【手続補正書】
【提出日】平成24年4月13日(2012.4.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
投影光学系と液体とを介して基板を露光する露光装置であって、
それぞれ基板を載置する第１、第２テーブルと、
前記投影光学系の下に液体を供給する液浸システムと、
前記第１、第２テーブルをそれぞれ前記投影光学系と対向して位置付けるとともに、前記供給される液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域を維持する前記第１、第２テーブルの一方が他方に置き換えられるように前記投影光学系の下方で前記液浸領域に対して前記第１、第２テーブルを移動する駆動システムと、を備え、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記基板の載置領域と、一部に形成される開口内に前記載置領域が位置するように設けられる補助部材と、を有し、前記開口内で前記基板が前記載置領域に載置される。
【請求項２】
投影光学系と液体とを介してエネルギビームで基板を露光する露光装置であって、
それぞれ基板を載置する第１、第２テーブルと、
前記投影光学系の下に液体を供給する液浸システムと、
前記供給される液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域に対して、一方が前記投影光学系と対向して位置付けられる前記第１、第２テーブルを移動する駆動システムと、を備え、
この移動により前記一方のテーブルの代わりに前記投影光学系と対向して位置付けられる前記第１、第２テーブルの他方によって前記投影光学系の下に前記液浸領域が維持され、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記基板の載置領域と、一部に形成される開口内に前記載置領域が位置するように設けられる補助部材と、を有し、前記開口内で前記基板が前記載置領域に載置される。
【請求項３】
投影光学系と液体とを介してエネルギビームで基板を露光する露光装置であって、
それぞれ基板を載置する第１、第２テーブルと、
前記投影光学系の下に液体を供給する液浸システムと、
前記供給される液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域が前記投影光学系と前記第１、第２テーブルの一方との間に維持される第１状態から、前記液浸領域が前記投影光学系と前記第１、第２テーブルの他方との間に維持される第２状態に遷移するように、前記投影光学系の下方で前記液浸領域に対して前記第１、第２テーブルを移動する駆動システムと、を備え、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記基板の載置領域と、一部に形成される開口内に前記載置領域が位置するように設けられる補助部材と、を有し、前記開口内で前記基板が前記載置領域に載置される。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、少なくとも前記液浸領域に対する前記第１、第２テーブルの移動において、前記補助部材によって前記投影光学系の下に前記液浸領域を維持する。
【請求項５】
請求項４に記載の露光装置において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２テーブルの移動において、前記液浸領域は、前記第１テーブルの補助部材と前記第２テーブルの補助部材の少なくとも一方によって前記投影光学系の下に維持される。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記載置領域に載置される基板が前記投影光学系から外れる位置に移動される前記第１、第２テーブルではそれぞれ、前記投影光学系と前記補助部材との間に前記液浸領域が維持される。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２テーブルの移動によって、前記液浸領域は、前記第１、第２テーブルの、一方の補助部材から他方の補助部材に移動される。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記補助部材によって、前記載置領域に載置される基板から外れる前記液浸領域の少なくとも一部を保持する。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記投影光学系の下方で前記液浸領域に対して相対移動されることにより、前記液浸領域が前記載置領域に載置される基板と前記補助部材との一方から他方に移動する。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記投影光学系の下方での前記液浸領域に対する相対移動において、前記液浸領域が、前記載置領域に載置される基板と前記補助部材との少なくとも一方によって、前記投影光学系の下に維持される。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、その表面が前記補助部材の表面とほぼ面一となるように前記基板を前記載置領域に載置する。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記載置領域に載置される基板と前記補助部材との隙間からの前記液体の流出を抑制するように前記補助部材に近接させて前記基板を前記載置領域に載置する。
【請求項１３】
請求項１２に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記投影光学系の下方で前記液浸領域に対して相対移動されることにより、前記液浸領域が前記隙間を横切って前記載置領域に載置される基板と前記補助部材との一方から他方に移動する。
【請求項１４】
請求項１２又は１３に記載の露光装置において、
前記基板は、前記補助部材との隙間が３ｍｍ以下となるように前記載置領域に載置される。
【請求項１５】
請求項１〜１４のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記補助部材は、前記開口を含む複数の開口が形成され、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記開口と異なる開口内に配置される基準部材を有し、
前記投影光学系を介して前記基準部材を用いる計測が行われる。
【請求項１６】
請求項１５に記載の露光装置において、
前記基準部材は、前記基板の露光で用いられるマスクのマーク検出で用いられる。
【請求項１７】
請求項１５又は１６に記載の露光装置において、
前記基板のマークを検出するマーク検出系を、さらに備え、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記マーク検出系によって前記基板のマーク及び前記基準部材の検出が行われる。
【請求項１８】
請求項１５〜１７のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記基準部材はその表面が前記補助部材の表面とほぼ面一となるように設けられる。
【請求項１９】
請求項１〜１８のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記補助部材が相対移動可能に設けられる。
【請求項２０】
請求項１〜１９のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、表面が前記載置領域に載置される基板の表面を含めてほぼ同一面となるように設定される。
【請求項２１】
請求項１〜２０のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルは、前記投影光学系の下に前記液浸領域を維持しつつ、前記液浸領域に対して移動される。
【請求項２２】
請求項２１に記載の露光装置において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２テーブルの移動によって前記液浸領域が前記第１、第２テーブルの一方から他方に移動するまで、前記第１、第２テーブルの少なくとも一方によって前記投影光学系の下に前記液浸領域が維持される。
【請求項２３】
請求項１〜２２のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２テーブルの移動によって、前記液浸領域は、前記投影光学系の下に維持されつつ前記第１、第２テーブルの一方から他方に移動される。
【請求項２４】
請求項２３に記載の露光装置において、
前記液浸領域は、前記一方のテーブルから前記他方のテーブルへの移動において、前記第１、第２テーブルの少なくとも一方によって前記投影光学系の下に維持される。
【請求項２５】
請求項２４に記載の露光装置において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２テーブルの移動の途中において、前記液浸領域は、前記第１、第２テーブルの両方によって前記投影光学系の下に維持される。
【請求項２６】
請求項１〜２５のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記液浸領域に対して前記載置した基板が相対的に移動されるように、前記投影光学系の下方で移動される。
【請求項２７】
請求項１〜２６のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記載置した基板の一部に前記液浸領域が位置するように移動され、前記載置した基板が前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して露光される。
【請求項２８】
請求項１〜２７のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルは互いに接近するように相対移動され、前記接近した第１、第２テーブルが前記液浸領域に対して移動される。
【請求項２９】
請求項２８に記載の露光装置において、
前記液浸領域に対して前記第１、第２テーブルが移動される所定方向に関して、前記液浸領域を維持する前記第１、第２テーブルの一方に対して前記第１、第２テーブルの他方が接近するように相対移動される。
【請求項３０】
請求項２９に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルは、前記所定方向に関する前記接近のための移動と、前記所定方向と交差する方向に関する位置関係の調整とが行われる。
【請求項３１】
請求項２８に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルは、前記液浸領域に対して前記第１、第２テーブルが移動される所定方向と交差する方向に関する位置関係が調整されるように相対移動される。
【請求項３２】
請求項１〜３１のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルはその境界が前記液浸領域の下を通るように前記液浸領域に対して移動される。
【請求項３３】
請求項１〜３２のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルは間隙を挟んで配置された状態で前記液浸領域に対して移動される。
【請求項３４】
請求項１〜３３のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルはその端部が対向した状態で前記液浸領域に対して移動される。
【請求項３５】
請求項１〜３４のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルは互いに近接または接触した状態で前記液浸領域に対して移動される。
【請求項３６】
請求項３５に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルは、前記投影光学系の下に前記液浸領域が維持されるように近接した状態で前記液浸領域に対して移動される。
【請求項３７】
請求項３５又は３６に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルは、前記液体の流出が防止されるように近接した状態で前記液浸領域に対して移動される。
【請求項３８】
請求項１〜３７のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルはその位置関係が実質的に維持されつつ前記液浸領域に対して移動される。
【請求項３９】
請求項３８に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルは、前記液浸領域に対して前記第１、第２テーブルが移動される所定方向に関して実質的にその位置関係が維持される。
【請求項４０】
請求項１〜３９のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と所定方向に関して位置が異なる第２領域との一方から他方に移動され、
前記第１、第２テーブルは、前記液浸領域に対して前記所定方向に移動される。
【請求項４１】
請求項４０に記載の露光装置において、
前記第２領域において、前記第１、第２テーブルにそれぞれ載置される基板のマーク検出及び／又は交換が行われる。
【請求項４２】
請求項１〜４１のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記基板は走査露光が行われ、
前記第１、第２テーブルは、前記液浸領域に対して、前記走査露光時に前記基板が移動される所定方向に移動される。
【請求項４３】
請求項１〜４２のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記投影光学系と所定方向に関して位置が異なるマーク検出系を、さらに備え、
前記第１、第２テーブルは、前記液浸領域に対して前記所定方向に移動される。
【請求項４４】
請求項１〜４３のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記投影光学系と所定方向に関して異なる位置で、前記第１、第２テーブルにそれぞれ載置される基板の交換が行われ、
前記第１、第２テーブルは、前記液浸領域に対して前記所定方向に移動される。
【請求項４５】
請求項１〜４４のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１テーブルに載置される基板の露光動作と、前記第２テーブルに載置される基板の露光動作とが交互に行われ、前記液浸領域に対する前記第１、第２テーブルの移動はその露光動作の間に行われる。
【請求項４６】
請求項１〜４５のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルを用いる複数の基板の露光処理シーケンスの実行中、前記液浸領域は、前記第１、第２テーブルの少なくとも一方によって前記投影光学系の下に維持される。
【請求項４７】
請求項１〜４６のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２テーブルの移動において、前記第１、第２テーブルの一方には露光後の基板が載置され、前記第１、第２テーブルの他方には次に露光が行われる基板が載置される。
【請求項４８】
請求項１〜４７のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２テーブルの移動によって、前記第１、第２テーブルの一方は、前記投影光学系の下方から離れて基板交換位置に移動され、前記基板の交換が行われる。
【請求項４９】
請求項４８に記載の露光装置において、
前記一方のテーブルでの前記基板の交換動作は、前記第１、第２テーブルの他方での前記基板の露光動作と並行して行われる。
【請求項５０】
請求項４９に記載の露光装置において、
前記他方のテーブルでは、前記基板の露光に先立ち、基準部材の検出が行われる。
【請求項５１】
請求項１〜５０のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記基板のマークを検出するマーク検出系を、さらに備え、
前記液浸領域に対する前記第１、第２テーブルの移動において、前記第１、第２テーブルの一方には露光後の基板が載置され、前記第１、第２テーブルの他方にはマーク検出後の基板が載置される。
【請求項５２】
請求項５１に記載の露光装置において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２テーブルの移動に先立ち、前記一方のテーブルに載置される基板の露光動作と並行して、前記他方のテーブルに載置される基板のマーク検出動作が行われる。
【請求項５３】
請求項１〜５２のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記基板は、前記液体を介して露光が行われ、かつ前記液体を介すことなくマーク検出が行われる。
【請求項５４】
請求項１〜５３のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルの位置情報を計測する計測装置を、さらに備え、
前記計測装置は、前記露光において前記第１、第２テーブルの位置情報を計測するエンコーダを含む。
【請求項５５】
請求項５４に記載の露光装置において、
前記エンコーダは、前記第１、第２テーブルの裏面に設けられるスケールを使って位置情報を計測する。
【請求項５６】
請求項１〜５５のいずれか一項に記載の露光装置において、
基板を載置し、前記第１、第２テーブルと異なる第３テーブルを、さらに備え、
前記第１、第２及び第３テーブルを用いて前記基板の露光処理シーケンスを実行する。
【請求項５７】
請求項５６に記載の露光装置において、
前記第１、第２及び第３テーブルでは異なる動作が並行して実行される。
【請求項５８】
請求項１〜５５のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２テーブルと異なる第３テーブルを、さらに備え、
前記第３テーブルを用いて前記基板の露光動作と異なる動作を実行する。
【請求項５９】
請求項１〜５８のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸システムは、前記投影光学系の下に前記液浸領域が形成されるように、前記基板よりも小さい局所領域内で前記液体を保持する。
【請求項６０】
請求項１〜５９のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸システムは、少なくとも前記基板の露光動作において前記液体の供給と回収とを常時行う。
【請求項６１】
投影光学系と液体とを介して基板を露光する露光方法であって、
第１、第２テーブルにそれぞれ基板を載置することと、
前記投影光学系の下に液体を供給して形成される液浸領域を維持する前記第１、第２テーブルの一方が他方に置き換えられるように、前記投影光学系の下方で前記液浸領域に対して前記第１、第２テーブルを移動することと、を含み、
前記基板は、前記第１、第２テーブルにそれぞれ設けられる補助部材に形成される開口内で載置領域に載置される。
【請求項６２】
投影光学系と液体とを介してエネルギビームで基板を露光する露光方法であって、
第１、第２テーブルにそれぞれ基板を載置することと、
前記投影光学系の下に液体を供給して形成される液浸領域に対して、一方が前記投影光学系と対向して位置付けられる前記第１、第２テーブルを移動することと、を含み、
この移動により前記一方のテーブルの代わりに前記投影光学系と対向して位置付けられる前記第１、第２テーブルの他方によって前記投影光学系の下に前記液浸領域が維持され、
前記基板は、前記第１、第２テーブルにそれぞれ設けられる補助部材に形成される開口内で載置領域に載置される。
【請求項６３】
投影光学系と液体とを介してエネルギビームで基板を露光する露光方法であって、
第１、第２テーブルにそれぞれ基板を載置することと、
前記投影光学系の下に液体を供給して形成される液浸領域が前記投影光学系と前記第１、第２テーブルの一方との間に維持される第１状態から、前記液浸領域が前記投影光学系と前記第１、第２テーブルの他方との間に維持される第２状態に遷移するように前記投影光学系の下方で前記液浸領域に対して前記第１、第２テーブルを移動することと、を含み、
前記基板は、前記第１、第２テーブルにそれぞれ設けられる補助部材に形成される開口内で載置領域に載置される。
【請求項６４】
請求項６１〜６３のいずれか一項に記載の露光方法において、
少なくとも前記液浸領域に対する前記第１、第２テーブルの移動において、前記液浸領域は前記補助部材によって前記投影光学系の下に維持される。
【請求項６５】
請求項６４に記載の露光方法において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２テーブルの移動において、前記液浸領域は、前記第１テーブルの補助部材と前記第２テーブルの補助部材の少なくとも一方によって前記投影光学系の下に維持される。
【請求項６６】
請求項６１〜６５のいずれか一項のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記載置領域に載置される基板が前記投影光学系から外れる位置に移動される前記第１、第２テーブルではそれぞれ、前記投影光学系と前記補助部材との間に前記液浸領域が維持される。
【請求項６７】
請求項６１〜６６のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２テーブルの移動によって、前記液浸領域は、前記第１、第２テーブルの、一方の補助部材から他方の補助部材に移動される。
【請求項６８】
請求項６１〜６７のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記補助部材によって、前記載置領域に載置される基板から外れる前記液浸領域の少なくとも一部を保持する。
【請求項６９】
請求項６１〜６８のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記投影光学系の下方で前記液浸領域に対して相対移動されることにより、前記液浸領域が前記載置領域に載置される基板と前記補助部材との一方から他方に移動する。
【請求項７０】
請求項６１〜６９のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記投影光学系の下方での前記液浸領域に対する相対移動において、前記液浸領域が、前記載置領域に載置される基板と前記補助部材との少なくとも一方によって、前記投影光学系の下に維持される。
【請求項７１】
請求項６１〜７０のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、その表面が前記補助部材の表面とほぼ面一となるように前記基板を前記載置領域に載置する。
【請求項７２】
請求項６１〜７１のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記載置領域に載置される基板と前記補助部材との隙間からの前記液体の流出を抑制するように前記補助部材に近接させて前記基板を前記載置領域に載置する。
【請求項７３】
請求項７２に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記投影光学系の下方で前記液浸領域に対して相対移動されることにより、前記液浸領域が前記隙間を横切って前記載置領域に載置される基板と前記補助部材との一方から他方に移動する。
【請求項７４】
請求項７２又は７３に記載の露光方法において、
前記基板は、前記補助部材との隙間が３ｍｍ以下となるように前記載置領域に載置される。
【請求項７５】
請求項６１〜７４のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記投影光学系を介して、前記開口と異なる、前記補助部材の開口内に配置される基準部材を用いる計測が行われる。
【請求項７６】
請求項７５に記載の露光方法において、
前記基準部材は、前記基板の露光で用いられるマスクのマーク検出で用いられる。
【請求項７７】
請求項７５又は７６に記載の露光方法において、
前記基板のマークを検出するマーク検出系によって前記基準部材の検出が行われる。
【請求項７８】
請求項７５〜７７のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記基準部材はその表面が前記補助部材の表面とほぼ面一となるように設けられる。
【請求項７９】
請求項６１〜７８のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記補助部材が相対移動される。
【請求項８０】
請求項６１〜７９のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、表面が前記載置領域に載置される基板の表面を含めてほぼ同一面となるように設定される。
【請求項８１】
請求項６１〜８０のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルは、前記投影光学系の下に前記液浸領域を維持しつつ、前記液浸領域に対して移動される。
【請求項８２】
請求項８１に記載の露光方法において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２テーブルの移動によって前記液浸領域が前記第１、第２テーブルの一方から他方に移動するまで、前記第１、第２テーブルの少なくとも一方によって前記投影光学系の下に前記液浸領域が維持される。
【請求項８３】
請求項６１〜８２のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２テーブルの移動によって、前記液浸領域は、前記投影光学系の下に維持されつつ前記第１、第２テーブルの一方から他方に移動される。
【請求項８４】
請求項８３に記載の露光方法において、
前記液浸領域は、前記一方のテーブルから前記他方のテーブルへの移動において、前記第１、第２テーブルの少なくとも一方によって前記投影光学系の下に維持される。
【請求項８５】
請求項８４に記載の露光方法において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２テーブルの移動の途中において、前記液浸領域は、前記第１、第２テーブルの両方によって前記投影光学系の下に維持される。
【請求項８６】
請求項６１〜８５のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記液浸領域に対して前記載置した基板が相対的に移動されるように、前記投影光学系の下方で移動される。
【請求項８７】
請求項６１〜８６のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記載置した基板の一部に前記液浸領域が位置するように移動され、前記載置した基板が前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して露光される。
【請求項８８】
請求項６１〜８７のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルは互いに接近するように相対移動され、前記接近した第１、第２テーブルが前記液浸領域に対して移動される。
【請求項８９】
請求項８８に記載の露光方法において、
前記液浸領域に対して前記第１、第２テーブルが移動される所定方向に関して、前記液浸領域を維持する前記第１、第２テーブルの一方に対して前記第１、第２テーブルの他方が接近するように相対移動される。
【請求項９０】
請求項８９に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルは、前記所定方向に関する前記接近のための移動と、前記所定方向と交差する方向に関する位置関係の調整とが行われる。
【請求項９１】
請求項８８に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルは、前記液浸領域に対して前記第１、第２テーブルが移動される所定方向と交差する方向に関する位置関係が調整されるように相対移動される。
【請求項９２】
請求項６１〜９１のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルはその境界が前記液浸領域の下を通るように前記液浸領域に対して移動される。
【請求項９３】
請求項６１〜９２のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルは間隙を挟んで配置された状態で前記液浸領域に対して移動される。
【請求項９４】
請求項６１〜９３のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルはその端部が対向した状態で前記液浸領域に対して移動される。
【請求項９５】
請求項６１〜９４のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルは互いに近接または接触した状態で前記液浸領域に対して移動される。
【請求項９６】
請求項９５に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルは、前記投影光学系の下に前記液浸領域が維持されるように近接した状態で前記液浸領域に対して移動される。
【請求項９７】
請求項９５又は９６に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルは、前記液体の流出が防止されるように近接した状態で前記液浸領域に対して移動される。
【請求項９８】
請求項６１〜９７のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルはその位置関係が実質的に維持されつつ前記液浸領域に対して移動される。
【請求項９９】
請求項９８に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルは、前記液浸領域に対して前記第１、第２テーブルが移動される所定方向に関して実質的にその位置関係が維持される。
【請求項１００】
請求項６１〜９９のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と所定方向に関して位置が異なる第２領域との一方から他方に移動され、
前記第１、第２テーブルは、前記液浸領域に対して前記所定方向に移動される。
【請求項１０１】
請求項１００に記載の露光方法において、
前記第２領域において、前記第１、第２テーブルにそれぞれ載置される基板のマーク検出及び／又は交換が行われる。
【請求項１０２】
請求項６１〜１０１のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記基板は走査露光が行われ、
前記第１、第２テーブルは、前記液浸領域に対して、前記走査露光時に前記基板が移動される所定方向に移動される。
【請求項１０３】
請求項６１〜１０２のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記投影光学系と所定方向に関して位置が異なるマーク検出系によって前記基板のマーク検出が行われ、
前記第１、第２テーブルは、前記液浸領域に対して前記所定方向に移動される。
【請求項１０４】
請求項６１〜１０３のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記投影光学系と所定方向に関して異なる位置で、前記第１、第２テーブルにそれぞれ載置される基板の交換が行われ、
前記第１、第２テーブルは、前記液浸領域に対して前記所定方向に移動される。
【請求項１０５】
請求項６１〜１０４のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１テーブルに載置される基板の露光動作と、前記第２テーブルに載置される基板の露光動作とが交互に行われ、前記液浸領域に対する前記第１、第２テーブルの移動はその露光動作の間に行われる。
【請求項１０６】
請求項６１〜１０５のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルを用いる複数の基板の露光処理シーケンスの実行中、前記液浸領域は、前記第１、第２テーブルの少なくとも一方によって前記投影光学系の下に維持される。
【請求項１０７】
請求項６１〜１０６のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２テーブルの移動において、前記第１、第２テーブルの一方には露光後の基板が載置され、前記第１、第２テーブルの他方には次に露光が行われる基板が載置される。
【請求項１０８】
請求項６１〜１０７のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２テーブルの移動によって、前記第１、第２テーブルの一方は、前記投影光学系の下方から離れて基板交換位置に移動され、前記基板の交換が行われる。
【請求項１０９】
請求項１０８に記載の露光方法において、
前記一方のテーブルでの前記基板の交換動作は、前記第１、第２テーブルの他方での前記基板の露光動作と並行して行われる。
【請求項１１０】
請求項１０９に記載の露光方法において、
前記他方のテーブルでは、前記基板の露光に先立ち、基準部材の検出が行われる。
【請求項１１１】
請求項６１〜１１０のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルにそれぞれ載置される基板は、マーク検出系によってマーク検出が行われ、
前記液浸領域に対する前記第１、第２テーブルの移動において、前記第１、第２テーブルの一方には露光後の基板が載置され、前記第１、第２テーブルの他方にはマーク検出後の基板が載置される。
【請求項１１２】
請求項１１１に記載の露光方法において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２テーブルの移動に先立ち、前記一方のテーブルに載置される基板の露光動作と並行して、前記他方のテーブルに載置される基板のマーク検出動作が行われる。
【請求項１１３】
請求項６１〜１１２のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記基板は、前記液体を介して露光が行われ、かつ前記液体を介すことなくマーク検出が行われる。
【請求項１１４】
請求項６１〜１１３のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルはそれぞれ、前記露光においてエンコーダによって位置情報が計測される。
【請求項１１５】
請求項１１４に記載の露光方法において、
前記エンコーダによる計測では、前記第１、第２テーブルの裏面に設けられるスケールが用いられる。
【請求項１１６】
請求項６１〜１１５のいずれか一項に記載の露光方法において、
基板を載置し、前記第１、第２テーブルと異なる第３テーブルと、前記第１、第２テーブルとを用いて、前記基板の露光処理シーケンスが実行される。
【請求項１１７】
請求項１１６に記載の露光方法において、
前記第１、第２及び第３テーブルでは異なる動作が並行して実行される。
【請求項１１８】
請求項６１〜１１５のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２テーブルと異なる第３テーブルを用いて前記基板の露光動作と異なる動作が実行される。
【請求項１１９】
請求項６１〜１１８のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記投影光学系の下に前記液浸領域が形成するために、前記基板よりも小さい局所領域内で前記液体が保持される。
【請求項１２０】
請求項６１〜１１９のいずれか一項に記載の露光方法において、
少なくとも前記基板の露光動作において前記液体の供給と回収とは常時行われる。
【請求項１２１】
リソグラフィ工程を含むデバイス製造方法であって、
前記リソグラフィ工程では、請求項１〜６０のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板上にデバイスパターンを転写することを特徴とするデバイス製造方法。
【請求項１２２】
リソグラフィ工程を含むデバイス製造方法であって、
前記リソグラフィ工程では、請求項６１〜１２０のいずれか一項に記載の露光方法を用いて基板上にデバイスパターンを転写することを特徴とするデバイス製造方法。