【手続補正書】
【提出日】平成24年10月2日(2012.10.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の上に、一対の電極と前記一対の電極の間に配置された発光層を含む有機化合物層とを有する複数の有機ＥＬ素子と、前記複数の有機ＥＬ素子の上に形成された保護層と、を有する表示装置であって、
前記保護層は、無機材料からなる第１の保護層と、前記第１の保護層の上に形成された樹脂材料からなる第２の保護層と、前記第２の保護層の上に形成された無機材料からなる第３の保護層とを有し、
前記第２の保護層には、前記発光層から発せられた光の少なくとも一部を発散させるレンズが形成されており、
前記レンズは、複数の有機ＥＬ素子にわたって連続して形成されていることを特徴とする表示装置。
【請求項２】
１つの共通のレンズで覆われた複数の有機ＥＬ素子それぞれは、前記共通のレンズのみで覆われていることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記レンズの形状は、凹状であることを特徴とする請求項１又は２に記載の表示装置。
【請求項４】
互いに隣接するレンズは、連続的な曲線で繋がっていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項５】
前記第２の保護層は、水分含有率が１００ｐｐｍ以下の樹脂材料からなることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項６】
前記第２の保護層の膜厚は、１μｍ以上５０μｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項７】
前記第１の保護層と前記第３の保護層は、窒化シリコン又は酸窒化シリコンからなることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項８】
前記第１の保護層の膜厚は、０．１μｍ以上１．０μｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項９】
前記第３の保護層の膜厚は、０．５μｍ以上５．０μｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項１０】
前記第１の保護層と前記第３の保護層は、前記複数の有機ＥＬ素子が形成された表示領域の外で接していることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項１１】
前記基板と前記有機ＥＬ素子との間に、前記基板の上に形成された前記有機ＥＬ素子を駆動するための回路と、前記回路の上に形成された無機材料からなる層間絶縁膜と、前記層間絶縁膜の上に形成された樹脂材料からなる平坦化膜と、を有し、
前記第１の保護層と前記層間絶縁膜は、前記複数の有機ＥＬ素子が形成された表示領域の外で接していることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項１２】
請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の表示装置を背面モニタに備えたデジタルカメラ。
【請求項１３】
基板の上に、一対の電極と前記一対の電極の間に配置された発光層を含む有機化合物層とを有する複数の有機ＥＬ素子と、前記複数の有機ＥＬ素子の上に形成された保護層と、を有する表示装置であって、
前記保護層には、前記発光層から発せられた光の少なくとも一部を発散させるレンズが形成されており、
前記レンズは、複数の有機ＥＬ素子にわたって連続して形成されていることを特徴とする表示装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】表示装置およびデジタルカメラ
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
本発明の表示装置は、基板の上に、一対の電極と前記一対の電極の間に配置された発光層を含む有機化合物層とを有する複数の有機ＥＬ素子と、前記複数の有機ＥＬ素子の上に形成された保護層と、を有する表示装置であって、前記保護層は、無機材料からなる第１の保護層と、前記第１の保護層の上に形成された樹脂材料からなる第２の保護層と、前記第２の保護層の上に形成された無機材料からなる第３の保護層とを有し、前記第２の保護層には、前記発光層から発せられた光の少なくとも一部を発散させるレンズが形成されており、前記レンズは、複数の有機ＥＬ素子にわたって連続して形成されていることを特徴とする。
また、本発明の表示装置は、基板の上に、一対の電極と前記一対の電極の間に配置された発光層を含む有機化合物層とを有する複数の有機ＥＬ素子と、前記複数の有機ＥＬ素子の上に形成された保護層と、を有する表示装置であって、前記保護層には、前記発光層から発せられた光の少なくとも一部を発散させるレンズが形成されており、前記レンズは、複数の有機ＥＬ素子にわたって連続して形成されていることを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３０】
なお、測定に用いたマイクロレンズ１６ａはレンズ曲率半径Ｒ（２０，３０，６０，１００［μｍ］）が異なる４種類のものを用意した。そして、本測定における条件は以下である。まず、画素ピッチを３１．５μｍ、マイクロレンズ１６ａの最大幅を３１．５μｍ、発光領域（画素分離層で規定された１画素の発光領域）の幅を１６．５μｍとした。また、カソード電極は酸化インジウムと酸化亜鉛の混合物で構成し、屈折率１．９、膜厚０．０５μｍとした。第１の保護層はＳｉＮで構成し、屈折率１．８３、膜厚０．１８μｍとした。第２の保護層はエポキシ樹脂で構成し、屈折率１．５４、最小の膜厚を１０μｍとした。第３の保護層はＳｉＮで構成し、屈折率１．８３、膜厚１μｍとした。発光面からマイクロレンズ１６ａまでの距離は、画素と画素の間の最も第２の保護層が厚い位置での距離とすると、レンズ曲率半径Ｒ（２０，３０，６０，１００［μｍ］）に対して、それぞれ、１７．７、１４．５、１２．１、１１．２μｍである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
次に、図４（ｃ）に示すように第１の保護層１５上に、第２の保護層１６を表示領域の全域に形成する。第２の保護層１６は樹脂材料からなる。また、第２の保護層の膜厚は、エッチング残渣などのゴミを十分にカバーすることが可能であると共にアクリル樹脂からなる画素分離層１２に生じる凹凸を平坦化することが可能なように、１０μｍ以上１００μｍ以下程度とする。樹脂材料としては水分含有が少ない熱硬化型樹脂、熱可塑性樹脂、光硬化型樹脂を用いることができる。熱硬化型樹脂と光硬化型樹脂を用いた場合、成膜方法としては、スピンコート法、ディスペンス法などを用いることが可能である。また、第１の保護層１５上に、膜厚１０μｍ〜１００μｍ程度の熱可塑性樹脂のフィルムを真空下にて貼りつける方法も用いることができる。具体的な樹脂材料としては、エポキシ樹脂、ブチル樹脂が好適に用いられる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
次に、図４（ｄ）に示すように、マイクロレンズ１６ａを成形するための型２１を用意し、樹脂材料に気泡が混入しないように、型２１を樹脂材料に対して押圧し、マイクロレンズ１６ａを形成する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
ここで、表示装置において、第１の保護層１５と第３の保護層１７は、図５に示すように、有機ＥＬ素子が形成された表示領域の外側であって、有機ＥＬ素子が形成されていない周辺領域で直接接し、第２の保護層１６を挟み込むように形成されている。つまり、第２の保護層１６は、第１の保護層１５と第３の保護層１７とで封止された構成となっている。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
また、図５に示すように、基板１０上の平坦化膜５２下に形成された層間絶縁膜５１と第１の保護層１５は、周辺領域で直接接し、平坦化膜５２、有機ＥＬ層１３、カソード電極１４及び不図示の画素分離層を挟み込むように形成されている。つまり、平坦化膜５２、有機ＥＬ層１３、カソード電極１４、画素分離層は、層間絶縁膜５１と第１の保護層１５とで封止された構成となっている。層間絶縁膜５１は、窒化シリコン、酸化窒化シリコン等の無機材料で構成され、防湿性に優れているため、平坦化膜５２や画素分離層を通じて表示領域内部に外部から水分が浸入することを防止できる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
ここで、クリーンルームおよびプロセス装置の環境を考慮して、異物等があっても樹脂材料で平坦化することを目的としているので、第２の保護層１６の最小膜厚（最薄部における膜厚）は１０μｍとした。なお、ここでは最小膜厚を１０μｍとしたが、１μｍ以上、５０μｍ以下であっても良い。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
さらに、図４（ｆ）のように、窒化珪素からなる無機材料の保護膜（第３の保護層１７）を、ＳｉＨ４ガス、Ｎ２ガス、Ｈ２ガスを用いたプラズマＣＶＤ法で成膜した。第３の保護層１７の膜厚は１μｍとし、有機ＥＬ素子が形成された表示領域の全面を覆うように形成した。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７０】
最後に、窒化珪素からなる無機材料の保護膜（第３の保護層１７）を、ＳｉＨ４ガス、Ｎ２ガス、Ｈ２ガスを用いたプラズマＣＶＤ法で成膜した。第３の保護層１７の膜厚は１μｍとし、有機ＥＬ素子が形成された表示領域の全面を覆うように形成した（図６（ｅ））。