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【手続補正書】
【提出日】平成24年1月11日(2012.1.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ボールスプライン軌道が設けられたねじ軸と、ボールスプライン軌道にボールを介して嵌め合わされたボールスプライン外筒と、ボールスプライン外筒を支持するハウジングとを備えているボールスプラインにおいて、
ハウジングのボールスプライン外筒を支持する部分の内周面は、円筒面とされているとともに、ボールスプライン外筒の外周面は、ハウジングの内周面に当接する中央部の円筒面を有しており、ボールスプライン外筒の少なくとも一方の端部の外周面は、中央部の円筒面よりも小径とされていることを特徴とするボールスプライン。
【請求項２】
ボールスプライン外筒の外周面における中央部の円筒面の軸方向長さは、ボールスプライン外筒の内周面に設けられている軌道部の軸方向長さよりも小さくなされていることを特徴とする請求項１のボールスプライン。
【請求項３】
ボールスプライン外筒のハウジングの内周面に当接する中央部とこれより小径とされている端部とは、一体に形成されている請求項１または２のボールスプライン。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
この発明によるボールスプラインは、ボールスプライン軌道が設けられたねじ軸と、ボールスプライン軌道にボールを介して嵌め合わされたボールスプライン外筒と、ボールスプライン外筒を支持するハウジングとを備えているボールスプラインにおいて、ハウジングのボールスプライン外筒を支持する部分の内周面は、円筒面とされているとともに、ボールスプライン外筒の外周面は、ハウジングの内周面に当接する中央部の円筒面を有しており、ボールスプライン外筒の少なくとも一方の端部の外周面は、中央部の円筒面よりも小径とされていることを特徴とするものである。
【手続補正書】
【提出日】平成24年1月11日(2012.1.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スプライン軌道が設けられた軸と、ボールを介して軸に嵌め合わされたボールスプライン外筒とを備え、ボールスプライン外筒は、軸のスプライン軌道に対向させられることで主通路を構成するスプライン軌道が形成された略円筒状の外筒本体と、戻し通路が形成されておりかつ外筒本体の内周に嵌め合わされた略円筒状の保持器本体と、保持器本体の戻し通路と主通路とを連通する連通路が形成されており保持器本体に一端側から突き合わされた保持器蓋とを有しているボールスプラインにおいて、
保持器本体および保持器蓋は、互いに突き合わされて、その両端面に配置された１対の止め輪によって外筒本体に支持されており、保持器本体の端面および保持器蓋の端面の少なくとも一方に、軸方向に突出する凸部が周方向に所定間隔で３カ所以上形成されており、保持器本体と保持器蓋とは、軸方向の弾性的な与圧が付加されて組み付けられていることを特徴とするボールスプライン。
【請求項２】
凸部が形成された保持器本体および保持器蓋の端部に、凸部の軸方向内方への変形を容易とする孔が形成されていることを特徴とする請求項１のボールスプライン。
【請求項３】
１対の止め輪の少なくとも一方は、ばね座金とされていることを特徴とする請求項１または２のボールスプライン。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
この発明によるボールスプラインは、スプライン軌道が設けられた軸と、ボールを介して軸に嵌め合わされたボールスプライン外筒とを備え、ボールスプライン外筒は、軸のスプライン軌道に対向させられることで主通路を構成するスプライン軌道が形成された略円筒状の外筒本体と、戻し通路が形成されておりかつ外筒本体の内周に嵌め合わされた略円筒状の保持器本体と、保持器本体の戻し通路と主通路とを連通する連通路が形成されており保持器本体に一端側から突き合わされた保持器蓋とを有しているボールスプラインにおいて、保持器本体および保持器蓋は、互いに突き合わされて、その両端面に配置された１対の止め輪によって外筒本体に支持されており、保持器本体の端面および保持器蓋の端面の少なくとも一方に、軸方向に突出する凸部が周方向に所定間隔で３カ所以上形成されており、保持器本体と保持器蓋とは、軸方向の弾性的な与圧が付加されて組み付けられていることを特徴とするものである。
【手続補正書】
【提出日】平成23年12月27日(2011.12.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１０】
前記基準位置は、シートのサイズによってシート搬送方向と交差する方向に変更可能であることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載のシート搬送装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明のシート搬送装置は、シートを搬送する搬送手段と、シートのシート搬送方向に沿った側端を検知して検知信号を発する検知手段と、シートをシート搬送方向と交差する方向に移動させるシート移動手段と、を備え、シートの搬送方向と交差する方向の基準位置に対するずれを修正するようになっており、さらに、前記検知手段を前記交差する方向に移動させる移動手段と、前記シート移動手段と前記移動手段とを制御する制御部と、を備え、前記制御部は、前記基準位置に対応する位置に配置された前記検知手段がシートの側端を検知するように前記シート移動手段によりシートを移動した後、シートが前記搬送手段により搬送される際に前記検知手段から発せられる検知信号の変化の有無によって、シートがいずれの方向に傾斜しているかを判断し、該判断された傾斜方向が、前記検知手段から発せられる検知信号が変化した際の傾斜方向であるとき、前記移動手段により前記検知手段を所定量移動し、該移動された前記検知手段で、前記搬送手段により搬送されるシートの側端を検知することにより、前記シート移動手段を制御してシートの搬送方向と交差する方向の前記基準位置に対するずれを修正することを特徴としている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
なお、シートの幅方向とは、図１のシートの搬送方向Ｃと交差する方向（図２の矢印Ｅ方向）を言う。シートＳの側端Ｓｃ（図２、図１０）とは、シートの搬送方向に沿った縁(端部)を言う。シートの先端Ｓａ（図２）とは、シートの搬送方向の下流端を言う。シートの後端Ｓｂ（図７、図１０）とは、シートの搬送方向の上流端を言う。本実施の形態において、逆送とは、シートがシートの搬送方向の下流から上流、例えば搬送ローラ対２０６側から入口ローラ対２０１側へ搬送されることを言い、その方向を逆送方向Ｄ（図１、図８）と言う。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図８】
2010159101.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成24年1月10日(2012.1.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録シートを搬送する搬送装置であって、
前記記録シートの搬送路に配置され、前記記録シートを検出するラインセンサと、
前記ラインセンサの出力に基づいて、前記記録シートの搬送方向に直交する幅方向における前記記録シートのエッジの位置を検出する検出手段と、
前記記録シートを前記幅方向へシフトさせるシフト手段と、
前記検出手段によって検出された前記記録シートのエッジの位置に基づいて、前記幅方向における前記記録シートのエッジの目標位置からのずれを示すシフト量及びシフト方向を算出する算出手段と、
前記算出手段によって算出されたシフト量及びシフト方向に基づいて、前記幅方向における前記記録シートのエッジが前記目標位置に一致するように、前記シフト手段を制御する制御手段と、
を有し、
前記検出手段は、前記記録シートが前記ラインセンサの位置に搬送されていない状態での前記ラインセンサの出力レベルと、前記記録シートが前記ラインセンサの位置に搬送されている状態での前記ラインセンサがシートを検出している部分の出力レベルとの中間レベルを閾値として前記ラインセンサの出力を２値化して、２値化した値が変化する位置を前記記録シートのエッジの位置として検出し、
前記記録シートが前記ラインセンサの位置を搬送されている間に前記記録シートのエッジの位置の検出を複数回実行する場合において、当該複数回の検出のそれぞれの検出において前記ラインセンサがシートを検出している部分の出力レベルに基づいてそれぞれの検出の次の検出における閾値を決定することを特徴とする搬送装置。
【請求項２】
前記記録シートが前記ラインセンサの位置に搬送されていない状態での前記ラインセンサの出力レベルと、前記複数回の検出のそれぞれの検出において前記ラインセンサがシートを検出している部分の出力レベルとの中間レベルを、それぞれの検出の次の検出における閾値とすることを特徴とする請求項１に記載の搬送装置。
【請求項３】
前記検出手段は、前記記録シートが前記ラインセンサの位置に搬送されておらず前記ラインセンサが前記記録シートの搬送路を検出している際の出力レベルと、前記ラインセンサの出力が設定値以上となる画素の位置から予め定められた距離だけ離れた画素の位置における前記ラインセンサの出力レベルとの中間レベルを閾値として前記ラインセンサの出力を２値化して、２値化した値が変化する位置を前記記録シートのエッジの位置として検出することを特徴とする請求項１又は２に記載の搬送装置。
【請求項４】
前記設定値は、前記ラインセンサが前記記録シートの搬送路を検出した際の出力レベルと、前記複数回の検出の前に前記ラインセンサが前記記録シートを検出した際の出力レベルとの中間レベルであることを特徴とする請求項３に記載の搬送装置。
【請求項５】
記録シートに画像を形成する画像形成装置であって、
前記記録シートを搬送する請求項１乃至４のうちいずれか１項に記載された搬送装置と、
前記搬送装置によって搬送される記録シートに画像を形成する画像形成手段と、
を有することを特徴とする画像形成装置。
【請求項６】
記録シートの搬送路に配置されて前記記録シートを検出するラインセンサを備え、前記記録シートを搬送する搬送装置の制御方法であって、
前記ラインセンサの出力に基づいて、前記記録シートの搬送方向に直交する幅方向における前記記録シートのエッジの位置を検出する検出ステップと、
前記検出ステップで検出された前記記録シートのエッジの位置に基づいて、前記幅方向における前記記録シートのエッジの目標位置からのずれを示すシフト量及びシフト方向を算出する算出ステップと、
前記算出ステップで算出されたシフト量及びシフト方向に基づいて、前記幅方向における前記記録シートのエッジが前記目標位置に一致するように、前記幅方向への記録シートのシフトを制御する制御ステップと、
を有し、
前記検出ステップでは、前記記録シートが前記ラインセンサの位置に搬送されていない状態での前記ラインセンサの出力レベルと、前記記録シートが前記ラインセンサの位置に搬送されている状態での前記ラインセンサがシートを検出している部分の出力レベルとの中間レベルを閾値として前記ラインセンサの出力を２値化して、２値化した値が変化する位置を前記記録シートのエッジの位置として検出し、
前記記録シートが前記ラインセンサの位置を搬送されている間に前記記録シートのエッジの位置の検出を複数回実行する場合において、当該複数回の検出のそれぞれの検出において前記ラインセンサがシートを検出している部分の出力レベルに基づいてそれぞれの検出の次の検出における閾値を決定することを特徴とする制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての搬送装置は、記録シートを搬送する搬送装置であって、前記記録シートの搬送路に配置され、前記記録シートを検出するラインセンサと、前記ラインセンサの出力に基づいて、前記記録シートの搬送方向に直交する幅方向における前記記録シートのエッジの位置を検出する検出手段と、前記記録シートを前記幅方向へシフトさせるシフト手段と、前記検出手段によって検出された前記記録シートのエッジの位置に基づいて、前記幅方向における前記記録シートのエッジの目標位置からのずれを示すシフト量及びシフト方向を算出する算出手段と、前記算出手段によって算出されたシフト量及びシフト方向に基づいて、前記幅方向における前記記録シートのエッジが前記目標位置に一致するように、前記シフト手段を制御する制御手段と、を有し、前記検出手段は、前記記録シートが前記ラインセンサの位置に搬送されていない状態での前記ラインセンサの出力レベルと、前記記録シートが前記ラインセンサの位置に搬送されている状態での前記ラインセンサがシートを検出している部分の出力レベルとの中間レベルを閾値として前記ラインセンサの出力を２値化して、２値化した値が変化する位置を前記記録シートのエッジの位置として検出し、前記記録シートが前記ラインセンサの位置を搬送されている間に前記記録シートのエッジの位置の検出を複数回実行する場合において、当該複数回の検出のそれぞれの検出において前記ラインセンサがシートを検出している部分の出力レベルに基づいてそれぞれの検出の次の検出における閾値を決定することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月11日(2012.6.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも部分的に水溶性である希釈剤としてアルコールを含有する液状媒体中における、塩化アリル及び無機ペルオキシド化合物間の反応による１，２−エポキシ−３−クロロプロパンの製造方法であって、
１，２−エポキシ−３−クロロプロパン、前記アルコール及び水、並びに、任意の未転換反応体を含む反応生成物の混合物を収集し、
前記混合物を、２種の別個の液相、すなわち、一方が少なくとも一部の抽出溶媒及び少なくとも１０％の量の生成された１，２−エポキシ−３−クロロプロパンを含む抽出物であり、かつ、他方が少なくとも一部のアルコール及び少なくとも一部の水を含むラフィネートであるものを得るために、３〜２０個、好ましくは３〜６個又は１０〜２０個の炭素原子を含む、任意にハロゲン化された飽和炭化水素；３〜２０個の炭素原子を含む、任意にハロゲン化された不飽和炭化水素；６〜１２個の炭素原子を含み、任意にアルキル、ハロゲン及び／又は窒素置換基を有する芳香族炭化水素；並びに、これらの混合物から選択される、エピクロロヒドリンを溶解するのに好適であり、前記アルコールは難溶性である抽出溶媒と接触するように配置し、かつ、前記抽出物及び前記ラフィネートを別々に収集し、そこから１，２−エポキシ−３−クロロプロパンを除去するために該抽出物を蒸留し、また、そこから水を除去するために該ラフィネートを蒸留することを特徴とする製造方法。
【請求項２】
前記抽出溶媒の比重量が、反応生成物の混合物のそれと少なくとも０．０４ｇ／ｃｍ３異なる請求項１記載の製造方法。
【請求項３】
前記抽出溶媒の沸点が、エポキシドのそれと少なくとも５℃異なる請求項１又は２記載の製造方法。
【請求項４】
前記抽出溶媒が、o-キシレン、m-キシレン、p-キシレン、o-ジクロロベンゼン、m-ジクロロベンゼン、p-ジクロロベンゼン、1,3,5-トリメチルベンゼン、デカリン、o-クロロトルエン、m-クロロトルエン、p-クロロトルエン、1,2,3-トリクロロプロパン、塩化アリル、ニトロベンゼン及びn-デカン、並びにそれらの混合物から選択される請求項１〜３のいずれか１項記載の製造方法。
【請求項５】
前記抽出溶媒が、o-ジクロロベンゼン、m-ジクロロベンゼン、1,3,5-トリメチルベンゼン、デカリン、o-クロロトルエン、1,2,3-トリクロロプロパン、塩化アリル、ニトロベンゼン及びn-デカン、並びにそれらの混合物から選択される請求項４記載の製造方法。
【請求項６】
反応生成物の混合物が、温度０〜８０℃で、液−液抽出カラム中の前記抽出溶媒と向流接触するように配置され、且つ、前記抽出溶媒と反応生成物の混合物の間の重量比が少なくとも０．１と等しく、かつ２０を超えない請求項１〜５のいずれか１項記載の製造方法。
【請求項７】
蒸留時に収集された、前記アルコール及び未転換反応体物が１，２−エポキシ−３−クロロプロパン製造工程に戻される請求項１〜６のいずれか１項記載の製造方法。
【請求項８】
ペルオキシド化合物が過酸化水素であり、１，２−エポキシ−３−クロロプロパンがβゼオライト以外のゼオライトを含む触媒の存在下で得られる請求項１〜７のいずれか１項記載の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年8月13日(2012.8.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
圧縮機ロータ及びタービンロータを備えたロータ内における冷却回路であって、
低温冷却空気の供給源（１６）と、
前記圧縮機ロータ（１２）のロータホイール（２０）内の開口により形成されまた該圧縮機ロータのロータホイールを横切ってかつボアセクション（２２）内に低温冷却空気を導く第１の冷却経路（１８）と、
前記第１の冷却経路と直列になっておりまた前記タービンロータ（１４）のロータホイールを横切って低温冷却空気を導く第２の冷却経路（２４）と、を含む、
冷却回路。
【請求項２】
前記第１の冷却経路（１８）が、前記圧縮機ロータホイール（２０）の慣性ベルト（２５）内に形成された軸方向孔によって形成される、請求項１記載の冷却回路。
【請求項３】
前記第１の冷却経路（１８）が、高圧パッキンブラシシール（２６）を横切って、該高圧パッキンブラシシール内のバイパス孔を通してかつ最終段圧縮機ホイールの後方リムを横切って低温冷却空気を導く、請求項２記載の冷却回路。
【請求項４】
前記第１の冷却経路（１８）が、前記圧縮機ロータホイール（２０）内に複数の調量回路を含み、
前記調量回路が、圧縮機フランジにおいてリム冷却、ボア冷却及び前方段冷却用の低温冷却空気流を分配する、
請求項１記載の冷却回路。
【請求項５】
前記圧縮機ボアセクション（２２）内にインペラ（２７）をさらに含み、
前記インペラが、流れ圧力を維持しかつ低温冷却空気流をロータ速度に旋回させる、
請求項１記載の冷却回路。
【請求項６】
圧縮機ロータ及びタービンロータを備えたロータを冷却する方法であって、
前記圧縮機ロータ（１２）のロータホイール（２０）内の開口により形成された第１の冷却経路（１８）に沿って、該圧縮機ロータのロータホイールを横切ってかつボアセクション（２２）内に流れるように低温冷却空気を導くステップと、
前記第１の冷却経路と直列になった第２の冷却経路（２４）に沿って、前記タービンのロータホイールを横切って流れるように該第１の冷却経路から低温冷却空気を導くステップと、を含む、
方法。
【請求項７】
前記第１の冷却経路（１８）が、高圧パッキンブラシシール（２６）を横切って、該高圧パッキンブラシシール内のバイパス孔を通してかつ最終段圧縮機ホイールの後方リムを横切って低温冷却空気を導く、請求項６記載の方法。
【請求項８】
前記第１の冷却経路（１８）が、前記圧縮機ロータホイール（２０）内に複数の調量回路を含み、
該方法が、圧縮機フランジにおいて前記調量回路によりリム冷却、ボア冷却及び前方段冷却用の低温冷却空気流を分配するステップをさらに含む、
請求項６記載の方法。
【請求項９】
前記ボアセクション内に配置されたインペラを使用して、前記低温冷却空気の流れ圧力を維持しかつ流れをロータ速度に旋回させるステップを含む、
請求項６記載の方法。
【請求項１０】
圧縮機ロータ（１２）及びタービンロータ（１４）を備えたロータ内における冷却回路であって、
前記タービンロータ（１４）を通る第２の冷却経路（２４）と直列になった前記圧縮機ロータ（１２）を通る第１の冷却経路（１８）を含んでいて、１つの冷却空気量を使用して該圧縮機ロータ及びタービンロータの両方を冷却するようになっている、
冷却回路。
【請求項１１】
冷却空気が、圧縮機吐出ケーシングを通して前記第１の冷却経路（１８）に送給され、
前記第１の冷却経路が、前記圧縮機ロータのロータホイール（２０）を横切って前記圧縮機ロータのボアセクション（２２）内に向けて前方に、次に前記第２の冷却経路（２４）に向けて後方に冷却空気を導くように形成される、
請求項１０記載の冷却回路。
【手続補正書】
【提出日】平成24年7月17日(2012.7.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
タービン発電システムにおいて、
内側直径を有する内側表面（２６）を有するシュラウドを含むステータ（１８）と、
前記シュラウド内に回転可能に位置付けられて、回転軸の回りを回転するように適合され、前記シュラウドの内側表面（２６）に近接した先端を有するブレード（３０）を備えたロータ（２８）と、
を備え、
前記内側表面（２６）が熱負荷に曝されたときに、前記シュラウドが円周方向に膨張し、これが前記内側表面（２６）の内側直径を小さくするように前記シュラウドが、構成されている、タービン発電システム。
【請求項２】
前記シュラウドがハウジング内に配置され、前記ハウジングは前記シュラウドに面した内側表面を備える、
請求項１に記載のタービン発電システム。
【請求項３】
前記シュラウドが複数のリーフ（２０）を備え、各リーフが、前記ステータに取り付けられ、前記内側表面（２６）一部を占める第１の先端を備える、
請求項１または２に記載のタービン発電システム。
【請求項４】
前記複数のリーフ（２０）の各々が、第２の先端において前記ステータに取り付けられる、
請求項３に記載のタービン発電システム。
【請求項５】
前記複数のリーフ（２０）の各々が、前記第１の先端と前記第２の先端の間に延びる材料ストリップを含み、前記材料ストリップが、前記ロータ（２８）の回転軸の回りに巻き付けられる、
請求項４に記載のタービン発電システム。
【請求項６】
前記複数のリーフ（２０）の各々が、熱負荷に曝されたときに線形膨張し、これにより前記内側表面（２６）の内側直径を小さくするように構成されている、
請求項５に記載のタービン発電システム。
【請求項７】
前記複数のリーフ（２０）の各々が、熱負荷に曝されたときに容積膨張し、これにより前記内側表面（２６）の内側直径を小さくするように構成されている、
請求項５に記載のタービン発電システム。
【手続補正書】
【提出日】平成23年12月13日(2011.12.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
車幅方向に延在するクロスメンバが、車室に隣接して設けられた車体下部構造であって、
前記クロスメンバは、互いに対向する板状の第１クロスメンバ及び第２クロスメンバを含み、
前記第１クロスメンバ及び前記第２クロスメンバにより複数の閉断面が形成され、
前記複数の閉断面は、前記第１クロスメンバ及び前記第２クロスメンバが連続的に重ね合わされた部分を介して連結され、
前記複数の閉断面は、鉛直方向において少なくとも一部が重なるように配置されていることを特徴とする車体下部構造。
【請求項２】
前記第１クロスメンバが車両前方側に設けられ、前記第２クロスメンバが、車両後方側に向って突出し前記閉断面を形成する凸部を２つ有することを特徴とする、請求項１に記載の車体下部構造。
【請求項３】
前記第２クロスメンバは、フロアパネルが折り曲げられて連設されたものであることを特徴とする、請求項１又は２に記載の車体下部構造。
【請求項４】
前記第１クロスメンバは、前記第２クロスメンバよりも車両前方からの荷重に対して高強度であることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の車体下部構造。
【請求項５】
前記第１クロスメンバが、車両前方側に設けられるとともに車両前方側に向って突出し前記閉断面を形成する凸部を有し、前記第１クロスメンバの車室に向く凸面部には、車室のフロア上に設定されて車体前後方向に延びるフロア補強部材の端部が結合されていることを特徴とする、請求項１に記載の車体下部構造。
【請求項６】
車幅方向に延在するクロスメンバが、車室に隣接して設けられた車体下部構造であって、
前記クロスメンバは、互いに対向する板状の第１クロスメンバ及び第２クロスメンバを含み、
前記第１クロスメンバ及び前記第２クロスメンバにより複数の閉断面が形成され、
前記第１クロスメンバ又は前記第２クロスメンバのいずれか一方は、断面が波型の部分を有し、前記第１クロスメンバ又は前記第２クロスメンバの他方は、前記波型の部分に対向する部分が平板状であることを特徴とする車体下部構造。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は、車幅方向に延在するクロスメンバが車室に隣接して設けられた車体下部構造であって、クロスメンバは、互いに対向する板状の第１クロスメンバ及び第２クロスメンバを含み、第１クロスメンバ及び第２クロスメンバにより複数の閉断面が形成され、複数の閉断面は、第１クロスメンバ及び第２クロスメンバが連続的に重ね合わされた部分を介して連結され、複数の閉断面は、鉛直方向において少なくとも一部が重なるように配置されていることを特徴としている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、第１クロスメンバが、車両前方側に設けられるとともに車両前方側に向って突出し閉断面を形成する凸部を有し、第１クロスメンバの車室に向く凸面部には、車室のフロア上に設定されて車体前後方向に延びるフロア補強部材の端部が結合されていることが好ましい。この場合、車室のフロアに前後方向荷重が作用した際には、その前後方向荷重がフロア補強部材からクロスメンバに効率良く伝達される。また、本発明は、車幅方向に延在するクロスメンバが、車室に隣接して設けられた車体下部構造であって、クロスメンバは、互いに対向する板状の第１クロスメンバ及び第２クロスメンバを含み、第１クロスメンバ及び第２クロスメンバにより複数の閉断面が形成され、第１クロスメンバ又は第２クロスメンバのいずれか一方は、断面が波型の部分を有し、第１クロスメンバ又は第２クロスメンバの他方は、上記波型の部分に対向する部分が平板状であることを特徴としている。
【手続補正書】
【提出日】平成24年1月10日(2012.1.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
即ち、本発明は、（ｉ）下記化学式（２）
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
【化１】
2010159358.tif 000001
で示される構造を含む重合体と、
（ｉｉ）下記化学式（３）
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
【化２】
2010159358.tif 000002
（式中、Ｂ１は置換基を有していてもよい炭素数１又は２のアルキレン構造もしくは置換基を有していてもよい芳香族環を表し、該アルキレン構造における置換基は、水酸基、炭素数１乃至１２のアルキル基、アリール基又はアルコキシ基であり、芳香族環における置換基は、水酸基、炭素数１乃至１２のアルキル基、アリール基又はアルコキシ基であり、また、隣接する炭素を含めて５員環又は６員環の芳香族環を形成していてもよい。）
で示される構造を有するスルホン酸基を含有するアミン化合物とを、
縮合剤として亜リン酸トリフェニルと亜リン酸トリエステル（エステルは、メチル、エチル、プロピルから選択される）とを併用して反応させ、下記化学式（１）
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
【化３】
2010159358.tif 000003
（式中、Ｂ１は、化学式（３）におけるＢ１に準ずる。）
で示される構造を有する重合体を得ることを特徴とする重合体の製造方法に関するものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ｉ）下記化学式（２）
【化１】
2010159358.tif 000004
で示される構造を含む重合体と、
（ｉｉ）下記化学式（３）
【化２】
2010159358.tif 000005
（式中、Ｂ１は置換基を有していてもよい炭素数１又は２のアルキレン構造もしくは置換基を有していてもよい芳香族環を表し、該アルキレン構造における置換基は、水酸基、炭素数１乃至１２のアルキル基、アリール基又はアルコキシ基であり、芳香族環における置換基は、水酸基、炭素数１乃至１２のアルキル基、アリール基又はアルコキシ基であり、また、隣接する炭素を含めて５員環又は６員環の芳香族環を形成していてもよい。）
で示される構造を有するスルホン酸基を含有するアミン化合物とを、
縮合剤として亜リン酸トリフェニルと亜リン酸トリエステル（エステルは、メチル、エチル、プロピルから選択される）とを併用して反応させ、下記化学式（１）
【化３】
2010159358.tif 000006
（式中、Ｂ１は、化学式（３）におけるＢ１に準ずる。）
で示される構造を有する重合体を得ることを特徴とする重合体の製造方法。
【請求項２】
上記化学式（１）で示される構造を含む重合体がビニル系重合体であることを特徴とする請求項１に記載の重合体の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年12月15日(2011.12.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
経糸及び緯糸を備える芯地布帛であって、
少なくとも一部において、前記経糸の間隔及び前記緯糸の間隔の少なくとも何れか
一方の間隔が不均一となるように構成されていることを特徴とする芯地布帛。
【請求項２】
経糸及び緯糸を備える芯地布帛であって、
少なくとも一部において、前記経糸の間隔及び前記緯糸の間隔の少なくとも何れか一方の間隔が周期的に変化するように構成されていることを特徴とする芯地布帛。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載の芯地布帛において、
前記経糸の間隔及び前記緯糸の間隔の少なくとも何れか一方の間隔の不均一さの態様が異なる複数の領域を備えることを特徴とする芯地布帛。
【請求項４】
請求項１ないし請求項３の何れか１項に記載の芯地布帛において、
前記経糸の間隔及び前記緯糸の間隔の少なくとも何れか一方の間隔が均一である領域をさらに備えることを特徴とする芯地布帛。
【請求項５】
少なくとも請求項１〜請求項４の何れか１項に記載の芯地布帛と表生地とから形成される衣服。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
（１）本発明は、経糸及び緯糸を備える芯地布帛であって、少なくとも一部において、前記経糸の間隔、及び／又は前記緯糸の間隔が不均一となるように構成されていることを特徴とする芯地布帛を要旨とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
（ｉｉ）芯地布帛を構成する糸（経糸、緯糸、又はその両方）を、Ｋ1〜Ｋxの領域、Ｋx+1〜Ｋyの領域、Ｋy+1〜Ｋzの領域・・・・（ｘ、ｙ、ｚは、ｘ＋１＜ｙ、且つｙ＋１＜ｚの条件を満たす自然数）のように所定の本数（必ずしも一定である必要はない）ごとに区分したとき、各領域間で、糸の密度（すなわち、糸同士の間隔）が不均一になるようにする。各領域内における糸の密度は、均一であっても、不均一であってもよい。
緯糸の間隔を不均一に構成する方法としては、密度変換システムが組み込まれた織機を用いる方法がある。これはコンピューターに入力されたデーターにより、緯糸密度を自由に変えながら連続に織布できるシステムである。経糸の間隔を不均一に構成する方法としては、織機に使用する筬の設計で筬密度を一定巾で変更する特殊筬の使用や、よろけ筬、よろけ装置を使用する方法がある。
経糸又は緯糸の間隔を不均一にすると、経糸又は緯糸の密度（単位長さあたりの糸の本数）が芯地布帛における場所によって変動する。その密度の変動の範囲は、±５０％の範囲が好適である。その範囲内であることにより、芯地布帛の風合いが部分的に硬くなったり柔らかくなったりする段差が触感されてしまうようなことが起こりにくい。又、接着芯地の場合、片面の熱可塑性接着剤が裏側に浸み出してくるようなことが起こりにくい。なお、上述した密度の変動は、芯地布帛全体での経糸又は緯糸の平均密度をＭavとし、最も密度が大きい（又は小さい）部分における密度をＭとしたとき、下記式１により算出される値である。
（式１）（（Ｍ−Ｍav）／Ｍav）×１００（％）
芯地布帛を構成する素材は特に限定されるものではなく、一般に使用されている綿、ポリエステル、レーヨンなどの短繊維やポリエステル、ナイロンなどの長繊維が使用できる。糸の太さ、密度についても、通常使用されている織物設計で可能である。但し密度表示については、平均値での表示が適している。
本発明の芯地布帛は、例えば、片面に熱可塑性接着剤を塗布した接着芯地とすることものできるし、芯地布帛のみで使用されるフラシ芯とすることもできる。
本発明の芯地布帛は、例えば、その全面にわたって、経糸の間隔や緯糸の間隔が不均一であってもよいし、その一部（例えば、モアレ現象が特に目立ちやすい場所）のみにおいて、経糸の間隔や緯糸の間隔が不均一であってもよい。
（２）本発明は、上記の芯地布帛と、表生地とを接着してなる衣服を要旨とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の衣服は、上記に記載の芯地布帛を用いているため、モアレ現象が生じにくい。また、本発明の衣服は、その表面を平滑にすることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成23年12月2日(2011.12.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
隣接する略平板状の屋根材本体を側部で重ね合わせて敷設される金属屋根材において、屋根材本体の両方の側端部に断面略波状の接続部を形成して成ることを特徴とする金属屋根材。
【請求項２】
接続部を、凸部と凹部とを交互に繰り返して形成して成ることを特徴とする請求項１に記載の金属屋根材。
【請求項３】
屋根材本体の軒側端部に断面倒Ｕ字状の嵌合部を設けると共に屋根材本体の棟側端部の表面側に断面倒Ｖ字状の被嵌合部を設け、被嵌合部を厚み方向で収縮自在に形成して成ることを特徴とする請求項１又は２に記載の金属屋根材。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか１項に記載の金属屋根材を用いた敷設構造であって、屋根下地に金属屋根材を敷設した後、この金属屋根材の側部に他の金属屋根材を重ね合わせて成ることを特徴とする金属屋根材の敷設構造。
【請求項５】
請求項３に記載の金属屋根材を用いた敷設構造であって、屋根下地に金属屋根材を敷設した後、この金属屋根材の被嵌合部に、軒側に隣接する他の金属屋根材の嵌合部を嵌合して成ることを特徴とする金属屋根材の敷設構造。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の請求項１に係る金属屋根材Ａは、隣接する略平板状の屋根材本体１、１を側部２で重ね合わせて敷設される金属屋根材Ａにおいて、屋根材本体１の両方の側端部に断面略波状の接続部３を形成して成ることを特徴とするものである。
また、本発明の請求項２に係る金属屋根材Ａは、請求項１において、接続部３を、凸部３ａと凹部３ｂとを交互に繰り返して形成して成ることを特徴とするものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の請求項３に係る金属屋根材Ａは、請求項１又は２において、屋根材本体１の軒側端部に断面倒Ｕ字状の嵌合部４を設けると共に屋根材本体１の棟側端部の表面側に断面倒Ｖ字状の被嵌合部５を設け、被嵌合部５を厚み方向で収縮自在に形成して成ることを特徴とするものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の請求項４に係る金属屋根材Ａの敷設構造は、請求項１乃至３のいずれかに記載の金属屋根材Ａを用いた敷設構造であって、屋根下地６に金属屋根材Ａを敷設した後、この金属屋根材Ａの側部２に他の金属屋根材Ａを重ね合わせて成ることを特徴とするものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の請求項５に係る金属屋根材Ａの敷設構造は、請求項３に記載の金属屋根材Ａを用いた敷設構造であって、屋根下地６に金属屋根材Ａを敷設した後、この金属屋根材Ａの被嵌合部５に、軒側に隣接する他の金属屋根材Ａの嵌合部４を嵌合して成ることを特徴とするものである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の金属屋根材Ａでは、屋根材本体１の両方の側端部に断面略波状の接続部３を形成することにより、防水性を損なうことなく隣接する金属屋根材Ａ、Ａの側部２、２同士の重ね合わせにより接続することができ、隣接する金属屋根材Ａ、Ａの重ね合わせの寸法を調整することにより金属屋根材Ａを切断するのを少なくして施工現場での廃材の発生を極力少なくすることができるものである。また、隣接する金属屋根材Ａ、Ａのどちらの側部２を上に重ね合わせても敷設することができるので、金属屋根材Ａは屋根下地６の横方向の左右いずれの方向からでも施工することができ、施工性を向上させることができるものである。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、上記金属屋根材Ａが、屋根材本体１の軒側端部に断面倒Ｕ字状の嵌合部４を設けると共に屋根材本体１の棟側端部の表面側に断面倒Ｖ字状の被嵌合部５を設け、被嵌合部５を厚み方向で収縮自在に形成して成るものである場合には、屋根の勾配方向で隣接する金属屋根材Ａ、Ａを嵌合部４と被嵌合部５との嵌合により接続することができ、屋根の勾配方向で隣接する金属屋根材Ａ、Ａの接続部分の防水性を高めることができるものであり、しかも、被嵌合部５は厚み方向に収縮可能であるため、被嵌合部５の厚みを薄くして折り曲げ加工することができ、施工現場での変形を容易に行うことができるものである。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の金属屋根材Ａの敷設構造では、屋根材本体１の両方の側端部に断面略波状の接続部３を形成することにより、防水性を損なうことなく隣接する金属屋根材Ａ、Ａの側部２、２同士を重ね合わせにより接続することができ、隣接する金属屋根材Ａ、Ａの重ね合わせの寸法を調整することにより金属屋根材Ａを切断するのを少なくして施工現場での廃材の発生を極力少なくすることができるものである。また、隣接する金属屋根材Ａ、Ａのどちらを上に重ね合わせても敷設することができるので、金属屋根材Ａは屋根下地６の横方向の左右いずれの方向からでも施工することができ、施工性を向上させることができるものである。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、本発明の金属屋根材Ａの敷設構造において、金属屋根材Ａが、屋根材本体１の軒側端部に断面倒Ｕ字状の嵌合部４を設けると共に屋根材本体１の棟側端部の表面側に断面倒Ｖ字状の被嵌合部５を設け、被嵌合部５を厚み方向で収縮自在に形成して成るものである場合には、屋根の勾配方向で隣接する金属屋根材Ａ、Ａを嵌合部４と被嵌合部５との嵌合により接続することができ、屋根の勾配方向で隣接する金属屋根材Ａ、Ａの接続部分の防水性を高めることができるものであり、しかも、被嵌合部５は厚み方向に収縮可能であるため、被嵌合部５の厚みを薄くして折り曲げ加工することができ、施工現場での変形を容易に行うことができるものである。
【手続補正書】
【提出日】平成24年10月12日(2012.10.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ゲート電極と、
前記ゲート電極の上方のゲート絶縁層と、
前記ゲート絶縁層の上方の第１の酸化物半導体層と、
前記第１の酸化物半導体層の上方の電極と、
前記電極の上方の第２の酸化物半導体層と、
前記第２の酸化物半導体層の上方の第３の酸化物半導体層と、を有し、
前記第３の酸化物半導体層は、前記ゲート絶縁層を介して前記ゲート電極と重なる領域を有し、
前記第３の酸化物半導体層は、酸素濃度が前記第１の酸化物半導体層の酸素濃度及び前記第２の酸化物半導体層の酸素濃度より高い領域を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記第１の酸化物半導体層と、前記第２の酸化物半導体層と、前記第３の酸化物半導体層とは、インジウム、ガリウム、及び亜鉛を含むことを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
画素部にトランジスタを有し、
前記トランジスタは、
ゲート電極と、
前記ゲート電極の上方のゲート絶縁層と、
前記ゲート絶縁層の上方の第１の酸化物半導体層と、
前記第１の酸化物半導体層の上方の第２の酸化物半導体層と、
前記第２の酸化物半導体層と電気的に接続されたソース電極及びドレイン電極と、
前記ソース電極及びドレイン電極の上方の絶縁層と、
前記ソース電極又は前記ドレイン電極と電気的に接続された画素電極とを有し、
前記第２の酸化物半導体層は、前記ゲート絶縁層を介して前記ゲート電極と重なる領域を有し、
前記第２の酸化物半導体層は、前記ゲート電極と重なる領域以外に、前記第１の酸化物半導体層と接する領域を有し、
前記第２の酸化物半導体層は、酸素濃度が前記第１の酸化物半導体層の酸素濃度より高い領域を有し、
前記画素電極は前記絶縁層に形成された第１のコンタクトホールを介して、前記ソース電極又は前記ドレイン電極と電気的に接続され、
前記画素部の外側に第１の導電層と、第２の導電層と、第３の導電層とを有し、
前記第１の導電層は、前記ゲート電極と同一層から形成され、
前記第２の導電層は、前記ソース電極及びドレイン電極と同一層から形成され、
前記第３の導電層は、前記画素電極と同一層から形成され、
前記第１の導電層は、前記第３の導電層を介して、前記第２の導電層と電気的に接続され、
前記第３の導電層は、前記ゲート絶縁層に形成された第２のコンタクトホールを介して、前記第２の導電層と電気的に接続され、
前記第３の導電層は、前記ゲート絶縁層及び前記絶縁層に形成された第３のコンタクトホールを介して前記第１の導電膜と電気的に接続されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
請求項３において、
前記第２のコンタクトホールは、前記第３のコンタクトホールよりも面積が大きいことを特徴とする半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成24年9月6日(2012.9.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁表面上に、ゲート電極と、該ゲート電極上にゲート絶縁層と、該ゲート絶縁層上にソース領域及びドレイン領域と、前記ソース領域及び前記ドレイン領域上に金属層と、該金属層上に半導体層とを有し、
前記半導体層は、非単結晶の酸化物半導体層であり、且つ、前記ゲート絶縁層を介して前記ゲート電極と重なり、
前記ソース領域及び前記ドレイン領域は、前記半導体層の酸素濃度よりも酸素濃度が低く、
前記金属層は、ソース電極層及びドレイン電極層であることを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
絶縁表面上に、ゲート電極と、該ゲート電極上にゲート絶縁層と、該ゲート絶縁層上にソース領域及びドレイン領域と、前記ソース領域及び前記ドレイン領域上に金属層と、該金属層上に半導体層とを有し、
前記半導体層は、非単結晶の酸化物半導体層であり、且つ、前記ゲート絶縁層を介して前記ゲート電極と重なり、
前記ソース領域及び前記ドレイン領域は、前記半導体層の酸素濃度よりも酸素濃度が低く、
前記金属層は、ソース電極層及びドレイン電極層であり、
前記半導体層、前記ソース領域及び前記ドレイン領域は、インジウム、ガリウム、及び亜鉛を含む酸化物層である半導体装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、前記ソース領域の端面及び前記ドレイン領域の端面は、前記半導体層と接している半導体装置。
【請求項４】
絶縁表面上にゲート電極を形成し、前記ゲート電極上にゲート絶縁層と、該ゲート絶縁層上にソース領域及びドレイン領域と金属層の積層を形成し、
前記金属層を選択的にエッチングしてソース電極層及びドレイン電極層を形成し、
露呈しているゲート絶縁層、前記ソース電極層、及び前記ドレイン電極層にプラズマ処理を行い、前記ゲート電極と重なり、且つ前記プラズマ処理が施されたゲート絶縁層上に大気にふれることなく半導体層を形成し、
前記半導体層は、非単結晶の酸化物半導体層であり、前記ソース領域及び前記ドレイン領域は、前記半導体層の酸素濃度よりも酸素濃度が低いことを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項５】
絶縁表面上にゲート電極を形成し、前記ゲート電極上にゲート絶縁層と、該ゲート絶縁層上にソース領域及びドレイン領域と金属層の積層を形成し、
前記金属層を選択的にエッチングしてソース電極層及びドレイン電極層を形成し、
露呈しているゲート絶縁層、前記ソース電極層、及び前記ドレイン電極層にプラズマ処理を行い、前記ゲート電極と重なり、且つ前記プラズマ処理が施されたゲート絶縁層上に大気にふれることなく半導体層を形成し、
前記半導体層は、非単結晶の酸化物半導体層であり、前記ソース領域及び前記ドレイン領域は、前記半導体層の酸素濃度よりも酸素濃度が低く、
前記半導体層、前記ソース領域及び前記ドレイン領域は、スパッタ法により成膜されるインジウム、ガリウム、及び亜鉛を含む酸化物層である半導体装置の作製方法。
【請求項６】
請求項４または請求項５において、前記ソース領域及び前記ドレイン領域は、前記ソース電極層及び前記ドレイン電極層をマスクとして自己整合的にエッチングすることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年8月13日(2012.8.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
窒化ガリウム系半導体であって、
基板上に設けられた窒化ガリウム系半導体領域を備え、
前記窒化ガリウム系半導体領域の表面側は、ｐ型ドーパントとしてＭｇと水素とを含むｐ型窒化ガリウム系半導体を含み、
前記窒化ガリウム系半導体領域の最表面は、ｐ型ドーパントとしてＭｇ又はＺｎを含む半導体からなり、
前記窒化ガリウム系半導体領域は、成長炉で成長された後に、前記成長炉から前記基板を取り出すために、モノメチルアミン及びモノエチルアミンの少なくともいずれかを含むガスを前記成長炉の供給しながら基板温度を下げ、
前記ｐ型窒化ガリウム系半導体の前記水素の濃度が前記Ｍｇの濃度に対して比率４．８×１０１９／６，４×１０１９未満である、窒化ガリウム系半導体。
【請求項２】
前記窒化ガリウム系半導体領域の最表面は、原子間力顕微鏡で観察した表面がステップフロー状のモフォロジを有することを特徴とする請求項１に記載された窒化ガリウム系半導体。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載された窒化ガリウム系半導体を含む、エピタキシャル基板を含む、エピタキシャル基板。
【請求項４】
請求項１又は請求項２に記載された窒化ガリウム系半導体を含む、半導体光素子。
【請求項５】
前記窒化ガリウム系半導体に接合を成す電極を備える、請求項４に記載された半導体光素子。
【請求項６】
請求項１又は請求項２に記載された窒化ガリウム系半導体を含む、半導体レーザ。
【請求項７】
前記窒化ガリウム系半導体に接合を成す電極を備える、請求項６に記載された半導体レーザ。
【請求項８】
請求項１又は請求項２に記載された窒化ガリウム系半導体を含む、発光ダイオード。
【請求項９】
前記窒化ガリウム系半導体に接合を成す電極を備える、請求項８に記載された発光ダイオード。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】窒化ガリウム系半導体、半導体光素子、半導体レーザ、発光ダイオード
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
エピタキシャルウエハＡ、ＣのエレクトロケミカルＣＶ測定を行った。図３（ａ）を参照すると、エピタキシャルウエハＡの表面から０．０６マイクロメートルの位置にｐｎ接合が形成されている。アクセプタ濃度は１．８×１０１８〜２．１×１０１８ｃｍ−３であった。図３（ｂ）を参照すると、エピタキシャルウエハＣの表面から０．０６マイクロメートルの位置よりも浅い窒化ガリウム領域は高抵抗を有することが示されている。