【事件の表示】
　特願２００５−１９５８６０「保護被覆堆積方法および複合物品」拒絶査定不服審判事件〔平成１８年２月２３日出願公開、特開２００６−５２４６７〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
Ｉ．手続の経緯・本願発明
　本願は、平成１７年７月５日（パリ条約による優先権主張２００４年８月９日、米国）の出願であって、平成２０年３月１３日付で拒絶査定がなされ、これに対し、平成２０年６月１６日に拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに、平成２０年７月１６日付で手続補正がなされたものである。
　
ＩＩ．平成２０年７月１６日付の手続補正についての補正却下の決定
　
［補正却下の決定の結論］
　平成２０年７月１６日付の手続補正を却下する。
　
［理由］
１．補正後の本願発明
　本件補正は、補正前の請求項１〜１２を、請求項１〜４にする補正を含むものであって、補正後の請求項１は、次のとおりのものである。
「【請求項１】　複雑な形状を有するＳｉベースの基材に保護被覆を堆積させる方法であって、
　一体型ベーンリングおよびブレード一体型ロータを含む、複雑な形状をなすＳｉベースの基材を提供するステップと、
　化学蒸着法により、上記基材上に中間の絶縁層を堆積させるステップと、
　化学蒸着法、物理蒸着法、および融解塗装のうち１つの方法により、上記絶縁層に電気的導電層を堆積させるステップと、
　電気泳動堆積および化学蒸着法のうち１つの方法により、上記導電層にボンディングコートを堆積させるステップと、
　電気泳動堆積（ＥＰＤ）により、前記ボンディングコート上に少なくとも１層のバリヤ層を保護被覆として堆積させるステップと、
　を含む保護被覆堆積方法であって、
　上記絶縁層が、ＳｉＣと、Ｓｉ３Ｎ４と、希土類酸化物と、Ｙ，Ｓｉ，Ｈｆ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｔｉの酸化物と、およびそれらの混合物と、からなる群から選択され、
　上記導電層が、Ｃｒ、Ｔａ、Ｈｆ、Ｎｂ、Ｓｉ、Ｍｏ、Ｔｉ、Ｗ、Ａｌ、Ｚｒ、Ｙ、およびそれらの混合物からなる群から選択される物質を含み、
　上記ボンディングコートが、Ｔａ、Ｈｆ、Ｎｂ、Ｓｉ、Ｍｏ、Ｔｉ、Ｗ、Ａｌ、Ｚｒ、Ｙ、Ｃｒ、あるいはそれらの混合物からなる群から選択され、
　上記少なくとも１層のバリヤ層が、一ケイ酸イットリウム、二ケイ酸イットリウム、希土類ケイ酸塩、アルミノケイ酸ストロンチウムバリウム、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化チタン、ムライト、およびそれらの混合物からなる群から選択されることを特徴とする保護被覆堆積方法。」（以下、「本願補正発明１」という。）
　
　補正後の請求項１は、補正前の請求項１１（下記参照）において、「複雑な形状をなすＳｉベースの基材」を、「一体型ベーンリングおよびブレード一体型ロータを含む、複雑な形状をなすＳｉベースの基材」に、「上記基材上に・・・絶縁層を堆積させるステップ」を、「化学蒸着法により、上記基材上に・・・絶縁層を堆積させるステップ」に変更するとともに、「上記絶縁層が、ＳｉＣと、Ｓｉ３Ｎ５と、希土類酸化物と、Ｙ，Ｓｉ，Ｈｆ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｔｉの酸化物と、およびそれらの混合物と、からなる群から選択され」、「上記導電層が、Ｃｒ、Ｔａ、Ｈｆ、Ｎｂ、Ｓｉ、Ｍｏ、Ｔｉ、Ｗ、Ａｌ、Ｚｒ、Ｙ、およびそれらの混合物からなる群から選択される物質を含み」、並びに、「上記少なくとも１層のバリヤ層が、一ケイ酸イットリウム、二ケイ酸イットリウム、希土類ケイ酸塩、アルミノケイ酸ストロンチウムバリウム、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化チタン、ムライト、およびそれらの混合物からなる群から選択される」という事項を付加するものである。この補正は、Ｓｉベースの基材を部材の観点で、絶縁層を堆積させるステップを堆積手段の観点で、絶縁層、導電層、及びバリヤ層を材料の観点で、それぞれさらに限定するものであるから、特許法第１７条の２第４項第２号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的としたものに該当する。
　
　ただし、補正前の請求項１、５、９、１０、１１は、それぞれ次のとおりである。
　「【請求項１】　複雑な形状を有するＳｉベースの基材に保護被覆を堆積させる方法であって、
　複雑な形状をなすＳｉベースの基材を提供するステップと、
　化学蒸着法、物理蒸着法、および融解塗装のうち１つの方法により、上記基材に電気的導電層を堆積させるステップと、
　電気泳動堆積（ＥＰＤ）により少なくとも１層のバリヤ層を保護被覆として堆積させるステップと、
　を含む保護被覆堆積方法。」
　「【請求項５】　上記基材と上記導電層との間に中間の絶縁層を堆積させるステップをさらに含む請求項１に記載の堆積方法。」
　「【請求項９】　上記導電層にボンディングコートを堆積させるステップをさらに含む請求項５に記載の堆積方法。」
　「【請求項１０】　上記ボンディングコートの物質が、Ｔａ、Ｈｆ、Ｎｂ、Ｓｉ、Ｍｏ、Ｔｉ、Ｗ、Ａｌ、Ｚｒ、Ｙ、Ｃｒ、あるいはそれらの混合物からなる群から選択されることを特徴とする請求項９に記載の堆積方法。」
　「【請求項１１】　電気泳動堆積および化学蒸着法の１つの方法で上記ボンディングコートを堆積させることを特徴とする請求項１０に記載の堆積方法。」
　
　そこで、補正前の請求項１１の引用形式を独立形式に書き直すと、次のとおりとなる。
　「【請求項１１】　複雑な形状を有するＳｉベースの基材に保護被覆を堆積させる方法であって、
　複雑な形状をなすＳｉベースの基材を提供するステップと、
　上記基材上に中間の絶縁層を堆積させるステップと、
　化学蒸着法、物理蒸着法、および融解塗装のうち１つの方法により、上記絶縁層に電気的導電層を堆積させるステップと、
  電気泳動堆積および化学蒸着法のうち１つの方法により、上記導電層にボンディングコートを堆積させるステップと、
　　電気泳動堆積（ＥＰＤ）により、前記ボンディングコート上に少なくとも１層のバリヤ層を保護被覆として堆積させるステップと、
　を含む保護被覆堆積方法であって、
　上記ボンディングコートが、Ｔａ、Ｈｆ、Ｎｂ、Ｓｉ、Ｍｏ、Ｔｉ、Ｗ、Ａｌ、Ｚｒ、Ｙ、Ｃｒ、あるいはそれらの混合物からなる群から選択されることを特徴とする保護被覆堆積方法。」
　
　次に、本願補正発明１が、特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか否か、すなわち特許法第１７条の２第５項で準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか否かについて、以下検討する。
　
２．引用刊行物とその記載事項
　原査定の拒絶の理由に引用された特開２０００−３４５３１５号公報（以下、「引用例１」という。）、特開平３−４７９７７号公報（以下、「引用例２」という。）、特開昭５８−８１９９５号公報（以下、「引用例３」という。）、及び特表平９−５０９４５４号公報（以下、「引用例４」という。）には、次の事項が記載されている。
（１）引用例１：特開２０００−３４５３１５号公報
（１ａ）「【請求項１】  物品を製造するための方法であって、（ａ）シリコン含有基板を用意するステップ、（ｂ）シリコン含有基板を・・・加熱するステップ、（ｃ）・・・シリコン含有基板にバリウム−ストロンチウムアルミノ珪酸塩からなるバリア層を形成してコーティング済み基板を用意するステップ、（ｄ）その後、コーティング済み基板を・・・保持するステップ、および（ｅ）コーティング済み基板を冷却するステップ、を有してなる方法。
・・・（中略）・・・
【請求項１７】  ステップ（ｂ）からステップ（ｅ）の前に少なくとも１つの中間層を形成するステップを含む、請求項１記載の方法。」（特許請求の範囲の請求項１、１７）
（１ｂ）「【請求項２２】  ２つの中間層を形成することを含む、請求項１７記載の方法。」（特許請求の範囲の請求項２２）
（１ｃ）「【請求項２３】  ・・・ボンド層を基板に形成し、その後に・・・中間層をステップ（ｂ）からステップ（ｅ）の前に形成することを含む、請求項２２記載の方法。」（特許請求の範囲の請求項２３）
（１ｄ）「環境的／熱的保護バリアコーティング層として機能するバリウム−ストロンチウムアルミノ珪酸塩・・・のバリア層」（【０００１】）
（１ｅ）「シリコンを含有するセラミック材やシリコンを含有する金属合金を高温用途、例えばガスタービンエンジンや熱交換器、内燃機関エンジン等に用いることが提案されている。」（【０００２】）
（１ｆ）「バリア層は、物品が高温で水分が存在する環境に曝されたときに実質的に、クラックがなく、またシリコンのガス状化合物の形成を防ぐ。」（【０００８】）
（１ｇ）「バリア層は・・・適宜任意の従来の手法によって形成することができるが、好適には、バリア層は、後述するように溶射(thermal spray) により形成される。」（【００１２】）
（１ｈ）「中間層により、バリア層と基板との間の接着力向上及び／またはバリア層と基板との間の反応の抑制がなされる。例えば、中間層は・・・金属シリコン（silicon metal ）により形成することができる。・・・中間層の形成は・・・従来の手法により行われ、好適には、後述するように溶射により行なわれる。」（【００１３】）
（１ｉ）「接着性を向上するためには、中間層・・・の形成を行う前に、シリコンベースの基板を予め酸化することが特に有用である。・・・シリコン−カーバイド基板を・・・酸化することで、ＳｉＯ２ボンド層・・・とすることができる。」（【００１７】）
　
（２）引用例２：特開平３−４７９７７号公報
（２ａ）「曲面を有する・・・ステンレス鋼板１に・・・アルミノ珪酸塩系ガラス粉末を電気泳動電着し・・・焼成して・・・ガラス被覆層２を形成した。」（２頁右上欄９〜１３行）
　
引用例３：特開昭５８−８１９９５号公報
（３ａ）「（１）・・・金属酸化物微粒子を電気泳動で析出せしめた後、焼結を行って導電物質上に金属酸化物膜を形成することを特徴とする金属酸化物膜の形成方法。」（特許請求の範囲）
（３ｂ）「本発明は・・・薄膜の形成が容易であり、又、複雑な形状へも対応しうる・・・金属酸化物膜の形成方法であ・・・る。」（１頁右下欄１〜８行）
　
（４）引用例４：特表平９−５０９４５４号公報
（４ａ）「１．基材（１６）上に金属酸化物コーティングを電気泳動法によって堆積する方法において・・・前記基材（１６）に金属水和物の微粒子を電気泳動法を用いて堆積させるステップと・・・前記金属水和物をその対応する金属酸化物に変換するステップと、を有することを特徴とする方法。」（特許請求の範囲の請求項１）
（４ｂ）「基材材料としては・・・一般的には、導電性であることが知られている、又は、導電性にすることのできる全ての材料を使用することができる。」（９頁７〜１２行）
（４ｃ）「本発明は、翼のような平坦な形状及びいかなる適当な形状と形態を有する構造材料に対しても・・適用可能である。」（９頁１６、１７行）
　　
３．当審の判断
３−１．引用例１に記載の発明
　引用例１の摘記事項（１ａ）によれば、 物品を製造するための方法であって、（ａ）シリコン含有基板を用意するステップ、少なくとも１つの中間層を形成するステップ、（ｃ）バリウム−ストロンチウムアルミノ珪酸塩からなるバリヤ層を形成するステップを順次含む方法が記載され、摘記事項（１ｂ）によれば、中間層は２つであること、摘記事項（１ｃ）によれば、中間層を形成する前に、基板にボンド層を形成することが記載されている。すると、上記方法は、物品を製造するための方法であって、シリコン含有基板を用意するステップと、基板上にボンド層を形成するステップと、上記ボンド層に２つの中間層を形成するステップと、上記中間層上にバリウム−ストロンチウムアルミノ珪酸塩からなるバリヤ層を形成するステップとを含む方法であるといえる。
　そして、摘記事項（１ｇ）によれば、バリヤ層は、適宜任意の従来の手法によって形成されるものであって、溶射（堆積による手法）が例示されているから、従来の手法には溶射以外の堆積による手段も含まれるといえるし、摘記事項（１ｄ）、（１ｆ）によれば、バリヤ層は、保護被覆であることが理解できる。また、摘記事項（１ｈ）によれば、中間層は、金属シリコンからなり、従来の手法により形成されるものであって、溶射（堆積による手法）が例示されているから、従来の手法には溶射以外の堆積による手段も含まれるといえる。すると、上記２つの中間層を形成するステップは、従来の手法により、ボンド層に金属シリコンからなる第１の中間層を堆積し、次いで、従来の手法により、第１の中間層に金属シリコンからなる第２の中間層を堆積する場合を包含することが理解できる。さらに、摘記事項（１ｉ）によれば、ボンド層は、ＳｉＯ２からなり、シリコンベース基板を酸化することにより形成されることが記載され、ＳｉＯ２からなるボンド層は、絶縁層であるといえる。
　そこで、引用例１の摘記事項（１ａ）〜（１ｄ）、（１ｆ）〜（１ｉ）の記載を総合すると、引用例１には、「Ｓｉベース基板に保護被覆を堆積させる方法であって、Ｓｉベース基板を用意するステップと、上記基板の酸化により、上記基板上に中間の絶縁層を形成させるステップと、従来の手法により、上記絶縁層に第１の中間層を堆積させるステップと、従来の手法により、上記第１の中間層に第２の中間層を堆積させるステップと、従来の手法により、上記第２の中間層上にバリヤ層を保護被覆として堆積させるステップと、を含む保護被覆堆積方法であって、上記絶縁層がＳｉの酸化物であり、上記第１の中間層がＳｉであり、上記第２の中間層がＳｉであり、上記バリヤ層が、アルミノ珪酸塩ストロンチウムバリウムである保護被覆堆積方法。」（以下、「引用例１発明」という。）が記載されていることになる。
　
３−２．対比・判断
　本願補正発明１と引用例１発明とを対比すると、引用例１発明の「第１の中間層」及び「第２の中間層」は、ともにＳｉであるから、それぞれ本願補正発明１のＳｉを選択した場合の「電気的導電層」、「ボンディングコート」に相当するし、引用例１発明の「基板」は、本願補正発明１の「基材」に相当する。さらに、本願補正発明１の「絶縁層を堆積させるステップ」は、「絶縁層を形成させるステップ」ともいえるから、両者は、
　「Ｓｉベースの基材に保護被覆を堆積させる方法であって、Ｓｉベースの基材を提供するステップと、上記基材上に中間の絶縁層を形成させるステップと、上記絶縁層に電気的導電層を堆積させるステップと、上記導電層にボンディングコートを堆積させるステップと、前記ボンディングコート上に少なくとも１層のバリヤ層を保護被覆として堆積させるステップと、を含む保護被覆堆積方法であって、上記絶縁層が、Ｓｉの酸化物から選択され、上記導電層が、Ｓｉから選択される物質を含み、上記ボンディングコートが、Ｓｉから選択され、上記少なくとも１層のバリヤ層が、アルミノケイ酸ストロンチウムバリウムから選択されることを特徴とする保護被覆堆積方法。」で一致し、次の点で相違する。
　
相違点：
（イ）本願補正発明１は、基材が、「複雑な形状を有する」ものであって、「一体型ベーンリングおよびブレード一体型ロータを含む」のに対し、引用例１発明は、基材についてこの点が記載されていない点
（ロ）本願補正発明１は、絶縁層を、「化学蒸着法により、堆積させる」のに対し、引用例１発明は、絶縁層を、基材の酸化により形成させる点
（ハ）本願補正発明１は、電気的導電層を、「化学蒸着法、物理蒸着法、および融解塗装のうち１つの方法により」堆積させるのに対し、引用例１発明は、電気的導電層を、従来の手法により堆積させる点
（ニ）本願補正発明１は、ボンディングコートを、「電気泳動堆積および化学蒸着法のうち１つの方法により」堆積させるのに対し、引用例１発明は、ボンディングコートを、従来の手法により堆積させる点
（ホ）本願補正発明１は、バリヤ層を、「電気泳動堆積（ＥＰＤ）により」堆積させるのに対し、引用例１発明は、バリヤ層を、従来の手法により堆積させる点
　
　上記相違点について検討する。
相違点（イ）について
　引用例１の摘記事項（１ｅ）によれば、ガスタービンエンジンや熱交換器、内燃機関エンジン等の用途が記載されているから、基材を、一体型ベーンリングおよびブレード一体型ロータを含む複雑な形状を有するものとすることは、当業者にとって困難なことではない。
　してみると、相違点（イ）は、引用例１のその他の記載から当業者が適宜なし得たことである。
　
相違点（ロ）について
　引用例１発明の絶縁層は、酸化法により形成されたＳｉの酸化物（ＳｉＯ２）層であるが、Ｓｉの酸化物層を、化学蒸着法により堆積させて形成することは周知である。そうであれば、引用例１の絶縁層を、酸化法に代えて化学蒸着法により堆積させることは、当業者にとって困難なことではない。
　してみると、相違点（ロ）は、当業者が適宜なし得たことである。
　
相違点（ハ）、（ニ）について
　被覆層の堆積による形成手法として、電気泳動堆積、化学蒸着法、物理蒸着法は周知であるから、引用例１発明の電気的導電層を、化学蒸着法及び物理蒸着法のうちの１つの方法により堆積させ、同じくボンディングコートを、電気泳動堆積及び化学蒸着法のうち１つの方法により堆積させることは、当業者にとって創意を要することではない。
　してみると、相違点（ハ）（ニ）は、当業者が適宜なし得たことである。
　
相違点（ホ）について
　引用例１発明のバリヤ層は、複雑な形状を有する基材にアルミノケイ酸ストロンチウムバリウムを堆積させたものである。
　これに対し、引用例２の摘記事項（２ａ）によれば、アルミノ珪酸系ガラス粉末を電気泳動堆積により堆積させることが記載され、さらに、引用例３の摘記事項（３ａ）、（３ｂ）によれば、電気泳動堆積は、複雑な形状にも対応しうること、引用例４の摘記事項（４ａ）、（４ｃ）によれば、電気泳動堆積は、いかなる適当な形状と形態を有する構造材料に対しても適用可能であることが記載されている。これらの記載によれば、電気泳動堆積は、複雑な形状の基材にアルミノ珪酸系化合物を堆積させる手法として適していることが理解できる。
　そうであれば、引用例１発明のバリヤ層を電気泳動堆積により堆積させることは、当業者が容易に想到することであるから、相違点（ホ）は、引用例２〜４の記載から当業者が適宜なし得たことである。
　
　そして、本願補正発明１の奏する効果も引用例１〜４の記載から予測される範囲のものであって、格別顕著なものとは認められない。
　
　したがって、本願補正発明１は、引用例１〜４に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　　
４．むすび
　以上のとおり、本願補正発明１は、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　したがって、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
ＩＩＩ．本願発明について
１．本願発明
　平成２０年７月１６日付の手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１１に係る発明（以下、「本願発明１１」という。）は、平成２０年２月８日付手続補正書により補正された明細書の特許請求の範囲の請求項１１に記載された事項により特定される次のとおりのものと認められる（上記「ＩＩ．１．補正後の本願発明」において、引用形式を独立形式に書き直した補正前の請求項１１に該当）。
　「【請求項１１】　複雑な形状を有するＳｉベースの基材に保護被覆を堆積させる方法であって、
　複雑な形状をなすＳｉベースの基材を提供するステップと、
　上記基材上に中間の絶縁層を堆積させるステップと、
　化学蒸着法、物理蒸着法、および融解塗装のうち１つの方法により、上記絶縁層に電気的導電層を堆積させるステップと、
  電気泳動堆積および化学蒸着法のうち１つの方法により、上記導電層にボンディングコートを堆積させるステップと、
　　電気泳動堆積（ＥＰＤ）により、前記ボンディングコート上に少なくとも１層のバリヤ層を保護被覆として堆積させるステップと、
　を含む保護被覆堆積方法であって、
　上記ボンディングコートが、Ｔａ、Ｈｆ、Ｎｂ、Ｓｉ、Ｍｏ、Ｔｉ、Ｗ、Ａｌ、Ｚｒ、Ｙ、Ｃｒ、あるいはそれらの混合物からなる群から選択されることを特徴とする保護被覆堆積方法。」
　
２．引用刊行物とその記載事項
　原査定の拒絶の理由に引用された引用例１〜４とその主な記載事項は、前記「ＩＩ．２．」に記載したとおりである。
　
３．当審の判断
　本願発明１１を特定するに必要な事項を全て含み、さらに具体的に限定したものに相当する本願補正発明１が、前記「ＩＩ．３．」に記載したとおり、引用例１〜４に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたのであるから、本願発明１１も同様の理由で、引用例１〜４に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
４．むすび
　以上のとおり、本願発明１１は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、その余の発明について検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。