【事件の表示】
　特願２００２−１６２６８８「プロキシミティ露光装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１６年　１月１５日出願公開、特開２００４−　１２５７７〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、平成１４年６月４日の出願であって、平成２０年５月２６日付けで通知された拒絶理由に対し、同年７月２８日に手続補正書が提出されたが、同年１０月１７日付けで拒絶査定がなされ、これに対して同年１１月１９日付けで審判請求がされるとともに、同年１２月１９日付けで手続補正書が提出され、その後、当審から送付した審尋に対し、平成２１年１１月１０日付けで回答書が提出されたものである。
　
２．平成２０年１２月１９日付け手続補正についての補正却下の決定
　
［補正の却下の決定の結論］
　平成２０年１２月１９日付け手続補正を却下する。
　
［理由］
（１）補正事項
　平成２０年１２月１９日付け手続補正（以下、「本件補正」という。）により、特許請求の範囲は、本件補正前の平成２０年７月２８日付け手続補正書により補正された、
 　
「【請求項１】
　露光光を照射する光照射機構（３）と、
　パターンが形成されたマスク（２００）を保持する枠体（３１）を有するマスクステージ機構（４）と、
　ワーク（３００）を保持するワークステージ機構（５）と、
　前記ワークステージ機構（５）に設置され前記枠体（３１）に装着されたマスク（２００）の下面とワークステージ機構（５）のワーク保持面との間隙の寸法を測定するための間隙測定手段（７４，７５，７６，７７）と、
　間隙測定手段（７４，７５，７６，７７）による測定結果に基づいて前記枠体（３１）を昇降させて前記間隙を調整するマスク枠体昇降調整手段（７８，７９，８０，８１）とを備え、
　前記マスク枠体昇降調整手段（７８，７９，８０，８１）による前記間隙の調整を、露光処理中に行うように構成したことを特徴とするプロキシミティ露光装置。
【請求項２】
　間隙測定手段（７４，７５，７６，７７）が、マスク枠体昇降調整手段（７８，７９，８０，８１）の設置個所に対応して設置されていることを特徴とする請求項１に記載のプロキシミティ露光装置。
【請求項３】
　間隙測定手段（７４，７５，７６，７７）が、所定幅のライン状の半導体レーザー光を照射し、反射光を受光するセンサー（８６）と、該センサー（８６）のワーク保持表面部分の受光信号に基づいて間隙寸法値を演算する演算部とを備えていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のプロキシミティ露光装置。
【請求項４】
　マスク枠体昇降調整手段（７８，７９，８０，８１）は、機台（２１）に設置されたブラケット（８８）と、雌ねじを有し該ブラケット（８８）の上部に取り付けられたねじ軸受（９０）と、該ねじ軸受（９０）の下方に位置するようにブラケット（８８）取り付けられた軸受（９１）と、雄ねじ部が該ねじ軸受（９０）の雌ねじに螺合され、軸受（９１）に垂直方向に移動自在に取り付けられたねじ軸（８９）と、出力軸が上方に位置するようにブラケット（８８）に設置された支持体（９２）に取り付けられたステッピングモータ（９３）と、該ねじ軸（８９）の下端部とステッピングモータ（９３）の出力軸を連結するカップリング（９４）と、出力軸が上方に位置するように支持体（９２）に取り付けられたロータリーエンコーダ（９５）と、ステッピングモータ（９３）の回転検出軸と該ロータリーエンコーダ（９５）の出力軸を連結するカップリング（９６）とにより構成されていることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれかに記載のプロキシミティ露光装置。」
　
から、
　
「【請求項１】
　パターンが形成されたマスク（２００）を装着する枠体（３１）を有するマスクステージ機構（４）と、
　フォトレジストが塗布された帯状ワーク（３００）をマスク（２００）と所定の微小間隔を有するように保持するワークステージ機構（５）と、
　ワークステージ機構（５）の上流側に設置されフォトレジストが塗布された帯状ワーク（３００）を送出する送り出しリール機構（１）と、
　送り出しリール機構（１）から送出された帯状ワーク（３００）を間欠的に搬送する搬送機構（６）と、
　搬送機構（６）により間欠的に搬送された帯状ワーク（３００）にマスク（２００）におけるパターンを介して露光用光を照射する光照射機構（３）と、
　ワークステージ機構（５）の下流側に設置され露光処理された帯状ワーク（３００）を巻き取る巻き取りリール機構（２）と、
　ワークステージ機構（５）に設置され枠体（３１）に装着されたマスク（２００）の下面とワークステージ機構（５）のワーク保持面との間隙の寸法を測定するための間隙測定手段（７４，７５，７６，７７）と、
　間隙測定手段（７４，７５，７６，７７）による測定結果に基づいてマスクステージ機構（４）における枠体（３１）を昇降させて前記間隙を調整するマスク枠体昇降調整手段（７８，７９，８０，８１）とを備え、
　マスク枠体昇降調整手段（７８，７９，８０，８１）による前記間隙の調整を、露光処理中に行うように構成したことを特徴とするプロキシミティ露光装置。」
　
に補正された。
　
（２）補正の適否について
　上記補正は、請求項１については、請求項１に記載した発明を特定するための事項である「ワーク」に対して、「帯状」であることと「フォトレジストが塗布」されているという限定を付加し、同じく請求項１に記載した発明を特定するための事項である「ワークステージ機構」が「マスクと所定の微小感覚を有するように」保持しているという限定を付加している。
　それらに加えて補正前の請求項１に記載した発明に対して、
「ワークステージ機構の上流側に設置されフォトレジストが塗布された帯状ワークを送出する送り出しリール機構と、
　送り出しリール機構から送出された帯状ワークを間欠的に搬送する搬送機構と、
　搬送機構により間欠的に搬送された帯状ワークにマスクにおけるパターンを介して露光用光を照射する光照射機構と、
　ワークステージ機構の下流側に設置され露光処理された帯状ワークを巻き取る巻き取りリール機構」
とを備えることを追加して補正後の請求項１としている。
　しかしながら、上記補正事項は、「送り出しリール機構」、「搬送機構」、「光照射機構」、「巻き取りリール機構」という事項を新たに追加するものであり、補正前の請求項１に記載された発明を特定するための事項のいずれかを概念的に下位にしたものではないから、発明特定事項の限定とはいえない。
　以上のことから、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
　上述のとおり、本件補正は、補正の要件を満足しておらず却下すべきものと認められるが、念のため特許請求の範囲の限定的減縮を目的とするものであったとして、本件補正後の請求項１に記載された発明（以下「本願補正発明」という。）が、特許出願の際に独立して特許を受けることができるものであるか（平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか）について、以下に検討する。
　
（３）引用刊行物
　
（３−１）引用刊行物１
　本願の出願前に頒布された特開平１−２３８０１４号公報（原査定の拒絶理由における引用文献１、以下、「引用刊行物１」という。）には、図面とともに以下の事項が記載されている（下線は当審で付与）。
　
（１ａ）「２．特許請求の範囲
１．
マスクに基板を近接させ、両者の間隙を制御した状態で、前記マスクのパタンを前記基板に転写する間隙制御式露光方法において
Ｚ方向に調整可能なマスク固定台に固定されている前記基板との間隙測定用の間隙検出器により前記基板との距離を測定、調整する工程と、前記基板固定台を前記マスク固定台の下部に移動させ、該基板固定台に固定されている前記マスクとの間隙測定用の間隙検出器を用い前記マスクとの距離を測定、調整する工程とを有することを特徴とする間隙制御式露光方法
　
（１ｂ）「５．マスクに基板を近接させ、両者の間隙を制御した状態で、前記マスクのパタンを前記基板に転写する間隙制御式露光装置において、互いに直角をなす三方向をそれぞれＸ、Ｙ、Ｚ方向としたとき、Ｘ、Ｙ方向に移動可能に組み合されたテーブル上にＺ方向駆動手段が取り付けられている前記ウェハ固定手段と、前記テーブルに固定されている非接触形の微小変位計と、Ｚ方向駆動手段が取り付けられている前記マスクの固定手段と、該マスクの固定手段に固定されている非接触形の微小変位計とを有していることを特徴とする間隙制御式露光装置。」（第２ページ左上欄第１〜１２行）
　
（１ｃ）「第１図は斜視図、第２図は断面図で、１はウェハステージで、レール２上をＹ軸方向に直進移動可能なＹテーブル３と、Ｙテーブル３上をＸ軸方向に直進移動可能なＸテーブル４と、Ｘテーブル４上に設けられた３個のウェハ上下駆動装置５Ａ、５Ｂ及び５Ｃにより上下及び傾斜方向に位置決め制御可能で、ウェハ６を真空吸着可能なウェハチャック７とよりなっている。８は露光光源及びマスク９とウェハ６とのアライメントの検出を行なう光学系等が設けられている露光チェンバで、露光チェンバー８には下面の露光中心の位置に設けられた３個のマスク上下駆動装置１０Ａ、１０Ｂ及び１０Ｃにより上下方向及び傾斜方向に位置決め制御可能で、マスク９を真空吸着可能なマスクステージ１１が設けられている。
　１２はＸテーブル４上に固定されているマスク測定用ギャップセンサで、マスク９の表面までのギャップを測定するための非接触形の微小変位計で、Ｘテーブル４とともに、平面内を移動できるようになっており、１３はウェハステージ１の上方に、僅かな間隙を隔てた位置に、露光チェンバ８のセンサホルダ１４に取り付けられているウェハ測定用のギャップセンサであり、１５はマスク測定用のギャップセンサ１２の検出結果に応じて、ウェハチャック７のウェハ上下駆動装置５Ａ、５Ｂ、５Ｃを制御し、ウェハ測定用のギャップセンサ１３の検出結果に応じてマスクステージ１１のマスク上下駆動装置１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃを制御するコントローラであり、ｇはギャップ寸法を示している。」（第３ページ左下欄第７行〜右下欄第１６行）
　
（１ｄ）第１図は以下のとおりのものである。
　
　第１図の記載から、マスクステージに装着されたマスクの周辺には、枠体が設けられていることが読み取れる。これを踏まえると、引用刊行物１には次の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されているものと認められる。
　
「パタンが形成されたマスクを装着する枠体を有するマスクステージと、
　ウェハをマスクとの所定のギャップを有するように保持するウェハステージと、
　ウェハにマスクにおけるパタンを介して露光を行う露光光源や光学系を備えた露光チェンバと、
　ウェハからマスクの表面までのギャップを測定するためのマスク測定用ギャップセンサと、
　マスク測定用ギャップセンサの検出結果に基づいてギャップを制御するウェハ上下駆動装置を備えて、間隙の調整を行う間隙制御式露光装置。」
　
（３−２）引用刊行物２
　同じく本願の出願前に頒布された特開平６−５４８６号公報（原査定の拒絶理由における引用文献２、以下、「引用刊行物２」という。）には、図面とともに以下の事項が記載されている（下線は当審で付与）。
　
（２ａ）「【０００２】
【従来の技術】従来の近接露光装置の構成を図９に示し、以下に説明する。図中、１１０は露光光学系であり、露光光学系１１０は、紫外線照射用の例えば、超高圧水銀ランプ１１１と、超高圧水銀ランプ１１１からの照射光を集光する凹面鏡１１２と、凹面鏡１１２の焦点近傍に配置されたフライアイレンズ１１３と、フライアイレンズ１１３とマスク１０１との間に配置されたコンデンサレンズ１１４と、一組の光路反転ミラー１１５、１１６とによって構成されており、超高圧水銀ランプ１１１から照射された光Ｌ…は、図に示すような光路を取り、マスク１０１の表面に対して垂直に照射される。マスク１０１は、マスク保持部１０２によって上述したように露光光学系１１０からの光Ｌが垂直に照射される位置に保持されている。１０３は表面に感光剤が塗布された基板であり、基板１０３は、基板移動保持部１０４によって保持され、マスク保持部１０２によって保持されているマスク１０１に平行にかつ近接させるためにＺ方向に移動させられ、所定位置で保持される。
【０００３】近接露光装置は、基板１０３とマスク１０１とが平行にかつ近接して保持された状態で、露光光学系１１０による平行な照射光をマスク１０１を介してその上方から基板１０３の表面に垂直に露光し、基板１０３の表面に塗布した感光剤にマスク１０１に描画されたパターンを焼き付けするように構成されている。
【０００４】
上述の構成において、基板１０３とマスク１０１との間の隙間（以下、ギャップという）は、平面上の全点において均一に、例えば、およそ５０μｍ〜１００μｍの範囲内で、基板移動保持部１０４のＺ方向移動量を制御している。ここで、基板１０３とマスク１０１とのギャップが均一でなければ基板上の各点での焼き付けの解像度が不均一となる
　
（２ｂ）「【００２６】
【実施例】以下、図面を参照して本発明の一実施例を説明する。本発明に係る実施例の構成を図１に示し、以下に説明する。このギャップセンサは、計測用の光を照射するための発光部１と、発光部１から照射された光が、基板５の上面とマスク６の下面とでそれぞれ反射された反射光を受光するための受光部２と、受光部２の受光データに基づいて、各反射光の受光位置を検出し、前記両受光位置の間隔を求めることにより、ギャップを算出する等の処理を行うギャップ検出制御部３とによって構成されている。
なお、装置制御部４は、後述するように、ギャップ検出制御部３からの検出信号に基づきアクチュエータ７を制御して、基板５とマスク６とのギャップを調整するためのものである
　
（２ｃ）「【００３４】次に、上述したギャップ検出制御部３の構成と、装置制御部４の構成および、それらの関係とを図３に示すブロック図に示し、以下に説明する。ギャップ検出制御部３に備えられたＣＵＰ３１は、コントローラ３２に対してタイミング制御情報を与えるとともに、各発光部１の発光量を切り替えるためにデューティメモリ３６を書換え、また、計測した受光データに基づいてギャップ値を算出し、通信回線４３を介して算出したギャップ値を通信用メモリ４２に転送するといった機能を有する。コントローラ３２は、データメモリ３３ａ、３３ｂの切り替え制御、Ａ／Ｄ変換器３４のデータ変換指示、マルチプレクサ３５のチャネル切り替え制御および、各受光部２の受光制御等を行う。マルチプレクサ３５は、各受光部２からの受光データを順次取り出す。取り出された受光データは、Ａ／Ｄ変換機３４でデジタルデータに変換された後、データメモリ３３ａまたは３３ｂに記憶される。
なお、装置が起動している間は、通常各発光部１は発光した状態にあり、各受光部２は、一定間隔ごとに計測を繰り返している
【００３５】
一方、装置制御部４に備えられた装置制御用のＣＰＵ４１は、基板５がセットされると、一定時間ごとに通信用メモリ４２に順次転送されてくるギャップの算出結果に基づいて、各アクチュエータ７を駆動してマスク６と基板５とのギャップが均一になるように、変形ベース５１のＺ方向の位置を調節する
　
（２ｄ）「【００３８】各受光部２で受光が完了すると、コントローラ３２は、マルチプレクサ３５を制御して、各受光部２で計測した受光データを順次取り出し、Ａ／Ｄ変換器３４にその受光データを送る。デジタルデータに変換された受光データはデータメモリ３３ａまたはデータメモリ３３ｂに記憶される（ステップＳ４）。
一方のデータメモリに受光データが記憶されると、ＣＰＵ３１は、そのデータメモリに記憶されている受光データに基づいて、基板５の上面およびマスク６の下面からの反射光の受光位置を検出し、ギャップ値を算出する
　
（２ｅ）「【００５０】
基板５がセットされると、上述したようにギャップ検出用のＣＰＵ３１から一定時間間隔ごとにギャップ値が通信用メモリ４２に順次転送されてくる。この通信用メモリ４２から各ギャップ値を順に読み出す
【００５１】取り出したギャップ値と、予め定められた基準ギャップ値とに基づいて、
変形ベース５１の底面に設けられた各アクチュエータ７の駆動量を算出し、その算出結果に基づいて各アクチュエータ７をＺ方向に駆動して、マスク６と基板５とのギャップを均一に調整する（ステップＳ２４）。
　
　これらを踏まえると、引用刊行物２には、以下の技術的事項（以下、「引用刊行物２に記載の事項」という。）が記載されているものと認められる。
　
「装置が起動している間、マスクと基板とのギャップの計測を繰り返す露光装置であって、基板がセットされると、一定時間ごとにギャップの計測を行い、かかるギャップの算出結果に基づいて、各アクチュエータを駆動してギャップが均一になるように調整を行う露光装置。」
　
（４）対比・判断
　本願補正発明と引用発明とを対比すると、引用発明の
「パタン」、
「マスクステージ」、
「ウェハ」、
「ギャップ」、
「ウェハステージ」、
「露光を行う」、
「露光光源や光学系を備えた露光チェンバ」、
「マスク測定用ギャップセンサ」、
「間隙制御式露光装置」
　
は、それぞれ、本願補正発明の
「パターン」、
「マスクステージ機構」、
「ワーク」、
「微小間隔」、
「ワークステージ機構」、
「露光用光を照射する」、
「光照射機構」、
「間隙測定手段」、
「プロキシミティ露光装置」
　
に相当する。
　
　また、ワークにフォトレジストが塗布されていることは通常のことであり、さらに、引用発明の「ウェハ上下駆動装置」と、本願補正発明の「マスクステージ機構」は、いずれもマスクとワークの間隙を調整する「間隙調整機構」の点で共通する。また、引用発明の「マスク測定用ギャップセンサ」は、ウェハステージ上にあるＸテーブル上に固定されているので、実質的にウェハステージ上に設置されているといえる。
　
　してみると、両者は、
「パターンが形成されたマスクを装着する枠体を有するマスクステージ機構と、
　フォトレジストが塗布されたワークをマスクと所定の微小間隔を有するように保持するワークステージ機構と、
　ワークにマスクにおけるパターンを介して露光用光を照射する光照射機構と、
　ワークステージ機構に設置され枠体に装着されたマスクの下面とワークステージ機構のワーク保持面との間隙の寸法を測定するための間隙測定手段と、
　間隙測定手段による測定結果に基づいて、間隙を調整する間隙調整機構を備えたプロキシミティ露光装置。」
の点で一致し、
　
以下の点で相違する。
　
・相違点１
　本願補正発明では、ワークが帯状であって、帯状ワークを搬送するための機構として、ワークステージ機構の上流側に設置されフォトレジストが塗布された帯状ワークを送出する送り出しリール機構と、送り出しリール機構から送出された帯状ワークを間欠的に搬送する搬送機構と、搬送機構により間欠的に搬送された帯状ワークにマスクにおけるパターンを介して露光用光を照射する光照射機構と、ワークステージ機構の下流側に設置され露光処理された帯状ワークを巻き取る巻き取りリール機構を有しているのに対し、引用発明ではワークが帯状ではなく、そのためワークを搬送する機構も有していない点。
　
・相違点２
　ワークとマスクとの間の間隙を調整する間隙調整機構が、本願補正発明では、マスクステージ機構における枠体を昇降させているのに対し、引用発明では、ウェハ、すなわちワーク側のワークステージ機構を昇降させている点。
　
・相違点３
　間隙調整機構による間隙の調整を、本願補正発明では露光処理中に行っているのに対し、引用発明ではいつ行っているのか不明である点。
　
　上記相違点について検討する。
　
・相違点１について
　露光装置に用いるワークとして帯状のものを用い、帯状ワークを搬送するための機構として、ワークステージ機構の上流側に設置されフォトレジストが塗布された帯状ワークを送出する送り出しリール機構と、送り出しリール機構から送出された帯状ワークを完結的に搬送する搬送機構と、搬送機構により間欠的に搬送された帯状ワークにマスクにおけるパターンを介して露光用光を照射する光照射機構と、ワークステージ機構の下流側に設置され露光処理された帯状ワークを巻き取る巻き取りリール機構を用いることは、出願人が明細書中に従来の技術として認めた上で開示している、特開平１０−２６８５２５号公報等にもみられるように、本願出願前に周知の構成である。
　してみると、引用発明におけるワークの形状として、上記周知の帯状ワークを用い、ワークを帯状にしたことに伴い、同じく周知の、かかる帯状ワークを搬送する送り出しリール機構、搬送機構、巻き取りリール機構を用いるようにすることは、当業者が適宜容易になし得ることである。
　
・相違点２について
　まず、本願補正発明における「間隙を調整するマスク枠体昇降調整手段」の技術的意義について検討するため、本願明細書の発明の詳細な説明を参酌することとする。
　本願明細書の段落【０００３】には、「上述のマスクステージ機構の枠体に保持されたマスクと、ワークステージ機構に保持されたワークとの間隙寸法は正確な露光処理を行うために予め設定された間隔寸法にする必要がある。」との記載がある。
　これらの記載から、マスク枠体昇降調整手段に相当するマスクステージ機構を移動させることの目的は、間隙寸法を予め設定された間隔寸法にして正確な露光処理を行う点にあり、ワークステージ機構ではなくマスクステージ機構を移動させることによる格別の技術的意義はないことが把握できる。
　本願明細書の段落【０００６】及び【０００７】には、
「上述のような間隙調整機能を有するプロキシミティ露光装置では間隙調整機構がワークステージ部を昇降させるようになっているため、露光光によるマスクまたはマスク保持用の枠体が変形を生じる度にワークステージ部のワーク保持高さ位置が変化することになり、ワークステージ部の上流側および下流側に設置されているワーク搬送機構との関係に不都合が生じるという問題があった。
　また、間隙設定部がマスクステージ部の上部に設置されていると共に間隙設定部の測定用光がピンホールを通過したポイント光であるため、マスクステージ部のマスク下面位置とワークステージ部のワーク保持高さ位置との間隙寸法を正確に検出することができず、正常な露光ができなくなるという問題があった。」
というワークを移動させることによる問題についても記載されているが、間隙を調整するのに困難が生じるとはいえ、全体的な目的としては、両者の間隙寸法を予め設定された間隔寸法にする点にあることに相違はない。
　ここで、両者の間隔寸法を設定するにあたって、いずれを移動させても、間隔寸法を調整することができることは自明なことであり、いずれを移動させるかによる、格別な技術的意義が認められない以上、引用発明における間隙調整機構として、ワークを移動させることに代えて、マスクを移動させて間隙を調整するようにすることは、当業者が適宜選択し得ることにすぎない。
　また仮に、かかる事項が適宜容易になし得ることとは言えないとしても、マスクとワークとの間の間隙の調整を、マスクを移動することによって行うことは周知（必要であれば、特開２００２−３９７３６号公報の段落【００２４】、特開平１１−２４１９０８号公報の段落【００６６】等参照）であり、引用発明における間隙調整機構として、かかる周知の技術を採用して、本願補正発明のような構成とすることは、当業者が適宜容易になし得ることにすぎない。
　
・相違点３について
　引用刊行物２には、引用発明と同様に、露光装置において、マスクとワークとの間のギャップを均一にするように計測及び調整を行うことが記載されており、かかる計測及び調整を、一定時間ごとに行うことが記載されている。
　これらの記載からは、ギャップの計測及び調整は、一定時間ごとに行うことは把握できるものの、露光処理中にも行っているか否かは不明である。
　ここで、ギャップの計測及び調整の時期と、速度や精度の関係について検討することとする。
　まず、ギャップの計測に関しては、ワークの移動や、マスクへの露光によってギャップが変化することもあることを考慮すると、両者を静止させた状態で、露光等を行わない状態で計測及び調整をした方が、より精度よく計測及び調整ができることは自明なことである。しかしながら、その時点で正確に計測できたとしても、その後のワークの移動や露光によるギャップの変化に対しては追従できない。
　一方、露光処理中にギャップの計測や調整を行えば、ワークの移動や露光によるギャップの変化に追従はできるものの、両者を静止させた状態における計測及び調整よりも若干精度が落ちることも自明なことといえる。
　よって、いずれの時点での計測及び調整にもそれぞれに利点及び欠点があることは明らかであることから、ギャップの計測及び調整の時期としていずれの時期を選択するかは、いずれの点を優先するかに応じて決定しうることであるといえる。
　ここで、引用刊行物２の記載には、いずれかの方法を特段排除する記載は認められないのであるから、引用刊行物２に記載の事項としては、一定期間ごとの計測及び調整を行う際に、露光処理期間中にも計測及び調整を行うことが含まれているものといえる。
　してみると、引用発明と引用刊行物２に記載の事項は、いずれも露光装置におけるマスクとワークとの間のギャップの計測及び調整に関する点で共通しているのであるから、引用発明に引用刊行物２に記載の事項を適用して、その際に間隙の計測及び調整を、露光処理中に行うようにすることは、当業者が適宜容易になし得ることである。
　
　効果の点についても、本願補正発明の効果は、引用発明、引用刊行物２に記載の事項及び周知技術から予測し得る程度のものにすぎない。
　
　なお、審判請求人は、審査段階における平成２０年７月２８日付けの意見書において、請求項１の作用効果について、以下の主張をしている。
　
「露光処理中は光照射機構３の照射光によってマスク２００が微妙に熱変形します。新請求項１の発明によると、マスク枠体昇降調整手段７８，７９，８０，８１は、露光処理中においても、マスク２００の下面とワークステージ機構５のワーク保持面との間隙の調整を行います。つまり、露光処理中におけるマスク２００の熱変形も考慮に入れて上記間隙を調整します。これにより、極めて適切な寸法の間隙を確保した状態での露光処理を行うことができます。このため「光照射機構３の照射光によってマスク２００が変形して間隙寸法が変化しても瞬時に修正することができ、ばらつきのない露光処理を行うことができる」（当初明細書における第〔００７０〕段落の後半部参照）ようになります。」
　
　しかしながら、上記相違点３についての検討のように、引用刊行物２に記載の事項が、露光処理中に計測及び調整を行うことも含まれているものと認められる以上、上記主張の作用効果は、露光処理中に計測及び調整を行ったことによって、当然導き出される作用効果であるから、上記主張は採用しない。
　
　したがって、本願補正発明は、引用刊行物１，２に記載された発明及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができない。
　
（５）補正の却下の決定についてのむすび
　以上のとおり、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。また、仮に本件補正が限定的減縮を目的としたものであったとしても、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
３．本願発明について
　
（１）本願発明
　平成２０年１２月１９日付けの手続補正は上述のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、本件補正前の平成２０年７月２８日付け手続補正書により補正された、特許請求の範囲の請求項１に記載された以下のとおりのものである。
 　
「【請求項１】
　露光光を照射する光照射機構（３）と、
　パターンが形成されたマスク（２００）を保持する枠体（３１）を有するマスクステージ機構（４）と、
　ワーク（３００）を保持するワークステージ機構（５）と、
　前記ワークステージ機構（５）に設置され前記枠体（３１）に装着されたマスク（２００）の下面とワークステージ機構（５）のワーク保持面との間隙の寸法を測定するための間隙測定手段（７４，７５，７６，７７）と、
　間隙測定手段（７４，７５，７６，７７）による測定結果に基づいて前記枠体（３１）を昇降させて前記間隙を調整するマスク枠体昇降調整手段（７８，７９，８０，８１）とを備え、
　前記マスク枠体昇降調整手段（７８，７９，８０，８１）による前記間隙の調整を、露光処理中に行うように構成したことを特徴とするプロキシミティ露光装置。」
　
（２）引用刊行物
　これに対して、原査定の拒絶の理由に引用された特開平１−２３８０１４号公報及び特開平６−５４８６号公報の記載事項は、前記２．（３）に記載したとおりである。
　
（３）対比・判断
　本願発明は、本願補正発明から、「ワーク」に対して付加されていた「フォトレジストが塗布された帯状」という限定を省き、「ワークステージ機構」に対して付加されていた「マスクと所定の微小間隔を有するように」という限定を省き、さらに請求項１に付加されていた「ワークステージ機構の上流側に設置されフォトレジストが塗布された帯状ワークを送出する送り出しリール機構と、
　送り出しリール機構から送出された帯状ワークを間欠的に搬送する搬送機構と、
　搬送機構により間欠的に搬送された帯状ワークにマスクにおけるパターンを介して露光用光を照射する光照射機構と、
　ワークステージ機構の下流側に設置され露光処理された帯状ワークを巻き取る巻き取りリール機構」という追加事項を削除したものである。
　してみると、本願発明の構成要件を全て含み、さらに他の構成要件を付加したものに相当する本願補正発明が、前記２．（４）に記載したとおり、引用刊行物１，２に記載された発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も同様の理由により、引用刊行物１，２に記載された発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
（４）むすび
　以上のとおり、本願の請求項１に係る発明は、引用刊行物１，２に記載された発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであり、本願は、その他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、拒絶すべきものである。
　
　よって、結論のとおり審決する。