【事件の表示】
　特願２０００−３００６６０「ヨーク型磁気再生ヘッドおよびその製造方法ならびに磁気ディスク装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１４年　４月１２日出願公開、特開２００２−１０９７０７〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成１２年９月２９日の出願であって、平成１６年１０月５日付けで手続補正がなされ、その後平成１６年１１月２日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、平成１６年１２月６日に審判が請求されるとともに、平成１６年１２月２４日付けで手続補正がなされたものである。
　
 第２　平成１６年１２月２４日付け手続補正（以下「本件補正」という。）について
［補正却下の決定の結論］
　平成１６年１２月２４日付け手続補正を却下する。
［理由］
１．本件補正
　本件補正は、特許請求の範囲について、補正前の
　（ａ）　「【請求項１】　膜面内に磁化を有する感磁層を備え、膜面に対して垂直方向にセンス電流を流す面内垂直通電型の磁気抵抗効果膜を形成し、素子形状にパターニングする工程と、
　パターニングされた磁気抵抗効果膜の両側面に略等膜厚の非磁性膜を形成する工程と、
　素子形状にパターニングされた磁気抵抗効果膜を覆う磁気ヨークを形成する工程と、
　を備えたことを特徴とするヨーク型磁気ヘッドの製造方法。
【請求項２】　前記非磁性膜の前記磁気抵抗効果膜上の部分を、実質的に磁気ギャップを規定する上部とテーパー角を備える下部とを有する突起に加工する工程と、
　前記磁気ヨーク表面を平坦化して前記非磁性膜の突起を露出する工程とを備えることを特徴とする請求項１記載のヨーク型磁気ヘッドの製造方法。（以下の請求項略）」を、
　（ｂ）　「【請求項１】　膜面内に磁化を有する感磁層を備え、膜面に対して垂直方向にセンス電流を流す面内垂直通電型の磁気抵抗効果膜を形成し、素子形状にパターニングする工程と、
　パターニングされた磁気抵抗効果膜の両側面に
、膜全体にわたり略等厚の
　
前記非磁性膜の前記磁気抵抗効果膜上の部分を、前記磁気抵抗効果膜よりも幅の狭い実質的に磁気ギャップを規定する等幅の上部とテーパー角を備える下部とを有する突起に加工する工程と
　
前記非磁性膜を介して前記磁気抵抗効果膜を覆う
　
前記磁気ヨーク表面を平坦化して前記非磁性膜の突起を露出する工程
　と補正するものである。                     
　本件補正は、補正前の請求項１に記載された発明の「非磁性膜を形成する工程」における「非磁性膜」について、「略等膜厚の」を「
膜全体にわたり
等厚
前記非磁性膜の前記磁気抵抗効果膜上の部分を、前記磁気抵抗効果膜よりも幅の狭い実質的に磁気ギャップを規定する等幅の上部とテーパー角を備える下部とを有する突起に加工する工程
前記非磁性膜を介して前記磁気抵抗効果膜を覆う
前記磁気ヨーク表面を平坦化して前記非磁性膜の突起を露出する工程
　本件補正の、「非磁性膜を形成する工程」における「非磁性膜」について、「
膜全体にわたり
等厚
　請求人が根拠とする第３の実施形態及び図７並びに対応する明細書の記載について以下詳細に検討する。
　非磁性膜を形成する工程について、明細書には、「図７に本発明の第３の実施形態の製造工程を示す。図７（ａ）に示すように、電極膜２、ＣＰＰ−ＭＲ膜４、電極膜８からなる磁気抵抗効果素子上に、例えばＳｉからなる膜厚が７０ｎｍのギャップ膜１０を形成する。」（段落３５）との記載があるのみである。よって、非磁性膜の膜全体にわたり膜厚がどうであるかは一切記載がない。ここで、補正後の発明の「膜全体にわたり略等厚の」とは、図７における、磁気抵抗効果素子の上に形成される部分や、基板（図示されていない）の上面に形成される部分をも含んで、膜厚が等しいと特定しているものであるのか定かでないが、これらの部分を含むとすると、図７に図示されるものはその膜厚が異なっている。
　また、図７（ｅ）には、センス電流中心として図示された矢印から最近接磁気ヨーク１２までの距離Ｌ１及びＬ２が図示されている。当該図７（ｅ）の図示は、第２の実施形態の図４（ｄ）と類似するもので、図４（ｄ）について明細書には「垂直通電領域、すなわち図４（ｄ）に示す破線矢印領域から最近接ヨーク１２までの距離Ｌ１およびＬ２が等距離となり、センス電流による磁界の影響を等しくすることが可能となり、バルクハウゼンノイズの発生を可及的に防止することができる。また、磁気抵抗効果素子と磁気ヨーク１２とが自己整合的に形成されることにより、歩留まりの低下を可及的に防止することができる。」（段落３２）と記載されている。また等距離であることに関連して、明細書には、「面内垂直通電型磁気抵抗効果素子と一対のヨークは等距離に配置される必要がある。その位置ずれはセンス電流磁界の不均一をヨークに生み出しバルクハウゼンノイズなどを引き起こす原因となる。」（段落８）、「さらにセンス電流中心に対する最近接磁気ヨーク位置がほぼ等距離となり、センス電流により誘起される電流磁界が磁気抵抗効果素子回りに対称となる。」（段落１３）の記載がある。以上の記載から、上記図７（ｅ）においてＬ１及びＬ２が等距離であることが示されているものといえる。
　断面図である図７（ａ）〜（ｅ）には、磁気抵抗効果素子を覆う非磁性膜が図示され、磁気抵抗効果素子の側面に非磁性膜が一様に付着している様子が図示されている。ここで、磁気抵抗効果素子の側面に付着する非磁性膜はその上下方向（電極積層方向）にわたり等厚のようにも見える。しかしながら、図７を含めて、図面は明細書の説明を補う概略図であって、各寸法を精確に表現したものでないことは、当然であるところ、図７において、磁気抵抗効果素子の側面の上下方向（電極積層方向）にわたり非磁性膜の膜厚が等しいか明らかではない。なおさら、図７は一断面であって、その磁気抵抗効果素子の側面全体にわたって、非磁性膜の膜厚が等厚であるとはいえない。そして、本願の明細書の記載からみて、補正後の発明は、位置ずれによる磁気抵抗効果素子のセンス電流磁界の不均一を防止するものであり、センス電流中心から、磁気ヨークまでの左右の距離Ｌ１とＬ２が等しく対称であれば、即ち図示されるＬ１とＬ２の非磁性膜部の膜厚が等しければ、足りるのであり、磁気抵抗効果膜の側面全体（断面における上下方向（電極等積層方向）と、断面に直交する方向（トラック幅方向）の両方）にわたり、非磁性膜が略等厚であることは、必然ではない。
　よって、明細書及び図面の記載並びに当業者の技術常識を総合的に勘案しても、「非磁性膜」について、「
膜全体にわたり
等厚
　したがって、本件補正は、特許法第１７条の２第３項の規定に違反するものであり、特許法第１５９条第１項で準用する特許法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
２．
　なお、本件補正が、特許法第１７条の２第４項第２号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とするものとしたとき、補正後における特許請求の範囲の請求項１に記載されている事項により特定される発明（以下「補正後の発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるのかどうかについて以下検討する。
　
（１）引用例
（１−１）　原査定の拒絶の理由に引用された特開２０００−１８７８１５号公報（平成１２年７月４日出願公開。以下「引用例１」という。）には、「薄膜磁気ヘッド」に関し、次の事項が記載されている。（なお、下線は当審で付与したものである。）
　（ア）　「【００６６】（略）以下
磁気抵抗効果膜の両面に電極を設け、磁気抵抗効果膜の面に垂直に電流を流す実施例
【００６７】図２（Ａ）〜（Ｄ）の工程を行い、非磁性絶縁膜１４の表面に非磁性体膜１５、強磁性体膜８、９を作成する。
【００６８】図７（Ａ）に示すように、非磁性体膜１５およびその両側の強磁性体膜８、９の表面上に非磁性体絶縁膜１６を成膜し、パターニングする。非磁性絶縁膜としては、例えばＡｌ２Ｏ３等を用いる。次に下側電極１９を成膜し、パターニングする。
【００６９】続いて
磁気抵抗効果膜１０を成膜し、パターニングする
【００７０】図７（Ｂ）に示すように、
一対の電極１９に挟んで磁気抵抗効果膜１０を作成した後
非磁性絶縁膜２０を成膜しパターニングする
【００７１】図７（Ｃ）に示すように、図４（Ｂ）、（Ｃ）及び図５（Ｂ）を参照して説明した工程を行い、
再生用磁気コアの強磁性体膜６、７および磁気ギャップを構成する強磁性体膜２１、２２を作成する
磁気抵抗効果膜の膜厚方向に電流を流す再生磁気ヘッド
　（イ）　「【００４４】図３（Ｃ）に示すように、
非磁性絶縁膜２０の上に
非磁性膜１７を成膜し、パターニングする。この非磁性膜１７のパターニングにおいても、側面が所望のテーパー角を形成するようにパターニングする
【００４５】図４（Ａ）に示すように、
強磁性体膜６、７を成膜し、パターニングする。非磁性体膜１７が形成する磁気ギャップ近傍については、正確なトラック幅及びギャップを形成するため、平坦化技術
用いることが望ましい
　（ウ）　「【００４７】
強磁性体膜６、７、８、９および磁気抵抗効果膜１０は、再生用の磁気コアー回路を形成する
　（エ）　「【００５３】上述の実施例においては、
非磁性体膜１７の斜面の上に強磁性体膜６、７の先細りテーパーを係合させて磁気ギャップを形成した
非磁性体膜１７および強磁性体膜６、７の上表面を調整することにより、磁気ギャップを調整することができるが、強磁性体膜６、７の上表面の高さ制御がそのまま磁気ギャップの寸法制御となり、強磁性体膜６、７の上面形成に注意を要する
【００５４】図５は、高精度の磁気ギャップを容易に作成することのできる他の実施例を示す。
【００５５】（略）
【００５６】図５（Ｂ）に示すように、強磁性体膜６、７及び非磁性体膜１７の表面を形成した後、この
表面上に強磁性体膜２１、２２を
成膜し
パターニングする。これらの強磁性体膜２１、２２の間隔により、磁気ギャップが定まる
　（オ）　図７（Ｂ）には、パターニングされた、磁気抵抗効果膜１０とこれを挟む一対の電極１９の上面及び側面を覆うように、非磁性絶縁膜２０が形成され、磁気抵抗効果膜の両側面の非磁性絶縁膜２０は、その側面が所望のテーパー角を有し、左右対称であって、左右方向の膜の厚さがほぼ等しいことが、図示されている。
　（カ）　図７（Ｃ）には、非磁性絶縁膜２０の上に、側面が所望のテーパー角の非磁性膜１７が形成され、非磁性膜１７の斜面の上に、一対の強磁性体膜６、７の先細りテーパーが形成されることにより磁気ギャップが形成され、
上記非磁性絶縁膜２０を介して磁気抵抗効果膜を覆うように形成されている当該一対の強磁性体膜６，７の表面上に、その間隔により磁気ギャップを定める強磁性体膜２１、２２（以下「磁気ギャップ寸法規定用強磁性体膜」という。）が形成されたも
　
（２）対比
　補正後の発明と引用例１に記載された発明とを対比する。
　上記（１）で摘示した記載事項、特に（ア）（イ）（カ）（下線部参照）によれば、引用例１には、
　「磁気抵抗効果膜の両面に電極を設け、磁気抵抗効果膜の面に垂直に電流を流す再生磁気ヘッドの製造方法であって、
　磁気抵抗効果膜を成膜してパターニングする工程と、
　一対の電極に挟んで磁気抵抗効果膜を作成した後、非磁性絶縁膜を成膜しパターニングする工程と、
　非磁性絶縁膜の上に、側面がテーパー角の非磁性膜を形成し、その上に再生用磁気コアの一対の強磁性体膜及び磁気ギャップ寸法規定用強磁性体膜を作成する工程とを備える製造方法。」
　の発明が記載されている。
　
　引用例１に記載された発明の「磁気抵抗効果膜」は、「磁気抵抗効果膜の両面に電極を設け、磁気抵抗効果膜の面に垂直に電流を流す」ものであるから、補正後の発明の「膜面内に磁化を有する感磁層を備え、膜面に対して垂直方向にセンス電流を流す面内垂直通電型の磁気抵抗効果膜」に相当する構成を備えている。
　引用例１に記載された発明の「非磁性絶縁膜」は、補正後の発明の「非磁性膜」に相当している。
　引用例１に記載された発明の「一対の強磁性体膜」は、再生用磁気コアの機能を有するから、補正後の発明の「磁気ヨーク」に相当し、引用例１に記載された発明の「再生磁気ヘッド」は、補正後の発明の「ヨーク型磁気ヘッド」に相当している。
　引用例１に記載された発明は、「非磁性絶縁膜の上に、側面がテーパー角の非磁性膜を形成し、その上に再生用磁気コアの一対の強磁性体膜及び磁気ギャップ寸法規定用強磁性体膜を作成する工程」を備え、非磁性絶縁膜２０を介して磁気抵抗効果膜を覆うように形成されている当該一対の強磁性体膜６，７の表面上に、磁気ギャップ寸法規定用強磁性体膜２１、２２が形成され（上記（カ）参照）ているので、補正後の発明の「非磁性膜を介して磁気抵抗効果膜を覆う磁気ヨークを形成する工程」に相当する構成を備えている。
　
　よって、補正後の発明と引用例１に記載された発明との一致点及び相違点は以下のとおりである。
　（一致点）　「膜面内に磁化を有する感磁層を備え、膜面に対して垂直方向にセンス電流を流す面内垂直通電型の磁気抵抗効果膜を形成し、素子形状にパターニングする工程と、
　パターニングされた磁気抵抗効果膜の両側面に、非磁性膜を形成する工程と、
　非磁性膜を介して前記磁気抵抗効果膜を覆う磁気ヨークを形成する工程と、
　とを備えたヨーク型磁気ヘッドの製造方法。」
　
　（相違点１）　「非磁性膜」について、補正後の発明は、「膜全体にわたり略等厚の非磁性膜」と特定しているのに対して、引用例１に記載された発明は、そのように特定しない点。
　（相違点２）　補正後の発明は、「非磁性膜の磁気抵抗効果膜上の部分を、前記磁気抵抗効果膜よりも幅の狭い実質的に磁気ギャップを規定する等幅の上部とテーパー角を備える下部とを有する突起に加工する工程」と「前記磁気ヨーク表面を平坦化して前記非磁性膜の突起を露出する工程」とを備えると特定しているのに対して、引用例１に記載された発明は、そのように特定しない点。
　
（３）判断
（相違点１について）
　「非磁性膜」について、引用例１には、磁気抵抗効果膜の両側面に、その左右方向で略等厚のものが図示されている（上記（オ）参照）。引用例１における上記「非磁性膜」は、テーパー形状にされているので、左右方向の厚さは同じであるが、図示上下の左右方向の厚さは上に行くほど徐々に薄くなっている（図７（Ｃ）参照）。
　本願の明細書（段落８，１３，３２参照）によれば、センサ電流中心から左右のヨークの距離が等しければ、本願の効果を奏するものであり、すべての個所で非磁性膜の膜厚が等しいことにより格別の効果を奏するものではないから、補正後の発明のように、膜全体にわたり略等厚と特定することは、当業者が容易になし得る設計的事項にすぎない。
　
（相違点２について）
　引用例１には、非磁性膜１７が形成する磁気ギャップ近傍について、正確なギャップを形成するため、平坦化技術等を用いることが望ましいことが記載されている（上記（イ）参照）。また、引用例１には、磁気ギャップとなる非磁性部分がテーパー状であると、その上表面を調整するとき磁気ギャップの寸法が異なってしまうので注意を要すること、その改善策として、磁気ギャップの寸法を規定する必要があることが示され、磁気ギャップ規定用強磁性体膜をさらに設けることが示されている（上記（エ）（カ）参照）。すなわち、引用例１には、最終製品の磁気ギャップの非磁性部構造として、磁気抵抗効果膜より幅が狭く、磁気ギャップ規定用強磁性体膜間の磁気ギャップを規定する等幅の非磁性部分と、側面がテーパー角の非磁性膜と、からなるものが記載されている（上記（カ）、図７（Ｃ）参照）。
　引用例１に記載された発明は、磁気抵抗効果膜を覆う非磁性膜（引用例１の「非磁性絶縁膜２０」のこと）の上に非磁性膜（引用例１の「側面がテーパ角の非磁性膜１７」のこと）を形成し、これを覆うように磁気ヨーク及び磁気ギャップ規定用強磁性体を形成するものであるが、磁気ギャップの上記非磁性部構造として所定の形状を得るにあたり、膜を付加して形成していくか、成膜した膜を加工して行うかは、当業者が必要に応じ適宜なし得ることであるから、引用例１に記載された発明において、上記磁気ギャップの非磁性部構造を、成膜した非磁性膜を加工することにより得て、それを覆うように磁気ヨークを形成して平坦化することは、当業者が容易に想到しうることである。
　
　そして、上記相違点１、２を総合的に検討しても、補正後の発明の効果は、引用例１に記載された発明から当業者であれば予測される範囲内であるので、上記相違点は、当業者が容易に想到し得たものである。
　
（４）むすび
　以上のとおり、補正後の発明は、引用例１に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　したがって、本件補正は、特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するから、特許法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
第３　本願発明について
　平成１６年１２月２４日付け手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１乃至７に係る発明は、平成１６年１０月５日付け手続補正書によって補正された明細書および図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１乃至７に記載された事項により特定されるものであるところ、その請求項１に記載された発明（以下「本願発明」という。）は次のとおりである。                                            
　「【請求項１】上記「第２の１の（ａ）」のとおり。」
　
１．引用例
　原審の拒絶の理由に引用された引用例の記載事項は、上記「第２の２（１）」に記載されたとおりである。
　
２．対比判断
　本願発明は、上記「第２」で検討した補正後の発明から、「
前記非磁性膜の前記磁気抵抗効果膜上の部分を、前記磁気抵抗効果膜よりも幅の狭い実質的に磁気ギャップを規定する等幅の上部とテーパー角を備える下部とを有する突起に加工する工程
前記磁気ヨーク表面を平坦化して前記非磁性膜の突起を露出する工程
膜全体にわたり
前記非磁性膜を介して
　そうすると、本願発明の構成要件を全て含み、さらに他の構成要件を付加したものに相当する補正後の発明が、上記「第２の２（２）、（３）」に記載したとおり、引用例１に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、同様の理由により、引用例１に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
３．むすび
　以上のとおり、本願発明は、本願出願前に頒布された引用例１に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。他の請求項を検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。