Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成24年1月23日(2012.1.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
自動車の斜め後方を確認する後方死角確認用ミラーが、車内の天井部から吊り下げられていることを特徴とするサイド後方死角確認用ミラー。
【請求項２】
自動車の斜め後方を確認する後方死角確認用ミラーが、車内に設けられているサンバイザーの取付け部から吊り下げられた支持棒の先端に取り付けられていることを特徴とするサイド後方死角確認用ミラー。
【請求項３】
自動車の斜め後方を確認する後方死角確認用ミラーが、車内に設けられているサンバイザーの取付け部から吊り下げられたフレキシブル構造を有する支持棒の先端に取り付けられていることを特徴とするサイド後方死角確認用ミラー。
【請求項４】
自動車の斜め後方を確認する後方死角確認用ミラーが、車内に設けられているサンバイザーの取付け部から吊り下げられたフレキシブルで伸縮可能な支持棒の先端に取り付けられていることを特徴とするサイド後方死角確認用ミラー。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明は諸課題を解決するために、本発明は、自動車のサイド後方確認用ミラーにおいて確認できる左右の車両側面付近の後方部より、さらに外側の死角となっていた斜め後方部を確認できることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
本発明は、前記のサイド後方死角確認用ミラーにおいて、死角確認のためのミラーが車両の室内に設置されていることを特徴とするサイド後方死角確認用ミラーとする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
本発明は、前記の室内に設けられるミラーは、表面が凸曲面となっている凸曲面鏡が設けられていることを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
本発明は、前記の室内に設けられるミラーは、前席ドアの窓の内側に設置されていることを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
本発明は、前記の室内に設けられるミラーは、フロントパネル上部に設置されていることを特徴とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
本発明は、前記の室内に設けられるミラーにおいて、車両の天井部より吊り下げて設けられていることを特徴とする。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
本発明は、前記の室内に設けられるミラーにおいて、自動車用サンバイザーの取付け部から支持棒を吊り下げ固定し、その先端にサイド後方死角が確認できる角度に調整されたミラーが取り付けられていることを特徴とする。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
本発明は、前記の支持棒がフレキシブル構造であることを特徴とする。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３７】
本発明は、前記の支持棒が伸縮自在の構造であることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月1日(2012.6.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
型を保持する型チャックと、基板を保持する基板チャックとを備え、前記基板への樹脂の塗布と、塗布された樹脂の前記型による成形とを含む処理を行うインプリント装置であって、
前記基板の上の樹脂に押型したり、前記基板の上で硬化した樹脂から離型したりするように、前記型チャックおよび前記基板チャックの少なくとも一方を駆動する駆動機構と、
インプリント条件に応じて駆動パターンを決定し、前記駆動パターンに従って前記駆動機構を動作させる制御部と、
を備えることを特徴とするインプリント装置。
【請求項２】
前記制御部は、前記離型における駆動パターンを決定する、
ことを特徴とする請求項１に記載のインプリント装置。
【請求項３】
前記インプリント条件は、前記型の劣化の程度を含む、
ことを特徴とする請求項１に記載のインプリント装置。
【請求項４】
前記インプリント条件は、押型される領域の面積を含む、
ことを特徴とする請求項１に記載のインプリント装置。
【請求項５】
前記インプリント条件は、前記型におけるパターンの密度を含む、
ことを特徴とする請求項１に記載のインプリント装置。
【請求項６】
前記樹脂を硬化させるように前記樹脂に光を照射する照射手段を備え、
前記インプリント条件は、前記光の照射量を含む、
ことを特徴とすることを特徴とする請求項１に記載のインプリント装置。
【請求項７】
前記インプリント条件は、前記樹脂および離型剤の少なくとも一方の種類を含む、
ことを特徴とすることを特徴とする請求項１に記載のインプリント装置。
【請求項８】
前記駆動パターンは、前記型と前記基板との間に加わる荷重の変化を規定するパターンである、
ことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項９】
前記駆動パターンは、前記型と前記基板との相対位置の変化を規定するパターンである、
ことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載のインプリント装置。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれか１項に記載のインプリント装置を用いて樹脂のパターンを基板に形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された基板を加工する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年5月21日(2012.5.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
前記段ボールブロックは、前記段ボールシートのフルートの段方向が前記製品に対し平行となるように前記開口部に挿入される請求項２に記載の包装用緩衝材。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
前記段ボールブロックは、前記段ボールシートのフルートの段方向が前記製品に対し垂直となるように前記開口部に挿入される請求項２に記載の包装用緩衝材。
【手続補正書】
【提出日】平成24年4月2日(2012.4.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
トレッド部踏面に、タイヤ周方向に延びる少なくとも一本の周方向溝を具え、該周方向溝と路面とで形成される管内の共鳴により発生する騒音を低減するための共鳴器を有し、該共鳴器は、該周方向溝から分岐して延びる枝溝部及び、該枝溝部につながり、延在方向に直交する断面の面積が該枝溝部のそれよりも大きい気室部を具える空気入りタイヤの共鳴器の設計方法において、
前記共鳴器の長さをｌ、前記周方向溝の接地路面内における接地長をＬ、該枝溝部の最も断面積が小さい部分をＳｍｉｎ、前記気室部の断面積の最も大きい部分をＳｍａｘ、枝溝部の溝長さをｌ１、気室部の溝長さｌ２としたとき、ｌ１／ｌ＜１／πであり、且つｌ２／Ｌ＝（ｌ−ｌ１）／Ｌ＜１／π、であり、かつ、共鳴器の形状ｌ／Ｌと、Ｓｍｉｎ／Ｓｍａｘの関係が、
【数１】
2010274787.tif 000001
と、
【数２】
2010274787.tif 000002
となるよう共鳴器を設計することを特徴とする共鳴器の設計法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
前記目的を達成するため、この発明の共鳴器の設計法は、トレッド部踏面に、タイヤ周方向に延びる少なくとも一本の周方向溝を具え、該周方向溝と路面とで形成される管内の共鳴により発生する騒音を低減するための共鳴器を有し、該共鳴器は、該周方向溝から分岐して延びる枝溝部及び、該枝溝部につながり、延在方向に直交する断面の面積が該枝溝部のそれよりも大きい気室部を具える空気入りタイヤの共鳴器の設計方法において、前記共鳴器の長さをｌ、前記周方向溝の接地路面内における接地長をＬ、該枝溝部の最も断面積が小さい部分をＳｍｉｎ、前記気室部の断面積の最も大きい部分をＳｍａｘ、枝溝部の溝長さをｌ１、気室部の溝長さｌ２としたとき、ｌ１／ｌ＜１／πであり、且つｌ２／Ｌ＝（ｌ−ｌ１）／Ｌ＜１／π、であり、かつ、共鳴器の形状ｌ／Ｌと、Ｓｍｉｎ／Ｓｍａｘの関係が、
【数７】
2010274787.tif 000003
と、
【数８】
2010274787.tif 000004
となるよう共鳴器を設計することを特徴としている。ここでいう「周方向溝」とは、タイヤ周方向に直線状に延びる溝のみならず、ジグザグ状又は波状に延び、タイヤ全体としてタイヤ周方向に一周する溝をいうものとし、「接地路面」とは、ＪＡＴＭＡ、ＥＴＲＴＯ、ＴＲＡ等で規定されている標準空気圧（大気圧：１気圧）のもとで、通常負荷荷重を空気入りタイヤに負荷し、常温（一般に２０℃）の条件下にて転動させた際の、接地路面と接触しているトレッド部踏面の領域をいうものとする。また、上記l（l1、l2）、L、Ｓｍｉｎ、Ｓｍａｘは、常温（一般に２０℃）にて、ＪＡＴＭＡ、ＥＴＲＴＯ、ＴＲＡ等で規定されている標準空気圧（大気圧：１気圧）のもとで、通常負荷荷重を空気入りタイヤに負荷した条件下にあるものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
この発明の共鳴器の設計法は、図９（ａ）に示すように、トレッド部踏面４に、タイヤ周方向に延びる少なくとも一本の周方向溝５を具え、周方向溝５と路面とで形成される管内の共鳴により発生する騒音を低減するための共鳴器１を有し、共鳴器１は、該周方向溝５から分岐して延びる枝溝部２及び、枝溝部２につながり、延在方向に直交する断面の面積が枝溝部２のそれよりも大きい気室部３を具えるタイヤにおける、共鳴器１の設計方法に関する。かかる設計方法は、共鳴器１の長さをｌ、周方向溝５の接地路面内における接地長をＬ、枝溝部２の最も断面積が小さい部分をＳｍｉｎ、気室部３の断面積の最も大きい部分をＳｍａｘ、枝溝部２の溝長さをｌ１、気室部３の溝長さｌ２としたとき、ｌ１／ｌ＜１／πであり、且つｌ２／Ｌ＝（ｌ−ｌ１）／Ｌ＜１／π、であり、かつ、共鳴器の形状ｌ／Ｌと、Ｓｍｉｎ／Ｓｍａｘの関係が、
【数９】
2010274787.tif 000005
と、
【数１０】
2010274787.tif 000006
を満たすように共鳴器１を設計するものである。なお、周方向溝５は直線状に限定されるものではなく、曲線状、ジグザグ状等のその他の形状とすることも可能である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
上記事項を踏まえ、最も一般的な段付きタイプの共鳴器１における共鳴周波数が、気柱共鳴音の周波数と一致する周波数を考慮して、数２より得られる周波数を数６に代入すると、
【数１１】
2010274787.tif 000007
となる。πｌ１／Ｌ、πｌ2／Ｌが１より充分に小さい場合に、数９はマクローリン展開することにより、
【数１２】
2010274787.tif 000008
に変換される。このことから、以下の数式を導くことができる。
【数１３】
2010274787.tif 000009
ここで、πｌ１／Ｌ、πｌ2／Ｌが１より充分に小さいとの仮定より本設計法で設計される共鳴器は、特に、
【数１４】
2010274787.tif 000010
を満たす必要がある。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成24年4月19日(2012.4.19)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
微生物発酵有機物の生成方法であって、
該微生物発酵有機物は、都市下水汚泥を減量するために該下水汚泥によるもの及びバイオ燃料を生成するためにセルロース系材料によるものの少なくとも一方であり、
前記有機物及び前記セルロース系材料の少なくとも一方を、ジェットポンプを用いて破砕又は液化すること、
ジェットポンプにおいて超音速衝撃領域を形成し、前記有機物及び前記セルロース系材料の少なくとも一方を供給してこれを破砕又は液化すること、及び
ジェットポンプのチューブを囲む環状リングチャンバに高圧蒸気を加え、前記蒸気を前記ジェットポンプの前記チューブ内に導いて、前記有機物及び前記セルロース系材料の少なくとも一方を前記チューブ内に吸引し、前記ジェットポンプにおいて超音速衝撃領域を形成して前記有機物及び前記セルロース系材料の少なくとも一方を破砕又は液化すること、
の少なくとも１つを含んで構成される生成方法。
【請求項２】
前記都市下水汚泥は、前記ジェットポンプを通って好気性又は嫌気性発酵槽に返送される、請求項１に記載の生成方法。
【請求項３】
前記有機物は、セルロース系材料を含んで構成され、
前記セルロース系材料の液化は該セルロース系材料の発酵前に行われる、
請求項１に記載の生成方法。
【請求項４】
前記ジェットポンプは、プレカット又は粉砕したセルロース系材料の水中スラリーの液化に用いられる、請求項１〜３のいずれか一つに記載の生成方法。
【請求項５】
前記破砕又は液化する工程の補助として、好ましくは該破砕又は液化工程の前又はその間に、水酸化ナトリウム等の化学物質を添加する、請求項１〜４のいずれか一つに記載の生成方法。
【請求項６】
酸を添加して、前記破砕又は液化の間に酸加水分解を可能にする、請求項１〜５のいずれか一つに記載の生成方法。
【請求項７】
酸を前記液化後に添加して加水分解を可能にする、請求項１〜６のいずれか一つに記載の生成方法。
【請求項８】
酵素を添加して前記セルロースを加水分解する、請求項１〜７のいずれか一つに記載の生成方法。
【請求項９】
安価及び既に利用可能なソースとなっているセルロース系材料を使用し、該セルロース系材料には、刈り取った草、小麦の茎、サトウキビ廃棄物及びサトウダイコン廃棄物等の少なくとも１つが含まれる、請求項１〜８のいずれか一つに記載の生成方法。
【請求項１０】
例えば加熱装置及び自動車の内燃機関の少なくとも一方に使用されるバイオ燃料を生成する、請求項１〜９のいずれか一つに記載の生成方法。
【請求項１１】
微生物発酵有機物を生成する装置であって、
該微生物発酵有機物は、都市下水汚泥を減量するために該下水汚泥によるもの及びバイオ燃料を生成するためにセルロース系材料によるものの少なくとも一方であり、
ジェットポンプを含んで構成される装置。
【請求項１２】
前記ジェットポンプは、
チューブと、
前記チューブの壁部に設けられた環状リングチャンバと、
前記環状リングチャンバを前記チューブの内部空間に接続するノズルと、
を含んで構成され、
前記環状リングチャンバにはパイプが接続され、該パイプを介して高圧蒸気が前記環状リングチャンバに導入されて、前記チューブ内に有機物を含む液体が吸引されると前記チューブの前記ノズルの出口の後ろにおいて前記チューブ内に含まれる物質中に超音速衝撃波が発生し、
前記超音速衝撃波は、好ましくは、前記チューブの断面の全体に及ぶ、
請求項１１に記載の装置。
【請求項１３】
前記ジェットポンプは、粉砕されたセルロース系材料の液化及び下水汚泥の減量の少なくとも一方に適応するよう構成される、請求項１１又は１２に記載の装置。
【請求項１４】
請求項１〜１０のいずれか１つに記載の方法を実行するよう構成され、
前記装置は、好ましくは、スクリーン手段、好気性消化手段、嫌気性消化手段及び発酵手段の少なくとも１つを含んで構成される、
請求項１１〜１３のいずれか１つに記載の装置。
【請求項１５】
１つ以上の前記ジェットポンプを、用い又は含んで構成され、
複数の前記ジェットポンプが、好ましくは用いられて又は直列接続される、
請求項１〜１４のいずれか１つに記載の生成方法又は装置。
【手続補正書】
【提出日】平成24年4月5日(2012.4.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１８】
前記センサ装置が圧力センサ装置を含み、前記血液変数が動脈圧であり、任意時間にわたる前記変数を示す前記曲線が時間tにわたる圧力曲線P(t)であり、前記平均値が平均的な動脈圧である請求項1から17までのいずれか1項に記載の装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２０】
患者の少なくとも1つの生理学的パラメータを求めるために、コンピュータシステムに、
患者の血液変数の測定値を取り込む手順と、
前記測定値を時間tにわたる前記血液変数を示す曲線として記憶する手順と、
前記曲線から平均値を求め、該平均値を使用して前記少なくとも1つの生理学的パラメータを求める手順と、
前記曲線のスペクトル密度S(ω\och)および前記変数の変化のうちの少なくとも1つを求める手順と、
前記平均値、ならびに、前記スペクトル密度S(ω\och)および前記変化のうちの少なくとも1つを使用して、心拍の有効振幅Aeff、前記心拍の有効持続期間deffおよび前記心拍下での有効面積Feffから選択された値である前記心拍の有効値を示す少なくとも1つのモデルパラメータを求める手順と、
少なくとも1つの前記モデルパラメータを使用して前記少なくとも1つの生理学的パラメータを求める手順と、
を実行させるためのプログラムを記憶した記憶媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成24年2月2日(2012.2.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
トランスデューサの第１の位置に相応する第１の領域に対する第１の変位フレームの変位データを取得し、該第１の変位フレームの変位データは第１の角度に相応し、
前記トランスデューサの前記第１の位置に相応する前記第１の領域に対する第２の変位フレームの変位データを超音波により取得し、該第２の変位フレームの変位データは前記第１の角度とは異なる第２の角度に相応し、
前記第１の変位フレームを取得する際および前記第２の変位フレームを取得する際に、前記第１の領域にプッシングパルスによる音圧を印加し、該音圧のあるときおよび該音圧のないときに走査を行い、
前記第１の領域の空間的位置ごとに前記第１の変位フレームの前記変位データと前記第２の変位フレームの前記変位データとを結合し、
結合された変位データに基づいて前記第１の領域の画像を形成する
ことを特徴とするアーティファクトの低減される超音波ベースの変位イメージング方法。
【請求項２】
前記第１の変位フレームを取得する際および前記第２の変位フレームを取得する際に、前記第１の領域の異なる圧力に関連する２つ以上の超音波データフレームのあいだの２次相関を求める、請求項１記載の方法。
【請求項３】
さらに、前記第１の変位フレームの変位データおよび前記第２の変位フレームの変位データを正規化し、正規化された前記第１の変位データおよび前記第２の変位データに基づいて前記結合を行う、請求項１記載の方法。
【請求項４】
前記第１の変位フレームを取得する際および前記第２の変位フレームを取得する際に、少なくとも部分的に前記第１の角度および前記第２の角度に相応する種々のステアリング角での走査を行う、請求項１記載の方法。
【請求項５】
前記第１の変位フレームを取得する際および前記第２の変位フレームを取得する際に、前記第１の角度および前記第２の角度に相応する種々の角度から前記第１の領域に対して変位をもたらす圧力を印加する、請求項１記載の方法。
【請求項６】
前記第１の変位フレームを取得する際および前記第２の変位フレームを取得する際に、少なくとも部分的に前記第１の角度および前記第２の角度に相応する種々のステアリング角での走査を行う、請求項５記載の方法。
【請求項７】
前記第１の変位フレームを取得する際および前記第２の変位フレームを取得する際に、第１の走査周波数および第２の走査周波数で走査を行う、請求項１記載の方法。
【請求項８】
アーティファクトの低減される超音波ベースの変位イメージング方法に対してプログラミングされたプロセッサにより実行される命令を表すデータを記憶したコンピュータで読み出し可能な非一時的記憶媒体において、
当該の記憶媒体は、種々の変位力角度に対して同じ領域を表す複数の組織変位のデータフレームを形成し、該複数の組織変位のデータフレームを形成する際に、音響放射源により前記力角度に配向された音響放射力により音響放射力データフレームを形成する命令、ならびに、該複数の組織変位のデータフレームに基づいて当該の領域の画像を形成する命令を含む
ことを特徴とするコンピュータで読み出し可能な非一時的記憶媒体。
【請求項９】
前記複数の組織変位のデータフレームを形成する際に、外部の力源により前記領域に対する前記種々の力角度に相応する種々の位置でエラストグラフィデータフレームを形成する命令を含む、請求項８記載の非一時的記憶媒体。
【請求項１０】
前記複数の組織変位のデータフレームを形成する際に、超音波データと種々の量の変位力の印加された組織とを相関させる命令を含む、請求項８記載の非一時的記憶媒体。
【請求項１１】
さらに前記組織変位のデータフレームを正規化する命令を含む、請求項８記載の非一時的記憶媒体。
【請求項１２】
前記複数の組織変位のデータフレームに基づいて前記領域の画像を形成する際に、前記複数の組織変位のデータフレームが種々の変位力角度に対応する同じ位置を表すようにする命令を含む、請求項８記載の非一時的記憶媒体。
【請求項１３】
イメージングすべき領域に隣接してトランスデューサを位置決めし、
該トランスデューサから該トランスデューサに対する第１のグループの１つまたは複数の角度で第１の音響放射力を送信し、
前記領域において前記第１の音響放射力に対応する第１の組織変位を求め、
該トランスデューサから該トランスデューサに対する前記第１のグループとは異なる第２のグループの１つまたは複数の角度で第２の音響放射力を送信し、
前記領域において前記第２の音響放射力に対応する第２の組織変位を求め、
前記領域全体を走査するための走査線に相応する前記第１のグループおよび前記第２のグループを用いて前記領域の空間的位置ごとに前記第１の変位および前記第２の変位を結合し、
前記空間的位置ごとに結合された前記第１の変位および前記第２の変位に基づいて前記領域の画像を形成する
ことを特徴とするアーティファクトの低減される超音波ベースの変位イメージング方法。
【請求項１４】
前記第１の組織変位を求める際および前記第２の組織変位を求める際に、送信の前後に前記領域を走査し、該複数回の走査に基づいて変位を求める、請求項１３記載の方法。
【請求項１５】
前記結合を行う際に平均を形成する、請求項１３記載の方法。
【請求項１６】
前記第１のグループおよび前記第２のグループは全領域に対して前記第１の音響放射力および前記第２の音響放射力を印加するための走査線から成る、請求項１３記載の方法。
【請求項１７】
前記第１の音響放射力および前記第２の音響放射力を送信する際ならびに前記第１の組織変位および前記第２の組織変位を求める際に前記トランスデューサを同じ位置に保持する、請求項１３記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年9月27日(2012.9.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
凹所が設けられている基体（１）と、少なくとも１つの半導体基体（３）と、ルミネセンス変換エレメント（７）とを備えている光放出半導体素子において、
前記半導体素子は表面実装可能であり、
前記凹所は小鉢形状に成形されている部分領域を有しており、該部分領域内に半導体基体（３）が配置されておりかつルミネセンス変換エレメント（７）で充填されており、
前記ルミネセンス変換エレメント（７）は、前記小鉢形状の部分領域を前記凹所のその他の内部空間に対して区別する境界面を有している、
ことを特徴とする光放出半導体素子。
【請求項２】
前記凹所は少なくとも部分的に透明な注型成形材（１３）で充填されており、該注型成形材は前記ルミネセント変換エレメント（７）に隣接しており、前記注型成形材（１３）の一面はレンズ形状に実現されている、
請求項１記載の光放出半導体素子。
【請求項３】
前記ルミネセント変換エレメント（７）は少なくとも１つの有機または無機蛍光体を含み、該蛍光体はマトリックス中に埋め込まれており、前記凹所の充填および前記ルミネセント変換エレメント（７）のマトリックスは、異なる組成を有する、
請求項２記載の光放出半導体素子。
【請求項４】
前記小鉢形状に成形されている部分領域の側面は、形成される放射線に対するリフレクタとして用いられている、請求項１から３のいずれか１項記載の光放出半導体素子。
【請求項５】
前記小鉢形状に成形されている部分領域は前記凹所内のくぼみによって形成されている、請求項１から４のいずれか１項記載の光放出半導体素子。
【請求項６】
前記基体（１）のリードフレーム（２）は、該リードフレーム（２）の部分領域が前記くぼみの底面を形成するように埋め込まれている、請求項５記載の光放出半導体素子。
【請求項７】
前記小鉢形状の部分領域は、前記凹所の底面上のリング形状の囲い（６）により形成されている、請求項１から４のいずれか１項記載の光放出半導体素子。
【請求項８】
リードフレーム（２）が、該リードフレーム（２）の部分領域が前記凹所の底面を形成し、かつ、前記リング状の囲い（６）が該リードフレーム（２）上に形成されるように、前記基体（１）に埋め込まれている、
請求項７記載の光放出半導体素子。
【請求項９】
前記基体（１）は、前記小鉢形状の部分領域を有する凹所と一体に構成されている、請求項１から８のいずれか１項記載の光放出半導体素子。
【請求項１０】
前記リードフレーム（２）はチップ接続領域（１２）およびワイヤ接続領域（１１）を有し、前記半導体基体は、前記チップ接続領域（１２）上に設けられており、前記ワイヤ接続領域（１１）とワイヤ接続部（４）により接続されている、請求項６または８記載の光放出半導体素子。
【請求項１１】
ルミネセンス変換エレメント（７）と、凹所および埋め込まれたリードフレーム（２）を有する基体（１）と、を備えた表面実装可能な光放出半導体素子の製造方法であって、
前記リードフレーム（２）に成形材を射出するステップであって、この際、前記リードフレーム（２）のチップ接続領域（１２）が小鉢形状の部分領域の形成のために切り欠かれるステップと、
前記チップ接続領域（１２）上に半導体基体（３）を設け、前記半導体基体（３）を接続するステップと、
前記チップ接続領域（１２）上の小鉢形状の部分領域を、前記ルミネセンス変換エレメント（７）でもって、前記ルミネセンス変換エレメント（７）の境界面が小鉢形状の部分領域を前記凹所のその他の内部空間に対して区別するように充填するステップと、を含み、
射出成型法またはトランスファ成形法によって前記凹所を有する基体（１）を形成する、
ことを特徴とする方法。
【請求項１２】
ルミネセンス変換エレメント（７）と、凹所および埋め込まれたリードフレーム（２）を有する基体（１）と、を備えた表面実装可能な光放出半導体素子の製造方法であって、
小鉢形状の部分領域を形成するために、前記チップ接続領域（１２）の周囲にリング形状の囲い（６）を形成するステップと、
前記チップ接続領域（１２）上に半導体基体（３）を設け、前記半導体基体（３）を接続するステップと、
前記囲い（６）の内部領域をルミネセンス変換エレメント（７）で充填するステップと、
を含み、
射出成型法またはトランスファ成形法によって前記凹所を有する前記基体（１）を形成する、
ことを特徴とする方法。
【請求項１３】
前記囲いの内部領域を、前記ルミネセンス変換エレメント（７）でもって、前記ルミネセンス変換エレメント（７）の境界面が前記小鉢形状の部分領域を前記凹所のその他の内部空間に対して区別するように、充填する、請求項１１または１２記載の方法。
【請求項１４】
前記凹所を透明な注型成形材（１３）で充填する、請求項１１から１３のいずれか１項記載の方法。
【請求項１５】
複数の請求項１から１０のいずれか１項記載の放射発光半導体素子を有するＬＥＤ照明装置。
【請求項１６】
前記光放射半導体素子をマトリックス状に配置する、請求項１５記載のＬＥＤ照明装置。
【請求項１７】
請求項１から１０のいずれか１項記載の光発光半導体素子を有する、結像レンズ系における光源。
【手続補正書】
【提出日】平成24年7月9日(2012.7.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
主面を有するIII族窒化物基板と、
１×１０７ｃｍ−２以下の貫通転位密度を有する第１導電型窒化ガリウム系クラッド層と、
第２導電型窒化ガリウム系クラッド層と、
複数の井戸層および障壁層を含む量子井戸構造を有しており前記第１導電型窒化ガリウム系クラッド層と前記第２導電型窒化ガリウム系クラッド層との間に設けられた活性領域と
を備え、
前記量子井戸構造は、４２０ｎｍ以上４９０ｎｍ以下の波長範囲内のピーク波長を有する光を発生するように設けられており、
前記井戸層の各々は、アンドープＩｎＸＧａ１−ＸＮ（０＜Ｘ＜０．１４、Ｘは歪み組成）領域を含み、
前記障壁層は、アンドープＩｎＹＧａ１−ＹＮ（０≦Ｙ≦０．０５、Ｙは歪み組成、Ｙ＜Ｘ）領域を含む、ことを特徴とする半導体発光素子。
【請求項２】
主面を有するIII族窒化物基板と、
１×１０７ｃｍ−２以下の貫通転位密度を有する第１導電型窒化ガリウム系クラッド層と、
第２導電型窒化ガリウム系クラッド層と、
複数の井戸層および障壁層を含む量子井戸構造を有しており前記第１導電型窒化ガリウム系クラッド層と前記第２導電型窒化ガリウム系クラッド層との間に設けられた活性領域と
を備え、
前記量子井戸構造は、波長４２０ｎｍ以上４９０ｎｍ以下の波長範囲内のピーク波長を有する光を発生するように設けられており、
前記井戸層の各々は、アンドープＩｎＸＧａ１−ＸＮ（０＜Ｘ＜０．１４、Ｘは歪み組成）領域を含み、
前記障壁層は、ｎ型ドーパントを含むＩｎＹＧａ１−ＹＮ（０≦Ｙ≦０．０５、Ｙは歪み組成、Ｙ＜Ｘ）領域を含む、ことを特徴とする半導体発光素子。
【請求項３】
前記井戸層の厚さが４ｎｍ以上である、ことを特徴とする請求項１または請求項２に記載された半導体発光素子。
【請求項４】
前記第１導電型窒化ガリウム系クラッド層、前記活性領域および前記第２導電型窒化ガリウム系クラッド層を含む半導体領域は、前記III族窒化物基板の前記主面上に設けられている、ことを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれか一項に記載された半導体発光素子。
【請求項５】
前記III族窒化物基板は貫通転位密度１×１０７ｃｍ−２以下である、ことを特徴とする請求項４に記載された半導体発光素子。
【請求項６】
前記III族窒化物基板は貫通転位密度１×１０７ｃｍ−２以下である窒化ガリウム基板である、ことを特徴とする請求項４に記載された半導体発光素子。
【請求項７】
半導体発光素子を作製する方法であって、
貫通転位密度１×１０７ｃｍ−２以下の窒化ガリウム系クラッド領域をIII族窒化物基板上に成長する工程と、
４２０ｎｍ以上４９０ｎｍ以下の波長範囲内のピーク波長を有する光を発生するように設けられた量子井戸構造を有する活性領域を貫通転位密度１×１０７ｃｍ−２以下の窒化ガリウム系クラッド領域上に形成する工程を備え、
前記井戸層の成膜温度は前記障壁層の成膜温度より小さく、
前記量子井戸構造の井戸層はアンドープＩｎＸＧａ１−ＸＮ（０＜Ｘ＜０．１４、Ｘは歪み組成）領域を含み、
前記量子井戸構造の障壁層はアンドープＩｎＹＧａ１−ＹＮ（０≦Ｙ≦０．０５、Ｙは歪み組成）領域を含む、ことを特徴とする方法。
【請求項８】
半導体発光素子を作製する方法であって、
貫通転位密度１×１０７ｃｍ−２以下の窒化ガリウム系クラッド領域をIII族窒化物基板上に成長する工程と、
４２０ｎｍ以上４９０ｎｍ以下の波長範囲内のピーク波長を有する光を発生するように設けられた量子井戸構造を有する活性領域を前記窒化ガリウム系クラッド領域上に形成する工程を備え、
前記井戸層の成膜温度は前記障壁層の成膜温度より小さく、
前記量子井戸構造の井戸層はアンドープＩｎＸＧａ１−ＸＮ（０＜Ｘ＜０．１４、Ｘは歪み組成）領域を含み、
前記量子井戸構造の障壁層はｎ型ドーパントを含むＩｎＹＧａ１−ＹＮ（０≦Ｙ≦０．０５、Ｙは歪み組成）領域を含む、ことを特徴とする方法。
【請求項９】
前記井戸層の厚さが４ｎｍ以上であり、
前記井戸層の厚さが１０ｎｍ以下である、ことを特徴とする請求項７または請求項８に記載された方法。
【請求項１０】
前記III族窒化物基板の貫通転位密度は１×１０７ｃｍ−２以下である、ことを特徴とする請求項７〜請求項９のいずれか一項に記載された方法。
【請求項１１】
前記III族窒化物基板は貫通転位密度１×１０７ｃｍ−２以下である窒化ガリウム基板である、ことを特徴とする請求項７〜請求項１０のいずれか一項に記載された方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年9月26日(2012.9.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に供給された液体を介して基板上に露光光を照射して前記基板を露光する露光装置において、
投影光学系と、
前記光路空間を囲むように形成され、液体を回収する回収口と、
前記光路空間に対して前記回収口の外側に前記光路空間を囲むように設けられ、気体を吹き出す第１吹出口と、
前記光路空間に対して前記第１吹出口の外側に前記光路空間を囲むように設けられ、気体を吹き出す第２吹出口と、
前記回収口を有する第１部材と、
前記第２吹出口を有する第２部材と、
前記第１部材を支持する第１支持機構と、
前記第２部材を、前記投影光学系の光軸とほぼ平行に可動に支持する第２支持機構と、を備え、
前記第２吹出口が、前記第１吹出口よりも前記基板に近い位置に配置される露光装置。
【請求項２】
前記第１吹出口及び前記第２吹出口のそれぞれは、液体の流出を抑えるための気流を生成する請求項１記載の露光装置。
【請求項３】
前記第１吹出口及び前記第２吹出口のそれぞれは、前記基板が対向する位置に設けられている請求項１又は２記載の露光装置。
【請求項４】
前記第２吹出口と前記基板の表面との距離は、５μｍ〜１００μｍである請求項１〜３のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項５】
前記第１吹出口は、前記光路空間に向けて前記基板の表面に対して傾斜方向に気体を吹き出す請求項１〜４のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項６】
前記第１吹出口は、前記第１部材及び前記第２部材とは別の第３部材に設けられている請求項１〜５のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項７】
前記第１吹出口は、前記第２部材に設けられている請求項１〜５のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項８】
前記第１吹出口から供給される気体と前記第２吹出口から供給される気体とは異なる種類である請求項１〜７のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項９】
前記第１吹出口から供給される気体の温度は、前記基板上に供給される液体の温度よりも高い請求項１〜８のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１０】
前記第２支持機構は、前記第２部材をローレンツ力で動かす駆動装置を有する請求項１〜９のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１１】
前記第２部材の位置を検出する検出装置を備える請求項１０記載の露光装置。
【請求項１２】
前記第１吹出口は、前記基板表面との距離が、前記回収口と前記基板表面との距離と同じ、または前記回収口と前記基板表面との距離よりも短くなるように配置される請求項１〜１１のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１３】
前記第２部材の下面は、前記液体に対して撥液性の領域を有する請求項１〜１２のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１４】
前記第１部材は移動可能に支持されている請求項１〜１２のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１５】
前記第１部材は、露光光が通過する開口と、前記液体を供給する供給口とを有し、
前記供給口から供給された液体は、前記開口を介して前記基板上に供給される請求項１〜１４のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１６】
前記第１部材は、前記開口の周囲に前記基板の表面が対向するように設けられた下面を有し、
前記回収口は、前記下面の周囲に、前記開口を囲むように設けられている請求項１５記載の露光装置。
【請求項１７】
前記投影光学系の最終光学素子は傾斜した側面を有し、
前記第１部材の内側面と前記最終光学素子の前記傾斜した側面との間にギャップが形成される請求項１５又は１６記載の露光装置。
【請求項１８】
前記第１部材は、前記開口の周囲に設けられ、前記投影光学系の最終光学素子の下面と対向する上面を有する請求項１７記載の露光装置。
【請求項１９】
請求項１〜請求項１８のいずれか一項記載の露光装置を用いるデバイス製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年7月9日(2012.7.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の太陽電池モジュールを行列方向に並べて支持する太陽電池モジュール支持構造であって、
相反するそれぞれの外側方向に向く２つの係合部が形成された行列連結具と、
相反するそれぞれの外側方向に向く２つの係合部が形成された行間連結具と、
前記行間連結具を支持して前記太陽電池モジュール支持構造の土台に固定される固定具とを備え、
前記行列連結具が２行２列における４枚の太陽電池モジュールの行間に配置され、
前記行間連結具が前記固定具を用いて土台に固定され、かつ前記行列連結具が土台に固定されていないことを特徴とする太陽電池モジュール支持構造。
【請求項２】
請求項１に記載の太陽電池モジュール支持構造であって、
両側の他の太陽電池モジュールの間に配置される太陽電池モジュールについては、２つの前記行間連結具が用いられて、太陽電池モジュールの相互に対向する各枠部材の中央付近が前記太陽電池モジュール支持構造の土台に固定支持されたことを特徴とする太陽電池モジュール支持構造。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の太陽電池モジュール支持構造であって、
前記固定具は、前記行間連結具を前記列の方向に移動可能に支持することを特徴とする太陽電池モジュール支持構造。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１つに記載の太陽電池モジュール支持構造であって、
前記行列連結具は、該行列連結具の係合部に係合された２枚の太陽電池モジュールの枠部材にネジ止めされることを特徴とする太陽電池モジュール支持構造。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１つに記載の太陽電池モジュール支持構造であって、
前記行列連結具は、該行列連結具の係合部に係合した太陽電池モジュールの枠部材に食い込む突起を有することを特徴とする太陽電池モジュール支持構造。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１つに記載の太陽電池モジュール支持構造であって、
前記行間連結具は、該行間連結具の係合部に係合した太陽電池モジュールの枠部材に食い込む突起を有することを特徴とする太陽電池モジュール支持構造。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１つに記載の太陽電池モジュール支持構造であって、
前記太陽電池モジュールの枠部材には溝が設けられ、前記行列連結具又は前記行間連結具には前記溝に嵌る突起が設けられたことを特徴とする太陽電池モジュール支持構造。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１つに記載の太陽電池モジュール支持構造の施工方法であって、
最初に設置される１枚目の太陽電池モジュールについては、少なくとも３組の前記行間連結具及び前記固定具を用いて、太陽電池モジュールの枠部材の少なくとも３箇所を固定支持し、
２枚目以降の太陽電池モジュールについては、少なくとも２組の前記行間連結具及び前記固定具を用いて、太陽電池モジュールの枠部材の少なくとも２箇所を固定支持し、太陽電池モジュールの枠部材を前記行列連結具を介して既に設置された他の太陽電池モジュールの枠部材と連結することを特徴とする太陽電池モジュール支持構造の施工方法。
【請求項９】
請求項８に記載の太陽電池モジュール支持構造の施工方法であって、
両側の他の太陽電池モジュールの間に配置される太陽電池モジュールについては、２組の前記行間連結具及び前記固定具を用いて、太陽電池モジュールの相互に対向する各枠部材の中央付近を固定支持することを特徴とする太陽電池モジュール支持構造の施工方法。
【請求項１０】
請求項１〜７のいずれか１つに記載の太陽電池モジュール支持構造を用いた太陽光発電システム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
上記課題を解決するために、本発明の太陽電池モジュール支持構造は、複数の太陽電池モジュールを行列方向に並べて支持する太陽電池モジュール支持構造であって、相反するそれぞれの外側方向に向く２つの係合部が形成された行列連結具と、相反するそれぞれの外側方向に向く２つの係合部が形成された行間連結具と、前記行間連結具を支持して前記太陽電池モジュール支持構造の土台に固定される固定具とを備え、前記行列連結具が２行２列における４枚の太陽電池モジュールの行間に配置され、前記行間連結具が前記固定具を用いて土台に固定され、かつ前記行列連結具が土台に固定されていない。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
また、行間連結具を行列連結具と併用しているので、行列方向に並べられた各太陽電池モジュールをより強固に一体的に支持することができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
また、固定具により、行列方向に並べられた各太陽電池モジュールを土台上に設置することができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
更に、本発明の太陽電池モジュール支持構造においては、前記固定具は、前記行間連結具を前記列の方向に移動可能に支持している。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２５】
また、本発明の太陽電池モジュール支持構造においては、前記太陽電池モジュールの枠部材には溝が設けられ、前記行列連結具又は前記行間連結具には前記溝に嵌る突起が設けられている。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
ここで、先に述べたように固定金具６は、適宜の方法もしくは構造により屋根に固定される。このとき、固定金具６のスリット６ｅが図１の水流れ方向Ｃに沿うように、また固定金具６のストッパー６ｆが水流れ方向下側に位置するように、固定金具６の向きを設定する。そして、固定金具６に取付け金具１１を取付け、更に行間連結金具５を固定金具６に固定する。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
図１０は、行間連結金具５、固定金具６、及び取付け金具１１を示す分解斜視図である。また、図１１は、行間連結金具５、固定金具６、及び取付け金具１１の固定構造を示す断面図である。
【手続補正書】
【提出日】平成24年4月16日(2012.4.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
部品実装ラインに組み込まれて用いられるスクリーン印刷装置であって、
部品実装ラインの基板の搬送方向に延びた垂直対称面に対して対称な位置に設けられ、基板にスクリーン印刷を実行する２つの印刷実行部と、
２つの印刷実行部のそれぞれに対応して設けられ、上流側から基板を受け取って印刷実行部に対する基板の位置決めを行い、この印刷実行部でスクリーン印刷が実行された基板の下流側への移動を行う基板移動ステージとを備え、
印刷実行部によるスクリーン印刷が終了すると、基板移動ステージにより印刷実行部からこの印刷実行部よりも垂直対称面に近接した位置に設けられた基板搬出のための位置へ基板を移動させることを特徴とするスクリーン印刷装置。
【請求項２】
部品実装ラインに組み込まれて用いられるスクリーン印刷装置によるスクリーン印刷方法であって、
前記スクリーン印刷装置は、部品実装ラインの基板の搬送方向に延びた垂直対称面に対して対称な位置に設けられ、基板にスクリーン印刷を実行する２つの印刷実行部と、
２つの印刷実行部のそれぞれに対応して設けられ、上流側から基板を受け取って印刷実行部に対する基板の位置決めを行い、この印刷実行部でスクリーン印刷が実行された基板の下流側への移動を行う基板移動ステージとを備え、
印刷実行部によるスクリーン印刷が終了すると、基板移動ステージにより印刷実行部からこの印刷実行部よりも垂直対称面に近接した位置に設けられた基板搬出のための位置へ基板を移動させることを特徴とするスクリーン印刷方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
請求項１に記載のスクリーン印刷装置は、部品実装ラインに組み込まれて用いられるスクリーン印刷装置であって、部品実装ラインの基板の搬送方向に延びた垂直対称面に対して対称な位置に設けられ、基板にスクリーン印刷を実行する２つの印刷実行部と、２つの印刷実行部のそれぞれに対応して設けられ、上流側から基板を受け取って印刷実行部に対する基板の位置決めを行い、この印刷実行部でスクリーン印刷が実行された基板の下流側への移動を行う基板移動ステージとを備え、印刷実行部によるスクリーン印刷が終了すると、基板移動ステージにより印刷実行部からこの印刷実行部よりも垂直対称面に近接した位置に設けられた基板搬出のための位置へ基板を移動させる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
請求項２に記載のスクリーン印刷方法は、部品実装ラインに組み込まれて用いられるスクリーン印刷装置によるスクリーン印刷方法であって、前記スクリーン印刷装置は、部品実装ラインの基板の搬送方向に延びた垂直対称面に対して対称な位置に設けられ、基板にスクリーン印刷を実行する２つの印刷実行部と、２つの印刷実行部のそれぞれに対応して設けられ、上流側から基板を受け取って印刷実行部に対する基板の位置決めを行い、この印刷実行部でスクリーン印刷が実行された基板の下流側への移動を行う基板移動ステージとを備え、印刷実行部によるスクリーン印刷が終了すると、基板移動ステージにより印刷実行部からこの印刷実行部よりも垂直対称面に近接した位置に設けられた基板搬出のための位置へ基板を移動させる。
【手続補正書】
【提出日】平成24年9月26日(2012.9.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】露光装置及びデバイス製造方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に露光光を照射して、前記基板を露光する露光装置において、
像面に最も近い第１エレメントと、前記第１エレメントに次いで前記像面に近い第２エレメントとを有する投影光学系と、
前記露光光が通過する開口と、前記基板の表面が対向するように配置された液体回収口とを有するノズル部材と、
前記第１エレメントを支持する支持部材と、を備え、
前記第１エレメントは、前記基板の表面と対向するように配置され、前記露光光が通過する第１面と、第２エレメントと対向するように配置され、前記露光光が通過する第２面と、前記支持部材で支持されるフランジ部と、前記フランジ部から前記第１面に向かって傾斜した側面とを有し、
前記第１エレメントの前記第１面から射出された前記露光光は、前記ノズル部材の前記開口を通過するととともに、前記第１エレメントの前記第１面と前記基板との間の第１液体を介して前記基板に照射される露光装置。
【請求項２】
前記フランジ部の下面は、前記第１面と平行である請求項１記載の露光装置。
【請求項３】
前記フランジ部の下面が前記支持部材で支持される請求項１又は２記載の露光装置。
【請求項４】
前記フランジ部の下面が、前記ノズル部材の上面と対向している請求項１〜３のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項５】
前記支持部材の下面が、前記ノズル部材の上面と対向している請求項１〜４のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項６】
前記第１エレメントの前記第１面は、前記投影光学系の光軸とほぼ垂直である請求項１〜５のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項７】
前記第１エレメントの前記第２面は、正の屈折力を有する請求項１〜６のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項８】
前記露光光は、前記第１エレメントの前記第２面と前記第２エレメントとの間の第２液体を介して前記基板に照射される請求項１〜６のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項９】
前記第１面と前記第２面はほぼ平行である請求項８記載の露光装置。
【請求項１０】
前記第１液体の温度と前記第２液体の温度とは同一である請求項８又は９記載の露光装置。
【請求項１１】
前記第１液体の温度と前記第２液体の温度とは異なる請求項８又は９記載の露光装置。
【請求項１２】
前記第１液体と前記第２液体とは同一の液体である請求項８〜１１のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１３】
前記第１液体及び前記第２液体は、純水であって、
前記第１液体としての純水の比抵抗値と前記第２液体としての純水の比抵抗値とが異なる請求項１２記載の露光装置。
【請求項１４】
前記第１液体及び前記第２液体は、純水であって、
前記第１液体としての純水の全有機炭素値と前記第２液体としての純水の全有機炭素値とが異なる請求項１２記載の露光装置。
【請求項１５】
前記第２エレメントは、前記支持部材で支持されるフランジ部を有する請求項１〜１４のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１６】
前記第１エレメントの前記第２面と対向する前記第２エレメントの下面の外径が、前記第２面の外径よりも小さい請求項１〜１５のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１７】
前記第１エレメントの前記第２面の外径は、前記第１エレメントの前記第１面の外径の２倍以上である請求項１〜１６のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１８】
前記投影光学系の光軸上における前記第１エレメントの前記第１面と前記第２面との距離は１５ｍｍ以上である請求項１〜１７のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項１９】
前記液体回収口の外径が、前記第１エレメントの前記第２面の外径よりも小さい請求項１〜１８のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項２０】
前記ノズル部材は、前記開口の周囲に配置され、前記基板の表面が対向するように配置された下面を有し、
前記液体回収口は、前記下面の周囲に、前記開口を囲むように設けられている請求項１〜１９のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項２１】
前記第１エレメントの前記第１面から射出された露光光は、前記開口を介して前記基板に照射される請求項２０記載の露光装置。
【請求項２２】
前記ノズル部材は、前記下面と前記回収口との間に設けられ、前記基板の表面が対向するように設けられた液体供給口を有する請求項２０又は２１記載の露光装置。
【請求項２３】
前記液体供給口は、前記開口を囲むように設けられている請求項２２記載の露光装置。
【請求項２４】
前記基板が露光されるときに、前記投影光学系の光軸上において、前記第１エレメントの前記第１面と前記第２面との距離が、前記第１エレメントの前記第１面と前記基板との距離よりも大きい請求項１〜２３のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項２５】
前記ノズル部材は、前記第１エレメントと対向する撥液性面を有する請求項１〜２４のいずれか一項記載の露光装置。
【請求項２６】
請求項１〜請求項２５のいずれか一項記載の露光装置を用いることを特徴とするデバイス製造方法。