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　特願２０００−　２６７８０「画像形成装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１３年　８月１０日出願公開、特開２００１−２１５４３７〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯・本願発明
　本願は、平成１２年２月３日に出願され、原審において平成１７年１０月１８日付で拒絶査定がなされたところ、これに対し、同年１１月２１日に拒絶査定不服審判が請求されるとともに、同年１２月１９日に手続補正がなされたものであって、その請求項に係る発明は、上記手続補正がなされた明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１，２に記載されたものと認められるところ、請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は次のものである。
　　
「【請求項１】　感光層を有する感光体と、光源から出力された光束を偏向する偏向器を有し、この偏向された光束が前記感光体面上を走査する光走査装置と、を備え、副走査方向に隣接する光束を重ね合わせることにより、隣接する光束の中間部にドットを形成する画像形成装置において、
　露光分布の最大値の１／ｅ２で定義される感光体面上における副走査方向の静止ビームスポット径Ｗｓと、走査線間隔Ｌとの比が次式
　１．２＜Ｗｓ／Ｌ＜４．５
を満足し、
　露光分布の最大値の１／ｅ２で定義される感光体面上における主走査方向の静止ビームスポット径Ｗｍと、露光分布の最大値の１／ｅ２で定義される感光体面上における副走査方向の静止ビームスポット径Ｗｓとの比が次式
　Ｗｍ／Ｗｓ＜１
を満足し、
　隣接して重なり合う走査線の中央部での露光分布強度は最大値の５０％を越えることを特徴とする画像形成装置。」
　　
２．引用例
　原審の拒絶の理由に引用された特開平４−３３６８５９号公報（以下、「引用例」という。）には、図面とともに以下の事項が記載されている。
　ａ．「【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はレーザプリンタやＬＥＤプリンタのように画像情報に対応して生成されたビームドットパターンを感光体上に結像しながら潜像形成を行なう画像形成方法に係り、特に低密度のプリントエンジンにて高密度潜像の形成を可能とする高密度画像形成方法を提供するものである。」
　
　ｂ．「【０００２】
【従来の技術】従来より、画像情報に対応して変調したレーザビームをポリゴンミラーで光走査しながら副走査方向に回転する感光体ドラムの母線上にビームドットパターンを照射し、該ドットパターンに対応した静電潜像を形成可能にしたレーザプリンタは公知であり、この種の装置においては低価格とコンパクト化等の理由により低密度のドットピッチ間隔を有する例えば３００ｄｐｉのプリンタが多く用いられてきたが近年、より高画質化と高解像度化を図るために前記ピッチ間隔をより高密度化し、例えば６００ｄｐｉのプリンタが提案されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら６００ｄｐｉのプリンタを形成するには、例えばビーム径を絞るためにそのレンズ構成も又ポリゴンミラーの回転速度も大となり、必然的に装置大型化につながりやすいのみならず、而も感光体ドラム側の回転速度も緻密な制御を必要とし、装置構成の煩雑化につながる。
【０００４】本発明はかかる従来技術の欠点に鑑み、既存の低密度（３００ｄｐｉ用）のエンジンをそのまま利用して疑似的に高密度（６００ｄｐｉ）で且つ高解像度の潜像を形成し得る高密度画像形成方法を提供する事にある。又本発明においては高密度画像も低密度画像もいずれの画像も選択的に形成し得る画像形成方法を提供する事を目的とする。」
　
　ｃ．「【００１１】そこでレーザプリンタにおける高密度化達成手段について、先ず主走査方向について説明する。レーザプリンタでは、レーザのＯＮ／ＯＦＦは電気的なパルスで制御しており、例えば３００ｄｐｉのエンジンでは前記レーザの駆動パルス時間は、レーザが１／３００インチスキャンする時間に等しい。（図３、ａ参照）従ってこの場合は、前記レーザが１／３００インチスキャンする時間より短いレーザ駆動パルス時間、より具体的には前記駆動パルス時間を１／２に設定する事により（図３、ｂ、ｃ参照、以下該信号を主走査変調信号Ｒという）、主走査方向において６００ｄｐｉのドット高密度化を実現し得る。
【００１２】一方、副走査方向においては、請求項１記載に記載した発明と同様に、少なくとも感光体上で副走査方向に重なり合うビームドットを形成しつつ、該ドット中心域を含めて単独では潜像形成電位レベルより小さく、ドット重ね合せにより前記電位レベルより大となるように、レーザビーム形成用の駆動パルスを変調する事により副走査方向のドット高密度化を実現し得る。」
　
　ｄ．「【００１８】図５は前記駆動パルスと、該パルスに基づいて生成されたビームドットＤｎを感光体３４上に結像して得られた実効ドットＧとの対応関係を示す模式図である。該グラフ図を簡単に説明するに、第１走査列のパルス列は、５つの主走査変調パルスＰと４つのＰＷ副走査変調パルスＰからなり、又第２走査列のパルス列は、５つのＯＦＦ信号と４つのＰＷ副走査変調パルスＰからなり、そして両パルス列に基づいて生成されたビームドットを感光体上に結像して得られる実効ドットＧは図上左欄に示すようになり、３００ｄｐｉ走査ライン上に生成される５つの実効ドットＧと、６００ｄｐｉに対応する非走査ライン上に生成される４つの実効ドットＧが生成される事になる。
【００１９】次にｎー１走査列のパルス列は、４つのＰＷ副走査変調パルスＰと２つのＯＦＦ信号からなり、又ｎ走査列のパルス列は、１つのＰＷ副走査変調パルスＰと４つの主走査変調パルスＲと１つのＰＷ副走査変調パルスＰとからなり、更にｎ＋１走査列のパルス列は、２つのＯＦＦ信号と４つのＰＷ副走査変調パルスＰからなり、そしてこれらパルス列に基づいて生成された実効ドットＧは図上左欄に示すように、３００ｄｐｉ上に生成される４つの実効ドットＧの上下両側に夫々主走査方向に階段状にずらした６００ｄｐｉ上に生成された４つの実効ドットＧが生成される事になる。
【００２０】従って前記制御を種々組合せる事により、３００ｄｐｉの低解像度のエンジンにおいても６００ｄｐｉと同等の高解像度画素データが形成される事になる。」
　
　ｅ．上記ｂおよび図５左欄からは、「感光体ドラムの母線上にレーザービームを照射して形成されたビームドットのパターンは、主走査方向の径が副走査方向の径よりも短い楕円状であり、隣接する走査列のビームドットは副走査方向に重なり合っており、当該隣接する走査列の間の中央部付近には実効ドットＧが生成されている。また、ビームドットパターンの副走査方向の径は隣接する走査列間の距離の２倍よりも小さい。」点が見て取れる。
　
　上記ａ〜ｅによれば、引用例には以下の発明（以下、「引用例発明」という。）が開示されているものと認められる。
「画像情報に対応して変調したレーザビームをポリゴンミラーで光走査しながら副走査方向に回転する感光体ドラムの母線上にビームドットパターンを照射し、該ドットパターンに対応した静電潜像を形成可能にしたレーザプリンタであって、上記ビームドットパターンは、主走査方向の径が副走査方向の径よりも短い楕円状であり、その副走査方向の径は隣接する走査列間の距離の２倍よりも小さく、これにより、感光体ドラム上の隣接する走査列の間の中央部付近に副走査方向に重なり合うビームドットを形成しつつ、該ドット中心域を含めて単独では潜像形成電位レベルより小さく、ドット重ね合せにより前記電位レベルより大となるように、レーザビーム形成用の駆動パルスを変調する事により、上記ドット重ね合わせ部位に実効ドットを生成して、副走査方向のドット高密度化を実現するレーザプリンタ。」
　　
３．対比・判断
　そこで、本願発明と引用例発明とを以下に対比する。
　ア．引用例発明の「レーザービーム」、「ポリゴンミラー」、「感光体ドラム」は、本願発明の「光源から出力された光束」、「光束を偏向する偏向器」、「感光層を有する感光体」に相当し、また、引用例発明は、「レーザビームをポリゴンミラーで光走査しながら副走査方向に回転する感光体ドラムの母線上にビームドットパターンを照射し」ているので、本願発明の「この偏向された光束が前記感光体面上を走査する光走査装置」を有することが明らかであるから、引用例発明は、本願発明の「感光層を有する感光体と、光源から出力された光束を偏向する偏向器を有し、この偏向された光束が前記感光体面上を走査する光走査装置と、を備え、」なる事項を有する。
　
　イ．引用例発明は、「ビームドットパターンは、主走査方向の径が副走査方向の径よりも短い楕円状であり、その副走査方向の径は隣接する走査列間の距離の２倍よりも小さく、これにより、感光体ドラム上の隣接する走査列の間の中央部付近に副走査方向に重なり合うビームドットを形成しつつ、該ドット中心域を含めて単独では潜像形成電位レベルより小さく、ドット重ね合せにより前記電位レベルより大となるように、レーザビーム形成用の駆動パルスを変調する事により、ドット重ね合わせ部に実効ドットを生成」するのであるから、本願発明の「副走査方向に隣接する光束を重ね合わせることにより、隣接する光束の中間部にドットを形成する」を有する。
　また、引用例発明の「レーザプリンタ」が、本願発明の「画像形成装置」に相当することは明らかである。
　
　ウ．引用例発明の「ビームドットパターン」は、レーザビームをポリゴンミラーで光走査しながら副走査方向に回転する感光体ドラムに照射した際の感光体上の照射域と解されるが、上記ｃに、「例えば３００ｄｐｉのエンジンでは前記レーザの駆動パルス時間は、レーザが１／３００インチスキャンする時間に等しい。」とあるように、レーザビームの静止ビームスポットに比べて、主走査方向にスキャンされる分だけ、すなわち、上記スキャンする時間に見合った巾だけ主走査方向に膨らんだドットパターンを呈すると解するのが相当であるから、引用例発明の「ビームドットパターン」が、本願発明の「静止ビームスポット」と完全に同義であるとはいえない。
　しかしながら、主走査方向に膨らんだパターンであってもなお、引用例発明の「ビームドットパターン」は、「主走査方向の径が副走査方向の径よりも短い楕円状」を呈しているのであるから、引用例発明のレーザビームの「静止ビームスポット」を想定したときに、スキャン巾を含まない当該「静止ビームスポット」が「主走査方向の径が副走査方向の径よりも短い楕円状」であることは自明である。
　また、当該技術分野において、ビームスポットは露光分布の最大値の１／ｅ２で定義されるのが一般的であるから、引用例発明のレーザビームの「静止ビームスポット」をそのように定義することは慣用手段にすぎず、そのように定義したとしても引用例発明のレーザビームの「静止ビームスポット」が「主走査方向の径が副走査方向の径よりも短い楕円状」であることは当然に推認できることである。
　したがって、引用例発明は、本願発明の「露光分布の最大値の１／ｅ２で定義される感光体面上における主走査方向の静止ビームスポット径Ｗｍと、露光分布の最大値の１／ｅ２で定義される感光体面上における副走査方向の静止ビームスポット径Ｗｓとの比が次式
　Ｗｍ／Ｗｓ＜１　
を満足し、」なる事項を有する。
　　
　エ．本願発明における「露光分布の最大値の１／ｅ２で定義される感光体面上における副走査方向の静止ビームスポット径Ｗｓと、走査線間隔Ｌとの比が次式
　１．２＜Ｗｓ／Ｌ＜４．５
を満足し」なる事項の、技術上の意義について検討するに、本願明細書には以下のような記述がある。
「画像を劣化させずに副走査方向の解像度を高くする条件は、露光分布の最大値の１／ｅ２で定義される感光体面上における副走査方向の静止ビームスポット径Ｗｓと、走査線間隔Ｌとの比が式１で表わされるように設定することである。
　１. ２＜Ｗｓ／Ｌ＜４. ５　　　・・・式１
　式１に示すＷｓ／Ｌが下限値１. ２以下になると、重なった露光分布における隣接する２つのビームの中間部に新たなドットが形成されず、新たなドットが副走査方向に分離してしまう。
　また、式１に示すＷｓ／Ｌが上限値４. ５以上になると、走査線間隔Ｌに対して副走査方向の静止ビームスポット径が大き過ぎ、新たなドットが太くなったり、不安定になったりして高解像度化が実現できない。」
　上記によれば、式１に示すＷｓ／Ｌが下限値１. ２以下になると、重なった露光分布における隣接する２つのビームの中間部に新たなドットが形成されず、新たなドットが副走査方向に分離してしまうところ、引用例発明では、「ビームドットパターンは、主走査方向の径が副走査方向の径よりも短い楕円状であり、その副走査方向の径は隣接する走査列間の距離の２倍よりも小さく、これにより、感光体ドラム上の隣接する走査列の間の中央部付近に副走査方向に重なり合うビームドットを形成しつつ、・・・、上記ドット重ね合わせ部位に実効ドット（本願発明の「ドット」に相当）を生成」しているのであるから、新たなドットは重なった露光分布における隣接する２つのビームの中間部に確かに形成されているのであり、それゆえ、引用例発明のＷｓ／Ｌが、１．２よりも大きな値であることは明らかである。
　また、引用例発明の「実効ドット」が、太くなったり、不安定になったりして高解像度化が実現できないものであるなどとは、すくなくとも引用例の記載からは見いだせず、また、引用例発明の「ビームドットパターンは、主走査方向の径が副走査方向の径よりも短い楕円状であり、その副走査方向の径は隣接する走査列間の距離の２倍よりも小さ」いのであるから、引用例発明のＷｓ／Ｌが４．５よりも小さな値であることもまた、明らかといえる。
　よって、引用例発明は、本願発明の
「露光分布の最大値の１／ｅ２で定義される感光体面上における副走査方向の静止ビームスポット径Ｗｓと、走査線間隔Ｌとの比が次式
　１．２＜Ｗｓ／Ｌ＜４．５
を満足し、」を有する。
　
　オ．さらに、本願発明における「隣接して重なり合う走査線の中央部での露光分布強度は最大値の５０％を越えること」の意味は、本願明細書の「【０００９】・・・なお、図において露光分布の強度は最大値を１００として規格化し、露光分布強度が最大値の５０％を越える場合には、新たなドットが形成できるものとする。
　・・・・（中略）・・・・
【００１０】・・・前述したように、隣接する走査線の中央部での露光分布強度が最大値の５０％を越えれば、隣接する走査線の中央部に新たなドット形成が容易となり、露光分布強度が最大値の５０％が式１の下限値となる。」との記載から明らかなように、本願発明で規定した前提条件においてドットを形成することができる露光分布強度の閾値を示したものである。
　他方、引用例発明には、「該ドット中心域を含めて単独では潜像形成電位レベルより小さく、ドット重ね合せにより前記電位レベルより大となるように、レーザビーム形成用の駆動パルスを変調する事により、上記ドット重ね合わせ部位に実効ドットを生成して、」なる事項が開示されており、これによれば、ドットを形成する部位の電位レベルは潜像形成電位レベル以上であることが理解できる。ここで、潜像形成電位は、露光分布強度に応じて形成されることが自明であるから、結局、引用例発明には「隣接して重なり合う走査線の中央部での露光分布強度は潜像形成電位レベル以上であること」が開示されているといえる。
　そこで、「露光分布強度が最大値の５０％を越えること」における５０％なる数値について検討するに、上記段落【０００９】に「なお、図において露光分布の強度は最大値を１００として規格化し、露光分布強度が最大値の５０％を越える場合には、新たなドットが形成できるものとする。」とあることから分かるように、ある強度のレーザービームを感光体に照射したときの感光体上の露光分布強度の最大値を１００と規格化した場合に、感光体が潜像形成電位レベル以上の電位を形成する露光分布強度、すなわち閾値が、上記最大値の５０％以上となるように、当該レーザービームの強度を設定した程度の意味であると解される。
　したがって、仮にレーザービームの強度が、上記において想定した値より大きければ、かかる閾値は例えば露光分布強度の最大値の４０％と小さくなり、また、上記想定した値より小さければ、かかる閾値は例えば露光分布強度の最大値の６０％と大きくなる。さらに感光体の感度が異なる場合にも、上記レーザービームの強度を変更した場合と同様、閾値の露光分布強度の最大値に対する割合は変化するであろうと解されるから、結局、５０％と設定したことに格別の技術上の意義があるとはいえず、いわば、本願発明におけるドット形成のシミュレーションのための単なる取り決めというにすぎないのである。
　そして、引用例発明の「隣接して重なり合う走査線の中央部での露光分布強度は潜像形成電位レベル以上であること」が、単なる取り決めにすぎない、「露光分布強度が最大値の５０％を越えること」を含んでいることは明らかであり、それゆえ、引用例発明が、本願発明の「隣接して重なり合う走査線の中央部での露光分布強度は最大値の５０％を越えること」を有することは明らかである。
　
　以上、上記ア〜オによれば、引用例発明は、本願発明のすべての発明特定事項を充足するから、両者は同一である。
　
４．むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用例に記載された発明であるから、特許法第２９条第１項第３号の規定に該当し、特許を受けることができない。
　　
　よって、結論のとおり審決する。