(57)【要約】  保存安定性に優れ、被膜を形成する際、はじきに伴うピンホールの発生を抑制でき、更に段差基板の凹凸に対して段差追随性が高い、液晶配向処理剤に好適な組成物を提供する。  （Ａ）成分：式［１］の構造を有する重合体及び（Ｂ）成分：式［Ａ１］、［Ａ２］及び［Ａ３］からなる群から選ばれる１種以上を含むアルコキシシランを重縮合させてなるポリシロキサンを含む組成物。2014148439.tif 000058（Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、Ｘ５、Ｘ６は、Ｈ等。ｎは１００〜１００００００）2014148439.tif 000059（Ａ１は炭素数６〜１８のアルキル基等、Ａ２は水素等、Ａ３は炭素数１〜５のアルキル基。ｍは１又は２、ｎは０〜２、ｐは０〜３、ｍ＋ｎ＋ｐは４）2014148439.tif 000060（Ｂ１はビニル基等、Ｂ２は水素等、Ｂ３は炭素数１〜５のアルキル基。ｍは１又は２、ｎは０〜２、ｐは０〜３、ｍ＋ｎ＋ｐは４）2014148439.tif 000061（Ｄ１は水素等、Ｄ２は炭素数１〜５のアルキル基。ｎは０〜３）
2014148439.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記の（Ａ）成分及び（Ｂ）成分を含有することを特徴とする組成物。
（Ａ）成分：下記の式［１］で示される構造を有する重合体。
【化１】
2014148439.tif 000052
（Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、Ｘ５及びＸ６は、それぞれ独立して、下記の式［１ａ］〜式［１ｍ］から選ばれる構造の基を示す。ｎは１００〜１００００００の整数を示す。）
【化２】
2014148439.tif 000053
（式［１ｃ］〜式［１ｍ］中、Ｘ７、Ｘ８、Ｘ９、Ｘ１０、Ｘ１１、Ｘ１２、Ｘ１３及びＸ１４は、それぞれ独立して、ベンゼン環、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基又はブチル基を示す。式［１ｈ］中、ｎは０〜３の整数を示す。式［１ｉ］中、ｍは０〜３の整数を示す。）
（Ｂ）成分：下記の式［Ａ１］、式［Ａ２］及び式［Ａ３］で示されるアルコキシシランからなる群から選ばれる少なくとも１種を含むアルコキシシランを重縮合させて得られるポリシロキサン。
【化３】
2014148439.tif 000054
（Ａ１は下記の式［２］で示される構造、炭素数６〜１８のアルキル基、又はベンゼン環、シクロヘキサン環若しくは複素環を有する炭素数６〜２４の有機基を示す。Ａ２は水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を示す。Ａ３は炭素数１〜５のアルキル基を示す。ｍは１又は２の整数、ｎは０〜２の整数、ｐは０〜３の整数を示す。ただし、ｍ＋ｎ＋ｐは４である。）
【化４】
2014148439.tif 000055
（Ｂ１はビニル基、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基、イソシアネート基、メタクリル基、アクリル基、ウレイド基又はシンナモイル基を有する炭素数２〜１２の有機基を示す。Ｂ２は水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を示す。Ｂ３は、炭素数１〜５のアルキル基を示す。ｍは１又は２の整数、ｎは０〜２の整数、ｐは０〜３の整数を示す。ただし、ｍ＋ｎ＋ｐは４である。）
【化５】
2014148439.tif 000056
（Ｄ１は水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を示す。Ｄ２は炭素数１〜５のアルキル基を示す。ｎは０〜３の整数を示す。）
【化６】
2014148439.tif 000057
（Ｙ１は単結合、−（ＣＨ２）ａ−（ａは１〜１５の整数である）、−Ｏ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を示す。Ｙ２は単結合又は−（ＣＨ２）ｂ−（ｂは１〜１５の整数である）を示す。Ｙ３は単結合、−（ＣＨ２）ｃ−（ｃは１〜１５の整数である）、−Ｏ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を示す。Ｙ４はベンゼン環、シクロヘキサン環及び複素環から選ばれる２価の環状基、又はステロイド骨格を有する炭素数１７〜５１の２価の有機基を示し、前記環状基上の任意の水素原子は、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルコキシル基又はフッ素原子で置換されていてもよい。Ｙ５はベンゼン環、シクロヘキサン環及び複素環から選ばれる２価の環状基を示し、これらの環状基上の任意の水素原子は、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルコキシル基又はフッ素原子で置換されていてもよい。ｎは０〜４の整数を示す。Ｙ６は炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数１〜１８のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜１８のアルコキシル基又は炭素数１〜１８のフッ素含有アルコキシル基を示す。）
【請求項２】
前記式［Ａ２］で示されるアルコキシシランが、アリルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、ジエトキシメチルビニルシラン、ジメトキシメチルビニルシラン、トリエトキシビニルシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、３−（トリエトキシシリル）プロピルメタクリレート、３−（トリメトキシシリル）プロピルアクリレート及び３−（トリメトキシシリル）プロピルメタクリレートからなる群から選ばれる少なくとも１種である請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記式［Ａ２］で示されるアルコキシシランが、３−グリシジルオキシプロピル（ジメトキシ）メチルシラン、３−グリシジルオキシプロピル（ジエトキシ）メチルシラン、３−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン及び２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランからなる群から選ばれる少なくとも１種である請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
前記（Ｂ）成分中の式［Ａ１］、式［Ａ２］及び式［Ａ３］で示されるアルコキシシランの割合が、全てのアルコキシシラン中、それぞれ１〜４０モル％、１〜７０モル％、１〜９９モル％である請求項１〜３のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項５】
前記（Ａ）成分と（Ｂ）成分の割合が、質量比において、（Ｂ）成分を１とし、（Ａ）成分は０．１〜９である請求項１〜４のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項６】
更に、溶媒を５０〜９９．９質量％含有する請求項１〜５いずれか一項に記載の組成物。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の組成物から得られる樹脂被膜。
【請求項８】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の組成物を用いてなる液晶配向処理剤。
【請求項９】
請求項８に記載の液晶配向処理剤を用いて得られる液晶配向膜。
【請求項１０】
請求項８に記載の液晶配向処理剤を用い、インクジェット法にて形成される液晶配向膜。
【請求項１１】
請求項９又は１０に記載の液晶配向膜を有する液晶表示素子。
【請求項１２】
電極を備えた一対の基板の間に液晶層を有してなり、前記一対の基板の間に活性エネルギー線及び熱の少なくとも一方により重合する重合性化合物を含む液晶組成物を配置し、前記電極間に電圧を印加しつつ前記重合性化合物を重合させる工程を経て製造される液晶表示素子に用いられる、請求項９又は１０に記載の液晶配向膜。
【請求項１３】
請求項１２に記載の液晶配向膜を有する液晶表示素子。
【請求項１４】
電極を備えた一対の基板の間に液晶層を有してなり、前記一対の基板の間に活性エネルギー線及び熱の少なくとも一方により重合する重合性基を含む液晶配向膜を配置し、前記電極間に電圧を印加しつつ前記重合性基を重合させる工程を経て製造される液晶表示素子に用いられる、請求項９又は１０に記載の液晶配向膜。
【請求項１５】
請求項１４に記載の液晶配向膜を有する液晶表示素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、樹脂被膜の形成に用いられる組成物、該組成物から得られる液晶配向処理剤、液晶配向膜、及び液晶表示素子に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
高分子材料など有機材料からなる樹脂被膜は、形成の容易さや絶縁性能などが着目され、電子デバイスにおける層間絶縁膜や保護膜などとして、広く用いられている。なかでも、表示デバイスとして良く知られた液晶表示素子では、有機材料や無機材料からなる樹脂被膜が液晶配向膜として使用されている。
現在、工業的に利用されている樹脂被膜を形成するための組成物としては、耐久性に優れたポリイミド系重合体やアルコキシシランを重縮合させて得られるポリシロキサン系重合体を含む組成物が用いられている。【０００３】
近年、ポリシロキサン系重合体を含む組成物から形成された無機系の樹脂被膜が、層間絶縁膜や保護膜、更には、液晶配向膜に用いられている。そのなかでも、液晶表示素子において、熱に対する液晶の配向性を改善すること（特許文献１など）や、液晶配向膜の膜硬度を高め、かつ液晶配向処理剤の印刷塗布性を改善することを目的に、ポリシロキサン系重合体を用いた液晶配向処理剤及び液晶配向膜が提案されている（特許文献２など）。
更に、液晶表示素子の長期駆動に伴う信頼性を改善させるため、ポリシロキサン系重合体とポリイミド系重合体（ポリイミド前駆体やポリイミド）とを含む液晶配向処理剤及び液晶配向膜が提案されている（特許文献３など）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】日本特許４２４３６５２号公報
【特許文献２】国際公報ＷＯ２００８／０４４６４４号公報
【特許文献３】日本特開２０１０−０９７００７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ポリシロキサン系重合体から得られる樹脂被膜は、電子デバイスにおける層間絶縁膜や保護膜、更には液晶表示素子の液晶配向膜などに広く用いられている。そして、これらに対しては、樹脂被膜や保護膜、及び液晶配向膜の塗膜性を高めることが求められている。すなわち、これら膜の塗膜性の向上は、塗膜性不良に伴い発生する電子デバイス及び液晶表示素子の欠陥を抑制するために有効となる。
近年、液晶表示素子が、大画面の液晶テレビや高精細なモバイル用途（デジタルカメラや携帯電話の表示部分）に広く実用化されている。それに伴い、従来に比べて使用される基板の大型化や基板段差の凹凸が大きくなってきている。そのような状況においても、液晶表示素子の表示特性の向上や欠陥の抑制の点から、大型基板や段差に対して、均一に液晶配向膜が塗膜されることが求められている。特に、基板段差の凹凸に対して、液晶配向膜が均一な膜厚で塗膜されること（段差追随性を高めるともいう）が求められている。【０００６】
ポリシロキサン系重合体から得られる組成物又は液晶配向処理剤は、ポリシロキサン系重合体の分子量が低いため、樹脂被膜又は液晶配向膜の段差追随性が低くなる。すなわち、基板段差の凹凸に対して、均一な膜厚の樹脂被膜又は液晶配向膜を得ることができない。特に、基板段差の凸部分に、樹脂被膜又は液晶配向膜が塗膜されていない、あるいは、それらの膜厚が薄くなりやすくなる。それに伴い、電子デバイスにおける層間絶縁膜や保護膜、更には液晶表示素子の液晶配向膜としての機能を発現することができなくなり、これらの欠陥となりやすい。
また、液晶配向膜の段差追随性を高めるため、ポリシロキサン系重合体とポリイミド系重合体とを含む液晶配向処理剤を用いると、ポリシロキサン系重合体とポリイミド系重合体との相溶性が悪くなる。すなわち、疎水性が高いポリイミド系重合体と極性の高いポリシロキサン系重合体との相溶性が悪くなり、液晶配向処理剤を保存している間にこれら重合体の析出が起こる、液晶配向処理剤を基板に塗布する際、液晶配向膜上に、はじきに伴うピンホールが発生する等の問題が生じる。そのため、ポリシロキサン系重合体とポリイミド系重合体とを含む液晶配向処理剤では、その保存安定性が低いことや液晶配向膜上にピンホールに伴う配向欠陥が起こりやすくなる。また、液晶配向処理剤の保存安定性や液晶配向膜上のピンホールは、組成物及びそれから得られる樹脂被膜においても問題となる。【０００７】
そこで、本発明は、上記特性を兼ね備えた組成物を提供することを目的とする。
すなわち本発明は、セルロース系の重合体とポリシロキサン系重合体とを含む組成物において、組成物の保存時に重合体の析出が起こらずに保存安定性に優れ、樹脂被膜を形成する際に、はじきに伴うピンホールの発生を抑制することができ、更には、段差基板の凹凸に対して段差追随性が高い、液晶配向処理剤の調製に好適な組成物を提供することを目的とする。
また、本発明は、上述の要求に対応した液晶配向膜を備えた液晶表示素子を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者は、鋭意研究を行った結果、特定構造を有するセルロース系重合体及び特定構造のアルコキシシランを重縮合させて得られるポリシロキサンを含有する組成物が上記の目的の達成に有効であることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は以下の要旨を有するものである。【０００９】
（１）下記の（Ａ）成分及び（Ｂ）成分を含有することを特徴とする組成物。
（Ａ）成分：下記の式［１］で示される構造を有する重合体。
【化１】
2014148439.tif 000003
（Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、Ｘ５及びＸ６は、それぞれ独立して、下記の式［１ａ］〜式［１ｍ］から選ばれる構造の基を示す。ｎは１００〜１００００００の整数を示す。）【００１０】
【化２】
2014148439.tif 000004
（Ｘ７、Ｘ８、Ｘ９、Ｘ１０、Ｘ１１、Ｘ１２、Ｘ１３及びＸ１４は、それぞれ独立して、ベンゼン環、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基又はブチル基を示す。ｎは０〜３の整数を示す。ｍは０〜３の整数を示す。）【００１１】
（Ｂ）成分：下記の式［Ａ１］、式［Ａ２］及び式［Ａ３］で示されるアルコキシシランからなる群から選ばれる少なくとも１種を含むアルコキシシランを重縮合させて得られるポリシロキサン。
【化３】
2014148439.tif 000005
（Ａ１は、下記の式［２］で示される構造、炭素数６〜１８のアルキル基、又はベンゼン環、シクロヘキサン環又は複素環を有する炭素数６〜２４の有機基を示す。Ａ２は水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を示す。Ａ３は炭素数１〜５のアルキル基を示す。ｍは１又は２の整数、ｎは０〜２の整数、ｐは０〜３の整数を示す。ただし、ｍ＋ｎ＋ｐは４である。）【００１２】
【化４】
2014148439.tif 000006
（Ｂ１はビニル基、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基、イソシアネート基、メタクリル基、アクリル基、ウレイド基又はシンナモイル基を有する炭素数２〜１２の有機基を示す。Ｂ２は水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を示す。Ｂ３は、炭素数１〜５のアルキル基を示す。ｍは１又は２の整数、ｎは０〜２の整数、ｐは０〜３の整数を示す。ただし、ｍ＋ｎ＋ｐは４である。）【００１３】
【化５】
2014148439.tif 000007
（Ｄ１は水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を示す。Ｄ２は炭素数１〜５のアルキル基を示す。ｎは０〜３の整数を示す。）【００１４】
【化６】
2014148439.tif 000008
（Ｙ１は単結合、−（ＣＨ２）ａ−（ａは１〜１５の整数である）、−Ｏ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を示す。Ｙ２は単結合又は−（ＣＨ２）ｂ−（ｂは１〜１５の整数である）を示す。Ｙ３は単結合、−（ＣＨ２）ｃ−（ｃは１〜１５の整数である）、−Ｏ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を示す。Ｙ４はベンゼン環、シクロヘキサン環及び複素環から選ばれる２価の環状基、又はステロイド骨格を有する炭素数１７〜５１の２価の有機基を示し、前記環状基上の任意の水素原子は、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルコキシル基又はフッ素原子で置換されていてもよい。Ｙ５はベンゼン環、シクロヘキサン環及び複素環から選ばれる２価の環状基を示し、これらの環状基上の任意の水素原子は、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルコキシル基又はフッ素原子で置換されていてもよい。ｎは０〜４の整数を示す。Ｙ６は炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数１〜１８のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜１８のアルコキシル基又は炭素数１〜１８のフッ素含有アルコキシル基を示す。）【００１５】
（２）前記式［Ａ２］で示されるアルコキシシランが、アリルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、ジエトキシメチルビニルシラン、ジメトキシメチルビニルシラン、トリエトキシビニルシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、３−（トリエトキシシリル）プロピルメタクリレート、３−（トリメトキシシリル）プロピルアクリレート及び３−（トリメトキシシリル）プロピルメタクリレートからなる群から選ばれる少なくとも１種である上記（１）に記載の組成物。【００１６】
（３）前記式［Ａ２］で示されるアルコキシシランが、３−グリシジルオキシプロピル（ジメトキシ）メチルシラン、３−グリシジルオキシプロピル（ジエトキシ）メチルシラン、３−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン及び２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランからなる群から選ばれる少なくとも１種である上記（１）に記載の組成物。【００１７】
（４）前記（Ｂ）成分中の式［Ａ１］、式［Ａ２］及び式［Ａ３］で示されるアルコキシシランの割合が、全てのアルコキシシラン中、それぞれ１〜４０モル％、１〜７０モル％、１〜９９モル％である上記（１）〜（３）のいずれかに記載の組成物。
（５）前記（Ａ）成分と（Ｂ）成分の割合が、質量比で（Ｂ）成分を１とし、（Ａ）成分は０．１〜９である上記（１）〜（４）のいずれかに記載の組成物。
（６）更に、溶媒を５０〜９９．９質量％含有する上記（１）〜（５）いずれかに記載の組成物。【００１８】
（７）上記（１）〜（６）のいずれかに記載の組成物から得られる樹脂被膜。
（８）上記（１）〜（６）のいずれかに記載の組成物を用いてなる液晶配向処理剤。
（９）上記（８）に記載の液晶配向処理剤を用いて得られる液晶配向膜。
（１０）上記（８）に記載の液晶配向処理剤を用いて、インクジェット法にて形成される液晶配向膜。
（１１）上記（９）又は（１０）に記載の液晶配向膜を有する液晶表示素子。【００１９】
（１２）電極を備えた一対の基板の間に液晶層を有してなり、前記一対の基板の間に活性エネルギー線及び熱の少なくとも一方により重合する重合性化合物を含む液晶組成物を配置し、前記電極間に電圧を印加しつつ前記重合性化合物を重合させる工程を経て製造される液晶表示素子に用いられる、上記（９）又は（１０）に記載の液晶配向膜。
（１３）上記（１２）に記載の液晶配向膜を有する液晶表示素子。【００２０】
（１４）電極を備えた一対の基板の間に液晶層を有してなり、前記一対の基板の間に活性エネルギー線及び熱の少なくとも一方により重合する重合性基を含む液晶配向膜を配置し、前記電極間に電圧を印加しつつ前記重合性基を重合させる工程を経て製造される液晶表示素子に用いられる、上記（９）又は（１０）に記載の液晶配向膜。
（１５）上記（１４）に記載の液晶配向膜を有する液晶表示素子。
【発明の効果】
【００２１】
本発明の組成物は、組成物の保存時に重合体の析出が起こらない等、保存安定性に優れ、樹脂被膜を形成する際のピンホールの発生を抑制することができ、更には、段差基板の凹凸に対して段差追随性が高い。
また、本発明の組成物を用いた液晶配向処理剤は、液晶配向処理剤の保存時に重合体の析出が起こらない等、保存安定性に優れ、液晶配向膜を形成する際のピンホールの発生を抑制することができ、更には、段差基板の凹凸に対して段差追随性が高い。これにより、得られた液晶配向膜を有する液晶表示素子は、液晶の配向不良に伴う欠陥が無く、高い信頼性を有する。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の樹脂被膜を有する段差基板の概略図である。図１中の（ａ）はドット、（ｂ）は樹脂被膜（液晶配向膜）、（ｃ）はガラス基板を意味する。また、図１中の（１）の膜厚は、ドット上部の樹脂被膜の膜厚で、ドットの中央部の膜厚を意味し、（２）の膜厚は、ドット間の樹脂被膜の膜厚で、ドット間中央部の膜厚を意味する。（１）の膜厚と（２）の膜厚の差が小さいものほど、段差基板に対する樹脂被膜の追随性に優れる。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
本発明は、下記式[１]の構造を有するセルロース系の重合体である（Ａ）成分、並びに下記式[Ａ１]、[Ａ２]及び[Ａ３]で示されるアルコキシシランからなる群から選ばれる少なくとも１種を含むアルコキシシランを重縮合させて得られる（Ｂ）成分を含有する組成物である。
【００２４】
（Ａ）成分：下記の式［１］で示される構造を有する重合体（特定セルロース系重合体ともいう）。
【化７】
2014148439.tif 000009
（Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、Ｘ５及びＸ６は、それぞれ独立に、下記の式［１ａ］〜［１ｍ］から選ばれる構造の基を示し、ｎは１００〜１００００００の整数を示す。）
【００２５】
【化８】
2014148439.tif 000010
（Ｘ７、Ｘ８、Ｘ９、Ｘ１０、Ｘ１１、Ｘ１２、Ｘ１３及びＸ１４は、それぞれ独立に、ベンゼン環、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基又はブチル基を示す。ｎは０〜３の整数を示す。ｍは０〜３の整数を示す。）
【００２６】
（Ｂ）成分：下記の式［Ａ１］、式［Ａ２］及び式［Ａ３］で示されるアルコキシシランからなる群から選ばれる少なくとも１種を含むアルコキシシランを重縮合させて得られるポリシロキサン（特定ポリシロキサンともいう）。
【化９】
2014148439.tif 000011
（Ａ１は下記の式［２］で示される構造、炭素数６〜１８のアルキル基、又はベンゼン環、シクロヘキサン環又は複素環を有する炭素数６〜２４の有機基を示す。Ａ２は水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を示す。Ａ３は炭素数１〜５のアルキル基を示す。ｍは１又は２の整数、ｎは０〜２の整数、ｐは０〜３の整数。ただし、ｍ＋ｎ＋ｐは４である。）
【００２７】
【化１０】
2014148439.tif 000012
（Ｙ１は単結合、−（ＣＨ２）ａ−（ａは１〜１５の整数である）、−Ｏ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を示す。Ｙ２は単結合又は−（ＣＨ２）ｂ−（ｂは１〜１５の整数である）を示す。Ｙ３は単結合、−（ＣＨ２）ｃ−（ｃは１〜１５の整数である）、−Ｏ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を示す。Ｙ４はベンゼン環、シクロヘキサン環及び複素環から選ばれる２価の環状基、又はステロイド骨格を有する炭素数１７〜５１の２価の有機基を示し、前記環状基上の任意の水素原子は、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルコキシル基又はフッ素原子で置換されていてもよい。Ｙ５はベンゼン環、シクロヘキサン環及び複素環から選ばれる２価の環状基を示し、これらの環状基上の任意の水素原子は、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルコキシル基又はフッ素原子で置換されていてもよい。ｎは０〜４の整数を示す。Ｙ６は炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数１〜１８のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜１８のアルコキシル基又は炭素数１〜１８のフッ素含有アルコキシル基を示す。）
【００２８】
【化１１】
2014148439.tif 000013
（Ｂ１はビニル基、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基、イソシアネート基、メタクリル基、アクリル基、ウレイド基又はシンナモイル基を有する炭素数２〜１２の有機基を示す。Ｂ２は水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を示す。Ｂ３は炭素数１〜５のアルキル基を示す。ｍは１又は２の整数、ｎは０〜２の整数、ｐは０〜３の整数。ただし、ｍ＋ｎ＋ｐは４である。）
【００２９】
【化１２】
2014148439.tif 000014
（Ｄ１は水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を示す。Ｄ２は炭素数１〜５のアルキル基を示す。ｎは０〜３の整数を示す。）
【００３０】
本発明の特定セルロース系重合体は、特定ポリシロキサン系重合体との相溶性が高い。そのため、これらを含む組成物、及び該組成物を用いる液晶配向処理剤（本発明の液晶配向処理剤ともいう）は、保存時において、上記重合体の析出は起こらず、保存安定性に優れた組成物あるいは液晶配向処理剤となる。
また、特定セルロース系重合体と特定ポリシロキサン系重合体の相溶性が高いことから、組成物、及び該組成物を用いる液晶配向処理剤を基板に塗布した際、形成される樹脂被膜あるいは液晶配向膜上のピンホールの発生を抑制できる。
【００３１】
本発明の組成物及び液晶配向処理剤は、特定セルロース系重合体を含んでいるため、これらから形成される樹脂被膜あるいは液晶配向膜の段差追随性が高い、すなわち、基板段差の凹凸に対して、均一な膜厚の樹脂被膜あるいは液晶配向膜を得ることができる。
更に、本発明の組成物は、特定セルロース系重合体とともに、耐光性及び耐熱性に優れた特定ポリシロキサンを含んでいるため、光や熱に対する樹脂被膜の安定性が高くなる。
加えて、上記特定セルロース系重合体は、ＯＨ基（水酸基）やＣＯＯＨ基（カルボン酸基）を多く有しているため、金属や低分子量の有機化合物などのイオン性不純物をトラップすることができる。そのため、本発明の液晶配向処理剤から得られる液晶配向膜は、液晶配向膜の下に有機部材からなる絶縁膜がある状態で光を照射しても、電圧保持率に優れる。
【００３２】
すなわち、本発明の組成物は、保存時に重合体の析出が起こらない等、保存安定性に優れ、樹脂被膜を形成する際のピンホールの発生を抑制することができ、更には、段差基板の凹凸に対して段差追随性が高い。
また、本発明の液晶配向処理剤においても、液晶配向処理剤の保存時に重合体の析出が起こらない等、保存安定性に優れ、液晶配向膜を形成する際のピンホールの発生を抑制することができ、更には、段差基板の凹凸に対して段差追随性が高い。
以下、本発明の組成物に含有される各成分について説明する。
【００３３】
＜特定セルロース系重合体＞
（Ａ）成分である特定セルロース系重合体は、下記の式［１］で示される構造の重合体である。
【化１３】
2014148439.tif 000015
式[１]中、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、Ｘ５及びＸ６は、それぞれ独立して、下記の式［１ａ］〜［１ｍ］から選ばれる構造の基を示す。
【００３４】
【化１４】
2014148439.tif 000016
【００３５】
式［１ｃ］〜式［１ｍ］中、Ｘ７、Ｘ８、Ｘ９、Ｘ１０、Ｘ１１、Ｘ１２、Ｘ１３及びＸ１４は、それぞれベンゼン環、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基又はブチル基を示す。
式［１ｈ］中、ｎは０〜３の整数を示す。なかでも、０又は１の整数が好ましい。
式［１ｉ］中、ｍは０〜３の整数を示す。なかでも、０又は１の整数が好ましい。
【００３６】
Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、Ｘ５及びＸ６は、それぞれ独立して、式［１ａ］〜［１ｍ］から選らばれる構造の基を示すが、これらの基は、１種類であっても２種類以上の複数種であっても良い。特に、特定セルロース系重合体の溶媒への溶解性、組成物又は液晶配向処理剤の塗布性の点から、２種類以上の複数種の基を用いることが好ましい。更に好ましいのは、式［１ａ］の構造の基と式［１ｂ］〜式［１ｋ］から選ばれる構造の基を用いることである。更には、式［１ａ］の構造の基と式［１ｃ］、式［１ｄ］、式［１ｅ］、式［１ｈ］又は式［１ｉ］の構造の基を用いることが好ましい。
式［１］中、ｎは１００〜１００００００の整数を示す。なかでも、特定セルロース系重合体の溶媒への溶解性や、組成物又は液晶配向処理剤として調整した際の取り扱い性の点から、１００〜５０００００が好ましい。より好ましいのは、１００〜１０００００である。
【００３７】
本発明の特定セルロース系重合体の具体例としては、下記のものが挙げられるが、これらの例に限定されるものではない。
例えば、セルロース、メチルセルロース、エチルセルロース、プロピルセルロース、ブチルセルロース、メチルエチルセルロース、アセチルセルロース、セルロースプロピオネート、ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、エチルヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシブチルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロースフタレート、メチルアミノセルロース、エチルアミノセルロース、プロピルアミノセルロース、ベンジルセルロース、トリベンゾイルセルロース、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、カルボキシメチルセルロース、カルボキシメチルエチルセルロース又はカルボキシメチルヒドロキシエチルセルロースが挙げられる。なかでも、メチルセルロース、エチルセルロース、プロピルセルロース、アセチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、エチルヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロースフタレート、ベンジルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、カルボキシメチルエチルセルロース又はカルボキシメチルヒドロキシエチルセルロースが好ましい。より好ましくは、メチルセルロース、エチルセルロース、アセチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、エチルヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロースフタレート又はカルボキシメチルエチルセルロースである。特に好ましくは、メチルセルロース、エチルセルロース、アセチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、エチルヒドロキシエチルセルロース又はヒドロキシプロピルメチルセルロースフタレートである。
【００３８】
これらの特定セルロース誘導体は、一般に入手することができる。また、式［１ｂ］〜［１ｍ］で示される構造の基を導入する方法には、特に制限はなく、既存の手法を用いることができる。
例えば、式［１ｂ］の構造の基を導入する場合は、セルロースとベンジルクロリドとをアルカリ存在下で反応させる方法があり、式［１ｃ］の構造の基を導入する場合は、セルロースとＸ７の構造の基を有するハロゲン化合物とをアルカリ存在下で反応させる方法があり、式［１ｄ］の構造の基を導入する場合は、セルロースとＸ８の構造の基を有する酸クロリド化合物とをアルカリ存在下で反応させる方法やセルロースと無水酢酸とを反応させる方法が挙げられる。
【００３９】
また、式［１ｅ］の構造の基を導入する場合は、セルロースとＸ９−ＯＨの構造の基を有するハロゲン化合物とをアルカリ存在下で反応させる方法があり、式［１ｆ］の構造の基を導入する場合は、セルロースとＸ１０−ＣＯＯＨの構造の基を有するハロゲン化合物とをアルカリ存在下で反応させる方法が挙げられる。更に、式［１ｇ］の構造の基を導入する場合は、セルロースとＸ１１−ＮＨ２の構造の基を有するハロゲン化合物とをアルカリ存在下で反応させる方法があり、式［１ｈ］の構造を導入する場合は、セルロースとフタル酸とを反応させる方法があり、式［１ｉ］の構造を導入する場合は、セルロースとＸ１２とフタル酸骨格を有するハロゲン化合物とをアルカリ存在下で反応させる方法があり、式［１ｋ］の構造を導入する場合は、セルロースと無水マレイン酸とを反応させる方法が挙げられる。
【００４０】
前記式［１］で示される、これら特定セルロース系重合体は、本発明の特定セルロース系重合体の溶媒への溶解性、組成物及び液晶配向処理剤の塗布性、更には、液晶配向膜にした場合における液晶の配向性、電圧保持率、蓄積電荷などの特性に応じて、１種類又は２種類以上を混合して使用することができる。
【００４１】
＜特定ポリシロキサン＞
本発明の（Ｂ）成分である特定ポリシロキサンは、下記の式［Ａ１］、式［Ａ２］及び式［Ａ３］で示されるアルコキシシランからなる群から選ばれる少なくとも１種を含むアルコキシシランを重縮合させて得られるポリシロキサンである。
【００４２】
本発明の式［Ａ１］で示されるアルコキシシランは、下記の構造を有するアルコキシシランである。
【化１５】
2014148439.tif 000017
式［Ａ１］中、Ａ１は下記の式［２］で示される構造の何れか、炭素数６〜１８のアルキル基、又はベンゼン環、シクロヘキサン環若しくは複素環を有する炭素数６〜２４の有機基を示す。なかでも、下記の式［２］で示される構造の何れか、又は炭素数６〜１８のアルキル基が好ましい。
【００４３】
【化１６】
2014148439.tif 000018
式［２］中、Ｙ１は単結合、−（ＣＨ２）ａ−（ａは１〜１５の整数である）、−Ｏ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を示す。なかでも、原料の入手性や合成の容易さの点から、単結合、−（ＣＨ２）ａ−（ａは１〜１５の整数である）、−Ｏ−、−ＣＨ２Ｏ−又は−ＣＯＯ−が好ましい。より好ましいのは、単結合、−（ＣＨ２）ａ−（ａは１〜１０の整数である）、−Ｏ−、−ＣＨ２Ｏ−又は−ＣＯＯ−である。
【００４４】
Ｙ２は単結合又は−（ＣＨ２）ｂ−（ｂは１〜１５の整数である）を示す。なかでも、単結合又は−（ＣＨ２）ｂ−（ｂは１〜１０の整数である）が好ましい。
Ｙ３は単結合、−（ＣＨ２）ｃ−（ｃは１〜１５の整数である）、−Ｏ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を示す。なかでも、合成の容易さの点から、単結合、−（ＣＨ２）ｃ−（ｃは１〜１５の整数である）、−Ｏ−、−ＣＨ２Ｏ−又は−ＣＯＯ−が好ましい。より好ましいのは、単結合、−（ＣＨ２）ｃ−（ｃは１〜１０の整数である）、−Ｏ−、−ＣＨ２Ｏ−又は−ＣＯＯ−である。
【００４５】
Ｙ４はベンゼン環、シクロヘキサン環又は複素環から選ばれる２価の環状基であり、これらの環状基条の任意の水素原子は、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルコキシル基又はフッ素原子で置換されていてもよい。更に、Ｙ４は、ステロイド骨格を有する炭素数１７〜５１の有機基から選ばれる２価の有機基であってもよい。なかでも、合成の容易さの点から、ベンゼン環、シクロへキサン環又はステロイド骨格を有する炭素数１７〜５１の有機基が好ましい。
【００４６】
Ｙ５はベンゼン環、シクロヘキサン環又は複素環から選ばれる２価の環状基を示し、これらの環状基上の任意の水素原子は、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜３のフッ素含有アルコキシル基又はフッ素原子で置換されていてもよい。なかでも、ベンゼン環又はシクロへキサン環が好ましい。
ｎは０〜４の整数を示す。なかでも、原料の入手性や合成の容易さの点から、０〜３が好ましい。より好ましいのは、０〜２である。
【００４７】
Ｙ６は炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数１〜１８のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜１８のアルコキシル基又は炭素数１〜１８のフッ素含有アルコキシル基を示す。なかでも、炭素数１〜１８のアルキル基、炭素数１〜１０のフッ素含有アルキル基、炭素数１〜１８のアルコキシル基又は炭素数１〜１０のフッ素含有アルコキシル基が好ましい。より好ましくは、炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数１〜１２のアルコキシル基である。特に好ましくは、炭素数１〜９のアルキル基又は炭素数１〜９のアルコキシル基である。
【００４８】
式［２］におけるＹ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４、Ｙ５、Ｙ６及びｎの好ましい組み合わせとしては、国際公開公報ＷＯ２０１１／１３２７５１（２０１１．１０．２７公開）の１３〜３４頁の表６〜表４７に掲載される（２−１）〜（２−６２９）と同じ組み合わせが挙げられる。なお、国際公開公報の各表におけるＹ１〜Ｙ６は、それぞれ、本発明のＹ１〜Ｙ６に読み替えるものとする。また、国際公開公報の各表に掲載される（２−６０５）〜（２−６２９）における、ステロイド骨格を有する炭素数１２〜２５の有機基は、本発明のステロイド骨格を有する炭素数１７〜５１の有機基に読み替えるものとする。
【００４９】
式［Ａ１］中、Ａ２はそれぞれ水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基である。なかでも、水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基が好ましい。
Ａ３はそれぞれ炭素数１〜５のアルキル基である。なかでも、重縮合の反応性の点から、炭素数１〜３のアルキル基が好ましい。
ｍは１又は２の整数である。なかでも、合成の点からは、１が好ましい。
ｎは０〜２の整数である。ｐは０〜３の整数である。なかでも、重縮合の反応性の点から、１〜３の整数が好ましい。より好ましくは、２又は３である。
ｍ＋ｎ＋ｐは４である。
【００５０】
式［Ａ１］で示されるアルコキシシランの具体例としては、オクチルトリメトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、ドデシルトリエトキシシラン、ヘキサデシルトリメトキシシラン、ヘキサデシルトリエトキシシラン、ペンチルトリエトキシシラン、ヘプタデシルトリメトキシシラン、ヘプタデシルトリエトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリエトキシシラン、ノナデシルトリメトキシシラン、ノナデシルトリエトキシシラン、イソオクチルトリエトキシシラン、フェネチルトリエトキシシラン、ペンタフルオロフェニルプロピルトリメトキシシラン、ｍ−スチリルエチルトリメトキシシラン、ｐ−スチリルエチルトリメトキシシラン、１−ナフチルトリエトキシシラン、１−ナフチルトリメトキシシラン、トリエトキシ−１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−トリデカフルオロ−ｎ−オクチルシラン、ジメトキシジフェニルシラン、ジメトキシメチルフェニルシラン、トリエトキシフェニルシランなどが挙げられる。
【００５１】
更には、下記の式［Ａ１−１］〜［Ａ１−３２］で示されるアルコキシシランを挙げることができる。
【化１７】
2014148439.tif 000019
【化１８】
2014148439.tif 000020
【００５２】
【化１９】
2014148439.tif 000021
【化２０】
2014148439.tif 000022
【００５３】
【化２１】
2014148439.tif 000023
【化２２】
2014148439.tif 000024
【００５４】
【化２３】
2014148439.tif 000025
【化２４】
2014148439.tif 000026
【００５５】
【化２５】
2014148439.tif 000027
（Ｒ１は炭素数１〜３のアルキル基を示す。Ｒ２は炭素数１〜３のアルキル基を示す。ｍは２又は３を示し、ｎは０又は１を示す。）
【００５６】
【化２６】
2014148439.tif 000028
（Ｒ１は炭素数１〜３のアルキル基を示す。Ｒ２は炭素数１〜３のアルキル基を示す。ｍは２又は３を示し、ｎは０又は１を示す。
Ｒ３は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＯＮ（ＣＨ３）−、−Ｎ（ＣＨ３）ＣＯ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯＣＨ２−又は−ＣＨ２ＯＣＯ−を示す。
Ｒ４は炭素数１〜１２のアルキル基、アルコキシ基フッ素含有アルキル基又はフッ素含有アルコキシ基を示す。）
【００５７】
【化２７】
2014148439.tif 000029
（Ｒ１は炭素数１〜３のアルキル基を示す。Ｒ２は炭素数１〜３のアルキル基を示す。ｍは２又は３を示し、ｎは０又は１を示す。
Ｒ３は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＯＮ（ＣＨ３）−、−Ｎ（ＣＨ３）ＣＯ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯＣＨ２−又は−ＣＨ２ＯＣＯ−を示す。
Ｒ４は炭素数１〜１２のアルキル基、アルコキシ基フッ素含有アルキル基、はフッ素含有アルコキシ基、フッ素基、シアノ基、トリフルオロメタン基、ニトロ基、アゾ基、ホルミル基、アセチル基、アセトキシ基又は水酸基を示す。）
【００５８】
【化２８】
2014148439.tif 000030
【００５９】
【化２９】
2014148439.tif 000031
（Ｒ１は炭素数１〜３のアルキル基を示す。Ｒ２は炭素数１〜３のアルキル基を示す。ｍは２又は３を示し、ｎは０又は１を示す。
Ｒ３は−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＯＮ（ＣＨ３）−、−Ｎ（ＣＨ３）ＣＯ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯＣＨ２−又は−ＣＨ２ＯＣＯ−を示す。
Ｒ４は炭素数１〜１２のアルキル基、アルコキシ基フッ素含有アルキル基又はフッ素含有アルコキシ基を示す。）
【００６０】
【化３０】
2014148439.tif 000032
（Ｒ１は炭素数１〜３のアルキル基を示す。Ｒ２は炭素数１〜３のアルキル基を示す。ｍは２又は３を示し、ｎは０又は１を示す。
Ｂ４はフッ素原子で置換されていてもよい炭素数３〜２０のアルキル基を示し、Ｂ３は１，４−シクロへキシレン基又は１，４−フェニレン基を示す。Ｂ２は酸素原子又は−ＣＯＯ−＊（但し、「＊」を付した結合手がＢ３と結合する。）を示し、Ｂ１は酸素原子又は−ＣＯＯ−＊（但し、「＊」を付した結合手が（ＣＨ２）ａ２）と結合する。）を示す。また、ａ１は０又は１の整数を示し、ａ２は２〜１０の整数を示し、ａ３は０又は１の整数を示す。）
【００６１】
上記の式［Ａ１］で示されるアルコキシシランは、本発明の特定ポリシロキサンの溶媒への溶解性、組成物及び液晶配向処理剤の塗布性、更には、液晶配向膜にした場合における液晶の配向性、電圧保持率、蓄積電荷などの特性に応じて、１種類又は２種類以上を混合して使用することができる。
【００６２】
本発明の式［Ａ２］で示されるアルコキシシランは、下記の構造を有するアルコキシシランである。
【化３１】
2014148439.tif 000033
式［Ａ２］中、Ｂ１はビニル基、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基、イソシアネート基、メタクリル基、アクリル基、ウレイド基又はシンナモイル基を有する炭素数２〜１２の有機基であるなかでも、入手の容易さの点から、ビニル基、エポキシ基、アミノ基、メタクリル基、アクリル基又はウレイド基が好ましい。より好ましくは、メタクリル基、アクリル基又はウレイド基である。
【００６３】
式［Ａ２］中、Ｂ２は水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基である。なかでも、水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基が好ましい。Ｂ３はそれぞれ炭素数１〜５のアルキル基である。なかでも、重縮合の反応性の点から、炭素数１〜３のアルキル基が好ましい。ｍは１又は２の整数である。なかでも、合成の点からは、１が好ましい。ｎは０〜２の整数である。ｐは０〜３の整数である。なかでも、重縮合の反応性の点から、１〜３の整数が好ましい。より好ましくは、２又は３である。ｍ＋ｎ＋ｐは４である。
【００６４】
式［Ａ２］で示されるアルコキシシランの具体例としては、アリルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、ジエトキシメチルビニルシラン、ジメトキシメチルビニルシラン、トリエトキシビニルシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、ｍ−スチリルエチルトリエトキシシラン、ｐ−スチリルエチルトリエトキシシラン、ｍ−スチリルメチルトリエトキシシラン、ｐ−スチリルメチルトリエトキシシラン、３−（Ｎ−スチリルメチル−２−アミノエチルアミノ）プロピルトリメトキシシラン、ジエトキシ（３−グリシジルオキシプロピル）メチルシラン、３−グリシジルオキシプロピル（ジメトキシ）メチルシラン、３−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−（２−アミノエチルアミノ）プロピルジメトキシメチルシラン、３−（２−アミノエチルアミノ）プロピルトリエトキシシラン、３−（２−アミノエチルアミノ）プロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルジエトキシメチルシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、トリメトキシ［３−（フェニルアミノ）プロピル］シラン、３−メルカプトプロピル（ジメトキシ）メチルシラン、（３−メルカプトプロピル）トリエトキシシラン、（３−メルカプトプロピル）トリメトキシシラン、３−（トリエトキシシリル）プロピルイソシアネート、３−（トリエトキシシリル）プロピルメタクリレート、３−（トリメトキシシリル）プロピルメタクリレート、  ３−（トリエトキシシリル）プロピルアクリレート、３−（トリメトキシシリル）プロピルアクリレート、３−（トリエトキシシリル）エチルメタクリレート、３−（トリメトキシシリル）エチルメタクリレート、３−（トリエトキシシリル）エチルアクリレート、３−（トリメトキシシリル）エチルアクリレート、３−（トリエトキシシリル）メチルメタクリレート、３−（トリメトキシシリル）メチルメタクリレート、  ３−（トリエトキシシリル）メチルアクリレート、３−（トリメトキシシリル）メチルアクリレート、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリプロポキシシラン、（Ｒ）−Ｎ−１−フェニルエチル−Ｎ’−トリエトキシシリルプロピルウレア、（Ｒ）−Ｎ−１−フェニルエチル−Ｎ’−トリメトキシシリルプロピルウレア、ビス［３−（トリメトキシシリル）プロピル］ウレア、ビス［３−（トリプロポキシシリル）プロピル］ウレア、１−［３−（トリメトキシシリル）プロピル］ウレアなどが挙げられる。
【００６５】
なかでも、アリルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、ジエトキシメチルビニルシラン、ジメトキシメチルビニルシラン、トリエトキシビニルシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、３−（トリエトキシシリル）プロピルメタクリレート、３−（トリメトキシシリル）プロピルアクリレート、３−（トリメトキシシリル）プロピルメタクリレート、３−グリシジルオキシプロピル（ジメトキシ）メチルシラン、３−グリシジルオキシプロピル（ジエトキシ）メチルシラン、３−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン又は２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランが好ましい。
上記の式［Ａ２］で示されるアルコキシシランは、本発明の特定ポリシロキサンの溶媒への溶解性、組成物及び液晶配向処理剤の塗布性、更には、液晶配向膜にした場合における液晶の配向性、電圧保持率、蓄積電荷などの特性に応じて、１種類又は２種類以上を混合して使用することができる。
【００６６】
本発明の式［Ａ３］で示されるアルコキシシランは、下記の構造を有するアルコキシシランである。
【化３２】
2014148439.tif 000034
式［Ａ３］中、Ｄ１は水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基である。これらは、ハロゲン原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等で置換されていても良い。Ｄ１としては、水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基が好ましい。
Ｄ２は炭素数１〜５のアルキル基である。なかでも、重縮合の反応性の点から、炭素数１〜３のアルキル基が好ましい。ｎは０〜３の整数である。
【００６７】
式［Ａ３］で示されるアルコキシシランの具体例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエトキシジエチルシラン、ジブトキシジメチルシラン、（クロロメチル）トリエトキシシラン、３−クロロプロピルジメトキシメチルシラン、３−クロロプロピルトリエトキシシラン、２−シアノエチルトリエトキシシラン、トリメトキシ（３，３，３−トリフルオロプロピル）シラン、ヘキシルトリメトキシシラン、３−トリメトキシシリルプロピルクロライドなどが挙げられる。
また、式［Ａ３］中、ｎが０であるアルコキシシランとしては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン又はテトラブトキシシランが挙げられ、これらアルコキシシランを用いることが好ましい。
【００６８】
上記の式［Ａ３］で示されるアルコキシシランは、本発明の特定ポリシロキサンの溶媒への溶解性、組成物及び液晶配向処理剤の塗布性、更には、液晶配向膜にした場合における液晶の配向性、電圧保持率、蓄積電荷などの特性に応じて、１種類又は２種類以上を混合して使用することができる。
【００６９】
本発明の特定ポリシロキサンは、前記式［Ａ１］、式［Ａ２］及び式［Ａ３］で示されるアルコキシシランからなる群から選ばれる少なくとも１種を含むアルコキシシランを重縮合させて得られるポリシロキサンであるが、これらアルコキシシランを複数種含むアルコキシシランを重縮合させて得られるポリシロキサンが好ましい。
すなわち、前記式［Ａ１］及び式［Ａ２］で示される２種類のアルコキシシランを重縮合させて得られるポリシロキサン、前記式［Ａ１］及び式［Ａ３］で示される２種類のアルコキシシランを重縮合させて得られるポリシロキサン、前記式［Ａ２］及び式［Ａ３］で示される２種類のアルコキシシランを重縮合させて得られるポリシロキサン、及び前記式［Ａ１］、式［Ａ２］及び式［Ａ３］で示される３種類のアルコキシシランを重縮合させて得られるポリシロキサンが好ましい。
特に、本発明の組成物から得られる樹脂被膜の疎水性を高める場合や、本発明の液晶配向処理剤から得られる液晶配向膜を、液晶を垂直に配向させて表示を行う液晶表示素子に用いる場合は、上述した組み合わせのなかで、前記式［Ａ１］のアルコキシシランを用いて得られるポリシロキサンを用いることが好ましい。
【００７０】
上記特定ポリシロキサンを作製する際、複数種のアルコキシランを用いる場合、式［Ａ１］で示されるアルコキシシランは、すべてのアルコキシシラン中、１〜４０モル％であることが好ましく、より好ましくは、１〜３０モル％である。また、式［Ａ２］で示されるアルコキシシランは、すべてのアルコキシシラン中、１〜７０モル％であることが好ましく、より好ましくは、１〜６０モル％である。更に、式［Ａ３］で示されるアルコキシシランは、すべてのアルコキシシラン中、１〜９９モル％であることが好ましくは、より好ましくは、１〜８０モル％である。
【００７１】
上記特定ポリシロキサンを得る方法は特に限定されない。本発明における特定ポリシロキサンは、前記式［Ａ１］、式［Ａ２］及び式［Ａ３］で示されるアルコキシシランからなる群から選ばれる少なくとも１種を含むアルコキシシランを溶媒中で重合させて得る。また、本発明の特定ポリシロキサンは、アルコキシシランを重縮合して、溶媒に均一に溶解した溶液として得られる。
【００７２】
上記特定ポリシロキサンを重縮合する方法は特に限定されない。例えば、アルコキシシランを本発明の特定溶媒、アルコール系溶媒又はグリコール系溶媒中で、加水分解・重縮合反応させる方法が挙げられる。その際、加水分解・重縮合反応は、部分的に加水分解させても、完全に加水分解させてもよい。完全に加水分解する場合は、理論上、アルコキシシラン中のすべてのアルコキシ基の０．５倍モル量の水を加えればよいが、通常は０．５倍モル量よりも過剰量の水を加えることが好ましい。
上記特定ポリシロキサンを得るための加水分解・重縮合反応に用いる水の量は、目的に応じて適宜選択することができるが、アルコキシシラン中のすべてのアルコキシ基の０．５〜３．０倍モル量が好ましく、０．５〜２．５倍モル量がより好ましい。
【００７３】
また、加水分解・重縮合反応を促進する目的で、塩酸、硫酸、硝酸、酢酸、蟻酸、蓚酸、マレイン酸、フマル酸などの酸性化合物；アンモニア、メチルアミン、エチルアミン、エタノールアミン、トリエチルアミンなどのアルカリ性化合物；塩酸、硝酸などの金属塩；などを触媒として用いることができる。更に、アルコキシシランが溶解した溶液を加熱することで、加水分解・重縮合反応を促進させることもできる。その際、加熱温度及び加熱時間は、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、５０℃で２４時間加熱攪拌、その後、還流下で１時間加熱攪拌するなどの条件が挙げられる。
【００７４】
更に、重縮合させる別の方法として、アルコキシシラン、有機溶媒及び蓚酸の混合物を加熱して、重縮合反応する方法が挙げられる。具体的には、あらかじめ、本発明の特定溶媒やアルコール溶媒に蓚酸を加えて、蓚酸の溶液とした後、該溶液を加熱した状態で、アルコキシシランを混合する方法である。その際、上記反応に用いる蓚酸の量は、アルコキシシラン中の全てのアルコキシ基の１モルに対して、０．２〜２．５モルが好ましく、０．５〜２．０モルがより好ましい。また、この反応は、溶液の温度が５０〜１８０℃で行うことができるが、溶媒の蒸発や揮散が起こらないように、還流下で数十分から数十時間で行うことが好ましい。
【００７５】
上記特定ポリシロキサンを得る重縮合反応において、前記式［Ａ１］、式［Ａ２］及び式［Ａ３］で示されるアルコキシシランを複数種用いる場合は、あらかじめ複数種のアルコキシシランを混合した混合物を用いて反応しても、複数種のアルコキシシランを順次添加しながら反応してもよい。
アルコキシシランの重縮合反応に用いる溶媒としては、アルコキシシランが溶解するものであれば、特に限定されない。また、アルコキシシランが溶解しない溶媒であっても、アルコキシシランの重縮合反応の進行とともに溶解するものであればよい。
【００７６】
重縮合反応に用いる溶媒として、一般的には、アルコキシシランの重縮合反応によりアルコールが発生するため、アルコール系溶媒、グリコール系溶媒、グリコールエーテル系溶媒又はアルコールと相溶性がよい有機溶媒が用いられる。このような重縮合反応に用いる溶媒の具体例としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコールなどのアルコール系溶媒；エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、へキシレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、２，３−ブタンジオール、１，２−ペンタンジオール、１，３−ペンタンジオール、１，４−ペンタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，４−ペンタンジオール、２，３−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオールなどのグルコール系溶媒；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジプロピルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールジプロピルエーテル、プロピレングリコールジブチルエーテルなどのグリコールエーテル系溶媒；Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−エチル−２−ピロリドン、γ−ブチロラクトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホトリアミド、ｍ−クレゾールなどのアルコールと相溶性のよい有機溶媒が挙げられる。
本発明において、重縮合反応の際に用いるこれらの溶媒は、１種類又は２種類以上を混合して用いることができる。
【００７７】
上記方法により得られた特定ポリシロキサンの重合溶液は、原料として仕込んだ全アルコキシシランが有する珪素原子をＳｉＯ２に換算した濃度（ＳｉＯ２換算濃度ともいう）が、３０質量％以下であることが好ましい。なかでも、５〜２０質量％が好ましく、５〜１５質量％がより好ましい。この濃度範囲において、任意の濃度を選択することで、溶液中のゲルの発生を抑制することができ、均一な特定ポリシロキサンの重縮合溶液を得ることができる。
本発明においては、上記の方法で得られた特定ポリシロキサンの重縮合溶液を、そのまま本発明の（Ｂ）成分の特定ポリシロキサンの溶液としてもよいし、必要に応じて、上記の方法で得られた特定ポリシロキサンの重縮合溶液を濃縮したり、溶媒を加えて希釈したり、他の溶媒に置換して、（Ｂ）成分の特定ポリシロキサンの溶液としてもよい。
【００７８】
溶媒を加えて希釈する際に用いる溶媒（添加溶媒ともいう）としては、重縮合反応に用いる溶媒やその他の溶媒であってもよい。この添加溶媒は、特定ポリシロキサンが均一に溶解している限りにおいては特に限定されず、１種類又は２種類以上を任意に選択して使用することができる。このような添加溶媒としては、上記の重縮合反応に用いる溶媒に加え、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸エチルなどのエステル系溶媒などが挙げられる。
本発明において、（Ｂ）成分の特定ポリシロキサンは、（Ａ）成分の特定セルロース系重合体を混合する前に、特定ポリシロキサンを得る際の重縮合反応で発生するアルコールを、常圧又は減圧で留去することが好ましい。
【００７９】
＜組成物・液晶配向処理剤＞
本発明の組成物又は液晶配向処理剤は、樹脂被膜又は液晶配向膜（総称して樹脂被膜ともいう）を形成するための塗布溶液であり、特定セルロース系重合体、特定ポリシロキサン及び溶媒を含有する被膜を形成するための塗布溶液である。
本発明の組成物又は液晶配向処理剤における特定セルロース系重合体と特定ポリシロキサンの割合は、特定ポリシロキサンを１とした場合（質量比）、特定セルロース系重合体の割合は、０．０１〜９９である。好ましいのは、０．１〜９であり、特に好ましいのは、０．１〜３である。
【００８０】
本発明の組成物又は液晶液晶配向処理剤における、すべての重合体成分は、すべてが本発明の特定セルロース系重合体及び特定ポリシロキサンであってもよく、それ以外の他の重合体が混合されていてもよい。
本発明の組成物又は液晶配向処理剤中の重合体成分の含有量は、０．１〜５０質量％、好ましくは１〜４０質量％、より好ましくは１〜３５質量％である。
その際、それ以外の他の重合体の含有量は、すべての重合体成分を１００質量％とした場合、それ以外の他の重合体は０．５〜１５質量％、好ましくは、０．５〜１０質量％である。
それ以外の他の重合体としては、セルロース系重合体及びポリシロキサン以外の重合体、具体的には、ポリアミド酸、ポリイミド、ポリアミド、ポリエステル、アクリルポリマー、メタクリルポリマー、ポリヒドロキシスチレン、ノボラック樹脂などが挙げられる。
【００８１】
本発明の組成物又は液晶配向処理剤中の溶媒の含有量は、組成物又は液晶配向処理剤の塗布方法や目的とする膜厚を得るという観点から、適宜選択することができる。なかでも、塗布により均一な樹脂被膜又は液晶配向膜を形成するとい観点から、組成物又は液晶配向処理剤中の溶媒の含有量は、５０〜９９．９質量％であることが好ましい。なかでも、６０〜９９質量％が好ましく、特に好ましくは、６５〜９９質量％である。また、本発明の組成物を用いて、フィルムを作製する場合には、組成物中の溶媒の含有量は低くする必要がある。その際の組成物中の溶媒の含有量は、４０〜９５質量％であることが好ましい。
本発明の組成物又は液晶配向処理剤に用いる溶媒は、特定ポリシロキサンの重縮合溶液をそのまま用いてもよいし、特定ポリシロキサンの重縮合溶液に新たな溶媒を添加してもよく、更には、特性ポリシロキサンの重縮合溶液を新たな溶媒に置換してもよい。
【００８２】
その際に用いる新たな溶媒としては、特定セルロース系重合体及び特定ポリシロキサンを溶解させる有機溶媒であれば特に限定されない。下記に、その具体例を挙げるが、これらの例に限定されるものではない。
例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−エチル−２−ピロリドン、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、１，３−ジメチル−イミダゾリジノン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン、エタノール、イソプロピルアルコール、１−ブタノール、２−ブタノール、イソブチルアルコール、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール、１−ペンタノール、２−ペンタノール、３−ペンタノール、２−メチル−１−ブタノール、イソペンチルアルコール、ｔｅｒｔ−ペンチルアルコール、３−メチル−２−ブタノール、ネオペンチルアルコール、１−ヘキサノール、２−メチル−１−ペンタノール、２−メチル−２−ペンタノール、２−エチル−１−ブタノール、１−ヘプタノール、２−ヘプタノール、３−ヘプタノール、１−オクタノール、２−オクタノール、２−エチル−１−ヘキサノール、シクロヘキサノール、１−メチルシクロヘキサノール、２−メチルシクロヘキサノール、３−メチルシクロヘキサノール、１，２−エタンジオール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、２，３−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２−メチル−２，４−ペンタンジオール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、ジプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジヘキシルエーテル、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、１，２−ブトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、２−ペンタノン、３−ペンタノン、２−ヘキサノン、２−ヘプタノン、４−ヘプタノン、３−エトキシブチルアセタート、１−メチルペンチルアセタート、２−エチルブチルアセタート、２−エチルヘキシルアセタート、エチレングリコールモノアセタート、エチレングリコールジアセタート、プロピレンカーボネート、エチレンカーボネート、２−（メトキシメトキシ）エタノール、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノイソアミルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、２−（ヘキシルオキシ）エタノール、フルフリルアルコール、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリコールイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノブチルエーテル、１−（ブトキシエトキシ）プロパノール、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセタート、ジプロピレングリコール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセタート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセタート、エチレン���リコールモノブチルエーテルアセタート、エチレングリコールモノアセタート、エチレングリコールジアセタート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセタート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセタート、２−（２−エトキシエトキシ）エチルアセタート、ジエチレングリコールアセタート、トリエチレングリコール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、乳酸メチル、乳酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n−ブチル、酢酸プロピレングリコールモノエチルエーテル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸メチルエチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸、３−メトキシプロピオン酸、３−メトキシプロピオン酸プロピル、３−メトキシプロピオン酸ブチル、乳酸メチルエステル、乳酸エチルエステル、乳酸ｎ−プロピルエステル、乳酸ｎ−ブチルエステル、乳酸イソアミルエステルなどが挙げられる。
【００８３】
更には、下記の式［Ｓ１］及び式［Ｓ２］で示される溶媒も挙げられる。
【化３３】
2014148439.tif 000035
（式［Ｓ１］中、Ｘ１は炭素数１〜３のアルキル基を示す。式［Ｓ２］中、Ｘ２は炭素数１〜３のアルキル基を示す。）
【００８４】
なかでも、１，３−ジメチル−イミダゾリジノン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン、２−メチル−１−ブタノール、１−ヘキサノール、シクロヘキサノール、１，３−プロパンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、２，３−ブタンジオール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールイソブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、フルフリルアルコールが好ましい。
【００８５】
特に好ましくは、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン、１−ヘキサノール、シクロヘキサノール、１，３−プロパンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、２，３−ブタンジオール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、フルフリルアルコールが挙げられる。
【００８６】
上記溶媒は、特定セルロース系重合体及び特定ポリシロキサンの溶解性や組成物又は液晶配向処理剤を塗布した際の樹脂被膜又は液晶配向膜の塗膜性や表面平滑性の特性に応じて、１種類又は２種類以上を混合して用いることができる。
本発明の組成物又は液晶配向処理剤には、本発明の効果を損なわない限り、エポキシ基、イソシアネート基、オキセタン基又はシクロカーボネート基を有する化合物、ヒドロキシル基、ヒドロキシアルキル基及び低級アルコキシアルキル基からなる群より選ばれる少なくとも１種の置換基を有する化合物（総称して架橋性化合物ともいう）を導入することもできる。その際、これら置換基は、架橋性化合物中に２個以上有する必要がある。
【００８７】
エポキシ基又はイソシアネート基を有する架橋性化合物としては、例えば、ビスフェノールアセトングリシジルエーテル、フェノールノボラックエポキシ樹脂、クレゾールノボラックエポキシ樹脂、トリグリシジルイソシアヌレート、テトラグリシジルアミノジフェニレン、テトラグリシジル−ｍ−キシレンジアミン、テトラグリシジル−１，３−ビス（アミノエチル）シクロヘキサン、テトラフェニルグリシジルエーテルエタン、トリフェニルグリシジルエーテルエタン、ビスフェノールヘキサフルオロアセトジグリシジルエーテル、１，３−ビス（１−（２，３−エポキシプロポキシ）−１−トリフルオロメチル−２，２，２−トリフルオロメチル）ベンゼン、４，４−ビス（２，３−エポキシプロポキシ）オクタフルオロビフェニル、トリグリシジル−ｐ−アミノフェノール、テトラグリシジルメタキシレンジアミン、２−（４−（２，３−エポキシプロポキシ）フェニル）−２−（４−（１，１−ビス（４−（２，３−エポキシプロポキシ）フェニル）エチル）フェニル）プロパン、１，３−ビス（４−（１−（４−（２，３−エポキシプロポキシ）フェニル）−１−（４−（１−（４−（２，３−エポキシプロポキシ）フェニル）−１−メチルエチル）フェニル）エチル）フェノキシ）−２−プロパノールなどが挙げられる。
【００８８】
オキセタン基を有する架橋性化合物としては、下記の式［４］で示すオキセタン基を少なくとも２個有する架橋性化合物である。
【化３４】
2014148439.tif 000036
具体的には、国際公開公報ＷＯ２０１１／１３２７５１（２０１１．１０．２７公開）の５８頁〜５９頁に掲載される式［４ａ］〜［４ｋ］で示される架橋性化合物が挙げられる。
【００８９】
シクロカーボネート基を有する架橋性化合物としては、下記の式［５］で示されるシクロカーボネート基を、少なくとも２個有する架橋性化合物である。
【化３５】
2014148439.tif 000037
具体的には、国際公開公報ＷＯ２０１２／０１４８９８（２０１２．２．２公開）の７６頁〜８２頁に掲載される式［５−１］〜［５−４２］で示される架橋性化合物が挙げられる。
【００９０】
ヒドロキシル基及びアルコキシル基からなる群より選ばれる少なくとも１種の置換基を有する架橋性化合物としては、ヒドロキシル基又はアルコキシル基を有するアミノ樹脂、例えば、メラミン樹脂、尿素樹脂、グアナミン樹脂、グリコールウリル−ホルムアルデヒド樹脂、スクシニルアミド−ホルムアルデヒド樹脂、エチレン尿素−ホルムアルデヒド樹脂などが挙げられる。具体的には、アミノ基の水素原子がメチロール基、アルコキシメチル基又はその両方で置換されたメラミン誘導体、ベンゾグアナミン誘導体、グリコールウリルなどを用いることができる。このメラミン誘導体又はベンゾグアナミン誘導体は、２量体又は３量体として存在することも可能である。これらはトリアジン環１個当たり、メチロール基又はアルコキシメチル基を平均３個以上６個以下有するものが好ましい。
【００９１】
このようなメラミン誘導体又はベンゾグアナミン誘導体の例としては、市販品のトリアジン環１個当たりメトキシメチル基が平均３．７個置換されているＭＸ−７５０、トリアジン環１個当たりメトキシメチル基が平均５．８個置換されているＭＷ−３０（以上、三和ケミカル社製）、サイメル３００、３０１、３０３、３５０、３７０、７７１、３２５、３２７、７０３、７１２などのメトキシメチル化メラミン、サイメル２３５、２３６、２３８、２１２、２５３、２５４などのメトキシメチル化ブトキシメチル化メラミン、サイメル５０６、５０８などのブトキシメチル化メラミン、サイメル１１４１のようなカルボキシル基含有メトキシメチル化イソブトキシメチル化メラミン、サイメル１１２３のようなメトキシメチル化エトキシメチル化ベンゾグアナミン、サイメル１１２３−１０のようなメトキシメチル化ブトキシメチル化ベンゾグアナミン、サイメル１１２８のようなブトキシメチル化ベンゾグアナミン、サイメル１１２５−８０のようなカルボキシル基含有メトキシメチル化エトキシメチル化ベンゾグアナミン（以上、三井サイアナミド社製）が挙げられる。
また、グリコールウリルの例として、サイメル１１７０のようなブトキシメチル化グリコールウリル、サイメル１１７２のようなメチロール化グリコールウリル、パウダーリンク１１７４のようなメトキシメチロール化グリコールウリルなどが挙げられる。
【００９２】
ヒドロキシル基若しくはアルコキシル基を有するベンゼン、フェノール性化合物などの架橋性化合物としては、例えば、１，３，５−トリス（メトキシメチル）ベンゼン、１，２，４−トリス（イソプロポキシメチル）ベンゼン、１，４−ビス（ｓｅｃ−ブトキシメチル）ベンゼン、２，６−ジヒドロキシメチル−ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノールなどが挙げられる。
より具体的には、国際公開公報ＷＯ２０１１／１３２７５１（２０１１．１０．２７公開）の６２頁〜６６頁に掲載される、式［６−１］〜［６−４８］で示される架橋性化合物が挙げられる。
【００９３】
重合性不飽和結合を有する架橋性化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリ（メタ）アクリロイルオキシエトキシトリメチロールプロパン、グリセリンポリグリシジルエーテルポリ（メタ）アクリレート等の重合性不飽和基を分子内に３個有する架橋性化合物、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイドビスフェノールＡ型ジ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイドビスフェノール型ジ（メタ）アクリレート、１，６−へキサンジオールジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、フタル酸ジグリシジルエステルジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートなどの重合性不飽和基を分子内に２個有する架橋性化合物、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピルフタレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルリン酸エステル、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド等の重合性不飽和基を分子内に１個有する架橋性化合物が挙げられる。
【００９４】
更に、下記の式［７］で示される化合物を架橋性化合物として用いることもできる。
【化３６】
2014148439.tif 000038
（Ｅ１はシクロヘキサン環、ビシクロヘキサン環、ベンゼン環、ビフェニル環、ターフェニル環、ナフタレン環、フルオレン環、アントラセン環及びフェナントレン環からなる群から選ばれる基を示す。Ｅ２は下記の式［７ａ］及び式［７ｂ］から選ばれる基を示し、ｎは１〜４の整数を示す。）
【化３７】
2014148439.tif 000039
上記した化合物は架橋性化合物の一例であり、これらに限定されるものではない。また、本発明の組成物又は液晶配向処理剤に用いる架橋性化合物は、１種類であってもよく、２種類以上組み合わせてもよい。
【００９５】
本発明の組成物又は液晶配向処理剤における、架橋性化合物の含有量は、組成物又は液晶配向処理剤中のすべての重合体成分１００質量部に対して、０．１〜１５０質量部であることが好ましい。架橋反応が進行し、目的の効果を発現させるためには、すべての重合体成分１００質量部に対して０．１〜１００質量部がより好ましく、１〜５０質量部が最も好ましい。
【００９６】
本発明の組成物又は液晶配向処理剤においては、樹脂被膜又は液晶配向膜中の電荷移動を促進させる化合物として、国際公開公報ＷＯ２０１１／１３２７５１（２０１１．１０．２７公開）の６９頁〜７３頁に掲載される、式［Ｍ１］〜［Ｍ１５６］で示される窒素含有複素環アミン化合物を添加することが好ましい。このアミン化合物は、組成物又は液晶配向処理剤に直接添加しても構わないが、適当な溶媒で希釈して、濃度０．１〜１０質量％、好ましくは１〜７質量％の溶液にしてから添加することが好ましい。用いる溶媒としては、特定セルロース系重合体及び特定ポリシロキサンを溶解させる溶媒であれば特に限定されない。
【００９７】
本発明の組成物又は液晶配向処理剤においては、効果を損なわない限り、組成物又はそれを用いた液晶配向処理剤を塗布した際の樹脂被膜又は液晶配向膜の膜厚の均一性や、表面平滑性を向上させる化合物を用いることができる。更に、樹脂被膜又は液晶配向膜と基板との密着性を向上させる化合物などを用いることもできる。
樹脂被膜又は液晶配向膜の膜厚の均一性や表面平滑性を向上させる化合物としては、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、ノ二オン系界面活性剤などが挙げられる。
【００９８】
より具体的には、例えば、エフトップＥＦ３０１、ＥＦ３０３、ＥＦ３５２（以上、トーケムプロダクツ社製）、メガファックＦ１７１、Ｆ１７３、Ｒ−３０（以上、大日本インキ社製）、フロラードＦＣ４３０、ＦＣ４３１（以上、住友スリーエム社製）、アサヒガードＡＧ７１０、サーフロンＳ−３８２、ＳＣ１０１、ＳＣ１０２、ＳＣ１０３、ＳＣ１０４、ＳＣ1０５、ＳＣ１０６（以上、旭硝子社製）などが挙げられる。これらの界面活性剤の使用割合は、組成物又は液晶配向処理剤中のすべての重合体成分１００質量部に対して、好ましくは０．０１〜２質量部、より好ましくは０．０１〜１質量部である。
【００９９】
樹脂被膜又は液晶配向膜と基板との密着性を向上させる化合物の具体例としては、以下に示す官能性シラン含有化合物やエポキシ基含有化合物が挙げられる。
例えば、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、２−アミノプロピルトリメトキシシラン、２−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−エトキシカルボニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−エトキシカルボニル−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−トリエトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、Ｎ−トリメトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、１０−トリメトキシシリル−１,４,７−トリアザデカン、１０−トリエトキシシリル−１,４,７−トリアザデカン、９−トリメトキシシリル−３,６−ジアザノニルアセテート、９−トリエトキシシリル−３,６−ジアザノニルアセテート、Ｎ−ベンジル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−ベンジル−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−ビス（オキシエチレン）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−ビス（オキシエチレン）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１,６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、２,２−ジブロモネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１,３,５,６−テトラグリシジル−２,４−ヘキサンジオール、Ｎ,Ｎ,Ｎ’,Ｎ’,−テトラグリシジル−ｍ−キシレンジアミン、１,３−ビス（Ｎ,Ｎ−ジグリシジルアミノメチル）シクロヘキサン、Ｎ,Ｎ,Ｎ’,Ｎ’,−テトラグリシジル−４、４’−ジアミノジフェニルメタンなどが挙げられる。
【０１００】
これら基板との密着させる化合物を使用する場合は、組成物又は液晶配向処理剤中のすべての重合体成分１００質量部に対して０．１〜３０質量部であることが好ましく、より好ましくは１〜２０質量部である。０．１質量部未満であると密着性向上の効果は期待できず、３０質量部よりも多くなると組成物又は液晶配向処理剤の保存安定性が悪くなる場合がある。
本発明の組成物又は液晶配向処理剤には、上記以外の化合物の他に、本発明の効果が損なわれない範囲であれば、垂直液晶配向膜の誘電率や導電性などの電気特性を変化させる目的の誘電体や導電物質を添加してもよい。
【０１０１】
＜樹脂被膜＞
本発明の組成物は、基板上に塗布、焼成した後、樹脂被膜として用いることができる。この際に用いる基板としては、目的とするデバイスに応じて、ガラス基板、シリコンウェハ、アクリル基板やポリカーボネート基板などのプラスチック基板なども用いることができる。また、樹脂被膜をそのままフィルム基板として用いることもできる。
組成物の塗布方法は、特に限定されないが、工業的には、ディップ法、ロールコータ法、スリットコータ法、スピンナー法、スプレー法、スクリーン印刷、オフセット印刷、フレキソ印刷、インクジェット法などの方法が一般的である。これらは、目的に応じていずれの方法を用いてもよい。
組成物を基板上に塗布した後は、ホットプレート、熱循環型オーブン、ＩＲ（赤外線）型オーブンなどの加熱手段により、組成物に用いる溶媒に応じて、３０〜３００℃、好ましくは３０〜２５０℃の温度で溶媒を蒸発させて樹脂被膜とすることができる。
焼成後の樹脂被膜の厚みは、目的に応じて、０．０１〜１００μｍに調整することができる。
【０１０２】
＜液晶配向膜・液晶表示素子＞
本発明の組成物を用いた液晶配向処理剤は、基板上に塗布、焼成した後、ラビング処理や光照射などで配向処理をして、液晶配向膜として用いることができる。
また、液晶を垂直に配向させて表示を行う液晶表示素子に対しては、配向処理なしでも液晶配向膜として用いることができる。
この際に用いる基板としては、透明性の高い基板であれば特に限定されず、ガラス基板の他、アクリル基板、ポリカーボネート基板、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）基板などのプラスチック基板なども用いることができる。プロセスの簡素化の観点からは、液晶駆動のためのＩＴＯ電極などが形成された基板を用いることが好ましい。また、反射型の液晶表示素子では、片側の基板のみにならばシリコンウェハなどの不透明な基板も使用でき、この場合の電極としてはアルミなどの光を反射する材料も使用できる。
【０１０３】
液晶配向処理剤の塗布方法は、特に限定されないが、工業的には、スクリーン印刷、オフセット印刷、フレキソ印刷、インクジェット法などの方法が一般的である。その他の塗布方法としては、ディップ法、ロールコータ法、スリットコータ法、スピンナー法、スプレー法などがあり、目的に応じてこれらを用いてもよい。
液晶配向処理剤を基板上に塗布した後は、ホットプレート、熱循環型オーブン、ＩＲ（赤外線）型オーブンなどの加熱手段により、液晶配向処理剤に用いる溶媒に応じて、３０〜３００℃、好ましくは３０〜２５０℃の温度で溶媒を蒸発させて液晶配向膜とすることができる。
焼成後の液晶配向膜の厚みは、厚すぎると液晶表示素子の消費電力の面で不利となり、薄すぎると液晶表示素子の信頼性が低下する場合があるので、好ましくは５〜３００ｎｍ、より好ましくは１０〜１００ｎｍである。液晶を水平配向や傾斜配向させる場合は、焼成後の液晶配向膜をラビング、偏光紫外線照射等で処理する。
【０１０４】
本発明の液晶表示素子は、上記した手法により、本発明の液晶配向処理剤から液晶配向膜付き基板を得た後、公知の方法で液晶セルを作製して液晶表示素子としたものである。
液晶セルの作製方法としては、液晶配向膜の形成された一対の基板を用意し、片方の基板の液晶配向膜上にスペーサを散布し、液晶配向膜面が内側になるようにして、もう片方の基板を貼り合わせ、液晶を減圧注入して封止する方法、スペーサを散布した液晶配向膜面に液晶を滴下した後に、基板を貼り合わせて封止を行う方法などが例示できる。
【０１０５】
更に、本発明の液晶配向処理剤は、電極を備えた一対の基板の間に液晶層を有してなり、一対の基板の間に活性エネルギー線及び熱の少なくとも一方により重合する重合性化合物を含む液晶組成物を配置し、電極間に電圧を印加しつつ、活性エネルギー線の照射及び加熱の少なくとも一方により、重合性化合物を重合させる工程を経て製造される液晶表示素子にも好ましく用いられる。
ここで、活性エネルギー線としては、紫外線が好適である。紫外線としては、波長が３００〜４００ｎｍ、好ましくは３１０〜３６０ｎｍである。加熱による重合の場合、加熱温度は４０〜１２０℃、好ましくは６０〜８０℃である。また、紫外線と加熱を同時に行ってもよい。
【０１０６】
上記の液晶表示素子は、ＰＳＡ（Polymer  Sustained  Alignment）方式により、液晶分子のプレチルトを制御するものである。ＰＳＡ方式では、液晶材料中に少量の光重合性化合物、例えば光重合性モノマーを混入しておき、液晶セルを組み立てた後、液晶層に所定の電圧を印加した状態で、光重合性化合物に紫外線などを照射し、生成した重合体によって液晶分子のプレチルトを制御する。重合体が生成するときの液晶分子の配向状態が、電圧を取り去った後においても記憶されるので、液晶層に形成される電界などを制御することにより、液晶分子のプレチルトを調整することができる。また、ＰＳＡ方式では、ラビング処理を必要としないので、ラビング処理によってプレチルトを制御することが難しい垂直配向型の液晶層の形成に適している。
【０１０７】
すなわち、本発明の液晶表示素子は、上記した手法により本発明の液晶配向処理剤から液晶配向膜付き基板を得た後、液晶セルを作製し、紫外線の照射及び加熱の少なくとも一方により重合性化合物を重合することで、液晶分子の配向を制御するものとすることができる。
ＰＳＡ方式の液晶セル作製の一例を挙げるならば、液晶配向膜の形成された一対の基板を用意し、片方の基板の液晶配向膜上にスペーサを散布し、液晶配向膜面が内側になるようにして、もう片方の基板を貼り合わせ、液晶を減圧注入して封止する方法、スペーサを散布した液晶配向膜面に液晶を滴下した後に、基板を貼り合わせて封止を行う方法などが挙げられる。
【０１０８】
液晶には、熱や紫外線照射により重合する重合性化合物が混合される。重合性化合物としては、アクリレート基やメタクリレート基等の重合性不飽和基を分子内に１個以上有する化合物が挙げられる。その際、重合性化合物は、液晶成分の１００質量部に対して０．０１〜１０質量部であることが好ましく、より好ましくは０．１〜５質量部である。重合性化合物が０．０１質量部未満であると、重合性化合物が重合せずに液晶の配向制御できなくなり、１０質量部よりも多くなると、未反応の重合性化合物が多くなって液晶表示素子の焼き付き特性が低下する。
液晶セルを作製した後は、液晶セルに交流又は直流の電圧を印加しながら、熱や紫外線を照射して重合性化合物を重合する。これにより、液晶分子の配向を制御することができる。
【０１０９】
更に、本発明の液晶配向処理剤は、電極を備えた一対の基板の間に液晶層を有してなり、前記一対の基板の間に活性エネルギー線及び熱の少なくとも一方により重合する重合性基を含む液晶配向膜を配置し、電極間に電圧を印加する工程を経て製造される液晶表示素子にも好ましく用いられる。
ここで、活性エネルギー線としては、紫外線が好適である。紫外線としては、波長が３００〜４００ｎｍ、好ましくは３１０〜３６０ｎｍである。加熱による重合の場合、加熱温度は４０〜１２０℃、好ましくは６０〜８０℃である。また、紫外線と加熱を同時に行ってもよい。
【０１１０】
活性エネルギー線及び熱の少なくとも一方により重合する重合性基を含む液晶配向膜を得るためには、この重合性基を含む化合物を液晶配向処理剤中に添加する方法や、重合性基を含む重合体成分を用いる方法が挙げられる。
本発明の液晶配向処理剤は、熱や紫外線の照射により反応する２重結合部位を持つ特定化合物を含んでいるため、紫外線の照射及び加熱の少なくとも一方により液晶分子の配向を制御することができる。
液晶セル作製の一例を挙げるならば、液晶配向膜の形成された一対の基板を用意し、片方の基板の液晶配向膜上にスペーサを散布し、液晶配向膜面が内側になるようにして、もう片方の基板を貼り合わせ、液晶を減圧注入して封止する方法、スペーサを散布した液晶配向膜面に液晶を滴下した後に、基板を貼り合わせて封止を行う方法などが挙げられる。
液晶セルを作製した後は、液晶セルに交流又は直流の電圧を印加しながら、熱や紫外線を照射することで、液晶分子の配向を制御することができる。
本発明の液晶配向処理剤を用いて作製された液晶表示素子は、信頼性に優れたものとなり、大画面で高精細の液晶テレビなどに好適に利用できる。
【実施例】
【０１１１】
以下に実施例を挙げ、本発明を更に詳しく説明するが、これらに限定して解釈されるものではない。
[合成例、実施例及び比較例で用いる化合物の略号]
＜（Ａ）成分である特定セルロース系重合体＞
ＣＥ−１：ヒドロキシエチルセルロース（ＷＡＫＯ社製）
ＣＥ−２：ヒドロキシプロピルメチルセルロースフタレート（ＡＣＲＯＳ社製）
ＣＥ−３：ヒドロキシプロピルメチルセルロースアセテートサクシネート（信越化学社製）【０１１２】
＜（Ｂ）成分である特定ポリシロキサンを作製するためのモノマー＞
Ｂ１：下記の式［Ｂ１］で示されるアルコキシシランモノマー（式［Ａ１］で示されるアルコキシシランモノマー）
Ｂ２：オクタデシルトリエトキシシラン（式［Ａ１］で示されるアルコキシシランモノマー）
Ｂ３：３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（式［Ａ２］で示されるアルコキシシランモノマー）
Ｂ４：３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン（式［Ａ２］で示されるアルコキシシランモノマー）
Ｂ５：テトラエトキシシラン（式［Ａ３］で示されるアルコキシシランモノマー）
【化３８】
2014148439.tif 000040
【０１１３】
＜ポリイミド系重合体を製造するためのモノマー＞
Ｃ１：１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物
Ｃ２：ビシクロ［３，３，０］オクタン−２，４，６，８−テトラカルボン酸二無水物
Ｃ３：ｐ−フェニレンジアミン
Ｃ４：１，３−ジアミノ−４−〔４−（トランス−４−ｎ−ヘプチルシクロへキシル）フェノキシ〕ベンゼン
【化３９】
2014148439.tif 000041
＜溶媒＞
ＥＣ：ジエチレングリコールモノエチルエーテル
ＢＣＳ：エチレングリコールモノブチルエーテル
ＰＢ：プロピレングリコールモノブチルエーテル
ＮＭＰ：Ｎ−メチル−２−ピロリドン【０１１４】
[ポリイミド系重合体の分子量の測定方法]
ポリイミド前駆体及びポリイミドの分子量は、常温ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）装置（ＧＰＣ−１０１）（昭和電工社製）、カラム（ＫＤ−８０３，ＫＤ−８０５）（Ｓｈｏｄｅｘ社製）を用いて、以下のようにして測定した。
カラム温度：５０℃
溶離液：Ｎ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド（添加剤として、臭化リチウム−水和物（ＬｉＢｒ・Ｈ２Ｏ）が３０ｍｍｏｌ／Ｌ（リットル）、リン酸・無水結晶（ｏ−リン酸）が３０ｍｍｏｌ／Ｌ、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）が１０ｍｌ／Ｌ）
流速：１．０ｍｌ／分
検量線作成用標準サンプル：ＴＳＫ  標準ポリエチレンオキサイド（分子量；約９００,０００、１５０,０００、１００,０００及び３０,０００）（東ソー社製）及びポリエチレングリコール（分子量；約１２,０００、４,０００及び１,０００）（ポリマーラボラトリー社製）。【０１１５】
[イミド化率の測定方法]
ポリイミド粉末２０ｍｇをＮＭＲ（核磁気共鳴）サンプル管（ＮＭＲサンプリングチューブスタンダード，φ５（草野科学社製））に入れ、重水素化ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ−ｄ６，０．０５質量％ＴＭＳ（テトラメチルシラン）混合品）（０.５３ｍｌ）を添加し、超音波をかけて完全に溶解させた。この溶液をＮＭＲ測定機（ＪＮＷ−ＥＣＡ５００）（日本電子データム社製）にて５００ＭＨｚのプロトンＮＭＲを測定した。イミド化率は、イミド化前後で変化しない構造に由来するプロトンを基準プロトンとして決め、このプロトンのピーク積算値と、９.５〜１０.０ｐｐｍ付近に現れるアミド酸のＮＨ基に由来するプロトンピーク積算値とを用い以下の式によって求めた。
イミド化率（％）＝（１−α・ｘ／ｙ）×１００
上記式において、ｘはアミド酸のＮＨ基由来のプロトンピーク積算値、ｙは基準プロトンのピーク積算値、αはポリアミド酸（イミド化率が０％）の場合におけるアミド酸のＮＨ基プロトン１個に対する基準プロトンの個数割合である。【０１１６】
[特定ポリシロキサンの合成]
＜合成例１＞
温度計及び還流管を備え付けた２００ｍｌの四つ口反応フラスコ中で、ＥＣ（３１．６ｇ）、及びＢ５（４１．７ｇ）を混合して、アルコキシシランモノマーの溶液を調製した。この溶液に、あらかじめＥＣ（１５．８ｇ）、水（１０．８ｇ）及び触媒として蓚酸（０．２０ｇ）を混合した溶液を、２５℃にて３０分かけて滴下し、更に２５℃にて室温で３０分間撹拌した。その後、オイルバスを用いて加熱して６０分間還流させた後、放冷してＳｉＯ２換算濃度が１２質量％のポリシロキサン溶液（１）を得た。【０１１７】
＜合成例２＞
温度計及び還流管を備え付けた２００ｍｌの四つ口反応フラスコ中で、ＥＣ（２８．３ｇ）、Ｂ３（７．４５ｇ）及びＢ５（３２．５ｇ）を混合して、アルコキシシランモノマーの溶液を調整した。この溶液に、あらかじめＥＣ（１２．６ｇ）、水（１０．８ｇ）及び触媒として蓚酸（０．７０ｇ）を混合して調整しておいた溶液を、２５℃にて３０分かけて滴下し、更に２５℃にて３０分間撹拌した。その後、オイルバスを用いて加熱して３０分間還流させた後、あらかじめ調整しておいたＢ４の含有量が９２質量％のメタノール溶液（１．２０ｇ）とＥＣ（０．９０ｇ）の混合溶液を加えた。更に３０分間還流させた後、放冷してＳｉＯ２換算濃度が１２質量％のポリシロキサン溶液（２）を得た。【０１１８】
＜合成例３＞
温度計及び還流管を備え付けた２００ｍｌの四つ口反応フラスコ中で、ＥＣ（２８．３ｇ）、Ｂ１（４．１０ｇ）、Ｂ３（７．４５ｇ）及びＢ５（３２．５ｇ）を混合して、アルコキシシランモノマーの溶液を調整した。この溶液に、あらかじめＥＣ（１４．２ｇ）、水（１０．８ｇ）及び触媒として蓚酸（０．７０ｇ）を混合して調整しておいた溶液を、２５℃にて３０分かけて滴下し、更に２５℃にて３０分間撹拌した。その後、オイルバスを用いて加熱して３０分間還流させた後、あらかじめ調整しておいたＢ４の含有量が９２質量％のメタノール溶液（１．２０ｇ）とＥＣ（０．９０ｇ）の混合溶液を加えた。更に３０分間還流させた後、放冷してＳｉＯ２換算濃度が１２質量％のポリシロキサン溶液（３）を得た。【０１１９】
＜合成例４＞
温度計及び還流管を備え付けた２００ｍｌの四つ口反応フラスコ中で、ＥＣ（２８．３ｇ）、Ｂ２（４．１０ｇ）、Ｂ３（７．４５ｇ）及びＢ５（３２．５ｇ）を混合して、アルコキシシランモノマーの溶液を調整した。この溶液に、あらかじめＥＣ（１４．２ｇ）、水（１０．８ｇ）及び触媒として蓚酸（０．７０ｇ）を混合して調整しておいた溶液を、２５℃にて３０分かけて滴下し、更に２５℃にて３０分間撹拌した。その後、オイルバスを用いて加熱して３０分間還流させた後、あらかじめ調整しておいたＢ４の含有量が９２質量％のメタノール溶液（１．２０ｇ）とＥＣ（０．９０ｇ）の混合溶液を加えた。更に３０分間還流させた後、放冷してＳｉＯ２換算濃度が１２質量％のポリシロキサン溶液（４）を得た。【０１２０】
＜合成例５＞
温度計及び還流管を備え付けた２００ｍｌの四つ口反応フラスコ中で、ＥＣ（２９．２ｇ）、Ｂ１（４．１０ｇ）及びＢ５（３８．８ｇ）を混合して、アルコキシシランモノマーの溶液を調製した。この溶液に、あらかじめＥＣ（１４．６ｇ）、水（１０．８ｇ）及び触媒として蓚酸（０．５０ｇ）を混合して調整しておいた溶液を、２５℃にて３０分かけて滴下し、更に２５℃にて３０分間撹拌した。その後、オイルバスを用いて加熱して３０分間還流させた後、あらかじめ調整しておいたＢ４の含有量９２質量％のメタノール溶液（１．２０ｇ）とＥＣ（０．９０ｇ）の混合溶液を加えた。更に３０分間還流させた後、放冷してＳｉＯ２換算濃度が１２質量％のポリシロキサン溶液（５）を得た。  
合成例１〜５において用いたアルコキシシランモノマー、使用量などをまとめて表１に示す。【０１２１】
【表１】
2014148439.tif 000042
【０１２２】
[ポリイミド系重合体の合成]
＜合成例６＞
Ｃ２（４．０６ｇ，１６．２ｍｍｏｌ）及びＣ３（３．４９ｇ，３２．４ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（２１．３ｇ）中で混合し、５０℃で２時間反応させた後、Ｃ１（３．１２ｇ，１５．９ｍｍｏｌ）とＮＭＰ（１０．７ｇ）を加え、４０℃で６時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液（１）を得た。このポリアミド酸の数平均分子量は２５，９００、重量平均分子量は７６，４００であった。【０１２３】
＜合成例７＞
Ｃ２（３．８３ｇ，１５．３ｍｍｏｌ）、Ｃ３（１．６５ｇ，１５．３ｍｍｏｌ）及びＣ４（６．０４ｇ，１５．３ｍｍｏｌ）をＮＭＰ（２８．９ｇ）中で混合し、５０℃で２時間反応させた後、Ｃ１（２．９４ｇ，１５．０ｍｍｏｌ）とＮＭＰ（１４．５ｇ）を加え、４０℃で６時間反応させ、樹脂固形分濃度が２５質量％のポリアミド酸溶液（２）を得た。このポリアミド酸の数平均分子量は１９，３００、重量平均分子量は６８，２００であった。【０１２４】
＜合成例８＞
合成例７で得られたポリアミド酸溶液（２）（３０．０ｇ）に、ＮＭＰを加え６質量％に希釈した後、イミド化触媒として無水酢酸（３．９０ｇ）及びピリジン（２．４０ｇ）を加え、７０℃で２時間反応させた。この反応溶液をメタノール（４６０ｍｌ）中に投入し、得られた沈殿物を濾別した。この沈殿物をメタノールで洗浄し、１００℃で減圧乾燥しポリイミド粉末（３）を得た。このポリイミドのイミド化率は６１％であり、数平均分子量は２１，２００、重量平均分子量は５９，５００であった。【０１２５】
[組成物及び液晶配向処理剤の製造]
実施例１〜１４及び比較例１〜４では、組成物の製造例を記載する。また、これらの組成物は液晶配向処理剤の評価のためにも使用される。
組成物及び液晶配向処理剤を表２〜４に示す。
実施例及び比較例で得られた組成物（液晶配向処理剤に用いる場合がある。）を用い、[組成物又は液晶配向処理剤の保存安定性試験]、[段差基板における組成物又は液晶配向処理剤の印刷性の評価]、[液晶配向処理剤のインクジェット塗布性の評価]、[液晶セルの作製及び液晶配向性の評価（通常セル）]、[液晶セルの作製及び液晶配向性の評価（ＰＳＡセル）]及び[絶縁膜塗布基板での電圧保持率の評価]を行った。上記試験、評価における条件は、下記のとおりである。【０１２６】
[組成物又は液晶配向処理剤の保存安定性試験]
実施例及び比較例で得られた組成物を用いて、これら組成物の保存安定性試験を行った。具体的には、これら組成物を細孔径１μｍのメンブランフィルタで加圧濾過し、−１５℃にて７２時間保管した。その後、目視観察にて、組成物中の濁りや析出物の発生を確認した。
表５〜７に、実施例及び比較例で得られた組成物（含む液晶配向処理剤）の保存安定性試験の結果を示す。なお、表中、濁りや析出物が見られずに均一な溶液であったものを○とし、濁りや析出物が見られたものを×とした。【０１２７】
また、−１５℃にて７２時間保管した組成物を、純水及びＩＰＡ（イソプロピルアルコール）にて洗浄を行ったＩＴＯ電極付きガラス基板（縦４０ｍｍ×横３０ｍｍ，厚さ０．７ｍｍ）のＩＴＯ面にスピンコートし、ホットプレート上にて１００℃で５分間加熱処理をして、樹脂被膜付きのＩＴＯ基板を作製した。その後、得られた樹脂被膜付き基板のピンホールの評価を行った。具体的には、この樹脂被膜付き基板をナトリウムランプの下で目視観察をして、樹脂被膜上のピンホールの数を数えた。なお、ピンホールの数が少ないものほど、組成物中の析出物が少なく、本評価に優れるとした。
表５〜７に、実施例及び比較例で得られた組成物（含む液晶配向処理剤）から形成された樹脂被膜上のピンホールの数の評価結果を示す。
なお、実施例及び比較例で得られた組成物は、液晶配向処理剤に用いることができる。そのため、実施例及び比較例で得られた組成物の保存安定性試験の結果は、液晶配向処理剤としての保存安定性試験の結果とすることが可能である。【０１２８】
[組成物又は液晶配向処理剤の印刷性の評価（段差基板における樹脂被膜又は液晶配向膜の追随性の評価）]
実施例及び比較例で得られた組成物（含む液晶配向処理剤）を用いて、段差基板に対する印刷性の評価を行った。具体的には、これら組成物を細孔径１μｍのメンブランフィルタで加圧濾過した。その後、濾過後の組成物を用いて、基板の中心に対して７０×７０ｍｍの範囲に、１００×１００μｍのドットパターン（ドット間距離５０μｍ、ドットの厚さ０．５μｍ）を付けたガラス基板（縦１００ｍｍ×横１００ｍｍ、厚さ０．７ｍｍ）に対して、印刷を行った。印刷機には簡易印刷機Ｓ１５型（日本写真印刷社製）を用い、印刷面積が基板の中心に対して８０×８０ｍｍの範囲、印圧が０．２ｍｍ、捨て基板が５枚、印刷から仮乾燥までの時間が９０秒、仮乾燥がホットプレート上にて７０℃で５分間の条件で行った。【０１２９】
得られた樹脂被膜に関して、段差基板に対する樹脂被膜の追随性の評価を行った。具体的には、得られた樹脂被膜付き基板の断面を、走査型電子顕微鏡（Ｓ−４８００）（日立ハイテク社製）で観察して、ドット上部の樹脂被膜の膜厚とドット間の樹脂被膜の膜厚とを確認比較することで行った。より具体的には、図１中の（１）の膜厚（ドット上部の樹脂被膜の膜厚で、ドットの中央部の膜厚）と（２）の膜厚（ドット間の樹脂被膜の膜厚で、ドット間中央部の膜厚）を確認し、その差が小さいものほど、段差基板に対する樹脂被膜の追随性に優れるとした。【０１３０】
表５〜７に、実施例及び比較例で得られた組成物（含む液晶配向処理剤）の印刷性の評価として、図１中の（１）の膜厚、（２）の膜厚及び膜厚比（（（１）の膜厚／（２）の膜厚）×１００）の結果を、まとめて示す。
なお、実施例及び比較例で得られた組成物は、液晶配向処理剤に用いることができる。そのため、実施例及び比較例で得られた組成物の段差基板に対する樹脂被膜の追随性の結果は、液晶配向処理剤の段差基板に対する樹脂被膜の追随性の結果とすることが可能である。【０１３１】
[液晶配向処理剤のインクジェット塗布性の評価]
実施例６で得られた液晶配向処理剤（３）及び実施例１２で得られた液晶配向処理剤（９）を、細孔径１μｍのメンブランフィルタで加圧濾過し、インクジェット塗布性の評価を行った。具体的には、インクジェット塗布機に、ＨＩＳ−２００（日立プラントテクノロジー社製）を用いて、純水及びＩＰＡ（イソプロピルアルコール）にて洗浄を行ったＩＴＯ（酸化インジウムスズ）蒸着基板上に、塗布面積が７０×７０ｍｍ、ノズルピッチが０．４２３ｍｍ、スキャンピッチが０．５ｍｍ、塗布速度が４０ｍｍ／秒、塗布から仮乾燥までの時間が６０秒、仮乾燥がホットプレート上にて７０℃で５分間の条件で塗布を行った。
得られた液晶配向膜付き基板をナトリウムランプの下で目視観察をして、液晶配向膜上のピンホールの数を数えたところ、いずれの実施例で得られた液晶配向膜とも、ピンホールは３個以下であった。また、いずれの実施例とも、塗膜均一性に優れた液晶配向膜が得られた。【０１３２】
[液晶セルの作製及び液晶配向性の評価（通常セル）]
実施例及び比較例で得られた液晶配向処理剤を、細孔径１μｍのメンブランフィルタで加圧濾過し、−１５℃にて７２時間保管した液晶配向処理剤を用いて、液晶セルの作製（通常セル）を行った。具体的には、これら液晶配向処理剤を、純水及びＩＰＡにて洗浄を行った３０×４０ｍｍＩＴＯ電極付き基板（縦４０ｍｍ×横３０ｍｍ、厚さ０．７ｍｍ）のＩＴＯ面にスピンコートし、ホットプレート上にて１００℃で５分間、更に熱循環型クリーンオーブンにて２００℃で３０分間加熱処理をして、膜厚が１００ｎｍのポリイミド液晶配向膜付きのＩＴＯ基板を得た。【０１３３】
得られた液晶配向膜付きのＩＴＯ基板を２枚用意し、液晶配向膜面を内側にして６μｍのスペーサーを挟んで組み合わせ、シール剤（ＸＮ−１５００Ｔ）（三井化学社製）を印刷した。次いで、他方の基板と液晶配向膜面が向き合うようにして貼り合わせた後、シール剤を熱循環型クリーンオーブン中にて、１２０℃で９０分間加熱処理をすることにより硬化して空セルを作製した。この空セルに減圧注入法によって、ネマチック液晶（ＭＬＣ−６６０８）（メルク・ジャパン社製）を注入し、注入口を封止して液晶セル（通常セル）を得た。
得られた液晶セルを用いて、液晶配向性の評価を行った。液晶配向性は、液晶セルを偏光顕微鏡（ＥＣＬＩＰＳＥ  Ｅ６００ＷＰＯＬ）（ニコン社製）で観察し、配向欠陥の有無を確認した。具体的には、配向欠陥が見られなかったものを、本評価に優れるとした（表８及び表９中に、「良好」と示した。）。
表８及び表９に、実施例及び比較例で得られた液晶配向処理剤を用いて形成された液晶セルの液晶配向性の結果を示す。【０１３４】
[液晶セルの作製及び液晶配向性の評価（ＰＳＡセル）]
実施例４で得られた液晶配向処理剤（１）、実施例７で得られた液晶配向処理剤（４）及び実施例１１で得られた液晶配向処理剤（８）を細孔径１μｍのメンブランフィルタで加圧濾過し、−１５℃にて４８時間保管した溶液を用いて、液晶セルの作製及び液晶配向性の評価（ＰＳＡセル）を行った。
これら液晶配向処理剤を、純水及びＩＰＡにて洗浄した、中心に１０×１０ｍｍのパターン間隔２０μｍのＩＴＯ電極付き基板（縦４０ｍｍ×横３０ｍｍ、厚さ０．７ｍｍ）と中心に１０×４０ｍｍのＩＴＯ電極付き基板（縦４０ｍｍ×横３０ｍｍ、厚さ０．７ｍｍ）のＩＴＯ面にスピンコートし、ホットプレート上にて１００℃で５分間、更に熱循環型クリーンオーブンにて２００℃で３０分間加熱処理をして、膜厚が１００ｎｍのポリイミド塗膜を得た。【０１３５】
この液晶配向膜付き基板を、液晶配向膜面を内側にして、６μｍのスペーサーを挟んで組み合わせ、シール剤で周囲を接着して空セルを作製した。この空セルに減圧注入法によって、ネマティック液晶（ＭＬＣ−６６０８）（メルク・ジャパン社製）に、下記の式で示される重合性化合物（１）を、ネマティック液晶（ＭＬＣ−６６０８）の１００質量％に対して０．３質量％混合した液晶を注入し、注入口を封止して、液晶セルを得た。
【化４０】
2014148439.tif 000043
得られた液晶セルに、交流５Ｖの電圧を印加しながら、照度６０ｍＷのメタルハライドランプを用いて、３５０ｎｍ以下の波長をカットし、３６５ｎｍ換算で２０Ｊ／ｃｍ２の紫外線照射を行い、液晶の配向方向が制御された液晶セル（ＰＳＡセル）を得た。液晶セルに紫外線を照射している際の照射装置内の温度は、５０℃であった。【０１３６】
この液晶セルの紫外線照射前と紫外線照射後の液晶の応答速度を測定した。応答速度は、透過率９０％から透過率１０％までのＴ９０→Ｔ１０を測定した。
実施例で得られたＰＳＡセルは、紫外線照射前の液晶セルに比べて、紫外線照射後の液晶セルの応答速度が早くなったことから、液晶の配向方向が制御されたことを確認した。また、いずれの液晶セルとも、偏光顕微鏡（ＥＣＬＩＰＳＥ  Ｅ６００ＷＰＯＬ）（ニコン社製）での観察により、液晶は均一に配向していることを確認した。【０１３７】
[絶縁膜塗布基板での電圧保持率の評価]
（絶縁膜用組成物の調製）
１００ｍｌナス型フラスコに、アクリル系樹脂（（メタ）アクリル酸／ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート／メチル（メタ）アクリレート＝９／２５．５／６５．５（モル比）のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液、固形分濃度：２２．０重量％、重量平均分子量６０００（ポリスチレン換算））（７．０７ｇ）、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（２５．１ｇ）、ＫＡＹＡＲＡＤＤＰＨＡ−４０Ｈ（日本化薬社製）（３．３０ｇ）、Ｉ−３６９（チバスペシャリティーケミカルズ社製）（０．３０ｇ）、ＩＴＸ（ファーストケミカルコーポレーション社製）、及びメガファックＲ−３０（０．０１５ｇ）を加え、２５℃で３時間攪拌し、絶縁膜用組成物を得た。この絶縁膜用組成物には不溶物は見られず、均一な溶液が得られた。【０１３８】
（絶縁膜塗布基板の作製）
上記で得られた絶縁膜用組成物を０．２μｍのフィルターを用いてろ過を行った。その後、ろ過した後の組成物を、純水及びＩＰＡにて洗浄した中心に１０×１０ｍｍのパターン間隔２０μｍのＩＴＯ電極付き基板（縦４０ｍｍ×横３０ｍｍ、厚さ０．７ｍｍ）と中心に１０×４０ｍｍのＩＴＯ電極付き基板（縦４０ｍｍ×横３０ｍｍ、厚さ０．７ｍｍ）のＩＴＯ面にスピンコートし、ホットプレート上にて１１０℃で５分間加熱処理をした。この塗膜に、紫外線照射装置ＰＬＡ−５０１（Ｆ）（キャノン社製）により、３６５ｎｍにおける照射量が、５００ｍＪ/ｃｍ２の紫外線を照射し、ホットプレート上にて１２０℃で１分間加熱処理をした。その後、更にホットプレート上にて２００℃で６０分間加熱処理を行い、膜厚１．１２μｍの絶縁膜が塗布された基板を得た。【０１３９】
（液晶セルの作製）
実施例及び比較例で得られた液晶配向処理剤を細孔径１μｍのメンブランフィルタで加圧濾過し、液晶セルを作製した。これら液晶配向処理剤を上記で得られた絶縁膜塗布基板の絶縁膜塗布面にスピンコートし、ホットプレート上にて１００℃で５分間、更に熱循環型クリーンオーブンにて２００℃で３０分間加熱処理をして、膜厚が１００ｎｍのポリイミド液晶配向膜付きのＩＴＯ基板を得た。
得られた液晶配向膜付きのＩＴＯ基板を２枚用意し、液晶配向膜面を内側にして６μｍのスペーサーを挟んで組み合わせ、シール剤（ＸＮ−１５００Ｔ）（三井化学社製）を印刷した。次いで、他方の基板と液晶配向膜面が向き合うようにして貼り合わせた後、シール剤を熱循環型クリーンオーブン中にて１２０℃で９０分間加熱処理をすることにより硬化して空セルを作製した。この空セルに減圧注入法によって、液晶を注入し、注入口を封止して液晶セルを得た。【０１４０】
（電圧保持率の評価）
上記で得られた液晶セルに、７０℃の温度下で１Ｖの電圧を６０μｓ印加し、１６．６７ｍｓ後及び５０ｍｓ後の電圧を測定し、電圧がどのくらい保持できているかを電圧保持率（ＶＨＲともいう）として計算した。なお、測定は、電圧保持率測定装置（ＶＨＲ−１）（東陽テクニカ社製）を使用し、Ｖｏｌｔａｇｅ：±１Ｖ、Ｐｕｌｓｅ  Ｗｉｄｔｈ：６０μｓ、Ｆｌａｍｅ  Ｐｅｒｉｏｄ：１６．６７ｍｓ及び５０ｍｓの設定で行った。
電圧保持率の測定が終了した液晶セルに、３６５ｎｍ換算で１０Ｊ／ｃｍ２の紫外線を照射した後、同様条件にて、ＶＨＲの測定を行った。なお、紫外線照射は、卓上型ＵＶ硬化装置（ＨＣＴ３Ｂ２８ＨＥＸ−１）（センライト社製（ＳＥＮ  ＬＩＧＨＴ  ＣＯＲＰＯＲＡＴＩＯＮ））を用いて行った。
表８及び表９に、実施例及び比較例で得られた液晶配向処理剤を用いて作製された絶縁膜塗布基板での電圧保持率の評価の結果を示す。【０１４１】
以下に、実施例１〜１４、及び比較例１〜４における組成物（液晶配向処理剤に用いる場合がある。）の調製方法を記載する。
表２〜４には、各実施例及び比較例で使用した特定セルロース系重合体、特定ポリシロキサン、溶媒、及び組成物中の固形分濃度（％）等をまとめて示す。
また、得られた組成物(含む液晶配向処理剤)の評価は、[組成物又は液晶配向処理剤の保存安定性試験]、[段差基板における組成物又は液晶配向処理剤の印刷性の評価]、[液晶配向処理剤のインクジェット塗布性の評価]、[液晶セルの作製及び液晶配向性の評価（通常セル）]、[液晶セルの作製及び液晶配向性の評価（ＰＳＡセル）]及び[絶縁膜塗布基板での電圧保持率の評価]等を行った。
実施例１〜１４、及び比較例１〜４で得られた組成物(含む液晶配向処理剤)の上記評価の結果は、表５〜９にまとめて示す。【０１４２】
＜実施例１＞
ＣＥ−２（０．７２ｇ）をＥＣ（９．００ｇ）及びＢＣＳ（１０．５ｇ）中で混合し、４０℃で６時間攪拌した。その後、合成例１の合成手法で得られたポリシロキサン溶液（１）（６．００ｇ）を加え、２５℃で２時間攪拌し、組成物（１）を得た。この組成物に、濁りや析出物の発生などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。【０１４３】
＜実施例２＞
ＣＥ−１（０．１５ｇ）をＥＣ（２．２０ｇ）及びＢＣＳ（１３．６ｇ）中で混合し、４０℃で６時間攪拌した。その後、合成例２の合成手法で得られたポリシロキサン溶液（２）（１１．３ｇ）を加え、２５℃で２時間攪拌し、組成物（２）を得た。この組成物に、濁りや析出物の発生などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。【０１４４】
＜実施例３＞
ＣＥ−２（０．９５ｇ）をＥＣ（１２．５ｇ）及びＢＣＳ（１０．１ｇ）中で混合し、４０℃で６時間攪拌した。その後、合成例２の合成手法で得られたポリシロキサン溶液（２）（５．２８ｇ）を加え、２５℃で２時間攪拌し、組成物（３）を得た。この組成物に、濁りや析出物の発生などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。【０１４５】
＜実施例４＞
ＣＥ−２（０．６５ｇ）をＥＣ（１１．９ｇ）及びＢＣＳ（８．９０ｇ）中で混合し、４０℃で６時間攪拌した。その後、合成例３の合成手法で得られたポリシロキサン溶液（３）（８．１３ｇ）を加え、２５℃で２時間攪拌し、組成物（４）を得た。この組成物に、濁りや析出物の発生などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。なお、この組成物（４）は、液晶配向処理剤（１）としても評価に用いた。【０１４６】
＜実施例５＞
ＣＥ−３（０．５０ｇ）をＥＣ（１．９０ｇ）及びＰＢ（１２．１ｇ）中で混合し、４０℃で６時間攪拌した。その後、合成例３の合成手法で得られたポリシロキサン溶液（３）（８．１３ｇ）を加え、２５℃で２時間攪拌し、組成物（５）を得た。この組成物に、濁りや析出物の発生などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。なお、この組成物（５）は、液晶配向処理剤（２）としても評価に用いた。【０１４７】
＜実施例６＞
ＣＥ−２（０．５０ｇ）をＥＣ（１２．０ｇ）及びＰＢ（２２．９ｇ）中で混合し、４０℃で６時間攪拌した。その後、合成例３の合成手法で得られたポリシロキサン溶液（３）（６．２５ｇ）を加え、２５℃で２時間攪拌し、組成物（６）を得た。この組成物に、濁りや析出物の発生などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。なお、この組成物（６）は、液晶配向処理剤（３）としても評価に用いた。【０１４８】
＜実施例７＞
ＣＥ−２（０．８０ｇ）をＥＣ（７．１０ｇ）及びＢＣＳ（１４．５ｇ）中で混合し、４０℃で６時間攪拌した。その後、合成例３の合成手法で得られたポリシロキサン溶液（３）（６．６７ｇ）を加え、２５℃で２時間攪拌し、組成物（７）を得た。この組成物に、濁りや析出物の発生などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。なお、この組成物（７）は、液晶配向処理剤（４）としても評価に用いた。【０１４９】
＜実施例８＞
ＣＥ−２（０．３０ｇ）をＥＣ（０．６０ｇ）及びＰＢ（１６．４ｇ）中で混合し、４０℃で６時間攪拌した。その後、合成例４の合成手法で得られたポリシロキサン溶液（４）（１０．０ｇ）を加え、２５℃で２時間攪拌し、組成物（８）を得た。この組成物に、濁りや析出物の発生などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。なお、この組成物（８）は、液晶配向処理剤（５）としても評価に用いた。【０１５０】
＜実施例９＞
ＣＥ−２（０．６５ｇ）をＥＣ（９．００ｇ）及びＢＣＳ（１１．８ｇ）中で混合し、４０℃で６時間攪拌した。その後、合成例４の合成手法で得られたポリシロキサン溶液（４）（８．１３ｇ）を加え、２５℃で２時間攪拌し、組成物（９）を得た。この組成物に、濁りや析出物の発生などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。なお、この組成物（９）は、液晶配向処理剤（６）としても評価に用いた。【０１５１】
＜実施例１０＞
ＣＥ−１（０．１５ｇ）をＥＣ（７．７０ｇ）及びＢＣＳ（８．２０ｇ）中で混合し、４０℃で６時間攪拌した。その後、合成例４の合成手法で得られたポリシロキサン溶液（４）（１１．３ｇ）を加え、２５℃で２時間攪拌し、組成物（１０）を得た。この組成物に、濁りや析出物の発生などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。なお、この組成物（１０）は、液晶配向処理剤（７）としても評価に用いた。【０１５２】
＜実施例１１＞
ＣＥ−２（０．５０ｇ）をＥＣ（９．５０ｇ）及びＰＢ（１０．６ｇ）中で混合し、４０℃で６時間攪拌した。その後、合成例５の合成手法で得られたポリシロキサン溶液（５）（９．７２ｇ）を加え、２５℃で２時間攪拌し、組成物（１１）を得た。この組成物に、濁りや析出物の発生などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。なお、この組成物（１１）は、液晶配向処理剤（８）としても評価に用いた。【０１５３】
＜実施例１２＞
ＣＥ−２（０．４５ｇ）をＥＣ（２３．３ｇ）及びＰＢ（１７．５ｇ）中で混合し、４０℃で６時間攪拌した。その後、合成例５の合成手法で得られたポリシロキサン溶液（５）（８．７５ｇ）を加え、２５℃で２時間攪拌し、組成物（１２）を得た。この組成物に、濁りや析出物の発生などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。なお、この組成物（１２）は、液晶配向処理剤（９）としても評価に用いた。【０１５４】
＜実施例１３＞
ＣＥ−３（０．４０ｇ）をＥＣ（８．５０ｇ）及びＢＣＳ（１０．２ｇ）中で混合し、４０℃で６時間攪拌した。その後、合成例５の合成手法で得られたポリシロキサン溶液（５）（１０．０ｇ）を加え、２５℃で２時間攪拌し、組成物（１３）を得た。この組成物に、濁りや析出物の発生などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。なお、この組成物（１３）は、液晶配向処理剤（１０）としても評価に用いた。【０１５５】
＜実施例１４＞
ＣＥ−３（０．７５ｇ）をＥＣ（８．００ｇ）及びＰＢ（１２．３ｇ）中で混合し、４０℃で６時間攪拌した。その後、合成例５の合成手法で得られたポリシロキサン溶液（５）（６．２５ｇ）を加え、２５℃で２時間攪拌し、組成物（１４）を得た。この組成物に、濁りや析出物の発生などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。なお、この組成物（１４）は、液晶配向処理剤（１１）としても評価に用いた。【０１５６】
＜比較例１＞
合成例６の合成手法で得られた樹脂固形分濃度２５質量％のポリアミド酸溶液（１）（２．６０ｇ）に、ＮＭＰ（１０．０ｇ）及びＢＣＳ（８．９０ｇ）を加え、２５℃にて２時間攪拌した。その後、合成例３の合成手法で得られたポリシロキサン溶液（３）（８．１３ｇ）を加えたが、その直後に析出物が発生した。それから、２５℃で２時間攪拌し、組成物（１５）を得た。ただし、この組成物中には、析出物が見られた。なお、この組成物（１５）は、液晶配向処理剤（１２）としても評価に用いた。【０１５７】
＜比較例２＞
合成例７の合成手法で得られた樹脂固形分濃度２５質量％のポリアミド酸溶液（２）（２．６０ｇ）に、ＮＭＰ（１０．０ｇ）及びＢＣＳ（８．９０ｇ）を加え、２５℃にて２時間攪拌した。その後、合成例３の合成手法で得られたポリシロキサン溶液（３）（８．１３ｇ）を加えたが、その直後に析出物が発生した。それから、２５℃で２時間攪拌し、組成物（１６）を得た。ただし、この組成物中には、析出物が見られた。なお、この組成物（１６）は、液晶配向処理剤（１３）としても評価に用いた。【０１５８】
＜比較例３＞
合成例８の合成手法で得られたポリイミド粉末（３）（０．４５ｇ）をＥＣ（８．２０ｇ）及びＢＣＳ（６．１０ｇ）中で混合し、７０℃で１５時間攪拌した。しかしながら、ポリイミド粉末（３）は、溶解しなかった。
そこで、ポリイミド粉末（３）（０．４５ｇ）をＮＭＰ（８．２０ｇ）及びＢＣＳ（６．１０ｇ）中で混合し、７０℃で８時間攪拌した。その後、合成例３の合成手法で得られたポリシロキサン溶液（３）（５．６３ｇ）を加えたが、その直後に析出物が発生した。それから、２５℃で２時間攪拌し、組成物（１７）を得た。ただし、この組成物中には、析出物が見られた。なお、この組成物（１７）は、液晶配向処理剤（１４）としても評価に用いた。【０１５９】
＜比較例４＞
合成例３の合成手法で得られたポリシロキサン溶液（３）（１２．５ｇ）に、ＥＣ（６．６０ｇ）及びＢＣＳ（８．２０ｇ）を加え、２５℃で４時間攪拌し、組成物（１８）を得た。この組成物に、濁りや析出物の発生などの異常は見られず、均一な溶液であることが確認された。なお、この組成物（１８）は、液晶配向処理剤（１５）としても評価に用いた。【０１６０】
【表２】
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＊２：組成物（液晶配向処理剤）中の重合体の占める割合を示す。【０１６１】
【表３】
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＊３：組成物（液晶配向処理剤）中の重合体の占める割合を示す。【０１６２】
【表４】
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＊４：組成物（液晶配向処理剤）中の重合体の占める割合を示す。【０１６３】
【表５】
2014148439.tif 000047
【０１６４】
【表６】
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【０１６５】
【表７】
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【０１６６】
【表８】
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【０１６７】
【表９】
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＊５：ピンホールによる配向欠陥が１０個以上観察された。【０１６８】
上記の結果からわかるように、実施例の組成物は、比較例に比べて、組成物の保存時に重合体の析出が起こらずに保存安定性に優れ、樹脂被膜を形成する際のピンホールの発生を抑制することができた。更には、段差基板の凹凸に対して段差追随性が高い樹脂被膜を得ることができた。
具体的には、本発明の（Ｂ）成分である特定ポリシロキサン及び（Ａ）成分である特定セルロース系重合体を用いた組成物（実施例４）と、これと同じ構造の特定ポリシロキサン及び特定セルロース系重合体以外の重合体を用いた組成物（実施例４と比較例１、２又は３）との比較である。特に、比較例１〜３においては、重合体にポリイミド系重合体を用いており、ポリイミド系重合体に特定ポリシロキサンを混合させると析出物が発生し、組成物の保存安定性も悪くなった。また、これら比較例の組成物から得られた液晶配向処理剤を用いて、液晶セルを作製すると、ピンホールに伴う配向欠陥が多く見られた。【０１６９】
更に、本発明の（Ｂ）成分である特定ポリシロキサン及び本発明の（Ａ）成分である特定セルロース系重合体を用いた組成物（実施例４）と、特定ポリシロキサンのみを用いた組成物（比較例４）との比較において、比較例４の組成物は、組成物の保存安定性に優れ、樹脂被膜を形成する際のピンホールの発生を抑制することができるものの、段差基板の凹凸に対する段差追随性が低くなった。
これらの実施例の組成物は、液晶配向処理剤としても評価に用いたが、これらの実施例の組成物を用いた場合の評価結果は、液晶配向処理剤としての結果とすることが可能である。【０１７０】
更に、絶縁膜塗布基板での電圧保持率の評価において、本発明の組成物から得られた液晶配向処理剤は、比較例の組成物から得られた液晶配向処理剤に比べて、液晶配向膜の下に有機部材からなる絶縁膜がある状態で光を照射しても、電圧保持率に優れる結果が得られた。具体的には、本発明の（Ｂ）成分である特定ポリシロキサン及び（Ａ）成分である特定セルロース系重合体を用いた組成物（実施例４）と、同じ構造の特定ポリシロキサンと特定セルロース系重合体以外の重合体を用いた組成物（比較例１、２又は３）との比較、更には、本発明の（Ｂ）成分である特定ポリシロキサン及び（Ａ）成分である特定セルロース系重合体を用いた組成物（実施例４）と、同じ構造の特定ポリシロキサンのみを用いた組成物（比較例４）との比較である。
【産業上の利用可能性】
【０１７１】
本発明の組成物は、保存安定性に優れ、樹脂被膜を形成する際に、ピンホールの発生が抑制され、段差基板の凹凸に対して段差追随性が高い。
更に、本発明の組成物を用いた液晶配向処理剤は、電圧保持率に優れる液晶配向膜の形成に好適であり、該液晶配向膜を有する液晶表示素子は、信頼性に優れたものとなり、大画面で高精細の液晶テレビなどに好適に利用でき、ＴＮ素子、ＳＴＮ素子、ＴＦＴ液晶素子、特に垂直配向型の液晶表示素子に有用である。
また、本発明の液晶配向処理剤から得られた液晶配向膜は、液晶表示素子を作製する際に、紫外線を照射する必要があるＰＳＡ方式の垂直配向型の液晶セルの作製に有用である。【０１７２】
なお、２０１３年３月１８日に出願された日本特許出願２０１３−０５５０９５号の明細書、特許請求の範囲、図面及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。
【図１】
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【国際調査報告】
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