【事件の表示】
　特願２００４−２４７７７１「リソグラフィック装置及びデバイス製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１７年　３月２４日出願公開、特開２００５−　７９５８９〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本件出願は平成１６年８月２７日（パリ条約による優先権主張　２００３年８月２９日、欧州特許庁）の出願であって、平成１９年８月３１日付けで拒絶理由が通知され、同年１１月２２日付けで意見書及び手続補正書が提出されたが、平成２０年６月１０日付けで拒絶査定がなされたため、これを不服として同年９月９日に本件審判請求がなされるとともに、同年１０月３日付けで特許請求の範囲について手続補正がなされるとともに、同日付けで同年９月９日付けの審判請求書の請求の理由について手続補正がなされ、平成２１年９月４日付けで審尋が通知され、同年１２月３日付けで回答書が提出されたものである。
　
　
第２　補正の却下の決定
　
［補正の却下の決定の結論］
　平成２０年１０月３日付けの特許請求の範囲についての手続補正（以下「本件補正」という。）を却下する。
　
［理由］
１　本件補正の内容
　本件補正は、平成１９年１１月２２日付けの手続補正により補正された特許請求の範囲についての
　
「【請求項１】
　リソグラフィック投影装置であって、
　投影放射ビームを提供するべく構築され、かつ、配列された放射システムと、
　所望のパターンに従って前記投影ビームをパターン化するべく構築され、かつ、配列されたパターン化デバイスを支持するべく構築され、かつ、配列された支持構造と、
　基板を保持するべく構築され、かつ、配列された基板テーブルと、
　パターン化されたビームを前記基板の目標部分に投射するべく構築され、かつ、配列された投影システムと、
　前記投影システムの光学エレメントと前記基板との間に配置された、第３の屈折率を有する透明板と、
　前記基板と前記透明板との間の第１の空間を充填する、第１の屈折率を有する第１の流体と、
　前記透明板と前記光学エレメントとの間の第２の空間を充填する、第２の屈折率を有する第２の流体とを備え、
　前記第１の屈折率は、前記第２の屈折率より大きく、前記第３の屈折率は、前記第１の屈折率と前記第２の屈折率との間である、リソグラフィック投影装置。
　　【請求項２】
　前記第３の屈折率と前記第１の屈折率は、ほぼ等しい、請求項１に記載のリソグラフィック投影装置。
　　【請求項３】
　前記第３の屈折率と前記第２の屈折率は、ほぼ等しい、請求項１に記載のリソグラフィック投影装置。
　　【請求項４】
　前記第１の屈折率と前記基板の屈折率は、ほぼ等しい、請求項１に記載のリソグラフィック投影装置。
　　【請求項５】
　前記第２の屈折率と前記光学エレメントの屈折率は、ほぼ等しい、請求項１に記載のリソグラフィック投影装置。
　　【請求項６】
　前記第１の流体は、過フルオロポリエーテル流体及び水のうちの何れかであり、前記第２の流体は、過フルオロポリエーテル流体及び水のうちの何れかである、請求項１に記載のリソグラフィック投影装置。
　　【請求項７】
　前記第１及び第２の流体は、過フルオロポリエーテル流体である、請求項１に記載のリソグラフィック投影装置。
　　【請求項８】
　前記第１の流体は、前記第１の屈折率を有する第１の気体であり、前記第２の流体は、前記第２の屈折率を有する第２の気体である、請求項１に記載のリソグラフィック投影装置。
　　【請求項９】
　デバイス製造方法であって、
　少なくとも一部が放射線感応材料の層で被覆された基板を提供するステップと、
　パターン化された放射ビームを前記放射線感応材料の層の目標部分に投射するステップと、
　投影システムの光学エレメントと前記基板との間の空間に、それぞれ第１の屈折率及び第２の屈折率を有する第１の流体及び第２の流体を充填するステップと、
　前記第１及び第２の流体を少なくとも１つの透明板で分離するステップと、を含み、
　前記基板と前記透明板との間の第１の空間に前記第１の流体が充填され、前記透明板と前記光学エレメントとの間の第２の空間に前記第２の流体が充填され、前記第１の屈折率は、前記第２の屈折率より大きく、前記透明板は、前記第１の屈折率と前記第２の屈折率との間の第３の屈折率を有する、デバイス製造方法。
　　【請求項１０】
　前記第１の屈折率と前記基板の屈折率は、ほぼ等しい、請求項９に記載のデバイス製造方法。
　　【請求項１１】
　前記第２の屈折率と前記光学エレメントの屈折率は、ほぼ等しい、請求項９に記載のデバイス製造方法。
　　【請求項１２】
　前記第１の流体は、過フルオロポリエーテル流体及び水のうちの何れかであり、前記第２の流体は、過フルオロポリエーテル流体及び水のうちの何れかである、請求項９に記載のデバイス製造方法。
　　【請求項１３】
　前記第１及び第２の流体は、過フルオロポリエーテル流体である、請求項９に記載のデバイス製造方法。
　　【請求項１４】
　前記第３の屈折率と前記第１の屈折率は、ほぼ等しい、請求項９に記載のデバイス製造方法。
　　【請求項１５】
　前記第３の屈折率と前記第２の屈折率は、ほぼ等しい、請求項９に記載のデバイス製造方法。
　　【請求項１６】
　前記第１の流体は、前記第１の屈折率を有する第１の気体であり、前記第２の流体は、前記第２の屈折率を有する第２の気体である、請求項９に記載のデバイス製造方法。」
　
の記載を、
　
「【請求項１】
　リソグラフィック投影装置であって、
　投影放射ビームを提供するべく構築され、かつ、配列された放射システムと、
　所望のパターンに従って前記投影ビームをパターン化するべく構築され、かつ、配列されたパターン化デバイスを支持するべく構築され、かつ、配列された支持構造と、
　基板を保持するべく構築され、かつ、配列された基板テーブルと、
　パターン化されたビームを前記基板の目標部分に投射するべく構築され、かつ、配列された投影システムと、
　前記投影システムの光学エレメントと前記基板との間に配置された、第３の屈折率を有する透明板と、
　前記基板と前記透明板との間の第１の空間を充填する、第１の屈折率を有する第１の気体と、
　前記透明板と前記光学エレメントとの間の第２の空間を充填する、第２の屈折率を有する第２の気体とを備え、
　前記第１の屈折率は、前記第２の屈折率より大きく、前記第３の屈折率は、前記第１の屈折率と前記第２の屈折率との間である、リソグラフィック投影装置。
　　【請求項２】
　前記第３の屈折率と前記第１の屈折率は、ほぼ等しい、請求項１に記載のリソグラフィック投影装置。
　　【請求項３】
　前記第３の屈折率と前記第２の屈折率は、ほぼ等しい、請求項１に記載のリソグラフィック投影装置。
　　【請求項４】
　前記第１の屈折率と前記基板の屈折率は、ほぼ等しい、請求項１に記載のリソグラフィック投影装置。
　　【請求項５】
　前記第２の屈折率と前記光学エレメントの屈折率は、ほぼ等しい、請求項１に記載のリソグラフィック投影装置。
　　【請求項６】
　デバイス製造方法であって、
　少なくとも一部が放射線感応材料の層で被覆された基板を提供するステップと、
　パターン化された放射ビームを前記放射線感応材料の層の目標部分に投射するステップと、
　投影システムの光学エレメントと前記基板との間の空間に、それぞれ第１の屈折率及び第２の屈折率を有する第１の気体及び第２の気体を充填するステップと、
　前記第１及び第２の気体を少なくとも１つの透明板で分離するステップと、を含み、
　前記基板と前記透明板との間の第１の空間に前記第１の気体が充填され、前記透明板と前記光学エレメントとの間の第２の空間に前記第２の気体が充填され、前記第１の屈折率は、前記第２の屈折率より大きく、前記透明板は、前記第１の屈折率と前記第２の屈折率との間の第３の屈折率を有する、デバイス製造方法。
　　【請求項７】
　前記第１の屈折率と前記基板の屈折率は、ほぼ等しい、請求項６に記載のデバイス製造方法。
　　【請求項８】
　前記第２の屈折率と前記光学エレメントの屈折率は、ほぼ等しい、請求項６に記載のデバイス製造方法。
　　【請求項９】
　前記第３の屈折率と前記第１の屈折率は、ほぼ等しい、請求項６に記載のデバイス製造方法。
　　【請求項１０】
　前記第３の屈折率と前記第２の屈折率は、ほぼ等しい、請求項６に記載のデバイス製造方法。」
　
と補正するものである。
　
２　本件補正の適否の検討
（１）目的要件についての検討
　本件補正が、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法（以下単に「特許法」という。）第１７条の２第４項に規定する要件を満たすか否かを検討する。
　本件補正のうち、本件補正前の請求項６，７，１２，１３を削除する補正は、特許法第１７条の２第４項第１号に掲げる「請求項の削除」を目的とする補正に該当する。
　本件補正のうち、本件補正前の請求項１，８を本件補正後の請求項１とするとともに、本件補正前の請求項９，１６を本件補正後の請求項６とする補正は、（ア）本件補正前の請求項１，９を削除する補正と解することができるとともに、（イ）本件補正前の請求項１，９の「第１の流体」及び「第２の流体」をそれぞれ「第１の気体」及び「第２の気体」と限定するとともに、本件補正前の請求項８，１６を削除する補正と解することもできる。ここで、平成２０年１０月３日付けの手続補正により補正された同年９月９日付けの審判請求書の請求の理由において、請求人は、「同日付けの手続補正書により、補正前の請求項１，９に記載の『第１の流体』及び『第２の流体』をそれぞれ『第１の気体』及び『第２の気体』に減縮する補正を行った。斯かる補正は、補正前の請求項１，９に記載の発明特定事項『第１の流体』及び『第２の流体』を限定するものであって、且つ産業上の利用分野及び解決課題を変更するものではないから、限定的減縮を目的とする補正に該当する（１７条の２第５項第２号）。」と主張しているから、本件補正のうち、本件補正前の請求項１，８を本件補正後の請求項１とするとともに、本件補正前の請求項９，１６を本件補正後の請求項６とする補正は、上記（イ）を目的とする補正と解するのが相当である。したがって、本件補正のうち、本件補正前の請求項１，８を本件補正後の請求項１とするとともに、本件補正前の請求項９，１６を本件補正後の請求項６とする補正は、特許法第１７条の２第４項第１号に掲げる「請求項の削除」及び同項第２号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」を目的とする補正に該当する。
　さらに、上記のように本件補正前の請求項１，８を本件補正後の請求項１とするとともに本件補正前の請求項９，１６を本件補正後の請求項６とする補正を上記（イ）を目的とする補正と解すると、本件補正のうち、本件補正前の請求項２，３，４，５，１０，１１，１４，１５を本件補正後の請求項２，３，４，５，７，８，９，１０とする補正は、本件補正前の請求項２，３，４，５，１０，１１，１４，１５の「第１の流体」及び「第２の流体」をそれぞれ「第１の気体」及び「第２の気体」と限定する補正であるから、特許法第１７条の２第４項第２号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」を目的とする補正に該当する。なお、仮に、本件補正前の請求項１，８を本件補正後の請求項１とするとともに本件補正前の請求項９，１６を本件補正後の請求項６とする補正を上記（ア）を目的とする補正と解しても、本件補正のうち、本件補正前の請求項２，３，４，５，１０，１１，１４，１５を本件補正後の請求項２，３，４，５，７，８，９，１０とする補正は、本件補正前の請求項２，３，４，５，１０，１１，１４，１５の「第１の流体」及び「第２の流体」をそれぞれ「第１の気体」及び「第２の気体」と限定する補正であるから、特許法第１７条の２第４項第２号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」を目的とする補正に該当する。
　以上のとおりであるから、本件補正は、特許法第１７条の２第４項の規定に適合する。
　
（２）独立特許要件についての検討
　上記（１）で検討したとおり、本件補正のうち本件補正前の請求項１〜１６を本件補正後の請求項１〜１０と補正する目的には特許法第１７条の２第４項第２号に掲げる「特許請求の範囲の減縮」が含まれるから、本件補正が特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項に規定する要件を満たすか否かを検討する。
　
ア　特許法第３６条第４項第１号に規定する要件（実施可能要件）の判断基準
　特許法第３６条第４項第１号は、「前項第三号の発明の詳細な説明の記載は、」「経済産業省令で定めるところにより、その発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者がその実施をすることができる程度に明確かつ十分に、記載しなければならない。」と定めている。そして、このいわゆる実施可能要件についての規定は、当業者（その発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者）が、明細書及び図面に記載された事項と出願時（優先権主張を伴う場合には優先日当時）の技術常識に基づき、請求項に係る発明を実施することができる程度に明確かつ十分に発明の詳細な説明を記載しなければならない旨の規定であって、明細書及び図面に記載された事項と出願時（優先権主張を伴う場合には優先日当時）の技術常識に基づいて、当業者が請求項に係る発明を実施しようとした場合に、どのように実施するかが理解できないときには、この規定の要件が満たされていないことになる（知財高裁平成１７年（行ケ）１０５７９号）。
　
イ　本件補正後の請求項１〜１０に係る発明の認定
　本件補正後の請求項１〜１０に係る発明は、本件補正により補正された特許請求の範囲に記載された次のとおりのものと認める。
　
「【請求項１】
　リソグラフィック投影装置であって、
　投影放射ビームを提供するべく構築され、かつ、配列された放射システムと、
　所望のパターンに従って前記投影ビームをパターン化するべく構築され、かつ、配列されたパターン化デバイスを支持するべく構築され、かつ、配列された支持構造と、
　基板を保持するべく構築され、かつ、配列された基板テーブルと、
　パターン化されたビームを前記基板の目標部分に投射するべく構築され、かつ、配列された投影システムと、
　前記投影システムの光学エレメントと前記基板との間に配置された、第３の屈折率を有する透明板と、
　前記基板と前記透明板との間の第１の空間を充填する、第１の屈折率を有する第１の気体と、
　前記透明板と前記光学エレメントとの間の第２の空間を充填する、第２の屈折率を有する第２の気体とを備え、
　前記第１の屈折率は、前記第２の屈折率より大きく、前記第３の屈折率は、前記第１の屈折率と前記第２の屈折率との間である、リソグラフィック投影装置。
　　【請求項２】
　前記第３の屈折率と前記第１の屈折率は、ほぼ等しい、請求項１に記載のリソグラフィック投影装置。
　　【請求項３】
　前記第３の屈折率と前記第２の屈折率は、ほぼ等しい、請求項１に記載のリソグラフィック投影装置。
　　【請求項４】
　前記第１の屈折率と前記基板の屈折率は、ほぼ等しい、請求項１に記載のリソグラフィック投影装置。
　　【請求項５】
　前記第２の屈折率と前記光学エレメントの屈折率は、ほぼ等しい、請求項１に記載のリソグラフィック投影装置。
　　【請求項６】
　デバイス製造方法であって、
　少なくとも一部が放射線感応材料の層で被覆された基板を提供するステップと、
　パターン化された放射ビームを前記放射線感応材料の層の目標部分に投射するステップと、
　投影システムの光学エレメントと前記基板との間の空間に、それぞれ第１の屈折率及び第２の屈折率を有する第１の気体及び第２の気体を充填するステップと、
　前記第１及び第２の気体を少なくとも１つの透明板で分離するステップと、を含み、
　前記基板と前記透明板との間の第１の空間に前記第１の気体が充填され、前記透明板と前記光学エレメントとの間の第２の空間に前記第２の気体が充填され、前記第１の屈折率は、前記第２の屈折率より大きく、前記透明板は、前記第１の屈折率と前記第２の屈折率との間の第３の屈折率を有する、デバイス製造方法。
　　【請求項７】
　前記第１の屈折率と前記基板の屈折率は、ほぼ等しい、請求項６に記載のデバイス製造方法。
　　【請求項８】
　前記第２の屈折率と前記光学エレメントの屈折率は、ほぼ等しい、請求項６に記載のデバイス製造方法。
　　【請求項９】
　前記第３の屈折率と前記第１の屈折率は、ほぼ等しい、請求項６に記載のデバイス製造方法。
　　【請求項１０】
　前記第３の屈折率と前記第２の屈折率は、ほぼ等しい、請求項６に記載のデバイス製造方法。」
　
ウ　本件出願の明細書の記載
　本件補正後の請求項１〜１０に係る発明について、本件出願の明細書には、以下の記載がある。
　
（ア）「【０００９】
　半導体デバイスの集積度を増し、かつ、ムーアの法則に従うためには、幅が２５〜１００ｎｍの実用最小ラインを印刷することができるリソグラフィック投影装置を提供する必要がある。現在入手可能な、１９３ｎｍ及び１５７ｎｍの放射を使用しているフォトリソグラフィック・ツールは、良く知られている式、Ｒ＝ｋ１・λ／ＮＡに基づく解像度（単位ｎｍ）を有するパターン・フィーチャを生成することができる。Ｒは解像度であり、ｋ１は、使用する放射線感応材料（レジスト）によって決まる定数である。λは放射の波長であり、ＮＡは開口数である。開口数ＮＡは、式、ＮＡ＝ｎ・ｓｉｎθに基づいて決定される。ｎは、放射が通過する材料の屈折率であり、θは、放射が入射する角度である。ｋ１の下限は０．２５であり、現在入手可能なリソグラフィック投影装置のＮＡは０．８５である。光学設計の困難性のため、ＮＡを大きくすることは困難である。通常、ｋ１及びＮＡは、その限界にあると見なされているため、解像度を高くする能力、つまりより微細なパターン・フィーチャを印刷するリソグラフィック投影装置の能力は、放射の波長λを短くすることに懸かっているように思われる。
【００１０】
　放射の波長を短くする方法の１つは、リソグラフィック投影装置内の基板を、屈折率が比較的大きい流体中、たとえば水中に浸し、投影システム（レンズ）の光学エレメントと基板の間の空間を満たすことである。流体中では露光放射の波長が短くなるため、投影システムの光学エレメントと基板の間の空間を満たすことにより、より微細なフィーチャを画像化することができる。流体の効果は、システムの有効ＮＡを大きくすることにあると見なすことができる。また、この方法を使用することにより、同じ解像度で画像化する場合の焦点深度を長くすることができる。焦点深度は、式、ＤＯＦ＝＋／−ｋ２λ／ＮＡ２で定義される。ｋ２はプロセス依存定数であり、λは波長である。また、ＮＡは開口数である。焦点深度は、リソグラフィック装置の解像度を決定している要因の１つであり、光軸に沿った、パターンの画像が十分に鮮明である距離として定義されている。
【００１１】
　投影システムの光学エレメントと基板の間の空間に流体を充填することによって出現する障害の１つは、流体が、光学エレメントの屈折率と基板の屈折率の間の屈折率を有していることである。流体の屈折率は、画像の解像度を改善するだけの十分な屈折率ではなく、また、流体の屈折率が光学エレメントと基板の間の空間全体に渡って一定であるため、流体にできることは、単に放射の波長を短くすることだけである。
【００１２】
　液浸リソグラフィに関連するもう１つの問題は、流体の多くが、１９３ｎｍ及び１５７ｎｍの放射に対する透明性が不十分であり、そのために基板に入射する放射の量が減少する傾向にあることである。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
　本発明の態様は、投影システムの光学エレメントと基板の間の空間に、屈折率が異なる少なくとも２種類の流体が充填されるリソグラフィック装置を提供することである。それにより、基板に入射する放射の角度が大きくなり、延いてはウェハで反射する放射が減少し、リソグラフィック装置の解像度が高くなる。本明細書で使用されているように、流体という用語は、液体、気体及び／又はゲルを意味している。」
　
（イ）「【００２５】
  図２を参照すると、基板テーブルＷＴが第１の屈折率を有する第１の流体１０中に浸されている。第１の流体１０は、第１の流体供給システム１５によって提供されている。投影システムＰＬと基板テーブルＷＴの間に、透明板すなわち皿１２が配置されている。投影システムＰＬの光学エレメントＯＥ（たとえばレンズ）と透明板１２の間の空間には、第２の屈折率を有する第２の流体１１が充填されている。第１の屈折率と第２の屈折率は異なっている。第２の流体１１は、第２の流体供給システム１６によって提供されている。透明板１２は、第１の流体１０の第１の屈折率と第２の流体１１の第２の屈折率の間であることが好ましい第３の屈折率を有している。
【００２６】
　図３を参照すると、投影システムＰＬの光学エレメントＯＥは、屈折率ｎＯＥを有し、基板Ｗは、光学エレメントＯＥの屈折率ｎＯＥより大きい屈折率ｎＷを有している。光学エレメント、たとえばレンズは、たとえばガラス、石英ガラス、水晶若しくはＣａＦ２を使用して形成することができ、たとえば約１．４から約１．６の屈折率ｎＯＥを有している。光学エレメントＯＥは、たとえば、遠紫外線（ＤＵＶ）リソグラフィに広く使用されている石英ガラスを使用して形成することができ、約１．４６の屈折率ｎＯＥを有している。他の実施例では、光学エレメントＯＥは、１５７ｎｍリソグラフィに広く使用されているＣａＦ２を使用して形成され、約１．４から約１．５６までの範囲の屈折率ｎＯＥを有している。
【００２７】
　第２の流体１１はたとえば水であり、波長が２４８ｎｍの放射と共に使用するべく、約１．３から１．３５の屈折率ｎＳＬを有している。第２の流体１１として水を使用し、放射の波長がたとえば１９３ｎｍである場合、屈折率ｎＳＬは、約１．４４でなければならない。基板Ｗの屈折率ｎＷは、たとえば１．７と１．８の間である。
【００２８】
　第１の流体１０の屈折率ｎＦＬは、第２の流体１１の屈折率ｎＳＬより相対的に大きくすることができる。第１の流体１０には、過フルオロポリエーテル（ＰＦＰＥ）流体を使用することができる。ＰＦＰＥ流体には、たとえば、Ａｕｓｉｍｏｎｔ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎが市販しているＦＯＭＢＬＩＮ（登録商標）若しくはＧＡＬＤＥＮ（登録商標）、或いはＤｕＰｏｎｔが市販しているＫＲＹＴＯＸ（登録商標）を使用することができる。ＰＦＰＥ流体は、現在、真空ポンプの潤滑材として使用されており、したがってリソグラフィック投影装置が使用されるクリーン・ルームの環境に匹敵している。ＰＦＰＥ流体は、光学的に清浄であり、毒性がなく、また、化学的に不活性であり、現在の少なくともいくつかのレジスト材に匹敵している。ＰＦＰＥ流体の対数の底が１０の１５７ｎｍ吸光度は、α＝１０−３μｍ−１であり、現行の実験的１５７ｎｍレジストの１０００分の１未満である。１５７ｎｍにおけるＦＯＭＢＬＩＮ（登録商標）Ｚ−２５の屈折率はｎ＝１．３５であり、同じく１５７ｎｍにおけるＦＯＭＢＬＩＮ（登録商標）Ｙ−１８の屈折率はｎ＝１．３７である。より大きい分子量バージョンであるＦＯＭＢＬＩＮ（登録商標）Ｙ−１４０の１５７ｎｍにおける屈折率はｎ＝１．３８である。
【００２９】
　また、ＰＦＰＥ流体は、色補正のための１９３ｎｍリソグラフィにおける投影システムの光学エレメントの形成に広く使用され、また、１５７ｎｍリソグラフィにおける光学エレメントに広く使用されているＣａＦ２と厳密に整合する屈折率を有している。ＰＦＰＥ流体は、耐溶媒性の化学薬品である。また、ＰＦＰＥ流体は、耐熱性及び耐電気性に優れており、金属、プラスチック、エラストマー及びゴムに対して非反応性である。ＰＦＰＥ流体は、液体酸素及び気相酸素に対して不活性であり、かつ、非可燃性である。液体酸素及び気相酸素に対して不活性であるため、ＰＦＰＥ流体は、フォトレジスト剥離プロセスに見られる高酸素状態に影響されることはない。また、ＰＦＰＥ流体は、アルミニウム・エッチング中に生成されるルイス酸、硫黄生成物、ほとんどの酸、ほとんどの塩基及びほとんどの酸化剤に耐えることができる。ＰＦＰＥ流体は、様々な粘度で利用することができ、また、蒸発減が小さい。また、ＰＦＰＥ流体は、優れた放射ハードネス及びイオン化放射の存在による重合に対する優れた耐性を有している。ＰＦＰＥ流体は、そのオゾン空乏電位がゼロであり、環境保護機関によって揮発性有機化学薬品として分類されていない。
【００３０】
　透明板１２は、第１の流体１０の屈折率ｎＦＬと第２の流体１１の屈折率ｎＳＬの間の屈折率ｎＴＰを有している。透明板１２は、リソグラフィック投影装置１の放射システムＥｘ、ＩＬによって生成される特定の波長の放射、たとえば波長が３６５ｎｍ、２４８ｎｍ、１９３ｎｍ、１５７ｎｍ或いは１２６ｎｍの放射に対して透明な任意の材料を使用して形成することができ、第１の流体１０の屈折率ｎＦＬに等しいか、或いは第２の流体１１の屈折率ｎＳＬに等しい屈折率ｎＴＰを含む、第１の流体１０の屈折率と第２の流体１１の屈折率の間の屈折率ｎＴＰを有している。また、透明板１２全体が透明である必要はなく、パターン化された投影ビームが通過する部分のみが透明であれば良いことを理解されたい。
【００３１】
　図３に示すように、パターン化された投影ビームＰＰＢは、投影システムＰＬの光学エレメントＯＥから射出し、第２の流体１１に入射している。パターン化された投影ビームＰＰＢは、光学エレメントＯＥと第２の流体１１の間の境界を通過して第２の流体１１中に入射するが、第２の流体１１に入射する際の速度変化によって偏向する。第２の流体１１の屈折率ｎＳＬと光学エレメントＯＥの屈折率ｎＯＥが等しい場合、パターン化された投影ビームＰＰＢは偏向しないことを理解されたい。
【００３２】
　第２の流体１１の屈折率ｎＳＬと等しいか、それより大きい屈折率ｎＴＰを透明板１２に持たせることができる。パターン化された投影ビームＰＰＢは、第２の流体１１から透明板１２に入射する際にも偏向する。透明板１２の屈折率ｎＴＰと第２の流体１１の屈折率ｎＳＬが等しい場合、パターン化された投影ビームＰＰＢは、透明板１２に入射する際に偏向しないことを理解されたい。
【００３３】
　第１の流体１０の屈折率ｎＦＬは、透明板１２の屈折率ｎＴＰと同じにするか、或いはそれより大きくすることができる。透明板１２の屈折率ｎＴＰと第２の流体１１の屈折率ｎＳＬが等しい場合、可変屈折率を提供するためには、第１の流体１０の屈折率ｎＦＬは、透明板１２の屈折率ｎＴＰより大きい屈折率でなければならない。第１の流体１０の屈折率ｎＦＬが透明板１２の屈折率ｎＴＰより大きい場合、パターン化された投影ビームＰＰＢは、透明板１２から射出し、第１の流体１０に入射する際に偏向する。パターン化された投影ビームＰＰＢは、第１の流体１０を通過して基板Ｗに入射する。
【００３４】
　以上、第１の流体１０をＰＦＰＥ流体として、また、第２の流体１１を水として説明したが、第１の流体１０及び第２の流体１１をいずれもＰＦＰＥ流体にすることができ、或いは第１の流体１０の屈折率ｎＦＬと第２の流体１１の屈折率ｎＳＬが異なっている限り、リソグラフィック投影装置の放射システムによって生成される放射の波長に対して適切な透明度を有する他の任意の流体にすることができることは理解されよう。また、それぞれ基板Ｗの屈折率及び投影システムＰＬの光学エレメントＯＥの屈折率に対する屈折率に基づいて、第１の流体１０及び第２の流体１１を選択することができることを理解されたい。第１の流体１０には、基板の屈折率と同様の屈折率を持たせなければならず、また、第２の流体には、可能な限り光学エレメントの屈折率と同様の屈折率を持たせなければならない。
【００３５】
　したがって、光学エレメントから第２の流体、透明板、第１の流体を介してウェハまで、屈折率が連続的に変化する。本発明には、光学エレメントと基板の間に可変屈折率を生成し、それにより基板に入射するパターン化された投影ビームの角度を大きくするための、光学エレメント、第２の流体、透明板、第１の流体及び基板の屈折率の任意の組合せが意図されている。この連続的に変化する屈折率の効果により、基板に入射するパターン化された投影ビームの角度が大きくなり、パターン化された投影ビームの基板での反射が減少し、かつ、リソグラフィック投影装置の解像度が高くなる。」
　
エ　実施可能要件についての当審の判断
（ア）上記アにおいて述べた特許法第３６条第４項第１号に規定するいわゆる実施可能要件の判断基準に従って、本件出願の明細書の発明の詳細な説明が、本件補正後の請求項１〜１０に係る発明を実施をすることができる程度に明確かつ十分に記載されているか否かを検討する。
　
（イ）本件補正後の請求項１〜１０に係る発明の「透明板」について
　本件出願の明細書の発明の詳細な説明には、本件補正後の請求項１〜１０に係る発明の「透明板」の具体的な材料名及び屈折率の具体的な値について直接的な記載はない。
　しかし、（ａ）本件補正後の請求項１〜１０に係る発明には、「前記第１の屈折率は、前記第２の屈折率より大きく、前記第３の屈折率は、前記第１の屈折率と前記第２の屈折率との間である」という事項が記載され、（ｂ）前記事項の意味について、本件出願の明細書の発明の詳細な説明の段落【００３０】に「透明板１２は、第１の流体１０の屈折率ｎＦＬと第２の流体１１の屈折率ｎＳＬの間の屈折率ｎＴＰを有している。透明板１２は、・・・（中略）・・・第１の流体１０の屈折率ｎＦＬに等しいか、或いは第２の流体１１の屈折率ｎＳＬに等しい屈折率ｎＴＰを含む、第１の流体１０の屈折率と第２の流体１１の屈折率の間の屈折率ｎＴＰを有している。」と記載され、（ｃ）本件明細書の発明の詳細な説明の段落【００３４】に「また、第２の流体には、可能な限り光学エレメントの屈折率と同様の屈折率を持たせなければならない。」と記載されていることに照らすと、本件補正後の請求項１〜１０に係る発明の「透明板」の屈折率（すなわち、本件補正後の請求項１〜１０に係る発明の「第３の屈折率」）は、本件補正後の請求項１〜１０に係る発明の「光学エレメント」の屈折率以上であると認めることができる。
　そして、本件出願の明細書の発明の詳細な説明の段落【００２６】には、「光学エレメント、たとえばレンズは、たとえばガラス、石英ガラス、水晶若しくはＣａＦ２を使用して形成することができ、たとえば約１．４から約１．６の屈折率ｎＯＥを有している。光学エレメントＯＥは、たとえば、遠紫外線（ＤＵＶ）リソグラフィに広く使用されている石英ガラスを使用して形成することができ、約１．４６の屈折率ｎＯＥを有している。他の実施例では、光学エレメントＯＥは、１５７ｎｍリソグラフィに広く使用されているＣａＦ２を使用して形成され、約１．４から約１．５６までの範囲の屈折率ｎＯＥを有している。」と記載されている。
　したがって、本件出願の明細書の発明の詳細な説明には、本件補正後の請求項１〜１０に係る発明の「透明板」の屈折率（「第３の屈折率」）は「光学エレメント」の屈折率以上、すなわち、約１．４以上であり、その材料の例として、ガラス、石英ガラス、水晶若しくはＣａＦ２が記載されていると認めることができるから、本件出願の明細書の発明の詳細な説明は、本件補正後の請求項１〜１０に係る発明の「透明板」について、当業者が実施することができる程度に明確かつ十分に記載されているということができる。
　
（ウ）本件補正後の請求項１〜１０に係る発明の「第１の気体」について
ａ　本件出願の明細書の発明の詳細な説明には、本件補正後の請求項１〜１０に係る発明の「前記基板と前記透明板との間の第１の空間を充填する、第１の屈折率を有する第１の気体」について、段落【００１３】に「本明細書で使用されているように、流体という用語は、液体、気体及び／又はゲルを意味している。」と記載されているに過ぎず、本件補正後の請求項１〜１０に係る発明の前記「第１の気体」の具体的な材料名及び屈折率の具体的な値について直接的な記載はない。
　
ｂ　しかし、（ａ）本件補正後の請求項１〜１０に係る発明には「前記第１の屈折率は、前記第２の屈折率より大きく、前記第３の屈折率は、前記第１の屈折率と前記第２の屈折率との間である」という事項が記載され、（ｂ）前記事項の意味について、本件出願の明細書の発明の詳細な説明の段落【００３０】に「透明板１２は、第１の流体１０の屈折率ｎＦＬと第２の流体１１の屈折率ｎＳＬの間の屈折率ｎＴＰを有している。透明板１２は、・・・（中略）・・・第１の流体１０の屈折率ｎＦＬに等しいか、或いは第２の流体１１の屈折率ｎＳＬに等しい屈折率ｎＴＰを含む、第１の流体１０の屈折率と第２の流体１１の屈折率の間の屈折率ｎＴＰを有している。」と記載されているから、本件補正後の請求項１〜１０に係る発明の「第１の気体」の屈折率（「第１の屈折率」）は「透明板」の屈折率（「第３の屈折率」）以上であると認めることができる。さらに、（ｃ）上記（イ）において検討したとおり、本件出願の明細書の発明の詳細な説明には、本件補正後の請求項１〜１０に係る発明の「透明板」の屈折率（「第３の屈折率」）が約１．４以上であることが記載されていると認めることができる。したがって、本件明細書の発明の詳細な説明には、本件補正後の請求項１〜１０に係る発明の「第１の気体」の屈折率（「第１の屈折率」）が約１．４以上であることが記載されていると認めることができる。
　ここで、請求人は、本件出願の明細書の発明の詳細な説明に「第１の気体」の具体的な物質名を記載する必要がない理由として、平成２０年１０月３日付けの手続補正により補正された同年９月９日付けの審判請求書の請求の理由において、「リソグラフィ投影装置の投影光学系に通常用いられる気体の種類及びその屈折率は公知であるから、その公知の組み合わせの中から『第１の屈折率が第２の屈折率より大きく、第３の屈折率は第１の屈折率と第２の屈折率との間である』という条件を満たすように、第１の気体及び第２の気体並びに透明板を選択することは、当業者の通常の知識を以って容易になし得るものであ」ると主張するとともに、平成２１年１２月３日付けの回答書において、「リソグラフィ投影装置の投影光学系に用いられる気体の種類及びその屈折率は公知であるから、第２の屈折率＜第３の屈折率＜第１の屈折率の関係を満たす第１及び第２の気体を公知の気体の中から選択することは当業者にとって容易であり、当業者に期待し得る程度を超える試行錯誤や複雑高度な実験を要するものではない」、「従って、第２の屈折率＜第３の屈折率＜第１の屈折率の関係を満たすために、第１及び第２の気体並びに透明板の材料としてどのような材料を用いるべきなのかは、出願当時の技術水準に照らして自明である」と主張している。
　しかし、リソグラフィ投影装置の投影光学系に用いられる気体は、窒素、ヘリウム、アルゴン等であるとともに、これら気体の屈折率は１に極めて近いことが本件出願の優先日当時の技術常識であるから（例えば、特開２００２−２６０９９９号公報（段落【００２５】等）、国際公開第０１／０８２０４号（第１３頁第５行〜第１４頁第１６行等）、特開平１０−３４０８５０号公報（段落【０００８】等）を参照。）、本件出願の優先日当時の技術常識に照らしても、屈折率（「第１の屈折率」）が約１．４以上である「第１の気体」の材料を当業者が具体的に想定することはできない。
　したがって、本件出願の明細書及び図面に記載された事項と本件出願の優先日当時の技術常識に照らしても、本件出願の明細書の発明の詳細な説明には、本件補正後の請求項１〜１０に係る発明の「第１の気体」について、当業者が実施することができる程度に明確かつ十分に記載されているということはできない。
　
オ　本件補正発明の独立特許要件の判断
　以上のとおり、本件出願の明細書の発明の詳細な説明が、本件補正後の請求項１〜１０に係る発明を実施をすることができる程度に明確かつ十分に記載されているということはできないから、本件補正後の請求項１〜１０に係る発明は、特許法第３６条第４項第１号の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができない。
　
３　むすび
　以上検討したとおり、本件補正は、特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するから、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　よって、上記補正の却下の決定の結論のとおり決定する。
　
　
第３　本件審判請求についての判断
１　本件発明の認定
　本件補正が却下されたから、平成１９年１１月２２日付けの手続補正により補正された明細書、特許請求の範囲及び図面に基づいて審理すると、本件出願の請求項１に係る発明（以下「本件発明」という。）は、平成１９年１１月２２日付けの手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１に記載された事項によって特定される次のとおりのものと認める。
　
「リソグラフィック投影装置であって、
　投影放射ビームを提供するべく構築され、かつ、配列された放射システムと、
　所望のパターンに従って前記投影ビームをパターン化するべく構築され、かつ、配列されたパターン化デバイスを支持するべく構築され、かつ、配列された支持構造と、
　基板を保持するべく構築され、かつ、配列された基板テーブルと、
　パターン化されたビームを前記基板の目標部分に投射するべく構築され、かつ、配列された投影システムと、
　前記投影システムの光学エレメントと前記基板との間に配置された、第３の屈折率を有する透明板と、
　前記基板と前記透明板との間の第１の空間を充填する、第１の屈折率を有する第１の流体と、
　前記透明板と前記光学エレメントとの間の第２の空間を充填する、第２の屈折率を有する第２の流体とを備え、
　前記第１の屈折率は、前記第２の屈折率より大きく、前記第３の屈折率は、前記第１の屈折率と前記第２の屈折率との間である、リソグラフィック投影装置。」
　
２　引用刊行物の記載事項
　原査定の拒絶理由において引用され、本件出願の優先日前に頒布された刊行物である特開平１０−３０３１１４号公報（以下「引用例１」という。）には、以下のア〜ケの記載が図示とともにある。
　
ア　「【請求項１】レチクル上に描画されたパターンをウエハ上に焼付転写する投影光学系を有し、該投影光学系のウエハに最も近接したレンズ面と前記ウエハとの間のワーキングディスタンスのうちの少なくとも一部分を、露光光を透過する液体で満たした液浸型露光装置において、
前記ワーキングディスタンスの長さをＬとし、前記露光光の波長をλとし、前記液体の屈折率の温度係数をＮ（１／℃）としたとき、
Ｌ≦λ／（０．３×｜Ｎ｜）
となるように形成したことを特徴とする液浸型露光装置。」
　
イ　「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レチクル上に描画されたパターンを投影光学系によってウエハに焼付ける露光装置に関し、特に液浸型の露光装置に関する。」
　
ウ　「【０００２】
【従来の技術】光学系の最終レンズ面と像面との間の間隔をワーキングディスタンスというが、従来の露光装置の投影光学系のワーキングディスタンスは、空気で満たされていた。このワーキングディスタンスは、オートフォーカス光学系を介在させるなどの都合により、１０ｍｍ以上取るのが普通であった。他方、ウエハに転写するパターンについては、その微細化がますます望まれており、そのためには露光波長の短波長化を図るか、あるいは開口数の増大を図る必要がある。しかるに短波長の光を透過するガラス材料の種類には限度があるから、ワーキングディスタンスを液体で満たして開口数の増大を図ることにより、露光パターンの微細化を図る液浸型の露光装置が提案されている。
【０００３】液浸型の露光装置では、ワーキングディスタンスに介在させた液体の温度分布によって、屈折率に分布が生じるおそれがある。そこで液体の温度変化に起因する結像性能の劣化への対策として、次のような技術が提案されている。すなわち、（あ）液体の温度安定機構によって温度の安定化を図るものとして、米国特許４，３４６，１６４号の図３に開示された技術が提案されており、加振撹拌機構によって温度の均一化を図るものとして、特開平６−１２４８７３号公報に開示された技術が提案されている。また、（い）液体の温度モニター機構によって温度調節にフィードバックするものとして、同じく特開平６−１２４８７３号公報に温度、又は屈折率を計測することが提案されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし（あ）においては、温度をどの程度安定させれば実用上問題ないかと言った議論は成されておらず、実際には下記に示すように、現実的とは言いがたい精度での温度コントロールが必要になる。また、（い）についても、結像性能に最も影響するのが液体の温度不均一であることを考慮すると、有効な対策とは言い難い。このように液浸型露光装置に関する従来公知の技術においては、ワーキングディスタンスのような投影光学系の光学パラメーターそのものについての制約に言及した例はなく、液浸型の特殊事情が考慮されているとは言えない状況であった。したがって本発明は、ワーキングディスタンスを満たす液体の温度制御を容易にして、結像性能の劣化を招くことのない液浸型露光装置を提供することを課題とする。」
　
エ　「【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、すなわち、レチクル上に描画されたパターンをウエハ上に焼付転写する投影光学系を有し、該投影光学系のウエハに最も近接したレンズ面とウエハとの間のワーキングディスタンスのうちの少なくとも一部分を、露光光を透過する液体で満たした液浸型露光装置において、ワーキングディスタンスの長さをＬとし、露光光の波長をλとし、液体の屈折率の温度係数をＮ（１／℃）としたとき、
Ｌ≦λ／（０．３×｜Ｎ｜）
となるように形成したことを特徴とする液浸型露光装置であり、また、前記液体として、純水の表面張力を減少させ又は純水の界面活性度を増大させる添加剤を純水に添加したものを用いたことを特徴とする液浸型露光装置である。
【０００６】以下に本発明の作用を説明する。投影光学系の先端のガラス面から結像面までの距離、すなわちワーキングディスタンスをＬとし、ワーキングディスタンスＬを満たす媒質の温度分布の幅をΔＴとし、この温度分布ΔＴに起因する結像波面の収差をΔＦとし、液体の屈折率の温度係数をＮとすると、近似的に以下の式（１）が成立する。
ΔＦ＝Ｌ×｜Ｎ｜×ΔＴ    ‥‥（１）
【０００７】媒質の温度分布ΔＴについては、その均一化を図るためにいかにコントロールしようとも、ΔＴ＝０．０１℃程度の温度分布が存在すると想定される。したがって、結像波面収差ΔＦは、少なくとも、
ΔＦ＝Ｌ×｜Ｎ｜×０．０１    ‥‥（１ａ）
だけは存在する。ここでＮは、屈折率の温度係数を１／℃単位で表した値である。
【０００８】屈折率の温度係数Ｎの値は液体と気体で大きく異なり、例えば空気ではＮ＝−９×１０-7／℃であるのに対して、水の場合はＮ＝−８×１０-5／℃であり、１００倍近い差がある。他方、縮小投影露光装置の投影光学系のワーキングディスタンスＬは、通常Ｌ＞１０ｍｍであるが、Ｌ＝１０ｍｍであるとしても、結像波面収差ΔＦは以下のようになる。
        空気：ΔＦ＝１０ｍｍ×｜−９×１０-7／℃｜×０．０１℃
                  ＝０．０９ｎｍ
        水  ：ΔＦ＝１０ｍｍ×｜−８×１０-5／℃｜×０．０１℃
                  ＝８．０ｎｍ
【０００９】しかるに一般に結像波面収差ΔＦは、露光波長λの１／３０以下が望ましく、すなわち、
ΔＦ≦λ／３０    ‥‥（２）
が成立することが好ましい。例えば波長１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザーを露光光として用いるときには、ΔＦ＜６．４ｎｍが望ましい。ワーキングディスタンスを満たす媒質が水の場合には、従来技術のようにワーキングディスタンスＬがＬ＞１０ｍｍでは、媒質の温度分布による結像波面収差の発生量が大きすぎて、実用上問題を生ずることが分かる。
【００１０】（１ａ）式と（２）式とから、
Ｌ≦λ／（０．３×｜Ｎ｜）    ‥‥（３）
を得る。したがって（３）式を満たすことにより、実現可能な温度安定性（温度分布）のもとに、浸液中の温度分布によって生じる波面収差発生量が露光波長の１／３０以下に抑えられた投影光学系を搭載した液浸型露光装置が得られる。以上のように本発明においては、温度分布を持った媒質中を露光光が通過することで発生する波面収差量が、温度分布量と媒質中の光路長の積に依存することに着目し、光路長に上限を設けることにより、温度分布に対する要求を緩和している。これにより実現可能なレベルでの浸液の温度コントロールのもとで、液浸型露光装置を実用に供することができる。」
　
オ　「【００１２】
【第１の実施例の説明】図１は、本発明の第１の実施例による投影露光装置の全体構成を示し、ここでは、物体側と像側の両側においてテレセントリックに構成された円形イメージフィールドを有する縮小投影レンズ系ＰＬを介して、レチクルＲ上の回路パターンを半導体ウエハＷ上に投影しつつ、レチクルＲとウエハＷとを投影レンズ系ＰＬに対して相対走査するレンズ・スキャン方式の投影露光装置を示す。図１において照明系１０は、波長１９３ｎｍのパルス光を放射するＡｒＦエキシマレーザ光源（不図示）、その光源からのパルス光の断面形状を整形するビームエクスパンダ（不図示）、その整形されたパルス光を入射して２次光源像（複数の点光源の集まり）を生成するフライ・アイレンズ等のオプチカルインテグレータ（不図示）、その２次光源像からのパルス光を均一な照度分布のパルス照明光にする集光レンズ系（不図示）、そのパルス照明光の形状を走査露光時の走査方向（Ｙ方向）と直交した方向（Ｘ方向）に長い矩形状に整形するレチクルブラインド（照明視野絞り、不図示）、及びそのレチクルブラインドの矩形状の開口からのパルス光ＩＬを図１中のコンデンサーレンズ系１２、ミラー１４と協働してレチクルＲ上にスリット状又は矩形状の照明領域ＡＩとして結像するためのリレー光学系（不図示）とを含んでいる。
【００１３】レチクルＲは、走査露光時には大きなストロークで１次元方向に等速移動可能なレチクルステージ１６上に真空吸着（場合によっては静電吸着、機械締結）される。（以下略）」
　
カ　「【００１４】さて、コンデンサーレンズ系１２とミラー１４から射出された矩形状のパルス照明光ＩＬがレチクルＲ上の回路パターン領域の一部を照射すると、その照明領域ＡＩ内に存在するパターンからの結像光束が１／４倍の縮小投影レンズ系ＰＬを通して、ウエハＷの表面に塗布された感応性のレジスト層に結像投影される。その投影レンズ系ＰＬの光軸ＡＸは、円形イメージフィールドの中心点を通り、照明系１０とコンデンサーレンズ系１２の各光軸とも同軸になるように配置されている。また投影レンズ系ＰＬは、波長１９３ｎｍの紫外線に対して高い透過率を有する石英と螢石の２種類の硝材で作られた複数枚のレンズ素子で構成され、螢石は主に正のパワーを持つレンズ素子に使われる。さらに投影レンズ系ＰＬの複数枚のレンズ素子を固定する鏡筒の内部は、波長１９３ｎｍのパルス照明光の酸素による吸収を避けるために窒素ガスに置換されている。このような窒素ガスによる置換は照明系１０の内部からコンデンサーレンズ系１２（又はミラー１４）までの光路に対しても同様に行われる。
【００１５】ところで、ウエハＷはその裏面を吸着するホルダテーブルＷＨ上に保持される。このホルダテーブルＷＨの外周部全体には一定の高さで壁部ＬＢが設けられ、この壁部ＬＢの内側には液体ＬＱが所定の深さで満たされている。そしてウエハＷは、ホルダテーブルＷＨの内底部の窪み部分に真空吸着される。（以下略）」
　
キ　「【００１７】（中略）さらに本実施例では、後で詳細に説明するが、液浸状態における投影レンズ系ＰＬの最良結像面（レチクル共役面）が、先端のレンズ素子の下面から約２〜１ｍｍの位置に形成されるように設計されている。従って、先端のレンズ素子の下面とウエハＷの表面との間に形成される液体層の厚みも２〜１ｍｍ程度になり、これによって液体ＬＱの温度調整の制御精度が緩和されるとともに、その液体層内の温度分布ムラの発生も抑えることが可能となる。」
　
ク　「【００３０】ここで、本実施例による露光装置の特徴であるホルダテーブルＷＨ内の液体ＬＱの状態について、図３を参照して説明する。図３は投影レンズ系ＰＬの先端部からホルダテーブルＷＨまでの部分断面を表す。投影レンズ系ＰＬの鏡筒内の先端には、下面Ｐｅが平面で上面が凸面の正レンズ素子ＬＥ１が固定されている。このレンズ素子ＬＥ１の下面Ｐｅは、鏡筒金物の先端部の端面と同一面となるように加工（フラッシュサーフェス加工）されており、液体ＬＱの流れが乱れることを抑えている。さらに投影レンズ系ＰＬの鏡筒先端部で液体ＬＱ内に浸かる外周角部１１４は、例えば図３のように大きな曲率で面取り加工されており、液体ＬＱの流れに対する抵抗を小さくして不要な渦の発生や乱流を抑える。また、ホルダテーブルＷＨの内底部の中央には、ウエハＷの裏面を真空吸着する複数の突出した吸着面１１３が形成されてい。この吸着面１１３は、具体的には１ｍｍ程度の高さでウエハＷの径方向に所定のピッチで同心円状に形成された複数の輪帯状ランド部として作られる。そして各輪帯状ランド部の中央に刻設された溝の各々は、テーブルＷＨの内部で真空吸着用の真空源に接続される配管１１２につながっている。
【００３１】さて、本実施例では図３に示したように、投影レンズ系ＰＬの先端のレンズ素子ＬＥ１の下面ＰｅとウエハＷ（又は補助プレート部ＨＲＳ）の表面とのベストフォーカス状態での間隔Ｌは、２〜１ｍｍ程度に設定される。そのため、ホルダテーブルＷＨ内に満たされる液体ＬＱの深さＨｑは、間隔Ｌに対して２〜３倍程度以上であればよく、従ってホルダテーブルＷＨの周辺に立設された壁部ＬＢの高さは数ｍｍ〜１０ｍｍ程度でよい。このように本実施例では、投影レンズ系ＰＬのワーキングディスタンスとしての間隔Ｌを極めて小さくしたため、ホルダテーブルＷＨ内に満たされる液体ＬＱの総量も少なくて済み、温度制御も容易になる。
【００３２】ここで本実施例で使う液体ＬＱは、入手が容易で取り扱いが簡単な純水を用いる。ただし本実施例では、液体ＬＱの表面張力を減少させるとともに、界面活性力を増大させるために、ウエハＷのレジスト層を溶解させず、且つレンズ素子の下面Ｐｅの光学コートに対する影響が無視できる脂肪族系の添加剤（液体）をわずかな割合で添加しておく。その添加剤としては、純水とほぼ等しい屈折率を有するメチルアルコール等が好ましい。このようにすると、純水中のメチルアルコール成分が蒸発して含有濃度が変化しても、液体ＬＱの全体としての屈折率変化を極めて小さくできるといった利点が得られる。
【００３３】さて、液体ＬＱの温度はある目標温度に対して一定の精度で制御されるが、現在比較的容易に温度制御できる精度は±０．０１℃程度である。そこでこのような温調精度のもとでの現実的な液浸投影法を考えてみる。一般に空気の屈折率の温度係数Ｎaは約−９×１０-7／℃であり、水の屈折率の温度係数Ｎqは約−８×１０-5／℃であり、水の屈折率の温度係数Ｎqの方が２桁程度も大きい。一方、ワーキングディスタンスをＬとすると、ワーキングディスタンスＬを満たす媒質の温度変化（温度むら）量ΔＴに起因して生じる結像の波面収差量ΔＦは近似的に次式で表される。
ΔＦ＝Ｌ・｜Ｎ｜・ΔＴ
【００３４】ここで、液浸投影法を適用しない通常の投影露光の場合、ワーキングディスタンスＬを１０ｍｍ、温度変化量ΔＴを０．０１℃としたときの波面収差量ΔＦairは以下のようになる。
ΔＦair＝Ｌ・｜Ｎa｜・ΔＴ≒０．０９ｎｍ
また同じワーキングディスタンスＬと温度変化量ΔＴの下で、液浸投影法を適用した場合に得られる波面収差量ΔＦlqは以下のようになる。
ΔＦlq＝Ｌ・｜Ｎq｜・ΔＴ≒８ｎｍ
【００３５】この波面収差量は、一般に使用波長λの１／３０ないしは１／５０〜１／１００程度が望ましいとされているから、ＡｒＦエキシマレーザを使った場合に許容される最大の波面収差量ΔＦmaxは、λ／３０ないしはλ／５０〜λ／１００程度の６．４３ないしは３．８６〜１．９３ｎｍに定められ、望ましくはλ／１００の１．９３ｎｍ以下に定められる。ところで空気と水の０℃における各熱伝導率は、空気で０．０２４１Ｗ／ｍＫとなり、水で０．５６１Ｗ／ｍＫとなり、水の方が熱伝導が良く、水中に形成される光路内での温度むらは空気中のそれよりも小さくでき、結果的に液体中で発生する屈折率の揺らぎも小さくできる。しかしながら、式（３）に表したようにワーキングディスタンスＬが１０ｍｍ程度の場合、温度変化量ΔＴが０．０１℃であったとしても、発生する波面収差量ΔＦlqは許容収差量ΔＦmaxを大きく越えてしまう。
【００３６】そこで以上の考察から、許容波面収差量ΔＦmaxを考慮した温度変化量ΔＴとワーキングディスタンスＬとの関係は、
ΔＦmax＝λ／３０≧Ｌ・｜Ｎq｜・ΔＴ
ないしは、
ΔＦmax＝λ／１００≧Ｌ・｜Ｎq｜・ΔＴ
となる。ここで、想定される温度変化量ΔＴを０．０１℃、波長λを１９３ｎｍ、そして液体ＬＱの屈折率変化量Ｎqを−８×１０-5／℃とすると、必要とされるワーキングディスタンス（液体層の厚み）Ｌは、８ｍｍないしは２．４ｍｍ以下となる。望ましくは、そのワーキングディスタンスＬを液体ＬＱがスムーズに流れる範囲内で２ｍｍよりも小さくした方がよい。以上のように本実施例のように構成することにより、液体ＬＱの温度制御が容易になるとともに、液体層内の温度変化に起因した波面収差変化で生じる投影像の劣化が抑えられ、極めて高い解像力でレチクルＲのパターンを投影露光することが可能となる。」
　
ケ　「【００５５】
【第６の実施例の説明】次に図８は本発明の第６の実施例を示し、この実施例では下部容器７と上部容器８を用いている。ウエハ３を載置するウエハホルダー３ａは下部容器７の内面底部に形成されており、下部容器７の上面は上部容器８の底面によって密閉されており、下部容器７の全容積は浸液７ａによって完全に満たされている。他方上部容器８にも浸液８ａが満たされており、その浸液８ａ内に投影光学系１の最終レンズ面１ａが浸されている。
【００５６】下部容器７内の浸液７ａの一部分は、下部容器７の一側面に設けた排出口５より温度調節器６に導かれ、温度調節器６において温度調節を受けた後に、下部容器７の他側面に設けた注入口４より下部容器７に戻るように循環している。下部容器７内の複数箇所には温度センサー（図示せず）が取り付けられており、温度調節器６は温度センサーからの出力に基づいて、下部容器７内の浸液７ａの温度が一定となるように制御している。また上部容器８内の浸液８ａについても、同様の温度調節機構が設けられている。
【００５７】この実施例においては、下部容器７と上部容器８を一体として移動することにより、ウエハ３を移動している。他方、ウエハ３を収容した下部容器内の浸液は実質的に密閉されているから、温度安定性の点で有利であるだけでなく、浸液中の渦等の流れによる圧力分布も発生しない。すなわち浸液中の圧力分布は、屈折率の揺らぎとなり結像波面収差悪化の要因となるが、この第６の実施例において圧力分布が問題になるのは、上部容器８に満たされた浸液８ａのみで、この部分の光路Ｌ8を充分に短く形成することにより、ウエハ移動時の浸液流れの影響を実用上問題にならないレベルまで緩和することが出来る。
【００５８】なお本実施例では下部容器７と上部容器８を一体として移動したが、下部容器７のみを移動し、上部容器８を固定することもできる。この構成のときには、上部容器８内の浸液８ａは完全に停止することになる。したがってワーキングディスタンスＬのうちで、上部容器８内の浸液８ａの厚さＬ8よりも、下部容器７内の浸液７ａの厚さＬ7の方を十分に薄く形成することが好ましい。」
　
　また、原査定の拒絶理由において引用され、本件出願の優先日前に頒布された刊行物である特開昭６２−１２１４１７号公報（以下「引用例２」という。）には、以下のサ〜テの記載が図示とともにある。
　
サ　「２．　特許請求の範囲
１．対物レンズ先端と被観察試料との間に、少なくとも液体の媒体を介在させる液浸対物レンズ装置において、前記対物レンズ先端と前記被観察試料との間に介在させる媒体を、複数の異質の媒体で層状に積層したことを特徴とする液浸対物レンズ装置。
２．特許請求の範囲第１項記載のものにおいて、対物レンズ先端と被観察試料との間に介在させる媒体を、屈折率の異なる複数の媒体で層状に積層したものである液浸対物レンズ装置。
３．特許請求の範囲第１項または第２項記載のもののいずれかにおいて、対物レンズ先端と被観察試料との間に介在させる媒体は、液体媒体中に、透明な固体により形成された中間媒体を介入させ層状に積層するものとし、前記液体媒体は油とし、少なくとも中間媒体と被観察諸料との間に表面張力を発生する油膜を形成せしめたものである液浸対物レンズ装置。
４．特許請求の範囲第３項記載のものにおいて、液体媒体中の中間媒体を透明な平面状の板ガラスとしたものである液浸対物レンズ装置。
５．特許請求の範囲第３項記載のものにおいて、液体媒体中の中間媒体を透明な非平面状の板ガラスとしたものである液浸対物レンズ装置。
６．特許請求の範囲第３項記載のものにおいて、液体媒体中の中間媒体を透明な板ガラスとし、この板ガラスをリングに固定し、このリングを対物レンズ先端部の外周に、特定範囲を摺動可能に装備したものである涎浸（審決注：「液浸」の誤記と認める。）対物レンズ装置。」（公報第１頁左欄第４行〜右欄第１５行）
　
シ　「３．　発明の詳細な説明
〔発明の利用分野〕
　本発明は、液浸対物レンズ装置に係り、液体媒体の流動を防止するのに好適な液浸対物レンズ装置に関するものである。
〔発明の背景〕
　顕微鏡観察によりＩＣパターンや磁気ヘッド等の微細な寸法形状を0.1μｍ　オーダの高精度で測定する場合、乾燥系対物レンズよりも液浸対物レンズの方が解像力が良いため有利となるが、液浸対物レンズでは、対物レンズと被観察試料（以下単に試料という）との間に油膜など液体媒体を介在させることが必要になる。
　従来の液浸対物レンズ装置による観察について第９図および第10図を参照して説明する。
　第９図は、従来の液浸対物レンズ装置の断面図、第10図は、第９図の装置による試料の端部観察状態を示す説明図である。
　従来の液浸対物レンズ装置では、第９図に示すように、対物レンズ４の先端に油などの液体媒体２を塗布して試料１を観察するようになっている。
　液体媒体２の屈折率をｎＡとすると、対物レンズの性能を表わす開口数ＮＡは次式で与えられる。
　　ＮＡ＝ｎＡ・ｓｉｎθ１　・・・・・・(1)
　ただし、θ１は光軸上の物点Ｏから対物レンズ４に入射する角度の最大値である。
　ところで、顕微鏡の分解能εは、使用する光の波長をλとして、
　　ε＝Ｋ・λ／ＮＡ　　（Ｋ：定数）　・・・・・・(2)
で与えられる。
　液浸対物レンズでは、液体媒体２の屈折率ｎＡが、乾燥系対物レンズにおける空気の屈折率ｎ０≒１にくらべて大きく、ｎＡ＞ｎ０となるので、対物レンズの分解能εは液浸系の方が乾燥系よりも優れている。そこで、サブミクロン・オーダの微細な寸法形状を顕微鏡観察する場合、液浸対物レンズの方が高精度な観察が可能となる。」（公報第１頁右欄第１６行〜第２頁右上欄第１４行）
　
ス　「〔発明の目的〕
　本発明は、前述の従来技術の問題点を解決するためになされたもので、試料端部や周辺部を顕微鏡観最（審決注：「観察」の誤記と認める。）する場合でも、対物レンズ先端と試料との間に介在する液体媒体が流出することなく、高分解能の観察を可能にする液浸対物レンズ装置の提供を、その目的としている。」（公報第２頁左下欄第１２〜１８行）
　
セ　「〔発明の概要〕
　本発明に係る液浸対物レンズ装置の構成は、対物レンズ先端と被観察試料との間に、少なくとも液体の媒体を介在させる液浸対物レンズ装置において、前記対物レンズ先端と前記被観察試料との間に介在させる媒体を、複数の異質の媒体で層状に積層したものである。
　なお、付記すると、対物レンズ先端と被観察試料との間に介在させる媒体は、液体媒体中に、透明な固体により形成された中間媒体を介入させ層状に積層するものとし、前記液体媒体は油とし、少なくとも中間媒体と被観察試料との間に表面張力を発生する油膜を形成せしめたものである。
　すなわち、本発明では、液浸対物レンズの作動距離を見かけ上小さくし、試料上の油膜厚さを減少させることにより油膜の流出を防止している。
　また、使用する液体媒体の油の粘度を大きくすることにより油膜の流動を防止している。その結果、試料の端部や周辺部についても、液浸対物レンズにより高精度な観察を可能にしたものである。」（公報第２頁左下欄第１９行〜第３頁左上欄第１行）
　
ソ　「〔発明の実施例〕
　以下、本発明の各実施例を第１図ないし第８図を参照して説明する。
　まず、第１図は、本発明の一実施例に係る液浸対物レンズ装置による試料端部観察状況を示す構成図、第２図は、本発明の他の実施例に係る液浸対物レンズ装置による開口数の改善を示す構成図である。
　なお、各図において、第９図と同一符号のものは従来技術と同等部分を示しており、対物レンズ４は外形を示しているが、その内容は第９図に示したレンズ構成と同じものである。
　第１図において、２−１，２−２は、対物レンズ４先端と被観察試料（以下単に試料という）１との間に介在させる液体媒体に係る油による油膜を示す。３は、液体媒体中の中間媒体を構成する薄い平板状の透明な板ガラスである。
　このように、本実施例では、油膜２−１，板ガラス３，油膜２−２が層状に積層して媒体を形成している。
　その装置の構成の仕方と作用を説明する。
　まず、板ガラス３を油膜２−２により対物レンズ４に付着させておく。一方、試料１の表面に油膜２−１を滴下しておき、前記対物レンズ４を合焦点位置まで近づけると、油膜２−１は中間媒体である透明ガラス３に付着する。このとき、油膜２−１の厚さは十分に薄くなっているので、油膜の表面張力により第１図のように油膜が保持され、試料１の端部から流出することを防止できる。
　したがって、従来の油浸観察では、油が流出して観察できなかった試料１の端部ｐ点近傍を油浸観察することが可能である。」（公報第３頁左上欄第２行〜右上欄第１４行）
　
タ　「油膜２−１，２−２の屈折率は異なる値をもつように別々の油を用いることもできるが、一般的には同一の油を用いて同じ屈折率とすることができ、例えば屈折率ｎＡ＝1.5である。また、板ガラス３の屈折率は通常は上記油の屈折率と同一になるような材質を選ぶことができるが、別の屈折率とすることもできる。
　油膜２−１，２−２および板ガラス３の屈折率をみな同一のｎＡ＝1.5とした場合には、光学的には、第９図に示した従来の油浸対物レンズ装置と全く同じになり、ただ板ガラス３が油膜の形状を保持しているという点のみが異なる。」（公報第３頁左下欄第１〜１２行）
　
チ　「油膜と板ガラスの屈折率を異ならせた他の実施例が第２図に示すものである。
　第２図の液浸対物レンズ装置では、油膜２−１の屈折率を相対的に大きく、例えばｎＡ＝1.6とし、板ガラス３′の屈折率を小さく、例えばｎ＝1.45とする。
　このように、屈折率を調整することにより、対物レンズ４に対する最大入射角は、第９図に示したと同じθ１にしながら、試料１表面の光軸上の観察点Ｏから対物レンズ４に向う光の光軸となす最大角度θ２を、θ２＞θ１と大きくすることにより、先に(1)式で示した開口数ＮＡを従来より大きくでき、対物レンズの分解能を従来より向上させることができる。」（公報第３頁左下欄第１３〜右下欄第６行）
　
ツ　「また、さらに特殊な例として、第２図に示した層状に積層された複数の媒体、すなわち油膜２−１，２−２、板ガラス３′の各層のうちの一層を、空気層または真空層（屈折率ｎ＝１）とすることも可能である。」（公報第４頁左上欄第２〜６行）
　
テ　「しかるに、試料１の端部、周辺部を観察する第１図の場合と違って、試料１の中央平面部を観察する第２図の例では、板ガラス３の上下面の油膜接触面積はほぼ等しいので、試料１を対物レンズ４から遠ざけた場合、板ガラス３が、対物レンズ４と試料１とのどちら側に付着して残るかは一概に決まらず、試料の場所を変えて観察を継続するのに作業性が悪くなる。
　そこで、これを改善した液浸対物レンズ装置が第３図に示すものである。
　第３図は、本発明のさらに他の実施例に係る液浸対物レンズ装置の構成図であり、図中、第１図と同一符号のものは、同等部分であるから、その説明を省略する。
　第３図に示す実施例は、液体媒体に係る油膜２−１，２−２間に、中間媒体に係る透明な板ガラス３が介入されており、この板ガラス３はリング６に固定されている。このリング６は、対物レンズ４の外周面に、上下方向に特定範囲を摺動できるように装備されている。５は、リング６が対物レンズ４から抜けるのを防止するストッパである。
　リング６の内側は油膜２−２で満たされており、リング６の上下動により板ガラス３と対物レンズ４先端との間の油膜が途切れることがないように構成されている。
　このように、中間媒体に係る板ガラス３を対物レンズ４側に拘束することにより、第１，２図に示したような油浸観察の作業性が著しく向上する。」（公報第４頁右上欄第７行〜左下欄第１６行）
　
３　引用例１，２に記載された発明の認定
　引用例１の上記記載事項ア〜ケから、引用例１には次の発明が記載されていると認めることができる。
　
「波長λのパルス光を放射する光源、前記光源からのパルス光の断面形状を整形するビームエクスパンダ、前記整形されたパルス光を入射して２次光源像（複数の点光源の集まり）を生成するフライ・アイレンズ等のオプチカルインテグレータ、前記２次光源像からの前記パルス光を均一な照度分布のパルス照明光にする集光レンズ系、前記パルス照明光の形状を走査露光時の走査方向（Ｙ方向）と直交した方向（Ｘ方向）に長い矩形状に整形するレチクルブラインド（照明視野絞り）、及び前記レチクルブラインドの矩形状の開口からの前記パルス光をコンデンサーレンズ系、ミラーと協働してレチクル上にスリット状又は矩形状の照明領域として結像するためのリレー光学系とを含む照明系と、
前記レチクルを吸着するレチクルステージと、
前記レチクル上に描画されたパターンをウエハ上に焼付転写する投影光学系と、
前記ウエハを載置するウエハホルダーとを有し、
前記投影光学系の前記ウエハに最も近接したレンズ面と前記ウエハとの間のワーキングディスタンスのうちの少なくとも一部分を、露光光を透過する浸液で満たした液浸型露光装置において、
前記ワーキングディスタンスの長さをＬとし、前記露光光の波長をλとし、前記液体の屈折率の温度係数をＮ（１／℃）としたとき、Ｌ≦λ／（０．３×｜Ｎ｜）となるように形成し、
前記ウエハホルダーは下部容器の内面底部に形成されており、前記下部容器の上面は上部容器の底面によって密閉されており、前記下部容器の全容積は浸液７ａによって完全に満たされており、前記上部容器にも浸液８ａが満たされており、前記浸液８ａ内に前記投影光学系の最終レンズ面が浸されており、
前記下部容器内の前記浸液７ａの一部分は、前記下部容器の一側面に設けた排出口より温度調節器に導かれ、前記温度調節器において前記下部容器内の前記浸液７ａの温度が一定となるように温度調節を受けた後に、前記下部容器の他側面に設けた注入口より前記下部容器に戻るように循環しており、前記上部容器内の前記浸液８ａについても、同様の温度調節機構が設けられており、
前記ウエハを移動させる際、前記下部容器のみを移動し、前記上部容器を固定する、
液浸型露光装置。」（以下「引用発明１」という。）
　
　また、引用例２の上記記載事項サ〜テから、引用例２には次の発明が記載されていると認めることができる。
　
「対物レンズ先端と被観察試料との間に、少なくとも液体の媒体を介在させる液浸対物レンズ装置において、対物レンズ先端と被観察試料との間に介在させる媒体を、前記被観察試料側から、油膜２−１、透明板ガラス、油膜２−２とし、
前記被観察試料表面の光軸上の観察点から前記対物レンズに向う光の光軸となす最大角度を大きくして前記対物レンズの開口数ＮＡをすることにより、前記対物レンズの分解能を向上させるために、前記油膜２−１の屈折率を相対的に大きく、例えば、ｎＡ＝１．６とし、前記透明板ガラスの屈折率を小さく、例えば、ｎ＝１．４５とし、
前記油膜２−１及び前記油膜２−２の屈折率は異なる値とすることも、同じ値とすることもでき、
前記透明板ガラスを前記対物レンズ側に拘束するために、前記透明板ガラスをリングに固定し、前記リングを前記対物レンズ先端部の外周面に、上下方向に特定範囲を摺動可能に装備した、
液浸対物レンズ装置。」（以下「引用発明２」という。）
　
４　本件発明と引用発明１の一致点及び相違点の認定
（１）引用発明１の「投影光学系」「を有」する「液浸型露光装置」は、本件発明の「リソグラフィック投影装置」に相当する。
　
（２）本件発明の「投影放射ビームを提供するべく構築され、かつ、配列された放射システム」について、本件出願の明細書の発明の詳細な説明には、「この装置は、投影放射ビームＰＢ（たとえば、２４８ｎｍ、１９３ｎｍ若しくは１５７ｎｍの波長で動作するエキシマ・レーザによって、或いは１３．６ｎｍの波長で動作するレーザ放出プラズマ源によって生成されるＵＶ放射若しくはＥＵＶ放射など）を供給するべく構築され、かつ、配列された放射システムＥｘ、ＩＬを備えている。この実施例では、放射システムは、放射源ＬＡをさらに備えている。」（段落【００２０】）、「放射源ＬＡ（たとえばＵＶエキシマ・レーザ、ストレイジ・リング若しくはシンクロトロン中の電子ビームの経路の周りに提供されたアンジュレータすなわちウィグラ、レーザ生成プラズマ源、放電源、電子ビーム源或いはイオン・ビーム源）は、放射ビームＰＢを生成している。この放射ビームＰＢは、照明システム（イルミネータ）ＩＬに直接供給されるか、或いは、たとえばビーム拡大器Ｅｘなどの調整器を介して供給される。イルミネータＩＬは、ビーム内の強度分布のアウター及び／又はインナーラジアル・エクステント（一般に、それぞれσ−アウター及びσ−インナーと呼ばれている）を設定するための調整デバイスＡＭを備えることができる。また、イルミネータＩＬは、通常、インテグレータＩＮ及びコンデンサＣＯなど、他の様々なコンポーネントを備えている。この方法により、マスクＭＡに衝突するビームＰＢの断面に、所望する一様な強度分布を持たせることができる。」（段落【００２１】）と記載されている。
　したがって、引用発明１の「波長λのパルス光を放射する光源、前記光源からのパルス光の断面形状を整形するビームエクスパンダ、前記整形されたパルス光を入射して２次光源像（複数の点光源の集まり）を生成するフライ・アイレンズ等のオプチカルインテグレータ、前記２次光源像からの前記パルス光を均一な照度分布のパルス照明光にする集光レンズ系、前記パルス照明光の形状を走査露光時の走査方向（Ｙ方向）と直交した方向（Ｘ方向）に長い矩形状に整形するレチクルブラインド（照明視野絞り）、及び前記レチクルブラインドの矩形状の開口からの前記パルス光をコンデンサーレンズ系、ミラーと協働してレチクル上にスリット状又は矩形状の照明領域として結像するためのリレー光学系とを含む照明系」は、本件発明の「投影放射ビームを提供するべく構築され、かつ、配列された放射システム」に相当する。
　
（３）本件発明の「所望のパターンに従って前記投影ビームをパターン化するべく構築され、かつ、配列されたパターン化デバイスを支持するべく構築され、かつ、配列された支持構造」について、本件出願の明細書の発明の詳細な説明には、「マスクＭＡ（たとえばレチクル）を保持するべく構築され、かつ、配列されたマスク・ホルダ」（段落【００２０】）と記載されているから、引用発明１の「レチクルを吸着するレチクルステージ」は、本件発明の「所望のパターンに従って前記投影ビームをパターン化するべく構築され、かつ、配列されたパターン化デバイスを支持するべく構築され、かつ、配列された支持構造」に相当する。
　
（４）引用発明１の「ウエハ」、「ウエハを載置するウエハホルダー」は、それぞれ、本件発明の「基板」、「基板を保持するべく構築され、かつ、配列された基板テーブル」に相当する。
　
（５）引用発明１の「レチクル上に描画されたパターンをウエハ上に焼付転写する投影光学系」は、本件発明の「パターン化されたビームを前記基板の目標部分に投射するべく構築され、かつ、配列された投影システム」に相当する。
　
（６）ア　引用発明１の「上部容器の底面」は「露光光」を透過するものであるから、引用発明１の「上部容器の底面」は前記「露光光」に対して透明であると認めることができる。また、引用発明１の「上部容器の底面」がなんらかの値の屈折率を有することは明らかである。
　さらに、引用発明１では、「ウエハを載置するウエハホルダー」「は下部容器の内面底部に形成されており、前記下部容器の上面は上部容器の底面によって密閉されており、前記下部容器の全容積は浸液７ａによって完全に満たされており、前記上部容器にも浸液８ａが満たされており、前記浸液８ａ内に前記投影光学系の最終レンズ面が浸されて」いるから、引用発明１の「上部容器の底面」は「投影光学系の最終レンズ」と「ウエハ」との間に配置されていると認めることができる。
　したがって、引用発明１の「投影光学系の最終レンズ」と「ウエハ」との間に配置された「上部容器の底面」は、本件発明の「前記投影システムの光学エレメントと前記基板との間に配置された、第３の屈折率を有する透明板」に相当する。
　
イ　引用発明１の「浸液７ａ」がなんらかの値の屈折率を有することは明らかであるから、引用発明１の「上部容器の底面によって密閉され」る「下部容器の全容積」を「完全に満た」す「浸液７ａ」は、本件発明の「前記基板と前記透明板との間の第１の空間を充填する、第１の屈折率を有する第１の流体」に相当する。
　
ウ　引用発明１の「浸液８ａ」がなんらかの値の屈折率を有することは明らかであるから、引用発明１の「上部容器」を「満た」すとともに、「前記投影光学系の最終レンズ面が浸されて」いる「浸液８ａ」は、本件発明の「前記透明板と前記光学エレメントとの間の第２の空間を充填する、第２の屈折率を有する第２の流体」に相当する。
　
（７）すると、本件発明と引用発明１とは、
　
「リソグラフィック投影装置であって、
　投影放射ビームを提供するべく構築され、かつ、配列された放射システムと、
　所望のパターンに従って前記投影ビームをパターン化するべく構築され、かつ、配列されたパターン化デバイスを支持するべく構築され、かつ、配列された支持構造と、
　基板を保持するべく構築され、かつ、配列された基板テーブルと、
　パターン化されたビームを前記基板の目標部分に投射するべく構築され、かつ、配列された投影システムと、
　前記投影システムの光学エレメントと前記基板との間に配置された、第３の屈折率を有する透明板と、
　前記基板と前記透明板との間の第１の空間を充填する、第１の屈折率を有する第１の流体と、
　前記透明板と前記光学エレメントとの間の第２の空間を充填する、第２の屈折率を有する第２の流体とを備えた、リソグラフィック投影装置。」
　
である点で一致し、以下の点で相違する。
　
〈相違点〉
　本件発明の「前記第１の屈折率は、前記第２の屈折率より大きく、前記第３の屈折率は、前記第１の屈折率と前記第２の屈折率との間である」のに対し、引用発明１の「浸液７ａ」の屈折率、「上部容器の底面」の屈折率、「浸液８ａ」の屈折率についてそのような限定がない点。
　
５　相違点についての判断
　本件発明の「流体」について、本件出願の明細書の発明の詳細な説明の段落【００１３】には、「流体という用語は、液体、気体及び／又はゲルを意味している。」と記載されているから、本件発明の「第１の流体」及び「第２の流体」は、液体または気体を含むと認めることができる。すると、引用発明２の「対物レンズ先端と被観察試料との間に介在させる」「透明板ガラス」、「被観察試料」と「透明板ガラス」の間に介在させる「油膜２−１」、「対物レンズ」と「透明板ガラス」の間に介在させる「油膜２−２」は、本件発明の「前記投影システムの光学エレメントと前記基板との間に配置された、第３の屈折率を有する透明板」、「前記基板と前記透明板との間の第１の空間を充填する、第１の屈折率を有する第１の流体」、「前記透明板と前記光学エレメントとの間の第２の空間を充填する、第２の屈折率を有する第２の流体」にそれぞれ相当し、引用発明２の「油膜２−１の屈折率を相対的に大きく、例えば、ｎＡ＝１．６とし、前記透明板ガラスの屈折率を小さく、例えば、ｎ＝１．４５と」することは、本件発明の「前記第３の屈折率」は「前記第１の屈折率」よりも小さいことに相当する。
　そして、引用発明１は「液浸型露光装置」に関する発明であるのに対し、引用発明２の「液浸対物レンズ装置」は「顕微鏡観察」のための装置に用いられるものであって、引用発明２には「液浸対物レンズ装置」を「露光装置」に用いるという限定はないが、本件出願の優先日当時の技術常識に照らすと、引用発明１と引用発明２とは、解像度を向上させる原理は実質的に同じであるとともに（引用発明１の「液浸型露光装置」において解像度を向上させる原理について、例えば、特開２０００−５８４３６号公報（段落【００１０】〜【００１１】等を参照。また、引用発明２の「液浸対物レンズ装置」において解像度を向上させる原理について、引用例２の上記記載事項シを参照。）、露光装置の解像度を向上させるために、液浸法によって顕微鏡の解像度を向上させる技術を露光装置に適用することも、本件出願の優先日当時に周知の技術的事項であるから（一例として、特開平６−１２４８７３号公報（段落【００１０】〜【００１２】）を参照。）、引用発明１の「液浸型露光装置」において、解像度を向上させるために引用発明２を適用して、引用発明１の「上部容器の底面」の屈折率を「浸液７ａ」の屈折率よりも小さくすることは、当業者にとって容易に想到し得る。
　また、本件出願の優先日当時の技術常識に照らすと、引用発明２において「前記油膜２−１の屈折率を相対的に大きく」するとともに「前記透明板ガラスの屈折率を相対的に小さく」することにより「前記被観察試料表面の光軸上の観察点から前記対物レンズに向う光の光軸となす最大角度を大きく」なるのは、屈折率が異なる２つの媒体の界面における光の屈折の態様を規定するスネルの法則に基づくものであることは当業者にとって明らかである。そして、引用発明２では「対物レンズ」と「被観察試料」との間には、「油膜２−１」、「透明板ガラス」のみならず「油膜２−２」も介在する。さらに、引用発明２には「前記油膜２−１及び前記油膜２−２の屈折率は異なる値とすること」が示唆されているとともに、引用例２の上記記載事項ツには、「油膜２−２」のみを空気層とすること、すなわち、「油膜２−２」の屈折率を「油膜２−１」の屈折率及び「透明板ガラス」の屈折率よりも小さくすることが示唆されている。すると、スネルの法則及び引用発明２を考慮すれば、「透明板ガラス」の屈折率を「油膜２−１」の屈折率よりも小さくすることに加えて、「油膜２−２」の屈折率を「透明板ガラス」の屈折率よりも小さくすると、「前記被観察試料表面の光軸上の観察点から前記対物レンズに向う光の光軸となす最大角度を大きく」することができることは、当業者にとって明らかである。したがって、かかる技術的思想を引用発明１に適用して、引用発明１の「浸液８ａ」の屈折率を引用発明１の「上部容器の底面」の屈折率よりも小さくすることも、当業者にとって容易に想到し得る。
　以上から、引用発明１に上記相違点に係る本件発明の発明特定事項を採用することは当業者にとって想到容易である。
　
６　本件発明の進歩性の判断
　以上検討したとおり、引用発明１に上記相違点に係る本件発明の発明特定事項を採用することは、当業者にとって想到容易である。
　また、本件発明の効果について検討すると、本件発明の効果のうち段落【００３５】等に記載された解像度を高くするという効果は、引用例２に記載された効果であり（引用例２の上記記載事項シ，チを参照。）、本件発明の効果のうち段落【００３５】等に記載された投影ビームの基板での反射が減少するという効果は、基板（ウエハ）に接する層を空気等の気体層に代えて浸液とする液浸露光法において、基板（ウエハ）に接する層の屈折率が前記基板（ウエハ）の屈折率に近づくことによって生ずる効果に過ぎないから（一例として、特開平１１−１７６７２７号公報（段落【０００７】〜【０００８】）を参照。）、本件発明の効果は、いずれも、引用例１，２に記載された発明から当業者が予測し得る程度のものに過ぎない。
　したがって、本件発明は引用例１，２に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
７　むすび
　以上のとおり、本件発明は引用例１，２に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本件発明は特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　そして、本件発明が特許を受けることができない以上、本件出願のその余の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本件出願は、拒絶されるべきものである。
　よって、上記結論のとおり審決する。