【手続補正書】
【提出日】平成24年5月23日(2012.5.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一の電極と、
前記第一の電極の上の電気不伝導層と、
前記第一の電極から電気的に絶縁された第二の電極と、
前記第一の電極と前記第二の電極とから電気的に絶縁された第三の電極と、
前記第一の電極を前記第二の電極から分離する支持構造であって、電気伝導部を有する前記支持構造とを備え、前記第三の電極は、前記第一の電極を前記第二の電極から分離する前記支持構造の電気伝導部を有し、さらに、
前記第一の電極と前記第二の電極との間への電圧差の印加に応じて第一の位置と第二の位置との間で移動可能な反射素子であって、前記第一の位置にあるときには前記電気不伝導層の一部に実質的に平行で接触し、前記第二の位置にあるときには前記電気不伝導層の前記一部に実質的に平行で間隔を置いて配置される前記反射素子を備え、前記反射素子が前記第二の位置にあるとき、前記第三の電極の少なくとも一部が前記反射素子よりも低く、前記反射素子が前記第一の位置にあるとき、前記第三の電極の少なくとも一部が前記反射素子よりも高く、
前記反射素子が前記第一の位置にあるとき、前記反射素子と前記電気不伝導層の前記一部との間に接着力が生成され、前記第一の電極と前記第二の電極と前記第三の電極とに印加された電圧が前記接着力を少なくとも部分的に低減または相殺するように構成されている、電気機械システムデバイス。
【請求項２】
前記第三の電極が、前記支持構造によって支持されている、請求項１のデバイス。
【請求項３】
前記支持構造が一つ以上のポストを有しており、前記第三の電極が前記一つ以上のポストの少なくとも一つの電気伝導部を有している、請求項１のデバイス。
【請求項４】
前記支持構造が複数のポストを有しており、各ポストが電気伝導部を有しており、前記第三の電極が前記電気伝導部を有している、請求項３のデバイス。
【請求項５】
前記複数のポストが、前記反射素子に対して実質的に対称的に位置している、請求項４のデバイス。
【請求項６】
前記反射素子が、第一の層と、前記第一の層をおおう第二の層とを有している、請求項１のデバイス。
【請求項７】
前記第一の層が、前記第二の層よりも可撓性である、請求項６のデバイス。
【請求項８】
前記第一の層が前記第二の層よりも薄い、請求項６のデバイス。
【請求項９】
前記第二の層が、前記第一の層の中央部をおおっており、前記第一の層の一つ以上のエッジ部をおおっていない、請求項６のデバイス。
【請求項１０】
前記第一の層と前記第二の層との少なくとも一つが電気伝導性である、請求項６のデバイス。
【請求項１１】
前記反射素子が、中心部よりも薄い端部を有している、請求項１のデバイス。
【請求項１２】
前記反射素子が、前記反射素子の上側表面の上方にあり前記第二の電極の方へ延出している延出部を有している、請求項１のデバイス。
【請求項１３】
前記一つ以上の延出部は、前記反射素子の一つ以上のエッジ部の上または近くにあり、前記反射素子の上側表面からの高さが前記反射素子の中央部の厚さの約１／２ないし約１／３である、請求項１２のデバイス。
【請求項１４】
前記第二の電極が、前記反射素子の方へ延出している１つ一つ以上の部分を有している、請求項１のデバイス。
【請求項１５】
前記第三の電極が、前記反射素子の方へ延出している一つ以上の部分を有している、請求項１のデバイス。
【請求項１６】
前記支持構造が機械的層を有しており、前記反射素子が前記機械的層の一部を有している、請求項１のデバイス。
【請求項１７】
前記支持構造が機械的層を有しており、前記反射素子が前記機械的層に機械的に接続されている、請求項１のデバイス。
【請求項１８】
前記反射素子が、前記機械的層から間隔を置いて配置されており、実質的に平行である、請求項１７のデバイス。
【請求項１９】
光に対して透明または半透明である基板と、
前記基板の上の光学スタックとをさらに有しており、前記光学スタックは光に対して部分的に透明または半透明かつ部分的に反射的であり、
前記光学スタックの少なくとも一部が電気的に伝導性であり、前記電気伝導部が前記第一の電極を有している、請求項１のデバイス。
【請求項２０】
請求項１に記載のデバイスを備えたディスプレイであって、
前記デバイスと通信するように構成されたプロセッサーであって、画像データを処理するように構成された前記プロセッサーと、
前記プロセッサーと通信するように構成されたメモリーデバイスとをさらに備えている、ディスプレイ。
【請求項２１】
前記ディスプレイに少なくとも一つの信号を送るように構成されたドライバー回路をさらに備えている、請求項２０のディスプレイ。
【請求項２２】
前記ドライバー回路に前記画像データの少なくとも一部を送るように構成されたコントローラーをさらに備えていること、請求項２１のディスプレイ。
【請求項２３】
前記プロセッサーに前記画像データを送るように構成された像源モジュールをさらに備えていること、請求項２０のディスプレイ。
【請求項２４】
前記像源モジュールがレシーバーとトランシーバーとトランスミッターとの少なくとも一つを有している、請求項２３のディスプレイ。
【請求項２５】
入力データを受け取り、前記入力データを前記プロセッサーに通信するように構成された入力デバイスをさらに備えている、請求項２０のディスプレイ。
【請求項２６】
電気を伝導するための第一の手段と、
電気的に絶縁するための手段であって、前記第一の手段の上の前記絶縁手段と、
電気を伝導するための第二の手段であって、前記第一の伝導手段から電気的に絶縁された前記第二の伝導手段と、
電気を伝導するための第三の手段であって、前記第一の伝導手段と前記第二の伝導手段とから電気的に絶縁された前記第三の伝導手段と、
前記第一の伝導手段を前記第二の伝導手段から分離するための手段であって、電気伝導部を有している前記分離手段とを備え、前記第三の伝導手段は前記分離手段の前記伝導部を有しており、さらに、
光を反射するための手段であって、前記第一の伝導手段と前記第二の伝導手段との間への電圧差の印加に応じて第一の位置と第二の位置との間で移動可能な前記反射手段であって、前記第一の位置にあるときには前記絶縁手段の一部に実質的に平行で接触し、前記第二の位置にあるときには前記絶縁手段の前記一部に実質的に平行で間隔を置いて配置される前記反射手段を備え、前記反射手段が前記第二の位置にあるとき、前記第三の伝導手段の少なくとも一部が前記反射手段よりも低く、前記反射手段が前記第一の位置にあるとき、前記第三の伝導手段の少なくとも一部が前記反射手段よりも高く、
前記反射手段が前記第一の位置にあるとき、前記反射手段と前記絶縁手段の前記一部との間に接着力が生成され、前記第一の伝導手段と前記第二の伝導手段と前記第三の伝導手段とに印加された電圧が前記接着力を少なくとも部分的に低減または相殺するように構成されている、電気機械システムデバイス。
【請求項２７】
前記第一の伝導手段と前記第二の伝導手段と前記第三の伝導手段の少なくとも一つが電極を有している、請求項２６のデバイス。
【請求項２８】
前記分離手段が機械的層と一つ以上の支持ポストとを有している、請求項２６のデバイス。
【請求項２９】
前記第三の伝導手段が前記一つ以上の支持ポストの少なくとも一つの電気伝導部を有している、請求項２８のデバイス。
【請求項３０】
前記反射手段が、前記第一の伝導手段と前記第二の伝導手段との間に配置された反射素子を有している、請求項２６のデバイス。
【請求項３１】
第一の電極と、
前記第一の電極の上の電気不伝導層と、
前記第一の電極から電気的に絶縁された第二の電極と、
前記第一の電極と前記第二の電極とから電気的に絶縁された第三の電極と、
前記第一の電極を前記第二の電極から分離する支持構造であって、電気伝導部を有する前記支持構造とを備え、前記第三の電極は、前記第一の電極を前記第二の電極から分離する前記支持構造の前記伝導部を有し、さらに、
前記第一の電極と前記第二の電極との間への電圧差の印加に応じて第一の位置と第二の位置との間で移動可能な反射素子であって、前記第一の位置にあるときには前記電気不伝導層の一部に実質的に平行で接触し、前記第二の位置にあるときには前記電気不伝導層の前記一部に実質的に平行で間隔を置いて配置される前記反射素子を備え、前記反射素子が前記第二の位置にあるとき、前記第三の電極の少なくとも一部が前記反射素子よりも低く、前記反射素子が前記第一の位置にあるとき、前記第三の電極の少なくとも一部が前記反射素子よりも高く、
前記反射素子が前記第一の位置にあるとき、前記反射素子と前記電気不伝導層の前記一部との間に接着力が生成され、前記第一の電極と前記第二の電極と前記第三の電極とに印加された電圧が前記接着力を少なくとも部分的に低減または相殺するように構成されている、電気機械システムデバイスを準備し、
第一の電極と第二の電極と第三の電極とに電圧を印加して接着力を少なくとも部分的に低減または相殺する、電気機械システムデバイスを操作する方法。
【請求項３２】
前記電圧が約１０ボルトと約５０ボルトとの間の大きさを有している、請求項３１の方法。
【請求項３３】
前記第一の電極と前記第二の電極と前記第三の電極とに印加された電圧は前記反射素子の一部が弾性変形を受けるようにする、請求項３１の方法。
【請求項３４】
前記第一の電極と前記第二の電極と前記第三の電極とに印加された前記電圧の少なくとも一つが、周波数を有する時変電圧を有している、請求項３１の方法。
【請求項３５】
前記周波数が約１００Ｈｚから約５０ＭＨｚまでの範囲にある、請求項３４の方法。
【請求項３６】
前記周波数が前記反射素子の機械的共振周波数と実質的に等しい、請求項３４の方法。
【請求項３７】
前記時変電圧は前記反射素子の一部が弾性振動を受けるようにする、請求項３４の方法。
【請求項３８】
前記周波数が、前記弾性振動の増大した振幅を提供するように選択されている、請求項３７の方法。
【請求項３９】
前記反射素子を弾性的に変形することによって前記第一の位置にあるとき、前記第一の電極と前記第二の電極と前記第三の電極とに印加された前記電圧が、前記デバイスの前記一部に接触している前記反射素子の領域を減少させる、請求項３１の方法。
【請求項４０】
前記第一の電極と前記第二の電極と前記第三の電極とに印加された前記電圧の少なくとも一つが、前記反射素子にインパルスを与える時変電圧を有している、請求項３１の方法。
【請求項４１】
基板上に光学スタックを形成することと、
前記光学スタックの上に犠牲層の形成することと、
前記犠牲層の一部を除去して開口を形成することと、
前記開口に電気不伝導物質を充てんして支持構造を形成することと、
前記支持構造の一部を除去して前記支持構造に開口を形成することと、
前記支持構造の前記開口に電気伝導物質を充てんして電極を形成することと、
前記犠牲層の上に反射層を形成することと、
犠牲層を除去することとを有している、電気機械システムデバイスを製造する方法。
【請求項４２】
前記光学スタックを形成することは、
光に対して部分的に透明または半透明かつ部分的に反射的である光学層を形成することと、
前記光学層の上に不伝導層を形成することとを有し、前記不伝導層は光に対して部分的に透明または半透明である、請求項４１に記載の方法。
【請求項４３】
前記光学層を形成することは、電気伝導層を形成することを有している、請求項４２に記載の方法。