【事件の表示】
　特願２００１−２９３３９６号「基板洗浄装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１５年４月４日出願公開、特開２００３−１００６９５号〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本件に係る出願（以下、「本願」という。）は、平成１３年９月２６日の特許出願であって、平成１９年３月２日付けで拒絶査定がなされ（発送日：同年３月６日）、これに対し、同年４月５日に審判請求がなされ、同年４月２３日付けで手続補正がなされた。
　そして、平成２１年６月２５日付けで当審にて拒絶理由通知がなされ、同年８月２６日に手続補正がなされたものである。
　
２．本願発明について 
(1)本願発明 
　本願の請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、平成２１年８月２６日付け手続補正書により補正された明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される次のとおりのものである。  
「基板に洗浄処理を行う洗浄処理手段と、前記洗浄処理手段に基板を搬入するとともに前記洗浄処理手段から基板を搬出する搬送手段とを備えた基板洗浄装置であって、
　前記洗浄処理手段は、基板に表面洗浄処理および裏面洗浄処理を行い、
　前記搬送手段は、基板を保持する３本の搬送アームと、前記３本の搬送アームのそれぞれに基板を保持させた状態にて当該搬送アームを水平方向に沿った軸を中心にして１８０°反転させる反転駆動部とを備え、
　前記３本の搬送アームは、いずれかの搬送アームが反転したときに隣接する搬送アームと接触しない距離以上の間隔を保って上下方向に並べて前記搬送手段に設けられ、
　前記３本の搬送アームのうち、第１の搬送アームのみが未処理の基板を保持し、第２の搬送アームのみが表面洗浄処理済の基板を保持し、第３の搬送アームのみが表裏面洗浄処理済の基板を保持することを特徴とする基板洗浄装置。」
　
(2)刊行物 
(2-1)平成２１年６月２５日付け拒絶理由通知書に引用された、本願の出願前に頒布された刊行物である特開平８−７８３７９号公報（以下、「刊行物１」という。）には、図面と共に次の事項が記載されている。 
a)「【請求項１】（イ）
被処理材の
一方の面に液体による処理を施す第１の液体処理手段
（ロ）該
被処理材の
他方の面に液体による処理を施す第２の液体処理手段
（ハ）被処理材の一方の面を上に向けた状態で
被処理材を前記第１の液体処理手段に搬入する第１の搬送手段
（ニ）被処理材の一方の面を上に向けた状態で
被処理材を該第１の液体処理手段から搬出
被処理材を前記第２の液体処理手段に搬入する第２の搬送手段
（ホ）被処理材の他方の面を上に向けた状態で
被処理材を該第２の液体処理手段から搬出する第３の搬送手段
b)「【産業上の利用分野】本発明は、ウエハやレチクル等の被処理材の表面を液体にて各種処理するために用いられる被処理材の液体処理装置並びに液体処理方法に関する。」（段落【0001】）
c)「【発明が解決しようとする課題】このような汚染レベルの大きな相違があるにも拘らず、現状の例えばウエハ洗浄装置等といったディップ方式の表面処理装置においては、ウエハの表面と裏面を同一の洗浄液やリンス液（以下、総称して、単に液体と呼ぶ場合もある）を用いて同時に処理している。そのため、ウエハの裏面の汚染物質が、液体を介してウエハの表面に付着し、ウエハの表面が汚染されるという問題がある。即ち、ウエハを液体にディップしたとき、ウエハの裏面に付着していた汚染物質が一旦ウエハの裏面から遊離し、液体を介してウエハの表面に付着するという直接的な汚染形態がある。あるいは又、ウエハの加工処理や表面処理を行うことによって、ウエハに付着していた汚染物質が一旦液体中に混入し、次のウエハの加工処理や表面処理を行う際にこの混入した汚染物質が次のウエハに付着するといった間接的な汚染形態もある。」（段落【0003】）
d)「従って、本発明の目的は、表面処理用の液体の使用量を増加させることなく、被処理材の裏面に付着した汚染物質による被処理材の表面へ汚染を確実に抑制することができる被処理材の液体処理装置並びに液体処理方法を提供することにある。」（段落【0010】）
e)「【実施例】以下、図面を参照して、実施例に基づき本発明を説明する。
　図１の（Ａ）及び（Ｂ）に、本発明の被処理材の液体処理装置の具体例を示す。図１の（Ａ）は液体処理装置の模式的な平面図である。また、図１の（Ｂ）は模式的な正面図であり、液体処理装置の側壁を透視したときの図である。液体処理装置は、例えば
ウエハである被処理材７０
　第１の処理部１０には、被処理材７０の一方の面を上に向けた状態でこの一方の面に液体による処理を施す第１の液体処理手段が備えられている。第１の液体処理手段は、好ましくはスプレー型処理装置から成る。即ち、第１の液体処理手段は、具体的には、被処理材７０の端面を把持するチャック１２、チャック１２を回転させるためのモータ１１、及び液体を被処理材７０にスプレーするためのスプレーノズル１３，１４から構成されている。
　第２の処理部２０には、被処理材７０の他方の面を上に向けた状態でこの他方の面に液体による処理を施す第２の液体処理手段が備えられている。第２の液体処理手段も、好ましくはスプレー型処理装置から成る。即ち、第２の液体処理手段は、具体的には、被処理材７０の端面を把持するチャック２２、チャック２２を回転させるためのモータ２１、及び液体を被処理材７０にスプレーするためのスプレーノズル２３，２４から構成されている。
　
被処理材の液体処理装置には
第１の搬送手段４１、第２の搬送手段４２、及び第３の搬送手段４３が備えられている
各搬送手段は
第１の搬送手段４１は
被処理材７０をローディング部ＬＤから
搬入
第３の搬送手段４３は
被処理材７０を第２の液体処理手段から搬出する
　第３の搬送手段４３の下流には被処理材乾燥部３０が備えられている。被処理材乾燥部３０には被処理材乾燥手段が配設されている。被処理材乾燥手段は、具体的には、被処理材７０の端面を把持するチャック３２、チャック３２を回転させるためのモータ３１、及び例えば純水から成る液体を被処理材７０にスプレーするためのスプレーノズル３４から構成されている。被処理材の液体処理装置には、更に、被処理材乾燥手段から被処理材７０を搬出する第４の搬送手段４４が備えられている。第３の搬送手段４３によって被処理材乾燥部３０に搬入された被処理材７０は、被処理材乾燥部３０にて乾燥処理が施され、第４の搬送手段４４によってアンロード部ＵＬＤに搬送される。
　
第１の搬送手段４１、第３の搬送手段４３
は
被処理材７０は、
固定される
第２の搬送手段４２
被処理材７０を１８０度回転
反転
できる機能が付加され
第３の搬送手段４３
を搬送手段４２と同様とし
　図２の（Ａ）に示した第１の搬送手段４１は３つの腕部材４１Ａ，４１Ｂ，４１Ｃから構成されており、各腕部材はそれぞれ１つの垂直軸で連結されており、かかる垂直軸を中心に回動可能である。腕部材４１Ｃの先端には、被処理材７０を固定するための把持部４１Ｄが配設されている。図２の（Ｂ）〜（Ｅ）に、腕部材４１Ｃの先端の模式的な側面図及び平面図を示す。被処理材７０を固定する前には、把持部４１Ｄは開いており（図２の（Ｂ）及び（Ｃ）参照）、把持部４１Ｄが相互に近づく方向に動くことで、把持部４１は被処理材７０を把持、固定する。把持部４１Ｄの内側側壁には切欠きが設けられており、これによって、搬送手段１１は被処理材７０の端面とのみ接触する。各腕部材及び把持部は、例えばサーボモータによって動かされる。
　図３の（Ａ）に示した
第２の搬送手段は
被処理材７０を固定する
f)「［工程−１００］（第１の液体処理工程）
先ず、被処理材７０の一方の面を上に向けた状態でこの一方の面に液体による処理を施す。そのために、被処理材７０の一方の面を上に向けた状態で被処理材７０を第１の液体処理手段に搬入する
第１の搬送手段４１を用いて
ウエハから成る被処理材７０を
洗浄する
第１の処理部１０に搬入する
第１の搬送手段４１
第１の液体処理手段
に搬入する
　第１の液体処理手段のバルブ５７Ａ，５８Ａを閉じておき、バルブ５９Ａ，６０Ａを開き、例えば洗浄液をスプレーノズル１３から被処理材７０の一方の面にスプレーし、
一方の面
に液体による処理を施す
　［工程−１１０］（被処理材反転工程）
次に、被処理材７０の他方の面を上に向けた状態とする。そのために、
第２の搬送手段４２を用いて
被処理材７０を第１の液体処理手段から搬出し
被処理材７０を第２の液体処理手段に搬入する
　［工程−１２０］（第２の液体処理工程）
その後、
被処理材７０の他方
の面に液体による処理を施す
　
　上記記載事項及び図面の記載内容を総合勘案すると、刊行物１には、次の発明が記載されている。 
「ウエハに液体による洗浄処理を施す第１の液体処理手段と第２の液体処理手段と、第１の液体処理手段と第２の液体処理手段にウエハを搬入あるいは搬出する第１ないし第３の搬送手段とを備えた洗浄処理装置であって、
　液体処理手段はウエハの一方の面および他方の面に液体による洗浄処理を施し、
　搬送手段は、ウエハを固定する、第１の搬送手段４１、第２の搬送手段４２および第３の搬送手段４３を備え、第２の搬送手段４２および第３の搬送手段４３には、１８０度回転（反転）できる機能が付加され、
　第１の搬送手段４１はウエハを固定し、ウエハをローディング部ＬＤから第１の液体処理手段に搬入し、第２の搬送手段４２は、一方の面に液体による洗浄処理を施したウエハを固定し、ウエハを第１の液体処理手段から搬出し第２の液体処理手段に搬入し、第３の搬送手段４３は、一方の面に加えて、他方の面に液体による洗浄処理を施されたウエハを固定し、ウエハを第２の液体処理手段から搬出する洗浄処理装置。」
　
(2-2)同じく、引用された本願の出願前に頒布された刊行物である特開平１１−６７７０５号公報（以下、「刊行物２」という。）には、図面と共に次の発明が記載されている。
a)「【発明の属する技術分野】本発明は，例えばＬＣＤ基板や半導体ウェハのような基板の表面及び裏面を処理する処理装置に関する。」（段落【0001】）
b)「本発明の目的は，基板の表面及び裏面を同時に処理でき，特に基板の裏面をむらなく処理できる処理装置を提供することにある。」(段落【0008】）
c)「この
洗浄処理システム１
d)「洗浄処理部６には，ウェハＷの洗浄処理及び乾燥処理を行う処理装置１３，１４，１５が配置されている。処理装置１３の下方には処理装置１３と同様な処理工程を行うように構成された処理装置１６が配置され，同様に処理装置１４の下方には処理装置１４と同様な処理工程を行うように構成された処理装置１７が配置され，同様に処理装置１５の下方には処理装置１５と同様な処理工程を行うように構成された処理装置１８が配置されている。そして，処理装置１３〜１５及び処理装置１６〜１８において同時に処理が進行できる構成になっている。なお，これら処理装置１３〜１８の背面には，ウェハＷを洗浄処理する際に使用される薬液が貯留されている薬液供給装置１９が配置されている。
　搬送部１０に設けられた搬送アーム８は，水平（Ｘ，Ｙ）方向に移動すると共に，昇降自在であり，かつ鉛直軸を中心に回転できるように構成されている。また，
搬送アーム８には，３本のアーム８ａ，８ｂ，８ｃが上中下の３段に取り付けられている
搬送アーム８は，下段に取り付けられたアーム８ａ及び中段に取り付けられたアーム８ｂで搬入・バッファ機構１１から処理装置１３，１６に搬送する
上段に取り付けられたアーム８ｃで洗浄後のウェハＷを洗浄処理部４から搬出し搬出・バッファ機構１２に載置する
e)上記摘記事項dの記載によると、搬送アーム８は、下段および中段に取り付けられたアーム８ａ、８ｂで搬入・バッファ機構１１から処理装置１３，１６に搬送する操作を行い、上段に取り付けられたアーム８ｃで洗浄後のウェハＷを洗浄処理部４から搬出し搬出・バッファ機構１２に載置する操作を行うことから、
アーム８ａないし８ｃを役割分担している
　
　上記記載事項及び図面の記載内容を総合勘案すると、刊行物２には、次の発明が記載されている。 
「３本のアーム８ａ，８ｂ，８ｃが上中下の３段に取り付けられている搬送アーム８のアーム８ａないし８ｃの役割分担をした洗浄処理システム１。」
　
(3)対比 
　本願発明と刊行物１に記載された発明を対比する。  
　刊行物１に記載された発明の「ウエハ」は、その構成及び機能からみて、本願発明の「基板」に相当し、以下同様に、
　「液体による洗浄処理を施す第１の液体処理手段と第２の液体処理手段」は「洗浄処理を行う洗浄処理手段」に、
　「洗浄処理装置」は、ウエハを洗浄処理する装置であることから、「基板洗浄装置」に、
　「ウエハの一方の面」「に液体による洗浄処理を施」すことは、「一方の面」には表面が含まれることから、「基板に表面洗浄処理」を行うことに、
　「ウエハの」「他方の面に液体による洗浄処理を施」すことは、「他方の面」には裏面が含まれることから、「基板に」「裏面洗浄処理を行」うことに、
　「ウエハを固定する、第１の搬送手段４１、第２の搬送手段４２および第３の搬送手段４３」は「基板を保持する３本の搬送アーム」に、
　「第２の搬送手段４２および第３の搬送手段４３には、１８０度回転（反転）できる機能が付加さ」れることは「搬送アームに基板を保持させた状態にて当該搬送アームを水平方向に沿った軸を中心にして１８０°反転させる反転駆動部」を備えることに、
　「第１の搬送手段４１はウエハを固定し、ウエハをローディング部ＬＤから第１の液体処理手段に搬入」することは、ローディング部ＬＤには、洗浄処理前のウエハが保持されていることから、「３本の搬送アームのうち、第１の搬送アームのみが未処理の基板を保持」することに、
　「第２の搬送手段４２は、一方の面に液体による洗浄処理を施したウエハを固定し、ウエハを第１の液処理手段から搬出し、第２の液体処理手段に搬入」することは「３本の搬送アームのうち」、「第２の搬送アームのみが表面洗浄処理済の基板を保持」することに、
　「第３の搬送手段４３は、一方の面に加えて、他方の面に液体による洗浄処理を施されたウエハを固定し、ウエハを第２の液体処理手段から搬出する」ことは「３本の搬送アームのうち」、「第３の搬送アームのみが表裏面洗浄処理済の基板を保持すること」に、
それぞれ相当する。
　
　したがって、上記両者の一致点及び相違点は、次のとおりである。　　　［一致点］ 
「基板に洗浄処理を行う洗浄処理手段と、前記洗浄処理手段に基板を搬入するとともに前記洗浄処理手段から基板を搬出する搬送手段とを備えた基板洗浄装置であって、
　前記洗浄処理手段は、基板に表面洗浄処理および裏面洗浄処理を行い、
　前記搬送手段は、基板を保持する３本の搬送アームと、前記搬送アームに基板を保持させた状態にて当該搬送アームを水平方向に沿った軸を中心にして１８０°反転させる反転駆動部とを備え、
　前記３本の搬送アームのうち、第１の搬送アームのみが未処理の基板を保持し、第２の搬送アームのみが表面洗浄処理済の基板を保持し、第３の搬送アームのみが表裏面洗浄処理済の基板を保持する基板洗浄装置。」
　 
［相違点１］ 
　搬送アームを水平方向に沿った軸を中心にして１８０°反転させる反転駆動部が、本願発明では、３本の搬送アームのそれぞれに備えられているのに対して、刊行物１に記載された発明では、第２の搬送手段４２、第３の搬送手段４３のみに備えられている点。
　
［相違点２］ 
　本願発明では、３本の搬送アームは、いずれかの搬送アームが反転したときに隣接する搬送アームと接触しない距離以上の間隔を保って上下方向に並べて搬送手段に設けられるが、刊行物１に記載された発明では、当該発明特定事項を具備していない点。
　
(4)当審の判断 
(4-1)相違点１について 
　刊行物１に記載された発明は、第２の搬送手段４２および第３の搬送手段４３のみが１８０度回転させて反転させるものであるが、第１の搬送手段４１を当該第２の搬送手段４２および第３の搬送手段４３に倣って、１８０度回転させて反転可能とする程度のことは、第１の搬送手段を１８０度回転させて反転させるものとすることを阻害する事由もないことから、当業者が必要に応じて適宜なし得たことと言わざるを得ない。
　
(4-2)相違点２について 
　本願発明と刊行物２に記載された発明とを比較する。
　刊行物２に記載された発明の「洗浄処理システム１」は、その構成および機能からみて、本願発明の「基板洗浄装置」に相当し、以下、同様に、
　「アーム８ａ，８ｂ，８ｃ」は「搬送アーム」に、
　「搬送アーム８」は「搬送手段」に、
　それぞれ相当する。
　
　したがって、刊行物２に記載された発明は、
「３本の搬送アームが上中下の３段に取り付けられている搬送手段の搬送アームを役割分担している基板洗浄装置。」と言い換えることができる。
　そして、刊行物１および２に記載された発明は、共に、基板処理装置という共通の技術分野に属する発明である。
　また、刊行物１および２に記載された発明は、共に、役割分担している搬送手段を用いて基板の表面および裏面の洗浄処理を行うという共通の機能を有するものである。
　さらに、反転機能を有する搬送手段同士を、一方の搬送手段を反転処理させているときに隣接する他方の搬送手段に接触しない距離以上の間隔を保って配置することは当業者が当然考慮する事項である。
　したがって、刊行物１に記載された発明の役割分担している第１の搬送手段４１、第２の搬送手段４２および第３の搬送手段４３に、刊行物２に記載された発明を適用して、役割分担している各搬送手段を上下方向に並べて設けること、各搬送アームを隣接する搬送アームと接触しない距離以上の間隔を保つようにして垂直方向に並べて設ける程度のことは、当業者が容易になし得たものである。
　
(4-3)小括
　また、本願発明の奏する効果についてみても、刊行物１および２に記載された発明から当業者が予測できた範囲内のものである。 
　よって、本願発明は、刊行物１および２に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものである。 
　
(5)むすび  
　以上のとおりであるから、本願発明は、刊行物１および２に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、本願のその他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。 
　
　よって、結論のとおり審決する。