【事件の表示】
　特願２００３−３７４０２３「液晶表示装置のシールパターン形成方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１６年　６月２４日出願公開、特開２００４−１７７９４１〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯 
　本願は、平成１５年１１月４日（パリ条約による優先権主張２００２（平成１４）年１１月２８日、大韓民国）の出願であって、平成２０年２月２９日付け及び同年６月２０日付けで手続補正がなされたが、同年７月１４日付けで同年６月２０日付け手続補正が却下されるとともに同日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、同年１０月２０日に拒絶査定不服審判が請求されるとともに、同日付けで手続補正がなされたものである。
　
　
第２　平成２０年１０月２０日付け手続補正についての補正却下の決定
　
［補正却下の決定の結論］ 
　平成２０年１０月２０日付けの手続補正を却下する。 
　
［理由］ 
１．補正の内容 
　平成２０年１０月２０日付けの手続補正（以下「本件補正」という。）は、補正前の請求項１を以下のとおりの請求項１に補正することを含むものである。
「下部基板及び上部基板を準備する段階；
　前記下部基板に薄膜トランジスタ及び画素電極を形成する段階；
　前記上部基板にカラーフィルタを形成する段階；
　前記下部基板または上部基板に共通電極を形成する段階;
　前記下部基板及び上部基板の少なくとも一つの基板上にＰＶＮまたはポリアミック酸などのラビング配向処理が可能な物質、ＰＶＣＮ及びＰＳＣＮまたはＣｅｌＣＮ系化合物などの光反応性物質を使用して配向膜を形成する段階；
　前記上部基板上に多数の開口部が形成され、一定の大きさを有するスクリーンマスクを整列する段階；
　前記上部基板上に前記スクリーンマスクを使用して印刷方式で閉鎖型の第１ＵＶ硬化型シールパターンを形成する段階；
　前記第１ＵＶ硬化型シールパターンと隣接した前記上部基板上にスクリーンマスクを整列し、印刷方式で閉鎖型の第２ＵＶ硬化型シールパターンを形成する段階；
　前記下部基板上に液晶を滴下する段階；
　前記上部基板と下部基板を合着する段階；及び
　前記合着された上部基板と下部基板にＵＶを照射して前記シールパターンを硬化する段階を含んで形成することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。」
　
２．補正の目的
　請求項１に係る上記補正は、補正前の請求項４を「１ＵＶ硬化型シールパターンと隣接した前記上部基板上にスクリーンマスクを整列し、印刷方式で閉鎖型の第２ＵＶ硬化型シールパターンを形成する段階」を含むものに限定するとともに、補正前の請求項４の「配向膜」及び「スクリーンマスク」をそれぞれ「ＰＶＮまたはポリアミック酸などのラビング配向処理が可能な物質、ＰＶＣＮ及びＰＳＣＮまたはＣｅｌＣＮ系化合物などの光反応性物質を使用して形成する」もの及び「多数の開口部が形成されている」ものに限定するものであるから、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項第２号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。
　
３．独立特許要件
　本件補正後の請求項１に係る発明（以下「本願補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか）について以下検討する。
　
（１）引用例
　原査定の拒絶理由において引用され、本願の優先日前に頒布された刊行物である特開２０００−１７１７６８号公報（以下「引用例」という。）には下記の記載がある。
　
ア「【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、多面取りしたガラス基板を分割して液晶表示装置を製造する液晶表示装置の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示装置は、所定の間隙で貼り合わされたガラス基板の間に液晶を充填して封止された構造を有している。この液晶表示装置は、ガラス基板に接着剤を印刷する印刷工程、接着剤を印刷したガラス基板を貼り合わす貼り合わせ工程、貼り合わせたガラス基板（液晶セル）を多面取りする分断工程、多面取りされた液晶セルに液晶を充填する液晶注入工程などを経て製造されている。
【０００３】前述の印刷工程でガラス基板を貼り合わせる接着剤は、通常、液晶を密封するシール剤の機能を受け持っており、接着力はもちろんのこと温度、湿度等に対する高い耐環境性が要求されたものが用いられている。この接着剤（以下、シール剤と呼ぶ。）をガラス基板上に形成する方法としては、ディスペンサを用いた描画法と印刷版を用いたスクリーン印刷法とがある。
【０００４】描画法は、ディスペンサの先端からシール剤を押し出しながらこのディスペンサを基板上を移動させてパターンを描く方式であり、液晶表示装置の表示領域には非接触のためガラス基板汚染の心配がなくクリーンである。また、パターンの変更はプログラム変更のみでよく、スクリーン印刷のように印刷版を複数保有する必要がない。しかしながら、複雑なパターンや多数のパターンを描く場合はタクトが長くなる欠点がある。
【０００５】スクリーン印刷法は、ガラス基板上に設置された印刷版にシール剤をのせスキージで印刷版上を掻くことにより、印刷版に形成されている開口パターン部からシール剤を押し出してガラス基板上にパターンを形成する方式である。パターン形状によらずタクトは一定であるがパターンを変更する時は印刷版の交換が必要である。また、印刷版のサイズが大きくなるとパターン精度が悪くなり印刷位置がずれる可能性がある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】液晶表示装置は、近年ますます大型なものが要求されておりガラス基板の大型化が進んでいる。描画法を用いた場合では、ガラス基板が大型化してもパターン精度は落ちないが、多数のパターンを描く場合にはタクトが落ちてしまうという問題がある。描画法ではガラス基板を４面取りとする場合は１２０秒程度、８面取りの場合は１６０秒程度必要であるが、スクリーン印刷法では、面取り数とは無関係に１回の印刷で６０秒以下、４回印刷しても１２０秒のタクトが実現できるので、生産性を考えた場合は描画法に比べてスクリーン印刷の方が優位である。
【０００７】スクリーン印刷法を用いた場合では、前述のガラス基板の大型化に対応するために印刷版も大型のものが必要となる。しかしながら、大型の印刷版は、取り扱いが困難で、かつ印刷パターン精度が悪化してしまうという問題がある。
【０００８】この印刷版は、一般に大型化すると版の精度が落ちる。版の大きさが２倍になれば精度は半分になる。印刷範囲が３２０×４００ｍｍ、版枠サイズ６５０×７５０ｍｍの場合印刷版の精度は±１００μｍ程度が実力である。これはマスクがフィルム乾板の場合である。これに対し、印刷範囲が５５０×６５０ｍｍの場合、印刷版精度は±１７０μｍとなる。さらに、６００×８００ｍｍの場合は±２００μｍとなる。
【０００９】印刷版精度が低ければ、シール剤の印刷位置精度が低くなり、シール印刷に関する製造マージンが低下することになる。そのため、余裕を持った設計が必要となり、液晶パネルの額縁が広くなってしまうという問題がある。
【００１０】本発明は、大型のガラス基板に対するスクリーン印刷の印刷パターン精度を向上させて液晶パネルの額縁が広くならない液晶表示装置の製造方法を提供することを目的とする。」
　
イ「【００１６】以下、本発明の液晶表示装置の製造方法を具体的な実施の形態に基づいて説明する。（実施の形態）本発明の実施の形態の液晶表示装置の製造方法は、図１に示すように、多面取りしたガラス基板２を分割して液晶表示装置を製造するに際し、ガラス基板２へのスクリーン印刷は、複数回に分けて印刷するたびに印刷版３を移動させて前記多面取りの必要枚数分のパターンを印刷するものである。
【００１７】前記のガラス基板２へのスクリーン印刷を実現するスクリーン印刷装置は、図２に示すように、精度が許容できる大きさに形成され開口パターン部を有する印刷版３と、この印刷版３を掻いてシール剤６を開口パターン部に充填する単一のスキージ４と、ガラス基板２を載置する印刷ステージ８と、スキージ４が印刷版３に当接している部分のみがガラス基板２に当接するようガラス基板２と印刷版３とを所定の間隔をあけて保持する版枠５と、これらを制御する制御部（図示せず）とで構成されている。また、この単一のスキージ４は、図３に示すように、往路Ａと復路Ｂに移動可能であり、印刷版３を移動させるごとに移動方向を切り換えて移動させて印刷版３を掻いてガラス基板２にシール剤６をスクリーン印刷するように構成されている。
・・・
【００２１】前述のようにガラス基板２へのスクリーン印刷を４回印刷とする場合には、図１（ａ）に示すように、ガラス基板２の第１の領域１１に印刷版３を移動させて往路Ａの方向にスキージ４を掻いて印刷１回目を実行する。次に、図１（ｂ）に示すように、ガラス基板２の第２の領域１２に印刷版３を移動させて復路Ｂの方向にスキージ４を掻いて印刷２回目を実行する。次に、図１（ｃ）に示すように、ガラス基板２の第３の領域１３に印刷版３を移動させて往路Ａの方向にスキージ４を掻いて印刷３回目を実行する。最後に、図１（ｄ）に示すように、ガラス基板２の第４の領域１４に印刷版３を移動させて復路Ｂの方向にスキージ４を掻いて印刷４回目を実行している。
【００２２】このように、ガラス基板２へのスクリーン印刷は、複数回に分けて印刷するたびに印刷版３を移動させて多面取りの必要枚数分のパターンを印刷して、ガラス基板２の全面に印刷パターン１を印刷する。」
　
ウ　上記イの記載を踏まえて図１を見ると、印刷板３は、シール剤を２つの長方形の印刷パターン１にスクリーン印刷するために、２つの長方形の印刷パターン１に対応する２つの開口パターン部を有するものであることが見てとれ、また、第１の領域１１ないし第４の領域１４は、互いに隣接するとともに第１の領域１１ないし第４の領域１４に印刷された印刷パターンも互いに隣接することが見てとれる。
　
エ　上記アないしウから、引用例には、以下の発明（以下「引用発明」という。）が記載されているものと認められる。
「多面取りしたガラス基板を分割して液晶表示装置を製造する液晶表示装置の製造方法において、２つの長方形の印刷パターン１に対応する２つの開口パターン部を有する印刷版３をガラス基板２の第１の領域１１に移動させて印刷１回目を実行して２つの長方形の印刷パターン１を印刷し、次に、第１の領域１１に隣接するガラス基板２の第２の領域１２に印刷版３を移動させて印刷２回目を実行し、第１の領域１１に印刷された２つの長方形の印刷パターンに隣接して２つの長方形の印刷パターン１を印刷し、ガラス基板２にシール剤６を複数回に分けてスクリーン印刷する、液晶表示装置の製造方法。」
　
　
（２）対比
ア　引用発明の「ガラス基板２」は、シール剤６が複数回に分けてスクリーン印刷されるものであるので本願補正発明の「上部基板」に相当する。
　
イ　引用発明の「印刷版３」は、２つの長方形の印刷パターン１に対応する２つの開口パターン部を有するので、本願補正発明の「（多数の開口部が形成され、一定の大きさを有する）スクリーンマスク」に相当する。
　
ウ　引用発明の「ガラス基板２の第１の領域１１に印刷される２つの長方形の印刷パターン１」及び「ガラス基板２の第２の領域１２に印刷される２つの長方形の印刷パターン１」は、それぞれ本願補正発明の「閉鎖型の第１ＵＶ硬化型シールパターン」及び「閉鎖型の第２ＵＶ硬化型シールパターン」と「閉鎖型のシールパターン」である点で一致する。
　
エ　引用発明は、「２つの長方形の印刷パターン１に対応する２つの開口パターン部を有する印刷版３をガラス基板２の第１の領域１１に移動させて印刷１回目を実行して２つの長方形の印刷パターン１を印刷し、次に、第１の領域１１に隣接するガラス基板２の第２の領域１２に印刷版３を移動させて印刷２回目を実行し、第１の領域１１に印刷された２つの長方形の印刷パターンに隣接して２つの長方形の印刷パターン１を印刷し、ガラス基板２にシール剤６を複数回に分けてスクリーン印刷」するものであるので、引用発明と本願補正発明とは、「上部基板上に多数の開口部が形成され、一定の大きさを有するスクリーンマスクを整列する段階；前記上部基板上に前記スクリーンマスクを使用して印刷方式で閉鎖型の第１シールパターンを形成する段階；前記第１シールパターンと隣接した前記上部基板上にスクリーンマスクを整列し、印刷方式で閉鎖型の第２シールパターンを形成する段階」を含む点で一致する。
　
オ　上記アないしエから、本願補正発明と引用発明とは、
「上部基板上に多数の開口部が形成され、一定の大きさを有するスクリーンマスクを整列する段階；
　前記上部基板上に前記スクリーンマスクを使用して印刷方式で閉鎖型の第１シールパターンを形成する段階；
　前記第１シールパターンと隣接した前記上部基板上にスクリーンマスクを整列し、印刷方式で閉鎖型の第２シールパターンを形成する段階を含んで形成する液晶表示装置の製造方法。」の点で一致し、以下の点で相違する。
　
相違点１：
　本願補正発明は、「シールパターン」が「ＵＶ硬化型」で、「前記合着された上部基板と下部基板にＵＶを照射して前記シールパターンを硬化する段階を含む」のに対して、引用発明はそのようなものか明らかでない点。
　
相違点２：
　本願補正発明は、「下部基板及び上部基板を準備する段階；前記下部基板に薄膜トランジスタ及び画素電極を形成する段階；前記上部基板にカラーフィルタを形成する段階；前記下部基板または上部基板に共通電極を形成する段階;前記下部基板及び上部基板の少なくとも一つの基板上にＰＶＮまたはポリアミック酸などのラビング配向処理が可能な物質、ＰＶＣＮ及びＰＳＣＮまたはＣｅｌＣＮ系化合物などの光反応性物質を使用して配向膜を形成する段階；前記下部基板上に液晶を滴下する段階；前記上部基板と下部基板を合着する段階」を含むのに対して、引用発明はそのようなものか明らかでない点。
　
　
（３）判断
　
ア　相違点１について
　液晶表示装置のシール剤が「ＵＶ硬化型」で「合着された上部基板と下部基板にＵＶを照射してシールパターンを硬化する段階を含む」液晶表示装置の製造方法は本願の優先日時点で周知（例えば、特開２００１−１７４８２９号公報の段落【００１２】〜【００１７】、特開平１１−３２６９２１号公報の図４、段落【００３５】、特開２００１−２８１６７８号公報の段落【００２４】を参照。）であるので、引用発明にこの周知技術を適用して、引用発明を本願補正発明の相違点１に係る構成とすることは当業者が容易になし得たことである。
　
イ　相違点２について
　本願補正発明において、「前記下部基板及び上部基板の少なくとも一つの基板上にＰＶＮまたはポリアミック酸などのラビング配向処理が可能な物質、ＰＶＣＮ及びＰＳＣＮまたはＣｅｌＣＮ系化合物などの光反応性物質を使用して配向膜を形成する段階」との構成は、「ＰＶＮまたはポリアミック酸など」及び「ＰＶＣＮ及びＰＳＣＮまたはＣｅｌＣＮ系化合物など」という表現からみて、「ラビング配向処理が可能な物質」及び「光反応性物質」をそれぞれ「ＰＶＮまたはポリアミック酸」及び「ＰＶＣＮ及びＰＳＣＮまたはＣｅｌＣＮ系化合物」に限定するものではなく、本願明細書の記載（段落【００２９】）に照らしても、結局のところ、「前記下部基板及び上部基板の少なくとも一つの基板上にラビング配向処理が可能な物質または光反応性物質を使用して配向膜を形成する段階」と解されるものであるところ、薄膜トランジスタを用いたアクティブマトリクス型のカラー液晶表示装置を液晶滴下方式で製造する方法として、「下部基板及び上部基板を準備する段階；前記下部基板に薄膜トランジスタ及び画素電極を形成する段階；前記上部基板にカラーフィルタを形成する段階；前記下部基板または上部基板に共通電極を形成する段階;前記下部基板及び上部基板の少なくとも一つの基板上にラビング配向処理が可能な物質を使用して配向膜を形成する段階；前記下部基板上に液晶を滴下する段階；前記上部基板と下部基板を合着する段階を含む」製造方法は本願の優先日時点で周知（例えば、前記特開２００１−１７４８２９号公報の段落【０００２】〜【０００４】、【００１２】〜【００１７】、前記特開平１１−３２６９２１号公報の段落【０００７】〜【００１５】、【００３４】〜【００３５】、前記特開２００１−２８１６７８号公報の段落【００２４】を参照。）であるので、引用発明にこの周知技術を適用して、引用発明を本願補正発明の相違点２に係る構成とすることは当業者が容易になし得たことである。
　
　よって、本願補正発明は、引用発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができない。
　
　
（４）むすび
　以上のとおりであるから、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。　　
　
　
第３　本願発明について
１．本願発明
　平成２０年１０月２０日付けの手続補正は、上記のとおり却下されたので、本願の請求項に係る発明は、平成２０年２月２９日付け手続補正書の特許請求の範囲の請求項１〜８に記載された事項により特定されるものであると認められるところ、請求項４に係る発明は次のものである。 
「下部基板及び上部基板を準備する段階；
　前記下部基板に薄膜トランジスタ及び画素電極を形成する段階；
　前記上部基板にカラーフィルタを形成する段階；
　前記下部基板及び上部基板の少なくとも一つの基板上に配向膜を形成する段階；
　前記上部基板上に一定の大きさを有するスクリーンマスクを整列する段階；
　前記上部基板上に前記スクリーンマスクを使用して印刷方式で閉鎖型のUV硬化型シールパターンを形成する段階；
　前記下部基板上に液晶を滴下する段階；
　前記上部基板と下部基板を合着する段階；及び
　前記合着された上部基板と下部基板にUVを照射して前記シールパターンを硬化する段階を含んで形成することを特徴とする液晶表示装置の製造方法において、
　前記下部基板または上部基板に共通電極を形成する段階をさらに含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。」（以下「本願発明」という。）
 　 
２．引用例
　上記「第２　３．（１）」に記載のとおりのものである。
　
３．対比・判断 
　本願発明は、本願補正発明において、「１ＵＶ硬化型シールパターンと隣接した前記上部基板上にスクリーンマスクを整列し、印刷方式で閉鎖型の第２ＵＶ硬化型シールパターンを形成する段階」を含むとの限定、「配向膜」が「ＰＶＮまたはポリアミック酸などのラビング配向処理が可能な物質、ＰＶＣＮ及びＰＳＣＮまたはＣｅｌＣＮ系化合物などの光反応性物質を使用して形成する」ものであるとの限定及び「スクリーンマスク」が「多数の開口部が形成されている」ものであるとの限定を省いたものである。
　そうすると、本願発明の発明特定事項をすべて含み、さらに限定を付加したものに相当する本願補正発明が、上記「第２　３．（２）及び（３）」で検討したとおり、引用発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も同様の理由により、引用発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
４．むすび 
　したがって、本願発明は、引用発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。 
　よって、結論のとおり審決する。