(57)【要約】  本願発明は、液晶材料が一軸水平配向している複数領域と垂直配向している複数領域が存在することにより、フィルム面内における光散乱能の均一性に優れる異方性散乱フィルムを提供する。一軸水平配向している領域と垂直配向領域の境界において、一軸水平配向領域の遅相軸（液晶分子の長軸方向）と平行に振動する光は屈折率の不一致によって光散乱し、一軸水平配向領域の遅相軸と垂直に振動する光は屈折率の不一致が無いので、光散乱しない。本発明の異方性散乱フィルムは、このような作用によって、異方性散乱フィルムとして機能を発現する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶材料が一軸水平配向している複数領域と垂直配向している複数領域が存在することを特徴とする異方性散乱フィルム。
【請求項２】
一軸水平配向している複数領域における配向方向は一定方向に定まっていることを特徴とする請求項１記載の異方性散乱フィルム。
【請求項３】
一軸水平配向している領域一つあたりの大きさ及び垂直配向している領域一つあたりの大きさが100μm以下であることを特徴する請求項１または２記載の異方性散乱フィルム。
【請求項４】
一軸水平配向している領域の面積合計（A）と垂直配向している領域の面積合計（B）の比が3：7〜7：3である請求項１から３のいずれかに記載の異方性散乱フィルム。
【請求項５】
液晶材料が重合性液晶組成物であり、配向状態が活性エネルギー線の照射によって固定化されたものであることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の異方性散乱フィルム。
【請求項６】
液晶材料がスメクチックA相状態であることを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載の異方性散乱フィルム。
【請求項７】
重合性液晶組成物が一般式（Ｉ）
【化１】
2016194764.tif 000011
（式中、Ｗ１及びＷ２はそれぞれ独立的に単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ独立的に−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、ｐ及びｑはそれぞれ独立的に２〜１８の整数を表すが、式中に存在する１，４−フェニレン基は炭素原子数１〜７のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基又はハロゲン原子で一つ以上置換されていても良い。）で表される化合物を含有する請求項１から６のいずれかに記載の異方性散乱フィルム。
【請求項８】
重合性液晶組成物が一般式（II）
【化２】
2016194764.tif 000012
（式中、Ｗ３及びＷ４はそれぞれ独立的に単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、Ｙ３は−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、ｒ及びｓはそれぞれ独立的に２〜１８の整数を表すが、式中に存在する１，４−フェニレン基は炭素原子数１〜７のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基又はハロゲン原子で一つ以上置換されていても良い。）で表される化合物を含有する請求項１から７のいずれかに記載の光学異方体の製造方法。
【請求項９】
重合性液晶組成物が一般式（III）
【化３】
2016194764.tif 000013
（式中、Ｗ５は単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、Ｙ４及びＹ５はそれぞれ独立に単結合、-CH2CH2COO-、-CH2CH2OCO-、-COOCH2CH2-、-OCOCH2CH2-、-CH2CH2-、-CH2O-、-OCH2-、-COO-、-OCO-、-C≡C-、-CH=CH-、-CF=CF-、-(CH2)4-、-CH2CH2CH2O-、-OCH2CH2CH2-、-CH=CH-CH2CH2-、-CH2CH2-CH=CH-、-CH=CH-COO-又は-OCO-CH=CH-を表し、ｔは２〜１８の整数を表し、ｎは０または１を表すが、式中に存在する１，４−フェニレン基は炭素原子数１〜７のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基又はハロゲン原子で一つ以上置換されていても良い。）で表される化合物を含有する請求項１から８のいずれかに記載の異方性散乱フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本願発明は、光の振動方向によって散乱能が異なる異方性散乱フィルムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
光の振動方向によって散乱能が異なる異方性散乱体は、プロジェクションスクリーン（特許文献１）や液晶ディスプレイの輝度向上（特許文献２、３）に応用できることが知られている。このような異方性散乱体は、透明マトリックス中に、異方的形状を有し、かつ透明マトリックスと異なる屈折率の透明物質が、秩序良く互いに平行移動した位置関係で均質に分散させた状態にすること（特許文献１）、アスペクト比が1以上の散乱粒子を屈折率の異なる支持媒質中に分散配列させること（特許文献２）、ポリマーマトリックスに埋め込んだ液晶からできている小滴から形成した一軸均一配向構造であり、小滴を共通軸に沿って物理的に引き延ばすこと（特許文献３）、電界を印加して共通の方向に配列させた液晶小滴から形成された一軸均一配向PDLC構造にすること（特許文献３）、マトリクス中に配列させ、埋め込んだ小径の繊維を有する構造にすること（特許文献３）等によって作製することができる。上述のような公知の製造方法においては、支持媒質中に支持媒質と相溶しない物質を方向性（異方性）を持って分散させている。このような製造方法では、互いに相溶しない物質を均一に分散させた状態で製膜する必要があるが、分散状態を均一に保持するのが難しいため、得られるフィルムの光散乱能の面内均一性が良好でないという問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平４−７３６３７号公報
【特許文献２】特開平９−２７４１０８号公報
【特許文献３】特表平１１−５０２０３６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本願発明の目的は、フィルム面内における光散乱能の均一性に優れる異方性散乱フィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記目的を達成するために鋭意検討した結果、均一に相溶している材料系を用いて異方性散乱フィルムを製造すれば良いことを見出し本願発明の完成に至った。
本願発明は、液晶材料が一軸水平配向している複数領域と垂直配向している複数領域が存在することを特徴とする異方性散乱フィルムを提供する。
【発明の効果】
【０００６】
本願発明の異方性散乱フィルムは、均一に相溶している材料系を用いて製造されるものであるので、光散乱能の面内均一性が良好である。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
本発明の異方性散乱フィルムは、液晶材料が一軸水平配向している複数領域と垂直配向している複数領域が存在してなることを特徴とする。一軸水平配向している領域と垂直配向領域の境界において、一軸水平配向領域の遅相軸（液晶分子の長軸方向）と平行に振動する光は屈折率の不一致によって光散乱し、一軸水平配向領域の遅相軸と垂直に振動する光は屈折率の不一致が無いので、光散乱しない。本発明の異方性散乱フィルムは、このような作用によって、異方性散乱フィルムとして機能を発現する。
【０００８】
最も一般的な異方性散乱フィルムは、フィルム面全体に対して、一定方向に定まった方向に振動する偏光に対して最も大きく光散乱し、これに対して垂直方向に振動する偏光に対する光散乱が最も小さくなる。このような異方性散乱フィルムにおいては、一軸水平配向している複数領域の配向方向は、フィルム面内全面にわたって一定方向に定めればよい。  光散乱能を確保するためには、液晶材料の複屈折率を大きくするか、一軸水平配向している領域と垂直配向している領域の境界面積を増やすことが好ましい。このような観点から、一軸水平配向している領域一つあたりの大きさ（ここでの大きさは平均外径を表す）及び垂直配向している領域一つあたりの大きさ（ここでの大きさは平均外径を表す）が100μm以下であることが好ましく、10μm以下であることが更に好ましく、1μm以下であることが特に好ましい。更に、一軸配向している複数領域の面積合計（A）と垂直配向している複数領域の面積合計（B）の比が、3：7〜7：3に設定することが好ましく、4：6〜6：４に設定するのが更に好ましい。
【０００９】
液晶材料として、重合性液晶化合物を含有してなる重合性液晶組成物を使用し、上述の配向状態が活性エネルギー線の照射により固定化された状態であることが好ましい。活性エネルギー線の照射によって高分子化することによって取扱いを容易にすることができる。
【００１０】
液晶材料を、一軸水平配向している複数領域と垂直配向している複数領域が存在するように配向させる方法としては、配向処理をした基板に液晶材料を塗布した後に、液晶材料が自発的に垂直配向領域と水平配向領域が形成させる方法を挙げることができる。配向処理としては、基板上にポリイミドなどの高分子薄膜を形成し、該高分子膜をラビング処理する方法や、基板が高分子フィルムの場合には直接ラビングする方法が挙げられる。液晶材料が自発的に垂直配向領域と水平配向領域を形成させるようにするには、塗布した際にスメクチックA相を示す液晶材料を選択することが好ましい。スメクチックA相を選択しない場合、垂直配向領域は得られるものの、一軸水平配向領域が得られずにハイブリッド配向となってしまったり、もしくは一軸水平配向領域は得られるものの、垂直配向領域が得られずにハイブリッド配向となってしまう傾向がある。これは、垂直配向領域と一軸水平配向領域の境界にある「配向が不連続な面」における弾性歪エネルギーが大きいため、そのエネルギーを緩和するために、どちらか一方の領域がハイブリッド配向に変化するような力が働くためだと考えられる。スメクチックA相を選択すると、スメクチックA相は内部に層構造を有していることからハイブリッド配向を取りづらいので、ハイブリッド配向に変化することが抑制され、垂直配向領域と一軸水平配向領域が共存しやすくなると推測される。
【００１１】
基板としては、ガラス基材、金属基材、セラミックス基材やプラスチック基材等の有機材料が挙げられる。特に基板が有機材料の場合、セルロース誘導体、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリアリレート、ポリエーテルサルホン、ポリイミド、ポリフェニレンスルフィド、ポリフェニレンエーテル、ナイロン、又はポリスチレン等が挙げられる。中でもポリエステル、ポリスチレン、ポリオレフィン、セルロース誘導体、ポリアリレート、ポリカーボネート等のプラスチック基板が好ましい。
【００１２】
スメクチックA相を呈する重合性液晶組成物としては、重合性の官能基を分子中に少なくとも２つ以上有するものを使用することが好ましい。特に好ましい化合物としては、一般式（Ｉ）
【００１３】
【化１】
2016194764.tif 000002
【００１４】
（式中、Ｗ１及びＷ２はそれぞれ独立的に単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ独立的に−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、ｐ及びｑはそれぞれ独立的に２〜１８の整数を表すが、式中に存在する１，４−フェニレン基は炭素原子数１〜７のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基又はハロゲン原子で一つ以上置換されていても良い。）で表される化合物が好ましい。
【００１５】
一般式（I）において、Ｗ１及びＷ２は−Ｏ−を表し、Ｙ１は−ＣＯＯ−を表し、Ｙ２は−ＯＣＯ−を表し、ｐ及びｑはそれぞれ独立的に３〜１２の整数である化合物がより好ましく、ｐ＝ｑ＝６又はｐ＝ｑ＝３である化合物が好ましい。
【００１６】
一般式（Ｉ）で表される化合物はさらに具体的には、一般式（Ｉ−１）〜一般式（Ｉ―８）で表される化合物を挙げることができる。
【００１７】
【化２】
2016194764.tif 000003
【００１８】
（式中、ｐ及びｑは一般式（I）における意味と同じ。）
一般式（Ｉ−１）〜一般式（Ｉ―８）において、ｐ及びｑはそれぞれ独立的に３〜１２の整数であることが好ましい。
【００１９】
一般式（I）で表される化合物は、安定に液晶相を発現させる目的と結晶相の析出を避ける目的から、２種以上含有させることが好ましく、一般式（Ｉ−１）〜一般式（Ｉ―８）において、ｐ＝ｑ＝６又はｐ＝ｑ＝３の化合物を２種以上含有することが特に好ましい。
【００２０】
一般式（Ｉ）で表される化合物の重合性液晶組成物中での濃度は、耐熱性や液晶温度範囲の観点から20質量％以上が好ましく、40質量%以上がさらに好ましく、60質量%以上が特に好ましい。
【００２１】
重合性液晶組成物としては、一般式（II）
【００２２】
【化３】
2016194764.tif 000004
【００２３】
（式中、Ｗ３及びＷ４はそれぞれ独立的に単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、Ｙ３は−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、ｒ及びｓはそれぞれ独立的に２〜１８の整数を表すが、式中に存在する１，４−フェニレン基は炭素原子数１〜７のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基又はハロゲン原子で一つ以上置換されていても良い。）で表される化合物を含有させることも好ましい。一般式（II）のような２官能液晶性アクリレートを用いると、室温でスメクチックA相を呈する組成物を容易に得ることができる。一般式（II）で表される化合物は、さらに具体的には、一般式（II−１）〜一般式（II―１０）で表される化合物を挙げることができる。
【００２４】
【化４】
2016194764.tif 000005
【００２５】
（式中、ｒ及びｓは一般式（II）における意味と同じ。）
一般式（II）で表される化合物の重合性液晶組成物中での濃度は、耐熱性や液晶温度範囲の観点から5〜50質量％が好ましく、7〜40質量%がさらに好ましく、10〜30質量%が特に好ましい。
【００２６】
重合性液晶組成物としては、シアノ基を有する単官能液晶性アクリレートを含有させることも、スメクチックA相を呈する傾向があるため好ましい。具体的には、一般式（III）
【００２７】
【化５】
2016194764.tif 000006
【００２８】
（式中、Ｗ５は単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、Ｙ４及びＹ５はそれぞれ独立に単結合、-CH2CH2COO-、-CH2CH2OCO-、-COOCH2CH2-、-OCOCH2CH2-、-CH2CH2-、-CH2O-、-OCH2-、-COO-、-OCO-、-C≡C-、-CH=CH-、-CF=CF-、-(CH2)4-、-CH2CH2CH2O-、-OCH2CH2CH2-、-CH=CH-CH2CH2-、-CH2CH2-CH=CH-、-CH=CH-COO-又は-OCO-CH=CH-を表し、ｔは２〜１８の整数を表し、ｎは０または１を表すが、式中に存在する１，４−フェニレン基は炭素原子数１〜７のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基又はハロゲン原子で一つ以上置換されていても良い。）で表される化合物が好ましい。一般式（III）で表される化合物の中でも、Ｙ４及びＹ５はそれぞれ独立に単結合、-COO-又は-OCO-で表されるものが好ましい。さらに具体的には、一般式（III−１）〜一般式（III―４）で表される化合物を挙げることができる。
【００２９】
【化６】
2016194764.tif 000007
【００３０】
（式中、ｔは一般式（III）における意味と同じ。）
一般式（III−１）〜一般式（III―４）の中でも、スメクチックA相の下限温度を40℃以下にする観点から、（III-1）及び（III-3）の化合物が好ましく、一般式（III-1）の化合物が特に好ましい。ｔは３〜１８が好ましく、４〜１６が好ましく、６〜１２がさらに好ましい。３より小さいとスメクチックA相を得るのが難しくなる傾向があり、１２より大きいと光重合して得られる重合体の耐熱性が劣化する傾向がある。一般式（III）で表される化合物の重合性液晶組成物中の濃度は、耐熱性や液晶温度範囲の観点から20質量％以下が好ましく、15質量%がさらに好ましい。
【００３１】
以上あげた化合物の他にも重合性液晶組成物に、２官能液晶性アクリレートとしては、一般式（ａ−１）〜一般式（ａ―１０）で表される化化合物を含有させることができる。
【００３２】
【化７】
2016194764.tif 000008
【００３３】
（式中、u及びvはそれぞれ独立的に２〜１８の整数を表す。）
ｕ及びｖは３〜１８が好ましく、４〜１６が好ましく、６〜１２がさらに好ましい。３より小さいとスメクチックA相を得るのが難しくなる傾向があり、１２より大きいと光重合して得られる重合体の耐熱性が劣化する傾向がある。
【００３４】
重合性液晶組成物中には、重合性官能基を有する化合物であって、液晶性を示さない化合物を添加することもできる。このような化合物としては、通常、この技術分野で高分子形成性モノマーあるいは高分子形成性オリゴマーとして認識されるものであれば特に制限なく使用することができるが、その添加量は組成物としてスメクチックA相を呈するように調整する必要がある。
重合性液晶組成物の粘度は、塗布性を確保するために室温（25℃）において、2000mPa・s以上、さらに好ましくは3500cps以上、特に好ましくは5000mPa・s以上に調節することが好ましい。
【００３５】
また、重合性液晶組成物中には、その重合反応性を向上させることを目的として、光重合開始剤を添加することができる。光重合開始剤としては、ベンゾインエーテル類、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類、ベンジルケタール類、アシルフォスフィンオキサイド等が挙げられる。その添加量は、液晶組成物に対して０．０１〜５質量％が好ましく、０．０２〜１質量％がさらに好ましく、０．０３〜１質量％の範囲が特に好ましい。
【００３６】
また、重合性液晶組成物には、その保存安定性を向上させるために、安定剤を添加することもできる。使用できる安定剤としては、例えば、ヒドロキノン、ヒドロキノンモノアルキルエーテル類、第三ブチルカテコール類、ピロガロール類、チオフェノール類、ニトロ化合物類、β−ナフチルアミン類、β−ナフトール類、ニトロソ化合物等が挙げられる。安定剤を使用する場合の添加量は、液晶組成物に対して０．００５〜１質量％の範囲が好ましく、０．０２〜０．５質量％がさらに好ましく、０．０３〜０．１質量％が特に好ましい。
【００３７】
重合性液晶組成物への添加剤として、水平配向させるための添加剤の選択と濃度は重要である。スメクチックA相を示す材料は垂直配向する性質が強いので、水平配向させるための添加剤を添加しないと、重合性液晶組成物を基板に塗布しても全面にわたって垂直配向してしまい、一軸水平配向する領域が得にくい傾向がある。そこで、液晶材料を水平配向させる添加剤を添加して、一軸水平配向する領域を得ることが好ましい。このような添加剤としては、一般式（IV）
【００３８】
【化８】
2016194764.tif 000009
【００３９】
（式中、R1、R2、R3及びR4はそれぞれ独立的に水素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数1〜２０の炭化水素基を表し、該炭化水素基中の水素原子は１つ以上のハロゲン原子で置換されていても良い。）で表される繰り返し単位を有する化合物をあげることができる。一般式（IV）で表される化合物としては、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリイソブチレン、パラフィン、流動パラフィン、塩素化ポリプロピレン、塩素化パラフィン、又は塩素化流動パラフィンが挙げられる。このような化合物の重合性液晶組成物中における濃度は、0.001〜0.05重量％に調整するのが好ましく、0.002〜0.04重量％に調整するのが更に好ましく、0.003〜0.03重量％に調整するのが特に好ましい。添加量が少ないと、一軸水平配向する領域の面積合計が小さくなり、添加量が多いと水平配向する領域の面積合計が小さくなる傾向がある。
【００４０】
一軸水平配向領域と垂直配向領域の面積制御の観点からは上記の添加剤濃度の調整に加えて、塗布基板の配向処理も重要である。配向処理として代表的なものとしてラビングが挙げられるが、所謂「ラビング強度」（例えば、ラビング布の基板への押しつけ圧力を高めるほど、ラビングローラーの回転速度を速めるほど、ラビング強度は強くなる）を強くすると、一軸水平配向領域の合計面積が大きくなる傾向がある。したがって、上記添加剤の濃度調整はラビング強度も勘案して行う必要がある。
【００４１】
重合性液晶組成物中には、塗膜のレベリング性を確保する目的で界面活性剤を添加することが好ましい。含有することができる界面活性剤としては、アルキルカルボン酸塩、アルキルリン酸塩、アルキルスルホン酸塩、フルオロアルキルカルボン酸塩、フルオロアルキルリン酸塩、フルオロアルキルスルホン酸塩、ポリオキシエチレン誘導体、フルオロアルキルエチレンオキシド誘導体、ポリエチレングリコール誘導体、アルキルアンモニウム塩、フルオロアルキルアンモニウム塩類、シリコーン誘導体等をあげることができ、特に含フッ素界面活性剤、シリコーン誘導体が好ましい。更に具体的には「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−１１０」、「ＭＥＧＡＦＡＣＦ−１１３」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−１２０」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−８１２」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−１４２Ｄ」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−１４４Ｄ」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−１５０」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−１７１」、「ＭＥＧＡＦＡＣＦ−１７３」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−１７７」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−１８３」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−１９５」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−８２４」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−８３３」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−１１４」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−４１０」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−４９３」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−４９４」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−４４３」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−４４４」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−４４５」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−４４６」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−４７０」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−４７１」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−４７４」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−４７５」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−４７７」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−４７８」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−４７９」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−４８０ＳＦ」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−４８２」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−４８３」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−４８４」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−４８６」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−４８７」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−４８９」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−１７２Ｄ」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−１７８Ｋ」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−１７８ＲＭ」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｒ−０８」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｒ−３０」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｆ−４７２ＳＦ」、「ＭＥＧＡＦＡＣ ＢＬ−２０」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｒ−６１」、「ＭＥＧＡＦＡＣ Ｒ−９０」、「ＭＥＧＡＦＡＣ ＥＳＭ−１」、「ＭＥＧＡＦＡＣ ＭＣＦ−３５０ＳＦ」（以上、DIC株式会社製）、
「フタージェント１００」、「フタージェント１００Ｃ」、「フタージェント１１０」、「フタージェント１５０」、「フタージェント１５０ＣＨ」、「フタージェントＡ」、「フタージェント１００Ａ-Ｋ」、「フタージェント５０１」、「フタージェント３００」、「フタージェント３１０」、「フタージェント３２０」、「フタージェント４００ＳＷ」、「ＦＴＸ-４００Ｐ」、「フタージェント２５１」、「フタージェント２１５Ｍ」、「フタージェント２１２ＭＨ」、「フタージェント２５０」、「フタージェント２２２Ｆ」、「フタージェント２１２Ｄ」、「ＦＴＸ-２１８」、「ＦＴＸ-２０９Ｆ」、「ＦＴＸ-２１３Ｆ」、「ＦＴＸ-２３３Ｆ」、「フタージェント２４５Ｆ」、「ＦＴＸ-２０８Ｇ」、「ＦＴＸ-２４０Ｇ」、「ＦＴＸ-２０６Ｄ」、「ＦＴＸ-２２０Ｄ」、「ＦＴＸ-２３０Ｄ」、「ＦＴＸ-２４０Ｄ」、「ＦＴＸ-２０７Ｓ」、「ＦＴＸ-２１１Ｓ」、「ＦＴＸ-２２０Ｓ」、「ＦＴＸ-２３０Ｓ」、「ＦＴＸ-７５０ＦＭ」、「ＦＴＸ-７３０ＦＭ」、「ＦＴＸ-７３０ＦＬ」、「ＦＴＸ-７１０ＦＳ」、「ＦＴＸ-７１０ＦＭ」、「ＦＴＸ-７１０ＦＬ」、「ＦＴＸ-７５０ＬＬ」、「ＦＴＸ-７３０ＬＳ」、「ＦＴＸ-７３０ＬＭ」、「ＦＴＸ-７３０ＬＬ」、「ＦＴＸ-７１０ＬＬ」（以上、ネオス社製）、
「ＢＹＫ−３００」、「ＢＹＫ−３０２」、「ＢＹＫ−３０６」、「ＢＹＫ−３０７」、「ＢＹＫ−３１０」、「ＢＹＫ−３１５」、「ＢＹＫ−３２０」、「ＢＹＫ−３２２」、「ＢＹＫ−３２３」、「ＢＹＫ−３２５」、「ＢＹＫ−３３０」、「ＢＹＫ−３３１」、「ＢＹＫ−３３３」、「ＢＹＫ−３３７」、「ＢＹＫ−３４０」、「ＢＹＫ−３４４」、「ＢＹＫ−３７０」、「ＢＹＫ−３７５」、「ＢＹＫ−３７７」、「ＢＹＫ−３５０」、「ＢＹＫ−３５２」、「ＢＹＫ−３５４」、「ＢＹＫ−３５５」、「ＢＹＫ−３５６」、「ＢＹＫ−３５８Ｎ」、「ＢＹＫ−３６１Ｎ」、「ＢＹＫ−３５７」、「ＢＹＫ−３９０」、「ＢＹＫ−３９２」、「ＢＹＫ−ＵＶ３５００」、「ＢＹＫ−ＵＶ３５１０」、「ＢＹＫ−ＵＶ３５７０」、「ＢＹＫ−Ｓｉｌｃｌｅａｎ３７００」（以上、ビックケミー・ジャパン社製）、
「ＴＥＧＯ Ｒａｄ２１００」、「ＴＥＧＯ Ｒａｄ２２００Ｎ」、「ＴＥＧＯ Ｒａｄ２２５０」、「ＴＥＧＯ Ｒａｄ２３００」、「ＴＥＧＯ Ｒａｄ２５００」、「ＴＥＧＯ Ｒａｄ２６００」、「ＴＥＧＯ Ｒａｄ２７００」（以上、テゴ社製）等の例をあげることができる。界面活性剤の好ましい添加量は、重合性液晶組成物中に含有される界面活性剤以外の成分や、使用温度等によって異なるが、重合性液晶組成物中に０．０１〜１質量％含有することが好ましく、０．０２〜０．５質量％含有することがさらに好ましく、０．０３〜０．１質量％含有することが特に好ましい。含有量が０．０１質量％より低いときは膜厚ムラ低減効果が得にくい。
【００４２】
重合性液晶組成物を基板に塗布するための法としては、アプリケーター法、バーコーティング法、スピンコーティング法、グラビア印刷法、フレキソ印刷法、インクジェット法、ダイコーティング法、キャップコーティング法、ディッピング等、公知慣用の方法を行うことができる。溶剤で希釈した重合性液晶組成物を塗布することが好ましい。使用する溶剤は、基板上に塗布した際に基板、あるいは、基板上に形成されている配向膜を溶解させないものであれば良い。また、使用する溶剤としては重合性液晶組成物を良好に溶解性させるものが好ましい。使用することができる溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン、クメン、メシチレン等の芳香族系炭化水素、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、アニソール等のエーテル系溶剤、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、等のアミド系溶剤、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、クロロベンゼン等が挙げられる。これらは、単独で使用することもできるし、２種類以上混合して使用することもできる。
【００４３】
溶剤の比率は、重合性液晶組成物が通常塗布により行われることから、塗布した状態を著しく損なわない限りは特に制限はないが、重合性液晶組成物の固形分と溶剤の比率が０．１：９９．９〜８０：２０が好ましく、塗布性を考慮すると、１：９９〜６０：４０がさらに好ましい
溶剤を使用した場合、60〜100℃、さらに好ましくは80〜90℃で加熱して溶剤を揮発させることが好ましい。加熱時間は5秒〜3分が好ましい。
【００４４】
重合性液晶組成物の重合操作については、重合性液晶組成物中の溶剤を乾燥等で除去した後、所望状態に配向した状態で一般に活性エネルギー線を照射することによって行うのが好ましい。活性エネルギー線としては紫外線、電子線を挙げることができる。装置の簡易さから、活性エネルギー線として紫外線を使用することが好ましい。重合を紫外光照射で行う場合は、具体的には３９０ｎｍ以下の紫外光を照射することが好ましく、２５０〜３７０ｎｍの波長の光を照射することが最も好ましい。但し、３９０ｎｍ以下の紫外光により重合性液晶組成物が分解などを引き起こす場合は、３９０ｎｍ以上の紫外光で重合処理を行ったほうが好ましい場合もある。この光は、拡散光で、かつ偏光していない光であることが好ましい。紫外光の強度としては、1〜100mW/cm2が好ましく、2〜50mW/cm2が更に好ましく、5〜30mW/cm2が特に好ましい。照射エネルギーとしては5〜200mJ/cm2が好ましく、10〜150mJ/cm2が更に好ましく、20〜120ｍJ/cm2が特に好ましい。
【実施例】
【００４５】
（実施例）
以下に示す組成の重合性液晶組成物（A）を調製した。【００４６】
【化９】
2016194764.tif 000010
【００４７】
重合性液晶組成物（A）は、一度、等方性液体相まで加熱してから冷却すると、70℃でネマチック相に相転移し、35℃でスメクチックA相に相転移した。このスメクチックA相は室温においても保たれた。本組成物（A）に光重合開始剤イルガキュアー907（チバスペシャリティケミカルズ製）3%、水平配向添加剤として質量平均分子量1650のポリプロピレンを0.01%を添加して、組成物（A-1）を調製した。さらに、組成物（A-1）を濃度が30%となるようにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解させ、塗布組成物（A-2）を調整した。【００４８】
次に、幅15cm、長さ15cmのTACフィルム（厚さ50μm）を用意し、長さ方向と平行方向にラビング処理を行った。このラビング処理した基板に、組成物（A-2）を滴下し、#5のワイヤーバーを使用して全面に塗布した。これを80℃で3分乾燥後、室温で3分保持してから１５ｍＷ／ｃｍ２の強度で１０秒間ＵＶ光を照射して、重合性液晶組成物を高分子化させ、フィルムを得た。厚みを測定したところ、１．１μmであった。得られたフィルムを偏光フィルムと組み合わせて確認したところ、ラビング方向に対して平行方向に振動する偏光が散乱され、垂直方向に振動する偏光は散乱されずに透過し、異方性散乱板として機能することが確かめられた。目視状態において散乱能はフィルム面内で均一であり、ムラは無かった。フィルムの4隅及び中央のヘイズを測定したところ、ヘイズは44±1%の範囲に収まっており、均一性に優れていることが定量的にも確かめられた。
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月20日(2016.9.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ラビング処理したＴＡＣフィルム上に、液晶材料が一軸水平配向している複数領域と垂直配向している複数領域が存在することを特徴とする異方性散乱フィルム。
【請求項２】
一軸水平配向している複数領域における配向方向は一定方向に定まっていることを特徴とする請求項１記載の異方性散乱フィルム。
【請求項３】
一軸水平配向している領域一つあたりの大きさ及び垂直配向している領域一つあたりの大きさが100μm以下であることを特徴する請求項１または２記載の異方性散乱フィルム。
【請求項４】
一軸水平配向している領域の面積合計（A）と垂直配向している領域の面積合計（B）の比が3：7〜7：3である請求項１から３のいずれかに記載の異方性散乱フィルム。
【請求項５】
液晶材料が重合性液晶組成物であり、配向状態が活性エネルギー線の照射によって固定化されたものであることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の異方性散乱フィルム。
【請求項６】
液晶材料がスメクチックA相状態であることを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載の異方性散乱フィルム。
【請求項７】
重合性液晶組成物が一般式（Ｉ）
【化１】
2016194764.tif 000014
（式中、Ｗ１及びＷ２はそれぞれ独立的に単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ独立的に−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、ｐ及びｑはそれぞれ独立的に２〜１８の整数を表すが、式中に存在する１，４−フェニレン基は炭素原子数１〜７のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基又はハロゲン原子で一つ以上置換されていても良い。）で表される化合物を含有する請求項１から６のいずれかに記載の異方性散乱フィルム。
【請求項８】
重合性液晶組成物が一般式（II）
【化２】
2016194764.tif 000015
（式中、Ｗ３及びＷ４はそれぞれ独立的に単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、Ｙ３は−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、ｒ及びｓはそれぞれ独立的に２〜１８の整数を表すが、式中に存在する１，４−フェニレン基は炭素原子数１〜７のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基又はハロゲン原子で一つ以上置換されていても良い。）で表される化合物を含有する請求項１から７のいずれかに記載の光学異方体。
【請求項９】
重合性液晶組成物が一般式（III）
【化３】
2016194764.tif 000016
（式中、Ｗ５は単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、Ｙ４及びＹ５はそれぞれ独立に単結合、-CH2CH2COO-、-CH2CH2OCO-、-COOCH2CH2-、-OCOCH2CH2-、-CH2CH2-、-CH2O-、-OCH2-、-COO-、-OCO-、-C≡C-、-CH=CH-、-CF=CF-、-(CH2)4-、-CH2CH2CH2O-、-OCH2CH2CH2-、-CH=CH-CH2CH2-、-CH2CH2-CH=CH-、-CH=CH-COO-又は-OCO-CH=CH-を表し、ｔは２〜１８の整数を表し、ｎは０または１を表すが、式中に存在する１，４−フェニレン基は炭素原子数１〜７のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基又はハロゲン原子で一つ以上置換されていても良い。）で表される化合物を含有する請求項１から８のいずれかに記載の異方性散乱フィルム。
【手続補正書】
【提出日】平成29年3月10日(2017.3.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ラビング処理したＴＡＣフィルム上に、液晶材料が一軸水平配向している複数領域と垂直配向している複数領域が同一層内で平面状に存在することを特徴とする異方性散乱フィルム。
【請求項２】
一軸水平配向している複数領域における配向方向は一定方向に定まっていることを特徴とする請求項１記載の異方性散乱フィルム。
【請求項３】
一軸水平配向している領域一つあたりの大きさ及び垂直配向している領域一つあたりの大きさが100μm以下であることを特徴する請求項１または２記載の異方性散乱フィルム。
【請求項４】
一軸水平配向している領域の面積合計（A）と垂直配向している領域の面積合計（B）の比が3：7〜7：3である請求項１から３のいずれかに記載の異方性散乱フィルム。
【請求項５】
液晶材料が重合性液晶組成物であり、配向状態が活性エネルギー線の照射によって固定化されたものであることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の異方性散乱フィルム。
【請求項６】
液晶材料がスメクチックA相状態であることを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載の異方性散乱フィルム。
【請求項７】
重合性液晶組成物が一般式（Ｉ）
【化１】
2016194764.tif 000017
（式中、Ｗ１及びＷ２はそれぞれ独立的に単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ独立的に−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、ｐ及びｑはそれぞれ独立的に２〜１８の整数を表すが、式中に存在する１，４−フェニレン基は炭素原子数１〜７のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基又はハロゲン原子で一つ以上置換されていても良い。）で表される化合物を含有する請求項１から６のいずれかに記載の異方性散乱フィルム。
【請求項８】
重合性液晶組成物が一般式（II）
【化２】
2016194764.tif 000018
（式中、Ｗ３及びＷ４はそれぞれ独立的に単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、Ｙ３は−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、ｒ及びｓはそれぞれ独立的に２〜１８の整数を表すが、式中に存在する１，４−フェニレン基は炭素原子数１〜７のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基又はハロゲン原子で一つ以上置換されていても良い。）で表される化合物を含有する請求項１から７のいずれかに記載の光学異方体。
【請求項９】
重合性液晶組成物が一般式（III）
【化３】
2016194764.tif 000019
（式中、Ｗ５は単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、Ｙ４及びＹ５はそれぞれ独立に単結合、-CH2CH2COO-、-CH2CH2OCO-、-COOCH2CH2-、-OCOCH2CH2-、-CH2CH2-、-CH2O-、-OCH2-、-COO-、-OCO-、-C≡C-、-CH=CH-、-CF=CF-、-(CH2)4-、-CH2CH2CH2O-、-OCH2CH2CH2-、-CH=CH-CH2CH2-、-CH2CH2-CH=CH-、-CH=CH-COO-又は-OCO-CH=CH-を表し、ｔは２〜１８の整数を表し、ｎは０または１を表すが、式中に存在する１，４−フェニレン基は炭素原子数１〜７のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基又はハロゲン原子で一つ以上置換されていても良い。）で表される化合物を含有する請求項１から８のいずれかに記載の異方性散乱フィルム。
【国際調査報告】
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