(57)【要約】      （修正有）【課題】制御モジュールの左右の二方に感知モジュールを設けると共に感知モジュールに非接触方式での移動体の転位変化を探知させ、カーソルの復帰点まで移動させる制御装置を提供する。【解決手段】制御装置はカーソルの制御に用いられ、収納空間１０を有するベース１と、前記ベース上に設置され、移動体２３を有する制御モジュールと、感知モジュール３４と、前記収納空間に収納され、探知モジュール３２及びマイクロプロセッサ３１からなる。前記探知モジュールは前記移動体に対向させ、前記マイクロプロセッサと前記感知モジュールと電気的に接続される回路モジュールを含む。また、前記移動体は前記長軸方向に沿い転位され、前記移動体の転位距離が第一転位変化量に達する際、前記感知モジュールは対応する第一感知信号を発生させて前記マイクロプロセッサへ伝送させ、前記カーソルを第一復帰点まで移動させる。【選択図】図３
0003171990.tif 000002
【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
カーソルを制御する為の制御装置であって、  
収納空間を有し、前記収納空間を外部へ連通させる為の刳り抜き部を有するベースと、  
前記ベース上に設置されると共に少なくとも一部分は前記刳り抜き部に露出され、移動体を有する制御モジュールと、  
左感知モジュール及び右感知モジュールからなる感知モジュールと、  
前記収納空間に収納され、探知モジュール及びマイクロプロセッサからなり、前記探知モジュールは前記移動体に対向し、前記マイクロプロセッサと電気的に接続される回路モジュールを含み、
また、前記移動体が長軸方向に沿い左に向かって転位され、前記移動体の転位距離が第一転位変化量に達する際、前記左感知モジュールは対応する第一感知信号を発生させて前記マイクロプロセッサへ伝送させ、前記カーソルを第一復帰点まで移動させ、前記移動体が前記長軸方向に沿い右に向かって転位され、前記移動体の転位距離が第二転位変化量に達する際、前記右感知モジュールは対応する第二感知信号を発生させて前記マイクロプロセッサへ伝送させ、前記カーソルを第二復帰点まで移動させることを特徴とする制御装置。
【請求項２】
前記制御モジュールは前記収納空間から前記刳り抜き部へと挿入される載置台を設け、前記載置台は前記収納空間から離れた一方に前記移動体を収納させて転位或いはローリングを行わせるローリング槽を設け、前記載置台の側辺には前記収納空間から前記ローリング槽まで連通される貫通孔を設け、前記貫通孔は前記回路モジュールの前記マイクロプロセッサが電気的に接続される前記探知モジュールに前記移動体のローリングの連続的移動変化を探知させ、及び／或いは前記移動体が前記長軸方向に沿い移動する連続的移動変化を探知させ、前記探知モジュールは前記貫通孔の前記ローリング槽から離れた外側に位置されることを特徴とする、請求項１に記載の制御装置。
【請求項３】
前記制御モジュールは平衡桿を含み、前記平衡桿の一方は前記ベースに枢接され、前記平衡桿の他方は前記刳り抜き部まで延伸されて前記載置台に当接され、前記載置台は前記ローリング槽の他方に対向させて複数の弾性部材を設けることを特徴とする、請求項２に記載の制御装置。
【請求項４】
前記載置台は前記ローリング槽の他方に対向させて少なくとも一つの押圧部を凸設させ、前記回路モジュールは前記マイクロプロセッサに接続され前記載置台の押下後に前記押圧部に押圧させる少なくとも一つの制御スイッチであることを特徴とする、請求項２に記載の制御装置。
【請求項５】
前記ベースの前記刳り抜き部の左側と右側には前記収納空間に連通される収納槽をそれぞれ設け、前記制御モジュールは載置台を有し、前記収納空間内の前記刳り抜き部下方に設置され、前記載置台上には前記刳り抜き部内に位置されて左端と右端は左側と右側にそれぞれ貫入させる前記収納槽内の前記移動体を設置させ、前記移動体上には連通槽を貫設させ、前記移動体上には前記連通槽の外側を被覆させると共に前記移動体及び前記載置台の外側を取り囲ませるカバー体を覆設させ、前記探知モジュールは前記載置台上に設置されて前記カバー体のローリングを探知させることを特徴とする、請求項１に記載の制御装置。
【請求項６】
前記回路モジュールは前記マイクロプロセッサが電気的に接続されるパソコンの接続ポートに相互に差し込まれて電気的に接続される接続インターフェースであり、前記接続インターフェースはユニバーサル・シリアル・バス（ＵＳＢ）、ＰＳ２或いは他の接続インターフェースであることを特徴とする、請求項１に記載の制御装置。
【請求項７】
前記左感知モジュールは対向して設置される左磁性部材及び左磁性感知モジュールを含み、前記右感知モジュールは対向して設置される右磁性部材及び右磁性感知モジュールを含み、前記左磁性部材及び前記右磁性部材は接着剤を利用し、係合或いは溶接方式で前記移動体の二方の内部或いは外部に固設させるか、或いはインサート成形（ｉｎｓｅｒｔ  ｍｏｌｄｉｎｇ）方式により前記移動体と共に成型させることを特徴とする、請求項１に記載の制御装置。
【請求項８】
前記移動体の左右の二方には前記左磁性部材及び前記右磁性部材を固接させるための固定ベースをそれぞれを設置させ、前記左磁性部材及び前記右磁性部材は前記移動体の外部に伸長されるか、或いは移動体内へ挿入されることを特徴とする、請求項７に記載の制御装置。
【請求項９】
前記移動体は円柱、楕円柱、四角柱或いは五角柱形状を呈することを特徴とする、請求項１に記載の制御装置。
【請求項１０】
前記感知モジュールは回路板上に設置される入力端により外部電流に接続される比較器を有し、前記比較器の他の入力端は前記移動体に対向して経路を移動する探知回路に電気的に接続され、前記比較器の出力端はラッチ装置に電気的に接続され、前記ラッチ装置は信号を前記マイクロプロセッサに伝送させる出力インターフェースに電気的に接続されることを特徴とする、請求項１に記載の制御装置。
【請求項１１】
前記左感知モジュールは対向する左磁性部材及び左磁性感知モジュールを含み、前記右感知モジュールは対向する右磁性部材及び右磁性感知モジュールを含むことを特徴とする、請求項１に記載の制御装置。
【請求項１２】
前記左磁性部材及び前記右磁性部材は前記移動体の両端にそれぞれ設置され、前記左磁性感知モジュールと前記右磁性感知モジュールは前記左磁性部材及び前記右磁性部材にそれぞれ対向すると共に前記移動体の両側に近接されて設置され、或いは前記左磁性感知モジュールと前記右磁性感知モジュールは前記移動体の両端にそれぞれ設置され、前記左磁性部材及び前記右磁性部材は前記左磁性感知モジュールと前記右磁性感知モジュールにそれぞれ対向すると共に前記移動体の両側に近接されて設置されることを特徴とする、請求項１１に記載の制御装置。
【請求項１３】
前記制御モジュールはベース部を更に含み、左推移ベース及び右推移ベースは前記ベース部の両端にそれぞれ設置され、前記ベース部上を覆設させる前記移動体のカバー体とし、前記探知モジュールは前記ベース部上に設置され、前記カバー体のローリング及びスライドを探知させることを特徴とする、請求項１１に記載の制御装置。
【請求項１４】
前記左磁性部材及び前記右磁性部材は前記左推移ベースと前記右推移ベースにそれぞれ設置され、前記左磁性感知モジュールと前記右磁性感知モジュールは前記回路モジュール上に設置されると共に前記左磁性部材及び前記右磁性部材にそれぞれ近接され、或いは前記左磁性感知モジュールと前記右磁性感知モジュールは前記左推移ベースと前記右推移ベースにそれぞれ設置され、前記左磁性部材及び前記右磁性部材は前記回路モジュール上に設置されると共に前記左磁性感知モジュールと前記右磁性感知モジュールにそれぞれ近接されることを特徴とする、請求項１３に記載の制御装置。
【請求項１５】
前記左磁性感知モジュールと前記右磁性感知モジュールは磁気抵抗センサ（ｍａｇｎｅｔｏ−ｒｅｓｉｓｔｉｖｅ  ｓｅｎｓｏｒ；ＭＲ  ｓｅｎｓｏｒ）であり、前記磁気抵抗センサは非接触方式で前記左磁性部材及び前記右磁性部材が発生させる磁界強度変化を感知させて前記移動体の前記第一転位変化量及び前記第二転位変化量を判断させることを特徴とする、請求項１２或いは請求項１４の内の何れか一つに記載の制御装置。
【請求項１６】
前記左磁性感知モジュールと前記右磁性感知モジュールはホールＩＣ（Ｈａｌｌ  ＩＣ）をそれぞれ含み、前記それらホールＩＣは前記左磁性部材及び前記右磁性部材の磁極に合わせてそれぞれ調整され、前記ホールＩＣは非接触方式で前記左磁性部材及び前記右磁性部材が発生させる磁界強度変化を感知させて前記第一転位変化量及び前記第二転位変化量を判断させることを特徴とする、請求項１２或いは請求項１４の内の何れか一つに記載の制御装置。
【請求項１７】
前記左感知モジュールは左光学発射モジュール及び左光学受信モジュールを含み、前記右感知モジュールは右光学発射モジュール及び右光学受信モジュールを含み、前記移動体が前記第一転位変化量に達した際、前記移動体の一部は前記左光学発射モジュール及び前記左光学受信モジュール間に干渉させ、前記第一感知信号を発生させ、前記移動体が前記第二転位変化量に達した際、前記移動体の一部は前記右光学発射モジュール及び前記右光学受信モジュール間に干渉させ、前記第二感知信号を発生させることを特徴とする、請求項１に記載の制御装置。
【請求項１８】
前記制御モジュールはベース部、左推移ベース及び右推移ベースを更に含み、前記移動体係はカバー体であり、前記カバー体は前記ベース部上を覆設させ、前記左推移ベース及び前記右推移ベースは前記カバー体の二端にそれぞれ対向して設置され、前記探知モジュールは前記ベース部上に設置されて、前記カバー体のローリング及びスライドを探知させることを特徴とする、請求項１に記載の制御装置。
【請求項１９】
前記左感知モジュールは左光学発射モジュール及び左光学受信モジュールを含み、前記右感知モジュールは右光学発射モジュール及び右光学受信モジュールを含み、前記移動体が前記長軸方向に沿い左に向かって転位され前記第一転位変化量に達する際、前記移動体或いは前記左推移ベースの内の何れか一つを前記左光学発射モジュール及び前記左光学受信モジュールの間に進入させ、前記左光学受信モジュールの前記左光学発射モジュールの信号の受信を阻み、前記左光学発射モジュールに対応する前記第一感知信号を発生させ、前記移動体が前記長軸方向に沿い右に向かって転位され前記第二転位変化量に達する際、前記移動体或いは前記右推移ベースの内の何れか一つを前記右光学発射モジュール及び前記右光学受信モジュールの間に進入させ、前記右光学受信モジュールの前記右光学発射モジュールの信号の受信を阻み、前記右光学発射モジュールに対応する前記第二感知信号を発生させることを特徴とする、請求項１に記載の制御装置。
【請求項２０】
前記感知モジュールは前記長軸方向に沿い設置され、前記移動体の水平転位の連続的変化を感知させて第三感知信号を発生させ前記マイクロプロセッサへ伝送させる複数の水平移動感知モジュールを更に含むことを特徴とする、請求項１に記載の制御装置。
【請求項２１】
前記感知モジュールは前記移動体の環状周縁に沿い設置され、前記移動体のローリングの連続的変化を感知させて第四感知信号を発生させて前記マイクロプロセッサへ伝送させる複数の垂直移動感知モジュールを更に含むことを特徴とする、請求項１に記載の制御装置。
【請求項２２】
カーソルを制御する為の制御装置であって、
収納空間を有するベースと、
前記ベース上に設置され、移動体を有する制御モジュールと、
感知モジュールと、
前記収納空間に収納され、探知モジュール及びマイクロプロセッサからなり、前記探知モジュールは前記移動体に対向させ、前記マイクロプロセッサと前記感知モジュールと電気的に接続される回路モジュールを含み、
また、前記移動体は前記長軸方向に沿い転位され、前記移動体の転位距離が第一転位変化量に達する際、前記感知モジュールは対応する第一感知信号を発生させて前記マイクロプロセッサへ伝送させ、前記カーソルを第一復帰点まで移動させることを特徴とする制御装置。
【請求項２３】
前記感知モジュールは磁性感知モジュール及び磁性部材を含み、前記磁性感知モジュールと前記回路モジュールは電気的に接続され、前記磁性部材は前記制御モジュールの少なくとも一方の端に設置され、前記磁性感知モジュールは磁気抵抗センサ（ｍａｇｎｅｔｏ−ｒｅｓｉｓｔｉｖｅ  ｓｅｎｓｏｒ；ＭＲ  ｓｅｎｓｏｒ）であり、前記磁気抵抗センサは非接触方式で前記磁性部材が発生させる磁界強度変化を感知させて前記移動体の前記第一転位変化量を判断させることを特徴とする、請求項２２に記載の制御装置。
【請求項２４】
前記感知モジュールは磁性感知モジュール及び磁性部材を含み、前記磁性感知モジュールと前記回路モジュールは電気的に接続され、前記磁性部材は前記制御モジュールの少なくとも一方の端に設置され、前記磁性感知モジュールはホールＩＣ（Ｈａｌｌ  ＩＣ）であり、前記磁性感知モジュールの中心部は前記磁性部材の磁極に合わせて調整され、前記ホールＩＣは非接触方式で前記磁性部材が発生させる磁界強度変化を感知させて前記移動体の前記第一転位変化量を判断させることを特徴とする、請求項２２に記載の制御装置。
【請求項２５】
前記感知モジュールは光学発射モジュール及び光学受信モジュールを含み、前記移動体が前記長軸方向に沿い前記第一転位変化量に達する際、前記移動体を前記光学発射モジュール及び前記光学受信モジュールの間に進入させ、前記光学受信モジュールの光学発射モジュールの信号の受信を阻み、前記光学発射モジュールが非接触手段により前記第一感知信号を発生させ、前記光学発射モジュール及び前記光学受信モジュールは前記制御モジュールの少なくとも一方の端に設置されることを特徴とする、請求項２２に記載の制御装置。
【請求項２６】
前記感知モジュールは前記長軸方向に沿い設置される複数の水平移動感知モジュール及び前記移動体の環状周縁に沿い設置される複数の垂直移動感知モジュールを更に含み、前記移動体が前記長軸方向に沿い水平に転位される際、前記それら水平移動感知モジュールは非接触手段により前記移動体の水平転位の連続的変化を感知させて第三感知信号を発生させて前記マイクロプロセッサへ伝送させ、前記移動体がローリングを遂行させる際、前記それら垂直移動感知モジュールは非接触手段により前記移動体のローリングの連続的変化を感知させて第四感知信号を発生させて前記マイクロプロセッサへ伝送させることを特徴とする、請求項２２或いは２５に記載の制御装置。
【請求項２７】
前記ベースは刳り抜き槽を更に含み、前記ベース上の前記制御モジュールの少なくとも一部分は前記刳り抜き槽に露出され、或いは前記回路モジュールは探知モジュールを更に含み、前記探知モジュールは前記移動体に対向させ、前記マイクロプロセッサと電気的に接続されることを特徴とする、請求項２２に記載の制御装置。
【請求項２８】
前記探知モジュールは前記移動体のローリングの連続的移動変化せ、及び前記移動体の長軸方向に沿って水平への移動の連続的移動変化を探知させ、或いは前記探知モジュールは前記移動体のローリングの連続的移動変化を探知させ或いは前記移動体の長軸方向に沿って水平への移動の連続的移動変化を探知させることを特徴とする、請求項２７に記載の制御装置。
【請求項２９】
カーソルを制御する為の制御装置であって、
収納空間を有するベースと、
前記ベース上に設置され、移動体を有する制御モジュールと、
感知モジュールと、
前記収納空間に収納され、探知モジュール及びマイクロプロセッサからなり、前記探知モジュールは前記移動体に対向させ、前記マイクロプロセッサと前記感知モジュールと電気的に接続される回路モジュールを含み、
また、前記移動体は長軸方向に沿い転位され、前記感知モジュールは対応する第一感知信号を発生させて前記マイクロプロセッサへ伝送させることを特徴とする制御装置。
【請求項３０】
前記長軸は水平軸であり、或いは前記移動体はカバー体を含み、または前記移動体が前記長軸方向に沿い転位され、前記移動体の転位距離が第一転位変化量に達する際、前記感知モジュールは対応する第一感知信号を発生させて、前記カーソルを第一復帰点まで移動させることを特徴とする、請求項２９に記載の制御装置。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案は、制御装置に関し、より詳しくは、制御モジュールの二方に感知モジュールをそれぞれ設け、感知モジュールにより移動体の所定の転位変化量より超過を探知させ、復帰点まで復帰させる制御装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
科学技術の飛躍的な進歩と電子産業のダイナミックな発展により、様々な電子装置が続々と我々の生活に取り入れられ、もはや欠かせない生活の一部（例えばパソコン、携帯電話及びデジタルカメラ等）となっており、その中でもパソコンは仕事では必須と言ってよい道具であるばかりではなく、インターネットの拡大と普及により、生活中で多くの事柄（例えば資料検索、音楽や映画鑑賞、新聞、ゲーム）をパソコンやインターネットを利用して行い、インターネットにより友人とチャットや、メッセージングや、メールのやりとりや、更にはショッピングや、予約、オンライン振込み等も行える。
【０００３】
パソコンは多くの機能を有する事でユーザーの生活を更に便利にさせ、多くの人間は毎日パソコンに触るが、昨今のユーザーは多くがキーボードとマウスを利用してパソコンを操作し作業を行い、カーソルの移動、選択、文字入力等の動作を完成させ、ユーザーは仕事、就学、レジャー、娯楽等でパソコンを使用するため、多くの人間が長時間マウスを使用するが、マウスの操作に於いては、手の姿勢は腕がデスクに近接される形になり、手のひらや指でマウスを動かして転位させるが、マウスを操作して広い範囲の移動をする際には、腕を起こして肘も動かしてマウスを動かし転位させるため、長時間に頻繁にマウスを使用した後には、マウス症候群（腕隧道症候群）を患う事もある。
【考案の概要】
【考案が解決しようとする課題】
【０００４】
このため、メーカーではこの問題に対応してハンドレストパッドを開発したが、制御の上では腕を持ち上げてマウスに広い範囲を移動させるために、腕をハンドレストパッドから離すため、個人の使用習慣上マウスを持ち上げて位置を変える動作を行うことで、ハンドレストパッドの実用性が大幅に低下し、メーカーはローリング棒材９により制御を行う装置を開発し、図１６によると、ローリング棒材の体積が大き過ぎて直接左右へ転位させて制御スイッチ部材に接触させることができず、メーカーでは回転桿部材を枢設させ、ローリング棒材を利用し回転桿部材の一方に当接させ、回転桿部材を他方へ回転させて制御スイッチ部材を押圧させることで信号を出力させるが、実際の使用に於いては、ユーザー個人の転位習慣或いは力量不足により、回転桿部材が確実に制御スイッチ部材を押圧することができず、ローリング棒材の左右への転位動作を再三行わねばならず、制御の困難を生み出し、またローリング棒材を確実に回転桿部材に当接させて押すためにユーザーが長時間にわたって力をかけ過ぎ、制御スイッチ部材が信号を出力させたはいいが、長時間使用した為に回転桿部材が容易に損壊してしまい作動しなくなると、メンテナンスを行い備品を交換せねばならない。
【０００５】
従来のローリング棒材が確実に制御スイッチ部材に接触しないことで信号を発信できなくなる問題と欠点を如何に解決させるかは、この分野に関わるメーカーが研究改善を急ぐところである。
【０００６】
本考案は、このような従来の問題に鑑みてなされたものである。上記課題解決のため、本考案は、制御モジュールの左右の二方に感知モジュールを設けると共に感知モジュールは非接触方式で移動体の転位変化を探知させ、制御信号を発生させてカーソルを復帰点まで移動させることを主目的とする。
【０００７】
感知モジュールは非接触方式で感応するため、感知モジュールは接触されることで起こる機械疲労或いは接触不良の問題を引き起こさず、確実に信号を発射させる効果を生み、また移動体の製造に用いられる材質も制限されず、金属、ゴム、プラスチック、木質、テフロン或いは布等の軟質或いは硬質の材質で製造され、更には制御精度と製品を変化させる目的を達成させる。本考案は、上述の制御信号を発生させてカーソルを復帰点まで移動させるカーソルの水平位置リセット（ｒｅｓｅｔ）機能を前提とし、感知モジュールを探知モジュールで代替させ、移動体の水平転位距離とローリング距離の連続的変化の感知を遂行させ、他の制御信号を発生させてカーソルに水平転位と垂直転位を遂行させることを第２の目的とする。
【０００８】
本考案は、磁性感知モジュールの回路板上に比較器、探知回路、ラッチ装置及び出力インターフェースを設け、設置される電子部材が少なく、体積も小さく、またベース収納空間内に空間を確保して磁性感知モジュールを作動させる必要を無くし、体積全体を縮小させることを第３の目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本考案に係る制御装置は、カーソルを制御する為の制御装置であって、収納空間を有し、収納空間を外部へ連通させる為の刳り抜き部を有するベースと、ベース上に設置されると共に少なくとも一部分は刳り抜き部に露出され、移動体を有する制御モジュールと、左感知モジュール及び右感知モジュールからなる感知モジュールと、収納空間に収納され、探知モジュール及びマイクロプロセッサからなり、探知モジュールは移動体に対向し、マイクロプロセッサと電気的に接続される回路モジュールを含み、また、移動体が長軸方向に沿い左に向かって転位され、移動体の転位距離が第一転位変化量に達する際、左感知モジュールは対応する第一感知信号を発生させてマイクロプロセッサへ伝送させ、カーソルを第一復帰点まで移動させ、移動体が長軸方向に沿い右に向かって転位され、移動体の転位距離が第二転位変化量に達する際、右感知モジュールは対応する第二感知信号を発生させてマイクロプロセッサへ伝送させ、カーソルを第二復帰点まで移動させることを特徴とする。
【００１０】
好ましい実施形態では、制御モジュールは収納空間から刳り抜き部へと挿入される載置台を設け、載置台は収納空間から離れた一方に移動体を収納させて転位或いはローリングを行わせるローリング槽を設け、載置台の側辺には収納空間からローリング槽まで連通される貫通孔を設け、貫通孔は回路モジュールのマイクロプロセッサが電気的に接続される探知モジュールに移動体のローリングの連続的移動変化を探知させ、及び／或いは移動体が長軸方向に沿い移動する連続的移動変化を探知させ、探知モジュールは貫通孔のローリング槽から離れた外側に位置されることを特徴とする。
【００１１】
好ましい実施形態では、制御モジュールは平衡桿を含み、平衡桿の一方はベースに枢接され、平衡桿の他方は刳り抜き部まで延伸されて載置台に当接され、載置台はローリング槽の他方に対向させて複数の弾性部材を設けることを特徴とする。
【００１２】
好ましい実施形態では、載置台はローリング槽の他方に対向させて少なくとも一つの押圧部を凸設させ、回路モジュールはマイクロプロセッサに接続され載置台の押下後に押圧部に押圧させる少なくとも一つの制御スイッチであることを特徴とする。
【００１３】
好ましい実施形態では、ベースの刳り抜き部の左側と右側には収納空間に連通される収納槽をそれぞれ設け、制御モジュールは載置台を有し、収納空間内の刳り抜き部下方に設置され、載置台上には刳り抜き部内に位置されて左端と右端は左側と右側にそれぞれ貫入させる収納槽内の移動体を設置させ、移動体上には連通槽を貫設させ、移動体上には連通槽の外側を被覆させると共に移動体及び載置台の外側を取り囲ませるカバー体を覆設させ、探知モジュールは載置台上に設置されてカバー体のローリングを探知させることを特徴とする。
【００１４】
好ましい実施形態では、回路モジュールはマイクロプロセッサが電気的に接続されるパソコンの接続ポートに相互に差し込まれて電気的に接続される接続インターフェースであり、接続インターフェースはユニバーサル・シリアル・バス（ＵＳＢ）、ＰＳ２或いは他の接続インターフェースであることを特徴とする。
【００１５】
好ましい実施形態では、左感知モジュールは対向して設置される左磁性部材及び左磁性感知モジュールを含み、右感知モジュールは対向して設置される右磁性部材及び右磁性感知モジュールを含み、左磁性部材及び右磁性部材は接着剤を利用し、係合或いは溶接方式で移動体の二方の内部或いは外部に固設させるか、或いはインサート成形（ｉｎｓｅｒｔ  ｍｏｌｄｉｎｇ）方式により移動体と共に成型させることを特徴とする。
【００１６】
好ましい実施形態では、移動体の左右の二方には左磁性部材及び右磁性部材を固接させるための固定ベースをそれぞれを設置させ、左磁性部材及び右磁性部材は移動体の外部に伸長されるか、或いは移動体内へ挿入されることを特徴とする。
【００１７】
好ましい実施形態では、移動体は円柱、楕円柱、四角柱或いは五角柱形状を呈する。
【００１８】
好ましい実施形態では、感知モジュールは回路板上に設置される入力端により外部電流に接続される比較器を有し、比較器の他の入力端は移動体に対向して経路を移動する探知回路に電気的に接続され、比較器の出力端はラッチ装置に電気的に接続され、ラッチ装置は信号をマイクロプロセッサに伝送させる出力インターフェースに電気的に接続されることを特徴とする。
【００１９】
好ましい実施形態では、左感知モジュールは対向する左磁性部材及び左磁性感知モジュールを含み、右感知モジュールは対向する右磁性部材及び右磁性感知モジュールを含むことを特徴とする。
【００２０】
好ましい実施形態では、左磁性部材及び右磁性部材は移動体の両端にそれぞれ設置され、左磁性感知モジュールと右磁性感知モジュールは左磁性部材及び右磁性部材にそれぞれ対向すると共に移動体の両側に近接されて設置され、或いは左磁性感知モジュールと右磁性感知モジュールは移動体の両端にそれぞれ設置され、左磁性部材及び右磁性部材は左磁性感知モジュールと右磁性感知モジュールにそれぞれ対向すると共に移動体の両側に近接されて設置されることを特徴とする。
【００２１】
好ましい実施形態では、制御モジュールはベース部を更に含み、左推移ベース及び右推移ベースはベース部の両端にそれぞれ設置され、ベース部上を覆設させる移動体のカバー体とし、探知モジュールはベース部上に設置され、カバー体のローリング及びスライドを探知させることを特徴とする。
【００２２】
好ましい実施形態では、左磁性部材及び右磁性部材は左推移ベースと右推移ベースにそれぞれ設置され、左磁性感知モジュールと右磁性感知モジュールは回路モジュール上に設置されると共に左磁性部材及び右磁性部材にそれぞれ近接され、或いは左磁性感知モジュールと右磁性感知モジュールは左推移ベースと右推移ベースにそれぞれ設置され、左磁性部材及び右磁性部材は回路モジュール上に設置されると共に左磁性感知モジュールと右磁性感知モジュールにそれぞれ近接されることを特徴とする。
【００２３】
好ましい実施形態では、左磁性感知モジュールと右磁性感知モジュールは磁気抵抗センサ（ｍａｇｎｅｔｏ−ｒｅｓｉｓｔｉｖｅ  ｓｅｎｓｏｒ；ＭＲ  ｓｅｎｓｏｒ）であり、磁気抵抗センサは非接触方式で左磁性部材及び右磁性部材が発生させる磁界強度変化を感知させて前記移動体の前記第一転位変化量及び前記第二転位変化量を判断させることを特徴とする。
【００２４】
好ましい実施形態では、左磁性感知モジュールと右磁性感知モジュールはホールＩＣ（Ｈａｌｌ  ＩＣ）をそれぞれ含み、それらホールＩＣは左磁性部材及び右磁性部材の磁極に合わせてそれぞれ調整され、ホールＩＣは非接触方式で左磁性部材及び右磁性部材が発生させる磁界強度変化を感知させて前記移動体の前記第一転位変化量及び前記第二転位変化量を判断させることを特徴とする。
【００２５】
好ましい実施形態では、左感知モジュールは左光学発射モジュール及び左光学受信モジュールを含み、右感知モジュールは右光学発射モジュール及び右光学受信モジュールを含み、移動体が第一転位変化量に達した際、移動体の一部は左光学発射モジュール及び左光学受信モジュール間に干渉させ、第一感知信号を発生させ、移動体が第二転位変化量に達した際、移動体の一部は右光学発射モジュール及び右光学受信モジュール間に干渉させ、第二感知信号を発生させることを特徴とする。
【００２６】
好ましい実施形態では、制御モジュールはベース部、左推移ベース及び右推移ベースを更に含み、移動体係はカバー体であり、カバー体はベース部上を覆設させ、左推移ベース及び右推移ベースはカバー体の二端にそれぞれ対向して設置され、探知モジュールはベース部上に設置されて、カバー体のローリング及びスライドを探知させることを特徴とする。
【００２７】
好ましい実施形態では、左感知モジュールは左光学発射モジュール及び左光学受信モジュールを含み、右感知モジュールは右光学発射モジュール及び右光学受信モジュールを含み、移動体が軸方向に沿い左に向かって転位され第一転位変化量に達する際、移動体或いは左推移ベースの内の何れか一つを左光学発射モジュール及び左光学受信モジュールの間に進入させ、左光学受信モジュールの左光学発射モジュールの信号の受信を阻み、左光学発射モジュールに対応する第一感知信号を発生させ、移動体が軸方向に沿い右に向かって転位され第二転位変化量に達する際、移動体或いは右推移ベースの内の何れか一つを右光学発射モジュール及び右光学受信モジュールの間に進入させ、右光学受信モジュールの右光学発射モジュールの信号の受信を阻み、右光学発射モジュールに対応する第二感知信号を発生させることを特徴とする。
【００２８】
好ましい実施形態では、感知モジュールは長軸方向に沿い設置され、移動体の水平転位の連続的変化を感知させて第三感知信号を発生させマイクロプロセッサへ伝送させる複数の水平移動感知モジュールを更に含むことを特徴とする。
【００２９】
好ましい実施形態では、感知モジュールは移動体の環状周縁に沿い設置され、移動体のローリングの連続的変化を感知させて第四感知信号を発生させてマイクロプロセッサへ伝送させる複数の垂直移動感知モジュールを更に含むことを特徴とする。
【００３０】
本考案の他の目的の制御装置は、カーソルを制御する為の制御装置であって、収納空間と刳り抜き部を有するベースと、ベース上に設置されると共に少なくとも一部分は刳り抜き部に露出され、移動体を有する制御モジュールと、感知モジュールと、収納空間に収納され、探知モジュール及びマイクロプロセッサからなり、探知モジュールは移動体に対向させ、マイクロプロセッサと電気的に接続される回路モジュールを含み、
また、移動体は長軸方向に沿い転位され、移動体の転位距離が第一転位変化量に達する際、感知モジュールは対応する第一感知信号を発生させてマイクロプロセッサへ伝送させ、カーソルを第一復帰点まで移動させることを特徴とする。
【００３１】
好ましい実施形態では、感知モジュールは磁性感知モジュール及び磁性部材を含み、磁性感知モジュールと回路モジュールは電気的に接続され、磁性部材は制御モジュールの少なくとも一方の端に設置され、磁性感知モジュールは磁気抵抗センサ（ｍａｇｎｅｔｏ−ｒｅｓｉｓｔｉｖｅ  ｓｅｎｓｏｒ；ＭＲ  ｓｅｎｓｏｒ）であり、磁気抵抗センサは非接触方式で磁性部材が発生させる磁界強度変化を感知させて前記移動体の前記第一転位変化量を判断させることを特徴とする。
【００３２】
好ましい実施形態では、感知モジュールは磁性感知モジュール及び磁性部材を含み、磁性感知モジュールと回路モジュールは電気的に接続され、磁性部材は制御モジュールの少なくとも一方の端に設置され、磁性感知モジュールはホールＩＣ（Ｈａｌｌ  ＩＣ）であり、磁性感知モジュールの中心部は磁性部材の磁極に合わせて調整され、ホールＩＣは非接触方式で磁性部材が発生させる磁界強度変化を感知させて前記移動体の前記第一転位変化量を判断させることを特徴とする。
【００３３】
好ましい実施形態では、感知モジュールは光学発射モジュール及び光学受信モジュールを含み、移動体が長軸方向に沿い転位されて第一転位変化量に達する際、移動体を光学発射モジュール及び光学受信モジュールの間に進入させ、光学受信モジュールの光学発射モジュールの信号の受信を阻み、光学発射モジュールに対応する第一感知信号を発生させ、光学発射モジュール及び光学受信モジュールは制御モジュールの少なくとも一方の端に設置されることを特徴とする。
【００３４】
好ましい実施形態では、感知モジュールは長軸方向に沿い設置される複数の水平移動感知モジュール及び移動体の環状周縁に沿い設置される複数の垂直移動感知モジュールを更に含み、前記移動体が長軸方向に沿い水平に転位される際、それら水平移動感知モジュールは移動体の水平転位の連続的変化を感知させて第三感知信号を発生させてマイクロプロセッサへ伝送させ、前記移動体がローリングを遂行させる際、それら垂直移動感知モジュールは前記移動体のローリングの連続的変化を感知させて第四感知信号を発生させてマイクロプロセッサへ伝送させることを特徴とする。
【００３５】
好ましい実施形態では、カーソルを制御する為の制御装置であって、収納空間を有するベースと、前記ベース上に設置され、移動体を有する制御モジュールと、感知モジュールと、前記収納空間に収納され、探知モジュール及びマイクロプロセッサからなり、前記探知モジュールは前記移動体に対向させ、前記マイクロプロセッサと前記感知モジュールと電気的に接続される回路モジュールを含み、また、前記長軸は水平軸であり、或いは前記移動体はカバー体を含み、または前記移動体は前記長軸方向に沿い転位され、前記移動体の転位距離が第一転位変化量に達する際に、前記感知モジュールは対応する第一感知信号を発生させて前記マイクロプロセッサへ伝送させ、前記カーソルを第一復帰点まで移動させることを特徴とする。
【００３６】
好ましい実施形態では、前記感知モジュールは磁性感知モジュール及び磁性部材を含み、前記磁性感知モジュールと前記回路モジュールは電気的に接続され、前記磁性部材は前記制御モジュールの少なくとも一方の端に設置され、前記磁性感知モジュールは磁気抵抗センサ（ｍａｇｎｅｔｏ−ｒｅｓｉｓｔｉｖｅ  ｓｅｎｓｏｒ；ＭＲ  ｓｅｎｓｏｒ）であり、前記磁気抵抗センサは非接触方式で前記磁性部材が発生させる磁界強度変化を感知させて前記移動体の前記第一転位変化量を判断させることを特徴とする。
【００３７】
好ましい実施形態では、前記感知モジュールは磁性感知モジュール及び磁性部材を含み、前記磁性感知モジュールと前記回路モジュールは電気的に接続され、前記磁性部材は前記制御モジュールの少なくとも一方の端に設置され、前記磁性感知モジュールはホールＩＣ（Ｈａｌｌ  ＩＣ）であり、前記磁性感知モジュールの中心部は前記磁性部材の磁極に合わせて調整され、前記ホールＩＣは非接触方式で前記磁性部材が発生させる磁界強度変化を感知させて前記移動体の前記第一転位変化量を判断させることを特徴とする。
【００３８】
好ましい実施形態では、前記感知モジュールは光学発射モジュール及び光学受信モジュールを含み、前記移動体が前記軸方向に沿い前記第一転位変化量に達する際、前記移動体を前記光学発射モジュール及び前記光学受信モジュールの間に進入させ、前記光学受信モジュールの光学発射モジュールの信号の受信を阻み、前記光学発射モジュールが非接触手段により前記第一感知信号を発生させ、前記光学発射モジュール及び前記光学受信モジュールは前記制御モジュールの少なくとも一方の端に設置されることを特徴とする。
【００３９】
好ましい実施形態では、前記感知モジュールは前記長軸方向に沿い設置される複数の水平移動感知モジュール及び前記移動体の環状周縁に沿い設置される複数の垂直移動感知モジュールを更に含み、前記移動体が前記長軸方向に沿い水平に転位される際、前記それら水平移動感知モジュールは非接触手段により前記移動体の水平転位の連続的変化を感知させて第三感知信号を発生させて前記マイクロプロセッサへ伝送させ、前記移動体がローリングを遂行させる際、前記それら垂直移動感知モジュールは非接触手段により前記移動体のローリングの連続的変化を感知させて第四感知信号を発生させて前記マイクロプロセッサへ伝送させることを特徴とする。
【００４０】
好ましい実施形態では、前記ベースは刳り抜き槽を更に含み、前記ベース上の前記制御モジュールの少なくとも一部分は前記刳り抜き槽に露出され、或いは前記回路モジュールは探知モジュールを更に含み、前記探知モジュールは前記移動体に対向させ、前記マイクロプロセッサと電気的に接続されることを特徴とする。
【００４１】
好ましい実施形態では、前記探知モジュールは前記移動体のローリングの連続的移動変化せ、及び前記移動体の長軸方向に沿って水平への移動の連続的移動変化を探知させ、或いは前記探知モジュールは前記移動体のローリングの連続的移動変化を探知させ或いは前記移動体の長軸方向に沿って水平への移動の連続的移動変化を探知させることを特徴とする。
【００４２】
本考案の他の好ましい実施形態では、はカーソルを制御する為の制御装置であって、
収納空間を有するベースと、前記ベース上に設置され、移動体を有する制御モジュールと、感知モジュールと、前記収納空間に収納され、探知モジュール及びマイクロプロセッサからなり、前記探知モジュールは前記移動体に対向させ、前記マイクロプロセッサと前記感知モジュールと電気的に接続される回路モジュールを含み、また、前記移動体は長軸方向に沿い転位され、前記移動体の転位距離が第一転位変化量に達する際、前記感知モジュールは対応する第一感知信号を発生させて前記マイクロプロセッサへ伝送させ、前記カーソルを第一復帰点まで移動させることを特徴とする。
好ましい実施形態では、記移動体が前記長軸方向に沿い転位され、前記移動体の転位距離が第一転位変化量に達する際、前記感知モジュールは対応する第一感知信号を発生させて、前記カーソルを第一復帰点まで移動させることを特徴とする。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】本考案に係る好ましい実施形態を説明する立体外観図である。
【図２】本考案に係る好ましい実施形態を説明する立体分解図である。
【図３】本考案に係る好ましい実施形態を説明する他の立体外観図である。
【図４】本考案に係る好ましい実施形態を説明するブロック図である。
【図５】本考案に係る移動体のローリングを説明する側視断面図である。
【図６】本考案に係る移動体のスライドを説明する俯瞰図である。
【図７】本考案に係る移動体の押下を説明する側視断面図である。
【図８】本考案に係る他の実施形態を説明する立体分解図である。
【図９】本考案に係るまた他の実施形態を説明する立体分解図である。
【図１０】本考案に係るまた他の実施形態を説明する俯瞰図である。
【図１１】本考案に係るまた他の実施形態を説明する分解図である。
【図１２】本考案に係るまた他の実施形態を説明する俯瞰断面図である。
【図１３】本考案に係るまた他の実施形態を説明する部分分解図である。
【図１４Ａ】本考案に係る感知モジュールに含まれる光学発射モジュール及び光学受信モジュールを説明する概略図である。
【図１４Ｂ】本考案に係る感知モジュールに含まれるホールＩＣを説明する概略図である。
【図１４Ｃ】本考案に係る感知モジュールに含まれる磁気抵抗センサを説明する概略図である。
【図１５Ａ】本考案に係る制御装置の水平移動感知モジュールを説明する概略図である。
【図１５Ｂ】本考案に係る制御装置の垂直移動感知モジュールを説明する概略図である。
【図１６】従来のものを説明する俯瞰図である。
【考案を実施するための形態】
【００４４】
以下に図面を参照して、本考案を実施するための形態について、詳細に説明する。なお、本考案は、以下に説明する実施形態に限定されるものではない。
まず、本考案の制御装置の第１実施形態について説明する。
【００４５】
（第１実施形態）
本考案の実施形態に係る制御装置において、図１乃至図５は、本考案に係る好ましい実施形態を説明する立体外観図、立体分解図、他の立体外観図、ブロック図、移動体のローリングの側視断面図であり、図中では制御装置はベース１、制御モジュール２及び回路モジュール３で構成され、ベース１は第一ベース部１１であり、第二ベース部１２により構成され、また第一ベース部１１と第二ベース部１２の間には収納空間１０を形成させ、第一ベース部１１は収納空間１０の底面に一個以上の制限部１１１を設け、また第一ベース部１１は制限部１１１の前方の左側と右側に順に複数の位置決め部１１２と枢接部１１３を設け、その複数の位置決め部１１２と枢接部１１３の間には一個以上の枢接架台１１４を設け、一個以上の制限部１１１及び枢接架台１１４の間には凹型槽１１５を凹設させ、第二ベース部１２には制限部１１１に合わせて調整されると共に収納空間１０を外部に連通させる刳り抜き部１２１を設け、刳り抜き部１２１の左側と右側（長軸方向に沿い）には収納空間１０を連通させる収納槽１２２を凹設させ、また刳り抜き部１２１の前壁面と後壁面には一個以上の制限部１２３をそれぞれ設け、刳り抜き部１２１の前側には一個以上の枢接架台１１４に合わせて調整される貫通槽１２４を設け、第二ベース部１２は貫通槽１２４に刳り抜き部１２１の他方に対向させて延伸されると共にユーザーの手を載せるための当接部１２５を設け、また当接部１２５上には軟性或いは弾性材質で製造されるハンドレストパッド１３を設置させ、貫通槽１２４上には装飾板１４を設ける。
【００４６】
制御モジュール２は収納空間１０から刳り抜き部１２１内へと挿入される載置台２１を有し、また載置台２１は収納空間１０から離れた一方にローリング槽２１１を設け、載置台２１の近隣の刳り抜き部１２１の側辺には収納空間１０からローリング槽２１１まで連通される貫通孔２１２を設け、また載置台２１はローリング槽２１１に対向させる一方に一個以上の制限部１１１に対向して組み立てられると共に載置台２１を上下に転位させる制限ブロック２１３、複数の弾性部材２１４、押圧部２１５及び複数の位置決め架台２１６（図５の参照）を設け、載置台２１の下方には平衡桿２２を設け、平衡桿２２は載置台２１下方の複数の位置決め架台２１６に枢設されるベース部２２１を有し、またベース部２２１の二方には同じ方向へ湾曲されると共に複数の位置決め部１１２に納置される支え腕２２２を有し、支え腕２２２の末端には同じ方向へ湾曲されると共に枢接部１１３に枢設される軸部２２３を有し、ローリング槽２１１には移動体２３を設置させる。
【００４７】
感知モジュールは左感知モジュール３４及び右感知モジュール３４を含み、左感知モジュール３４及び右感知モジュール３４は制御装置２の二方にそれぞれ設置され、また左感知モジュール３４は対向して設置される左磁性部材２３１及び左磁性感知モジュール３４８を含み、右感知モジュール３４は対向して設置される右磁性部材２３１及び右磁性感知モジュール３４８を含み、左磁性部材２３１及び右磁性部材２３１は移動体２３の左右の二方に設置され、また移動体２３には収納空間１０に内設されると共に一個以上の貫通槽１２４が外部に露出される複数の制御部材２４を設ける。
【００４８】
回路モジュール３はマイクロプロセッサ３１に電気的に接続される載置台２１上の貫通孔２１２に合わせて調整させるローリング槽２１１内の物体のローリングと水平移動を探知させる探知モジュール３２であり、また探知モジュール３２は貫通孔２１２のローリング槽２１１から離れた外側に固設され、マイクロプロセッサ３１は載置台２１の押圧部２１５にそれぞれ押圧されると共に複数の制御部材２４に触発される複数の制御スイッチ３３に接続され、またマイクロプロセッサ３１はベース１の収納空間１０内に位置されると共に移動体２３の二方の左磁性部材２３１及び右磁性部材２３１のそれぞれに向いて非接触方式で探知と信号の発信を行う左磁性感知モジュール３４８及び右磁性感知モジュール３４８に接続され、マイクロプロセッサ３１はパソコン４の接続ポート４１に相互に差し込まれて電気的に接続される接続インターフェース３５に電気的に接続され、また接続インターフェース３５はユニバーサル・シリアル・バス（ＵＳＢ）、ＰＳ２或いは他の型式の接続インターフェースである。ここで説明が必要なのは、探知モジュール３２は通常は光学影像探知モジュールを使用して、移動体２３或いはカバー体２３３の水平移動とローリングの連続的移動変化を探知させるが、但しここでは例を挙げるのみで、これに制限されるわけではない。
【００４９】
上述のベース１は単一のベース部ないしは二個以上のベース部で構成され、これは内部収納空間１０を有するのみで制御モジュール２、回路モジュール３に納置され、刳り抜き部１２１を有し載置台２１を納入させて移動体２３を納置させる機能を有してもよく、これにより本考案の実用新案登録請求の範囲を制限させず、例えば他の修飾及び同等の構造変化を利用する等も、本考案の範囲内に含まれる。
【００５０】
次は、本考案の制御装置の第２実施形態について説明する。
【００５１】
（第２実施形態）
図２、図４、及び図９は本考案に係る好ましい実施形態を説明する立体分解図、ブロック図、他の実施形態の前視図であり、図によると、左磁性感知モジュール３４８及び右磁性感知モジュール３４８は回路板３４１上に入力端により外部電流に接続される比較器３４２を設け、比較器３４２の他の入力端は左磁性部材２３１及び右磁性部材２３１に対応して経路を移動する探知回路３４３に電気的に接続され、比較器３４２の出力端はラッチ装置３４４に電気的に接続され、ラッチ装置３４４は信号をマイクロプロセッサ３１へ伝送させる出力インターフェース３４５に電気的に接続され、回路板３４１上に設置される電子部材は少なく、体積も小さく、また又機械の作動に必要な空間を確保する必要がなく、長時間使用された後に左磁性感知モジュール３４８及び右磁性感知モジュール３４８が機械疲労或いは接触不良を起こすことが無く、精確に探知と信号の発信を行い、更には同時に確実な信号の触発と有効的な空間の節約により体積全体を縮小させる目的を達成させる。
【００５２】
上述の探知回路３４３はホールＩＣ（Ｈａｌｌ  ＩＣ）或いは磁気抵抗センサ（ｍａｇｎｅｔｏ−ｒｅｓｉｓｔｉｖｅ  ｓｅｎｓｏｒ；ＭＲ  ｓｅｎｓｏｒ）であり、探知回路３４３がホールＩＣ（例えば図２に示す）の場合、左磁性部材２３１及び右磁性部材２３１の磁極をホールＩＣの中心部に合わせて調整させる必要があり、探知回路３４３が磁気抵抗センサ（例えば図９に示す）の場合、左磁性部材２３１及び右磁性部材２３１の磁極が磁気抵抗センサに向いている場合は、左磁性部材２３１及び右磁性部材２３１を側辺に向かって所定の距離（例えば２〜２．５ミリメートル（ｍｍ））を移動させる。
【００５３】
図２、図３、図５、図６は本考案に係る好ましい実施形態を説明する立体分解図、他の立体外観図、移動体のローリングの側視断面図及び移動体のスライドの俯瞰図であり、図によると、本考案の使用時には、ユーザーは腕をハンドレストパッド１３上に置き、指により複数の制御部材２４と、移動体２３を制御させ、移動体２３はユーザーによる前方向及び後方向へのローリングが行われ、この際、回路モジュール３の探知モジュール３２は載置台２１の一方の貫通孔２１２が移動体２３のローリング距離を探知することにより、パソコン４のスクリーン上のカーソルを制御させて上下へ転位させ、また移動体２３の長さが載置台２１のローリング槽２１１より短いため、ユーザーは左右へ移動体２３をスライドさせることができ、探知モジュール３２も載置台２１の一方の貫通孔２１２が移動体２３の左右へのスライドを探知することにより、パソコン４のスクリーン上のカーソルを制御させて左右への転位を行える。
【００５４】
好ましくは、探知モジュール３２にある時間区間内の前後の連続的光学影像の変化を比較できる光学影像探知モジュールとし、また、これはこの分野に習熟する者であれば既知の技術であり、ここでは更なる説明はしない。
【００５５】
次に、移動体２３がローリング槽２１１の何れか一方の収納槽１２２まで転位する際、左磁性部材２３１は左磁性感知モジュール３４８（或いは、右磁性部材２３１は右磁性感知モジュール３４８を近接）を近接させ、この際、左磁性部材２３１（或いは右磁性部材２３１）が発射させる磁場強度は距離の短縮に従い相応の増強を呈し、左磁性感知モジュール３４８（或いは右磁性感知モジュール３４８）は探知された磁場の変化により、移動体２３の転位変化量が所定値に達したかを判定させる。
【００５６】
更に詳述すると、移動体２３が長軸方向に沿い左に向かって転位し、左感知モジュール３４が移動体２３の転位距離が第一転位変化量に達したのを感知すると、左感知モジュール３４は第一感知信号を発生させてマイクロプロセッサ３１へ伝送させ、カーソルを第一復帰点（即ちカーソルに左方向への転位復帰（ｒｅｓｅｔ）動作を遂行させる）まで移動させ、或いは、移動体が長軸方向に沿い右に向かって転位し、右感知モジュール３４が移動体２３の転位距離が第二転位変化量に達したのを感知すると、右感知モジュール３４は第二感知信号を発生させてマイクロプロセッサ３１へ伝送させ、カーソルを第二復帰点（即ちカーソルに右方向への転位復帰（ｒｅｓｅｔ）動作を遂行させる）まで移動させる。言い換えるならば、磁場強度が所定値に達した際に、信号を発信させてパソコン４のスクリーン上のカーソルを制御させて上述の左右への転位復帰（ｒｅｓｅｔ）動作を行わせ、左磁性部材２３１及び右磁性部材２３１の磁場の減衰速度が遅く、また左磁性感知モジュール３４８及び右磁性感知モジュール３４８の電子部材は精確な探知を行えるため、移動体２３に左方向への転位或いは右方向への転位を行わせる際、確実に感知させて対応する復帰或いはリセット信号を発信させる。図２、図３、図７は、本考案に係る好ましい実施形態を説明する立体分解図、他の立体外観図、移動体の押下の側視断面図であり、図によると、本考案の使用時には移動体２３が押下されると、移動体２３は載置台２１を押圧し制限ブロック２１３を利用させ、また制限部１１１及び制限部１２３が下へ移動することにより、載置台２１下方の一個以上の弾性部材２１４を圧縮させ、載置台２１の一方の押圧部２１５は回路モジュール３の制御スイッチ３３を押圧させ、クリックの効果を発生させ、探知モジュール３２が載置台２１の一方に設置されることにより、載置台２１が下へ移動する際にも移動体２３に対し探知を行い、移動体２３が押下される際に左右への転位を行い、カーソルを制御させて選択、ドラッグ或いは範囲選択等の制御を行わせ、移動体２３の押下が停止される際、一個以上の弾性部材２１４は弾性の復位により載置台２１に当接させて押しこれを上へ移動させ、載置台２１は制限ブロック２１３と制限部１１１、制限部１２３を利用して対向させて制限させて原位置へ復位させる。
【００５７】
探知モジュール３２は載置台２１の側辺に設置され、載置台２１の下方には設置されず、また探知モジュール３２が載置台２１に同調して下へ移動する際にベース１の凹型槽１１５へ進入し、載置台２１下方の収納空間１０は制限ブロック２１３、弾性部材２１４、位置決め架台２１６及び平衡桿２２を設置させるのみで、その高さは載置台２１に上下へ転位させるためのみに必要であり、ベース１の厚さを薄くさせ、更には載置台２１の貫通孔２１２が側辺に位置されて下方には位置されないため、埃が貫通孔２１２内へ進入し難く、回路モジュール３の探知モジュール３２は埃を堆積させたり詰らせたりせず、埃が探知を阻害するのを防ぎ、更には探知モジュール３２に探知の精確性を保持させる。
【００５８】
上述のとおり、移動体２３は載置台２１のローリング槽２１１内で左右への転位を行い、ユーザーが手で移動体２３を押下させると、力が加えられた位置は中央位置へ偏り、移動体２３及び載置台２１の変形或いは上反りの状況が発生し、載置台２１は下方の複数の位置決め架台２１６を利用して平衡桿２２を枢設させ、平衡桿２２の他方の二つの軸部２２３はベース１の枢接部１１３に枢接され、載置台２１が下へ移動する際に平衡桿２２に力を加えられることにより平均的な転位に転換され、載置台２１を安定的に上下へ転位させ、もしも載置台２１が非硬質の材質（例えばプラスチック、ゴム等）を利用して製造される場合、載置台２１の長さが長いために軟化して湾曲する問題が発生し、この際も平衡桿２２を利用して載置台２１下方に当接させて支持させ、載置台２１を真っ直ぐに保持させ、移動体２３に潤滑にローリングを行わせて転位させる。
【００５９】
当然ながら、他の異なる実施方式（図示せず）では、探知モジュール３２を載置台２１に同調せずに下へ移動させても良い。
【００６０】
図１、図２、図３、図６は本考案に係る好ましい実施形態を説明する立体外観図、立体分解図、他の立体外観図及移動体時の俯瞰図であり、図によると、載置台２１のローリング槽２１１はベース１の刳り抜き部１２１内に露出され、また移動体２３の長さはローリング槽２１１より短く、移動体２３はローリング槽２１１内で持ち上げられ、人の手で頻繁に触られる物であるため、塵や、埃、油汚れ或いは他の雑物に汚され、人間が移動体２３を制御させる場合は、上述の雑物が移動体２３に移され、本考案の移動体２３はユーザーにより掃除され、移動体２３のローリングによる転位時の潤滑度を保持させるのみならず、更には人の手にとって良好な触感を有し、異なるユーザーの習慣により加えられる力量も異なるが、本考案はユーザーが自分の好みの、或いは習慣に合わせて異なる重量の移動体２３に交換し、適用性を高める目的を達成させる。
【００６１】
図２、図３、図８は本考案に係る好ましい実施形態を説明する立体分解図、他の立体外観図、他の実施形態の立体分解図であり、図によると、制御モジュール２の載置台２１はローリング槽２１１に移動体２３のベース部５１を直接納置させ、ローリング或いは転位を行わせ、移動体２３とローリング槽２１１が摩擦されることでローリング或いは転位が潤滑に行えなくなる欠点が発生し、ポリアセタール（ＰＯＭ）、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ、テフロン）或いは他の自己潤滑性材質を利用して載置台２１を製造させ、ローリング槽２１１は二方に移動体２３のローリングの摩擦力を減少させる複数のスライドアシスト部材２１１１を設け、スライドアシスト部材２１１１は超高分子量ポリエチレン（ＵＰＥ）、ＰＴＦＥ或いは他のスライド材質により製造されるプレート体であり、ＲＵＢＹ、セラミック或いは他の耐摩擦性材質により製造される球体であり、上述の方式により移動体２３とローリング槽２１１の間に発生する摩擦力を減らし、移動体２３の使用時の潤滑度を高める。
【００６２】
続いて、移動体２３は中実体状を呈し、内部に有する貫通槽２３４は中空状を呈し、或いは貫通槽２３４内に錘を充填させ、体積変化により移動体２３の重量を改変させてユーザーの需要に応える。
【００６３】
次は、本考案の制御装置の第３実施形態について説明する。
【００６４】
（第３実施形態）
図９及び図１０は本考案に係るまた他の実施形態を説明する立体分解図及び俯瞰図であり、図によると、ベース１の収納空間１０内には刳り抜き部１２１下方に位置される制御モジュール２の載置台２１を設置させ、載置台２１上には刳り抜き部１２１に露出される移動体２３のベース部５１を設置させ、移動体２３のベース部５１下方は刳り抜き状を呈すると共に載置台２１前側と後側に当接されて支持させ、また移動体２３のベース部５１左端と右端は刳り抜き部１２１の左側と右側の収納槽１２２内に貫入され、移動体２３のベース部５１上には連通槽２３０を貫設させ、また移動体２３は連通槽２３０の外側に覆設させるカバー体２３３を含み、カバー体２３３は移動体２３のベース部５１及び載置台２１の外側を取り囲み、移動体２３の左側と右側には左磁性部材２３１及び右磁性部材２３１を定位させる固定ベース２３２をそれぞれ設置させ、また左磁性部材２３１及び右磁性部材２３１は移動体２３の外部に向かい伸長されるか、或いは移動体２３内に挿入され、載置台２１上には連通槽２３０に合わせて調整されると共にカバー体２３３のローリングと水平転位を探知させる探知モジュール３２を設け、カーソルを制御させての垂直転位と水平転位に対応する信号を発信させる。
【００６５】
載置台２１上には連通槽２３０に合わせて調整されると共にカバー体２３３のローリングと水平転位を探知させる探知モジュール３２を設け、対応してカーソルを制御させて垂直転位と水平転位を行わせる信号を発信させる。当然ながら、上述の移動体２３  （或いは、上述のベース部５１は上述の載置台２１に結合される）の下方には、移動溝槽或いは移動レール（図示せず）が共に設置され、移動体２３  （或いは、上述のベース部５１は上述の載置台２１に結合される）はその上で水平転位を行い、このほか、他の実施形態では、上述の探知モジュール３２も上述の移動体２３に結合されるが上述の載置台２１上には設置されず、しかしながら、この技術分野で通常知識を有する者であれば上述の各機構は容易に並置または設計を変化させることができるため、更なる説明はしない。
【００６６】
使用時には、力を加えてカバー体２３３を連動させて載置台２１上を左右に転位させ、左磁性部材２３１及び右磁性部材２３１を取付ける移動体２３を連動させて同調させて転位させ、左磁性感知モジュール３４８及び右磁性感知モジュール３４８に磁場変化を探知させて復帰或いはリセット信号を出力させる。
【００６７】
次は、本考案の制御装置の第４実施形態について説明する。
【００６８】
（第４実施形態）
図２、図３、図８、図９は本考案に係る好ましい実施形態を説明する立体分解図、他の立体外観図、他の実施形態の立体分解図、また他の実施形態の立体分解図であり、図によると、複数の左磁性部材２３１及び右磁性部材２３１の外部はインサート成形（ｉｎｓｅｒｔ  ｍｏｌｄｉｎｇ）方式で移動体２３が成型され、或いは移動体２３の二方の内部ないしは外部のそれぞれに接着剤、係合、溶接等の方式により左磁性部材２３１及び右磁性部材２３１に直接個設され、移動体２３の左右の二方には固定ベース２３２をそれぞれ設置させ、固定ベース２３２上には左磁性部材２３１及び右磁性部材２３１を固接させ、また載置台上には左磁性部材２３１及び右磁性部材２３１を納入させる槽孔を凹設させ、また移動体２３は円柱、楕円柱、四角柱、五角柱或いは矩形蓋、弧形蓋等の形状を呈し、移動体２３の外部にはカバー体２３３を覆設させ、これは左右への転位及びローリングの機能を有するのみであるが、これにより本考案の実用新案登録請求の範囲を制限するわけではなく、例えば他の修飾及び同等の構造変化を利用するものも、本考案の範囲内に含まれる。
【００６９】
上述の移動体２３（或いはカバー体２３３）は金属、ゴム、プラスチック、木質、テフロン或いは布等の材質を利用して製造され、移動体２３（或いはカバー体２３３）が硬質或いは軟質のどちらの材質を利用して製造されるかによらず、移動体２３（或いはカバー体２３３）が二方の左磁性部材２３１及び右磁性部材２３１を連動させて転位させることにより、左磁性感知モジュール３４８及び右磁性感知モジュール３４８に磁場変化を感知させて復帰或いはリセット信号を発信させ、製品の変化性を高める目的を達成させる。
【００７０】
図２及び図３は本考案に係る好ましい実施形態の立体分解図及び他の立体外観図であり、図によると、制御モジュール２は複数の制御部材２４を設け、また複数の制御部材２４は貫通槽１２４によりベース１上方より外部に突出され、上述の複数の制御部材２４はキー、ホイール、トラックボール或いは他の人の手に押されることで制御される部材であり、ユーザーに押圧されて、回転された後に回路モジュール３の制御スイッチ３３を触発させてカーソルを制御する機能を有するのみであるが、本考案の実用新案登録請求の範囲はこれに限定されるわけではなく、例えば他の修飾及び同等の構造変化を利用するものも、本考案の範囲内に含まれる。
【００７１】
上述の実施形態では、単一の移動体の移動により転位変化量を形成させるが、本考案はこれに制限されるわけではなく、複数の移動体の一部或いは全体により、同時または前後ないし交替で移動し転位変化量を形成させる。
【００７２】
次は、本考案の制御装置の第５実施形態について説明する。
【００７３】
（第５実施形態）
図１１は本考案に係るまた他の実施形態を説明する制御装置の立体分解概略図である。制御装置はベース部５１、回路モジュール５２、回路モジュール５５、カバー体５３（本実施形態では移動体２３である）及びケース５４を含む。本実施形態では、ケース５４はベースプレート５４１と上蓋５４２からなり収納空間５４０を形成させ、収納空間５４０は制御装置の大部分の部材を収納させ、例えばベース部５１、回路モジュール５２、回路モジュール５５、カバー体５３及び複数の制御部材５２４等である。また、回路モジュール５２は少なくとも一つの探知モジュール５２４を有する（或いはさらにマイクロプロセッサ５２２を含む）。また、カバー体５３はベース部５１に装入され、また回路モジュール５２は別の収納空間５１１３中に設置され、回路モジュール５２の探知モジュールが上を向いた方向ではない方向（例えば下を向いた方向）にカバー体５３の内表面５３１を探知させ、回路モジュール５２を有し、カバー体５３に被覆されてカバー体５３の内表面５３１を探知させるのに用いられ、カバー体５３の水平移動とローリングに対応して、探知モジュール５２１は対応してカーソルを制御させて水平転位と垂直転位を行わせる制御信号を発生させる。当然ながら、他の実施形態では、もしベース部５１上方に連通槽５２０を設けるならば、図１１、図１３の回路モジュール５２を反対にして設置させ、探知モジュール５２１は上に向ける様にさせて連通槽５２０に対応させ、カバー体５３の内表面５３１を探知させる。
【００７４】
貫通槽５４２１及び刳り抜き部５４２２は上蓋５４２に設置され、下方の制御部材５２４、制御部材５５４及びベース部５１に覆設されるカバー体５３にそれぞれ露出される。続いて、ハンドレストパッド５１３及び装飾板５１４は上蓋５４２上に設置され、ハンドレストパッド５１３は軟性或いは弾性材料で製造され、ユーザーが手を置くのに用いられ、装飾板５１４は貫通槽４２１に対応して貫通槽を設置させて下方の制御部材５２４に露出させる。
【００７５】
次に、制御装置の大部分の部材は収納空間５４０中に収納され、ベースプレート５４１上に固設される。図１２は本考案に係る他の実施形態を説明するベースプレート５４１の正面概略図である。図１１と図１２によると、本実施形態では、回路モジュール５５はベースプレート５４１上に固設される回路板５５１を含み、これは複数の制御スイッチ５５３及び回路板５５１上に設置される制御部材５５４を含む。制御スイッチ５５３は部分的に上方の制御部材５２４にそれぞれ対応する。制御部材５２４はキー、ホイール、トラックボール或いは他の人の手に押される事で制御を行う部材であり、ユーザーに押圧されて、回転された後に回路モジュール５５の制御スイッチ５５３を触発させてマウスカーソルを制御させる機能を有するのみだが、これにより本考案の実用新案登録請求の範囲が限定されるわけではなく、例えば他の修飾及び同等の構造変化を利用するものも、本考案の範囲内に含まれる。
【００７６】
回路モジュール５７も収納空間５４０中に収納され、またベースプレート５４１上に固設される。回路モジュール５７は回路板５７１及び回路板５７１上の一方に設置される伝送インターフェース５７２を含み、上蓋５４２の側辺には貫通槽５４２３が設けられて伝送インターフェース５７２の貫設に用いられる。説明が必要なのは、本実施形態中の回路モジュール５５と回路モジュール５７は個々に独立した回路板上にそれぞれ設置されるが、設計に基き同一の回路板上に統合させてもよい。以下に説明する他の回路モジュールも上述の回路モジュールと統合されるか、或いは個別に独立する。個別に独立する回路板の設計の場合には、リード線（或いは伝送線）及び伝送インターフェースは適度に互いに、或いは外部の電子装置に電気的に接続され、各自独立して信号の伝送と受信を行う。
【００７７】
図１３は本考案に係る制御モジュールを説明する部分的な分解概略図である。図１１乃至図１３によれば、ベース部５１は収納空間５４０中に収納され、回路モジュール５５の前側の位置の、上蓋５４２に対応する刳り抜き部５４２２の位置に位置される。ベース部５１は線状（長軸方向に沿い）になり、両端には突合せ接続槽５１１４をそれぞれ設ける。制御モジュールはベース部５１と回路モジュール５５の間に設置される位置決め軸５１１５を含み、その両端は推移ベース５１１６及び押圧部材５１１７にそれぞれ貫設され、位置決め軸５１１５は推移ベース５１１６の軸孔５１１６１と、弾性部材５１１６４に貫設された後に押圧部材５１１７の軸孔５１１７１に貫通させて当接させる。本実施形態では、位置決め軸５１１５は制御モジュールの固定部材５１１５１によりベースプレート５４１上に直接固定され、或いは制御モジュールの固定部材５１１５１によりベースプレート５４１上の他の固定部材（図示せず）上に固定され、但し本考案は位置決め軸の固定方式を限定せず、実施形態の説明に用いられるのみである。
【００７８】
続いて、推移ベース５１１６はプッシュ部５１１６２、及びプッシュ部５１１６２と軸孔５１１６１の間に設置されるカバー部５１１６３を更に含み、左磁性部材及び右磁性部材（図示せず）はカバー部５１１６３に設置され、左磁性感知モジュール５３４３及び右磁性感知モジュール５３４３はベースプレート５４１上に固定されると共にカバー部５１１６３中の左磁性部材及び右磁性部材に近接され、カバー部５１１６３中の左磁性部材及び右磁性部材を感知させる。推移ベース５１１６はカバー部５１１６３が押圧部材５１１７上の軸孔５１１７３中に覆設されることで、軸孔５１１７３中をスライドする。推移ベース５１１６は位置決め軸５１１５上をスライドし、推移ベース５１１６のプッシュ部５１１６２が長軸方向の外力を受けた際、推移ベース５１１６は押圧部材５１１７に近接され、同時に左磁性部材と左磁性感知モジュール５３４３並びに右磁性部材と右磁性感知モジュール５３４３の間の対向距離を変え、これにより、カバー体５３は長軸方向に沿い左に向かって転位されると共に左側の推移ベース５１１６を推移させて第一転位変化量に達すると、左感知モジュールは対応して第一感知信号を発生させてマイクロプロセッサ５２２へ伝送させ（或いは回路モジュール５５、５７に設置される他のマイクロプロセッサへ伝送させ）、カーソルを第一復帰点まで移動させ、或いは、カバー体５３が長軸方向に沿い右に向かって転位すると共に右側の推移ベース５１１６を推移させて第二転位変化量に達すると、右感知モジュール３４は対応して第二感知信号を発生させてマイクロプロセッサ５２２へ伝送させ（或いは回路モジュール５５、５７に設置される他のマイクロプロセッサへ伝送させ）、カーソルを第二復帰点まで移動させる。また、位置決め軸５１１５上の弾性部材５１１６４を圧迫させる。圧迫された弾性部材５１１６４の弾力を利用して推移ベース５１１６を力を受ける前の位置まで戻す。  
【００７９】
また、マイクロプロセッサ５２２或いは上述の他のマイクロプロセッサの機能は図４のマイクロプロセッサ３１と類似するため、更なる説明はしない。
【００８０】
上述のとおり、図１４Ａによれば、本考案に係る他の実施形態は光学モジュールの制御装置を使用する。上述の感知モジュールは左光学感知モジュール３８及び右光学感知モジュール３８で構成され、左光学感知モジュール３８は左光学発射モジュール３８１及び左光学受信モジュール３８２からなり、右光学感知モジュール３８は右光学発射モジュール３８１及び右光学受信モジュール３８２からなり、移動体２３が第一転位変化量に達する際、移動体２３の一部分は左光学発射モジュール３８１及び左光学受信モジュール３８２の間に干渉し、非接触手段により第一感知信号を発生させ、好ましい実施形態は、移動体２３が軸方向に沿い左に向かって転位し所定の転位変化量を超過する際、移動体２３は左光学発射モジュール３８１及び左光学受信モジュール３８２の間に進入し、左光学受信モジュール３８２が左光学発射モジュール３８１からの信号を受信するのを阻み、左光学発射モジュール３８１に対応させて第一感知信号を発生させる。
【００８１】
または移動体２３が第二転位変化量に達する際、移動体２３の一部分は右光学発射モジュール３８１及び右光学受信モジュール３８２の間に干渉し、非接触手段により第二感知信号を発生させ、好ましい実施形態では、移動体２３が軸方向に沿い右に向かって転位し所定の転位変化量を超過する際、移動体２３は右光学発射モジュール３８１及び右光学受信モジュール３８２の間に進入し、右光学発射モジュール３８１に対応させて第二感知信号を発生させ、右光学受信モジュール３８２が右光学発射モジュール３８１からの信号を受信するのを阻む。当然ながら、この技術分野で通常知識を有する者であれば容易に左推移ベース５１１６と右推移ベース５１１６を移動体２３の二方（例えば図１１乃至図１３に図示する）に増設させ、移動体２３の移動に従う事で左光学発射モジュール３８１及び左光学受信モジュール３８２の信号の受信を阻み、或いは右光学発射モジュール３８１及び右光学受信モジュール３８２の信号の受信を阻み、または左感知モジュール３４及び右感知モジュール３４を改変させて設置させる事で左光学発射モジュール３８１と左光学受信モジュール３８２の間の信号の受信を妨害させ、右光学発射モジュール３８１と右光学受信モジュール３８２の間の信号の受信を妨害させ、但し移動体２３の移動後には妨害は消失し、左光学受信モジュール３８２及び右光学受信モジュール３８２に左光学発射モジュール３８１及び右光学発射モジュール３８２からの信号をそれぞれ受信させた後、信号をマイクロプロセッサ５２２に伝送させる（或いは回路モジュール５５、５７に設置される他のマイクロプロセッサへ伝送させ）。例えばこの変化は、この技術分野で通常知識を有する者であれば容易に発想できる設置である。
【００８２】
上述のように、移動体２３の一部分を利用し光学発射モジュールと光学受信モジュールの間に進入させ、光学発射モジュールが発射させる信号を妨害するほかに、光学発射モジュールと光学受信モジュールの間に他の推移部材をを設け、光学発射モジュールが発射させる信号を妨害させてもよい。他の推移部材が光学発射モジュールと光学受信モジュールの間に存在する状況では、移動体の一部分は所定転位変化量を転位し他の推移部材を連動させ、推移部材を原位置から離すことで光学発射モジュールが発射させる信号を妨害させず、光学発射モジュールが発射させる信号を光学受信モジュールに受信させる。
【００８３】
図１４Ｂ及び図１４Ｃはそれぞれ、上述の感知モジュールがホールＩＣを含む概略図及び上述の感知モジュールが磁気抵抗センサを含む概略図であり、ホールＩＣは長軸方向に沿い左磁性部材２３１及び右磁性部材２３１に合わせて調整され、左磁性感知モジュール３４８及び右磁性感知モジュール３４８に左磁性部材２３１及び右磁性部材２３１の磁場の大小をそれぞれ感知させ、移動体２３が第一転位変化量に達したかを判断させる。磁気抵抗センサに至っては、長軸方向に沿い左磁性部材２３１及び右磁性部材２３１に合わせて調整させる必要が無く、左磁性感知モジュール３４８及び右磁性感知モジュール３４８はそれぞれ左磁性部材２３１及び右磁性部材２３１の磁場の大小の感知に用いられ、移動体２３が第二転位変化量に達したかを判断させる。
【００８４】
次は、本考案の制御装置の第６実施形態について説明する。
【００８５】
（第６実施形態）
図１５Ａ及び図１５Ｂはそれぞれ、本考案に係る制御装置のまた他の実施形態であり、感知モジュール３４０は長軸方向に沿い設置される複数の水平移動感知モジュール３４０１及び複数の磁性部材３４０２を更に含み、移動体２３９が長軸方向に沿い水平に転位する際、それら水平移動感知モジュール３４０１は非接触手段によりそれら磁性部材３４０２とそれら水平移動感知モジュール３４０１間の磁場変化を感知させ、移動体２３の水平転位の連続的変化を判断させると共に第三感知信号を発生させ、マイクロプロセッサ３１へ伝送させ（或いは上述の他のマイクロプロセッサ）、マイクロプロセッサ３１は移動体２３の水平移動位置の連続的変化を判定し、カーソルに対応する水平転位を行わせる。
【００８６】
感知モジュール３４０は移動体２３の少なくとも一方の環状周縁に沿い設置される複数の垂直移動感知モジュール３４０３と少なくとも一つの磁性部材３４０４を更に含み、移動体２３がローリングする際、それら垂直移動感知モジュール３４０３は非接触手段により移動体２３のローリングの連続的変化を感知させると共に第四感知信号を発生させてマイクロプロセッサ３１へ伝送させ（或いは上述の他のマイクロプロセッサ）、マイクロプロセッサ３１に移動体２３のローリング位置の連続的変化を判定させて、カーソルに対応する垂直転位を行わせる。
【００８７】
このように、上述のそれら水平移動感知モジュール３４０１とそれら垂直移動感知モジュール３４０３は前述の探知モジュール３２或いは感知モジュール５２１の水平探知機能と垂直探知機能を代替でき、当然ながら、前述のカーソル復帰（ｒｅｓｅｔ）或いはリセット機能も、他の感知モジュール３４０５により遂行させることができる。
【００８８】
上述の本考案に係る制御装置は実際の使用に於いて、以下の長所を有する：
（一）移動体２３の左右への転位の際に一方の左磁性部材２３１及び右磁性部材２３１を連動させて左磁性感知モジュール３４８及び右磁性感知モジュール３４８に近接させ、左磁性感知モジュール３４８及び右磁性感知モジュール３４８に非接触方式により左磁性部材２３１及び右磁性部材２３１の磁場強度の変化を探知させ、移動体が所定の転位変化量に達したと判定した際に制御信号を発信させ、カーソルを復帰点まで移動させる。左磁性感知モジュール３４８及び右磁性感知モジュール３４８が機械疲労或いは接触不良の問題を発生させないため、確実に信号を発射させる効果があり、制御精度の向上の目的を達成させる。
【００８９】
（二）移動体２３は移動時に二方の左磁性部材２３１及び右磁性部材２３１を利用して左磁性感知モジュール３４８及び右磁性感知モジュール３４８と共にそれぞれ感知を執行させて非接触方式で移動体の移動を探知させ、このため、移動体２３の製造に用いられる材質は制限されず、金属、ゴム、プラスチック、木質、テフロン或いは布等の軟質或いは硬質の材質により製造でき、製品の変化性を高める。当然ながら、上述の図１１乃至図１３のカバー体５３も、上述の移動体２３の機能或いは性質を有する。
【００９０】
（三）左磁性感知モジュール３４８及び右磁性感知モジュール３４８は回路板３４１上に比較器３４２、探知回路３４３、ラッチ装置３４４及び出力インターフェース３４５を設け、これに設置される電子部材は少なく、左磁性感知モジュール３４８及び右磁性感知モジュール３４８が占用する空間が少ないという長所を有し、またベース１の収納空間１０内に左磁性感知モジュール３４８及び右磁性感知モジュール３４８を作動させる為の空間を確保させる必要もなく、体積全体を縮小させるという目的を達成させる。
【００９１】
（四）感知モジュールは上述の磁性感知方式で遂行されるほか、光学感知方式で移動体の転位の感知を遂行させるように改変させても良い。
【００９２】
（五）実際の応用状況を鑑み、上述のそれら水平移動感知モジュール３４０１とそれら垂直移動感知モジュール３４０３を前述の探知モジュール３２或いは回路モジュール５２の水平探知機能と垂直探知機能に代替させるように改変させて、探知モジュール３２と回路モジュール５２の使用を回避させるという目的を達成させ、並びに他の設計の選択を提供する。
【００９３】
以上、本考案はこのような実施形態に限定されるものではなく、考案の趣旨を逸脱しない範囲において、種々の形態で実施することができる。
【符号の説明】
【００９４】
１          ベース
１０        収納空間
１１        第一ベース部
１１１      制限部
１１２      位置決め部
１１３      枢接部
１１４      枢接架台
１１５      凹型槽
１２        第二ベース部
１２１      刳り抜き部
１２２      収納槽
１２３      制限部
１２４      貫通槽
１２５      当接部
１３        ハンドレストパッド
１４        装飾板
２          制御モジュール
２１        載置台
２１１      ローリング槽
２１１１    スライドアシスト部材
２１２      貫通孔
２１３      制限ブロック
２１４      弾性部材
２１５      押圧部
２１６      位置決め架台
２２        平衡桿
２２１      ベース部
２２２      支え腕
２２３      軸部
２３        移動体
２３０      連通槽
２３１      左感知モジュールの左感知磁性部材、右感知モジュールの右磁性部材
２３２      固定ベース
２３３      カバー体
２３４      貫通槽
２４        制御部材
３          回路モジュール
３１        マイクロプロセッサ
３２        探知モジュール
３３        制御スイッチ
３４１      回路板
３４２      比較器
３４３      探知回路
３４４      ラッチ装置
３４５      出力インターフェース
３５        接続インターフェース
４          パソコン
４１        接続ポート
５１        ベース部
５１１３    収納空間
５１１４    突合せ接続槽
５１１５    位置決め軸
５１１５１  固定部材
５１１６    推移ベース
５１１６１  軸孔
５１１６２  プッシュ部
５１１６３  カバー部
５１１６４  弾性部材
５１１７    押圧部材
５１１７３  軸孔
５１１７４  タッチ部
５１１７５  突合せ接続部
５１３      ハンドレストパッド
５１４      装飾板
５２        回路モジュール
５２２      マイクロプロセッサ
５２１      探知モジュール
５２４      制御部材    
５３        カバー体
５３４      強化層
５３４３    左磁性探知モジュール、右磁性探知モジュール
５４        ケース
５４０      収納空間
５４１      ベースプレート
５４２      上蓋
５４２１    貫通槽
５４２２    刳り抜き槽
５４２３    貫通槽
５５        回路モジュール
５５１      回路板
５５３      制御スイッチ
５５４      制御部材
５５５      制御スイッチ
５７        回路モジュール
５７１      回路板
５７２      伝送インターフェース
５３１      カバー体の内表面
３４        感知モジュールの左感知モジュール、感知モジュールの右感知モジュール
３４８      左感知モジュールの左磁性感知モジュール、右感知モジュールの右磁性感知モジュール
３８        左光学モジュール、右光学モジュール
３８１      左光学発射モジュール、右光学発射モジュール
３８２      左光学受信モジュール、右光学受信モジュール
３４０１    水平移動感知モジュール
３４０２    磁性部材
３４０３    垂直移動感知モジュール
３４０４    磁性部材
３４０５    感知モジュール
９          ローリング棒材
【図１】
0003171990.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
0003171990.tif 000010
【図９】
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【図１０】
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【図１１】
0003171990.tif 000013
【図１２】
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【図１３】
0003171990.tif 000015
【図１４Ａ】
0003171990.tif 000016
【図１４Ｂ】
0003171990.tif 000017
【図１４Ｃ】
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【図１５Ａ】
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【図１５Ｂ】
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【図１６】
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