【事件の表示】
　平成　９年特許願第　３６３６０号「混合液供給装置とそれを有する半導体の研磨装置及び混合液供給方法と半導体の研磨方法」拒絶査定不服審判事件〔平成　９年１１月　４日出願公開、特開平　９−２８５９６８〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成９年２月２０日（優先権主張平成８年２月２０日）の出願であって、平成１３年１１月１９日に明細書について補正がされ、平成１６年９月２７日付で拒絶の理由が通知され、その指定期間内の同年１２月２日に意見書の提出とともに明細書について補正がされたが、平成１７年３月１７日付で拒絶をすべき旨の査定がされ、これに対し、同年４月２１日付で拒絶査定不服審判がされるとともに、同年５月２０日付で明細書について補正がされたものである。
　
第２　平成１７年５月２０日付の手続補正についての補正却下の決定
［補正却下の結論］
　平成１７年５月２０日付の手続補正（以下、「本件補正」という。）を却下する。
　
［理由］
１　補正の内容の概要
　本件補正は、特許請求の範囲を含む明細書について補正するものであって、平成１６年１２月２日付手続補正書で補正された特許請求の範囲における請求項９を、本件補正において特許請求の範囲の請求項８に補正したが、補正前の請求項９及び補正後の請求項８の記載は以下のとおりである。
　
（１）補正前の請求項９
「研磨粒子を含む第１の溶液および化学物質を含む第２の溶液を混合部に導入する工程と、
　前記混合部において、前記第１の溶液および前記第２の溶液を混合して混合液を生成する工程と、
　前記混合液を前記混合部から導出する工程とを具備し、
　前記導出する工程において、前記混合液の導出流量は前記混合部に導入した前記第１の溶液および前記第２の溶液の合計とほぼ同じ流量であることを特徴とする混合液供給方法。」
　
（２）補正後の請求項８
「研磨粒子を含む第１の溶液および
不活性気体の圧力により送出され、液体マスフロー装置により流量が制御された
　前記混合部において、前記第１の溶液および前記第２の溶液を混合して混合液を生成する工程と、
　前記混合液を前記混合部から導出する工程とを具備し、
　前記導出する工程において、前記混合液の導出流量は前記混合部に導入した前記第１の溶液および前記第２の溶液の合計とほぼ同じ流量であることを特徴とする混合液供給方法。」
（なお、下線は、補正前の請求項９との相違点を示すものである。）
　
２　補正の適否
　補正後の請求項８における補正は、化学物質を含む第２の溶液に関し、「不活性気体の圧力により送出され、液体マスフロー装置により流量が制御された」なる限定事項を付加したものであって、特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。
　そこで、本件補正後の請求項８に記載された発明（以下、「補正発明」という。）が、特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか否かについて、検討する。
　
（１）補正発明
　補正発明は、本件補正により補正がされた明細書及び図面の記載からみて、前記１の（２）の補正後の請求項８に記載された事項により特定されるとおりのものと認める。
　
（２）引用刊行物記載の発明
　原査定の拒絶の理由に引用された、本願の出願の優先日前に国内で頒布された次の刊行物には、以下の事項が記載されていると認められる。
刊行物：特開昭６３−３０６８８１号公報
　
（２−１）刊行物記載の発明
ア　特許請求の範囲　１）
「上定盤と下定盤との間に加工物を保持しつつ混合に際して劣化する傾向のある複数の成分から成る研磨剤を用いてポリシングを行う両面ポリシング方法において、前記複数の研磨剤成分を前記定盤の少くとも一方に所定の混合比となるよう個別に独立して送給することを特徴とする両面ポリシング方法。」
　
イ　第２ページ右上欄下から２行目〜同ページ左下欄第５行
「研磨剤は、加工物全面に均一に分配されるように、その源から研磨剤供給導管１２を通ってノズル８から先ず上定盤１の上方に配置された研磨剤保持用のリング９に供給され、そこから例えば４本設けられた研磨剤送出配管１０を通って上定盤に設けられた穴１１を経由して上定盤内部に入り、加工物表面に到達する。」
　
ウ　第３ページ左上欄下から２行目〜同ページ左下欄第３行
「前述したように、両面ポリシングは、研磨剤を定盤内に導入してポリシングを行なう。研磨剤は一般に複数の成分から成るが、研磨剤の種類によって複数成分の混合後、分解、凝固、組成変化等（これらを総称して劣化と云う）を生じる傾向がある。その代表例は、次亜塩素酸素研磨剤及びコロイダルシリカ系研磨剤である。コロイダルシリカ系研磨剤を例にとると、これはコロイダルシリカ＋強アルカリから成る。コロイダルシリカはゾルとして安定なのはｐＨ
＜
　近時、より高品質のポリシング効果を得るため多様な研磨剤が使われるようになっており、それに伴い上記のような劣化を生じやすい研磨剤が多く出現している。
　従って、混合に際して劣化する傾向のある複数の成分から成る研磨剤を用いる場合には、混合後劣化を生じないうちにポリシング作用を為しうるようにする必要がある。」
　
エ　第３ページ右下欄第２行〜第４ページ左上欄第９行
「研磨剤は、上定盤及び下定盤の少くとも一方に送給される。一般的には、第１図に示す通り、上定盤１にその周囲方向に沿つて設けられた穴１１を通して導入されるが、これに限られるものでなく下定盤のみを通して或いは上下定盤を通して導入されうる。
　本発明に従えば、研磨剤を保持するリング９が、その混合に際して劣化傾向を示す成分の数に対応して多重構造９ａ、９ｂ（ここでは２成分として示す）に分割される。そして、研磨剤送出配管１０も、１０ａ及び１０ｂとして示すようにリングの多重構造化に応じて個別に配置される。研磨剤供給配管１２もまた、１２ａ、１２ｂとして示すようにリングの多重構造化に応じて個別配置される。研磨剤送出配管１０ａ及び１０ｂは、上定盤の穴１１を覆って形成される合流部１３において合流し、ここで始めて混合が開始される。混合後は穴１１を通った後迅やかに加工物周囲に到達するので劣化が生じる前にポリシング作用を奏することが出来る。
　研磨剤供給配管１２ａ及び１２ｂには、各成分の供給速度を独立にコントロールしうるようポンプ１４ａ及び１４ｂがそれぞれ組込まれている。これにより、成分の最適混合比を容易に実現できると併せて、ポリシング期間中、最初は強いポリシング作用をそして後半は弱いポリシング作用を与えるといったポリシング作用の調整が容易となる。」
　
　上記摘記事項ア〜エからみて、補正発明に照らして整理すると、刊行物には、次の発明が記載されていると認める。（以下、「引用発明」という。）
「コロイダルシリカおよびＫＯＨ、ＮａＯＨ等の強アルカリを合流部に送給する工程と、
　前記合流部において、コロイダルシリカと、強アルカリを合流して混合させてコロイダルシリカ系研磨剤を生成する工程と、
　混合後、コロイダルシリカ系研磨剤を上定盤の穴を通して上定盤に導入する工程と、
　コロイダルシリカと強アルカリとの供給速度を独立にコントロールし、混合後劣化を生じないうちにポリシング作用を為しうるようにした両面ポリシング方法。」
　
（３）対比
　補正発明と引用発明とを比較すると、後者の「合流部」、「送給」は、それぞれ前者の、「混合部」、「導入」に相当する。
　引用発明の「コロイダルシリカ」が、コロイド溶液であって研磨作用を奏するシリカ粒子を含むことは明らかであるから、補正発明の「研磨粒子を含む第１の溶液」に含まれることは、明らかである。
　引用発明の「ＫＯＨ、ＮａＯＨ等の強アルカリ」が化学物質であって、液体に溶解して水溶液として使用されることは明らかであるから、補正発明の「化学物質を含む第２の溶液」に含まれるのは、明らかである。
　コロイダルシリカ系研磨剤は、コロイダルシリカと強アルカリとを混合部で混合させたものであるから、混合液といえる。
　引用発明は、混合部で混合させたコロイダルシリカ系研磨剤を、上定盤に導入」しているから、混合部に着目すると、混合部から導出しているということもできる。
　引用発明の「両面ポリシング方法」は、コロイダルシリカおよびＫＯＨ、ＮａＯＨ等の強アルカリを混合し送給しているから、「混合液供給方法」ということもできる。
　
　したがって、補正発明と引用発明とは、
「研磨粒子を含む第１の溶液および化学物質を含む第２の溶液とを混合部に導入する工程と、
　前記混合部において、前記第１の溶液および前記第２の溶液を混合して混合液を生成する工程と、
　前記混合液を前記混合部から導出する工程を有する混合液供給方法。」
で一致し、次の点で相違する。
[相違点１]
　第２の溶液が、補正発明では、不活性気体の圧力により送出され、液体マスフロー装置により流量が制御されているのに対し、引用発明では、コントロールされているものの、その手段が不明である点。
[相違点２]
　補正発明では、「導出する工程において、前記混合液の導出流量は前記混合部に導入した前記第１の溶液および前記第２の溶液の合計とほぼ同じ流量である」のに対し、引用発明では、「各成分の供給速度を独立にコントロールし、混合後劣化を生じないうちにポリシング作用を為しうるようにした」点。
　
（４）判断
　上記相違点について検討する。
［相違点１について］
　溶液等の液体の流量制御手段として、不活性気体の圧力により送出され、液体マスフロー装置により流量が制御されることは、周知の事項である（必要ならば、特開平５−１６８８０２号公報（段落００２２）、特開平６−２１４２号公報（段落０００３〜０００６、００１２〜００１４）、前置報告書に提示された特開平５−１０６７９５号公報（段落０００２〜０００５）を参照のこと。）
　してみれば、相違点１に係る違いは、引用発明に周知の事項を組み合わせたに過ぎないものであり、当業者が容易に想到し得たものである。
　
　なお、請求人は、平成１９年３月２６日付回答書にて、「研磨粒子に混合される化学物質を含む溶液の流量調整について、液体マスフロー装置を適用する点については何ら示唆されていません。」と主張している。しかし、前置報告書で提示された特開平５−１０６７９５号公報の段落００２７に「任意の液体を所望の流量で供給する必要のある装置であれば特別な制限なく用いることができる。」と記載されており、また周知の事項として提示した他の文献も半導体製造装置に用いられているものであるから、当該周知の事項を補正発明に適用することは、当業者が容易になし得たものである。
　
［相違点２について］
　混合液の導出流量が、混合部に導入した第１の溶液および第２の溶液の合計より少ない流量では、混合液が停滞し劣化してしまうこともあるから、混合液の導出流量を第１の溶液と第２の溶液の合計とほぼ同じ流量にして、混合液を停滞しないようにすることは、当業者が容易に想到し得たものと認められる。
　
　そして、補正発明の効果も、引用発明、周知の事項から予測しうる程度のものであって、格別なものではない。
　
　以上のとおりであるので、補正発明は、本願出願前に日本国内で頒布された刊行物記載の発明、周知の事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
３　むすび
　以上のとおりであるので、本件補正は、特許法（平成１８年法律第５５号による改正前）第１７条の２第５項において準用する特許法第１２６条第５項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
第３　本願発明について
１　本願発明
　本件補正は、前記のとおり却下されたので、本件出願の請求項１乃至１５に係る発明は、平成１６年１２月２日付手続補正書により補正がされた明細書及び図面の記載から見て、請求項１乃至１５に記載された事項により特定されるとおりのものと認める。その請求項９に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、前記第２の１の（１）に記載したとおりである。
　
２　引用刊行物記載事項
　これに対して、原査定の拒絶の理由に引用された刊行物の記載事項は、前記第２の２の（２）に示したとおりである。
　
３　対比・判断
　本願発明は、前記第２の２で述べたとおり、補正発明の特定事項から、前記限定事項が省かれたものである。
　そうすると、前記第２の２の（４）で検討したとおり、本願発明は、同様に刊行物記載の発明、周知の事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
４　むすび
　以上のとおりであるので、本願発明は、刊行物記載の発明、周知の事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願発明は拒絶されるべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。