【事件の表示】
　平成　９年特許願第５３２００３号「屈折率を最適化して性能を改善した光吸収性の反射防止層」拒絶査定不服審判事件〔平成　９年　９月１２日国際公開、ＷＯ９７／３３２００、平成１２年　５月２３日国内公表、特表２０００−５０６２８７〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯等
　本願は、平成９年３月６日（パリ条約による優先権主張外国庁受理１９９６年３月７日、米国）を国際出願日とする出願であって、平成１８年２月２４日付けで拒絶査定がなされ、平成１８年４月６日に拒絶査定に対する審判請求がなされたものであって、「屈折率を最適化して性能を改善した光吸収性の反射防止層」に関するものである。
　その後の当審における経緯は以下のとおり。
　
　平成２０年　４月１５日　補正の却下の決定
　平成２０年　４月１５日　拒絶理由通知書
　平成２０年　７月１０日　手続補正書、意見書の提出
　平成２０年　８月　１日　拒絶理由通知書
　平成２０年１０月２３日　手続補正書、意見書の提出
　平成２１年　３月２７日　拒絶理由通知書
　平成２１年　６月１５日　手続補正書、意見書の提出
　平成２１年　９月２９日　拒絶理由通知書　
　平成２１年１２月１８日　手続補正書、意見書の提出
　
第２　当審における拒絶理由の概要
　平成２１年９月２９日付けで当審から通知した拒絶の理由（以下、「当審拒絶理由」という。）の概要は次のとおりである。
　
『２．記載不備
　本件出願は、明細書及び図面の記載が下記の点ａ〜ｃの点で不備のため、特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしていない。 
　
　　　　　　　　　　　記
ａ．請求項１について、「この吸収要素は、トップコーティングの吸収最高値が前記照射波長よりもより長波長側にあり、さらに、前記照射波長が吸収要素の吸収帯における最大吸収波長とこの吸収帯の半分の高さにあたる波長との間にあるように、かつ、トップ反射防止コーティングの屈折率が、トップコーティングにおけるフィルムの積重ねによる空気への反射率が最小となる条件に近づけられるように、選択され、」とあるが、この点は発明の詳細な説明に記載されていない。 
　まず、「前記照射波長が吸収要素の吸収帯における最大吸収波長とこの吸収帯の半分の高さにあたる波長との間にあるように、」との記載は、平成１０年９月７日提出の本願明細書の翻訳文の第５頁第２行〜同頁下から第２行および図２に基づくと思われるが、これら記載は、同頁第３行に「異常分散の模式図」、下から第１２〜１０行に「実際には、吸収の最大値で異常分散の寄与が近似的に零で・・・・通常十分対称な吸収帯に対して」とあるように、異常分散を効果を模式的なものと捕らえた場合の説明である。 
　実際の吸収としては、図３、図９が示されているが、そのような場合に「吸収帯の半分の高さ」をどのように導くのが記載されていない。十分対称な一山の分布を示す色素は通常容易に見出せない。 
　次に、「吸収帯の半分の高さ」が定義されたとしても、どのようにして、そのような色素を選択するのか発明の詳細な説明に記載されていない。請求項１や第９頁下から第６行の記載によれば、「正しい色素を慎重に選択し」、その吸収帯の最大値等の位置により選択することになるが、それでは、初期にどのような「正しい色素慎重に選択」するのか分からない。 
　具体的な態様と見なせる、例１、例５を参照しても、特定の色素を特定量使用することに始まり、請求項１に係る発明の特徴をなす、「吸収要素」を「選択」する工程については、なんら発明の詳細な説明に記載されていない。 
　よって、請求項１−２１に係る発明は、発明の詳細な説明に記載したものでない。 
　
ｂ．同じく請求項１の記載について、「この吸収要素は、トップコーティングの吸収最高値が前記照射波長よりもより長波長側にあり、さらに、前記照射波長が吸収要素の吸収帯における最大吸収波長とこの吸収帯の半分の高さにあたる波長との間にあるように、かつ、トップ反射防止コーティングの屈折率が、トップコーティングにおけるフィルムの積重ねによる空気への反射率が最小となる条件に近づけられるように、選択され、」との、そのような光学特性を有する達成すべき結果とよる記載あるいは製造過程による物の特定となっている。
　ここで、本願明細書の例１において、市販の反射防止膜に特定の水溶性色素を加えたコーティングが記載されているが、屈折率等をシュミレーションしたのみであって、フォトレジストのトップ反射防止コーティングとしての性能等は評価されていない。
　また、「例５：理論的な予測の実際的な検証」とあるように、例１〜４は、理論的な予測のための「シュミレーション」をしたものと認められる。
　例５に関しては、「ポリビニールアルコール」１０重量部に「色素製品」９０重量部を作成したものであるが、「色素製品」は、「ミリケン・ケミカル社（Milliken Chemical)，スパルタンブルグ、サウスカロリナから入手した色素製品（ＤＹＥ　Ａ，９０重量部）」とあるが、色素の入手先は特定されているものの、「ＤＹＥ　Ａ」が製品を特定できる品番というわけでもなく、どのような色素を使用したものであるか不明である。
　
　よって、具体的な手段としては、例５があるのみあるが、本願の光学特性を有するものであることはわかるが、説明が不十分であり、具体的な事物を理解することができない。
　また、例５が、そのような特性を持っていたとしても例５以外に、どのような物が請求項１の範囲に属するのか想定できず、出願時の技術水準との関係が理解できない。
　
　さらに、請求項２、７、８および９において付加された構成については、例５には、示されておらず、請求項１０−２１の方法に係る具体的記載も例５にはない。
　よって、請求項１−２１に係る発明は明確でない。
　また、この出願の発明の詳細な説明は、当業者が請求項１〜２１に係る発明を実施することができる程度に明確かつ十分に記載されていない。
　
ｃ．・・・（略）・・・
　
　
３．新規性・進歩性について 
　本願の請求項１０〜１７、２０に係る発明は、その出願前日本国内又は外国において頒布された下記の刊行物１に記載された発明であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができない。  
　また、本願の出願の請求項１〜２１に係る発明は、その出願前日本国内又は外国において頒布された下記の刊行物１に記載された発明に基いて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。  
 　  
 　　　　　　　　　　　　　　　　　記  
 （１）本願発明 
　本願請求項１〜２１に係る発明は、上記「２．」に述べる不備があるものの、平成２１年６月１５日付け手続補正書により補正された明細書の特許請求の範囲の請求項１〜２１に記載された下記のとおりのものと一応認める。 
 　 
 「　【請求項１】 
　フォトレジスト膜用の吸収性のトップ反射防止コーティングにおいて、 
　このトップコーティングは、３６５ｎｍ〜４３５ｎｍの範囲内にある照射波長で光を吸収する要素から成り、 
　そして、このトップコーティングの屈折率を低下させるため、 
　この吸収要素は、トップコーティングの吸収最高値が前記照射波長よりもより長波長側にあり、さらに、前記照射波長が吸収要素の吸収帯における最大吸収波長とこの吸収帯の半分の高さにあたる波長との間にあるように、かつ、トップ反射防止コーティングの屈折率が、トップコーティングにおけるフィルムの積重ねによる空気への反射率が最小となる条件に近づけられるように、選択され、 
　しかも、このトップコーティングは照射光の干渉が壊れるような膜厚であることを特徴とするトップ反射防止コーティング 
・・・（略）・・・
　
（２）刊行物に記載された発明  
　これに対し、本願の優先日前に頒布された下記刊行物１（原査定の拒絶の理由で引用された引用文献１）には、図面とともに次の記載がある。  
 　  
 ・刊行物１：特開平７−１５３６８２号公報  
・・・（略）・・・
　
（カ）請求項１ 
　本願発明１０に係る方法における反射防止コーティングに関し、「照射波長で光を吸収する要素」を「３６５ｎｍ〜４３５ｎｍの範囲内にある照射波長で光を吸収する要素」に限定したものである。 
　刊行物１発明には、そのような限定はなく、具体的には、１８０ｎｍ以上３００ｎｍ以下の照射光を吸収する材料が記載されている。 
　しかしながら、刊行物１には、ｉ線リソグラフィーに関する課題もあり、特に１８０ｎｍ以上３００ｎｍ以下の照射光に限定したものではない。 
　いわゆる、ｉ線やその前段階の照射波長であるｇ線を照射波長とする場合に応用できることは当然のことである。 
　また、原査定の拒絶の理由で引用された引用文献２（特開昭６３−１１０７２５号公報）には、４３６ｎｍ、３６５ｎｍの露光光を用いる吸光剤を混合させたＰＶＡ（ポリビニルアルコール）の光吸収膜をホトレジスト上に設け多重干渉効果を低減することが記載されている。 
　よって、３６５ｎｍ、４３５ｎｍの波長の照射光を吸収する吸収剤を導入すること、および、当該照射光による反射防止膜の、複素屈折率の実数部と虚数部、膜厚を調整することにより、本願請求項１発明に記載の発明となすことは容易である。 
・・・（略）・・・ 」
　
第３　審判請求人による手続補正
　上記理由に対し、審判請求人は、平成２１年１２月１８日付けの手続補正により、特許請求の範囲を以下のものとした。
　
「　【請求項１】
フォトレジスト膜用の吸収性のトップ反射防止コーティングにおいて、
このコーティングは、３６５ｎｍ〜４３５ｎｍの範囲内にある照射波長で光を吸収する要素から成り、
そして、このコーティングの屈折率を低下させるため、
この吸収要素は、コーティングの吸収最高値が前記照射波長よりもより長波長側にあるように、かつ、トップ反射防止コーティングの屈折率が、コーティングにおけるフィルムの積重ねによる空気への反射率が最小となる条件に近づけられるように、選択され、
しかも、このコーティングは照射光の干渉が壊れるような膜厚であることを特徴とするトップ反射防止コーティング。
　　【請求項２】
水から注型可能であることを特徴とする請求項１に記載のトップ反射防止コーティング。
　　【請求項３】
水に溶けることを特徴とする請求項１に記載のトップ反射防止コーティング。
　　【請求項４】
アルカリ性の水溶液に溶けることを特徴とする請求項１に記載のトップ反射防止コーティング。
　　【請求項５】
単量体の色素と重合体あるいは重合体の混合物から成ることを特徴とする請求項１に記載のトップ反射防止コーティング。
　　【請求項６】
単量体の色素と吸収性の重合体から成ることを特徴とする請求項１に記載のトップ反射防止コーティング。
　　【請求項７】
吸収性の重合体から成ることを特徴とする請求項１に記載のトップ反射防止コーティング。
　　【請求項８】
反射防止コーティングが、更に非吸収性の添加物を含むことを特徴とする請求項１に記載のトップ反射防止コーティング。
　　【請求項９】
画像を形成する方法において、
ａ）基板の上にフォトレジストを形成し、
ｂ）フォトレジスト膜の上面に吸収性の膜からなる反射防止コーティングを形成し、その際、このコーティングは、３６５ｎｍ〜４３５ｎｍの範囲内にある照射波長で光を吸収する要素から成り、
そして、このコーティングの屈折率を低下させるため、この吸収要素は、コーティングの吸収最高値が照射波長のより長波長側にあるように、かつ、反射防止コーティングの屈折率が、コーティングにおけるフィルムの積重ねによる空気への反射率が最小になる条件に近づけられるように、選択され、
しかも、このコーティングは光の干渉が壊れるような膜厚であり、
ｃ）吸収性の膜を被覆したフォトレジスト膜を画像に合わせて露光し、
ｄ）画像を形成するため現像し、
ｅ）現像工程の前または後で基板を自由選択的にベークする、
ことから成ることを特徴とする方法。
　　【請求項１０】
反射防止コーティングが、水から注型できることを特徴とする請求項９に記載の方法。
　　【請求項１１】
反射防止コーティングが、水に溶けることを特徴とする請求項９に記載の方法。
　　【請求項１２】
反射防止コーティングが、アルカリ性の水溶液に溶けることを特徴とする請求項９に記載の方法。
　　【請求項１３】
反射防止コーティングが、単量体の色素と重合体あるいは重合体の混合物から成ることを特徴とする請求項９に記載の方法。
　　【請求項１４】
反射防止コーティングが、単量体の色素と吸収性の重合体から成ることを特徴とする請求項９に記載の方法。
　　【請求項１５】
反射防止コーティングが、吸収性の重合体から成ることを特徴とする請求項９に記載の方法。
　　【請求項１６】
反射防止コーティングが、更に非吸収性の添加物を含むことを特徴とする請求項９に記載の方法。
　　【請求項１７】
現像工程の期間中に反射防止コーティングを除去することを特徴とする請求項９に記載の方法。
　　【請求項１８】
露光後ベーク処理の前に水に浸して反射防止コーティングを除去することを特徴とする請求項９に記載の方法。」
　
第４　当審の判断（その１）：記載不備について
　上記当審拒絶理由の「２．記載不備」の冒頭には、「本件出願は、明細書及び図面の記載が下記の点ａ〜ｃの点で不備のため、特許法第３６条第６項第２号に規定する要件を満たしていない。」と、条文として「特許法第３６条第６項第２号」のみ記載されているが、拒絶理由のａ〜ｃの内容から、同法の「第３６条第６項第１号」、「第３６条第４項」に関しても指摘していることは明らかであり、平成２１年１２月１８日付けの意見書の内容からみても、請求人側も、「第３６条第６項第１号」、「第３６条第４項」をも含めた拒絶理由として認識しているのは明らかである。
　よって、当審拒絶理由の通知は、「第３６条第４項、第３６項第６項１号および第２号」に規定する要件を満たしていない旨を通知したものということができる。
　
　そして、本願請求項１に係る発明において、補正前の、「この吸収要素は、トップコーティングの吸収最高値が前記照射波長よりもより長波長側にあり、さらに、前記照射波長が吸収要素の吸収帯における最大吸収波長とこの吸収帯の半分の高さにあたる波長との間にあるように、かつ、トップ反射防止コーティングの屈折率が、トップコーティングにおけるフィルムの積重ねによる空気への反射率が最小となる条件に近づけられるように、選択され、」から、「この吸収要素は、コーティングの吸収最高値が前記照射波長よりもより長波長側にあるように、かつ、トップ反射防止コーティングの屈折率が、トップコーティングにおけるフィルムの積重ねによる空気への反射率が最小となる条件に近づけられるように、選択され、」と補正したこと等により、前記拒絶理由「２．記載不備」の理由ａ、ｂの点が解消したかについて、以下に検討する。
　
４−１　理由ａに関して
　上記当審拒絶理由に、
『次に、「吸収帯の半分の高さ」が定義されたとしても、どのようにして、そのような色素を選択するのか発明の詳細な説明に記載されていない。請求項１や第９頁下から第６行の記載によれば、「正しい色素を慎重に選択し」、その吸収帯の最大値等の位置により選択することになるが、それでは、初期にどのような「正しい色素慎重に選択」するのか分からない。 
　具体的な態様と見なせる、例１、例５を参照しても、特定の色素を特定量使用することに始まり、請求項１に係る発明の特徴をなす、「吸収要素」を「選択」する工程については、なんら発明の詳細な説明に記載されていない。』
と記載したように、本願の請求項１において、「照射波長が吸収要素の吸収帯における最大吸収波長とこの吸収帯の半分の高さにあたる波長との間にあるように」との要件を削除しても、「吸収要素」を「選択」する工程について、何ら発明の詳細な説明に記載されていないことには変わりはない。
　
　このように、補正された請求項１に係る発明に関しても、その特徴をなす、「この吸収要素は、コーティングの吸収最高値が前記照射波長よりもより長波長側にあるように、かつ、トップ反射防止コーティングの屈折率が、コーティングにおけるフィルムの積重ねによる空気への反射率が最小となる条件に近づけられるように、選択され、」との「吸収色素」を「選択」する工程については、なんら発明の詳細な説明に記載されていない。
　
　これに関連し、請求人は平成２１年１２月１８日付けの意見書において、当審拒絶理由の理由１ａに対して、「そして、最終的な選択は、適切な結合樹脂のフィルムの吸収度を測定し、目標露光波長に近い値であるλ−値と適切な吸収性とを有する色素を選ぶことによりなされる。
　例５は、このプロセスにより成功を収めた結果を示している。
　以上の理由により、請求項１〜２１に係る発明は、発明の詳細な説明に記載されたものであると考える。」と述べている。
　しかしながら、「最終的な選択は、適切な結合樹脂のフィルムの吸収度を測定し、目標露光波長に近い値であるλ−値と適切な吸収性とを有する色素を選ぶ」点について、どのように行ったは発明の詳細な説明に記載されていない。例５に関しても、選択した結果として、露光波長でのｎ値が極小に近く、ｋ値が極大からずれている光学特性を有するものを得ているが、どのように、「適切な結合樹脂のフィルムの吸収度を測定し、目標露光波長に近い値であるλ−値と適切な吸収性とを有する色素を選ぶ」のか、全く開示していない。さらに、例５は、「フォトレジスト膜用の吸収性のトップ反射防止コーティング」として十分に機能していることさえも示されていない。
　
　請求項２〜１８の、同様の記載についても、同じことがいえる。
　よって、依然として、請求項１〜１８に係る発明は、発明の詳細な説明に記載したものでない。　
　
４−２　理由ｂに関して
　補正後の請求項１に係る発明についても、「前記照射波長が吸収要素の吸収帯における最大吸収波長とこの吸収帯の半分の高さにあたる波長との間にあるように、」との要件が削除されただけで、依然として、そのような光学特性を有する達成すべき結果による記載あるいは製造過程による物の特定となっている。
　よって、依然として、どのような場合がその範疇に該当するのか具体的な事物を理解することができない。
　たとえ、例５が、そのような特性を持っていたとしても、具体的にどのように、例５を作成したのか理解できないし、例５以外に、どのような事物が従来技術と区別して、請求項１に係る発明の範囲に属するのか想定できず、出願時の技術水準との関係が理解できない。
　
　この点に関し、審判請求人は平成２１年１２月１８日に提出した意見書において、
『（ｂ）理由１ｂに対して；
　「ＤＹＥ　Ａ」（明細書第１４頁第２行）は、ミリケン・ケミカル社の企業秘密商品で、　その化学的特性は、発明者達にもまったく知らされていない。しかし、「ＤＹＥ　Ａ」は、その光学特性により本願発明の目的に十分かなっており、その光学的特性は本件図面の図９に示されているとおりである。
　よって、請求項１〜２１に係る発明は明確であるし、この出願の発明の詳細な説明には、当該発明を当業者が実施できる程度に明確かつ十分に記載されている。』
と主張する。
　
　このように、請求人も、例５の具体的事物は不明であることは事実上認めており、特に係る染料が「ＤＹＥ　Ａ」という商品名で販売されているということでもない。
　
　よって、依然として、この出願の発明の詳細な説明は、当業者が請求項１に係る発明を実施することができる程度に明確かつ十分に記載されていないとの判断に変わりはない。
　
　また、そのような光学特性を有する達成すべき結果による記載あるいは製造過程による物の特定となっていることによる明確性の欠如に関して、請求人はなんら意見は述べていない。
　そして、例５が、選択した結果としての光学特性は、図９のとおりであるとしても、どのように、選択したらそのような光学特性となるのか、どのような物が本願請求項１に記載された発明の範囲に属するものであるのか依然として、想定できない。
　
　請求項２〜１８の、同様の記載についても、同じことがいえる。
　よって、依然として、請求項１〜１８に係る発明は明確でない。
　
４−３　記載不備についてのまとめ
　上記４−１、４−２に記載したとおり、本願は、特許法第３６条第４項、第６項第１号および第２号に規定する要件を満たしていないから、特許を受けることができない。
　
第５　当審の判断（その２）　：　進歩性について
５−１　本願発明
　上記述べたとおり、本件の請求項１〜１８に記載された発明は記載不備があるが、一応、記載されたとおりの光学特性を備えたものと捉え、そのうち、請求項１に係る発明（以下、「本願発明１」という。）を、平成２１年１２月１８日付けの手続補正により補正された特許請求の範囲、上記「３　審判請求人による手続補正」に転記した特許請求の範囲の請求項１に記載されたとおりのものと認めて、進歩性についても、一応検討する。
　　
５−２　刊行物に記載された発明　
　これに対し、上記当審拒絶理由で引用された、本願の優先日前に頒布された下記刊行物１には、図面とともに次の記載がある。（なお、下線は当審で付した。） 
　
・刊行物１：特開平７−１５３６８２号公報 
1a．「【請求項１】　
基板上に形成したレジスト膜の表面に反射防止膜を塗布して、当該反射防止膜を透して前記レジスト膜を露光した後、現像処理を行ってパターンを形成するパターンの形成方法において
　
前記反射防止膜には露光時の照射光を吸収する吸収剤を含むものを用い
　
前記露光時における前記レジスト膜と前記反射防止膜との界面からの反射光と当該反射防止膜の表面からの反射光とがほぼ相殺されるように前記反射防止膜の吸収率を設定して、前記レジスト膜の表面に当該反射防止膜を塗布し
　その後、前記露光と前記現像処理とを行ってパターンを形成することを特徴とするパターンの形成方法。 
　【請求項２】　請求項１記載のパターンの形成方法において、 
　前記反射防止膜の吸収率は、当該反射防止膜の複素屈折率の虚部と膜厚とで決定することを特徴とするパターンの形成方法。 
　【請求項３】　請求項１または請求項２記載のパターンの形成方法において、 
　前記吸収剤には、波長が１８０ｎｍ以上３００ｎｍ以下の前記照射光を吸収する材料を用いることを特徴とするパターンの形成方法。 
　【請求項４】　請求項３記載のパターンの形成方法において、 
　前記波長が１８０ｎｍ以上３００ｎｍ以下の前記照射光を吸収する材料には、染料を用いることを特徴とするパターンの形成方法。」 
　
1b．「【０００２】 
【従来の技術】半導体装置の製造におけるリソグラフィー工程では、高い反射率を有する金属または金属化合物からなる薄膜上でしかも段差が形成されている部分で、レジストのパターニングを行うことがある。このような場合には、いわゆる定在波効果による寸法変動を低減するために、レジスト膜の表面に反射防止膜を形成する方法が提案されている。この反射防止膜は、
定在波効果が最小になるように屈折率と膜厚とを設定したものである
　 
1c．「【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記条件に合う材料は極一部の材料に限定され、しかも水溶性の膜は見当たらない。またレジスト膜の表面に塗布する反射防止膜で水溶性のものを用いることが実用化されているｉ線リソグラフィーでも、定在波効果を０にする最適条件からずれた条件で、反射防止膜が形成されている。このため、レジスト膜のパターニングでは、定在波効果の影響を受けるので、高精度のパターンを得ることは困難となっている。 
【０００４】本発明は、レジスト膜の表面に定在波効果を０にする最適条件の反射防止膜を形成して、その後の露光および現像処理によってパターンを形成するパターンの形成方法を提供することを目的とする。」 
　
1d．「【０００５】 
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達成するためになされたパターンの形成方法である。すなわち、基板上に形成したレジスト膜の表面に塗布する反射防止膜には露光時の照射光を吸収する吸収剤を含むものを用いる。その反射防止膜の吸収率は、その後の露光時におけるレジスト膜と反射防止膜との界面からの反射光とその反射防止膜の表面からの反射光とがほぼ相殺されるように設定する。そしてレジスト膜の表面にその反射防止膜を塗布する。そして露光と現像処理とを行ってパターンを形成する。上記反射防止膜の吸収率は、当該反射防止膜の複素屈折率の虚部と膜厚とで決定する。また上記吸収剤は、波長が１８０ｎｍ以上３００ｎｍ以下の露光時の照射光を吸収する材料からなる。例えば染料からなる。」 
　
1e．「【０００６】 
【作用】上記パターンの形成方法では、レ
ジスト膜表面に塗布する反射防止膜に露光時の照射光を吸収する吸収剤を添加したものを用い、その反射防止膜の吸収率を、露光時におけるレジスト膜と反射防止膜との界面からの反射光とその反射防止膜の表面からの反射光とがほぼ相殺されるように設定することから、レジスト膜の定在波効果の影響はほぼ無くなる。また反射防止膜の吸収率を、その複素屈折率の虚部と膜厚とで決定することから、材料選択の範囲が広がる
　 
1f．「【０００７】 
【実施例】本発明の実施例を図１の形成工程図により説明する。 
【０００８】図１の（１）に示すように、基板１１上に形成したレジスト膜１２の表面に反射防止膜１３を塗布する。この反射防止膜１３には露光時の照射光を吸収する吸収剤（図示せず）を添加したものを用いる。例えば、水溶性ポリマーに、紫外線（例えば波長が１８０ｎｍ〜３００ｎｍ程度）を照射しても分解することが無くかつ水溶性を有する染料を添加したものを用いる。 
【０００９】そして
図１の（２）に示すように、露光時の照射光２１を照射した際に、レジスト膜１２と反射防止膜１３との界面からの反射光３１と、反射防止膜１３の表面からの反射光３２とがほぼ相殺されるように、当該反射防止膜１３の吸収率を設定する。この吸収率は、吸収剤の添加量と反射防止膜１３の膜厚とによって決まる
　
1g．「【００１８】続いて図１の（４）に示すように、現像処理を行って、レジスト膜（１２）でパターン１５を形成する。このとき、反射防止膜１３は、水溶性なので、現像液を滴下した際に溶解して除去される。または現像処理装置には純水洗浄ノズルが設置されているので、その純水洗浄ノズルから純水を供給することによって、現像前に純水洗浄を行う。それから現像処理を行ってもよい。」 
　
1h．「【００２０】図に示すように、曲線上の全ての点でレジスト膜１２（図１参照）の定在波効果が表れない最適条件になる。
そこで、反射防止膜１３（図１参照）の条件を設定するには、まず定在波効果を０にする複素屈折率の実部ｎ
ARL
 の値を選択する。そして、その値における膜厚ｄ
ARL
 と複素屈折率の虚部ｋ
ARL
 とを選択する
【００２１】
【表１】
　
　
【００２２】この結果、吸収率を上げて膜厚を最適化することによって、任意の複素屈折率に最適条件を見出すことが可能になる。なお、吸収率を上昇させるとレジスト膜１２の吸収エネルギー量が低下するが、高感度レジスト（例えば化学増幅レジスト）を用いることによって、エネルギー量の低下を補うことは可能である。」 
【００２３】また複素屈折率の実部ｎARL ＝１．５〜１．８の領域には、種々の水溶性ポリマーが存在する。したがって、上記説明したように水溶性ポリマーに適量の染料を導入することによって、最適条件を満足する反射防止膜１３を形成することは容易である。」
　
1i．「【００３３】または、反射防止膜１３には、例えば波長が１８０ｎｍ以上３００ｎｍ以下の露光波長帯域に吸収を有する官能基を持つポリマーを用いる。このポリマーは、主鎖に上記官能基を所定の重合比で共重合させたものからなる。上記官能基には、例えば芳香環、または芳香環を有するモノマーを所定の重合比で共重合させたものを用いる。また、水溶性ポリマーに水溶性官能基を共重合させたものを用いることによって、水溶性の反射防止膜１３になる。」
 
1j．「【００３９】すなわち、適当な吸光係数εを有する水溶性の紫外線（Deep UV ）用染料を用いれば、その濃度ｃによって、反射防止膜のｋを容易に制御することが可能になる。したがって、適当な複素屈折率を有する水溶性有機薄膜と組み合わせることで、定在波効果による周期的な実行ドーズ量の変化を理論的に０にすることが可能になる。」 
　
1k．「【００５５】例えば、露光波長λ＝２４８ｎｍ、レジスト膜の複素屈折率の実部ｎresist＝１．８、その虚部ｋresist＝０．０１とする。また反射防止膜をポリビニルアルコールのような水溶性吸収膜として、その複素屈折率の実部ｎARL ＝１．５とした場合における最適な吸収率ｋARL とｄARL を求める。その結果、ｋARL ＝０．０７５、ｄARL ＝０．２００μｍを得る。ここで、染料としてトリプタミンハイドロクロライド（Tryptamine Hydrochrolide ）を用いた場合、露光波長２４８ｎｍにおけるこの物質の吸光係数は、ｌｏｇε＝４程度になる。
【００５６】したがって、必要とするｋARL にするには、樹脂固形分（比重１と仮定する）６７．６ｇに対して、上記染料（ｍｗ１９６．６５）を３２．４ｇ混入して水溶液とする。そしてレジスト膜上に塗布することで、所望の複素屈折率ｎARL ，ｋARL ，膜厚ｄARL を有する反射防止膜を得ることが可能になる。この他にも、樹脂および染料の組み合わせは存在するので、例えば、反射防止膜の自動設計法によって組み合わせを適宜選択する。
【００５７】また、上記パターンの形成方法では、反射防止膜１３の基材にポリビニルアルコールのような水溶性ポリマーを用いることで、現像処理前に反射防止膜１３を除去する工程を付加する必要がなくなる。したがって、反射防止膜１３の基材には、ポリビニルアルコールのような水溶性ポリマーを用いることが好ましい。」
　
1l．「【００５８】
【発明の効果】以上、説明したように本発明によれば、レジスト膜表面に塗布する反射防止膜に露光時の照射光を吸収する吸収剤を添加したものを用い、その反射防止膜の吸収率を、露光時におけるレジスト膜と反射防止膜との界面からの反射光とその反射防止膜の表面からの反射光とがほぼ相殺されるように設定するので、露光時には定在波効果の影響はほぼ無くなる。このため、その後の現像によって形成されるパターンを高精度に形成することができる。また反射防止膜の吸収率を、その複素屈折率の虚部と膜厚とで決定するので、反射防止膜の材料選択の範囲が広がる。このため、最適な材料を選択することが可能になる。さらに上記吸収剤に、波長が１８０ｎｍ以上３００ｎｍ以下の照射光を吸収する材料として、例えば染料を用いたので、反射防止膜を塗布によって形成することが可能になる。」 
 　 
 　以上1a．〜1l．より、刊行物１には、次の発明が記載されていると認められる。（以下、「刊行物１発明」という。） 
　
 「基板上に形成したレジスト膜の表面に反射防止膜を塗布して、当該反射防止膜を透して前記レジスト膜を露光した後、現像処理を行ってパターンを形成するパターンの形成方法における反射防止膜において、 
　前記反射防止膜には露光時の照射光を吸収する吸収剤を含むものを用い、
　前記露光時における前記レジスト膜と前記反射防止膜との界面からの反射光と当該反射防止膜の表面からの反射光とがほぼ相殺されるように、
　複素屈折率の実部ｎARL の値を選択し、その値における膜厚ｄARL と複素屈折率の虚部ｋARL とを選択して、
前記反射防止膜の吸収率を設定して得られる反射防止膜。」
 
５−３　対比・判断 
　本願発明１と刊行物１発明とを比較する。
・刊行物１発明の「基板上に形成したレジスト膜の表面に反射防止膜を塗布して、当該反射防止膜を透して前記レジスト膜を露光した後、現像処理を行ってパターンを形成するパターンの形成方法における反射防止膜」は、「露光時の照射光を吸収する吸収剤を含むもの」を含むから「吸収性」であり、本願発明１の「フォトレジスト膜用の吸収性のトップ反射防止コーティング」に相当する。
・刊行物１の「反射防止膜には露光時の照射光を吸収する吸収剤を含むものを用い」と、本願発明１の「このコーティングは、３６５ｎｍ〜４３５ｎｍの範囲内にある照射波長で光を吸収する要素から成り」とは、「このコーティングは、照射波長で光を吸収する要素から成り」との点で共通する。
・刊行物１発明の膜厚は、「前記露光時における前記レジスト膜と前記反射防止膜との界面からの反射光と当該反射防止膜の表面からの反射光とがほぼ相殺されるように」決定されているから、本願発明１の「光の干渉が壊れるような膜厚である」であることに相当する。
　
　そうすると、本願発明１と刊行物１発明とは、下記の一致点にて、下記相違点にて一応相違する。 
　
［一致点］　
「フォトレジスト膜用の吸収性のトップ反射防止コーティングにおいて、
このコーティングは、照射波長で光を吸収する要素から成り、
このコーティングは照射光の干渉が壊れるような膜厚であるトップ反射防止コーティング。」
 　 
［相違点１］照射波長で光を吸収する要素が、
　本願発明１において、「３６５ｎｍ〜４３５ｎｍの範囲内にある照射波長で光を吸収する要素」であるのに対し、
　刊行物１発明では、そのような照射波長範囲の特定がないこと。
　
［相違点２］照射波長で光を吸収する要素（吸収要素）は、
　本願発明１において、
「このコーティングの屈折率を低下させるため、
この吸収要素は、コーティングの吸収最高値が前記照射波長よりもより長波長側にあるように、かつ、トップ反射防止コーティングの屈折率が、コーティングにおけるフィルムの積重ねによる空気への反射率が最小となる条件に近づけられるように、選択され、」るのに対し、
　刊行物１発明は、吸収剤を含むことにより、 
 「前記露光時における前記レジスト膜と前記反射防止膜との界面からの反射光と当該反射防止膜の表面からの反射光とがほぼ相殺されるように、
　複素屈折率の実部ｎARL の値を選択し、その値における膜厚ｄARL と複素屈折率の虚部ｋARL とを選択して、
前記反射防止膜の吸収率を設定して得られる」している点。 
　
　これら相違点１、２について検討する。
　
（相違点１について）
　刊行物１発明は、照射波長は特に特定したものではない。
　「１８０ｎｍ以上３００ｎｍ以下」を好ましい範囲とはしているが、単に、１８０ｎｍ以上３００ｎｍ以下の短波長ではより反射防止膜の必要性が高い技術背景、または、上記1c．に「レジスト膜の表面に塗布する反射防止膜で水溶性のものを用いることが実用化されているｉ線リソグラフィー」（【０００３】）とあるようにｉ線を従来技術として認識しているためであって、３６５ｎｍ（ｉ線）を発明の対象外としているわけではない。
　加えて、ｇ線、ｉ線、ＫｒＦまたはＡｒＦエキシマは、フォトレジストの露光光源としていずれも周知であり、反射防止膜も、用いる露光光源と対応するフォトレジストに併せて設計されるものである。さらに、特開昭６３−１１０７２５号公報（上記当審拒絶理由で提示済み）には、ホトレジスト膜の上に吸光剤を含有する光吸収膜を形成し、多重干渉を抑えることが記載され、３６５ｎｍの照射光に適用するものであることが記載されている。
　このようなことから、刊行物１発明における、反射防止膜をｉ線等を対象するものになんら困難性はない。
　そして、本願明細書においても、「ｇ線からｉ線に移行し、結局ＤＵＶ輻射はそれと共に基板の反射能を大きく増加させ、この問題を深刻にする」と記載しているように、ＤＵＶ輻射に対して問題が大きいことを認識しており、例１〜例５で３６５ｎｍの照射に関し記載されてはいるものの、特に、３６５ｎｍ〜４３５ｎｍの範囲とすることに格別の技術的意義を有するものとは認められない。
　
　したがって、刊行物１発明において、対象とする照射光の波長域をｉ線を含む３６５ｎｍ〜４３５ｎｍの波長範囲に限定することは適宜なし得たことである。
　
（相違点２について）
　刊行物１発明は、「反射防止膜の吸収率は、その後の露光時におけるレジスト膜と反射防止膜との界面からの反射光とその反射防止膜の表面からの反射光とがほぼ相殺されるように設定」するものであり、上記1f．に摘記したように、刊行物１には、「そして図１の（２）に示すように、露光時の照射光２１を照射した際に、レジスト膜１２と反射防止膜１３との界面からの反射光３１と、反射防止膜１３の表面からの反射光３２とがほぼ相殺されるように、当該反射防止膜１３の吸収率を設定する。」（【０００９】）ことが記載されている。
　一方、本願明細書には、『薄膜の干渉効果がレジストの感度に周期的な挙動、つまり「スイング曲線」（swing curve）を与える。』、「重要なことは、この最上反射防止層の背後にある考えは図１の最初の反射振幅と次に続く全ての反射振幅の和とが１８０度位相がずれているように、この層を透過する位相を変えることにある。入射波と出射波の振幅は干渉しなくなり、スイング曲線は消失する。」とある。
　刊行物１の図３、４とその説明（【００２４】〜【００２７】）からみても、レジスト膜厚とレジスト吸収率（感度）の間に染料を含まない反射防止膜を用いた場合、破線に示される周期的な挙動が現れることが示されており、「水溶性ポリマーに適量の染料を導入すること」によって、そのような効果が抑制されることが示される。単に、刊行物１では、そのような効果を「定在波効果」と呼んでいるのであって、本願の「スイング曲線」と同じものと認められる。
　このような本願明細書の記載からみて、スイング曲線の消失と述べるところのものは、刊行物１発明の「反射防止膜の吸収率は、その後の露光時におけるレジスト膜と反射防止膜との界面からの反射光とその反射防止膜の表面からの反射光とがほぼ相殺されるように設定」することと何ら変わりはない。
　よって、刊行物１発明は、本願の同様な目的である、「前記露光時における前記レジスト膜と前記反射防止膜との界面からの反射光と当該反射防止膜の表面からの反射光とがほぼ相殺されるように」、既に、選択した結果の吸収要素を用いたものである。
　
　そして、刊行物１発明では、複素屈折率の、複素屈折率の実部ｎARL の値を選択し、その値における膜厚ｄARL と複素屈折率の虚部ｋARL とを選択しているのであるから、特定の屈折率ｎARL を選択した場合に、照射波長の吸収（ｋARL ）が大きくなる吸収要素よりも、そうでない吸収要素を選ぶのは当業者であれば当然である。
　また、吸収要素を最適化して選択するにあたり、そのような光学特性のものを選択するのは、当業者の試行する範囲内である。
　
　したがって、吸収要素を選択した結果は、本願発明１の
「このコーティングの屈折率を低下させるため、
この吸収要素は、コーティングの吸収最高値が前記照射波長よりもより長波長側にあるように、かつ、トップ反射防止コーティングの屈折率が、コーティングにおけるフィルムの積重ねによる空気への反射率が最小となる条件に近づけられるように、選択され、」た結果となんら変わることはない。
　あるいは、そのような結果となるように吸収要素を選択することは当業者が容易に設計し得ることである。
　
　そして、上記相違点１について検討した特定の照射波長域に対しても、同様に選択された吸収要素を用いることも当業者が適宜なし得ることである。　　 
（進歩性に対する請求人の主張の検討）
　平成２１年１２月１８日付けの意見書において、請求人は次のように主張する。
　
『４．「理由２」に対する反論
　・・・（中略）・・・
　しかも、刊行物１は、反射防止膜によりレジスト膜における定在波を抑制するもので、この点で本願発明と決定的に異なっている。
　レジストにおける定在波は、トップコート膜がない場合はレジスト／基板とレジスト／空気との間、トップコート膜がある場合はレジスト／基板とレジスト／トップコート膜の間での定在波の反射によって引き起こされる薄膜干渉の結果で生じる。
　そして、ＡＺ（Ｒ）ＡｑｕａｔａｒＴＭ　（明細書第４頁第１４行）のような着色されていない反射防止トップコーテイングには、本願の図１に示されるように、反射防止コーテイングにおいて破壊的な干渉が働く。
　反射や空気中への光放出をゼロにするために必要なことは、トップコーテイング膜を少なくとも一度通過した全ての光線に対応する無限に連続する反射の振幅を、最初の反射の振幅とは符号が逆であって、その大きさが等しいものにすることである。
　それらのもたらす影響は、本願明細書の第２頁に記載される式（１）によって与えられているし、そして、明細書に記載されるように、トップコートの屈折率がレジストの屈折率の平方根に等しいならば、もっとも効果的である。
　このことから、定在波とスイング曲線は、ともに薄膜の干渉がレジストの厚みにより引き起こされるものであるが、それらは全く異なる別の物理現象であることがわかる。
　本願発明の「吸収要素」と刊行物１記載の発明の「吸収要素」は、このように異なった目的で形成されている。
　本願発明の目的は、スイング曲線を減少させることであって、レジストにおける定在波を減少させることではない。
　したがって、請求項９〜１８に係る発明は、刊行物１に記載された発明でない。
 
５．「理由３」に対する反論
　刊行物１は、着色されたトップコーテイングによって定在波の減少を図るものである。一方、本願発明は、スイング曲線の減少をその目的にしている。
　しかし、現実的には、本願発明と刊行物１のトップコーテイングは、ともに定在波の減少に対して完全に無効である。
　確かに着色されないトップコーテイングは、レジスト中の定在波の減少に影響力をもたないことがよく知られているし、多くの文書にそのような例が示されている。そして、刊行物１は、着色されたトップコーテイングに関するものであるし、さらに、レジスト膜における定在波の減少に非常に効果的であると述べている。
　しかし、着色されるにせよ、着色されないにせよ、いかなるトップコーテイング（刊行物１の着色されたトップコーテイングも含む。）も、定在波の減少に全く有効でないことを我々は気付いている。
　これは、定在波の強さに対する理論的解析やプロリス（ＰｒｏｌｉｔｈＴＭ）リソグラフィーシュミレータを用いたシュミレーションの結果に基づくものである。
　定在波の強さは、理論的解析により引き出すことができるが、通常の定在波の強さはトップコーテイングの光学的特性（ｎ値やｋ値）とは独立している。
　このことは、着色されるにせよ、着色されないにせよ、いかなるトップコーテイングもレジスト膜における定在波の強さに影響を及ぼさないことを示している。
　また、トップコーテイングのあるなしの場合をプロリスリソグラフィーシュミレータで比較するために、刊行物１の表１の例で、ｍ＝２の３番目の列のものを選び、トップコーテイングのあるものとないものを用意し、露光は最終的なレジストの同じ微小寸法（ＣＤ）に合わせて、シュミレーションを行ったところ、定在波の強さは、トップコーテイングの有無により違いの生じないことがその結果から確認できた。
　このように、刊行物１は、スイング曲線の減少のために着色されたトップコーテイングを使うことを示唆していないし、定在波の減少に関する教示も正しいものではない。
　その上、刊行物１の表１における全ての例は、屈折率の実数部ｎがｋの増加に従って増加することを示している。
　つまり、刊行物１は、明らかに、λ−値が露光波長に近いという色素選択の重要性を理解していないし、何らの予想もしていない。
　表１のデータからは、問題の色素は露光波長の高波長側に一つの吸収最大値をもっているかもしれない、ということが推論できるだけである。
　このように、刊行物１記載の発明から本願発明を当業者が容易に導き出せるものではない。
　また、刊行物２も、トップコーテイングにより定在波の減少を意図しているもののようだが、λ−値が露光波長に近いという色素選択の重要性を理解していないし、何らの予想もしていないことは、刊行物１と同様である。
　また、「理由２」に対する反論を述べた箇所も参照されたい。
　したがって、本願の請求項１〜２１に係る発明は、刊行物１に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができないものと考える。』
　
　まず、上記のように、請求人は、「刊行物１は、着色されたトップコーテイングによって定在波の減少を図るものである。一方、本願発明は、スイング曲線の減少をその目的にしている」と述べ、「刊行物１は定在波の現象を図る」ことのみを目的とし、本願発明と目的が異なる旨と主張する。
　しかし、この点は、上記相違点２についてのべたように、刊行物１には、「スイング曲線」あるいはそれに相当する用語は記載されていないものの、その課題として、「反射防止膜の吸収率は、その後の露光時におけるレジスト膜と反射防止膜との界面からの反射光とその反射防止膜の表面からの反射光とがほぼ相殺されるように設定」ことが記載され、「そして図１の（２）に示すように、露光時の照射光２１を照射した際に、レジスト膜１２と反射防止膜１３との界面からの反射光３１と、反射防止膜１３の表面からの反射光３２とがほぼ相殺されるように、当該反射防止膜１３の吸収率を設定する。」（【０００９】）としている。一方、本願明細書には、『薄膜の干渉効果がレジストの感度に周期的な挙動、つまり「スイング曲線」（swing curve）を与える。』、「重要なことは、この最上反射防止層の背後にある考えは図１の最初の反射振幅と次に続く全ての反射振幅の和とが１８０度位相がずれているように、この層を透過する位相を変えることにある。入射波と出射波の振幅は干渉しなくなり、スイング曲線は消失する。」とある。このような本願明細書の記載からみて、スイング曲線の消失と述べるところのものは、刊行物１発明の目的である、「反射防止膜の吸収率は、その後の露光時におけるレジスト膜と反射防止膜との界面からの反射光とその反射防止膜の表面からの反射光とがほぼ相殺されるように設定」することと何ら変わりはない。刊行物１の図３、４とその説明（【００２４】〜【００２７】）からみても、レジスト膜厚とレジスト吸収率（感度）の間に染料を含まない反射防止膜を用いた場合、破線に示される周期的な挙動が現れることが示されており、「水溶性ポリマーに適量の染料を導入すること」によって、そのような効果が抑制されることが示される。単に、刊行物１では、そのような効果を「定在波効果」と呼んでいるのであって、本願の「スイング曲線」と同じものと認められる。
　よって、請求人の「刊行物１は定在波の減少を図る」ことのみを目的とし、本願発明と目的が異なるとの主張およびそのことに論拠をおいた主張には合理的な理由がない。
　
　そして、「その上、刊行物１の表１における全ての例は、屈折率の実数部ｎがｋの増加に従って増加することを示している。
　つまり、刊行物１は、明らかに、λ−値が露光波長に近いという色素選択の重要性を理解していないし、何らの予想もしていない。
　表１のデータからは、問題の色素は露光波長の高波長側に一つの吸収最大値をもっているかもしれない、ということが推論できるだけである。」
との主張についても検討する。
　まず、「刊行物１の表１における全ての例は、屈折率の実数部ｎがｋの増加に従って増加すること」は、波長依存の特性ではなく、膜厚依存の特性であり、通常のことであって、本願発明においても、表３、図８から「屈折率の実数部ｎがｋの増加に従って増加する」点では同じである。
　この現象から、「刊行物１は、明らかに、λ−値が露光波長に近いという色素選択の重要性を理解していない」ことが導かれるのかは不明ではあるが、刊行物１には、「λ−値が露光波長に近いという色素選択の重要性」については直接記載されてはいないといえる。
　しかしながら、刊行物１において、染料の選択方法については特に記載はないもの、上記同様の目的のために、すでに具体的な染料が吸収要素として選択されていることは、上記相違点２で検討したとおりである。
　そして、上記請求人の主張および、その他の釈明の機会（平成２２年１月１５日に行われた面接）でなされた請求人の主張では、「この吸収要素は、コーティングの吸収最高値が前記照射波長よりもより長波長側にあるように、かつ、トップ反射防止コーティングの屈折率が、コーティングにおけるフィルムの積重ねによる空気への反射率が最小となる条件に近づけられるように、選択され」たものと実質的に差違がないことを、真偽不明になる程度に反論したとは到底認められない。
　
　なお、請求項１〜８に係る発明においては、吸収要素が選択された結果の反射防止コーティングを規定しているのであって、吸収要素を選択する方法を規定した発明ではない。請求項９〜１８に係る発明においても、「画像を形成する方法」の過程における、「反射防止コーティング」の形成において、用意される「反射防止コーティング」の説明しているだけであって、吸収要素を選択する方法が、「画像を形成する方法」の要件になっているものではなく、吸収要素を選択する方法に特徴がある発明ではない。
　仮に、吸収要素を選択する方法の発明としても、発明の詳細な説明に吸収要素を選択する過程が、具体的になんら説明されていないから、記載要件を
満たしていると判断できないと思料される。
　
５−４　進歩性のまとめ　
　したがって、本願発明１は、当業者が、刊行物１に記載された発明に基づいて容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。　
　
第６　むすび
　以上のとおりであるから、本願は、特許法第３６条第４項、第６項第１号および第２号に規定する要件を満たしていないから、特許を受けることができない。
　または、本願の請求項１に係る発明は、特許法第２９条２項の規定により
特許を受けることがでないものであるから、他の請求項について検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　
　よって、結論のとおり審決する。