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　特願２００１−３８６０２７「垂直磁気記録媒体の製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１５年　７月　４日出願公開、特開２００３−１８７４１３〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯、本願発明
　本願は、平成１３年１２月１９日の出願であって、拒絶理由通知に対し平成１８年１１月１３日付けで手続補正をしたが、平成１９年１月１２日付けで拒絶査定がされ、これに対し同年２月２２日に拒絶査定不服審判が請求されるとともに、同年３月２６日付けで手続補正がされたものである。
　
　本願の請求項１及び２に係る発明は、平成１９年３月２６日付け手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１及び２に記載された事項により特定されるとおりのものであって、請求項１及び２は、次のとおり記載されている。
　
「【請求項１】軟磁性裏打ち層の上に垂直記録層が形成された２層垂直磁気記録媒体の製造方法であって、軟磁性裏打ち層の基板側には反強磁性層が隣接して成膜され、さらに、この反強磁性層の基板側に、ディスク半径方向又は円周方向に磁気異方性を持つ強磁性層が設けられている垂直磁気記録媒体の製造方法において、
　磁場中熱処理や着磁過程の処理を施すことなくディスク半径方向又は円周方向が磁化容易軸となるＣｏＺｒＮｂ又はＦｅＣを用いて、前記強磁性層に対して磁場中熱処理や着磁過程の処理を施すことなく前記強磁性層を基板上に成膜し、該強磁性層の上に、前記反強磁性層と前記軟磁性裏打ち層をこの順序で成膜し、前記軟磁性裏打ち層の上に前記垂直記録層を成膜することを特徴とする垂直磁気記録媒体の製造方法。
【請求項２】前記反強磁性層と前記軟磁性裏打ち層との交互積層を二層以上含む多層構造を持つように成膜することを特徴とする請求項１記載の垂直磁気記録媒体の製造方法。」
　
２．原査定の理由
　原査定の理由の概要は、本願発明を特定するために必要な事項である「磁場中熱処理や着磁過程の処理を施すことなくディスク半径方向又は円周方向が磁化容易軸となる材料」の記載が不明りょうであり、また、「磁場中熱処理や着磁過程の処理を全く施すことなく強磁性層を成膜する」ことにより、ディスク半径方向又は円周方向に磁気異方性を付与する方法が不明であるから、本願明細書の記載は、特許法第３６条第４項及び第６項に規定する要件を満たしていないというものである。
　
３．当審の判断
　上記原査定の理由が、平成１９年３月２６日付け手続補正により解消したか、本願発明を特定するために必要な事項である「磁場中熱処理や着磁過程の処理を施すことなくディスク半径方向又は円周方向が磁化容易軸となるＣｏＺｒＮｂ又はＦｅＣを用いて、前記強磁性層に対して磁場中熱処理や着磁過程の処理を施すことなく前記強磁性層を基板上に成膜」する点について、本願明細書の発明の詳細な説明の記載事項を検討する。（以下、
下線
　
　(1) 本願発明が解決すべき課題と、課題を解決するための手段について
　本願明細書には、「解決すべき課題」について、段落[0007]には「軟磁性裏打ち層への磁気異方性付与を実現するだけであれば、図５に示すように、
ＣｏＺｒＮｂを適切な成膜条件下で成膜することにより、たとえばディスク半径方向へ磁気異方性を付与することは可能であるが（ＦｅＣ等でも同様）、これだけでは、軟磁性裏打ち層への磁気異方性付与と磁壁の安定性の向上とを両立させることはできない。このため、従来は、反強磁性層の基板側に位置する強磁性層に、磁場中熱処理や着磁過程の処理を行って、軟磁性裏打ち層での磁壁の安定性の向上をも図っている
　一方、「解決するための手段」について、段落[0009]には、「図６は基板１上に、強磁性層２，反強磁性層３及び軟磁性裏打ち層４を、この順序で成膜した膜構造を示している。本発明者は、この図６に示す膜構造において、(1)成膜直後の反強磁性層３のスピンの向き（図６の各層中に矢印で示した）は、反強磁性層３直下に隣接する強磁性層２の磁化方向で決まり、たとえばディスク半径方向に磁気異方性を持つ強磁性層２を設ければ、強磁性層２に隣接して成膜した反強磁性層３のスピンの向きも図６に示すようにディスク半径方向に揃えることができること、逆に、(2)反強磁性層３直下の強磁性層２がたとえばディスク半径方向に磁気異方性を持たなければ、強磁性層２と隣接した反強磁性層３のスピンの向きを揃えることはできず、この場合には、反強磁性層３のスピンの向きを揃えるために、強磁性層２に対して磁場中熱処理や着磁過程の処理を施す必要があること、に注目し、たとえば
ディスク半径方向に磁気異方性を持つ強磁性層２を、磁場中熱処理や着磁過程の処理を施すことなくたとえばディスク半径方向が磁化容易軸となる材料を用いて、磁場中熱処理や着磁過程の処理を施すことなく成膜し、その後、反強磁性層３を成膜すれば、磁場中熱処理や着磁過程の処理が不要になることを想到し、本発明を完成するに至った
　（審決注：(1)、(2)は、丸数字で記載されているが、機種依存文字であるため、括弧付き数字とした。）
　上記記載事項によれば、従来は、ＣｏＺｒＮｂ又はＦｅＣを用いて
適切な成膜条件で成膜しても
　使用する材料は同じ「ＣｏＺｒＮｂ又はＦｅＣ」であるにもかかわらず、本願発明ではなぜ「磁場中熱処理や着磁過程の処理が不要になる」のか、その理由について発明の詳細な説明において、記載されてしかるべきである。
　
　(2) 発明の詳細な説明の記載事項
　「磁場中熱処理や着磁過程の処理を施すことなくディスク半径方向又は円周方向が磁化容易軸となるＣｏＺｒＮｂ又はＦｅＣを用いて、前記強磁性層に対して磁場中熱処理や着磁過程の処理を施すことなく前記強磁性層を基板上に成膜」する点について、記載されている箇所は次のとおりである。
　
　ア．「【0017】強磁性層は、この上に反強磁性層が成膜されるもので、反強磁性層の基板側にある。
この強磁性層は、磁場中熱処理や着磁過程の処理を施すことなくディスク半径方向又は円周方向が磁化容易軸となる材料、たとえば、ＣｏＺｒＮｂやＦｅＣ等を用いて成膜される
このような材料を用いれば、磁場中熱処理や着磁過程の処理を施すことなく、ディスク半径方向又は円周方向が磁化容易軸となる強磁性層を成膜できる
磁場中熱処理や着磁過程の処理を施すことなく、軟磁性裏打ち層にディスク半径方向又は円周方向に磁気異方性が付き、一方向性のバイアス磁界によって安定化され、軟磁性裏打ち層への磁気異方性の付与と磁壁の安定化とを磁場中熱処理や着磁過程の処理を経ずに実現できる
　イ．「【0020】基板１１はガラス基板である。
強磁性層１２は、磁場中熱処理や着磁過程の処理を施すことなくディスク半径方向又は円周方向が磁化容易軸となるＣｏＺｒＮｂを用いて成膜される。よって、この強磁性層１２では、磁場中熱処理や着磁過程の処理を施すことなく、ディスク半径方向又は円周方向が磁化容易軸となる
【0021】反強磁性層１３は、ＩｒＭｎからなる層で、その膜厚は、５nm 程度である。軟磁性裏打ち層１４は、ＦｅＣからなり、その膜厚は、２００nm 程度である。中間層１５は、膜厚が５nm 程度のＰｄ層でなり、垂直記録層１６は、［Ｃｏ／Ｐｄ］の人工格子多層膜で形成されている。Ｃｏ層の膜厚は０．５nm 、Ｐｄ層の膜厚は１nm 程度であり、層数は１５〜２０程度である。保護膜１７はカーボン(Ｃ)でなり、その膜厚は、１０nm 程度である。これらの成膜は主にスパッタ法を用いてなされる。
【0022】本形態例では、
強磁性層１２は、磁場中熱処理や着磁過程の処理を施すことなくディスク半径方向又は円周方向が磁化容易軸となる材料であるＣｏＺｒＮｂを用いて成膜される
ＣｏＺｒＮｂを用いれば、磁場中熱処理や着磁過程の処理を施すことなく、ディスク半径方向又は円周方向が磁化容易軸となるように、強磁性層１２を成膜できる
【0023】そして、この強磁性層１２上に反強磁性層１３を成膜するので、反強磁性層１３のスピンの向きを揃えることができ、
磁場中熱処理や着磁過程の処理を施すことなく、軟磁性裏打ち層１４にディスク半径方向又は円周方向に磁気異方性が付き、一方向性のバイアス磁界によって軟磁性裏打ち層１４は安定化される
軟磁性裏打ち層１４への磁気異方性の付与と磁壁の安定化とを磁場中熱処理や着磁過程の処理を省略しても達成できる
【0024】本形態例のように、
磁場中熱処理や着磁過程の処理を施すことなく、ディスク半径方向又は円周方向が磁化容易軸となる強磁性層１２を成膜し、反強磁性層１３のスピンの向きを揃えた場合であっても、反強磁性層１３による軟磁性裏打ち層１４の磁壁を固定する効果が得られる
　ウ．「【0027】図２は本発明の第２の実施の形態例を示す要部断面図である。第２の形態例でも、ガラスでなる基板２１上には、
強磁性層２２として、磁場中熱処理や着磁過程の処理を施すことなくディスク半径方向又は円周方向が磁化容易軸となる材料であるＣｏＺｒＮｂを用いて、磁場中熱処理や着磁過程の処理を施すことなく、ディスク半径方向又は円周方向が磁化容易軸となる膜が形成される
　エ．「【0030】上記の通り、
ＣｏＺｒＮｂを用いれば、磁場中熱処理や着磁過程の処理を施すことなく、ディスク半径方向又は円周方向が磁化容易軸となるように、強磁性層２２を成膜でき
磁場中熱処理や着磁過程の処理を施すことなく、軟磁性裏打ち層２４にディスク半径方向又は円周方向に磁気異方性が付き、一方向性のバイアス磁界によって軟磁性裏打ち層２４は安定化される
軟磁性裏打ち層２４への磁気異方性の付与と磁壁の安定化とを磁場中熱処理や着磁過程の処理を省略しても達成できることになる
　オ．「【0034】
【発明の効果】以上説明したように、本発明においては、
強磁性層は、磁場中熱処理や着磁過程の処理を施すことなくディスク半径方向又は円周方向が磁化容易軸となるＣｏＺｒＮｂ又はＦｅＣを用いて、強磁性層に対して磁場中熱処理や着磁過程の処理を施すことなく、ディスク半径方向又は円周方向が磁化容易軸となるように成膜され
磁場中熱処理や着磁過程の処理を施すことなく、軟磁性裏打ち層にディスク半径方向又は円周方向に磁気異方性が付き、一方向性のバイアス磁界によって安定化され、軟磁性裏打ち層への磁気異方性の付与と磁壁の安定化とを強磁性層に対して磁場中熱処理や着磁過程の処理を経ずに実現できる
【0035】
磁場中熱処理や着磁過程の処理を施すことなくディスク半径方向又は円周方向が磁化容易軸となる材料としては、ＣｏＺｒＮｂやＦｅＣが最適である。又、反強磁性層と軟磁性裏打ち層について、両者の交互積層を二層以上含む多層構造を持つように構成しても、軟磁性裏打ち層への磁気異方性の付与と磁壁の安定化とを磁場中熱処理や着磁過程の処理を経ずに実現できる
　
　(3) 記載事項についての検討
　上記のとおり、本願明細書には「磁場中熱処理や着磁過程の処理を施すことなくディスク半径方向又は円周方向が磁化容易軸となるＣｏＺｒＮｂ又はＦｅＣを用いて、前記強磁性層に対して磁場中熱処理や着磁過程の処理を施すことなく前記強磁性層を基板上に成膜」する点について、同様の文言が繰り返し記載されているにすぎず、「磁場中熱処理や着磁過程の処理を施すことなくディスク半径方向又は円周方向が磁化容易軸となるＣｏＺｒＮｂ又はＦｅＣ」とはいかなる材料であるのか、具体的な成膜の方法や成膜の条件、軟磁性裏打ち層への磁気異方性の付与と磁壁の安定化とを磁場中熱処理や着磁過程の処理を経ずに実現できたことを確認できる事項については、何ら記載されていない。
　
　本願発明は、従来の「ＣｏＺｒＮｂ又はＦｅＣ」とは異なる材料である「磁場中熱処理や着磁過程の処理を施すことなくディスク半径方向又は円周方向が磁化容易軸となるＣｏＺｒＮｂ又はＦｅＣ」を使用するものと推認することができる。
　しかしながら、本願明細書の発明の詳細な説明には、「磁場中熱処理や着磁過程の処理を施すことなくディスク半径方向又は円周方向が磁化容易軸となるＣｏＺｒＮｂ又はＦｅＣ」とは、いかなる物質であるのか何ら記載されていない。
　磁気記録媒体の技術分野において、磁性層の磁化容易軸がいずれの方向になるかは、磁性材料と下地層との関係で決まること（例えば、Coの磁化容易軸は下地層にCrを用いて成膜すると面内方向に配向する。）が、周知であるから、「ＣｏＺｒＮｂ又はＦｅＣ」はその固有の性質として、（その下地層に応じて）ディスク半径方向又は円周方向が磁化容易軸となる性質を備えているということができる。
　そうすると、「磁場中熱処理や着磁過程の処理を施すことなくディスク半径方向又は円周方向が磁化容易軸となるＣｏＺｒＮｂ又はＦｅＣ」とは、従来の「ＣｏＺｒＮｂ又はＦｅＣ」とはいかなる点で異なる物質であるのか不明であるから、特許を受けようとする発明は明確でない。
　
　また、本願発明において、使用する「ＣｏＺｒＮｂ又はＦｅＣ」は従来のものと同一であって、従来の適切とされる条件とは異なる条件で成膜するものと推認することもできる。
　しかし、具体的な成膜の条件等が何ら記載されていないのであるから、本願発明における成膜方法、すなわち「前記強磁性層に対して磁場中熱処理や着磁過程の処理を施すことなく前記強磁性層を基板上に成膜」は不明確であるから、特許を受けようとする発明は、明確でない。
　しかも、成膜の条件（例えば、ターゲットの構成、成膜時の温度、圧力等）について、当業者が本願発明を実施できる程度に発明の詳細な説明が記載されているとすることはできない。
　
　なお、この点について、請求人は原審における意見書で、「ディスク半径方向又は円周方向に磁気異方性を持つ強磁性層を磁場中熱処理や着磁過程の処理を施すことなく基板上に成膜すること自体は、既に、本願出願前から知られています。たとえば、特開平０４−２１８６６８号公報や特開平０４−２８９１６６号公報には、マグネトロンスパッタ装置のカソードマグネットの配置を変えることにより、異方性の異なる磁性膜の成膜を行えることが記載されています。」と主張している。
　しかしながら、上記特開平０４−２１８６６８号公報や特開平０４−２８９１６６号公報に記載された方法は、成膜中に「着磁過程の処理を施す」方法に相当し、本願発明における「磁場中熱処理や着磁過程の処理を施すことなく」成膜する方法ではないから、上記請求人の主張を採用することはできない。
　
　更に、本願発明は、従来必要であると信じられていた磁場中熱処理や着磁過程の処理は不要であることを発見したことに基づくものと推認することもできる。
　しかし、本願明細書の発明の詳細な説明には、軟磁性裏打ち層への磁気異方性の付与と磁壁の安定化とを磁場中熱処理や着磁過程の処理を経ずに実現できたことを確認できる事項（例えば、磁場中熱処理や着磁過程の処理をした場合としない場合とで、磁気媒体の特性に差があるのか否かを示す測定結果等）について、何ら記載されていないから、解決すべき課題が本願発明によって解決できたのかどうか、発明の詳細な説明の記載事項から確認することができない。
　そうすると、当業者が本願発明の技術的意義を理解するために必要な事項が、発明の詳細な説明に記載されていると認めることもできない。
　
　したがって、本願明細書の記載は、経済産業省令で定めるところにより、その発明の属する分野における通常の知識を有する者がその実施をすることができる程度に明確かつ十分に記載したものであると認めることができず、また、特許を受けようとする発明が明確であるということもできない。
　
４．むすび
　以上のとおり、本件出願は、特許法第３６条第４項及び同条第６項第２号に規定する要件を満たしていないから、特許法第４９条の規定により拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。