【事件の表示】
　特願２００３−３６３２５７「記録ヘッド、記録ヘッドの製造方法、及び複合ヘッド並びに磁気記録再生装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１６年　３月１８日出願公開、特開２００４−　８７１２３〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成１２年１月５日に出願した特願２０００−４９０号の一部を平成１５年１０月２３日に新たな特許出願としたものであって、平成１７年１月２７日付けで手続補正がなされ、その後平成１７年３月７日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、平成１７年４月１１日に拒絶査定不服審判が請求されるとともに、平成１７年４月１１日付けで手続補正がなされたものである。
　
第２　平成１７年４月１１日付け手続補正（以下、「本件補正」という。）について
［補正却下の決定の結論］
　平成１７年４月１１日付け手続補正を却下する。
［理由］
１．本件補正
　本件補正は、特許請求の範囲の請求項１について、補正前の、
　（ａ）「【請求項１】　対向する第１の磁気コアと第２の磁気コアの一方の端部が記録ギャップを形成し、その他方の端部が磁気的接合を形成しており、前記第１の磁気コアと前記第２の磁気コアとの間に、絶縁体により絶縁されたコイルが設けられ、前記コイルにより励磁された前記第１、第２の磁気コアの磁束が、前記記録ギャップから漏れることにより磁気媒体に記録を行う磁気ヘッドであって、前記記録ギャップの磁気媒体に近接する先端部から、前記磁気的な接合の接点までの距離（以下、ヨーク長という）が、２０μｍ以下であることを特徴とする記録ヘッドであって、前記対向する第１、第２の磁気コアの少なくとも一方の磁気コアの記録ギャップ近傍が、Ｃｏ，Ｆｅ，Ｎｉを主成分とする材料より構成されるかまたは４５ＮｉＦｅより構成されていることを特徴とする記録ヘッド。」を、
　（ｂ）「【請求項１】　対向する第１の磁気コアと第２の磁気コアの一方の端部が記録ギャップを形成し、その他方の端部が磁気的接合を形成しており、前記第１の磁気コアと前記第２の磁気コアとの間に、絶縁体により絶縁されたコイルが設けられ、前記コイルにより励磁された前記第１、第２の磁気コアの磁束が、前記記録ギャップから漏れることにより磁気媒体に記録を行う磁気ヘッドであって、前記記録ギャップの磁気媒体に近接する先端部から、前記磁気的な接合の接点までの距離（以下、ヨーク長という）が、２０μｍ以下で
ある記録ヘッド
から選択される少なくとも２種類の元素を主成分とし、かつ、必ずＣｏを含む材料より構成される
　と補正するものである。
　
　本件補正は、補正前の請求項１に記載された発明を特定するために必要な事項である「２０μｍ以下であることを特徴とする記録ヘッド」を「２０μｍ以下で
ある記録ヘッド
から選択される少なくとも２種類の元素を主成分とし、かつ、必ずＣｏを含む材料より構成される
　そこで、補正後における特許請求の範囲の請求項１に記載されている事項により特定される発明（以下「補正後の発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるかについて以下に検討する。
　
２．引用例
（１）原査定の拒絶の理由に引用された特開平１０−１４３８２０号公報（以下「引用例１」という。）には、「インダクティブ／ＭＲ複合型薄膜磁気ヘッド」に関し、次の事項が記載されている。（なお、下線は当審で付与したものである。）
　（ア）「【請求項１】　
上下１対の磁性膜の間に絶縁膜と導体コイルとを積層した書込み用のインダクティブヘッドと、読出し用の磁気抵抗（ＭＲ）ヘッドとを備えるインダクティブ／ＭＲ複合型薄膜磁気ヘッドであって
前記上下磁性膜の先端に磁気ギャップを挟んで互いに対向する上下磁極と前記上下磁性膜の結合部との間の距離Ｌ（μｍ）が
【請求項２】　
前記距離Ｌが６０μｍ以下であること
　（イ）「【０００４】
【発明が解決しようとする課題】このような複合型薄膜磁気ヘッドにおいて高速・高密度記録を実現するためには、優れた記録能力を有する書込みヘッドが必要である。しかしながら、インダクティブヘッドのコイルを流れる書込み電流は、該コイルが持つインピーダンスにより遅れ成分が生じ、これが大きくなると、書込み電流の方形波に「なまり」と呼ばれる歪みが生じる。また、上下磁性膜のヨーク部分には、コイルを流れる書込み電流により渦電流損が生じ、これが更に上下磁極間の磁場の高周波成分に遅れを生じさせる。このため、記録媒体に高密度で信号を書き込む場合、隣接する磁化遷移が互いに干渉して、ノンリニア・トランジション・シフト（ＮＬＴＳ）と呼ばれる書込み位置の非線形なずれが記録媒体に生じ、これが信号の再生時に読取りエラーを増加させるという問題がある。
【０００５】川島宏明らによる「高Ｂｓポール　インダクティブ／ＭＲヘッド複合薄膜ヘッド」（日本応用磁気学会学術講演概要集（１９９５）第２２１頁）には、上部磁極の先端部に従来のＮｉＦｅと高磁束密度のＦｅＺｒＮとの２層構造を採用することにより、ＮＬＴＳを低減させた複合型薄膜磁気ヘッドが記載されている。これから分かるように、書込みヘッドの磁極部を形成する材料を、従来のＮｉＦｅ（パーマロイ）から、より磁束密度の高い材料、例えばコバルト／ジルコニウム／タンタル（ＣｏＺｒＴａ）やコバルト／ニオブ／タンタル（ＣｏＮｂＴａ）、鉄／ジルコニウム／窒素（ＦｅＺｒＮ）に変更すれば、上述した上下磁極間の磁場に生じる高周波成分の遅れを改善し得ることは容易に考えられる。
【０００６】しかしながら、これら高磁束密度の材料でインダクティブヘッドの磁極部を形成した場合、特にウエハから各チップを切り出してスライダに成形加工するための切断・洗浄工程において、水や酸により腐食する虞がある。このため、従来の薄膜磁気ヘッドの製造工程をそのまま適用できないという問題が生じる。（略）
【０００７】そこで、本発明は、このような従来の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、インダクティブヘッドの磁極材料として従来のパーマロイを用いて、従来の工程をそのまま適用して容易に製造することができ、しかも
ＮＬＴＳを改善する
　（ウ）「【００１０】このようにして、データ転送レートに応じてインダクティブヘッドの
上下磁性膜のヨーク部分の長さを制限することにより、コイルを流れる書込み電流による渦電流損の影響が少なくなるので、上下磁極間の磁場に生じる高周波成分の遅れが改善され、ＮＬＴＳを減少させることができる
　（エ）「【００１１】
【発明の実施の形態】（略）図１及び図２には、本発明によるインダクティブ／ＭＲ複合型薄膜磁気ヘッドの好適実施例が示されている。この複合型薄膜磁気ヘッドは、従来と同様に、Ａｌ２Ｏ３−ＴｉＣ系のセラミック材料からなる基板１上に、アルミナ又はＳｉなどの絶縁膜２を被着し、
パーマロイ系合金、コバルト系合金、鉄系センダスト合金などの軟磁性材料をめっき又はスパッタ蒸着してなる下シールド３及び上シールド４
【００１２】
書込み用のインダクティブヘッドは、その下部磁性膜を兼ねる上シールド４の上に
ＮｉＦｅのめっき膜からなる上部磁性膜１１
【００１３】本実施例の複合型薄膜磁気ヘッドにおいて、その所望のデータ転送レートをＸ（Ｍｂｉｔ／ｓｅｃ）とした場合、図２における上部磁性膜の
ヨーク部分の長さ
互いに対向する上下磁極と前記上下磁性膜の結合部との間の距離Ｌ（μｍ）
距離Ｌを短くすることにより、それに応じて前記ヨーク部分における渦電流損の影響が小さくなり
上下磁極における磁場の高周波成分の遅れが軽減される
【００１４】他方、コイルのターン数は、前記インダクティブヘッドが書込みに必要な強さの磁場を発生するように決定する。上述したように、
距離Ｌが小さくなると磁気効率が改善される
【００１５】実際、距離Ｌは、必要なコイルターン数Ｔを実現するように、コイルピッチやコイルの構造によって決定される。（略）また、コイルを２層構造にした場合は、必要なコイルターン数が同一であっても
Ｌをより短くする
【００１６】また、必要なコイルターン数Ｔの最小値は、必要な書込み磁場の強さや磁極材料の飽和磁束密度により異なるが、一般に実用上５〜８程度である。コイルピッチは、製造工程におけるホトリソグラフィ技術の精度により左右されることは言うまでもないが、一般に実用上１．５μｍ以下とされる。これらを奏合すると、
現状では、距離Ｌの最小値は、１０μｍ程度
【００１７】本実施例において、データ転送レートを１４０（Ｍｂｉｔ／ｓｅｃ）とする複合型薄膜磁気ヘッドを製造し、その場合に生じる
ＮＬＴＳの大きさ（％）と距離Ｌとの関係
下シールドを膜厚約２μｍのＮｉＦｅめっき膜
、上部磁性膜を膜厚３．５μｍのＮｉＦｅめっき膜
【００１８】図３から明らかなように、
ＮＬＴＳは、上下磁性膜のヨーク部分の距離Ｌの増大に伴って大きくなること
　（オ）本発明によるインダクティブ／ＭＲ複合型薄膜磁気ヘッドの実施例の構造の断面図である図２には、絶縁膜９の媒体側端部で規定される点（以下「ゼロスロートハイトレベル」という。）から上下磁性膜の結合部の媒体側端部までの距離をＬとして示す矢印が図示されている。
　（カ）本実施例における距離ＬとＮＬＴＳの関係を示す線図である図３には、距離Ｌ（横軸）が１０μｍ〜６０μｍの値であるとき、ＮＬＴＳ（縦軸）が約５％〜２０％の値をとることが連続する線で示されている。
　
３．対比判断
（１）対比
　補正後の発明と引用例１に記載された発明とを対比する。
　上記２で摘示した記載事項、特に（ア）（エ）（下線部参照）によれば、引用例１には、
　「上下１対の磁性膜の間に絶縁膜と導体コイルとを積層した書込み用のインダクティブヘッドと、読出し用の磁気抵抗（ＭＲ）ヘッドとを備えるインダクティブ／ＭＲ複合型薄膜磁気ヘッドであって、
　上下磁性膜の先端に磁気ギャップを挟んで互いに対向する上下磁極と上下磁性膜の結合部との間の距離Ｌ（μｍ）が、６０μｍ以下であり、例えば１０μｍである、インダクティブ／ＭＲ複合型薄膜磁気ヘッド。」
　の発明が記載されている。
　
　引用例１に記載された発明の「上下一対の磁性膜（上下磁性膜）」「磁気ギャップ」「上下磁性膜の結合部」「書込み用のインダクティブヘッド」「導体コイル」「絶縁膜」は、それぞれ補正後の発明の「第１の磁気コアと第２の磁気コア」「記録ギャップ」「磁気的接合」「記録を行う磁気ヘッド」「コイル」「絶縁体」に相当している。
　引用例１に記載された発明の「書込み用のインダクティブヘッド」は、補正後の発明の「記録を行う磁気ヘッド」及び「記録ヘッド」に相当している。
　引用例１に記載された発明の「インダクティブ／ＭＲ複合型薄膜磁気ヘッド」を構成する「書込み用のインダクティブヘッド」は、「上下１対の磁性膜の間に絶縁膜と導体コイルとを積層した」ものであり、「上下磁性膜の先端に磁気ギャップを挟んで互いに対向する上下磁極と上下磁性膜の結合部」とを備えているから、補正後の発明の「対向する第１の磁気コアと第２の磁気コアの一方の端部が記録ギャップを形成し、その他方の端部が磁気的接合を形成しており、前記第１の磁気コアと前記第２の磁気コアとの間に、絶縁体により絶縁されたコイルが設けられ、前記コイルにより励磁された前記第１、第２の磁気コアの磁束が、前記記録ギャップから漏れることにより磁気媒体に記録を行う磁気ヘッド」に相当する構成を備えている。
　よって、補正後の発明と引用例１に記載された発明との一致点及び相違点は以下のとおりである。
　（一致点）　「対向する第１の磁気コアと第２の磁気コアの一方の端部が記録ギャップを形成し、その他方の端部が磁気的接合を形成しており、前記第１の磁気コアと前記第２の磁気コアとの間に、絶縁体により絶縁されたコイルが設けられ、前記コイルにより励磁された前記第１、第２の磁気コアの磁束が、前記記録ギャップから漏れることにより磁気媒体に記録を行う磁気ヘッドである、記録ヘッド。」
　（相違点１）　「第１及び第２の磁気コア」の寸法について、補正後の発明は、「記録ギャップの磁気媒体に近接する先端部から、磁気的な接合の接点までの距離（以下、ヨーク長という）が、２０μｍ以下である」と特定しているのに対して、引用例１に記載された発明は、「上下磁性膜の先端に磁気ギャップを挟んで互いに対向する上下磁極と上下磁性膜の結合部との間の距離Ｌ（μｍ）が、６０μｍ以下であり、例えば１０μｍである」点。
　（相違点２）　「第１及び第２の磁気コア」の材料について、補正後の発明は、「対向する第１、第２の磁気コアの少なくとも一方の磁気コアの記録ギャップ近傍が、Ｃｏ，Ｆｅ，Ｎｉから選択される少なくとも２種類の元素を主成分とし、かつ、必ずＣｏを含む材料より構成されること」と特定しているのに対して、引用例１に記載された発明は、特定していない点。
　
（２）相違点についての判断
（相違点１について）
　引用例１に記載された発明の「上下磁性膜の先端に磁気ギャップを挟んで互いに対向する上下磁極と上下磁性膜の結合部との間の距離Ｌ（μｍ）」は、「ヨーク部分の長さ」と呼ばれ（上記（エ）段落１３参照）、ゼロスロートハイトから上下磁性膜の結合部の媒体側端部までの距離をＬとして図２で詳細に図示されている（上記（オ）参照）。
　引用例１において、上記距離Ｌは「ヨーク部分の長さ」と表現され、「
距離Ｌを短くすること
ヨーク部分に
ヨーク部分の距離Ｌ
　薄膜磁気ヘッドの分野において、従来より、ゼロスロートハイトレベル（上下磁気コアが磁気ギャップで交わる位置であり、非磁性絶縁膜の媒体側端部を指す。上記（オ）参照。）からエア・ベアリング面までの距離は、「スロートハイト」と呼ばれ、例えば、本願の背景技術として明細書に記載されている文献である特開平７−２６２５１９号公報（以下、「周知文献１」という。）（段落４等）、特開平７−２２５９１７号公報（以下、周知文献２」という。）（段落３〜５等）、特開平７−２９６３２８号公報（以下、周知文献３という。）（段落５〜６等）等に示されている。
　補正後の発明で、「ヨーク長」は「記録ギャップの磁気媒体に近接する先端部から、磁気的な接合の接点までの距離」と定義され、ここで補正後の発明の「ヨーク長」は、具体的には、引用例１の、「距離Ｌ」と、ゼロスロートハイトレベル（上記（オ）参照）から記録ギャップの磁気媒体に近接する先端部（エア・ベアリング面に位置する）までの距離であるスロートハイトとの和に、対応している。一般的に、スロートハイトは、上下磁気コアのエア・ベアリング面から後部領域の磁気的な接合の接点までの距離（補正後の発明の「ヨーク長」に相当。）に比べると極めて短い距離である。寸法の例示はないが、先に示した周知文献１乃至３の図示等から明らかである。
　よって、引用例１に記載された発明の「距離Ｌ」は、補正後の発明の「ヨーク長」と、ヨーク部分の長さを定義しようとするその技術的意義を共通にし、その値も概略同じ程度の距離であるといえる。そのことは、模式図ではあるが、引用例１の図２からも明らかである。なお、本願の明細書でも、ヨーク長が９．５μｍで、スロートハイトが０．５μｍの例（段落２３４，２３５）、ヨーク長が５μｍで、スロートハイトが０．５μｍの例（段落２５２）が記載されており、ヨーク長と、ヨーク長からスロートハイトを差し引いた距離とが、概略同じ程度の値になっている。
　補正後の発明における「ヨーク長」は、引用例１において定義されている「距離Ｌ」と、概略同じ程度の距離であることを勘案すると、引用例１に記載された発明において距離Ｌが１０μｍであるということは、補正後の発明でいう「ヨーク長」が１０μｍよりわずかに大きい値であって、「２０μｍ」より充分短い値といえる。また距離Ｌが１０μｍ〜６０μｍのものが線図で示されていること（上記（カ）、図３参照）をみれば、２０μｍ以下のヨーク長を用いた記録ヘッドが、引用例１に実質的に示されている。
　してみれば、引用例１に記載された発明の、「上下磁性膜の先端に磁気ギャップを挟んで互いに対向する上下磁極と上下磁性膜の結合部との間の距離Ｌ（μｍ）が、６０μｍ以下であり、例えば１０μｍである」は、補正後の発明の「第１及び第２の磁気コア」の寸法について、「記録ギャップの磁気媒体に近接する先端部から、磁気的な接合の接点までの距離（以下、ヨーク長という）が、２０μｍ以下である」と重複する距離を有しているものであり、実質的な相違点ではない。
　また、ヨーク長が短いことが、記録ヘッドとして望ましいことが示され、その例示として、実質的に２０μｍ以下の値であるものが示されているのであるから、上記相違点１のように、２０μｍ以下と限定することは、当業者が、磁気ヘッドの諸寸法等に応じ適宜なし得ることにすぎない。
（相違点２について）
　引用例１には、ヨーク部分の長さを制限することにより、コイルを流れる書込み電流による渦電流損の影響が少なくなるので、上下磁極間の磁場に生じる高周波成分の遅れが改善され、ＮＬＴＳを減少させることができる旨（上記（ウ）段落１０、（エ）段落１３及び１８参照）の作用効果が記載されている。当該作用効果は、寸法に係る問題であり、特定の磁性材料にのみ限定されるものではないことは明らかである。また、引用例１には、パーマロイ（ＮｉＦｅ合金）が例示されるとともに、コバルト系合金、鉄系センダスト合金などの軟磁性材料（上記（エ）段落１１参照）が例示されていること、及び請求の範囲において特定の材料に限定されているものでないこと（上記（ア）参照）からすれば、引用例１に記載された発明は、従来公知の材料を適宜採用しうることを示唆するものである。
　してみれば、引用例１に記載された発明において、第１、第２の磁気コアの少なくとも一方の磁気コアの記録ギャップ近傍の材料として、周知の磁性材料である、「Ｃｏ，Ｆｅ，Ｎｉから選択される少なくとも２種類の元素を主成分とし、かつ、必ずＣｏを含む材料」を採用し、そのヨーク長が１０μｍ程度の、２０μｍ以下の条件を満たす短いものを選択することは、当業者が容易に想到しうることである。
（請求人の主張に対して）
　なお、請求人は、高Ｂｓ膜について磁歪が正であるために記録動作後の再生出力の変動が著しくなるという問題を解決するために、「ヨーク長が２０μｍ以下」と特定することにより高Ｂｓ膜を実用化できた旨を主張し、また引用例１は従来のパーマロイを用いて性能を上げるためにヨーク長を短くするものであり、引用例１において解決しているのは、ＮＬＴＳの減少であり、高Ｂｓ膜を用いればヨーク長を短くしなくても達成されるはずの性能であり、引用例１は高Ｂｓ膜を使わなくて良いようにするための発明であるから、引用例１に高Ｂｓ膜を組み合わせない旨主張している。
　しかしながら、引用例１に記載された発明は、例示された材料のみに限らず、公知の磁気コア材料でも同様の作用効果があることが明らかであることは、先に示したとおりである。また、請求人は、高Ｂｓ膜で磁歪が正の材料であるものを前提として説明しているが、補正後の発明は、「Ｃｏ，Ｆｅ，Ｎｉから選択される少なくとも２種類の元素を主成分とし、かつ、必ずＣｏを含む材料より構成される」のように広範囲な磁性材料に特定されているのであって、高Ｂｓ膜で磁歪が正の材料に限るものではない。なお、補正後の発明で特定される磁性材料でのうち例示されているようなＣｏＮｉＦｅ磁性材料は、原審の拒絶理由において示された特開平１０−１９９７２６号公報、特開平５−７３８３９号公報等に記載されているように、既に周知の材料であり、たとえ補正後の発明において、 高Ｂｓ膜で磁歪が正の材料であるとさらに特定されたとしても、引用例１に記載された発明と周知の磁性材料の組み合わせは、容易というほかない。
　また、引用例１において、高Ｂｓの材料として例示されているＣｏＺｒＴａ、ＣｏＮｂＴａ、及びＦｅＺｒＮは、腐蝕のおそれがあり不適当として除外されているのであって、引用例１は、補正後の発明の対象とする「Ｃｏ，Ｆｅ，Ｎｉから選択される少なくとも２種類の元素を主成分とし、かつ、必ずＣｏを含む材料」を除外しているわけではないので、当該材料を引用例１に記載された発明における磁気コアの材料として採用しないという阻害要因はない。
　ところで、本願の出願当初の明細書には、「【００９６】先ず、当該第１の実施形態の各特性値から判断すると、
当該ヨーク長が、１９μｍ以下であれば、当該磁性膜の構成や、その製造方法には関係なく
ヨーク長が長いと特に周波数特性が悪化する事が判った
　請求人は、引用例１には、補正後の発明の解決しようとする課題である「記録動作後の再生出力の変動」について記載されておらず、補正後の発明で問題としている「出力変動」は「磁歪が正である場合に記録動作後の上シールドの磁化状態が一定の状態に安定しにくくなり、再生特性に影響を与えるために生じるもので、引用例１で問題としている高周波特性やＮＬＴＳとは全く異なる現象である」と主張し、補正後の発明とは全く異なった磁性材料を用い異なった現象を問題にしている引用例１からは、容易に発明できない旨、主張している。
　しかしながら、引用例１に記載された発明において、周知の磁気コア材料を用いることは当業者が適宜なし得ることであることは先に示したとおりであり、しかも、記録ヘッドのヨーク長を１０μｍ程度の２０μｍ以下のものとすることにより高周波特性の改善やＮＬＴＳの減少という効果をもたらすことが引用例１に記載され、補正後の発明も同様の作用効果を奏している（明細書段落９６、１０５〜１０８、１２６参照）ものであるから、引用例１に「出力変動」の作用効果の記載がなくとも、補正後の発明は引用例１に記載された発明に基いて当業者が容易になし得る構成である。
　また、請求人の主張する「記録動作後の再生出力の変動」という作用効果は、「上シールドの磁化状態」が一定の状態に安定しにくくなり、再生特性に影響を与えるために生じるものと説明されているが、補正後の発明は、特許請求の範囲の記載からみて、上シールドを備えることを前提とするものに限られているわけではないから、請求人の主張する作用効果は、補正後の発明が必ず奏する作用効果とはいえず、請求人の主張は採用できない。なお、引用例１に記載された発明は、下の磁気コアが上シールドを兼用する構成において補正後の発明と共通しているのであるから、上シールドを備えることを前提としても、補正後の発明は引用例１に記載された発明に基いて当業者が容易になし得たものである。
　
　そして、上記相違点を総合的に検討しても、補正後の発明の効果は、引用例１に記載された発明から当業者であれば予測される範囲内であるので、上記相違点は、当業者が容易に想到し得たものである。
　
４．むすび
　以上のとおり、補正後の発明は、本願出願前に頒布された引用例１に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　したがって、本件補正は、平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するから、特許法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
第３　本願発明について
　平成１７年４月１１日付け手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１乃至１８に係る発明は、平成１７年１月２７日付け手続補正書によって補正された明細書および図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１乃至１８に記載された事項により特定されるものであるところ、その請求項１に記載された発明（以下「本願発明」という。）は次のとおりである。
　「【請求項１】上記「第２の１の（ａ）」のとおり。」
　
１．引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された引用例１の記載事項は、上記「第２の２」に記載されたとおりである。
　
２．対比判断
　本願発明は、上記「第２の３」で検討した補正後の発明から、「前記対向する第１、第２の磁気コアの少なくとも一方の磁気コアの記録ギャップ近傍」が「Ｃｏ，Ｆｅ，Ｎｉを主成分とする材料より構成されるかまたは４５ＮｉＦｅより構成されていること」についての限定事項である「Ｃｏ，Ｆｅ，Ｎｉ
から選択される少なくとも２種類の元素を主成分とし、かつ、必ずＣｏを含む材料より構成される
　そうすると、本願発明の構成要件を全て含み、さらに他の構成要件を付加したものに相当する補正後の発明が、上記「第２の３」に記載したとおり、引用例１に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、同様の理由により、引用例１に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
３．むすび
　以上のとおり、本願発明は、本願出願前に頒布された引用例１に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。他の請求項を検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。