(57)【要約】  ピーク波長が４００ｎｍ以下にある紫外線を発光する発光素子（２４）と、発光素子（２４）から離間して配置された透光性部材（１０）とを備え、透光性部材（１０）が、第１の面および第１の面とは反対側の第２の面を有し、ピーク波長における透過率が８８％以上である透光性部材本体（１２）と、透光性部材本体（１２）の第１の面および第２の面に設けられた、空孔を有する無機物膜（１４）とを有し、透光性部材（１０）が、発光素子（２４）からの紫外線が無機物膜（１４）を透過するように配置された紫外線発光装置（２０）。
2015093379.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ピーク波長が４００ｎｍ以下にある紫外線を発光する発光素子と、
前記発光素子から離間して配置された透光性部材と
を備え、
前記透光性部材が、
第１の面および第１の面とは反対側の第２の面を有し、前記ピーク波長における透過率が８８％以上である透光性部材本体と、
前記透光性部材本体の第１の面および第２の面の一方または両方に設けられた、空孔を有する無機物膜と
を有し、
前記透光性部材が、前記発光素子からの紫外線が前記無機物膜を透過するように配置された、紫外線発光装置。
【請求項２】
前記透光性部材本体の厚さが、０．１〜４．０ｍｍである、請求項１に記載の紫外線発光装置。
【請求項３】
前記無機物膜は、物理膜厚が１３〜１１７ｎｍである、請求項１または２に記載の紫外線発光装置。
【請求項４】
前記無機物膜は、前記ピーク波長における屈折率が１．０４〜１．４８である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の紫外線発光装置。
【請求項５】
前記透光性部材のヘイズが、１．０％以下である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の紫外線発光装置。
【請求項６】
前記無機物膜は、複数の中空ＳｉＯ２粒子を含み、前記中空ＳｉＯ２粒子内および前記中空ＳｉＯ２粒子間に空孔を有するシリカ膜である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の紫外線発光装置。
【請求項７】
前記無機物膜は、複数の鎖状中実ＳｉＯ２粒子を含み、前記鎖状中実ＳｉＯ２粒子間に空孔を有するシリカ膜である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の紫外線発光装置。
【請求項８】
前記無機物膜は、ＳｉＯ２を含むマトリックス中に複数の独立した空孔を有するシリカ膜である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の紫外線発光装置。
【請求項９】
前記ピーク波長における前記無機物膜の屈折率ｎａと、前記ピーク波長における前記透光性部材本体の屈折率ｎｓとが、下式（１）の関係を満足し、
前記無機物膜の物理膜厚ｔａ（ｎｍ）と、前記ピーク波長λ（ｎｍ）と、前記ピーク波長における前記無機物膜の屈折率ｎａとが、下式（２）の関係を満足する、請求項１または２に記載の紫外線発光装置。
【数１】
2015093379.tif 000008
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、紫外線発光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体発光素子の高輝度化、高出力化に伴い、露光装置、殺菌装置等に用いられる紫外線ランプ（高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ等）の代替品として、半導体発光素子を備えた紫外線発光装置が実用化されている。【０００３】
紫外線発光装置としては、たとえば図８に示すように、凹部が形成された基板１０２と、基板１０２の凹部の底面に実装された発光素子１０４と、凹部内の空隙、すなわち空気層１０６を介して発光素子１０４から離間して基板１０２の凹部の開口を封止するように設けられた透光性部材１０８とを備えた紫外線発光装置１００が知られている（特許文献１、２参照）。【０００４】
紫外線発光装置を構成する各部材には、紫外線に対する耐性が求められる。そのため、基板の材料としては、通常、セラミックスが用いられ、透光性部材の材料としては、通常、ガラスが用いられる。また、通常の可視光線発光装置においては、凹部内には樹脂が充填されているが、紫外線発光装置においては、紫外線によって樹脂が劣化してしまうため、凹部内には樹脂が充填されておらず、空気層とされている。【０００５】
基板の凹部内が空気層とされた紫外線発光装置においては、透光性部材の両面が、ガラスと空気との界面となっている。ガラスと空気との屈折率差は大きいため、空気層側から透光性部材に入射する紫外線の反射、および透光性部材から紫外線発光装置の外部に出射する紫外線の反射が大きくなる。また、透光性部材として通常のソーダライムガラス、いわゆる青板ガラスを用いた場合、透光性部材による紫外線の吸収が多くなる。以上のことから、従来の透光性部材には、紫外線の取り出し効率が低いという問題があり、そして、紫外線発光装置には、出射される紫外線の強度が不充分であるという問題がある。【０００６】
また、透光性部材として通常のソーダライムガラスを用いた場合、紫外線によって透光性部材が変質し、紫外線発光装置から出射される紫外線の強度が経時的に低下する問題がある。【０００７】
なお、可視光線発光装置において、透光性部材の片面または両面に蒸着によって無機材料の単層膜または多層膜を形成し、可視光線の反射を抑え、ニュートンリングの発生を抑えることが提案されている（特許文献３）。しかし、無機材料の単層膜または多層膜は、可視光線の反射を抑えるように設計されており、紫外線の反射を必ずしも抑えることはできない。また、該透光性部材は、紫外線への耐性を考慮されたものではない。よって、可視光線発光装置の透光性部材を、そのまま紫外線発光装置の透光性部材として用いても、前記課題を解決できない。【０００８】
また、透光性部材本体の表面に、空孔を有する無機物膜を形成した、低反射の透光性部材が提案されている（特許文献４、５）。しかし、該透光性部材は、太陽電池用カバーガラス、ディスプレイ、自動車ガラス、窓ガラス等に用いることを想定したもの、すなわち可視光線の反射を抑えるものであり、むしろ紫外線は透過させないことが要求されるものである。また、該透光性部材は、紫外線への耐性を考慮されたものではない。よって、該透光性部材を、そのまま紫外線発光装置の透光性部材として用いても、前記課題を解決できない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】日本国特開２００７−３０５７０３号公報
【特許文献２】国際公開第２０１１／０１３５８１号
【特許文献３】日本国特開２００８−０５３２３１号公報
【特許文献４】国際公開第２００６／１２９４０８号
【特許文献５】国際公開第２０１０／０１８８５２号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、出射される紫外線の強度が高く、かつ該強度が経時的に低下しにくい紫外線発光装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の紫外線発光装置用透光性部材は、ピーク波長が４００ｎｍ以下にある紫外線を発光する発光素子と、前記発光素子から離間して配置された透光性部材とを備え、前記透光性部材が、第１の面および第１の面とは反対側の第２の面を有し、前記ピーク波長における透過率が８８％以上である透光性部材本体と、前記透光性部材本体の第１の面および第２の面の一方または両方に設けられた、空孔を有する無機物膜とを有し、前記透光性部材が、前記発光素子からの紫外線が前記無機物膜を透過するように配置されたものである。
前記透光性部材本体の厚さは、０．１〜４．０ｍｍであることが好ましい。
前記無機物膜は、物理膜厚が１３〜１１７ｎｍであることが好ましい。【００１２】
前記無機物膜は、前記ピーク波長における屈折率が１．０４〜１．４８であることが好ましい。
前記透光性部材のヘイズは、１．０％以下であることが好ましい。
前記無機物膜は、複数の中空ＳｉＯ２粒子を含み、前記中空ＳｉＯ２粒子内および前記中空ＳｉＯ２粒子間に空孔を有するシリカ膜であることが好ましい。
前記無機物膜は、複数の鎖状中実ＳｉＯ２粒子を含み、前記鎖状中実ＳｉＯ２粒子間に空孔を有するシリカ膜であることが好ましい。
前記無機物膜は、ＳｉＯ２を含むマトリックス中に複数の独立した空孔を有するシリカ膜であることが好ましい。【００１３】
前記ピーク波長における前記無機物膜の屈折率ｎａと、前記ピーク波長における前記透光性部材本体の屈折率ｎｓとが、下式（１）の関係を満足し、前記無機物膜の物理膜厚ｔａ（ｎｍ）と、前記ピーク波長λ（ｎｍ）と、前記ピーク波長における前記無機物膜の屈折率ｎａとが、下式（２）の関係を満足することが好ましい。【００１４】
【数１】
2015093379.tif 000003
【発明の効果】
【００１５】
本発明の紫外線発光装置は、出射される紫外線の強度が高く、かつ該強度が経時的に低下しにくい。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の紫外線発光装置の一例を示す断面図である。
【図２】透光性部材の一例を示す断面図である。
【図３】空孔を有する無機物膜の一例を示す拡大断面図である。
【図４】空孔を有する無機物膜の他の例を示す拡大断面図である。
【図５】空孔を有する無機物膜の他の例を示す拡大断面図である。
【図６】実施例における紫外線発光装置用透光性部材の透過スペクトルを示す図である。
【図７】実施例における紫外線発光装置用透光性部材の波長３６５ｎｍにおける透過率の入射角依存性を示す図である。
【図８】従来の紫外線発光装置の一例を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下の用語の定義は、本明細書および特許請求の範囲にわたって適用される。
「透光性」とは、紫外線および可視光線を透過できることを意味する。
「ピーク波長」とは、光スペクトルの最大パワー値に対応する波長を意味する。
【００１８】
＜紫外線発光装置＞
本発明の紫外線発光装置は、ピーク波長が４００ｎｍ以下にある紫外線を発光する発光素子と、空隙、すなわち空気層を介して発光素子から離間して、かつ発光素子からの紫外線が後述する無機物膜を透過するように配置された透光性部材とを備える。
【００１９】
図１は、本発明の紫外線発光装置の一実施形態を示す断面図である。紫外線発光装置２０は、凹部が形成された基板２２と、基板２２の凹部の底面に実装された発光素子２４と、凹部内の空隙、すなわち空気層２６を介して発光素子２４から離間して基板２２の凹部の開口を封止するように、かつ発光素子２４からの紫外線が透光性部材本体１２の第１の主表面および第２の主表面に設けられた２つの無機物膜１４を透過するように設けられた透光性部材１０とを備える。
【００２０】
（透光性部材）
透光性部材は、第１の面および第１の面とは反対側の第２の面を有し、ピーク波長における透過率が８８％以上である透光性部材本体と、透光性部材本体の第１の面および第２の面の一方または両方に設けられた、空孔を有する無機物膜とを有する。
【００２１】
図２は、本発明の透光性部材の一実施形態を示す断面図である。透光性部材１０は、第１の主表面および第１の主表面に相対する第２の主表面を有する平板状の透光性部材本体１２と、透光性部材本体１２の第１の主表面および第２の主表面に設けられた、空孔を有する無機物膜１４とを有する。
【００２２】
透光性部材としては、発光素子から発光される紫外線のピーク波長における透過率９２％以上が好ましい。その透過率が９２％以上であれば、透光性部材による紫外線の吸収が少なくなり、紫外線の取り出し効率が高くなる。その透過率の上限は１００％である。
紫外線透過率は、分光光度計により測定される。
透光性部材のヘイズは、１％以下が好ましく、０．５％以下がより好ましい。透光性部材のヘイズが１％以下であれば、紫外線透過率が高くなり、紫外線の取り出し効率が高くなる。また、後述するように、紫外線発光装置を製造する際にレーザ照射によって基板と透光性部材とを封着する場合、レーザを散乱させにくい。透光性部材のヘイズの下限は０％である。
ヘイズは、ＪＩＳ  Ｋ  ７１０５−１９８１にしたがって測定される。
【００２３】
（透光性部材本体）
透光性部材本体の材料としては、紫外線に長時間暴露しても変質しにくいものが好ましく、ガラスがより好ましい。ガラスとしては、ソーダライムガラス、ホウケイ酸ガラス、アルミノケイ酸塩ガラス、無アルカリガラス等が挙げられる。ソーダライムガラスとしては、紫外線透過率が高い点から、鉄分の少ない、いわゆる白板ガラスが好ましい。また、透光性部材本体は、化学強化ガラスであってもよい。
【００２４】
透光性部材本体としては、発光素子から発光される紫外線のピーク波長における透過率が８８％以上であるものを用いる。その透過率が８８％以上であれば、透光性部材本体による紫外線の吸収が少なくなり、透光性部材本体が紫外線によって変質しにくい。また、透光性部材本体による紫外線の吸収が少なくなり、紫外線の取り出し効率が高くなる。その透過率の上限は１００％である。
紫外線透過率は、分光光度計により測定される。
【００２５】
透光性部材本体のヘイズは、１％以下が好ましく、０．５％以下がより好ましい。透光性部材本体のヘイズが１％以下であれば、紫外線透過率が高くなり、紫外線の取り出し効率が高くなる。また、後述するように、紫外線発光装置を製造する際にレーザ照射によって基板と透光性部材とを封着する場合、レーザを散乱させにくい。透光性部材本体のヘイズの下限は０％である。
ヘイズは、ＪＩＳ  Ｋ  ７１０５−１９８１にしたがって測定される。
【００２６】
透光性部材本体の形状は、板状、フィルム状等が挙げられる。板状の場合、平板状に限らず、全面または一部に曲率を有していてもよい。
【００２７】
透光性部材本体の厚さは、０．１〜４．０ｍｍが好ましい。透光性部材本体の厚さが０．１ｍｍ以上であれば、強度が充分となり、取扱い性がよい。透光性部材本体の厚さが４．０ｍｍ以下であれば、紫外線透過率が高くなり、紫外線の取り出し効率が高くなる。
【００２８】
（無機物膜）
無機物膜は、空孔を有する膜である。無機物膜が空孔を有することによって、発光素子から発光される紫外線のピーク波長における無機物膜の屈折率が低くなり、紫外線の反射が低く抑えられる。また物質の屈折率は光波長依存性を持ち、特に紫外線波長領域において顕著に増加する。一方で空気は屈折率の波長依存性が少なく、紫外域においても屈折率はほぼ１である。したがって、空孔を有する膜は、空孔を有さない膜に比べ、紫外線波長領域の低屈折率化が容易となる。
無機物膜は、紫外線の取り出し効率が高くなる点から、透光性部材本体の第１の面および第２の面の両方に設けられることが好ましい。
【００２９】
発光素子から発光される紫外線のピーク波長における無機物膜の屈折率ｎａは、紫外線の反射が低く抑えられる点から、下式（１）の関係を満足することが好ましい。
【００３０】
【数２】
2015093379.tif 000004
【００３１】
ただし、ｎｓは、発光素子から発光される紫外線のピーク波長における透光性部材本体の屈折率である。
屈折率は、実測した無機物膜の物理膜厚と、実測した無機物膜の反射スペクトルとから計算によって求める。
紫外線波長領域においては、一般的な透光性部材のｎｓは１．３０〜１．９０であるから、ｎａの値は１．０４以上、１．４８以下が好ましい。
【００３２】
無機物膜の物理膜厚は、発光素子から発光される紫外線のピーク波長における反射率が極小値となるように調整することが好ましい。
すなわち、無機物膜の物理膜厚ｔａ（ｎｍ）は、下式（２）の関係を満足することが好ましい。
【００３３】
【数３】
2015093379.tif 000005
【００３４】
ただし、λは、発光素子から発光される紫外線のピーク波長（ｎｍ）であり、ｎａは、発光素子から発光される紫外線のピーク波長における無機物膜の屈折率である。
無機物膜の物理膜厚ｔａは、透光性部材の断面の走査型電子顕微鏡像において１００箇所の無機物膜の物理膜厚を計測し、これらを平均した値である。
発光素子から発光される紫外線のピーク波長範囲は一般に２００〜４００ｎｍであるから、物理膜厚は１３ｎｍ以上、１１７ｎｍ以下が好ましい。
【００３５】
無機物膜の、発光素子から発光される紫外線のピーク波長における反射率は、６．０％以下が好ましく、２．０％以下がより好ましい。
紫外線反射率は、分光光度計によって測定される。
【００３６】
無機物膜のヘイズは、１％以下が好ましく、０．５％以下がより好ましい。透光性部材本体のヘイズが１％以下であれば、紫外線透過率が高くなり、紫外線の取り出し効率が高くなる。また、後述するように、紫外線発光装置を製造する際にレーザ照射によって基板と透光性部材とを封着する場合、レーザを散乱させにくい。無機物膜のヘイズの下限は０％である。
ヘイズは、ＪＩＳ  Ｋ  ７１０５−１９８１にしたがって測定される。
【００３７】
無機物膜としては、屈折率が低い点から、シリカ膜、アルミナ膜、フッ化マグネシウム膜、フッ化カルシウム膜等が好ましく、シリカ膜がより好ましい。
【００３８】
空孔を有するシリカ膜としては、たとえば、下記のシリカ膜（ａ）〜（ｃ）が挙げられる。
（ａ）図３に示すような、透光性部材本体１２の表面に形成された、複数の中空ＳｉＯ２粒子１６を含み、中空ＳｉＯ２粒子１６内および中空ＳｉＯ２粒子１６間に空孔を有するシリカ膜１４ａ。シリカ膜１４ａ中に中空ＳｉＯ２粒子１６が占める割合は、通常１０体積％以上、好ましくは３０体積％以上である。
（ｂ）図４に示すような、透光性部材本体１２の表面に形成された、複数の鎖状中実ＳｉＯ２粒子１８を含み、鎖状中実ＳｉＯ２粒子１８間に空孔を有するシリカ膜１４ｂ。シリカ膜１４ｂ中に鎖状中実ＳｉＯ２粒子１８が占める割合は、通常１０体積％以上、好ましくは３０体積％以上である。
（ｃ）図５に示すような、透光性部材本体１２の表面に形成された、ＳｉＯ２を含むマトリックス中に複数の独立した空孔を有するシリカ膜１４ｃ。シリカ膜１４ｃにおけるマトリックス中にＳｉＯ２が占める割合は、通常１０体積％以上、好ましくは２０体積％以上である。
【００３９】
シリカ膜（ａ）：
シリカ膜（ａ）は、たとえば、中空ＳｉＯ２粒子、分散媒、および必要に応じてマトリックス前駆体、他の添加剤等を含む無機物膜形成用組成物（Ｉ）を透光性部材本体の表面に塗布し、乾燥させることによって形成できる。
【００４０】
中空ＳｉＯ２粒子は、一次粒子が２〜１０個集合した、非球形状の凝集体粒子であってもよい。
一次粒子の形状としては、球状、棒状、紡錘形状、柱状、チューブ状、シート状等が挙げられる。中空ＳｉＯ２粒子は、２種以上の形状の一次粒子の混合物であってもよい。
【００４１】
中空ＳｉＯ２粒子の平均一次粒子径は、５〜１００ｎｍが好ましい。
中空ＳｉＯ２粒子の分散媒中における平均凝集粒子径は、６０〜４００ｎｍが好ましく、６０〜２００ｎｍがより好ましい。平均凝集粒子径が６０ｎｍ以上であれば、彩度の低いシリカ膜が得られる。平均凝集粒子径が４００ｎｍ以下であれば、シリカ膜の透明性が充分となる。
【００４２】
一次粒子の外殻の厚さは、１〜２０ｎｍであり、かつ平均一次粒子径の１／５〜１／３であることが好ましい。外殻の厚さが１ｎｍ以上で、かつ平均一次粒子径の１／５以上であれば、中空形状を保つことができる。外殻の厚さが２０ｎｍ以下で、かつ平均一次粒子径の１／３以下であれば、シリカ膜の透明性が充分となる。
【００４３】
分散媒としては、水、アルコール類（メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール等）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等）、エーテル類（テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等）、セロソルブ類（メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル等）、グリコールエーテル類（エチレングリコールモノアルキルエーテル等）、含窒素化合物（Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルピロリドン等）、含硫黄化合物（ジメチルスルホキシド等）等が挙げられる。マトリックス前駆体がアルコキシシランまたはその加水分解物の場合の分散媒は、アルコキシシランの加水分解に水が必要となるため、水を含む必要がある。
【００４４】
無機物膜形成用組成物（Ｉ）に後述するマトリックス前駆体を含ませることによって、シリカ膜の硬度を向上できる。マトリックス前駆体の固形分量は、中空ＳｉＯ２粒子の全固形分量の０．１〜１０倍が好ましい。０．１倍以上であれば、シリカ膜の硬度が充分となる。１０倍以下であれば、シリカ膜の屈折率を低くできる。
【００４５】
無機物膜形成用組成物（Ｉ）の固形分濃度は、０．１〜５０質量％が好ましい。固形分濃度が０．１質量％以上であれば、充分な膜厚のシリカ膜を形成できる。固形分濃度が５０質量％以下であれば、無機物膜形成用組成物（Ｉ）の安定性がよくなる。
【００４６】
塗布方法としては、はけ塗り、ローラー塗布、手塗り、刷毛塗り、各種印刷方式による塗布、カーテンフロー、バーコート、ダイコート、グラビアコート、マイクログラビアコート、リバースコート、ロールコート、フローコート、スプレーコート、スピンコート、ディップコート等が挙げられる。
塗布温度は、１０〜１００℃が好ましく、２０〜８０℃がより好ましい。
【００４７】
乾燥方法としては、公知の方法が挙げられる。
乾燥後に、シリカ膜の機械的強度を高める目的で、必要に応じて、加熱、または紫外線、電子線等の照射を行ってもよい。加熱温度は、６０〜７００℃が好ましい。
【００４８】
シリカ膜（ｂ）：
シリカ膜（ｂ）は、たとえば、鎖状中実ＳｉＯ２粒子、テルペン誘導体、分散媒、および必要に応じてマトリックス前駆体、他の添加剤等を含む無機物膜形成用組成物（ＩＩ）を透光性部材本体の表面に塗布し、乾燥させることによって形成できる。
無機物膜形成用組成物（ＩＩ）を用いてシリカ膜（ｂ）を形成すると、理由は定かではないが、シリカ膜中の鎖状中実ＳｉＯ２粒子の周囲に選択的に空孔が形成されるため、該空孔によってシリカ膜の屈折率が充分に低くなる。
【００４９】
鎖状中実ＳｉＯ２粒子は、中実ＳｉＯ２粒子が鎖状に連結した粒子である。
鎖状中実ＳｉＯ２粒子の平均凝集粒子径は、１〜１０００ｎｍが好ましく、３〜５００ｎｍがより好ましく、５〜３００ｎｍがさらに好ましい。鎖状中実ＳｉＯ２粒子の平均凝集粒子径が１ｎｍ以上であれば、シリカ膜の屈折率が充分に低くなる。鎖状中実ＳｉＯ２粒子の平均凝集粒子径が１０００ｎｍ以下であれば、シリカ膜のヘイズが低く抑えられる。
鎖状中実ＳｉＯ２粒子の平均凝集粒子径は、分散媒中における平均凝集粒子径であり、動的光散乱法で測定される。
【００５０】
テルペンとは、イソプレン（Ｃ５Ｈ８）を構成単位とする（Ｃ５Ｈ８）ｎ（ただし、ｎは１以上の整数である。）の組成の炭化水素を意味する。テルペン誘導体とは、テルペンから誘導される官能基を有するテルペン類を意味する。本発明におけるテルペン誘導体は、不飽和度を異にするものも包含する。
【００５１】
テルペン誘導体としては、シリカ膜の屈折率を低く抑える点から、分子中に水酸基および／またはカルボニル基を有するテルペン誘導体が好ましく、分子中に水酸基、アルデヒド基（−ＣＨＯ）、ケト基（−Ｃ（＝Ｏ）−）、エステル結合（−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−）、カルボキシ基（−ＣＯＯＨ）からなる群から選ばれる１種以上を有するテルペン誘導体がより好ましく、分子中に水酸基、アルデヒド基およびケト基からなる群から選ばれる１種以上を有するテルペン誘導体がさらに好ましい。
【００５２】
テルペン誘導体としては、テルペンアルコール（α−テルピネオール、テルピネン４−オール、Ｌ−メントール、（±）シトロネロール、ミルテノール、ボルネオール、ネロール、ファルネソール、フィトール等）、テルペンアルデヒド（シトラール、β−シクロシトラール、ペリラアルデヒド等）、テルペンケトン（（±）しょうのう、β−ヨノン等。）、テルペンカルボン酸（シトロネル酸、アビエチン酸等）、テルペンエステル（酢酸テルピニル、酢酸メンチル等）等が挙げられる。
テルペン誘導体は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００５３】
テルペン誘導体の量は、無機物膜形成用組成物（ＩＩ）の固形分１質量部に対して、０．１〜２０質量部が好ましく、０．７〜２０質量部がより好ましい。テルペン誘導体が０．１質量部以上であれば、シリカ膜の屈折率が充分に低くなる。テルペン誘導体が２０質量部以下であれば、シリカ膜の外観が良好となる。
【００５４】
分散媒（ただし、テルペン誘導体を除く。）としては、水、アルコール類、ケトン類、エーテル類、セロソルブ類、エステル類、グリコールエーテル類、含窒素化合物、含硫黄化合物等が挙げられる。マトリックス前駆体がアルコキシシランまたはその加水分解物の場合の分散媒は、アルコキシシランの加水分解に水が必要となるため、水を含む必要がある。
分散媒は、透光性部材本体またはマトリックス前駆体に応じて適宜選択することが好ましい。
【００５５】
無機物膜形成用組成物（ＩＩ）に後述するマトリックス前駆体を含ませることによって、シリカ膜の硬度を向上できる。
鎖状中実ＳｉＯ２粒子とマトリックス前駆体との質量比（鎖状中実ＳｉＯ２粒子／マトリックス前駆体）は、９／１〜１／９が好ましく、７／３〜３／７がより好ましい。鎖状中実ＳｉＯ２粒子／マトリックス前駆体が９／１以下であれば、シリカ膜と透光性部材本体との密着性が充分に高くなる。鎖状中実ＳｉＯ２粒子／マトリックス前駆体が１／９以上であれば、シリカ膜の屈折率が充分に低くなる。
【００５６】
スピンコート法の場合の無機物膜形成用組成物（ＩＩ）の固形分濃度は、０．１〜１０質量％が好ましく、０．３〜５質量％がより好ましい。固形分濃度が０．１質量％以上であれば、塗布効率が良好となる。固形分濃度が１０質量％以下であれば、無機物膜形成用組成物（ＩＩ）の無駄が抑えられる。
スプレーコート法の場合の無機物膜形成用組成物（ＩＩ）の固形分濃度は、０．１〜１０質量％が好ましく、０．１〜５質量％がより好ましい。固形分濃度が０．１質量％以上であれば、塗布効率が良好となる。固形分濃度が１０質量％以下であれば、無機物膜形成用組成物（ＩＩ）の無駄が抑えられる。
無機物膜形成用組成物（ＩＩ）の固形分とは、鎖状中実ＳｉＯ２粒子およびマトリックス前駆体（ただし、アルコキシシランの場合、ＳｉＯ２換算固形分濃度）の合計を意味する。
【００５７】
塗布方法としては、シリカ膜（ａ）を形成する際の塗布方法と同じ方法が挙げられる。
乾燥方法としては、公知の方法が挙げられる。
乾燥後に、シリカ膜の機械的強度を高める目的で、必要に応じて、加熱、または紫外線、電子線等の照射を行ってもよい。加熱温度は、６０〜７００℃が好ましい。
【００５８】
シリカ膜（ｃ）：
シリカ膜（ｃ）は、たとえば、後述するマトリックス前駆体、マトリックス中から除去可能な粒子（以下、空孔形成用粒子とも記す。）、分散媒、および必要に応じて他の添加剤等を含む無機物膜形成用組成物（ＩＩＩ）を透光性部材本体の表面に塗布し、熱処理することによって形成できる。
【００５９】
空孔形成用粒子が熱処理により除去可能であれば、該熱処理により空孔形成用粒子が除去され、空孔が形成される。具体的には、空孔形成用粒子が、熱分解性材料（たとえば熱分解性の有機ポリマー等）で構成される場合、マトリックスを形成する際の熱処理温度を、熱分解性材料の熱分解温度以上の温度とすることにより、空孔形成用粒子が気化し、マトリックス中の微細な細孔を通過してマトリックス外に放出され、空孔が形成される。マトリックスを形成するための熱処理を、該熱分解温度よりも低い温度で行い、成膜後、再度、熱分解温度以上の温度での熱処理を行ってもよい。
熱処理により空孔形成用粒子を除去しない場合は、熱処理によりマトリックスを形成する前、または形成した後に、空孔形成用粒子を構成する材料に応じた除去処理を行うことで、空孔を形成できる。
【００６０】
マトリックス前駆体の含有量は、無機物膜形成用組成物（ＩＩＩ）（１００質量％）中、ＳｉＯ２換算固形分濃度として、０．２〜２０質量％が好ましく、０．５〜１５質量％がより好ましい。マトリックス前駆体の含有量が０．２質量％以上であれば、加水分解重縮合反応が充分に進む。マトリックス前駆体の含有量が２０質量％以下であれば、加水分解重縮合反応の制御が容易であり、長期保存性が良好である。
なお、ＳｉＯ２換算固形分は、無機物膜形成用組成物（ＩＩＩ）中に含まれるマトリックス前駆体のすべてのＳｉがＳｉＯ２に転化したときの固形分である。
【００６１】
空孔形成用粒子は、マトリックス中から除去可能な粒子であり、たとえば熱処理により除去可能な粒子、プラズマ処理により除去可能な粒子、溶剤浸漬により除去可能な粒子、酸またはアルカリ浸漬により除去可能な粒子、光照射により除去可能な粒子等が挙げられる。
【００６２】
熱処理により除去可能な粒子としては、熱分解性材料または熱昇華性材料からなる粒子が挙げられる。
熱分解性材料の熱分解温度は、１００〜８００℃が好ましく、２００〜７００℃がより好ましい。
熱分解性材料としては、たとえばカーボン、有機ポリマー、界面活性剤ミセル等が挙げられる。経時安定性の点から、カーボンまたは有機ポリマーが好ましい。
なお、空気中でのカーボンの熱分解温度は５００℃程度である。空気中での有機ポリマーの熱分解温度は、有機ポリマーの種類や分子量によっても異なるが、一般的には２００〜６００℃程度である。有機ポリマーの熱分解温度は、示差熱−熱重量同時測定（ＴＧ−ＤＴＡ）により測定できる。
【００６３】
熱処理により除去可能な粒子は、熱処理により除去されないＳｉＯ２等の無機酸化物によって被覆されたコア−シェル粒子でもよい。シェルの厚さが厚いとシリカ膜の表面に粒子由来の凹凸が形成されやすく、耐摩耗性の不足や汚れが付着しやすくなるために、シェルの厚さは５ｎｍ以下が好ましい。シリカ膜の屈折率を充分に低くする観点からは、加熱により除去できない成分が含まれないことがより好ましい。
【００６４】
有機ポリマーとしては、（メタ）アクリル系モノマー、スチレン系モノマー、ジエン系モノマー、イミド系モノマー、アミド系モノマーからなる群（以下、特定モノマー群とも記す。）から選ばれるモノマーの単独重合体または共重合体が好ましい。
【００６５】
有機ポリマーとして、特定モノマー群の単独重合体または共重合体以外に、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリイソブチレングリコール、ポリエチレンオキサイド−ポリプロピレンオキサイドのジブロックポリマー、ポリエチレンオキサイド−ポリプロピレンオキサイド−ポリエチレンオキサイドのトリブロックポリマー、ポリビニルアルコール、シリコーン等を用いることもできる。
【００６６】
マトリックス前駆体をマトリックスとする際の熱処理と同時に空孔形成用粒子を除去することができ、製造工程が簡便になる点では、空孔形成用粒子は、熱分解性材料からなることが好ましい。熱分解温度の点で、カーボンまたは有機ポリマーからなることが好ましい。すなわち、空孔形成用粒子は、カーボン粒子または有機ポリマー粒子であることが好ましい。
【００６７】
空孔形成用粒子の平均一次粒子径は、２０〜１３０ｎｍが好ましく、３０〜１３０ｎｍがより好ましく、３０〜１００ｎｍがさらに好ましい。
【００６８】
空孔形成用粒子は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
空孔形成用粒子の含有量は、マトリックス前駆体のＳｉＯ２換算の含有量と、空孔形成用粒子の含有量との質量比（マトリックス前駆体／空孔形成用粒子）が０．３〜４．０の範囲内となる量であることが好ましく、０．５〜３．０の範囲内となる量であることがより好ましい。マトリックス前駆体／空孔形成用粒子が４．０以下であれば、シリカ膜中の空隙率が充分に高くなり、シリカ膜の屈折率が充分に低くなる。マトリックス前駆体／空孔形成用粒子が０．３以上であれば、シリカ膜中の空隙率が高くなりすぎず、耐久性に優れる。
【００６９】
分散媒は、マトリックス前駆体を溶解し、かつ空孔形成用粒子を分散する液体であり、単一の液体からなるものであってもよく、２種以上の液体を混合した混合液であってもよい。マトリックス前駆体がアルコキシシランまたはその加水分解物の場合の分散媒は、アルコキシシランの加水分解に水が必要となるため、水を含む必要がある。
【００７０】
水と他の液体とを併用してもよい。他の液体としては、たとえば、アルコール類、ケトン類、エーテル類、セロソルブ類、エステル類、グリコールエーテル類、含窒素化合物、含硫黄化合物等が挙げられる。
他の液体のうち、マトリックス前駆体の溶媒としては、アルコール類が好ましく、メタノール、エタノールが特に好ましい。
他の液体のうち、空孔形成用粒子の分散媒としては、アルコール類、ケトン類、エーテル類、セロソルブ類、エステル類、グリコールエーテル類、含窒素化合物、含硫黄化合物等のいずれを用いてもよい。
【００７１】
無機物膜形成用組成物（ＩＩＩ）は、本発明の効果を損なわない範囲で、マトリックス前駆体、空孔形成用粒子以外の他の成分を含有してもよい。
他の成分としては、たとえば、マトリックス前駆体の反応性を向上させるための硬化触媒（金属キレート、金属アルコレート、有機スズ等）等が挙げられる。
【００７２】
塗布方法としては、シリカ膜（ａ）を形成する際の塗布方法と同じ方法が挙げられる。
【００７３】
熱処理温度は、透光性部材本体、空孔形成用粒子またはマトリックス前駆体に応じて適宜決定すればよい。
マトリックス前駆体をマトリックスとするためには、８０℃以上で熱処理すればよいが、１００℃以上が好ましく、２００〜７００℃がより好ましい。熱処理温度が８０℃以上であれば、マトリックスが緻密化して耐久性が向上する。熱処理温度が７００℃以下であれば、透光性部材本体がガラス板である場合に、ガラスからのアルカリ拡散が低く抑えられるため、耐湿性が良好である。
【００７４】
空孔形成用粒子が、カーボン、有機ポリマー等の熱分解性材料で構成され、空孔形成用粒子を熱処理により除去する場合、熱分解性材料の熱分解温度以上の温度で熱処理を行うことにより、空孔形成用粒子を除去できる。この場合の熱処理温度は、（熱分解温度＋５０℃）以上が好ましく、（熱分解温度＋１００℃）以上がより好ましい。
空孔形成用粒子を熱処理により除去する場合、該熱処理の前に、該熱分解温度よりも低い温度で、マトリックス前駆体をマトリックスとするための熱処理を行ってもよい。
【００７５】
マトリックス前駆体：
マトリックス前駆体としては、アルコキシシラン、アルコキシシランの加水分解物（ゾルゲルシリカ）、これらの混合物等が挙げられる。
アルコキシシランとしては、テトラアルコキシシラン（テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等）、モノアルキルトリアルコキシシラン（メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン等）、ジアルキルジアルコキシシラン（ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン等）、トリアルキルモノアルコキシシラン（トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン等）、モノアリールトリアルコキシシラン（フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン等）、シリコーンオイル（ジメチルシリコーンオイル等）等が挙げられる。これらは、いずれか１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００７６】
アルコキシシランの加水分解は、テトラアルコキシシランの場合、アルコキシシランの４倍モル以上の水および触媒として酸またはアルカリを用いて行う。
【００７７】
（他の層）
透光性部材本体の表面には、１種または２種以上の機能層があらかじめ形成されていてもよい。
機能層としては、アンダーコート層、密着改善層、保護層、帯電防止層、防汚層、防曇層、光触媒層、抗菌層、畜光層、屈折率制御層、撥水層、撥油層、指紋除去層等が挙げられる。
【００７８】
アンダーコート層としては、アルカリバリア層またはワイドバンドの低屈折率層としての機能を有するものが挙げられる。アンダーコート層としては、アルコキシシランの加水分解物（ゾルゲルシリカ）を含むアンダーコート層形成用組成物を透光性部材本体の上に塗布することによって形成される層が好ましい。アンダーコート層の上に上述した無機物膜形成用組成物を塗布する場合、アンダーコート層は、あらかじめ焼成されていてもよく、ウェットな状態のままでもよい。アンダーコート層の上に無機物膜形成用組成物を塗布する場合、塗付温度は室温〜８０℃が好ましく、焼成温度は３０〜７００℃が好ましい。アンダーコート層の膜厚は、１０〜５００ｎｍが好ましい。
【００７９】
さらにまた、無機物膜の上に機能性層を形成し、帯電防止、防汚、防曇、光触媒、抗菌、蓄光、屈折率制御、撥水、撥油、指紋除去等から選ばれる１種または２種以上の機能を付与してもよい。
【００８０】
（基板）
基板は、基板本体の表面等に配線（図示略）等が形成されたものである。
基板の材料としては、紫外線に対する耐性、熱伝導率、反射率の点から、セラミックスが好ましい。セラミックスとしては、ＡｌＮ、Ａｌ２Ｏ３、Ｓｉ３Ｎ４、ＳｉＯ２等が挙げられる。
基板の形状は、図示例のものに限定はされず、発光素子を実装でき、かつ発光素子と透光性部材との間に空気層が形成されるような形状であればよい。
【００８１】
（発光素子）
発光素子としては、半導体発光素子が挙げられる。半導体発光素子としては、発光ダイオード（ＬＥＤ）、レーザダイオード（ＬＤ）等が挙げられる。具体的には、ピーク波長が３８５ｎｍ、３６５ｎｍ、２５０ｎｍ等の発光ダイオードが挙げられる。
発光素子の数は、図示例のように１つに限定されず、紫外線発光装置に要求される性能等に応じて２つ以上であってもよい。
【００８２】
（紫外線発光装置の製造）
紫外線発光装置は、基板の凹部の底面に発光素子を実装した後、基板の凹部を囲む壁部の頂部に透光性部材を接合することによって製造できる。
接合方法としては、たとえば、ガラスフリット（粉末ガラス）およびレーザ吸収材を含む封着材料を基板と透光性部材との間に配置し、封着材料にレーザを照射して基板と透光性部材とを封着する方法；透光性部材の周縁に少なくとも表面が金属からなる枠材を設け、枠材と基板とを金属接着剤で接合する方法等が挙げられる。
凹部内には樹脂や波長変換素子は存在しなくてよい。
【００８３】
（作用機序）
以上説明した本発明の紫外線発光装置にあっては、以下に説明するような紫外線の取り出し効率が高く、紫外線への耐性に優れた透光性部材を備えているため、出射される紫外線の強度が高く、かつ該強度が経時的に低下しにくい。
【００８４】
すなわち、本発明における透光性部材にあっては、透光性部材本体の第１の面および第２の面に空孔を有する無機物膜が設けられているため、発光素子から発光される紫外線のピーク波長における無機物膜の屈折率が低くなり、紫外線の反射が低く抑えられる。また、透光性部材本体の、発光素子から発光される紫外線のピーク波長における透過率が８８％以上であるため、透光性部材本体による紫外線の吸収が低く抑えられる。以上のことから、透光性部材を紫外線発光装置に用いた際に、紫外線の取り出し効率が高くなる。
また、本発明における透光性部材にあっては、透光性部材本体の、発光素子から発光される紫外線のピーク波長における透過率が８８％以上であるため、透光性部材本体による紫外線の吸収が少なくなる。そのため、透光性部材本体が紫外線によって変質しにくなり、透光性部材は、紫外線への耐性に優れる。
【実施例】
【００８５】
以下に実施例を用いて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。なお、例１〜９は、参考例である。【００８６】
（空孔形成用粒子の平均一次粒子径）
空孔形成用粒子分散液を水で固形分濃度０．１質量％まで希釈した後、コロジオン膜上にサンプリングして透過型電子顕微鏡（日立製作所社製、型式：Ｈ−９０００）にて観察し、１００個の粒子を無作為に選び出し、各粒子の直径の平均値を粒子の平均一次粒子径とした。【００８７】
（透過スペクトル）
透光性部材の透過スペクトルは、分光光度計（日立ハイテクノロジーズ社製、型式：Ｕ−４１００）により測定した。スキャンスピードは１２００ｎｍ／分とし、光源としては５０Ｗタングステンハロゲンランプを用いた。サンプルは積分球に接触させ、拡散した光も透過光として検出した。【００８８】
（物理膜厚）
無機物膜の物理膜厚は、透光性部材の断面を走査型電子顕微鏡にて観察し、得られる像より計測した。【００８９】
（反射スペクトル）
無機物膜の反射スペクトルは、分光光度計（日立ハイテクノロジーズ社製、型式：Ｕ−４１００）により測定した。スキャンスピードは１２００ｎｍ／分とし、光源としては５０Ｗタンクス・ハロゲンランプを用いた。サンプルは積分球に接触させ、拡散した光も反射光として検出した。【００９０】
（屈折率）
屈折率は、実測した無機物膜の物理膜厚と、実測した無機物膜の反射スペクトルとから計算によって求めた。【００９１】
（ヘイズ）
透光性部材のヘイズは、ヘイズ測定装置（ビックガードナー社製、型名：ヘイズガードプラス）で測定した。【００９２】
（透光性部材本体）
透光性部材本体として、下記のガラスを用意した。
ソーダライムガラス（旭硝子社製、ＦＬ、厚さ：２．０ｍｍ、波長３６５ｎｍにおける屈折率ｎｓ：１．５４）。
白板ガラス（ショット社製、Ｂ２７０、厚さ：２．０ｍｍ、波長３６５ｎｍにおける屈折率ｎｓ：１．５４）。
各ガラスの紫外線透過率を測定した。結果を表１に示す。【００９３】
【表１】
2015093379.tif 000006
【００９４】
（マトリックス前駆体溶液（ｉ）の調製）
変性エタノール（日本アルコール販売社製、ソルミックスＡＰ−１１、エタノールを主剤とした混合溶媒、以下同じ）の８２．３ｇを撹拌しながら、これにテトラメトキシシランのオリゴマー（コルコート社製、メチルシリケート５１、ＳｉＯ２換算固形分濃度：５１質量％）の５．８８ｇ、イオン交換水の１１．３ｇ、１０質量％硝酸水溶液の０．５ｇの順で添加し、２５℃で１時間撹拌し、ＳｉＯ２換算固形分濃度が３．０質量％のマトリックス前駆体溶液（ｉ）を調製した。【００９５】
（マトリックス前駆体溶液（ｉｉ）の調製）
変性エタノールの８１．７ｇを撹拌しながら、これにメチルトリメトキシシランの４．１ｇ、テトラメトキシシランのオリゴマー（コルコート社製、メチルシリケート５１、ＳｉＯ２換算固形分濃度：５１質量％）の２．３５ｇ、イオン交換水の１１．３ｇ、１０質量％硝酸水溶液の０．５ｇの順で添加し、２５℃で１時間撹拌し、ＳｉＯ２換算固形分濃度が３．０質量％のマトリックス前駆体溶液（ｉｉ）を調製した。【００９６】
（マトリックス前駆体溶液（ｉｉｉ）の調製）
変性エタノールの７９．９ｇを撹拌しながら、これにフェニルトリメトキシシラン５．９ｇ、テトラメトキシシランのオリゴマー（コルコート社製、メチルシリケート５１、ＳｉＯ２換算固形分濃度：５１質量％）２．３５ｇ、イオン交換水の１１．３ｇ、１０質量％硝酸水溶液の０．５ｇの順で添加し、２５℃で１時間撹拌し、ＳｉＯ２換算固形分濃度が３．０質量％のマトリックス前駆体溶液（ｉｉｉ）を調製した。【００９７】
（空孔形成用粒子分散液の調製）
スチレンと、水とを、ガラス製容器に仕込み、撹拌した。そこに、ｐ−スチレンスルホン酸ナトリウム水和物を加えて撹拌し、乳化させた。そこに重合開始剤として、ぺルオキソ二硫酸カリウムを加え、７０℃まで加熱し、１０時間保持することにより、空孔形成用粒子を合成することで、固形分濃度１６．７質量％の空孔形成用粒子分散液を調製した。該空孔形成用粒子分散液中の空孔形成用粒子の平均一次粒子径は、４０ｎｍであった。【００９８】
（例１）
変性エタノールの３６．０ｇを撹拌しながら、これに、マトリックス前駆体溶液（ｉｉ）の６４．０ｇを加え、固形分濃度が１．９２質量％の無機物膜形成用組成物（Ａ）を調製した。【００９９】
スピンコーターに、室温に保持した白板ガラスをセッティングし、無機物膜形成用組成物（Ａ）を白板ガラス板の表面に滴下し、スピンコートした後、大気中、６００℃で１０分間焼成し、マトリックスのみからなるシリカ膜が片面に形成された透光性部材を得た。透過スペクトルを図６に示す。【０１００】
（例２）
シリカ膜を白板ガラスの両面に形成した以外は、例１と同様にして透光性部材を得た。シリカ膜の屈折率、シリカ膜の物理膜厚、透光性部材の波長３６５ｎｍにおける透過率および透光性部材のヘイズを表２に示す。また、透過スペクトルを図６に示す。【０１０１】
（例３）
変性エタノール６８．５ｇを撹拌しながら、これに、イソブチルアルコールの１０．０ｇ、ジアセトンアルコールの５．０ｇ、ネロールの０．５ｇ、マトリックス前駆体溶液（ｉ）の１１．０ｇ、鎖状中実ＳｉＯ２粒子分散液（日産化学工業社製、スノーテックス  ＯＵＰ、ＳｉＯ２換算固形分濃度：１５．５質量％、平均凝集粒子径：４０〜１００ｎｍ）の５．０ｇを加え、固形分濃度が１．１質量％の無機物膜形成用組成物（Ｂ）を調製した。【０１０２】
無機物膜形成用組成物（Ａ）の代わりに無機物膜形成用組成物（Ｂ）を用いた以外は、例１と同様にして鎖状中実ＳｉＯ２粒子間に空孔を有するシリカ膜（ｂ）が片面に形成された透光性部材を得た。【０１０３】
（例４）
シリカ膜（ｂ）を白板ガラスの両面に形成した以外は、例３と同様にして透光性部材を得た。シリカ膜（ｂ）の屈折率、シリカ膜（ｂ）の物理膜厚、透光性部材の波長３６５ｎｍにおける透過率および透光性部材のヘイズを表２に示す。【０１０４】
（例５）
変性エタノールの５０．５ｇを撹拌しながら、これに、マトリックス前駆体溶液（ｉ）の１６．３ｇ、マトリックス前駆体溶液（ｉｉ）の１８．０ｇ、マトリックス前駆体溶液（ｉｉｉ）の１２．０ｇ、空孔形成用粒子分散液の３．２ｇを混合して、無機物膜形成用組成物（Ｃ）を調製した。【０１０５】
無機物膜形成用組成物（Ａ）の代わりに無機物膜形成用組成物（Ｃ）を用いた以外は、例１と同様にしてマトリックス中に複数の独立した空孔を有するシリカ膜（ｃ）が片面に形成された透光性部材を得た。透過スペクトルを図６に、波長３６５ｎｍにおける透過率の入射角依存性を図７に示す。【０１０６】
（例６）
シリカ膜（ｃ）を白板ガラスの両面に形成した以外は、例５と同様にして透光性部材を得た。シリカ膜（ｃ）の屈折率、シリカ膜（ｃ）の物理膜厚、透光性部材の波長３６５ｎｍにおける透過率および透光性部材のヘイズを表２に示す。また、透過スペクトルを図６に、波長３６５ｎｍにおける透過率の入射角依存性を図７に示す。【０１０７】
（例７）
変性エタノール７４．１ｇを撹拌しながら、これにマトリックス前駆体溶液（ｉ）の１９．２ｇ、中空ＳｉＯ２粒子分散液（日揮触媒化成社製、スルーリア４１１０、ＳｉＯ２換算固形分濃度：２０．０質量％、平均一次粒子径：６０ｎｍ）の６．７ｇを加え、固形分濃度が１．９質量％の無機物膜形成用組成物（Ｄ）を調製した。【０１０８】
無機物膜形成用組成物（Ａ）の代わりに無機物膜形成用組成物（Ｄ）を用いた以外は、例３と同様にして中空ＳｉＯ２粒子及びバインダを含むシリカ膜（ａ）が片面に形成された透光性部材を得た。【０１０９】
（例８）
シリカ膜（ａ）を白板ガラスの両面に形成した以外は、例７と同様にして透光性部材を得た。シリカ膜（ａ）の屈折率、シリカ膜（ａ）の物理膜厚、透光性部材の波長３６５ｎｍにおける透過率および透光性部材のヘイズを表２に示す。【０１１０】
（例９）
白板ガラスをソーダライムガラスに変更した以外は、例６と同様にして透光性部材を得た。シリカ膜（ｃ）の屈折率、シリカ膜（ｃ）の物理膜厚、透光性部材の波長３６５ｎｍにおける透過率および透光性部材のヘイズを表２に示す。【０１１１】
【表２】
2015093379.tif 000007
【０１１２】
本発明を詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは、当業者にとって明らかである。
本出願は、２０１３年１２月１９日出願の日本特許出願２０１３−２６２８５７に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。
【産業上の利用可能性】
【０１１３】
本発明の紫外線発光装置は、露光装置、殺菌装置等に用いられる紫外線ランプ（高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ等）の代替品として有用である。
【符号の説明】
【０１１４】
１０  透光性部材
１２  透光性部材本体
１４  無機物膜
１４ａ  シリカ膜
１４ｂ  シリカ膜
１４ｃ  シリカ膜
１６  中空ＳｉＯ２粒子
１８  鎖状中実ＳｉＯ２粒子
２０  紫外線発光装置
２２  基板
２４  発光素子
２６  空気層
１００  紫外線発光装置
１０２  基板
１０４  発光素子
１０６  空気層
１０８  透光性部材
【図１】
2015093379.tif 000009
【図２】
2015093379.tif 000010
【図３】
2015093379.tif 000011
【図４】
2015093379.tif 000012
【図５】
2015093379.tif 000013
【図６】
2015093379.tif 000014
【図７】
2015093379.tif 000015
【図８】
2015093379.tif 000016
【国際調査報告】
2015093379.tif 000017
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