ｌから供給される気体がフィルタケース内でぶつかり合ってフィルタエレメント１０の濾過基材１１のプリーツ部の谷部に当たる影響もあって濾過されて通気する気体の流量が濾過領域でばらついてしまう。図６の気流Ａはその状態を示すものであり、中央部で単位時間当たりの気流の流量が多く、逆に両側の送風ダクトＲ，Ｌ近傍で供給される気流方向に対して濾過基材１１の通過面になる位置ほどフィルタエレメント１０に濾過されて処理部（処理カップ）３２〜３４に流下される気流Ａが少ない。
【００３９】
そこで本考案を図７に断面図で示す。前述の気流のばらつきを均一にする必要からフィルタエレメント１０のエレメントケース５１側の上面に不織布シート５２（以下に単に不織布５２という）を濾過領域の全面に被せて、その不織布５２の上に固定のために網目状の押さえ部材例えばラス網部材５３で覆う構成をとする。不織布５２はレーヨン，ポリエステル，ポリプロピレン，ポリエチレン，ナイロンなどの合成樹脂原料で形成された厚み２ｍｍ〜２０ｍｍであり、ラス網部材５３はアルミ材、ステンレス材、あるいは合成樹脂材で形成され、例えばメッシュ寸法が縦２５ｍｍ横１５ｍｍのもが使用される。
【００４０】
これにより、エレメントケース５１に両側から供給される気体が乱流を起こしたとしても不織布５２を通過するときに圧損として作用させ、またプリーツ面１３の様に凹凸も無いことからフィルタエレメント１０を通過する濾過前気体が濾過領域で均等圧となり、図７に示す気流Ｂの様にフィルタエレメント内を通過する流量にばらつきがなくなる。
【００４１】
さらに濾過領域での流量のばらつきを無くすために、図７に示される送風ダクトＲ，Ｌに接続される側の丸囲いＹ１，Ｙ２の部分のフィルタエレメント１０に整流板５４を設けて流入する濾過前気体の流れを整流して乱流を起こさせないように抑制させることも効果的である。図８及び図９（ａ），（ｂ）はＹ１の部分を拡大して示す図である。図８はフィルタケース５１にフィルタエレメント１０が配置される断面図であり、エレメントケース５１の気流通路５１ａにおいて、フィルタエレメント１０の端部から立ち上がり中心に向けて斜め例えば角度２０度で設けられている。この整流板５４は図９（ａ），（ｂ）に図示するようにパンチングによる通気孔５５が複数設けられており、フィルタエレメントの濾過領域に対して略均等に濾過前気体が当たるように構成させるためのものである。この整流板５４は図９（ａ）に図示するようにフィルタエレメント１０の取付け位置（傾斜下部）から上方（傾斜上部）に向かうに連れて通気孔５５の数を減らしてもよく、図９（ｂ）に図示するように傾斜下部から傾斜上部に向かうに連れて通気孔５５の開口率を小さく変えて配置されてもよい。
【００４２】
前記実施形態では、フィルタエレメント１０のエレメントケース５１側の上面に不織布５２を濾過領域の全面に被せて、その不織布５２の上に固定のためにラス網部材５３で覆う二層構造について説明したが、本考案は必ずしもこの様な構造に限定されるものではない。例えば、図１０に示すように、ラス網部材５３の上面における濾過前気体が通過する濾過領域に合成樹脂製の不織布５２を更に被着した三層構造としてもよい。
【００４３】
このようにフィルタエレメント１０のエレメントケース５１側の上面に、不織布５２，ラス網部材５３及び不織布５２の三層構造とすることにより、更に気流の整流化が図れ気流の分布を均一にすることができる。
【符号の説明】
【００４４】
Ｗ              ウエハ
Ｓ１            キャリアステーションブロック
Ｕ５            棚ユニット
Ｓ２            処理ブロック
Ｕ６            棚ユニット
Ｓ３            インターフェイスブロック
１０            フィルタエレメント
１１            濾過部材
１２ａ〜１２ｄ  保形部材
３０            塗布ユニット
３２，３３，３４塗布部（処理カップ）
５０          ＵＬＰＡフィルタ
５１          フィルタケース
５１ａ        気流通路
５２          不織布（不織布シート）
５３          ラス網部材（押さえ部材）
５４          整流板
５５          通気孔
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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