【事件の表示】
　平成１０年特許願第１５３６７３号「可動体の停止方法および停止機構」拒絶査定不服審判事件〔平成１１年１１月２６日出願公開、特開平１１−３２７６５１〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１．手続の経緯
　本願は、平成１０年５月２０日の出願であって、平成２０年９月２日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、同年１０月１０日に拒絶査定に対する審判請求がなされ、平成２２年３月２９日付けで当審から拒絶理由通知がなされ、同年５月２８日に意見書とともに手続補正書（以下、「当審手続補正書」という。）が提出されたものである。
　
第２．本願発明
　本願の請求項１，２に係る発明は、当審手続補正書によって補正された特許請求の範囲の請求項１，２に記載された事項により特定されるとおりのものと認めるところ、同記載は以下のとおりである。
「【請求項１】　塗布液を塗布する被塗布基板を保持し、基板着脱位置と塗布位置とを停止位置として回動移動する基板保持部材を具備する塗布装置において、駆動軸に固定されて回転移動する可動体である前記基板保持部材を、停止位置に設けたストッパーに当接して停止させる方法であって、
　前記可動体の回転位置を検出する位置検出器の出力信号に基づいて学習した前記可動体の停止位置を、駆動源に印加する動力を制御する制御装置が記憶する工程と、前記可動体の減速開始位置と前記駆動源の動力開放位置とを前記停止位置から前記制御装置が逆算する工程と、前記可動体を前記減速開始位置まで高速に移動する工程と、前記減速開始位置から前記動力開放位置まで前記可動体の移動速度を減速する工程と、前記動力開放位置から前記停止位置まで、前記可動体に作用する重力と慣性を利用して加速し前記可動体を移動する工程と、停止位置に設けたストッパーに当接して停止させる工程と、を含むことを特徴とする可動体の停止方法。
【請求項２】　塗布液を塗布する被塗布基板を保持し、基板着脱位置と塗布位置とを停止位置として回動移動する基板保持部材を具備する塗布装置において、駆動軸に固定されて回転移動する可動体である前記基板保持部材を、停止位置に設けたストッパーに当接して停止させる機構であって、
　前記可動体を回転移動する駆動源と、前記可動体の回転位置を検出する位置検出器と、前記位置検出器の出力信号に基づいて、駆動源に印加する動力を制御する制御装置とで構成され、前記位置検出器の出力信号に基づいて学習した前記可動体の停止位置を前記制御装置が記憶し、前記停止位置から前記制御装置が逆算した前記可動体の減速開始位置において前記可動体の移動速度を減速した後、前記停止位置から前記制御装置が逆算した前記停止位置の直前の動力開放位置において、前記可動体を自由運動状態にし、前記可動体に作用する重力と慣性を利用して加速し前記停止位置に設けたストッパーに前記可動体を当接し停止させることを特徴とする可動体の停止機構。」（以下、請求項１に記載された発明を「本願発明」という。）
　
第３．引用例
１．引用例１
　当審の拒絶の理由に引用された特開平９−２６７０６６号公報（以下、「引用例１」という。）には、「塗布方法および塗布装置」に関して、図面とともに、以下のとおり記載されている。
　
ア．【特許請求の範囲】
「【請求項１】　上方に向って開口するとともに水平方向に延びる帯状のスリットを有する塗布ヘッドに塗布液を供給しながら被塗布基板を前記塗布ヘッドの上方を通って斜め上方向に移動させ、前記塗布ヘッドと前記被塗布基板との間に塗布液を前記スリットから吐出させてビードを形成し、前記被塗布基板の移動にともなってビードから前記被塗布基板の塗布面に塗布液を付着させることによって前記被塗布基板への塗布液の塗布を行うビード塗布工程と、
　前記ビード塗布工程において前記被塗布基板上に塗布された塗布液を遠心力によって分散させるスピン塗布工程と、
　を有することを特徴とする塗布方法。
（中略）
【請求項４】　上方に向って開口するとともに水平方向に延びる帯状のスリットを有する塗布ヘッドと、該塗布ヘッドを被塗布基板の下方を通って斜め下方向に移動させる移動手段とを備え、前記塗布ヘッドに塗布液を供給し、前記移動手段に保持された前記被塗布基板と前記塗布ヘッドとの間に前記スリットから吐出される塗布液によってビードを形成し、前記塗布ヘッドと被塗布基板との相対移動にともなってビードから被塗布基板の塗布面に塗布液を付着させることによって前記被塗布基板への塗布液の塗布を行うビード塗布装置と、
　前記ビード塗布装置において塗布液を塗布された被塗布基板を固定して高速回転することにより、前記被塗布基板上の塗布液を引き延ばすスピン塗布装置と、
　を有することを特徴とする塗布装置。
【請求項５】　前記ビード塗布装置は、被塗布基板を吸引によって保持する基板ホルダを備え、該基板ホルダは平坦な保持平面を有するとともに、被塗布基板の周縁形状に対応した所定のパターンの溝部を前記保持平面に備え、かつ、前記保持平面の前記溝部で囲まれた領域の所定箇所に被塗布基板を吸引保持するための複数の吸引孔を有することを特徴とする請求項３または請求項４に記載の塗布装置。
（中略）
【請求項７】　前記基板ホルダは、水平方向に延びる軸を中心に回動可能であり、かつ、前記塗布ヘッドと前記移動手段を前記軸を中心とした円軌道に沿って移動させるための機構を備えることを特徴とする請求項５または請求項６に記載の塗布装置。
【請求項８】　前記ビード塗布装置は、前記基板ホルダを回動開始位置から回動完了位置の近傍まで回動するための駆動部と、回動完了位置の近傍から前記基板ホルダが自重により回動完了位置まで低速度で落下して回動する機構を備えることを特徴とする請求項７に記載の塗布装置。」
　
イ．段落【０００１】
「【発明の属する技術分野】本発明は、大型ガラス基板等の枚葉タイプの被塗布基板等に塗布液を均一、かつ、効率良く塗布するための塗布方法および塗布装置に関する。」
　
ウ．段落【００２５】
「また、本発明の塗布装置は、前記基板ホルダが水平方向に延びる軸を中心に回動可能であり、かつ、前記塗布ヘッドと前記移動手段を前記軸を中心とした円軌道に沿って移動させるための機構を備えるような構成とし、前記ビード塗布装置は、前記基板ホルダを回動開始位置から回動完了位置の近傍まで回動するための駆動部と、回動完了位置の近傍から前記基板ホルダが自重により回動完了位置まで低速度で落下して回動する機構を備えるような構成とし、前記基板ホルダは、被塗布基板への塗布位置と被塗布基板の受け渡し位置との間を回動可能とされ、被塗布基板の受け渡し位置における前記基板ホルダの保持平面は水平となるような構成とした。」
　
エ．段落【００８１】〜【００８３】
「図２１は、基板ホルダ２３の他の実施形態を示す平面図である。図２１において、基板ホルダ２３は、４か所に切欠き部５７が形成されている点を除いて、上述の図１６にしめされた基板ホルダ２３と同様の構成を有するものである。この切欠き部５７は、塗布が完了した被塗布基板Ｓを基板ホルダ２３から取り出す操作、および、新たな被塗布基板Ｓを基板ホルダ２３に載置する操作をより簡便にしてスループットを向上させることを目的としたものである。このような切欠き部５７の形状、形成位置、形成個数は後述するような搬送手段３に対応して適宜設定することができる。
　図２２は、上記のような切欠き部を備えた基板ホルダを使用したビード塗布装置２の実施形態の例を示す構成図である。図２２において、ビード塗布装置２は、装置本体２１の可動支持フレーム２１Ａにスライド方向において下流側の端部が低くなるように傾斜した状態で取り付けられた直線状のガイドフレーム２２と、このガイドフレーム２２にスライド自在に取り付けられた塗布ヘッド２４と、可動フレーム２１Ａに回動可能に取り付けられた基板ホルダ２３とを備えている。
　基板ホルダ２３は、水平方向に延びる軸Ｐを中心に駆動部２９により矢印ａ方向と矢印ｂ方向に回動されるようになっており、図示していない吸引装置に吸引路５６が接続されている。そして、被塗布基板Ｓを吸引保持した基板ホルダ２３は、ストッパー２８ａにより位置規制された状態の塗布位置と、ストッパー２８ｂにより位置規制された状態の基板受け渡し位置（図示例では、一点鎖線で示されている）との間を回動可能とされている。」
　
オ．段落【００９１】〜【００９３】
「また、図２２に示されるようなビード塗布装置２は、基板ホルダ２３を回動開始位置から回動完了位置の近傍まで駆動部２９により回動させて一旦停止し、回動完了位置の近傍から基板ホルダ２３が自重により回動完了位置まで低速度で落下して回動するような機構を備えるものでもよい。図２５は、このような基板ホルダ２３の作動を説明するための図である。図２５において、ストッパー２８ｂにより規制される基板受け渡し位置（回動開始位置）にある基板ホルダ２３を矢印ａ方向に回動してストッパー２８ａにより規制される塗布位置（回動完了位置）まで回動する場合、駆動部２９（図示せず）によりＡ位置まで基板ホルダ２３を比較的高速度で回動させて一旦停止し、もしくは、十分減速させて、その後は基板ホルダ２３が自重によりＡ位置から塗布位置（回動完了位置）まで低速度で落下する。一方、ストッパー２８ａにより規制される塗布位置（回動開始位置）にある基板ホルダ２３を矢印ｂ方向に回動してストッパー２８ｂにより規制される基板受け渡し位置（回動完了位置）まで回動する場合、駆動部２９（図示せず）によりＢ位置まで基板ホルダ２３を比較的高速度で回動させて一旦停止し、もしくは、十分減速させて、その後は基板ホルダ２３が自重によりＢ位置から基板受け渡し位置（回動完了位置）まで低速度で落下する。
　このような構成とすることにより、ストッパー２８ａ，２８ｂに基板ホルダ２３が激突して大きな機械的負荷を発生することが防止できる。また、ストッパー２８ａ，２８ｂの近傍に摺動シャフトを備えたショック吸収部材を装着して、比較的高速度で回動してきた基板ホルダ２３を減速させてからストッパー２８ａ，２８ｂに当接させることも可能であるが、この場合、ショック吸収部材の摺動部からの発塵のおそれがあり、塗布装置周囲の無塵化の要請に反することになり好ましくない。
　上述のように基板ホルダ２３が自重により低速落下するための機構としては、電磁クラッチを用いた機構、駆動部２９の電源を落とすことにより駆動部２９のモータをフリーにさせる機構等を挙げることができる。また、基板ホルダ２３を一旦停止させるＡ位置とストッパー２８ａにより規制される塗布位置（回動完了位置）の距離、および、Ｂ位置とストッパー２８ｂにより規制される基板受け渡し位置（回動完了位置）との距離は、制御系のエンコーダ分解能の許容範囲で自由に設定でき、例えば０．０９〜５．０ｃｍ程度の範囲で設定することができる。」
　
　以上によれば、引用例１には、
「被塗布基板の塗布面に塗布液を付着させることによって前記被塗布基板への塗布液の塗布を行うビード塗布装置は、被塗布基板を吸引によって保持する基板ホルダを備え、前記基板ホルダは、水平方向に延びる軸を中心に回動可能であり、前記基板ホルダを回動開始位置から回動完了位置の近傍まで回動するための駆動部と、回動完了位置の近傍から前記基板ホルダが自重により回動完了位置まで低速度で落下して回動する機構を備え、被塗布基板を吸引保持した基板ホルダは、ストッパー２８ａにより位置規制された状態の塗布位置と、ストッパー２８ｂにより位置規制された状態の基板受け渡し位置との間を回動可能とされるビード塗布装置によって、
　ストッパー２８ｂにより規制される基板受け渡し位置（回動開始位置）にある基板ホルダを矢印ａ方向に回動してストッパー２８ａにより規制される塗布位置（回動完了位置）まで回動する場合、駆動部によりＡ位置まで基板ホルダを比較的高速度で回動させてから十分減速させて、その後は基板ホルダが自重によりＡ位置から塗布位置（回動完了位置）まで低速度で落下する、塗布方法。」
　との発明（以下、「引用例発明１」という。）が開示されていると認められる。
　
第４．対比・判断
　本願発明と引用例発明１とを比較すると、被塗布基板に塗布液を塗布する塗布装置に関するものである点で、両者は共通し、後者の「基板ホルダ」は、前者の「可動体である基板保持部材」に相当している。
　さらに、後者の、「ストッパー２８ｂにより規制される基板受け渡し位置（回動開始位置）にある基板ホルダを矢印ａ方向に回動してストッパー２８ａにより規制される塗布位置（回動完了位置）まで回動する場合、駆動部によりＡ位置まで基板ホルダを比較的高速度で回動させてから十分減速」させる点のうち、「Ａ位置まで基板ホルダを比較的高速度で回動」させる点は、前者の「前記可動体を前記減速開始位置まで高速に移動する工程」に相当し、後者は、基板ホルダはＡ位置から「自重により」、「塗布位置（回動完了位置）まで低速度で落下」するのであるから、Ａ位置において駆動力を解放しているのは明らかであり、また、比較的高速度での回動後に、「十分減速」させるのであるから、十分減速するＡ位置の前に何らかの減速開始点があることも、自明な事項である。してみれば、その減速開始点からＡ位置までの後者の動作は、前者の「前記減速開始位置から前記動力開放位置まで前記可動体の移動速度を減速する工程」に相当するものといえる。
　そして、後者の、「その後は基板ホルダが自重によりＡ位置から塗布位置（回動完了位置）まで低速度で落下」についてみると、後者はＡ位置において十分減速しており、その後、自重で落下する際には、駆動力によらず、重力により低速度で落下しているのであるから、重力加速度により加速しているのは明らかであり、これは、前者の「前記動力開放位置から前記停止位置まで、前記可動体に作用する重力と慣性を利用して加速し前記可動体を移動する工程」に、相当する。
　さらに、後者の、「ストッパー２８ａにより規制される塗布位置（回動完了位置）」は、前者の「停止位置に設けたストッパーに当接して停止させる工程」に相当する。
　以上のとおりであるから、両者の一致点は以下のとおりである。
　
＜一致点＞
「塗布液を塗布する被塗布基板を保持し、基板着脱位置と塗布位置とを停止位置として回動移動する基板保持部材を具備する塗布装置において、
駆動軸に固定されて回転移動する可動体である前記基板保持部材を、停止位置に設けたストッパーに当接して停止させる方法であって、
前記可動体を前記減速開始位置まで高速に移動する工程と、前記減速開始位置から前記動力開放位置まで前記可動体の移動速度を減速する工程と、前記動力開放位置から前記停止位置まで、前記可動体に作用する重力と慣性を利用して加速し前記可動体を移動する工程と、停止位置に設けたストッパーに当接して停止させる工程と、を含むことを特徴とする可動体の停止方法。」
　
　そして、以下の点で相違している。
　
＜相違点１＞
　本願発明は、「前記可動体の回転位置を検出する位置検出器の出力信号に基づいて学習した前記可動体の停止位置を、駆動源に印加する動力を制御する制御装置が記憶する工程」を含むのに対して、引用例発明１はそうではない点。
　
＜相違点２＞
　本願発明は、「前記可動体の減速開始位置と前記駆動源の動力開放位置とを前記停止位置から前記制御装置が逆算する工程」を含むのに対して、引用例発明１はそうではない点。
　
＜相違点１＞について検討する。
　
　当審の拒絶の理由に引用された特開昭５７−１４９０９号公報（以下、「周知例２」という。）には、「プレーバック式ロボットの教示方法およびその装置」に関して、図面とともに、以下のとおり記載されている。
　
「教示する各軸の合成運動を含む運動を行う腕に教示腕を取付け、その教示腕に教示目標位置方向に力を加えた時の教示腕の変位に応じた信号を検出し、再生時にその検出信号により所定の駆動源を駆動させてロボットを教示目標位置に誘導することを特徴とするプレーバック式ロボットの教示方法。」（特許請求の範囲）
　
　同じく、当審の拒絶の理由に引用された特開昭５９−１４４９１０号公報（以下、「周知例３」という。）には、「ティーチングサポート方法及び装置」に関して、図面とともに、以下のとおり記載されている。
　
「ロボットの各軸を手動で制御しロボットの制御対象箇所を所定のティーチングポイントの近傍に移動させる手動移動工程と、各ティーチングポイントに対応して選択されたサーチパターンにもとづき前記ロボットの各軸をシーケンシャルに制御し、前記ロボットの制御対象箇所を前記ティーチングポイントに一致させるように移動制御する自動ティーチング工程と、前記ロボットの制御対象箇所が前記ティーチングポイントに一致すると該ティーチングポイントを自動記憶する工程とを具えるティーチングサポート方法。」（特許請求の範囲）
　
　同じく、当審の拒絶の理由に引用された実願昭５１−１６０５１５号（実開昭５２−９１９７６号）のマイクロフィルム（以下、「周知例４」という。）には、「ロボット計算機制御装置」に関して、図面とともに、以下のとおり記載されている。
　
「現在位置情報発生部を有するロボット駆動部本体と、ロボット制御用電子回路を含む電子計算機と、ロボット各軸誘導用スイッチ、速度停止精度等の補助情報設定用スイッチ、設定用トリガースイッチとを備えたロボット誘導用教示ボックスと、動作情報設定用スイッチ、記憶番地の変更分情報設定用スイッチ、記憶番地情報設定用スイッチ、モード切換え用スイッチ、設定用トリガースイッチとを備えた操作卓とからなり、ロボットの作業位置情報を予め電子計算機に記憶する場合には、所定の作業位置情報を記憶するための記憶番地情報を操作卓上の記憶番地情報設定用スイッチで設定し、更に操作卓上の変更分情報設定用スイッチを零に設定し、操作卓上の設定用トリガースイッチを操作することによって記憶番地を決定し、次に操作卓上のモード切換え用スイッチを教示モードに選択し、教示ボックス上のロボット各軸誘導用スイッチを用いて、ロボット駆動部本体を所望位置まで誘導し、しかる後、ロボット駆動部本体から発せられる現在位置情報、操作卓上の動作情報設定用スイッチで設定された動作情報、教示ボックス上の補助情報設定用スイッチで設定された補助情報を、教示ボックス上の設定用トリガースイッチを操作することによって、前記記憶番地に記憶するようにしたロボット計算機制御装置。」（実用新案登録請求の範囲）
　
　以上によれば、可動体の位置制御において、
「可動体の位置を検出する位置検出器の出力信号に基づいて学習した前記可動体の停止位置を、駆動源に印加する動力を制御する制御装置が記憶する」
　との事項は周知事項と認められる。
　
　してみれば、相違点１に係る構成の違いは、引用例発明１に上記周知事項を適用することにより、当業者が容易に想到し得たものである。
　
＜相違点２＞について検討する。
　
　同じく、当審の拒絶の理由に引用された特開平４−１７２２８８号公報（以下、「周知例５」という。）には、「位置決め装置」に関して、以下の事項が記載されている。
　
「動作指令と、基準位置と、絶対基準位置と基準位置との差分とに基づいて被駆動体の目標位置を演算する演算手段と、被駆動体の実際位置が前記演算手段により演算された目標位置と一致するよう駆動手段を制御する制御手段を有する位置決め装置。」
　
　同じく、当審の拒絶の理由に引用された特開平５−１９８６３号公報（以下、「周知例６」という。）には、「ロボットの制御方法」に関して、以下の事項が記載されている。
　
「可動部の動作の始点と終点との間の各位置における目標速度を演算し、この各位置の目標速度から、可動部の動作の始点と終点との間の各時間における目標速度を演算し、前記各位置の目標速度と前記各時間の目標速度とにより、各時間における目標位置を演算するロボットの制御方法。」
　
　同じく、当審の拒絶の理由に引用された特開昭６１−１１７６０８号公報（以下、「周知例７」という。）には、「位置決め制御装置」に関して、以下の事項が記載されている。
　
「可動体を移動する際、先ず該可動体を相対的に高速で目標位置近傍まで移動するとともに所定の減速開始位置から目標位置近傍までの間で所定の終速度まで減速する第１の制御モードで動作し、次いで該可動体が終速度に達した後相対的に高い位置決め精度で上記目標位置に位置決めする第２の制御モードに切換わるサーボ制御系を具備する位置決め制御装置において、
　上記終速度に達した位置から上記第２の制御モードに切換わる位置までの距離を計測する手段と、該計測値を基に上記可動体を次に移動する際の上記距離が一定となるように上記減速開始位置を補正する手段とを設けたことを特徴とする位置決め制御装置。」
　
　以上によれば、
「可動体の減速開始位置と駆動源の動力開放位置とを停止位置から制御装置が逆算する」
　との事項は周知事項と認められる。
　
　してみれば、相違点２に係る構成の違いは、引用例発明１に上記周知事項を適用したにすぎないものであり、当業者が容易に想到し得たものである。
　
　作用ないし効果について
　本願発明の作用ないし効果も引用例発明１、及び、各周知事項から当業者が予想できる範囲のものにすぎない。
　
第５．むすび
　
　以上のとおり、本願発明は、引用例発明１、及び、周知事項に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができず、本願は、請求項２に係る発明について検討するまでもなく、拒絶されるべきものである。
　よって、結論のとおり決定する。