【事件の表示】
　上記当事者間の特許第３２９２０１６号発明「放電ランプおよび真空紫外光源装置」の特許無効審判事件について、次のとおり審決する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３２９２０１６号の請求項１ないし２に記載された発明についての特許を無効とする。
　審判費用は、被請求人の負担とする。
【理　由】
第１　手続の経緯・請求の趣旨
　本件特許第３２９２０１６号についての手続の経緯の概要は、以下のとおりである。
　平成　７年１２月２０日　　特許出願（特願平７−３３１２８２号）
　平成１４年　３月２９日　　特許権の設定登録（請求項の数；１２）
　平成１８年　５月　９日　　本件無効審判請求
　平成１８年　７月２７日　　被請求人より訂正請求・答弁書提出
　平成１８年　９月　４日　　請求人より弁駁書提出
　平成１９年　２月１５日　　口頭審理
　　　　　　　　　同　日　　請求人より口頭審理陳述要領書及び
　　　　　　　　　　　　　　　口頭審理陳述補足書提出
　　　　　　　　　同　日　　被請求人より口頭審理陳述要領書及び
　　　　　　　　　　　　　　　口頭審理陳述要領書の訂正の書面提出
　平成１９年　３月３０日　　請求人及び被請求人の双方より上申書提出
　
　そして、本件無効審判の請求の趣旨は、
（１）特許第３２９２０１６号の請求項１ないし請求項３に係る発明についての特許を無効とする。
（２）審判費用は、被請求人の負担とする。
との審決を求めるものである。
　
第２　訂正の可否について
　被請求人は、平成１８年７月２７日付けの訂正請求により本件特許明細書の訂正（以下「本件訂正」という。）を請求しているので、まずこの訂正の可否について検討する。
　
１　本件訂正の内容
　本件訂正の内容は、本件特許明細書を訂正請求書に添付した訂正明細書のとおりに訂正しようとするものであり、その訂正の内容の概略は以下のとおりである。
　
（１）訂正事項ａ
　本件特許明細書の特許請求の範囲の請求項１〜１２において、請求項１は削除し、請求項１を引用する請求項２は独立形式で記載し、請求項１又は請求項２を引用する請求項３は請求項２を引用するもののみとしたうえで、請求項２〜１２に付された番号をそれぞれ１つ繰り上げて、訂正後の請求項１〜１１とする。
　
（２）訂正事項ｂ
　本件特許明細書の段落番号００１６の、
　「放電容器を構成する石英ガラスは、当該放電ランプの定格動作状態において生ずる波長６５０ｎｍ付近における蛍光の放射強度が、当該放電ランプからの真空紫外光の放射強度の５％以下のものであることを特徴とする。」
を
　「放電容器を構成する石英ガラスは、酸素欠乏度が−０．０１〜０．０２の範囲にあり、水酸基の含有割合が重量比で１０〜５００ｐｐｍの範囲にあり、かつ、塩素基の含有割合が重量比で５ｐｐｍ以下であって、当該放電ランプの定格動作状態において生ずる波長６５０ｎｍ付近における蛍光の放射強度が、当該放電ランプからの真空紫外光の放射強度の５％以下のものであることを特徴とする。」
と訂正する。
　
（３）訂正事項ｃ
　本件特許明細書の段落番号００１９の、
　「また、本発明の放電ランプにおいては、」
を
　「この低圧水銀ランプである放電ランプにおいては、」
と訂正する。
　
２　訂正の可否についての判断
（１）訂正事項ａは、訂正前の請求項１を削除するとともに、訂正前の請求項２〜１２について、請求項１の削除により必要となった事項についてのみを訂正するものであるから、特許法第１３４条の２第１項ただし書第１号に規定する特許請求の範囲の減縮に該当する。
　そして、上記訂正事項ａは、願書に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内のものであるし、実質上特許請求の範囲を拡張又は変更するものではないから、特許法第１３４条の２第５項で準用する同法第１２６条第３項及び第４項の規定に適合する。
　
（２）訂正事項ｂは、上記訂正事項ａによる特許請求の範囲の訂正に応じて、訂正前の請求項１に係る発明に対応する段落番号００１６の記載を、訂正後の請求項１（訂正前の請求項２）に係る発明に対応させるものであるから、特許法第１３４条の２第１項ただし書第３号に規定する明りようでない記載の釈明に該当する。
　また、上記訂正事項ｂは、願書に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内のものであるし、実質上特許請求の範囲を拡張又は変更するものではないから、特許法第１３４条の２第５項で準用する同法第１２６条第３項及び第４項の規定に適合する。
　
（３）訂正事項ｃは、「放電ランプ」を「低圧水銀ランプである」と限定するものであるが、これは、訂正前の請求項２に係る発明（引用する請求項１において「放電ランプは、・・・誘電体バリア放電ランプであり」と限定されている。）及び訂正前の請求項５に係る発明（引用する請求項４において「放電ランプは低圧水銀ランプであり」と限定されている。）の両者に対応する段落番号００１９の記載を、上記訂正事項ａによる特許請求の範囲の訂正及び上記訂正事項ｂによる段落番号００１６の訂正に応じて、訂正後の請求項４（訂正前の請求項５）に係る発明のみに対応させるものであるということができるから、特許法第１３４条の２第１項ただし書第３号に規定する明りようでない記載の釈明に該当する。
　また、上記訂正事項ｃは、願書に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内のものであるし、実質上特許請求の範囲を拡張又は変更するものではないから、特許法第１３４条の２第５項で準用する同法第１２６条第３項及び第４項の規定に適合する。
　
３　訂正の可否についてのまとめ
　以上のとおりであるから、本件訂正は、特許法第１３４条の２第１項ただし書に規定される事項を目的とするものであり、かつ、同条第５項で準用する特許法第１２６条第３項及び第４項の規定にも適合するものである。
　よって、上記結論のとおり、訂正を認める。
　
第３　本件特許発明
　上述のとおり、本件訂正を認めたことから、本件特許の請求項１及び請求項２に係る発明（以下それぞれ「本件特許発明１」及び「本件特許発明２」という。）は、願書に添付した明細書（以下「本件特許明細書」という。）及び図面（以下「本件特許図面」という。）の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１及び請求項２に記載された事項により特定される次のとおりのものである。
　
　「【請求項１】　放電空間を形成する放電容器を有し、真空紫外光を放出する放電ランプにおいて、
　当該放電ランプは、放電容器内に、キセノンガスよりなる放電用ガスまたはアルゴンガスと塩素ガスとの混合ガスよりなる放電用ガスが充填され、誘電体バリア放電によりエキシマが生成されて真空紫外光が放出される誘電体バリア放電ランプであり、
　放電容器を構成する石英ガラスは、酸素欠乏度が−０．０１〜０．０２の範囲にあり、水酸基の含有割合が重量比で１０〜５００ｐｐｍの範囲にあり、かつ、塩素基の含有割合が重量比で５ｐｐｍ以下であって、当該放電ランプの定格動作状態において生ずる波長６５０ｎｍ付近における蛍光の放射強度が、当該放電ランプからの真空紫外光の放射強度の５％以下のものであることを特徴とする放電ランプ。
　　【請求項２】　放電容器を構成する石英ガラスは、・Ｓｉ−Ｓｉ・結合の含
有割合が５×１０16個／ｃｍ3 以下であり、当該非蛍光性石英ガラス中に溶存す
る分子状水素の含有割合が１０15個／ｃｍ3 以上であって溶解度以下であり、シ
リコン原子と結合した水素（・Ｓｉ−Ｈ）の含有割合が６×１０16個／ｃｍ3 以
下のものであることを特徴とする請求項１に記載の放電ランプ。」
　
第４　請求人の主張の概要
　請求人は、審判請求書において無効理由１〜５を主張しているところ、口頭審理において「訂正が認められた場合、無効理由１及び無効理由２、並びに無効理由５の訂正前請求項３に関する主張のうち訂正前請求項１を引用する部分について、主張を取り下げる。」（平成１９年２月１５日付け口頭審理調書を参照。）と陳述している。
　そして、上記のとおり本件訂正を認めたので、上記陳述のとおり主張の一部が取り下げられたことになるから、その他の無効理由について、訂正後の請求項１及び請求項２に係る発明（本件特許発明１及び本件特許発明２）に対応させるとともに、２つの理由を主張する無効理由３については、無効理由３ａと無効理由３ｂとに分節して整理すると、概略次のとおりとなる。
　
１　無効理由３ａ（本件特許発明１の進歩性）
　本件特許発明１は、甲第３号証の発明と甲第５号証の発明とを組み合わせ、さらに、理論的に欠陥が少ないと考えられる石英ガラスを単に「酸素欠乏度」なる新規なパラメータの数値範囲−０．０１〜０．０２を用いて表現したに過ぎない。（審判請求書第１６頁第２２行〜第２５行を参照。）
　したがって、本件特許発明１は、甲第３号証及び甲５号証に記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定に違反し、本件特許発明１の特許は、同法第１２３条第１項第２号に該当して無効とすべきである。
　
　証拠方法（無効理由３ａに係るもののみ）
　　甲第３号証　光技術コンタクト、社団法人日本オプトメカトロニクス協会、平成６年２月２０日、第３２巻第２号、ｐ．９６−１０３
　　甲第５号証　特開平６−２３４５４５号公報
　　甲第６号証　“Intrinsic- and extrinsic-defect formation in silica glasses by radiation”、JOURNAL OF NON-CRYSTALLINE SOLIDS、１９９４年、１７９巻、ｐ．２０２−２１３
　　甲第７号証　“INTRINSIC DEFECTS GENERATION MECHANISMS IN FUSED SILICA”、JOURNAL OF NON-CRYSTALLINE SOLIDS、１９８０年、３８＆３９巻、ｐ．１９５−２００
　　甲第８号証　「光ファイバの放射線による劣化とそのメカニズム」、ＮＥＷ　ＧＬＡＳＳ、社団法人ニューガラスフォーラム、１９８９年７月２０日、第４巻第１号、ｐ．５１−５６
　
２　無効理由３ｂ（本件特許発明１の明確性）
　本件特許発明１における「酸素欠乏度」の値が、一義的に決定されるものとして定義されているのでなければ、特許を受けようとする発明が明確であるとはいえない。しかるに、本件特許明細書には、「酸素欠乏度」を決定するために「石英ガラスにエキシマレーザ等によって光を照射することにより、・・・波長２２０ｎｍおよび波長２６０ｎｍにおける吸光度を経時的に測定する」（段落００５６）とあるが、どの程度の長さの時間だけどの程度の強度のエキシマレーザを照射すればよいかが記載されていないから、上記「酸素欠乏度」を決定しようとしても、必ずしも一義的に決定することができない。（審判請求書第１７頁第４行〜第１２行を参照。）
　したがって、本件特許発明１に係る特許請求の範囲の請求項１の記載は不明確であるから、特許法第３６条第６項第２号の規定に違反し、本件特許発明１の特許は、同法第１２３条第１項第４号に該当して無効とすべきである。
　
３　無効理由４（本件特許発明１についての実施可能要件）
　本件特許明細書には、「酸素欠乏度が−０．０１〜０．０２」の範囲に制御された合成石英ガラスを製造するためには、どのようにすれば良いかについて全く記載がない。（審判請求書第１９頁第５行〜第７行を参照。）
　したがって、本件特許明細書の発明の詳細な説明の欄には、当業者が本件特許発明１を実施できる程度に明確かつ十分に記載されていないから、特許法第３６条第４項（当審注、平成１４年改正前の特許法第３６条第４項〔同改正後は特許法第３６条第４項第１号〕の趣旨であると解される。以下「平成１４年改正前特許法第３６条第４項」という。）に違反し、本件特許発明１の特許は、同法第１２３条第１項第４号に該当して無効とすべきである。
　
４　無効理由５（本件特許発明２についての実施可能要件）
　本件特許明細書には、どのようにすれば「・Ｓｉ−Ｓｉ・結合の含有割合」、「分子状水素の含有割合」及び「シリコン原子と結合した水素（・Ｓｉ−Ｈ）の含有割合」の３つのパラメータを制御できるか記載されていない。これでは、いかに当業者といえども、上記各含有割合が請求項２の数値範囲内になるようにした放電ランプを製造することができない。（審判請求書第２１頁第２行〜第８行を参照。）
　したがって、本件特許明細書の発明の詳細な説明の欄には、当業者が本件特許発明２を実施できる程度に明確かつ十分に記載されていないから、平成１４年改正前特許法第３６条第４項に違反し、本件特許発明２の特許は、同法第１２３条第１項第４号に該当して無効とすべきである。
　
第５　本件審判請求についての当審の判断
　審判請求書における特許無効の理由の要点の記載（特に、第２頁下から３行〜第３頁第３行を参照。）からみて、無効理由３ｂは、無効理由３ａに理由がない場合の予備的主張というべきものであるものの、無効理由３ａ及び３ｂは、上記の概要でも挙げたとおり、いずれも「酸素欠乏度」に関する点が問題となっているのであって、進歩性に関する主張である無効理由３ａについて判断するには、「酸素欠乏度」の定義についての判断をしたうえで本件特許発明１を認定することが必要となるから、まず、無効理由３ｂについて検討し、次いで無効理由３ａ、無効理由４及び無効理由５の順に検討する。
　
１　無効理由３ｂについて
（１）本件特許明細書及び本件特許図面の記載
　本件特許明細書の段落００５６には、
　「【００５６】本発明において、酸素欠乏度とは、下記のようにして測定されるものをいう。石英ガラスにエキシマレーザ等によって光をを照射することにより、当該石英ガラスにＥ´センタ（中心波長２１０ｎｍ〜２２０ｎｍ）およびＮＢＯＨＣ（中心波長２６０ｎｍ付近）を生成させると共に、Ｅ´センタおよびＮＢＯＨＣの生成による波長２２０ｎｍおよび波長２６０ｎｍにおける吸光度を経時的に測定する。この測定された吸光度の値を、横軸が波長２２０ｎｍにおける吸光度、縦軸が波長２６０ｎｍにおける吸光度であるグラフ上にプロットする。そして、図５に示すように、波長２２０ｎｍにおける吸光度と波長２６０ｎｍにおける吸光度とは比例するため、グラフ上には直線が描かれ、当該直線と横軸との交点における横軸の値を酸素欠乏度と定義する。」
と記載されている。
　また、本件特許図面の図５からは、上記段落００５６の記載のとおり、横軸が波長２２０ｎｍにおける吸光度、縦軸が波長２６０ｎｍにおける吸光度であるグラフ上に直線が描かれていることが読みとれる。
　
（２）無効理由３ｂについての判断
　上記段落００５６及び図５の記載を含め、本件特許明細書及び図面には、請求人の主張する事項、すなわち、どの程度の長さの時間だけエキシマレーザを照射するか、また、どの程度の強度のエキシマレーザを照射するかについて、直接的には記載されていない。
　そこで、請求人の主張する事項である、エキシマレーザの照射強度及び照射時間についてそれぞれ以下に検討する。
　
ア　エキシマレーザの照射強度について
　請求人は、上申書において、請求人が市販の石英ガラスにＫｒＦエキシマレーザの照射を行った際に、暫定的にエネルギー密度を５０ｍＪ／ｃｍ２とした第１回実験では波長２６０ｎｍの吸光度の測定が明確に観測されず、その原因としてエネルギー密度が小さかったためと考え、第２回実験でエネルギー密度を４５０ｍＪ／ｃｍ２に変更し、その結果波長２６０ｎｍの吸光度が測定可能となった旨述べている。
　請求人自身がエキシマレーザのエネルギー密度の設定をすることができたのであるから、このことからだけでも、当業者であればエキシマレーザの照射強度（エネルギー密度）の値の設定は可能であるというべきであるが、念のため上記第２回実験で設定されたエネルギー密度の値について検討すると、合成石英ガラスの特性を調べるために試料となる合成石英ガラスにＫｒエキシマレーザを照射する際のエネルギー密度について、甲第５号証に「１パルスあたりのエネルギー密度を４００ｍＪ／ｃｍ２とし」（段落００３５を参照。）と記載され、また、被請求人が上申書とともに提出した乙第１号証にも「パルス当りエネルギー密度２００，４００，６００（ｍＪ／ｃｍ２・ｐｕｌｓｅ）」（第４頁右上欄第１９行〜左下欄第１行を参照。）と記載されていることからみて、請求人が行った上記第２回実験におけるエネルギー密度の値（４５０ｍＪ／ｃｍ２）が通常設定される値の範囲を逸脱したものとはいえない。
　そうすると、本件特許明細書の段落００５６に記載されているエキシマレーザの照射に際し、エキシマレーザの強度（エネルギー密度）の値を設定することは当業者であれば可能であるというべきであって、請求人の主張は採用できない。
　
イ　エキシマレーザの照射時間について
　本件特許明細書の段落００５６の記載からは、石英ガラスに対するエキシマレーザの照射及び吸光度の測定を開始し、照射を続けながら吸光度の測定を経時的に行い、得られた吸光度の値を順次グラフ上にプロットし、プロットした結果グラフ上には直線が描かれ、その描かれた直線と横軸との交点における横軸の値、すなわちｘ切片を「酸素欠乏度」と定義することが理解される。
　ここで、吸光度の測定は経時的に行うのであるから、上記得られた吸光度の値を順次グラフ上にプロットしていく方向が照射時間の大きくなる方向であって、プロットした結果描かれる線は、その線方向の位置が照射時間を示すことは自明である。
　そして、本件特許図面の図５のグラフには、横軸及び縦軸に示される各波長の吸光度の範囲において直線が描かれることが示されているから、エキシマレーザの照射時間は、各波長の吸光度の値が、本件特許図面の図５のグラフで示される範囲となる時間であると解することができると認められる。
　この点について、請求人は、審判請求書及び口頭審理陳述要領書において、エキシマレーザーの照射パルス数を３００万ショット、６００万ショット、１０００万ショット及び１５００万ショットとした４個のサンプルについての吸光度の値をプロットしたグラフを示し、いずれのサンプルを選択するかによって最小二乗法により作成される直線が異なるから、「酸素欠乏度」が様々に異なる値として導かれてしまう旨主張しているが、請求人の実験によるグラフは、本件特許図面の図５に記載されているグラフと比較すると、横軸のスケール及び縦軸のスケールのいずれも１桁又は２桁程度大きいものとなっているため、「酸素欠乏度」が様々に異なる値として導かれてしまうという請求人の主張が、本件特許図面の図５に示されている吸光度の範囲（照射時間の範囲）においてもいうことができるのか否か不明であるから、請求人の主張は採用できない。
　
（３）無効理由３ｂについてのまとめ
　以上のとおりであるから、請求人の主張する無効理由３ｂによっては本件特許発明１の特許を無効とすることはできない。
　
２　無効理由３ａについて
（１）本件特許発明１
　本件特許発明１は、上記「第３」で示したとおりのものである。
　
（２）甲第３号証
　本件特許の出願前に頒布された刊行物である甲第３号証の記載のうち、請求人が審判請求書において「（３−Ａ）」〜「（３−Ｄ）」として摘記した事項は、それぞれ、以下のア〜エのとおりである。
　
ア　「実際に使用した試料ランプの概略図を図２に示す。管径の異なる２本の石英ガラス管を同軸に配置し，中空円筒の放電空間を形成した。内側管内面には，光反射板を兼ねたアルミニウム蒸着電極を設けた。また，外側管の外部表面には金属網電極を設けた。光は，網電極を通して取り出した。点灯電源は，電圧は４ｋＶから９ｋＶ，周波数は１０ｋＨｚから２０ｋＨｚである。また，実験したランプ電力の範囲は，１０Ｗから３０Ｗの範囲である。」（第９８頁左欄第１３行〜第２３行）
　
イ　「放電用ガスとしてキセノン，・・・・・・を使用した中空円筒形誘電体バリア放電エキシマランプの発光スペクトルを，図３に示す。それぞれ，波長１７２ｎｍ，・・・・・・に最大値を有し，半値幅がそれぞれ約１４ｎｍ・・・・・・ある単色光的な発光スペクトルが得られた。」（第９８頁右欄第１３行〜第１９行）
　
ウ　「上記のエキシマ光の強度は，２１０ｎｍにおいて１７２ｎｍにおける強度の千分の一の桁にまで低下した。２１０ｎｍから８００ｎｍの波長領域においては，キセノン原子のスペクトル線などが発生しているが，それらの強度は，全て，１７２ｎｍにおける強度の千分の一以下であった。」（第９９頁左欄第３行〜第８行）
　
エ　「上記した光出力特性は，キセノンの圧力約１０ｋＰａ以上においては，放電条件によってほとんど影響されなかった。一例として，入力電力を変えて測定した，キセノンエキシマ光のスペクトルの形と管壁負荷（ランプへの入力電力をランプの表面積で除した値）の関係を，図４に示す。スペクトルの形は，管壁負荷によってほとんど変わらなかった。」（第９９頁左欄第９行〜第１６行）
　
　また、甲第３号証には次の事項も記載されている。
　
オ　「以下，キセノンガスを使用したランプの特性について，詳しく説明する。放電容器は合成石英ガラスで，その透過率は１６０ｎｍでは約２６％，１６５ｎｍでは約６８％，１７０ｎｍ以上においては８３％であった。従って，図３のスペクトルの１７０ｎｍ以下の形は，合成石英ガラスの透過率に影響されており，ランプ内の放電プラズマにおいて１６０ｎｍ以下の波長領域（例えば，キセノン原子の共鳴線１４７ｎｍなど）に発光が有ったとしても，ランプの外には放出されない。」（第９８頁右欄第２０行〜第９９頁左欄第２行）
　
（３）甲第５号証
　本件特許の出願前に頒布された刊行物である甲第５号証の記載のうち、請求人が審判請求書において「（５−Ａ）」〜「（５−Ｄ）」として摘記した事項は、それぞれ、以下のア〜エのとおりである。
　
ア　「石英ガラスの遠紫外領域（波長 200nm以下）での光吸収に関しては、OH基の存在に起因する光吸収帯が 150nm近傍の波長域に存在し、しかもOH基が多量に含まれる石英ガラスではその吸収ピークの裾が広がるので、 180nm以下の波長の光に対する透過率が悪くなる。
【００１３】上記のようなOH基の濃度が高いことに起因する合成石英ガラスの光学特性の劣化を避けるためにOH基の濃度を100ppm以下に低下させると、今度は石英ガラス中に酸素欠乏欠陥が生成し、紫外領域に光吸収帯が生じたり、紫外領域の波長を有する光の照射により蛍光を発したりする。また、エキシマレーザー等の高エネルギー密度の光の照射により光損傷をうけ、その部分が構造欠陥となり、光吸収帯を生成することも知られている。」（段落００１２〜００１３）
　
イ　「後述するように、酸素欠乏欠陥の生成は石英ガラス（SiO2）中に残存している塩素に起因するので、石英ガラスの塩素濃度を出来るだけ低下させて酸素欠陥の生成を防止すれば、石英ガラスが有している優れた光学特性を利用するうえで必ずしも必要ではなく、光学的均質性、すなわち屈折率分布の均一化を困難にするOH基の濃度を低下させることができ、光吸収がなく、蛍光も検出されず、光損傷をうけにくい合成石英ガラスを得ることが可能であると考えられる。」（段落００１７）
　
ウ　「本発明は上記の考え方のもとになされたもので、その要旨は、『気相合成法により得られる合成石英ガラスであって、この合成石英ガラスの塩素濃度が５ppm 以下、OH基濃度が100ppm以下でかつOH基濃度の位置による変動幅が30ppm 以下であり、しかも紫外領域において光吸収帯が検出されないことを特徴とする光透過用合成石英ガラス』にある。」（段落００１８）
　
エ　「【発明の効果】本発明の合成石英ガラスは光学的に均質で、蛍光を発しにくく、透過率も良好であるなど、光照射時の光学特性の安定性が高い。特に紫外領域の光を扱う光学部品用の合成石英ガラスとして好適で、リソグラフィー装置をはじめ、その他の高集積回路製造装置や、紫外領域のレーザーを利用した各種装置にも適用することができる。」（段落００４３）
　
（４）対比・判断
　上記摘記事項ア〜オによると、甲第３号証には、
　
　「放電空間を形成する放電容器を有し、最大値が１７２ｎｍ、半値幅が約１４ｎｍの光を放出するランプにおいて、
　当該ランプは、前記放電容器内に、キセノンよりなる放電用ガスが充填され、誘電体バリア放電によりエキシマが生成されて前記光が放出される誘電体バリア放電エキシマランプであり、
　前記放電容器を構成する石英ガラスは、その透過率が１７０ｎｍ以上においては８３％であって、
　前記ランプの発光スペクトルは、２１０ｎｍから８００ｎｍの波長領域においては、全て１７２ｎｍにおける強度の千分の一以下であるランプ。」
　
の発明（以下「甲第３号証発明」という。）が記載されていると認められる。
　本件特許発明１と甲第３号証発明とを対比すると、甲第３号証発明の「放電空間を形成する放電容器」、「最大値が１７２ｎｍ、半値幅が約１４ｎｍの光」、「ランプ」、「キセノンよりなる放電用ガス」、「誘電体バリア放電によりエキシマが生成されて前記光が放出される誘電体バリア放電エキシマランプ」及び「放電容器を構成する石英ガラス」は、それぞれ、本件特許発明１の「放電空間を形成する放電容器」、「真空紫外光」、「放電ランプ」、「キセノンガスよりなる放電用ガス」及び「誘電体バリア放電によりエキシマが生成されて真空紫外光が放出される誘電体バリア放電ランプ」及び「放電容器を構成する石英ガラス」に相当する。
　また、甲第３号証発明の「ランプの発光スペクトル」は、ランプの動作状態における発光に係るものであって、当該発光には、「エキシマ」から放出され、「透過率が１７０ｎｍ以上においては８３％」である「放電容器を構成する石英ガラス」を透過する透過光だけでなく、当該「石英ガラス」自体から発せられる蛍光又は黒体輻射等の他の光も含まれることは自明であるところ、それら全ての光について「２１０ｎｍから８００ｎｍの波長領域においては、全て１７２ｎｍにおける強度の千分の一以下である」のであるから、甲第３号証発明の「放電容器を構成する石英ガラス」は、ランプの動作状態において生ずる波長６５０ｎｍ付近における蛍光を含む光の放射強度が、波長１７２ｎｍの光（真空紫外光）の放射強度の千分の一以下であるということができ、本件特許発明１と甲第３号証発明とは、「放電容器を構成する石英ガラス」が「放電ランプの動作状態において生ずる波長６５０ｎｍ付近における蛍光の放射強度が、当該放電ランプからの真空紫外光の放射強度の５％以下のものである」点で共通する。
　そうすると、本件特許発明１と甲第３号証発明とは、
　
　「放電空間を形成する放電容器を有し、真空紫外光を放出する放電ランプにおいて、
　当該放電ランプは、放電容器内に、キセノンガスよりなる放電用ガスが充填され、誘電体バリア放電によりエキシマが生成されて真空紫外光が放出される誘電体バリア放電ランプであり、
　放電容器を構成する石英ガラスは、放電ランプの動作状態において生ずる波長６５０ｎｍ付近における蛍光の放射強度が、当該放電ランプからの真空紫外光の放射強度の５％以下のものであることを特徴とする放電ランプ。」
　
である点で一致し、以下の相違点ア及びイで相違する。
　
相違点ア　「放電容器を構成する石英ガラス」について、本件特許発明１のものが「酸素欠乏度が−０．０１〜０．０２の範囲にあり、水酸基の含有割合が重量比で１０〜５００ｐｐｍの範囲にあり、かつ、塩素基の含有割合が重量比で５ｐｐｍ以下」であるのに対し、甲第３号証発明ではこれが明確ではない点。
　
相違点イ　「放電ランプの動作状態」について、本件特許発明１が「定格動作状態」であるのに対し、甲第３号証発明ではこれが明確ではない点。
　
　上記相違点アについて検討すると、甲第５号証（特に、上記摘記事項エを参照。）には、塩素濃度が５ｐｐｍ以下で、ＯＨ基濃度が１００ｐｐｍ以下である光透過用合成石英ガラスが記載されている。
　ここで、甲第５号証の記載からは、ｐｐｍで表された塩素濃度及びＯＨ基濃度について、本件特許発明１のように重量比での含有割合であるか否か明確ではないものの、その点について被請求人は争っていないし、また、固体中のある成分の濃度をｐｐｍで表す場合には、重量比であることが一般的であるから、甲第５号証には、水酸基の含有割合が重量比で１００ｐｐｍ以下であり、かつ、塩素基の含有割合が重量比で５ｐｐｍ以下である石英ガラスが記載されているとすると、当該石英ガラスは、水酸基の含有割合及び塩素基の含有割合については本件特許発明１の範囲のものとなっているということができる。
　しかしながら、甲第５号証には「酸素欠乏度」を「−０．０１〜０．０２の範囲」にすることについて記載も示唆もされていないばかりか、「酸素欠乏度」についての記載すらなされていないし、また、他の証拠をみても全く記載されてない。
　この「酸素欠乏度」を「−０．０１〜０．０２の範囲」にする点について、請求人は審判請求書において、『「酸素欠乏度が−０．０１〜０．０２」であることは、酸素欠損又は酸素過剰構造による欠陥が少ない石英ガラスを意味している』（第１６頁第２０行〜第２１行）としたうえで、『本件発明２（当審注、訂正を認めたので「本件特許発明１」に相当する。以下同様。）は、甲第３号証の発明と甲第５号証の発明とを組み合わせ、さらに、理論的に欠陥が少ないと考えられる石英ガラスを単に「酸素欠乏度」なる新規なパラメータの数値範囲−０．０１〜０．０２を用いて表現したに過ぎない。』（同頁第２２行〜第２５行）と主張している。
　ここで、「酸素欠乏度」は、既に検討したように本件特許明細書の段落００５６の記載のとおり定義されるものであるが、本件特許図面の図５のグラフにおいて、「酸素欠乏度」の値を示すｘ切片を求めるために、当該グラフ上にプロットされた点の集合から直線を求める必要があるところ、例えば「酸素欠乏度」の値が０であるということは、当該直線がグラフの原点を通るというだけであって、たとえ「酸素欠乏度」の測定のためのエキシマレーザの照射の前の石英ガラスの欠陥が多くても、原点を通る直線が描かれる場合には、「酸素欠乏度」の値が０となることは自明である。
　してみると、「酸素欠乏度が−０．０１〜０．０２の範囲」にあるということは、必ずしも石英ガラスの欠陥が少ないことを意味するのではなく、２つの異なる種類の欠陥の存在比率（バランス）が特定の範囲であることを意味するということができるのであって、この点については、被請求人も、答弁書において『本件発明２における石英ガラスについての「酸素欠乏度」の範囲は、単に「理論的に欠陥が少ない範囲」を規定するものではない。』（第６頁第６行〜第７行）及び『「酸素欠乏度」というパラメータを採用することにより、当該２つの現象のバランスを適切に表現することができる』（同頁第１５行〜第１６行）と主張しているところである。
　そうすると、請求人の上記主張は、『「酸素欠乏度が−０．０１〜０．０２」であることは、酸素欠損又は酸素過剰構造による欠陥が少ない石英ガラスを意味している』という前提の部分において既に失当であって、本件特許発明１の認定を誤ったものであるということができるから、採用することはできない。
　また、請求人は、弁駁書の『（１−２）酸素欠乏度の限定意義について』の項において『「酸素欠乏度」を限定する技術的意義は全く裏付けられておらず、単なる限定に過ぎない。よって、・・・甲第３号証に記載の発明に、・・・甲第５号証の発明を組み合わせ、さらに「酸素欠乏度」なる特殊なパラメータを作り出してこれを適宜な数値に限定することは、当業者が容易に採択し得る程度のことというべきである。』（第６頁第２行〜第８行）と結論づけているが、「酸素欠乏度」を限定する技術的意義が全く裏付けられていないという主張について、本件特許明細書が実施可能要件（平成１４年改正前特許法第３６条第４項）又はサポート要件（特許法第３６条第６項第１号）を満たしていないとする理由の根拠として主張するならともかく、本件特許発明１の進歩性を否定するための根拠とする理由が不明であるし、また、請求人が挙げたいずれの証拠にも「酸素欠乏度」について記載も示唆もされていないにもかかわらず、『「酸素欠乏度」なる特殊なパラメータを作り出してこれを適宜な数値に限定すること』が、何故『当業者が容易に採択し得る程度のこと』であるといえるのか理由が全く不明であるから、この主張も採用できない。
　そして、上記相違点アが解消しない以上、上記相違点イについては検討するまでもなく、本件特許発明１は、甲第３号証発明及び甲第５号証に記載された発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるということはできない。
　
（５）無効理由３ａについてのまとめ
　以上のとおりであるから、請求人の主張する無効理由３ａによっては本件特許発明１の特許を無効とすることはできない。
　
３　無効理由４について
（１）本件特許明細書の記載
　本件特許明細書において、本件特許発明１の放電ランプが有する放電容器を構成する石英ガラスの製造方法が記載されているのは、実質的に段落００７１のみであると認められ、その記載内容は以下のとおりである。
　
　「【００７１】
　上記の特定の非蛍光性石英ガラスは、例えば次のような方法により製造することができる。
　高純度珪素化合物である四塩化珪素を原料とし、酸水素火炎中で気相化学反応により石英ガラス微粒子を合成するとともにこれを堆積させ、例えばその直径が３５ｃｍで長さが１００ｃｍの多孔体（スート）を合成する。
　次に、この合成された多孔体を、真空炉内において減圧下で例えば１５５０℃の条件で熱処理して焼結させることにより、例えば直径が１２０〜１３５ｍｍ、長さが６５０ｍｍの石英ガラスロッド（プリフォーム）を製造する。
　この石英ガラスロッドを、所望の形状例えば管状または板状に加工した後、雰囲気炉に入れ、水素雰囲気下で熱処理を行って分子状水素を十分拡散させることにより、水酸基の含有割合が重量比で３０ｐｐｍから５００ｐｐｍの範囲であって、かつ、塩素基の含有割合が重量比で５ｐｐｍ以下の範囲である非蛍光性石英ガラスが得られる。
　また、石英ガラスロッドの製造工程において、多孔体を、例えば１２５０℃の条件で仮焼き処理した後、１５５０℃の条件で熱処理して焼結させることにより、水酸基の含有割合が重量比で１０ｐｐｍから７０ｐｐｍの範囲であって、かつ、塩素基の含有割合が重量比で５ｐｐｍ以下の範囲である非蛍光性石英ガラスが得られる。」
　
　上記記載から、「水酸基の含有割合」及び「塩素基の含有割合」を本件特許発明１の範囲とするための製造方法については、一応記載がなされていると認められる。
　
（２）無効理由４に対する被請求人の主張の概要
　被請求人の無効理由４に対する主張は、答弁書、口頭審理陳述要領書及び上申書によると、概ね以下のとおりである。
　
ア　『本件特許明細書の段落番号００７１には、本件発明２で規定されている石英ガラスを製造するための方法が具体的、かつ詳細に記載されており、当業者が本件発明２を実施するために必要な記載が十分になされている。』（答弁書第９頁第１９行〜第２１行）
　
イ　『（１）「酸素欠乏度」の制御について
　本件特許明細書の段落番号００７１には、スート法によれば、次の工程によって非蛍光性石英ガラスが製造されることが記載されている。
　〔１〕多孔体（スート）の形成工程
　「高純度珪素化合物・・・多孔体を合成する。」（第１８欄第１行〜第５行）
　〔２〕本焼結処理工程
　「次に、この合成された多孔体を、真空炉内において減圧下で例えば１５５０℃の条件で熱処理して焼結させることにより、・・・石英ガラスロッド（プリフォーム）を製造する。」（同欄第５行〜第９行）
　〔３〕ガラス加工工程
　「この石英ガラスロッドを、所望の形状例えば管状または板状に加工し」（同欄第９行〜第１１行）
　〔４〕水素処理工程
　「雰囲気炉に入れ、水素雰囲気下で熱処理を行って分子状水素を十分拡散させる」（同欄第１１行〜第１２行）
　そして、多孔体の形成工程の次に「仮焼結処理工程」が行われる場合があり、この場合には、仮焼結処理工程に続いて本焼結処理工程が行われる。
　〔５〕仮焼結処理工程
　「また、石英ガラスロッドの製造工程において、多孔体を、例えば１２５０℃の条件で仮焼き処理（する）」（同欄第１６行〜第１７行）
　以上の製造方法において、仮焼結処理が行われない場合には、〔２〕本焼結処理工程および〔４〕水素処理工程により、「酸素欠乏度」が制御される。すなわち、本焼結処理工程では、減圧下で温度条件を調整することにより、酸素欠乏度が制御され、また、水素処理工程により、「水酸基の含有割合が重量比で３０ｐｐｍから５００ｐｐｍの範囲であって、かつ、塩素基の含有割合が重量比で５ｐｐｍ以下の範囲である非蛍光性石英ガラスが得られる。」（同欄第１２行〜第１６行）
　一方、仮焼結が行われる場合には、〔５〕仮焼結処理工程、〔２〕本焼結処理工程および〔４〕水素処理工程により、「酸素欠乏度」が制御される。すなわち、仮焼結処理工程、本焼結処理工程および水素処理工程により、「水酸基の含有割合が重量比で１０ｐｐｍから７０ｐｐｍの範囲であって、かつ、塩素基の含有割合が重量比で５ｐｐｍ以下の範囲である非蛍光性石英ガラスが得られる。」（同欄第１８行〜第２１行）。』（口頭審理陳述要領書第５頁第１１行〜第６頁第１５行。なお、丸数字については亀甲括弧付きの数字に置き換えた。以下も同様である。）
　
ウ　『本件特許明細書の段落番号００７１に記載されている方法によれば、熱処理の条件（雰囲気の種類、温度、時間など）を制御して適宜の具体的条件を採用することにより、水酸基の含有割合、塩素基の含有割合および酸素欠乏度が所望の範囲に制御された石英ガラスを製造することができる。勿論、どのような条件であってもよい、というものはないが、或る特定の条件による処理によれば、当該条件に応じた状態の石英ガラスが得られるのであって、その再現性は高いものである。従って、用いる石英ガラス材料に応じて、所望の結果が得られる熱処理の条件を経験的に選定し、採用して行くことにより、確実に、水酸基の含有割合、塩素基の含有割合および酸素欠乏度が所望の範囲の石英ガラスを得ることができる。そして、そのような条件の選定は、当業者にとっては容易なことである。』（口頭審理陳述要領書第７頁第２１行〜第８頁第３行）
　
エ　『酸素欠乏度を所望の範囲とするための制御方法について説明する。
　（ｉ）酸素欠乏度は、石英ガラスにおける酸素欠乏欠陥（Ｅ´センタ）と酸素過剰欠陥（ＮＢＯＨＣ）の生成比率に直接的に関与する特性を示す指標であって、その値は、石英ガラスの製造においてＥ´センタおよびＮＢＯＨＣの生成に関与する条件を調整することにより、制御することができる。
　具体的には、石英ガラスの製造において、Ｅ´センタが生成され易い条件（この条件は、通常、ＮＢＯＨＣが生成されにくい条件である。）およびＮＢＯＨＣが生成され易い条件（この条件は、通常、Ｅ´センタが生成されにくい条件である。）の各々について、或る特定の処理条件を選定すると、或る値の酸素欠乏度を有する石英ガラスが得られる。これを「石英ガラスＡ」とする。
　この石英ガラスＡが、もし酸素欠乏度の値が所望の範囲より小さいものであれば、・・・石英ガラスＡの場合に比して、製造の条件を、Ｅ´センタが生成され易くてＮＢＯＨＣが生成されにくいものとすることにより、石英ガラスＡよりも酸素欠乏度が大きい石英ガラスＢが得られる。そして、この石英ガラスＢが所望の酸素欠乏度の範囲に達していないものであれば、更にＥ´センタが生成され易くてＮＢＯＨＣが生成されにくい条件を選定することにより、更に酸素欠乏度が大きい石英ガラスＣが製造される。
　一方、石英ガラスＡが、もし酸素欠乏度の値が所望の範囲より大きいものであれば、・・・石英ガラスＡの場合に比して、製造の条件を、Ｅ´センタが生成されにくくてＮＢＯＨＣが生成され易いものとすることにより、石英ガラスＡよりも酸素欠乏度が大きい（当審注、「小さい」の誤記と考えられる。）石英ガラスＤが得られ、この石英ガラスＤがなお所望の酸素欠乏度の範囲に達していないものであれば、更にＥ´センタが生成されにくくてＮＢＯＨＣが生成され易い条件に変更することにより、更に酸素欠乏度が小さい石英ガラスＥが製造される。
　以上のような方法により、酸素欠乏度が所望の範囲にある石英ガラスを製造することができるのであるから、上記の方法は、結局、石英ガラスについて、その酸素欠乏度を制御する方法である。』（上申書第７頁第３行〜第８頁第４行）
　
オ　『（ii）石英ガラスの製造において、Ｅ´センタ及びＮＢＯＨＣの生成され易さに関与する条件の代表的なものは下記のとおりである。
〔１〕スートの形成工程における合成火炎に供給する酸素量と水素量の量比
　スート形成工程における合成火炎中の理論反応式は下記の式（１）で表される。
　ＳｉＣｌ４＋２Ｈ２＋Ｏ２→ＳｉＯ２＋４ＨＣｌ　・・・（１）
　ここで、ＳｉＣｌ４は珪素原料、Ｈ２は燃焼ガス、Ｏ２は支燃ガス、
　　　　　ＳｉＯ２は合成されたシリカ粒子、ＨＣｌは塩化水素である。
　ただし、実際の反応では、珪素原料を有効にシリカ粒子に変換させるために、珪素原料に対して酸素および水素を共に理論反応式よりも多く供給する。そのために水蒸気が発生する。この水蒸気がスート中に含まれるＯＨ基の源となる。
　また、酸素量と水素量の量比「ガス混合比」を「２×酸素量／水素量」と定義すると・・・「ガス混合比」の適正範囲は１を超えるものとなる。・・・当該「ガス混合比」の適正範囲内でより１に近い状態では、酸素量に対して水素量が多いためにＳｉＯ２の中の酸素原子が取られ易くてＥ´センタが生成し易く、ＮＢＯＨＣが生成しにくくなる。
　一方、当該「ガス混合比」の適正範囲内でより数値が大きい範囲では、酸素量に対して水素量が少ないためにＳｉＯ２の中の酸素原子が取られにくく、逆に酸素原子過剰になり易くてＥ´センタが生成しにくく、ＮＢＯＨＣが生成し易くなる。
〔２〕焼結工程（本焼結工程および仮焼結工程）における処理炉として、例えば真空焼結炉を使用する場合の真空度
　焼結工程において、真空度は通常例えば１０〜５０Ｐａ程度とされるが、真空度が高い条件では、Ｅ´センタが生成し易くＮＢＯＨＣが生成しにくい。逆に、真空度が低い条件では、Ｅ´センタが生成しにくくＮＢＯＨＣが生成し易くなる。
　真空度が高い場合には、石英ガラスの正常な原子配列状態（Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ）から酸素原子が抜け易いために、酸素欠乏欠陥であるＥ´センタが生成し易いものと考えられる。
〔３〕焼結工程（本焼結工程および仮焼結工程）における昇温速度
　焼結工程においては、例えば１５００℃にまで昇温されるが、その昇温速度が速い条件では、Ｅ´センタが生成し易くＮＢＯＨＣは生成しにくい。逆に、昇温速度が遅い条件では、Ｅ´センタが生成しにくくＮＢＯＨＣは生成し易くなる。
　昇温速度が速い場合には、スートが急速に昇温されて真空下で高温度に曝されるため、石英ガラスの正常な原子配列状態（Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ）から酸素原子が抜け易く、その結果、Ｅ´センタが生成し易いものと考えられる。』（上申書第８頁第５行〜第９頁第２１行）
　
カ　『口頭審理陳述要領書第７頁記載の「適宜の具体的条件」とは、目的とする石英ガラスに対して、現在得られている石英ガラス材料の状態を分析し、その不足しているものを補うと共に、その過剰となっているものを減らせばよい条件であり、一概に規定し得るものではなく』（上申書第９頁第２３行〜第２６行）
　
キ　『例えば甲第５号証の段落番号０００９、００１０および００１２などに記載されているように、石英ガラスの酸素欠陥を制御する具体的な方法は、それ自体として公知であるのであるから、本件特許明細書の記載に基づいて、当業者は本件発明２を実施することができることは明白である。』（答弁書第９頁第２２行〜第２５行）
　
ク　『（当審注、甲第５号証の）段落番号０００９には、合成石英ガラスの製造方法の主流である気相合成法のうちの「プラズマ法」について説明されており、・・・このプラズマ法において、「プラズマガス中の酸素分圧が変動すると、得られる石英ガラスに酸素過剰欠陥あるいは酸素欠乏欠陥が生ずる」のであるから、この記載は、プラズマガス中の酸素分圧を調整することにより、酸素欠陥を制御することができることを意味するものである。』（口頭審理陳述要領書第２頁第９行〜第１８行）
　
ケ　『（当審注、甲第５号証の）段落番号００１０には、合成石英ガラスの気相合成法である「スート法」について説明されており、・・・このスート法によれば、スートの形成に酸素−水素火炎が用いられるが、酸素−水素バーナの火炎の消失を防ぐ目的で酸素の供給が過剰に行われるために、スートは、−ＯＨ基や−Ｏ−Ｏ−基の形態で酸素を過剰に含有するもの、すなわち酸素過剰欠陥の割合が高い状態のものとなる。そして、スートの焼結処理において、雰囲気の制御、例えば真空下で熱処理されることにより、酸素およびＯＨ基が除去され、これにより酸素欠陥が制御される。』（口頭審理陳述要領書第２頁末行〜第３頁第９行）
　
コ　『（当審注、甲第５号証の）段落番号００１２には『石英ガラスの酸素欠陥を制御する具体的な方法』は記載されておらず』（口頭審理陳述要領書第３頁第１０行〜第１１行）
　
サ　『甲第５号証には、酸素欠陥を制御する具体的な方法について、更に下記の記載がある。
　〔１〕段落番号００１３の第２行〜第４行に、
「ＯＨ基の濃度を１００ｐｐｍ以下に低下させると、今度は石英ガラス中に酸素欠乏欠陥が生成し」と記載されており、ＯＨ基の濃度制御によって酸素欠陥を制御することができることが示されている。
　〔２〕段落番号００３１の第５行〜第１１行には、スート法における加熱炉中での焼結処理について、
「この加熱炉内での処理は、例えば、酸化性雰囲気中および真空下で行い、これによって塩素濃度、およびＯＨ基濃度とその変動幅が規定の範囲内に入るように調整する。紫外領域において光吸収帯が検出されないようにするためには酸素過剰欠陥ならびに酸素欠乏欠陥を極力減少させることが必要で、加熱炉内での処理条件を適宜コントロールする。」
と記載されており、焼結時の雰囲気を制御することにより、酸素欠陥を制御することができることが示されている。』（口頭審理陳述要領書第３頁１３行〜末行）
　
（３）無効理由４についての判断
ア　平成１４年改正前特許法第３６条第４項は「発明の詳細な説明は、・・・その発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者がその実施をすることができる程度に明確かつ十分に、記載しなければならない」と規定している。
　そして、「特許庁編　特許・実用新案審査基準」の「第Ｉ部第１章　明細書及び特許請求の範囲の記載要件」の「３．発明の詳細な説明の記載要件」には、
　
　「（１）この条文は、その発明の属する技術分野において研究開発（文献解析、実験、分析、製造等を含む）のための通常の技術的手段を用い、通常の創作能力を発揮できる者（当業者）が、明細書及び図面に記載した事項と出願時の技術常識とに基づき、請求項に係る発明を実施することができる程度に、発明の詳細な説明を記載しなければならない旨を意味する（「実施可能要件」という）。（２）したがって、明細書及び図面に記載された発明の実施についての教示と出願時の技術常識とに基づいて、当業者が発明を実施しようとした場合に、どのように実施するかが理解できないとき（例えば、どのように実施するかを発見するために、当業者に期待しうる程度を超える試行錯誤や複雑高度な実験等を行う必要があるとき）には、当業者が実施することができる程度に発明の詳細な説明が記載されていないこととなる。・・・（４）条文中の「その（発明の）実施をすることができる」とは、請求項に記載の発明が物の発明にあってはその物を作ることができ、かつ、その物を使用できることであり」（「３．２　実施可能要件」を参照。）、
　
　「（２）物の発明についての「発明の実施の形態」　物の発明について実施をすることができるとは、上記のように、その物を作ることができ、かつ、その物を使用できることであるから、「発明の実施の形態」も、これらが可能となるように記載する必要がある。・・・〔２〕「作ることができること」　物の発明については、当業者がその物を製造することができるように記載しなければならない。このためには、どのように作るかについての具体的な記載がなくても明細書及び図面の記載並びに出願時の技術常識に基づき当業者がその物を製造できる場合を除き、製造方法を具体的に記載しなければならない。機能・特性等によって物を特定しようとする記載を含む請求項において、その機能・特性等が標準的なものでなく、しかも当業者に慣用されているものでもない場合は、当該請求項に係る発明について実施可能に発明の詳細な説明を記載するためには、その機能・特性等の定義又はその機能・特性等を定量的に決定するための試験・測定方法を示す必要がある。なお、物の有する機能・特性等からその物の構造等を予測することが困難な技術分野（例：化学物質）において、機能・特性等で特定された物のうち、発明の詳細な説明に具体的に製造方法が記載された物（及びその具体的な物から技術常識を考慮すると製造できる物）以外の物について、当業者が、技術常識を考慮してもどのように作るか理解できない場合（例えば、そのような物を作るために、当業者に期待しうる程度を超える試行錯誤や複雑高度な実験等を行う必要があるとき）は、実施可能要件違反となる。」（「３．２．１　実施可能要件の具体的運用」を参照。）
　
と記載されている。
　
イ　これを本件特許発明１にあてはめると、物の発明である本件特許発明１を特定するための事項である「石英ガラス」についての限定である「酸素欠乏度」は、明らかに標準的なものでも当業者に慣用されているものでもなく、本件特許明細書の段落００５６の記載からみて石英ガラスにエキシマレーザを照射した際の所定の２つの波長における吸光度の測定により定量的に決定されるものであって、『石英ガラスのいわば初期状態の特性』（被請求人提出の上申書第３頁第２４行を参照。）であるということができ、そのような特性である「酸素欠乏度」から石英ガラスの構造を予測することは困難であると認められるから、本件特許発明１は「物の有する機能・特性等からその物の構造等を予測することが困難な技術分野」に係るものであるということができる。
　そして、上述のとおり本件特許明細書において実質的に石英ガラスの製造方法が記載された唯一の箇所であると認められる段落００７１には、「酸素欠乏度」を本件特許発明１の範囲である「−０．０１〜０．０２」に制御するための製造条件について何ら記載されていないばかりか、「酸素欠乏度」という語すら記載されていないのであるから、本件特許発明１は、「機能・特性等で特定された物のうち、発明の詳細な説明に具体的に製造方法が記載された物・・・以外の物」に係るものであるということができる。
　そこで、本件特許発明１の物が、「当業者が、技術常識を考慮してもどのように作るか理解できない」ものであるか、又は、「そのような物を作るために、当業者に期待しうる程度を超える試行錯誤・・・を行う必要がある」ものであるかを以下に検討する。
　
ウ　上記無効理由４に対する被請求人の主張ア〜カを総合すると、要するに、「酸素欠乏度」が所望の範囲にある石英ガラスを得るために、その製造条件を上記主張エで示されているような試行錯誤により選定する、というものである。
　しかしながら、当該製造条件の選定は、『酸素欠乏度は、石英ガラスにおける酸素欠乏欠陥（Ｅ´センタ）と酸素過剰欠陥（ＮＢＯＨＣ）の生成比率に直接的に関与する特性を示す指標であって、その値は、石英ガラスの製造においてＥ´センタおよびＮＢＯＨＣの生成に関与する条件を調整することにより、制御することができる。』（上記主張エを参照。）という前提に基づいて行うものであるといえるところ、そのような前提について、本件特許明細書には何ら記載されていないばかりか、本件特許明細書の段落００１４の「真空紫外光が照射されることによって、石英ガラスの当該波長域における透過率が低下する現象は、・・・本発明者等が新たに発見したものであり、真空紫外光を放出する放電ランプおよび真空紫外光源装置固有の問題である。・・・このような波長域における透過率の低下は、Ｅ´センタやＮＢＯＨＣの生成などの従来から提唱されている種々の欠陥では説明することができない現象である。従って、従来の理論による対策を行っても、このような現象を防止または抑制することはできない。」という記載をみた当業者が、「従来の理論による対策」であるといえる『Ｅ´センタおよびＮＢＯＨＣの生成に関与する条件』の『調整』により、「酸素欠乏度」の制御を行うことに想到するのは困難であるといえるから、被請求人の上記主張は、その前提において失当であるというべきであって、採用できないものである。
　仮に、本件特許明細書の記載又は本件特許の出願当時の技術常識に基づけば上記の前提に立つことができるのであるとしても、被請求人が上記主張オで代表的なものとして挙げた３つの製造条件の制御により、『Ｅ´センタ及びＮＢＯＨＣの生成され易さ』を変化させ得ることは本件特許明細書に記載されておらず、また、そのことが本件特許の出願時の技術常識であるのか否かについても何ら裏付けがなされていないから、当業者が本件特許発明１の物を製造することができるとはいいがたい。
　さらに仮に、上記３つの製造条件の制御により『Ｅ´センタ及びＮＢＯＨＣの生成され易さ』を変化させることが本件特許の出願時の技術常識であり、上記主張エで示されているような試行錯誤により「酸素欠乏度」のみについては本件特許発明１の範囲とすることができたとしても、本件特許発明１における石英ガラスは、本件特許明細書の段落番号００７１に記載されている製造工程により「水酸基の含有割合」及び「塩素基の含有割合」をそれぞれ重量比で「１０〜５００ｐｐｍの範囲」及び「５ｐｐｍ以下」とするとともに、「放電ランプの定格動作状態において生ずる波長６５０ｎｍ付近における蛍光の放射強度が、当該放電ランプからの真空紫外光の放射強度の５％以下のもの」（「酸素欠乏度」の値（本件特許明細書の段落００６６を参照。）のみならず、分子状水素の含有割合にも依存する（同段落００６９を参照。）と解される。）としたうえで、「酸素欠乏度」の範囲を「−０．０１〜０．０２」としなければならないところ、上記主張オで代表的なものとして挙げられた３つの製造条件の制御が、「水酸基の含有割合」、「塩素基の含有割合」及び「波長６５０ｎｍ付近における蛍光の放射強度」に対してどのような影響を及ぼすのか不明である以上、当業者は、何らの指針もないまま不相当に多くの試行錯誤をしなければならないことになるから、本件特許発明１の物を製造するには、当業者に期待しうる程度を超える試行錯誤を行う必要があるといわざるをえない。
　
エ　上記無効理由４に対する被請求人の主張キ〜サを総合すると、要するに、甲第５号証の段落０００９、００１０、００１３及び００３１に記載されているように、石英ガラスの酸素欠陥を制御する具体的な方法は、本件特許の出願時に公知であるから、本件特許明細書の記載に基づいて、当業者が本件特許発明１を実施できることは明白である、というものである。
　しかしながら、上記被請求人が挙げた甲第５号証の段落０００９、００１０、００１３及び００３１をみても、本件特許発明１の「酸素欠乏度」について何ら記載されておらず、請求人の『「酸素欠乏度」と「酸素欠陥」とは全く異なる概念』（弁駁書第８頁第４行〜第５行を参照。）であるという主張に対して、被請求人も『本件発明にいう「酸素欠乏度」は、本件特許明細書の段落番号００５６の記載に従って得られるものであり、それが単なる酸素欠陥と異なる概念であることは請求人のいうとおりである。』（口頭審理陳述要領書第１０頁下から２行〜第１１頁第１行を参照。）と認めており、甲第５号証により石英ガラスの「酸素欠陥」を制御する具体的な方法が本件特許の出願時に技術常識であったとしても、何故、当業者が「酸素欠乏度」を制御できることの理由となるのか不明であるから、この点に関する被請求人の主張も採用できない。
　
（４）無効理由４についてのまとめ
　以上のとおりであるから、本件特許発明１の物は、当業者が、技術常識を考慮してもどのように作るか理解できず、そのような物を作るために、当業者に期待しうる程度を超える試行錯誤を行う必要があるから、本件特許明細書の発明の詳細な説明は、当業者が本件特許発明１を実施することができる程度に明確かつ十分に記載されているということはできない。
　したがって、本件特許発明１の特許は、平成１４年改正前特許法第３６条第４項に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものであり、同法第１２３条第１項第４号に該当するから、無効とされなければならない。
　
４　無効理由５について
（１）本件特許明細書の記載
　上記「３　無効理由４について」の「（１）本件特許明細書の記載」で示したのと同様に、本件特許明細書において、本件特許発明２の放電ランプが有する放電容器を構成する石英ガラスの製造方法が記載されているのは、実質的に段落００７１のみであると認められ、その記載内容は上記のとおりであるところ、そのうちの「水素雰囲気下で熱処理を行って分子状水素を十分拡散させる」という記載から、「分子状水素」の制御については一応記載されているということができる。
　
（２）無効理由５に対する被請求人の主張の概要
　被請求人の無効理由５に対する主張は、口頭審理陳述要領書及び上申書によると、概ね以下のとおりである。
　
ア　『石英ガラス中の（・Ｓｉ−Ｓｉ・）結合の含有割合は、焼結工程（仮焼結が行われない場合には本焼結、または仮焼結が行われる場合には仮焼結および本焼結）において、その加熱温度、雰囲気を調整することによって制御することができる。具体的には、酸素雰囲気または酸化性雰囲気下において熱処理することにより、（・Ｓｉ−Ｓｉ・）結合を酸素欠陥のない正常な結合に変換できるので、（・Ｓｉ−Ｓｉ・）結合の含有割合を減少させることができる。』（口頭審理陳述要領書第８頁第１３行〜第１８行）
　
イ　『口頭審理陳述要領書第８頁記載の「（・Ｓｉ−Ｓｉ・）結合の含有割合」の制御について、「酸素雰囲気又は酸化性雰囲気下において熱処理する」ことは下記の文献〔１〕〜〔３〕に記載されている。
〔１〕文献　PHYSICAL REVIEW B VOLUME 38, NUMBER 17 (1988)の第１２７７２頁右欄末行〜第１２７７３頁左欄第１１行
（訳文）
「試料を、Ｈ２中において８００℃で、またはＯ２中において９００℃で加熱処理すると、これらの吸収帯は加熱時間の増加に伴って減少した。・・・Ｏ２との反応は、式（２）と考えられる。
　ＯＤＣ＋1/2Ｏ２ → ≡Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ≡，　（２）
・・・」
　ここに、「ＯＤＣ」は「酸素欠乏欠陥」（oxygen-deficient centers）であって（第１２７７２頁左欄第４行〜第５行参照）、・Ｓｉ−Ｓｉ・結合は酸素欠乏欠陥の代表的なものであり、これが酸素処理によって制御されることが示されている。・・・
〔２〕特開平６−２３４５４５号公報（請求人提出の甲第５号証を援用する。）
　段落００３１の第５行〜第１１行
「この加熱炉内での処理は、例えば、酸化性雰囲気中および真空下で行い、これによって塩素濃度、およびＯＨ基濃度とその変動幅が規定の範囲内に入るよう調整する。紫外領域において光吸収帯が検出されないようにするためには酸素過剰欠陥ならびに酸素欠乏欠陥を極力減少させることが必要で、加熱炉内での処理条件を適宜コントロールする。」
　この記載においては、・Ｓｉ−Ｓｉ・結合そのものについては直接に言及されていないが、塩素濃度およびＯＨ基濃度が調整されることは、当然のことながら、同時に・Ｓｉ−Ｓｉ・結合も必然的に酸化性雰囲気による作用を受けるはずであるから、・Ｓｉ−Ｓｉ・結合が正常な・Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ・に変換されるものと解される。このように、加熱炉内での処理条件をコントロールすることにより、酸素欠乏欠陥である・Ｓｉ−Ｓｉ・結合が減少することが示されている。
〔３〕特開平１−１９７３３５号公報（乙第１号証）
（ｉ）第３頁右上欄第６行〜左下欄第８行
　「前記好ましい結果が得られた母材は加熱処理前の母材に比していずれも石英ガラス組織（ＳｉＯ２）中に存在する酸素欠陥、具体的には下記〔１〕の式で示される酸素欠損型欠陥・・・が実質的に除去されていることが確認された。
〔１〕Ｏ　　　　　　　Ｏ
　　　　＼　　　　　／
　　　Ｏ−Ｓｉ−Ｓｉ−Ｏ
　　　　／　　　　　＼
　　　Ｏ　　　　　　　Ｏ
・・・
　従って本発明は上述した知見と実験結果に基づいてなされたものであり、その特徴とするところは、レーザ光学系の母材となるべき高純度石英ガラス塊を形成した後、酸化性又は還元性のいずれか一又は複数の選択された雰囲気中で、前記石英ガラス塊を加熱処理する事により、該石英ガラス塊組織中に存在する酸素欠陥の実質的除去を図った点にある。
（ii）第４頁左下欄第１９行〜右下欄第５行
「次に、スート再溶融法で合成された石英ガラス塊には、酸素欠損型欠陥が存在し、耐エキシマレーザ性は好ましい結果が得られなかったが、その後この石英ガラス塊を酸化性雰囲気にて熱処理し、酸素欠陥濃度を実質的に除去させる事により耐エキシマレーザ性を大幅に向上させる事が出来た。」』（上申書第４頁第２行〜第６頁第１行）
　
ウ　『分子状水素および（・Ｓｉ−Ｈ）結合の含有割合については、主として、水素処理工程において、熱処理の雰囲気における水素分圧を大きくすることにより、それらの含有割合を大きくすることができ、一方、酸素雰囲気下で加熱することにより、Ｈが除去されて分子状水素および（・Ｓｉ−Ｈ）結合の含有割合を小さくすることができる。』（口頭審理陳述要領書第８頁第１９行〜第２３行）
　
エ　『この記載は、
（ｉ）分子状水素の含有割合について、「主として、水素処理工程において、熱処理の雰囲気における水素分圧を大きくすることにより、その含有割合を大きくすることができ、一方、酸素雰囲気下で加熱することにより、Ｈが除去されてその含有割合を小さくすることができる。」ことを表明すると共に、
（ii）（・Ｓｉ−Ｈ）結合の含有割合について、「主として、水素処理工程において、熱処理の雰囲気における水素分圧を大きくすることにより、その含有割合を大きくすることができ、一方、酸素雰囲気下で加熱することにより、Ｈが除去されてその含有割合を小さくすることができる。」ことを表明するものであると解されるべき記載である。
　決して、分子状水素の含有割合と（・Ｓｉ−Ｈ）結合の含有割合の両方が一括的に制御されることを意味するものではない。
　分子状水素は、石英ガラスの組織中に「溶解」することによって含有されるものであり、一方、（・Ｓｉ−Ｈ）結合は、石英ガラスの組織それ自体における状態として含有されるものである。従って、熱処理における雰囲気の種類および条件によって両者の含有割合が共に変化することがあることは勿論である。しかし、分子状水素の含有割合が変化する度合いと（・Ｓｉ−Ｈ）結合の含有割合が変化する度合いは、同じ工程の制御であっても同一ではなく、また、水素処理工程における制御と酸素雰囲気下の加熱における制御においても、それらの変化の度合いは同じではない。このことを利用すれば、分子状水素と（・Ｓｉ−Ｈ）結合とを、それぞれ所望の値に制御することができる。』（上申書第６頁第９行〜第７頁第１行）
　
（３）無効理由５についての判断
ア　上記無効理由５に対する被請求人の主張ア及びイは、要するに、石英ガラス中の・Ｓｉ−Ｓｉ・結合の含有割合は、石英ガラスを酸素雰囲気又は酸化性雰囲気下において熱処理することにより減少させることができるものであって、そのことは主張イで挙げた文献に記載されているというものである。
　ここで、石英ガラス中の・Ｓｉ−Ｓｉ・結合の含有割合を減少させるために、石英ガラスを酸素雰囲気または酸化性雰囲気下において熱処理することが、本件特許の出願時に技術常識であったか否かについて検討すると、上記主張イで挙げられた文献のうち、〔２〕の文献には被請求人も認めるとおり直接言及されていないものの、少なくとも〔１〕及び〔３〕の文献には記載されていると認められ、〔１〕及び〔３〕の文献の頒布時期からみて、本件特許の出願時の技術常識であったものと一応認めることができる。
　しかしながら、石英ガラス中の・Ｓｉ−Ｓｉ・結合の含有割合を制御するために、石英ガラスを酸素雰囲気又は酸化性雰囲気下において熱処理することについて、本件特許明細書には何ら記載されていないし、「酸素欠乏度」の制御に関してではあるが、『段落番号００７１に記載されている製造工程のいずれが、石英ガラスに酸素を供給するものとなっているのか。』という審判合議体からの質問（口頭審理陳述要領書第５頁第８行〜第９行を参照。）に対しても、被請求人は明確に回答していない。
　そればかりか、被請求人は口頭審理陳述要領書において、上記質問に関して、『段落番号００７１には、スート法によれば、次の工程によって非蛍光性石英ガラスが製造されることが記載されている。』（第５頁第１２行〜第１３行）、『必ずしも「酸素を供給する必要がある」わけではない。』（第６頁第１８行〜第１９行）及び『含有酸素量が不足している石英ガラス材料では、酸素を供給することが必要である。この酸素の供給は、通常、酸素雰囲気（酸化性雰囲気）による熱処理（酸素処理）によって行われる。一方、・・・含有される酸素量が過剰の石英ガラス材料では、酸素を除去することが必要である。例えばスート法による石英ガラス材料（スート）は、この含有酸素量が過剰な状態のもの』（第７頁第１行〜第６行）と主張しており、これらの主張に基づくと、本件特許明細書記載のスート法により製造される石英ガラスは、含有酸素量が過剰であるため「酸素欠乏度」の値は小さいにもかかわらず、当該石英ガラスを酸素雰囲気又は酸化性雰囲気下において熱処理すると、更に含有酸素量を増大させることになるといえるから、「酸素欠乏度」の値が本件特許発明２で規定する範囲よりも小さくなることがありうることになる。
　さらに、分子状水素の含有割合について、本件特許発明２で「１０１５個／ｃｍ３以上溶解度以下」と規定されているのは「大きいほど好ましい」（本件特許明細書の段落００６９を参照。）からであるところ、上記無効理由５に対する被請求人の主張ウ及びエによると、分子状水素の含有割合は、酸素雰囲気下での熱処理により小さくなるのであるから、当該熱処理の処理条件等によっては、本件特許発明２で規定する下限値（１０１５個／ｃｍ３）よりも小さくなることがありうることになる。
　そうすると、石英ガラス中の・Ｓｉ−Ｓｉ・結合の含有割合を、本件特許発明２で規定されている５×１０１６個／ｃｍ３以下に減少させることのみを目的として、当業者が技術常識に基づいて酸素雰囲気又は酸化性雰囲気下における熱処理を行うことができたとしても、当該酸素雰囲気又は酸化性雰囲気下における熱処理により影響を受ける「酸素欠乏度」の値及び分子状水素の含有割合について、本件特許発明２で規定する範囲を逸脱しないようにするには、上記熱処理の処理条件（雰囲気中の酸素又は酸化性ガスの分圧（酸化性雰囲気では酸化性ガスの種類も）、昇温速度、処理温度、処理時間等）、及び、本件特許明細書の段落００７１に記載されている製造工程中のどの時点で行うのか（特に、真空炉内の熱処理及び水素雰囲気下での熱処理との先後関係）が明らかにされなければならないと認められるところ、それらの点について、本件特許明細書に記載されていないし、また、本件特許の出願時における技術常識であるともいえないから、本件特許明細書の記載に基づいて当業者が本件特許発明２の物を製造することができるとはいいがたい。
　
イ　上記無効理由５に対する被請求人の主張ウ及びエは、分子状水素の含有割合及びシリコン原子に結合した水素（・Ｓｉ−Ｈ）の含有割合の制御に関するものである。
　ここで、『分子状水素は、石英ガラスの組織中に「溶解」することによって含有されるもの』及び『（・Ｓｉ−Ｈ）結合は、石英ガラスの組織それ自体における状態として含有されるもの』であることは上記主張エのとおりであるとしても、どちらも石英ガラス中に含有される水素である点で共通するから、上記主張ウのとおり『主として、水素処理工程において、熱処理の雰囲気における水素分圧を大きくすることにより、それらの含有割合を大きくすることができ』るものと認められ、上記主張エのうちの『決して、分子状水素の含有割合と（・Ｓｉ−Ｈ）結合の含有割合の両方が一括的に制御されることを意味するものではない』という主張は根拠がないものといわざるをえない。
　この点を踏まえてさらに検討すると、シリコン原子に結合した水素（・Ｓｉ−Ｈ）の含有割合が本件特許発明２において「６×１０１６個／ｃｍ３以下」と規定されているのは、「シリコン原子に結合した水素（・Ｓｉ−Ｈ）の含有量の検出限界は６×１０１６個／ｃｍ３」であって「いかなる方法によっても検出されないことが好ましい」（本件特許明細書の段落００６０を参照。）からであって、小さいほど好ましいということができる一方で、分子状水素の含有割合は上述のとおり「大きいほど好ましい」とされているから、両者の含有割合の制御目標は、それぞれ相反するものとなっており、本件特許明細書の段落００７１に記載されている「水素雰囲気下で熱処理を行って分子状水素を十分拡散させる」という水素処理工程により、シリコン原子に結合した水素（・Ｓｉ−Ｈ）の含有割合は、本件特許発明２に規定する上限値（６×１０１６個／ｃｍ３）を超えることがありうるということができる。
　この点に関し、上記主張エでは『分子状水素の含有割合が変化する度合いと（・Ｓｉ−Ｈ）結合の含有割合が変化する度合いは、同じ工程の制御であっても同一ではなく、また、水素処理工程における制御と酸素雰囲気下の加熱における制御においても、それらの変化の度合いは同じではない。このことを利用すれば、分子状水素と（・Ｓｉ−Ｈ）結合とを、それぞれ所望の値に制御することができる。』と主張しているが、「含有割合が変化する度合い」がどの程度であって、その「度合い」が「同じではない」ことをどのように利用するのか、何ら示されておらず不明である。
　また、仮に、上記主張のとおりに分子状水素の含有割合及びシリコン原子に結合した水素（・Ｓｉ−Ｈ）の含有割合を制御することが、本件特許の出願時の技術常識であったとしても、上記『水素処理工程における制御と酸素雰囲気下の加熱における制御』は、少なくとも「酸素欠乏度」の値及び・Ｓｉ−Ｓｉ・結合の含有割合にも影響を及ぼすものであるから、分子状水素の含有割合及びシリコン原子に結合した水素（・Ｓｉ−Ｈ）の含有割合については本件特許発明２の範囲とすることができても、「酸素欠乏度」の値及び・Ｓｉ−Ｓｉ・結合の含有割合を含めて本件特許発明２の範囲とするためには、当業者に期待しうる程度を超える試行錯誤を行う必要があるといわざるをえない。
　
（４）無効理由５についてのまとめ
　以上のとおりであるから、本件特許明細書の発明の詳細な説明は、当業者が本件特許発明２を実施することができる程度に明確かつ十分に記載されているということはできない。
　したがって、本件特許発明２の特許は、平成１４年改正前特許法第３６条第４項に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものであり、同法第１２３条第１項第４号に該当するから、無効とされなければならない。
　
第６　むすび
　以上のとおり、無効理由４及び５には理由があり、本件特許の請求項１及び２に係る発明についての特許は、平成１４年改正前特許法第３６条第４項に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされた特許であるから、同法第１２３条第１項第４号の規定により無効とされなければならない。
　また、審判に関する費用については、特許法第１６９条第２項で準用する民事訴訟法第６１条の規定により、被請求人が負担すべきものとする。
　よって、結論のとおり審決する。