【手続補正書】
【提出日】平成24年3月28日(2012.3.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の主表面を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
溶融ガラスをプレス成形することにより、主表面が磁気ディスク用ガラス基板における目標平坦度を有し、かつ、研削砥粒により研削されるべく表面形状を有する板状ガラス素材を成形する工程と、
前記板状ガラス素材を固定砥粒を用いて研削する工程と、
前記固定砥粒を用いて研削した前記主表面の表面凹凸を有する前記板状ガラス素材を、遊離砥粒を用いて研磨する工程と、を有し、
前記板状ガラス素材を成形する工程は、
溶融ガラスの塊を落下させる工程と、
前記塊の落下経路の両側から、互いに対向し、かつ、略同じ温度に設定された一対の型の面で前記塊を挟み込みプレス成形することにより、前記板状ガラス素材を成形する工程と、を有することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項２】
一対の主表面を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
溶融ガラスをプレス成形することにより、主表面が磁気ディスク用ガラス基板における目標平坦度を有し、かつ、前記主表面の粗さが０．０１μｍ以上１０μｍ以下である表面凹凸と、ヘイズ率が２０％以上の光学特性とを有する板状ガラス素材を成形する工程と、
前記表面凹凸および前記光学特性を有する前記板状ガラス素材を、固定砥粒を用いて研削する工程と、
前記固定砥粒を用いて研削した前記主表面の表面凹凸を有する前記板状ガラス素材を、遊離砥粒を用いて研磨する工程と、を有し、
前記板状ガラス素材を成形する工程は、
溶融ガラスの塊を落下させる工程と、
前記塊の落下経路の両側から、互いに対向し、かつ、略同じ温度に設定された一対の型の面で前記塊を挟み込みプレス成形することにより、前記板状ガラス素材を成形する工程と、を有することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項３】
前記板状ガラス素材は、前記磁気ディスク用ガラス基板の目標厚さに対して１０μｍ〜１５０μｍ厚く成形され、前記研削する工程及び前記研磨をする工程によって、前記板状ガラス素材を前記目標厚さに加工する、請求項１または２に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項４】
前記板状ガラス素材を成形する工程は、一対の型の面で塊を挟み込みプレス成形した直後に一対の型を開放することを特徴とする請求項１に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項５】
前記研削する工程は、シートにダイヤモンド粒子を設けたダイヤモンドシートを用いて研削する、請求項１〜４のいずれか１項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項６】
さらに、前記板状ガラス素材を成形する工程と前記研削する工程との間に、前記板状ガラス素材をスクライブする工程を有する、請求項１〜５のいずれか１項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項７】
前記板状ガラス素材の前記主表面の粗さは、０．０１μｍ以上１μｍ以下である、請求項６に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【請求項８】
前記目標平坦度は４μｍ以下である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】磁気ディスク用ガラス基板の製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の一態様は、一対の主表面を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
溶融ガラスをプレス成形することにより、主表面が磁気ディスク用ガラス基板における目標平坦度を有し、かつ、研削砥粒により研削されるべく表面形状を有する板状ガラス素材を成形する工程と、
前記板状ガラス素材を固定砥粒を用いて研削する工程と、
前記固定砥粒を用いて研削した前記主表面の表面凹凸を有する前記板状ガラス素材を、遊離砥粒を用いて研磨する工程と、を有し、
前記板状ガラス素材を成形する工程は、
溶融ガラスの塊を落下させる工程と、
前記塊の落下経路の両側から、互いに対向し、かつ、略同じ温度に設定された一対の型の面で前記塊を挟み込みプレス成形することにより、前記板状ガラス素材を成形する工程と、を有する。
前記プレス成形により、主表面が磁気ディスク用ガラス基板における目標平坦度を有し、かつ、主表面の粗さが０．０１μｍ以上１０μｍ以下である表面凹凸と、ヘイズ率が２０％以上の光学特性とを有する板状ガラス素材を作製することができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の一態様は、一対の主表面を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
溶融ガラスをプレス成形することにより、主表面が磁気ディスク用ガラス基板における目標平坦度を有し、かつ、前記主表面の粗さが０．０１μｍ以上１０μｍ以下である表面凹凸と、ヘイズ率が２０％以上の光学特性とを有する板状ガラス素材を成形する工程と、
前記表面凹凸および前記光学特性を有する前記板状ガラス素材を、固定砥粒を用いて研削する工程と、
前記固定砥粒を用いて研削した前記主表面の表面凹凸を有する前記板状ガラス素材を、遊離砥粒を用いて研磨する工程と、を有し、
前記板状ガラス素材を成形する工程は、
溶融ガラスの塊を落下させる工程と、
前記塊の落下経路の両側から、互いに対向し、かつ、略同じ温度に設定された一対の型の面で前記塊を挟み込みプレス成形することにより、前記板状ガラス素材を成形する工程と、を有する。
なお、前記「磁気ディスク用ガラス基板における目標平坦度を有する」とは、板状ガラス素材をプレス成形した時点で、主表面の平坦度は磁気ディスク用ガラス基板として有すべき主表面の表面精度を既に満たしていることを意味する。すなわち、板状ガラス素材を成形する工程では、磁気ディスク用ガラス基板における主表面の目標平坦度が設定されており、この目標平坦度に基づいてプレス成形することにより主表面が目標平坦度を有するガラス素材が実現されることをいう。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
磁気ディスク１に用いるガラス基板２の材料として、アルミノシリケートガラス、ソーダライムガラス、ボロシリケートガラスなどを用いることができる。特に、化学強化を施すことができ、また主表面の平坦度及び基板の強度において優れた磁気ディスク用ガラス基板を作製することができるという点で、アルミノシリケートガラスを好適に用いることができる。
アルミノシリケートガラスとして、モル％表示で、ＳｉＯ2を５７〜７４％、ＺｎＯ2を０〜２．８％、Ａｌ2Ｏ3を３〜１５％、Ｌｉ2Ｏを７〜１６％、Ｎａ2Ｏを４〜１４％、を主成分として含有する、化学強化用ガラス材を用いることが好ましい。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６６】
（実施例、従来例、比較例）
以下、図３に示す方法の有効性を確かめた。
ガラス材は、アルミノシリケートガラス（ＳｉＯ２を５７〜７４％、ＺｎＯ２を０〜２．８％、Ａｌ２Ｏ３を３〜１５％、Ｌｉ２Ｏを７〜１６％、Ｎａ２Ｏを４〜１４％）を用いた。
作製されたガラス基板について、インライン型スパッタリング装置を用いて、磁性層を形成した。具体的には、ガラス基板の両主表面に、ＣｒＴｉの付着層、ＣｏＴａＺｒ／Ｒｕ／ＣｏＴａＺｒの軟磁性層、ＣｏＣｒＳｉＯ2の非磁性グラニュラー下地層、ＣｏＣｒＰｔ−ＳｉＯ2・ＴｉＯ2のグラニュラー磁性層、水素化カーボン保護膜を順次成膜した。この後、成膜された最上層にディップ法によりパーフルオロポリエーテル潤滑層を成膜した。これにより、磁気ディスクを得た。