【事件の表示】
　特願２００４−１９１５７０「有機エレクトロルミネセンス表示素子及びその製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１７年　７月２１日出願公開、特開２００５−１９７２０３〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本件出願は平成１６年６月２９日（パリ条約による優先権主張　平成１５年１２月２９日、大韓民国）の特許出願であって、平成１９年１月１２日付けで拒絶理由が通知され、同年７月２４日付けで意見書及び手続補正書が提出されたが、同年１０月３１日付けで拒絶査定がなされたため、これを不服として平成２０年２月４日に本件審判請求がなされるとともに、同年３月５日付けで特許請求の範囲について手続補正がなされ、同日付けで同年２月４日付けの審判請求書の請求の理由について手続補正がなされたものである。
　
第２　補正の却下の決定
　
［補正の却下の決定の結論］
　平成２０年３月５日付けの手続補正（以下「本件補正」という。）を却下する。
　
［理由］
１　本件補正の内容
　本件補正は、平成１９年７月２４日付けの手続補正により補正された特許請求の範囲についての
　
「【請求項１】
　アノード電極、カソード電極及び前記アノード電極と前記カソード電極との間に有機層を有する第１アレイ基板と、
　前記アノード電極または前記カソード電極の上に一定の間隔を置いて形成された隔壁と、
　前記アノード電極及び前記カソード電極の中のいずれか一つに駆動信号を供給するための少なくとも一つの薄膜トランジスタが形成された第２アレイ基板と、
　前記第１アレイ基板と第２アレイ基板との間に導電性物質で形成されて前記薄膜トランジスタのドレイン電極と連結され、前記駆動信号を前記アノード電極及び前記カソード電極の中のいずれか一つに供給する第１連結パターンと、
　前記第１アレイ基板と第２アレイ基板との間に接着性を有する物質で形成されて前記第１アレイ基板及び前記第２アレイ基板を固定させるとともに、前記第１アレイ基板と前記第２アレイ基板との間の間隔を保持させる第２連結パターンと
　を具備することを特徴とする有機エレクトロルミネセンス表示素子。
　　【請求項２】
　前記第１連結パターンは前記アノード電極に前記駆動信号を供給することを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネセンス表示素子。
　　【請求項３】
　前記第２連結パターンは約３〜５μｍの高さを有することを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネセンス表示素子。
　　【請求項４】
　前記第１アレイ基板と第２アレイ基板とを合着させるためのシーリング剤を更に具備することを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネセンス表示素子。
　　【請求項５】
　前記第２連結パターンは前記シーリング剤と同一の物質で形成されていることを特徴とする請求項４記載の有機エレクトロルミネセンス表示素子。
　　【請求項６】
　前記第２アレイ基板は、ゲートラインと、前記ゲートラインと交差するデータラインと、前記データラインと並んで形成された供給ラインと、前記ゲートライン及び前記データラインの交差部に位置する第１薄膜トランジスタと、前記供給ラインと前記第１薄膜トランジスタと接続された第２薄膜トランジスタと、を含むことを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネセンス表示素子。
　　【請求項７】
　前記第２連結パターンは、前記ゲートライン、データライン、供給ライン、第１薄膜トランジスタ及び第２薄膜トランジスタの中の少なくとも一つとオーバーラップさせるように形成されていることを特徴とする請求項６記載の有機エレクトロルミネセンス表示素子。
　　【請求項８】
　前記第２連結パターンはアノード電極と接触されるように形成されていることを特徴とする請求項６記載の有機エレクトロルミネセンス表示素子。
　　【請求項９】
　前記第２連結パターンは前記隔壁と接触されていることを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネセンス表示素子。
　　【請求項１０】
　アノード電極とカソード電極との間に有機層を有する第１アレイ基板を設ける段階と、
　前記アノード電極及び前記カソード電極の中のいずれか一つに駆動信号を供給するための少なくとも一つの薄膜トランジスタが形成された第２アレイ基板を設ける段階と、
　前記駆動信号を前記アノード電極及び前記カソード電極の中のいずれか一つに供給するため、前記第１アレイ基板と第２アレイ基板との間に導電性物質で第１連結パターンを形成する段階と、
　前記第１アレイ基板と第２アレイ基板との間に接着性を有する物質を含み、前記第１アレイ基板と前記第２アレイ基板とを固定させるとともに、前記第１アレイ基板と前記第２アレイ基板との間の間隔を保持させる第２連結パターンを形成する段階と、
　を含むことを特徴とする有機エレクトロルミネセンス表示素子の製造方法。
　　【請求項１１】
　前記第１アレイ基板と第２アレイ基板とをシーリング剤で合着させる段階を更に含むことを特徴とする請求項１０記載の有機エレクトロルミネセンス表示素子の製造方法。
　　【請求項１２】
　前記第２連結パターンは前記シーリング剤と同一の物質で形成されることを特徴とする請求項１１記載の有機エレクトロルミネセンス表示素子の製造方法。
　　【請求項１３】
　前記第２アレイ基板を設ける段階は、ゲートラインを形成する段階と、前記ゲートラインと交差するデータラインを形成する段階と、前記データラインと並んで供給ラインを形成する段階と、前記ゲートライン及び前記データラインの交差部に第１薄膜トランジスタを形成する段階と、前記供給ラインと前記第１薄膜トランジスタと接続された第２薄膜トランジスタを形成する段階と、を含むことを特徴とする請求項１０記載の有機エレクトロルミネセンス表示素子の製造方法。
　　【請求項１４】
　前記第２連結パターンは、前記ゲートライン、データライン、供給ライン、第１薄膜トランジスタ及び第２薄膜トランジスタの中の少なくとも一つとオーバーラップされるように形成されることを特徴とする請求項１３記載の有機エレクトロルミネセンス表示素子の製造方法。
　　【請求項１５】
　前記第２連結パターンはアノード電極と接触されるように形成されることを特徴とする請求項１３記載の有機エレクトロルミネセンス表示素子の製造方法。
　　【請求項１６】
　アノード電極、カソード電極及び前記アノード電極と前記カソード電極との間に有機層を有する第１アレイ基板と、
　導電性を通して前記アノード電極及び前記カソード電極の中のいずれか一つに駆動信号を供給するための少なくとも一つの薄膜トランジスタが形成された第２アレイ基板と、
　前記第１アレイ基板と第２アレイ基板との間に電気的の絶縁物質で形成されて前記第１アレイ基板及び前記第２アレイ基板を固定させるとともに、前記第１アレイ基板と前記第２アレイ基板との間の間隔を保持させるパターンスペーサーと、を具備することを特徴とする有機エレクトロルミネセンス表示素子。
　　【請求項１７】
　前記パターンスペーサーは約３〜５μｍの高さを有することを特徴とする請求項１６記載の有機エレクトロルミネセンス表示素子。
　　【請求項１８】
　前記第１アレイ基板と第２アレイ基板とを合着させるためのシーリング剤を更に具備することを特徴とする請求項１６記載の有機エレクトロルミネセンス表示素子。
　　【請求項１９】
　前記パターンスペーサーは前記シーリング剤と同一の物質で形成されることを特徴とする請求項１８記載の有機エレクトロルミネセンス表示素子。
　　【請求項２０】
　前記パターンスペーサーは前記アノード電極と接続されることを特徴とする請求項１６記載の有機エレクトロルミネセンス表示素子。」
　
の記載を、
　
「【請求項１】
　アノード電極、カソード電極及び前記アノード電極と前記カソード電極との間に有機層を有する第１アレイ基板と、
　前記アノード電極及び前記カソード電極の何れか一つの上に一定の間隔を置いて形成された隔壁と、
　前記アノード電極及び前記カソード電極の中のいずれか一つに駆動信号を供給するための少なくとも一つの薄膜トランジスタが形成された第２アレイ基板と、
　前記第１アレイ基板と第２アレイ基板との間に導電性物質で形成されて前記薄膜トランジスタのドレイン電極と連結され、前記駆動信号を前記アノード電極及び前記カソード電極の中のいずれか一つに供給する第１連結パターンと、
　前記第１アレイ基板と第２アレイ基板との間に接着性を有する物質で形成されて前記第１アレイ基板及び前記第２アレイ基板を固定させるとともに、前記第１アレイ基板と前記第２アレイ基板との間の間隔を保持するように一定間隔を置いて画素領域に配置される第２連結パターンと
　を具備することを特徴とする有機エレクトロルミネセンス表示素子。
　　【請求項２】
　前記第１連結パターンは前記アノード電極に前記駆動信号を供給することを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネセンス表示素子。
　　【請求項３】
　前記第２連結パターンは約３〜５μmの高さを有することを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネセンス表示素子。
　　【請求項４】
　前記第１アレイ基板と第２アレイ基板とを合着させるためのシーリング剤を更に具備することを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネセンス表示素子。
　　【請求項５】
　前記第２連結パターンは前記シーリング剤と同一の物質で形成されていることを特徴とする請求項４記載の有機エレクトロルミネセンス表示素子。
　　【請求項６】
　前記第２アレイ基板は、ゲートラインと、前記ゲートラインと交差するデータラインと、前記データラインと並んで形成された供給ラインと、前記ゲートライン及び前記データラインの交差部に位置する第１薄膜トランジスタと、前記供給ラインと前記第１薄膜トランジスタと接続された第２薄膜トランジスタと、を含むことを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネセンス表示素子。
　　【請求項７】
　前記第２連結パターンは、前記ゲートライン、データライン、供給ライン、第１薄膜トランジスタ及び第２薄膜トランジスタの中の少なくとも一つとオーバーラップさせるように形成されていることを特徴とする請求項６記載の有機エレクトロルミネセンス表示素子。
　　【請求項８】
　前記第２連結パターンはアノード電極と接触されるように形成されていることを特徴とする請求項６記載の有機エレクトロルミネセンス表示素子。
　　【請求項９】
　前記第２連結パターンは前記隔壁と接触されていることを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネセンス表示素子。
　　【請求項１０】
　アノード電極とカソード電極との間に有機層を有する第１アレイ基板を設ける段階と、
　前記アノード電極及び前記カソード電極の中のいずれか一つに駆動信号を供給するための少なくとも一つの薄膜トランジスタが形成された第２アレイ基板を設ける段階と、
　前記駆動信号を前記アノード電極及び前記カソード電極の中のいずれか一つに供給するため、前記第１アレイ基板と第２アレイ基板との間に導電性物質で第１連結パターンを形成する段階と、
　前記第１アレイ基板と第２アレイ基板との間に接着性を有する物質を含み、前記第１アレイ基板と前記第２アレイ基板とを固定させるとともに、前記第１アレイ基板と前記第２アレイ基板との間の間隔を保持するように一定間隔を置いて画素領域に配置される第２連結パターンを形成する段階と、
　を含むことを特徴とする有機エレクトロルミネセンス表示素子の製造方法。
　　【請求項１１】
　前記第１アレイ基板と第２アレイ基板とをシーリング剤で合着させる段階を更に含むことを特徴とする請求項１０記載の有機エレクトロルミネセンス表示素子の製造方法。
　　【請求項１２】
　前記第２連結パターンは前記シーリング剤と同一の物質で形成されることを特徴とする請求項１１記載の有機エレクトロルミネセンス表示素子の製造方法。
　　【請求項１３】
　前記第２アレイ基板を設ける段階は、ゲートラインを形成する段階と、前記ゲートラインと交差するデータラインを形成する段階と、前記データラインと並んで供給ラインを形成する段階と、前記ゲートライン及び前記データラインの交差部に第１薄膜トランジスタを形成する段階と、前記供給ラインと前記第１薄膜トランジスタと接続された第２薄膜トランジスタを形成する段階と、を含むことを特徴とする請求項１０記載の有機エレクトロルミネセンス表示素子の製造方法。
　　【請求項１４】
　前記第２連結パターンは、前記ゲートライン、データライン、供給ライン、第１薄膜トランジスタ及び第２薄膜トランジスタの中の少なくとも一つとオーバーラップされるように形成されることを特徴とする請求項１３記載の有機エレクトロルミネセンス表示素子の製造方法。
　　【請求項１５】
　前記第２連結パターンはアノード電極と接触されるように形成されることを特徴とする請求項１３記載の有機エレクトロルミネセンス表示素子の製造方法。
　　【請求項１６】
　アノード電極、カソード電極及び前記アノード電極と前記カソード電極との間に有機層を有する第１アレイ基板と、
　導電性を通して前記アノード電極及び前記カソード電極の中のいずれか一つに駆動信号を供給するための少なくとも一つの薄膜トランジスタが形成された第２アレイ基板と、
　前記第１アレイ基板と第２アレイ基板との間に電気的の絶縁物質で形成されて前記第１アレイ基板及び前記第２アレイ基板を固定させるとともに、前記第１アレイ基板と前記第２アレイ基板との間の間隔を保持するように一定間隔を置いて画素領域に配置されるパターンスペーサーと、を具備することを特徴とする有機エレクトロルミネセンス表示素子。
　　【請求項１７】
　前記パターンスペーサーは約３〜５μmの高さを有することを特徴とする請求項１６記載の有機エレクトロルミネセンス表示素子。
　　【請求項１８】
　前記第１アレイ基板と第２アレイ基板とを合着させるためのシーリング剤を更に具備することを特徴とする請求項１６記載の有機エレクトロルミネセンス表示素子。
　　【請求項１９】
　前記パターンスペーサーは前記シーリング剤と同一の物質で形成されることを特徴とする請求項１８記載の有機エレクトロルミネセンス表示素子。
　　【請求項２０】
　前記パターンスペーサーは前記アノード電極と接続されることを特徴とする請求項１６記載の有機エレクトロルミネセンス表示素子。」
　
と補正するものである。
　
２　本件補正の適否の検討
（１）目的要件についての検討
　本件補正が、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法（以下単に「特許法という。）第１７条の２第４項に規定する要件を満たすか否かを検討する。
　本件補正は、（ａ）「隔壁」が形成される領域について、本件補正前の請求項１〜９の「前記アノード電極または前記カソード電極の上に」を「前記アノード電極及び前記カソード電極の何れか一つの上に」と補正し、（ｂ）本件補正前の請求項１〜１５の「前記第１アレイ基板と前記第２アレイ基板との間の間隔を保持させる第２連結パターン」を、本件補正後の請求項１〜１５の「前記第１アレイ基板と前記第２アレイ基板との間の間隔を保持するように一定間隔を置いて画素領域に配置される第２連結パターン」と補正し、（ｃ）本件補正前の請求項１６〜２０の「前記第１アレイ基板と前記第２アレイ基板との間の間隔を保持させるパターンスペーサー」を、本件補正後の請求項１６〜２０の「前記第１アレイ基板と前記第２アレイ基板との間の間隔を保持するように一定間隔を置いて画素領域に配置されるパターンスペーサー」と補正するものである。
　そして、本件補正のうち上記（ａ）の補正は、本件補正前の請求項１〜９の「前記アノード電極及び前記カソード電極の中のいずれか一つに」との記載に合わせるためになされた補正であるから、本件補正のうち上記（ａ）の補正の目的は、特許法第１７条の２第４項第３号に掲げる「誤記の訂正」に該当する。
　また、本件補正のうち上記（ｂ），（ｃ）の補正は、本件補正前の請求項１〜１５の「第２連結パターン」及び本件補正前の請求項１６〜２０の「パターンスペーサー」の形成態様を「一定間隔を置いて画素領域に配置される」と限定する補正であるから、本件補正のうち上記（ｂ），（ｃ）の補正の目的は、特許法第１７条の２第４項第２号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」に該当する。
　したがって、本件補正は、特許法第１７条の２第４項の規定に適合する。
　
（２）独立特許要件についての検討
　上記（１）で検討したとおり、本件補正のうち本件補正前の請求項１０を本件補正後の請求項１０とする補正の目的は特許法第１７条の２第４項第２号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」であるから、本件補正が特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項に規定する要件を満たすか否か、すなわち、本件補正後の請求項１０に係る発明（以下「本件補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるか否かを検討する。
　
ア　独立特許要件違反１（特許法第２９条第２項）
（ア）本件補正発明の認定
　本件補正後の請求項１０に係る発明は、本件補正により補正された特許請求の範囲の請求項１０に記載された事項によって特定される次のとおりのものと認める。
　
「アノード電極とカソード電極との間に有機層を有する第１アレイ基板を設ける段階と、
　前記アノード電極及び前記カソード電極の中のいずれか一つに駆動信号を供給するための少なくとも一つの薄膜トランジスタが形成された第２アレイ基板を設ける段階と、
　前記駆動信号を前記アノード電極及び前記カソード電極の中のいずれか一つに供給するため、前記第１アレイ基板と第２アレイ基板との間に導電性物質で第１連結パターンを形成する段階と、
　前記第１アレイ基板と第２アレイ基板との間に接着性を有する物質を含み、前記第１アレイ基板と前記第２アレイ基板とを固定させるとともに、前記第１アレイ基板と前記第２アレイ基板との間の間隔を保持するように一定間隔を置いて画素領域に配置される第２連結パターンを形成する段階と、
　を含むことを特徴とする有機エレクトロルミネセンス表示素子の製造方法。」
　
（イ）引用刊行物の記載事項
　原査定の拒絶理由に引用され、本件出願の優先日前に頒布された刊行物である特開２００２−８２６３３号公報（以下「引用例１」という。）には、以下の（ａ）〜（ｆ）の記載が図面とともにある。
　
（ａ）「【請求項１】  有機ＥＬ素子を表示部に用いた表示体の製造方法であって、前記有機ＥＬ素子の駆動回路が作り込まれた微細構造物が画素に対応した位置に配設されるとともに、表面に配線が形成された回路基板と、表面に各画素で共通の透明電極層が積層されるとともに、その透明電極層の上面に、有機ＥＬ層を含む発光層及び陰極層が、前記画素に対応した位置に積層された透明基板と、をそれぞれ用意し、前記回路基板及び前記透明基板を、前記回路基板の前記配線が形成された側と、前記透明基板の前記陰極層が形成された側とを内側に向けて張り合わせることを特徴とする有機ＥＬ表示体の製造方法。
【請求項２】  前記回路基板及び前記透明基板の張り合わせを、異方性導電性ペースト又は異方性導電性フィルムを両者間に挟み込むことにより行う請求項１記載の有機ＥＬ表示体の製造方法。」
　
（ｂ）「【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、有機エレクトロルミネッセンス（Electroluminescence,以下、ＥＬと略記する）ディスプレイの構造及びその製造方法、電気光学装置及びその製造方法、並びに電子機器に関し、特に、有機ＥＬ素子の駆動回路が作り込まれた微細構造物を備える表示体の製造方法において、極めて効率的に有機ＥＬ表示体を製造できるようにしたものである。」
　
（ｃ）「【０００５】本発明は、このような要求に基づいてなされたものであって、極めて効率的に有機ＥＬ表示体を製造することができる方法及び有機ＥＬ表示体の構造、あるいは極めて効率的に電気光学装置を製造することができる方法及び電気光学装置の構造を提供することを目的としている。」
　
（ｄ）「【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するために、請求項１に係る発明は、有機ＥＬ素子を表示部に用いた表示体の製造方法であって、前記有機ＥＬ素子の駆動回路が作り込まれた微細構造物が画素に対応した位置に配設されるとともに、表面に配線が形成された回路基板と、表面に各画素で共通の透明電極層が積層されるとともに、その透明電極層の上面に、有機ＥＬ層を含む発光層及び陰極層が、前記画素に対応した位置に積層された透明基板と、をそれぞれ用意し、前記回路基板及び前記透明基板を、前記回路基板の前記配線が形成された側と、前記透明基板の前記陰極層が形成された側とを内側に向けて張り合わせるようにした。
【０００７】請求項２に係る発明は、上記請求項１に係る発明である有機ＥＬ表示体の製造方法において、前記回路基板及び前記透明基板の張り合わせを、異方性導電性ペースト又は異方性導電性フィルムを両者間に挟み込むことにより行うようにした。なお、異方性導電性ペースト及び異方性導電性フィルムとは、既に公知のものであって、接着剤として利用可能なペースト及びフィルムであり、接着剤として二つの部材間に薄く介在した場合に、膜厚方向には低い電気抵抗を示し、膜の面に沿った方向には高い電気抵抗を示すものである。」
　
（ｅ）「【００１６】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。図１乃至図３は、本発明の第１の実施の形態を示す図であり、図１は張り合わせる前の回路基板１０の断面図、図２は張り合わせる前の透明基板２０の断面図、図３は両者を張り合わせることにより製造された有機ＥＬ表示体３０の断面図である。
【００１７】即ち、図１に示すように、絶縁物からなる回路基板１０の表面には、後に製造される有機ＥＬ表示体３０の画素の位置に対応して、複数の凹部１１が形成されており、それら凹部１１内に微細構造物１２が嵌め込まれている。そして、微細構造物１２が嵌め込まれた状態での回路基板１０の表面が、絶縁物でなる保護薄膜１３で覆われている。
【００１８】保護薄膜１３には、微細構造物１２の表面に形成された電極パッド（図示せず）を露出させるための貫通孔１３ａが開口しており、その貫通孔１３ａを通じて電極パッドと導通がとられるように、走査線や信号線等の配線１４が形成されている。なお、微細構造物１３の製造方法や凹部１１への配設方法等としては、例えば、米国特許第５９０４５４５号明細書、米国特許第５８２４１８６号明細書、米国特許第５７８３８５６号明細書、米国特許第５５４５２９１号明細書に記載された方法が適用可能である。また、保護薄膜１３の製膜方法、貫通孔１３ａの開口方法、配線１４のパターニング方法等についても、公知の製膜方法やフォトリソ工程が適用可能である。
【００１９】一方、図２に示すように、透明の合成樹脂或いはガラスからなる透明基板２０の表面全体には、透明電極層２１が製膜されていて、さらにその透明電極層２１の上面には、絶縁物からなるバンク２２で相互に分離された画素形成領域に、透明電極層２１側から、正孔注入層２３、有機ＥＬ層２４及び陰極層２６が積層されていて、正孔注入層２３及び有機ＥＬ層２４で発光層２５が構成されている。なお、透明電極層２１、正孔注入層２３、有機ＥＬ層２４、陰極層２６を形成する材料は、公知の有機ＥＬ表示体に用いられている材料と同じ材料が適用可能であるし、それらの形成方法についても公知の製造方法が適用可能である。
【００２０】そして、図１に示した回路基板１０と、図２に示した透明基板２０とを、図３に示すように、配線１４が形成された側と陰極層２６が形成された側とを内側に向けて張り合わせて、有機ＥＬ表示体３０を製造する。従って、配線１４のうち陰極層２６に接続されるべき部分とその陰極層２６とが電気的に接続されるように、回路基板１０及び透明基板２０の位置合わせを行って張り合わせる必要がある。また、回路基板１０及び透明基板２０の張り合わせには、公知の異方性導電性ペースト又は異方性導電性フィルムを用いるから、予期せぬ短絡等を避けることができる。
【００２１】このように、本実施の形態であれば、微細構造物１２が配設された回路基板１０と、発光層２５や陰極２６等が形成された透明基板２０とを、別々に製造しておき、両者を張り合わせて有機ＥＬ表示体３０を製造するため、回路基板１０に関しては、微細構造物１２を凹部１１に嵌め込んだ後に必要な工程が極僅かで済むため、トランジスタや容量等の電子回路要素が作り込まれた微細構造物１２が製造工程により損傷する可能性を、大幅に低減することできる。
【００２２】また、回路基板１０と透明基板２０とを別工程で製造するため、歩留まりが向上するという利点もある。場合によっては、回路基板１０と透明基板２０とを別々の工場或いは異なった企業においてそれぞれ製造し、最終的に両者を張り合わせるといった製造方法も可能であるから、製造コストの低減を図る上でも極めて有利である。
【００２３】そして、図３にも示されるように、発光層２５から発せられた光は、透明電極２１及び透明基板２０を通じて外部に照射されることになる、つまり、透明基板２０の裏面側全体が有機ＥＬ表示体３０の表示面となるが、透明基板２０には光を遮る配線等が作り込まれていないから、有機ＥＬ表示体３０の開口率を極めて高くすることができる。
【００２４】しかも、有機ＥＬ表示体３０の各画素のピッチは、透明基板２０に作り込まれた発光層２５のピッチによって決まるものであって、回路基板１０と透明基板２０との張り合わせの際の位置決め精度は、画素のピッチには、なんら影響を与えない。このため、本実施の形態のような張り合わせによる製造方法を採用したとしても、有機ＥＬ表示体３０の画素ピッチの精度が低下するようなことがないのである。
【００２５】このように、本実施の形態の製造方法によれば、有機ＥＬ表示体３０を極めて効率的に製造することができる。（以下略）」
　
（ｆ）「【００３７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、微細構造物が配設された回路基板と発光層等が形成された透明基板とを張り合わせることにより有機ＥＬ表示体を製造するようにしたため、有機ＥＬ表示体を極めて効率的に製造することができるという効果がある。」
　
　原査定の拒絶理由に引用され、本件出願の優先日前に頒布された刊行物である特開平１１−３０４８号公報（以下「引用例２」という。）には、以下の（ｇ）〜（ｋ）の記載が図面とともにある。
　
（ｇ）「【請求項２９】  複数の行及び列に沿って配置した薄膜トランジスタ、行毎に、該行上の複数の薄膜トランジスタのゲートを共通に接続したゲート線、列毎に、該列上の複数の薄膜トランジスタのソースを共通に接続したソース線、薄膜トランジスタの各ドレイン毎に接続したドレイン電極パッド、及び該ドレイン電極パッドに接続したコンデンサを備えたトランジスタ基板を用意する工程、複数の行及び列に沿って配置し、一対の電極及び該一対の電極間に配置したエレクトロ・ルミネセンス体を備えたエレクトロ・ルミネセンス基板を用意する工程、トランジスタ基板のドレイン電極パッド及びエレクトロ・ルミネセンス体のうちの少なくとも一方に接着性電気接続体を配置する工程、トランジスタ基板のドレイン電極パッド及びエレクトロ・ルミネセンス体のうちの少なくとも一方に接着性電気絶縁体を該接着性電気接続体の外周部となる位置に配置する工程、並びにドレイン電極パッドとエレクトロ・ルミネセンス体とが対向する様に、薄膜トランジスタ基板とエレクトロ・ルミネセンス基板とを対向配置し、重ね合せる工程を有することを特徴とするエレクトロ・ルミネセンス素子の製造法。」
　
（ｈ）「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、表示装置、発光光源又は電子写真プリンタのプリンタ・ヘッドに適用可能なエレクトロ・ルミネセンス素子及び装置、並びにその製造法に関する。特に、本発明は、大画面のフルカラー表示に適した有機エレクトロ・ルミネセンス体を用いた素子及び装置、並びにその製造法に関する。」
　
（ｉ）「【００１７】
【発明の実施の形態】本発明を図面に沿って説明する。以下、上記薄膜トランジスタを「ＴＦＴ」と記載し、上記エレクトロ・ルミネセンス体を「ＥＬ」と記憶（当審注：「記憶」は「記載」の誤記と認める。）する。
【００１８】図１は能動マトリックス４端子ＴＦＴ−ＥＬ素子の概略図を示す。各画素の素子は２つのＴＦＴと記憶コンデンサとＥＬ素子とを含む。４端子方式の主な特徴はＥＬ励起信号からのアドレッシング信号を分離する能力である。ＥＬ素子は論理ＴＦＴ（Ｔ１）を介して選択され、ＥＬ素子に対する励起電力は電力ＴＦＴ（Ｔ２）により制御される。記憶コンデンサはそれがいったん選択されたアドレスされたＥＬ素子に励起電力を留めることを可能にする。斯くして回路はＥＬ素子がアドレッシングに対して割り当てられた時間を無視して１００％に近いデュティサイクルで動作することを許容する。
【００１９】ゲートラインＹj ，Ｙj+1 は、好ましくは６４０本、１１２０本などの様に多数本数配線し、順次ゲートパルスが印加される。ゲートパルスは、インターレース走査またはノン・インタレース走査の何れであってもよい。
【００２０】ソース・ラインＸj ，Ｘj+1 ，Ｘj+2 は、好ましくは８４０本、１２８０本などの様に多数本数配線し、ゲートパルスと同期させて、映像データに応じて設定した電圧の情報信号パルスが印加される。
【００２１】図中のＲＥＬは赤色発光ＥＬ、ＧＥＬは緑色発光ＥＬ、ＢＥＬは青色発光ＥＬで、ソースラインＸj には赤色の情報信号パルス、Ｘj+1 には緑色情報パルス、Ｘj+2 には赤色情報パルスが印加される。これによってフルカラー表示が行なわれる。
【００２２】図２は、本発明のＴＦＴ基板３の代表例を示す平面図である。ＴＦＴ１は図１のＴ１に対応し、ＴＦＴ２は図１のＴ２に対応し、コンデンサ２１は図１のＣｓに対応し、ドレイン電極パッド２２は図１の各ＥＬ毎のＴ2 のドレイン接続電極に対応している。
【００２３】図３は、図２のＡ−Ａ′断面図である。図４は、図２のＢ−Ｂ′断面図である。
【００２４】本発明で用いたＴＦＴ１及びＴＦＴ２としては、ソースバス２４をｎ+ ポリシリコンに接続し、ドレインをｎ+ ポリシリコンに接続し、Ｉ型ポリシリコン膜をはさんで配置したゲート絶縁膜にＰＥＣＶＤ（プラズマ増強ＣＶＤ）−ＳｉＯ2膜３２を配置し、ゲートバスをｎ+ ポリシリコンに接続したトランジスタ構造を採用した。
【００２５】本発明は、上述したトランジスタ構造に限定されることなく、アモルファスシリコンや微結晶シリコン半導体を用いたスタガー構造又はコプレナー構造の何れをも適用することができる。
【００２６】また、本発明は、結晶シリコンを用いたＳＯ１（当審注：「ＳＯ１」は「ＳＯＩ」の誤記と認める。）（シリコン・オン・インシュレータ）構造のＭＯＳトランジスタに適用することができる。
【００２７】コンデンサＣｓは、図４の一対のコンデンサ電極４１と４２及び該一対のコンデンサ電極間に設けたＳｉＯ2 膜３３によって形成される。コンデンサ電極は、Ａｌ等によって成膜され、グランドバス２５と接続配線され、コンデンサ電極４２はｎ+ ポリシリコン膜によって成膜され、ＴＦＴ２のドレインに接続される。
【００２８】ゲートバス２３及びソースバス２４は、クロム／アルミ積層配線が好ましく用いられる。
【００２９】パシベーション３４としては、プラズマＣＶＤによってチッ化シリコン膜が適している。
【００３０】ドレイン電極パット２２としては、反射性能を持たせるために、アルミニウム、銀などの金属膜を用いることができるが、ＩＴＯやＺｎＯの様な透明導電膜であってもよい。
【００３１】図５は、本発明で用いたＥＬ基板６の平面図で、図６のは、図５のＣ−Ｃ′断面図である。
【００３２】ＥＬ基板６は、ガラス基板６１、ガラス基板６１上に設けた一対の電極である透明電極５１と反射面を形成するアルミニウムなどのＥＬ電極パッド６２及び該一対の電極間に設けたＥＬによって構成される。
【００３３】ＥＬ５２としては、有機ＥＬが好ましく、特にＲＥＬ、ＧＥＬ及びＢＥＬを構成するものが配置される。」
　
（ｊ）「【００４８】次のプロセス段階ではＥＬ陽極６２はデバイスの表面上に堆積される。ＥＬ陽極はどのような導電性の材料でも良いが、好ましくは４ｅＶ以下の仕事関数を有する材料で作られる（Ｔａｎｇ等のアメリカ国特許等４８８５２１１号を参照）。低い仕事関数材料は陽極に好ましい。何故ならばそれらは電子移動層内に容易に電子を放出するからである。最も低い仕事関数の金属はアルカリ金属であるが、しかしながらそれらの空気中での不安定性はそれらの使用をある条件下で実際的でなくしている。陽極材料は典型的には化学蒸着により堆積されるが、他の適切堆積技術も適用可能である。ＥＬ陽極に対して特に好ましい材料は１０：１（原子比で）マグネシウム：銀合金であることが見いだされた。好ましくは陽極は表示パネルの全表面にわたる連続層として適用される。他の実施例ではＥＬ陽極は有機電子注入及び移動帯に隣接した低い仕事関数の金属のより低い層からなり、低い仕事関数の金属をオーバーレイし、低い仕事関数の金属を酸素及び湿度から保護する保護層とからなる。
【００４９】典型的には陽極材料は不透明であり、陰極材料は透明であり、それにより光は陰極材料を通して透過する。光透過と技術的伝導性の実際的なバランスは典型的には５−２５ｎｍの範囲の厚さである。
【００５０】また、本発明では、ＥＬ基板６に用いたガラス基板６１に代えて、プラスチックフィルムを用いることができ、また透明電極５１としてＩＴＯ、ＺｎＯを用いることができる。
【００５１】透明電極５１は、ＥＬ５２の表面積を増大させるために、その表面を微細な凹凸をもつテクスチャー構造を採用することができる。好適なテクスチャー構造を形成するためには、ＺｎＯを堆積する時の基板温度を２５０℃−３００℃の様な比較的高湿度とした条件下でのスパッタ法を用いることができる。
【００５２】また、透明電極５１の非ＥＬ５２領域は、遮光マスク（図示せず）を設けることができる。この際の遮光マスクとしては、アルミニウム膜、クロス膜の様な金属膜、またはこれら金属膜による反射光の発生を防止するための酸化クロム膜や酸化アルミニウム膜を単独で、あるいは金属膜に積層させて設けることができる。金属膜は透明電極５１の抵抗を実質的に低下させるので、透明電極５１の上に金属膜を積層し、さらにこの上に酸化金属膜を設けるのが好ましい。
【００５３】透明電極５１は、本発明のＥＬ素子に駆動中は、アースまたは所定のＤＣ電圧に設定される。
【００５４】図７は、本発明のＥＬ素子の断面図である。ＥＬ素子は、ＴＦＴ基板３とＥＬ基板６とが互いに対向し、これによってＥＬ基板６側のＥＬ電極パッド６２とＴＦＴ基板３側のドレイン電極パッド２２とを対向配置し、両方の電極間を接着性電気接続体７１によって電気的な接続を行なう。
【００５５】接着性電気接続体７１は、エポキシ系又はフェノール系熱硬化接着剤中にカーボン粒子、銀粒子や銅粒子の様な導電性粒子が分散含有された導電性接着剤を用い、これをスクリーン印刷法、オフセット印刷法又はディスペンサー塗布法などの採用によって、ＥＬ基板６またはＴＦＴ基板３、あるいはその両方の所定位置に塗布し、乾燥させることによって得られる。
【００５６】上述の導電性接着剤中には、界面接着力を増強するために、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシランなどのシランカップリング剤を含有させることができる。
【００５７】接着性電気接続体７１の他の例としては、ハンダなどが挙げられる。
【００５８】上述の接着性電気接続体７１の外周部には、接着性電気絶縁体７２が設けられる。接着性電気絶縁体７２は、エポキシ系又はフェノール系絶縁接着剤をＥＬ基板６またはＴＦＴ基板、あるいはその両方の所定位置に、オフセット印刷法、スクリーン印刷法又はディスペンサー塗布法などの方法によって、塗布し、乾燥させることによって得られる。この際、絶縁接着剤及び導電性接着剤の塗布に当って、ＥＬ基板６またはＴＦＴ基板３の一方の基板に対して絶縁接着剤を設け、この絶縁接着剤を設けていない方の基板に対して導電性接着剤を設ける製造方法を用いるのが好適である。
【００５９】また、本発明では、上述の接着性電気絶縁体７２に代えて、接着力を持っていない絶縁体、例えば有機溶媒、特に高沸点有機溶媒やネマチック液晶、コレステリック液晶、スメクチック液晶の様な液晶などの液体絶縁体を用いることもできる。
【００６０】また、上述の接着性電気絶縁体７２または非接着性電気絶縁体には、遮光硬化を併せ持つ様に、着色顔料や塗料などの着色体を含有させることもできる。
【００６１】本発明のＥＬ素子の製造に当って、ＴＦＴ基板３のドレイン電極パッド２２の上に導電性接着剤を例えばオフセット印刷法を用いて塗布し、ＥＬ基板６のＥＬ電極パッド６２以外の領域（ＥＬ電極パッド６２の外周部）に絶縁接触剤（当審注：「絶縁接触剤」は「絶縁接着剤」の誤記と認める。）を例えばオフセット印刷法を用いて塗布し、ドレイン電極パッド２２とＥＬ電極パッド６２とが相対向する様に、ＴＦＴ基板３とＥＬ基板６とを重ね合せ、次いでＴＦＴ基板３とＥＬ基板６との間隔の空気を通常の方法で排気し、両基板３と６とに対し圧着加熱を付加し、密着固定する方法を採用することができる。
【００６２】図８は、上記間隔の空気を排気した時に用いた真空排気装置である。ＴＦＴ基板３とＥＬ基板６とを重ね合せた状態で、ステージ８１の上に載置し、周囲に配置固定された一対Ｏ−リング８２と８３との間にプラスチックフィルムなどのシート８３によって、図示の如く覆い、しかる後に真空排気ポンプ８４を作動させ、シート８３内の空気を排気する。」
　
（ｋ）「【００７２】
【発明の効果】本発明によれば、高精細で、且つ高密度で、長寿命のＥＬ画素を大面積に亘って、高い生産性をもって得ることができた。
【００７３】また、本発明によれば、高輝度のＥＬ発光を得ることができ、高精細で、高密度でしかも長時間連続高輝度発光のＥＬカラーディスプレイを高い生産性に基いて、ＥＬ素子を得ることができた。
【００７４】さらに、本発明によれば、衝撃に対する安定性、長期間の使用における表示安定性を実現したＥＬカラーディスプレイを得ることができた。」
　
（ウ）引用例１に記載された発明の認定
ａ　引用例１の上記記載事項（ａ）の「前記有機ＥＬ素子の駆動回路が作り込まれた微細構造物」との記載（【請求項１】）、及び、引用例１の上記記載事項（ｅ）の「トランジスタや容量等の電子回路要素が作り込まれた微細構造物１２」との記載（段落【００２１】）に照らし、引用例１の上記記載事項（ｅ）の「トランジスタや容量等の電子回路要素」は、引用例１の上記記載事項（ａ）の「前記有機ＥＬ素子の駆動回路」であると認める。
　
ｂ　したがって、引用例１の上記記載事項（ａ）〜（ｆ）から、引用例１には次の発明が記載されていると認めることができる。
　
「有機ＥＬ素子を表示部に用いた表示体の製造方法であって、
前記有機ＥＬ素子の駆動回路であるトランジスタや容量等の電子回路要素が作り込まれた微細構造物が画素に対応した位置に配設されるとともに、前記微細構造物の表面に形成された電極パッドと導通がとられるように表面に走査線や信号線等の配線が形成された回路基板と、表面に各画素で共通の透明電極層が積層されるとともに、その透明電極層の上面に、有機ＥＬ層を含む発光層及び陰極層が、前記画素に対応した位置に積層された透明基板と、をそれぞれ用意し、
前記回路基板の前記配線が形成された側と、前記透明基板の前記陰極層が形成された側とを内側に向けて、異方性導電性ペースト又は異方性導電性フィルムを前記回路基板及び前記透明基板の間に挟み込み、前記配線のうち前記陰極層に接続されるべき部分と前記陰極層とが電気的に接続されるように、前記回路基板及び前記透明基板の位置合わせを行って張り合わせる有機ＥＬ表示体の製造方法。」（以下「引用発明１」という。）
　
（エ）本件補正発明と引用発明１の一致点及び相違点の認定
ａ　引用発明１の「有機ＥＬ素子」は、「透明電極層の上面に、有機ＥＬ層を含む発光層及び陰極層が」「積層され」たものであるから、引用発明１の「透明電極層」はアノード電極（陽極）として機能すると認める。したがって、引用発明１の「透明電極層」、「陰極層」、「有機ＥＬ層」は、それぞれ、本件補正発明の「アノード電極」、「カソード電極」、「有機層」に相当する。
　また、引用発明１の「有機ＥＬ素子」は、「表面に各画素で共通の透明電極層が積層されるとともに、その透明電極層の上面に、有機ＥＬ層を含む発光層及び陰極層が、前記画素に対応した位置に積層された」ものであること、引用例１の図３、及び、ＥＬ表示装置では画素は行方向及び列方向にアレイ状に配置されるという本件出願の優先日当時の技術常識に照らすと、引用発明１の「表面に各画素で共通の透明電極層が積層されるとともに、その透明電極層の上面に、有機ＥＬ層を含む発光層及び陰極層が、前記画素に対応した位置に積層された透明基板」は、「有機ＥＬ素子」が行方向及び列方向にアレイ状に配置されたアレイ基板であるということができる。
　したがって、引用発明１の「表面に各画素で共通の透明電極層が積層されるとともに、その透明電極層の上面に、有機ＥＬ層を含む発光層及び陰極層が、前記画素に対応した位置に積層された透明基板」は、本件補正発明の「アノード電極とカソード電極との間に有機層を有する第１アレイ基板」に相当し、引用発明１の「表面に各画素で共通の透明電極層が積層されるとともに、その透明電極層の上面に、有機ＥＬ層を含む発光層及び陰極層が、前記画素に対応した位置に積層された透明基板」を「用意」する段階は、本件補正発明の「アノード電極とカソード電極との間に有機層を有する第１アレイ基板を設ける段階」に相当する。
　
ｂ　引用発明１の「回路基板」は、「前記有機ＥＬ素子の駆動回路であるトランジスタや容量等の電子回路要素が作り込まれた微細構造物」「の表面に形成された電極パッドと導通がとられるように表面に走査線や信号線等の配線が形成され」ているから、引用発明１の「トランジスタ」と「配線」とは「導通」していると認める。また、引用発明１では「前記回路基板の前記配線が形成された側と、前記透明基板の前記陰極層が形成された側とを内側に向けて、異方性導電性ペースト又は異方性導電性フィルムを前記回路基板及び前記透明基板の間に挟み込み、前記配線のうち前記陰極層に接続されるべき部分と前記陰極層とが電気的に接続されるように、前記回路基板及び前記透明基板の位置合わせを行って張り合わせる」から、引用発明１の「配線」は「異方性導電性ペースト又は異方性導電性フィルム」を介して「陰極層」と導通していると認める。すると、引用発明１の「トランジスタ」は「異方性導電性ペースト又は異方性導電性フィルム」を介して「陰極層」と導通していると認める。そして、引用発明１の「トランジスタ」は「有機ＥＬ素子の駆動回路」であるから、本件出願の優先日当時の技術常識も合わせ考慮すると、引用発明１の「トランジスタ」から「陰極層」に駆動信号が供給されていると認めることができる。
　また、引用発明１の「前記有機ＥＬ素子の駆動回路であるトランジスタ」「が作り込まれた微細構造物」は「画素に対応した位置に配設される」こと、引用例１の図３、及び、ＥＬ表示装置では画素は行方向及び列方向にアレイ状に配置されるという本件出願の優先日当時の技術常識に照らすと、引用発明１の「回路基板」は「トランジスタ」が行方向及び列方向にアレイ状に配置されたアレイ基板であるということができる。
　したがって、引用発明１の「陰極層」に駆動信号を供給する「前記有機ＥＬ素子の駆動回路であるトランジスタ」「が作り込まれた微細構造物が画素に対応した位置に配設され」「た回路基板」と、本件補正発明の「前記アノード電極及び前記カソード電極の中のいずれか一つに駆動信号を供給するための少なくとも一つの薄膜トランジスタが形成された第２アレイ基板」とは、「前記カソード電極に駆動信号を供給するための少なくとも一つのトランジスタが形成された第２アレイ基板」である点で一致し、引用発明１の「陰極層」に駆動信号を供給する「前記有機ＥＬ素子の駆動回路であるトランジスタ」「が作り込まれた微細構造物が画素に対応した位置に配設され」「た回路基板」を「用意」する段階と、本件補正発明の「前記アノード電極及び前記カソード電極の中のいずれか一つに駆動信号を供給するための少なくとも一つの薄膜トランジスタが形成された第２アレイ基板を設ける段階」とは、「前記カソード電極に駆動信号を供給するための少なくとも一つのトランジスタが形成された第２アレイ基板を設ける段階」である点で一致する。
　
ｃ　上記ｂに照らし、引用発明１では「異方性導電性ペースト又は異方性導電性フィルム」を介して「トランジスタ」から「陰極層」に駆動信号が供給されていると認めることができる。
　また、引用発明１の「有機ＥＬ素子」は、「透明電極層の上面に、有機ＥＬ層を含む発光層及び陰極層が、前記画素に対応した位置に積層された」ものであること、引用発明１では「前記回路基板及び前記透明基板の間に挟み込」まれた「異方性導電性ペースト又は異方性導電性フィルム」によって「前記配線のうち前記陰極層に接続されるべき部分と前記陰極層とが電気的に接続される」こと、引用例１の図３、及び、ＥＬ表示装置では画素は行方向及び列方向にアレイ状に配置されるという本件出願の優先日当時の技術常識に照らすと、引用発明１の「前記回路基板及び前記透明基板の間に挟み込」まれて「前記配線のうち前記陰極層に接続されるべき部分と前記陰極層と」を「電気的に接続」する「異方性導電性ペースト又は異方性導電性フィルム」も行方向及び列方向にアレイ状に配置される（すなわち、パターン状に配置される）ことは明らかである。
　すると、引用発明１の「前記配線のうち前記陰極層に接続されるべき部分と前記陰極層とが電気的に接続されるように、前記回路基板及び前記透明基板の位置合わせを行って張り合わせる」前に「前記回路基板の前記配線が形成された側と、前記透明基板の前記陰極層が形成された側とを内側に向けて、異方性導電性ペースト又は異方性導電性フィルムを前記回路基板及び前記透明基板の間に挟み込」む段階は、本件補正発明の「前記駆動信号を前記カソード電極に供給するため、前記第１アレイ基板と第２アレイ基板との間に導電性物質で第１連結パターンを形成する段階」に相当する。
　
ｄ　引用発明１の「有機ＥＬ素子を表示部に用いた表示体の製造方法」は、本件補正発明の「有機エレクトロルミネセンス表示素子の製造方法」に相当する。
　
ｅ　以上から、本件補正発明と引用発明１とは、
　
「アノード電極とカソード電極との間に有機層を有する第１アレイ基板を設ける段階と、
　前記カソード電極に駆動信号を供給するための少なくとも一つのトランジスタが形成された第２アレイ基板を設ける段階と、
　前記駆動信号を前記カソード電極に供給するため、前記第１アレイ基板と第２アレイ基板との間に導電性物質で第１連結パターンを形成する段階と、
　を含む有機エレクトロルミネセンス表示素子の製造方法。」
　
である点で一致し、以下の点で相違する。
　
〈相違点ア−１〉
　「第２アレイ基板を設ける段階」において形成される「トランジスタ」が、本件補正発明では「薄膜トランジスタ」であるのに対し、引用発明１では「トランジスタ」である点。
　
〈相違点ア−２〉
　本件補正発明の「有機エレクトロルミネセンス表示素子の製造方法」は、「前記第１アレイ基板と第２アレイ基板との間に接着性を有する物質を含み、前記第１アレイ基板と前記第２アレイ基板とを固定させるとともに、前記第１アレイ基板と前記第２アレイ基板との間の間隔を保持するように一定間隔を置いて画素領域に配置される第２連結パターンを形成する段階」を含むのに対し、引用発明１にはこのような限定がない点。
　
（オ）相違点についての判断
ａ　相違点ア−１について
　有機ＥＬ表示素子の技術分野において、有機ＥＬ素子を駆動する駆動回路として薄膜トランジスタを採用することは、本件出願の優先日当時において当業者に周知の技術的事項である（例えば、原査定の拒絶理由に引用された、引用例２（特に、段落【００１７】、【００２２】〜【００２３】、【００５４】〜【００６１】、図１〜３，７）、国際公開第０３／０５３１０９号（特に、第３頁第２６〜２９行、第１２頁第１７行〜第１３頁第１６行、図１〜５）、特開２００１−２８２１２３号公報（特に、段落【００１５】、図１０）を参照。）。
　したがって、引用発明１の「有機ＥＬ素子の駆動回路であるトランジスタ」として、上記周知の薄膜トランジスタを採用することは、当業者にとって容易に想到し得る。
　したがって、上記相違点ア−１に係る本件補正発明の発明特定事項を採用することは、当業者にとって想到容易である。
　
ｂ　相違点ア−２について
　引用例２には、複数の行及び列に沿って配置した薄膜トランジスタ、行毎に、該行上の複数の該薄膜トランジスタのゲートを共通に接続したゲート線、列毎に、該列上の複数の該薄膜トランジスタのソースを共通に接続したソース線、該薄膜トランジスタの各ドレイン毎に接続したドレイン電極パッド、及び該ドレイン電極パッドに接続したコンデンサを備えた薄膜トランジスタ基板を用意する工程、複数の行及び列に沿って配置し、透明電極、ＥＬ電極パッド、並びに、該透明電極及び該ＥＬ電極パッド間に配置した有機エレクトロ・ルミネセンス体を備えたエレクトロ・ルミネセンス基板を用意する工程、該薄膜トランジスタ基板の該ドレイン電極パッドの上に接着性電気接続体を配置する工程、該エレクトロ・ルミネセンス基板の該ＥＬ電極パッド以外の領域にエポキシ系絶縁接着剤を配置する工程、該ドレイン電極パッドと該ＥＬ電極パッドとが対向する様に、該薄膜トランジスタ基板と該エレクトロ・ルミネセンス基板とを重ね合せて密着固定して、該ドレイン電極パッドと該ＥＬ電極パッドを該接着性電気接続体によって電気的な接続を行うとともに、該エポキシ系絶縁接着剤を該薄膜トランジスタと重なるように形成する工程、を有するＥＬカラーディスプレイの有機エレクトロ・ルミネセンス素子の製造法が記載されている（下記イ（ウ）を参照。）。
　そして、下記イ（エ）ｃ，ｄに述べるように、引用例２に記載された「該ドレイン電極パッドと該ＥＬ電極パッドとが対向する様に、該薄膜トランジスタ基板と該エレクトロ・ルミネセンス基板とを重ね合せて密着固定して、該ドレイン電極パッドと該ＥＬ電極パッド」との「電気的な接続を行う」ために「該薄膜トランジスタ基板の該ドレイン電極パッドの上に」「配置」される「接着性電気接続体」は、本件補正発明の「前記駆動信号を前記アノード電極及び前記カソード電極の中のいずれか一つに供給するため、前記第１アレイ基板と第２アレイ基板との間に導電性物質で」「形成」される「第１連結パターン」に相当し、引用例２に記載された「該エレクトロ・ルミネセンス基板の該ＥＬ電極パッド以外の領域に」「配置」され、「該ドレイン電極パッドと該ＥＬ電極パッドとが対向する様に、該薄膜トランジスタ基板と該エレクトロ・ルミネセンス基板とを重ね合せて密着固定して」「該薄膜トランジスタと重なるように形成」された「エポキシ系絶縁接着剤」は、本件補正発明の「前記第１アレイ基板と第２アレイ基板との間に接着性を有する物質を含み、前記第１アレイ基板と前記第２アレイ基板とを固定させるとともに、前記第１アレイ基板と前記第２アレイ基板との間の間隔を保持するように」「画素領域に配置される第２連結パターン」に相当する。
　そして、引用発明１と引用例２に記載された発明とは、有機ＥＬ素子と前記有機ＥＬ素子を駆動するためのトランジスタとを別基板に形成し、前記有機ＥＬ素子と前記トランジスタとを導通させるように前記有機ＥＬ素子が形成された基板と前記トランジスタが形成された基板とを貼りあわせる有機ＥＬ表示装置の製造方法である点で共通する。
　すると、引用発明１に引用例２に記載された発明を適用して、引用発明１の「異方性導電性ペースト又は異方性導電性フィルム」が形成された領域以外の領域に引用例２に記載された発明の「エポキシ系絶縁接着剤」を設けることは、当業者にとって容易に想到し得る。
　ここで、ＴＦＴがアレイ状に形成されたＴＦＴ基板と、電極が形成された基板（以下「対向基板」という。）とを対向させて配置し、前記電極と前記ＴＦＴと導通する画素電極とを導電接続材を介して接続する際、前記電極と前記画素電極とを確実に導電接続させるとともに、前記導電接続材が隣接する画素側へ流れ込まないようにするために、前記ＴＦＴ基板と前記対向基板との間であって前記導電接続材が形成されていない領域に絶縁性のスペーサを一定間隔を置いて配置することは、本件出願の優先日当時において当業者に周知の技術的事項であるから（例えば、特開２００２−１８１９４４号公報（特に、段落【０００８】〜【０００９】、【００１４】〜【００２５】、図１〜２）、特開２０００−２３６４８２号公報（特に、段落【００１９】〜【００２０】、【００２４】〜【００２９】、【００３３】〜【００３４】、【００３６】〜【００３８】、【００９４】〜【０１１７】、【０１５２】、図１〜６）を参照。）、かかる周知技術に照らし、引用発明１に引用例２に記載された発明を適用して、引用発明１の「異方性導電性ペースト又は異方性導電性フィルム」が形成された領域以外の領域に引用例２に記載された発明の「エポキシ系絶縁接着剤」を設けるに当たり、「エポキシ系絶縁接着剤」を一定間隔を置いて配置することは、当業者が適宜なし得る設計的事項である。
　したがって、上記相違点ア−２に係る本件補正発明の発明特定事項を採用することは、当業者にとって想到容易である。
　
（カ）本件補正発明の独立特許要件の判断
　以上のとおり、引用発明１に上記相違点ア−１〜ア−２に係る本件補正発明の発明特定事項を採用することは、当業者にとって想到容易である。
　また、本件補正発明の効果も、引用例１〜２に記載された発明及び周知技術から当業者が予測し得る程度のものに過ぎない。
　したがって、本件補正発明は引用例１〜２に記載された発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができない。
　
イ　独立特許要件違反２（特許法第２９条第２項）
（ア）本件補正発明の認定
　本件補正後の請求項１０に係る発明は、上記ア（ア）に記載したとおりのものと認める。
　
（イ）引用刊行物の記載事項
　原査定の拒絶理由に引用され、本件出願の優先日前に頒布された刊行物である引用例２には、上記ア（イ）に記載した（ｇ）〜（ｋ）の記載が図面とともにある。
　
（ウ）引用例２に記載された発明の認定
ａ　引用例２の図７から、「エポキシ系絶縁接着剤」は「薄膜トランジスタ」と重なるように形成されていることを認めることができる。
　
ｂ　したがって、引用例２の上記記載事項（ｇ）〜（ｋ）から、引用例２には次の発明が記載されていると認めることができる。
　
「複数の行及び列に沿って配置した薄膜トランジスタ、行毎に、該行上の複数の該薄膜トランジスタのゲートを共通に接続したゲート線、列毎に、該列上の複数の該薄膜トランジスタのソースを共通に接続したソース線、該薄膜トランジスタの各ドレイン毎に接続したドレイン電極パッド、及び該ドレイン電極パッドに接続したコンデンサを備えた薄膜トランジスタ基板を用意する工程、
複数の行及び列に沿って配置し、透明電極、ＥＬ電極パッド、並びに、該透明電極及び該ＥＬ電極パッド間に配置した有機エレクトロ・ルミネセンス体を備えたエレクトロ・ルミネセンス基板を用意する工程、
該薄膜トランジスタ基板の該ドレイン電極パッドの上に接着性電気接続体を配置する工程、
該エレクトロ・ルミネセンス基板の該ＥＬ電極パッド以外の領域にエポキシ系絶縁接着剤を配置する工程、
該ドレイン電極パッドと該ＥＬ電極パッドとが対向する様に、該薄膜トランジスタ基板と該エレクトロ・ルミネセンス基板とを重ね合せて密着固定して、該ドレイン電極パッドと該ＥＬ電極パッドを該接着性電気接続体によって電気的な接続を行うとともに、該エポキシ系絶縁接着剤を該薄膜トランジスタと重なるように形成する工程、
を有するＥＬカラーディスプレイの有機エレクトロ・ルミネセンス素子の製造法。」（以下「引用発明２」という。）
　
（エ）本件補正発明と引用発明２の一致点及び相違点の認定
ａ　引用発明２の「有機エレクトロ・ルミネセンス素子」は、「該透明電極及び該ＥＬ電極パッド間に」「有機エレクトロ・ルミネセンス体」を「配置した」ものであるから、本件優先日当時の技術常識に照らすと、引用発明２の「透明電極」及び「ＥＬ電極パッド」は、一方がアノード電極（陽極）として機能し、他方がカソード電極（陰極）として機能すると認めることができる。したがって、引用発明２の「透明電極」及び「ＥＬ電極パッド」は、本件補正発明の「アノード電極」及び「カソード電極」に相当する。
　また、引用発明２の「該透明電極及び該ＥＬ電極パッド間」の「有機エレクトロ・ルミネセンス体」は、本件補正発明の「アノード電極とカソード電極との間」の「有機層」に相当する。
　さらに、引用発明２の「有機エレクトロ・ルミネセンス素子」は、「該透明電極及び該ＥＬ電極パッド間に配置した有機エレクトロ・ルミネセンス体」を「複数の行及び列に沿って配置し」たものであること、及び、引用例２の図１に照らすと、引用発明２の「複数の行及び列に沿って配置し、透明電極、ＥＬ電極パッド、並びに、該透明電極及び該ＥＬ電極パッド間に配置した有機エレクトロ・ルミネセンス体を備えたエレクトロ・ルミネセンス基板」は、「該透明電極及び該ＥＬ電極パッド間に」「有機エレクトロ・ルミネセンス体」を「配置した」ものである「有機エレクトロ・ルミネセンス素子」が「複数の行及び列に沿って」アレイ状に配置されたアレイ基板であるということができる。したがって、引用発明２の「複数の行及び列に沿って配置し、透明電極、ＥＬ電極パッド、並びに、該透明電極及び該ＥＬ電極パッド間に配置した有機エレクトロ・ルミネセンス体を備えたエレクトロ・ルミネセンス基板」は、本件補正発明の「アノード電極とカソード電極との間に有機層を有する第１アレイ基板」に相当する。
　すると、引用発明２の「複数の行及び列に沿って配置し、透明電極、ＥＬ電極パッド、並びに、該透明電極及び該ＥＬ電極パッド間に配置した有機エレクトロ・ルミネセンス体を備えたエレクトロ・ルミネセンス基板を用意する工程」は、本件補正発明の「アノード電極とカソード電極との間に有機層を有する第１アレイ基板を設ける段階」に相当する。
　
ｂ　引用発明２の「ドレイン電極パッド」は「薄膜トランジスタの各ドレイン毎に接続」され、「ドレイン電極パッド」と「ＥＬ電極パッド」は「接着性電気接続体によって電気的」に「接続」されているから、引用発明２の「薄膜トランジスタ」は「接着性電気接続体」を介して「ＥＬ電極パッド」と電気的に接続されていると認める。そして、引用例２の上記記載事項（ｉ）には「ＥＬ素子は論理ＴＦＴ（Ｔ１）を介して選択され、ＥＬ素子に対する励起電力は電力ＴＦＴ（Ｔ２）により制御される。」（段落【００１８】）と記載されているから、引用発明２の「薄膜トランジスタ」は「有機エレクトロ・ルミネセンス素子」の駆動回路であると認めることができる。すると、本件出願の優先日当時の技術常識も合わせ考慮すると、引用発明２の「薄膜トランジスタ」から「ＥＬ電極パッド」に駆動信号が供給されていると認めることができる。
　そして、上記ａにおいて記載したとおり、引用発明２の「ＥＬ電極パッド」は、アノード電極（陽極）またはカソード電極（陰極）として機能する。
　さらに、引用発明２の「薄膜トランジスタ」は、「複数の行及び列に沿って」「薄膜トランジスタ基板」に「配置した」たものであること、及び、引用例２の図１に照らすと、引用発明２の「薄膜トランジスタ」を「複数の行及び列に沿って配置した」「薄膜トランジスタ基板」は、「薄膜トランジスタ」が「複数の行及び列に沿って」アレイ状に配置されたアレイ基板であるということができる。
　したがって、引用発明２の「ＥＬ電極パッド」に駆動信号を供給する「薄膜トランジスタ」を「複数の行及び列に沿って配置した」「薄膜トランジスタ基板」は、本件補正発明の「前記アノード電極及び前記カソード電極の中のいずれか一つに駆動信号を供給するための少なくとも一つの薄膜トランジスタが形成された第２アレイ基板」に相当し、引用発明２の「ＥＬ電極パッド」に駆動信号を供給する「薄膜トランジスタ」を「複数の行及び列に沿って配置した」「薄膜トランジスタ基板を用意する工程」は、本件補正発明の「前記アノード電極及び前記カソード電極の中のいずれか一つに駆動信号を供給するための少なくとも一つの薄膜トランジスタが形成された第２アレイ基板を設ける段階」に相当する。
　
ｃ　上記ｂに照らし、引用発明２では「接着性電気接続体」を介して「薄膜トランジスタ」から「ＥＬ電極パッド」に駆動信号が供給されていると認めることができる。
　また、引用発明２の「接着性電気接続体」は「ドレイン電極パッドの上に」「配置」されること、「ドレイン電極パッド」は「薄膜トランジスタの各ドレイン毎に接続」されること、引用発明２の「薄膜トランジスタ」は「複数の行及び列に沿って」「薄膜トランジスタ基板」に「配置した」たものであること、及び、引用例２の図１に照らすと、引用発明２の「ドレイン電極パッドの上に」「配置」される「接着性電気接続体」が「複数の行及び列に沿って」アレイ状に配置される（すなわち、パターン状に配置される）ことは明らかである。
　すると、引用発明２の「該ドレイン電極パッドと該ＥＬ電極パッドとが対向する様に、該薄膜トランジスタ基板と該エレクトロ・ルミネセンス基板とを重ね合せて密着固定して、該ドレイン電極パッドと該ＥＬ電極パッド」との「電気的な接続を行う」ために「該薄膜トランジスタ基板の該ドレイン電極パッドの上に接着性電気接続体を配置する工程」は、本件補正発明の「前記駆動信号を前記アノード電極及び前記カソード電極の中のいずれか一つに供給するため、前記第１アレイ基板と第２アレイ基板との間に導電性物質で第１連結パターンを形成する段階」に相当する。
　
ｄ（ａ）本件補正発明の「第２連結パターン」が「画素領域に配置される」ことについて、本件出願の明細書の発明の詳細な説明に、「このような第２スペーサー１７２はシールライン１１８と同一の物質で第１スペーサー１７０を除いた領域、例えば、隔壁１７４、ゲートラインＧＬ，データラインＤＬ、供給ラインＳＬ、スイッチング用の薄膜トランジスタＴ１及び駆動用の薄膜トランジスタＴ２の中の少なくともいずれか一つとオーバーラップされるように形成される。」（段落【００６０】）、「例えば、図５ａに図示されたように隔壁１７４とオーバーラップされるようにアノード電極１０４と分離されて形成されるか、図５ｂに図示されたところのようにアノード電極１０４と接続されてゲートラインＧＬ及びデータラインＤＬの交差ににより配置されたピクセル領域とオーバーラップされるように形成される。」（段落【００６１】）と記載されるとともに、図５ａ，５ｂ，６が図示されている。そして、引用発明２の「該エレクトロ・ルミネセンス基板の該ＥＬ電極パッド以外の領域に」「配置」され、「該ドレイン電極パッドと該ＥＬ電極パッドとが対向する様に、該薄膜トランジスタ基板と該エレクトロ・ルミネセンス基板とを重ね合せて密着固定し」た後の「エポキシ系絶縁接着剤」は、「該薄膜トランジスタと重なるように形成」されている。したがって、引用発明２の「該エレクトロ・ルミネセンス基板の該ＥＬ電極パッド以外の領域に」「配置」され、「該ドレイン電極パッドと該ＥＬ電極パッドとが対向する様に、該薄膜トランジスタ基板と該エレクトロ・ルミネセンス基板とを重ね合せて密着固定して」「該薄膜トランジスタと重なるように形成」された「エポキシ系絶縁接着剤」の配置場所は、本件補正発明の「画素領域」であるということができる。
　また、引用発明２では、「該エレクトロ・ルミネセンス基板の該ＥＬ電極パッド以外の領域にエポキシ系絶縁接着剤を配置」し、「該ドレイン電極パッドと該ＥＬ電極パッドとが対向する様に、該薄膜トランジスタ基板と該エレクトロ・ルミネセンス基板とを重ね合せて密着固定して」「該エポキシ系絶縁接着剤を該薄膜トランジスタと重なるように形成する」ところ、引用発明２の「エポキシ系絶縁接着剤」は「接着剤」であるから、引用発明２の「エポキシ系絶縁接着剤」が「薄膜トランジスタ基板」と「エレクトロ・ルミネセンス基板」を固定する機能を有していることは明らかである。
　さらに、引用発明２の「エポキシ系絶縁接着剤」は「接着性電気接続体」が配置されない領域に形成されることから、上記ｃにおいて述べた引用発明２の「該薄膜トランジスタ基板の該ドレイン電極パッドの上に」「配置」される「接着性電気接続体」が「複数の行及び列に沿って」アレイ状に配置される（すなわち、パターン状に配置される）ことの裏返しとして、引用発明２の「該エレクトロ・ルミネセンス基板の該ＥＬ電極パッド以外の領域に」「配置」され、「該ドレイン電極パッドと該ＥＬ電極パッドとが対向する様に、該薄膜トランジスタ基板と該エレクトロ・ルミネセンス基板とを重ね合せて密着固定して」「該薄膜トランジスタと重なるように形成」された「エポキシ系絶縁接着剤」の配置の態様もパターン状であるということができる。
　したがって、引用発明２の「該エレクトロ・ルミネセンス基板の該ＥＬ電極パッド以外の領域に」「配置」され、「該ドレイン電極パッドと該ＥＬ電極パッドとが対向する様に、該薄膜トランジスタ基板と該エレクトロ・ルミネセンス基板とを重ね合せて密着固定して」「該薄膜トランジスタと重なるように形成」された「エポキシ系絶縁接着剤」は、本件補正発明の「前記第１アレイ基板と第２アレイ基板との間に接着性を有する物質を含み、前記第１アレイ基板と前記第２アレイ基板とを固定させる」「ように」「画素領域に配置される第２連結パターン」に相当する。
　
（ｂ）また、本件補正発明の「第２連結パターンを形成する段階」について、本件出願の明細書の段落【００６８】に、「上部基板及び下部基板の中のいずれか一つの基板の上にシーリング剤をインクジェットやスクリーンフリンティング方法でゲートライン、データライン、供給ライン、スイッチング用の薄膜トランジスタ、駆動用の薄膜トランジスタ及び隔壁の中の少なくともいずれか一つとオーバーラップされるように第２スペーサーを形成する。（Ｓ２４段階）」と記載され、続いて、同段落に「そして、上部基板と下部基板を合着するためにディスペンサーまたはスクリーンプリンティング方法で表示部の外郭部につれてシールラインを形成する。シールラインを利用して上部基板と下部基板を合着した後、紫外線にシールラインと第２スペーサーを硬化させる。（Ｓ２５段階）」と記載されている。そして、紫外線硬化樹脂は、硬化前は軟らかく２枚の基板の間隔を保持する機能（スペーサ機能）を有しないことは本件出願の優先日当時の技術常識であるから、本件補正発明の「第２連結パターン」には、「前記第１アレイ基板と前記第２アレイ基板との間の間隔を保持する」機能が「第１アレイ基板」と「第２アレイ基板」を合着した後にはじめて生ずるものも含まれると認めることができる。
　そして、フラットパネルディスプレイの技術分野において、エポキシ樹脂が２枚の基板の間隔を保持する機能（スペーサ機能）を有することは、本件出願の優先日当時の技術常識であるから（例えば、特開２００３−６６８５９号公報（特に、段落【００４８】、図１。図１において、エポキシ樹脂からなる封止材１１５が、アクティブマトリクス基板１０１と対向基板１０２との間隔を保持する機能を有していることは明らかである。）、特開平９−６３７６６号公報（特に、段落【００２１】、図１）を参照。）、引用発明２の「エポキシ系絶縁接着剤」は、「該エレクトロ・ルミネセンス基板の該ＥＬ電極パッド以外の領域に」「配置」され、「該薄膜トランジスタ基板と該エレクトロ・ルミネセンス基板とを重ね合せて密着固定して」「該薄膜トランジスタと重なるように形成」された状態で、「該薄膜トランジスタ基板」と「該エレクトロ・ルミネセンス基板」の間隔を保持する機能（スペーサ機能）を有すると認めることができる。
　したがって、引用発明２の「該エレクトロ・ルミネセンス基板の該ＥＬ電極パッド以外の領域に」「配置」され、「該ドレイン電極パッドと該ＥＬ電極パッドとが対向する様に、該薄膜トランジスタ基板と該エレクトロ・ルミネセンス基板とを重ね合せて密着固定して」「該薄膜トランジスタと重なるように形成」された「エポキシ系絶縁接着剤」は、本件補正発明の「前記第１アレイ基板と前記第２アレイ基板との間の間隔を保持する」「第２連結パターン」に相当する。
　
（ｃ）以上から、引用発明２の「該エレクトロ・ルミネセンス基板の該ＥＬ電極パッド以外の領域にエポキシ系絶縁接着剤を配置」し、「該ドレイン電極パッドと該ＥＬ電極パッドとが対向する様に、該薄膜トランジスタ基板と該エレクトロ・ルミネセンス基板とを重ね合せて密着固定して」「該エポキシ系絶縁接着剤を該薄膜トランジスタと重なるように形成する工程」と、本件補正発明の「前記第１アレイ基板と第２アレイ基板との間に接着性を有する物質を含み、前記第１アレイ基板と前記第２アレイ基板とを固定させるとともに、前記第１アレイ基板と前記第２アレイ基板との間の間隔を保持するように一定間隔を置いて画素領域に配置される第２連結パターンを形成する段階」とは、「前記第１アレイ基板と第２アレイ基板との間に接着性を有する物質を含み、前記第１アレイ基板と前記第２アレイ基板とを固定させるとともに、前記第１アレイ基板と前記第２アレイ基板との間の間隔を保持するように画素領域に配置される第２連結パターンを形成する段階」である点で一致する。
　
ｅ　引用発明２の「ＥＬカラーディスプレイの有機エレクトロ・ルミネセンス素子の製造法」は、本件補正発明の「有機エレクトロルミネセンス表示素子の製造方法」に相当する。
　
ｆ　以上から、本件補正発明と引用発明２とは、
　
「アノード電極とカソード電極との間に有機層を有する第１アレイ基板を設ける段階と、
　前記アノード電極及び前記カソード電極の中のいずれか一つに駆動信号を供給するための少なくとも一つの薄膜トランジスタが形成された第２アレイ基板を設ける段階と、
　前記駆動信号を前記アノード電極及び前記カソード電極の中のいずれか一つに供給するため、前記第１アレイ基板と第２アレイ基板との間に導電性物質で第１連結パターンを形成する段階と、
　前記第１アレイ基板と第２アレイ基板との間に接着性を有する物質を含み、前記第１アレイ基板と前記第２アレイ基板とを固定させるとともに、前記第１アレイ基板と前記第２アレイ基板との間の間隔を保持するように画素領域に配置される第２連結パターンを形成する段階と、
　を含む有機エレクトロルミネセンス表示素子の製造方法。」
　
である点で一致し、以下の点で相違する。
　
〈相違点イ〉
　本件補正発明の「第２連結パターン」は、「一定間隔を置いて」配置されるのに対し、引用発明２の「エポキシ系絶縁接着剤」にはこのような限定がない点。
　
（オ）相違点についての判断
　薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）がアレイ状に形成されたＴＦＴ基板と、電極が形成された基板（以下「対向基板」という。）とを対向させて配置し、前記電極と前記ＴＦＴに導通する画素電極とを導電接続材を介して接続する際、前記電極と前記画素電極とを確実に導電接続させるとともに、前記導電接続材が隣接する画素側へ流れ込まないようにするために、前記ＴＦＴ基板と前記対向基板との間であって前記導電接続材が形成されていない領域に絶縁性のスペーサを一定間隔を置いて配置することは、本件出願の優先日当時において当業者に周知の技術的事項である（例えば、特開２００２−１８１９４４号公報（特に、段落【０００８】〜【０００９】、【００１４】〜【００２５】、図１〜２）、特開２０００−２３６４８２号公報（特に、段落【００１９】〜【００２０】、【００２４】〜【００２９】、【００３３】〜【００３４】、【００３６】〜【００３８】、【００９４】〜【０１１７】、【０１５２】、図１〜６）を参照。）。
　すると、引用発明２に上記周知技術を適用して、引用発明２の「エポキシ系絶縁接着剤」を一定間隔を置いて配置することは、当業者が適宜なし得る設計的事項である。
　したがって、上記相違点イに係る本件補正発明の発明特定事項を採用することは、当業者にとって想到容易である。
　
（カ）本件補正発明の独立特許要件の判断
　以上のとおり、引用発明２に上記相違点イに係る本件補正発明の発明特定事項を採用することは、当業者にとって想到容易である。
　また、本件補正発明の効果も、引用例２に記載された発明及び周知技術から当業者が予測し得る程度のものに過ぎない。
　したがって、本件補正発明は引用例２に記載された発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができない。
　
ウ　むすび
　以上検討したとおり、本件補正は、特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するから、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　なお、例えば、上記イで述べた引用例２を主引用例とする上記補正の却下の理由は原査定の理由とは実質的に異なる理由であるが、特許法第１５９条第２項において、同法第５０条は、「第５０条ただし書中『第１７条の２第１項第３号に掲げる場合』とあるのは、『第１７条の２第１項第３号又は第４号に掲げる場合』」と読み替えて準用され、同法第５０条は、「審査官は、拒絶をすべき旨の査定をしようとするときは、特許出願人に対し、拒絶の理由を通知し、相当の期間を指定して、意見書を提出する機会を与えなければならない。ただし、第１７条の２第１項第３号に掲げる場合において、第５３条第１項の規定による却下の決定をするときは、この限りでない。」とされ、補正の却下について意見書を提出する機会は与えなくてよいとされているから、本件補正の却下に当たり、上記補正の却下の理由を事前に通知する必要はない（知財高裁平成１９年（行ケ）第１００５６号参照。）。
　よって、上記補正の却下の決定の結論のとおり決定する。
　
第３　本件審判請求についての判断
１　本件発明の認定
　本件補正が却下されたから、平成１９年７月２４日付けの手続補正により補正された明細書、特許請求の範囲及び図面に基づいて審理すると、本件出願の請求項１０に係る発明は、平成１９年７月２４日付けで補正された特許請求の範囲の請求項１０に記載された事項によって特定される次のとおりのものと認める。
　
「アノード電極とカソード電極との間に有機層を有する第１アレイ基板を設ける段階と、
　前記アノード電極及び前記カソード電極の中のいずれか一つに駆動信号を供給するための少なくとも一つの薄膜トランジスタが形成された第２アレイ基板を設ける段階と、
　前記駆動信号を前記アノード電極及び前記カソード電極の中のいずれか一つに供給するため、前記第１アレイ基板と第２アレイ基板との間に導電性物質で第１連結パターンを形成する段階と、
　前記第１アレイ基板と第２アレイ基板との間に接着性を有する物質を含み、前記第１アレイ基板と前記第２アレイ基板とを固定させるとともに、前記第１アレイ基板と前記第２アレイ基板との間の間隔を保持させる第２連結パターンを形成する段階と、
　を含むことを特徴とする有機エレクトロルミネセンス表示素子の製造方法。」（以下「本件発明」という。）
　
２　引用刊行物の記載事項及び引用例１記載の発明の認定
　原査定の拒絶理由に引用され、本件出願の優先日前に頒布された刊行物である引用例１〜２には、上記第２の２（２）ア（イ）に摘記したとおりの事項が記載されており、引用例１に記載された発明は、上記第２の２（２）ア（ウ）に記載したとおりである。
　
３　対比・判断
　本件発明は、本件補正発明の発明特定事項から、上記第２の２（１）で述べた限定事項を省いたものである。
　そして、本件発明の発明特定事項をすべて含み、他の発明特定事項を付加したものに相当する本件補正発明が、上記第２の２（２）アに記載したとおり、引用例１〜２に記載された発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本件発明も、上記第２の２（２）アで示した理由と同様の理由により（ただし、上記第２の２（２）ア（オ）ｂの「ここで、」からはじまる段落の記載を除く。）、引用例１〜２に記載された発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
４　むすび
　以上のとおり、本件発明は引用例１〜２に記載された発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本件発明は特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　そして、本件発明が特許を受けることができない以上、本件出願のその余の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本件出願は、拒絶されるべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。