【手続補正書】
【提出日】平成24年2月1日(2012.2.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
砥粒と、酸と、酸化剤と、アゾール類とを含有してなり、前記砥粒がコロイダルシリカであり、前記酸が１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸であり、前記酸化剤が過酸化水素であり、前記アゾール類がベンゾトリアゾール、トリルトリアゾール、５−アミノ−１Ｈ−テトラゾール、及びジメチルピラゾールから選ばれる少なくとも一種を含む、磁気ディスク用基板を研磨する用途で使用される研磨用組成物。
【請求項２】
前記アゾール類がベンゾトリアゾールを含む請求項１に記載の研磨用組成物。
【請求項３】
無機酸及び有機酸のナトリウム塩、カリウム塩及びアンモニウム塩から選ばれる少なくとも一種の化合物をさらに含有する請求項１又は請求項２に記載の研磨用組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
上記の目的を達成するために、本発明は、砥粒と、酸と、酸化剤と、アゾール類とを含有してなり、前記砥粒がコロイダルシリカであり、前記酸が１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸であり、前記酸化剤が過酸化水素であり、前記アゾール類がベンゾトリアゾール、トリルトリアゾール、５−アミノ−１Ｈ−テトラゾール、及びジメチルピラゾールから選ばれる少なくとも一種を含む、磁気ディスク用基板を研磨する用途で使用される研磨用組成物を提供する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
コロイダルシリカ、酸、酸化剤、アゾール類及びその誘導体から選ばれる化合物、カリウム塩、並びに水を適宜に混合することにより参考例１〜１４，１６〜２２，２４，２５、実施例１５，２３及び比較例１〜１８の研磨用組成物を調製した。参考例１〜１４，１６〜２２，２４，２５、実施例１５，２３及び比較例１〜１８の研磨用組成物中のコロイダルシリカ、酸、酸化剤、アゾール類及びその誘導体から選ばれる化合物、並びにカリウム塩の詳細は表１〜３に示すとおりである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
表１〜３の“研磨速度”欄には、参考例１〜１４，１６〜２２，２４，２５、実施例１５，２３及び比較例１〜１８の各研磨用組成物を用いて、磁気ディスク用基板を下記研磨条件で研磨したときに、下記計算式により求められる研磨速度について評価した結果を示す。“研磨速度”欄中、１（優）は研磨速度が０．１μｍ／分以上であったことを示し、２（良）は０．０７μｍ／分以上０．１μｍ／分未満、３（やや不良）は０．０４μｍ／分以上０．０７μｍ／分未満、４（不良）は０．０４μｍ／分未満であったことを示す。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
研磨条件
研磨対象物：  ニッケルリン無電解メッキ層を備え、表面粗さＲａの値が６Åである直径約９５ｍｍ（３．５インチ）の磁気ディスク用基板１０枚
研磨機：  スピードファム（株）の両面研磨機“ＳＦＤＬ−９Ｂ”
研磨パッド：  ＦＩＬＷＥＬ（株）の“ＦＪＭ−０１”
研磨荷重：  ７．８ｋＰａ（８０ｇ／ｃｍ２）
下定盤回転数：  ３０ｒｐｍ
研磨用組成物の供給速度：  ４０ｍＬ／分
研磨時間：  ８分間
計算式
研磨速度［μｍ／分］＝研磨による基板の重量減少量［ｇ］／（基板面積［ｃｍ２］×ニッケルリンメッキの密度［ｇ／ｃｍ３］×研磨時間［分］）×１０４
表１〜３の“スクラッチ”欄には、参考例１〜１４，１６〜２２，２４，２５、実施例１５，２３及び比較例１〜１８の各研磨用組成物を用いて上記研磨条件で研磨した磁気ディスク用基板において計測されるスクラッチの個数について評価した結果を示す。“スクラッチ”欄中、１（優）は、VISION PSYTEC社の“MicroMax VMX2100”を用いて計測されるスクラッチの個数が２０未満であったことを示し、２（良）は２０以上４０未満、３（やや不良）は４０以上６０未満、４（不良）は６０以上であったことを示す。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
【表１】
2007092064.tif 000001
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
【表２】
2007092064.tif 000002
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
【表３】
2007092064.tif 000003
表１〜３に示すように、各実施例の研磨用組成物では研磨速度及びスクラッチに関して実用上満足できる結果が得られた。それに対し、比較例１〜１８では研磨速度及びスクラッチのいずれかに関して実用上満足できる結果が得られなかった。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
・  研磨用組成物中の前記アゾール類の含有量が０．００５〜１質量％である前記研磨用組成物。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
・  前記砥粒の平均粒子径が０．００５〜１μｍである前記研磨用組成物。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
・  研磨用組成物中の前記砥粒の含有量が０．０１〜４０質量％である前記研磨用組成物。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
・  研磨用組成物中の前記酸の含有量が０．０１〜４０質量％である前記研磨用組成物。
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
・  研磨用組成物中の前記酸化剤の含有量が０．１〜５質量％である前記研磨用組成物。
【手続補正２２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５６】
・  無機酸及び有機酸のナトリウム塩、カリウム塩及びアンモニウム塩から選ばれる前記少なくとも一種の化合物が、リン酸塩、ホスホン酸塩及びクエン酸塩から選ばれる少なくとも一種の化合物である前記研磨用組成物。
【手続補正２３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
・  磁気ディスク用基板の研磨方法であって、
前記研磨用組成物を用意する工程と、
前記研磨用組成物を用いて磁気ディスク用基板を研磨する工程と
を備える方法。