【手続補正書】
【提出日】平成24年11月7日(2012.11.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】基板洗浄方法、基板洗浄装置、現像方法、現像装置及び記憶媒体
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、基板の洗浄及び乾燥を行う基板洗浄方法、基板洗浄装置、現像方法、現像装置、及び前記基板洗浄方法または前記現像方法を実施するプログラムを格納した記憶媒体に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明はこのような事情の下になされたものであり、高い洗浄効果を得ることが出来、しかも短時間で洗浄を行うことのできる技術を提供することにある。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明の基板洗浄方法は、基板を保持して鉛直軸回りに回転させて洗浄液ノズルの吐出口から基板の表面へ洗浄液を吐出させながら前記洗浄液ノズルの吐出口を基板の中心部に対向する位置から基板の周縁部側に対向する位置まで移動させて基板を乾燥させる基板洗浄方法において、
基板の中心部と回転中心部とが一致するように基板を基板保持部に水平に保持させる工程と、
前記基板保持部を鉛直軸の回りに回転させながら洗浄液ノズルから回転する基板の中心部に洗浄液を吐出して遠心力により基板の表面全体に広げる工程と、
次いで前記洗浄液ノズルから洗浄液を吐出しながら当該洗浄液ノズルを移動させ、前記回転する基板上の洗浄液の吐出位置を、前記基板の中心部からずれた偏心位置に移動させる工程と、
前記吐出位置が前記偏心位置に移動を開始した後、前記回転する基板の中心部の洗浄液の液膜が引き裂かれずに当該中心部を覆うように維持された状態で前記洗浄液ノズルの移動を一旦停止させる工程と、
次いで前記中心部が液膜に覆われた状態の前記回転する基板の当該中心部にガスノズルからガスを吐出して、前記液膜を破って乾燥領域を形成する工程と、
前記乾燥領域が形成された後に、前記洗浄液ノズルから洗浄液を吐出しながら当該洗浄液ノズルを前記回転する基板の周縁部に向けて移動させる工程と、
を含むことを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
例えば前記中心部からずれた偏心位置は、洗浄液の吐出位置のガス吐出位置側界面と、前記ガスノズルから基板の中心部に吐出されるガスの洗浄液吐出位置側界面との距離が９ｍｍ〜１５ｍｍ離れるように設定された位置である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
例えば前記乾燥領域形成後に洗浄液ノズルを回転する基板の周縁部に向けて移動させる工程は、洗浄液の吐出位置を、前記乾燥領域が基板の周縁部に向けて広がる速度よりも遅い速度で移動させる工程を含む。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
本発明の基板洗浄方法は、例えば前記洗浄ノズルと共にガスノズルを移動させる工程に次いで行われ、基板を回転させながら、前記洗浄液を受ける基板上の位置が基板周縁から２ｍｍ〜１０ｍｍ離れた位置で前記洗浄液の吐出を停止する工程と、前記洗浄液の吐出停止後に、遠心力により前記基板上の洗浄液を基板から除去するために引き続き基板を回転させる工程と、を備えている。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
例えば、前記乾燥領域形成後に洗浄液ノズルを回転する基板の周縁部に向けて移動させる工程は、洗浄液の吐出位置を、前記乾燥領域が基板の周縁部に向けて広がる速度よりも遅い速度で移動させる工程を含む
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
例えば、前記洗浄液の吐出位置を前記偏心位置に移動させる工程は、基板を１５００ｒｐｍ〜２０００ｒｐｍで回転させながら行う。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
例えば、前記乾燥領域を形成する工程は、前記ガスノズルから０．５秒間ガスを吐出する工程を含む。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
例えば前記洗浄液ノズルを基板の周縁部に向けて移動させる工程に次いで行われ、基板を回転させながら、前記洗浄液の吐出位置が基板の周縁部から２ｍｍ〜１０ｍｍ離れた位置で前記洗浄液の吐出を停止する工程と、前記洗浄液の吐出停止後に、遠心力により前記基板上の洗浄液を基板から除去するために引き続き基板を回転させる工程と、を備える。
例えば前記基板の表面は、水の静的接触角が８５度以上である。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
本発明の基板洗浄装置は、基板の表面を洗浄する装置において、
基板の中心部と回転中心部とが一致するように基板を水平に保持する基板保持部と、
この基板保持部を鉛直軸の回りに回転させる回転機構と、
前記基板保持部に保持された基板の表面に洗浄液を吐出する洗浄液ノズルと、
前記基板保持部に保持された基板の表面にガスを吐出するガスノズルと、
前記洗浄液ノズルを前記基板の中心部上と、周縁部上との間で横方向に移動させるための洗浄液ノズル移動機構と、
前記前記ガスノズルを前記基板の中心部上と、周縁部上との間で横方向に移動させるためのガスノズル移動機構と、
前記基板保持部を鉛直軸の回りに回転させながら前記洗浄液ノズルから基板の中心部に洗浄液を吐出して遠心力により基板の表面全体に広げるステップと、次いで前記洗浄液ノズルから洗浄液を吐出しながら当該洗浄液ノズルを移動させ、前記回転する基板上の洗浄液の吐出位置を、基板の中心部からずれた偏心位置に移動させるステップと、前記吐出位置が前記偏心位置に移動を開始した後、前記回転する基板の中心部の洗浄液の液膜が引き裂かれずに当該中心部を覆うように維持された状態で前記洗浄液ノズルの移動を一旦停止させるステップと、次いで前記中心部が液膜に覆われた状態の前記回転する基板の当該中心部にガスノズルからガスを吐出して、前記液膜を破って乾燥領域を形成するステップと、前記乾燥領域が形成された後に、前記洗浄液ノズルから洗浄液を吐出しながら当該洗浄液ノズルを前記回転する基板の周縁部に向けて移動させるステップと、を実行するように制御信号を出力する制御部と、
を備えたことを特徴とする。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
本発明の現像方法は、レジスト膜が形成され、露光された基板に現像液を供給して前記レジスト膜にパターンを形成する現像方法であって、
前記基板に前記現像液を供給する現像液供給工程と、
次いで基板に洗浄液を供給する洗浄液供給工程と、
を備え、前記洗浄液供給工程は、上述の基板洗浄方法を用いて行われることを特徴とする。
本発明の現像装置は、レジスト膜が形成され、露光された基板に現像液を供給して前記レジスト膜にパターンを形成する現像装置であって、
前記基板に前記現像液を供給するための現像液供給部と、
前記現像液が供給された基板に洗浄液を供給して洗浄するための洗浄液供給部と、を備え、前記洗浄液供給部は上述の基板洗浄装置を備えることを特徴とする。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
例えば前記中心部からずれた偏心位置は、洗浄液の吐出位置のガス吐出位置側界面と、前記ガスノズルから基板の中心部に吐出されるガスの洗浄液吐出位置側界面との距離が９ｍｍ〜１５ｍｍ離れるように設定された位置である。前記乾燥領域形成後に回転する基板の周縁部に向けて移動する洗浄液ノズルの移動速度は、前記乾燥領域が基板の周縁部に向けて広がる速度よりも遅い。例えば前記洗浄液の吐出位置が基板の中心部から前記偏心位置へ移動する間に、前記回転機構は、基板を１５００ｒｐｍ〜２０００ｒｐｍで回転させる。
例えば前記乾燥領域を形成するステップにおいて、前記ガスノズルから０．５秒間ガスが吐出される。
例えば前記制御部は、洗浄液ノズルを基板の周縁部に向けて移動させるステップに次いで、基板を回転させながら、前記洗浄液の吐出位置が基板周縁部から２ｍｍ〜１０ｍｍ離れた位置で前記洗浄液の吐出を停止するステップと、前記洗浄液の吐出停止後に、遠心力により前記基板上の洗浄液を基板から除去するために引き続き基板を回転させるステップと、行うように制御信号を出力する。
例えば前記基板の表面は、水の静的接触角が８５度以上である。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
本発明の現像方法は、レジスト膜が形成され、露光された基板に現像液を供給して前記レジスト膜にパターンを形成する現像方法であって、
前記基板に前記現像液を供給する現像液供給工程と、
次いで基板に洗浄液を供給する洗浄液供給工程と、
を備え、
前記洗浄液供給工程は、上述の基板洗浄方法を用いて行われることを特徴とする。
本発明の現像装置は、レジスト膜が形成され、露光された基板に現像液を供給して前記レジスト膜にパターンを形成する現像装置であって、
前記基板に前記現像液を供給するための現像液供給部と、
前記現像液が供給された基板に洗浄液を供給して洗浄するための洗浄液供給部と、を備え、
前記洗浄液供給部は、上述の基板洗浄装置を備えることを特徴とする。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
本発明の記憶媒体は、基板の表面を洗浄する装置に用いられ、コンピュータ上で動作するプログラムを格納した記憶媒体であって、
前記プログラムは、上記の基板洗浄方法、あるいは現像方法を実行するようにステップ群が組まれている。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
本発明によれば、基板の表面をスピン洗浄するにあたり、洗浄液ノズルから洗浄液を吐出しながらその移動を開始した後、前記回転する基板の中心部の洗浄液の液膜が引き裂かれずに当該中心部を覆うように維持された状態で前記洗浄液ノズルの移動を一旦停止させる。そして、基板の中心部にガスを吐出して、前記液膜を破って乾燥領域を形成し、前記洗浄液ノズルから洗浄液を吐出しながら当該洗浄液ノズルを前記回転する基板の周縁部に向けて移動させる。これによって、高い洗浄効果を得ることができ、しかも洗浄を短時間で行うことができる。そして特に露光された基板の表面に現像液を供給して現像を行った後の基板に対して本発明を適用すれば、後述の評価試験からも明らかなように現像欠陥を皆無に近い状態まで低減することができ、歩留まりの向上に大きく寄与する。
また、形成された乾燥領域に、処理雰囲気からノズルに付着した液滴が落下することを抑えることで、現像欠陥をより確実に低減することができる。