【事件の表示】
　平成８年特許願第１１５１４６号「アルミニウム材」拒絶査定不服審判事件〔平成９年１１月２５日出願公開、特開平９−３０２４９９〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
Ｉ．手続の経緯の概要
　本願は、平成８年５月９日の出願であって、平成１５年１２月１７日付けで拒絶理由が通知され、平成１６年３月５日付けで手続補正書が提出され、平成１７年６月２日付けで拒絶査定がなされ、その後、平成１７年７月７日に審判請求がなされるとともに、平成１７年８月５日付けで手続補正書が提出され、平成１７年９月５日付けで前置報告がなされ、平成１８年１１月１日付けで審尋がなされ、これに対して、平成１９年１月９日付けで回答書が提出されたものである。
　　
II．補正の却下の決定
(II-1)結論
　平成１７年８月５日付け手続補正書による補正を却下する。
(II-2)理由
（ａ）補正の内容
　本補正は、補正前の請求項１を次のとおりに補正することを含むものである。
「【請求項１】アルミニウムまたはアルミニウム合金の表面に、空孔率が５％以下の無孔質陽極酸化皮膜を形成し、この皮膜の表面から２０〜５０００Åの範囲が、フッ素化されたフッ素化層となっているとともに、
　前記フッ素化層の下層となる無孔質陽極酸化皮膜の厚みが７０〜８０００Å、含水量が５重量％以下、アニオン含有量が２重量％以下であり、
　前記陽極酸化皮膜が５０〜９５℃の範囲の浴温のホウ酸の電解浴で生成されたものであり、前記フッ素化層が２００〜３５０℃の高温下で窒素またはアルゴンガスで希釈したフッ素ガスに前記無孔質陽極酸化皮膜を接触させて生成されたものであり、真空条件下での２４時間後のガス放出率が１×１０−９Ｔｏｒｒ・ｌ／ｓ・ｃｍ２以下であり、９９％Ｃｌ２、１％Ｈ２Ｏガスに対する室温１０日間の暴露試験において腐食しないことを特徴とするアルミニウム材。」
（上記補正後の請求項１に記載された事項により特定される発明を、以下、「補正発明１」という。）
　　
（ｂ）判断
(b-1)補正の目的
　上記補正は、補正前の請求項１について、「アニオン含有量が２重量％以下であることを特徴とするアルミニウム材」を、
「アニオン含有量が２重量％以下であり、
　前記陽極酸化皮膜が５０〜９５℃の範囲の浴温のホウ酸の電解浴で生成されたものであり、前記フッ素化層が２００〜３５０℃の高温下で窒素またはアルゴンガスで希釈したフッ素ガスに前記無孔質陽極酸化皮膜を接触させて生成されたものであり、真空条件下での２４時間後のガス放出率が１×１０−９Ｔｏｒｒ・ｌ／ｓ・ｃｍ２以下であり、９９％Ｃｌ２、１％Ｈ２Ｏガスに対する室温１０日間の暴露試験において腐食しないことを特徴とするアルミニウム材」
と限定するものであり、したがって、本補正は特許法第１７条の２第４項第２号に掲げる特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　　                                   　
　以下、独立特許要件について検討する。
(b-2)引用例及びその記載事実
（１）引用例１（特開平５−２５６９４号公報）
(1-1)「アルミニウム又はアルミニウム合金材を皮膜溶解性の低い電解質溶液中で定電流電解処理を行い、その後前記定電流電解処理時の電圧より高い電圧での定電圧電解処理を行うことを特徴とする真空機器用アルミニウム又はアルミニウム合金材の製造法。」（請求項１）
(1-2)「本発明は、例えばＭＢＥ装置、ドライエッチング装置、ＣＶＤ装置、イオンプレーティング装置、プラズマＣＶＤ装置、スパッタリング装置のような半導体製造装置あるいは薄膜形成装置のような真空機器における真空チャンバーの表面材として利用される真空機器用アルミニウム又はアルミニウム合金材の製造法に関するものである。」（段落【0001】）
(1-3)「アルミニウム合金材は、ＭＢＥ装置でＧａＡｓなどの半導体膜を形成する場合、あるいは塩素などのエッチングガスが用いられる場合、腐食する問題が有り、この問題点を解決する為に、硫酸電解液中で陽極酸化処理を施して陽極酸化皮膜を形成しておくことが提案されている。しかしながら、この技術は、真空機器用アルミニウム合金材に加熱脱ガス処理をする場合に、陽極酸化皮膜にクラックを引き起こし、耐食性が低下する問題が有り、又、陽極酸化皮膜に吸着している水分が多いことから、真空室内でのガス放出が多いことになり、高真空度達成の目的が充分に発揮できにくい問題がある。」（段落【0003】）
(1-4)「本発明の目的は、真空環境下でのガス放出量が極めて少なく、かつ、耐食性に優れた真空機器用アルミニウム合金材を提供することである。」（段落【0006】）
(1-5)「皮膜溶解性の低い電解質溶液としては、アジピン酸塩、ホウ酸、ホウ酸塩、リン酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩の群の中から選ばれる少なくとも一つを含むものであることが好ましい。耐食性の観点から選ぶと、フタル酸塩やアジピン酸塩は好ましいものである。電流効率の観点から選ぶと、ホウ酸やホウ酸塩は好ましいものである。」（段落【0009】）
(1-6)「先ず定電流電解処理を行い、その後定電流電解処理時の電圧より高
い電圧での定電圧電解処理を行う。この定電流電解処理時の条件は、電解質濃度が好ましくは１．０〜２００ｇ／ｌであることが、電解液の温度が好ましくは１０〜１００℃、より好ましくは２０〜５０℃であることが、そして定電流電解の電流密度が好ましくは０．５〜３Ａ／ｄｍ2 、より好ましくは１〜２Ａ／ｄｍ2 であることが、そしてこの定電流電解で電圧が所定の値（１５０〜２０００Ｖ）まで上昇した後、この電圧に保持して定電圧電解処理を行う。定電圧電解処理時の条件は、電解質溶液や温度については定電流電解処理時のままで良く」（段落【0011】）
(1-7)「電解液の温度が１０℃未満の低すぎる場合には、皮膜の絶縁性が低下する傾向が有り、逆に、１００℃を越えて高すぎる場合には、皮膜が多孔質化し、ガス放出量が増加する傾向が有り、又、圧力容器も必要になることから、電解温度は１０〜１００℃であることが好ましい。」（段落【0011】）
(1-8)「上記のような条件の下で電解処理を行うことにより、真空機器内面に要求される耐食性、耐摩耗性や絶縁性に優れ、さらにはガス放出量が極めて少ないバリヤー型陽極酸化皮膜が約０．１〜２．１μｍ厚形成され、真空機器用アルミニウム合金材として好適なものが得られる。」（段落【0012】）
　　
（２）引用例２（特開平４−２６３０９３号公報）
(2-1)「【請求項１】アルミニウム表面上の耐蝕性保護被膜であって、前記アルミニウム表面上の酸化アルミニウム層を、高められた温度で１種またはそれ以上のフッ素含有ガスに接触させることで形成される耐蝕性保護被膜。
【請求項２】前記酸化アルミニウム層が、前記の１種またはそれ以上のフッ素含有ガスに接触される前に少なくとも約０．１μｍ（１０００オングストローム）から２０μｍ（ミクロン）までの範囲の厚さを有する、請求項１記載のアルミニウム表面上の耐蝕性保護被膜。
【請求項３】前記保護被膜が、前記保護被膜の全重量に基づいて約３重量％から約１８重量％のフッ素を含有する、請求項２記載のアルミニウム表面上の耐蝕性保護被膜。
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【請求項５】アルミニウム表面上に形成された高純度の耐蝕性保護被膜であって、前記アルミニウム表面はその表面上に高純度の酸化アルミニウム層を含み、該酸化アルミニウム層と１種またはそれ以上の高純度のフッ素含有ガスを高められた温度で接触させることにより、形成されたものである高純度の耐蝕性保護被膜。
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【請求項８】前記保護被膜が、アルミニウム、水素、酸素およびフッ素以外の元素を３重量％よりも少なく含む、請求項５記載のアルミニウム表面上の高純度の耐蝕性保護被膜。
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【請求項１０】９９重量％のまたはより高純度のアルミニウム表面上に形成された９７重量％のまたはより高純度の酸化アルミニウム層を含むアルミニウム表面上に形成された、アルミニウム、酸素、水素およびフッ素以外の元素を３重量％よりも少なく有する高純度の耐蝕性保護被膜であって、該酸化アルミニウム層と１００ｐｐｍ　よりも少ない不純物を含む１種またはそれ以上のフッ素含有ガスを、約３７５℃から約５００℃の温度で接触させることにより形成されたものである高純度の耐蝕性保護被膜。」（特許請求の範囲）
(2-2)「本発明はアルミニウム支持体上に形成される耐蝕性保護被膜に関する。特に好ましい実施態様では、本発明は、半導体ウェファー上の集積回路構造を形成するために使う加工装置に利用できる被覆アルミニウム支持体を形成するために、高純度の酸化アルミニウム被膜を１種またはそれ以上のフッ素含有ガスに接触させることによって、アルミニウム支持体上に形成される高純度の保護被膜に関する。」（段落【0001】）
(2-3)「本発明の目的は、アルミニウム支持体上に、プロセスハロゲンガスおよびプロセスプラズマによる腐蝕性作用に耐えることのできる耐蝕性保護被膜を提供することである。」（段落【0008】）
(2-4)「酸化アルミニウムフィルムは、接触工程の前に少なくとも約０．１μm（１０００オングストローム）から約２０μm（ミクロン）までの厚さを有するべきである。」（段落【0020】）
(2-5)「フッ素含有ガスは、例えば、アルゴン・・のような不活性キャリヤーガスと一緒か、または一緒でない・・・Ｆ２のようなガス・・・を含む。」（段落【0021】）
(2-6)「接触工程は約３０分から約１２０分の範囲内の時間で、温度は約３７５℃から約５００℃の範囲で、好ましくは約４５０℃から約４７５℃の範囲で実施される。本発明の保護被膜の形成を確実にするために必要な接触時間は、フッ素含有ガスの温度および濃度によって変わる。」（段落【0025】）
(2-7)「高純度の酸化アルミニウムフィルム層は、熱成形層または陽極成形層のいずれであってもよい。
　しかしながら、どちらの場合でも、望ましい純度を確実にするために、酸化層の形成に使用する試薬は、好ましくは、別の時に酸化アルミニウム層に混入される不純物を本質的に持たないべきである。そのため、高純度の酸化アルミニウム被膜自身に関して前に定義されたように、酸化アルミニウム被膜の形成に使用される試薬は、好ましくは少なくとも約９７重量％の、さらに好ましくは９９重量％より大きい純度を有するべきである。特に、その試薬は好ましくは、３重量％より少ない、さらに好ましくは、１重量％より少ない不純物を有するべきで、その不純物とは、例えば、イオウ、ホウ素、およびリン、および他のいずれかの原素であり、一般には他のいかなる金属およびメタロイド（シリコンを含む）をも含み、それらは高純度の被膜に混入され、集積回路構造の形成に使われる加工材料と作用し合い望ましくない不純物を導入する可能性がある。
　しかしながら、被膜に導入される不純物を含む試薬の使用は、不純物が被膜の表面から容易に除去されるタイプであれば、本発明の実施に利用されてもよく、好ましい実施態様による高純度の被膜を製造するときでさえ利用されてもよい。例えば、もし硫酸が陽極酸化アルミニウム被膜を形成するときに電解液として使用されるならば、得られた被膜中の望ましくないイオウは、ｐＨを約５に調節された十分な量の硝酸を含む脱イオン水で表面を徹底的にゆすぐことで除去される。硝酸イオンは、明らかに被膜中で硫酸イオンと交換して、その後、硝酸イオンの溶解性によって容易に被膜から除去される。」（段落【0027】〜【0029】）
(2-8)「高純度の酸化アルミニウム層を陽極に形成するために、アルミニウム支持体は電解液セル中で陽極を作り、その電解液セル中の電解液は前に述べたように、好ましくは陽極のアルミニウム支持体上に形成される酸化アルミニウム被膜に他のいかなる元素をも導入しない化合物を含む。好ましくは、電解液は硝酸のような高純度の無機酸またはモノカルボン酸のような高純度の有機酸を含み・・・
　高純度の酸化アルミニウムを形成するときは、硫酸、リン含有酸、およびホウ酸のような他の鉱酸は、通常は避けるべきであり、なぜならば、それらに酸性電解液からの、例えばイオウ、リン、ホウ素等のようなそれぞれの元素の極微量を、得られる陽極に形成される酸化アルミニウムに含む傾向があるからである。しかしながら、このような鉱酸電解液は、もしこのような不純物がその後に、前に述べたように得られた酸化アルミニウム層の表面から除去することができれば、使われてよい。」（段落【0031】〜【0032】）
(2-9)「陽極酸化浴は約０℃から約３０℃までの範囲の温度に維持される。」（段落【0033】）
　　
(b-3)対比・判断
(i)引用例２には、アルミニウム表面上の耐蝕性保護被膜であって、前記アルミニウム表面上の酸化アルミニウム層を、高められた温度で１種またはそれ以上のフッ素含有ガスに接触させることで形成される耐蝕性保護被膜（摘記2-1【請求項１】）が記載され、併せて、上記酸化アルミニウム層が陽極成形層であってよいこと（摘記2-7、2-8）、前記保護被膜がフッ素を含有する被膜であること（摘記2-1【請求項３】）が記載されている。
　したがって、引用例２には、アルミニウムの表面に、陽極酸化皮膜を形成し、この皮膜の表面がフッ素化されたフッ素化層となっていることが記載されているといえる。
(ii)引用例２には、前記酸化アルミニウム層が、フッ素含有ガスに接触される前に、少なくとも約０．１μｍ（１０００Å）から２０μｍ（即ち、２０００００Å）までの範囲の厚さを有すること（摘記2-1【請求項２】）が記載されている。
　したがって、引用例２には、酸化アルミニウム層を構成する陽極酸化皮膜の厚みが１０００〜２０００００Åであることが記載されているといえる。
(iii)引用例２には、酸化アルミニウム層を陽極に形成するために、アルミニウム支持体は電解セル中で陽極を作ること（摘記2-8）、及び、陽極酸化浴は約０から約３０℃までの範囲の温度に維持されること（摘記2-9）が記載されている。
　したがって、引用例２には、上記酸化アルミニウム層は約０〜約３０℃の範囲の浴温の電解浴で生成された陽極酸化皮膜であることが記載されているといえる。
(iv)引用例２には、酸化アルミニウム層と１種またはそれ以上の高純度のフッ素含有ガスを高められた温度で接触させること（摘記2-1【請求項５】）、その温度が約３７５℃から約５００℃の範囲であること（摘記2-6）、及び、フッ素含有ガスは、F２とともにアルゴンのような不活性キャリヤーガスを含むこと（摘記2-5）が記載されている。
　したがって、引用例２には、フッ素化層が、高温下でアルゴンガスで希釈したフッ素ガスに上記陽極酸化皮膜を接触させて生成されたものであることが記載されているといえる。
(v)引用例２には、アルミニウム支持体上に形成される耐蝕性保護被膜に関すること（摘記2-2）、及び、アルミニウム支持体上に、プロセスハロゲンガスおよびプロセスプラズマによる腐蝕性作用に耐えることのできる耐蝕性保護被膜を提供すること（摘記2-3）が記載されている。
　したがって、引用例２には、耐腐食性のアルミニウム材が記載されているといえる。
　以上(i)〜(v)によれば、引用例２には、
「アルミニウムの表面に、陽極酸化皮膜を形成し、この皮膜の表面がフッ素化されたフッ素化層となっているとともに、
　前記フッ素化層の下層となる陽極酸化皮膜の厚みが１０００〜２０００００Åであり、
　前記陽極酸化皮膜が約０〜約３０℃の範囲の浴温のホウ酸の電解浴で生成されたものであり、前記フッ素化層が約３７５℃から約５００℃の高温下でアルゴンガスで希釈したフッ素ガスに前記陽極酸化皮膜を接触させて生成されたものであり、耐腐食性であることを特徴とするアルミニウム材。」
の発明が記載されているといえる。（以下、上記発明を「引用発明」という。）
　　
　そこで、補正発明１と引用発明とを対比すると、補正発明１の「アルミニウムまたはアルミニウム合金」との択一的特定事項は、引用発明の「アルミニウム」とアルミニウムの点で重複し、補正発明１の陽極酸化皮膜の厚み「７０〜８０００Å」は、引用発明の「１０００〜２０００００Å」と１０００〜８０００Åの範囲で重複し、また、補正発明１の「窒素またはアルゴンガス」との択一的特定事項は、引用発明の「アルゴンガス」とアルゴンガスの点で重複している。
　してみれば、補正発明１は、引用発明と、
「アルミニウムの表面に、陽極酸化皮膜を形成し、この皮膜の表面が、フッ素化されたフッ素化層となっているとともに、
　前記フッ素化層の下層となる陽極酸化皮膜の厚みが１０００〜８０００Åであり、
　前記陽極酸化皮膜が電解浴で生成されたものであり、前記フッ素化層が高温下でアルゴンガスで希釈したフッ素ガスに前記陽極酸化皮膜を接触させて生成されたものであり、耐腐食性であることを特徴とするアルミニウム材。」
の点で一致し、そして以下の点で相違する。
（イ）補正発明１では、陽極酸化皮膜として、「空孔率が５％以下の無孔質」陽極酸化皮膜に特定しているのに対して、引用発明ではそのような特定がない点、
（ロ）補正発明１では、フッ素化層の厚さについて、「２０〜５０００Åの範囲」と特定しているのに対して、引用発明ではそのような特定がない点、
（ハ）補正発明１では、陽極酸化皮膜について、「含水量が５重量％以下」及び「アニオン含有量が２重量％以下」と特定しているのに対して、引用発明ではそのような特定がない点、
（ニ）補正発明１では、電解浴を「ホウ酸」浴に特定しているのに対して、引用発明ではそのような特定がなく、また、補正発明１では電解浴の浴温を「５０〜９５℃」に特定しているのに対して、引用発明では「約０〜約３０℃」である点、
（ホ）補正発明１では、フッ素ガスとの接触温度を「２００〜３５０℃」と特定しているのに対して、引用発明では「約３７５℃から約５００℃」である点、及び、
（ヘ）補正発明１では、アルミニウム材の物性について、「真空条件下での２４時間後のガス放出率が１×１０−９Ｔｏｒｒ・ｌ／ｓ・ｃｍ２以下であり」、及び、「９９％Ｃｌ２、１％Ｈ２Ｏガスに対する室温１０日間の暴露試験において腐食しない」と特定しているのに対して、引用発明ではそのような特定がない点。
　　
　そこで、これら相違点について、以下検討する。
相違点（イ）について
　引用例１には、無孔質陽極酸化皮膜に相当するバリヤー型陽極酸化皮膜が耐食性に優れ、ガス放出量が小さいこと（摘記1-8）が記載されている。してみれば、引用発明における陽極酸化皮膜として、無孔質陽極酸化皮膜を採用すること、及び、その際に、無孔質陽極酸化被膜の好適な空孔率について検討して、「５％以下」とその上限値を特定することに格別の困難性があるとすることはできず、かつ、本願明細書の記載をみても、その値に格別の臨界的意義は認められない。
　また、引用例２には、酸化アルミニウム層を多孔質陽極酸化皮膜に限定する記載は見当たらず、また、熱成形層または陽極成形層のいずれであってもよい（摘記2-7）との記載からみて、多孔質陽極酸化皮膜に限定して解釈すべき理由はない。
　したがって、相違点（イ）は、当業者が容易に想到し得たことである。
　　
相違点（ロ）について
　補正発明１では、フッ素化層の厚さを「２０〜５０００Åの範囲」に特定しているところ、本願明細書の記載をみても、この値に格別の臨界的意義は認められず、実験的に好適な厚さを検討することにより当業者が容易に求め得たことと認められる。
　したがって、相違点（ロ）は、当業者が容易に想到し得たことである。
　　
相違点（ハ）について
　引用例１には、陽極酸化皮膜に吸着している水分が多いとガス放出量が多くなること（摘記1-3）が記載され、また、引用例２には、酸化アルミニウム層に混入される不純物を持たなくすべきこと、及び、その不純物の例としてアニオン成分に該当する「硝酸イオン」が挙げられている（摘記2-7）ことからみて、含水量及びアニオン含有量の許容範囲について検討し、もって「含水量が５重量％以下」、「アニオン含有量が２重量％以下」と特定することは実験的に当業者が容易になし得たことであり、なおかつ、本願明細書の記載をみても、その値に格別の臨界的意義があるとは認められない。
　したがって、相違点（ハ）は、当業者が容易に想到し得たことである。
　　
相違点（ニ）について
　引用例１には、無孔質陽極酸化皮膜に相当するバリヤー型陽極酸化皮膜を形成する場合、電解液温度を１０〜１００℃とすること（摘記1-6）が記載されており、したがって、この範囲内の「５０〜９５℃」とすることに格別の困難性があるとすることはできない。
　また、引用例１には、上記バリヤー型陽極酸化皮膜形成用の電解浴としてホウ酸浴が挙げられており（摘記1-5）、したがって、無孔質陽極酸化皮膜を形成するにあたり、ホウ酸の電解浴を用いることに格別の困難性があるとはいえない。
　なお、引用例２には、「高純度の酸化アルミニウムを形成するときは、硫酸、リン含有酸、およびホウ酸のような他の鉱酸は、通常は避けるべきであり、なぜならば、それらに酸性電解液からの、例えばイオウ、リン、ホウ素等のようなそれぞれの元素の極微量を、得られる陽極に形成される酸化アルミニウムに含む傾向があるからである。」（摘記2-8）と記載されて、ホウ酸はホウ素を酸化アルミニウムに含む傾向があるので、高純度の酸化アルミニウムを形成する場合には、ホウ酸を避けるべきことが記載されているところ、補正発明１は、特段ホウ素を含有しない陽極酸化皮膜に限定されているわけではない。また、本願明細書の記載をみても、ホウ酸の電解浴を用いたことにより、格別の効果を奏したと認めることもできない。
　したがって、相違点（ニ）は、当業者が容易に想到し得たことである。
　　
相違点（ホ）について
　補正発明１では、接触温度を「２００〜３５０℃」に特定しているところ、本願明細書の記載（特に段落【0012】）をみても、この温度範囲に格別の臨界的意義は認められず、ケースに応じて実験的に好適な温度を検討することにより当業者が容易に想到し得たことと認められる。
　したがって、相違点（ホ）は、当業者が容易に想到し得たことである。
　　
相違点（ヘ）について
　相違点（ヘ）のガス放出率及び暴露試験の結果は、補正発明１が具備する構成により得られる物性を記載したものと認められるところ、補正発明１の構成は、上記相違点（イ）〜（ホ）について検討したとおり当業者が容易に想到できたものである。
　したがって、相違点（ヘ）は、この構成上想到容易な発明との実質的な相違点を構成しないものである。
　　
　以上のとおりであるから、補正発明１は、引用例１及び２に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができた発明である。
　　
(b-4)補正についての結論
　以上のとおりであるから、補正発明１は、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができるものとはいえず、したがって、補正発明１についての上記補正を含む本補正は、特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　　
III．本願発明について
(III-1)本願発明
　平成１７年８月５日付け手続補正書による補正は、上記II欄に記載したとおり却下されたので、本願の各請求項に係る発明は、上記補正前の、平成１６年３月５日付け手続補正書により補正された明細書の特許請求の範囲の請求項１〜４に記載された事項により特定されるとおりの、以下のものと認める。
「【請求項１】アルミニウムまたはアルミニウム合金の表面に、空孔率が５％以下の無孔質陽極酸化皮膜を形成し、この皮膜の表面から２０〜５０００Åの範囲が、フッ素化されたフッ素化層となっているとともに、
　前記フッ素化層の下層となる無孔質陽極酸化皮膜の厚みが７０〜８０００Å、含水量が５重量％以下、アニオン含有量が２重量％以下であることを特徴とするアルミニウム材。
【請求項２】前記フッ素化層の厚みが１５０〜１０００Å、前記フッ素化層の下層となる無孔質陽極酸化皮膜の厚みが８００〜７０００Åであり、その含水量が０．１〜１．０重量％であることを特徴とする請求項１記載のアルミニウム材。
【請求項３】前記陽極酸化皮膜が５０〜９５℃の範囲の浴温のホウ酸またはアジピン酸の電解浴で生成されたものであり、前記フッ素化層が２００〜３５０℃の高温下で窒素またはアルゴンガスで希釈したフッ素ガスに前記無孔質陽極酸化皮膜を接触させて生成されたものであり、真空条件下での２４時間後のガス放出率が１×１０−９Ｔｏｒｒ・ｌ／ｓ・ｃｍ２以下であり、９９％Ｃｌ２、１％Ｈ２Ｏガスに対する室温１０日間の暴露試験において腐食しないことを特徴とする請求項１または２に記載のアルミニウム材。
【請求項４】前記陽極酸化皮膜が５０〜９５℃の範囲の浴温のホウ酸またはアジピン酸の電解浴で生成されたものであり、前記フッ素化層がＣＦ４を用いたフッ素プラズマに前記無孔質陽極酸化皮膜を接触させて生成されたものであり、真空条件下での２４時間後のガス放出率が１×１０−９Ｔｏｒｒ・ｌ／ｓ・ｃｍ２以下であり、９９％Ｃｌ２、１％Ｈ２Ｏガスに対する室温１０日間の暴露試験において腐食しないことを特徴とする請求項１または２に記載のアルミニウム材。」
（請求項１〜４に記載された事項により特定される発明を、以下、「本願発明１」〜「本願発明４」という。）
　　
(III-2)原査定で引用された刊行物、及びその記載事実
（１）引用例１：特開平５−２５６９４号公報（原査定の引用文献１）
（２）引用例２：特開平４−２６３０９３号公報（同上、引用文献２）
　原査定で引用された上記引用例１及び２は、「(b-2)引用例及びその記載事実」欄の引用例１及び２と同じ刊行物であり、その記載事実は同欄の摘記を援用する。
　　
(III-3)対比・判断
本願発明１について
　補正発明１は、本願発明１中の「アニオン含有量が２重量％以下であることを特徴とするアルミニウム材」を、
「アニオン含有量が２重量％以下であり、
　前記陽極酸化皮膜が５０〜９５℃の範囲の浴温のホウ酸の電解浴で生成されたものであり、前記フッ素化層が２００〜３５０℃の高温下で窒素またはアルゴンガスで希釈したフッ素ガスに前記無孔質陽極酸化皮膜を接触させて生成されたものであり、真空条件下での２４時間後のガス放出率が１×１０−９Ｔｏｒｒ・ｌ／ｓ・ｃｍ２以下であり、９９％Ｃｌ２、１％Ｈ２Ｏガスに対する室温１０日間の暴露試験において腐食しないことを特徴とするアルミニウム材」
と補正することにより、本願発明１を減縮した発明であるところ、本願発明１は、当該減縮前の事項により特定される、より広範な発明である。
　したがって、「II．補正の却下の決定」の欄で補正発明１について記載したと同様、本願発明１は、引用例１及び２に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができた発明である。
　　
本願発明２について
　本願発明２は、請求項１を引用して、「前記フッ素化層の厚みが１５０〜１０００Å、前記フッ素化層の下層となる無孔質陽極酸化皮膜の厚みが８００〜７０００Åであり、その含水量が０．１〜１．０重量％である」と特定した発明であるところ、本願明細書の記載をみても、それらの値に格別の臨界的意義は認められず、実験的に好適な値を検討することにより当業者が容易に想到し得たことと認められる。
　したがって、本願発明２は、本願発明１と同様、引用例１及び２に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができた発明である。
　　
本願発明３について
　本願発明３は、請求項１または２を引用して、「前記陽極酸化皮膜が５０〜９５℃の範囲の浴温のホウ酸またはアジピン酸の電解浴で生成されたものであり、前記フッ素化層が２００〜３５０℃の高温下で窒素またはアルゴンガスで希釈したフッ素ガスに前記無孔質陽極酸化皮膜を接触させて生成されたものであり、真空条件下での２４時間後のガス放出率が１×１０−９Ｔｏｒｒ・ｌ／ｓ・ｃｍ２以下であり、９９％Ｃｌ２、１％Ｈ２Ｏガスに対する室温１０日間の暴露試験において腐食しない」と特定した発明であるところ、この特定事項は補正発明１が具備する特定事項でもある。
　したがって、本願発明３は、「II．補正の却下の決定」の欄で補正発明１について記載し、また、「本願発明２について」の欄で本願発明２について記載したと同様、引用例１及び２に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができた発明である。
　　
IV．むすび
　以上のとおりであるから、本願発明１〜３は特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるので、本願発明４について検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。