(57)【要約】【課題】高屈折率層中の空隙の発生を低減し、反射特性に優れた光線反射フィルムを提供する。【解決手段】本発明によれば、基材上に、低屈折率層と高屈折率層とを積層したユニットを少なくとも１つ含み、前記高屈折率層がａ）屈折率１．４〜１．６の水溶性高分子、ｂ）前記高屈折率層中４０体積％以上の無機酸化物、およびｃ）前記高屈折率層中１０体積％以上の、前記水溶性高分子の屈折率以上の屈折率を有する、キレート化合物、アシレート化合物、およびこれらの塩から選択される少なくとも一種、を含有する光線反射フィルムが提供される。【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上に、低屈折率層と高屈折率層とを積層したユニットを少なくとも１つ含み、
前記高屈折率層が
ａ）屈折率１．４〜１．６の水溶性高分子、
ｂ）前記高屈折率層中４０体積％以上の無機酸化物、および
ｃ）前記高屈折率層中１０体積％以上の、前記水溶性高分子の屈折率以上の屈折率を有する、キレート化合物、アシレート化合物、およびこれらの塩から選択される少なくとも一種、
を含有する光線反射フィルム。
【請求項２】
前記キレート化合物、アシレート化合物、およびこれらの塩から選択される少なくとも一種の屈折率が１．６以上である、請求項１に記載の光線反射フィルム。
【請求項３】
前記前記キレート化合物、アシレート化合物、およびこれらの塩から選択される少なくとも一種がアニオン性である、請求項１または２に記載の光線反射フィルム。
【請求項４】
前記キレート化合物、アシレート化合物、およびこれらの塩から選択される少なくとも一種が、チタンラクテートおよびチタンラクテートアンモニウム塩の少なくとも一種である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の光線反射フィルム。
【請求項５】
前記無機酸化物が、表面にシリカが付着した酸化チタン粒子である、請求項３または４に記載の光線反射フィルム。
【請求項６】
水系同時重層塗布法により前記高屈折率層と前記低屈折率層とを積層することを含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載の光線反射フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光線反射フィルムおよびその製造方法に関する。より詳細には、より反射特性を向上させた光線反射フィルムおよびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、省エネルギー対策への関心が高まり、冷房設備にかかる負荷を減らすなどの観点から、光線反射フィルムの典型的な適用例として、建物や車両の窓ガラスに装着させる、太陽光の熱線の透過を遮断する赤外遮蔽フィルムの要望が高まってきている。【０００３】
光線反射フィルムの形成方法としては、主には、高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層させた構成からなる積層膜を、蒸着法、スパッタ法などの乾式製膜法を用いて形成する方法が提案されている。その際、高屈折率層および低屈折率層の屈折率、膜厚、積層構成等をそれぞれ適宜に選択することにより、反射させる光線の波長域を選択することができる。しかし、乾式製模法は、形成に用いる真空装置等が大型になり、製造コストが高く大面積化も困難であり、しかも、基材として耐熱性素材に限定される等の問題を抱えている。【０００４】
そこで、上記のような問題を有している乾式製膜法に代えて、湿式塗布法を用いて光線反射フィルムを形成する方法が提案されている。例えば、特許文献１には、金属酸化物などの金属化合物微粒子を含む熱硬化型シリコーン樹脂、紫外線硬化型アクリル樹脂等を有機溶媒中に分散させた高屈折率層塗布液を、バーコーターを用いた湿式塗布方式により基材上に塗布して透明積層体を形成する方法が開示されている。また、特許文献２には、ルチル型の酸化チタン、複素環系窒素化合物、バインダー前駆体および有機溶剤を含む高屈折率用のコーティング用組成物を、バーコーターを用いた湿式塗布方式により基材上に塗布して透明積層体を形成する方法が開示されている。【０００５】
ところで、光線反射フィルムには、その別途に応じて例えば窓ガラスに貼着する用途において、例えば、熱線を遮蔽する場合には優れた赤外光の遮蔽効果だけでなく、透明性や耐候性等の性能も要求される。【０００６】
一方で、特許文献３には、球状ルチル型酸化チタン粒子のスラリーおよび球状コロイダルシリカゾルのスラリー等を解いて、交互に塗布、乾燥する方法、すなわち塗布法によって熱線遮断材（赤外遮蔽フィルム）を製造する方法が記載されている。特許文献３によれば、得られた熱線遮断材が、十分な熱線遮断性能を有すること、および透明性を有することが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開平８−１１０４０１号公報
【特許文献２】特開２００４−１２３７６６号公報
【特許文献３】特開２００３−２６６５７７号公報
【発明の概要】
【０００８】
環境、コストの面で優れている水系同時多層塗布を実現するためには、水溶性高分子と無機酸化物粒子からなる高屈折率層と低屈折率層を用いることが好ましい。また反射率を向上させるためには高屈折率層と低屈折率層との屈折率差を拡大することが望ましい。しかしながら、上記の従来技術によっては、高屈折率粒子を高充填しても、屈折率が上からず反射率の向上が頭打ちになってしまい問題となっていた。さらに、水系向時多層塗布を行うと高屈折率層と低屈折率層との混合が完全には抑えられないことから、単層屈折率から予想されるよりも反射率は低くなる問題点もある。本発明は、これらの問題点を解消し、高屈折率層と低屈折率層との屈折率差をより拡大し、反射特性を改善した光線反射フィルムの提供を目的とする。
【０００９】
本発明者は、上記課題に鑑み鋭意検討を行った結果、本発明の上記目的は、以下の構成により達成されることを見出した。
【００１０】
１  基材上に、低屈折率層と高屈折率層とを積層したユニットを少なくとも１つ含み、  前記高屈折率層が
ａ）屈折率１．４〜１．６の水溶性高分子、
ｂ）前記高屈折率層中４０体積％以上の無機酸化物、および
ｃ）前記高屈折率層中１０体積％以上の、前記水溶性高分子の屈折率以上の屈折率を有する、キレート化合物、アシレート化合物、およびこれらの塩から選択される少なくとも一種、
を含有する光線反射フィルム。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明の光線反射フィルム、および光線反射フィルムの製造方法を実施するための形態を詳細に説明する。
【００１２】
《光線反射フィルム》
本発明の光線反射フィルムの構成について説明する。一般的に光線反射フィルムは、透明な基材上に、高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層したユニットを少なくとも１つ、通常は複数有している。高屈折率層と低屈折率層との屈折率、膜厚、積層構成等をそれぞれ適宜に選択し組み合わせることにより、所望の光波長域を反射させるフィルムとなる。
【００１３】
本発明者らは、上記の従来技術による光線反射フィルムにおいて、高屈折率層中に高屈折率の無機酸化物粒子を多量に充填しても屈折率が頭打ちとなる現象について検討した。その結果、高屈折率無機酸化物粒子を、高屈折率層を構成する樹脂中に充填していくと、樹脂中に空隙が発生することが分かった。特に高屈折率無機酸化物粒子が高屈折率層中に４０体積％以上になると高屈折率層中に空隙が生じ始め、５０体積％以上ではその発生が顕著となる傾向がある。この現象に対して、本発明者は、以下の構成であれば、高屈折率層中の空隙を低減できかつ高屈折率層と低屈折率層との屈折率差を拡大でき、その結果反射特性に優れた光線反射フィルムが実現されることを見出した。
【００１４】
すなわち、本発明は、高屈折率層中に、ａ）屈折率１．４〜１．６の水溶性高分子、ｂ）前記高屈折率層中４０体積％以上の無機酸化物、およびｃ）前記高屈折率層中１０体積％以上の、前記水溶性高分子の屈折率以上の屈折率を有する、キレート化合物、アシレート化合物、およびこれらの塩から選択される少なくとも一種を含有する。屈折率１．４〜１．６の水溶性高分子中に高屈折率無機酸化物粒子を４０体積％以上含有させ、さらに水溶性高分子よりも屈折率が高いキレート化合物、アシレート化合物、およびこれらの塩から選択される少なくとも一種を１０体積％以上含有させることで、空隙の発生が少なく屈折率のさらなる向上ができることを見出した。さらに水系同時多層塗布（水系同時重層塗布）を用いてこの高屈折率層と低屈折率層を形成したところ、キレート化合物、アシレート化合物、およびこれらの塩から選択される少なくとも一種の低屈折率層への拡散は少なく、さらに層間混合を抑制でき、屈折率差が大きいことによる高い反射率を有する光線反射フィルムを得ることができた。さらに、高屈折率層中の空隙が低減されることにより、基材と高屈折率層または低屈折率層との密着性が向上する効果も期待できる。すなわち、本発明により、所望の波長の光反射特性に優れた光線反射フィルムを提供することができる。また、水系塗布が可能であるため、製造時の環境保全性に優れるとともに生高性が高い同時重層塗布が適用可能である。
【００１５】
上述した本発明の構成による作用効巣の発揮のメカニズムは以下のように推測される。すなわち、木発明が対象とする光線反射フィルムは、通常高屈折率層、および低屈折率層を形成しうるそれぞれの塗布液を用い、前記各塗布液を逐次塗布または同時重層塗布によって高屈折率層と低屈折率層とを積層することによって製造される。本発明においては、高屈折層に屈折率１．４〜１．６の水溶性高分子、４０体積％以上の高屈折率無機酸化物粒子を含有し、かつ、水溶性高分子よりも屈折率が高いキレート化合物、アシレート化合物、およびこれらの塩から選択される少なくとも一種を１０体積％以上含有させる。これにより、従来の樹脂と粒子からなる高屈折率層に比べて高い屈折率層の形成を実現させている。また、驚くべきことに、低屈折率層形成油用塗布液と高屈折率層形成用塗布液をコーター上に重ねて塗布する重層塗布においては、一般的には低分子である、キレート化合物、アシレート化合物、およびこれらの塩から選択される少なくとも一種は多層へと拡散してしまうが、上記の構成においてはこの拡散はほとんどない。また、高屈折率層と低屈折率層との混合も抑えられている。そのため、同時重層塗布で積層構造を形成しても、高屈折率層の屈折率は高いままであり、光線反射フィルムは高い反射率を有する。これは、キレート化合物、アシレート化合物、およびこれらの塩から選択される少なくとも一種が無機酸化物粒子の表面と特異的に強い相互作用すること、および、水溶性高分子とも強い相互作用をするためと考えられる。そのために、４０体積％以上の無機酸化物粒子と水溶性高分子とを含有した場合、キレート化合物、アシレート化合物、およびこれらの塩から選択される少なくとも一種は多層への拡散が抑えられていると考えられる。さらにこれらの化合物が高屈折率無機酸化物表面に吸着することで表面の物性が改質され、空隙が発生しにくくなっていると考えられる。
【００１６】
なお、空隙が実際に発生しているかどうかは、ＢＥＴ法を用いて調べることができる。ＢＥＴ法とは、粒子表面に吸着占有面積が分かっている分子（例えばＮ２）を液体窒素の温度で吸着させ、その量から試料の比表面積を求める方法であり、光線反射フィルムに細孔が生じているかどうかを調べることができる。
【００１７】
以下、本発明の光線反射フィルムについて、その構成要素に分けて詳細に説明する。
【００１８】
［高屈折率層］
高屈折率層は、水溶性高分子、高屈折率の無機酸化物粒子およびキレート化合物、アシレート化合物、ならびにこれらの塩から選択される少なくとも一種を含んで構成される。高屈折率層の屈折率としては、１．８０〜２．５０が好ましく、より好ましくは１．８５〜２．２０である。
【００１９】
（水溶性高分子）
水溶性高分子は、マトリックスを構成し、高屈折率層そのものを支持する役割がある。本発明では、屈折率１．４〜１．６のものを使用する。水溶性高分子の屈折率は、好ましくは１．４５〜１．５５である。
【００２０】
本明細書における「水溶性高分子」でいう「水溶性」とは、水媒体に対し１質量％以上溶解することをいい、好ましくは３質量％以上溶解することを言う。水媒体とは、水を主体とする媒体を意味し、不純物程度の濃度、すなわち１０質量％以下の濃度で、メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコールやその他の不純物を含んでいてもよい。
【００２１】
水溶性高分子としては、屈折率が上記範囲であり、水溶性であり、層を構成し得るものであれば、特に制限なく使用できる。具体的には、ポリビニルアルコール類、ポリビニルピロリドン類、アクリル系樹脂、スチレンアクリル酸樹脂、酢酸ビニル系共重合体およびそれらの塩、ゼラチン、ならびに増粘多糖類が挙げられる。これらの中で、より好ましい例としては、ポリビニルアルコール、ゼラチン、ポリビニルピロリドン類及びそれを含有する共重合体が挙げられる。特に好ましいものとしては、ポリビニルアルコールである。これらの水溶性高分子は、単独で用いても、２種以上を混合して用いてもよい。水溶性高分子の重量平均分子量は、１，０００以上２００，０００以下が好ましい。更には、３，０００以上１５０，０００以下がより好ましい。重量平均分子量がこの範囲であれば、フィルムとしての十分な機械的強度を保持できる。
【００２２】
上記のうち、本発明で好ましく用いられるポリビニルアルコールについて以下説明する。ポリビニルアルコールは、屈折率が１．４７〜１．５３であり、上記の屈折率範囲を満たすのみならず、屈折率の波長依存性が少ないため、光線反射フィルムを構成するのに特に好適である。本明細書にて単に「ポリビニルアルコール」という場合には、ポリ酢酸ビニルを加水分解して得られる通常のポリビニルアルコール（未変性ポリビニルアルコール）の他に、一部が変性された変性ポリビニルアルコールも含む。ポリビニルアルコールは、水溶性ポリビニルアルコールを用いる。水溶性ポリビニルアルコールを使用することで安定した塗布液が作製できるからである。
【００２３】
未変性ポリビニルアルコールは、合成してもあるいは市販品を使用してもよい。後者の場合には、クラレポバール（登録商標）  ＰＶＡシリーズ（（株）クラレ製）、Ｊ−ポバール（登録商標）  Ｊシリーズ（日本酢ビ・ポバール（株）製）などが使用できる。
【００２４】
変性ポリビニルアルコールとしては、カチオン変性ポリビニルアルコール、アニオン変性ポリビニルアルコール、ノニオン変性ポリビニルアルコール、ビニルアルコール系ポリマーが挙げられる。変性ポリビニルアルコールを含むと、膜の密着性がより向上する場合がある。変性ポリビニルアルコールの含有量は、屈折率層の全ポリビニルアルコール中０〜７０質量％であることが好ましい。
【００２５】
カチオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開昭６１−１０４８３号公報に記載されているような、第一〜三級アミノ基や第四級アンモニウム基を上記ポリビニルアルコールの主鎖または側鎖中に有するポリビニルアルコールであり、カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体と酢酸ビニルとの共重合体を鹸化することにより得られる。
【００２６】
カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体としては、例えば、トリメチル−（２−アクリルアミド−２，２−ジメチルエチル）アンモニウムクロライド、トリメチル−（３−アクリルアミド−３，３−ジメチルプロピル）アンモニウムクロライド、Ｎ−ビニルイミダゾール、Ｎ−ビニル−２−メチルイミダゾール、Ｎ−（３−ジメチルアミノプロピル）メタクリルアミド、ヒドロキシルエチルトリメチルアンモニウムクロライド、トリメチル−（２−メタクリルアミドプロピル）アンモニウムクロライド、Ｎ−（１，１−ジメチル−３−ジメチルアミノプロピル）アクリルアミド等が挙げられる。カチオン変性ポリビニルアルコールのカチオン変性基含有単量体の比率は、酢酸ビニルに対して０．１〜１０モル％、好ましくは０．２〜５モル％である。
【００２７】
アニオン変性ポリビニルアルコールは、例えば、特開平１−２０６０８８号公報に記載されているようなアニオン性基を有するポリビニルアルコール、特開昭６１−２３７６８１号公報および同６３−３０７９７９号公報に記載されているような、ビニルアルコールと水溶性基を有するビニル化合物との共重合体および特開平７−２８５２６５号公報に記載されているような水溶性基を有する変性ポリビニルアルコールが挙げられる。
【００２８】
また、ノニオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開平７−９７５８号公報に記載されているようなポリアルキレンオキサイド基をビニルアルコールの一部に付加したポリビニルアルコール誘導体、特開平８−２５７９５号公報に記載されている疎水性基を有するビニル化合物とビニルアルコールとのブロック共重合体、シラノール基を有するシラノール変性ポリビニルアルコール（例えば、クラレ社製「Ｒ−１１３０」）、アセトアセチル基、カルボニル基、またはカルボキシル基などの反応性基を有する反応性基変性ポリビニルアルコール（例えば、日本合成化学工業社製「ゴーセファイマー（登録商標）Ｚ」）等が挙げられる。
【００２９】
またビニルアルコール系ポリマーとして、酢酸ビニル系樹脂（例えば、クラレ社製「エクセバール」）やニチゴーＧポリマー（商品名：日本合成化学工業社製）などが挙げられる。
【００３０】
変性ポリビニルアルコールは、重合度や変性の種類違いなど二種類以上を併用することもできる。
【００３１】
（高屈折率無機酸化物粒子）
本発明では透明でより屈折率の高い高屈折率層を形成するために、高屈折率層は無機酸化物、すなわち、チタン、ジルコニア等の高屈折率無機酸化物粒子（金属酸化物粒子）を、高屈折率層の全体積中、４０体積％以上含有する。その場合には、特に高屈折率を示し、高屈折率層中の空隙を低減する効果が高いことから、ルチル型（正方晶形）酸化チタン粒子を含有することが好ましい。高屈折率無機酸化物粒子の好ましい屈折率としては、２．０〜３．０であり、より好ましくは２．３〜２．８である。
【００３２】
本発明に用いる酸化チタン粒子としては、水系の酸化チタンゾルの表面を変性して分散状態を安定にしたものを用いることが好ましい。
【００３３】
水系の酸化チタンゾルの調製方法としては、従来公知のいずれの方法も用いることができ、たとえば、特開昭６３−１７２２１号公報、特開平７−８１９号公報、特開平９−１６５２１８号公報、特開平１１−４３３２７号公報、特開昭６３−１７２２１号公報、特開平７−８１９号公報、特開平９−１６５２１８号公報、特開平１１−４３３２７号公報等に記載された事項を参照にすることができる。
【００３４】
また、酸化チタン粒子のその他の製造方法については、たとえば、「酸化チタン−物性と応用技術」清野学  ｐ２５５〜２５８（２０００年）技報堂出版株式会社、または国際公開第２００７／０３９９５３号明細書の段落番号００１１〜００２３に記載の工程（２）の方法を参考にすることができる。
【００３５】
上記工程（２）による製造方法とは、二酸化チタン水和物をアルカリ金属の水酸物またはアルカリ土類金属の水酸化物からなる群から選択される、少なくとも１種の塩基性化合物で処理する工程（１）の後に、得られた二酸化チタン分散物を、カルボン酸基含有化合物および無機酸で処理する工程（２）からなる。
【００３６】
さらに、酸化チタン粒子を含めた金属酸化物粒子のその他の製造方法としては、特開２０００−０５３４２１号公報（分散安定化剤としてアルキルシリケートを配合してなり、該アルキルシリケート中のケイ素をＳｉＯ２に換算した量と酸化チタン中のチタンをＴｉＯ２に換算した量との重量比（ＳｉＯ２／ＴｉＯ２）が０．７〜１０である酸化チタンゾル）、特開２０００−０６３１１９号公報（ＴｉＯ２−ＺｒＯ２−ＳｎＯ２の複合体コロイド粒子を核としてその表面を、ＷＯ３−ＳｎＯ２−ＳｉＯ２の複合酸化物コロイド粒子で被覆したゾル）等に記載された事項を参照にすることができる。
【００３７】
さらに、酸化チタン粒子を含ケイ素の水和酸化物で被覆してもよい。ここで、「被覆」とは、酸化チタン粒子の表面の少なくとも一部に、含ケイ素の水和酸化物が付着されている状態を意味する。すなわち、金属酸化物粒子として用いられる酸化チタン粒子の表面が、完全に含ケイ素の水和酸化物で被覆されていてもよく、酸化チタン粒子の表面の一部が含ケイ素の水和酸化物で被覆されていてもよい。被覆された酸化チタン粒子の屈折率が含ケイ素の水和酸化物の被覆量により制御される観点から、酸化チタン粒子の表面の一部が含ケイ素の水和酸化物で被覆されることが好ましい。本明細書における「含ケイ素の水和酸化物」とは、無機ケイ素化合物の水和物、有機ケイ素化合物の加水分解物および／または縮合物のいずれでもよいが、シラノール基を有することが好ましい。特に、含ケイ素の水和酸化物としてはシリカの水和物が好ましく、シリカの水和物で被覆した酸化チタンを、以下、シリカ付着酸化チタンと称する（シリカコート酸化チタン、シリカ変性酸化チタンともいう）。
【００３８】
また、本発明では、高屈折率層中に後述するキレート化合物、アシレート化合物、およびこれらの塩から選択される少なくとも一種（以下、キレート化合物等ともいう）をさらに含有する。本発明で好適に用いられる酸化チタン微粒子は、表面電荷がカチオン性である。一方、キレート化合物等はアニオン性であることが好ましく、その場合には、カチオン性の酸化チタン微粒子と共に塗布液中で沈殿してしまう傾向がある。したがって、塗布液を安定した分散液とし、均質な高屈折率層を形成するために、アニオン性のキレート化合物等と共に酸化チタン微粒子を使用する場合には、酸化チタン微粒子がシリカで被覆されていることが好ましい。シリカで被覆した酸化チタン微粒子表面はアニオン性を示すためである。本発明の一実施形態は、無機酸化物が、表面にシリカが付着した酸化チタン粒子である上記の光線反射フィルムを提供する。
【００３９】
含ケイ素の水和酸化物で被覆された酸化チタン粒子の酸化チタンはルチル型であってもアナターゼ型であってもよい。含ケイ素の水和酸化物で被覆された酸化チタン粒子は、含ケイ素の水和酸化物で被覆されたルチル型の酸化チタン粒子がより好ましい。これは、ルチル型の酸化チタン粒子が、アナターゼ型の酸化チタン粒子より光触媒活性が低いため、高屈折率層や隣接した低屈折率層の耐候性が高くなり、さらに屈折率が高くなるという理由からである。
【００４０】
含ケイ素の水和酸化物の被覆量は３〜５０質量％、好ましくは５〜３０質量％、より好ましくは１０〜２５質量％である。被覆量が３０質量％以下であると、高屈折率層の所望の屈折率化が得られ、被覆量が３％以上であると粒子を安定に形成することができるからである。
【００４１】
酸化チタン粒子を含ケイ素の水和酸化物で被覆する方法としては、従来公知の方法により製造することができ、例えば、特開平１０−１５８０１５号公報（ルチル型酸化チタンへのＳｉ／Ａｌ水和酸化物処理；チタン酸ケーキのアルカリ領域での解膠後酸化チタンの表面にケイ素および／又はアルミニウムの含水酸化物を析出させて表面処理する酸化チタンゾルの製造方法）、特開２０００−２０４３０１号公報（ルチル型酸化チタンにＳｉとＺｒおよび／またはＡｌの酸化物との複合酸化物を被覆したゾル。水熱処理。）、特開２００７−２４６３５１号公報（含水酸化チタンを解膠して得られる酸化チタンのヒドロゾルへ、安定剤として式Ｒ１ｎＳｉＸ４−ｎ（式中Ｒ１はＣ１−Ｃ８アルキル基、グリシジルオキシ置換Ｃ１−Ｃ８アルキル基またはＣ２−Ｃ８アルケニル基、Ｘはアルコキシ基、ｎは１または２である。）のオルガノアルコキシシランまたは酸化チタンに対して錯化作用を有する化合物を添加、アルカリ領域でケイ酸ナトリウムまたはシリカゾルの溶液へ添加・ｐＨ調整・熟成することにより、ケイ素の含水酸化物で被覆された酸化チタンヒドロゾルを製造する方法）等に記載された事項を参照にすることができる。
【００４２】
高屈折率層で用いられる無機酸化物粒子のサイズは、体積平均粒径または一次平均粒径により特定することができる。高屈折率層で用いられる無機酸化物粒子の体積平均粒径は、３０ｎｍ以下であることが好ましく、１〜３０ｎｍであることがより好ましく、５〜１５ｎｍであるのがさらに好ましい。体積平均粒径が３０ｎｍ以下であれば、ヘイズが少なく可視光透過性に優れる観点で好ましい。ここで、上記含ケイ素の水和酸化物で被覆された酸化チタン粒子の場合、上記一次平均粒径は（含ケイ素の水和酸化物で被覆されていない）酸化チタン粒子の一次平均粒径を指す。
【００４３】
本明細書でいう体積平均粒径とは、粒子そのものをレーザー回折散乱法、動的光散乱法、あるいは電子顕微鏡を用いて観察する方法や、屈折率層の断面や表面に現れた粒子像を電子顕微鏡で観察する方法により、１，０００個の任意の粒子の粒径を測定し、それぞれｄ１、ｄ２・・・ｄｉ・・・ｄｋの粒径を持つ粒子がそれぞれｎ１、ｎ２・・・ｎｉ・・・ｎｋ個存在する金属酸化物粒子の集団において、粒子１個当りの体積をｖｉとした場合に、体積平均粒径ｍｖ＝｛Σ（ｖｉ・ｄｉ）｝／｛Σ（ｖｉ）｝で表される体積で重み付けされた平均粒径を算出する。
【００４４】
さらに、本発明で用いられる金属酸化物粒子は、単分散であることが好ましい。ここでいう単分散とは、下記式で求められる単分散度が４０％以下であることをいう。この単分散度は、さらに好ましくは３０％以下であり、特に好ましくは０．１〜２０％である。
【００４５】
【数１】
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【００４６】
高屈折率層における高屈折率無機酸化物粒子の含有量としては、高屈折率層の全体積に対して、４０〜６０体積％であることが好ましく、４５〜５５体積％であることがより好ましい。含有量がこの範囲であれば、高屈折率層と低屈折率層との屈折率差を十分大きくでき、優れた反射特性を示す光線反射フィルムとなる。
【００４７】
（キレート化合物、アシレート化合物、およびこれらの塩）
本発明においては、高屈折率層に上記の屈折率１．４〜１．６の水溶性高分子よりも高屈折率のキレート化合物、アシレート化合物、およびこれらの塩から選択される少なくとも一種を、高屈折率層の全体積に対して１０体積％以上含有する。すなわち、本発明の一実施形態は、キレート化合物、アシレート化合物、およびこれらの塩から選択される少なくとも一種の屈折率が、１．６以上である上記の光線反射フィルムを提供する。
【００４８】
このようなキレート化合物、アシレート化合物、およびこれらの塩は、水系同時重層塗布法が適用できることから水溶性のものが好ましく、さらに、アニオン性のものが好ましい。一実施形態は、キレート化合物、アシレート化合物、およびこれらの塩から選択される少なくとも一種がアニオン性である上記の光線反射フィルムを提供する。アニオン性のキレート化合物等は多種多様のものが上市されており、本発明において高屈折率無機酸化物粒子と組み合わせて使用するのに好適である。アニオン性のキレート化合物等を使用する場合には、高屈折率無機酸化物粒子はその表面がアニオン性であることが好ましく、キレート化合物等がカチオン性の場合には、高屈折率無機酸化物粒子はカチオン性であることが好ましい。両者の電荷をそろえることにより、塗布液中で安定した分散状態を維持することができるためである。アニオン性のキレート化合物等を使用した場合には、酸化チタン粒子はシリカ付着したものを用いることが好ましい。酸化チタン粒子は通常表面がカチオン性であるが、シリカ付着により表面がアニオン性を示すようになるからである。
【００４９】
また、本発明に用いるキレート化合物等の屈折率は、１．６以上であることが好ましい。屈折率が１．６以上とキレート化合物等自体が高屈折率であることにより、高屈折率層はより高屈折率となる。これに加えてキレート化合物等の添加によって物質の低屈折率層への移動が抑制されることとあいまって、高屈折率層と低屈折率層との屈折率差をより拡大でき、フィルムの反射特性を向上させることができる。キレート化合物等の屈折率は、より好ましくは１．６５以上であり、上限値は特に制限はなく高い程好ましいが、入手可能なキレート化合物等としては１．７程度である。
【００５０】
このようなキレート化合物等のうち、キレート化合物としては、チタンラクテート、リンゴ酸チタン、クエン酸チタン、グリコール酸チタン、チタンジイソプロポキシビス（トリエタノールアミネート）が好ましい。また、アシレート化合物としては、ポリヒドロキシチタンステアレート、塩化ジルコニウム化合物アミノカルボン酸（オルガチックス  ＺＢ−１２６  マツモトファインケミカル株式会社製）が好ましい。また、キレート化合物またはアシレート化合物の塩として、好ましくは、チタンラクテートアンモニウム塩が市販されている。本発明ではこれらを任意に用いることができるが、これらに限られない。中でも屈折率が高く、高屈折率中の空隙を低減する効果が高いことから、チタンラクテート、チタンラクテートアンモニウム塩、塩化ジルコニウム化合物アミノカルボン酸、チタンジイソプロポキシビス（トリエタノールアミネート）が好ましく、チタンラクテートおよびチタンラクテートアンモニウム塩の少なくとも一種をより好ましく用いることができる。本発明の一実施形態は、キレート化合物、アシレート化合物、およびこれらの塩から選択される少なくとも一種が、チタンラクテートおよびチタンラクテートアンモニウム塩の少なくとも一種である上記の光線反射フィルムを提供する。
【００５１】
これらのキレート化合物等は、塗布液中で高屈折率無機酸化物粒子の表面に吸着すると考えられる。これにより、高屈折率無機酸化物粒子が乾操時に構造体を作り難くできることから、空隙の発生を防止できると考えられる。特に、キレート化合物等は、酸化チタンのＴｉ−ＯＨと大きな相互作用を示し強く吸着し、重層塗布時に低屈折率層と高屈折率層の層間の移動が抑制される。したがって、本発明においては高屈折率無機酸化物粒子としては酸化チタン、もしくはシリカ処理酸化チタンを用いることが望ましい。さらに、これらの粒子とポリビニルアルコールが強く相互作用するために、同時多層塗布した場合に、層間混合が抑制され高い反射率が得られる。
【００５２】
これらのキレート化合物等は高屈折率層中に１０体積％以上含有され、１０〜５０体積％含有されることが好ましく、より好ましくは１０〜４５体積％、さらに好ましくは１〜２５体積％含有されることが好ましい。さらに、高屈折率層中のキレート化合物等はポリビニルアルコールと相互作用し、塗膜の基材への接着性を強く改善する。キレート化合物等が１０体積％を下回ると層間混合が起こる場合がある。一方、５０体積％以下であれば、十分な膜強度が得られる。なお、高屈折率層中にキレート化合物等がどの程度含有されているかは、高屈折率層を直接またはキレート化合物等を抽出してＩＲスペクトルを測定することにより、確認することができる。
【００５３】
［低屈折率層］
本発明の光線反射フィルムは、前述の高屈折率層よりも低い屈折率を示す低屈折率層を有する。低屈折率層は、屈折率が１．６以下であることが好ましく、さらには、１．１０〜１．６０、１．３０〜１．５０であることが好ましい。
【００５４】
本発明に係る低屈折率層は、水溶性高分子を含む。水溶性高分子としてはＰＶＡを用いることが好ましく、高屈折率層と低屈折率層とに含有されているＰＶＡのケン化度が、３ｍｏｌ％以上差があることがより好ましく、５ｍｏｌ％以上差があることがさらに好ましい。ケン化度の差が大きいことにより、高屈折率層と低屈折率層とが混ざることなく分離し、高い反射率を示す。
【００５５】
（低屈折率層中の金属酸化物）
低屈折率層には金属酸化物としてシリカ（二酸化ケイ素）を用いることが好ましく、具体的な例として合成非晶質シリカ、コロイダルシリカ等が挙げられる。これらのうち、酸性のコロイダルシリカゾルを用いることがより好ましく、水系溶媒に分散させたコロイダルシリカを用いることが特に好ましい。また、屈折率をより低減させるために、低屈折率層の金属酸化物粒子として、粒子の内部に空孔を有する中空微粒子を用いてもよく、特にシリカ（二酸化ケイ素）の中空微粒子が好ましい。また、シリカ以外の公知の金属酸化物粒子も使用することができる。
【００５６】
低屈折率層に含まれる金属酸化物粒子（好ましくは二酸化ケイ素）は、その平均粒径が３〜１００ｎｍであることが好ましい。一次粒子の状態で分散された二酸化ケイ素の一次粒子の平均粒径（塗布前の分散液状態での粒径）は、３〜５０ｎｍであるのがより好ましく、３〜４０ｎｍであるのがさらに好ましく、３〜２０ｎｍであるのが特に好ましく、４〜１０ｎｍであるのがもっとも好ましい。また、二次粒子の平均粒径としては、３０ｎｍ以下であることが、ヘイズが少なく可視光透過性に優れる観点で好ましい。
【００５７】
本明細書において一次平均粒径は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）等による電子顕微鏡写真から計測することができる。動的光散乱法や静的光散乱法等を利用する粒度分布計等によって計測してもよい。透過型電子顕微鏡から求める場合、粒子の一次平均粒径は、粒子そのものあるいは屈折率層の断面や表面に現れた粒子を電子顕微鏡で観察し、１０００個の任意の粒子の粒径を測定し、その単純平均値（個数平均）として求められる。ここで個々の粒子の粒径は、その投影面積に等しい円を仮定したときの直径で表したものである。また、低屈折率層の金属酸化物粒子の粒径は、一次平均粒径の他に、体積平均粒径により求めることもできる。
【００５８】
本発明で用いられるコロイダルシリカは、珪酸ナトリウムの酸等による複分解やイオン交換樹脂層を通過させて得られるシリカゾルを加熱熟成して得られるものであり、たとえば、特開昭５７−１４０９１号公報、特開昭６０−２１９０８３号公報、特開昭６０−２１９０８４号公報、特開昭６１−２０７９２号公報、特開昭６１−１８８１８３号公報、特開昭６３−１７８０７号公報、特開平４−９３２８４号公報、特開平５−２７８３２４号公報、特開平６−９２０１１号公報、特開平６−１８３１３４号公報、特開平６−２９７８３０号公報、特開平７−８１２１４号公報、特開平７−１０１１４２号公報、特開平７−１７９０２９号公報、特開平７−１３７４３１号公報、および国際公開第９４／２６５３０号などに記載されているものである。この様なコロイダルシリカは合成品を用いてもよいし、市販品を用いてもよい。
【００５９】
コロイダルシリカは、その表面をカチオン変性されたものであってもよく、また、Ａｌ、Ｃａ、ＭｇまたはＢａ等で処理された物であってもよい。
【００６０】
また、低屈折率層の金属酸化物粒子として、中空粒子を用いることもできる。中空微粒子を用いる場合には、平均粒子空孔径が、３〜７０ｎｍであるのが好ましく、５〜５０ｎｍがより好ましく、５〜４５ｎｍがさらに好ましい。なお、中空微粒子の平均粒子空孔径とは、中空微粒子の内径の平均値である。中空微粒子の平均粒子空孔径は、上記範囲であれば、十分に低屈折率層の屈折率が低屈折率化される。平均粒子空孔径は、電子顕微鏡観察で、円形、楕円形または実質的に円形は楕円形として観察できる空孔径を、ランダムに５０個以上観察し、各粒子の空孔径を求め、その数平均値を求めることにより得られる。なお、平均粒子空孔径は、円形、楕円形または実質的に円形もしくは楕円形として観察できる空孔径の外縁を、２本の平行線で挟んだ距離のうち、最小の距離を意味する。
【００６１】
低屈折率層における金属酸化物粒子の含有量は、低屈折率層の全体積に対して、１〜５０体積％であることが好ましく、２〜２０体積％であることがより好ましく、２〜１０体積％であることがさらに好ましい。
【００６２】
〔基材〕
本発明の光線反射フィルムの基材としては、種々の樹脂フィルムを用いることができる。好ましくは、例えば、ポリオレフィンフィルム（ポリエチレン、ポリプロピレン等）、ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等）、ポリ塩化ビニル、３酢酸セルロース等を用いることができ、好ましくはポリエステルフィルムである。ポリエステルフィルム（以降ポリエステルと称す）としては、特に限定されるものではないが、ジカルボン酸成分とジオール成分を主要な構成成分とするフィルム形成性を有するポリエステルであることが好ましい。
【００６３】
主要な構成成分のジカルボン酸成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、２，７−ナフタレンジカルボン酸、ジフェニルスルホンジカルボン酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸、ジフェニルエタンジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、ジフェニルジカルボン酸、ジフェニルチオエーテルジカルボン酸、ジフェニルケトンジカルボン酸、フェニルインダンジカルボン酸などを挙げることができる。
【００６４】
また、ジオール成分としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコール、シクロヘキサンジメタノール、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシエトキシフェニル）プロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビスフェノールフルオレンジヒドロキシエチルエーテル、ジエチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ハイドロキノン、シクロヘキサンジオールなどを挙げることができる。
【００６５】
これらを主要な構成成分とするポリエステルの中でも透明性、機械的強度、寸法安定性などの点から、ジカルボン酸成分として、テレフタル酸や２，６−ナフタレンジカルボン酸、ジオール成分として、エチレングリコールや１，４−シクロヘキサンジメタノールを主要な構成成分とするポリエステルが好ましい。中でも、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートを主要な構成成分とするポリエステルや、テレフタル酸と２，６−ナフタレンジカルボン酸とエチレングリコールからなる共重合ポリエステル、およびこれらのポリエステルの二種以上の混合物を主要な構成成分とするポリエステルが好ましい。
【００６６】
基材の厚みは、１０〜３００μｍであることが好ましく、より好ましくは２０〜１５０μｍである。また、本発明における基材は、２枚以上を重ねたものであっても良く、この場合、その種類が同じでも異なってもよい。
【００６７】
基材は、ＪＩＳ  Ｒ３１０６−１９９８で示される可視光領域の透過率が８５％以上であることが好ましく、特に９０％以上であることが好ましい。基材が上記透過率以上であることにより、光線反射フィルムとしたときのＪＩＳ  Ｒ３１０６−１９９８で示される可視光領域の透過率を５０％以上にするという点で有利であり、好ましい。また、上記樹脂等を用いた基材は、未延伸フィルムでもよく、延伸フィルムでもよい。強度向上、熱膨張抑制の点から延伸フィルムが好ましい。
【００６８】
基材は、従来公知の一般的な方法により製造することが可能である。例えば、材料となる樹脂を押し出し機により溶融し、環状ダイやＴダイにより押し出して急冷することにより、実質的に無定形で配向していない未延伸の基材を製造することができる。また、未延伸の基材を一軸延伸、テンター式逐次二軸延伸、テンター式同時二軸延伸、チューブラー式同時二軸延伸などの公知の方法により、基材の流れ（縦軸）方向、または基材の流れ方向と直角（横軸）方向に延伸することにより延伸基材を製造することができる。この場合の延伸倍率は、基材の原料となる樹脂に合わせて適宜選択することできるが、縦軸方向及び横軸方向にそれぞれ２〜１０倍が好ましい。
【００６９】
また、基材は、寸法安定性の点で弛緩処理、オフライン熱処理を行ってもよい。弛緩処理は前記ポリエステルフィルムの延伸製膜工程中の熱固定した後、横延伸のテンター内、またはテンターを出た後の巻き取りまでの工程で行われるのが好ましい。弛緩処理は処理温度が８０〜２００℃で行われることが好ましく、より好ましくは処理温度が１００〜１８０℃である。また長手方向、幅手方向ともに、弛緩率が０．１〜１０％の範囲で行われることが好ましく、より好ましくは弛緩率が２〜６％で処理されることである。弛緩処理された基材は、下記のオフライン熱処理を施すことにより耐熱性が向上し、さらに、寸法安定性が良好になる。
【００７０】
基材は、製膜過程で片面または両面にインラインで下引層塗布液を塗布することが好ましい。本発明においては、製膜工程中での下引塗布をインライン下引という。本発明に有用な下引層塗布液に使用する樹脂としては、ポリエステル樹脂、アクリル変性ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリエチレンイミンビニリデン樹脂、ポリエチレンイミン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、変性ポリビニルアルコール樹脂及びゼラチン等が挙げられ、いずれも好ましく用いることができる。これらの下引層には、従来公知の添加剤を加えることもできる。そして、上記の下引層は、ロールコート、グラビアコート、ナイフコート、ディップコート、スプレーコート等の公知の方法によりコーティングすることができる。上記の下引層の塗布量としては、０．０１〜２ｇ／ｍ２（乾燥状態）程度が好ましい。
【００７１】
［膜設計］
本発明の光線反射フィルムは、高屈折率層と低屈折率層とを積層したユニットを少なくとも１つ含む。好適には基材の片面上または両面上に、高屈折率層と低屈折率層が交互に積層して形成された多層の光学干渉膜を有する。生産性の観点から、基材の片面あたりの好ましい高屈折率層および低屈折率層の総層数の範囲は、１００層以下、より好ましくは４５層以下である。基材の片面あたりの好ましい高屈折率層および低屈折率層の総層数の範囲の下限は特に限定されるものではないが、５層以上であることが好ましい。なお、前記の好ましい高屈折率層および低屈折率層の総層数の範囲は、基材の片面にのみ積層される場合においても適応可能であり、基材の両面に同時に積層される場合においても適応可能である。基材の両面に積層される場合において、基材一の面と他の面との高屈折率層および低屈折率層の総層数は、同じであってもよく、異なっていてもよい。また、光線反射フィルムにおいて、最下層（基材と接触する層）および最表層は、高屈折率層および低屈折率層のいずれであってもよい。しかしながら、低屈折率層が最下層および最表層に位置する層構成とすることにより、最下層の基材への密着性、最上層の吹かれ耐性、さらには最表層へのハードコート層等の塗布性や密着性に優れるという観点から、本発明の光線反射フィルムとしては、最下層および最表層が低屈折率層である層構成が好ましい。
【００７２】
一般に、光線反射フィルムにおいては、高屈折率層と低屈折率層との屈折率の差を大きく設計することが、少ない層数で所望の光線に対する反射率を高くすることができるという観点から好ましい。本発明では、少なくとも隣接した２層（高屈折率層および低屈折率層）の屈折率差が０．３以上であることが好ましく、より好ましくは０．３５以上であり、もっとも好ましくは０．４以上である。また、上限には特に制限はないが通常１．４以下である。
【００７３】
この屈折率差と、必要な層数とについては、市販の光学設計ソフトを用いて計算することができる。例えば、近赤外線反射率９０％以上を得るためには、屈折率差が０．１より小さいと２００層以上の積層が必要になり、生産性が低下するだけでなく、積層界面での散乱が大きくなり、透明性が低下し、故障なく製造することも非常に困難になる場合がある。
【００７４】
光線反射フィルムにおいて高屈折率層および低屈折率層を交互に積層する場合には、高屈折率層と低屈折率層との屈折率差が、上記好適な屈折率差の範囲内にあることが好ましい。ただし、例えば、最表層はフィルムを保護するための層として形成される場合または最下層が基板との接着性改良層として形成される場合などにおいて、最表層や最下層に関しては、上記好適な屈折率差の範囲外の構成であってもよい。
【００７５】
なお、本明細書において、「高屈折率層」および「低屈折率層」なる用語は、隣接した２層の屈折率差を比較した場合に、屈折率が高い方の屈折率層を高屈折率層とし、低い方の屈折率層を低屈折率層とすることを意味する。したがって、「高屈折率層」および「低屈折率層」なる用語は、光線反射フィルムを構成する各屈折率層において、隣接する２つの屈折率層に着目した場合に、各屈折率層が同じ屈折率を有する形態以外のあらゆる形態を含むものである。
【００７６】
隣接した層界面での反射は、層間の屈折率比に依存するのでこの屈折率比が大きいほど、反射率が高まる。また、単層膜でみたとき層表面における反射光と、層底部における反射光の光路差を、ｎｄ＝波長／４、で表される関係にすると位相差により反射光を強めあうよう制御出来、反射率を上げることができる。ここで、ｎは屈折率、またｄは層の物理膜厚、ｎ・ｄは光学膜厚である。この光路差を利用することで、反射を制御出来る。この関係を利用して、各層の屈折率と膜厚を制御して、可視光や、近赤外光の反射を制御する。即ち、各層の屈折率、各層の膜厚、各層の積層のさせ方で、特定波長領域の反射率を向上させることができる。
【００７７】
本発明の光線反射フィルムは反射率を高める特定波長領域を変えることにより、可視光遮蔽フィルムや赤外（近赤外光、中赤外光、遠赤外光、好ましくは近赤外光）遮蔽フィルムとすることができる。ここで、即ち、反射率をアップさせる特定波長領域を可視光領域に設定すれば可視光遮蔽（反射）フィルムとなり、赤外領域に設定すれば赤外光遮蔽（反射）フィルムとなる。本発明の光遮蔽フィルムを遮熱フィルムに用いる場合は、（近）赤外光反射（遮蔽）フィルムとすればよい。また、反射率を遠赤外線領域で高くすれば、遠赤外遮蔽フィルムとなるが、これは窓に貼着すれば室内の熱を閉じ込める断熱フィルムとして有用である。また、反射率を紫外線領域で高くすれば、紫外線カットフィルムとして有用であり、日焼け防止、紫外線による光劣化防止の効果が得られる。
【００７８】
赤外反射フィルムの場合、高分子フィルムに互いに屈折率が異なる膜を積層させた多層膜を形成し、ＪＩＳ  Ｒ３１０６−１９９８で示される可視光領域の５５０ｎｍでの透過率が５０％以上であることが好ましく、７０％以上であることがより好ましく、７５％以上であることがさらに好ましい。また、１２００ｎｍでの透過率が３５％以下であることが好ましく、２５％以下であることがより好ましく、２０％以下であることがさらに好ましい。かような好適な範囲なるように光学膜厚とユニットを設計することが好ましい。また、波長９００〜１４００ｎｍの領域に反射率５０％を超える領域を有することが好ましい。
【００７９】
太陽直達光の入射スペクトルのうち赤外域が室内温度上昇に関係し、これを遮蔽することで室内温度の上昇を抑えることができる。日本工業規格ＪＩＳ  Ｒ３１０６−１９９８に記載された重価係数をもとに赤外の最短波長（７６０ｎｍ）から最長波長３２００ｎｍまでの累積エネルギー比率をみると、波長７６０ｎｍから最長波長３２００ｎｍまでの赤外全域の総エネルギーを１００としたときの、７６０ｎｍから各波長までの累積エネルギーをみると、７６０から１３００ｎｍのエネルギー合計が赤外域全体の約７５％を占めている。従って、１３００ｎｍまでの波長領域を遮蔽することが熱線遮蔽による省エネルギー効果の効率がよい。
【００８０】
この近赤外光域（７６０〜１３００ｎｍ）の反射率を最大ピーク値で約８０％以上にすると、体感温度の低下が官能評価により得られる。たとえば８月の午前中の南東方法を向く窓際での体感温度が近赤外光域の反射率を最大ピーク値で約８０％にまで遮蔽したとき明確な差がでた。
【００８１】
このような機能を発現するのに必要となる多層膜構造を光学シミュレーション（ＦＴＧ  Ｓｏｆｔｗａｒｅ  Ａｓｓｏｃｉａｔｅｓ  Ｆｉｌｍ  ＤＥＳＩＧＮ  Ｖｅｒｓｉｏｎ  ２．２３．３７００）で求めた結果、１．９以上、望ましくは２．０以上の高屈折率層を利用し、６層以上積層した場合に優れた特性が得られることがわかっている。例えば、高屈折率層と低屈折率層（屈折率＝１．３５）を交互に８層積層したモデルのシミュレーション結果をみると、高屈折率層の屈折率が１．８では反射率が７０％にも達しないが、１．９になると約８０％の反射率が得られる。また、高屈折率層（屈折率＝２．２）と低屈折率層（屈折率＝１．３５）を交互に積層したモデルでは、積層数が４では反射率が６０％にも達していないが、６層になると約８０％の反射率が得られる。
【００８２】
赤外遮蔽フィルムの場合は、屈折率層の１層あたりの厚み（乾燥後の厚み）は、２０〜１０００ｎｍであることが好ましく、５０〜５００ｎｍであることがより好ましく、５０〜３５０ｎｍであることがより好ましい。
【００８３】
本発明の光線反射フィルムの全体の厚みは、好ましくは１２μｍ〜３１５μｍ、より好ましくは１５μｍ〜２００μｍ、さらに好ましくは２０μｍ〜１００μｍである。
【００８４】
［光線反射フィルムの層構成］
光線反射フィルムは、基材上に高屈折率層と低屈折率層とを積層したユニットを少なくとも１つ含む。該ユニットは、基材の片面にのみ形成されていてもよいし、両面に形成されていてもよい。特定波長の反射率が向上することから、該ユニットが基材の両面に形成されてなることが好ましい。
【００８５】
光線反射フィルムは、基材の下または基材と反対側の最表面層の上に、さらなる機能の付加を目的として、導電性層、帯電防止層、ガスバリア層、易接着層（接着層）、防汚層、消臭層、流滴層、易滑層、ハードコート層、耐摩耗性層、反射防止層、電磁波シールド層、紫外線吸収層、赤外線吸収層、印刷層、蛍光発光層、ホログラム層、剥離層、粘着層、接着層、上記高屈折率層および低屈折率層以外の赤外線カット層（金属層、液晶層）、着色層（可視光線吸収層）、合わせガラスに利用される中間膜層などの機能層の１つ以上を有していてもよい。
【００８６】
反射フィルムにおける上述の各種の機能層の積層順は、特に制限されない。例えば、窓ガラスの室内側に光線反射フィルムを貼る（内貼り）仕様では、基材表面に、上記高屈折率層および低屈折率層を積層したユニットを少なくとも１つ含む光学反射層、粘着層の順に積層し、さらにこれらの層が積層されている側とは逆の側の基材表面にハードコート層を塗設する形態が好ましい一例として挙げられる。また、粘着層、基材、光学反射層、ハードコート層の順であってもよく、さらに他の機能層、基材、または赤外吸収剤などを有していてもよい。また、窓ガラスの室外側に本発明の光線反射フィルムを貼る（外貼り）仕様でも好ましい一例を挙げると、基材表面に光学反射層、粘着層の順に積層し、さらにこれらの層が積層されている側とは逆の側の基材表面にハードコート層が塗設する構成である。内貼りの場合と同様に、粘着層、基材、光学反射層、ハードコート層の順であってもよく、さらに他の機能層基材、または赤外吸収剤などを有していてもよい。
【００８７】
［光線反射フィルムの製造方法］
本発明の光線反射フィルムの製造方法について特に制限はなく、基材上に、高屈折率層と低屈折率層とから構成されるユニットを少なくとも１つ形成することができるのであれば、いかなる方法でも用いられうる。具体的には高屈折率層塗布液と低屈折率層塗布液とを同時重層塗布したのち乾燥して積層体を形成することができ、高屈折率層塗布液と低屈折率層塗布液とを水系同時重層塗布法により積層することが好ましい。一実施形態は、水系同時重層塗布法により高屈折率層と低屈折率層とを積層することを含む上記の光線反射フィルムの製造方法を提供する。
【００８８】
塗布方式としては、例えば、ロールコーティング法、ロッドバーコーティング法、エアナイフコーティング法、スプレーコーティング法、カーテン塗布方法、あるいは米国特許第２，７６１，４１９号、同第２，７６１，７９１号公報に記載のホッパーを使用するスライドビード塗布方法、エクストルージョンコート法等が好ましく用いられる。このうち、水系同時重層塗布を実施するためには、特にスライドビード塗布方法を用いることが好ましい。
【００８９】
高屈折率層塗布液および低屈折率層塗布液を調製するための溶媒は、特に制限されないが、水系溶媒（水媒体）が好ましく、より好ましくは水である。本発明においては、樹脂バインダーとして水溶性高分子、好ましくはポリビニルアルコールを主に用いるために、水系溶媒を用いることが好ましい。水系溶媒は、有機溶媒を用いる場合と比較して、大規模な生産設備を必要とすることがないため、生産性の点で好ましく、また環境保全の点でも好ましい。
【００９０】
本発明の水系溶媒に混合して用いうる有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−ブタノールなどのアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどのエステル類、ジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルなどのエーテル類、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミド類、アセトン、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、シクロヘキサノンなどのケトン類などが挙げられる。これら有機溶媒は、単独でもまたは２種以上混合して用いてもよい。環境面、操作の簡便性などから、塗布液の溶媒としては、特に水、または水とメタノール、エタノール、もしくは酢酸エチルとの混合溶媒が好ましく、水がより好ましい。また、必要に応じて、少量の界面活性剤を添加してもよい。
【００９１】
水と少量の有機溶媒との混合溶媒を用いる際、当該混合溶媒中の水の含有量は、混合溶媒全体を１００質量％として、８０〜９９．９質量％であることが好ましく、９０〜９９．５質量％であることがより好ましい。ここで、８０質量％以上にすることで、溶媒の揮発による体積変動が低減でき、ハンドリングが向上し、また、９９．９質量％以下にすることで、液添加時の均質性が増し、安定した液物性を得ることができるからである。
【００９２】
高屈折率層塗布液および低屈折率層塗布液の調製方法は、特に制限されず、例えば、無機酸化物粒子、水溶性高分子、水溶性高分子よりも屈折率の高いキレート化合物、アシレート化合物、およびこれらの塩から選択される少なくとも一種、並びに必要に応じて添加されるその他の添加剤を添加し、攪拌混合する方法が挙げられる。この際、各成分の添加順も特に制限されず、攪拌しながら各成分を順次添加し混合してもよいし、攪拌しながら一度に添加し混合してもよい。塗布液中の各成分の濃度は、塗膜の乾燥後に各成分が上記した所望の含有率（体積％）となるように調製する。
【００９３】
同時重層塗布を行う際の高屈折率層塗布液および低屈折率層塗布液の温度は、スライドビード塗布方式を用いる場合は、２５〜６０℃の温度範囲が好ましく、３０〜４５℃の温度範囲がより好ましい。また、カーテン塗布方式を用いる場合は、２５〜６０℃の温度範囲が好ましく、３０〜４５℃の温度範囲がより好ましい。
【００９４】
同時重層塗布を行う際の高屈折率層塗布液と低屈折率層塗布液の粘度は、特に制限されない。しかしながら、スライドビード塗布方式を用いる場合には、上記の塗布液の好ましい温度の範囲において、５〜１６０ｍＰａ・ｓの範囲が好ましく、さらに好ましくは６０〜１４０ｍＰａ・ｓの範囲である。また、カーテン塗布方式を用いる場合には、上記の塗布液の好ましい温度の範囲において、５〜１２００ｍＰａ・ｓの範囲が好ましく、さらに好ましくは２５〜５００ｍＰａ・ｓの範囲である。このような粘度の範囲であれば、効率よく同時重層塗布を行うことができる。
【００９５】
また、塗布液の１５℃における粘度としては、１００ｍＰａ・ｓ以上が好ましく、１００〜３０，０００ｍＰａ・ｓがより好ましく、さらに好ましくは２，５００〜３０，０００ｍＰａ・ｓである。
【００９６】
塗布および乾燥方法の条件は、特に制限されないが、例えば、逐次塗布法の場合は、まず、３０〜６０℃に加温した高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液のいずれか一方を基材上に塗布、乾燥して層を形成した後、もう一方の塗布液をこの層上に塗布、乾燥して積層膜前駆体（ユニット）を形成する。次に、所望の遮蔽性能を発現するために必要なユニット数を、前記方法にて逐次塗布、乾燥して積層させて積層膜前駆体を得る。乾燥する際は、形成した塗膜を、３０℃以上で乾燥することが好ましい。例えば、湿球温度５〜５０℃、膜面温度５〜１００℃（好ましくは１０〜５０℃）の範囲で乾燥するのが好ましく、例えば、４０〜６０℃の温風を１〜５秒吹き付けて乾燥する。乾燥方法としては、温風乾燥、赤外乾燥、マイクロ波乾燥が用いられる。また単一プロセスでの乾燥よりも多段プロセスの乾燥が好ましく、恒率乾燥部の温度＜減率乾燥部の温度にするのがより好ましい。この場合の恒率乾燥部の温度範囲は３０〜６０℃、減率乾燥部の温度範囲は５０〜１００℃にするのが好ましい。
【００９７】
また、同時重層塗布を行う場合の塗布および乾燥方法の条件は、高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液を２５〜６０℃に加温して、基材上に高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液の同時重層塗布を行った後、形成した塗膜の温度を好ましくは１〜１５℃にいったん冷却し（セット）、その後１０℃以上で乾燥することが好ましい。より好ましい乾燥条件は、湿球温度５〜５０℃、膜面温度１０〜５０℃の範囲の条件である。例えば、８０℃の温風を１〜５秒吹き付けて乾燥する。また、塗布直後の冷却方式としては、形成された塗膜の均一性向上の観点から、水平セット方式で行うことが好ましい。
【００９８】
ここで、前記セットとは、冷風等を塗膜に当てて温度を下げるなどの手段により、塗膜組成物の粘度を高め、各層間および各層内の物質の流動性を低下させたり、またゲル化する工程のことを意味する。冷風を塗布膜に表面から当てて、塗布膜の表面に指を押し付けたときに指に何もつかなくなった状態を、セット完了の状態と定義する。
【００９９】
塗布した時点から、冷風を当ててセットが完了するまでの時間（セット時間）は、５分以内であることが好ましく、２分以内であることがより好ましい。また、下限の時間は特に制限されないが、４５秒以上の時間をとることが好ましい。セット時間が下限値以上であれば、層中の成分の混合が不十分となることを避けられる。一方、セット時間が上限値以下であると、金属酸化物粒子の層間拡散が進み、高屈折率層と低屈折率層との屈折率差が不十分となることを避けられる。なお、高屈折率層と低屈折率層との間の中間層の高弾性化が素早く起こるのであれば、セットさせる工程は設けなくてもよい。
【０１００】
冷風の温度は、０〜２５℃であることが好ましく、５〜１０℃であることがより好ましい。また、塗膜が冷風に晒される時間は、塗膜の搬送速度にもよるが、好ましくは１０〜３６０秒、より好ましくは１０〜３００秒、さらに好ましくは１０〜１２０秒である。
【０１０１】
高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液の塗布厚は、上記で示したような好ましい乾燥時の厚みとなるように塗布すればよい。
【０１０２】
［光線反射フィルムの応用：光線反射体］
本発明の光線反射フィルムは、幅広い分野に応用することができる。すなわち、本発明の好適な一実施形態は、上記光線反射フィルムが基体の少なくとも一方の面に設けられた、光線反射体である。例えば、建物の屋外の窓や自動車窓等長期間太陽光に晒らされる設備（基体）に貼り合せ、熱線反射効果を付与する熱線反射フィルム等の窓貼用フィルム、農業用ビニールハウス用フィルム等として、主として耐候性を高める目的で用いられる。特に、本発明に係る光線反射フィルムが直接もしくは接着剤を介してガラスもしくはガラス代替樹脂基材に貼合されている部材には好適である。
【０１０３】
基体の具体的な例としては、例えば、ガラス、ポリカーボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスルフィド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、ジアリルフタレート樹脂、ポリイミド樹脂、ウレタン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、スチレン樹脂、塩化ビニル樹脂、金属板、セラミック等が挙げられる。樹脂の種類は、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂のいずれでも良く、これらを２種以上組み合わせて用いても良い。基体は、押出成形、カレンダー成形、射出成形、中空成形、圧縮成形等、公知の方法で製造することができる。基体の厚みは特に制限されないが、通常０．１ｍｍ〜５ｃｍである。
【０１０４】
光線反射フィルムと基体とを貼り合わせる接着層または粘着層は、光線反射フィルムを日光（熱線）入射面側に設置することが好ましい。また、光線反射フィルムを、窓ガラスと基体との間に挟持すると、水分等の周囲のガスから封止でき耐久性に優れるため好ましい。本発明に係る光線反射フィルムを屋外や車の外側（外貼り用）に設置しても環境耐久性があって好ましい。
【０１０５】
本発明に適用可能な接着剤としては、光硬化性もしくは熱硬化性の樹脂を主成分とする接着剤を用いることができる。
【０１０６】
接着剤は紫外線に対して耐久性を有するものが好ましく、アクリル系粘着剤またはシリコーン系粘着剤が好ましい。更に粘着特性やコストの観点から、アクリル系粘着剤が好ましい。特に剥離強さの制御が容易なことから、アクリル系粘着剤において、溶剤系およびエマルジョン系の中で溶剤系が好ましい。アクリル溶剤系粘着剤として溶液重合ポリマーを使用する場合、そのモノマーとしては公知のものを使用できる。
【０１０７】
また、合わせガラスの中間層として用いられるポリビニルブチラール系樹脂、あるいはエチレン−酢酸ビニル共重合体系樹脂を用いてもよい。具体的には可塑性ポリビニルブチラール（積水化学工業社製、三菱モンサント社製等）、エチレン−酢酸ビニル共重合体（デュポン社製、武田薬品工業社製、デュラミン）、変性エチレン−酢酸ビニル共重合体（東ソー社製、メルセンＧ）等である。なお、接着層には紫外線吸収剤、抗酸化剤、帯電防止剤、熱安定剤、滑剤、充填剤、着色、接着調整剤等を適宜添加できる。
【実施例】
【０１０８】
以下、実施例および比較例を通して本発明を説明する。しかし、本発明は以下の実施例に限定はされない。実施例および比較例では、光線反射フィルムの一例として、赤外遮蔽フィルムを作製した。【０１０９】
（実施例１）
（１）高屈折率層用塗布液の調製
はじめに、ルチル型酸化チタンを含有する酸化チタンゾル分散液を調製した。【０１１０】
（シリカ付着二酸化チタンゾルの調製）
１５．０質量％酸化チタンゾル（ＳＲＤ−Ｗ、体積平均粒径５ｎｍ、ルチル型二酸化チタン粒子、堺化学社製）（４．１体積％）０．５質量部に純水２質量部を加えた後、９０℃に加熱した。次いで、ケイ酸水溶液（ケイ酸ソーダ４号（日本化学社製）をＳｉＯ２濃度が０．５質量％となるように純水で希釈したもの）（０．２５体積％）１．３質量部を徐々に添加し、ついでオートクレーブ中、１７５℃で１８時間加熱処理を行い、冷却後、限外濾過膜にて濃縮することにより、固形分濃度が、２０質量％のＳｉＯ２を表面に付着させた二酸化チタンゾル（以下シリカ付着二酸化チタンゾル）（６．２体積％）を得た。一部のサンプルを抜き取り、粒子の比重を測定したところ３．８であった。【０１１１】
上記で調製したシリカ変性酸化チタンゾル水系分散液を用いて、高屈折率層用塗布液を調製した。【０１１２】
具体的には、シリカ変性酸化チタンゾル水系分散液２３０部を４０℃に加温し、さらにこの溶液にクエン酸水溶液（１．９２％）（１．１６体積％）を１２０部添加した。さらにチタンラクテート（オルガチックスＴＣ−３１５、マツモトファインケミカル製、４４％）（３２．９体積％）１１部を加え、３０分攪拌した。さらにポリビニルアルコール（ポバールＰＶＡ１０３、クラレ社製、ケン化度９８．０〜９９．０％、重合度３００）（８．１６体積％）（１０％）を２０部加え、１０分攪拌しさらにポリビニルアルコール（ポバールＰＶＡ１２４、クラレ社製、ケン化度９８．０〜９９．０％、重合度２４００）（４％）（３．２体積％）を４３０部加えた。界面活性剤（ソフタゾリンＬＳＢ−Ｒ、川研ファインケミカル製）希釈水溶液（５％）を１部加え高屈折率層用塗布液１を作製した。【０１１３】
（２）低屈折率層用塗布液の調製
低屈折率層用塗布液は以下のように調製した。具体的には、３８部の酸性コロイダルシリカの１０質量％水溶液（スノーテックスＯＸＳ、一次粒径：５．４ｎｍ、日産化学工業株式会社製）（５．２体積％）と、ホウ酸３％水溶液（２．１体積％）を３質量部加え、さらに３９部の水溶性高分子であるポリビニルアルコールの６質量％水溶液（ＪＰ−４５、重合度４５００、鹸化度８８ｍｏｌ％、日本酢ビ・ポバール製）（４．８６体積％）と、１部の界面活性剤の５質量％水溶液（ソフタゾリンＬＳＢ−Ｒ、川研ファインケミカル社製）と、を４５℃でこの順に添加し、低屈折率層用塗布液を調製した。【０１１４】
なお、本実施例で使用した各材料の比重は以下の通りである。ポリビニルアルコール：１．２５、チタンラクテート（ＴＣ−３１５）：１．６、シリカ：２．１、ホウ酸：１．４４、純水：１、クエン酸：１．６７。【０１１５】
［光線反射フィルムの作製］
（試料の作製）
９層重層塗布可能なスライドホッパー塗布装置を用い、低屈折率層用塗布液および高屈折率層用塗布液を４０℃に保温しながら、４０℃に加温した厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡製Ａ４３００：両面易接着層）上に、それぞれ交互に、乾燥時の膜厚が低屈折率層は各層１５０ｎｍ、高屈折率層は各層１３０ｎｍになるように計９層の同時重層塗布を行った。【０１１６】
塗布直後、５℃の冷風を５分吹き付けたのち、６０℃の温風を吹き付けて乾燥させて、９層からなる重層塗布品、すなわち光線反射フィルムを作製した。【０１１７】
（実施例２〜８および比較例１〜５）
実施例２〜８および比較例１〜５では、以下の変更を行った以外は実施例１と同様にして、高屈折率層塗布液を調製した。すなわち、高屈折率層中のキレート化合物、アシレート化合物およびその塩の少なくとも一種のみ表１−１および表１−２に示す材料とし、かつ乾燥後の体積比率が表１−１および表１−２に示す含有率になるように調整し、各高屈折率層用塗布液を作製した。これらの高屈折率層用塗布液をそれぞれ用いた他は、実施例１と同様にして、光線反射フィルムを作製した。【０１１８】
《光線反射フィルムの評価》
上記で作製した光線反射フィルム（実施例１〜８および比較例１〜５）について、下記の性能評価を行った。【０１１９】
（各層の単膜屈折率の測定）
基材上に屈折率を測定する対象層（高屈折率層）をそれぞれ単層で塗設したサンプルを作製し、下記の方法に従って、各高屈折率層の屈折率を求めた。【０１２０】
分光光度計として、Ｕ−４０００型（日立製作所社製）を用いて、各サンプルの測定側の裏面を粗面化処理した後、黒色のスプレーで光吸収処理を行って裏面での光の反射を防止して、５度正反射の条件にて可視光領域（４００ｎｍ〜７００ｎｍ）の反射率の測定結果より、屈折率を求めた。【０１２１】
（密着性）
上記のように得られた各光線反射フィルムを、熱ショック試験（高温（６０℃）環境に１２時間保持した後、速やかに低温（−２０℃）環境下で１２時間保持を１サイクルとして５０サイクル）を行なった後、常温（２５℃）の環境に１２時間保持した。その後、各フィルムについて，ＪＩＳ−Ｋ５６００−５−６：１９９９のクロスカット法に従い、得られた試料の最表面に片刃のカミソリの刃を面に対して９０°の角度で、２ｍｍ間隔でクロスカットし、１０ｍｍ角の碁盤目を作製した。日東電工（株）製のセロハンテープＮｏ．２９を貼り付けて、テープをはがし、膜の剥離状態を調べた。クロスカットしたマス目の数をｎ、テープ剥離後に支持体に膜が残っているマス目の数をｎ１とした時に、Ｆ＝ｎ１／ｎ×１００（％）を計算し、以下の基準で評価した。【０１２２】
◎：Ｆ≧９０％
○：９０％＞Ｆ≧８０％
△：８０％＞Ｆ≧７０％
×：７０％＞Ｆ。【０１２３】
なお、実使用においてはＦが７０％以上であれば層間密着性が確保されていると言える。【０１２４】
（極大反射率の測定）
各光線反射フィルムについて、分光光度計（積分球使用、日立製作所社製、Ｕ−４０００型）を用い、試料の３００ｎｍ〜２０００ｎｍの領域における４５°反射率を測定した。極大反射率は測定結果の９００〜１５００ｎｍの領域において最も高い反射率とした。【０１２５】
【表１−１】
2014148366.tif 000003
【０１２６】
【表１−２】
2014148366.tif 000004
【０１２７】
上記表１−１および表１−２の結果から分かるように、実施例１〜８では、比較例に対比して、いずれも高い極大反射率および優れた密着性を示した。また、キレート化合物等の含有率が１０〜２０体積％である実施例１、２、５、８は、より優れた密着性を示した。また、このうち高屈折率無機酸化物粒子の含有量がより多い実施例５は、より優れた極大反射率をも示した。このように、本発明によれば、高屈折率層中の空隙が低減されたことにより、基材と高屈折率層および低屈折率層との密着性が向上したことが分かる。さらに、空隙の低減により、低屈折率層と高屈折率層との屈折率差が拡大され、反射特性の向上した光線反射フィルムが得られることが分かる。【０１２８】
また、比較例３〜５を比較すると、高屈折率無機微粒子の添加量を単に増やすだけでは、４０体積％以上添加しても単層屈折率が上昇しないことが分かる。これは、高屈折率無機酸化物粒子を多量に添加することにより、高屈折率層中に空隙が生じてしまったためと考えられる。また、比較例２の結果から、キレート化合物等の含有率が１０体積％を下回ると、単層屈折率は上昇しても、光線反射フィルムとしての反射率の向上は実現されないことが分かる。これは、重層塗布により高屈折率層と低屈折率層とが混合してしまったためと考えられる。【０１２９】
なお、本出願は、２０１３年３月１９日に出願された日本国特許出願第２０１３−０５６９２３号に基づいており、その開示内容は、参照により全体として引用されている。
【手続補正書】
【提出日】平成26年12月25日(2014.12.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
動的光散乱法、あるいは電子顕微鏡を用いて観察する方法や、屈折率層の断面や表面に現れた粒子像を電子顕微鏡で観察する方法により、１，０００個の任意の粒子の粒径を測定し、それぞれｄ１、ｄ２・・・ｄｉ・・・ｄｋの粒径を持つ粒子がそれぞれｎ１、ｎ２・・・ｎｉ・・・ｎｋ個存在する金属酸化物粒子の集団において、粒子１個当りの体積をｖｉとした場合に、体積平均粒径ｍｖ＝｛Σ（ｖｉ・ｄｉ）｝／｛Σ（ｖｉ）｝で表される体積で重み付けされた平均粒径を算出する。
［００４４］
さらに、本発明で用いられる無機酸化物粒子は、単分散であることが好ましい。ここでいう単分散とは、下記式で求められる単分散度が４０％以下であることをいう。この単分散度は、さらに好ましくは３０％以下であり、特に好ましくは０．１〜２０％である。
［００４５］
［数１］
2014148366.tif 000005
［００４６］
高屈折率層における高屈折率無機酸化物粒子の含有量としては、高屈折率層の全体積に対して、４０〜６０体積％であることが好ましく、４５〜５５体積％であることがより好ましい。含有量がこの範囲であれば、高屈折率層と低屈折率層との屈折率差を十分大きくでき、優れた反射特性を示す光線反射フィルムとなる。
［００４７］
（キレート化合物、アシレート化合物、およびこれらの塩）
本発明においては、高屈折率層に上記の屈折率１．４〜１．６の水溶性高分子よりも高屈折率のキレート化合物、アシレート化合物、およびこれらの塩から選択される少なくとも一種を、高屈折率層の全体積に対して１０体積％以上含有する。すなわち、本発明の一実施形態は、キレート化合物、アシレート化合物、およびこれらの塩から選択される少なくとも一種の屈折率が、１．６以上である上記の光線反射フィルムを提供する。
［００４８］
このようなキレート化合物、アシレート化合物、およびこれらの塩は、水系同時重層塗布法が適用できることから水溶性のものが好ましく、さらに、アニオン性のものが好ましい。一実施形態は、キレート化合物、アシレート
【国際調査報告】
2014148366.tif 000006
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