【手続補正書】
【提出日】平成24年4月24日(2012.4.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
投影光学系と液体とを介してエネルギビームで基板を露光する露光装置であって、
前記投影光学系の下に液体を供給する液浸システムと、
それぞれ基板を載置する第１、第２ステージと、
前記第１、第２ステージをそれぞれ前記投影光学系と対向して位置付けるとともに、前記供給される液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域を維持する前記第１、第２ステージの一方が他方に置き換えられるように前記投影光学系の下方で前記液浸領域に対して前記第１、第２ステージを移動する駆動システムと、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動において少なくとも一部が前記第１、第２ステージの間隙に位置するブリッジ部材と、を備え、
前記液浸領域に対する、前記ブリッジ部材の少なくとも一部が間隙に位置する前記第１、第２ステージの移動によって、前記液浸領域は、前記投影光学系の下に維持されつつ前記ブリッジ部材を介して前記一方のステージから前記他方のステージに移動する。
【請求項２】
投影光学系と液体とを介してエネルギビームで基板を露光する露光装置であって、
前記投影光学系の下に液体を供給する液浸システムと、
それぞれ基板を載置する第１、第２ステージと、
前記供給される液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域に対して、一方が前記投影光学系と対向して位置付けられる前記第１、第２ステージを移動する駆動システムと、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動において少なくとも一部が前記第１、第２ステージの間隙に位置するブリッジ部材と、を備え、
前記液浸領域に対する、前記ブリッジ部材の少なくとも一部が間隙に位置する前記第１、第２ステージの移動によって、前記液浸領域は、前記投影光学系の下に維持されつつ前記ブリッジ部材を介して前記一方のステージから、前記一方のステージの代わりに前記投影光学系と対向して位置付けられる前記第１、第２ステージの他方に移動する。
【請求項３】
投影光学系と液体とを介してエネルギビームで基板を露光する露光装置であって、
前記投影光学系の下に液体を供給する液浸システムと、
それぞれ基板を載置する第１、第２ステージと、
前記供給される液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域が前記投影光学系と前記第１、第２ステージの一方との間に維持される第１状態から、前記液浸領域が前記投影光学系と前記第１、第２ステージの他方との間に維持される第２状態に遷移するように、前記投影光学系の下方で前記液浸領域に対して前記第１、第２ステージを移動する駆動システムと、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動において少なくとも一部が前記第１、第２ステージの間隙に位置するブリッジ部材と、を備え、
前記液浸領域に対する、前記ブリッジ部材の少なくとも一部が間隙に位置する前記第１、第２ステージの移動によって、前記液浸領域は、前記投影光学系の下に維持されつつ前記ブリッジ部材を介して前記一方のステージから前記他方のステージに移動する。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動において、前記ブリッジ部材は、前記第１、第２ステージに対してその上端側に配置される。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動において、前記ブリッジ部材はその少なくとも一部が前記間隙を覆うように配置される。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動において、前記ブリッジ部材はその表面が前記第１、第２ステージの上面と実質的に同一面となるように配置される。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動において、前記ブリッジ部材は、前記第１、第２ステージの少なくとも一方に設けられる。
【請求項８】
請求項７に記載の露光装置において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動において、前記ブリッジ部材はその少なくとも一部が前記少なくとも一方のステージの外側に突出して配置される。
【請求項９】
請求項７又は８に記載の露光装置において、
前記ブリッジ部材は、前記少なくとも一方のステージに着脱可能に設けられる。
【請求項１０】
請求項１〜９に記載の露光装置において、
前記ブリッジ部材は、前記液浸領域を維持する前記第１、第２ステージの一方から他方への置換と、前記液浸領域を維持する前記第１、第２ステージの他方から一方への置換との両方で用いられる。
【請求項１１】
請求項１〜９のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記ブリッジ部材は、前記第１、第２ステージにそれぞれ設けられる。
【請求項１２】
請求項１１に記載の露光装置において、
前記第１ステージに設けられるブリッジ部材は、前記液浸領域を維持する前記第１、第２ステージの一方から他方への置換で用いられ、前記第２ステージに設けられるブリッジ部材は、前記液浸領域を維持する前記第１、第２ステージの他方から一方への置換で用いられる。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージは、前記投影光学系の下方で前記液浸領域を維持する前記一方のステージに対して前記他方のステージが接近し、かつその間隙に前記ブリッジ部材の少なくとも一部が位置するように相対移動される。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動の途中で、前記液浸領域は、少なくとも前記ブリッジ部材によって前記投影光学系の下に維持される。
【請求項１５】
投影光学系と液体とを介してエネルギビームで基板を露光する露光装置であって、
前記投影光学系の下に液体を供給する液浸システムと、
それぞれ基板を載置する第１、第２ステージと、
前記第１、第２ステージをそれぞれ前記投影光学系と対向して位置付けるとともに、前記供給される液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域を維持する前記第１、第２ステージの一方が他方に置き換えられるように前記投影光学系の下方で前記液浸領域に対して前記第１、第２ステージを移動する駆動システムと、を備え、
前記第１、第２ステージの少なくとも一方はその一端に突出部を有し、
前記液浸領域に対して移動される前記第１、第２ステージはその間に前記突出部が位置するように配置され、前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動によって、前記液浸領域は、前記投影光学系の下に維持されつつ前記突出部を介して前記一方のステージから前記他方のステージに移動する。
【請求項１６】
投影光学系と液体とを介してエネルギビームで基板を露光する露光装置であって、
前記投影光学系の下に液体を供給する液浸システムと、
それぞれ基板を載置する第１、第２ステージと、
前記供給される液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域に対して、一方が前記投影光学系と対向して位置付けられる前記第１、第２ステージを移動する駆動システムと、を備え、
前記第１、第２ステージの少なくとも一方はその一端に突出部を有し、
前記液浸領域に対して移動される前記第１、第２ステージはその間に前記突出部が位置するように配置され、前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動によって、前記液浸領域は、前記投影光学系の下に維持されつつ前記突出部を介して前記一方のステージから、前記一方のステージの代わりに前記投影光学系と対向して位置付けられる前記第１、第２ステージの他方に移動する。
【請求項１７】
投影光学系と液体とを介してエネルギビームで基板を露光する露光装置であって、
前記投影光学系の下に液体を供給する液浸システムと、
それぞれ基板を載置する第１、第２ステージと、
前記供給される液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域が前記投影光学系と前記第１、第２ステージの一方との間に維持される第１状態から、前記液浸領域が前記投影光学系と前記第１、第２ステージの他方との間に維持される第２状態に遷移するように、前記投影光学系の下方で前記液浸領域に対して前記第１、第２ステージを移動する駆動システムと、を備え、
前記第１、第２ステージの少なくとも一方はその一端に突出部を有し、
前記液浸領域に対して移動される前記第１、第２ステージはその間に前記突出部が位置するように配置され、前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動によって、前記液浸領域は、前記投影光学系の下に維持されつつ前記突出部を介して前記一方のステージから前記他方のステージに移動する。
【請求項１８】
請求項１５〜１７のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記突出部は、前記少なくとも一方のステージの上端側に配置される。
【請求項１９】
請求項１５〜１８のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記突出部は、前記少なくとも一方のステージの上面から外側に突出した表面を有し、その表面が前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動の途中で前記投影光学系と対向する。
【請求項２０】
請求項１５〜１９のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記突出部は、前記少なくとも一方のステージの上面とほぼ面一となる表面を有し、その表面が前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動の途中で前記投影光学系と対向する。
【請求項２１】
請求項１５〜２０のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージは、上面が前記突出部の表面を含めて実質的に同一面となるようにその間に前記突出部が位置する状態で、前記液浸領域に対して移動される。
【請求項２２】
請求項１５〜２１のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記突出部は、前記少なくとも一方のステージの上端部の一部が他の部分よりも外側に突出した庇部を有する。
【請求項２３】
請求項１５〜２２のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記突出部は、前記少なくとも一方のステージに着脱可能に設けられる。
【請求項２４】
請求項１５〜２３に記載の露光装置において、
前記突出部は、前記液浸領域を維持する前記第１、第２ステージの一方から他方への置換と、前記液浸領域を維持する前記第１、第２ステージの他方から一方への置換との両方で用いられる。
【請求項２５】
請求項１５〜２３のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記突出部は、前記第１、第２ステージにそれぞれ設けられる。
【請求項２６】
請求項２５に記載の露光装置において、
前記第１ステージに設けられる突出部は、前記液浸領域を維持する前記第１、第２ステージの一方から他方への置換で用いられ、前記第２ステージに設けられる突出部は、前記液浸領域を維持する前記第１、第２ステージの他方から一方への置換で用いられる。
【請求項２７】
請求項１５〜２６のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージは、前記投影光学系の下方で前記液浸領域を維持する前記一方のステージに対して前記他方のステージが接近し、かつその間に前記突出部が位置するように相対移動される。
【請求項２８】
請求項１５〜２７のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動の途中で、前記液浸領域は、少なくとも前記突出部によって前記投影光学系の下に維持される。
【請求項２９】
請求項１〜２８のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記基板の一部に前記液浸領域が位置するように移動され、
前記基板は、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して前記エネルギビームで露光される。
【請求項３０】
請求項１〜２９のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記基板の載置領域と、内部に前記載置領域が配置される補助部材と、を有し、前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動において、前記補助部材によって前記投影光学系の下に前記液浸領域を維持する。
【請求項３１】
請求項３０に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、その上面が前記補助部材によって実質的に同一面となるように設定される。
【請求項３２】
請求項３０又は３１に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記基板の表面が前記補助部材の表面とほぼ面一となるように前記基板を前記載置領域に載置する。
【請求項３３】
請求項３０〜３２のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記補助部材によって、前記載置領域に載置される基板から外れる前記液浸領域の少なくとも一部を保持する。
【請求項３４】
請求項３０〜３３のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記補助部材との隙間が１ｍｍ以下となるように前記基板を前記載置領域に載置する。
【請求項３５】
請求項３０〜３４のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記補助部材に形成される開口内に設けられる基準部材を有し、
前記基準部材を用いる計測は、前記基板の露光に先立って行われる。
【請求項３６】
請求項３５に記載の露光装置において、
前記基準部材はその表面が前記補助部材の表面とほぼ同一面となるように設けられる。
【請求項３７】
請求項３５又は３６に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記液浸領域の下に前記基準部材が位置付けられるように移動され、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して前記エネルギビームが前記基準部材に照射される。
【請求項３８】
請求項３５〜３７のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記基準部材は、前記基板の露光に用いられるマスクのマーク検出で用いられる。
【請求項３９】
請求項３５〜３８のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動に続いて、前記液浸領域の下に前記基準部材が位置するように移動される。
【請求項４０】
請求項１〜３９のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージは、前記投影光学系と対向して位置付けられる前記一方のステージに対して前記他方のステージが接近するように相対移動され、前記接近した第１、第２ステージが前記液浸領域に対して移動される。
【請求項４１】
請求項４０に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記第１、第２ステージが移動される所定方向に関して接近するように相対移動される。
【請求項４２】
請求項４１に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージは、前記所定方向と交差する方向に関しても接近するように相対移動される。
【請求項４３】
請求項４０〜４２のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記第１、第２ステージが移動される所定方向と交差する方向に関してその位置関係が調整されるように相対移動される。
【請求項４４】
請求項１〜４３のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージはその位置関係が実質的に維持されつつ前記液浸領域に対して移動される。
【請求項４５】
請求項４４に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記第１、第２ステージが移動される所定方向に関して実質的にその位置関係が維持される。
【請求項４６】
請求項１〜４５のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１ステージに載置される基板の露光動作と、前記第２ステージに載置される基板の露光動作とが交互に行われ、前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動はその露光動作の間に行われる。
【請求項４７】
請求項１〜４６のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージを交互に用いて複数の基板の露光動作が行われ、前記液浸領域は、前記複数の基板の露光動作において前記投影光学系の下に維持される。
【請求項４８】
請求項１〜４７のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動前後の少なくとも一方において、前記第１ステージと前記第２ステージとで互いに異なる動作が並行して行われる。
【請求項４９】
請求項１〜４８のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記投影光学系と対向して位置付けられる前記第１、第２ステージの一方と、前記第１、第２ステージの他方とで、互いに異なる動作が並行して行われる。
【請求項５０】
請求項１〜４９のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記基板の計測、露光、及び交換が行われるように移動され、
前記基板の露光前後でそれぞれ、前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動が行われる。
【請求項５１】
請求項５０に記載の露光装置において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動に先立ち、前記第１、第２ステージの一方に載置される基板の露光と並行して、前記第１、第２ステージの他方に載置される基板の計測又は交換が行われる。
【請求項５２】
請求項５１に記載の露光装置において、
前記計測が行われた基板を載置する前記他方のステージは、前記投影光学系と対向して位置付けられる前記一方のステージに対して接近するように相対移動され、前記液浸領域に対する前記接近した第１、第２ステージの移動に続いて、前記他方のステージに載置される基板の露光動作が開始される。
【請求項５３】
請求項５２に記載の露光装置において、
前記液浸領域に対する前記接近した第１、第２ステージの移動によって前記投影光学系の下から離脱した前記一方のステージは、前記露光された基板の交換が行われる。
【請求項５４】
請求項１〜５３のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記基板のマークを検出するマーク検出系を、さらに備え、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記基板の露光に先立ち、前記マーク検出系によるマーク検出を含む前記基板の計測が行われるように移動される。
【請求項５５】
請求項５４に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ基準部材を有し、前記マーク検出系によって前記基準部材と前記基板のマークとが検出される。
【請求項５６】
請求項１〜５５のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ基準部材を有し、前記基板の露光に先立ち、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して前記基準部材を用いる計測が行われるように移動される。
【請求項５７】
請求項１〜５６のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記基板は、前記液体を介して露光が行われ、前記液体を介することなくマークの検出が行われる。
【請求項５８】
請求項１〜５７のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記駆動システムは、前記第１、第２ステージをそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と異なる第２領域との一方から他方に移動される電磁モータシステムを有する。
【請求項５９】
請求項５８に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記第１領域と前記第２領域とで異なる動作が行われるとともに、前記第１、第２領域の一方における動作に続いて前記第１、第２領域の他方に移動される。
【請求項６０】
請求項５８又は５９に記載の露光装置において、
前記第２領域では、前記第１、第２ステージにそれぞれ載置される基板の計測及び／又は交換が行われる。
【請求項６１】
請求項１〜６０のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記基板は走査露光が行われ、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して、前記走査露光時に前記基板が移動される方向と交差する所定方向に移動される。
【請求項６２】
請求項１〜６１のいずれか一項に記載の露光装置において、
所定方向と交差する方向に関して前記投影光学系と位置が異なるマーク検出系を、さらに備え、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記所定方向に移動される。
【請求項６３】
請求項１〜６２のいずれか一項に記載の露光装置において、
所定方向に交差する方向に関して前記投影光学系と異なる位置で、前記第１、第２ステージにそれぞれ載置される基板の交換が行われ、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記所定方向に移動される。
【請求項６４】
請求項１〜６３のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、所定方向と交差する方向に関して前記第１領域と位置が異なる第２領域との一方から他方に移動され、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記所定方向に移動される。
【請求項６５】
請求項１〜６０のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記投影光学系と所定方向に関して位置が異なるマーク検出系を、さらに備え、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記所定方向に移動される。
【請求項６６】
請求項１〜６０、６５のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記投影光学系と所定方向に関して異なる位置で、前記第１、第２ステージにそれぞれ載置される基板の交換が行われ、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記所定方向に移動される。
【請求項６７】
請求項１〜６０、６５、６６のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と所定方向に関して位置が異なる第２領域との一方から他方に移動され、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記所定方向に移動される。
【請求項６８】
請求項６５〜６７のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記基板は、その走査露光において、前記所定方向と交差する方向に移動される。
【請求項６９】
請求項１〜６８のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と異なる第２領域との一方から他方に移動され、
前記第１ステージと前記第２ステージとで、前記第１領域から前記第２領域への移動経路が異なる。
【請求項７０】
請求項１〜６９のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と異なる第２領域との一方から他方に移動され、
前記第１ステージと前記第２ステージとで、前記第２領域から前記第１領域への移動経路が異なる。
【請求項７１】
請求項１〜７０のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と異なる第２領域との一方から他方に移動されるとともに、前記第１領域から前記第２領域への移動と、前記第２領域から前記第１領域への移動とで逆の経路を辿るように移動される。
【請求項７２】
請求項１〜７１のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸領域に対する移動において対向する前記第１、第２ステージの端部は、前記液浸領域を維持する前記第１ステージの前記第２ステージへの置換と、前記液浸領域を維持する前記第２ステージの前記第１ステージへの置換とで同一となる。
【請求項７３】
請求項１〜７２のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域を維持する前記第１ステージの前記第２ステージへの置換と、前記液浸領域を維持する前記第２ステージの前記第１ステージへの置換とで、前記液浸領域に対して前記第１、第２ステージが移動される所定方向に関して逆向きに移動される。
【請求項７４】
請求項１〜６８のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と異なる第２領域との一方から他方に移動され、
前記第１ステージと前記第２ステージとで、記第２領域から前記第１領域への移動経路が同一となる。
【請求項７５】
請求項１〜６８、７４のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と異なる第２領域との一方から他方に移動され、
前記第１ステージと前記第２ステージとで、前記第１領域から前記第２領域への移動経路が同一となる。
【請求項７６】
請求項１〜６８、７４、７５のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と異なる第２領域との一方から他方に移動されるとともに、前記第１領域から前記第２領域への移動と、前記第２領域から前記第１領域への移動とで異なる経路を辿るように移動される。
【請求項７７】
請求項１〜６８、７４〜７６のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸領域に対する移動において対向する前記第１、第２ステージの端部は、前記液浸領域を維持する前記第１ステージの前記第２ステージへの置換と、前記液浸領域を維持する前記第２ステージの前記第１ステージへの置換とで互いに異なる。
【請求項７８】
請求項７７に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記対向する端部が、前記液浸領域に対して前記第１、第２ステージが移動される所定方向に関して両端に配置される端部である。
【請求項７９】
請求項１〜６８、７４〜７８のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域を維持する前記第１ステージの前記第２ステージへの置換と、前記液浸領域を維持する前記第２ステージの前記第１ステージへの置換とで、前記液浸領域に対して前記第１、第２ステージが移動される所定方向に関して同一向きに移動される。
【請求項８０】
請求項１〜７９のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸システムは、少なくとも前記基板の露光動作において、前記液浸領域への液体供給と、前記液浸領域からの液体回収とを常時行う。
【請求項８１】
投影光学系と液体とを介してエネルギビームで基板を露光する露光方法であって、
それぞれ基板を載置する第１、第２ステージの間隙にブリッジ部材の少なくとも一部が位置するように、前記第１、第２ステージを相対的に移動することと、
前記投影光学系の下に液体を供給して形成される液浸領域を維持する前記第１、第２ステージの一方が他方に置き換えられるように、前記投影光学系の下方で前記液浸領域に対して、その間隙に前記ブリッジ部材の少なくとも一部が位置する前記第１、第２ステージを移動することと、を含み、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動によって、前記液浸領域は、前記投影光学系の下に維持されつつ前記ブリッジ部材を介して前記一方のステージから前記他方のステージに移動する。
【請求項８２】
投影光学系と液体とを介してエネルギビームで基板を露光する露光方法であって、
それぞれ基板を載置する第１、第２ステージの間隙にブリッジ部材の少なくとも一部が位置するように、前記第１、第２ステージを相対的に移動することと、
前記投影光学系の下に液体を供給して形成される液浸領域に対して、一方が前記投影光学系と対向して位置付けられ、かつその間隙に前記ブリッジ部材の少なくとも一部が位置する前記第１、第２ステージを移動することと、を含み、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動によって、前記液浸領域は、前記投影光学系の下に維持されつつ前記ブリッジ部材を介して前記一方のステージから、前記一方のステージの代わりに前記投影光学系と対向して位置付けられる前記第１、第２ステージの他方に移動する。
【請求項８３】
投影光学系と液体とを介してエネルギビームで基板を露光する露光方法であって、
それぞれ基板を載置する第１、第２ステージの間隙にブリッジ部材の少なくとも一部が位置するように、前記第１、第２ステージを相対的に移動することと、
前記投影光学系の下に液体を供給して形成される液浸領域が前記投影光学系と前記第１、第２ステージの一方との間に維持される第１状態から、前記液浸領域が前記投影光学系と前記第１、第２ステージの他方との間に維持される第２状態に遷移するように、前記投影光学系の下方で前記液浸領域に対して、その間隙に前記ブリッジ部材の少なくとも一部が位置する前記第１、第２ステージを移動することと、を含み、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動によって、前記液浸領域は、前記投影光学系の下に維持されつつ前記ブリッジ部材を介して前記一方のステージから前記他方のステージに移動する。
【請求項８４】
請求項８１〜８３のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動において、前記ブリッジ部材は、前記第１、第２ステージに対してその上端側に配置される。
【請求項８５】
請求項８１〜８４のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動において、前記ブリッジ部材はその少なくとも一部が前記間隙を覆うように配置される。
【請求項８６】
請求項８１〜８５のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動において、前記ブリッジ部材はその表面が前記第１、第２ステージの上面と実質的に同一面となるように配置される。
【請求項８７】
請求項８１〜８６のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動において、前記ブリッジ部材は、前記第１、第２ステージの少なくとも一方に設けられる。
【請求項８８】
請求項８７に記載の露光方法において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動において、前記ブリッジ部材はその少なくとも一部が前記少なくとも一方のステージの外側に突出して配置される。
【請求項８９】
請求項８７又は８８に記載の露光方法において、
前記ブリッジ部材は、前記少なくとも一方のステージに着脱可能に設けられる。
【請求項９０】
請求項８１〜８９に記載の露光方法において、
前記ブリッジ部材は、前記液浸領域を維持する前記第１、第２ステージの一方から他方への置換と、前記液浸領域を維持する前記第１、第２ステージの他方から一方への置換との両方で用いられる。
【請求項９１】
請求項８１〜９０のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記ブリッジ部材は、前記第１、第２ステージにそれぞれ設けられる。
【請求項９２】
請求項９１に記載の露光方法において、
前記第１ステージに設けられるブリッジ部材は、前記液浸領域を維持する前記第１、第２ステージの一方から他方への置換で用いられ、前記第２ステージに設けられるブリッジ部材は、前記液浸領域を維持する前記第１、第２ステージの他方から一方への置換で用いられる。
【請求項９３】
請求項８１〜９２のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージは、前記投影光学系の下方で前記液浸領域を維持する前記一方のステージに対して前記他方のステージが接近し、かつその間隙に前記ブリッジ部材の少なくとも一部が位置するように相対移動される。
【請求項９４】
請求項８１〜９３のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動の途中で、前記液浸領域は、少なくとも前記ブリッジ部材によって前記投影光学系の下に維持される。
【請求項９５】
投影光学系と液体とを介してエネルギビームで基板を露光する露光方法であって、
それぞれ基板を載置し、かつ少なくとも一方がその一端に突出部を有する第１、第２ステージの間にその突出部が位置するように、前記第１、第２ステージを相対的に移動することと、
前記投影光学系の下に液体を供給して形成される液浸領域を維持する前記第１、第２ステージの一方が他方に置き換えられるように、前記投影光学系の下方で前記液浸領域に対して、前記突出部がその間に位置する前記第１、第２ステージを移動することと、を含み、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動によって、前記液浸領域は、前記投影光学系の下に維持されつつ前記突出部を介して前記一方のステージから前記他方のステージに移動する。
【請求項９６】
投影光学系と液体とを介してエネルギビームで基板を露光する露光方法であって、
それぞれ基板を載置し、かつ少なくとも一方がその一端に突出部を有する第１、第２ステージの間にその突出部が位置するように、前記第１、第２ステージを相対的に移動することと、
前記投影光学系の下に液体を供給して形成される液浸領域に対して、一方が前記投影光学系と対向して位置付けられ、かつ前記突出部がその間に位置する前記第１、第２ステージを移動することと、を含み、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動によって、前記液浸領域は、前記投影光学系の下に維持されつつ前記突出部を介して前記一方のステージから、前記一方のステージの代わりに前記投影光学系と対向して位置付けられる前記第１、第２ステージの他方に移動する。
【請求項９７】
投影光学系と液体とを介してエネルギビームで基板を露光する露光方法であって、
それぞれ基板を載置し、かつ少なくとも一方がその一端に突出部を有する第１、第２ステージの間にその突出部が位置するように、前記第１、第２ステージを相対的に移動することと、
前記投影光学系の下に液体を供給して形成される液浸領域が前記投影光学系と前記第１、第２ステージの一方との間に維持される第１状態から、前記液浸領域が前記投影光学系と前記第１、第２ステージの他方との間に維持される第２状態に遷移するように、前記投影光学系の下方で前記液浸領域に対して、前記突出部がその間に位置する前記第１、第２ステージを移動することと、を含み、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動によって、前記液浸領域は、前記投影光学系の下に維持されつつ前記突出部を介して前記一方のステージから前記他方ステージに移動する。
【請求項９８】
請求項９５〜９７のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記突出部は、前記少なくとも一方のステージの上端側に配置される。
【請求項９９】
請求項９５〜９８のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージは、前記少なくとも一方のステージの上面から外側に突出した、前記突出部の表面が、前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動の途中で前記投影光学系と対向するように、前記液浸領域に対して移動される。
【請求項１００】
請求項９５〜９９のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージは、前記少なくとも一方のステージの上面とほぼ面一となる、前記突出部の表面が、前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動の途中で前記投影光学系と対向するように、前記液浸領域に対して移動される。
【請求項１０１】
請求項９５〜１００のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージは、上面が前記突出部の表面を含めて実質的に同一面となるようにその間に前記突出部が位置する状態で、前記液浸領域に対して移動される。
【請求項１０２】
請求項９５〜１０１のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記突出部は、前記少なくとも一方のステージの上端部の一部が他の部分よりも外側に突出した庇部を有する。
【請求項１０３】
請求項９５〜１０２のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記突出部は、前記少なくとも一方のステージに着脱可能に設けられる。
【請求項１０４】
請求項９５〜１０３に記載の露光方法において、
前記突出部は、前記液浸領域を維持する前記第１、第２ステージの一方から他方への置換と、前記液浸領域を維持する前記第１、第２ステージの他方から一方への置換との両方で用いられる。
【請求項１０５】
請求項９５〜１０３のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記突出部は、前記第１、第２ステージにそれぞれ設けられる。
【請求項１０６】
請求項１０５に記載の露光方法において、
前記第１ステージに設けられる突出部は、前記液浸領域を維持する前記第１、第２ステージの一方から他方への置換で用いられ、前記第２ステージに設けられる突出部は、前記液浸領域を維持する前記第１、第２ステージの他方から一方への置換で用いられる。
【請求項１０７】
請求項９５〜１０６のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージは、前記投影光学系の下方で前記液浸領域を維持する前記一方のステージに対して前記他方のステージが接近し、かつその間に前記突出部が位置するように相対移動される。
【請求項１０８】
請求項９５〜１０７のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動の途中で、前記液浸領域は、少なくとも前記突出部によって前記投影光学系の下に維持される。
【請求項１０９】
請求項８１〜１０８のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記基板の一部に前記液浸領域が位置するように移動され、
前記基板は、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して前記エネルギビームで露光される。
【請求項１１０】
請求項８１〜１０９のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、内部に前記基板の載置領域が配置される補助部材によって、前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動において前記投影光学系の下に前記液浸領域を維持する。
【請求項１１１】
請求項１１０に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、その上面が前記補助部材によって実質的に同一面となるように設定される。
【請求項１１２】
請求項１１０又は１１１に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記基板の表面が前記補助部材の表面とほぼ面一となるように前記基板を前記載置領域に載置する。
【請求項１１３】
請求項１１０〜１１２のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記補助部材によって、前記載置領域に載置される基板から外れる前記液浸領域の少なくとも一部を保持する。
【請求項１１４】
請求項１１０〜１１３のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記補助部材との隙間が１ｍｍ以下となるように前記基板を前記載置領域に載置する。
【請求項１１５】
請求項１１０〜１１４のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージでそれぞれ、前記補助部材に形成される開口内に設けられる基準部材を用いる計測は、前記基板の露光に先立って行われる。
【請求項１１６】
請求項１１５に記載の露光方法において、
前記基準部材はその表面が前記補助部材の表面とほぼ同一面となるように設けられる。
【請求項１１７】
請求項１１５又は１１６に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記液浸領域の下に前記基準部材が位置付けられるように移動され、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して前記エネルギビームが前記基準部材に照射される。
【請求項１１８】
請求項１１５〜１１７のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記基準部材は、前記基板の露光に用いられるマスクのマーク検出で用いられる。
【請求項１１９】
請求項１１５〜１１８のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動に続いて、前記液浸領域の下に前記基準部材が位置するように移動される。
【請求項１２０】
請求項８１〜１１９のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージは、前記投影光学系と対向して位置付けられる前記一方のステージに対して前記他方のステージが接近するように相対移動され、前記接近した第１、第２ステージが前記液浸領域に対して移動される。
【請求項１２１】
請求項１２０に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記第１、第２ステージが移動される所定方向に関して接近するように相対移動される。
【請求項１２２】
請求項１２１に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージは、前記所定方向と交差する方向に関しても接近するように相対移動される。
【請求項１２３】
請求項１２０〜１２２のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記第１、第２ステージが移動される所定方向と交差する方向に関してその位置関係が調整されるように相対移動される。
【請求項１２４】
請求項８１〜１２３のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージはその位置関係が実質的に維持されつつ前記液浸領域に対して移動される。
【請求項１２５】
請求項１２４に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記第１、第２ステージが移動される所定方向に関して実質的にその位置関係が維持される。
【請求項１２６】
請求項８１〜１２５のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１ステージに載置される基板の露光動作と、前記第２ステージに載置される基板の露光動作とが交互に行われ、前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動はその露光動作の間に行われる。
【請求項１２７】
請求項８１〜１２６のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージを交互に用いて複数の基板の露光動作が行われ、前記液浸領域は、前記複数の基板の露光動作において前記投影光学系の下に維持される。
【請求項１２８】
請求項８１〜１２７のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動前後の少なくとも一方において、前記第１ステージと前記第２ステージとで互いに異なる動作が並行して行われる。
【請求項１２９】
請求項８１〜１２８のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記投影光学系と対向して位置付けられる前記第１、第２ステージの一方と、前記第１、第２ステージの他方とで、互いに異なる動作が並行して行われる。
【請求項１３０】
請求項８１〜１２９のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記基板の計測、露光、及び交換が行われるように移動され、
前記基板の露光前後でそれぞれ、前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動が行われる。
【請求項１３１】
請求項１３０に記載の露光方法において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動に先立ち、前記第１、第２ステージの一方に載置される基板の露光と並行して、前記第１、第２ステージの他方に載置される基板の計測又は交換が行われる。
【請求項１３２】
請求項１３１に記載の露光方法において、
前記計測が行われた基板を載置する前記他方のステージは、前記投影光学系と対向して位置付けられる前記一方のステージに対して接近するように相対移動され、前記液浸領域に対する前記接近した第１、第２ステージの移動に続いて、前記他方のステージに載置される基板の露光動作が開始される。
【請求項１３３】
請求項１３２に記載の露光方法において、
前記液浸領域に対する前記接近した第１、第２ステージの移動によって前記投影光学系の下から離脱した前記一方のステージは、前記露光された基板の交換が行われる。
【請求項１３４】
請求項８１〜１３３のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記基板の露光に先立ち、マーク検出系によるマーク検出を含む前記基板の計測が行われるように移動される。
【請求項１３５】
請求項１３４に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記マーク検出系によって基準部材と前記基板のマークとが検出される。
【請求項１３６】
請求項８１〜１３５のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記基板の露光に先立ち、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して基準部材を用いる計測が行われるように移動される。
【請求項１３７】
請求項８１〜１３６のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記基板は、前記液体を介して露光が行われ、前記液体を介することなくマークの検出が行われる。
【請求項１３８】
請求項８１〜１３７のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ電磁モータシステムによって、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と異なる第２領域との一方から他方に移動される。
【請求項１３９】
請求項１３８に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記第１領域と前記第２領域とで異なる動作が行われるとともに、前記第１、第２領域の一方における動作に続いて前記第１、第２領域の他方に移動される。
【請求項１４０】
請求項１３８又は１３９に記載の露光方法において、
前記第２領域では、前記第１、第２ステージにそれぞれ載置される基板の計測及び／又は交換が行われる。
【請求項１４１】
請求項８１〜１４０のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記基板は走査露光が行われ、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して、前記走査露光時に前記基板が移動される方向と交差する所定方向に移動される。
【請求項１４２】
請求項８１〜１４１のいずれか一項に記載の露光方法において、
所定方向と交差する方向に関して前記投影光学系と位置が異なるマーク検出系によって前記基板のマーク検出が行われ、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記所定方向に移動される。
【請求項１４３】
請求項８１〜１４２のいずれか一項に記載の露光方法において、
所定方向に交差する方向に関して前記投影光学系と異なる位置で、前記第１、第２ステージにそれぞれ載置される基板の交換が行われ、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記所定方向に移動される。
【請求項１４４】
請求項８１〜１４３のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、所定方向と交差する方向に関して前記第１領域と位置が異なる第２領域との一方から他方に移動され、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記所定方向に移動される。
【請求項１４５】
請求項８１〜１４０のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記投影光学系と所定方向に関して位置が異なるマーク検出系によって前記基板のマーク検出が行われ、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記所定方向に移動される。
【請求項１４６】
請求項８１〜１４０、１４５のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記投影光学系と所定方向に関して異なる位置で、前記第１、第２ステージにそれぞれ載置される基板の交換が行われ、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記所定方向に移動される。
【請求項１４７】
請求項８１〜１４０、１４５、１４６のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と所定方向に関して位置が異なる第２領域との一方から他方に移動され、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記所定方向に移動される。
【請求項１４８】
請求項１４５〜１４７のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記基板は、その走査露光において、前記所定方向と交差する方向に移動される。
【請求項１４９】
請求項８１〜１４８のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と異なる第２領域との一方から他方に移動され、
前記第１ステージと前記第２ステージとで、前記第１領域から前記第２領域への移動経路が異なる。
【請求項１５０】
請求項８１〜１４９のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と異なる第２領域との一方から他方に移動され、
前記第１ステージと前記第２ステージとで、前記第２領域から前記第１領域への移動経路が異なる。
【請求項１５１】
請求項８１〜１５０のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と異なる第２領域との一方から他方に移動されるとともに、前記第１領域から前記第２領域への移動と、前記第２領域から前記第１領域への移動とで逆の経路を辿るように移動される。
【請求項１５２】
請求項８１〜１５１のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液浸領域に対する移動において対向する前記第１、第２ステージの端部は、前記液浸領域を維持する前記第１ステージの前記第２ステージへの置換と、前記液浸領域を維持する前記第２ステージの前記第１ステージへの置換とで同一となる。
【請求項１５３】
請求項８１〜１５２のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域を維持する前記第１ステージの前記第２ステージへの置換と、前記液浸領域を維持する前記第２ステージの前記第１ステージへの置換とで、前記液浸領域に対して前記第１、第２ステージが移動される所定方向に関して逆向きに移動される。
【請求項１５４】
請求項８１〜１４８のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と異なる第２領域との一方から他方に移動され、
前記第１ステージと前記第２ステージとで、前記第２領域から前記第１領域への移動経路が同一となる。
【請求項１５５】
請求項８１〜１４８、１５４のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と異なる第２領域との一方から他方に移動され、
前記第１ステージと前記第２ステージとで、前記第１領域から前記第２領域への移動経路が同一となる。
【請求項１５６】
請求項８１〜１４８、１５４、１５５のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と異なる第２領域との一方から他方に移動されるとともに、前記第１領域から前記第２領域への移動と、前記第２領域から前記第１領域への移動とで異なる経路を辿るように移動される。
【請求項１５７】
請求項８１〜１４８、１５４〜１５６のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液浸領域に対する移動において対向する前記第１、第２ステージの端部は、前記液浸領域を維持する前記第１ステージの前記第２ステージへの置換と、前記液浸領域を維持する前記第２ステージの前記第１ステージへの置換とで互いに異なる。
【請求項１５８】
請求項１５７に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記対向する端部が、前記液浸領域に対して前記第１、第２ステージが移動される所定方向に関して両端に配置される端部である。
【請求項１５９】
請求項８１〜１４８、１５４〜１５８のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域を維持する前記第１ステージの前記第２ステージへの置換と、前記液浸領域を維持する前記第２ステージの前記第１ステージへの置換とで、前記液浸領域に対して前記第１、第２ステージが移動される所定方向に関して同一向きに移動される。
【請求項１６０】
請求項８１〜１５９のいずれか一項に記載の露光方法において、
少なくとも前記基板の露光動作において、前記液浸領域への液体供給と、前記液浸領域からの液体回収とが常時行われる。
【請求項１６１】
リソグラフィ工程を含むデバイス製造方法であって、
前記リソグラフィ工程では、請求項１〜８０のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板上にデバイスパターンを転写することを特徴とするデバイス製造方法。
【請求項１６２】
リソグラフィ工程を含むデバイス製造方法であって、
前記リソグラフィ工程では、請求項８１〜１６０のいずれか一項に記載の露光方法を用いて基板上にデバイスパターンを転写することを特徴とするデバイス製造方法。