【手続補正書】
【提出日】平成24年7月5日(2012.7.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
投影光学系と、前記投影光学系下の液浸領域とを介して基板上に露光光を照射して前記基板を露光する露光装置において、
前記基板を支持して前記投影光学系下に移動可能な基板ステージと、
前記液浸領域から流出した、前記基板を支持した前記基板ステージ上の液体を、前記基板の露光後に検出可能な検出装置と、
を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
投影光学系と、前記投影光学系下の液浸領域とを介して基板上に露光光を照射して前記基板を露光する露光装置において、
前記基板を支持して前記投影光学系下に移動可能な基板ステージと、
前記液浸領域から流出した、前記基板ステージに支持された前記基板上の液体を、前記基板の露光後に検出可能な検出装置と、
を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項３】
投影光学系と、前記投影光学系下の液浸領域とを介して基板上に露光光を照射して前記基板を露光する露光装置において、
前記基板を支持して前記投影光学系下に移動可能な基板ステージと、
前記液浸領域から流出した、前記基板を支持した前記基板ステージ上の液体を、前記基板の露光中に検出可能な検出装置と、
を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項４】
投影光学系と液体とを介して基板上に露光光を照射して前記基板を露光する露光装置において、
前記基板を支持して前記投影光学系下に移動可能な基板ステージと、
前記液浸領域から流出した、前記基板ステージに支持された前記基板上の液体を、前記基板の露光中に検出可能な検出装置と、
を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項５】
投影光学系と、前記投影光学系下の液浸領域とを介して基板上に露光光を照射して前記基板を露光する露光装置において、
前記基板を支持して前記投影光学系下に移動可能な基板ステージと、
前記液浸領域から流出した、前記基板を支持した前記基板ステージ上の液体を、前記基板の露光前に検出可能な検出装置と、
を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項６】
投影光学系と、前記投影光学系下の液浸領域とを介して基板上に露光光を照射して前記基板を露光する露光装置において、
前記基板を支持して前記投影光学系下に移動可能な基板ステージと、
前記液浸領域から流出した、前記基板ステージに支持された前記基板上の液体を、前記基板ステージに支持された前記基板上に前記液浸領域があるときに検出可能な検出装置と、
を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項７】
投影光学系と、前記投影光学系下の液浸領域とを介して基板上に露光光を照射して前記基板を露光する露光装置において、
前記基板を支持して前記投影光学系下に移動可能な基板ステージと、
前記液浸領域から流出した、前記基板を支持した前記基板ステージ上の液体を、前記基板ステージに支持された前記基板上に前記液浸領域があるときに検出可能な検出装置と、
を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項８】
投影光学系と、前記投影光学系下の液浸領域とを介して基板上に露光光を照射して前記基板を露光する露光装置において、
前記基板を支持して前記投影光学系下に移動可能な基板ステージと、
前記液浸領域から流出した、前記基板ステージに支持された前記基板上の液体を、前記基板が前記基板ステージに支持された状態で検出可能な検出装置と、
を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項９】
投影光学系と、前記投影光学系下の液浸領域とを介して基板上に露光光を照射して前記基板を露光する露光装置において、
前記基板を支持して前記投影光学系下に移動可能な基板ステージと、
前記液浸領域から流出した、前記基板を支持した前記基板ステージ上の液体を、前記基板が前記基板ステージに支持された状態で検出可能な検出装置と、
を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項１０】
投影光学系と、前記投影光学系下の液浸領域とを介して基板上に露光光を照射して前記基板を露光する露光装置において、
前記基板を支持して前記投影光学系下に移動可能な基板ステージと、
前記基板ステージに支持された前記基板と前記基板ステージとに跨るように残留する液体を検出可能な検出装置と、を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項１１】
前記検出装置で検出される液体は、前記基板ステージ上に残留する液体である請求項１、３、５、７および９のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１２】
前記検出装置で検出される液体は、前記基板上に残留する液体である請求項２、４、６、および８のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１３】
前記検出装置で検出される液体は、前記基板ステージ上の液滴である請求項１、３、５、７、および９のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１４】
前記検出装置で検出される液体は、前記基板上の液滴である請求項２、４、６、８および１２のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１５】
前記検出装置は、前記基板ステージ上または前記基板上に、異物があるか否かをも検出することを特徴とする請求項１〜１４のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１６】
前記検出装置は、前記基板ステージ上または前記基板上に存在するものが前記液体か前記異物かを判別することを特徴とする請求項１５記載の露光装置。
【請求項１７】
前記検出装置は、検出光を射出する射出部と、前記検出光を受光する受光部とを有し、前記受光部が受光した受光量に基づいて、前記液体か前記異物かを判別することを特徴とする請求項１６記載の露光装置。
【請求項１８】
液体を除去する液体除去装置を更に備え、
前記検出装置の検出結果に基づいて前記液体除去装置が作動することを特徴とする請求項１〜１７のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１９】
前記液体除去装置は、前記検出装置で検出された前記液体を除去する請求項１８記載の露光装置。
【請求項２０】
異物除去装置を更に備え、
前記異物除去装置は、前記検出装置の検出結果に基づいて、前記検出された異物を除去することを特徴とする請求項１５記載の露光装置。
【請求項２１】
前記検出装置は、前記基板ステージ上に設けられた光計測用センサ上の前記液体を検出可能であることを特徴とする請求項１〜２０のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項２２】
前記光計測用センサは光を通過する光通過部が形成された上板を含み、
前記上板は前記基板ステージ上に配置されることを特徴とする請求項２１記載の露光装置。
【請求項２３】
前記上板は、前記基板ステージの上面と面一に設けられることを特徴とする請求項２２記載の露光装置。
【請求項２４】
前記投影光学系の光学素子を囲むように設けられた流路形成部材と、を備え、
前記流路形成部材の供給口から前記投影光学系下に液体の供給を行うとともに、前記流路形成部材の回収口から液体回収を行うことによって前記液体の液浸領域を形成することを特徴とする請求項１〜２３のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項２５】
前記流路形成部材は、前記基板ステージに支持された基板が対向可能な下面を有し、
前記下面に前記回収口が配置されていることを特徴とする請求項２４記載の露光装置。
【請求項２６】
前記下面に前記供給口が配置されていることを特徴とする請求項２５記載の露光装置。
【請求項２７】
前記回収口は、前記供給口を囲むように配置されていることを特徴とする請求項２４〜２６のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項２８】
前記液体は、前記流路形成部材で回収されずに残留する液体を含むことを特徴とする請求項２４〜２７のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項２９】
前記検出装置は、前記液体の位置、大きさ、高さおよび範囲の少なくとも１つを検出可能であることを特徴とする請求項１〜２８のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項３０】
前記検出装置は、前記基板ステージに配置された基準部材上の液体の有無を検出可能であることを特徴とする請求項１〜２９のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項３１】
前記基板ステージは、前記支持した基板と所定の間隙を隔てて配置される上面を有し、
前記検出装置は、前記基板ステージの上面より低い位置に配置される領域の液体を検出可能である請求項１〜３０のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項３２】
前記支持した基板の上面と、前記基板ステージの上面とは、同じ高さである請求項３１記載の露光装置。
【請求項３３】
前記検出装置は、前記基板ステージの凹部内に残留する液体を検出可能であることを特徴とする請求項３１または３２記載の露光装置。
【請求項３４】
前記基板ステージは、前記検出装置の下方で移動可能である請求項１〜３３のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項３５】
前記検出装置の下方に前記基板ステージが移動することにより前記液体が検出される請求項３４記載の露光装置。
【請求項３６】
前記検出装置の検出結果に基づいて警告を発することを特徴とする請求項１〜３５のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項３７】
露光後の前記基板を支持する前記基板ステージが、前記基板をアンロードするアンロード位置に移動するまでに、前記検出装置による液体の検出が行なわれる請求項１、２、８〜１０のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項３８】
前記基板の表面よりも小さい領域に局所的に形成される液体の液浸領域を介して前記基板が露光される請求項１〜３７のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項３９】
前記検出装置と前記基板ステージとが相対的に移動しながら前記液体が検出される請求項１〜３８のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項４０】
投影光学系と、前記投影光学系下の液浸領域とを介して基板上に露光光を照射して前記基板を露光する露光装置に用いられる液体検出方法において、
前記投影光学系下を移動可能な基板ステージで前記基板を支持することと、
前記液浸領域から流出した、前記基板を支持した基板ステージ上の液体を、前記基板の露光後に検出すること、
を含むことを特徴とする液体検出方法。
【請求項４１】
投影光学系と、前記投影光学系下の液浸領域とを介して基板上に露光光を照射して前記基板を露光する露光装置に用いられる液体検出方法において、
前記投影光学系下を移動可能な基板ステージで前記基板を支持することと、
前記液浸領域から流出した、前記基板ステージに支持された前記基板上の液体を、前記基板の露光後に検出すること、
を含むことを特徴とする液体検出方法。
【請求項４２】
投影光学系と、前記投影光学系下の液浸領域とを介して基板上に露光光を照射して前記基板を露光する露光装置に用いられる液体検出方法において、
前記投影光学系下を移動可能な基板ステージで前記基板を支持することと、
前記液浸領域から流出した、前記基板を支持した前記基板ステージ上の液体を、前記基板の露光中に検出すること、
を含むことを特徴とする液体検出方法。
【請求項４３】
投影光学系と液体とを介して基板上に露光光を照射して前記基板を露光する露光装置に用いられる液体検出方法において、
前記投影光学系下を移動可能な基板ステージで前記基板を支持することと、
前記液浸領域から流出した、前記基板ステージに支持された前記基板上の液体を、前記基板の露光中に検出すること、
を含むことを特徴とする液体検出方法。
【請求項４４】
投影光学系と、前記投影光学系下の液浸領域とを介して基板上に露光光を照射して前記基板を露光する露光装置に用いられる液体検出方法において、
前記投影光学系下を移動可能な基板ステージで前記基板を支持することと、
前記液浸領域から流出した、前記基板を支持した前記基板ステージ上の液体を、前記基板の露光前に検出すること、
を含むことを特徴とする液体検出方法。
【請求項４５】
投影光学系と、前記投影光学系下の液浸領域とを介して基板上に露光光を照射して前記基板を露光する露光装置に用いられる液体検出方法において、
前記投影光学系下を移動可能な基板ステージで前記基板を支持することと、
前記液浸領域から流出した、前記基板ステージに支持された前記基板上の液体を、前記基板ステージに支持された前記基板上に前記液浸領域があるときに検出すること、
を含むことを特徴とする液体検出方法。
【請求項４６】
投影光学系と、前記投影光学系下の液浸領域とを介して基板上に露光光を照射して前記基板を露光する露光装置に用いられる液体検出方法において、
前記投影光学系下を移動可能な基板ステージで前記基板を支持することと、
前記液浸領域から流出した、前記基板を支持した前記基板ステージ上の液体を、前記基板ステージに支持された前記基板上に前記液浸領域があるときに検出すること、
を含むことを特徴とする液体検出方法。
【請求項４７】
投影光学系と、前記投影光学系下の液浸領域とを介して基板上に露光光を照射して前記基板を露光する露光装置に用いられる液体検出方法において、
前記投影光学系下を移動可能な基板ステージで前記基板を支持することと、
前記液浸領域から流出した、前記基板ステージに支持された前記基板上の液体を、前記基板が前記基板ステージに支持された状態で検出すること、
を含むことを特徴とする液体検出方法。
【請求項４８】
投影光学系と、前記投影光学系下の液浸領域とを介して基板上に露光光を照射して前記基板を露光する露光装置に用いられる液体検出方法において、
前記投影光学系下を移動可能な基板ステージで前記基板を支持することと、
前記液浸領域から流出した、前記基板を支持した前記基板ステージ上の液体を、前記基板が前記基板ステージに支持された状態で検出すること、
を含むことを特徴とする液体検出方法。
【請求項４９】
投影光学系と、前記投影光学系下の液浸領域とを介して基板上に露光光を照射して前記基板を露光する露光装置に用いられる液体検出方法において、
前記投影光学系下を移動可能な基板ステージで前記基板を支持することと、
前記基板ステージに支持された前記基板と前記基板ステージとに跨るように残留する液体を検出すること、
を含むことを特徴とする液体検出方法。
【請求項５０】
前記検出される液体は、前記基板ステージ上に残留する液体である請求項４０、４２、４４、４６および４８のいずれか一項記載の液体検出方法。
【請求項５１】
前記検出される液体は、前記基板上に残留する液体である請求項４１、４３、４５、および４７のいずれか一項記載の液体検出方法。
【請求項５２】
前記検出される液体は、前記基板ステージ上の液滴である請求項４０、４２、４４、４６、および４８のいずれか一項記載の液体検出方法。
【請求項５３】
前記検出される液体は、前記基板上の液滴である請求項４１、４３、４５、４７および５１のいずれか一項記載の液体検出方法。
【請求項５４】
前記基板ステージ上または前記基板上に、異物があるか否かをさらに検出することを特徴とする請求項４０〜５３のいずれか一項記載の液体検出方法。
【請求項５５】
前記基板ステージ上または前記基板上に存在するものが前記液体か前記異物かを判別することを特徴とする請求項５４記載の液体検出方法。
【請求項５６】
前記検出された前記液体を除去することをさらに含む請求項４０〜５５にいずれか一項記載の液体検出方法。
【請求項５７】
前記検出された異物を除去することをさらに含む請求項５４記載の液体検出方法。
【請求項５８】
前記基板ステージ上に設けられた光計測用センサ上の前記液体がさらに検出される請求項４０〜５７のいずれか一項記載の液体検出方法。
【請求項５９】
前記光計測用センサは光を通過する光通過部が形成された上板を含み、
前記上板は前記基板ステージ上に配置されることを特徴とする請求項５８記載の液体検出方法。
【請求項６０】
前記上板は、前記基板ステージの上面と面一に設けられることを特徴とする請求項５９記載の液体検出方法。
【請求項６１】
前記液体は、前記投影光学系の光学素子を囲むように設けられて前記液浸領域を形成する流路形成部材で回収されないで残留する液体を含む請求項４０〜６０のいずれか一項記載の液体検出方法。
【請求項６２】
前記基板ステージに配置された基準部材上の液体の有無がさらに検出される請求項４０〜６１のいずれか一項記載の液体検出方法。
【請求項６３】
前記基板ステージは前記支持した基板と所定の間隙を隔てて配置される上面を有し、
前記基板ステージの上面より低い位置に配置される領域の液体が検出される請求項４０〜６２のいずれか一項記載の液体検出方法。
【請求項６４】
前記支持した基板の上面と、前記基板ステージの上面とは、同じ高さである請求項６３記載の液体検出方法。
【請求項６５】
前記基板ステージは、前記液体を検出するための検出装置の下方で移動可能である請求項４０〜６４のいずれか一項記載の液体検出方法。
【請求項６６】
前記検出装置の下方に前記基板ステージが移動することにより前記液体が検出される請求項６５記載の液体検出方法。
【請求項６７】
前記液体の検出結果に基づいて警告を発することを特徴とする請求項４０〜６６のいずれか一項記載の液体検出方法。
【請求項６８】
露光後の前記基板を支持する前記基板ステージが、前記基板をアンロードするアンロード位置に移動するまでに、前記液体の検出が行なわれる請求項４０、４１、４７〜４９のいずれか一項記載の液体検出方法。
【請求項６９】
前記基板の表面よりも小さい領域に局所的に形成される液体の液浸領域を介して前記基板が露光される請求項４０〜６８のいずれか一項記載の液体検出方法。
【請求項７０】
前記検出装置と前記基板ステージとが相対的に移動しながら前記液体が検出される請求項６５記載の液体検出方法。
【請求項７１】
前記液体の検出に基づき、前記液体の位置、大きさ、高さおよび範囲の少なくとも１つが検出される請求項４０〜７０のいずれか一項記載の液体検出方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】露光装置、及び液体検出方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、投影光学系と液体とを介して基板上に露光光を照射して基板を露光する露光装置、及び液体検出方法に関するものである。