【事件の表示】
　特願２００４−２０５４１５「描画方法および描画装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１７年　３月　３日出願公開、特開２００５−　５５８８１〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成１６年（２００４年）７月１３日（国内優先権主張；平成１５年７月２２日）に出願した特願２００４−２０５４１５号であって、平成１９年９月２７日付けで拒絶査定がなされ、これに対して、同年１１月１日付けで拒絶査定不服審判の請求がなされ、同年１２月３日付けで手続補正がなされたものである。
　その後、当審において平成２１年７月６日付けで拒絶理由の通知をし、これに対して同年９月７日付けで意見書が提出され、同日付けで手続補正がなされた。
　
 第２　本願発明  
　本願の請求項７に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、平成２１年９月７日付け手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項７に記載された事項に特定される次のとおりのものである。
　
「入射された光を入力された制御信号に応じて変調して１つの描画点を描画する描画素子が一列に多数配置された描画素子列が多数配列された空間光変調素子を有し、該空間光変調素子により変調された光を描画面に結像する複数の描画ヘッドを、前記描画面に沿って所定の走査方向へ相対的に移動させて描画を行う描画方法において、
　前記多数の描画素子列を１または複数の描画素子列毎に分割し、
　該分割された複数の分割領域毎に前記制御信号を順次入力し、該制御信号の入力が終了した分割領域の描画素子から順次前記変調を行わせることによって、前記相対的移動中の描画面に対して前記分割領域毎に互いに異なるタイミングで描画点群を描画して、前記分割領域毎の描画点群を前記走査方向について前記描画面上の所望の異なる位置にそれぞれ配置するとともに、
　前記描画面の相対移動速度および前記分割領域毎の各描画点群が描画される所望の異なる位置に基づいて、前記描画面に描画される画像を表す画像データから前記描画点の各々に対応する描画データを形成し、該描画データに基づいて前記制御信号を形成することを特徴とする描画方法。」において「前記空間光変調素子の使用描画素子から出射される描画光の前記描画面上への投影点が、該投影点の配列方向が前記走査方向に対して所定の傾斜角度をなすように配置されるようにすることを特徴とする」「描画方法。」
　
第３　引用例
１　引用例１
　当審で通知した拒絶の理由に引用され、本願の優先日前に頒布された刊行物である特開２００３−１５３０９号公報（以下、「引用例１」という）には、次の事項が記載されている。（後述の「引用例１に記載された発明の認定」に特に関係する記載に下線を付した。）
　
「【００１５】先ず、図１を参照すると、本発明による描画装置が斜視図として概略的に示され、この描画装置はプリント回路基板を製造するための基板上のフォトレジスト層に回路パターンを直接描画するように構成されているものである。
【００１６】図１に示すように、描画装置は床面上に据え付けられる基台１０を具備し、この基台１０上には一対のガイドレール１２が平行に敷設される。一対のガイドレール１２上には描画テーブル１４が搭載され、
この描画テーブル１４は図１には図示されない適当な駆動機構例えばボール螺子等をステッピングモータ等の駆動モータで駆動することにより一対のガイドレール１２に沿って移動し得るようになっている。描画テーブル１４上にはフォトレジスト層を持つ基板即ち被描画体が設置され、
【００１７】図１に示すように、基台１０上には
一対のガイドレールを跨ぐようにゲート状構造体１６が設けられ、このゲート状構造体１６の上面には複数の露光ユニットが描画テーブル１４の移動方向に対して直角方向に二列に配列される。
【００１８】本実施形態では、各
露光ユニット（１８
１
、…１８
８
；２０
１
、…２０
７
）はＤＭＤユニットとして構成され、このＤＭＤユニットの反射面は例えば1024×1280のマトリックス状に配列されたマイクロミラーから形成される。
【００１９】図１に示すように、ゲート状構造体１６の上面の適当な箇所には光源２２が設けられ、この光源２２には複数のＬＥＤ(light emitting diode)が設けられ、これらＬＥＤから得られる光は集光されて平行光束として光源２２の射出口から射出されるようになっている。光源２２の射出口には15本の光ファイバケーブル束が接続され、個々の光ファイバケーブルは15個のＤＭＤユニット（１８１、…１８８；２０１、…２０７）のそれぞれに対して延設され、これにより光源２２から各ＤＥＤユニットに対して光が導入されるようになっている。なお、図１では、図示の複雑化を避けるために光ファイバケーブルは図示されていない。
【００２０】図２を参照すると、ＤＭＤユニット（１８１、…１８８；２０１、…２０７）の機能が概念図として図示されている。同図において、参照符号２４は各ＤＭＤユニットの反射面を示し、この反射面２４は既に述べたように1024×1280のマトリックス状に配列されたマイクロミラーから形成される。また、図２に示すように、各ＤＭＤユニットには、参照符号２６で全体的に示す照明光学系と、参照符号２８で全体的に示す結像光学系とが組み込まれる。
【００２１】照明光学系２６は凸レンズ２６Ａ及びコリメートレンズ２６Ｂを含み、凸レンズ２６Ａは光源２２から延設された光ファイバケーブル３０と光学的に結合される。このような照明光学系２６により、光ファイバケーブル３０から射出した光束はＤＭＤユニット（１８１、…１８８；２０１、…２０７）の反射面２４の全体を照明するような平行光束ＬＢに成形される。結像光学系２８には第１の凸レンズ２８Ａと、リフレクタ２８Ｂと、第２の凸レンズ２８Ｃが含まれ、この結像光学系２８の倍率は例えば等倍（倍率１）とされる。
【００２２】
各ＤＭＤユニット（１８
１
、…１８
８
；２０
１
、…２０
７
）に含まれる個々のマイクロミラーはそこに入射した光束を結像光学系２８に向けて反射させる第１の反射位置と該光束を結像光学系２８から逸らすように反射させる第２の反射位置との間で回動変位するように動作させられる。
【００２３】図２において、描画テーブル１４上に設置された被描画体の描画面が参照符号３２で示され、
この描画面３２上には、結像光学系２８に入射された光束（ＬＢ
１
）によってマイクロミラーの反射面が結像される。
マイクロミラーの反射面は描画面３２上の20μm×20μmの露光領域として結像され、この露光領域が被描画体上に回路パターンを描画する際の一画素となる。
【００２４】各描画ユニット（１８１、…１８８；２０１、…２０７）では、個々のマイクロミラーは通常は第２の反射位置即ち非露光位置に置かれているが、露光作動を行うとき、マイクロミラーは第２の反射位置（非露光位置）から第１の反射位置即ち露光位置に回動変位させられる。
マイクロミラーの非露光位置から露光位置への回動変位の制御については、後述するように回路パターンデータ（ラスタデータ）に従って行われる。
【００２５】各ＤＭＤユニット（１８１、…１８８；２０１、…２０７）に含まれる全てのマイクロミラーが第１の反射位置即ち露光位置に置かれたときは、全てのマイクロミラーから反射された全光束（ＬＢ１）が結像光学系２８に入射させられ、このため描画面３２上にはＤＭＤユニットの反射面による全露光領域が得られ、その全露光領域のサイズについては(1024×20)μm×(1280×20)μmとなり、そこに含まれる総画素数は勿論1024×1280個となる。」
　
２　引用例１に記載された発明の認定
　上記記載事項を総合勘案すると、引用例１には、露光描画方法に関し、
「描画テーブル１４は一対のガイドレール１２に沿って移動し得るようになっており、描画テーブル１４上にはフォトレジスト層を持つ基板即ち被描画体が設置され、
　一対のガイドレールを跨ぐようにゲート状構造体１６が設けられ、このゲート状構造体１６の上面には複数の露光ユニットが配列され、
　各露光ユニット（１８１、…１８８；２０１、…２０７）はＤＭＤユニットとして構成され、このＤＭＤユニットの反射面は1024×1280のマトリックス状に配列されたマイクロミラーから形成され、
　各ＤＭＤユニット（１８１、…１８８；２０１、…２０７）に含まれる個々のマイクロミラーはそこに入射した光束を結像光学系２８に向けて反射させる第１の反射位置と該光束を結像光学系２８から逸らすように反射させる第２の反射位置との間で回動変位するように動作させられ、
　マイクロミラーの反射面は、結像光学系２８に入射された光束（ＬＢ１）によって、描画面３２上の20μm×20μmの露光領域として結像され、この露光領域が被描画体上に回路パターンを描画する際の一画素となり、
　マイクロミラーの非露光位置から露光位置への回動変位の制御は、回路パターンデータ（ラスタデータ）に従って行われる露光描画方法。」の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されている。
　
３　引用例２
　当審で通知した拒絶の理由に引用され、本願の優先日前に頒布された刊行物である特開２００３−５７８３７号公報（以下、「引用例２」という）には、次の事項が記載されている。
　
「【００３８】露光方式としては、描画テーブル１６を走査方向に沿って間欠的に移動させる動作と、描画テーブル１６の停止時に回路パターンを部分的に順次描画する動作とを交互に繰り返すことにより、各描画領域を継ぎ足して全体の回路パターンを得るステップ・アンド・リピート（Step  Repeat）方式を採用してもよいし、描画テーブル１６を一定速度で移動させつつ同時に描画動作を行う方式であってもよい。本実施形態では説明を容易にするためにステップ・アンド・リピート方式を採用する。即ち、多重露光描画装置１０では、描画テーブル１６を所定の移動間隔で間欠的に移動させつつ、回路パターンのラスタデータに従って回路パターンを多重露光により描画する描画方法が採用される。以下に、このような多重露光描画方法の原理について説明する。
【００３９】図４には、第１露光ユニット２００１によって描画面３２上に投影される全面露光領域Ｕａ０１の一部が示され、この全面露光領域Ｕａ０１は各マイクロミラーＭ（ｍ，ｎ）から得られる単位露光領域Ｕ（ｍ，ｎ）から成る。ここで、パラメータｍは第１露光ユニット２００１のＸ軸方向に沿うライン番号を示し、パラメータｎは第１露光ユニット２００１のＹ軸方向に沿う行番号を示し、本実施形態では１≦ｍ≦１０２４および１≦ｎ≦１２８０となる。
【００４０】要するに、単位露光領域Ｕ（１，１）、Ｕ（１，２）、Ｕ（１，３）、Ｕ（１，４）、Ｕ（１，５）、…、Ｕ（１，１２８０）は第１露光ユニット２０01のＹ軸に沿う第１ラインの１２８０個のマイクロミラーＭ（１，１）〜Ｍ（１，１２８０）から得られるものであり、単位露光領域Ｕ（２，１）、Ｕ（２，２）、Ｕ（２，３）、Ｕ（２，４）、Ｕ（２，５）、…、Ｕ（２，１２８０）は第１露光ユニット２００１のＹ軸に沿う第２ラインの１２８０個のマイクロミラーＭ（２，１）〜Ｍ（２，１２８０）から得られるものであり、単位露光領域Ｕ（３，１）、Ｕ（３，２）、Ｕ（３，３）、Ｕ（３，４）、Ｕ（３，５）、…、Ｕ（３，１２８０）は第１露光ユニット２００１のＹ軸に沿う第３ラインのマイクロミラーＭ（３，１）〜Ｍ（３，１２８０）から得られるものである。
【００４１】例えば、露光１回当たりの移動距離が単位露光領域の１つ分のサイズＣの整数倍である距離Ａ（例えばＡ＝４Ｃ）と距離ａ（０≦ａ＜Ｃ）との和である場合について説明すると、描画テーブル１６がＸ軸に沿ってその負側に移動させられる、即ち第１露光ユニット２００１が描画テーブル１６に対してＸ軸の正側に向かって相対移動し、単位露光領域Ｕａ０１が描画面３２上の描画開始位置ＳＬに到達すると、そこで一旦停止させられて第１露光ユニット２００１の第１ラインの１２８０個のマイクロミラーＭ（１，１）〜Ｍ（１，１２８０）が所定の回路パターンのラスタデータに従って動作させられて第１回目の露光が行われる。このときの描画面３２の相対位置を第１回目露光位置と定義する。
【００４２】第１回目の露光が終了すると、第１露光ユニット２００１は再びＸ軸に沿ってその正側に相対移動し、その単位露光領域Ｕａ01の移動量が（Ａ＋ａ）となったとき、第１露光ユニット２００１は第２回目露光位置に到達したと判断されて停止され、第１露光ユニット２００１の第１〜第５ラインのマイクロミラーＭ（１，１）〜Ｍ（５，１２８０）が所定の回路パターンのラスタデータに従って動作させられて第２回目の露光が行われる。
【００４３】第２回目の露光が終了すると、第１露光ユニット２００１は更にＸ軸に沿ってその正側に移動量（Ａ＋ａ）だけ移動させられて第３回目露光位置で停止され、第１露光ユニット２００１の第１〜第９ラインのマイクロミラーＭ（１，１）〜Ｍ（９，１２８０）が所定の回路パターンのラスタデータに従って動作させられて第３回目の露光が行われる。
【００４４】このように第１露光ユニット２００１がＸ軸に沿ってその正側に移動量（Ａ＋ａ）だけ移動させられる度毎に停止されて露光作動が繰り返され、描画面３２の同一領域が第１露光ユニット２００１によって多数回に渡って多重露光されることになる。例えば、ａ＝０の場合、第１露光ユニット２００１はＸ軸に沿ってその正側にＡ（＝４Ｃ）ずつ移動し、単位露光領域Ｕ（ｍ，ｎ）の中心は常に同一点上に一致する。このため、第１列目の先頭のマイクロミラーＭ（１，１）によって露光されたＣ×Ｃの領域は、さらに第（４ｋ＋１）番目の先頭のマイクロミラーＭ（４ｋ＋１，１）によって露光され（ただし、１≦ｋ≦２５５）、合計２５６回（＝１０２４Ｃ／Ａ）だけ多重露光されることになる。一方、ａ≠０の場合、重なり合う単位露光領域Ｕ（ｍ，ｎ）の中心は距離ａだけ徐々にずれていくため、同一領域が２５６回多重露光されるとは限らない。そこで、所定の領域を２５６回露光させるために、各単位露光領域Ｕ（ｍ，ｎ）の中心を２５６個だけこの所定領域内に均等に配列させ、実質的に２５６回多重露光させている。
【００４５】図３では、露光ユニット２００１〜２０１５のマイクロミラーの並びはＸ軸およびＹ軸に平行であったが、露光ユニット２００１〜２０１５の姿勢をＸ軸に対して微少角αだけ傾斜させつつ移動させる構成であってもよい。このとき、第１露光ユニット２００１がＸ軸に沿ってその正側に移動量（Ａ＋ａ）だけ移動させられる度毎に、単位露光領域Ｕ（ｍ，ｎ）はＹ軸に沿ってその負側に所定距離だけ相対的にシフトすることになる。
【００４６】図５は、露光ユニット２００１をＸ軸に対して傾斜させつつ順次移動させたときの単位露光領域Ｕ（ｍ，ｎ）の変位を経時的に示す図である。図５を参照すると、第１回目露光位置での全面露光領域Ｕａ０１の一部が破線で示され、第２回目露光位置での全面露光領域Ｕａ０１の一部が一点鎖線で示され、第３回目露光位置での全面露光領域Ｕａ０１の一部が実線で示され、各単位露光領域Ｕ（ｍ，ｎ）のＹ軸の負側に沿う移動距離がｂで示されている。
【００４７】第１回目露光位置において第１露光ユニット２００１の第１ラインのマイクロミラーＭ（１，１）〜Ｍ（１，１２８０）によって得られる単位露光領域Ｕ（１，１）、Ｕ（１，２）、…Ｕ（１，１２８０）に注目すると、これら単位露光領域Ｕ（１，１）、Ｕ（１，２）、…Ｕ（１，１２８０）に対して、第２回目露光位置における第１露光ユニット２００１の第５ラインのマイクロミラーＭ（５，１）〜Ｍ（５，１２８０）によって得られる単位露光領域Ｕ（５，１）、Ｕ（５，２）、…Ｕ（５，１２８０）がＸ軸およびＹ軸に沿ってそれぞれ（＋ａ）および（−ｂ）だけずれて互いに重なり合い、さらに第３回目露光位置においては第１露光ユニット２００１の第９ラインのマイクロミラーＭ（９，１）〜Ｍ（９，１２８０）によって得られる単位露光領域Ｕ（９，１）、Ｕ（９，２）、…Ｕ（９，１２８０）は、Ｘ軸方向およびＹ軸方向にそれぞれ（＋２ａ）および（−２ｂ）だけずれて互いに重なり合うことになる。なお、図５では、３つの互いに重なり合う単位露光領域Ｕ（１，１）、Ｕ（５，１）およびＵ（９，１）がそれぞれ破線、一点鎖線および実線の引出し線で例示的に示されている。
【００４８】ここで各単位露光領域Ｕ（ｍ，ｎ）の相対位置をその中心である露光点ＣＮ（ｍ，ｎ）で代表して示すと、第２回目露光位置における露光点ＣＮ（５，１）は、第１回目露光位置における露光点ＣＮ（１，１）から（＋ａ，−ｂ）だけ離れており、第３回目露光位置における露光点ＣＮ（９，１）は、第１回目露光位置における露光点ＣＮ（１，１）から（＋２ａ，−２ｂ）だけ離れて存在することになる。なお、各ラインにおける互いに隣接した露光点間の距離は単位露光領域Ｕ（ｍ，ｎ）のサイズＣ（＝２０μｍ）に一致する。
【００４９】上述したように、移動距離が、単位露光領域Ｕ（ｍ，ｎ）の一辺長さＣの４倍と距離ａとの和とされるとき、距離ａおよびｂを適当に選ぶことにより、個々の単位露光領域Ｕ（ｍ，ｎ）と同じ大きさの面積Ｃ×Ｃ内に露光点を均一に分布させることができる。
【００５０】例えば、図６に示すように、単位露光領域Ｕ（ｍ，ｎ）と同じ大きさの面積Ｃ×Ｃ（＝２０μｍ×２０μｍ）内に２４０個の露光点を分布させるためには、Ｘ軸に沿って１６個およびＹ軸に沿って１５個配列させればよいことになり、距離ａおよびｂは以下の計算式によって定められる。
ａ＝Ｃ／１６　＝２０μｍ／１６　＝１．２５μｍ
ｂ＝Ｃ／２４０＝２０μｍ／２４０＝０．０８３３μｍ
【００５１】なお、言うまでもないが、距離ｂを０．０８３３μｍに設定するということは、描画テーブル１６がＸ軸の負側に距離（Ａ＋ａ＝８１．２５μｍ）だけ移動したとき、個々の単位露光領域Ｕ（ｍ，ｎ）がＹ軸の負側に０．０８３３μｍだけシフトするように描画テーブル１６の傾斜角度αを設定するということに他ならない。
【００５２】図６において、参照符号ＣＮ（１，１）で示される露光点が例えば第１回目露光位置における第１露光ユニット２００１の第１ラインの先頭のマイクロミラーＭ（１，１）によって得られる単位露光領域Ｕ（１，１）のものであるとすると、先の記載から明らかなように、露光点ＣＮ（５，１）は第２回目露光位置における第１露光ユニット２００１の第５ラインの先頭のマイクロミラーＭ（５，１）によって得られる単位露光領域Ｕ（５，１）のものであり、露光点ＣＮ（９，１）は第３回目露光位置における第１露光ユニット２００１の第９ラインの先頭のマイクロミラーＭ（９，１）によって得られる単位露光領域Ｕ（９，１）のものとなる。
【００５３】さらに、露光点ＣＮ（１，１）から距離（＋１５ａ，−１５ｂ）だけ離れた露光点ＣＮ（６１，１）は、第１６回目露光位置における第６１ラインの先頭のマイクロミラーＭ（６１，１）によって得られる単位露光領域Ｕ（６１，１）の中心であり、露光点ＣＮ（１，１）から距離（０，−１６ｂ）だけ離れた露光点ＣＮ（６６，１）は第１７回目露光位置における第６６ラインの先頭のマイクロミラーＭ（６６，１）によって得られる単位露光領域Ｕ（６６，１）の中心である。同様に、露光点ＣＮ（１，１）から距離（０，−２２４ｂ）だけ離れた露光点ＣＮ（９１１，１）は第２４１回目露光位置における第９１１ラインの先頭のマイクロミラーＭ（９１１，１）によって得られる単位露光領域Ｕ（９１１，１）の中心であり、露光点ＣＮ（１，１）から距離（１５ａ，−２３９ｂ）だけ離れた露光点ＣＮ（９７５，１）は第２４０回目露光位置における第９７５ラインの先頭のマイクロミラーＭ（９７５，１）によって得られる単位露光領域Ｕ（９７５，１）の中心である。
【００５４】かくして、１５個の露光ユニット２００１〜２０１５に対して描画テーブル１６が上述した条件下でＸ軸の負側に間欠的に移動させられると、それら露光ユニット２００１〜２０１５の個々のマイクロミラーＭ（ｍ，ｎ）よって得られる単位露光領域Ｕ（ｍ，ｎ）の中心、即ち露光点ＣＮ（ｍ，ｎ）がＸ軸およびＹ軸のそれぞれに沿ってピッチａおよびｂで描画面３２の全体にわたって配列されることになる。個々の単位画素領域と同じ大きさの領域Ｃ×Ｃ（２０μｍ×２０μｍ）内には２４０個の露光点が均一に分布させられる。
【００５５】なお、露光ユニット２００１〜２０１５における個々の露光点を描画面３２の全体にわたって更に高密度に分布させることももちろん可能であり、例えば、2０μｍ×２０μｍの面積内に４８０個の単位露光領域の中心を均一に配列させる場合には、距離Ａは単位露光領域のサイズＣの２倍（４０μｍ）に設定され、距離ａおよびｂはそれぞれ１．２５μｍ／２、０．８３３μｍ／２に設定される。
【００５６】また、図６に示す例では１５個の露光点はＹ軸に沿って平行に配列されているが、距離ａおよびｂの値を僅かに変化させることによって、露光点をＹ軸に沿って斜めに配列させることも可能である。
【００５７】このように本実施形態の多重露光描画装置１０においては、回路パターンのラスタデータに基づいて回路パターンの描画が行われるとき、該回路パターンデータの画素サイズがどのようなサイズであっても、その回路パターンを描画することが可能である。換言すれば、多重露光描画装置１０側には、描画されるべき回路パターンに対する画素の概念は存在しないといえる。
【００５８】例えば、ラスタデータの画素サイズが２０μｍ×２０μｍに設定されている場合には、任意の１ビットデータに“１”が与えられると、露光作動時にその１ビットデータに対応する一画素領域（２０μｍ×２０μｍ）に含まれる個々の露光点ＣＮ（ｍ，ｎ）に対応したマイクロミラーＭ（ｍ，ｎ）が該１ビットデータによって動作されて非露光位置から露光位置に回動させられ、これによりかかる一画素領域（２０μｍ×２０μｍ）が総計２４０回にわたって多重露光を受けることになる。」
　
「【００７１】図８には、ビットマップメモリ５２上に展開された回路パターンのラスタデータの一部分が模式的に示されている。同図に示すライン番号Ｌは描画面３２上に描画されるべき回路パターンのＹ軸に沿う描画ライン番号に対応し、各ラインには１２８０×１５個のビットデータが含まれる。同図に示すように、個々のビットデータは“Ｂ”で示され、この“Ｂ”には描画されるべき回路パターンに従って“１”か“０”のうちのいずれかの値が与えられる。
【００７２】本発明によれば、回路パターンデータ（ラスタデータ）の画素サイズ、即ち個々のビットデータ“Ｂ”のサイズについてはその回路パターンの設計段階で種々の大きさを与えることが可能である。例えば、ビットデータ“Ｂ”のサイズが１０μｍ×１０μｍであれば、描画面３２上に描かれるべき描画ラインの幅も１０μｍとなり、ビットデータ“Ｂ”のサイズが２０μｍ×２０μｍであれば、描画ラインの幅も２０μｍとなり、ビットデータ“Ｂ”のサイズが３０μｍ×３０μｍであれば、描画ラインの幅も３０μｍとなる。
【００７３】図８に示すように、各ラインに含まれる１２８０×１５個のビットデータは第１番目ないし第１５番目のグループに分けられる。図３に示すように描画面３２がＸ軸に平行な方向に移動する場合、第１露光ユニット２０01によって描かれるべき回路パターンに必要なデータは左端から１２８０ビット分のラスタデータである。しかし、図５に示すように露光ユニットがＸ軸に対して傾斜して移動する場合には、露光領域Ｕａ01がＹ軸に沿ってシフトするため露光データの生成には１２８０ビット以上のラスタデータが必要である。
【００７４】そこで本実施形態においては、第１露光データ生成回路５４０１は、ビットマップメモリ５２から、先頭（図中左端）から（１２８０＋β）ビット分のラスタデータを読み出しており、読み出された第１番目のグループのラスタデータに基づいて第１露光ユニット２００１に与えるべき露光データを生成する、即ちこれらラスタデータからＹ軸方向に並ぶ１２８０個のマイクロミラーに与えるべき１２８０ビット分のラスタデータを選択して露光データとして出力する。
【００７５】第２露光データ生成回路５４０２は、ビットマップメモリ５２から、左端から１２８１番目から２５６０番目までの１２８０ビット分のラスタデータを含み、その前後βビット分だけ多い（１２８０＋２β）ビット分のラスタデータを第２番目のグループとして読み出し、第２露光ユニット２００２に与えるべき露光データを生成する。第３〜第１４露光データ生成回路５４０３〜５４１４についても、第２露光データ生成回路５４０２と同様に（１２８０＋２β）ビット分のラスタデータを読み出して露光データを生成する。第１５露光データ生成回路５４１５は、最後（図中右端）の（１２８０＋β）ビット分のラスタデータを読み出して露光データを生成する。
【００７６】なおβは正の整数であり、システムコントロール回路３４において予め設定された定数である。特にその値は限定されないが、数十程度が好ましい。また、各グループのラスタデータの数を全て等しくする必要は無く、個々のグループについて任意に変更しても良い。
【００７７】各グループの個々のビットデータ“Ｂ”に対しては、図９に模式的に示すようなアドレスデータ［ＬＸ，ＲＹ］が与えられる。アドレスデータ成分ＬＸはライン番号Ｌ（図８）を示し、アドレスデータ成分ＲＹは各グループの最上ビットからの数えて何ビット目に当たるかを表す。例えば、アドレスデータ［０００００１，０００１］は各グループのライン番号１の最上位ビットのビットデータ“Ｂ”を表し、アドレスデータ［０００００３，０００１］は各グループのライン番号３の最上位ビットのビットデータ“Ｂ”を表し、またアドレスデータ［０００００１，１２７８］は各グループのライン番号１の最上位ビットから数えて１２７８番目のビットデータ“Ｂ”を表し、アドレスデータ［０００００３，１２７８］は各グループのライン番号３の最上位ビットから数えて１２７８番目のビットデータ“Ｂ”を表し、更にアドレスデータ［０００００１，１２８０］は各グループのライン番号１の最下位ビットのビットデータ“Ｂ”を表し、アドレスデー
タ［０００００３，１２８０］は各グループのライン番号３の最下位ビットのビットデータ“Ｂ”を表す。
【００７８】図１０は、回路パターンと、第１および第２露光ユニット２００１および２００２との関係を示す模式図である。説明を簡単にするために、ここでは描画面３２をＸ軸に平行に移動させた場合（図３）について説明する。
【００７９】第１露光ユニット２００１は、全面露光領域Ｕａ０１と同一幅である帯状の領域を多重露光により描画する。この帯状の領域を第１パターン領域Ｒａ０１と定義する。第１露光ユニットは第１パターン領域Ｒａ０１のＹ方向長さ（以下、パターン領域幅Ｄ１と記載する）よりも幅の大きい領域（破線で囲まれる）を露光するだけの数（Ｙ方向に１２８０個）のマイクロミラーを備えているが、実際に露光作動させられるマイクロミラーは、右上がりのハッチングで示される全面露光領域Ｕａ０１に対応する１２８０個以下のマイクロミラーのみである。この第１パターン領域Ｒａ０１に描かれる回路パターンは、そのＹ方向長さがパターン全体のＹ方向長さの１／１５に相当し、図８に示す第１番目のグループに含まれる先頭からパターン領域幅Ｄ１に相当するラスタデータに基づいて描かれる。
【００８０】第１番目のグループに含まれるラスタデータに対応する領域を第１分割領域Ｂａ０１（図中一点鎖線で囲まれた領域）として定義すると、この第１分割領域Ｂａ０１のＹ方向長さである分割領域幅Ｄ２はパターン領域幅Ｄ１よりも長く設定され、その差Ｄ３はβビット分のラスタデータに相当する長さ（β×ＰＳ）に等しい。即ち、第１露光データ生成回路５４０１において第１分割領域Ｂａ０１に相当するラスタデータが読み出され、その中から第１パターン領域Ｒａ01に相当するビットデータが露光データとして選択され、第１露光ユニット２００１が作動させられる。
【００８１】第２露光ユニット２００２についても同様に、第２露光データ生成回路５４０２によってパターン領域幅Ｄ１よりも長さ（Ｄ３×２）だけ長い分割領域幅Ｄ４を持つ第２分割領域Ｂａ０２に相当する（１２８０＋２β）ビット分のラスタデータが読み出され、この第２分割領域Ｂａ０２に含まれる第２パターン領域Ｒａ０２を多重露光するための露光データが生成される。なお、第３〜第１５露光データ生成回路５４０２〜５４１５においても同様に露光データが生成されることは言うまでもない。
【００８２】隣り合う２つのパターン領域Ｒａ０１およびＲａ０２は重なることはなく実質的に隙間なく並んでいるが、隣り合う２つの分割領域Ｂａ０１およびＢａ０２はＹ方向に長さＤ３×２だけ重なり合っている。即ち、第１および第２露光データ生成回路５４０１および５４０２は２βビット分のラスタデータを共有することになる。なお、第１分割領域Ｂａ０１の分割領域幅Ｄ２は、第１露光ユニット２００１の最大露光幅Ｄ５よりも大きい値に設定される。
【００８３】このように、パターン領域よりも広い分割領域に相当するラスタデータを読み出して露光データを生成するので、上記のようにパターン領域がＹ方向にシフトする場合や、回路パターンを座標変換（回転、拡大、縮小、移動等）して描画する場合においても十分に対応することができる。
【００８４】図１１は、回路パターンに回転変換を施した場合の分割領域とパターン領域との関係を示す図である。本来の回路パターンを破線で示し、時計回りに角度θだけ回転変換した回路パターンを実線で示す。
【００８５】回路パターンを回転した場合、図に示すように本来第１露光ユニット２００１のみで描画すべき幅Ｄ１の回路パターン（第１パターン領域Ｒａ０１）を第１および第２露光ユニット２００１、２００２の双方を用いて描画しなければならない。即ち、第１パターン領域Ｒａ０１のうち右上がりのハッチングで示される台形の領域が第１露光ユニット２００１により描画され、右下がりのハッチングで示される残りの三角形領域が第２露光ユニット２００２により描画されるべきである。従って、第２分割領域Ｂａ０２の分割領域幅Ｄ４は、回転変換前の第１パターン領域Ｒａ０１の一部を含むようにパターン領域幅Ｄ１よりも大きく設定される。これにより、実質的に回路パターンを回転させて描くことができる。」
　
「【０１０７】上述した実施形態では、描画作動時、描画テーブル１６が露光位置に到達する度毎に停止され、その停止位置で露光ユニット２００１〜２０１５による露光作動が行われている。しかしながら、描画作動時、描画テーブル１６を間欠的に移動させることなく連続的に一定速度で移動させつつ、所定の条件下で露光ユニット２００１〜２０１５による露光作動を行うことも可能である。詳述すると、描画テーブル１６が距離（Ａ＋ａ）だけ移動する度毎に露光ユニット２００１〜２０１５による露光作動が開始されることは上述の実施形態と同じであるが、しかし露光時間については、描画テーブル１６が各露光ユニットの個々のマイクロミラーによって得られる単位露光領域のサイズ（２０μｍ）より小さい距離ｄを移動する間の時間とされる。
【０１０８】このように露光時間を設定すれば、上述の場合と同様な態様で回路パターンの描画を行うことができるだけでなく、回路パターンの描画に必要とされる描画時間も短縮することもできる。また、描画作動時、描画テーブル１６を連続的に一定速度で移動させる別の利点として、描画テーブル１６の駆動系が故障し難いということも挙げられる。
【０１０９】このように、本実施形態においては、回路パターンを露光ユニットの数に応じて分割しており、さらにこれら分割されたパターン領域よりも大きい分割領域を決定し、この分割領域に相当するラスタデータから任意のラスタデータを選択するため、座標変換が簡単な構成で容易に行える。また、ビットマップメモリ５２内のラスタデータには何ら座標変換を施す必要がない。」
　
第３　本願発明と引用発明との対比
１　対比
　本願発明と引用発明とを対比する。
　
　引用発明の「マイクロミラー」が、本願発明の「描画素子」に相当し、引用発明の「マイクロミラーの非露光位置から露光位置への回動変位の制御は、回路パターンデータ（ラスタデータ）に従って行われる」ことが、本願発明の「（描画素子が）入射された光を入力された制御信号に応じて変調」することに相当する。
　
　引用発明の「描画する際の一画素」が、本願発明の「１つの描画点」に相当し、引用発明の「マイクロミラーの反射面は、結像光学系２８に入射された光束（ＬＢ１）によって、描画面３２上の20μm×20μmの露光領域として結像され、この露光領域が被描画体上に回路パターンを描画する際の一画素と」なることが、本願発明の「（描画素子が入射された光を）変調して１つの描画点を描画する」ことに相当する。
　
　引用発明の「（その）反射面は1024×1280のマトリックス状に配列されたマイクロミラーから形成され」ている「ＤＭＤユニット」が、本願発明の「描画素子が一列に多数配置された描画素子列が多数配列された空間光変調素子」に相当する。
　
　引用発明の「ＤＭＤユニットとして構成され」ている「各露光ユニット（１８１、…１８８；２０１、…２０７）」が、本願発明の「空間光変調素子により変調された光を描画面に結像する複数の描画ヘッド」に相当する。
　
　引用発明の「描画テーブル１４は一対のガイドレール１２に沿って移動し得るようになっており、描画テーブル１４上にはフォトレジスト層を持つ基板即ち被描画体が設置され、一対のガイドレールを跨ぐようにゲート状構造体１６が設けられ、このゲート状構造体１６の上面には複数の露光ユニットが配列され」ていることが、本願発明の「複数の描画ヘッドを、前記描画面に沿って所定の走査方向へ相対的に移動させ」ることに相当する。
　
２　一致点
　よって、本願発明と引用発明は、
「入射された光を入力された制御信号に応じて変調して１つの描画点を描画する描画素子が一列に多数配置された描画素子列が多数配列された空間光変調素子を有し、該空間光変調素子により変調された光を描画面に結像する複数の描画ヘッドを、前記描画面に沿って所定の走査方向へ相対的に移動させて描画を行う描画方法。」の発明である点で一致し、次の各点で相違する。
　
３　相違点
（１）相違点１
　本願発明は、「多数の描画素子列を１または複数の描画素子列毎に分割し、該分割された複数の分割領域毎に前記制御信号を順次入力し、該制御信号の入力が終了した分割領域の描画素子から順次前記変調を行わせることによって、前記相対的移動中の描画面に対して前記分割領域毎に互いに異なるタイミングで描画点群を描画して、前記分割領域毎の描画点群を前記走査方向について前記描画面上の所望の異なる位置にそれぞれ配置するとともに、前記描画面の相対移動速度および前記分割領域毎の各描画点群が描画される所望の異なる位置に基づいて、前記描画面に描画される画像を表す画像データから前記描画点の各々に対応する描画データを形成し、該描画データに基づいて前記制御信号を形成する」ものであるのに対して、引用発明にはその点の限定がない点。
　
（２）相違点２
　本願発明は「空間光変調素子の使用描画素子から出射される描画光の前記描画面上への投影点が、該投影点の配列方向が前記走査方向に対して所定の傾斜角度をなすように配置される」のに対して、引用発明にはその点の限定がない点。
　
第４　当審の判断
１　上記各相違点について検討する。
（１）相違点１について
　マトリックス状に配列された描画素子（マイクロミラー）を用いて空間光変調を行い露光描画を行う描画方法において、多数の描画素子列を１または複数の描画素子列毎に分割すること、該分割された複数の分割領域毎に制御信号を入力すること、制御信号の入力が終了した分割領域の描画素子に対して変調を行わせること、相対的移動中の描画面に対して分割領域毎に互いに異なるタイミングで描画点群を描画すること、及び、分割領域毎の描画点群を前記走査方向について前記描画面上の所望の異なる位置にそれぞれ配置することは、いずれも、引用例２（特に、【００４６】〜【００５４】、【００７１】〜【００７５】、【０１０７】、【０１０８】及び【図１】〜【図１２】の記載参照。）に記載されている。
　また、マイクロミラーデバイスを用いて空間光変調を行う技術において、分割された複数の分割領域毎に前記制御信号を順次入力し、該制御信号の入力が終了した分割領域の描画素子から順次前記変調を行わせることは、特開平９−１９８００８号公報（特に、【０００１】〜【０００３】、【００１２】、【００１３】、【００２８】〜【００３２】及び【図１】〜【図４】の記載参照。）にも記載されているように周知の技術である。
　引用発明に、マイクロミラーを用いて空間光変調を行うという点で共通した技術分野の上記の引用例２に記載された技術及び上記の周知技術を適用することに格別の困難性は認めらない。そして、引用発明に引用例２に記載された技術及び上記の周知技術を適用した際には、所望の画像を描画するためには、「描画面の相対移動速度」及び「分割領域毎の各描画点群が描画される所望の異なる位置」を考慮すべきことは技術常識から当然の事項であるといえるから、「前記描画面の相対移動速度および前記分割領域毎の各描画点群が描画される所望の異なる位置に基づいて、前記描画面に描画される画像を表す画像データから前記描画点の各々に対応する描画データを形成し、該描画データに基づいて前記制御信号を形成する」という特定は技術常識から考えて当然の事項を特定したものに過ぎない。
　すなわち、引用発明に引用例２に記載された技術及び上記の周知技術を適用して、上記相違点１に係る本願発明の発明特定事項を得ることは当業者が容易に想到し得たことである。
　
（２）相違点２について
　マトリックス状に配列された描画素子（マイクロミラー）を用いて空間光変調を行い露光描画を行う描画方法において、空間光変調素子の使用描画素子から出射される描画光の描画面上への投影点が、該投影点の配列方向が走査方向に対して所定の傾斜角度をなすように配置されることは、引用例２に記載されていることである。（【００５６】、【００８４】及び【００８５】、並びに、【図６】及び【図１１】の記載参照。）
　引用発明に、マイクロミラーを用いて空間光変調を行うという点で共通した技術分野の上記の引用例２に記載された技術を適用して、上記相違点２に係る本願発明の発明特定事項を得ることは当業者が容易に想到し得たことである。
　
２　そして、本願発明によってもたらされる作用効果は、引用発明、引用例２に記載された技術、及び、上記の周知技術から当業者が予測し得る程度のものである。
　
３　したがって、本願発明は、引用例１，２に記載された発明及び上記の周知技術に基いて当業者が容易に発明することができたものである。 
　
第５　むすび
　以上より、本願の請求項７に係る発明は、引用例１，２に記載された発明及び周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、その余の請求項に係る発明について論及するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　
　よって、結論のとおり審決する。