【事件の表示】
　特願２００１−５１４３６２「半導体部品のためのスクラッチ耐性コーティング」拒絶査定不服審判事件〔平成１３年　２月　８日国際公開、ＷＯ０１／０９８１９、平成１５年　２月１８日国内公表、特表２００３−５０６６７２〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１　手続の経緯
　本願は、平成１２年８月２日（パリ条約による優先権主張１９９９年８月２日、ドイツ）を国際出願日とする出願であって、平成１６年３月２９日付けで拒絶査定（平成１６年３月３１日発送）がなされ、これに対し、同年６月２９日に拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに、同日付けで手続補正がなされたものである。
　
２　平成１６年６月２９日付けの手続補正について
　当該補正は、特許請求の範囲の請求項１の記載を、補正前の、
「【請求項１】　油脂、油、界面活性剤およびワックスの群からの材料の組み合わせから平滑層として形成され、スクラッチおよび機械的磨耗に対して保護を提供する表面コーティングを有する半導体部品であって、該平滑層の上面は、指球のために設けられた指紋センサーの支持面を形成する、半導体部品。」
から、補正後の、
「【請求項１】　油脂、油、界面活性剤およびワックス
からなる
選択される
に補正するものである。
　そうすると、上記補正は、特許請求の範囲の請求項１について、補正前の「・・・ワックスの群からの材料・・・」を「・・・ワックス
からなる
選択される
　したがって、平成１６年６月２９日付けの手続補正は、特許法第１７条の２第３項及び第４項第３号の規定に適合する。
　
３　本願発明
　平成１６年６月２９日付けの手続補正は、上記のとおり特許法第１７条の２第３項及び第４項第３号の規定に適合するものであるから、本願の請求項１ないし５に係る発明は、平成１６年６月２９日付け手続補正書により補正された明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１ないし５に記載された事項により特定されるとおりのものと認められるところ、本願の請求項１に係る発明（以下、「本願第１発明」という。）は次のとおりのものである。
「【請求項１】　油脂、油、界面活性剤およびワックスからなる群から選択される材料の組み合わせから平滑層として形成され、スクラッチおよび機械的磨耗に対して保護を提供する表面コーティングを有する半導体部品であって、該平滑層の上面は、指球のために設けられた指紋センサーの支持面を形成する、半導体部品。」
　
４　引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された、本願の優先権主張日前に頒布された刊行物である国際公開第９８／０３９３４号パンフレット（以下、「引用例」という。）には、概ね以下の事項が図面とともに記載されている。
（１）「本発明は、感知電極から間をあけられた感知表面を規定する電気的絶縁材料の層により覆われた感知電極の配列を具えている容量性感知配列装置に関するものである。本発明は特に、しかし独占的にではなく、指紋感知装置と関係し、その装置では感知電極の配列が感知表面上に置かれた場合に人間の指紋の尾根と谷とのパターンを容量的に感知するために用いられる。上記の種類の容量性感知配列装置の例、特に指紋感知装置の例は、米国特許明細書第５３２５４４２号及び英国特許出願第９６０８７４７．３号に記載されている。これらの例の装置においては感知素子の行及び列マトリックス配列が薄膜技術を用いて絶縁基板上に設けられている。各感知素子は金属感知電極と、それに接続された薄膜トランジスタ（ＴＦＴ；ｔｈｉｎ　ｆｉｌｍ　ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）の形で少なくとも１個のスイッチング装置とを具えている。感知素子のスイッチング装置は行及び列アドレス導体の組を介して周辺駆動回路へ接続されている。感知電極の配列は、感知電極から離れた表面が上に人間の指が置かれる実質的に平らな感知表面を規定する窒化珪素又はポリイミド材料を具えている堆積された絶縁材料の層により覆われており、それらの上にある誘電体材料及び個別の指紋、すなわち尾根及び谷と一緒に感知電極がコンデンサを構成する。」（パンフレット第１頁第６〜２７行、「Ｔｈｅ　ｐｒｅｓｅｎｔ　ｉｎｖｅｎｔｉｏｎ　ｒｅｌａｔｅｓ　ｔｏ　・・・　ｖａｌｌｅｙｓ、ｃｏｎｓｔｉｔｕｔｉｎｇ　ｃａｐａｃｉｔｏｒｓ．」）（なお、和訳文は、特表平１１−５１２９６２号公報を参照した。以下、同じ。）
（２）「本発明によると、冒頭文節に記載された種類の容量性感知配列装置は、その感知電極がクロムを具え、且つ電気的に絶縁する被覆する層が酸化クロムを具えていることを特徴としている。・・・この感知表面を形成する絶縁層の表面は露出され且つ従って潜在的に損傷する影響を受ける。擦傷又は掻傷の性質によるあらゆる損傷は、例えば、指紋の感知において装置の動作を著しく損ない得る。酸化クロムはこれに関して卓越した特性を有している。酸化クロムは非常に硬く、非常に引っ掻きに強い材料である。そのような材料は、摩擦損傷及び類似のものに煩わされることなく、正常な使用において遭遇されそうな汚物及び洗濯の影響に耐えることが期待され得る。」（パンフレット第２頁第１２〜２７行、「Ａｃｃｏｒｄｉｎｇ　ｔｏ　ｔｈｅ　ｐｒｅｓｅｎｔ　ｉｎｖｅｎｔｉｏｎ　・・・　ｓｕｆｆｅｒｉｎｇ　ａｂｒａｓｉｏｎ　ｄａｍａｇｅ　ａｎｄ　ｔｈｅ　ｌｉｋｅ．」）
（３）「図１を参照して、指紋感知配列装置は、指紋を走査することが実施できる規則的に間をあけられた感知素子１２のＸ−Ｙ配列を有する活性マトリックスアドレスされる感知パッド１０を具えている。簡単化のために少しだけしか感知素子が示されていないが、実際には約２．５ｃｍ平方の面積を占有する、約５１２の行と列との感知素子があり得る。各感知素子１２は、ゲート端子とソース端子とがそれぞれ関連する行アドレス導体１８と列アドレス導体２０とへ接続されている、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）１６のドレインへ接続された導電性の感知電極１４を具えている。行内の全部の感知素子の薄膜トランジスタのゲートが、行アドレス導体の組のうちのそれぞれ一つへ接続され、且つ列内の全部の感知素子の薄膜トランジスタのソースが列アドレス導体の組のうちのそれぞれ一つへ接続される。それらの行アドレス導体は行駆動回路２２へそれらの一端を接続され、且つ列アドレス導体は感知回路２４へそれらの一端で接続される。」（パンフレット第４頁第２２行〜同第５頁第６行、「Ｒｅｆｅｒｒｉｎｇ　ｔｏ　Ｆｉｇｕｒｅ１　・・・　ｔｏ　ａ　ｓｅｎｓｅ　ｃｉｒｃｕｉｔ２４．」）
（４）「感知素子の感知電極１４は、感知電極から離れた、露出した表面が指紋が走査されるべき人間の指が上に置かれる平らな感知表面を定義する、電気的絶縁材料の層により直接覆われている。」（パンフレット第５頁第１３〜１６行、「ｔｈｅ　ｓｅｎｓｉｎｇ　ｅｌｅｃｔｒｏｄｅｓ１４　・・・　ｂｅ　ｓｃａｎｎｅｄ　ｉｓ　ｐｌａｃｅｄ．」）
（５）「その配列の典型的な感知素子１２のレイアウトと構造とが、平面図で感知素子を示す図２に、及び図２の線ＩＩＩ〜ＩＩＩに沿った断面図を示す図３に図解されている。一般に矩形であり且つ行導体１８と列導体２０とのすぐ隣接する対の間の範囲を占有する感知電極１４が、関連する行電極と列電極との交差点に隣接して置かれた薄膜トランジスタ１６のドレインへ接続されている。電極１４、薄膜トランジスタ１６及び行及び列導体１８、２０は全部、ガラス又はプラスチック材料の絶縁基板３０上に支持され、且つ標準ＰＥＣＶＤ薄膜処理技術を用いて製作される。基板３０の表面は二酸化珪素の絶縁バッファ層３１により覆われる。多結晶珪素材料の層がその層３１上に堆積され、且つ埋設により選択的にドープされ、且つ薄膜トランジスタソース端子を構成する一体延長部３３を有する列導体２０、及び一部分３５がｎ＋多結晶珪素材料から薄膜トランジスタのドレイン端子を構成する領域３４、及び固有多結晶珪素材料からソース及びドレイン端子領域を橋絡する薄膜トランジスタチャネル領域３６を形成するためにフォトリソグラフ的に規定される。・・・それから二酸化珪素の別の層３７がこの構造の上に完全に堆積され、且つ領域３４の上にある一般に矩形の窓３９がそこに規定される。多結晶珪素層のそれらの領域３３、３５及び３６の上にあるこの層３７の部分は、この薄膜トランジスタに対するゲート絶縁物層として働く。その後、クロムの層が層３７の上に且つそこの窓３９を通して完全に約５０ｎｍ（５００Å）の厚さまで堆積されて、それはそれから薄膜トランジスタゲート電極を設ける一体延長部３８を有する行導体１８を形成するストリップ、及び多結晶の領域３４と実質的に同空間にあり且つ層３７内の窓における領域３４上に及びその窓の縁を付ける層３７の上側表面上へ延在する感知電極１４を構成する領域を残すようにフォトリソグラフ的にパターン化される。それから酸化処理が、この層の露出された部分の上側表面領域を、クロムの酸化物ＣｒＯｘに変換するためにそのクロム層上で実行される。・・・結果として、薄い、非常に一様な厚さのＣｒ２Ｏ３の層４０が、感知電極１４及び他の露出されたクロム部分、すなわち図３において４１で示されたように、行導体１８と一体のゲート電極延長部３８との上に、直接に且つ完全に形成される。上側の、露出された、配列内のすべての感知素子の層４０及び４１の表面が一緒に人間の指が上に置かれる感知表面を与える。その層４０は感知素子の前に述べたコンデンサ誘電体を構成する。」（パンフレット第６頁第６行〜同第７頁第１６行、「Ｔｈｅ　ｌａｙ−ｏｕｔ　ａｎｄ　ｃｏｎｓｔｒｕｃｔｉｏｎ　・・・　ｔｈｅ　ｓｅｎｓｅ　ｅｌｅｍｅｎｔｓ．」）
（６）「ＣｒＯｘ材料の卓越したスクラッチ（引っ掻き）抵抗力特性が、それを保護層として顕著に適せしめ、且つ普通の使用において指紋走査及び掃除において経験され得る研磨剤から有害に悩むことをほとんどなくする。」（パンフレット第８頁第１２〜１６行、「ｔｈｅ　ｅｘｃｅｌｌｅｎｔ　ｓｃｒａｔｃｈ　・・・　ｉｎ　ｎｏｒｍａｌ　ｕｓａｇｅ．」）
（７）「要約すると、それ故に、指紋感知装置のような、容量性感知配列装置が開示され、それは人間の指が上に置かれる感知表面を規定する絶縁材料の層により覆われた個別の感知電極の配列を具えており、各感知電極、それの上にある指紋部分及び介在する絶縁層とが動作中にキャパシタンスを与える。この感知電極はクロム製であり且つその上にある絶縁材料は酸化クロムの薄い層を具え、それが卓越したスクラッチ抵抗力を提供し且つ感知電極の表面領域の酸化により便利に形成され得る。」（パンフレット第９頁第２６行〜同第１０頁第５行、「Ｔｏ　ｓｕｍｍａｒｉｓｅ　・・・　ｂｙ　ｃｈｒｏｍｉｕｍ　ｏｘｉｄｅ．」）
　
　そして、上記摘記事項（３）及び（５）によれば、感知素子１２が、半導体を用いたいわゆる半導体感知素子１２であることが読み取れ、摘記事項（３）、（５）及び（７）によれば、層４０の上面は人間の指のために設けられた指紋感知装置の感知表面を形成していることが読み取れ、また、上記摘記事項（２）中の記載「この感知表面を形成する絶縁層の表面は露出され且つ従って潜在的に損傷する影響を受ける。擦傷又は掻傷の性質によるあらゆる損傷は、例えば、指紋の感知において装置の動作を著しく損ない得る。酸化クロムはこれに関して卓越した特性を有している。酸化クロムは非常に硬く、非常に引っ掻きに強い材料である。そのような材料は、摩擦損傷及び類似のものに煩わされることなく、正常な使用において遭遇されそうな汚物及び洗濯の影響に耐えることが期待され得る」及び（６）中の記載「ＣｒＯｘ材料の卓越したスクラッチ（引っ掻き）抵抗力特性が、それを保護層として顕著に適せしめ、且つ普通の使用において指紋走査及び掃除において経験され得る研磨剤から有害に悩むことをほとんどなくする。」によれば、酸化クロム材料から形成された層４０は、スクラッチおよび機械的摩耗に対して保護を提供する表面コーティングであることが読み取れることから、上記摘記事項（１）〜（７）からみて、引用例には、次の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されているものと認める。
　「酸化クロム材料から層４０として形成され、スクラッチおよび機械的摩耗に対して保護を提供する表面コーティングを有する半導体感知素子１２であって、該層４０の上面は、指紋検知のために指が置かれる感知表面を形成する、半導体感知素子１２。」　
　
５　対比
　本願第１発明と引用発明とを対比する。
　引用発明の「指紋検知のために指が置かれる感知表面」、「半導体感知素子１２」は、それぞれ、本願第１発明の「指球のために設けられた指紋センサーの支持面」、「半導体部品」に相当する。
　引用発明の「層４０」と、本願第１発明の「平滑層」とは、ともに「『層』として形成され、スクラッチおよび機械的摩耗に対して保護を提供する表面コーティング」である点で共通する。
　したがって、両者は、次の一致点及び相違点を有する。
　【一致点】
「層として形成され、スクラッチおよび機械的磨耗に対して保護を提供する表面コーティングを有する半導体部品であって、該層の上面は、指球のために設けられた指紋センサーの支持面を形成する、半導体部品。」
　【相違点】
　層に関して、本願第１発明では、「油脂、油、界面活性剤およびワックスからなる群から選択される材料の組み合わせ」から形成された「平滑層」であるのに対し、引用発明では、「酸化クロム材料」から形成された「層４０」である点。
　
６　判断
　上記相違点について検討する。
　層として形成され、スクラッチおよび機械的磨耗に対して保護を提供する表面コーティングに関して、例えば、以下の文献１及び２には次のような記載がある。
・文献１：特開平７−２４９２４１号公報
　「【０００１】【産業上の利用分野】本発明は光磁気記録媒体に関わり、特に、透明基板上に担持される磁性層などの膜体を外力から保護するための保護層及び潤滑層に関するものである。」
　「【０００３】この種の装置における磁気ヘッドの支持方式には、情報の記録再生、消去時に磁気ヘッドを保護層に摺動させる方式と、磁気ヘッドを保護層の表面からわずかに浮上させる方式とがあるが、磁気ヘッドを保護層に摺動させる方法を採用する場合は勿論、浮上方式を採用した場合にも、少なくとも光磁気ディスクの起動時及び停止時には磁気ヘッドが保護層上を摺動するので、摩擦による光磁気ディスクの帯電及び膜体の損傷が問題になる。・・・【０００６】そこで、例えばコンパクトディスクなどで実用化されているように所望の膜厚の保護層を比較的用意に成膜でき・・・等の樹脂を保護層材料として用いることが望まれる。この場合、前記保護膜上に形成される潤滑層の材料としては単に潤滑効果に優れるばかりでなく、下地である樹脂材料とのなじみ性が良いことが特に要求される。本発明はかかる課題を解決するためになされたものであって、その目的には、耐擦傷性、耐衝撃性、並びに潤滑効果の永続性に優れた光磁気記録媒体を提供することにある。」
　「【００１９】潤滑層８は、親水基と親油基を併せ持つ化合物と潤滑性材料との混合物からなる。・・・【００２０】潤滑層８に含まれる親水基と親油基を併せ持つ化合物としては主に界面活性剤が挙げられる。例えば、オレイン酸、ステアリン酸等の高級脂肪酸に代表されるカルボキシル基を持つカルボン酸型アニオン性界面活性剤、・・・アミノ基を持つアミノ酸型両性界面活性剤等が挙げられる。・・・【００２３】潤滑層８を構成する潤滑性材料としてはパラフィン油、エステル、油脂、シリコーンオイル、金属セッケン等、潤滑性を示すものであれば公知一般の全ての潤滑性材料が使用できる。」
　「【００３６】上記の結果より、実施例に係わる光磁気ディスクは、耐擦傷性、潤滑効果の向上に顕著な効果があるといえる。」
・文献２：特開昭６２−４２３２０号公報
　「特許請求の範囲　非磁性支持体の片面あるいは両面に金属薄膜磁性層を設け、この磁性層の表面に、結合剤と溶剤に２種類以上の界面活性剤を混ぜ合わせて成る潤滑剤を混合した表面潤滑保護膜を設けたことを特徴とする磁気記録媒体。」（１頁左下欄４〜９行）
　「記録及び再生時に磁性層が磁気ヘッドと密接するため、ヘッドと媒体の相性、摩耗性、即ち耐久性が要求される。」（１頁右下欄１４〜１７行）
　「実施例　以下本発明の実施例について説明する。先ず表１の組成における材料を記す。・・・界面活性剤はｂが・・・アニオン性界面活性剤・・・、ｃが・・・カオチン性界面活性剤・・・ｄが・・・の非イオン性界面活性剤・・・、ｅが・・・からなる非イオン性界面活性剤・・・、ｆが・・・の非イオン性界面活性剤・・・、ｇが・・・両性界面活性剤・・・である。・・・媒体に表１の組成により混合した表面保護インキをスピンナーで、予備回転・・・本回転・・・で塗布し、乾燥させ、６０°Ｃで２４時間硬化を行い、媒体表面に・・・の厚みをもつ表面潤滑保護膜を形成し、第１図に示す断面構成を持つ垂直磁気記録媒体を作成した。」（２頁左下欄１０行〜３頁左上欄８行）
　これらの記載によれば、文献１記載の「潤滑層８」及び文献２記載の「表面潤滑保護膜」は、本願第１発明の「油脂、油、界面活性剤およびワックスからなる群から選択される材料の組み合わせから平滑層として形成され、スクラッチおよび機械的磨耗に対して保護を提供する表面コーティング」に相当し、この点は周知の技術である。そして、当該周知の平滑層と引用発明の層４０とは、ともに、層として形成され、スクラッチおよび機械的磨耗に対して保護を提供する表面コーティングである点で技術分野を同じくするというべきであるから、当該周知の平滑層を引用発明に適用することに困難性はない。
　したがって、引用発明の層４０に代えて、上記文献１及び２記載の周知の平滑層を適用して本願第１発明のごとく構成することは、当業者が容易になし得たものである。
　そして、本願第１発明の奏する効果についても、引用例に記載された事項及び上記周知技術に基づいて当業者が予測可能な範囲内のものにすぎない。
　
７　むすび
　以上のとおりであるから、本願第１発明は、引用発明及び上記周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　そして、本願第１発明が特許を受けることができないものであるから、その余の請求項２ないし５に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。