(57)【要約】  有機エレクトロルミネッセンス素子用のガスバリア性フィルムであって、含水量が２００ｐｐｍを超える樹脂基材と、この樹脂基材の両面に設けられたガスバリア層とを有し、前記ガスバリア性フィルムの両面のそれぞれの水蒸気透過率が０．０１ｇ／ｍ２／ｄａｙ未満であることを特徴とする。【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機エレクトロルミネッセンス素子用のガスバリア性フィルムであって、
含水量が２００ｐｐｍを超える樹脂基材と、この樹脂基材の両面に設けられたガスバリア層とを有し、前記ガスバリア性フィルムの両面のそれぞれの水蒸気透過率が０．０１ｇ／ｍ２／ｄａｙ未満であることを特徴とするガスバリア性フィルム。
【請求項２】
前記ガスバリア性フィルムの素子形成面側の水蒸気透過率が、前記ガスバリア性フィルムの裏面側の水蒸気透過率よりも低いことを特徴とする請求項１に記載のガスバリア性フィルム。
【請求項３】
前記素子形成面側の水蒸気透過率が０．０００１ｇ／ｍ２／ｄａｙ未満であることを特徴とする請求項２に記載のガスバリア性フィルム。
【請求項４】
前記ガスバリア性フィルムの素子形成面側の水蒸気透過率と、前記ガスバリア性フィルムの裏面側の水蒸気透過率との差が０．００００５ｇ／ｍ２／ｄａｙ以上であることを特徴とする請求項２または請求項３に記載のガスバリア性フィルム。
【請求項５】
前記樹脂基材の含水量が５００ｐｐｍ以上であることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか一項に記載のガスバリア性フィルム。
【請求項６】
前記樹脂基材が、剥離可能な少なくとも２枚のフィルムの貼合により形成されていることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか一項に記載のガスバリア性フィルム。
【請求項７】
請求項１から請求項６のいずれか一項に記載のガスバリア性フィルムを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、
前記ガスバリア性フィルムを乾燥させない状態、あるいは、前記ガスバリア性フィルムについて４０℃以上前記樹脂基材のＴｇ以下で３０分以下の短時間乾燥をさせた状態のガスバリア性フィルムを準備するガスバリア性フィルム準備工程と、
前記ガスバリア性フィルム準備工程の後、水分が１００ｐｐｍ以下の低水分環境において、前記ガスバリア性フィルムの素子形成面側に素子膜を形成させる素子膜形成工程と、を含むことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【請求項８】
請求項６に記載のガスバリア性フィルムを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、
前記ガスバリア性フィルムを乾燥させない状態、あるいは、前記ガスバリア性フィルムについて４０℃以上前記樹脂基材のＴｇ以下で３０分以下の短時間乾燥をさせた状態のガスバリア性フィルムを準備するガスバリア性フィルム準備工程と、
前記ガスバリア性フィルム準備工程の後、水分が１００ｐｐｍ以下の低水分環境において、前記ガスバリア性フィルムの素子形成面側に素子膜を形成させる素子膜形成工程と、
前記素子膜形成工程の後、前記ガスバリア性フィルムの裏面側のフィルムを除去するフィルム除去工程と、を含むことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【請求項９】
請求項７に記載の製造方法により製造されたことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項１０】
請求項８に記載の製造方法により製造されたことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス素子に用いられるガスバリア性フィルム、これを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法、および、この製造方法により製造された有機エレクトロルミネッセンス素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、可撓性樹脂基材の表面に酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化珪素等の金属酸化物の薄膜（ガスバリア層）を形成したガスバリア性フィルムが、水蒸気や酸素等の各種ガスの遮断を必要とする物品の包装、食品や工業用品及び医薬品等の変質を防止するための包装用途に広く用いられている。また、包装用途以外にも液晶表示素子、太陽電池、有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬともいう）素子等の基板として使用されている。【０００３】
有機ＥＬ素子等の基板としては、近年、軽量化、大型化という要求に加え、形状の自由度が高いこと、曲面表示が可能であること等の高度な要求が加わり、軽くて曲げられる可撓性樹脂基材が採用され始めている。【０００４】
しかし、有機ＥＬ素子の基板として用いた場合、有機ＥＬは水分や酸素の影響を受け易いため、ガスバリア性が劣る基材を用いると、水蒸気や空気が浸透して有機膜が劣化し、発光特性あるいは耐久性等を損なう要因となる。そのため、樹脂基材上にガスバリア層を形成してガスバリア性フィルムを有機ＥＬ素子等の基材とすることが知られている（例えば、特許文献１〜３参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１２−１２１１４９号公報
【特許文献２】特開２００８−２１８１４３号公報
【特許文献３】特開２０１２−１７１２３８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、従来の技術においては、以下の問題がある。
樹脂基材は、ガラス基材等に比べて含水量が大きいため（数１０００ｐｐｍ）、真空成膜装置のような低水分の成膜環境に入れると水分を放出して素子にダメージを与える。そのため、水分放出量の少ない樹脂基材が求められる。
樹脂基材からの水分放出を少なくするには、基材を長時間乾燥して水分のほとんどない絶乾状態にすることが挙げられる（例えば特開２０００−１５０１４７号公報参照）。
基材の乾燥方法としては、一般に加熱乾燥と減圧乾燥とそれらの組合せがあり、加熱乾燥は、乾燥能力は高いが熱により樹脂基材にダメージを与え、輝度ムラ、色ムラの原因になる。これに対してＴｇ以下の低温での減圧乾燥も考えられるが、乾燥に時間がかかるだけでなく、樹脂基材の含水率が一定レベル以下の低い水準にならないため、低温減圧乾燥した後でも水分放出による素子のダメージがある。
よって、低水分の成膜環境において素子のダメージを抑制することに特化した基材用ガスバリア性フィルムの開発が望まれている。【０００７】
ここで、特許文献１〜３には、樹脂基材の両面にガスバリア層を設ける（以下、この基材を両面バリアともいう）ことが記載されている。しかしながら、このガスバリア層は、ガスバリア性の向上の他、基材の高温または高湿時、あるいは液体接触工程における寸法変化の抑制によるバリアダメージの低減や、基材変形、カールの抑制などを目的としたものである。したがって、樹脂基材からの水分放出による素子のダメージを考慮したものではない。
このように、従来から、樹脂基材の両面にガスバリア層を成膜することで、寸法変化や基材変形の抑制ができることは知られているものの、樹脂基材の両面に所定の水蒸気透過率のガスバリア層を設けることによる水分放出量の減少については知られていなかった。【０００８】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、その目的は、有機ＥＬ素子の作製において、素子の成膜時に樹脂基材からの水分放出が少なく、有機ＥＬ素子のダメージを少なくすることができるガスバリア性フィルム、これを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法、および、この製造方法により製造された有機エレクトロルミネッセンス素子を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の上記目的は、以下の構成により達成される。【００１０】
（１）有機エレクトロルミネッセンス素子用のガスバリア性フィルムであって、含水量が２００ｐｐｍを超える樹脂基材と、この樹脂基材の両面に設けられたガスバリア層とを有し、前記ガスバリア性フィルムの両面のそれぞれの水蒸気透過率が０．０１ｇ／ｍ２／ｄａｙ未満であることを特徴とするガスバリア性フィルム。【００１１】
（２）前記ガスバリア性フィルムの素子形成面側の水蒸気透過率が、前記ガスバリア性フィルムの裏面側の水蒸気透過率よりも低いことを特徴とする前記（１）に記載のガスバリア性フィルム。【００１２】
（３）前記素子形成面側の水蒸気透過率が０．０００１ｇ／ｍ２／ｄａｙ未満であることを特徴とする前記（２）に記載のガスバリア性フィルム。【００１３】
（４）前記ガスバリア性フィルムの素子形成面側の水蒸気透過率と、前記ガスバリア性フィルムの裏面側の水蒸気透過率との差が０．００００５ｇ／ｍ２／ｄａｙ以上であることを特徴とする前記（２）または前記（３）に記載のガスバリア性フィルム。【００１４】
（５）前記樹脂基材の含水量が５００ｐｐｍ以上であることを特徴とする前記（１）から前記（４）のいずれか一項に記載のガスバリア性フィルム。【００１５】
（６）前記樹脂基材が、剥離可能な少なくとも２枚のフィルムの貼合により形成されていることを特徴とする前記（１）から前記（５）のいずれか一項に記載のガスバリア性フィルム。【００１６】
（７）前記（１）から前記（６）のいずれか一項に記載のガスバリア性フィルムを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、前記ガスバリア性フィルムを乾燥させない状態、あるいは、前記ガスバリア性フィルムについて４０℃以上前記樹脂基材のＴｇ以下で３０分以下の短時間乾燥をさせた状態のガスバリア性フィルムを準備するガスバリア性フィルム準備工程と、前記ガスバリア性フィルム準備工程の後、水分が１００ｐｐｍ以下の低水分環境において、前記ガスバリア性フィルムの素子形成面側に素子膜を形成させる素子膜形成工程と、を含むことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。【００１７】
（８）前記（６）に記載のガスバリア性フィルムを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、前記ガスバリア性フィルムを乾燥させない状態、あるいは、前記ガスバリア性フィルムについて４０℃以上前記樹脂基材のＴｇ以下で３０分以下の短時間乾燥をさせた状態のガスバリア性フィルムを準備するガスバリア性フィルム準備工程と、前記ガスバリア性フィルム準備工程の後、水分が１００ｐｐｍ以下の低水分環境において、前記ガスバリア性フィルムの素子形成面側に素子膜を形成させる素子膜形成工程と、前記素子膜形成工程の後、前記ガスバリア性フィルムの裏面側のフィルムを除去するフィルム除去工程と、を含むことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。【００１８】
（９）前記（７）に記載の製造方法により製造されたことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。【００１９】
（１０）前記（８）に記載の製造方法により製造されたことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
【発明の効果】
【００２０】
本発明のガスバリア性フィルムを有機ＥＬ素子の基材に用いれば、有機ＥＬ素子の作製において、素子の成膜時に樹脂基材からの水分の放出を少なくすることができる。そのため、有機ＥＬ素子のダメージを少なくすることがきる。
本発明の有機ＥＬ素子の製造方法によれば、素子の成膜時の樹脂基材からの水分によるダメージの少ない有機ＥＬ素子とすることができる。また、基材の乾燥を行わないものとする、あるいは低温での短時間乾燥で対応できる。そのため、装置の減少やタクトタイムの短縮によりコストの低減を図ることができる。
本発明の有機ＥＬ素子は、素子の成膜時の樹脂基材からの水分によるダメージの少ないものとなる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】（ａ）は両面バリア、樹脂基材の片面にガスバリア層を設けた（以下、片面バリアともいう）、含水率１００ｐｐｍまで加熱絶乾乾燥を行ったガスバリア性フィルム、および、ガスバリア性フィルムをチャンバーに供給しなかった場合（ブランク）における、真空度と真空引き時間の関係を示すグラフであり、（ｂ）は樹脂基材であるＴｇ１１０℃の延伸ＰＥＴの片面にガスバリア層を設けたものについて、除湿を行なわなかったもの、樹脂基材のＴｇ以下である９０℃×３０分の除湿を行ったもの、９０℃×６０分の除湿を行ったもの、および、含水率１００ｐｐｍまで圧力１００Ｐａ×９０℃×１２時間の加熱絶乾乾燥を行ったものにおける、真空度と真空引き時間の関係を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。
≪ガスバリア性フィルム≫
本発明に係るガスバリア性フィルムは、有機ＥＬ素子用である。ガスバリア性フィルムは、含水量が２００ｐｐｍ（質量分率）を超える樹脂基材と、この樹脂基材の両面に設けられたガスバリア層とを有し、ガスバリア性フィルムの両面のそれぞれの水蒸気透過率を０．０１ｇ／ｍ２／ｄａｙ未満としたものである。なお、樹脂基材の両面とは、樹脂基材の表面および裏面を意味する。
以下、各構成について説明する。
【００２３】
＜樹脂基材＞
本発明のガスバリア性フィルムで用いられる樹脂基材は、バリア性を有するガスバリア層を保持することができる樹脂材料で形成された膜であれば特に限定されるものではない。
【００２４】
具体的には、エチレン、ポリプロピレン、ブテン等の単独重合体または共重合体または共重合体等のポリオレフィン（ＰＯ）樹脂、環状ポリオレフィン等の非晶質ポリオレフィン樹脂（ＡＰＯ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレン２，６−ナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル系樹脂、ナイロン６、ナイロン１２、共重合ナイロン等のポリアミド系（ＰＡ）樹脂、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）樹脂、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）等のポリビニルアルコール系樹脂、ポリイミド（ＰＩ）樹脂、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）樹脂、ポリサルホン（ＰＳ）樹脂、ポリエーテルサルホン（ＰＥＳ）樹脂、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）樹脂、ポリビニルブチラート（ＰＶＢ）樹脂、ポリアリレート（ＰＡＲ）樹脂、エチレン−四フッ化エチレン共重合体（ＥＴＦＥ）、三フッ化塩化エチレン（ＰＦＡ）、四フッ化エチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体（ＦＥＰ）、フッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、フッ化ビニル（ＰＶＦ）、パーフルオロエチレン−パーフロロプロピレン−パーフロロビニルエーテル−共重合体（ＥＰＡ）等のフッ素系樹脂等を樹脂基材として用いることができる。
【００２５】
また、上記に挙げた樹脂以外にも、ラジカル反応性不飽和化合物を有するアクリレート化合物によりなる樹脂組成物や、上記アクリルレート化合物とチオール基を有するメルカプト化合物よりなる樹脂組成物、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート等のオリゴマーを多官能アクリレートモノマーに溶解せしめた樹脂組成物等の光硬化性樹脂およびこれらの混合物等を用いることも可能である。さらに、これらの樹脂の１または２種以上をラミネート、コーティング等の手段によって積層させたものを樹脂基材として用いることも可能である。
また、樹脂基材は、剥離可能な少なくとも２枚のフィルムの貼合により形成されたものであってもよい。なお、樹脂基材は、剥離可能な３枚以上のフィルムを貼合したものであってもよい。
【００２６】
これらの素材は単独であるいは適宜混合されて使用することも出来る。中でもゼオネックスやゼオノア（登録商標）（日本ゼオン（株）製）、非晶質シクロポリオレフィン樹脂フィルムのＡＲＴＯＮ（登録商標）（ジェイエスアール（株）製）、ポリカーボネートフィルムのピュアエース（登録商標）（帝人（株）製）、セルローストリアセテートフィルムのコニカタックＫＣ４ＵＸ、ＫＣ８ＵＸ（コニカミノルタオプト（株）製）などの市販品を好ましく使用することが出来る。
【００２７】
また、樹脂基材側から光を取り出す場合には、樹脂基材は透明であることが好ましい。樹脂基材が透明であり、樹脂基材上に形成する層も透明であることにより、透明なガスバリア性フィルムとすることが可能となるため、有機ＥＬ素子の透明基板とすることも可能となる。
また、樹脂基材は、未延伸フィルムでもよく、延伸フィルムでもよい。それらは、従来公知の一般的方法により製造することができる。
【００２８】
また、樹脂基材においては、蒸着膜を形成する前にコロナ処理、火炎処理、プラズマ処理、グロー放電処理、粗面化処理、薬品処理などの表面処理を行ってもよい。
【００２９】
さらに、樹脂基材表面には、蒸着膜との密着性の向上を目的としてアンカーコート剤層を形成してもよい。このアンカーコート剤層に用いられるアンカーコート剤としては、ポリエステル樹脂、イソシアネート樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、エチレンビニルアルコール樹脂、ビニル変性樹脂、エポキシ樹脂、変性スチレン樹脂、変性シリコン樹脂、およびアルキルチタネート等を、１または２種以上併せて使用することができる。これらのアンカーコート剤には、従来公知の添加剤を加えることもできる。そして、上記のアンカーコート剤は、ロールコート、グラビアコート、ナイフコート、ディップコート、スプレーコート等の公知の方法により基材上にコーティングし、溶剤、希釈剤等を乾燥除去することによりアンカーコーティングすることができる。上記のアンカーコート剤の塗布量としては、０．１〜５ｇ／ｍ２（乾燥状態）程度が好ましい。
【００３０】
樹脂基材は、ロール状に巻き上げられた長尺品が便利である。
また、本発明に用いられる樹脂基材は、フィルム形状のものの膜厚としては１０〜２５０μｍが好ましく、より好ましくは５０〜１５０μｍである。
【００３１】
樹脂基材は、乾燥を行っていないもの、あるいは、短時間乾燥を行ったものを用いることができる。具体的には、含水量（含水率）が２００ｐｐｍを超えるものを用いることができる。なお、短時間乾燥とは、例えば、４０℃以上樹脂基材のＴｇ以下で３０分以下の乾燥が挙げられる。
含水率は、いかなる方法により測定しても構わないが、例えば容量法水分計（カールフィッシャ−）、赤外水分計、マイクロ波透過型水分計、加熱乾燥重量法、ＧＣ／ＭＳ、ＩＲ、ＤＳＣ（示差走査熱量計）、ＴＤＳ（昇温脱離分析）が挙げられる。
含水率が低い場合は、中でもカールフィッシャー水分測定装置（三菱アナリテック社製、ＣＡ−２００等）を用いて測定することが望ましい。
【００３２】
＜ガスバリア層＞
ガスバリア層としては、例えば、無機物、有機物の被膜またはその両者のハイブリッド被膜が上げられる。
【００３３】
ガスバリア膜を形成する材料としては、水分や酸素等素子の劣化をもたらすものの浸入を抑制する機能を有する材料であればよく、例えば、酸化珪素、二酸化珪素、窒化珪素等を用いることができる。更に該膜の脆弱性を改良するために、これら無機層と有機材料からなる層の積層構造を持たせることがより好ましい。無機層と有機層の積層順については特に制限はないが、両者を交互に複数回積層させることが好ましい。
バリア膜の形成方法については特に限定はなく、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、分子線エピタキシー法、クラスタ−イオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法、大気圧プラズマ重合法、プラズマＣＶＤ法、レーザーＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法、コーティング法等を用いることができる。
【００３４】
＜ガスバリア性フィルムの両面のそれぞれの水蒸気透過率が０．０１ｇ／ｍ２／ｄａｙ未満＞
本発明のガスバリア性フィルムは、樹脂基材の両面にガスバリア層を備えることで、ガスバリア性フィルムの両面のそれぞれの水蒸気透過率を０．０１ｇ／ｍ２／ｄａｙ未満としたものである。両面バリアの両面のそれぞれのガスバリア層の水蒸気透過率は、樹脂基材の表裏どちらか片方のバリアを形成した片面バリアを作り、その水蒸気透過率を測定することで求められる。
【００３５】
前記した発明の概要で記載したとおり、従来、樹脂基材の両面に所定の水蒸気透過率のガスバリア層を設けることによる水分放出量の減少については知られていなかった。
有機ＥＬ素子においては、樹脂基材の片面にガスバリア層を設けた（片面バリア）場合では、樹脂基材の水分放出による素子のダメージがあり、その対策として樹脂基材の絶乾が挙げられる。しかしながら、良好な含水量のレベル（片面バリアの場合、素子成膜時の樹脂基材含有水分量は２００ｐｐｍ以下、望ましくは１００ｐｐｍ以下まで絶乾が必要）にするには加熱が必要であり、加熱による樹脂基材のダメージ（ガスバリア性フィルム（基材）のダメージ）がある。また、低温減圧乾燥を行うことも考えられるが、乾燥能力が低く、乾燥に長時間かかるため現実的ではない。また、含水量の低減にも限度がある。
【００３６】
これに対して両面バリアは、水蒸気透過率が低ければ、乾燥しない樹脂基材の含水率が高い状態でも水分放出がほとんどなく、樹脂基材の水分放出による素子のダメージがほとんどない。また、真空蒸着法を用いる場合、素子の成膜の際の雰囲気の汚染（水分分圧の向上）は、ガスバリア性フィルムを真空装置に投入しない場合とほぼ同じである。このように、片面バリアに必須の樹脂基材の絶乾乾燥を不要にすることで、乾燥時の熱による樹脂基材のダメージも回避できる。
【００３７】
ただし、両面バリアでもガスバリア層の水蒸気透過率が高いと、樹脂基材の水分放出による素子のダメージがある。水分放出がほとんどない両面バリアは、水蒸気透過率が０．０１ｇ／ｍ２／ｄａｙ未満のガスバリア層を樹脂基材の両面に形成することで得られる。
したがって、本発明においては、ガスバリア性フィルムの両面のそれぞれの水蒸気透過率を０．０１ｇ／ｍ２／ｄａｙ未満とする。
【００３８】
このように、本発明のガスバリア性フィルムは、その両面にそれぞれの水蒸気透過率が０．０１ｇ／ｍ２／ｄａｙ未満のガスバリア層を備えるため、２００ｐｐｍ超の含水量の樹脂基材を用いることができ、さらには５００ｐｐｍ以上、さらには１０００ｐｐｍ以上の含水量の樹脂基材を用いることができる。含水量の上限については規定されるものではないが、例えば３０００ｐｐｍである。
【００３９】
ここで、水蒸気透過率は、特開２０１２−１２１１４９号公報に記載の方法により測定したものである。具体的には、後述する実施例に記載の方法により測定することができる。
【００４０】
水蒸気透過率の制御は、ガスバリア層を形成する材料や密度及び膜厚等により制御することができる。ガスバリア層の膜厚が厚くなると応力が高くなり、ガスバリア層が割れやすく、そのために水蒸気透過率が高くなることがある。よって、応力が高くならないように成膜条件を調整したり、割れない範囲の一定膜厚のガスバリア層を多層化したり、ガスバリア層の間に応力緩和層を配置したりすることにより、ガスバリア性が高くても応力が高くならないようにしている。そして、それらの組合せにより水蒸気透過率を制御している。
【００４１】
樹脂基材の素子形成面側の水蒸気透過率は、樹脂基材の裏面側の水蒸気透過率よりも低いことが好ましい。
素子形成面側とは、このガスバリア性フィルムを用いて有機ＥＬ素子を作製した場合に、素子膜が形成される側である。一方、裏面側とは、素子膜が形成される側と反対の面の側である。なお、有機ＥＬを作製する前のガスバリア性フィルムにおいて、どちらの側が素子形成面になるかが決定されていない場合でも、水蒸気透過率が低い側を素子形成面とすればよい。
【００４２】
ガスバリア性フィルムにおいては、両面バリアでも、成膜装置への投入時の樹脂基材の含水量は片面バリアと同じであり、ガスバリア性フィルムの両面から水分放出が起きる場合がある。その場合、素子形成面からの水分放出は、裏面からの水分放出に比べて素子へ与えるダメージが大きい。その場合、水分は素子形成面から不均一に放出されるため、輝度ムラ・色ムラやダークスポットの原因になると考えられる。また、裏面からの水分放出は、真空蒸着法を用いる場合、成膜雰囲気を汚染し、素子へ与えるダメージが均一になる。すなわち、素子全体に均一にダメージが加わる。
素子形成面の水蒸気透過率が裏面の水蒸気透過率よりも高いと、樹脂基材の含有水分が素子形成面に放出して素子がダメージを受ける。そのため、素子形成面の水蒸気透過率を裏面の水蒸気透過率よりも低くして、素子形成面ではなく裏面から水分が放出されるように設計することが望ましい。
【００４３】
本発明においては、ガスバリア性フィルムの両面のそれぞれの水蒸気透過率を０．０１ｇ／ｍ２／ｄａｙ未満とすることで、水分が放出される場合でも、素子が受けるダメージはわずかであり、実用上は問題ない。しかしながら、前記のとおり、素子形成面の水蒸気透過率を裏面の水蒸気透過率よりも低くして、素子形成面ではなく裏面から水分が放出されるように設計することで、素子が受けるダメージをさらに低減することができ、有機ＥＬ素子の品質をさらに向上させることができる。
【００４４】
具体的には、素子形成面側の水蒸気透過率を０．０００１ｇ／ｍ２／ｄａｙ未満とすることが好ましい。
ガスバリア性フィルムの素子形成面側の水蒸気透過率が０．０００１ｇ／ｍ２／ｄａｙ未満であり、かつガスバリア性フィルムの裏面側の水蒸気透過率が０．０１ｇ／ｍ２／ｄａｙ未満であれば、低水分環境での成膜時に樹脂基材からの水分の放出を少なくすることができ、水分が放出される場合でも素子形成面ではなく裏面から水分が放出されやすくなる。
【００４５】
また、ガスバリア性フィルムの素子形成面側の水蒸気透過率と、ガスバリア性フィルムの裏面側の水蒸気透過率との差を０．００００５ｇ／ｍ２／ｄａｙ以上とすることが好ましい。このようにすることで、低水分環境での成膜時に樹脂基材からの水分の放出を少なくすることができ、水分が放出される場合でも素子形成面ではなく裏面から水分が放出されやすくなる。
【００４６】
以上説明したように、本発明のガスバリア性フィルムを有機ＥＬ素子の基材に用いれば、有機ＥＬ素子の作製において、素子の成膜時に樹脂基材からの水分の放出を少なくすることができる。そのため、有機ＥＬ素子のダメージを少なくすることがきる。また、基材の乾燥を行う必要がないため、あるいは乾燥時間を短くすることができるため、乾燥時の熱による樹脂基材のダメージも回避することができ、またコストを低減することができる。
【００４７】
なお、特許文献１に記載のガスバリア性フィルムについては、ガスバリア性フィルム全体として水蒸気透過率を測定しているが、本願発明は、ガスバリア性フィルムの両面のそれぞれの水蒸気透過率を０．０１ｇ／ｍ２／ｄａｙ未満としたものである。
【００４８】
≪有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法≫
本発明の有機ＥＬ素子の製造方法は、前記記載のガスバリア性フィルムを用いた有機ＥＬ素子の製造方法である。そして、本発明の有機ＥＬ素子の製造方法は、ガスバリア性フィルム準備工程と、素子膜形成工程と、を含む。なお、本発明の有機ＥＬ素子の製造方法は本発明のガスバリア性フィルムを用いるため、ガスバリア性フィルム準備工程の前に、ガスバリア性フィルム作製工程が含まれる。
以下、各工程について説明する。
【００４９】
［ガスバリア性フィルム作製工程］
ガスバリア性フィルム作製工程は、樹脂基材の両面にガスバリア層を形成する工程である。樹脂基材およびガスバリア層については前記説明したとおりであるので、ここでは説明を省略する。
ガスバリア性フィルム作製工程は、以下で示すガスバリア性フィルム準備工程と連続でも良いし、別々にしてガスバリア性フィルム作製工程で製造されたガスバリア性フィルムをガスバリア性フィルム準備工程に供給しても良い。
【００５０】
［ガスバリア性フィルム準備工程］
ガスバリア性フィルム準備工程は、前記ガスバリア性フィルムを乾燥させない状態、あるいは、前記ガスバリア性フィルムについて４０℃以上前記樹脂基材のＴｇ以下で３０分以下の短時間乾燥をさせた状態のガスバリア性フィルムを準備する工程である。
ガスバリア性フィルム作製工程で作製したガスバリア性フィルムは、乾燥させずに次工程へ提供することができる。あるいは、乾燥工程において、４０℃以上樹脂基材のＴｇ以下で３０分以下の短時間乾燥をさせた後、次工程へ提供してもよい。この程度の短時間乾燥であれば、樹脂基材へのダメージが生じず、また生産性を損なわない。なお、このガスバリア性フィルムの短時間乾燥により、樹脂基材が乾燥され、樹脂基材からの水分によるダメージをさらに少なくすることが出来る。
短時間乾燥を行う場合は、従来公知の方法を用いればよい（例えば特開２０００−１５０１４７号公報参照）。
【００５１】
［素子膜形成工程］
素子膜形成工程は、前記ガスバリア性フィルム準備工程の後、水分が１００ｐｐｍ（質量分率）以下の低水分環境において、前記ガスバリア性フィルムの素子形成面側に素子膜を形成させる工程である。
【００５２】
前記したとおり、ガスバリア性フィルムは、低水分環境においても樹脂基材からの水分の放出を少なくすることができる。そのため、素子膜の形成は、水分が１００ｐｐｍ以下の低水分環境でも素子膜を形成することができる。
水分が１００ｐｐｍ以下の低水分環境は、例えば、真空蒸着法により成膜を行う場合は、真空装置による真空状態により実現することができる。その他、水分が１００ｐｐｍ以下の低水分環境としては、塗布や印刷等により成膜を行う場合のドライ窒素等の乾燥不活性ガス環境が挙げられる。
【００５３】
次に、有機ＥＬ素子の作製方法の一例として、陽極／正孔注入・輸送層／発光層／電子注入・輸送層／陰極からなる素子膜の作製方法について説明する。
【００５４】
まず、ガスバリア性フィルム上に所望の電極物質、例えば、陽極用物質からなる薄膜を１μｍ以下、好ましくは１０ｎｍ〜２００ｎｍの膜厚になるように形成させ、陽極を作製する。
次に、この上に素子材料である正孔注入・輸送層、発光層、電子注入・輸送層等の有機化合物を含有する薄膜を形成させる。
【００５５】
これらの層の形成後、その上に陰極用物質からなる薄膜を１μｍ以下、好ましくは５０〜２００ｎｍの範囲の膜厚になるように形成させ、陰極を設けることにより所望の有機ＥＬ素子が得られる。
また、順序を逆にして、陰極、電子注入・輸送層、発光層、正孔注入・輸送層、陽極の順に作製することも可能である。
本発明の有機ＥＬ素子の作製は、一回の真空引きで一貫して正孔注入・輸送層から陰極まで作製するのが好ましいが、途中で取り出して異なる成膜法を施しても構わない。その際、作業を乾燥不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。
【００５６】
≪有機エレクトロルミネッセンス素子≫
本発明の有機ＥＬ素子は、前記記載の製造方法で製造されたものである。
有機ＥＬ素子の構成としては特に規定されるものでなないが、一例として以下の構成とすることができる。
【００５７】
有機ＥＬ素子は、電極間に単数または複数の有機層を積層した構造であり、例えば、陽極／正孔注入・輸送層／発光層／電子注入・輸送層／陰極等の構成、また、最も単純には、陽極／発光層／陰極からなる構成を有し、これ以外にも電子阻止層、また正孔阻止層、またバッファー層等適宜必要とされる層が所定の層順で積層された構成を有する。これら各有機層、各薄膜の膜厚は、１ｎｍ〜数μｍの範囲にわたり、電極からキャリアを注入することで層中の発光材料が発光する。両極から注入された正孔及び電子等のキャリア移動がスムースに行われるよう各層が構成されている。
【００５８】
有機ＥＬ素子を構成する各有機層については、例えば、特開２０１３−３６１１９号公報の段落０１０２〜０１１０に記載のものと同様にすることができる。
【００５９】
封止を行うには、形成した有機ＥＬ素子上に、保護フィルムとして、水蒸気また酸素等ガスバリア性の高い防湿層を有するフィルムで素子を覆って封止樹脂で接着（ラミネート）、封止する。防湿フィルムとしては例えば、凸版印刷製のＧＸフィルム等のＰＥＴを基材とした蒸着フィルムやアルミ箔等の金属箔に樹脂基材を接着（ラミネート）したフィルム等もあげられる。
【００６０】
このように封止部材をガスバリア性基材で構成すれば、前記ガスバリア層を有する樹脂基材上に形成された素子膜を外気から効率よく封止して水蒸気や酸素等の劣化性ガスの影響を抑えることができる。
【００６１】
前記封止樹脂（接着剤）としては、一般に使用されている熱硬化性、また光硬化性接着剤を用いることができる。
【００６２】
また、本発明においては照明用の単色或いは白色の有機ＥＬ素子の製造について示したが、有機層のうち発光層をＲＧＢのそれぞれ３色ごとにパターニングして構成し、駆動回路を組み込むことでフルカラー表示体とすることもできる。
【００６３】
以上、本発明の有機ＥＬ素子について説明したが、有機ＥＬ素子は、本発明のガスバリア性フィルムを用いること以外は、従来公知の構成とすればよい。そして、有機ＥＬ素子は、従来公知のように、前記した封止樹脂（封止部材）、保護フィルム（保護膜）の他、保護板、集光シート等を備えてもよい。また、有機ＥＬ素子は、前記した封止手段や、光取り出し等も公知の方法と同様とすることができる。これらの「有機ＥＬ素子を構成する各層」、「保護膜、保護板」、「集光シート」、「封止手段」、「光取り出し」等についての詳細については、例えば、特願２０１２−２７６２２１、特開２０１２−１６４７３１号公報、特開２０１２−１５６２９９号公報等の公知文献に記載のものと同様とすることができる。
【実施例】
【００６４】
以下実施例により本発明を具体的に説明するが本発明はこれにより限定されるものではない。
［第１実施例］
本実施例では、特開２０１３−３６１１９号公報に記載の真空成膜装置を用いて、特開２０１３−３６１１９号公報に記載の有機ＥＬ素子の製造工程に準じてサンプルを作製した。
まず、ポリエチレンテレフタレートの基材の両面あるいは片面に、酸化珪素からなるガスバリア層を一般的な真空プラズマＣＶＤ装置により形成した。この際、ガスバリア層の膜厚や層数、成膜条件などを適宜調整することにより、水蒸気透過率を制御した。
なお、基材は乾燥を行っておらず、含水量は２００ｐｐｍを超えるものである。また、ガスバリア層の水蒸気透過率は、基材の表裏どちらか片方のバリアを形成した片面バリアを作り、その水蒸気透過率を測定することで求めた。
このようにして作製したポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）の水蒸気透過率を以下の方法で測定した。【００６５】
（水蒸気透過率の測定装置）
蒸着装置：日本電子（株）製真空蒸着装置ＪＥＥ−４００
恒温恒湿度オーブン：Ｙａｍａｔｏ Ｈｕｍｉｄｉｃ ＣｈａｍｂｅｒＩＧ４７Ｍ
（原材料）
水分と反応して腐食する金属：カルシウム（粒状）
水蒸気不透過性の金属：アルミニウム（φ３〜５ｍｍ、粒状）
（蒸気バリア性評価用セルの作製）
真空蒸着装置（日本電子製真空蒸着装置 ＪＥＥ−４００）を用い、透明導電膜を付ける前の各ガスバリア性フィルム試料の蒸着させたい部分（１２ｍｍ×１２ｍｍを９箇所）以外をマスクし、金属カルシウムを蒸着させた。【００６６】
その後、真空状態のままマスクを取り去り、シート片側全面にアルミニウムをもう一つの金属蒸着源から蒸着させた。アルミニウム封止後、真空状態を解除し、速やかに乾燥窒素ガス雰囲気下で、厚さ０．２ｍｍの石英ガラスに封止用紫外線硬化樹脂（ナガセケムテックス製）を介してアルミニウム封止側と対面させ、紫外線を照射することで、評価用セルを作製した。【００６７】
得られた両面を封止した試料を６０℃、９０％ＲＨの高温高湿下で保存し、特開２００５−２８３５６１号公報記載の方法に基づき、金属カルシウムの腐食量からセル内に透過した水分量を計算した。【００６８】
（ランク評価）
７：１×１０−５ｇ／ｍ２／ｄａｙ未満
６：１×１０−５ｇ／ｍ２／ｄａｙ以上、５×１０−５ｇ／ｍ２／ｄａｙ未満
５：５×１０−５ｇ／ｍ２／ｄａｙ以上、１×１０−４ｇ／ｍ２／ｄａｙ未満
４：１×１０−４ｇ／ｍ２／ｄａｙ以上、１×１０−３ｇ／ｍ２／ｄａｙ未満
３：１×１０−３ｇ／ｍ２／ｄａｙ以上、１×１０−２ｇ／ｍ２／ｄａｙ未満
２：１×１０−２ｇ／ｍ２／ｄａｙ以上、１×１０−１ｇ／ｍ２／ｄａｙ未満
１：１×１０−１ｇ／ｍ２／ｄａｙ以上
本発明においては、ランク評価においてランク３以上であることが必要である。【００６９】
次に、前記作製したＰＥＴフィルムについて、段付きガイドロールを備えたロールツーロールの真空チャンバー内に幅７００ｍｍ、厚さ１００μのＰＥＴフィルムの元巻きを導入し、定法に従い、アルゴン雰囲気下で、ＩＴＯ膜を１３０ｎｍ成膜して、透明導電膜を形成した。なお、用いたガイドロールは幅７５０ｍｍ、径は中央部で７５ｍｍ、両端部で１００ｍｍのステンレス製（クロムメッキ（鏡面化処理済み、バフ研磨仕上げ、中心線表面粗さＲａ：４．１ｎｍ））段差付きロールであり、ＰＥＴフィルム両端部２０ｍｍが接触するようにした。非接触となるウェブ中央部分の幅は６６０ｍｍである。【００７０】
次に、ＩＴＯ膜の形成された面に、幅方向６７０ｍｍ、長手方向７２０ｍｍの長方形の領域に紫外光で重合するフォトリソグラフ用の樹脂をパターン塗布し、９０℃の乾燥炉を通過させたのち、位置を合わせ露光後、搬送しながら、現像、エッチング、アルカリ処理を経て、イオン交換水で洗浄後、清浄な空気を吹き付けて、十分乾燥したのち、巻き取った。各パターンの間隔は、後述の真空成膜プラントの各真空室に差圧を形成するためのゲートで挟み込まれる部分を予め確保するため６０ｍｍづつ距離を置いた。このＩＴＯパターン済ＰＥＴフィルムの元巻きを、連続真空有機ＥＬ成膜プラントの繰り出し側に取り付け、ガイドロール機構を使用して、前段の第１真空成膜室で、各材料を入れた蒸着ボートから、α−ＮＰＤ（４０ｎｍ）、ＣＢＰ（共蒸着成分としてＩｒ（ｐｐｙ）３を６％含有）（３５ｎｍ）、ＢＡｌｑ（５ｎｍ）、Ａｌｑ３（４０ｎｍ）、フッ化リチウム（０．５ｎｍ）を蒸着した。更に、後段の第２真空成膜室で、アルミニウムを１１０ｎｍ蒸着した後、ラミネート室において、封止樹脂（接着剤）が４０μｍ塗布されているガスバリア層形成済みのＰＥＴフィルム（ＰＥＴ厚み８０μｍ）を用いて窒素気流下でラミネートし、ゲートスリットから、大気下へ搬送し、巻き取った。この元巻きから素子を一部切り出し、以下の評価を行った。また、用いた化合物の構造を以下に示す。【００７１】
【化１】
2015005165.tif 000002
【００７２】
＜発光効率（外部取り出し量子効率ともいう）＞
各有機ＥＬ素子について、２３℃、乾燥窒素ガス雰囲気下で２．５ｍＡ／ｃｍ２定電流を印加したときの外部取り出し量子効率（％）を測定し、発光効率の指標とした。測定には同様に分光放射輝度計ＣＳ−１０００（コニカミノルタセンシング社製）を用いた。
表１中、外部取り出し量子効率の測定結果は、Ｎｏ．７の測定値を１００としたときの相対値で表した。数値が１２０以上の場合を「◎」、１１０以上１２０未満の場合を「○」、１００以上１１０未満の場合を「△」、１００未満の場合を「×」とした。【００７３】
＜ダークスポット＞
ダークスポットについては、素子形成面側のバリア性の違いによる変化を参考として示すために評価した。
１５ｍＡ／ｃｍ２の一定電流で３０時間駆動させた後に、２ｍｍ×２ｍｍ四方の範囲での目視で確認できる非発光点（ダークスポット）の数を測定した。ダークスポットが５個未満の場合を「◎」、５個以上１０個未満の場合を「○」、１０個以上２０個未満の場合を「○△」、２０個以上３０個未満の場合を「△」、３０個以上の場合を「×」とした。【００７４】
＜一定真空度になるまでの時間比率＞
ＩＴＯパターン済ＰＥＴフィルムの元巻きを第１真空成膜室に投入した後に、一定真空度になるまでの時間の比率を下記式により算出した。
時間比率＝（フィルム有の一定真空度（５×１０−４Ｐａ）になるまでの時間／フィルム無の一定真空度（５×１０−４Ｐａ）になるまでの時間）
ここで、「フィルム有」とは、樹脂基材の両面または片面にガスバリア層を設けた、本実施例で使用するＰＥＴフィルムのことであり、「フィルム無」とは、別途準備した樹脂基材にガスバリア層を設けていないポリエチレンテレフタレートの基材を真空オーブン（エスペック社製）に投入し、圧力１００Ｐａ×９０℃×１２時間の加熱絶乾乾燥を行った基材のことである。そして、予め、「フィルム無」の基材を用いて、前記と同様の方法で有機ＥＬ素子を作製した際の一定真空度（５×１０−４Ｐａ）になるまでの時間を測定した。
時間比率が１．１未満の場合を「○」、時間比率が１．１以上４未満の場合を「△」、時間比率が４以上の場合を「×」とした。
これらの結果を表１に示す。【００７５】
【表１】
2015005165.tif 000003
【００７６】
表１に示すように、Ｎｏ．７〜９、１３〜１５、１９〜２１は、本発明の要件を満たすため、全ての評価項目で良好な結果が得られた。
一方、その他のサンプルは、本発明の要件を満たさないため、以下の結果となった。
Ｎｏ．１は、素子形成面のバリア性が３未満であり、裏面にバリア層がないため、全ての評価項目の結果が悪かった。
Ｎｏ．２は、素子形成面および裏面のバリア性が３未満のため、全ての評価項目の結果が悪かった。
Ｎｏ．３は、素子形成面のバリア性が３未満のため、全ての評価項目の結果が悪かった。
Ｎｏ．４、１０、１６は、裏面にバリア層がないため、発光効率および、一定真空度になるまでの時間比率が悪かった。
Ｎｏ．５、６、１１、１２、１７、１８は、裏面のバリア性が３未満のため、発光効率および、一定真空度になるまでの時間比率が悪かった。【００７７】
なお、「Ｂの裏面バリア性＜３」の場合、樹脂基材の含水が樹脂基材の裏面から放出されるため雰囲気が汚染（水分増）する。これにより、素子全体に均一に水分ダメージが与えられて発光効率が低下する。
また、「Ａの素子形成面バリア性＜Ｂの裏面バリア性」の場合、「Ａの素子形成面バリア性≧３」でも樹脂基材の含水が裏面ではなく表面からわずかに放出される。これにより、素子に不均一な水分ダメージが与えられて発光効率が低下する。【００７８】
［第２実施例］
第２実施例では、樹脂基材の両面にガスバリア層を設けた本発明のガスバリア性フィルムと、樹脂基材の片面にのみガスバリア層を設けたガスバリア性フィルムの加熱絶乾乾燥の影響について調べた。【００７９】
まず、ポリエチレンテレフタレートの基材の両面あるいは片面に、酸化珪素からなるガスバリア層を一般的な真空プラズマＣＶＤ装置により形成した。この際、ガスバリア層の膜厚や層数、成膜条件などを適宜調整することにより、素子形成側の水蒸気透過率を５×１０−５ｇ／ｍ２／ｄａｙ以上、１×１０−４ｇ／ｍ２／ｄａｙ未満に、両面の場合の裏面の水蒸気透過率を１×１０−３ｇ／ｍ２／ｄａｙ以上、１×１０−２ｇ／ｍ２／ｄａｙ未満に制御した。水蒸気透過率の測定方法は第１実施例と同様である。【００８０】
次に、このようにして作製した実施例（両面バリア）を乾燥せずに、比較例（片面バリア）を真空オーブン（エスペック社製）に投入し、圧力１００Ｐａ×９０℃×１２時間の加熱絶乾乾燥を行った。その後、第１実施例と同様の方法で有機ＥＬ素子を作製し、元巻きから素子を一部切り出し、以下の評価を行った。【００８１】
＜発光ムラ＞
初期輝度２０００ｃｄ／ｍ２での定電流駆動において、１５０ｈｒ後の発光輝度を分光放射輝度計ＣＳ−１０００（コニカミノルタセンシング社製）を用いて測定した。
発光面中の任意な点２０点を測定し、この際の測定値より、発光ムラ＝面内最低輝度／最高輝度として算出した。
発光輝度に大きな差は見られなかったが、未乾燥の両面バリアでは発光ムラが０．９０以上であったのに対して、絶乾乾燥した片面バリアでは、発光ムラが０．８６未満と発光ムラが目視で確認できるレベルであった。これは、絶乾乾燥による樹脂基材の変質（凹凸）や樹脂基材の部分変質が生じたため、樹脂基材に不均一なダメージが生じて発光ムラが生じたと考える。【００８２】
なお、参考として、図１（ａ）に、両面に０．００９ｇ／ｍ２／ｄａｙのガスバリア層を有する本発明の未乾燥のガスバリア性フィルム（両面バリアフィルム）、片面に０．００９ｇ／ｍ２／ｄａｙのガスバリア層を有するガスバリア性フィルムについて、含水率１００ｐｐｍまで加熱絶乾乾燥を行ったガスバリア性フィルム（絶乾片面バリアフィルム）、および、ガスバリア性フィルムをチャンバーに供給しなかった場合（ブランク）における、真空度と真空引き時間の関係を示す。
また、図１（ｂ）に、樹脂基材であるＴｇ１１０℃の延伸ＰＥＴの片面に０．００９ｇ／ｍ２／ｄａｙのガスバリア層を有するガスバリア性フィルム（片面バリアフィルム）について、除湿を行なわなかったもの、樹脂基材のＴｇ以下である９０℃×３０分の除湿を行ったもの、９０℃×６０分の除湿を行ったもの、および、含水率１００ｐｐｍまで圧力１００Ｐａ×９０℃×１２時間の加熱絶乾乾燥を行ったもの（絶乾片面バリアフィルム）における、真空度と真空引き時間の関係を示す。【００８３】
図１（ａ）に示すように、両面バリアと、絶乾片面バリアフィルムと、フィルムなしのブランクとでは、真空開放後の真空度（水分放出量）が低下するカーブがほぼ同じである。すなわち、両面バリアは未乾燥でありながら水分放出がほとんどないことがわかる。
図１（ｂ）に示すように、片面バリアフィルムは、乾燥時間により真空開放後の真空度（水分放出量）が異なることがわかる。また、９０℃×６０分程度の乾燥では絶乾レベルに達しないことがわかる。【００８４】
すなわち、未乾燥の両面バリアと１００ｐｐｍに絶乾乾燥した片面バリアは、水分の放出がほとんどないこと、片面バリアをＴｇ以下で３０分加熱乾燥すると、未乾燥と比べると減少するが水分の放出があることが分かる。樹脂基材のＴｇ以下で６０分加熱乾燥した場合、水分放出は３０分とあまり変わらないが、樹脂基材への加熱乾燥時の熱ダメージにより有機ＥＬ素子製造時に発光の均一性が悪くなる。【００８５】
以上、実施形態に基づいて本発明を説明したが、本発明の趣旨はこれらの記載に限定されるものではなく、特許請求の範囲の記載に基づいて広く解釈されなければならない。また、これらの記載に基づいて種々変更、改変等したものも本発明の趣旨に含まれることはいうまでもない。【００８６】
例えば、前記した有機ＥＬ素子の製造方法では、ガスバリア性フィルム作製工程と、ガスバリア性フィルム準備工程と、素子膜形成工程と、を含むものとしたが、ガスバリア性フィルムを剥離可能な少なくとも２枚のフィルムの貼合により形成し、素子膜形成工程の後に、前記ガスバリア性フィルムの裏面側のフィルムを除去するフィルム除去工程を備えてもよい。
有機ＥＬ素子の基材としては、容易に曲げられる薄膜基材が求められているが、素子膜形成時のような製造段階では強度のある厚手の基材が必要である。この解決手段として、剥離可能な少なくとも２枚のフィルムを貼合した厚手基材（ガスバリア性フィルム）を用いて素子膜を形成し、その後に裏面側のフィルムを剥離することで薄膜基材の有機ＥＬ素子を得ることができる。
この場合のガスバリア性フィルムは、素子形成面側にガスバリア層を設けた片面バリアの薄膜基材に、裏面側にガスバリア層を設けた片面バリア基材を剥離可能に貼合したものや、素子形成面側にガスバリア層を設けた片面バリアの薄膜基材に、金属箔のようなバリア性の高い基材を剥離可能に貼合したものをいう。このガスバリア性フィルムは、基材の乾燥に関しては両面バリアのガスバリア性フィルムと同等の効果を得ることが出来る。
なお、この剥離可能な少なくとも２枚のフィルムの貼合により形成したガスバリア性フィルムは、フィルム除去工程を備えない有機ＥＬ素子の製造方法に用いてもよい。【００８７】
有機ＥＬ素子の製造方法は、以上説明したとおりであるが、本発明を行うにあたり、前記各工程に悪影響を与えない範囲において、前記各工程の間あるいは前後に他の工程を含めてもよい。例えば、樹脂基材を洗浄する樹脂基材洗浄工程や、ごみ等の不要物を除去する不要物除去工程等を含めてもよい。【００８８】
また、ガスバリア層を樹脂基材の両面（表面および裏面）に設けるものとしたが、それに加えて樹脂基材の端面にも設ける構成としてもよい。樹脂基材の端面にもガスバリア層を設けることで、樹脂基材からの水分の放出がより抑制される。【００８９】
また、ガスバリア性フィルムは、有機ＥＬ素子の基材として用いるものの他、固体封止の封止基材として用いるものであってもよい。
さらに、樹脂基材は、予め一方の面に、所定の水蒸気透過率を有するガスバリア層が形成されたものや、外部刺激により剥離可能な所定の水蒸気透過率を有する解体性接着剤が形成されているものを用いてもよい。この場合、ガスバリア性フィルム作製工程で他方の面にガスバリア層を形成することで、本発明の両面バリアのガスバリア性フィルムとすることができる。
【図１】
2015005165.tif 000004
【国際調査報告】
2015005165.tif 000005
2015005165.tif 000006
2015005165.tif 000007
2015005165.tif 000008