【手続補正書】
【提出日】平成23年12月15日(2011.12.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
照明条件を変更可能な照明光学系と、原版を保持する原版ステージと、投影光学系と、基板を保持する基板ステージとを備え、前記照明光学系によって該原版を照明し、前記原版のパターンの像を前記投影光学系を介して該基板に投影して前記基板の露光処理を行う露光装置であって、
前記原版ステージ上に配置されたマークと前記基板ステージ上に配置されたマークとを用いて、前記露光処理のための計測処理を行なう計測システムを有し、
前記照明光学系は、
ターレットと、
前記ターレット上に配置され、複数種類の有効光源分布を形成する複数の絞りとを有し、
前記複数の絞りのうち１つの絞りを光路内に配置した状態で、前記計測システムによって前記計測処理を行い、
前記複数の絞りのうち、前記計測処理で用いる前記絞りにより形成される有効光源分布とは異なる有効光源分布を形成する絞りを、前記ターレットを回転させて光路内に配置した状態で、前記計測処理の計測結果を用いて前記露光処理を行う
ことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記ターレットを用いて前記複数の絞りのうち前記光路内に配置する絞りの切替の制御を行う制御部と、
前記露光処理で用いる有効光源分布と前記計測処理で用いる有効光源分布とを関連付けたデータを記憶する記憶部と、を更に有し、
前記制御部が、前記データを参照して前記絞りの切替の制御を行うことにより、前記計測処理で用いる絞りが前記光路内に配置されることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記計測システムが前記計測処理を行う前に、前記露光処理で用いる絞りで予備的な計測を行い、前記予備的な計測の結果に基づいて、前記計測処理で用いる絞りが前記光路内に配置されることを特徴とする請求項１又は２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記複数の絞りは、前記計測処理に専用の有効光源分布を形成するための絞りを含むことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項５】
前記ターレット上において、前記計測処理で用いる前記絞りは、前記露光処理で用いる絞りの隣に配置されていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項６】
前記計測処理で用いる絞りにより形成される有効光源分布の面積は、前記露光処理で用いる絞りにより形成される有効光源分布の面積よりも大きいことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項７】
前記予備的な計測の結果が前記計測処理に要求される計測精度に満たない場合は、前記露光処理で用いる絞りとは異なる絞りを前記光路内に配置して前記計測処理を行うことを特徴とする請求項３に記載の露光装置。
【請求項８】
前記計測システムは、前記露光処理のために、前記投影光学系のフォーカス位置、または、前記原版ステージと前記基板ステージとの相対位置を計測する計測処理を行うことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項９】
前記計測処理の計測結果に基づいて前記基板ステージの位置を制御して前記露光処理を行うことを特徴とする請求項８に記載の露光装置。
【請求項１０】
露光装置を用いて基板の露光処理を行う露光方法であって、
前記露光装置は、
ターレットと、前記ターレット上に配置され、複数種類の有効光源分布を形成する複数の絞りとを有し、照明条件を変更可能な照明光学系と、
原版を保持する原版ステージと、
原版のパターンの像を基板に投影する投影光学系と、
前記基板を保持する基板ステージとを備え、
前記露光方法は、
前記複数の絞りのうち１つの絞りを光路内に配置した状態で、前記原版ステージ上に配置されたマークと前記基板ステージ上に配置されたマークとを用いて、前記露光処理のための計測処理を行なう工程と、
前記複数の絞りのうち前記計測処理で用いる絞りにより形成される有効光源分布とは異なる有効光源分布を形成する絞りを前記ターレットを回転させて光路内に配置した状態で、前記計測処理の計測結果を用いて、前記照明光学系によって前記原版を照明し、前記原版のパターンの像を前記投影光学系を介して前記基板に投影して前記基板の露光処理を行う工程と
を含むことを特徴とする露光方法。
【請求項１１】
露光装置を用いて基板の露光処理を行う露光方法であって、
前記露光装置は、
照明条件を変更可能な照明光学系と、
原版を保持する原版ステージと、
原版のパターンの像を基板に投影する投影光学系と、
前記基板を保持する基板ステージとを備え、
前記露光方法は、
前記原版ステージ上に配置されたマークと前記基板ステージ上に配置されたマークとを用いて、前記露光処理のための計測処理を行なう計測工程と、
前記計測処理の計測結果を用いて、前記照明光学系によって前記原版を照明し、前記原版のパターンの像を前記投影光学系を介して前記基板に投影して前記基板の露光処理を行う露光工程とを有し、
前記計測工程において、前記露光処理で用いる有効光源分布で前記計測処理を予め行い、
前記計測処理の結果が要求される計測精度に満たない場合に、前記露光処理で用いる有効光源分布とは異なる有効光源分布で前記計測処理を行い、
前記露光工程において、前記露光処理で用いる有効光源分布とは異なる有効光源分布で行われた前記計測処理の計測結果を用いて前記露光処理を行うことを特徴とする露光方法。
【請求項１２】
請求項１乃至９のいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、該基板を現像する工程と、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の第１の側面は、照明条件を変更可能な照明光学系と、原版を保持する原版ステージと、投影光学系と、基板を保持する基板ステージとを備え、前記照明光学系によって該原版を照明し、前記原版のパターンの像を前記投影光学系を介して該基板に投影して前記基板の露光処理を行う露光装置に係り、前記露光装置は、前記原版ステージ上に配置されたマークと前記基板ステージ上に配置されたマークとを用いて、前記露光処理のための計測処理を行なう計測システムを有し、前記照明光学系は、ターレットと、前記ターレット上に配置され、複数種類の有効光源分布を形成する複数の絞りとを有し、前記複数の絞りのうち１つの絞りを光路内に配置した状態で、前記計測システムによって前記計測処理を行い、前記複数の絞りのうち、前記計測処理で用いる前記絞りにより形成される有効光源分布とは異なる有効光源分布を形成する絞りを、前記ターレットを回転させて光路内に配置した状態で、前記計測処理の計測結果を用いて前記露光処理を行う。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の第２の側面は、露光装置を用いて基板の露光処理を行う露光方法に係り、前記露光装置は、ターレットと、前記ターレット上に配置され、複数種類の有効光源分布を形成する複数の絞りとを有し、照明条件を変更可能な照明光学系と、原版を保持する原版ステージと、原版のパターンの像を基板に投影する投影光学系と、前記基板を保持する基板ステージとを備え、前記露光方法は、前記複数の絞りのうち１つの絞りを光路内に配置した状態で、前記原版ステージ上に配置されたマークと前記基板ステージ上に配置されたマークとを用いて、前記露光処理のための計測処理を行なう工程と、前記複数の絞りのうち前記計測処理で用いる絞りにより形成される有効光源分布とは異なる有効光源分布を形成する絞りを前記ターレットを回転させて光路内に配置した状態で、前記計測処理の計測結果を用いて、前記照明光学系によって前記原版を照明し、前記原版のパターンの像を前記投影光学系を介して前記基板に投影して前記基板の露光処理を行う工程とを含む。
本発明の第３の側面は、露光装置を用いて基板の露光処理を行う露光方法に係り、前記露光装置は、照明条件を変更可能な照明光学系と、原版を保持する原版ステージと、原版のパターンの像を基板に投影する投影光学系と、前記基板を保持する基板ステージとを備え、前記露光方法は、前記原版ステージ上に配置されたマークと前記基板ステージ上に配置されたマークとを用いて、前記露光処理のための計測処理を行なう計測工程と、前記計測処理の計測結果を用いて、前記照明光学系によって前記原版を照明し、前記原版のパターンの像を前記投影光学系を介して前記基板に投影して前記基板の露光処理を行う露光工程とを有し、前記計測工程において、前記露光処理で用いる有効光源分布で前記計測処理を予め行い、前記計測処理の結果が要求される計測精度に満たない場合に、前記露光処理で用いる有効光源分布とは異なる有効光源分布で前記計測処理を行い、前記露光工程において、前記露光処理で用いる有効光源分布とは異なる有効光源分布で行われた前記計測処理の計測結果を用いて前記露光処理を行う。