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　平成　７年特許願第３１０９８０号「電解イオン水製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成　９年　６月１０日出願公開、特開平　９−１５０１５５〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続きの経緯・本願発明
　本願は、平成７年１１月２９日に特許出願されたものであって、平成１５年１２月１２日付けで拒絶査定がなされ、それに対し、平成１６年１月１５日付けで拒絶査定に対する審判請求がなされたものである。
　そして、本願発明は、平成１５年６月２４日付けで提出された手続補正書により補正された本願明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１〜４に記載された事項により特定されるとおりのものであるものであると認められるところ、そのうちの請求項１に係る発明（以下、「本願発明１」という。）は次のとおりである。
【請求項１】原水と、水に溶解してイオンを生成する気体とを混合する気液混合手段と、該気液混合手段で得られるイオンを含むイオン水を電気分解装置に供給する配管と、該イオン水を電気分解して電解イオン水を製造する電気分解装置とからなる電解イオン水製造システムにおける、該電気分解装置のアノード側にイオン濃度が１〜４００ｐｐｍのイオン水を供給し、カソード側にイオン濃度が１〜４０ｐｐｍのイオン水を供給することを特徴とする電解イオン水製造方法。
２．引用文献
（１）原査定の拒絶の理由において引用文献１として提示された特開平７−２６３３９１号公報（以下、「引用文献１」という。）には、ウェット処理装置および電解活性水生成方法およびウェット処理方法に関し、図面とともに以下の記載がある。
（ア）「【従来の技術】半導体製造プロセスのウエット処理工程では、高濃度の化学薬品を多量に使用しているのが現状である。たとえばパーティクル除去を主な目的とした洗浄工程では、水酸化アンモニウム（２７％）と過酸化水素水（３０％）と水を１：１：５の容積比率で混合した薬液（アンモニア過水と言われる）などを多量に用いている。また金属汚染除去を主な目的とした洗浄工程では、塩酸（３７％）と過酸化水素水（３０％）と水を１：１：６の容積比率で混合した薬液（塩酸過水と言われる）などが多量に利用される。こうした化学薬品を多量に使うことは地球環境にとって好ましくなく、また廃液処理のコストが嵩むことを考え併せると、化学薬品の使用削減は急務である。その観点から、ウエット工程での化学薬品の削減が検討され始めている。
　こうした施策の１つとして、水あるいは微量の支持電解質を含んだ水溶液の電気分解を行ない、生成される活性な水を洗浄工程などに適用する提案がなされている。」（段落【０００２】〜【０００３】）
（イ）「以下、図を用いて、この本発明の実施例について詳細に説明する。図１は、電解活性水の効率的生成を実現するのに適したウエット処理装置の第１の実施例を示している。電解槽１０１は、イオン交換樹脂１０２によって２層に分けられ、その両側に陽極１０３と陰極１０４が配置され、直流電源１０５につながっている。イオン交換樹脂１０２としてはカチオン交換樹脂を、陽極１０３と陰極１０４としては網目状の白金電極を用いている。陽極側に純水あるいは再生水を供給し、電気分解処理を行なった陽極水１０６をウエット処理工程に供給する。なお、図１では、電解槽への供給経路およびウエット処理工程への排出経路は省略した。電解活性水（陽極水１０６）の効率的生成と安定化のために、陽極１０３の下部にバブラーを置き、気体１０７を陽極に供給できる構造になっている。なおこの実施例では、陰極側の電解活性水である陰極水１０８の利用は考えていない。
　図１の電解槽で、陽極側に塩素ガスを供給しながら電気分解を行なった。シリコン表面を意図的に金属で汚染し、１０１２ｃｍ−２オーダーとしたウエハーを、電解活性水（陽極水）で洗浄した時の除去効果を調べた。図２は、電気分解時の供給電流を３００ｍＡ／ｄｍ２ とし、毎分約１リットル生成される電解活性水を用い、ウエハーの洗浄を行なった後の残留金属量と供給した塩素ガスの流量との関係を示している。電解活性水の酸化還元電位は、この系で飽和する約１２００ｍＶの値が得られている。鉄が残りやすい傾向はあるものの、塩素ガスの流量が７０ｓｃｃｍ以上あれば安定した金属除去が達成されている。なお図２の結果は、図１に示した構成を用い、電解槽に純水を供給して結果であり、後の実施例で示すような電解活性水のリサイクルを行なえば、使用する塩素ガスの量は減らすことができる。」（段落【００２０】〜【００２３】）、
（ウ）「図３は、電解活性水の効率的生成を実現するのに適したウエット処理装置の第２の実施例を示している。図１とほぼ同じ構成で、違っている点は、陰極１０４の下部にバブラーを置き、気体３０９を陰極に供給できる構造になっていることである。気体３０９は電解活性水（陰極水１０８）の効率的生成と安定化のために供給する。この実施例は、陰極側の電解活性水だけを使う場合の構成であり、陽極１０３としては網目状の白金電極を、陰極１０４としては網目状のグラファイトカーボンを用いた。
　図３に示した電解槽で、陰極側にアンモニアガスを供給しながら電気分解を行なった。６インチのシリコン表面にパーティクルを付着させ、電解活性水（陰極水）による除去効果を調べた。図４は、電気分解時の供給電流を３００ｍＡ／ｄｍ２とし、毎分約１Ｌ生成される電解活性水に供給する塩素ガスの流量と、６インチウエハ上に残留する径０．２μｍ以上のパーティクル数との関係を示している。洗浄は、電解活性水を洗浄槽に供給して、約２０分間浸漬した。図４から明らかなように、アンモニアガス流量が１５ｓｃｃｍ程度以上でパーティクル除去効果がほぼ安定する傾向を示す。」（段落【００２５】〜【００２６】）、
（エ）「アンモニア濃度が１０−４〜１０−２モル％程度のアンモニア水中のアンモニアイオン濃度は０．３〜０．５％程度であった。一方、同様の範囲のモル濃度のアンモニアを含む水溶液（勿論アンモニア水でもかまわないが）を電気分解し、陰極側で得られる電解活性水中のアンモニアイオン濃度を測定したところ、解離度電気分解時の条件を変えることによって（たとえば電流密度を上げる）液中のアンモニアの５０％程度までイオ化するという測定結果が得られている。」（段落【００２８】）、
（オ）「図５は、電解活性水の効率的生成を実現するのに適したウエット処理装置の第３の実施例を示している。図１や図３とほぼ同じ構成で、違っている点は、陽極側および陰極側の両方で生成する電解活性水の効率的生成と安定化のために、陽極１０３の下部と陰極１０４の下部にバブラーを起き、気体１０７を陽極に供給でき、気体３０９を陰極に供給できる構造になっていることである。」（段落【００２９】）、
（カ）「図７は、電解活性水の効率的生成を実現するのに適したウエット処理装置の第５の実施例を示している。第１から第４の実施例では、電気分解部においてガスを供給していた。しかし、その様な構成が必ずしも必要なわけではなく、図７のように純水あるいは再生水７０１にバブラー７０２を通して気体７０３を溶存させた後に電気分解処理を行う構成でも良い。溶存させるガスの効率的利用を考えた場合には図６と同様に気体の回収口７０４を設けた方が良い。電解槽７０５において電気分解処理を行ない、生成した電気活性水７０６を半導体ウエット工程に適用する。」（段落【００３１】）、
（キ）【図７】（第１０頁）には、記載事項（カ）のウェット処理装置が示されている。
　そして、記載事項（イ）、（カ）及び（キ）によれば、図７には、純水あるいは再生水７０１の供給経路と、該送給経路に接続し、水に溶存させる気体の入口に接続したバブラー７０２を内部に備え、さらに、純水あるいは再生水７０１の入口と上記気体を溶存した純水あるいは再生水の出口とを備えた槽と、該槽と電解槽７０５を接続する経路と、電解槽７０５と、該電解槽７０５に接続し、電解活性水７０６をウエット処理工程へ供給するための排出経路とからなる電解活性水の効率的生成を実現するのに適したウェット処理装置が示されているということができる。
　さらに、記載事項（イ）に陽極側に塩素ガスを供給しながら電気分解を行い電解槽で陽極水（陽極側で生成する電解活性水）を生成することが記載され、記載事項（ウ）に陰極側にアンモニアを供給しながら電気分解を行い陰極水（陰極側で生成する電解活性水）を生成することが記載され、記載事項（エ）から１０−４〜１０−２モル％のアンモニアを含み前記アンモニアの内の０．３％〜０．５％がアンモニアイオンになっている水溶液が電解槽に供給され、記載事項（オ）に図１や図３とほぼ同じ構成で陽極側及び陰極側の両方で電解活性水を生成するために陽極と陰極の下部にバブラーを置き気体１０７と気体３０９を陽極と陰極にそれぞれ供給できる構造となることが記載されるから、これら記載事項を本願補正発明１の記載に沿って整理すると、引用文献１には、
「純水あるいは再生水の送給経路に接続し、水に溶存させる塩素ガスとアンモニアのそれぞれの入口に接続したバブラーを内部に備え、さらに、純水あるいは再生水の入口と上記各気体を溶存した純水あるいは再生水の出口とを備える二つの槽と電解槽の陽極側と陰極側のそれぞれを接続する経路と、塩素ガスを溶存した水が供給されて陽極水（陽極側で生成する電解活性水）を生成し、１０−４〜１０−２モル％のアンモニアを溶存し、前記アンモニアの内の０．３％〜０．５％がアンモニアイオンになっている水溶液が供給されて陰極水（陰極側で生成する電解活性水）を生成する電解槽と、該電解槽に接続し、陽極水と陰極水をウエット処理工程にそれぞれ供給するための排出経路とからなるウェット処理装置により電解活性水を生成する方法」の発明（以下、「引用発明１」という。）が記載されているといえる。
３．対比・判断
　本願発明１と引用発明１を対比すると、引用発明１の塩素ガスとアンモニアがバブラーで気体から純水あるいは再生水内に溶存され電離し、イオンが生成されていることが明らかであり、さらに、「溶解」と「溶存」とが同義であり、引用発明１の「純水あるいは再生水」が本願発明１の「原水」に相当するから、引用発明１の「塩素ガスとアンモニア」が本願発明１の「水に溶解してイオンを生成する気体」に相当し、引用発明１の「純水あるいは再生水の送給経路に接続し、水に溶存させる塩素ガスとアンモニアのそれぞれの入口に接続したバブラーを内部に備え、さらに、純水あるいは再生水の入口と上記各気体の回収口と上記各気体を溶存した純水あるいは再生水の各出口とを備える二つの槽」が本願発明１の「原水と、水に溶解してイオンを生成する気体とを混合する気液混合手段」に相当し、引用発明１の「電解槽」が本願発明１の「電気分解装置」に相当し、引用発明１の「二つの槽と電解槽の陽極側と陰極側のそれぞれを接続する経路」が本願発明１の「気液混合手段で得られるイオンを含むイオン水を電気分解装置に供給する配管」に相当し、引用発明１の「陽極水と陰極水」が本願発明１の「電解イオン水」に相当し、引用発明１の「ウェット処理装置」が本願発明１の「電解イオン水製造システム」に相当し、引用発明１においても電解槽の陰極側と陽極側にそれぞれアンモニアと塩素ガスが溶存されイオンが生成されて供給されるから、本願発明１の「電気分解装置のアノード側とカソード側にそれぞれイオン水を供給すること」に相当するものと認められる。
　したがって、両者は「原水と、水に溶解してイオンを生成する気体とを混合する気液混合手段と、該気液混合手段で得られるイオンを含むイオン水を電気分解装置に供給する配管と、該イオン水を電気分解して電解イオン水を製造する電気分解装置とからなる電解イオン水製造システムにおける、該電気分解装置のアノード側とカソード側にそれぞれイオン水を供給することを特徴とする電解イオン水製造方法」で一致し、以下の点で相違する。
（ａ）本願発明１では「電気分解装置のアノード側に供給されるイオン水のイオン濃度が１〜４００ｐｐｍであり、カソード側に供給されるイオン水のイオン濃度が１〜４０ｐｐｍ」であるのに対して、引用発明１では、カソード側に１０−４〜１０−２モル％のアンモニアを含み前記アンモニアの内の０．３％〜０．５％がアンモニアイオンになっている水溶液が供給され、アノード側のイオン濃度については記載のない点
　そこで、上記の相違点（ａ）について検討する。
　引用発明１における、アンモニウムイオンの濃度について計算すると、アンモニウムイオン１モルが約１８グラムで濃度が１０−４〜１０−２モル％、その内の０．３％〜０．５％がイオン化しているから１８×０．０００００１×０．００３＝５．４×１０−７＝０．０５４ｐｐｍが最小値で、１８×０．０００１×０．００５＝９．０×１０−６＝９ｐｐｍが最大値となる。そして、この値は、本願発明１のカソード側のイオン水のイオン濃度の下限を上回り重複する値であるといえる。
　さらに、引用文献の記載事項（イ）に「塩素ガスの流量が７０ｓｃｃｍ以上あれば安定した金属除去が達成されている。」と塩素ガスについて言及され、同（ウ）に「アンモニアガス流量が１５ｓｃｃｍ程度以上でパーティクル除去効果がほぼ安定する傾向を示す。」と記載され、それぞれのガスの流量の汚染除去効果に対する最小値が実験により求められていることから塩素ガスについても流量に下限があることが示唆されていると認められる。
　そして、記載事項（ア）で認識されているように、半導体製造プロセスのウェット処理工程で化学薬品が多量に利用されているとの観点から、ウエット工程での化学薬品の削減が検討されており、その対策として水あるいは微量の電解質を含んだ水溶液の電気分解を行ない、生成される活性な水を洗浄工程などに適用する提案がなされており、この場合においても電解質の含有量の上限を定めることは上記認識に基づけば当然なことであるといえる。
　してみれば、引用発明１において、電解槽の陽極及び陰極へ供給する純水あるいは再生水に溶存させる気体の量を変化させることにより純水あるいは再生水のイオン濃度を適宜変化させて電解処理した処理液を用いてウェット処理の効果を評価することによって最適なイオン濃度の範囲の上限及び下限を導き出すことは、当業者であれば容易になし得ることである。
　したがって、本願発明１で「電気分解装置のアノード側に供給されるイオン水のイオン濃度が１〜４００ｐｐｍであり、カソード側に供給されるイオン水のイオン濃度が１〜４０ｐｐｍ」とした点は当業者であれば繰り返し実験により適宜設定し得ることにすぎない。
　そして、本願発明１によって得られる効果も格別のものとすることができない。
　そうすると、本願発明１は、引用文献１に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
４．むすび
　以上のとおりであるから、本願発明１は、引用文献１に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。