【手続補正書】
【提出日】平成24年4月2日(2012.4.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（Ａ）で示される有機シリコーン化合物を含んで成る表面改質剤：
F-(CF2)q-(OCF2CF2CF2)m-(OC2F4)n-(OCF2)o(CH2)pO(CH2)r Si(X’)3-a(R1)a
(A)
［式中、ｑは、１〜３の整数であり；
ｍ、ｎ、およびｏは、それぞれ、０〜２００の整数であり、ｍとｎとｏの合計は５以上であり；
ｐは、１または２であり；
ｒは、３であり；
Ｒ１は、Ｃ１−２２の直鎖または分岐の炭化水素基であり；
ａは０〜２の整数であり；ならびに
Ｘ’は、加水分解性基である。］
有機シリコーン化合物が、一般式（Ｃ）：
F-(CF2)q-(OC3F6)m-(OC2F4)n-(OCF2)o(CH2)pOCH2CH=CH2
(C)
で示される化合物のヒドロシリル化を使用して製造されている表面改質剤。
【請求項２】
一般式（Ａ）において、ｑは３であり、ｍは１０〜２００の整数であり、ｎは１であり、ｏは０であり、ｐは１であり、そして、ａは０または１である請求項１に記載の表面改質剤。
【請求項３】
表面改質を促進する触媒が追加されている請求項１または２に記載の表面改質剤。
【請求項４】
一般式（Ａ）で示される有機シリコーン化合物１００重量部に対して触媒の量が０．００１〜２重量部である請求項３に記載の表面改質剤。
【請求項５】
加水分解性基が、アルコキシ基もしくはアルコキシ基置換アルコキシ基、アシルオキシ基、アルケニルオキシ基、イミンオキシ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アミド基、ジメチルアミノオキシ基、ジエチルアミノオキシ基、またはハロゲンである請求項１〜４のいずれかに記載の表面改質剤。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の表面改質剤を用いて得られた処理表面であって、
処理表面が、単分子膜の形態のパーフルオロポリエーテルを含んで成る処理表面。
【請求項７】
湿潤被覆法に従って請求項１〜５のいずれかに記載の表面処理剤の被膜を基材上に形成する工程を有する請求項６に記載の表面を製造する方法。
【請求項８】
乾燥被覆法に従って請求項１〜５のいずれかに記載の表面改質剤の被膜を基材上に形成する工程を有する請求項６に記載の表面を製造する方法。
【請求項９】
請求項１〜５のいずれかに記載の表面改質剤を多孔性物品に含浸する工程、および
表面改質剤を含浸した多孔性物品を真空下で加熱して表面改質剤を蒸発させることによって基材上に処理層を形成する工程
を有してなる、表面を形成する方法。
【請求項１０】
多孔性物品は、SiO2, TiO2, ZrO2, MgO, Al2O3, CaSO4, Cu, Fe, Al,ステンレス鋼およびカーボンからなる群から選択された少なくとも一つの種を含んでなる請求項９に記載の表面形成方法。
【請求項１１】
抵抗加熱、電子ビーム加熱、イオンビーム加熱、高周波加熱および光学加熱から選択される少なくとも一つの加熱法によって、多孔性物品に含浸された表面改質剤を蒸発させる請求項９または１０に記載の表面形成方法。
【請求項１２】
プラズマの存在下で、請求項１〜５のいずれかに記載の表面改質剤をノズル吹付けによって被膜を基材の上に形成する工程を有してなる請求項９に記載の表面形成方法。
【請求項１３】
プラズマは、アルゴンまたはヘリウムの常圧プラズマである請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
透明基材、
透明基材の少なくとも一つの面の上に形成された反射防止フイルム、および
最外の表面の上に形成された処理層
を有して成る反射防止光学部材であって、
処理層が、請求項１〜５のいずれかに記載の表面改質剤を含んでなる反射防止光学部材。
【請求項１５】
透明基材は、有機基材または無機基材である請求項１４に記載の反射防止光学部材。
【請求項１６】
請求項１４または１５に記載の反射防止光学部材、および
反射防止光学部材に取り付けた機能的な光学部材を有して成る光学機能部材。
【請求項１７】
機能的な部材は、偏光板である請求項１６に記載の光学機能部材。
【請求項１８】
ディスプレイスクリーン表面の前パネルの前面に接着剤で取り付けたコーティング部材を有してなる表示装置であって、
コーティング部材が請求項１６または１７に記載の光学機能部材である表示装置。
【請求項１９】
ディスプレイは、液晶ディスプレイ、ＣＲＴディスプレイ、投影ディスプレイ、プラズマディスプレイ、またはＥＬディスプレイである請求項１８に記載の表示装置。
【請求項２０】
請求項１〜５のいずれかに記載の表面改質剤を使用して得られた表面を有するガラス。
【請求項２１】
自動車使用または航空機使用のための請求項２０に記載のガラス。
【請求項２２】
請求項１〜５のいずれかに記載の表面改質剤を使用して得られた表面を有する眼鏡レンズまたは光学レンズ。
【請求項２３】
請求項１〜５のいずれかに記載の表面改質剤を使用して得られた表面を有する衛生製品。
【請求項２４】
離型剤として請求項１〜５のいずれかに記載の表面改質剤を使用する離型方法。
【請求項２５】
ナノインプリントのために請求項１〜５のいずれかに記載の表面改質剤を使用する離型方法。
【請求項２６】
請求項１〜５のいずれかに記載の表面改質剤を使用して得られた表面を有する石製品。
【請求項２７】
加水分解性基が、塩素、アルコキシ（−ＯＲ）基またはＯ−Ｎ＝ＣＲ２（ただし、ＲはＣ１−２２の直鎖または分岐の炭化水素基である。）である請求項１〜５のいずれかに記載の表面改質剤。
【請求項２８】
一般式（Ａ）：
F-(CF2)q-(OC3F6)m-(OC2F4)n-(OCF2)o(CH2)pX(CH2)rSi(X’)3-a(R1)a
(A)
［式中、ｑは、１〜３の整数であり；
ｍ、ｎ、およびｏは、それぞれ、０〜２００の整数であり；
ｐは、１または２であり；
Ｘは、Ｏまたは二価の有機基であり；
ｒは、３であり；
Ｒ１は、Ｃ１−２２の直鎖または分岐の炭化水素基であり；
ａは０であり；
Ｘ’は塩素またはアルコキシル基である。］
で示される有機シリコーン化合物の製法であって、
遷移金属の存在下で、トリクロロシランまたはトリアルコキシシランと、
下記の一般式（Ｃ）：
F-(CF2)q-(OC3F6)m-(OC2F4)n-(OCF2)o(CH2)pXCH2CH=CH2
(C)
［式中、ｑは１〜３の整数であり；ｍ、ｎ、およびｏは、それぞれ、０〜２００の整数であり；ｐは、１または２であり；そして、Ｘは、酸素または二価の有機基である。］
で示される化合物との間のヒドロシリル化反応を使用する製造方法。
【請求項２９】
一般式（Ａ）：
F-(CF2)q-(OC3F6)m-(OC2F4)n-(OCF2)o(CH2)pX(CH2)r Si(X’)3-a(R1)a
(A)
［式中、ｑは、１〜３の整数であり；
ｍ、ｎ、およびｏは、それぞれ、０〜２００の整数であり；
ｐは、１または２であり；
Ｘは、Ｏまたは二価の有機基であり；
ｒは、３であり；
Ｒ１は、Ｃ１−２２の直鎖または分岐の炭化水素基であり；
ａは０〜２の整数であり；ならびに
Ｘ’は、−ＯＲ（ただし、ＲはＣ１−２２の直鎖または分岐の炭化水素基である。）である。］
で示される有機シリコーン化合物の製法であって、
遷移金属の存在下で、トリクロロシランと一般式（Ｃ）：
F-(CF2)q-(OC3F6)m-(OC2F4)n-(OCF2)o(CH2)pXCH2CH=CH2
(C)
［式中、ｑは１〜３の整数であり；ｍ、ｎ、およびｏは、それぞれ、０〜２００の整数であり；ｐは、１または２であり；そして、Ｘは、酸素または二価の有機基である。］
で示される化合物との間のヒドロシリル化反応、次いで、中和剤の存在下で、Ｃ１−２２の直鎖または分岐の脂肪族アルコールによるアルコキシル化反応、これによって塩化水素を除去すること、
または金属アルコキシドによるアルコキシル化反応を使用する製造方法。
【請求項３０】
一般式（Ａ）：
F-(CF2)q-(OC3F6)m-(OC2F4)n-(OCF2)o(CH2)pX(CH2)r Si(X’)3-a(R1)a
(A)
［式中、ｑは、１〜３の整数であり；
ｍ、ｎ、およびｏは、それぞれ、０〜２００の整数であり；
ｐは、１または２であり；
Ｘは、Ｏまたは二価の有機基であり；
ｒは、３であり；
Ｒ１は、Ｃ１−２２の直鎖または分岐の炭化水素基であり；
ａは０〜２の整数であり；ならびに
Ｘ’は、−O-N=CR2（ただし、ＲはＣ１−２２の直鎖または分岐の炭化水素基である。）である。］
で示される有機シリコーン化合物の製法であって、
遷移金属の存在下で、トリクロロシランと一般式（Ｃ）：
F-(CF2)q-(OC3F6)m-(OC2F4)n-(OCF2)o(CH2)pXCH2CH=CH2
(C)
［式中、ｑは１〜３の整数であり；ｍ、ｎ、およびｏは、それぞれ、０〜２００の整数であり；ｐは、１または２であり；そして、Ｘは、酸素または二価の有機基である。］
で示される化合物との間のヒドロシリル化反応、次いで、H−O-N=CR2（ただし、ＲはＣ１−２２の直鎖または分岐の炭化水素基である。）で示されるジアルキルケトオキシムとの反応を使用する製造方法。
【請求項３１】
遷移金属はプラチナまたはロジウムである請求項２８〜３０のいずれかに記載の有機シリコーン化合物の製造方法。
【請求項３２】
一般式（Ｂ）：
F-(CF2)q-(OC3F6)m-(OC2F4)n-(OCF2)o(CH2)pX(CH2)r (X’)2-a(R1)aSiO(F-(CF2)q-(OC3F6)m-(OC2F4)n-(OCF2)o(CH2)pX(CH2)r (X’)1-a(R1)aSiO)zF-(CF2)q-(OC3F6)m-(OC2F4)n-(OCF2)o(CH2)pX(CH2)r (X’)2-a(R1)aSi
(B)
［式中、ｑは、１〜３の整数であり；
ｍ、ｎ、およびｏは、それぞれ、０〜２００の整数であり；
ｐは、１または２であり；
Ｘは、Ｏまたは二価の有機基であり；
ｒは、３であり；
Ｒ１は、Ｃ１−２２の直鎖または分岐の炭化水素基であり；
ａは、０〜２の整数であり；
Ｘ’は、加水分解性基であり；ならびに
ａが０または１である場合に、ｚは、０〜１０の整数である。］
で示される有機シリコーン化合物の製造方法であって、
方法が、請求項１〜４のいずれかに記載の方法に従って得られる一般式（Ａ）：
F-(CF2)q-(OC3F6)m-(OC2F4)n-(OCF2)o(CH2)pX(CH2)r Si(X’)3-a(R1)a
(A)
［式中、ｑは、１〜３の整数であり；
ｍ、ｎ、およびｏは、それぞれ、０〜２００の整数であり；
ｐは、１または２であり；
Ｘは、Ｏまたは二価の有機基であり；
ｒは、３であり；
Ｒ１は、Ｃ１−２２の直鎖または分岐の炭化水素基であり；
ａは０〜２の整数であり；ならびに
Ｘ’は、加水分解性基である。］
で示される化合物の部分加水分解および縮合反応を使用する製造方法。