【事件の表示】
　特願２００４−１１８２８４「ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１７年１０月２７日出願公開、特開２００５−３００９９８〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、平成１６年４月１３日の出願であって、平成２０年９月２６日付で拒絶査定がなされたものであり、これに対して同年１０月３０日に拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに、同年１２月１日付で手続補正がされたものである。
　更に、平成２１年５月１８日付で審尋がなされたところ、審判請求人から同年７月１５日付で回答書が提出されたものである。
　
２．平成２０年１２月１日付手続補正について
　本件補正は、平成２０年８月２０日付手続補正書により補正された特許請求の範囲の
「【請求項１】
（Ａ）酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分、
および（Ｂ）放射線の照射により酸を発生する酸発生剤成分を含有するポジ型レジスト組成物であって、
前記（Ａ）成分が、多環式基含有酸解離性溶解抑制基を含む（メタ）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）、ラクトン環からなる単環式基を有する（メタ）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ２）、下記一般式（ＶＩＩＩ）で表される構成単位（ａ３）、及び下記一般式（１）で表される構成単位（ａ４）を含有する共重合体であり、
前記構成単位（ａ４）の割合は前記（Ａ）成分中３モル％以上１０モル％未満であること
を特徴とするポジ型レジスト組成物。
【化１】
（式中、Ｒは水素原子又はメチル基である。）
【化２】
（式中、Ｒ１１はメチル基又は水素原子である。）
【請求項２】
前記構成単位（ａ４）の割合は、前記（Ａ）成分中３〜４．８モル％である請求項１記載
のポジ型レジスト組成物。
【請求項３】
前記構成単位（ａ１）の割合は、前記（Ａ）成分中２０〜６０モル％である請求項１又は
２記載のポジ型レジスト組成物。
【請求項４】
前記構成単位（ａ２）の割合は、前記（Ａ）成分中２０〜６０モル％である請求項１〜３
のいずれか一項に記載のポジ型レジスト組成物。
【請求項５】
前記構成単位（ａ３）の割合は、前記（Ａ）成分中１０〜５０モル％である請求項１〜４
のいずれか一項に記載のポジ型レジスト組成物。」
　を
「【請求項１】
（Ａ）酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分、および（Ｂ）放射線の照射により酸を発生する酸発生剤成分を含有するポジ型レジスト組成物であって、
前記（Ａ）成分が、多環式基含有酸解離性溶解抑制基を含む（メタ）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）、ラクトン環からなる単環式基を有する（メタ）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ２）、下記一般式（ＶＩＩＩ）で表される構成単位（ａ３）、及び下記一般式（１）で表される構成単位（ａ４）を含有する共重合体であり、
前記構成単位（ａ１）の割合は前記（Ａ）成分中２０〜６０モル％であり、
前記構成単位（ａ２）の割合は前記（Ａ）成分中２０〜６０モル％であり、
前記構成単位（ａ３）の割合は前記（Ａ）成分中１０〜５０モル％であり、
前記構成単位（ａ４）の割合は前記（Ａ）成分中３〜４．８モル％であること
を特徴とするポジ型レジスト組成物。
（式は省略）
」
とするものであって、請求項の削除を目的としている。
　
３．本願発明
　したがって、本願の請求項１〜３に係る発明は、平成２０年１２月１日付手続補正書によって補正された特許請求の範囲の請求項１〜３に記載されたとおりのものであると認められる（以下、請求項１に係る発明を「本願発明」という。）。
　
４．引用例
 　原査定の拒絶の理由に引用された刊行物である特開２０００−３３８６７４号公報（原査定の拒絶の理由に引用された「文献１」。以下、「引用例」という。）には、以下の事項が記載されている。（なお、下線は、当審で付与した。） 
(ａ)「【請求項１】
（イ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物
（ロ）下記一般式
（ｐＶＩ）で表される脂環式炭化水素構造を含む基のうち少なくとも１つで保護されたアルカリ可溶性基を有する繰り返し単位及び下記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を含み、酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂
を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
【化１】
     
一般式
（ｐＶＩ）
Ｚは、炭素原子とともに脂環式炭化水素基を形成するのに必要な原子団を表す
【化２】
一般式（ＩＩ）
Ｒ
２
〜Ｒ
４
のうち少なくとも１つは、水酸基を表す
【請求項２】  
前記〔ロ〕の樹脂が、更に下記一般式(III)で示される基を有する繰り返し単位を含有する
【化３】
一般式(III)中；Ｒａ〜Ｒｅは各々独立に、水素原子、炭素数１〜４個のアルキル基を表す。ｍ、ｎは、各々独立に０から３の整数を表し、ｍ＋ｎは、２以上６以下である。」
　
（ｂ）「【００７１】
一般式（II）において
より好ましくはモノヒドロキシ体である
【００７２】
（ロ）アルカリ可溶性樹脂は、上記一般式
（ｐＶＩ）で示される脂環式炭化水素構造を含む基で保護されたアルカリ可溶性基を有する繰り返し単位及び一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位以外に、他の繰り返し単位を含んでもよい
　
このような他の繰り返し単位としては、前記一般式(III)で示される基を有する繰り返し単位
これを含むことにより、本発明の効果がより顕著になるばかりでなく、感度が著しく向上する
　
（ｃ）「【００７６】上記式中、Ｒａ、Ｒｂ、ｒ１は、後述のものと同義である。ｍは１〜３の数である。
本発明における（ロ）アルカリ可溶性樹脂は、他の共重合成分として一般式(III)で示される基を有する繰り返し単位以外に、更に他の共重合成分を含んでいてもよい
このような共重合成分として下記一般式(III-a)
で示される繰り返し単位が挙げられる
これにより、レジストの親水性が増し、密着性等が向上する
【００７７】
【化３６】
　
【００７８】上記式中、
Ｒ
１
は、前記と同義である
　
（ｄ）「【０１０７】
（ロ）アルカリ可溶性樹脂において、各繰り返し単位構造の含有モル比は、酸価、レジストのドライエッチング耐性、標準現像液適性、基板密着性、レジストプロファイルの粗密依存性、さらにはレジストに一般的に要請される解像力、耐熱性、感度等を調節するために適宜設定される
【０１０８】
（ロ）アルカリ可溶性樹脂中
一般式
（ｐＶＩ）で表される構造で保護されたアルカリ可溶性基を有する繰り返し単位の含有量は、全繰り返し単位中１０〜７０モル％であり、好ましくは１５〜６５モル％、更に好ましくは２０〜６０モル％
一般式（II）で表される繰り返し単位の含有量は、全繰り返し単位中、０．１〜２５モル％であり、好ましくは０．５〜２２モル％、更に好ましくは１〜２０モル％である
一般式(III)で表される繰り返し単位の含有量は、通常全単量体繰り返し単位中２０〜７０モル％であり、好ましくは２５〜６５モル％、更に好ましくは３０〜６０モル％である
一般式(III-a)
で表される繰り返し単位の含有量は、通常全単量体繰り返し単位中０．１モル％〜３０モル％であり、好ましくは０．５〜２５モル％、更に好ましくは１〜２０モル％である
　
（ｅ）「【０１３０】
【実施例】以下、本発明を実施例によって更に具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
〔樹脂の合成〕
合成例（１）樹脂１の合成
２−エチル−２−アダマンチルメタクリレート、ブチロラクトンメタクリレート、３−ヒドロキシアダマンチルメタクリレートを４２／４８／１０の割合で仕込みN,N-ジメチルアセトアミド／テトラヒドロフラン＝５／５に溶解し、固形分濃度２０％の溶液１００ｍＬを調製した。この溶液に和光純薬製Ｖ−６５を２ｍｏｌ％加え、これを窒素雰囲気下、２時間かけて６０℃に加熱したN,N-ジメチルアセトアミド１０ｍＬに滴下した。滴下終了後、反応液を３時間加熱、再度Ｖ−６５を１mol%添加し、３時間攪拌した。反応終了後、反応液を室温まで冷却し、蒸留水３Ｌに晶析、析出した白色粉体を回収した。Ｃ１３ＮＭＲから求めたポリマー組成比は３６／５４／１０であった。また、ＧＰＣ測定により求めた標準ポリスチレン換算の重量平均分子量は９６００であった。上記合成例と同様の操作で下表に示す組成比、分子量の樹脂２〜１０を合成した。尚、表中の繰り返し単位１、２、３、４は構造式の左からの順番を表す。
【０１３１】
【化４８】
【０１３２】
【化４９】
【０１３３】
【化５０】
【０１３４】
【表１】
【０１３５】実施例１〜１０
［感光性組成物の調製と評価］上記合成例で合成した表２に示す樹脂をそれぞれ１．４ｇと、光酸発生剤であるトリフェニルスルホニウムトリフレート０．２ｇを配合し、それぞれ固形分１４重量％の割合でプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートに溶解した後、０．１μｍのミクロフィルターで濾過し、実施例１〜１０のポジ型レジスト組成物を調製した。また、比較例１として、特開平11−109632号公報において、実施例１に用いた樹脂を樹脂Ｒ１とし、上記と同様してポジ型レジスト組成物を調製した。
【０１３６】（評価試験）得られたポジ型フォトレジスト液をスピンコータを利用してシリコンウエハー上に塗布し、１３０℃で９０秒間乾燥、約０．４μｍのポジ型フォトレジスト膜を作成し、それにＡｒＦエキシマレーザー（波長１９３ｎｍ、ＮＡ＝０．６のＩＳＩ社製ＡｒＦステッパーで露光した）で露光した。露光後の加熱処理を１２０℃で９０秒間行い、２．３８％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液で現像、蒸留水でリンスし、レジストパターンプロファイルを得た。これらについて、以下のように孤立パターンのデフォーカスラチチュードと感度を評価した。これらの評価結果を表２に示す。〔感度〕０．１５μｍのパターンを解像できる最小露光量を感度とし、実施例１のその感度を１として相対露光量を感度として示した。
〔孤立ラインのデフォーカスラチチュード〕上記のようにして、０．１５μｍの孤立ラインを形成し、得られた孤立ラインをＳＥＭで観察し、露光の際のフォーカスを−１．０〜＋１．０まで変化させた際に膜べりせずに残っている範囲を調べた。
【０１３７】
【表２】
【０１３８】表２の結果から明らかなように、本発明のポジ型レジスト組成物はそのすべてについて満足がいくレベルにある。すなわち、ＡｒＦエキシマレーザー露光を始めとする遠紫外線を用いたリソグラフィーに好適である。
【０１３９】
【発明の効果】本発明は、遠紫外光、特にＡｒＦエキシマレーザー光に好適で、孤立ラインのデフォーカスラチチュードが優れ、得られるレジストパターンプロファイルが優れたポジ型レジスト組成物を提供できる。」
　
　上記の事項から、引用例には、以下の発明が開示されていると認められる。（以下、「引用例発明」という。）
「（イ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、ならびに（ロ）一般式（ｐＶＩ）で表される脂環式炭化水素構造を含む基で保護されたアルカリ可溶性基を有する繰り返し単位、一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位であってモノヒドロキシ体であるもの、一般式(III)で表される繰り返し単位、及び一般式(III-a)で表される繰返し単位を含み、酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂、を含有する遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物であって、
アルカリ可溶性樹脂の全繰り返し単位中、一般式（ｐＶＩ）で表される繰返し単位が２０〜６０モル％、
一般式（ＩＩ）で表される繰返し単位であってモノヒドロキシ体であるものが１〜２０モル％、
一般式(III)で表される繰返し単位が３０〜６０モル％、
一般式(III-a)で表される繰返し単位が１〜２０モル％
である遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。」
　
５．対比
　本願発明と引用例発明とを、対比する。 
　引用例発明の「一般式（ｐＶＩ）で表される脂環式炭化水素構造を含む基で保護されたアルカリ可溶性基を有する繰り返し単位」は、本願発明の「構成単位（ａ１）」に相当する。
　引用例発明の「一般式(III)で表される繰り返し単位」は、本願発明の「構成単位（ａ２）」に相当する。
　引用例発明の「一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位であってモノヒドロキシ体であるもの」は、本願発明の「構成単位（ａ３）」に相当する。
　引用例発明の「一般式(III-a)で表される繰り返し単位」は、本願発明の「構成単位（ａ４）」に該当する。 
　また、引用例における、「酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂」は、本願発明における、「酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分」と同じ意味である（以下、「アルカリ可溶性樹脂」という。）。
　そして、引用例発明の「アルカリ可溶性樹脂の全繰り返し単位中、一般式（ｐＶＩ）で表される繰返し単位が２０〜６０モル％」は、本願発明の「構成単位（ａ１）の割合は前記（Ａ）成分中２０〜６０モル％」に相当し、引用例発明の「一般式(III)で表される繰返し単位が３０〜６０モル％」は、本願発明の「構成単位（ａ２）の割合は前記（Ａ）成分中２０〜６０モル％」に相当する。
　
　したがって、両者は、
「（Ａ）酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分、および（Ｂ）放射線の照射により酸を発生する酸発生剤成分を含有するポジ型レジスト組成物であって、
前記（Ａ）成分が、多環式基含有酸解離性溶解抑制基を含む（メタ）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ１）、ラクトン環からなる単環式基を有する（メタ）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ２）、下記一般式（ＶＩＩＩ）で表される構成単位（ａ３）、及び下記一般式（１）で表される構成単位（ａ４）を含有する共重合体であり、
前記構成単位（ａ１）の割合は前記（Ａ）成分中２０〜６０モル％であり、
前記構成単位（ａ２）の割合は前記（Ａ）成分中３０〜６０モル％であり、
前記構成単位（ａ４）の割合は前記（Ａ）成分中３〜４．８モル％であるポジ型レジスト組成物」である点で一致し、以下の点で相違する。
　
（相違点）
本願発明では「構成単位（ａ３）の割合は前記（Ａ）成分中１０〜５０モル％」「構成単位（ａ４）の割合は前記（Ａ）成分中３〜４．８モル％」であるのに対して、引用例発明では「一般式（ＩＩ）で表される繰返し単位であってモノヒドロキシ体であるものが１〜２０モル％」「一般式(III-a)で表される繰返し単位が１〜２０モル％」である点。
　
６．当審の判断
６−１．相違点について
　引用例明細書には、「アルカリ可溶性樹脂において、各繰り返し単位構造の含有モル比は、酸価、レジストのドライエッチング耐性、標準現像液適性、基板密着性、レジストプロファイルの粗密依存性、さらにはレジストに一般的に要請される解像力、耐熱性、感度等を調節するために適宜設定される。」（上記ｄ参照）と記載されている。
　これに拠れば、「構成単位（ａ３）の割合は前記（Ａ）成分中１０〜５０モル％」「構成単位（ａ４）の割合は前記（Ａ）成分中３〜４．８モル％」としたことに、格別の困難性はない。
　
６−２．「一般式(III-a)で表される繰返し単位」の含有モル比の選択　
　これに対して、審判請求人は審判請求書において、『特に、「前記構成単位（ａ４）の割合は前記（Ａ）成分中３〜４．８モル％である」とすることにより』『「リソグラフィー特性を維持しつつ、ディフェクトを低減することができる化学増幅型ポジ型レジスト組成物及びこれを用いたレジストパターン形成方法を提供すること」という異質な効果を奏することができた』と主張し、引用例について『段落［０１３３］の（９）、（１０）にアクリル酸を１０ｍｏｌ％、１１ｍｏｌ％のモル比で有する樹脂成分が例示されて』いるが、本願請求項１に係る発明の『「前記構成単位（ａ４）の割合は前記（Ａ）成分中３〜４．８モル％である」』『のような限定がない』と指摘している（審判請求書の２（１）及び２（５）（５−１）参照）。
　
　しかしながら、そもそも、レジストを適用するリソグラフィー技術を用いる電子素子等の製造において、製品の歩留まりを上げることが至上命題の一つであることを考慮すると、引用例明細書に記載された上記の「酸価〜感度」というリソグラフィー特性に関する諸項目以前に、ディフェクトの発生とその低減は当然に検討されるべき項目である。
　
　また、請求人が言及している引用例発明の実施例９．１０においても、共通の「一般式（ｐＶＩ）で表される繰返し単位」「一般式(III)で表される繰返し単位」「一般式（ＩＩ）で表される繰返し単位」からなる実施例９と実施例２との間、及び、実施例１０と実施例１との間において、「一般式(III-a)で表される繰返し単位」の含有モル比を「０％」若しくは「１０％」、「１１％」としたいずれの場合（上記キ段落【０１３０】〜【０１３４】及び【表１】参照）でも、評価試験の結果に大きな差がなかった（上記キ段落【０１３５】〜【０１３９】及び【表２】参照）。してみると、引用例に記載されている「一般式(III-a)で表される繰返し単位」の「０％」若しくは「１０％」、「１１％」という含有モル比の範囲内において、リソグラフィー特性を考慮しつつディフェクトの生成傾向を観察し、その適正含有モル比範囲を選択することは、当業者が容易になしえたことである。
　
　以上のことから、「構成単位（ａ４）の割合は３〜４．８モル％」としたことに、格別の困難性はないというべきである。
　
６−３．作用効果について
　請求人は、２００７年１２月７日付で追加実施例及び追加比較例を記載した比較実験報告書を提出しているので、本願明細書の比較例及び実施例とともに列挙してみる。
　
　　　　　　（ａ４）割合　　感度　　　　解像性　　　　ディフェクト
　　比較例　　　０　　　　３１．５　　　　○　　　　　　９２７１
　　実施例　　　４．８　　３２．０　　　　○　　　　　　　５１５
追加実施例　　　９．０　　２７．０　　　　○　　　　　　　２９２
追加比較例　　１７　　　　２０．０　　　　×　　　　パターン形成不良
　
　上記の表によると、感度の変動があまりない範囲でのディフェクトに係る効果を見ると、本願明細書に記載されている実施例よりも、むしろ追加実施例の方がディフェクト低減の効果を達成している。
　これについて、請求人は以下のように説明する。
「仮に、レジストの設計において考慮すべき課題がディフェクト低減だけであるとすれば、上記記載の通り「本願の最も有効な本願の構成単位（ａ４）の割合は９モル％前後」とすることは実験成績証明書（平成２０年８月２０日提出の手続補足書に添付した比較実験報告書）の表３の結果から妥当であると考えます。 
　しかしながら、本願の当初明細書の段落番号［０００５］に記載の通り、本願の課題はリソグラフィー特性を維持しつつ、ディフェクトを低減することができるレジストを提供することであります。すなわち、本発明者らは、リソグラフィー特性の維持とディフェクトの低減とが互いにトレードオフの関係にあることを見出したために、本願の課題を設定したのであります。
　ここで、実験成績証明書のパターン形状について観察した電子顕微鏡写真を参照します。実施例１と追加実施例１とを比較すると、実施例１は矩形性がより高く、裾引きも見られず、ＴＯＰ部の拡がりもない優れて良好な形状であるのに対して、追加実施例１は矩形性が比較的低く、裾引きが見られ、ＴＯＰ部の拡がりがある形状です。すなわち、パターン形状については、実施例１の方が追加実施例１よりも優れています。一方、実施例１と比較例１とを比較すると同等に優れたパターン形状です。 
　このことは、パターン形状を優れて良好にする効果が維持できるのは構成単位（ａ４）の割合が４．８モル％以下であり、一方、ディフェクトを低減する効果が極大になるのは構成単位（ａ４）が９モル％前後であることを示しています。 
　このパターン形状の維持とディフェクトの低減とのトレードオフの関係を、本発明者らは実験的に検討しました。そして、優れて良好なパターン形状を維持するという前提を崩さずに、ディフェクトを効果的に低減できる範囲、すなわち本願の課題を達成するために最も有効な範囲として、構成単位（ａ４）の割合が３〜４．８モル％であることを見出したのであります。 
　すなわち、本発明者らは、パターン形状の維持とディフェクトの低減という相反する２つの効果の極大値が分かれていることを見出し、本願の課題に沿ってパターン形状が最良となる範囲から、ディフェクト低減が最良となる範囲へ、できる限り近づくことを試み、構成単位（ａ４）の割合を少なくとも４．８モル％まで増加させても、優れて良好なパターン形状を維持できることを見出したのである。９．０モル％になるとパターン形状は劣ることが明らかであるのだから、その９．０モル％と４．８モル％との間には、優れて良好なパターン形状を維持できなくなる臨界値があるべきである。本願では、その臨界値から離れているのだから、本願の構成単位（ａ４）の割合が３〜４．８モル％であることは、臨界的意義があるといえる。 」
　しかしながら、リソグラフィー特性を維持しつつ、ディフェクトを低減する点から、上記の表を検討すると、むしろ追加実施例の方が感度及び解像性すなわちリソグラフィー特性をほぼ維持しつつ、ディフェクトを本願実施例に比べて３／５に劇的に低減していると認められる。
　
　ところで、本願明細書では「ディフェクト」について、
「【０００３】そして、このような化学増幅型のホトレジスト組成物には、リソグラフィー特性（解像性、焦点深度幅特性、レジストパターン形状等）が良好であることが要求される。さらには、近年のように高解像性のレジストパターンが要求されるようになってくると、これらの特性に加えて、従来以上に現像後のレジストパターンのディフェクト（表面欠陥）の改善がいっそう必要となってくる。このディフェクトとは、例えば、ＫＬＡテンコール社の表面欠陥観察装置（商品名「ＫＬＡ」）により、現像後のレジストパターンを真上から観察した際に検知される不具合全般のことである。この不具合とは、例えば現像後のスカム、泡、ゴミ、レジストパターン間のブリッジ等である。」
と説明している。
　これに拠れば、「ディフェクト」を「たとえば、現像後のスカム、泡、ゴミ、レジストパターン間のブリッジ等である」と説明しているものの、上記の表のように評価のために測定した結果は「ＫＬＡテンコール社の表面欠陥観察装置（商品名「ＫＬＡ」）により、現像後のレジストパターンを真上から観察した際に検知される不具合全般のことである」だけであって、具体的に「現像後のスカム、泡、ゴミ、レジストパターン間のブリッジ等」のいずれかが減少した、とまでは認められない。
　
　以上のことから、「構成単位（ａ４）の割合は３〜４．８モル％」としたことによる格別の効果の差異は認められない。　
　
７．むすび
　以上のとおり、本願の請求項１に係る発明は、引用文献１に記載された発明に基づいて、その発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。