【事件の表示】
　平成１０年特許願第３０１４４２号「タッチパネル」拒絶査定不服審判事件〔平成１２年　５月１２日出願公開、特開２０００−１３２３４１〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１．手続の経緯 
　本願は、平成１０年１０月２２日の出願であって、平成１６年３月２４日付けの拒絶の理由の通知に対して、その指定された期間内の同年５月３１日付けで意見書及び手続補正書を提出したが、同年８月５日付けで拒絶の査定を受けたものであり、同年９月９日に拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに、同年１０月１２日付けで手続補正がなされたが、平成１６年１０月１２日付けの手続補正は、当審において、平成１９年１月５日付けで却下され、同日付けで拒絶の理由が通知され、これに対しその指定期間内である同年３月１６日付けで手続補正がなされたものである。
 　 
第３．本願発明について 
　
１．本願発明
　本願の請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、平成１９年３月１６日付けの手続補正によって補正された明細書の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される、以下のとおりのものである。 
　
「【請求項１】
　第１と第２の面状部材が、一定間隔をおいて対設されると共に両部材の対向内面に導電層が形成されてなるタッチパネルにおいて、
　第１と第２の面状部材のうち、少なくとも入力側の第１の面状部材は、樹脂製のシート部材の表面に
樹脂からなる
　前記ハードコート層上に、酸化珪素もしくは金属酸化物からなるアンダーコート層を介して導電層が形成されており、
　
前記アンダーコート層は、導電層側の第１の層と、当該第１の層の前記導電層と反対側の面に積層される第２の層からなり、第１の層の屈折率が、前記導電層と第２の層のそれぞれの屈折率よりも低く、
、かつ、そのシリコン層又は金属層の厚さが１０〜５０オングストロームの範囲内に設定されている
（なお、アンダーラインは、補正箇所を示すために付した。）
　
２．刊行物の記載 
　
　刊行物１記載発明 
　当審における、平成１８年３月１５日付けで通知した拒絶の理由に引用した、特開平８−４５３５２号公報（平成８年２月１６日出願公開。以下、「刊行物１」という。）には、透明導電体に関して、図面と共に、以下の事項が記載されている。
　
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明の透明導電体は、プラスチック基材上にハードコート層が積層され、該ハードコート層上にさらに透明導電層が積層されたものである。
【００１０】上記プラスチック基材としては、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン等のシート、プレートが挙げられ、価格、耐熱性の点等からポリカーボネートのシート、プレートが好ましい。
【００１１】上記ハードコート層は、プラスチック基材の表面硬化処理に従来より用いられているハードコーティング剤を使用して形成され、例えば、シリコーン系ハードコーティング剤を基材上に塗布し、熱硬化させる方法や、アクリル系ハードコーティング剤を基材上に塗布し、紫外線硬化させる方法等によって形成することができる。本発明の透明導電体を高温高湿下で使用する場合は、環境信頼性の点からシリコーン系のハードコート層が好ましい。
【００１２】上記シリコーン系ハードコーティング剤としては、シランカップリング剤として知られている官能性有機基をもったカーボンファンクショナルアルコキシシランを中心に、これとアルキルトリアルコキシシラン又はテトラアルコキシシランを組み合わせて部分加水分解を行ったもの；アルキルトリアルコキシシランの加水分解物にコロイダルシリカを組み合わせたものが挙げられる。
【００１３】上記ハードコーティング剤を基材に塗布する方法としては、ディッピング法、スプレー法等が用いられ、ハードコート層の厚さは１〜１０μｍが好ましく、より好ましくは２〜５μｍである。
【００１４】上記透明導電層は、ケイ素をドープした酸化亜鉛被膜から形成され、該導電層のシート抵抗及びその高温高湿下での経時変化は酸化亜鉛被膜中のケイ素の含有量によって大きく影響される。上記透明導電層を抵抗膜方式のタブレット用透明電極として使用する場合、酸化亜鉛被膜中のケイ素の含有量が少なくなると、高温高湿下でシート抵抗の経時変化が大きくなるため高い信頼性が得られなくなるという問題点があった。
【００１５】また、上記透明導電層を抵抗膜方式のタブレット用透明電極として使用する場合、そのシート抵抗は３００〜１５００Ω／□が好ましい。その理由は、シート抵抗が上記範囲より大きくなっても小さくなっても、座標検出精度や消費電力に問題が生じてタブレット用透明電極として使用するのが困難となるからである。
【００１６】上記酸化亜鉛被膜中のケイ素の含有量は、少なくなっても多くなっても、上記範囲のシート抵抗ならびにシート抵抗の信頼性が得られなくなるので、ケイ素の含有量はケイ素原子と亜鉛原子との合計原子数に対して４〜６原子％に制限される。
【００１７】上記透明導電層の膜厚は、光線透過率及びシート抵抗の信頼性に影響を与えるため、１０００〜２０００Åが好ましく、より好ましくは１２００〜１６００Åである。
【００１８】上記透明導電層を形成する方法としては、主としてスパッタリング法が用いられるが、その他、イオンプレーティング法、真空蒸着法、化学気相成長法など、任意の公知の方法を用いても形成可能である。
【００１９】上記透明導電層を形成する酸化亜鉛被膜にケイ素をドープする方法としては、酸化亜鉛被膜を形成する原料（例えば、スパッタリング法の場合であればターゲット、真空蒸着法であれば蒸発原料）となる亜鉛又は酸化亜鉛に、予めケイ素を金属のままの状態か、あるいは金属酸化物、金属炭化物、金属ハロゲン化物等の状態で導入しておく方法が挙げられる。
【００２０】上記酸化亜鉛被膜をスパッタリング法により形成する場合は、ケイ素元素を含有する酸化亜鉛ターゲット（例えば、ＳｉＯ2 が添加されたＺｎＯターゲット）を用いるか、あるいは酸化亜鉛とは別にケイ素又は酸化ケイ素からなるターゲットを酸化亜鉛からなるターゲットと同時にスパッタリングする方法が挙げられる。ケイ素の含有量を４〜６原子％の範囲に設定するには、前者の方法では、ターゲットに添加するケイ素の添加量を制御し、後者の方法では、両方のターゲットに投入する電力値を制御する。
【００２１】本発明において、シート抵抗の信頼性を向上させるために、上記ハードコート層と透明導電層との間に中間層として、Ｓｉ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｒ等の金属酸化物層が設けられてもよい。上記中間層の厚さは、２００〜２０００Åが好ましく、中間層を形成する方法としては、主としてスパッタリング法が用いられるが、その他、イオンプレーティング法、真空蒸着法、化学気相成長法など、任意の公知の方法を用いても形成可能である。　
【００２２】図１及び図２は、本発明の透明導電体を使用した抵抗膜方式のタブレットの模式断面図を示す。図１において、２０は透明導電体を示し、透明導電体２０はプラスチック基材１上にハードコート層１２が形成され、該ハードコート層１２上にさらに透明導電層１４が形成されたものである。上記透明導電体２０の透明導電層１４は、スペーサー１６を介して、透明フィルム１８上に形成された透明導電層１７と相対し、かつ粘着テープ１５により固定されており、透明フィルム１８側からペン又は指で押圧して両方の透明導電層１４及び１７を接触させて短絡することにより、タブレットとして使用するものである。　　
　
　これらの記載事項によると、刊行物１には、次の発明（以下、「刊行物１記載発明」という。）が記載されていると認められる。
　
　「透明導電体２０はプラスチック基材１上にシリコーン系のハードコート層１２が形成され、該ハードコート層１２上にさらに透明導電層１４が形成され、ハードコート層と透明導電層との間に中間層として、Ｓｉ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｒ等の金属酸化物層が設けられ、上記透明導電体２０の透明導電層１４は、スペーサー１６を介して、透明フィルム１８上に形成された透明導電層１７と相対し、透明フィルム１８側からペン又は指で押圧して両方の透明導電層１４及び１７を接触させて短絡するタブレット」
　
　刊行物２記載発明 
　当審における、平成１８年３月１５日付けで通知した拒絶の理由に引用した、特開平１０−２７５５４１号公報（平成１０年１０月１３日出願公開。以下、「刊行物２」という。）には、抵抗膜型透明タッチパネルに関して、図面と共に、以下の事項が記載されている。
　
【０００２】
【従来の技術】一般に抵抗膜型透明タッチパネル（以下単にタッチパネルと呼ぶ。）は、タッチ側のフレキシブルな透明フィルム基体（例えばＰＥＴフィルム）の一面に、導電性物質、例えばインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）による抵抗膜を、そしてディスプレイ側の硬直な透明板基体（例えばガラス板、透明プラスチック板）の一面に、前記同様に抵抗膜を設け、そしてこの両者の該抵抗膜面を対向して、絶縁性スペーサー（一般に透明樹脂による微細突起）を介して配置セットして得られるフラット状タッチパネルデバイスである。該タッチパネルは、ペンタッチ入力によっても容易に迅速に入力できる機能を持っていることから、液晶ディスプレイ、ＣＲＴディスプレイ等と組み合わせて盛んに利用されている。
【０００３】ところで、情報の入力をタッチ側からのペンの摺動によって行う場合、特に問題になるのは、長期間の使用に対して抵抗膜が受ける損傷とか摩耗による耐久性である。そこで、この耐久性に関しては、既に種々な手段によって改良も試みられている。例えば基体となる前記タッチ側の透明フィルム又は／及びディスプレイ側の透明基体と抵抗膜との間に、合成樹脂によるハードコート層を設けるとか、この合成樹脂によるハードコート層の代わりに、又は更に該ハードコート層の上に、二酸化珪素層を設ける等の方法が提案されている。（例えば、特開平８−１３２５５４号公報）　
　
　これらの記載事項によると、刊行物２には、次の発明（以下、「刊行物２記載発明」という。）が記載されていると認められる。
　
「長期間の使用に対して抵抗膜が受ける損傷とか摩耗による耐久性を改良するために、タッチ側の透明フィルム基体及びディスプレイ側の透明基体と抵抗膜との間に、合成樹脂によるハードコート層を設け、更に該ハードコート層の上に、二酸化珪素層を設ける抵抗膜型透明タッチパネル」　
　
　刊行物３記載発明 
　当審における、平成１８年３月１５日付けで通知した拒絶の理由に引用した、特開昭６３−２６９３５０号公報（昭和６３年１１月７日出願公開。以下、「刊行物３」という。）には、光磁気記録用媒体に関して、図面と共に、以下の事項が記載されている。
　
　「この光磁気記録用媒体は、透明度が高くかつ光学特性の良い樹脂製の基板１０を有し、その基板１０上には金属膜１１、第１の誘電体膜１２、ＲＥ−ＴＨ膜からなる光磁気記録層１３、第２の誘電体膜１４、接着層１５、及びカバー基板１６が、順次積層状態に形成されている。
　樹脂製の基板１０は、エポキシ基板やポリカーボネート基板等の種々の樹脂基板で構成でき、第１図では例えばポリカーボネート樹脂基板を用いている。金属膜１１は第１の誘電体膜１２に対する剥離あるいはひび割れ防止機能を有する膜であり、例えばチタンＴｉ膜、ニッケル膜、あるいはそれらの合金であるＴｉ／Ｎｉ膜等で構成されている。この金属膜１１ではその膜厚が厚くなりすぎると、光の透過性に悪影響を与えるため、例えば１０ｎｍ程度またはそれよりも薄い膜厚が望ましく、第１図では１０ｎｍ程度に形成されている。第１，第２の誘電体膜１２，１４は、光磁気記録層１３に対するカー効果エンハンスメントの働き、あるいは保護膜としての働きをもつもので、ＡｌＳｉＮ膜、ＡｌＳｉＯＮ膜、ＳｉＯ膜等の種々の膜で構成でき、第１図では例えば、第１の誘電体膜１２が膜厚８０ｎｍのＡｌＳｉＮ膜で、第２の誘電体膜１４が膜厚１５０ｎｍのＡｌＳｉＮ膜でそれぞれ構成されている。」（公報第２頁左下欄第２０行乃至右下欄第１７行）
　
　これらの記載事項によると、刊行物３には、次の発明（以下、「刊行物３記載発明」という。）が記載されていると認められる。
　
　「剥離あるいはひび割れ防止機能を有する膜で、樹脂上に設けられ、ＳｉＯ膜の剥離あるいはひび割れ防止機能を有するチタンＴｉ膜等の金属膜１１であり、その膜厚を、光の透過性に悪影響を与えないように、１０ｎｍ程度またはそれよりも薄い膜厚に形成する。」
　
　「アンダーコート層」に関する周知技術
　
　特開平４−１５４６４７号公報（平成４年５月２７日出願公開。以下、「刊行物４」という。）には、図面と共に、以下の事項が記載されている。
　
　「この為、本発明は屈折率が１．８以上で厚みが０．１５μｍ以上の透明導電膜が透明基板上に形成された積層体において、該透明導電膜と該透明基板の間にｎ＝１．３５〜１．５５の低屈折率透明膜をｎｄ＝０．０４５〜０．０７５μｍの膜厚に該透明導電膜と接するように、かつｎ＝１．８〜２．５の高屈折率透明膜をｎｄ＝０．０１５〜０．０４５μｍの膜厚に該透明基板と接するように形成したことを特徴とする透明導電性積層体を提供するものである。」（公報第３頁右下欄第１７行乃至第４頁左上欄第６行）
　
　「本発明において、該高屈折率薄膜１１と該透明基板１０の間に形成される低／高屈折率の透明膜は、この該高屈折率膜と該透明基板との界面における反射を防止する働きをする。この結果、等価的には、この界面が消失したことになり、該高屈折膜内における光の干渉作用がなくなり、反射（透過）におけるリップルが消失するのである。従って、膜厚、視角の変化に伴う色調変化も感知されなくなる。」（公報第４頁左下欄第８行乃至同欄第１６行）
　
　特開平６−３１６４４２号公報（平成６年１１月１５日出願公開。以下、「刊行物５」という。）には、図面と共に、以下の事項が記載されている。
　
【００１０】また、本発明において第２層膜に用いる導電性を有する膜としては、酸化スズ、ＩＴＯまたは酸化亜鉛などが挙げられる。
【００１１】常圧下での製膜法で製膜しやすく光学的および電気的特性を制御しやすいという観点から、第１層膜に比較的導電性の低い酸化スズ、第２層膜は第１層膜側から、低屈折率の酸化ケイ素および高屈折率かつ導電性の酸化スズを順次積層する構成が好ましい。
【００１２】本発明における第１層膜および第２層膜のそれぞれの膜厚ｄは、設計波長λoおよび屈折率ｎに対して、λo ／４＝ｎｄを満足するように与えられる。設計波長λo の範囲を３００〜８００ｎｍとすると、第１層膜の膜厚は４０〜１００ｎｍ、また第２層膜における酸化ケイ素の膜厚は５〜１４０ｎｍ、導電性酸化スズの膜厚は５〜１００ｎｍが好ましい。特に、可視光線の反射率を効果的に低減するには、設計波長λo をおよそ５５０ｎｍにすることが好ましく、したがって、第１層膜の膜厚が５０〜８０ｎｍ、また第２層膜における酸化ケイ素の膜厚が３０〜８０ｎｍ、導電性酸化スズが２０〜６０ｎｍであることが好ましい。
【００１３】本発明の多層反射防止膜のシート抵抗値は特に限定されないが、電気光学素子、光電変換素子またはタッチパネルの窓層部材用の用途としては、３００〜５０００Ω／□であることが好ましく、特に、タッチパネル用としては第１層膜のシート抵抗値が１０００Ω／□以上、第２層膜における導電性酸化スズのシート抵抗値が３００〜５０００Ω／□であることが好ましい。
　
【００１６】
【実施例】
［実施例１］ソーダライムガラスを５００℃に加熱し、３ケ所に製膜部を有する常圧ＣＶＤ装置を用いて、四塩化スズ、水およびメタノールを原料として膜厚６２ｎｍの第１層膜として酸化スズ膜（屈折率は２. ０）を形成した。次に第２層膜として、モノシランおよび酸素を原料として４６ｎｍの酸化ケイ素膜（屈折率は１. ４５）を、四塩化スズ、水、メタノールおよびフッ酸を原料として２７ｎｍのフッ素を含有する酸化スズ膜（屈折率は２. ０）を第１層膜の上に順次積層した。
　
【００２４】
【発明の効果】本発明の多層反射防止膜は透過率が高く、生産性の高い常圧ＣＶＤ法で製膜でき、視認性の向上が要求される液晶表示素子、プラズマ表示などの電気表示素子、変換効率の向上が要求される太陽電池などの光電変換素子、またはタッチパネルに有用である。
　
３．対比
　本願発明と刊行物１記載発明とを比較すると、刊行物１記載発明の「透明導電体２０」は、本願発明の「第２の面状部材」に相当する。
　
　また、刊行物１記載発明の「透明フィルム１８」と「透明導電層１７」を合わせたものは、本願発明の「第１の面状部材」に相当する。
　
　また、刊行物１記載発明の「透明フィルム１８」は、本願発明の「樹脂製のシート部材」に相当する。
　
　また、刊行物１記載発明の「タブレット」は、透明導電体２０の透明導電層１４は、スペーサー１６を介して、透明フィルム１８上に形成された透明導電層１７と相対しているから、本願発明の「第１と第２の面状部材が、一定間隔をおいて対設されると共に両部材の対向内面に導電層が形成されてなるタッチパネル」に相当する。
　
　したがって、両者の発明の一致点、相違点は以下のとおりである。
　
［一致点］
　「第１と第２の面状部材が、一定間隔をおいて対設されると共に両部材の対向内面に導電層が形成されてなるタッチパネル」である点。
　
［相違点１］
　入力側の第１の面状部材が、本願発明では、樹脂製のシート部材の表面に樹脂からなるハードコート層が形成されてなると共に、前記ハードコート層上に、酸化珪素もしくは金属酸化物からなるアンダーコート層を介して導電層が形成され、アンダーコート層は、導電層側の第１の層と、当該第１の層の前記導電層と反対側の面に積層される第２の層からなり、第１の層の屈折率が、前記導電層と第２の層のそれぞれの屈折率よりも低く形成されているのに対し、刊行物１記載発明では、そのようには形成されていない点。
　
［相違点２］
　本願発明では、ハードコート層とアンダーコート層との間に、シリコン層、もしくは単一の金属元素又は２種以上の金属元素の合金からなる金属層が介挿され、かつ、そのシリコン層又は金属層の厚さが１０〜５０オングストロームの範囲内に設定されているのに対し、刊行物１記載発明では、そのような層が設けられていない点。
　
４．判断
［相違点１］について　
　刊行物１記載発明の「透明導電体２０」（本願発明の「第２の面状部材」に相当）は、プラスチック基材１上にシリコーン系のハードコート層１２が形成され、該ハードコート層１２上にさらに透明導電層１４が形成され、ハードコート層と透明導電層との間に中間層として、Ｓｉ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｒ等の金属酸化物層が設けられているから、この中間層が「アンダーコート層」に相当し、刊行物１記載発明の「ハードコート層」は、シリコーン系（シリコン樹脂）であるから、樹脂であることは明らかである。したがって、刊行物１記載発明の「透明導電体２０」は、樹脂製のシート部材の表面に樹脂からなるハードコート層が形成されてなると共に、前記ハードコート層上に、酸化珪素もしくは金属酸化物からなるアンダーコート層を介して導電層が形成されているものであると認める。
　
　また、刊行物２記載発明は、長期間の使用に対して抵抗膜が受ける損傷とか摩耗による耐久性を改良するために、タッチ側の透明フィルム基体（本願発明の「第１の面状部材」に相当）及びディスプレイ側の透明基体（本願発明の「第２の面状部材」に相当）と抵抗膜との間に、合成樹脂によるハードコート層を設け、更に該ハードコート層の上に、二酸化珪素層を設けているから、第１の面状部材と第２の面状部材とを、ハードコート層上に、酸化珪素からなるアンダーコート層を介して導電層が形成されている同じような積層構造とするものと認める。
　
　また、刊行物４、５等により、アンダーコート層を、導電層側の第１の層と、当該第１の層の導電層と反対側の面に積層される第２の層からなり、第１の層の屈折率が、導電層と第２の層のそれぞれの屈折率よりも低くして透過率を増すことは周知である。
　
　そうすると、刊行物１記載発明の「透明フィルム１８」と「透明導電層１７」を合わせたもの（本願発明１の「第１の面状部材」に相当）においても、長期間の使用に対して抵抗膜が受ける損傷とか摩耗による耐久性を改良するために、第２の面状部材と同じような積層構造とし、樹脂製のシート部材の表面に樹脂からなるハードコート層を形成し、ハードコート層上に、酸化珪素もしくは金属酸化物からなるアンダーコート層を介して導電層を形成し、アンダーコート層を、導電層側の第１の層と、当該第１の層の導電層と反対側の面に積層される第２の層からなり、第１の層の屈折率が、導電層と第２の層のそれぞれの屈折率よりも低くすることは当業者が適宜になし得る設計事項にすぎない。
　
［相違点２］について　
　刊行物３記載発明によると、剥離あるいはひび割れ防止機能を有する膜で、樹脂上に設けられ、ＳｉＯ膜の剥離あるいはひび割れ防止機能を有するチタンＴｉ膜等の金属膜１１であり、その膜厚を、光の透過性に悪影響を与えないように、１０ｎｍ（＝１００オングストローム）程度またはそれよりも薄い膜厚に形成するから、剥離あるいはひび割れ防止機能するために、刊行物１記載発明の「シリコーン系のハードコート層１２」と「Ｓｉ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｒ等の金属酸化物層」との間に、厚さが数十オングストロームのチタンＴｉ膜等の金属膜を介挿することは当業者が容易になし得る。
　
　その際に、金属膜の膜厚が薄すぎれば、剥離あるいはひび割れ防止機能を発揮し得ないことは技術常識であり、金属膜の膜厚が厚すぎれば、光の透過性に悪影響が生じることが刊行物３記載発明から明らかであるから、当該金属膜の膜厚の範囲を数値限定（１０オングストローム〜５０オングストローム）することは設計事項にすぎない。
　
　請求人が審判請求書において「密着層の厚さを１０オングストローム以上することで、タッチパネルに必要なハードコート層とアンダーコート層の密着性を確保すると共に、５０オングストローム以下とすることにより当該密着層の形成に起因してタッチパネルの透明性が不必要に劣化するのを防止するものであります。」と主張している効果について検討する。
　
　剥離防止機能を発揮することは、密着性を確保することにほかならず、したがって、密着性を確保するため、金属膜の膜厚が薄すぎないように金属膜の膜厚の下限を１０オングストロームとすることに、何ら臨界的意義は認められない。
　
　また、金属膜の膜厚が厚すぎれば、光の透過性に悪影響が生じることは刊行物３記載発明からも明らかであるから、透明性が不必要に劣化するのを防止するために、金属膜の膜厚の上限を５０オングストロームとすることも、何ら臨界的意義は認められない。
　
　したがって、上記請求人が主張する金属膜の膜厚の範囲を数値限定することに何ら臨界的意義は認められず、また、格別の構成、効果とは認められない。
　
　そして、本願発明の作用効果も、刊行物１記載発明乃至刊行物３記載発明、周知技術及び技術常識から当業者が予測できる範囲のものである。
　
第４．むすび
　以上のとおり、本願発明は、刊行物１記載発明乃至刊行物３記載発明、周知技術及び技術常識に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
　したがって、本願は、その余の請求項について論及するまでもなく、拒絶すべきものである。
　
　よって、結論のとおり審決する。