【事件の表示】
　特願２００５−　５９６５８「ファイバグレーティングの製造方法及び製造装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１８年　９月１４日出願公開、特開２００６−２４３４００〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
Ｉ．手続の経緯
　本願は、平成１７年３月３日の出願であって、平成２０年９月１日付け及び同年１２月４日付けで手続補正がなされたが、この１２月４日付け手続補正は同年１２月２５日付けで却下されるとともに同日付けで拒絶査定がなされ、これに対して平成２１年２月１９日に拒絶査定不服審判が請求されるとともに、同年３月６日付けで手続補正がなされたものである。
　
II．平成２１年３月６日付け手続補正についての補正却下の決定
［Ｉ］補正却下の決定の結論
　平成２１年３月６日付け手続補正を却下する。
　
［II］理由
１．本件補正の内容
　平成２１年３月６日付け手続補正（以下「本件補正」という。）は、本願特許請求の範囲の請求項１を次のとおりに補正することを含むものである。
「【請求項１】
　位相マスクを介して光ファイバに紫外線を照射することによって、１５５０ｎｍ帯における反射減衰量が４０ｄB以上のファイバグレーティングを製造する方法であって、
前記紫外線を前記位相マスクを介して光ファイバの長手方向に垂直に照射し、プラスマイナス１次光により形成された干渉縞により前記光ファイバの長手方向にはｓｉｎ状に変化する屈折率プロファイルを形成し、
前記位相マスクと前記光ファイバの間隔を、プラスマイナス１次光以外の回折光の位相を変化させ位相の異なる干渉縞を互いに打ち消し合うように、光ファイバの長手方向に対して垂直方向に所定量変化させる変調動作を加え、
波長１６５０ｎｍ帯にブラッグ波長を設定すると共に前記紫外線の照射を１６５０ｎｍ波長帯域の透過損失（アイソレーション）が３１ｄＢを越えた時点で終了することを特徴とするファイバグレーティングの製造方法。」
　
　そして、本件補正は、平成１８年法律第５５号による改正前の特許法（以下「平成１８年改正前特許法」という。）第１７条の２第４項第２号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とするものであると認められるので、以下に、本件補正後の請求項１に係る発明（以下「本願補正発明」という。）について独立特許要件の検討を行う。
　
２．引用例
　原査定の拒絶理由に引用された特開２００１−１８３５３５号公報（以下「引用例」という。）には、図とともに次の記載がある。
　
「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光通信システム中で用いられるファイバグレーティング（ＦＢＧ）に係わり、特に反射中心波長以外の波長の光を伝播させる用途、たとえば通信光に1550nm帯の光を用い、監視光に1650nm帯の光を用いるシステムで使用される1650nm帯の光を遮断するフィルタとしてのファイバグレーティングに関する。
【０００２】
【従来の技術】ファイバグレーティングはファイバコアの屈折率を周期的に変化させたものであり、ファイバ中を伝播する光のうちファイバコアの屈折率変化の周期とコアの屈折率に依存した特定の波長を反射する機能を持つものである。
【０００３】ファイバグレーティングの作製方法としては位相マスクを用いる方法、ホログラフィック干渉を用いる方法がある。何れの方法も光の干渉による干渉縞を利用してファイバコアに周期的な屈折率変化を起こさせる。
【０００４】ファイバグレーティング作製に用いられる光は、その光の照射によってファイバコアの屈折率を増大あるいは減少させるものが望ましい。一般に光通信に使用されているＧｅドープコアを持つファイバでは、紫外光照射によってファイバコアの屈折率が増大するので、ファイバグレーティング作製には紫外光が利用されている。
【０００５】ファイバグレーティング作製の再現性、波長特性の制御性は位相マスクを用いる方法が優れており、ホログラフィック干渉を用いる方法よりも位相マスクを用いる方法が多く利用されている。
【０００６】位相マスクは、石英ガラスなどの紫外光が透過可能な材質の板材の表面に周期的な溝を形成した物である。この位相マスクに光を照射すると周期的な溝によって光が特定の方向に回折される。
【０００７】位相マスクを用いてファイバグレーティングを作製する場合、紫外光を位相マスクに照射し、位相マスクによって回折した紫外光の＋１次、−１次回折光の二光束干渉によって形成される干渉縞にファイバを曝し、ファイバ中に周期的な屈折率変化を起こさせる（図１（ａ））。なお、U．S． Patent No. ５，６１９，６０３参照。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、位相マスクに紫外光を照射した場合、実際には＋１次、−１次回折光以外に０次、＋２次、−２次、…などの回折光が存在する（図１（ｂ））。これらの回折光の二光束干渉によっても当然干渉縞が形成される。＋１次、−１次以外の組合せによる回折光の干渉縞によって起きるファイバコアの周期的な屈折率変化は、ファイバグレーティングの光学特性を劣化させる。具体的には、必要としている反射波長以外の波長で、不必要な損失を生じさせる。強いファイバグレーティングを作製する場合、これらの＋１次、−１次以外の組合せによる回折光の干渉縞は無視できなくなる。
【０００９】これは、＋１次、−１次回折光の組合せ以外による干渉縞の多くがファイバの光伝播方向に対して９０°以外の角度を有することに起因する。＋１次、−１次回折光の組合せによる干渉縞はファイバの光伝播方向に対して９０°の角度を有しており、ファイバコアを伝播する特定の光を伝播方向と反対の方向に反射させる。一方、干渉縞がファイバの光伝播方向に対して９０°以外の角度を有する場合、伝播してきた特定の光をファイバコアの外に反射させうる。このため、ファイバコアを特定の波長が伝播出来なくなり、結果として損失を生ずる（図３（ｂ）、図４）。
【００１０】本発明は上述した難点に鑑みなされたもので、必要としている反射波長以外の波長で、不必要な損失を生じさせないファイバグレーティングを提供することを目的としている。」
　
「【００６０】＜実施例＞紫外光を位相マスクを介してファイバにビーム照射し±１次回折光の二光束干渉によって式１〜式３にしたがってファイバの光伝播方向に対して垂直方向に生じる干渉縞を生成すると共に、紫外光のビーム照射中に位相マスクおよびファイバの一方を他方に対して相対的に移動してファイバグレーティングを作製した（図２）。
【００６１】ＦＢＧ作製中に位相マスクがファイバに対して垂直に移動した場合（式５）、±１次光の干渉縞はファイバに対して垂直に形成されるので、ＦＢＧの形成される箇所は移動しない（図２（ａ））。一方、±１次回折光以外の組合せによってファイバに対して斜めに形成される干渉縞は、位相マスクがファイバに対して垂直に移動するとファイバ中に形成されるＦＢＧの位置が変わってしまい、結果として±１次回折光以外の組合せによってファイバに対して斜めに形成される干渉縞によって形成されるＦＢＧが弱くなる（図２（ｂ））。
【００６２】従って、位相マスクをファイバに対して垂直に動かした場合、±１次の干渉縞によって形成されるＦＢＧだけが残り1.5μm損失の原因と考えられる斜めのＦＢＧ形成は阻害され、1.5μm損失が改善されたＦＢＧが形成できる。実際に位相マスク移動を用いてＦＢＧを作製し、従来方法と1.5μm帯の損失を比較した。本発明のマスク移動と従来方法のヒストグラムをそれぞれ図３（ａ）、（ｂ）に示す。また、従来方法と本発明のマスク移動のＦＢＧ透過スペクトルを図４、図５に示す。従来方法では損失0.6dB以下のものは全体の65%を占めているのに対して、本発明のマスク移動では損失0.6dB以下のものが全体の90%を占めており、本発明の有用性を示す結果が得られた。
【００６３】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明のファイバグレーティングによれば、光通信システムにおいて、ファイバ中でたとえば1550nm帯の通信波長光を透過伝播させ、通信波長光以外の監視光として用いられる1650nm帯の監視波長λBIJの光を遮断するフィルタとして機能させて反射させファイバの破損等の状態を監視することができる。本発明のファイバグレーティングでは、反射中心波長λBIJの短波長側の波長（およそ0.9λBIJから0.99λBIJ）の範囲における通信波長の損失を抑えることができる。」
　
　そして、図１（ａ）には、位相マスクによって回折した紫外光の＋１次、−１次回折光の二光束干渉によって形成される干渉縞にファイバを曝し、ファイバ中に周期的な屈折率変化を起こさせる様子が図示されており、この図１（ａ）によれば、紫外光線は、位相マスクを介して光ファイバの長手方向に垂直に照射されるとともに、干渉縞による屈折率変化は、光ファイバの長手方向に周期的に変化するものであることがみてとれる。
　また、図１（ｂ）には、＋１次、−１次回折光以外の０次、＋２次、−２次、…などの回折光が存在し、これらの回折光の二光束干渉によっても干渉縞が形成される様子が図示されており、この＋１次、−１次回折光以外による干渉縞は、ファイバに対して斜めであることがみてとれる。　
　また、図２には、ＦＢＧ作製中に位相マスクがファイバに対して垂直に移動した場合について図示され、図２（ａ）には、±１次光の干渉縞はファイバに対して垂直に形成されるので、ＦＢＧの形成される箇所は移動しない様子が示され、図２（ｂ）には、±１次回折光以外の組合せによってファイバに対して斜めに形成される干渉縞は、位相マスクがファイバに対して垂直に移動するとファイバ中に形成されるＦＢＧの位置が変わってしまい、結果として±１次回折光以外の組合せによってファイバに対して斜めに形成される干渉縞によって形成されるＦＢＧが弱くなる様子が図示されている。
　また、図４には、マスク移動を行わない従来のＦＢＧ透過スペクトルが示されており、これによれば、１５３０ｎｍにおける透過率が約−１ｄＢであり、１４８０ｎｍ〜１５８０ｎｍの範囲において透過率に損失があることがみてとれる。このスペクトルに関して、引用例の【０００８】〜【０００９】には、＋１次、−１次以外の組合せによる回折光の干渉縞によって起きるファイバコアの周期的な屈折率変化がファイバグレーティングの光学特性を劣化させ、必要としている反射波長以外の波長で不必要な損失を生じさせる旨記載されているところであり、このマスク移動を行わない従来のＦＢＧ透過スペクトルにおいて、上記のように１５５０ｎｍ帯で損失を生じているのは、このような理由によるものであることが理解される。
　一方、図５には、位相マスク移動を用いてＦＢＧを作製したＦＢＧ透過スペクトルが示されており、これによれば、１４８０ｎｍ〜１５８０ｎｍの範囲において、その透過率はほぼ０ｄＢであることがみてとれる。これに関連して引用例の【００６３】には、位相マスク移動を用いて作製したファイバグレーティングでは、反射中心波長λBIJの短波長側の波長（およそ0.9λBIJから0.99λBIJ）の範囲における通信波長の損失を抑えることができる旨記載されている。
　また、図４及び図５において、１６５０ｎｍ帯における透過率は、−３０ｄＢ〜−３５ｄＢであることがみてとれる。
　
　以上によれば、引用例には、
「紫外光を位相マスクを介してファイバにビーム照射し、±１次回折光の二光束干渉によって、ファイバの光伝播方向に対して垂直方向に生じる干渉縞を生成すると共に、紫外光のビーム照射中に位相マスク及びファイバの一方を他方に対して相対的に移動してファイバグレーティングを作製する方法であって、
　前記紫外光は、位相マスクを介して光ファイバの長手方向に垂直に照射され、前記±１次回折光による干渉縞によりファイバ中に生じる屈折率変化は、光ファイバの長手方向に周期的に変化するものであり、
　紫外光のビーム照射中に位相マスク及びファイバの一方を他方に対して相対的に移動した場合に、±１次光の干渉縞はファイバに対して垂直に形成されるのでＦＢＧの形成される箇所は移動せず、±１次回折光以外の組合せによってファイバに対して斜めに形成される干渉縞は、位相マスクがファイバに対して垂直に移動するとファイバ中に形成されるＦＢＧの位置が変わってしまい、結果として±１次回折光以外の組合せによってファイバに対して斜めに形成される干渉縞によって形成されるＦＢＧが弱くなるものであり、
　前記±１次回折光による干渉縞によりファイバ中に生じる屈折率変化の周期は、１６５０ｎｍ帯の光を遮断するように設定されており、その透過率は−３０ｄＢ〜−３５ｄＢであり、
　前記±１次回折光以外の組合せ回折光の干渉縞によって起きるファイバコアの周期的な屈折率変化は、ファイバグレーティングの光学特性を劣化させ、１５５０ｎｍ帯において損失を生じさせるものであるところ、紫外光のビーム照射中に位相マスク及びファイバの一方を他方に対して相対的に移動させることにより、前記±１次回折光以外の組合せ回折光の干渉縞によって起きるファイバコアの周期的な屈折率変化を弱くして１５５０ｎｍ帯における透過損失を抑えることができるファイバグレーティングの作製方法。」の発明（以下「引用発明」という。）が記載されているものと認められる。　
　
３．対比
　本願補正発明と引用発明を対比する。
　引用発明の「紫外光」、「位相マスク」、「ファイバ」、「±１次回折光」及び「ファイバグレーティングを作製する方法」がそれぞれ、本願補正発明の「紫外線」、「位相マスク」、「光ファイバ」、「プラスマイナス１次光」及び「ファイバグレーティングを製造する方法」に相当するところであり、両者はともに、「位相マスクを介して光ファイバに紫外線を照射することによって、ファイバグレーティングを製造する方法」の点で一致する。
　また、引用発明において「前記紫外光は、位相マスクを介して光ファイバの長手方向に垂直に照射され、前記±１次回折光による干渉縞によりファイバ中に生じる屈折率変化は、光ファイバの長手方向に周期的に変化する」から、引用発明と本願補正発明は、「前記紫外線を前記位相マスクを介して光ファイバの長手方向に垂直に照射し、プラスマイナス１次光により形成された干渉縞により前記光ファイバの長手方向にはｓｉｎ状に変化する屈折率プロファイルを形成」する点で一致する。　
　また、引用発明は、「紫外光のビーム照射中に位相マスク及びファイバの一方を他方に対して相対的に移動した場合に、…、±１次回折光以外の組合せによってファイバに対して斜めに形成される干渉縞は、位相マスクがファイバに対して垂直に移動するとファイバ中に形成されるＦＢＧの位置が変わってしまい、結果として±１次回折光以外の組合せによってファイバに対して斜めに形成される干渉縞によって形成されるＦＢＧが弱くなる」ものであるから、本願補正発明と同様に「前記位相マスクと前記光ファイバの間隔を、プラスマイナス１次光以外の回折光の位相を変化させ位相の異なる干渉縞を互いに打ち消し合うように、光ファイバの長手方向に対して垂直方向に所定量変化させる変調動作を加え」るものであるといえる。
　また、引用発明は、「前記±１次回折光による干渉縞によりファイバ中に生じる屈折率変化の周期は、１６５０ｎｍ帯の光を遮断するように設定されて」いるものであるから、本願補正発明と同様に「波長１６５０ｎｍ帯にブラッグ波長を設定する」ものであるといえる。
　
　以上のことから、両者はともに、
「位相マスクを介して光ファイバに紫外線を照射することによって、ファイバグレーティングを製造する方法であって、
前記紫外線を前記位相マスクを介して光ファイバの長手方向に垂直に照射し、プラスマイナス１次光により形成された干渉縞により前記光ファイバの長手方向にはｓｉｎ状に変化する屈折率プロファイルを形成し、
前記位相マスクと前記光ファイバの間隔を、プラスマイナス１次光以外の回折光の位相を変化させ位相の異なる干渉縞を互いに打ち消し合うように、光ファイバの長手方向に対して垂直方向に所定量変化させる変調動作を加え、
波長１６５０ｎｍ帯にブラッグ波長を設定するファイバグレーティングの製造方法。」である点で一致する。
　
　一方、次の点で相違する。
ａ．本願補正発明は、１５５０ｎｍ帯における反射減衰量が４０ｄB以上のファイバグレーティングを製造する方法であるのに対し、引用発明がこのようなものであるか不明な点。
ｂ．本願補正発明は、「前記紫外線の照射を１６５０ｎｍ波長帯域の透過損失（アイソレーション）が３１ｄＢを越えた時点で終了する」ものであるのに対し、引用発明がこのようなものであるか不明な点。
　　　　　
４．相違点についての検討
　上記相違点について検討する。
　相違点ａについて検討する。
　引用発明は、前記のとおり、「前記±１次回折光以外の組合せ回折光の干渉縞によって起きるファイバコアの周期的な屈折率変化は、ファイバグレーティングの光学特性を劣化させ、１５５０ｎｍ帯において損失を生じさせるものであるところ、紫外光のビーム照射中に位相マスク及びファイバの一方を他方に対して相対的に移動させることにより、前記±１次回折光以外の組合せ回折光の干渉縞によって起きるファイバコアの周期的な屈折率変化を弱くして１５５０ｎｍ帯における透過損失を抑えることができる」というものであるところ、この透過損失は主として反射により生じるものであることが当業者に明らかであるから、引用発明において、１５５０ｎｍ帯における透過損失を抑えるとは、１５５０ｎｍ帯における反射量を抑えること、言い換えれば、１５５０ｎｍ帯における反射減衰量を大きくすることに外ならない。
　一方、本願明細書の段落【００４６】〜【００４７】には、本願図面の図５を参照して、従来の変調をかけない製造方法によってファイバグレーティングを製造した場合に、その１５５０ｎｍ帯における反射減衰量が約４０ｄＢである旨記載されている。
　ここで、引用発明は、上記のとおり、紫外光のビーム照射中に位相マスク及びファイバの一方を他方に対して相対的に移動させることにより、この移動を行わない従来方法に比べて、１５５０ｎｍ帯における反射減衰量を大きくするものであるから、引用発明によりファイバを製造した場合に、１５５０ｎｍ帯における反射減衰量が４０ｄＢより大きくなることは明らかであり、製造するファイバグレーティングについて、上記相違点ａに係る本願補正発明の発明特定事項とすることに困難性は認められない。
　
　相違点ｂについて検討する。
　グレーティングに関する技術分野において、光学特性を測定しながらその光学特性が所望の値となったことをもって照射を終了することは、周知の技術事項であり（例えば、特開平１１−３５２３４０号公報の段落【００１９】−【００２２】、【図１】参照、特開２００５−０１７４６０号公報の段落【００４２】−【００５１】、【図７】、【図８】参照、特開平０８−３３８９１８号公報の段落【００６０】、【図１】、【図２】参照。）、引用発明において作製されるファイバグレーティングについて、その１６５０ｎｍ帯における透過率が−３０ｄＢ〜−３５ｄＢとされていることを考えれば、引用発明における紫外光の照射をファイバグレーティングの１６５０ｎｍ波長帯域における透過率が−３１ｄＢより小さくなった時点で終了するようにして、上記相違点ｂに係る本願補正発明の発明特定事項となすことは、当業者が容易に採用し得たものと認められる。
　
　また、本願補正発明が奏する効果についても引用例に記載された技術事項及び上記周知の技術事項に基づいて当業者が予測可能なものであって、格別のものとはいえない。　
　
５．むすび
　したがって、本願補正発明は、引用発明及び上記周知技術に基づいて当業者が容易に発明できたものであって、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができない。　
　よって、本件補正は、平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
III．本願発明について
１．本願発明
　本件補正は上記のとおり却下され、また、平成２０年１２月４日付け手続補正も却下されているので、本願の請求項に係る発明は、平成２０年９月１日付け手続補正書の請求項１ないし８に記載された事項によって特定されるものであるところ、その請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、次のとおりである。
「【請求項１】
位相マスクを介して光ファイバに紫外線を照射することによって、１５５０ｎｍ帯における反射減衰量が４０ｄＢ以上のファイバグレーティングを製造する方法であって、前記紫外線の照射中に、前記位相マスクと前記光ファイバの間隔を所定量変化させる変調動作を加えるファイバグレーティングの製造方法。」
　
２．判断
　本願発明は、上記のとおりのものであるから、本願補正発明についての上記II．［II］２．〜４．での検討、特に相違点ａについての検討から、引用発明に基づいて当業者が容易に発明できたものであることは明らかである。
　
３．むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用例に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明できたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。