【事件の表示】
　平成　６年特許願第２９１０７０号「基板清浄化方法および基板清浄化装置」拒絶査定不服審判事件〔平成　８年　６月　７日出願公開、特開平　８−１４８５５１〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本件出願は、平成６年１１月２５日の特許出願であって、同１６年１１月１８日付で拒絶の理由が通知され、その指定期間内の同１７年１月２１日に意見書と共に明細書について手続補正書が提出されたが、同１７年８月３０日付で拒絶をすべき旨の査定がされ、同１７年１０月６日に本件審判の請求がされ、その後、同１７年１１月７日に明細書について再度手続補正書が提出されたものである。
　
第２　平成１７年１１月７日付の明細書の補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　平成１７年１１月７日付の明細書についての補正（以下「本件補正」という。）を却下する。
　
［理由］
１　補正の内容の概要
　本件補正は、特許請求の範囲について補正をするものであって、特許請求の範囲の請求項１について補正前後の記載を補正箇所に下線を付して示すと以下のとおりである。
　
（１）補正前
　雰囲気気体を出入りさせる気体排出孔と気体送入孔とを有する基板収納密閉ケースに基板を収納し、前記基板収納密閉ケースの気体送入孔からガス状不純物を除去した気体を送入するとともに前記気体排出孔から該気体を排出させ、基板をガス状不純物のない雰囲気下に置くことで基板表面の雰囲気からの汚染を防止し、さらに、この気体の送入および排出を連続的または間欠的に行うことで基板表面から放出されたガス状不純物を除去することを特徴とする基板清浄化方法。
　
（２）補正後
　雰囲気気体を出入りさせる気体排出孔と気体送入孔
を
放散される親水性表面に存在する水層に吸着された
　
２　補正の適否　　　
　本件補正のうち請求項１についての補正は、実質上、除去されるガス状不純物について「親水性表面に存在する水層に吸着された」という限定を付加するものであり、特許請求の範囲の減縮を目的とすることが明らかであるので、さらに、補正後の特許請求の範囲の請求項１に係る発明（以下「補正発明」という。）が特許出願の際に独立して特許を受けることができるものであるか否かについて検討する。
　
（１）補正発明
　補正発明は、本件補正により補正された明細書及び願書に添付した図面の記載からみて、上記１（２）に示す特許請求の範囲の請求項１に記載されたとおりの「基板清浄化方法」であると認める。
　
（２）引用例
　これに対して、原査定の拒絶の理由に引用された本件出願前に日本国内において頒布された刊行物である特開平５−３２６６７９号公報（以下「引用例」という。）の記載内容は以下のとおりである。
　
ア　引用例記載の事項
　引用例には以下の事項が記載されている。
「【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、鏡面ウエハ運搬用収納容器に関するものである。」
「【００１６】〔実施例１〕図１には本発明の一実施例が示されている。外気との間を遮断した密閉構造よりなる鏡面ウエハ収納空間を有し、かつウエハ収納状態では外部からの光を遮断する鏡面ウエハ運搬用収納容器１が、ウエハ収納空間内の雰囲気ガスを不活性ガスに置換する機能を持つようにした。このようにすることにより、鏡面ウエハ収納空間内の雰囲気ガスの清浄度が長期間にわたって維持されるようになって、化合物半導体鏡面ウエハの鏡面状態の劣化低減を可能とした鏡面ウエハ運搬用収納容器１を得ることができる。
【００１７】すなわち一次収納容器に収納されたウエハ（共に図示せず）は運搬用二次収納容器１に袋等に入れることなくそのままの状態で収納し、シール２により内部雰囲気と外気とを遮断する。次に電磁弁３、４を開にして二次収納容器１内の空気を不活性ガスに置換する。」
「【００２０】二次収納容器１内の雰囲気ガスが不活性ガスに置換された後は保護用外箱７にクッション８を介して収納する。運搬を容易にするため外箱７には取手やキャスター等を取り付けるとよい。
【００２１】運搬中の不活性ガスの置換については電磁弁コントロールユニット９に所定の指示を記憶させることにより実施できる。すなわち置換のインターバルと置換に要する時間、すなわち電磁弁３、４を開として新しい不活性ガスを導入する時間をそれぞれ電磁弁コントロールユニット９に記憶させておけばよい。このようにすることによりその指示に従い雰囲気ガスの置換が定期的に行われ、ウエハ周辺の雰囲気ガスは常に新しい不活性ガスに維持される。」
「【００２３】一次収納容器を二次収納容器１に収納する操作は勿論、清浄度の管理された空間で実施する必要がある。従って二次収納容器１全体も清浄度を保つ必要がある。そのため保護用外箱７も運搬時に外気の浸入による内部汚染が生じない程度の気密性を持つ必要がある。なお、排気れた（注、原文のまま）不活性ガスは外箱７に取り付けられたフィルター１０を介して外部へ排気する構造としてある。フィルター１０を用いたのは不活性ガスの排気を容易にする一方、外気からの塵埃等の浸入を防ぐためである。なお、同図において１１は減圧弁、１２は電磁弁コントロール用電線である。」
「【００３０】
【発明の効果】上述のように本発明は、収納容器が、ウエハ収納空間内の雰囲気ガスを不活性ガスに置換する機能を持つようにしたので、鏡面ウエハ収納空間内の雰囲気ガスの清浄度が長期間にわたって維持されるようになって、化合物半導体鏡面ウエハの鏡面状態の劣化低減を可能とした鏡面ウエハ運搬用収納容器（運搬用二次収納容器）を得ることができる。」
　また、【図１】の、特に「ＩＮ」、「ＯＵＴ」なる記載から、「鏡面ウエハ運搬用収納容器１には不活性ガスを出入りさせるガス排出孔とガス送入孔とが設けられていること。」が看取される。
　
イ　引用例記載の発明
　引用例においては「鏡面ウエハの鏡面状態の劣化低減を可能とした鏡面ウエハ運搬用収納容器」という物品について説明されているが、これは、鏡面ウエハの鏡面状態の劣化低減を可能とした鏡面ウエハの劣化防止方法として、技術的に把握できることが明らかである。
　そこで、このことを踏まえ、引用例記載の事項を補正発明に照らして整理すると、引用例には以下の発明が記載されていると認める。
　
「不活性ガスを出入りさせるガス排出孔とガス送入孔を有する密閉構造よりなる鏡面ウエハ収納空間を有する鏡面ウエハ運搬用収納容器１に鏡面ウエハを収納し、定期的に前記収納容器１のガス送入孔から不活性ガスを送入するとともに前記ガス排出孔から該不活性ガスを前記収納容器１の外に排出させ、鏡面ウエハを不活性ガス雰囲気下に置くことで鏡面ウエハ表面の雰囲気からの汚染を防止し鏡面ウエハの鏡面状態の劣化低減を可能とした鏡面ウエハの劣化防止方法。」
　
（３）対比
　引用例記載の発明の「不活性ガス」は、補正発明の「雰囲気気体」に相当する。以下同様に、「ガス排出孔」は「気体排出孔」に、「ガス送入孔」は「気体送入孔」に、「鏡面ウエハ」は「基板」に、「密閉構造よりなる鏡面ウエハ収納空間を有する鏡面ウエハ運搬用収納容器１」は「基板収納密閉ケース」にそれぞれ相当する。
　また、引用例記載の発明の「不活性ガス」と、補正発明の「ガス状不純物を除去した気体」は、ともに「気体」である限りにおいて一致し、引用例記載の発明の「鏡面ウエハを不活性ガス雰囲気下に置くこと」と、補正発明の「基板をガス状不純物のない雰囲気下に置くこと」は、ともに「基板を気体雰囲気下に置くこと」である限りにおいて一致する。
　また、引用例記載の発明を「鏡面ウエハの鏡面状態の劣化低減を可能とした鏡面ウエハの劣化防止方法」として認定したが、鏡面ウエハ、すなわち、基板の劣化はその汚染に起因することからみて、引用例記載の発明は、補正発明と同様「基板清浄化方法」としても把握できるものである。
　
　したがって、補正発明と引用例記載の発明とは、以下の点で一致しているということができる。
「雰囲気気体を出入りさせる気体排出孔と気体送入孔を有する基板収納密閉ケースに基板を収納し、前記基板収納密閉ケースの気体送入孔から気体を送入するとともに前記気体排出孔から該気体を排出させ、基板を気体雰囲気下に置くことで基板表面の雰囲気からの汚染を防止する基板清浄化方法。」
　
　そして、補正発明と引用例記載の発明とは、以下の点で相違している。  　補正発明では、気体がガス状不純物を除去したものであり、該気体の送入および排出を連続的または間欠的に行うことで基板表面から放散される親水性表面に存在する水層に吸着されたガス状不純物を除去するのに対して、引用例記載の発明では、気体が不活性ガスであり、該気体の送入および排出を定期的、すなわち、間欠的に行っているものの、それによって親水性表面に存在する水層に吸着されたガス状不純物を除去しているのかどうか明らかでない点。
　
（４）相違点の検討
　気体については、引用例発明においても「基板の清浄化」という目的と、不活性ガスがボンベ５から供給されるものである（引用例の段落００１８）ことを考慮すると、引用例発明の気体は、ガス状不純物を除去したものと解することが自然である。仮に、引用例発明の気体が、ガス状不純物を除去したものでないとしても、「基板の清浄化」という引用例発明の目的を効果的に達成するため、気体をガス状不純物を除去したものとすることは、設計的事項にすぎない。
　さて、請求人が平成１７年１１月７日付の手続補正書（方式）において本件補正の根拠の一つとして挙げている願書に最初に添付した明細書の段落【００２４】には以下の記載がある。
「また、半導体プロセスは通常クリーンルーム内の雰囲気気体に硫酸、塩酸、アンモニア、アミン等の不純物ガス汚染をもたらし、これらのガスも基板の表面、特に親水性表面に存在する水層に吸着されて表面汚染を生じさせるが、本発明の基板収納装置では、これらのガス状不純物の一部は放散して気体清浄装置に送られ除去されて基板の汚染が低減される。」
　そして、補正発明は、「基板表面から放散される親水性表面に存在する水層に吸着されたガス状不純物を除去する」ために、「ガス状不純物を除去した気体の送入及び排出を連続的または間欠的に行う」ことのほか、格別の積極的手段を備えていない。
　以上のことからみて、基板の親水性表面に存在する水層に吸着されたガス状不純物は、ガス状不純物を除去した気体の送入及び排出を連続的または間欠的に行うことで基板表面から自然に放散されるものとみるのが相当である。
　そうすると、引用例記載の発明も、ガス状不純物を除去した気体の送入及び排出を間欠的に行っており、基板表面が鏡面である以上、親水性を有することから、基板の親水性表面に存在する水層にガス状不純物が吸着されていれば、そのための積極的手段の有無に拘わらず、このガス状不純物は、基板表面から放散されてガス状不純物を除去した気体と共に基板収納密閉ケースの外に排出され除去されることになるから、補正発明のようにする点に格別の困難性はない。
　したがって、補正発明は、引用例記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際、独立して特許を受けることができないものである。
　
３　むすび
　よって、本件補正は、特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するものであるから、同法第１５９条第１項の規定において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
第３　本件発明について
１　本件発明
　本件補正は、上記のとおり却下されたので、本件出願の請求項に係る発明は、平成１７年１月２１日付手続補正書により補正された明細書及び願書に添付した図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１ないし請求項８に記載されたとおりのものであると認められるところ、請求項１に係る発明（以下「本件発明」という。）は、上記第２の１（１）に示す特許請求の範囲の請求項１に記載されたとおりの「基板清浄化方法」である。
　
２　引用例
　これに対して、原査定の拒絶の理由に引用された引用例及びその記載内容は、上記第２の２（２）に示したとおりである。
　
３　対比・検討
　本件発明は、上記第２の２で検討した補正発明から、除去されるガス状不純物について「親水性表面に存在する水層に吸着された」という限定を削除したものである。
　そうすると、本件発明を構成する事項のすべてを含み、除去されるガス状不純物についてさらに限定する補正発明が上記第２の２（４）に示したとおり、引用例記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本件発明も同様の理由により当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
４　むすび
　したがって、本件発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、本件出願の請求項２ないし請求項８に係る発明について検討するまでもなく、本件出願は拒絶されるべきであるから、結論のとおり審決する。