【手続補正書】
【提出日】平成24年4月18日(2012.4.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも、２回のナノインプリントを行うことによりモールドのパターンを転写するナノインプリント方法であって、
基板上の１回目のナノインプリントが行われる領域に、樹脂に対して第１の親和性を持つ第１のパターニング領域を形成する工程と、
２回目のナノインプリントが行われる領域に、樹脂に対して前記第１の親和性よりも低い第２の親和性を持つ第２のパターニング領域を形成する工程と、
前記第１のパターニング領域に樹脂を塗布し、ナノインプリントによりモールドのパターンを前記樹脂に転写する工程と、
前記第２のパターニング領域を樹脂に対して前記第２の親和性よりも高い親和性を持つ領域に改質した後、該改質した領域に樹脂を塗布し、ナノインプリントにより前記第１のパターニング領域及び第２のパターニング領域に形成されたパターン同士をつないで加工する工程と、
を有することを特徴とするナノインプリント方法。
【請求項２】
前記樹脂に対する親和性が、樹脂に対する接着性であり、または樹脂に対する濡れ性であり、または樹脂に対する接着性と濡れ性の両方の性質を併せ有するものであることを特徴とする請求項１に記載のナノインプリント方法。
【請求項３】
前記１回目のナノインプリントを行う際に、第２のパターニング領域における樹脂の広がりにくい性質を利用することによって、
前記第１のパターニング領域からの樹脂の広がりを制限しながら前記ナノインプリントを行うことを特徴とする請求項１または請求項２に記載のナノインプリント方法。
【請求項４】
前記２回目のナノインプリントを行う際に、前記１回目のナノインプリントにより形成された樹脂構造によって、樹脂の広がる領域を制限しながら前記ナノインプリントを行うことを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載のナノインプリント方法。
【請求項５】
前記１回目のナノインプリント及び／又は前記２回目のナノインプリントを行う際に、前記第１及び第２パターニング領域を加工する加工面を備え、該加工面に樹脂に対して第３の親和性を持つ第３のパターニング領域が形成されると共に、該第３のパターニング領域の外側に樹脂に対して前記第３の親和性よりも高い第４の親和性を持つ第４のパターニング領域が形成されたモールドを用い、
前記モールドの離型時に、前記モールドの加工面の前記第４のパターニング領域に接触した前記基板上に塗布された樹脂を、該第４のパターニング領域に接着させ、
前記基板上から取り除く工程を含むことを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載のナノインプリント方法。
【請求項６】
前記基板上から取り除かれる樹脂が、前記モールドの加工面に形成されたパターンが転写される際に、前記モールド端面からはみ出した樹脂であることを特徴とする請求項５に記載のナノインプリント方法。
【請求項７】
前記第４のパターニング領域の表面積を増加させ、前記モールドの離型時に前記第４のパターニング領域に前記はみ出した樹脂を接触させ、前記基板上から取り除くことを特徴とする請求項６に記載のナノインプリント方法。
【請求項８】
前記第３のパターニング領域の幅をＷ２、前記第４のパターニング領域の幅をＷ１としたとき、
これらの関係が、０．５×Ｗ２≦Ｗ１＜Ｗ２を満たすモールドを用いることを特徴とする請求項５から７のいずれか１項に記載のナノインプリント方法。
【請求項９】
前記基板および前記モールドに、前記樹脂に対して前記第３の親和性を持つ領域と前記樹脂に対して前記第４の親和性を持つ領域を形成するに際し、エネルギーの照射を用いることを特徴とする請求項５から８のいずれか１項に記載のナノインプリント方法。
【請求項１０】
前記エネルギーは、荷電粒子あるいは、ＵＶ（Ｕｌｔｒａ  Ｖｉｏｌｅｔ）以上のエネルギーを有する電磁波であることを特徴とする請求項９に記載のナノインプリント方法。
【請求項１１】
ナノインプリントに用いられるモールドであって、
前記モールドの加工面における転写領域には、樹脂に対して第３の親和性を持つ第３のパターニング領域が形成されると共に、
前記第３のパターニング領域の外側には、前記ナノインプリントを行う際にモールド端面からはみ出した樹脂を離型時に接着して取り除くための、樹脂に対して前記第３の親和性よりも高い第４の親和性を持つ第４のパターニング領域が形成されていることを特徴とするモールド。
【請求項１２】
前記第３のパターニング領域の幅をＷ２、前記第４のパターニング領域の幅をＷ１としたとき、
これらの関係が、０．５×Ｗ２≦Ｗ１＜Ｗ２を満たすことを特徴とする請求項１１に記載のモールド。
【請求項１３】
少なくとも、２回のナノインプリントを行うことによりモールドのパターンを転写するナノインプリントによる構造体の製造方法であって、
基板上の１回目のナノインプリントが行われる領域に、樹脂に対して第１の親和性を持つ第１のパターニング領域を形成する工程と、
２回目のナノインプリントが行われる領域に、樹脂に対して前記第１の親和性よりも低い第２の親和性を持つ第２のパターニング領域を形成する工程と、
前記第１のパターニング領域に樹脂を塗布し、ナノインプリントによりモールドのパターンを前記樹脂に転写する工程と、
前記第２のパターニング領域を樹脂に対して前記第２の親和性よりも高い親和性を持つ領域に改質した後、該改質した領域に樹脂を塗布し、ナノインプリントにより前記第１のパターニング領域及び第２のパターニング領域に形成されたパターン同士をつないで加工する工程と、
を有することを特徴とする構造体の製造方法。
【請求項１４】
前記ナノインプリント工程により形成されたパターンをマスクとして、前記基板をエッチングする工程を有する請求項１３に記載の構造体の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ナノインプリント方法、ナノインプリントに用いられるモールド及び構造体の製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、ナノインプリント方法及びナノインプリントに用いられるモールドに関し、特にモールドが有する微細パターンを大面積で樹脂に転写するナノインプリント方法、ナノインプリントに用いられるモールド及び構造体の製造方法に関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明は、上記の課題に鑑み、隣接するショット間におけるパターン同士を精度良くつなぐことが可能となるナノインプリント方法、ナノインプリントに用いられるモールド及び構造体の製造方法を提供することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明は上記課題を解決するために、次のように構成したナノインプリント方法、ナノインプリントに用いられるモールド及びナノインプリントによる構造体の製造方法を提案するものである。
本発明のナノインプリント方法は、少なくとも、２回のナノインプリントを行うことによりモールドのパターンを転写するナノインプリント方法であって、
基板上の１回目のナノインプリントが行われる領域に、樹脂に対して第１の親和性を持つ第１のパターニング領域を形成する工程と、
２回目のナノインプリントが行われる領域に、樹脂に対して前記第１の親和性よりも低い第２の親和性を持つ第２のパターニング領域を形成する工程と、
前記第１のパターニング領域に樹脂を塗布し、ナノインプリントによりモールドのパターンを前記樹脂に転写する工程と、
前記第２のパターニング領域を樹脂に対して前記第２の親和性よりも高い親和性を持つ領域に改質した後、該改質した領域に樹脂を塗布し、ナノインプリントにより前記第１のパターニング領域及び第２のパターニング領域に形成されたパターン同士をつないで加工する工程と、
を有することを特徴とする。
また、本発明のナノインプリントに用いられるモールドは、前記モールドの加工面における転写領域には、樹脂に対して第３の親和性を持つ第３のパターニング領域が形成されると共に、
前記第３のパターニング領域の外側には、前記ナノインプリントを行う際にモールド端面からはみ出した樹脂を離型時に接着して取り除くための、樹脂に対して前記第３の親和性よりも高い第４の親和性を持つ第４のパターニング領域が形成されていることを特徴とする。
また、本発明の構造体の製造方法は、
少なくとも、２回のナノインプリントを行うことによりモールドのパターンを転写するナノインプリントによる構造体の製造方法であって、
基板上の１回目のナノインプリントが行われる領域に、樹脂に対して第１の親和性を持つ第１のパターニング領域を形成する工程と、
２回目のナノインプリントが行われる領域に、樹脂に対して前記第１の親和性よりも低い第２の親和性を持つ第２のパターニング領域を形成する工程と、
前記第１のパターニング領域に樹脂を塗布し、ナノインプリントによりモールドのパターンを前記樹脂に転写する工程と、
前記第２のパターニング領域を樹脂に対して前記第２の親和性よりも高い親和性を持つ領域に改質した後、該改質した領域に樹脂を塗布し、ナノインプリントにより前記第１のパターニング領域及び第２のパターニング領域に形成されたパターン同士をつないで加工する工程と、
を有することを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明によれば、隣接するショット間におけるパターン同士を精度良くつなぐことが可能となるナノインプリント方法、ナノインプリントに用いられるモールド及び構造体の製造方法を実現することができる。