【手続補正書】
【提出日】平成24年8月21日(2012.8.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
しかしながら、個別の縞によるビーム束のこれらの測定データは平均値であるため、微細部分までの分解能で強度の数値を得ることはできない。
さらに、特許文献３は、レーザビームの空間エネルギー分布を測定するための構成を開示し、この構成は、ビーム路に対して垂直に移動可能な２つのスリット開口から成る開口構成と、前記開口構成と共に移動する検出器とを用いており、前記検出器は、ビーム横断面において移動可能な開口で回折された光を検出するために、前記開口構成からの隔たりを可変に光軸の近くに配置されている。この構成は、検出器が開口と共に移動され、最大回折に特に適合するので測定結果を、特に発散ビーム束に対する測定結果を歪めるという、不利な点を有している。
似ているが非常に単純な相違例（これは高エネルギー放射には適していない）が、特許文献４に記載され、これはＬＥＤの強度分布を測定するもので、開口を直接備えた検出器が光源を横切って案内されるようになっている。
別の放射測定の解決策が特許文献５に開示されている。回転対象を有さないビーム強度分布のビーム密度を測定するために、互いに密に相前後してスリット開口と螺旋開口を配置し、異なる強度に構成感度を適合させるように共通軸回りに異なる速度で回転することによって「移動開口」が光源の遠視野面に生成される。
特許文献６はｃｗ−レーザビームにおける測定のための２つの回転する開口を備える同様の構成を記載する。
レーザのエネルギ分布を測定するためのもっと複雑な構成が特許文献７に開示されており、これは２つの回転する開口を含み３つの開口を有している。
上記後半３つの解決策の全ては、異なるやり方で制御し同期させる２つの移動可能な開口の問題を有している。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
【特許文献１】ＵＳ ７，０２３，５２４ Ｂ２
【特許文献２】ＤＥ ８２２７４９４ Ｕ１
【特許文献３】ＤＤ １４７１５３ Ａ１
【特許文献４】ＪＰ ２００５−０１７１０６ Ａ
【特許文献５】ＤＤ ２４９７５９ Ａ１
【特許文献６】ＦＲ ２５７４５４２ Ａ１
【特許文献７】ＵＳ ４，８２８，３８４ Ａ
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
ビーム束の特定位置におけるビーム成分を取り出して測定器に到達させる、高強度の高エネルギー放射光のビーム束の断面のパラメータを空間分解測定する方法において、上記の目的は、以下のステップを通じて達成される。
− ビーム束を遮蔽要素によって遮蔽し、ビーム束の断面が遮蔽要素の上に結像されるようにする。
− ビーム束に対して断面が小さく、出力密度が低い部分ビーム束を、遮蔽要素の少なくとも１つの開口部によって取り出す。
− 遮蔽要素の少なくとも１つの開口部を、遮蔽要素の回転移動により、測定されるべきビーム束の断面内の異なる位置に移動させることによって、ビーム束を位置の異なる部分ビーム束へと時間的に連続的に分離する。遮蔽要素の少なくとも１つの開口による分離は放射光源の光ノードでもたらされる。
− 少なくとも１つの開口部を透過した部分ビーム束の測定値を、ビーム束の断面内の大きな範囲を測定する検出器の形態をした測定器によって時間的に連続的に取得し、ビーム束の断面の中で、部分ビーム束が関連付けられる位置を、遮蔽要素の回転移動の結果として得られる開口部の所与の経路に応じて把握する。その際、測定器による強度測定は光ノードの後ろのビーム束の発散領域の中でもたらされる。
− 連続的に取得した部分ビーム束の測定値およびそれに関連付けられた位置を含む測定データを記憶する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
高強度の高エネルギー放射光のビーム束の断面においてパラメータを空間分解測定する装置であって、測定対象のビーム束を放出する放射光源と、ビーム束からビーム成分を取り出す要素と、ビーム束から取り出されたビーム成分を測定する測定器と、を備える装置において、上記の目的はさらに、
− ビーム成分を取り出す要素を、部分ビーム束を通過させるための少なくとも１つの開口部を有しかつ測定対象のビーム束がその断面上で遮蔽されるような遮蔽要素として構成し、
− 遮蔽要素を、ビーム束の中の、放射光源の光ノードの近傍に回転可能に配置して、ビーム束の断面の中の異なる領域内の予め定められた経路上で少なくとも１つの開口部を移動できるようにし、断面内で異なる位置を有する時間的に連続する部分ビーム束を、ビーム束の断面内の少なくとも１つの開口部の背後にある経路に沿った少なくとも１つの開口部の移動に基づいて、ビーム束の発散領域における大きな範囲を測定する測定器へと向け、
− 放射光源の光ノードの後ろのビーム束の発散領域における測定器を、ある距離だけ遮蔽要素の下流に配置して、高エネルギー放射光の測定値を取得することを目的として、部分ビーム束の放射密度が、ビーム束断面の中の開口部の位置における放射密度に対して複数桁のオーダで低減される程度にまで減衰されるようにし、
− 遮蔽要素を制御して、断面内の少なくとも１つの開口部の位置を取得し、測定器による測定値取得を遮蔽要素の移動に同期して、部分ビーム束の測定値を少なくとも１つの開口部の異なる位置に関連付け、位置依存的に測定されるビーム束の断面からパラメータを取得するために、測定および制御手段を設置する
ことにおいて達成される。
【手続補正５】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高強度の高エネルギー放射光のビーム束の断面にてパラメータの空間分解測定を行う方法であって、前記ビーム束の特定位置にあるビーム成分が測定器に向けて取り出される方法において、
−  前記ビーム束（２）を遮蔽要素（３）によって遮蔽し、前記ビーム束（２）の断面（２１）が前記遮蔽要素（３）の上に結像されるステップと、
−  前記ビーム束（２）に対して断面が小さく、かつ強度が弱い部分ビーム束（２２）を、前記遮蔽要素（３；３３）における少なくとも１つの開口部（３１；３６）によって取り出すステップと、
−  前記遮蔽要素（３；３３）の回転移動により、前記遮蔽要素（３；３３）の前記少なくとも１つの開口部（３１；３６）を、測定対象の前記ビーム束（２）の前記断面（２１）内の異なる位置に移動させることによって、前記ビーム束（２）を、位置の異なる部分ビーム束（２２）へと時間的に連続的に分離するステップであって、その分離は放射光源（１）の光ノード（１２；１３）で前記遮蔽要素（３）の前記少なくとも１つの開口（３１；３６）によって実行されるステップと、
−  前記少なくとも１つの開口部（３１；３６）を透過した前記部分ビーム束（２２）の測定値を、前記ビーム束（２）の断面（２１）内の大きな範囲を測定する検出器（４１）の形態をした測定器（４）によって時間的に連続的に取得し、その際、強度測定が前記測定器（４）によって前記光ノード（１２；１３）の後ろのビーム束（２）の発散領域の中で実行されるものであり、前記ビーム束（２）の前記断面（２１）の中で、前記部分ビーム束（２２）が関連付けられる位置を、前記遮蔽要素（３；３３）の回転移動の結果として得られる前記開口部（３１；３６）の所与の経路（３４）に応じて把握するステップと、
−  前記連続的に取得した部分ビーム束（２２）の測定値およびそれに関連付けられた位置を含む測定データを記憶するステップと、
を有する方法。
【請求項２】
前記遮蔽要素（３）の前記開口部（３１；３６）を通じて測定対象の前記ビーム束（２）を部分ビーム束（２２）に分離する前記ステップは、放射光源（１）の中間焦点（３１）で実行されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記開口部（３１；３６）を通じて測定対象の前記ビーム束（２）を部分ビーム束（２２）に分離する前記ステップは、前記ビーム束（２）の光軸（１１）に平行な回転軸（３２）のまわりに前記遮蔽要素（３；３３）を回転移動させることによって実行されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記開口部（３１；３６）を通過する前記部分ビーム束（２２）の強度の減弱は、前記ビーム束（２）の発散領域に前記遮蔽要素（３；３３）を配置することによって実行されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記開口部（３１；３６）を通過する前記部分ビーム束（２２）の強度の減弱は、前記遮蔽要素（３；３３）を放射光源（１）の中間焦点（１３）の前の前記ビーム束（２）の収束領域の中に配置しかつ前記測定器（４）を前記中間焦点（１３）の後ろの前記ビーム束（２）の発散領域の中に配置することにおいて実行されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記開口部（３１；３６）を通過する前記部分ビーム束（２２）の強度の減弱は、前記測定器（４）まで前記部分ビーム束（２２）の伝搬経路（２３）を長くすることによって達成されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
各時点で厳密に１つの開口部（３１；３６）が前記ビーム束（２）の前記断面（２１）で案内されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
各時点で２つ以上の開口部（３１；３６）が前記ビーム束（２）の前記断面（２１）で案内され、同時に生成される各部分ビーム束（２２）の前記測定値の区別は、前記測定器（４）の別々の検出領域を通じて行われることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
測定値の獲得は、前記少なくとも１つの開口部（３１）のその経路（３４）上での位置が、前回の獲得位置に対して、少なくとも前記開口部（３１）の長さ範囲に対応する量だけ移動方向に変化したときにトリガされることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
高強度の高エネルギー放射光のビーム束の断面にてパラメータを空間分解測定する装置であって、測定対象のビーム束を放出する放射光源と、前記ビーム束からビーム成分を取り出す要素と、前記ビーム束から取り出された前記ビーム成分を測定する測定器と、を備えて構成される装置において、
−  ビーム成分を取り出す前記要素が、部分ビーム束（２２）を通過させる少なくとも１つの開口部（３１）を有しかつ測定対象の前記ビーム束（２）がその断面（２１）上で遮蔽されるような遮蔽要素（３；３３）として構成され、
−  前記遮蔽要素（３；３３）が、前記ビーム束（２）の中の、前記放射光源（１）の光源地点（１２；１３）の光ノード（１２；１３）近傍に回転可能に配置され、前記ビーム束（２）の前記断面（２１）の中の異なる領域内の予め定められた経路（３４）上で前記少なくとも１つの開口部（３１；３６）を移動できるようになっており、前記断面（２１）内で異なる位置を有する時間的に連続する部分ビーム束（２２）が、前記少なくとも１つの開口部（３１）の背後にある所定の経路（３４）に沿った前記少なくとも１つの開口部（３１；３６）の移動に基づいて、前記ビーム束（２）の断面（２１）内の大きな範囲を測定する前記測定器（４）へと向けられ、
−  放射光源（１）の光ノード（１２；１３）の後ろのビーム束（２）の発散領域の中の前記測定器（４）は、ある距離だけ前記遮蔽要素（３；３３）の下流に配置され、前記高エネルギー放射光の測定値を取得することを目的として、前記部分ビーム束（２２）が、前記ビーム束（２）の前記断面（２１）の中の前記開口部（３１；３６）の位置における強度に対して放射光の強度が複数桁のオーダで減弱される程度にまで減衰されるようになっており、
−  前記遮蔽要素（３；３３）を制御して、前記断面（２１）内の前記少なくとも１つの開口部（３１；３６）の位置を取得し、前記測定器（４）による測定値取得を、前記遮蔽要素（３；３３）の動きに同期して、前記部分ビーム束（２２）の前記測定値を前記少なくとも１つの開口部（３１；３６）の異なる位置に関連付け、位置依存的に測定される前記ビーム束（２）の前記断面（２１）のパラメータを取得するために、測定および制御手段が設置される、
ことを特徴とする装置。
【請求項１１】
前記遮蔽要素（３；３３）が、光軸（１１）の外かつ前記ビーム束（２）の外に配置された回転軸（３２）を有することを特徴とする、請求項１０に記載の装置。
【請求項１２】
前記遮蔽要素（３、３３）が、前記ビーム束（２）の前記断面（２１）を通る、前記回転軸（３２）まわりの異なる経路（３４）上で案内される複数の開口部（３１）を有することを特徴とする、請求項１０に記載の装置。
【請求項１３】
前記開口部（３１）が、大きさの等しい微細孔（３６）であることを特徴とする、請求項１２に記載の装置。
【請求項１４】
前記開口部（３１）が、大きさの異なる微細孔（３６）と大型孔（３７）とによって形成されることを特徴とする、請求項１２に記載の装置。
【請求項１５】
前記測定器（４）が、検出器（４１）と、前記検出器（４１）の前に配置された発光スクリーン（４１）とを有することを特徴とする、請求項１０に記載の装置。
【請求項１６】
前記測定器（４）が、前記部分ビーム束（２２）を、光軸（１１）の外に配置された検出器（４１）へと偏向するビーム偏向光学素子を有することを特徴とする、請求項１０に記載の装置。
【請求項１７】
前記中間焦点（１３）、多層ミラー（４４）および前記検出器（４１）が、前記多層ミラー（４４）にその凹面鏡面の中心で接触するローランド円（９）の上に配置されることを特徴とする、請求項１６に記載の装置。