【事件の表示】
　平成　８年特許願第２６１６３９号「プラズマディスプレイパネル」拒絶査定不服審判事件〔平成１０年　４月２４日出願公開、特開平１０−１０６４４１〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１　手続の経緯 ・本願発明
　本願は、平成８年１０月２日の出願であって、平成１６年５月２４日付け（発送日：同年６月１日）で拒絶査定がなされ、これに対して、同年７月１日に拒絶査定不服審判請求がなされたものである。
　そして、本願の請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、平成１６年４月２６日付けの手続補正書により補正された明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される次のとおりのものと認める。
　「【請求項１】　表示電極を被覆する誘電体層の表面保護膜として、高周波イオンプレーティングによって成膜された（１１０）配向の酸化マグネシウム膜が設けられてなる
　ことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。」
　
２　先願発明
　これに対して、原査定の拒絶の理由に引用された、本願の出願日前の平成８年８月２６日に出願された他の特許出願であって、特願平８−３２８４５８号（特開平１０−１２５２３７号，以下、「優先権主張出願」という。）が優先権主張の基礎とする、特願平８−２２３４２８号（以下、「先の出願」という。）の願書に最初に添付した明細書又は図面には、次の事項が記載されている。
　
（１）「【０００３】　図３は、交流型（ＡＣ型）のプラズマディスプレイパネルの概略断面図を示したものであり、図３において、３１はフロントカバープレート（前面ガラス基板）であり、この基板上に表示電極３２があり、この上を誘電体ガラス層３３とＭｇＯの結晶配向が（１１１）面に配向した酸化マグネシウム（ＭｇＯ）誘電体保護層３４がおおっている。」
　
（２）「【００２２】・・・従来の真空蒸着で得られる（１１１）面配向のＭｇＯをでなく、高い２次電子の放出が可能でしかも耐スパッタ性が良好な（１００）面あるいは（１１０）面配向したＭｇＯを用いることで」
　
（３）「【００４０】（実施例の形態３）次にイオンビームあるいは、電子ビームを照射しながらＭｇＯを蒸着する方法について説明する。図１は、本発明の一実施の形態を説明するために用いた交流面放電型プラズマディスプレイパネルの概略断面図である。前面ガラス基板１１上にスクリーン印刷後焼成することによって得られた銀電極１２を形成し、この上に・・・の誘電体ガラス層１３をスクリーン印刷後焼成して、・・・形成した。」
　
（４）「【００４３】・・・得られたガラス基板４１をイオンビーム、電子ビーム照射装置のチャンバー４５内におき、ＭｇＯの結晶を電子銃４２の中に入れてＭｇＯを蒸発させると同時に、イオンガン４３を用いてアルゴンのイオンビームを１５０℃に加熱された基板４１に向けて照射し（イオン電流１０ｍＡ）５０００ÅのＭｇＯの保護膜を形成した。このＭｇＯ膜のＸ線解析を行なった結果、この膜は（１１０）面に配向していることがわかった。」
　
（５）上記摘記事項（１）及び（３）を参照しつつ、図面の図１及び図３をみると、図１の「銀電極１２」は、図３の「表示電極３２」に対応して記載され、交流面放電型プラズマディスプレイパネルの表示電極であることが読み取れる。
　
　上記摘記事項（１）乃至（５）から、先の出願の願書に最初に添付した明細書又は図面には、次の発明（以下、「先願発明」という。）が記載されているものと認められる。
　
　「表示電極１２を被覆する誘電体ガラス層１３の保護膜として、イオンビームあるいは、電子ビームを照射しながら蒸着する方法によって成膜された（１１０）面に配向したＭｇＯ膜が設けられてなる交流面放電型プラズマディスプレイパネル。」
　
　また、上記摘記事項（１）乃至（５）及び先願発明の内容は、表現が異なるものの優先権主張出願の願書に最初に添付された明細書又は図面にも記載され、出願公開がされている（段落【００１５】，【００１７】−【００２０】，【００４５】−【００５１】，【００６８】及び図１を参照。）。
　したがって、特許法第４１条第３項の規定に基づき、先の出願の願書に最初に添付された明細書又は図面に記載された上記摘記事項（１）乃至（５）及び先願発明については、特許法第２９条の２本文の規定の適用にあたって、優先権主張出願について出願公開がされたときに当該先の出願について出願公開がされたものとみなされる。
　
３　対比
　本願発明と先願発明を対比すると、先願発明の「表示電極１２」、「誘電体ガラス層１３」、「保護膜」、「（１１０）面に配向したＭｇＯ膜」及び「交流面放電型プラズマディスプレイパネル」が、それぞれ、本願発明の「表示電極」、「誘電体層」、「表面保護膜」、「（１１０）配向の酸化マグネシウム膜」及び「プラズマディスプレイパネル」に相当し、先願発明において、「イオンビームあるいは、電子ビームを照射しながら蒸着する方法によって成膜された」ことと、本願発明において、「高周波イオンプレーティングによって成膜された」ことは、「所定の成膜法によって成膜された」点で共通する。
　
　したがって、本願発明と先願発明とは次の点で一致する。
＜一致点＞
「表示電極を被覆する誘電体層の表面保護膜として、所定の成膜法によって成膜された（１１０）配向の酸化マグネシウム膜が設けられてなる
　ことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。」
　
　一方で両者は次の点で一応相違する。
＜相違点＞
　本願発明が、（１１０）配向の酸化マグネシウム膜を「高周波イオンプレーティングによって」成膜するのに対し、先願発明は、同膜を「イオンビームあるいは、電子ビームを照射しながら蒸着して」成膜する点。
　
４　当審の判断
　上記相違点について検討する。
　本願発明の上記相違点に係る構成は酸化マグネシウム膜の製造方法に関するものである。しかし、本願発明は「プラズマディスプレイパネル」という物の発明であるから、「高周波イオンプレーティングによって」という酸化マグネシウム膜の製造方法についての発明特定事項も、「製造方法の発明」の要件として規定されたものではなく、「酸化マグネシウム膜」という物の構成を特定するために規定されたものという以上の意味を有しないというべきであるから（＊注）、最終的に得られた「酸化マグネシウム膜」が客観的に同一であるかについて検討する。
　本願明細書の発明の詳細な説明の欄には、次の記載がある。
（１）「【０００４】【発明が解決しようとする課題】上述のように厚さ１μｍ程度の（１１１）配向のＭｇＯ膜で誘電体層を被覆することにより、１００００時間の寿命が実現されている。しかし、寿命はより長い方が望ましい。また、高精細化を図ろうとすると、放電ギャップの縮小にともなってイオン衝撃が増大するので、ＭｇＯ膜のスパッタの進行が速まって寿命が短くなってしまう。ＭｇＯ膜が削れて誘電体層が露出すると、放電開始電圧が大幅に上昇して駆動不能になる。寿命を延ばすために膜厚を増大すると、クラックが発生し易くなる。
【０００５】本発明は、誘電体層の保護膜の耐スパッタ性を高め、長寿命化を図ることを目的としている。」
（２）「【０００６】【課題を解決するための手段】二次電子放出係数ではなく耐スパッタ性に主眼をおくと、（１１０）配向膜が（１１１）配向膜よりも優れている。ＭｇＯの結晶構造（Ｎａ−Ｃｌ型）では、（１１１）面よりも（１１０）面の方がチャネリングが起こり易い。つまり、入射イオンが結晶の内部に深く入り易く、表面の近傍でのスパッタが起こりにくい。また、実際に誘電体層上に成膜したＭｇＯ膜の膜質を調べると、（１１１）配向である場合よりも（１１０）配向が顕著になるほど、密度が高くバルクに近い膜質になることが判った。緻密であるほど耐スパッタ性は高い。
【０００７】請求項１の発明のＰＤＰは、表示電極を被覆する誘電体層の表面保護膜として、（１１０）配向のＭｇＯ（酸化マグネシウム）膜が設けられてなる。ここで、（１１０）配向のＭｇＯ膜とは、（１１０）配向結晶（膜平面と平行な面が｛１１１｝面の結晶）が他の結晶に対してその数の上で優勢となった膜であり、適当な酸素分圧及び水蒸気分圧の雰囲気中での高周波イオンプレーティングなどによって形成される。」
（３）【００１６】次に耐スパッタ性の評価について説明する。成膜条件のうち水蒸気分圧のみを変えて、表面を研磨した２ｃｍ角のソーダライムガラス片にＭｇＯを蒸着し、配向性の異なる複数の試料を作製した。・・・
【００１８】（１１０）配向が顕著であるほど、スパッタ量（エッチング深さ）が少なく耐
スパッタ性に優れることが判る。上述の実施形態においては、面放電型のＰＤＰ１を例示したが、本発明は対向放電型のＰＤＰにも適用することができる。保護膜１８としての（１１０）配向のＭｇＯ膜の形成方法は例示の方法に限定されない。」
（４）【００１９】【発明の効果】請求項１の発明によれば、誘電体層の保護膜の耐スパッタ性を高め、長寿命化を図ることができる。」
　上記（１）乃至（４）の記載によれば、本願発明は、従来の（１１１）配向のＭｇＯ膜の耐スパッタ性を高めることを目的として、（１１１）配向である場合よりも耐スパッタ性が高い（１１０）配向を採用したものである。そうすると、耐スパッタ性の向上はＭｇＯ膜の配向の違いによってもたらされるものであって、膜製法によらないものと解され、このことは、成膜法に関する、「高周波イオンプレーティングなどによって形成される」、「（１１０）配向のＭｇＯ膜の形成方法は例示の方法に限定されない」との記載からも裏付けられる。したがって、高周波イオンプレーティングによって成膜されたものでなくても、（１１０）配向の酸化マグネシウム膜として異ならないというべきであり、上記相違点は実質的な相違点ではない。
　
　なお、請求人は、審判請求書において、「プラズマディスプレイパネルの放電特性には保護膜として設けられる酸化マグネシウム膜の膜質が大きく影響し、その酸化マグネシウム膜の膜質は成膜法に大きく依存する。言い換えれば、保護膜の成膜法はプラズマディスプレイパネルの放電特性を決定する。
　本発明に係る高周波イオンプレーティングは、チャンバー全体にプラズマを発生させて蒸着物質をイオン化する手法であり、陰極側の基板表面に形成される電界でイオンが膜面にほぼ垂直に衝突することから、先願に係るビームアシスト蒸着と比べて膜質の均一化に優れている。ビームアシスト蒸着では、基板に対するビーム進入角度が照射ガンから遠いほど小さいという成膜条件の偏りが生じる。このことは、高周波イオンプレーティングによる（１１０）配向の酸化マグネシウム膜とビームアシスト蒸着による（１１０）配向の酸化マグネシウム膜とでは、膜質が異なること、すなわち放電特性に係わる機能の差異があることを意味する。」と主張しているので、この主張について検討すると、製造後の酸化マグネシウム膜の膜質の均一性は、どのような製造方法を採用するかのみによって決定されるのではなく、製造装置の具体的設計、配置関係、製造条件、使用材料等の各種条件によっても当然異なるものであるから、製造方法が異なるというだけで必ず、最終的に得られた「（１１０）配向の酸化マグネシウム膜」が客観的に異なるものとなるとまではいえない。よって、請求人の上記主張は採用できない。
　
（＊注）知財高裁判決（平成１８年１２月７日言渡：平成１７年（行ケ）第１０７７５号）は、以下のように判示している。  
　「すなわち，上記特許請求の範囲の記載は，物（プロダクト）に係るものでありながら，その中に当該物に関する製法（プロセス）を包含するという意味で，いわゆるプロダクト・バイ・プロセス・クレームに該当するものである。
　物の「製造方法」ではなく，「物の発明」について特許を得ようとする者は，本来，当該発明の対象となる物の構成を直接的に特定すべきであり，プロダクト・バイ・プロセス・クレームという形式による特定が許されるのは，当該発明の対象となる物の構成を製造方法と無関係に直接的に特定することが，不可能ないし困難であるか，不適切であり，その物の製造方法によって物自体を特定することに合理性が認められるような例外的な場合に限られるというべきであるが，その場合にも，当該製法はあくまでもその結果製造される「物」の構成を一義的に特定するための指標として機能するものであって，当該製造方法とは異なる方法により製造された物であっても，「物」の構成が客観的に同一であれば，当該発明に包含されるものと解するのが相当である。
　そうすると，「物の発明」である本件特許発明２の新規性及び進歩性について審理するに当たっては，上記特許請求の範囲における「請求項１の製造方法を用いて」との記載は，「製造方法の発明」の要件として規定されたものではなく，「多層構造のスピーカ用振動板」という物の構成を特定するために規定されたものという以上の意味を有しないというべきであるから，本件特許発明２の要旨は，最終的に得られた「多層構造のスピーカ用振動板」それ自体に係るものと解すべきである。換言すると，本件特許発明２は，本件特許発明１に係る製造方法とは異なる方法によって製造された「多層構造のスピーカ用振動板」であっても，本件特許発明１に係る製造方法によって製造された「多層構造のスピーカ用振動板」と客観的に同一の構成を有するものであれば，これを包含するものというべきである。」  
　
５　むすび
　以上のとおり、本願発明は、本願の出願日前の特許出願であって、特許法第４１条第３項の規定に基づき出願公開がされたものとみなされた特願平８−２２３４２８号の願書に最初に添付した明細書又は図面に記載された発明と同一である。
　また、本願発明の発明者が先願発明の発明者と同一の者ではなく、本願の出願時に、その出願人が上記特許出願の出願人と同一の者でもない。
　
　したがって、本願発明は、特許法第２９条の２の規定により、特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。