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　特願２００６−１１７１９１「磁気記録媒体およびそれを用いた磁気記録装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１８年　９月２１日出願公開、特開２００６−２５２７６０〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、平成１４年３月１８日（優先権主張　平成１３年４月２７日）に出願した特願２００２−７５１５１号の一部を平成１８年４月２０日に新たな特許出願としたものであって、平成２０年６月２７日付け拒絶理由通知に対する応答時、同年８月２７日付けで手続補正がなされ、同年９月１６日付けで拒絶査定がなされ、これに対して、同年１０月２４日付けで拒絶査定不服審判が請求されたものである。
　
２．本願発明
　本願の請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、平成２０年８月２７日付け手続補正書により補正された明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１に記載された次のとおりのものである。
「【請求項１】
　基板と、情報を磁気的に記録するための磁性層とを備え、上記基板と磁性層との間に、非磁性金属元素からなる下地層が設けられた磁気記録媒体において、
　上記磁性層が非晶質の希土類‐遷移金属合金の非晶質磁性体からなり、加熱および磁界の印加によって情報を磁気的に記録するものであって、
　上記下地層の非磁性金属元素がアルミニウムであり、該下地層の表面に凹凸を有し、上記磁性層と接していることを特徴とする磁気記録媒体。」
　
３．引用例
　これに対して原査定の拒絶の理由に引用された特開２０００−３１５３１０号公報（以下、「引用例」という。）には、図面とともに以下の各記載がある（なお、下線は当審で付与した。）。
（１）「【発明の実施の形態】以下、本発明の第１の情報記録媒体を説明する。本発明の発明者は、磁気的記録再生方法が可能な方式で超高密度記録を実現するために、磁気異方性が大きく、結晶粒を持たない希土類遷移金属のアモルファス合金を情報記録媒膜に使用することについて検討した。このアモルファス合金は、膜内部における交換結合力が強いことが知られている。そのため、現在の記録再生装置に使用されている薄膜コイルを用いた記録ヘッドでは、ヘッド寸法が大きく、十分な磁界を発生することが困難なため、微小記録マークを形成することが難しいと考えられてきた。また、交換結合力を小さくすると保磁力も小さくなるという性質を有するため、記録マークの安定性が悪くなると考えられてきた。そのため情報記録媒体に、アモルファス合金を使用することは一般的ではなかった。
【００１３】しかしながら、
発明者は、希土類遷移金属のアモルファス合金を情報記録膜として用いた情報記録媒体の記録特性と、情報記録膜の構造等を詳細に調べたところ、情報記録膜下の基体に適当な凹凸を形成すれば、図１に示すように、磁性膜内部に適当なコラム構造が形成されることを意外にも見い出した。図１中、１は基板、２は下地層、３は情報記録膜をそれぞれ示す。更に、このコラム構造を有する情報記録膜は、従来の磁気ヘッドでも微小記録マークを形成でき、また大きな再生信号を得られることも見い出し本発明に至った
　
（２）「【００１４】まず、本発明の情報記録媒体は、少なくとも基体と、その上に位置する情報記録膜とからなる。基体は、所定のＲａ又は周期の凹凸が形成されていさえすれば、当該分野で公知の基体をいずれも使用することができる。具体的には、基体としては、ガラス、セラミックス、チタン、シリコン、カーボン等の基板に凹凸を形成したもの、
基板上に凹凸を有する下地層が形成された基体等が挙げられる
【００１５】基板への凹凸の形成方法としては、塩酸のような酸中に基板を浸漬し、所定の粒径の研磨剤（例えば、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＣ、ＳｉＯ）を用いて研磨する、いわゆるメカノケミカルポリッシング法が挙げられる。下地層の凹凸は、下地層の形成と同時に形成しても、下地層を形成した後、別
工程で形成してもよい。
下地層の形成と同時に凹凸を形成する場合、例えばスパッタ法により、積層するにつれて層の表面の凹凸が自己的に所定形状になるような材料を選択する必要がある。そのような材料として、ＮｉＰ、ＮｉＢ、ＣｒＭｏ等の合金、Ｃｒ、Ｔｉ等の金属が挙げられる。
　
（３）「【００１６】下地層にＮｉＰを使用する場合、その組成は特に限定されない。例えば、代表的な組成として、Ｎｉ：Ｐ＝４：１、３：１、２：１や５：４のものが存在する。
ただし、過剰にＮｉがリッチな膜にすると、Ｎｉが析出して、下地層が強磁性体となるという問題がある。強磁性体となった場合、情報記録膜と静電気的な相互作用が起こり、記録/再生磁界に影響を与えるという問題が生じる恐れがある。そのためＮｉＰの組成は、Ｎｉ：Ｐ＝４〜２：１が好ましい。
凹凸の具体的な形状は、Ｒａが０．１〜１．５ｎｍ又は周期が１０〜４０ｎｍである
【００１７】ここで、Ｒａが０．１ｎｍより小さい場合、情報記録膜内にコラム構造が形成されにくいので好ましくない。Ｒａが１．５ｎｍより大きい場合、１つのコラムのサイズが大きくなりノイズを生じやすくなるので好ましくない。より好ましいＲａは、０．２〜１．２ｎｍである。
Ｒａは下地層の厚さを厚くすれば大きく、薄くすれば小さくすることができる
　
（４）「【００２４】
本発明の情報記録媒体によれば、基体上に凹凸を形成しない場合より、ＳＮＲを１００％以上向上させることができ、オーバーライト特性を４００％以上向上することができる。これは、基体の凹凸に由来する情報記録膜内部のコラム構造により、微小記録マークを安定に形成できるためであると考えられる
【００２５】本発明の情報記録媒体を光磁気記録媒体に使用すれば、例えば０．１〜２．５μｍのトラック幅及び０．１〜２μｍの磁化反転部の幅のような微細記録マークで情報を記録することができ、この情報を公知の磁気再生ヘッドでも再生することができる。」
　
（５）「【００３６】また、
本発明の第１及び第２の情報記録媒体を光磁気記録媒体として使用する場合、この媒体に情報を記録及び再生する記録再生装置は、例えば磁気ヘッドを備えたスライダ、光照射手段を有している。ここで、光照射手段は、情報記録媒体に光を照射することにより、照射部の温度を上昇させ、それにより情報の記録及び再生を容易にすると共に、記録マークを更に微小にする役割を果たす
　
（６）「【００４８】まず、下地層を形成しない場合、磁気ヘッドに６０ｍＡの電流を流して約３ＫＯｅの磁界を印加したが、磁性膜に正確な1μmのマークを記録することはできなかった。これは、磁性体内部での交換結合力が大きいため、磁化が一方向に向きやすいためと思われる。従って、Ｒａが小さい場合、磁性膜に磁気ヘッドで正確にマークを形成することは難しいことが分かった。これに対して、下地層のＲａを大きくするとＳＮＲ及びＯ／Ｗ特性を向上させることが可能であった。特に、Ｒａが０．１〜１．５ｎｍの範囲でＳＮＲ及びＯ／Ｗ特性の向上が顕著であった。
【００４９】
ＳＮＲ及びＯ／Ｗ特性が向上する理由は、希土類遷移金属アモルファス層からなる磁性膜に記録された情報を磁気的に再生する方式において、磁性膜を形成する下地に適度の凹凸を形成すれば、磁性体内の交換結合力が、情報を正確に記録／再生しうる程度に低下するためであると考えられる
　
　上記記載事項及び図面を総合勘案すると、引用例には、次の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されている。
「少なくとも基板と、その上に位置する情報記録膜とからなり、上記基板と情報記録膜との間に、ＮｉＰ、ＮｉＢ、ＣｒＭｏ等の合金、Ｃｒ、Ｔｉ等の金属からなる下地層が形成された情報記録媒体において、
　上記情報記録膜が希土類遷移金属のアモルファス合金からなる磁性膜であり、当該情報記録媒体を光磁気記録媒体として使用する場合、光照射手段が情報記録媒体に光を照射することにより照射部の温度を上昇させ、それにより磁気ヘッドによる情報の記録及び再生を容易にすると共に、記録マークを更に微小にするものであって、
　上記下地層の表面は自己的に周期１０〜４０ｎｍの凹凸が形成され、上記情報記録膜と接しており、それによって情報記録膜内部に適当なコラム構造が形成され、交換結合力が低下することにより微小記録マークを形成できるようにした情報記録媒体。」
　
４．対比
　そこで、本願発明と引用発明とを対比すると、
　引用発明における「基板」は、本願発明における「基板」に相当する。
　引用発明における「情報記録膜」、「上記情報記録膜が希土類遷移金属のアモルファス合金からなる磁性膜であり」は、当該情報記録膜が情報を磁気的に記録するための磁性膜であって、アモルファスすなわち非晶質の希土類遷移金属合金からなるものであるから、それぞれ本願発明における「情報を磁気的に記録するための磁性層」、「上記磁性層が非晶質の希土類‐遷移金属合金の非晶質磁性体からなり」に相当する。また、引用発明における「当該情報記録媒体を光磁気記録媒体として使用する場合、光照射手段が情報記録媒体に光を照射することにより照射部の温度を上昇させ、それにより磁気ヘッドによる情報の記録及び再生を容易にすると共に、記録マークを更に微小にするもの」によれば、当該情報記録媒体に対して光の照射による加熱と、磁気ヘッドによる磁界の印加によって微小記録マークを形成することによって情報を磁気的に記録するものであるといえるから、「加熱および磁界の印加によって情報を磁気的に記録するもの」である点で本願発明と一致する。
　さらに、引用発明における「上記基板と情報記録膜との間に、ＮｉＰ、ＮｉＢ、ＣｒＭｏ等の合金、Ｃｒ、Ｔｉ等の金属からなる下地層が形成された」は、ＮｉＰ、ＮｉＢ、ＣｒＭｏ等の合金、Ｃｒ、Ｔｉ等の金属のうち、ＣｒやＴｉは非磁性金属元素に他ならないから、「上記基板と磁性層との間に、非磁性金属元素からなる下地層が設けられた」点で本願発明と一致する。また、引用発明における「上記下地層の表面は自己的に周期１０〜４０ｎｍの凹凸が形成され、上記情報記録膜と接しており、それによって情報記録膜内部に適当なコラム構造が形成され、交換結合力が低下することにより微小記録マークを形成できるようにした」は、「上記下地層の表面に凹凸を有し、上記磁性層と接している」点で本願発明と一致する。
　そして、引用発明における「情報記録媒体」は、本願発明における「磁気記録媒体」に相当するといえるから、
　本願発明と引用発明とは、
「基板と、情報を磁気的に記録するための磁性層とを備え、上記基板と磁性層との間に、非磁性金属元素からなる下地層が設けられた磁気記録媒体において、
　上記磁性層が非晶質の希土類‐遷移金属合金の非晶質磁性体からなり、加熱および磁界の印加によって情報を磁気的に記録するものであって、
　上記下地層の表面に凹凸を有し、上記磁性層と接していることを特徴とする磁気記録媒体。」
である点で一致し、次の点で相違する。
［相違点］
　下地層の非磁性金属元素が、本願発明ではアルミニウムであるのに対し、引用発明ではＣｒ、Ｔｉ等である点。
　
５．判断
　上記相違点について検討する。
　表面に自己的に凹凸が形成される非磁性金属元素としてアルミニウム（Ａｌ）は、例えば原査定の拒絶理由に引用された特開平３−７３４１９号公報（３頁左上欄１４行〜同頁右上欄４行、４頁右下欄１７行〜５頁左上欄６行、５頁左下欄６〜１１行）や特開平４−２９５６１４号公報（段落【００１５】〜【００１６】、【００２３】）、さらには特開平１０−２４１１４４号公報（段落【００６９】、【００９９】）などに記載されているように周知のものであり、Ａｌ等の低融点金属によれば凹凸が形成され易いことも周知の事項である。そして、引用例には、下地層の材料としてＮｉＰのように強磁性体を含むものは必ずしも良い材料ではないことや、凹凸のサイズは下地層の厚さによって制御できることが記載（前記「３．（３）」）されている点を考慮すると、引用発明においても、ＣｒやＴｉに代えて、特に非磁性金属元素として共通するアルミニウムを用いることは、成膜方法・成膜条件等を考慮して当業者であれば容易になし得ることである。
　そして、本願発明が奏する効果についてみても、引用発明及び周知の技術事項から当業者が十分に予測できたものであって、格別顕著なものがあるとはいえない。
　
６．むすび
　以上のとおり、本願の請求項１に係る発明は、引用発明及び周知の技術事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、本願は、その余の請求項について論及するまでもなく拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。