【手続補正書】
【提出日】平成24年4月13日(2012.4.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
投影光学系と液体とを介してエネルギビームで基板を露光する露光装置であって、
それぞれ基板を載置する第１、第２テーブルと、
前記第１、第２テーブルがそれぞれ対向して配置される下面側に回収口を有する液浸部材を含み、前記液浸部材を介して前記投影光学系の下に液体を供給し、その供給される液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域から、前記回収口を介して液体を回収する液浸システムと、
前記第１、第２テーブルをそれぞれ前記投影光学系と対向して位置付けるとともに、前記液浸領域を維持する前記第１、第２テーブルの一方が他方に置き換えられるように前記投影光学系の下方で前記液浸部材に対して前記第１、第２テーブルを移動する駆動システムと、を備える。
【請求項２】
投影光学系と液体とを介してエネルギビームで基板を露光する露光装置であって、
それぞれ基板を載置する第１、第２テーブルと、
前記第１、第２テーブルがそれぞれ対向して配置される下面側に回収口を有する液浸部材を含み、前記液浸部材を介して前記投影光学系の下に液体を供給し、その供給される液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域から、前記回収口を介して液体を回収する液浸システムと、
前記投影光学系の下方で前記液浸部材に対して、一方が前記投影光学系と対向して位置付けられる前記第１、第２テーブルを移動する駆動システムと、を備え、
この移動により前記一方のテーブルの代わりに前記投影光学系と対向して位置付けられる前記第１、第２テーブルの他方によって前記投影光学系の下に前記液浸領域が維持される。
【請求項３】
投影光学系と液体とを介してエネルギビームで基板を露光する露光装置であって、
それぞれ基板を載置する第１、第２テーブルと、
前記第１、第２テーブルがそれぞれ対向して配置される下面側に回収口を有する液浸部材を含み、前記液浸部材を介して前記投影光学系の下に液体を供給し、その供給される液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域から、前記回収口を介して液体を回収する液浸システムと、
前記投影光学系と前記第１、第２テーブルの一方との間に前記液浸領域が維持される第１状態から、前記投影光学系と前記第1、第２テーブルの他方との間に前記液浸領域が維持される第２状態に遷移するように、前記投影光学系の下方で前記液浸部材に対して前記第１、第２テーブルを移動する駆動システムと、を備える。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸部材はその下面側に形成される凹部に前記回収口が設けられる。
【請求項５】
請求項４に記載の露光装置において、
前記凹部は、前記液浸部材の下面側で環状に形成される。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸部材はその下面側に、前記エネルギビームが通過する開口部を有し、前記回収口は、前記開口部の周囲に配置される。
【請求項７】
請求項６に記載の露光装置において、
前記液浸部材はその下面側で、前記回収口が環状に設けられる。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸部材はその下面側で、前記エネルギビームが通過する開口部に対して前記回収口よりも外側に別の回収口を有する。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸部材はその下面側に前記液体の供給口を有する。
【請求項１０】
請求項９に記載の露光装置において、
前記液浸部材はその下面側に、前記エネルギビームが通過する開口部を有し、前記供給口は、前記開口部の周囲に配置される。
【請求項１１】
請求項１０に記載の露光装置において、
前記液浸部材はその下面側で、前記供給口が環状に設けられる。
【請求項１２】
請求項９〜１１のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記供給口は、前記エネルギビームが通過する開口部と前記回収口との間に配置される。
【請求項１３】
請求項９〜１１のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記供給口は、前記エネルギビームが通過する開口部に対して前記回収口よりも外側に配置される。
【請求項１４】
請求項１３に記載の露光装置において、
前記液浸部材はその下面側で、前記開口部に対して前記供給口よりも外側に別の回収口を有する。
【請求項１５】
請求項１〜１４のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸部材はその下面が、前記液体と接する前記投影光学系の光学部材の射出面とほぼ同一面となるように設けられる。
【請求項１６】
請求項１〜１５のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸部材は、前記エネルギビームの照射領域を囲む環状部材である。
【請求項１７】
請求項１〜１６のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸部材は、前記液体と接する前記投影光学系の光学部材を囲んで設けられる。
【請求項１８】
請求項１〜１７のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸部材は、その内部に前記液体と接する前記投影光学系の光学部材が位置するように設けられる。
【請求項１９】
請求項１〜１８のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸部材はその内部に、前記液体の供給流路と、前記回収口に接続される回収流路と、を有する。
【請求項２０】
請求項１〜１９のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸部材は、前記投影光学系に対して可動に設けられる。
【請求項２１】
請求項１〜２０のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸部材に対する前記第１、第２テーブルの移動によって、前記液浸領域は、前記投影光学系の下に維持されつつ前記第１、第２テーブルの一方から他方に移動される。
【請求項２２】
請求項２１に記載の露光装置において、
前記液浸領域は、前記一方のテーブルから前記他方のテーブルへの移動において、前記第１、第２テーブルの少なくとも一方によって前記投影光学系の下に維持される。
【請求項２３】
請求項２２に記載の露光装置において、
前記液浸部材に対する前記第１、第２テーブルの移動の途中において、前記液浸領域は、前記第１、第２テーブルの両方によって前記投影光学系の下に維持される。
【請求項２４】
請求項１〜２３のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸システムは、前記投影光学系の下に前記液浸領域が形成されるように、前記液浸部材によって、前記第１、第２テーブルにそれぞれ載置される基板よりも小さい局所領域内で前記液体を保持する。
【請求項２５】
請求項１〜２４のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸システムは、少なくとも前記基板の露光動作において前記液体の供給と回収とを常時行う。
【請求項２６】
請求項１〜２５のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記載置した基板の一部に前記液浸領域が位置するように移動され、前記載置した基板が前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して露光される。
【請求項２７】
請求項１〜２６のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記基板は、前記露光において前記液浸部材の下面に近接して配置される。
【請求項２８】
請求項１〜２７のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記基板の載置領域と、一部に形成される開口内に前記載置領域が位置するように設けられ、前記投影光学系の下に前記液浸領域を維持可能な補助部材と、を有し、前記開口内で前記基板が前記載置領域に載置される。
【請求項２９】
請求項２８に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記液浸部材に対する前記第１、第２テーブルの移動において、前記補助部材によって前記投影光学系の下に前記液浸領域を維持する。
【請求項３０】
請求項２８又は２９に記載の露光装置において、
前記液浸部材に対する前記第１、第２テーブルの移動によって、前記液浸領域は、前記第１、第２テーブルの、一方の補助部材から他方の補助部材に移動される。
【請求項３１】
請求項２８〜３０のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記補助部材によって、前記載置領域に載置される基板から外れる前記液浸領域の少なくとも一部を保持する。
【請求項３２】
請求項２８〜３１のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記載置領域に載置される基板と前記補助部材との少なくとも一方によって前記投影光学系の下に前記液浸領域を維持する。
【請求項３３】
請求項２８〜３２のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記基板が前記投影光学系から外れる位置に移動される前記第１、第２テーブルではそれぞれ、前記投影光学系と前記補助部材との間に前記液浸領域が維持される。
【請求項３４】
請求項２８〜３３のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記載置領域に載置される基板と前記補助部材との隙間からの前記液体の流出を抑制するように前記補助部材に近接させて前記基板を前記載置領域に載置する。
【請求項３５】
請求項３４に記載の露光装置において、
前記基板は、前記補助部材との隙間が３ｍｍ以下となるように前記載置領域に載置される。
【請求項３６】
請求項２８〜３５のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、その表面が前記補助部材の表面とほぼ面一となるように前記基板を前記載置領域に載置する。
【請求項３７】
請求項２８〜３６のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記補助部材は、前記開口を含む複数の開口が形成され、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記開口と異なる開口内に配置される基準部材を有し、
前記投影光学系を介して前記基準部材を用いる計測が行われる。
【請求項３８】
請求項３７に記載の露光装置において、
前記基準部材は、前記基板の露光で用いられるマスクのマーク検出で用いられる。
【請求項３９】
請求項３７又は３８に記載の露光装置において、
前記基板のマークを検出するマーク検出系を、さらに備え、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記マーク検出系によって前記基板のマーク及び前記基準部材の検出が行われる。
【請求項４０】
請求項３７〜３９のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記基準部材はその表面が前記補助部材の表面とほぼ面一となるように設けられる。
【請求項４１】
請求項２８〜４０のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記補助部材が相対移動可能に設けられる。
【請求項４２】
請求項２８〜４１のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、表面が前記載置領域に載置される基板の表面を含めてほぼ同一面となるように設定される。
【請求項４３】
請求項１〜４２のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルは互いに接近するように相対移動され、前記接近した第１、第２テーブルが前記液浸部材に対して移動される。
【請求項４４】
請求項４３に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルは、前記液浸領域を維持する前記一方のテーブルに対して前記他方のテーブルが接近するように相対移動される。
【請求項４５】
請求項４３又は４４に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルは、前記液浸部材に対して前記第１、第２テーブルが移動される所定方向に関して接近するように相対移動される。
【請求項４６】
請求項４５に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルは、前記所定方向に関する前記接近のための移動と、前記所定方向と交差する方向に関する位置関係の調整とが行われる。
【請求項４７】
請求項４３又は４４に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルは、前記液浸部材に対して前記第１、第２テーブルが移動される所定方向と交差する方向に関する位置関係が調整されるように相対移動される。
【請求項４８】
請求項１〜４７のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルはその境界が前記液浸領域の下を通るように前記液浸部材に対して移動される。
【請求項４９】
請求項１〜４８のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルは間隙を挟んで配置された状態で前記液浸部材に対して移動される。
【請求項５０】
請求項１〜４９のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルは互いに近接または接触した状態で前記液浸部材に対して移動される。
【請求項５１】
請求項５０に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルは、前記投影光学系の下に前記液浸領域が維持されるように近接した状態で前記液浸部材に対して移動される。
【請求項５２】
請求項５０又は５１に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルは、前記液体の流出が防止されるように近接した状態で前記液浸部材に対して移動される。
【請求項５３】
請求項１〜５２のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルはその位置関係が実質的に維持されつつ前記液浸部材に対して移動される。
【請求項５４】
請求項５３に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルは、前記液浸部材に対して前記第１、第２テーブルが移動される所定方向に関して実質的にその位置関係が維持される。
【請求項５５】
請求項１〜５４のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と所定方向に関して位置が異なる第２領域との一方から他方に移動され、
前記第１、第２テーブルは、前記液浸部材に対して前記所定方向に移動される。
【請求項５６】
請求項５５に記載の露光装置において、
前記第２領域において、前記第１、第２テーブルにそれぞれ載置される基板のマーク検出及び／又は交換が行われる。
【請求項５７】
請求項１〜５６のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記基板は走査露光が行われ、
前記第１、第２テーブルは、前記液浸部材に対して、前記走査露光時に前記基板が移動される所定方向に移動される。
【請求項５８】
請求項１〜５７のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記投影光学系と所定方向に関して位置が異なるマーク検出系を、さらに備え、
前記第１、第２テーブルは、前記液浸部材に対して前記所定方向に移動される。
【請求項５９】
請求項１〜５８のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記投影光学系と所定方向に関して異なる位置で、前記第１、第２テーブルにそれぞれ載置される基板の交換が行われ、
前記第１、第２テーブルは、前記液浸部材に対して前記所定方向に移動される。
【請求項６０】
請求項１〜５９のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１テーブルに載置される基板の露光動作と、前記第２テーブルに載置される基板の露光動作とが交互に行われ、前記液浸部材に対する前記第１、第２テーブルの移動はその露光動作の間に行われる。
【請求項６１】
請求項１〜６０のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルを交互に用いる複数の基板の露光処理シーケンスの実行中、前記液浸領域は、前記第１、第２テーブルの少なくとも一方によって前記投影光学系の下に維持される。
【請求項６２】
請求項１〜６１のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記一方のテーブルに載置される基板の露光に続いて行われる、前記液浸部材に対する前記第１、第２テーブルの移動において、前記一方のテーブルには露光後の基板が載置され、前記他方のテーブルには次に露光が行われる基板が載置される。
【請求項６３】
請求項６２に記載の露光装置において、
前記液浸部材に対する前記第１、第２テーブルの移動に先立ち、前記一方のテーブルと前記他方のテーブルとで異なる動作が並行して行われる。
【請求項６４】
請求項６２又は６３に記載の露光装置において、
前記投影光学系から離れて配置されるマーク検出系を、さらに備え、
前記マーク検出系による前記他方のテーブルに載置される基板のマーク検出に続いて、前記液浸領域を維持する前記一方のテーブルに対して前記他方のテーブルが接近するように相対移動される。
【請求項６５】
請求項６４に記載の露光装置において、
前記他方のテーブルに載置される基板のマーク検出は、前記一方のテーブルに載置される基板の露光動作と並行して行われる。
【請求項６６】
請求項１〜６５のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記基板のマークを検出するマーク検出系を、さらに備え、
前記液浸部材に対する前記第１、第２テーブルの移動において、前記一方のテーブルには露光後の基板が載置され、前記他方のテーブルにはマーク検出後の基板が載置される。
【請求項６７】
請求項１〜６６のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸部材に対する前記第１、第２テーブルの移動によって前記投影光学系の下から離脱可能となる前記一方のテーブルと、前記一方のテーブルの代わりに前記液浸領域を維持する前記他方のテーブルとで、異なる動作が行われる。
【請求項６８】
請求項６７に記載の露光装置において、
前記液浸部材に対する前記第１、第２テーブルの移動に続いて、前記他方のテーブルに載置される基板の露光が開始される。
【請求項６９】
請求項６８に記載の露光装置において、
前記他方のテーブルでは、前記基板の露光に先立ち、基準部材の検出が行われる。
【請求項７０】
請求項１〜６９のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸部材に対する前記第１、第２テーブルの移動に続いて、前記一方のテーブルは、前記投影光学系の下方から離れて基板交換位置に移動され、前記基板の交換が行われる。
【請求項７１】
請求項７０に記載の露光装置において、
前記一方のテーブルに載置される基板の交換動作は、前記他方のテーブルに載置される基板の露光動作と並行して行われる。
【請求項７２】
請求項１〜７１のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と異なる第２領域との一方から他方に移動されるとともに、前記第２領域から第１領域への移動と、前記第１領域から前記第２領域への移動とで異なる経路を辿るように移動される。
【請求項７３】
請求項１〜７２のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と異なる第２領域との一方から他方に移動され、
前記第１テーブルと前記第２テーブルとは同じ経路で前記第２領域から前記第１領域に移動される。
【請求項７４】
請求項１〜７３のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と異なる第２領域との一方から他方に移動され、
前記第１テーブルと前記第２テーブルとは同じ経路で前記第１領域から前記第２領域に移動される。
【請求項７５】
請求項１〜７４のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記基板は、前記液体を介して露光が行われ、かつ前記液体を介すことなくマーク検出が行われる。
【請求項７６】
請求項１〜７５のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルの位置情報を計測する計測装置を、さらに備え、
前記計測装置は、前記露光において前記第１、第２テーブルの位置情報を計測するエンコーダを含む。
【請求項７７】
請求項７６に記載の露光装置において、
前記エンコーダは、前記第１、第２テーブルの裏面に設けられるスケールを使って位置情報を計測する。
【請求項７８】
請求項１〜７７のいずれか一項に記載の露光装置において、
基板を載置し、前記第１、第２テーブルと異なる第３テーブルを、さらに備え、
前記第１、第２及び第３テーブルを用いて前記基板の露光処理シーケンスを実行する。
【請求項７９】
請求項７８に記載の露光装置において、
前記第１、第２及び第３テーブルでは異なる動作が並行して実行される。
【請求項８０】
請求項１〜７７のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルと異なる第３テーブルを、さらに備え、
前記第３テーブルを用いて前記基板の露光動作と異なる動作を実行する。
【請求項８１】
投影光学系と液体とを介してエネルギビームで基板を露光する露光方法であって、
第１、第２テーブルにそれぞれ基板を載置することと、
前記第１、第２テーブルがそれぞれ対向して配置される下面側に回収口を有する液浸部材を介して前記投影光学系の下に供給される液体によって形成される液浸領域を維持する前記第１、第２テーブルの一方が他方に置き換えられるように、前記投影光学系の下方で前記液浸部材に対して前記第１、第２テーブルを移動することと、を含み、
前記液浸領域の液体は、前記回収口を介して回収される。
【請求項８２】
投影光学系と液体とを介してエネルギビームで基板を露光する露光方法であって、
第１、第２テーブルにそれぞれ基板を載置することと、
前記第１、第２テーブルがそれぞれ対向して配置される下面側に回収口を有する液浸部材に対して、一方が前記投影光学系と対向して位置付けられる前記第１、第２テーブルを移動することと、を含み、
この移動により前記一方のテーブルの代わりに前記投影光学系と対向して位置付けられる前記第１、第２テーブルの他方によって、前記投影光学系の下に、前記液浸部材を介して前記投影光学系の下に供給される液体によって形成される液浸領域が維持され、
前記液浸領域の液体は、前記回収口を介して回収される。
【請求項８３】
投影光学系と液体とを介してエネルギビームで基板を露光する露光方法であって、
第１、第２テーブルにそれぞれ基板を載置することと、
前記第１、第２テーブルがそれぞれ対向して配置される下面側に回収口を有する液浸部材を介して前記投影光学系の下に供給される液体によって形成される液浸領域が前記投影光学系と前記第１、第２テーブルの一方との間に維持される第１状態から、前記液浸領域が前記投影光学系と前記第１、第２テーブルの他方との間に維持される第２状態に遷移するように、前記投影光学系の下方で前記液浸部材に対して前記第１、第２テーブルを移動することと、を含み、
前記液浸領域の液体は、前記回収口を介して回収される。
【請求項８４】
請求項８１〜８３のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記回収口は、前記液浸部材の下面側に形成される凹部に設けられる。
【請求項８５】
請求項８４に記載の露光方法において、
前記凹部は、前記液浸部材の下面側で環状に形成される。
【請求項８６】
請求項８１〜８５のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記回収口は、前記液浸部材の下面側で、前記エネルギビームが通過する開口部の周囲に配置される。
【請求項８７】
請求項８６に記載の露光方法において、
前記回収口は、前記液浸部材の下面側で環状に設けられる。
【請求項８８】
請求項８１〜８７のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液浸部材はその下面側で、前記エネルギビームが通過する開口部に対して前記回収口よりも外側に別の回収口を有する。
【請求項８９】
請求項８１〜８８のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液浸部材はその下面側に前記液体の供給口を有する。
【請求項９０】
請求項８９に記載の露光方法において、
前記供給口は、前記液浸部材の下面側で、前記エネルギビームが通過する開口部と前記回収口との間に配置される。
【請求項９１】
請求項９０に記載の露光方法において、
前記供給口は、前記液浸部材の下面側で環状に設けられる。
【請求項９２】
請求項８９〜９１のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記供給口は、前記エネルギビームが通過する開口部と前記回収口との間に配置される。
【請求項９３】
請求項８９〜９１に記載の露光方法において、
前記供給口は、前記エネルギビームが通過する開口部に対して前記回収口よりも外側に配置される。
【請求項９４】
請求項９３に記載の露光方法において、
前記液浸部材はその下面側で、前記開口部に対して前記供給口よりも外側に別の回収口を有する。
【請求項９５】
請求項８１〜９４のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液浸部材はその下面が、前記液体と接する前記投影光学系の光学部材の射出面とほぼ同一面となるように設けられる。
【請求項９６】
請求項８１〜９５のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液浸部材は、前記エネルギビームの照射領域を囲む環状部材である。
【請求項９７】
請求項８１〜９６のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液浸部材は、前記液体と接する前記投影光学系の光学部材を囲んで設けられる。
【請求項９８】
請求項８１〜９７のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液浸部材は、その内部に前記液体と接する前記投影光学系の光学部材が位置するように設けられる。
【請求項９９】
請求項８１〜９８のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液浸部材はその内部に、前記液体の供給流路と、前記回収口に接続される回収流路と、を有する。
【請求項１００】
請求項８１〜９９のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液浸部材は、前記投影光学系に対して相対的に移動される。
【請求項１０１】
請求項８１〜１００のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液浸部材に対する前記第１、第２テーブルの移動によって、前記液浸領域は、前記投影光学系の下に維持されつつ前記第１、第２テーブルの一方から他方に移動される。
【請求項１０２】
請求項１０１に記載の露光方法において、
前記液浸領域は、前記一方のテーブルから前記他方のテーブルへの移動において、前記第１、第２テーブルの少なくとも一方によって前記投影光学系の下に維持される。
【請求項１０３】
請求項１０２に記載の露光方法において、
前記液浸部材に対する前記第１、第２テーブルの移動の途中において、前記液浸領域は、前記第１、第２テーブルの両方によって前記投影光学系の下に維持される。
【請求項１０４】
請求項８１〜１０３のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記投影光学系の下に前記液浸領域が形成されるように、前記液浸部材によって、前記第１、第２テーブルにそれぞれ載置される基板よりも小さい局所領域内で前記液体が保持される。
【請求項１０５】
請求項８１〜１０４のいずれか一項に記載の露光方法において、
少なくとも前記基板の露光動作において前記液体の供給と回収とが常時行われる。
【請求項１０６】
請求項８１〜１０５のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記載置した基板の一部に前記液浸領域が位置するように移動され、前記載置した基板が前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して露光される。
【請求項１０７】
請求項８１〜１０６のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記基板は、前記露光において前記液浸部材の下面に近接して配置される。
【請求項１０８】
請求項８１〜１０７のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、一部に形成される開口内に前記基板の載置領域が位置するように、前記投影光学系の下に前記液浸領域を維持可能な補助部材が設けられ、前記補助部材の開口内で前記基板が前記載置領域に載置される。
【請求項１０９】
請求項１０８に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記液浸部材に対する前記第１、第２テーブルの移動において、前記補助部材によって前記投影光学系の下に前記液浸領域を維持する。
【請求項１１０】
請求項１０８又は１０９に記載の露光方法において、
前記液浸部材に対する前記第１、第２テーブルの移動によって、前記液浸領域は、前記第１、第２テーブルの、一方の補助部材から他方の補助部材に移動される。
【請求項１１１】
請求項１０８〜１１０のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記補助部材によって、前記載置領域に載置される基板から外れる前記液浸領域の少なくとも一部を保持する。
【請求項１１２】
請求項１０８〜１１１のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記載置領域に載置される基板と前記補助部材との少なくとも一方によって前記投影光学系の下に前記液浸領域を維持する。
【請求項１１３】
請求項１０８〜１１２のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記基板が前記投影光学系から外れる位置に移動される前記第１、第２テーブルではそれぞれ、前記投影光学系と前記補助部材との間に前記液浸領域が維持される。
【請求項１１４】
請求項１０８〜１１３のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記載置領域に載置される基板と前記補助部材との隙間からの前記液体の流出を抑制するように前記補助部材に近接させて前記基板を前記載置領域に載置する。
【請求項１１５】
請求項１１４に記載の露光方法において、
前記基板は、前記補助部材との隙間が３ｍｍ以下となるように前記載置領域に載置される。
【請求項１１６】
請求項１０８〜１１５のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、その表面が前記補助部材の表面とほぼ面一となるように前記基板を前記載置領域に載置する。
【請求項１１７】
請求項１０８〜１１６のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記投影光学系を介して、前記補助部材の、前記開口と異なる開口内に配置される基準部材を用いる計測が行われる。
【請求項１１８】
請求項１１７に記載の露光方法において、
前記基準部材は、前記基板の露光で用いられるマスクのマーク検出で用いられる。
【請求項１１９】
請求項１１７又は１１８に記載の露光方法において、
前記基板のマークを検出するマーク検出系によって前記基準部材の検出が行われる。
【請求項１２０】
請求項１１７〜１１９のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記基準部材はその表面が前記補助部材の表面とほぼ面一となるように設けられる。
【請求項１２１】
請求項１０８〜１２０のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記補助部材が相対移動される。
【請求項１２２】
請求項１０８〜１２１のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、表面が、前記載置領域に載置される基板の表面を含めてほぼ同一面となるように設定される。
【請求項１２３】
請求項８１〜１２３のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルは互いに接近するように相対移動され、前記接近した第１、第２テーブルが前記液浸部材に対して移動される。
【請求項１２４】
請求項１２３に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルは、前記液浸領域を維持する前記一方のテーブルに対して前記他方のテーブルが接近するように相対移動される。
【請求項１２５】
請求項１２３又は１２４に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルは、前記液浸部材に対して前記第１、第２テーブルが移動される所定方向に関して接近するように相対移動される。
【請求項１２６】
請求項１２５に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルは、前記所定方向に関する前記接近のための移動と、前記所定方向と交差する方向に関する位置関係の調整とが行われる。
【請求項１２７】
請求項１２３又は１２４に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルは、前記液浸部材に対して前記第１、第２テーブルが移動される所定方向と交差する方向に関する位置関係が調整されるように相対移動される。
【請求項１２８】
請求項８１〜１２７のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルはその境界が前記液浸領域の下を通るように前記液浸部材に対して移動される。
【請求項１２９】
請求項８１〜１２８のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルは間隙を挟んで配置された状態で前記液浸部材に対して移動される。
【請求項１３０】
請求項８１〜１２９のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルは互いに近接または接触した状態で前記液浸部材に対して移動される。
【請求項１３１】
請求項１３０に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルは、前記投影光学系の下に前記液浸領域が維持されるように近接した状態で前記液浸部材に対して移動される。
【請求項１３２】
請求項１３０又は１３１に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルは、前記液体の流出が防止されるように近接した状態で前記液浸部材に対して移動される。
【請求項１３３】
請求項８１〜１３２のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルはその位置関係が実質的に維持されつつ前記液浸部材に対して移動される。
【請求項１３４】
請求項１３３に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルは、前記液浸部材に対して前記第１、第２テーブルが移動される所定方向に関して実質的にその位置関係が維持される。
【請求項１３５】
請求項８１〜１３４のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と所定方向に関して位置が異なる第２領域との一方から他方に移動され、
前記第１、第２テーブルは、前記液浸部材に対して前記所定方向に移動される。
【請求項１３６】
請求項１３５に記載の露光方法において、
前記第２領域において、前記第１、第２テーブルにそれぞれ載置される基板のマーク検出及び／又は交換が行われる。
【請求項１３７】
請求項８１〜１３６のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記基板は走査露光が行われ、
前記第１、第２テーブルは、前記液浸部材に対して、前記走査露光時に前記基板が移動される所定方向に移動される。
【請求項１３８】
請求項８１〜１３７のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記投影光学系と所定方向に関して位置が異なるマーク検出系によって前記基板のマーク検出が行われ、
前記第１、第２テーブルは、前記液浸部材に対して前記所定方向に移動される。
【請求項１３９】
請求項８１〜１３８のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記投影光学系と所定方向に関して異なる位置で、前記第１、第２テーブルにそれぞれ載置される基板の交換が行われ、
前記第１、第２テーブルは、前記液浸部材に対して前記所定方向に移動される。
【請求項１４０】
請求項８１〜１３９のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１テーブルに載置される基板の露光動作と、前記第２テーブルに載置される基板の露光動作とが交互に行われ、前記液浸部材に対する前記第１、第２テーブルの移動はその露光動作の間に行われる。
【請求項１４１】
請求項８１〜１４０のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルを交互に用いる複数の基板の露光処理シーケンスの実行中、前記液浸領域は、前記第１、第２テーブルの少なくとも一方によって前記投影光学系の下に維持される。
【請求項１４２】
請求項８１〜１４１のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記一方のテーブルに載置される基板の露光に続いて行われる、前記液浸部材に対する前記第１、第２テーブルの移動において、前記一方のテーブルには露光後の基板が載置され、前記他方のテーブルには次に露光が行われる基板が載置される。
【請求項１４３】
請求項１４２に記載の露光方法において、
前記液浸部材に対する前記第１、第２テーブルの移動に先立ち、前記一方のテーブルと前記他方のテーブルとで異なる動作が並行して行われる。
【請求項１４４】
請求項１４２又は１４３に記載の露光方法において、
前記投影光学系から離れて配置されるマーク検出系による前記他方のテーブルに載置される基板のマーク検出に続いて、前記液浸領域を維持する前記一方のテーブルに対して前記他方のテーブルが接近するように相対移動される。
【請求項１４５】
請求項１４４に記載の露光方法において、
前記他方のテーブルに載置される基板のマーク検出は、前記一方のテーブルに載置される基板の露光動作と並行して行われる。
【請求項１４６】
請求項８１〜１４５のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルにそれぞれ載置される基板は、マーク検出系によってマークの検出が行われ、
前記液浸部材に対する前記第１、第２テーブルの移動において、前記一方のテーブルには露光後の基板が載置され、前記他方のテーブルにはマーク検出後の基板が載置される。
【請求項１４７】
請求項８１〜１４６のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液浸部材に対する前記第１、第２テーブルの移動によって前記投影光学系の下から離脱可能となる前記一方のテーブルと、前記一方のテーブルの代わりに前記液浸領域を維持する前記他方のテーブルとで、異なる動作が行われる。
【請求項１４８】
請求項１４７に記載の露光方法において、
前記液浸部材に対する前記第１、第２テーブルの移動に続いて、前記他方のテーブルに載置される基板の露光が開始される。
【請求項１４９】
請求項１４８に記載の露光方法において、
前記他方のテーブルでは、前記基板の露光に先立ち、基準部材の検出が行われる。
【請求項１５０】
請求項８１〜１４９のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液浸部材に対する前記第１、第２テーブルの移動に続いて、前記一方のテーブルは、前記投影光学系の下方から離れて基板交換位置に移動され、前記基板の交換が行われる。
【請求項１５１】
請求項１５０に記載の露光方法において、
前記一方のテーブルに載置される基板の交換動作は、前記他方のテーブルに載置される基板の露光動作と並行して行われる。
【請求項１５２】
請求項８１〜１５１のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と異なる第２領域との一方から他方に移動されるとともに、前記第２領域から第１領域への移動と、前記第１領域から前記第２領域への移動とで異なる経路を辿るように移動される。
【請求項１５３】
請求項８１〜１５２のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と異なる第２領域との一方から他方に移動され、
前記第１テーブルと前記第２テーブルとは同じ経路で前記第２領域から前記第１領域に移動される。
【請求項１５４】
請求項８１〜１５３のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と異なる第２領域との一方から他方に移動され、
前記第１テーブルと前記第２テーブルとは同じ経路で前記第１領域から前記第２領域に移動される。
【請求項１５５】
請求項８１〜１５４のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記基板は、前記液体を介して露光が行われ、かつ前記液体を介すことなくマーク検出が行われる。
【請求項１５６】
請求項８１〜１５５のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記露光においてエンコーダによって位置情報が計測される。
【請求項１５７】
請求項１５６に記載の露光方法において、
前記エンコーダによる計測では、前記第１、第２テーブルの裏面に設けられるスケールが用いられる。
【請求項１５８】
請求項８１〜１５７のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルと異なる第３テーブルに基板を載置し、前記第１、第２及び第３テーブルを用いて前記基板の露光処理シーケンスが実行される。
【請求項１５９】
請求項１５８に記載の露光方法において、
前記第１、第２及び第３テーブルでは異なる動作が並行して実行される。
【請求項１６０】
請求項８１〜１５７のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルと異なる第３テーブルを用いて前記基板の露光動作と異なる動作が実行される。
【請求項１６１】
リソグラフィ工程を含むデバイス製造方法であって、
前記リソグラフィ工程では、請求項１〜８０のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板上にデバイスパターンを転写することを特徴とするデバイス製造方法。
【請求項１６２】
リソグラフィ工程を含むデバイス製造方法であって、
前記リソグラフィ工程では、請求項８１〜１６０のいずれか一項に記載の露光方法を用いて基板上にデバイスパターンを転写することを特徴とするデバイス製造方法。