(57)【要約】      （修正有）【課題】リソースの制限性が小さく、エネルギー消費が低く、環境にやさしく、生産効率が高く、生産コストが低く、金属化率が高く、装置の使用寿命が長く、生産の適用範囲が広い直接還元鉄の生産方法に適用する還元焙焼装置を提供する。【解決手段】還元焙焼装置はダブルチャンバーステッピング還元炉、シングルチャンバーステッピング還元炉及びシングル燃焼室ダウンドラフトタイプの還元炉を含む。ダブルチャンバーステッピング還元炉は、左炉室と、右炉室と、原料積載装置７と、ステッピングユニット５と、スラグ分配装置１０と、原料添加装置９と、加熱バーナー６と、排煙通路４と、原料引出し装置１と、密閉カバーを備えたタンク２と、スラグ排出通路８とを含む。【選択図】図１
0003165876.tif 000002
【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
ダブルチャンバーステッピング還元炉であって、
ゲートが設置された原料導入端及び原料引出し端を備える左炉室と、
ゲートが設置された原料導入端及び原料引出し端を備える右炉室と、
底部にスリットを備え、原料を積載するための原料積載装置と、
原料積載装置が炉室でステッピングするように原料積載装置を持ち上げながら移送するステッピングユニットと、
左炉室及び右炉室の原料導入端に設置されたスラグ分配装置と、
左炉室及び右炉室の原料導入端に設置され、炉室の長さ方向でスラグ分配装置の後方に位置する原料添加装置と、
左炉室及び右炉室に設置された加熱バーナーと、
左炉室及び右炉室の下部に設置されて、原料積載装置の底部に備えたスリットを通じて左炉室及び右炉室に連通する排煙通路と、
左炉室及び右炉室の原料引出し端のゲートの外側に設置された原料引出し装置と、
左炉室及び右炉室の原料引出し端のゲートの外側に設置された密閉カバーを備えたタンクと、
左炉室及び右炉室の原料導入端の下部に設置され、スラグ分配装置及び原料添加装置と上下に対応されるように設置されたスラグ排出通路とを含むことを特徴とする還元焙焼装置。
【請求項２】
前記左炉室と、右炉室は並列配置され、左炉室の原料導入端は右炉室の原料引出し端と整列状態に配置されることを特徴とする請求項１に記載の還元焙焼装置。
【請求項３】
前記原料積載装置の底部にはグレートバーが装着され、原料のぶつかり、高温焼きおよび高温気流の流れに耐えることができることを特徴とする請求項１に記載の還元焙焼装置。
【請求項４】
前記ステッピングユニットのステッピング距離は原料積載装置の長さと同じであることを特徴とする請求項１に記載の還元焙焼装置。
【請求項５】
シングルチャンバーステッピング還元炉であって、
ゲートが設置された原料導入端及び原料引出し端を備える炉室と、
底部にスリットを備え、原料を積載するための原料積載装置と、
原料積載装置が炉室でステッピングするように原料積載装置を持ち上げながら移送させるステッピングユニットと、
炉室の原料導入端に設置されたスラグ分配装置と、
炉室の原料導入端に設置されて炉室の長さ方向でスラグ分配装置の後方に位置する原料添加装置と、
炉室に設置された加熱バーナーと、
炉室の下部に設置され、原料積載装置の底部に備えたスリットを通じて炉室に連通する排煙通路と、
炉室の原料導入端、原料引出し端のゲートの外側に設置された原料引出し装置と、
炉室の原料引出し端のゲートの外側に設置された密閉カバーを備えたタンクと、
炉室の原料導入端の下部に設置され、スラグ分配装置及び原料添加装置と上下に対応されるように設置されたスラグ排出通路とを含むことを特徴とする還元焙焼装置。
【請求項６】
前記原料積載装置の底部にはグレートバーが装着され、原料のぶつかり、高温焼きおよび高温気流の流れに耐えることができることを特徴とする請求項５に記載の還元焙焼装置。
【請求項７】
前記ステッピングユニットのステッピング距離は原料積載装置の長さと同じであることを特徴とする請求項５に記載の還元焙焼装置。 
【請求項８】
シングル燃焼室ダウンドラフトタイプの還元炉であって、
一つのゲートが設置された燃焼室と、
燃焼室に設置された加熱バーナーと、
底部にスリットを備え、原料を積載するための原料積載装置と、
燃焼室の下部に設置され、原料積載装置の底部に形成されたスリットを通じて燃焼室に連通する排煙通路と、
燃焼室のゲートの外側に設置された原料引出し装置および密閉カバーを備えたタンクと、
燃焼室と並列配置したスラグ分配装置および原料添加装置とを含むことを特徴とする還元焙焼装置。
【請求項９】
前記原料積載装置の底部にはグレートバーが装着され、原料のぶつかり、高温の焼きおよび高温気流の流れに耐えることができることを特徴とする請求項８に記載の還元焙焼装置。
【請求項１０】
一つの前記加熱バーナーが設置され、加熱バーナーは異なる時間に点火され、火炎を調節し及び消すことによって、要求される還元温度と還元雰囲気を得ることを特徴とする請求項８に記載の還元焙焼装置。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案は冶金分野に関し、特に還元焙焼（REDUCTION FIRING）装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
コークス製造に適する粘結炭はだんだん枯渇になり、環境保護の取り組みも益々重要視されている。直接還元鉄（DRI：Direct Reduction Iron）を用いて従来の高炉製鉄を代替することは、必然的な発展傾向である。当業者は、直接還元鉄の生産方法について以前から摸索し、相次いでシャフト炉（shaft furnace）、トンネル窯（tunnel kiln）、回転窯、回転炉床炉（rotary hearth furnace）によって直接還元鉄の生産を進めてきた。さらに、焼結機でダウンストリーム（down stream）焙焼方法を用いて、直接還元鉄を生産する方法を提出する当業者もいる。
【０００３】
シャフト炉焙焼は、"瘤の形成（scaffolding）"により、原料の排出が難しく、生産効率に影響を与える問題がある。トンネル窯焙焼は、加熱時間が長く、エネルギー消耗が高い問題がある。回転窯焙焼も加熱時間が長く、"環形成（ring formation）"という故障が容易に発生する。回転炉床炉焙焼は、熱効率が低いためエネルギー消耗が高く、生産の効率が低い問題がある。焼結機で焙焼することは、還元雰囲気を制御しにくいため、還元温度を高めることができない問題がある。従来の直接還元鉄の生産方法のほとんどは、リソース制限性が大きく、エネルギー消費量が高く、生産の効率が低いため、高炉製鉄と競うことができない。
【０００４】
特許文献１は、"コールベースシャフト炉で海綿鉄を還元する方法および装置（Process and apparatus for reducing spongy iron in coal-base shaft furnace）"を公開した。当該方法は、通常のシャフト炉にグリッドプレート（grid plate）を装着することにより、通気性を高めることができ、コールベースの還元を実現することができる。通常のシャフト炉に比べ、当該方法の欠点はより顕著であるが、シャフト炉の主な問題点は、融解した製錬原料が炉壁に付着され、瘤が形成したため、原料の排出が難しくなり、生産の順調な進行を確保することができない。特許文献１の方法は、製錬原料が傾斜したグリッドプレートに沿って下へ滑り込むようにしなければならないが、たとえ製錬原料が溶解されなくても、下への滑り込みは難しいし、さらにグリッドプレートと接する製錬原料は温度が高いため溶解しやすくて、グリッドプレートに接着され、滑り込むことはできなくなる。生産時に、瘤が形成すると、ぜんぜん処理できないため、生産が順調に進むことができない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】中国特許出願公開第１０８０９６１号明細書
【考案の概要】
【考案が解決しようとする課題】
【０００６】
本考案の目的は直接還元鉄の生産方法に適用する還元焙焼装置（REDUCTION FIRING APPARATUS）を提供するのである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本考案で、前記技術的課題を解決するために使用される一つの技術案は、還元焙焼装置はダブルチャンバーステッピング還元炉であって、ゲートが設置された原料導入端及び原料引出し端を備える左炉室と、ゲートが設置された原料導入端及び原料引出し端を備える右炉室と、底部にスリットを備え、原料を積載するための原料積載装置と、原料積載装置が炉室でステッピングするように原料積載装置を持ち上げながら移送するステッピングユニットと、左炉室及び右炉室の原料導入端に設置されたスラグ分配装置と、左炉室及び右炉室の原料導入端に設置され、炉室の長さ方向でスラグ分配装置の後方に位置する原料添加装置と、左炉室及び右炉室に設置された加熱バーナーと、左炉室及び右炉室の下部に設置されて、原料積載装置の底部に備えたスリットを通じて左炉室及び右炉室に連通する排煙通路と、左炉室及び右炉室の原料引出し端のゲートの外側に設置された原料引出し装置と、左炉室及び右炉室の原料引出し端のゲートの外側に設置された密閉カバーを備えたタンクと、左炉室及び右炉室の原料導入端の下部に設置され、スラグ分配装置及び原料添加装置と上下に対応されるように設置されたスラグ排出通路とを含む。
【０００８】
本考案で、前記技術的課題を解決するために使用される他の一つの技術案は、還元焙焼装置はシングルチャンバーステッピング還元炉であって、ゲートが設置された原料導入端及び原料引出し端を備える炉室と、底部にスリットを備え、原料を積載するための原料積載装置と、原料積載装置が炉室でステッピングするように原料積載装置を持ち上げながら移送させるステッピングユニットと、炉室の原料導入端に設置されたスラグ分配装置と、炉室の原料導入端に設置されて炉室の長さ方向でスラグ分配装置の後方に位置する原料添加装置と、炉室に設置された加熱バーナーと、炉室の下部に設置され、原料積載装置の底部に備えたスリットを通じて炉室に連通する排煙通路と、炉室の原料導入端、原料引出し端のゲートの外側に設置された原料引出し装置と、炉室の原料引出し端のゲートの外側に設置された密閉カバーを備えたタンクと、炉室の原料導入端の下部に設置され、スラグ分配装置及び原料添加装置と上下に対応されるように設置されたスラグ排出通路とを含む。
【０００９】
本考案で、前記技術的課題を解決するために使用される他の一つの技術案は、還元焙焼装置はシングル燃焼室ダウンドラフトタイプの還元炉であって、一つのゲートが設置された燃焼室と、燃焼室に設置された加熱バーナーと、底部にスリットを備え、原料を積載するための原料積載装置と、燃焼室の下部に設置され、原料積載装置の底部に形成されたスリットを通じて燃焼室に連通する排煙通路と、燃焼室のゲートの外側に設置された原料引出し装置および密閉カバーを備えたタンクと、燃焼室と並列配置したスラグ分配装置および原料添加装置（図面に示されていない）とを含む。
【考案の効果】
【００１０】
本考案の有益な効果は以下の通りである。すなわち、１）高温の煙が原料層を通過し、熱を放射および伝導の二つの方法で還元されたペレット原料に伝送することを実現し、熱効率を向上することができる。煙が原料層を通過する時に、ペレット原料が還元される過程で生まれた気体を速やかに置換して、還元効率が高く、エネルギー消耗が低い。２）高温の煙はまず原料層を通過して、主な熱を還元されたペレット原料に伝送した後、原料積載装置のグレートバー（grate bar）に到達する。還元されたペレット原料をアンロードした後、原料積載装置はすぐに炉内に移送される。原料積載装置は、恒温状態で動作することで使用寿命を効率的に向上させることができる。３）生産を中断されなく、生産のリズムを変更しない前提で、原料積載装置を容易に交換し、補修することができるため、ダブルチャンバーステッピング還元炉の生産効率が高くなる。４）原料積載装置は、スラグ（slag）によって保護されるため、還元原料が原料積載装置のグレートバーに接着されることを防ぐことができる。したがって、原料をロード及びアンロードすることは、簡単な傾斜の動作に過ぎないので、還元焙焼作業が順調に進行されることを容易に確保することができる。５）還元温度と還元雰囲気を精密に制御することができるため、金属の還元効率が高く、生産の適用範囲が広く、生産コストが低い。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本考案の還元焙焼装置のダブルチャンバーステッピング還元炉（reduction furnace）又はシングルチャンバーステッピング還元炉のC―C縦方向断面図である。
【図２】本考案の還元焙焼装置のダブルチャンバーステッピング還元炉のD―D横方向断面図である。
【図３】本考案の還元焙焼装置のシングル燃焼室ダウンドラフト（Down Draft）タイプの還元炉の断面図である。
【考案を実施するための形態】
【００１２】
以下、本考案の還元焙焼装置について図面と実施例を参照して詳しく説明する。
［実施例１］
図１と図２に示すように、本考案の還元焙焼装置は、ダブルチャンバーステッピング還元炉であって、ゲート（３）が設置された原料導入端及び原料引出し端を備える左炉室（１１）と、ゲート（３）が設置された原料導入端及び原料引出し端を備える右炉室（１２）と、底部にスリットを備え、原料を積載するための原料積載装置（７）と、原料積載装置（７）が炉室でステッピングするように原料積載装置（７）を持ち上げながら移送するステッピングユニット（５）と、左炉室（１１）及び右炉室（１２）の原料導入端に設置されたスラグ分配装置（１０）と、左炉室（１１）及び右炉室（１２）の原料導入端に設置され、炉室の長さ方向でスラグ分配装置（１０）の後方に位置する原料添加装置（９）と、左炉室（１１）及び右炉室（１２）に設置された加熱バーナー（６）と、左炉室（１１）及び右炉室（１２）の下部に設置されて、原料積載装置（７）の底部に備えたスリットを通じて左炉室（１１）及び右炉室（１２）に連通する排煙通路（４）と、左炉室（１１）及び右炉室（１２）の原料引出し端のゲート（３）の外側に設置された原料引出し装置（１）と、左炉室（１１）及び右炉室（１２）の原料引出し端のゲート（３）の外側に設置された密閉カバーを備えたタンク（２）と、左炉室（１１）及び右炉室（１２）の原料導入端の下部に設置され、スラグ分配装置（１０）及び原料添加装置（９）と上下に対応されるように設置されたスラグ排出通路（８）とを含む。
【００１３】
前記左炉室（１１）と、右炉室（１２）は平行または並列配置され、左炉室（１１）の原料導入端は右炉室（１２）の原料引出し端と整列状態に配置される。同様に、右炉室（１２）の原料導入端は左炉室（１１）の原料引出し端と整列状態に配置される。
前記原料積載装置（７）の底部にはグレートバー（grate bar）が装着されるし、複数のグレートバーの間には上下を貫通したスリットを形成し、原料のぶつかり、高温焼きおよび高温気流の流れに耐えることができる。
【００１４】
本考案では、原料積載装置（７）は、左側に固定された遮断壁で構成された左面壁と、右側に固定された遮断壁で構成された右面壁と、前面の支持梁（support beam）及びボルトで該支持梁に接続された移動可能な前面遮断壁で構成された前面壁と、後面の支持梁及びボルトで該支持梁に接続された移動可能な背面遮断壁で構成された後面壁と、上下を貫通するスリットを形成した複数のグレートバーで構成された底部とを含む。また、前記複数のグレートバーの前端は前面の支持梁と移動可能な前面遮断壁の間に設置され、前記グレートバーの後端は後面の支持梁と移動可能な背面遮断壁の間に設置されている。その中で、左面壁及び右面壁と前面及び後面の支持梁は全体的にフレームタイプの支持シートを形成する。その中で、遮断壁、支持梁とグレートバーは、耐高温、耐衝撃性を持つ材料で製造し、例えば、鋼製構造体及び鋼製構造体の外面に形成された耐火材料で構成することができる。
前記ステッピングユニット（５）のステッピング距離（stepping pitch）は原料積載装置（７）の長さと同じである。 
【００１５】
以下、本考案の還元焙焼装置のダブルチャンバーステッピング還元炉の具体的な実施形態について説明する。
図１と図２に示すように、原料引出し装置（１）は、空いている原料積載装置（７）をステッピング炉の左炉室（１１）（或は右炉室（１２））の原料導入端に移送し、ステッピングユニット（５）によって原料積載装置（７）を前方に持ち上げながら移送することができる。原料積載装置（７）がスラグ分配ステーションに移送された場合、スラグ分配装置（１０）によって原料積載装置（７）のグレートバー上に一層のスラグを均等分配する。原料積載装置（７）が原料積載ステーションに移送された場合、原料添加装置（９）は還元されるペレット原料（pellet material）を原料積載装置（７）に満載させる。スラグの配布時および原料積載時に原料積載装置（７）のグレートバーを通じて漏れた原料は、スラグ排出通路（８）内に蓄積され、一定時間が経過した後にスラグ排出通路（８）の端部に設置されたバルブを開放され、スラグ排出通路（８）から漏れた原料を排出する。原料積載装置（７）は、予熱ステーション、加熱ステーション、還元ステーションに徐々に前進しながら加熱バーナー（６）の火炎で原料積載装置（７）内のペレット原料を加熱し、火炎の煙はペレット原料の層と原料積載装置（７）のグレートバーを通過し、ステッピング炉炉室底部に設置された排煙通路（４）によって抽出する。原料積載装置（７）がステッピング炉の原料引出し端のゲート（３）まで進むようになれば原料積載装置（７）内のペレット原料の還元が終了する。ゲート（３）が開放され、原料引出し装置（１）により、原料積載装置（７）および原料積載装置（７）内に積載されたペレット原料をステッピング炉の炉室から取り出す。その後、ゲート（３）が閉鎖され、密閉カバーを備えたタンク（２）の密閉カバーが開放され、原料引出し装置（１）によって原料積載装置（７）内の還元されたペレット原料を密閉カバーを備えたタンク（２）内に注ぎ入れた後、密閉カバーを備えたタンク（２）の密閉カバーが閉鎖される。その後、原料引出し装置（１）は原料積載装置（７）を立て直す。その後、原料引出し装置（１）は水平方向に移動し、空いている原料積載装置（７）をステッピング炉の右炉室（１２）（または左炉室（１１））の原料導入端に移送させる。これにより、原料積載装置（７）は、次の動作サイクルに入る。
【００１６】
［実施例２］
図１に示すように、本考案の還元焙焼装置は、シングルチャンバーステッピング還元炉であることができ、ゲート（３）が設置された原料導入端及び原料引出し端を備える炉室と、底部にスリットを備え、原料を積載するための原料積載装置（７）と、原料積載装置（７）が炉室でステッピングするように原料積載装置（７）を持ち上げながら移送するステッピングユニット（５）と、炉室の原料導入端に設置されたスラグ分配装置（１０）と、炉室の原料導入端に設置され、炉室の長さ方向でスラグ分配装置（１０）の後方に位置する原料添加装置（９）と、炉室に設置された加熱バーナー（６）と、炉室の下部に設置されて、原料積載装置（７）の底部に備えたスリットを通じて炉室に連通する排煙通路（４）と、炉室の原料導入端、原料引出し端のゲート（３）の外側に設置された原料引出し装置（１）と、炉室の原料引出し端のゲート（３）の外側に設置された密閉カバーを備えたタンク（２）と、炉室の原料導入端の下部に設置され、スラグ分配装置（１０）及び原料添加装置（９）と上下に対応されるように設置されたスラグ排出通路（８）とを含む。
【００１７】
前記原料積載装置（７）の底部にはグレートバー（grate bar）が装着されるし、複数のグレートバーの間には上下を貫通したスリットを形成し、原料のぶつかり、高温焼きおよび高温気流の流れに耐えることができる。
前記ステッピングユニット（５）のステッピング距離は原料積載装置（７）の長さと同じである。
【００１８】
以下、本考案の還元焙焼装置のシングルチャンバーステッピング還元炉の具体的な実施形態について説明する。
図１に示すように、原料引出し装置（１）は、空いている原料積載装置（７）をステッピング炉の炉室の原料導入端に移送し、ステッピングユニット（５）によって原料積載装置（７）を前方に持ち上げながら移送することができる。原料積載装置（７）がスラグ分配ステーションに移送された場合、スラグ分配装置（１0）によって原料積載装置（７）のグレートバー上に一層のスラグを均等分配する。原料積載装置（７）が原料積載ステーションに移送された場合、原料添加装置（９）は還元されるペレット原料（pellet material）を原料積載装置（７）に満載させる。スラグの配布時および原料積載時に原料積載装置（７）のグレートバーを通じて漏れた原料は、スラグ排出通路（８）内に蓄積され、一定時間が経過した後にスラグ排出通路（８）の端部に設置されたバルブを開放され、スラグ排出通路（８）から漏れた原料を排出する。原料積載装置（７）は、予熱ステーション、加熱ステーション、還元ステーションに徐々に前進しながら加熱バーナー（６）の火炎で原料積載装置（７）内のペレット原料を加熱し、火炎の煙はペレット原料の層と原料積載装置（７）のグレートバーを通過し、ステッピング炉炉室底部に設置された排煙通路（４）によって抽出する。原料積載装置（７）がステッピング炉の原料引出し端のゲート（３）まで進むようになれば原料積載装置（７）内のペレット原料の還元が終了する。ゲート（３）が開放され、原料引出し装置（１）により、原料積載装置（７）および原料積載装置（７）内に積載されたペレット原料をステッピング炉の炉室から取り出す。その後、ゲート（３）が閉鎖され、密閉カバーを備えたタンク（２）の密閉カバーが開放され、原料引出し装置（１）によって原料積載装置（７）内の還元されたペレット原料を密閉カバーを備えたタンク（２）内に注ぎ入れた後、密閉カバーを備えたタンク（２）の密閉カバーが閉鎖される。その後、原料引出し装置（１）は原料積載装置（７）を立て直す。その後、原料引出し装置（１）は水平方向に移動し、空いている原料積載装置（７）を炉室と並列配置した台車に置いて、台車によって原料積載装置（７）をステッピング炉の炉室の原料導入端のそばに運搬させ、また原料引出し装置（１）によって原料積載装置（７）を再びステッピング炉の炉室の原料導入端に移送させる。これにより、原料積載装置（７）は、次の動作サイクルに入ることになる。
【００１９】
［実施例３］
図３に示すように、本考案の還元焙焼装置は、シングル燃焼室ダウンドラフト（Down Draft）タイプの還元炉でもよくて、一つのゲート（３）が設置された燃焼室（１３）と、燃焼室（１３）に設置された加熱バーナー（６）と、底部にスリットを備え、原料を積載するための原料積載装置（７）と、燃焼室（１３）の下部に設置されて、原料積載装置（７）の底部に形成されたスリットを通じて燃焼室（１３）に連通する排煙通路（４）と、燃焼室（１３）のゲート（３）の外側に設置された原料引出し装置（１）および密閉カバーを備えたタンク（２）と、燃焼室（１３）と並列配置したスラグ分配装置と原料添加装置（図面に示されていない）とを含む。
【００２０】
前記原料積載装置（７）の底部にはグレートバー（grate bar）が装着されるし、グレートバーの間には上下を貫通したスリットが形成されて、原料のぶつかり、高温の焼きおよび高温気流の流れに耐えることができる。
【００２１】
シングル燃焼室ダウンドラフト（Down Draft）タイプの還元炉は、一つの前記加熱バーナー（６）が設置され、加熱バーナー（６）は異なる時間に点火され、火炎を調節し、及び消すことによって、要求される還元温度と還元雰囲気を得ることができる。
【００２２】
以下、本考案の還元焙焼装置のシングル燃焼室ダウンドラフト（Down Draft）タイプの還元炉の具体的な実施形態について説明する。
図３に示すように、原料引出し装置（１）は空いている原料積載装置（７）を還元炉の外部に設置されたスラグ分配装置の下部に水平方向移動して、原料積載装置（７）のグレートバー上に一層のスラグを均等分配した後、原料引出し装置（１）は還元炉の外部に設置された原料添加装置の下部に水平方向移動し、還元されるペレット原料（pellet material）を原料積載装置（７）に満載し、原料引出し装置（1）は、燃焼室（１３）のゲート（３）前に水平方向に移動する。その後、ゲート（３）を開放し、原料引出し装置（1）は、原料積載装置（７）を燃焼室（１３）の内部に移送させ、その後、ゲート（３）を閉鎖して、加熱バーナー（６）を点火させて火炎を調整し、加熱バーナー（６）の火炎で原料積載装置（７）内のペレット原料に対して加熱する。その時、火炎の煙はペレット原料の層と原料積載装置（７）のグレートバーを通過し、燃焼室（１３）の底部に設置された排煙通路（４）によって抽出する。その後、加熱バーナー（６）の火炎を消し、原料積載装置（７）内のペレット原料が燃焼室（１３）内で還元されるようになる。還元の要求に達した後、ゲート（３）を開放して、原料引出し装置（1）によって原料積載装置（７）が燃焼室（１３）から取り出す。その後、密閉カバーを備えたタンク（２）の密閉カバーを開放して、原料引き出装置（1）によって原料積載装置（７）内の還元されたペレット原料を密閉カバーを備えたタンク（２）内に注ぎ入れる。その後、密閉カバーを備えたタンク（２）の密閉カバーを閉鎖する。その後、原料引出し装置（1）は、原料積載装置（７）を立て直す。その後、原料引出し装置（１）は水平方向に移動して、空いている原料積載装置（７）を還元炉の外部に設置されたスラグ分配装置に移送させて、次の動作サイクルに入ることになる。
【００２３】
本考案に使用される原料は、ペレット原料ばかりでなく、顆粒状とブロック原料でもよい。当業者に対して、前記原料は、還元焙焼工程で還元を行うことができるすべての金属酸化物と還元剤だけでなく、接着剤も含まれていることを理解しなければならない。例えば、前記ペレット鉱物は、通常の鉄鉱粉、バナジウム・チタン磁鉄鉱（vanadium titano-magnetite ore）と酸化ニッケル（nickel oxide）などの金属酸化物と還元剤、接着剤として構成することができる。つまり、すべての還元焙焼工程で還元できる金属酸化物の還元温度および還元時間は一般的な冶金の熱力学や動力学の理論を通じて得ることができるから、当業者は、本考案の装置によって、本考案の一部の技術パラメーター（例えば、還元焙焼装置の還元温度と還元時間を設定することを通じて、及び燃料が加熱バーナーで燃焼されている状況を制御することを通じて）のみを変更すると、前記金属酸化物を還元することができる。
【００２４】
本考案は、実施例と図面を組み合わせて説明された。請求項の思想と範囲を超えない場合は、本考案についての修正または変更できることを、当業者に理解されるであろう。
【符号の説明】
【００２５】
１：原料引出し装置
２：密閉カバーを備えたタンク
３：ゲート（furnace gate）
４：排煙通路
５：ステッピングユニット
６：加熱バーナー（burner）
７：原料積載装置
８：スラグ（slag）排出通路
９：原料添加装置
１０：スラグ分配装置 
１１：左炉室
１２：右炉室
１３：燃焼室
【図１】
0003165876.tif 000003
【図２】
0003165876.tif 000004
【図３】
0003165876.tif 000005