【事件の表示】
　特願２００３−１１３４５８「リソグラフィ装置およびデバイス製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１６年　１月　８日出願公開、特開２００４−　　６８２３〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成１５年（２００３年）年３月１３日（パリ条約による優先権主張　平成１４年３月１５日、欧州特許庁）の出願（特願２００３−１１３４５８号）であって、平成１８年１２月２６日付けで手続補正がなされ、平成１９年２月７日付けで拒絶査定がなされ、これに対して、同年５月１４日に拒絶査定不服審判の請求がなされ、同日付けで手続補正がなされたものである。
　
第２　平成１９年５月１４日付けの手続補正についての補正の却下の決定について
　
［補正の却下の決定の結論］
　平成１９年５月１４日付けの手続補正（以下、「本件補正」という。）を却下する。
　
［理由］
１　本件補正について
　本件補正により、特許請求の範囲の請求項１に係る発明は、平成１８年１２月２６日付けの手続補正書の特許請求の範囲の請求項１に記載の、
　
「放射線の投影ビームを供給する放射線システムと、所望するパターンに従って投影ビームをパターン化するパターニング手段を支持する支持構造と、基板を保持する基板テーブルと、パターン化されたビームを基板の目標部分に投影する、少なくとも１個の光学素子から構成される投影システムと、前記の少なくとも１個の光学素子の位置を計測する変位計測システムとにより構成されるリソグラフィ投影装置において、
　前記の変位計測システムは、
　前記の少なくとも１個の光学素子に取り付けられた第一回折格子と、
　基準フレームに取り付けられた、これに連動する第二回折格子と、
　前記変位計測システムから離れた位置からの光を前記変位計測システムに伝達するための光伝達手段と、を備え、
　前記第一回折格子と前記第二回折格子のうちの一方は、もう一方回折格子からの回折光を受光するように配置されていることを特徴とするリソグラフィ投影装置。」が　
　
「放射線の投影ビームを供給する放射線システムと、
　所望するパターンに従って投影ビームをパターン化するパターニング手段を支持する支持構造と、
　基板を保持する基板テーブルと、
　パターン化されたビームを基板の目標部分に投影する、少なくとも１個の光学素子から構成される投影システムと、
　アクチュエータを使用して位置決めされる前記少なくとも１個の光学素子の位置を計測する変位計測システムと、
により構成されるリソグラフィ投影装置において、
　前記変位計測システムは、
　　前記少なくとも１個の光学素子に取り付けられた第一回折格子と、
　　基準フレームに取り付けられた、これに連動する第二回折格子と、
　　前記変位計測システムから離れた位置にある光源からの光を前記変位計測システムに伝達するための光伝達手段と、を備えており、
　前記変位計測システムは、さらに、
　　前記光源からの光が前記第二回折格子により３つの次数に回折されて、第一回折光信号が生成され、該第一回折光信号の＋／−１次が前記第一回折格子により受光され回折され、反射されて、第二回折光信号が生成され、該第二回折光信号が前記第二回折格子により受光され回折されて、第３回折光信号が生成されるように、配置されており、
　前記変位計測システムは、さらに、
　　前記第三回折光信号を受信する３個のフォトセンサーから成る感知システムを備えており、フォトセンサーの各々は、他の２個のフォトセンサーにより受信された前記第三回折光信号と１２０度位相のずれた前記第三回折光信号を受信し、前記第二回折格子に対する前記第一回折格子の相対的動作がない場合の各フォトセンサーの出力は一定となり、相対的動作がある場合の各フォトセンサーの出力は発振する、
ことを特徴とするリソグラフィ投影装置。」と補正された。
　
　そして、この補正は、
（１）光学素子について、「アクチュエータを使用して位置決めされる」ことを特定する補正事項、
（２）「変位計測システムから離れた位置からの光」について、「変位計測システムから離れた位置にある光源からの光」であることを特定する補正事項、及び、
（３）変位計測システムについて、その構造を具体的に、
「前記光源からの光が前記第二回折格子により３つの次数に回折されて、第一回折光信号が生成され、該第一回折光信号の＋／−１次が前記第一回折格子により受光され回折され、反射されて、第二回折光信号が生成され、該第二回折光信号が前記第二回折格子により受光され回折されて、第３回折光信号が生成されるように、配置されており、
　前記変位計測システムは、さらに、
　　前記第三回折光信号を受信する３個のフォトセンサーから成る感知システムを備えており、フォトセンサーの各々は、他の２個のフォトセンサーにより受信された前記第三回折光信号と１２０度位相のずれた前記第三回折光信号を受信し、前記第二回折格子に対する前記第一回折格子の相対的動作がない場合の各フォトセンサーの出力は一定となり、相対的動作がある場合の各フォトセンサーの出力は発振する、」と特定する補正事項からなるものである。
　そして、上記３つの補正事項は、いずれも、特許請求の範囲のいわゆる限定的減縮を目的とする補正であるから、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法（以下、「平成１８年改正前特許法」という。）第１７条の２第４項第２号に掲げる事項を目的とするものを含む補正であるといえる。
　
２　独立特許要件違反についての検討
　そこで、次に、本件補正後の特許請求の範囲の請求項１に係る発明（以下、「本願補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項において準用する特許法第１２６条第５項の規定に違反しないか）について検討する。
　
（１）本願補正発明
　本願補正発明は、平成１９年５月１４日付けの手続補正書の特許請求の範囲の請求項１に記載されている事項により特定されるものである。（上記「第２　平成１９年５月１４日付けの手続補正についての補正の却下の決定について」の「１　本件補正について」の記載参照。）
　
（２）引用例
ア　原査定の拒絶の理由に引用され、本願の優先日前に頒布された刊行物である特開２００１−３５１８５５号公報（以下、「引用例１」という。）には、図面の記載とともに以下の事項が記載されている。（後述の「イ　引用例１に記載された発明」の認定において直接関係する記載に下線を付した。）
　
「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、リソグラフィ投影装置であって：放射線の投影ビームを供給するための照明システム；マスクを保持するための第１物体テーブル；基板を保持するるための第２物体テーブル；および上記マスクの被照射部分を上記基板の目標部分上に結像するための投影システムを含む投影装置に関する。」
　
「【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、放射線または投影システムのミラーを正確且つ動的に配置するために改良した位置決めシステムを有するリソグラフィ投影装置を提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の第１態様によれば、リソグラフィ投影装置であって：放射線の投影ビームを供給するように配置構成された照明システム；マスクを保持するように配置構成された第１物体テーブル；基板を保持するように配置構成された第２物体テーブル；および上記マスクの被照射部分を上記基板の目標部分上に結像するように配置構成された投影システムを含む投影装置において、上記照明システムおよび上記投影システムの少なくとも１つが１つ以上の反射性光学素子並びに上記反射性光学素子の１つ以上の位置および配向のいずれか一方または両方を動的に制御するための位置決め手段を含む装置が提供される。」
　
「【００２１】
【実施例１】図１は、本発明によるリソグラフィ投影装置を概略的に描く。この装置は：
放射線（例えば、ＵＶまたはＥＵＶ線）の投影ビームＰＢを供給するための放射線システムＬＡ、ＩＬ；マスクＭＡ（例えば、レチクル）を保持するためのマスクホルダを備え、このマスクを部材ＰＬに関して正確に位置決めするために第１位置決め手段ＰＭに連結された第１物体テーブル（マスクテーブル）ＭＴ；基板Ｗ（例えば、レジストを塗被したシリコンウエハ）を保持するための基板ホルダを備え、この基板を部材ＰＬに関して正確に位置決めするために第２位置決め手段ＰＷに連結された第２物体テーブル（基板テーブル）ＷＴ；マスクＭＡの被照射部分を基板Ｗの目標領域、または部分Ｃ上に結像するための投影システム（“レンズ”）ＰＬ（例えば、反射または反射屈折システム）を含む。
【００２２】放射線システムは、放射線のビームを作る放射源ＬＡ（例えば、Ｈｇランプ、エキシマレーザ、レーザ若しくは放電プラズマ源、または貯蔵リング若しくはシンクロトロンの電子ビームの経路の周りに設けたアンジュレータ）を含む。このビームは出来たビームＰＢが入射瞳およびマスクに所望の照度分布を与えるような方法で収集されるように、照明システムＩＬに含まれる種々の光学部品に通される。
【００２３】ビームＰＢは、次に、マスクテーブルＭＴ上のマスクホルダに保持されているマスクＭＡに入射する。マスクＭＡによって選択的に反射されてから、ビームＰＢは、レンズＰＬを通過し、それがビームＰＢを基板Ｗの目標領域Ｃ上に集束する。干渉計変位測定手段ＩＦおよび第２位置決め手段ＰＷの助けをかりて、基板テーブルＷＴは、例えば、異なる目標領域ＣをビームＰＢの経路に配置するように、正確に動くことができる。同様に、この干渉計変位測定手段ＩＦおよび第１位置決め手段ＰＭを使ってマスクＭＡをビームＰＢの経路に関して正確に配置することができる。一般的に、物体テーブルＭＴ、ＷＴの運動は、図１にはっきりは示さないが、長ストロークモジュール（粗位置決め）および短ストロークモジュール（微細位置決め）の助けをかりて実現できる。
【００２４】図示する装置は、二つの異なるモードで使うことができる：１．ステップモードでは、マスクテーブルＭＴを本質的に固定して保持し、全マスク像を目標領域Ｃ上に一度に（即ち、単一“フラッシュ”で）投影する。次に基板テーブルＷＴをｘおよび／またはｙ方向に移動して異なる目標領域ＣをビームＰＢで照射できるようにする；２．走査モードでは、与えられた目標領域Ｃが単一“フラッシュ”では露出しないことを除いて、本質的に同じシナリオを適用する。その代りに、マスクテーブルＭＴが与えられた方向（所謂“走査方向”、例えば、ｘ方向）に速度ｖで動き得て、それで投影ビームＰＢがマスク像の上を走査せしめられ；同時に、基板テーブルＷＴが同時に同じまたは反対方向に速度Ｖ＝Ｍｖで動かされ、このＭはレンズＰＬの倍率（典型的には、Ｍ＝１／４または１／５）である。この様にして、比較的大きい目標領域Ｃを、解像度について妥協する必要なく、露出できる。
【００２５】本実施例は反射性マスクを使うが、本発明を透過性マスクを有するリソグラフィ装置にも使えることが直ちに判るだろう。図示する実施例は、放射線および投影システムにも反射性素子を使うが、しかし、幾つかの屈折性素子を使ってもよい。
【００２６】図２は、照明光学系ＩＬまたは
投影光学系ＰＬに含まれるミラー１０の一つおよびその関連する位置決めシステム２０を示し、このシステムは、駆動システム３０、位置検知システム４０および制御システム５０を含む。
【００２７】図２に示すように、
ミラー１０は、駆動装置３１、３２に取付けてあり、それらの装置が位置決めシステム３０の一部を形成し、それが今度はベースフレームＢＦに取付けてある。
駆動装置３１、３２は、ミラーの位置、および特に配向を正確に制御するために使う。
【００２８】本実施例では、
駆動装置３１、３２が
アクチュエータまたはモータも使ってよい。
【００２９】
検知システム４０は、絶対センサ４１、４２および相対センサ４３、４４を含み、
【００３０】絶対センサ４１、４２は、各使用前に較正する必要なく、１以上の自由度のミラー１０の絶対位置を測定する。装置の最初の製造でのおよび定期保守での較正が必要または望ましいかも知れないが、これらの絶対センサは、較正なしに製作運転中または一連の運転中作動できるべきである。本実施例では、これらの絶対センサが既知の種類の容量センサまたは誘導センサである。明快さの目的で二つの絶対センサを図示するが、所望の自由度で位置情報を提供するために必要に応じてより多くまたは少なく使ってもよい。
【００３１】
相対センサ４３、４４は、ミラーの運動、即ち、位置および配向のいずれか一方または両方の変化を測定し、それで較正を要し、ミラーの絶対位置を測定するために使用可能である前に、このミラーを所定の位置に正確に設定することが必要である。本実施例では、相対センサ４３、４４がミラー１０に取り付けたそれぞれの基準格子４５、４６の位置を測定する、干渉計をベースとするセンサである。
【００３２】干渉計センサ４３、４４は、容量または誘導センサ４１、４２より高い感度および／または帯域幅および／または範囲でミラーの運動を測定することができ、従って装置の作動中継続的に相対位置信号を供給するために使う。絶対センサ４１、４２は、装置の初期セットアップ中、および投影すなわち照明システムが作動していないとき、どんな期間の経過後でも装置を再初期化するときに絶対位置信号を提供するために使う。それらは、干渉計センサ４３、４４を検定または較正するために定期的に使ってもよい。
【００３３】絶対センサ４１、４２および相対センサ４３、４４からの生信号を、制御システム５０の一部を形成する、それぞれの第１および第２信号処理回路５１、５２へ供給する。これらの信号処理回路５１、５２は、センサが提供する信号の適切な処理および検定を行い、それらを必要に応じて出力するために適当な座標系に変換する。ミラー１０の絶対位置を表す、第１信号処理回路５１からの処理した位置信号は、これらの相対位置信号を較正するために第２信号処理回路５２へ供給してもよい。モータ制御回路５３が信号処理回路５１、５２からの処理した位置信号および設定点回路５４からの設定点データも受け、適当な駆動信号を決め、それらをモータ３１、３２に提供してミラー１０を望む通りに配置しおよび何れの振動の影響をも相殺する。
【００３４】本実施例の制御システムは、ミラーの位置の測定および所望の位置からの偏差の相殺に基づくフィードバック制御戦略を使う。制御システムは、その上、フィードフォワード制御を行うために、その他のセンサまたはリソグラフィ装置の全体的制御システムからの情報を使ってもよい。設定点回路５４が与える設定点は、もし、ミラー１０がこの光学系の静的構成部品であれば一定位置でもよく、またはもし、ミラー１０がこのリソグラフィ装置の何れかの可変ビーム成形または位置決め機能に於いて一役を果たすならば可変位置でもよい。」
　
イ　引用例１に記載された発明の認定
　上記記載事項から、引用例には、リソグラフィ投影装置に関し、
「放射線の投影ビームＰＢを供給するための放射線システムＬＡ、ＩＬ；マスクＭＡを保持するためのマスクホルダを備え、このマスクを部材ＰＬに関して正確に位置決めするために第１位置決め手段ＰＭに連結された第１物体テーブルＭＴ；基板Ｗを保持するための基板ホルダを備え、この基板を部材ＰＬに関して正確に位置決めするために第２位置決め手段ＰＷに連結された第２物体テーブルＷＴ；マスクＭＡの被照射部分を基板Ｗの目標領域、または部分Ｃ上に結像するための投影システムＰＬを含み、
　投影光学系ＰＬは、少なくとも１つのミラー１０およびその関連する位置決めシステム２０を含み、位置決めシステム２０は、駆動システム３０、位置検知システム４０および制御システム５０を含み、
　ミラー１０は、駆動装置３１、３２に取付けてあり、それらの装置が位置決めシステム２０の一部を形成し、駆動装置３１、３２は、ミラーの位置、および特に配向を正確に制御するために使われるアクチュエータまたはモータであり、
　検知システム４０は、絶対センサ４１、４２および相対センサ４３、４４を含み、
　相対センサ４３、４４は、ミラーの運動、即ち、位置および配向のいずれか一方または両方の変化を測定するセンサであって、ミラー１０に取り付けたそれぞれの基準格子４５、４６の位置を測定する、干渉計をベースとするセンサであるリソグラフィ投影装置。」の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されている。
　
（３）本願補正発明と引用発明との対比
ア　対比
　本願補正発明と引用発明とを対比する。
　
（ア）引用発明の「放射線の投影ビームＰＢを供給するための放射線システムＬＡ、ＩＬ」が、本願補正発明の「放射線の投影ビームを供給する放射線システム」に相当する。
　
（イ）引用発明の「マスクＭＡを保持するためのマスクホルダを備え、このマスクを部材ＰＬに関して正確に位置決めするために第１位置決め手段ＰＭに連結された第１物体テーブルＭＴ」が、本願補正発明の「所望するパターンに従って投影ビームをパターン化するパターニング手段を支持する支持構造」に相当する。
　
（ウ）引用発明の「基板Ｗを保持するための基板ホルダを備え、この基板を部材ＰＬに関して正確に位置決めするために第２位置決め手段ＰＷに連結された第２物体テーブルＷＴ」が、本願補正発明の「基板を保持する基板テーブル」に相当する。
　
（エ）引用発明の「マスクＭＡの被照射部分を基板Ｗの目標領域、または部分Ｃ上に結像するための投影システムＰＬ」は、「少なくとも１つのミラー１０」を含むものであり、引用発明の「少なくとも１つのミラー１０」が、本願補正発明の「少なくとも１個の光学素子」に相当するから、引用発明の「マスクＭＡの被照射部分を基板Ｗの目標領域、または部分Ｃ上に結像するための投影システムＰＬ」が、本願補正発明の「パターン化されたビームを基板の目標部分に投影する、少なくとも１個の光学素子から構成される投影システム」に相当する。
　
（オ）引用発明の「少なくとも１つのミラー１０」が、本願補正発明の「少なくとも１個の光学素子」に相当する。引用発明の「少なくとも１つのミラー１０」が取り付けられた「駆動装置３１、３２」は、ミラーの位置、および特に配向を正確に制御するために使われるアクチュエータまたはモータであるから、本願補正発明の「少なくとも１個の光学素子」を「位置決め」する「アクチュエータ」に相当する。
　したがって、引用発明の「アクチュエータまたはモータ」である「駆動装置３１、３２」によって「位置、および特に配向」が「正確に制御」される「少なくとも１つのミラー１０」が、本願補正発明の「アクチュエータを使用して位置決めされる前記少なくとも１個の光学素子」に相当する。
　
（カ）引用発明の「検知システム４０」における「相対センサ４３、４４」は、「ミラーの運動、即ち、位置および配向のいずれか一方または両方の変化を測定するセンサ」であるから、本願補正発明の「前記少なくとも１個の光学素子の位置を計測する変位計測システム」に相当する。
　
（キ）引用発明の「検知システム４０は、絶対センサ４１、４２および相対センサ４３、４４を含み、相対センサ４３、４４は、ミラーの運動、即ち、位置および配向のいずれか一方または両方の変化を測定するセンサであって、ミラー１０に取り付けたそれぞれの基準格子４５、４６の位置を測定する、干渉計をベースとするセンサである」ことと、本願補正発明の「前記変位計測システムは、前記少なくとも１個の光学素子に取り付けられた第一回折格子と、基準フレームに取り付けられた、これに連動する第二回折格子と、前記変位計測システムから離れた位置にある光源からの光を前記変位計測システムに伝達するための光伝達手段と、を備えており、前記変位計測システムは、さらに、前記光源からの光が前記第二回折格子により３つの次数に回折されて、第一回折光信号が生成され、該第一回折光信号の＋／−１次が前記第一回折格子により受光され回折され、反射されて、第二回折光信号が生成され、該第二回折光信号が前記第二回折格子により受光され回折されて、第３回折光信号が生成されるように、配置されており、前記変位計測システムは、さらに、前記第三回折光信号を受信する３個のフォトセンサーから成る感知システムを備えており、フォトセンサーの各々は、他の２個のフォトセンサーにより受信された前記第三回折光信号と１２０度位相のずれた前記第三回折光信号を受信し、前記第二回折格子に対する前記第一回折格子の相対的動作がない場合の各フォトセンサーの出力は一定となり、相対的動作がある場合の各フォトセンサーの出力は発振する」こととは、「変位計測システムは、少なくとも１個の光学素子に取り付けられた格子を備えた干渉計センサ」である点で一致する。
　
イ　一致点
　よって、本願補正発明と引用発明は、
「放射線の投影ビームを供給する放射線システムと、
　所望するパターンに従って投影ビームをパターン化するパターニング手段を支持する支持構造と、
　基板を保持する基板テーブルと、
　パターン化されたビームを基板の目標部分に投影する、少なくとも１個の光学素子から構成される投影システムと、
　アクチュエータを使用して位置決めされる前記少なくとも１個の光学素子の位置を計測する変位計測システムと、
により構成されるリソグラフィ投影装置において、
　前記変位計測システムは、
　　前記少なくとも１個の光学素子に取り付けられた格子を備えた干渉計センサであるリソグラフィ投影装置。」の発明である点で一致し、次の各点で相違する。
　
ウ　相違点
（ア）相違点１
　変位計測システムにおいて用いられる光の供給のしかたについて、本願補正発明においては「変位計測システムから離れた位置にある光源からの光」を「光伝達手段」によって伝達して供給するものであるのに対し、引用発明においては、そのような限定がなされていない点。
　
（イ）相違点２
　変位計測システムについて、両者において、「少なくとも１個の光学素子に取り付けられた格子を備えた干渉計センサである」点で一致しているものの、本願補正発明においては「前記少なくとも１個の光学素子に取り付けられた第一回折格子と、基準フレームに取り付けられた、これに連動する第二回折格子と、を備えており」、「前記光源からの光が前記第二回折格子により３つの次数に回折されて、第一回折光信号が生成され、該第一回折光信号の＋／−１次が前記第一回折格子により受光され回折され、反射されて、第二回折光信号が生成され、該第二回折光信号が前記第二回折格子により受光され回折されて、第３回折光信号が生成されるように、配置されており」、さらに、「前記第三回折光信号を受信する３個のフォトセンサーから成る感知システムを備えており、フォトセンサーの各々は、他の２個のフォトセンサーにより受信された前記第三回折光信号と１２０度位相のずれた前記第三回折光信号を受信し、前記第二回折格子に対する前記第一回折格子の相対的動作がない場合の各フォトセンサーの出力は一定となり、相対的動作がある場合の各フォトセンサーの出力は発振する」ものであるのに対し、引用発明においては、そのような限定がなされていない点。
　
（４）当審の判断
ア　上記各相違点について検討する。
（ア）相違点１について
　露光装置の技術分野において、光源の発熱等の影響を避けるために、その光を用いる装置から離れた位置にある光源からの光を光ファイバ（光伝達手段）によって伝達して供給することは、例えば、特開平９−２２８７０号公報（【００２４】段落）、特開平９−２９３６６３号公報（【００５４】段落）、特開平１０−１１６７８１（【００８２】【００８３】段落）、及び、特開２００１−２６７１９６号公報（【００４３】段落）等にも記載されているように周知の技術である。
　引用発明においても、変位計測システムにおいて光源の発熱の影響を避けるために変位計測システムに用いる光の供給のしかたとして、上記の周知技術を採用して、上記相違点１に係る本願補正発明の発明特定事項を得ることは当業者が容易に想到し得たことである。
　
（イ）相違点２について
　相対的に移動可能な２つの物体の変位計測装置において、一方の物体に「第一回折格子」を取り付け、他方の物体に「第二回折格子」を取り付け、「第一回折格子」及び「第二回折格子」は、「光源からの光が前記第二回折格子により３つの次数に回折されて、第一回折光信号が生成され、該第一回折光信号の＋／−１次が前記第一回折格子により受光され回折され、反射されて、第二回折光信号が生成され、該第二回折光信号が前記第二回折格子により受光され回折されて、第３回折光信号が生成されるように、配置されており」、さらに、「前記第三回折光信号を受信する３個のフォトセンサーから成る感知システムを備えており、フォトセンサーの各々は、他の２個のフォトセンサーにより受信された前記第三回折光信号と１２０度位相のずれた前記第三回折光信号を受信し、前記第二回折格子に対する前記第一回折格子の相対的動作がない場合の各フォトセンサーの出力は一定となり、相対的動作がある場合の各フォトセンサーの出力は発振する」変位計測システムは、例えば、特開昭６０−２６０８１３号公報（特許請求の範囲の第１項、第３ページ右上欄第１４行〜右下欄第１７行）、特開平６−１６００２１号公報（【０００６】〜【００２０】段落）、及び、Ａ．Ｓｐｉｅｓ，“Ｌｉｎｅａｒ　ａｎｄ　Ａｎｇｕｌａｒ　Ｅｎｃｏｒｄｅｒｓ　ｆｏｒ　ｔｈｅ　Ｈｉｇｈ−Ｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎ　Ｒａｎｇｅ”，Ｐｒｏｇｒｅｓｓ　ｉｎ　Ｐｒｅｃｉｓｉｏｎ　Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ　ａｎｄ　Ｎａｎｏｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，２６−３０Ｍａｙ１９９７，Ｂｒａｕｎｓｃｈｗｅｉｇ，Ｇｅｒｍａｎｙ（論文第２ページ第１行〜第３ページ第５２行及び第４図）にも記載されているように周知の技術である。
　引用発明の干渉計センサである変位計測装置として、上記の周知技術を採用して、上記相違点２に係る本願補正発明の発明特定事項を得ることは当業者が容易に想到し得たことである。
　
イ　本願補正発明の奏する作用効果
　そして、本願補正発明によってもたらされる効果は、引用発明及び上記の周知技術から当業者が予測し得る程度のものである。
　
ウ　まとめ
　以上のとおり、本願補正発明は、引用発明及び周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
３　むすび
　したがって、本願補正発明は特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるということができないから、本件補正は、平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項で準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するものであり、特許法第１５９条第１項で読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下されるべきものである。
　
 第３　本願発明について
１　本願発明
　平成１９年５月１４日付けの手続補正は、上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、平成１８年１２月２６日付けの手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定されるとおりのものである。（上記「第２　平成１９年５月１４日付けの手続補正についての補正の却下の決定について」の「１　本件補正について」の記載参照。）
　
２　引用例
（１）引用例１
　原査定の拒絶の理由に引用された引用例１の記載事項及び引用発明については、上記「第２　平成１９年５月１４日付けの手続補正についての補正の却下の決定について」の「２　独立特許要件違反についての検討」の「（２）引用例」のア及びイに記載したとおりである。
　
（２）周知例１
　原査定の拒絶の理由に周知例を示す刊行物として引用され、本願の優先日前に頒布された刊行物である特開２００１−９１２１５号公報（以下、「周知例１」という。）には、図面の記載とともに以下の事項が記載されている。
　
「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は格子干渉型変位測定装置、特に互いに平行に配置された固定格子と変位格子による光の干渉現象を用いた変位検出装置の小型化に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、互いに平行に配置された２つの格子（固定格子と変位格子）を用い、格子の変位を回折光の位相変化として検出する格子干渉型変位検出装置が知られており、リニアスケールやリニアゲージなどに適用され、ステージ変位測定またはステージ駆動制御などに用いられている。
【０００３】図１５には、従来の格子干渉型変位検出装置の一例が示されている。レーザ光源などの可干渉光源１０から射出した光はコリメータレンズ１２で平行光とされた後、透過型格子１４に入射する。透過型格子１４はその位置が固定されている。透過型格子１４で回折した光（光束Ａ）と透過した光（光束Ｂ）はそれぞれ偏光板１８、２０を透過して反射型格子１６に入射する。反射型格子１６は透過型格子１４に対して平行に配置されており、平行を維持したまま図中矢印方向に変位する。反射型格子１６のピッチは透過型格子のピッチと同一であり、反射型格子１６で回折した光束Ａと光束Ｂは再び偏光板１８、２０を透過し、偏光方向が互いに９０度ずれて透過型格子１４に入射する。透過型格子１４に入射した光束Ａは透過型格子を透過し、透過型格子１４に入射した光束Ｂは透過型格子１４で回折して同一光路上の単一の光束となる。単一の回折光束はビームスプリッタ２２で２分割され、一方は１／４波長板２４及び偏光板２６を介して受光素子３０に入射し、他方は偏光板２８を介して受光素子３２に入射する。１／４波長板２４で位相を９０度ずらし、偏光板２６、２８で偏光方向を選択して干渉光を検出することで、９０度位相がずれた２つの干渉正弦波信号を得ることができる。変位量自体は１つの干渉信号のみで検出可能であるが、変位の方向を検出するために位相の異なる（好適には９０度ずれた）２つ以上の干渉信号が必要となる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従来技術では透過型格子１４と反射型格子１６の格子ピッチが同一であるため反射型格子１６で回折した光の光路は入射光と同一となり、干渉を防ぐための偏光板１８、２０、２６、２８や１／４波長板２４、ビームスプリッタ２２が必要となるので、構成要素が多くなるため小型化には限界があり、組立の際に偏光板の光軸調整など煩雑な作業が要求される問題があった。
【０００５】本発明は、上記従来技術の有する課題に鑑みなされたものであり、その目的は、装置の構成要素が少なく装置の小型化を図ることができ、また組み立て調整の手間も低減して、コストを低減させるとともに、小型化によりステージ等への組み付けを容易化することができる干渉格子型変位測定装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するために、本発明は、可干渉光源と受光素子との光路上に互いに平行に配置された固定格子と変位格子を有し、変位格子の変位により生じる光の干渉を前記受光素子で検出する格子干渉型変位測定装置であって、前記固定格子と前記変位格子の配列方向は平行でそのピッチが互いに異なり、前記固定格子と前記変位格子でそれぞれ回折した２つの光束の重なり部分に生じる干渉縞の異なる強度の位相部分を前記受光素子で検出することを特徴とする。
【０００７】また、前記可干渉光源及び受光素子は、前記固定格子と前記変位格子の配列方向に垂直な面から所定角度傾いた位置に配置されることを特徴とする。
【０００８】また、前記可干渉光源からの光を透過光と回折光に分割する透過型の固定格子と、前記固定格子からの前記透過光と前記回折光をそれぞれ回折させる反射型の変位格子とを含み、前記固定格子は、前記変位格子からの２つの回折光を回折及び透過することで合成し、前記受光素子は前記固定格子で合成された２つの光束の重なり部分に生じる干渉縞の異なる強度の位相部分を検出することを特徴とする。
【０００９】また、前記可干渉光源からの光を透過光と回折光に分割する透過型固定格子である第１格子と、前記第１格子からの前記透過光と前記回折光をそれぞれ回折させる反射型変位格子である第２格子と、前記第２格子からの２つの回折光を回折及び透過することで合成する透過型固定格子である第３格子とを含み、前記受光素子は前記第３固定格子で合成された２つの光束の重なり部分に生じる干渉縞の異なる強度の位相部分を検出することを特徴とする。」
　
「【００２７】図１には、本実施形態の構成を示す斜視図が示されており、図２には、図１の平面図（Ａ）、正面図（Ｂ）、側面図（Ｃ）が示されている。レーザ光源などの可干渉光源１０からの光はコリメータレンズ１２で平行光とされ、２つの格子に入射する。２つの格子は、互いに平行に配置された透過型の固定格子４０と反射型の変位格子４２から構成されており、固定格子４０はその位置が固定され、変位格子４２に対して光源側に配置される。変位格子４２は固定格子４０との間隔を維持したまま図中矢印方向に変位する。変位格子４２は、変位を測定すべき駆動部に取り付けることができる。固定格子４０と変位格子４２の格子配列方向は平行（図中ｘ方向）であり、また固定格子４０の表面に形成された格子ピッチＰ１と変位格子４２の表面に形成された格子ピッチＰ２は同一ではなく、Ｐ１＞Ｐ２、あるいはＰ１＜Ｐ２に設定される。２つの格子から射出された２つの回折光束は後述するように角度βをなして重なり合い、この重なり部分に生じる干渉縞を受光素子４４で検出する。また、図２（Ｃ）に示されるように、可干渉光源１０の光軸及び受光素子４４に入射する光軸は、固定格子４０及び変位格子４２の格子配列方向（ｘ方向）に垂直な面に対して所定角αをなすように配置されており、可干渉光源１０への戻り光及び受光素子へのノイズ光入射を防止している。」
　
（３）周知例２
　原査定の拒絶の理由に周知例を示す刊行物として引用され、本願の優先日前に頒布された刊行物である特開２００１−３３２０９号公報（以下、「周知例２」という。）には、図面の記載とともに以下の事項が記載されている。
　
「【００１４】
【発明の実施の形態】以下、図面に基づき本発明の好適な実施形態について説明する。
第１実施形態　
図１には、本発明の第１実施形態にかかる距離計の概略構成が示されている。同図に示す距離計１０は、光源１２と、参照物体及び測定物体としての干渉手段１４と、検出手段１６と、信号処理手段１８を含む。
【００１５】ここで、前記光源１２は、例えば距離計に使用するのに望ましい可干渉単色光を出すレーザダイオード（ＬＤ）、或いは該ＬＤに比較し、安価な発光ダイオード（ＬＥＤ）等よりなる。この光源１２は、所定のビーム径を持つ光束Ｌ１を射出する。また、前記干渉手段１４は、参照物体としての透過型回折格子２０と、測定物体としての反射型回折格子２２を含む。
【００１６】この透過型回折格子２０は、その溝の設けられた側を、反射型回折格子２２の側とし、光源１２からの光束Ｌ１ないし反射型回折格子２２からの光束Ｌ２，Ｌ３等の入射光を回折して、ないし回折せず射出する。つまり、０次、１次等の次数による分離を行う。この反射型回折格子２２は、例えば原子間力顕微鏡や近接場光学顕微鏡の微動ステージなどの移動物体２４の側壁などに、溝の設けられた側を透過型回折格子２０の側として設けられる。
【００１７】この反射型回折格子２２は、微動ステージ等の移動物体２４の移動によって、互いに直交するＸＹＺの３つの方向に移動可能である。そして、光源１２からの１つの光束Ｌ１を、透過型回折格子２０と反射型回折格子２２で、方向の異なる２つの回折光束Ｌ２，Ｌ３とし、再度、透過型回折格子２０で、この２光束Ｌ２，Ｌ３を重ね合わせて干渉させる。このようにして干渉光Ｌ４を得る。
【００１８】例えば、光源１２からの光束Ｌ１を、まず、透過型回折格子２０で回折した光束Ｌ２と、この透過型回折格子２０で回折せず透過した光束Ｌ３に分ける。　そして、透過型回折格子２０からの光束Ｌ２は、反射型回折格子２２で回折し、再度、透過型回折格子２０で回折せず透過する。一方、透過型回折格子２０からの光束Ｌ３は、反射型回折格子２２で回折し、再度、透過型回折格子２０で回折する。このようにして得られた２つの光束Ｌ２，Ｌ３を再度、透過型回折格子２０で重ね合わせて干渉させる。
【００１９】前記検出手段１６は、例えば光検出器（ＰＤ）等よりなり、前記干渉光Ｌ４の強度を光電検出し、干渉信号を後段の信号処理手段１８に出力する。前記信号処理手段１８は、例えばパーソナルコンピュータ等よりなり、検出手段１６で得た干渉信号の強度変化と干渉周期を測定し、該干渉信号の強度変化と干渉周期から、移動物体２４の変位を求める。つまり、この信号処理手段１８は、検出手段１６で得た電気信号の位相変化から光の位相変化を求め、この光の位相変化から、移動物体２４の変位を求める。
【００２０】例えば、検出手段１６で得た干渉信号のうち、直流信号の強度変化を、干渉成分である交流信号で、例えば波長程度等の所定の周期間隔で目盛を入れて線で補間し、前記干渉周期としての該目盛と、前記干渉信号の強度変化としての該直流的な情報から、移動物体２４の変位を測定する。なお、本実施形態にかかる検出手段１６は、移動物体２４の変位方向も測定するため、例えばＸＹＺの３つの方向に対し、ある間隔で設けられた、２つの光検出器（ＰＤ）等よりなる。
【００２１】このため、本実施形態にかかる距離計１０では、各光検出器からの２つの電気信号は互いに、ある周期だけ位相がずれているので、後段の信号処理手段１８で、２つの電気信号を比較し、一方に対して他方の位相が進んでいるか、又は遅れているかを検出することにより、移動物体２４の変位方向も判定することができる。
【００２２】本実施形態にかかる距離計１０は、概略以上のように構成され、以下にその作用について説明する。まず、光源１２からの１つの光束Ｌ１を、一方の干渉手段１４である透過型回折格子２０で、方向の異なる２つの光束Ｌ２，Ｌ３に分け、該光束Ｌ２，Ｌ３を、他方の干渉手段１４である反射型回折格子２２に当て、その各反射光Ｌ２，Ｌ３を再度、透過型回折格子２０で重ね合わせて干渉させる。
【００２３】例えば、光源１２からの光束Ｌ１は、透過型回折格子２２に入射し、一方の光束Ｌ２は、透過型回折格子２０で回折して射出し、他方の光束Ｌ３は、回折せず透過し、反射型回折格子２２に入射する。反射型回折格子２２に入射した光束Ｌ２，Ｌ３は、該反射型回折格子２２で回折して射出し、再度、透過型回折格子２０に入射する。透過型回折格子２０では、光束Ｌ３は回折して、光束Ｌ２は回折せず透過し、これらの２つの光束Ｌ２，Ｌ３を重ね合わせて干渉させる。このようにして得られた干渉光Ｌ４が後段の検出手段１６に入射する。
【００２４】このようにして光源１２からの１つの光束Ｌ１を、干渉手段１４で、方向の変えられた２光束Ｌ２，Ｌ３とし、該２光束Ｌ２，Ｌ３を再度、重ね合わせて干渉させる。このようにして得られた干渉光Ｌ４を検出手段１６により光電検出する。そして、移動物体２４の移動によって、反射型回折格子２２が光軸と直交する方向、つまり図中、Ｙ方向やＺ方向に移動すると、該移動距離に応じて、検出手段１６からの干渉信号の強度が変化する。ここで、光を基準にした従来の距離計では、干渉信号のうち、交流（ＡＣ）信号を検出し、干渉波長の変化から、移動物体の横ずれ成分、つまりＹ方向の変位成分やＺ方向の変位成分を検出していた。
【００２５】しかしながら、前記従来の構成の距離計では、光源からの光の波長の１／２以下の距離の干渉波は発生することができず、波長以下の距離を測定することができなかった。特に微小距離ずつ移動する原子間力顕微鏡や近接場光学顕微鏡の微動ステージなどの変位を高い精度で計測するのは非常に困難であった。
【００２６】そこで、本実施形態にかかる距離計１０では、光源１２からの１つの光束Ｌ１を、干渉手段１４で、方向の変えられた２光束Ｌ２，Ｌ３とし、該２光束Ｌ２，Ｌ３を重ね合わせて干渉させる。このようにして得られた干渉光Ｌ４を検出手段１６で光電検出する。そして、信号処理手段１８により、検出手段１６で得た前記干渉信号の強度変化と干渉周期を測定し、該干渉信号の強度変化と干渉周期から、移動物体２４の横ずれ方向の変位成分を求めているのである。
【００２７】本実施形態にかかる信号処理手段１８の、より具体的な干渉信号の処理方法を、図２を参照しつつ説明する。すなわち、本実施形態にかかる信号処理手段１８は、同図に示すように検出手段１６で得た干渉信号のうち、直流（ＤＣ）信号の各測定値ＳＤＣ１〜ＳＤＣｎをプロットする。つぎに、干渉成分である交流（ＡＣ）信号の測定値ＳＡＣを用い、例えば波長程度の所定の周期間隔で、前記干渉周期としての目盛Ｍを入れる。
【００２８】そして、前記直流（ＤＣ）信号の各測定値ＳＤＣ１〜ＳＤＣｎ間を、直線ｌで補間すると、前記干渉信号の強度変化を直流的に得ることができる。そして、本実施形態にかかる信号処理手段１８は、前記干渉周期としての目盛Ｍと、直流的な干渉信号の強度変化としての直線ｌから、移動物体２４の変位を求めている。この結果、本実施形態では、変位測定に用いられる光の波長に対する制限がなく、干渉信号の周期は回折格子２０，２４の溝の間隔で決まるので、目盛Ｍの数と、直流的な干渉信号強度としての直線ｌから、光の波長以下の変位量までも、高精度で求めることができる。つまり、前記従来の構成の距離計では、前記目盛Ｍの数の変化のみしか計数できず、この場合には、目盛Ｍの間隔以下、つまり波長以下の変位までも測定できなかった。
【００２９】そこで、本実施形態にかかる信号処理手段１８は、目盛Ｍの数の変化に加えて、目盛Ｍ以下の変位に関しては、目盛Ｍ間の直線ｌを分割して求めている。つまり、本実施形態にかかる信号処理手段１８は、変位の測定を、干渉周期単位の整数部分と、該干渉周期だけでは表現できない微小な変位量、所謂小数点以下の変位量に関しては、直線ｌから求めるようにしているので、単に干渉周期から求めた場合に比較し、非常に微小な変位量まで高精度で求めることができる。また、本実施形態では、前記波長程度の所定の周期間隔で、目盛Ｍ等を入れることにより、変位量を正確に補正することもできる。つまり、前記直線補間をより正確に行うことができる。これにより、そのような工夫のない場合に比較し、移動物体２４の変位量を、より高精度で求めることができる。
【００３０】また、本実施形態において、前述のように移動物体２４の変位の測定は、光源１２等の変位測定に用いる光の波長に制限されないことから、光源１２として、一般的な単色光源であるレーザダイオード（ＬＤ）に比較し安価な、例えば発光ダイオード（ＬＥＤ）等も用いることができる。これにより、装置の低価格化を図ることができる。また、従来の構成の距離計のように、走査鏡や固定鏡等の反射鏡を用いていたのでは、基本的には、光の進む方向に沿った方向の距離しか測定することできない。
【００３１】つまり、１つの距離計では、ある１つの方向の変位成分しか測定することができず、３軸を組み合わせることが一般的な、前記微動ステージなどの変位を測定するのに用いるには、移動物体２４の各変位方向ごとに、１つの距離計が必要となる。これでは、装置全体が大型化してしまい、高価なものとなってしまう。そこで、本実施形態にかかる干渉手段１４では、回折格子２０，２２の１つの格子面を、図３に示すように、２つの格子面２６，２８に分割し、各格子面２６，２８の溝を、移動物体の各変位方向、つまり図中、Ｙ方向とＺ方向に刻線している。
【００３２】つまり、移動物体２４の各変位方向の刻線とした各格子面２６，２８を隣り合わせて配置しているのである。そして、同図に示すように、光源からの１つの光Ｌ１を、そのビーム径ｄが各格子面２６，２８をまたがるように照射しているのである。この結果、本実施形態にかかる１つの距離計１０で、回折格子の格子面に平行な２つの刻線方向、つまり図中、直交するＹ方向とＺ方向の変位成分を測定することができる。
【００３３】また、本実施形態にかかる距離計１０では、移動物体２４をＸ方向にも移動可能としている。このとき、信号処理手段１８は、検出手段１６で得た干渉信号の強度変化と干渉周期を測定し、該干渉信号の強度変化と干渉周期から、回折格子２０，２２の光軸方向、つまり図１中、Ｘ方向の変位成分も測定することができる。これにより、本実施形態では、１つの距離計１０により、３軸の同時測定もすることができる。したがって、移動物体２４の各変位方向に対し、距離計を設けた場合に比較し、装置の構成簡略化を図ることができる。これにより、小型化、低価格化を図ることができる。
【００３４】また、本実施形態にかかる距離計１０では、検出手段１６として、電気信号が互いに、ある周期だけ位相がずれるように、２つの光検出器（ＰＤ）を設けているので、信号処理手段１８により、一方に対して他方の位相が進んでいるか、又は遅れているかを検出することにより、移動物体２４の移動方向も判定することができる。すなわち、本実施形態にかかる検出手段１６は、移動物体２４の変位方向も測定するため、例えば図４に示すように、図中、Ｙ方向にある間隔で２つの光検出器（ＰＤ）１６ａ，１６ｂを設けている。
【００３５】また、同図中、Ｚ方向に、ある間隔で２つの光検出器（ＰＤ）１６ｃ，１６ｄを設けている。このため、本実施形態では、例えばＹ軸に関しては、２つの光検出器１６ａ、１６ｂからの２つの電気信号は互いに、ある周期だけ位相がずれている。　したがって、後段の信号処理手段１８は、これらの２つの電気信号を比較し、一方に対して他方の位相が進んでいるか、又は遅れているかを検出することにより、移動物体２４の移動方向、つまり＋Ｙ方向に移動したか、又は−Ｙ方向かも判定することができる。」
　
（４）周知例３
　原査定の拒絶の理由に周知例を示す刊行物として引用され、本願の優先日前に頒布された刊行物である特開平１１−３２５９７３号公報（以下、「周知例３」という。）には、図面の記載とともに以下の事項が記載されている。
　
「【００１３】
【実施例】 図１はこの発明の一実施例の構成図である。図に示すように、エンコーダ１は光源２と固定スリット３とレンズ４と移動物体５に取り付けた移動スリット６と受光素子７及びカウンタ８を有する。固定スリット３は、図２の斜視図に示すように、一定ピッチＰで光を透過する透過部３Ｔと反射する反射部３Ｒが多数平行に設けられている。移動スリット６も光の反射する部分と透過する部分が一定ピッチＰｓで周期的に設けられている。
【００１４】上記のように構成されたエンコーダ１で移動物体５の移動を測定するとき、光源２から固定スリット３に光を照射する。固定スリット３に照射された光は固定スリット３の透過部３Ｔを透過して、図２の斜視図に示すように、明暗が縞状に分布した光９をレンズ４に入射し、レンズ４により収斂して移動スリット６上に照射される。この移動スリット６に光を照射するときに、移動スリット６に照射される光の断面分布の明暗のピッチが移動スリット６のスケールピッチＰｓと同じになるように光学諸元を設定しておく。この設定は、光源２から照射する光がコリメート光でないので、移動スリット６とレンズ４の位置を適切に設定することにより容易に実現することができる。
【００１５】移動物体５により移動している移動スリット６に照射された光は、明暗の縞の明部が移動スリット６の一定ピッチで設けられている反射部に入射したときに反射してレンズ４を通して固定スリット３に戻る。また、明暗の縞の明部が移動スリット６の透過部に入射したとき、移動スリット６に入射した光は移動スリット６を透過して固定スリット３側には戻らず、固定スリット３には移動スリット６のスケールピッチＰｓに応じて移動スリット６から反射した光が入射する。この固定スリット３は光の透過部３Ｔと反射部３Ｒが一定ピッチで多数設けられていて光を回折する機能を有すから、移動スリット６からの反射光は固定スリット３で回折され受光素子７に入射する。この受光素子７には、図３に示すように、移動スリット６のスケールピッチＰｓに応じて強弱が変化する光が入射する。受光素子６は入射した光の強弱に応じた信号をカウンタ８に出力する。カウンタ８は入力した信号を計数し、計数した値と移動スリット６のスケールピッチＰｓから移動スリット６の移動量を算出して表示する。このようにして簡単な構成で移動スリット６の移動量すなわち移動物体５の移動量を検出することができる。」
　
「【００２３】また、上記各実施例は移動スリット６からの反射光を利用して移動スリット６の移動量と移動方向を検出する場合について説明したが、移動スリット６からの回折光を利用して移動スリット６の移動量と移動方向を検出するようにしても良い。例えば図１４に示すように、光源２から光を移動物体５に設けた移動スリット６に照射し、移動スリット６からの回折光をレンズ４で収斂して固定スリット３を介して受光素子７で受光する。この移動スリット６からの回折光の回折次数は移動スリット６のスリットピッチＰｓと光の波長で定まり、１次の回折光の強度を高めることは容易にできる。そこで例えば図１３に示すように、移動スリット６からの透過光と１次の回折光をレンズ４で固定スリット３に重ね合わせる。このとき、重ね合わせた各光による移動スリット６の像１４が等間隔になるようにレンズ４と固定スリット３の位置を調整しておく。また、固定スリット３の透過部３Ｔと反射部３ＲのピッチＰは移動スリット６のスリットピッチＰｓの１／ｎ、例えば１／３にしておく。この場合、移動スリット６が１ピッチ移動すると、固定スリット３上の像１４は固定スリット３の３ピッチ分だけ移動する。したがって固定スリット３を透過した光は移動スリット６が１ピッチ移動するたびに３周期変化して受光素子７に入射する。この受光素子７からの出力信号により移動スリット６の移動量を検出することにより、３倍の分解能で移動スリット６の移動量を検出することができる。」
　
３　本願発明と引用発明との対比
（１）対比
　本願発明と引用発明とを対比する。
　
ア　引用発明の「放射線の投影ビームＰＢを供給するための放射線システムＬＡ、ＩＬ」が、本願発明の「放射線の投影ビームを供給する放射線システム」に相当する。
　
イ　引用発明の「マスクＭＡを保持するためのマスクホルダを備え、このマスクを部材ＰＬに関して正確に位置決めするために第１位置決め手段ＰＭに連結された第１物体テーブルＭＴ」が、本願発明の「所望するパターンに従って投影ビームをパターン化するパターニング手段を支持する支持構造」に相当する。
　
ウ　引用発明の「基板Ｗを保持するための基板ホルダを備え、この基板を部材ＰＬに関して正確に位置決めするために第２位置決め手段ＰＷに連結された第２物体テーブルＷＴ」が、本願発明の「基板を保持する基板テーブル」に相当する。
　
エ　引用発明の「マスクＭＡの被照射部分を基板Ｗの目標領域、または部分Ｃ上に結像するための投影システムＰＬ」は、「少なくとも１つのミラー１０」を含むものであり、引用発明の「少なくとも１つのミラー１０」が、本願発明の「少なくとも１個の光学素子」に相当するから、引用発明の「マスクＭＡの被照射部分を基板Ｗの目標領域、または部分Ｃ上に結像するための投影システムＰＬ」が、本願発明の「パターン化されたビームを基板の目標部分に投影する、少なくとも１個の光学素子から構成される投影システム」に相当する。
　
オ　引用発明の「少なくとも１つのミラー１０」が、本願発明の「少なくとも１個の光学素子」に相当し、引用発明の「検知システム４０」における「相対センサ４３、４４」は、「ミラーの運動、即ち、位置および配向のいずれか一方または両方の変化を測定するセンサ」であるから、引用発明の「検知システム４０」における「相対センサ４３、４４」が、本願発明の「前記の少なくとも１個の光学素子の位置を計測する変位計測システム」に相当する。
　
カ　引用発明の「検知システム４０は、絶対センサ４１、４２および相対センサ４３、４４を含み、相対センサ４３、４４は、ミラーの運動、即ち、位置および配向のいずれか一方または両方の変化を測定するセンサであって、ミラー１０に取り付けたそれぞれの基準格子４５、４６の位置を測定する、干渉計をベースとするセンサである」ことと、本願発明の「前記変位計測システムは、前記少なくとも１個の光学素子に取り付けられた第一回折格子と、基準フレームに取り付けられた、これに連動する第二回折格子と、前記変位計測システムから離れた位置からの光を前記変位計測システムに伝達するための光伝達手段と、を備えており、前記第一回折格子と前記第二回折格子のうちの一方は、もう一方回折格子からの回折光を受光するように配置されている」こととは、「変位計測システムは、少なくとも１個の光学素子に取り付けられた格子を備えた干渉計センサ」である点で一致する。
　
イ　一致点
　よって、本願発明と引用発明は、
「放射線の投影ビームを供給する放射線システムと、
　所望するパターンに従って投影ビームをパターン化するパターニング手段を支持する支持構造と、基板を保持する基板テーブルと、パターン化されたビームを基板の目標部分に投影する、少なくとも１個の光学素子から構成される投影システムと、前記の少なくとも１個の光学素子の位置を計測する変位計測システムと、により構成されるリソグラフィ投影装置において、
　前記の変位計測システムは、
　前記の少なくとも１個の光学素子に取り付けられた格子を備えた干渉計センサであるリソグラフィ投影装置。」の発明である点で一致し、次の各点で相違する。
　
ウ　相違点
（ア）相違点１’
　変位計測システムにおいて用いられる光の供給のしかたについて、本願発明においては「変位計測システムから離れた位置からの光」を「光伝達手段」によって伝達して供給するものであるのに対し、引用発明においては、そのような限定がなされていない点。
　
（イ）相違点２’
　変位計測システムについて、両者において、「少なくとも１個の光学素子に取り付けられた格子を備えた干渉計センサである」点で一致しているものの、本願発明においては「前記の少なくとも１個の光学素子に取り付けられた第一回折格子と、基準フレームに取り付けられた、これに連動する第二回折格子と、を備え」、「前記第一回折格子と前記第二回折格子のうちの一方は、もう一方回折格子からの回折光を受光するように配置されている」ものであるのに対し、引用発明においては、そのような限定がなされていない点。
　
４　当審の判断
ア　上記各相違点について検討する。
（ア）相違点１’について
　露光装置の技術分野において、光源の発熱等の影響を避けるために、その光を用いる装置から離れた位置からの光を光ファイバ（光伝達手段）によって伝達して供給することは、例えば、特開平９−２２８７０号公報（【００２４】段落）、特開平９−２９３６６３号公報（【００５４】段落）、特開平１０−１１６７８１（【００８２】【００８３】段落）、及び、特開２００１−２６７１９６号公報（【００４３】段落）等にも記載されているように周知の技術である。
　引用発明においても、変位計測システムにおいて光源の発熱の影響を避けるために変位計測システムに用いる光の供給のしかたとして、上記の周知技術を採用して、上記相違点１’に係る本願発明の発明特定事項を得ることは当業者が容易に想到し得たことである。
　
（イ）相違点２’について
　相対的に移動可能な２つの物体の変位計測装置において、一方の物体に「第一回折格子」を取り付け、他方の物体に「第二回折格子」を取り付け、「第一回折格子」及び「第二回折格子」は、「前記第一回折格子と前記第二回折格子のうちの一方は、もう一方回折格子からの回折光を受光するように配置されている」変位計測システムは、例えば、上記周知例１ないし３にも記載されているように周知の技術である。
　引用発明の干渉計センサである変位計測装置としても、上記の周知技術を採用して、上記相違点２’に係る本願発明の発明特定事項を得ることは当業者が容易に想到し得たことである。
　
イ　本願発明の奏する作用効果
　そして、本願発明によってもたらされる効果は、引用発明及び上記の周知技術から当業者が予測し得る程度のものである。
　
ウ　まとめ
　以上のとおり、本願発明は、引用発明及び周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
５　むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用発明及び周知技術に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、その余の請求項に係る発明について論及するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　
　よって、結論のとおり審決する。