【事件の表示】
　特願２００２−１０８５２９「マスク、光反射膜付き基板、表示装置の製造方法、および表示装置、並びに電子機器」拒絶査定不服審判事件〔平成１５年１０月２４日出願公開、特開２００３−３０２７４２〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、平成１４年４月１０日の出願であって、平成１６年１０月２５日付けで手続補正がなされた後、平成１７年６月２日付けで拒絶査定がなされ、これに対して、平成１７年７月６日に拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに、平成１７年８月４日付けで手続補正がなされたものである。
　
２．平成１７年８月４日付けの手続補正（以下、「本件補正」という。）について
［補正却下の決定の結論］
　平成１７年８月４日付けの手続補正を却下する。
　
［理由］
（１）補正後の本願発明
　本件補正により、補正後の特許請求の範囲の請求項４に係る発明は、
「基材と、反射層とを含む光反射膜付き基板であって、１００〜２，０００ドットを一単位として、正方形パターン及び六角形パターンを有する凸部又は凹部を平面方向の横一列方向又は縦一列方向の領域全体においてランダムに配列した帯状のランダムパターンを有し、当該帯状のランダムパターンが複数列において繰り返されてなることを特徴とする光反射膜付き基板。」
と補正された。（以下、この発明を「本願補正発明」という。）
　前記補正は、請求項４に記載した発明を特定するために必要な事項である「凸部又は凹部」について「正方形パターン及び六角形パターンを有する」との限定を付加するものであって、特許法第１７条の２第４項第２号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　そこで、本願補正発明が、特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるかについて検討する。
　
（２）引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された特開２００１−２０１７４２号公報（以下、「引用例」という。）には、以下の事項が記載されている。
　反射型液晶表示装置及びその製造方法に関するもので、
ア．【００１５】欄
「【発明の目的】本発明の目的は、反射電極の凹凸構造のベースとなる凸部の剥れを防止することにより、所望の凹凸構造を有する反射電極を形成でき、これにより高輝度及び高品位表示性能を達成した反射型液晶表示装置及びその製造方法を提供することにある。」
　
イ．【００１６】欄
「【課題を解決するための手段】本発明に係る反射型液晶表示装置は、透明な第一の基板と、この第一の基板上に設けられた透明電極と、第二の基板と、この第二の基板上に設けられるとともに表面に凹凸構造が形成された絶縁膜と、この絶縁膜上に前記凹凸構造を反映させた形状で設けられた反射電極と、前記第一の基板の前記透明電極側と前記第二の基板の前記反射電極側とで挟み込まれた液晶層とを備えたものである。そして、前記絶縁膜は、周囲を凸部によって囲まれて孤立した多数の凹部が不規則に配置された第一の絶縁層と、この第一の絶縁層の全体を覆う第二の絶縁層とを備えている。ここで、凹部とは、実質的に膜厚の無い部分であり、開口部、貫通孔等と言い換えることができる。」
　
ウ．【００２０】欄
「また、前記凹凸構造は、１画素単位又は２以上の画素単位の不規則な凹凸形状が反射電極全領域で繰り返し形成されたものでもよい。これにより、反射特性の干渉現象を抑制することができるため、この反射電極を用いて作成した反射型液晶表示装置は、光源による波長依存性もなく、色特性の劣化もない、明るく高品位な表示性能が得られる。」
　
エ．【００３１】欄〜【００３４】欄
「【発明の実施の形態】
　図１は、本発明に係る反射型液晶表示装置の第一実施形態を示す断面図である。以下、この図面に基づき説明する。
　本実施形態の反射型液晶表示装置は、透明な第一の基板としてのガラス基板５８１と、ガラス基板５８１上に設けられた透明電極６０と、第二の基板としてのガラス基板５８２と、ガラス基板５８２上に設けられるとともに表面に凹凸構造５０が形成された絶縁膜４４と、絶縁膜４４上に凹凸構造５０を反映させた形状で設けられた反射電極５１と、ガラス基板５８１の透明電極６０側とガラス基板５８２の反射電極５１側とで挟み込まれた液晶層６１とを備えたものである。そして、絶縁膜４４は、周囲を凸部４７によって囲まれて孤立した多数の凹部４６が不規則に配置された第一の絶縁層４５と、絶縁層４５の全体を覆う第二の絶縁層４９とを備えている。
　凸部４７は、全体が網状に繋がっている。そのため、全体の凸部４７のうちの一部分において下地との密着力が弱まっても、その部分は周囲の凸部４７によって支持される。したがって、凸部４７の剥れが防止される。
　本実施形態では、互いに対向する下部側基板７と対向側基板１との間に、液晶層６１が設けられている。下部側基板７は、ガラス基板５８２上に形成されたスイッチング素子としての逆スタガー構造の薄膜トランジスタ４０と、表面に凹凸構造５０を有する絶縁膜４４と、絶縁膜４４上を覆うように形成された高反射効率金属からなる反射電極５１とを有する。」
　
オ．【００４５】欄、【００４６】欄
「図２は本実施形態の反射型液晶表示装置における一画素分の第一の絶縁層を示す平面図であり、図２［１］が第一例、図２［２］が第二例である。以下、この図面に基づき説明する。
　図２［１］の第一例では、周囲を凸部４７１によって囲まれて孤立した多数の凹部４６１が、不規則に配置されている。凹部４６１は、四角状に窪んでいる。」
　
カ．【００４８】欄〜【００５０】欄
「図３は、本発明に係る反射型液晶表示装置の第二実施形態を示す説明図である。以下、この図面に基づき説明する。
　本実施形態における凹凸パターンは、反射型液晶表示装置の１画素単位以上の範囲で不規則であればよく、例えばＲＧＢ又はＲＧＧＢ等の３画素単位又は４画素単位の領域で不規則でもよい。更に、それ以上の画素数の領域で不規則な凹凸パターン６５とし、これを繰り返して、パネル表示部全面に位置する反射板領域へ凹凸を構成してもよい。この場合、反射板パネル全面を完全な不規則パターンで形成した場合と同様の明るい反射板を得ることができる。
　図３［ａ］は、１画素単位で全面表示領域に不規則配置パターンを繰り返した例である。図３［ｂ］は、２画素以上の単位で全面表示領域に不規則配置パターンを繰り返した例である。図３［ｂ］の方が、不規則配置パターンを効率良く繰り返すことができるので、より望ましい。」
　
　したがって、前記ア．〜カ．の記載事項によると、引用例には、図面を含めて、「表面に凹凸構造５０を有する絶縁膜４４と、絶縁膜４４上を覆うように形成された高反射効率金属からなる反射電極５１とを有する下部側基板７であって、前記凹凸構造５０のうちの多数の凹部４６１は、四角状に窪んでおり、その凹凸パターンは、ＲＧＢ又はＲＧＧＢ等の３画素単位又は４画素単位の領域、更に、それ以上の画素数の領域で不規則な凹凸パターン６５とし、これを繰り返して、パネル表示部全面に位置する反射板領域へ凹凸を構成した前記下部側基板７。」の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されているといえる。
　　
（３）対比
　本願補正発明と引用発明とを対比する。
ア．引用発明の「表面に凹凸構造５０を有する絶縁膜４４」は本願補正発明の「基材」に相当し、以下同様に、「高反射効率金属からなる反射電極５１」は「反射層」に、「有する」は「含む」に、「下部側基板７」は「光反射膜付き基板」に、それぞれ相当する。
イ．引用発明の「凹部４６１は、四角状に窪んでおり、その凹凸パターンは」と本願補正発明の「正方形パターン及び六角形パターンを有する凸部又は凹部」とは、四角形パターンを有する凸部又は凹部の点で共通する。
ウ．引用発明の「不規則な凹凸パターン６５」は本願補正発明の「ランダムパターン」に相当し、本願補正発明の「１００〜２，０００ドットを一単位として」は「ランダムパターン」についての規定であるので、引用発明の「３画素単位又は４画素単位の領域、更に、それ以上の画素数の領域で不規則な凹凸パターン６５」と本願補正発明の「１００〜２，０００ドットを一単位」とは、ランダムパターンの一単位である点で共通する。
　
　よって、両者は、「基材と、反射層とを含む光反射膜付き基板であって、四角形パターンを有する凸部又は凹部をランダムに配列したランダムパターンの一単位が繰り返されてなる光反射膜付き基板。」である点で一致し、以下の各点で相違する。
　
［相違点１］
　ランダムパターンの一単位が、本願補正発明は、１００〜２，０００ドットであるのに対して、引用発明は、３画素単位又は４画素単位の領域、更に、それ以上の画素数の領域である点。
［相違点２］
　本願補正発明は、凸部又は凹部を平面方向の横一列方向又は縦一列方向の領域全体においてランダムに配列した帯状のランダムパターンを有し、当該帯状のランダムパターンが複数列において繰り返されてなるのに対して、引用発明は、そのようなものではない点。
［相違点３］
　凸部又は凹部が有する四角形パターンが、本願補正発明は、正方形パターン及び六角形パターンであるのに対して、引用発明は、四角形パターンである点。
　
（４）当審の判断
　前記相違点１乃至３について検討する。
　
ア．請求項４の記載からみて、相違点１乃至３に係る本願補正発明の発明特定事項と、本願補正発明の反射膜付き基板における基材、反射層、又は基板との関係が規定されていないので、本願補正発明の「１００〜２，０００ドットを一単位として、正方形パターン及び六角形パターンを有する凸部又は凹部を平面方向の横一列方向又は縦一列方向の領域全体においてランダムに配列した帯状のランダムパターンを有し、当該帯状のランダムパターンが複数列において繰り返されてなる」との発明特定事項は、格別なものとはいえない。
　
イ．上記「ア．」において検討した発明特定事項の凸部又は凹部が、出願当初の請求項６に記載された「基材の表面に形成された複数の凸部又は凹部」を意味するものと仮定して、念のため以下に検討する。
（ア）相違点１について
　本願補正発明の光反射膜付き基板と引用発明の該基板とは、干渉縞の発生を抑制するものである点で目的が一致するものである。
　また、引用発明の「凹凸パターンは、ＲＧＢ又はＲＧＧＢ等の３画素単位又は４画素単位の領域、更に、それ以上の画素数の領域で不規則な凹凸パターン６５」において、「凹」又は「凸」は本願補正発明のドットに相当するので、「３画素単位又は４画素単位の領域、更に、それ以上の画素数の領域で不規則な凹凸パターン６５」は、ＲＧＢの複数画素領域を一単位として複数のドットが設けられていることを意味することは明らかである。
　
　してみると、両者ともＲＧＢドット数を一単位とするものであり（本願明細書の【００３５】欄、引用発明の記載事項カ．参照）、ランダムパターンの一単位をいかなるドット数とするかは、干渉縞発生抑制の観点などを考慮して当業者が適宜定め得ることである。
　したがって、該ドット数の実用的な上限値、下限値の範囲を定めることは当業者が容易になし得ることであり、１００〜２，０００ドットを一単位とすることに格別の困難性はない。
　よって、本願補正発明の相違点１に係る発明特定事項は、引用例に記載された発明に基づいて当業者が容易に想到し得たものである。
　
（イ）相違点２について
　引用発明は、凹凸構造５０のうちの凹部４６１を、例えばＲＧＢ又はＲＧＧＢ等の３画素単位又は４画素単位など２画素以上の単位で全面表示領域に不規則配置パターン（ランダムパターン）を繰り返してなるものであるから、前記３画素単位又は４画素単位の単位を、更に繰り返しの単位数が増加するように、本願補正発明のように、凸部又は凹部を平面方向の横一列方向又は縦一列方向の領域全体においてランダムに配列した帯状のランダムパターンを有し、当該帯状のランダムパターンが複数列において繰り返されてなるものとすることは、当業者にとって格別の困難性はない。
　よって、本願補正発明の相違点２に係る発明特定事項は、引用例に記載された発明に基づいて当業者が容易に想到し得たものである。
　　
（ウ）相違点３について
　基材と反射層とを含む光反射膜付き基板において、干渉縞の発生を抑制するために、多数のスポット配置のランダムパターンの形状を、四角形のみならず六角形などの多角形とすることは、本願出願前周知の技術である。（特開２０００−２２１４９４号公報の図１〜図３及び【００２１】欄、特開２００１−８３５３８号公報の図１〜図５及び【００１９】欄参照。）
　また、液晶表示装置の基材と反射層とを含む光反射膜付き基板において、散乱性を高めるために設けられる凹凸部として、四角形、六角形、あるいはこれらを組み合わせたものを用いることは、本願出願前周知の技術である（特開２０００−２８７５号公報の【００１５】、【００１７】、【００３３】欄参照）。
　してみると、引用発明の凹凸パターンを、四角形のみからなるパターンに換えて六角形パターンをも包含するパターンである、正方形パターン及び六角形パターンとすることは、当業者が容易になし得ることである。
　よって、相違点３に係る本願補正発明の発明特定事項は、引用発明及び前記周知技術に基づいて当業者が容易に想到し得るものである。
　そして、本願補正発明の作用・効果も、引用発明及び前記周知技術から予測される範囲内のもので、格別のものではない。
　
　よって、本願補正発明は、引用発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
（５）むすび
　以上のとおり、本件補正は、特許法第１７条の２第５項で準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するものであり、特許法第１５９条第１項で準用する同法第５３条第１項の規定により却下されるべきものである。
　
３．本願発明について
　平成１７年８月４日付けの手続補正は前記のとおり却下されたので、本願の請求項４に係る発明は、平成１６年１０月２５日付けの手続補正書によって補正された明細書及び図面の記載からみて、その請求項４に記載された事項により特定される、以下のとおりのものである。（以下、同項記載の発明を「本願発明」という。）
「基材と、反射層とを含む光反射膜付き基板であって、１００〜２，０００ドットを一単位として、凸部又は凹部を平面方向の横一列方向又は縦一列方向の領域全体においてランダムに配列した帯状の前記ランダムパターンを有し、当該帯状のランダムパターンが複数列において繰り返されてなることを特徴とする光反射膜付き基板。」
　なお、請求項４に記載された「前記凸部又は凹部」は、「凸部又は凹部」の誤記と認められる。
　
（１）引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された引用例の記載事項は、前記「２．（２）」に記載したとおりである。
　　
（２）対比・判断
　本願発明は、前記２．項で検討した本願補正発明から、「凸部又は凹部」について「正方形パターン及び六角形パターンを有する」との発明特定事項を省いたものである。
　そうすると、本願発明の発明特定事項を全て含み、上記発明特定事項を付加したものに相当する本願補正発明が、前記「２．（４）」に記載したとおり、引用例に記載された発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、同様の理由により、引用例に記載された発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
（３）むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用例に記載された発明及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。