【事件の表示】
　特願２００１−５２４０９２「プログラム可能な照射パターン生産のためのシステム及び方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１３年３月２２日国際公開、ＷＯ０１／２０５９３、平成１５年３月１１日国内公表、特表２００３−５０９７０１〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１　手続の経緯・本願発明
 　本願は、平成１２年９月１７日（パリ条約による優先権主張　平成１１年９月１７日　米国）を国際出願日とする出願であって、その請求項１ないし１１に係る発明は、平成１８年１２月２６日付けの手続補正書により補正された特許請求の範囲の請求項１ないし１１に記載された事項により特定されるとおりのものと認められ、その請求項１に係る発明は次のとおりのものである。
　「【請求項１】電極上に重ね合わされる照射パターンをプログラム可能に生成する装置であって、前記電極は、照射された範囲またはその表面においてインピーダンスの低下を示し、前記照射パターンは、予め決められた明領域および暗領域の配置を有していて：
　第１の実質的に平面の電極であって、この電極は、第２の実質的に平面の電極と実質的に平行に配置されていて、これらの電極は、ギャップによって分離されていて、このギャップは、これらの電極と接触していてかつ懸濁されたコロイド状粒子を含む電解液を含んでいる、第１の実質的に平面の電極；
　電極の表面を選択的に照射することが可能な照射供給源であって、それによって、電極に対するAC電圧の印加に応じて、表面の照射された範囲における電界が、表面の照射されていない範囲における電界より大きくなり、その照射パターンは、前記コロイド状粒子のアセンブリーおよび横方向の動きを制御するように、前記第１の電極上に投影され、前記アセンブリーおよび横方向の動きは、前記電極間に印加したAC電圧によって誘導される、照射供給源；
　画素のアレイからなる再配置可能なマスクであって、前記画素は、コンピューターで制御される回路およびコンピューターインターフェイスによって能動的に制御可能かつ直接にアドレスで呼び出し可能であり、前記コンピューターで制御される回路は、照射パターンを形成するように、前記画素から発散される照射の強度の時間的な制御を提供するソフトウェアープログラムを使用して操作される、再配置可能なマスク；
　電極上に再配置可能なマスクのイメージを投影するのに適した投影システム；
　照射パターンが重ね合わされた前記電極を観察かつ記録することが可能なイメージングシステム；
を含む装置。」（以下、「本願発明」という。）
　
２　引用刊行物の記載事項
　当審における拒絶の理由に引用された、本願優先日前に頒布された刊行物である、刊行物１ないし刊行物５には以下の事項がそれぞれ記載されている。
　
(刊行物１：国際公開第９７／４０３８５号の記載事項、対応公報である特表２００１−５００９６１号公報による日本語訳）
（1a）「２１．電極と電解質溶液の間の界面で懸濁された
粒子の特異な横方向の置換を実行するための分類装置
　上記界面で電場を発生する
電場発生装置
　
電極
　上記界面に実質的に平行な方向において上記粒子の置換をもたらす実質的に連続的な流動を有する
電解質溶液
　上記電極はパターン化され且つそれの修正された電気化学特性を有す；
　調整可能な、予め決定された光パターンによって上記電極を照光する照光源
　上記電解質溶液中に配された多数の粒子、該粒子は上記実質的に連続する電解質流から及び上記予め決定された光パターンと上記電極の電気化学特性に従う上記電場から生起する結合力によって作用し、
上記粒子は上記粒子の移動性を決定する物理的及び化学的特性における変化に従って移動される
を備える装置。
２２．上記パターン化は高インピーダンスの断続的に離間配置されたバリアーエリアの多数の列を含み、該バリアーの断続的な配置は１つの列から次の列まで減少し、該列は上記電極を横断して配置される；
  上記電極は、上記インピーダンスプロファイルが上記電極を横切る方向において減じられ、上記インピーダンスプロファイルは、最も大きい断続的な間隔を有するバリアーの列に一致する上記電極の一方の側で高い値を、且つ最も小さい断続的な間隔を有するバリアーの列に一致する上記電極の相対する側で低い値を有することを特徴としたインピーダンスプロファイルを包含するために更にパターン化される；
  上記電場は上記電極の第１の及び第２の側部の間のインピーダンスにおける上記変化に従い上記電解質流に実質的に横切る方向において上記粒子の移動をもたらし、上記断続的に離間配置されるバリアーの列はバリアーの上記列の断続的な離間配置に従うサイズによって粒子を分離するように作用する、請求項２１記載の分類装置。
２３．上記電極が
光感受性電極
２４．上記
インピーダンスプロファイルが予め決定された照光パターンによって創作
・・・
５７．電極と電解質溶液の間の界面で懸濁された
粒子の処理のための装置
　電極と電解質溶液；
　上記電極と電解質溶液の間の界面で電場を発生させるための
電場発生装置
　予め決定した光パターンと上記電極の電気化学的特性に従って上記
粒子の移動を制御するため予め決定した光パターンで上記表面を照光する照光源
とを備える装置。
５８．電極と電解質溶液の間の界面で
粒子の横方向の動電学的移動のための装置
　光感受性電極
電解質溶液
　上記電極と電解質溶液の間の界面で電場を発生させるための
電場発生装置
　上記電場の方向と実質的に直交する方向における上記照光パターンに従って上記粒子の移動を制御するため上記電極の電気化学特性における横方向の傾斜を形成するため
予め決定した光パターンで上記電極を照光する照光源
とを備える装置。
・・・
６０．電極と電解質との間の界面で
粒子のアレイを力学的に集合させ或いは崩壊させるための装置
　
電極
電解質溶液
　上記
電解質溶液中に配された多数の粒子
　上記電極は電気化学的特性を修正した少なくとも１つのエリアを含むようにパターン化される；
　
予め決定した光パターンで上記電極を照光する照光源
　予め決定した光パターンと上記電極の電気化学的特性に従って粒子のアレイの集合をもたらすために上記界面で電場を発生させる
電場発生装置
　上記粒子のアレイの崩壊をもたらすために上記電場を除去する電場除去ユニット、
を備える装置。」（第５０頁〜第６４頁、請求項２１、２３、２４、５７、５８、６０）
（1b）「
電気化学セル
底上のSi/SiOx電極
頂部側のＩＴＯ電極
典型的には５０ミクロン以下のギャップにより分離して形成される
コロイド状ビーズの懸濁液とともに毛管作用によって充填する
　基本的な１つの末端処理は、表面上の任意のアウトラインの指示した
エリア中の粒子
Si/SiOx基板表面の他方の上に投射される照光のパターンの一致によって描写されるアレイを形成
　「捕捉-及び-保持」処理は可視の又は赤外光での照光、例えば
Si/SiOx電極上の望ましいレイアウトを持ったパターン化したマスクへの単純な投射
（1c）「光-介在の２つのモード、活性な移動は：
　ｉ）ここに記載されたように、表面の照光されたエリア内に集合した粒子を支持するために調整パラメーターによって輸送するアレイの及びそれらのオーバーオール形状の描写の方法である直接トランスロケーション(「トラクタービーム」)。アレイはシンプルに強制されたパターンに従う。その移動率は流体中の粒子の移動性によって且つ粒子直径と流体粘度に基づいて制限される。
　ii）横方向のアレイ圧縮は、可撓管を通して流体の蠕動的ポンピングに関するビーズ移動メカニズムである。本発明の光-制御成分は、この非常に一般的な概念の単純な実行のために使用して良い。
ビーズの多-成分平面集合は
単純な光によって、直交するチャンネルに閉じ込められる
横方向のチャンネル方向に調合した照光パターンが起動され、且つ次いで該チャンネルに沿う一方向において移動する横方向圧縮波(transverse constriction wave)を生産するように時間的に変更される
サンプル上の圧縮マスク投影、及び望ましい形式において投影されたマスクパターンの移動
光源の好適なアレイの照光パターンの制御化によって電気的に実行して良く、かくして光学列中の可動パーツの必要性を排除する
　照光の変更又はパターン移動による横方向のビーズの移動の制御は、予め表したＵＶパターン化によってインピーダンスの強制的傾斜の必要性を除き、要求に応じ、いつでも及びどこでも(与えられた基質表面上で)適用することができるという効果を有する。一方、予め表されたインピーダンスパターンは、光-制御に結合された補足的な能力を提供できる。例えば、それは可動性の基礎となるビーズを分離するために基板-埋め込みしたインピーダンス傾斜に対してビーズを移動させるために望ましい。」（第１４頁２２行目〜第１５頁１１行目、対応公表公報の第３４頁４行目〜第３５頁２行目）
（1d）「単純な
「サンドイッチ」電気化学的セル
薄いガラス基質上に沈着されたSi/SiOx及び伝導性インジウムスズ酸化物(ITO)の間の空間
作用発電機によってAC場が生み出され
反射位相干渉対照顕微鏡が、レーザー照射を用いた。EISインピーダンスにおける光誘導性調節はまた、単一の100W顕微鏡イルミネーターを用いて、同様に650-680nmでの3mWレーザージオール放射光を用いて形成された
　 NaN2に貯蔵された、数百オングストロームから20ミクロンの範囲の直径を持つ、アニオン性及びカチオン性、同様に名目上は中性のコロイド状ビーズを用いた。
　粒子間及び粒子と電極表面の間の非特異的相互作用を避けるためのコロイド状の安定性に対して、深い注意が払われた。コロイド状懸濁液の細菌の混入は、綿密に避けられた。
　もし他に指示がなければ、ここに記載される結果のほとんどで用いられた典型的な実施条件は以下のものであった：電極に沈着された場合完全な粒子の単層を形成するのみであるような濃度で粒子を含む、0.2mM NaN2（アジ化ナトリウム）；50ミクロンの電極ギャップを持つ、1-4Vの範囲の適用DC電位、及び1-10V（ピークからピーク）及び500Hz-10kHzの範囲のAC電位；2ミクロンの直径のアニオン性（カルボキシル化ポリスチレン）ビーズ、同様に2-20ミクロンの直径の（通常の中性の）ポリスチレンビーズ。」（第１７頁３２行目〜第１８頁２３行目、対応公表公報の第３８頁２行目〜２５行目）
（1e）「ＩＩ−シリコン酸化物電極表面のパターン化
　電極はここでの重要なＥＩＳ(電解質-インシュレータ-半導体)構造の電気的インピーダンスの疑似-永続的な修正を促進するように予め決定したデザインに従いパターン化される。ＥＩＳインピーダンスの空間的な修正により、電極-パターン化は電極の近くにおけるイオンの流れを決定する。
適用される電場の周波数に基づいて、ビーズは高いイオンの流れの領域を求め又は回避するいずれか一方となる。空間的なパターン化はそれ故にビーズのアレイの配置と形状を越えて明らかな外部からの制御を伝える
　パターン化は主要な手段において達成され得るが、２つの手順が特に好適に推奨される。第１に、シリコン表面上に適切に調製される薄い酸化物層のＵＶ-介在再成長がホトリソグラフィックレジストを避けるパターン化とエッチングする通常の方法論である。特に、その酸化物その厚さは露出時間に基づいており、且つＵＶ照光(UV illumination)パス内にパターン化したマスクを配置することによって空間的に調節されて良い。ほぼ１０オングストロームの局部的変化を持つ、この厚さにおける調節は、電解質溶液にさらされた先端表面の平滑性及び化学的均質性に至る一方で、Si/SiOx界面のインピーダンスの空間的な調節に転移される。第２には、電極表面の電荷拡散における空間的な調節は、好適な化学種のＵＶ-介在光化学的酸化によって作製して良く、すなわちＳｉＯｘ表面上の単一層被膜として最初に堆積される。この方法は、電極二重層の局所的特質を越えた及び動電学的な流れを越えて細かい制御を許容する。
　この光化学的調節の変化はＥＩＳインピーダンスにおける且つ故に適用される電場に対応して発生する流れにおける横方向の傾斜の創作である。例えば、これは酸化物厚みにおける又は表面電荷密度における緩やかな横方向の変化を誘導するためにＵＶ露出を制御することによって現に達成される。以下に述べる通り、横方向の傾斜を越えた制御は、横方向のビーズの移動を誘導するため及びSi／SiOx界面において包埋されるインピーダンス特性の形成において溝に沿って予め決定した方向へのビーズの捕捉又は伝達のような基本的な操作の実行を容易にするために役立つ。機能付加された化学的被覆層(chemical overlayers)の光化学的なパターン化はまた、ＩＴＯを含む電極表面の別のタイプにも適用される。」（第４頁６行目〜第５頁４行目、対応公表公報の第２２頁最終行〜第２３頁最終行）
（1f）「 ＥＩＳインピーダンスの光誘導調節の適切な周波数依存性をより詳細に理解するために、ＥＩＳ構造を表す等価回路の２つの態様が注目される。第１に、電解質-酸化物間の界面で電気二重層の及び半導体と隔離材との間の界面で減少層の詳細な電気的特徴の密接な類似性がある。二重層のように、その減少層は電圧-依存キャパシタンスを持つキャパシターに類似した電気的特徴を示す。論じられるように、
照光(illumination)は減少層のインピーダンスを低くする役割を果たす
照光はＥＩＳ構造のインピーダンスを効果的に低下できる
（1g）図面として、Ｆｉｇ．２ａ〜Ｆｉｇ．２ｄ、Ｆｉｇ．３ｃ、Ｆｉｇ．３ｄ、Ｆｉｇ．４ａ、Ｆｉｇ．４ｂ、Ｆｉｇ．５、Ｆｉｇ．７には、形成されたパターンの写真が示されている。
　
（刊行物２：特開平１１−５２５４１号公報の記載事項）
（2a）「【請求項１】電子化された画像情報を表示させる
液晶空間光変調器をホトマスクやレチクルとして用いる
（2b）「【００１０】
【発明の実施の形態】以下図面を用いて、本発明を説明する。図１は本発明の一実施例を示す構成図である。図において、
ＣＡＤは電子化された画像情報を用いてマスクパターンを設計する、設計用コンピュータである
ＣＡＤで設計されたマスクパターンを表示するもので、露光マスクとして作用する
（2c）「【００１５】
【発明の効果】以上説明したように、請求項１記載の本発明によれば、電子化された画像情報を表示させる液晶空間光変調器をホトマスクやレチクルとして用いている。これによれば、マスクパターンを液晶空間光変調器に表示させているので、
任意のマスクパターンを画像情報として随時に表示させることができる
マスクパターンが
画像情報として保存できる
　
（刊行物３：特開平４−３２３６５３号公報の記載事項）
（3a）「【請求項１】ガラスマスクと、前記ガラスマスク上に多数の
セルをマトリックス状に平面的に配設した液晶と、前記液晶の任意のセルを透過性または反射性とする液晶制御系とを備えることを特徴とする露光用マスクパターン
（3b）「【００１２】図１の露光用マスクパターン６は、ガラスマスク上に多数のセルをマトリックス状に平面的に配設した液晶１を有している。この
液晶１は、小型コンピュータ２によって制御され、液晶制御系７を介してその任意のセルを透光性または反射性とする
指定された形状の透光性または反射性のパターンを形成
（3c）「【００１４】図２の露光装置は、図１のように構成した露光用マスクパターン６と、この
露光用マスクパターン６を搭載して制御する制御系３
小型コンピュータ２によって液晶制御系７を介して露光用マスクパターン６の液晶の任意のセルを透光性または反射性とすることにより、指定された形状の透光性または反射性のパターンを形成
　
（刊行物４：特開平１１−１１９４３９号公報の記載事項）
（4a）「【請求項１】露光用の光源と、該光源からの光を所定の
露光パターンに形成する液晶パネル型マスク
（4b）「【００１７】・・・
液晶パネル型マスク６は予め制御装置７及び駆動電源８によって露光用マスクパターンが作成されている
　
（刊行物５：特開平５−２００５７０号公報の記載事項）
（5a）「【請求項１】任意のパターンを表示した
液晶マスク
（5b）「【０００２】
【従来の技術】・・・
液晶マスク１０３へのマスクパターン１１０の表示は、コン
（5c）「【００１１】・・・マスクパターン８を構成するサブパターン９ａ，９ｂ，９ｃの
位置に関する情報とパターン（形状）に関する情報の全てが記憶部３に記憶
【００１２】・・・
パターン情報を呼び出し、液晶マスク制御部２０により液晶マスク７に表示
　
３　対比・判断
　刊行物１の上記記載事項（上記(1a)〜(1g)）からみて、刊行物１には、
「照光によりインピーダンスの低下を示す、実質的に平面のSi/SiOx電極であって、この電極は、実質的に平面のＩＴＯ電極と実質的に平行に配置されていて、これらの電極は、ギャップによって分離されていて、このギャップは、これらの電極と接触していてかつ懸濁されたコロイド状粒子を含む電解液を含んでいる、実質的に平面のSi/SiOx電極；
　Si/SiOx電極の表面を照光することが可能な照光源であって、それによって、電極に対するAC電圧の印加に応じて、表面の照光された範囲における電界が、表面の照光されていない範囲における電界より大きくなり、その照光パターンは、前記コロイド状粒子の集合および横方向の動きを制御するように、Si/SiOx電極上に投影され、前記集合および横方向の動きは、前記電極間に印加したAC電圧によって誘導される、照光源；
　予め決められた照光パターンを形成するマスク；
　Si/SiOx電極上にマスクのイメージを投影するための顕微鏡イルミネータ；
　電極上の粒子の状態を観察し写真に記録するシステム；
を含む、コロイド粒子を移動させたり集合させたりして粒子を操作する装置」の発明（以下、「刊行物１発明」という。）が記載されていると認められる。
　
　そこで、本願発明と刊行物１発明とを比較する。
（ア）刊行物１発明の「照光」、「照光源」、「実質的に平面のSi/SiOx電極」、「実質的に平面のＩＴＯ電極」、「集合」、「顕微鏡イルミネーター」は、本願発明の「照射」、「照射供給源」、「第１の実質的に平面の電極」「第２の実質的に平面の電極」、「アセンブリー」、「投影システム」にそれぞれ相当する。
（イ）刊行物１発明の「照光によりインピーダンスの低下を示す、実質的に平面のSi/SiOx電極」は、電極の照光された範囲またはその表面においてインピーダンスの低下を示すことは明らかである。
（ウ）刊行物１発明の「照明パターン」はマスクにより形成されるものであり、明領域および暗領域の配置を有することは明らかである。
（エ）刊行物１発明の「電極上の粒子の状態を観察し写真に記録するシステム」と本願発明の「照射パターンが重ね合わされた前記電極を観察かつ記録することが可能なイメージングシステム」とは、照射パターンが重ね合わされた電極を観察かつ記録することが可能なシステムである点で共通している。
　したがって、両者の間には以下のような一致点及び相違点がある。
　
（一致点）
　照射された範囲またはその表面においてインピーダンスの低下を示す、第１の実質的に平面の電極であって、この電極は、第２の実質的に平面の電極と実質的に平行に配置されていて、これらの電極は、ギャップによって分離されていて、このギャップは、これらの電極と接触していてかつ懸濁されたコロイド状粒子を含む電解液を含んでいる、第１の実質的に平面の電極；
　電極の表面を選択的に照射することが可能な照射供給源であって、それによって、電極に対するAC電圧の印加に応じて、表面の照射された範囲における電界が、表面の照射されていない範囲における電界より大きくなり、その照射パターンは、前記コロイド状粒子のアセンブリーおよび横方向の動きを制御するように、前記第１の電極上に投影され、前記アセンブリーおよび横方向の動きは、前記電極間に印加したAC電圧によって誘導される、照射供給源；
　予め決められた明領域および暗領域の配置を有する照射パターンを形成するマスク；
　電極上にマスクのイメージを投影するのに適した投影システム；
　照射パターンが重ね合わされた電極を観察かつ記録することが可能なシステム；
を含む装置である点。
　
（相違点１）
　本願発明は、電極上に重ね合わされる照射パターンをプログラム可能に生成する装置であって、マスクが、画素のアレイからなる再配置可能なマスクであって、前記画素は、コンピューターで制御される回路およびコンピューターインターフェイスによって能動的に制御可能かつ直接にアドレスで呼び出し可能であり、前記コンピューターで制御される回路は、照射パターンを形成するように、前記画素から発散される照射の強度の時間的な制御を提供するソフトウェアープログラムを使用して操作される、再配置可能なマスクであるのに対して、刊行物１発明は、コロイド粒子を移動させたり集合させたりして粒子を操作する装置であって、マスクが、コンピューターで制御される再配置可能なものでない点。
　
（相違点２）
　照射パターンが重ね合わされた前記電極を観察かつ記録することが可能なシステムが、本願発明では、イメージングシステムであるのに対して、刊行物１発明は、写真に記録するシステムである点。
　
　そこで、上記各相違点について検討するが、相違点１及び２は、相互に関連しているため、まとめて検討する。
　刊行物１発明は、マスクを用いて光照射することにより、コロイド粒子を移動させたり集合させたりして粒子を操作する装置ではあるが、その結果として、図面（上記(1g)）に示された写真には、コロイド粒子のパターンが形成されており、刊行物１発明をパターン形成装置とすることに格別の困難性があるとはいえいない。
　また、刊行物１には、照射パターンの形成を、マスクへの単純な照射によるだけでなく、照射パターンを時間的に変更すること、マスクパターンを移動することにより行うことが記載されており（上記(1c)）、パターンの移動により、電極上の光照射される部分を変更することも示唆されており、これにより、照射パターンが連続的に変更されることになるといえる。
　一方、刊行物２ないし５にも記載されるように、液晶パネルをコンピューターで制御してパターンを可変に形成して露光用のマスクとすること、さらに、液晶パネルを制御して、静的パターンだけでなく動的パターンの光を投影することは、例えば、特開平５−１８１１１０号公報（【０００１】【００２９】、【００３５】、【図１】）、特開平９−１１３９９３号公報（【００１３】、【図１】）にも記載されるように、本願優先日前の周知技術であり、コンピューターで制御するにあたり、ソフトウェアープログラムを使用して操作することも周知慣用技術である。そして、本願発明のマスクは、本願明細書段落【００２８】、【０１５８】に、液晶ディスプレーで構成されることが記載されている。
　上記のとおり、刊行物１には、マスクを移動して照射パターンを連続的に変更させることが示唆されているところ、照射パターンの連続的な変更、つまり動的パターンの形成を液晶パネルの制御により行うことは、上記のとおり周知技術であるから、刊行物１発明において、照射パターンの形成のためにマスクを移動することに代えて、コンピューターで照射パターンを動的に制御可能な液晶パネルでマスクを構成することは、当業者が容易に想到しえたものといえ、その際に、写真に記録するシステムに代えて、動的なイメージングが可能なイメージングシステムを採用することは、当業者が当然に行う設計変更である。
　以上のことから、刊行物１発明を、画素のアレイからなる再配置可能なマスクであって、前記画素は、コンピューターで制御される回路およびコンピューターインターフェイスによって能動的に制御可能かつ直接にアドレスで呼び出し可能であり、前記コンピューターで制御される回路は、照射パターンを形成するように、前記画素から発散される照射の強度の時間的な制御を提供するソフトウェアープログラムを使用して操作される、再配置可能なマスクと、照射パターンが重ね合わされた電極を観察かつ記録することが可能なイメージングシステムを備えた、粒子によるパターンの形成装置とすることは、当業者が容易になし得たものといえる。
　
（本願発明の効果について）
　本願発明の効果は、刊行物１の記載事項及び周知技術から予測しうるものである。
　
（請求人の主張について）
　審判請求人は、意見書で、マスクをリアルタイムで制御して、粒子を操作する装置をフィードバック制御を可能にすることを主張するが、上記のとおり、液晶パネルで動的パターンの光を投影することは周知技術であるから、マスクをリアルタイム制御することに格別の困難性はない。そして、本願明細書にはフィードバック制御について明記されていないが、得られた結果に基づいて、リアルタイムにフィードバック制御することは、広く行われている常套手段であり、フィードバック制御を可能にするという効果が格別のものであるとはいえない。
　
４　むすび
　以上のとおり、本願発明は、刊行物１に記載された発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、その他の請求項に係る発明についての判断を示すまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。