【手続補正書】
【提出日】平成24年6月14日(2012.6.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ光を発振するレーザと前記レーザの温度調節をするヒータと前記レーザ光を前記レーザ光の高調波光に変換する高調波生成素子とを有するレーザモジュールと、前記レーザモジュールの温度が所定の温度から変化した場合に、前記レーザ光の波長が前記高調波生成素子で変換可能な波長範囲内を維持するように、前記所定の温度からの温度変化量に応じ且つ複数のレーザシステム間で同じ温度変化量に対して同じ大きさであるヒータ電流を前記ヒータに投入する制御部と、を有するレーザシステムの製造方法において、
前記レーザモジュールの温度が前記所定の温度において、前記複数のレーザシステムそれぞれ個別に、前記レーザを駆動する駆動電流を調整して、前記レーザ光の波長を前記高調波生成素子で変換可能な波長範囲内とする第１の工程を有することを特徴とするレーザシステムの製造方法。
【請求項２】
前記第１の工程は、前記ヒータにヒータ電流を投入していない状態で行われることを特徴とする請求項１記載のレーザシステムの製造方法。
【請求項３】
前記ヒータにヒータ電流を投入していない状態で、前記レーザモジュールの動作温度範囲において、前記レーザ光の波長は前記高調波生成素子で変換可能な波長範囲以下であることを特徴とする請求項１または２記載のレーザシステムの製造方法。
【請求項４】
前記レーザの波長温度係数が前記高調波生成素子の波長温度係数よりも大きい場合において、前記所定の温度は、前記レーザモジュールの動作温度範囲の最高温度以上であることを特徴とする請求項１から３のいずれか一項記載のレーザシステムの製造方法。
【請求項５】
前記レーザの波長温度係数が前記高調波生成素子の波長温度係数よりも小さい場合において、前記所定の温度は、前記レーザモジュールの動作温度範囲の最低温度以下であることを特徴とする請求項１から３のいずれか一項記載のレーザシステムの製造方法。
【請求項６】
前記制御部は、前記レーザモジュールの温度が前記所定の温度から変化した場合に、前記レーザを駆動する駆動電流は固定にしたまま、前記ヒータに前記ヒータ電流を投入することを特徴とする請求項１から５のいずれか一項記載のレーザシステムの製造方法。
【請求項７】
前記レーザモジュールは、前記レーザが発振した前記レーザ光の強度を調整する光強度調整部を有し、
前記複数のレーザシステム間で前記レーザ光の強度が同じ大きさになるように、前記複数のレーザシステムそれぞれ個別に、前記光強度調整部に印加する電圧を調整する第２の工程を有することを特徴とする請求項１から６のいずれか一項記載のレーザシステムの製造方法。
【請求項８】
前記レーザと前記光強度調整部とは同じチップ上に形成されて、それぞれ活性層を挟むようにクラッド層が設けられた構造をし、
前記第２の工程は、前記光強度調整部の前記クラッド層間に順方向バイアスまたは逆方向バイアスを印加することで前記レーザ光の強度を調整することを特徴とする請求項７記載のレーザシステムの製造方法。
【請求項９】
レーザ光を発振するレーザと、前記レーザの温度調節をするヒータと、前記レーザ光を前記レーザ光の高調波光に変換する高調波生成素子と、を有するレーザモジュールと、
前記レーザモジュールの温度が所定の温度から変化した温度変化量に応じて、前記ヒータに投入するヒータ電流値が記憶されたメモリと、
前記レーザモジュールの温度が前記所定の温度において、前記レーザが発振する前記レーザ光の波長が前記高調波生成素子で変換可能な波長範囲内になるように、前記レーザを駆動する駆動電流を調整した後、前記レーザモジュールの温度が前記所定の温度から変化した場合に、前記レーザ光の波長が前記高調波生成素子で変換可能な波長範囲内を維持するように、前記レーザモジュールの温度変化量に応じて、前記メモリに記憶された前記ヒータ電流値の大きさのヒータ電流を前記ヒータに投入する制御部と、
を具備することを特徴とするレーザシステム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明は、レーザ光を発振するレーザと前記レーザの温度調節をするヒータと前記レーザ光を前記レーザ光の高調波光に変換する高調波生成素子とを有するレーザモジュールと、前記レーザモジュールの温度が所定の温度から変化した場合に、前記レーザ光の波長が前記高調波生成素子で変換可能な波長範囲内を維持するように、前記所定の温度からの温度変化量に応じ且つ複数のレーザシステム間で同じ温度変化量に対して同じ大きさであるヒータ電流を前記ヒータに投入する制御部と、を有するレーザシステムの製造方法において、前記レーザモジュールの温度が前記所定の温度において、前記複数のレーザシステムそれぞれ個別に、前記レーザを駆動する駆動電流を調整して、前記レーザ光の波長を前記高調波生成素子で変換可能な波長範囲内とする第１の工程を有することを特徴とするレーザシステムの製造方法である。本発明によれば、レーザモジュールの温度変化に対するヒータ電流値を、複数のレーザシステムで共通に用いることができるため、レーザモジュールの温度が変化した場合でも、レーザ光の波長を高調波生成素子で変換可能な波長範囲内に容易に制御することができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上記構成において、前記第１の工程は、前記ヒータにヒータ電流を投入していない状態で行われる構成とすることができる。また、上記構成において、前記ヒータにヒータ電流を投入していない状態で、前記レーザモジュールの動作温度範囲において、前記レーザ光の波長は前記高調波生成素子で変換可能な波長範囲以下である構成とすることができる。この構成によれば、レーザモジュールの動作温度範囲の全範囲において、レーザ光の波長を高調波生成素子で変換可能な波長範囲内にできる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
上記構成において、前記制御部は、前記レーザモジュールの温度が前記所定の温度から変化した場合に、前記レーザを駆動する駆動電流は固定にしたまま、前記ヒータに前記ヒータ電流を投入する構成とすることができる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
上記構成において、前記レーザモジュールは、前記レーザが発振した前記レーザ光の強度を調整する光強度調整部を有し、前記複数のレーザシステム間で前記レーザ光の強度が同じ大きさになるように、前記複数のレーザシステムそれぞれ個別に、前記光強度調整部に印加する電圧を調整する第２の工程を有する構成とすることができる。この構成によれば、レーザの駆動電流の大きさを変えてレーザ光の波長を調整した場合であっても、複数のレーザシステムの間でレーザ光の強度を同じ大きさにできる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
上記構成において、前記レーザと前記光強度調整部とは同じチップ上に形成されて、それぞれ活性層を挟むようにクラッド層が設けられた構造をし、前記第２の工程は、前記光強度調整部の前記クラッド層間に順方向バイアスまたは逆方向バイアスを印加することで前記レーザ光の強度を調整する構成とすることができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
本発明は、レーザ光を発振するレーザと、前記レーザの温度調節をするヒータと、前記レーザ光を前記レーザ光の高調波光に変換する高調波生成素子と、を有するレーザモジュールと、前記レーザモジュールの温度が所定の温度から変化した温度変化量に応じて、前記ヒータに投入するヒータ電流値が記憶されたメモリと、前記レーザモジュールの温度が前記所定の温度のときに、前記レーザが発振する前記レーザ光の波長が前記高調波生成素子で変換可能な波長範囲内になるように前記レーザを駆動する駆動電流を調整した後、前記レーザモジュールの温度が前記所定の温度から変化した場合に、前記レーザ光の波長が前記高調波生成素子で変換可能な波長範囲内を維持するように、前記レーザモジュールの温度変化量に応じて、前記メモリに記憶された前記ヒータ電流値の大きさのヒータ電流を前記ヒータに投入する制御部と、を具備することを特徴とするレーザシステムである。本発明によれば、レーザモジュールの温度が変化した場合でも、レーザ光の波長を高調波生成素子で変換可能な波長範囲内に容易に制御することができる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】