【事件の表示】
　特願２００２−　７７１６４「２波長反射防止膜および該２波長反射防止膜を施した対物レンズ」拒絶査定不服審判事件〔平成１５年１０月　２日出願公開、特開２００３−２７９７０２〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成１４年３月１９日になされた出願である。平成１９年７月２３日付けで拒絶理由が通知され、これに対して同年１０月１日付けで意見書及び手続補正書が提出されたものの、同年１１月２７日付けで拒絶査定がなされた。この査定に対し、平成２０年１月４日に拒絶査定不服審判の請求がなされ、同年２月４日付けで手続補正書が提出された。
　
　
　
第２　平成２０年２月４日付けの手続補正についての補正の却下の決定
　
〔補正の却下の決定の結論〕
　
　平成２０年２月４日付けの手続補正を却下する。
　
〔理由〕
　
１　本件補正の目的
（１）本件補正後の特許請求の範囲
　平成２０年２月４日付けの手続補正（以下、「本件補正」という。）は、本件補正前（平成１９年１０月１日付けの手続補正によって補正した。以下、同じ。）の明細書の特許請求の範囲の記載を以下のとおり補正することを含むものである（下線は、請求項２についての補正箇所を示す）。
　
＜本件補正後の特許請求の範囲＞
「【請求項１】　深紫外域から近赤外域まで透過する基板表面に被膜することで前記基板表面における深紫外域と可視域から近赤外域の２つの波長域の光の反射を防止する２波長反射防止膜であり、
　反射防止を行う可視域から近赤外域の波長が７５０ｎｍ付近であり、前記基板側から１層目と３層目の薄膜に、反射防止を行う設計主波長λ＝２４８ｎｍにおける屈折率が１．６〜１．９５の中間屈折率材料、２層目と４層目の薄膜に、前記設計主波長における屈折率が１．３５〜１．５５の低屈折率材料が用いられ、且つ各層薄膜の光学的膜厚ｎｄｉ（ｉ＝１，２，３，４：基板側から）が、前記設計主波長λに対して、基材側から１層目の薄膜が０．４λ≦ｎｄ１≦０．６λ、２層目の薄膜が０．４λ≦ｎｄ２≦０．６λ、３層目の薄膜が０．２λ≦ｎｄ３≦０．３λ、４層目の薄膜が０．２λ≦ｎｄ４≦０．３λであることを特徴とする２波長反射防止膜。
　　【請求項２】　深紫外域から近赤外域まで透過する基板表面に被膜することで前記基板表面における深紫外域と可視
域の
　反射防止を行う
可視域の
であり、
反射防止を行う
λ＝
１．９５
　　【請求項３】　前記低屈折率材料は、ＭｇＦ２またはＳｉＯ２であり、前記中間屈折率材料は、Ｌａ２Ｏ３とＡｌ２Ｏ３との混合材料であることを特徴とする請求項１又は２記載の２波長反射防止膜。
　　【請求項４】　３００ｎｍ以下の深紫外域の光により観察を行い、可視域から近赤外域の波長域の光により焦点を合わせる機構（オートフォーカス）を持つ光学機器に用いられる対物レンズであって、　
　媒質の異なる正レンズと負レンズからなる複数の単レンズで構成され、全体として負のパワーを有する第１のレンズ群と、
　前記第１のレンズ群より物体側に配置され、媒質の異なる正レンズと負レンズからなる複数の単レンズで構成された第２のレンズ群と、を具備し、
　前記第１および第２のレンズ群の各レンズ表面には、第１乃至第３のいずれか一記載の２波長反射防止膜が形成されていることを特徴とする対物レンズ。」
　
（２）本件補正前の特許請求の範囲
　本件補正前の特許請求の範囲は、平成１９年１０月１日付けの手続補正により、下記のとおりのものとなっていた。
　
＜本件補正前の特許請求の範囲＞
「【請求項１】　深紫外域から近赤外域まで透過する基板表面に被膜することで前記基板表面における深紫外域と可視域から近赤外域の２つの波長域の光の反射を防止する２波長反射防止膜であり、
　反射防止を行う波長が７５０ｎｍ付近にある場合、前記基板側から１層目と３層目の薄膜に、設計主波長２４８ｎｍにおける屈折率が１．６〜２．０の中間屈折率材料、２層目と４層目の薄膜に、前記設計主波長における屈折率が１．３５〜１．５５の低屈折率材料が用いられ、且つ各層薄膜の光学的膜厚ｎｄｉ（ｉ＝１，２，３，４：基板側から）が、前記設計主波長λに対して、基材側から１層目の薄膜が０．４λ≦ｎｄ１≦０．６λ、２層目の薄膜が０．４λ≦ｎｄ２≦０．６λ、３層目の薄膜が０．２λ≦ｎｄ３≦０．３λ、４層目の薄膜が０．２λ≦ｎｄ４≦０．３λであることを特徴とする２波長反射防止膜。
　　【請求項２】　深紫外域から近赤外域まで透過する基板表面に被膜することで前記基板表面における深紫外域と可視域から近赤外域の２つの波長域の光の反射を防止する２波長反射防止膜であり、
　反射防止を行う波長が５５０〜６５０ｎｍ付近にある場合、前記基板側から１層目と３層目の薄膜に、設計主波長２４８ｎｍにおける屈折率が１．６〜２．０の中間屈折率材料、２層目と４層目の薄膜に、前記設計主波長における屈折率が１．３５〜１．５５の低屈折率材料が用いられ、且つ各層薄膜の光学的膜厚ｎｄｉ（ｉ＝１，２，３，４：基板側から）が、前記設計主波長λに対して、基材側から１層目の薄膜が０．５λ≦ｎｄ１≦０．７λ、２層目の薄膜が０．０５λ≦ｎｄ２≦０．２λ、３層目の薄膜が０．２５λ≦ｎｄ３≦０．５λ、４層目の薄膜が０．２λ≦ｎｄ４≦０．３５λであることを特徴とする２波長反射防止膜。
　　【請求項３】　前記基板は、石英もしくは螢石であることを特徴とする請求項１又は２記載の２波長反射防止膜。
　　【請求項４】　前記低屈折率材料は、ＭｇＦ２またはＳｉＯ２であり、前記中間屈折率材料は、Ｌａ２Ｏ３とＡｌ２Ｏ３との混合材料であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の２波長反射防止膜。
　　【請求項５】　前記設計主波長の光の入射角が０〜７０°の範囲に設定されることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の２波長反射防止膜。
　　【請求項６】　３００ｎｍ以下の深紫外域波長の光により観察を行ない、可視域から近赤外域の波長域の光により焦点を合わせる機構（オートフォーカス）を持つ光学機器に用いられる対物レンズであって、
　前記対物レンズは、複数の単レンズから構成され、これら単レンズ表面にそれぞれ請求項１乃至５のいずれかに記載の２波長反射防止膜を形成したことを特徴とする対物レンズ。
　　【請求項７】　媒質の異なる正レンズと負レンズからなる複数の単レンズで構成され、全体として負のパワーを有する第１のレンズ群と、
　前記第１のレンズ群より物体側に配置され、媒質の異なる正レンズと負レンズからなる複数の単レンズで構成された第２のレンズ群と、を具備し、
　前記第１および第２のレンズ群は、前記正レンズと負レンズとの間に空気間隔が設けられ、且つ開口数が０．７以上であることを特徴とする請求項６記載の対物レンズ。」
　
　
（３）本件補正の目的について
　請求項２に係る補正について検討する。
　請求項２に係る補正のうち、まず、本件補正前の「深紫外域と
可視域から近赤外域の
域の
　次に、本件補正前の「反射防止を行う波長が５５０〜６５０ｎｍ付近
にある場合
可視域の
であり
　さらに本件補正前の「設計主波長２４８ｎｍにおける屈折率が１．６〜
２．０
反射防止を行う
λ＝
１．９５
反射防止を行う
λ＝
２．０
１．９５
　以上を総合すると、請求項２に係る補正は、全体としては、「中間屈折率材料」の波長２４８ｎｍにおける屈折率が、本件補正前には「１．６〜２．０」の範囲であったものを「１．６〜１．９５」の範囲に限定することを補正の内容とするものである。
　したがって、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２（以下、単に「特許法第１７条の２」という。）第４項第２号に掲げる、特許請求の範囲の減縮を目的とする補正を含むものである。
　
　そこで、本件補正後の請求項２に記載されている発明特定事項により特定される発明(以下、「本願補正発明」という。)が、特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか否か、すなわち、特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項に規定する要件を満たすか否かについて、以下に検討する。
　
　
２　本願補正発明
　
　本願補正発明は、次のとおりのものである。
　
＜本願補正発明＞
「　深紫外域から近赤外域まで透過する基板表面に被膜することで前記基板表面における深紫外域と可視域の２つの波長域の光の反射を防止する２波長反射防止膜であり、
　反射防止を行う可視域の波長が５５０〜６５０ｎｍ付近であり、前記基板側から１層目と３層目の薄膜に、反射防止を行う設計主波長λ＝２４８ｎｍにおける屈折率が１．６〜１．９５の中間屈折率材料、２層目と４層目の薄膜に、前記設計主波長における屈折率が１．３５〜１．５５の低屈折率材料が用いられ、且つ各層薄膜の光学的膜厚ｎｄｉ（ｉ＝１，２，３，４：基板側から）が、前記設計主波長λに対して、基材側から１層目の薄膜が０．５λ≦ｎｄ１≦０．７λ、２層目の薄膜が０．０５λ≦ｎｄ２≦０．２λ、３層目の薄膜が０．２５λ≦ｎｄ３≦０．５λ、４層目の薄膜が０．２λ≦ｎｄ４≦０．３５λであることを特徴とする２波長反射防止膜。」
　
　
３　刊行物及び各刊行物の記載事項
　
（１）引用例１
　原査定の拒絶の理由に引用された、本願出願前に頒布された刊行物である、特開２００１−６６４０２号公報（以下、「引用例１」という。）には、図面とともに以下の事項が記載されている（下記、「（３）引用発明の認定」において特に関連する部分に下線を引いた。）。
　
ア　【要約】の欄
「【課題】  
ＫｒＦエキシマ・レーザー波長（λ＝２４８ｎｍ）及びＨｅ−Ｎｅレーザー波長（λ＝６３３ｎｍ）の両波長において、それぞれ実用に足りうる充分な反射防止波長幅を有する２波長反射防止膜を提供する。
　
イ　【特許請求の範囲】の欄
「【請求項１】  基板上に設けられ、ＨｆＯ２及びＳｃ２Ｏ３からなる群から選ばれた物質よりなる第１層と、この第１層上に設けられ、ＭｇＦ２及びＳｉＯ２からなる群から選ばれた物質よりなる第２層と、この第２層上に設けられ、Ａｌ２Ｏ３、ＬａＦ３及びＮｄＦ３からなる群から選ばれた物質よりなる第３層と、この第３層上に設けられ、ＭｇＦ２及びＳｉＯ２からなる群から選ばれた物質よりなる第４層とを有することを特徴とする２波長反射防止膜。
【請求項２】  前記第１層の光学的膜厚が１３０ｎｍ以上、１４５ｎｍ以下であり、前記第２層の光学的膜厚が１０ｎｍ以上、４５ｎｍ以下であり、前記第３層の光学的膜厚が８５ｎｍ以上、１１５ｎｍ以下であり、前記第４層の光学的膜厚が４５ｎｍ以上、７０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１記載の２波長反射防止膜。」
　 
ウ　段落【０００１】〜段落【００１７】
「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、２波長反射防止膜に関し、特にＫｒＦエキシマ・レーザーとＨｅ−Ｎｅレーザーを利用する光学系において、それぞれの波長での反射率を最小にする２波長反射防止膜に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、半導体集積回路の高集積化に伴い、縮小投影型露光装置の光源の短波長化が進んでいる。特にエキシマ・レーザーの実用化により、エキシマ・レーザーを光源とした縮小投影型露光装置が注目を浴び、実験機レベルにおいては、０．５μｍ以下のパターン形成が報告されている。
【０００３】このような状況の中で、エキシマ・レーザーとしては、最も一般的であるＫｒＦエキシマ・レーザー波長（２４８ｎｍ）における反射防止膜が必要とされている。エキシマ・レーザー用反射防止膜は、レーザー照射による光学特性の変化やレンズの面精度を低下させない膜の吸収などを考慮して開発することが重要である。これまでにも、ＫｒＦエキシマ・レーザー波長を含む広帯域反射防止膜は、例えば特開昭６４−６１７０２号公報に開示されている。この技術は、紫外域で吸収の少ない蒸着材料を用いた６層構成からなり、波長λ＝１５０〜２５０ｎｍ、又はλ＝２５０〜４５０ｎｍまでをカバーする反射防止膜となっている。
【０００４】また、露光装置においては、位置合せ（アライメント）の高精度化に伴い、露光光源だけでなく、レチクルとウエハの位置合せに使うアライメント光も投影レンズに通すＴＴＬアライメント方式が主流になりつつある。一般に、アライメント光は、照射によるレジストの焼き付けを防止するために、露光光源とは離れた波長が用いられる。特に、アライメント光は、光源の安定性，取扱いの容易さの点から、一般的にはＨｅ−Ｎｅレーザー（波長λ＝６３３ｎｍ）が用いられている。従って、このようなＴＴＬアライメント方式においては、ＫｒＦエキシマ・レーザー波長のみならず、アライメント光の波長をも考慮した反射防止膜が要求されることになる。
【０００５】特開昭６３−１１３５０１号公報においては、紫外域で吸収の少ない材料を用いた４層構成からなり、λ＝２４８ｎｍとλ＝４７０〜８００ｎｍの両波長域において波長の少ない反射防止膜が開示されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】レンズに反射防止膜を形成する方法として、通常は蒸着法が用いられる。レンズに反射防止膜を蒸着すると、膜厚は蒸着源からの法線とレンズ曲面の接線とのなす角θのｃｏｓθにほぼ比例する。つまり、レンズ中心に対しては、通常はレンズ周辺部の膜厚が薄くなる。このことは光学特性におきかえると、干渉に係わる光路長が短くなることに等しく、同じ材料の反射防止膜を用いても、レンズ周辺部においては、反射防止される波長域が短波長側に移動してしまうことになる。従って、反射防止膜によって反射防止される波長域が広いほど、レンズ周辺部まで反射防止効果が維持できることとなる。
【０００７】しかし、従来においては、エキシマ・レーザーの波長域とアライメント光の波長域の２波長での反射防止膜を考えた場合、一方の波長域において広範囲に反射防止効果を得ようとすると、他方の波長域において反射防止効果が得られる波長の範囲が狭くなってしまうという問題点があった。
【０００８】すなわち、前述の特開昭６４−６１７０２号公報に開示されている反射防止膜においては、ＫｒＦエキシマ・レーザー波長（λ＝２４８ｎｍ）の波長域では、非常に広い波長域にわたって反射防止効果が得られるが、Ｈｅ−Ｎｅレーザー（λ＝６３３ｎｍ）の波長においては反射防止効果を有していない。
【０００９】また、特開昭６３−１１３５０１号公報に開示されている反射防止膜においては、Ｈｅ−Ｎｅレーザー（λ＝６３３ｎｍ）の波長域では非常に広い範囲で反射防止効果が得られるが、ＫｒＦエキシマ・レーザー（λ＝２４８ｎｍ）の波長域では、ほとんどレーザーの発振波長でしか反射防止効果が得られておらず、実際に曲率を有するレンズに蒸着すると、レンズの中心近傍しかＫｒＦエキシマ・レーザーが透過しないという問題点があった。
【００１０】本発明は、かかる従来の問題点に鑑みてなされたもので、ＫｒＦエキシマ・レーザー波長（λ＝２４８ｎｍ）及びＨｅ−Ｎｅレーザー波長（λ＝６３３ｎｍ）の両波長において、それぞれ実用に足りうる充分な反射防止波長幅を有する２波長反射防止膜を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため、請求項１の発明の２波長反射防止膜は、基板上に設けられ、ＨｆＯ２及びＳｃ２Ｏ３からなる群から選ばれた物質よりなる第１層と、この第１層上に設けられ、ＭｇＦ２及びＳｉＯ２からなる群から選ばれた物質よりなる第２層と、この第２層上に設けられ、Ａｌ２Ｏ３、ＬａＦ３及びＮｄＦ３からなる群から選ばれた物質よりなる第３層と、この第３層上に設けられ、ＭｇＦ２及びＳｉＯ２からなる群から選ばれた物質よりなる第４層とを有することを特徴とする。
【００１２】請求項２の発明は、請求項１記載の発明であって、前記第１層の光学的膜厚が１３０ｎｍ以上、１４５ｎｍ以下であり、前記第２層の光学的膜厚が１０ｎｍ以上、４５ｎｍ以下であり、前記第３層の光学的膜厚が８５ｎｍ以上、１１５ｎｍ以下であり、前記第４層の光学的膜厚が４５ｎｍ以上、７０ｎｍ以下であることを特徴とする。
【００１３】ここで
光学的膜厚とは屈折率ｎと膜厚ｄとの積ｎｄをいう。
【００１４】上記構成の２波長反射防止膜においては、第３層には、第４層や第２層の屈折率より高い屈折率を有する物質を用い、第１層には、第３層の屈折率より高い屈折率を有する物質を用いている。また、第１層，第３層の屈折率は基板の屈折率よりも高い。そして、いずれの層に用いられる物質もＫｒＦエキシマ・レーザー波長（λ＝２４８ｎｍ）及びＨｅ−Ｎｅレーザー波長（λ＝６３３ｎｍ）においで吸収が少ないものである。
【００１５】このような物質を用い、上記の４層構造とすることで、ＫｒＦエキシマ・レーザー波長（λ＝２４８ｎｍ）及びＨｅ−Ｎｅレーザー波長（λ＝６３３ｎｍ）の両波長において、それぞれ実用に足りうる充分な反射防止波長幅を有する２波長反射防止膜が得られる。
【００１６】また、各層の膜厚は、特性を調整する許容幅を有し、上記の範囲内で最適な膜厚が選択される。もし、一層でもこの膜厚の範囲より外れると、他の層の膜厚を上記範囲内で変化させても前述の２波長を満足する反射防止膜を得ることは困難となる。
【００１７】
本発明に用いられる基板は、紫外域で吸収が少なく、透過率が高いことが望まれることから、好ましくは合成石英（ＳｉＯ
２
。）又は蛍石（ＣａＦ
２
）が用いられる。
　
エ　段落【００１９】〜段落【００２６】
「【００１９】
【発明の実施の形態】真空蒸着装置内に合成石英からなるレンズ基板を設置し、真空蒸着法により表１〜表３に示した物質と光学的膜厚とを有する２波長反射防止膜を、それぞれ実施の形態１〜３としてレンズ面上に形成した。
【００２０】
【表１】
　　　　　　　　入射角０°
　　　　　　　　材　料  　　　光学的膜厚（ｎｍ）
　入射物質　　　空　気　　　　　　　　　　　　　
　第４層　　　　ＭｇＦ２　　　　　　５０　　　　
　第３層　　　　Ａｌ２Ｏ３　　　　１００　　　　
　第２層　　　　ＭｇＦ２　　　　　　４０　　　　　
　第１層　　　　ＨｆＯ２　　　　　１３０　　　　
　基板　　　　　合成石英
　
【００２１】
【表２】
　　　　　　　　入射角０°
　　　　　　　　材　料  　　　光学的膜厚（ｎｍ）
　入射物質　　　空　気　　　　　　　　　　　　　
　第４層　　　　ＭｇＦ２　　　　　　６２　　　　
　第３層　　　　ＮｄＦ２　　　　　１０５　　　　
　第２層　　　　ＳｉＯ２　　　　　　２８　　　　　
　第１層　　　　Ｓｃ２Ｏ３　　　　１３２　　　　
　基板　　　　　合成石英
　
【００２２】
【表３】
　　　　　　　　
入射角０°
　　　　　　　　
材　料
光学的膜厚（ｎｍ）
　
入射物質
空　気
　
第４層
ＭｇＦ
２
６５
　
第３層
Ａｌ
２
Ｏ
３
９０
　
第２層
ＭｇＦ
２
３０
　
第１層
Ｓｃ
２
Ｏ
３
１３５
　
基板
合成石英
　
【００２３】上記各実施の形態において、成膜は、基板を２５０℃の温度に加熱し、到達真空度が１×１０−５Ｔｏｒｒに達したときに蒸着を開始した。以上のようして作成した実施の形態１〜３の２波長反射防止膜の分光特性をそれぞれ図１〜図３示す。なお、分光特性は入射光の入射角を０°とし、入射物質を空気として測定した。
【００２４】図１〜図３によれば、いずれの実施の形態に係る２波長反射防止膜も、ＫｒＦエキシマ・レーザー波長（λ＝２４８ｎｍ）では反射率０．２％以下、Ｈｅ−Ｎｅレーザー波長（λ＝６３３ｎｍ）では反射率０．４％以下であり、両波長域において、広い低反射波長域を有している。
【００２５】また、レーザーに対する耐久性に関しては、パワー密度５０ｍＪ／ｃｍ２のエキシマ・レーザーを６×１０６ショット連続照射し、レーザー照射前後での透過率の変化を測定したところ、透過率の変化は認められなかった。
【００２６】
【発明の効果】本発明の２波長反射防止膜は、ＫｒＦエキシマ・レーザー波長（λ＝２４８ｎｍ）とＨｅ−Ｎｅレーザー波長（λ＝６３３ｎｍ）の２波長において広い低反射率波長域を有している。従って、レンズ面に蒸着法で形成した場合に、レンズ全面で均一な光強度分布が得られる。また、吸収の少ない材料を使ってため、レーザーに対する耐久性にも優れている。」
　 
オ　【図１】、【図２】、【図３】
　【図１】〜【図３】にはそれぞれ下記のことが図示されている。
　【図１】　実施の形態１の２波長反射防止膜の分光特性を示す特性図。
　【図２】　実施の形態２の２波長反射防止膜の分光特性を示す特性図。
　【図３】　実施の形態３の２波長反射防止膜の分光特性を示す特性図。 
　
　
（２）引用例２
　原審において平成１９年７月２３日付けの拒絶理由通知書で引用された、本願出願前に頒布された刊行物である、特開平６−１６０６０２号公報（以下、「引用例２」という。）には、図面とともに以下の事項が記載されている（下記「相違点の検討・判断」において特に関連する部分に下線を引いた。）。
　
ア　【要約】の欄
「【目的】  紫外域と可視域の双方で安定した反射防止を行った２波長反射防止膜を得ること。」
　
イ　段落【０００１】〜【０００９】
「【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は２波長反射防止膜に関し、例えば波長２００ｎｍ〜３００ｎｍ程度の紫外域の波長と、波長６００ｎｍ〜７００ｎｍの可視域の波長の２つの波長の光に対して反射防止を効果的に行った２波長反射防止膜に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】最近の半導体素子製造用の投影露光装置（ステッパー）では高解像力化を図る為に露光光としてｇ線やｉ線の光よりも短い波長の光、例えばエキシマレーザから放射される波長２４８ｎｍの紫外域の光を用いたものが種々と提案されている。
【０００３】一方、このような投影露光装置においてレチクルとウエハとの相対的な位置合わせ（アライメント）を高精度に行う為に露光波長とは異なり、ウエハ面の観察が可能な可視光で、かつフォトレジストに非感光の光、例えばＨｅ−Ｎｅレーザから放射される波長６３２．８ｎｍの光を用いたアライメント系が種々と提案されている。
【０００４】このような投影露光装置において用いられる光学系のレンズやミラー等の面には紫外域と可視域の双方の波長域で所定の透過率（又は反射率）を有した薄膜が施されている。例えば、特開昭６３−１１３５０１号公報、特開平２−１２７６０１号公報、特開平３−１２６０５号公報等では紫外域と可視域で所定の反射防止を行った反射防止膜が提案されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従来の反射防止膜は、例えばＹ
2
Ｏ
3
のような屈折率が１．９以上の高屈折率材料を一部に用いて構成している。
【０００６】一般にＹ
2
Ｏ
3
のような高屈折率材料は波長３００ｎｍ以下の紫外領域での吸収率が高い。この為、半導体素子の製造装置（投影露光装置）において高解像力化を図る為に光源としてＫｒＦエキシマレーザ（発振波長２４８ｎｍ）からの光を用いると投影レンズの透過率が低下し、又光の吸収により光学部材の温度が上昇し、光学性能が変動してくるといった問題点があった。
【０００７】更に光の吸収により反射防止膜が損傷し、膜構成が変化し、所定の分光特性（反射防止）が得られなくなってくるという問題点があった。
【０００８】本発明は反射防止膜の材質の屈折率及び膜構成を適切に設定することにより、主に波長３００ｎｍ以下の紫外領域と波長６００ｎｍ〜７００ｎｍの可視領域の２つの領域における光に対して光学的に安定して光の吸収が少なく、かつ所定の反射防止を効果的に行った、例えば半導体素子製造用の投影露光装置（ステッパー）に用いる光学部材（レンズ、ミラー）に好適な２波長反射防止膜の提供を目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明の２波長反射防止膜は
（１−１）光の入射側から基板面上へ順に低屈折率材料と中間屈折率材料の薄膜を交互に積層し、紫外域の波長と可視域の波長の２つの波長の光に対して反射防止を行ったことを特徴としている。又、前記低屈折率材料はＭｇＦ2 ，ＳｉＯ2 ，ＢａＦ2 ，ＬｉＦ，ＳｒＦ2 ，ＡｌＦ3 ，ＮａＦ及びこれらの混合物又は化合物の群より選ばれた１つ以上の成分であり、前記中間屈折率材料はＡｌ2 Ｏ3，ＬａＦ3 ，ＮｄＦ3 ，ＹＦ3 及びこれらの混合物又は化合物の群より選ばれた１つ以上の成分であることや、前記低屈折率材料と中間屈折率材料を交互に４層から７層積層したこと等を特徴としている。」
　
ウ　段落【００１３】〜段落【００１９】
「【００１３】
【実施例】表１〜表８に本発明の２波長反射防止膜の実施例１〜８の膜構成の具体例を示す。
【００１４】本実施例では基板に合成石英（波長２４８ｎｍでの屈折率１．５１）を用いている。そして光入射側（空気側）より順に第１層、第２層‥‥と薄膜を４層〜７層積層して２波長反射防止膜を構成している。反射防止膜の層数が多いと成膜（蒸着）に時間がかかり、又バラツキが大きくなる為に本実施例では４層〜７層としている。
【００１５】対象とする２波長の光は波長２００ｎｍ〜３００ｎｍの紫外領域においては波長２４８ｎｍ（ＫｒＦエキシマレーザからの発振波長）の光であり、波長６００ｎｍ〜７００ｎｍの可視領域においては波長６３２．８ｎｍ（Ｈｅ−Ｎｅレーザからの発振波長）の光である。
【００１６】本実施例では反射防止膜の膜構成として高屈折率材料を用いず紫外領域で比較的吸収が少なく、かつ可視領域でも有効な低屈折率材料と中間屈折率材料を相互に４層〜７層積層している。成膜の製造方法としては公知の真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法等を用いている。
【００１７】ここで低屈折率材料とは、波長２４８ｎｍにおける屈折率が１．５５以下の、例えばＭｇＦ2 ，ＳｉＯ2 ，ＢａＦ2 ，ＬｉＦ，ＳｒＦ2 ，ＡｌＦ3 ，ＮａＦ及びこれらの混合物又は化合物より成る材料をいう。
【００１８】中間屈折率材料とは、波長２４８ｎｍにおける屈折率が１．５５〜１．９０のＡｌ2 Ｏ3 ，ＬａＦ3 ，ＮｄＦ3 ，ＹＦ3 及びこれらの混合物又は化合物より成る材料をいう。
【００１９】高屈折率材料とは、波長２４８ｎｍにおける屈折率が１．９０以上のＹ2 Ｏ3，ＨｆＯ2 ，ＺｒＯ2 等の材料をいう。」
　
エ　段落【００２６】〜【００３１】
【００２６】次に本実施例の２波長多層反射防止膜の具体的な膜構成の実施例１〜８を表１〜表８に示す。
……（中略）……
【００２８】表１、表２（実施例１、２）の膜構成における反射特性（分光特性）を図１に、表３（実施例３）〜表６（実施例６）の分光特性を図２〜図５に、表７、表８（実施例７、８）の分光特性を図６に示す。図１〜図６においてＲは反射率曲線を示す。
【００２９】表１〜表８の実施例１〜８において光学素子の波長λ0 ＝２４８ｎｍにおける透過率はいずれも９９．８％以上で殆んど吸収がなかった。
  ……（中略）……
【００３１】
【表１】
≪表１≫　　　　　　　　　　　　　　λ０＝２４８ｎｍ　入射角　０°
　　　　　　　　　　材料　　　　屈折率（ｎ）　　光学的膜厚（ｎｄ）  
　入射媒質　　　　　空気　　　　1.00　　　　　　　　　　　　
　第１層　　　　　　ＭｇＦ2　　 1.39　　　　　　0.29λ０　
　第２層　　　　　　Ａｌ2Ｏ3 　 1.74　　　　　　0.14λ０　
　第３層　　　　　　ＳｉＯ2　　 1.51　　　　　　0.32λ０　
　第４層　　　　　　Ａｌ2Ｏ3 　 1.74　　　　　　0.51λ０　
　出射媒質（基板）　合成石英　　1.51　
　
　
≪表２≫　　　　　　　　　　　　　　λ０＝２４８ｎｍ　入射角　０°
　　　　　　　　　　材料　　　　屈折率（ｎ）　　光学的膜厚（ｎｄ）  
　入射媒質　　　　　空気　　　　1.00　　　　　　　　　　　　
　第１層　　　　　　ＭｇＦ2　　 1.39　　　　　　0.29λ０　
　第２層　　　　　　Ａｌ2Ｏ3 　 1.74　　　　　　0.14λ０　
　第３層　　　　　　ＳｉＯ2　　 1.51　　　　　　0.32λ０　
　第４層　　　　　　Ａｌ2Ｏ3 　 1.74　　　　　　0.51λ０　
　第５層　　　　　　ＳｉＯ2　　 1.51　　　　　　0.50λ０　
　出射媒質（基板）　合成石英　　1.51　
　
　
≪表３≫　　　　　　　　　　　　　　λ０＝２４８ｎｍ　入射角　０°
　　　　　　　　　　材料　　　　屈折率（ｎ）　　光学的膜厚（ｎｄ）  
　入射媒質　　　　　空気　　　　1.00　　　　　　　　　　　　
　第１層　　　　　　ＭｇＦ2　　 1.39　　　　　　0.34λ０　
　第２層　　　　　　Ａｌ2Ｏ3 　 1.74　　　　　　0.08λ０　
　第３層　　　　　　ＭｇＦ2　　 1.39　　　　　　0.33λ０　
　第４層　　　　　　Ａｌ2Ｆ3 　 1.74　　　　　　0.52λ０　
　出射媒質（基板）　合成石英　　1.51　
　
　
≪表４≫　　　　　　　　　　　　　　λ０＝２４８ｎｍ　入射角　０°
　　　　　　　　　　材料　　　　屈折率（ｎ）　　光学的膜厚（ｎｄ）  
　入射媒質　　　　　空気　　　　1.00　　　　　　　　　　　　
　第１層　　　　　　ＭｇＦ2　　 1.39　　　　　　0.31λ０　
　第２層　　　　　　ＮｄＦ3 　　1.66　　　　　　0.17λ０　
　第３層　　　　　　ＭｇＦ2　　 1.39　　　　　　0.24λ０　
　第４層　　　　　　ＮｄＦ3 　　1.66　　　　　　0.54λ０　
　出射媒質（基板）　合成石英　　1.51　
　
　
≪表５≫　　　　　　　　　　　　　　λ０＝２４８ｎｍ　入射角　０°
　　　　　　　　　　材料　　　　屈折率（ｎ）　　光学的膜厚（ｎｄ）  
　入射媒質　　　　　空気　　　　1.00　　　　　　　　　　　　
　第１層　　　　　　ＭｇＦ2　　 1.39　　　　　　0.31λ０　
　第２層　　　　　　ＬａＦ3 　　1.62　　　　　　0.16λ０　
　第３層　　　　　　ＭｇＦ2　　 1.39　　　　　　0.24λ０　
　第４層　　　　　　ＬａＦ3 　　1.62　　　　　　0.53λ０　
　出射媒質（基板）　合成石英　　1.51　
　
　
≪表６≫　　　　　　　　　　　　　　λ０＝２４８ｎｍ　入射角　０°
　　　　　　　　　　材料　　　　屈折率（ｎ）　　光学的膜厚（ｎｄ）  
　入射媒質　　　　　空気　　　　1.00　　　　　　　　　　　　
　第１層　　　　　　ＳｉＯ2　　 1.51　　　　　　0.27λ０　
　第２層　　　　　　Ａｌ2Ｏ3 　 1.85　　　　　　0.16λ０　
　第３層　　　　　　ＳｉＯ2　　 1.51　　　　　　0.33λ０　
　第４層　　　　　　Ａｌ2Ｏ3 　 1.85　　　　　　0.47λ０　
　出射媒質（基板）　合成石英　　1.51　
　
　
（３）引用発明の認定
　引用例１の【要約】には、「 ＫｒＦエキシマ・レーザー波長（λ＝２４８ｎｍ）及びＨｅ−Ｎｅレーザー波長（λ＝６３３ｎｍ）の両波長において、それぞれ実用に足りうる充分な反射防止波長幅を有する２波長反射防止膜を提供する。」と記載されており、引用例１には「ＫｒＦエキシマ・レーザー波長（λ＝２４８ｎｍ）及びＨｅ−Ｎｅレーザー波長（λ＝６３３ｎｍ）の両波長において、それぞれ実用に足りうる充分な反射防止波長幅を有する２波長反射防止膜」が記載されていると認められる。
　引用例１の段落【００１７】の「本発明に用いられる基板は、紫外域で吸収が少なく、透過率が高いことが望まれることから、好ましくは合成石英（ＳｉＯ２。）又は蛍石（ＣａＦ２）が用いられる。」との記載及び段落【００２２】の【表３】を参酌すると、上記２波長反射防止膜は合成石英基板に被覆されることが把握される。
　引用例の段落【００２２】の【表３】を参酌すると、２波長反射防止膜は基板側から順に、第１層目の薄膜は光学的膜厚が１３５ｎｍのＳｃ２Ｏ３であり、第２層目の薄膜は光学的膜厚が３０ｎｍのＭｇＦ２であり、第３層目の薄膜は光学的膜厚が９０ｎｍのＡｌ２Ｏ３であり、第４層目の薄膜は光学的膜厚が６５ｎｍのＭｇＦ２である２波長反射防止膜が記載されていると認められる。なお、引用例の段落【００１３】において、「光学的膜厚とは屈折率ｎと膜厚ｄとの積ｎｄをいう。」と定義されている。　
　以上を総合すると、引用例１には下記の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されていると認められる。
　
＜引用発明＞
「ＫｒＦエキシマ・レーザー波長（λ＝２４８ｎｍ）及びＨｅ−Ｎｅレーザー波長（λ＝６３３ｎｍ）の両波長において、それぞれ実用に足りうる充分な反射防止波長幅を有する２波長反射防止膜であって、
　合成石英基板に被覆されたものであり、
　基板側から順に、第１層目の薄膜は光学的膜厚が１３５ｎｍのＳｃ２Ｏ３であり、第２層目の薄膜は光学的膜厚が３０ｎｍのＭｇＦ２であり、第３層目の薄膜は光学的膜厚が９０ｎｍのＡｌ２Ｏ３であり、第４層目の薄膜は光学的膜厚が６５ｎｍのＭｇＦ２である２波長反射防止膜。
　ここで、光学的膜厚とは屈折率ｎと膜厚ｄとの積ｎｄをいう。」
　
　
４　本願補正発明と引用発明との対比
　
　本願補正発明と引用発明を対比する。
　本願の明細書の発明の詳細な説明に記載された実施の形態においては基板として石英を用いていること及び技術常識からして、引用発明の「合成石英基板」が本願補正発明における「深紫外域から近赤外域まで透過する基板表面」に相当するとことは当業者には明らかである。また、引用発明における「波長（λ＝２４８ｎｍ）」及び「波長（λ＝６３３ｎｍ）」がそれぞれ本願補正発明における「深紫外域」及び「可視域」であること、及び、引用発明における２波長反射防止膜が基板表面におけるこれらの波長の光の反射を防止するものであることは技術常識である。以上を踏まえると、引用発明における「ＫｒＦエキシマ・レーザー波長（λ＝２４８ｎｍ）及びＨｅ−Ｎｅレーザー波長（λ＝６３３ｎｍ）の両波長において、それぞれ実用に足りうる充分な反射防止波長幅を有する２波長反射防止膜であって」及び「合成石英基板に被覆されたものであり」と、本願補正発明における「深紫外域から近赤外域まで透過する基板表面に被膜することで前記基板表面における深紫外域と可視域の２つの波長域の光の反射を防止する２波長反射防止膜であり」及び「反射防止を行う可視域の波長が５５０〜６５０ｎｍ付近であり」とは「深紫外域から近赤外域まで透過する基板表面に被膜することで前記基板表面における深紫外域と可視域の２つの波長域の光の反射を防止する２波長反射防止膜であり、反射防止を行う可視域の波長が５５０〜６５０ｎｍ付近であり」の点で一致する。
　引用発明における「ＭｇＦ２」及び「Ａｌ２Ｏ３」は、本願の明細書の発明の詳細な説明の記載によると、それぞれ、反射防止を行う設計主波長λ＝２４８ｎｍにおける屈折率が「１．４」及び「１．７」である。したがって、引用発明における「基板側から順に、第１層目の薄膜は光学的膜厚が１３５ｎｍのＳｃ２Ｏ３であり、第２層目の薄膜は光学的膜厚が３０ｎｍのＭｇＦ２であり、第３層目の薄膜は光学的膜厚が９０ｎｍのＡｌ２Ｏ３であり、第４層目の薄膜は光学的膜厚が６５ｎｍのＭｇＦ２である」と、本願補正発明の「前記基板側から１層目と３層目の薄膜に、反射防止を行う設計主波長λ＝２４８ｎｍにおける屈折率が１．６〜１．９５の中間屈折率材料、２層目と４層目の薄膜に、前記設計主波長における屈折率が１．３５〜１．５５の低屈折率材料が用いられ、」とは「前記基板側から３層目の薄膜に、反射防止を行う設計主波長λ＝２４８ｎｍにおける屈折率が１．６〜１．９５の中間屈折率材料、２層目と４層目の薄膜に、前記設計主波長における屈折率が１．３５〜１．５５の低屈折率材料が用いられ、」の点で一致する。　
　引用発明における「１３５ｎｍ」、「３０ｎｍ」、「９０ｎｍ」及び「６５ｎｍ」の光学的膜厚は、λ＝２４８ｎｍを用いて表現し直すと、それぞれ、「０．５４４λ」、「０．１２１λ」、「０．３６３λ」及び「０．２６２λ」となる。したがって、引用発明の「基板側から順に、第１層目の薄膜は光学的膜厚が１３５ｎｍのＳｃ２Ｏ３であり、第２層目の薄膜は光学的膜厚が３０ｎｍのＭｇＦ２であり、第３層目の薄膜は光学的膜厚が９０ｎｍのＡｌ２Ｏ３であり、第４層目の薄膜は光学的膜厚が６５ｎｍのＭｇＦ２である」と本願補正発明の「各層薄膜の光学的膜厚ｎｄｉ（ｉ＝１，２，３，４：基板側から）が、前記設計主波長λに対して、基材側から１層目の薄膜が０．５λ≦ｎｄ１≦０．７λ、２層目の薄膜が０．０５λ≦ｎｄ２≦０．２λ、３層目の薄膜が０．２５λ≦ｎｄ３≦０．５λ、４層目の薄膜が０．２λ≦ｎｄ４≦０．３５λである」とは「各層薄膜の光学的膜厚ｎｄｉ（ｉ＝１，２，３，４：基板側から）が、前記設計主波長λに対して、基
板
材
板
　なお、審判請求書の請求の理由の記載を参酌すると、引用発明における「Ｓｃ２Ｏ３」の波長λ＝２４８ｎｍにおける屈折率は「２．１１」である。
　
　以上を総合すると、本願補正発明と引用発明とは、
「深紫外域から近赤外域まで透過する基板表面に被膜することで前記基板表面における深紫外域と可視域の２つの波長域の光の反射を防止する２波長反射防止膜であり、
　反射防止を行う可視域の波長が５５０〜６５０ｎｍ付近であり、前記基板側から３層目の薄膜に、反射防止を行う設計主波長λ＝２４８ｎｍにおける屈折率が１．６〜１．９５の中間屈折率材料、２層目と４層目の薄膜に、前記設計主波長における屈折率が１．３５〜１．５５の低屈折率材料が用いられ、且つ各層薄膜の光学的膜厚ｎｄｉ（ｉ＝１，２，３，４：基板側から）が、前記設計主波長λに対して、基板側から１層目の薄膜が０．５λ≦ｎｄ１≦０．７λ、２層目の薄膜が０．０５λ≦ｎｄ２≦０．２λ、３層目の薄膜が０．２５λ≦ｎｄ３≦０．５λ、４層目の薄膜が０．２λ≦ｎｄ４≦０．３５λであることを特徴とする２波長反射防止膜。」
　の点で一致し、次の相違点の点で相違する。
　
〈相違点〉
　基板側から１層目の層のλ＝２４８ｎｍにおける屈折率が、本願補正発明では「１．６〜１．９５」であるのに対して、引用発明においてはその値が不明であり、請求人の主張によればその値は「２．１１」である点。
　
　
５　相違点の検討・判断
　
（１）相違点の検討・判断
　上記相違点について検討する。
　一般に、反射防止膜において、透明材料を公知の材料の中から適宜選択して、設計変更を行うことは、当業者の通常の創作能力の発揮に過ぎない。例えば、コストを下げるために、より安価な材料を用いて設計することは通常の設計指針の一つである。また、製造の容易性等の観点から、使用する材料の種類を削減することも設計指針の一つである。その他、例えば、原審において平成１９年７月２３日付けの拒絶理由通知書で引用した引用例２に記載されているように（前記摘記事項「ウ」を参照。）、吸収率等を考慮して屈折率が１．９以上の高屈折率材料を用いないで反射防止膜を構成するという設計指針も当業者にとっては自明の選択肢であって、技術常識に過ぎない。以上を踏まえると、引用発明において第１層目の薄膜の材料として、「Ｓｃ２Ｏ３」に代えて、例えば、第３層目の薄膜の材料と同じ「Ａｌ２Ｏ３（波長λ＝２４８ｎｍにおける屈折率が１．７）」を用いてシミュレーション等を行って設計し直すことは、当業者が適宜試みる程度のものであって、通常の設計活動の範囲を超えるものとはいえない。
　
（２）本願発明の作用効果について
　次に本願発明の作用効果について検討すると、請求人は、平成１９年１０月１日付けの意見書において、薄膜の膜厚構成において引用発明との相違点を有することにより、例えば、深紫外域の波長に対して使用を想定し、レンズ間に接着剤を用いない無接合の対物レンズに本願発明の２波長反射防止膜を用いた場合、３００ｎｍ以下の紫外域波長及び７５０ｎｍ又は５５０〜６５０ｎｍ波長域においても、対物レンズの光の入射角が大きくなる領域の光に対して十分な反射防止を得られ、満足のいく透過率を確保することができるという優れた効果を得ることができる旨、及び、引用発明は、無接合対物レンズなどへ適用を考慮に入れた場合、レンズ表面への光の入射角が大きくなる、例えば入射角が５５°以上の領域に対しても十分に反射防止を得るという点について本願補正発明と技術的課題が異なる旨主張している。
　上記請求人の主張について検討すると、本願出願前において、反射防止膜が広い入射角度範囲で反射防止効果を有するべきことは、当業者にとっては技術常識であり、自明な設計指針に過ぎない（例えば、特開２００１−４８０３号公報、特開平６−３４７６０３号公報、特開平１０−２５３８０２号公報、特開平１１−２４８９０３号公報、特開平９−２５８００６号公報及び特開２０００−３５７６５４号公報等参照）。してみれば、引用発明において、第１層目の薄膜の材料として、「Ｓｃ２Ｏ３」に代えて、第３層目の薄膜の材料である「Ａｌ２Ｏ３」を用いてシミュレーション等を行って設計し直す際に反射防止膜が広い入射角度範囲で反射防止効果を有するということも設計指針に加えて設計し直すことは当業者の当然の配慮事項であると認められる。したがって、請求人の主張する作用効果は特別に顕著なものとは認められない。
　
（３）相違点の検討・判断の小括
　以上より、上記相違点は格別のものとは認められず、また、本願補正発明が奏する作用効果も、引用発明及び技術常識から当業者が予測できる範囲のものであると認められる。
　よって、本願補正発明は、引用発明及び技術常識に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
　
６　本件補正についての結び
　
　以上のとおり、本願補正発明は、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものであるから、本件補正は、特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項に規定する要件を満たさないものであり、特許法第１５９条第１項で読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
　よって、上記結論のとおり決定する。
　
　
　
第３　本願発明について
　
１　本願発明
　平成２０年２月４日付けの手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１から７に係る発明は、本件補正前の、平成１９年１０月１日付けの手続補正書により補正された明細書の特許請求の範囲の請求項１から７に記載された事項により特定されるものであるところ、その請求項２に係る発明（以下、「本願発明」という。）は次のとおりである。
　
＜本願発明＞
「　深紫外域から近赤外域まで透過する基板表面に被膜することで前記基板表面における深紫外域と可視域から近赤外域の２つの波長域の光の反射を防止する２波長反射防止膜であり、
　反射防止を行う波長が５５０〜６５０ｎｍ付近にある場合、前記基板側から１層目と３層目の薄膜に、設計主波長２４８ｎｍにおける屈折率が１．６〜２．０の中間屈折率材料、２層目と４層目の薄膜に、前記設計主波長における屈折率が１．３５〜１．５５の低屈折率材料が用いられ、且つ各層薄膜の光学的膜厚ｎｄｉ（ｉ＝１，２，３，４：基板側から）が、前記設計主波長λに対して、基材側から１層目の薄膜が０．５λ≦ｎｄ１≦０．７λ、２層目の薄膜が０．０５λ≦ｎｄ２≦０．２λ、３層目の薄膜が０．２５λ≦ｎｄ３≦０．５λ、４層目の薄膜が０．２λ≦ｎｄ４≦０．３５λであることを特徴とする２波長反射防止膜」
　
　
２　刊行物及び各刊行物の記載事項
　
　原査定の拒絶の理由に引用された引用例の記載事項は、前記「第２」の「３」に記載したとおりである。
　
　
３　対比・判断
　
　本願発明は、前記「第２」の「２」〜「５」で検討した本願補正発明において、基板側から１層目と３層目の薄膜の波長２４８ｎｍにおける屈折率について、「１．６〜１．９５」という範囲を拡げて「１．６〜２．００」としたものに相当する。
　
　そうすると、本願発明の発明特定事項をすべて含み、その発明特定事項の数値範囲を更に限定したものに相当する本願補正発明が、前記「第２」の「５」に記載したとおり、引用発明及び技術常識に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、同様の理由により、引用発明及び技術常識に基いて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
　
（３）むすび
　
　以上のとおり、本願発明は、引用発明及び技術常識に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
　よって、結論のとおり審決する。