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　特願２００１−３１３６７０「表面平滑化装置およびその方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１５年　４月２３日出願公開、特開２００３−１１７８０１〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯 
　本件出願は、平成１３年１０月１１日の特許出願であって、同１９年８月１７日付けで拒絶の理由が通知され、同年１０月２２日に手続補正がなされ、同１９年１２月４日付けで最後の拒絶の理由が通知され、同２０年２月４日に手続補正がなされ、同年６月１８日付けで同２０年２月４日の手続補正を却下するとともに拒絶をすべき旨の査定がされ、同年７月２４日に本件審判の請求がなされ、同年８月２５日に手続補正がなされ、当審において同２２年１月２６日付けで拒絶理由が通知され、同年３月２４日に手続補正がなされたものである。 
 　 
２．本願発明
　本願の請求項１に係る発明は、平成２２年３月２４日に補正された特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定されるとおりのものと認められる。
　請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、以下のとおりである。
　
「基材と該基材上に形成された樹脂膜とを有するカラーフィルタ基板のうち、該樹脂膜の表面を平滑化する表面平滑化装置において、
　基材上に形成された樹脂膜の表面の欠陥部位を除去して当該樹脂膜の表面を平滑化する表面平滑化槽を備え、
　前記表面平滑化槽は、前記基材上に形成された樹脂膜の表面に対して微粒子分散液を供給する微粒子分散液供給部と、微粒子分散液が供給された前記樹脂膜の表面に物理的に接触して当該樹脂膜の表面の欠陥部位を除去する表面平滑化用ブラシとを有し、
　前記表面平滑化用ブラシは、ロール状をなすとともに、前記カラーフィルタ基板の前記樹脂膜が下方を向くよう支持された前記カラーフィルタ基板の前記基材の下方に一つだけ設置され、
　前記微粒子分散液供給部は、前記表面平滑化用ブラシの下方に配置され微粒子分散液を収容した供給トレイを有し、
　ロール状の前記表面平滑化用ブラシを、前記供給トレイ内の微粒子分散液に浸漬させた状態で回転させることにより、下方を向いた前記カラーフィルタ基板の前記樹脂膜に対してのみに微粒子分散液を供給し、
　前記表面平滑化用ブラシは、前記樹脂膜と前記供給トレイ内の微粒子分散液以外には接触しないことを特徴とする表面平滑化装置。」
　
３．刊行物記載の発明
（１）刊行物１
　これに対し、本願出願前に頒布された刊行物であって、当審で通知した拒絶理由に引用された特開平２−２６９５５２号公報（以下「刊行物１」という。）には、次のように記載されている。 
　
ア．第２ページ右上欄第１２〜１４行
「本発明は、シリコン等のウエハ、光学レンズ等の被研磨物表面のポリッシング方法およびポリッシング装置に関する。」
　
イ．第２ページ左下欄第１３〜１７行
「第３に、エッチングによる加工変質層（ラッピング後のストック層と称せられる）を除去して、純シリコン層がミクロな傷や曇りがなく完全な鏡面でしかもＩＣ回路の焼付に必要かつ充分の平面性に仕上げるポリッシング工程。」
　
ウ．第５ページ右下欄第８〜１７行
「砥液は、一般に、アルカリ性のコロイダルシリカ水溶液、微細砥粒を懸濁させたアルカリ性あるいは酸性の水溶液、もしくはこれ等にアミンを加えたものが使用される。砥液に含有された微細砥粒がウエハを機械的にポリッシングし、そして、該砥液の酸性あるいはアルカリ性により、また、砥液に添加されたアミンによりウエハは化学的にポリッシングされる。このような砥液により、粗ポリッシング工程、中間ポリッシング工程、および仕上げ工程の各ポリッシング作業が行われる。」
　
エ．第６ページ左上欄第１〜１２行
「回転工具１１には、第２図に示すように、その外周面にポリッシングベルト１８が全周にわたって巻掛けられていてもよい。該ポリッシングベルト１８の周回域の下部は、洗浄液が収容された洗浄液槽２１内に位置しており、該洗浄液槽２１内の洗浄液にて該ポリッシングベルト１８が洗浄される。
　ポリッシングベルト１８は、構成材質と使用条件に応じて、砥液を保持し得るポリッンングパッド材を無端シームレス状となしたものが使用される。該ポリッシングベルト１８は、例えば、回転工具１１に貼着され、該回転工具１１とは一体的に回転される。」
　
オ．第６ページ左下欄第１６行〜右下欄第１３行
「さらに、多数の回転工具１１を用いて、ウエハ１４のポリッンングを多段階で行うようにしてもよい。例えば、第５図に示すように、キャリヤー１３によるウエハ１３の搬送域に対向させてウエハ１４の移動方向に多数の回転工具１１を並設すると共に、隣接する各回転工具１１間の下方にそれぞれ従動ロール４１を並設し、各回転工具１１と従動ロール４１とに交互にポリッシングベルト１８を巻掛ける構成としてもよい。
　各従動ロール４１は砥液が収容された砥液槽４２内に配設され、各従動ロール４１の周面を通過するポリッシングベルト１８には砥液槽４２内の砥液が保持される。この場合ポリッシングベルト１８は無端状であってもよく、また、第６図に示すように有端状であってもよい。いずれの場合にも、スクラバロール２２および再生ロール２３を有する洗浄液槽２１を、ポリッシングベルト１８の周回域に配設すればよい。」
　
カ．第５図
「ポリッシングベルト１８が、被研磨物表面の加工変質層が下方を向くよう支持された被研磨物であるウエハ１４の下方に設置されていること」が看取できる。
　
　また、ポリッシングベルト１８により、ウエハ１４のポリッンングを多段階で行う部位は、「ポリッシング部」ということができ、ポリッシングベルト１８によりウエハ１４の表面に砥液槽４２内の砥液が供給されるから、「ポリッシング部」は「砥液供給部」を有するということができる。
　ウエハ１４を機械的にポリッシングするものである以上、ポリッシングベルト１８が被研磨物であるウエハ１４の表面に「物理的に接触」することは明らかである。
　
　これらを、図面を参照しつつ、技術常識を踏まえ、本願発明に照らして整理すると、上記刊行物１には、次の発明（以下「刊行物１発明」という。）が記載されているものと認められる。 
　
「シリコン等のウエハ、光学レンズ等の被研磨物表面をポリッシングするポリッシング装置において、
　被研磨物表面の加工変質層を除去して当該被研磨物表面をポリッシングするポリッシング部を備え、
　前記ポリッシング部は、前記被研磨物表面に対して微細砥粒を含む砥液を供給する砥液供給部と、砥液が供給された前記被研磨物表面に物理的に接触して当該被研磨物表面の加工変質層を除去するポリッシングベルト１８とを有し、
　前記ポリッシングベルト１８は、前記被研磨物表面の加工変質層が下方を向くよう支持された前記被研磨物の下方に多数の回転工具１１と従動ロール４１に巻掛けて設置され、
　前記砥液供給部は、前記ポリッシングベルト１８の下部に配置され砥液を収容した砥液槽４２を有し、
　ポリッシングベルト１８を、前記砥液槽４２内の砥液に浸漬させた状態で回転させることにより、下方を向いた前記被研磨物表面に対して砥液を供給し、
　前記ポリッシングベルト１８の周回域に、スクラバロール２２および再生ロール２３を有する洗浄液槽２１を設けた
ポリッシング装置。」
 　 
（２）刊行物２
　同じく、当審で通知した拒絶理由に引用された特開平８−３０９６５７号公報（以下「刊行物２」という。）には、次のように記載されている。
　
ア．段落０００６
「【０００６】また、液晶用のカラーフィルターは多くの場合は、・・・ガラス基板上に、１〜２μｍ程度の膜厚の赤（Ｒ），青（Ｂ），緑（Ｇ）の３色からなるカラーフィルター層が塗着されているが、このようにカラーフィルターは薄いばかりか組成的に顔料微粉末の含有量が多いために軟らかく、脆弱であるといった欠点もある。従って、このような材質の薄いものを、従来の研磨法で均一に必要微量だけ研磨することは、その研磨材，研磨法の選択、研磨条件の最適化を如何に巧みに行なったとしても、なお困難な場合が多い。」
　
イ．段落００１５
「【００１５】そして、この実施例の研磨装置は、被研磨物であるカラーフィルタ１０１を形成したガラス基板１０２を平坦板３上にセットするとともに、このカラーフィルタ１０１上に回転板１０５と一体のパット材１０４を一定加重を作用させて載置し、スラリー（研磨材）１０３を流しながら回転させてカラーフィルタ１０１を研磨するようになっているが、特にこの実施例のようなものに限定されるものではなく、例えば研磨ロールや研磨シートで研磨する構成であってもよい。」
 　
　上記記載を、図面を参照しつつ、技術常識を踏まえ整理すると、上記刊行物２には、次の事項（以下「刊行物２事項」という。）が記載されているものと認められる。
　
「ガラス基板上に塗着されたカラーフィルター層を、研磨材を流しながら、研磨ロールや研磨シートで研磨するもの。」
　
４．対比・判断 
　刊行物１発明の「ポリッシングするポリッシング装置」は本願発明の「平滑化する表面平滑化装置」に、同様に、「微細砥粒を含む砥液」は「微粒子分散液」に、「下部」は「下方」に、「砥液槽４２」は「供給トレイ」に、それぞれ相当する。
　刊行物１発明の「被研磨物」、「シリコン等のウェハ、光学レンズ等の被研磨物表面」、「加工変質層」、「被研磨物表面の加工変質層が下方を向くよう支持された前記被研磨物」と、本願発明の「基材と該基材上に形成された樹脂膜とを有するカラーフィルタ基板」、「カラーフィルタ基板のうち、該樹脂膜の表面」、「欠陥部位」、「カラーフィルタ基板の樹脂膜が下方を向くよう支持された前記カラーフィルタ基板の前記基材」は、それぞれ、「ワーク」、「ワーク表面」、「除去対象部」、「ワークの表面が下方を向くよう支持された前記ワーク」である限りにおいて一致する。
　刊行物１発明の「ポリッシング部」、「ポリッシングベルト１８」と、本願発明の「表面平滑化槽」、「表面平滑化用ブラシ」は、それぞれ「表面平滑化部」、「表面平滑化手段」である限りにおいて一致する。
　
　そうすると、本願発明と刊行物１発明とは、以下の点で一致する。 
「ワーク表面を平滑化する表面平滑化装置において、
　ワーク表面の除去対象部を除去して当該ワーク表面を平滑化する表面平滑化部を備え、
　前記表面平滑化部は、前記ワーク表面に対して微粒子分散液を供給する微粒子分散液供給部と、微粒子分散液が供給された前記ワーク表面に物理的に接触して当該ワーク表面の除去対象部を除去する表面平滑化手段とを有し、
　前記表面平滑化手段は、前記ワークの表面が下方を向くよう支持された前記ワークの下方に設置され、
　前記微粒子分散液供給部は、前記表面平滑化手段の下方に配置され微粒子分散液を収容した供給トレイを有し、
　前記表面平滑化手段を、前記供給トレイ内の微粒子分散液に浸漬させた状態で回転させることにより、下方を向いた前記ワークの表面に対して微粒子分散液を供給する、
　表面平滑化装置。」 
 　 
　そして、以下の点で相違する。
　相違点１：ワーク、及びワーク表面の除去対象部について、本願発明は、「基材と該基材上に形成された樹脂膜とを有するカラーフィルタ基板」の「樹脂膜の表面」の「欠陥部位」であるが、刊行物１発明は、「シリコン等のウェハ、光学レンズ等の被研磨物」「表面」の「加工変質層」である点。
　相違点２：表面平滑化手段について、本願発明は、「ロール状をなす」「表面平滑化用ブラシ」が「一つだけ設置」され、樹脂膜に対して「のみ」微粒子分散液を供給し、「樹脂膜と供給トレイ内の微粒子分散液以外には接触しない」ものであるが、刊行物１発明は、「ポリッシングベルト１８」が「多数の回転工具１１と従動ロール４１に巻掛けて設置」され、「ポリッシングベルト１８の周回域に、スクラバロール２２および再生ロール２３を有する洗浄液槽２１を設け」ている点。
　相違点３：表面平滑化部について、本願発明は、「表面平滑化槽」であるが、刊行物１発明は、「ポリッシング部」である点。
　
　相違点１について検討する。
　刊行物２事項は「ガラス基板上に塗着されたカラーフィルター層を、研磨材を流しながら、研磨ロールや研磨シートで研磨するもの」であり、カラーフィルター層を樹脂膜により形成すること、樹脂膜の表面に欠陥部位が生じうることは周知である。
　刊行物２事項は、刊行物１発明と同様、物品表面の平滑化に関するものであるから、刊行物１発明のワーク及び除去対象部を、周知技術を踏まえ、刊行物２事項のものに置き換え、相違点１に係るものとすることに困難性は認められない。
　
　相違点２について検討する。
　表面平滑化手段として、「ロール状」のものは、刊行物１の第２図、刊行物２の「研磨ロール」（上記（２）イ参照）にみられるごとく周知であり、また、表面平滑化手段として「ブラシ」は周知である。
　また、相違点１を踏まえ、除去対象部が、「基材と該基材上に形成された樹脂膜とを有するカラーフィルタ基板」の「樹脂膜の表面」の「欠陥部位」とした場合、請求人が平成２２年３月２４日付け意見書で主張するように、刊行物１発明の除去対象部である「シリコン等のウェハ、光学レンズ等の被研磨物」「表面」の「加工変質層」よりも、除去対象部の硬度は低くなる。
　部品点数の削減は、当然の課題であるところ、「ロール状をなす」「表面平滑化用ブラシ」が「一つだけ」であっても、十分表面平滑化しうる可能性がある場合に、刊行物１発明の「多数の回転工具１１と従動ロール４１に巻掛けて設置」された「ポリッシングベルト１８」に代えて、「ロール状をなす表面平滑化用ブラシ」による表面平滑化を試みることは、設計的事項にすぎない。　
　刊行物１発明は、「ポリッシングベルト１８の周回域に、スクラバロール２２および再生ロール２３を有する洗浄液槽２１を設け」ているが、これは請求人の上記意見書のとおり、ポリッシングベルト１８に付着した研磨屑を除去し、再生させるためのもの、すなわち、研磨の程度により必要となるものである。
　上記のとおり、相違点１を踏まえると、除去対象部の硬度は低くなることから、かかる除去・再生機構がなくとも十分である可能性がある。
　よって、これらを不要とし、「ロール状をなす」「表面平滑化用ブラシ」が、樹脂膜に対して「のみ」微粒子分散液を供給し、「樹脂膜と供給トレイ内の微粒子分散液以外には接触しない」ものとすることは、設計的事項にすぎない。
　請求人は、上記意見書で、この点について、「両者の構成は全く相違」する旨、主張するが、上記のとおり、除去対象部の相違に伴う設計的事項にすぎないから、請求人の主張は根拠がない。
　
　相違点３について検討する。
　ポリッシングは、処理液が飛散するおそれがあることから、刊行物１発明の「ポリッシング部」を「槽」構造とし、「表面平滑化槽」とすることは、必要に応じてなしうる設計的事項にすぎない。
　
　また、これら相違点を総合勘案しても、格別の技術的意義が生じるとは認められない。
　
５．むすび 
　本願発明は、刊行物１発明、刊行物２事項、及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶されるべきものであるから、結論のとおり審決する。