【事件の表示】
　平成　８年特許願第３２２０７１号「ケミカルメカニカルポリシング装置のキャリアヘッドのデザイン」拒絶査定不服審判事件〔平成　９年　６月３０日出願公開、特開平　９−１６８９６８〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯及び本願発明 
　本件出願は、平成８年１０月２８日の特許出願（優先権主張　１９９５年１０月２７日　米国）であって、その請求項１乃至６に係る発明は、平成１７年７月４日付けの手続補正書により補正された明細書（以下、「本願明細書」という。）、及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１乃至６に記載された事項により特定されるとおりと認められるところ、請求項５に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、次のとおりのものである。
　
「【請求項５】ケミカルメカニカルポリシング装置のためのキャリアヘッドであって、
　駆動シャフトに接続され、前記駆動シャフトによって第１の軸の周りに回転するハウジングと、
　基板をポリシングパッドに対して保持し、前記ハウジングに接続され前記第１の軸の周りに回転する、ベースと、
　前記ポリシングパッドに対して前記基板を押圧するように前記ベースの底面を作用させる、負荷機構と、
　前記ハウジングの中で前記第１の軸に沿う通路に配置されるジンバルロッドであって、前記ジンバルロッドは前記ベースに固定されて前記ベースから前記ハウジングヘ水平方向の力を伝達する、前記ジンバルロッドと、
　前記通路の天井部から前記ジンバルロッドを隔てるギャップと、
を備える、キャリアヘッド。」
　
２．刊行物に記載の発明及び事項
　これに対して、当審における平成１６年１２月２７日付けで通知した拒絶の理由に引用した、優先権主張日前に日本国内において頒布された刊行物である特開平６−１４３１２６号公報（以下、「刊行物１」という。）、及び上記拒絶の理由で周知技術として例示した、優先権主張日前に日本国内において頒布された刊行物である特開昭６３−２２１９６９号公報（以下、「刊行物２」という。）には以下の事項が記載されている。　 
　
（１）刊行物１  
（１−ア）段落【０００２】 
「【従来の技術】一般に、例えば、単結晶シリコンウェーハ（以下単にウェーハと称す。）の加工工程には、最終的な仕上げ工程としてウェーハの平滑度を向上させて鏡面仕上げを行うための、研磨装置を用いたメカノケミカルポリッシングによる研磨がある。」
（１−イ）段落【００２６】〜【００２９】
「【実施例】以下、図１に基づいて本発明の一実施例を説明する。なお、本実施例において、図２及び図３に示す上記各従来例と同様の構成の部分については、同符号を付けて説明を省略する。
　図１に示されるように、研磨装置のターンテーブル３の上方には上軸機構１０が配置され、該上軸機構１０の下方には、研磨されるウェーハ５がキャリアプレートＣの下面に接着されてターンテーブル３に載置されている。
　上記上軸機構１０の上軸１００は、その上部が軸受１０１を介して支持部材１０２に回転自在に支持されている。そして、この支持部材１０２は、ハウジング１０３上に取付部材１０４を介して立設されたエアシリンダ１０５のピストンロッドの下端と支点１０６との間を連結している連接棒１０７に取り付けられており、上記エアシリンダ１０５を操作することにより、テコの原理によって、上記上軸１００は下方に押圧されるようになっている。また、上記上軸１００の外周には、上記ハウジング１０３に軸受１０９を介して回転自在に支持された状態の外筒１１０が装着されており、この外筒１１０にはスプロケット１１１が装着されて、図示しない駆動機構によって、スプロケット１１１を介して、上記外筒１１０が回転させられるように構成されている。そして、上記外筒１１０の下端には上板１１２が取り付けられており、この上板１１２の下面には複数の垂下部１１３が垂設されている。さらに、上記各垂下部１１３は、一対ずつのカムフォロア１１４によって挟持されており、これらのカムフォロア１１４は、昇降自在な支持円板１１５に取り付けられている。そして、上記支持円板１１５の外周縁部の下面には環状押圧部材１１６が取り付けられており、この環状押圧部材１１６の下面にはＯリング１１７が装着されている。
　上記支持円板１１５に形成された係合孔１１８に対向して、押圧板１１９の上面には係止具１２０が取り付けられており、これらの係合孔１１８と係止具１２０とが、互いに回転不能にかつ上下動可能に係合されている。そして、上記押圧板１１９の上面中心に形成された凹所１１９ａには、上記上軸１００の下端が、半球体１２１を介して、傾斜可能に取り付けられている。また、上記押圧板１１９の上面であって、上記凹所１１９ａに連なる環状凸部１１９ｂより外側の部分は、その中心部から外周縁部にいくにつれて下方に傾斜して形成され、中心部から外周縁部にいくにつれて薄肉に設定されていると共に、上記押圧板１１９の外周縁部は、上記環状押圧部材１１６に近接して設けられている。そして、上記支持円板１１５の中心側上部には、リング状ピストン１２２が取り付けられており、このリング状ピストン１２２は、上記押圧板１１９の上面の環状凸部１１９ｂに取り付けられた加圧室構成体１２３の加圧室１２４内に摺動自在に嵌め合わされている。さらに、上記加圧室構成体１２３内には、上記加圧室１２４に連通する連通路１２５が形成されており、この連通路１２５には、チューブ１２６を介して、上記上軸１００内に形成された気体供給孔１２７が接続されている。そして、この気体供給孔１２７の上端は、ロータリージョイント１２８を介して、図示しない気体供給源に接続されている。さらにまた、上記押圧板１１９の下面中心には、上記キャリアプレートＣの中心部に形成された位置合わせ孔ＣＡに嵌合する係合板１２９が取り付けられている。そして、上記押圧板１１９の環状凸部１１９ｂに取り付けられた加圧室構成体１２３と、上記上軸１００の下部とには、互いに係合して回転を伝達する係合部１３０，１３１がそれぞれ形成されている。」
（１−ウ）段落【００３０】〜【００３２】
「上記のように構成された研磨装置を用いてウェーハ５を研磨する場合には、まず、ターンテーブル３の上面に貼付されている研磨布上の所定位置に、ウェーハ５の接着されたキャリアプレートＣを、上記ウェーハ５の研磨面を下面として載置する。次いで、上軸機構１０の作動を開始すると、エアシリンダ１０５のピストンロッドを下降することにより、支持部材１０２が押し下げられ、これに伴って、上軸１００、押圧板１１９、加圧室構成体１２３、加圧室１２４内のリング状ピストン１２２及び支持円板１１５、環状押圧部材１１６が下降する。ここで、上記キャリアプレートＣは予め位置決めされているので、キャリアプレートＣの位置合わせ孔ＣＡに、押圧板１１９の下面中央の係合板１２９が嵌まり込む状態で、上記キャリアプレートＣが押圧板１１９及び環状押圧部材１１６の下面に当接する。そして、上記エアシリンダ１０５はこの状態で研磨が終了するまで保持されて、上記押圧板１１９の押圧力が調整されるようになっている。また、上記上軸１００が下降するときには、外筒１１０はハウジング１０３側に回転自在に支持されているので、外筒１１０内を上記上軸１００は下方に摺動する。さらに、上記加圧室１２４内には、気体供給源から、ロータリージョイント１２８、上軸１００内の気体供給孔１２７、チューブ１２６及び加圧室構成体１２３内の連通路１２５を介して、加圧空気が供給され、リング状ピストン１２２、支持円板１１５を介して環状押圧部材１１６の押圧力が調整されるようになっている。
　この状態からターンテーブル３が回転して研磨が行われるが、ターンテーブル３のスタートと同時に、図示しない駆動モーターによって、スプロケット１１１に回転が伝えられる。これにより、スプロケット１１１が装着された外筒１１０が回転し、この外筒１１０から上板１１２、垂下部１１３を介して、カムフォロア１１４、支持円板１１５、環状押圧部材１１６に回転が伝達されると共に、上記支持円板１１５、リング状ピストン１２２、加圧室構成体１２３を介して押圧板１１９に、かつ上記両係合部１３０，１３１を介して上軸１００にそれぞれ回転が伝えられる。
　そして、研磨面にはアルカリ性のシリカゾルが滴下されてウェーハ５の研磨が進められるが、ウェーハ５の研磨状態により、上記エアシリンダ１０５及び上記加圧室１２４の加圧状態を調整する。さらに、通常は発熱によりターンテーブル３に中央部を底とする、あるいは、頂とする微かな湾曲が生じるが、このような研磨中のターンテーブル３の歪みが大きく、ウエーハ５の仕上がり状態が平面度を欠いているような場合にも、上記エアシリンダ１０５及び上記加圧室１２４の加圧状態を調整する。この結果、上記押圧板１１９によるキャリアプレートＣの中心側から外周縁部近傍までの押圧力及び環状押圧部材１１６によるキャリアプレートＣの外周縁部の押圧力が適宜加減されることにより、上記キャリアプレートＣをその全面にわたって均等に押圧することができる。」
 
　上記摘記事項（１−ア）〜（１−ウ）、及び図１の記載事項からみて、刊行物１には次の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されていると認められる。
「研磨装置のための上軸機構１０であって、
　外筒１１０に取り付けられ、外筒１１０によって回転する上板１１２と、
　上板１１２に垂設された垂下部１１３を、支持円板１１５に取り付けられたカムフォロア１１４により挟持し、支持円板１１５には環状押圧部材１１６とリング状ピストン１２２が取り付けられ、リング状ピストン１２２が、押圧板１１９に取り付けられた加圧室構成体１２３の加圧室１２４内に摺動自在に嵌め合わされており、これにより、上板１１２、垂下部１１３を介して、カムフォロア１１４、支持円板１１５、環状押圧部材１１６に回転が伝達されると共に、支持円板１１５、リング状ピストン１２２、加圧室構成体１２３を介して押圧板１１９に回転が伝えられるよう構成された、支持円板１１５、押圧板１１９、及び環状押圧部材１１６と、
　研磨布上の所定の位置にウェーハ５を貼付したキャリアプレートＣを載置し、エアシリンダ１０５のピストンロッドを下降することにより、連接棒１０７を介して支持部材１０２を押し下げ、これに伴い上軸１００、押圧板１１９、支持円板１１５が下降するとともに、加圧室１２４内に加圧空気を供給し、リング状ピストン１２２、支持円板１１５を介して環状押圧部材１１６に押圧力を発生させ、キャリアプレートＣが押圧板１１９及び環状押圧部材１１６の下面に当接して押圧されるよう構成された、エアシリンダ１０５、連接棒１０７、支持部材１０２、上軸１００、加圧室１２４、及びリング状ピストン１２２と、
　外筒１１０内を摺動する上軸１００であって、押圧板１１９の上面中心に形成された凹所１１９ａには、上軸１００の下端が、半球体１２１を介して、傾斜可能に取り付けられている上軸１００と、
を備える、上軸機構。」
　
（２）刊行物２  
（２−ア）第１頁右下欄第６〜８行
「（産業上の利用分野）
　本発明は、例えばラッピング加工用に用いられるワークチャックに関する。
（２−イ）第２頁左上欄第８〜１２行
「（発明が解決しようとする問題点）
本発明は、上記したように、従来のワークチャックがもつ欠点に着目してなされたもので、加工定盤の変動に対する追従性が高いワークチャックを提供することを目的とする。」
（２−ウ）第２頁右上欄第１行〜第３頁左上欄第１１行
「（実施例）
　以下、本発明の一実施例を図面を参照して詳述する。
　第１図は、この実施例のワークチャックを示している。このワークチャックは、ワーク（１）が貼着されるワーク保持部（２）と、このワーク保持部（２）に対して揺動自在に連結し定盤（３）の面振れを吸収する面振れ追従部（４）と、この面振れ追従部（４）の上端部に接続し定盤（３）に追従するワーク保持部（２）の上下変動を吸収する上下動追従部（５）と、この上下動追従部（５）を支持して回転を伝達する本体部（６）とから構成されている。しかして、ワーク保持部（２）は、下端面がワーク（１）が例えばワックスなどで貼着される貼着面（７）となっている円板状の貼着板（８）と、この貼着板（８）の上端面にて同軸に突設された円板状の突出部（９）とからなっている。この突出部（９）には、必要に応じて研磨圧調整用の円環状のウェイト（１０）が嵌装され、貼着板（８）上に載設されるようになっている。一方、面振れ追従部（４）は、いわゆるユニバーサル継手であって、突出部（９）に一端部が保合固定された第１片（１１）と、下端部が第１片（１１）に対して２自由度運動が可能なように連結された第２片（１２）とからなっている。また、これら第１片（１１）及び第２片（１２）は、互に直交する矢印（４ａ），（４ｂ）方向に揺動自在となっている。さらに、上下動追従部（５）は、下端部が第２片（１２）の上端部に保合固定されたスプライン軸（１３）と、このスプライン軸（１３）がその軸方向つまり矢印（１４ａ），（１４ｂ）方向に摺動自在に歯合されたスプラインスリープ（１５）と、スプライン軸（１３）の上端部に連結されスプライン軸（１３）を係止する係止板（１６）とからなっている。他方、本体部（６）は、スプラインスリーブ（１５）が同軸に内嵌固定された円筒状の支持体（１７）と、この支持体（１７）の上端部に同軸に突設され回転軸（１８）の下端部に連結される連結体（１９）とからなっている。上記支持体（１７）には、スプライン軸（１３）の上下動を許容する中空部（１７ａ）が設けられている。
　つぎに、上記構成のワークチャックの作動について述べる。
　まず、貼着面（７）にワーク（１）をワックスにて貼着する。つぎに、定盤（３）に対するワーク（１）の研磨圧に応じた重量のウェイト（１０）を貼着板（８）にねじ（２０）・・・を用いて固定する。ついで、連結体（１９）を回転軸（１８）に螺合・固定する。しかして、ワーク（１）を定盤（３）上に載置したのち、定盤（３）及び回転軸（１８）をそれぞれ矢印（２１），（２２）方向に回転させる。すると、ワーク（１）は、ウェイド（１０）により決定される所定の研磨圧で研磨加工される。このとき、定盤（３）が面振れしていたとすると、この面振れに追従してワーク（１）及び貼着板（８）も揺動圧力を受けるが、この揺動圧力は、面振れ追従部（４）の第１片（１１）の第２片（１２）に対する矢印（４ａ），（４ｂ）方向の揺動により吸収される。したがって、ワーク（１）は、定盤（３）の面振れに対して忠実に追従することができる。一方、定盤（３）位置が上下方向（矢印（１４ａ），（１４ｂ）方向）に変動するときは、この上下変動は、ワーク（１）及び貼着板（８）に対する上下方向の圧力として作用するが、この上下方向圧力は、面振れ追従部（４）を介して、スプライン軸（１３）がスプラインスリーブ（１５）中を上下動することにより吸収される。よって、ワーク（１）は、定盤（３）の上下変動に対して忠実に追従することができる。
　以上のように、この実施例のワークチャックは、面振れ追従部（４）と上下動追従部（５）を備えているので、定盤（３）の面振れ及び上下動に忠実に追従することができる。また、ウェイト（１０）の加減により研磨圧の調整を行うことができる利点をもっている。その結果、ワーク（１）の研磨加工を高精度で行うことができる。
　なお、面振れ追従部に、ユニバーサル継手の代りに、フレキシブル継手を用いてもよい。」
　
　上記摘記事項（２−ア）〜（２−ウ）、及び第１図の記載からみて、刊行物２には以下の事項（以下、「刊行物２記載の事項」という。）が記載されていると認められる。  
「ラッピング加工用に用いられるワークチャックであって、
　ワーク１を粘着面７に粘着させ、研磨圧に応じた重量のウェイト１０が固定される、ワーク保持部２と、
　ワーク保持部２に揺動自在に連結され、ワーク保持部２に一端部が係合された第１片１１と第１片１１に対して２自由度運動が可能なように連結された第２片１２とからなり、ユニバーサル継手として構成される、面振れ追従部４と、
　面振れ追従部４に接続され、第２片１２に係合固定されるスプライン軸１３と、スプライン軸１３がその軸方向に摺動自在に歯合されたスプラインスリーブ１５と、スプライン軸１３を係止する係止板１６とからなる、上下動追従部５と、
　上下動追従部５を支持し、スプラインスリーブ１５が内嵌固定されるとともにスプライン軸１３の上下動を許容する中空部１７ａが設けられた支持体１７と、回転軸１８に連結される連結体１９とからなり、回転軸１８によって回転する、本体部６と、
を備えるワークチャック。」
　
３．対比 
　本願発明と引用発明とを対比すると、引用発明における「上軸機構１０」は本願発明における「キャリアヘッド」に相当し、以下同様に、「外筒１１０」は「駆動シャフト」に、「上板１１２」は「ハウジング」に、「ウェーハ５」は「基板」に、「研磨布」は「ポリシングパッド」に、それぞれ相当している。
　また、引用発明における「研磨装置」は、上記摘記事項（１−ア）に、従来技術の研磨装置として「メカノケミカルポリッシング」に用いられる旨記載されているとともに、上記摘記事項（１−イ）に、本願発明の実施例において従来例と同様の構成の部分については同符号を付けて説明を省略する旨記載されていることから、本願発明の研磨装置も「メカノケミカルポリッシング」に用いられることは明らかである。そして、「メカノケミカルポリッシング」は、「ケミカルメカニカルポリシング」とも表現できるものであるから、引用発明における「研磨装置」は、「ケミカルメカニカルポリシング装置」に相当する。
　さらに、引用発明における、上板１１２が外筒１１０に「取り付けられ」ていることは、「接続され」ていると表現することができるとともに、上板１１２が回転する回転軸を第１の軸と呼称することができる。そうすると、引用発明における、「外筒１１０に取り付けられ、外筒１１０によって回転する上板１１２」は、本願発明の「駆動シャフトに接続され、前記駆動シャフトによって第１の軸の周りに回転するハウジング」に相当する。
　さらにまた、上板１１２に垂設された垂下部１１３が、支持円板１１５に取り付けられたカムフォロア１１４により挟持され、支持円板１１５には環状押圧部材１１６とリング状ピストン１２２が取り付けられており、リング状ピストン１２２は、押圧板１１９に取り付けられた加圧室構成体１２３の加圧室１２４内に摺動自在に嵌め合わされており、これにより、上板１１２から、垂下部１１３を介して、カムフォロア１１４、支持円板１１５、環状押圧部材１１６に回転が伝達されると共に、支持円板１１５、リング状ピストン１２２、加圧室構成体１２３を介して押圧板１１９に回転が伝えられるのであるから、支持円板１１５は、ハウジングに相当する上板１１２に接続されていると言うことができる。してみれば、「支持円板１１５とこれに取り付けられた環状押圧部材１１６、及び押圧板１１９」は、「ハウジングに接続され第１の軸の周りに回転するベース」である限りにおいて、本願発明の「基板をポリシングパッドに対して保持し、前記ハウジングに接続され前記第１の軸の周りに回転するベース」と共通する。
　引用発明では、エアシリンダ１０５のピストンロッドを下降することにより、連接棒１０７を介して支持部材１０２が押し下げられ、これに伴って、上軸１００、押圧板１１９、支持円板１１５が下降するとともに、加圧室１２４内に加圧空気が供給され、リング状ピストン１２２、支持円板１１５を介して環状押圧部材１１６に押圧力が発生することにより、キャリアプレートＣが押圧板１１９及び環状押圧部材１１６の下面に当接して押圧されるよう構成されているのであるから、ウェーハ５はキャリアプレートＣを介しているものの押圧板１１９及び環状押圧部材１１６の底面である下面の作用により研磨布に押圧されていることは明らかである。そうすると、「エアシリンダ１０５、連接棒１０７、支持部材１０２、上軸１００、加圧室構成体１２３、加圧室１２４、リング状ピストン１２２」は、キャリアプレートＣを介しているものの「ポリシングパッドに対して基板を押圧するようにベースの底面を作用させる機構」であるということができる。してみれば、「エアシリンダ１０５、連接棒１０７、支持部材１０２、上軸１００、加圧室構成体１２３、加圧室１２４、リング状ピストン１２２」は、本願発明の「ポリシングパッドに対して基板を押圧するようにベースの底面を作用させる負荷機構」に相当する。
　一方、引用発明の「上軸１００」は、外筒１１０内を摺動するのであるから、図１を参酌すれば、上板１１２が回転する回転軸に沿うように外筒１１０内に配置されており、ハウジングが回転する第１の軸に沿う外筒１１０内の通路に上軸１００が配置されていると言うことができる。また、上記押圧板１１９の上面中心に形成された凹所１１９ａには、上記上軸１００の下端が、半球体１２１を介して、傾斜可能に取り付けられているとともに、上記摘記事項（１−ウ）には、上軸１００、押圧板１１９が下降し、キャリアプレートＣの位置合わせ孔ＣＡに、押圧板１１９の下面中央の係合板１２９が嵌まり込む状態で、上記キャリアプレートＣが押圧板１１９及び環状押圧部材１１６の下面に当接する、と記載されていることから、上軸１００はジンバル構造により押圧板１１９に傾斜可能に取り付けられているとともに、押圧板１１９と一体的に第１の軸に沿って昇降すると言うことができる。さらに、押圧板１１９に形成された凹所１１９ａには、上軸１００の下端が半球体１２１を介して取り付けられているのであるから、図１を参酌すると、押圧板１１９に作用する水平方向の力は、半球体１２１、上軸１００、外筒１１０を介して上板１１２に伝達されると解するのが妥当である。してみれば、「上軸１００」は、「第１の軸に沿う通路に配置されるジンバルロッドであって、ベースに取り付けられてベースからハウジングヘ水平方向の力を伝達するジンバルロッド」である限りにおいて、本願発明の「前記ハウジングの中で前記第１の軸に沿う通路に配置されるジンバルロッドであって、前記ジンバルロッドは前記ベースに固定されて前記ベースから前記ハウジングヘ水平方向の力を伝達する、前記ジンバルロッド」と共通する。
　
　そうすると、本願発明と引用発明とは、 
「ケミカルメカニカルポリシング装置のためのキャリアヘッドであって、
　駆動シャフトに接続され、前記駆動シャフトによって第１の軸の周りに回転するハウジングと、
　前記ハウジングに接続され前記第１の軸の周りに回転する、ベースと、
　前記ポリシングパッドに対して前記基板を押圧するように前記ベースの底面を作用させる、負荷機構と、
　前記第１の軸に沿う通路に配置されるジンバルロッドであって、前記ジンバルロッドは前記ベースに取り付けられて前記ベースから前記ハウジングヘ水平方向の力を伝達する、前記ジンバルロッドと、
　を備える、キャリアヘッド。」
　の点で一致し、以下の点で相違する。　
　
［相違点１］
　ベースが、本願発明では、基板をポリシングパッドに対して保持するものであるのに対し、引用発明では、そのように特定されていない点。
［相違点２］
　本願発明では、ジンバルロッドがハウジングの中で第１の軸に沿う通路に配置され、通路の天井部から前記ジンバルロッドを隔てるギャップを備えているのに対し、引用発明では、ジンバルロッドが第１の軸に沿う通路に配置されているものの、「ハウジングの中で」とは特定されておらず、また、「通路の天井部から前記ジンバルロッドを隔てるギャップ」を備えていない点。
［相違点３］
　ジンバルロッドが、本願発明では、ベースに固定されているのに対して、引用発明では、そのように特定されていない点。
　
４．相違点についての検討
　上記相違点１〜３について検討する。
［相違点１について］
　刊行物１の上記摘記事項（１−ウ）には、ウェーハ５がキャリアプレートＣの下面に接着されて、上記押圧板１１９の下面中心には、上記キャリアプレートＣの中心部に形成された位置合わせ孔ＣＡに嵌合する係合板１２９が取り付けられている旨が記載されていることから、押圧板１１９は、基板をポリシングパッドに対して保持していると言うことができる。そして、 押圧板１１９は、引用発明におけるベースの一部を構成するものであるから、ベースは基板をポリシングパッドに対して保持するものであると言うことができ、上記相違点１は、実質的に相違点ではない。
　なお、本願発明の「基板をポリシングパッドに対して保持」することが、基板をベースに直接保持することを意図しているとしても、基板を刊行物１記載のキャリアプレートＣを介することなく、直接ベースに相当する部材に保持することは、従来周知の事項である（例えば、刊行物２のワーク保持部２の貼着面７参照）。また、このときベースに相当する部材の底面が直接基板を押圧するように作用することも明らかである。
［相違点２について］
　本願発明と刊行物２記載の事項とを対比すると、刊行物２における「ワークチャック」は、本願発明における「キャリアヘッド」に、以下同様に、「回転軸１８」は、「駆動シャフト」に相当している。そして、回転軸１８の回転軸心は、第１の軸と呼称することができ、「連結」も「接続」と表現できるものである。
　また、刊行物２における「ラッピング」は、研磨である限りにおいて、本願発明の「ケミカルメカニカルポリシング」と共通し、以下同様に、「本体部６」は、駆動シャフトに接続され、第１の軸周りに回転する部材である限りにおいて、「ハウジング」と共通し、「ワーク」は、被研磨物である限りにおいて、「基板」と共通し、「ワーク保持部２」は、被研磨物を保持して第１の軸周りに回転する保持部材である限りにおいて、「ベース」と共通し、「ウェイト１０」は、被研磨物を押圧するように被研磨物を保持する保持部材の底面を作用させる負荷機構である限りにおいて、本願発明の「負荷機構」と共通する。
　さらに、スプライン軸１３及びスプライン軸１３に係合固定される第２片１２とは、スプライン軸１３の一部が、本体部６の中の中空部１７ａに配置されて中空部１７ａにより上下動を許容されるようになっており、第２片１２が、ワーク保持部２に係合固定される第１片１１と２自由度運動可能なように連結されるものである。そうすると、第１図も参酌すると、中空部１７ａは第１の軸に沿う通路であって、本体部により天井部が規定されており、天井部とスプライン軸１３とを隔てるギャップを備えていると表現できるものである。また、スプライン軸１３及びスプライン軸１３に係合固定される第２片１２とは、ワーク保持部２に対して２自由度について揺動自在であるから、被研磨物を保持する部材に２自由度揺動可能に取り付けられているロッドであるという限りにおいて、本願発明の「ジンバルロッド」と共通する。
　してみれば、刊行物２には、
「研磨に用いられるキャリアヘッドであって、
　駆動シャフトに接続され、駆動シャフトによって第１の軸の周りに回転する部材と、
　被研磨物を保持し、第１の軸周りに回転する保持部材と、
  被研磨物を押圧するように前記保持部材の底面を作用させる負荷機構と、　第１の軸の周りに回転する部材の中で第１の軸に沿う通路にその一部が配置されるロッドであって、ロッドは被研磨物を保持する部材に２自由度揺動可能に取り付けられる、ロッドと、
　通路の天井部からロッドを隔てるギャップと、
を備える、キャリアヘッド。」
　が記載されているとすることができる。            
　そして、上記刊行物２記載の事項も引用発明も、研磨に用いられるキャリアヘッドであって、回転し、実質的に被研磨物を保持するとともに被研磨物を押圧するという共通した技術分野に属するものということができるから、刊行物２記載の事項を引用発明に適用し、第１の軸に沿う通路を第１の軸の周りに回転する部材であるハウジングの中に設け、通路の天井部からジンバルロッドを隔てるギャップを備えるようにすることは、当業者が容易になし得たことである。
　ところで、引用発明においては、上記３に示したとおり、エアシリンダ１０５、連接棒１０７、支持部材１０２、上軸１００、加圧室構成体１２３、加圧室１２４、リング状ピストン１２２が、本願発明の「ポリシングパッドに対して基板を押圧するようにベースの底面を作用させる負荷機構」に相当しており、上軸１００は、負荷機構の一部として機能すると同時にジンバルロッドとしても機能しているが、負荷機構としてはポリシングパッドに対して基板を押圧することができるものであれば既に当業者に知られた適宜の機構を用い得ることは明らかである。また、負荷機構として刊行物２に記載されたウェイトの他に、チャンバを設けて圧力流体を供給することにより、ポリシングパッドに対して基板を押圧するようにベースの底面を作用させることも、例えば、特開平６−１２６６１５号公報の段落【００１２】、段落【００１６】〜【００１７】及び図１等に記載されているように従来周知の事項にすぎない。そうすると、引用発明に刊行物２記載の事項を適用して、通路の天井部からジンバルロッドを隔てるギャップを備えるものとするに当たり、負荷機構として刊行物２に記載のウェイト又は上記従来周知の事項を採用することは、当業者が容易になし得たことである。
［相違点３について］
　本願発明において、ジンバルロッドは、ベースに固定されているものであるが、「ジンバル」という名称で示されていること、及び本願明細書の段落【００１１】に本願発明の目的として、「具体的には、ポリシングしようとする基板の表面全体に実質的に均一な圧力を与えるキャリアヘッドが必要である。このキャリアヘッドは、ポリシングパッドに実質的に平行な状態を保つことが可能となっているべきである。」と記載されていることから、ジンバルロッドは、ベースに対して不動に設けられているものではないと解するのが妥当である。すなわち言い換えれば、本願発明における、ジンバルロッドが、ベースに固定されていることは、ジンバルとして作用するようベースに固定されているものであると解するのが妥当である。これに対して、引用発明では、上軸１００はジンバル構造により押圧板１１９に傾斜可能に取り付けられているとともに、押圧板１１９と一体的に第１の軸に沿って昇降すると言うことができるものであるから、ジンバルロッドはジンバル構造によりベースに傾斜可能に取り付けられているとともに、ベースと一体的に第１の軸に沿って昇降すると言うことができる。そうすると、引用発明においても、ジンバルロッドは、ベースに固定されていると表現できるものである。
　したがって、上記相違点３は、実質的に相違点ではない。
　
　そして、本願発明の作用効果は、刊行物２に記載の、回転を伝達する本体部とワーク保持部との間に面振れ追従部と上下追従部を設けたので、定盤の上下動及び面振れに忠実に追従することができるという発明の効果（第３頁左上欄第１６〜２０行参照）を参酌すれば、引用発明、刊行物２記載の事項、及び周知の事項から予測可能な範囲内のものであって、格別のものではない。
　
　なお、請求人は平成１７年７月４日付け意見書において、（１）「本願請求項５にかかる発明における負荷機構とジンバル機構とは２つの独立した機構であり、引用文献１の上軸１００を本願請求項５にかかる発明の負荷機構（の一部）とジンバル機構の一部との双方と認定して引用文献記載の技術と本願請求項５にかかる発明とを対比させることはできません。したがって、引用文献１記載の技術と本願請求項５にかかる発明とは、構成が明らかに異なっているといえます。」、また、（２）「仮に、引用文献１の上軸１００を本願請求項５にかかる発明の負荷機構（の一部）とジンバル機構の一部との双方と認定して引用文献記載の技術と本願請求項５にかかる発明とを対比させたとしても、本願請求項５にかかる発明の特徴である、ジンバルロッドがハウジングの中で第１の軸に沿う通路に配置されている点について、引用文献１には記載はおろか示唆等もありません。」、さらに、（３）「本願請求項５にかかる発明は、ジンバルロッドがベースからハウジングへ水平方向の力を伝達する点で、引用文献１に記載の発明とは異なっております。引用文献１には、上軸１００（審判官殿がジンバルロッドと認定）が支持円板１１５及び押圧板１１９（審判官殿がベースと認定）から上板１１２（審査官殿がハウジングと認定）に水平方向の力を伝達する点については、記載も示唆もありません。」と主張している。
　しかしながら、上記（１）の点について、本願の請求項５には、請求人が主張する「負荷機構とジンバル機構とは２つの独立した機構」である点について何ら記載されておらず、請求項５に係る発明が、ある部材を負荷機構とジンバル機構の２つの機構として機能させるようにしたものを排除するものではないことは明らかである。しかも、刊行物２には、上記のように、負荷機構（ウェイト）とジンバル機構とが独立したものが記載されている。
　また、（２）の点については、刊行物２には上述したとおりの事項が記載されており、引用発明に刊行物２に記載の事項を適用することにより、第１の軸の回りに回転する部材であるハウジングの中で２自由度揺動可能なジンバルロッドを第１の軸に沿う通路に配置することは、当業者が容易になし得た事項というべきである。
　さらに、（３）の点について、引用発明も、押圧板１１９に作用する水平方向の力は、上述のとおり、半球体１２１、上軸１００、外筒１１０を介して上板１１２に伝達されると解されるから、本願発明におけるジンバルロッドは前記ベースから前記ハウジングへ水平方向の力を伝達することと変わるところはない。
　よって、請求人の上記主張は採用することができない。
　
５．むすび 
　以上のとおり、本願発明は、引用発明、刊行物２記載の事項、及び周知の事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、その余の請求項に係る発明について検討するまでもなく本件出願は拒絶されるべきものである。 
　よって、結論のとおり審決する。