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　特願２０００−３１９６１５「薄膜磁気ヘッド及び薄膜磁気ヘッドの製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１４年　４月２６日出願公開、特開２００２−１２３９１０〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成１２年１０月１６日の出願であって、平成１６年６月１８日付けで手続補正がなされ、同年７月７日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、同年８月１１日に拒絶査定不服審判が請求されたものである。
　
第２　本願発明について
１．本願発明
　本願の請求項１乃至１６に係る発明は、平成１６年６月１８日付けの手続補正書により補正された明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１乃至１６に記載された事項により特定されるものであるところ、その請求項１に記載された発明（以下、「本願発明」という。）は、次のとおりである。
　「下部コア層と、前記下部コア層に対向する上部コア層と、前記上下コア層間に設けられて、前記上部コア層に接合する上部磁極層と、該上部磁極層と前記下部コア層間に介在する磁気ギャップ層と、前記上部コア層と前記上部磁極層の接合面高さよりも前記下部コア層側に位置する第１のコイル層と、前記接合面よりも前記上部コア層側に位置する第２のコイル層とを有し、前記第１のコイル層は、コイル導体厚さが、第２のコイル層のコイル導体厚さよりも薄く、前記第２のコイル層のコイル導体間隔は、前記第１のコイル層の導体間隔よりも狭いことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。」
　
２．引用例
（１）原査定の拒絶の理由に引用された特開平１１−３５３６１６号公報（以下、「引用例１」という。）には、「薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法」に関し、次の事項が記載されている。（なお、下線は当審で付与したものである。）
（ア）「【特許請求の範囲】【請求項１】　
磁気的に連結され、且つ記録媒体に対向する側の一部が記録ギャップ層を介して対向する第１の磁極および第２の磁極を含む少なくとも２つの磁性層と、磁束を発生させるための１層あるいは２層以上の薄膜コイルとを有する薄膜磁気ヘッドであって、前記第１の磁極を含む第１の磁性層と、前記第２の磁極を構成する磁極先端部と、少なくとも、前記磁極先端部および前記記録ギャップ層の前記記録媒体に対向する側の反対面から前記第１の磁性層の一方の面に連続的に形成された第１の絶縁層と、少なくともその膜厚方向の一部が、前記第１の絶縁層が形成されている領域内に形成された少なくとも一層の薄膜コイルと、少なくとも、前記薄膜コイルの巻線間に形成された第２の絶縁層と、前記磁極先端部の前記記録ギャップ層との隣接面の反対面の少なくとも一部に接続されると共に、前記薄膜コイルの少なくとも一部を覆うように形成された第２の磁性層とを備えたことを特徴とする薄膜磁気ヘッド
（イ）「【請求項４】  
前記薄膜コイルの膜厚方向の全部が、前記第１の絶縁層が形成されている領域内に形成されている
（ウ）「【請求項１０】  
前記第２の絶縁層が、前記磁極先端部の前記記録ギャップ層との隣接面の反対面と実質的に同一面となるように形成されている
（エ）「【請求項１２】  
前記第２の絶縁層と前記第２の磁性層との間に、更に、前記第１および第２の絶縁層とは異なる他の絶縁層に覆われて形成された少なくとも１層の薄膜コイルを備えた
（オ）「【００４５】まず、図９（ａ），（ｂ）を参照して本実施の形態に係る複合型薄膜磁気ヘッドの構成について説明する。（略）」
（カ）「【００４７】記録ヘッド部１Ｂは、この読み出しヘッド部１Ａ上に、ＭＲ膜１５に対する上部シールド層を兼ねる
下部磁極（下部ポール）１８および記録ギャップ層１９を介して上部磁極を形成した
上部磁極は２分割されており、トラック面側において記録ギャップ層１９上に形成された磁極先端部（ポールチップ）２０と、この磁極先端部２０に接触すると共にエイペックス部の上面に沿って形成され、ヨーク部を兼ねた上部磁極層（上部ポール）２５とにより構成されている
（キ）「【００４８】本実施の形態においては、
下部磁極１８が本発明の第１の磁極および第１の磁性層に対応し、また、磁極先端部２０が本発明の第２の磁極、上部磁極層２５が本発明の第２の磁性層にそれぞれ対応している
（ク）「【００４９】本実施の形態では、磁極先端部２０、記録ギャップ層１９および下部磁極１８の突状加工部に隣接した領域をコイル形成領域２６と称する。すなわち、このコイル形成領域２６は、磁極先端部２０をマスクにして記録ギャップ層１９および下部磁極１８の表面をエッチングして形成された凹部１８ａを含む領域に対応している。このコイル形成領域２６の内壁面（底面および側壁面）には絶縁層２１ａが形成されている。この絶縁層２１ａ上に１層目の薄膜コイル２２が形成されている。
薄膜コイル２２のコイル間、および薄膜コイル２２と絶縁層２１ａとの間は絶縁層２１ｂにより埋め込まれており、この絶縁層２１ｂの表面と磁極先端部２０の表面とが同一面を構成するように平坦化されている
絶縁層２１ａが本発明の第１の絶縁層、絶縁層２１ｂが本発明の第２の絶縁層にそれぞれ対応している
（ケ）「【００５０】
平坦化された絶縁層２１ｂ上には２層目の薄膜コイル２３が形成されており、この薄膜コイル２３は例えばフォトレジストからなる絶縁層２４により覆われている。この絶縁層２４が本発明の他の絶縁層に対応している
　
　これらの記載事項、特に（ア）〜（エ）（下線部参照）によれば、引用例１には、次の発明（以下、「引用例１発明」という。）が記載されているものと認められる。
　「磁気的に連結され、且つ記録媒体に対向する側の一部が記録ギャップ層を介して対向する第１の磁極および第２の磁極を含む少なくとも２つの磁性層と、磁束を発生させるための２層の薄膜コイルとを有する薄膜磁気ヘッドであって、
前記第１の磁極を含む下部磁極と、
前記第２の磁極を構成する磁極先端部と、
少なくとも、前記磁極先端部および前記記録ギャップ層の前記記録媒体に対向する側の反対面から前記下部磁極の一方の面に連続的に形成された第１の絶縁層と、
少なくともその膜厚方向の一部が、前記第１の絶縁層が形成されている領域内に形成された１層目の薄膜コイルと、
少なくとも、前記１層目の薄膜コイルの巻線間に形成された第２の絶縁層と、前記磁極先端部の前記記録ギャップ層との隣接面の反対面の少なくとも一部に接続されると共に、前記薄膜コイルの少なくとも一部を覆うように形成された上部磁極層とを備えた薄膜磁気ヘッドであって、
  前記１層目の薄膜コイルの膜厚方向の全部が、前記第１の絶縁層が形成されている領域内に形成され、前記第２の絶縁層が、前記磁極先端部の前記記録ギャップ層との隣接面の反対面と実質的に同一面となるように形成され、
　前記第２の絶縁層と前記上部磁極層との間に、更に、前記第１および第２の絶縁層とは異なる他の絶縁層に覆われて形成された２層目の薄膜コイルを備えた、
　薄膜磁気ヘッド。」
　
　さらに、引用例１には、次の記載がある。
（コ）「【００３８】（略）最外部の薄膜コイルを覆いエイペックスアングルを規定する絶縁層の傾斜面がなだらかになるように構成することが好ましい。」
（サ）「【００７０】（略）このようにエイペックス部がなだらかになることにより、上部磁極層２５ａをパターニングするためのフォトレジスト膜の微細化が可能になり、よって上部磁極層２５の微細化がより容易になる。」
　
（２）原査定の拒絶の理由に引用された特開平２−２５７４０９号公報（以下、「引用例２」という。）には、「薄膜磁気ヘッド」に関し、次の事項が記載されている。（なお、下線は当審で付与したものである。）
（ア）「【特許請求の範囲】１）基板と、前記基板の表面に薄膜形成される下部磁性層と、前記下部磁性層上に所定巻数のコイル部を構成するよう薄膜形成された複数の導電層と、前記下部磁性層と磁気的に結合された上部磁性層と、前記各層間に形成される複数の層間絶縁層を有する薄膜磁気ヘッドにおいて、
前記複数の導電層を積層構造とし、且つ、各導電層の厚みを互いに異ならしめる
（イ）「第１導電層３ａ、第２導電層３ｂおよび第３導電層３ｃの構造を第２図（第１図中のＡ−Ａ′線における断面図）を用いて説明する。図中各導電層の最も細い線幅をそれぞれＷｌ、Ｗ２、Ｗ３、また各導電層の膜厚をそれぞれＴ１、Ｔ２、Ｔ３とする。」（第３頁左下欄第１４〜１９行）
（ウ）「各層の線幅は、上部磁性層７の乗り越える段差が緩やかになるように、Ｗｌ＞Ｗ２＞Ｗ３となるように形成されている。」（第３頁右下欄第８〜１０行）
（エ）「
線幅が上層ほど小さくしてあるので、その厚みは上記の面積の条件を満たすために、Ｔｌ＜Ｔ２＜Ｔ３としてある
（オ）「また、
１層当り２巻以上のコイルを形成する方法も考えられる
　
３．対比
　本願発明と引用例１発明とを比較する。
　引用例１発明の「下部磁極」、「上部磁極層」、「磁極先端部」、「記録ギャップ層」、「１層目の薄膜コイル」、「２層目の薄膜コイル」は、それぞれ、本願発明の「下部コア層」、「上部コア層」、「上部磁極層」、「磁気ギャップ層」、「第１のコイル層」、「第２のコイル層」に相当する。
　引用例１発明の「上部磁極層」が接続される「磁極先端部の記録ギャップ層との隣接面の反対面」は、本願発明の「上部コア層と上部磁極層の接合面」に相当する。
　引用例１発明の「１層目の薄膜コイル」は、「前記１層目の薄膜コイルの膜厚方向の全部が、前記第１の絶縁層が形成されている領域内に形成され、前記第２の絶縁層が、前記磁極先端部の前記記録ギャップ層との隣接面の反対面と実質的に同一面となるように形成され」ているから、本願発明の「上部コア層と上部磁極層の接合面高さよりも下部コア層側に位置する第１のコイル層」に相当する構成を備えている。
　引用例１発明の「２層目の薄膜コイル」は、「前記第２の絶縁層と前記上部磁極層との間に、更に、前記第１および第２の絶縁層とは異なる他の絶縁層に覆われて形成され」ているから、本願発明の「接合面よりも上部コア層側に位置する第２のコイル層」に相当する構成を備えている。
　したがって、本願発明と引用例１発明は、
「下部コア層と、前記下部コア層に対向する上部コア層と、前記上下コア層間に設けられて、前記上部コア層に接合する上部磁極層と、該上部磁極層と前記下部コア層間に介在する磁気ギャップ層と、前記上部コア層と前記上部磁極層の接合面高さよりも前記下部コア層側に位置する第１のコイル層と、前記接合面よりも前記上部コア層側に位置する第２のコイル層とを有する薄膜磁気ヘッド。」
　である点で一致し、以下の点で相違している。
　（相違点）　本願発明は、第１のコイル層は、コイル導体厚さが、第２のコイル層のコイル導体厚さよりも薄く、第２のコイル層のコイル導体間隔は、第１のコイル層の導体間隔よりも狭いと特定しているのに対し、引用例１発明は、第１のコイル層及び第２のコイル層のコイル導体厚さとコイル導体間隔の大小関係について、特定していない点。
　
４．判断
　相違点について検討する。
　引用例１発明において、その第１のコイル層及び第２のコイル層のコイル導体の寸法やコイル導体間隔は、薄膜磁気ヘッドの設計に際し、当業者が適宜選択すべき事項であり、第１のコイル層と第２のコイル層のそれぞれの導体厚さや間隔が同じでなければならないという格別の理由もないものである。
　ところで、引用例１と同様の薄膜磁気ヘッドに関して、引用例２には、コイルの導電層の寸法等について、下層の導電層の導体厚さを上層の導電層の導体厚さよりも薄くし（上記２．（２）の（ア）（エ）参照。）、上層の導電層の幅を下層の導電層の幅より狭くすることで、上部磁性層の乗り越える段差が緩やかになるようにする技術（上記２．（２）の（ウ）参照。）が記載されている。
　また、引用例２には、上記技術が、引用例２の実施例や図面に示されたもののみに限定されるのでなく、導電層が１層当り２巻以上のコイルである場合も対象とするものであることが示唆されて（上記２．（２）の（オ）参照。）いることから、上部磁性層の乗り越える段差が緩やかになるよう、上層のコイル層の全体形状（上層のコイル導体幅やコイル導体間隔の合計）が、下層のコイル層の全体形状（下層のコイル導体幅やコイル導体間隔の合計）より幅狭くなるようにすることが示されているといえる。
　そして、引用例１には、エイペックス部をなだらかにする（上記２．（１）の（コ）（サ）参照。）、すなわち、上部磁性層（引用例１発明の「上部磁極層」、本願発明の「上部コア層」に相当するもの。）の乗り越える段差を緩やかにすることが望ましい旨の記載があることから、引用例１発明において、上部磁性層の乗り越える段差を緩やかにするよう、引用例２に記載された技術を採用し、下層である第１のコイル層のコイル導体厚さが、上層である第２のコイル層のコイル導体厚さよりも薄く、上層である第２のコイル層の全体形状が下層である第１のコイル層の全体形状より幅狭くなるよう、第２のコイル層のコイル導体間隔が第１のコイル層のそれよりも狭くするようにすることは、当業者が容易に想到し得たことである。
　
　本願発明の作用効果について、審判請求人は、請求の理由において、第２のコイル層のコイル導体間隔が狭いから、磁路長を短くすることによって、低インダクタンス及び高周波記録に適切に対応するという作用効果を奏する旨、主張している。
　しかしながら、コイル導体間隔を狭くすることで、磁路長を短くすることができ、低インダクタンス及び高周波記録に対応できることは、薄膜磁気ヘッドにおいて従来より周知の事項（例えば、特開２０００−１８２２１５号公報（段落【００３１】〜【００３４】の従来技術の説明）、特開２０００−０１１３２３号公報（段落【０００４】〜【０００５】の従来技術の説明）、特開平１１−２８３２１６号公報（段落【００１５】〜【００１６】の従来技術の説明）等を参照。）である。
　よって、本願発明の作用効果も、引用例１、引用例２及び周知の事項から当業者が予測できる範囲のものである。
　
５．むすび
　したがって、本願発明は、引用例１，２に記載された発明及び周知の事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　他の請求項を検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。