【事件の表示】
　特願２００１−　２３３８６「イオン注入装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１４年　８月１６日出願公開、特開２００２−２３１１７７〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１　手続の経緯　
　本願は、平成１３年１月３１日の出願であって、平成１９年４月２３日及び同年１１月１９日付けで手続補正がなされ、平成１９年１１月１９日付け手続補正が平成２０年６月１２日付けで却下されるとともに、同日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、平成２０年７月１７日に拒絶査定不服審判請求がなされ、同年８月１８日付けで手続補正がなされ、当審において、平成２０年８月１８日付け手続補正は平成２１年１２月１８日付けで却下されるとともに、同日付けで拒絶理由が通知され、平成２２年２月２２日付けで手続補正がなされたものである。
　
２　本願発明について
　本願の請求項に係る発明は、平成２２年２月２２日付けの手続補正によって補正された明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１ないし８に記載された事項により特定されるとおりのものと認められるところ、請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は次のとおりのものである。
　
「　真空の雰囲気に保たれた処理室と、イオン源から出射されたイオンビームを前記処理室内に入射するイオンビーム入射手段と、前記処理室内に配置され前記イオンビームが照射されるイオン注入対象のウエハを保持する保持手段と、前記処理室内におけるイオンビームの照射領域を前記ウエハが通過するように前記保持手段を移動させる搬送手段とを備え、
　前記保持手段は、前記ウエハが載置される円盤状のホルダベースを備え、該ホルダベースの外周側に固定されその一部が前記ホルダベースの径方向に沿って突出した固定部材と該固定部材に相対向させて前記ホルダベースの反対側に配置された少なくとも２つのホルダピンとで前記ウエハを保持するように形成され、
　前記ホルダピンは、前記ホルダベースに載置されるウエハの当該ホルダベースに対向する面に対して垂直な軸を有し、前記ホルダベースの中央方向であって、前記ホルダベースに載置されるウエハの中心に対し前記固定部材側に偏心した方向に移動可能に付勢するばねを備えた支持部材によって前記軸周りに回転自在に支持され、
　前記ホルダピンは、前記軸を中心として回転し、前記ばねの弾性力によって前記ウエハの側面に沿って移動しつつ回転するように構成されてなるイオン注入装置。」
　
３　刊行物の記載事項
（１）原査定の拒絶の理由に引用され本願出願前に頒布された刊行物である特開２０００−１８３１３９号公報（以下「刊行物１」という。）には、図とともに次の事項が記載されている（下線は、当審で付した。以下同じ。）。
　
ア　「【００１８】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態を図面に基づいて説明する。図１は、本発明の一実施形態を示すＳｉＭＯＸ用イオン注入装置の全体構成図である。
【００１９】図１において、
ＳｉＭＯＸ用イオン注入装置は、イオン源１０、質量分離器１２、処理室（真空容器）としてのエンドステーション１４、スキャンボックス１６、回転用モータ１８、回転ディスク２０、ウエハホルダ２２を備えて構成されており
イオン源１０から出射されたイオンビーム２８は質量分離器（イオンビーム照射手段）１２によって所定の質量を有するイオンのみに分離される
エンドステーション１４内に入射されるようになっている
ウエハホルダ２２に保持されたイオン注入対象としてのシリコンウエハ３０に照射されるようになっている
【００２０】
ウエハホルダ２２は複数個
用意されており
各ウエハホルダ２２は、ほぼ円板状に形成されて、互いに一定の間隔を保って回転ディスク２０外周側に配置されて固定されている
回転ディスク２０はスキャンボックス１６内のモータ１８によって回転駆動される
【００２１】各
シリコンウエハ３０は
その裏面側のうちイオン注入領域に対応した領域がウエハホルダ２２と一定の間隙を保った状態でかつ外周側の一部の領域が保持手段に接触した状態で保持されている
【００２２】具体的には、
シリコンウエハ３０を保持するための保持手段は
一方の保持部３４と他方の保持部３６とを備えて構成されている
保持部３４と保持部３６はウエハホルダ２２の中心を間にして相対向して配置されている
保持部３４はウエハホルダ２２およびシリコンウエハ３０が配置された領域のうち回転ディスク２０の回転中心から最も離れた領域に対応した位置に配置され
本体３５がボルト３８によってウエハホルダ２２に固定されており、本体３５の外周側には円弧形状のガイド４０が形成されている
【００２３】一方、
保持部３６は、シリコンで構成されたウエハ支持片４２、弾性体としたのコイルばね４４、Ｕ字形板ばね４６、固定部材としてのブラケット４８と位置決めブロック５０を備えて構成されており
ウエハ支持片４２は軸状部材として構成されており、上部側に大径部５２が形成
大径部５２には円環状の溝５４が形成されており、この溝５４内にシリコンウエハ３０の外周側端面が挿入されている
ウエハ支持片４２の小径部５３はＵ字形の取付金具５６とねじ５８によって狭持されており
取付金具５６の底部側には突起６０が形成されており、この突起６０の外周側にコイルばね４４の一端側が装着されている。コイルばね４４の他端側は取付金具６２の突起６４に装着されており、取付金具６２の上部側には板ばね４６がボルト６６によって固定されている
板ばね４６の開き角度が調整でき
この板ばね４６の開き角度を調整することにより、ウエハ支持片４２の位置を設定でき
シリコンウエハ３０とほぼ平行に配置されたコイルばね４４の弾性力がウエハ支持片４２に作用することで
ウエハ支持片４２によりシリコンウエハ３０の外周側端面を保持することができるようになっている
【００２４】本実施形態においては、シリコンウエハ３０を保持するに際して、シリコンウエハ３０の裏面側がウエハホルダ２２と接触していないため、ヒータの加熱に伴う熱エネルギーがシリコンウエハ３０に伝わった際、シリコンウエハ３０の熱エネルギーがウエハホルダ２２に伝わるのを抑制することができ、シリコンウエハ３０の温度を速やかに上昇させることができるとともに、シリコンウエハ３０を高温状態、例えば６００℃に維持することができる。さらに、イオンビーム２８がシリコンウエハ３０に照射された場合でも、シリコンウエハ３０の裏面側がウエハホルダ２２と接触していないため、シリコンウエハ３２を高温に加熱することができるとともに高温状態に維持することが可能になる。
【００２５】一方、ヒータ加熱およびビーム照射に伴って
シリコンウエハ３０が径方向に沿って１方向あるいはランダムな方向に熱伸びによって熱変形した場合、シリコンウエハ３０が伸びた方向に対してコイルばね４４が縮み、ウエハ支持片４２がシリコンウエハ３０の熱伸びの動きに追従するように動く。これによりシリコンウエハ３０の熱伸びを吸収することが可能になり、シリコンウエハ３０の熱ストレスに伴う割れ、欠け、反りを防止することができるとともに、熱伸びに伴ってウエハ支持片４２やウエハホルダ２２からパーティクルが発生するのを防止することができる
【００２６】本実施形態によれば、シリコンウエハ３０を高温状態に維持することができるとともに、シリコンウエハ３０の熱伸びに伴ってシリコンウエハ３０に割れ、欠け、反りが生じるのを防止することができるとともにパーティクルが発生するのを防止することが可能になる。」
　
イ　「【００４０】前記各実施形態においては、保持部３６を１個所設けることについて述べたが、図７に示すように、
保持部３６を２個所に設けることでシリコンウエハ３０の熱伸びをより確実に吸収することができる
　
ウ　上記アに照らして図２及び図３をみると、保持部３４は、ウエハホルダ２２の径方向の外側に突出するガイド４０を有することがみてとれる。
　
エ　上記アないしウからみて、刊行物１には、
「イオン源１０、質量分離器１２、処理室（真空容器）としてのエンドステーション１４、スキャンボックス１６、回転用モータ１８、回転ディスク２０、ウエハホルダ２２を備えて構成されたＳｉＭＯＸ用イオン注入装置において、
　前記イオン源１０から出射されたイオンビーム２８は質量分離器（イオンビーム照射手段）１２によって所定の質量を有するイオンのみに分離され、エンドステーション１４内に入射され、ウエハホルダ２２に保持されたイオン注入対象としてのシリコンウエハ３０に照射されるようになっており、
　前記ウエハホルダ２２は、複数個用意されており、各ウエハホルダ２２は、ほぼ円板状に形成され互いに一定の間隔を保って前記スキャンボックス１６内の前記モータ１８によって回転駆動される前記回転ディスク２０の外周側に配置されて固定されており、
　前記シリコンウエハ３０は、その裏面側のうちイオン注入領域に対応した領域が前記ウエハホルダ２２と一定の間隙を保った状態で保持され、その外周側の一部の領域がウエハホルダ２２の中心を間にして相対向して配置された保持部３４と保持部３６から構成される保持手段に接触した状態で保持されており、
　保持部３４は、ウエハホルダ２２およびシリコンウエハ３０が配置された領域のうち回転ディスク２０の回転中心から最も離れた領域に対応した位置に配置され、本体３５がボルト３８によってウエハホルダ２２に固定され本体３５の外周側には円弧形状のガイド４０が形成されており、該ガイド４０は前記ウエハホルダ２２の径方向の外側に突出し、
　前記保持部３６は、シリコンで構成されたウエハ支持片４２、弾性体としたコイルばね４４、Ｕ字形板ばね４６、固定部材としてのブラケット４８と位置決めブロック５０を備えて構成されており、前記ウエハ支持片４２は軸状部材として構成され、その上部側に大径部５２が形成され、前記大径部５２には円環状の溝５４が形成され、この溝５４内に前記シリコンウエハ３０の外周側端面が挿入されており、前記ウエハ支持片４２の小径部５３はＵ字形の取付金具５６とねじ５８によって狭持され、前記取付金具５６の底部側には突起６０が形成され、この突起６０の外周側にコイルばね４４の一端側が装着され、コイルばね４４の他端側は取付金具６２の突起６４に装着され、取付金具６２の上部側には板ばね４６がボルト６６によって固定され、前記板ばね４６は開き角度が調整できてこの角度を調整することにより前記ウエハ支持片４２の位置を設定でき、前記シリコンウエハ３０とほぼ平行に配置された前記コイルばね４４の弾性力が前記ウエハ支持片４２に作用することで、前記ウエハ支持片４２により前記シリコンウエハ３０の外周側端面を保持することができるようになっており、
　前記シリコンウエハ３０が径方向に沿って１方向あるいはランダムな方向に熱伸びによって熱変形した場合、前記シリコンウエハ３０が伸びた方向に対して前記コイルばね４４が縮み、前記ウエハ支持片４２が前記シリコンウエハ３０の熱伸びの動きに追従するように動き、前記シリコンウエハ３０の熱伸びを吸収することが可能になり、シリコンウエハ３０の熱ストレスに伴う割れ、欠け、反りを防止することができるとともに、熱伸びに伴ってウエハ支持片４２やウエハホルダ２２からパーティクルが発生するのを防止することができ、さらに、前記保持部３６を２個所に設けることでシリコンウエハ３０の熱伸びをより確実に吸収することができる、ＳｉＭＯＸ用イオン注入装置。」
の発明（以下「引用発明」という。）が記載されていると認められる。
　
（２）同じく特開平９−２１９４３７号公報（以下「刊行物２」という。）には、図とともに次の事項が記載されている。　
　
ア　「【００１８】図１には、一実施形態に係る位置決め装置１０の平面図が示されている。この位置決め装置１０は、例えば露光装置のウエハステージ１２上にノッチ付きウエハＷを位置決めするためのものである。この
位置決め装置１０は、略正方形のウエハステージ１２上に載置された円板状のウエハホルダ１３の中心部に設けられた円柱状のセンターアップ１４と、ウエハホルダ１３の外周部３箇所の所定の位置（この配置については後述する）にそれぞれ設けられた位置決めピンとしての基準ローラ１６、１８、２０と、ノッチが０度方向（図１における真下方向）に位置する状態でノッチ付きウエハＷを位置決めするための第１の位置決めハンマ２２と、ノッチが９０度方向（図１における右方向）に位置する状態でノッチ付きウエハＷを位置決めするための第２の位置決めハンマ２４とを備えている
　
イ　「【００２１】前記
センターアップ１４は、ウエハステージ１２の面に直交する方向（図１の紙面直交方向）に往復動（上下動）可能とされ
上面にウエハが載置される平坦面が形成されている
【００２２】第１の位置決めハンマ２２は、前記の如くその先端に第１ローラ２６が設けられ、不図示の駆動手段によって第１軸（Ｙ軸）方向に進退（往復動）可能とされている。同様に、第２の位置決めハンマ２４はその先端に第２ローラ２８が設けられ、不図示の駆動手段によって第２軸（Ｘ軸）方向に進退（往復動）可能とされている。
【００２３】なお、
ウエハホルダ１３のウエハ載置面３４
【００２４】次に、上述のようにして構成された本実施形態のアライメント装置１０の作用を説明する。まず、最初にノッチ付きウエハＷをノッチＮを０度方向にして位置決めする（第１軸方向に位置決めする）場合について説明する。
【００２５】不図示のプリアライメント装置から受け渡されたウエハは不図示のスライダにより搬送され、センターアップ１４に受け渡される。その後、スライダが後退し、
ウエハＷを保持しているセンターアップ１４が下降し、ウエハＷが載置面３４上に載置される
　
ウ　「【００２８】第１ローラ２６が力ＰによってノッチＮの内部（Ｖ溝内部）に押し込まれると、力ＰはＶ溝の斜面に沿った分力ＱとウエハＷの回転方向の分力Ｒとに分けられる。すなわち、第１ローラ２６の押圧力によりウエハＷを回転させる力Ｒを生じ、ウエハＷを所定量微小回転させる。この状態から更に第１の位置決めハンマがＹ軸方向上方に付勢されると、第１ローラ２６がＶ溝内に押し込まれ、ついには第１ローラ２６がＶ溝の両斜面に接触し、くさび作用でウエハＷを移動させる力は左右で釣り合い、第１ローラ２６によってウエハＷのノッチＮが０度方向（第１軸方向）に回転位置決めされ、最終的にウエハＷが基準ローラ１６、１８及び第１ローラ２６によって所定位置に位置決めされる。なお、この場合において、
ウエハＷの外周が基準ローラ１６、１８に当接した状態で、図３に示される状態になっていたとしても、前述した回転させる力Ｒの作用によりウエハＷが回転させられるが、この際基準ローラ１６、１８が回転するので、このウエハＷの回転の際の摩擦の作用により塵埃等が発生することが殆どない
　
エ　上記アないしウからみて、刊行物２には、以下の事項が記載されている。
（ア）位置決め装置１０は、ウエハステージ１２上に載置されたウエハホルダ１３の中心部に設けられたセンターアップ１４と、ウエハホルダ１３の外周部の所定の位置に位置決めピンとしてそれぞれ設けられた基準ローラ１６、１８、２０と、ウエハＷを位置決めする第１の位置決めハンマ２２及び第２の位置決めハンマ２４を備えていること。
（イ）ウエハＷが載置される平坦面が形成されているセンターアップ１４が、ウエハステージ１２の面に直交する方向に往復動（上下動）可能であり、前記センターアップ１４が下降することにより、ウエハＷがウエハ載置面３４上に載置されること。
（ウ）ウエハＷが回転するとき、該ウエハＷの外周が基準ローラ１６、１８に当接した状態で回転し、この際に基準ローラ１６、１８が回転するのでウエハＷの回転の際の摩擦の作用による塵埃等が発生することが殆どないこと。
　
４　対比
　本願発明と引用発明とを対比する。
（１）引用発明の「イオン源１０」、「処理室（真空容器）としてのエンドステーション１４」、「ウエハホルダ２２」、「シリコンウエハ３０」、「保持部３４」、「ウエハ支持片４２」、「コイルばね４４」及び「ＳｉＭＯＸ用イオン注入装置」は、それぞれ、本願発明の「イオン源」、「真空の雰囲気に保たれた処理室」、「ホルダベース」、「ウエハ」、「固定部材」、「ホルダピン」、「ばね」及び「イオン注入装置」に相当する。
　
（２）引用発明の「質量分離器（イオンビーム照射手段）１２」は、イオン源１０から出射されたイオンビーム２８を、所定の質量を有するイオンのみに分離しエンドステーション１４内に入射するものであるから、本願発明の「イオンビーム入射手段」と「イオン源から出射されたイオンビームを前記処理室内に入射するイオンビーム入射手段」である点で一致する。
　
（３）引用発明において、イオンビーム２８がエンドステーション１４内に入射された後に、イオン注入対象としてのシリコンウエハ３０に照射され、該シリコンウエハ３０は、ほぼ円板状に形成されているウエハホルダ２２に保持されるから、引用発明は、本願発明の「処理室内に配置され前記イオンビームが照射されるイオン注入対象のウエハを保持する保持手段を備え」るとの事項を備えるとともに、引用発明の「ウエハホルダ２２」は、本願発明の「ホルダーベース」と、円盤状である点で一致する。
　また、引用発明のシリコンウエハ３０は、その裏面側のうちイオン注入領域に対応した領域が前記ウエハホルダ２２と一定の間隙を保った状態でかつ外周側の一部の領域が、ウエハホルダ２２の中心を間にして相対向して配置された保持部３４と保持部３６から構成される保持手段に接触した状態で保持されており、さらに、前記保持部３６を２個所に設けることでき、ここで、シリコンウエハ３０の外周側端面が挿入されるのは、大径部５２が上部側に形成されたウエハ支持片４２の円環状の溝５４内であり、引用発明の「保持部３４」及び「ウエハ支持片４２」は、それぞれ、本願発明の「固定部材」及び「ホルダピン」に相当するから（上記（１）参照。）、引用発明は、本願発明の「処理室内に配置され前記イオンビームが照射されるイオン注入対象のウエハを保持する保持手段を備え」及び「保持手段は、前記ウエハが載置される円盤状のホルダベースを備え、該ホルダベースの外周側に固定されその一部が固定部材と該固定部材に相対向させて前記ホルダベースの反対側に配置された２つのホルダピンとで前記ウエハを保持するように形成され」との事項を備える。
　　
（４）引用発明の「保持部３４」は、ウエハホルダ２２およびシリコンウエハ３０が配置された領域のうち回転ディスク２０の回転中心から最も離れた領域に対応した位置に配置され、ウエハホルダ２２に固定され本体３５の外周側には円弧形状のガイド４０がウエハホルダの径方向の外側に突出して形成されているから、本願発明の「固定部材」と、「ホルダベースの外周側に固定されその一部が前記ホルダベースの径方向に沿って突出した」点で一致する。
　
（５）引用発明において、各ウエハホルダ２２は、互いに一定の間隔を保ってスキャンボックス１６内のモータ１８によって回転駆動される回転ディスク２０の外周側に配置されており、回転ディスク２０の回転により各ウエハホルダ２２に保持されたシリコンウエハ３０が、エンドステーション１４におけるイオンビーム２８の照射領域を通過するようにウエハホルダ２２、保持部材３４及び保持部材３６を移動させていることが明らかであるから、引用発明は、本願発明の「処理室内におけるイオンビームの照射領域を前記ウエハが通過するように前記保持手段を移動させる搬送手段を備え」との事項を備える。
　
（６）引用発明において、シリコンウエハ３０が径方向に沿って１方向あるいはランダムな方向に熱伸びによって熱変形した場合、前記シリコンウエハ３０が伸びた方向に対してコイルばね４４が縮み、前記ウエハ支持片４２が前記シリコンウエハ３０の熱伸びの動きに追従するように動くから、引用発明の「コイルばね４４」は、本願発明の「ばね」と、「ホルダピン」を「移動可能に付勢する」点で一致するとともに、コイルバネ４４は、その一端側が突起６０の外周側に装着され、他端側が取付金具６２の突起６４に装着されているから、引用発明は、本願発明の「ホルダピンは、移動可能に付勢するばねを備えた支持部材によって支持される」との事項を備えているといえる。
　
（７）上記（１）ないし（６）より、本願発明と引用発明とは、
「真空の雰囲気に保たれた処理室と、イオン源から出射されたイオンビームを前記処理室内に入射するイオンビーム入射手段と、前記処理室内に配置され前記イオンビームが照射されるイオン注入対象のウエハを保持する保持手段と、前記処理室内におけるイオンビームの照射領域を前記ウエハが通過するように前記保持手段を移動させる搬送手段とを備え、
　前記保持手段は、前記ウエハが載置される円盤状のホルダベースを備え、該ホルダベースの外周側に固定されその一部が前記ホルダベースの径方向に沿って突出した固定部材と該固定部材に相対向させて前記ホルダベースの反対側に配置された少なくとも２つのホルダピンとで前記ウエハを保持するように形成され、
　前記ホルダピンは、移動可能に付勢するばねを備えた支持部材によって支持されるイオン注入装置。」の点で一致し、
　
　ホルダピンが、本願発明においては、「ホルダベースに載置されるウエハの当該ホルダベースに対向する面に対して垂直な軸を有し」、「軸周りに回転自在」に支持され、「前記軸を中心として回転し、ばねの弾性力によって前記ウエハの側面に沿って移動しつつ回転するように構成されて」なり、「ホルダベースの中央方向であって、前記ホルダベースに載置されるウエハの中心に対し固定部材側に偏心した方向」に移動可能なものであるのに対し、引用発明においては、そのようなものではない点で相違する（以下「相違点」という。）。
　　
５　判断
　上記相違点について検討する。
（１）上記３（２）エより、刊行物２には、ウエハステージ１２上に載置されたウエハホルダ１３の中心部に設けられ、かつウエハＷが載置される平坦面が形成されている、センターアップ１４が、前記ウエハステージ１２の面に直交する方向に下降することにより、ウエハＷがウエハ載置面３４上に載置され、前記ウエハホルダ１３の外周部の所定の位置に位置決めピンとしてそれぞれ設けられた基準ローラ１６、１８を有し、前記ウエハＷが回転するとき、該ウエハＷの外周が基準ローラ１６、１８に当接した状態で回転し、この際に基準ローラ１６、１８が回転するので、ウエハＷの回転の際の摩擦の作用による塵埃等が発生することが殆どないことが記載されている。
　
（２）上記（１）において、ウエハＷが載置される平坦面がウエハ載置面３４と平行であることは自明であり、ウエハＷの位置決めを行っているのであるから、ウエハ載置面３４とウエハＷの前記ウエハ載置面３４に対向する面が平行に配置されており、基準ローラ１６、１８の回転軸が、前記ウエハＷのウエハ載置面３４に対向する面に対し垂直に設けられていることは、当然のことである。
　
（３）また、上記（１）において、ウエハＷの外周が基準ローラ１６、１８に当接した状態で回転することにより、ウエハＷの回転の際の摩擦の作用による塵埃等が発生することが殆どないのであるから、基準ローラ１６、１８が、軸周りに軸を中心として回転自在なものであってウエハＷの側面に沿って移動しつつ回転することは、当業者に自明である。
　
（４）上記（１）ないし（３）より、刊行物２には、基準ローラ１６、１８が、ウエハ載置面３４に載置されるウエハＷのウエハ載置面３４に対向する面に対し垂直な軸を有し、当該軸周りに軸を中心として回転自在なものであってウエハＷの側面に沿って移動しつつ回転することにより、ウエハＷの回転の際の摩擦の作用による塵埃等が殆ど発生しないようにする技術事項が開示されているといえる。
　
（５）ここで、引用発明は、ウエハ支持片４２やウエハホルダ２２からパーティクルが発生することを防止することを課題としており、この課題を解決するために引用発明において上記（４）の技術事項を適用し、軸状部材として構成されたウエハ支持片４２を、ウエハホルダ２２に載置されるシリコンウエハ３０のウエハ載置面に対向する面に対し垂直な軸を有し、当該軸周りに軸を中心として回転自在なものであってシリコンウエハ３０の側面に沿って移動しつつ回転するものとすることは、当業者にとって困難とはいえない。
　
（６）また、引用発明において上記（４）の技術事項を適用するに際し、引用発明は、ウエハ支持片４２がシリコンウエハ３０の熱伸びの動きに追従するように動くことにより該熱伸びを吸収することが可能になるのものであるから、前記ウエハ支持片４２の移動可能な方向は、シリコンウエハ３０の略径方向、すなわち、ウエハホルダ２２の中央方向であることは明らかである。
　
（７）ここで、請求人は意見書において、「イオン注入装置のイオン注入対象であるウエハは、イオンビームの注入によってウエハの中心が高温となり、ウエハ周縁部にいくにつれて温度が低下する。よって、ウエハの熱伸びは、ウエハの中心から放射状に広がるように発生する。つまり、ウエハの熱伸びの方向は、ウエハの中心からウエハの周縁部に向かう径方向である。したがって、ホルダピンには、ウエハの中心からウエハの熱伸びによる押圧力がかかる。本願発明では、ホルダピンがウエハの中心に対して固定部材側に偏心した方向に移動するようになっている。つまり、ホルダピンの移動方向とウエハの熱伸びの方向を異ならせている。このため、ウエハの熱伸びによる押圧力を、ウエハの径方向と、ウエハとホルダピンの接点を通る接線方向とに分力でき、接線方向に分力されたウエハの熱伸びによる押圧力を、ホルダピンの移動と回転によって逃すことができる。すなわち、本願発明は、ウエハの熱伸びによる押圧力を分力するとともに、回転を伴った移動によってウエハ保持位置を変えることにより分散させて、ウエハとホルダピンとの摩擦を低減させることができる。」と主張するから、該請求人の主張について検討する。
　
ア　確かに、力学的には、ウエハ支持片の移動可能な方向をウエハホルダに載置されるシリコンウエハの中心とは異なる方向としたとき、ウエハの熱伸びによる押圧力をウエハの径方向とウエハとホルダピンの接点を通る接線方向とに分力できるかもしれない。
　しかし、そのようなことは、本願の発明の詳細な説明に記載した事項ではないから、上記請求人の主張は認められない。
　
イ　仮に、上記請求人の主張を考慮したとしても、ウエハ支持片４２の移動可能な方向は、ウエハ支持片４２がシリコンウエハ３０の熱伸びの動きに追従するように動くことにより該熱伸びを吸収することが可能になるようシリコンウエハ３０の略径方向であればよいから（上記（６）参照。）、その方向を、「ウエハ支持片４２の移動可能な方向を、ウエハホルダ２２に載置されるシリコンウエハ３０の中心に対し保持部３４に偏心した方向」と具体的に特定し、上記相違点に係る本願発明の構成とすることは、当業者が適宜設計的になし得たことというべきである。
　
（８）そして、本願発明の奏する効果が、引用発明及び刊行物２の記載事項から当業者が予測可能な域を超える程の格別なものとは認められない。
　
（９）したがって、本願発明は、刊行物１に記載された発明及び刊行物２の記載事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
６　むすび　
　以上のとおり、本願発明は、刊行物１に記載された発明及び刊行物２の記載事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。