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【手続補正書】
【提出日】平成24年3月2日(2012.3.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の請求項１に記載の波長可変フィルタは、
基板と、
前記基板に対し垂直方向に変位可能に配置された可動板と、
前記基板の前記可動板に対向する面に設けられた第１反射部と、
前記可動板の前記基板に対向する面であって、少なくとも前記第１反射部に対向する領域に、前記第１反射部とギャップを隔てて設けられた第２反射部と、
前記基板の前記可動板に対向する面に設けられた駆動電極と、を備え、
前記可動板と前記駆動電極との間には、積層された状態にある複数膜が設けられており、
前記複数膜は、酸化シリコン膜、前記酸化シリコン膜よりも比誘電率が高い強誘電材料を含む強誘電体膜を含むものである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明の請求項２に記載の波長可変フィルタは、請求項１において、
前記複数膜は、前記可動板の前記第１反射部に対向する位置に設けられるものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明の請求項３に記載の波長可変フィルタは、請求項１〜２の何れかにおいて、
前記可動板は、前記可動反射面と垂直方向に変位することで所定の波長の光を透過させ所定の波長以外の光を反射させ、
前記駆動電極は、前記可動板の位置を変位させるものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
本発明の請求項５に記載の波長可変フィルタは、請求項１〜４の何れかにおいて、
前記可動板は、シリコン又は不純物がドープされたシリコンを含むものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本発明の請求項６に記載の波長可変フィルタは、請求項１〜５の何れかにおいて、
前記複数膜に、前記可動板に含まれる不純物が拡散することを抑制するキャップ層が積層されてなるものである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
本発明の請求項１１に記載の波長可変フィルタは、請求項１〜１０の何れかにおいて、
前記酸化シリコン膜は、前記強誘電体膜と、前記可動板及び前記駆動電極の少なくともいずれか一方の表面との間に形成されているものである。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
本発明の請求項１２に記載の波長可変フィルタは、請求項１〜１０の何れかにおいて、
前記強誘電体膜は、前記酸化シリコン膜と、前記可動板及び前記駆動電極の少なくともいずれか一方の表面との間に形成されているものである。
【手続補正８】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板に対し垂直方向に変位可能に配置された可動板と、
前記基板の前記可動板に対向する面に設けられた第１反射部と、
前記可動板の前記基板に対向する面であって、少なくとも前記第１反射部に対向する領域に、前記第１反射部とギャップを隔てて設けられた第２反射部と、
前記基板の前記可動板に対向する面に設けられた駆動電極と、を備え、
前記可動板と前記駆動電極との間には、積層された状態にある複数膜が設けられており、
前記複数膜は、酸化シリコン膜、前記酸化シリコン膜よりも比誘電率が高い強誘電材料を含む強誘電体膜を含むことを特徴とする波長可変フィルタ。
【請求項２】
請求項１において、
前記複数膜は、前記可動板の前記第１反射部に対向する位置に設けられることを特徴とする波長可変フィルタ。
【請求項３】
請求項１〜２の何れかにおいて、
前記可動板は、前記可動反射面と垂直方向に変位することで所定の波長の光を透過させ所定の波長以外の光を反射させ、
前記駆動電極は、前記可動板の位置を変位させるものであることを特徴とする波長可変フィルタ。
【請求項４】
請求項１〜３の何れかにおいて、
前記強誘電体膜は、ＰＺＴ、ＰＺＴＮ、ＰＬＺＴ、ＰＬＴ、ＰＴＮ、ＳＢＴ、ＳＢＴＮ、ＢＴＯのいずれかを含むことを特徴とする波長可変フィルタ。
【請求項５】
請求項１〜４の何れかにおいて、
前記可動板は、シリコン又は不純物がドープされたシリコンを含むことを特徴とする波長可変フィルタ。
【請求項６】
請求項１〜５の何れかにおいて、
前記複数膜に、前記可動板に含まれる不純物が拡散することを抑制するキャップ層が積層されてなることを特徴とする波長可変フィルタ。
【請求項７】
請求項６において、
前記キャップ層は、酸化シリコン又は窒化シリコンを含むことを特徴とする波長可変フィルタ。
【請求項８】
請求項６、７の何れかにおいて、
前記複数膜は、表面電荷密度を抑制する表面層を有することを特徴とする波長可変フィルタ。
【請求項９】
請求項８において、
前記表面層は、酸化シリコン又は窒化シリコンを含むことを特徴とする波長可変フィルタ。
【請求項１０】
請求項９において、
前記表面層は、シラン系又はフッ素系のコーティング剤を含むことを特徴とする波長可変フィルタ。
【請求項１１】
請求項１〜１０の何れかにおいて、
前記酸化シリコン膜は、前記強誘電体膜と、前記可動板及び前記駆動電極の少なくともいずれか一方の表面との間に形成されていることを特徴とする波長可変フィルタ。
【請求項１２】
請求項１〜１０の何れかにおいて、
前記強誘電体膜は、前記酸化シリコン膜と、前記可動板及び前記駆動電極の少なくともいずれか一方の表面との間に形成されていることを特徴とする波長可変フィルタ。
【手続補正書】
【提出日】平成23年12月2日(2011.12.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
固定接点と可動接点を内蔵した真空バルブを有し、前記真空バルブの各相の前記固定接点側に導電接続された複数個の電力ヒューズを備え、前面部に保護用のフェースプレートが設けられた真空開閉器において、
前記各電力ヒューズは、長手方向を真空開閉器の前後方向に向け、且つ、前面側から見て横方向に一列に並べて前記真空バルブの上方に配置され、
前記フェースプレートは、前記電力ヒューズの前方部と対向する位置に窓を有しており、前記フェースプレートの裏面に、前記窓を塞ぐ絶縁板が取り付けられていることを特徴とする真空開閉器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
この発明に係る真空開閉器は、固定接点と可動接点を内蔵した真空バルブを有し、真空バルブの各相の固定接点側に導電接続された複数個の電力ヒューズを備え、前面部に保護用のフェースプレートが設けられた真空開閉器において、各電力ヒューズは、長手方向を真空開閉器の前後方向に向け、且つ、前面側から見て横方向に一列に並べて真空バルブの上方に配置され、フェースプレートは、電力ヒューズの前方部と対向する位置に窓を有しており、フェースプレートの裏面に、窓を塞ぐ絶縁板が取り付けられているものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
この発明の真空開閉器によれば、各相に対応して設けられた複数個の電力ヒューズを、長手方向を真空開閉器の前後方向に向け、且つ、前面側から見て横方向に一列に並べて真空バルブの上方に配置し、各電力ヒューズの前方部と対向するフェースプレートの位置に窓を有し、フェースプレートの裏面に、窓を塞ぐ絶縁板を取り付けたので、電力ヒューズの前方部とフェースプレートとの耐電圧性能を向上させることができ、実質的に電力ヒューズとフェースプレートとの離隔距離を短くできるので、真空開閉器の小形化を図ることができる。 
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
以上のように、実施の形態１の真空開閉器によれば、各相に対応して設けられた複数個の電力ヒューズを、長手方向を真空開閉器の前後方向に向け、且つ、前面側から見て横方向に一列に並べて真空バルブの上方に配置し、各電力ヒューズの前方部と対向するフェースプレートの位置に窓を形成し、フェースプレートの裏面に、窓を塞ぐ絶縁板を取り付けたので、電力ヒューズの前方部とフェースプレートとの耐電圧性能を向上させることができ、実質的に電力ヒューズとフェースプレートとの離隔距離を短くできるので、真空開閉器の小形化を図ることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成24年4月12日(2012.4.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
補正用パッチを出力して多次色キャリブレーションを行うプリンタの測色値補正方法であって、
検出手段が、測色手段により測色された補正用パッチの測色値とプリンタに依存するデバイス値とに基づいて前記補正用パッチの不正な測色値を検出する検出工程と、
補正手段が、前記検出工程において検出された不正な測色値を補正する補正工程とを有し、
前記補正工程において補正された測色値を用いて前記多次色キャリブレーションを行うことを特徴とするプリンタの測色値補正方法。
【請求項２】
前記検出工程は、
前記測色値と前記デバイス値との差分により、当該デバイス値の変動量を算出する工程と、
前記算出された変動量の中で同じ色のデバイス値の変動量をグループ化する工程と、
前記グループ化された同じ色のデバイス値の変動量を統計的に処理し、変動量の平均値から外れた変動量を持つ補正用パッチの測色値を前記不正な測色値として検出する工程とを有することを特徴とする請求項１に記載のプリンタの測色値補正方法。
【請求項３】
前記補正工程は、
前記検出された不正な変動量に基づいて前記測色値を補正するための変動量を算出する工程と、
前記算出された変動量に基づいて前記測色値を正しい測色値に補正する工程とを有することを特徴とする請求項２に記載のプリンタの測色値補正方法。
【請求項４】
補正用パッチを出力して多次色キャリブレーションを行うプリンタであって、
測色手段により測色された補正用パッチの測色値とプリンタに依存するデバイス値とに基づいて前記補正用パッチの不正な測色値を検出する検出手段と、
前記検出手段により検出された不正な測色値を補正する補正手段とを有し、
前記補正手段により補正された測色値を用いて前記多次色キャリブレーションを行うことを特徴とするプリンタ。
【請求項５】
請求項１乃至３の何れか１項に記載のプリンタの測色値補正方法をコンピュータに実行させるためのプログラム。
【請求項６】
請求項５に記載のプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明は、補正用パッチを出力して多次色キャリブレーションを行うプリンタの測色値補正方法であって、
検出手段が、測色手段により測色された補正用パッチの測色値とプリンタに依存するデバイス値とに基づいて前記補正用パッチの不正な測色値を検出する検出工程と、
補正手段が、前記検出工程において検出された不正な測色値を補正する補正工程とを有し、
前記補正工程において補正された測色値を用いて前記多次色キャリブレーションを行うことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成24年2月24日(2012.2.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
周波数が時間の経過と共に変更するクロック信号を生成するクロック発生回路であって、
前記クロック発生回路は、
充放電コンデンサを備え、その充放電コンデンサに充放電する時間を周期とする前記クロック信号を生成するクロック発生部と、
前記クロック信号に同期して前記充放電コンデンサの充放電電流を制御する電流制御部を含み、その電流制御部にて前記充放電コンデンサの充放電時間を制御して前記クロック信号の周期を変更する電流量調整部と
を有することを特徴とするクロック発生回路。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
開示のクロック発生回路は、周波数が時間の経過と共に変更するクロック信号を生成するクロック発生回路であって、前記クロック発生回路は、充放電コンデンサを備え、その充放電コンデンサに充放電する時間を周期とする前記クロック信号を生成するクロック発生部と、前記クロック信号に同期して前記充放電コンデンサの充放電電流を制御する電流制御部を含み、その電流制御部にて前記充放電コンデンサの充放電時間を制御して前記クロック信号の周期を変更する電流量調整部とを有するようにした。
【手続補正書】
【提出日】平成24年4月18日(2012.4.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原画像の各画素に対応する順応点を表す順応点画像を生成する生成手段と、
前記順応点画像に基づいて、前記原画像の階調を変換して階調変換画像を生成する階調変換手段と、
前記階調変換画像に対して前記順応点画像を付加する付加手段と、
を有することを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記生成手段は、前記原画像に対して平滑化処理を施すことによって前記順応点画像を生成することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
さらに、画像の観察条件を取得する取得手段を有し、
前記生成手段は、前記原画像に対して前記観察条件に基づく平滑化処理を施すことによって、前記順応点画像を生成することを特徴とする請求項２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記生成手段は、前記観察条件に基づいて平滑化処理に用いるフィルタのカットオフ周波数を算出することを特徴とする請求項３に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記観察条件は、観察距離、視野角、解像度の少なくともいずれか１つであることを特徴とする請求項３または４に記載の画像処理装置。
【請求項６】
さらに、前記順応点画像を圧縮して圧縮画像を生成する圧縮手段を有し、
前記付加手段は、前記圧縮画像を前記階調変換画像に付加することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項７】
前記圧縮手段は、前記順応点画像の周波数特性に基づく圧縮率によって、前記順応点画像を圧縮することを特徴とする請求項６に記載の画像処理装置。
【請求項８】
前記圧縮手段は、前記順応点画像をナイキスト間隔でサンプリングすることによって圧縮することを特徴とする請求項７に記載の画像処理装置。
【請求項９】
原画像の各画素に対応する順応点を表す順応点画像を生成する生成ステップと、
前記順応点画像に基づいて、前記原画像の階調を変換して階調変換画像を生成する階調変換ステップと、
前記階調変換画像に対して前記順応点画像を付加する付加ステップと、
を有することを特徴とする画像処理方法。
【請求項１０】
コンピュータを請求項１乃至８のいずれか１項に記載の画像処理装置の各手段として機能させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８８】
画像処理装置５において、５０１は、画像を観察する際の観察距離等の観察条件を取得し、該観察条件に基づいて、順応点画像を生成する際のローパスフィルタのカットオフ周波数を算出する順応パラメータ制御部である。尚、観察条件を取得する方法としては、例えば、図１４に示すようなユーザインターフェース（以下、ＵＩと称する）６０１を用いれば良い。すなわち、ＵＩ６０１を表示して、ユーザに画像の横幅６０２および観察距離６０３を入力させ、決定ボタン６０４が押されたときに、入力されていた値を取得するような構成にすれば良い。
【手続補正書】
【提出日】平成24年4月27日(2012.4.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本発明は、原稿を複数の読取解像度で読み取ることが可能な画像読取装置において、前記原稿の読取範囲を指定することが可能な読取範囲指定手段と、出力解像度を指定することが可能な出力解像度指定手段と、出力画像サイズを指定することが可能な出力画像サイズ指定手段と、前記出力解像度よりも高い第一の読取解像度、あるいは前記出力解像度以下の第二の読取解像度のいずれか一方の読取解像度を設定可能な読取解像度設定手段と、前記読取範囲指定手段により指定された読取範囲を前記読取解像度設定手段で設定された読取解像度で読みとった画像データを、前記出力解像度指定手段によって指定された出力解像度に等しくなるように拡大または縮小した出力画像データを生成する生成手段とを有し、前記読取解像度設定手段は、前記読取範囲指定手段により指定された読取範囲のサイズと前記出力画像サイズ指定手段により指定された出力画像サイズとを比較し、前記読取範囲のサイズが出力画像サイズより小さい場合であって、かつ両サイズの差が所定の値の範囲外であると判断した場合には、前記第一の読取解像度を設定し、両サイズの差が所定の値の範囲内であると判断した場合には、前記第二の読取解像度を設定することを特徴とする画像読取装置である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原稿を複数の読取解像度で読み取ることが可能な画像読取装置において、
前記原稿の読取範囲を指定することが可能な読取範囲指定手段と；
出力解像度を指定することが可能な出力解像度指定手段と；
出力画像サイズを指定することが可能な出力画像サイズ指定手段と；
前記出力解像度よりも高い第一の読取解像度、あるいは前記出力解像度以下の第二の読取解像度のいずれか一方の読取解像度を設定可能な読取解像度設定手段と；
前記読取範囲指定手段により指定された読取範囲を前記読取解像度設定手段で設定された読取解像度で読みとった画像データを、前記出力解像度指定手段によって指定された出力解像度に等しくなるように拡大または縮小した出力画像データを生成する生成手段と；
を有し、
前記読取解像度設定手段は、前記読取範囲指定手段により指定された読取範囲のサイズと前記出力画像サイズ指定手段により指定された出力画像サイズとを比較し、前記読取範囲のサイズが出力画像サイズより小さい場合であって、かつ両サイズの差が所定の値の範囲外であると判断した場合には、前記第一の読取解像度を設定し、両サイズの差が所定の値の範囲内であると判断した場合には、前記第二の読取解像度を設定することを特徴とする画像読取装置。
【請求項２】
前記画像読取装置が有する読取センサが前記複数の読取解像度で読みとった際に生じる誤差の値、または前記読取範囲指定手段で指定された読取範囲のサイズと前記読取範囲を読み取った画像データから原稿の影領域を取り除いた領域のサイズとの差の少なくとも一方を取得する取得手段をさらに有し、
前記読取解像度設定手段は、前記取得手段が取得した値を用いて前記所定の値を算出し、前記第一の読取解像度、あるいは前記第二の読取解像度のいずれか一方を設定することを特徴とする請求項１に記載の画像読取装置。
【請求項３】
前記読取解像度設定手段は、前記読取範囲指定手段で指定された読取範囲のサイズと前記出力画像サイズ指定手段で指定された出力画像サイズが同じサイズに指定された場合に前記取得手段が取得した値を用いて前記第一の読取解像度あるいは前記第二の読取解像度のいずれか一方を設定することを特徴とする請求項２に記載の画像読取装置。
【請求項４】
原稿を複数の読取解像度で読み取ることが可能な画像読取方法において、
前記原稿の読取範囲を指定する読取範囲指定工程と；
出力解像度を指定する出力解像度指定工程と；
出力画像サイズを指定する出力画像サイズ指定工程と；
前記出力解像度よりも高い第一の読取解像度、あるいは前記出力解像度以下の第二の読取解像度のいずれか一方の読取解像度を設定する読取解像度設定工程と；
前記読取範囲指定工程により指定された読取範囲を前記読取解像度設定工程で設定された読取解像度で読みとった画像データを、前記出力解像度指定工程によって指定された出力解像度に等しくなるように拡大または縮小した出力画像データを生成する生成工程と；
を有し、
前記読取解像度設定工程は、前記読取範囲指定工程により指定された読取範囲のサイズと前記出力画像サイズ指定工程により指定された出力画像サイズとを比較し、前記読取範囲のサイズが出力画像サイズより小さい場合であって、かつ両サイズの差が所定の値の範囲外であると判断した場合には、前記第一の読取解像度を設定し、両サイズの差が所定の値の範囲内であると判断した場合には、前記第二の読取解像度を設定することを特徴とする画像読取方法。
【請求項５】
請求項１から請求項３の少なくとも１項に記載の画像読取装置を構成する各手段としてコンピュータを機能させるためのプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成24年4月27日(2012.4.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明は、原稿台上の原稿を含む原稿台全面を読み取った原稿台画像データから、原稿画像データを得る画像処理装置において、上記原稿台画像データに含まれる複数の画像領域を検出し、上記複数の画像領域を包含する矩形領域を抽出する第１の抽出手段と、上記矩形領域の上辺、下辺、左辺、右辺の４辺をそれぞれ延長して得られる線分を特定する線分特定手段と、上記特定された各線分を含む近傍領域に存在する画素を抽出する第２の抽出手段と、上記矩形領域と上記第２の抽出手段が抽出した画素を包含する矩形領域を上記原稿画像の領域であると決定する決定手段とを有することを特徴とする画像処理装置である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原稿台上の原稿を含む原稿台全面を読み取った原稿台画像データから、原稿画像データを得る画像処理装置において、
上記原稿台画像データに含まれる複数の画像領域を検出し、上記複数の画像領域を包含する矩形領域を抽出する第１の抽出手段と；
上記矩形領域の上辺、下辺、左辺、右辺の４辺をそれぞれ延長して得られる線分を特定する線分特定手段と；
上記特定された各線分を含む近傍領域に存在する画素を抽出する第２の抽出手段と；
上記矩形領域と上記第２の抽出手段が抽出した画素を包含する矩形領域を上記原稿画像の領域であると決定する決定手段と；
を有することを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
上記第２の抽出手段は、直線状に連続する複数の画素または、上記画素の特徴量と上記第１の抽出手段によって抽出された画像領域の特徴量とを比較し、上記画素の特徴量が上記第１の抽出手段によって抽出された画像領域の特徴量よりも大きい画素を抽出することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
原稿台上の原稿を含む原稿台全面を読み取った原稿台画像データから、原稿画像データを得る画像処理装置の画像処理方法において、
上記原稿台画像データに含まれる複数の画像領域を検出し、上記複数の画像領域を包含する矩形領域を抽出する第１の抽出工程と；
上記矩形領域の上辺、下辺、左辺、右辺の４辺をそれぞれ延長して得られる線分を特定する線分特定工程と；
上記特定された各線分を含む近傍領域に存在する画素を抽出する第２の抽出工程と；
上記矩形領域と上記第２の抽出工程により抽出された画素を包含する矩形領域を上記原稿画像の領域であると決定する工程と；
を有することを特徴とする画像処理装置の画像処理方法。
【請求項４】
上記第２の抽出工程は、直線状に連続する複数の画素または、上記画素の特徴量と上記第１の抽出工程によって抽出された画像領域の特徴量とを比較し、上記画素の特徴量が上記第１の抽出工程によって抽出された画像領域の特徴量よりも大きい画素を抽出することを特徴とする請求項３に記載の画像処理方法。
【請求項５】
請求項３または４に記載の画像処理方法を実現させるためのプログラム。
【請求項６】
請求項５に記載のプログラムを記憶したコンピュータ読取可能な記憶媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成24年2月23日(2012.2.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マイクロコンピュータと、前記マイクロコンピュータの外部端子に容量電極が接続されたタッチセンサとを有し、
前記マイクロコンピュータは、前記外部端子に接続された電流源回路と、前記外部端子に接続されたインタフェース部と、前記インタフェース部に接続された計数回路と、前記インタフェース部と前記計数回路を制御する中央処理装置とを有し、
前記中央処理装置は、前記インタフェース部の出力回路によりタッチセンサの蓄積電荷を初期化した後、前記電流源回路の出力電流で前記タッチセンサに電荷を積分して前記インタフェース部の入力回路から得られる信号が反転するまでの時間を前記計数回路で取得して、前記タッチセンサへの接触を判別する、タッチセンサシステム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】タッチセンサシステム
【手続補正書】
【提出日】平成24年4月27日(2012.4.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と電気的に接続するためのトレイ側給電端子を備え、前記基板を基準位置に位置決めして収納するための基板トレイと、
前記トレイ側給電端子に接続される装置側給電端子を備え、前記基板トレイが載置されるホルダと、
前記基板トレイを前記ホルダの基準位置に位置決めすることで、前記トレイ側給電端子と前記装置側給電端子との接続を行うトレイ位置決め機構と、
を備えた基板保持装置。
【請求項２】
前記トレイ位置決め機構は、前記基板トレイの基準位置を規定する複数のトレイ用基準部材と、該複数のトレイ用基準部材に対し前記基板トレイを押付ける複数のトレイ押付部材とを有し、
前記複数のトレイ押付部材は、前記基板トレイを前記トレイ用基準部材に対し押付ける基板トレイ押付部材と、その押付方向と交差する方向に前記基板トレイを前記装置側給電端子に対し押付けるトレイ押付部材とを含む、
ことを特徴とする請求項１記載の基板保持装置。
【請求項３】
前記基板トレイの前記基板保持装置への搬入時の第１の位置と該第１の位置から下方に退避した第２の位置とに移動するストッパを更に備えることを特徴とする請求項１記載の基板保持装置。
【請求項４】
前記基板トレイが載置される上方の位置と、前記ホルダとの間で前記基板トレイを受け渡す下方の位置とに上下動するリフタを更に備え、
前記ストッパは、前記基板トレイが前記リフタに載置される際に前記第１の位置にあり、前記基板トレイが前記リフタに載置された後に前記第１の位置から前記第２の位置に移動する、
ことを特徴とする請求項３記載の基板保持装置。
【請求項５】
前記トレイ位置決め機構は、前記基板トレイの基準位置を規定する複数のトレイ用基準部材と、該複数のトレイ用基準部材に対し前記基板トレイを押付ける複数のトレイ押付部材と、該トレイ押付部材を支持するスライダと、該スライダを移動させるガイドレールと
を有することを特徴とする請求項１記載の基板保持装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の一実施態様にかかる基板保持装置は、  基板と電気的に接続するためのトレイ側給電端子を備え、前記基板を基準位置に位置決めして収納するための基板トレイと、前記トレイ側給電端子に接続される装置側給電端子を備え、前記基板トレイが載置されるホルダと、前記基板トレイを前記ホルダの基準位置に位置決めすることで、前記トレイ側給電端子と前記装置側給電端子との接続を行うトレイ位置決め機構と、を備えるものである。
【手続補正書】
【提出日】平成24年10月26日(2012.10.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリシリコン膜と前記ポリシリコン膜の下方に配置された金属を含有する膜と前記金属を含有する膜の下方に配置された高誘電体膜とを有する半導体基板に金属ゲート電極を形成するドライエッチング方法において、
前記ポリシリコン膜をプラズマエッチングする第一の工程と、
前記第一の工程後、カーボンを含むプラズマにより前記第一の工程にてプラズマエッチングされたポリシリコン膜の側壁にカーボンポリマの保護膜を形成する第二の工程と、
前記第二の工程後、ハロゲン系ガスのプラズマにより前記金属を含有する膜をプラズマエッチングする第三の工程と、
前記第三の工程後、前記半導体基板をアッシングする第四の工程と、を有することを特徴とするドライエッチング方法。
【請求項２】
請求項１記載のドライエッチング方法において、
前記第二の工程は、ＣＨＦ3ガスを用いることを特徴とするドライエッチング方法。
【請求項３】
請求項１記載のドライエッチング方法において、
前記第二の工程は、エッチングガスとして、ＣＨＦ3，ＣＨ4，Ｃ2Ｈ6，ＣＨ2Ｆ2，ＣＦ4，Ｃ4Ｆ8，Ｃ3Ｆ6，Ｃ3Ｆ8，ＣＨ3ＯＨ，ＣＯの中から少なくとも一つを含むガス、または、ＣＨＦ3，ＣＨ4，Ｃ2Ｈ6，ＣＨ2Ｆ2，ＣＦ4，Ｃ4Ｆ8，Ｃ3Ｆ6，Ｃ3Ｆ8，ＣＨ3ＯＨ，ＣＯの中から２つ以上を混合した混合ガス、または、ＣＨＦ3，ＣＨ4，Ｃ2Ｈ6，ＣＨ2Ｆ2，ＣＦ4，Ｃ4Ｆ8，Ｃ3Ｆ6，Ｃ3Ｆ8，ＣＨ3ＯＨ，ＣＯの中から少なくとも一つを含むガスにＡｒ，Ｈｅ，Ｏ2，Ｎ2，ＨＢｒ，Ｃｌ2のいずれかのガスを混合したガスを用いることを特徴とするドライエッチング方法。
【請求項４】
請求項１記載のドライエッチング方法において、
前記第四の工程は、プラズマエッチング処理後に装置内のアッシング処理室、または別のアッシング装置で行うことを特徴とするドライエッチング方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年3月5日(2012.3.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板上に形成された第１の高誘電体材料層と、
前記第１の高誘電体材料層上に形成された酸素を含む第１の合金層と、
前記酸素を含む第１の合金層上に形成されたRe層と、
前記第１の高誘電体材料層と前記酸素を含む第１の合金層との間に位置するRe酸化物層を含むp 型電界効果トランジスタと、
前記半導体基板上に形成された第２の高誘電体材料層と、
前記第２の高誘電体材料層上に形成された酸素を含む第２の合金層と、
前記酸素を含む第２の合金層上に形成されたSiを含む金属層と、
前記第２の高誘電体材料層と前記酸素を含む第２の合金層との間に位置するAl層と、
前記Siを含む金属層と前記酸素を含む第２の合金層との間に位置するAl層を含むn 型電界効果トランジスタと
を具備する半導体装置。
【請求項２】
半導体基板上に高誘電体材料の層を堆積し、
酸素原子を含む合金層を形成し、
Re及びRe酸化物からなるグループから選択される１以上からなる第１の層を前記合金層の一部領域上に堆積し、
熱処理を加え、前記高誘電体材料の層と前記合金層との間に、Re酸化物層を形成する
ことを具備するp 型電界効果トランジスタを形成し、
前記第１の層を前記合金層の一部領域上に堆積した後に、全面にSiを含む金属層を堆積し、
前記Siを含む金属層、前記第１の層、前記合金層、及び前記高誘電体材料の層からなる積層構造をパターニングして、前記p 型電界効果トランジスタの形成領域及びn 型電界効果トランジスタの形成領域に積層構造を残し、
前記Siを含む金属層に対してAl原子を注入した後、熱処理を行って、前記n 型電界効果トランジスタの形成領域において前記合金層と前記高誘電体材料の層との間に第１のAl層を形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項３】
前記熱処理を行って、前記n 型電界効果トランジスタの形成領域において前記合金層と前記高誘電体材料の層との間に前記第１のAl層を形成する際に、前記p 型電界効果トランジスタの形成領域においてSiを含む前記金属層と前記合金層との間にAlとReの合金層を形成し、かつ前記n 型電界効果トランジスタの形成領域において前記合金層と前記高誘電体材料の層との間に第２のAl層を形成する請求項２記載の半導体装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の一視点によれば、半導体基板上に形成された第１の高誘電体材料層と、前記第１の高誘電体材料層上に形成された酸素を含む第１の合金層と、前記酸素を含む第１の合金層上に形成されたRe層と、前記第１の高誘電体材料層と前記酸素を含む第１の合金層との間に位置するRe酸化物層を含むp 型電界効果トランジスタと、前記半導体基板上に形成された第２の高誘電体材料層と、前記第２の高誘電体材料層上に形成された酸素を含む第２の合金層と、前記酸素を含む第２の合金層上に形成されたSiを含む金属層と、前記第２の高誘電体材料層と前記酸素を含む第２の合金層との間に位置するAl層と、前記Siを含む金属層と前記酸素を含む第２の合金層との間に位置するAl層を含むn 型電界効果トランジスタとを具備する半導体装置が提供される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の他の視点によれば、半導体基板上に高誘電体材料の層を堆積し、酸素原子を含む合金層を形成し、Re及びRe酸化物からなるグループから選択される１以上からなる第１の層を前記合金層の一部領域上に堆積し、熱処理を加え、前記高誘電体材料の層と前記合金層との間に、Re酸化物層を形成することを具備するp 型電界効果トランジスタを形成し、前記第１の層を前記合金層の一部領域上に堆積した後に、全面にSiを含む金属層を堆積し、前記Siを含む金属層、前記第１の層、前記合金層、及び前記高誘電体材料の層からなる積層構造をパターニングして、前記p 型電界効果トランジスタの形成領域及びn 型電界効果トランジスタの形成領域に積層構造を残し、前記Siを含む金属層に対してAl原子を注入した後、熱処理を行って、前記n 型電界効果トランジスタの形成領域において前記合金層と前記高誘電体材料の層との間に第１のAl層を形成することを特徴とする半導体装置の製造方法が提供される。
【手続補正書】
【提出日】平成24年3月21日(2012.3.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体調味料の水相に生にんにくを配合した後、［６０℃以上となる加熱温度と６０℃との温度差（℃）］と［加熱時間（分）］との積で表される加熱積算値が２００〜９００℃・分になるように加熱処理する液体調味料の製造法。
【請求項２】
加熱温度が７５〜９０℃である請求項１記載の液体調味料の製造法。
【請求項３】
加熱処理後の水相中のアリシン含有量が０〜０．１ｍｇ／ｇである請求項１又は２記載の液体調味料の製造法。
【請求項４】
加熱処理により水相中のアリシン含有量が５０質量％以上低下する請求項１〜３のいずれか１項記載の液体調味料の製造法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年1月6日(2012.1.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
検出光を発光する発光素子を有する発光部と、前記発光素子と対向し、当該発光素子から発光された前記検出光を受光する受光素子を有する受光部と、を備え、前記発光部と前記受光部とにより人体の一部を挟み込んだ状態で人体に装着され、前記受光素子の受光結果から脈波を取得する脈波取得装置であって、
前記受光部は、
前記受光素子の前記発光素子と対向する面を覆い、前記検出光を透過する受光部用光透過部材と、前記受光部用光透過部材の前記発光素子と対向する面を覆うように設けられ、前記検出光を通過させる開口を有する受光部用被覆部材と、を有し、前記開口に囲まれた位置に存在する前記受光部用光透過部材の一部は、前記受光部用被覆部材の前記発光部側の面よりも、前記発光部側に突出しておらず、
前記発光部は、
前記発光素子の前記受光素子と対向する面を覆い、前記検出光を透過する発光部用光透過部材と、前記発光部用光透過部材の前記受光素子と対向する面を覆うように設けられ、前記検出光を通過させる開口を有する発光部用被覆部材と、を有しており、
前記受光部の所定方向端部近傍と、前記発光部の前記所定方向端部近傍は、ヒンジで接続され、
前記受光部用被覆部材の開口は、前記受光部用被覆部材の前記所定方向中央部を基準として、前記ヒンジとは反対側寄りに設けられ、
前記発光部用被覆部材の開口は、前記発光部用被覆部材の前記所定方向中央部を基準として、前記ヒンジとは反対側寄りに設けられていることを特徴とする脈波取得装置。
【請求項２】
前記発光部用被覆部材の前記開口に囲まれた位置に存在する前記発光部用光透過部材の一部は、前記発光部用被覆部材よりも、前記受光部側に突出していないことを特徴とする請求項１に記載の脈波取得装置。
【請求項３】
前記受光部用被覆部材が有する開口の径は、前記発光部用被覆部材が有する開口の径よりも大きい又は同一の大きさであることを特徴とする請求項１又は２に記載の脈波取得装置。
【請求項４】
前記受光部は、前記発光素子から発光される前記検出光を集光せずに、前記受光素子にて受光することを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の脈波取得装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の脈波取得装置と、
前記脈波取得装置により取得された脈波に基づいて、脈拍を測定する測定装置と、を備える脈拍測定装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本明細書に記載の脈波取得装置は、検出光を発光する発光素子を有する発光部と、前記発光素子と対向し、当該発光素子から発光された前記検出光を受光する受光素子を有する受光部と、を備え、前記発光部と前記受光部とにより人体の一部を挟み込んだ状態で人体に装着され、前記受光素子の受光結果から脈波を取得する脈波取得装置であって、前記受光部は、前記受光素子の前記発光素子と対向する面を覆い、前記検出光を透過する受光部用光透過部材と、前記受光部用光透過部材の前記発光素子と対向する面を覆うように設けられ、前記検出光を通過させる開口を有する受光部用被覆部材と、を有し、前記開口に囲まれた位置に存在する前記受光部用光透過部材の一部は、前記受光部用被覆部材の前記発光部側の面よりも、前記発光部側に突出しておらず、前記発光部は、前記発光素子の前記受光素子と対向する面を覆い、前記検出光を透過する発光部用光透過部材と、前記発光部用光透過部材の前記受光素子と対向する面を覆うように設けられ、前記検出光を通過させる開口を有する発光部用被覆部材と、を有しており、前記受光部の所定方向端部近傍と、前記発光部の前記所定方向端部近傍は、ヒンジで接続され、前記受光部用被覆部材の開口は、前記受光部用被覆部材の前記所定方向中央部を基準として、前記ヒンジとは反対側寄りに設けられ、前記発光部用被覆部材の開口は、前記発光部用被覆部材の前記所定方向中央部を基準として、前記ヒンジとは反対側寄りに設けられている脈波取得装置である。
【手続補正書】
【提出日】平成24年4月9日(2012.4.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
直方体部材と該直方体部材の周縁に形成された鍔部材とを有する参照変形体を超音波探触子の超音波送受信面に装着する固定具であって、
前記固定具は、前記参照変形体の鍔部材を両面から挟持する一対の第１及び第２の固定具を備え、
前記第１の固定具は、前記超音波探触子の超音波送受信面の周縁に沿って枠状に形成されるとともに前記参照変形体の鍔部材に当接する挟持面が形成された第１の枠体と、前記超音波探触子に係止可能な係止部が形成された第１の係合部材とを有し、
前記第２の固定具は、前記参照変形体の直方体部材の周縁に沿って枠状に形成されるとともに前記参照変形体の鍔部材の表面と当接する挟持面が形成された第２の枠体と、前記第１の枠体に係止可能な係止部が形成された第２の係合部材とを有し、
前記第１及び第２の枠体の挟持面の少なくとも一方に凹凸が形成されてなる参照変形体の固定具。
【請求項２】
前記凹凸は、前記第１及び前記第２の枠体の少なくとも一方の挟持面に形成された突起である請求項１の参照変形体の固定具。
【請求項３】
前記凹凸は、前記第１及び前記第２の枠体の少なくとも一方の挟持面の各辺に、互いに間隔をあけて形成された複数の突起である請求項１又は２の参照変形体の固定具。
【請求項４】
前記凹凸は、前記第１及び前記第２の枠体の少なくとも一方の挟持面の各辺に互いに間隔をあけて形成されるとともに、対向する辺について対称位置に形成された複数の突起である請求項１乃至３のいずれか１項の参照変形体の固定具。
【請求項５】
前記凹凸は、前記第１及び前記第２の枠体の少なくとも一方の挟持面に、前記参照変形体の鍔部材に形成された穴に対応して形成された柱状の突起である請求項１乃至４のいずれか１項の参照変形体の固定具。
【請求項６】
前記凹凸は、前記第１及び前記第２の枠体の少なくとも一方の挟持面に、該枠体の辺に沿って形成された突条である請求項１の参照変形体の固定具。
【請求項７】
前記凹凸は、前記第１及び前記第２の枠体の少なくとも一方の挟持面に、前記参照変形体の鍔部材の辺に沿って形成された溝に対応して、枠体の辺に沿って形成された突条である請求項１又は６の参照変形体の固定具。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか１項の参照変形体の固定具と、該固定具に固定された参照変形体とを備えてなる超音波探触子。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれか１項の参照変形体の固定具と該固定具に固定された参照変形体とを備えてなる超音波探触子と、該超音波探触子を介して被検体に超音波を送受信し、前記被検体の断層部位のＲＦ信号フレームデータに基づいて断層画像を生成する断層画像構成手段と、前記ＲＦ信号フレームデータに基づいて前記断層部位における組織の歪み又は弾性率を求める弾性情報演算手段と、前記弾性情報演算手段で求めた歪み又は弾性率に基づいて弾性画像を生成する弾性画像構成手段と、前記断層画像及び／又は前記弾性画像を表示する表示手段とを備えた超音波診断装置。
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月27日(2012.6.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石（Ｒは少なくともＮｄを含む希土類元素）の表面に、構成元素としてＺｒ、Ｎｄ、フッ素、酸素を少なくとも含有する膜厚が１０ｎｍ〜１５０ｎｍの化成被膜（但しリンは含有しない）を直接的に有することを特徴とする耐食性磁石。
【請求項２】
化成被膜が構成元素としてＦｅをさらに含有することを特徴とする請求項１記載の耐食性磁石。
【請求項３】
化成被膜の厚みの外表面側半分の領域と磁石側半分の領域におけるＺｒ含量を比較すると後者よりも前者の方が多いことを特徴とする請求項２記載の耐食性磁石。
【請求項４】
外表面側半分の領域の厚み方向におけるＺｒ含量の最大値が５原子％〜３０原子％であることを特徴とする請求項３記載の耐食性磁石。
【請求項５】
化成被膜のＮｄ含量とフッ素含量が磁石表面の主相の上部よりも粒界相の上部の方が多いことを特徴とする請求項２記載の耐食性磁石。
【請求項６】
化成被膜の磁石表面の粒界相の上部の厚み方向におけるフッ素含量の最大値が１原子％〜５原子％であることを特徴とする請求項５記載の耐食性磁石。
【請求項７】
化成被膜の表面に樹脂被膜を有することを特徴とする請求項２記載の耐食性磁石。
【請求項８】
Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石（Ｒは少なくともＮｄを含む希土類元素）の表面に、構成元素としてＺｒ、Ｎｄ、Ｆｅ、フッ素、酸素を少なくとも含有する膜厚が１０ｎｍ〜１５０ｎｍの化成被膜（但しリンは含有しない）を形成することを特徴とする耐食性磁石の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記の点に鑑みてなされた本発明の耐食性磁石は、請求項１記載の通り、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石（Ｒは少なくともＮｄを含む希土類元素）の表面に、構成元素としてＺｒ、Ｎｄ、フッ素、酸素を少なくとも含有する膜厚が１０ｎｍ〜１５０ｎｍの化成被膜（但しリンは含有しない）を直接的に有することを特徴とする。
また、請求項２記載の耐食性磁石は、請求項１記載の耐食性磁石において、化成被膜が構成元素としてＦｅをさらに含有することを特徴とする。
また、請求項３記載の耐食性磁石は、請求項２記載の耐食性磁石において、化成被膜の厚みの外表面側半分の領域と磁石側半分の領域におけるＺｒ含量を比較すると後者よりも前者の方が多いことを特徴とする。
また、請求項４記載の耐食性磁石は、請求項３記載の耐食性磁石において、外表面側半分の領域の厚み方向におけるＺｒ含量の最大値が５原子％〜３０原子％であることを特徴とする。
また、請求項５記載の耐食性磁石は、請求項２記載の耐食性磁石において、化成被膜のＮｄ含量とフッ素含量が磁石表面の主相の上部よりも粒界相の上部の方が多いことを特徴とする。
また、請求項６記載の耐食性磁石は、請求項５記載の耐食性磁石において、化成被膜の磁石表面の粒界相の上部の厚み方向におけるフッ素含量の最大値が１原子％〜５原子％であることを特徴とする。
また、請求項７記載の耐食性磁石は、請求項２記載の耐食性磁石において、化成被膜の表面に樹脂被膜を有することを特徴とする。
また、本発明の耐食性磁石の製造方法は、請求項８記載の通り、Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系焼結磁石（Ｒは少なくともＮｄを含む希土類元素）の表面に、構成元素としてＺｒ、Ｎｄ、Ｆｅ、フッ素、酸素を少なくとも含有する膜厚が１０ｎｍ〜１５０ｎｍの化成被膜（但しリンは含有しない）を形成することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
比較例４：
実施例６で用いたラジアルリング焼結磁石と同じ磁石に対し、実施例４と同様にして熱処理を行った後、超音波水洗を１分間行ってから、７．５ｇのリン酸をイオン交換水１リットルに溶解し、水酸化ナトリウムでｐＨを２．９に調整して調製した処理液に、浴温６０℃で５分間浸漬して化成処理を行い、磁石を処理液から引き上げた後、水洗し、１６０℃で３５分間乾燥処理を行うことで、磁石の表面に膜厚が約３０ｎｍの化成被膜を形成した。こうして得られた表面に化成被膜を有する磁石に対し、実施例６と同様にしてプレッシャークッカーテストを行い、脱粒量を求めたところ、脱粒量は６．５ｇ／ｍ２であり、実施例６における脱粒量よりも多量であった。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
比較例５：
実施例６で用いたラジアルリング焼結磁石と同じ磁石に対し、実施例４と同様にして熱処理を行った後、超音波水洗を１分間行ってから、７ｇのクロム酸をイオン交換水１リットルに溶解して調製した処理液に、浴温６０℃で１０分間浸漬して化成処理を行い、磁石を処理液から引き上げた後、水洗し、１６０℃で３５分間乾燥処理を行うことで、磁石の表面に膜厚が約３０ｎｍの化成被膜を形成した。こうして得られた表面に化成被膜を有する磁石に対し、実施例６と同様にしてプレッシャークッカーテストを行い、脱粒量を求めたところ、脱粒量は９．０ｇ／ｍ２であり、実施例６における脱粒量よりも多量であった。
【手続補正書】
【提出日】平成24年4月9日(2012.4.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
３次元映像を取得する映像取得手段と、
表示装置の表示面から視聴者側に突出した映像として認識される前記３次元映像に関する、前記表示面から突出する方向の最長距離の指標を示す指標情報を取得する指標取得手段と、
前記表示装置に表示された場合に前記表示面から前記指標情報に対応する距離だけ突出した画像として認識される３次元画像を生成する生成手段と、
前記３次元画像を前記３次元映像に合成する合成手段と、
前記３次元画像が合成された前記３次元映像を前記表示装置へ出力する出力手段と、
を備えることを特徴とする映像出力装置。
【請求項２】
前記生成手段は、前記合成手段による前記合成の開始から所定時間が経過するまでは、前記指標情報に対応する距離よりも前記表示面に近く、且つ当該開始からの経過時間が短いほど前記表示面に近い位置の画像として認識されるように、前記３次元画像を生成することを特徴とする請求項１に記載の映像出力装置。
【請求項３】
前記合成手段は、前記合成の開始から所定時間が経過するまでは、当該開始からの経過時間が短いほど高い透過率で前記３次元画像の合成を行うことを特徴とする請求項１又は２に記載の映像出力装置。
【請求項４】
予め決定された距離に対応する前記指標情報を格納したメモリを更に備え、
前記指標取得手段は、前記メモリから前記指標情報を取得する
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の映像出力装置。
【請求項５】
前記映像取得手段は、前記３次元映像と共に前記３次元映像に対応付けられた前記指標情報を取得し、
前記指標取得手段は、前記映像取得手段から前記指標情報を取得する
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の映像出力装置。
【請求項６】
３次元映像を取得する映像取得手段を備える映像出力装置の制御方法であって、
前記映像出力装置の指標取得手段が、表示装置の表示面から視聴者側に突出した映像として認識される前記３次元映像に関する、前記表示面から突出する方向の最長距離の指標を示す指標情報を取得する指標取得工程と、
前記映像出力装置の生成手段が、前記表示装置に表示された場合に前記表示面から前記指標情報に対応する距離だけ突出した画像として認識される３次元画像を生成する生成工程と、
前記映像出力装置の合成手段が、前記３次元画像を前記３次元映像に合成する合成工程と、
前記映像出力装置の出力手段が、前記３次元画像が合成された前記３次元映像を前記表示装置へ出力する出力工程と、
を備えることを特徴とする制御方法。
【請求項７】
前記生成工程では、前記合成工程による前記合成の開始から所定時間が経過するまでは、前記指標情報に対応する距離よりも前記表示面に近く、且つ当該開始からの経過時間が短いほど前記表示面に近い位置の画像として認識されるように、前記３次元画像を生成することを特徴とする請求項６に記載の制御方法。
【請求項８】
前記合成工程では、前記合成の開始から所定時間が経過するまでは、当該開始からの経過時間が短いほど高い透過率で前記３次元画像の合成を行うことを特徴とする請求項６又は７に記載の制御方法。
【請求項９】
前記映像出力装置は、予め決定された距離に対応する前記指標情報を格納したメモリを更に備え、
前記指標取得工程では、前記メモリから前記指標情報を取得する
ことを特徴とする請求項６乃至８のいずれか１項に記載の制御方法。
【請求項１０】
前記映像取得手段は、前記３次元映像と共に前記３次元映像に対応付けられた前記指標情報を取得し、
前記指標取得工程では、前記映像取得手段から前記指標情報を取得する
ことを特徴とする請求項６乃至８のいずれか１項に記載の制御方法。
【請求項１１】
コンピュータに、請求項６乃至１０のいずれか１項に記載の制御方法の各工程を実行させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】映像出力装置、その制御方法、及びプログラム
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記課題を解決するために、第１の本発明は、３次元映像を取得する映像取得手段と、表示装置の表示面から視聴者側に突出した映像として認識される前記３次元映像に関する、前記表示面から突出する方向の最長距離の指標を示す指標情報を取得する指標取得手段と、前記表示装置に表示された場合に前記表示面から前記指標情報に対応する距離だけ突出した位置の画像として認識される３次元画像を生成する生成手段と、前記３次元画像を前記３次元映像に合成する合成手段と、前記３次元画像が合成された前記３次元映像を表示装置へ出力する出力手段と、を備えることを特徴とする映像出力装置を提供する。