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　平成　９年特許願第　５４１５４号「縦型熱処理装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１０年　９月　２日出願公開、特開平１０−２３１９３２〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
　
１．手続の経緯の概要
　
　本願は、平成９年２月２１日の出願であって、平成１６年６月９日（起案日）付けで拒絶査定がなされ、これに対し、同年７月１２日に拒絶査定不服審判が請求されるとともに、同日付けで明細書を補正する手続補正がなされたため、当審において審理を行い、平成１８年４月１７日（起案日）付けで上記手続補正を却下する決定を行い、さらに同年５月９日（起案日）付けで拒絶理由を通知（以下、「当審拒絶理由通知」という。）したところ、同年６月１４日付けで意見書が提出されるとともに、同日付けで明細書を補正する手続補正がなされたものである。
　
２．本願発明
　
　本願の請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、上記平成１８年６月１４日付け手続補正により補正された明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される、次のとおりのものであると認める。
　
「【請求項１】周囲にヒータを配置し下端が開口された反応管の開口端に接続されガス供給管部および排気管部を有する円筒状のマニホールドと、該マニホールドの下端の開口端を開閉可能に閉じる蓋体と、該蓋体上に載置され被処理体を高さ方向に所定の間隔で多数枚保持する被処理体保持具と、蓋体の開閉と共に反応管に対する被処理体保持具の搬入、搬出を行う昇降機構と、上記排気管部に接続され反応管内を所定の減圧雰囲気に減圧排気する減圧制御装置を設けた排気系とを備えた縦型熱処理装置において、上記マニホールドの開口端と蓋体の接合部の互いの対向面間に、内周側の対向面を鏡面仕上げし、その鏡面仕上げ面を互に密着させて封止する内周シール部と、外周側の対向面間をＯリングを介して封止する外周シール部とを設け、これら内周シール部と外周シール部との間に形成した環状空間部に上記内周シール部を境とする内外の圧力差が小さくなるように減圧排気する排気手段を接続したことを特徴とする縦型熱処理装置。」
　
３．刊行物に記載の事項及び発明
　
（１）刊行物１
　
　本願の出願前に日本国内において頒布された刊行物であり、当審拒絶理由通知で引用した特開平７−４５５４９号公報（以下、「刊行物１」という。）には、「熱処理装置」に関し、図面とともに、次の（ａ）ないし（ｄ）の事項が記載されている。
　
（ａ）「【産業上の利用分野】この発明は、熱処理装置に関する。
【従来の技術】従来の熱処理装置は、反応管とマニホールド及びマニホールドとふた体のそれぞれの隙間の封止手段として、Ｏリングを介在させる方法が広く用いられている。」（第１欄第１９行−同欄第２４行；段落【０００１】参照）
（ｂ）「【発明が解決しようとする課題】気密封止手段としてＯリングを用いた場合、・・・ 近年ますます要求が高まっている高真空化及びコンタミネーションの防止からは不十分なものであった。
　この原因として考えられるのは、Ｏリングから熱によって発生する不純物とＯリングの熱劣化があげられる。そこで、高温雰囲気にさらされても、不純物の発生と熱劣化の少ない封止材としてメタルルートシールが考えられる。しかし、メタルシートシールを使った場合、コンタミネーションの防止という観点からは、樹脂系Ｏリングと比べ、材質が金属であるという点から優れた効果が表われるが、高真空時のシール性という点では不十分なものであった。本発明の目的は、金属薄板を使った場合でも、十分に高真空化に耐えられる封止構造を採用した熱処理装置を提供することにある。」（第１欄第２６行−同欄第５０行；段落【０００２】及び【０００３】参照）
（ｃ）「図１、図２及び図３に示す如く、この縦型熱処理装置１は、耐熱性材料、例えば石英により円筒状に成形され、上端部は閉鎖され下端部が開放された外側反応管２を有しており、この外側反応管２内には、例えば石英により上下端が開放され円筒状に成形された内側反応管３が同心状に設けられて、二重管構造に構成されている。
　そして、この内側反応管３内には、例えば石英よりなるウエハボート４に所定間隔で垂直方向に多数枚、例えば１００枚の被処理体、例えば半導体ウェハ５が収容されている。そして、上記外側反応管２の外周には、これを被って同軸的に、例えば抵抗加熱ヒータ６が設けられると共に、この抵抗加熱ヒータ６の外周には、断熱材７を介して、例えばステンレススチールよりなる筒体状のアウターシェル８が設けられており、全体として、加熱炉が形成されている。」（第２欄第２７行−同欄第４２行；段落【０００６】及び【０００７】参照）
（ｄ）「また、上記外側反応管２の下端部には、フランジ部１１が形成されている。そして、そのフランジ部１１の下部には、材料例えばステンレススチールよりなる筒体状のマニホールド１３が接続されおり、このマニホールド１３の上端部の上記フランジ部１１との対向面には環状にフランジ部１４が形成され、これらのフランジ部１４の上面には、例えば幅４ｍｍで深さ３ｍｍの環状溝部１５が形成されている。上記外側反応管２とマニホールド１３を接続固定するための固定具として、アウターフランジ１６が反応管２のフランジ部１１の外周に設けられ、このアウターフランジ１６は固定平板、例えばネジ１７によってフランジ部１１とフランジ部１４とを固定している。
　また、アウターフランジ１６とフランジ部１１とフランジ部１４の間には、環状に隙間１８が形成されている。そして、この隙間１８を、気密封止するために、例えばエストラマータイプのＯリング２１，２２がアウターフランジ１６の溝内に設けられている。そして、上記環状溝部１５と隙間１８にはそれぞれ排気管２３，２４が接続されており、この排気管２３，２４は排気手段６０、例えば真空ポンプと連結具６１，６２により連結されており、上記環状溝部１５と隙間１８内を減圧排気可能な構成とされている。
　また、排気手段６０と連結具６１，６２間には大気開放用の管６３が設けられ、その管６３と図示しないガス供給源に接続された、例えばＮ2 の導入管６４の間にはバルブ６５、例えば電磁式開閉弁が設けられている。また、上記フランジ部１１，１４の間には、上記環状溝部１５と隙間１８の開口部をそれぞれ被うことのできる挿脱自在の環状薄板部材からなるシール部材としての、例えばタンタルアモルファスによってコーディングされた厚み０．１５ｍｍの鏡面仕上げしたステンレススチールよりなる２枚重ねの薄板２５をそれぞれの内周端である溶接部２６で全周を溶接した二重構造のシール部材が溶接部分の保護をする保護板２７に保護配置されている。また、上記マニホールド１３は、上記内側反応管３の下端部を支持する一方、このマニホールド１３の一端部に処理ガスを供給するためのガス導入管２８が連結されるとともに、他端部には図示しない真空ポンプに接続される排気管２９が連結され、上記反応管２内を減圧排気可能に構成されている。
　そして、上記ウェハボート４は、例えば石英よりなる保温筒３１上に設置され、この保温筒３１は上記マニホールド１３の下端開口部のフランジ部３２をＯリング３３を介して気密可能に封止する。例えばステンレススチールよりなる蓋体３４に設置されている。この蓋体３４は昇降機構３５により上下移動され、上記内側反応管３内の予め定められた均熱位置に上記ウェハボード４を搬入搬出可能な如く構成されている。以上の如く、上記外側反応管２と上記マニホールド１３と上記蓋体３３とで容器部が構成されている。
　次に、以上のように構成された本実施例の作用について説明する。まず、多数の半導体ウェハ５が所定ピッチで収容されたウエハボード４を昇降機構３５より、内側反応管３内にロードし、蓋体３４とマニホールド１３の下端のフランジ部３２が当接し、かつ反応管２を気密に封止された状態とする。図１に示すように環状溝部１５と隙間１８に連結された排気管２３，２４を真空ポンプにより排気すると環状溝部１５と隙間１８が減圧排気され、金属からなる二重構造の薄板２５が環状溝部１５と隙間１８のそれぞれの開口部に吸着され、反応管２内はより気密封止状態になる。一方、上記封止状態を解除するには、上記真空ポンプを停止した後でバルブ６５を開にし、排気管２３，２４にＮ2 ガスを導入することによって、環状溝部１５と隙間１８が大気開放され、封止機能が解除状態になる。
　次に、実施例の効果を説明する。以上、実施例によると、反応管２のフランジ部１１は、マニホールド１３のフランジ部１４との接触面が鏡面仕上され、フランジ部１１とフランジ部１４の間にできる隙間に薄板２５が設けられている。また、抵抗加熱ヒータ６から薄板２５に加わる熱は、薄板２５の柔軟性を高め、非常に狭い隙間をも、封止できる。さらに、高真空に対する気密性を高めるため、環状溝部１５と隙間１８を減圧排気することで、薄板２５は、それぞれの開口部に吸引密着し、よりすぐれた気密性を保持できる。」（第２欄第４６行−第４欄第２１行；段落【０００８】ないし【００１３】参照）
　
　ここで、上記の摘記事項及び刊行物１の図面の記載から、該刊行物１の記載事項として、さらに次の事項（ア）及び（イ）を認めることができる。
　
（ア）上記摘記事項（ｄ）における「上記フランジ部１１，１４の間には、・・・ 例えばタンタルアモルファスによってコーディングされた厚み０．１５ｍｍの鏡面仕上げしたステンレススチールよりなる２枚重ねの薄板２５をそれぞれの内周端である溶接部２６で全周を溶接した二重構造のシール部材が溶接部分の保護をする保護板２７に保護配置されている」との記載及び「反応管２のフランジ部１１は、マニホールド１３のフランジ部１４との接触面が鏡面仕上され、フランジ部１１とフランジ部１４の間にできる隙間に薄板２５が設けられている」との記載、並びに、図１ないし図３の記載より、当該刊行物１には、外側反応管（２）の開口端とマニホールド（１３）の接合部の互いの対向面間において、外側反応管（２）のフランジ部（１１）の、マニホールド（１３）のフランジ部（１４）との対向面を鏡面仕上げし、当該面を、鏡面仕上げしたステンレススチールよりなる薄板（２５）で構成されるシール部材を介して、マニホールド（１３）のフランジ部（１４）の面と協働させて封止するシール部の構造が記載されているものと認められる。
（イ）上記摘記事項（ｄ）における「アウターフランジ１６が反応管２のフランジ部１１の外周に設けられ、このアウターフランジ１６は固定平板、例えばネジ１７によってフランジ部１１とフランジ部１４とを固定している」との記載、並びに、図１及び図３の記載より、当該刊行物１には、アウターフランジ（１６）をネジ（１７）によりマニホールド（１３）のフランジ部（１４）に固定することが記載されているものと認められる。
　
　上記の記載事項によれば、刊行物１には、次の発明（以下、「刊行物１の発明」という。）が記載されているものと認められる。
　
「周囲に抵抗加熱ヒータ（６）を配置し下端が開口された外側反応管（２）の開口端に接続されガス導入管（２８）及び排気管（２９）を有する円筒状のマニホールド（１３）と、該マニホールド（１３）の下端の開口端を開閉可能に閉じる蓋体（３４）と、該蓋体（３４）上に載置され半導体ウエハ（５）を高さ方向に所定の間隔で多数枚保持するウエハボート（４）及び保温筒（３１）と、蓋体（３４）の開閉と共に外側反応管（２）に対するウエハボート（４）及び保温筒（３１）の搬入、搬出を行う昇降機構（３５）と、上記排気管（２９）に接続され外側反応管（２）内を所定の減圧雰囲気に減圧排気する真空ポンプを設けた排気系とを備えた縦型熱処理装置（１）において、上記マニホールド（１３）の開口端と蓋体（３４）の接合部の互いの対向面間に、両対向面を封止する、マニホールド（１３）下端のフランジ部（３２）及びＯリング（３３）よりなるシール部を設け、また、上記外側反応管（２）の開口端とマニホールド（１３）の接合部において、外側反応管（２）のフランジ部（１１）の、マニホールド（１３）のフランジ部（１４）との対向面を鏡面仕上げし、当該面を、鏡面仕上げしたステンレススチールよりなる薄板（２５）で構成されるシール部材を介してマニホールド（１３）のフランジ部（１４）の面と協働させて封止するシール部（以下、「シール部Ａ」という。）と、マニホールド（１３）のフランジ部（１４）に固定されたアウターフランジ（１６）と外側反応管（２）のフランジ部（１１）との対向面間をＯリング（２１）を介して封止するシール部（以下、「シール部Ｂ」という。）とを設け、これら両シール部（シール部Ａ及びＢ）の間に形成した環状の隙間（１８）に排気手段（６０）を接続した縦型熱処理装置（１）。」
　
（２）刊行物２
　
　同じく本願の出願前に日本国内において頒布された刊行物であり、当審拒絶理由通知で引用した特開平６−１６３４２３号公報（以下、「刊行物２」という。）には、「半導体製造装置」に関し、図面とともに、次の（ｅ）ないし（ｈ）の事項が記載されている。
　
（ｅ）「真空室に装備されたビーム発生装置により，基板の処理加工を行う半導体製造装置において，該ビーム発生装置は，接合面となる鏡面部分を有するビーム発生室と，接合面となる鏡面部分を有するガス導入部材と，該ガス導入部材に接続し，該ガス導入部材接合面を該ビーム発生室接合面に押しつけるベローズ管とを有することを特徴とする半導体製造装置。」（第１欄第２行−同欄第８行；【特許請求の範囲】の【請求項１】参照）
（ｆ）「【産業上の利用分野】本発明は，真空室における基板の表面処理及び基板上に成膜を行う半導体製造装置の改良に関し，特に，そのビーム発生装置の改良に関する。」（第１欄第２４行−同欄第２６行；段落【０００１】参照）
（ｇ）「本発明は，真空シール部よりのガスの漏れのない，且つ，高速加熱，冷却が可能なビーム発生室を備えたビーム発生装置を提供することを目的としている。」（第２欄第４９行−第３欄第２行；段落【０００９】参照）
（ｈ）「アパーチャ板８と放電管６並びに，放電管６と石英スペーサー５のそれぞれの接合面はいずれも鏡面に研磨されているために，これらの接合部からの導入ガスのリーク量は，アパーチャ７からのガスの噴出量に較べて十分小さい。」（第４欄第１４行−同欄第１８行；段落【００１９】参照）
　
（３）刊行物３
　
　同じく本願の出願前に日本国内において頒布された刊行物であり、当審拒絶理由通知で引用した実願昭６３−１４３８１４号（実開平２−６６７６１号）のマイクロフィルム（以下、「刊行物３」という。）には、「圧力容器蓋のシール構造」に関し、図面とともに、次の（ｉ）ないし（ｎ）の事項が記載されている。
　
（ｉ）「容器仕様を例記すると、以下の通り。
・・・
高圧シール：Ｏリング」（第３頁第４行−同頁第１３行）
（ｊ）「本考案は、シール部を複数個（ｎ個）設けた状態で、第１段のシール部には、容器の操業圧力のｎ分の１（シール部を３段設けると、操業圧力が本例のように1500 kgf/cm2Ｇだと、500 kgf/cm2Ｇが第１段シール部にまず負荷する）を負荷し、シール性を確認すれば、第１段シール部は、500 kgf/cm2Ｇまでは、シール性は保証される。
・・・
　このように、シール部は操業圧力のかなり低い圧力しか負荷せずに、操業圧力をシールすることができ、シール部の低圧操業化が可能となる。」（第６頁第４行−第７頁第１２行）
（ｋ）「下蓋３は、シール材４ａ，４ｂ，４ｃを付けた状態で、クレーンで吊り下げられ胴２の下部に装入される。
・・・
　下蓋のシール部は、本例では３段であるが、第１段のシール部にはシール材４ａが、第２段にはシール材４ｂ、第３段にはシール材４ｃが装着され、第１段と第２段のシール部の間には導通管８ａ、第２段と第３段のシール部の間には導通管８ｂが取り付けられており、各々の導通管にはバルブ９ａ，９ｂ及び圧力計１０ａ，１０ｂが装備され、容器に取り付けられた導通管７と図示のように連結している。」（第７頁第１８行−第８頁第１２行）
（ｌ）「これからわかるように、シール材には、その差圧分しか圧力が作用せず（500kg/cm2Ｇ）、容器の圧力1500 kg/cm2Ｇをシールすることができた。」（第９頁下から１０行目−同頁下から７行目）
（ｍ）「なお、本実施例のシール材は第３段となっているが、複数段であれば何段でもよい。」（第１０頁最下行−第１１頁第１行）
（ｎ）「シール部には容器の操業圧力である全圧をかけることなく、シールができる。」（第１０頁第５行−同頁第６行）
 
　また、表１（第９頁）には、昇圧過程終了後のステップ「No. ６」として、容器の圧力Ｐ1、シール材４ａと４ｂとの間の圧力Ｐ2、及びシール材４ｂと４ｃとの間の圧力Ｐ3を、それぞれ1500、1000、及び500（単位はkg/cm2Ｇ）とした態様が記載されている。同様に、表２（第１０頁）には、昇圧過程終了後のステップ「No. １０」として、Ｐ1ないしＰ3を、それぞれ1500、1100、及び550（単位はkg/cm2Ｇ）とした態様が記載されている。
　
４．対比・判断
　
　本願発明と刊行物１の発明とを比較すると、刊行物１の発明における「抵抗加熱ヒータ（６）」は、本願補正発明における「ヒータ」に相当し、同様に、「外側反応管（２）」は「反応管」に、「ガス導入管（２８）」は「ガス供給管部」に、「排気管（２９）」は「排気管部」に、「半導体ウエハ（５）」は「被処理体」に、「ウエハボート（４）及び保温筒（３１）」は「被処理体保持具」に、「真空ポンプ」は「減圧制御装置」に、それぞれ相当するから、本願発明の用語に従えば、両者は、
「周囲にヒータを配置し下端が開口された反応管の開口端に接続されガス供給管部および排気管部を有する円筒状のマニホールドと、該マニホールドの下端の開口端を開閉可能に閉じる蓋体と、該蓋体上に載置され被処理体を高さ方向に所定の間隔で多数枚保持する被処理体保持具と、蓋体の開閉と共に反応管に対する被処理体保持具の搬入、搬出を行う昇降機構と、上記排気管部に接続され反応管内を所定の減圧雰囲気に減圧排気する減圧制御装置を設けた排気系とを備えた縦型熱処理装置において、上記マニホールドの開口端と蓋体の接合部の互いの対向面間にシール部を設けた縦型熱処理装置。」
である点で一致し、次の点で相違している。
　
相違点： 本願発明では、マニホールドの開口端と蓋体の接合部の互いの対向面間に、内周側の対向面を鏡面仕上げし、その鏡面仕上げ面を互に密着させて封止する内周シール部と、外周側の対向面間をＯリングを介して封止する外周シール部とを設け、これら内周シール部と外周シール部との間に形成した環状空間部に上記内周シール部を境とする内外の圧力差が小さくなるように減圧排気する排気手段を接続しているのに対して、刊行物１の発明では、マニホールド（１３）の開口端と蓋体（３４）の接合部の互いの対向面間に、両対向面を封止する、マニホールド（１３）下端のフランジ部（３２）及びＯリング（３３）よりなるシール部が設けられているものの、当該対向面間には、鏡面仕上げ面を互に密着させて封止するシール部は設けられておらず、また、複数のシール部の間に形成した環状空間部に排気手段を接続した構成もみられない点。
　
　そこで、上記相違点について検討する。
　
　上記３．（１）において記したように、刊行物１の発明は、次の構成を備えている。
「外側反応管（２）の開口端とマニホールド（１３）の接合部において、外側反応管（２）のフランジ部（１１）の、マニホールド（１３）のフランジ部（１４）との対向面を鏡面仕上げし、当該面を、鏡面仕上げしたステンレススチールよりなる薄板（２５）で構成されるシール部材を介してマニホールド（１３）のフランジ部（１４）の面と協働させて封止するシール部（シール部Ａ）と、マニホールド（１３）のフランジ部（１４）に固定されたアウターフランジ（１６）と外側反応管（２）のフランジ部（１１）との対向面間をＯリング（２１）を介して封止するシール部（シール部Ｂ）とを設け、これら両シール部（シール部Ａ及びＢ）の間に形成した環状の隙間（１８）に排気手段（６０）を接続した」構成。
　他方、上記３．（２）における摘記事項（ｅ）ないし（ｈ）に鑑みれば、刊行物２には、部材間（アパーチャ板（８）と放電管（６）との間、あるいは、放電管（６）と石英スペーサー（５）との間）の接合部において、その接合面を「鏡面に研磨」した面とすることにより、当該接合部からのガスのリークないし漏れを防止する技術的事項が記載されているものと認められる。そして、刊行物１の発明におけるシール部Ａに係る構成と刊行物２に記載された上記技術的事項とは、真空環境下での被処理体の処理に用いられる装置におけるシール部構造という共通の技術分野に属し、接合部の対向面ないし接合面の少なくとも一方が鏡面仕上げされているという共通の構成を有する。そうすると、刊行物１及び刊行物２に接した当業者であれば、刊行物１の発明のシール部Ａにおいて、薄板（２５）で構成されるシール部材を介装して封止を行う代わりに、マニホールド（１３）のフランジ部（１４）を鏡面仕上げしたものにするとともに当該鏡面仕上げ面を外側反応管（２）のフランジ部（１１）の鏡面仕上げ面と密着させて、当該密着により封止を行うようにすることは、容易に想到し得たものと認められる。
　また、刊行物１の発明において、シール部Ａとシール部Ｂとの間に位置する隙間（１８）を、排気手段（６０）によりどこまで減圧排気するかについては、刊行物１に明示的な記載がみられないが、内外圧力差の大きい容器のシール部において、シール部を複数設け、それらシール部間の隙間の圧力を、各シール部のシール能力（保証されるシール性）を勘案して、各シール部を境とする内外の圧力差が適宜小さくなるように調整することは、上記３．（３）に記した刊行物３の記載事項にみるように、本願出願前において当業者に知られていた技術的事項に過ぎないから、刊行物１の発明において、隙間（１８）の減圧排気を、シール部Ａを境とする内外の圧力差が小さくなるように行うことは、当業者であれば、格別の創作力を要することなく実施し得たことである。
　したがって、刊行物１の発明の、外側反応管（２）の開口端とマニホールド（１３）の接合部における、シール部Ａ及びシール部Ｂからなるシール構造にあって、シール部Ａを鏡面仕上げ面同士の密着による封止に変更するとともに、シール部Ａとシール部Ｂとの間に位置する隙間（１８）の減圧排気を、シール部Ａを境とする内外の圧力差が小さくなるように行うようにすることは、刊行物１ないし３に接した当業者であれば、容易になし得たことであると認められる。
　
　ここで、刊行物１の発明における、マニホールド（１３）の開口端と蓋体（３４）の接合部と、外側反応管（２）の開口端とマニホールド（１３）の接合部とを比較すると、これら両接合部は、マニホールド（１３）と、縦型熱処理装置の容器部を構成する他部材（蓋体（３４）または外側反応管（２））との間の接合部であるという点で共通し、当該容器部内外を離隔するためのシールが行われる部位であるという点でも共通する。そうすると、マニホールド（１３）の開口端と蓋体（３４）の接合部にも、外側反応管（２）の開口端とマニホールド（１３）の接合部と同様のシール構造を採用することに、困難性を見いだすことはできない。
　
　以上の検討によれば、刊行物１の発明において、マニホールド（１３）の開口端と蓋体（３４）の接合部、及び、外側反応管（２）の開口端とマニホールド（１３）の接合部において、各接合部の互いの対向面間に、対向面を鏡面仕上げし、その鏡面仕上げ面を互に密着させて封止する、容器内部に面したシール部と、対向面間をＯリングを介して封止する、容器外部に面したシール部とを設け、これら両シール部間に形成した環状空間部に、上記の容器内部に面したシール部を境とする内外の圧力差が小さくなるように減圧排気する排気手段を接続するようにして、上記相違点に係る本願発明の構成とすることは、当業者であれば、容易になし得たことであると認められる。
　
　なお、本願の請求項１においては、「内周シール部」及び「外周シール部」の文言が用いられているので、これら「内周」及び「外周」の語について、念のために検討しておく。
　刊行物１の発明において、シール部Ａとシール部Ｂとの間の位置関係について考えると、かかる位置関係のうち、いずれが容器の径方向中心（中心軸）に近い側にあり、いずれが径方向中心から遠い側にあるかは、シールＡが容器内部に面しシールＢが容器外部に面するという相互関係に変化がない限りそれら各シールの機能において変わるところがないものと認められる以上、当該相互関係を維持した範囲内において適宜選択し得た、単なる設計的事項である。たとえば、刊行物１の図３に示された、外側反応管（２）の開口端とマニホールド（１３）の接合部において、外側反応管（２）側で、該外側反応管（２）のフランジ部（１１）の上辺（Ｏリング（２１）が接している面）を外方に延出するとともに、マニホールド（１３）側（該マニホールドに固定されたアウターフランジ（１６）を含めて総称する）でも、それに対応してＯリング（２１）保持位置を外方に移動させれば、相対的に、該Ｏリング（２１）よりなるシール部Ｂが、シール部Ａよりも外方に位置することになる。この場合でも、シールＡが容器内部に面しシールＢが容器外部に面するという相互関係には変化がないから、シールＡ及びシールＢの機能において変わるところはなく、よって、かかる変更は単なる設計的事項に過ぎないということができる。
　
　また、本願発明の作用効果（封止効果の向上、Ｏリングからの脱ガスや被処理体の金属汚染といった問題の防止、等）について検討しても、刊行物１の発明及び刊行物１ないし３に記載された事項から、当業者であれば予測することができる範囲のものであって、格別のものということはできない。
　
　したがって、本願発明は、刊行物１ないし３に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができないものである。
　
　本願発明が特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであることは、以上説示したとおりであるが、本件審判請求人は、上記の平成１８年６月１４日付け意見書において、本願発明は特許を受けることができる旨主張するので、これについても検討すると、次のとおりである。
　審判請求人は、同意見書において、「刊行物１記載の発明は、反応管２のフランジ部１１とマニホールド１３のフランジ部１４との接合部の封止を対象としているのに対し、本願の請求項１に係る発明は、マニホールドの開口端と蓋体との接合部の封止を対象としている点で発明の前提が大きく異なっている。すなわち、前者は常時接合された状態にあってシール性を維持し易いのに対し、後者は蓋体の開閉が繰り返されることから開蓋時には蓋が開きやすく、閉蓋時には速やかに高いシール性を発揮することが要求される。 ・・・ 一方、上記刊行物１に記載の封止構造に換えて、刊行物２に記載された技術的事項（互いの対向面に鏡面部を設け、その対向面を互いに密着させて封止を行う点に係る技術事項の概略的記載）を適用し、外側反応管２のフランジ面１１とマニホールド１３のフランジ部１４との接合面を鏡面仕上げし、互いに密着させること（・・・）は、当業者であれば容易に想到し得るものであると指摘されているが、本願の請求項１に係る発明は、上述したように刊行物１（・・・）に記載の封止構造とは発明の前提が異なるため、上記刊行物１に記載の封止構造に換えて、刊行物２に記載された技術的事項を適用しても本願の請求項１に係る発明の内周シール部はたとえ当業者であっても想到しえないものである。」と述べている（同意見書第３頁第８行−同頁第２９行）。
　しかしながら、前説示のとおり、刊行物１の発明における、マニホールド（１３）の開口端と蓋体（３４）の接合部と、外側反応管（２）の開口端とマニホールド（１３）の接合部とは、マニホールド（１３）と、縦型熱処理装置の容器部を構成する他部材（蓋体（３４）または外側反応管（２））との間の接合部であるという点で共通し、当該容器部内外を離隔するためのシールが行われる部位であるという点でも共通することから、マニホールド（１３）の開口端と蓋体（３４）の接合部にも、外側反応管（２）の開口端とマニホールド（１３）の接合部と同様のシール構造を採用することに、困難性を見いだすことはできない。そして、外側反応管（２）の開口端とマニホールド（１３）の接合部において、鏡面仕上げ面を互に密着させて封止する構成及び環状空間部を減圧排気する構成を含むシール構造とすることが、当業者の容易に想到し得たものであることは、前説示のとおりであるのであるから、結局、マニホールド（１３）の開口端と蓋体（３４）の接合部に、かかるシール構造を用いることもまた、当業者が通常の創作能力の発揮によりなし得たことというほかはない。
　さらに、念のために付言すれば、刊行物１における下記のような記載も、マニホールド（１３）の開口端と蓋体（３４）の接合部に、外側反応管（２）の開口端とマニホールド（１３）の接合部と同様のシール構造を採用することに、格別の困難性は存しないことを、示唆しているということができる。
− 「従来の技術」の欄において、「反応管とマニホールド及びマニホールドとふた体のそれぞれの隙間の封止手段として、Ｏリングを介在させる方法が広く用いられている」というように、「反応管とマニホールド」の隙間の封止手段と、「マニホールドとふた体」のそれとが、並列に記載されていること。（上記３．（１）の摘記事項（ａ）を参照。）
− マニホールド（１３）には、外側反応管（２）との接合・封止のためのフランジ部（１４）とともに、蓋体（３４）との接合・封止のためのフランジ部（３２）が設けられていること。
− 外側反応管（２）の開口端とマニホールド（１３）の接合部に関し、「封止状態を解除するには、上記真空ポンプを停止した後でバルブ６５を開にし、排気管２３，２４にＮ2 ガスを導入することによって、環状溝部１５と隙間１８が大気開放され、封止機能が解除状態になる」と記載され（上記３．（１）の摘記事項（ｄ）を参照。）、上記意見書における、「反応管２のフランジ部１１とマニホールド１３のフランジ部１４との接合部の封止」に関しての、「常時接合された状態にあって」との記載にもかかわらず、少なくとも当該接合部の「封止状態」については、これを解除することが記載されていること。
　あわせて付言すれば、刊行物３には、前説示のとおり、シール部を複数設け、それらシール部間の隙間の圧力を調整するシール構造が記載されているが、かかるシール構造は、容器における、開閉される下蓋（３）の部分に設けられている（上記３．（３）における摘記事項（ｋ）等を参照。）。
　以上検討したとおり、マニホールド（１３）の開口端と蓋体（３４）の接合部に、鏡面仕上げ面を互に密着させて封止する構成及び環状空間部を減圧排気する構成を含むシール構造を採用することに、困難性の存在は認められず、よって、上記した審判請求人の主張は、採用することができない。
　
５．むすび
　
　以上のとおり、本願発明（本願の請求項１に係る発明）は、刊行物１ないし３に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　そして、本願の請求項１に係る発明が特許を受けることができないものである以上、本願の他の請求項（すなわち、請求項２）に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。