Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月19日(2012.6.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
自動車の計器盤を収容する横部材モジュールであって、少なくとも一部がプラスチックで取り囲まれた金属管とステアリングコラムリテーナとして機能する単純成形シートメタル材とを含み、上乗せ成形されたプラスチックとの複合体として第１にステアリングコラムと前壁との間を堅く連結し、第２に全体がプラスチックからなる構造体によって金属管にしっかり連結するように構成および配置される、横部材モジュール。
【請求項２】
前記プラスチック構造体が補強リブを有することを特徴とする、請求項１に記載の横部材モジュール。
【請求項３】
前記補強リブが、前記シートメタル材の打ち抜き穴の別々の連結場所で前記シートメタル材に確実に連結されており、前記プラスチックが前記打ち抜き穴を貫通しかつ前記打ち抜き穴の表面上に延在していることを特徴とする、請求項２に記載の横部材モジュール。
【請求項４】
熱可塑性ポリマーがプラスチックとして使用されることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の横部材モジュール。
【請求項５】
ポリアミド、ビニル芳香族ポリマー、ポリエステル、ＡＳＡポリマー、ＡＢＳポリマー、ＳＡＮポリマー、ＰＯＭ、ＰＰＥ、ポリアリーレンエーテルスルホン、ポリプロピレンまたはこれらのブレンドの群からの熱可塑性ポリマーを使用することを特徴とする、請求項４に記載の横部材モジュール。
【請求項６】
前記熱可塑性ポリマーが０．００１〜７５重量部の充填剤または補強材を含むことを特徴とする、請求項４または５に記載の横部材モジュール。
【請求項７】
前記シートメタル材および／または前記金属管が接着促進剤または接着剤で被覆されていることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか一項に記載の横部材モジュール。
【請求項８】
オーバーモールド工程の後で初めて、別個の工程段階で、熱間リベット打ちまたは他のタイプのリベット打ち、クリンチング、接着結合、またはねじ方式によって前記シートメタル材を前記プラスチック構造体に連結することを特徴とする、請求項１〜７のいずれか一項に記載の横部材モジュール。
【請求項９】
取り付けられた状態にある計器盤支持体の固有振動挙動に影響を及ぼして１次固有周波数が＞３６Ｈｚとなるようにするための方法であって、
自動車において、少なくとも一部がプラスチックで取り囲まれた金属管とステアリングコラムリテーナとして機能する単純成形シートメタル材とを含み、さらに上乗せ成形されたプラスチックとの複合体として第１にステアリングコラムと前壁との間を堅く連結し、第２に全体がプラスチックからなる構造体によって前記金属管にしっかり連結するように構成および配置される横部材モジュールを、前記計器盤の下に取り付けることを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月1日(2012.6.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理機械の胴に沿ってシートを側方に位置調整する方法において、
当該方法は、
少なくとも１つのセンサによりシートの実際位置を検出し、
グリッパ装置によってシートが把持されるまえに、グリッパ装置を、シートの側方位置に関するシートの実際位置に応じて、所定の位置に前位置調整し、
グリッパ装置によってシートを搬送する間に必要な場合にシートを位置調整する、
ステップを有することを特徴とする、シートを側方に位置調整する方法。
【請求項２】
グリッパ装置のグリッパ閉鎖状態で、シートを前記少なくとも１つのセンサによって前記シートの実際位置の検出とは別に検出し、目標値／実際値−比較のあとで、グリッパ装置が、側方の修正運動を行うようにする、請求項１記載の方法。
【請求項３】
グリッパ装置の後続の前位置調整のために、シートの実際位置を、別のセンサによって検出する、請求項１記載の方法。
【請求項４】
グリッパ装置のグリッパを作動させるための制御ローラを、グリッパ装置の前位置調整中に、グリッパの開閉時間を制御するための制御カムから持ち上げる、請求項１記載の方法。
【請求項５】
処理機械の胴に沿ってシートを側方に位置調整する装置において、
直線運動を形成するための調節駆動装置と、
該調節駆動装置に接続された押圧ロッドと、
可動に支承されたグリッパ装置と、
該グリッパ装置に取り付けられた、回動可能に押圧ロッドに支承されていて、該押圧ロッドに摺動に対して固定された連行体と、
胴の胴体内に配置された、前記押圧ロッドと前記連行体とを相互に接続する回動分離継手と、
を備えることを特徴とする、処理機械の胴に沿ってシートを側方に位置調整する装置。
【請求項６】
処理機の胴に沿ってシートを側方に位置調整する装置において、
胴の外側に配置された、定位置のリニア式の調節駆動装置と、
グリッパ装置と、
前記調節駆動装置の回動運動を前記グリッパ装置の直線運動に変換するための、胴の胴本体内に配置された伝動装置と、
を備えることを特徴とする、処理機の胴に沿ってシートを側方に位置調整する装置。
【請求項７】
前記伝動装置は、前記グリッパ装置に取り付けられた連行体を備えている、請求項６記載の装置。
【請求項８】
前記伝動装置を作動するための回動駆動可能な調節軸が設けられている、請求項７記載の装置。
【請求項９】
前記調節軸は、前記調節駆動装置によって駆動可能に構成されている、請求項８記載の装置。
【請求項１０】
制御カムと、前記グリッパ装置のグリッパを作動させるための、該制御カムと作用接触された調節ローラとが設けられており、前記調節ローラは、前記グリッパ装置の前位置調整中に、前記制御カムから間隔を有して配置されている、請求項５記載の装置。
【請求項１１】
制御カムと、前記グリッパ装置のグリッパを作動させるための、該制御カムと作用接触された調節ローラとが設けられており、前記調節ローラは、前記グリッパ装置の前位置調整中に、前記制御カムから間隔を有して配置されている、請求項６記載の装置。
【請求項１２】
前記制御カムは、半径を有する輪郭を備えた搬送距離の領域と、該搬送距離の領域の前記輪郭の前記半径よりも小さな直径を有する輪郭を備えた空運転距離の領域とを備えている、請求項１０記載の装置。
【請求項１３】
前記制御カムは、半径を有する輪郭を備えた搬送距離の領域と、該搬送距離の領域の前記輪郭の前記半径よりも小さな直径を有する輪郭を備えた空運転距離の領域とを備えている、請求項１１記載の装置。
【請求項１４】
機械制御装置が設けられており、該機械制御装置を介して調節駆動装置と接続された、シート位置を検出するための少なくとも１つのセンサが設けられている、請求項５記載の装置。
【請求項１５】
機械制御装置が設けられており、該機械制御装置を介して調節駆動装置と接続された、シート位置を検出するための少なくとも１つのセンサが設けられている、請求項６記載の装置。
【請求項１６】
前記機械制御装置を介して前記調節駆動装置と接続された、シート位置を検出するための別のセンサが設けられており、前記両方のセンサは、シート搬送方向にみて相互間隔を有して配置されている、請求項１４記載の装置。
【請求項１７】
前記機械制御装置を介して前記調節駆動装置と接続された、シート位置を検出するための別のセンサが設けられており、前記両方のセンサは、シート搬送方向にみて相互間隔を有して配置されている、請求項１５記載の装置。
【請求項１８】
請求項５記載の装置を備えた枚葉輪転印刷機。
【請求項１９】
請求項６記載の装置を備えた枚葉輪転印刷機。
【手続補正書】
【提出日】平成24年9月11日(2012.9.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入力電圧が入力される入力端子と、
前記入力電圧に基づいた出力信号が出力される出力端子と、
ゲートに前記入力電圧が入力され、前記入力電圧がローレベルの時に第１のノードを充電する第１のＰＭＯＳトランジスタと、
ゲートに前記入力電圧が入力され、前記入力電圧がハイレベルの時に前記第１のノードを放電する第１のＮＭＯＳトランジスタと、
ゲートに前記入力電圧が入力され、前記入力電圧がローレベルの時に前記第１のノードを充電する第２のＰＭＯＳトランジスタと、
前記第１のノードの電圧がローレベルの時に、前記第２のＰＭＯＳトランジスタの前記第１のノードへの充電経路を遮断する第１の遮断手段と、
前記第１のノードの電圧がハイレベルの時に、前記第１のノードを充電する第３のＰＭＯＳトランジスタと、を備え、
前記第２のＰＭＯＳトランジスタは他のトランジスタより駆動能力が小さく、前記第３のＰＭＯＳトランジスタは前記第２のＰＭＯＳトランジスタより駆動能力が小さく、
電源電圧が低いときは前記第３のＰＭＯＳトランジスタのみがヒステリシス回路として機能することを特徴とする入力回路。
【請求項２】
前記第１の遮断手段は、ＰＭＯＳトランジスタで構成したことを特徴とする請求項１記載の入力回路。
【請求項３】
前記第１のノードと前記出力端子の間に反転回路を備え、前記出力信号は前記反転回路の出力信号である請求項１または２記載の入力回路。
【請求項４】
入力電圧が入力される入力端子と、
前記入力電圧に基づいた出力信号が出力される出力端子と、
ゲートに前記入力電圧が入力され、前記入力電圧がローレベルの時に第１のノードを充電する第１のＰＭＯＳトランジスタと、
ゲートに前記入力電圧が入力され、前記入力電圧がハイレベルの時に前記第１のノードを放電する第１のＮＭＯＳトランジスタと、
ゲートに前記入力電圧が入力され、前記入力電圧がハイレベルの時に前記第１のノードを放電する第２のＮＭＯＳトランジスタと、
前記第１のノードの電圧がハイレベルの時に、前記第２のＮＭＯＳトランジスタの前記第１のノードへの充電経路を遮断する第２の遮断手段と、
前記第１のノードの電圧がローレベルの時に、前記第１のノードを放電する第３のＮＭＯＳトランジスタと、を備え、
前記第２のＮＭＯＳトランジスタは他のトランジスタより駆動能力が小さく、前記第３のＮＭＯＳトランジスタは前記第２のＮＭＯＳトランジスタより駆動能力が小さく、
電源電圧が低いときは前記第３のＮＭＯＳトランジスタのみがヒステリシス回路として機能することを特徴とする入力回路。
【請求項５】
前記第２の遮断手段は、ＮＭＯＳトランジスタで構成したことを特徴とする請求項４記載の入力回路。
【請求項６】
前記第１のノードと前記出力端子の間に反転回路を備え、前記出力信号は前記反転回路の出力信号である請求項４または５記載の入力回路。
【請求項７】
入力電圧が入力される入力端子と、
前記入力電圧に基づいた出力信号が出力される出力端子と、
ゲートに前記入力電圧が入力され、前記入力電圧がローレベルの時に第１のノードを充電する第１のＰＭＯＳトランジスタと、
ゲートに前記入力電圧が入力され、前記入力電圧がハイレベルの時に前記第１のノードを放電する第１のＮＭＯＳトランジスタと、
ゲートに前記入力電圧が入力され、前記入力電圧がローレベルの時に前記第１のノードを充電する第２のＰＭＯＳトランジスタと、
前記第１のノードの電圧がローレベルの時に、前記第２のＰＭＯＳトランジスタの前記第１のノードへの充電経路を遮断する第１の遮断手段と、
前記第１のノードの電圧がハイレベルの時に、前記第１のノードを充電する第３のＰＭＯＳトランジスタと、
ゲートに前記入力電圧が入力され、前記入力電圧がハイレベルの時に前記第１のノードを放電する第２のＮＭＯＳトランジスタと、
前記第１のノードの電圧がハイレベルの時に、前記第２のＮＭＯＳトランジスタの前記第１のノードへの充電経路を遮断する第２の遮断手段と、
前記第１のノードの電圧がローレベルの時に、前記第１のノードを放電する第３のＮＭＯＳトランジスタと、を備え、
前記第２のＰＭＯＳトランジスタと前記第２のＮＭＯＳトランジスタは他のトランジスタより駆動能力が小さく、前記第３のＰＭＯＳトランジスタと前記第３のＮＭＯＳトランジスタは前記第２のＰＭＯＳトランジスタと前記第２のＮＭＯＳトランジスタより駆動能力が小さく、
電源電圧が低いときは前記第３のＰＭＯＳトランジスタと前記第３のＮＭＯＳトランジスタのみがヒステリシス回路として機能することを特徴とする入力回路。
【請求項８】
前記第１の遮断手段は、ＰＭＯＳトランジスタで構成し、
前記第２の遮断手段は、ＮＭＯＳトランジスタで構成した、
ことを特徴とする請求項７記載の入力回路。
【請求項９】
前記第１のノードと前記出力端子の間に反転回路を備え、前記出力信号は前記反転回路の出力信号である請求項７または８記載の入力回路。
【手続補正書】
【提出日】平成24年10月30日(2012.10.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
カビ検出用培地が収容された樹脂製本体であって、前記樹脂製本体の内底面上に、前記樹脂製本体の内部を平面視にて複数の区画に分割する、高さ方向の寸法が前記カビ検出用培地の厚さ寸法よりも大きい仕切り部を備えた樹脂製本体と、前記樹脂製本体の開口部側の周縁に固着されることで前記樹脂製本体の開口部に対向した位置にて前記開口部を封止したフィルム状の樹脂製蓋体と、を備えたカビ培養用容器。
【請求項２】
前記フィルム状の樹脂製蓋体に代えて、スライド移動自在の板状体を備えたことを特徴とする請求項１に記載のカビ培養用容器。
【請求項３】
前記カビ検出用培地が、寒天培地であって、前記寒天培地の寒天濃度が、１．１５〜１．３５％であることを特徴とする請求項１または２に記載のカビ培養用容器。
【請求項４】
前記樹脂製本体が、平面視で矩形であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のカビ培養用容器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】カビ培養用容器
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の第１の態様は、カビ検出用培地が収容された樹脂製本体であって、前記樹脂製本体の内底面上に、前記樹脂製本体の内部を平面視にて複数の区画に分割する、高さ方向の寸法が前記カビ検出用培地の厚さ寸法よりも大きい仕切り部を備えた樹脂製本体と、前記樹脂製本体の開口部側の周縁に固着されることで前記樹脂製本体の開口部に対向した位置にて前記開口部を封止したフィルム状の樹脂製蓋体と、を備えたカビ培養用容器である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の第２の態様は、前記樹脂製蓋体に代えて、前記樹脂製本体を内部に収容する樹脂製の収納用ケース本体と、前記収納用ケース本体の開口部を封止した収納用ケース蓋体とを備えたことを特徴とするカビ培養用容器である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の第３の態様は、前記樹脂製蓋体が、フィルムまたはスライド移動自在の板状体であることを特徴とするカビ培養用容器である。また、本発明の第４の態様は、前記収納用ケース蓋体が、フィルムまたはスライド移動自在の板状体であることを特徴とするカビ培養用容器である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明の第５の態様は、前記カビ検出用培地が、寒天培地であって、前記寒天培地の寒天濃度が、１．１５〜１．３５％であることを特徴とするカビ培養用容器である。通常の寒天培地の寒天濃度は１．５〜１．６％であるのに対し、上記態様では、寒天濃度を１．１５〜１．３５％と、やや軟らかくしている。 
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本発明の第７の態様は、前記仕切り部の高さ方向の寸法が、前記カビ検出用培地の厚さ寸法よりも大きいことを特徴とするカビ培養用容器である。すなわち、この態様では、各区画に収容されたカビ検出用培地は、隣接する区画に収容されたカビ検出用培地と接しておらず、各区画に収容されたカビ検出用培地は、他の区画に収容されたカビ検出用培地に対し、それぞれ独立している。 
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
本発明の第８の態様は、前記樹脂製本体が、平面視で矩形であることを特徴とするカビ培養用容器である。
【手続補正書】
【提出日】平成24年10月15日(2012.10.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
図７（配列番号：５）のアミノ酸残基１から６５８を含むＳｔｒａ６ポリペプチドに特異的に結合する抗体。
【請求項２】
モノクローナル抗体である請求項１の抗体。
【請求項３】
非ヒト相補性決定領域（ＣＤＲ）又はヒトフレームワーク領域（ＦＲ）を含む請求項２の抗体。
【請求項４】
標識された請求項１の抗体。
【請求項５】
ヒト抗体又はヒト化抗体である請求項１の抗体。
【請求項６】
（ａ）配列番号：２のアミノ酸残基１〜６６７のアミノ酸配列；
（ｂ）配列番号：２のアミノ酸残基２２９〜２９５のアミノ酸配列；又は
（ｃ）配列番号：２のアミノ酸残基５３２〜６６７のアミノ酸配列
からなるＳｔｒａ６ポリペプチドに対する抗体であって、ヒト抗体又はヒト化抗体である抗体。
【請求項７】
ヘテロ抱合体抗体である、請求項１ないし６の何れか一項に記載の抗体。
【請求項８】
抗体が細胞障害性薬剤又はプロドラッグ活性化剤にコンジュゲートされた、請求項１ないし７の何れか一項の抗体。
【請求項９】
請求項１ないし８の何れか一項の抗体を製薬的に許容可能な担体と混合されて含む物質の組成物。
【請求項１０】
レチノイドをさらに含む請求項９の組成物。
【請求項１１】
レチノイドがレチノイン酸又はその類似体を含む、請求項１０の組成物。
【請求項１２】
さらに細胞毒性又は化学療法剤を含む、請求項９ないし１１の何れか一項の組成物。
【請求項１３】
請求項１ないし７の何れか一項の抗体を含む、Ｗｎｔ−１経路における遺伝的欠損を有する腫瘍細胞の増殖を阻害するための治療において用いるための製薬組成物であって、前記腫瘍細胞が乳腫瘍細胞、肺腫瘍細胞、結腸直腸腫瘍細胞、卵巣腫瘍細胞、子宮内膜腫瘍細胞、腎臓腫瘍細胞、メラノーマ細胞又は褐色細胞腫細胞である、製薬組成物。
【請求項１４】
治療がレチノイドを投与することをさらに含む、請求項１３の製薬組成物。
【請求項１５】
治療が放射線治療、細胞障害性薬剤での治療、又は化学療法剤での治療をさらに含む、請求項１３の製薬組成物。
【請求項１６】
乳腫瘍細胞、肺腫瘍細胞、結腸直腸腫瘍細胞、卵巣腫瘍細胞、子宮内膜腫瘍細胞、腎臓腫瘍細胞、メラノーマ細胞又は褐色細胞腫細胞の増殖を阻害するための医薬の調整における抗Ｓｔｒａ６抗体の使用であって、前記腫瘍細胞は配列番号：２のアミノ酸残基１〜６６７の配列に対して少なくとも８０％の配列同一性、又は配列番号：５のアミノ酸残基１〜６５８のアミノ酸配列に対して８０％の配列同一性を有するアミノ酸配列を含むＳｔｒａ６ポリペプチドを同じ組織型の正常細胞に比較して過剰発現しており、前記抗Ｓｔｒａ６抗体は前記アミノ酸配列に結合する、使用。
【請求項１７】
Ｗｎｔ−１経路において欠損を有する乳腫瘍細胞、肺腫瘍細胞、結腸直腸腫瘍細胞、卵巣腫瘍細胞、子宮内膜腫瘍細胞、腎臓腫瘍細胞、メラノーマ細胞又は褐色細胞腫細胞の増殖を阻害するための薬剤の調整における抗Ｓｔｒａ６抗体の使用であって、前記Ｓｔｒａ６ポリペプチドは配列番号：２のアミノ酸残基１〜６６７の配列に対して少なくとも８０％の配列同一性、又は配列番号：５のアミノ酸残基１〜６５８のアミノ酸配列に対して８０％の配列同一性を有するアミノ酸配列を含み、前記抗Ｓｔｒａ６抗体は前記アミノ酸配列に結合する、使用。
【請求項１８】
Ｓｔｒａ６ポリペプチドが配列番号：２のアミノ酸残基１〜６６７、配列番号：２のアミノ酸残基２２９〜２９５、配列番号：２のアミノ酸残基５３２〜６６７又は配列番号：５のアミノ酸残基１〜６５８を含むポリペプチドに対して少なくとも９５％の配列同一性を有するポリペプチドである、請求項１６又は１７の使用。
【請求項１９】
Ｓｔｒａ６ポリペプチドが配列番号：２のアミノ酸残基１〜６６７、配列番号：２のアミノ酸残基２２９〜２９５、配列番号：２のアミノ酸残基５３２〜６６７又は配列番号：５のアミノ酸残基１〜６５８を含むポリペプチドである、請求項１８の使用。
【請求項２０】
レチノイドと組み合わせて腫瘍細胞の増殖を阻害するための薬剤の製造のための、請求項１６ないし１９の何れか一項の使用。
【請求項２１】
薬剤がレチノイドをさらに含む、請求項１６ないし２０の何れか一項の使用。
【請求項２２】
レチノイドが前記腫瘍細胞においてＳｔｒａ６ポリペプチドの過剰発現を刺激又は増強する、請求項２１の使用。
【請求項２３】
レチノイドがレチノイン酸又はその類似体を含む、請求項２１の使用。
【請求項２４】
抗Ｓｔｒａ６抗体が細胞死を誘導する、請求項１６ないし２３の何れか一項の使用。
【請求項２５】
前記薬剤が放射線治療、細胞障害性薬剤、又は化学療法剤とさらに組み合わせた治療のための薬剤である、請求項１６ないし２４の何れか一項の使用。
【請求項２６】
腫瘍細胞がＷｎｔ−１経路における遺伝的欠損を有する、請求項１７の使用。
【請求項２７】
遺伝的欠陥がβ−カテニンシグナル伝達の異常な活性化を引き起こす、請求項１７又は２６の使用。
【請求項２８】
腫瘍細胞がＡＰＣ腫瘍サプレッサー又はβ−カテニンの変異を含む、請求項２７の使用。
【請求項２９】
腎臓腫瘍がウィルムス腎臓腫瘍である、請求項１６ないし２８の何れか一項の使用。
【請求項３０】
前記抗体が細胞障害性薬剤又はプロドラッグ活性化剤にコンジュゲートされている、請求項１６ないし２９の何れか一項の使用。
【請求項３１】
前記抗体がモノクローナル抗体である、請求項１６ないし３０の何れか一項の使用。
【請求項３２】
前記抗体がキメラ抗体、ヒト抗体、ヒト化抗体、一本鎖抗体、ダイアボディ又はヘテロ抱合体抗体である、請求項１６ないし３０の何れか一項の使用。
【請求項３３】
前記抗体が抗体断片を含む、請求項１６ないし３０の何れか一項の使用。
【請求項３４】
前記抗体断片がＦａｂ、Ｆａｂ'、Ｆ(ａｂ')２又はＦｖ断片である、請求項３３の使用。
【請求項３５】
前記抗体が標識されている、請求項１６ないし３４の何れか一項の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月7日(2012.11.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
検出面上における物体の位置を検出するタッチセンサに対して、ユーザが前記検出面上において前記物体を移動させる移動操作を行った場合に、当該移動操作における前記物体の移動距離を取得する移動距離取得手段、
前記移動操作の操作態様に関する値を取得する操作態様値取得手段、及び
前記取得した移動距離と、前記取得した操作態様に関する値と、に基づいて算出される値を、前記ユーザが行った移動操作による操作入力量として出力する操作入力量出力手段、
としてコンピュータを機能させるためのプログラムであって、
前記操作入力量出力手段は、前記移動距離が所定値を超える場合には、当該所定値を前記移動距離の値として、前記操作入力量の値を算出する
ことを特徴とするプログラム。
【請求項２】
請求項１記載のプログラムにおいて、
前記移動操作の操作態様に関する値は、当該移動操作における前記物体の移動速度を示す値である
ことを特徴とするプログラム。
【請求項３】
請求項２記載のプログラムにおいて、
前記操作態様値取得手段は、前記操作態様に関する値を取得する時点の直前における前記物体の移動速度を示す値を、前記操作態様に関する値として取得する
ことを特徴とするプログラム。
【請求項４】
請求項１記載のプログラムにおいて、
前記移動操作の操作態様に関する値は、当該移動操作の際に前記ユーザが前記検出面に前記物体を押しつける圧力を示す値である
ことを特徴とするプログラム。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか一項記載のプログラムにおいて、
前記移動距離取得手段は、前記物体を検出していない状態において最初に前記物体の検出を開始した時点における前記物体の検出位置を基準位置とし、前記移動距離の取得を行う時点における前記物体の検出位置を現在位置として、前記基準位置から前記現在位置までの前記物体の移動距離を取得する
ことを特徴とするプログラム。
【請求項６】
検出面上における物体の位置を検出するタッチセンサに対して、ユーザが前記検出面上において前記物体を移動させる移動操作を行った場合に、当該移動操作における前記物体の移動距離を取得する移動距離取得手段、
前記移動操作の操作態様に関する値を取得する操作態様値取得手段、及び
前記取得した移動距離と、前記取得した操作態様に関する値と、に基づいて算出される値を、前記ユーザが行った移動操作による操作入力量として出力する操作入力量出力手段、
としてコンピュータを機能させるためのプログラムであって、
前記移動距離取得手段は、前記物体の検出位置の所定の基準軸に沿った移動方向が変化した場合に、当該変化の時点における前記物体の検出位置に対応する位置を基準位置とし、前記移動距離の取得を行う時点における前記物体の検出位置を現在位置として、前記基準位置から前記現在位置までの前記物体の移動距離を取得する
ことを特徴とするプログラム。
【請求項７】
請求項６記載のプログラムにおいて、
前記移動距離取得手段は、前記変化の時点における前記物体の検出位置の前記基準軸に沿った位置座標が、前記基準位置の前記基準軸に沿った位置座標となるよう前記基準位置を決定し、当該基準位置から前記現在位置までの前記物体の移動距離を取得する
ことを特徴とするプログラム。
【請求項８】
検出面上における物体の位置を検出するタッチセンサに対して、ユーザが前記検出面上において前記物体を移動させる移動操作を行った場合に、当該移動操作における前記物体の移動距離を取得する移動距離取得手段、
前記移動操作の操作態様に関する値を取得する操作態様値取得手段、及び
前記取得した移動距離と、前記取得した操作態様に関する値と、に基づいて算出される値を、前記ユーザが行った移動操作による操作入力量として出力する操作入力量出力手段、
としてコンピュータを機能させるためのプログラムであって、
前記移動距離取得手段は、前記物体の検出位置の移動方向が変化した場合に、当該変化の時点における前記物体の検出位置を基準位置とし、前記移動距離の取得を行う時点における前記物体の検出位置を現在位置として、前記基準位置から前記現在位置までの前記物体の移動距離を取得する
ことを特徴とするプログラム。
【請求項９】
請求項１から８のいずれか一項記載のプログラムにおいて、
前記コンピュータを、
前記出力される操作入力量に応じた量だけ、表示画面に表示される画像内の画像要素を移動させる表示画像制御手段としてさらに機能させる
ことを特徴とするプログラム。
【請求項１０】
請求項１から９のいずれか一項記載のプログラムが記憶された、コンピュータ読み取り可能な情報記憶媒体。
【請求項１１】
検出面上における物体の位置を検出するタッチセンサから、当該物体の検出位置を取得する手段と、
前記ユーザが前記検出面上において前記物体を移動させる移動操作を行った場合に、前記検出位置を用いて、当該移動操作における前記物体の移動距離を取得する移動距離取得手段と、
前記移動操作の操作態様に関する値を取得する操作態様値取得手段と、
前記取得した移動距離と、前記取得した操作態様に関する値と、に基づいて算出される値を、前記ユーザが行った移動操作による操作入力量として出力する操作入力量出力手段と、
を含み、
前記操作入力量出力手段は、前記移動距離が所定値を超える場合には、当該所定値を前記移動距離の値として、前記操作入力量の値を算出する
ことを特徴とする情報入力装置。
【請求項１２】
検出面上における物体の位置を検出するタッチセンサに対して、ユーザが前記検出面上において前記物体を移動させる移動操作を行った場合に、当該移動操作における前記物体の移動距離を取得するステップと、
前記移動操作の操作態様に関する値を取得するステップと、
前記取得した移動距離と、前記取得した操作態様に関する値と、に基づいて算出される値を、前記ユーザが行った移動操作による操作入力量として出力する操作入力量出力ステップと、
を含み、
前記操作入力量出力ステップでは、前記移動距離が所定値を超える場合に、当該所定値を前記移動距離の値として、前記操作入力量の値を算出する
ことを特徴とする情報入力装置の制御方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年1月23日(2012.1.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
原料と水蒸気から改質反応により水素を含む改質ガスを生成する改質器を有する水素生成器と、
前記水素生成器から供給される水素を含む燃料と酸素を含む酸化剤とを用いて発電を行う燃料電池と、
第１貯水部と第２貯水部とに分割され、前記第２貯水部の水が前記第１貯水部に供給されないよう構成されている水タンクと、
前記第２貯水部と連通し、前記燃料電池を冷却するための冷却水が循環する冷却水循環経路と、
前記第１貯水部と連通し、前記改質器に供給される水蒸気の水蒸気源として前記第１貯水部に貯えられた液体の水が流れる水供給経路と、
前記第１貯水部と前記第２貯水部とを繋ぐ連通部と、
前記第２貯水部にオーバフロー口とを備え、
前記連通部の高さは前記オーバフロー口の高さより高く設定したことを特徴とする燃料電池システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
上記課題を解決するために、第１の本発明の燃料電池システムは、原料と水蒸気から改質反応により水素を含む改質ガスを生成する改質器を有する水素生成器と、前記水素生成器から供給される水素を含む燃料と酸素を含む酸化剤とを用いて発電を行う燃料電池と、第１貯水部と第２貯水部とに分割され、前記第２貯水部の水が前記第１貯水部に供給されないよう構成されている水タンクと、前記第２貯水部と連通し、前記燃料電池を冷却するための冷却水が循環する冷却水循環経路と、前記第１貯水部と連通し、前記改質器に供給される水蒸気の水蒸気源として前記第１貯水部に貯えられた液体の水が流れる水供給経路と、前記第１貯水部と前記第２貯水部とを繋ぐ連通部と、前記第２貯水部にオーバフロー口とを備え、前記連通部の高さは前記オーバフロー口の高さより高く設定したことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成24年9月21日(2012.9.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に実現された堆積物によって形成された三極管型陰極構造であって、前記堆積物は、炭素ナノチューブを有する電子放出手段（２４）に抵抗層（２６）によって電気的に接続された陰極（２３）を形成する電極を備え、前記堆積物は、また、前記電子放出手段を露出させる開口部（２２）が設けられたグリッド電極（２５）を備え、前記グリッド電極は、電気絶縁層（２１）を介して前記支持体によって支持されており、
前記グリッド電極の開口部はスリットであり、前記スリットによって露出された前記電子放出手段（２４）は、前記スリットの長手方向に沿って一列に並べられ相互に分離された少なくとも２つの素子からなり、前記電子放出手段（２４）は、前記スリットの壁と接触しないように前記スリットの中心部に配置され、陰極（２３）を形成する前記電極は、前記電子放出手段（２４）が陰極を形成する前記電極上に配置されないように、前記電子放出手段（２４）に対して前記堆積物内で位置決めされていることを特徴とする三極管型陰極構造。
【請求項２】
前記グリッド電極（２５）及び前記電気絶縁層（２１）に形成された前記開口部（２２）は実質的に長方形であり、前記電子放出手段（２４）で形成された前記素子も、ほぼ長方形であることを特徴とする請求項１に記載の三極管型陰極構造。
【請求項３】
前記電子放出手段で形成された前記素子は、前記電子放出手段の材料（４４）を形成する物体（４８）の長さより大きな距離だけ、前記グリッド電極から分離されることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の三極管型陰極構造。
【請求項４】
請求項１ないし請求項３いずれか１項に記載の三極管型陰極構造を複数有することを特徴とする平面電界放出ディスプレイ。
【手続補正書】
【提出日】平成24年9月7日(2012.9.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板上に実装された、側面に凹凸部が設けられたシリコン基板と、
前記シリコン基板の上に実装された半導体チップと、
前記半導体チップを覆うと共に、前記シリコン基板の上面を封止する絶縁層とを備える、半導体実装構造体。
【請求項２】
前記凹凸部の表面は、金属膜で覆われていることを特徴とする請求項１に記載の半導体実装構造体。
【請求項３】
前記金属膜は、Ｔｉ（チタニウム）或いはＣｕ（銅）を含む材料から形成されることを特徴とする請求項２に記載の半導体実装構造体。
【請求項４】
前記シリコン基板の上面には、前記凹凸部に接続される放熱用の金属パターンが設けられていることを特徴とする請求項１に記載の半導体実装構造体。
【請求項５】
前記凹凸部は、前記シリコン基板の上下方向に所定長だけ延在する複数の溝を備え、当該溝は所定ピッチだけ離間していることを特徴とする請求項１に記載の半導体実装構造体。
【請求項６】
前記シリコン基板と前記半導体チップとを覆って、前記基板に封止する放熱層をさらに備える請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の半導体実装構造体。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月9日(2012.11.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源から光を導入し、測定対象物に形成されたアライメントマークに対して光を照射する照明系と、前記アライメントマークにおいて反射、回折又は散乱された光を結像する結像系とを有する位置検出系を備え、該位置検出系が検出した前記アライメントマークの位置情報に基づいて、前記測定対象物に対して回転、シフト及び倍率補正の少なくとも１つを実施する露光装置であって、
前記結像系は、前記光からアライメントマーク信号を検出する画像検出素子を備え、
前記画像検出素子による測定領域は、前記測定対象物の回転中心から前記アライメントマークへ向かう第１方向の測定領域に比べ、前記第１方向に直交する第２方向の測定領域の方が広いことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記測定領域は、矩形であり、前記第１方向に平行な辺をその短辺とし、前記第２方向に平行な辺をその長辺とすることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記位置検出系は、前記アライメントマークが回転移動した際に、前記短辺が前記第１方向と平行するように前記画像検出素子を回転可能とする機構を備えることを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記機構は、前記アライメントマークが回転移動に応じて前記画像検出素子を回転させることを特徴とする請求項３に記載の露光装置。
【請求項５】
前記画像検出素子は、光電変換素子であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項６】
前記画像検出素子の受光部は、矩形であり、長辺方向と短辺方向とで画素分解能が異なることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項７】
前記測定対象物は、被処理基板であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項８】
前記測定対象物は、被処理基板に転写される回路パターンが形成された原版であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記基板を現像する工程と、
を有することを特徴とするデバイスの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の一実施形態の露光装置は、光源から光を導入し、測定対象物に形成されたアライメントマークに対して光を照射する照明系と、前記アライメントマークにおいて反射、回折又は散乱された光を結像する結像系とを有する位置検出系を備え、該位置検出系が検出した前記アライメントマークの位置情報に基づいて、前記測定対象物に対して回転、シフト及び倍率補正の少なくとも１つを実施する。前記結像系は、前記光からアライメントマーク信号を検出する画像検出素子を備え、前記画像検出素子による測定領域は、前記測定対象物の回転中心から前記アライメントマークへ向かう第１方向の測定領域に比べ、前記第１方向に直交する第２方向の測定領域の方が広い。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月2日(2012.11.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体ウェハを処理するためにチャンバ内に形成したプラズマのプラズマ発光を検出して前記処理の終点判定を行う手段を備える半導体製造装置において、
前記プラズマ発光をピックアップする方向や位置を可変する手段を有することを特徴とする半導体製造装置。
【請求項２】
請求項１に記載の半導体製造装置において、前記可変手段は発光ピックアップを固定した回転機構と、前記回転機構を駆動する手段を備えたことを特徴とする半導体製造装置。
【請求項３】
請求項２に記載の半導体製造装置において、前記回転機構の回転軸を、半導体ウェハを載置する電極の半径方向と垂直とし、前記発光ピックアップの光軸先端が前記電極の中央から外周部に可変とすることを特徴とする半導体製造装置。
【請求項４】
請求項２に記載の半導体製造装置において、装置コントローラは単一あるいは複数の処理ステップからなる一連の機器パラメータ設定を行い、前記パラメータ設定に前記回転機構への設定信号を含むことを特徴とする半導体製造装置。
【請求項５】
チャンバ内に配置した半導体ウェハを処理するためにこのチャンバ内にプラズマを形成してプラズマ発光を検出して前記処理の終点判定を行う半導体処理方法において、
前記プラズマ発光をピックアップする方向や位置を処理ステップごとに可変することを特徴とする半導体処理方法。
【請求項６】
請求項５に記載の半導体処理方法において、前記プラズマ発光による発光強度の様々な分布に応じて、中央部の発光強度が比較的強いプロセス条件では前記プラズマ発光をピックアップする方向を中央部に向け、外周部の発光強度が比較的強い条件では前記プラズマ発光をピックアップする方向を外周部に向けて、発光ピックアップが固定の場合に比べて、幅広く終点判定可能とすることを特徴とする半導体処理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明の半導体製造装置は、半導体ウェハを処理するためにチャンバ内に形成したプラズマのプラズマ発光を検出して前記処理の終点判定を行う手段を備える半導体製造装置であって、前記プラズマ発光をピックアップする方向や位置を可変する手段を有することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
また、本発明の半導体処理方法は、チャンバ内に配置した半導体ウェハを処理するためにこのチャンバ内にプラズマを形成してプラズマ発光を検出して前記処理の終点判定を行う半導体処理方法であって、前記プラズマ発光をピックアップする方向や位置を処理ステップごとに可変することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成24年10月10日(2012.10.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転体と、
ベース部材と、
前記回転体を前記ベース部材に対して相対回転が可能に支持する軸受けユニットと、
前記回転体の回転軸を中心として当該回転体の一部に延設される環状溝部と、
前記環状溝部に装着されて前記回転体と共に回転する部材であって、装着するときに溝延設方向に摺動可能で固着位置にて停止状態を実質的に維持可能な固着機構を有するウエイト部材と、
を含み、
前記環状溝部は、前記ベース部材に対向する前記回転体の端面部に形成され、
前記ベース部材は、前記環状溝部の少なくとも一部を当該ベース部材の前記回転体とは反対側の面から臨めるベース孔を有することを特徴とするブラシレスモータ。
【請求項２】
前記ウエイト部材は、当該ウエイト部材を前記環状溝部の溝内部で摺動させるときに調整操作部材と係合する係合部を有することを特徴とする請求項１に記載のブラシレスモータ。
【請求項３】
前記ウエイト部材が前記環状溝部内を第１延設方向に摺動するときに発生する抵抗力は、前記第１延設方向とは逆方向の第２延設方向に摺動するときに発生する抵抗力より小さいことを特徴とする請求項１または請求項２に記載のブラシレスモータ。
【請求項４】
前記ウエイト部材は、前記回転体が回転を開始するときおよび前記回転体が回転を停止するときのいずれにおいても前記環状溝部内で固着位置での停止状態を実質的に維持する装着力を有することを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載のブラシレスモータ。
【請求項５】
前記環状溝部は、溝の内側に突出した突出部を有することを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載のブラシレスモータ。
【請求項６】
前記ウエイト部材の前記固着機構は、前記環状溝部の内壁面を押圧する弾性部材を含むことを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項に記載のブラシレスモータ。
【請求項７】
前記弾性部材は、ワイヤ状素材で形成されるスプリングを含むことを特徴とする請求項６記載のブラシレスモータ。
【請求項８】
前記ウエイト部材は、樹脂材料を含むことを特徴とする請求項１から請求項７のいずれか１項に記載のブラシレスモータ。
【請求項９】
前記ウエイト部材は、非強磁性材料で形成されることを特徴とする請求項１から請求項８のいずれか１項に記載のブラシレスモータ。
【請求項１０】
前記環状溝部は、前記ベース部材側に固定されたコイルと協働して前記回転体の回転力を発生させるマグネットと前記回転体の軸方向において重ならない位置に形成されることを特徴とする請求項１から請求項９のいずれか１項に記載のブラシレスモータ。
【請求項１１】
前記ウエイト部材の前記環状溝部と接する部分の硬度は、当該環状溝部の硬度より高いことを特徴とする請求項１から請求項１０のいずれか１項に記載のブラシレスモータ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ブラシレスモータ
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、ブラシレスモータのアンバランス量の低減調整技術に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
発明者らは、ハブや記録ディスクに修正加工などの機械加工や加工精度の向上などを殆ど施すことなくアンバランス量を小さくすることができれば、コストの増加や自動組立化の妨げになることがなく、ディスク駆動装置の高密度・大容量化が達成できるとの考えに想到した。
このような課題はブラシレスモータについても存在する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
そこで、本発明は上述した課題を解決するためになされたものであり、その目的は、回転体に修正加工などの機械加工や加工精度の向上などを殆ど施すことなくアンバランス量を小さくすることのできるブラシレスモータを提供することにある。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記課題を解決するために、本発明のある態様のブラシレスモータは、回転体と、ベース部材と、回転体をベース部材に対して相対回転が可能に支持する軸受けユニットと、回転体の回転軸を中心として当該回転体の一部に延設される環状溝部と、環状溝部に装着されて回転体と共に回転する部材であって、装着するときに溝延設方向に摺動可能で固着位置にて停止状態を実質的に維持可能な固着機構を有するウエイト部材と、を含み、環状溝部は、ベース部材の内面側に対向する回転体の端面部に形成され、ベース部材は、環状溝部の少なくとも一部を当該ベース部材の回転体とは反対側の面から臨めるベース孔を有することを特徴とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
この態様によると、ウエイト部材を回転体に形成された環状溝部内で当該環状溝部の延設方向に摺動させて停止させることで、回転体の回転バランスの状態を変化させられる。ウエイト部材は固着位置にて停止状態を実質的に維持可能な固着機構を有しているので、ウエイト部材を回転バランスが許容できる状態に成る位置で停止させれば、その回転バランス状態が実質的に維持される。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明によれば、回転体に修正加工などの機械加工や加工精度の向上などを殆ど施すことなくアンバランス量を小さくすることが可能なブラシレスモータが提供できる。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月8日(2012.11.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
陽極と陰極と、
該陽極と該陰極との間に挟持され少なくとも発光層を含む有機化合物層と、から構成され、
該発光層が陽極側に設けられる第１発光層と、陰極側に設けられる第２発光層と、からなり、
該第１発光層に第１ホストと第１ドーパントとが含まれており、
該第２発光層に第２ホストと第２ドーパントとが含まれており、
該第１ホストと該第１ドーパントとの間で下記（ａ）の関係が成り立ち、
該第２ホストと該第２ドーパントとの間で下記（ｂ）の関係が成り立ち、
該第１ホストと該第２ホストとの間で下記（ｃ）の関係が成り立つことを特徴とする、有機ＥＬ素子。
（ａ）｜ＬＵＭＯ（Ｈ1）−ＬＵＭＯ（Ｄ1）｜＞｜ＨＯＭＯ（Ｈ1）−ＨＯＭＯ（Ｄ1）｜
（ｂ）｜ＬＵＭＯ（Ｈ2）−ＬＵＭＯ（Ｄ2）｜＞｜ＨＯＭＯ（Ｈ2）−ＨＯＭＯ（Ｄ2）｜
（ｃ）｜ＨＯＭＯ（Ｈ1）｜＞｜ＨＯＭＯ（Ｈ2）｜
（（ａ）乃至（ｃ）において、ＬＵＭＯ（Ｈ1）、ＬＵＭＯ（Ｄ1）、ＬＵＭＯ（Ｈ2）及びＬＵＭＯ（Ｄ2）は、それぞれ第１ホスト、第１ドーパント、第２ホスト、第２ドーパントのＬＵＭＯを表す。（ａ）乃至（ｃ）において、ＨＯＭＯ（Ｈ1）、ＨＯＭＯ（Ｄ1）、ＨＯＭＯ（Ｈ2）及びＨＯＭＯ（Ｄ2）は、それぞれ第１ホスト、第１ドーパント、第２ホスト、第２ドーパントのＨＯＭＯを表す。）
【請求項２】
さらに下記（ｄ）の関係が成り立つことを特徴とする、請求項１に記載の有機ＥＬ素子。
（ｄ）｜ＬＵＭＯ（Ｈ1）｜＞｜ＬＵＭＯ（Ｈ2）｜
【請求項３】
前記第１ホスト、前記第１ドーパント、前記第２ホスト及び前記第２ドーパントがいずれも炭化水素のみからなる化合物であることを特徴とする、請求項１又は２に記載の有機ＥＬ素子。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一項に記載の有機ＥＬ素子を画素部あるいは副画素部に有することを特徴とする、ディスプレイ。
【請求項５】
請求項１乃至３のいずれか一項に記載の有機ＥＬ素子を有することを特徴とする、照明。
【請求項６】
露光光源と、感光体と、を有し、
前記露光光源が、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の有機ＥＬ素子を有することを特徴とする、電子写真方式の画像形成装置。
【手続補正書】
【提出日】平成24年1月30日(2012.1.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の回路設計の実装において、起こりうる設計制約違反の確率分布を判定する手段と、
該判定手段の設計制約違反の確率分布に基づいて、前記第１の回路設計の１以上の部分を修正する手段と
を含む回路設計用のツール。
【請求項２】
前記確率分布は、前記第１の回路設計の実装が判定される前に前記設計制約により制約されるパラメータの推定の不確定性によるものである、請求項１に記載のツール。
【請求項３】
前記確率分布は、前記パラメータの第１の推定と第２の推定との間の差から判定される、請求項２に記載のツール。
【請求項４】
前記第２の推定は、前記第１の回路設計の実装において発生しうる少なくとも１つの変更を含み、前記確率分布は、前記設計制約のしきい値により正規化される、請求項３に記載のツール。
【請求項５】
前記確率分布は、さらに、前記設計制約のしきい値から判定される、請求項３に記載のツール。
【請求項６】
前記確率分布を判定する手段は、前記第１の回路設計の実装におけるパス上での設計制約違反の確率を示すパスの感度指標を判定するため、該第１の回路設計のタイミング終点の間のパスの順方向幅優先第１探索と逆方向幅優先第１探索の内の少なくとも一方を実行する手段を含む、請求項１に記載のツール。
【請求項７】
前記第１の回路設計は、技術特有のネットリストを含む、請求項１に記載のツール。
【請求項８】
前記第１の回路設計は、さらに、配置ソリューションを含む、請求項７に記載のツール。
【請求項９】
前記第１の回路設計の実装が該実装のための配線ソリューションを含む、請求項１に記載のツール。
【請求項１０】
前記第１の回路設計の１以上の部分を修正する手段は、
ａ）論理素子のインスタンスのサイズを設定するための手段、
ｂ）信号をバッファリングするための手段、
ｃ）信号を負荷遮蔽するための手段、及び
ｄ）論理素子のインスタンスを複製する手段
の少なくとも一つを含む、請求項１に記載のツール。
【請求項１１】
前記設計制約がタイミング制約を含む、請求項１に記載のツール。
【請求項１２】
前記タイミング制約が、
ａ）回路の最悪のネガティブ・スラック、
ｂ）第１の回路設計における論理素子のインスタンスのためのスラック、
ｃ）第１の回路設計におけるパス上の遅延、及び
ｄ）回路のトータル・ネガティブ・スラック
の少なくとも一つを含む、請求項１１に記載のツール。
【請求項１３】
前記第１の回路設計の１以上の部分を修正する手段が、第１の回路設計の実装における論理素子における不確定性に敏感な設計制約に制約されるパラメータの感度に従って修正に係る論理素子のインスタンスを選択する手段を含む、請求項１に記載のツール。
【請求項１４】
前記第１の回路設計の１以上の部分を修正する手段が、第１の回路設計の実装における論理素子における不確定性に敏感な設計制約に制約されるパラメータの感度に従って修正に係るパスを選択する手段を含む、請求項１に記載のツール。
【請求項１５】
前記確率分布を判定する手段は、前記第１の回路設計における論理素子のインスタンスに接続するネットのために、
ａ）ネット長、
ｂ）ネット容量、
ｃ）ネット抵抗、及び
ｄ）ネット・トポロジ
の内の一つで発生しうる変化を判定する手段を有する、請求項１に記載のツール。
【請求項１６】
前記第１の回路設計の１以上の部分を修正する手段が、
前記第１の回路設計の実装における不確定性への感度に基づいて当該第１の回路設計における複数の論理素子のインスタンスから複数の候補を決定する手段と、
前記複数の候補の内から選択されたものを修正する選択修正手段と
を含む、請求項１に記載のツール。
【請求項１７】
前記選択修正手段は、候補を通る複数のパスを表す流れに従って、前記複数の候補から一つを選択する手段を含む、請求項１６に記載のツール。
【請求項１８】
前記選択修正手段は、前記複数の候補から選択された一つをサイズアップする手段を含む、請求項１７に記載のツール。
【請求項１９】
前記サイズアップは、全体の設計制約のレベルを落とすことなく、ある範囲で行われる、請求項１８に記載のツール。
【請求項２０】
全体の設計制約は最悪のネガティブ・スラックを有する、請求項１９に記載のツール。
【請求項２１】
前記選択修正手段は、修正に係るものを選択するために前記複数の候補を有するグラフに対し最小カットを行う手段を含む、請求項１６に記載のツール。
【請求項２２】
請求項１〜２１のいずれかに記載されたツールによって実行されるコンピュータ・プログラム命令を記憶した機械可読媒体。
【請求項２３】
請求項１〜２１のいずれかに記載されたツールによって実行される方法。