【手続補正書】
【提出日】平成24年3月15日(2012.3.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
投影光学系と、該投影光学系の像面側に供給される液体を介して基板に露光光を照射する露光装置であって、
前記投影光学系に対して移動可能なステージと、
前記ステージに設けられ、前記投影光学系に対向する位置に移動された状態で前記液体に接する第１面と、気体に接するように設けられて前記液体および前記第１面を介した前記投影光学系からの前記露光光を透過させる第２面とを含む光学部材と、
前記光学部材の前記第２面から射出される前記露光光を受光する受光面を有する受光素子と、を備え、
前記第２面は、前記投影光学系から該第２面までの間で気体を通過しない前記露光光を透過させる非平坦部を含むことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
請求項１に記載の露光装置であって、
前記受光面は、前記第２面の前記非平坦部から射出した前記露光光を受光することを特徴とする露光装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の露光装置であって、
前記光学部材と前記受光面とは、相互に離間して配置されていることを特徴とする露光装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記非平坦部は、前記露光光の最外光線を透過させることを特徴とする露光装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記光学部材は、前記第１面が前記ステージの上面と一致するように該ステージに設けられることを特徴とする露光装置。
【請求項６】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記光学部材を保持し、該光学部材の前記第１面が前記ステージの上面と一致するように前記ステージに取り付けられる保持部材を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項７】
請求項６に記載の露光装置であって、
前記光学部材は、前記第１面が前記保持部材の上面と一致するように該保持部材に保持されることを特徴とする露光装置。
【請求項８】
請求項６または７に記載の露光装置であって、
前記保持部材は、該保持部材の上面が前記ステージの上面と一致するように該ステージに取り付けられることを特徴とする露光装置。
【請求項９】
請求項６〜８のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記受光素子の前記受光面は、前記保持部材の内側に設けられることを特徴とする露光装置。
【請求項１０】
請求項６〜９のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記光学部材の少なくとも一部は、前記保持部材の上面に形成された開口内に設けられることを特徴とする露光装置。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記光学部材の少なくとも一部は、前記ステージの上面に形成された開口内に設けられることを特徴とする露光装置。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記ステージは、前記基板を保持して移動することを特徴とする露光装置。
【請求項１３】
請求項１２に記載の露光装置であって、
前記ステージは、前記基板を保持するホルダを含み、
前記ホルダは、前記ステージの上面と前記基板の上面とが一致するように該基板を保持することを特徴とする露光装置。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記第１面と前記第２面との間における前記露光光の光路には気体が介在されないことを特徴とする露光装置。
【請求項１５】
請求項１〜１３のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記光学部材は、前記第１面を有する第１光学部材と、前記第２面を有する第２光学部材とを含むことを特徴とする露光装置。
【請求項１６】
請求項１５に記載の露光装置であって、
前記第１光学部材と前記第２光学部材とは、前記第１面と前記第２面との間における前記露光光の光路に気体を介在させずに配置されることを特徴とする露光装置。
【請求項１７】
請求項１５または１６に記載の露光装置であって、
前記第１光学部材と前記第２光学部材とは、気体を介在させずに接合されることを特徴とする露光装置。
【請求項１８】
請求項１〜１７のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記非平坦部は、該非平坦部に接する前記気体側に凸状に形成されていることを特徴とする露光装置。
【請求項１９】
請求項１〜１８のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記少なくとも１つの曲面は、前記第２面から射出する前記露光光の射出側に凸状に形成されていることを特徴とする露光装置。
【請求項２０】
請求項１〜１９のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記光学部材は、前記第１面から入射した前記露光光を反射して前記第２面へ導く反射面を含むことを特徴とする露光装置。
【請求項２１】
請求項１〜２０のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記光学部材は、前記第１面から入射した前記露光光を反射して前記第２面へ導く外周面を有する柱状部材を含むことを特徴とする露光装置。
【請求項２２】
請求項２１に記載の露光装置であって、
前記柱状部材は、前記外周面に金属膜が設けられていることを特徴とする露光装置。
【請求項２３】
請求項１〜１７のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記光学部材は、前記第２面を含む部材であって前記第１面から入射した前記露光光を前記第２面を介して集光させる集光部材を含むことを特徴とする露光装置。
【請求項２４】
請求項２３に記載の露光装置であって、
前記集光部材は、平凸レンズ、回折光学素子、レンズアレイ、フレネルレンズおよび反射ミラーの少なくとも１つを含むことを特徴とする露光装置。
【請求項２５】
請求項１〜１７のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記光学部材は、前記第２面を含む部材であって前記第１面から入射した前記露光光を回折させる回折光学素子を含むことを特徴とする露光装置。
【請求項２６】
請求項２５に記載の露光装置であって、
前記回折光学素子は、前記第１面から入射する前記露光光のうち第１の入射角で入射する光束に対する回折角が、該露光光のうち前記第１の入射角より大きい第２の入射角で入射する光束に対する回折角より小さいことを特徴とする露光装置。
【請求項２７】
請求項１〜２６のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記光学部材は、前記第２面を含む部材であって前記第１面から入射した前記露光光を拡散させる拡散素子を含むことを特徴とする露光装置。
【請求項２８】
請求項１〜２４のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記第２面から射出した前記露光光を前記受光面へ導く少なくとも１つの光学素子を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項２９】
請求項２８に記載の露光装置であって、
前記少なくとも１つの光学素子は、前記第２面から射出した前記露光光を平行光に変換することを特徴とする露光装置。
【請求項３０】
請求項１〜２９のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記光学部材は、前記露光光を遮光する遮光部が前記第１面の周囲に設けられることを特徴とする露光装置。
【請求項３１】
請求項３０に記載の露光装置であって、
前記遮光部は、ピンホールを形成し、前記第１面は、前記ピンホール内に設けられることを特徴とする露光装置。
【請求項３２】
請求項１〜２９のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記光学部材は、前記第１面から入射した前記露光光の一部を遮光する遮光部が設けられることを特徴とする露光装置。
【請求項３３】
請求項３０〜３２のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記遮光部は、金属膜を含むことを特徴とする露光装置。
【請求項３４】
請求項１〜３３のいずれか一項に記載の露光装置であって、
前記投影光学系および前記液体を介して前記露光光を検出する第１及び第２センサを備え、
前記第１及び第２センサは、それぞれ前記光学部材および前記受光素子を含むことを特徴とする露光装置。
【請求項３５】
請求項３４に記載の露光装置であって、
前記ステージは、該ステージの上面に、前記第１及び第２センサの前記光学部材の少なくとも一部が配置される第１及び第２開口が設けられることを特徴とする露光装置。
【請求項３６】
請求項３４に記載の露光装置であって、
前記第１及び第２センサの前記光学部材を内部に保持し、前記ステージに取り付けられる保持部材を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項３７】
基板上にマイクロデバイスを形成するデバイス製造方法であって、
請求項１〜３６のいずれか一項に記載の露光装置を用いて、前記基板にパターンを転写することと、
前記パターンが転写された前記基板を該パターンに基づいて処理することと、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
【請求項３８】
投影光学系から照射される露光光を該投影光学系の像面側に供給される液体を介して検出する計測方法であって、
前記第２面から射出した前記露光光を、気体を介して受光することと、を含む前記投影光学系に対して移動可能なステージに設けられた光学部材を、該光学部材の第１面が前記投影光学系に対向する位置に移動させることと、
前記液体および該液体に接する前記第１面を介した前記投影光学系からの前記露光光を、前記光学部材のうち気体に接する第２面から射出させることと、
前記光学部材の前記第２面からの前記露光光を受光素子で検出することと、
を含み、
前記受光素子は、前記投影光学系から前記第２面までの間で気体を通過しない前記露光光を透過させるように前記第２面に設けられた非平坦部からの前記露光光を検出することを特徴とする計測方法。
【請求項３９】
請求項３８に記載の計測方法であって、
前記非平坦部からの前記露光光は、前記投影光学系からの前記露光光の最外光線を含むことを特徴とする計測方法。
【請求項４０】
請求項３８または３９に記載の計測方法であって、
前記第１面が前記ステージの上面と一致するように前記光学部材を前記ステージに設けることを含むことを特徴とする計測方法。
【請求項４１】
請求項４０に記載の計測方法であって、
前記光学部材を保持部材によって保持することと、
前記光学部材を保持した前記保持部材を前記ステージに取り付けることと、を含むことを特徴とする計測方法。
【請求項４２】
請求項３８〜４１のいずれか一項に記載の計測方法であって、
前記第１面から前記光学部材に入射した前記露光光を、反射面を介して前記第２面へ導くことを含むことを特徴とする計測方法。
【請求項４３】
請求項３８〜４２のいずれか一項に記載の計測方法であって、
前記露光光を前記第２面から射出させることは、該露光光を集光させることを含むことを特徴とする計測方法。
【請求項４４】
請求項３８〜４２のいずれか一項に記載の計測方法であって、
前記露光光を前記第２面から射出させることは、該露光光を回折させることを含むことを特徴とする計測方法。
【請求項４５】
請求項３８〜４２のいずれか一項に記載の計測方法であって、
前記露光光を前記第２面から射出させることは、該露光光を拡散させることを含むことを特徴とする計測方法。
【請求項４６】
投影光学系と、該投影光学系の像面側に配置された基板上に供給される液体とを介して前記基板に露光光を照射する露光方法であって、
請求項３８〜４５のいずれか一項に記載の計測方法を用いて前記露光光を計測することと、
前記露光光の計測結果に基づいて、前記露光光の照射条件を設定することと、を含むことを特徴とする露光方法。
【請求項４７】
請求項４６に記載の露光方法であって、
前記ステージの上面と前記基板の上面とが一致するように該基板を前記ステージに設けることを含むことを特徴とする露光方法。
【請求項４８】
基板上にマイクロデバイスを形成するデバイス製造方法であって、
請求項４５または４６に記載の露光方法を用いて、前記基板にパターンを転写することと、
前記パターンが転写された前記基板を該パターンに基づいて処理することと、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法。