【手続補正書】
【提出日】平成24年8月30日(2012.8.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
モル％表示で、
ＳｉＯ2       ０．１〜４０％、
Ｂ2Ｏ3        １０〜５０％、
Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2ＯおよびＫ2Ｏを合計で０〜１０％、
ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯを合計で０〜１０％、
ＺｎＯ        ０．５〜２２％、
Ｌａ2Ｏ3      ５〜５０％、
Ｇｄ2Ｏ3      ０．１〜２５％、
Ｙ2Ｏ3        ０．１〜２０％、
Ｙｂ2Ｏ3      ０〜２０％、
ＺｒＯ2       ０〜２５％、
ＴｉＯ2       ０〜２５％、
Ｎｂ2Ｏ5      ０〜２０％、
Ｔａ2Ｏ5      ０〜７％、
ＷＯ3         ０．１％を超え２０％以下、
ＧｅＯ2       ０〜３％未満、
Ｂｉ2Ｏ3      ０〜１０％、
Ａｌ2Ｏ3      ０〜１０％、
を含み、Ｂ2Ｏ3の含有量に対するＳｉＯ2の含有量の質量比ＳｉＯ2／Ｂ2Ｏ3が１以下であり、
屈折率ｎｄが１．８６〜１．９５、アッベ数νｄが（２．３６−ｎｄ）／０．０１４以上、３８未満、かつガラス転移温度が６４０℃以上であることを特徴とする光学ガラス。
【請求項２】
屈折率ｎｄが１．８９〜１．９５、かつアッベ数νｄが（２．３６−ｎｄ）／０．０１４以上、３８未満である請求項１に記載の光学ガラス。
【請求項３】
ＺｎＯ含有量は０．５〜１８モル％である請求項１または２に記載の光学ガラス。
【請求項４】
Ｇｅフリーガラスである請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学ガラス。
【請求項５】
ＳｉＯ2含有量は３〜３５モル％の範囲であり、Ｂ2Ｏ3含有量は１２〜４５モル％の範囲である請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学ガラス。
【請求項６】
Ｂ2Ｏ3含有量に対するＳｉＯ2含有量の質量比ＳｉＯ2／Ｂ2Ｏ3は０．９５以下である請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学ガラス。
【請求項７】
Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2ＯおよびＫ2Ｏの合計含有量は０〜８モル％の範囲である請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学ガラス。
【請求項８】
ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯの合計含有量は０〜８モル％の範囲である請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学ガラス。
【請求項９】
モル％表示で、
Ｌａ2Ｏ3      ５〜４５％、
Ｇｄ2Ｏ3      ０．１〜２０％、
Ｙ2Ｏ3        ０．１〜１８％、および
Ｙｂ2Ｏ3      ０〜１８％
を含む請求項１〜８のいずれか１項に記載の光学ガラス。
【請求項１０】
ＺｒＯ2含有量は０〜２２モル％の範囲である請求項１〜９のいずれか１項に記載の光学ガラス。
【請求項１１】
ＴｉＯ2含有量は０〜２２モル％の範囲である請求項１〜１０のいずれか１項に記載の光学ガラス。
【請求項１２】
Ｎｂ2Ｏ5含有量は０〜１８モル％の範囲である請求項１〜１１のいずれか１項に記載の光学ガラス。
【請求項１３】
Ｔａ2Ｏ5含有量は０〜５モル％の範囲である請求項１〜１２のいずれか１項に記載の光学ガラス。
【請求項１４】
ＷＯ3含有量は０．１モル％超１８モル％以下の範囲である請求項１〜１３のいずれか１項に記載の光学ガラス。
【請求項１５】
Ｂｉ2Ｏ3含有量は０〜５モル％の範囲である請求項１〜１４のいずれか１項に記載の光学ガラス。
【請求項１６】
Ａｌ2Ｏ3含有量は０〜５モル％の範囲である請求項１〜１５のいずれか１項に記載の光学ガラス。
【請求項１７】
Ｓｂ2Ｏ3含有量は外割りで０〜１質量％の範囲である請求項１〜１６のいずれか１項に記載の光学ガラス。
【請求項１８】
ＳｎＯ2含有量は外割りで０〜１質量％の範囲である請求項１〜１７のいずれか１項に記載の光学ガラス。
【請求項１９】
ガラス転移温度は６６０℃以上である請求項１〜１８のいずれか１項に記載の光学ガラス。
【請求項２０】
ガラス転移温度は７２０℃以下である請求項１〜１９のいずれか１項に記載の光学ガラス。
【請求項２１】
比重は４．９３〜５．０７の範囲である請求項１〜２０のいずれか１項に記載の光学ガラス。
【請求項２２】
請求項１〜２１のいずれか１項に記載の光学ガラスからなるプレス成形用ガラスゴブ。
【請求項２３】
請求項１〜２１のいずれか１項に記載の光学ガラスからなる光学素子。
【請求項２４】
研削、研磨により光学素子に仕上げられる光学素子ブランクの製造方法において、
請求項２２に記載のプレス成形用ガラスゴブを加熱、軟化してプレス成形することを特徴とする光学素子ブランクの製造方法。
【請求項２５】
研削、研磨により光学素子に仕上げられる光学素子ブランクの製造方法において、
ガラス原料を熔融し、得られた熔融ガラスをプレス成形し、請求項１〜２１のいずれか１項に記載の光学ガラスからなる光学素子ブランクを作製することを特徴とする光学素子ブランクの製造方法。
【請求項２６】
請求項２４または２５に記載の製造方法により光学素子ブランクを作製すること、および作製した光学素子ブランクを研削、研磨することを特徴とする光学素子の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
すなわち、上記目的は、下記手段により達成された。
［１］モル％表示で、
ＳｉＯ2       ０．１〜４０％、
Ｂ2Ｏ3        １０〜５０％、
Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2ＯおよびＫ2Ｏを合計で０〜１０％、
ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯを合計で０〜１０％、
ＺｎＯ        ０．５〜２２％、
Ｌａ2Ｏ3      ５〜５０％、
Ｇｄ2Ｏ3      ０．１〜２５％、
Ｙ2Ｏ3        ０．１〜２０％、
Ｙｂ2Ｏ3      ０〜２０％、
ＺｒＯ2       ０〜２５％、
ＴｉＯ2       ０〜２５％、
Ｎｂ2Ｏ5      ０〜２０％、
Ｔａ2Ｏ5      ０〜７％、
ＷＯ3         ０．１％を超え２０％以下、
ＧｅＯ2       ０〜３％未満、
Ｂｉ2Ｏ3      ０〜１０％、
Ａｌ2Ｏ3      ０〜１０％、
を含み、Ｂ2Ｏ3の含有量に対するＳｉＯ2の含有量の質量比ＳｉＯ2／Ｂ2Ｏ3が１以下であり、
屈折率ｎｄが１．８６〜１．９５、アッベ数νｄが（２．３６−ｎｄ）／０．０１４以上、３８未満、かつガラス転移温度が６４０℃以上であることを特徴とする光学ガラス。
［２］屈折率ｎｄが１．８９〜１．９５、かつアッベ数νｄが（２．３６−ｎｄ）／０．０１４以上、３８未満である［１］に記載の光学ガラス。
［３］ＺｎＯ含有量は０．５〜１８モル％である［１］または［２］に記載の光学ガラス。
［４］Ｇｅフリーガラスである［１］〜［３］のいずれかに記載の光学ガラス。
［５］ＳｉＯ2含有量は３〜３５モル％の範囲であり、Ｂ2Ｏ3含有量は１２〜４５モル％の範囲である［１］〜［４］のいずれかに記載の光学ガラス。
［６］Ｂ2Ｏ3含有量に対するＳｉＯ2含有量の質量比ＳｉＯ2／Ｂ2Ｏ3は０．９５以下である［１］〜［５］のいずれかに記載の光学ガラス。
［７］Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2ＯおよびＫ2Ｏの合計含有量は０〜８モル％の範囲である［１］〜［６］のいずれかに記載の光学ガラス。
［８］ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯの合計含有量は０〜８モル％の範囲である［１］〜［７］のいずれかに記載の光学ガラス。
［９］モル％表示で、
Ｌａ2Ｏ3      ５〜４５％、
Ｇｄ2Ｏ3      ０．１〜２０％、
Ｙ2Ｏ3        ０．１〜１８％、および
Ｙｂ2Ｏ3      ０〜１８％
を含む［１］〜［８］のいずれかに記載の光学ガラス。
［１０］ＺｒＯ2含有量は０〜２２モル％の範囲である［１］〜［９］のいずれかに記載の光学ガラス。
［１１］ＴｉＯ2含有量は０〜２２モル％の範囲である［１］〜［１０］のいずれかに記載の光学ガラス。
［１２］Ｎｂ2Ｏ5含有量は０〜１８モル％の範囲である［１］〜［１１］のいずれかに記載の光学ガラス。
［１３］Ｔａ2Ｏ5含有量は０〜５モル％の範囲である［１］〜［１２］のいずれかに記載の光学ガラス。
［１４］ＷＯ3含有量は０．１モル％超１８モル％以下の範囲である［１］〜［１３］のいずれかに記載の光学ガラス。
［１５］Ｂｉ2Ｏ3含有量は０〜５モル％の範囲である［１］〜［１４］のいずれかに記載の光学ガラス。
［１６］Ａｌ2Ｏ3含有量は０〜５モル％の範囲である［１］〜［１５］のいずれかに記載の光学ガラス。
［１７］Ｓｂ2Ｏ3含有量は外割りで０〜１質量％の範囲である［１］〜［１６］のいずれかに記載の光学ガラス。
［１８］ＳｎＯ2含有量は外割りで０〜１質量％の範囲である［１］〜［１７］のいずれかに記載の光学ガラス。
［１９］ガラス転移温度は６６０℃以上である［１］〜［１８］のいずれかに記載の光学ガラス。
［２０］ガラス転移温度は７２０℃以下である［１］〜［１９］のいずれかに記載の光学ガラス。
［２１］比重は４．９３〜５．０７の範囲である［１］〜［２０］のいずれかに記載の光学ガラス。
［２２］［１］〜［２１］のいずれかに記載の光学ガラスからなるプレス成形用ガラスゴブ。
［２３］［１］〜［２１］のいずれかに記載の光学ガラスからなる光学素子。
［２４］研削、研磨により光学素子に仕上げられる光学素子ブランクの製造方法において、
［２２］に記載のプレス成形用ガラスゴブを加熱、軟化してプレス成形することを特徴とする光学素子ブランクの製造方法。
［２５］研削、研磨により光学素子に仕上げられる光学素子ブランクの製造方法において、
ガラス原料を熔融し、得られた熔融ガラスをプレス成形し、［１］〜［２１］のいずれかに記載の光学ガラスからなる光学素子ブランクを作製することを特徴とする光学素子ブランクの製造方法。
［２６］［２４］または［２５］に記載の製造方法により光学素子ブランクを作製すること、および作製した光学素子ブランクを研削、研磨することを特徴とする光学素子の製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
ＷＯ3は、屈折率を高め、液相温度を低下させ、耐失透性の改善に寄与する必須成分である。その量が０．１％以下であると所望の屈折率を得ることが困難になるとともに、液相温度が上昇し、耐失透性が悪化してしまう。一方、その量が２０％を越えると液相温度が上昇し、耐失透性が悪化してしまう。また、ガラスの着色も強まる。したがって、ＷＯ3の含有量は、０．１％を超え２０％以下とする。ＷＯ3の含有量の好ましい範囲は０．１％超１８％以下、より好ましい範囲は０．１％超１５％以下、さらに好ましい範囲は０．５〜１０％、一層好ましい範囲は０．５〜８％、より一層好ましい範囲は０．５〜７％である。