【事件の表示】
　特願２００２−２８２０１６「ダイヘッド、塗工方法及び塗工装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１６年　４月１５日出願公開、特開２００４−１１３９５４〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１．手続の経緯
　本件出願は、平成１４年９月２６日の出願であって、平成２０年６月１９日付けの拒絶理由通知に対して平成２０年８月２１日に意見書及び手続補正書が提出されたが、平成２０年１１月１３日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、平成２０年１２月１７日に拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに平成２１年１月１６日付けの手続補正書によって明細書を補正する手続補正がなされ、その後、当審における平成２１年１０月１９日付けの書面による審尋に対し、平成２１年１２月１７日付けで回答書が提出されたものである。
　
第２．平成２１年１月１６日付けの手続補正についての補正却下の決定
〔補正却下の決定の結論〕
　平成２１年１月１６日付けの手続補正を却下する。
〔理　由〕
１．本件補正について
（１）本件補正の内容
　平成２１年１月１６日付けの手続補正書による手続補正（以下、「本件補正」という。）は、特許請求の範囲に関しては、本件補正により補正される前の（すなわち、平成２０年８月２１日付けの手続補正書により補正された）特許請求の範囲の下記の（ａ）に示す請求項１ないし４を、下記の（ｂ）に示す請求項１ないし４と補正するものである。
　
（ａ）本件補正前の請求項
「【請求項１】　塗工液を下向きに吐出して被塗工物の上面に塗工液を塗布するためのダイヘッドであって、塗工液を下向きに吐出するように設けられた吐出スリットと、該吐出スリットの先端両側に下向きに且つ前記吐出スリットの先端を通り該吐出スリットに対して直交する平面に対して下側に傾斜するように形成され、塗工液を表面張力によって保持可能なリップ面と、該リップ面に保持された塗工液を吸引する吸引スリットを備えたダイヘッド。
　【請求項２】　塗工液を下向きに吐出して被塗工物の上面に塗工液を塗布するためのダイヘッドであって、塗工液を下向きに吐出するように設けられた吐出スリットと、該吐出スリットの先端両側に下向きに且つ前記吐出スリットの先端を通り該吐出スリットに対して直交する平面に対して下側に傾斜するように形成され、塗工液を表面張力によって保持可能なリップ面と、該リップ面に保持された塗工液を吸引する吸引スリットを備えたダイヘッドを用いた塗工方法であって、塗布時には、前記吐出スリットからリップ面に塗工液を供給して塗布を行い、非塗布時には、前記吐出スリットからリップ面を経て吸引スリットに流れる塗工液の流れを生じさせることを特徴とする塗工方法。
　【請求項３】　塗工液を下向きに吐出して被塗工物の上面に塗工液を塗布するためのダイヘッドであって、塗工液を下向きに吐出するように設けられた吐出スリットと、該吐出スリットの先端両側に下向きに且つ前記吐出スリットの先端を通り該吐出スリットに対して直交する平面に対して下側に傾斜するように形成され、塗工液を表面張力によって保持可能なリップ面と、該リップ面に保持された塗工液を吸引する吸引スリットを備えたダイヘッドと、そのダイヘッドの前記吐出スリットに塗工液を供給する塗工液供給装置と、前記吸引スリットから塗工液を吸引する塗工液吸引装置とを備え、非塗布時に、吐出スリットからリップ面を経て吸引スリットに流れる塗工液の流れを生じさせ得る構成としたことを特徴とする塗工装置。
　【請求項４】　塗工液を下向きに吐出して被塗工物の上面に塗工液を塗布するためのダイヘッドであって、塗工液を下向きに吐出するように設けられた吐出スリットと、該吐出スリットの先端両側に下向きに且つ前記吐出スリットの先端を通り該吐出スリットに対して直交する平面に対して下側に傾斜するように形成され、塗工液を表面張力によって保持可能なリップ面と、該リップ面に保持された塗工液を吸引する吸引スリットを備えたダイヘッドと、そのダイヘッドの前記吐出スリットに塗工液を供給する塗工液供給装置と、前記吸引スリットから塗工液を吸引し、前記塗工スリットに供給する塗工液循環装置と、前記塗工液供給装置と前記塗工液循環装置を切り替えて前記ダイヘッドの吐出スリットに連通させる切り替え装置を有することを特徴とする塗工装置。」
　　
（ｂ）本件補正後の請求項
「【請求項１】　塗工液を下向きに吐出して
、平坦な状態を保っている
から、該先端
　【請求項２】　塗工液を下向きに吐出して
、平坦な状態を保っている
から、該先端
　【請求項３】　塗工液を下向きに吐出して
、平坦な状態を保っている
から、該先端
　【請求項４】　塗工液を下向きに吐出して
、平坦な状態を保っている
から、該先端
吐出
　なお、下線は請求人が付した補正箇所である。
　　
（２）本件補正の目的
　本件補正は、特許請求の範囲に関して、本件補正後の請求項１ないし４においては、それぞれ対応する本件補正前の請求項１ないし４における「塗工液を下向きに吐出して被塗工物の上面に塗工液を塗布する」をそれぞれ「塗工液を下向きに吐出して、平坦な状態を保っている被塗工物の上面に塗工液を塗布する」とすることで、発明特定事項である「被塗工物」を限定する補正を含むものであり、請求項１ないし４に関する補正事項は、本件補正前の請求項１ないし４に係る各発明の発明特定事項について限定を付加するものであって、特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　
２．本件補正の適否についての判断
　本件補正における請求項１に関する補正事項は、前述したように、他の請求項と同様に、特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当するので、本件補正により補正される補正後の請求項１に記載された事項により特定される発明（以下、「本願補正発明」という。）が、特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか否かについて、以下に検討する。
　
（１）引用文献の記載内容
（ア）原査定の備考欄において周知技術を例示するものとして引用された特開平７−１８５４３３号公報（以下、「引用文献１」という。）には、図面とともに以下の記載がある。
　
（ａ）「【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、走行する支持体に塗布液を塗布する塗布装置に係り、特に可撓性ウエブに磁性分散液を塗布する塗布装置に関する。」（段落【０００１】）
　　
（ｂ）「【０００３】図５（Ａ）及び図６（Ａ）に示すように、このようなエクストルージョン型塗布装置１、１１の上流側リップ２、１２や下流側リップ３、１３のうち、下流側リップ３、１３は、その先端面（塗布作業面）の形状が平面あるいは単一円弧面に形成されている。この理由の一つは加工容易性である。つまり、下流側リップ３及び１３は、超硬合金等の高硬度な材料にて構成され、然も高度な加工精度（サブミクロン単位）が要求される。このため、下流側リップ３及び１３の塗布作業面は平面や単一円弧面等単純な形状に限定されているのである。尚、図５及び図６中の符号４、１４はスロット部を示す。」（段落【０００３】）
　
（ｃ）「【０００８】
【課題を解決するための手段】請求項１に記載の本発明は、上流側リップ及び下流側リップを備え、これらのリップ間に塗布液を押出し可能なスロット部が形成され、上記上流側リップ及び下流側リップに対向して走行する支持体に上記塗布液を塗布する塗布装置において、上記上流側リップ及び上記下流側リップにより上記支持体が屈曲して走行可能とされ、上記下流側リップには、上記支持体に対向して上記塗布液に接する塗布作業面が上記支持体側に凸に湾曲して形成され、この塗布作業面の上記支持体走行方向長さが約１ｍｍ以下に設定されたものである。」（段落【０００８】）
　　
（ｄ）「【００１３】塗布装置２０はダイヘッド２３を有し、このダイヘッド２３に上流側リップ２４及び下流側リップ２５が形成される。これらの上流側リップ２４及び下流側リップ２５間にスロット部２６が形成され、このスロット部２６が液バッファ部２７に連通される。上流側リップ２４及び下流側リップ２５は、ウエブ２１の幅と略同一幅に設定される。また、スロット部２６及び液バッファ部２７は、上流側リップ２４及び下流側リップ２５の全幅方向に延在して構成される。」（段落【００１３】）
　　
（ｅ）「【００１４】液バッファ部２７は液供給系２８に接続され、この液供給系２８からの磁性分散液２２を、塗布幅方向において塗布量が一定となるように分配させ、スロット部２６へ供給する。ここで、ウエブ２１は、一対のガイドローラ３０及び３１等に案内されて、上記上流側リップ２４及び下流側リップ２５に対向し、背面が支持されることなく走行する。この走行するウエブ２１に、塗布装置２０のスロット部２６から磁性分散液２２が連続的に押出されて塗布され、ウエブ２１の幅方向に均一な塗布膜３２が形成される。」（段落【００１４】）
　　　
（ｆ）「【００１７】また、上記下流側リップ２５の先端面で、ウエブ２１に対向し磁性分散液２２と接する面は、塗布に寄与する塗布作業面２９である。この塗布作業面２９は、ウエブ２１側に凸に湾曲し、ウエブ２１の走行方向に沿い、塗布作業面２９の上流端（スロット部２６の開口端）Ｂから下流端Ｃの区間にて曲率半径Ｒ１ （Ｒ１≦２０ｍｍ）の湾曲面に形成される。更に、塗布作業面２９は、ウエブ２１の走行方向長さＬ１が約１ｍｍ以下に設定される。」（段落【００１７】）
　　
　したがって、上記の各（ａ）ないし（ｆ）及び図面の記載を総合すると、引用文献１には、次のような発明が記載されているといえる。
　「塗布液を下向きに押出して、屈曲して走行する支持体（ウエブ）の上面に塗布液を塗布するためのダイヘッドであって、塗布液を下向きに押出するように設けられたスロット部と、スロット部の先端から該先端を通り該スロット部に対して直交する平面に対して下側に傾斜して下向きに形成された上流側リップの先端面と、スロット部の先端から該先端を通り支持体側に凸に湾曲するように形成された下流側リップの先端面とから形成されているリップ先端面とを備えたダイヘッド。」（以下、「引用文献１に記載された発明」という。）
　　
（イ）原査定の拒絶理由に引用された特開平９−１５５２７０号公報（以下、「引用文献２」という。）には、図面とともに以下の記載がある。
　　
（ａ）「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ＬＣＤ用カラーフィルタのガラス基板等に塗布液を塗布する塗布装置において、塗布液を供給する塗布液供給機構に関する。」（段落【０００１】）
　　
（ｂ）「【０００７】このディップ塗布方式の原理に類似する方式で、かつ、基板の主面のみに選択的に塗布液を塗布する方式としては、（株）総合技術センタ発行（１９８８年４月３０日）の尾崎勇次著「最新塗布技術の進歩」の第３３６頁に記載された塗布液の塗布方式が知られている。
【０００８】この方式では、ダイヘッドまたはスライドダイからほぼ水平方向に塗布液が供給され、このダイヘッドまたはスライドダイの側面に形成されたダイリップに対向する近接位置を基体が相対的に垂直方向上方に移動される。ダイヘッドまたはスライドダイから供給される塗布液は、基体とダイリップとの間にビードを形成し、基体の上方への移動に伴って基体主面に塗布されて塗布膜を形成する。
【０００９】この塗布方式は、一般的に、連続した基体に対する塗布方式として用いられる。そして、塗布された塗布液の膜厚は、基体と塗布ヘッドの相対速度および塗布液の粘性によって決定される。すなわち、基体とダイリップとの間に形成されたビードから引き上げられた塗布液は、重力の影響によって基体に沿って落下するため、この落下する速度と基体が塗布液を引き上げる速度とのバランスによって膜厚が決定される。」（段落【０００７】ないし【０００９】）
　　　
（ｃ）「【００１４】そこで、上記のような各塗布方式における欠点を解消して、枚葉基板に塗布液の物性に影響を受けることなく安定した状態で均一な塗布膜を形成することのできる塗布装置が提案されている（特開平５−１４６７５７号）。」（段落【００１４】）
　　
（ｄ）「【００３２】この発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、塗布ヘッドにおける塗布液の乾燥を防止して、常に均一な塗布液の塗布を行うことができるとともに、塗布液の供給制御が容易でしかも構成が簡易な塗布装置の塗布液供給機構を提供することを目的とする。」（段落【００３２】）
　　
（ｅ）「【００３４】上記第１の発明による塗布装置の塗布液供給機構は、塗布ヘッドの内部および排出口と供給口との間に形成される循環回路内に塗布液が充満された状態で、塗布液供給ポンプが駆動される。　塗布液供給ポンプから塗布ヘッドの供給口に供給された塗布液は、塗布ヘッド内の経路を通って吐出スリットから塗布ヘッドの上面上に吐出してビードを形成する。そして、このビードから基板の塗布面に塗布液が塗布される。
【００３５】基板への塗布が行われていない時には、塗布液供給ポンプの連続運転によって吐出スリットから吐出する塗布液は、吐出スリットの開口面より低い位置にその開口面が位置されている吸込みスリットの方向に流れる。この吸込みスリットの方向に流れた塗布液は、排出口に接続されている塗布液供給ポンプの吸引力によって吸込みスリット内に吸い込まれ、吐出スリット側とは分離されている経路を通って排出口から塗布液供給ポンプ側に排出される。そして、この塗布液供給ポンプから再び塗布ヘッドに供給される。」（段落【００３４】及び【００３５】）
　　
（ｆ）「【００４１】図１は、本発明による塗布液供給機構の一実施形態を示す構成図である。図１において、塗布ヘッド１０は、本体上面にこの塗布ヘッド１０の長手方向（紙面に対して直角方向）に沿って延びるように形成されたスリット１０Ａと、本体内部に形成された液溜り１０Ｂを備えていて、この液溜り１０Ｂがスリット１０Ａにこのスリット１０Ａの全域に亘って連通されている。
【００４２】塗布ヘッド１０の本体上面には、さらに、スリット１０Ａと平行に延びるように、もう一本のスリット１０Ｃが形成されている。そして、このスリット１０Ｃは、その開口面１０ｃが、図面から分かるように、塗布ヘッド上面のスリット１０Ａの開口面１０ａよりも若干低い位置に形成されている。この開口面１０ａと開口面１０ｃの形成位置の差は、通常、５〜１０ｍｍ程度とすることができる。
【００４３】塗布ヘッド１０の本体内部には、さらに、液溜り１０Ｂと隔壁１０Ｄによって分離された液溜まり１０Ｅが形成され、この液溜り１０Ｅがスリット１０Ｃにこのスリット１０Ｃの全域に亘って連通されている。
【００４４】塗布ヘッド１０の液溜り１０Ｂ側の側壁部には、液溜り１０Ｂに連通する塗布液供給口１０Ｆが設けられていて、この塗布液供給口１０Ｆから液溜り１０Ｂ内に塗布液が供給されるようになっている。この塗布液供給口１０Ｆは、塗布ヘッド１０の長手方向においてその中央部に１個設けられていればよいが、塗布ヘッド１０の長手方向に沿って複数個設けるようにしてもよい。
【００４５】塗布ヘッド１０の液溜り１０Ｅ側の側壁部には、液溜り１０Ｅに連通する塗布液排出口１０Ｇが設けられていて、この塗布液排出口１０Ｇから液溜り１０Ｅ内の塗布液が排出されるようになっている。この塗布液排出口１０Ｇも、塗布液供給口１０Ｆと同様に、塗布ヘッド１０の長手方向においてその中央部に１個設けられていればよいが、複数個設けるようにしてもよい。
【００４６】塗布液供給口１０Ｆには、供給パイプＬ１およびＬ２を介して塗布液供給ポンプＰの吐出側が接続されており、この塗布液供給ポンプＰから塗布液供給口１０Ｆに塗布液が供給されるようになっている。供給パイプＬ１とＬ２の間には、フィルタＦが接続されている。
【００４７】塗布液排出口１０Ｇには塗布液の循環パイプＬ３の一端部が接続され、この循環パイプＬ３の他端部が、塗布液供給ポンプＰの吸い込み側に接続されている。」（段落【００４１】ないし【００４７】）
　
（ｇ）「【００４８】上記塗布液供給機構は、図５の従来の塗布装置と同様に、塗布ヘッド１０が、傾斜したガイドフレームに沿って搬送される基板の搬送路の下方位置にスリット１０Ａの開口面１０ａを上方に向けて配置され、塗布ヘッド１０の液溜り１０Ｂ，１０Ｅ，供給パイプＬ１，Ｌ２および循環パイプＬ３内に、塗布液が充満されている。
【００４９】そして、塗布液供給ポンプＰが常時駆動されていて、この塗布液供給ポンプＰから塗布液供給口１０Ｆに塗布液が供給される。
【００５０】塗布液供給口１０Ｆから液溜り１０Ｂに導入された塗布液は、スリット１０Ａから塗布ヘッド１０の上面上に吐出してビードＢを形成する。
【００５１】このビードＢには、塗布液供給ポンプＰが常時駆動されていることによって常時スリット１０Ａから塗布液が供給され、この塗布液の供給によってビードＢにおける塗布液の量が増加するが、この増加分の塗布液は、スリット１０Ａの開口面１０ａよりもその開口面１０ｃが若干低い位置に形成されているスリット１０Ｃの方向に流れる。
【００５２】そして、塗布液排出口１０Ｇおよび循環パイプＬ３を介して接続されている塗布液供給ポンプＰの吸引力によって、ビードＢからスリット１０Ｃに流れた塗布液が液溜り１０Ｅ内に吸い込まれる。この液溜り１０Ｅ内に吸い込まれた塗布液は、塗布液排出口１０Ｇ−循環パイプＬ３−塗布液供給ポンプＰ−供給パイプＬ１−フィルタＦ−供給パイプＬ２の経路で循環して、塗布液供給口１０Ｆから再び液溜り１０Ｂ内に導入される。
【００５３】基板への塗布液の塗布は、塗布液供給ポンプＰが駆動されている状態で、図５において説明したのと同様に、基板が塗布ヘッド１０の上方を斜め上方に向ってスライド（図１において左から右の方向）して、基板に接触するビードＢから基板に塗布液が供給されることにより行われる。そして、基板が塗布ヘッド１０の上方を通過して基板とビードＢの接触状態が解除された後も、塗布液供給ポンプＰの駆動が継続されることによって、塗布液がスリット１０Ａからスリット１０Ｃの方向に流される。
【００５４】このように塗布ヘッド１０内には常時塗布液が充満され、かつこの塗布液が循環されているので、塗布液の粘度上昇や固化を生じて基板への塗布が不均一になることが有効に防止される。」（段落【００４８】ないし【００５４】）
　　
（ｈ）「【００５６】上記塗布液供給機構は塗布液の循環路が密閉型であるため、基板への塗布液の塗布によって循環路内における塗布液の量が徐々に減っていくことになるが、塗布液供給機構の循環路の総容積を十分に大きくすることによって、塗布液の減少による塗布膜の厚さへの影響を無くすことができる。
【００５７】なお、塗布液供給機構への塗布液の補給は、供給パイプＬ１，Ｌ２または循環パイプＬ３内に図示しない三方弁を介して補給タンクから塗布液を供給する等の方法によって行うことができる。」（段落【００５６】及び【００５７】）
　　　
（ｉ）「【００７６】
【発明の効果】以上詳述したように、第１の発明による塗布液供給機構によれば、基板が塗布ヘッドの上方を通過して基板とビードの接触状態が解除された後も、塗布液供給ポンプの駆動を継続すれば、塗布液が吐出スリットから吸込みスリットの方向に流れて循環し、塗布ヘッド内部にも常時塗布液が充満されるので、塗布液が乾燥して基板への塗布が不均一になるおそれはない。そして、この塗布液供給機構によれば、塗布液供給ポンプを連続的に駆動するだけでよいので、従来のような複雑な塗布液の供給制御を行う必要がなくなり、また構成も簡易である。」（段落【００７６】）
　　
　したがって、上記各（ａ）ないし（ｉ）及び図面の記載を参酌すると、引用文献２には、次のような技術手段が記載されているといえる。
　「塗布ヘッド１０にスリット１０Ａとともに塗布ヘッド１０の上面に保持された塗布液を吸引するスリット１０Ｃを設けて、塗布液を循環させることにより塗布液の乾燥固化を防止し均一な膜厚の塗布面を生成することができるようにした技術手段。」（以下、「引用文献２に記載された技術手段」という。）
　　　
（２）対比・判断
（ア）本願補正発明と引用文献１に記載された発明との対比
　本願補正発明と引用文献１に記載された発明とを対比するに、引用文献１に記載された発明における「塗布液」、「支持体（ウエブ）」、「スロット部」及び「押出」は、それらの意図する技術内容やその機能等からみて、それぞれ、本願補正発明の「塗工液」、「被塗工物」、「吐出スリット」及び「吐出」に相当する。また、引用文献１に記載された発明における「リップ先端面」は、スロット部の先端から該先端を通り該スロット部に対して直交する平面に対して下側に傾斜して下向きに形成された上流側リップの先端面と、スロット部の先端から該先端を通り支持体側に凸に湾曲するように形成された下流側リップの先端面とから形成されており、少なくともスロット部の近傍においてはスロット部の先端両側に下向きに形成されているところであって、換言すれば、「スロット部（吐出スリット）の先端両側に下向きに且つスロット部（吐出スリット）の先端から、該先端を通り該スロット部（吐出スリット）に対して直交する平面に対して下側に傾斜するように形成されている」といえる。してみると、引用文献１に記載された発明における「リップ先端面」は、その形状においては、本願補正発明の「リップ面」と軌を一にするものである。
　したがって、本願補正発明と引用文献１に記載された発明は、「塗工液を下向きに吐出して、被塗工物の上面に塗工液を塗布するためのダイヘッドであって、塗工液を下向きに吐出するように設けられた吐出スリットと、該吐出スリットの先端両側に下向きに且つ前記吐出スリットの先端から、該先端を通り該吐出スリットに対して直交する平面に対して下側に傾斜するように形成されたリップ面とを備えたダイヘッド。」である点で一致し、次の１）ないし３）の３点で一応相違するか又は相違する。。
〈相違点〉
１）本願補正発明においては、塗工液を塗布する際に、被塗工物は平坦な状態を保っているのに対して、引用文献１に記載された発明では、被塗工物（支持体）は、屈曲して走行する状態にある点（以下、「相違点１」という。）。
　　
２）本願補正発明においては、リップ面が塗工液を表面張力によって保持可能であるのに対し、引用文献１に記載された発明では、リップ面（リップ先端面）が塗工液（塗布液）を表面張力によって保持可能であるのか定かでない点（以下、「相違点２」という。）。
　
３）本願補正発明においては、リップ面に保持された塗工液を吸引する吸引スリットを備えているのに対し、引用文献１に記載された発明においては、吸引スリットを備えていない点（以下、「相違点３」という。）。
　　
（イ）相違点についての検討
（ａ）相違点１について
　ダイヘッド等を用いて塗工液を下向きに吐出して被塗工物の上面に塗工液を塗布する際に、平坦な状態を保っている被塗工物に対して塗布することは、本願出願前に従来から周知の技術事項であり（必要ならば、例えば、特開平８−１７３８７８号公報、特開２００１−７０８５８号公報、特開２００２−４５７６３号公報、特開２０００−１８９８７７号公報等参照のこと）、引用文献１に記載された発明におけるダイヘッドを用いて平坦な状態を保っている被塗工物に対して塗布するように特定することは、当業者が必要に応じて適宜設定し得る程度の事項であり、相違点１に係る本願補正発明のように特定することは、当業者が必要に応じて適宜なし得る単なる設計的事項にすぎないものである。
　　
（ｂ）相違点２について
　引用文献１に記載された発明におけるリップ面（リップ先端面）については、塗工液を表面張力によって保持可能であるとの明確な記載はなされていないけれども、下向きのリップ面での塗工液の保持力は、リップ面の表面形状やその表面エネルギー、塗工液の粘性やその表面張力等によって影響されるところであり、引用文献１に記載された発明におけるリップ面（リップ先端面）は、前述したように、本願補正発明の「リップ面」と同様の形状を有しているところであり、塗工液の粘性やその表面張力等に応じた塗工液を表面張力によって適宜保持するものである。よって、相違点２に関しては、本願補正発明と引用文献１に記載された発明の両者に実質的な差異はない。
　
（ｃ）相違点３について
　引用文献２に記載された技術手段を本願補正発明の用語を用いて表現すると、「ダイヘッドに吐出スリットとともにリップ面に保持された塗工液を吸引する吸引スリットを設けて、塗工液を循環させることにより塗工液の乾燥固化を防止し均一な膜厚の塗布面を生成することができるようにした技術手段。」といえるから、引用文献１に記載された発明において、引用文献２に記載された技術手段を採用して、相違点３に係る本願補正発明のように特定することは、当業者が格別な創意工夫を要することなく容易に想到し得るものである。
　
（ウ）したがって、本願補正発明は、引用文献１に記載された発明、引用文献２に記載された技術手段及び前述した周知の技術事項に基づいて当業者が格別な困難性を伴うことなく容易に想到し発明しうる程度のものと認められ、しかも、本願補正発明は、全体構成でみても、引用文献１に記載された発明、引用文献２に記載された技術手段及び前述した周知の技術事項から予測できる作用効果以上の顕著な作用効果を奏するものとも認められない。
　
（３）以上のように、本願補正発明は、引用文献１に記載された発明、引用文献２に記載された技術手段及び前述した周知の技術事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
３．むすび
　以上のとおり、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項の規定により読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下されるべきものである。
　よって、結論のとおり決定する。　
　　
第３．本願発明について
１．手続の経緯及び本願発明
　平成２１年１月１６日付けの手続補正は前述したとおり却下されたので、本件出願の請求項１ないし４に係る発明は、平成２０年８月２１日付けの手続補正書により補正された明細書及び図面の記載からみて、特許請求の範囲の請求項１ないし４に記載された事項により特定されるものであり、特に、請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、前記第２．の〔理　由〕１．（１）の（ａ）に記載したとおりのものである。
　
２．引用文献の記載内容
　原査定の備考欄において周知技術を例示するものとして引用された引用文献１（特開平７−１８５４３３号公報）及び原査定の拒絶理由に引用された引用文献２（特開平９−１５５２７０号公報）の記載事項は、前記第２．の〔理　由〕２．（１）の（ア）及び（イ）に記載したとおりである。
　
３．対比・判断
　本願発明は、前記第２．の〔理　由〕１．（１）及び（２）で検討したように、実質的に、本願補正発明における発明特定事項の一部の構成を省いたものに相当する。
　そうすると、本願発明の発明特定事項を全て含む本願補正発明が、前記第２．の〔理　由〕２．（１）ないし（３）に記載したとおり、引用文献１に記載された発明、引用文献２に記載された技術手段及び前述した周知の技術事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、同様の理由により、引用文献１に記載された発明、引用文献２に記載された技術手段及び前述した周知の技術事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
４．むすび
　以上のとおり、本願発明は、その出願前日本国内において頒布された引用文献１に記載された発明、引用文献２に記載された技術手段及び前述した周知の技術事項に基づいてに基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。