Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成24年4月13日(2012.4.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像データの明度成分と色のばらつき成分を算出する算出手段と、
前記算出手段で算出した前記明度成分と色のばらつき成分とに基づき、前記画像データが夜景の画像であるか、或いは、露出不足の画像であるかを判定する判定手段と、
を有することを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記判定手段は、前記算出手段で算出した明度成分と色のばらつき成分と、予め設定されている夜景と露出不足の明度成分と色のばらつき成分とを比較し、当該比較結果に基づき前記判定を行うことを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記判定手段は、明度成分と色のばらつき成分からなる特徴量空間において、前記算出手段で算出した明度成分と色のばらつき成分の座標と、予め設定されている夜景と露出不足のそれぞれの明度成分と色のばらつき成分の座標との距離を算出し、前記算出した距離のうち、前記算出手段で算出した明度成分と色のばらつき成分の座標から最も距離が短い座標に設定されているシーンを前記画像データのシーンとして判定することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記明度成分は輝度であり、前記色のばらつき成分は色差であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記算出手段は、前記画像データの輝度の平均値を前記明度成分として算出し、前記画像データの色差の分散値を前記色のばらつき成分として算出し、前記判定手段は、前記算出した前記輝度の平均値と前記色差の分散値とに基づき判定を行うことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の画像処理装置。
【請求項６】
前記明度成分は、ＹＣｂＣｒ色空間におけるＹ成分、または、Ｌａｂ表色系のＬ成分、または、Ｌｕｖ表色系のＬ成分、または、ＨＳＶ色空間におけるＶ成分のいずれかであることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の画像処理装置。
【請求項７】
前記色のばらつき成分は、ＹＣｂＣｒ色空間におけるＣｂ成分、または、ＹＣｂＣｒ色空間におけるＣｒ成分であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の画像処理装置。
【請求項８】
前記算出手段は、前記画像データの輝度の平均値、或いは輝度の最大値、又は輝度の最小値、又は、輝度の中央値のいずれかを前記明度成分として算出することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項９】
前記算出手段は、前記画像データの色差の分散値、或いは色差の最大値から色差の最小値を引いた値、或いは、前記画像データの輝度の最大値付近の色差の分散値、又は、前記画像データの輝度の最小値付近の色差の分散値のいずれかを前記色のばらつき成分として算出することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項１０】
さらに、前記判定手段によって前記画像データが夜景の画像であると判定された場合と前記判定手段によって前記画像データが露出不足の画像であると判定された場合とでは異なるγ曲線を用いて階調補正処理を行う補正手段を有することを特徴とする請求項１乃至９のいずれか一項に記載の画像処理装置。
【請求項１１】
前記補正手段は、前記判定手段によって前記画像データが夜景の画像であると判定された場合、前記画像データの暗い部分をより暗く、前記画像データの明るい部分をより明るくなるように補正し、前記判定手段によって前記画像データが露出不足の画像であると判定された場合、前記画像データの暗い部分をより明るく、前記画像データの明るい部分をより暗くなるように補正することを特徴とする請求項１０に記載の画像処理装置。
【請求項１２】
前記補正手段は、前記判定手段によって前記画像データが露出不足の画像であると判定された場合、前記画像データを明るくするγ曲線を用いて階調補正処理を行うことを特徴とする請求項１０に記載の画像処理装置。
【請求項１３】
画像データの明度成分と色のばらつき成分を算出する算出工程と、
前記算出工程で算出した前記明度成分と色のばらつき成分とに基づき、前記画像データが夜景の画像であるか、或いは、露出不足の画像であるかを判定する判定工程と、
を有することを特徴とする画像処理装置の制御方法。
【請求項１４】
コンピュータを、請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の画像処理装置として機能させるためのコンピュータプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
上記目的を達成するために本発明の一態様に係る画像処理装置は以下のような構成を備える。即ち、
画像データの明度成分と色のばらつき成分を算出する算出手段と、
前記算出手段で算出した前記明度成分と色のばらつき成分とに基づき、前記画像データが夜景の画像であるか、或いは、露出不足の画像であるかを判定する判定手段と、を有することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
図９（Ａ）及び（Ｂ）、（Ｃ）の直線１０００は、入力画像データの濃度に対して出力画像の濃度が同じ値である状態を示す。図９（Ａ）の補正γ曲線１００１は、入力画像データの濃度に対し出力画像の濃度が、暗い濃度はより暗く、明るい濃度はより明るくする階調補正を行う状態を示す。
【手続補正書】
【提出日】平成24年3月22日(2012.3.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光を発する発光部と、
前記発光部が発した光が照射され、該光の明るさに応じた電流を流す光センサを有する光検出部と、
を備え、
前記発光部が発する光は、前記光検出部への照射以外の用途を有する、電子機器。
【請求項２】
画像を表示する液晶表示装置をさらに備え、
前記液晶表示装置の駆動回路と、前記光センサとが同一の基板上に形成されている、請求項１に記載の電子機器。
【請求項３】
前記光検出部に前記発光部からの光を照射する場合には、前記発光部の発光面は筐体外部に露出せず、筐体内部に向けられている、請求項１に記載の電子機器。
【請求項４】
前記発光部が発した光を集光する集光部をさらに備える、請求項３に記載の電子機器。
【請求項５】
前記発光部は、被写体を撮像する際に該被写体へ向けて光を発するフラッシュである、請求項１に記載の電子機器。
【請求項６】
画像を表示する液晶表示装置をさらに備え、
前記発光部は、前記液晶表示装置のバックライトである、請求項１に記載の電子機器。
【請求項７】
前記発光部が発した光の前記光検出部への照射を遮断する遮光部をさらに備え、
前記発光部からの光を前記光検出部へ照射させる場合には、前記遮光部は前記光検出部への照射を遮断しない、請求項１に記載の電子機器。
【請求項８】
前記発光部は回転可能に設けられる、請求項１に記載の電子機器。
【請求項９】
前記光検出部に前記発光部からの光以外の外部光の照射を遮断する外部光遮断部をさらに備える、請求項１に記載の電子機器。
【請求項１０】
前記発光部が発した光の内、近赤外領域のみを透過させる光吸収膜をさらに備える、請求項１に記載の電子機器。
【請求項１１】
前記光検出部への照射以外の用途は、認証のための用途である、請求項１に記載の電子機器。
【請求項１２】
前記光検出部への照射以外の用途は、静脈認証による認証のための用途である、請求項１に記載の電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成24年4月13日(2012.4.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プログラマブルロジック及び前記プログラマブルロジックの配線を書換えるための複数種類の回路情報を記憶するメモリを含むデータ処理手段と、
前記プログラマブルロジックにより処理されるデータ及び前記プログラマブルロジックの配線を書換えるための書換え設定データを前記データ処理手段に送信するよう制御する制御手段とを有し、
前記データ処理手段は、前記書換え設定データを受信したことに応じて、前記複数種類の回路情報に含まれる何れかの回路情報に基づいて前記プログラマブルロジックの配線を書換え、
前記データ処理手段は、前記プログラマブルロジックの配線の書換え中に前記制御手段から送信される前記プログラマブルロジックにより処理されるべきデータをバッファに保持し、前記プログラマブルロジックの配線の書換えが完了した後に前記バッファに保持されたデータに基づく処理を前記プログラマブルロジックに実行させることを特徴とするデータ処理装置。
【請求項２】
前記データ処理手段は、前記回路情報に基づいて前記プログラマブルロジックの配線を書換えている間は、前記バッファから前記プログラマブルロジックへのデータの入力を禁止するバス制御手段を有することを特徴とする請求項１に記載のデータ処理装置。
【請求項３】
前記プログラマブルロジックは、ＦＰＧＡであることを特徴とする請求項１又は２に記載のデータ処理装置。
【請求項４】
前記プログラマブルロジックは、リコンフィグアブルプロセッサであることを特徴とする請求項１又は２に記載のデータ処理装置。
【請求項５】
プログラマブルロジック及び前記プログラマブルロジックの配線を書換えるための複数種類の回路情報を記憶するメモリを含むデータ処理手段と、前記プログラマブルロジックにより処理されるデータ及び前記プログラマブルロジックの配線を書換えるための書換え設定データを前記データ処理手段に送信するよう制御する制御手段とを具備するデータ処理装置の制御方法であって、
前記データ処理手段が、前記書換え設定データを受信したことに応じて、前記複数種類の回路情報に含まれる何れかの回路情報に基づいて前記プログラマブルロジックの配線を書換える書換え工程と、
前記データ処理手段が、前記プログラマブルロジックの配線の書換え中に前記制御手段から送信される前記プログラマブルロジックにより処理されるべきデータをバッファに保持する保持工程と、
前記データ処理手段が、前記プログラマブルロジックの配線の書換えが完了した後に前記バッファに保持されたデータに基づく処理を前記プログラマブルロジックに実行させる実行工程と、
を有することを特徴とするデータ処理装置の制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記目的を達成するために本発明の一態様に係るデータ処理装置は以下のような構成を備える。即ち、
プログラマブルロジック及び前記プログラマブルロジックの配線を書換えるための複数種類の回路情報を記憶するメモリを含むデータ処理手段と、
前記プログラマブルロジックにより処理されるデータ及び前記プログラマブルロジックの配線を書換えるための書換え設定データを前記データ処理手段に送信するよう制御する制御手段とを有し、
前記データ処理手段は、前記書換え設定データを受信したことに応じて、前記複数種類の回路情報に含まれる何れかの回路情報に基づいて前記プログラマブルロジックの配線を書換え、
前記データ処理手段は、前記プログラマブルロジックの配線の書換え中に前記制御手段から送信される前記プログラマブルロジックにより処理されるべきデータをバッファに保持し、前記プログラマブルロジックの配線の書換えが完了した後に前記バッファに保持されたデータに基づく処理を前記プログラマブルロジックに実行させることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
画像バスＩ／Ｆコントローラ４１０はイメージバス１０２と接続し、そのバスアクセスシーケンスを制御する働きと、スキャナ画像処理部１１５内の各デバイスの制御及びタイミングを発生する。像域分離処理部４１１は、入力画像から文字部を検出することにより像域を判定し、その後の画像処理に利用する像域信号を生成する。テーブル４１２は、読み取った輝度データである画像データを濃度データに変換するために、ルックアップテーブルを使用した変換を行う。フィルタ４１３は、エッジ強調などの目的に従ったデジタル空間フィルタでコンボリューション演算を行う。編集部４１４は、例えば入力画像データからマーカペンで囲まれた閉領域を認識して、その閉領域内の画像データに対して、影つけ、網掛け、ネガポジ反転等の画像加工処理を行う。こうして画像処理が終了した画像データは、再び画像バスＩ／Ｆコントローラ４１０を介してイメージバス１０２に転送される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
ＭＦＰがコピージョブを実行中、スキャナ２００でスキャンされた画像データがスキャナデバイスＩ／Ｆ１１２を介して制御部１００へ入力される。この入力された画像データは、スキャナ画像処理１１５で補正、加工、編集などの画像処理がなされる。そして更に必要であれば画像圧縮／伸張部１１４で圧縮された後、イメージバス１０２、イメージバスＩ／Ｆ１１０、システムバス１０１を介してＲＡＭ１０７或いはＨＤＤ１０９へ格納される。
【手続補正書】
【提出日】平成24年4月9日(2012.4.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ユーザごとのアクセス制御情報に従って、自装置が有する機能の利用制限を行う画像処理装置であって、
前記機能の利用制限を解除するための条件を設定する設定手段と、
前記アクセス制御情報に従って利用制限された機能を利用するための依頼を受信した場合、前記利用制限を解除するための条件を満たしているか否かを判定する判定手段と、
前記判定手段により前記利用制限を解除するための条件を満たすと判定された場合、前記利用制限された機能に対しての制限を一時的に解除するための制限解除情報を生成する生成手段と、
前記依頼の応答として、前記生成手段により生成された制限解除情報を発行する制限解除情報発行手段と、
前記制限解除情報発行手段により発行された制限解除情報とともに前記利用制限された機能への処理要求を受信した場合、当該制限解除情報に基づいて前記アクセス制御情報に従った機能の利用制限を解除し、利用制限が解除された前記機能を用いて前記処理要求で要求される処理を実行する実行手段と、
前記実行手段により前記処理が実行された後に、破棄条件に基づいて前記制限解除情報を破棄する破棄手段と、を有することを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記ユーザごとに利用可能な機能を表示する表示手段を更に有し、
前記機能は、前記表示手段により表示される前記処理要求を行ったユーザが利用可能な機能として、スキャン送信ボタン登録する機能を含むことを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記機能は印刷の機能を含むことを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項４】
アクセス制御情報の発行依頼の受信に応じて、アクセス制御情報を発行するアクセス制御情報発行手段を、更に有し、
前記アクセス制御情報発行手段によりアクセス制御情報を発行した後に、
前記判定手段は、当該アクセス制御情報に従って利用制限された機能を利用するための依頼の受信に応じて前記利用制限を解除するための条件を満たしているか否かを判定し、
前記生成手段は、前記利用制限を解除するための条件を満たすと判定された場合に前記制限解除情報を生成し、
前記制限解除情報発行手段は、当該生成された制限解除情報を発行することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記利用制限を解除するための条件を満たすか否かの判定は、前記処理要求を行ったユーザのアクセス制御情報、アプリケーションの識別子、及び前記利用制限された機能に基づく判定であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項６】
前記破棄条件は、前記制限解除情報の有効利用回数及び有効期限の少なくともいずれかにより指定される条件であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項７】
ユーザごとのアクセス制御情報に従って、自装置が有する機能の利用制限を行う画像処理装置における制御方法であって、
前記機能の利用制限を解除するための条件を設定する設定工程と、
前記アクセス制御情報に従って利用制限された機能を利用するための依頼を受信した場合、前記利用制限を解除するための条件を満たしているか否かを判定する判定工程と、
前記利用制限を解除するための条件を満たすと判定された場合、前記利用制限された機能に対しての制限を一時的に解除するための制限解除情報を生成する生成工程と、
前記依頼の応答として、前記生成手段により生成された制限解除情報を発行する制限解除情報発行工程と、
前記発行された制限解除情報とともに前記利用制限された機能への処理要求を受信した場合、当該制限解除情報に基づいて前記アクセス制御情報に従った機能の利用制限を解除し、利用制限が解除された前記機能を用いて前記処理要求で要求される処理を実行する実行工程と、
前記処理が実行された後に、破棄条件に基づいて前記制限解除情報を破棄する破棄工程と、を有することを特徴とする制御方法。
【請求項８】
請求項１乃至６のいずれか１項に記載の画像処理装置の各手段としてコンピュータを機能させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
上記課題を解決するために、本発明は以下の構成を有する。ユーザごとのアクセス制御情報に従って、自装置が有する機能の利用制限を行う画像処理装置であって、前記機能の利用制限を解除するための条件を設定する設定手段と、前記アクセス制御情報に従って利用制限された機能を利用するための依頼を受信した場合、前記利用制限を解除するための条件を満たしているか否かを判定する判定手段と、前記判定手段により前記利用制限を解除するための条件を満たすと判定された場合、前記利用制限された機能に対しての制限を一時的に解除するための制限解除情報を生成する生成手段と、前記依頼の応答として、前記生成手段により生成された制限解除情報を発行する制限解除情報発行手段と、前記制限解除情報発行手段により発行された制限解除情報とともに前記利用制限された機能への処理要求を受信した場合、当該制限解除情報に基づいて前記アクセス制御情報に従った機能の利用制限を解除し、利用制限が解除された前記機能を用いて前記処理要求で要求される処理を実行する実行手段と、前記実行手段により前記処理が実行された後に、破棄条件に基づいて前記制限解除情報を破棄する破棄手段と、を有する。
【手続補正書】
【提出日】平成24年3月6日(2012.3.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の面に、第１の領域、第２の領域、及び第３の領域を有し、
前記第１の領域には、前記第１の面上に設けられた光反射層に重畳して剥離層が設けられ、
前記第２の領域には、前記第１の面上に光吸収層が設けられ、
前記第３の領域には、前記第１の面上に前記光反射層が設けられていることを特徴とする成膜用基板。
【請求項２】
第１の面に、第１の領域、第２の領域、及び第３の領域を有し、
前記第１の領域には、前記第１の面上に設けられた光反射層に重畳する断熱層と、前記断熱層に重畳する剥離層とが設けられ、
前記第２の領域には、前記第１の面上に設けられた前記断熱層に重畳して光吸収層が設けられ、
前記第３の領域には、前記第１の面上に設けられた前記光反射層に重畳して前記断熱層が設けられていることを特徴とする成膜用基板。
【請求項３】
第１の面に、第１の領域、第２の領域、及び第３の領域を有し、
前記第１の領域には、前記第１の面上に設けられた光反射層に重畳して剥離層が設けられ、
前記第２の領域には、前記第１の面上に光吸収層が設けられ、
前記第３の領域には、前記第１の面上に前記光反射層が設けられた成膜用基板を準備し、
前記成膜用基板の第１の面に成膜材料を成膜し、
前記成膜用基板の第１の面と第１の被成膜基板の被成膜面とを互いに向かい合わせて圧着し、前記成膜用基板と前記第１の被成膜基板を引きはがして、前記第１の領域上の前記成膜材料を前記第１の被成膜基板に成膜し、
前記成膜用基板の第１の面と第２の被成膜基板の被成膜面とを互いに向かい合わせて近接して配置し、前記成膜用基板の第２の面の側から光を照射して、前記第２の領域上の前記成膜材料を前記第２の被成膜基板に成膜し、
前記成膜用基板の第１の面と第３の被成膜基板の被成膜面とを互いに向かい合わせて近接して配置し、前記成膜用基板を加熱して、前記第３の領域上の前記成膜材料を前記第３の被成膜基板に成膜する成膜方法。
【請求項４】
第１の面に、第１の領域、第２の領域、及び第３の領域を有し、
前記第１の領域には、前記第１の面上に設けられた光反射層に重畳して剥離層が設けられ、
前記第２の領域には、前記第１の面上に光吸収層が設けられ、
前記第３の領域には、前記第１の面上に前記光反射層が設けられた成膜用基板を準備し、
前記成膜用基板の第１の面に成膜材料を成膜し、
前記成膜用基板の第１の面と第２の被成膜基板の被成膜面とを互いに向かい合わせて近接して配置し、前記成膜用基板の第２の面の側から光を照射して、前記第２の領域上の前記成膜材料を前記第２の被成膜基板に成膜し、
前記成膜用基板の第１の面と第１の被成膜基板の被成膜面とを互いに向かい合わせて圧着し、前記成膜用基板と前記第１の被成膜基板を引きはがして、前記第１の領域上の前記成膜材料を前記第１の被成膜基板に成膜し、
前記成膜用基板の第１の面と第３の被成膜基板の被成膜面とを互いに向かい合わせて近接して配置し、前記成膜用基板を加熱して、前記第３の領域上の前記成膜材料を前記第３の被成膜基板に成膜する成膜方法。
【請求項５】
第１の面に、第１の領域、第２の領域、及び第３の領域を有し、
前記第１の領域には、前記第１の面上に設けられた光反射層に重畳する断熱層と、前記断熱層に重畳する剥離層とが設けられ、
前記第２の領域には、前記第１の面上に設けられた前記断熱層に重畳して光吸収層が設けられ、
前記第３の領域には、前記第１の面上に設けられた前記光反射層に重畳して前記断熱層が設けられた成膜用基板を準備し、
前記成膜用基板の第１の面に成膜材料を成膜し、
前記成膜用基板の第１の面と第１の被成膜基板の被成膜面とを互いに向かい合わせて圧着し、前記成膜用基板と前記第１の被成膜基板を引きはがして、前記第１の領域上の前記成膜材料を前記第１の被成膜基板に成膜し、
前記成膜用基板の第１の面と第２の被成膜基板の被成膜面とを互いに向かい合わせて近接して配置し、前記成膜用基板の第２の面の側から光を照射して、前記第２の領域上の前記成膜材料を前記第２の被成膜基板に成膜し、
前記成膜用基板の第１の面と第３の被成膜基板の被成膜面とを互いに向かい合わせて近接して配置し、前記成膜用基板を加熱して、前記第３の領域上の前記成膜材料を前記第３の被成膜基板に成膜する成膜方法。
【請求項６】
第１の面に、第１の領域、第２の領域、及び第３の領域を有し、
前記第１の領域には、前記第１の面上に設けられた光反射層に重畳する断熱層と、前記断熱層に重畳する剥離層とが設けられ、
前記第２の領域には、前記第１の面上に設けられた前記断熱層に重畳して光吸収層が設けられ、
前記第３の領域には、前記第１の面上に設けられた前記光反射層に重畳して前記断熱層が設けられた成膜用基板を準備し、
前記成膜用基板の第１の面に成膜材料を成膜し、
前記成膜用基板の第１の面と第２の被成膜基板の被成膜面とを互いに向かい合わせて近接して配置し、前記成膜用基板の第２の面の側から光を照射して、前記第２の領域上の前記成膜材料を前記第２の被成膜基板に成膜し、
前記成膜用基板の第１の面と第１の被成膜基板の被成膜面とを互いに向かい合わせて圧着し、前記成膜用基板と前記第１の被成膜基板を引きはがして、前記第１の領域上の前記成膜材料を前記第１の被成膜基板に成膜し、
前記成膜用基板の第１の面と第３の被成膜基板の被成膜面とを互いに向かい合わせて近接して配置し、前記成膜用基板を加熱して、前記第３の領域上の前記成膜材料を前記第３の被成膜基板に成膜する成膜方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年4月6日(2012.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
上記目的を達成するために、本発明の画像形成装置は、外部記憶装置を接続可能な画像形成装置において、接続された前記外部記憶装置に格納された画像データの情報を取得する取得手段と、前記取得手段によって取得された情報に基づいて、前記画像形成装置における画像形成ジョブ実行時の動作モードを設定する設定手段と、前記設定手段によって設定された前記動作モードに従って、画像データを生成する生成手段と、前記生成手段によって生成された前記画像データを前記外部記憶装置に書き込む書き込み手段と、を備えることを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外部記憶装置を接続可能な画像形成装置において、
接続された前記外部記憶装置に格納された画像データの情報を取得する取得手段と、
前記取得手段によって取得された情報に基づいて、前記画像形成装置における画像形成ジョブ実行時の動作モードを設定する設定手段と、
前記設定手段によって設定された前記動作モードに従って、画像データを生成する生成手段と、
前記生成手段によって生成された前記画像データを前記外部記憶装置に書き込む書き込み手段と、
を備えることを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
接続された前記外部記憶装置に格納された複数の画像データの中から、前記取得手段によって情報を取得する対象となる画像データを選択する選択手段を更に有することを特徴とする請求項１記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記選択手段は、前記外部記憶装置に格納された複数の画像データそれぞれが生成された時間に基づいて、情報を取得する対象となる画像データを選択することを特徴とする請求項２記載の画像形成装置。
【請求項４】
接続された前記外部記憶装置に格納された複数の画像データの中に、前記生成手段によって生成可能なフォーマットの画像データがあるか否か判断する判断手段を更に有し、
前記選択手段は、前記外部記憶装置に格納された複数の画像データのうちの前記生成手段によって生成可能なフォーマットの画像データの中から、情報を取得する対象となる画像データを選択することを特徴とする請求項２又は３に記載の画像形成装置。
【請求項５】
前記設定手段によって設定された動作モードを表示する表示手段と、
前記表示手段に表示された動作モードを、ユーザの操作に従って変更する変更手段と、
を備え、
前記生成手段は、前記変更手段によって変更された動作モードに従って、画像データを生成することを特徴とする請求項１乃至４の何れか１項に記載の画像形成装置。
【請求項６】
前記変更手段によって変更された動作モードに対応する情報を持つ画像データを、前記外部記憶装置に格納された画像データの中から検索する検索手段
を備えることを特徴とする請求項５記載の画像形成装置。
【請求項７】
前記取得手段によって取得される情報は、画像データの属性を示す情報であることを特徴とする請求項１乃至６の何れか１項に記載の画像形成装置。
【請求項８】
前記画像データの属性は、画像のフォーマット、カラーモード、解像度の少なくとも何れかを含むことを特徴とする請求項７記載の画像形成装置。
【請求項９】
画像形成装置であって、
記憶部に記憶された複数の画像データの中から何れかの画像データを選択する選択手段と、
前記選択手段によって選択された画像データの属性を示す情報を取得する取得手段と、
前記取得手段によって取得された情報に基づいて、前記画像形成装置における画像形成ジョブ実行時の動作モードを設定する設定手段と、
前記設定手段によって設定された前記動作モードに従って、画像データを生成する生成手段と、
前記生成手段によって生成された前記画像データを出力する出力手段と、
を備えることを特徴とする画像形成装置。
【請求項１０】
外部記憶装置を接続可能な画像形成装置の制御方法において、
接続された前記外部記憶装置に格納された画像データの情報を取得する取得ステップと、
前記取得ステップによって取得された情報に基づいて、前記画像形成装置における画像形成ジョブ実行時の動作モードを設定する設定ステップと、
前記設定ステップによって設定された前記動作モードに従って、画像データを生成する生成ステップと、
前記生成ステップによって生成された前記画像データを前記外部記憶装置に書き込む書き込みステップと、
を備えることを特徴とする画像形成装置の制御方法。
【請求項１１】
画像形成装置の制御方法であって、
記憶部に記憶された複数の画像データの中から何れかの画像データを選択する選択ステップと、
前記選択ステップによって選択された画像データの属性を示す情報を取得する取得ステップと、
前記取得ステップによって取得された情報に基づいて、前記画像形成装置における画像形成ジョブ実行時の動作モードを設定する設定ステップと、
前記設定ステップによって設定された前記動作モードに従って、画像データを生成する生成ステップと、
前記生成ステップによって生成された前記画像データを出力する出力ステップと、
を備えることを特徴とする画像形成装置の制御方法。
【請求項１２】
請求項１０又は１１に記載の画像形成装置の制御方法をコンピュータにより実行させるためのコンピュータで読み取り可能なプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成24年7月9日(2012.7.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の上に形成され前記基板が除去された積層体であって、第１の面と、前記第１の面とは反対側の第２の面と、を有し、発光層を有する積層体と、
前記積層体の前記第２の面に設けられたｐ側電極及びｎ側電極と、
前記ｐ側電極上に設けられたｐ側引き出し電極と、
前記ｎ側電極上に設けられたｎ側引き出し電極と、
前記ｐ側引き出し電極と前記ｎ側引き出し電極との間に充填され、前記ｐ側引き出し電極及び前記ｎ側引き出し電極とともに支持体を構成する絶縁膜と、
を備えた発光装置。
【請求項２】
前記絶縁膜は、前記積層体の周囲を囲んでいる請求項１記載の発光装置。
【請求項３】
前記積層体の前記第１の面に設けられた樹脂層をさらに備えた請求項１または２に記載の発光装置。
【請求項４】
第１の面と、前記第１の面とは反対側の第２の面と、を有し、発光層を有する積層体と、
前記積層体の前記第２の面に設けられたｐ側電極及びｎ側電極と、
前記ｐ側電極上に設けられたｐ側引き出し電極と、
前記ｎ側電極上に設けられたｎ側引き出し電極と、
前記ｐ側引き出し電極と前記ｎ側引き出し電極との間に充填され、前記ｐ側引き出し電極及び前記ｎ側引き出し電極とともに支持体を構成する絶縁膜と、
前記第１の面側に設けられた樹脂層と、
を備え、
前記樹脂層は、第３の面と、前記第３の面とは反対側であり前記積層体側である第４の面とを有し、
前記ｐ側引き出し電極の厚さ、前記ｎ側引き出し電極の厚さ、および前記ｐ側引き出し電極と前記ｎ側引き出し電極との間に充填された前記絶縁膜の厚さは、前記第４の面と前記第１の面との間の厚さよりも厚い発光装置。
【請求項５】
前記樹脂層は、蛍光体を含む蛍光体層である請求項３または４に記載の発光装置。
【請求項６】
前記蛍光体層の側面と前記絶縁膜の側面とが揃っている請求項５に記載の発光装置。
【請求項７】
前記絶縁膜は、
前記ｐ側引き出し電極と前記ｎ側引き出し電極との間に充填され、前記ｐ側引き出し電極及び前記ｎ側引き出し電極とともに支持体を構成する第１の絶縁膜と、
前記積層体の周囲を囲んで設けられた第２の絶縁膜と、
を有する請求項１〜６のいずれか１つに記載の発光装置。
【請求項８】
前記ｐ側引き出し電極と前記ｎ側引き出し電極との間に充填された前記絶縁膜は、前記ｐ側引き出し電極及び前記ｎ側引き出し電極に密着して前記ｐ側引き出し電極及び前記ｎ側引き出し電極を取り囲む請求項１〜７のいずれか１つにに記載の発光装置。
【請求項９】
前記ｎ側引き出し電極において、前記ｎ側電極とは反対側の面の面積は、前記ｎ側電極と接続する面の面積よりも大である請求項１〜８のいずれか１つに記載の発光装置。
【請求項１０】
前記ｐ側引き出し電極は、前記ｐ側電極上に設けられたｐ側金属配線層と、前記ｐ側金属配線層上に設けられたｐ側金属ピラーとを有し、
前記ｎ側引き出し電極は、前記ｎ側電極上に設けられたｎ側金属配線層と、前記ｎ側金属配線層上に設けられたｎ側金属ピラーとを有する請求項１〜９のいずれか１つに記載の発光装置。
【請求項１１】
前記積層体は、半導体層から構成される請求項１〜１０のいずれか１つに記載の発光装置。
【請求項１２】
前記積層体は基板の上に形成され前記基板が除去され、前記基板を含まない請求項４〜１１のいずれか１つに記載の発光装置。
【請求項１３】
前記第２の絶縁膜は、
前記ｐ側電極上に形成され、前記ｐ側引き出し電極の一部が充填された第１の開口と、
前記ｎ側電極上に形成され、前記ｎ側引き出し電極の一部が充填された第２の開口とを有する請求項７記載の発光装置。
【請求項１４】
前記第１の絶縁膜は、樹脂層である請求項７または１３に記載の発光装置。
【請求項１５】
前記第１の絶縁膜の側面と前記第２の絶縁膜の側面とが揃っている請求項７、１３および１４のいずれか１つに記載の発光装置。
【請求項１６】
前記ｎ側電極は、複数の金属層の積層構造を有し、
前記ｐ側電極は、前記発光層からの放出光に対する反射性を有する反射膜を含む複数の金属層の積層構造を有する請求項１〜１５のいずれか１つに記載の発光装置。
【請求項１７】
前記ｐ側引き出し電極上及び前記ｎ側引き出し電極上に設けられた半田をさらに備えた請求項１〜１６のいずれか１つに記載の発光装置。
【請求項１８】
前記ｎ側電極は、前記積層体の非発光領域の上に設けられ、
前記ｎ側金属配線層の面積は、前記ｎ側電極の面積よりも大である請求項１０記載の発光装置。
【請求項１９】
前記絶縁膜は、前記ｐ側引き出し電極と前記ｎ側引き出し電極との間に充填され、前記ｐ側引き出し電極及び前記ｎ側引き出し電極とともに支持体を構成する第１の絶縁膜と、前記積層体の周囲を囲んで設けられた第２の絶縁膜と、を有し、
前記ｐ側引き出し電極は、前記ｐ側電極上に設けられたｐ側金属配線層と、前記ｐ側金属配線層上に設けられたｐ側金属ピラーと、を有し、
前記ｎ側引き出し電極は、前記ｎ側電極上に設けられたｎ側金属配線層と、前記ｎ側金属配線層上に設けられたｎ側金属ピラーと、を有し、
前記第１の絶縁膜は、樹脂層であり、
前記第１の絶縁膜の厚さは、前記ｐ側金属ピラーの厚さ及び前記ｎ側金属ピラーの厚さと同じまたはそれ以下である請求項１〜６、８、９、１１〜１８のいずれか１つに記載の発光装置。
【請求項２０】
前記ｐ側引き出し電極及び前記ｎ側引き出し電極は、銅を含む請求項１〜１９のいずれか１つに記載の発光装置。
【請求項２１】
前記ｐ側金属配線層、前記ｐ側金属ピラー、前記ｎ側金属配線層および前記ｎ側金属ピラーは、銅を含む請求項１０または１９に記載の発光装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の一態様によれば、基板の上に形成され前記基板が除去された積層体であって、第１の面と、前記第１の面とは反対側の第２の面と、を有し、発光層を有する積層体と、前記積層体の前記第２の面に設けられたｐ側電極及びｎ側電極と、前記ｐ側電極上に設けられたｐ側引き出し電極と、前記ｎ側電極上に設けられたｎ側引き出し電極と、前記ｐ側引き出し電極と前記ｎ側引き出し電極との間に充填され、前記ｐ側引き出し電極及び前記ｎ側引き出し電極とともに支持体を構成する絶縁膜と、を備えた発光装置が提供される。
また、本発明の他の一態様によれば、第１の面と、前記第１の面とは反対側の第２の面と、を有し、発光層を有する積層体と、前記積層体の前記第２の面に設けられたｐ側電極及びｎ側電極と、前記ｐ側電極上に設けられたｐ側引き出し電極と、前記ｎ側電極上に設けられたｎ側引き出し電極と、前記ｐ側引き出し電極と前記ｎ側引き出し電極との間に充填され、前記ｐ側引き出し電極及び前記ｎ側引き出し電極とともに支持体を構成する絶縁膜と、前記第１の面側に設けられた樹脂層と、を備え、前記樹脂層は、第３の面と、前記第３の面とは反対側であり前記積層体側である第４の面とを有し、前記ｐ側引き出し電極の厚さ、前記ｎ側引き出し電極の厚さ、および前記ｐ側引き出し電極と前記ｎ側引き出し電極との間に充填された前記絶縁膜の厚さは、前記第４の面と前記第１の面との間の厚さよりも厚い発光装置が提供される。
【手続補正書】
【提出日】平成24年1月6日(2012.1.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】流路形成部材、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
投影光学系と液体とを介して基板上に露光光を照射して、前記基板を露光する露光装置において、
前記液体を供給するための液体供給機構と、
前記投影光学系の像面側の気体を排出する排気手段と、を備え、
前記排気手段の排気口は、前記液体供給機構の液体供給口よりも前記投影光学系による投影領域の近くに配置され、
前記液体供給機構による液体供給は、前記排気手段による気体の排出を行いながら開始されることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記液体供給機構の液体供給口は前記投影光学系の投影領域の両側に配置され、前記投影領域の両側から液体供給が可能であることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項３】
前記投影光学系の投影領域に対して前記液体供給機構の液体供給口の外側に液体回収口を有する第１液体回収機構を備えたことを特徴とする請求項１又は２記載の露光装置。
【請求項４】
前記第１液体回収機構とは別の駆動源を有し、前記投影光学系の投影領域に対して前記第１液体回収機構の液体回収口の外側に回収口を有する第２液体回収機構を備えたことを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項５】
投影光学系と液体とを介して基板上に露光光を照射して、前記基板を露光する露光装置において、
前記液体を供給するための液体供給機構と、
前記投影光学系の投影領域に対して前記液体供給機構の液体供給口の外側に液体回収口を有する第１液体回収機構と、
前記第１液体回収機構とは別の駆動源を有し、前記投影光学系の投影領域に対して前記第１液体回収機構の液体回収口の外側に液体回収口を有する第２液体回収機構とを備えたことを特徴とする露光装置。
【請求項６】
前記駆動源は無停電電源を含むことを特徴とする請求項４又は５記載の露光装置。
【請求項７】
投影光学系と液体とを介して基板上に露光光を照射して、前記基板を露光する露光装置に用いられる流路形成部材であって、
液体を供給するための液体供給口と、
対向する物体上の液体を回収可能な液体回収口と、
前記投影光学系の投影領域に対して前記液体回収口の外側に配置され、対向する前記物体上の液体を回収可能な補助回収口と、を有し、
前記液体回収口からの液体回収動作が停止する異常が発生した場合にも、前記補助回収口は、前記対向する物体上の液体を回収可能である流路形成部材。
【請求項８】
前記投影光学系の終端部の光学素子を配置可能な開口部と、
前記物体の表面が対向する下面と、を有し、
前記液体供給口、前記液体回収口、及び前記補助回収口は、前記下面に設けられている請求項７記載の流路形成部材。
【請求項９】
前記下面において、前記液体回収口は、前記液体供給口を囲むように配置されている請求項８記載の流路形成部材。
【請求項１０】
前記液体回収口は、気体とともに液体を回収する請求項８又は９記載の流路形成部材。
【請求項１１】
前記下面において、前記補助回収口は、前記液体回収口を囲むように設けられている請求項８〜１０のいずれか一項記載の流路形成部材。
【請求項１２】
前記補助回収口は、気体とともに液体を回収する請求項８〜１１のいずれか一項記載の流路形成部材。
【請求項１３】
前記下面に設けられた凹部を有し、
前記液体回収口は、前記下面において、前記凹部の周囲に配置されている請求項８〜１２のいずれか一項記載の流路形成部材。
【請求項１４】
前記液体供給口は、前記下面において、前記凹部と前記液体回収口の間に配置されている請求項１３記載の流路形成部材。
【請求項１５】
前記下面は、親液性である請求項８〜１４のいずれか一項記載の流路形成部材。
【請求項１６】
前記光学素子と対向する内側面を有し、
前記内側面は、撥液性である請求項８〜１５のいずれか一項記載の流路形成部材。
【請求項１７】
前記内側面は、撥液性材料を塗布する、あるいは撥液性材料の薄膜を添付する撥液化処理によって撥液性を有している請求項１６記載の流路形成部材。
【請求項１８】
前記補助回収口は、多孔体を含む請求項７〜１７のいずれか一項記載の流路形成部材。
【請求項１９】
投影光学系と、
請求項７〜１８のいずれか一項に記載の流路形成部材とを備え、
前記流路形成部材を用いて前記基板上の一部に液浸領域を形成するとともに、前記液浸領域の液体を介して前記投影光学系からの露光光を前記基板に照射する露光装置。
【請求項２０】
前記流路形成部材の内側面と対向する、前記光学素子の対向面は、撥液性である請求項１９記載の露光装置。
【請求項２１】
前記対向面は、撥液性材料を塗布する撥液化処理によって撥液性を有している請求項２０記載の露光装置。
【請求項２２】
前記対向面は、撥液性材料の薄膜を添付する撥液化処理によって撥液性を有している請求項２０記載の露光装置。
【請求項２３】
前記流路形成部材の前記液体回収口から回収された液体と気体とを分離する気液分離器をさらに備える請求項１９〜２２のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項２４】
前記基板を基板ホルダに保持する基板ステージを備える請求項１９〜２３のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項２５】
前記基板ステージは、前記基板ホルダに保持された前記基板を囲むように設けられた平坦面を有する請求項２４記載の露光装置。
【請求項２６】
前記平坦面は、撥液性の領域を含む請求項２５記載の露光装置。
【請求項２７】
前記基板ステージの前記撥液性の領域は、撥液性材料を塗布する、あるいは撥液性材料の薄膜を貼付する撥液化処理によって形成される請求項２６記載の露光装置。
【請求項２８】
前記平坦面は、前記基板ホルダに保持された前記基板の表面とほぼ面一である請求項２５〜２７のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項２９】
請求項１〜６、及び１９〜２８のいずれか一項記載の露光装置を用いることを特徴とするデバイス製造方法。
【請求項３０】
投影光学系と液体とを介して基板に露光光を照射して前記基板を露光する露光方法であって：
前記基板に液体を供給することと；
前記投影光学系の近傍に配置され、鉛直方向に関して、前記投影光学系の終端面よりも高い位置で気体を排気することと；
前記液体を介して前記基板に露光光を照射して前記基板を露光することと；を含む露光方法。
【請求項３１】
前記液体の供給は、前記気体の排出を行いながら開始される請求項３０に記載の露光方法。
【請求項３２】
液体を介して基板に露光光を照射して前記基板を露光する露光方法であって：
前記液体を基板上に供給することと；
前記投影光学系に対して、前記液体が供給される位置よりも遠い位置で、第１及び第２液体回収機構により前記基板上の液体を回収することと；
前記液体を介して前記基板に露光光を照射して前記基板を露光することと；を含み、
前記第１及び第２液体回収機構の駆動電源が異なる露光方法。
【請求項３３】
前記第１及び第２液体回収機構の一方の駆動電源が無停電電源である請求項３２に記載の露光方法。
【請求項３４】
請求項３０〜３３のいずれか一項に記載の露光方法を用いるデバイス製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年4月13日(2012.4.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光透過性の基材の表裏両面に、前記基材の少なくとも一の入光端面から面内方向に照射された光を拡散反射する光透過性の凹凸パターンが、前記入光端面からの距離に応じて配列密度が高くなるようにそれぞれ分散して形成されていることを特徴とする導光板。
【請求項２】
前記基材の表裏両面にそれぞれ形成された前記凹凸パターン同士が、前記光の照射方向に関して互いにずれた位置に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の導光板。
【請求項３】
前記基材の表裏両面にそれぞれ形成された前記凹凸パターン同士が、前記光の照射方向に関して共通の位置に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の導光板。
【請求項４】
前記基材が矩形状をなし、対向する一対の端面を第一および第二の前記入光端面とするとともに、
前記基材の表面に関して、前記凹凸パターンと前記第一の入光端面との距離、および前記凹凸パターンと前記第二の入光端面との距離が互いに等しく、
前記基材の裏面に関して、前記凹凸パターンと前記第一の入光端面との距離、および前記凹凸パターンと前記第二の入光端面との距離が互いに等しいことを特徴とする請求項２または３に記載の導光板。
【請求項５】
前記基材は、前記入光端面の延在方向の寸法が、前記光の照射方向の寸法よりも大きいことを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の導光板。
【請求項６】
請求項１から５のいずれかに記載の導光板と、
前記入光端面の延在方向に離散的に配置されて前記導光板の面内方向に光をそれぞれ照射する複数個の発光素子と、
前記導光板の表裏両面にそれぞれ設けられ、前記凹凸パターンにより拡散反射して前記導光板から出射した前記光を拡散させる拡散板と、
を備えることを特徴とする面発光装置。
【請求項７】
前記発光素子が、対向する一対の入光端面に対してそれぞれ複数個ずつ配置されていることを特徴とする請求項６に記載の面発光装置。
【手続補正書】
【提出日】平成24年2月15日(2012.2.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
配線基板と、
前記配線基板に導体バンプを介して回路面が接合された半導体チップと、
前記配線基板と前記回路面との間を封止するアンダーフィル樹脂と、
を具備し、
前記アンダーフィル樹脂は、前記回路面の裏面の少なくとも一部を被覆している
半導体装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置
【手続補正書】
【提出日】平成24年2月29日(2012.2.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の工程を含む半導体装置の製造方法：
（ａ）第1の厚さを有する半導体ウエハの第1の主面上に、第1の金属膜を形成する工程；
（ｂ）前記工程（ａ）の後、前記半導体ウエハの第２の主面側に対して、バック・グラインディング処理を実行することにより、前記第1の厚さよりも薄い第2の厚さとする工程；
（ｃ）前記工程（ｂ）の後、前記半導体ウエハの前記第２の主面上に、その周辺に沿って、第1の絶縁膜からなり、前記第２の主面の周辺に沿う円環状絶縁膜パターンを含む絶縁膜パターンを形成する工程；
（ｄ）前記絶縁膜パターンがある状態で、前記円環状絶縁膜パターンの開口部の厚さを前記第２の厚さよりも薄い第３の厚さとする工程；
（ｅ）前記工程（ｄ）の後、前記絶縁膜パターンがある状態で、前記半導体ウエハに対して、電気的テストを実行する工程；
（ｆ）前記工程（ｅ）の後、前記絶縁膜パターンがある状態で、前記半導体ウエハの前記第２の主面を粘着シートに貼り付けることにより、前記粘着シートを介してダイシング・フレームに保持させる工程；
（ｇ）前記工程（ｆ）の後、ダイシング・フレームに保持された状態で、前記半導体ウエハを個々のチップに分割する工程。
【手続補正書】
【提出日】平成24年3月8日(2012.3.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
配線基板の一方の面にシート状の樹脂を介して半導体チップが搭載された半導体パッケージの製造方法であって、
前記配線基板の一方の面に対向する面から前記配線基板の一方の面側に突起する突起部を有する保持治具の前記突起部側に、前記シート状の樹脂を保持する保持工程と、
前記シート状の樹脂の、前記保持治具で保持されて突起状に変形した部分の先端を前記配線基板の一方の面の平坦部に接触させ押圧する押圧工程と、
前記保持治具による前記シート状の樹脂の保持を解除し、前記シート状の樹脂を前記配線基板の一方の面に仮固定する仮固定工程と、を有する半導体パッケージの製造方法。
【請求項２】
前記押圧工程は、前記シート状の樹脂の少なくとも一部を所定の温度に加熱する工程を含み、
前記所定の温度は、前記シート状の樹脂が粘着性を発現する温度である請求項１記載の半導体パッケージの製造方法。
【請求項３】
前記保持工程において、前記シート状の樹脂の外縁部は、前記保持治具により前記配線基板の一方の面に対して略平行に保持されている請求項１又は２記載の半導体パッケージの製造方法。
【請求項４】
前記仮固定工程を大気雰囲気中で行った後に、前記配線基板の一方の面に仮固定された前記シート状の樹脂を、真空雰囲気中で加熱及び押圧して前記配線基板の一方の面に固定する固定工程を更に有する請求項１乃至３の何れか一項記載の半導体パッケージの製造方法。
【請求項５】
前記固定工程後に、前記シート状の樹脂上に前記半導体チップを配置し、前記半導体チップを前記シート状の樹脂に押圧する半導体チップ搭載工程を更に有する請求項４記載の半導体パッケージの製造方法。
【請求項６】
前記固定工程で押圧する際の圧力は、前記押圧工程で押圧する際の圧力よりも高い請求項４又は５記載の半導体パッケージの製造方法。
【請求項７】
前記保持治具は第１部材及び第２部材を有し、
前記突起部は前記第１部材に設けられ、
前記第１部材は、前記第２部材よりも熱伝導率の高い材料により構成されている請求項１乃至６の何れか一項記載の半導体パッケージの製造方法。
【請求項８】
前記保持治具の一部は断熱材に覆われており、少なくとも前記突起部は、前記断熱材から露出している請求項１乃至７の何れか一項記載の半導体パッケージの製造方法。
【請求項９】
前記保持治具は、複数個の前記突起部を有する請求項１乃至８の何れか一項記載の半導体パッケージの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年2月15日(2012.2.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の抵抗と、
第２の抵抗と、
前記第１の抵抗に電流を供給する第１の電流源回路と、
前記第２の抵抗に電流を供給する第２の電流源回路と、
前記電流の供給により前記第１の抵抗に生じる電位差と第２の抵抗に生じる電位差とを比較する電圧比較回路と、
前記第１及び第２の電流源回路の少なくとも一方の電流供給量をディジタル的に調整する制御回路と、を備え、
前記制御回路の調整値と前記電圧比較回路の比較結果から前記第１の抵抗と第２の抵抗の抵抗値の比率を検出できるようにすることを特徴とする抵抗ばらつき検出回路。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】抵抗ばらつき検出回路
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８３】
以上、実施例について説明したが、本発明は上記実施例の構成にのみ制限されるものでなく、本発明の範囲内で当業者であればなし得るであろう各種変形、修正を含むことは勿論である。
なお、本発明において、さらに下記の形態が可能である。
［形態１］
上記本発明の１つの側面による抵抗ばらつき検出回路のとおりである。
［形態２］
前記制御回路が前記電圧比較回路の比較結果を取り込み、比較結果に基づいて前記電流供給量の調整を行い、最終的な検出結果をディジタルデータとして出力することを特徴とする形態１記載の抵抗ばらつき検出回路。
［形態３］
温度特性補償素子をさらに備え、
前記電圧比較回路は、第１の入力端子と、第２の入力端子と、を有し、
前記第１の入力端子には、前記第１の抵抗に生じる電位差に前記温度特性補償素子に生じる電位差が加算された電位差を入力し、
前記第２の入力端子には、前記第２の抵抗に生じる電位差を入力するように構成されていることを特徴とする形態１又は２記載の抵抗ばらつき検出回路。
［形態４］
ダイオードをさらに備え、
前記電圧比較回路は、第１の入力端子と、第２の入力端子と、を有し、
前記第１の入力端子には、前記第１の抵抗に生じる電位差に前記ダイオードに生じる電位差が加算された電位差を入力し、
前記第２の入力端子には、前記第２の抵抗に生じる電位差を入力するように構成されていることを特徴とする形態１又は２記載の抵抗ばらつき検出回路。
［形態５］
前記ダイオードは、前記第１の抵抗と直列に接続されていることを特徴とする
形態４記載の抵抗ばらつき検出回路。
［形態６］
前記ダイオードの一端及び前記電圧比較回路の前記第１の入力端子に接続され、前記ダイオードに電流を供給する第３の電流源回路と、
入力が前記第１の抵抗の一端に接続され、出力が前記ダイオードの他端に接続された電圧フォロア回路と、をさらに備えることを特徴とする形態４記載の抵抗ばらつき検出回路。
［形態７］
前記ダイオードに電流を供給する第３の電流源回路と、
前記第１の抵抗に生じる電位差と、前記ダイオードに生じる電位差と、を加算する電圧加算回路と、
をさらに設け、
前記電圧加算回路の出力端子が前記電圧比較回路の第１の入力端子に接続されていることを特徴とする形態４記載の抵抗ばらつき検出回路。
［形態８］
前記第１及び第２の電流源回路が、前記第１又は第２の抵抗のうちいずれか１方の抵抗を電流源用基準抵抗とする電流源回路であることを特徴とする形態１乃至７いずれか１記載の抵抗ばらつき検出回路。
［形態９］
上記本発明の他の側面による半導体装置のとおりである。
［形態１０］
上記本発明のさらに他の側面による抵抗ばらつき検出方法のとおりである。