【事件の表示】
　平成８年特許願第５１７７０８号「大形加工物用のプラズマ加工機」拒絶査定不服審判事件〔平成８年６月１３日国際公開、ＷＯ９６／１８２０８、平成１３年８月１４日国内公表、特表２００１−５１１９４５〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯・本願発明
　本願は、１９９５年１２月５日（パリ条約による優先権主張外国庁受理１９９４年１２月６日、米国）を国際出願日とする出願であって、請求項１〜１５に係る発明は、平成１６年２月９日付の手続補正書により補正された明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１〜１５に記載された事項により特定されるとおりである。そのうち、請求項７に係る発明（以下、「本願発明７」という。）は、請求項１を引用する請求項７に記載された事項により特定されるものであるから、請求項１及び請求項７に記載された事項をまとめると次のとおりである。
　
　「加工物を取り付ける真空室を備え、加工物をプラズマで処理する装置であって、
　加工物を処理するプラズマに変えることができるガスを室内へ導入する手段と、
　室の外部で生じる高周波磁界を引き起こすための電源を備え、該電源は、各窓に１つずつ対応する複数の励磁装置を備えており、各励磁装置は対応の窓を介して結合される高周波磁界を発生するように配置されており、ガスをプラズマに変える手段と、
　窓を介して結合した磁界がプラズマを励磁するように、室の外表面上に個別に支持されて高周波磁界をガスに結合させるように配置された複数の誘電体窓とを有しており、
　室の内部と外部との間の圧力差に耐えるために、窓は、複数の窓と同じ合計面積を備えた単一窓の厚さより相当に薄くなっている
　ことを特徴とする装置。」
　
２．引用刊行物及びその摘記事項
　原査定の拒絶の理由に引用した本願の優先日前に国内に頒布された特開平４−３６２０９１号公報（以下、「刊行物」という。）、及び拒絶査定の周知例として引用された特開平５−１５２２１６号公報（以下、「周知文献」という。）には、次の事項が記載されている。
　
（１）刊行物（特開平４−３６２０９１号公報）の摘記事項
（１ａ）「【００１０】【課題を解決するための手段】本発明は・・・次の手段を講ずる。
　【００１１】すなわち、プラズマＣＶＤ装置として、（１）誘電体製の窓を持つ真空容器と、同窓に対向して、同真空容器内に配置される基板と、上記窓に対向して上記真空容器外に設けられるアンテナ型放電手段と、同アンテナ型放電手段に電力を供給する高周波電源とを設ける。
（２）請求項１のプラズマＣＶＤ装置において、アンテナ型放電手段の軸にその軸を直交し、かつ真空容器を囲んで設けられるコイルと、同コイルに電力を供給する交流電源とを設ける。
　【００１２】【作用】（１）上記手段により、真空容器に反応ガスが導入され、アンテナ型放電手段に電力が供給されると、アンテナ型放電手段から電波が基板に向けて放射される。この電磁波により真空容器内にプラズマが発生し、これにより反応ガスが反応して、基板上にＣＶＤにより薄膜が形成される。
　【００１３】このようにして、大形基板に薄膜が形成でき、かつ真空容器内に電極がないため電極からの不純物の発生および膜のはがれが発生しない。
（２）コイルに交流電源から通電すると交流磁界が軸方向に発生する。この磁界は上記（１）の電波の電界と直交する方向に発生するため、電波で発生するプラズマが揺動され、基板上により均一に薄膜が形成される。」
（１ｂ）「【００１４】【実施例】本発明の請求項１に係る第１実施例を図１から図５により説明する。
　・・・
　【００１６】図１にて、真空容器２１は両側面に石英ガラス窓２３を持つ。また真空容器２１の中央部には両側面が窓２３に平行な面を持つ加熱ヒータ３０が設けられる。さらに加熱ヒータ３０の両側面上に、ほぼ窓２３の大きさの基板２２が、配置される。
 【００１７】また窓２３の外側近傍にアンテナ型放電用電極２４が軸をほぼ鉛直に設けられ、アルミ製の高周波遮断箱２８で覆われる。さらにアンテナ型放電用電極２４はそれぞれ高周波（ＲＦ）同調回路２５を介して高周波（ＲＦ）電源２７にケーブル２６でつながれる。
 【００１８】アンテナ型放電用電極２４部は、その詳細を図２に示すように、ほぼ窓１３の外形寸法を持つはしご型に導体素子が配置され、その両側の素子にＲＦがＲＦ同調回路２５を介してフィードされる。またこれらの部分の電気回路図を図３に示す。
 【００１９】以上において、例えば成膜用の基板２２（ガラス、シリコンウエハ等）上にアモルファスシリコンの薄膜を形成するとき、真空容器２１内にＳｉＨ４ガスが送られる。真空容器２１内の圧力は０．１〜１Ｔｏｒｒ程度に維持されるとともに基板２２がヒータ３０で所定の温度に加熱される。ここで１３．５６ＭＨｚのＲＦ電源２７からＲＦ同調回路２５を経てアンテナ型放電用電極２４にＲＦ電力を供給する。すると図４に示すような電極２４から基板２２に進むにつれ均一な分布となる電界分布の電波が発生する。すなわち電極２４近傍においては電界は、電極素子の中心から同心円方向に放射される凹凸の分布であるが、２０ｍｍ、４０ｍｍと基板２２に向け遠ざかるにしたがって電界分布が平坦になる。この平坦な分布の電界により容器２１内に均一なプラズマ２９が生じる。このプラズマ２９により反応ガスは反応して、ＣＶＤにより基板２２上に均一なアモルファスシリコンの薄膜が形成される。
 【００２０】ここでＲＦ遮断箱２８は電極２４からの電波を容器２１内に送り外部に漏らさない作用をする。またＲＦ同調回路２５はＲＦ電源２７からの電力を効率よく電極２４に送る作用をする。このようにして、大形基板２２に薄膜が形成でき、かつ真空容器２１内に電極がないため電極からの不純物の発生および膜のはがれが発生しない。また石英ガラス窓２３が曇っても、電波を利用しているため影響を受けない装置がえられる。」
（１ｃ）図１には、真空容器２１は両側面に個別に２枚の石英ガラス窓２３を持ち、各石英ガラス窓２３には１つずつ対応する２枚のアンテナ型放電用電極２４を備え、ＲＦ電源２７からこのアンテナ型放電用電極２４にＲＦ電力を供給していること、及び真空容器２１の上部には、ガス導入口を備えることが示されている。
　
（２）周知文献（特開平５−１５２２１６号公報）の摘記事項
（２ａ）「【００２３】図２は、マイクロ波導入窓５を構成する誘電体円盤状部材の厚さに対するマイクロ波の反射率の変化の様子を示したもので、誘電体媒質を持つ導波管内のマイクロ波波長をλｇとすると、マイクロ波の反射率が最小となるマイクロ波導入窓５の厚さｔは、ｔ＝λｇ／２で与えられる。
 【００２４】そして、実用上の許容範囲として、反射率を５％以内に抑える場合、マイクロ波の周波数が２．４５ＧＨｚとすると、マイクロ波導入窓５の材質が石英の場合にはｔ＝３３±１ｍｍであり、アルミナセラミックスを選んだ場合には、ｔ＝２１±１ｍｍとすればよいことが判る。
 【００２５】上記の厚みを持つマイクロ波導入窓は、プラズマ処理に必要な真空荷重に対する強度も満たさなければならない。図３は、マイクロ波導波管直径(マイクロ波導入窓５の直径に等しい)Ｄと反射率が最小となる窓の厚みｔの関係とともに、真空荷重について円板に加わる分布荷重モデルを考え、石英及びアルミナセラミックスについて応力に対する安全係数を１０としたときのマイクロ波導入窓の直径Ｄと安全範囲を満たす厚みｔの関係を示したものである。
 【００２６】この図３から明らかなように、直径Ｄと厚さｔの関係を表す直線の上側領域が安全範囲となり、円板の材質が石英の場合にＤ＝２００ｍｍ以上、アルミナセラミックスの場合でＤ＝１００ｍｍ以上において、反射率が最小となる厚さｔは一定値を取ることが判る。また、強度に関しては、厚さｔ＝３３ｍｍの石英に対して円形マイクロ波導入窓直径Ｄ＝５８０ｍｍ以下、厚さｔ＝２１ｍｍのアルミナセラミックスに対して円形マイクロ波導入窓直径Ｄ＝７６０ｍｍ以下であれば、真空荷重に対する安全範囲を満たしていることが判る。」
（２ｂ）図３には、マイクロ波導波窓の直径Ｄに対する厚みｔの安全限界値を示す特性図であって、マイクロ波導入窓の直径が増加するにつれその厚みも増加する傾向にあること、及び円板の材質が石英であって、マイクロ波導波管直径(マイクロ波導入窓５の直径に等しい)Ｄが２００ｍｍのとき、窓の厚みｔが約１１ｍｍ、マイクロ波導波管直径Ｄが５８０ｍｍのとき、窓の厚みｔが３３ｍｍであることが示されている。
　
３．当審の判断
３−１．刊行物記載の発明
　上記刊行物の摘記事項（１ｃ）によれば、真空容器２１は両側面に個別に２枚の石英ガラス窓２３を持ち、各石英ガラス窓２３には１つずつ対応する２枚のアンテナ型放電用電極２４を備え、ＲＦ電源２７からこのアンテナ型放電用電極２４にＲＦ電力を供給しており、真空容器２１の上部には、ガス導入口を備えていることが理解できる。
　また、摘記事項（１ｂ）の段落【００１９】によれば、図４に示すような電極２４から基板２２に進むにつれ均一な分布となる電界分布の電波が発生し、この平坦な分布の電界により容器２１内に均一なプラズマ２９が生じると記載されている。
　そして、刊行物に記載のアンテナ型放電用電極において、高周波電流を流すことにより高周波電磁界が発生することは明らかであり、真空容器２１内には高周波電界とともに高周波磁界が作用して、反応ガスをプラズマに変えるものと認められる。
　そこで、摘記事項（１ａ）〜（１ｃ）を総合すると、刊行物には、「基板を取り付ける真空容器を備え、基板をプラズマで処理するプラズマ処理装置であって、真空容器の両側面に個別に２枚の石英ガラス窓を設け、該真空容器の上部には、基板を処理するプラズマに変えることができる反応ガスを真空容器内へ導入するガス導入口を備え、
　真空容器の外部で生じる高周波磁界を引き起こすためのＲＦ電源を備え、該ＲＦ電源から２枚の石英ガラス窓に１つずつ対応する２枚のアンテナ型放電用電極にＲＦ電力を供給するもので、
　各アンテナ型放電用電極は対応の石英ガラス窓を介して作用する高周波磁界を発生するように配置することで、反応ガスをプラズマに変える手段と、　石英ガラス窓を介して作用する磁界がプラズマを励磁するように、真空容器の外表面上に個別に支持されて高周波磁界を反応ガスに作用させるように配置された２枚の石英ガラス窓とを有しているプラズマ処理装置。」（以下、「刊行物記載発明」という。）が記載されていることになる。
　
３−２．対比・判断
　本願発明７と刊行物記載発明とを対比すると、刊行物記載発明の「基板」、「真空容器」、「アンテナ型放電用電極」、「石英ガラス窓」は、それぞれ本願発明７の「加工物」、「真空室」、「励磁装置」、「誘電体窓」に相当するから、両者は、「加工物を取り付ける真空室を備え、加工物をプラズマで処理する装置であって、加工物を処理するプラズマに変えることができるガスを室内へ導入する手段と、室の外部で生じる高周波磁界を引き起こすための電源を備え、該電源は、各窓に１つずつ対応する複数の励磁装置を備えており、各励磁装置は対応の窓を介して結合される高周波磁界を発生するように配置されており、ガスをプラズマに変える手段と、窓を介して結合した磁界がプラズマを励磁するように、室の外表面上に個別に支持されて高周波磁界をガスに結合させるように配置された複数の誘電体窓とを有している装置。」の点で一致し、次の点で相違する。
　
　相違点：誘電体窓について、本願発明７では、室の内部と外部との間の圧力差に耐えるために、複数の窓と同じ合計面積を備えた単一窓の厚さより相当に薄くなっているのに対し、刊行物記載発明ではこの点が記載されていない点。
　
　そこで、上記相違点について次に検討する。
　上記周知文献の摘記事項（２ａ）の段落【００２５】には、マイクロ波導入窓は、プラズマ処理に必要な真空荷重に対する強度も満たさなければならず、図３は、マイクロ波導波管直径(マイクロ波導入窓５の直径に等しい)Ｄと反射率が最小となる窓の厚みｔの関係とともに、真空荷重について円板に加わる分布荷重モデルを考え、石英について応力に対する安全係数を１０としたときのマイクロ波導入窓の直径Ｄと安全範囲を満たす厚みｔの関係を示したと記載され、また、摘記事項（２ｂ）によれば、図３には、マイクロ波導入窓の直径が増加するにつれその厚みも増加する傾向にあること、具体的には、マイクロ波導波管直径Ｄ：５８０ｍｍのとき、窓の厚みｔ：３３ｍｍであること、マイクロ波導波管直径Ｄ：２００ｍｍのとき、窓の厚みｔ：約１１ｍｍであることが示されている。このことは、マイクロ波導入窓は、プラズマ処理室の内部と外部との間の圧力差に耐えなければならないことを考慮すると、マイクロ波導入窓の直径が小さければ、その厚みｔも相当に薄くし得ることを示しているものであり、また、当該石英のマイクロ波導入窓と刊行物記載発明の石英ガラス窓とは同じ機能を有しているといえる。
　そうすると、刊行物記載発明の２枚の個別に配置された石英ガラス窓の厚さは、当該２枚の合計面積と同じ面積の１枚の石英ガラス窓の厚さよりも、相当に薄くできることは、上記の周知文献に記載のとおり自明の事項にすぎないから、刊行物記載発明の石英ガラス窓を、室の内部と外部との間の圧力差に耐えるために、複数の窓と同じ合計面積を備えた単一窓の厚さより相当に薄くすることは、当業者ならば容易に想到し得ることである。
　そして、本願発明７による効果も刊行物の記載、及び周知文献の記載から当業者ならば予測し得る程度のものであって、格別顕著なものとは認められない。
　
　したがって、本願発明７は、刊行物に記載された発明、及び周知文献の記載に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものである。
　
４．むすび
　以上のとおり、本願の請求項７に係る発明は特許を受けることができないものであり、他の請求項１〜６、８〜１５に係る発明については検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。