(57)【要約】  半導体ウェーハからなる基板を収納して、全体が密閉された容器収容袋に収容された状態で輸送される基板収納容器１は、容器本体２と、蓋体と、外装部品５と、を備える。容器本体２は、複数の基板を収納可能な基板収納空間を形成する本体内面と、基板収納空間に連通する容器本体開口部が形成された開口周縁部と、を有する。蓋体３は、蓋体内面と蓋体外面とを有する蓋体本体を備え、開口周縁部に対して着脱可能であり容器本体開口部を閉塞可能であり、容器本体開口部を閉塞しているときに、蓋体内面が本体内面と共に基板収納空間を形成する。外装部品５は、本体内面以外の容器本体２の部分、蓋体内面以外の蓋体本体の部分、のうちの少なくとも１つに装着される。外装部品５には、アニール処理が施されている。
2015025410.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体ウェーハからなる基板を収納して、全体が密閉された容器収容袋に収容された状態で輸送される基板収納容器であって、
複数の基板を収納可能な基板収納空間を形成する本体内面と、前記基板収納空間に連通する容器本体開口部が形成された開口周縁部と、を有する容器本体と、
蓋体内面と蓋体外面とを有する蓋体本体を備え、前記開口周縁部に対して着脱可能であり前記容器本体開口部を閉塞可能であり、前記容器本体開口部を閉塞しているときに、前記蓋体内面が前記本体内面と共に前記基板収納空間を形成する蓋体と、
前記本体内面以外の前記容器本体の部分、前記蓋体内面以外の前記蓋体本体の部分、のうちの少なくとも１つに装着された樹脂製の外装部品と、を備え、
前記外装部品には、アニール処理が施されている基板収納容器。
【請求項２】
前記容器本体は、一端部に容器本体開口部が形成され他端部が閉塞された筒状の壁部であって、奥壁、上壁、下壁、及び一対の側壁を有し前記上壁の一端部、前記下壁の一端部、及び前記側壁の一端部によって前記容器本体開口部が形成された壁部を備え、
前記上壁の内面、前記下壁の内面、前記側壁の内面、及び前記奥壁の内面は、本体内面を構成し、
前記外装部品は、前記奥壁の外面、前記上壁の外面、前記下壁の外面、前記側壁の外面、及び、前記蓋体外面のうちの前記外装部品が装着される前記外面又は前記蓋体外面に沿った方向において、前記外装部品が装着される前記外面又は前記蓋体外面からはみ出さずに、前記外装部品が装着される前記外面又は前記蓋体外面の範囲に収まる大きさを有する請求項１に記載の基板収納容器。
【請求項３】
前記外装部品は、一の外装部品壁部と、前記一の外装部品壁部に対して所定の角度で交差する位置関係を有して前記一の外装部品壁部に接続された他の外装部品壁部と、を有する請求項１又は請求項２に記載の基板収納容器。
【請求項４】
前記外装部品は、ポリブチレンテレフタレート、ポリアセタール、ポリプロピレンのいずれかにより構成されている請求項１〜請求項３のいずれかに記載の基板収納容器。
【請求項５】
ポリブチレンテレフタレート又はポリアセタールにより構成されている前記アニール処理前の前記外装部品を、所定の寸法に裁断して加熱脱着ＧＣ−ＭＳ装置において１００℃で１時間加熱してＤＨＳ法により得られるアウトガスの量と、ポリブチレンテレフタレート又はポリアセタールにより構成されている前記アニール処理後の前記外装部品を、前記所定の寸法に裁断して加熱脱着ＧＣ−ＭＳ装置において１００℃で１時間加熱してＤＨＳ法により得られるアウトガスの量と、から得られる、前記外装部品の単位重量あたりのアウトガスの低減率の値は、２０％以上である請求項１〜請求項４のいずれかに記載の基板収納容器。
【請求項６】
ポリプロピレンにより構成されている前記アニール処理前の前記外装部品を、所定の寸法に裁断して加熱脱着ＧＣ−ＭＳ装置において８０℃で１時間加熱してＤＨＳ法により得られるアウトガスの量と、ポリプロピレンにより構成されている前記アニール処理後の前記外装部品を、前記所定の寸法に裁断して加熱脱着ＧＣ−ＭＳ装置において８０℃で１時間加熱してＤＨＳ法により得られるアウトガスの量と、から得られる、前記外装部品の単位重量あたりのアウトガスの低減率の値は、２０％以上である請求項１〜請求項４のいずれかに記載の基板収納容器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウェーハ等の基板を収納する基板収納容器に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体ウェーハ等の基板を収納する容器としては、容器本体と、蓋体と、内装部品と、外装部品とを備える構成のものが、従来より知られている。【０００３】
容器本体は、一端部に容器本体開口部が形成され、他端部が閉塞された筒状の壁部を有する。容器本体内には基板収納空間が形成されている。基板収納空間は、壁部により取り囲まれて形成されており、複数の基板を収納可能である。蓋体は、容器本体開口部に対して着脱可能であり、容器本体開口部を閉塞可能である。基板収納空間内には、内装部品を構成する基板支持板状部が対をなすように壁部に設けられている。基板支持板状部は、蓋体によって容器本体開口部が閉塞されていないときに、隣接する基板同士を所定の間隔で離間させて並列させた状態で、複数の基板の縁部を支持可能である。【０００４】
蓋体の部分であって容器本体開口部を閉塞しているときに基板収納空間に対向する部分には、内装部品を構成するフロントリテーナが設けられている。フロントリテーナは、蓋体によって容器本体開口部が閉塞されているときに、複数の基板の縁部を支持可能である。内装部品としてのフロントリテーナは、このように基板の縁部を支持するため、高い寸法精度が要求される。また、フロントリテーナと対をなすようにして、奥側基板支持部が壁部に設けられている。奥側基板支持部は、複数の基板の縁部を支持可能である。奥側基板支持部は、蓋体によって容器本体開口部が閉塞されているときに、フロントリテーナと協働して複数の基板を支持することにより、隣接する基板同士を所定の間隔で離間させて並列させた状態で、複数の基板を保持する。【０００５】
容器本体の壁部は、奥壁と、上壁と、下壁と、第１側壁と、第２側壁と、を有している。下壁には、外装部品を構成する位置決め部材が固定されている。位置決め部材はＶ字状の溝を有しており、溝には、基板収納容器を支持する支持部材が係合する。外装部品としての位置決め部材は、基板を支持する内装部品としてのフロントリテーナのような高い寸法精度は要求されない。溝への支持部材の係合により支持部材によって基板収納容器が支持された状態で、基板収納容器は搬送される。また、基板が収納された基板収納容器は、全体が密閉された容器収容袋に収容されて空輸等が行われる。このような外装部品を有する基板収納容器は、例えば、特許文献１に開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】国際公開第２０１３／０２５６２９号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
近年では、基板収納容器に収納されるシリコーンウェーハ等の基板への、基板収納容器を構成する容器本体からのアウトガスによる影響を低減することが要求されている。【０００８】
本発明は、基板収納容器に収納されている基板への、基板収納容器からのアウトガスによる影響を低減する基板収納容器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、半導体ウェーハからなる基板を収納して、全体が密閉された容器収容袋に収容された状態で輸送される基板収納容器であって、複数の基板を収納可能な基板収納空間を形成する本体内面と、前記基板収納空間に連通する容器本体開口部が形成された開口周縁部と、を有する容器本体と、蓋体内面と蓋体外面とを有する蓋体本体を備え、前記開口周縁部に対して着脱可能であり前記容器本体開口部を閉塞可能であり、前記容器本体開口部を閉塞しているときに、前記蓋体内面が前記本体内面と共に前記基板収納空間を形成する蓋体と、前記本体内面以外の前記容器本体の部分、前記蓋体内面以外の前記蓋体本体の部分、のうちの少なくとも１つに装着された樹脂製の外装部品と、を備え、前記外装部品には、アニール処理が施されている基板収納容器に関する。【００１０】
また、前記容器本体は、一端部に容器本体開口部が形成され他端部が閉塞された筒状の壁部であって、奥壁、上壁、下壁、及び一対の側壁を有し前記上壁の一端部、前記下壁の一端部、及び前記側壁の一端部によって前記容器本体開口部が形成された壁部を備え、前記上壁の内面、前記下壁の内面、前記側壁の内面、及び前記奥壁の内面は、本体内面を構成し、前記外装部品は、前記奥壁の外面、前記上壁の外面、前記下壁の外面、前記側壁の外面、及び、前記蓋体外面のうちの前記外装部品が装着される前記外面又は前記蓋体外面に沿った方向において、前記外装部品が装着される前記外面又は前記蓋体外面からはみ出さずに、前記外装部品が装着される前記外面又は前記蓋体外面の範囲に収まる大きさを有することが好ましい。【００１１】
また、前記外装部品は、一の外装部品壁部と、前記一の外装部品壁部に対して所定の角度で交差する位置関係を有して前記一の外装部品壁部に接続された他の外装部品壁部と、を有することが好ましい。【００１２】
また、前記外装部品は、ポリブチレンテレフタレート、ポリアセタール、ポリプロピレンのいずれかにより構成されていることが好ましい。【００１３】
また、ポリブチレンテレフタレート又はポリアセタールにより構成されている前記アニール処理前の前記外装部品を、所定の寸法に裁断して加熱脱着ＧＣ−ＭＳ装置において１００℃で１時間加熱してＤＨＳ法により得られるアウトガスの量と、ポリブチレンテレフタレート又はポリアセタールにより構成されている前記アニール処理後の前記外装部品を、前記所定の寸法に裁断して加熱脱着ＧＣ−ＭＳ装置において１００℃で１時間加熱してＤＨＳ法により得られるアウトガスの量と、から得られる、前記外装部品の単位重量あたりのアウトガスの低減率の値は、２０％以上であることが好ましい。【００１４】
また、ポリプロピレンにより構成されている前記アニール処理前の前記外装部品を、所定の寸法に裁断して加熱脱着ＧＣ−ＭＳ装置において８０℃で１時間加熱してＤＨＳ法により得られるアウトガスの量と、ポリプロピレンにより構成されている前記アニール処理後の前記外装部品を、前記所定の寸法に裁断して加熱脱着ＧＣ−ＭＳ装置において８０℃で１時間加熱してＤＨＳ法により得られるアウトガスの量と、から得られる、前記外装部品の単位重量あたりのアウトガスの低減率の値は、２０％以上であることが好ましい。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、基板収納容器に収納されている基板への、基板収納容器からのアウトガスによる影響を低減する基板収納容器を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の実施形態に係る基板収納容器１を示す前方斜視図である。
【図２】本発明の実施形態に係る基板収納容器１を示す側方斜視図である。
【図３】本発明の実施形態に係る基板収納容器１を示す底面図である。
【図４】本発明の実施形態に係る基板収納容器１のラッチカセット５４を示す斜視図である。
【図５】本発明の実施形態に係る基板収納容器１の位置決め部材５１を示す斜視図である。
【図６】本発明の実施形態に係る基板収納容器１の識別部材５２を示す斜視図である。
【図７】本発明の実施形態に係る基板収納容器１のセンシング部材５３を示す斜視図である。
【図８】本発明の実施形態に係る基板収納容器１のラッチカセット５４を構成するラッチ回転部材５５を示す斜視図である。
【図９】本発明の実施形態に係る基板収納容器１のラッチカセット５４を構成するラッチカセット部５６を示す斜視図である。
【図１０】本発明の実施形態に係る基板収納容器１のラッチカセット５４を構成するラッチカセット部５７を示す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明の第１実施形態に係る基板収納容器１について、図面を参照しながら説明する。図１は、本発明の実施形態に係る基板収納容器１を示す前方斜視図である。図２は、本発明の実施形態に係る基板収納容器１を示す側方斜視図である。図３は、本発明の実施形態に係る基板収納容器１を示す底面図である。図４は、本発明の実施形態に係る基板収納容器１のラッチカセット５４を示す斜視図である。図５は、本発明の実施形態に係る基板収納容器１の位置決め部材５１を示す斜視図である。
【００１８】
図６は、本発明の実施形態に係る基板収納容器１の識別部材５２を示す斜視図である。図７は、本発明の実施形態に係る基板収納容器１のセンシング部材５３を示す斜視図である。図８は、本発明の実施形態に係る基板収納容器１のラッチカセット５４を構成するラッチ回転部材５５を示す斜視図である。図９は、本発明の実施形態に係る基板収納容器１のラッチカセット５４を構成するラッチカセット部５６を示す斜視図である。図１０は、本発明の実施形態に係る基板収納容器１のラッチカセット５４を構成するラッチカセット部５７を示す斜視図である。
【００１９】
ここで、説明の便宜上、後述の容器本体２から蓋体３へ向かう方向（図１における左下方向）を前方向Ｄ１１と定義し、その反対の方向を後方向Ｄ１２と定義し、これらを前後方向Ｄ１と定義する。また、後述の下壁２４から上壁２３へと向かう方向（図１における上方向）を上方向Ｄ２１と定義し、その反対の方向を下方向Ｄ２２と定義し、これらを上下方向Ｄ２と定義する。また、後述する第２側壁２６から第１側壁２５へと向かう方向（図１における左上方向）を左方向Ｄ３１と定義し、その反対の方向を右方向Ｄ３２と定義し、これらを左右方向Ｄ３と定義する。主要な図面においては、これらの方向を示す矢印を図示している。
【００２０】
また、基板収納容器１に収納される基板（図示せず）は、円盤状のシリコーンウェーハ、ガラスウェーハ、サファイアウェーハ等であり、産業に用いられる薄いものである。本実施形態における基板は、直径３００ｍｍのシリコーンウェーハである。
【００２１】
図１に示すように、基板収納容器１は、容器本体２と、蓋体３と、外装部品５とを有している。容器本体２は、一端部に容器本体開口部２１が形成され、他端部が閉塞された筒状の壁部２０を有する。容器本体２内には基板収納空間（図示せず）が形成されている。基板収納空間は、壁部２０の内面からなる本体内面により取り囲まれて形成されている。壁部２０の部分であって基板収納空間を形成している部分には、内装部品を構成する基板支持板状部（図示せず）が配置されている。基板収納空間（図示せず）には、複数の基板を収納可能である。
【００２２】
基板支持板状部（図示せず）は、基板収納空間内において左右方向Ｄ３に対をなすように壁部２０に設けられている。基板支持板状部（図示せず）は、蓋体３によって容器本体開口部２１が閉塞されていないときに、隣接する基板同士を所定の間隔で離間させて並列させた状態で、複数の基板の縁部を支持可能である。基板支持板状部の奥側には、奥側基板支持部（図示せず）が設けられている。奥側基板支持部は、蓋体３によって容器本体開口部２１が閉塞されているときに、複数の基板の縁部の後部を支持可能である。
【００２３】
蓋体３は、容器本体開口部２１に対して着脱可能であり、容器本体開口部２１を閉塞可能である。蓋体３が容器本体開口部２１を閉塞しているときに、蓋体内面（図１に示す蓋体３の裏側の面）が容器本体２の内面（容器本体２の内側の面により構成される本体内面）と共に基板収納空間を形成する。蓋体３の部分であって蓋体３によって容器本体開口部２１が閉塞されているときに基板収納空間に対向する部分（蓋体内面）には、内装部品を構成するフロントリテーナ（図示せず）が設けられている。フロントリテーナ（図示せず）は、奥側基板支持部と対をなすように配置されている。蓋体３の表面であって蓋体内面以外の部分は、蓋体外面３１を構成する。
【００２４】
フロントリテーナ（図示せず）は、蓋体３によって容器本体開口部２１が閉塞されているときに、複数の基板の縁部の前部を支持可能である。フロントリテーナ（図示せず）は、蓋体３によって容器本体開口部２１が閉塞されているときに、奥側基板支持部（図示せず）と協働して複数の基板を支持することにより、隣接する基板同士を所定の間隔で離間させて並列させた状態で、複数の基板を保持する。
【００２５】
外装部品５は、本体内面以外の容器本体２の部分、蓋体内面以外の蓋体本体３２の部分に装着される。具体的には、外装部品５は、位置決め部材５１や、識別部材５２や、センシング部材５３や、ラッチ回転部材５５や、ラッチカセット部５６や、ラッチカセット部５７等により構成されている。図３に示すように、位置決め部材５１は、下壁２４の外面２４１に固定されて装着されている。図２、図３に示すように、識別部材５２は、容器本体２の後部の下部において、下壁２４の外面２４１と奥壁２２の外面２２１とを跨ぐようにして、容器本体２に固定されて装着されている。図３に示すように、センシング部材５３は、下壁２４の外面２４１に固定されて装着されている。ラッチ回転部材５５、ラッチカセット部５６、及び、ラッチカセット部５７は、組合わされてラッチカセット５４を構成している。図１に示すように、ラッチカセット５４は、蓋体３の蓋体外面３１に装着されている。
【００２６】
以上のような基板収納容器１は、各種の合成樹脂（ポリアミド系樹脂、ポリプロピレン、ポリエチレンなど）製のシート若しくは各種の金属（アルミニウムなど）製のシート、又はそれらの積層シートや、金属蒸着シートにより構成される基板収納容器収容袋（図示せず）によって、全体が密閉された状態で収容される。この状態で基板収納容器１は、空輸等の輸送がなされる。以下、各部について、詳細に説明する。
【００２７】
図１〜図３に示すように、容器本体２の壁部２０は、奥壁２２と上壁２３と下壁２４と第１側壁２５と第２側壁２６とを有する。奥壁２２、上壁２３、下壁２４、第１側壁２５、及び第２側壁２６は、プラスチック材等により構成されており、第１実施形態では、ポリカーボネートにより一体成形されて構成されている。
【００２８】
第１側壁２５と第２側壁２６とは対向しており、上壁２３と下壁２４とは対向している。上壁２３の後端、下壁２４の後端、第１側壁２５の後端、及び第２側壁２６の後端は、全て奥壁２２に接続されている。上壁２３の前端、下壁２４の前端、第１側壁２５の前端、及び第２側壁２６の前端は、奥壁２２に対向する位置関係を有し、略長方形状をした容器本体開口部２１を形成する開口周縁部２８を構成する。
【００２９】
開口周縁部２８は、容器本体２の一端部に設けられており、奥壁２２は、容器本体２の他端部に位置している。壁部２０の外面により形成される容器本体２の外形は箱状である。本体内面を構成する壁部２０の内面、即ち、奥壁２２の内面、上壁２３の内面、下壁２４の内面、第１側壁２５の内面、及び第２側壁２６の内面は、これらによって取り囲まれた基板収納空間（図示せず）を形成している。開口周縁部２８に形成された容器本体開口部２１は、壁部２０により取り囲まれて容器本体２の内部に形成された基板収納空間（図示せず）に連通している。基板収納空間には、最大で２５枚の基板を、基板の上面及び下面が略水平となる位置関係で収納可能である。
【００３０】
図１、図３に示すように、上壁２３及び下壁２４の部分であって、開口周縁部２８の近傍の部分には、基板収納空間の外方へ向かって窪んだラッチ係合凹部２３１Ａ、２３１Ｂ、２４１Ａ、２４１Ｂが形成されている。ラッチ係合凹部２３１Ａ、２３１Ｂ、２４１Ａ、２４１Ｂは、上壁２３及び下壁２４の左右両端部近傍に１つずつ、計４つ形成されている。
【００３１】
図１に示すように、上壁２３の外面においては、フランジ固定部（図示せず）が、上壁２３と一体成形されて設けられている。フランジ固定部（図示せず）は、上壁２３の中央部に配置されている。フランジ固定部（図示せず）には、図１に示すように、トップフランジ２３６が固定される。トップフランジ２３６は、上壁２３の中央部に配置されている。トップフランジ２３６は、ＡＭＨＳ（自動ウェーハ搬送システム）、ＰＧＶ（ウェーハ基板搬送台車）等において基板収納容器１を吊り下げる際に、吊り上げ部材としてのこれらの機械のアーム（図示せず）に掛けられ、これにより基板収納容器１は、アームに吊り下げられる。
【００３２】
図３に示すように、位置決め部材５１は、下壁２４の中央を中心として１２０°の位置関係で計３つ配置されている。図５に示すように、位置決め部材５１は、切妻状部５１１と、半円錐状部５１２と、を有する。半円錐状部５１２は、あたかも１つの円錐がその軸心を含む面により半分に切断されたうちの一方のような形状を有する。但し、実際には、一対の半円錐状部５１２は、１つの円錐が切断されて形成されたのではなく、切妻状部５１１と一体的成形されて形成されている。
【００３３】
切妻状部５１１は、切妻屋根形状を有している。具体的には、切妻状部５１１においては、一の外装部品壁部を構成する一方の壁状部５１１Ａと、一方の壁状部５１１Ａに対して所定の角度（鈍角）で交差する位置関係を有して一方の壁状部５１１Ａに一体成形されて接続された、他の外装部品壁部を構成する他方の壁状部５１１Ｂと、により、切妻屋根形状が形成されている。この構成により、位置決め部材５１を成形した後に、内部応力により位置決め部材５１において寸法上の歪みが生ずることが抑えられる。
【００３４】
また、位置決め部材５１の寸法は、下壁２４の寸法と比較して小さい。より具体的には、図３に示すように、位置決め部材５１は、下壁２４の外面２４１に沿った方向（前後方向Ｄ１及び左右方向Ｄ３に平行な方向）において、位置決め部材５１が装着される下壁２４の外面２４１からはみ出さずに、位置決め部材５１が装着される下壁２４の外面２４１の範囲に収まる大きさを有する。
【００３５】
位置決め部材５１は、ＰＢＴ（ポリブチレンテレフタレート）により一体成形されており、アニール処理が施されている。アニール処理の条件は、温度が８０℃〜２００℃で、時間が３０分〜１２時間程度であればよく、本実施形態では、１００℃で時間が２時間である。
【００３６】
識別部材５２は、図２〜図３に示すように、奥壁２２に沿った後壁５２１と下壁２４に沿った底部識別部５２２とを有する。即ち、識別部材５２は、一の外装部品壁部を構成する後壁５２１と、後壁５２１に対して所定の角度（直角）で交差する位置関係を有して後壁５２１に一体成形されて接続された、他の外装部品壁部を構成する底部識別部５２２とを有する。この構成により、識別部材５２を成形した後に、内部応力により識別部材５２において寸法上の歪みが生ずることが抑えられる。
【００３７】
また、底部識別部５２２は、図６に示すように、基部５２３と、第１前方突出部５２４と、第２前方突出部５２５とを有する。基部５２３は、左右方向Ｄ３に延びており、後壁５２１（図２参照）に接続されている。第１前方突出部５２４は、基部５２３の左右の両端から前方向Ｄ１１へ突出している。第２前方突出部５２５は、左右方向Ｄ３において第１前方突出部５２４よりも基部の中央寄りの位置から前方向Ｄ１１へ突出しており、途中で曲り、互いに左右方向Ｄ３に離間する。
【００３８】
また、底部識別部５２２は、平面状の部分５２５Ａと、平面状の部分５２５Ａの周縁に設けられ、当該平面状の部分５２５Ａに対して所定の角度である９０°で交差する位置関係を有する縁部壁部５２５Ｂとを有している。即ち、底部識別部５２２は、一の外装部品壁部を構成する平面状の部分５２５Ａと、平面状の部分５２５Ａに対して所定の角度（直角）で交差する位置関係を有して平面状の部分５２５Ａに一体成形されて接続された縁部壁部５２５Ｂとを有する。このため、識別部材５２を成形した後に、内部応力により識別部材５２において寸法上の歪みが生ずることが抑えられる。
【００３９】
また、図２、図３に示すように、後壁５２１、底部識別部５２２の寸法は、それぞれ奥壁２２、下壁２４の寸法と比較して小さい。より具体的には、後壁５２１は、奥壁２２の外面に沿った方向（上下方向Ｄ２及び左右方向Ｄ３に平行な方向）において、奥壁２２が装着される奥壁２２の外面２２１からはみ出さずに、後壁５２１が装着される奥壁２２の外面２２１の範囲に収まる大きさを有する。また、底部識別部５２２は、下壁２４の外面２４１に沿った方向（前後方向Ｄ１及び左右方向Ｄ３に平行な方向）において、底部識別部５２２が装着される下壁２４の外面２４１からはみ出さずに、底部識別部５２２が装着される下壁２４の外面２４１の範囲に収まる大きさを有する。
【００４０】
識別部材５２は、ＰＰ（ポリプロピレン）により一体成形されており、アニール処理が施されている。アニール処理の条件は、温度が８０℃〜２００℃であればよく、時間が３０分〜１２時間程度であり、本実施形態では、１００℃で時間が２時間である。
【００４１】
図７に示すように、外装部品５を構成するセンシング部材５３は、略コの字形状を有しており、一対の側壁５３１と、一対の側壁５３１の後端部を互いに一体的に接続する後壁５３２とを有する。また、センシング部材５３は、一対の側壁５３１それぞれに沿って前後方向Ｄ１及び左右方向Ｄ３に平行に延びる壁部５３１Ａを有している。壁部５３１Ａは、一対の側壁５３１に対して直交する位置関係を有して、一対の側壁５３１に一体成形されて接続されている。即ち、センシング部材５３は、一の外装部品壁部を構成する壁部５３１Ａと、壁部５３１Ａに対して所定の角度（直角）で交差する位置関係を有して壁部５３１Ａに接続された側壁５３１とを有する。このため、センシング部材５３を成形した後に、内部応力によりセンシング部材５３において寸法上の歪みが生ずることが抑えられる。
【００４２】
また、図３に示すように、センシング部材５３の寸法は、それぞれ下壁２４の寸法と比較して小さい。より具体的には、センシング部材５３は、下壁２４の外面２４１に沿った方向（前後方向Ｄ１及び左右方向Ｄ３に平行な方向）において、センシング部材５３が装着される下壁２４の外面２４１からはみ出さずに、センシング部材５３が装着される下壁２４の外面２４１の範囲に収まる大きさを有する。
【００４３】
センシング部材５３は、ＰＢＴ（ポリブチレンテレフタレート）により一体成形されており、アニール処理が施されている。アニール処理の条件は、温度が８０℃〜２００℃で、時間は３０分〜１２時間程度であればよく、本実施形態では、温度が１００℃で時間は２時間である。
【００４４】
図１に示すように、蓋体３は、容器本体２の開口周縁部２８の形状と略一致する略長方形状を有している。蓋体３は容器本体２の開口周縁部２８に対して着脱可能であり、開口周縁部２８に蓋体３が装着されることにより、蓋体３は、容器本体開口部２１を閉塞可能である。蓋体３は、蓋体本体３２を有している。
【００４５】
蓋体本体３２は、略長方形状の板状を有しており、ポリカーボネートにより一体成形されて構成されている。蓋体本体３２は、蓋体内面（図示せず）と蓋体外面３１とを有しており、蓋体内面は、蓋体３の部分であって基板収納空間を形成する部分を構成する。
【００４６】
蓋体３の蓋体内面を構成する蓋体本体３２の内面（図１に示す蓋体３の裏側の面）であって、蓋体本体３２の周縁部には、環状のシール部材（図示せず）が取り付けられている。シール部材は、蓋体本体３２の周縁部を一周するように配置されている。シール部材は、弾性変形可能なポリエステル系、ポリオレフィン系など各種熱可塑性エラストマー、フッ素ゴム製、シリコーンゴム製等である。
【００４７】
蓋体３が開口周縁部２８に装着されたときに、シール部材（図示せず）は、容器本体２の一部と蓋体本体３２の内面とにより挟まれて弾性変形し、蓋体３は、容器本体開口部２１を閉塞する。開口周縁部２８から蓋体３が取り外されることにより、容器本体２内の基板収納空間に対して、基板を出し入れ可能となる。
【００４８】
ラッチカセット５４は、図１に示すように、蓋体本体３２の外面（図１に示す蓋体３の手前側の面）に固定されて装着されており、ラッチ機構を構成する。ラッチカセット５４は、蓋体３の左右両端部近傍に設けられており、図４に示すように、蓋体３の上辺から上方向Ｄ２１へ突出可能な上側ラッチ部５８と、蓋体３の下辺から下方向Ｄ２２へ突出可能な下側ラッチ部５９と、ラッチ回転部材５５と、ラッチカセット部５６と、ラッチカセット部５７を備えている。上側ラッチ部５８は、蓋体３の上辺の左右両端近傍に配置されており、下側ラッチ部５９は、蓋体３の下辺の左右両端近傍に配置されている。
【００４９】
ラッチ回転部材５５は、図８に示すように、回転部材平板部５５１と、回転部材周縁壁５５２とを有する。回転部材平板部５５１は、略円形状を有する。回転部材周縁壁５５２は、回転部材平板部５５１に一体成形されて接続されており、回転部材平板部５５１の周縁に沿って設けられ、回転部材平板部５５１に直交する位置関係を有する。即ち、ラッチ回転部材５５は、一の外装部品壁部を構成する回転部材平板部５５１と、回転部材平板部５５１に対して所定の角度（直角）で交差する位置関係を有して回転部材平板部５５１に接続された回転部材周縁壁５５２を有する。このため、ラッチ回転部材５５を成形した後に、内部応力によりラッチ回転部材５５において寸法上の歪みが生ずることが抑えられる。
【００５０】
また、回転部材平板部５５１の中央には、略長方形状の貫通孔５５３が形成されており、ラッチ回転部材５５を回転させるためのキー（図示せず）を挿入可能である。また、回転部材平板部５５１には、一対の長穴５５４が形成されている。長穴５５４は、回転部材平板部５５１を中央位置を中心として点対称の位置関係で、弧を描くように形成されている。長穴５５４は、上側ラッチ部５８及び下側ラッチ部５９を上下方向Ｄ２に案内可能である。
【００５１】
また、ラッチ回転部材５５の寸法は、蓋体本体３２の蓋体外面３１の寸法と比較して小さい。より具体的には、ラッチ回転部材５５は、蓋体本体３２の蓋体外面３１に沿った方向（上下方向Ｄ２及び左右方向Ｄ３に平行な方向）において、ラッチ回転部材５５が装着される蓋体外面３１からはみ出さずに、ラッチ回転部材５５が装着される蓋体外面３１の範囲に収まる大きさを有する。
【００５２】
ラッチ回転部材５５は、主成分がＰＯＭ（ポリアセタール）の樹脂により一体成形されており、アニール処理が施されている。アニール処理の条件は、温度が８０℃〜２００℃であればよく、時間は３０分〜１２時間程度であり、本実施形態では、温度が１００℃で時間は２時間である。
【００５３】
ラッチカセット部５６は、図９に示すように、長尺状部５６１と、側板部５６２と、側板連結部５６３とを有する。長尺状部５６１は、上下方向Ｄ２に長い長方形状の板状を有している。側板部５６２は、長尺状部５６１の側縁部の一部に沿って、長尺状部５６１に直交する板状を有している。側板部５６２は、長尺状部５６１に一体成形されて接続されており、長尺状部５６１の長手方向の一端寄りの部分と他端寄りの部分とにそれぞれ存在している。即ち、ラッチカセット部５６は、一の外装部品壁部を構成する長尺状部５６１と、長尺状部５６１に対して所定の角度（直角）で交差する位置関係を有して長尺状部５６１に接続された側板部５６２とを有する。このため、ラッチカセット部５６を成形した後に、内部応力によりラッチカセット部５６において寸法上の歪みが生ずることが抑えられる。
【００５４】
側板連結部５６３は、長尺状部５６１及び側板部５６２に一体成形されて接続されており、長尺状部５６１の長手方向の一端寄りの部分と他端寄りの部分とにそれぞれ存在する側板部５６２を連結する。長尺状部５６１の中央部と、側板部５６２の端部と、側板連結部５６３とによって、図４に示すように、ラッチ回転部材５５は、回転可能に支持されている。
【００５５】
また、ラッチカセット部５６の寸法は、蓋体本体３２の外面の寸法と比較して小さい。より具体的には、ラッチカセット部５６は、図１に示すように、蓋体外面３１に沿った方向（上下方向Ｄ２及び左右方向Ｄ３に平行な方向）において、ラッチカセット部５６が装着される蓋体外面３１からはみ出さずに、ラッチカセット部５６が装着される蓋体外面３１の範囲に収まる大きさを有する。
【００５６】
ラッチカセット部５６は、ＰＢＴ（ポリブチレンテレフタレート）により一体成形されており、アニール処理が施されている。アニール処理の条件は、温度が８０℃〜２００℃であればよく、時間は３０分〜１２時間程度であり、本実施形態では、温度が１００℃で時間は２時間である。
【００５７】
図１０に示すように、ラッチカセット部５７は、一対の側板部５７１と、一端部側連結板５７２と、他端部側連結板５７３とを有する。一対の側板部５７１は、それぞれ略長方形状の板状を有しており、互いに平行な位置関係を有する。一端部側連結板５７２は、一対の側板部５７１に直交する位置関係で一対の側板部５７１に一体成形されて接続されており、一対の側板部５７１の一端部を連結する。また、他端部側連結板５７３は、一対の側板部５７１に直交する位置関係で一対の側板部５７１に一体成形されて接続されており、一対の側板部５７１の他端部を連結する。
【００５８】
即ち、ラッチカセット部５７は、一の外装部品壁部を構成する側板部５７１と、側板部５７１に対して所定の角度（直角）で交差する位置関係を有して側板部５７１に接続された一端部側連結板５７２及び他端部側連結板５７３とを有する。このため、ラッチカセット部５７を成形した後に、内部応力によりラッチカセット部５７において寸法上の歪みが生ずることが抑えられる。ラッチカセット部５７は、ラッチカセット部５６の長尺状部５６１の長手方向における両端部に接続されて、ラッチカセット５４を構成する。
【００５９】
また、ラッチカセット部５７の寸法は、蓋体外面３１の寸法と比較して小さい。より具体的には、ラッチカセット部５７は、蓋体外面３１に沿った方向（上下方向Ｄ２及び左右方向Ｄ３に平行な方向）において、ラッチカセット部５７が装着される蓋体外面３１からはみ出さずに、ラッチカセット部５７が装着される蓋体外面３１の範囲に収まる大きさを有する。
【００６０】
ラッチカセット部５７は、ＰＢＴ（ポリブチレンテレフタレート）により一体成形されており、アニール処理が施されている。アニール処理の条件は、温度が８０℃〜２００℃で、時間は３０分〜１２時間程度であればよく、本実施形態では、温度が１００℃で時間は２時間である。
【００６１】
上述のようなラッチカセット５４において、ラッチ回転部材５５を蓋体３の前方向Ｄ１１から操作することにより、上側ラッチ部５８、下側ラッチ部５９を蓋体３の上辺、下辺から突出させることができ、また、上辺、下辺から突出しない状態とさせることができる。上側ラッチ部５８が蓋体３の上辺から上方向Ｄ２１へ突出して、容器本体２のラッチ係合凹部２３１Ａ、２３１Ｂに係合し、且つ、下側ラッチ部５９が蓋体３の下辺から下方向Ｄ２２へ突出して、容器本体２のラッチ係合凹部２４１Ａ、２４１Ｂに係合することにより、蓋体３は、容器本体２の開口周縁部２８に固定される。
【００６２】
蓋体３の内側（蓋体内面）においては、蓋体本体３２には、基板収納空間の外方へ窪んだ凹部（図示せず）が形成されている。凹部（図示せず）には、内装部品を構成するフロントリテーナ（図示せず）が固定されて設けられている。
【００６３】
フロントリテーナは、フロントリテーナ基板受け部（図示せず）を有している。フロントリテーナ基板受け部は、左右方向Ｄ３に所定の間隔で離間して対をなすようにして２つずつ配置されている。このように対をなすようにして２つずつ配置されたフロントリテーナ基板受け部は、上下方向Ｄ２に２５対並列した状態で設けられている。基板収納空間内に基板が収納され、蓋体３が閉じられることにより、フロントリテーナ基板受け部は、基板の縁部の端縁を挟持して支持する。
【００６４】
次に、上述の外装部品５のアウトガス量の比較を行う試験を行った。試験は、外装部品５を構成するラッチカセット部５６、ラッチカセット部５７、位置決め部材５１、センシング部材５３、ラッチ回転部材５５、識別部材５２をそれぞれ部品１〜部品６として、これらを３ｍｍ〜４ｍｍ角に裁断したものと、これらをアニール処理する前のものを３ｍｍ〜４ｍｍ角に裁断したものと、を別個に用意した。そしてこれらを別個にガラスチューブに入れ、個別に加熱脱着ＧＣ−ＭＳ装置において不活性ガス流通下で加熱し、ヘッドスペース法の一種である、ダイナミックヘッドスペース（ＤＨＳ）法により測定した。ヘッドスペース法は、試料中のガスを試料上方の気相に分配させ、試料と気相間が平衡状態に達した後、気相を捕集、分析する手法であり、ＤＨＳ法は、気相に連続的に不活性ガスを流通させることにより、試料中から連続してガスが分配され、試料内部のガスの排出を促進させ、捕集、濃縮、分析する手法である。ここで試料とは、本試験においては部品１〜部品６が３ｍｍ〜４ｍｍ角に裁断されたものを意味する。部品１〜部品６それぞれについての測定結果と、アニール処理が施されていない部品１〜部品６それぞれについての測定結果と、を比較することにより、アニール処理による各部品における単位重量あたりのアウトガスの低減率を求めた。ここで、「アウトガス」とは、塩素等の特定の種類の気体のみを意味するのではなく、部品１〜部品６のうちの一の部品から排出される全ての種類の気体を意味する。
【００６５】
加熱脱着ＧＣ−ＭＳ装置による加熱条件は、ＰＢＴ製又はＰＯＭ製の部品１〜部品５については、１００℃で１時間であり、ＰＰ製の部品６については、８０℃で１時間である。この加熱条件により、上記ＤＨＳ法にて、部品１〜部品６を構成する樹脂（ＰＢＴ、ＰＯＭ、ＰＰ）が含有するガスを、外装部品５が実際に容器本体２に装着されている状態よりも排出促進させることができる。試験結果は表１に示すとおりである。
【００６６】
【表１】
2015025410.tif 000003
【００６７】
表１に示すように、アニール処理前の外装部品５（部品１〜部品６）に対するアニール処理後の外装部品５（部品１〜部品６）の、外装部品５（部品１〜部品６）から排出されるアウトガスの低減率は、外装部品５の単位重量あたり２０％以上であることが分かる。その中でも、部品６においては、特にアウトガス低減率が大きく、その値は、６１％にまで至ることが分かる。この結果、アニール処理された外装部品は、アウトガスの排出量が少なくなっており、蓋体３によって閉塞された容器本体２に収容された基板に対するアウトガスの影響を低減することができることが分かる。
【００６８】
上記構成の実施形態に係る基板収納容器１によれば、以下のような効果を得ることができる。
【００６９】
半導体ウェーハからなる基板を収納して、全体が密閉された容器収容袋に収容された状態で輸送される基板収納容器１は、複数の基板を収納可能な基板収納空間を形成する本体内面と、基板収納空間に連通する容器本体開口部２１が形成された開口周縁部２８と、を有する容器本体２と、蓋体内面と蓋体外面３１とを有する蓋体本体３２を備え、開口周縁部２８に対して着脱可能であり容器本体開口部２１を閉塞可能であり、容器本体開口部２１を閉塞しているときに、蓋体内面が本体内面と共に基板収納空間を形成する蓋体３と、本体内面以外の容器本体２の部分、蓋体内面以外の蓋体本体３２の部分、のうちの少なくとも１つに装着された樹脂製の外装部品５と、を備え、外装部品５には、アニール処理が施されている。
【００７０】
外装部品５は、基板を支持することは行わない。また、外装部品５は、外装部品５の内部応力により寸法上の歪みが外装部品５に生ずることをある程度抑える形状や大きさを有している。このため、通常、外装部品５には、それほど高い寸法精度は要求されず、外装部品５に対して、敢えて外装部品５を製造する工程を複雑にしてまで、アニール処理を施す必然性はない。しかし、本願の発明者は、これに反してアニール処理を施すことにより、閉塞された基板収納容器１の基板収納空間内に収納されている基板に対して、容器本体２の外部に装着されている外装部品５から発生するアウトガスによる影響を低減することを考えるに至った。上記構成により、外装部品５の寸法精度を、より高めることができるのみならず、アウトガスの発生量の少ない外装部品５とすることができる。
【００７１】
全体が密閉された２重の容器収容袋（梱包袋）に基板収納容器１が収容されて航空機輸送が行われる際には、上空では気圧が下がるため、基板収納容器１内の空気は、蓋体３に設けられた呼吸弁３９（図１）を通って、基板収納容器１外であって２重の容器収容袋内に出ることが考えられる。その後、地上に着陸すると、気圧が上がり、基板収納容器１外であって２重の容器収容袋内の空気は、呼吸弁３９を通って、基板収納容器１内に戻ることが考えられる。その際に、外装部品５に触れた空気が呼吸弁３９を通り、基板収納容器１内に戻ることが考えられる。しかし、前述のように、外装部品５はアニール処理されているため、基板収納容器１内の基板に対するアウトガスの影響を減らすことが出来る。
【００７２】
また、外装部品５は、奥壁２２の外面、上壁２３の外面、下壁２４の外面、側壁２５、２６の外面、及び、蓋体外面３１のうちの外装部品５が装着される外面又は蓋体外面３１に沿った方向において、外装部品５が装着される外面又は蓋体外面３１からはみ出さずに、外装部品５が装着される外面又は蓋体外面３１の範囲に収まる大きさを有する。また、外装部品５は、一の外装部品壁部と、一の外装部品壁部に対して所定の角度で交差する位置関係を有して一の外装部品壁部に接続された他の外装部品壁部と、を有する。
【００７３】
これらの構成により、外装部品５を、外装部品５の内部応力により寸法上の歪みが外装部品５に生ずることが抑えられた形状とすることができる。このため、アニール処理を施さなくても所定の寸法精度を得ることができる外装部品５とすることができる。この結果、アニール処理を外装部品５に施すことで、外装部品５の寸法精度を極めて高くすることができるのみならず、アウトガスの発生を抑えた外装部品５とすることができる。
【００７４】
また、容器本体２は、ポリカーボネートにより構成されている。また、蓋体本体３２は、ポリカーボネートにより構成されている。これらの構成により、容器本体２や蓋体本体３２を、内部応力により寸法上の歪みが生じにくい構成とすることができる。このため、外装部品５を容器本体２や蓋体本体３２に固定して装着することで、アニール処理が施されていない外装部品５であっても、所定の寸法精度を得ることができる。この結果、アニール処理を外装部品５に施すことで、外装部品５の寸法精度を極めて高くすることができるのみならず、アウトガスの発生を抑えた外装部品５とすることができる。
【００７５】
また、外装部品５は、ポリブチレンテレフタレート、ポリアセタール、ポリプロピレンのいずれかにより構成されている。また、ポリブチレンテレフタレート又はポリアセタールにより構成されているアニール処理前の外装部品５を、所定の寸法である３ｍｍ〜４ｍｍ角に裁断して加熱脱着ＧＣ−ＭＳ装置において１００℃で１時間加熱してＤＨＳ法により得られるアウトガスの量と、ポリブチレンテレフタレート又はポリアセタールにより構成されているアニール処理後の外装部品５を、所定の寸法である３ｍｍ〜４ｍｍ角に裁断して加熱脱着ＧＣ−ＭＳ装置において１００℃で１時間加熱してＤＨＳ法により得られるアウトガスの量と、から得られる、外装部品５の単位重量あたりのアウトガスの低減率の値は、２０％以上である。又は、ポリプロピレンにより構成されているアニール処理前の外装部品５を、所定の寸法である３ｍｍ〜４ｍｍ角に裁断して加熱脱着ＧＣ−ＭＳ装置において８０℃で１時間加熱してＤＨＳ法により得られるアウトガスの量と、ポリプロピレンにより構成されているアニール処理後の外装部品５を、所定の寸法である３ｍｍ〜４ｍｍ角に裁断して加熱脱着ＧＣ−ＭＳ装置において８０℃で１時間加熱してＤＨＳ法により得られるアウトガスの量と、から得られる、外装部品５の単位重量あたりのアウトガスの低減率の値は、２０％以上である。このため、アウトガスを発生しやすい外装部品５をアニール処理することにより、アウトガスの発生量の少ない外装部品（低アウトガス外装部品）とすることができる。
【００７６】
本発明は、上述した実施形態に限定されることはなく、特許請求の範囲に記載された技術的範囲において変形が可能である。例えば、基板収納容器１の材料や形状や構成は、上述した実施形態の形状や構成に限定されない。例えば、容器本体２、蓋体本体３２は、ポリカーボネート製に限定されない。容器本体、蓋体本体は、ポリカーボネートに代えて、シクロオレフィンポリマー、液晶ポリマーのうちのいずれかにより構成されてもよい。そして、このような材料により構成された容器本体、蓋体本体に対して、ポリブチレンテレフタレート、ポリアセタール、ポリプロピレンのいずれかにより構成された外装部品が装着されていればよい。
【符号の説明】
【００７７】
１  基板収納容器
２  容器本体
３  蓋体
５  外装部品
２１  容器本体開口部
２２  奥壁
２４  下壁
２８  開口周縁部
３１  蓋体外面
３２  蓋体本体
２２１、２４１  外面
５１１Ａ  一方の壁状部（一の外装部品壁部）
５１１Ｂ  他方の壁状部（他の外装部品壁部）
５２１  後壁（一の外装部品壁部）
５２２  底部識別部（他の外装部品壁部）
５２５Ａ  平面状の部分（一の外装部品壁部）
５２５Ｂ  縁部壁部（他の外装部品壁部）
５３１  側壁（他の外装部品壁部）
５３１Ａ  壁部（一の外装部品壁部）
５５１  回転部材平板部（一の外装部品壁部）
５５２  回転部材周縁壁（他の外装部品壁部）
５６１  長尺状部（一の外装部品壁部）
５６２  側板部（他の外装部品壁部）
５７１  側板部（一の外装部品壁部）
５７２  一端部側連結板（他の外装部品壁部）
５７３  他端部側連結板（他の外装部品壁部）
【図１】
2015025410.tif 000004
【図２】
2015025410.tif 000005
【図３】
2015025410.tif 000006
【図４】
2015025410.tif 000007
【図５】
2015025410.tif 000008
【図６】
2015025410.tif 000009
【図７】
2015025410.tif 000010
【図８】
2015025410.tif 000011
【図９】
2015025410.tif 000012
【図１０】
2015025410.tif 000013
【手続補正書】
【提出日】平成26年10月14日(2014.10.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体ウェーハからなる基板を収納して、全体が密閉された容器収容袋に収容された状態で輸送される基板収納容器であって、
複数の基板を収納可能な基板収納空間を形成する本体内面と、前記基板収納空間に連通する容器本体開口部が形成された開口周縁部と、を有する容器本体と、
蓋体内面と蓋体外面とを有する蓋体本体を備え、前記開口周縁部に対して着脱可能であり前記容器本体開口部を閉塞可能であり、前記容器本体開口部を閉塞しているときに、前記蓋体内面が前記本体内面と共に前記基板収納空間を形成する蓋体と、
前記本体内面以外の前記容器本体の部分、前記蓋体内面以外の前記蓋体本体の部分、のうちの少なくとも１つに装着された樹脂製の外装部品と、
基板収納容器外の気圧が基板収納容器内の気圧に対して下がったり上がったりしたときに、基板収納容器内の空気が基板収納容器外へ出たり基板収納容器内へ戻ったりすることを許容する呼吸弁と、を備え、
密閉された前記容器収容袋の外部の気圧が下がることで、前記基板収納空間の空気が前記呼吸弁を通して、基板収納容器の外部で且つ前記容器収容袋の内部の空間に出て、前記外装部品に触れ、密閉された前記容器収容袋の外部の気圧が上がることで、前記外装部品に触れた空気が前記呼吸弁を通して前記基板収納空間に戻り、
前記外装部品には、アニール処理が施されている基板収納容器。
【請求項２】
前記容器本体は、一端部に容器本体開口部が形成され他端部が閉塞された筒状の壁部であって、奥壁、上壁、下壁、及び一対の側壁を有し前記上壁の一端部、前記下壁の一端部、及び前記側壁の一端部によって前記容器本体開口部が形成された壁部を備え、
前記上壁の内面、前記下壁の内面、前記側壁の内面、及び前記奥壁の内面は、本体内面を構成し、
前記外装部品は、前記奥壁の外面、前記上壁の外面、前記下壁の外面、前記側壁の外面、及び、前記蓋体外面のうちの前記外装部品が装着される前記外面又は前記蓋体外面に沿った方向において、前記外装部品が装着される前記外面又は前記蓋体外面からはみ出さずに、前記外装部品が装着される前記外面又は前記蓋体外面の範囲に収まる大きさを有する請求項１に記載の基板収納容器。
【請求項３】
前記外装部品は、一の外装部品壁部と、前記一の外装部品壁部に対して所定の角度で交差する位置関係を有して前記一の外装部品壁部に接続された他の外装部品壁部と、を有する請求項１又は請求項２に記載の基板収納容器。
【請求項４】
前記外装部品は、ポリブチレンテレフタレート、ポリアセタール、ポリプロピレンのいずれかにより構成されている請求項１〜請求項３のいずれかに記載の基板収納容器。
【請求項５】
ポリブチレンテレフタレート又はポリアセタールにより構成されている前記アニール処理前の前記外装部品を、所定の寸法に裁断して加熱脱着ＧＣ−ＭＳ装置において１００℃で１時間加熱してＤＨＳ法により得られるアウトガスの量と、ポリブチレンテレフタレート又はポリアセタールにより構成されている前記アニール処理後の前記外装部品を、前記所定の寸法に裁断して加熱脱着ＧＣ−ＭＳ装置において１００℃で１時間加熱してＤＨＳ法により得られるアウトガスの量と、から得られる、前記外装部品の単位重量あたりのアウトガスの低減率の値は、２０％以上である請求項１〜請求項４のいずれかに記載の基板収納容器。
【請求項６】
ポリプロピレンにより構成されている前記アニール処理前の前記外装部品を、所定の寸法に裁断して加熱脱着ＧＣ−ＭＳ装置において８０℃で１時間加熱してＤＨＳ法により得られるアウトガスの量と、ポリプロピレンにより構成されている前記アニール処理後の前記外装部品を、前記所定の寸法に裁断して加熱脱着ＧＣ−ＭＳ装置において８０℃で１時間加熱してＤＨＳ法により得られるアウトガスの量と、から得られる、前記外装部品の単位重量あたりのアウトガスの低減率の値は、２０％以上である請求項１〜請求項４のいずれかに記載の基板収納容器。
【手続補正書】
【提出日】平成27年12月22日(2015.12.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体ウェーハからなる基板を収納して、全体が密閉された容器収容袋に収容された状態で輸送される基板収納容器であって、
複数の基板を収納可能な基板収納空間を形成する本体内面と、前記基板収納空間に連通する容器本体開口部が形成された開口周縁部と、を有する容器本体と、
蓋体内面と蓋体外面とを有する蓋体本体を備え、前記開口周縁部に対して着脱可能であり前記容器本体開口部を閉塞可能であり、前記容器本体開口部を閉塞しているときに、前記蓋体内面が前記本体内面と共に前記基板収納空間を形成する蓋体と、
前記本体内面以外の前記容器本体の部分、前記蓋体内面以外の前記蓋体本体の部分、のうちの少なくとも１つに装着された樹脂製の外装部品と、
基板収納容器外の気圧が基板収納容器内の気圧に対して下がったり上がったりしたときに、基板収納容器内の空気が基板収納容器外へ出たり基板収納容器内へ戻ったりすることを許容する呼吸弁と、を備え、
密閉された前記容器収容袋の外部の気圧が下がることで、前記基板収納空間の空気が前記呼吸弁を通して、基板収納容器の外部で且つ前記容器収容袋の内部の空間に出て、前記外装部品に触れ、密閉された前記容器収容袋の外部の気圧が上がることで、前記外装部品に触れた空気が前記呼吸弁を通して前記基板収納空間に戻り、
前記外装部品には、アニール処理が施されている基板収納容器。
【請求項２】
前記容器本体は、一端部に容器本体開口部が形成され他端部が閉塞された筒状の壁部であって、奥壁、上壁、下壁、及び一対の側壁を有し前記上壁の一端部、前記下壁の一端部、及び前記側壁の一端部によって前記容器本体開口部が形成された壁部を備え、
前記上壁の内面、前記下壁の内面、前記側壁の内面、及び前記奥壁の内面は、本体内面を構成し、
前記外装部品は、前記奥壁の外面、前記上壁の外面、前記下壁の外面、前記側壁の外面、及び、前記蓋体外面のうちの前記外装部品が装着される前記外面又は前記蓋体外面に沿った方向において、前記外装部品が装着される前記外面又は前記蓋体外面からはみ出さずに、前記外装部品が装着される前記外面又は前記蓋体外面の範囲に収まる大きさを有する請求項１に記載の基板収納容器。
【請求項３】
前記外装部品は、一の外装部品壁部と、前記一の外装部品壁部に対して所定の角度で交差する位置関係を有して前記一の外装部品壁部に接続された他の外装部品壁部と、を有する請求項１又は請求項２に記載の基板収納容器。
【請求項４】
前記外装部品は、ポリブチレンテレフタレート、ポリアセタール、ポリプロピレンのいずれかにより構成されている請求項１〜請求項３のいずれかに記載の基板収納容器。
【請求項５】
ポリブチレンテレフタレート又はポリアセタールにより構成されている前記アニール処理前の前記外装部品を、所定の寸法に裁断して加熱脱着ＧＣ−ＭＳ装置において１００℃で１時間加熱してＤＨＳ法により得られるアウトガスの量と、ポリブチレンテレフタレート又はポリアセタールにより構成されている前記アニール処理後の前記外装部品を、前記所定の寸法に裁断して加熱脱着ＧＣ−ＭＳ装置において１００℃で１時間加熱してＤＨＳ法により得られるアウトガスの量と、から得られる、前記外装部品の単位重量あたりのアウトガスの低減率の値は、２０％以上である請求項１〜請求項４のいずれかに記載の基板収納容器。
【請求項６】
ポリプロピレンにより構成されている前記アニール処理前の前記外装部品を、所定の寸法に裁断して加熱脱着ＧＣ−ＭＳ装置において８０℃で１時間加熱してＤＨＳ法により得られるアウトガスの量と、ポリプロピレンにより構成されている前記アニール処理後の前記外装部品を、前記所定の寸法に裁断して加熱脱着ＧＣ−ＭＳ装置において８０℃で１時間加熱してＤＨＳ法により得られるアウトガスの量と、から得られる、前記外装部品の単位重量あたりのアウトガスの低減率の値は、２０％以上である請求項１〜請求項４のいずれかに記載の基板収納容器。
【国際調査報告】
2015025410.tif 000014
2015025410.tif 000015