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【手続補正書】
【提出日】平成24年3月12日(2012.3.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に第１の電極を形成し、該第１の電極の上に、該第１の電極へ通じる開口部が設けられた絶縁層を形成し、該絶縁層の上に犠牲層を形成し、該犠牲層の上に、第２の電極を備える振動膜を形成し、外部から前記犠牲層に通じる開口をエッチング液の入口として設け、前記犠牲層をエッチングしてキャビティを形成し、前記エッチング液の入口としての開口を封止する容量型機械電気変換素子の製造方法であって、
前記開口部と前記犠牲層と前記開口を介して、前記第１の電極と、外部に設けた対向電極との間で通電する電解エッチングを行なって前記エッチングを実行することを特徴とする容量型機械電気変換素子の製造方法。
【請求項２】
前記開口を前記振動膜に形成することを特徴とする請求項１に記載の容量型機械電気変換素子の製造方法。
【請求項３】
前記振動膜の開口を前記キャビティとなる前記犠牲層の一方の端部に対して設け、前記絶縁層の開口部を前記キャビティとなる前記犠牲層の他端部に対して設けることを特徴とする請求項２に記載の容量型機械電気変換素子の製造方法。
【請求項４】
前記振動膜の開口と前記絶縁層の開口部の一方を前記キャビティとなる前記犠牲層の中央部に対して設け、前記振動膜の開口と前記絶縁層の開口部の他方を前記キャビティとなる前記犠牲層の周辺部に対して設けることを特徴とする請求項２に記載の容量型機械電気変換素子の製造方法。
【請求項５】
前記キャビティは、第１のキャビティと、該第１のキャビティと接続口を介して通じる第２のキャビティとを含み、前記第１のキャビティ又は第２のキャビティの少なくとも一方となる前記犠牲層は、前記接続口からエッチング液を導入してエッチングを行うことを特徴とする請求項１又は２に記載の容量型機械電気変換素子の製造方法。
【請求項６】
基板に第１の電極を形成し、該第１の電極の上に絶縁層を形成し、該絶縁層の上に犠牲層を形成し、該犠牲層の上に振動膜を形成し、該振動膜に、エッチング液の入口としての開口を含む複数の開口を設け、該振動膜に第２の電極を設け、前記犠牲層をエッチングしてキャビティを形成し、前記エッチング液の入口としての開口を封止する容量型機械電気変換素子の製造方法であって、
前記振動膜に設けられた前記第２の電極へ通じる開口と前記犠牲層と前記エッチング液の入口としての開口を介して、前記第２の電極と、外部に設けた対向電極との間で通電する電解エッチングを行なって前記エッチングを実行することを特徴とする容量型機械電気変換素子の製造方法。
【請求項７】
前記振動膜に設けられたエッチング液の入口としての開口を前記キャビティとなる前記犠牲層の一方の端部に対して設け、前記振動膜に設けられた第２の電極へ通じる開口を前記キャビティとなる前記犠牲層の他端部に対して設けることを特徴とする請求項６に記載の容量型機械電気変換素子の製造方法。
【請求項８】
前記振動膜に設けられた前記エッチング液の入口としての開口と前記第２の電極へ通じる開口の一方を前記キャビティとなる前記犠牲層の中央部に対して設け、前記振動膜に設けられた前記エッチング液の入口としての開口と前記第２の電極へ通じる開口の他方を前記キャビティとなる前記犠牲層の周辺部に対して設けることを特徴とする請求項６に記載の容量型機械電気変換素子の製造方法。
【請求項９】
前記基板は半導体基板又はガラス基板であることを特徴とする請求項１から８のいずれか１項に記載の容量型機械電気変換素子の製造方法。
【請求項１０】
基板と、該基板に形成された第１の電極と、該基板上に配設された支持部によって該第１の電極と間隔を保って支持されて該第１の電極との間にキャビティを形成した振動膜と、該振動膜に配設された第２の電極を含む容量型機械電気変換素子であって、
前記第１の電極と前記第２の電極の少なくとも一方は絶縁層により覆われ、
前記振動膜に、前記キャビティとなる前記犠牲層に通じる開口として設けられてその後に前記犠牲層がエッチングされた後に封止された封止部が設けられ、
前記絶縁層に、前記第１の電極又は第２の電極へ通じる開口が形成されていることを特徴とする容量型機械電気変換素子。
【請求項１１】
基板と、該基板に形成された第１の電極と、該基板上に配設された支持部によって該第１の電極と間隔を保って支持されて該第１の電極との間にキャビティを形成した振動膜と、該振動膜に配設された第２の電極を有する素子部分を複数個含んで構成された容量型機械電気変換素子であって、
前記第１の電極と前記第２の電極の少なくとも一方は絶縁層により覆われ、
前記素子部分のうちの第１の素子部分の前記振動膜に、前記キャビティとなる前記犠牲層に通じる開口として設けられてその後に前記犠牲層がエッチングされた後に封止された封止部が設けられ、
前記第１の素子部分とは別の第２の素子部分の前記絶縁層に、前記第１の電極又は第２の電極へ通じる開口が形成され、
前記第１の素子部分のキャビティと前記第２の素子部分のキャビティとは、素子部分間に設けた接続口を介して通じていることを特徴とする容量型機械電気変換素子。
【請求項１２】
前記振動膜は前記絶縁層を兼ねることを特徴とする請求項１０又は１１に記載の容量型機械電気変換素子。
【請求項１３】
前記基板は半導体基板又はガラス基板であることを特徴とする請求項１０から１２のいずれか１項に記載の容量型機械電気変換素子。
【請求項１４】
請求項１１に記載の容量型機械電気変換素子の製造方法であって、
前記絶縁層に設けられた前記第１の電極又は第２の電極へ通じる開口と、前記第１の素子部分のキャビティと前記第２の素子部分のキャビティと前記接続口に形成された犠牲層と、前記キャビティとなる前記犠牲層に通じる開口であってエッチング液の入口としての開口と、を介して、前記第１の電極又は第２の電極と、外部に設けた対向電極との間で通電する電解エッチングを行なって、前記犠牲層をエッチングして前記第１の素子部分のキャビティと前記第２の素子部分のキャビティを形成することを特徴とする容量型機械電気変換素子の製造方法。
【請求項１５】
基板に第１の電極を形成する工程、前記第１の電極の上に絶縁層を形成する工程、前記絶縁層の上に犠牲層を形成する工程、前記犠牲層の上に振動膜を形成する工程、前記振動膜の上に、前記犠牲層と少なくとも一部が電気的接触を保持する様に第２の電極を形成する工程、外部から前記基板と前記第１の電極と前記絶縁層を貫通して前記犠牲層に通じるエッチング開口部を形成する工程、更に前記エッチング開口部を電解エッチング液に浸しながら  前記第２の電極を電解エッチング用の一方の電極として、外部に設けた前記電解エッチング液に接している他方の電極との間で通電し、前記犠牲層を電解エッチングすることで前記犠牲層のあった部分を除去してキャビティを形成する工程を含むことを特徴とする容量型機械電気変換素子の製造方法。
【請求項１６】
前記第２の電極と前記犠牲層との間に開口を有する振動膜を形成し、該開口を通じて前記第２の電極と前記犠牲層が電気的に導通することを特徴とする請求項１５に記載の容量型機械電気変換素子の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年4月4日(2012.4.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
不凍タンパク質を含有することを特徴とする米飯用品質改良剤。
【請求項２】
品質改良が、米が有する異臭、ヌカ臭、米の炊飯後の保存臭、米の輸送に使用される包装材臭、及び／または食感を改善することである請求項１記載の品質改良剤。
【請求項３】
不凍タンパク質が植物、魚、昆虫または微生物由来であることを特徴とする請求項１または２に記載の品質改良剤。
【請求項４】
植物が、アブラナ科、セリ科、ユリ科、キク科に属する植物である請求項１〜３のいずれかに記載の品質改良剤。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の品質改良剤を含む米飯類。
【請求項６】
品質改良剤の含有割合が、０．０００００５％〜１．０％である請求項５に記載の米飯類。
【手続補正書】
【提出日】平成24年5月30日(2012.5.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シール装置（５０）であって、該シール装置（５０）の片側に配置された水素雰囲気（３０）を、該シール装置（５０）の反対側に配置されたキャビティ（２４）から分離するように構成された非接触シール（５４）を含む前記シール装置（５０）を有する水素冷却発電機（１０）を修正する方法であって、
アルミニウム本体（９６）から突出し、その先端（１０４）が前記水素冷却発電機（１０）のロータ（１２）に係合する複数の非金属剛毛（９４）からなる接触シール（５６）を前記シール装置（５０）に連結するステップを含む、前記水素冷却発電機（１０）を修正する方法。
【請求項２】
シール装置（５０）であって、該シール装置（５０）の片側に配置された水素雰囲気（３０）を、該シール装置（５０）の反対側に配置されたキャビティ（２４）から分離するように構成された非接触シール（５４）を含む前記シール装置（５０）を有する水素冷却発電機（１０）を修正する方法であって、
前記非接触シール（５４）の少なくとも一部分を取り除くステップと、
アルミニウム本体（９６）と前記アルミニウム本体（９６）から突出する複数の非金属剛毛（９４）とからなる置換シール装置を形成するステップと、
前記アルミニウム本体（９６）を前記非接触シール（５４）に連結することによって、前記キャビティ（２４）から前記水素雰囲気（３０）への１つまたは複数の混入物の流れすなわち拡散を防止するために、前記剛毛（９４）の先端（１０４）がロータ（１２）と接触するように前記非接触シール（５４）の前記取り除いた部分を置換するステップとを含む、前記水素冷却発電機（１０）を修正する方法。
【請求項３】
初期シール装置（５０）であって、該初期シール装置（５０）の片側に配置された水素雰囲気（３０）を、該初期シール装置（５０）の反対側に配置されたキャビティ（２４）から分離するように構成されたラビリンス歯シールを含む前記初期シール装置（５０）を有する水素冷却発電機（１０）を修正する方法であって、
前記水素冷却発電機（１０）から前記初期シール装置（５０）を取り除くステップと、
アルミニウム本体（９６）と前記アルミニウム本体（９６）から突出する複数の非金属剛毛（９４）とからなる置換シール装置（５６）を形成するステップと、
前記キャビティ（２４）から前記水素雰囲気（３０）への１つまたは複数の混入物の流れすなわち拡散を防止するために、前記剛毛（９４）の先端（１０４）が前記水素冷却発電機（１０）のロータ（１２）と接触するように前記置換シール装置（５６）を前記水素冷却発電機（１０）に挿入するステップとを含む、前記水素冷却発電機（１０）を修正する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年7月24日(2012.7.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
鉄系スクラップ、鉄含有ダストおよび／または鉄含有スラッジの塊成化物の１種以上を主たる鉄源とし、炉頂部から鉄源と炭材を装入し、炉下部に設けられた複数の羽口から熱風を吹き込み、炭材の燃焼熱で鉄源を溶解することにより溶銑を製造する竪型溶解炉において、
少なくとも一部の羽口内に、酸素噴射管と燃料ガス噴射管を設置するとともに、当該羽口の先端内径をｄとした場合、前記酸素噴射管から炉内に向けて噴射される酸素と前記燃料ガス噴射管から炉内に向けて噴射される燃料ガスとが、羽口先端から炉中心方向における少なくとも距離ｄ以内の領域（但し、羽口内部の領域を含む）で接触するように構成したことを特徴とする竪型溶解炉。
【請求項２】
羽口数が４〜１２本であることを特徴とする請求項１に記載の竪型溶解炉。
【請求項３】
羽口位置での炉内径が２〜４ｍであることを特徴とする請求項１または２に記載の竪型溶解炉。
【請求項４】
酸素噴射管と燃料ガス噴射管は、その各先端が羽口先端から突出しないように設置され、酸素噴射管から炉内に向けて噴射される酸素と燃料ガス噴射管から炉内に向けて噴射される燃料ガスが接触する位置は、羽口先端から羽口内方に距離２ｄ未満の範囲であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の竪型溶解炉。
【請求項５】
酸素噴射管と燃料ガス噴射管を２重管状に設け、該２重管の外管を酸素噴射管とし、内管を燃料ガス噴射管とすることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の竪型溶解炉。
【請求項６】
酸素噴射管と燃料ガス噴射管を２重管状に設け、該２重管の外管を燃料ガス噴射管とし、内管を酸素噴射管とすることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の竪型溶解炉。
【請求項７】
酸素噴射管のノズル部がラバール状または先細状であることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の竪型溶解炉。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれかに記載の竪型溶解炉を用いた溶銑製造方法であって、
鉄源として、鉄系スクラップ、鉄含有ダストおよび／または鉄含有スラッジの塊成化物の１種以上を炉に装入するとともに、
酸素噴射管から酸素を、燃料ガス噴射管から燃料ガスを、それぞれ炉内に向けて噴射することを特徴とする溶銑製造方法。
【請求項９】
燃料ガス噴射管から噴射する燃料ガスが、天然ガス、プロパンガス、製鉄プロセスガス、液体燃料気化ガスの１種または２種以上を主成分とすることを特徴とする請求項８に記載の溶銑製造方法。
【請求項１０】
酸素噴射管から、ノズル出口流速が超音速の酸素ジェットを噴射することを特徴とする請求項８または９に記載の溶銑製造方法。
【請求項１１】
炉に装入する炭材の調和平均粒径ｄｐが、炉内径Ｄに対してＤ／ｄｐ≧３０を満足することを特徴とする請求項８〜１０のいずれかに記載の溶銑製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
上記課題を解決するための本発明は、以下を要旨とするものである。
［1］  鉄系スクラップ、鉄含有ダストおよび／または鉄含有スラッジの塊成化物の１種以上を主たる鉄源とし、炉頂部から鉄源と炭材を装入し、炉下部に設けられた複数の羽口から熱風を吹き込み、炭材の燃焼熱で鉄源を溶解することにより溶銑を製造する竪型溶解炉において、少なくとも一部の羽口内に、酸素噴射管と燃料ガス噴射管を設置するとともに、当該羽口の先端内径をｄとした場合、前記酸素噴射管から炉内に向けて噴射される酸素と前記燃料ガス噴射管から炉内に向けて噴射される燃料ガスとが、羽口先端から炉中心方向における少なくとも距離ｄ以内の領域（但し、羽口内部の領域を含む）で接触するように構成したことを特徴とする竪型溶解炉。
［2］上記［1］の竪型溶解炉において、羽口数が４〜１２本であることを特徴とする竪型溶解炉。
［3］上記［1］又は［2］の竪型溶解炉において、羽口位置での炉内径が２〜４ｍであることを特徴とする竪型溶解炉。
［4］上記［1］〜［3］のいずれかの竪型溶解炉において、酸素噴射管と燃料ガス噴射管は、その各先端が羽口先端から突出しないように設置され、酸素噴射管から炉内に向けて噴射される酸素と燃料ガス噴射管から炉内に向けて噴射される燃料ガスが接触する位置は、羽口先端から羽口内方に距離２ｄ未満の範囲であることを特徴とする竪型溶解炉。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
［5］上記［1］〜［4］のいずれかの竪型溶解炉において、酸素噴射管と燃料ガス噴射管を２重管状に設け、該２重管の外管を酸素噴射管とし、内管を燃料ガス噴射管とすることを特徴とする竪型溶解炉。
［6］上記［1］〜［4］のいずれかの竪型溶解炉において、酸素噴射管と燃料ガス噴射管を２重管状に設け、該２重管の外管を燃料ガス噴射管とし、内管を酸素噴射管とすることを特徴とする竪型溶解炉。
［7］上記［1］〜［6］のいずれかの竪型溶解炉において、酸素噴射管のノズル部がラバール状または先細状であることを特徴とする竪型溶解炉。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
［8］上記［1］〜［7］のいずれかの竪型溶解炉を用いた溶銑製造方法であって、鉄源として、鉄系スクラップ、鉄含有ダストおよび／または鉄含有スラッジの塊成化物の１種以上を炉に装入するとともに、酸素噴射管から酸素を、燃料ガス噴射管から燃料ガスを、それぞれ炉内に向けて噴射することを特徴とする溶銑製造方法。
［9］上記［8］の溶銑製造方法において、燃料ガス噴射管から噴射する燃料ガスが、天然ガス、プロパンガス、製鉄プロセスガス、液体燃料気化ガスの１種または２種以上を主成分とすることを特徴とする溶銑製造方法。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
［10］上記［8］または［9］の溶銑製造方法において、酸素噴射管から、ノズル出口流速が超音速の酸素ジェットを噴射することを特徴とする溶銑製造方法。
［11］上記［8］〜［10］のいずれかの溶銑製造方法において、炉に装入する炭材の調和平均粒径ｄｐが、炉内径Ｄに対してＤ／ｄｐ≧３０を満足することを特徴とする溶銑製造方法。
ここで、本発明において酸素噴射管から噴射される酸素と燃料ガス噴射管から噴射される燃料ガスとが「接触する」とは、酸素噴射管および燃料ガス噴射管の噴射口（ノズル）から噴出する各々のガスが、噴射方向中心に対して片側１０°（両側２０°）の角度で拡がるガス拡散領域を形成した際に、酸素と燃料ガスのガス拡散領域どうしが一部でも重なり合う状態を指す。したがって、酸素噴射管の噴射口と燃料ガス噴射管の噴射口とが隣接していれば、実質的にそれら噴射口（ノズル先）の位置が、ガスどうしの「接触する」位置ということになる。
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月22日(2012.6.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
環状のフランジ部を有し、かつ回転輪に対して一体回転可能に設けられる支持部材と、
前記フランジ部の一側面に接着され、かつ周方向に所定間隔で配列された多数の磁極を有するとともにその磁極の変化が磁気センサによって検出される環状の永久磁石と、
前記フランジ部に対する所定の接着位置に前記永久磁石を保持するための環状の保持部材と、を備えており、
前記保持部材が、前記回転輪に一体回転可能に嵌合する筒状の嵌合部と、この嵌合部から径方向外方に突出し、前記磁気センサの磁気検出範囲よりも径方向内側において前記永久磁石の軸方向及び径方向の移動を規制する規制部とを有し、
前記保持部材の規制部に周方向に複数の切り欠きが形成され、
前記永久磁石に、前記切り欠きに噛み合う突部が周方向に複数形成されていることを特徴とする着磁パルサリング。
【請求項２】
前記支持部材が、前記フランジ部の径方向内端から軸方向に延びる円筒部を有しており、
前記保持部材の嵌合部が、前記円筒部の内周面に嵌合されている請求項１に記載の着磁パルサリング。
【請求項３】
前記保持部材と前記永久磁石との間に、接着剤を充填可能な径方向の隙間が形成されている請求項１又は２に記載の着磁パルサリング。
【請求項４】
固定輪及び回転輪と、
これらの間に転動自在に配置された転動体と、
前記回転輪に一体回転可能に固定された請求項１〜４のいずれかに記載の着磁パルサリングと、
前記着磁パルサリングの磁極の変化を検出することによって前記回転輪の回転状態を検出する磁気センサと、を備えていることを特徴とするセンサ付き転がり軸受装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の着磁パルサリングは、環状のフランジ部を有し、かつ回転輪に対して一体回転可能に設けられる支持部材と、前記フランジ部の一側面に接着され、かつ周方向に所定間隔で配列された多数の磁極を有するとともにその磁極の変化が磁気センサによって検出される環状の永久磁石と、前記フランジ部に対する所定の接着位置に前記永久磁石を保持するための環状の保持部材と、を備えており、前記保持部材が、前記回転輪に一体回転可能に嵌合する筒状の嵌合部と、この嵌合部から径方向外方に延び、前記磁気センサの磁気検出範囲よりも径方向内側において前記永久磁石の軸方向及び径方向の移動を規制する規制部とを有し、前記保持部材の規制部に周方向に複数の切り欠きが形成され、前記永久磁石に、前記切り欠きに噛み合う突部が周方向に複数形成されていることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
前記保持部材の規制部には、周方向に複数の切り欠きが形成され、前記永久磁石には、前記切り欠きに噛み合う突部が周方向に複数形成されているので、切り欠きと突部とを噛み合わせることによって永久磁石が周方向に位置ずれてしまうことを防止することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成23年12月28日(2011.12.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のＬＥＤが直線状に実装された基板と、
前記基板を内部に組み込み、機器の外郭を形成するパネルと、
前記ＬＥＤの光を表示する複数の表示窓を持ち、前記パネル上に貼り付けられる表示シートと、
前記ＬＥＤの光を前記表示窓に導く柱状の導光部が一体に連結されていて、前記パネルの内側に固定された導光板と、を備え、
前記パネルの内側に、前記パネルと一体に形成され、隣接する前記導光部の隙間に前記ＬＥＤからの発光を遮断する凸部を備えることを特徴とする電子機器のＬＥＤ表示構造。
【請求項２】
前記導光板は、前記基板と前記パネルの間に挟みこみ、前記基板と前記パネルと共にネジ止めして一体構造とすることを特徴とする請求項１記載の電子機器のＬＥＤ表示構造。
【請求項３】
請求項１または請求項２記載のＬＥＤ表示構造を持つ電子機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
上記問題を解決する為、本発明は、次のように構成したのである。
請求項１に記載の発明は、複数のＬＥＤが直線状に実装された基板と、前記基板を内部に組み込み、機器の外郭を形成するパネルと、前記ＬＥＤの光を表示する複数の表示窓を持ち、前記パネル上に貼り付けられる表示シートと、前記ＬＥＤの光を前記表示窓に導く柱状の導光部が一体に連結されていて、前記パネルの内側に固定された導光板と、を備え、前記パネルの内側に、前記パネルと一体に形成され、隣接する前記導光部の隙間に前記ＬＥＤからの発光を遮断する凸部を備えることを特徴とするものである。
また、請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の電子機器のＬＥＤ表示構造において、前記導光板は、前記基板と前記パネルの間に挟みこみ、前記基板と前記パネルと共にネジ止めして一体構造とすることを特徴とするものである。
【手続補正書】
【提出日】平成24年5月31日(2012.5.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体サンプルの分析のための分析装置において、
前記装置は、基材を備えており、
前記基材は少なくとも部分的に、前記基材の表面に対して実質的に垂直な突出部を有し、これら突出部は、前記液体サンプルの横向きの毛管流動経路が達成されるような高さ（Ｈ１）、直径（Ｄ１）、および中心から中心までの距離（ｘ１，ｙ１）を有しており、
これにより、前記基材は、前記基材の表面に対して実質的に垂直な突出部を備えた、少なくとも１つの基材ゾーンを備えており、これら突出部は、前記基材上の前記突出部と毛管接触状態にある蓋がない状態で前記液体サンプルの横向きの毛管流動が達成されるような高さ（Ｈ２）、直径（Ｄ２）、および中心から中心までの距離（ｘ２，ｙ２）を有しており、少なくとも１つの物質が、前記少なくとも１つの基材ゾーン中の前記突出部の間に少なくとも部分的に適用され、前記高さ（Ｈ１、Ｈ２）、直径（Ｄ１、Ｄ２）、および中心から中心までの距離（ｘ１、ｘ２，ｙ１、ｙ２）は、前記少なくとも１つの物質が、前記基材ゾーンを通って流動する液体の流れに溶解されるように構成されており、
前記液体サンプルの前記横向きの毛管流動は、前記基材上の前記突出部と毛管接触状態にある蓋がない状態で達成され、
前記分析装置の前記横向きの毛管流動経路は、
ａ）前記基材ゾーンを取り囲んでいる、全く突出部を備えていない領域であって、１５〜１００μｍの幅である、領域、および、
ｂ）基材ゾーンであって、前記周囲の突出部が前記サンプル液体に対して、前記基材ゾーンより低い毛管力を発揮するように、前記突出部の高さ（Ｈ）、直径（Ｄ）、および中心から中心までの距離（ｘ，ｙ）のうちの少なくとも１つが異なっている領域により取り囲まれている、基材ゾーン、
のうちの少なくとも１つを含む、ことを特徴とする、分析装置。
【請求項２】
請求項１に記載の分析装置において、
前記基材ゾーン中の前記突出部は、前記基材ゾーンが、周囲とは異なる外観を有するように、異なる高さ（Ｈ２）、直径（Ｄ２）、または中心から中心までの距離（ｘ２，ｙ２）を有している、分析装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の分析装置において、
前記基材は下記の順序どおり、流体接続状態で、少なくとも１つのサンプル添加ゾーン、少なくとも１つの接続ゾーン、および少なくとも１つの受容ゾーンをさらに備え、前記接続ゾーンは、少なくとも１つの反応ゾーンを備え、前記少なくとも１つの基材ゾーンは、前記サンプル添加ゾーンと前記反応ゾーンとの間にある、分析装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の分析装置において、
全く突出部を備えていない領域が、前記反応ゾーンを取り囲んでいる、分析装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の分析装置において、
前記少なくとも１つの物質は、前記少なくとも１つの基材ゾーン中の前記突出部の間の嵩に適用され、乾燥した状態の前記物質が、前記突出部と本質的に同じ高さ（Ｈ２）までの嵩を満たすようになっている、分析装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の分析装置において、
前記少なくとも１つの物質は、前記少なくとも１つの基材ゾーン中の前記突出部の間の嵩に適用され、乾燥した状態の前記物質が、前記少なくとも１つの物質の上部に液体流動が本質的に起きないようなレベルまでの嵩を満たすようになっている、分析装置。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の分析装置において、
少なくとも１つの追加のゾーンをさらに備えており、
各追加のゾーンは、前記基材の表面に対して実質的に垂直な突出部を備え、各突出部は、高さ（Ｈｎ）、直径（Ｄｎ）、および中心から中心までの距離（ｘｎ，ｙｎ）を有し、物質が、前記少なくとも１つの追加のゾーンのうちの少なくとも１つに適用される、分析装置。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の分析装置において、
前記少なくとも１つの基材ゾーンは、三角形、四角形、矩形、平行四辺形、菱形、台形、四辺形、多角形、円形、長円形、半円形、半長円形、半多角形、および円切片からなる群より選択される形状を有している、分析装置。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の分析装置において、
ケーシングをさらに備えている、分析装置。
【請求項１０】
サンプルの分析のための方法において、
ａ．基材上の少なくとも１つの点に液体サンプルを加えるステップと、
ｂ．前記基材上で少なくとも１つの測定を実施するステップと、
を含み、
請求項１〜９のいずれか１項に記載の分析装置が使用され、前記液体の１０ｗｔ％未満が、適用された前記物質の上部を流動することを特徴とする、方法。
【請求項１１】
請求項１０に記載の方法において、
前記液体の１ｗｔ％未満が、適用された前記物質の上部を流動する、方法。
【請求項１２】
請求項１０に記載の方法において、
適用された前記物質の上部を液体が流動しない、方法。
【請求項１３】
請求項１０〜１２のいずれか１項に記載の方法において、
前記基材がまず、溶解された物質を本質的に含まないサンプル液体により湿らせられ、次に、溶解された物質を含む液体サンプルに接触されるようになる、方法。
【請求項１４】
請求項１０〜１３のいずれか１項に記載の方法において、
前記基材は、液体サンプルを受容する容量を有する受容ゾーンを備え、９５ｗｔ％を超える適用された前記物質は、前記液体サンプルのいずれかの部分が前記受容ゾーンに到達されるまで、溶解されない、方法。
【請求項１５】
請求項１０〜１４のいずれか１項に記載の方法において、
前記少なくとも１つのゾーンがまず、液体サンプルに接触し、前記ゾーン中の適用された物質の少なくとも一部が溶解されると、前記液体サンプルが、他の適用された物質を含む他のゾーンに接触する、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年8月17日(2012.8.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
固定部材と、
この固定部材に収納されると共に、収納静止位置から第一方向及びこれと反対の第二方向のいずれの方向へも引き出し自在な可動部材と、
前記第一方向から前記収納静止位置に戻される可動部材と当該収納静止位置の近傍において係合し、前記収納静止位置に向けて可動部材を付勢する一方、前記可動部材が収納静止位置を通過して第二方向へ移動する際には当該可動部材との係合状態を解除する第一引込み手段と、を備えたことを特徴とする双方向案内ユニット。
【請求項２】
前記第一引込み手段又は第二引込み手段は、
前記固定部材に設けられると共に、前記収納静止位置に向けて付勢された保持ピンを有し、当該付勢力に抗して前記保持ピンを前記収納静止位置から離れた待機位置に係止するピン誘導部材と、
前記可動部材に設けられると共に、前記ピン誘導部材と重なるにつれて前記保持ピンをピン誘導部材の待機位置から離脱させ、離脱後の保持ピンに係合する一方、前記可動部材が収納静止位置を通過した際に前記保持ピンと分離するカム部材と、を備えたことを特徴とする請求項１記載の双方向案内ユニット。
【請求項３】
前記カム部材は、前記保持ピンの先端を受け入れる案内溝を備え、
かかる案内溝は、前記可動部材の収納静止位置へ向けた移動に伴って前記待機位置に設定された保持ピンを受け入れる導入部と、受け入れた保持ピンを前記待機位置から離脱させる作用部と、この作用部を通過した保持ピンを係止するピン留置部とを備え、更に、
前記カム部材は、前記ピン留置部と連続すると共に前記可動部材が収納静止位置を通過する際に前記保持ピンをカム部材から離脱させるピン抜け溝を備えていることを特徴とする請求項２記載の双方向案内ユニット。
【請求項４】
前記第二方向から収納静止位置に戻される可動部材と当該収納静止位置の近傍において係合し、前記収納静止位置に向けて可動部材を付勢する一方、前記可動部材が収納静止位置を通過して第一方向へ移動する際には当該可動部材との係合状態を解除する第二引込み手段を備えたことを特徴とする請求項１記載の双方向案内ユニット。
【請求項５】
前記収納静止位置の近傍における第一方向及び第二方向への可動部材の運動を減衰するロータリダンパが設けられていることを特徴とする請求項４記載の双方向案内ユニット。
【手続補正書】
【提出日】平成24年10月15日(2012.10.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射線を放出する放射線源と、
前記放射線源と対峙して配置され、かつ、前記放射線が入射したときに当該放射線に対応したデジタル電気量の２次元データをフレーム単位で出力する検出器と、
前記放射線源と前記検出器の対、前記検出器、又は、前記対象物の何れかを、当該放射線源、当該検出器、及び当該対象物のうちの残りの要素に対して相対的に移動させる移動手段と、
前記移動手段により前記放射線源と前記検出器の対、当該検出器、又は、対象物を移動させている間に、前記検出器から出力される前記データをフレーム単位で収集するデータ収集手段と、
前記データ収集手段により収集された前記データと、前記放射線源と前記検出器との間に存在する撮像空間に設定される基準断層面とを用いて、前記対象物の撮像部位の３次元画像を作成する第１の画像作成手段と、を備えたことを特徴とする放射線撮像装置において、
前記基準断層面の３次元位置を含む前記撮像空間を規定するパラメータをキャリブレーションするためのファントムと、
このファントムを前記撮像空間に配した状態で前記放射線源から放射線を放出させたときに前記データ収集手段が収集したデータに基づいてキャリブレーション用の画像を作成する第２の画像作成手段と、
前記ファントムが有する既知の量の情報と前記キャリブレーション用の画像から得られた前記ファントムの投影位置情報とに基づいて前記パラメータをキャリブレーションするキャリブレーション手段と、を備え、
前記ファントムは、
前記放射線源と前記検出器の３次元的な位置関係のパラメータを取得するための第１のファントムと、
前記放射線源と前記放射線検出器の相対的な移動時の、前記対象物に対する３次元的な位置関係のパラメータを取得するための第２のファントムと、
前記放射線源から前記検出器に向かって放射される放射線の投影角度を測定するための第３のファントムと、を備えたことを特徴とする放射線撮像装置。
【請求項２】
前記放射線源は前記放射線としてのＸ線を照射するＸ線管であり、
前記検出器は前記Ｘ線管から照射された前記Ｘ線を検出する検出器であり、
前記第１の画像作成手段は、前記３次元画像として、前記データ収集手段により収集されたデータをトモシンセシス法に基づいて処理して前記対象物の撮像部位の焦点を最適化した３次元画像を作成する手段であり、
前記第２の画像作成手段は、前記データ収集手段により収集されたデータをトモシンセシス法に基づいて処理して前記キャリブレーション用の画像を作成する手段である、
ことを特徴とする請求項１に記載の放射線撮像装置。
【請求項３】
放射線源を放出する放射線源と前記放射線を電気信号として検出する検出器とを対象物を挟んで相互に対向させ、当該放射線源と当該検出器との対を当該対象物の周りに回転させながら、当該放射線源から放出され、かつ対象物を透過した放射線を検出器により電気信号として検出し、この電気信号に基づいて前記対象物の撮像部位の画像を作成する放射線撮像装置における、前記放射線源と前記検出器との３次元な空間的な位置関係をキャリブレーションするためのファントム装置であって、
前記放射線源と前記検出器の３次元的な位置関係のパラメータを取得するための第１のファントムと、
前記放射線源と前記放射線検出器の相対的な移動時の、前記対象物に対する３次元的な位置関係のパラメータを取得するための第２のファントムと、
前記放射線源から前記検出器に向かって放射される放射線の投影角度を測定するための第３のファントムと、
を備えたことを特徴とするファントム装置。
【請求項４】
前記第３のファントムと前記第２のファントムは一組のファントムとして作成された構造であることを特徴とする請求項３に記載のファントム装置。
【手続補正書】
【提出日】平成24年9月6日(2012.9.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
クリッピング面１１２の生成について詳述すると、上述したように、パラメータｈにより代表点Ｐが定められると、代表点Ｐと２つの端点Ｐ１，Ｐ２とに基づくスプライン補間演算により、背骨のような基本線として曲線１０４が生成される。端点Ｐ１は上述した点ａ１２であり、端点Ｐ２は上述した点ａ３４である。曲線１０４は代表点Ｐを挟んでＺ方向両側において線対称の形状を有している。但し、図６においてはクリッピング面１１２の形状をより分かり易く表現方法が採用されている。
【手続補正書】
【提出日】平成24年9月6日(2012.9.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
クリッピング面１１２の生成について詳述すると、上述したように、パラメータｈにより代表点Ｐが定められると、代表点Ｐと２つの端点Ｐ１，Ｐ２とに基づくスプライン補間演算により、背骨のような基本線として曲線１０４が生成される。端点Ｐ１は上述した点ａ１２であり、端点Ｐ２は上述した点ａ３４である。曲線１０４は代表点Ｐを挟んでＺ方向両側において線対称の形状を有している。但し、図６においてはクリッピング面１１２の形状をより分かり易く表現方法が採用されている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
生体内の三次元空間から取得された超音波ボリュームデータに対して、レンダリング処理が適用される三次元関心領域を設定する三次元関心領域設定手段と、
前記三次元関心領域内のデータを用いてレンダリング処理を実行し、これにより三次元超音波画像を形成する三次元超音波画像形成手段と、を含み、
前記三次元関心領域は、画像化対象組織と画像化非対象組織とを空間的に分離するためのクリッピング面を有し、
前記三次元関心領域設定手段は、
前記クリッピング面を変形させる変形手段と、
前記クリッピング面それ全体を傾斜させる傾斜手段と、
を有することを特徴とする超音波ボリュームデータ処理装置。
【請求項２】
請求項１記載の装置において、
前記変形手段は、前記クリッピング面を凸形状又は凹形状に変形させる、ことを特徴とする超音波ボリュームデータ処理装置。
【請求項３】
請求項１又は２記載の装置において、
前記クリッピング面は、傾斜運動する３つの方向としての第１水平方向、第２水平方向及び垂直方向を有し、
前記変形手段は、ユーザー指定されたパラメータｈに従って前記クリッピング面の代表点についての前記垂直方向の高さを定める、
ことを特徴とする超音波ボリュームデータ処理装置。
【請求項４】
請求項３記載の装置において、
前記第１水平方向において前記代表点の両側の形状が線対称の関係にあり、
前記第２水平方向において前記代表点の両側の形状が線対称の関係にある、
ことを特徴とする超音波ボリュームデータ処理装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか１項に記載の装置において、
前記傾斜手段は、第１傾斜角度θ１及び第２傾斜角度θ２に従って前記クリッピング面の二次元傾斜姿勢を定める、
ことを特徴とする超音波ボリュームデータ処理装置。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか１項に記載の装置において、
前記クリッピング面の傾斜角度に応じて前記クリッピング面のサイズを調整するサイズ調整手段を有する、ことを特徴とする超音波ボリュームデータ処理装置。
【請求項７】
請求項６記載の装置において、
前記サイズ調整手段は、前記クリッピング面の傾斜角度が大きくなればなるほど、前記クリッピング面のサイズを大きくする、ことを特徴とする超音波ボリュームデータ処理装置。
【請求項８】
請求項７記載の装置において、
第１過程において前記変形手段によって変形後のクリッピング面が生成され、次の第２過程において前記傾斜手段によって前記変形後のクリッピング面を傾斜させることにより変形後かつ傾斜後のクリッピング面が生成され、更に第３過程において前記サイズ調整手段によって前記変形後かつ傾斜後のクリッピング面のサイズを調整することにより変形後かつ傾斜後かつサイズ調整後のクリッピング面が生成される、ことを特徴とする超音波ボリュームデータ処理装置。
【請求項９】
請求項８記載の装置において、
前記変形手段は、前記変形後のクリッピング面として第１の三次元形状データを生成し、
前記傾斜手段は、前記第１の三次元形状データの回転変換により前記変形後かつ傾斜後のクリッピング面として第２の三次元形状データを生成し、
前記サイズ調整手段は、前記第２の三次元形状データの拡大変換により前記変形後かつ傾斜後かつサイズ調整後のクリッピング面として第３の三次元形状データを生成し、
前記第３の三次元形状データに基づいて前記レンダリングを実行する際の各レイ上のボクセル演算開始点が規定される、ことを特徴とする超音波ボリュームデータ処理装置。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれか１項に記載の装置において、
前記超音波ボリュームデータに基づいて互いに直交する第１及び第２の断層画像を形成する断層画像形成手段と、
前記三次元関心領域についての互いに直交する２つの断面を表す第１及び第２のグラフィック画像を形成するグラフィック画像形成手段と、
前記第１の断層画像上に前記第１のグラフィック画像が合成された第１の表示画像を表示し、前記第２の断層画像上に前記第２のグラフィック画像が合成された第２の表示画像を表示する表示手段と、
を含み、
前記三次元関心領域が変更されると、それに連動して、前記第１及び第２のグラフィック画像の内容が変更される、ことを特徴とする超音波ボリュームデータ処理装置。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の装置において、
複数の初期パラメータセットを格納した記憶部と、
前記複数の初期パラメータセットの中から特定のパラメータセットを選択する選択手段と、
を含み、
前記三次元関心領域設定手段は、前記特定のパラメータセットに従って初期三次元関心領域を設定する、ことを特徴とする超音波ボリュームデータ処理装置。
【請求項１２】
生体内の三次元空間から取得された超音波ボリュームデータに対してレンダリングが適用される三次元関心領域を設定する機能を備え、超音波ボリュームデータ処理装置において実行されるプログラムであって、
当該プログラムは、前記三次元関心領域に含まれる面であって画像化対象組織と画像化非対象組織とを空間的に分離するためのクリッピング面を生成するクリッピング面生成機能を有し、
前記クリッピング面生成機能は、ユーザー入力に基づいて前記クリッピング面を変形させる変形機能と、ユーザー入力に基づいて前記クリッピング面それ全体を傾斜させる傾斜機能と、を有することを特徴とするプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成24年10月12日(2012.10.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
制御基板を内部に収容する基板ボックスが、間にスペーサを介装するようにして遊技機の裏面側に連結固定され、
前記スペーサが、前後方向に移動し得るように遊技機の裏面側に支持され、
前記基板ボックスが、前記スペーサからは独立して遊技機の裏面側に回動可能に支持され、
前記基板ボックスを回動させて開放した状態でスペーサが前後方向に移動し得るようになっていることを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記スペーサが、後方に移動した状態で回転可能に支持されていることを特徴とする請求項１に記載の遊技機。
【請求項３】
前記スペーサが、重心よりも後下方で遊技盤に平行な水平軸まわりに回転可能に支持されていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成24年10月12日(2012.10.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定条件の成立により開放されて遊技球が入球し得るとともに、遊技球が入球することで特別遊技状態へ移行する所定領域を備える入賞役物装置と、
前記入賞役物装置の所定位置に配置され、遊技球を前記所定領域に入球しやすい方向と入球し難い方向とに振り分ける中間振分手段と、
前記中間振分手段を通過した遊技球を検出する振分後検出装置と、
前記所定領域に入球した遊技球を検出するＶ入賞後検出装置と、
前記Ｖ入賞後検出装置による検出結果に応じて前記特別遊技状態の遊技制御を行う主制御装置と、
複数の識別情報を変動表示する表示装置と、
前記識別情報の変動表示を前記振分後検出装置ないし前記Ｖ入賞後検出装置による検出結果に応じて制御する表示制御装置とを備え、
前記表示制御装置は、前記振分後検出装置によって前記中間振分手段を通過した遊技球が検出されると、予め定めた前記識別情報の組合わせの一部が停止表示された期待表示または該期待表示を維持した状態で表示内容に変更を加えた期待増進表示を行う第１表示手段と、前記Ｖ入賞後検出装置によって前記所定領域に入球した遊技球が検出された場合に予め定めた前記識別情報の組合わせを停止表示する第２表示手段とを備えることを特徴とする遊技機。
【請求項２】
前記中間振分手段の位置から、遊技球が前記所定領域に入球するか否かが決する位置までの間における所定の位置に、遊技球の転動時間を確保するための時間保持機構が設けられていることを特徴とする請求項１に記載の遊技機。
【請求項３】
前記入賞役物装置の所定領域への入球しやすさに対応して表示装置による演出内容が相違するものであることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２１８】
Ｓ２２３の処理では、開閉部材駆動ソレノイド１３８Ｒ、１３８Ｌがオンされているか否かを確認する（Ｓ２２３）。開閉部材駆動ソレノイド１３８Ｒ、１３８Ｌがオンされていなければ（Ｓ２２３：Ｎｏ）、開閉羽根８９Ｒ、８９Ｌを開放させるために開閉部材駆動ソレノイド１３８Ｒ、１３８Ｌをオンして（Ｓ２２４）、開閉羽根８９Ｒ、８９Ｌが１回開放されたことを示すために開閉部材カウンタの値に１を加算し（Ｓ２２５）、処理をＳ２２６へ移行する。一方、開閉部材駆動ソレノイド１３８Ｒ、１３８Ｌがオンされている場合は（Ｓ２２３：Ｙｅｓ）、Ｓ２２４及びＳ２２５の処理をスキップして、処理をＳ２２６へ移行する。
【手続補正書】
【提出日】平成24年7月20日(2012.7.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技領域に設けられた始動領域を遊技媒体が通過した後に、可変表示の開始を許容する開始条件の成立に基づいて、各々を識別可能な複数種類の識別情報の可変表示を行い表示結果を導出表示する可変表示手段を備え、予め定められた特定表示結果が前記識別情報の表示結果として導出表示されたときに、遊技者にとって有利な特定遊技状態に制御する遊技機であって、
前記始動領域を遊技媒体が通過したにもかかわらず前記開始条件が成立していない可変表示について、所定の上限数の範囲内で保留記憶として記憶可能な保留記憶手段と、
該保留記憶手段に記憶されている前記保留記憶を特定可能に所定の保留表示態様で表示する保留表示手段と、
前記保留記憶として記憶されている可変表示の表示結果が前記特定表示結果となるか否かを判定する保留判定手段と、
該保留判定手段による判定に基づいて、判定の対象となった前記保留記憶の保留表示態様を予め定められた特殊表示態様に変化させる予告演出を実行するか否かを決定する予告演出決定手段と、
該予告演出決定手段の決定結果に基づいて前記予告演出を実行する予告演出実行手段と、
を備え、
前記予告演出決定手段は、
前記予告演出を実行するタイミングとして、前記保留記憶が記憶されたタイミングである第１のタイミングと、当該第１のタイミングより遅いタイミングである第２のタイミングと、に決定可能であって、
前記第１のタイミングで前記予告演出が実行された場合より、前記第２のタイミングで前記予告演出が実行された場合に、判定の対象となった保留記憶の可変表示の表示結果が前記特定表示結果となる割合が高くなるように前記予告演出を実行するタイミングを決定する
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成24年5月24日(2012.5.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画像ブロックを有するピクチャのビデオデータを生成するために符号化する方法であって、前記ビデオデータは、前記複数の画像ブロックのうちの１つの画像ブロックの符号化データと、該画像ブロックのための第１の参照ピクチャ・インデックス及び第２の参照ピクチャ・インデックスとを含み、
前記画像ブロックと、前記第１及び第２の参照ピクチャ・インデックスとにアクセスする工程であって、前記アクセスされた第１及び第２の参照ピクチャ・インデックスは、画像ブロックを符号化するのに利用可能な１つ以上の参照ピクチャ群から第１及び第２の参照ピクチャをそれぞれ決定する前記工程と、
前記第１及び第２の参照ピクチャと、第１及び第２の重み付け係数とを使用して、前記画像ブロックを符号化する工程であって、前記アクセスされた第１及び第２の参照ピクチャ・インデックスは、画像ブロックを符号化するのに利用可能な１つ以上の重み付け係数群から前記第１及び第２の重み付け係数をそれぞれ決定する前記工程とを含む、前記方法。
【請求項２】
前記画像ブロックを符号化する工程は、
前記第１の参照ピクチャからの第１の動き補償ブロックを識別する工程と、
前記第１の重み付け係数を使用して前記第１の参照ピクチャからの前記第１の動き補償ブロックを重み付けし、第１の重み付け動き補償ブロックを形成する工程と、
前記第２の参照ピクチャからの第２の動き補償ブロックを識別する工程と、
前記第２の重み付け係数を使用して前記第２の参照ピクチャからの前記第２の動き補償ブロックを重み付けし、第２の重み付け動き補償ブロックを形成する工程と、を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記画像ブロックを符号化する工程は、
第１のオフセットを求める工程と、
第２のオフセットを求める工程と、
前記第１のオフセット及び前記第２のオフセットを使用して前記第１の重み付け動き補償ブロック及び前記第２の重み付け動き補償ブロックを調節する工程と、を更に含む、請求項２に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年10月12日(2012.10.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コーナー部を有する強化繊維積層体に含浸されたマトリックス樹脂を硬化させてなる繊維強化プラスチックの製造方法であって、少なくとも以下の工程を有することを特徴とする繊維強化プラスチックの製造方法。
（ａ）前記強化繊維積層体を、コーナー部を有する雌型内に配置する強化繊維積層体配置工程
（ｂ）前記強化繊維積層体の上に、少なくともコーナー部にプレッシャープレートを配置するプレッシャープレート配置工程
（ｃ）前記プレッシャープレートの端部において、前記雌型と前記プレッシャープレートの隙間にスペーサーを配置するスペーサー配置工程
（ｄ）前記雌型の周縁にシール材を配置し、バギング材で全体を覆うバギング工程
（ｅ）前記バギング材内部を真空吸引しながら、前記強化繊維積層体を前記雌型に吸着させるとともに、前記スペーサーと前記プレッシャープレートとが当接するように前記強化繊維積層体を薄肉化させる薄肉化工程
【請求項２】
コーナー部を有する強化繊維積層体に含浸されたマトリックス樹脂を硬化させてなる繊維強化プラスチックの製造方法であって、少なくとも以下の工程を有することを特徴とする繊維強化プラスチックの製造方法。
（ａ）前記強化繊維積層体を、コーナー部を有する雌型内に配置する強化繊維積層体配置工程
（ｂ）前記強化繊維積層体の上に、少なくとも一方の端部にスペーサーを有するスペーサー付プレッシャープレートを配置するスペーサー付プレッシャープレート配置工程
（ｃ）前記雌型の周縁にシール材を配置し、バギング材で全体を覆うバギング工程
（ｄ）前記バギング材内部を真空吸引しながら、前記強化繊維積層体を前記雌型に吸着させるとともに、前記スペーサーが前記雌型表面と当接するように前記強化繊維積層体を薄肉化させる薄肉化工程
【請求項３】
前記スペーサーの厚さは、前記強化繊維積層体配置工程における積層体の板厚よりも薄いことを特徴とする請求項１または２に記載の繊維強化プラスチックの製造方法の製造方法。
【請求項４】
前記バギング工程において、マトリックス樹脂を注入する１または複数の注入口を設けるとともに、前記薄肉化工程において前記強化繊維積層体にマトリックス樹脂を注入することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の繊維強化プラスチックの製造方法。
【請求項５】
マトリックス樹脂注入後に前記注入口の少なくとも１つを真空吸引口に切り替え、含浸させたマトリックス樹脂の一部を吸引することを特徴とする請求項４に記載の繊維強化プラスチックの製造方法。
【請求項６】
雌型表面と接しない強化繊維積層体表面の略全面に樹脂流動層を配置することを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の繊維強化プラスチックの製造方法。
【請求項７】
前記繊維強化プラスチックは少なくともＣ断面を有することを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の繊維強化プラスチックの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の内容は、以下の（１）〜（７）の方法からなる。
（１）コーナー部を有する強化繊維積層体に含浸されたマトリックス樹脂を硬化させてなる繊維強化プラスチックの製造方法であって、少なくとも以下の工程を有することを特徴とする繊維強化プラスチックの製造方法。
（ａ）前記強化繊維積層体を、コーナー部を有する雌型内に配置する強化繊維積層体配置工程
（ｂ）前記強化繊維積層体の上に、少なくともコーナー部にプレッシャープレートを配置するプレッシャープレート配置工程
（ｃ）前記プレッシャープレートの端部において、前記雌型と前記プレッシャープレートの隙間にスペーサーを配置するスペーサー配置工程
（ｄ）前記雌型の周縁にシール材を配置し、バギング材で全体を覆うバギング工程
（ｅ）前記バギング材内部を真空吸引しながら、前記強化繊維積層体を前記雌型に吸着させるとともに、前記スペーサーと前記プレッシャープレートとが当接するように前記強化繊維積層体を薄肉化させる薄肉化工程
（２）コーナー部を有する強化繊維積層体に含浸されたマトリックス樹脂を硬化させてなる繊維強化プラスチックの製造方法であって、少なくとも以下の工程を有することを特徴とする繊維強化プラスチックの製造方法。
（ａ）前記強化繊維積層体を、コーナー部を有する雌型内に配置する強化繊維積層体配置工程
（ｂ）前記強化繊維積層体の上に、少なくとも一方の端部にスペーサーを有するスペーサー付プレッシャープレートを配置するスペーサー付プレッシャープレート配置工程
（ｃ）前記雌型の周縁にシール材を配置し、バギング材で全体を覆うバギング工程
（ｄ）前記バギング材内部を真空吸引しながら、前記強化繊維積層体を前記雌型に吸着させるとともに、前記スペーサーが前記雌型表面と当接するように前記強化繊維積層体を薄肉化させる薄肉化工程
（３）前記スペーサーの厚さは、前記強化繊維積層体配置工程における積層体の板厚よりも薄いことを特徴とする（１）または（２）に記載の繊維強化プラスチックの製造方法の製造方法。
（４）前記バギング工程において、マトリックス樹脂を注入する１または複数の注入口を設けるとともに、前記薄肉化工程において前記強化繊維積層体にマトリックス樹脂を注入することを特徴とする（１）〜（３）のいずれかに記載の繊維強化プラスチックの製造方法。
（５）マトリックス樹脂注入後に前記注入口の少なくとも１つを真空吸引口に切り替え、含浸させたマトリックス樹脂の一部を吸引することを特徴とする（４）に記載の繊維強化プラスチックの製造方法。
（６）雌型表面と接しない強化繊維積層体表面の略全面に樹脂流動層を配置することを特徴とする（１）〜（５）のいずれかに記載の繊維強化プラスチックの製造方法。
（７）前記繊維強化プラスチックは少なくともＣ断面を有することを特徴とする（１）〜（６）のいずれかに記載の繊維強化プラスチックの製造方法。