【事件の表示】
　特願２００２−３４９３４９「プラズマ処理装置及びそれを用いたウエハの処理搬送方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１５年　８月１５日出願公開、特開２００３−２２９４７５〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本件出願は、平成８年１月２４日に出願した特願平８−９８０９号の一部を平成１４年１２月２日に新たな特許出願としたものであって、同１７年９月２６日付で拒絶をすべき旨の査定がなされ、これに対し、同年１１月４日に本件審判の請求がなされるとともに、同年１２月５日に明細書を補正対象書類とする手続補正がなされた。その後、当審において、平成１８年１０月３０日付で、平成１７年１２月５日付の手続補正書を却下するとともに、拒絶の理由が通知され、それに対し、平成１８年１２月２８日に意見書が提出され、同時に明細書を補正対象書類とする手続補正（以下、「本件補正」という。）がなされたものである。
　
第２　本件補正についての補正の却下の決定
［補正の却下の決定の結論］
　本件補正を却下する。
　
［理由］
１　補正の内容の概要
　本件補正は特許請求の範囲を含む明細書について補正をするものであって、平成１７年８月８日付手続補正書で補正された請求の範囲における請求項１−３を、平成１８年１２月２８日付手続補正書において特許請求の範囲の請求項１に補正したが、補正前後の請求項１の記載は以下のとおりである。
（１）補正前の請求項１
「静電気力を利用して真空処理室内の電極のウエハ積載面に保持されたウエハをプラズマ処理し、該処理の終了したウエハを前記真空処理室外へ搬送するプラズマ処理装置であって、
　前記電極上に設けられた誘電膜と、
　前記電極に冷媒を循環させて前記ウエハの温度制御を行う冷却装置と、
　前記誘電膜上の１２インチウエハ用の積載面と、
　前記ウエハ積載面の中心から前記１２インチウエハの半径方向６０〜８０％の領域の同一円上に設けられ前記電極及び前記誘電膜を貫通する３個以上の貫通孔と、
該貫通孔内を上下方向に可動な３個以上の棒状体と、
前記棒状体を同時に上下動させる手段を有し、
前記棒状体を上下動させる手段は、前記プラズマ処理の終了後、前記領域に設けられた前記３個以上の棒状体を上昇させることにより、前記ウエハに作用する残留吸着力に抗して前記ウエハを前記棒状体のみを介して前記ウエハ積載面から引き剥がす押し上げ力を発生するように構成されており、
　前記ウエハに作用する前記残留吸着力に抗して前記ウエハを前記ウエハ積載面から前記棒状体のみにより安定して完全に引き剥がす、ことを特徴とするプラズマ処理装置。」
（２）補正後の請求項１
「静電気力
による吸着力
　前記電極上に設けられた誘電膜と、
　前記電極に冷媒を循環させて前記ウエハの温度制御を行う冷却装置と、
　前記誘電膜上の１２インチウエハ用の積載面と、
　前記ウエハ積載面の中心から前記１２インチウエハの半径方向６０〜８０％の領域の
単一の
　該貫通孔内
に設けられたブッシュに沿って
する
　
前記静電気力の電源をオフした後の残留電荷により前記ウエハが前記誘電膜に吸着されている状態で当該残留電荷により前記ウエハに作用する残留吸着力に抗する押し上げ力で、
上下方向に可動
　前記棒状体を
上下方向に可動
貫通孔
棒状体を同時に上昇させて前記１２インチウエハの半径方向６０〜８０％の前記領域を前記押し上げ力で押し上げ
す
　前記ウエハに作用する前記残留吸着力に抗して前記ウエハを前記ウエハ積載面から前記棒状体のみにより安定して完全に引き剥がす、ことを特徴とするプラズマ処理装置。」（なお、下線は、補正前の請求項１との相違点を示すものである。）
　
２　補正の適否
　請求項１における補正は、「静電気力を利用して」を「静電気力による吸着力を利用して」と静電気力で用いる力を明確にし、貫通孔が設けられる位置を、「同一円上」から「単一の同一円上」とすることで明確にし、棒状体を「貫通穴内に設けられたブッシュに沿って可動する」ものであると限定し、棒状体を同時に上下動させる手段に関し、「静電気力の電源をオフした後の残留電荷によりウエハが誘電膜に吸着されている状態で当該残留電荷によりウエハに作用する残留吸着力に抗する押し上げ力で、前記棒状体を同時に上下方向に可動させる」ものであると限定し、「棒状体を上下動させる手段」を「棒状体を上下方向に可動させる手段」とすることで手段を明確にし、「前記領域に設けられた前記３個以上の棒状体を上昇させることにより、前記ウエハに作用する残留吸着力に抗して前記ウエハを前記棒状体のみを介して前記ウエハ積載面から引き剥がす押し上げ力を発生するように構成されており、前記ウエハに作用する前記残留吸着力に抗して前記ウエハを前記ウエハ積載面から前記棒状体のみにより安定して完全に引き剥がす」を「前記貫通孔に設けられた前記棒状体を同時に上昇させて前記１２インチウエハの半径方向６０〜８０％の前記領域を前記押し上げ力で押し上げ、前記ウエハを前記棒状体のみを介して前記ウエハ積載面から引き剥がすように構成されており、前記ウエハに作用する前記残留吸着力に抗して前記ウエハを前記ウエハ積載面から前記棒状体のみにより安定して完全に引き剥がす」とすることで、棒状体によりウエハを引き剥がす状況を明確にしたものであって、全体として特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。
　そこで、本件補正後の請求項１に記載された発明（以下「補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか否かについて、以下検討する
（１）補正発明
　補正発明は、本件補正により補正がされた明細書及び図面の記載からみて、前記１の（２）の補正後の請求項１に記載された事項により特定されるとおりのものと認める。
（２）引用刊行物記載の発明
　当審での拒絶の理由に引用した本件出願前に日本国内において頒布された刊行物である特開平６−１１２３０３号公報（以下「刊行物１」という。）、及び、日本学術振興会、結晶加工と評価技術第１４５委員会第６８回研究会資料（平成６年１２月２１日）ｐ．３６〜４４（以下、「刊行物２」という。）には、次の事項が記載されていると認める。
（２−１）刊行物１記載の発明
ア　明細書の段落【０００７】
「従来の低温エッチング装置は、図６に概要を示すように、エッチングチャンバ１０、支持台１２、反応ガス供給部２０、エッチングチャンバ排気部２２、支持台１２上に取り付けられた静電チャック３０、プッシャー３６、及びアノード電極２６から成る。また、蛍光式ファイバー温度計４０がウエハ裏面に接触するように配置されている。支持台１２は、ＲＦ電源１４及びマッチングボックス１６からのＲＦパワーを印加し得るカソード電極を構成し、その内部には外部から供給される液体窒素やエタノール等の冷媒を循環できる構造となっている。ＣＨＦ３、ＣＨ４、ＨＢｒ等の各種ガスが反応ガス供給部２０を通してエッチングチャンバ１０に供給される。尚、図６において、プッシャー３６の昇降機構の図示は省略した。」
イ　明細書の段落【００２６】
「本発明の第１及び第２のウエハ処理装置として、プラズマエッチング装置、低温プラズマエッチング装置、・・・を例示することができる。・・・」
ウ　明細書の段落【００３１】〜【００３２】
「実施例１は、本発明の第１の態様のウエハ処理装置及びウエハ処理方法に関する。実施例１のウエハ処理装置は、低温エッチング装置であり、図１にその概要を示す。この低温エッチング装置は、基本的には図６に示した従来の低温エッチング装置と同様であるが、プッシャー３６が接地されている点が相違する。ウエハ５０、ウエハを搬送する搬送アーム２４、支持台１２及び静電チャック３０の配置を、図２に模式的に示す。搬送アーム２４は左右に移動可能であり、プッシャー３６は支持台１２に設けられた孔部１２Ａを通して昇降可能である。尚、プッシャー３６を昇降させる機構の図示は省略した。
　支持台１２は、ＲＦ電源１４及びマッチングボックス１６からのＲＦパワーを印加し得るカソード電極を構成し、その内部には液体窒素やエタノール等の冷媒を循環できる構造となっている。支持台１２は、例えば−１２０℃程度に冷却することができる。静電チャック３０は電極３２を具備している。電極３２には電源３４から直流電圧を印加することができる。静電チャック３０は単極式であり、支持台１２に固定されている。静電チャック３０は、アルミナセラミックから成る。電極３２の平面形状を二重螺旋状とした。また、プッシャー３６は、アルミニウムから成り、接地されている。」
エ　明細書の段落【００３６】〜【００３８】
「次に、低温エッチングを完了した後、図１に示したウエハ処理装置の静電チャックからウエハ５０を解放する方法を以下説明する。
　先ず、静電チャック３０の電極３２に印加していた直流電圧を遮断する。次いで、接地されたプッシャー３６をウエハ５０に接触させる。これによって、ウエハ５０から残留電荷の除去が瞬時に行われ、ウエハ５０と静電チャック３０との間の吸着力は消滅する。従って、予備放電を用いずに、静電吸着からウエハを解放することができる。
　次いで、プッシャー３６を上昇させてウエハ５０を静電チャック３０から取り除き、更に、搬送アーム２４上にウエハ５０を移送する。次に、搬送アーム２４を、支持台１２上方からアンロード室（図示せず）へ搬出する。」
オ　ここで、図１を参照すると、電極３２上に静電チャック３０が設けられていることが見て取れる。すなわち、静電チャック３０が、電極３２のウエハ積載面となっている。また、「静電チャック」とは、誘電膜が設けられており、該誘電膜に働く静電気力による吸着力を利用してウエハを保持するものである。図面の図２を参照すると、ウエハ５０の積載面にウエハ５０を４個で保持するプッシャー３６を配置する点が看取される。そして、プッシャ３６は、静電チャック３０及び電極３２を貫通して設けられていることから、当然、静電チャック３０に設けられている誘電膜も貫通していることになる。さらに、４個のプッシャー３６は、一体に結合されていることから、４個のプッシャー３６は同時に上下動するものであることが分かる。
　上記記載事項ア〜エ、認定事項オ、図１及び図２の記載からみて、刊行物１には、次の発明が記載されていると認める。（以下「刊行物１記載の発明」という。）
「静電気力による吸着力を利用してエッチングチャンバ１０内の電極３２のウエハ積載面に保持されたウエハ５０を低温エッチングし、該処理の終了したウエハ５０をアンロード室へ搬出するプラズマエッチング装置であって、
　前記電極３２上に設けられた静電チャック３０の誘電膜と、
　前記電極３２に冷媒を循環させて支持台１２を例えば−１２０°Ｃ程度に冷却する構造と、
　前記誘電膜上のウエハ用の積載面と、
　前記電極３２及び前記誘電膜を貫通する４個の貫通孔と、
　該貫通孔内を上下方向に可動する４個のプッシャー３６と、
　静電チャック３０の電極３２に印加していた直流電圧を遮断した後、前記プッシャー３６を同時に上下方向に可動させる手段を有し、
　前記プッシャー３６を上下方向に可動させる手段は、前記低温エッチングの完了後、接地されたプッシャー３６をウエハ５０に接触させることによりウエハ５０の残留電荷の除去を行い、その後、４個のプッシャー３６を同時に上昇させる、低温プラズマエッチング装置。」
（２−２）刊行物２記載の発明
　刊行物２には、以下の記載がある。
ア　４１頁〜４３頁、３．２　支持点がウェーハ面内にある保持
「支持点がウェーハ面内の任意の点に配置される支持具が可能であるとすれば、ウェーハの外周または面内の円上に均等に配置する方が応力及び変形の緩和に有利である。ここで、均等に配置された４点支持について考えよう。・・・
　支持点が外周近傍にある以外、いずれの応力成分も支持点で最大となり、引張応力となる。これにより、ウェーハ内の最大せん断応力は支持点で起こり、その値は応力成分の最大値により決められる。図７には応力成分の最大値と支持点の位置ｂ／Ｒとの関係を示す。支持点の位置が外周にある場合でも、前述の不均等配置の４点支持より、応力は半分以上減少することが分かる。さらに、支持点の位置を外周からウェーハ半径の約０．７〜０．８倍の外接円上に移動すると、応力を大幅に減少させる効果がある。この場合、最大応力は外周リング支持状態の最大応力のわずか２倍程度にとどまる。」
イ　４４頁、５　終わりに（４）
「リング支持または点支持のいずれの場合でも、支持点の位置をウェーハ面内の約０．７倍の半径の場所に移動することにより、応力及び変形を最小にすることができる。φ１２”ウェーハの場合、最適支持位置を採用したリング支持では最大せん断応力（０．１１ＭＰａ）が現行のφ６”ウェーハの外周リング支持時（０．１３ＭＰａ）よりも小さくできる。
　以上述べたように、ウェーハ大口径に伴って、自重による変形及び応力の増加は保持方法の改善により十分押さえることができる。リング支持または点支持のいずれの場合にも、ウェーハ半径の約０．７の半径に支持点を配置することは、変形及び応力の減少に有効な手段である。」
　以上、ア、イの摘記事項、及び図７を参照すると、刊行物２には以下の発明が記載されている。（以下、「刊行物２記載の発明」という。）
「ウェーハ面内の約０．７倍の半径の位置において、円上に均等に配置された４つの支持点によってウェーハを支持することにより、ウェーハの自重による応力及び変形を減少させること。」
（３）対比
　補正発明と刊行物１記載の発明とを対比すると、後者の「プッシャー３６」は前者の「棒状体」に相当している。後者の「エッチングチャンバ１０」は前者の「処理室」に、後者の「低温エッチング」は前者の「プラズマ処理」に、それぞれ相当している。後者の「処理の終了したウエハ５０をアンロード室へ搬出する」ことは、前者の「処理の終了したウエハを前記処理室外へ搬送する」ことに相当する。後者の「支持台１２を例えば−１２０°Ｃ程度に冷却する構造」は、支持台１２に静電チャック３０を介してウエハ５０が保持されることから、前者の「ウエハの温度制御を行う冷却装置」と言い得る。後者の「４個」は明らかに前者の「３個以上」に該当する。後者の「静電チャック３０の電極３２に印加していた直流電圧を遮断」は、前者の「静電気力の電源のオフ」に相当する。
　よって、両者は、次の一致点及び相違点を有している。
［一致点］
「静電気力による吸着力を利用して処理室内の電極のウエハ積載面に保持されたウエハをプラズマ処理し、該処理の終了したウエハを前記処理室外へ搬送するプラズマ処理装置であって、
　前記電極上に設けられた誘電膜と、
　前記電極に冷媒を循環させて前記ウエハの温度制御を行う冷却装置と、
　前記誘電膜上の積載面と、
　前記電極及び前記誘電膜を貫通する３個以上の貫通孔と、
　該貫通孔内を上下方向に可動する３個以上の棒状体と、
　前記静電気力の電源をオフした後、前記棒状体を同時に上下方向に可動させる手段を有し、
　前記棒状体を上下方向に可動させる手段は、前記プラズマ処理の終了後、前記貫通孔に設けられた前記棒状体を同時に上昇させることにより構成されているプラズマ処理装置。」
［相違点］
＜相違点１＞
　処理室に関し、補正発明では「真空」であるとしているのに対し、刊行物１記載の発明では、真空かどうか不明な点。
＜相違点２＞
　処理されるウエハの寸法に関し、補正発明では「１２インチウエハ」と特定しているのに対し、刊行物１記載の発明ではウエハの寸法について、特定されていない点。
＜相違点３＞
　ウエハを押し上げる棒状体の位置に関し、補正発明では、「ウエハ積載面の中心から半径方向の６０〜８０％の領域の単一の同一円上」としているのに対し、刊行物１記載の発明では、棒状体に相当するプッシャー３６のウエハを押し上げる位置に関して特定されていない点。
＜相違点４＞
　棒状体の案内に関し、補正発明では、「貫通孔内に設けられたブッシュに沿って」該棒状体を上下動させるのに対し、刊行物１記載の発明では貫通孔内にそのようなブッシュは設けられていない点。
＜相違点５＞
　補正発明では、静電気力の電源をオフした後の残留電荷によりウエハが誘電膜に吸着されている状態で当該残留電荷によりウエハに作用する残留吸着力に抗する押し上げ力で押し上げ、ウエハを棒状体のみを介してウエハ積載面から引き剥がすように構成されており、ウエハに作用する残留吸着力に抗してウエハをウエハ積載面から棒状体のみにより安定して完全に引き剥がしているのに対し、刊行物１記載の発明では、静電チャック３０の電極３２に印加していた直流電圧を遮断後、接地されたプッシャー３６をウエハ５０に接触させることによりウエハ５０の残留電荷の除去を行い、その後、プッシャー３６を上昇させるようにしている点。
（４）判断
　上記相違点について検討する。
＜相違点１＞について
　一般にウエハに低温エッチング等のプラズマ処理を行う場合、当該処理を真空下で行うことは技術上の慣用手段である。
＜相違点２＞について
　ウエハの大きさとして１２インチのものは、例えば特開平６−３０２５７２号公報（第３頁第４欄段落番号【００２８】参照。）に示されているように、周知の事項である。
＜相違点３＞について
　ウエハを支持点において支持する場合、ウエハの中心から半径方向の７０％の領域の単一の同一円上で支持することが、ウエハの自重による応力を最小にすることができることは刊行物２記載の発明にあるように、公知のものである。ここで、刊行物２記載の発明はウエハの自重、すなわち、ウエハに加わる重力による応力を最小にする支持点に関するものであるが、これを刊行物１記載の発明のような静電チャックに用いた場合には、静電気力による吸着力を考慮しなければならない。しかしながら、重力は単位面積当たり均等に働くものであるところ、静電気力による吸着力も単位面積当たり均等に働くものであることからすれば、刊行物２記載の発明の支持を刊行物１記載の発明のプッシャー３６に適用した場合には、重力による支持と同じ位置でウエハを支えればよく、それにより、ウエハに加わる応力が最小になると推測することは、当業者にとって格別困難なことではない。そして、半径方向の７０％は、補正発明の「ウエハ半径方向の６０％〜８０％の領域」に含まれるものである。
　してみると、刊行物１記載の発明において、補正発明の棒状体に相当するプッシャー３６の配置を、相違点に係る補正発明の事項のごとく、「ウエハ半径方向６０％〜８０％の領域の単一の同一円上」とすることが、当業者にとって格別困難なことということはできない。
　なお、審判請求人は、平成１８年１２月２８日付の意見書第３頁第３４行−第３９行で、「一方、刊行物２（又は刊行物３、４）の発明は、ウエハ熱処理時のウエハの保持に関するものであり、ウエハの静電吸着特有の課題はなんら存在しない。
　刊行物１のエッチング処理装置と刊行物２のウエハの熱処理装置は、近接した技術であるとしても、その差異を無視しうるようなものではなく、しかも、構成において、ウエハの熱処理装置のウエハ保持機構をエッチング処理装置のウエハ強制引き剥がし手段に置き換えるための動機付けも存在しない。」と主張し、また、第４頁第４行−第１６行で、「残留吸着力に抗してウエハを引き剥がす本願発明と、単に重力すなわち自重に抗してウエハを押し上げるだけの刊行物１記載の発明とは、ウエハへの力のかかり方が全く相違するものである。その挙動図を参考図１に示す。本願発明のように残留吸着力に抗してウエハを引き剥がす場合には、ウエハ面内において、引き剥がし部のウエハの浮き上がりと共に残留電荷の分布が刻々と変わり残留吸着力の作用する位置が移動していく。これは、刊行物１に記載のウエハ自重による力のかかり方と全く異なってくる。すなわち、本願発明の場合には、棒状体を同時に上下方向に可動させる手段がウエハを引き剥がす方向に動作することに伴い、棒状体の上昇によりウエハが局所的に変形し、この変形領域でウエハとウエハ載置との静電容量が変わりウエハ裏面の電荷が移動し、静電吸着力は局所的に大きく変化する。
　これは、静電吸着特有の物理現象であり、単に重力に抗してウエハを押し上げるときには発生しない現象である。そのため、ウエハの強制引き剥がしはウエハの割れを伴う可能性が大きい。よって、本願発明を、単なる板部材の支持と同じ観点で論ずることは出来ない。」と主張している。
　しかしながら、補正発明は、ウエハに加わる静電吸着力を単位面積あたり均等であるとしてウエハの半径方向６０〜８０％の領域としたものである（本件出願の明細書の段落【００１６】参照。）。そして、ウエハに単位面積あたり均等に加重が加わることは重力による加重と同じであるから、「ウエハが局所的に変形し、静電吸着力は局所的に大きく変化する」という審判請求人の主張は採用できない。
＜相違点４＞について
　静電気による吸着力を利用してウエハ積載面上のウエハをウエハ積載面に形成された貫通孔内を上下動する棒状体で押し上げる場合、該棒状体を貫通孔内に設けられたブッシュに沿って可動させることは、例えば、特開平５−１２１５２９号公報（同公報において、「第２案内部材１８ａ、１８ｂ、１８ｃ」が「ブッシュ」に相当。）に記載されているように、本件出願の出願前、周知の事項であることから、刊行物１記載の発明においても、貫通孔内にブッシュを設け、棒状体であるプッシャー３６を当該ブッシュに沿って上下動させることは、当業者が容易になし得たものである。
＜相違点５＞について
　静電チャックに保持されたウエハを棒状体で引き剥がす際に、ウエハに作用する残留吸着力に抗してウエハを引き剥がすことは、例えば、特開平６−２５２０６２号公報（明細書の段落番号【０００５】参照。）、特開平６−３３８５５９号公報（明細書の段落番号【０００７】参照。）、特開平７−１３０８２５号公報（明細書の段落番号【０００３】参照。）等に記載されているように従来周知の事項であったことからすれば、刊行物１記載のウエハ処理装置においても、静電気力の電源をオフした後、プッシャー３６による押し上げを、その接地による残留電荷の除去をすることなく、ウエハ５０に作用する残留吸着力に抗してプッシャー３６のみを介してウエハ積載面から引き剥がす押し上げ力を発生するようにすることは、当業者が容易になし得たものである。そして、ウエハの引き剥がしを安定して、かつ完全に行うべきことは、当然である。
＜効果＞について
　補正発明の効果も、上記刊行物１記載の発明、刊行物２記載の発明、技術上の慣用手段及び上記従来周知の事項から予測しうる程度のものであって、格別なものではない。
　以上のとおりであるので、補正発明は、本件出願前に日本国内において頒布された刊行物１記載の発明、刊行物２記載の発明、技術上の慣用手段及び上記従来周知の事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
３　むすび
　以上のとおりであるので、本件補正は、特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
第３　本件発明について
１　本件発明
　本件補正は、前記のとおり却下されたので、本件出願の請求項１に係る発明（以下「本件発明」という。）は、平成１７年８月８日付手続補正書により補正がされた明細書及び図面の記載からみて、前記第２の１の（１）で示した補正前の請求項１に記載された事項により特定されるとおりのものと認める。
　
２　引用刊行物記載事項
　これに対して、原査定の拒絶の理由に引用された刊行物１及び刊行物２の記載事項は、前記第２の２の（２）に示したとおりである。
　
３　対比・判断
　本件発明は、前記第２の２で述べたとおり、補正発明の特定事項から、前記限定事項が省かれたものである。
　そうすると、前記第２の２の（４）で検討したとおり、本件発明は、同様に刊行物１記載の発明、刊行物２の記載の発明、技術上の慣用手段及び従来周知の事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
４　むすび
　以上のとおりであるので、本件発明は、刊行物１、刊行物２記載の発明、技術上の慣用手段及び従来周知の事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、請求項２ないし３に係る発明について検討するまでもなく、本件出願は拒絶されるべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。