【事件の表示】
　特願２００１−　８３１３４「基板処理装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１４年　９月２４日出願公開、特開２００２−２７３３６０〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、平成１３年３月２２日の出願であって、平成１８年１２月２２日付で拒絶査定がなされ（発送日：平成１８年１２月２６日）、これに対し、平成１９年１月２５日に拒絶査定不服審判が請求され、平成２１年３月１７日付で拒絶の理由が通知され（発送日：平成２１年３月２４日）、平成２１年５月１３日付で意見書と共に手続補正書が提出され、これに対し、平成２１年５月２６日付で最後の拒絶理由が通知され（発送日：平成２１年６月２日）、平成２１年７月２９日付で意見書と共に手続補正書が提出されたものである。
　
　
２．平成２１年７月２９日付の手続補正についての補正の却下の決定
［補正の却下の決定の結論］
　平成２１年７月２９日付の手続補正（以下、「本件補正」という。）を却下する。
　
［理由Ｉ］
（１）補正の適否
　本件補正により、特許請求の範囲の請求項１は、以下のように補正された。
「【請求項１】　回転基台上に保持された基板を水平面内にて回転させつつ所定の処理を行う基板処理装置であって、
　前記回転基台上に設けられ、基板の周縁部を把持して当該基板を略水平姿勢にて保持する把持手段と、
　前記把持手段によって保持された基板を略鉛直方向に沿った軸を中心として回転させる基板回転手段と、
　前記把持手段よりも上方に配置され、前記把持手段によって保持された基板の径よりも大きな径を有して当該基板の上面に対向する雰囲気遮断板と、
　前記雰囲気遮断板を水平面内にて鉛直方向に沿った軸を中心として回転させる遮断板回転手段と、
　
前記雰囲気遮断板に挿設され、
　前記把持手段によって保持された基板に前記回転基台および前記雰囲気遮断板を介して不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段と、
　回転する基板から飛散した処理液を受け止める案内部を有するスプラッシュガードと、を備え、
　前記把持手段によって保持された基板の表面領域よりも小さい表面領域を有し、かつ、少なくとも当該基板の有効エリア上を覆う円柱形状の凸部を前記雰囲気遮断板の下面側に形成するとともに、
　回転する基板の上面に吐出されて回転する雰囲気遮断板と基板との間を流れて飛散された処理液を前記スプラッシュガードの前記案内部にて受け止めることを特徴とする基板処理装置。」
　なお、請求項２、３は、本件補正前と同じ記載内容である。
　
　本件補正後の請求項１には、「
前記雰囲気遮断板に挿設され、
　そこで、当該記載が、願書に最初に添付した明細書又は図面（以下、「当初明細書等」という）のすべての記載を総合することにより導かれる技術的事項との関係において新たな技術的事項を導入しないものか否か検討する。
　
　本願の当初明細書等には、以下の事項が記載されている。
「雰囲気遮断板１２０の中心部上面側には回転軸１２１が垂設されている。回転軸１２１の内側は中空となっており、その中空部分に処理液ノズル１２２が挿設されている。」（【0008】）、
「図１に戻って、雰囲気遮断板３０の中心部上面側には回転軸３５が垂設されている。回転軸３５は中空の円筒状部材であって、その内側の中空部分には上側処理液ノズル３６が挿設されている。」（【0050】）、
「上側処理液ノズル３６は回転軸３５を貫通しており、その先端部３６ａはチャックピン１４に保持された基板Ｗの中心部直上に位置する。」（【0051】）、
　図１には、軸芯線Ｊが記載されており、軸芯線Ｊは上側処理液ノズルの内部を通過するように記載されている。
　
　上記記載は、全て、従来技術も含めて、雰囲気遮断板に設けられる処理液ノズルが、雰囲気遮断板の中心部に設けられることを示しているが、雰囲気遮断板に設けられる処理液ノズルが、雰囲気遮断板の周辺部等中心部以外に設けられる点については、当初明細書等には記載も示唆もない。
　この点に関し、審判請求人は、平成２１年７月２９日付意見書で、
「（２）補正の内容および根拠
　特許請求の範囲については、請求項１に記載した「前記把持手段によって保持された基板の上面に処理液を吐出する処理液ノズル」を概念的に下位である「前記雰囲気遮断板に挿設され、前記把持手段によって保持された基板の上面に処理液を吐出する処理液ノズル」と限定する補正を行いました。この補正は、願書に最初に添付した明細書及び図面（当初明細書等）の[００５０]段落の「図１に戻って、雰囲気遮断板３０の中心部上面側には回転軸３５が垂設されている。回転軸３５は中空の円筒状部材であって、その内側の中空部分には上側処理液ノズル３６が挿設されている。」との記載に基づいております。
　よって、特許請求の範囲についての補正は、請求項の限定的減縮にあたるとともに、願書に最初に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内においてなされたものであると確信いたします。なお、「特許請求の範囲」以外についての補正は、特許請求の範囲と整合させるためのものであり、いずれも願書に最初に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内のものであると思料いたします。」、
「４）特許法第１７条の２第３項に規定する要件について
　同日付けでする手続補正によって、処理液ノズルの設置位置を雰囲気遮断板に挿設される位置と限定いたしました。また、本願請求項１に係る発明の特徴的事項は上述の通りであり、この特徴的事項の内容からすると、そもそも処理液ノズルの位置については本来的に技術上の意義を有さない事項であります。すなわち、上記特徴的事項（Ｂ）は「回転する基板の上面に吐出されて回転する雰囲気遮断板と基板との間を流れて飛散された処理液をスプラッシュガードの案内部にて受け止める」というものであり、基板の上面に処理液を吐出できれば処理液ノズルがどの位置にあるかは本来的に技術上の意義を有する事項ではなく、平成２１年５月１３日付けでした手続補正は新たな技術上の意義を追加するようなものではございません。よって、平成２１年５月１３日付けでした手続補正は願書に最初に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内でする補正であると思料いたします。
　さらに、同日付けでする手続補正後の「前記雰囲気遮断板に挿設され、前記把持手段によって保持された基板の上面に処理液を吐出する処理液ノズル」との記載も願書に最初に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内においてしたものであり、特許法第１７条の２第３項に規定する要件を満たしていないとの拒絶理由は解消し得たものと確信いたします。」
と主張している。
　しかし、請求人が補正の根拠と主張する【0050】には、請求人が意見書に記載したように、「図１に戻って、雰囲気遮断板３０の中心部上面側には回転軸３５が垂設されている。」と記載されており、処理液ノズルが設けられる回転軸が、雰囲気遮断板の中心部に設けられることが示され、処理液ノズルが設けられる回転軸が、雰囲気遮断板の周縁部等中心部以外に設けられることは記載されていないから、この点に関し請求人の主張は採用できない。
　また、請求人は「基板の上面に処理液を吐出できれば処理液ノズルがどの位置にあるかは本来的に技術上の意義を有する事項ではなく、平成２１年５月１３日付けでした手続補正は新たな技術上の意義を追加するようなものではございません。」と主張するが、この主張に基づけば、技術的意義がなければ新規事項であっても記載可能となるから、この点に関し請求人の主張は採用できない。しかも、処理液は雰囲気遮断板の回転による遠心力によって基板上を拡がる（【0057】参照）から、処理液ノズルを雰囲気遮断板の周縁部等中心部以外に設けた場合、雰囲気遮断板の中心部には拡がらないこととなり、この場合、どの様にして処理液を基板全体に行き渡らせるのか開示が無く、したがって、処理液ノズルを雰囲気遮断板の中心部に設けることに技術的意義が認められ、この点に関し、請求人の主張は採用できない。更に、処理液ノズルを雰囲気遮断板の周縁部等中心部以外に設けた場合、処理液ノズルは雰囲気遮断板の回転に伴って回転移動するが、この場合、処理液ノズルと処理液配管をどの様に接続するのか開示が無く、したがって、処理液ノズルを雰囲気遮断板の中心部に設けることに技術的意義が認められ、この点に関し、請求人の主張は採用できない。
　
　以上のとおりであるから、本件補正によって請求項１には、処理液ノズルが雰囲気遮断板の周辺部等中心部以外に挿設されるものが含まれ、したがって、当初明細書等のすべての記載を総合することにより導かれる技術的事項との関係において、新たな技術的事項を導入しないものではない。
　
（２）むすび
　したがって、本件補正は、特許法第１７条の２第３項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
　
［理由II］
　上記のとおり、本件補正は、特許法第１７条の２第３項の規定に違反するものであるが、仮に、本件補正が、新規事項の追加に該当しないものとして、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項の各号に掲げる事項を目的とするものに該当するかについて以下に検討する。
　
（１）補正後の本願発明
　平成２１年５月１３日付手続補正書に記載された請求項１は、以下のとおりである。
「【請求項１】　回転基台上に保持された基板を水平面内にて回転させつつ所定の処理を行う基板処理装置であって、
　前記回転基台上に設けられ、基板の周縁部を把持して当該基板を略水平姿勢にて保持する把持手段と、
　前記把持手段によって保持された基板を略鉛直方向に沿った軸を中心として回転させる基板回転手段と、
　前記把持手段よりも上方に配置され、前記把持手段によって保持された基板の径よりも大きな径を有して当該基板の上面に対向する雰囲気遮断板と、
　前記雰囲気遮断板を水平面内にて鉛直方向に沿った軸を中心として回転させる遮断板回転手段と、
　前記把持手段によって保持された基板の上面に処理液を吐出する処理液ノズルと、
　前記把持手段によって保持された基板に前記回転基台および前記雰囲気遮断板を介して不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段と、
　回転する基板から飛散した処理液を受け止める案内部を有するスプラッシュガードと、を備え、
　前記把持手段によって保持された基板の表面領域よりも小さい表面領域を有し、かつ、少なくとも当該基板の有効エリア上を覆う円柱形状の凸部を前記雰囲気遮断板の下面側に形成するとともに、
　回転する基板の上面に吐出されて回転する雰囲気遮断板と基板との間を流れて飛散された処理液を前記スプラッシュガードの前記案内部にて受け止めることを特徴とする基板処理装置。」
　
　本件補正により、特許請求の範囲の請求項１は、以下のように補正された。
「【請求項１】　回転基台上に保持された基板を水平面内にて回転させつつ所定の処理を行う基板処理装置であって、
　前記回転基台上に設けられ、基板の周縁部を把持して当該基板を略水平姿勢にて保持する把持手段と、
　前記把持手段によって保持された基板を略鉛直方向に沿った軸を中心として回転させる基板回転手段と、
　前記把持手段よりも上方に配置され、前記把持手段によって保持された基板の径よりも大きな径を有して当該基板の上面に対向する雰囲気遮断板と、
　前記雰囲気遮断板を水平面内にて鉛直方向に沿った軸を中心として回転させる遮断板回転手段と、
　
前記雰囲気遮断板に挿設され、
　前記把持手段によって保持された基板に前記回転基台および前記雰囲気遮断板を介して不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段と、
　回転する基板から飛散した処理液を受け止める案内部を有するスプラッシュガードと、を備え、
　前記把持手段によって保持された基板の表面領域よりも小さい表面領域を有し、かつ、少なくとも当該基板の有効エリア上を覆う円柱形状の凸部を前記雰囲気遮断板の下面側に形成するとともに、
　回転する基板の上面に吐出されて回転する雰囲気遮断板と基板との間を流れて飛散された処理液を前記スプラッシュガードの前記案内部にて受け止めることを特徴とする基板処理装置。」
　
　上記補正は、請求項１に記載された発明を特定するために必要な事項である「処理液ノズル」について、「前記雰囲気遮断板に挿設され」との限定を付加するものであって、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項第２号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　そこで、本件補正後の請求項１に記載された発明（以下、「本願補正発明」という）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか）について検討する。
　
（２）引用例
　これに対して、当審の拒絶の理由で引用された、特開平１１−３３００４１号公報（以下、「引用例１」という）には、図面とともに、以下の事項が記載されている。
　
１−ａ「図１は、この発明の一実施形態に係る基板処理装置の構成を示す図解的な断面図である。この基板処理装置は、ウエハＷを一枚ずつ洗浄するための枚葉型基板洗浄装置であり、処理チャンバ１内に、ウエハＷを水平に保持して回転することができるスピンチャック２（基板回転手段）を備えている。」（【0019】）
　
１−ｂ「処理チャンバ１は、有底筒状のカップ部１１と、このカップ部１１の上方開口を開閉できるように上下動自在に設けられた蓋体１２とを有している。この蓋体１２は、昇降機構１３によって、図示の処理位置と、この処理位置よりも上方の退避位置との間で昇降されるようになっている。蓋体１２が処理位置にあるときには、この蓋体１２の下面は、スピンチャック２に保持されたウエハＷの表面に近接した位置にあり、ウエハＷの上方の空間を制限している。一方、スピンチャック２が図外の基板搬送ロボットとの間で基板の授受を行うときには、蓋体１２は、昇降機構１３によって、上記退避位置に導かれることになる。」（【0020】）
　
１−ｃ「蓋体１２の中央には、複合ノズル３が組み込まれている。この複合ノズル３は、蓋体１２の下面の中央に形成された凹所３１と、この凹所３１の天面部３１ａを通るように蓋体１２を貫く洗浄液ノズル３２とを有しており、洗浄液ノズル３２と凹所３１の側面３１ｂとの間の空間は、不活性ガスとしての窒素ガスを吐出するための不活性ガスノズル３３をなしている。この不活性ガスノズル３３には、窒素ガス供給源３５から、窒素ガス用バルブ３６を介して、窒素ガスを供給できるようになっている。」（【0021】）
　
１−ｄ「洗浄液ノズル３２は、スピンチャック１に保持されたウエハＷの主面（上面）の中央付近に吐出口４０を有する吐出路４３を備えている。」（【0022】）
　
１−ｅ「スピンチャック２は、鉛直方向に沿って配置された回転軸２１と、この回転軸２１の上端に水平に固定されたスピンベース２２と、このスピンベース２２において回転軸２１から離隔した位置に立設された複数のチャックピン２３とを備え、チャックピン２３によってウエハＷの周端縁を把持する構成となっている。そして、回転軸２１には、モータなどを含む回転駆動機構２５からの回転力が与えられるようになっている。」（【0024】）
　
１−ｆ「チャックピンよりも上方に配置され、チャックピンによって保持されたウエハの径よりも大きな径を有してウエハの上面に対向し、チャックピンによって保持されたウエハの表面領域よりも小さな表面領域を有した裁頭円錐形状の凸部を下面側に形成した蓋体」（【図１】）
　
　上記記載に基づけば、ウエハ上に供給された洗浄液は、ウエハが回転することにより、遠心力で周端縁に運ばれ、その際、ウエハと蓋体の間を移動するものと認められる。また、図１及び上記記載に基づけば、ウエハの回転により、ウエハから飛散した洗浄液は、有底筒状のカップ部上方に設けられたテーパ部分で受け止められるものと認められる。
　
　上記記載事項からみて、引用例１には、
「スピンベース上に保持されたウエハを水平面内にて回転させつつ所定の処理を行う基板処理装置であって、
　前記スピンベース上に設けられ、ウエハの周端縁を把持して当該ウエハを水平姿勢にて保持するチャックピンと、
　前記チャックピンによって保持されたウエハを鉛直方向に沿った回転軸を中心として回転させる回転駆動機構と、
　前記チャックピンよりも上方に配置され、前記チャックピンによって保持されたウエハの径よりも大きな径を有して当該ウエハの上面に対向する蓋体と、
　前記蓋体に組み込まれ、前記チャックピンによって保持されたウエハの上面に洗浄液を吐出する洗浄液ノズルと、
　前記チャックピンによって保持されたウエハに前記蓋体を介して不活性ガスを供給する不活性ガスノズルと、
　回転するウエハから飛散した洗浄液を受け止めるテーパ部分を有する有底筒状のカップ部と、を備え、
　前記チャックピンによって保持されたウエハの表面領域よりも小さな表面領域を有した裁頭円錐形状の凸部を蓋体の下面側に形成するとともに、
　回転するウエハの上面に吐出されて蓋体とウエハとの間を流れて飛散された洗浄液を前記有底筒状のカップ部の前記テーパ部にて受け止める基板処理装置。」
との発明が記載されている。
　
　同じく、当審の拒絶の理由で引用された、特開２０００−８４５０３号公報（以下、「引用例２」という）には、図面とともに、以下の事項が記載されている。
　
２−ａ「被処理物は半導体ウェーハ、液晶表示装置用のガラス、磁気ディスクなどの板状基板である。被処理物保持手段は、回転によって発生する遠心力に抗して被処理物を保持できるものであることを要する。」（【0015】）
　
２−ｂ「さらに、前記被処理物に対して行なうべき処理に応じて供給する流体を選択して、前記被処理物の表裏面の処理を実行するようにしてもよい。被処理物に対して行うべき処理としては、洗浄処理を例にあげれば、洗浄、リンス、乾燥の３工程で１セットとなる。この場合、洗浄には所定割合のアンモニア＋過酸化水素水＋水や、フッ化水素酸＋水などの洗浄液、リンスには超純水、乾燥にはアルゴンやＮ2ガスなどの不活性ガスを使用する。これによれば、処理に応じて供給する流体を選択して、被処理物の表裏面の処理を実行するようにしたので、プロセスの共通化が図れ、流体処理効率が一層向上する。」（【0021】）
　
２−ｃ「表遮蔽板１１は被処理物１７を保持するときは引上げられるようになっている。表遮蔽板１１と裏遮蔽板１５は被処理物１７に対向する面で、被処理物１７に接触することなく略平行に配置される。被処理物１７と表遮蔽板１１および裏遮蔽板１５との距離は、流体の種類と流体処理の目的に応じて定めればよい。」（【0031】）
　
２−ｄ「前記表遮蔽板１１は板状被処理物１７よりも径がやや大きい円盤状をしており、板状被処理物１７の表面を覆うことにより、板状被処理物１７の回転によって発生する乱流で被処理物表面が汚染されるのを防ぐようになっている。表遮蔽板１１の中央に表供給口１９を突設し、この表供給口１９から、被処理物表面とこれに対向する表遮蔽板１１との間に流体を供給し、被処理物表面の処理を実行するようになっている。表遮蔽板１１の外周には、断面図に見られるように、裏面側から表面側外方に向かってテーパ面２１が形成され、テーパ面２１の終わりには表遮蔽板１１の全厚よりも薄い鍔状の外フード受部２２が形成されている。」（【0032】）
　
２−ｅ「裏遮蔽板１５の中央に、前記表供給口１９よりも長い裏供給口２０を突設し、この裏供給口２０から、被処理物裏面とこれに対向する裏遮蔽板１１との間に流体を供給し、被処理物裏面の処理を実行するようになっている。」（【0033】）
　
２−ｆ「例えば、図２のように連結部としての円板部２３の表面外周の４箇所に被処理物保持部２４を設けて、この被処理物保持部２４で被処理物１７の外周縁を下方から保持すれば足りる。」（【0034】）
　
２−ｇ「被処理物保持手段１８は、前記被処理物保持部２４の他に、被処理物保持部２４を外周に突設し中央に穴２６を有する円板部２３と、円板部２３の裏面中央に連結されて前記穴２６と連通する筒状の回転軸２５と、回転軸２５に結ばれたモータ１４にて構成されて、モータ１４により回転自在に設けられる。裏遮蔽板１５の円盤部４１は、被処理物保持手段１８の円板部２３上に非接触で配置される。被処理物保持手段１８の筒状回転軸２５の内部から裏遮蔽板１５の裏供給口２０が同軸で非接触で取り出される。したがって、被処理物保持手段１８は、回転しない裏遮蔽板１５とは非接触に配置され、モータ１４により被処理物１７のみの回転を達成する。」（【0035】）
　
２−ｈ「上述した図１〜図４の実施の形態ではいずれも被処理物保持手段１８ないし被処理物１７が回転し、表遮蔽板１１および裏遮蔽板１５が固定されている場合について説明した。しかし、本発明は被処理物１７と表・裏遮蔽板１１、１５とが相対的に回転している場合に適用できる。相対的回転例としては、上記実施の形態の他に、被処理物保持手段および表・裏遮蔽板がともに回転する場合、被処理物保持手段が固定で、表・裏遮蔽板が回転する場合がある。」（【0046】）
　
２−ｉ「図５に示すものは、表・裏遮蔽板８１、８２が固定ではなく回転するようになっており、被処理物保持手段８３が回転せずに固定となっている点を除けば、基本的には図４の実施の形態と同じである。すなわち、被処理物保持手段８３からモータを取り去って被処理物保持手段８３を固定としている。表・裏遮蔽板８１、８２には、それぞれモータ８４、８５を取り付けて、表・裏遮蔽板８１、８２を同軸回転自在としている。」（【0047】）
　
２−ｊ「板状基板を略水平姿勢にて保持する被処理物保持手段と、板状基板を略鉛直方向に沿った回転軸を中心として回転させるモータ」（図１）
　
　上記記載事項からみて、引用例２には、
「被処理物保持手段上に保持された板状基板を水平面内にて回転させつつ所定の処理を行う基板処理装置であって、
　前記被処理物保持手段上に設けられ、板状基板の外周縁を保持して略水平姿勢にて当該板状基板を保持する被処理物保持部と、
　前記被処理物保持部によって保持された板状基板を略鉛直方向に沿った回転軸を中心として回転させるモータと、
　前記被処理物保持部よりも上方に配置され、前記被処理物保持部によって保持された板状基板の径よりもやや大きな径を有して当該板状基板の上面に対向する表遮蔽板と、
　前記表遮蔽板を水平面内にて略鉛直方向に沿った軸を中心として回転させるモータと、
　前記表遮蔽板に突設され、前記被処理物保持部によって保持された板状基板の上面に流体を吐出する表供給口と、
　前記被処理物保持部によって保持された板状基板に前記被処理物保持手段および前記表遮蔽板を介して不活性ガスを供給する表供給口と裏供給口と、を備え、
　前記被処理物保持部によって保持された板状基板の表面領域よりも小さい表面領域を有し、かつ、少なくとも当該板状基板上を覆うテーパ形状の凸部を前記表遮蔽板の下面側に形成するとともに、
　回転する板状基板の上面に吐出されて回転する表遮断板と板状基板との間を流体が流れて飛散する基板処理装置。」
との発明が記載されている。
　
　同じく、当審の拒絶の理由で引用された、特開平１１−１６９８０３号公報（以下、「引用例３」という）には、図面とともに、以下の事項が記載されている。　
　
３−ａ「【課題】　被洗浄物の表面に対する洗浄効果を低下させずに、被洗浄物の裏面の洗浄を同時に可能にすること。
【解決手段】　超音波洗浄装置本体１の下方に長手状に形成された洗浄液導出部２２の長手方向両端部に切り欠き凹部２２ａを設けるとともに、保持台３の上面に基板２０の裏面用洗浄液噴出口１２を設けることによって、チャック部材２に阻害されることなく理想的な近接距離に超音波洗浄装置本体１を設置することができ、しかも基板２０の裏面の洗浄を表面と同時に行うことができる。」（【要約】）
　
３−ｂ「図１および図２に示すように、カバー１５ａおよび下台１５ｂを有する超音波洗浄装置１５は、超音波洗浄装置本体１と、半導体ウェハなどの被洗浄物としての基板２０を固定保持する保持台３と、保持台３上に設けた基板支持手段としての複数の針状の保持ピン３ｂと、保持手段としてのフック状のチャック部材２とを備えている。」（【0047】）
　
３−ｃ「また、保持手段としてのチャック部材２は、基板２０の円周に沿って等間隔で４ヶ所に配設されている。図３に示すように、前記チャック部材２は、図示せぬ開閉機構により開閉可能になっており、開状態で基板２０を上方より受け入れて基板２０が前記保持ピン３ｂ上に載置されると閉じて図６に示す基板２０の周縁端部２０ｂを係合保持して固定する。前記保持ピン３ｂおよびチャック部材２は、少なくとも３ヶ所以上設ければよい。
　また、図１および図２に示すように、軸１３は、一端が保持台３の裏側中心に連結され、他端は駆動手段（図示せず）に連結されており、この駆動手段により軸１３は、正逆回転可能（図１および図２では矢印Ｘ方向に回転する）となっている。この回転は、約１８００〜２０００ｒ．ｐ．ｍ（リボリューションパーミニッツ）となっている。また、前記軸１３の回転中心には、基板２０の裏面を洗浄するための洗浄液を供給する洗浄液供給路２４が形成され、保持台３の中心を貫通して保持台３の上面の回転中心に裏面用洗浄液噴出口１２が配設されている。」（【0050】−【0051】）
　
３−ｄ「また、図１および図３に示すように、前記洗浄液導出部２２の長手方向の両端部には、凹部２２ａが形成されている。前記洗浄液導出部２２の凹部（切り欠き凹部）２２ａは、チャック部材２の凸部に対応した深さ、並びに径方向および周方向の幅に対応した切り欠きとなっている。
　チャック部材２が基板２０の表面上部に略８ｍｍ〜１０ｍｍ程度の凸部であれば、前記切り欠き凹部２２ａの深さｄは、略５ｍｍ程度で形成すればよい。従って、超音波振動子４および洗浄液導出部２２の長手方向の幅が基板２０の直径よりも大きい場合であっても基板２０の表面から上方略３ｍｍ〜５ｍｍの距離内に超音波洗浄装置本体１を配置可能な構成となっている。
　また、洗浄液導出部２２の凹部２２ａの基板２０の径方向における長さｘは、図６に示す基板２０のパターン形成面２０ａよりも外側に形成する必要がある。すなわち、パターン形成面２０ａは、基板２０の周縁端部２０ｂの少なくとも内側に形成されているので、この周縁端部２０ｂの範囲若しくはこの周縁端部２０ｂからパターン形成面２０ａの最外周部近傍までの範囲で洗浄液導出部２２の一部を切り欠いて形成する。」（【0056】−【0058】）
　
３−ｅ「基板を略水平姿勢にて保持する保持台と、基板を略鉛直方向に沿った軸を中心として回転させる駆動手段」（図１、図２）
　
　上記記載に基づけば、超音波洗浄装置の洗浄液導出部に凹部を設けると、凹部ではない部分は、凹部を基準とすれば凸部となり、当該凸部の形状は角柱形状となる。
　
　上記記載事項からみて、引用例３には、
「保持台上に保持された基板を回転させつつ洗浄を行う洗浄装置であって、
　前記保持台上に設けられ、基板の周縁部端を係合保持して当該基板を略水平姿勢にて保持する保持ピンと、
　前記保持ピンによって保持された基板を略鉛直方向に沿った軸を中心として回転させる駆動手段と、
　前記保持ピンよりも上方に配置され、前記保持ピンによって保持された基板の径よりも大きな径を有して当該基板の上面に対向する超音波洗浄装置と、を備え、
　前記保持ピンによって保持された基板の表面領域の径よりも小さい径を有し、かつ、少なくとも当該基板のパターン形成面の径よりも大きい径の角柱形状の凸部を前記超音波洗浄装置の下面側に形成した洗浄装置。」
との発明が記載されている。
　
　同じく、当審の拒絶の理由で引用された、特開２０００−３３３４５号公報（以下、「引用例４」という）には、図面とともに、以下の事項が記載されている。　
　
４−ａ「図３は第１実施例に係る基板洗浄装置の全体構成を示す縦断面図である。図３に示す装置は、回転可能に基板Ｗを保持するスピンチャック１や、処理カップ２、スプラッシュガード３、上部雰囲気遮断部材４などを備えている。
　スピンチャック１は、電動モーター１０によって鉛直方向の軸芯Ｊ周りで回転される回転軸１１の上端部に円板状のスピンベース１２が一体回転可能に連結されている。」（【0045】−【0046】）
　
４−ｂ「各基板処理部材１３は、従来と同様に、スピンベース１２の上面から隔てて基板Ｗの外周部を支持する支持部１４と支持部１４に支持された基板Ｗの外周端縁を押圧して保持する保持部１５とを備えている。」（【0049】）
　
４−ｃ「回転軸１１は筒状の部材で構成され、その中空部には、液供給管１６が貫通されている。この液供給管１６の上端部の液供給口１６ａから、スピンチャック１に保持された基板Ｗの下面（通常は裏面）に処理液を供給して洗浄を行ったり、リンス液を供給してリンス処理を行ったりできるようになっている。また、回転軸１１の内壁面と液供給管１６の外壁面との間の円筒状の空間は、気体供給路１７になっており、その上端部の気体供給口１７ａからスピンベース１２の上面と保持された基板Ｗの下面との間の空間１８に、窒素ガスなどの不活性ガスやドライエアなどの気体が供給できるように構成されている。」（【0050】）
　
４−ｄ「具体的には、スプラッシュガード３は、スピンチャック１に保持されて回転される基板Ｗから側方に飛散される処理液を処理液案内部３２で受け止める洗浄高さ（ＱＨ、図４参照）と、同じくスピンチャック１に保持されて回転される基板Ｗから側方に飛散されるリンス液をリンス液案内部３３で受け止めるリンス処理高さ（ＲＨ、図３、図５参照）と、スプラッシュガード３の上端３８よりも上方の位置に、スピンチャック１に保持された基板Ｗが配置される基板受け渡し高さ（ＨＨ、図６参照）との３段階の高さに選択的に昇降される。」（【0060】）
　
４−ｅ「上部雰囲気遮断部材４は、スピンチャック１に保持された基板Ｗの上面に対向する対向面を有する。この上部雰囲気遮断部材４は、図示しない昇降機構により昇降可能な支持アーム４０の先端部に設けられた支軸４１に懸垂支持されていて、支持アーム４０を昇降することで、上部雰囲気遮断部材４が、スピンチャック１に保持された基板Ｗに対して離間する。また、必要に応じて支持アーム４０に対して支軸４１を回転可能に構成して、上部雰囲気遮断部材４が鉛直方向の軸芯周りで回転可能に構成される。
　上部雰囲気遮断部材４及び支軸４１には、スピンチャック１と同様の構成により、液供給管４２と気体供給路４３とが設けられている。そして、上部雰囲気遮断部材４がスピンチャック１に保持された基板Ｗに近接配置された状態で、液供給管４２の先端の液供給口４２ａからスピンチャック１に保持された基板Ｗの上面に処理液とリンス液とが選択的に供給でき、上部雰囲気遮断部材４の下面とスピンチャック１に保持された基板Ｗの上面との間の空間４４に、気体供給路４３の先端の気体供給口４３ａから気体を供給する。」（【0061】−【0062】）
　
４−ｆ「基板を水平姿勢にて保持するスピンチャックと、スピンチャックの保持部よりも上方に配置され、保持部によって保持された基板の径よりも大きな径を有して基板の上面に対向する上部雰囲気遮断部材」（図３）
　
　上記４−ｅに基づけば、上部雰囲気遮断部材は回転可能に構成されているから、何某かの回転手段を有しているものと認められる。
　
　上記記載事項からみて、引用例４には、
「スピンベース上に保持された基板を水平面内にて回転させつつ所定の処理を行う基板洗浄装置であって、
　前記スピンベース上に設けられ、基板の外周端縁を押圧して当該基板を略水平姿勢にて保持する保持部と、
　前記保持部によって保持された基板を鉛直方向に沿った回転軸を中心として回転させる電動モーターと、
　前記保持部よりも上方に配置され、前記保持部によって保持された基板の径よりも大きな径を有して当該基板の上面に対向する上部雰囲気遮断部材と、
　前記上部雰囲気遮断部材を水平面内にて鉛直方向に沿った軸を中心として回転させる上部遮断板回転手段と、
　前記上部雰囲気遮断部材に挿設され、前記保持部によって保持された基板の上面に処理液を供給する液供給管と、
　前記保持部によって保持された基板に前記スピンベースおよび前記上部雰囲気遮断部材を介して不活性ガスを供給する気体供給路と、
　回転する基板から飛散した処理液を受け止める処理液案内部を有するスプラッシュガードと、を備え、
　回転する基板の上面に供給されて回転する上部雰囲気遮断部材と基板との間を流れて飛散された処理液を前記スプラッシュガードの前記処理液案内部にて受け止める基板洗浄装置。」
との発明が記載されている。
　
　
（３）対比
　そこで、本願補正発明と引用例１に記載された発明とを比較すると、引用例１に記載された発明の「スピンベース」、「ウエハ」、「周端縁」、「回転軸」、「回転駆動機構」、「蓋体」、「洗浄液」、「洗浄液ノズル」、「不活性ガスノズル」、「テーパ部分」、「有底筒状のカップ部」は、その機能をも考慮すると、それぞれ本願補正発明の「回転基台」、「基板」、「周縁部」、「軸」、「基板回転手段」、「雰囲気遮断板」、「処理液」、「処理液ノズル」、「不活性ガス供給手段」、「案内部」、「スプラッシュガード」に相当する。
　本願補正発明や引用例１に記載された発明のような基板処理装置は、基板を鉛直方向の軸に支持された回転基台上で回転させて、上面に供給された処理液を遠心力で基板周囲に移動させるものであり、基板は水平に保持されているから、引用例１に記載された発明の「水平姿勢」、「鉛直方向」は、それぞれ本願補正発明の「略水平姿勢」、「略鉛直方向」に相当し、また、引用例１に記載された発明の洗浄液ノズルは、「蓋体に組み込まれ」ているが、その構成・機能から判断して、洗浄液ノズルは、「蓋体に挿設され」ているものと認められる。
　
　したがって、両者は、
「回転基台上に保持された基板を水平面内にて回転させつつ所定の処理を行う基板処理装置であって、
　前記回転基台上に設けられ、基板の周縁部を把持して当該基板を略水平姿勢にて保持する把持手段と、
　前記把持手段によって保持された基板を略鉛直方向に沿った軸を中心として回転させる基板回転手段と、
　前記把持手段よりも上方に配置され、前記把持手段によって保持された基板の径よりも大きな径を有して当該基板の上面に対向する雰囲気遮断板と、
　前記雰囲気遮断板に挿設され、前記把持手段によって保持された基板の上面に処理液を吐出する処理液ノズルと、
　前記把持手段によって保持された基板に前記雰囲気遮断板を介して不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段と、
　回転する基板から飛散した処理液を受け止める案内部を有するスプラッシュガードと、を備え、
　前記把持手段によって保持された基板の表面領域よりも小さい表面領域を有し、当該基板上を覆う凸部を前記雰囲気遮断板の下面側に形成するとともに、
　回転する基板の上面に吐出されて回転する雰囲気遮断板と基板との間を流れて飛散された処理液を前記スプラッシュガードの前記案内部にて受け止めることを特徴とする基板処理装置。」
の点で一致し、以下の点で相違している。
　
〔相違点１〕
　本願補正発明は、雰囲気遮断板を水平面内にて鉛直方向に沿った軸を中心として回転させる遮断板回転手段を有しているのに対し、引用例１に記載された発明は、雰囲気遮断板である蓋体が遮断板回転手段を有しておらず回転しない点。
〔相違点２〕
　本願補正発明は、基板に回転基台を介して不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段を有しているのに対し、引用例１に記載された発明は、回転基台が不活性ガス供給手段を有していない点。
〔相違点３〕
　本願補正発明は、雰囲気遮断板の下面側には、円柱形状の凸部が少なくとも基板の有効エリア上を覆うように設けられているのに対し、引用例１に記載された発明は、雰囲気遮断板の下面側には、裁頭円錐形状の凸部が基板上を覆うように設けられており、少なくとも基板の有効エリア上を覆っているか否か不明な点。
　
　
（４）判断
〔相違点１〕について
　雰囲気遮断板を水平面内にて鉛直方向に沿った軸を中心として遮断板回転手段で回転させる点は、例えば引用例２、引用例４及び特開２０００−２１８４１号公報（【0067】参照）等にもみられるように周知の技術であるから、引用例１記載のものにおいても、上記周知技術を適用して、雰囲気遮断板を水平面内にて鉛直方向に沿った軸を中心として遮断板回転手段で回転させることは、当業者が容易に考えられたものと認められる。
　
〔相違点２〕について
　基板に回転基台を介して、処理液を供給する処理液ノズルと不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段を設ける点は、例えば引用例２、引用例４及び特開２０００−２１８４１号公報（【0033】、【0080】参照）等にもみられるように周知の技術であるから、引用例１記載のものにおいても、上記周知技術を適用して、回転基台に基板用の処理液ノズルと共に不活性ガス供給手段を設けることは、当業者が容易に考えられたものと認められる。
　
〔相違点３〕について
　基板の上面側に配置された部材を、基板に近接配置するために、当該部材の把持手段に対応する端部を切り欠いて、部材の形状を凸部形状とすることは、引用例３に示されており、引用例１、２記載のものも、雰囲気遮断板の下面側に凸部を設けているから、凸部を設けないものに比べて結果的に基板に近接配置できるものと認められ、また、当該凸部が基板の有効領域であるパターン形成面の径よりも大きい径の凸部を設けることは引用例３に記載されており、しかも、雰囲気遮断板を設ける理由が、基板への汚染物質の付着防止等であるから、基板の有効領域に汚染物質等が付着することは避けなければならないことを考慮すれば、雰囲気遮断板に設けられる凸部は、少なくとも基板の有効領域を覆うものでなければならないから、引用例１に記載された発明においても、雰囲気遮断板の下面側の凸部が少なくとも基板の有効エリア上を覆うように設けられているものと認められ、その際、凸部の形状を円柱形状とするか否かは、凸部を円柱形状にすることによる格別な作用効果も認められず、且つ、把持手段の形状・配置等を考慮すれば、当業者であれば適宜採用でき得る形状であると認められる。
　
　そして、本願補正発明の奏する作用効果も、引用例１−４及び周知技術から当業者が予測し得る範囲のものである。
　したがって、本願補正発明は、引用例１に記載された発明、引用例２に記載された発明、引用例３に記載された発明、引用例４に記載された発明及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
　
（５）むすび
　したがって、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
　
３．本願発明
　本件補正は、上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、上記した平成２１年５月１３日付の手続補正書の特許請求の範囲の請求項１に記載されたとおりのものである。
　
　
４．当審の拒絶の理由
　当審で平成２１年５月２６日付で通知した拒絶の理由の概要は、以下のとおりである。
　
『この出願の下記の請求項に係る発明は、その出願前に日本国内又は外国において、頒布された下記の刊行物に記載された発明又は電気通信回線を通じて公衆に利用可能となった発明に基いて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。 
 　 
 　　　　　記　　　（引用文献等については引用文献等一覧参照） 
 ・請求項１−３ 
 ・引用文献等　１−４ 
 ・備考 
 　引用例１には、「基板にエッチング処理、リンス処理、スピンドライ処理を行い、当該基板をチャックピンで保持し、周辺部に凹部を有する蓋体を当該基板に対向させた基板処理装置」（特に、図１参照）が記載されている。 
 　引用例２には、「基板を被処理物保持手段で保持し、表遮蔽板を当該基板に対向させた液体処理装置」（特に、図面参照）が記載されている。 
 　引用例３には、「被洗浄物の表面に対する洗浄効果を低下させずに、被洗浄物の裏面の洗浄を同時に可能にするために、超音波洗浄装置本体の下方に長手状に形成された洗浄液導出部の長手方向両端部に切り欠き凹部を設けるとともに、保持台の上面に基板の裏面用洗浄液噴出口を設けることによって、チャック部材に阻害されることなく理想的な近接距離に超音波洗浄装置本体を設置した基板洗浄装置」（特に、要約、特許請求の範囲、図面参照）が記載されている。 
 　引用例４には、「回転基台上に保持された基板を水平面内にて回転させつつ所定の処理を行う基板処理装置であって、回転基台上に設けられ、基板の周縁部を把持して当該基板を略水平姿勢にて保持する把持手段と、把持手段によって保持された基板を略鉛直方向に沿った軸を中心として回転させる基板回転手段と、把持手段よりも上方に配置され、把持手段によって保持された基板の径よりも大きな径を有して当該基板の上面に対向する雰囲気遮断板と、雰囲気遮断板を水平面内にて鉛直方向に沿った軸を中心として回転させる遮断板回転手段と、把持手段によって保持された基板の上面に処理液を吐出する処理液ノズルと、把持手段によって保持された基板に回転基台および雰囲気遮断板を介して気体を供給する気体供給手段と、回転する基板から飛散した処理液を受け止める案内部を有するスプラッシュガードとを備え、回転する基板の上面に吐出されて回転する雰囲気遮断板と基板との間を流れて飛散された処理液をスプラッシュガードの案内部にて受け止める基板処理装置」（特に、図３、第１実施例参照）が記載されている。 
 　 
 　 
 　平成２１年５月１３日付でした手続補正は、下記の点で願書に最初に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内においてしたものでないから、特許法第１７条の２第３項に規定する要件を満たしていない。 
 　 
 　　　　　　　　　　　　　　　　　記 
 （１）補正後の請求項１には、「前記把持手段によって保持された基板の上面に処理液を吐出する処理液ノズル」とあり、この記載によれば、処理液ノズルは、基板上面に処理液を供給できればどの位置にあっても良いこととなるが、この点は願書に最初に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内にない。（審判請求人が補正の根拠と主張する【0051】には、「上側処理液ノズル３６は回転軸３５を貫通しており、その先端部３６ａはチャックピン１４に保持された基板Ｗの中心部直上に位置する。」と記載があるのみである。）』 
　
　
５．当審の判断
（１）特許法第１７条の２第３項について
　本願発明は、前記［理由Ｉ］（１）で検討した本願補正発明から、「処理液ノズル」の限定事項である「前記雰囲気遮断板に挿設され、」との構成を省いたものである。
　そうすると、処理液ノズルに関し、上記限定事項を含んだ本願補正発明が、前記［理由Ｉ］（１）に記載したとおり、当初明細書等のすべての記載を総合することにより導かれる技術的事項との関係において、新たな技術的事項を導入しないものではないから、処理液ノズルが雰囲気遮断板に設けられないものをも含む本願発明も、当初明細書等のすべての記載を総合することにより導かれる技術的事項との関係において、新たな技術的事項を導入しないものではない。
　
（２）特許法第２９条第２項について
　当審の平成２１年５月２６日付で通知した拒絶の理由に引用された引用例、及び、その記載事項は、前記［理由II］（２）に記載したとおりである。
　本願発明は、前記［理由II］で検討した本願補正発明から、「処理液ノズル」の限定事項である「前記雰囲気遮断板に挿設され、」との構成を省いたものである。
　そうすると、本願発明の構成要件を全て含み、さらに他の構成要件を付加したものに相当する本願補正発明が、前記［理由II］（４）に記載したとおり、引用例１に記載された発明、引用例２に記載された発明、引用例３に記載された発明、引用例４に記載された発明及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、同様の理由により、引用例１に記載された発明、引用例２に記載された発明、引用例３に記載された発明、引用例４に記載された発明及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
　
６．むすび
　以上のとおり、本願発明は、当初明細書等のすべての記載を総合することにより導かれる技術的事項との関係において、新たな技術的事項を導入しないものではないから、特許法第１７条の２第３項の規定に違反するので、特許を受けることができず、また、引用例１に記載された発明、引用例２に記載された発明、引用例３に記載された発明、引用例４に記載された発明及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。