【手続補正書】
【提出日】平成24年2月14日(2012.2.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】レチクルの製造方法、面形状計測装置、及び信号処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
従来の露光装置において、レチクルの吸着面、あるいはレチクルチャックの吸着面に凹凸があった場合、レチクルのパターニング領域の面形状は吸着時の平面矯正の影響を受けて変化し、投影光学系に対するレチクル上のパターニング位置がシフトする問題があった。その結果、ウエハへの露光パターンの投影位置もシフトし、オーバーレイエラー発生の要因となっていた。
また、反射型のレチクルを使用するＥＵＶ露光装置においても同様の問題が発生する。
さらに、電子線描画装置を用いたマスクブランクスへのパターニング作業は、電子線描画装置が有するチャックにマスクブランクスを吸着させて行う。そのため、電子線描画装置のチャック吸着面の形状と、露光装置のレチクルチャック吸着面の形状とに相違がある場合も、吸着後のマスクブランクスのパターニング面の平坦度は異なり、同様にオーバーレイエラーが発生する。
特許文献１は、レチクルチャックの吸着面に接するパターニング工程に入る前のマスク（以下、描画用マスクブランクスと言う）の面、すなわち、描画用マスクブランクスの裏面の面形状を計測し、露光装置のレチクルチャックの吸着面の面形状を測定する。そして、描画用マスクブランクス裏面の面形状計測値と露光装置のレチクルチャック吸着面の面形状計測値とを用いて、露光装置のレチクルチャックに吸着された状態の描画用マスクブランクス表面の面形状を算出している。これらの算出結果から、描画用マスクブランクスの平面矯正量を求め、電子線描画装置によるパターニング位置を補正する。
特許文献２は、描画用マスクブランクスを露光装置内に搬送した後、露光装置のレチクルチャックに吸着した状態での描画用マスクブランクスの平面形状を測定している。そして、計測した平面形状に起因して生じる露光パターンのウエハへの転写位置ずれ量を算出し、その算出結果に基づいて、電子線描画装置によるパターニング位置を補正することが開示されている。
特許文献３は、電子線描画装置でのパターニング時の描画用マスクブランクスの自重変形量を電子線描画装置内の光計測系で計測し、その自重変形による描画用マスクブランクスの面内歪に基づいて、パターニングの位置を補正することが開示されている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
【図１】本発明の実施例１における描画用マスクブランクス面形状の測定方法を示す図。
【図２】実施例１におけるパターニング位置補正量を求める工程を示す図。
【図３】実施例１における反射型の基準マスクブランクスの表面形状の測定を示す図。
【図４】本発明の実施例における基準マスクブランクスのパターニング面が上下方向を向いているときの面形状の測定を示す図。
【図５】実施例１における反射型レチクルでの結像位置シフトを示す図。
【図６】本発明の実施例におけるレチクルの面形状の変化に応じたパターニング位置のずれを示す図。
【図７】本発明の実施例２における描画用マスクブランクスの面形状の測定方法を示す図。
【図８】実施例２における透過型の基準マスクブランクスの面形状の測定方法を示す図。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
として計測する。
この計測は、露光装置の組立工程で行ってもよい。その際、基準チャック１０１は面形状計測装置１０５から取り外され、露光装置から取り外されたレチクルチャック１０２が面形状計測装置１０５にセットされる。
次に図３（ｃ）のように、基準マスクブランクス１１０を電子線描画装置１０８のチャック１０３に吸着した後、基準マスクブランクス１１０の面形状（第３の面形状）を、
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
として計測する。この際、電子線描画装置のチャック１０３が電子線描画装置１０８から取り外されて面形状計測装置１０５に設置される。
上記のように、同一の基準マスクブランクス１１０を使用して面形状を測定したため、各チャックの吸着面形状の相違は、各チャックに吸着したときの基準マスクブランクス１１０の面形状計測値間での差分値を算出することにより求められる。ここで、基準マスクブランクス１１０の面形状変化は各チャックの吸着面形状に即して発生し、各チャックの吸着面形状と基準マスクブランクス１１０の吸着面形状との相乗効果による形状変化は発生したとしても無視できる量である。
ここで、露光装置のレチクルチャック１０２と基準チャック１０１の吸着面形状との差分値（第１の差分値）は、
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
となる。
ここで、ΔＺｃｒ（ｘ）の値が予め定めておいたトレランスを超えるようであれば、ΔＺｃｒ（ｘ）の値を考慮してマスクブランクス面形状を算出する。
また、各チャック間の吸着面形状の相違が小さく、予め設定したトレランス内に入っており無視できる場合、式（４），式（５）で求めた較正データのうちの無視できる項は除外してもよい。例えば、露光装置のレチクルチャック１０２と基準チャック１０１の吸着面に相違が無ければ、式（４）は不必要であり、電子線描画装置のチャック１０３と露光装置のレチクルチャック１０２の吸着面に相違が無ければ式（５）は不必要となる。
次に工程２として、これからパターニングを行う予定の描画用マスクブランクス１０４の、基準チャック１０１に吸着された状態での面形状（第３の面形状）を計測する。面形状計測装置１０５によって計測された描画用マスクブランクス１０４の面形状は、
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
ここで、Ｚ１（ｘ）は工程２で計測された基準チャック１０１に吸着された描画用マスクブランクス１０４の面形状であり、ΔＺｃａ（ｘ）は工程１で算出された露光装置のレチクルチャック１０２と基準チャック１０１の吸着面形状の差分値である。露光装置のレチクルチャック１０２と基準チャック１０１の吸着面形状の相違が、予め設定したトレランス以内である場合は、ΔＺｃａ（ｘ）を除外してもよい。
次に工程４として、パターニング位置補正量１を計算する。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
として求めることができる。
すなわち、基準マスクブランクス１１０および基準チャック１０１を用いることで、マスクブランクスの面形状計測のために露光装置を占有することなく、かつ、迅速にパターニング位置補正量を求めることができる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
本発明の実施例２を図７（ａ），図７（ｂ），図７（ｃ）および図８を用いて説明する。実施例１では、反射型レチクルの製造方法について説明したが、本実施例は透過型のレチクルの製造方法について述べる。なお、実施例１と重複する説明は省略する。
実施例１と同様に、工程１で基準マスクブランクス２１１を用いて較正データを求める。このとき、図８に示すように基準マスクブランクス２１１を露光装置のレチクルチャック２０２に吸着して面形状を計測する。また、実施例１と同様に工程２で基準チャック２０１に吸着した状態の描画用マスクブランクス２０４の面形状Ｚ１（ｘ）を求め、工程３で露光装置のレチクルチャック２０２に吸着された描画用マスクブランクス２０４の面形状Ｚ２（ｘ）を求める。
しかし、図７（ｂ）に示すように本実施例は透過型のレチクルの製造方法であるため、本実施例の工程４は実施例１と異なる。
本実施例では、微小範囲内でのマスクブランクス表面の凹凸によるマスクブランクス表面の角度は微小な角度であり、主光線の回折角の変動による露光位置のシフト量は無視できるとする。そのため、工程４では、最小二乗法を用いて露光スリットの幅の領域に対する物体面を算出し、レチクルパターンのマッピングデータを作製するだけである。
次に工程５として、実施例１と同様に描画用マスクブランクス２０４が電子線描画装置２０８のチャック２０３に吸着された状態での面形状Ｚ３（ｘ）を算出する。
工程６では、図７（ｂ）の状態と図７（ｃ）の状態との描画用マスクブランクス２０４の面形状の相違から、パターニング位置補正量を求める。
ここで、図６に示すように描画用マスクブランクス２０４の面形状が変わったことによるマスクブランクス表面の伸縮の影響により、パターニング位置補正量ΔＥ３が発生する。このΔＥ３は、以下の式で求めることができる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４９】
ここで、ΔＺｃｂ（ｘ）は、工程１で求めた図７（ｂ）の状態と図７（ｃ）の状態との基準マスクブランクス２１０の面形状の差分値であり、ｔはマスクブランクスの厚さである。
したがって、本実施例での電子線描画装置２０８のパターニング位置補正量は、工程６で求めたΔＥ３（ｘ）となる。
すなわち、基準マスクブランクス２１０および基準チャック２０１を用いることで、マスクブランクスの面形状計測のために露光装置を占有することなく、かつ、迅速にパターニング位置の補正量を求めることができる。
なお、実施例１および実施例２で述べた面形状の算出（演算）は、面形状計測装置、露光装置、および電子線描画装置にネットワーク接続された１台のコンピュータ（信号処理装置）で行ってよい。また、面形状計測装置、露光装置、および電子線描画装置のそれぞれをコントロールする複数のコンピュータで行ってもよい。
また、面形状計測装置に、計測した計測値を記憶させる記憶部を設け、面形状計測装置内でパターニング位置補正量を求めてもよい。