【手続補正書】
【提出日】平成24年9月6日(2012.9.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原版のパターンを投影光学系によって基板に投影し該基板を露光する露光装置であって、
原版または原版ステージに配置された原版側指標板と、
基板ステージに配置された基板側指標板と、
前記原版側指標板に設けられたマークと前記基板側指標板に設けられたマークとの相対位置を前記投影光学系を介して計測する計測器と、
前記投影光学系を制御する制御部とを備え、
前記原版側指標板は第１原版側マークおよび第２原版側マークを含み、前記基板側指標板は第１基板側マークおよび第２基板側マークを含み、
前記制御部は、前記計測器が前記第１原版側マークと前記第１基板側マークとの相対位置を計測すると同時に前記第２原版側マークと前記第２基板側マークとの相対位置を計測することができるように、前記投影光学系の像特性を制御する、
ことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記制御部によって制御される前記像特性は、前記投影光学系の倍率および歪曲収差の少なくとも１つを含む、
ことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
原版のパターンを投影光学系によって基板に投影し該基板を露光する露光装置であって、
原版または原版ステージに配置された原版側指標板と、
基板ステージに配置された基板側指標板と、
前記原版側指標板に設けられたマークと前記基板側指標板に設けられたマークとの相対位置を前記投影光学系を介して計測する計測器と、
前記投影光学系を制御する制御部とを備え、
前記原版側指標板は複数の第１原版側マークおよび複数の第２原版側マークを含み、前記基板側指標板は第１基板側マークおよび第２基板側マークを含み、
前記制御部は、前記計測器が前記複数の第１原版側マークの１つと前記第１基板側マークとの相対位置を計測すると同時に前記複数の第２原版側マークの１つと前記第２基板側マークとの相対位置を計測することができるように、前記複数の第１原版側マークの中から計測に使用する１つの第１原版側マークを選択するとともに前記複数の第２原版側マークの中から計測に使用する１つの第２原版側マークを選択する、
ことを特徴とする露光装置。
【請求項４】
原版のパターンを投影光学系によって基板に投影し該基板を露光する露光装置であって、
原版または原版ステージに配置された原版側指標板と、
基板ステージに配置された基板側指標板と、
前記原版側指標板に設けられたマークと前記基板側指標板に設けられたマークとの相対位置を前記投影光学系を介して計測する計測器と、
前記投影光学系を制御する制御部とを備え、
前記原版側指標板は第１原版側マークおよび第２原版側マークを含み、前記基板側指標板は複数の第１基板側マークおよび複数の第２基板側マークを含み、
前記制御部は、前記計測器が前記第１原版側マークと前記複数の第１基板側マークの１つとの相対位置を計測すると同時に前記第２原版側マークと前記複数の第２基板側マークの１つとの相対位置を計測することができるように、前記複数の第１基板側マークの中から計測に使用する１つの第１基板側マークを選択するとともに前記複数の第２基板側マークの中から計測に使用する１つの第２基板側マークを選択する、
ことを特徴とする露光装置。
【請求項５】
原版のパターンを投影光学系によって基板に投影し該基板を露光する露光装置であって、
原版または原版ステージに配置された原版側指標板と、
基板ステージに配置された基板側指標板と、
前記原版側指標板に設けられたマークと前記基板側指標板に設けられたマークとの相対位置を前記投影光学系を介して計測する計測器と、
前記投影光学系を制御する制御部とを備え、
前記原版側指標板は第１原版側マークおよび第２原版側マークを含み、第１方向における前記第１原版側マークと前記第２原版側マークとの間隔は、前記第１方向と直交する第２方向における位置に応じて変化していて、前記基板側指標板は第１基板側マークおよび第２基板側マークを含み、
前記制御部は、前記計測器が前記第１原版側マークと前記第１基板側マークとの相対位置を計測すると同時に前記第２原版側マークと前記第２基板側マークとの相対位置を計測することができる前記第２方向における位置を決定し、当該決定した位置において前記計測器に計測を実行させる、
ことを特徴とする露光装置。
【請求項６】
原版のパターンを投影光学系によって基板に投影し該基板を露光する露光装置であって、
原版または原版ステージに配置された原版側指標板と、
基板ステージに配置された基板側指標板と、
前記原版側指標板に設けられたマークと前記基板側指標板に設けられたマークとの相対位置を前記投影光学系を介して計測する計測器と、
前記投影光学系を制御する制御部とを備え、
前記原版側指標板は第１原版側マークおよび第２原版側マークを含み、前記基板側指標板は第１基板側マークおよび第２基板側マークを含み、第１方向における前記第１基板側マークと前記第２基板側マークとの間隔は、前記第１方向と直交する第２方向における位置に応じて変化していて、
前記制御部は、前記計測器が前記第１原版側マークと前記第１基板側マークとの相対位置を計測すると同時に前記第２原版側マークと前記第２基板側マークとの相対位置を計測することができる前記第２方向における位置を決定し、当該決定した位置において前記計測器に計測を実行させる、
ことを特徴とする露光装置。
【請求項７】
原版のパターンを投影光学系によって基板に投影し該基板を露光する露光装置であって、
原版または原版ステージに配置された原版側指標板と、
基板ステージに配置された基板側指標板と、
前記原版側指標板に設けられたマークと前記基板側指標板に設けられたマークとの相対位置を前記投影光学系を介して計測する計測器を備え、
前記原版側指標板は第１原版側マークおよび第２原版側マークを含み、前記基板側指標板は第１基板側マークおよび第２基板側マークを含み、前記第１原版側マークおよび前記第１基板側マークは、第１方向における前記第１原版側マークと前記第１基板側マークとの相対位置を計測するために使用され、前記第２原版側マークおよび前記第２基板側マークは、前記第１方向に直交する第２方向おける前記第２原版側マークと前記第２基板側マークとの相対位置を計測するために使用され、
前記計測器は、前記第１原版側マークおよび前記第１基板側マークを用いて前記第１方向における前記第１原版側マークと前記第１基板側マークとの相対位置を計測すると同時に前記第２原版側マークおよび前記第２基板側マークを用いて前記第２方向おける前記第２原版側マークと前記第２基板側マークとの相対位置を計測する、
ことを特徴とする露光装置。
【請求項８】
前記制御部は、前記第１原版側マークと前記第２原版側マークとの距離の製造誤差、または、前記第１基板側マークと前記第２基板側マークとの距離の製造誤差に応じて、前記計測器が前記第１原版側マークと前記第１基板側マークとの相対位置を計測すると同時に前記第２原版側マークと前記第２基板側マークとの相対位置を計測することができるように、前記投影光学系の像特性を制御することを特徴とする請求項１又は２に記載の露光装置。
【請求項９】
デバイスを製造するデバイス製造方法であって、
請求項１乃至８のいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
該基板を現像する工程と、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明の１つの側面は、原版のパターンを投影光学系によって基板に投影し該基板を露光する露光装置に係り、前記露光装置は、原版または原版ステージに配置された原版側指標板と、
基板ステージに配置された基板側指標板と、前記原版側指標板に設けられたマークと前記基板側指標板に設けられたマークとの相対位置を前記投影光学系を介して計測する計測器と、前記投影光学系を制御する制御部とを備え、前記原版側指標板は第１原版側マークおよび第２原版側マークを含み、前記基板側指標板は第１基板側マークおよび第２基板側マークを含み、前記制御部は、前記計測器が前記第１原版側マークと前記第１基板側マークとの相対位置を計測すると同時に前記第２原版側マークと前記第２基板側マークとの相対位置を計測することができるように、前記投影光学系の像特性を制御する。