【事件の表示】
　特願２００３−１２０２３７「均一磁場発生装置およびそれを用いた核磁気共鳴装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１６年１１月１８日出願公開、特開２００４−３２５２５１〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１．手続の経緯
　本願は，平成１５年４月２４日の特許出願であって，平成１９年１０月１８日付けで平成１９年９月２８日付けの手続補正についての補正却下決定がなされるとともに同日付けで拒絶査定がなされ，これに対し，平成１９年１１月２９日に拒絶査定不服審判の請求がなされるとともに，平成２０年１月４日付けで手続補正（以下，「本件補正」という。）がなされたものである。
　
第２．本件補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　本件補正を却下する。
［理由］
１．補正の目的について
　本件補正により，特許請求の範囲の請求項１は，以下のとおり補正された。下線は，補正部分を示す。
「【請求項１】
　計測空間に磁場を発生する超電導メインコイル群
が，第１のメインコイル群と第２のメインコイル群とに間隙を介して軸方向に２分割され，かつ
が軸方向に２分割され，前記超電導メインコイルの中心部に前記計測空間を含む空間を有するスプリット型核磁気共鳴装置用
　前記超電導シムコイル群は，前記超電導メインコイル群の外側に配置された第１の超電導シムコイル群と，前記超電導メインコイル群と前記計測空間との間に配置された第２及び第３の超電導シムコイル群を含み，かつ前記第２及び第３の超電導シムコイル群は前記超電導メインコイル群の中心軸からの距離が異な
り，前記第２及び第３の超電導シムコイル群の少なくとも１つは８テスラ以上の磁場中で所望の磁場成分を発生することが可能であって，前記第２及び第３の超電導シムコイル群の少なくとも１つのコイルが，複数の次数の磁場成分を発生し得，前記第２及び第３の超電導シムコイル群の各コイルに通電する電流値を独立に制御することにより，複数の次数の磁場成分を同時に補正する手段を有する
核磁気共鳴装置用
　
　上記補正は，補正前の請求項１に係る発明を特定するために必要な事項である「超伝導メインコイル群」と「磁場の不均一を補正するための超電導シムコイル群」について，それぞれ「第１のメインコイル群と第２のメインコイル群とに間隙を介して軸方向に２分割」と「軸方向に２分割」との限定を付加し，同じく「均一磁場発生装置」について，「超電導メインコイルの中心部に前記計測空間を含む空間を有するスプリット型核磁気共鳴装置用」との限定を付加し，同じく「超電導シムコイル群」について，更に「電導メインコイル群の外側に配置された第１の超電導シムコイル群」を備えるとの限定を付加し，同じく「第２及び第３の超電導シムコイル群」について，「第２及び第３の超電導シムコイル群の少なくとも１つは８テスラ以上の磁場中で所望の磁場成分を発生することが可能であって，前記第２及び第３の超電導シムコイル群の少なくとも１つのコイルが，複数の次数の磁場成分を発生し得，前記第２及び第３の超電導シムコイル群の各コイルに通電する電流値を独立に制御することにより，複数の次数の磁場成分を同時に補正する手段を有する」との限定を付加するものであるから，平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前（以下，「平成１８年改正前」という。）の特許法第１７条の２第４項第２号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　
２．独立特許要件について
　本件補正後の前記請求項１に係る発明（以下，「補正発明」という。）が，特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（平成１８年改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか）について以下に検討する。
　
（１）引用刊行物およびその記載事項
　原査定の拒絶の理由に引用された文献であって，本願出願前に頒布された刊行物である特開２００１−２６４４０２号公報（以下，「引用刊行物１」という。）には，「高磁場均一度超電導磁石装置」について，図面とともに次の事項が記載されている。
（１−ア）
「【請求項１】  主磁場を発生する超電導メインコイル群と，前記超電導コイル群の中心付近の空間における磁場の均一度を維持する様に磁場の空間分布を調整するための超電導補正コイル群および超電導シムコイル群が同芯状に配列された高磁場均一度超電導磁石装置において，前記超電導メインコイル群と超電導シムコイル群の間に補正コイル追加用の円筒状予備空間を設けたものであることを特徴とする高磁場均一度超電導磁石装置。」
　
（１−イ）
「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は，永久電流を利用した核磁気共鳴（ＮＭＲ）装置に用いられる超電導マグネット等の様に，高磁場で且つ磁場均一度が高いことが要求される超電導磁石装置（永久電流磁石装置）に関するものである。」
　
（１−ウ）
「【０００５】ところで，上記ＮＭＲ装置用超電導マグネット等の様に磁場の均一度が高いことが要求されている超電導磁石装置においては，主磁場を発生するメインコイル群，このメインコイル群が超電導マグネットの軸芯部分に発生する磁場の空間的な分布を概略均一に補正する補正コイル群，および前記２つのコイル群で超電導マグネットの軸芯付近に発生する磁場の空間的な分布を精密に調整するシムコイル群が同芯状に配列されて構成されるのが一般的である。また上記シムコイル群は，メインコイル群，補正コイル群および超電導シムコイル群を包含する低温容器の径方向の内側で超電導マグネット群の軸芯付近に設置される常電導シムコイル群と，低温容器の径方向の最も外側に配置され超電導線材を部材とする超電導シムコイル群とで構成されることが多い。」
　
（１−エ）
「【００１２】図１に示した装置構成において，主磁場を発生する超電導メインコイル群は，Ｎｂ３Ｓｎ超電導線材が巻回された超電導メインコイル１と，ＮｂＴｉ超電導線材が巻回された超電導メインコイル２から構成されている。超電導メインコイル２の径方向外側には，ＮｂＴｉ超電導超電導線材が巻回された超電導補正コイル群３ａ〜３ｂが設けられている。また，超電導補正コイル群３ａ〜３ｂの径方向外側には，ＮｂＴｉ超電導超電導線材が巻回された超電導シムコイル群４ａ〜４ｆが設けられている。即ち，この永久電流磁石装置においては，超電導メインコイル１，２からなる超電導メインコイル群，超電導補正コイル群３ａ〜３ｂ，および超電導シムコイル群４ａ〜４ｆが同芯状に配列されて構成されている。
【００１３】そして以上の超電導コイル群は，低温容器（クライオスタット）６の中に収納され，この低温容器６内は液体窒素および液体ヘリウムによって低温に維持されている。また，この低温容器６の中央付近の室温空間部分には，常電導シムコイル５が設けられている。また，この室温空間はサンプル挿入孔となっており，高周波プローブを入れることによって，サンプルの測定を行なう様にされる。」
　
　そうすると，これら（１−ア）〜（１−エ）の記載と図１とを総合すると，引用刊行物１には，次の発明が記載されていると認められる。
　
　「主磁場を発生する超電導メインコイル群と，超電導メインコイル群の径方向外側に設けられた，超電導マグネットの軸芯付近に発生する磁場の空間的な分布を精密に調整するシムコイル群を同芯状に配列された核磁気共鳴装置用高磁場均一度超電導磁石装置。」（以下，「引用発明１」という。）
　
　そして，原査定の拒絶の理由に引用された文献であって，本願出願前に頒布された刊行物である特開平４−１６８３８６号公報（以下，「引用刊行物２」という。）には，「磁場補正用シムコイルとその製造方法」について，図面とともに次の事項が記載されている。
　
（２−ア）
「（産業上の利用分野）
本発明はＮＭＲ装置（核磁気共鳴装置）その他の磁場を用いる装置において，試料に作用する磁場を補正するためのシムコイルとその製造方法に関するものである。
（従来の技術）
ＮＭＲ装置では超伝導マグネットの中心に測定試料が置かれるが，試料に作用する磁場を補正するために超伝導マグネットの中心部にシムコイルが設けられる。シムコイルは超伝導マグネットの軸方向モードの数種類のアキシャルシムコイルと半径方向モードの数種類のラジアルシムコイルとを含んでいる。」（１ページ右下欄９行〜２ページ左上欄１行）
　
（２−イ）
「（実施例）　第９図は本発明のシムコイルが用いられるＮＭＲ装置の一例を概略的に表わしている。
２は超伝導マグネットであり，その中心部には上方からサンプル４が挿入される。サンプル４の周りにはプローブ６とシムコイル８が配置され，シムコイル８は支柱１０に保持され，シムコイル８の配線が支柱１０により下部に取り出される。
１２はプローブ接続部であり，プローブ６とシムコイル８を超伝導マグネット２に取りつけるとともに，支柱１０により引き出されたシムコイルの配線とシム電源からのケーブルを接続する役目を果たす。超伝導マグネット２の上方から中心部にアッパースタック１４が挿入され，シムコイル８はアッパースタック接続部１６によってアッパースタック１４と接続されている。
　シムコイル８は超伝導マグネット２の中心で，かつプローブ６のコイル中心に１３個のシムチャネルの磁場勾配を発生する。
　シムコイル８はアキシャルコイルとラジアルコイルに分かれる。何れも円筒面上に電流を分布させるものであり，それぞれ軸方向（Ｚ軸方向），動径方向（ｘｙ軸方向）の磁場を制御するために，ラジアルコイルはフレキシブルプリント基板上にコイルパターンを作成し，それを円筒状に巻いたものであり，アキシャルコイルはそのラジアルコイル用の円筒上にエナメル線を巻きつけたものである。」（１０ページ左上欄１行〜右上欄８行）
　そうすると，（２−ア）〜（２−イ）の記載と第９図の記載とを総合すると，引用刊行物２には，次の発明が記載されていると認められる。
「試料に作用する磁場を補正するためのシムコイルを備えた超伝導マグネットであって，前記シムコイルは超伝導マグネットの中心部に配置され，かつシムコイルはアキシャルコイルとラジアルコイルに分かれるものであり，ラジアルコイルはフレキシブルプリント基板上にコイルパターンを作成し，それを円筒状に巻いたものであり，アキシャルコイルはそのラジアルコイル用の円筒上にエナメル線を巻きつけた，超伝導マグネット。」（以下，「引用発明２」という。）
　
（２）対比・判断
　補正発明と引用発明１とを対比すると，その構造・機能からみて，引用発明１の「主磁場を発生する超電導メインコイル群」，「超電導メインコイル群の径方向外側に設けられた」，「超電導マグネットの軸芯付近に発生する磁場の空間的な分布を精密に調整するシムコイル群」，及び「核磁気共鳴装置用高磁場均一度超電導磁石装置」は，それぞれ，補正発明の，「計測空間に磁場を発生する超電導メインコイル群」，「超電導メインコイル群の外側に配置された」，「磁場の不均一を補正するための超電導シムコイル群」，及び「核磁気共鳴装置用均一磁場発生装置」に相当することは明らかである。
　
　そうすると，両者は，
（一致点）
「計測空間に磁場を発生する超伝導メインコイル群と，前記超電導メインコイル群の外側に配置された，前記磁場の不均一を補正するための超電導シムコイル群を備えた核磁気共鳴装置用均一磁場発生装置。」である点で一致し，以下の点で相違する。
　
（相違点１−１）
　補正発明は，「超電導メインコイル群」について，「第１のメインコイル群と第２のメインコイル群とに間隙を介して軸方向に２分割」され，かつ「超電導シムコイル群」についても「軸方向に２分割」された「スプリット型磁気共鳴装置用均一磁場発生装置」であるのに対し，引用発明１はそのような構成をとっていない点。
　
（相違点１−２）
　「超電導シムコイル群」について，補正発明は，「超電導メインコイル群と前記計測空間との間に配置された第２及び第３の超電導シムコイル群」を備えるのに対し，引用発明１はそのような構成を持たない点。
　
（相違点１−３）
　「超電導シムコイル群」について，補正発明は，「第２及び第３の超電導シムコイル群は前記超電導メインコイル群の中心軸からの距離が異な」るのに対し，引用発明１はそのような構成を持たない点。
　
（相違点１−４）
　「超電導シムコイル群」について，補正発明は，「第２及び第３の超電導シムコイル群の少なくとも１つは８テスラ以上の磁場中で所望の磁場成分を発生することが可能であって，前記第２及び第３の超電導シムコイル群の少なくとも１つのコイルが，複数の次数の磁場成分を発生し得，前記第２及び第３の超電導シムコイル群の各コイルに通電する電流値を独立に制御することにより，複数の次数の磁場成分を同時に補正する」のに対し，引用発明１はそのような構成を持たない点。
　
　上記相違点について検討する。
（相違点１−１）について
　「核磁気共鳴装置用均一磁場発生装置」の分野において，「スプリット型核磁気共鳴装置用均一磁場発生装置」は周知であったといえる。
　例えば，原査定の拒絶の理由にも引用された特開平７−２４０３１０号公報には，「核磁気共鳴分析用超伝導マグネット」について，【図１】とともに「【請求項３】  超電導コイルが発生する磁界の軸心方向に２分割された２つの超電導コイルブロックから構成され，前記２つの超電導コイルブロック間を通って，クライオスタットの外部から試料設置領域に至る連通孔が前記磁界の軸に直交して前記クライオスタットに設けられていることを特徴とする請求項１記載の核磁気共鳴分析装置用超電導マグネット。」が記載されている。
　同じく，本願出願前に頒布された刊行物である特表平４−５０４０６７号公報には，「磁石装置」について，Ｆｉｇ１〜３ｂとともに「【特許請求の範囲】１．対をなした互いに同一の外側の界磁コイル（１ａ，１ｂ）が共通の軸線（ａ）上に互いに軸方向間隔（ｇ１）をおいて設けられ，同様に対をなした互いに同一の内側の界磁コイル（２ａ，２ｂ）が外側の界磁コイルと同軸に設けられ，両コイル対が共通の軸線（ａ）に対して垂直に延びる中央の中心平面（Ｅ）に対して対称に配置され，磁石装置（１０）の運転時に内側の界磁コイル（２ａ，２ｂ）への電流の流れ方向が外側の界磁コイル（１ａ，１ｂ）への電流の流れ方向と逆向きであり，検査空間に通じる少なくとも一つの出入口が設けられている，核スピン断層撮影装置の検査空間に静的で均一な磁場を発生するための磁石装置において，外側の界磁コイル（ｌａ，１ｂ）の軸方向の間隔（ｇ１）が外側の界磁コイル（１ａ，１ｂ）の内径（ｄ２）の４０〜６０％であり，内側の界磁コイル（２ａ，２ｂ）の軸方向間隔（ｇ１）が最大１５％の偏差で外側の界磁コイル（１ａ，１ｂ）の軸方向間隔（ｇ１）と同じであり，磁石装置がいわば８のオーダー（明細書に記載されているような）のコイル系を形成し，少なくとも一つの横方向出入口が設けられ，この出入口が均一な磁場の方向に対して横方向に延び，内側の界磁コイル（２ａ，２ｂ）の間を延びていることを特徴とする磁石装置。」が記載されている。
　そうすると，引用発明１の「超電導メインコイル群」の構成として，上記周知の事項を適用することによって，相違点（１−１）のような構成とすることは，当業者にとって容易に想到し得るものであるといえる。
　
（相違点１−２，１−３）について
　「核磁気共鳴装置用均一磁場発生装置」の分野において，「超伝導シムコイル群」を「超伝導メインコイル群」と「計測空間」の間に配置すること，そして「第２及び第３の超電導シムコイル群は前記超電導メインコイル群の中心軸からの距離が異な」る構成とすることは，周知であったといえる。
　例えば，原査定の拒絶の理由にも引用された国際公開第０１／７０１０９号には，「磁気共鳴撮像装置及び方法」について，以下の記載がある（なお，翻訳文は特表２００３−５２１８７号公報による）。
　
「Referring to Figures 3a, 3b and 3c, a magnet assembly 40 with four groups of coils is illustrated. As it will be appreciated the size and complexity of the magnet assembly 40 in terms of number of conductors will very much be dependent on the specification (size, location) of the'imaging-field-zone'11. The magnet assembly of Figure 3a, 3b and 3c comprises firstly a group of'primary-coil (s)' 30a situated about the imaging- field-zone 11 which generate the main bulk of the static magnetic field over the anatomy-of-interest (e. g. breast (2)). The coils within the primary-coils group are made low-temperature (~4°K-10°K/liquid helium) super conductor material such as Niobium Titanium (NbTi) or Niobium Tin (Nb3Sn). This assembly may also comprise a second group of'coarse-correction-coil (s)' 3 Ob which are positioned coaxially within the primary-coil (s) 30a and some or all may carry currents which flow in the opposite direction to the current carried by the primary-coil (s). The function of the'coarse- correction'coil (s) 30b is to apply a first degree (coarse) correction/shimming on the field generated by the primary-coil (s). Again the'coarse-correction coil (s)' 30b are made of low-temperature superconductive materials. The third set of coils within this assembly are the'fine-correction coil (s)' 30c. These coils are positioned much more closely to the'imaging-field-zone'11 and again disposed coaxially with respect to the primary 30a and coarse-correction coil 30b groups, and their function is to apply fine correction/shimming to the field within the imaging-field-zone 11.」（９ページ２５行〜１０ページ１３行）
　
「【0026】図３ａ，３ｂ，３ｃを参照するに，４つのコイル群を有する磁石組立体４０が示される。導体の数に関して，磁石組立体４０の寸法及び複雑性は，「撮像磁場ゾーン」１１の仕様（寸法，場所）に非常に依存することが理解されるであろう。図３ａ，３ｂ，３ｃの磁石組立体は，まず，関心人体構造（例えば乳房（２））上に静磁場の大部分を発生する撮像磁場ゾーン１１の周りに配置される「１次コイル」の群を含む。１次コイル群の中のコイルは，ニオブチタン（ＮｂＴｉ）又はニオブスズ（Ｎｂ３Ｓn）といった低温（〜４°Ｋ−１０°Ｋ／液体ヘリウム）超伝導材料からなる。この組立体はまた，１次コイル３０ａの中に同軸上に配置され，そのうちのいくつか又は全てが１次コイルによって搬送される電流とは反対方向に流れる電流を搬送しうる「粗補正コイル」３０ｂの第２の群を含む。「粗補正コイル」３０ｂの機能は，１次コイルによって発生される磁場に対して第１の度合いの（粗の）補正／シミングを適用することである。「粗補正コイル」３０ｂもまた，低温超伝導材料からなる。この組立体の中の第３のコイル組は「微細補正コイル」３０ｃである。これらのコイルは，「撮像磁場ゾーン」１１に更に近接して配置され，やはり１次コイル群３０ａ及び粗補正コイル群３０ｂに対して同軸に配置され，撮像磁場ゾーン１１内の磁場に対して微細補正／シミングを適用するという機能をもつ。」
　そうすると，引用発明１の「超電導シムコイル群」の構成として，上記周知事項を適用して，（相違点１−２,１−３）のような構成とすることは，当業者にとって容易に想到し得るものであるといえる。
　
（相違点１−４）について
　電磁気学一般の分野において，一つのコイルが複数次数の磁場を発生することは周知である。
　例えば，本願出願前に頒布された刊行物である特開昭６３−２３９８０３号公報には，「磁界補正コイル」について，「・・・実際のシム・コイルは，単独の関数に比例した磁界を主に発生する以外に，他の関数に比例した磁界も発生する。」（２ページ右下欄１１〜１３行）と記載されている。
　また，複数のシムコイルを制御するさいに，各コイルに通電する電流値を独立に制御して，複数の次数の磁場成分を同時に補正することについても周知であるといえる。
　例えば，本願出願日前に頒布された刊行物である特開昭６３−２３７５０８号公報には，「静磁場マグネット」について，
「【特許請求の範囲】　核磁気共鳴断層撮影装置に用いるＺｎ型電流シムを用いて磁場不均一補正を行う静磁場マグネットにおいて，０次〜ｎ次の各シムコイルに必要な巻線の数を充足し，共用し得る巻線を共用させるようにした複数のシムコイルと，各巻線に各次数の電流シムに必要なアンペアターンを加算供給する前記巻線の数に等しい電流供給手段とを具備することを特徴とする静磁場マグネット。」，
「第１図は本発明の一実施例のシムコイルの図で，（イ）図は奇数次シムコイル，（ロ）図は偶数次シムコイルの図である。図において，第６図と同等の巻線には同じ符号を付してある。９は直流オフセットを補正する０次シムコイルのためのボビン上±Ｚ０１の位置に巻かれた巻線Ｚ０１である。巻線の巻方向は図のように同一方向に巻いてある。
（イ）図の奇数次シムコイルでは，電源（図示せず）をＺ１１１の左端と右端に接続してアンペアターンＡＴ１を与え，Ｚ３２巻線３の左端と右端に接続してアンペアターンＡＴ２を与えている。これ等の電源を電源Ｚ１１，電源Ｚ３２と呼ぶ。第１図（イ）図と（ロ）図の奇数次シムコイルと偶数次シムコイルに同様な方法で与える電源と，アンペアターンを第２図に示す。図に示すように，各巻線の両端にはそれぞれの電源を接続して，図に示すアンペアターンを与えてある。シムコイルは説明の都合上奇数次と偶数次を別に示してあるが，実際には巾ねて巻くものである。」（３ページ左上欄５行〜右上欄３行）
　また，超電導シムコイルとして，８テスラ以上の磁場で所望の磁場成分を発生するようなものを選択することは，当業者が適宜実施しうる事項である。
　そうすると，引用発明１の「超電導シムコイル群」についても，上記周知の事項を適用して，（相違点１−４）のような構成とすることは，当業者にとって容易に想到し得るものであるといえる。
　そして，本願明細書に記載された効果も，引用発明１および上記周知の事項から，当業者が予測し得る範囲のものであり，格別顕著なものといえない。
　したがって，補正発明は，引用刊行物１に記載された発明および周知の事項に基づいて当業者が容易に発明することができたものであるから，特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
（３）むすび
　以上のとおりであるから，本件補正は，平成１８年改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するので，特許法第１５９条第１項の規定において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により，却下すべきものである。
　
第３．本願発明について
１．本願発明
　平成２０年１月４日付けの本件補正は上記のとおり却下されることとなったので，本願の請求項１ないし１２に係る発明は，平成１９年７月９日付けの手続補正書により補正された特許請求の範囲の請求項１ないし１２に記載された事項により特定されたとおりのものと認められ，その請求項１に係る発明は次のとおりのものである。下線は，補正部分を示す。
「【請求項１】
　計測空間に磁場を発生する超電導メインコイル群と，前記磁場の不均一を補正するための超電導シムコイル群とを備えた均一磁場発生装置
であって，　前記超電導シムコイル群は，前記超伝導メインコイル群と前記計測空間との間に配置された少なくとも第２及び第３の超伝導シムコイル群を含み，かつ前記第２及び第３の超伝導シムコイル群は前記超伝導メインコイル群の中心軸からの距離が異なる複数層からなる
　
２．引用刊行物およびその記載事項
　第２．２．（１）に記載したとおりである。
　
３．対比・判断
　本願発明と引用発明２とを対比すると，その構造・機能からみて，引用発明２の「試料に作用する磁場を補正するためのシムコイル」及び「超伝導マグネット」は，それぞれ，本願発明の「磁場の不均一を補正するためのシムコイル群」及び「均一磁場発生装置」に相当することは明らかである。
　そして，引用発明２における「シムコイル」を構成する「アキシャルコイル」と「ラジアルコイル」は，「ラジアルコイルはフレキシブルプリント基板上にコイルパターンを作成し，それを円筒状に巻いたものであり，アキシャルコイルはそのラジアルコイル用の円筒上にエナメル線を巻きつけた」ものであるから，「アキシャルコイル」と「ラジアルコイル」の中心軸からの距離は異なるものであるといえ，これと本願発明の「第２及び第３の超伝導シムコイル群は前記超伝導メインコイル群の中心軸からの距離が異なる複数層からなる」構成とは，「シムコイル群は，超伝導メインコイル群の中心軸からの距離が異なる複数層からなる」点で共通するといえる。
　
　そうすると，両者は，
（一致点）
「磁場の不均一を補正するためのシムコイル群を備えた均一磁場発生装置であって，前記シムコイル群は超伝導メインコイル群の中心軸からの距離が異なる複数層からなる均一磁場発生装置。」である点で一致し，以下の点で相違する。
　
（相違点２−１）
　「超伝導マグネット」の構成について，本願発明は「超伝導メインコイル群」を備えることが記載されているが，引用発明２にはそれが明記されていない点。
　
（相違点２−２）
　「シムコイル群」について，本願発明は「超伝導メインコイル群と前記計測空間との間」に，「超伝導シムコイル群」を使用するのに対し，引用発明２にはそれが明記されていない点。
　
　（相違点２−１）について検討するに，ＮＭＲ装置に用いる磁場発生装置において，静磁場を発生する「メインコイル群」と，それを均一化する「シムコイル群」の両方を備えることは，周知であるといえる。
　例えば，原査定の拒絶の理由にも引用された特開平２００１−２６４４０２号公報には，「高磁場均一度超電導磁石装置」について，【図１】〜【図３】とともに，「【請求項１】  主磁場を発生する超電導メインコイル群と，前記超電導コイル群の中心付近の空間における磁場の均一度を維持する様に磁場の空間分布を調整するための超電導補正コイル群および超電導シムコイル群が同芯状に配列された高磁場均一度超電導磁石装置において，前記超電導メインコイル群と超電導シムコイル群の間に補正コイル追加用の円筒状予備空間を設けたものであることを特徴とする高磁場均一度超電導磁石装置。」，「【０００５】ところで，上記ＮＭＲ装置用超電導マグネット等の様に磁場の均一度が高いことが要求されている超電導磁石装置においては，主磁場を発生するメインコイル群，このメインコイル群が超電導マグネットの軸芯部分に発生する磁場の空間的な分布を概略均一に補正する補正コイル群，および前記２つのコイル群で超電導マグネットの軸芯付近に発生する磁場の空間的な分布を精密に調整するシムコイル群が同芯状に配列されて構成されるのが一般的である。」と記載されている。
　そうすると，引用発明２の「超伝導マグネット」の構成について，上記周知の事項を適用することによって，（相違点２−１）にような構成とすることは，当業者にとって容易に想到し得るものであるといえる。
　
（相違点２−２）について検討するに，ＮＭＲ装置に用いる磁場発生装置において，「超伝導メインコイル群と前記計測空間との間」に「超伝導シムコイル群」を配置することは，先の２．（２）の（相違点１−２）の項で述べたように周知であるといえる。
　そうすると，引用発明２の「シムコイル群」の構成に，上記周知の事項を適用することよって，（相違点２−２）のような構成とすることは，当業者にとって容易に想到し得るものであるといえる。
　そして，本願明細書に記載された効果も，引用発明２および上記周知の事項から，当業者が予測し得る範囲のものであり，格別顕著なものといえない。
　したがって，本願発明は，引用刊行物に記載された発明および周知技術に基づいて当業者が容易に発明できたものであるといえる。
　
４．むすび
　以上のとおり，本願発明は，引用刊行物に記載された発明および周知技術に基づいて当業者が容易に発明できたものであるから，特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって，その他の請求項に言及するまでもなく，本願は拒絶されるべきものである。
　よって結論のとおり審決する。