【手続補正書】
【提出日】平成24年10月5日(2012.10.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源から射出された光束の波長の初期波長からの変動量を測定する測定装置であって、
前記光源から射出された前記光束を二光束に分割し、該二光束を合成して互いに位相が異なる複数の干渉光を生成する光学系であって、第一の回折格子と、第二の回折格子と、前記二光束のうちの一方の光路長と他方の光路長との間の差が一定になるように前記第一の回折格子と前記第二の回折格子との間隔を保持するスペーサとを含む光学系と、
前記光学系により生成された前記複数の干渉光をそれぞれ検出する光電センサと、
前記光電センサの出力に基づいて、前記変動量を求める演算ユニットと、を有することを特徴とする測定装置。
【請求項２】
前記第一の回折格子は、前記二光束を生成し、
前記第二の回折格子は、前記複数の干渉光を生成する、
ことを特徴とする請求項１記載の測定装置。
【請求項３】
前記光学系は、
前記二光束を生成する前記第一の回折格子と第一の反射素子とが設けられた第一のプレートと、
前記第一のプレートに対向して配置され、前記第二の回折格子と第二の反射素子とが設けられた第二のプレートと、を有し、
前記スペーサは、前記差が一定になるように、前記第一のプレートと前記第二のプレートとの間隔を保持し、
前記二光束の一方は前記第一の反射素子で反射され、
前記二光束の他方は前記第二の反射素子で反射され、
前記複数の干渉光は、前記第一の反射素子による反射光と前記第二の反射素子による反射光とを前記第一の回折格子で合成することにより生成される、ことを特徴とする請求項１記載の測定装置。
【請求項４】
前記スペーサは、前記二光束の光路上には配置されていない、ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の測定装置。
【請求項５】
前記スペーサは、透明基板を含み、前記第一の回折格子は、前記透明基板の両面のうち一方の面に接着剤を介さずに設けられ、前記第二の回折格子は、前記透明基板の他方の面に接着剤を介さずに設けられている、ことを特徴とする請求項１記載の測定装置。
【請求項６】
前記第二の回折格子は、複数の回折格子を含み、前記複数の干渉光は、該複数の回折格子を介して生成される、ことを特徴とする請求項１または請求項２記載の測定装置。
【請求項７】
前記第一の回折格子は、前記第一の反射素子による反射光と前記第二の反射素子による反射光とを合成する複数の回折格子を含み、前記複数の干渉光は、該複数の回折格子を介して生成される、ことを特徴とする請求項３記載の測定装置。
【請求項８】
可干渉性の光束を射出する光源装置であって、
前記光束を射出する光源と、
前記光源から射出された前記光束を分割する分割部と、
前記分割部により分割された光束が入射する請求項１乃至７のいずれか一項に記載の測定装置と、
前記測定装置からの出力に基づいて、前記光源から射出される前記光束の波長変動が低減するように、該光源を制御する制御手段と、を有することを特徴とする光源装置。
【請求項９】
被測定物の変位量を測定する干渉測定装置であって、
可干渉性の光束を射出する光源と、
前記光源から射出された前記光束の一部が入射し、前記変位量を測定する干渉測定部と、
前記光源から射出された前記光束の他の一部が入射する請求項１乃至７のいずれか一項に記載の測定装置と、
前記干渉測定部は、請求項１乃至７のいずれか一項に記載の測定装置からの出力に基づいて、前記変位量を測定する、ことを特徴とする干渉測定装置。
【請求項１０】
基板を露光する露光装置であって、
原版または前記基板を搭載して移動するステージと、
前記ステージの変位量を測定する請求項９記載の干渉測定装置と、を有することを特徴とする露光装置。
【請求項１１】
請求項１０記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記工程で露光された前記基板を現像する工程と、を有することを特徴とするデバイス製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】測定装置、光源装置、干渉測定装置、露光装置、及びデバイス製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、光源から射出された光束の波長の初期波長からの変動量を測定する測定装置に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
そこで本発明は、波長の変動量を高精度に測定できる測定装置、光源装置、干渉測定装置、露光装置、及びデバイス製造方法を提供する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の一側面としての測定装置は、光源から射出された光束の波長の初期波長からの変動量を測定する測定装置であって、前記光源から射出された前記光束を二光束に分割し、該二光束を合成して互いに位相が異なる複数の干渉光を生成する光学系であって、第一の回折格子と、第二の回折格子と、前記二光束のうちの一方の光路長と他方の光路長との間の差が一定になるように前記第一の回折格子と前記第二の回折格子との間隔を保持するスペーサとを含む光学系と、前記光学系により生成された前記複数の干渉光をそれぞれ検出する光電センサと、前記光電センサの出力に基づいて、前記変動量を求める演算ユニットと、を有することを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また、本発明の他の側面としての光源装置は、可干渉性の光束を射出する光源装置であって、前記光束を射出する光源と、前記光源から射出された前記光束を分割する分割部と、前記分割部により分割された光束が入射する上述の測定装置と、前記測定装置からの出力に基づいて、前記光源から射出される前記光束の波長変動が低減するように、該光源を制御する制御手段と、を有することを特徴とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
また、本発明の他の側面としての干渉測定装置は、被測定物の変位量を測定する干渉測定装置であって、可干渉性の光束を射出する光源と、前記光源から射出された前記光束の一部が入射し、前記変位量を測定する干渉測定部と、前記光源から射出された前記光束の他の一部が入射する上述の測定装置と、前記干渉測定部は、前記測定装置からの出力に基づいて、前記変位量を測定する、ことを特徴とする。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また、本発明の他の側面としての露光装置は、基板を露光する露光装置であって、原版または前記基板を搭載して移動するステージと、前記ステージの変位量を測定する上述の干渉測定装置と、を有することを特徴とする。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
また、本発明の他の側面としてのデバイス製造方法は、上述の露光装置を用いて基板を露光する工程と、前記工程で露光された前記基板を現像する工程と、を有することを特徴とする。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明によれば、波長の変動量を高精度に測定できる測定装置、光源装置、干渉測定装置、露光装置、及びデバイス製造方法を提供することができる。