Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成23年12月9日(2011.12.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
累積的なトウギャップ幅を決定するためのシステムであって、
複合材料の像を記録するよう適合された少なくとも１つのカメラを有するインプロセス視認システムと、
前記インプロセス視認システムと通信し、そこから像データを受取るよう適合されたデータ解析コンピュータとを含み、
前記データ解析コンピュータは複合材料におけるトウギャップの累積的なギャップ幅を計算するよう適合され、さらに
前記データ解析コンピュータと通信し、そこからデータ解析結果を受取るよう適合されたユーザインタフェースを含む、システム。
【請求項２】
前記インプロセス視認システムは、
フレームおよび前記フレームによって担持される少なくとも１つのレーザと、
前記フレームによって担持される少なくとも１つのエリアライトとを含む、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記データ解析コンピュータは、複合材料におけるトウギャップの前記累積的なギャップ幅を、最大許容可能な累積的なトウギャップ幅の基準と比較するよう適合された、請求項１に記載のシステム。
【請求項４】
前記データ解析コンピュータは、複合材料におけるトウギャップの前記累積的なギャップ幅が前記最大許容可能な累積的なトウギャップ幅の基準を満たす場合に複合材料の合格ステータスを表示するよう適合され、
前記データ解析コンピュータは、複合材料におけるトウギャップの前記累積的なギャップ幅が前記最大許容可能な累積的なトウギャップ幅の基準を満たさない場合に複合材料の不合格ステータスを表示するよう適合される、請求項３に記載のシステム。
【請求項５】
前記データ解析コンピュータは前記像データを表示するよう適合された、請求項１に記載のシステム。
【請求項６】
複合構造物におけるトウギャップの累積的なトウ幅ギャップを決定する方法であって、
複合材料を与えるステップと、
前記複合材料の周期的な像を記録するステップと、
前記複合材料における拒否すべき兆候の存在について前記複合材料の前記像を解析するステップと、
前記拒否すべき兆候に基づいて前記複合材料の合格／不合格ステータスを公式化するステップとを含む、方法。
【請求項７】
前記複合材料における拒否すべき兆候の存在について前記複合材料の前記像を解析する前記ステップは、前記複合材料におけるトウギャップの累積的な幅について前記複合材料の前記像を解析するステップを含む、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記拒否すべき兆候に基づいて前記複合材料の合格／不合格ステータスを公式化する前記ステップは、
最大許容可能な累積的なトウギャップ幅の基準を確立するステップと、
前記複合材料におけるトウギャップの前記累積的な幅を前記最大許容可能な累積的なトウギャップ幅の基準と比較するステップと、
前記複合材料におけるトウギャップの前記累積的な幅が前記最大許容可能な累積的なトウギャップ幅の基準を満たすと前記複合材料を合格とし、前記複合材料におけるトウギャップの前記累積的な幅が前記最大許容可能な累積的なトウギャップ幅の基準を満たさないと前記複合材料を不合格とするステップとを含む、請求項６に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３１】
この開示の実施例が一定の例示的な実施例に関して記載されたが、当業者には他の変形
例が思い浮かぶので、特定の実施例は制限ではなく例示目的であることが理解される。
また、本発明は以下に記載する態様を含む。
（態様１）
累積的なトウギャップ幅を決定するためのシステムであって、
複合材料の像を記録するよう適合された少なくとも１つのカメラを有するインプロセス視認システムと、
前記インプロセス視認システムと通信し、そこから像データを受取るよう適合されたデータ解析コンピュータとを含み、
前記データ解析コンピュータは複合材料におけるトウギャップの累積的なギャップ幅を計算するよう適合され、さらに
前記データ解析コンピュータと通信し、そこからデータ解析結果を受取るよう適合されたユーザインタフェースを含む、システム。
（態様２）
前記インプロセス視認システムは、フレームおよび前記フレームによって担持される少なくとも１つのレーザを含む、態様１に記載のシステム。
（態様３）
前記フレームによって担持される少なくとも１つのエリアライトをさらに含む、態様２に記載のシステム。
（態様４）
前記データ解析コンピュータは、複合材料におけるトウギャップの前記累積的なギャップ幅を、最大許容可能な累積的なトウギャップ幅の基準と比較するよう適合された、態様１に記載のシステム。
（態様５）
前記データ解析コンピュータは、複合材料におけるトウギャップの前記累積的なギャップ幅が前記最大許容可能な累積的なトウギャップ幅の基準を満たす場合に複合材料の合格ステータスを表示するよう適合される、態様４に記載のシステム。
（態様６）
前記データ解析コンピュータは、複合材料におけるトウギャップの前記累積的なギャップ幅が前記最大許容可能な累積的なトウギャップ幅の基準を満たさない場合に複合材料の不合格ステータスを表示するよう適合される、態様５に記載のシステム。
（態様７）
前記データ解析コンピュータは前記像データを表示するよう適合された、態様１に記載のシステム。
（態様８）
複合構造物におけるトウギャップの累積的なトウ幅ギャップを決定する方法であって、
複合材料を与えるステップと、
前記複合材料の周期的な像を記録するステップと、
前記複合材料における拒否すべき兆候の存在について前記複合材料の前記像を解析するステップと、
前記拒否すべき兆候に基づいて前記複合材料の合格／不合格ステータスを公式化するステップとを含む、方法。
（態様９）
前記複合材料における拒否すべき兆候の存在について前記複合材料の前記像を解析する前記ステップは、前記複合材料におけるトウギャップの累積的な幅について前記複合材料の前記像を解析するステップを含む、態様８に記載の方法。
（態様１０）
前記拒否すべき兆候に基づいて前記複合材料の合格／不合格ステータスを公式化する前記ステップは、
最大許容可能な累積的なトウギャップ幅の基準を確立するステップと、
前記複合材料におけるトウギャップの前記累積的な幅を前記最大許容可能な累積的なトウギャップ幅の基準と比較するステップと、
前記複合材料におけるトウギャップの前記累積的な幅が前記最大許容可能な累積的なトウギャップ幅の基準を満たすと前記複合材料を合格とし、前記複合材料におけるトウギャップの前記累積的な幅が前記最大許容可能な累積的なトウギャップ幅の基準を満たさないと前記複合材料を不合格とするステップとを含む、態様８に記載の方法。
（態様１１）
前記複合材料の前記周期的な像を表示するステップをさらに含む、態様８に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月3日(2011.8.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
かかる本発明の目的は、通電発熱性枠体内全体に通電発熱性材料よりなるメッシュ状の整流板を設置した熱式混合気整流装置によって達成され、この熱式混合気整流装置を混合気の整流化に用いたとき、通電発熱性枠体を通して通電発電性メッシュ状整流板に通電加熱しながら、熱式混合気の整流が行われる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
さらに、この吸気異音低減構造を気流の整流化に用いた場合には、メッシュに付着した目詰まり物質によって整流効果が低下し、異音の発生を有効に低減できないが、本発明の熱式混合気整流装置にあっては、通電発熱性枠体内全体に通電発熱性材料よりなる通電発熱性メッシュ状整流板を配置して通電発熱させ、異物の堆積を抑制しながら気流の整流を行っているので、このような事態には至らない。すなわち、乱流が発生すると管内で気柱共鳴(異音)が発生することになるが、本発明の整流板で乱流の発生を抑え、異音の発生を低減させる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
異物の堆積は、金属表面に水分や油分等が付着し、そこに他の成分等が吸着していくため起こるものであり、熱式混合気整流装置の構造の欠点とされているものであるが、本発明においては通電加熱された整流部材が230℃程度に加熱されているので、金属表面に付着した混合気の成分である水分や油分等を気化させ、そこへの異物の堆積が起こり難くなっており、吸気性能を増加させるばかりではなく、堆積物に伴って発生する異音も低減される。
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月8日(2012.6.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明に係る空気調和機は、熱交換器や送風機が内蔵され、下面が開口されて天井に設置されるキャビネットと、中心部に吸込み口を有し、吸込み口の四周に風向ベーンを有する吹出し口が設けられ、キャビネットの開口部を閉塞する開口部より大形で四角形状の化粧パネルと、化粧パネルのパターンが表示され、運転を制御するリモコンとを有し、化粧パネルの角部の下面に、四隅でそれぞれ異なる数又は異なる形状の識別表示が設けられており、リモコンには、識別表示を含む化粧パネルのパターンが表示されるものである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱交換器や送風機が内蔵され、下面が開口されて天井に設置されるキャビネットと、
中心部に吸込み口を有し、該吸込み口の四周に風向ベーンを有する吹出し口が設けられ、前記キャビネットの開口部を閉塞する該開口部より大形で四角形状の化粧パネルと、
該化粧パネルのパターンが表示され、運転を制御するリモコンとを有し、
前記化粧パネルの角部の下面に、四隅でそれぞれ異なる数又は異なる形状の識別表示が設けられており、
前記リモコンに前記識別表示を含む前記化粧パネルのパターンが表示されることを特徴とする空気調和機。
【請求項２】
前記化粧パネルの四隅の角部にそれぞれコーナパネルが着脱可能に設けられており、前記コーナパネルのいずれかに輻射温度センサが取付けられ、該輻射温度センサの取付位置を前記化粧パネルの四隅のいずれにも変更可能としたことを特徴とする請求項１記載の空気調和機。
【請求項３】
前記識別表示は、前記化粧パネルの四隅の角部の下面に、それぞれ設けられた異なる数の四角形又は円形の凹部又は凸部によって形成されていることを特徴とする請求項１又は２記載の空気調和機。
【請求項４】
前記キャビネットに設けた冷媒配管接続部やドレン配管接続部の位置を、前記化粧パネルのいずれかの角部のコーナパネルに対応させたことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の空気調和機。
【手続補正書】
【提出日】平成24年7月23日(2012.7.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明に係る空気調和機の室内機は、筐体からなる室内機本体と、該室内機本体の上範囲に設けられた吸込口と、前記室内機本体の下範囲に設けられた吹出口と、前記吸込口から前記吹出口に至る風路を形成する送風ファンと、前記風路内に設置された熱交換器と、前記風路に進退自在に配置されたエアーフィルターと、該エアーフィルターを前記風路に進出させ、かつ前記風路から退避させるエアーフィルター進退装置と、前記エアーフィルターが前記風路に進出した状態で上になっていた面を、前記エアーフィルターが前記風路から退避した際、下になるように前記エアーフィルターを案内するエアーフィルター案内装置と、前記エアーフィルターに付着した塵埃を除去するエアーフィルター清掃装置と、を有し、前記エアーフィルター清掃装置は、前記エアーフィルター案内装置によって案内されて前記エアーフィルターの下になっている面および上になっている面にそれぞれ当接して、前記エアーフィルターの下になっている面および上になっている面に付着した塵埃をそれぞれ除去する表面清掃ブラシおよび裏面清掃ブラシと、前記表面清掃ブラシおよび裏面清掃ブラシの下方に配置された集塵室と、を具備し、前記エアーフィルターが前記風路から退避する際、前記エアーフィルターの上になっている面に前記裏面清掃ブラシが当接して前記エアーフィルターの上になっている面に付着していた塵埃が除去され、その後、前記エアーフィルターが前記風路に進出して前記裏面清掃ブラシが前記エアーフィルターの上になっている面から離れた際、前記裏面清掃ブラシによって除去された塵埃は前記集塵室に落下することを特徴とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
筐体からなる室内機本体と、
該室内機本体の上範囲に設けられた吸込口と、
前記室内機本体の下範囲に設けられた吹出口と、
前記吸込口から前記吹出口に至る風路を形成する送風ファンと、
前記風路内に設置された熱交換器と、
前記風路に進退自在に配置されたエアーフィルターと、
該エアーフィルターを前記風路に進出させ、かつ前記風路から退避させるエアーフィルター進退装置と、
前記エアーフィルターが前記風路に進出した状態で上になっていた面を、前記エアーフィルターが前記風路から退避した際、下になるように前記エアーフィルターを案内するエアーフィルター案内装置と、
前記エアーフィルターに付着した塵埃を除去するエアーフィルター清掃装置と、
を有し、
前記エアーフィルター清掃装置は、前記エアーフィルター案内装置によって案内されて前記エアーフィルターの下になっている面および上になっている面にそれぞれ当接して、前記エアーフィルターの下になっている面および上になっている面に付着した塵埃をそれぞれ除去する表面清掃ブラシおよび裏面清掃ブラシと、前記表面清掃ブラシおよび裏面清掃ブラシの下方に配置された集塵室と、を具備し、
前記エアーフィルターが前記風路から退避する際、前記エアーフィルターの上になっている面に前記裏面清掃ブラシが当接して前記エアーフィルターの上になっている面に付着していた塵埃が除去され、その後、前記エアーフィルターが前記風路に進出して前記裏面清掃ブラシが前記エアーフィルターの上になっている面から離れた際、前記裏面清掃ブラシによって除去された塵埃は前記集塵室に落下することを特徴とする空気調和機の室内機。
【請求項２】
筐体からなる室内機本体と、
該室内機本体の上範囲に設けられた吸込口と、
前記室内機本体の下範囲に設けられた吹出口と、
前記吸込口から前記吹出口に至る風路を形成する送風ファンと、
前記風路内に設置された熱交換器と、
前記風路に進退自在に配置されたエアーフィルターと、
該エアーフィルターを前記風路に進出させ、かつ前記風路から退避させるエアーフィルター進退装置と、
前記エアーフィルターが前記風路に進出した状態で上になっていた面を、前記エアーフィルターが前記風路から退避した際、下になるように前記エアーフィルターを案内するエアーフィルター案内装置と、
前記エアーフィルターに付着した塵埃を除去するエアーフィルター清掃装置と、
を有し、
前記エアーフィルター清掃装置は、前記エアーフィルター案内装置によって案内されて前記エアーフィルターの下になっている面および上になっている面にそれぞれ当接して、前記エアーフィルターの下になっている面および上になっている面に付着した塵埃をそれぞれ除去する表面清掃ブラシおよび裏面清掃ブラシと、前記表面清掃ブラシおよび裏面清掃ブラシの下方に配置された集塵室と、を具備し、
前記エアーフィルターが前記風路から退避する際、前記エアーフィルターの上になっている面に前記裏面清掃ブラシが当接して前記エアーフィルターの上になっている面に付着していた塵埃が除去され、さらに、前記エアーフィルターが前記風路から退避して、前記裏面清掃ブラシが前記エアーフィルターの上になっている面から離れた際、前記裏面清掃ブラシによって除去された塵埃は前記集塵室に落下することを特徴とする空気調和機の室内機。
【請求項３】
前記エアーフィルター清掃装置は、前記エアーフィルター案内装置によって案内されて前記エアーフィルターの下になっている面に平行な表面清掃ブラシ揺動軸と、該表面清掃ブラシ揺動軸を揺動する揺動手段と、を有し、
前記表面清掃ブラシが前記表面清掃ブラシ揺動軸に設置され、
前記エアーフィルターが前記風路から退避する際および前記風路に進出する際、前記表面清掃ブラシの先端は、前記エアーフィルターの下になっている面に当接して前後方向に揺動することを特徴とする請求項１または２記載の空気調和機の室内機。
【請求項４】
前記エアーフィルター清掃装置は、前記エアーフィルター案内装置によって案内されて前記エアーフィルターの下になっている面に平行な表面清掃ブラシ揺動軸と、該表面清掃ブラシ揺動軸を揺動する揺動手段と、を有し、
前記表面清掃ブラシが前記表面清掃ブラシ揺動軸に円周方向の１／４以下の範囲に設置され、
前記エアーフィルター案内装置は、前記表面清掃ブラシと前記裏面清掃ブラシとの間に配置されると共に、前記表面清掃ブラシが侵入する塵埃通過孔が形成され、
前記裏面清掃ブラシによって除去された塵埃が前記集塵室に落下する際、前記表面清掃ブラシは前記塵埃通過孔から退避していることを特徴とする請求項１乃至３の何れか一項に記載の空気調和機の室内機。
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月15日(2012.6.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明に係る冷蔵庫は、下記の構成からなるものである。すなわち、外箱と内箱の間に、独立気泡の硬質ウレタンフォームと真空断熱材と凝縮パイプを備えた冷蔵庫において、真空断熱材は、金属箔を有する第１ラミネートフィルムとアルミ蒸着層またはアルミナ蒸着層を有する第２のラミネートフィルムとを重ねて周縁部を熱溶着して袋状にしたガスバリア性を有する外包材内に、芯材を封止して、内部を真空にしたものであり、凝縮パイプは外箱側に配置されており、真空断熱材は、アルミ蒸着層またはアルミナ蒸着層を有する第２のラミネートフィルム側の面を凝縮パイプ側に向けた状態で、独立気泡の硬質ウレタンフォームに埋設されて、外箱と内箱間の中間部に配設されたものである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明に係る冷蔵庫においては、熱伝導率の低いアルミ蒸着層またはアルミナ蒸着層を有する第２のラミネートフィルム側の面を凝縮パイプ側に向けて設けているので、凝縮パイプの熱を拡散させることなく冷蔵庫外へ排出することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外箱と内箱の間に、独立気泡の硬質ウレタンフォームと真空断熱材と凝縮パイプを備えた冷蔵庫において、
前記真空断熱材は、金属箔を有する第１ラミネートフィルムとアルミ蒸着層またはアルミナ蒸着層を有する第２のラミネートフィルムとを重ねて周縁部を熱溶着して袋状にしたガスバリア性を有する外包材内に、芯材を封止して、内部を真空にしたものであり、
前記凝縮パイプは前記外箱側に配置されており、
前記真空断熱材は、前記アルミ蒸着層またはアルミナ蒸着層を有する前記第２のラミネートフィルム側の面を前記凝縮パイプ側に向けた状態で、独立気泡の硬質ウレタンフォームに埋設されて、前記外箱と前記内箱間の中間部に配設されたものであることを特徴とする冷蔵庫。
【請求項２】
前記真空断熱材は、前記外箱と前記内箱の間に配設された前記凝縮パイプの全長のうち８５％以上を被覆していることを特徴とする請求項１記載の冷蔵庫。
【請求項３】
前記真空断熱材は、前記内箱側から見て前記凝縮パイプが配置されている面のみ該凝縮パイプを覆うように設置され、前記凝縮パイプが配置されていない他の面には設置されていないことを特徴とする請求項１又は請求項２記載の冷蔵庫。
【請求項４】
前記真空断熱材と前記凝縮パイプの間に、前記独立気泡の硬質ウレタンフォームが存在することを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の冷蔵庫。
【手続補正書】
【提出日】平成24年5月28日(2012.5.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光素子と、前記発光素子に流れる電流量を制御する機能を有するＦＥＴと、を含む画素部を有する電子装置の作製方法であって、
シール材を用いて、前記ＦＥＴのチャネルが形成される単結晶半導体基板と、カバー材と、を貼り合わせ、
前記単結晶半導体基板、前記シール材、及び前記カバー材によって形成される空間内に、前記開口部から充填材を注入し、
前記充填材を硬化させることを特徴とする電子装置の作製方法。
【請求項２】
発光素子と、前記発光素子に流れる電流量を制御する機能を有するＦＥＴと、を含む画素部を有する電子装置の作製方法であって、
シール材を用いて、前記ＦＥＴのチャネルが形成される単結晶半導体基板と、カバー材と、を貼り合わせ、
前記単結晶半導体基板及び前記カバー材を切断することによって、前記開口部を前記シール材の端面に露出させ、
前記単結晶半導体基板、前記シール材、及び前記カバー材によって形成される空間内に、露出された前記開口部から充填材を注入し、
前記充填材を硬化させることを特徴とする電子装置の作製方法。
【請求項３】
請求項１又は請求項２において、
前記ＦＥＴは、前記単結晶半導体基板に設けられたＬＤＤ領域を有することを特徴とする電子装置の作製方法。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、
紫外線を照射することによって前記充填材を硬化させることを特徴とする電子装置の作製方法。
【請求項５】
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、
加熱することによって前記充填材を硬化させることを特徴とする電子装置の作製方法。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一において、
前記シール材は、棒状のスペーサを有することを特徴とする電子装置の作製方法。
【請求項７】
請求項１乃至請求項５のいずれか一において、
前記シール材は、光硬化性樹脂を有することを特徴とする電子装置の作製方法。
【請求項８】
発光素子と、前記発光素子に流れる電流量を制御する機能を有するＦＥＴと、を含む画素部と、
前記ＦＥＴのチャネルが形成される単結晶半導体基板上に、前記画素部を取り囲むように設けられ、且つ開口部を有するシール材と、
前記シール材によって前記単結晶半導体基板上に固着されたカバー材と、
前記単結晶半導体基板、前記シール材、及び前記カバー材によって形成される空間内に充填された充填材と、
を有することを特徴とする電子装置。
【請求項９】
発光素子と、前記発光素子に流れる電流量を制御する機能を有するＦＥＴと、を含む画素部と、
前記ＦＥＴのチャネルが形成される単結晶半導体基板上に、前記画素部を取り囲むように設けられ、且つ開口部を有する第１のシール材と、
前記第１のシール材によって前記単結晶半導体基板上に固着されたカバー材と、
前記第１のシール材の外側において、前記単結晶半導体基板の側面と前記カバー材の側面とを覆う第２のシール材と、を有し、
前記第２のシール材は、前記第１のシール材の側面に接して設けられていることを特徴とする電子装置。
【請求項１０】
発光素子と、前記発光素子に流れる電流量を制御する機能を有するＦＥＴと、を含む画素部と、
前記ＦＥＴのチャネルが形成される単結晶半導体基板上に、前記画素部を取り囲むように設けられ、且つ開口部を有する第１のシール材と、
前記単結晶半導体基板上に、前記第１のシール材を取り囲むように設けられた第２のシール材と、
前記第１のシール材及び前記第２のシール材によって前記単結晶半導体基板に固着されたカバー材と、を有し、
前記第２のシール材は、前記単結晶半導体基板の側面と前記カバー材の側面とを覆い、前記第１のシール材の側面に接して設けられていることを特徴とする電子装置。
【請求項１１】
請求項９又は請求項１０において、
前記第１のシール材は、棒状のスペーサを有することを特徴とする電子装置。
【請求項１２】
請求項９乃至請求項１１のいずれか一において、
前記第１のシール材は、乾燥剤を有することを特徴とする電子装置。
【請求項１３】
請求項９乃至請求項１２のいずれか一において、
前記第１のシール材及び前記第２のシール材の少なくとも一方は、熱硬化性樹脂を有することを特徴とする電子装置。
【請求項１４】
請求項９乃至請求項１２のいずれか一において、
前記第１のシール材及び前記第２のシール材の少なくとも一方は、光硬化性樹脂を有することを特徴とする電子装置。
【請求項１５】
請求項９乃至請求項１４のいずれか一において、
前記単結晶半導体基板、前記第１のシール材、及び前記カバー材によって形成される空間に、充填材が充填されていることを特徴とする電子装置。
【請求項１６】
請求項９乃至請求項１４のいずれか一において、
前記単結晶半導体基板、前記第１のシール材、及び前記カバー材によって形成される空間に、不活性ガスが封入されていることを特徴とする電子装置。
【手続補正書】
【提出日】平成24年10月2日(2012.10.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
第１主面及び第２主面を有し、少なくとも前記第１主面にて開口する充填用孔を有する基板と、
前記充填用孔内に配置され、前記基板よりも硬度が低い材料によって形成され、前記第１主面側にて開口する嵌合穴を有する樹脂充填部と、
前記嵌合穴に嵌合されることで固定され、前記嵌合穴から突出した箇所に他部品を支持可能な部品支持体と
を備え、
前記充填用孔は、第１透孔と、前記第１透孔よりも小径の第２透孔とからなり、
前記第１主面に配線層が形成され、
前記第１透孔は、前記配線層を避けて配置されるとともに前記第１主面にて開口し、
前記嵌合穴が前記第１透孔内にて開口することにより、前記樹脂充填部の前記第１主面側の端面が、前記第１透孔内に位置し、かつ、前記第１主面よりも前記第２主面側に位置している
ことを特徴とする部品支持基板。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
上記の課題を解決するための手段（手段１）としては、第１主面及び第２主面を有し、少なくとも前記第１主面にて開口する充填用孔を有する基板と、前記充填用孔内に配置され、前記基板よりも硬度が低い材料によって形成され、前記第１主面側にて開口する嵌合穴を有する樹脂充填部と、前記嵌合穴に嵌合されることで固定され、前記嵌合穴から突出した箇所に他部品を支持可能な部品支持体とを備え、前記充填用孔は、第１透孔と、前記第１透孔よりも小径の第２透孔とからなり、前記第１主面に配線層が形成され、前記第１透孔は、前記配線層を避けて配置されるとともに前記第１主面にて開口し、前記嵌合穴が前記第１透孔内にて開口することにより、前記樹脂充填部の前記第１主面側の端面が、前記第１透孔内に位置し、かつ、前記第１主面よりも前記第２主面側に位置していることを特徴とする部品支持基板がある。
【手続補正書】
【提出日】平成24年9月11日(2012.9.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の駆動軸により移動可能な可動部を有する装置を制御するための制御装置であって、
始点および終点により定義される移動区間に対して目標軌道を生成する目標軌道生成手段と、
前記目標軌道における現在位置から前記終点までの残距離を推定する残距離推定手段と、
前記可動部を前記残距離移動させた場合に前記可動部の速度が現在速度から目標速度にまで変化するような加速度を算出する加速度算出手段と、
現在の移動速度を前記算出した加速度で補正することで移動速度の新たな目標値を算出する移動速度更新手段とを備える、制御装置。
【請求項２】
前記加速度算出手段は、前記現在の移動速度を前記目標速度まで一定の加速度で変化させるように、前記加速度を算出する、請求項１に記載の制御装置。
【請求項３】
前記加速度算出手段は、各制御周期において前記加速度を算出する、請求項１または２に記載の制御装置。
【請求項４】
前記残距離推定手段は、前記目標軌道における前記現在位置から前記終点までの区間に対して予め定められた数のサンプル点を設定するとともに、設定したサンプル点を補間することで前記残距離を推定する、請求項１〜３のいずれか１項に記載の制御装置。
【請求項５】
前記残距離推定手段は、前記目標軌道における前記現在位置から前記終点までの区間について、前記現在位置に遠い区間に比較して前記現在位置に近い区間ほど、前記サンプル点の間隔がより密になるように、前記サンプル点を設定する、請求項４に記載の制御装置。
【請求項６】
前記目標軌道は、媒介変数を含む関数の形で定義される、請求項１〜５のいずれか１項に記載の制御装置。
【請求項７】
前記移動速度更新手段によって算出された前記移動速度の新たな目標値となるように、前記可動部が１制御周期内に移動すべき量を示す指令を出力する移動指令手段をさらに備え、
前記移動指令手段は、
前記移動速度の新たな目標値に対応して、前記可動部が移動すべき距離を算出する手段と、
前記可動部が移動すべき距離に対応して、前記目標軌道における前記可動部の移動すべき位置を算出する手段と、
前記可動部の移動すべき位置に対応して、前記複数の駆動軸の各々に対する移動指令を算出する手段とを含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載の制御装置。
【請求項８】
前記目標軌道は、ベジェ曲線により定義される、請求項６または７に記載の制御装置。
【請求項９】
前記目標軌道生成手段は、外部入力される信号に応答して、前記目標軌道を生成する、請求項１に記載の制御装置。
【請求項１０】
前記移動速度更新手段は、加速度および／または加加速度の変化量が予め定められた制限を超過しないように、前記移動速度の新たな目標値を算出する、請求項１に記載の制御装置。
【請求項１１】
制御システムであって、
複数の駆動軸により移動可能な可動部を有する可動機構と、
前記可動機構を駆動するためのドライバと、
前記ドライバに対して制御指令を与える制御装置とを備え、
前記制御装置は、
始点および終点により定義される移動区間に対して目標軌道を生成する目標軌道生成手段と、
前記目標軌道における現在位置から前記終点までの残距離を推定する残距離推定手段と、
前記可動部を前記残距離移動させた場合に前記可動部の速度が現在速度から目標速度にまで変化するような加速度を算出する加速度算出手段と、
現在の移動速度を前記算出した加速度で補正することで移動速度の新たな目標値を算出する移動速度更新手段とを含む、制御システム。
【請求項１２】
複数の駆動軸により移動可能な可動部を有する装置を制御するための制御方法であって、
始点および終点により定義される移動区間に対して目標軌道を生成するステップと、
前記目標軌道における現在位置から前記終点までの残距離を推定するステップと、
前記可動部を前記残距離移動させた場合に前記可動部の速度が現在速度から目標速度にまで変化するような加速度を算出するステップと、
現在の移動速度を前記算出した加速度で補正することで移動速度の新たな目標値を算出するステップとを備える、制御方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月8日(2012.11.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試験ウェハを用いて半導体ウェハの平坦化用の研磨ヘッドを試験するための試験ステーションであり、
フレームと、
試験ウェハを支持するように用いられる中央ウェハ支持表面を有する台座部と、
前記研磨ヘッドを前記中央ウェハ支持表面上に取り付けるように用いられる研磨ヘッド取付台と、
前記研磨ヘッドに連結され、前記ヘッドに加圧試験を行うように用いられる空気圧回路と、
前記フレームと前記取付台に連結され、前記研磨ヘッドを前記台座部中央ウェハ支持表面に相対して垂直方向に移動するように用いられるヘッド取付アクチュエータと、
前記フレームと前記台座部に連結され、前記台座部中央ウェハ支持表面を前記フレームに相対して垂直方向に、前記取付台の前記ヘッドから垂直方向にずらした第１垂直位置と前記取付台の前記ヘッドに垂直方向により近い第２垂直位置との間で移動するように用いられる台座部アクチュエータ備えた試験ステーション。
【請求項２】
前記台座部中央ウェハ支持表面に沿って位置され、かつ前記試験ウェハを前記台座部中央ウェハ支持表面に対して係合及び位置決めするように用いられる第１の複数の試験ウェハ係合部材を有する試験ウェハポジショナを更に備える請求項１記載の試験ステーション。
【請求項３】
前記ウェハポジショナがリング部材を備え、リング部材がその第１の円周に沿って分散された前記第１の複数の試験ウェハ係合部材を担持するように用いられる請求項２記載の試験ステーション。
【請求項４】
前記台座部中央ウェハ支持表面により複数の開口部が規定され、前記台座部中央ウェハ支持表面が前記第１垂直位置にある場合に各開口部が前記第１の複数の試験ウェハ係合部材の各試験ウェハ係合部材を収容するように用いられる請求項３記載の試験ステーション。
【請求項５】
前記台座部が前記台座部中央ウェハ支持表面に沿って配置され、かつ試験ウェハを支持するように用いられる外側ウェハ支持表面を有し、前記ポジショナが前記リングによって担持され、前記台座部外側ウェハ支持表面に沿って位置され、前記リング部材の第２の円周に沿って分散された第２の複数の試験ウェハ係合部材を備え、前記第２の円周が前記第１の円周より広い直径を有している請求項３記載の試験ステーション。
【請求項６】
前記第１及び第２の複数の試験ウェハ係合部材の各試験ウェハ係合部材が試験ウェハ係合表面を有し、前記第２の複数の試験ウェハ係合部材の各試験ウェハ係合表面が前記第１の複数の試験ウェハ係合部材の試験ウェハ係合表面よりも前記研磨ヘッドに近い垂直位置にある請求項５記載の試験ステーション。
【請求項７】
前記フレームが上面を有する支持板を含み、支持板が前記台座部及び前記試験ウェハポジショナを前記上面より下に収容するように用いられる空洞部を規定しており、前記フレームが前記上面上に配置され、かつ前記台座部と試験ウェハポジショナを覆うように用いられる着脱式カバープレートを更に備えており、前記カバープレートが試験ウェハ支持表面を有している請求項２記載の試験ステーション。
【請求項８】
半導体ウェハの平坦化用に研磨ヘッドを試験するための方法であり、
研磨ヘッドを試験ステーションの研磨ヘッド取付台に取り付け、
制御式ヘッド取付アクチュエータを制御して前記研磨ヘッドを台座部の中央ウェハ支持表面に相対して垂直方向に移動させ、
制御式台座部アクチュエータを制御して前記台座部中央ウェハ支持表面と、前記台座部中央ウェハ支持表面上に配置された第１直径を有する試験ウェハとを、前記研磨ヘッドから垂直方向にずらした第１垂直位置と、前記研磨ヘッドに垂直方向により近い第２垂直位置との間で垂直方向に移動させ、
前記研磨ヘッドを試験することを含む研磨ヘッドの試験方法。
【請求項９】
前記試験がヘッドのウェハ喪失センサの試験を含む請求項８記載の方法。
【請求項１０】
前記試験が前記ヘッドの膜チャンバを減圧して前記台座部中央ウェハ支持表面上に配置された第１試験ウェハを拾い上げることを含む請求項９記載の方法。
【請求項１１】
前記試験が前記膜チャンバに対する前記減圧に先立って前記ヘッドの内管チャンバに加圧すること、及び、前記膜チャンバへの前記減圧を行いながら前記内管チャンバ内の圧力の監視を行うことを含む請求項１０記載の方法。
【請求項１２】
前記台座部中央ウェハ支持表面に沿って位置された第１の複数の試験ウェハ係合部材を有するポジショナを用いて前記試験ウェハを位置決めすることを更に含み、前記位置決めが前記試験ウェハを前記第１の複数の試験ウェハ係合部材の各試験ウェハ係合部材の係合表面と係合させ、前記試験ウェハを前記台座部中央ウェハ支持表面に対して位置決めすることを含む請求項８記載の方法。
【請求項１３】
前記ウェハポジショナがリング部材を備え、リング部材がその第１の円周に沿って分散された前記第１の試験ウェハ係合部材を担持するように用いられる請求項１２記載の方法。
【請求項１４】
制御式台座部アクチュエータの前記制御が、前記台座部を移動させることで、前記台座部中央ウェハ支持表面が前記第１垂直位置にある場合に各試験ウェハ係合部材が前記台座部中央ウェハ支持表面によって規定された複数の開口部のそれぞれに収容されることを含む請求項１３記載の方法。
【請求項１５】
前記第１直径よりも広い第２直径を有する試験ウェハを、前記台座部中央ウェハ支持表面に沿って配置された外側ウェハ支持表面に沿って位置され、かつ試験ウェハを支持するように用いられる第２の複数の試験ウェハ係合部材を有するポジショナを用いて位置決めすることを更に含み、前記第２の複数の試験ウェハ係合部材が前記リング部材の第２の円周に沿って分散されており、前記第２の円周が前記第１の円周よりも広い直径を有する請求項１３記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年4月23日(2012.4.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７２】
ステップＳ７５では、図１６のＡ、Ｂ、Ｅ、Ｆのメニューの中から、来店目的が一致するオーダ実績のうち、上位のメニューおよび類似メニューで編集し、名称を「グループにお勧め」とする。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７３】
ステップＳ７６では、図１６のＡ、Ｃ、Ｅ、Ｇのメニューの中から、グループ構成人数により、構成人数によるオーダ傾向を判断して、共通するオーダ実績のメニューおよび類似メニューで編集し、名称を「大人数なら」とする。
【手続補正書】
【提出日】平成24年8月2日(2012.8.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
タッチ入力機能を有する表示部を備えた電子機器であって、
フレキシブル基板上に、
第１の反射電極と電気的に接続された第１のトランジスタと、
第２の反射電極と電気的に接続された第２のトランジスタと、
フォトセンサと、を有し、
前記フォトセンサは、
フォトダイオードと、
前記フォトダイオードと電気的に接続されたゲート信号線を有する第３のトランジスタと、
第４のトランジスタと、を有し、
前記第３のトランジスタのソースまたはドレインの一方は、前記フォトセンサ基準信号線に電気的に接続され、
前記第３のトランジスタのソースまたはドレインの他方は、前記第４のトランジスタのソースまたはドレインの一方に電気的に接続され、
前記第４のトランジスタのソースまたはドレインの他方は、前記フォトセンサ出力信号線に電気的に接続され、
前記第４のトランジスタの酸化物半導体層は、前記第１の反射電極と重なり、
前記フォトセンサ基準信号線は前記第２の反射電極と重なることを特徴とする電子機器。
【請求項２】
請求項１において、
前記第３のトランジスタの酸化物半導体層は、ゲート絶縁層を介して読み出し信号線と重なり、
前記読み出し信号線は、前記第１の反射電極と重なることを特徴とする電子機器。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
前記第４のトランジスタのソースまたはドレインの一方は、前記第１の反射電極と重なり、
前記第４のトランジスタのソースまたはドレインの他方は、前記第２の反射電極と重なることを特徴とする電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成24年4月16日(2012.4.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
車輛の車輪やフレームなどの車体部分を捕捉する捕捉部とこの捕捉部のロック・アンロックを司る施錠部と該施錠部を制御する管理装置とを備えると共に、該管理装置に駐車やレンタルの料金精算機能と料金精算画面の表示装置とを備えている駐車場が、前記管理装置を以てネットワークを介して駐車場管理センターと接続されており、該駐車場管理センターは前記管理場から前記駐車場の使用状況に係る管理情報を受けて、災害情報や宣伝広告などの告知情報を前記ネットワークまたは半導体メモリなどの記録媒体を介して前記表示装置に配信するものであることを特徴とする、駐輪場の管理システム。
【請求項２】
車輛の車輪やフレームなどの車体部分を捕捉する捕捉部とこの捕捉部のロック・アンロックを司る施錠部と該施錠部を制御する管理装置とを備えると共に、該管理装置に駐車やレンタルの料金精算機能と料金精算画面の表示装置とを備えている駐車場の複数箇所が、各々の前記管理装置を以てネットワークを介して駐車場管理センターと接続されており、該駐車場管理センターは前記管理場から前記駐車場の使用状況に係る管理情報を受けて、複数箇所の前記駐車場の使用状況を前記ネットワークを介して前記表示装置に配信可能にすると共に、災害情報や宣伝広告などの告知情報を前記ネットワークまたは半導体メモリなどの記録媒体を介して前記表示装置に配信するものであることを特徴とする、駐輪場の管理システム。
【請求項３】
前記駐車場はカメラを備えており、前記駐車場管理センターは前記ネットワークを介して前記カメラで撮影した前記駐車場のカメラ映像を受けて表示する表示装置を備えている請求項１または請求項２に記載の駐輪場の管理システム。
【請求項４】
更に前記駐車場は通話装置を備えており、前記駐車場管理センターは前記通話装置を使用し前記ネットワークを介して前記カメラの近傍にいるユーザーとの通話を可能にする、請求項３に記載の駐輪場の管理システム。
【請求項５】
前記駐車場は前記使用状況と災害情報や宣伝広告などの前記告知情報とを、適宜切り替えて前記表示装置に表示するための切替装置を備えている、請求項１に記載の駐輪場の管理システム。
【請求項６】
前記駐車場は複数箇所の駐車場の前記使用状況と災害情報や宣伝広告などの前記告知情報とを、適宜切り替えて前記表示装置に表示するための切替装置を備えている、請求項２に記載の駐輪場の管理システム。
【請求項７】
前記駐車場は料金精算機能として電子マネーカードなどを使用可能にするためのカード決済機能を備えている、請求項１または請求項２に記載の駐輪場の管理システム。
【請求項８】
前記駐車場は料金精算機能として更にユーザー毎のポイント管理機能を備えている、請求項７に記載の駐輪場の管理システム。
【請求項９】
前記駐車場の前記表示装置が、少なくとも前面を透視可能とした防護ケースに納められている、請求項１または請求項２に記載の駐輪場の管理システム。
【請求項１０】
前記駐車場管理センターはユーザーのモバイル機器に対して、前記駐車場の使用状況に係る駐車情報配信装置または前記災害情報や宣伝広告などに係る告知情報配信装置を備えている、請求項１または請求項２に記載の駐輪場の管理システム。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月7日(2012.11.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高い性能を有する第１の組のコアおよび低い性能を有する第２の組のコアを含む、複数の非対称型コアと、前記高い性能を有する第１の組のコアおよび前記低い性能を有する第２の組のコアに接続された、スレッドマイグレーションロジックと、を有するプロセッサと
を備え、
前記スレッドマイグレーションロジックは、一命令当たりのエネルギーに基づいて、前記高い性能を有する第１の一組のコアの第１のコアと、前記低い性能を有する第２の一組のコアの第２のコアとの間で、スレッドをマイグレーションする、プロセッサ。
【請求項２】
前記スレッドマイグレーションロジックは、前記第１の組のコアおよび第２の組のコアに関連付けられた電源電流を含む電力消費の大きさに応じてマイグレーションする、請求項１に記載のプロセッサ。
【請求項３】
前記スレッドマイグレーションロジックは、前記第１の組のコアおよび前記第２の組のコアの数と、前記第１の組のコアおよび前記第２の組のコアの数に関連付けられた任意の数の現在の実行スレッドと、を追跡するオペレーティングシステムに関連付けられたオペレーティングシステムのスケジューラに応じてマイグレーションする、請求項１に記載のプロセッサ。
【請求項４】
前記スレッドマイグレーションロジックは、マイグレーションをトリガする特定の時間間隔を発生する周期タイマに応じてマイグレーションする、請求項１に記載のプロセッサ。
【請求項５】
前記電力消費の大きさは、コアが実行しているか停止しているかを反映する値に、コアが実行状態にあるときに１クロック当たりに費やされるエネルギー量を乗算することによって求められる、請求項２に記載のプロセッサ。
【請求項６】
前記プロセッサの各組のコアの属性を監視するためのモニタロジックをさらに備え、前記属性は１クロックサイクル当たりにリタイヤされる命令の数である、請求項１に記載のプロセッサ。
【請求項７】
前記電力消費の大きさは、１クロックサイクル当たりにリタイヤされる命令の数に、１命令当たり、かつ、１クロック当たりに費やされるエネルギー量を乗算することによって求められる、請求項２に記載のプロセッサ。
【請求項８】
前記プロセッサの各組のコアの属性を監視するためのモニタロジックをさらに備え、前記属性は前記コアの機能ブロックのアクティブステータスである、請求項１に記載のプロセッサ。
【請求項９】
電力消費の大きさは、前記機能ブロックがアクティブであるのか又はアイドルであるのかを反映する値に、前記機能ブロックがアクティブであるときに１クロック当たりに費やされるエネルギー量を乗算することによって求められる、請求項８に記載のプロセッサ。
【請求項１０】
１命令当たりのエネルギーのメトリックに基づいて、低い性能を有する第２の組の複数のコアに含まれる第２のコアから高い性能を有する第１の組の複数のコアに含まれる第１のコアへ、スレッドマイグレーションロジックを介して、スレッドの実行をマイグレートすることを含む方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年3月2日(2012.3.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
請求項１に記載の発明は、
第１の抵抗膜が形成された第１の基板と第２の抵抗膜が形成された第２の基板とが前記第１と第２の抵抗膜を対向させて配置され、前記第１の抵抗膜と前記第２の抵抗膜との接触位置を検出するタッチパネルであって、
前記第１の抵抗膜の複数の位置に、第１の方向に沿って延伸するとともに予め定めた高さに突出した凸条形状に、形成された複数のライン状接点と、
前記複数のライン状接点とは異なる位置に配置され、前記各ライン状接点と前記第２の抵抗膜における前記ライン状接点に対向する部分との間隙を予め定めた高さに規定する複数のスペーサと、
を備え、
前記複数のスペーサは、前記第１の方向に沿って第１の間隔で配列するとともに前記第１の方向に対して直交した第２の方向に沿って前記第１の間隔に等しい第２の間隔で配列しており、
前記ライン状接点は、前記第１の方向に沿って配列する２列の前記スペーサ間に、２本以上が配置されていることを特徴とする。
好ましくは、前記第２の抵抗膜の複数の位置に、前記第２の方向に沿って延伸するとともに前記各ライン状接点と間隙をもって対向する高さに突出した凸条形状に形成された複数のライン状接点受けを備えている。
好ましくは、前記ライン状接点受けは、前記第２の方向に沿って配列する２列の前記スペーサ間に、２本以上が配置されている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の抵抗膜が形成された第１の基板と第２の抵抗膜が形成された第２の基板とが前記第１と第２の抵抗膜を対向させて配置され、前記第１の抵抗膜と前記第２の抵抗膜との接触位置を検出するタッチパネルであって、
前記第１の抵抗膜の複数の位置に、第１の方向に延伸するとともに予め定めた高さに突出した凸条形状に、形成された複数のライン状接点と、
前記複数のライン状接点とは異なる位置に配置され、前記各ライン状接点と前記第２の抵抗膜における前記ライン状接点に対向する部分との間隙を予め定めた高さに規定する複数のスペーサと、
を備え、
前記複数のスペーサは、前記第１の方向に沿って第１の間隔で配列するとともに前記第１の方向に対して直交した第２の方向に沿って前記第１の間隔に等しい第２の間隔で配列しており、
前記ライン状接点は、前記第１の方向に沿って配列する２列の前記スペーサ間に、２本以上が配置されていることを特徴とするタッチパネル。
【請求項２】
前記第２の抵抗膜の複数の位置に、前記第２の方向に沿って延伸するとともに前記各ライン状接点と間隙をもって対向する高さに突出した凸条形状に形成された複数のライン状接点受けを備えていることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項３】
前記ライン状接点受けは、前記第２の方向に沿って配列する２列の前記スペーサ間に、２本以上が配置されていることを特徴とする請求項２に記載のタッチパネル。
【手続補正書】
【提出日】平成24年5月22日(2012.5.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
一方、破線フェーズ｛０｝は、前記破線の周期パターンの位相ずれ量が０単位長であることに対応する。図１０Ａに示すように、｛０｝の破線パターンを上段のように予め定めた場合、｛１｝の破線パターンは中段にように決定される。これは、｛１｝の破線パターンは、｛０｝の破線パターンに対して各単位長を左側（パスの始点側）に１個ずつシフトした結果に対応する。同様に、｛２｝の破線パターンは、｛０｝の破線パターンに対して各単位長を左側（パスの始点側）に２個ずつシフトした結果に対応する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５２】
ここで、（１）式及び（２）式より、ｘ（０）＝ｘ１、ｙ（０）＝ｙ１、ｘ（１）＝ｘ２、ｙ（１）＝ｙ２であることから諒解されるように、変数ｔが０〜１に変化すると、パス４８上の点Ｐは、矢印Ｅ１の方向に始点Ｐ１から終点Ｐ２まで連続的に移動する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
ここで、（３）式及び（４）式より、ｘ（０）＝ｘ０、ｙ（０）＝ｙ０、ｘ（１）＝ｘ３、ｙ（１）＝ｙ３であることから諒解されるように、変数ｔが０〜１に変化すると、パス５０上の点Ｐは、矢印Ｅ２の方向に始点Ｐ０から終点Ｐ３まで連続的に移動する。なお、破線で示す線分Ｐ０Ｐ１は点Ｐ０におけるパス５０の接線である。また、破線で示す線分Ｐ２Ｐ３は点Ｐ３におけるパス５０の接線である。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７０】
すると、図７Ｂに示すように、パス４８の始点Ｐ１（ｘ１，ｙ１）と、終点Ｐ２（ｘ２，ｙ２）と、上記破線形状パラメータに基づいて、５つの線素Ａ１〜Ａ５の形状、具体的には、始点｛Ｑ１、Ｑ３、Ｑ５、Ｑ７、Ｑ９｝及び終点｛Ｑ２、Ｑ４、Ｑ６、Ｑ８、Ｑ１０｝の位置をそれぞれ推定できる。以下、その推定方法について詳細に説明する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７１】
先ず、描画開始位置としての線素Ａ１（長さＬ１）の始点Ｑ１の位置は、パス４８の始点Ｐ１の位置（ｔ１＝０）と推定される。そして、Ｉ（ｔ１，ｔ２）＝Ｄ−Ｓを満たすｔ２を算出し、（１）式及び（２）式に基づいてｔ＝ｔ２に相当する位置を算出する。線素Ａ１の終点Ｑ２の位置は、位置（ｘ（ｔ２），ｙ（ｔ２））であると推定される。
【手続補正書】
【提出日】平成24年5月22日(2012.5.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７６】
先ず、描画開始位置としての線素Ａ１（長さＬ１）の始点Ｑ１の位置は、パス５０の始点Ｐ０の位置（ｔ１＝０）と推定される。そして、Ｉ（ｔ１，ｔ２）＝Ｄ−Ｓを満たすｔ２を算出し、（３）式及び（４）式に基づいてｔ＝ｔ２に相当する位置を算出する。線素Ａ１の終点Ｑ２の位置は、位置（ｘ（ｔ２），ｙ（ｔ２））であると推定される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９７】
以上のようにして、パス終点位置変更部４６は、パスの終点を変更する（ステップＳ７）。具体的には、パス構築オペレータの終点７０を、上述した方法で決定された別の終点９０の座標に置換する（図９Ｃ参照）。
【手続補正３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図９】
2011210163.tif 000001
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１０】
2011210163.tif 000002