【事件の表示】
　特願２０００−２３４０４３「高屈折率層パターンの形成方法及びこの方法により作製された回折構造形成体、並びにこれを貼付した媒体」拒絶査定不服審判事件〔平成１４年　２月１５日出願公開、特開２００２−　４９２９４〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、出願日が２０００年８月２日である特願２０００−２３４０４３号であって、平成１８年１０月６日付けで拒絶査定がなされ、これに対し平成１８年１１月１６日付けで拒絶査定に対する審判請求がなされ、同年１２月６日付けで手続補正がなされた。
　
２．平成１８年１２月６日付けの手続補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　平成１８年１２月６日付けの手続補正を却下する。　
　
［理由１］目的要件違反
　平成１８年１２月６日付けの手続補正（以下、「本件補正」という。）により、特許請求の範囲の請求項１は、　
「【請求項１】
　基材樹脂表面に設けられた回折構造の微細凹凸パターンと、該微細凹凸パターン表面に形成された高屈折率層パターンからなる透明反射層パターンを有する回折構造形成体におけるパターン状の高屈折率層の形成に印刷方式を用いたことを特徴とする高屈折率層パターンの形成方法。」
と補正された。　
　上記補正は、補正前の請求項１の「パターン状の高屈折率層の形成に印刷方式を用いたことを特徴とする高屈折率層パターンの形成方法。」を「基材樹脂表面に設けられた回折構造の微細凹凸パターンと、該微細凹凸パターン表面に形成された高屈折率層パターンからなる透明反射層パターンを有する回折構造形成体におけるパターン状の高屈折率層の形成に印刷方式を用いたことを特徴とする高屈折率層パターンの形成方法。」に変更したものである。
　当該補正によって加えられた「基材樹脂表面に設けられた回折構造の微細凹凸パターンと、該微細凹凸パターン表面に形成された高屈折率層パターンからなる透明反射層パターンを有する回折構造形成体における」という発明特定事項は、「パターン状の高屈折率層」自体を限定的に減縮するものではなく、「パターン状の高屈折率層」を形成するにあたって、その用途を新たに付加するものである。したがって、特許法第１７条の２第４項第２号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する補正ではないことは明らかである。また、当該補正は、請求項の削除、誤記の訂正、明りょうでない記載の釈明のいずれにも該当しないことも明確である。　
　しがって、この補正は、特許法第１７条の２第４項各号に違反するものであり、特許法第１５９条第１項で読み替えて準用する特許法第５３条第１項の規定により却下されるべきものである。　
　
　［理由２］独立特許要件違反　
（１）補正後の本願発明　
　本件補正は上記のとおり却下されるべきものであるが、仮に本件補正が、補正前の請求項１の「パターン状の高屈折率層」に「基材樹脂表面に設けられた回折構造の微細凹凸パターンと、該微細凹凸パターン表面に形成された高屈折率層パターンからなる透明反射層パターンを有する回折構造形成体における」との限定を付すものであって、特許請求の範囲を限定的に減縮することを目的とするものであるとして、本件補正後の請求項１に記載された発明（以下、「本願補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（特許法第１７条の２第５項において準用する特許法第１２６条第５項の規定に適合するか）について検討する。　
　本件補正により、特許請求の範囲の請求項１は、上記［理由１］目的要件違反の項に記載したとおりに補正された。　
　　　
（２）刊行物　
　原査定の拒絶の理由に引用され、本願の出願前に頒布された刊行物である特開平６−７５５１６号公報（以下、引用例１という。）には、以下の点が記載されている。　
　
［記載事項１］　
「【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、反射型ホログラムであって、その反射層が、例えば、透明又は半透明な反射層と金属光沢を有する反射層との組み合わせにより構成されているというように、反射層が部分的に異なる混成型ホログラムとその製造方法に関するものである。」　
　
［記載事項２］　
「【００１４】ホログラム形成層１２は、白色光で再生できる２次元又は３次元画像をホログラム画像として、例えば、レリーフホログラム方式で記録したものであり、撮影方法としては、例えば、イメージホログラム、レインボウホログラム、（・・・中略・・・）また、ホログラム画像としては、必ずしもホログラフィックな方法により記録したものでなくてもよく、機械的又はフォトレジスト等の感光材料への電子ビーム直接描画などのフォトリソグラフィ等により記録して得られるレリーフ状回折格子を部分的に形成したものも使用できる。通常は、これらの記録のレリーフ形状をエンボス複製したものが使用される。この実施例でいうホログラム画像とは、上記のような回折格子により形成される回折パターンをも含むものである。」
　
［記載事項３］　
「【００１５】このホログラム形成層１２は、ホログラム画像のレリーフ面１３ａが下面に形成された樹脂層１３と、その樹脂層１３のレリーフ面１３ａの下面に、透明又は半透明の第１の反射層１４と金属光沢のある第２の反射層１５とが、重なり合うことなく直接形成されている。この実施例では、レリーフ面１３ａに、第１の反射層１４及び第２の反射層１５が直接形成されるので、ホログラム画像が鮮明に観察できる。第２の反射層１５は、例えば、図２（Ａ）に示すように、第１の反射層１４と交互に縞状に配置してもよいし、図２（Ｂ）に示すように、第１の反射層１４を枠状に囲むようにしてもよい。」　
　
［記載事項４］　
「【００１７】第１の反射層１４として、反射透明性を有する材料を採用する場合は、樹脂層１３と屈折率の異なる透明材料や、厚みが２００Å未満の金属薄膜層等があげられる。前者の場合には、第１の反射層１４の屈折率は、樹脂層１３の屈折率よりも大きくても小さくてもよいが、屈折率の差が０．１以上であることが好ましく、差が０．５以上さらに、１．０以上大きいことがより好ましい。また、後者の場合は、金属製薄膜ではあるが、厚みが２００Å未満であるために、光波の透過率が大きく、このため、ホログラム効果発現作用とともに、下部の被着体２０の非隠蔽作用を発揮する。
【００１８】第１の反射層１４の材質としては、例えば樹脂層１３よりも屈折率の大きい透明連続薄膜として、Ｓｂ2 Ｓ3 （３．０）、ＺｎＳ（２．１）、ＴｉＯ2 （２．３）等があげられる。第１の反射層１４を樹脂層１２に形成するには、真空蒸着法、スパッタリング法等の薄膜成形方法を用いればよい。」　
　
［記載事項５］　
「【００２５】次に、図３を参照しながら、本発明による混成型ホログラムの製造方法の第１の実施例について説明する。まず、図３（Ａ）に示すように、ＰＥＴフィルムを基材層１１として、その基材層１１上に形成された熱可塑性樹脂と熱硬化性樹脂の混合物などの樹脂層１３に、ホログラム画像を形成するためのエンボス加工を施し、レリーフ面１３ａを形成する。
【００２６】次に、図３（Ｂ）に示すように、この樹脂層１３のレリーフ面１３ａ上に、Ａｌ等の金属を蒸着した第２の反射層１５を形成する。さらに、第２の反射層１５を残したい部分に、シルクスクリーン印刷又はグラビア印刷など方法によってマスク印刷して、マスク層２１を形成する。この後、図３（Ｃ）に示すように、水酸化ナトリウムなどのアルカリ性溶液や塩化第二鉄などの溶剤を用いて、マスク層２１の部分以外の第２の反射層１５ａを除去し、必要であれば、酸などで中和したのちに、水洗いによりアルカリ等を洗い流して、金属の腐食の進行を止める。さらに、図３（Ｄ）に示すように、樹脂層１３又はマスク層２１を覆うように、Ｓｂ2 Ｓ3 等の金属化合物を蒸着した第１の反射層１４を形成する。最後に、マスク層２１をその上に形成された第１の反射層１４とともに除去すれば、図３（Ｅ）に示すように、第１及び第２の反射層１４，１５が樹脂層１３上に直接しかも、交互に同一層として形成された混成型ホログラム１０を得ることができる。」　
　［記載事項３］より、ホログラム形成層１２は、ホログラム画像のレリーフ面１３ａが下面に形成された樹脂層１３と、該レリーフ面１３ａの下面に形成された透明又は半透明の第１反射層１４及び金属光沢のある第２反射面１５とからなることがわかる。　
　
　［記載事項２］より、ホログラム画像は、回折格子により形成される回折パターンをも含むものであることがわかる。　
　
　［記載事項４］より、第１の反射層１４の材質は、樹脂層１３よりも屈折率の大きい透明連続薄膜として、Ｓｂ2 Ｓ3 （３．０）、ＺｎＳ（２．１）、ＴｉＯ2 （２．３）等が用いられていることがわかる。　
　また、第１の反射層１４を樹脂層１２に形成するには、真空蒸着法、スパッタリング法等の薄膜成形方法が用いられていることもわかる。　
　
　［記載事項５］及び【図３】より、第１の反射層１４と第２の反射層１５とは交互に形成されていることがわかる。　
　
　したがって、上記記載事項を参照すれば、引用例１には、　
「樹脂層１３の下面に形成された回折パターンであるレリーフ面１３ａと、レリーフ面１３ａの下面に、樹脂層１３よりも屈折率の大きい、透明な連続薄膜層で形成された第１反射層１４と、金属光沢のある第２の反射層１５とを同一層に交互に形成したホログラム形成層１２において、第１反射層１４を、真空蒸着法、スパッタリング法等の薄膜形成方法を用いて形成した、混成型ホログラムの製造方法。」の発明（以下「引用発明」という。）が記載されている。　
　
　また、原査定の拒絶の理由に引用され、本願の出願日前に頒布された刊行物である特開平１１−２３８１８号（「引用例２」という。）には以下の点が記載されている。　
［記載事項６］　
「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えばクレジットカード、有価証券、証明書類等の各種物品に利用される画像表示媒体、および転写リボンをサーマルヘッドにより転写せしめるサーマル転写方式により画像を形成して画像表示媒体を製造する方法に係り、特にホログラムや回折格子のような光回折構造（以下、ＯＶＤ：Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｖａｒｉａｂｌｅ  Ｄｅｖｉｃｅと称する）により光学的に画像を表現する画像表示媒体およびその製造方法に関するものである。」　
　
［記載事項７］　
「【００４７】ＯＶＤ層２３は、ホログラムや回折格子等のＯＶＤを記録する層であり、表面に凹凸のレリーフとして記録されているレリーフ型ホログラムや、厚み方向に画像が立体的に記録されている体積型ホログラム等の周知の光回折画像を備えた層である。
・・・（中略）・・・
【００４９】このレリーフ型ＯＶＤを用いた場合には、回折効率を高めるためにレリーフ面と屈折率の異なる反射層を設けることが好ましい。また、その反射層には、透明性が必要なことから、透明性および反射性を合わせ持つ材料である高屈折率透明材料を使用することができる。」　
　
［記載事項８］　
「【００５２】また、ＯＶＤ画像を形成可能であるならば、上記以外のものであっても使用することが可能である。透過性反射層２３ｂとしては、光の透過性と反射性とを合わせ持つ高屈折率透明材料を使用することができる。
【００５３】すなわち、レリーフ層２３ａ（屈折率ｎ＝１．３〜１．５）よりも屈折率が高く、透明性を持つ材料、例えば下記の表１に示すような無機材料を、単独あるいは複合してなる積層体として使用することが可能であり、真空蒸着法、スパッタリング等の公知の薄膜形成技術にて形成する。
【００５４】その膜厚は、透明性と屈折率との問題から、５０オングストローム〜１００００オングストロームとなるように形成することが好ましい。また、上記屈折率の条件を満たすならば、有機系、有機無機系複合体、有機系材料に無機系フィラーを分散したもの等の材料を、グラビアコート、ロールコート、ダイコート、スクリーン印刷等の公知のコーティング法や印刷法により、１０００オングストローム〜１０００００オングストローム（０．１μｍ〜１０μｍ）の厚さに形成することも可能である。」　
　
（３）対比
　引用発明の「樹脂層１３」は、本願補正発明の「基材樹脂」に相当する。　同様に、「下面」は「表面」に、「回折パターン」は「回折構造」に、「樹脂層１３よりも屈折率の大きい」は「高屈折率」に、「透明な層で形成された第１反射層１４」は「透明な反射層」に相当する。　
　また、引用発明の「回折パターンであるレリーフ面１３ａ」が微細凹凸パターンを形成することは明らかであるから、引用発明の「樹脂層１３の下面に形成された回折パターンであるレリーフ面１３ａ」は、本願補正発明の「基材樹脂表面に設けられた回折構造の微細凹凸パターン」に相当する。　
　引用発明の「ホログラム形成層１２」は回折パターンが形成されてなるものであるから、本願補正発明の「回折構造形成体」に相当する。　　
　引用発明の「第１反射層１４」と、「第２反射層１５」とは、同一層で交互に設けられているものであるから、「第１反射層１４」に限ってみれば、パターン状に形成されたものである。このことから、引用発明の「樹脂層１３よりも屈折率の大きい、透明な層で形成された第１反射層１４」は、本願補正発明の「高屈折率層パターンからなる透明反射層パターン」及び「パターン状の高屈折率層」及び「高屈折率層パターン」に相当する。　
　そして、引用発明の「真空蒸着法、スパッタリング法」も、本願補正発明の「印刷方式」も、ともに薄膜形成方法である点で一致する。　
　　
 　したがって、本願補正発明と引用発明とは、
「基材樹脂表面に設けられた回折構造の微細凹凸パターンと、該微細凹凸パターン表面に形成された高屈折率層パターンからなる透明反射層パターンを有する回折構造形成体におけるパターン状の高屈折率層の形成に薄膜形成方法を用いたことを特徴とする高屈折率層パターンの形成方法。」である点で一致し、以下の点で相違する。　
　
【相違点１】　
　薄膜形成方法が、本願補正発明は「印刷方式」であるのに対し、引用発明では「真空蒸着法、スパッタリング法等」である点。　
  
（４）当審の判断　
　上記相違点１について検討する。　
　
　相違点１について：　
　引用例２には、ホログラムや回折格子のような光回折構造により光学的に画像を表現する画像表示媒体の製造方法において、表面に微細な凹凸のレリーフパターン（２３ａ）を記録した光回折画像を備えた層（２３）に、透明性及び反射性を併せ持つ、高屈折率透明材料を使用した反射層（透過性反射層２３ｂ）を設ける構成が記載されている（［記載事項６］、［記載事項７］）。　
　そして、該透過性反射層２３ｂは、グラビアコート、ロールコート、ダイコート、スクリーン印刷等の公知のコーティング法や印刷法により、形成されることが記載されている（［記載事項８］）。
　したがって、引用発明の、レリーフ面１３ａの表面（下面）に形成される第１の透明反射層１４を形成する薄膜形成方法として、引用例２に記載されている印刷法を採用し、相違点１に係る発明特定事項を導くことは当業者にとって容易である。
　
　そして、本願補正発明の作用・効果も、引用例１、及び引用例２に記載された発明から、予測される範囲内のもので、格別のものとはいえない。
　
　以上のことより、本願補正発明は、引用例１、２に記載された事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができない。
　
　（５）むすび
　上記のとおり、本件補正は、特許請求の範囲を限定的に減縮することを目的とするものとしても、特許法第１７条の２第５項で準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するもので、特許法第１５９条第１項で読み替えて準用する特許法第５３条第１項の規定により却下されるべきものである。　
　
　よって本件補正は、特許法第１７条の２第４項の規定に違反し、また、特許請求の範囲を限定的に減縮することを目的とするものとしても、特許法第１７条の２第５項で準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するので、特許法第１５９条第１項で読み替えて準用する特許法第５３条第１項の規定により却下されるべきものである。　
　
３．本願発明について
　平成１８年１２月６日付手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、本願の出願当初の請求項１に記載された以下のとおりのものである。　
「パターン状の高屈折率層の形成に印刷方式を用いたことを特徴とする高屈折率層パターンの形成方法。」　
　
４．引用例　
　原査定の拒絶の理由に引用された引用例１、２の記載事項は、前記「２．（２）刊行物」に記載したとおりである。
　
５．対比・判断　
　本願発明は、上記「２．（１）補正後の本願発明」で述べた本願補正発明から、「基材樹脂表面に設けられた回折構造の微細凹凸パターンと、該微細凹凸パターン表面に形成された高屈折率層パターンからなる透明反射層パターンを有する回折構造形成体における」との限定を省いたものである。
　そうすると、本願発明の発明特定事項をすべて含み、さらに他の発明特定事項を付加したものに相当する本願補正発明が、前記「２．（４）当審の判断」に記載したとおり、引用例１、２に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、同様の理由により、引用例１、２に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
６．むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用例１、２に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。　
　よって、結論のとおり審決する。