(57)【要約】  偏光板（３）の第１の保護フィルム（１１）と偏光フィルム（１２）と第２の保護フィルム（１３）の厚さの合計は９０μｍ以下である。第１の保護フィルム（１１）の透湿度は４００ｇ／ｍ２・２４ｈｒ以下である。第２の保護フィルム（１３）は、セルロースエステルと、リタデーション低下剤とを含む。リタデーション低下剤は、フラノース構造もしくはピラノース構造を１個有する化合物（Ａ）中の、またはフラノース構造もしくはピラノース構造の少なくとも１種を２個以上１２個以下結合した化合物（Ｂ）中のＯＨ基の全てもしくは一部を脂肪族アシル基によりエステル化した糖エステルを含む。第２の保護フィルム（１３）のＲｏは０ｎｍ以上１０ｎｍ以下であり、Ｒｔは−１０ｎｍ以上＋１０ｎｍ以下である。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の保護フィルムと、偏光子としての偏光フィルムと、第２の保護フィルムと、粘着剤層とをこの順で積層した偏光板であって、
前記第１の保護フィルムと前記偏光フィルムと前記第２の保護フィルムの厚さの合計が、９０μｍ以下であり、
前記第１の保護フィルムの透湿度が、４００ｇ／ｍ２・２４ｈｒ以下であり、
前記第２の保護フィルムが、セルロースエステルと、リタデーション低下剤とを含み、
前記リタデーション低下剤は、フラノース構造もしくはピラノース構造を１個有する化合物（Ａ）中の、またはフラノース構造もしくはピラノース構造の少なくとも１種を２個以上１２個以下結合した化合物（Ｂ）中のＯＨ基の全てもしくは一部を脂肪族アシル基によりエステル化した糖エステルを含み、
前記第２の保護フィルムにおいて、
下記式（ｉ）で表されるＲｏが、０ｎｍ以上１０ｎｍ以下であり、
下記式（ii）で表されるＲｔが、−１０ｎｍ以上＋１０ｎｍ以下であることを特徴とする偏光板。
式（ｉ）  Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式（ii）  Ｒｔ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
（式中、Ｒｏはフィルムの面内方向のリタデーション値、Ｒｔはフィルムの厚み方向のリタデーション値、ｎｘはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、ｎｙはフィルム面内の進相軸方向の屈折率、ｎｚはフィルムの厚み方向の屈折率（屈折率は２３℃、５５％ＲＨの環境下、波長５９０ｎｍで測定）、ｄはフィルムの厚さ（ｎｍ）を表す。）
【請求項２】
前記糖エステルは、フラノース構造もしくはピラノース構造の少なくとも１種を２個以上１２個以下結合した化合物（Ｂ）中のＯＨ基の全てもしくは一部を脂肪族アシル基によりエステル化した化合物であることを特徴とする請求項１に記載の偏光板。
【請求項３】
前記糖エステルは、フラノース構造もしくはピラノース構造の少なくとも１種を２個結合した化合物（Ｂ）中のＯＨ基の全てもしくは一部をアセチル基によりエステル化した化合物であることを特徴とする請求項１または２に記載の偏光板。
【請求項４】
前記第１の保護フィルムと前記偏光フィルムと前記第２の保護フィルムの厚さの合計が、８０μｍ以下であることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の偏光板。
【請求項５】
前記偏光フィルムの厚さは、１５μｍ以下であることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の偏光板。
【請求項６】
前記第２の保護フィルムの厚さは、３０μｍ以下であることを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載の偏光板。
【請求項７】
請求項１から６のいずれかに記載の偏光板と、
前記偏光板の前記粘着剤層と接着される液晶セルとを有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項８】
ＩＰＳモードで駆動されることを特徴とする請求項７に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偏光板と、その偏光板を備えた液晶表示装置とに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置の高性能・高品位化に伴い、偏光板に用いられる偏光板保護フィルムにも、様々な要求がなされている。【０００３】
一般の液晶表示装置用の偏光板保護フィルムとしては、セルロースエステルを材料としたフィルムが主に用いられている。セルロースエステルフィルムは、一般に平面性の確保等の観点から溶液流延製膜法で製膜されるが、この製膜法では、フィルム面内の屈折率に対して厚み方向の屈折率が低くなる傾向がある。【０００４】
そこで、特許文献１では、エチレン性ポリマーを添加することにより、厚み方向のリタデーションが低減されたセルロースエステルフィルムが提案されている。また、特許文献２では、ポリエステルポリオールを添加することにより、面内方向および厚み方向のリタデーションが低減されたセルロースエステルフィルムが提案されている。【０００５】
また、液晶表示装置の偏光板は、偏光子を２枚の保護フィルムで挟むことで構成される。偏光子は、例えばＰＶＡ（ポリビニルアルコール）フィルムを二色性色素で染色し、高倍率延伸することで得られる。【０００６】
ＩＰＳ（In-plain  switching）モード型の液晶表示装置においては、偏光子に対して液晶層側の保護フィルムとして位相差を付与するものを用いた偏光板よりも、リタデーションが低減されたものを用いた偏光板のほうが、液晶ディスプレイの表示性能（視野角、色味、階調）を向上させることができる。この点では、リタデーションが低減された特許文献１または２のセルロースエステルフィルムは、ＩＰＳモード型の液晶表示装置の偏光板の保護フィルムに好適である。なお、リタデーションが低減されたセルロースエステルフィルムのことを、以下では、ゼロ位相差フィルムとも称する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００３−１２８５９号公報（請求項１、表１等参照）
【特許文献２】特許第５１６２３５８号公報（請求項１、表２等参照）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところで、偏光子に対して表面側（液晶層とは反対側）の保護フィルムの透湿度が高いと、空気中の水分が上記保護フィルムを透過して偏光子に到達し、偏光子が劣化する。その結果、偏光板の偏光機能が劣化し、液晶表示装置においては黒表示時に光漏れが生じて輝度ムラ（画像ムラ）が生ずる。このため、偏光子の表面側の保護フィルムの透湿度は低いことが望ましい。低透湿の保護フィルムは、例えばアクリル樹脂やＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）樹脂を用いることで実現することができる。また、ＩＰＳモード型の液晶表示装置においては、偏光子の裏面側（液晶層側）の保護フィルムとして、表示性能の向上の観点から、上述した従来のゼロ位相差フィルムを用いることが望ましい。【０００９】
一方、近年では、液晶表示装置の薄型化の要求に伴い、偏光板の薄型化が要求されている。偏光板の薄型化は、偏光板の各層（低透湿の保護フィルム、偏光子、ゼロ位相差フィルム）を薄型化することによって達成できる。【００１０】
しかし、偏光板の各層を薄型化すると、各層の機械的強度が低下し、偏光板全体の機械的強度が低下する。特に、低透湿の保護フィルムは、薄型化するとしなやかさが著しく低下するため、偏光板全体の機械的強度の低下を招きやすい。その結果、液晶セルに偏光板を貼り合わせた後のリワーク作業を行う際に、引っ張り張力が弱くても、偏光板が破断する場合があり、偏光板のハンドリング性が低下する。なお、リワーク作業とは、液晶セルへの偏光板の貼り合わせを失敗したときに、偏光板を剥がして再度液晶セルに貼り合わせる作業を言う。【００１１】
本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、偏光板を構成する、低透湿の保護フィルム、偏光子、ゼロ位相差フィルムを薄型化しても、偏光板全体としての機械的強度の低下を抑えて、ハンドリング性を向上させることができる偏光板と、その偏光板を備えた液晶表示装置とを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の上記目的は以下の構成により達成される。【００１３】
本発明の一側面に係る偏光板は、第１の保護フィルムと、偏光子としての偏光フィルムと、第２の保護フィルムと、粘着剤層とをこの順で積層した偏光板であって、
前記第１の保護フィルムと前記偏光フィルムと前記第２の保護フィルムの厚さの合計が、９０μｍ以下であり、
前記第１の保護フィルムの透湿度が、４００ｇ／ｍ２・２４ｈｒ以下であり、
前記第２の保護フィルムが、セルロースエステルと、リタデーション低下剤とを含み、
前記リタデーション低下剤は、フラノース構造もしくはピラノース構造を１個有する化合物（Ａ）中の、またはフラノース構造もしくはピラノース構造の少なくとも１種を２個以上１２個以下結合した化合物（Ｂ）中のＯＨ基の全てもしくは一部を脂肪族アシル基によりエステル化した糖エステルを含み、
前記第２の保護フィルムにおいて、
下記式（ｉ）で表されるＲｏが、０ｎｍ以上１０ｎｍ以下であり、
下記式（ii）で表されるＲｔが、−１０ｎｍ以上＋１０ｎｍ以下である。
式（ｉ）  Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式（ii）  Ｒｔ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
（式中、Ｒｏはフィルムの面内方向のリタデーション値、Ｒｔはフィルムの厚み方向のリタデーション値、ｎｘはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、ｎｙはフィルム面内の進相軸方向の屈折率、ｎｚはフィルムの厚み方向の屈折率（屈折率は２３℃、５５％ＲＨの環境下、波長５９０ｎｍで測定）、ｄはフィルムの厚さ（ｎｍ）を表す。）
【発明の効果】
【００１４】
上記の構成によれば、低透湿の第１の保護フィルム、偏光フィルム、ゼロ位相差を実現する第２の保護フィルムの厚さの合計を９０μｍ以下として、偏光板全体を薄型化する場合でも、第２の保護フィルムがリタデーション低下剤として上述した化学構造の糖エステルを含んでいることにより、他のリタデーション低下剤によってゼロ位相差を実現する構成に比べて、偏光板全体として機械的強度が低下するのを抑えることができる。その結果、リワーク作業の際の偏光板の破断を抑えて、そのハンドリング性を向上させることができる。【００１５】
なお、本発明において、リタデーション低下剤とは、保護フィルムに添加された場合に、添加されていない場合と比較して、厚み方向のリタデーション値（Ｒｔ）を低下させる作用を有する化合物を意味する。リタデーション低下剤としては、Ａ質量％添加された場合に、添加されていない場合と比較して、８０μｍ換算で、厚み方向のリタデーション値（Ｒｔ）を０．０１ｎｍ以上低下させる機能を有するものが好ましく用いられる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の実施の形態に係る液晶表示装置の概略の構成を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
本発明の実施の一形態について、図面に基づいて説明すれば以下の通りである。なお、本明細書において、数値範囲をＡ〜Ｂと表記した場合、その数値範囲に下限Ａおよび上限Ｂの値は含まれるものとする。また、本発明は、以下の内容に限定されるものではない。
【００１８】
図１は、本実施形態の液晶表示装置１の概略の構成を示す断面図である。液晶表示装置１は、液晶セル２を２枚の偏光板３・４で挟んで構成されており、ＩＰＳモードで駆動されるものである。液晶セル２は、液晶層を２枚の透明基板で挟んで構成されている。
【００１９】
偏光板３は、表面側（視認側、液晶セルとは反対側）の第１の保護フィルム１１と、偏光子（偏光膜）としての偏光フィルム１２と、裏面側（液晶セル側）の第２の保護フィルム１３と、粘着剤層１４とをこの順で積層して構成されている。上記の粘着剤層１４が液晶セル２と接着されることで、液晶セル２の表面側に偏光板３が位置する。なお、偏光板３は、第１の保護フィルム１１に対して偏光フィルム１２とは反対側に、ハードコート層、防眩層、反射防止層などの機能層をさらに有していてもよい。
【００２０】
偏光板４は、粘着剤層２１と、保護フィルム２２と、偏光フィルム２３と、保護フィルム２４とをこの順で積層して構成されている。粘着剤層２１が液晶セル２と接着されることで、液晶セル２の裏面側（バックライト側）に偏光板４が位置する。
【００２１】
なお、偏光板４の粘着剤層２１、保護フィルム２２、偏光フィルム２３、保護フィルム２４は、偏光板３の粘着剤層１４、第２の保護フィルム１３、偏光フィルム１２、第１の保護フィルム１１と同様の構成であるため、以下では、偏光板３を例に挙げてその詳細について説明し、偏光板４の詳細な説明を省略する。
【００２２】
本実施形態では、偏光板３において、第１の保護フィルム１１と偏光フィルム１２と第２の保護フィルム１３の厚さの合計が、９０μｍ以下である。このとき、第１の保護フィルム１１の透湿度（水蒸気透過率）は４００ｇ／ｍ２・２４ｈｒ以下である。なお、透湿度は、ＪＩＳ  Ｚ  ０２０８に記載の方法より、４０℃９０％ＲＨ条件下で、１ｍ２あたり２４時間の透湿量の値（ｇ／ｍ２・２４ｈｒ）として求めたものである。
【００２３】
偏光フィルム１２は、例えばＰＶＡフィルムを二色性色素で染色し、高倍率延伸することで得られるものであり、その厚さは１５μｍ以下となっている。
【００２４】
第２の保護フィルム１３は、セルロースエステルと、リタデーション低下剤とを含む。上記のリタデーション低下剤は、フラノース構造もしくはピラノース構造を１個有する化合物（Ａ）中の、またはフラノース構造もしくはピラノース構造の少なくとも１種を２個以上１２個以下結合した化合物（Ｂ）中のＯＨ基の全てもしくは一部を脂肪族アシル基によりエステル化した糖エステルを含む。第２の保護フィルム１３において、下記式（ｉ）で表されるＲｏが、０ｎｍ以上１０ｎｍ以下であり、下記式（ii）で表されるＲｔが、−１０ｎｍ以上＋１０ｎｍ以下である。
式（ｉ）  Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式（ii）  Ｒｔ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
（式中、Ｒｏはフィルムの面内方向のリタデーション値、Ｒｔはフィルムの厚み方向のリタデーション値、ｎｘはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、ｎｙはフィルム面内の進相軸方向の屈折率、ｎｚはフィルムの厚み方向の屈折率（屈折率は２３℃、５５％ＲＨの環境下、波長５９０ｎｍで測定）、ｄはフィルムの厚さ（ｎｍ）を表す。）
【００２５】
なお、式（ｉ）（ii）を同時に満足する場合、生じる位相差はほとんどゼロであるため、この位相差のことをゼロ位相差とも称する。リタデーション低下剤を第２の保護フィルム１３に含ませることにより、第２の保護フィルム１３を、ゼロ位相差を実現するフィルム（ゼロ位相差フィルム）として機能させることができる。
【００２６】
第１の保護フィルム１１は、透湿度４００ｇ／ｍ２・２４ｈｒ以下と低透湿であるので、第１の保護フィルム１１を透過する水分によって偏光フィルム１２が劣化するのを抑えることができる。ただし、低透湿の保護フィルムは、薄型化するとしなやかさが低下し、偏光板３全体の機械的強度の低下を招きやすい。また、偏光フィルム１２自体も薄型化により機械的強度が低下しやすい。
【００２７】
一方、第２の保護フィルム１３は、セルロースエステルと、リタデーション低下剤とを含み、そのリタデーション低下剤が上述した化学構造の糖エステルを含んでいる。第２の保護フィルム１３が上記糖エステルを含んでいることにより、面内方向および厚み方向の両方においてゼロ位相差を実現することができる。
【００２８】
ここで、リタデーション低下剤としての上記した糖エステルは、同じくリタデーション制御剤としてのエチレン性ポリマーやポリエステルポリオールとは異なり、フラノース構造またはピラノース構造を有していることから、セルロースエステルと化学構造が類似している。このため、上記の糖エステルは、セルロースエステルとの相互作用が強い。したがって、上記の糖エステルとセルロースエステルとを含む第２の保護フィルム１３を薄型化しても、第２の保護フィルム１３の機械的強度が低下するのを抑えることができる。
【００２９】
したがって、第１の保護フィルム１１、偏光フィルム１２、第２の保護フィルム１３の厚さの合計を９０μｍ以下として、偏光板３全体を薄型化する場合でも、薄型化によって機械的強度が低下しやすい第１の保護フィルム１１および偏光フィルム１２が第２の保護フィルム１３で支持されることで、偏光板３全体として機械的強度が低下するのを抑えることができる。その結果、リワーク作業（液晶セル２に貼りつけた偏光板３を貼り直すために剥がす作業）の際の偏光板３の破断を抑えて、そのハンドリング性を向上させることができる。
【００３０】
特に、第１の保護フィルム１１と偏光フィルム１２と第２の保護フィルム１３の厚さの合計が８０μｍ以下となるような、さらに薄型の構成では、各層の薄型化による偏光板３全体の機械的強度の低下により、リワーク作業時に偏光板３の破断がより生じやすくなるので、上述した構成がより有効となる。また、偏光フィルム１２の厚さが１５μｍ以下と薄型の場合には、各層の薄型化による偏光板３全体の機械的強度の低下がより生じやすくなるため、上述した構成が非常に有効となる。偏光板３の薄型化の観点では、第２の保護フィルム１３の厚さは３０μｍ以下であることが望ましい。
【００３１】
このように、第２の保護フィルム１３に含まれる、ゼロ位相差を実現するための糖エステルを、その化学構造（セルロースエステルとの化学構造の類似性）に着目して、偏光板３全体を薄型化する際の機械的強度の低下を抑える手段として利用することにより、偏光板３の破断を抑えてそのハンドリング性を向上させることができる。
【００３２】
面内方向のリタデーションＲｏおよび厚さ方向のリタデーションＲｔを確実に小さく観点から、前記糖エステルは、フラノース構造もしくはピラノース構造の少なくとも１種を２個以上１２個以下結合した化合物（Ｂ）中のＯＨ基の全てもしくは一部を脂肪族アシル基によりエステル化した化合物であることが望ましい。また、前記糖エステルは、フラノース構造もしくはピラノース構造の少なくとも１種を２個結合した化合物（Ｂ）中のＯＨ基の全てもしくは一部をアセチル基によりエステル化した化合物であることがより望ましい。このような糖エステルとしては、例えばアセチルスクロースを挙げることができる。
【００３３】
また、偏光板３の表面側の第１の保護フィルム１１が低透湿であり、水分による偏光フィルム１２の劣化を抑えることできることから、上記偏光板３を液晶表示装置１に適用したときには、黒表示時における光漏れを抑えて輝度ムラ（画像ムラ）を抑えることができる。さらに、第２の保護フィルム１３をゼロ位相差フィルムで構成しながらも、偏光板３を薄型化したときの機械的強度の低下を抑えることができるので、上記した偏光板３は、ＩＰＳモード型で薄型の液晶表示装置１に好適となる。
【００３４】
第１の保護フィルム１１は、透湿度が４００ｇ／ｍ２・２４ｈｒ以下である樹脂であれば、どのような樹脂を含んでいてもよい。このような低透湿の樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）樹脂、アクリル樹脂、環状ポリオレフィン樹脂（ＣＯＰ）などを挙げることができる。ちなみに、ＰＥＴ樹脂の透湿度は、４０ｇ／ｍ２・２４ｈｒであり、アクリル樹脂の透湿度は、１００ｇ／ｍ２・２４ｈｒであり、ＣＯＰの透湿度は、０．１ｇ／ｍ２・２４ｈｒである。なお、第１の保護フィルム１１の透湿度の好ましい範囲は、１００ｇ／ｍ２・２４ｈｒ以下である。
【００３５】
以下、本実施形態の詳細について説明する。なお、以下での説明において、偏光フィルムに対して液晶セル側の第２の保護フィルムと、視認側の第１の保護フィルムとを明確に区別する必要がない場合は、これらをまとめて単に保護フィルムと称する。
【００３６】
［第２の保護フィルム］
〔フラノース構造もしくはピラノース構造を有する化合物〕
偏光板の第２の保護フィルムは、上述のように、セルロースエステルと、リタデーション低下剤とを含む。上記リタデーション低下剤は、フラノース構造もしくはピラノース構造を１個有する化合物（Ａ）中の、あるいはフラノース構造もしくはピラノース構造の少なくとも１種を２個以上、１２個以下結合した化合物（Ｂ）中のＯＨ基の全てもしくは一部を脂肪族アシル基によりエステル化した化合物（以下、これらの化合物を糖エステルまたは糖エステル化合物とも言う）を含む。
【００３７】
好ましい化合物（Ａ）および化合物（Ｂ）の例としては、以下に示す化合物を挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００３８】
化合物（Ａ）の例としては、グルコース、ガラクトース、マンノース、フルクトース、キシロース、アラビノース等が挙げられる。なお、化合物（Ａ）には、マルトースを高圧で水素添加して還元して得られるマルチトールも含まれる。
【００３９】
また、化合物（Ｂ）の例としては、ラクトース、スクロース、セロビオース、マルトース、セロトリオース、マルトトリオース、ラフィノース、ケストースなどが挙げられる。これらの化合物（Ａ）および化合物（Ｂ）の中で、特にフラノース構造とピラノース構造とを両方有するものが好ましい。例としてはスクロースが挙げられる。
【００４０】
糖エステル化合物を合成する際に用いられるモノカルボン酸としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸等を用いることができる。用いられるカルボン酸は１種類でもよいし、２種以上の混合であってもよい。
【００４１】
好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、例えば、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸、オクテン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることができる。
【００４２】
好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。
【００４３】
これら化合物の製造方法の詳細は、例えば特開平８−２４５６７８号公報に記載されている。
【００４４】
上記化合物（Ａ）および化合物（Ｂ）のエステル化化合物に加えて、オリゴ糖のエステル化化合物を、フラノース構造もしくはピラノース構造の少なくとも１種を３〜１２個結合した化合物として適用できる。
【００４５】
オリゴ糖は、澱粉、ショ糖等にアミラーゼ等の酵素を作用させて製造されるものである。本実施形態に適用できるオリゴ糖としては、マルトオリゴ糖、イソマルトオリゴ糖、フラクトオリゴ糖、ガラクトオリゴ糖、キシロオリゴ糖が挙げられる。オリゴ糖も上記化合物（Ａ）および化合物（Ｂ）と同様な方法でアセチル化できる。
【００４６】
次に、糖エステル化合物の製造例の一例を示す。グルコース（２９．８ｇ、１６６ｍｍｏｌ）にピリジン（１００ｍｌ）を加えた溶液に無水酢酸（２００ｍｌ）を滴下し、２４時間反応させた。その後、エバポレートで溶液を濃縮し氷水へ投入した。１時間放置した後、ガラスフィルターにてろ過し、固体と水を分離し、ガラスフィルター上の固体をクロロホルムに溶かし、これが中性になるまで冷水で分液した。有機層を分離後、無水硫酸ナトリウムにより乾燥した。無水硫酸ナトリウムをろ過により除去した後、クロロホルムをエバポレートにより除き、更に減圧乾燥することによりグリコースペンタアセテート（５８．８ｇ、１５０ｍｍｏｌ、９０．９％）を得た。なお、上記無水酢酸の替わりに、上述のモノカルボン酸を使用することができる。
【００４７】
以下に、本実施形態の糖エステル化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００４８】
【化１】
2015008743.tif 000003
【００４９】
【化２】
2015008743.tif 000004
【００５０】
【化３】
2015008743.tif 000005
【００５１】
【化４】
2015008743.tif 000006
【００５２】
【化５】
2015008743.tif 000007
【００５３】
【化６】
2015008743.tif 000008
【００５４】
【化７】
2015008743.tif 000009
【００５５】
偏光板の第２の保護フィルムは、偏光機能の劣化を抑え、表示品位を安定化するために、上記の糖エステル化合物を、フィルム中に１〜３５質量％、特に５〜３０質量％含むことが好ましい。この範囲内であれば、本発明の優れた効果を呈すると共に、原反保管中におけるブリードアウトなどもなく好ましい。また、ＯＨ基を全てエステル化した糖エステル化合物とＯＨ基が１つ以上残存している糖エステル化合物とを併用してもよい。例えば、スクロースオクタアセテート、スクロースヘプタアセテート、スクロースヘキサアセテートの混合物等が挙げられる。混合の比率は特に限定はないが、例えば、３０：３０：３０、４０：３０：３０、４０：５０：１０、５０：３０：２０、６０：３０：１０、８０：１０：１０、９０：７：３、９５：５：０、などの組み合わせが挙げられる。これらは、糖のエステル化の際に反応時間あるいは糖と反応させるモノカルボン酸の添加量を調整することで制御してもよいし、それぞれを混合してもよい。
【００５６】
〔アクリルポリマー〕
第２の保護フィルムは、リタデーション低下剤として、重量平均分子量が５００以上、３００００以下であるアクリルポリマーを含有してもよい。このようなアクリルポリマーとしては、国際公開ＷＯ０８／０４４４６３号公報の段落００５９〜００９３に記載のものが好ましく用いられる。
【００５７】
〔ポリエステル〕
（一般式（Ｂ１）または（Ｂ２）で表されるポリエステル）
第２の保護フィルムは、リタデーション低下剤として、下記一般式（Ｂ１）または（Ｂ２）で表されるポリエステルを含有してもよい。これは炭素数２〜１２の２価のアルコールＧと炭素数２〜１２の２塩基酸、炭素数１〜１２のモノカルボン酸Ｂ１、もしくは炭素数１〜１２のモノアルコールであるＢ２から得られたポリエステルある。
【００５８】
一般式（Ｂ１）
Ｂ１−（Ｇ−Ａ−）ｍＧ−Ｂ１
（式中、Ｂ１は炭素数１〜１２のモノカルボン酸を表し、Ｇは炭素数２〜１２の２価のアルコールを表し、Ａは炭素数２〜１２の２塩基酸を表す。Ｂ１、Ｇ、Ａはいずれも芳香環を含まない。ｍは繰り返し数を表す。）
【００５９】
一般式（Ｂ２）
Ｂ２−（Ａ−Ｇ−）ｎＡ−Ｂ２
（式中、Ｂ２は炭素数１〜１２のモノアルコールを表し、Ｇは炭素数２〜１２の２価のアルコールを表し、Ａは炭素数２〜１２の２塩基酸を表す。Ｂ２、Ｇ、Ａはいずれも芳香環を含まない。ｎは繰り返し数を表す。）
【００６０】
Ｂ１で表されるモノカルボン酸としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸等を用いることができる。
【００６１】
好ましいモノカルボン酸の例としては、以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００６２】
脂肪族モノカルボン酸としては、炭素数１〜３２の直鎖または側鎖を持った脂肪酸を好ましく用いることができる。炭素数１〜２０であることが更に好ましく、炭素数１〜１２であることが特に好ましい。酢酸を含有させるとセルロースエステルとの相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。
【００６３】
好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、例えば、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることができる。
【００６４】
Ｂ２で表されるモノアルコール成分としては、特に制限はなく、公知のアルコール類を用いることができる。例えば、炭素数１〜３２の直鎖または側鎖を持った脂肪族飽和アルコールまたは脂肪族不飽和アルコールを好ましく用いることができる。炭素数１〜２０であることが更に好ましく、炭素数１〜１２であることが特に好ましい。
【００６５】
Ｇで表される２価のアルコール成分としては、以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−ブチレングリコール、１，３−ブチレングリコール、１，４−ブチレングリコール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，５−ペンチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール等を挙げることができるが、これらのうちエチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−ブチレングリコール、１，３−ブチレングリコール、１，４−ブチレングリコール、１，６−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコールが好ましく、更に、１，３−プロピレングリコール、１，４−ブチレングリコール１，６−ヘキサンジオール、ジエチレングリコールを好ましく用いられる。
【００６６】
Ａで表される２塩基酸（ジカルボン酸）成分としては、脂肪族２塩基酸、脂環式２塩基酸が好ましく、例えば、脂肪族２塩基酸としては、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ウンデカンジカルボン酸、ドデカンジカルボン酸等、特に、脂肪族ジカルボン酸としては炭素原子数４〜１２もの、これらから選ばれる少なくとも一つのものを使用する。つまり、２種以上の２塩基酸を組み合わせて使用してよい。
【００６７】
ｍ、ｎは繰り返し数を表し、１以上で１７０以下が好ましい。
【００６８】
ポリエステルの重量平均分子量は２００００以下が好ましく、１００００以下であることが更に好ましい。特に、重量平均分子量が５００〜１００００のポリエステルは、セルロースエステルとの相溶性が良好で、製膜中において蒸発も揮発も起こりにくく好ましい。
【００６９】
ポリエステルの重縮合は常法によって行われる。例えば、上記２塩基酸とグリコールの直接反応、上記の２塩基酸またはこれらのアルキルエステル類、例えば２塩基酸のメチルエステルとグリコール類とのポリエステル化反応またはエステル交換反応により熱溶融縮合法か、あるいはこれら酸の酸クロライドとグリコールとの脱ハロゲン化水素反応の何れかの方法により容易に合成し得るが、重量平均分子量がさほど大きくないポリエステルは直接反応によるのが好ましい。低分子量側に分布が高くあるポリエステルはセルロースエステルとの相溶性が非常によく、フィルム形成後、透湿度も小さく、しかも透明性に優れる偏光板保護フィルムを得ることができる。
【００７０】
分子量の調整方法は、特に制限なく従来の方法を使用できる。例えば、重合条件にもよるが、１価の酸（モノカルボン酸）または１価のアルコール（モノアルコール）で分子末端を封鎖する方法では、これら１価の化合物の添加量をコントロールすることで、分子量を調整することができる。この場合、１価の酸がポリマーの安定性の点からから好ましい。
【００７１】
例えば、１価の酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸等を挙げることができるが、重縮合反応中には系外に溜去せず、停止して反応系外にこのような１価の酸を系外に除去するときに溜去し易いものが選ばれるが、これらを混合使用してもよい。また、直接反応の場合には、反応中に溜去してくる水の量により反応を停止するタイミングを計ることによっても、重量平均分子量を調節できる。その他、仕込むグリコールまたは２塩基酸のモル数を偏らせることによってもできるし、反応温度をコントロールしても調節できる。
【００７２】
本実施形態のポリエステルは、セルロースエステルに対し１〜４０質量％含有することが好ましい。更に、２〜３０質量％含有することが好ましい。特に３〜１５質量％含有することが好ましい。
【００７３】
これらの化合物は、偏光板の第２の保護フィルム中に０．１〜２０質量％含有させることができる。
【００７４】
前記アクリルポリマー、またはポリエステルが添加されたフィルムを用いることにより、高温高湿による劣化の少ない偏光板が得られる。また、この偏光板を用いることにより、コントラストや視野角安定性が長時間維持され、表面の平面性に優れるＩＰＳモード型液晶表示装置が得られる。
【００７５】
〔セルロースエステル〕
偏光板の第２の保護フィルムに用いるセルロースエステルには特に限定はないが、セルロースエステルとしては、炭素数２〜２２程度のカルボン酸エステルであり、芳香族カルボン酸のエステルでもよく、特にセルロースの低級脂肪酸エステルであることが好ましい。
【００７６】
セルロースの低級脂肪酸エステルにおける低級脂肪酸とは、炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味している。水酸基に結合するアシル基は、直鎖であっても分岐してもよく、また環を形成してもよい。更に別の置換基が置換してもよい。同じ置換度である場合、前記炭素数が多いと複屈折性が低下するため、炭素数としては炭素数２〜６のアシル基の中で選択することが好ましい。前記セルロースエステルとしての炭素数が２〜４であることが好ましく、炭素数が２〜３であることがより好ましい。
【００７７】
前記セルロースエステルは、混合酸由来のアシル基を用いることもでき、特に好ましくは炭素数が２と３、或いは炭素数が２と４のアシル基を用いることができる。本実施形態で用いられるセルロースエステルとしては、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、またはセルロースアセテートプロピオネートブチレートのようなアセチル基の他にプロピオネート基またはブチレート基が結合したセルロースの混合脂肪酸エステルを用いることができる。なお、ブチレートを形成するブチリル基としては、直鎖状でも分岐していてもよい。本実施形態において好ましく用いられるセルロースエステルとしては、特にセルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートフタレートである。
【００７８】
また、リタデーション値は、セルロースエステルの前記アシル基の種類とセルロース樹脂骨格のピラノース環へのアシル基の置換度等によって、適宜制御することができる。
【００７９】
本実施形態で好ましいセルロースエステルとしては、下記式（１）および（２）を同時に満足するものが好ましい。
【００８０】
式（１）：      ２．０≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
式（２）：      ０≦Ｙ≦２．０
式中、Ｘはアセチル基の置換度、Ｙはプロピオニル基またはブチリル基の置換度である。上記２式を満足するものは、優れた光学特性を示す偏光板保護フィルムを製造するのに適している。
【００８１】
この中で特にトリアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネートが好ましく用いられる。セルロースアセテートプロピオネートでは、１．０≦Ｘ≦２．５であり、０．１≦Ｙ≦１．５、２．０≦Ｘ＋Ｙ≦３．０であることが好ましい。アシル基の置換度の測定方法はＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に準じて測定することができる。
【００８２】
前記アシル基の置換度が低過ぎると、セルロース樹脂の骨格を構成するピラノース環の水酸基に対して未反応部分が多くなり、該水酸基が多く残存することにより、リタデーションの湿度変化や偏光板保護フィルムとして偏光子を保護する能力が低下してしまうことがあり、好ましくない。
【００８３】
本実施形態で用いられるセルロースエステルの数平均分子量は、６００００〜３０００００の範囲が、得られるフィルムの機械的強度が強く好ましい。更に７００００〜２０００００のものが好ましく用いられる。
【００８４】
セルロースエステルの数平均分子量は、高速液体クロマトグラフィーにより下記条件で測定することができる。
溶媒：アセトン
カラム：ＭＰＷ×１（東ソー（株）製）
試料濃度：０．２（質量／容量）％
流量：１．０ｍｌ／分
試料注入量：３００μｌ
標準試料：標準ポリスチレン
温度：２３℃
【００８５】
セルロースエステルの原料のセルロースとしては、特に限定はないが、綿花リンター、木材パルプ、ケナフなどを挙げることができる。またそれらから得られたセルロースエステルはそれぞれ任意の割合で混合使用することができる。
【００８６】
セルロースエステルは、セルロース原料のアシル化剤が酸無水物（無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸）である場合には、酢酸のような有機酸やメチレンクロライド等の有機溶媒を用い、硫酸のようなプロトン性触媒を用いて反応が行われる。アシル化剤が酸クロライド（ＣＨ３ＣＯＣｌ、Ｃ２Ｈ５ＣＯＣｌ、Ｃ３Ｈ７ＣＯＣｌ）の場合には、触媒としてアミンのような塩基性化合物を用いて反応が行われる。具体的には特開平１０−４５８０４号公報に記載の方法を参考にして合成することができる。
【００８７】
セルロースエステルにおいて、グルコース単位の６位のアシル基の平均置換度が０．５〜０．９であることが好ましい。
【００８８】
セルロースエステルを構成するグルコース単位の６位には、２位および３位と異なり、反応性の高い一級ヒドロキシル基が存在する。この一級ヒドロキシル基は、硫酸を触媒とするセルロースエステルの製造過程で硫酸エステルを優先的に形成する。そのため、セルロースのエステル化反応において、触媒硫酸量を増加させることにより、通常のセルロースエステルに比べて、グルコース単位の６位よりも２位および３位の平均置換度を高めることができる。更に、必要に応じて、セルロースをトリチル化すると、グルコース単位の６位のヒドロキシル基を選択的に保護できるため、トリチル化により６位のヒドロキシル基を保護し、エステル化した後、トリチル基（保護基）を脱離することにより、グルコース単位の６位よりも２位および３位の平均置換度を高めることができる。具体的には、特開２００５−２８１６４５号記載の方法で製造されたセルロースエステルも好ましく用いることができる。
【００８９】
アセチルセルロースの場合、酢化率を上げようとすれば、酢化反応の時間を延長する必要がある。但し、反応時間を余り長くとると分解が同時に進行し、ポリマー鎖の切断やアセチル基の分解などが起こり、好ましくない結果をもたらす。従って、酢化度を上げ、分解をある程度抑えるためには反応時間はある範囲に設定することが必要である。反応時間で規定することは反応条件が様々であり、反応装置や設備その他の条件で大きく変わるので適切でない。ポリマーの分解は進むにつれ、分子量分布が広くなってゆくので、セルロースエステルの場合にも、分解の度合いは通常用いられる重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）の値で規定できる。即ち、セルローストリアセテートの酢化の過程で、余り長過ぎて分解が進み過ぎることがなく、かつ酢化には十分な時間酢化反応を行せるための反応度合いの一つの指標である重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）の値を用いることができる。
【００９０】
セルロースエステルの製造法の一例を以下に示すと、セルロース原料として綿化リンター１００質量部を解砕して、４０質量部の酢酸を添加し、３６℃で２０分間前処理活性化をした。その後、硫酸８質量部、無水酢酸２６０質量部、酢酸３５０質量部を添加し、３６℃で１２０分間エステル化を行った。２４％酢酸マグネシウム水溶液１１質量部で中和した後、６３℃で３５分間ケン化熟成し、アセチルセルロースを得た。これを１０倍の酢酸水溶液（酢酸：水＝１：１（質量比））を用いて、室温で１６０分間攪拌した後、濾過、乾燥させてアセチル置換度２．７５の精製アセチルセルロースを得た。このアセチルセルロースはＭｎが９２０００、Ｍｗが１５６０００、Ｍｗ／Ｍｎは１．７であった。同様にセルロースエステルのエステル化条件（温度、時間、攪拌）、加水分解条件を調整することによって置換度、Ｍｗ／Ｍｎ比の異なるセルロースエステルを合成することができる。セルロースエステルのＭｗ／Ｍｎ比は１．４〜５．０が好ましく用いられる。
【００９１】
なお、合成されたセルロースエステルは、精製して低分子量成分を除去すること、未酢化または低酢化度の成分を濾過で取り除くことも好ましく行われる。
【００９２】
また、混酸セルロースエステルの場合には、特開平１０−４５８０４号公報に記載の方法で得ることができる。
【００９３】
また、セルロースエステルは、セルロースエステル中の微量金属成分によっても影響を受ける。これらは製造工程で使われる水に関係していると考えられるが、不溶性の核となり得るような成分は少ないほうが好ましく、鉄、カルシウム、マグネシウム等の金属イオンは、有機の酸性基を含んでいる可能性のあるポリマー分解物等と塩形成することにより不溶物を形成する場合があり、少ないことが好ましい。鉄（Ｆｅ）成分については、１ｐｐｍ以下であることが好ましい。カルシウム（Ｃａ）成分については、カルボン酸や、スルホン酸等の酸性成分と、また多くの配位子と配位化合物即ち、錯体を形成しやすく、多くの不溶なカルシウムに由来するスカム（不溶性の澱、濁り）を形成する。
【００９４】
カルシウム（Ｃａ）成分は６０ｐｐｍ以下、好ましくは０〜３０ｐｐｍである。マグネシウム（Ｍｇ）成分については、やはり多過ぎると不溶分を生ずるため、０〜７０ｐｐｍであることが好ましく、特に０〜２０ｐｐｍであることが好ましい。鉄（Ｆｅ）分の含量、カルシウム（Ｃａ）分含量、マグネシウム（Ｍｇ）分含量等の金属成分は、絶乾したセルロースエステルをマイクロダイジェスト湿式分解装置（硫硝酸分解）、アルカリ溶融で前処理を行った後、ＩＣＰ−ＡＥＳ（誘導結合プラズマ発光分光分析装置）を用いて分析することができる。
【００９５】
［第１の保護フィルム］
次に、偏光板の表面側の第１の保護フィルムについて説明する。
【００９６】
〔ポリエステル樹脂〕
偏光板の第１の保護フィルムとしては、ポリエステル樹脂からなるフィルム（ポリエステルフィルム）を用いることができる。ポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）やポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）を用いることができるが、他の共重合成分を含んでいても構わない。これらの樹脂は透明性に優れるとともに、熱的、機械的特性にも優れており、延伸加工によって容易にリタデーションを制御することができる。特に、ＰＥＴは固有複屈折が大きく、フィルムの厚みが薄くても比較的容易に大きなリタデーションが得られるので、最も好適な素材である。
【００９７】
ポリエステルフィルムは、３０００〜３００００ｎｍのリタデーション（面内方向）を有していることが好ましい。リタデーションが３０００ｎｍ未満では、ポリエステルフィルムを偏光板保護フィルムとして用いて液晶表示装置に適用した場合、斜め方向から観察したときに強い干渉色を呈し（色ムラが発生し）、良好な視認性を確保することができない。リタデーションの下限値の好ましい値は４５００ｎｍであり、より好ましい値は５０００ｎｍであり、より一層好ましい値は６０００ｎｍであり、さらに好ましい値は８０００ｎｍであり、さらに好ましい下限値は１００００ｎｍである。
【００９８】
一方、リタデーションの上限値は３００００ｎｍである。それ以上のリタデーションを有するポリエステルフィルムを用いたとしても、さらなる視認性の改善効果は実質的に得られないばかりか、フィルムの厚みも相当に厚くなり、工業材料としての取り扱い性が低下するので好ましくない。
【００９９】
なお、上記のリタデーションは、２軸方向の屈折率と厚みとを測定して求めることもできるし、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器株式会社）といった市販の自動複屈折測定装置を用いて求めることもできる。
【０１００】
ポリエステルフィルムの面内方向のリタデーションＲｏと厚さ方向リタデーションＲｔとの比（Ｒｏ／Ｒｔ）は、好ましくは０．２００以上、より好ましくは０．５００以上、さらに好ましくは０．６００以上である。上記の比（Ｒｏ／Ｒｔ）が大きいほど、複屈折の作用は等方性を増し、観察角度による色ムラの発生が生じ難くなる。そして、完全な１軸性（１軸対称）フィルムでは上記の比（Ｒｏ／Ｒｔ）は２．０となる。しかし、完全な１軸性（１軸対称）フィルムに近づくにつれて、配向方向と直交する方向の機械的強度が著しく低下する。
【０１０１】
一方、ポリエステルフィルムの上記の比（Ｒｏ／Ｒｔ）は、好ましくは１．２以下、より好ましくは１．０以下である。観察角度による色ムラの発生を完全に抑制するためには、上記の比（Ｒｏ／Ｒｔ）が２．０である必要は無く、１．２以下で十分である。また、上記の比（Ｒｏ／Ｒｔ）が１．０以下であっても、液晶表示装置に求められる視野角特性（左右１８０度、上下１２０度程度）を満足することは十分可能である。
【０１０２】
フィルムのリタデーションを上述した特定の範囲に制御するためには、フィルム製膜時の延伸倍率や延伸温度、フィルムの厚みを適切に設定すればよい。例えば、延伸倍率が高いほど、延伸温度が低いほど、フィルムの厚みが厚いほど、高いリタデーションを得やすくなる。逆に、延伸倍率が低いほど、延伸温度が高いほど、フィルムの厚みが薄いほど、低いリタデーションを得やすくなる。
【０１０３】
〔アクリル樹脂〕
偏光板の第１の保護フィルムを構成する樹脂としては、アクリル樹脂を用いることもできる。
【０１０４】
アクリル樹脂は、メタクリル酸アルキルを主体とする重合体であってもよいし、メタクリル酸アルキルの単独の重合体であってもよいし、メタクリル酸アルキル５０重量％以上とメタクリル酸アルキル以外の単量体５０重量％以下との共重合体であってもよい。メタクリル酸アルキルを主体とする重合体では、全単量体の合計１００重量％を基準として、メタクリル酸アルキルが、好ましくは７０重量％以上、より好ましくは８０重量％以上、さらに好ましくは９０重量％以上であり、かつメタクリル酸アルキルが９９重量％以下である。メタクリル酸アルキルとしては、通常、そのアルキル基の炭素数が１〜４のものが用いられ、中でもメタクリル酸メチルが好ましく用いられる。
【０１０５】
また、メタクリル酸アルキル以外の単量体は、分子内に１個の重合性炭素−炭素二重結合を有する単官能単量体であってもよいし、分子内に２個以上の重合性炭素−炭素二重結合を有する多官能単量体であってもよいが、ここでは単官能単量体が好ましく用いられる。その例としては、アクリル酸メチルやアクリル酸エチルのようなアクリル酸アルキル、スチレンやアルキルスチレンのようなスチレン系単量体、アクリロニトリルやメタクリロニトリルのような不飽和ニトリルが挙げられる。共重合成分としてアクリル酸アルキルを用いる場合、その炭素数は通常１〜８である。
【０１０６】
〔脂環式オレフィンポリマー系樹脂〕
偏光板の第１の保護フィルムを構成する樹脂としては、脂環式オレフィンポリマー系樹脂（ＣＯＰ）を用いることもできる。
【０１０７】
脂環式オレフィンポリマー系樹脂としては、特開平０５−３１０８４５号公報に記載されている環状オレフィンランダム多元共重合体、特開平０５−９７９７８号公報に記載されている水素添加重合体、特開平１１−１２４４２９号公報に記載されている熱可塑性ジシクロペンタジエン系開環重合体およびその水素添加物等を挙げることができる。  
【０１０８】
脂環式オレフィンポリマー系樹脂について、より具体的に説明する。脂環式オレフィンポリマー系樹脂は、飽和脂環炭化水素（シクロアルカン）構造や不飽和脂環炭化水素（シクロアルケン）構造のごとき脂環式構造を有するポリマーである。脂環式構造を構成する炭素原子数には、格別な制限はないが、通常４〜３０個、好ましくは５〜２０個、より好ましくは５〜１５個の範囲であるときに、機械強度、耐熱性、およびフィルムの成形性の特性が高度にバランスされ、好適である。
【０１０９】
脂環式オレフィンポリマー系樹脂中の脂環式構造を含有してなる繰り返し単位の割合は、適宜選択すればよいが、好ましくは５５重量％以上、さらに好ましくは７０重量％以上、特に好ましくは９０重量％以上である。上記の繰り返し単位の割合がこの範囲にあると、フィルムの透明性および耐熱性が向上するので好ましい。
【０１１０】
脂環式オレフィンポリマー系樹脂としては、ノルボルネン系樹脂、単環の環状オレフィン系樹脂、環状共役ジエン系樹脂、ビニル脂環式炭化水素系樹脂、および、これらの水素化物等を挙げることができる。これらの中で、ノルボルネン系樹脂は、透明性と成形性が良好なため、好適に用いることができる。
【０１１１】
ノルボルネン系樹脂としては、例えば、ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体若しくはノルボルネン構造を有する単量体と他の単量体との開環共重合体またはそれらの水素化物、ノルボルネン構造を有する単量体の付加重合体若しくはノルボルネン構造を有する単量体と他の単量体との付加共重合体またはそれらの水素化物等を挙げることができる。これらの中で、ノルボルネン構造を有する単量体の開環（共）重合体水素化物は、透明性、成形性、耐熱性、低吸湿性、寸法安定性、および軽量性などの観点から、特に好適に用いることができる。
【０１１２】
ノルボルネン構造を有する単量体としては、ビシクロ〔２．２．１〕ヘプト−２−エン（慣用名：ノルボルネン）、トリシクロ〔４．３．０．１２，５〕デカ−３，７−ジエン（慣用名：ジシクロペンタジエン）、７，８−ベンゾトリシクロ〔４．３．０．１２，５〕デカ−３−エン（慣用名：メタノテトラヒドロフルオレン）、テトラシクロ〔４．４．０．１２，５．１７，１０〕ドデカ−３−エン（慣用名：テトラシクロドデセン）、およびこれらの化合物の誘導体（例えば、環に置換基を有するもの）などを挙げることができる。ここで、置換基としては、例えばアルキル基、アルキレン基、および極性基などを挙げることができる。また、これらの置換基は、同一または相異なって複数個が環に結合していてもよい。ノルボルネン構造を有する単量体は１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０１１３】
極性基の種類としては、ヘテロ原子、またはヘテロ原子を有する原子団などが挙げられる。ヘテロ原子としては、例えば、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ケイ素原子、およびハロゲン原子などが挙げられる。極性基の具体例としては、カルボキシル基、カルボニルオキシカルボニル基、エポキシ基、ヒドロキシル基、オキシ基、エステル基、シラノール基、シリル基、アミノ基、ニトリル基、およびスルホン基などが挙げられる。
【０１１４】
ノルボルネン構造を有する単量体と開環共重合可能な他の単量体としては、シクロヘキセン、シクロヘプテン、およびシクロオクテンなどのモノ環状オレフィン類やその誘導体；並びにシクロヘキサジエン、およびシクロヘプタジエンなどの環状共役ジエンやその誘導体；などが挙げられる。
【０１１５】
ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体およびノルボルネン構造を有する単量体と共重合可能な他の単量体との開環共重合体は、単量体を公知の開環重合触媒の存在下に（共）重合することにより得ることができる。
【０１１６】
ノルボルネン構造を有する単量体と付加共重合可能な他の単量体としては、例えば、エチレン、プロピレン、および１−ブテンなどの炭素数２〜２０のα−オレフィンやこれらの誘導体；シクロブテン、シクロペンテン、およびシクロヘキセンなどのシクロオレフィンやこれらの誘導体；並びに１，４−ヘキサジエン、４−メチル−１，４−ヘキサジエン、および５−メチル−１，４−ヘキサジエンなどの非共役ジエンなどが挙げられる。これらの単量体は１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、α−オレフィンが好ましく、エチレンがより好ましい。
【０１１７】
ノルボルネン構造を有する単量体の付加重合体およびノルボルネン構造を有する単量体と共重合可能な他の単量体との付加共重合体は、単量体を公知の付加重合触媒の存在下に重合することにより得ることができる。
【０１１８】
ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体の水素添加物、ノルボルネン構造を有する単量体とこれと開環共重合可能なその他の単量体との開環共重合体の水素添加物、ノルボルネン構造を有する単量体の付加重合体の水素添加物、およびノルボルネン構造を有する単量体とこれと共重合可能なその他の単量体との付加共重合体の水素添加物は、これらの重合体の溶液に、ニッケル、パラジウムなどの遷移金属を含む公知の水素添加触媒を添加し、炭素−炭素不飽和結合を好ましくは９０％以上水素添加することによって得ることができる。
【０１１９】
ノルボルネン系樹脂の中でも、繰り返し単位として、Ｘ：ビシクロ〔３．３．０〕オクタン−２，４−ジイル−エチレン構造と、Ｙ：トリシクロ〔４．３．０．１２，５〕デカン−７，９−ジイル−エチレン構造とを有し、これらの繰り返し単位の含有量が、ノルボルネン系樹脂の繰り返し単位全体に対して９０重量％以上であり、かつ、Ｘの含有割合とＹの含有割合との比が、Ｘ：Ｙの重量比で１００：０〜４０：６０であるものが好ましい。このような樹脂を用いることにより、長期的に寸法変化がなく、光学特性の安定性に優れたフィルムを得ることができる。
【０１２０】
（可塑剤）
偏光板の保護フィルムは、必要に応じて可塑剤を含有することができる。可塑剤は特に限定されないが、好ましくは、多価カルボン酸エステル系可塑剤、グリコレート系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、脂肪酸エステル系可塑剤および多価アルコールエステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤、アクリル系可塑剤等から選択される。そのうち、可塑剤を２種以上用いる場合は、少なくとも１種は多価アルコールエステル系可塑剤であることが好ましい。なお、これらの可塑剤がリタデーション低下剤として作用する場合もある。
【０１２１】
多価アルコールエステル系可塑剤は、前述の一般式（３）で表される化合物である。
【０１２２】
グリコレート系可塑剤は特に限定されないが、アルキルフタリルアルキルグリコレート類が好ましく用いることができる。アルキルフタリルアルキルグリコレート類としては、例えば、メチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルメチルグリコレート、ブチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルオクチルグリコレート、エチルフタリルオクチルグリコレート、オクチルフタリルメチルグリコレート、オクチルフタリルエチルグリコレート等が挙げられる。
【０１２３】
フタル酸エステル系可塑剤としては、例えば、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、ジオクチルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジシクロヘキシルテレフタレート等が挙げられる。
【０１２４】
クエン酸エステル系可塑剤としては、例えば、クエン酸アセチルトリメチル、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル等が挙げられる。
【０１２５】
脂肪酸エステル系可塑剤として、例えば、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル等が挙げられる。
【０１２６】
リン酸エステル系可塑剤としては、例えば、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等が挙げられる。
【０１２７】
多価カルボン酸エステル化合物としては、２価以上、好ましくは２価〜２０価の多価カルボン酸とアルコールのエステルよりなる。また、脂肪族多価カルボン酸は２〜２０価であることが好ましく、芳香族多価カルボン酸、脂環式多価カルボン酸の場合は３価〜２０価であることが好ましい。
【０１２８】
多価カルボン酸は、下記一般式（２１）で表される。
【０１２９】
一般式（２１）
Ｒ２（ＣＯＯＨ）ｍ（ＯＨ）ｎ
（但し、Ｒ２は（ｍ＋ｎ）価の有機基、ｍは２以上の正の整数、ｎは０以上の整数、ＣＯＯＨ基はカルボキシル基、ＯＨ基はアルコール性またはフェノール性水酸基を表す。）
【０１３０】
好ましい多価カルボン酸の例としては、以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。トリメリット酸、トリメシン酸、ピロメリット酸のような３価以上の芳香族多価カルボン酸またはその誘導体、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、シュウ酸、フマル酸、マレイン酸、テトラヒドロフタル酸のような脂肪族多価カルボン酸、酒石酸、タルトロン酸、リンゴ酸、クエン酸のようなオキシ多価カルボン酸などを好ましく用いることができる。特にオキシ多価カルボン酸を用いることが、保留性向上などの点で好ましい。
【０１３１】
多価カルボン酸エステル化合物に用いられるアルコールとしては、特に制限はなく、公知のアルコール、フェノール類を用いることができる。例えば、炭素数１〜３２の直鎖または側鎖を持った脂肪族飽和アルコールまたは脂肪族不飽和アルコールを好ましく用いることができる。炭素数１〜２０であることが更に好ましく、炭素数１〜１０であることが特に好ましい。また、シクロペンタノール、シクロヘキサノールなどの脂環式アルコールまたはその誘導体、ベンジルアルコール、シンナミルアルコールなどの芳香族アルコールまたはその誘導体なども好ましく用いることができる。
【０１３２】
多価カルボン酸としてオキシ多価カルボン酸を用いる場合は、オキシ多価カルボン酸のアルコール性またはフェノール性の水酸基を、モノカルボン酸を用いてエステル化しても良い。好ましいモノカルボン酸の例としては以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれに限定されるものではない。
【０１３３】
脂肪族モノカルボン酸としては炭素数１〜３２の直鎖または側鎖を持った脂肪酸を好ましく用いることができる。炭素数１〜２０であることが更に好ましく、炭素数１〜１０であることが特に好ましい。
【０１３４】
好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸などの飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸などの不飽和脂肪酸などを挙げることができる。
【０１３５】
好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。
【０１３６】
好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸などの安息香酸のベンゼン環にアルキル基を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸などのベンゼン環を２個以上もつ芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。特に酢酸、プロピオン酸、安息香酸であることが好ましい。
【０１３７】
多価カルボン酸エステル化合物の分子量は、特に制限はないが、分子量３００〜１０００の範囲であることが好ましく、３５０〜７５０の範囲であることが更に好ましい。保留性向上の点では大きい方が好ましく、透湿性、セルロースエステルとの相溶性の点では小さいほうが好ましい。
【０１３８】
多価カルボン酸エステルに用いられるアルコール類は、１種類でも良いし、２種以上の混合であっても良い。
【０１３９】
多価カルボン酸エステル化合物の酸価は、１ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、０．２ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが更に好ましい。酸価を上記範囲にすることによって、リタデーションの環境変動も抑制されるため好ましい。
【０１４０】
（酸価）
酸価とは、試料１ｇ中に含まれる酸（試料中に存在するカルボキシル基）を中和するために必要な水酸化カリウムのミリグラム数をいう。酸価はＪＩＳ  Ｋ００７０に準拠して測定したものである。
【０１４１】
特に好ましい多価カルボン酸エステル化合物の例を以下に示すが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、トリエチルシトレート、トリブチルシトレート、アセチルトリエチルシトレート（ＡＴＥＣ）、アセチルトリブチルシトレート（ＡＴＢＣ）、ベンゾイルトリブチルシトレート、アセチルトリフェニルシトレート、アセチルトリベンジルシトレート、酒石酸ジブチル、酒石酸ジアセチルジブチル、トリメリット酸トリブチル、ピロメリット酸テトラブチル等が挙げられる。
【０１４２】
ポリエステル系可塑剤は特に限定されないが、分子内に芳香環またはシクロアルキル環を有するポリエステル系可塑剤を用いることができる。ポリエステル系可塑剤としては、特に限定されないが、例えば、下記一般式（２２）で表される芳香族末端エステル系可塑剤を用いることができる。
【０１４３】
一般式（２２）
Ｂ−（Ｇ−Ａ）ｎ−Ｇ−Ｂ
（式中、Ｂはベンゼンモノカルボン酸残基、Ｇは炭素数２〜１２のアルキレングリコール残基または炭素数６〜１２のアリールグリコール残基または炭素数が４〜１２のオキシアルキレングリコール残基、Ａは炭素数４〜１２のアルキレンジカルボン酸残基または炭素数６〜１２のアリールジカルボン酸残基を表し、ｎは１以上の整数を表す。）
【０１４４】
一般式（２２）で表される化合物は、Ｂで示されるベンゼンモノカルボン酸残基とＧで示されるアルキレングリコール残基またはオキシアルキレングリコール残基またはアリールグリコール残基、Ａで示されるアルキレンジカルボン酸残基またはアリールジカルボン酸残基とから構成されるものであり、通常のポリエステル系可塑剤と同様の反応により得られる。
【０１４５】
ポリエステル系可塑剤のベンゼンモノカルボン酸成分としては、例えば、安息香酸、パラターシャリブチル安息香酸、オルソトルイル酸、メタトルイル酸、パラトルイル酸、ジメチル安息香酸、エチル安息香酸、ノルマルプロピル安息香酸、アミノ安息香酸、アセトキシ安息香酸等があり、これらはそれぞれ１種または２種以上の混合物として使用することができる。
【０１４６】
ポリエステル系可塑剤の炭素数２〜１２のアルキレングリコール成分としては、エチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，２−プロパンジオール、２−メチル１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロールペンタン）、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３プロパンジオール（３，３−ジメチロールヘプタン）、３−メチル−１，５−ペンタンジオール１，６−ヘキサンジオール、２，２，４−トリメチル１，３−ペンタンジオール、２−エチル１，３−ヘキサンジオール、２−メチル１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、１，１２−オクタデカンジオール等があり、これらのグリコールは、１種または２種以上の混合物として使用される。特に炭素数２〜１２のアルキレングリコールがセルロースエステルとの相溶性に優れているため、特に好ましい。
【０１４７】
また、上記芳香族末端エステルの炭素数４〜１２のオキシアルキレングリコール成分としては、例えば、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等があり、これらのグリコールは、１種または２種以上の混合物として使用できる。
【０１４８】
芳香族末端エステルの炭素数４〜１２のアルキレンジカルボン酸成分としては、例えば、コハク酸、マレイン酸、フマル酸、グルタール酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸等があり、これらは、それぞれ１種または２種以上の混合物として使用される。炭素数６〜１２のアリーレンジカルボン酸成分としては、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、１，５ナフタレンジカルボン酸、１，４ナフタレンジカルボン酸等がある。
【０１４９】
ポリエステル系可塑剤は、数平均分子量が、好ましくは３００〜１５００、より好ましくは４００〜１０００の範囲が好適である。また、その酸価は、０．５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、水酸基価は２５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、より好ましくは酸価０．３ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、水酸基価は１５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下のものである。
【０１５０】
以下、本実施形態で用いることのできる芳香族末端エステル系可塑剤の合成例を示す。
【０１５１】
〈サンプルＮｏ．１（芳香族末端エステルサンプル）〉
反応容器にフタル酸４１０部、安息香酸６１０部、ジプロピレングリコール７３７部、及び触媒としてテトライソプロピルチタネート０．４０部を一括して仕込み窒素気流中で攪拌下、還流凝縮器を付して過剰の１価アルコールを還流させながら、酸価が２以下になるまで１３０〜２５０℃で加熱を続け生成する水を連続的に除去した。次いで２００〜２３０℃で１．３３×１０４Ｐａ〜最終的に４×１０２Ｐａ以下の減圧下、留出分を除去し、この後濾過して次の性状を有する芳香族末端エステル系可塑剤を得た。
粘度（２５℃、ｍＰａ・ｓ）；４３４００
酸価                      ；０．２
【０１５２】
〈サンプルＮｏ．２（芳香族末端エステルサンプル）〉
反応容器に、フタル酸４１０部、安息香酸６１０部、エチレングリコール３４１部、及び触媒としてテトライソプロピルチタネート０．３５部を用いる以外はサンプルＮｏ．１と全く同様にして次の性状を有する芳香族末端エステルを得た。
粘度（２５℃、ｍＰａ・ｓ）；３１０００
酸価                      ；０．１
【０１５３】
〈サンプルＮｏ．３（芳香族末端エステルサンプル）〉
反応容器に、フタル酸４１０部、安息香酸６１０部、１，２−プロパンジオール４１８部、及び触媒としてテトライソプロピルチタネート０．３５部を用いる以外はサンプルＮｏ．１と全く同様にして次の性状を有する芳香族末端エステルを得た。
粘度（２５℃、ｍＰａ・ｓ）；３８０００
酸価                      ；０．０５
【０１５４】
〈サンプルＮｏ．４（芳香族末端エステルサンプル）〉
反応容器に、フタル酸４１０部、安息香酸６１０部、１，３−プロパンジオール４１８部、及び触媒としてテトライソプロピルチタネート０．３５部を用いる以外はサンプルＮｏ．１と全く同様にして次の性状を有する芳香族末端エステルを得た。
粘度（２５℃、ｍＰａ・ｓ）；３７０００
酸価                      ；０．０５
【０１５５】
以下に、本実施形態で用いることのできる芳香族末端エステル系可塑剤の具体的化合物を示すが、本発明はこれに限定されない。
【０１５６】
【化８】
2015008743.tif 000010
【０１５７】
【化９】
2015008743.tif 000011
【０１５８】
（紫外線吸収剤）
偏光板の保護フィルムは、紫外線吸収剤を含有することもできる。紫外線吸収剤は４００ｎｍ以下の紫外線を吸収することで、耐久性を向上させることを目的としており、特に波長３７０ｎｍでの透過率が１０％以下であることが好ましく、より好ましくは５％以下、更に好ましくは２％以下である。
【０１５９】
用いる紫外線吸収剤は特に限定されないが、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物、無機粉体等が挙げられる。
【０１６０】
例えば、５−クロロ−２−（３，５−ジ−ｓｅｃ−ブチル−２−ヒドロキシルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、（２−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシベンゾフェノン、２，４−ベンジルオキシベンゾフェノン等があり、また、チヌビン１０９、チヌビン１７１、チヌビン２３４、チヌビン３２６、チヌビン３２７、チヌビン３２８等のチヌビン類があり、これらはいずれもチバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製の市販品であり、好ましく使用できる。
【０１６１】
より好ましく用いられる紫外線吸収剤は、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤であり、特に好ましくはベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤である。
【０１６２】
例えば、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、下記一般式（ｂ）で示される化合物を用いることができる。
【０１６３】
【化１０】
2015008743.tif 000012
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は同一でも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシル基、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシル基、アシルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、モノもしくはジアルキルアミノ基、アシルアミノ基または５〜６員の複素環基を表し、Ｒ４とＲ５は閉環して５〜６員の炭素環を形成してもよい。また、上記記載のこれらの基は、任意の置換基を有していてよい。
【０１６４】
以下に、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。
【０１６５】
ＵＶ−１：２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−２：２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−３：２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−４：２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール
ＵＶ−５：２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−６：２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）
ＵＶ−７：２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール
ＵＶ−８：２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール（ＴＩＮＵＶＩＮ１７１）
ＵＶ−９：オクチル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートの混合物（ＴＩＮＵＶＩＮ１０９）
【０１６６】
更に、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、下記一般式（ｃ）で表される化合物が好ましく用いられる。
【０１６７】
【化１１】
2015008743.tif 000013
式中、Ｙは水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシル基、またはフェニル基を表し、これらのアルキル基、アルケニル基及びフェニル基は置換基を有していてもよい。Ａは水素原子、アルキル基、アルケニル基、フェニル基、シクロアルキル基、アルキルカルボニル基、アルキルスルホニル基または−ＣＯ（ＮＨ）ｎ−１−Ｄ基を表し、Ｄはアルキル基、アルケニル基または置換基を有していてもよいフェニル基を表す。ｍ及びｎは１または２を表す。
【０１６８】
上記において、アルキル基としては、例えば、炭素数２４までの直鎖または分岐の脂肪族基を表し、アルコキシル基としては例えば、炭素数１８までのアルコキシル基を表し、アルケニル基としては例えば、炭素数１６までのアルケニル基でアリル基、２−ブテニル基等を表す。また、アルキル基、アルケニル基、フェニル基への置換基としてはハロゲン原子、例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等、ヒドロキシル基、フェニル基（このフェニル基にはアルキル基またはハロゲン原子等を置換していてもよい）等が挙げられる。
【０１６９】
以下に一般式（ｃ）で表されるベンゾフェノン系紫外線吸収剤の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。
【０１７０】
ＵＶ−１０：２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン
ＵＶ−１１：２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン
ＵＶ−１２：２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン
ＵＶ−１３：ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニルメタン）
【０１７１】
この他、１，３，５トリアジン環を有する化合物等の円盤状化合物も紫外線吸収剤として好ましく用いられる。
【０１７２】
本実施形態の偏光板保護フィルムは、紫外線吸収剤を２種以上含有することが好ましい。
【０１７３】
また、紫外線吸収剤としては高分子紫外線吸収剤も好ましく用いることができ、特に特開平６−１４８４３０号公報に記載のポリマータイプの紫外線吸収剤が好ましく用いられる。
【０１７４】
紫外線吸収剤の添加方法は、メタノール、エタノール、ブタノール等のアルコールやメチレンクロライド、酢酸メチル、アセトン、ジオキソラン等の有機溶媒或いはこれらの混合溶媒に紫外線吸収剤を溶解してからドープに添加するか、または直接ドープ組成中に添加してもよい。無機粉体のように有機溶剤に溶解しないものは、有機溶剤とセルロースエステル中にデゾルバーやサンドミルを使用し、分散してからドープに添加する。
【０１７５】
紫外線吸収剤の使用量は、紫外線吸収剤の種類、使用条件等により一様ではないが、偏光板保護フィルムの乾燥膜厚が１０〜２００μｍの場合は、偏光板保護フィルムに対して０．５〜１０質量％が好ましく、０．６〜４質量％が更に好ましい。
【０１７６】
（微粒子）
偏光板の保護フィルムは、微粒子を含有することが好ましい。微粒子としては、無機化合物の例として、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子は珪素を含むものが、濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。
【０１７７】
微粒子の一次粒子の平均粒径は５〜４００ｎｍが好ましく、更に好ましいのは１０〜３００ｎｍである。これらは主に粒径０．０５〜０．３μｍの二次凝集体として含有されていてもよく、平均粒径１００〜４００ｎｍの粒子であれば凝集せずに一次粒子として含まれていることも好ましい。偏光板保護フィルムにおけるこれらの微粒子の含有量は、０．０１〜１質量％であることが好ましく、特に０．０５〜０．５質量％が好ましい。共流延法による多層構成の偏光板保護フィルムの場合は、表面にこの添加量の微粒子を含有することが好ましい。
【０１７８】
二酸化珪素の微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上、日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。
【０１７９】
酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上、日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。
【０１８０】
ポリマーの例として、シリコーン樹脂、フッ素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることができる。シリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール１０３、同１０５、同１０８、同１２０、同１４５、同３１２０及び同２４０（以上、東芝シリコーン（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。
【０１８１】
これらの中でも、アエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖが偏光板保護フィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数を下げる効果が大きいため特に好ましく用いられる。本実施形態の偏光板保護フィルムにおいては、少なくとも一方の面の動摩擦係数が０．２〜１．０であることが好ましい。
【０１８２】
各種添加剤は製膜前のセルロースエステル含有溶液であるドープにバッチ添加してもよいし、添加剤溶解液を別途用意してインライン添加してもよい。特に微粒子は濾過材への負荷を減らすために、一部または全量をインライン添加することが好ましい。
【０１８３】
添加剤溶解液をインライン添加する場合は、ドープとの混合性をよくするため、少量のセルロースエステルを溶解するのが好ましい。好ましいセルロースエステルの量は、溶剤１００質量部に対して１〜１０質量部で、より好ましくは、３〜５質量部である。
【０１８４】
本実施形態においてインライン添加、混合を行うためには、例えば、スタチックミキサー（東レエンジニアリング製）、ＳＷＪ（東レ静止型管内混合器  Ｈｉ−Ｍｉｘｅｒ）等のインラインミキサー等が好ましく用いられる。
【０１８５】
（保護フィルムの製造方法）
次に、偏光板の保護フィルムの製造方法について説明する。
【０１８６】
保護フィルムは、溶液流延法で製造されたフィルムであってもよいし、溶融流延法で製造されたフィルムであってもよく、どちらも好ましく用いることができる。
【０１８７】
保護フィルムの製造は、セルロースエステル及び添加剤を溶剤に溶解させてドープを調製する工程、ドープを無限に移行する無端の金属支持体上に流延する工程、流延したドープをウェブとして乾燥する工程、金属支持体から剥離する工程、延伸または幅保持する工程、更に乾燥する工程、仕上がったフィルムを巻取る工程により行われる。
【０１８８】
ドープを調製する工程について述べる。ドープ中のセルロースエステルの濃度は、濃い方が金属支持体に流延した後の乾燥負荷が低減できて好ましいが、セルロースエステルの濃度が濃過ぎると濾過時の負荷が増えて、濾過精度が悪くなる。これらを両立する濃度としては、１０〜３５質量％が好ましく、更に好ましくは、１５〜２５質量％である。
【０１８９】
ドープで用いられる溶剤は、単独で用いても２種以上を併用してもよいが、セルロースエステルの良溶剤と貧溶剤を混合して使用することが生産効率の点で好ましく、良溶剤が多い方がセルロースエステルの溶解性の点で好ましい。良溶剤と貧溶剤の混合比率の好ましい範囲は、良溶剤が７０〜９８質量％であり、貧溶剤が２〜３０質量％である。良溶剤、貧溶剤とは、使用するセルロースエステルを単独で溶解するものを良溶剤、単独で膨潤するかまたは溶解しないものを貧溶剤と定義している。そのため、セルロースエステルの平均酢化度（アセチル基置換度）によっては、良溶剤、貧溶剤が変わり、例えばアセトンを溶剤として用いるときには、セルロースエステルの酢酸エステル（アセチル基置換度２．４）、セルロースアセテートプロピオネートでは良溶剤になり、セルロースの酢酸エステル（アセチル基置換度２．８）では貧溶剤となる。
【０１９０】
用いられる良溶剤は特に限定されないが、メチレンクロライド等の有機ハロゲン化合物やジオキソラン類、アセトン、酢酸メチル、アセト酢酸メチル等が挙げられる。特に好ましくはメチレンクロライドまたは酢酸メチルが挙げられる。
【０１９１】
また、用いられる貧溶剤は特に限定されないが、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−ブタノール、シクロヘキサン、シクロヘキサノン等が好ましく用いられる。また、ドープ中には水が０．０１〜２質量％含有していることが好ましい。また、セルロースエステルの溶解に用いられる溶媒は、フィルム製膜工程で乾燥によりフィルムから除去された溶媒を回収し、これを再利用して用いられる。回収溶剤中に、セルロースエステルに添加されている添加剤、例えば可塑剤、紫外線吸収剤、ポリマー、モノマー成分などが微量含有されていることもあるが、これらが含まれていても好ましく再利用することができるし、必要であれば精製して再利用することもできる。
【０１９２】
上記記載のドープを調製するときの、セルロースエステルの溶解方法としては、一般的な方法を用いることができる。加熱と加圧を組み合わせると、常圧における沸点以上に加熱できる。溶剤の常圧での沸点以上でかつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら攪拌溶解すると、ゲルやママコと呼ばれる塊状未溶解物の発生を防止するため好ましい。また、セルロースエステルを貧溶剤と混合して湿潤或いは膨潤させた後、更に良溶剤を添加して溶解する方法も好ましく用いられる。
【０１９３】
加圧は窒素ガス等の不活性気体を圧入する方法や、加熱によって溶剤の蒸気圧を上昇させる方法によって行ってもよい。加熱は外部から行うことが好ましく、例えばジャケットタイプのものは温度コントロールが容易で好ましい。
【０１９４】
溶剤を添加しての加熱温度は、高い方がセルロースエステルの溶解性の観点から好ましいが、加熱温度が高過ぎると必要とされる圧力が大きくなり生産性が悪くなる。好ましい加熱温度は４５〜１２０℃であり、６０〜１１０℃がより好ましく、７０℃〜１０５℃が更に好ましい。また、圧力は設定温度で溶剤が沸騰しないように調整される。
【０１９５】
もしくは冷却溶解法も好ましく用いられ、これによって酢酸メチルなどの溶媒にセルロースエステルを溶解させることができる。
【０１９６】
次に、このセルロースエステル溶液を濾紙等の適当な濾過材を用いて濾過する。濾過材としては、不溶物等を除去するために絶対濾過精度が小さいほうが好ましいが、絶対濾過精度が小さ過ぎると濾過材の目詰まりが発生し易いという問題がある。このため絶対濾過精度０．００８ｍｍ以下の濾過材が好ましく、０．００１〜０．００８ｍｍの濾過材がより好ましく、０．００３〜０．００６ｍｍの濾過材が更に好ましい。
【０１９７】
濾過材の材質は特に制限はなく、通常の濾過材を使用することができるが、ポリプロピレン、テフロン（登録商標）等のプラスチック製の濾過材や、ステンレススティール等の金属製の濾過材が繊維の脱落等がなく好ましい。濾過により、原料のセルロースエステルに含まれていた不純物、特に輝点異物を除去、低減することが好ましい。
【０１９８】
輝点異物とは、２枚の偏光板をクロスニコル状態にして配置し、その間に偏光板保護フィルムを置き、一方の偏光板の側から光を当てて、他方の偏光板の側から観察したときに反対側からの光が漏れて見える点（異物）のことであり、径が０．０１ｍｍ以上である輝点数が２００個／ｃｍ２以下であることが好ましい。より好ましくは１００個／ｃｍ２以下であり、更に好ましくは５０個／ｃｍ２以下であり、更に好ましくは０〜１０個／ｃｍ２以下である。また、径が０．０１ｍｍ以下の輝点も少ないほうが好ましい。
【０１９９】
ドープの濾過は通常の方法で行うことができるが、溶剤の常圧での沸点以上で、かつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら濾過する方法が、濾過前後の濾圧の差（差圧という）の上昇が小さく、好ましい。好ましい温度は４５〜１２０℃であり、４５〜７０℃がより好ましく、４５〜５５℃であることが更に好ましい。
【０２００】
濾圧は小さいほうが好ましい。濾圧は１．６ＭＰａ以下であることが好ましく、１．２ＭＰａ以下であることがより好ましく、１．０ＭＰａ以下であることが更に好ましい。
【０２０１】
ここで、ドープの流延について説明する。流延（キャスト）工程における金属支持体は、表面を鏡面仕上げしたものが好ましく、金属支持体としては、ステンレススティールベルトもしくは鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムが好ましく用いられる。キャストの幅は１〜４ｍとすることができる。
【０２０２】
流延工程の金属支持体の表面温度は−５０℃〜溶剤の沸点未満の温度で、温度が高いほうがウェブの乾燥速度が速くできるので好ましいが、余り高過ぎるとウェブが発泡したり、平面性が劣化する場合がある。好ましい支持体温度は０〜４０℃であり、５〜３０℃が更に好ましい。或いは、冷却することによってウェブをゲル化させて残留溶媒を多く含んだ状態でドラムから剥離することも好ましい方法である。
【０２０３】
金属支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風または冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。温風を用いる場合は目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。
【０２０４】
保護フィルムが良好な平面性を示すためには、金属支持体からウェブを剥離する際の残留溶媒量は１０〜１５０質量％が好ましく、更に好ましくは１０〜４０質量％または６０〜１３０質量％であり、特に好ましくは、１０〜３０質量％または７０〜１２０質量％である。ここで、残留溶媒量は下記式で定義される。
残留溶媒量（質量％）＝｛（Ｍ−Ｎ）／Ｎ｝×１００
なお、Ｍはウェブまたはフィルムを製造中または製造後の任意の時点で採取した試料の質量で、Ｎは質量Ｍのものを１１５℃で１時間加熱した後の質量である。
【０２０５】
また、保護フィルムの乾燥工程においては、ウェブを金属支持体より剥離し、更に乾燥し、残留溶媒量を１質量％以下にすることが好ましく、更に好ましくは０．１質量％以下であり、特に好ましくは０〜０．０１質量％以下である。
【０２０６】
フィルム乾燥工程では一般にロール乾燥方式（上下に配置した多数のロールをウェブを交互に通し乾燥させる方式）やテンター方式でウェブを搬送させながら乾燥する方式が採られる。
【０２０７】
保護フィルムを作製するためには、金属支持体より剥離した直後で、ウェブの残留溶剤量の多いところで搬送方向（縦方向）に延伸し、更にウェブの両端をクリップ等で把持するテンター方式で幅方向（横方向）に延伸を行うことが特に好ましい。
【０２０８】
剥離直後に縦方向に延伸するために、剥離張力を２１０Ｎ／ｍ以上で剥離することが好ましく、特に好ましくは２２０〜３００Ｎ／ｍである。
【０２０９】
ウェブを乾燥させる手段は特に制限なく、一般的に熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波等で行うことができるが、簡便さの点で、熱風で行うことが好ましい。
【０２１０】
ウェブの乾燥工程における乾燥温度は４０〜２００℃で段階的に高くしていくことが好ましく、５０〜１４０℃の範囲で行うことが寸法安定性を良くするため更に好ましい。
【０２１１】
保護フィルムの膜厚は、特に限定はされないが１０〜２００μｍが用いられる。特に膜厚は１０〜１００μｍであることが特に好ましい。更に好ましくは１０〜４０μｍである。
【０２１２】
保護フィルムは、幅１〜４ｍのものが用いられる。特に幅１．４〜４ｍのものが好ましく用いられ、特に好ましくは１．６〜３ｍである。４ｍを超えると搬送が困難となる。
【０２１３】
（延伸操作、屈折率制御）
偏光板の保護フィルムは、下記式で表されるリタデーション値Ｒｏが０〜１０ｎｍ、Ｒｔが−１０〜＋１０ｎｍであることが好ましい。
式（ｉ）：Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式（ii）：Ｒｔ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ
（式中、Ｒｏはフィルム面内リタデーション値、Ｒｔはフィルム厚み方向リタデーション値、ｎｘはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、ｎｙはフィルム面内の進相軸方向の屈折率、ｎｚはフィルムの厚み方向の屈折率、ｄはフィルムの厚さ（ｎｍ）を表す。）
【０２１４】
上記屈折率は、例えば、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器（株））を用いて、２３℃、５５％ＲＨの環境下で、測定波長５９０ｎｍで求めることができる。
【０２１５】
更に、リタデーション値Ｒｏは０〜５ｎｍの範囲であり、かつＲｔが−１０〜１０ｎｍの範囲にあることが、本発明の効果を高める上でより好ましい。
【０２１６】
上記リタデーション値Ｒｏ、Ｒｔを得るには、偏光板保護フィルムが本発明の構成をとり、更に延伸操作により屈折率制御を行うことが好ましい。
【０２１７】
例えば、フィルムの長手方向（製膜方向）及びそれとフィルム面内で直交する方向、即ち幅手方向に対して、逐次または同時に延伸することができる。
【０２１８】
互いに直交する２軸方向の延伸倍率は、それぞれ最終的には流延方向に１．０〜２．０倍、幅方向に１．０１〜２．５倍の範囲とすることが好ましく、流延方向に１．０１〜１．５倍、幅方向に１．０５〜２．０倍に範囲で行うことが好ましい。
【０２１９】
ウェブを延伸する方法には特に限定はない。例えば、複数のロールに周速差をつけ、その間でロール周速差を利用して縦方向に延伸する方法、ウェブの両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔を進行方向に広げて縦方向に延伸する方法、同様に横方向に広げて横方向に延伸する方法、或いは縦横同時に広げて縦横両方向に延伸する方法などが挙げられる。もちろんこれらの方法は、組み合わせて用いてもよい。また、所謂テンター法の場合、リニアドライブ方式でクリップ部分を駆動すると滑らかな延伸を行うことができ、破断等の危険性が減少できるので好ましい。
【０２２０】
製膜工程のこれらの幅保持或いは横方向の延伸は、テンターによって行うことが好ましく、ピンテンターでもクリップテンターでもよい。
【０２２１】
保護フィルムの遅相軸または進相軸がフィルム面内に存在し、製膜方向とのなす角をθ１とするとθ１は−１°以上＋１°以下であることが好ましく、−０．５°以上＋０．５°以下であることがより好ましい。このθ１は配向角として定義でき、θ１の測定は、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器）を用いて行うことができる。θ１が各々上記関係を満たすことは、表示画像において高い輝度を得ること、光漏れを抑制または防止することに寄与でき、カラー液晶表示装置においては忠実な色再現を得ることに寄与できる。
【０２２２】
（物性）
保護フィルムは、破断伸度が１０〜８０％であることが好ましく２０〜５０％であることが更に好ましい。
【０２２３】
保護フィルムの可視光透過率は、９０％以上であることが好ましく、９３％以上であることが更に好ましい。
【０２２４】
保護フィルムのヘイズは、１％未満であることが好ましく、０〜０．１％であることが特に好ましい。
【０２２５】
（偏光板）
本実施形態の偏光板は、表面側の第１の保護フィルムと、偏光子としての偏光フィルムと、裏面側の第２の保護フィルムと、粘着剤層とをこの順で積層してなる。後述する液晶表示装置は、粘着層側が液晶セル側となるように、偏光板を液晶セルの少なくとも一方の面に貼り合わせることで構成される。
【０２２６】
偏光板は、一般的な方法で作製することができる。第２の保護フィルムの偏光子側をアルカリ鹸化処理し、沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の少なくとも一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。偏光子のもう一方の面には、第２の保護フィルムと同じ構成のものを第１の保護フィルムとして貼り合わせてもよいし、別の偏光板保護フィルムを貼り合わせてもよい。別の偏光板保護フィルムとしては、市販のセルロースエステルフィルム（例えば、コニカミノルタタック  ＫＣ８ＵＸ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ１２ＵＲ、ＫＣ８ＵＣＲ−３、ＫＣ８ＵＣＲ−４、ＫＣ８ＵＣＲ−５、ＫＣ４ＦＲ−１、ＫＣ８ＵＹ−ＨＡ、ＫＣ８ＵＸ−ＲＨＡ、以上コニカミノルタオプト（株）製）も好ましく用いられる。
【０２２７】
偏光板の主たる構成要素である偏光子とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光子は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムで、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがある。偏光子は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜して、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。偏光子の膜厚は５〜３０μｍが好ましく、特に１０〜２０μｍであることが好ましい。
【０２２８】
例えば特開２００３−２４０９５８号公報では、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを、二色性色素を含む水溶液で染色する工程、二色性色素で染色された該ポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸水溶液で処理する工程、及び該ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを一軸延伸する工程を経て、該ポリビニルアルコール系樹脂フィルムに二色性色素が吸着配向された偏光フィルムを製造する方法において、二色性色素を含む水溶液で処理する前のポリビニルアルコール系樹脂フィルムに、９０〜１８０℃の範囲の温度で熱処理を施して、膜厚が１０μｍを越え２０μｍ未満となるような偏光フィルムを製造しているが、このような手法で薄型の偏光フィルムを製造することも好ましい方法である。
【０２２９】
また、例えば特許第４７５１４８１号公報では、非晶性エステル系熱可塑性樹脂基材に、二色性物質を配向させたポリビニルアルコール系樹脂層を製膜した積層体を、空中補助延伸とホウ酸水中延伸とからなる２段延伸工程で延伸することで、厚さ１５μｍ以下の上記樹脂層からなる偏光フィルム（いわゆる塗布型偏光子）を製造するようにしているが、このような手法で薄型の偏光フィルムを製造することも好ましい方法である。
【０２３０】
また、特開２００３−２４８１２３号公報、特開２００３−３４２３２２号公報等に記載のエチレン単位の含有量１〜４モル％、重合度２０００〜４０００、けん化度９９．０〜９９．９９モル％のエチレン変性ポリビニルアルコールも好ましく用いられる。中でも熱水切断温度が６６〜７３℃であるエチレン変性ポリビニルアルコールフィルムが好ましく用いられる。又、フィルムのＴＤ方向に５ｃｍ離れた二点間の熱水切断温度の差が１℃以下であることが、色斑を低減させるうえで更に好ましく、更にフィルムのＴＤ方向に１ｃｍ離れた二点間の熱水切断温度の差が０．５℃以下であることが、色斑を低減させるうえで更に好ましい。
【０２３１】
このエチレン変性ポリビニルアルコールフィルムを用いた偏光子は、偏光性能および耐久性能に優れているうえに、色斑が少なく、大型液晶表示装置に特に好ましく用いられる。
【０２３２】
以上のようにして得られた偏光子は、通常、その両面または片面に保護フィルムが貼合されて偏光板として使用される。偏光子と保護フィルムとを貼合する際に用いられる接着剤としては、ＰＶＡ系の接着剤やウレタン系の接着剤などを挙げることができるが、中でもＰＶＡ系の接着剤が好ましく用いられる。
【０２３３】
また、偏光板を液晶セルに貼り合わせる際に用いられる粘着剤層を形成する粘着剤としては、アクリル酸エステル系、メタクリル酸エステル系、ブチルゴム系、シリコーン系などのベースポリマーを用いたものが使用できる。特に限定されるものではないが、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸イソオクチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシルのような（メタ）アクリル酸エステルをベースとするポリマーや、これらの（メタ）アクリル酸エステルを２種類以上用いた共重合体をベースとするポリマーが好適に用いられる。粘着剤は通常、これらのベースポリマー中に極性モノマーが共重合されており、この極性モノマーとしては、たとえば、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレートのような、カルボキシル基、水酸基、アミノ基、エポキシ基などを有するモノマーを挙げることができる。粘着剤は、通常、ベースポリマーのほか、１種または２種以上の架橋剤を含む。架橋剤としては、カルボキシル基との間でカルボン酸金属塩を形成する２価または多価金属塩、カルボキシル基との間でアミド結合を形成するポリイソシアネート化合物などが挙げられる。
【０２３４】
粘着剤層の厚みは、３〜５０μｍ程度とすることができる。粘着剤層を偏光板に形成する場合、偏光板の保護フィルム表面にコロナ処理などの表面処理を施してもよい。また、粘着剤層を形成する場合には、粘着剤層の表面を剥離フィルムなどで覆っておくのが通常である。
【０２３５】
（液晶表示装置）
本実施形態の液晶表示装置は、上述した偏光板と、液晶セルとを積層して構成される。このとき、偏光板と液晶セルとは、偏光板の粘着剤層によって接着される。液晶セルは、液晶層を透明基板で挟持してなり、ＩＰＳ（Ｉｎ  Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モードで駆動される。
【０２３６】
このように、本実施形態の偏光板をＩＰＳモード型の液晶表示装置に組み込むことにより、視認性に優れ、視野角が拡大された液晶表示装置を実現することができる。また、本実施形態の偏光板をフリンジ−フィールドスイッチング（ＦＦＳ：Ｆｒｉｎｇｅ−Ｆｉｅｌｄ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード型の液晶表示装置に組み込むことも可能であり、この場合でも、視認性に優れ、視野角が拡大された液晶表示装置を実現することができる。
【０２３７】
＜実施例＞
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」あるいは「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量％」を表す。
【０２３８】
［光学フィルムに用いる材料］
（セルロースアシレート）
セルロースアシレート：アセチル基置換度２．８０である数平均分子量７００００のセルローストリアセテート（ＴＡＣ）
【０２３９】
（リタデーション低下剤）
〈糖エステル〉
下記表１に記載の糖を用いて、脂肪族アルキル基（ＡＬ）および芳香族アルキル基（ＡＲ）の置換基の種類と置換基数とを変化させて、それぞれ糖エステルを合成した。
【０２４０】
【表１】
2015008743.tif 000014
【０２４１】
表中、「（ＡＬの置換基数＋ＡＲの置換基数）／全ＯＨ基数」とは、糖エステルの置換基である全ＯＨ基の数に対する、脂肪族アルキル基（ＡＬ）および芳香族アルキル基（ＡＲ）の置換基の合計数を表す。例えば「５／８」とは、８個の置換基中で５個がＡＬおよび／またはＡＲの置換基であることを示す。また、例えば上記の比が５／８の糖エステルと６／８の糖エステルとが、５０：５０の比率で混合している場合は、「５．５／８」のように表す。
【０２４２】
〈エステル化合物〉
《エステル化合物Ｅ１》
１，２−プロピレングリコール２５１ｇ、無水フタル酸２７８ｇ、アジピン酸９１ｇ、安息香酸６１０ｇ、エステル化触媒としてテトライソプロピルチタネート０．１９１ｇを、温度計、撹拌器、緩急冷却管を備えた２Ｌの四つ口フラスコに仕込み、窒素気流中２３０℃になるまで、撹拌しながら徐々に昇温する。１５時間脱水縮合反応させ、反応終了後２００℃で未反応の１，２−プロピレングリコールを減圧留去することにより、エステル化合物Ｅ１を得た。酸価０．１０、数平均分子量４５０であった。
【０２４３】
《エステル化合物Ｅ２》
アジピン酸／エチレングリコールのポリエステルポリオール（平均重合度は２０００）を用いた。
【０２４４】
〈アクリル系添加剤Ａ１〉
特開２０００−１２８９１１号公報に記載の重合方法により塊状重合を行った。すなわち、撹拌機、窒素ガス導入管、温度計、投入口及び還流冷却管を備えたフラスコにモノマーとしてメチルアクリレート（ＭＭＡ）を投入し、窒素ガスを導入してフラスコ内を窒素ガスで置換し、アクリル系化合物を得た。
【０２４５】
そして、チオグリセロール添加後、４時間重合を行い、内容物を室温に戻し、それにベンゾキノン５質量％テトラヒドロフラン溶液２０質量部添加し、重合を停止させた。内容物をエバポレーターに移し、８０℃で減圧下、テトラヒドロフラン、残存モノマー及び残存チオグリセロールを除去し、ＧＰＣを用いて測定した重量平均分子量が１０００であるアクリル系添加剤Ａ１を得た。
【０２４６】
［光学フィルム１の作製］
（主ドープ１の調製）
下記組成の主ドープを調製した。まず加圧溶解タンクにメチレンクロライドとエタノールを添加した。溶剤の入った加圧溶解タンクにセルロースエステルＡを撹拌しながら投入し、これを加熱し、撹拌しながら完全に溶解した。
セルロースアシレート                                  １００質量部
糖エステルＴ１                                          １５質量部
マット剤：Ｒ８１２の１２％エタノール分散液（日本アエロジル（株）製
）                                                      １．４質量部
メチレンクロライド                                    ４３０質量部
エタノール                                              ４０質量部
更に上記添加剤成分を密閉容器に投入し、撹拌しながら溶解して、これを安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用して濾過し、主ドープ１を調製した。
【０２４７】
（光学フィルム１の製膜）
上記調製した主ドープ１を、ベルト流延装置を用い、温度２２℃、１．８ｍ幅でステンレスバンド支持体に均一に流延した。ステンレスバンド支持体で、残留溶剤量が２０％になるまで溶媒を蒸発させ、剥離張力１６２Ｎ／ｍでステンレスバンド支持体上からドープ膜（ウェブ）を剥離した。
【０２４８】
次いで、剥離したウェブを３５℃で溶媒を蒸発させ、１．６ｍ幅にスリットし、その後、テンター延伸機を用いて、１６０℃の温度で幅手方向（ＴＤ方向）に元幅に対して１．１倍延伸をした。このとき、テンターによる延伸を開始したときの残留溶媒量は、４質量％であった。
【０２４９】
その後、１２０℃、１４０℃の乾燥ゾーンを多数のローラーで搬送させながら乾燥を終了させ、１．３ｍ幅にスリットし、フィルム両端に幅１０ｍｍ、高さ２．５μｍのナーリング加工を施した後、コアに巻取り、光学フィルム１を作製した。膜厚は２０μｍ、巻きの長さは５０００ｍであった。
【０２５０】
［光学フィルム２〜１２の作製］
主ドープに含まれる添加剤の種類および比率を表２のように変更した以外は、光学フィルム１と同様にして、光学フィルム２〜１２を作製した。
【０２５１】
【表２】
2015008743.tif 000015
【０２５２】
［光学フィルム１３の作製］
メタクリル酸メチル／アクリル酸メチルの重量比９８／２の共重合体にアクリル系ゴム粒子が４５％配合されたペレット１と、同じくアクリル系ゴム粒子が１５％配合されたペレット２の二種類を用意した。ペレット１とペレット２を０．５：０．５の比になるように押出し機に投入して混練し、Ｔダイから押出される溶融フィルムを４５℃に設定された２本の冷却ロールに挟んで冷却しながら引き取って、厚さ４０μｍのアクリル系樹脂フィルムを作製した。このアクリル系樹脂フィルムを光学フィルム１３とする。光学フィルム１４の透湿度は、９８ｇ／ｍ２・２４ｈｒであった。
【０２５３】
［光学フィルム１４の作製］
（ポリエステルＡの製造）
エステル化反応缶を昇温し２００℃に到達した時点で、テレフタル酸を８６．４質量部およびエチレングリコール６４．６質量部を仕込み、撹拌しながら触媒として三酸化アンチモンを０．０１７質量部、酢酸マグネシウム４水和物を０．０６４質量部、トリエチルアミン０．１６質量部を仕込んだ。ついで、加圧昇温を行いゲージ圧０．３４ＭＰａ、２４０℃の条件で加圧エステル化反応を行った後、エステル化反応缶を常圧に戻し、リン酸０.０１４質量部を添加した。さらに、１５分かけて２６０℃に昇温し、リン酸トリメチル０．０１２質量部を添加した。次いで１５分後に、高圧分散機で分散処理を行い、１５分後、得られたエステル化反応生成物を重縮合反応缶に移送し、２８０℃で減圧下重縮合反応を行った。
【０２５４】
重縮合反応終了後、９５％カット径が５μｍのナスロン製フィルターで濾過処理を行い、ノズルからストランド状に押出し、予め濾過処理（孔径：１μｍ以下）を行った冷却水を用いて冷却、固化させ、ペレット状にカットした。得られたポリエチレンテレフタレート樹脂（Ａ）の固有粘度は０．６２ｄｌ／ｇであり、不活性粒子及び内部析出粒子は実質上含有していなかった。（以後、ＰＥＴ（Ａ）と略す。）      
【０２５５】
（ポリエステルＢの製造）
乾燥させた紫外線吸収剤（２，２’−（１，４−フェニレン）ビス（４Ｈ−３，１−ベンズオキサジノン−４−オン）１０質量部、粒子を含有しないＰＥＴ（Ａ）（固有粘度が０．６２ｄｌ／ｇ）９０質量部を混合し、混練押出機を用い、紫外線吸収剤含有するポリエチレンテレフタレート樹脂（Ｂ）を得た。（以後、ＰＥＴ（Ｂ）と略す。）      
【０２５６】
（接着性改質塗布液の調整）
常法によりエステル交換反応および重縮合反応を行って、ジカルボン酸成分として（ジカルボン酸成分全体に対して）テレフタル酸４６モル％、イソフタル酸４６モル％および５−スルホナトイソフタル酸ナトリウム８モル％、グリコール成分として（グリコール成分全体に対して）エチレングリコール５０モル％およびネオペンチルグリコール５０モル％の組成の水分散性スルホン酸金属塩基含有共重合ポリエステル樹脂を調製した。
【０２５７】
次いで、水５１．４質量部、イソプロピルアルコール３８質量部、ｎ−ブチルセルソルブ５質量部、ノニオン系界面活性剤０．０６質量部を混合した後、加熱撹拌し、７７℃に達したら、上記水分散性スルホン酸金属塩基含有共重合ポリエステル樹脂５質量部を加え、樹脂の固まりが無くなるまで撹拌し続けた後、樹脂水分散液を常温まで冷却して、固形分濃度５．０質量％の均一な水分散性共重合ポリエステル樹脂液を得た。さらに、凝集体シリカ粒子（富士シリシア（株）社製、サイリシア３１０）３質量部を水５０質量部に分散させた後、上記水分散性共重合ポリエステル樹脂液９９．４６質量部にサイリシア３１０の水分散液０．５４質量部を加えて、撹拌しながら水２０質量部を加えて、接着性改質塗布液を得た。
【０２５８】
基材フィルム中間層用原料として粒子を含有しないＰＥＴ（Ａ）樹脂ペレット９０質量部と紫外線吸収剤を含有したＰＥＴ（Ｂ）樹脂ペレット１０質量部を１３５℃で６時間減圧乾燥（１Ｔｏｒｒ）した後、押出機２（中間層ＩＩ層用）に供給し、また、ＰＥＴ（Ａ）を常法により乾燥して押出機１（外層Ｉ層および外層ＩＩＩ用）にそれぞれ供給し、２８５℃で溶解した。この２種のポリマーを、それぞれステンレス焼結体の濾材（公称濾過精度１０μｍ粒子９５％カット）で濾過し、２種３層合流ブロックにて、積層し、口金よりシート状にして押し出した後、静電印加キャスト法を用いて表面温度３０℃のキャスティングドラムに巻きつけて冷却固化し、未延伸フィルムを作った。このとき、Ｉ層、ＩＩ層、ＩＩＩ層の厚さの比は１０：８０：１０となるように各押し出し機の吐出量を調整した。
【０２５９】
次いで、リバースロール法によりこの未延伸ＰＥＴフィルムの両面に乾燥後の塗布量が０．０８ｇ／ｍ２になるように、上記接着性改質塗布液を塗布した後、８０℃で２０秒間乾燥した。
【０２６０】
この塗布層を形成した未延伸フィルムをテンター延伸機に導き、フィルムの端部をクリップで把持しながら、温度１２５℃の熱風ゾーンに導き、幅方向に４．０倍に延伸した。次に、幅方向に延伸された幅を保ったまま、温度２２５℃、３０秒間で処理し、さらに幅方向に３％の緩和処理を行い、フィルム厚み約６０μｍの一軸配向ＰＥＴフィルムを得たこのＰＥＴフィルムを光学フィルム１４とする。光学フィルム１４の透湿度は、３６ｇ／ｍ２・２４ｈｒであった。
【０２６１】
［ＲｏおよびＲｔの測定］
光学フィルム１〜１２のそれぞれについて、温度２３℃、相対湿度５５％の環境下で、測定波長５９０ｎｍで、下記式（ｉ）により定義される面内方向のリタデーション値（Ｒｏ）及び下記式（ii）により定義される厚さ方向のリタデーション値（Ｒｔ）を、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−ＷＰＲ（王子計測機器）を用いて測定した。
【０２６２】
具体的には、上記作製した光学フィルム１〜１２を２３℃、５５％ＲＨの環境下で、５９０ｎｍの波長において１０カ所で３次元の屈折率測定を行い、屈折率ｎｘ、ｎｙ、ｎｚの平均値を求めた後、下記式に従って面内方向のリタデーション値Ｒｏ及び厚さ方向のリタデーション値Ｒｔを算出した。測定した結果を表２に併せて示す。
式（ｉ）：Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ（ｎｍ）
式（ii）：Ｒｔ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ（ｎｍ）
〔式（ｉ）及び式（ii）において、ｎｘは、フィルムの面内方向において屈折率が最大になる方向ｘにおける屈折率を表す。ｎｙは、フィルムの面内方向において、前記方向ｘと直交する方向ｙにおける屈折率を表す。ｎｚは、フィルムの厚さ方向ｚにおける屈折率を表す。〕
【０２６３】
［偏光板の作製］
上記作製した光学フィルム１〜１４を用い、以下のようにして偏光板１〜２２を作製した。
【０２６４】
（偏光子１の作製）
平均重合度２４００、ケン化度９９．９モル％の厚さ３０μｍのポリビニルアルコールフィルムを、３０℃の温水中に６０秒間浸漬し膨潤させた。次いで、得られたフィルムを、ヨウ素／ヨウ化カリウム（質量比＝０．５／８）の濃度０．３％の水溶液に浸漬し、３．５倍まで延伸させながら染色した。その後、得られたフィルムを、６５℃のホウ酸エステル水溶液中で、トータルの延伸倍率が６倍となるように延伸した。その後、得られたフィルムを、４０℃のオーブンにて３分間乾燥して、厚さ１０μｍの偏光子１を得た。
【０２６５】
（偏光子２の作製）
特許４７５１４８１号の実施例１に記載の偏光子を偏光子２として用意した。つまり、非晶性ＰＥＴ樹脂基材上に、二色性物質を配向させたポリビニルアルコール系樹脂層を製膜した積層体を、空中補助延伸とホウ酸水中延伸とからなる２段延伸工程で延伸することにより、偏光子２（非晶性ＰＥＴ樹脂基材上に塗布されているもの）を得た。偏光子２の厚さは３μｍに調整した。
【０２６６】
（活性エネルギー線硬化性接着剤液の調製（カチオン重合型））
下記の各成分を混合した後、脱泡して、活性エネルギー線硬化性接着剤液を調製した。なお、トリアリールスルホニウムヘキサフルオロホスフェートは、５０％プロピレンカーボネート溶液として配合し、下記にはトリアリールスルホニウムヘキサフルオロホスフェートの固形分量を表示した。
３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート
４５質量部
エポリードＧＴ−３０１（ダイセル化学社製の脂環式エポキシ樹脂）
４０質量部
１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル              １５質量部
トリアリールスルホニウムヘキサフルオロホスフェート    ２．３質量部
９，１０−ジブトキシアントラセン                      ０．１質量部
１，４−ジエトキシナフタレン                          ２．０質量部
【０２６７】
（偏光板１の作製）
下記の方法で偏光板１を作製した。まず、第１の保護フィルムとして、上記で作製した光学フィルム１３を準備し、上記調製した活性エネルギー線硬化性接着剤液を、マイクログラビアコーター（グラビアローラー：＃３００、回転速度１４０％／ライン速）を用いて、厚さ５μｍになるように塗工して活性エネルギー線硬化性接着剤層ａを形成した。
【０２６８】
次いで、上記作製した光学フィルム１に、上記調製した活性エネルギー線硬化性接着剤液を、上記と同様に、厚さ５μｍとなるように塗工して活性エネルギー線硬化性接着剤層ｂを形成した。
【０２６９】
上記活性エネルギー線硬化性接着剤層ａおよびｂの間に、上記作製した偏光子１を配置し、ローラー機で貼合し、光学フィルム１３／活性エネルギー線硬化性接着剤層ａ／偏光子／活性エネルギー線硬化性接着剤層ｂ／光学フィルム１が積層された積層物を得た。その際に、光学フィルムの遅相軸と偏光子の吸収軸とが互いに直交になるようにローラー機で貼合した。そして、この積層物の両面側から、電子線を照射して、偏光板１を作製した。なお、ライン速度は２０ｍ／ｍｉｎ、加速電圧は２５０ｋＶ、照射線量は２０ｋＧｙとした。
【０２７０】
（偏光板２〜２２の作製）
用いる光学フィルムおよび偏光子を表３の組み合わせとなるように変更した以外は、上記と同様にして偏光板２〜２２を作製した。
【０２７１】
【表３】
2015008743.tif 000016
【０２７２】
［破断点張力の測定およびハンドリング性の評価］
２３℃５５％ＲＨ環境下、引張り試験機（テンシロン；エーアンドシー株式会社製）を用いて、作製した偏光板の吸収軸方向の破断点応力（ＭＰａ）を測定し、この破断点応力に偏光板の厚みを掛けたものを破断点張力（Ｎ）として算出した。そして、以下の評価基準に基づき、偏光板１〜２１のリワーク作業時のハンドリング性について評価した。偏光板１〜２１の破断点張力およびハンドリング性の評価の結果を表３に併せて示す。なお、破断点張力がＴ（Ｎ）であるということは、偏光板に付与する張力がＴ（Ｎ）になったときにはじめて偏光板が破断することを意味する。
（評価基準）
◎：破断点張力が７０Ｎ以上である（リワーク作業の条件を変更しても、偏光板を残りなく剥がせる）
○：破断点張力が６０Ｎ以上である（リワーク作業の際に偏光板を残りなく剥がせる）。
△：破断点張力が６０Ｎ未満である（リワーク作業の際に偏光板が破れることがあり、パネル側に偏光板が残ることがある）。
×：破断点張力が５０Ｎ未満である（ほとんどのリワーク作業の際に偏光板が破れ、パネル側に偏光板が残る）。
【０２７３】
表３より、偏光板１〜１８では、破断点張力が６０Ｎ以上となっている。これは、偏光板１〜１８では、第２の保護フィルム中に、ゼロ位相差を実現するためのリタデーション低下剤として、脂肪族アシル基置換の糖エステルが含まれていることから、第２の保護フィルムを薄型化しても、糖エステルとセルロースエステルとの相互作用により、第２の保護フィルムの機械的強度を確保することができ、アクリル樹脂またはＰＥＴ樹脂からなる低透湿の第１の保護フィルム、偏光子、第２の保護フィルムの厚さの合計が９０μｍ以下となるように偏光板全体を薄型化した場合でも、薄型化によって機械的強度が低下しやすくなる第１の保護フィルムおよび偏光子を第２の保護フィルムで支持して、偏光板全体として機械的強度が低下するのを抑えることができるためと考えられる。したがって、リワーク作業の際には、偏光板が破れにくくなり（偏光板に６０Ｎ以上の強い張力を付与しなければ偏光板が破れないため）、ハンドリング性が良好となる。
【０２７４】
特に、偏光板１〜１１では、第１の保護フィルム、偏光子、第２の保護フィルムの厚さの合計が８０μｍ以下となるように偏光板全体を薄型化した場合でも、破断点張力６０Ｎ以上を確保して、偏光板の破断防止（ハンドリング性向上）の効果が得られている。中でも、偏光板１〜４、７〜１１では、破断点張力８０Ｎ以上を確保して、ハンドリング性向上の効果が確実に得られている。
【０２７５】
以上のことから、リタデーション低下剤として用いられる上記糖エステルは、偏光板全体の薄型化の際の破断防止に非常に有効であると言える。特に、偏光板１〜１８では、偏光子の厚さは１５μｍ以下であるが、このような薄型の偏光子を用いて偏光板全体を薄型化した場合でも、第２の保護フィルムが上記の糖エステルを含んでいることにより、偏光板全体の薄型化による機械的強度の低下を抑えて、破断点張力６０Ｎ以上を確保することができる。
【０２７６】
これに対して、偏光板２０〜２２では、破断点張力が６０Ｎ未満となっている。これは、偏光板２０〜２２では、第２の保護フィルム中に、リタデーション低下剤として糖エステルが含まれていないことから（糖エステル以外のリタデーション低下剤によってゼロ位相差が実現されていることから）、第２の保護フィルムを薄型化したときにその機械的強度を確保することができず、それゆえ、偏光板全体を薄型化したときの機械的強度の低下を抑えることができないためと考えられる。このため、リワーク作業の際には、偏光板が破れやすくなり（偏光板に付与する張力が６０Ｎ未満と弱くても偏光板が破れてしまい）、ハンドリング性が低下する。
【０２７７】
なお、偏光板１９については、破断点張力が６０Ｎ以上であるが、偏光板１９の第２の保護フィルム（光学フィルム１０）のＲｔが１０ｎｍ以上となっており、ゼロ位相差フィルムが実現されていない。これは、光学フィルム１０のリタデーション低下剤に含まれる糖エステルが、フラノース構造もしくはピラノース構造を有する化合物のＯＨ基を芳香族アルキル基でエステル化したものであり、Ｒｔをゼロに近づける効果が小さいためと考えられる。
【０２７８】
以上で説明した本実施形態の偏光板および液晶表示装置は、以下のように表現することができる。
【０２７９】
１．第１の保護フィルムと、偏光子としての偏光フィルムと、第２の保護フィルムと、粘着剤層とをこの順で積層した偏光板であって、
前記第１の保護フィルムと前記偏光フィルムと前記第２の保護フィルムの厚さの合計が、９０μｍ以下であり、
前記第１の保護フィルムの透湿度が、４００ｇ／ｍ２・２４ｈｒ以下であり、
前記第２の保護フィルムが、セルロースエステルと、リタデーション低下剤とを含み、
前記リタデーション低下剤は、フラノース構造もしくはピラノース構造を１個有する化合物（Ａ）中の、またはフラノース構造もしくはピラノース構造の少なくとも１種を２個以上１２個以下結合した化合物（Ｂ）中のＯＨ基の全てもしくは一部を脂肪族アシル基によりエステル化した糖エステルを含み、
前記第２の保護フィルムにおいて、
下記式（ｉ）で表されるＲｏが、０ｎｍ以上１０ｎｍ以下であり、
下記式（ii）で表されるＲｔが、−１０ｎｍ以上＋１０ｎｍ以下であることを特徴とする偏光板。
式（ｉ）  Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式（ii）  Ｒｔ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
（式中、Ｒｏはフィルムの面内方向のリタデーション値、Ｒｔはフィルムの厚み方向のリタデーション値、ｎｘはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、ｎｙはフィルム面内の進相軸方向の屈折率、ｎｚはフィルムの厚み方向の屈折率（屈折率は２３℃、５５％ＲＨの環境下、波長５９０ｎｍで測定）、ｄはフィルムの厚さ（ｎｍ）を表す。）
【０２８０】
２．前記糖エステルは、フラノース構造もしくはピラノース構造の少なくとも１種を２個以上１２個以下結合した化合物（Ｂ）中のＯＨ基の全てもしくは一部を脂肪族アシル基によりエステル化した化合物であることを特徴とする前記１に記載の偏光板。
【０２８１】
３．前記糖エステルは、フラノース構造もしくはピラノース構造の少なくとも１種を２個結合した化合物（Ｂ）中のＯＨ基の全てもしくは一部をアセチル基によりエステル化した化合物であることを特徴とする前記１または２に記載の偏光板。
【０２８２】
４．前記第１の保護フィルムと前記偏光フィルムと前記第２の保護フィルムの厚さの合計が、８０μｍ以下であることを特徴とする前記１から３のいずれかに記載の偏光板。
【０２８３】
５．前記偏光フィルムの厚さは、１５μｍ以下であることを特徴とする前記１から４のいずれかに記載の偏光板。
【０２８４】
６．前記第２の保護フィルムの厚さは、３０μｍ以下であることを特徴とする前記１から５のいずれかに記載の偏光板。
【０２８５】
７．前記１から６のいずれかに記載の偏光板と、
前記偏光板の前記粘着剤層と接着される液晶セルとを有することを特徴とする液晶表示装置。
【０２８６】
８．ＩＰＳモードで駆動されることを特徴とする前記７に記載の液晶表示装置。
【産業上の利用可能性】
【０２８７】
本発明の偏光板は、特にＩＰＳモードで駆動される液晶表示装置に利用可能である。
【符号の説明】
【０２８８】
１      液晶表示装置
２      液晶セル
３      偏光板
１１      第１の保護フィルム
１２      偏光フィルム
１３      第２の保護フィルム
１４      粘着剤層
【図１】
2015008743.tif 000017
【国際調査報告】
2015008743.tif 000018
2015008743.tif 000019