(57)【要約】  本発明は、オレフィン類から光学活性１，２−ジオール化合物を効率よく製造する方法を提供する。光学活性１，２−ジオール化合物の製造方法であって、一般式（１）：2014148591.tif 000017（式中、Ｒ１は水素原子、且つＲ２はアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基であるか、或いは、Ｒ２は水素原子、且つＲ１はアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基であり、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は同一又は異なって、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基であり、Ｘは配位子であり、ｎは１〜４の整数である。）で表される化合物の存在下にオレフィン類及びジボロン化合物を反応させて１，２−ジボリル化合物を得る工程、及び当該１，２−ジボリル化合物を酸化処理する工程を含むことを特徴とする製造方法に関する。
2014148591.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学活性１，２−ジオール化合物の製造方法であって、一般式（１）：
【化１】
2014148591.tif 000016
（式中、Ｒ１は水素原子、且つＲ２はアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基であるか、或いは、Ｒ２は水素原子、且つＲ１はアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基であり、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は同一又は異なって、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基であり、Ｘは配位子であり、ｎは１〜４の整数である。）
で表される化合物（ロジウム錯体）の存在下にオレフィン類及びジボロン化合物を反応させて１，２−ジボリル化合物を得る工程、及び当該１，２−ジボリル化合物を酸化処理する工程を含むことを特徴とする製造方法。
【請求項２】
前記１，２−ジボリル化合物を得る工程において、さらに塩基を用いる請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
前記塩基がアルカリ金属アルコキシドである請求項２に記載の製造方法。
【請求項４】
一般式（１）において、Ｒ１が水素原子、且つＲ２がイソプロピル基、ベンジル基又はフェニル基であるか、或いは、Ｒ２が水素原子、且つＲ１がイソプロピル基、ベンジル基又はフェニル基である請求項１〜３のいずれかに記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、オレフィン類から光学活性１，２−ジオール化合物を製造する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
光学活性１，２−ジオール化合物は、さまざまな医薬及び農薬等の合成中間体として利用できる重要な化合物群である。この光学活性１，２−ジオール骨格の合成方法として種々の方法が報告されている。【０００３】
例えば、不斉配位子を含むオスミウム触媒を用いる方法が良く知られている（非特許文献１及び２参照）。この方法は、光学収率が高いため生理活性物質や天然有機化合物の合成に利用されてきた。しかし、オスミウム化合物は高価かつ毒性が強いため、環境調和性に欠ける合成法として大量の光学活性化合物の合成には不向きである。【０００４】
また、触媒用の金属にイリジウムを利用して不斉配位子と組み合わせ、α−ヒドロキシケトン類を不斉水素化する方法が報告されている（非特許文献３参照）。しかし、イリジウムは高価であり原料基質のα−ヒドロキシケトン類は購入による入手は容易ではなく、自前で合成しなければならず大量合成に不向きである。【０００５】
また、非特許文献４及び５には、キラル配位子（（Ｓ）−Ｑｕｉｎａｐ）を含むロジウム触媒を用いて、オレフィン類の触媒的不斉ジボリル化を行い、引き続き酸化反応することにより光学活性ジオール類を合成する方法が報告されている。この方法は、オレフィン類を原料にした簡便な方法であり、脂肪族のオレフィンから高い光学収率で１，２−ジオールを与える点で有効である。しかし、スチレン等のアリール基置換オレフィンを原料にした場合には１，２−ジオールの光学収率は低く、基質の適応範囲に限界がある。【０００６】
また、非特許文献６には、キラル配位子を含む白金触媒を用いて、オレフィン類の触媒的不斉ジボリル化、次いで酸化反応して光学活性ジオール類を合成する方法が報告されている。しかし、この方法は、反応可能な基質が末端オレフィンに限定されており、高価な白金の使用量も５ｍｏｌ％と比較的多いため大量合成には不向きである。そのため、さらなる改良の余地があった。【０００７】
ところで、非特許文献７、８等には、キラルなビス（オキサゾリニル）フェニル ロジウム アセテート錯体を触媒に用いることにより、アルケンの不斉ヒドロシリレーション、還元的アルドールカップリング反応、アルキル化反応、マイケル付加反応、ヘテロディールズアルダー反応、直接アルドール反応、不斉アルキニレーション、α，β−不飽和エステルのβ−ボレーション等の反応が進行することが記載されている。しかし、この触媒を用いて光学活性１，２−ジオール化合物を製造できることは記載されていない。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００８】
【非特許文献１】Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．，１９９４，２４８３．
【非特許文献２】Ｏｒｇａｎｉｃ Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ，２００５，６６，１０９．
【非特許文献３】Ｏｒｇ．Ｌｅｔｔ．，２００７，９，２５６５．
【非特許文献４】Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，２００３，１２５，８７０２．
【非特許文献５】Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，２００５，７０，９５３８．
【非特許文献６】Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，２００９，１３１，１３２１０．
【非特許文献７】Ｃｈｅｍ．Ｅｕｒ．Ｊ．，２００６，１２，６３．
【非特許文献８】Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，２０１０，４６，２０３．
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、オレフィン類から光学活性１，２−ジオール化合物を効率よく製造する方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者等は上記の課題を解決するために鋭意研究を行った。その結果、キラルなビス（オキサゾリニル）フェニル ロジウム アセテート錯体（例えば、非特許文献７及び８を参照）を触媒に用いて、オレフィン類とビス（カテコラト）ジボロン等のジボロン化合物とを反応させることにより、穏和な条件で高エナンチオ選択的にオレフィンの１，２−ジボリル化が進行し、続いて酸化反応に付すことにより高収率かつ高い光学収率で光学活性１，２−ジオール化合物が得られることを見出した。かかる知見に基づき更に研究を行うことにより、本発明を完成するに至った。【００１１】
即ち、本発明は以下の光学活性１，２−ジオール化合物の製造方法を提供する。【００１２】
項１  光学活性１，２−ジオール化合物の製造方法であって、一般式（１）：【００１３】
【化１】
2014148591.tif 000003
【００１４】
（式中、Ｒ１は水素原子、且つＲ２はアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基であるか、或いは、Ｒ２は水素原子、且つＲ１はアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基であり、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は同一又は異なって、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基であり、Ｘは配位子であり、ｎは１〜４の整数である。）
で表される化合物（ロジウム錯体）の存在下にオレフィン類及びジボロン化合物を反応させて１，２−ジボリル化合物を得る工程、及び当該１，２−ジボリル化合物を酸化処理する工程を含むことを特徴とする製造方法。【００１５】
項２  前記１，２−ジボリル化合物を得る工程において、さらに塩基を用いる項１に記載の製造方法。【００１６】
項３  前記塩基がアルカリ金属アルコキシドである項２に記載の製造方法。【００１７】
項４  一般式（１）において、Ｒ１が水素原子、且つＲ２がイソプロピル基、ベンジル基又はフェニル基であるか、或いは、Ｒ２が水素原子、且つＲ１がイソプロピル基、ベンジル基又はフェニル基である項１〜３のいずれかに記載の製造方法。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の光学活性１，２−ジオール化合物の製造方法は、一般式（１）で表される不斉配位子を含むロジウム錯体からなる触媒の存在下、オレフィン類を１，２−ジボリル化した後、これを酸化処理することを特徴とする。つまり、第１工程で、オレフィン類が高エナンチオ選択的にジボリル化され、続く第２工程で、ホウ素原子が結合した炭素の立体化学を保持したままでホウ素が水酸基に変換される。これにより、本発明の製造方法では、高収率かつ高い光学収率で光学活性１，２−ジオール化合物が得られる。換言すれば、光学純度（鏡像体過剰率）１００％の不斉配位子を不斉源として用いて、１００％に近い高い光学純度（鏡像体過剰率）の光学活性１，２−ジオール化合物を得ることができる。【００１９】
本発明では、第１工程（１，２−ジボリル化）と第２工程（酸化）を、別々に又はワンポットで実施することができる。特に後者の場合は、工程数を低減することができるため効率的な製造方法である。【００２０】
本発明では、１，２−ジボリル化工程において、塩基（特に、アルカリ金属アルコキシド等）を添加することにより、さらに高収率かつ高い光学収率で１，２−ジオール化合物を得ることができる。【００２１】
本発明の製造方法は、穏和な条件下で反応が進行するため簡便かつ経済的である。また、従来のオレフィン類の１，２−ジオール化反応で汎用されるオスミウム（Ｏｓ）、白金（Ｐｔ）等の毒性が高い又は高価な金属の使用を回避できることから、安全性及び経済性の観点からも好ましい方法である。よって、光学活性１，２−ジオール化合物の工業的合成法として有用である。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の第１工程の高エナンチオ選択的１，２−ジボリル化反応の予想メカニズムと第２工程の酸化反応の模式図である。化学構造に含まれる記号Ｂはホウ素を含む基を示す。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
本発明は光学活性１，２−ジオール化合物の製造方法であって、一般式（１）：
【００２４】
【化２】
2014148591.tif 000004
【００２５】
（式中、Ｒ１は水素原子、且つＲ２はアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基であるか、或いは、Ｒ２は水素原子、且つＲ１はアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基であり、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は同一又は異なって、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基であり、Ｘは配位子であり、ｎは１〜４の整数である。）
で表される化合物の存在下にオレフィン類及びジボロン化合物を反応させて１，２−ジボリル化合物を得る工程（以下、「第１工程」とも表記する）、及び該１，２−ジボリル化合物を酸化処理する工程（以下、「第２工程」とも表記する）を含むことを特徴とする。
【００２６】
１．第１工程（１，２−ジボリル化反応）
第１工程は、一般式（１）で表される化合物の存在下にオレフィン類及びジボロン化合物を反応させて１，２−ジボリル化合物を得る工程である。
【００２７】
触媒
一般式（１）で表される化合物は、不斉配位子を含むロジウム錯体であり、オレフィン類の１，２−ジボリル化反応の触媒として用いられる。この化合物は、公知の方法で製造することができ、例えば、非特許文献７、８等の記載に従い又は準じて製造することができる。
【００２８】
一般式（１）において、Ｒ１及びＲ２で示されるアルキル基としては、例えば、鎖状又は分岐状のＣ１〜１０アルキル基が挙げられ、具体的には、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル基等が挙げられる。好ましくはＣ２〜６アルキル基であり、より好ましくはＣ２〜４アルキル基であり、特に好ましくはイソプロピル基である。
【００２９】
Ｒ１及びＲ２で示されるシクロアルキル基としては、例えば、Ｃ３〜１０のシクロアルキル基が挙げられ、具体的には、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル基等が挙げられる。好ましくはＣ３〜７シクロアルキル基であり、より好ましくはＣ５〜７シクロアルキル基であり、特に好ましくはシクロヘキシル基である。
【００３０】
Ｒ１及びＲ２で示されるアリール基としては、例えば、単環式又は二環式以上のアリール基が挙げられ、具体的には、フェニル、トルイル、キシリル、ナフチル、アンスラニル、フェナンスリル基等が挙げられる。好ましくはフェニル、トルイル、キシリル基等の単環式アリール基であり、より好ましくはフェニル基である。
【００３１】
Ｒ１及びＲ２で示されるアラルキル基としては、例えば、上記アルキル基上の１個以上（特に、１個）の水素原子が上記アリール基で置換された基、即ち、単環式又は二環式以上のアリール基で１個以上（特に、１個）置換された鎖状又は分岐状のＣ１〜１０アルキル基が挙げられる。具体的には、ベンジル、フェネチル、３−フェニルプロピル基等が挙げられる。好ましくは単環式のアリール基で置換された鎖状又は分岐状のＣ１〜６アルキル基であり、より好ましくはフェニル基で置換されたＣ１〜３アルキル基であり、特に好ましくはベンジル、フェネチル基である。
【００３２】
一般式（１）において、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５示されるアルキル基、シクロアルキル基又はアリール基は、上記Ｒ１及びＲ２で示される各基と同義である。Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は同一又は異なっていてもよい。
【００３３】
好ましい態様として、Ｒ４が水素原子の場合が挙げられる。他の好ましい態様として、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５が全て水素原子の場合が挙げられる。他の好ましい態様として、Ｒ４が水素原子であり、Ｒ３及びＲ５が同一又は異なって、アルキル基（特に、メチル基）、シクロアルキル基（特に、シクロヘキシル基）又はアリール基（特に、フェニル基）の場合が挙げられる。
【００３４】
一般式（１）において、Ｘで示される配位子としては、ロジウム（Ｒｈ）に配位し得るものであれば特に限定はない。例えば、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、カルボニル（一酸化炭素）、Ｃ２〜１０のカルボキシラート（例えば、アセタート（ＡｃＯ−）、プロピオナート等）、炭素数２〜１０のニトリル（例えば、アセトニトリル等）、アルケン（例えば、エチレン、プロピレン、ブタジエン、シクロオクタジエン（ＣＯＤ）等）、水（Ｈ２Ｏ）、アルコール（例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のＣ１〜４アルコール等）等の配位基又は分子状配位子が挙げられる。好ましくは、塩素原子等のハロゲン原子、アセタート等のＣ２〜１０のカルボキシラート、水等である。より好ましくは、塩素原子、アセタート及び水である。
【００３５】
一般式（１）において、ロジウム（Ｒｈ）の酸化数は、通常１〜３価の範囲であり、好ましくは３価である。ｎは、Ｒｈの酸化数や配位子の性質に応じて変動し得るが、通常１〜４の整数であり、好ましくは２又は３であり、より好ましくは３である。ｎが２以上の場合、Ｘは同一又は異なっていてもよい。特に、ｎが３であり、Ｘのうち２つがアセタート又は塩素原子であり、１つが水であることが好ましい。
【００３６】
なお、一般式（１）において、ロジウム（Ｒｈ）と配位子との結合は全て実線で示しているが、当該実線は共有結合、イオン結合及び配位結合のいずれをも包含する。
【００３７】
一般式（１）で表される化合物の使用量は触媒量であればよく、原料（基質）であるオレフィン類１モルに対し、通常、０．０００１〜０．３モル程度、好ましくは０．００１〜０．２モル程度、より好ましくは０．００５〜０．１モル程度である。
【００３８】
オレフィン類
本反応の原料（基質）であるオレフィン類は、分子内に炭素−炭素の二重結合を有する化合物であれば特に限定はなく、広範なオレフィン類を用いることができる。
【００３９】
反応する炭素−炭素の二重結合の置換数は特に限定はない。好ましくは１〜３置換、より好ましくは１又は２置換オレフィン類である。また、置換基の種類も特に限定はない。例えば、スチレン、ビニルナフタレン等の置換又は非置換アリール基置換オレフィン類；ビニルピリジン等の置換又は非置換ヘテロアリール基置換オレフィン類；置換又は非置換アルキル基置換オレフィン類；置換又は非置換アルコキシ基置換オレフィン類；アクリロニトリル、アクリル酸エステル等の電子吸引性基置換オレフィン類；ハロゲン置換オレフィン類等が挙げられる。
【００４０】
特に、非特許文献４及び５の不斉触媒を用いた方法では、芳香族基置換オレフィン類（スチレン等）を原料に用いた場合に、生成物の１，２−ジオールの光学純度（鏡像体過剰率）は低いものであったが、本発明の方法を用いることにより、芳香族基置換オレフィン類からでも極めて高い光学純度（鏡像体過剰率）を有する１，２−ジオールが得られる。
【００４１】
ジボロン化合物
ジボロン化合物はオレフィン類をジボリル化する反応剤である。ジボロン化合物は、本反応に用い得るものであれば特に限定はない。例えば、一般式（２）：
【００４２】
【化３】
2014148591.tif 000005
【００４３】
（式中、Ｒ６は同一又は異なって、アルキル基又はアリール基であるか、或いは、２つのＲ６が互いに結合した２価の基を示す。）
で表される化合物が挙げられる。
【００４４】
Ｒ６で示されるアルキル基としては、例えば、鎖状又は分岐状のＣ１〜１０アルキル基が挙げられる。具体的には、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル基等の鎖状又は分岐状のＣ１〜４アルキル基が挙げられる。
【００４５】
Ｒ６で示されるアリール基としては、例えば、単環式又は二環式以上のアリール基が挙げられる。具体的には、フェニル、トルイル、キシリル、ナフチル基等が挙げられる。
【００４６】
２つのＲ６が互いに結合した２価の基としては、例えば、一般式（２ａ）：
−ＣｍＨ２ｍ−        （２ａ）
（ｍは２〜１０の整数を示す。）
で表される２価の基、或いは、一般式（２ｂ）：
【００４７】
【化４】
2014148591.tif 000006
【００４８】
で表される２価の基が挙げられる。
【００４９】
ｍは２〜８が好ましく、２〜６がより好ましい。
【００５０】
一般式（２ａ）で表される２価の基としては、例えば、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）Ｈ−等が挙げられる。
【００５１】
２つのＲ６が互いに結合した２価の基としては、一般式（２ａ）で表される２価の基が好ましい。
【００５２】
ジボロン化合物の好ましい具体例としては、ビス（ピナコラト）ジボロン、ビス（ネオペンチルグリコラト）ジボロン、ビス（ヘキシレングリコラト）ジボロン、ビス（カテコラト）ジボロン等が挙げられる。
【００５３】
ジボロン化合物の使用量は、原料（基質）であるオレフィン類１モルに対し、通常、１〜３モル程度、好ましくは１〜２モル程度、より好ましくは１〜１．５モル程度である。
【００５４】
塩基
本反応では、さらに反応を促進し且つ高い光学収率を達成するために、塩基を添加することが好ましい。塩基としては無機塩基が好ましい。無機塩基としては、例えば、アルカリ金属水酸化物（例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等）、アルカリ金属アルコキシド（例えば、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムｔ−ブトキシド、カリウムｔ−ブトキシド等）、アルカリ金属アルカノエート（例えば、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等）、アルカリ金属カーボネート（例えば、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等）、アルカリ土類金属カーボネート（例えば、セシウムカーボネート等）等が挙げられる。好ましくはアルカリ金属アルコキシドであり、より好ましくはナトリウムエトキシド、ナトリウムｔ−ブトキシド、カリウムｔ−ブトキシドである。
【００５５】
塩基を用いる場合、塩基の使用量は、原料（基質）であるオレフィン類１モルに対し、通常、０．０００５〜１モル程度、好ましくは０．００５〜０．５モル程度、より好ましくは０．０１〜０．２モル程度にできる。また、塩基の使用量は、一般式（１）で表される化合物１モルに対し、通常、１〜２０モル程度、好ましくは１〜１０モル程度、より好ましくは２〜７モル程度にすることができる。
【００５６】
溶媒
本反応は、通常、溶媒中で実施される。溶媒としては本反応に悪影響を与えない溶媒であれば特に限定はない。用い得る溶媒としては、例えば、エーテル類（例えば、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４−ジオキサン等）、芳香族炭化水素類（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等）、脂肪族炭化水素類（例えは、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、石油エーテル等）、エステル類（例えば、酢酸エチル等）、ハロゲン化炭化水素類（例えば、塩化メチレン、クロロホルム、１，２−ジクロロエチレン等）等が挙げられる。これらのうち、単独又は２種以上を組み合わせて用いることができる。このうち、ＴＨＦ、１，４−ジオキサン、トルエンが好ましく、特にＴＨＦが好ましい。
【００５７】
ジボリル化反応
本反応は、上記の一般式（１）で表される化合物、オレフィン類、ジボロン化合物、必要に応じ塩基を混合して行う。反応温度は、通常、０〜１００℃程度であり、好ましくは２０〜９０℃程度であり、より好ましくは４０〜８０℃程度である。反応時間は、通常、１分〜３時間程度である。本反応は通常、常圧下で実施することができる。本反応は、通常、窒素、アルゴン等の不活性ガス雰囲気下で実施することが好ましい。
【００５８】
反応後は、公知の精製及び単離工程を経て、１，２−ジボリル化合物を得ることができる。或いは、精製及び単離工程を経ず反応後の混合物をそのまま第２工程に用いることもできる（ワンポット合成）。
【００５９】
本反応において、高い光学収率が達成される理由として、図１の模式図で示すように、ジボロン化合物がロジウムに酸化的付加した後、オレフィン類がロジウムに配位する際に、配位子上の嵩高い基（○印で示す基）の空間配置による規制が働き、オレフィン類の二重結合の反応面が高選択的に識別されるためであると推測される。具体的には、スチレンがＲｈに配位する図１の模式図「Ｂ」では、スチレンのフェニル基（Ｐｈ）と配位子上の嵩高い基との立体反発によりスチレンのＲｅ面からの配位が妨げられ、これに対し、模式図「Ａ」では、Ｐｈと嵩高い基との立体反発がなく嵌合し得るためスチレンのＳｉ面からの配位が選択的に進行すると考えられる。
【００６０】
２．第２工程（酸化反応）
第２工程は、第１工程で得られた１，２−ジボリル化合物を酸化処理する工程である。
【００６１】
酸化処理は、通常、酸化剤を用いて実施する。酸化剤としては、過酸化物を用いることができ、例えば、過酸化水素、過ホウ酸又はその塩（例えば、過ホウ酸ナトリウム等）、過硫酸又はその塩（例えば、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム等）、過炭酸又はその塩（例えば、過炭酸ナトリウム等）等が挙げられる。このうち、過酸化水素、過ホウ酸塩（特に、過ホウ酸ナトリウム）が好ましい。
【００６２】
酸化剤の使用量は、１，２−ジボリル化合物（或いは、第１工程と第２工程をワンポットで行う場合はオレフィン類）１モルに対し、通常、２〜２０モル程度、好ましくは２〜１０モル程度、より好ましくは３〜７モル程度である。
【００６３】
本反応は、通常、溶媒中で実施することができる。当該溶媒としては、通常、酸化剤である過酸化物の無機塩を溶解させるために水を用いることができ、さらに第１工程で用いた溶媒を含んでいてもよい。
【００６４】
本反応は、第１工程で得られた１，２−ジボリル化合物及び酸化剤を混合して行う。反応温度は、通常、０℃〜５０℃程度、好ましくは室温である。反応時間は、通常、１分〜３時間程度である。
【００６５】
反応後は、公知の精製及び単離工程を経て、光学活性１，２−ジオール化合物を得ることができる。
【００６６】
本反応により、第１工程で得られた１，２−ジボリル化合物の２つのホウ素は、それらが結合した炭素原子の立体化学を保持したまま水酸基に変換される（図１を参照）。これにより、第１工程で生み出された立体化学が１，２−ジオール化合物に転写され、結果として高い光学収率で１，２−ジオール化合物を得ることができる。
【実施例】
【００６７】
以下の実施例を挙げて本発明について説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。【００６８】
実施例１（光学活性１，２−ジオールの合成）
下記のロジウム錯体（１ａ）を、非特許文献７の記載に従い合成した。【００６９】
【化５】
2014148591.tif 000007
【００７０】
合成したロジウム錯体（１ａ）２．７ｍｇ（０．００５ｍｍｏｌ）、ビス（ピナコラト）ジボロン１５２ｍｇ（０．６ｍｍｏｌ）、ナトリウムｔ−ブトキシド２．４ｍｇ（０．０２５ｍｍｏｌ）をフラスコに秤量し、アルゴン雰囲気とした。続いて、ｐ−クロロスチレン６９．３mg（０．５０ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン １ｍｌを加え、６０℃に加熱し１時間撹拌した。反応溶液を室温まで冷やし、テトラヒドロフラン１ｍｌと過ホウ酸ナトリウム３８４ｍｇ（２．５ｍｍｏｌ）と水２．５mlを加え、室温で１時間撹拌した。次いで、反応溶液を酢酸エチル（２ｍｌ、５回）で抽出し、濃縮して混合物を得た。混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ヘキサン／酢酸エチル混合溶媒）により精製し、目的とする光学活性１、２−ジオール化合物（１）８１ｍｇを得た。収率は９４％であった。さらに、高速液体クロマトグラフィー「DAICEL CHIRALCEL OD-H」により測定した鏡像体過剰率（光学純度）は９９％ｅｅ以上（Ｒ体）であった。【００７１】
【化６】
2014148591.tif 000008
【００７２】
合成したジオール化合物（１）の分析結果を下記に示す。【００７３】
ジオール化合物（１）：IR (KBr) ν 3388 (broad) cm-1; 1H NMR (300 MHz, CDCl3) δ 2.11 (broad, 1H), 2.64 (broad, 1H), 3.57 (m, 1H), 3.69 (m, 1H), 4.75 (dd, J = 8.4, 3.3 Hz, 1H), 7.20−7.30 (m, 4H) ppm; 13C NMR (75 MHz, CDCl3) δ 67.9, 74.0, 127.2, 128.5, 133.5, 138.6; DAICEL CHIRALCEL OD-H, ヘキサン/2-プロパノール (98:2, 1.5 mL/min), 保持時間 46.0 min (major), 52.8 min (minor), >99 % ee (Ｒ); [α]D28 −57.4 (c 1.0, CHCl3).【００７４】
実施例２〜２６（各種オレフィン類から光学活性１，２−ジオール類の合成）
原料のオレフィン類の種類を変えた以外は、実施例１と同様の操作によって反応を行った。その結果を表１〜４に示す。表１〜４中、１，２−ジオール化合物（２）〜（２６）の鏡像体過剰率は、実施例１の場合と同様にして測定した。また、１，２−ジオール化合物（２）〜（２６）の構造は実施例１と同様にIR、１H NMR、13C NMR等により分析し確認した。【００７５】
【表１】
2014148591.tif 000009
【００７６】
【表２】
2014148591.tif 000010
【００７７】
【表３】
2014148591.tif 000011
【００７８】
【表４】
2014148591.tif 000012
【００７９】
１、２−ジオール化合物（２）〜（１５）の鏡像体過剰率を測定した高速液体クロマトグラフィーの条件は、以下の通りである。特に断りのない限り、いずれもDAICEL CHIRALCEL OD-Hカラムを用いた。【００８０】
化合物（２）：ヘキサン/2-プロパノール, 95:5, 0.5 ml/min：保持時間 43.5 min (major), 49.9 min (minor)
化合物（３）：ヘキサン/2-プロパノール, 97:3, 1.0 ml/min: 保持時間 25.0 min (major), 27.5 min (minor)
化合物（４）：ヘキサン/2-プロパノール, 98:2, 1.5 ml/min: 保持時間 91.8 min (major), 109.6 min (minor)
化合物（５）：ヘキサン/2-プロパノール, 98:2, 1.5 ml/min: 保持時間 45.3 min (major), 52.6 min (minor)
化合物（６）：ヘキサン/2-プロパノール, 98:2, 1.5 ml/min): 保持時間 32.6 min (major), 43.7 min (minor)
化合物（７）：ヘキサン/2-プロパノール, 98:2, 1.5 ml/min): 保持時間 28.4 min (major), 33.5 min (minor)
化合物（８）：ヘキサン/2-プロパノール, 90:10, 1.0 ml/min): 保持時間 14.5 min (major), 24.5 min (minor)
化合物（９）：ヘキサン/2-プロパノール, 90:10, 1.0 ml/min): 保持時間 16.5 min (major), 20.2 min (minor)
化合物（１０）：ヘキサン/2-プロパノール, 95:5, 0.5 ml/min): 保持時間 46.9 min (major), 52.8 min (minor)
化合物（１１）：ヘキサン/2-プロパノール, 90:10, 0.5 ml/min): 保持時間 34.6 min (major), 54.1 min (minor)
化合物（１２）：ヘキサン/2-プロパノール, 98:2, 1.5 ml/min): 保持時間 39.2 min (major), 54.3 min (minor)
化合物（１３）：ヘキサン/2-プロパノール, 90:10, 1.0 ml/min): 保持時間 21.6 min (minor), 44.9 min (major)
化合物（１４）：ヘキサン/2-プロパノール, 90:10, 1.0 ml/min): 保持時間 19.8 min (minor), 22.9 min (major)
化合物（１５）：ヘキサン/2-プロパノール, 90:10, 0.5 ml/min)： 保持時間 52.4 min (minor), 56.8 min (major)
化合物（１６）：DAICEL CHIRALPAK AS-H； ヘキサン/2-プロパノール、95:5, 0.5 ml/min; 保持時間 56.8 min (major), 59.5 min (minor) 
化合物（１７）：DAICEL CHIRALCEL OH-H; ヘキサン/2-プロパノール、98:2, 1.0 ml/min; 保持時間 59.4 (major), 69.5 min (minor)
化合物（１８）：DAICEL CHIRALPAK AS-H； ヘキサン/2-プロパノール、95:5, 1.0 ml/min; 保持時間 34.0 min (minor), 40.8 min (major)
化合物（１９）：DAICEL CHIRALPAK AS-H； ヘキサン/2-プロパノール、95:5, 1.0 ml/min; 保持時間 35.2 min (minor), 44.3 min (major)
化合物（２０）：DAICEL CHIRALPAK AS-H； ヘキサン/2-プロパノール、80:30, 1.0 ml/min; 保持時間 46.0 min (minor), 48.9 min (major)
化合物（２１）：ヘキサン/2-プロパノール、 95:5, 1.0 ml/min;  保持時間 31.6 min (minor), 36.2 min (major)
化合物（２２）：ヘキサン/2-プロパノール、 95:5, 1.0 ml/min;  保持時間 31.３ min (major), 37.0 min (minor)
化合物（２３）：DAICEL CHIRALPAK AS-H； ヘキサン/2-プロパノール、 90:10, 1.0 ml/min;  保持時間 69.2 min (major), 97.2 min (minor)
化合物（２４）：ヘキサン/2-プロパノール、98:2, 1.5 ml/min; 保持時間 41.5 (major), 45.8 min (minor)
化合物（２５）：ジベンゾエート誘導体として分析：DAICEL CHIRALPAC AD-H; ヘキサン/2-プロパノール、99:1, 1.0 ml/min; 保持時間 15.5 (minor), 37.6 min (major)【００８１】
実施例２７（塩基の添加効果）
ナトリウムｔ−ブトキシドを他の塩基に変えること又は塩基を用いないこと以外は、実施例１と同様の操作によって反応を行った。その結果を表５に示す。得られた光学活性１，２−ジオール化合物（１）の鏡像体過剰率は、実施例１の場合と同様にして測定した。【００８２】
【表５】
2014148591.tif 000013
【００８３】
これより、塩基を添加すると、高収率で高い鏡像体過剰率の光学活性１，２−ジオール化合物（１）が得られることが分かった。特に、アルカリ金属アルコキシドを用いた場合に収率及び鏡像体過剰率はともに飛躍的に向上することが分かった。【００８４】
実施例２８（配位子の効果）
実施例１で用いたロジウム錯体（１ａ）において、イソプロピル基（ｉＰｒ）をベンジル基（Ｂｎ）及びフェニル基（Ｐｈ）に代えたロジウム錯体（１ｂ）及び（１ｃ）を、非特許文献７の記載に従い合成した。また、実施例１で用いたロジウム錯体（１ａ）において、ベンゼン環上のＲｈに対して２つのメタ位にそれぞれメチル基を有するロジウム錯体（１ｄ）（下記式においてＲ３＝Ｒ５＝Ｍｅ）も同様にして合成した。【００８５】
ロジウム錯体（１ａ）に代えて、ロジウム錯体（１ｂ）、（１ｃ）及び（１ｄ）を用いること以外は、実施例１と同様の操作によって反応を行った。その結果を表６に示す。得られた光学活性１，２−ジオール化合物（１）の鏡像体過剰率は、実施例１の場合と同様にして測定した。【００８６】
【化７】
2014148591.tif 000014
【００８７】
【表６】
2014148591.tif 000015
【００８８】
これより、ロジウム錯体（１ｂ）、（１ｃ）及び（１ｄ）を用いて反応した場合でも、高収率で高い鏡像体過剰率の光学活性１，２−ジオール化合物（１）が得られることが分かった。【００８９】
実施例２９
ロジウム錯体（１ａ）とビス（カテコール）ジボロンとの反応により得られる中間体について、11B NMR (160 MHz, THF-d8)を測定した。その結果、一種類のＢ（ホウ素）種が、103Rhとカップリングした二重線δ28.0 ppm (d, JRh-B = 155.2 Hz) として検出された。これより、中間体がＲｈ−Ｂ結合を有することが明らかになった。
【産業上の利用可能性】
【００９０】
本発明の光学活性１，２−ジオール化合物の製造方法によれば、オレフィン類から高収率かつ高い光学収率で光学活性１，２−ジオール化合物を製造することができる。そのため、生理活性物質、医薬品等の精密合成の極めて有効なツールとなりうる。
【図１】
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【国際調査報告】
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