【手続補正書】
【提出日】平成24年8月1日(2012.8.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
投影光学系と液体とを介してエネルギビームで基板を露光する露光装置であって、
前記投影光学系の下に液体を供給する液浸システムと、
前記基板を載置する第１ステージと、
前記エネルギビームを検出する計測部材を有する第２ステージと、
前記供給される液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域を維持する前記第１、第２ステージの一方が他方に置き換えられるように、前記投影光学系の下方で前記液浸領域に対して前記第１、第２ステージを移動する駆動システムと、を備え、
前記駆動システムは、前記計測部材による前記エネルギビームの検出において、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して前記エネルギビームが前記計測部材に照射されるように、前記第２ステージを移動する。
【請求項２】
投影光学系と液体とを介してエネルギビームで基板を露光する露光装置であって、
前記投影光学系の下に液体を供給する液浸システムと、
前記基板を載置する第１ステージと、
前記エネルギビームを検出する計測部材を有する第２ステージと、
前記供給される液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域に対して、一方が前記投影光学系と対向して配置される前記第１、第２ステージを移動する駆動システムと、を備え、
この移動により、前記一方のステージの代わりに前記投影光学系と対向して配置される前記第１、第２ステージの他方によって前記投影光学系の下に前記液浸領域が維持され、
前記駆動システムは、前記計測部材による前記エネルギビームの検出において、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して前記エネルギビームが前記計測部材に照射されるように、前記第２ステージを移動する。
【請求項３】
投影光学系と液体とを介してエネルギビームで基板を露光する露光装置であって、
前記投影光学系の下に液体を供給する液浸システムと、
前記基板を載置する第１ステージと、
前記エネルギビームを検出する計測部材を有する第２ステージと、
前記供給される液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域が前記投影光学系と前記第１、第２ステージの一方との間に維持される第１状態から、前記液浸領域が前記投影光学系と前記第１、第２ステージの他方との間に維持される第２状態に遷移するように、前記投影光学系の下方で前記液浸領域に対して前記第１、第２ステージを移動する駆動システムと、を備え、
前記駆動システムは、前記計測部材による前記エネルギビームの検出において、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して前記エネルギビームが前記計測部材に照射されるように、前記第２ステージを移動する。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記計測部材は、少なくとも一部が前記第２ステージに設けられる、前記エネルギビームが入射するセンサを含む。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記計測部材は、表面が前記第２ステージの上面に配置されるセンサを含む。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記計測部材は、それぞれ前記エネルギビームが入射し、かつ計測対象が異なる複数のセンサを含む。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記計測部材は、波面計測、照度計測、空間像計測、及び照度むら計測の少なくとも１つに用いられる。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第２ステージは、前記計測部材とは異なる基準マーク部材を有する。
【請求項９】
請求項８に記載の露光装置において、
前記基準マーク部材はその表面が前記第２ステージの上面とほぼ同一面となるように設けられる。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第２ステージは、一部に前記計測部材の表面が配置される上面を有し、前記投影光学系と前記上面との間に前記液浸領域を維持可能である。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第２ステージは、前記基板の載置領域が設けられていない。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１ステージに載置される基板の露光に続いて、前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動が行われ、前記第１ステージの代わりに前記第２ステージによって前記液浸領域が維持され、
前記投影光学系の下から離脱する前記第１ステージと、前記液浸領域を維持する前記第２ステージとで、互いに異なる動作が並行して行われる。
【請求項１３】
請求項１２に記載の露光装置において、
前記第２ステージは、前記計測部材が前記液浸領域の下に位置付けられるように移動され、前記計測部材による前記エネルギビームの検出が行われる。
【請求項１４】
請求項１２又は１３に記載の露光装置において、
前記第１ステージは、前記投影光学系の下から基板交換位置に移動され、
前記第１ステージでの基板交換と並行して、前記第２ステージで前記エネルギビームの検出が実行される。
【請求項１５】
請求項１〜１４のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記駆動システムは、前記基板の一部に前記液浸領域が位置するように前記投影光学系の下方で前記第１ステージを移動し、
前記基板は、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して前記エネルギビームで露光される。
【請求項１６】
請求項１〜１５のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１ステージは、内部に前記基板の載置領域が設けられる上面を有し、前記投影光学系と前記上面の一部との間に前記液浸領域を維持可能である。
【請求項１７】
請求項１６に記載の露光装置において、
前記第１ステージは、前記載置領域に載置される基板から外れる前記液浸領域の少なくとも一部を前記上面で保持する。
【請求項１８】
請求項１６又は１７に記載の露光装置において、
前記第１ステージは、前記上面と、前記載置領域に載置される基板の表面との少なくとも一方によって、前記投影光学系との間に前記液浸領域を維持可能である。
【請求項１９】
請求項１６〜１８のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１ステージは、表面が前記上面とほぼ面一となるように前記基板を前記載置領域に載置する。
【請求項２０】
請求項１６〜１９のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１ステージは、前記上面との隙間が１ｍｍ以下となるように前記基板を前記載置領域に載置する。
【請求項２１】
請求項１６〜２０のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１ステージは、前記載置領域と異なる前記上面の一部に配置される基準マーク部材を有する。
【請求項２２】
請求項２１に記載の露光装置において、
前記第１ステージは、前記液浸領域の下に前記基準マーク部材が位置付けられるように移動され、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して前記エネルギビームが前記基準マーク部材に照射される。
【請求項２３】
請求項２１又は２２に記載の露光装置において、
前記基準マーク部材はその表面が前記上面とほぼ同一面となるように前記第１ステージに設けられる。
【請求項２４】
請求項２１〜２３のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記基準マーク部材は、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介した、前記基板の露光に用いられるマスクのマーク検出で用いられる。
【請求項２５】
請求項１〜２４のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１ステージは、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して前記エネルギビームを検出する計測部材を有する。
【請求項２６】
請求項１〜２５のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記基板のマークを検出するマーク検出系を、さらに備え、
前記第２ステージによって前記投影光学系の下に前記液浸領域を維持しつつ、前記第１ステージによって前記マーク検出系の下に配置される前記基板のマーク検出が行われる。
【請求項２７】
請求項２６に記載の露光装置において、
前記第１ステージは基準マーク部材を有し、前記マーク検出系によって前記基板のマークと前記基準マーク部材とが検出される。
【請求項２８】
請求項２６又は２７に記載の露光装置において、
前記マーク検出に続いて、前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動が行われ、前記第２ステージの代わりに前記第１ステージによって前記液浸領域が維持される。
【請求項２９】
請求項２８に記載の露光装置において、
前記液浸領域を維持する前記第１ステージはその基準マーク部材が前記投影光学系の直下を通るように移動される。
【請求項３０】
請求項２６〜２９のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記基板は、前記露光が前記液体を介して行われ、前記マーク検出が液体を介することなく行われる。
【請求項３１】
請求項１〜３０のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動によって、前記液浸領域は、前記投影光学系の下に維持されつつ前記第１、第２ステージの一方から他方に移動する。
【請求項３２】
請求項３１に記載の露光装置において、
前記液浸領域は、前記一方のステージから前記他方のステージへの移動において、前記第１、第２ステージの少なくとも一方によって前記投影光学系の下に維持される。
【請求項３３】
請求項３２に記載の露光装置において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動の途中で、前記液浸領域は、前記１、第２ステージの両方によって前記投影光学系の下に維持される。
【請求項３４】
請求項１〜３３のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記駆動システムは、前記投影光学系と対向して配置される前記一方のステージに対して前記他方のステージが接近するように前記第１、第２ステージを相対移動するとともに、前記接近した第１、第２ステージを前記液浸領域に対して移動する。
【請求項３５】
請求項３４に記載の露光装置において、
前記駆動システムは、前記液浸領域に対して前記第１、第２ステージが移動される所定方向に関して、前記第１、第２ステージが互いに接近するように相対移動する。
【請求項３６】
請求項１〜３５のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージは、互いに近接あるいは接触した状態で前記液浸領域に対して移動される。
【請求項３７】
請求項１〜３６のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージは、前記投影光学系の下に前記液浸領域が維持されるように近接した状態、あるいは、前記第１、第２ステージの間隙からの液体漏出が防止または抑制されるように近接した状態で、前記液浸領域に対して移動される。
【請求項３８】
請求項１〜３７のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージはその位置関係が実質的に維持されつつ前記液浸領域に対して移動される。
【請求項３９】
請求項３８に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記第１、第２ステージが移動される所定方向に関して実質的にその位置関係が維持される。
【請求項４０】
請求項１〜３９のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記基板は走査露光が行われ、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して、前記走査露光時に前記基板が移動される方向と直交する所定方向に移動される。
【請求項４１】
請求項１〜４０のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記投影光学系と所定方向に関して位置が異なるマーク検出系を、さらに備え、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記所定方向に移動される。
【請求項４２】
請求項１〜４１のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記投影光学系と所定方向に関して異なる位置で、前記第１ステージに載置される基板の交換が行われ、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記所定方向に移動される。
【請求項４３】
請求項１〜４２のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１ステージは、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と所定方向に関して位置が異なる第２領域との一方から他方に移動され、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記所定方向に移動される。
【請求項４４】
請求項４３に記載の露光装置において、
前記第１ステージは、前記第１領域から前記第２領域への移動と、前記第２領域から前記第１領域への移動とで逆の経路を辿るように移動される。
【請求項４５】
請求項１〜４４のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域を維持する前記第１ステージの前記第２ステージへの置換と、前記液浸領域を維持する前記第２ステージの前記第１ステージへの置換とで、前記液浸領域に対して前記第１、第２ステージが移動される所定方向に関して逆向きに移動される。
【請求項４６】
請求項１〜４５のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸領域に対する移動において対向する前記第１、第２ステージの端部は、前記液浸領域を維持する前記第１ステージの前記第２ステージへの置換と、前記液浸領域を維持する前記第２ステージの前記第１ステージへの置換とで同一となる。
【請求項４７】
請求項１〜４６のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸システムは、少なくとも前記基板の露光動作において、前記液浸領域への液体供給と、前記液浸領域からの液体回収とを常時行う。
【請求項４８】
請求項１〜４７のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸領域に対する移動において前記第１、第２ステージの間隙からの前記液体の漏れを抑制する抑制部材を、さらに備える。
【請求項４９】
請求項４８に記載の露光装置において、
前記抑制部材は、前記液浸領域に対する移動において前記第１、第２ステージの間に配置される。
【請求項５０】
請求項４８又は４９に記載の露光装置において、
前記抑制部材は、前記第１、第２ステージの少なくとも一方に設けられる。
【請求項５１】
投影光学系と液体とを介してエネルギビームで基板を露光する露光方法であって、
前記基板を載置する第１ステージと、前記エネルギビームを検出する計測部材を有する第２ステージとを、互いに接近するように相対移動することと、
前記投影光学系の下に液体を供給して形成される液浸領域を維持する前記第１、第２ステージの一方が他方に置き換えられるように、前記投影光学系の下方で前記液浸領域に対して前記接近した第１、第２ステージを移動することと、
前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して前記エネルギビームを前記計測部材で検出することと、を含む。
【請求項５２】
投影光学系と液体とを介してエネルギビームで基板を露光する露光方法であって、
前記基板を載置する第１ステージと、前記エネルギビームを検出する計測部材を有する第２ステージとを、互いに接近するように相対移動することと、
前記投影光学系の下に液体を供給して形成される液浸領域に対して、一方が前記投影光学系と対向して配置される前記接近した第１、第２ステージを移動することと、
前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して前記エネルギビームを前記計測部材で検出することと、を含み、
前記接近した第１、第２ステージの移動により、前記一方のステージの代わりに前記投影光学系と対向して配置される前記第１、第２ステージの他方によって前記投影光学系の下に前記液浸領域が維持される。
【請求項５３】
投影光学系と液体とを介してエネルギビームで基板を露光する露光方法であって、
前記基板を載置する第１ステージと、前記エネルギビームを検出する計測部材を有する第２ステージとを、互いに接近するように相対移動することと、
前記投影光学系の下に液体を供給して形成される液浸領域が前記投影光学系と前記第１、第２ステージの一方との間に維持される第１状態から、前記液浸領域が前記投影光学系と前記第１、第２ステージの他方との間に維持される第２状態に遷移するように、前記投影光学系の下方で前記液浸領域に対して前記接近した第１、第２ステージを移動することと、
前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して前記エネルギビームを前記計測部材で検出することと、を含む。
【請求項５４】
請求項５１〜５３のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記計測部材は、少なくとも一部が前記第２ステージに設けられるセンサで前記エネルギビームを検出する。
【請求項５５】
請求項５１〜５４のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記計測部材は、表面が前記第２ステージの上面に配置されるセンサで前記エネルギビームを検出する。
【請求項５６】
請求項５１〜５５のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記計測部材は、計測対象が異なる複数のセンサでそれぞれ前記エネルギビームを検出する。
【請求項５７】
請求項５１〜５６のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記計測部材は、波面計測、照度計測、空間像計測、及び照度むら計測の少なくとも１つに用いられる。
【請求項５８】
請求項５１〜５７のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記計測部材とは異なる、前記第２ステージの基準マーク部材を用いて所定の計測が行われる。
【請求項５９】
請求項５８に記載の露光方法において、
前記基準マーク部材はその表面が前記第２ステージの上面とほぼ同一面となるように設けられる。
【請求項６０】
請求項５１〜５９のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第２ステージは、一部に前記計測部材の表面が配置される上面を有し、前記投影光学系と前記上面との間に前記液浸領域を維持可能である。
【請求項６１】
請求項５１〜６０のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第２ステージは、前記基板の載置領域が設けられておらず、前記露光が行われる基板は、前記第２ステージに載置されない。
【請求項６２】
請求項５１〜６１のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１ステージに載置される基板の露光に続いて、前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動が行われ、前記第１ステージの代わりに前記第２ステージによって前記液浸領域が維持され、
前記投影光学系の下から離脱する前記第１ステージと、前記液浸領域を維持する前記第２ステージとで、互いに異なる動作が並行して行われる。
【請求項６３】
請求項６２に記載の露光方法において、
前記第２ステージは、前記計測部材が前記液浸領域の下に位置付けられるように移動され、前記計測部材による前記エネルギビームの検出が行われる。
【請求項６４】
請求項６２又は６３に記載の露光方法において、
前記第１ステージは、前記投影光学系の下から基板交換位置に移動され、
前記第１ステージでの基板交換と並行して、前記第２ステージで前記エネルギビームの検出が実行される。
【請求項６５】
請求項５１〜６４のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１ステージは、前記基板の一部に前記液浸領域が位置するように前記投影光学系の下方で移動され、
前記基板は、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して前記エネルギビームで露光される。
【請求項６６】
請求項５１〜６５のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１ステージは、内部に前記基板の載置領域が設けられる上面によって、前記投影光学系との間に前記液浸領域を維持する。
【請求項６７】
請求項６６に記載の露光方法において、
前記第１ステージは、前記載置領域に載置される基板から外れる前記液浸領域の少なくとも一部を前記上面で保持する。
【請求項６８】
請求項６６又は６７に記載の露光方法において、
前記第１ステージは、前記上面と、前記載置領域に載置される基板の表面との少なくとも一方によって、前記投影光学系との間に前記液浸領域を維持する。
【請求項６９】
請求項６６〜６８のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１ステージは、表面が前記上面とほぼ面一となるように前記基板を前記載置領域に載置する。
【請求項７０】
請求項６６〜６９のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１ステージは、前記上面との隙間が１ｍｍ以下となるように前記基板を前記載置領域に載置する。
【請求項７１】
請求項６６〜７０のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記載置領域と異なる前記上面の一部に配置される、前記第１ステージの基準マーク部材を用いて所定の計測が行われる。
【請求項７２】
請求項７１に記載の露光方法において、
前記第１ステージは、前記液浸領域の下に前記基準マーク部材が位置付けられるように移動され、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して前記エネルギビームが前記基準マーク部材に照射される。
【請求項７３】
請求項７１又は７２に記載の露光方法において、
前記基準マーク部材はその表面が前記上面とほぼ同一面となるように前記第１ステージに設けられる。
【請求項７４】
請求項７１〜７３のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記基準マーク部材は、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介した、前記露光に用いられるマスクのマーク検出で用いられる。
【請求項７５】
請求項５１〜７４のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１ステージの計測部材によって、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して前記エネルギビームが検出される。
【請求項７６】
請求項５１〜７５のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第２ステージによって前記投影光学系の下に前記液浸領域を維持しつつ、前記第１ステージによってマーク検出系の下に配置される前記基板のマーク検出が行われる。
【請求項７７】
請求項７６に記載の露光方法において、
前記マーク検出系によって、前記第１ステージの基準マーク部材と前記基板のマークとが検出される。
【請求項７８】
請求項７６又は７７に記載の露光方法において、
前記マーク検出に続いて、前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動が行われ、前記第２ステージの代わりに前記第１ステージによって前記液浸領域が維持される。
【請求項７９】
請求項７８に記載の露光方法において、
前記液浸領域を維持する前記第１ステージはその基準マーク部材が前記投影光学系の直下を通るように移動される。
【請求項８０】
請求項７６〜７９のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記基板は、前記露光が前記液体を介して行われ、前記マーク検出が液体を介することなく行われる。
【請求項８１】
請求項５１〜８０のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動によって、前記液浸領域は、前記投影光学系の下に維持されつつ前記第１、第２ステージの一方から他方に移動する。
【請求項８２】
請求項８１に記載の露光方法において、
前記液浸領域は、前記一方のステージから前記他方のステージへの移動において、前記第１、第２ステージの少なくとも一方によって前記投影光学系の下に維持される。
【請求項８３】
請求項８２に記載の露光方法において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動の途中で、前記液浸領域は、前記１、第２ステージの両方によって前記投影光学系の下に維持される。
【請求項８４】
請求項５１〜８３のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージは、前記投影光学系と対向して配置される前記一方のステージに対して前記他方のステージが接近するように相対移動され、前記接近した第１、第２ステージが前記液浸領域に対して移動される。
【請求項８５】
請求項８４に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記第１、第２ステージが移動される所定方向に関して互いに接近するように相対移動される。
【請求項８６】
請求項５１〜８５のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージは、互いに近接あるいは接触した状態で前記液浸領域に対して移動される。
【請求項８７】
請求項５１〜８６のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージは、前記投影光学系の下に前記液浸領域が維持されるように近接した状態、あるいは、前記第１、第２ステージの間隙からの液体漏出が防止または抑制されるように近接した状態で、前記液浸領域に対して移動される。
【請求項８８】
請求項５１〜８７のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージはその位置関係が実質的に維持されつつ前記液浸領域に対して移動される。
【請求項８９】
請求項８８に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記第１、第２ステージが移動される所定方向に関して実質的にその位置関係が維持される。
【請求項９０】
請求項５１〜８９のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記基板は走査露光が行われ、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して、前記走査露光時に前記基板が移動される方向と直交する所定方向に移動される。
【請求項９１】
請求項５１〜９０のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記投影光学系と所定方向に関して位置が異なるマーク検出系によって、前記基板のマーク検出が行われ、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記所定方向に移動される。
【請求項９２】
請求項５１〜９１のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記投影光学系と所定方向に関して異なる位置で、前記第１ステージに載置される基板の交換が行われ、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記所定方向に移動される。
【請求項９３】
請求項５１〜９２のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１ステージは、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と所定方向に関して位置が  異なる第２領域との一方から他方に移動され、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記所定方向に移動される。
【請求項９４】
請求項９３に記載の露光方法において、
前記第１ステージは、前記第１領域から前記第２領域への移動と、前記第２領域から前記第１領域への移動とで逆の経路を辿るように移動される。
【請求項９５】
請求項５１〜９４のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域を維持する前記第１ステージの前記第２ステージへの置換と、前記液浸領域を維持する前記第２ステージの前記第１ステージへの置換とで、前記液浸領域に対して前記第１、第２ステージが移動される所定方向に関して逆向きに移動される。
【請求項９６】
請求項５１〜９５のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液浸領域に対する移動において対向する前記第１、第２ステージの端部は、前記液浸領域を維持する前記第１ステージの前記第２ステージへの置換と、前記液浸領域を維持する前記第２ステージの前記第１ステージへの置換とで同一となる。
【請求項９７】
請求項５１〜９６のいずれか一項に記載の露光方法において、
少なくとも前記基板の露光動作において、前記液浸領域への液体供給と、前記液浸領域からの液体回収とが常時行われる。
【請求項９８】
請求項５１〜９７のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液浸領域に対する移動において前記第１、第２ステージの間隙からの前記液体の漏れを抑制することを含む。
【請求項９９】
請求項９８に記載の露光方法において、
前記液浸領域に対する移動において、前記第１、第２ステージの間に配置される抑制部材によって前記液体の漏れが抑制される。
【請求項１００】
請求項９８又は９９に記載の露光方法において、
前記液浸領域に対する移動において、前記第１、第２ステージの少なくとも一方に設けられる抑制部材によって前記液体の漏れが抑制される。
【請求項１０１】
リソグラフィ工程を含むデバイス製造方法であって、
前記リソグラフィ工程では、請求項１〜５０のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板上にデバイスパターンを転写することを特徴とするデバイス製造方法。
【請求項１０２】
リソグラフィ工程を含むデバイス製造方法であって、
前記リソグラフィ工程では、請求項５１〜１００のいずれか一項に記載の露光方法を用いて基板上にデバイスパターンを転写することを特徴とするデバイス製造方法。