【事件の表示】
　特願２０００−３２０７９９号「薄膜パターン形成方法とその装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１４年　５月　８日出願公開、特開２００２−１２６６５９号〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１　手続の経緯
　
　本件出願は、平成１２年１０月２０日の出願であって、平成２１年　２月１３日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、同年　３月２３日に本件審判請求がなされるとともに、同年　４月１６日付けで手続補正（前置補正）がなされたものである。
　
　
２　平成２１年　４月１６日付けでした手続補正（以下「本件補正」という。）についての補正却下の決定
　
【補正却下の決定の結論】
　
　本件補正を却下する。
　
【理由】
　
２．１　本件補正
　　　　
　本件補正は、本願の請求項１に係る発明の薄膜パターンの形成方法において、被処理物である基板の搬送について本件補正前の「ロール状の長尺基板を連続的に搬送し、」という構成を、「ロール状に巻かれたフレキシブル性を有する長尺のフィルム基板を巻き出して、連続的に搬送し、」と限定しようとするものである。　
　
　この補正は、願書に添付した明細書及び図面の記載からみて新規事項を追加するものでなく、しかも、補正前の請求項１に記載された発明と補正後の請求項１に記載された発明の産業上の利用分野及び解決しようとする課題が同一であるから、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項第２号に規定された特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　
　そこで、本件補正による補正後の特許請求の範囲に記載されている事項により特定される発明が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか否か（平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項に規定する要件を満たすか否か）について、以下に検討する。
　
　
２．２　本願補正発明
　
　本件補正後の本件出願の請求項１に係る発明は、上記本件補正により補正された特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される、以下のとおりのものと認める。
　
「【請求項１】
ロール状に巻かれたフレキシブル性を有する長尺のフィルム基板を巻き出して、
（以下「本願補正発明」という。）
　　
　　
２．３　引用刊行物とその記載事項
　　
（１）刊行物１の記載内容
　
（１−１）刊行物１に記載された事項
　　
  原査定の拒絶理由に引用された、本願出願前に頒布された刊行物である特開平１１−５７６３１号公報（以下「刊行物１」という。）には、図面とともに次のように記載されている。
　　
（ア）「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば薄膜太陽電池の可撓性基板上に積層されたアモルファス半導体膜などの各層のパターニング工程にレーザ加工等を行った後処理に使用する洗浄装置を有するレーザ加工装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】原料ガスのグロー放電分解や光ＣＶＤにより形成される非晶質シリコン（以下ａ−Ｓｉと記す）などの非晶質半導体薄膜は、気相成長により成膜できるために、大面積化が容易であること、また、成膜温度が低いために樹脂のような可撓性を有する基板上に成膜できるという特長を有している。このような非晶質半導体を使用する代表的な薄膜素子として、薄膜太陽電池がある。薄膜太陽電池は、結晶太陽電池に比べ、基板面上で容易に直列接続構造が形成できるという特長を有している。
【０００３】特開平６−３４２９２４号公報に開示された薄膜太陽電池では、基板の一面上に形成した電極層、非晶質半導体層および電極層の積層の各電極層を基板に開けた孔を通じて基板の他の面上の裏面電極層に接続しておき、積層と裏面電極層をそれぞれ適当に分割して、単位太陽電池とその直列接続を同時に形成することができる。この分割を行うため基板の各面を各々レーザ加工により分離加工している。
【０００４】図４は分割後の可撓性基板面を示し、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）におけるＡ部の拡大図、（ｃ）は（ｂ）におけるＢ部の拡大図である。可撓性基板１は、例えば厚さ５０μm のポリイミドフィルムなどの耐熱性フィルムである。この可撓性基板１には、光電変換層および電極層などからなる薄膜太陽電池構成要素が積層されており、分割線３８により個別化された単位薄膜太陽電池３７ａの複数個からなる薄膜太陽電池領域３７が形成されている（図４（ｂ））。薄膜太陽電池領域３７毎の外縁には複数の可撓性基板１の搬送およびレーザ加工の位置決め基準用の基準マーカ３９が設けられている。分割線３８はレーザ加工痕跡でもある。」
　
（イ）「【００１７】
【発明の実施の形態】以下、図面に基づき本発明の実施例を説明する。
実施例
図１は本発明に係るレーザ加工用クリーナを備えたレーザ加工装置全体を示す基板搬送方向に沿っての断面図である。レーザ加工装置は送り室２、加工室３、クリーニング室４、巻取り室５より構成されている。可撓性基板１は、送り室２の送りローラ３０から巻き出され、アイドルローラ２９により方向を変え、水平方向（矢印で示す）に、駆動ローラ３５とガイドローラ３６による搬送駆動に従って、間欠搬送を繰り返しながら、巻取り室５の巻取りローラ３４に巻き取られる。」
　
（ウ）「【００１９】レーザ加工された可撓性基板１には、図４（ｃ）に示すようにパターニング加工を行った周辺部に加工残滓４０が生成され、強固に付着している。この可撓性基板１はレーザ加工の終了後、加工ステージ３３の上昇と共に加工ステージ３３から解放され、加工室３と巻取り室５の間に隣接配備されたクリーニング室４へ搬送される。
【００２０】図２は本発明に係る実施例のレーザ加工用クリーナのクリーニング室を示す断面図である。クリーニング室４には、可撓性基板１のレーザ加工を行った面には、表面が軟らかく弾力性のあるクリーニングローラ６が配置され、可撓性基板１の反対面には、表面が滑らかで、クリーニングローラ６に比して十分硬い円筒状の押さえローラ７が配置されている。押さえローラ７は可撓性基板１の位置を維持し、可撓性基板１を擦らないように回転フリーとなるように押さえホルダー２７に取り付けられている。クリーニングローラ６は可撓性基板１を押さえローラ７に押しつけており、可撓性基板１を擦るように、任意に回転方向および回転速度を設定できる駆動モータに結合されている。その詳細は図３に基づき後述する。
【００２１】クリーニングローラ６として、この実施例では、連続発泡により形成されたウレタン樹脂の円筒状のスポンジを用いた。スポンジ材料として他にはポリエチレン系樹脂またはネオプレンなどを用いることができる。押さえローラ７はステンレス製の円筒状ガイドとしたが、他にも例えばアルミニウム等の金属材料を用いることができる。」
　
（エ）「【００２２】クリーニングローラ６は弾力性のあるクリーニングローラ６の形状が少し変形する程度に押さえローラ７に可撓性基板１を押しつけ密着させた状態で、搬送速度に比して高速回転（最高５００rpm/min ）され、可撓性基板１を擦ることにより、可撓性基板１に付着した加工残滓を、残りなく除去することができる。さらに、可撓性基板１を挟んだクリーニングローラ６と押さえローラ７を密閉状態にし、加工残滓が飛散して、再度可撓性基板１に付着しないように、押さえローラを覆うように吸引カバー２６を、また、クリーニングローラ６を覆うように吸引ダクト２５を備えた。吸引ダクト２５は別置するブロアーユニットに接続され、クリーニングローラ６が回転し可撓性基板１に付着した加工残滓４０を、で集塵させることにより、加工残滓４０がクリーニング室４の外に飛散することを防止できた。」
　
　
（１−２）刊行物１の記載より、刊行物１に記載されていることが明らかな事項
　　
（ａ）上記摘記事項（ア）より、刊行物１は、薄膜パターン形成方法について記載がなされていることは明らかであり、また、基板の少なくとも一方の主面に形成された薄膜をレーザ加工によりパターニングすることも、明らかな事項である。
　
（ｂ）上記摘記事項（ウ）より、クリーニングローラ６は樹脂材料からなることが明らかである。　
　
　
（１−３）引用発明
　
　すると、刊行物１には、次の発明（以下「引用発明」という。）が開示されているということができる。
　
「可撓性基板１を巻き出して、連続的に搬送し、前記基板の少なくとも一方の主面に形成された薄膜をレーザ加工によりパターニングした後、樹脂材料からなるクリーニングローラ６と、当該クリーニングローラ６に対向して前記基板を挟んで設けた押さえローラ７とからなるロール対を介して、前記パターニングの際に基板に付着した加工残渣４０を、前記樹脂材料からなる少なくとも２個のクリーニングローラ６の擦り洗浄により除去する薄膜パターン形成方法。」
　
　
（２）刊行物２の記載内容
　
  原査定の拒絶理由に引用された、本願出願前に頒布された刊行物である特開平１０−３３７５４３号公報（以下「刊行物２」という。）には、図面とともに次のように記載されている。
　　
（オ）「【００１１】この発明は上記事情に基づきなされたもので、その目的とするところは、ワーク表面にむらを生じさせず、このワーク表面の洗浄を良好に行うことが可能な洗浄処理装置を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するために請求項１記載の発明は、ワークに付着したパーティクルを洗浄して除去する洗浄処理装置において、上記ワークの搬入口および搬出口が設けられた処理チャンバと、上記ワークを搬送して上記処理チャンバに搬入、搬出させる搬送手段と、回転駆動されるとともに、上記搬送手段により搬送される上記ワークに接触し、このワークに付着したパーティクルを洗浄除去する洗浄手段と、上記洗浄手段と上記ワークの少なくとも一方を上記ワークの搬送方向と交差する方向に揺動させる揺動手段と、を具備したことを特徴とする洗浄処理装置である。」
　
（カ）「【００２１】上記処理チャンバ１１内部には、上記ワーク１２の上面と下面に上下２本で一対をなす、洗浄手段としての２組のロールブラシ１６がワーク１２の搬送方向に沿って所定の間隔で設けられている。このロールブラシ１６は、金属軸１７の外周面に、ナイロンの束より形成されている多数のブラシ毛１６ａが取り付けられており、このブラシ毛１６ａはその先端が上記金属軸１７に接触する状態で上記筒状軸１８に植設されている。」
　
（キ）「【００２４】なお、本実施の形態においては、これらのロールブラシ１６の回転方向は、１組が上記ワーク１２の搬送方向に逆らう向きに回転しており、もう１組が上記ワーク１２の搬送方向と同じ向きに回転している。そのため、上記ワーク１２がロールブラシ１６との接触時に生じる摩擦で上記ワーク１２の搬送に支障をきたさないようになっている。」
　
（ク）「【００３３】このような構成の洗浄処理装置１０によると、ワーク１２が搬送ローラ１５によって処理チャンバ１１内部に搬入され、このワーク１２を洗浄するロールブラシ１６が長手方向に往復運動する。そのため、ロールブラシ１６のブラシ毛１６ａの間に隙間が生じていて、このロールブラシ１６の回転駆動のみではワーク１２の表面に洗浄むらが生じる場合であっても、このロールブラシ１６の揺動によって、上記ワーク１２の表面を万遍なく洗浄することが可能となっている。」
　
　
　すると、刊行物２には、次の技術事項が開示されているということができる。
　
「２個のロールブラシ１６を、ワーク１２の搬送方向に正逆回転させ、かつワ−ク１２搬送方向と直角方向に振動させて擦り洗浄する技術。」
　
　
２．４　対比
　
　本願補正発明と引用発明とを対比する。
　引用発明の「クリーニングローラ６」、「押さえローラ７」及び「加工残渣４０」は、本願補正発明の「洗浄用ロール」、「対向ロール」及び「レーザ加工残渣」に相当する。
　また、引用発明の「可撓性基板１」は、可撓性を有するからフレキシブル性を有するものであり、また、上記摘記事項（イ）より明らかなとおり、「送り室２の送りローラ３０から巻き出され」るものであるから、本願補正発明の「ロール状に巻かれたフレキシブル性を有する長尺のフィルム基板」に対応する。
　
　してみると、本願補正発明と引用発明との一致点及び相違点は、以下のとおりである。
　
　
＜一致点＞
　
「ロール状に巻かれたフレキシブル性を有する長尺のフィルム基板を巻き出して、連続的に搬送し、前記基板の少なくとも一方の主面に形成された薄膜をレーザ加工によりパターニングした後、樹脂材料からなる洗浄用ロールと、当該洗浄用ロールに対向して前記基板を挟んで設けた対向ロールとからなるロール対を介して、前記パターニングの際に基板に付着したレーザ加工残渣を、前記樹脂材料からなる少なくとも２個の洗浄用ロールの擦り洗浄により除去する薄膜パターン形成方法。」
　
　
＜相違点＞
　
　本願補正発明では、「２個の洗浄用ロールを、基板の搬送方向に正逆回転させ、かつ基板搬送方向と直角方向に振動させて擦り洗浄する」のに対して、引用発明ではこのような構成を有しない点。
　
　
２．５　相違点についての検討（容易想到性の判断）
　
　上記相違点について検討する。
　
　＜相違点＞について
　
　引用発明における薄膜パターン形成方法は、レーザ加工残渣を洗浄用ロールの擦り洗浄により除去しているものであるが、洗浄を良好に行うことは当業者が当然考慮すべき技術課題であることは明らかである。そして本願補正発明及び引用発明の洗浄において、洗浄用ロールは、「樹脂材料からなる洗浄ロール」と規定するのみであり、その構成について詳細は明らかではないが、いかなる構成の洗浄ロールであったとしても、本願補正発明及び引用発明の洗浄のように、被洗浄物を搬送しつつ、被洗浄物に対して、搬送面と平行で搬送方向に対して垂直な方向の軸を有するロール状洗浄具（洗浄ロール）を回転することにより洗浄する技術においては、当該洗浄ロールの動作により洗浄条件が左右されることは当業者であれば明らかな事項である。
　一方刊行物２には、引用発明と同じく、被洗浄物を搬送しつつ、被洗浄物に対して、搬送面と平行で搬送方向に対して垂直な方向の軸を有するロール状洗浄具を回転することにより洗浄する技術において、良好な洗浄を目的として、「２個のロールブラシ１６を、ワーク１２の搬送方向に正逆回転させ、かつワ−ク１２搬送方向と直角方向に振動させて擦り洗浄する技術。」が記載されている。刊行物２の「ロールブラシ１６」は、上記摘記事項（カ）からも明らかなとおり、「金属軸１７の外周面に、ナイロンの束より形成されている多数のブラシ毛１６ａが取り付けられて」いるものであり、本願補正発明の洗浄ロールは「樹脂材料からなる洗浄ロール」に相当するものである。そして、刊行物２の「ロールブラシ１６」と、本願補正発明の洗浄ロールは、実施例としての具体的構成は相違しているが、両者の洗浄具としての機能及び作用からみて当該相違は実質的なものとは認められない。よって、引用発明の薄膜パターン形成方法に、当該刊行物２に記載の技術を適用し、上記相違点のような構成とすることは、当業者であれば容易に想到し得る程度の事項にすぎない。
　
　また、本願補正発明の作用効果は、引用発明及び刊行物２に記載の技術から、当業者であれば予測できる範囲のものにすぎない。
　
　以上により、本願補正発明は、引用発明及び刊行物２に記載の技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　　
　　
２．６　本件補正についてのむすび 　
　　
　以上のとおり、本願補正発明は、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものであるから、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項で準用する同法第１２６条第５項に規定する要件を満たさないものであり、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　よって、補正却下の決定の結論のとおり決定する。
　　
　
３　本願発明について　
　　
　平成２１年　４月１６日付けでした手続補正は上記の通り却下されたので、本願の請求項１〜８に係る発明は平成２１年　１月２６日付けの手続補正書により補正された特許請求の範囲の請求項１〜８に記載された事項により特定されるものであるところ、請求項１に係る発明は、次のとおりのものと認める。
　　
「【請求項１】ロール状の長尺基板を連続的に搬送し、前記基板の少なくとも一方の主面に形成された薄膜をレーザ加工によりパターニングした後、樹脂材料からなる洗浄用ロールと、当該洗浄用ロールに対向して前記基板を挟んで設けた対向ロールとからなるロール対を介して、前記パターニングの際に基板に付着したレーザ加工残渣を、前記樹脂材料からなる少なくとも２個の洗浄用ロールの擦り洗浄により除去する薄膜パターン形成方法において、前記２個の洗浄用ロールを、基板の搬送方向に正逆回転させ、かつ基板搬送方向と直角方向に振動させて擦り洗浄することを特徴とする薄膜パターン形成方法。」（以下「本願発明」という。）
　　
　　
４　引用刊行物
　　
　原査定の拒絶の理由で引用された引用刊行物、その記載事項及び引用発明は上記２【理由】の「２．３　引用刊行物とその記載事項」に記載したとおりである。　
　　
　　
５　対比
　　
　上記２【理由】の「２．１　本件補正」での検討によれば、本願補正発明においては、本願の請求項１に係る発明の薄膜パターンの形成方法において、被処理物である基板の搬送について本件補正前の「ロール状の長尺基板を連続的に搬送し、」という構成を、「ロール状に巻かれたフレキシブル性を有する長尺のフィルム基板を巻き出して、連続的に搬送し、」と限定しているのに対し、本願発明では当該限定がなされてはいないものである。
　　
　そうすると、本願発明を特定する事項をすべて含み、さらに他の限定事項を付加したものに相当する本願補正発明が、上記２【理由】「２．４　対比」及び「２．５　相違点についての検討（容易想到性の判断）」で検討したように、引用発明及び刊行物２に記載の技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願補正発明の上位概念発明である本願発明も、同様の理由により、引用発明及び刊行物２に記載の技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　　
　
６　むすび
　　
　以上のとおり、本願発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　　
　よって、結論のとおり審決する。