【手続補正書】
【提出日】平成24年4月5日(2012.4.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に配列された複数のショット領域の位置を計測する計測装置であって、
ショット領域に関して形成されたアライメントマークのイメージ信号を得、該信号に基づいて、該アライメントマークの位置のその設計上の位置からのずれ量を計測する計測部と、
前記アライメントマークの設計上の位置を、前記アライメントマークの設計上の位置と前記ずれ量との和を近似する値に変換する第１変換式の第１係数を求め、該第１係数の求められた該第１変換式を用いて、前記複数のショット領域それぞれの位置を求める処理部と、
を備え、
前記処理部は、
前記複数のショット領域のうち少なくとも一部の複数のショット領域それぞれに関して形成されたアライメントマークの前記ずれ量を複数の計測条件下で前記計測部に計測させ、
前記少なくとも一部の複数のショット領域のそれぞれに関して前記複数の計測条件それぞれの下で得られたイメージ信号の特徴量を求め、
前記複数の計測条件それぞれに関して、前記アライメントマークの設計上の位置を、前記アライメントマークの設計上の位置と前記特徴量との和を近似する値に変換する第２変換式の第２係数を求め、
前記複数の計測条件それぞれに関して求められた前記第２係数に基づき、前記計測部に前記位置を計測させる計測条件を設定する、
ことを特徴とする計測装置。
【請求項２】
基板上に配列された複数のショット領域の位置を計測する計測装置であって、
ショット領域に関して形成されたアライメントマークのイメージ信号を得、該信号に基づいて、該アライメントマークの位置のその設計上の位置からのずれ量を計測する計測部と、
前記アライメントマークの設計上の位置を、前記アライメントマークの設計上の位置と前記ずれ量との和を近似する値に変換する第１変換式の第１係数を求め、該第１係数の求められた該第１変換式を用いて、前記複数のショット領域それぞれの位置を求める処理部と、
表示部と、
を備え、
前記処理部は、
前記複数のショット領域のうち少なくとも一部の複数のショット領域それぞれに関して形成されたアライメントマークの前記ずれ量を複数の計測条件下で前記計測部に計測させ、
前記少なくとも一部の複数のショット領域のそれぞれに関して前記複数の計測条件それぞれの下で得られたイメージ信号の特徴量を求め、
前記複数の計測条件それぞれに関して、前記アライメントマークの設計上の位置を、前記アライメントマークの設計上の位置と前記特徴量との和を近似する値に変換する第２変換式の第２係数を求め、
前記複数の計測条件それぞれに関して求められた前記第２係数に関する情報を前記表示部に表示させる、
ことを特徴とする計測装置。
【請求項３】
基板上に配列された複数のショット領域の位置を計測する計測装置であって、
ショット領域に関して形成されたアライメントマークのイメージ信号を得、該信号に基づいて、該アライメントマークの位置のその設計上の位置からのずれ量を計測する計測部と、
前記アライメントマークの設計上の位置を、前記アライメントマークの設計上の位置と前記ずれ量との和を近似する値に変換する第１変換式の第１係数を求め、該第１係数の求められた該第１変換式を用いて、前記複数のショット領域それぞれの位置を求める処理部と、
を備え、
前記処理部は、
前記複数のショット領域のうち少なくとも一部の複数のショット領域それぞれに関して形成されたアライメントマークの前記ずれ量を複数の計測条件下で前記計測部に計測させ、
前記少なくとも一部の複数のショット領域のそれぞれに関して前記複数の計測条件それぞれの下で得られたイメージ信号の特徴量を求め、
前記複数の計測条件それぞれに関して、前記アライメントマークの設計上の位置を、前記アライメントマークの設計上の位置と前記特徴量との和を近似する値に変換する第２変換式の第２係数を求め、
前記複数の計測条件それぞれに関して求められた前記第２係数の複数の基板にわたるばらつきに基づき、前記計測部に前記ずれ量を計測させる計測条件を設定する、
ことを特徴とする計測装置。
【請求項４】
基板上に配列された複数のショット領域の位置を計測する計測装置であって、
ショット領域に関して形成されたアライメントマークのイメージ信号を得、該信号に基づいて、該アライメントマークの位置のその設計上の位置からのずれ量を計測する計測部と、
前記アライメントマークの設計上の位置を、前記アライメントマークの設計上の位置と前記ずれ量との和を近似する値に変換する第１変換式の第１係数を求め、該第１係数の求められた該第１変換式を用いて、前記複数のショット領域それぞれの位置を求める処理部と、
表示部と、
を備え、
前記処理部は、
前記複数のショット領域のうち少なくとも一部の複数のショット領域それぞれに関して形成されたアライメントマークの前記ずれ量を複数の計測条件下で前記計測部に計測させ、
前記少なくとも一部の複数のショット領域のそれぞれに関して前記複数の計測条件それぞれの下で得られたイメージ信号の特徴量を求め、
前記複数の計測条件それぞれに関して、前記アライメントマークの設計上の位置を、前記アライメントマークの設計上の位置と前記特徴量との和を近似する値に変換する第２変換式の第２係数を求め、
前記複数の計測条件それぞれに関して求められた前記第２係数の複数の基板にわたるばらつきを前記表示部に表示させる、
ことを特徴とする計測装置。
【請求項５】
前記特徴量は、前記イメージ信号の非対称性を表す量、前記イメージ信号のコントラストを表す量及び前記イメージ信号の形状を表す量の少なくとも１つを含む、
ことを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載の計測装置。
【請求項６】
前記処理部は、前記計測部に前記ずれ量を計測させる計測条件として、前記複数の計測条件のうち前記第２係数の絶対値が最小となる計測条件を設定する、
ことを特徴とする請求項１に記載の計測装置。
【請求項７】
前記処理部は、前記計測部に前記ずれ量を計測させる計測条件として、前記複数の計測条件のうち前記第２係数のばらつきが最小となる計測条件を設定する、
ことを特徴とする請求項３に記載の計測装置。
【請求項８】
前記処理部に接続されたコンソールを備え、該コンソールは、前記表示部を含む、
ことを特徴とする請求項２または請求項４に記載の計測装置。
【請求項９】
基板上に配列された複数のショット領域それぞれの露光を行う露光装置であって、
前記複数のショット領域の位置を計測する請求項１乃至請求項８のいずれか１項に記載の計測装置を備え、
前記計測装置により計測された前記複数のショット領域の位置に基づき前記基板を位置決めして前記露光を行う、ことを特徴とする露光装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記工程で露光された前記基板を現像する工程と、
を有することを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】計測装置、露光装置及びデバイス製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明は、基板上の複数のショット領域の位置を計測する計測条件の設定に有利な技術を提供することを例示的目的とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の第１の側面は、基板上に配列された複数のショット領域の位置を計測する計測装置であって、
ショット領域に関して形成されたアライメントマークのイメージ信号を得、該信号に基づいて、該アライメントマークの位置のその設計上の位置からのずれ量を計測する計測部と、
前記アライメントマークの設計上の位置を、前記アライメントマークの設計上の位置と前記ずれ量との和を近似する値に変換する第１変換式の第１係数を求め、該第１係数の求められた該第１変換式を用いて、前記複数のショット領域それぞれの位置を求める処理部と、
を備え、
前記処理部は、
前記複数のショット領域のうち少なくとも一部の複数のショット領域それぞれに関して形成されたアライメントマークの前記ずれ量を複数の計測条件下で前記計測部に計測させ、
前記少なくとも一部の複数のショット領域のそれぞれに関して前記複数の計測条件それぞれの下で得られたイメージ信号の特徴量を求め、
前記複数の計測条件それぞれに関して、前記アライメントマークの設計上の位置を、前記アライメントマークの設計上の位置と前記特徴量との和を近似する値に変換する第２変換式の第２係数を求め、
前記複数の計測条件それぞれに関して求められた前記第２係数に基づき、前記計測部に前記位置を計測させる計測条件を設定する、ことを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の第２の側面は、基板上に配列された複数のショット領域の位置を計測する計測装置であって、
ショット領域に関して形成されたアライメントマークのイメージ信号を得、該信号に基づいて、該アライメントマークの位置のその設計上の位置からのずれ量を計測する計測部と、
前記アライメントマークの設計上の位置を、前記アライメントマークの設計上の位置と前記ずれ量との和を近似する値に変換する第１変換式の第１係数を求め、該第１係数の求められた該第１変換式を用いて、前記複数のショット領域それぞれの位置を求める処理部と、
表示部と、
を備え、
前記処理部は、
前記複数のショット領域のうち少なくとも一部の複数のショット領域それぞれに関して形成されたアライメントマークの前記ずれ量を複数の計測条件下で前記計測部に計測させ、
前記少なくとも一部の複数のショット領域のそれぞれに関して前記複数の計測条件それぞれの下で得られたイメージ信号の特徴量を求め、
前記複数の計測条件それぞれに関して、前記アライメントマークの設計上の位置を、前記アライメントマークの設計上の位置と前記特徴量との和を近似する値に変換する第２変換式の第２係数を求め、
前記複数の計測条件それぞれに関して求められた前記第２係数に関する情報を前記表示部に表示させる、ことを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明の第３の側面は、基板上に配列された複数のショット領域の位置を計測する計測装置であって、
ショット領域に関して形成されたアライメントマークのイメージ信号を得、該信号に基づいて、該アライメントマークの位置のその設計上の位置からのずれ量を計測する計測部と、
前記アライメントマークの設計上の位置を、前記アライメントマークの設計上の位置と前記ずれ量との和を近似する値に変換する第１変換式の第１係数を求め、該第１係数の求められた該第１変換式を用いて、前記複数のショット領域それぞれの位置を求める処理部と、
を備え、
前記処理部は、
前記複数のショット領域のうち少なくとも一部の複数のショット領域それぞれに関して形成されたアライメントマークの前記ずれ量を複数の計測条件下で前記計測部に計測させ、
前記少なくとも一部の複数のショット領域のそれぞれに関して前記複数の計測条件それぞれの下で得られたイメージ信号の特徴量を求め、
前記複数の計測条件それぞれに関して、前記アライメントマークの設計上の位置を、前記アライメントマークの設計上の位置と前記特徴量との和を近似する値に変換する第２変換式の第２係数を求め、
前記複数の計測条件それぞれに関して求められた前記第２係数の複数の基板にわたるばらつきに基づき、前記計測部に前記ずれ量を計測させる計測条件を設定する、ことを特徴とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の第４の側面は、基板上に配列された複数のショット領域の位置を計測する計測装置であって、
ショット領域に関して形成されたアライメントマークのイメージ信号を得、該信号に基づいて、該アライメントマークの位置のその設計上の位置からのずれ量を計測する計測部と、
前記アライメントマークの設計上の位置を、前記アライメントマークの設計上の位置と前記ずれ量との和を近似する値に変換する第１変換式の第１係数を求め、該第１係数の求められた該第１変換式を用いて、前記複数のショット領域それぞれの位置を求める処理部と、
表示部と、
を備え、
前記処理部は、
前記複数のショット領域のうち少なくとも一部の複数のショット領域それぞれに関して形成されたアライメントマークの前記ずれ量を複数の計測条件下で前記計測部に計測させ、
前記少なくとも一部の複数のショット領域のそれぞれに関して前記複数の計測条件それぞれの下で得られたイメージ信号の特徴量を求め、
前記複数の計測条件それぞれに関して、前記アライメントマークの設計上の位置を、前記アライメントマークの設計上の位置と前記特徴量との和を近似する値に変換する第２変換式の第２係数を求め、
前記複数の計測条件それぞれに関して求められた前記第２係数の複数の基板にわたるばらつきを前記表示部に表示させる、ことを特徴とする。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明によれば、例えば、基板上の複数のショット領域の位置を計測する計測条件の設定に有利な技術を提供することができる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
Ｓ１０７で中央処理装置９の第２の算出部１３は、全サンプルショットの特徴量Ｗを統計演算して、第１の指標を算出する。第１の指標はＳ１０６のグローバルアライメントの数式（５）を数式（１１）に置き換えて数式（６）〜（１０）まで同様の計算をすることで算出されることができる。