【手続補正書】
【提出日】平成24年1月13日(2012.1.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】露光装置、ステージ装置、ノズル部材、メンテナンス方法、露光方法、及びデバイス製造方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
投影光学系の像面側に液体の液浸領域を形成し、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して基板を露光する露光装置であって、
前記液浸領域を形成するための液体に接触する部材の液体接触面の少なくとも一部が、光触媒作用を有する材料で形成されている露光装置。
【請求項２】
前記光触媒作用を有する材料で前記液体接触面を形成することによって、前記液体に対する親液性が維持される請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記光触媒作用を有する材料で前記液体接触面を形成することによって、前記液体接触面の汚染が抑制される請求項１又は２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記液体接触面は、前記光触媒作用を有する材料の膜で形成される請求項１〜３のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項５】
前記膜は、不動態膜を含む請求項４に記載の露光装置。
【請求項６】
前記部材の少なくとも一部が、前記光触媒作用をもたらす材料から形成されている請求項１〜３のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項７】
前記光触媒作用を有する材料は、チタンを含む請求項１〜６のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項８】
前記光触媒作用を有する材料は、酸化チタンを含む請求項１〜７のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項９】
前記光触媒作用を有する材料は、二酸化亜鉛を含む請求項１〜８のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記像面側で移動可能なステージを備え、
前記液体接触面は、前記投影光学系との間で前記液浸領域の液体を保持可能な前記ステージの上面の少なくとも一部を含む請求項１〜９のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１１】
前記ステージは、前記基板を保持する基板ホルダを有する基板ステージを含み、
前記液体接触面は、前記基板ホルダの周囲に配置される前記基板ステージの上面を含む請求項１０に記載の露光装置。
【請求項１２】
前記ステージは、前記基板を保持せずに、光計測部が設けられる計測ステージを含み、
前記液体接触面は、前記計測ステージの上面を含む請求項１０又は１１に記載の露光装置。
【請求項１３】
前記ステージに設けられた光計測部を備え、
前記液体接触面は、前記光計測部の上面を含む請求項１０〜１２のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１４】
前記基板を保持する基板ホルダを有し、前記像面側で移動可能な基板ステージと、
前記基板ステージにおいて前記基板ホルダの外側の所定位置に配置される光計測部と、を備え、
前記液体接触面は、前記基板ステージの上面及び前記光計測部の上面の少なくとも一方を含む請求項１〜９のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１５】
前記光計測部は、前記基板ステージにおいて前記基板ホルダの周囲に複数配置される請求項１４に記載の露光装置。
【請求項１６】
前記光計測部は、前記基板ホルダの外側において対角線上の反対位置に配置される請求項１５に記載の露光装置。
【請求項１７】
前記光計測部は、基準部材を含む請求項１２〜１６のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１８】
前記光計測部は、計測部材を含む請求項１２〜１７のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１９】
前記光計測部は、照度ムラセンサを含む請求項１２〜１８のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項２０】
前記光計測部は、空間像計測センサを含む請求項１２〜１９のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項２１】
前記光計測部は、照度センサを含む請求項１２〜２０のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項２２】
前記光計測部は、反射部材を含む請求項１２〜２１のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項２３】
前記液体接触面は、前記投影光学系の複数の光学素子のうち、前記投影光学系の像面に最も近い光学素子の下面を含む請求項１〜２２のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項２４】
前記投影光学系の複数の光学素子のうち前記投影光学系の像面に最も近い光学素子の近傍に配置され、前記液体を供給する供給口及び前記液体を回収する回収口の少なくとも一方を有するノズル部材を備え、
前記液体接触面は、前記ノズル部材の下面を含む請求項１〜２３のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項２５】
前記供給口は、前記ノズル部材の下面に配置される請求項２４に記載の露光装置。
【請求項２６】
前記回収口は、前記ノズル部材の下面に配置される請求項２４又は２５に記載の露光装置。
【請求項２７】
前記ノズル部材は、前記回収口に配置された多孔部材を介して前記液体を回収し、
前記液体接触面は、前記多孔部材の表面の少なくとも一部を含む請求項２４〜２６のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項２８】
紫外光を射出する照射装置を備え、
前記照射装置は、前記液体接触面に前記紫外光を照射して、前記液体接触面の親液性を高める請求項１〜２７のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項２９】
紫外光を射出する照射装置を備え、
前記照射装置は、前記液体接触面に前記紫外光を照射して、前記液体接触面を洗浄する請求項１〜２７のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項３０】
紫外光を射出する照射装置を備え、
前記照射装置は、前記液体接触面に前記紫外光を照射して、前記液体接触面に付着した有機物を除去する請求項１〜２７のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項３１】
液体を介して前記紫外光が前記液体接触面に照射される請求項２８〜３０のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項３２】
前記液体接触面に前記紫外光を照射するときに前記液体接触面に供給される液体は、前記基板を露光するときに前記基板に供給される液体である請求項３１に記載の露光装置。
【請求項３３】
液体を供給する液体供給機構と、
液体を回収する液体回収機構と、を備え、
前記液体供給機構及び前記液体回収機構を使って液体の供給及び回収を行いながら、前記液体接触面に前記紫外光を照射する請求項３１又は３２に記載の露光装置。
【請求項３４】
前記液体回収機構は、前記液体接触面から発生した異物を液体とともに回収する請求項３３に記載の露光装置。
【請求項３５】
前記液体接触面に前記紫外光を照射するときに前記液体接触面に供給される液体の酸素濃度は、前記基板を露光するときに前記基板に供給される液体の酸素濃度よりも多い請求項３１〜３４のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項３６】
前記紫外光は、前記基板を露光するための露光光を含む請求項２８〜３５のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項３７】
前記照射装置は、前記投影光学系の像面側に配置され、前記投影光学系からの露光光の照射によって前記露光光と同一波長の光を、前記紫外光として発生する光学部材を含む請求項２８〜３６のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項３８】
前記光学部材は、反射部材を含み、
前記紫外光は、前記露光光の照射によって前記反射部材から発生する反射光を含む請求項３７に記載の露光装置。
【請求項３９】
前記光学部材は、回折部材を含み、
前記紫外光は、前記露光光の照射によって前記回折部材から発生する回折光を含む請求項３７に記載の露光装置。
【請求項４０】
前記光学部材は、散乱部材を含み、
前記紫外光は、前記露光光の照射によって前記散乱部材から発生する散乱光を含む請求項３７に記載の露光装置。
【請求項４１】
前記基板を保持する基板ホルダに、前記光学部材としてダミー基板が配置される請求項３７〜４０のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項４２】
前記光学部材は、前記投影光学系の像面側で移動可能な可動部材に配置される請求項３７〜４１のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項４３】
前記投影光学系と前記光学部材との間に液体が満たされた状態で、前記照射装置は、前記液体に接触する部材に前記紫外光を照射する請求項３７〜４２のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項４４】
投影光学系の像面側に液体の液浸領域を形成し、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して基板を露光する露光装置において、
前記投影光学系の複数の光学素子のうち前記投影光学系の像面に最も近い光学素子の近傍に配置され、前記液浸領域を形成するための液体を供給する供給口及び前記液体を回収する回収口の少なくとも一方を有するノズル部材と、
前記液浸領域の液体と接触する前記ノズル部材の液体接触面の汚染状態を検出する検出装置と、を備える露光装置。
【請求項４５】
前記液体接触面は、前記基板が対向可能な前記ノズル部材の下面を含む請求項４４に記載の露光装置。
【請求項４６】
前記供給口は、前記ノズル部材の下面に配置される請求項４５に記載の露光装置。
【請求項４７】
前記回収口は、前記ノズル部材の下面に配置される請求項４５又は４６に記載の露光装置。
【請求項４８】
前記ノズル部材は、前記回収口に配置された多孔部材を介して前記液体を回収し、
前記液体接触面は、前記多孔部材の表面の少なくとも一部を含む請求項４４〜４７のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項４９】
前記検出装置は、前記液体接触面に付着している不純物を検出する請求項４４〜４８のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項５０】
前記不純物は、有機物を含む請求項４９に記載の露光装置。
【請求項５１】
前記不純物は、前記基板から発生した異物を含む請求項４９又は５０に記載の露光装置。
【請求項５２】
前記検出装置は、前記液体接触面における液体の付着跡を検出する請求項４４〜５１のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項５３】
前記検出装置は、前記液体接触面に検出光を照射する発光部と、前記発光部と前記液体接触面とを結ぶ光路上に配置された分岐ミラーと、前記発光部からの照射に基づく前記液体接触面からの反射光を受光するための第１受光部と、前記発光部からの照射に基づく前記分岐ミラーからの分岐光を受光するための第２受光部と、を有し、
前記第１、第２受光部の受光結果に基づいて、前記液体接触面の汚染状態を検出する請求項４４〜５２のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項５４】
前記検出装置は、観察システムを含む請求項４４〜５３のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項５５】
前記液体接触面に紫外光を照射可能な照射装置を備え、
前記検出装置の検出結果に基づいて、前記照射装置が制御される請求項４４〜５４のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項５６】
前記検出装置の検出結果に基づいて、前記液体接触面が汚染されていないと判断されたとき、前記液体接触面に対する紫外光の照射が行われず、前記液体接触面が汚染されていると判断されたとき、前記液体接触面に対する紫外光の照射が行われる請求項５５の記載の露光装置。
【請求項５７】
前記照射装置は、前記液体接触面に前記紫外光を照射して、前記液体接触面を洗浄する請求項５５又は５６に記載の露光装置。
【請求項５８】
前記照射装置は、前記液体接触面に前記紫外光を照射して、前記液体接触面に付着した有機物を除去する請求項５５〜５７のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項５９】
前記照射装置は、前記液体接触面に前記紫外光を照射して、前記液体接触面の親液性を高める請求項５５〜５８のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項６０】
前記像面側で移動可能なステージを備え、
前記照射装置の少なくとも一部は、前記ステージに配置される請求項５５〜５９のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項６１】
前記ステージは、前記基板を保持する基板ホルダを有する基板ステージを含む請求項６０に記載の露光装置。
【請求項６２】
前記ステージは、前記基板を保持せずに、光計測部が設けられる計測ステージを含む請求項６０又は６１に記載の露光装置。
【請求項６３】
前記照射装置は、前記投影光学系の像面側に配置され、前記投影光学系からの露光光の照射によって前記露光光と同一波長の光を、前記紫外光として発生する光学部材を含む請求項５５〜６２のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項６４】
前記光学部材は、反射部材を含み、
前記紫外光は、前記露光光の照射によって前記反射部材から発生する反射光を含む請求項６３に記載の露光装置。
【請求項６５】
前記光学部材は、回折部材を含み、
前記照射光は、前記露光光の照射によって前記回折部材から発生する回折光を含む請求項６３に記載の露光装置。
【請求項６６】
前記光学部材は、散乱部材を含み、
前記紫外光は、前記露光光の照射によって前記散乱部材から発生する散乱光を含む請求項６３に記載の露光装置。
【請求項６７】
前記光学部材は、前記投影光学系の像面側で移動可能な可動部材に配置されている請求項６３〜６６のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項６８】
前記投影光学系と前記光学部材との間に液体が満たされた状態で、前記照射装置は、前記液体接触面に前記紫外光を照射する請求項６３〜６７のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項６９】
請求項１〜６８のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板を露光することと、
露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【請求項７０】
投影光学系の像面側に液体の液浸領域を形成し、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して前記基板を露光する露光装置内において、前記投影光学系の像面側で移動可能なステージ装置であって、
前記液浸領域を形成するための液体に接触する液体接触面を備え、
前記液体接触面の少なくとも一部が、光触媒作用を有する材料で形成されているステージ装置。
【請求項７１】
投影光学系の像面側に液体の液浸領域を形成し、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して前記基板を露光する露光装置内において、前記投影光学系の複数の光学素子のうち前記投影光学系の像面に最も近い光学素子の近傍に配置されるノズル部材であって、
前記液浸領域を形成するための液体に接触する液体接触面を備え、
前記液体接触面の少なくとも一部が、光触媒作用を有する材料で形成されているノズル部材。
【請求項７２】
投影光学系の像面側に液体の液浸領域を形成し、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して前記基板を露光する露光装置内において、前記投影光学系の複数の光学素子のうち前記投影光学系の像面に最も近い光学素子の近傍に配置されるノズル部材のメンテナンス方法であって、
前記液浸領域の液体と接触する前記ノズル部材の液体接触面の汚染状態を検出することと、
前記検出の結果に基づいて、前記液体接触面の洗浄処理を行うか否かを判断することと、を含むメンテナンス方法。
【請求項７３】
前記液体接触面は、前記基板が対向可能である請求項７２に記載のメンテナンス方法。
【請求項７４】
前記ノズル部材は、前記液体接触面に配置され、前記液体を供給する供給口を備える請求項７２又は７３に記載のメンテナンス方法。
【請求項７５】
前記ノズル部材は、前記液体接触面に配置され、前記液体を回収する回収口を備える請求項７２〜７４のいずれか一項に記載のメンテナンス方法。
【請求項７６】
前記ノズル部材は、前記回収口に配置された多孔部材を介して前記液体を回収し、
前記液体接触面は、前記多孔部材の表面の少なくとも一部を含む請求項７５に記載のメンテナンス方法。
【請求項７７】
請求項７２〜７６のいずれか一項に記載のメンテナンス方法で前記ノズル部材をメンテナンスすることと、
前記ノズル部材により形成された前記液浸領域の液体を介して前記基板を露光することと、を含む露光方法。
【請求項７８】
請求項７７に記載の露光方法で基板を露光することと、
露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。