【事件の表示】
　平成７年特許願第９７３２６号「蒸着処理層および接着促進層を有する金属基体」拒絶査定不服審判事件〔平成８年２月１３日出願公開、特開平８−４１６２５〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯 
　この出願は、平成７年４月２１日（パリ条約による優先権主張１９９４年４月２２日（以下「優先日」という。）、アメリカ合衆国）の出願であって、平成１９年３月５日付けで拒絶査定がされ、同年５月１８日付けで拒絶査定に対する審判が請求されるとともに手続補正がされたが、その後、当審において、平成２１年２月２７日付けで、同手続補正は却下されるとともに、拒絶理由が通知され、それに対して同年６月２日付けで、意見書及び手続補正書が提出されたものである。
　
第２　本願発明
　この出願の特許請求の範囲の記載は、平成２１年６月２日付けで補正された特許請求の範囲のとおりであるところ、その請求項１に記載された発明（以下、「本願発明１」という。）は、次のとおりのものである。
「金属基体の少なくとも一方の面の上に設けられかつ接着している少なくとも一つの蒸着処理層であって、該蒸着処理層は、蒸着した亜鉛、マンガン、インジウム、スズ、銀、コバルト、ニッケル、マグネシウム、チタンおよびクロムからなる群より選択される、蒸着処理層、および該少なくとも一つの処理層の上に設けられかつ接着している接着促進材料層を有する金属基体であって、該接着促進材料は、該基体と他の基板との接着を増強するのに適しており、ただし、二つの連続的な処理層が該基体の一方の面上に付与され、かつ第一の層が該金属基体に重層され、そして蒸着した亜鉛、スズまたはクロムである場合、第二の層は、該第一の層に重層され、蒸着したシリカまたはアルミナを含まず、該接着促進材料が、
次式により表される少なくとも１種類の有機シラン化合物であるか：
Ｒ４−ｎＳｉＸｎここで、Ｒはアルキルまたはアリール基、あるいは次式により表される官能基である：
ＣｘＨ２ｘＹ
ここで、ｘは０から２０であり、そしてＹは、アミノ、アミド、ヒドロキシ、アルコキシ、ハロ、メルカプト、カルボキシ、アリール、ビニル、アリル、スチリル、エポキシ、イソシアナート、グリシドキシ、およびアクリルオキシ基からなる群から選択され；Ｘは加水分解可能な基であり；そしてｎは１、２、３または４である；または
次式により表される少なくとも１種のエポキシシランを含有し：
【化１】
ここで、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は独立して水素または炭化水素基であり；Ｒ４およびＲ５は独立してアルキレンまたはアルキリデン基であり；そしてＲ６、Ｒ７およびＲ８は独立して炭化水素基である、
金属基体。」
　
第３　当審において通知した拒絶理由の概要
　平成２１年２月２７日付けで当審において通知した拒絶の理由は、本願発明１は、その出願前日本国内又は外国において頒布された下記の刊行物に記載された発明であるから、特許法第２９条第１項第３号の規定に該当し、特許を受けることができない、という理由を含むものである。　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　記
　
１　特開昭６０−１３７６４０号公報（以下、「刊行物１」という。）
２　特開昭５９−　２５２９７号公報（以下、「刊行物２」という。）
　
第４　当審の判断
　当審は、本願発明１は、刊行物１又は刊行物２に記載された発明であるから、特許法第２９条第１項第３号の規定に該当し、特許を受けることができないと判断する。その理由は、以下のとおりである。
　
１　刊行物１に記載された発明による特許法第２９条第１項第３号の規定の該当性について
（１）刊行物１の記載事項
1a　「基体、この基体の主面上をおおつて広がつておりしかもこれに結合している相互作用カップリング剤層、この相互作用カップリング剤層に近接する超薄銅層、ならびに、この銅層と前記相互作用カップリング剤層とを相互に連結しており銅と第二の金属との合金領域およびこの第二の金属の酸化物領域からなる複合結合層からなる金属被覆積層体。」（特許請求の範囲第１項） 
1b　「第二の金属が亜鉛およびスズから成る群から選択したものであることを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の金属被覆積層体。」（特許請求の範囲第３項） 
1c　「複合結合層中に付加的な非銅金属の酸化物も存在することを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の金属被覆積層体。」（特許請求の範囲第４項） 
1d　「付加的な非銅金属が、スズ，亜鉛，マンガン，マグネシウム，ニツケル，アルミニウムおよびカルシウムから成る群から選択したものであることを特徴とする特許請求の範囲第４項に記載の金属被覆積層体。」（特許請求の範囲第５項） 
1e　「「超薄」とは、約１６ミクロン未満の厚みを意味する。これと同様な意味で、「フィルム」および「フォイル」とは、それぞれ、超薄被膜（たとえば銅の）およびそのような超薄被膜と非銅金属の酸化物含有被膜との組合せを意味する。」（第３頁左上欄第１８行〜同頁右上欄第３行） 
1f　「本明細書中および特許請求の範囲で使用する「基体」とは、本発明によつて製造される銅被覆積層体製品または他の物品の１部で、金属フィルムまたはフォイルに対して物理的支持手段として機能する部分を指称して意味する。好ましい基体材料はガラス繊維で補強したエポキシであり、積層のためにエポキシ樹脂を含有し積層工程中に硬化されるプリプレグの形態のものである。他の熱硬化性樹脂、たとえば…，等も使用することができ、さらに、他の基材たとえば…等を使用してもよい。本発明で有用な基体に対する１つの要件は、カップリング剤が基体表面に良好かつ有効に結合し得るということである。」（第３頁右上欄第８行〜同頁左下欄第４行） 
1g　「銅のフィルム（厚み１〜１６ミクロンが好ましい）を担体上に蒸着する。この銅フィルムを、銅の酸化物の生成が妨げられる条件（すなわち真空および適当な温度）下で、金属酸化物または金属酸化物混合物の薄い蒸着層で被覆する。次に、金属酸化物層をカップリング剤で被覆する。その後、この集合体を加熱加圧下で適切な基体（すなわち、その表面にカップリング剤が結合するようなもの）と積層する。担体は、最終製品（たとえば回路基板）を製造する時には取り除いてもよいし、後に取り除くようにそのままにしておいてもよい。」（第３頁左下欄第１０行〜同頁右下欄第１行） 
1h　「金属酸化物層中に用いた酸化物の少なくとも１種は、その金属成分として銅以外の金属（すなわち第二の金属）を有しており、その蒸着中の加工条件下で多少分解する酸化物である。積層工程中に、分解した酸化物材料から遊離した金属成分（複数のこともある）は銅と合金を形成する。これにより、典型的な場合には、酸化物層と銅との界面に合金の離れ離れの「島」が生成する。これらの合金濃度は得られる製品の剥離強度をさらに増大すると思われる。同時に、蒸着する酸化物の少量が分解することにより、酸化物層中に亜酸化物が少量生成する。カップリング剤によつて、酸化物層と基体表面との間で必要とされる相互接続が得られる。」（第３頁右下欄第２〜１５行） 
1i　「銅フィルム１３が、好ましくは１〜１６ミクロンの厚み（これより厚くてもよいが）で蒸着された後、真空下で残留ガス分析器で監視し酸素と水蒸気含量を調節しながら、蒸着によつて銅フィルム１３を（たとえば酸化亜鉛の）層１４で、約１０〜１０００Å（１０〜１００Åの範囲が好ましい）の範囲の比較的一様な厚みで被覆する。このように蒸着された酸化物層に、次にカップリング剤の溶液を層１６として塗布する。このカップリング剤は、オルガノシランたとえばγ−アミノプロピルトリエトキシシランからなるのが好ましい。」（第４頁右上欄第４〜１５行） 
1j　「実施例１… 
　異なる酸化物と種々のカップリング剤溶液を用いて製造した一連の試料に対して剥離強度試験を行なつたところ、酸化物とカップリング剤の種々の組み合わせで試すことにより優れた組合せが実験的に決定されることが判明した。… 
 　　　　　　　　　　　　　　表Ｉ　 
カップリング剤　　ＳｎＯ　　ＺｎＯ　　ＮｉＯ　　ＦｅＯ　　Ａｌ２Ｏ３　
Ａ−１８７　…　 
　　… 
 　 
…表１に挙げたカップリング剤は全て有機官能性シランであり次に示す組成を有する。 
商品名　　　　　　　名称　　 
Ａ−１８７　　　γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン 
Ａ−１１００　　γ−アミノプロピルトリエトキシシラン 
　　… 
Ｚ−６０４０　　γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン」（第４頁左下欄第３行〜第５頁右上欄１４行） 
1k　「カップリング剤は単に異なる２種の反応性を有する分子である。無機質の表面との化学的結合を達成するために使用するカップリング剤はほとんどが有機官能性シランである。シランカップリング剤は次の一般式で表わし得る。 
　Ｒ’ｎＳｉＲ４−ｎ　　　
ここで、Ｒ’は、アミノ、カルボニル，カルボキシ，イソシアノ，アゾ，ジアゾ，チオ，チア，ジチア，イソチオシアノ，オキソ，オキサ，ハロ，エステル，ニトロソ，スルフヒドリル，ハロカルボニル，アミド，スルホアミドならびにこれらの２個以上およびこれらの組み合わせから成る群から選択される官能性を有する飽和，不飽和または芳香族炭化水素基であり、Ｒは、Ｒ’と共存できる加水分解可能な基であり、アルコキシ，フエノキシ，ハロ，アミノ，ジアルキルアミノおよび第三級パーオキシアルキルから成る群から選択され、ｎは１〜３の値を有する整数である。」（第５頁左下欄第１０行〜同頁右下欄第８行）
　
（２）刊行物１に記載された発明 
　刊行物１は「基体、この基体の主面上をおおつて広がつておりしかもこれに結合している相互作用カップリング剤層、この相互作用カップリング剤層に近接する超薄銅層、ならびに、この銅層と前記相互作用カップリング剤層とを相互に連結しており銅と第二の金属との合金領域およびこの第二の金属の酸化物領域からなる複合結合層からなる金属被覆積層体。」（摘示1a）に関し記載するものであって、その金属被覆積層体の製法として、摘示1gに、「銅のフィルム（厚み１〜１６ミクロンが好ましい）を担体上に蒸着する。この銅フィルムを、銅の酸化物の生成が妨げられる条件（…）下で、金属酸化物または金属酸化物混合物の薄い蒸着層で被覆する。次に、金属酸化物層をカップリング剤で被覆する。その後、この集合体を加熱加圧下で適切な基体（すなわち、その表面にカップリング剤が結合するようなもの）と積層する」方法が示されている。 
　すなわち、刊行物１には、上記「集合体」、すなわち、蒸着した銅フィルムの上に金属酸化物を蒸着し、次に、金属酸化物層をカップリング剤で被覆した集合体も記載されているといえる。 
　この集合体を、本願発明１の記載ぶりに則って記載すると、刊行物１には、 
「超薄銅層、この銅のフィルムとカップリング剤層とを相互に連結しており銅と第二の金属との合金領域およびこの第二の金属の酸化物領域からなる複合結合層、相互作用カップリング剤層からなる集合体」 
の発明（以下、「引用発明１」という。）が記載されているといえる。
 　 
（３）本願発明１と引用発明１との対比 
　引用発明１における「超薄銅層」は、本願発明１における「金属基体」に相当し、引用発明１における「複合結合層」は、摘示1g及び1hによれば蒸着により得られた層であるから、本願発明１における「蒸着処理層」に相当し、引用発明１における「相互作用カップリング剤」は、それによって酸化物層と基体（本願発明における基板に相当する（摘示1f）。）の表面との間で必要とされる相互接続が得られる（摘示1h）のであるから、本願発明１における「接着促進材料」ということができ、本願発明１における「…を有する金属基体」及び末尾の「金属基体」は、上記のとおり、処理前の金属基体ではなく、これらを有する集合体を意味するものであると認められるから、本願発明１と引用発明１とは、
「金属基体の少なくとも一方の面に設けられかつ接着している少なくとも一つの蒸着処理層、および少なくとも一つの処理層の上に設けられかつ接着している接着促進材料層を有する金属基体」 
の点で一致し、次の点で一応相違するといえる。 
(i)　蒸着処理層が、本願発明１においては、蒸着した亜鉛、マンガン、インジウム、スズ、銀、コバルト、ニッケル、マグネシウム、チタン及びクロムからなる群より選択されるものであるのに対し、引用発明１においては、銅と第二の金属との合金領域およびこの第二の金属の酸化物領域からなる複合結合層である点（以下、「相違点(i)」という。）
(ii)　接着処理促進材料が、本願発明１においては、特定の有機シラン化合物またはエポキシシランであるのに対し、引用発明１においては、そのような化合物に特定されていない点（以下、「相違点(ii)」という。） 
(iii)　本願発明１においては、「ただし、二つの連続的な処理層が該基体の一方の面上に付与され、かつ第一の層が該金属基体に重層され、そして蒸着した亜鉛、アルミニウム、スズまたはクロムである場合、第二の層は、該第一の層に重層され、蒸着したシリカまたはアルミナを含まず」の旨、規定されているのに、引用発明１においては、そのような規定がされていない点（以下、「相違点(iii)」という。） 
 　 
（４）相違点についての判断 
ア　相違点(i)について 
（ア）本願発明１における蒸着処理層について
　本願発明１における蒸着処理層について、「蒸着した亜鉛、マンガン、インジウム、スズ、銀、コバルト、ニッケル、マグネシウム、チタンおよびクロムからなる群より選択される」とされ、一見金属を蒸着した層のように解されるが、さらに「ただし、二つの連続的な処理層が該基体の一方の面上に付与され、かつ第一の層が該金属基体に重層され、そして蒸着した亜鉛、スズまたはクロムである場合、第二の層は、該第一の層に重層され、蒸着したシリカまたはアルミナを含まず」とも規定されており、この規定によれば、蒸着処理層にシリカやアルミナのような酸化物の場合が含まれていることも示されていることからすると、上記蒸着層は、金属を蒸着した層のみならず、金属酸化物を蒸着した層をも包含するとも解され、蒸着処理層の意味するところが明確でない。
　この点について発明の詳細な説明の記載を参酌すると、蒸着処理層に関し、段落【００８６】には「上記のように、本発明は、ホイルの片面または両面に１種以上の上記の金属層を使用することを意図している。本発明に有用な金属層における用語「金属」には、金属類、合金類、
および金属化合物（例えば、金属酸化物または窒化物）
ならびに金属酸化物からなる群から選択される金属、金属酸化物、金属窒化物、またはそれらの組み合わせを含む
　そうすると、本願発明１における蒸着処理層は、蒸着した金属の層のみならず、蒸着した金属化合物、例えば金属酸化物の層も包含するものと解するのが妥当である。
　
（イ）相違点(i)について検討すると、引用発明１における「銅と第二の金属との合金領域およびこの第二の金属の酸化物領域からなる複合結合層」は、「銅の酸化物の生成が妨げられる条件（すなわち真空および適当な温度）下で、金属酸化物または金属酸化物混合物の薄い蒸着層で被覆する」（摘示1g）ことにより得られたものである。銅と第二の金属との合金領域は、「金属酸化物層中に用いた酸化物の少なくとも１種は、その金属成分として銅以外の金属（すなわち第二の金属）を有しており、その蒸着中の加工条件下で多少分解する酸化物である。積層工程中に、分解した酸化物材料から遊離した金属成分（複数のこともある）は銅と合金を形成する。これにより、典型的な場合には、酸化物層と銅との界面に合金の離れ離れの「島」が生成する」（摘示 1h）のであるから、本願発明１においても、金属基体が銅ホイルである場合には金属酸化物を蒸着する際に銅との合金領域が「島」状に生成するものと解される。そうすると、銅と第二の金属との合金領域は、本願発明１においても生成し得るものであると認められる。そして、引用発明１の第二の金属は、「亜鉛およびスズから成る群から選択したもの」（摘示1b）である態様、「複合結合層中に付加的な非銅金属の酸化物も存在する」（摘示1c）態様、「付加的な非銅金属が、スズ，亜鉛，マンガン，マグネシウム，ニツケル，アルミニウムおよびカルシウムから成る群から選択したもの」（摘示1d）である態様が含まれるのであるから、第二の金属の酸化物領域は、スズ，亜鉛，マンガン，マグネシウム，ニツケル，アルミニウムおよびカルシウムから成る群から選択した金属の酸化物層を包含することになる。
　そうしてみると、本願発明１における蒸着処理層と引用発明１における複合結合層とは重複するものであり、相違点(i)は両者の実質的な相違点とはならない。
　
イ　相違点(ii)について
　引用発明１における相互作用カップリング剤は、摘示1i、1j及び1kによれば、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランやγ−アミノプロピルトリエトキシシランや、一般式　Ｒ’ｎＳｉＲ４−ｎ で表されるものと解される。 
　そこで、本願発明１における有機シラン化合物の一般式Ｒ４−ｎＳｉＸｎ と上記引用発明１における相互作用カップリング剤とを対比する。引用発明１におけるＲ’、Ｒの定義及び本願発明１におけるＲ、Ｘの定義をみると、引用発明１におけるＲ’が本願発明１におけるＲに相当し、引用発明１におけるＲが本願発明１のＸに相当するといえる。そして、これらの基の定義からすると両者は重複するものであり、引用発明１において具体的に示されているγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランやγ−アミノプロピルトリエトキシシランは、本願発明１における上記化学式に包含されるものである。 
　また、引用発明１において具体的に示されているγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシランは、本願発明１における実施例で用いられている３−グリシドキシプロピルトリメトキシシランと同じものであり、さらに本願発明１におけるエポキシシランの一般式にも該当するものである。 
　そうしてみると、相違点(ii)は、両者の実質的な相違点とはならない。 
 　 
ウ　相違点(iii)について 
　本願発明１における相違点(iii)に係る構成は、本願発明１において、第一層とその上に重層された第二層が重層された場合における特定の組合せを除外される態様を示すものである。 
　しかしながら、引用発明１には、上記特定の除外されている態様以外であって本願発明１に包含される他の態様は含まれるのであるから、相違点(iii)は、両者の実質的な相違点とはならない。
　
エ　相違点についての判断のまとめ
 　以上のとおり、相違点(i)ないし(iii)はいずれも両者の相違点となるものではない。
　
（５）まとめ　 
　そうすると、本願発明１は引用発明１（本出願前（優先日）に頒布された刊行物１に記載された発明）であるということができる。
　したがって、本願発明１は、特許法第２９条第１項第３号に該当する。 
  
２　刊行物２に記載された発明による特許法第２９条第１項第３号の規定の該当性について
（１）刊行物２の記載事項
2a　「銅箔の粗面側に設けた亜鉛または亜鉛合金の薄層上に、クロメート処理層を形成し、さらに該層上に一般式ＹＲＳｉＸ３（ここにＹは高分子物と反応する官能基、ＲはＹとケイ素原子とを連結する鎖状または環状の炭化水素を含む結合基、Ｘはケイ素原子に結合する有機または無機の加水分解性の基を表わすものである。）で示されるシランカップリング剤層を設けたことを特徴とする印刷回路用銅箔。」（特許請求の範囲第１項） 
2b　「この発明は、銅箔と基材とからの銅張積層板の高温加熱後の接着特性を顕著に改善した印刷回路用銅箔に関するものである。」（第１頁左下欄第１４〜１６行）　 
2c　「そこで引続き銅箔粗面の処理条件などについて各種検討を行ってきた。その結果、銅箔の粗面に直接または軽度の粗化を行った後、該面に亜鉛または亜鉛合金の薄層を形成し、該層に公知の方法でクロメート処理層を設け、その上に、前記一般式の化合物による処理層を形成させた銅箔を基材と積層したものは、上記１８０℃、４８時間の加熱処理後においても、剥離強度が良く、その他の特性においても従来のものと同等であることを多数の実験により確認できた。」（第２頁右上欄第１７行〜同頁左下欄第７行） 
2d　「本発明についての説明を続けると、本発明において銅箔面に形成する亜鉛合金としては、スズ、ニッケル、銅、カドミウム、マグネシウムなどの通常メッキで合金とすることが可能な金属であり、これらの金属は、公知の電解浴を用いれば、銅箔粗面への電析が可能である。しかし、本発明においては、電析にかえて真空蒸着法、スパッタリング法などの乾式法により形成することもできる。」（第２頁右下欄第１３行〜第３頁左上欄第１行） 
2e　「また本発明において、亜鉛または亜鉛合金層上に形成するクロメートの薄膜は、重クロム酸ナトリウムまたは三酸化クロムの水溶液を用い、この水溶液中に亜鉛または亜鉛合金層を形成させてある銅箔を浸漬するか或いは、この溶液中で該銅箔を陰極として通電すれば、該金属または合金層上に容易に形成することが可能である。」（第３頁左上欄第５〜１２行） 
2f　「引続き本発明において、前記クロム薄膜上に形成させるシランカップリング剤の薄膜の形成について述べると、使用するシランカップリング剤は、本発明者等が、すでに出願中の昭和５５年特許願１６２３６７号の明細書に記載したものが、いずれも使用でき、代表的なものを記載するとγ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−アミノエチル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピル−トリメトキシシラン、γ−グリシドオキシプロピル−トリメトキシシランなどである。」（第３頁左上欄第１３行〜同頁右上欄第２行） 
2g　「実施例（１）　公知の硫酸銅メッキ浴を使用し、チタン製陰極面に電析形成させた３３μの銅箔を剥離し、これを硫酸亜鉛１５０ｇ／ｌ、硫酸アルミニウム３０ｇ／ｌ、塩化アンモニウム１５ｇ／ｌからなる亜鉛メッキ浴中に浸漬し、該銅箔を陰極、鉛板を陽極として用い、浴温２５℃、電流密度１Ａ／ｄｍ２において銅箔粗面にそれぞれ厚さ０．０５μと０．１２μの亜鉛層を形成した多数の試料を作製した。ついでこの試料を濃度０．３％の重クロム酸ナトリウム水溶液に浸漬し、試料の亜鉛形成面を陰極として浴温２５℃、電流密度０．３Ａ／ｄｍ２において５秒間通電を行い、亜鉛層上にクロメート薄膜を形成後、別に調製したシランカップリング剤であるγ−アミノプロピルトリエトキシシランの濃度…の液中に常温で１分間 浸漬し取出して乾燥後、亜鉛層形成面をガラスクロスを基材としたエポキシ樹脂板に重ね、…銅張積層板を試作した。」（第３頁右上欄第７行〜同頁左下欄第７行） 
2h　「実施例（２）　実施例（１）で述べたと同様の銅箔粗面を、公知の硫酸銅メッキ浴を用いて電解してその表面に樹枝状銅層を形成させた。…表から、通常の樹枝状銅層を設けた銅層を用いても、本発明処理により、加熱処理後の剥離強度のよい銅張積層板が得られ、従来の亜鉛合金層のみを形成した銅箔からの積層板に較べて、その効果は顕著であり、本発明のカップリン剤膜を設けることが有効であることは明らかである。」（第３頁右下欄下から第５行〜第４頁左下欄第１行） 
　
（２）刊行物２に記載された発明 
　刊行物２には「銅箔の粗面側に設けた亜鉛または亜鉛合金の薄層上に、クロメート処理層を形成し、さらに該層上に一般式ＹＲＳｉＸ３（ここにＹは高分子物と反応する官能基、ＲはＹとケイ素原子とを連結する鎖状または環状の炭化水素を含む結合基、Ｘはケイ素原子に結合する有機または無機の加水分解性の基を表わすものである。）で示されるシランカップリング剤層を設けたことを特徴とする印刷回路用銅箔。」（摘示2a）が記載され、「本発明において銅箔面に形成する亜鉛合金としては、スズ、ニッケル、銅、カドミウム、マグネシウムなどの通常メッキで合金とすることが可能な金属であり、これらの合金は、公知の電解浴を用いれば、銅箔粗面への電析が可能である。しかし、本発明においては、電析にかえて真空蒸着法、スパッタリング法などの乾式法により形成することもできる」（摘示2d）と記載されている。そして、シランカップリング剤層はクロメート処理層の上に設けられかつ接着していると認められる。 
　以上から、本願発明１の記載ぶりに則って整理すると、刊行物２には、 
「銅箔の粗面側に蒸着により形成した亜鉛または亜鉛合金の薄層、その上に形成したクロメート処理層、およびその上に設けられかつ接着しているシランカップリング剤層からなる銅箔であって、 
該シランカップリング剤が次式により示される一般式ＹＲＳｉＸ３（ここにＹは高分子物と反応する官能基、ＲはＹとケイ素原子とを連結する鎖状または環状の炭化水素を含む結合基、Ｘはケイ素原子に結合する有機または無機の加水分解性の基を表わすものである。）である銅箔」 
の発明（以下、「引用発明２」という。）が記載されているということができる。 
 　 
（３）本願発明１と引用発明２との対比 
　本願発明１と引用発明２とを対比すると、引用発明２における「銅箔」は本願発明１における「金属基体」に相当し、引用発明２における「蒸着により形成した亜鉛または亜鉛合金の薄層」は本願発明１における「蒸着処理層」に相当し、引用発明２における「シランカップリング剤層」は、摘示 2b、2c及び2hからみて、本願発明１における「接着促進材料層」に相当し、また、引用発明２においては、蒸着処理層は「亜鉛または亜鉛合金の薄層」のみであり、第一層の上に第二層を重層する態様を含まないので、両者は、本願発明１の「ただし…含ま」ない点で同じである。 
　そうすると、本願発明１と引用発明２とは、 
「金属基体の少なくとも一方の面に設けられかつ接着している少なくとも一つの亜鉛または亜鉛合金からなる蒸着処理層、および少なくとも一つの処理層の上に設けられかつ接着している接着促進材料層を有している金属基体であって、ただし、二つの連続的な処理層が該基体の一方の面上に付与され、かつ第一の層が該金属基体に重層され、そして蒸着した亜鉛である場合、第二の層は、該第一の層に重層され、蒸着したシリカまたはアルミナを含まない、金属基体」 
である点で一致し、次の点で一応相違する。 
(I)　本願発明１においては、蒸着処理層と接着促進材料層の間のクロメート処理層の存在の有無は明らかでないのに対し、引用発明２においてはクロメート処理層がある点（以下「相違点(I)」という。）　
(II)  接着促進材料が、本願発明１においては、一般式Ｒ４−ｎＳｉＸｎ （基の定義は省略）により表される有機シラン化合物または【化１】（化学式は省略）により表されるエポキシシランであるのに対し、引用発明２においては一般式ＹＲＳｉＸ３ （基の定義は省略）により表されるものである点（以下「相違点(II)」という。） 
 　 
（４）相違点についての判断
ア　相違点(I)について
　相違点(I)について検討すると、引用発明２におけるクロメート処理層は、刊行物２に、「亜鉛または亜鉛合金層上に形成するクロメートの薄膜は、重クロム酸ナトリウムまたは三酸化クロムの水溶液を用い、この水溶液中に亜鉛または亜鉛合金層を形成させてある銅箔を浸漬するか或いは、この溶液中で該銅箔を陰極として通電すれば、該金属または合金層上に容易に形成することが可能である」（摘示 2e）旨、また、実施例（１）において「銅箔粗面にそれぞれ厚さ０．０５μと０．１２μの亜鉛層を形成した多数の試料を作製した。ついでこの試料を濃度０．３％の重クロム酸ナトリウム水溶液に浸漬し、試料の亜鉛形成面を陰極として浴温２５℃、電流密度０．３Ａ／ｄｍ２において５秒間通電を行い、亜鉛層上にクロメート薄膜を形成」（摘示 2g）した旨記載されていることから、亜鉛または亜鉛合金層を形成させてある銅箔を重クロム酸ナトリウム又は三酸化クロムの水溶液中で、銅箔を陰極として通電することにより形成することができるものである。
　他方、本願発明１について、本願明細書の発明の詳細な説明には、「本発明の金属ホイルに存在する１つまたは複数の蒸着金属層の特性は、イオンボンバードメント／加熱、酸素プラズマイオンボンバードメント、および所望の特性を向上させる（例えば、酸化および安定化の保護を与える）材料で蒸着金属層を電気メッキすることによりさらに改変され得る。耐酸化性などの特性を向上させるために、例えば、蒸着した金属層を、接着促進層を付与する前に（例えば、クロム、銅、スズ、ビスマス、または亜鉛−クロム混合物などを含有する）酸性溶液で電気化学的に処理することにより、クロム、スズ、ビスマスまたは亜鉛−クロムコーティングを蒸着金属コーティングの上に付与し得る」（段落【００９５】）と記載されていることから、本願発明１には、接着促進層を付与する前に蒸着した金属層をクロムなどを含有する酸性溶液で電気化学的に処理することによりクロムを蒸着金属コーティングの上に付与することも包含されるものと解される。そして、このクロムコーティングは、引用発明２におけるクロメート処理層に他ならない。
　そうすると、相違点(I)は実質的な相違点とはならない。
　
イ　相違点(II)について
　相違点(II)について検討すると、両発明のそれぞれの式におけるＲ、Ｘ及びＹの定義は異なるものであるが、両者とも広範囲な化合物を包含しており、重複するものである上、しかも、好ましいものとして、本願発明１において挙げられている３−グリシドキシプロピルトリメトキシシランは、引用発明２においてもγ−グリシドオキシプロピル−トリメトキシシランとして例示されている（摘示 2f）。さらに、引用発明２においては、本願発明１において好ましいものとして例示されているアミノプロピルトリメトキシシランに類似するγ−アミノプロピルトリエトキシシランも例示されている（摘示 2f及び 2g）。
　そうすると、相違点(II)は両者の実質的な相違点とはならない。 
　
ウ　相違点についての判断のまとめ
　以上のとおり、相違点(I)及び(II)はいずれも両者の相違点となるものではない。
  
（５）　まとめ　 
　そうすると、本願発明１は、引用発明２（本出願前（優先日）に頒布された刊行物２に記載された発明）であるということができる。 
　したがって、本願発明１は、特許法第２９条第１項第３号に該当する。 
　
３　請求人の主張
　請求人は、平成２１年６月２日付けの意見書において、当審において通知した特許法第２９条第１項第３項についての拒絶の理由について、補正前の請求項１について、その「請求項２に記載の金属ホイル」は「余事記載」であるとしてこれを削除する等の補正をしたうえで、補正後の発明（本願発明１）は、『「金属基体」との記載が存在するものとして解釈されるべきですので、刊行物１との対比において、かかる、「金属基体の少なくとも一方の面の上に設けられかつ接着している少なくとも一つの蒸着処理層、および少なくとも一つの処理層の上に設けられかつ接着している接着促進材料層を有する金属基体」が記載されていないことは明白なものとなった』と、主張する。
　しかしながら、上記特許法第２９条第１項第３項についての拒絶の理由は、補正前の請求項１における、「請求項２に記載の金属ホイル」と文末の「金属基体」との関係が明確ではないものの、ともに「金属基体」を意味する重複記載であると解されるところ、検討にあたり重複するうちの一方をないものと解した上で判断したものである。上記理由においては、一応前者（請求項２に記載の金属ホイル）の記載を「金属基体」とし、後者をないものと解したが、逆に、請求人がした補正のように、前者をないものとして、後者のみと解しても、請求項１の記載内容は変わるものではない。
　したがって、請求項１において「請求項２に記載の金属ホイル」の記載を削除する補正によって、上記特許法第２９条第１項第３項についての理由が影響されるものではない。
　そして、上記理由においては、補正前の請求項１に記載された発明を、請求人が主張するとおり、「金属基体」が存在するものとして認定して判断していることは、補正前の請求項１に記載された発明と引用発明１との一致点を、
「金属基体の少なくとも一方の面に設けられかつ接着している少なくとも一つの蒸着処理層、および少なくとも一つの処理層の上に設けられかつ接着している接着促進材料層を有する金属基体」
と認定しており、また、補正前の請求項１に記載された発明と引用発明２との一致点を、
「金属基体の少なくとも一方の面に設けられかつ接着している少なくとも一つの蒸着処理層、および少なくとも一つの処理層の上に設けられかつ接着している接着促進材料層を有している金属基体であって、ただし、二つの連続的な処理層が該基体の一方の面上に付与され、かつ第一の層が該金属基体に重層され、そして蒸着した亜鉛である場合、第二の層は、該第一の層に重層され、蒸着したシリカまたはアルミナを含まない、金属基体」
と認定していることから、明らかである。
　よって、請求人の上記主張は、拒絶の理由を正解しないでするものであり、採用することはできない。 
　
４　まとめ
　したがって、本願発明１は、刊行物１又は刊行物２に記載された発明であるから、特許法第２９条第１項第３号の規定に該当し、特許を受けることができない。
　
第５　むすび
　以上のとおり、本願発明１は、特許を受けることができないものであるから、その余の請求項に記載された発明について検討するまでもなく、本願は、拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。