【事件の表示】
　特願２００３−１９０８２１「マスク設計方法、及びパネル形成方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１６年　５月１３日出願公開、特開２００４−１３９０２４〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１　手続の経緯・本願発明
　本願は、平成１５年７月３日（パリ条約による優先権主張２００２年１０月１９日、大韓民国）の特許出願であって、平成２０年３月５日付けで手続補正がなされたところ、平成２０年４月２日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、同年７月７日に拒絶査定不服審判請求がなされるとともに、同年８月６日付けで手続補正がなされ、その後、当審において、平成２１年１２月１０日付けで前記平成２０年８月６日付け手続補正が却下されるとともに同日付けで拒絶理由が通知され、平成２２年３月３０日付けで手続補正がなされたものである。
　
　そして、平成２２年３月３０日付け手続補正により補正された明細書、特許請求の範囲及び図面の記載からみて、本願の請求項１に係る発明は次のものであると認める。
　
「　基板より小さいサイズで長辺及び短辺を含む１個のマスクに、第１パネルが１個の反復領域と２個の非反復領域に分割される第１パネル領域を、前記１個の反復領域と２個の非反復領域が前記マスクの長辺方向にだけ配列されるように設計する段階と、
　前記マスクの残り空間に、前記基板及び前記第１パネルより小さいサイズの第２パネルに対応して分割されなかった第２パネル領域を、前記第１パネル領域と前記マスクの長辺方向にだけ配列されるように設計する段階と、
　前記第１パネル領域と前記第２パネル領域が前記マスクの長辺方向に配列される前記マスクで、前記マスクの長辺方向にだけ配列される前記第１パネル領域の前記１個の反復領域と前記２個の非反復領域を用いて、前記基板上に第１パネル領域より大きい前記第１パネルを形成する段階と、
　前記マスクで、前記第１パネル領域と前記長辺方向に配列される前記第２パネル領域を用いて、前記基板の残り空間に前記第２パネルを形成する段階とを含み、
　前記基板上で前記第１パネル及び第２パネルは、その配向方向が９０°の差を有し、
　前記第１パネル及び第２パネルは同一の液晶モードを有し、前記液晶モードは、ＩＰＳ、ＴＮ、ＳＴＮのうち何れかであることを特徴とするパネル形成方法。」（以下「本願発明」という。）
　
２　引用刊行物の記載事項
（１）引用刊行物１及び引用発明１
　当審における拒絶理由に引用した、本願の優先日前に頒布された刊行物である特開２００１−２３５６１６号公報（以下「引用刊行物１」という。）には、以下の事項が記載されている。
　
　ア　「【特許請求の範囲】
【請求項１】大型のガラス基板上に、着色フォトレジストを塗布、パターン露光用フォトマスクを介して露光し、現像し、残存した着色層を定着する工程を複数色について繰り返して形成する液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法において、前記フォトマスクの基板ガラスが、複数の合成石英ガラス基板により、カラーフィルタパターンのパターン部となる部分で溶接されてなる大型基板ガラスであることを特徴とする、液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法。
【請求項２】液晶表示装置用カラーフィルタを大型のガラス基板上に焼き付ける場合に用いるパターン露光用フォトマスクにおいて、その基板ガラスが、複数の合成石英ガラス基板により、カラーフィルタパターンのパターン部となる部分で溶接されてなる大型基板ガラスであることを特徴とするフォトマスク。」
　
　イ　「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、カラー液晶表示装置等に内蔵される、大面積の基板を用いたカラーフィルターの製造方法、およびそこで用いられるフォトマスクに関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示装置用カラーフィルタの製造は、従来より、フォトリソグラフィー法による着色レジストのパターニングによって行われている。すなわち、透明なガラス基板上に、着色顔料を分散したフォトレジストをスピンコート等により薄く均一に塗布し、乾燥した後、フォトマスクを介して紫外光を露光、現像してフィルターパターンを得るものである。通常この工程を赤、緑、青の３色分繰り返して行う。また、この工程の前に、着色フィルタパターンの画素部以外の間隙部および外周部に金属系または樹脂系（黒色着色レジスト）のブラックマトリクスをパターン形成する場合もある。
【０００３】しかし、近年の液晶表示装置（ＬＣＤ）画面の大型化に伴い、その大きさに対応するために、また、多面付けによる効率生産のために、カラーフィルタのガラス基板サイズも大型化してきている。それに呼応して、カラーフィルタの製造に用いるパターン露光用マスクも大型化している。パターン露光用マスクの基板であるガラス透明基板も極めて高価なものになっている。例えば、６２０×７２０ｍｍ角で厚さ５〜８ｍｍの合成石英ガラス製マスク基板で１枚約３００万円、１ｍ角クラスのサイズになると１０００〜２０００万円と推定される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記のような基板の大型化に伴うパターン露光用マスクの大型化に対応して、比較的安価に大型のパターン露光用マスクを作成する手段を提供し、カラーフィルタ製造時のコスト負荷を軽減しようとするものである。」
　
　ウ　「【０００６】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図面を用いて説明する。本発明では、小型のパターン露光用マスクの合成石英ガラス基板を複数枚突き合わせ、溶接して大型化し、接合部表面を研磨処理するものとする。その結果、溶接部が最終的にマスクパターンのパターン部となるか非パターン部となるかを問わない。
【０００７】溶接には酸素〜水素バーナー（２０００℃程度）にて行い、溶接後は接合部表面を表面研磨装置で研磨処理して表面段差を解消する。このようにして完成した合成石英フォトマスク基板用ガラスにおいて、その接合部には接合痕はほとんど確認できず、表面平滑性、接合した基板全体の平面度はもちろんのこと、接合部が後に形成するマスクパターン部にかかっていても、パターンの焼き付け結果に全く問題ないレベルに仕上げることができる。
【０００８】このようにして仕上げられた合成石英フォトマスク基板用ガラス表面に、金属クロム膜をスパッタ蒸着した後、マスクパターン形成をフォトリソグラフィーにより行う。図１に示すように、複数のガラス板を溶接して大きな一枚のパターン露光用マスク１としており、３で示した部分が溶接部であるが、パターン部２の配置には制限がなく、溶接部３にパターン部２がかかっていてもよい。
【０００９】以上のようにして作成した大型のパターン露光用マスクを用いて、従来通りの方法にて、カラーフィルタ基板への着色フォトレジストコート、プレベーク、マスク露光、現像、ポストベークという一連のフォトリソグラフィー工程を経てカラーフィルタを製造する。
【００１０】すなわち、まず、図２（ａ）のようにガラス基板４（ブラックマトリクスが形成される場合もある）上に感光性赤色着色レジスト５、例えば富士ハントエレクトロニクステクノロジー社製顔料分散フォトレジスト、商品名「ＣＲ−２０００」を用いて、基板全面に１．０〜２．０μｍの厚さにコーティングし、７０℃、２０分の条件でプレベークを行う。このレジスト形成面に前記のパターン露光用マスク１を図２（ｂ）のように近接配置して、露光量１２０ｍＪ／ｃｍ2にて露光し、現像は上記レジストの専用現像液を用い、ポストベークを２３０℃、６０分の条件で行うことで図２（ｃ）のように赤色カラーフィルタ層５Ｒをパターニングする。同様に同シリーズのフォトレジスト「ＣＧ−２０００」「ＣＢ−２０００」を用いて緑色、青色の各色のカラーフィルタ層５Ｇ，５Ｂを繰り返しパターニングすることにより、図２（ｄ）の如くカラーフィルタを完成する。」
　
　エ　「【００１２】
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に用いるパターン露光用マスクの概要を示す斜視図である。
【図２】本発明にカラーフィルタの製造工程の一例を示す断面図である。
【符号の説明】
１      パターン露光用マスク
２      パターン部
３      溶接部
４      ガラス基板
５      着色レジスト
５Ｒ，５Ｇ，５Ｂ    カラーフィルタ層」
　
　オ　上記ウに照らして図１を見ると、合成石英フォトマスク基板は、合成石英ガラス基板を複数枚突き合わせた矩形形状のものであること、及び、上記合成石英フォトマスク基板用ガラス表面に形成されたマスクパターンである「パターン部２」は、１つの大きな矩形形状の領域と、複数の小さな矩形形状の領域とからなること、が見て取れる。
　
　上記摘記事項の記載を総合すると、引用刊行物１には、以下の発明（以下「引用発明１」という。）が記載されていると認められる。
　
「液晶表示装置（ＬＣＤ）画面の大型化に伴いその大きさに対応するために、また、多面付けによる効率生産のために、カラーフィルタのガラス基板サイズが大型化してきており、それに呼応して、カラーフィルタの製造に用いるパターン露光用マスクも大型化しており、これに対応して、比較的安価に大型のパターン露光用マスクを作成する手段を提供することを課題とし、
　大型のガラス基板上に、着色フォトレジストを塗布、パターン露光用フォトマスクを介して露光し、現像し、残存した着色層を定着する工程を複数色について繰り返して形成する液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法において、
　前記フォトマスクの基板ガラスが、複数の合成石英ガラス基板により、カラーフィルタパターンのパターン部となる部分で溶接されてなる矩形形状の大型基板ガラスであり、
　上記のようにして仕上げられた合成石英フォトマスク基板用ガラス表面に、金属クロム膜をスパッタ蒸着した後、マスクパターン形成をフォトリソグラフィーにより行い、上記合成石英フォトマスク基板用ガラス表面に形成されたパターン部は、１つの大きな矩形形状の領域と、複数の小さな矩形形状の領域とからなる、
液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法。」
　
（２）引用刊行物２及び引用発明２
　当審における拒絶理由に引用した、本願の優先日前に頒布された刊行物である特開平１１−２４２３４０号公報（以下「引用刊行物２」という。）には、図とともに以下の事項が記載されている。
　
　ア　「【特許請求の範囲】
　【請求項１】  多数のパターンが規則的に配列された規則的パターンと、この規則的パターンの外側を囲う長方形の外枠パターンと、からなる露光パターンを、分割逐次露光法により基板面上の感光性樹脂層に転写する大型基板のパターン転写方法において、
前記露光パターンを、前記長方形の長辺方向両端部をなす端部パターンと、両端部パターンを除いた内側パターンとに分け、前記内側パターンを前記長辺方向で等分に分割し、この分割された一つの分割パターンと、その両側部に長辺方向での配置を反対にして配置された両端部パターンとを有する一つのマスクを用いて分割逐次露光を行うことを特徴とする大型基板のパターン転写方法。」
　
　イ　「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、シャドーマスクや液晶基板、カラーフィルター等のような面積の大きな基板に対して、多数のパターンが規則的に配列された規則的パターンと、この規則的パターンの外側を囲う長方形の外枠パターンと、からなる露光パターンを基板面上の感光性樹脂層に対して分割逐次露光法で露光して転写する大型基板のパターン転写方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来より、シャドーマスクや液晶基板、カラーフィルター等においては、フォトリソグラフィ技術を利用して基板全面にパターンが形成されている。このパターンは、例えば図９に示すような、多数のパターンが規則的に配列された規則的パターン１と、この規則的パターン１の外側を囲う長方形の外枠パターン２とからなるものである。
【０００３】このようなパターンを形成する際に、大型の基板では、通常の露光装置により一度の露光でパターン全体を露光することができないため、例えば図９に示すようにパターン全体を４分割して、各区画１１〜１４毎に異なるマスクで露光を行う分割逐次露光方法が採用されている。この場合、通常は、投影露光による分割逐次露光方法が採用されている。」
　
　ウ　「【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態について説明する。図１は、基板に転写する露光パターンの一例を示す平面図であり、図２は、この実施形態において、この露光パターンを分割逐次露光法で転写するために使用するマスクを示す平面図である。図２のマスク１枚を用いた分割逐次露光により、図１の露光パターンを形成することができる。
【００１０】この露光パターンは、矩形の多数のパターンが規則的に配列された規則的パターン１と、この規則的パターン１の外側を囲う長方形の外枠パターン２と、で構成されている。この実施形態では、この露光パターンを、外枠パターン２をなす長方形の長辺方向両端部の端部パターン３，４と、両端部パターン３，４の内側にある内側パターン５とに分け、内側パターン５を長辺方向で２等分して分割パターン５１とした。
【００１１】マスク６の中央には分割パターン５１が形成され、その両側部に、長辺方向での配置を露光パターン上とは反対にして、両端部パターン３，４が形成されている。すなわち、図１の露光パターン上では左側の端部をなす端部パターン３がマスク６上では右側に、露光パターン上では右側の端部をなす端部パターン４がマスク６上では左側に配置されている。また、分割パターン５１と両端部パターン３，４との間には隙間が設けてある。
【００１２】このマスク６を用いて、先ず、図３に示すように、マスク６の両端部パターン３，４を遮蔽板７で遮蔽した状態でプロキシミティ露光を行うことにより、分割パターン５１を基板８の所定位置に転写する。次に、基板８またはマスク６を所定位置まで横に移動して前記と同様の露光を行い、既に転写された分割パターン５１ａの隣に新たな分割パターン５１ｂを転写する。
【００１３】次に、図４に示すように、マスク６の左側にある端部パターン４が基板８の右側端部に合うように、マスク６を基板８の上に配置した状態でプロキシミティ露光を行うことにより、端部パターン４を基板８の右端部に転写する。このとき、マスク６の分割パターン５１は基板８と重ならないため、マスク６の遮蔽を行わずに端部パターン４の露光を行うことができる。
【００１４】次に、マスク６の右側にある端部パターン３が基板８の左側端部に合うように、マスク６を基板８の上に配置した状態で前記と同様の露光を行うことにより、端部パターン３を基板８の左端部に転写する。このとき、マスク６の分割パターン５１は基板８と重ならないため、マスク６の遮蔽を行わずに端部パターン３の露光を行うことができる。これにより、端部パターン３の露光を短時間で行うことができる。」
　
　エ　「【００１５】これに対して、図５に示すような、分割パターン５１の両側部に、長辺方向での配置を露光パターン上と同じにして、両端部パターン３，４が配置されているマスク６０では、図６に示すように、両端部パターン３，４の露光の際に、マスク６０全体が基板８と重なるため、マスク６０の転写パターン以外の部分を遮蔽板７１で遮蔽した状態で露光を行う必要がある。」
　
　オ　「【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態において、基板に転写する露光パターンの一例を示す平面図である。
【図２】本発明の一実施形態において、露光パターンを分割逐次露光法で転写するために使用するマスクを示す平面図である。
【図３】図２のマスクを使用した分割パターンの露光方法を示す平面図である。
【図４】図２のマスクを使用した端部パターンの露光方法を示す平面図である。
【図５】端部パターンと分割パターンとからなるマスクであって、本発明の実施形態に相当しない一例を示す平面図である。
【図６】図５のマスクを使用した端部パターンの露光方法を示す平面図である。
・・・」
　
　カ　上記ウの記載を踏まえると、上記アないしオに開示される大型基板のパターン転写方法における分割逐次露光法に用いられるマスクは、プロキシミティ露光を行うためのものであるので、該大型基板よりも小さいサイズであると認められる。
　
　上記摘記事項の記載を総合すると、引用刊行物２には、以下の発明（以下「引用発明２」という。）が記載されている、と認められる。 
　
「液晶基板、カラーフィルター等のような面積の大きな基板に対して、多数のパターンが規則的に配列された規則的パターンと、この規則的パターンの外側を囲う長方形の外枠パターンと、からなる露光パターンを、分割逐次露光法により基板面上の感光性樹脂層に転写する大型基板のパターン転写方法において、
　前記露光パターンを、前記長方形の長辺方向両端部をなす端部パターンと、両端部パターンを除いた内側パターンとに分け、前記内側パターンを前記長辺方向で等分に分割し、この分割された一つの分割パターンと、その両側部に長辺方向での配置を反対にして配置された両端部パターンとを有する、前記大型基板より小さいサイズの一つのマスクを用いて分割逐次露光を行う、あるいは、
　分割パターンの両側部に、長辺方向での配置を露光パターン上と同じにして、両端部パターンが配置されている、前記大型基板より小さいサイズの一つのマスクを用いて、分割逐次露光を行う、
　大型基板のパターン転写方法。」
　
３　対比
　本願発明と引用発明１とを対比する。
　
（１）引用発明１の「液晶表示装置用カラーフィルタの製造方法」は、「大型のガラス基板」（すなわち「パネル」）上に「液晶表示装置用カラーフィルタ」を製造するものであるから、本願発明の「パネル形成方法」に相当する。
　
（２）引用発明１の「（パターン露光用）フォトマスク」は、本願発明の「マスク」に相当し、引用発明１の「フォトマスク」の「基板ガラス」は「矩形形状の大型基板ガラス」であるから、引用発明１は、本願発明の「長辺及び短辺を含む１個のマスク」との特定事項を備える。
　
（３）引用発明１は、「合成石英フォトマスク基板用ガラス表面に、金属クロム膜をスパッタ蒸着した後、マスクパターン形成をフォトリソグラフィーにより行い、上記合成石英フォトマスク基板用ガラス表面に形成されたパターン部は、１つの大きな矩形形状の領域と、複数の小さな矩形形状の領域とからなる」から、引用発明１は、本願発明の「長辺及び短辺を含む１個のマスクに」「第１パネル領域を」「設計する段階」と、「前記マスクの残り空間に、前記第１パネルより小さいサイズの」「第２」の「領域を」「前記第１パネル領域と」「配列されるように」「設計する段階」とを備えている。
　ここで、引用発明１は、「多面付けによる効率生産のために」「大型のパターン露光用マスクを作製する手段を提供する」ためのものであるところ、多面付けによる効率生産のために、基板上に、比較的大きいサイズの第１パネルと、基板の残り空間に第１パネルより小さいサイズの第２パネルを形成するパネル形成方法は、本願の優先日当時において周知であり（必要なら、特開平１０−１０７２８９号公報（請求項１、段落０００４−０００６、図１−３等参照。）、特開平９−２６５０６２号公報（特許請求の範囲、段落０００４−０００７、００２７−００３０、図３等参照。）、特開２０００−２６７１３５号公報（図５，図１７，図２０，図２１等参照。）、特開昭６０−３６０９号公報（特許請求の範囲、第２−３図等参照。）参照。）、引用発明１の１つの大きな矩形形状の領域と複数の小さな矩形形状の領域とを有するパターン部は、上記周知技術の、比較的大きいサイズの第１パネルと第１パネルより小さいサイズの第２パネルとを形成するためのものであることは明らかであるから、引用発明１は、本願発明の「長辺及び短辺を含む１個のマスクに、」「第１パネル領域を設計する段階」と、「前記マスクの残り空間に、前記第１パネルより小さいサイズの第２パネルに対応して分割されなかった第２パネル領域を、前記第１パネル領域と」「配列されるように設計する段階」とを備えている。
　
（４）引用発明１は、「大型のガラス基板上に、着色フォトレジストを塗布、パターン露光用フォトマスクを介して露光し、現像し、残存した着色層を定着する工程を複数色について繰り返して」「液晶表示装置用カラーフィルタ」を製造するものであるところ、上記（３）に示したように、引用発明１は、多面付けによる効率生産のために、比較的大きいサイズの第１パネルと基板の残り空間に第１パネルより小さいサイズの第２パネルを形成するものであると認められるから、引用発明１は、本願発明の「前記第１パネル領域と前記第２パネル領域が」「配列される前記マスクで、」「第１パネル領域」「を用いて、」「前記基板上に」「前期第１パネルを形成する段階」と、「前記マスクで、」「前記第１パネル領域と」「配列される前記第２パネル領域を用いて、前記基板の残り空間に前記第２パネルを形成する段階」とを備えるものと認められる。
　
　よって、本願発明と引用発明１とは、
「長辺及び短辺を含む１個のマスクに、第１パネル領域を設計する段階と、
　前記マスクの残り空間に、前記第１パネルより小さいサイズの第２パネルに対応して分割されなかった第２パネル領域を、前記第１パネル領域と配列されるように設計する段階と、
　前記第１パネル領域と前記第２パネル領域が配列される前記マスクで、前記第１パネル領域を用いて、基板上に前記第１パネルを形成する段階と、
　前記マスクで、前記第１パネル領域と配列される前記第２パネル領域を用いて、前記基板の残り空間に前記第２パネルを形成する段階とを含む、
　パネル形成方法。」
である点で一致し、以下の点で相違する。
　
［相違点１］
　第１パネル領域を設計する段階において、本願発明は、長辺及び短辺を含む１個のマスクが「
基板より小さいサイズ
第１パネルが１個の反復領域と２個の非反復領域に分割される
前記１個の反復領域と２個の非反復領域が前記マスクの長辺方向にのみ配列されるように
　
［相違点２］
　第２パネル領域を設計する段階において、本願発明は、「第２パネル領域を、前記第１パネル領域と前記
マスクの長辺方向にのみ配列される
前記基板
より小さいサイズ
　
［相違点３］
　本願発明では、「前記基板上で前記第１パネル及び第２パネルは、その配向方向が９０°の差を有し」とされているのに対して、引用発明１ではそのような特定がなされていない点。
　
［相違点４］
　本願発明では、「前記第１パネル及び第２パネルは同一の液晶モードを有し、前記液晶モードは、ＩＰＳ、ＴＮ、ＳＴＮのうち何れかである」とされているのに対して、引用発明１ではそのような特定がなされていない点。
　
４　判断
　上記各相違点につき検討する。
　
（１）相違点１について
　引用刊行物２には、上記２（２）のとおりの引用発明２が記載され、大型基板のパターン転写方法において、露光パターンを、前記長方形の長辺方向両端部をなす端部パターンと、両端部パターンを除いた内側パターンとに分け、前記内側パターンを前記長辺方向で等分に分割し、この分割された一つの分割パターンと、その両側部に配置された両端部パターンとを有する一つの前記大型基板より小さいサイズのマスクを用いて分割逐次露光を行うことが示されている。
　引用発明１と引用発明２とは、大型の基板上に、カラーフィルターのパターンを一つのマスクを用いて露光する工程を含むカラーフィルタの製造方法である点で共通する。
　したがって、引用発明１のフォトマスクにおけるパターン部の大きな矩形形状の領域（第１パネル領域）を、上記引用発明２のような両端部パターン及び分割パターンを有する基板より小さいサイズのものとなし、本願発明の相違点１に係る発明特定事項とすることは、当業者が容易になし得たことである。
　
（２）相違点２について
　矩形形状の基板上に２つの矩形形状の領域をどのように配列するかは、当業者が設計上適宜定めることのできる事項というべきところ、基板面を効率よく利用するという観点から、引用発明１において、第１パネル領域（大きな矩形形状の領域）と第２パネル領域（小さな矩形形状の領域）とを、矩形形状の大型基板ガラス上に長辺方向に配列するように設計することは、当業者が適宜なし得たことである。また、第２パネル領域は第１パネル領域より小さいことから、第２パネルが「基板」より小さいサイズとなることも、明らかなことである。
　
（３）相違点３について
　上記３（３）に示したとおり、引用発明１の大きな矩形形状の領域と複数の小さな矩形形状の領域とは、それぞれ、基板上に、大きいサイズの第１パネルと小さいサイズの第２パネルとを形成するためのものであると認められるところ、異なる種類の液晶パネルの配向方向は各種類毎に定められるべきものであるから、第１パネルと第２パネルの配向方法をそれぞれ設定し、両者の配向方向が９０°の差を有するものとすることは、当業者が適宜なし得たことである。
　
（４）相違点４について
　引用発明１は、多面付けによる効率生産のために大型のパターン露光用マスクを作製する手段を提供することをその課題とするものであることから、同一の基板上に設けた第１パネルと第２パネルとを、生産効率の観点から単一の（あるいは同種の）工程によって製造すべきであることは当業者であれば当然考慮すべきことであり、両パネルを同一の液晶モードを有するものとすることは、当業者が適宜なし得たことである。なお、液晶モードとして、ＩＰＳ、ＴＮ、ＳＴＮは、いずれも慣用されているものである。
　
（５）請求人の主張について
　審判請求人は、平成２２年３月３０日付け意見書において、当審において通知した拒絶理由に対して、意見の内容の３．（１）〜（３）のとおり主張するが、以下に詳述するとおり、上記の認定、判断を左右するものではない。
　
　ア　意見書の３．（１）において、審判請求人は、
「しかし、引例１は、マスク１に形成されたパターン部２の大きな矩形形状の領域と小さな矩形形状の領域それぞれが、本発明の大きい第１パネル領域と小さい第２パネル領域に相応することを開示していません。それは、引例１は、比較的安価に大型のパターン露光用マスクを作成するために、小型のパターン露光用マスクの合成石英ガラス基板を複数枚突合せ、溶接して大型化し接合部表面を研磨処理し、接合部がマスクパターンのパターン部となるか否かを問わないことを開示しますが（引例１の段落０００４〜０００６）、本発明のように、最終的に互いに異なる大きさの液晶パネルを１個のマスクを利用して形成する点を全く開示していません。したがって、引例１及び２を組み合わせても、本発明の上記第１の特徴が予測されることは無いものと思料します。」
と、本願発明と引用発明１との差異を主張している。
　しかしながら、上記３（３）に示したとおり、引用発明１が多面付けによる効率生産のために、大型のパターン露光用マスクを作製する手段を提供するためのものであることを踏まえれば、大きな矩形形状の領域と小さな矩形形状の領域は、それぞれ、基板上に、大きいサイズの第１パネルと小さいサイズの第２パネルとを形成するためのものであると認められるから、明記はなくとも、引用刊行物１には、互いに異なる大きさの液晶パネルを１個のマスクを利用して形成することが、実質的に開示されているといえる。
　
　イ　意見書の３．（２）において、審判請求人は、
「本発明は、上記「前記１個のマスクに第１パネル領域の１個の反復領域と２個の非反復領域と、第２パネル領域が、前記マスクの長辺方向だけで配列された第２の特徴」によって、分割露光時マスクの不用領域を遮断するブレードの左側及び右側に、Ｘ方向に移動する２個のブレードだけが必要でありますので、製造原価を節減することができる優れた効果を提供ます。」
と本願発明の効果を主張し、一方で、
「一方、引例１及び２を組み合わせた発明では、本願の図６Ａのように、マスクの第１パネル領域の分割領域はマスクの長辺方向に配列され、第１パネル領域と第２パネル領域がマスクの短辺方向に配列された場合には、長辺方向(左側及び右側方向)に移動する２個のブレード以外にも短辺方向(下側及び上側方向)に移動する２個のブレードが追加的に必要になる短所を有していると考えられます。」
と、引用発明の短所を主張している。
　しかしながら、引用発明１は多面付けによる効率生産を課題とするものであることを踏まえれば、引用発明１、２及び周知技術に基づいて構成された発明は本願発明と同様の構成を備えるものであるから、同様の効果を奏するものと考えられる。
　なお、上記主張にある本願発明の効果の主張は、本願の明細書の記載に基づくものではなく、本願発明が上記のような方法によって製造されるものであること、マスク上の第２パネル領域と基板上の第２パネルとの位置関係等は特定されていないから、本願発明は、必ずしも、上記のような効果を備えるものとは認められない。
　
　ウ　意見書の３．（３）において、審判請求人は、
「本発明は、上記「基板上で、第１パネル及び第２パネルの長辺が９０°の関係を持ちながら第１パネル及び第２パネルの配向方向が９０°の差がある第３の特徴」によって一回のラビング工程でも第１及び第２パネルが９０°の配向方向の差を得ることができるため、工程を簡素化して製造原価を節減することができる優れた効果を提供することができます。」
と述べている。
　しかしながら、本願発明の該当する特定事項の記載は、「前記基板上で前記第１パネル及び第２パネルは、その配向方向が９０°の差を有し」というものであって、上記の「基板上で、第１パネル及び第２パネルの長辺が９０°の関係を持ちながら第１パネル及び第２パネルの配向方向が９０°の差がある」との事項は、本願発明が具備する発明特定事項ではない。
　また、上記意見書の主張は、本願明細書の
「【００５７】
ここで、一つの基板２１に互いに異なる大きさを有するパネルを混合して形成する時、液晶モード、主視野角、配向方向、配向方法、カラー再現率を考慮すべきである。
即ち、本発明で基板２１上に外形のサイズが異なるパネルをする場合、パネル間の配向方向も異なるようにして形成できる。
【００５８】
パネル間の配向方向が０°と１８０°を有するパネルを形成する場合、回転するドラムに取り付けられたラビング布で基板を一定の方向にラビングして、一定の方向の直線溝を作る。この際、ＬＣＤの使用用途に応じて主視野角の形成が必要であり、このために、ラビングドラムの角度を調整して、基板に形成される直線溝の方向を変えることにより、基板内のパネルに対して所望の配向方向を有するようにする。」、
「【００６３】
また、本発明で各パネル２２，２７を混合して形成する場合、各パネル２２，２７の配向方向がそれぞれ０°，９０°，１８０°，２７０°とは、主視野角を異なるように形成するという意味ではなく、混合形成時にパネル２２，２７の形成方向がどの角度まで可能であるかという問題である。
即ち、物理的な配向を適用すると、０°，１８０°のみ可能である。しかしながら、ＵＶ配向やＶＡ液晶モードなどを適用する場合、混合形成時にパネル２２，２７間の形成可能な方向はその他の角度でも可能となる。」
等の、各パネルの配向方向の関係についての記載とも整合しないものといえる。
　したがって、上記出願人の主張は、本願の明細書及び特許請求の範囲の記載に基づいたものではない。
　
　以上のことから、請求人の意見書における主張はいずれも採用できるものではなく、上記各相違点に対する判断を覆すべき根拠は見い出せない。
　
（６）小括
　以上の検討によれば、本願発明は、引用発明１、２及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
５　むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用刊行物１、２に記載された発明及び周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
　よって、結論のとおり審決する。