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【手続補正書】
【提出日】平成24年3月15日(2012.3.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録材に画像を形成するための機能を制御する第１層制御部と、
前記第１層制御部により制御され、前記機能を実現するための負荷を制御する複数の第２層制御部と、を備え、
前記第２層制御部は、
前記負荷を制御していない場合に、前記負荷を制御している他の第２層制御部の動作を監視してエラー診断を行う監視部を備えることを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
前記監視部は、
前記他の第２層制御部の動作を監視するため、該他の第２層制御部が、前記第１層制御部との間で送受信されるコマンドと、前記複数の第２層制御部のうちの該他の第２層制御部以外の制御部との間で送受信されるコマンドと、前記負荷との間で送受信されるコマンドとを監視することを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記第２層制御部は、
前記他の第２層制御部が、前記第１層制御部とコマンドを送受信する信号線と、前記複数の第２層制御部のうちの該他の第２層制御部以外の制御部とコマンドを送受信する信号線と、前記負荷とコマンドを送受信する信号線とに対して、該コマンドを監視するための信号線を介して接続されていることを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記第２層制御部は、
前記監視部によって検知されたエラー内容及びエラー箇所を含むエラー情報を上位の前記第１層制御部に通知し、
前記第１層制御部は、
前記第２層制御部から通知された前記エラー情報をユーザに報知することを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載の画像形成装置。
【請求項５】
前記複数の第２層制御部は、前記負荷としての複数の給紙カセットをそれぞれ制御し、
前記画像形成装置において画像形成を実行する際に、給紙を行なわない給紙カセットを制御する第２層制御部が、給紙を行う給紙カセットを制御する第２層制御部の動作を監視することを特徴とする請求項１乃至４の何れか１項に記載の画像形成装置。
【請求項６】
前記第２層制御部は、
前記負荷を制御している場合には、前記監視部による前記他の第２層制御部の動作を監視してエラー診断を行うことを禁止することを特徴とする請求項１乃至５の何れか１項に記載の画像形成装置。
【請求項７】
記録材に画像を形成する画像形成装置を制御するマスタ制御部と、
前記マスタ制御部により制御され、画像形成を実行するための機能を制御するサブマスタ制御部と、
前記サブマスタ制御部により制御され、前記機能を実現するための負荷を制御するスレーブ制御部とを備え、
前記スレーブ制御部は、
前記負荷を制御していない場合に、前記サブマスタ制御部の動作を監視してエラー診断を行う監視部を備えることを特徴とする画像形成装置。
【請求項８】
記録材に画像を形成するための機能を制御する第１層制御部と、
前記第１層制御部により制御され、前記機能を実現するための負荷を制御する第１及び第２の第２層制御部とを備え、
前記第１の第２層制御部は、
前記負荷を制御していない場合に、前記負荷を制御している前記第２の第２層制御部の動作を監視してエラー診断を行う監視部を備えることを特徴とする画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明は、例えば、画像形成装置として実現できる。画像形成装置は、記録材に画像を形成するための機能を制御する第１層制御部と、前記第１層制御部により制御され、前記機能を実現するための負荷を制御する複数の第２層制御部と、を備え、前記第２層制御部は、前記負荷を制御していない場合に、前記負荷を制御している他の第２層制御部の動作を監視してエラー診断を行う監視部を備えることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成24年3月16日(2012.3.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
認証機能を有する複数の情報処理装置が連携して実行される連携ジョブを実行する情報処理システムであって、
連携元の情報処理装置が、
連携ジョブを実行するため連携先の情報処理装置に認証させるための認証情報を入力する入力手段と、
前記入力手段で入力された認証情報を前記連携先の情報処理装置に送信する送信手段とを有し、
前記連携先の情報処理装置が、
前記送信手段で送信された認証情報に基づき、前記連携元の情報処理装置の認証を行う認証手段と、
前記認証手段による認証の結果を前記連携元の情報処理装置に通知する通知手段とを有し、
前記連携元の情報処理装置は、前記通知手段により認証が成功した旨の結果を通知されたことに従って、前記連携ジョブのための処理を実行することを特徴とする情報処理システム。
【請求項２】
前記連携元の情報処理装置は更に、前記通知手段により認証が成功した旨の結果を通知された場合、前記入力手段で入力した認証情報に基づきアカウント情報を生成する生成手段と、
前記生成手段により生成されたアカウント情報を用いて前記連携ジョブの管理を行う管理手段とを有することを特徴とする請求項１に記載の情報処理システム。
【請求項３】
前記管理手段は、前記連携ジョブの履歴を管理し、
前記連携元の情報処理装置は、
前記生成手段によって生成されたアカウント情報を削除する削除手段を更に有し、
前記削除手段は、前記管理手段で管理している前記連携ジョブの履歴が消去された場合に当該連携ジョブの履歴に係るアカウント情報を削除することを特徴とする請求項２に記載の情報処理システム。
【請求項４】
前記連携元の情報処理装置及び前記連携先の情報処理装置が、
アカウント情報に対する自装置の使用に関する権限を管理する権限管理手段を有し、
前記連携先の情報処理装置は、
前記権限管理手段で管理している前記認証手段によって認証された認証情報の権限を示す権限情報を、前記連携元の情報処理装置に送信する手段を更に有し、
前記連携元の情報処理装置は、
前記権限管理手段により、前記連携先の情報処理装置が送信した前記権限情報に従って前記生成手段により生成されたアカウント情報に対する自装置の使用に関する権限を管理することを特徴とする請求項２又は３に記載の情報処理システム。
【請求項５】
前記連携元の情報処理装置は、
前記連携ジョブが終了した場合、前記権限管理手段により、前記生成手段によって生成されたアカウント情報に対する権限情報を編集することを特徴とする請求項４に記載の情報処理システム。
【請求項６】
前記連携先の情報処理装置が、
前記連携元の情報処理装置がユーザアカウントの生成が可能な装置であるか否かを判定する判定手段を更に有し、
前記生成手段は、前記判定手段により前記連携元の情報処理装置がユーザアカウントの生成が可能な装置であると判定された場合に、前記認証情報に基づくアカウント情報を生成することを特徴とする請求項２乃至５の何れか１項に記載の情報処理システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】情報処理システム
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、認証機能を有する複数の情報処理装置が連携して実行される連携ジョブを実行する情報処理システムに関するものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明は、認証機能を有する複数の情報処理装置が連携して実行される連携ジョブを実行する情報処理システムであって、連携元の情報処理装置が、連携ジョブを実行するため連携先の情報処理装置に認証させるための認証情報を入力する入力手段と、前記入力手段で入力された認証情報を前記連携先の情報処理装置に送信する送信手段とを有し、前記連携先の情報処理装置が、前記送信手段で送信された認証情報に基づき、前記連携元の情報処理装置の認証を行う認証手段と、前記認証手段による認証の結果を前記連携元の情報処理装置に通知する通知手段とを有し、前記連携元の情報処理装置は、前記通知手段により認証が成功した旨の結果を通知されたことに従って、前記連携ジョブのための処理を実行することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成24年3月15日(2012.3.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のステップで構成されるワークフローを実行するための情報処理装置であって、
複数のステップで構成されるワークフローを登録するフロー登録手段と、
前記ワークフローに含まれる各ステップについて、ステップの実行を開始する条件を示す開始パラメータ及びステップの終了時に生成される終了パラメータとを管理するフロー管理手段と、
先に実行するステップの次に実行すべきステップを、前記フロー管理手段によって管理されている、前記先に実行するステップの終了パラメータと、前記複数のステップの開始パラメータとに基づいて決定するパラメータ決定手段と、
を有することを特徴とする情報処理装置。
【請求項２】
前記フロー登録手段は、ワークフローにユニークな識別子を付して登録することを特徴とする請求項１に記載の情報処理装置。
【請求項３】
前記フロー管理手段は、ワークフローの識別子、ワークフローの種類、ワークフローに含まれる複数のステップの実行順序、各ステップで提供する機能を示す情報を含むフロー情報管理テーブルを管理することを特徴とする請求項２に記載の情報処理装置。
【請求項４】
前記ワークフローの種類として、メインフローと前記メインフローに従属するサブフローとを含むことを特徴とする請求項３に記載の情報処理装置。
【請求項５】
前記フロー管理手段は、ワークフローの識別子、ワークフローに含まれる複数のステップの実行順序、開始パラメータ、終了パラメータを含むパラメータ情報管理テーブルを有することを特徴とする請求項２に記載の情報処理装置。
【請求項６】
前記フロー管理手段は、サブグループの識別子、サブグループ名、開始パラメータ、ワークフローの識別子をテーブル化したパラメータサブグループ情報管理テーブルを有することを特徴とする請求項２に記載の情報処理装置。
【請求項７】
複数のステップで構成されるワークフローを実行するための情報処理装置の制御方法であって、
複数のステップで構成されるワークフローを登録するフロー登録工程と、
前記ワークフローに含まれる各ステップについて、ステップの実行を開始する条件を示す開始パラメータ及びステップの終了時に生成される終了パラメータとを管理するフロー管理工程と、
先に実行するステップの次に実行すべきステップを、前記フロー管理工程にて管理されている、前記先に実行するステップの終了パラメータと、前記複数のステップの開始パラメータとに基づいて決定するパラメータ決定工程と、
を有することを特徴とする情報処理装置の制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
図７は、図６に示すワークフローの変更例を示す図である。図７と図６との相違点は、図７のサブフロー８００２（ＩＤ＝２−１）では、図６のサブフロー７００２の〔ステップ３〕アドレス帳選択が省略されている。また図７のサブフロー８００３（ＩＤ＝３−１）では、図６のサブフロー７００３の〔ステップ１〕FROMアドレス指定が省略されている。このような変更を行う際、ワークフローの管理者或いは作成者は、図７に示すようなメインフロー８００１、サブフロー８００２及びサブフロー８００３からなるワークフローを作成した後、そのワークフローを複合機に提供する。このようにワークフローの管理者或いは作成者は、ワークフローの変更に際して、多数のワークフローの作成、編集及び管理をしなければならず、その作業負担は膨大なものとなっていた。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
上記目的を達成するために本発明の一態様に係る情報処理装置は以下のような構成を備える。即ち、
複数のステップで構成されるワークフローを実行するための情報処理装置であって、
複数のステップで構成されるワークフローを登録するフロー登録手段と、
前記ワークフローに含まれる各ステップについて、ステップの実行を開始する条件を示す開始パラメータ及びステップの終了時に生成される終了パラメータとを管理するフロー管理手段と、
先に実行するステップの次に実行すべきステップを、前記フロー管理手段によって管理されている、前記先に実行するステップの終了パラメータと、前記複数のステップの開始パラメータとに基づいて決定するパラメータ決定手段と、
を有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成24年3月8日(2012.3.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の目的を達成するために、例えば、本発明の画像処理装置は以下の構成を備える。即ち、画像データを取得する手段と、前記画像データが示す画像を複数の画素ブロックに分割する手段と、複数チャネルを含む音声データを取得する手段と、前記音声データを用いて音源の位置を求め、該求めた音源の位置と、前記画像中における前記複数の画素ブロックのそれぞれの位置と、を用いて、前記音源と前記複数の画素ブロックのそれぞれとの間の距離を求める手段と、前記複数の画素ブロックのそれぞれに対し、該画素ブロックについて求めた距離に応じた重要度を示す重要度情報を割り当てる割り当て手段と、前記複数の画素ブロックのそれぞれを圧縮する際、より高い重要度を示す重要度情報が割り当てられた画素ブロックは、より高い画質で復号されるように圧縮し、より低い重要度を示す重要度情報が割り当てられた画素ブロックは、より低い画質で復号されるように圧縮する手段と、圧縮されたそれぞれの画素ブロックと、前記音声データと、を出力する出力手段とを備えることを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像データを取得する手段と、
前記画像データが示す画像を複数の画素ブロックに分割する手段と、
複数チャネルを含む音声データを取得する手段と、
前記音声データを用いて音源の位置を求め、該求めた音源の位置と、前記画像中における前記複数の画素ブロックのそれぞれの位置と、を用いて、前記音源と前記複数の画素ブロックのそれぞれとの間の距離を求める手段と、
前記複数の画素ブロックのそれぞれに対し、該画素ブロックについて求めた距離に応じた重要度を示す重要度情報を割り当てる割り当て手段と、
前記複数の画素ブロックのそれぞれを圧縮する際、より高い重要度を示す重要度情報が割り当てられた画素ブロックは、より高い画質で復号されるように圧縮し、より低い重要度を示す重要度情報が割り当てられた画素ブロックは、より低い画質で復号されるように圧縮する手段と、
圧縮されたそれぞれの画素ブロックと、前記音声データと、を出力する出力手段と
を備えることを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記割り当て手段は、前記複数の画素ブロックのそれぞれに対し、該画素ブロックについて求めた距離の大小に応じた重要度を示す重要度情報を割り当てることを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記割り当て手段は、
前記複数の画素ブロックのそれぞれに対し、該画素ブロックに対する前記音源からの音量を示す音量情報を、該画素ブロックについて求めた距離を用いて求める計算手段と、
前記複数の画素ブロックのそれぞれに対し、該画素ブロックについて求めた音量情報が示す音量の大小に応じた重要度を示す重要度情報を割り当てる手段と
を備えることを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記計算手段は、前記音源との距離がより小さい画素ブロックに対してはより大きい音量を示す音量情報を求めることを特徴とする請求項３に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記出力手段は、前記音声データを圧縮してから出力することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項６】
前記出力手段は、圧縮されたそれぞれの画素ブロックを、対応する重要度情報が示す重要度が高い順に並び替え、並び替えた画素ブロックの集合と、前記音声データと、を含むストリームを出力することを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項７】
画像処理装置が行う画像処理方法であって、
前記画像処理装置の画像データ取得手段が、画像データを取得する工程と、
前記画像処理装置の分割手段が、前記画像データが示す画像を複数の画素ブロックに分割する工程と、
前記画像処理装置の音声データ取得手段が、複数チャネルを含む音声データを取得する工程と、
前記画像処理装置の計算手段が、前記音声データを用いて音源の位置を求め、該求めた音源の位置と、前記画像中における前記複数の画素ブロックのそれぞれの位置と、を用いて、前記音源と前記複数の画素ブロックのそれぞれとの間の距離を求める工程と、
前記画像処理装置の割り当て手段が、前記複数の画素ブロックのそれぞれに対し、該画素ブロックについて求めた距離に応じた重要度を示す重要度情報を割り当てる割り当て工程と、
前記画像処理装置の圧縮手段が、前記複数の画素ブロックのそれぞれを圧縮する際、より高い重要度を示す重要度情報が割り当てられた画素ブロックは、より高い画質で復号されるように圧縮し、より低い重要度を示す重要度情報が割り当てられた画素ブロックは、より低い画質で復号されるように圧縮する工程と、
前記画像処理装置の出力手段が、圧縮されたそれぞれの画素ブロックと、前記音声データと、を出力する出力工程と
を備えることを特徴とする画像処理方法。
【請求項８】
コンピュータを、請求項１乃至６の何れか１項に記載の画像処理装置が有する各手段として機能させるためのコンピュータプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成24年2月13日(2012.2.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アナログ入力信号をＡ／Ｄ変換してサブデジタルコードを出力するＡ／Ｄ変換ユニットと、
該サブデジタルコードをＤ／Ａ変換するＤ／Ａ変換ユニットと、
該Ｄ／Ａ変換ユニットの出力からテスト信号を減算する第１の減算器と、
該第１の減算器の出力と該アナログ入力信号とを加算する第２の減算器と、
該第２の減算器の出力を増幅してアナログ余剰信号を出力する第１の増幅器からなるサブＡ／Ｄ変換器を複数有し、
前記複数のサブＡ／Ｄ変換器を縦列接続して構成され、各々の該サブＡ／Ｄ変換器により、該アナログ入力信号を、所定ビット精度のデジタルコードに、該デジタルコードの最上位ビット側から段階的に順次Ａ／Ｄ変換するＡ／Ｄ変換回路本体と、
前記複数のサブＡ／Ｄ変換器のうち、誤差補正対象のサブＡ／Ｄ変換器におけるＡ／Ｄ変換の誤差補正を行う変換誤差補正回路とを備え、
前記変換誤差補正回路は、該テスト信号を減算したサブデジタルコードと、誤差の成分を含む該アナログ余剰信号を入力した後段のサブＡ／Ｄ変換器のサブデジタルコードとを加算してデジタルコードを生成する演算回路と、
前記演算回路の出力と前記テスト信号とを乗算する乗算器と、
前記乗算器の出力を長時間平均して、前記誤差補正対象のサブＡ／Ｄ変換器におけるＡ／Ｄ変換の誤差推定値を算出する長時間平均回路と、
前記長時間平均回路の出力を用いて、前記演算回路から出力されるデジタルコードに含まれる前記テスト信号を減算したサブデジタルコードを補正する補正回路とを有することを特徴とするパイプライン型Ａ／Ｄ変換回路。
【請求項２】
さらに、前記アナログ入力信号から特定の周波数帯域の成分を除去するフィルタを備え、前記テスト信号は前記特定の周波数帯域の信号であることを特徴とする請求項１に記載のパイプライン型Ａ／Ｄ変換回路。
【請求項３】
前記補正回路は、前記テスト信号を減算したサブデジタルコードを増幅する第２の増幅器のゲインの変化を調整することを特徴とする請求項１または２に記載のパイプライン型Ａ／Ｄ変換回路。
【請求項４】
前記テスト信号は、前記演算回路に入力される第１のテスト信号と、前記乗算器に入力される第２のテスト信号とを含み、
前記第１および第２のテスト信号は、同一周波数、同一位相の信号であり、前記第１のテスト信号は方形波であり、前記第２のテスト信号はサイン波であることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載のパイプライン型Ａ／Ｄ変換回路。
【請求項５】
前記補正回路は、前記Ａ／Ｄ変換の誤差の成分と前記増幅器のゲインの変化を調整する係数と乗算する第２の乗算器と、該第２の乗算器の出力を累積加算する累積加算器とを備え、
該累積加算器の出力によって、前記第２の増幅器の増幅率を制御することを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載のパイプライン型Ａ／Ｄ変換回路。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
Ａ／Ｄ変換回路本体１２２は、初段のサブＡ／Ｄ変換器１２６と、２段目〜最終段のサブＡ／Ｄ変換器を纏めて表した後段のサブＡ／Ｄ変換器１２８と、に分けて示してある。つまり、パイプライン型Ａ／Ｄ変換回路１２０では、後段のサブＡ／Ｄ変換器１２８の誤差補正は完了していること（誤差補正をする必要がないものを含む）を前提として、変換誤差補正回路１２４により、初段のサブＡ／Ｄ変換器１２６の変換誤差をバックグラウンドで補正するものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
上記目的を達成するために、本発明は、アナログ入力信号をＡ／Ｄ変換してサブデジタルコードを出力するＡ／Ｄ変換ユニットと、
該サブデジタルコードをＤ／Ａ変換するＤ／Ａ変換ユニットと、
該Ｄ／Ａ変換ユニットの出力からテスト信号を減算する第１の減算器と、
該第１の減算器の出力と該アナログ入力信号とを加算する第２の減算器と、
該第２の減算器の出力を増幅してアナログ余剰信号を出力する第１の増幅器からなるサブＡ／Ｄ変換器を複数有し、
前記複数のサブＡ／Ｄ変換器を縦列接続して構成され、各々の該サブＡ／Ｄ変換器により、該アナログ入力信号を、所定ビット精度のデジタルコードに、該デジタルコードの最上位ビット側から段階的に順次Ａ／Ｄ変換するＡ／Ｄ変換回路本体と、
前記複数のサブＡ／Ｄ変換器のうち、誤差補正対象のサブＡ／Ｄ変換器におけるＡ／Ｄ変換の誤差補正を行う変換誤差補正回路とを備え、
前記変換誤差補正回路は、該テスト信号を減算したサブデジタルコードと、誤差の成分を含む該アナログ余剰信号を入力した後段のサブＡ／Ｄ変換器のサブデジタルコードとを加算してデジタルコードを生成する演算回路と、
前記演算回路の出力と前記テスト信号とを乗算する乗算器と、
前記乗算器の出力を長時間平均して、前記誤差補正対象のサブＡ／Ｄ変換器におけるＡ／Ｄ変換の誤差推定値を算出する長時間平均回路と、
前記長時間平均回路の出力を用いて、前記演算回路から出力されるデジタルコードに含まれる前記テスト信号を減算したサブデジタルコードを補正する補正回路とを有することを特徴とするパイプライン型Ａ／Ｄ変換回路を提供するものである。
さらに、前記アナログ入力信号から特定の周波数帯域の成分を除去するフィルタを備え、前記テスト信号は前記特定の周波数帯域の信号であることが好ましい。
また、前記補正回路は、前記テスト信号を減算したサブデジタルコードを増幅する第２の増幅器のゲインの変化を調整することが好ましい。
また、前記テスト信号は、前記演算回路に入力される第１のテスト信号と、前記乗算器に入力される第２のテスト信号とを含み、
前記第１および第２のテスト信号は、同一周波数、同一位相の信号であり、前記第１のテスト信号は方形波であり、前記第２のテスト信号はサイン波であることが好ましい。
また、前記補正回路は、前記Ａ／Ｄ変換の誤差の成分と前記増幅器のゲインの変化を調整する係数と乗算する第２の乗算器と、該第２の乗算器の出力を累積加算する累積加算器とを備え、
該累積加算器の出力によって、前記第２の増幅器の増幅率を制御することが好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成24年1月5日(2012.1.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
前記第１のワード線に平行な第２のワード線と、
側壁にゲート絶縁膜を介してゲート電極が形成され、かつ上端が記憶素子と電気的に接続される第７のシリコンピラーとをさらに備え、
前記第１及び第２のワード線は、前記第３、第４、及び第６のシリコンピラーを挟んで隣り合い、
前記第７のシリコンピラーは、前記第１及び第２のビット線の間に位置し、
前記第４及び第７のシリコンピラーは、前記第２のワード線を挟んで隣り合い、
前記第２のビット線は前記第２、第５、及び第７のシリコンピラーの下端と電気的接続し、
前記第２のワード線は前記第４及び第７のシリコンピラーの側壁にそれぞれ形成されたゲート電極と電気的に接続することを特徴とする請求項５に記載の半導体記憶装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１３】
前記第４の工程は、前記第１乃至第３の工程により形成された各シリコンピラーの側壁にサイドウォール絶縁膜を形成する工程を含み、前記サイドウォール絶縁膜の形成後に、前記ビット線配線領域をエッチングすることを特徴とする請求項１２に記載の半導体記憶装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年2月27日(2012.2.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
正極と、負極と、第１の絶縁体と、第２の絶縁体と、リチウムイオンを含む電解質と、を有し、
前記正極は、表面に凹凸構造を有し、
前記負極は、表面に凹凸構造を有し、
前記正極と前記負極とが対向して配置され、
前記第１の絶縁体は、前記正極の凸部と前記負極の凹部との間に設けられ、
前記第２の絶縁体は、前記負極の凸部と前記正極の凹部との間に設けられ、
前記正極と前記負極の間に前記電解質が設けられていることを特徴とする電気化学キャパシタ。
【請求項２】
請求項１において、
前記正極は、正極集電体及び正極活物質を有し、
前記負極は、負極集電体及び負極活物質を有していること特徴とする電気化学キャパシタ。
【請求項３】
正極集電体と、負極集電体と、正極活物質と、負極活物質と、第１の絶縁体と、第２の絶縁体と、リチウムイオンを含む電解質と、を有し、
前記正極集電体は、前記正極活物質と接しており、
前記負極集電体は、前記負極活物質と接しており、
前記正極活物質は、表面に凹凸構造を有し、
前記正極活物質は、表面に凹凸構造を有し、
前記正極集電体と前記負極集電体とが対向して配置され、
前記第１の絶縁体は、前記正極活物質の凸部と前記負極活物質の凹部との間に設けられ、
前記第２の絶縁体は、前記負極活物質の凸部と前記正極活物質の凹部との間に設けられ、
前記正極活物質と前記負極活物質の間に前記電解質が設けられていることを特徴とする電気化学キャパシタ。
【請求項４】
正極集電体と、負極集電体と、正極活物質と、負極活物質と、第１の絶縁体と、第２の絶縁体と、リチウムイオンを含む電解質と、を有し、
前記正極集電体上に前記第１の絶縁体が設けられ、
前記第１の絶縁体上に正極活物質が設けられ、
前記負極集電体上に前記第２の絶縁体が設けられ、
前記第２の絶縁体上に負極活物質が設けられ、
前記正極集電体は、表面に凹凸構造を有し、
前記負極集電体は、表面に凹凸構造を有し、
前記正極集電体と前記負極集電体とが対向して配置され、
前記第１の絶縁体は、前記正極集電体の凸部と前記負極集電体の凹部との間に設けられ、
前記第２の絶縁体は、前記負極集電体の凸部と前記正極集電体の凹部との間に設けられ、
前記正極活物質と前記負極活物質の間に前記電解質が設けられていることを特徴とする電気化学キャパシタ。
【請求項５】
正極集電体と、負極集電体と、正極活物質と、負極活物質と、第１の絶縁体と、第２の絶縁体と、リチウムイオンを含む電解質と、を有し、
前記正極集電体は、表面に凹凸構造を有し、
前記負極集電体は、表面に凹凸構造を有し、
前記正極集電体は、前記正極活物質と接しており、
前記負極集電体は、前記負極活物質と接しており、
前記正極集電体と前記負極集電体とが対向して配置され、
前記第１の絶縁体は、前記正極集電体の凸部と前記負極集電体の凹部との間に設けられ、
前記第２の絶縁体は、前記負極集電体の凸部と前記正極集電体の凹部との間に設けられ、
前記正極活物質と前記負極活物質の間に前記電解質が設けられていることを特徴とする電気化学キャパシタ。
【請求項６】
正極集電体と、負極集電体と、正極活物質と、負極活物質と、第１の絶縁体と、第２の絶縁体と、リチウムイオンを含む電解質と、を有し、
前記正極集電体は、表面に凹凸構造を有し、
前記負極集電体は、表面に凹凸構造を有し、
前記正極活物質は、表面に凹凸構造を有し、
前記負極活物質は、表面に凹凸構造を有し、
前記正極集電体は、前記正極活物質と接しており、
前記負極集電体は、前記負極活物質と接しており、
前記正極集電体と前記負極集電体とが対向して配置され、
前記第１の絶縁体は、前記正極集電体の凸部及び前記正極活物質の凸部と、前記負極活物質の凹部との間に設けられ、
前記第２の絶縁体は、前記負極集電体の凸部及び前記負極活物質の凸部と、前記正極活物質の凹部との間に設けられ、
前記正極活物質と前記負極活物質の間に前記電解質が設けられていることを特徴とする電気化学キャパシタ。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一項において、
前記凸部の上面の断面構造は、円、四角形、三角形、星型、五角形、又は六角形であることを特徴とする電気化学キャパシタ。
【手続補正書】
【提出日】平成24年7月13日(2012.7.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理容器内に基板を搬入する工程と、
前記処理容器内に処理ガスを供給して基板に対して処理を行う工程と、
前記処理容器内から処理済基板を搬出する工程と、
前記処理容器内に処理済基板がない状態で、大気圧未満の圧力に設定した前記処理容器内に酸素含有ガスと水素含有ガスとを供給して前記処理容器内に付着または堆積した物質を酸化させる工程と、
を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項２】
処理容器内に基板を搬入する工程と、
前記処理容器内に処理ガスを供給して基板に対して処理を行う工程と、
前記処理容器内から処理済基板を搬出する工程と、
前記処理容器内に処理済基板がない状態で、大気圧未満の圧力に設定した前記処理容器内に酸素含有ガスと水素含有ガスとを供給して前記処理容器内に付着または堆積した物質を酸化させる工程と、
を有することを特徴とする基板処理方法。
【請求項３】
基板を処理する処理容器と、
前記処理容器内に処理ガスを供給する処理ガス供給系と、
前記処理容器内に酸素含有ガスを供給する酸素含有ガス供給系と、
前記処理容器内に水素含有ガスを供給する水素含有ガス供給系と、
前記処理容器内の圧力を調整する圧力調整部と、
前記処理容器内に基板を搬入または前記処理容器内から基板を搬出する基板搬送部と、
前記処理容器内に基板を搬入し、処理ガスを供給して基板に対して処理を行い、前記処理容器内から処理済基板を搬出した後、前記処理容器内に処理済基板がない状態で、大気圧未満の圧力に設定した前記処理容器内に酸素含有ガスと水素含有ガスとを供給することで、前記処理容器内に付着または堆積した物質を酸化させるように、前記処理ガス供給系、前記基板搬送部、前記酸素含有ガス供給系、前記水素含有ガス供給系、および、前記圧力調整部を制御するコントローラと、
を有することを特徴とする基板処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置の製造方法、基板処理方法及び基板処理装置
【手続補正書】
【提出日】平成24年3月19日(2012.3.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の波長帯域内の基準波長とは異なる前記所定の波長帯域内の被試験波長を発する半導体レーザの試験方法であって、
前記試験のための基準分散条件、および試験のための光ファイバの単位分散量に基づいて、前記光ファイバが前記基準波長とは異なる前記被試験波長の条件下で前記基準分散条件を満たすための長さを求める第１ステップと、
前記半導体レーザのレーザ光を変調して得られた変調信号を前記第１ステップで求めた長さに実質的に一致する長さを有する光ファイバへ入力し、前記光ファイバからの出力を評価する第２ステップと、
を含むことを特徴とする半導体レーザの試験方法。
【請求項２】
前記第１ステップは、前記被試験波長において前記基準分散条件を満たすための前記光ファイバの長さを、前記基準波長において前記基準分散条件を満たす前記光ファイバの長さとの差分として求める工程を含み、
前記第２ステップは、前記差分の情報に基づいて、光ファイバを準備する工程を含むことを特徴とする請求項１記載の半導体レーザの試験方法。
【請求項３】
前記基準波長が１５５０ｎｍである場合において、前記第１ステップは、前記光ファイバにおける単位分散量の基準となる波長に対して、前記レーザ光の波長が長波長である場合には、前記基準となる波長の分散量条件を満たすように決定された光ファイバの長さよりも短い光ファイバの長さに設定し、前記レーザ光の波長が短波長である場合には、前記基準となる波長の分散量条件を満たすように決定された光ファイバの長さよりも長い光ファイバの長さに設定するステップであることを特徴とする請求項１記載の半導体レーザの試験方法。
【請求項４】
前記基準波長が１３００ｎｍである場合において、前記第１ステップは、前記光ファイバにおける単位分散量の基準となる波長に対して前記レーザ光の波長より長波長もしくは短波長である場合には、前記基準となる波長の分散量条件を満たすように決定された光ファイバの長さよりも短いファイバ長を選択するステップであることを特徴とする請求項１記載の半導体レーザの試験方法。
【請求項５】
前記波長帯域は、１４６０ｎｍ〜１５３０ｎｍ、１５３０ｎｍ〜１５６５ｎｍ、または、１５６５ｎｍ〜１６２５ｎｍの帯域幅を有することを特徴とする請求項１記載の半導体レーザの試験方法。
【請求項６】
測定対象のレーザ光の波長に関する情報に基づいて、光ファイバの長さを選択可能な光ファイバユニットと、
前記光ファイバユニットによって選択された長さの光ファイバに対して、変調された前記レーザ光を入力し、前記光ファイバから出力される光信号の評価を行う評価部と、を備えることを特徴とするレーザ試験装置。
【請求項７】
前記光ファイバユニットは、主光ファイバ部と、副光ファイバ部と、前記主光ファイバ部と前記副光ファイバ部との接続関係を変更可能なスイッチ部と、を備えることを特徴とする請求項６記載のレーザ試験装置。
【請求項８】
前記副光ファイバ部は、複数の副光ファイバ部で構成され、
前記スイッチ部は、前記主光ファイバ部に接続される前記副光ファイバの接続組合せを選択可能であることを特徴とする請求項７記載のレーザ試験装置。
【請求項９】
前記複数の光ファイバは、互いに長さの異なる複数の副光ファイバを含むことを特徴とする請求項８記載のレーザ試験装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明に係る半導体レーザの試験方法は、所定の波長帯域内の基準波長とは異なる前記所定の波長帯域内の被試験波長を発する半導体レーザの試験方法であって、試験のための基準分散条件、および試験のための光ファイバの単位分散量に基づいて、光ファイバが前記基準波長とは異なる前記被試験波長の条件下で基準分散条件を満たすための長さを求める第１ステップと、半導体レーザのレーザ光を変調して得られた変調信号を第１ステップで求めた長さに実質的に一致する長さを有する光ファイバへ入力し、光ファイバからの出力を評価する第２ステップと、を含むことを特徴とするものである。本発明に係るレーザの試験方法においては、測定対象のレーザ光の波長に基づいて光ファイバの長さが選択されることから、正確なデータ伝送特性の評価が可能となる。
【手続補正書】
【提出日】平成24年3月13日(2012.3.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の光学素子から構成され、前記複数の光学素子を鏡筒に収納する光学系であって、
前記複数の光学素子の少なくとも一つの光学素子は、当該光学素子を保持すると共に前記光学素子の形状を調整する光学装置を介して前記鏡筒に固定され、
前記光学装置は、
前記光学素子を保持する保持部と、前記鏡筒の一部に固定される固定部と、を有して前記光学素子を支持する支持部材と、
前記鏡筒の一部には接続されずに、前記支持部材の表面又は内部に取り付けられて前記支持部材に内力を発生させることによって前記光学素子に変形力を加えるアクチュエータ素子と、
を有することを特徴とする光学系。
【請求項２】
前記光学素子の形状を計測する計測器と、
当該計測器による計測結果に基づいて前記光学素子の形状と設定された形状との差を計算する演算手段と、
当該演算手段が計算した前記差が小さくなるように前記アクチュエータ素子に駆動指令を出す制御手段と、
を更に有することを特徴とする請求項１に記載の光学系。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の光学系を有する露光装置。
【請求項４】
被駆動体を支持すると共に前記被駆動体の形状を調整するステージ装置であって、
前記被駆動体を吸着する吸着手段を備えたチャックと、
前記チャックの表面又は内部に取り付けられて前記チャックに内力を発生させることによって前記被駆動体に変形力を加えるアクチュエータ素子と、
を有することを特徴とするステージ装置。
【請求項５】
前記被駆動体の形状を計測する計測器と、
当該計測器による計測結果に基づいて前記被駆動体の形状と設定された形状との差を計算する演算手段と、
当該演算手段が計算した前記差が小さくなるように前記アクチュエータ素子に駆動指令を出す制御手段と、
を更に有することを特徴とする請求項４に記載のステージ装置。
【請求項６】
請求項４又は５に記載のステージ装置を有することを特徴とする露光装置。
【請求項７】
光学系を構成する複数の光学素子の少なくとも一つの光学素子を保持すると共に前記光学素子の形状を調整する光学装置であって、
前記光学素子を保持する保持部と、前記光学系の鏡筒の一部に固定される固定部と、を有して前記光学素子を支持する支持部材と、
前記鏡筒の一部には接続されずに、前記支持部材の表面又は内部に取り付けられて前記支持部材に内力を発生させることによって前記光学素子に変形力を加えるアクチュエータ素子と、
を有することを特徴とする光学装置。
【請求項８】
請求項３又は６に記載の露光装置を使用して基板を露光するステップと、
露光された前記基板を現像するステップと、
を有することを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の一側面としての光学系は、複数の光学素子から構成され、前記複数の光学素子を鏡筒に収納する光学系であって、前記複数の光学素子の少なくとも一つの光学素子は、当該光学素子を保持すると共に前記光学素子の形状を調整する光学装置を介して前記鏡筒に固定され、前記光学装置は、前記光学素子を保持する保持部と、前記鏡筒の一部に固定される固定部される固定部と、を有して前記光学素子を支持する支持部材と、前記鏡筒の一部には接続されずに、前記支持部材の表面又は内部に取り付けられて前記支持部材に内力を発生させることによって前記光学素子に変形力を加えるアクチュエータ素子と、を有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成23年11月18日(2011.11.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ステージ上に載置された試料の表面に光線を入反射させて試料の高さを測定する高さ測定器の校正のために、ステージ上に設けられ、上面に高さ測定器からの光線を反射する基準反射面を有する校正ブロックであって、
非導電性材料からなるブロック本体と、
前記ブロック本体の上面に積層され、非磁性体又は磁化曲線がヒステリシスを持たない磁性体からなる表面粗さ０．０１〜０．０３の基準反射面を有する金属製の第1の被膜と、
を備えることを特徴とする校正ブロック。
【請求項２】
前記ブロック本体の下面に金属製の第２の被膜を備えることを特徴とする請求項１記載の校正ブロック。
【請求項３】
試料を載置するステージと、ビーム照射手段とを備え、ステージ上に載置された試料にビーム照射手段により荷電粒子ビームを照射して所定のパターンを描画する荷電粒子ビーム描画装置であって、
ステージ上に載置された試料の表面に光線を入反射させて試料の高さを測定する光学式高さ測定器と、
この高さ測定器の校正のために、前記ステージ上に設けられ、非導電性材料からなるブロック本体と、前記ブロック本体の上面に積層され、非磁性体又は磁化曲線がヒステリシスを持たない磁性体からなる表面粗さ０．０１〜０．０３の金属製の第1の被膜とを有する校正ブロックと、を備えることを特徴とする荷電粒子ビーム描画装置。
【請求項４】
前記ブロック本体の下面に金属製の第２の被膜を備えることを特徴とする請求項３記載の荷電粒子ビーム描画装置。
【請求項５】
ステージ上に載置された試料の表面に光線を入反射させて試料の高さを測定する高さ測定器の校正のために、ステージ上に設けられ、上面に高さ測定器からの光線を反射する基準反射面を有する校正ブロックの製造方法であって、
非導電性材料からなるブロック本体の上面に、非磁性体又は磁化曲線がヒステリシスを持たない磁性体からなる金属製の第1の被膜を積層し、前記第1の被膜の表面を機械加工で前記基準反射面に仕上げることを特徴とする校正ブロックの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】校正ブロックの製造方法、校正ブロック及び荷電粒子ビーム描画装置
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、ステージ上に載置された試料の表面に光線を入反射させて試料の高さを測定する高さ測定器の校正のためにステージ上に設けられる校正ブロックの製造方法、この製造方法で製造される校正ブロック及び当該校正ブロックを用いた荷電粒子ビーム描画装置に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明は、以上の点に鑑み、渦電流の発生を抑制できると共に基準反射面の高度の平滑性を確保できるようにした校正ブロックの製造方法、この製造方法で製造される校正ブロック及び当該校正ブロックを用いた荷電粒子ビーム描画装置を提供することをその課題としている。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明の第１の態様は、ステージ上に載置された試料の表面に光線を入反射させて試料の高さを測定する高さ測定器の校正のために、ステージ上に設けられ、上面に高さ測定器からの光線を反射する基準反射面を有する校正ブロックであって、非導電性材料からなるブロック本体と、前記ブロック本体の上面に積層され、非磁性体又は磁化曲線がヒステリシスを持たない磁性体からなる表面粗さ０．０１〜０．０３の基準反射面を有する金属製の第1の被膜と、を備えることを特徴とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の第１の態様において、前記ブロック本体の下面に金属製の第２の被膜を備えることが望ましい。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また、本発明の第２の態様は、試料を載置するステージと、ビーム照射手段とを備え、ステージ上に載置された試料にビーム照射手段により荷電粒子ビームを照射して所定のパターンを描画する荷電粒子ビーム描画装置であって、ステージ上に載置された試料の表面に光線を入反射させて試料の高さを測定する光学式高さ測定器と、この高さ測定器の校正のために、前記ステージ上に設けられ、非導電性材料からなるブロック本体と、前記ブロック本体の上面に積層され、非磁性体又は磁化曲線がヒステリシスを持たない磁性体からなる表面粗さ０．０１〜０．０３の金属製の第1の被膜とを有する校正ブロックと、を備えることを特徴とする。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、本発明の第２の態様において、前記ブロック本体の下面に金属製の第２の被膜を備えることが望ましい。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また、本発明の第３の態様は、ステージ上に載置された試料の表面に光線を入反射させて試料の高さを測定する高さ測定器の校正のために、ステージ上に設けられ、上面に高さ測定器からの光線を反射する基準反射面を有する校正ブロックの製造方法であって、
非導電性材料からなるブロック本体の上面に、非磁性体又は磁化曲線がヒステリシスを持たない磁性体からなる金属製の第1の被膜を積層し、前記第1の被膜の表面を機械加工で前記基準反射面に仕上げることを特徴とする。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
ところで、描画中に、電子鏡筒２の下部に設けた主偏向器２６や対物レンズ２２−１で発生する磁場の一部がステージ３上に漏れ、ステージ３の移動に伴い漏洩磁場中で校正ブロック１０が移動することがある。そして、校正ブロック１０が金属製であると、校正ブロック１０に渦電流が発生し、渦電流による磁場の影響で電子ビームの照射位置に誤差を生じ、描画精度が低下してしまう。
そこで、従来、校正ブロックのブロック本体を非導電性材料であるセラミックスで形成し、金属で被覆することが検討された。このような校正ブロックは、例えばブロック本体の上面を機械加工で平滑に仕上げた後、ブロック本体の上面に厚さ０．５μｍ程度の金メッキから成る基準反射面となる薄膜を積層することにより形成することができる。然し、セラミックス製のブロック本体の上面を平滑に機械加工しても、その表面粗さＲａは０．０５程度にしかならず、その上に積層した薄膜の表面粗さも同程度になってしまう。その結果、高さ測定器による測定高さにばらつきを生じ、高さ測定器の校正ミスを生じやすくなる。
【手続補正書】
【提出日】平成24年2月9日(2012.2.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
モジュール基板と、
前記モジュール基板の部品搭載面に搭載された複数の実装部品と、
前記複数の実装部品を覆うように形成された樹脂と、
前記樹脂の表面に形成された金属膜からなるシールド層と、
を含み、
前記シールド層に、複数のマイクロチャンネルクラックが形成されていることを特徴とする半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成24年3月12日(2012.3.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
Pピクチャは、画面間の前方向予測符号化により得られるピクチャである。即ち、Ｐピクチャは、前方向に存在するIピクチャまたはPピクチャを参照ピクチャとして予測するピクチャである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
また例えば、SPSには、POC(Picture Order Count)を計算するために必要な情報が含まれている。POCとは、ピクチャの出力順序を示す情報である。POCを計算するために必要な情報としては例えば、コード名：pic_order_cnt_type,offset_for_non_ref_pic,num_ref_frames_in_pic_order_cnt_cycleが、SPSに含まれている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
例えば、PPSには、エントロピ符号化モードのフラグを示す情報（コード名：entropy_coding_mode_flag）が含まれている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
また例えば、スライスヘッダには、POCを計算するために必要な情報が含まれている。POCを計算するために必要な情報として、例えば、コード名：pic_order_cnt_lsb,delta_pic_order_cntZ_bottom,delta_pic_order_cnt,redundant_pic_cntがスライスヘッダに含まれている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
上述したように、抽出したSPS，PPS、およびスライスヘッダにPOCを求めるための情報が含まれている。よって、これらの情報に基づいて、画像処理装置はPOCを計算する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８７】
「表示順」の項目には、デコード対象のストリームデータを構成する各AU（ピクチャ）の表示順が示されている。即ち、図３の例では、時間軸方向に、「表示順」の項目に示されるピクチャが順次表示されていく。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８９】
「デコード順（逆再生）」の項目には、逆再生する場合におけるデコード対象のストリームデータを構成する各AU（ピクチャ）のデコード順が示されている。即ち、図３の例では、時間軸方向と逆の方向に、「デコード順（逆再生）」の項目に示されるピクチャが順次デコードされていく。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９５】
また、時刻t4において、画像処理装置は、I2を表示する。なお、B2のデコード、B2のDPBおよびバッファへの保存は同時刻に行われる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３２】
なお、デコード部１１においては、高速でデコードできるように、複数のデコーダ１１−１乃至１１−ｎ（ｎは１以上の整数値）を並列に制御できるように構成している。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５６】
なお、図４の例の画像処理装置は、システムとして構成することができる。ここで、システムとは、複数の装置や処理部により構成される装置全体を表すものである。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５７】
［画像処理装置の処理の説明］
図４の例の本発明が適用される画像処理装置が、ストリームデータを再生する処理（以下、ストリームデータ再生処理と称する）について説明する。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１８５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１８５】
ステップＳ２１において、入力解析部１０は、検出したAUが、参照ピクチャであるか否かを判定する。検出したAUが、参照ピクチャでない場合、ステップＳ２１においてＮＯであると判定され、処理はステップＳ１７に進み、それ以降の処理が施される。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１８７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１８７】
ステップＳ２２において、入力解析部１０は、AUに含まれるすべてのスライスヘッダを解析し、MMCOがあるか否かを判定する。AUにMMCOがない場合、ステップＳ２２においてＮＯであると判定され、処理はステップＳ１７に進み、それ以降の処理が施される。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１８９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１８９】
ステップＳ２３においてCPU９は、後述するMMCOの指示に基づいて、DPBリストを更新し、処理はステップＳ１７に進む。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１９７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１９７】
これに対して、すべての参照ピクチャが画像情報領域２５に保存されていない場合、ステップＳ３３において、ＮＯであると判定されて、処理はステップＳ３４に進む。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１９９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１９９】
即ち、全ての参照ピクチャが画像情報領域２５に保存されるようになるまでの間、ステップＳ３２、ステップＳ３３ＮＯ、ステップＳ３４のループ処理が繰り返される。すべての参照ピクチャのデコードが終了し、デコード後のすべての参照ピクチャが画像情報領域２５に保存されると、ステップＳ３３においてＹＥＳであると判定されて、処理はステップＳ３５に進む。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２１２】
なお、上述したDPBリスト作成処理の他の例（第１の実施の形態）と明確に区別すべく、図８の例のDPBリスト作成処理を、特に、第２のDPBリスト作成処理と称する。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２２８】
これに対し、ステップＳ７６において、デコード部１１は、デコードしたピクチャにMMCOが含まれていないと判定した場合にはDPBリストを更新する必要がない。このため、処理はステップＳ７８に進む。
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２５２】
図１３のＡに示されるストリームデータのデコード順は、図１１のＡの例のストリームデータのデコード順と同様である。図１３のＡには、Br6にMMCOが存在している点が、図１１のＡとは異なる点である。