【事件の表示】
　特願２０００−６０７０３１「回折選択偏光ビームスプリッタおよびそれにより製造されたビームルーチングプリズム」拒絶査定不服審判事件〔平成１２年　９月２８日国際公開、ＷＯ００／５７２１５、平成１４年１１月２６日国内公表、特表２００２−５４０４４６〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、平成１２年３月２１日（パリ条約による優先権主張１９９９年３月２２日、米国）を国際出願日とする出願であって、平成１７年４月１日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、平成１７年７月１１日に拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに、同日付けで手続補正がなされたものである。
　
２．平成１７年７月１１日付けの手続補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　　平成１７年７月１１日付けの手続補正を却下する。
［理由］
（１）補正後の本願発明
　本件補正により、補正前の特許請求の範囲の請求項１２は、特許請求の範囲の請求項１１として、
　「選択的に偏光分割する方法において、
　回折格子を透過性媒体のほぼ平坦な面に設け、
　前記回折格子は、前記入射光ビームの異なる偏光成分を区別して透過し反射するように選択された周期を有する複数の繰り返し隆起部を有し、該隆起部は前記透過性媒体と異なる屈折率を有する材料で形成され、前記繰り返し隆起部の周期は前記入射光ビームの主波長より小さく、前記隆起部は前記面にエッチングされ、
　前記回折格子の面を前記入射光ビームに対して角度ａに向け、
　前記角度aは９０度より小さく０度より大きく、
　前記入射光ビームは前記回折格子の面に平行な第１偏光成分と該第１偏光成分に垂直な第２偏光成分とを有し、
　前記第１偏光成分は前記回折格子でほぼ反射し、前記第２偏光成分はほぼ透過することを特徴とする偏光分割方法。」
と補正された。
　上記補正は、補正前の請求項１２に記載した発明を特定するために必要な事項である「回折格子」について「透過性媒体の」との限定を付加し、同じく「回折格子の隆起部」について「該隆起部は前記透過性媒体と異なる屈折率を有する材料で形成され、」との限定を付加するものであって、特許法第１７条の２第４項第２号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　そこで、本件補正後の前記請求項１１に記載された発明（以下、「本願補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか）について以下に検討する。
　
（２）補正の適否
　本願の発明の詳細な説明の段落【００２１】、【００２２】には、
　「【００２１】
　図１は、偏光ビームスプリッタとして使用される回折格子１０を概略示す。方向ｋの光ビームは、格子１０の面に垂直な方向に対して角度ａで格子１０に入射する。格子ベクトルＫは、図に示すように溝１２に垂直な方向と、格子周期２π／Ｐに等しい大きさとを有し、ここでＰは格子１０の１周期である。入射光ビームのＴＥ偏光成分は、ビーム方向ｋと格子ベクトルＫの両方に垂直に線形的に偏光されている。すなわち、図１において、ＴＥベクトルは、ビーム方向ｋと格子ベクトルＫによって規定される面に垂直に例えば紙面に外側に延びている。入射光ビームのＴＭ偏光成分は、ＴＥ成分とビーム方向ｋの両方に垂直に線形的に偏光されている。入射媒体の屈折率はｎ1、格子の屈折率はｎ2である。ｎ1とｎ2は、一般に、偏光ビームスプリッタ１０の性能を最適化するように選択することができる。格子の深さはｄ、格子充填係数（grating　fill　factor）はＦである。充填係数Ｆは、ノッチ１５の幅ＦＰを格子周期Ｐで割ったものとして定義される。
　　　【００２２】
　入射ビームが格子に斜角で入射すると、ＴＭ偏光された光ビームの透過率は、最適な格子深さｄ、充填係数Ｆおよび格子周期Ｐを選択することにより、１（すなわち１００％）
に近づく。ＴＭ偏光の高透過率の理由は、以下の通りである。格子が連続した切片（slice）に分割され、各々がｋに垂直であると仮定する。媒体ｎ1から媒体ｎ2へのいくつかの切片を考えると、各切片の平均屈折率はその上の切片よりも高い。したがって、光波が格子に侵入するにつれて、徐々により大きい平均屈折指数を備えた材料と出会う。この効果は、格子が４５°の角度に傾斜されると向上する。この角度では、入射ＴＭビームは、プリズムアレイ（array　of　prism）と出会い、有効屈折率がｎ1からｎ2にゆっくりと変化する。ＴＥ偏光された光に対しては、反射は、エッチ深さ（etch　depth）ｄ、充填係数Ｆおよび格子断面形状に強く依存する。格子構造にＴＭ透過は弱く依存し、ＴＥ透過は強く依存するので、格子構造１０は、ＴＥ光を強く反射するように最適化され、ＴＭ偏光された光に対して高い透過率を維持することができる。」
と記載され、屈折率については、「入射媒体の屈折率はｎ1、格子の屈折率はｎ2である。」と記載されている。また、「切片（slice）」の定義や「媒体ｎ1から媒体ｎ2へのいくつかの切片を考えると、各切片の平均屈折率はその上の切片よりも高い。」という記載が不明瞭であるところ、前記「入射媒体」が本願補正発明の「透過性媒体」に相当するとは認められないから、上記記載は、格子１０のノッチ１５が格子１０の他の部分と屈折率を異にするという構成を表しているとも認められない。
　以上のことから、回折格子に係る発明特定事項である「透過性媒体のほぼ平坦な面に設け」、「隆起部は透過性媒体と異なる屈折率を有する材料で形成」という構成は、いずれも本願の発明の詳細な説明に記載されていない。
　したがって、本願補正発明は、発明の詳細な説明に記載したものではないから特許法第３６条第６項第１号に適合するものではなく、特許出願の際に独立して特許を受けることができない。
　
（３）むすび
　以上のとおり、本件補正は、特許法第１７条の２第５項の規定で準用する同法第１２６条第５項に規定される独立特許要件を満たしていないものであり、特許法第１５９条第１項で準用する同法第５３条第１項の規定によって却下すべきものである。
　
３．本願発明について
　平成１７年７月１１日付けの手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明（以下、同項記載の発明を「本願発明」という。）は、平成１７年３月７日付け手続補正書の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される、以下のとおりのものである。
　「回折格子が、ある面に設けられるとともに、入射光ビームに対して斜角に配置され、
　前記回折格子は、前記入射光ビームの異なる偏光成分を区別して透過し反射するように選択された周期を有する複数の繰り返し隆起部を含み、前記周期は前記入射光ビームの波長よりも小さく、前記隆起部は前記面にエッチングされていることを特徴とする偏光ビームスプリッタ。」
　
（１）引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された、LOPEZ A ET AL、Wave-plate polarizing beam splitter based on a form-birefringent multilayer grating 、October 15, 1998 Vol.23,No.20、OPTICS LETTERS、Optical Society of America、p1627-1629、米国、（以下、「引用例１」という。）には、
　「この書簡において、私たちは、通常の入射角においては１／４波長板として動作し、〜４０°の入射角（ビームスプリッタの動作を得るための最大入射角は、格子周期によって定められる。）においては偏光ビームスプリッタとして動作する新規なコンポーネントを紹介する。装置の動作波長は６３２．８nmである。・・・。Ｆｉｇ．１は装置の概要図である。Ｆｉｇ．２は入射角の関数として両直線偏光（ＴＥ及びＴＭ）の理論上の透過と反射の係数の曲線を表したものである。さらにＦｉｇ．２は入射角の関数として２つの直線偏光間の透過光の位相差を表している。図に見られるように、通常の入射角においては１／４波長板（位相の遅れは９０°）として動作し、〜４０°の入射角においては偏光ビームスプリッタとして動作する。装置は、周期が０．３μｍで〜５０％のデューティサイクルを有する一次元の表面レリーフ格子である。格子材料は、Ｓｉ３Ｎ４（屈折率２．２０）の２層間に挟まれたＳｉＯ２（屈折率１．４５７）の単層を溶融水晶基板上に形成したものである。かくして、私たちは格子装置の特性を向上させるための多層薄膜積層体干渉効果を利用することが可能となった。前記装置は、エレクトロンビームリソグラフィと反応性イオンエッチングで製造された。」（１６２７頁左欄１８行〜右欄８行）
が記載されていると認める。そして、前記記載の格子周期は０．３μｍで入射光６３２．８nmより小さい値であることが示され、さらに、Ｆｉｇ．２には、入射角４０°付近においてＴＥ偏光を反射し、ＴＭ偏光を透過する回折効率を有することが示されており、これらは、ＴＭ偏光とＴＥ偏光を区別して透過し反射するように回折格子の周期を定めるということを表すものと認められるから、これらの記載によれば、引用例１には、
　「回折格子が溶融水晶基板上に形成されるとともに、入射光に対して斜角に配置され、前記回折格子は、ＴＭ偏光とＴＥ偏光を区別して透過し反射するように回折格子の周期を定め、選択された周期を有する表面レリーフ格子を有し、前記周期は前記入射光の波長よりも小さく、前記表面レリーフ格子はエレクトロンビームリソグラフィと反応性イオンエッチングで製造されていることを特徴とする偏光ビームスプリッタ。」
との発明（以下、「引用例１発明」という。）が開示されていると認めることができる。
　
（３）対比・判断
　そこで、本願発明と引用例１発明とを比較すると、引用例１発明の「入射光」は、本願発明の「入射光ビーム」に相当し、以下同様に、「ＴＭ偏光とＴＥ偏光」は「入射光ビームの異なる偏光成分」に、「表面レリーフ格子」は「複数の繰り返し隆起部」に、それぞれ相当し、引用例１発明の「回折格子が溶融水晶基板上に形成される」は、その上位概念である「回折格子がある面に形成される」が、本願発明の「回折格子が、ある面に設けられる」に相当するといえるから、両者は、
「回折格子が、ある面に設けられるとともに、入射光ビームに対して斜角に配置され、
　前記回折格子は、前記入射光ビームの異なる偏光成分を区別して透過し反射するように選択された周期を有する複数の繰り返し隆起部を含み、前記周期は前記入射光ビームの波長よりも小さいことを特徴とする偏光ビームスプリッタ。」
の点で一致し、以下の点で相違している。
［相違点１］
　ある面に設けられる回折格子の隆起部が、本願発明では「前記面にエッチングされている」というものであるのに対して、引用例１発明では「エレクトロンビームリソグラフィと反応性イオンエッチングで製造されている」というものである点。
　次に相違点について検討する。
　
［相違点１］について
　引用例１発明と同種の偏光ビームスプリッタにおいて、直線回折格子を形成するためのレリーフパターンを基板の表面に反応性イオンエッチングを用いて製造することは、周知［例えば、特開平６−５１１１２号公報（原審の拒絶査定の備考欄においても示されている。）を参照］であり、この周知技術を引用例１発明に適用することに阻害要因は認められないから、前記周知技術を引用例１発明に適用し、引用例１発明の基板を直接エッチングすることにより本願発明の隆起部と同様の構成とすることは、当業者が容易になしえたことである。したがって、相違点１に係る本願発明の構成は、引用例１発明に周知技術を適用することにより当業者が容易に想到しえたものというべきである。
　
　そして、本願発明の作用効果も、引用例１発明及び周知技術から当業者が予測できる範囲のものである。
　したがって、本願発明は、引用例１に記載された発明及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
（３）むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用例１に記載された発明及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。