【事件の表示】
　特願２０００−２２３７４９「顕微鏡的対象物の測定における物理的に状態付けられた誤差の修正方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１３年１２月１４日出願公開、特開２００１−３４３２１７〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１　手続の経緯
 　本件は、平成１２年７月２５日（パリ条約による優先権主張２０００年５月３１日、ドイツ連邦共和国）の出願であって、拒絶査定が平成１５年２月６日付けでされ（同年４月１日発送）、この拒絶査定に対する審判が同年６月２７日に請求されるとともに手続補正書が同年７月２４日に提出されたところ、当審における平成１８年２月２１日付けの補正の却下の決定により当該手続補正は却下され、当審において発出した同日付けの拒絶理由通知書に対して、平成１８年９月４日に手続補正書が意見書ともに提出されたものである。 
　
　
２　平成１８年２月２１日付けの拒絶の理由の概要
　平成１８年２月２１日付け拒絶理由通知書において通知された拒絶の理由には、「理由２」として、「本件出願は、明細書及び図面の記載が下記の１及び２の点で不備なため、特許法第３６条第６項に規定する要件を満たしていない。」との理由（以下、「当審拒絶理由」という。）が含まれており、上記「２の点」として、平成１４年１２月２５日付け手続補正書により補正された特許請求の範囲の請求項３及び４では、「配置描写が追加的に与えられて、該配置描写に応じてステップ（ｃ）で測定誤差が決定される」と記載されているが、「追加的に与え」るということの技術的意味が不明であり、また、「該配置描写に応じて」測定誤差を決定するという記載では、「配置描写」の有する如何なる特徴に基づいて、どのような具体的手法により測定誤差を決定するのか不明であるとの指摘がなされている。
　
　
３　平成１８年９月４日付け手続補正書による補正後の本件出願についての当審拒絶理由の妥当性について
（１）特許請求の範囲の記載
　　平成１８年９月４日付けの手続補正書により補正された本件出願の特許請求の範囲には、次のように記載されている。
「【請求項１】　測定に用いた放射線の波長の範囲内にある対象物の寸法の測定時に周辺効果に起因して起きる誤差の修正方法であって、（ａ）測定される対象物の輝度映像を発生し（１０２）、（ｂ）発生された映像中に描写された関心のある対象物を測定し（１０６）、（ｃ）測定される対象物近くに配置された構造物による周辺効果に起因する測定誤差を決定し（１１２；２００）、（ｄ）決定された測定誤差に応じてステップ（ｂ）の測定を修正する（１０８）ステップを含んでなり、輝度映像が描写される対象物を含むのみであり、対象物とその周辺構造物の配置描写が与えられ、与えられた配置描写に基づいてステップ（ｃ）で測定誤差が決定されることを特徴とする誤差の修正方法。
【請求項２】　測定に用いた放射線の波長の範囲内にある対象物の寸法の測定時に周辺効果に起因して起きる誤差の修正方法であって、（ａ）測定される対象物の輝度映像を発生し（１０２）（ｂ）発生された映像中に描写された関心のある対象物を測定し（１０６）、（ｃ）測定される対象物の近くに配置された構造物による周辺効果に起因する測定誤差を決定し（１１２；２００）、（ｄ）決定された測定誤差に応じてステップ（ｂ）の測定を修正し（１０８）するステップを含んでなり、輝度映像が対象物とその周辺の構造物とを含んでおり、対象物と周辺の構造物との配置描写が与えられ、与えられた配置描写に基づいてステップ（ｃ）で測定誤差が決定されることを特徴とする誤差の修正方法。
【請求項３】　放射線源が光源または電子ビーム源であることを特徴とする請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】　修正された測定結果が出力される（１１０）ことを特徴とする請求項１〜３のいずれかひとつに記載の方法。」
　この特許請求の範囲の記載は、平成１８年９月４日付け手続補正書による補正前の特許請求の範囲の請求項１及び２の記載を削除し、同補正前の請求項３〜６の記載の一部を補正した上で、改めて請求項１〜４としたものである。
　
（２）判断
　ア　請求項１及び２に記載された発明の明確性
　　上記請求項１には、「対象物とその周辺構造物の配置描写が与えられ、与えられた配置描写に基づいてステップ（ｃ）で測定誤差が決定されること」との記載があり、また、上記請求項２には、「対象物と周辺の構造物との配置描写が与えられ、与えられた配置描写に基づいてステップ（ｃ）で測定誤差が決定されること」との記載があるが、「ステップ（ｃ）」は、「測定誤差」が「測定される対象物の近くに配置された構造物による周辺効果に起因する」ことを述べるに止まり、どのようにして「測定誤差を決定」するのかにつき何等言及されていないから、これらの記載では、いずれも「配置描写」から、どのような手法により、誤差の修正を行うための測定誤差が決定されるのか依然として不明である。
　
　イ　明細書の記載及び図面を考慮した上での明確性の判断
　　そこで、明細書の記載を参酌し、上記構成の明確性について検討する。
　　明細書の段落【０００１】には、「照明源の波長と同寸法の顕微鏡的対象物の波長の物理的に状態付けられた誤差を修正する方法に関するもの」と記載され、段落【０００２】には、「半導体技術...チップ構造...生産された構造物の例えば幅を検査するために映像化する」と記載され、段落【０００３】には、「光学的な顕微鏡を利用して構造物の幅を測定する方法」と記載されていることから、請求項１〜４に記載された発明は、概ね「半導体チップの幅を光学的顕微鏡を利用して測定する際、照明源の波長と同程度の寸法を測定するために生じる波長レベルの測定誤差を修正する方法」に関するものであると理解することができる。
　　また、明細書の段落【０００４】には、「測定される対象物ひいては測定結果は対象物の周辺により直接に影響されかつ損なわれることになる」と記載され、段落【０００５】には、「この現象は「周辺効果」という名で知られている。輝度映像が損なわれるが故に、生産された構造の形状や寸法を高信頼度で示すことは不可能であり、対象物の幅が測定される場合には生産プロセスの信頼度が損なわれることになる。」と記載され、段落【０００６】には、「この発明の目的は、対象物の測定において周辺構造物による影響を排除することにある。」と記載されていることから、測定対象物の周辺に存する構造物が「波長レベルの測定誤差」の発生原因となっているものと理解することができる。
　　しかしながら、測定対象物の周辺に存する構造物が測定結果に及ぼす影響といっても、その影響の態様には、例えば、単なる陰影による影響、回折現象、干渉縞等、様々なものが想定され、各態様は当該周辺構造物の物理的な特徴（形状、反射率、透過率、色等）に依存するものと考えられるから、周辺構造物の如何なる特徴に基づいた如何なる現象が測定結果に影響を与えているのかについて特定がなされなければ、誤差の修正に必要な測定誤差を決定する構成を明らかにしたことにはならない。
　　この点に関し、明細書には、「輝度映像および測定結果への影響は（対象物が放射または照明されたときの対象物の周辺構造物により損傷が起きる）、対象物の周辺構造物からの誤差貢献度を考慮して対象物の映像を修正することにより、排除され得る...測定結果への対象物の周辺構造物または周辺からの影響を除去」（段落【０００８】）、「全体的な映像から修正値を決定する...この修正値は測定する対象物の周辺構造物に応じたもの」（段落【０００９】）との記載があるものの、周辺構造物の如何なる特徴に基づいた如何なる現象が測定結果に影響を与えているのかについての具体的な記載を見出すことができない。
　　一方、段落【００１１】には、「測定されかつ映像化される対象物およびその周辺構造物の配置描写が形成される。測定結果のための相関ファクターは形成された配置描写にのみ応じて決定される。」との記載があり、段落【００２０】には、「この発明は特に寸法を持った対象物に適用され、その場合使用された映像化処理と構造的な密度とが例えば線の拡幅などの上記した測定誤差の原因となるものである。それらの対象物は顕微鏡領域での寸法を持つものであり、その寸法は照明源の波長と同じレベル、つまり０．５〜１０μｍである。」と記載され、段落【００２２】には、「測定誤差の決定に必要とされるデータは、実際に生成された映像とは独立に、ステップ２００において外部源から得られる。これらの外部源としては例えば配置描写の形での初期の構造などがある。この構造は測定される対象物の予測される値を示すものであって、その周辺構造物を含むものである。これらのデータに基づいて、可起測定誤差が計算されて、前記の修正が実施される。」との記載がある。
　　しかしながら、これらの記載から、「周辺構造物の配置描写」と、予想される測定誤差との間に相関が存在することは推認できるものの、その相関を具体的に求めるための手法は明細書中に明示されていない。
　　そして、かかる手法が本願発明を特定するために必要なものなのであるから、請求項１及び２の記載では、いずれも「配置描写」から、どのような具体的手法により誤差の修正に必要な測定誤差が決定されるのか不明であると言わざるを得ない。
　　なお、審判請求書における請求の理由において、「周辺効果」、「周辺効果の修正」及び「周辺効果と誤差の関係」が公知であるとして刊行物を提示し、また、平成１８年９月４日付け意見書においても、「配置描写」という用語が一般に使用されているものであることを主張しているが、上記したとおり、本願発明を特定するために必要な、「配置描写」から測定誤差を決定するための手法は、依然として不明である。
　
　ウ　まとめ
　　以上のとおり、当審において発出した拒絶理由は依然として解消されていない。
　
　
４　結び
　以上のとおりであるから、本件出願は、特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしておらず、拒絶をすべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。