【事件の表示】
　平成　９年特許願第１４６５２０号「静電チャック」拒絶査定不服審判事件〔平成１０年１２月１８日出願公開、特開平１０−３３５４３９〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯及び本件発明
　本件出願は、平成９年６月４日の出願であって、その請求項１乃至２に係る発明は、平成１６年１１月５日付けの手続補正書により補正された明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１乃至２に記載された事項により特定されるとおりのものと認められるところ、請求項１に係る発明（以下、「本件発明」という。）は、次のとおりのものである。
「【請求項１】　金属基板上にシリコーンゴムからなる第１絶縁層と、該第１絶縁層上に電極として形成された導電性パターンと、該導電性パターン上に表面にシボ模様が形成されたシリコーンゴムからなる第２絶縁層が設けられてなり、シリコーンゴムの熱伝導率が０．００１ｃａｌ／ｃｍ・ｓｅｃ・℃以上で、第２絶縁層のシリコーンゴム表面のウエハとの有効接触面積がウエハ面積の２０〜９０％であることを特徴とする静電チャック。」
　
第２　引用刊行物
　これに対して、原査定の拒絶理由には、本件出願前に頒布された刊行物である次の刊行物が引用されている。
［引用刊行物］
　刊行物１：特開昭５９−６４２４５号公報
　刊行物２：特開平５−１０９８７６号公報
　刊行物３：特開平８−５５９０５号公報
　
　このうち、刊行物１及び３には、図面とともに以下の技術的事項が記載されている。
１．刊行物１　
ア．第１頁左下欄第１７〜１９行
「(1)  発明の技術分野
  本発明は静電チヤツク、詳しくは静電チヤツクの絶縁膜の改良に関する。」
　
イ．第２頁左下欄第１８行〜右下欄第７行
「そしてこの目的は本発明によれば、金属板の上に放熱性シリコーンプリプレーグから成る第１絶縁膜と、該第１絶縁膜上に電極として形成された銅パターンと、該銅パターン上にシリコーンゴムから成る第２絶縁膜が設けられて成ることを特徴とする静電チヤツクを提供することによつて達成され、また、前記第２絶縁膜は放熱性シリコーンゴムシートによつて構成してもよく、更に、前記第１絶縁膜は格子状の溝が形成されたシリコーンゴムによつて構成してもよい。」
　
ウ．第２頁右下欄第１６行〜第３頁左上欄第８行
「第１絶縁膜２１はシリコーンゴムをガラスクロスに浸透させたシリコーンプリプレーグをＡｌ板２０の上に接着することによつて形成され、第１絶縁膜２１の上に銅パターン２３が接着され、この銅パターン２３の上には、シリコーンゴムをスクリーン印刷を数回繰り返して１００μｍの厚さのものにした第２絶縁膜２２が形成される。
　第１絶縁膜のシリコーンプリプレーグは２００μｍの厚さのものであり、これによつてＡｌ板２０と銅パターン２３との間を絶縁し、それと同時に静電チヤツク面に弾性をもたせ、試料（被吸着物）との密着性を良好なものとすると同時に、試料の放熱性を高めることが可能となる。」
　
　上記記載事項及び図面の記載からみて、刊行物１には次の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されていると認められる。
「金属板の上に放熱性シリコーンプリプレーグから成る第１絶縁膜と、該第１絶縁膜上に電極として形成された銅パターンと、該銅パターン上にシリコーンゴムから成る第２絶縁膜が設けられてなる静電チャック。」
　
２．刊行物３
ア．段落【００２５】
「ＥＳＣの前面１４は、ウエハ１８が静電チャック１０の前面１４と接触している時に比較的一定の圧力でウエハ１８の裏側に接触する気体の循環のために溝１６（図４に示されるように、流体的に互いに通じているものとすることができる）を設けられた誘電層から形成されることが好ましい。気体は、１つまたは複数の通路２０を介して溝１６に供給される。・・・」
　
イ．段落【００６５】
「たとえば、一定の公称接触面積分数に起因する優秀な中央領域温度均一性をもたらすために図示の中央ワッフル・パターンを含むチャック表面パターンを使用する場合、チャック表面パターンの性能は、上の有効ＥＳＣ半径の議論に従って異なる幅の外側接触領域または環を有する表面パターンをシミュレートすることによって、特定の熱流束およびウエハ温度に関して簡単に最適化できる。ＥＣＲ−ＣＶＤ加工に適した熱流束のためのこのようなシミュレーションと最適化処理から、図１５に示された好ましいパターンがもたらされる。この好ましいパターンは、２０％から４０％の範囲の一定の公称接触面積分数をもたらすための幅と間隔とを有する交差する溝のネットワークと、約６ｍｍの幅を有する外側環状領域によって形成されるワッフル・タイプ・パターンを有し、外側環状領域の外側境界は、保持されるウエハの半径より約０．１ｃｍ小さい半径に置かれる。外側環状領域の幅は、約６．０ｍｍないし７．０ｍｍである。」
　
第３　対比
　本件発明と引用発明とを対比すると、引用発明における「金属板」は本件発明における「金属基板」に相当し、以下同様に、「銅パターン」は「導電性パターン」に、「第２絶縁膜」は「第２絶縁層」に、それぞれ相当する。
　また、引用発明において、「放熱性シリコーンプリプレーグから成る第１絶縁膜」は、放熱性シリコーンゴムを浸透させて形成されるものであるから、シリコーンゴムからなる第１絶縁層ということができる。
　したがって、両者の一致点と相違点は次のとおりと認められる。
［一致点］
「金属基板上にシリコーンゴムからなる第１絶縁層と、該第１絶縁層上に電極として形成された導電性パターンと、該導電性パターン上にシリコーンゴムからなる第２絶縁層が設けられてなる静電チャック。」である点。
［相違点１］ 
　本件発明では、第２絶縁層の表面にシボ模様が形成されており、第２絶縁層のシリコーンゴム表面のウエハとの有効接触面積がウエハ面積の２０〜９０％であるのに対し、引用発明では、第２絶縁膜の表面がそのようなものとはされていない点。
［相違点２］
　本件発明では、シリコーンゴムの熱伝導率が０．００１ｃａｌ／ｃｍ・ｓｅｃ・℃以上であるのに対し、引用発明では、シリコーンゴムの熱伝導率について具体的に特定されていない点。
　
第４　相違点についての検討
１．相違点１について
　静電チャックにおいて、ウエハへの異物（ゴミ、ダスト）の付着を防止するために吸着保持面に凹凸を設けることは、例えば、特開平５−６９３３号公報の段落【０００５】、【００２４】、特開平４−３６７２４６号公報の段落【０００４】、特開昭６３−９５６４４号公報の第４頁右下欄第４〜８行等に記載されているように従来周知の事項である。
　また、吸着保持面とウエハとの有効接触面積の比率をどのような範囲とするかは当業者が吸着力等を考慮して適宜設定できるものであることは明らかである。しかも、原査定の拒絶理由に引用された刊行物３には、溝を設けたチャック面とウエハとの接触面積をチャック面の２０〜４０％とすることが記載され、上記特開平５−６９３３号公報には吸着面全体に対する接触部の面積比を１０〜３０％とすることが記載されており、有効接触面積をウエハ面積の２０〜９０％とすることも通常採用される範囲にすぎない。
　さらに、凹凸模様としてシボ模様は周知のものである。
　してみると、引用発明に上記従来周知の事項を適用して相違点１に係る本件発明の特定事項とすることは当業者が容易になし得たことである。
　
２．相違点２について
　本件明細書の段落【００１０】の記載によれば、シリコーンゴム組成物に高熱伝導率を付与するために粉末アルミナ、窒化アルミ粉、窒化ホウ素粉などの高熱伝導性セラミックス粉末をフィラーとして配合するとされているところ、シリコーンゴム組成物に高熱伝導性セラミックス粉末を充填することにより０．００１ｃａｌ／ｃｍ・ｓｅｃ・℃以上の熱伝導率を付与できることは従来周知の事項（必要であれば、特開平６−２３４９２０号公報の段落【０００２】〜【０００３】の記載、特開平６−１４３４８５号公報の段落【００１２】、【００２２】〜【００２３】の記載、特開平８−２３８７０７号公報の段落【００１４】の記載等を参照）である。
　そして、静電チャックにおいて、絶縁層の材料としてできるだけ熱伝導率の高いものを用いるべきであることは自明の事項であり（なお、引用発明ではシリコーンゴムとして放熱性のものを用いている。）、また、どのような範囲の熱伝導率とするかも、求められる放熱性等に応じて当業者が適宜設定することのできる設計的事項にすぎない。
　したがって、引用発明に従来周知の事項を適用することにより相違点２に係る本件発明の特定事項とすることは当業者が容易になし得たことである。
　
３．本件発明の作用効果について
　本件発明の奏する作用効果についてみても、引用発明及び従来周知の事項から当業者が十分予測しうる範囲内のものであって、格別顕著なものとはいえない。
　
　したがって、本件発明は、引用発明及び従来周知の事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
第５　むすび
　以上のとおり、本件請求項１に係る発明は、引用発明及び従来周知の事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものである。
　したがって、その余の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本件出願は拒絶されるべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。