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【手続補正書】
【提出日】平成24年10月5日(2012.10.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内燃機関のための燃焼室圧力センサであって、
内燃機関（１００）の収容開口（１０１）に挿入可能なセンサボディ（１）を備えており、該センサボディ（１）は、燃焼室側において収容開口（１０１）内でセンサボディ（１）をシールするためのシール装置を備えており、収容開口（１０１）内で燃焼室圧力センサを固定するための固定手段（８，９）が設けられている、燃焼室圧力センサにおいて、
シール装置が、個別に製作された耐熱性で弾性的なシールエレメント（４）を備えており、該シールエレメント（４）は、センサボディ（１）の外側面（３）を包囲して配置されていることを特徴とする、内燃機関のための燃焼室圧力センサ。
【請求項２】
シールエレメント（４）は、センサボディ（１）の外側面（３）に固定されている、請求項１記載の燃焼室圧力センサ。
【請求項３】
シールエレメント（４）は、センサボディ（１）の外側面（３）に設けられたリング溝（５）に固定されている、請求項２記載の燃焼室圧力センサ。
【請求項４】
シールエレメント（４）は、センサボディ（１）の挿入状態で、収容開口（１０１）の内壁に対して予荷重を掛けている、請求項１から３までのいずれか１項記載の燃焼室圧力センサ。
【請求項５】
シールエレメント（４）は、リング状に形成されている、請求項１から４までのいずれか１項記載の燃焼室圧力センサ。
【請求項６】
シールエレメント（４）は、スリーブ状に形成されている、請求項１から４までのいずれか１項記載の燃焼室圧力センサ。
【請求項７】
シールエレメント（４）は、高い熱伝導性を有している、請求項１から６までのいずれか１項記載の燃焼室圧力センサ。
【請求項８】
シールエレメント（４）は、グラファイトから製作されている、請求項１から７までのいずれか１項記載の燃焼室圧力センサ。
【請求項９】
シールエレメント（４）は、テフロン（登録商標）（４）から製作されている、請求項１から７までのいずれか１項記載の燃焼室圧力センサ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
有利には、シールエレメントは、テフロン（登録商標）から製作されている。
【手続補正書】
【提出日】平成24年3月23日(2012.3.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
一部の輸送ユニットでは、温度制御システムが貨物空間の冷却及び加熱を行うことで所望の温度（つまり設定温度）を維持しなければならない。制御装置は、検知温度と前記設定温度との間の差に基づいて、加熱モードと冷却モードとの間で温度制御ユニットを切り換えることで、貨物空間の条件を制御する。典型的には温度制御システムは、相変化冷媒を利用する従来の冷蔵サイクルを操作して貨物空間を冷却することができる。冷媒は、コンプレッサによって圧縮され、貨物空間を冷却するためにその貨物空間と熱をやり取りする熱交換器内で液化及び気化される。加熱は一般的には、コンデンサを通り抜けて、かつ熱い状態で圧縮された冷媒を、貨物空間を加熱するためにその貨物空間と熱をやり取りする熱交換器へ直接送ることによって実現される。
［先行技術文献］
【特許文献１】米国特許第６１９２６９５号明細書
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月12日(2012.6.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１６】
前記通信手段は、
前記プログラムを実行する前記情報処理装置によって前記記憶手段にコマンドが書き込まれてから、前記記憶手段への前記部分画像データの書き込みが完了するまで、前記部分画像データの読み出し要求に応答しないことを特徴とする請求項１５に記載の画像読取装置。
【手続補正書】
【提出日】平成24年5月16日(2012.5.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１つのビット線対に接続された複数のＳＲＡＭ回路と、
ワード線制御回路と、
センスアンプ回路と、
書き込み制御回路と、を備えた半導体記憶装置であって、
前記ＳＲＡＭ回路の各々は、
データを記憶する複数の第１のＳＲＡＭセルと、
データの電位差を増幅し記憶する１つの第２のＳＲＡＭセルと、
前記複数の第１のＳＲＡＭセルと、前記第２のＳＲＡＭセルに設けられた互いの入力と出力とが接続されたインバータ対と、を接続するサブビット線対と、有し、
前記ワード線制御回路は、
前記複数のＳＲＡＭ回路にそれぞれ設けられた複数の前記第１のＳＲＡＭセルのうちデータの読み出し／書き込み対象である第１のＳＲＡＭセルを選択する第１の制御信号群と、前記複数のＳＲＡＭ回路にそれぞれ設けられた複数の前記第２のＳＲＡＭセルのうちデータの読み出し／書き込み対象である第２のＳＲＡＭセルを選択する第２の制御信号群と、を出力し、
前記第１の制御信号群を伝達する複数の第１制御信号線は、ある一つの前記ＳＲＡＭ回路に設けられた複数の前記第１のＳＲＡＭセルにそれぞれ接続されるとともに、他の前記ＳＲＡＭ回路に設けられた複数の前記第１のＳＲＡＭセルにそれぞれ接続され、
前記センスアンプ回路は、前記第２の制御信号群に基づいて選択された前記第２のＳＲＡＭセルから前記ビット線対に出力される読み出し信号の電位差を増幅し、
前記書き込み制御回路は、前記第２の制御信号群に基づいて選択された前記第２のＳＲＡＭセルに対して、前記ビット線対を介して書き込み信号を出力することを特徴とする半導体記憶装置。
【手続補正書】
【提出日】平成24年8月21日(2012.8.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＤＮＡの融解温度Ｔｍを測定するためのコンピュータに実行させる方法であって、下記：
各々が座標値を有する複数のデータポイントを含む、ＤＮＡ試料についての融解曲線を表すデータセットを受け入れ、
該融解曲線のデータポイントについての第１の微分値を数値的に決定し、
該第１の微分値に対して基準を決定し、
該第１の微分値から基準を差し引いて、修正された（ｍｏｄｉｆｉｅｄ）第１の微分値を生じさせ、
該修正された第１の微分値の第１の最大値を決定し、並びに
該ＤＮＡ試料の融解温度Ｔｍを表す該第１の最大値を出力する
ことを含む方法。
【請求項２】
さらに、下記：
レーベンバーグ・マルカート（Ｌｅｖｅｎｂｅｒｇ−Ｍａｒｑｕａｒｄｔ：ＬＭ）回帰プロセスをガウシアン混合モデル（Ｇａｕｓｓｉａｎ  Ｍｉｘｔｕｒｅ  Ｍｏｄｅｌ）関数に適用することによって、前記修正された第１の微分値を適合させ、該関数の１以上のパラメーターを決定する曲線に対する近似を計算し、ここで、該パラメーターは初期条件を含み、該第１の最大値は第１のパラメーターに対する初期条件として使用され、
前記決定された第１のパラメーターは前記ＤＮＡ試料の融解温度Ｔｍを表す第１のパラメーターを出力する
工程を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
ガウシアン混合モデルが、形式：
【数１】
2010113711.tif 000001
（式中、μ１は第１のパラメーターであり、ａ１及びσ１は付加パラメーターである）
の式を含む、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記第１の微分値が前記第１の最大値に近い肩値を含むかどうかを決定することをさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
さらに、下記：
前記修正された第１の微分値の第２、第３又は第４の最大値を決定し、ここで、該第２、第３又は第４の最大値は、第２、第３又は第４のパラメーターについての初期条件として使用され、並びに
前記決定された第２、第３又は第４のパラメーターが、前記ＤＮＡ試料の第２の融解温度Ｔｍ２、第３の融解温度Ｔｍ３又は第４の融解温度Ｔｍ４を表す前記第２、第３又は第４のパラメーターを出力する
工程を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記ガウシアン混合モデルが、形式：
【数２】
2010113711.tif 000002
（式中、μ１は第１のパラメーターであり、μ２は第２のパラメーターであり、ａ１、σ１、ａ２及びσ２は付加パラメーターである）
の式を含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記ガウシアン混合モデルが、形式：
【数３】
2010113711.tif 000003
（式中、μ１は第１のパラメーターであり、μ２は第２のパラメーターであり、μ３は第３のパラメーターであり、ａ１、σ１、ａ２、σ２、ａ３及びσ３は付加パラメーターである）
の式を含む、請求項５に記載の方法。
【請求項８】
前記ガウシアン混合モデルが、形式：
【数４】
2010113711.tif 000004
（式中、μ１は第１のパラメーターであり、μ２は第２のパラメーターであり、μ３は第３のパラメーターであり、μ４は第４のパラメーターであり、ａ１、σ１、ａ２、σ２、ａ３、σ３、ａ４及びσ４は付加パラメーターである）
の式を含む、請求項５に記載の方法。
【請求項９】
ＤＮＡの融解温度Ｔｍを決定する処理装置を制御するコードを含むコンピュータ読み取り可能な媒体であって、該コードは、下記：
各々が一対の座標値を有する複数のデータポイントを含む、ＤＮＡ試料についての融解曲線を表すデータセットを受け入れ、
該融解曲線のデータポイントについての第１の微分値を数値的に決定し、
該第１の微分値に対して基準を決定し、
該第１の微分値から基準を差し引いて、修正された（ｍｏｄｉｆｉｅｄ）第１の微分値を生じさせ、
該修正された第１の微分値の第１の最大値を決定し、並びに
該ＤＮＡ試料の融解温度Ｔｍを表す該第１の最大値を出力する
という指示を含む媒体。
【請求項１０】
動的ポリメラーゼ連鎖反応（ＰＣＲ）システムであって、下記：
各々が一対の座標値を有する複数のデータポイントを含む、ＤＮＡ融解曲線を表す融解曲線データセットを生じさせる動的ＰＣＲ分析モジュール；並びに
下記：
各々が一対の座標値を有する複数のデータポイントを含む、ＤＮＡ試料についての融解曲線を表すデータセットを受け入れ、
該融解曲線のデータポイントについての第１の微分値を数値的に決定し、
該第１の微分値に対して基準を決定し、
該第１の微分値から基準を差し引いて、修正された（ｍｏｄｉｆｉｅｄ）第１の微分値を生じさせ、
該修正された第１の微分値の第１の最大値を決定し、及び
該ＤＮＡ試料の融解温度Ｔｍを表す該第１の最大値を出力する
によって、Ｔｍ値を決定するために該融解曲線データセットを処理するように適用される情報（ｉｎｔｅｌｌｉｇｅｎｃｅ）モジュール
を含むシステム。
【請求項１１】
前記動的ＰＣＲ分析モジュールが動的サーモサイクラーデバイスにあり、前記情報モジュールが該分析モジュールに伝達可能に連結されたプロセッサーを含むか、又は前記情報モジュールがネットワーク接続若しくは直接的な接続の１つによって該分析モジュールに連結されたコンピュータシステムにあるプロセッサーを含む、請求項１０に記載のシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成24年8月29日(2012.8.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画素と、第１のトランジスタと、第２のトランジスタと、第１の配線と、第２の配線と、を有し、
前記第１のトランジスタは、第１のゲート電極と、前記第１のゲート電極の上方の第１の酸化物半導体と、前記第１の酸化物半導体の上方の第１の絶縁層と、前記第１の酸化物半導体及び前記第１の絶縁層の上方の第２の酸化物半導体と、前記第１の酸化物半導体及び前記第１の絶縁層の上方の第３の酸化物半導体と、前記第２の酸化物半導体の上方の第１の導電層と、前記第４の酸化物半導体の上方の第２の導電層と、を有し、
前記第１の酸化物半導体は、前記第１のゲート電極と重なる領域を有し、
前記第１の絶縁層は、前記第１のゲート電極と重なり、且つ前記第１の酸化物半導体と重なる領域を有し、
前記第３の酸化物半導体は、前記第１のゲート電極と重なり、前記第１の酸化物半導体と重なり、且つ前記第１の絶縁層と重なる領域を有し、
前記第３の酸化物半導体は、前記第１のゲート電極と重なり、前記第１の酸化物半導体と重なり、且つ前記第１の絶縁層と重ならない領域を有し、
前記第４の酸化物半導体は、前記第１のゲート電極と重なり、前記第１の酸化物半導体と重なり、且つ前記第１の絶縁層と重なる領域を有し、
前記第４の酸化物半導体は、前記第１のゲート電極と重なり、前記第１の酸化物半導体と重なり、且つ前記第１の絶縁層と重ならない領域を有し、
前記第１の導電層は、前記第２の酸化物半導体と重なる領域を有し、
前記第１の導電層は、前記第１の配線と接する領域を有し、
前記第２の導電層は、前記第３の酸化物半導体と重なる領域を有し、
前記第１のゲート電極は、前記第１の配線と電気的に接続され、
前記第２の導電層は、前記第２の配線と電気的に接続され、
前記第２のトランジスタは、第２のゲート電極と、前記第２のゲート電極の上方の第４の酸化物半導体と、前記第４の酸化物半導体の上方の第２の絶縁層と、前記第４の酸化物半導体及び前記第２の絶縁層の上方の第５の酸化物半導体と、前記第４の酸化物半導体及び前記第２の絶縁層の上方の第６の酸化物半導体と、前記第５の酸化物半導体の上方の第３の導電層と、前記第６の酸化物半導体の上方の第４の導電層と、を有し、
前記第４の酸化物半導体は、前記第２のゲート電極と重なる領域を有し、
前記第２の絶縁層は、前記第２のゲート電極と重なり、且つ前記第４の酸化物半導体と重なる領域を有し、
前記第５の酸化物半導体は、前記第２のゲート電極と重なり、前記第４の酸化物半導体と重なり、且つ前記第２の絶縁層と重なる領域を有し、
前記第５の酸化物半導体は、前記第２のゲート電極と重なり、前記第４の酸化物半導体と重なり、且つ前記第２の絶縁層と重ならない領域を有し、
前記第６の酸化物半導体は、前記第２のゲート電極と重なり、前記第４の酸化物半導体と重なり、且つ前記第２の絶縁層と重なる領域を有し、
前記第６の酸化物半導体は、前記第２のゲート電極と重なり、前記第４の酸化物半導体と重なり、且つ前記第２の絶縁層と重ならない領域を有し、
前記第３の導電層は、前記第５の酸化物半導体と重なる領域を有し、
前記第３の導電層は、前記第１の配線と接する領域を有し、
前記第４の導電層は、前記第６の酸化物半導体と重なる領域を有し、
前記第２のゲート電極は、前記第２の配線と電気的に接続され、
前記第４の導電層は、前記第２の配線と電気的に接続され、
前記画素は、前記第１の配線又は前記第２の配線と電気的に接続されることを特徴とする表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成24年3月22日(2012.3.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
操作画像を表示する表示部と、トナーが収納されたトナー容器を収容するトナー容器収容部とを装置本体の上部に備えた画像形成装置であって、
前記表示部及び前記トナー容器収容部は、前記装置本体の上部の幅及び奥行きの範囲内に収まるように配置され、かつ前記表示部の高さ内に前記トナー容器収容部が収まるように配置されていることを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
請求項１記載の画像形成装置において、複数色のトナー画像を形成する複数の画像形成手段と、前記画像形成手段により形成された複数色のトナー画像を記録媒体に転写する転写手段と、前記転写手段により転写された複数色のトナー画像を記録媒体に定着させる定着手段とを装置本体内に備えたことを特徴とする画像形成装置。
【請求項３】
請求項１又は２記載の画像形成装置において、トナー容器収容部には回動して開放可能な収容部カバーを有し、前記収容部カバーを回動した状態で表示部の高さ内に前記トナー容器収容部が収まるように配置されていることを特徴とする画像形成装置。
【請求項４】
請求項１又は２記載の画像形成装置において、トナー容器収容部には回動して開放可能な収容部カバーを有し、前記収容部カバーを回動した状態で前記トナー容器収容部は、装置平面から見て装置本体の上部の幅及び奥行きの範囲内に収まるように配置されていることを特徴とする画像形成装置。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれかに記載の画像形成装置において、トナー容器収容部は、複数のトナー容器を略水平に並べて収容していることを特徴とする画像形成装置。
【請求項６】
請求項２ないし５のいずれかに記載の画像形成装置において、装置本体内に画像形成手段により形成された複数色のトナー画像を転写されて保持する転写体を備え、複数の画像形成手段が略水平に並置され、これら画像形成手段の下方に前記転写体が配置され、さらに前記転写体の近傍に定着手段が配置されていることを特徴とする画像形成装置。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれかに記載の画像形成装置において、表示部とトナー容器収容部は、そのいずれか一方が装置本体の上部の一側、他方が同上部の他側となるように配置されていることを特徴とする画像形成装置。
【請求項８】
請求項５ないし７のいずれかに記載の画像形成装置において、トナー容器収容部は、収容するトナー容器の色順を画像形成手段により形成するトナーの色順と一致させていること特徴とする画像形成装置。
【請求項９】
請求項１ないし８のいずれかに記載の画像形成装置において、表示部は、略水平の方向に回動可能に支持され、かつその全ての回動範囲において、装置平面から見て装置本体の上部の幅及び奥行きの範囲内に収まるようにしていることを特徴とする画像形成装置。
【請求項１０】
請求項１ないし９のいずれかに記載の画像形成装置において、表示部は、略垂直の方向に回動可能に支持され、かつその全ての回動範囲において、装置平面から見て装置本体の上部の幅及び奥行きの範囲内に収まるようにしていることを特徴とする画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
請求項２に記載の発明は、請求項１記載の画像形成装置において、複数色のトナー画像を形成する複数の画像形成手段と、前記画像形成手段により形成された複数色のトナー画像を記録媒体に転写する転写手段と、前記転写手段により転写された複数色のトナー画像を記録媒体に定着させる定着手段とを装置本体内に備えたことを特徴とする。請求項３に記載の発明は、請求項１又は２記載の画像形成装置において、トナー容器収容部には回動して開放可能な収容部カバーを有し、前記収容部カバーを回動した状態で表示部の高さ内に前記トナー容器収容部が収まるように配置されていることを特徴とする。
請求項４に記載の発明は、請求項１又は２記載の画像形成装置において、トナー容器収容部には回動して開放可能な収容部カバーを有し、前記収容部カバーを回動した状態で前記トナー容器収容部は、装置平面から見て装置本体の上部の幅及び奥行きの範囲内に収まるように配置されていることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
請求項５に記載の発明は、請求項１ないし４のいずれかに記載の画像形成装置において、トナー容器収容部は、複数のトナー容器を略水平に並べて収容していることを特徴とする。請求項６に記載の発明は、請求項２ないし５のいずれかに記載の画像形成装置において、装置本体内に画像形成手段により形成された複数色のトナー画像を転写されて保持する転写体を備え、複数の画像形成手段が略水平に並置され、これら画像形成手段の下方に前記転写体が配置され、さらに前記転写体の近傍に定着手段が配置されていることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
上記のような表示部９０の略水平の方向及び略垂直の方向の全ての回動範囲を含み、表示部９０は、図２に示すように装置平面から見て装置本体の上部の幅及び奥行きの範囲内に収まるように配置されている。そのため、例えば上記範囲内に収まらずに画像形成装置の移動時に筐体５０の外にはみ出したトナー容器収容部７０が部屋の入口等に衝突してショックでトナーを周囲にばら撒いてしまうというようなことを防止することができる。なお、表示部９０の回動範囲については、必ずしも前記のような略水平の方向及び略垂直の方向に限るものではなく、全方位的に回動可能としてもよい。また、支持アーム９５をフレキシブルなものとし、該アームごと表示部９０を旋回可能な構成としてもよい。
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図６】
2009063979.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月27日(2012.6.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
鋼管によって形成され、高さ方向の少なくとも一部の範囲において、圧延方向に板厚を変化させた部分を有する鋼板を円環状に形成してなる円形鋼管を用いて形成され、鋼管柱構造物の軸方向に直交する断面における鋼管の板厚が周方向で変化することを特徴とする鋼管柱構造物。
【請求項２】
鋼管によって形成され、高さ方向の少なくとも一部の範囲において、鋼管柱構造物の軸方向に直交する断面における鋼管の板厚が周方向で変化し、前記板厚が変化する領域が周方向の同じ領域で上下に亘って設けられると共に、下部の板厚の変化率が上部の板厚の変化率よりも大きく設定されていることを特徴とする鋼管柱構造物。
【請求項３】
鋼管によって形成され、高さ方向の少なくとも一部の範囲において、鋼管柱構造物の軸方向に直交する断面における鋼管の板厚が周方向で変化し、前記鋼管柱構造物の周面の一部に開口部を有し、該開口部が板厚の厚い部位に形成されていることを特徴とする鋼管柱構造物。
【請求項４】
周方向で板厚が変化する高さ方向の一部の範囲は、圧延方向に板厚を変化させた部分を有する鋼板を円環状に形成してなる円形鋼管を、高さ方向に積み重ねて接合してなることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の鋼管柱構造物。
【請求項５】
前記板厚が変化する境界部をテーパ面によって連続するようにしたことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の鋼管柱構造物。
【請求項６】
板厚が厚い領域と薄い領域とが鋼管周方向で交互に形成され、厚い部位と薄い部位がそれぞれ複数箇所形成されていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載の鋼管柱構造物。
【請求項７】
板厚が厚い領域同士及び板厚が薄い領域同士がそれぞれ線対称の位置に形成されていることを特徴とする請求項６記載の鋼管柱構造物。
【請求項８】
板厚が変化する領域が、高さ方向の一部の領域のみに形成されていることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか一項に記載の鋼管柱構造物。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれかに記載の鋼管柱構造物の製造方法であって、圧延方向で板厚を変えた部分を含む鋼板を１枚、あるいは複数枚接合したものを環状に形成して鋼管を製作する鋼管製作工程と、製作された鋼管を積み重ねて接合する鋼管接合工程を備えたことを特徴とする鋼管柱構造物の製造方法。
【請求項１０】
鋼管によって形成され、高さ方向の少なくとも一部の範囲において、鋼管柱構造物の軸方向に直交する断面における鋼管の板厚が周方向で変化する鋼管柱構造物の製造方法であって、圧延方向に板厚を変化させた部分を含む鋼板を１枚、あるいは複数枚接合したものを環状に形成して鋼管を製作する鋼管製作工程と、製作された鋼管を積み重ねて接合する鋼管接合工程を備えたことを特徴とする鋼管柱構造物の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
（１）本発明に係る鋼管柱構造物は、鋼管によって形成され、高さ方向の少なくとも一部の範囲において、圧延方向に板厚を変化させた部分を有する鋼板を円環状に形成してなる円形鋼管を用いて形成され、鋼管柱構造物の軸方向に直交する断面における鋼管の板厚が周方向で変化することを特徴とするものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
（２）また、鋼管によって形成され、高さ方向の少なくとも一部の範囲において、鋼管柱構造物の軸方向に直交する断面における鋼管の板厚が周方向で変化し、前記板厚が変化する領域が周方向の同じ領域で上下に亘って設けられると共に、下部の板厚の変化率が上部の板厚の変化率よりも大きく設定されていることを特徴とするものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
（３）また、鋼管によって形成され、高さ方向の少なくとも一部の範囲において、鋼管柱構造物の軸方向に直交する断面における鋼管の板厚が周方向で変化し、前記鋼管柱構造物の周面の一部に開口部を有し、該開口部が板厚の厚い部位に形成されていることを特徴とするものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
（４）また、上記（１）乃至（３）のいずれかに記載のものにおいて、周方向で板厚が変化する高さ方向の一部の範囲は、圧延方向に板厚を変化させた部分を有する鋼板を円環状に形成してなる円形鋼管を、高さ方向に積み重ねて接合してなることを特徴とするものである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
（５）また、上記（１）乃至（４）のいずれかに記載のものにおいて、前記板厚が変化する境界部をテーパ面によって連続するようにしたことを特徴とするものである。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
（６）また、上記（１）乃至（５）のいずれかに記載のものにおいて、板厚が厚い領域と薄い領域とが鋼管周方向で交互に形成され、厚い部位と薄い部位がそれぞれ複数箇所形成されていることを特徴とするものである。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
（７）また、上記（６）に記載のものにおいて、板厚が厚い領域同士及び板厚が薄い領域同士がそれぞれ線対称の位置に形成されていることを特徴とするものである。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
（８）また、上記（１）乃至（７）のいずれかに記載のものにおいて、板厚が変化する領域が、高さ方向の一部の領域のみに形成されていることを特徴とするものである。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
（９）本発明の鋼管柱構造物の製造方法は、上記（１）乃至（８）のいずれかに記載の鋼管柱構造物の製造方法であって、圧延方向で板厚を変えた部分を含む鋼板を１枚、あるいは複数枚接合したものを環状に形成して鋼管を製作する鋼管製作工程と、製作された鋼管を積み重ねて接合する鋼管接合工程を備えたことを特徴とするものである。
（１０）また、鋼管によって形成され、高さ方向の少なくとも一部の範囲において、鋼管柱構造物の軸方向に直交する断面における鋼管の板厚が周方向で変化する鋼管柱構造物の製造方法であって、圧延方向に板厚を変化させた部分を含む鋼板を１枚、あるいは複数枚接合したものを環状に形成して鋼管を製作する鋼管製作工程と、製作された鋼管を積み重ねて接合する鋼管接合工程を備えたことを特徴とするものである。
本明細書において、ＬＰ鋼板とは、鋼板の圧延方向に直線的に板厚を変化させた部分を含む厚鋼板であり、Longitudinally Profiled Steel Plateとも称する。
【手続補正書】
【提出日】平成24年3月27日(2012.3.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
耐候性の観点から、インクジェットインクに顔料インクを採用するインクジェット印刷機が増加する傾向である。顔料インクの問題点としては、印刷部分の印刷ムラが挙げられる。印刷ムラとは、印刷速度が速い時に印刷用塗工紙のインク吸収性にバラツキが発生し、インクが乾燥した後の最終的な印刷画像において定着したインクの濃度が不均一となる現象である。インクジェット印刷に用いるインクは色材の濃度が低く、オフセット印刷に比べて印刷ムラが顕著となり易い。印刷ムラによって印刷物の商品価値は低下し、故に、印刷ムラを抑制することが求められる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
また本発明において、１ｍ２の印刷用塗工紙に含まれる炭酸カルシウムのカルシウム量Ａと炭酸カルシウム以外のカルシウム化合物のカルシウム量Ｂのカルシウムイオン換算ｍｍｏｌ比（Ａ／Ｂ）が１以上５０以下の範囲であることが好ましい。より好ましくは１以上３０以下である。この範囲にすることによって、インク定着性、印刷部分の印刷ムラの抑制あるいはインク吸収性の向上効果をより得ることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成24年3月27日(2012.3.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
また好ましくは、塗工層の塗工量が片面あたり乾燥固形分で８．０ｇ／ｍ２以上２５．０ｇ／ｍ２以下である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３４】
本発明の塗工層には、前記重質炭酸カルシウム以外の顔料として、従来公知の顔料を用いることができる。このような顔料としては、例えば、カオリン、軽質炭酸カルシウム、クレー、タルク、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、二酸化チタン、酸化亜鉛、硫化亜鉛、炭酸亜鉛、サチンホワイト、珪酸アルミニウム、ケイソウ土、珪酸カルシウム、珪酸マグネシウム、合成非晶質シリカ、コロイダルシリカ、水酸化アルミニウム、アルミナ、リトポン、ゼオライト、炭酸マグネシウム、水酸化マグネシウムなどの無機顔料、スチレン系プラスチックピグメント、アクリル系プラスチックピグメント、スチレン−アクリル系プラスチックピグメント、ポリエチレン、マイクロカプセル、尿素樹脂、メラミン樹脂などの有機顔料などが挙げられる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
但し、平滑化のため過度のカレンダー処理を行うと、印刷用塗工紙の空隙を潰すこととなり、結果として、インクジェット印刷でのインク吸収性を悪化させるため、適度のカレンダー処理が好ましい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７０】
＜印刷用塗工紙の評価＞
実施例１〜１４および比較例１〜９の印刷用塗工紙に対して光沢度、オフセット印刷適性、インク吸収性、インク定着性および印刷ムラについて下記の方法により評価した。その結果を表２に示す。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７９】
表２より、実施例１〜１４で示される原紙の少なくとも一方の面に顔料とバインダーを主成分とする塗工層を設けた印刷用塗工紙において、原紙が炭酸カルシウムおよび炭酸カルシウム以外のカルシウム化合物を含有し、且つカルシウム化合物が原紙１ｍ２あたりカルシウムイオン換算で３ｍｍｏｌ以上６０ｍｍｏｌ以下の範囲で含有し、塗工層中の顔料として重質炭酸カルシウムを塗工層中の総顔料１００質量部に対して５０質量部以上含有する印刷用塗工紙は、オフセット印刷適性、インク吸収性、インク定着性に優れ、さらに印刷部分の印刷ムラが抑制されることがわかる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８０】
一方、表２より、本発明の条件を満足しない比較例１〜９では本発明の効果は得られない。
【手続補正書】
【提出日】平成24年7月24日(2012.7.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上にＣｏＮｉＰを形成する方法であって、
基板を電気めっき槽に入れるステップを備え、前記電気めっき槽には電気めっき組成物が入っており、前記電気めっき組成物は、
ニッケル源と、
コバルト源と、
少なくとも０．１Ｍのリン源とを含み、前記方法はさらに、
前記基板に堆積電流を印加するステップを備え、
前記基板に前記堆積電流を印加することによって、少なくとも５００ナノメートルの厚みを有するＣｏＮｉＰ層が前記基板上に電着される、方法。
【請求項２】
前記リン源は、リン含有酸から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記リン源は、次亜リン酸ナトリウム（ＮａＨ2ＰＯ2）、次亜リン酸カリウム（ＫＨ2ＰＯ2）、次亜リン酸カルシウム（Ｃａ（Ｈ2ＰＯ2）2）、次亜リン酸マグネシウム（Ｍｇ（Ｈ2ＰＯ2）2）、またはそれらの組合せから選択される、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記リン源は、少なくとも０．２５Ｍの濃度を有する、請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記ニッケル源は、ＮｉＣｌ2、ＮｉＢｒ2、ＮｉＳＯ4、Ｎｉ（ＳＯ3ＮＨ2）・４Ｈ2Ｏ、Ｎｉ（ＢＦ4）2、およびそれらの組合せから選択される、請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記コバルト源は、ＣｏＣｌ2、ＣｏＢｒ2、ＣｏＳＯ4、およびそれらの組合せから選択される、請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
前記電気めっき槽は、少なくとも０．５ＭのＮａＣｌをさらに含む、請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
前記電気めっき槽は、少なくとも１ｍＭのサッカリンをさらに含む、請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
前記電気めっき槽は、２０ｍＭ未満のサッカリン濃度を有する、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記電気めっき槽は、３ｐＨを有する、請求項１〜９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
前記堆積電流は、少なくとも８ｍＡ／ｃｍ2である、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
前記堆積電流は、１０ｍＡ／ｃｍ2である、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
前記ＣｏＮｉＰ膜は、少なくとも１マイクロメートルの厚みを有する、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
前記ＣｏＮｉＰ膜は、５マイクロメートルの厚みを有する、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】
基板と、
前記基板上の電着ＣｏＮｉＰ層とを備える物品であって、前記ＣｏＮｉＰは２５μｍ〜６５μｍの厚みを有し、前記ＣｏＮｉＰは少なくとも０．２テスラの残留磁束を有する、物品。
【請求項１６】
前記ＣｏＮｉＰは、少なくとも３５μｍの厚みと、少なくとも０．２５テスラの残留磁束とを有する、請求項１５に記載の物品。
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月26日(2012.6.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
質量％で、Ｃが０．０２０％以下、Ｎが０．０１５％以下、Ｓｉが０．０８〜０．９６％、Ｍｎが０．１１〜０．９５％、Ｃｒが１１．２〜２２．３％であり、Ｔｉ，Ｎｂの１種または２種を、各々０．１〜０．５％含有し、残部Ｆｅ及び不可避不純物からなるフェライト単相のフェライト系ステンレス鋼を、溶接部のビード厚さＴWと母材部の肉厚ＴMとの比ＲＴ（＝ＴW／ＴM）が１．０５〜１．３である溶接管とし、成形、溶接後に周長で０．５〜２．０％の矯正を施すことを特徴とする拡管加工性に優れるフェライト系ステンレス鋼溶接管の製造方法。
【請求項２】
前記フェライト系ステンレス鋼はさらに質量％で、Ｍｏを０．４７〜１．８９％含有することを特徴とする請求項１に記載の拡管加工性に優れるフェライト系ステンレス鋼溶接管の製造方法。
【請求項３】
成形、溶接、矯正後に７００〜８５０℃で焼鈍することを特徴とする請求項１または２記載の拡管加工性に優れるフェライト系ステンレス鋼溶接管の製造方法。
【請求項４】
前記フェライト系ステンレス鋼溶接管は、溶接部のビッカース硬さＨＶWと母材部のビッカース硬さＨＶMとの硬度差ΔＨＶ（＝ＨＶW−ＨＶM）が１０〜４０の範囲であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の拡管加工性に優れるフェライト系ステンレス鋼溶接管の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
その要旨とするところは以下の通りである。
（１）質量％で、Ｃが０．０２０％以下、Ｎが０．０１５％以下、Ｓｉが０．０８〜０．９６％、Ｍｎが０．１１〜０．９５％、Ｃｒが１１．２〜２２．３％であり、Ｔｉ，Ｎｂの１種または２種を、各々０．１〜０．５％含有し、残部Ｆｅ及び不可避不純物からなるフェライト単相のフェライト系ステンレス鋼を、溶接部のビード厚さＴWと母材部の肉厚ＴMとの比ＲＴ（＝ＴW／ＴM）が１．０５〜１．３である溶接管とし、成形、溶接後に周長で０．５〜２．０％の矯正を施すことを特徴とする拡管加工性に優れるフェライト系ステンレス鋼溶接管の製造方法。
（２）前記フェライト系ステンレス鋼はさらに質量％で、Ｍｏを０．４７〜１．８９％含有することを特徴とする（１）に記載の拡管加工性に優れるフェライト系ステンレス鋼溶接管の製造方法。
（３）成形、溶接、矯正後に７００〜８５０℃で焼鈍することを特徴とする（１）または（２）記載の拡管加工性に優れるフェライト系ステンレス鋼溶接管の製造方法。
（４）前記フェライト系ステンレス鋼溶接管は、溶接部のビッカース硬さＨＶWと母材部のビッカース硬さＨＶMとの硬度差ΔＨＶ（＝ＨＶW−ＨＶM）が１０〜４０の範囲であることを特徴とする（１）乃至（３）のいずれかに記載の拡管加工性に優れるフェライト系ステンレス鋼溶接管の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年5月30日(2012.5.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
精密に制御された元素組成を有する蛍光体を提供する方法であって：
（Ａ）本体と閉鎖部材を含む焼結ホルダを提供し、ここで、本体は焼結スペースを有し、そして閉鎖部材は焼結スペースを閉鎖するために使用され；
（Ｂ）蛍光体の原料を本体の焼結スペース内に置き；
（Ｃ）接着剤を本体と閉鎖部材の少なくとも１つにコートし；及び
（Ｄ）原料を含む焼結ホルダを、非酸化性ガス雰囲気下で加熱して蛍光体を得る；
工程を含む方法。
【請求項２】
工程（Ｄ）において、接着剤がコンパクトな構造を形成するために硬化される請求項１に記載の精密に制御された元素組成を有する蛍光体を提供する方法。
【請求項３】
工程（Ｄ）において、接着剤が、焼結スペースを気密にするために本体及び閉鎖部材をシールするように使われる請求項１に記載の精密に制御された元素組成を有する蛍光体を提供する方法。
【請求項４】
接着剤が、窒化ホウ素、並びにアルカリ土類金属窒化物及び酸化ホウ素から成るグループから選択される少なくとも１つを含む請求項１に記載の精密に制御された元素組成を有する蛍光体を提供する方法。
【請求項５】
窒化ホウ素の含量が、接着剤１モル毎に、０．５モル又はそれ以上の窒化ホウ素を含有する請求項４に記載の精密に制御された元素組成を有する蛍光体を提供する方法。
【請求項６】
工程（Ｄ）において、加熱が０．５ＭPａ又はそれ以下の圧力下で実施される請求項１に記載の精密に制御された元素組成を有する蛍光体を提供する方法。
【請求項７】
工程（Ｄ）において、加熱温度が１２００℃〜２２００℃の範囲である請求項１に記載の精密に制御された元素組成を有する蛍光体を提供する方法。
【請求項８】
工程（Ｄ）において、昇温速度が３℃／分〜１５℃／分の範囲内である請求項１に記載の精密に制御された元素組成を有する蛍光体を提供する方法。
【請求項９】
工程（Ｄ）において、加熱の期間が１時間〜１２時間の範囲内である請求項１に記載の精密に制御された元素組成を有する蛍光体を提供する方法。
【請求項１０】
原料がアルミニウム源、ケイ素源、ユウロピウム源、並びにカルシウム源及びストロンチウム源の内少なくとも１つを含む請求項１に記載の精密に制御された元素組成を有する蛍光体を提供する方法。
【請求項１１】
アルミニウム源、ケイ素源、ユウロピウム源、カルシウム源、及びストロンチウム源が、それぞれ、アルミニウムの窒化物、ケイ素の窒化物、ユウロピウムの酸化物、カルシウムの窒化物、及びストロンチウムの窒化物である請求項１０に記載の精密に制御された元素組成を有する蛍光体を提供する方法。
【請求項１２】
カルシウム源、ストロンチウム源、アルミニウム源、ケイ素源、及びユウロピウム源中のカルシウム、ストロンチウム、アルミニウム、ケイ素、及びユウロピウム間のモル比が、［カルシウム：ストロンチウム：アルミニウム：ケイ素：ユウロピウム］＝［（０．０１〜０．９９９）：（０〜０．９９）：（０．９５〜１）：  １  ：  （０．００２〜０．０２）］である請求項１０に記載の精密に制御された元素組成を有する蛍光体を提供する方法。
【請求項１３】
請求項１〜１２に記載の方法のいずれか１項により作られた蛍光体。
【請求項１４】
［式１］で表され；
［式１］：ＣａａＳｒｂＡｌｃＳｉｄＯｅＮｆ：Ｅｕｇ；
ここで、０≦ａ＜１、０≦ｂ＜１、ｃ＝１、０．８≦ｄ≦１．２、０≦ｅ≦０．５、２．５≦ｆ≦３．１、０．００２≦ｇ≦０．０２０、ａ及びｂは、同時に共に０ではない；及び
４５５ｎｍの波長光で励起される蛍光体から放出される光のＣＩＥ１９３１色度座標（ｘ、ｙ）が、以下の式：
ｘ＝［（−０．１０５９ｂ３＋０．０６８ｂ２−０．０６ｂ）＋（２１５２．８ｇ３−３０９．２ｇ２＋８．２９４３ｇ）＋０．６３２４］±０．００２；
ｙ＝［（０．１２９５ｂ３−０．０９６８ｂ２＋０．０７０２ｂ）＋（−３２９９．２ｇ３＋３１１．０８ｇ２−７．９２６６ｇ）＋０．３６２１］±０．００２；
を満足する；
蛍光体。
【請求項１５】
１ユニットの硫酸バリウムに波長４５５ｎｍの光を放射することにより反射される光を基準にして、蛍光体の対応する輝度が５５ユニットから２３５ユニットの範囲内である請求項１４に記載の蛍光体。
【請求項１６】
蛍光体から放出される光のＣＩＥ１９３１色度座標（ｘ、ｙ）が、０．６７０≦ｘ≦０．６８３、０．３１５≦ｙ≦０．３２６を満足する請求項１４に記載の蛍光体。
【請求項１７】
０．１≦ｂ≦０．９５である請求項１４に記載の蛍光体。
【請求項１８】
０．００５≦ｇ≦０．０１６である請求項１４に記載の蛍光体。
【請求項１９】
発光素子を含む発光ユニット、及び請求項１４に記載の蛍光体を含む発光デバイス。
【請求項２０】
発光素子から放出される光の波長が、３００ｎｍ〜５００ｎｍの範囲である請求項１９に記載の発光デバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成24年7月13日(2012.7.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ボツリヌス毒素を有効成分として含有する目突き障害を処置するための医薬組成物であって、ボツリヌス毒素1単位〜2,500単位の量で、眼周囲の筋肉または手もしくは前腕の筋肉に局所投与される組成物。
【請求項２】
ボツリヌス毒素を有効成分として含有する体揺らし障害を処置するための医薬組成物であって、ボツリヌス毒素1単位〜2,500単位の量で、臀部の筋肉または腕の筋肉に局所投与される組成物。
【請求項３】
ボツリヌス毒素を有効成分として含有する指咬み障害を処置するための医薬組成物であって、ボツリヌス毒素1単位〜2,500単位の量で、手の筋肉または腕の筋肉に局所投与される組成物。
【請求項４】
ボツリヌス毒素を有効成分として含有する計数障害を処置するための医薬組成物であって、ボツリヌス毒素1単位〜2,500単位の量で、頭部の筋肉または顔面の筋肉に局所投与される組成物。
【請求項５】
ボツリヌス毒素を有効成分として含有する確認障害を処置するための医薬組成物であって、ボツリヌス毒素1単位〜2,500単位の量で、頭部の筋肉または顔面の筋肉に局所投与される組成物。
【請求項６】
ボツリヌス毒素を有効成分として含有する皮膚摘み取り障害を処置するための医薬組成物であって、ボツリヌス毒素1単位〜2,500単位の量で、皮膚摘み取りが行なわれる皮膚部位またはその近傍の皮下に局所投与される組成物。
【請求項７】
ボツリヌス毒素を有効成分として含有する皮膚摘み取り障害を処置するための医薬組成物であって、ボツリヌス毒素1単位〜2,500単位の量で、顔面の筋肉に局所投与される組成物。
【請求項８】
ボツリヌス毒素を有効成分として含有する頭部打ち付け障害を処置するための医薬組成物であって、ボツリヌス毒素1単位〜2,500単位の量で、頭部の筋肉または顔面の筋肉に局所投与される組成物。
【請求項９】
ボツリヌス毒素を有効成分として含有する手洗い障害を処置するための医薬組成物であって、ボツリヌス毒素1単位〜2,500単位の量で、前腕の筋肉または手もしくは指の筋肉に局所投与される組成物。
【請求項１０】
ボツリヌス毒素を有効成分として含有する抜毛癖を処置するための医薬組成物であって、ボツリヌス毒素1単位〜2,500単位の量で、頭部の筋肉または顔面の筋肉に局所投与される組成物。
【請求項１１】
ボツリヌス毒素がA、B、C、D、E、F およびG型ボツリヌス毒素からなる群より選択される、請求項1〜10のいずれかに記載の組成物。
【請求項１２】
ボツリヌス毒素がA型ボツリヌス毒素である、請求項11に記載の組成物。
【請求項１３】
障害の軽減が1ヶ月〜5年間持続する、請求項1〜12のいずれかに記載の組成物。
【請求項１４】
局所投与が筋肉内注射によって行なわれる、請求項1〜13のいずれかに記載の組成物。
【請求項１５】
局所投与部位が、障害の発生につながる前駆的感覚の存在がそこから生じると患者が感じる皮膚部位または筋部位である、請求項1〜14のいずれかに記載の組成物。
【請求項１６】
用量および／または投与は、筋肉内または皮膚内もしくは皮膚下の感覚ニューロンからの望ましくない感覚出力を低減するように選択される、請求項1〜15のいずれかに記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成24年8月17日(2012.8.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＩＬ−１７Ａアンタゴニストを含む、慢性ブドウ膜炎を有する患者を治療するための組成物であって、該ＩＬ−１７Ａアンタゴニストは、ＩＬ−１７Ａに結合しその活性を阻害する、モノクローナル抗体またはモノクローナル抗体断片である、組成物。
【請求項２】
前記患者は、推定上の自己免疫病因の眼炎症を有すると診断されている、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記ＩＬ−１７Ａアンタゴニストは、ヒト化モノクローナル抗体または完全ヒトモノクローナル抗体である、請求項２に記載の組成物。
【請求項４】
前記ＩＬ−１７Ａアンタゴニストは、
ａ）ＩＬ−１７ＡおよびＩＬ−２３ｐ１９；または
ｂ）ＩＬ−１７ＡおよびＩＬ−２３Ｒ
に結合しその活性を阻害する二重特異性抗体または二重特異性抗体断片である、請求項１に記載の組成物。
【請求項５】
前記組成物が、ＩＬ−２３アンタゴニストと組み合わせて投与されることに適しており、該ＩＬ−２３アンタゴニストは、ＩＬ−２３ｐ１９に結合しその活性を阻害する、抗体または抗体断片である、請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
前記ＩＬ−２３アンタゴニストは、ヒト化モノクローナル抗体または完全ヒトモノクローナル抗体である、請求項５に記載の組成物。
【請求項７】
アンタゴニストを含む、慢性ブドウ膜炎に感受性であると診断される患者を予防的に治療するための組成物であって、該アンタゴニストは、
ａ）ＩＬ−１７Ａに結合しその活性を阻害する、モノクローナル抗体またはモノクローナル抗体断片である、ＩＬ−１７Ａアンタゴニスト；
ｂ）ＩＬ−２３ｐ１９に結合しその活性を阻害する、抗体または抗体断片である、ＩＬ−２３アンタゴニスト；および
ｃ）ＩＬ−１７ＡとＩＬ−２３ｐ１９に結合しその活性を阻害する、二重特異性抗体または二重特異性抗体断片である、ＩＬ−２３およびＩＬ−１７Ａの両方のアンタゴニスト；
からなる群より選択される、組成物。
【請求項８】
前記感受性診断は、眼炎症の以前の発症を有する前記患者に基づく、請求項７に記載の組成物。
【請求項９】
前記感受性診断は、全身性自己免疫疾患を有する前記患者に基づく、請求項８に記載の組成物。
【請求項１０】
ＩＬ−２３アンタゴニストを含む、自己免疫性眼炎症性疾患（ＡＯＩＤ）について患者を治療するための組成物であって、該ＩＬ−２３アンタゴニストは、ＩＬ−２３ｐ１９に結合しその活性を阻害する、モノクローナル抗体またはモノクローナル抗体断片である、組成物。
【請求項１１】
前記ＡＯＩＤは、慢性ブドウ膜炎である、請求項１０に記載の組成物。
【請求項１２】
前記ＩＬ−２３アンタゴニストは、ヒト化モノクローナル抗体または完全ヒトモノクローナル抗体である、請求項１０に記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成23年5月18日(2011.5.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
５０〜４００ｍｇ／ｌメタミトロンを含む即使用可能な摘果製剤を、８〜３０ｍｍの結果期に、植物器官に塗布することを特徴とする、仁果作物および核果作物からなる群から選択される果実作物の摘果方法。
【請求項２】
前記摘果製剤が、１００〜３７５ｍｇ／ｌメタミトロンを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記摘果製剤が、１５０〜３７５ｍｇ／ｌメタミトロンを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
０．０５〜０．４ｋｇ／ｈａメタミトロンを、８〜３０ｍｍの結果期に、植物器官に塗布することを特徴とする、仁果作物および核果作物からなる群から選択される果実作物の摘果方法。
【請求項５】
０．１〜０．３７５ｋｇ／ｈａメタミトロンを植物器官に塗布することを特徴とする、請求項４に記載の摘果方法。
【請求項６】
前記果実作物がリンゴ種の作物である、請求項１から５のいずれか一項に記載の摘果方法。
【請求項７】
前記結果期が、８〜１７ｍｍの結果期である、請求項１から６のいずれか一項に記載の摘果方法。
【請求項８】
前記結果期が、１０〜１２ｍｍの結果期である、請求項１から７のいずれか一項に記載の摘果方法。
【請求項９】
前記即使用可能な摘果製剤が、さらに葉肥料、植物保護剤、および植物補強剤からなる群から選択される添加剤を含む、請求項１から３のいずれか一項に記載の摘果方法。
【請求項１０】
添加剤として尿素を含む、請求項９に記載の摘果方法。
【請求項１１】
添加剤として０．１〜５０ｇ／ｌギ酸カルシウムを含む、請求項９に記載の摘果方法。
【請求項１２】
５０〜４００ｍｇ／ｌメタミトロンと、添加剤として尿素とを含む、即使用可能な摘果製剤。
【請求項１３】
５０〜４００ｍｇ／ｌメタミトロンと、添加剤として０．１〜５０ｇ／ｌギ酸カルシウムとを含む、即使用可能な摘果製剤。
【請求項１４】
１００〜３７５ｍｇ／ｌメタミトロンを含む請求項１２または１３に記載の即使用可能な摘果製剤。
【請求項１５】
仁果作物または核果作物の果樹園における、摘果のための請求項１２から１４のいずれか一項に記載の製剤の使用。
【請求項１６】
前記果樹園がリンゴ樹園である、請求項１５に記載の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成24年9月5日(2012.9.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸素、水素、一酸化窒素を含有し、残部が不活性ガスからなる、虚血再灌流障害を軽減するための吸入用気体状薬剤組成物。
【請求項２】
前記組成物中の酸素濃度が２１〜９８％、水素濃度が０.１〜４％、一酸化窒素濃度が４０〜８０ｐｐｍである、請求項１に記載の吸入用気体状薬剤組成物。
【請求項３】
不活性ガス、酸素、水素、および一酸化窒素の各ガスの供給源と、各ガス供給源に接続された圧力調整器および流量計と、各ガスを供給源から供給するための供給経路とを備え、すべてのガス供給経路が投与前に合流して不活性ガス、酸素、水素および一酸化窒素から本質的になる混合ガスを形成するように配置されていることを特徴とする、患者に直接あるいは人工呼吸器を経て請求項１または２に記載の薬剤組成物を吸入投与することにより虚血再灌流障害を軽減するための治療装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、例えば、急性心筋梗塞の再灌流治療に見られる再灌流に伴う心筋などの患部および細小血管の障害（虚血再灌流障害）を軽減するための治療剤および治療装置に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
心筋梗塞、脳梗塞、腸間管膜血栓症などの梗塞性疾患では、梗塞部を機械的に拡張するか、血栓を溶解することにより、血流が途絶えていた虚血状態の組織に対して血流を再開させる虚血再灌流治療が行われることがある。また、臓器移植後の移植臓器においても、同様に血流が途絶えていた組織に血流が再開される。この血流の再開時に、虚血状態の組織に対して急に酸素が付加されるため、活性酸素やフリーラジカルの産生、好中球の浸潤、血小板活性化をはじめとするさまざまな生理反応が起こり、それが原因となって臓器障害、例えば、心筋障害（例、心筋梗塞）を憎悪させることが知られており、虚血再灌流障害又は単に再灌流障害と呼ばれている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
本発明によれば、例えば、心筋梗塞患者において、ステント留置、血管内膜除去術、血栓溶解療法などにより、血流が途絶えていた虚血心筋組織に対して血流を再開させる虚血再灌流治療が行われる場合にみられる虚血再灌流障害が軽減される。このような梗塞部位の再灌流は、脳梗塞や腸間膜血栓症でも行われ、同様に再灌流障害が起こりうる。また、臓器移植後の移植臓器においても血流が途絶えていた組織に血流が再開される時にも再灌流障害が発生しうる。本発明は、このようないずれの臓器における虚血再灌流障害をも軽減することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成24年3月9日(2012.3.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記オーステナイト単相域または（オーステナイト＋フェライト）２相域に加熱後、前記焼戻し工程またはその後の工程において、溶融亜鉛めっき処理または合金化溶融亜鉛めっき処理を施すことを特徴とする請求項１に記載の高強度鋼板の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
２．前記オーステナイト単相域または（オーステナイト＋フェライト）２相域に加熱後、前記焼戻し工程またはその後の工程において、溶融亜鉛めっき処理または合金化溶融亜鉛めっき処理を施すことを特徴とする前記１に記載の高強度鋼板の製造方法。