【手続補正書】
【提出日】平成24年7月20日(2012.7.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ノズルプレートの製造方法、ノズルプレート、液滴吐出ヘッドの製造方法、液滴吐出ヘッド、プリンター及び液滴吐出装置
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シリコン基板の一方の面に、液滴吐出側の第１ノズル部となる凹部を形成するためのドライエッチングマスクとなる膜を形成し、前記膜を用いてドライエッチングを行い、前記第１ノズル部となる凹部を形成する工程と、
前記ドライエッチングマスクとなる膜を除去した後、前記凹部の内壁を含む前記シリコン基板の前記一方の面全体に耐液体性及び耐エッチング性を有する第１耐液保護膜と撥液性を有する撥液層とを順次形成する工程と、
前記シリコン基板の前記一方の面に支持基板を貼り合わせ、その状態で前記シリコン基板を他方の面側から所望の厚さまで薄板化する工程と、
前記シリコン基板の前記他方の面側から前記第１ノズル部となる凹部の底面が開口するまでドライエッチングを施し、前記第１ノズル部に連通する液滴供給側の第２ノズル部を形成し、前記第１ノズル部及び前記第２ノズル部からなるノズル孔を完成する工程と、
前記第１ノズル部となる凹部の底面に相当する部分に残る前記第１耐液保護膜及び前記撥液層と、前記第１ノズル部の内壁に残る前記撥液層とを除去する工程と、
耐液体性を有する第２耐液保護膜を前記ノズル孔の内壁を含む前記他方の面全体に形成する工程と、
前記シリコン基板から前記支持基板を剥離する工程と
を備えたことを特徴とするノズルプレートの製造方法。
【請求項２】
シリコン基板の一方の面に、液滴吐出側の第１ノズル部となる凹部を形成するための第１ドライエッチングマスクとなる膜を形成し、前記膜を用いてドライエッチングを行い、
前記第１ノズル部となる凹部を形成する工程と、
前記第１ドライエッチングマスクとなる膜を除去した後、前記第１ノズル部となる凹部の内壁を含む前記シリコン基板の表面全体に第２ドライエッチングマスクを形成する工程と、
前記シリコン基板の全面ではなく、最低限、ノズル孔形成領域部分を他方の面側から所望の厚さとなるまで薄板化し、薄板化後も前記シリコン基板を単独で搬送可能な強度を維持可能とする薄板化加工を行う工程と、
前記シリコン基板の前記他方の面から前記第１ノズル部となる凹部の底面が開口するまでドライエッチングを施し、前記第１ノズル部に連通する液滴供給側の第２ノズル部を形成し、前記第１ノズル部及び前記第２ノズル部からなるノズル孔を完成する工程と、
前記シリコン基板上に形成された全ての膜を除去した後、前記ノズル孔の内壁を含むシリコン基板の表面全体に耐液体性を有する第１耐液保護膜と撥液性を有する撥液層とを順次形成する工程と、
前記撥液層のうち、前記ノズル孔の吐出口周囲を除く不要部分を除去する工程と
を備えたことを特徴とするノズルプレートの製造方法。
【請求項３】
前記第１耐液保護膜を形成する工程は、熱酸化膜を形成する工程であることを特徴とする請求項１又は請求項２記載のノズルプレートの製造方法。
【請求項４】
前記第２ノズル部を形成する際の前記ドライエッチングは、等方性ドライエッチングであることを特徴とする請求項１乃至請求項３の何れかに記載のノズルプレートの製造方法。
【請求項５】
前記第２ノズル部を形成する際の前記ドライエッチングは、異方性ドライエッチングであることを特徴とする請求項１乃至請求項３の何れかに記載のノズルプレートの製造方法。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５の何れかに記載のノズルプレートの製造方法で製造されたノズルプレート。
【請求項７】
液滴を吐出するための複数のノズル孔を有するノズルプレートと、前記ノズルプレートの前記複数のノズルそれぞれに連通して液滴を収容する複数の圧力室を有するキャビティー基板と、前記圧力室に液滴を吐出させる圧力変化を与える圧力発生手段とを有する液滴吐出ヘッドの製造方法であって、
前記ノズルプレートを、請求項１乃至請求項５の何れかに記載のノズルプレートの製造方法により製造することを特徴とする液滴吐出ヘッドの製造方法。
【請求項８】
請求項７記載の液滴吐出ヘッドの製造方法で製造された液滴吐出ヘッド。
【請求項９】
請求項８記載の液滴吐出ヘッドを備えたプリンター。
【請求項１０】
シリコン基板の一方の面に、ドライエッチングマスクとなる膜を形成する工程と、
前記膜をマスクとしてドライエッチングを行い、前記一方の面に前記第１ノズル部となる凹部を形成する工程と、
前記膜を除去した後に、前記一方の面と、前記第１ノズル部となる凹部と、に耐液体性及び耐エッチング性を有する第１耐液保護膜を形成する第１耐液保護膜形成工程と、
前記第１耐液保護膜形成工程の後に、前記第１耐液保護膜の表面に、撥液性を有する撥液層を形成する工程と、
前記シリコン基板の前記一方の面に、前記シリコン基板を支持する支持基板を貼り合わせる工程と、
前記シリコン基板を、前記一方の面の反対側の面側から、所望の厚さまで薄板化する工程と、
前記シリコン基板を、前記一方の面の反対側の面側から、前記第１ノズル部となる凹部の底部に位置する前記第１耐液保護膜が露出するまでドライエッチングを行い、第２ノズル部を形成する工程と、
前記第１ノズル部となる凹部の底部に位置する前記第１耐液保護膜及び前記撥液層と、前記第１ノズル部となる凹部の内壁に残る前記撥液層と、を除去し、前記第１ノズル部と前記第２ノズル部とを連通させてノズル孔を形成する工程と、
耐液体性を有する第２耐液保護膜を、前記一方の面の反対側の面と、前記ノズル孔の内壁と、に形成する工程と、
前記シリコン基板から前記支持基板を剥離する工程と、
を備えたことを特徴とするノズルプレートの製造方法。
【請求項１１】
シリコン基板の一方の面に、ドライエッチングマスクとなる膜を形成する工程と、
前記膜をマスクとしてドライエッチングを行い、前記一方の面に前記第１ノズル部となる凹部を形成する工程と、
前記膜を除去した後に、前記シリコン基板の表面と、前記第１ノズル部となる凹部と、に第２ドライエッチングマスクを形成する工程と、
前記シリコン基板の少なくともノズル孔形成領域を含む領域を、前記一方の面の反対側の面側から所望の厚さまで薄板化を行う工程と、
前記シリコン基板を、前記一方の面の反対側の面側からドライエッチングを行うことによって第２ノズル部を形成し、前記第１ノズル部となる凹部の底面が開口するまでドライエッチングを行い、前記第１ノズル部と前記第２ノズル部とを連通させてノズル孔を形成する工程と、
前記シリコン基板に形成された全ての膜を除去した後に、前記ノズル孔の内壁を含むシリコン基板の表面に耐液体性を有する第１耐液保護膜を形成する第１耐液保護膜形成工程と、
前記第１耐液保護膜形成工程の後に、前記第１耐液保護膜の表面に撥液性を有する撥液層を形成する工程と、
耐液体性を有する第２耐液保護膜を、前記一方の面の反対側の面と、前記ノズル孔の内壁と、に形成する工程と、
を備えたことを特徴とするノズルプレートの製造方法。
【請求項１２】
シリコン基板の一方の面に第１エッチングマスクを形成する第１エッチングマスク形成工程と、
エッチングにより、前記シリコン基板の一方の面に第１凹部を形成する第１凹部形成工程と、
前記第１エッチングマスクを除去する第１エッチングマスク除去工程と、
耐液体性を有する第１耐液保護膜を、前記シリコン基板に形成する第１耐液保護膜形成工程と、
前記シリコン基板の前記一方の面に、前記シリコン基板を支持する支持基板を貼り合わせる支持基板貼り合わせ工程と、
前記シリコン基板の前記一方の面とは反対側の面である他方の面を除去し、前記シリコン基板を所望の厚さにする除去工程と、
前記シリコン基板の他方の面に、第２エッチングマスクを形成する第２エッチングマスク形成工程と、
エッチングにより、前記シリコン基板の他方の面に第２凹部を形成する第２凹部形成工程と、
前記シリコン基板から前記支持基板を剥離する支持基板剥離工程と、
を備えたことを特徴とするノズルプレートの製造方法。
【請求項１３】
前記第１耐液保護膜に、撥液性を有する撥液層を形成する工程と、
前記第１耐液保護膜の一部及び前記撥液層の一部を除去する工程と、
を備えたことを特徴とする請求項１２に記載のノズルプレートの製造方法。
【請求項１４】
前記シリコン基板に、耐液体性を有する第２耐液保護膜を形成する第２耐液保護膜形成工程と、
を備えたことを特徴とする請求項１３に記載のノズルプレートの製造方法。
【請求項１５】
シリコン基板の一方の面に第１エッチングマスクを形成する第１エッチングマスク形成工程と、
エッチングにより、前記シリコン基板の一方の面に第１凹部を形成する第１凹部形成工程と、
前記第１エッチングマスクを除去する前記第１エッチングマスク除去工程と、
耐液体性を有する第１耐液保護膜を、前記シリコン基板に形成する第１耐液保護膜形成工程と、
前記シリコン基板の前記一方の面とは反対側の面である、前記シリコン基板の他方の面の一部を除去する一部除去工程と、
シリコン基板の他方の面に、第２エッチングマスクを形成する第２エッチングマスク形成工程と、
エッチングにより、前記シリコン基板の他方の面に第２凹部を形成する第２凹部形成工程と、
前記第１耐液保護膜を除去する第１耐液保護膜除去工程と、
を備えたことを特徴とするノズルプレートの製造方法。
【請求項１６】
前記シリコン基板に耐液体性を有する第２耐液保護膜を形成する第２耐液保護膜形成工程を、
備えたことを特徴とする請求項１５に記載のノズルプレートの製造方法。
【請求項１７】
前記シリコン基板に撥液性を有する撥液層を形成する撥液層形成工程を、
備えたことを特徴とする請求項１５又は１６に記載のノズルプレートの製造方法。
【請求項１８】
前記第１耐液保護膜除去工程では、前記第２凹部が含まれる領域を除去することを特徴とする請求項１５乃至請求項１７の何れかに記載のノズルプレートの製造方法。
【請求項１９】
前記第１耐液保護膜除去工程では、前記基板の外周部は除去しないことを特徴とする請求項１５乃至請求項１８の何れかに記載のノズルプレートの製造方法。
【請求項２０】
前記除去工程あるいは前記一部除去工程は、研削加工法で行われることを特徴とする請求項１２乃至請求項１９の何れかに記載のノズルプレートの製造方法。
【請求項２１】
前記エッチングはドライエッチングであることを特徴とする請求項１２乃至請求項１９の何れかに記載のノズルプレートの製造方法。
【請求項２２】
前記第２凹部の形成は、等方性ドライエッチングで行われることを特徴とする請求項２１に記載のノズルプレートの製造方法。
【請求項２３】
前記第２凹部の形成は、異方性ドライエッチングで行われることを特徴とする請求項２１に記載のノズルプレートの製造方法。
【請求項２４】
前記シリコン基板の前記一方の面に垂直な方向からの平面視において、前記第２凹部の面積は前記第１凹部の面積よりも大きいことを特徴とする請求項１２乃至請求項２３の何れかに記載のノズルプレートの製造方法。
【請求項２５】
第２凹部は、前記平面視における面積が前記一方の面から前記他方の面に向かって漸増することを特徴とする請求項１２乃至請求項２４の何れかに記載のノズルプレートの製造方法。
【請求項２６】
前記第１耐液保護膜は熱酸化膜であることを特徴とする請求項１２乃至請求項２５の何れかに記載のノズルプレートの製造方法。
【請求項２７】
請求項１２乃至請求項２６の何れかに記載のノズルプレートの製造方法で製造されたノズルプレート。
【請求項２８】
液体を吐出するノズル孔を複数有するノズルプレートと、
前記ノズル孔に連通し、液体を収容するキャビティーを複数有するキャビティー基板と、
前記キャビティーに液体を吐出させる圧力変化を与える圧力発生手段と、
を有する液滴吐出ヘッドの製造方法であって、
前記ノズルプレートは、請求項１２乃至請求項２７の何れかに記載のノズルプレートの製造方法により製造されたことを特徴とする液滴吐出ヘッドの製造方法。
【請求項２９】
請求項２８記載の液滴吐出ヘッドの製造方法で製造された液滴吐出ヘッド。
【請求項３０】
請求項２９記載の液滴吐出ヘッドを備えたプリンター。
【請求項３１】
請求項２９記載の液滴吐出ヘッドを備えた液滴吐出装置。