【手続補正書】
【提出日】平成24年7月20日(2012.7.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】基板搬送装置、露光装置、基板搬送方法、及び処理方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
投影光学系と液体とを介したパターンの像によって露光された基板を搬送する基板搬送装置において、 
露光後の前記基板に付着した前記液体を検出する液体検出器を備えたことを特徴とする基板搬送装置。 
【請求項２】
前記液体検出器の検出結果に基づいて、前記露光後の基板に付着した液体を除去するか否かを判定する判定装置を有することを特徴とする請求項１記載の基板搬送装置。 
【請求項３】
前記露光後の基板に付着した液体を除去する除去装置を有することを特徴とする請求項１または２記載の基板搬送装置。 
【請求項４】
前記除去装置は、前記液体検出器の検出結果に基づいて、前記基板に付着した液体を除去する除去条件を設定することを特徴とする請求項３記載の基板搬送装置。 
【請求項５】
前記除去条件は、前記液体を除去するために必要な時間を含むことを特徴とする請求項４記載の基板搬送装置。 
【請求項６】
前記液体検出器は、前記基板の露光前における基板表面に関する第１情報と、前記基板の露光後における基板表面に関する第２情報とを比較して、前記液体を検出することを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項記載の基板搬送装置。 
【請求項７】
前記第１情報は、前記基板の露光前における前記基板表面を撮像した撮像情報であり、前記第２情報は、前記基板の露光後における前記基板表面を撮像した撮像情報であることを特徴とする請求項６記載の基板搬送装置。 
【請求項８】
前記第１情報は前記基板表面の反射率情報を含み、前記第２情報は前記基板表面の反射率情報と前記液体の反射率情報とを含むことを特徴とする請求項６または７記載の基板搬送装置。 
【請求項９】
前記液体検出器は、前記基板の露光後における前記基板表面に対して検出光を照射する照射部と、前記基板表面で反射した前記検出光を受光する受光部とを有することを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項記載の基板搬送装置。 
【請求項１０】
前記液体検出器は、前記基板表面を撮像する請求項１〜９のいずれか一項記載の基板搬送装置。
【請求項１１】
前記液体の検出結果に基づいて、露光された前記基板に付着する液体の位置情報が取得される請求項１〜１０のいずれか一項記載の基板搬送装置。
【請求項１２】
前記液体の検出結果に基づいて、露光された前記基板に付着する液体大きさに関する情報が取得される請求項１〜１１のいずれか一項記載の基板搬送装置。
【請求項１３】
前記液体の検出結果に基づいて、露光された前記基板に付着する液体の量に関する情報が取得される請求項１〜１２のいずれか一項記載の基板搬送装置。
【請求項１４】
前記液体検出器は、前記基板が露光された後であって当該基板が現像される前に、前記基板に付着した液体を検出する請求項１〜１３のいずれか一項記載の基板搬送装置。
【請求項１５】
投影光学系と液体とを介してパターンの像を投影して基板を露光する露光装置において、 
前記基板を保持する基板テーブルと、
前記液体を介して露光された後の前記基板に付着する残留液体を検出する液体検出器と、を備えたことを特徴とする露光装置。 
【請求項１６】
前記液体検出器は、前記基板が露光された後であって当該基板が現像される前に、前記残留液体を検出する請求項１５記載の露光装置。
【請求項１７】
前記液体検出器は、前記基板の露光後における前記基板表面に対して検出光を照射する照射部と、前記基板表面で反射した前記検出光を受光する受光部とを有する請求項１５または１６記載の露光装置。
【請求項１８】
前記液体検出器は、前記基板と前記液体検出器とが相対的に移動しているときに、前記残留液体を検出する請求項１５〜１７のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１９】
前記液体検出器は、前記基板の搬送経路上で移動可能である請求項１８記載の露光装置。
【請求項２０】
前記液体検出器は、前記基板が露光された後であって前記基板テーブルとは異なる保持部材に前記基板が保持される前に、前記残留液体を検出する請求項１５〜１９のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項２１】
前記保持部材は、前記残留液体を除去する除去装置に配置される保持テーブルを含む請求項２０記載の露光装置。
【請求項２２】
前記液体検出器は、前記基板表面を撮像する請求項１５〜２１のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項２３】
前記液体検出器は、露光前の前記基板表面の第１情報と、露光後の前記基板表面の第２情報に基づいて、前記残留液体を検出する請求項１５〜２２のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項２４】
前記第１情報は、前記基板の露光前における前記基板表面を撮像した撮像情報を含み、前記第２情報は、前記基板の露光後における前記基板表面を撮像した撮像情報を含む請求項２３記載の露光装置。 
【請求項２５】
前記第１情報は、露光前の前記基板表面の反射率情報を含み、
前記第２情報は、露光後の前記基板表面の反射率情報および前記液体の反射率情報を含む請求項２３または２４記載の露光装置。
【請求項２６】
前記液体検出器の検出結果に基づいて、前記残留液体の位置情報が取得される請求項１５〜２５のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項２７】
前記液体検出器の検出結果に基づいて、前記残留液体の大きさに関する情報が取得される請求項１５〜２６のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項２８】
前記液体検出器の検出結果に基づいて、前記残留液体の量に関する情報が取得される請求項１５〜２７のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項２９】
前記液体検出器の検出結果に基づいて、前記基板に対する液体除去動作を行なうか判定する判定装置をさらに備える請求項１５〜２８のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項３０】
前記液体検出器で検出された前記残留液体を除去する除去装置をさらに備える請求項１５〜２９のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項３１】
前記除去装置は、前記基板が露光された後であって前記基板テーブルとは異なる保持部材に前記基板が保持される前に、前記残留液体を除去する請求項３０記載の露光装置。
【請求項３２】
前記保持部材は、前記除去装置に配置される保持テーブルを含む請求項３１記載の露光装置。
【請求項３３】
前記除去装置は、前記基板を回転させて前記残留液体を除去する請求項３０〜３２のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項３４】
前記除去装置は、前記基板に気体を吹き付けて前記残留液体を除去する請求項３０〜３３のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項３５】
前記除去装置は、吸湿材を用いて前記残留液体を吸湿する請求項３０〜３４のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項３６】
前記除去装置は、前記液体検出器の検出結果に基づいて、前記残留液体を除去する除去条件を設定する請求項３０〜３５のいずれか一項記載の露光装置。 
【請求項３７】
前記除去条件は、前記液体を除去するために必要な時間を含む請求項３６記載の露光装置。
【請求項３８】
前記液体検出器は、前記基板を回転または傾斜させて前記残留液体を検出する請求項１５〜３７のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項３９】
前記液体検出器は、カメラ、赤外センサー、散乱光を検出する検出器のいずれか１つを含む請求項１５〜３８のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項４０】
前記液体検出器は、露光された前記基板が前記投影光学系下から移動した後に、前記残留液体を検出する請求項１５〜３９のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項４１】
投影光学系と液体とを介したパターンの像によって露光された基板を搬送する基板搬送方法において、 
前記投影光学系と前記液体を介して露光された後の前記基板に付着した液体を検出することを特徴とする基板搬送方法。 
【請求項４２】
前記液体の検出結果に基づいて、前記基板に付着した液体を除去するか否かを判定することを特徴とする請求項４１記載の基板搬送方法。 
【請求項４３】
前記液体の検出結果に基づいて、前記基板に付着した液体を除去することをさらに含む請求項４１又は４２記載の基板搬送方法。 
【請求項４４】
前記液体の検出結果に基づいて、前記基板に付着した液体を除去する除去条件を設定することを特徴とする請求項４３記載の基板搬送方法。 
【請求項４５】
前記液体の検出は、前記基板の露光前における前記基板表面と前記基板の露光後における前記基板表面とを比較して行うことを特徴とする請求項４１〜４４のいずれか一項記載の基板搬送方法。 
【請求項４６】
前記液体の検出は、前記基板の露光後における前記基板表面に対して検出光を照射するとともに、前記基板表面で反射した前記検出光を受光し、前記受光結果に基づいて行うことを特徴とする請求項４１〜４５のいずれか一項記載の基板搬送方法。 
【請求項４７】
前記液体の検出結果に基づいて、露光された前記基板に付着する液体の位置情報が取得される請求項４１〜４６のいずれか一項記載の基板搬送方法。
【請求項４８】
前記液体の検出結果に基づいて、露光された前記基板に付着する液体大きさに関する情報が取得される請求項４１〜４７のいずれか一項記載の基板搬送方法。
【請求項４９】
前記液体の検出結果に基づいて、露光された前記基板に付着する液体の量に関する情報が取得される請求項４１〜４８のいずれか一項記載の基板搬送方法。
【請求項５０】
前記基板が露光された後であって当該基板が現像される前に、前記基板に付着した液体が検出される請求項４１〜４９のいずれか一項記載の基板搬送方法。
【請求項５１】
投影光学系と液体とを介してパターンの像を基板に投影して前記基板を露光する露光装置に用いられる処理方法において、 
前記液体を介して前記パターンの像が投影された基板を前記投影光学系下から移動させること、および、
前記パターンの像が投影された基板に付着する残留液体に関する情報を取得すること、を含む処理方法。 
【請求項５２】
前記残留液体に関する情報は、露光された前記基板からの検出光を液体検出器で受光することにより取得される請求項５１記載の処理方法。
【請求項５３】
前記液体検出器は、前記基板表面を撮像する請求項５２記載の処理方法。
【請求項５４】
前記液体検出器は、前記基板の露光後における前記基板表面に対して前記検出光を照射する照射部と、前記基板表面で反射した前記検出光を受光する受光部とを有する請求項５２または５３記載の処理方法。
【請求項５５】
前記液体検出器は、前記基板の搬送経路上で移動可能である請求項５２〜５４のいずれか一項記載の処理方法。
【請求項５６】
前記液体検出器は、カメラ、赤外センサー、散乱光を検出する検出器のいずれかを含む請求項５２〜５５のいずれか一項記載の処理方法。
【請求項５７】
前記液体検出器は、露光前の前記基板表面の第１情報と、露光後の前記基板表面の第２情報に基づいて、前記残留液体に関する情報を取得する請求項５２〜５６のいずれか一項記載の処理方法。
【請求項５８】
前記第１情報は、前記基板の露光前における前記基板表面を撮像した撮像情報を含み、前記第２情報は、前記基板の露光後における前記基板表面を撮像した撮像情報を含む請求項５７記載の処理方法。
【請求項５９】
前記第１情報は、露光前の前記基板表面の反射率情報を含み、
前記第２情報は、露光後の前記基板表面の反射率情報および前記液体の反射率情報を含む請求項５７または５８記載の処理方法。
【請求項６０】
前記基板が露光された後であって当該基板が現像される前に、前記残留液体に関する情報が取得される請求項５１〜５９のいずれか一項記載の処理方法。
【請求項６１】
前記基板と前記液体検出器とが相対的に移動しているときに、前記残留液体に関する情報が取得される請求項５１〜６０のいずれか一項記載の処理方法。
【請求項６２】
前記残留液体に関する情報は、前記残留液体の位置情報を含む請求項５１〜６１のいずれか一項記載の処理方法。
【請求項６３】
前記残留液体に関する情報は、前記残留液体の大きさに関する情報を含む請求項５１〜６２のいずれか一項記載の処理方法。
【請求項６４】
前記残留液体に関する情報は、前記残留液体の量に関する情報を含む請求項５１〜６３のいずれか一項記載の処理方法。
【請求項６５】
取得した前記残留液体に関する情報に基づいて、前記基板に対する液体除去動作を行なうか判定すること、をさらに有する請求項５１〜６４のいずれか一項記載の処理方法。
【請求項６６】
前記液体除去動作は、前記基板を回転させることを含む請求項６５記載の処理方法。
【請求項６７】
前記液体除去動作は、前記基板に気体を吹き付けることを含む請求項６５または６６記載の処理方法。
【請求項６８】
前記液体除去動作は、吸湿材により前記残留液体を吸湿することを含む請求項６５〜６７のいずれか一項記載の処理方法。
【請求項６９】
前記基板を回転または傾斜させて前記残留液体に関する情報を取得する請求項５１〜６８のいずれか一項記載の処理方法。