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【手続補正書】
【提出日】平成24年9月5日(2012.9.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
モータと、前記モータに接続されるハンマと、前記ハンマにより打撃されるアンビルと、を有するインパクト工具であって、
前記打撃による負荷の大きさを検出し、
前記負荷の大きさに応じて前記モータへの駆動電流の大きさを変更するようにしたことを特徴とするインパクト工具。
【請求項２】
前記駆動電流の変更は、前記モータへ供給される印加電圧を変更することにより行うことを特徴とする請求項１に記載のインパクト工具。
【請求項３】
前記モータはブラシレスＤＣモータであり、
前記モータを駆動するためのインバータ回路を有し、
前記インバータ回路におけるＰＷＭ制御のデューティ比を変えることによって前記印加電圧を変更することを特徴とする請求項２に記載のインパクト工具。
【請求項４】
前記モータを正回転及び逆回転に交互に駆動することにより前記ハンマを前記アンビルに打撃し、
前記モータを正回転又は逆回転に駆動する際に休止区間を設け、
検出された前記負荷の大きさに応じて、前記モータの逆回転から正回転への間の休止区間の長さを変更することを特徴とする請求項３に記載のインパクト工具。
【請求項５】
検出された前記負荷の大きさに応じて、前記ハンマの逆回転角度を変化させることを特徴とする請求項３又は４に記載のインパクト工具。
【請求項６】
検出された前記負荷の大きさが大きくなるにつれ前記ハンマの逆回転角度を大きくすることを特徴とする請求項５に記載のインパクト工具。
【請求項７】
前記ハンマの逆回転角度は、前記逆回転の駆動後の休止区間の長さによって調整することを特徴とする請求項６に記載のインパクト工具。
【請求項８】
前記モータの逆回転時の印加電圧を変更することにより、前記ハンマの逆回転角度を変化させることを特徴とする請求項６に記載のインパクト工具。
【請求項９】
モータと、前記モータに接続されるハンマと、前記モータを正回転及び逆回転に交互に駆動することによって前記ハンマにより打撃されるアンビルと、を有するインパクト工具であって、
前記打撃による負荷の大きさを検出し、
前記負荷の大きさに応じて前記モータの逆回転角度を制御するようにしたことを特徴とするインパクト工具。
【請求項１０】
負荷の大きさが小さいときは前記逆回転角度を小さくし、
負荷の大きさが大きいときは前記逆回転角度を大きくすることを特徴とする請求項９に記載のインパクト工具。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の一つの特徴によれば、モータに接続されるハンマと、ハンマにより打撃されるアンビルと、を有するインパクト工具であって、打撃による負荷の大きさを検出し、負荷の大きさに応じてモータへの駆動電流の大きさを変更するようにした。駆動電流の変更は、例えば、モータへ供給される印加電圧を変更することによって行うことができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の他の特徴によれば、モータはブラシレスＤＣモータであり、モータを駆動するためのインバータ回路を有し、インバータ回路におけるＰＷＭ制御のデューティ比を変えることによって印加電圧を変更する。また、モータは正回転及び逆回転に交互に駆動されることによってハンマによりアンビルを打撃し、モータを正回転又は逆回転に駆動する際に休止区間を設け、検出された負荷の大きさに応じて、モータの逆回転から正回転への間の休止区間の長さを変更するか、ハンマの逆回転角度を変化させるか、ハンマの逆回転角度を変化させる。ハンマの逆回転角度は、逆回転の駆動後の休止区間の長さによって調整するか、或いは、モータの逆回転時の印加電圧を変更することにより変化させることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明のさらに他の特徴によれば、モータと、モータに接続されるハンマと、モータを正回転及び逆回転に交互に駆動することによってハンマにより打撃されるアンビルと、を有するインパクト工具であって、打撃による負荷の大きさを検出し、負荷の大きさに応じてモータの逆回転角度を制御するように構成した。この際、必要な負荷の大きさが小さいときは逆回転角度を小さくし、必要な負荷の大きさが大きいときは逆回転角度を大きくするように制御する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
請求項１の発明によれば、モータを正回転及び逆回転に交互に駆動することによってハンマをアンビルに打撃し、打撃による負荷の大きさを検出し、負荷の大きさに応じてモータへの駆動電流の大きさを変更するようにしたので、締め付け負荷の大きさに応じて最適な駆動電流をモータに供給でき、軽負荷の際に必要以上に高い締め付けトルクで締め付けることを防止できる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
請求項４の発明によれば、モータを正回転又は逆回転に駆動する際に休止区間を設け、検出された負荷の大きさに応じて、モータの逆回転から正回転への間の休止区間の長さを変更するので、休止区間の長さを調整するだけでハンマの反転距離（打撃前の助走距離）を調整することができ、打撃の強さを容易に調整することができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
請求項５の発明によれば、検出された負荷の大きさに応じて、ハンマの逆回転角度を変化させるようにしたので、打撃の強さを容易に調整することができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
請求項６の発明によれば、検出された負荷の大きさが大きくなるにつれハンマの逆回転角度を大きくするようにしたので、打撃の強さを徐々に増加させることができ、最適な締め付けトルクにより効率的に締め付け作業を行うことができる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
請求項９の発明によれば、モータを正回転及び逆回転に交互に駆動することによってハンマをアンビルに打撃するインパクト工具において、検出される負荷の大きさに応じてモータの逆回転角度を制御するので、締め付け負荷の大きさに応じて最適なモータの制御を行うことができる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
請求項１０の発明によれば、負荷の大きさが小さいときは逆回転角度を小さくし、負荷の大きさが大きいときは逆回転角度を大きくするので、軽負荷の際に必要以上に高い締め付けトルクで締め付けることを防止でき、効率の良い締め付け作業を行うことができる。
【手続補正書】
【提出日】平成24年4月24日(2012.4.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の始動条件の成立に応じて複数種類の識別情報を変動表示させ、表示結果を導出することで遊技の結果を確定する変動表示装置を備え、遊技の結果が特定遊技結果となったときに遊技者にとって有利な特定遊技状態に制御する遊技機であって、
前記始動条件の成立に基づいて、前記変動表示における遊技の結果を特定遊技結果とするか否かを決定する特定決定手段と、
前記変動表示装置において識別情報を変動表示させ、前記特定決定手段の決定結果に応じて該変動表示の表示結果を導出させる変動表示演出を実行させる変動演出実行手段と、
前記変動表示演出が実行されている間に、予め定められた系統に従って１段階から複数段階まで演出態様が段階的に変化するステップアップ演出を、遊技の結果が前記特定遊技結果となる場合に該特定遊技結果とならない場合よりも高い割合で予め定められた段階まで演出態様が変化するように実行するステップアップ演出実行手段とを備え、
前記ステップアップ演出実行手段は、
前記ステップアップ演出として、第１ステップアップ演出と、該第１ステップアップ演出とは演出態様が異なる第２ステップアップ演出とを含む複数種類のステップアップ演出を実行可能であるとともに、
遊技の結果が前記特定遊技結果とならない場合に前記第２ステップアップ演出を実行する割合に対する該特定遊技結果となる場合に前記第２ステップアップ演出を実行する割合の比が、遊技の結果が前記特定遊技結果とならない場合に前記第１ステップアップ演出を実行する割合に対する該特定遊技結果となる場合に前記第１ステップアップ演出を実行する割合の比よりも高くなるように実行し、
前記ステップアップ演出とは異なる所定の開始前演出を実行した後に前記ステップアップ演出を実行する手段とを含む移行ステップアップ演出実行手段を備え、
前記移行ステップアップ演出実行手段は、前記開始前演出を実行した後に前記第１ステップアップ演出を実行する手段と、前記開始前演出を実行した後に前記第２ステップアップ演出を実行する手段とを含む
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正書】
【提出日】平成24年3月28日(2012.3.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
オリビン構造を有する下記一般式（１）で示される正極活物質を形成するのに必要なリチウム源、Ｍ源、リン源及びＸ源の各所定量を溶媒に溶解させて溶液を調製する工程と、得られた溶液を環状エーテルの付与によりゲル化させる工程と、
生成したゲルを焼成処理することで炭素被覆されたリチウム含有複合酸化物を得る工程を含む、下記一般式（１）：
ＬｉxＭyＰ1-zＸzＯ4    （１）
で表される化合物（式中、Ｍは、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ａｌ及びＹからなる群から選択される少なくとも１種の元素であり、Ｘは、Ｓｉ及びＡｌから成る群から選択される少なくとも１種であり、０＜ｘ≦２、０．８≦ｙ≦１．２、０≦ｚ＜１の範囲である）を得ることを特徴とする正極活物質の製造方法。
【請求項２】
前記環状エーテルが、構造中にエポキシ基あるいはオキセタン環を含む請求項１に記載の正極活物質の製造方法。
【請求項３】
上記一般式（１）中のＭがＦｅ及びＺｒであり、ＸがＳｉである請求項１又は２に記載の正極活物質の製造方法。
【請求項４】
前記リチウム源が酢酸リチウム又は硝酸リチウム、前記Ｍ源が硝酸鉄九水和物、塩化ジルコニウム、前記リン源がリン酸、前記シリコン源がテトラエトキシシラン又はテトラメトキシシランである請求項１〜３のいずれか１つに記載の正極活物質の製造方法。
【請求項５】
前記溶媒が、アルコール溶媒である請求項１〜４のいずれか１つに記載の正極活物質の製造方法。
【請求項６】
前記アルコール溶媒が、メタノール、エタノール又はプロパノールである請求項５に記載の正極活物質の製造方法。
【請求項７】
前記焼成処理に付す工程が、予め前記ゲルを大気雰囲気、温度４０〜７０℃で１〜７２時間保持して乾燥させ、次いで還元雰囲気、温度４００〜８００℃で１〜４８時間保持することからなる請求項１〜６のいずれか１つに記載の正極活物質の製造方法。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１つに記載の製造方法により得られた正極活物質。
【請求項９】
請求項１〜７のいずれか１つに記載の製造方法により得られた正極活物質と、導電材と、バインダーとを含むことを特徴とする正極。
【請求項１０】
請求項１〜７のいずれか１つに記載の製造方法により得られた正極活物質を含む正極と、負極と、電解質と、セパレータとを有することを特徴とする非水電解質二次電池。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
かくして本発明によれば、オリビン構造を有する下記一般式（１）で示される正極活物質を形成するのに必要なリチウム源、Ｍ源、リン源及びＸ源の各所定量を溶媒に溶解させて溶液を調製する工程と、得られた溶液を環状エーテルの付与によりゲル化させる工程と、
生成したゲルを焼成処理することで炭素被覆されたリチウム含有複合酸化物を得る工程を含む、下記一般式（１）：
ＬｉxＭyＰ1-zＸzＯ4    （１）
で表される化合物（式中、Ｍは、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ａｌ及びＹからなる群から選択される少なくとも１種の元素であり、Ｘは、Ｓｉ及びＡｌから成る群から選択される少なくとも１種であり、０＜ｘ≦２、０．８≦ｙ≦１．２、０≦ｚ＜１の範囲である）を得ることを特徴とする正極活物質の製造方法が提供される。
【手続補正書】
【提出日】平成24年3月28日(2012.3.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
タッチ位置を検出され得る領域に対応するアクティブエリアと、前記アクティブエリアに隣接する非アクティブエリアと、を有する透明な基材フィルムと、
前記基材フィルムの一方の側の面上に設けられた透明導電体であって、前記基材フィルムの前記アクティブエリアに配置されたセンサ部と、前記センサ部に連結され前記基材フィルムの前記非アクティブエリアに配置された端子部と、を有する透明導電体と、
前記透明導電体の前記端子部の一部分上に前記基材フィルムから離間して設けられた取出導電体と、を備え、
前記透明導電体の前記一部分は線状に形成され、前記取出導電体は当該一部分上を線状に延び、前記透明導電体の前記一部分および前記取出導電体が、前記基材フィルムの前記非アクティブエリア上を延びる配線を形成しており、
前記取出導電体は、その端部が前記アクティブエリアに配置された前記透明導電体の前記センサ部の端部に隣接しないよう、前記非アクティブエリアに配置された前記透明導電体の前記端子部の前記一部分上に配置されている
ことを特徴とするタッチパネルセンサ。
【請求項２】
投影型容量結合方式のタッチパネルセンサにおいて、
タッチ位置を検出され得る領域に対応するアクティブエリアと、前記アクティブエリアに隣接する非アクティブエリアと、を有する透明な基材フィルムと、
前記基材フィルムの一方の側の面上に設けられた複数の透明導電体であって、前記基材フィルムの前記アクティブエリアに配置されたセンサ部と、前記センサ部に連結され前記基材フィルムの前記非アクティブエリアに配置された端子部と、を有する複数の透明導電体と、
前記複数の透明導電体各々の前記端子部の一部分上に前記基材フィルムから離間して設けられた複数の取出導電体と、を備え、
前記透明導電体の前記一部分は線状に形成され、前記取出導電体は当該一部分上を線状に延び、前記透明導電体の前記一部分および前記取出導電体が、前記基材フィルムの前記非アクティブエリア上を延びる配線を形成しており、
前記取出導電体は、その端部が前記アクティブエリアに配置された前記透明導電体の前記センサ部の端部に隣接しないよう、前記非アクティブエリアに配置された前記透明導電体の前記端子部の前記一部分上に配置されている
ことを特徴とするタッチパネルセンサ。
【請求項３】
前記取出導電体は、前記透明導電体をなす材料よりも高い導電率を有する材料から形成されている
ことを特徴とする請求項１または２に記載のタッチパネルセンサ。
【請求項４】
前記取出導電体は遮光性を有する
ことを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のタッチパネルセンサ。
【手続補正書】
【提出日】平成24年5月11日(2012.5.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
結像光線（１５）によってマスクパターン（１６）を投影することにより基板（２０）の表面（２１）に前記マスクパターン（１６）を結像するための光学系（１８）と、
測定光線（３４）を案内するための測定光路（３６）であって、前記光学系（１８）の内部に延在する測定光路（３６）と
を備えるマイクロリソグラフィ投影露光用の装置（１０）であって、
該装置（１０）はスキャナーとして構成されており、作動時に前記基板表面（２１）におけるスリット状の面（４４）が前記結像光線（１５）の露光光線によって露光され、前記基板（２０）が、該基板における露光される前記面（４４）が変位されるように露光光線に対して相対移動され、前記測定光路（３６）が、露光動作時に露光される前記面（４４）に先行および／または後続する前記基板（２０）の部分（４６，４８）に前記測定光線（３４）が向けられるように構成されている装置。
【請求項２】
ＥＵＶ波長領域および／または高周波数波長領域で作動するように構成されたことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記光学系（１８）の少なくとも２つの光学素子（２２）が前記測定光路（３６）に含まれるように、前記測定光路（３６）が前記光学系（１８）の内部に延在することを特徴とする請求項１または２に記載の装置（１０）。
【請求項４】
前記装置（１０）の作動時に、前記測定光路に含まれない少なくとも一つの光学素子が存在するように、前記測定光線（３４）は、部分的にのみ前記光学系（１８）を通過することを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の装置（１０）。
【請求項５】
前記基板表面（２１）への前記マスクパターンの結像を行うと同時に、前記基板表面（２１）における少なくとも１点の位置を決定するように構成されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の装置。
【請求項６】
前記測定光線（３４）を前記光学系（１８）に結合するために設けられた光学的な結合素子（３８）をさらに備えることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の装置。
【請求項７】
前記光学系（１８）から前記測定光線（３４）を分離するための光学的な分離素子（４０）をさらに備えることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の装置。
【請求項８】
前記光学系（１８）が少なくとも１つの反射光学素子（２２）を備え、前記装置（１０）の作動時に前記少なくとも１つの反射光学素子（２２−６；２２−３，２２−４，２２−５，２２−６）で前記測定光線（３４）が反射されるように、前記測定光路（３６）が前記光学系（１８）の内部に延在していることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の装置。
【請求項９】
前記測定光路（３６）は、前記少なくとも１つの反射光学素子（２２−３，２２−４，２２−５，２２−６）で前記測定光線（３４）が２回反射されるように構成されていることを特徴とする請求項８に記載の装置。
【請求項１０】
前記光学系（１８）が少なくとも１つの反射光学素子（２２）を備え、前記測定光路（３４）が、前記装置（１０）の作動時に前記測定光線（３４）が前記少なくとも１つの反射光学素子（２２−５，２２−６）における開口（２６）を通過するように前記光学系（１８）の内部に延在していることを特徴とする請求項１〜９のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１１】
前記光学系（１８）が、反射光学系として構成されていることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１２】
前記測定光路（３６）が、前記装置（１０；１１０）の作動時に、前記測定光路（３６）を案内される前記測定光線（３４）によって前記基板表面（２１）の少なくとも１点をその位置に関して測定するように構成されていることを特徴とする請求項１〜１１のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１３】
前記測定光路（３６）が、前記装置（１０；１１０）の作動時に前記測定光線（３４）が前記基板（２０）の表面（２１）で反射されるように構成されていることを特徴とする請求項１〜１２のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１４】
結像すべき前記マスクパターン（１６）がマスク（１４）に配置されており、前記測定光路（３６）が、前記装置（１０）の作動時に前記マスク（１４）における前記光学系（１８）に向いた表面（１４ａ）で前記測定光線（３４）が反射されるように構成されていることを特徴とする請求項１〜１３のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１５】
前記光学系（１８）の瞳平面（２８）に遮光膜（２９）が配置されていることを特徴とする請求項１〜１４のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１６】
前記測定光路（３６）が、前記光学系（１８）の前記瞳平面（３０）を少なくとも１回通って延在することを特徴とする請求項１〜１５のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１７】
マイクロリソグラフィ投影露光用の装置（１０）と、該装置（１０）の露光位置に配置された基板（２０）とを備えるシステムの特性を決定するための方法において、
前記装置（１０）が、結像光線（１５）によってマスクパターン（１６）を投影することにより前記基板（２０）の表面（２１）に前記マスクパターン（１６）を結像するための光学系（１８）を備え、前記方法が、
スキャナーとして構成される前記装置の露光動作を行うステップであって、前記基板の前記表面（２１）におけるスリット状の面（４４）が前記結像光線（１５）の露光光線によって露光され、前記基板（２０）が、該基板における露光された前記面（４４）が変位されるように前記露光光線に対して相対移動されるステップと、
測定光線（３４）が、露光される前記面（４４）に先行および／または後続する前記基板（２０）の部分（４６，４８）に向けられるように、前記装置の露光動作時に、前記光学系（１８）の内部の測定光路内で前記測定光線（３４）を案内するステップと、
該測定光線（３４）から前記システムの特性を決定するステップと
を含むことを特徴とする方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2012089852.tif 000001
【図２】
2012089852.tif 000002
【図３】
2012089852.tif 000003
【図４】
2012089852.tif 000004
【図５】
2012089852.tif 000005
【図６】
2012089852.tif 000006
【図７】
2012089852.tif 000007
【図８】
2012089852.tif 000008
【図９】
2012089852.tif 000009
【図１０】
2012089852.tif 000010
【図１１】
2012089852.tif 000011
【図１２】
2012089852.tif 000012
【手続補正書】
【提出日】平成24年7月5日(2012.7.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
成膜室の内部をフッ素化合物系ガスによりクリーニングを行った後、前記成膜室にて基板上に絶縁膜を形成する第１の工程と、
前記成膜室に水素で希釈したシランガスを導入しプラズマを発生させて、フッ素濃度が１×１０１８ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以下である非晶質シリコン膜を前記絶縁膜に接して形成する第２の工程と、を有し、
前記第１の工程の後、大気に触れることなく前記第２の工程が行われ、
前記基板はアルカリ金属を含有し、
前記絶縁膜はアルカリ金属をブロックする機能を有し、
前記絶縁膜はフッ素を含有することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項２】
成膜室の内部をフッ素化合物系ガスによりクリーニングを行い、前記成膜室の内部にコーティング膜を成膜した後、前記成膜室にて基板上に絶縁膜を形成する第１の工程と、
前記成膜室に水素で希釈したシランガスを導入しプラズマを発生させて、フッ素濃度が１×１０１８ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以下である非晶質シリコン膜を前記絶縁膜に接して形成する第２の工程と、を有し、
前記第１の工程の後、大気に触れることなく前記第２の工程が行われ、
前記基板はアルカリ金属を含有し、
前記絶縁膜はアルカリ金属をブロックする機能を有し、
前記絶縁膜はフッ素を含有することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項３】
請求項２において、
前記コーティング膜は、酸化シリコン、窒化シリコン、酸化窒化シリコン、及びシリコンから選ばれた一種又は複数種を有することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一項において、
前記第２の工程における前記シランガスの流量と前記水素の流量との比は、１：２〜１：２０であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一項において、
前記フッ素化合物系ガスは、ＣｌＦ３又はＮＦ３を有することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一項において、
前記絶縁膜は、少なくとも２つの層を有することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項７】
請求項１乃至請求項６のいずれか一項において、
前記非晶質シリコン膜の形成時の前記成膜室内の圧力は、１３Ｐａ以上１６０Ｐａ以下であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか一項において、
前記非晶質シリコン膜の形成時の前記成膜室内の温度は、３００℃以上４００℃以下であることを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項９】
基板上の絶縁膜と、
前記絶縁膜上に接して設けられた、フッ素濃度が１×１０１８ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以下である非晶質シリコン膜と、を有する半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成24年10月30日(2012.10.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を保持して搬送する保持部材が搬送基体に進退自在に設けられた基板搬送装置において、前記保持部材の異常の有無を判定する装置において、
前記保持部材を前進させたときに当該保持部材がその前を通過するように、保持部材の進行方向に対して側方に設けられ、当該保持部材の上下方向の位置及び前記進退方向に対して左右方向の位置の少なくとも一方を光学的に検出する光検出部と、
前記保持部材を前記光検出部に対して進退させたときに、当該保持部材の上下方向の位置と保持部材の進退方向の位置とを対応付けたデータ、及び保持部材の左右方向の位置と保持部材の進退方向の位置とを対応付けたデータの少なくとも一方のデータを取得するデータ取得部と、を備え、
前記取得されたデータに基づいて前記保持部材の姿勢に異常があるか否かが判定されることを特徴とする保持部材の姿勢判定装置。
【請求項２】
前記光検出部は保持部材の上下方向の位置を光学的に検出し、
前記データ取得部は保持部材の上下方向の位置と進退方向の位置とを対応付けたデータを取得するものであり、
前記取得されたデータに基づいて前記進退方向の位置に対して上下方向の位置を二次微分した値を演算し、この値に基づいて保持部材の姿勢の異常の有無を判定する判定部を備えたことを特徴とする請求項１記載の保持部材の姿勢判定装置。
【請求項３】
保持部材の上下方向の位置を光学的に検出する光検出部は、水平かつ上下方向に幅のある光軸を形成する光センサであり、前記光軸を保持部材により遮断するときの遮断量により、保持部材の上下方向の位置を検出することを特徴とする請求項１又は２記載の保持部材の姿勢判定装置。
【請求項４】
前記保持部材は基板の周囲を囲むように設けられた保持枠を備え、
前記光検出部は保持部材の前記左右方向の位置を光学的に検出し、
前記データ取得部は保持部材の前記左右方向の位置と進退方向の位置とを対応付けたデータを取得するものであり、
この取得されたデータに基づいて、前記保持枠の開度に異常があるか否かが判断されることを特徴とする請求項１記載の保持部材の姿勢判定装置。
【請求項５】
前記保持部材の前記左右方向の位置を検出する光検出部は鉛直かつ前記左右方向に幅のある光軸を形成する光センサであり、光軸を保持部材により遮断するときの遮断量により、保持部材の前記左右方向の位置を検出することを特徴とする請求項１又は４記載の保持部材の姿勢判定装置。
【請求項６】
前記データ取得部により取得されたデータに基づいて、保持部材の上下方向の位置と進退方向の位置を対応付けた波形及び保持部材の前記左右方向の位置と進退方向の位置とを対応付けた波形の少なくとも一方を表示する表示部を備えたことを特徴とする請求項１ないし５のいずれか一つに記載の保持部材の姿勢判定装置。
【請求項７】
基板に対して処理を行う基板処理部と、
進退自在に設けられた保持部材により基板を保持して、前記基板処理部に対して基板の搬送を行う基板搬送装置と、
請求項１ないし６のいずれか一つに記載の保持部材の姿勢判定装置と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項８】
基板を保持して搬送する保持部材が搬送基体に進退自在に設けられた基板搬送装置において、前記保持部材の異常の有無を判定する方法において、
前記保持部材を前進させたときに当該保持部材がその前を通過するように、保持部材の進行方向に対して側方に設けられた光検出部により、当該保持部材の上下方向の位置及び前記進退方向に対して左右方向の位置の少なくとも一方を光学的に検出する検出工程と、
前記保持部材を前記光検出部に対して進退させたときに、当該保持部材の上下方向の位置と保持部材の進退方向の位置とを対応付けたデータ、及び保持部材の前記左右方向の位置と保持部材の進退方向の位置とを対応付けたデータの少なくとも一方のデータを取得するデータ取得工程と、を含み、
前記取得されたデータに基づいて前記保持部材の姿勢に異常があるか否かが判定されることを特徴とする保持部材の姿勢判定方法。
【請求項９】
前記検出工程は保持部材の上下方向の位置を光学的に検出するものであり、
前記データ取得工程は保持部材の上下方向の位置と進退方向の位置とを対応付けたデータを取得するものであり、
前記取得されたデータに基づいて進退方向の位置に対して上下方向の位置を二次微分した値を演算し、この値に基づいて保持部材の姿勢の異常の有無を判定する判定工程を含むことを特徴とする請求項８記載の保持部材の姿勢判定方法。
【請求項１０】
保持部材の上下方向の位置を光学的に検出する光検出部は水平かつ上下方向に幅のある光軸を形成する光センサであり、前記光軸を保持部材により遮断するときの遮断量により、保持部材の上下方向の位置を検出することを特徴とする請求項８又は９記載の保持部材の姿勢判定方法。
【請求項１１】
基板を保持して搬送する保持部材が搬送基体に進退自在に設けられた基板搬送装置において、前記保持部材の異常の有無を判定する装置に用いられるコンピュータプログラムを格納した記憶媒体であって、前記プログラムは、請求項８ないし１０のいずれか一つに記載の保持部材の姿勢判定方法を実行するようにステップ群が組まれていることを特徴とする記憶媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成24年7月26日(2012.7.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明に係る加熱調理装置の異常報知システムは、加熱源の調理条件、前記加熱源の通電条件、前記加熱源の動作状況および前記加熱源を除く電気部品の運転状態の何れか１以上を含む報知情報と、異常状態を示す異常情報とを表示する表示手段を備えた加熱調理装置本体から、当該加熱調理装置本体の異常発生時に発せられる前記異常情報を受け取り、異常報知を行う異常報知システムにおいて、前記加熱調理装置本体は、前記報知情報と異常情報に基づく表示指令信号を、無線又は赤外線によって前記本体の外部に配置された外部表示機器に送信する放射部を備え、前記外部表示機器は、前記放射部から発せられる異常情報に基づく前記表示指令信号を受け取った場合に、当該異常状態を報知する制御部を備え、前記制御部は、使用者の操作によって前記加熱調理装置本体の監視データの提供を求める命令信号を発生させることを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
加熱源の調理条件、前記加熱源の通電条件、前記加熱源の動作状況および前記加熱源を除く電気部品の運転状態の何れか１以上を含む報知情報と、異常状態を示す異常情報とを表示する表示手段を備えた加熱調理装置本体から、当該加熱調理装置本体の異常発生時に発せられる前記異常情報を受け取り、異常報知を行う異常報知システムにおいて、
前記加熱調理装置本体は、前記報知情報と異常情報に基づく表示指令信号を、無線又は赤外線によって前記本体の外部に配置された外部表示機器に送信する放射部を備え、
前記外部表示機器は、前記放射部から発せられる異常情報に基づく前記表示指令信号を受け取った場合に、当該異常状態を報知する制御部を備え、
前記制御部は、使用者の操作によって前記加熱調理装置本体の監視データの提供を求める命令信号を発生させることを特徴とする加熱調理装置の異常報知システム。
【請求項２】
前記報知情報は、前記加熱調理装置本体に異常が発生した場合、当該異常の状態を是正するための是正指令が含まれた第一ステップ報知情報と、前記是正指令によっても前記異常の状態が解消されなかった場合、前記各加熱源の通電を停止する指令を含む第二ステップ報知情報と、を有し、
前記放射部から前記外部表示機器に対して前記第二ステップ報知情報のみを表示するための報知信号を送ることを特徴とする請求項１に記載の加熱調理装置の異常報知システム。
【請求項３】
前記加熱調理装置本体の外部には、前記放射部から発せられる前記報知情報に基づく前記表示指令信号を受け取った場合に起動され、前記加熱調理装置本体の様子を撮影して、その撮影情報を前記外部表示機器に伝達するカメラが配置されており、
前記カメラは、前記制御部から出された前記命令信号を受けた場合に起動され撮影動作を行うことを特徴とする請求項１に記載の加熱調理装置の異常報知システム。
【請求項４】
前記報知情報には、前記加熱源による調理動作の終了を示す情報が含まれ、当該調理動作の終了を示す情報が前記放射部から前記外部表示機器に送られることを特徴とする請求項３に記載の加熱調理装置の異常報知システム。
【手続補正書】
【提出日】平成24年5月8日(2012.5.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電粉と硬化性樹脂と硬化剤とを含有する導電性ペーストであって、
前記導電粉が多面体形状を有し、かつ前記導電粉の粒度分布におけるＤ１０に対するＤ９０の比率が１．０〜４．０であり、
前記導電粉の比表面積をＳｍ２／ｇ、平均粒径Ｄ５０をｄμｍ、理論密度をρｇ／ｃｍ３としたとき、下記一般式（１）で表される条件を満足し、
３≦Ｓ×ｄ×ρ≦１４        （１）
前記導電粉の表面が酸化防止処理を施されている導電性ペースト。
【請求項２】
反応性希釈剤を含有する、請求項１に記載の導電性ペースト。
【請求項３】
シランカップリング剤を含有する、請求項１又は２に記載の導電性ペースト。
【請求項４】
絶縁体と、前記絶縁体を貫通する孔と、前記孔に充填された請求項１〜３のいずれか１項に記載の導電性ペーストと、を備える、プリプレグ。
【請求項５】
絶縁体と、前記絶縁体を貫通する孔と、前記孔に充填されたビアと、前記絶縁体の主面上に前記ビアと接するように設けられた金属箔と、を備え、
前記ビアは、請求項１〜３のいずれか１項に記載の導電性ペーストの硬化体である、金属箔張積層板。
【請求項６】
絶縁体と、前記絶縁体を貫通する孔と、前記孔に充填されたビアと、前記絶縁体の主面上に前記ビアと接するように設けられた導体パターンと、を備え、
前記ビアは、請求項１〜３のいずれか１項に記載の導電性ペーストの硬化体である、プリント配線板。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９９】
（実施例１〜１４、比較例１〜３、実施例４ａ〜６ａ）
導電性ペーストを製造するため、（Ａ）導電粉として、（Ａ１）還元銅粉（三井金属鉱業株式会社製、商品名：１４００Ｙ）、（Ａ２）還元銅粉（三井金属鉱業株式会社製、商品名：１１００Ｙ）、（Ａ３）還元銅粉（三井金属鉱業株式会社製、商品名：１２００Ｙ）、（Ａ４）還元銅粉（三井金属鉱業株式会社製、商品名：１５００Ｙ）、（Ａ５）還元銅粉（三井金属鉱業株式会社製、商品名：１０２０Ｙ）、（Ａ６）アトマイズ銅粉（三井金属鉱業株式会社製、商品名：ＭＡ−ＣＯ４Ｊ）、（Ａ７）銀めっき銅粉（三井金属鉱業株式会社製、商品名：１４００Ｙ／Ａｇ）、及び（Ａ８）銀粉（三井金属鉱業株式会社製、商品名：ＳＰＮ１０ＪＦ）を準備した。（Ａ１）〜（Ａ８）の各導電粉の性状は、表１に示す通りである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１９】
【表３】
2012089512.tif 000001
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２１】
（５）粘度及び弾性率測定試験
硬化剤の含有量が異なる、実施例１，実施例１４，実施例４ａ，実施例５ａ及び実施例６ａの導電性ペーストの粘度と、該導電性ペーストに含まれる樹脂組成物から作製した硬化樹脂の弾性率を測定した。粘度は、粘度計（東機産業株式会社製、商品名：ＲＥ８０Ｕ、ローター：Ｒ１４（３°））を用いて測定した。この粘度計を用いて、２５℃、０．５ｒｐｍで１０分後の粘度を測定した。また、上記実施例の導電性ペーストから導電粉を除いた樹脂組成物（バインダー樹脂）をそれぞれ作製した後、２００℃で１．５時間、オーブン中で乾燥して該バインダー樹脂を硬化させ、硬化樹脂を作製した。この硬化樹脂を幅１０ｍｍ×長さ１００ｍｍ×高さ１０ｍｍのサイズに加工して、株式会社オリエンテック製５トンテンシロン  ＲＴＣ−１３５０Ａ型を用いて弾性率を測定した。測定結果は表５に示す通りであった。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２２】
【表５】
2012089512.tif 000002
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２３】
（６）シェルライフ評価試験
実施例１、実施例１４、実施例４ａ，実施例５ａ及び実施例６ａの導電性ペーストを冷蔵庫（−１０℃）中に所定期間（３０日間、１２０日間）保管した。所定期間保管後、上記（５）と同様にして、これらの導電性ペーストの粘度を測定した。さらに、この導電性ペーストを用いて上記（１）と同様にして評価用基板を作製し、上記（２）のビア接続抵抗値測定試験を行った。３０日間経過後の各試験結果を表６に、１２０日間経過後の各試験結果を表７に示す。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２４】
【表６】
2012089512.tif 000003
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２５】
【表７】
2012089512.tif 000004
【手続補正書】
【提出日】平成24年8月7日(2012.8.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示部と、
上記表示部に設けられたタッチパネルと、
振動センサと、
上記表示部になされたタッチ操作の位置を上記タッチパネルの出力から検出し入力指示を行う第１の入力指示動作、もしくは上記表示部になされたタップ操作の位置を上記振動センサの出力から検出し入力指示を行う第２の入力指示動作のいずれかを選択し実行する制御部と、
を有することを特徴とする携帯機器。
【請求項２】
上記表示部のメニュー画面に表示される項目数は、上記第２の入力指示動作が選択された際に表示される項目数に比べて第１の入力指示動作が選択された際に表示される項目数が多いことを特徴とする請求項１に記載の携帯機器。
【請求項３】
上記制御部は、上記振動センサの出力から表示部が設けられた上記携帯機器のボディ面以外の面にタップ操作が行われたことを検出した場合、上記第２の入力指示動作を選択することを特徴とする請求項１または２に記載の携帯機器。
【請求項４】
水中検出部を更に有し、
上記制御部は、上記水中検出部の出力から上記携帯機器が水中にあることを検出した場合、上記第２の入力指示動作を選択することを特徴とする請求項１または２に記載の携帯機器。
【請求項５】
上記振動センサは加速度センサであることを特徴とする請求項１ないし４に記載の携帯機器。
【請求項６】
上記振動センサは角速度センサであることを特徴とする請求項１ないし４に記載の携帯機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】携帯機器
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、携帯機器に関し、詳しくは、振動センサによる検知結果に応じて機器への入力指示を行うことのできる携帯機器に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は、このような事情を鑑みてなされたものであり、通常はタッチパネルで入力し、タッチパネルを使用しがたい状況ではタップ操作に切り換えることができる携帯機器を提供することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記目的を達成するため第１の発明に係る携帯機器は、表示部と、上記表示部に設けられたタッチパネルと、振動センサと、上記表示部になされたタッチ操作の位置を上記タッチパネルの出力から検出し入力指示を行う第１の入力指示動作、もしくは上記表示部になされたタップ操作の位置を上記振動センサの出力から検出し入力指示を行う第２の入力指示動作のいずれかを選択し実行する制御部と、を有する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
第２の発明に係る携帯機器は、上記第１の発明において、上記表示部のメニュー画面に表示される項目数は、上記第２の入力指示動作が選択された際に表示される項目数に比べて第１の入力指示動作が選択された際に表示される項目数が多い。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
第３の発明に係る携帯機器は、上記第１または第２の発明において、上記制御部は、上記振動センサの出力から表示部が設けられた上記携帯機器のボディ面以外の面にタップ操作が行われたことを検出した場合、上記第２の入力指示動作を選択する。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
第４の発明に係る携帯機器は、上記第１または第２の発明において、水中検出部を更に有し、上記制御部は、上記水中検出部の出力から上記携帯機器が水中にあることを検出した場合、上記第２の入力指示動作を選択する。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
第５の発明に係る携帯機器は、上記第１ないし第４の発明において、上記振動センサは加速度センサである。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
第６の発明に係る携帯機器は、上記第１ないし第４の発明において、上記振動センサは角速度センサである。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明によれば、振動センサとタッチパネルとを併用することで、通常はタッチパネルで入力し、タッチパネルを使用し難い状況ではタップ操作に切り換えることができる携帯機器を提供できる。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成24年2月17日(2012.2.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
周辺回路の障害により当該周辺回路を監視する周辺監視回路から出力される障害信号を第１の経路を介して取得し、当該障害信号を外部監視装置へ出力する障害信号出力部と、
前記周辺監視回路から出力される障害信号を前記第１の経路とは異なる第２の経路を介して取得し、当該障害信号に基づいて半導体集積回路の動作制御を行う制御部と、を備える障害監視回路。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】障害監視回路
【手続補正書】
【提出日】平成24年8月19日(2012.8.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
胴部の表甲下側に空洞な共鳴箱部を有する弦楽器において、張設される弦の振動を受容するサドルを有するブリッジを、締着位置を調整可能とする締着手段を用いて前記表甲表面へ締着したブリッジ部と、前記弦を保持するための固定ピンを不要とし、前記表甲表面への突出部の無い弦端保持機構を前記表甲裏面へ固着した弦端保持機構部からなる、前記弦楽器のブリッジ機構。
【請求項２】
胴部の表甲下側に空洞な共鳴箱部を有する弦楽器において、張設される弦を保持するための固定ピンを不要とし、前記表甲表面への突出部の無い弦端保持機構を前記表甲裏面へ固着した弦端保持機構。
【請求項３】
前記弦端保持機構が、前記弦に対して横方向に長い板状物であって、各前記弦端に連結されたエンドボールを挿通させるための上面から下面まで貫通した第２挿通孔を前記弦の本数分有し、各前記第２挿通孔に連続して各前記弦端部を陥入する第１スリットを有するベースの上面へ、前記弦に対して横方向に長い硬質材を用いた肉薄のプレート状物であって、各前記エンドボールを保持する前記弦の本数分のくぼみ部を有し、各前記くぼみ部に連続して各前記弦端部を陥入する第２スリット、及び前記第２スリットに連続して前記エンドボールを挿通する第３挿通孔を有する保持板を固着して構成される請求項１と請求項２に記載の弦端保持機構。
【請求項４】
胴部の表甲下側に空洞な共鳴箱部を有する弦楽器において、前記表甲裏面側に設けられた各弦端挿通孔のテール側へ近接して前記表甲裏面側へ固着される張設される弦に対して横方向に長い硬質材を用いた肉薄のプレート状物であって、各前記弦端に連結されたエンドボールを保持する前記弦の本数分のくぼみ部を有し、各前記くぼみ部に連続して各前記弦端部を陥入する第２スリット、及び前記第２スリットに連続して前記エンドボールを挿通する第３挿通孔を有する弦端の保持板。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
【特許文献１】特開２０００−２１４８５６
【特許文献２】特開２００１−１４２４５５
【特許文献３】実公昭６３−４４８６４
【特許文献４】ＵＳ  Ｐａｔｅｎｔ  Ｄｏｃｕｍｅｎｔｓ  ９７６４２８
【特許文献５】ＵＳ  Ｐａｔｅｎｔ  Ｄｏｃｕｍｅｎｔｓ  ４８０７５０８
【特許文献６】ＵＳ  Ｐａｔｅｎｔ  Ｄｏｃｕｍｅｎｔｓ  ７３９４００５
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
請求項２の発明は、胴部の表甲下側に空洞な共鳴箱部を有する弦楽器において、張設される弦を保持するための固定ピンを不要とし、前記表甲表面への突出部の無い弦端保持機構を前記表甲裏面へ固着した弦端保持機構に係わる。前記弦端保持機構は、前記表甲表面側より、前記表甲の有する貫通された弦の本数分の各第１挿通孔から表甲裏面側へと挿通された各弦の操作方向を変化する事により、各弦端の保持とその解除を可能とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
請求項３の発明は、前記弦端保持機構が、前記弦に対して横方向に長い板状物であって、各前記弦端に連結されたエンドボールを挿通させるための上面から下面まで貫通した第２挿通孔を前記弦の本数分有し、各前記第２挿通孔に連続して各前記弦端部を陥入する第１スリットを有するベースの上面へ、前記弦に対して横方向に長い硬質材を用いた肉薄のプレート状物であって、各前記エンドボールを保持する前記弦の本数分のくぼみ部を有し、各前記くぼみ部に連続して各前記弦端部を陥入する第２スリット、及び前記第２スリットに連続して前記エンドボールを挿通する第３挿通孔を有する保持板をねじ、接着材または両面接着テープ等を用いて固着して構成される請求項１と請求項２に記載の弦端保持機構に係わる。前記弦端保持機構は、前記表甲表面側より、前記表甲の有する貫通された弦の本数分の各第１挿通孔から表甲裏面側へと挿通された各弦の操作方向を変化する事により、各弦端の保持とその解除を可能とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
請求項４の発明は、胴部の表甲下側に空洞な共鳴箱部を有する弦楽器において、前記表甲裏面側へねじ、接着材または両面接着テープ等を用いて前記表甲裏面側に設けられた各弦端挿通孔のテール側へ近接して固着される、前記弦に対して横方向に長い硬質材を用いた肉薄のプレート状物であって、各前記エンドボールを保持する前記弦の本数分のくぼみ部を有し、各前記くぼみ部に連続して各前記弦端部を陥入する第２スリット、及び前記第２スリットに連続して前記エンドボールを挿通する第３挿通孔を有する弦端の保持板に係わる。これは張設される弦を保持するための固定ピンを不要とし各弦の操作方向を変化する事により、各弦端の保持とその解除を可能とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
請求項４に係わる発明の実施例として、図１８に保持板１３を従来のブリッジ２７と組み合わせる実施例を示す。表甲５裏面に固着されたブリッジプレート２９に保持板１３を、各ブリッジピンホール３３テール側の各前記ブリッジピンホール３３と保持板の第３挿通孔２２が合致する位置に、ねじ、接着材または両面接着テープ等を用いて固着し、ブリッジ２７、表甲５、ブリッジプレート２９に架けてエンドボール１４に連結された各弦端部が抵抗無く陥入される大きさの第３スリット３４を設ける事により、図１１に示す手順と同様の操作で弦端保持機構として機能する。
【手続補正書】
【提出日】平成24年7月19日(2012.7.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上にネガ型の第１のレジスト材料を積層する下部レジスト層積層工程と、
前記下部レジスト層を第１のパターンで露光する第１の露光工程と、
第１の露光工程に引き続き、前記下部レジスト層上に、ネガ型の第２のレジスト材料を積層する上部レジスト層積層工程と、
前記下部レジスト層を露光するために用いた前記第１のパターンと少なくとも一部が重合する第２のパターンで前記上部レジスト層を露光する第２の露光工程と、
不要なレジストを除去して開口部が形成されたレジスト層を形成する現像工程とを有し、
前記第２の露光工程では、前記上部レジスト層に表れる第２の未露光部分の少なくとも一部が前記第１のパターンにより前記下部レジスト層に表れた第１の未露光部分と重合するように、当該上部レジスト層を第２のパターンで露光し、
前記現像工程では、前記第１の未露光部分及び第２の未露光部分を除去し、深さ方向に段差部を有する開口部が形成されたレジスト層を形成することを特徴とするフォトレジストのパターン形成方法。
【請求項２】
請求項１に記載のフォトレジストのパターン形成方法を用いたプローブの製造方法であって、
前記上部レジスト層を前記下部レジスト層よりも厚膜に形成したレジストパターンの開口部を埋めるように金属層を形成するメッキ工程と、
前記金属層が形成された基板表面にエッチング用レジストを積層するエッチング用レジスト積層工程と、
前記エッチング用レジストに、プローブ先端部に対応する位置に開口が形成されたパターンで露光するエッチング用露光工程と、
前記エッチング用レジストに前記開口を形成する現像工程と、
前記開口が形成された前記エッチング用レジストを用いて、少なくとも前記プローブ先端部に対応する位置の金属層の上部をエッチングするエッチング工程と、
前記フォトレジスト及びエッチング用レジストを除去するレジスト除去工程とを有し、
前記メッキ工程は、前記開口部内に露出する前記基板上に前記段差部の上部表面よりも浅い厚みで第１の金属層を形成する第１のメッキ工程と、前記第１の金属層の上面であって、前記開口部全体を埋めるように第２の金属層を形成する第２のメッキ工程とを有することを特徴とするプローブの製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】フォトレジストのパターン形成方法及び同方法を用いたプローブの製造方法