【手続補正書】
【提出日】平成23年11月30日(2011.11.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に形成された第１の機能膜と、
前記第１の機能膜上に形成された反射層と、
前記反射層上に形成された断熱層と、
前記反射層及び前記断熱層に形成された開口部と、
前記断熱層上及び前記開口部に形成された第２の機能膜と、
前記第２の機能膜上に形成された光吸収層と、
前記光吸収層上に形成された材料層と、を有し、
前記第１の機能膜のうち前記反射層と重なる領域は、反射膜として機能し、
前記第１の機能膜と前記第２の機能膜との積層膜は、反射防止膜として機能することを特徴とする成膜用基板。
【請求項２】
請求項１において、
前記基板に照射する光の波長をλ、前記基板の屈折率をｎ０、前記第１の機能膜及び前記第２の機能膜の屈折率をｎ１、前記反射層の屈折率をｎ２、前記光吸収層の屈折率をｎ３とし、かつ、前記反射層の屈折率ｎ２が、前記基板の屈折率ｎ０、前記第１の機能膜及び前記第２の機能膜の屈折率ｎ１より大きい値であるとすると、
前記第１の機能膜の前記反射層と重なる領域における膜厚は、
ｎ０＜ｎ１のとき          λ・ｍａ１／４ｎ１（ただし、ｍａ１＝偶数）
ｎ１＜ｎ０のとき          λ・ｍａ２／４ｎ１（ただし、ｍａ２＝奇数）
であり、
前記第１の機能膜と前記第２の機能膜との積層膜の膜厚は、
ｎ０＜ｎ１＜ｎ３のとき          λ・ｍｂ１／４ｎ１（ただし、ｍｂ１＝奇数）
ｎ０＜ｎ１、ｎ３＜ｎ１のとき    λ・ｍｂ２／４ｎ１（ただし、ｍｂ２＝偶数）
ｎ１＜ｎ０、ｎ１＜ｎ３のとき    λ・ｍｂ３／４ｎ１（ただし、ｍｂ３＝偶数）
ｎ３＜ｎ１＜ｎ０のとき          λ・ｍｂ４／４ｎ１（ただし、ｍｂ４＝奇数）
であることを特徴とする成膜用基板。
【請求項３】
基板上に形成された第１の機能膜と、
前記第１の機能膜上に形成された反射層と、
前記反射層上に形成された断熱層と、
前記第１の機能膜、前記反射層、及び前記断熱層に形成された開口部と、
前記断熱層上及び前記開口部に形成された第２の機能膜と、
前記第２の機能膜上に形成された光吸収層と、
前記光吸収層上に形成された材料層と、を有し、
前記第１の機能膜は、反射膜として機能し、
前記第２の機能膜は、反射防止膜として機能することを特徴とする成膜用基板。
【請求項４】
請求項３において、
前記基板に照射する光の波長をλ、前記基板の屈折率をｎ０、前記第１の機能膜の屈折率をｎ１’、前記第２の機能膜の屈折率をｎ１’’、前記反射層の屈折率をｎ２、前記光吸収層の屈折率をｎ３とし、かつ、前記反射層の屈折率ｎ２が、前記基板の屈折率ｎ０、及び前記第１の機能膜の屈折率ｎ１’より大きい値であるとすると、
前記第１の機能膜の膜厚は、
ｎ０＜ｎ１’のとき        λ・ｍａ３／４ｎ１’（ただし、ｍａ３＝偶数）
ｎ１’＜ｎ０のとき        λ・ｍａ４／４ｎ１’（ただし、ｍａ４＝奇数）
であり、
前記第２の機能膜の膜厚は、
ｎ０＜ｎ１’’＜ｎ３のとき                  λ・ｍｂ５／４ｎ１’’（ただし、ｍｂ５＝奇数）
ｎ３＜ｎ１’’＜ｎ０のとき                  λ・ｍｂ６／４ｎ１’’（ただし、ｍｂ６＝奇数）
ｎ１’’＜ｎ０、ｎ１’’＜ｎ３のとき        λ・ｍｂ７／４ｎ１’’（ただし、ｍｂ７＝偶数）
ｎ０＜ｎ１’’、ｎ３＜ｎ１’’のとき        λ・ｍｂ８／４ｎ１’’（ただし、ｍｂ８＝偶数）
であることを特徴とする成膜用基板。
【請求項５】
基板上に形成された機能膜と、
前記機能膜上に形成された反射層と、
前記反射層上に形成された断熱層と、
前記反射層及び前記断熱層に形成された開口部と、
前記断熱層上及び前記開口部に形成された光吸収層と、
前記光吸収層上に形成された材料層と、を有し、
前記機能膜のうち前記反射層と重なる第１の領域は、反射膜として機能し、
前記機能膜のうち前記反射層と重ならない第２の領域は、反射防止膜として機能することを特徴とする成膜用基板。
【請求項６】
請求項５において、
前記基板に照射する光の波長をλ、前記基板の屈折率をｎ０、前記機能膜の屈折率をｎ１’’’、前記反射層の屈折率をｎ２、前記光吸収層の屈折率をｎ３とし、かつ、前記反射層の屈折率ｎ２が、前記基板の屈折率ｎ０、前記機能膜の屈折率ｎ１’’’より大きい値であるとすると、
前記機能膜の前記第１の領域における膜厚は、
ｎ０＜ｎ１’’’のとき      λ・ｍａ５／４ｎ１’’’（ただし、ｍａ５＝偶数）
ｎ１’’’＜ｎ０のとき      λ・ｍａ６／４ｎ１’’’（ただし、ｍａ６＝奇数）
であり、
前記機能膜の前記第２の領域における膜厚は、
ｎ０＜ｎ１’’’＜ｎ３のとき                    λ・ｍｂ１３／４ｎ１’’’（ただし、ｍｂ１３＝奇数）
ｎ１’’’＜ｎ０、ｎ１’’’＜ｎ３のとき        λ・ｍｂ１４／４ｎ１’’’（ただし、ｍｂ１４＝偶数）
ｎ０＜ｎ１’’’、ｎ３＜ｎ１’’’のとき        λ・ｍｂ１５／４ｎ１’’’（ただし、ｍｂ１５＝偶数）
ｎ３＜ｎ１’’’＜ｎ０のとき                    λ・ｍｂ１６／４ｎ１’’’（ただし、ｍｂ１６＝奇数）
であることを特徴とする成膜用基板。
【請求項７】
請求項１乃至請求項４のいずれか一において、
前記第１の機能膜および前記第２の機能膜は、それぞれ、酸化珪素、窒化珪素、酸化窒化珪素、窒化酸化珪素のいずれかであることを特徴とする成膜用基板。
【請求項８】
請求項５又は請求項６において、
前記機能膜は、酸化珪素、窒化珪素、酸化窒化珪素、窒化酸化珪素のいずれかであることを特徴とする成膜用基板。
【請求項９】
請求項１乃至請求項８のいずれか一において、
前記断熱層に用いる材料の熱伝導率は、前記反射層および前記光吸収層に用いる材料の熱伝導率よりも小さいことを特徴とする成膜用基板。
【請求項１０】
請求項１乃至請求項９のいずれか一において、
前記材料層は、第１の材料を含む層と、前記第１の材料を含む層上に設けられた第２の材料を含む層と、を有し、
前記第１の材料は、前記第２の材料よりも昇華温度が低いことを特徴とする成膜用基板。
【請求項１１】
基板の表面上に第１の機能膜を形成し、
前記第１の機能膜上に反射層を形成し、
前記反射層上に断熱層を形成し、
ドライエッチングにより前記反射層及び前記断熱層に開口部を形成し、
前記断熱層上及び前記開口部に第２の機能膜を形成し、
前記第２の機能膜上に光吸収層を形成し、
前記光吸収層上に材料層を形成し、
前記基板の表面と対向する位置に被成膜基板を配置し、
前記基板の裏面から前記開口部を介して前記光吸収層に光を照射することにより、前記材料層の一部を加熱して前記被成膜基板に蒸着させる発光装置の作製方法であって、
前記第１の機能膜のうち前記反射層と重なる領域は、反射膜として機能し、
前記第１の機能膜と前記第２の機能膜との積層膜は、反射防止膜として機能することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項１２】
請求項１１において、
前記基板に照射する光の波長をλ、前記基板の屈折率をｎ０、前記第１の機能膜及び前記第２の機能膜の屈折率をｎ１、前記反射層の屈折率をｎ２、前記光吸収層の屈折率をｎ３とし、かつ、前記反射層の屈折率ｎ２が、前記基板の屈折率ｎ０、前記第１の機能膜及び前記第２の機能膜の屈折率ｎ１より大きい値であるとすると、
前記第１の機能膜の前記反射層と重なる領域における膜厚は、
ｎ０＜ｎ１のとき          λ・ｍａ１／４ｎ１（ただし、ｍａ１＝偶数）
ｎ１＜ｎ０のとき          λ・ｍａ２／４ｎ１（ただし、ｍａ２＝奇数）
であり、
前記第１の機能膜と前記第２の機能膜との積層膜の膜厚は、
ｎ０＜ｎ１＜ｎ３のとき          λ・ｍｂ１／４ｎ１（ただし、ｍｂ１＝奇数）
ｎ０＜ｎ１、ｎ３＜ｎ１のとき    λ・ｍｂ２／４ｎ１（ただし、ｍｂ２＝偶数）
ｎ１＜ｎ０、ｎ１＜ｎ３のとき    λ・ｍｂ３／４ｎ１（ただし、ｍｂ３＝偶数）
ｎ３＜ｎ１＜ｎ０のとき          λ・ｍｂ４／４ｎ１（ただし、ｍｂ４＝奇数）
であることを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項１３】
請求項１１又は請求項１２において、
前記被成膜基板を、前記被成膜基板の最表層が前記材料層と接するように配置することを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項１４】
請求項１１乃至請求項１３のいずれか一において、
前記第１の機能膜および前記第２の機能膜は、それぞれ、酸化珪素、窒化珪素、酸化窒化珪素、窒化酸化珪素のいずれかであることを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項１５】
請求項１１乃至請求項１４のいずれか一において、
前記断熱層に用いる材料の熱伝導率は、前記反射層および前記光吸収層に用いる材料の熱伝導率よりも小さいことを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項１６】
請求項１１乃至請求項１５のいずれか一において、
前記材料層は、第１の材料を含む層と、前記第１の材料を含む層上に設けられた第２の蒸着材料を含む層と、を有し、
前記第１の材料は、前記第２の材料よりも昇華温度が低いことを特徴とする発光装置の作製方法。
【請求項１７】
請求項１１乃至１６のいずれか一項において、
前記光の照射は、矩形状又は線状のレーザ光を走査することにより行うことを特徴とする発光装置の作製方法。