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【手続補正書】
【提出日】平成24年9月27日(2012.9.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
眼鏡レンズを保持する一対のレンズチャック軸を回転するチャック軸回転手段と、眼鏡レンズの周縁を加工する加工具が取り付けられた加工具回転軸を回転する加工具回転手段と、を備える眼鏡レンズ加工装置を較正するために使用される、眼鏡レンズ加工装置の較正用センサユニットは、
前記レンズチャック軸に取り付けられる固定部と、
前記加工具に接触される接触部材と、
前記固定部に対して前記接触部材を所定方向に移動可能に支持する支持機構と、
前記接触部材の移動を検知するセンサであって、前記接触部材又は固定部に配置されたセンサと、
該センサの検知信号を前記制御ユニットへ送信するための信号送信手段と、
を備えることを特徴とする眼鏡レンズ加工装置の較正用センサユニット。
【請求項２】
請求項１の眼鏡レンズ加工装置の較正用センサユニットにおいて、
前記支持機構は、前記レンズチャック軸に対して直交する直交方向で、且つ前記固定部に対して離れる側へ前記接触部材を付勢する付勢部材を持ち、
前記センサは、前記付勢部材の付勢力に抵抗して前記前記接触部が前記固定部側へ移動したことを検知することを特徴とする眼鏡レンズ加工装置の較正用センサユニット。
【請求項３】
請求項２の眼鏡レンズ加工装置の較正用センサユニットにおいて、
前記付勢部材は、前記接触部材が加工具に接触して前記固定部側へ移動されるときに、前記加工具回転軸及びレンズチャック軸を所定の許容量以上に撓ませない付勢力を持つことを特徴とする眼鏡レンズ加工装置の較正用センサユニット。
【請求項４】
請求項２又は３の何れかの眼鏡レンズ加工装置の較正用センサユニットにおいて、
前記付勢部材は、前記固定部に対して前記接触部材が上向きにされたときに、前記接触部材の自重によって前記固定部側へ移動されず、前記センサが反応しない付勢力を持つことを特徴とする眼鏡レンズ加工装置の較正用センサユニット。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明は以下のような構成を備えることを特徴とする。
（１）  眼鏡レンズを保持する一対のレンズチャック軸を回転するチャック軸回転手段と、眼鏡レンズの周縁を加工する加工具が取り付けられた加工具回転軸を回転する加工具回転手段と、を備える眼鏡レンズ加工装置を較正するために使用される、眼鏡レンズ加工装置の較正用センサユニットは、
前記レンズチャック軸に取り付けられる固定部と、前記加工具に接触される接触部材と、前記固定部に対して前記接触部材を所定方向に移動可能に支持する支持機構と、前記接触部材の移動を検知するセンサであって、前記接触部材又は固定部に配置されたセンサと、該センサの検知信号を前記制御ユニットへ送信するための信号送信手段と、を備えることを特徴とする。
（２）  （１）の眼鏡レンズ加工装置の較正用センサユニットにおいて、前記支持機構は、前記レンズチャック軸に対して直交する直交方向で、且つ前記固定部に対して離れる側へ前記接触部材を付勢する付勢部材を持ち、前記センサは、前記付勢部材の付勢力に抵抗して前記前記接触部が前記固定部側へ移動したことを検知することを特徴とする。
（３）  （２）の眼鏡レンズ加工装置の較正用センサユニットにおいて、前記付勢部材は、前記接触部材が加工具に接触して前記固定部側へ移動されるときに、前記加工具回転軸及びレンズチャック軸を所定の許容量以上に撓ませない付勢力を持つことを特徴とする。
（４）  （２）又は（３）の何れかの眼鏡レンズ加工装置の較正用センサユニットにおいて、前記付勢部材は、前記固定部に対して前記接触部材が上向きにされたときに、前記接触部材の自重によって前記固定部側へ移動されず、前記センサが反応しない付勢力を持つことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成24年7月19日(2012.7.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記前処理工程は、前記暴露処理工程の次に、前記基材の表面を脱水処理する前脱水処理工程を含むことを特徴とする請求項１に記載の有機膜の形成方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年8月8日(2012.8.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１０】
複数の記録素子を制御して画像を記録する画像記録方法であって、
記録素子毎の記録濃度を示す出力濃度データを取得する濃度情報取得ステップと、
前記出力濃度データから前記記録素子毎の記録情報を求める特性演算ステップと、
前記記録情報のうち記録媒体に対して記録可能な記録素子の前記記録情報と、予め定められる前記複数の記録素子の適正時の特性情報とを前記記録素子毎に比較する比較ステップと、
前記記録情報と前記特性情報との前記比較の結果に応じて記録制御に対する補正値を前記記録素子毎に算出する濃度補正値算出ステップと、
前記複数の記録素子のうち、前記比較の結果から前記記録情報が前記特性情報に対して所定の条件を満たすと判断される検出記録素子による前記記録媒体上の記録位置の周辺に対して記録を行う周辺記録素子の記録制御に対する前記補正値を、前記検出記録素子の前記記録濃度を補うように、前記検出記録素子の前記記録情報及び前記特性情報に基づいて修正する濃度補正値修正ステップと、
前記濃度補正値算出ステップで算出された前記補正値及び前記濃度補正値修正ステップで修正された前記補正値に基づき、前記複数の記録素子によって前記記録媒体に出力される画像のデータを、前記記録素子毎に補正する画像補正ステップと
を有することを特徴とする画像記録方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
本発明の他の態様は画像記録方法に係り、この画像記録方法は、複数の記録素子を制御して画像を記録する画像記録方法であって、記録素子毎の記録濃度を示す出力濃度データを取得する濃度情報取得ステップと、前記出力濃度データから前記記録素子毎の記録情報を求める特性演算ステップと、前記記録情報のうち記録媒体に対して記録可能な記録素子の前記記録情報と、予め定められる前記複数の記録素子の適正時の特性情報とを前記記録素子毎に比較する比較ステップと、前記記録情報と前記特性情報との前記比較の結果に応じて記録制御に対する補正値を前記記録素子毎に算出する濃度補正値算出ステップと、前記複数の記録素子のうち、前記比較の結果から前記記録情報が前記特性情報に対して所定の条件を満たすと判断される検出記録素子による前記記録媒体上の記録位置の周辺に対して記録を行う周辺記録素子の記録制御に対する前記補正値を、前記検出記録素子の前記記録濃度を補うように、前記検出記録素子の前記記録情報及び前記特性情報に基づいて修正する濃度補正値修正ステップと、前記濃度補正値算出ステップで算出された前記補正値及び前記濃度補正値修正ステップで修正された前記補正値に基づき、前記複数の記録素子によって前記記録媒体に出力される画像のデータを、前記記録素子毎に補正する画像補正ステップとを備える。
【手続補正書】
【提出日】平成24年8月8日(2012.8.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項９】
前記補正処理切り換え手段は、前記記録情報から導かれる入力濃度データに対する前記出力濃度データの特性曲線が単調増加するか否かに応じて前記補正処理の内容を切り換えることを特徴とする請求項１乃至８のいずれかに記載の画像記録装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
前記補正処理切り換え手段は、前記記録情報から導かれる入力濃度データに対する前記出力濃度データの特性曲線が単調増加するか否かに応じて前記補正処理の内容を切り換えることが望ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成24年8月1日(2012.8.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
前記横延伸工程は、
前記フィルムを加熱する予熱ゾーンと、
前記クリップの間隔を拡げることによって前記予熱ゾーンで加熱されたフィルムを幅方向に延伸する横延伸ゾーンと、
前記横延伸ゾーンで延伸されたフィルムを該フィルムの結晶化温度以上で熱処理する熱固定ゾーンとで構成される複数のゾーンを備え、
前記複数のゾーンごとに前記カバーの温度を調節することを特徴とする請求項１または２に記載のフィルム延伸方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
本発明のフィルム延伸方法は、前記発明において、前記横延伸工程は、前記フィルムを加熱する予熱ゾーンと、前記クリップの間隔を拡げることによって前記予熱ゾーンで加熱されたフィルムを幅方向に延伸する横延伸ゾーンと、前記横延伸ゾーンで延伸されたフィルムを該フィルムの結晶化温度以上で熱処理する熱固定ゾーンとで構成される複数のゾーンを備え、前記複数のゾーンごとに前記カバーの温度を調節することが好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成24年9月26日(2012.9.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数枚の仕切プレートを組み合わせて形成する緩衝用中仕切りであって、以下の構成を備えていることを特徴とする緩衝用中仕切り。
（１）前記組み合わされる仕切りプレートは、いずれもが、上下一方の辺から伸びる様に形成された溝を複数本備えていること。
（２）前記各溝は、開口部と、該開口部からプレートの高さ中心に向かってほぼ一定の溝幅で直線的に形成される溝本体部と、該溝本体部の先端部に形成される止め部とから構成される同一形状の溝であること。
（３）前記止め部は、前記溝本体部の先端から該溝本体部の溝幅の範囲内で斜めに伸びる斜め切り込みと、該斜め切り込みの先端に形成され、少なくとも前記溝本体部の溝幅よりも広い幅の係合可能な範囲を有する係合部とから構成されていること。
（４）前記係合部は、前記斜め切り込みの先端に連続して形成された切り込みによって形成される舌片によって構成されていること。
（４−１）前記舌片は、上下方向に倒すことができる形状のものであること。
【手続補正書】
【提出日】平成24年7月30日(2012.7.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
α位にヒドロキシアルキル基を有するアクリレートを反応に使用して、α−（アルコキシアルキル）アクリレートを製造する方法であって、
該製造方法は、該反応により得られた、α位にヒドロキシアルキル基を有するアクリレートを含有するα−（アルコキシアルキル）アクリレート粗製物を、無機アルカリを用いて処理することによって、該α位にヒドロキシアルキル基を有するアクリレートを取り除く操作を行うことを特徴とするα−（アルコキシアルキル）アクリレートの製造方法。
【請求項２】
前記製造方法は、α−（不飽和アルコキシアルキル）アクリレートを製造する方法であることを特徴とする請求項１に記載のα−（アルコキシアルキル）アクリレートの製造方法。
【請求項３】
α−（アルコキシアルキル）アクリレートとα位にヒドロキシアルキル基を有するアクリレートとを含むα−（アルコキシアルキル）アクリレート含有組成物であって、
該組成物中におけるα−（アルコキシアルキル）アクリレートに対するα位にヒドロキシアルキル基を有するアクリレートの割合が０．６〜７．５質量％であることを特徴とするα−（アルコキシアルキル）アクリレート含有組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成24年9月25日(2012.9.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被加工物にパルス状のレーザ光を照射しつつアシストガスを噴射して前記被加工物の溶接をするレーザ加工方法であって、
前記パルス状のレーザ光のパルスに対して前記アシストガスをパルス状に噴射し、前記パルス状のレーザ光のパルス間では前記アシストガスを噴射しない期間を設けること特徴とするレーザ加工方法。
【請求項２】
前記アシストガスを複数の噴射手段を用いてパルス状に噴射し、
前記複数の噴射手段のそれぞれの手段から順次前記アシストガスを噴射することを特徴とする請求項１記載のレーザ加工方法。
【請求項３】
前記アシストガスを噴射しない前記期間を前記パルス状のレーザ光の前記パルス間毎に設けることを特徴とする請求項１または２に記載のレーザ加工方法。
【請求項４】
前記パルス状のレーザ光の前記パルスの周波数と、パルス状の前記アシストガスの周波数と、が異なることを特徴とする請求項１または２に記載のレーザ加工方法。
【請求項５】
前記アシストガスのガス噴射量及びガス噴射圧の少なくともいずれかを段階的に変化させることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１つに記載のレーザ加工方法。
【請求項６】
前記複数の噴射手段は、第１の噴射手段と、第２の噴射手段と、を含み、
前記第１の噴射手段から噴射される前記アシストガスの前記パルスの位相と、前記第２の噴射手段から噴射される前記アシストガスの前記パルスの位相と、がずれており、
前記第１の噴射手段と、前記第２の噴射手段と、から交互に前記アシストガスを噴射させることを特徴とする請求項２、４、５のいずれか１つに記載のレーザ加工方法。
【請求項７】
前記複数の噴射手段は、第１の噴射手段と、第２の噴射手段と、第３の噴射手段と、第４の噴射手段と、含み、
前記第１の噴射手段から噴射される前記アシストガスの前記パルスの位相と、前記第２の噴射手段から噴射される前記アシストガスの前記パルスの位相と、前記第３の噴射手段から噴射される前記アシストガスの前記パルスの位相と、前記第４の噴射手段から噴射される前記アシストガスの前記パルスの位相と、が各々ずれており、
前記第１の噴射手段および前記第２の噴射手段を組にした噴射手段と、前記第３の噴射手段および前記第４の噴射手段を組にした噴射手段と、から交互に前記アシストガスを噴射させることを特徴とする請求項２、４〜６のいずれか１つに記載のレーザ加工方法。
【請求項８】
前記第１の噴射手段から噴射される前記アシストガスの前記パルスの時間と、前記第２の噴射手段から噴射される前記アシストガスの前記パルスの時間と、を足しあわせた期間が前記パルス状のレーザ光の前記パルスの少なくとも１周期と前記パルス状のレーザ光の前記パルスの時間とを足しあわせた期間に重複していることを特徴とする請求項６記載のレーザ加工方法。
【請求項９】
前記第１の噴射手段から噴射される前記アシストガスの前記パルスの期間が前記パルスレーザ光の前記パルスの少なくとも１周期と前記パルスレーザ光の前記パルスの時間とを足しあわせた期間に重複し、
前記第２の噴射手段から噴射される前記アシストガスの前記パルスの期間が前記パルス状のレーザ光の前記パルスの少なくとも１周期と前記パルス状のレーザ光の前記パルスの時間とを足しあわせた期間に重複していることを特徴とする請求項６記載のレーザ加工方法。
【請求項１０】
パルス状のレーザ光を被加工物に照射して、前記被加工物の溶接をするレーザ加工装置であって、
前記被加工物に前記パルス状のレーザ光を照射する照射手段と、
前記被加工物にアシストガスをパルス状に噴射する噴射手段と、
を備え、
前記アシストガスをパルス状に噴射する時間、
前記アシストガスをパルス状に噴射する際のガス噴射量、
前記アシストガスをパルス状に噴射する際のガス噴射圧、
前記アシストガスの噴射を繰り返す周波数、
前記アシストガスのガス種、および、
複数の前記アシストガスを前記被加工物に噴射する場合のガス混合比、
の少なくともいずれかを制御することが可能であることを特徴とするレーザ加工装置。
【請求項１１】
パルス状のレーザ光を被加工物に照射して、前記被加工物の溶接をするレーザ加工装置であって、
前記被加工物に前記レーザ光を照射する照射手段と、
前記被加工物にアシストガスをパルス状に噴射する噴射手段と、
を備え、
前記噴射手段は、複数設けられ、
複数の前記噴射手段は、それぞれの手段により前記アシストガスを順次噴射することが可能であることを特徴とするレーザ加工装置。
【請求項１２】
前記アシストガスをパルス状に噴射する時間、
前記アシストガスをパルス状に噴射する際のガス噴射量、
前記アシストガスをパルス状に噴射する際のガス噴射圧、
前記アシストガスの噴射を繰り返す周波数、
前記アシストガスのガス種、および、
複数の前記アシストガスを前記被加工物に噴射する場合のガス混合比、
の少なくともいずれかを制御することが可能であることを特徴とする請求項１１記載のレーザ加工装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の一態様によれば、被加工物にパルス状のレーザ光を照射しつつアシストガスを噴射して前記被加工物の溶接をするレーザ加工方法であって、前記パルス状のレーザ光のパルスに対して前記アシストガスをパルス状に噴射し、前記パルス状のレーザ光のパルス間では前記アシストガスを噴射しない期間を設けること特徴とするレーザ加工方法が提供される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
また、本発明の一態様によれば、パルス状のレーザ光を被加工物に照射して、前記被加工物の溶接をするレーザ加工装置であって、前記被加工物に前記パルス状のレーザ光を照射する照射手段と、前記被加工物にアシストガスをパルス状に噴射する噴射手段と、を備え、前記アシストガスをパルス状に噴射する時間、前記アシストガスをパルス状に噴射する際のガス噴射量、前記アシストガスをパルス状に噴射する際のガス噴射圧、前記アシストガスの噴射を繰り返す周波数、前記アシストガスのガス種、および、複数の前記アシストガスを前記被加工物に噴射する場合のガス混合比、の少なくともいずれかを制御することが可能であることを特徴とするレーザ加工装置が提供される。
また、本発明の一態様によれば、パルス状のレーザ光を被加工物に照射して、前記被加工物の溶接をするレーザ加工装置であって、前記被加工物に前記レーザ光を照射する照射手段と、前記被加工物にアシストガスをパルス状に噴射する噴射手段と、を備え、前記噴射手段は、複数設けられ、複数の前記噴射手段は、それぞれの手段により前記アシストガスを順次噴射することが可能であることを特徴とするレーザ加工装置が提供される。
【手続補正書】
【提出日】平成24年5月24日(2012.5.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
コンピュータに実行され、スポット溶接を行う際の溶接条件を設定する溶接条件設定プログラムであって、
前記コンピュータに実行されるステップとして、
設計されたスポット打点の座標情報に基づいて、スポット溶接が施される接合パネル群を特定する部品特定ステップと、
前記接合パネル群の設計情報に基づいて、過去の量産データに基づく部品の形状パターンデータを参照し、前記接合パネル群の形状情報を特定する形状特定ステップと、
前記接合パネル群の形状情報に基づいて、過去の量産データに基づく工程パターンデータを参照し、前記接合パネル群の工程情報を特定する工程特定ステップと、
前記接合パネル群の設計情報に工程情報を加味して溶接条件を設定する溶接条件設定ステップとを有することを特徴とする溶接条件設定プログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の溶接条件設定プログラムは、コンピュータに実行され、スポット溶接を行う際の溶接条件を設定する溶接条件設定プログラムであって、前記コンピュータに実行されるステップとして、設計されたスポット打点の座標情報に基づいて、スポット溶接が施される接合パネル群を特定する部品特定ステップと、前記接合パネル群の設計情報に基づいて、過去の量産データに基づく部品の形状パターンデータを参照し、前記接合パネル群の形状情報を特定する形状特定ステップと、前記接合パネル群の形状情報に基づいて、過去の量産データに基づく工程パターンデータを参照し、前記接合パネル群の工程情報を特定する工程特定ステップと、前記接合パネル群の設計情報に工程情報を加味して溶接条件を設定する溶接条件設定ステップとを有することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
また、溶接条件設定装置(コンピュータ)２０には、ＣＰＵ、ＲＡＭ、ＲＯＭ、ＨＤＤ等によって構成される条件設定部２６が設けられている。この条件設定部２６は、ＲＯＭやＨＤＤに保存された溶接条件設定プログラムを実行することにより、溶接装置の特性を加味した溶接条件を設定することが可能となっている。まず、条件設定部２６には打点設定部３０が設けられており、この打点設定部３０には溶接条件の設定対象となるスポット打点の打点番号が入力される。そして、打点設定部３０に打点番号が入力されると、設計データ記憶部２３のＣＡＤデータから打点設定部３０に対し、スポット打点の座標情報が入力されるようになっている。また、条件設定部２６には、部品特定手段として機能する構成部品特定部３１が設けられている。この構成部品特定部３１は、特定されたスポット打点の座標情報に基づいて接合パネル群を特定し、部品データから接合パネル群の基準板厚を設定する。ここで、接合パネル群とは、溶接条件の設定対象として入力されたスポット打点を介して接合される全てのパネル材である。また、構成部品特定部３１は、成形解析データ(撓みや歪み等)に基づいて、接合パネル群の各スポット打点における担ぎや板隙を特定する。なお、担ぎ(担ぎ距離)とは、スポット打点とその周辺部位におけるパネル材の支点との距離である。スポット打点の周辺部位に支点がある場合には、電極チップがパネル材を挟み込む際の荷重負荷に影響を与えることになる。このように、担ぎとは、スポット溶接時に要求される加圧力の大きさに影響を及ぼす指標となっている。また、板隙とはパネル材間に設けられる隙間であり、スポット溶接時に要求される加圧力の大きさに影響を及ぼす指標となっている。
【手続補正書】
【提出日】平成24年7月30日(2012.7.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６６】
図５は、本実施形態の送給速度設定回路３３が機能していない場合に、アーク継続期間Ｔ２において溶接電圧Ｖｗがとりうる挙動を示している。アーク継続期間Ｔ２においては定電流制御を行っている。すなわち、電流検出回路３２からの電流検出信号Ｉｄに基づいて、出力制御回路３１において溶接電圧Ｖｗを制御することにより、溶接電流Ｉｗを一定としている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６８】
本実施形態においては、送給速度設定回路３３は、入力された電圧検出信号Ｖｄから溶接電圧Ｖｗと基準溶接電圧Ｖｓｔとの電圧差ΔＶを算出する。基準溶接電圧Ｖｓｔは、溶接母材Ｗ、溶接ワイヤ１５、ロボット移動速度ＶＲ、電流値ｉｓ１から経験的にあらかじめ決定しうる値である。次いで、送給速度設定回路３３は、電圧差ΔＶから送給速度差分ΔＷｓを決定する。この決定には、たとえば図６に示すグラフが用いられる。
【手続補正書】
【提出日】平成24年3月13日(2012.3.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
ハウジングと、
該ハウジング内に画成され圧縮空気を蓄える蓄圧室と、
該ハウジング内に設けられたシリンダと、
該シリンダ内に往復摺動可能に設けられ該シリンダ内をピストン上室とピストン下室とに区画するピストンと、
一端が該ピストンに固定され他端が留具に当接可能であり該ピストンと一体で移動可能なドライバブレードと、
略筒状をなし内面には該ドライバブレードを案内すると共に該内面は留具を案内し、該ドライバブレードの移動方向と平行に移動可能なネイルガイドと、
該ピストン上室から該ピストン下室へ向かう方向へ該ネイルガイドを付勢するネイルガイド付勢手段と、
該ドライバブレードの他端に留具が当接し該ドライバブレードと一体で該ピストンが該ピストン上室側へ移動させられることにより留具の打込みを開始する打込機において、
該ネイルガイドの内面には、該ドライバブレードに当接する該留具の当接部に係合可能な係合部が設けられていることを特徴とする打込機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記目的を達成するために、本発明は、ハウジングと、該ハウジング内に画成され圧縮空気を蓄える蓄圧室と、該ハウジング内に設けられたシリンダと、該シリンダ内に往復摺動可能に設けられ該シリンダ内をピストン上室とピストン下室とに区画するピストンと、一端が該ピストンに固定され他端が留具に当接可能であり該ピストンと一体で移動可能なドライバブレードと、略筒状をなし内面には該ドライバブレードを案内すると共に該内面は留具を案内し、該ドライバブレードの移動方向と平行に移動可能なネイルガイドと、該ピストン上室から該ピストン下室へ向かう方向へ該ネイルガイドを付勢するネイルガイド付勢手段と、該ドライバブレードの他端に留具が当接し該ドライバブレードと一体で該ピストンが該ピストン上室側へ移動させられることにより留具の打込みを開始する打込機において、該ネイルガイドの内面には、該ドライバブレードに当接する該留具の当接部に係合可能な係合部が設けられている打込機を提供している。
【手続補正書】
【提出日】平成24年7月30日(2012.7.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７３】
動作制御回路２１はアーク消滅信号Ｓａを受けると、送給速度設定信号Ｗｓを送給速度Ｆｗを０とするものに変化させる。これにより、同図（ｄ）に示すように送給速度Ｆｗが０となり、溶接ワイヤ１５の送給が停止する。一方、出力制御回路３１は、アーク消滅信号Ｓａを受けると、出力をオフ状態に変化させる。溶接ワイヤ１５の送給を停止させたり、出力制御回路３１の出力をオフ状態に変化させる当該工程は、アークａが消滅した状態を維持するために行われる。アークａが消滅した状態を維持するには必ずしも、溶接ワイヤ１５の送給を完全に停止させ、且つ、出力制御回路３１の出力をオフ状態に変化させる必要はない。アークａが消滅した状態を維持できる程度に、溶接ワイヤ１５の送給を継続し、且つ、出力制御回路３１の出力をオン状態のまま維持してもよい。同図（ａ）に示すように、時刻ｔｖ１〜時刻ｔ３においても、ロボット移動速度ＶＲは、Ｖ２のまま維持されている。そのため、時刻ｔｖ１〜時刻ｔ３においても、溶接トーチ１４は、停止することなく、所定の溶接進行方向に沿って移動をしている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７６】
本実施形態によれば、アークａが消滅することなく溶滴移行期間Ｔ１とアーク継続期間Ｔ２とを順調に繰り返している場合には、きれいなウロコ状のビードを形成することができる。さらに本実施形態によれば、偶発的にアーク継続期間Ｔ２の時刻ｔｖ１においてアークａが消滅した場合であっても、時刻ｔｖ１から溶滴移行期間Ｔ１を再開する時刻ｔ３までにアークａを再発生させることが、必要ない。そのため、時刻ｔｖ１から時刻ｔ３までにアークａを再発生させた場合に生じうるビード外観の悪化を回避できる。これにより、よりきれいなウロコ状のビードを形成することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７９】
同図（ｃ）に示したように、時刻ｔｖ１において溶接ワイヤ１５と溶接母材Ｗとが離間した状態でアークａが消滅し、溶接電流Ｉｗが０となり、溶接電流Ｉｗが０となったことを電流検出回路３２が検出している。このような構成は、アークａが消滅したことを検出するのに適する。
【手続補正書】
【提出日】平成24年5月23日(2012.5.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明において、前記第１のカバーが前記第２のカバーの上方に位置し、前記第１のカバーの開口縁部が前記第２のカバーの開口縁部の外側に被せられている。この構成によれば、上方に位置する第１のカバーの開口縁部が外側となるので、カバーの内部に雨水などが浸入するのを防ぐことができる。
【手続補正書】
【提出日】平成24年10月24日(2012.10.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
請求項９に係る発明では、インナーロータの中心は、前輪の車軸と後輪の車軸を結ぶ線の上又は上方に配置されている。走行中に、前輪がストロークした場合に、前輪は、前部に開口部を有する椀部に向け移動するため、前輪とモータとの間のクリアランスを十分に確保することが可能になる。前輪とモータとの間のクリアランスが十分に確保されれば、大型で高出力なモータを配置することができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５０】
左右のシリンダブロック１１１Ｌ、１１１Ｒに、各々、複数のカム軸受部１７１Ｌ、１７１Ｒが設けられ、これらのカム軸受部１７１Ｌ、１７１Ｒに対応する位置で対向するように、左右のシリンダヘッド１１４Ｌ、１１４Ｒに、カムホルダ１７２Ｌ、１７２Ｒが設けられ、カム軸受部１７１Ｌ、１７１Ｒとカムホルダ１７２Ｌ、１７２Ｒとにより、カムシャフト１２８Ｌ、１２８Ｒは回転自在に支持されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
以下、カムチェーン駆動機構１８０について説明する。
カムチェーン駆動機構１８０は、クランク軸１１８に設けられている駆動ギヤ１８１と、この駆動ギヤ１８１に噛み合い左のアイドル軸１８２で各々支持され駆動ギヤ１８１により回される左のアイドルギヤ１８３と、この左のアイドル軸１８２と一体形成されている左のアイドルギヤ１８３と一体形成され左のアイドルギヤ１８３よりも小径の左のアイドルスプロケット１８４と、左のアイドルスプロケット１８４に巻き掛けた左チェーン１８５と、左のカムシャフト１２８Ｌに設けられ左チェーン１８５で駆動される左のカムスプロケット１８６と、駆動ギヤ１８１に噛み合い右のアイドル軸１９２で各々支持され駆動ギヤ１８１により回される右のアイドルギヤ１９３と、この右のアイドル軸１９２と一体形成されている右のアイドルギヤ１９３と一体形成され右のアイドルギヤ１９３よりも小径の右のアイドルスプロケット１９４と、右のアイドルスプロケット１９４に巻き掛けた右チェーン１９５と、右のカムシャフト１２８Ｒに設けられ右チェーン１９５で駆動される右のカムスプロケット１９６と、からなる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７２】
アウターステータ部２０４は、左右のアイドル軸１８２、１９２の外方に配置され、アウターステータ部２０４が影響されないため、アウターステータ部２０４の取付自由度が確保される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７５】
図３に戻って、エンジン４３は、クランク軸１１８を中心にして車幅方向左右へ延びる複数のシリンダ部１２５Ｌ、１２５Ｒを有し、これらのシリンダ部１２５Ｌ、１２５Ｒは、車両を前から見たときに、前記アウターステータ部２０４に重ならない部位まで車幅方向左右へ延び冷却水が通る冷却水ジャケット１４２Ｌ、１４２Ｒを備えている。
【手続補正書】
【提出日】平成24年7月31日(2012.7.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリウレタン生分解性プラスチックであって、
リンを含有する添加剤が含浸された生分解性ポリウレタンを含み、
前記添加剤は、五酸化リン（Ｐ２Ｏ５）を含有し、天然オイルでコーティングされたことを特徴とする、五酸化リンを用いたポリウレタン生分解性プラスチック。
【請求項２】
前記添加剤は前記生分解性ポリウレタンの０．４〜０．６重量％含有されることを特徴とする、請求項１に記載のポリウレタン生分解性プラスチック。
【請求項３】
前記添加剤は水酸化カリウム（ＫＯＨ）をさらに含むことを特徴とする、請求項１に記載のポリウレタン生分解性プラスチック。
【請求項４】
前記生分解性ポリウレタンは前記添加剤の含浸された１液型ウレタンをポリウレタン樹脂と混合して製造されることを特徴とする、請求項１に記載のポリウレタン生分解性プラスチック。
【請求項５】
前記生分解性ポリウレタンを全体の３０〜６０重量％含むことを特徴とする、請求項１に記載のポリウレタン生分解性プラスチック。
【請求項６】
前記生分解性ポリウレタン３５〜４５重量％、ポリ乳酸２５〜３５重量％、および脂肪族ポリエステル２５〜３５重量％を含むことを特徴とする、請求項５に記載のポリウレタン生分解性プラスチック。
【請求項７】
前記生分解性ポリウレタン４５〜５５重量％、ポリ乳酸３５〜４５重量％、および脂肪族ポリエステル５〜１５重量％を含むことを特徴とする、請求項５に記載のポリウレタン生分解性プラスチック。
【請求項８】
前記ポリウレタン生分解性プラスチックはフィルム形態であることを特徴とする、請求項１〜７のいずれか１項に記載のポリウレタン生分解性プラスチック。
【手続補正書】
【提出日】平成24年4月27日(2012.4.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
機器に開口された取付口１と、
取付口１内に挿入される筒部２と、端部に外側方向に突出して構成され、前記取付口１周縁に係止されるフランジ部３と、筒部２に構成された雌ねじ部４と、から構成されるカバー体５と、
前記カバー体５を受け入れる受け部９と、貫通して構成される貫通孔１０と、を構成した本体１１と、
前記カバー体５と本体１１に介在して備えられる第２止水パッキン７と、
前記本体１１の貫通孔１０とカバー体５の雌ねじ部４の両者を接合する雄ねじ体１２と、
から構成されることを特徴とする接続構造。
【請求項２】
機器に開口された取付口１と、
取付口１内に挿入される筒部２と、端部に外側方向に突出して構成され、前記取付口１周縁に係止されるフランジ部３と、筒部２に構成された雄ねじと、から構成されるカバー体５と、
前記カバー体５を受け入れる受け部９と、貫通して構成される貫通孔１０と、を構成した本体１１と、
前記カバー体５と本体１１に介在して備えられる第２止水パッキン７と、
前記本体１１の貫通孔１０とカバー体５の雄ねじの両者を接合する雌ねじと、
から構成されることを特徴とする接続構造。
【請求項３】
前記フランジ部３と取付口１周縁の間に配置される、弾性部材から構成された第１止水パッキン６を備え、
該第１止水パッキン６の外周面に、凸部８を構成したことを特徴とする請求項１又は請求項２のいずれか一つに記載の接続構造。
【請求項４】
前記第２止水パッキン７の外周面に、凸部８を構成したことを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか一つに記載の接続構造。
【請求項５】
前記取付口１が、槽体のオーバーフロー用流路１５の接続構造であることを特徴とする前記請求項１乃至請求項４のいずれか一つに記載の接続構造。
【請求項６】
前記取付口１が、槽体の排水流路１６の接続構造であることを特徴とする前記請求項１乃至請求項５のいずれか一つに記載の接続構造。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
請求項１の接続構造は、機器に開口された取付口１と、取付口１内に挿入される筒部２と、端部に外側方向に突出して構成され、前記取付口１周縁に係止されるフランジ部３と、筒部２に構成された雌ねじ部４と、から構成されるカバー体５と、前記カバー体５を受け入れる受け部９と、貫通して構成される貫通孔１０と、を構成した本体１１と、前記カバー体５と本体１１に介在して備えられる第２止水パッキン７と、前記本体１１の貫通孔１０とカバー体５の雌ねじ部４の両者を接合する雄ねじ体１２と、から構成されることを特徴とする接続構造である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
請求項２に記載の接続構造は、機器に開口された取付口１と、取付口１内に挿入される筒部２と、端部に外側方向に突出して構成され、前記取付口１周縁に係止されるフランジ部３と、筒部２に構成された雄ねじと、から構成されるカバー体５と、前記カバー体５を受け入れる受け部９と、貫通して構成される貫通孔１０と、を構成した本体１１と、前記カバー体５と本体１１に介在して備えられる第２止水パッキン７と、前記本体１１の貫通孔１０とカバー体５の雄ねじの両者を接合する雌ねじと、から構成されることを特徴とする接続構造である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
請求項３の接続構造は、前記フランジ部３と取付口１周縁の間に配置される、弾性部材から構成された第１止水パッキン６を備え、該第１止水パッキン６の外周面に、凸部８を構成したことを特徴とする前記段落００１２又は段落００１３に記載の接続構造である。
【手続補正書】
【提出日】平成24年2月23日(2012.2.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）水系媒体中で、酸基を有するポリエステルを含有する樹脂を中和して、樹脂粒子の分散液を得る工程（Ａ）と、工程（Ａ）で得られた樹脂粒子分散液と、オキサゾリン基を有する重合体とを６０〜１００℃の温度で混合する工程（Ｂ）、とを有し、体積中位粒径(Ｄ５０)が０.０５〜０.７μｍである架橋樹脂粒子の分散液を得る工程、及び
（ｂ）工程（ａ）で得られた架橋樹脂粒子分散液の架橋樹脂粒子を凝集及び合一する工程、
を有する電子写真用トナーの製造方法。
【請求項２】
酸基を有するポリエステルの酸価が６〜３５ｍｇＫＯＨ／ｇである、請求項１記載の電子写真用トナーの製造方法。
【請求項３】
酸基を有するポリエステルが、３価以上の多価カルボン酸を含有する原料成分から得られる、請求項１又は２に記載の電子写真用トナーの製造方法。
【請求項４】
工程（Ｂ）でのオキサゾリン基を有する重合体の添加量が、該重合体のオキサゾリン基のモル数が、樹脂粒子を構成する樹脂のカルボキシル基のモル数に対して０．０８３〜０．５倍となる量である、請求項１〜３のいずれかに記載の電子写真用トナーの製造方法。
【請求項５】
工程（Ｂ）でのオキサゾリン基を有する重合体の添加量が、樹脂粒子を構成する樹脂１００重量部に対して０．１〜２０重量部である、請求項１〜４のいずれかに記載の電子写真用トナーの製造方法。
【請求項６】
工程（Ｂ）でのオキサゾリン基を有する重合体の添加速度が、樹脂粒子を構成する樹脂１００重量部に対して０．０５〜３重量部／分である、請求項１〜５のいずれかに記載の電子写真用トナーの製造方法。
【請求項７】
工程（Ｂ）が、工程（Ａ）で得られた樹脂粒子分散液に、オキサゾリン基を有する重合体を水系媒体中に分散させた水系分散液及び／又は水系媒体中に溶解させた水溶液を添加し、６０〜１００℃の温度で混合するものであり、重合体分散液及び／又は重合体水溶液を添加する際の該重合体分散液及び／又は重合体水溶液温度を５〜３０℃に維持する、請求項１〜６のいずれかに記載の電子写真用トナーの製造方法。
【請求項８】
工程（ａ）で得られた架橋樹脂粒子の分散液と、体積中位粒径(Ｄ５０)が1〜１０μｍの樹脂含有コア粒子の分散液とを混合して、得られた架橋樹脂粒子付着コア粒子を合一して得られる、請求項１〜７のいずれかに記載の電子写真用トナーの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年3月7日(2012.3.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高炉スラグ微粉末：５０〜８０mass％、石膏：５〜２５mass％、ポルトランドセメントまたは／および石灰：１０〜３０mass％を含有し、
下記（ａ）および／または（ｂ）を満足し、下記（ｂ）の脱硫スラグ量（ｙ）を２倍した値と下記（ａ）の結晶相量（ｘ）の合計［（ｙ）×２＋（ｘ）］が、ポルトランドセメントまたは／および石灰量の１５〜２０mass％であることを特徴とする地盤改良材。
（ａ）高炉スラグ微粉末の一部が結晶相からなる。
（ｂ）地盤改良材が、さらに脱硫スラグを含有する。
【請求項２】
高炉スラグ微粉末の結晶相は下記（イ）または／および（ロ）からなることを特徴とする請求項１に記載の地盤改良材。
（イ）高炉水砕スラグの製造時に析出した結晶相
（ロ）高炉徐冷スラグ
【請求項３】
高炉スラグ微粉末のガラス化率が８０mass％以上であることを特徴とする請求項１または２に記載の地盤改良材。
【請求項４】
請求項１〜３に記載の地盤改良材を、山土または風化花崗岩からなる地盤の改良材として用いることを特徴とする地盤改良方法。
【請求項５】
請求項１〜３に記載の地盤改良材を、有機物質の比率が１０mass％以下、含水比が５０mass％以下であって、地盤土質の分類が粘土質シルト〜礫質砂である地盤の改良材として用いることを特徴とする地盤改良方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
上記課題を解決するため、本発明は以下を要旨とするものである。
［1］高炉スラグ微粉末：５０〜８０mass％、石膏：５〜２５mass％、ポルトランドセメントまたは／および石灰：１０〜３０mass％を含有し、
下記（ａ）および／または（ｂ）を満足し、下記（ｂ）の脱硫スラグ量（ｙ）を２倍した値と下記（ａ）の結晶相量（ｘ）の合計［（ｙ）×２＋（ｘ）］が、ポルトランドセメントまたは／および石灰量の１５〜２０mass％であることを特徴とする地盤改良材。
（ａ）高炉スラグ微粉末の一部が結晶相からなる。
（ｂ）地盤改良材が、さらに脱硫スラグを含有する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
［2］上記［1］の地盤改良材において、高炉スラグ微粉末の結晶相は下記（イ）または／および（ロ）からなることを特徴とする地盤改良材。
（イ）高炉水砕スラグの製造時に析出した結晶相
（ロ）高炉徐冷スラグ
［3］上記［1］または［2］の地盤改良材おいて、高炉スラグ微粉末のガラス化率が８０mass％以上であることを特徴とする地盤改良材。
［4］上記［1］〜［3］のいずれかの地盤改良材を、山土または風化花崗岩からなる地盤の改良材として用いることを特徴とする地盤改良方法。
［5］上記［1］〜［3］のいずれかの地盤改良材を、有機物質の比率が１０mass％以下、含水比が５０mass％以下であって、地盤土質の分類が粘土質シルト〜礫質砂である地盤の改良材として用いることを特徴とする地盤改良方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年10月12日(2012.10.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
セルロースエステルインターポリマーの各アンヒドログルコース単位のＣ２及びＣ３位がアルコール酸化状態にあるセルロースエステルインターポリマーであって、前記セルロースエステルインターポリマーの非末端モノマー単位として、式：
【化１】
2012224874.tif 000001
［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は、独立して、水素及びＣ2〜Ｃ12アシル基からなる群から選ばれ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5の少なくとも１つはＣ2〜Ｃ12アシル基であり；そして、Ｘはホルミル、ヒドロキシメチレン、ＮＨ2−ＣＨ2−、Ｒ6−ＮＨ−ＣＨ2−（ここでＲ6はアルキル、アリール又はアルキレン−アリールである。）又はこれらの混合物である］
のアンヒドログルコース単位を含んでなるセルロースエステルインターポリマー。
【請求項２】
Ｃ2〜Ｃ12アシルのアンヒドログルコース単位当たりの見掛け置換度が少なくとも０．６である請求項１に記載のセルロースエステルインターポリマー。
【請求項３】
Ｘのアンヒドログルコース単位当たりの見掛け置換度が０．０５〜１．０であり且つＣ2〜Ｃ12アシルのアンヒドログルコース単位当たりの見掛け置換度が少なくとも０．６である請求項１に記載のセルロースエステルインターポリマー。
【請求項４】
酸価が１０より大きく、９０未満である請求項２に記載のセルロースエステルインターポリマー。
【請求項５】
Ｘがホルミルである請求項１に記載のセルロースエステルインターポリマー。
【請求項６】
ＸがＮＨ2−ＣＨ2−、Ｒ6−ＮＨ−ＣＨ2−又はこれらの混合物である請求項１に記載のセルロースエステルインターポリマー。
【請求項７】
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5が、独立して、水素、アセチル、プロピオニル、ブチリル又はそれらの混合物からなる群から選ばれる請求項１に記載のセルロースエステルインターポリマー。
【請求項８】
重合度が少なくとも１０である請求項１に記載のセルロースエステルインターポリマー。
【請求項９】
Ｃ6ホルミル基を有する、複数のアンヒドログルコース単位を更に含む請求項１に記載のセルロースエステルインターポリマー。
【請求項１０】
Ｃ6ＮＨ2−ＣＨ2−基を有する、複数のアンヒドログルコース単位を更に含む請求項１に記載のセルロースエステルインターポリマー。
【請求項１１】
ＸがＲ6−ＮＨ−ＣＨ2−（式中、Ｒ6はアルキル、アリール又はアルキレン−アリールからなる群から選ばれる）である、複数のアンヒドログルコース単位を更に含む請求項１に記載のセルロースエステルインターポリマー。
【請求項１２】
セルロースエステルインターポリマーのアンヒドログルコース単位のＣ６ヒドロキシルをホルミル基に転化させる方法であって、
ａ）アミノ置換環状ニトロキシル誘導体、一次酸化体及び最終酸化体を、ｐＨ４未満のセルロースエステル混合物に添加して、反応混合物を形成し（ここでセルロースエステル混合物はＣ2〜Ｃ12アルキル酸、水及びＣ６ヒドロキシル基を有するアンヒドログルコース単位を含むセルロースエステルインターポリマーから構成される）；そして
ｂ）Ｃ６ヒドロキシルをホルミル基又はヒドロキシメチレン基に転化することによって酸化セルロースインターポリマーを生成させるのに充分な反応時間を反応させる
ことを含んでなる方法。
【請求項１３】
セルロースエステルインターポリマーのアンヒドログルコース単位のＣ６ヒドロキシルをＮＨ2−ＣＨ2−基又はＲ6−ＮＨ−ＣＨ2−基に転化させる方法であって、
ａ）アミノ置換環状ニトロキシル誘導体、一次酸化体及び最終酸化体を、ｐＨ４未満のセルロースエステル混合物に添加して、反応混合物を形成し（ここでセルロースエステル混合物はＣ2〜Ｃ12アルキル酸、水及びＣ６ヒドロキシル基を有するアンヒドログルコース単位を含むセルロースエステルインターポリマーから構成される）；そして
ｂ）Ｃ６ヒドロキシルをホルミル基に転化するのに充分な反応時間を反応させ；そして
ｃ）水素及び水素化触媒の存在下にＮＨ3又はＲ6ＮＨ2の源泉を用意する
ことを含んでなる方法。
【請求項１４】
前記セルロースエステル混合物のｐＨが１．５〜３である請求項１２又は１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記アミノ置換環状ニトロキシル誘導体が４−（Ｃ1〜Ｃ4アシルアミド）−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−１−オキシルである請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記アミノ置換環状ニトロキシル誘導体の量がセルロースエステルインターポリマー中のアンヒドログルコース単位モノマーのモル当たり０．００２５〜０．１モル当量の範囲である請求項１４に記載の方法。
【請求項１７】
前記一次酸化体がＮａ、Ｋ、Ｍｎ、Ｍｇ、Ｆｅ若しくはＣｕの塩又はそれらの混合物を含む請求項１４に記載の方法。
【請求項１８】
一次酸化体の量がセルロースエステルインターポリマー中のアンヒドログルコース単位モノマーのモル当たり０．０００１〜０．１モル当量の範囲である請求項１４に記載の方法。
【請求項１９】
前記最終酸化体がＯ2、オゾン、ＮａＯＣｌ、ＮａＯＢｒ、Ｈ2Ｏ2又はＣＨ3ＣＯ3Ｈを含む請求項１４に記載の方法。
【請求項２０】
前記最終酸化体の量がセルロースエステルインターポリマー中のアンヒドログルコース単位モノマーのモル当り０．１〜１０モル当量の範囲である請求項１４に記載の方法。
【請求項２１】
前記反応混合物の温度が４０℃より高く６０℃未満である請求項１４に記載の方法。
【請求項２２】
水が、反応混合物の総重量に基づき、１〜６０重量％の範囲の量で存在する請求項１４に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年7月27日(2012.7.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
左右の袖を有する介護用上着において、
前記左右の袖の少なくとも一方には、首周り端から袖先端まで通じる切れ目が入っており、
前記切れ目の開閉を行うために、下止が袖先端側に位置するように前記切れ目に沿って設置された止製品のスライドファスナーであって、全長が前記切れ目よりも長く、余剰部分が袖先端側に飛び出してフリーになっているスライドファスナーを備えることを特徴とする介護用上着。
【請求項２】
前記左右の袖の両方に前記切れ目が入っており、前記スライドファスナーが両袖にそれぞれ設置されていることを特徴とする請求項１記載の介護用上着。
【請求項３】
前記介護用上着の前面には、首周り端から上着下端まで通じる切れ目がさらに入っており、前側も開閉可能になっていることを特徴とする請求項１又は２記載の介護用肌着。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記課題を解決するために、本発明に係る介護用上着は、左右の袖を有する介護用上着において、前記左右の袖の少なくとも一方には、首周り端から袖先端まで通じる切れ目が入っており、前記切れ目の開閉を行うために、下止が袖先端側に位置するように前記切れ目に沿って設置された止製品のスライドファスナーであって、全長が前記切れ目よりも長く、余剰部分が袖先端側に飛び出してフリーになっているスライドファスナーを備えることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成24年9月6日(2012.9.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
しかしながら、６価クロムを含有するめっき浴（６価クロムめっき浴）は、２５０ｇ／Ｌ程度という高濃度のクロム酸（ＣｒＯ３）を含有するために酸化力が非常に高く、バレルめっき法でめっき処理を行う場合には、被めっき物への通電が断続的に遮断されるので、この際に析出したクロムめっき皮膜の表面が不導体化して、形成されるクロムめっき皮膜にクモリなどの外観不良や密着不良が生じるという問題点がある。このため、６価クロムめっき浴によるバレルめっきは非常に困難であり、工業的に実用化するには至っていない。