【事件の表示】
　平成１０年特許願第３０８６９７号「スピン処理装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１２年５月１２日出願公開、特開２０００−１３０９３３号〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯  
　本願は、平成１０年１０月２９日の出願であって、平成１９年１０月１９日付け（発送日：同年１０月２３日）で拒絶査定がなされ、これに対し、同年１１月２２日に拒絶査定不服審判の請求がなされるとともに、同年１２月１８日付けで手続補正がなされたものである。  
　  
第２　平成１９年１２月１８日付けの手続補正についての補正却下の決定  
［補正却下の決定の結論］  
　平成１９年１２月１８日付けの手続補正（以下、「本件補正」という。）を却下する。  
　  
［理由］  
１．補正後の本願発明
　本件補正により、特許請求の範囲の請求項１は、次のように補正された。
　「基板を回転させることで、この基板を乾燥処理するスピン処理装置において、
　上面が開口し底部周辺部に排出口が形成されたカップ体と、
　このカップ体の底部中心部から内部へ挿通され駆動源によって回転駆動される駆動軸と、
　この駆動軸に設けられ上記基板の下面を支持する支持ピン及び基板の外周面に係合するガイドピンを有し、上記駆動軸とともに回転する回転テ−ブルと、
　上記カップ体の上面開口に設けられ中心部分に上記回転テ−ブルが回転駆動されることで基板の上面中心部から外気を導入して周辺部に沿う気体の流れを生じさせる第１の導入部が形成され周辺部分に上記カップ体の上面側から外気を導入して上記排出口へ向う気体の流れを生じさせる第２の導入部が
周方向ほぼ全長にわたって
　を具備したことを特徴とするスピン処理装置。」（下線は補正個所を示す。）
　  
２．補正の目的  
　本件補正は、請求項１に記載した発明を特定するために必要な事項である第２の導入部について、「周方向ほぼ全長にわたって」形成されたと限定するものであり、かつ、補正前の請求項１に記載された発明と補正後の請求項１に記載される発明は、産業上の利用分野及び解決しようとする課題が同一であるので、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項第２号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。  
　  
　そこで、本件補正後の前記請求項１に記載された発明（以下、「本願補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか。）について以下に検討する。 
　  
３．引用例 
３−１．引用例１ 
　原査定の拒絶の理由に引用された、特開昭６２−２１２２７号公報（以下、「引用例１」という。）には、図面と共に次の事項が記載されている。  
ア　「［技術分野］
　本発明は、乾燥技術、特に
半導体装置の製造におけるウエハの乾燥に適用して有効な技術に関する
イ　「［実施例］
　第１図は本発明の一実施例である乾燥装置の断面図、第２図は本実施例で用いられるロータを示す斜視図、第３図は前記ロータにウエハガイド保持板および蓋体を取付けた状態を示す部分断面図である。
　本実施例の
乾燥装置１は洗浄等の液処理終了後の半導体ウエハ２を乾燥するためのいわゆるスピン乾燥装置であり、偏平円筒状の乾燥室３内に回転自在に取付けられているロータ４を有する
　
乾燥室３上面の中心部分には乾燥処理用気体としての窒素ガス５を垂直方向に供給する乾燥処理用気体吸気口６が開設
乾燥処理用気体吸気口６の外周には排気用気体としてのクリーンエア７を乾燥室３内の外周方向に供給する排気用気体吸気口８が円周方向に複数列設
乾燥室３の外周近傍部分の底部には窒素ガス５およびクリーンエア７を液体、塵埃等とともに排気する排気口９が円周方向に複数開設
　
乾燥室３の内部の中央には円板状のロータ４（回転体）がシャフト１０を介してモータ１１により回転自在に取付けられている
　ウエハガイド保持板１４は窒素ガス５を半導体ウエハ２の表面に供給する開口部１７を有しており、第３図に示すように、保持された半導体ウエハ２に斜上方向から窒素ガス５を吹き付けるようになっている。また蓋体１５には窒素ガスを取り入れる吸気口１８が設けられており、これは、乾燥室３の乾燥処理用気体吸気口６に対応する位置となっている。」（２頁右上欄１４行〜右下欄１２行）
ウ「まずローダ（図示せず）によって基体上の一方のウエハガイド１３に半導体ウエハ２を水平方向から挿入してウエハを保持させて、その後、飛び出し防止ピン１９を基体下部より突出させる。
　次に、モータ１１によって
ロータ４を回転させながら窒素ガス５を乾燥処理用気体吸気口６から供給し
クリーンエア７を排気用気体吸気口８から供給
窒素ガス５は
半導体ウエハ２上を通過し、半導体ウエハ２上の水滴等を外周方向に飛散させる
飛散した水滴および乾燥室３内の塵埃は排気用気体吸気口８から供給されるクリーンエア７によって強制的に排気口９から外部に排気される
　このようにして乾燥を終了した半導体ウエハ２はアンローダ（図示せず）に収納され、乾燥処理が完了する。」（２頁右下欄１４行〜３頁左上欄１１行）
エ「［効果］
（１）．乾燥室内に前記気体を供給する乾燥処理用気体吸気口と、乾燥室内を強制排気するための排気用気体を供給する排気用気体吸気口とを開設した構造とすることによって、
飛散した液体、塵埃等の異物が乾燥室内を浮遊することなく排気用気体の流れによって強制排気されるため、該異物がウエハに再付着するのを防止できる
オ「たとえば、
ロータのウエハ保持部については
単一の保持部で大口径のウエハを保持するものであってもよい
　この場合には、大口径のウエハであっても信頼性の高い乾燥処理を行うことができる。」（３頁左下欄５〜９行）
カ　上記オのロータのウエハ保持部を単一の大口径のウエハを保持するものでは、乾燥室３の上面の中心部分に開設された乾燥処理用気体吸気口６から供給される窒素ガスはウエハの上面中心部分から供給され、ウエハの周辺部に沿う流れとなることは明らかである。
　
　これら記載事項及び図示内容を総合し、本願補正発明の記載ぶりに則って整理すると、引用例１には、次の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されている。  
　 
「半導体ウエハ２を回転させることで、この半導体ウエハ２を乾燥処理するスピン乾燥装置において、
　外周近傍部分の底部に排気口９が円周方向に複数開設された、偏平円筒状で内部にロータ４を有する乾燥室３と、
　この乾燥室３の底部中心部から内部へ挿通されモータ１１によって回転駆動されるシャフト１０と、
　このシャフト１０に設けられ上記半導体ウエハ２を保持する保持部を有し、上記シャフト１０とともに回転するロータ４と、
　上記乾燥室３上面の中心部分に、半導体ウエハ２の上面中心部分から窒素ガス５を供給し、周辺部に沿う気体の流れを生じさせる乾燥処理用気体吸気口６が開設され、乾燥処理用気体吸気口６の外周には排気用気体としてのクリーンエア７を乾燥室３内の外周方向に供給する排気用気体吸気口８が円周方向に複数列設された
　スピン乾燥装置。」
　  
３−２．引用例２ 
　原査定の拒絶の理由に引用された、実願平１−１３９２５９号（実開平３−７７１９８号）のマイクロフィルム（以下、「引用例２」という。）には、図面と共に次の事項が記載されている。  
ア　「［産業上の利用分野］
　本考案は、
半導体ウェーハなどの被乾燥物の遠心乾燥装置に関する
イ「［従来の技術］
　半導体ウェーハ製造における不純物拡散工程や薄膜形成工程などの製造工程の前処理工程である水洗後の乾燥工程は、一般に遠心乾燥方式で行われている。この遠心乾燥方式は、半導体ウェーハの複数枚を収納したキャリアを高速回転させて、遠心力と回転により生じる気流で半導体ウェーハとキャリアに付着した水滴を飛ばして空気乾燥させる方式で、その具体的装置例を第５図及び第６図を参照して説明する。
　同図の遠心乾燥装置は、複数の半導体ウェーハ（１）とこれを整列させて収納するキャリア（２）からなる被乾燥物（３）を複数個、例えば４つを、半導体ウェーハ（１）を水平にして支持するローター部（４）と、ローター部（４）を囲う箱形の本体部（５）と、その側壁一部に連結された排気ダクト（６）と、排気ダクト（６）を介して本体部（５）内を積極的に排気する排気駆動系（７）で構成される。ローター部（４）は、水平な回転台（８）と、これを支持して回転させる回転軸（９）を備え、回転台（８）上の周辺部に等間隔で被乾燥物（３）が着脱自在に設置される。
本体部（５）はローター部（４）の側方と下方を囲うボウル（１０）と、ボウル（１０）の上端開口に着脱自在に装着される蓋（１１）を具え、蓋（１１）は中央部に吸気口（１２）を有する
ウ「排気駆動系（７）を後述理由で常時作動させておいて、水洗された被乾燥物（３）をローター部（４）にセットし、本体部（５）のボウル（１０）に蓋（１１）をして、ローター部（４）を高速回転する。すると、被乾燥物（３）に付着した水滴が遠心力で飛ばされて遠心乾燥が行われ、かつ、
ローター部（４）の回転で回転台（８）の中央部が負圧になって、ここに蓋（１１）の吸気口（１２）から外気が流入して回転する被乾燥物（３）の内外を流れ、この気流で被乾燥物（３）が空気乾燥される
　
　これら記載事項及び図示内容を総合すると、引用例２には、次の事項が記載されている。
　 
「被乾燥物（３）を回転させることで、この被乾燥物（３）を乾燥処理する遠心乾燥装置において、
　上端が開口し側壁一部に排気ダクト（６）が連結されたボウル（１０）と、
　このボウル（１０）の底部中心部から内部へ挿通され回転駆動される回転軸（９）と、
　この回転軸（９）に設けられ上記被乾燥物（３）が着脱自在に設置され、上記回転軸（９）とともに回転する回転台（８）と、
　上記ボウル（１０）の上端開口に設けられ中央部に上記回転台（８）が回転駆動されることで外気を導入して被乾燥物（３）の内外を流れる気流を生じさせる吸気口（１２）が形成された蓋（１１）と
　を具備した遠心乾燥装置。」
　 
４．対比  
　本願補正発明と引用発明とを対比すると、機能または構造等からみて、後者の「半導体ウエハ２」は、前者の「基板」に相当し、以下同様に、「スピン乾燥装置」は「スピン処理装置」に、「排気口９」は「排出口」に、「モータ１１」は「駆動源」に、「シャフト１０」は「駆動軸」に、「ロータ４」は「回転テーブル」に、「乾燥処理用気体吸気口６」は「第１の導入部」に、「排気用気体吸気口８」は「第２の導入部」に、それぞれ相当する。
　また、後者において「外周近傍部分の底部に排気口９が円周方向に複数開設された」は、前者において「底部周辺部に排出口が形成された」に相当する。
　そして、後者の「乾燥室３」は、偏平円筒状であり、内部にロータ４を有するものであるので、前者の「蓋体」を設けた「カップ体」と「筐体」として共通し、後者の「乾燥室３上面」と前者の「蓋体」とは、中心部分に第１の導入部、その外周に第２の導入部が形成され、前記「筐体」の上面部分である点で、共通するものである。
　また、後者の「半導体ウエハ２を保持する保持部」は半導体ウエハ２を支持するものであるから、前者の「基板の下面を支持する支持ピン及び基板の外周面に係合するガイドピン」とは、基板の支持部である点で共通する。
　さらに、第１の導入部について、後者の「窒素ガス５を供給」することは、前者の「外気を導入」することに相当し、第２の導入部について、後者において「乾燥処理用気体吸気口６の外周には排気用気体としてのクリーンエア７を乾燥室３内の外周方向に供給する排気用気体吸気口８が円周方向に複数列設された」ことは、前者において「周辺部分に上記カップ体の上面側から外気を導入して上記排出口へ向う気体の流れを生じさせる第２の導入部が形成された」ことに相当する。
　
　そこで、本願補正発明の用語を用いて表現すると、両者は次の点で一致する。  
（一致点）  
「基板を回転させることで、この基板を乾燥処理するスピン処理装置において、
　底部周辺部に排出口が形成された筐体と、
　この筐体の底部中心部から内部へ挿通され駆動源によって回転駆動される駆動軸と、
　この駆動軸に設けられ上記基板を支持し、上記駆動軸とともに回転する回転テーブルと、
　上記筐体の上面部分に、中心部分に基板の上面中心部から外気を導入して周辺部に沿う気体の流れを生じさせる第１の導入部が形成され周辺部分に上記筐体の上面側から外気を導入して上記排出口へ向う気体の流れを生じさせる第２の導入部が形成された
　スピン処理装置。」  
　  
　そして、両者は次の点で相違する。 
（相違点１）  
　スピン処理装置の筐体について、本願補正発明は、上面が開口したカップ体と、カップ体の上面開口に設けられ中心部分に上記回転テーブルが回転駆動されることで基板の上面中心部から外気を導入して周辺部に沿う気体の流れを生じさせる第１の導入部が形成され周辺部分に上面側から外気を導入して上記排出口へ向う気体の流れを生じさせる第２の導入部が周方向ほぼ全長にわたって形成された蓋体からなるのに対し、引用発明は、乾燥室は上面が開口しておらず、第１の導入部及び第２の導入部が乾燥室の上面部分に設けられており、また、第２の導入部が円周方向に複数列設されている点。
　
（相違点２）
　基板の支持部が、本願補正発明では基板の下面を支持する支持ピン及び基板の外周面に係合するガイドピンからなるのに対し、引用発明では具体的構造が明らかでない点。
　
５．相違点の判断
（相違点１について）
　本願補正発明と引用例２に記載された事項を対比すると、機能または構造等からみて、後者の「遠心乾燥装置」は前者の「スピン処理装置」に相当し、以下同様に、「ボウル（１０）」は「カップ体」に、「回転台（８）」は「回転テーブル」に、「蓋（１１）」は「蓋体」に、「吸気口（１２）」は「第１の導入部」に相当する。そして、引用発明も引用例２に記載された事項も乾燥処理するスピン処理装置に関するものであるから、引用発明において乾燥室上面を別部材として形成し、カップ状部材の上面に別部材からなる蓋体を設けるようにすることは、引用例２に記載された事項から、当業者が容易になし得たことといえる。その際、乾燥室上面に形成された第２の導入部についても蓋体側に形成することは単なる設計事項にすぎず、かつ、第２の導入部は外気を導入して排出口へ向う気体の流れを生じさせるものであるから、その目的を達成するために最適な範囲に形成することは当業者の通常の創作にすぎない。したがって、第１の導入部と共に第２の導入部をカップ体の開口部に設ける蓋体の周方向ほぼ全長にわたって形成することは、引用例２に記載された事項に基づいて、当業者が容易になし得たことである。また、本願補正発明は、回転テーブルが回転駆動されることで基板の上面中心部から外気を導入して周辺部に沿う気体の流れを生じさせるものであるが、引用例２に記載された事項にあるように回転台、すなわち、回転テーブルを回転させることで中心部に形成された第１の導入部から外気が導入されることは明らかである。
　したがって、引用発明のスピン処理装置の筐体を上記相違点１に係る本願補正発明の発明特定事項とすることは、引用例２に記載された事項に基づいて当業者が容易に想到し得たことである。
　
（相違点２について）
　基板の支持部として、基板の下面を支持する支持ピン及び基板の外周面に係合するガイドピンは周知技術（例えば、特開平７−６６０９９号公報、特開平１０−１６３１６１号公報）であり、引用発明においてこのような基板の支持部を採用することを阻害する事由もないことから、引用発明の基板の支持部を相違点２に係る本願補正発明の発明特定事項とすることは、周知技術に基づいて当業者が容易になし得たことと言わざるをえない。
　
　そして、本願補正発明による効果も、引用発明、引用例２に記載された事項及び周知技術から当業者が予測し得た程度のものであって、格別のものとはいえない。 
　  
　したがって、本願補正発明は、引用発明、引用例２に記載された事項及び周知技術に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができない。  
　  
６．むすび  
　以上のとおり、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。  
　  
第３　本願発明  
　本件補正は、上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明（以下、同項記載の発明を、「本願発明」という）は、平成１９年９月１３日付けの手続補正書により補正された特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される、以下のとおりのものである。  
　「基板を回転させることで、この基板を乾燥処理するスピン処理装置において、
　上面が開口し底部周辺部に排出口が形成されたカップ体と、
　このカップ体の底部中心部から内部へ挿通され駆動源によって回転駆動される駆動軸と、
　この駆動軸に設けられ上記基板の下面を支持する支持ピン及び基板の外周面に係合するガイドピンを有し、上記駆動軸とともに回転する回転テ−ブルと、
　上記カップ体の上面開口に設けられ中心部分に上記回転テ−ブルが回転駆動されることで基板の上面中心部から外気を導入して周辺部に沿う気体の流れを生じさせる第１の導入部が形成され周辺部分に上記カップ体の上面側から外気を導入して上記排出口へ向う気体の流れを生じさせる第２の導入部が形成された蓋体と
　を具備したことを特徴とするスピン処理装置。」  
　  
第４　引用例の記載事項  
　原査定の拒絶の理由に引用された引用例、及び、その記載事項は、前記「第２　３．」に記載したとおりである。
　
第５　対比・判断
　本願発明は、前記「第２　１．」の本願補正発明から、第２の導入部についての「周方向ほぼ全長にわたって」形成されたとの限定事項を省いたものである。
　そうすると、本願発明の発明特定事項をすべて含み、さらに、他の発明特定事項を付加したものに相当する本願補正発明が、前記「第２　５．」に記載したとおり、引用発明、引用例２に記載された事項及び周知技術に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、同様に、引用発明、引用例２に記載された事項及び周知技術に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
  
第６　むすび  
　以上のとおり、本願発明は、引用発明、引用例２に記載された事項及び周知技術に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができない。  
　したがって、本願は拒絶すべきものである。  
　よって、結論のとおり審決する。