【事件の表示】
　特願２００５−　５９８９２「ＦＰＤ用ガラス基板の製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１７年　９月１５日出願公開、特開２００５−２４７６８７〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、平成１４年４月１２日（優先権主張平成１３年４月１２日）に出願された特願２００２−１１０８３８号の一部を平成１５年９月１７日に新たに特許出願した特願２００３−３２４１８９号の一部を平成１７年３月４日に新たに特許出願したものであって、平成１８年１月３１日付けで拒絶理由が通知され、同年５月１５日に意見書及び手続補正書が提出され、平成１９年３月２０日付けで最後の拒絶理由が通知され、同年６月８日に意見書及び手続補正書が提出されたが、同年６月２６日付けで前記６月８日提出の手続補正書の補正却下の決定とともに拒絶査定がなされた。これに対し、平成１９年８月９日に拒絶査定不服審判請求され、同年９月６日に手続補正がなされたものであり、平成２２年１月５日付けで特許法第１６４条第３項に基づく報告を利用した審尋がなされ、同年３月１０日に回答書が提出されたものである。
　
２．平成１９年９月６日付け手続補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　平成１９年９月６日付けの手続補正（以下、「本件補正」という。）を却下する。
［理由］
（１）本件補正の内容
　本件補正は、補正前の平成１８年５月１５日付け手続補正書により補正された特許請求の範囲を、以下の通りに補正するものである。
　
（補正前：平成１８年５月１５日付け手続補正書）
「　【請求項１】
　化学加工液中にＦＰＤ用ガラス基板を浸漬し、このＦＰＤ用ガラス基板の外表面を構成する片側の一部若しくは全部または両側の一部若しくは全部を研磨して薄くするＦＰＤ用ガラス基板の製造方法であって、
　加工速度が殆ど変化しない温度領域の中間温度に管理した状態で、前記ガラス基板を化学加工液中に略垂直配置し、
　前記化学加工液中に、前記ガラス基板の下方から連続して発生させた気泡により上昇液流を生じさせて所定の加工速度で加工する一方、
　前記化学加工液の品質を管理して、事前の検討によるガラス基板の平坦性を維持できるタイミングで前記化学加工液を新たな化学加工液に交換することで、研磨後のガラス基板の表面の平坦性を確保しつつ薄型化されるＦＰＤ用ガラス基板の製造方法。
　　【請求項２】
　前記化学加工液が、フッ酸、並びに塩酸、硫酸、リン酸および硝酸から選ばれる１種以上の無機酸を含有する請求項１に記載の製造方法。
　　【請求項３】
　前記化学加工液は、前記ガラス基板表面に前記反応生成物が再付着することを防止する再付着防止剤を含有し、
前記再付着防止剤が陰イオン系界面活性剤またはアミン系界面活性剤である請求項１または２に記載の製造方法。
　　【請求項４】
　前記加工速度は、１０μｍ／分以下である請求項１〜３の何れかに記載の製造方法。
　　【請求項５】
　前記上昇液流により前記反応生成物を含む化学加工液を化学加工液貯留槽から溢出させる請求項１〜４の何れかに記載の製造方法。」
　
（補正後）
「　【請求項１】
　化学加工液中にＦＰＤ用ガラス基板を浸漬し、このＦＰＤ用ガラス基板の外表面を構成する片側の一部若しくは全部または両側の一部若しくは全部を研磨して薄くするＦＰＤ用ガラス基板の製造方法であって、
　
必須成分としてフッ酸及び塩酸を含む前記化学加工液において、
を基準に±５℃
　前記化学加工液中に、前記ガラス基板の下方から連続して発生させた気泡により上昇液流を生じさせて
１０μｍ／分以下
　前記化学加工液の品質を管理して、事前の検討によるガラス基板の平坦性を維持できるタイミングで前記化学加工液を新たな化学加工液に交換することで、研磨後のガラス基板の表面の平坦性を確保しつつ薄型化されるＦＰＤ用ガラス基板の製造方法。
　　【請求項２】
　前記化学加工液は、前記ガラス基板表面に前記反応生成物が再付着することを防止する再付着防止剤を含有し、
　前記再付着防止剤が陰イオン系界面活性剤またはアミン系界面活性剤である請求項１に記載の製造方法。
　　【請求項３】
　
前記化学加工液が、基準温度±５℃に管理されるだけで、前記ガラス基板の加工量のバラツキを２０μｍの範囲に収めるのに、最大４０分の加工時間のバラツキが許容される請求項１又は２に
　　【請求項４】
　前記上昇液流により前記反応生成物を含む化学加工液を化学加工液貯留槽から溢出させる請求項１〜３の何れかに記載の製造方法。」
（補正された箇所には、当審で下線を付した。）
　
（２）本件補正の適否の検討
　本件補正の前後で特許請求の範囲の各請求項を比較すると、本件補正は、補正前の請求項２及び４を削除し、補正前の請求項１、３、５を、それぞれ補正後の請求項１、２、４に補正し、補正後の請求項３を新たに追加するものである。
　しかしながら、補正後の請求項３は、新たに請求項を追加するものであるから、特許法第１７条の２第４項第１号に掲げる「請求項の削除」、同項第２号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」、同項第３号に掲げる「誤記の訂正」、同項第４号に掲げる「明りょうでない記載の釈明」のいずれにも該当しないことは明らかである。
　
（３）むすび
　以上のとおりであるから、本件補正は、平成１４年法律第２４号改正附則第２条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前特許法第１７条の２第４項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項の規定において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
３．本願発明について
（１）本願発明
　平成１９年９月６日付けの手続補正は、上記のとおり、補正却下の決定がなされたので、本願の特許請求の範囲に記載された発明は、平成１８年５月１５日付けで補正された明細書または図面の記載からみて、その明細書の特許請求の範囲の請求項１−５に記載されたとおりのものであり、そのうち請求項１に記載された発明（以下「本願発明」という。）は、次の事項により特定されるものである。
　
「　【請求項１】
　化学加工液中にＦＰＤ用ガラス基板を浸漬し、このＦＰＤ用ガラス基板の外表面を構成する片側の一部若しくは全部または両側の一部若しくは全部を研磨して薄くするＦＰＤ用ガラス基板の製造方法であって、
　加工速度が殆ど変化しない温度領域の中間温度に管理した状態で、前記ガラス基板を化学加工液中に略垂直配置し、
　前記化学加工液中に、前記ガラス基板の下方から連続して発生させた気泡により上昇液流を生じさせて所定の加工速度で加工する一方、
　前記化学加工液の品質を管理して、事前の検討によるガラス基板の平坦性を維持できるタイミングで前記化学加工液を新たな化学加工液に交換することで、研磨後のガラス基板の表面の平坦性を確保しつつ薄型化されるＦＰＤ用ガラス基板の製造方法。」
　
（２）先願明細書に記載された発明の記載事項
　これに対して、原査定の拒絶の理由に引用された、本願の優先権主張の日前の他の出願であって、その出願後に出願公開された特願２０００−２８０３６３号（特開２００２−８７８４４号参照）の願書に最初に添付した明細書及び図面（以下、「先願明細書」という。）には、次の事項が記載されている。
　
（ア）「所定の肉厚を有する基板を用いて表示パネルを作り込むパネル作成工程と、
該表示パネルを薬液に浸漬し、化学反応により該基板の表面を一定量除去して肉厚を薄くする化学処理工程とを行う表示パネルの製造方法。」（【請求項１】）
（イ）「前記化学処理工程は、該薬液の温度変化が予め設定した温度から±５℃の範囲に収まるように制御しながら、該基板の表面を一定量除去する請求項１記載の表示パネルの製造方法。」（【請求項２】）
（ウ）「前記化学処理工程は、該薬液に気泡を導入して攪拌しながら該表示パネルを薬液に浸漬し、該基板の表面を一定量除去する請求項１記載の表示パネルの製造方法。」（【請求項８】）
（エ）「 前記化学処理工程は、フッ酸と硫酸を含む薬液に浸漬して、ガラスからなる基板の表面を一定量除去する請求項１記載の表示パネルの製造方法。」（【請求項１４】）
（オ）「本発明は表示パネルの製造方法に関する。より詳しくは、液晶ディスプレイなどで代表されるガラス基板を用いたフラット型の表示パネルの薄型化及び軽量化技術に関する。」（【０００１】）
（カ）「図１は、本発明に係る表示パネルの製造方法の第一実施形態の一例を模式的に表わしたものである。具体的には、本発明に係る表示パネルの製造方法を実現する為の装置を概略的に表わしている。図示する様に、本装置は容器２０を基本としており、その中には薬液１７が満たされている。この薬液１７には、処理対象となるパネル１を搭載したカセット６を投入可能である。カセット６は、矢印で示す様に容器２０内で上下に揺動可能である。容器２０にはＨＦ供給ライン７を介してフッ酸を含む薬液１７を投入可能である。又、容器２０には純水供給ライン８を介して純水も導入できる。容器２０の底部には廃液ライン１３が接続されており、使用済みとなった薬液１７を排出することができる。図示する様に、本発明の製造方法では、大型の基板を貼り合わせてパネル１を作成した後、このパネル１をカセット６に入れ、薬液１７で満たされた容器２０に浸漬させて、基板表面を一定量除去する。薬液１７としてはフッ酸（ＨＦ）を用い、濃度は２０重量％に設定している。」（【０００６】）
（キ）「図３は、化学処理後のパネルを示す模式的な断面図である。図示する様に、パネル１は一対の基板１ａ，１ｂをシール剤３で貼り合わせた構造となっている。ガラスからなる基板１ａ，１ｂを貼り合わせた後、パネル１をＨＦの入った反応槽に浸漬させ、ガラス表面のエッチングを行なった。時間は６０分である。これにより、点線で示す様に、両基板１ａ，１ｂの表面から肉厚が一定量だけ除去されている。・・・処理前は、面内２５点について、平均値が１．４１０ｍｍで、分散が０．０１６ｍｍであった。処理後は、平均値が１．００８ｍｍで、分散が０．０３６であり、表示パネルとして問題のない面内均一性が得られた。」（【０００８】）
（ク）「本発明に係る表示パネルの製造方法は、所定の肉厚を有する基板１ａ，１ｂを用いて表示パネル１を作り込むパネル作成工程と、表示パネル１を薬液１７に浸漬し、化学反応により基板１ａ，１ｂの表面を一定量除去して肉厚を薄くする化学処理工程とを行なう。化学処理工程では、薬液１７の温度変化が予め設定した温度から±５℃の範囲に収まる様に制御しながら、基板１ａ，１ｂの表面を一定量除去する。これにより、表示パネルの厚みの面内ばらつきを均一にできる。尚、薬液の予め設定した温度は、３０℃〜６０℃の間に入る。好ましくは４０±５℃である。更に好ましくは４０±２℃である。３０℃以下ではガラスのエッチング速度が遅くなる。６０℃以上では、エッチングの面内均一性に悪影響が出る可能性がある。・・・好適な実施例では、化学処理工程は、フッ酸（ＨＦ）と硫酸を含む薬液に浸漬して、ガラスからなる基板の表面を一定量除去する。フッ酸に加え硫酸を用いることで、化学反応によって析出する物質の量を抑制可能である。即ち、硫酸は反応生成物の凝集を抑制する効果が認められる。」（【００１０】）
（ケ）「図５は、本発明に係る表示パネル製造方法の第二実施形態の一例を示すものであり、本製造方法を実現する装置の概略を表わしている。尚、理解を容易にする為に、図１に示した化学反応装置（エッチング装置）と対応する部分には対応する参照番号を付してある。図示する様に、本実施形態では、薬液１７が容器２０内で循環可能となっている。又、ＨＦ濃度計１０を用いた濃度調整機能の他、フィルタ１１、ヒータ１２、Ｎ２供給ライン２５を有する。・・・又、ヒータ１２を取り付け、温度を上げてエッチングできる様にしている。温度設定は、４０℃としている。容器２０に取り付けた温度計（図示省略）の値をヒータ１２にフィードバックして温度が４０±２℃となる様に制御している。尚、設定温度に対して±５℃の範囲で制御すれば、基板表面のエッチングむらをある程度緩和することが可能である。又、薬液槽となる容器２０の底部に気泡発生器２６を取り付け、Ｎ２供給ライン２５からＮ２を送り込み、バブリングする機能も設けてある。これにより、反応生成物の再付着を防いでいる。・・・処理前は、面内２５点について、平均値が１．４０８ｍｍで分散が０．０１８ｍｍであった。処理後は、平均値が０．９２４ｍｍで分散が０．０２０であった。」（【００１１】〜【００１３】）
（コ）「図６は、本発明に係る表示パネルの製造方法の第三実施形態の一例を示す模式図であり、本製造方法を実現する為の装置構成を概略的に表わしている。尚、理解を容易にする為、図５に示した装置と対応する部分には対応する参照番号を付してある。本実施形態では、基板表面をエッチングするＨＦ槽となる容器２０に加え、リンス槽となる容器２１を設けている。・・・ＨＦ槽については第二実施形態と同様に、濃度調整用のＨＦ濃度計１０、フィルタ１１、ヒータ１２、窒素供給ライン（図示省略）、カセット揺動機構（図示省略）を取り付け、第二実施形態と同様の処理を可能としている。薬液はＨＦを用い、濃度は２０重量％とした。又、リンス槽の大きさは第一実施形態と同様、縦７００ｍｍ×横７００ｍｍ×高さ９００ｍｍとなっている。処理として、最初にリンス槽の中のオゾン水にパネルをディップし、その後ＨＦ槽でエッチングし、その後リンス槽に戻して純水でリンスする工程とした。・・・オゾン処理後、カセット６ごとＨＦ槽に移し、基板表面のエッチングを行なった。エッチング処理については、濃度調整機能、フィルタ、ヒータ、窒素供給ライン、カセット揺動機能を使い、第二実施形態と同様の処理とした。時間も同じく一時間に設定した。ＨＦ処理後、今度はカセット６ごと、リンス槽に移し、純水にてリンス処理を行なった。・・・処理前は面内２５点について、平均値１．４０５ｍｍ分散０．０１４ｍｍであったが、処理後は平均値０．９０２ｍｍ分散０．０１８であり、」（【００１４】〜【００１５】）
　
　先願明細書には、記載事項（ア）に、「所定の肉厚を有する基板を用いて表示パネルを作り込むパネル作成工程と、該表示パネルを薬液に浸漬し、化学反応により該基板の表面を一定量除去して肉厚を薄くする化学処理工程とを行う表示パネルの製造方法。」が記載されている。
　この記載中の「基板」及び「表示パネル」について、記載事項（オ）に「液晶ディスプレイなどで代表されるガラス基板を用いたフラット型の表示パネルの薄型化及び軽量化技術に関する。」と記載されていることからみて、「基板」及び「表示パネル」は、「ガラス基板」及び「フラット型の表示パネル」であるといえる。
　次に、「化学処理工程」のうち薬液の温度制御について、記載事項（イ）には、「前記化学処理工程は、該薬液の温度変化が予め設定した温度から±５℃の範囲に収まるように制御しながら、該基板の表面を一定量除去する請求項１記載の表示パネルの製造方法。」と記載され、記載事項（ク）には、「化学処理工程では、薬液１７の温度変化が予め設定した温度から±５℃の範囲に収まる様に制御しながら、基板１ａ，１ｂの表面を一定量除去する。これにより、表示パネルの厚みの面内ばらつきを均一にできる。尚、薬液の予め設定した温度は、３０℃〜６０℃の間に入る。好ましくは４０±５℃である。」と記載されており、前記薬液の温度変化が４０℃±５℃の範囲に制御することが記載されているといえる。
　また、「化学処理工程」のうち気泡の導入について、記載事項（ウ）には、「前記化学処理工程は、該薬液に気泡を導入して攪拌しながら該表示パネルを薬液に浸漬し、該基板の表面を一定量除去する請求項１記載の表示パネルの製造方法。」と記載され、記載事項（ケ）には、「又、薬液槽となる容器２０の底部に気泡発生器２６を取り付け、Ｎ２供給ライン２５からＮ２を送り込み、バブリングする機能も設けてある。これにより、反応生成物の再付着を防いでいる。」と記載されている。ここで、先願明細書の【図５】の記載によれば、上記「気泡発生器２６」は、表示パネル１を搭載したカセット６の下方に取り付けられている。
　そして、薬液１７中の表示パネル１の配置については、先願明細書の【図１】、【図５】の記載によれば、略垂直に配置されているといえる。
　
　以上のことから、上記した記載を本願発明の記載ぶりに則して整理すると、先願明細書には、
「所定の肉厚を有するガラス基板を用いてフラット型表示パネルを作り込むパネル作成工程と、このフラット型表示パネルを薬液に浸漬し、化学反応によりガラス基板の表面を一定量除去して肉厚を薄くする化学処理工程とを行なうフラット型表示パネルの製造方法であって、
　前記化学処理工程では、前記薬液の温度変化が４０℃±５℃の範囲に制御した状態で、前記フラット型表示パネルを薬液中に略垂直に配置し、
　前記薬液中に、前フラット型表示パネルの下方から発生させた気泡によりバブリングしながらエッチングを行うようにしたフラット型表示パネルの製造方法。」（以下、先願発明）が記載されているといえる。
　
（３）対比
　本願発明と先願発明とを比較する。
（ａ）先願発明における「フラット型表示パネル」及び「ガラス基板」は、本願発明における「ＦＰＤ」及び「ＦＰＤ用ガラス基板」に相当し、先願１発明の「薬液」は、記載事項（エ）に「フッ酸と硫酸」が例示され、この「フッ酸と硫酸」は、本願明細書でも【００１７】に例示されていることからみて、本願発明の「化学加工液」に相当することは明らかである。
（ｂ）また、先願発明における「化学反応によりガラス基板の表面を一定量除去して肉厚を薄くする化学処理工程」について、記載事項（キ）に「図３は、化学処理後のパネルを示す模式的な断面図である。図示する様に、パネル１は一対の基板１ａ，１ｂをシール剤３で貼り合わせた構造となっている。ガラスからなる基板１ａ，１ｂを貼り合わせた後、パネル１をＨＦの入った反応槽に浸漬させ、ガラス表面のエッチングを行なった。時間は６０分である。これにより、点線で示す様に、両基板１ａ，１ｂの表面から肉厚が一定量だけ除去されている。」と記載され、先願明細書の【図３】には、外表面を構成する両側の一部が除去される点が図示されている。
　一方、本願発明の「このＦＰＤ用ガラス基板の外表面を構成する片側の一部若しくは全部または両側の一部若しくは全部を研磨して薄くする」は、「化学加工液中にＦＰＤ用ガラス基板を浸漬し」て、本願明細書の【００１２】に記載の「化学加工方法により加工」していることからみて、上記先願発明における「化学反応によりガラス基板の表面を一定量除去して肉厚を薄くする化学処理工程」は、本願発明における「このＦＰＤ用ガラス基板の外表面を構成する両側の一部を研磨して薄くする」ことに相当するといえる。
（ｃ）そして、先願発明における「前記薬液の温度変化が４０℃±５℃の範囲に制御した状態」について、記載事項（ク）に「化学処理工程では、薬液１７の温度変化が予め設定した温度から±５℃の範囲に収まる様に制御しながら、基板１ａ，１ｂの表面を一定量除去する。これにより、表示パネルの厚みの面内ばらつきを均一にできる。尚、薬液の予め設定した温度は、３０℃〜６０℃の間に入る。好ましくは４０±５℃である。更に好ましくは４０±２℃である。３０℃以下ではガラスのエッチング速度が遅くなる。６０℃以上では、エッチングの面内均一性に悪影響が出る可能性がある。」と記載され、記載事項（コ）に「処理後は平均値０．９０２ｍｍ分散が０．０１８であり」と記載されていることからみて、先願発明は、薬液の温度が６０℃以上であると面内均一性に悪影響が出ることから、３０℃〜６０℃に設定すると面内均一性に悪影響が出にくく、面内ばらつきを均一にできるといえ、特に好ましい温度として挙げられた４０℃±５℃の範囲に制御すれば、面内ばらつきのさらなる均一化が達成できるとみることができることから、かかる４０℃±５℃の設定温度ではエッチング速度の変化が小さく、所望の安定したエッチング速度になるといえる。
　一方、本願発明の「加工速度が殆ど変化しない温度領域の中間温度に管理した状態」について、前記「加工速度が殆ど変化しない温度領域」がどの程度の加工速度の変化を許容するのか規定されていないが、本願明細書の【００３４】に「図７から、温度の上昇にしたがって全体として加工速度は増加する傾向を示すが、基準温度（３０℃）の±５℃の範囲では０．５μｍ／分の差しか生じないことが判る。このように、本発明においては、加工速度がほとんど変化しない温度領域が存在する。したがって、化学加工に当たっては事前に加工速度と温度の関係を調べ、加工速度がほとんど変化しない温度領域の中間温度を基準温度として、この中間温度付近で化学加工を行なうことにより、ガラス基板の加工速度を制御することが好ましい。」と記載されている。この記載から、加工速度が０．５μｍ／分程度の変化を許容するものとみれなくもないが、この値は特定の条件で行われたものにすぎなく、前記「加工速度が殆ど変化しない温度領域」における加工速度の変化を許容できる範囲は判然としない。ただし、前記に照らせば、この「加工速度が殆ど変化しない温度領域」とは、「加工速度の変化が小さい温度領域」といえる。そして、前記「基準温度」及び「基準温度の±５℃の範囲」が本願発明の「中間温度」及び「加工速度が殆ど変化しない温度領域」であるといえるから、前記「加工速度が殆ど変化しない温度領域の中間温度に管理した状態」とすることで、【表２】、【表３】に例示されるようにバラツキを抑えているといえる。
　してみると、温度変化が基準温度±５℃の範囲であれば、加工速度の変化が小さく、加工のバラツキを抑制できるといえるから、先願発明の「４０℃」及び「温度変化が４０℃±５℃の範囲」は、本願発明の「中間温度」及び「加工速度が殆ど変化しない温度領域」し、先願発明の「前記薬液の温度を４０℃±５℃の範囲に制御した状態」は、本願発明の「加工速度が殆ど変化しない温度領域の中間温度に管理した状態」に相当するといえる。
（ｄ）さらに、先願発明における「前記薬液中に、前フラット型表示パネルの下方から発生させた気泡によりバブリングしながらエッチングを行う」について、下方からバブリングを行えば上昇液流が生じることは、当業者にとって自明な事項であることから、本願発明における「前記化学加工液中に、前記ガラス基板の下方から連続して発生させた気泡により上昇液流を生じさせて所定の加工速度で加工する」に相当するといえる。
　
　上記（ａ）〜（ｄ）の検討を踏まえると、
　両者は、「化学加工液中にＦＰＤ用ガラス基板を浸漬し、このＦＰＤ用ガラス基板の外表面を構成する片側の一部若しくは全部または両側の一部若しくは全部を研磨して薄くするＦＰＤ用ガラス基板の製造方法であって、加工速度が殆ど変化しない温度領域の中間温度に管理した状態で、前記ガラス基板を化学加工液中に略垂直配置し、前記化学加工液中に、前記ガラス基板の下方から連続して発生させた気泡により上昇液流を生じさせて所定の加工速度で加工するＦＰＤ用ガラス基板の製造方法。」で一致し、次の点で一応相違する。
　
　一応の相違点：本願発明では、「前記化学加工液の品質を管理して、事前の検討によるガラス基板の平坦性を維持できるタイミングで前記化学加工液を新たな化学加工液に交換する」のに対し，先願発明では、そのことが特定されていない点
　
（４）当審の判断
　上記一応の相違点について検討すると、化学加工液の加工能力低下による不良発生を防止するために、化学加工液を定期的に交換することは当業者にとって自明であるところ、化学加工液の品質を管理しながら新しい化学加工液への交換を行うことは、例えば、特開平５−２７０８６３号公報（【０００７】〜【００１４】）等に記載されているように、ガラス素材を化学加工する分野において周知技術ある。
　そして、先願明細書の記載事項（カ）には、「容器２０にはＨＦ供給ライン７を介してフッ酸を含む薬液１７を投入可能である。・・・容器２０の底部には廃液ライン１３が接続されており、使用済みとなった薬液１７を排出することができる。」と記載されており、薬液が使用済みとなった場合には、新たな薬液１７への交換が予定されているといえるので、上記「化学加工液の品質を管理して、事前の検討によるガラス基板の平坦性を維持できるタイミングで前記化学加工液を新たな化学加工液に交換する」ことは単なる周知技術の付加であり、その付加により新たな効果が奏されるものでもない。
　
　よって、上記相違点は、課題解決のための具体化手段における微差にすぎず、本願補正発明と先願発明とは実質的に同一である。
　
（５）むすび
　したがって、本願発明は、先願明細書に記載された発明と同一であり、しかも、本願発明の発明者が上記先願明細書に記載された発明の発明者と同一であるとも、また、本願の出願時に、その出願人が上記他の出願の出願人と同一であるとも認められないので、本願発明は、特許法２９条の２の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。