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【手続補正書】
【提出日】平成24年7月30日(2012.7.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
店舗端末４は、仮想商店街に出店する店舗側に設けられた情報処理装置である。店舗端末４は例えばパーソナルコンピュータ等である。店舗端末４は、仮想商店街で販売する商品の情報等をサーバ１０を介してデータベース１６に登録するために用いられる。例えば、店舗端末４ではサーバ１０から提供される専用画面が表示される。店舗側の管理者は、この専用画面において、商品の基本情報や商品の販売方法に関する情報等を入力できるようになっている。
【手続補正書】
【提出日】平成24年7月20日(2012.7.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エンコーダ本体と、前記エンコーダ本体に対し回転自在な回転軸とを有し、前記エンコーダ本体に対する前記回転軸の相対的な回転角度を検出するロータリエンコーダと、
前記エンコーダ本体の前記回転軸周りの絶対的な回転角度を一定範囲内に規制する規制部材と、
前記エンコーダ本体の前記回転軸周りの絶対的な回転角度を検出する絶対角度検出手段と、
前記ロータリエンコーダが検出した回転角度を、前記絶対角度検出手段で検出した回転角度に基づいて補正する補正手段と、
を備えたことを特徴とする角度測定システム。
【請求項２】
前記絶対角度検出手段は、前記エンコーダ本体に対して非接触で前記回転角度を検出する非接触角度検出手段であることを特徴とする請求項１に記載の角度測定システム。
【請求項３】
前記非接触角度検出手段は、レーザ干渉計を用いたものであることを特徴とする請求項２に記載の角度測定システム。
【請求項４】
前記規制部材は、前記エンコーダ本体の基準位置を鉛直下方に付勢する錘部材からなることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の角度測定システム。
【請求項５】
エンコーダ本体と、前記エンコーダ本体に対し回転自在な回転軸とを有し、前記エンコーダ本体に対する前記回転軸の相対的な回転角度を検出するロータリエンコーダを用いる角度測定方法であって、
前記エンコーダ本体の前記回転軸周りの絶対的な回転角度を一定範囲内に規制し、
前記エンコーダ本体の前記回転軸周りの絶対的な回転角度を検出し、
前記ロータリエンコーダが検出した回転角度を、前記検出した絶対的な回転角度に基づいて補正することを特徴とする角度測定方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年9月12日(2012.9.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラスチック基材と、前記プラスチック基材の凸面及び凹面からなる両面の少なくとも凸面上に配設された多層膜とを備えた光学部品であって、
前記多層膜は、４００〜５００ｎｍの波長範囲における平均反射率が４．２〜１０％であることを特徴とする光学部品。
【請求項２】
前記多層膜は、５８０〜７８０ｎｍの波長範囲における反射率が１．５％以下である請求項１に記載の光学部品。
【請求項３】
前記プラスチック基材の凹面上に３８０〜７８０ｎｍの波長範囲における平均反射率が１．５％以下の反射防止膜が配設された請求項１又は２に記載の光学部品。
【請求項４】
前記プラスチック基材は、着色され、その透過率が５〜８５％である請求項１〜３のいずれか一項に記載の光学部品。
【請求項５】
前記プラスチック基材から最も遠い前記多層膜の最外層の上に、フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物を含む撥水撥油膜を更に備える請求項１〜４のいずれか一項に記載の光学部品。
【請求項６】
前記フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物は、下記一般式（１）：
【化１】
2012093689.tif 000001
（式（１）中、Ｒｆは炭素数１〜１６の直鎖状又は分岐状パーフルオロアルキル基を表し、Ｙはヨウ素又は水素を表し、Ｙ’は水素または炭素数１〜５の低級アルキル基を表し、Ｙ”はフッ素又はトリフルオロメチル基を表し、Ｒ１は加水分解可能な基を表し、Ｒ２は水素又は不活性な一価の有機基を表し、ａ、ｂ、ｃ、ｄはそれぞれ０〜２００の整数を表し、ｅは０又は１を表し、ｓおよびｔはそれぞれ０〜２の整数を表し、ｗは１〜１０の整数を表す。）
及び下記一般式（２）〜（５）：
【化２】
2012093689.tif 000002
【化３】
2012093689.tif 000003
【化４】
2012093689.tif 000004
【化５】
2012093689.tif 000005
（式（２）〜（５）中、Ｘは酸素又は二価の有機基を表し、Ｘ’は加水分解可能な基を表し、Ｘ”は二価の有機シリコーン基を表し、Ｒ３は炭素数１〜２２の直鎖状又は分岐上アルキレン基を表し、ｑは１〜３の整数を表し、ｍ、ｎ、ｏはそれぞれ０〜２００の整数を表し、ｐは１又は２を表し、ｒは２〜２０の整数を表し、ｋは０〜２の整数を表し、ｚはｋが０又は１である場合に０〜１０の整数を表す。）
及び下記一般式（６）：
【化６】
2012093689.tif 000006
（式（６）中、Ｒｆ２は２価の直鎖状のパーフルオロポリエーテル基を表し、Ｒ４は炭素数１〜４のアルキル基又はフェニル基を表し、Ｒ５は加水分解可能な基を表し、ｉは０〜２の整数を表し、ｊは１〜５の整数を表し、ｕは２又は３を表す。）
の中から選択される１種類以上のフッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物である請求項５に記載の光学部品。
【請求項７】
前記多層膜は、４層以上の多層膜である請求項１〜６のいずれか一項に記載の光学部品。
【請求項８】
前記プラスチック基材と前記多層膜との間に、機能性薄膜を備えたことを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の光学部品。
【請求項９】
前記多層膜を構成する高屈折率材料と低屈折率材料との間に、厚さ２０ｎｍ以下の誘電体膜又は金属膜を備えたことを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載の光学部品。
【請求項１０】
前記高屈折率材料は、二酸化ジルコニウムを含み、前記低屈折率材料は、二酸化珪素を含むことを特徴とする請求項１〜９のいずれか一項に記載の光学部品。
【請求項１１】
眼鏡レンズ用である請求項１〜１０のいずれか一項に記載の光学部品。
【請求項１２】
プラスチック基材と、前記プラスチック基材の凸面及び凹面からなる両面の少なくとも凸面上に配設された多層膜とを備えた光学部品の製造方法であって、
前記プラスチック基材を加熱する工程と、前記加熱によって前記プラスチック基材を所定温度に調整した後、前記プラスチック基材上に前記多層膜を形成する工程を備え、
前記多層膜を形成する工程は、高屈折率材料と低屈折率材料とを交互に複数積層し多層構造の高屈折率層を形成する処理と、前記高屈折率層上に、この高屈折率層より低い屈折率の低屈折率材料からなる低屈折率層を形成する処理と、を有するとともに、
前記多層膜の４００〜５００ｎｍの波長範囲における平均反射率を４．２〜１０％にすることを特徴とする請求項１〜１１のいずれかの一項に記載の光学部品の製造方法。
【請求項１３】
前記多層膜を真空蒸着法を用いて形成する工程を含む請求項１２に記載の光学部品の製造方法。
【請求項１４】
前記多層膜を形成する工程は、前記多層膜を構成する層のうちの少なくとも一層を、イオンビームアシストを施しながら成膜を行う工程を含む請求項１２又は１３に記載の光学部品の製造方法。
【請求項１５】
前記イオンビームアシストは、不活性ガスと、酸素ガス、不活性ガス及び酸素ガスの混合ガスとのうちから選ばれる少なくとも一種のガスを用いて行われる請求項１４に記載の光学部品の製造方法。
【請求項１６】
前記不活性ガスはアルゴンである請求項１５に記載の光学部品の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の光学部品は、プラスチック基材と、前記プラスチック基材の凸面及び凹面からなる両面の少なくとも凸面上に配設された多層膜とを備えた光学部品であって、前記多層膜は、４００〜５００ｎｍの波長範囲における平均反射率が４．２〜１０％であることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、本発明の光学部品の製造方法は、プラスチック基材と、前記プラスチック基材の凸面及び凹面からなる両面の少なくとも凸面上に配設された多層膜とを備えた光学部品の製造方法であって、前記プラスチック基材を加熱する工程と、前記加熱によって前記プラスチック基材を所定温度に調整した後、前記プラスチック基材上に前記多層膜を形成する工程を備え、前記多層膜を形成する工程は、高屈折率材料と低屈折率材料とを交互に複数積層し多層構造の高屈折率層を形成する処理と、前記高屈折率層上に、この高屈折率層より低い屈折率の低屈折率材料からなる低屈折率層を形成する処理と、を有するとともに、前記多層膜の４００〜５００ｎｍの波長範囲における平均反射率を４．２〜１０％にすることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成24年10月11日(2012.10.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルカリ金属酸化物含有量が１５〜２６モル％であるアルカリアルミノシリケート系ガラスからなり、仮想温度Ｔｆからガラス転移温度Ｔｇを減じた差Ｔｆ−Ｔｇが−３２℃以上５℃以下である情報記録媒体用ガラス基板。
【請求項２】
１２０℃、０．２ＭＰａの水蒸気雰囲気下に２０時間保持した時そのガラス表面に析出しているＬｉ量、Ｎａ量、Ｋ量をそれぞれＣＬｉ、ＣＮａ、ＣＫとしてＣＬｉ、ＣＮａおよびＣＫの和ＣＲが７ｎｍｏｌ／ｃｍ２以下である請求項１の情報記録媒体用ガラス基板。
【請求項３】
下記酸化物基準のモル％表示で、ＳｉＯ２を６４〜６７％、Ａｌ２Ｏ３を８〜１０％、Ｌｉ２Ｏを１０〜１３％、Ｎａ２Ｏを９〜１２％、Ｋ２Ｏを０〜２％、ＺｒＯ２を２〜４％含有し、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏの含有量の合計Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏが２１〜２５％である請求項１または２の情報記録媒体用ガラス基板。
【請求項４】
Ｔｆ−Ｔｇが−２５℃以下である請求項１、２または３の情報記録媒体用ガラス基板。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかの情報記録媒体用ガラス基板上に磁気記録層が形成されている磁気ディスク。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月12日(2012.11.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
配列されている複数の操作キーの表面を形成する透明なキートップと、
配列されている複数の操作キーの間隙を形成する透明なトップカバーと、
前記トップカバーの裏面の複数箇所に塗布されていて微細穴群が各々形成されている複数の発色のカバー塗料と、
前記操作キーごとに前記キートップの裏面に塗布されていて微細穴群が各々形成されている前記カバー塗料とは相違する種類のキー塗料と、
複数の前記操作キーの各々の裏面と前記トップカバーの発色が相違する複数箇所の少なくとも一部の裏面とに対向する位置に配置されていて発光する発光デバイスと、
前記発光デバイスが出射する光線を前記トップカバーの複数箇所の少なくとも一部ごとに前記発色に対応した範囲に制限するカバー遮光部材と、
前記発光デバイスが出射する光線を前記操作キーごとに前記キー塗料に対応した透光性で透過するキー調光部材と、
を有する入力操作装置。
【請求項２】
前記発光デバイスが出射する光線を前記操作キーごとに前記キー塗料に対応した範囲に制限するキー遮光部材を、さらに有する請求項１に記載の入力操作装置。
【請求項３】
前記カバー遮光部材と前記キー遮光部材とが一体に形成されている請求項２に記載の入力操作装置。
【請求項４】
前記キー調光部材は、特定の発色の少なくとも一層の塗膜で形成されている請求項１ないし３の何れか一項に記載の入力操作装置。
【請求項５】
前記キー調光部材は、白色の二層の前記塗膜で形成されている請求項４に記載の入力操作装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
なお、当然ながら、上述した実施の形態および複数の変形例は、その内容が相反しない範囲で組み合わせることができる。また、上述した実施の形態および変形例では、各部の構造などを具体的に説明したが、その構造などは本願発明を満足する範囲で各種に変更することができる。
＜付記＞
＜発明１＞
配列されている複数の操作キーの表面を形成する透明なキートップと、
配列されている複数の操作キーの間隙を形成する透明なトップカバーと、
前記トップカバーの裏面の複数箇所に塗布されていてレーザ加工で微細穴群が各々形成されている複数の発色のカバー塗料と、
前記操作キーごとに前記キートップの裏面に塗布されていてレーザ加工で微細穴群が各々形成されている前記カバー塗料とは相違する種類のキー塗料と、
複数の前記操作キーの各々の裏面と前記トップカバーの発色が相違する複数箇所の少なくとも一部の裏面とに対向する位置に配置されていて発光する発光デバイスと、
前記発光デバイスが出射する光線を前記トップカバーの複数箇所の少なくとも一部ごとに前記発色に対応した範囲に制限するカバー遮光部材と、
前記発光デバイスが出射する光線を前記操作キーごとに前記キー塗料に対応した透光性で透過するキー調光部材と、
を有する入力操作装置。
＜発明２＞
前記発光デバイスが出射する光線を前記操作キーごとに前記キー塗料に対応した範囲に制限するキー遮光部材を、さらに有する発明１に記載の入力操作装置。
＜発明３＞
前記カバー遮光部材と前記キー遮光部材とが一体に形成されている発明２に記載の入力操作装置。
＜発明４＞
前記キー調光部材は、特定の発色の少なくとも一層の塗膜で形成されている発明１ないし３の何れかに記載の入力操作装置。
＜発明５＞
前記キー調光部材は、白色の二層の前記塗膜で形成されている発明４に記載の入力操作装置。
【手続補正書】
【提出日】平成24年10月26日(2012.10.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス転移温度が−４０〜−５℃のカルボキシ変性スチレン−ブタジエン系共重合体ラテックス（Ａ）３５〜６０重量％（固形分換算）と、
ガラス転移温度が０〜８０℃のカルボキシ変性スチレン−ブタジエン系共重合体ラテックス（Ｂ）４０〜６５重量％（固形分換算）と
を含む共重合体ラテックスを含有することを特徴とする、電池電極用バインダー。
【請求項２】
カルボキシ変性スチレン−ブタジエン系共重合体ラテックス（Ａ）が、
脂肪族共役ジエン系単量体３７〜７０重量％、
エチレン系不飽和カルボン酸単量体０．１〜１０重量％、
芳香族ビニル系単量体５〜６２．９重量％、および、
これらと共重合可能な他の単量体０〜５７．９重量％
を含む単量体組成物（Ａ）を乳化重合して得られ、
カルボキシ変性スチレン−ブタジエン系共重合体ラテックス（Ｂ）が、
脂肪族共役ジエン系単量体５〜３５重量％、
エチレン系不飽和カルボン酸単量体０．１〜１０重量％、
芳香族ビニル単量体１０〜９４．９重量％、および、
これらと共重合可能な他の単量体０〜８４．９重量％
を含む単量体組成物（Ｂ）を乳化重合して得られることを特徴とする、請求項１に記載の電池電極用バインダー。
【請求項３】
負極構成材に配合され、負極を形成するために用いられることを特徴とする、請求項１または２に記載の電池電極用バインダー。
【請求項４】
正極と、
請求項１または２に記載の電池電極用バインダーを用いて形成された負極と
を備えることを特徴とする、電池。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】電池電極用バインダーおよび電池
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、電池電極用バインダー、詳しくは、二次電池の負極を形成するために用いられる電池電極用バインダー、および、その電池電極用バインダーを用いて形成された負極を有する電池に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
しかし、上記特許文献１〜３に記載のポリマーバインダーや負極活物質層用組成物では、電極シートの圧延時の粘着性、結着力、および、電極シートの耐折れ割れ性が十分でなく、とりわけ、負極形成において顕著である。
本発明の目的は、電極シートの圧延時の粘着性、結着力、および、電極シートの耐折れ割れ性、さらには、電池の容量維持率を改良することができる電池電極用バインダーと、その電池電極用バインダーを用いて形成された負極を有する電池とを提供することにある。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
また、本発明の電池電極用バインダーは、負極構成材（後述）に配合され、負極を形成するために用いられることが好適である。
また、本発明の電池は、正極と、請求項１または２に記載の電池電極用バインダーを用いて形成された負極とを備えることを特徴としている。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４５】
次いで、リチウムイオン二次電池（電池）の製造方法について、図１を参照しながら説明する。
図１は、角型リチウムイオン二次電池の断面図である。
リチウムイオン二次電池は、図１に示すように、角型の電池ケース７、電池ケース７内において交互に積層される正極板１（正極）および負極板２（負極）、正極板１と負極板２との間に介在されるセパレータ３を備えている。なお、電池ケース７内には、電解液（後述）が満たされている。
【手続補正書】
【提出日】平成24年10月15日(2012.10.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シート状のワークを吸引搬送するワーク搬送装置であって、
先端面に気体案内面を有する凹部が形成された搬送ヘッドと、
前記搬送ヘッドに前記凹部内に突出して取り付けられ、前記凹部の前記気体案内面に対向して前記気体案内面との間で気体を前記気体案内面に向けて噴出する環状の気体噴出孔を形成するノズルと、
ワークの形状に対応した形状を有し、前記搬送ヘッドの先端にその外周部外方に迫り出して装着される保持プレートとを有し、
前記気体案内面に案内された気体を前記保持プレートの前面外周部に向けて噴出する複数の気体噴出孔を前記保持プレートに形成し、
前記気体噴出孔から噴出された気体の一部を凹部内に前記ノズルの外周面側から逆流させる気体戻し孔を、前記ノズルの外周面にオーバーラップさせて前記保持プレートに形成し、
ワークの外周エッジに当接してワーク搬送時に前記ワークの前記保持プレートに対する横滑りを防止する突起を前記保持プレートの外周縁部に設けることを特徴とするワーク搬送装置。
【請求項２】
請求項１記載のワーク搬送装置において、前記気体噴出孔は、それぞれ前記ノズルの中心から同一の半径位置に円周方向に間隔を隔てて形成され、前記気体案内面の外周端にまで流れた気体を前記保持プレートの前面外周部に向けて噴出する外側の気体噴出孔と、前記半径位置よりも小さい半径位置に円周方向に間隔を隔てて形成され、前記気体案内面の中間部にまで流れた気体を前記保持プレートの前面外周部に向けて噴出する内側の気体噴出孔とを有すること特徴とするワーク搬送装置。
【請求項３】
請求項２記載のワーク搬送装置において、前記外側の気体噴出孔は、前記搬送ヘッドの前記気体案内面の湾曲部と前記搬送ヘッドの先端面の外周部に環状に形成された取付面との境界部を横断する位置に形成され、前記内側の気体噴出孔は、前記搬送ヘッドの前記気体案内面に対応する位置に形成されることを特徴とするワーク搬送装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載のワーク搬送装置において、前記気体戻し孔は、前記保持プレートの中心部に形成され前記ノズルの外径よりも大径であることを特徴とするワーク搬送装置。
【請求項５】
請求項１〜３のいずれか１項に記載のワーク搬送装置において、前記気体戻し孔を円周方向に間隔を隔てて前記保持プレートに複数形成することを特徴とするワーク搬送装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載のワーク搬送装置において、前記保持プレートは四辺形であることを特徴とするワーク搬送装置。 
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明のワーク搬送装置においては、前記気体噴出孔は、それぞれ前記ノズルの中心から同一の半径位置に円周方向に間隔を隔てて形成され、前記気体案内面の外周端にまで流れた気体を前記保持プレートの前面外周部に向けて噴出する外側の気体噴出孔と、前記半径位置よりも小さい半径位置に円周方向に間隔を隔てて形成され、前記気体案内面の中間部にまで流れた気体を前記保持プレートの前面外周部に向けて噴出する内側の気体噴出孔とを有すること特徴とする。本発明のワーク搬送装置においては、前記外側の気体噴出孔は、前記搬送ヘッドの前記気体案内面の湾曲部と前記搬送ヘッドの先端面の外周部に環状に形成された取付面との境界部を横断する位置に形成され、前記内側の気体噴出孔は、前記搬送ヘッドの前記気体案内面に対応する位置に形成されることを特徴とする。本発明のワーク搬送装置においては、前記気体戻し孔は、前記保持プレートの中心部に形成され前記ノズルの外径よりも大径であることを特徴とする。ワーク搬送装置においては、前記気体戻し孔を円周方向に間隔を隔てて前記保持プレートに複数形成することを特徴とする。本発明のワーク搬送装置においては、前記保持プレートは四辺形であることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成24年2月22日(2012.2.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】装飾部材の取付構造及び電子機器
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
この発明は、電子辞書、携帯電話機、携帯情報端末機などの電子機器に用いられる装飾部材の取付構造、及びこの取付構造を用いた電子機器に関する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
この発明が解決しようとする課題は、別部品を用いず、少ない部品点数で、機器ケースの厚みが厚くならず、環状の装飾部材を簡単に取り付けることができる装飾部材の取付構造、及びこの取付構造を用いた電子機器を提供することである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
この発明は、上記課題を解決するために、次のような構成を備えている。
請求項１に記載の発明は、機器ケースの表面に設けられた環状の装着溝部と、この装飾溝部に取り付けられる環状の装飾部材とを備え、前記装飾部材の周面には、弾性突起部と複数の係合突起部とが設けられており、前記装着溝部の内面には、前記装飾部材が前記装着溝部に挿入された状態で前記装着溝部に沿って回転した際に、前記装飾部材の回転移動に応じて、前記弾性突起部が係合する第１の係止凹部と、前記複数の係合突起部がそれぞれ係合する複数の第２の係止凹部とが設けられていることを特徴とする装飾部材の取付構造である。
また、請求項９に記載の発明は、機器ケースの表面に環状の装飾部材が設けられる電子機器であって、前記機器ケースには、前記装飾部材に対応する環状の装着溝部が設けられ、前記装飾部材の周面には、弾性突起部と複数の係合突起部とが設けられており、前記装着溝部の内面には、前記装飾部材が前記装着溝部に挿入された状態で前記装着溝部に沿って回転した際に、前記装飾部材の回転移動に応じて、前記弾性突起部が係合する第１の係止凹部と、前記複数の係合突起部がそれぞれ係合する複数の第２の係止凹部とが設けられていることを特徴とする電子機器である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
この発明によれば、機器ケースの表面に環状の装飾部材を取り付ける際に、機器ケースの表面に設けられた環状の装着溝部内に、環状の装飾部材を挿入させて環状の装着溝部に沿って回転移動させると、この装飾部材の回転移動に応じて、装飾部材の弾性突起部が装着溝部の第１の係止凹部に係脱可能に係止されると共に、装飾部材の複数の係合突起部が装着溝部の複数の第２の係止凹部にそれぞれ係脱可能に係止され、これにより装飾部材を機器ケースに取り付けることができる。このため、別部品を用いず、少ない部品点数で、機器ケースの厚みが厚くならず、環状の装飾部材を簡単に取り付けることができる
【手続補正６】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
機器ケースの表面に設けられた環状の装着溝部と、この装飾溝部に取り付けられる環状の装飾部材とを備え、
前記装飾部材の周面には、弾性突起部と複数の係合突起部とが設けられており、
前記装着溝部の内面には、前記装飾部材が前記装着溝部に挿入された状態で前記装着溝部に沿って回転した際に、前記装飾部材の回転移動に応じて、前記弾性突起部が係合する第１の係止凹部と、前記複数の係合突起部がそれぞれ係合する複数の第２の係止凹部とが設けられていることを特徴とする装飾部材の取付構造。
【請求項２】
前記弾性突起部は、前記装飾部材の外周面から弾性変形可能に突出して設けられた弾性変形部と、この弾性変形部にその外周側に向けて突出して設けられた係合凸部とを備えており、
前記第１の係止凹部は、前記装着溝部の底部に設けられて前記弾性突起部が挿入してスライドするスライド孔部と、前記機器ケースの下面に前記スライド孔部から連続して設けられて前記弾性突起部がスライド可能に配置されるスライド凹部と、このスライド凹部の内面に設けられて前記係合凸部が係脱可能に係合して前記弾性突起部を位置規制する複数の位置規制凹部とを備えていることを特徴とする請求項１に記載の装飾部材の取付構造。
【請求項３】
前記複数の係合突起部は、それぞれ前記装飾部材の所定箇所における下部から側方に突出して設けられており、
前記複数の第２の係止凹部は、前記装着溝部の底部にそれぞれ設けられ、前記複数の係合突起部がそれぞれ挿入してスライドする複数のスライド孔部と、この複数のスライド溝部に対応する前記装着溝部内の側面部にそれぞれ設けられ、前記装飾部材が前記装着溝部に沿って回転移動した際に、前記装飾部材の回転移動に応じて、前記複数の係合突起部の上面をそれぞれ係脱可能に係止する複数の係止部とを備えていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の装飾部材の取付構造。
【請求項４】
前記装着溝部で囲われた領域内に位置する前記機器ケースの表面には、複数のキー開口部が設けられており、この複数のキー開口部内には、複数のキートップが出没可能に配置されていることを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれかに記載の装飾部材の取付構造。
【請求項５】
前記機器ケース内には、前記複数のキートップが設けられたキーシートが配置されており、このキーシートには、前記装飾部材の回転移動を阻止するためる回転防止部が設けられていることを特徴とする請求項４に記載の装飾部材の取付構造。
【請求項６】
前記装飾部材には、金属めっきが施されており、この金属めっきが施された前記装飾部材の前記弾性突起部は、弾性変形し易く形成されていることを特徴とする請求項１〜請求項５のいずれかに記載の装飾部材の取付構造。
【請求項７】
前記装着溝部が設けられた箇所における前記機器ケースには、前記弾性突起部を押圧して前記装飾部材を回転移動させるための先細部材が挿入する回転操作凹部が設けられていることを特徴とする請求項１〜請求項６のいずれかに記載の装飾部材の取付構造。
【請求項８】
前記装飾部材の回転移動に応じてスイッチ動作するスイッチ部を備えていることを特徴とする請求項１〜請求項７のいずれかに記載の装飾部材の取付構造。
【請求項９】
機器ケースの表面に環状の装飾部材が設けられる電子機器であって、
前記機器ケースには、前記装飾部材に対応する環状の装着溝部が設けられ、
前記装飾部材の周面には、弾性突起部と複数の係合突起部とが設けられており、
前記装着溝部の内面には、前記装飾部材が前記装着溝部に挿入された状態で前記装着溝部に沿って回転した際に、前記装飾部材の回転移動に応じて、前記弾性突起部が係合する第１の係止凹部と、前記複数の係合突起部がそれぞれ係合する複数の第２の係止凹部とが設けられていることを特徴とする電子機器。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月14日(2012.11.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
減圧可能に構成され，上部電極と下部電極が対向して配置された処理室内において，前記電極間に高周波電力を印加して所定のガスのプラズマを生起することで前記下部電極上に載置された基板に対して所定の処理を施す基板処理方法であって，
被エッチング膜上に形成された反射防止膜上に，複数の開口部を有するレジストパターンが形成された前記基板に対して，前記被エッチング膜をエッチングする前に前記レジストパターンの各開口部の側壁に堆積物を堆積させるステップを有し，
前記堆積ステップは，前記処理室内の圧力を１００ｍＴｏｒｒ以上にし，ＣＨＦ系ガスを１０００ｓｃｃｍ以上導入してプラズマを生起することを特徴とする基板処理方法。
【請求項２】
前記ＣＨＦ系ガスはＣＨＦ３ガスであることを特徴とする請求項１に記載の基板処理方法。
【請求項３】
前記堆積ステップにおける前記ＣＨＦ３ガスの流量は，１５００ｓｃｃｍ以上３０００ｓｃｃｍ以下であることを特徴とする請求項２に記載の基板処理方法。
【請求項４】
前記堆積ステップにおける前記処理室内の圧力は，１５０ｍＴｏｒｒ以上であることを特徴とする請求項３に記載の基板処理方法。
【請求項５】
前記堆積ステップにおける前記処理ガスのレジデンスタイムは０．１秒以下であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の基板処理方法。
【請求項６】
前記基板の被エッチング膜と反射防止膜との間には，下層レジスト膜が形成されていることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の基板処理方法。
【請求項７】
減圧可能に構成され，上部電極と下部電極が対向して配置された処理室内において，前記電極間に高周波電力を印加して所定のガスのプラズマを生起することで前記下部電極上に載置された基板に対して所定の処理を施す基板処理装置であって，
前記下部電極に所定の高周波電力を印加する電力供給装置と，
前記処理室内に所定のガスを供給するガス供給部と，
前記処理室内を排気して所定の圧力に減圧する排気部と，
被エッチング膜上に形成された反射防止膜上に，複数の開口部を有するレジストパターンが形成された前記基板に対して，前記被エッチング膜をエッチングする前に前記レジストパターンの各開口部の側壁に堆積物を堆積させるステップを実行する制御部を，備え，
前記制御部は，前記堆積ステップにおいて前記処理室内の圧力を１００ｍＴｏｒｒ以上にし，ＣＨＦ系ガスを１０００ｓｃｃｍ以上導入してプラズマを生起することを特徴とすることを特徴とする基板処理装置。
【請求項８】
前記ＣＨＦ系ガスはＣＨＦ３ガスであることを特徴とする請求項７に記載の基板処理装置。
【請求項９】
前記堆積ステップにおける前記ＣＨＦ３ガスの流量は，１５００ｓｃｃｍ以上３０００ｓｃｃｍ以下であることを特徴とする請求項８に記載の基板処理装置。
【請求項１０】
前記堆積ステップにおける前記処理室内の圧力は，１５０ｍＴｏｒｒ以上であることを特徴とする請求項９に記載の基板処理装置。
【請求項１１】
前記堆積ステップにおける前記処理ガスのレジデンスタイムは０．１秒以下であることを特徴とする請求項７〜１０のいずれかに記載の基板処理装置。
【請求項１２】
前記基板の被エッチング膜と反射防止膜との間には，下層レジスト膜が形成されていることを特徴とする請求項７〜１０のいずれかに記載の基板処理装置。
【請求項１３】
請求項１に記載の堆積ステップを実行するプログラムを記録したことを特徴とするコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成24年10月12日(2012.10.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レジストが上面に塗布された試料に荷電粒子ビームを照射することにより、描画データに含まれている複数の図形に対応する複数のパターンを試料のレジストに描画する描画部と、
荷電粒子ビームにより描画されるパターンの面積密度分布を算出するパターン面積密度分布算出部と、
前記パターン面積密度分布とレジスト内における荷電粒子の後方散乱率とに基づいてドーズ量分布を算出するドーズ量分布算出部と、
前記パターン面積密度分布と前記ドーズ量分布との積である照射量分布を算出する照射量分布算出部と、
前記照射量分布とかぶり荷電粒子分布とのコンボリューション計算を実行するかぶり荷電粒子量分布算出部と、
パターンを描画するために照射される荷電粒子ビームの照射時刻を算出する照射時刻算出部と、
経過時間を算出する経過時間算出部と、
荷電粒子ビームの照射により帯電せしめられる試料のレジストの帯電量分布を算出する帯電量分布算出部と、
前記帯電量分布と位置ずれ応答関数とのコンボリューション計算を実行する位置ずれ量マップ算出部と、
前記パターン面積密度分布算出部における演算、前記ドーズ量分布算出部における演算、前記照射量分布算出部における演算、前記照射時刻算出部における演算、前記経過時間算出部における演算、および、前記帯電量分布算出部における演算に用いられる中央演算処理部と、
前記かぶり荷電粒子量分布算出部における演算および前記位置ずれ量マップ算出部における演算に用いられ、前記中央演算処理部よりも速い演算処理速度を有する高速演算処理部とを具備することを特徴とする荷電粒子ビーム描画装置。
【請求項２】
前記帯電量分布算出部が、第１帯電領域と、第１帯電領域のメッシュサイズよりも大きいメッシュサイズを有する第２帯電領域とを含む帯電量分布マップを算出し、
前記高速演算処理部が、前記帯電量分布マップの第１帯電領域のメッシュサイズで記述された帯電量分布と前記帯電量分布マップの第１帯電領域に対応する位置ずれ応答関数とのコンボリューション計算を実行するために用いられる第１演算ユニットと、前記帯電量分布マップの第２帯電領域のメッシュサイズで記述された帯電量分布と前記帯電量分布マップの第２帯電領域に対応する位置ずれ応答関数とのコンボリューション計算を実行するために用いられる第２演算ユニットとを有することを特徴とする請求項１に記載の荷電粒子ビーム描画装置。
【請求項３】
前記高速演算処理部が、位置ずれ量のｘ方向の成分を算出するための位置ずれ応答関数と帯電量分布とのコンボリューション計算を実行するために用いられる第１演算ユニットと、位置ずれ量のｙ方向の成分を算出するための位置ずれ応答関数と帯電量分布とのコンボリューション計算を実行するために用いられる第２演算ユニットとを有することを特徴とする請求項１に記載の荷電粒子ビーム描画装置。
【請求項４】
前記照射量分布算出部が、第１照射量分布マップと、前記第１照射量分布マップのメッシュサイズよりも大きいメッシュサイズを有する第２照射量分布マップとを算出し、
前記かぶり荷電粒子量分布算出部が、第１ガウシアン分布と、前記第１ガウシアン分布のかぶり散乱半径よりも大きいかぶり散乱半径を有する第２ガウシアン分布との和としてかぶり荷電粒子分布を設定し、
前記高速演算処理部が、前記第１照射量分布マップのメッシュサイズで記述された第１照射量分布と前記第１ガウシアン分布とのコンボリューション計算を実行するために用いられる第１演算ユニットと、前記第２照射量分布マップのメッシュサイズで記述された第２照射量分布と前記第２ガウシアン分布とのコンボリューション計算を実行するために用いられる第２演算ユニットとを有することを特徴とする請求項１に記載の荷電粒子ビーム描画装置。
【請求項５】
レジストが上面に塗布された試料に荷電粒子ビームを照射することにより、描画データに含まれている複数の図形に対応する複数のパターンを試料のレジストに描画する荷電粒子ビーム描画装置の帯電効果補正方法において、
荷電粒子ビームにより描画されるパターンの面積密度分布を算出する演算を、中央演算処理部を用いて実行し、
前記パターン面積密度分布とレジスト内における荷電粒子の後方散乱率とに基づいてドーズ量分布を算出する演算を、中央演算処理部を用いて実行し、
前記パターン面積密度分布とドーズ量分布との積である照射量分布を算出する演算を、中央演算処理部を用いて実行し、
前記照射量分布とかぶり荷電粒子分布とのコンボリューション計算を、前記中央演算処理部よりも速い演算処理速度を有する高速演算処理部を用いて実行し、
パターンを描画するために照射される荷電粒子ビームの照射時刻を算出する演算を、中央演算処理部を用いて実行し、
経過時間を算出する演算を、中央演算処理部を用いて実行し、
荷電粒子ビームの照射により帯電せしめられる試料のレジストの帯電量分布を算出する演算を、中央演算処理部を用いて実行し、
前記帯電量分布と位置ずれ応答関数とのコンボリューション計算を、高速演算処理部を用いて実行することを特徴とする荷電粒子ビーム描画装置の帯電効果補正方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年10月10日(2012.10.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体素子搭載部又は電極部となる金属部を有し、当該金属部表面にメッキにより表面金属層を形成され、金属部表面側への半導体素子搭載及び配線、封止材による封止がなされ、装置底部に前記金属部の裏面側が露出した状態とされる半導体装置において、
前記金属部の非配置部分に対応させて形成されるレジスト層を備え、
前記表面金属層が、表面の光沢度がＧＡＭ光沢度で１．０以上となる光沢メッキとして形成され、
前記レジスト層が、前記表面金属層のメッキで使用するメッキ液に対する耐溶解性を備えた絶縁性材で形成されてなり、前記封止材による封止に伴って封止材と密着一体化し、装置外装の一部となることを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
前記請求項１に記載の半導体装置において、
前記金属部が、前記レジスト層以下の厚さとして形成され、
前記表面金属層が、前記レジスト層表面を越える厚さを有し、且つ上端周縁に張出し部を有する形状として形成され、
前記張出し部が、封止材による封止に伴ってレジスト層と封止材で挟まれて固定されることを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
装置底部に半導体素子搭載部又は電極部となる金属部が露出する半導体装置の製造に用いられ、導電性を有する母型基板上に前記金属部及び当該金属部の非配置部分に対応するレジスト層がそれぞれ形成され、前記金属部表面にメッキにより表面金属層を形成されてなる半導体装置用基板において、
前記表面金属層が、表面の光沢度がＧＡＭ光沢度で１．０以上となる光沢メッキとして形成され、
前記レジスト層が、前記表面金属層のメッキで使用するメッキ液に対する耐溶解性を備えた絶縁性材で形成されてなることを特徴とする半導体装置用基板。
【請求項４】
導電性を有する母型基板上に、金属部の非配置部分に対応するレジスト層を形成した後、電鋳で前記金属部を形成し、さらに当該金属部表面にメッキにより表面金属層を形成して、金属部表面側への半導体素子搭載及び配線が可能な半導体装置用基板を得る半導体装置用基板の製造方法において、
前記表面金属層を、表面の光沢度がＧＡＭ光沢度で１．０以上となる光沢メッキで形成すると共に、
前記レジスト層を、前記表面金属層のメッキで使用するメッキ液に対する耐溶解性を備えた絶縁性材であらかじめ形成し、前記金属部及び表面金属層の形成後も除去せずに残すことを特徴とする半導体装置用基板の製造方法。
【請求項５】
前記請求項３に記載の半導体装置用基板、又は、前記請求項４に記載の半導体装置用基板の製造方法で製造された半導体装置用基板に対し、金属部上への半導体素子搭載及び配線、封止材による封止を行い、
前記レジスト層を、封止材による封止を経て封止材と密着一体化させた後で、前記金属部の裏面側を覆う母型基板を除去して、装置底部に前記金属部の裏面側が露出した状態を得ることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年8月20日(2012.8.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シリコン基板部と、
前記シリコン基板部の下面側に突出して設けられ、先端部にシリコン酸化層が形成されたシリコン転写ピンと、
前記シリコン転写ピンの付け根部に設けられて、上下方向に収縮する弾性樹脂層とを有し、フラックスを供給することを特徴とする粘着材供給装置。
【請求項２】
前記弾性樹脂層は、前記シリコン転写ピンの前記付け根部から前記シリコン基板部の下面全体に設けられていることを特徴とする請求項１に記載の粘着材供給装置。
【請求項３】
シリコン基板部と、
前記シリコン基板部の下面側に突出して設けられたシリコン転写ピンと、
前記シリコン転写ピンの先端部に設けられ、シリコンよりもフラックスの濡れ性がよい上下方向に収縮する弾性樹脂層とを有し、前記フラックスを供給することを特徴とする粘着材供給装置。
【請求項４】
前記弾性樹脂層は、表面が粗化面となっていることを特徴とする請求項３に記載の粘着材供給装置。
【請求項５】
前記シリコン転写ピンと前記弾性樹脂層との間にシリコン酸化層が形成されていることを特徴とする請求項３に記載の粘着材供給装置。
【請求項６】
厚み方向に貫通する供給穴を備えたシリコン基板部と、
前記シリコン基板部の下面側に突出して設けられ、前記供給穴に連通する吐出穴を内部に備えたシリコンノズルと、
前記シリコンノズルの付け根部に設けられて前記供給穴及び前記吐出穴に連通する開口部を内部に備え、上下方向に収縮する弾性樹脂層とを有することを特徴とする粘着材供給装置。
【請求項７】
厚み方向に貫通する供給穴を備えたシリコン基板部と、
前記シリコン基板部の下面側に突出して設けられ、前記供給穴に連通する吐出穴を内部に備えたシリコンノズルと、
前記シリコンノズルの先端部に設けられて前記吐出穴に連通する開口部を内部に備え、上下方向に収縮する弾性樹脂層とを有することを特徴とする粘着材供給装置。
【請求項８】
前記弾性樹脂層は、前記シリコンノズルの付け根部から前記シリコン基板部の下面全体に設けられていることを特徴とする請求項６に記載の粘着材供給装置。
【請求項９】
前記弾性樹脂層は、表面が粗化面となっていることを特徴とする請求項７に記載の粘着材供給装置。
【請求項１０】
シリコンウェハの一方の面に感光性樹脂をパターン化して形成する工程と、
前記感光性樹脂をマスクにして前記シリコンウェハを厚みの途中までエッチングすることにより、前記シリコンウェハから突出して設けられて、先端部に前記感光性樹脂からなる弾性樹脂層が形成されたシリコン転写ピンを形成する工程と有することを特徴とする粘着材供給装置の製造方法。
【請求項１１】
前記シリコンウェハと前記感光性樹脂との間にシリコン酸化層が形成されていることを特徴とする請求項１０に記載の粘着材供給装置の製造方法。
【請求項１２】
少なくとも一方の面にシリコン酸化層が形成された第１シリコンウェハの他方の面に、弾性樹脂層を介して第２シリコンウェハが貼り付けられた構造を作成する工程と、
前記第１シリコンウェハの一方の面側から前記シリコン酸化層及び前記第１シリコンウェハを貫通加工してパターン化することにより、前記弾性樹脂層から突出して設けられて、先端部に前記シリコン酸化層が設けられたシリコン転写ピンを得る工程とを有することを特徴とする粘着材供給装置の製造方法。
【請求項１３】
シリコンウェハの一方の面に供給穴を形成するためのマスクとして機能する第１感光性樹脂をパターン化して形成すると共に、シリコンウェハの他方の面に前記供給穴に連通するシリコンノズルを形成するためのマスクとして機能する第２感光性樹脂をパターン化して形成する工程と、
前記シリコンウェハの両面側から前記第１感光性樹脂及び第２感光性樹脂をマスクにして前記シリコンウェハをそれぞれエッチングすることにより、厚み方向に貫通する前記供給穴を備えたシリコン基板部と、前記供給穴に連通する吐出穴を備えて、前記シリコン基板部から突出して設けられた前記シリコンノズルを得る工程とを有し、
前記シリコンノズルの先端部に前記第２感光性樹脂を残すことを特徴とする粘着材供給装置の製造方法。
【請求項１４】
第１シリコンウェハを厚み方向に貫通加工することにより、供給穴を形成する工程と、
前記第１シリコンウェハの一方の面に前記供給穴に連通する開口部が設けられた弾性樹脂層を形成する工程と、
前記弾性樹脂層の露出面に第２シリコンウェハを貼り付ける工程と、
前記第２シリコンウェハをその露出面から厚み方向に貫通加工してパターン化することにより、前記弾性樹脂層の前記開口部に連通する吐出穴を内部に備えたシリコンノズルを前記弾性樹脂層から突出させて形成する工程とを有することを特徴とする粘着材供給装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
上記課題を解決するため、本発明は粘着材供給装置に係り、シリコン基板部と、前記シリコン基板部の下面側に突出して設けられ、先端部にシリコン酸化層が形成されたシリコン転写ピンと、前記シリコン転写ピンの付け根部に設けられて、上下方向に収縮する弾性樹脂層とを有し、フラックスを供給することを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８０】
図６（ａ）に示すように、まず、シリコンウェハ１０ａの一方の面にレジスト１８をフォトリソグラフィでパターン化して形成する。次いで、図６（ｂ）に示すように、レジスト１８をマスクにしてシリコンウェハ１０ａを異方性ドライエッチングによって厚みの途中まで加工することにより、シリコン転写ピン１２を得る。その後に、図６（ｃ）に示すように、レジスト１８を除去する。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月5日(2012.11.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録媒体に文字を印刷する記録装置に接続可能な制御装置であって、
前記記録装置は、記録媒体に文字を印刷する際に使用するフォントデータが複数格納されたフォント群を複数記憶しており、
前記記録装置に指定するもので、１つのフォント群により構成される複数の汎用文字コードに対し、前記記録装置側の当該汎用文字コードに対応するフォントデータが含まれているフォント群を示す情報、および、当該フォント群における当該フォントデータの格納位置を示す情報とを対応づけた文字コード変換テーブルを作成又は更新するテーブル処理部を備えたこと、
を特徴とする制御装置。
【請求項２】
前記文字コード変換テーブルを記憶する記憶部を備え、
前記所定の汎用文字コードと、当該汎用文字コードに対応する前記記録装置側のフォント群とを対応づけたフォント群情報を記憶するフォント群情報記憶部をさらに備え、
前記テーブル処理部は、前記フォント群情報記憶部により記憶された前記フォント群情報に基づいて、前記汎用文字コードと、前記記録装置側の当該汎用文字コードに対応するフォントデータが含まれているフォント群を示す情報と、当該フォント群における当該フォントデータの格納位置を示す情報とを対応づけて前記記憶部に格納した文字コード変換テーブルを作成又は更新すること、
を特徴とする請求項１に記載の制御装置。
【請求項３】
前記記録装置に対する文字の記録を指示する記録ジョブが発生した場合に、前記テーブル処理部により作成又は更新された前記文字コード変換テーブルに基づいて、当該記録ジョブに含まれる前記汎用文字コードを、当該汎用文字コードに対応するフォントデータが含まれているフォント群を示す情報及び当該フォント群における当該フォントデータの格納位置を示す情報を含むフォントデータ位置情報に変換する変換処理部を備えたこと、
を特徴とする請求項１又は２記載の制御装置。
【請求項４】
同一のフォントデータが異なる複数の前記フォント群に格納されている場合であって、
前記変換処理部は、前記記録ジョブに前記汎用文字コードが複数含まれている場合、所定の順序で前記汎用文字コードを前記フォントデータ位置情報に変換すると共に、１の汎用文字コードの変換に際し、前記複数のフォント群の中から、直近に変換した当該１の汎用文字コードに対応するフォントデータが格納されたフォント群を優先して、当該１の汎用文字コードに対応するフォントデータが格納されているか否かを判別し、格納されている場合は、当該１の汎用文字コードを、当該フォント群を示す情報を使用して、当該フォント群における当該フォントデータの格納位置を示す情報を含むフォントデータ位置情報に変換すること、
を特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の制御装置。
【請求項５】
前記汎用文字コードと、前記フォント群に格納されたフォントデータの編集が可能に構成されたことを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の制御装置。
【請求項６】
前記記録装置から前記記録装置が記憶している複数の前記フォント群を示す情報を取得し、前記フォント群情報を複数の前記フォント群に対応させて更新するフォント群情報更新処理部を備えたこと、
を特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の制御装置。
【請求項７】
記録媒体に文字を印刷するもので、フォントデータが複数格納されたフォント群を複数記憶した記録装置に接続可能な制御装置の制御方法であって、
前記記録装置に指定するもので、１つのフォント群により構成される複数の汎用文字コードに対し、前記記録装置側の当該汎用文字コードに対応するフォントデータが含まれているフォント群を示す情報、および、当該フォント群における当該フォントデータの格納位置を示す情報とを対応づけた文字コード変換テーブルを作成又は更新し、この文字コード変換テーブルに基づいて、前記汎用文字コード文字を、当該汎用文字コード文字に対応するフォントデータが含まれているフォント群を示す情報及び当該フォント群における当該フォントデータの格納位置を示す情報を含むフォントデータ位置情報に変換すること、
を特徴とする制御装置の制御方法。
【請求項８】
記録媒体に文字を印刷するもので、フォントデータが複数格納されたフォント群を複数記憶した記録装置に接続可能な制御装置の各部を制御する制御部により実行されるプログラムであって、
前記制御部を、
前記記録装置に指定するもので、１つのフォント群により構成される複数の汎用文字コードに対し、前記記録装置側の当該汎用文字コードに対応するフォントデータが含まれているフォント群を示す情報、および、当該フォント群における当該フォントデータの格納位置を示す情報とを対応づけた文字コード変換テーブルを作成又は更新するテーブル処理部として機能させること、
を特徴とするプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】制御装置、制御装置の制御方法、及び、プログラム
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、記録媒体に文字を記録する記録装置を制御する制御装置、制御装置の制御方法、及び、プログラムに関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
汎用文字コードには、Ｕｎｉｃｏｄｅのように多言語に亘る複数の文字を単一の文字コード体系で取り扱う汎用文字コードが存在するが、このような汎用文字コードによって規定される汎用文字コード文字が多岐に渡る。このため、汎用文字コードによって規定される汎用文字コード文字と、プリンターが実際にフォント群によって記憶するフォントデータとを適切に対応させたいとするニーズがある。
本発明は、上述した事情に鑑みてなされたものであり、記録装置に汎用文字コード文字に係る文字を記録させる際、汎用文字コード文字と、プリンターに実際に記憶されたフォントデータとを適切に対応させた上で文字を記録させることが可能な制御装置、制御装置の制御方法、及び、プログラムを提供することを目的とする。
【手続補正書】
【提出日】平成24年3月5日(2012.3.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定のエリアにおける特別な事象の発生の有無を検知する事象検知装置であって、
前記所定のエリアにおいて推定される人口を示す推定人口情報を取得する推定取得手段と、
人口の変化状況に関して前記所定のエリアと相関関係を有する相関エリアの、特別な事象の有無を検知する対象となる前記予測対象時間帯において推定される人口に基づく基準値と、前記予測対象時間帯において前記推定取得手段によって取得された前記推定人口情報とを比較する比較手段と、
前記比較手段によって、前記相関エリアの前記予測対象時間帯において推定される人口と、前記予測対象時間帯における前記推定人口情報が示す人口との相関係数が所定値未満となった場合に、前記特別な事象が発生したと検知する検知手段と、
を備えることを特徴とする事象検知装置。
【請求項２】
前記推定取得手段は、前記所定のエリアにおいて所定時間内に携帯端末による位置登録処理が行われた処理件数に関する件数情報を、前記推定人口情報として取得することを特徴とする請求項１に記載の事象検知装置。
【請求項３】
前記比較手段は、人口の変化状況に関して前記所定のエリアと相関関係を有する相関エリアを検索し、当該相関エリアの前記予測対象時間帯において推定される人口を前記基準値とすることを特徴とする請求項1又は２に記載の事象検知装置。
【請求項４】
所定のエリアにおける特別な事象の発生の有無を検知する事象検知装置が行なう事象検知方法であって、
前記所定のエリアにおいて推定される人口を示す推定人口情報を前記事象検知装置が取得する推定取得ステップと、
人口の変化状況に関して前記所定のエリアと相関関係を有する相関エリアの、特別な事象の有無を検知する対象となる前記予測対象時間帯において推定される人口に基づく基準値と、前記予測対象時間帯において前記推定取得ステップで取得された前記推定人口情報とを前記事象検知装置が比較する比較ステップと、
前記比較ステップで、前記相関エリアの前記予測対象時間帯において推定される人口と、前記予測対象時間帯における前記推定人口情報が示す人口との相関係数が所定値未満となった場合に、前記特別な事象が発生したと前記事象検知装置が検知する検知ステップと、
を有することを特徴とする事象検知方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】事象検知装置及び事象検知方法