【手続補正書】
【提出日】平成24年2月7日(2012.2.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
感光性を有する基板を保持して第１方向へ移動する第１ステージ機構と、
パターンを有するマスクを保持し、前記第１ステージ機構の前記第１方向への移動に同期して、該第１方向と交差する第２方向へ移動する第２ステージ機構と、
前記パターンからの光を受光し、前記マスク上の前記第２方向と前記基板上の前記第１方向とが光学的に対応するように前記パターンの投影像を前記基板上に形成する投影光学系と、を備えることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記第１方向と前記第２方向とは直交していることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記投影光学系は、前記パターンの第１投影像を第１結像領域に形成する第１結像系と、前記パターンの第２投影像を前記第１結像領域から少なくとも前記第２方向に間隔を隔てた第２結像領域に形成する第２結像系と、を有することを特徴とする請求項１または２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記投影光学系は、前記光による前記パターン上の照明領域と光学的に共役な第１結像領域を前記基板上に形成する第１結像系と、前記照明領域と光学的に共役な第２結像領域を前記第１結像領域から少なくとも前記第２方向に間隔を隔てて前記基板上に形成する第２結像系と、を有することを特徴とする請求項１または２に記載の露光装置。
【請求項５】
前記第１結像領域と前記第２結像領域とは前記第２方向に整列して設けられることを特徴とする請求項３または４に記載の露光装置。
【請求項６】
前記投影光学系は、前記パターンのうち前記第２方向に沿って設けられるラインパターンからの前記光に基づいて、前記第１方向に沿ったラインパターン像を前記基板上に形成することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項７】
前記投影光学系は、少なくとも一部が前記第１結像系と前記第２結像系とに共通に設けられて前記パターンの第１中間像および第２中間像を形成する中間結像光学系と、前記第１中間像からの前記光に基づいて前記第１投影像を形成する第１結像光学系と、前記第２中間像からの前記光に基づいて前記第２投影像を形成する第２結像光学系と、を有することを特徴とする請求項３に記載の露光装置。
【請求項８】
前記投影光学系は、少なくとも一部が前記第１結像系と前記第２結像系とに共通に設けられて前記照明領域の第１中間像および第２中間像を形成する中間結像光学系と、前記第１中間像の形成位置と前記第１結像領域とを光学的に共役にする第１結像光学系と、前記第２中間像の形成位置と前記第２結像領域とを光学的に共役にする第２結像光学系と、を有することを特徴とする請求項４に記載の露光装置。
【請求項９】
前記中間結像光学系は、前記パターンからの前記光が入射する正レンズ群と、前記正レンズ群からの前記光を該正レンズ群の光軸を挟んで互いに異なる方向に進む第１の光と第２の光とに分割し且つ前記第１の光および前記第２の光を前記正レンズ群に向けて反射する分割反射部と、を有することを特徴とする請求項７または８に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記分割反射部は、前記正レンズ群の焦点位置またはその近傍に配置され、前記正レンズ群から入射した前記光を第１の向きに反射して前記第１の光を生成する複数の第１反射部および第２の向きに反射して前記第２の光を生成する複数の第２反射部を有することを特徴とする請求項９に記載の露光装置。
【請求項１１】
前記第１反射部と前記第２反射部とは、前記第２方向に沿って交互に設けられていることを特徴とする請求項１０に記載の露光装置。
【請求項１２】
前記複数の第１反射部および前記複数の第２反射部は、二次元的に配列されて個別に姿勢変化可能な複数のミラー要素を有することを特徴とする請求項１０または１１に記載の露光装置。
【請求項１３】
前記分割反射部の位置と光学的に共役な位置に、前記複数の第１反射部および前記複数の第２反射部の配置に対応させて複数の光源を形成し、前記パターンに前記光を照射する照明光学系を備えることを特徴とする請求項１０〜１２のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１４】
前記分割反射部は、前記正レンズ群からの前記光を前記第１の光と前記第２の光とに分割する分割部と、前記正レンズ群の焦点位置またはその近傍に配置され、前記分割部からの前記光を反射して該分割部を介して前記正レンズ群に再入射させる反射部と、を有することを特徴とする請求項９に記載の露光装置。
【請求項１５】
前記分割部は、偏光ビームスプリッターを有し、
前記反射部は、前記偏光ビームスプリッターを透過して生成された前記第１の光を前記偏光ビームスプリッターに向けて反射する第１反射部材と、前記偏光ビームスプリッターを反射して生成された前記第２の光を前記偏光ビームスプリッターに向けて反射する第２反射部材と、を有することを特徴とする請求項１４に記載の露光装置。
【請求項１６】
前記投影光学系は、前記第１の光を前記第１方向、前記第２方向、および前記中間結像光学系の光軸に平行な方向へ順次偏向する第１群の偏向部材と、前記第２の光を前記第１方向、前記第２方向、および前記中間結像光学系の光軸に平行な方向へ順次偏向する第２群の偏向部材と、を有することを特徴とする請求項９〜１５のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１７】
前記投影光学系は、前記中間結像光学系と前記第１結像光学系との間の光路中に配置された第１群の偏向部材と、前記中間結像光学系と前記第２結像光学系との間の光路中に配置された第２群の偏向部材と、を有することを特徴とする請求項９〜１５のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項１８】
前記第１群の偏向部材は、前記第１の光を前記第２方向へ偏向する第１偏向部材と、該第１偏向部材からの前記第１の光を前記第１方向へ偏向する第２偏向部材と、該第２偏向部材からの前記第１の光を前記中間結像光学系の光軸に平行な方向へ偏向する第３偏向部材と、を有することを特徴とする請求項１６または１７に記載の露光装置。
【請求項１９】
前記第１群の偏向部材は、前記第１の光を前記第１方向へ偏向する第１偏向部材と、該第１偏向部材からの前記第１の光を前記第２方向へ偏向する第２偏向部材と、該第２偏向部材からの前記第１の光を前記中間結像光学系の光軸に平行な方向へ偏向する第３偏向部材と、を有することを特徴とする請求項１６または１７に記載の露光装置。
【請求項２０】
前記第２群の偏向部材は、前記第２の光を前記第２方向へ偏向する第４偏向部材と、該第４偏向部材からの前記第２の光を前記第１方向へ偏向する第５偏向部材と、該第５偏向部材からの前記第２の光を前記中間結像光学系の光軸に平行な方向へ偏向する第６偏向部材と、を有することを特徴とする請求項１６〜１９のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項２１】
前記第２群の偏向部材は、前記第２の光を前記第１方向へ偏向する第４偏向部材と、該第４偏向部材からの前記第２の光を前記第２方向へ偏向する第５偏向部材と、該第５偏向部材からの前記第２の光を前記中間結像光学系の光軸に平行な方向へ偏向する第６偏向部材と、を有することを特徴とする請求項１６〜１９のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項２２】
前記第２群の偏向部材は、前記第１偏向部材による前記第１の光の偏向方向と逆向きに前記第２の光を偏向する第４偏向部材と、前記第２偏向部材による前記第１の光の偏向方向と逆向きに前記第４偏向部材からの前記第２の光を偏向する第５偏向部材と、前記第３偏向部材による前記第１の光の偏向方向と同じ向きに前記第５偏向部材からの前記第２の光を偏向する第６偏向部材と、を有することを特徴とする請求項１８または１９に記載の露光装置。
【請求項２３】
前記第１偏向部材は、前記中間結像光学系と前記第１中間像の形成位置との間の光路中に配置され、前記第２偏向部材は、前記第１中間像の形成位置と前記第１結像光学系との間の光路中に配置され、前記第３偏向部材は、前記第２偏向部材と前記第１結像光学系との間の光路中に配置されることを特徴とする請求項１８または１９に記載の露光装置。
【請求項２４】
前記第４偏向部材は、前記中間結像光学系と前記第２中間像の形成位置との間の光路中に配置され、前記第５偏向部材は、前記第２中間像の形成位置と前記第２結像光学系との間の光路中に配置され、前記第６偏向部材は、前記第５偏向部材と前記第２結像光学系との間の光路中に配置されることを特徴とする請求項２０〜２２のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項２５】
感光性を有する基板を保持して第１方向へ移動させる工程と、
パターンを有するマスクを保持し、前記基板の前記第１方向への移動に同期して、該第１方向と交差する第２方向へ移動させる工程と、
前記パターンからの光を受光し、前記マスク上の前記第２方向と前記基板上の前記第１方向とが光学的に対応するように前記パターンの投影像を前記基板上に形成する工程と、を含むことを特徴とする露光方法。
【請求項２６】
前記第１方向と前記第２方向とは直交していることを特徴とする請求項２５に記載の露光方法。
【請求項２７】
前記投影像を形成する工程は、前記パターンのうち前記第２方向に沿って設けられるラインパターンからの前記光に基づいて、前記第１方向に沿ったラインパターン像を前記基板上に形成することを特徴とする請求項２５または２６に記載の露光方法。
【請求項２８】
請求項１〜２４のいずれか１項に記載の露光装置を用いて、前記パターンを前記基板に転写する工程と、
前記パターンが転写された前記基板を現像し、前記パターンに対応する形状の転写パターン層を形成する工程と、
前記転写パターン層を介して前記基板を加工する工程と、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
【請求項２９】
マスク上の長方形の照明領域内に存在するマスクパターンの像を、感光性基板の所定領域に投影露光する露光装置であって、
前記マスク上の照明領域を光源からの光で照明する照明系と、
前記マスク上の照明領域内から発生する結像光束を入射すると共に、該結像光束によって前記光源の像が作られる瞳面を形成する第１レンズ群と、
該瞳面において、前記結像光束を互いに異なる角度で反射する第１結像光束と第２結像光束とに分割して前記第１レンズ群に戻す反射型光分割部材と、
前記第１レンズ群と前記マスクとの間で、前記第１結像光束と第２結像光束を、前記マスクの照明領域から発生する結像光束の進行方向と交差する方向に偏向させると共に、前記感光性基板上の異なる領域に向かうように偏向させる光偏向部材と、
該光偏向部材からの前記第１結像光束を入射して、前記マスクパターンの像を前記感光性基板上の第１領域に投影する第１の投影光学系と、
前記光偏向部材からの前記第２結像光束を入射して、前記マスクパターンの像を前記感光性基板上の前記第１領域とは異なる第２領域に投影する第２の投影光学系、とを備えた露光装置。
【請求項３０】
前記反射型光分割部材は、前記第１レンズ群の焦点位置またはその近傍に配置され、前記第１レンズ群から入射した前記結像光束を第１の向きに反射して前記第１結像光束を生成する複数の第１反射部および第２の向きに反射して前記第２結像光束を生成する複数の第２反射部を有する請求項２９に記載の露光装置。
【請求項３１】
前記第１反射部と前記第２反射部とは、前記交差する方向に沿って交互に設けられている請求項３０に記載の露光装置。
【請求項３２】
前記複数の第１反射部および前記複数の第２反射部は、二次元的に配列されて個別に姿勢変化可能な複数のミラー要素を有する請求項３０または３１に記載の露光装置。
【請求項３３】
前記マスク上の長方形の照明領域は、前記第１レンズ群による円形の入射側視野内の中心に配置され、前記マスクと前記第１レンズ群との間において、前記第１結像光束と第２結像光束とが、前記マスク上の照明領域内から発生して前記第１レンズ群に入射する結像光束を挟んで前記照明領域の短手方向に分離するように、前記反射型光分割部材の第１反射部と第２反射部の各角度が設定されている請求項３０乃至３２のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項３４】
前記反射型光分割部材は、前記第１レンズ群からの前記結像光束を前記第１結像光束と前記第２結像光束とに分割する分割部と、前記第１レンズ群の焦点位置またはその近傍に配置され、前記分割部からの前記第１結像光束および前記第２結像光束を反射して該分割部を介して前記第１レンズ群に再入射させる反射部と、を有する請求項２９に記載の露光装置。
【請求項３５】
前記分割部は、偏光ビームスプリッターを有し、
前記反射部は、前記偏光ビームスプリッターを透過して生成された前記第１結像光束を前記偏光ビームスプリッターに向けて反射する第１反射部材と、前記偏光ビームスプリッターを反射して生成された前記第２結像光束を前記偏光ビームスプリッターに向けて反射する第２反射部材と、を有する請求項３４に記載の露光装置。
【請求項３６】
前記マスク上の長方形の照明領域は、前記第１レンズ群による円形の入射側視野内の中心に配置され、前記マスクと前記第１レンズ群との間において、前記第１結像光束と第２結像光束とが、前記マスク上の照明領域内から発生して前記第１レンズ群に入射する結像光束を挟んで前記照明領域の短手方向に分離するように、前記反射部の第１反射部材と第２反射部材の各角度が設定されている請求項３５に記載の露光装置。
【請求項３７】
前記反射型光分割部材は、前記第１レンズ群からの前記結像光束を第１の向きに反射して前記第１結像光束を生成し且つ第２の向きに反射して前記第２結像光束を生成する回折光学面を有する請求項２９に記載の露光装置。
【請求項３８】
前記長方形の照明領域の長手方向は、前記第１領域および前記第２領域の長手方向と交差している請求項２９乃至３７のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項３９】
前記照明領域の長手方向は、前記第１領域および前記第２領域の長手方向と直交している請求項３８に記載の露光装置。
【請求項４０】
前記第１の投影光学系および前記第２の投影光学系は、拡大倍率を有する請求項２９乃至３９のいずれか１項に記載の露光装置。