Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成24年9月3日(2012.9.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
バルブアセンブリ（１０４）であって、
軸線を有する本体（１２０）であって前記軸線が該本体の中心を通る本体（１２０）と、
前記本体（１２０）内で支持され且つ該本体を通って延びる流管（１２２）であって、前記本体と前記流管との間に配置された金属薄箔の成型部品により支持される流管（１２２）と、
前記軸線と垂直な回転軸（１３６）を有する前記流管（１２２）内に配置され且つ該流管を通って延び、該流管に対して回転するよう取り付けられたバルブ（１３４）と、
前記本体（１２０）内に配置され、２つの離間したピストンロッド（１５０、１６４）によって前記回転軸（１３６）の端部に機械的に取り付けられたピストン（１４２）と、
を含み、
前記ピストンと前記２つのピストンロッドは、前記軸線と並行な直線的な動作のために取り付けられ、
前記回転軸は、前記軸線及び前記回転軸と平行となり且つ該軸線と前記２つのピストンロッドを通過する平面からオフセットされている
ことを特徴とする、バルブアセンブリ（１０４）。
【請求項２】
前記ピストンロッド（１５０、１６４）それぞれの一端に配置されたピストンロッドクレビス（１５２、１６６）をさらに含む、請求項１に記載のバルブアセンブリ（１０４）。
【請求項３】
前記ピストンロッド（１５０、１６４）それぞれと前記回転軸（１３６）の間に配置されたリンクアーム（１５４、１６８）をさらに含む、請求項２に記載のバルブアセンブリ（１０４）。
【請求項４】
前記回転軸（１３６）の各端部が該各端部から延びる回転軸クランクアーム（１５８、１７０）を有しており、前記リンクアーム（１５４、１６８）それぞれが対応する前記ピストンロッドクレビス（１５２、１６６）と前記回転軸クランクアーム（１５８、１７０）の間に延在する、請求項３に記載のバルブアセンブリ（１０４）。
【請求項５】
前記ピストンロッド（１５０）に取り付けられた、前記ピストン（１４２）の位置を検出するセンサ（１７６）をさらに含む、請求項４に記載のバルブアセンブリ（１０４）。
【請求項６】
前記本体（１２０）と前記ピストン（１４２）の間に配置された作動キャビティ（１４８）をさらに含む、請求項１乃至７のいずれか１項に記載のバルブアセンブリ（１０４）。
【請求項７】
前記本体（１２０）に取り付けられた、前記作動キャビティ（１４８）と流体連通するポート（１４４）をさらに含む、請求項６に記載のバルブアセンブリ（１０４）。
【手続補正書】
【提出日】平成24年8月21日(2012.8.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
トモシンセシスによって得られたボリュームを表示する方法であって、
スライス又はスラブの二次元画像を表示する段階と、
前記表示された二次元画像上で、前記画像の平面内に位置する二次元の関心のある領域を規定するユーザの入力を受領する段階と、
前記関心のある領域内の前記表示された二次元画像において、前記二次元の関心のある領域に関連した関心のあるボリューム内の複数のスライスの画像、前記二次元の関心のある領域に関連した関心のあるボリュームの三次元画像、及び前記二次元の関心のある領域に関連した前記関心のあるボリュームから得られたスラブのうち、少なくとも１つを表示する段階と、
を有することを特徴とする方法。
【請求項２】
関心のある領域を規定するために、前記表示された二次元画像上で、二次元の関心のある領域の位置及び寸法、関心のある領域の位置によって規定される関心のあるボリュームの位置、並びに自動的に又は手動で調節される関心のあるボリュームの深さを規定することを特徴とする、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記表示された画像がスラブである場合、前記関心のあるボリュームの深さを前記スラブの厚さに等しくなるように規定し、前記関心のあるボリューム内の中央のスライスを前記スラブの中央の平面に対応させることを特徴とする、請求項２記載の方法。
【請求項４】
前記関心のあるボリュームの深さを規定するために、前記深さを前記関心のある領域の長さ又は幅又は直径に対して調節し、前記関心のあるボリューム内の中央のスライスを前記表示された画像の平面に対応させることを特徴とする、請求項２記載の方法。
【請求項５】
それぞれ正方形の又は丸い関心のある領域からそれぞれ立方体の又は球形の関心のあるボリュームを規定することを特徴とする、請求項１記載の方法。
【請求項６】
前記関心のあるボリュームにおいて、ボリュームのサンプリング間隔よりも小さい深さサンプリング間隔を規定する段階と、
前記関心のある領域内で、前記相対的に小さいサンプリング間隔を持つ複数の再構成スライスから得られる画像を表示する段階と
を有することを特徴とする、請求項１記載の方法。
【請求項７】
病変部又は骨折のような放射線医学的徴候を検出するように前記関心のあるボリュームをセグメント化し、また、前記表示された画像について、背景抑圧処理及び／又は前記検出された放射線医学的徴候を強調するために前記セグメント化された関心のあるボリュームの処理を実施することを特徴とする、請求項１記載の方法。
【請求項８】
前記関心のあるボリューム内で検出された各々の放射線医学的徴候について、放射線医学的徴候が最も明瞭に視覚可能になる最適なスライスを決定し、また、前記関心のある領域において表示された画像が、各々の放射線医学的徴候についての最適なスライス内に位置するボクセルの組合せによって得られることを特徴とする、請求項７記載の方法。
【請求項９】
ボクセルの平均強度、最大強度又は最小強度を計算し、或いは実際に関心のあるボリュームの高さについて平行な又は円錐形の射線に沿った任意の数学的演算子を計算することによって、関心のあるボリュームのスラブ又は三次元画像を決定することを特徴とする、請求項１記載の方法。
【請求項１０】
前記セグメント化された関心のあるボリュームの三次元画像を表示するために表面レンダリング技術のボリュームを実行することを特徴とする、請求項７記載の方法。
【請求項１１】
規定された関心のある領域の位置及び寸法及び／又は関心のある領域において表示された画像の内容を記憶しておくことを特徴とする、請求項１記載の方法。
【請求項１２】
前記関心のあるボリュームの複数の二次元スライス又はスラブの画像を相次いで表示するとき、これらの二次元スライス又はスラブ画像の各々と共通部分を持つ前記記憶された関心のあるボリュームを自動的に表示する、請求項１１記載による方法。
【請求項１３】
ユーザから受領した入力に対応して、少なくとも１つの記憶された関心のあるボリューム内の中央のスライスに対応する前記スライス又は該中央のスライスを中心としたスラブの画像を表示することを特徴とする、請求項１１記載による方法。
【請求項１４】
トモシンセシスによって取得された画像を表示するためのシステムであって、
スライス又はスラブの二次元画像の表示手段と、
前記表示された二次元画像上で、該画像の平面内に位置する二次元の関心のある領域を選択する手段と、
前記関心のある領域内の前記表示された二次元画像において、前記二次元の関心のある領域に関連した関心のあるボリューム内の複数のスライス画像、前記二次元の関心のある領域に関連した前記関心のあるボリュームの三次元画像、及び前記二次元の関心のある領域に関連した前記関心のあるボリュームから得られたスラブのうち、少なくとも１つを表示する手段と、
を有することを特徴とするシステム。
【手続補正書】
【提出日】平成24年10月9日(2012.10.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
請求項１に記載の表示装置によれば、異なる撮影範囲で同時に撮影され、関連付けて記憶された２枚の平面画像を取得し、この取得した２枚の平面画像を第１の表示方法、第２の表示方法、第３の表示方法の少なくとも１つの表示方法で表示させる。第１の表示方法とは、２枚の平面画像のうちの所望の１枚を全画面表示させ、他の１枚を縮小表示させる表示方法であり、第２の表示方法とは、２枚の平面画像を並べて表示させる表示方法であり、第３の表示方法とは、２枚の平面画像のうちの所望の１枚を他の１枚の上に所定の透過率で重ねて表示し、時間の経過と共に所定の透過率を変化させる表示方法である。これにより、２枚の画像の関連性を保ちつつ、高い視認性で画像を閲覧することができる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
請求項５に記載の表示装置は、請求項４に記載の表示装置において、前記表示制御手段は、前記第３の表示方法で前記２枚の平面画像を表示している時に前記所望の１枚が入力された場合には、前記２つの平面画像のうちの所望の１枚の上に前記２つの平面画像のうちの他の１枚を１００％の透過率で重ねて表示し、時間の経過と共に前記透過率を１００％から徐々に減少させることを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成24年9月11日(2012.9.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ハロゲン元素を含む物質がガス状で導入された成膜室内において、スパッタ法により、トランジスタの酸化物半導体層を形成する半導体装置の作製方法。
【請求項２】
基板上にゲート電極を形成し、
前記ゲート電極上にゲート絶縁層を形成し、
ハロゲン元素を含む物質がガス状で導入された成膜室内において、スパッタ法により、前記ゲート絶縁層上に酸化物半導体層を形成し、
前記酸化物半導体層上にソース電極及びドレイン電極を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項３】
基板上にソース電極及びドレイン電極を形成し、
ハロゲン元素を含む物質がガス状で導入された成膜室内において、スパッタ法により、前記ソース電極及び前記ドレイン電極上に酸化物半導体層を形成し、
前記酸化物半導体層上にゲート絶縁層を形成し、
前記ゲート絶縁層上にゲート電極を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項４】
請求項２において、
前記酸化物半導体層のチャネル形成領域と重なり、且つ前記酸化物半導体層の表面と接する第１の絶縁層を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一において、
前記酸化物半導体層を形成した後に、加熱処理を行うことを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項６】
請求項５において、
前記酸化物半導体層を２５０℃以上７００℃以下の温度で加熱処理することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項７】
請求項５または請求項６において、
前記酸化物半導体層を加熱処理後に、２００℃以下まで冷却することを特徴とする半導体装置の作製方法。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか一において、
前記ハロゲン元素はフッ素原子を含むことを特徴とする半導体装置の作製方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年9月18日(2012.9.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】昇圧回路
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１のゲート電極、第１のソース電極、および第１のドレイン電極を有する第１のトランジスタと、
第２のゲート電極、第２のソース電極、および第２のドレイン電極を有する第２のトランジスタと、
第１の容量素子と、
第２の容量素子と、を有し、
前記第１のゲート電極と、前記第１のソース電極またはドレイン電極の一方と、前記第２のソース電極またはドレイン電極の一方とは、電気的に接続され、
前記第１のソース電極またはドレイン電極の他方と、前記第２のゲート電極と、前記第１の容量素子の電極の一方と、前記第２の容量素子の電極の一方とは、電気的に接続され、
前記第２のソース電極またはドレイン電極の他方と、前記第１の容量素子の電極の他方とは、電気的に接続され、
前記第１のソース電極またはドレイン電極の一方には、入力信号が入力され、
前記第２の容量素子の電極の他方には、クロック信号が入力され、
前記第１のソース電極またはドレイン電極の他方から、前記入力信号を昇圧した信号が出力される昇圧回路。
【手続補正書】
【提出日】平成24年2月2日(2012.2.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
通信システムにおいて信号を再送信する方法であって、
再送信要求を受信することと、
往復の遅延と決定可能な遅延の合計による前記再送信要求を受信する瞬間時以前の瞬間時に送信された信号ユニットを選択することと、そして
前記信号ユニットについて再送信を予定することと
を含む方法。
【請求項２】
前記決定可能な遅延は前記再送信要求に含まれる請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記決定可能な遅延は前記再送信要求を送信する第1の瞬間時と第２の瞬間時との間の差であり、前記第２の瞬間時は、
前記信号ユニットが受信される瞬間時、
前記信号ユニットが復調されるべきかどうかの前記決定がなされる瞬間時、
前記信号ユニットが復調される瞬間時、そして
前記品質基準が計算される瞬間時
からなるグループから選択される請求項１記載の方法。
【請求項４】
前記予定するステップは前記信号ユニットを再送信する瞬間時を決定することを含み、前記瞬間時は前記要求信号の受領から変動可能で遅延する請求項１記載の方法。
【請求項５】
前記予定するステップは前記信号ユニットを再送信する瞬間時を決定することを含み、前記瞬間時は前記要求信号の受領から一定で遅延する請求項１記載の方法。
【請求項６】
通信システムにおいて信号を再送信するための装置であって、
送信されるべき複数の信号ユニットを記録するデータ待ち行列と、
宛先受信端末機に対する前記信号ユニットの送信を予定するスケジューラと、
前記宛先受信端末機から受信された第１帰還信号を検出する第１検出器と、そして
前記第１帰還信号を受信し、往復の遅延および決定可能な遅延の合計による前記第１帰還信号を受信する瞬間時以前の瞬間時に送信された信号ユニットを選択し、そして前記信号ユニットについて再送信を予定するように形成された第１制御プロセッサと
を含む装置。
【請求項７】
前記決定可能な遅延は前記第１帰還信号に含まれる請求項６記載の装置。
【請求項８】
前記決定可能な遅延は前記再送信要求を送信する第１の瞬間時と第２の瞬間時との間の差であり、前記第２の瞬間時は、
前記信号ユニットが受信される瞬間時、
前記信号ユニットが復調されるべきかどうかの前記決定がなされる瞬間時、
前記信号ユニットが復調される瞬間時、そして
前記品質基準が計算される瞬間時
からなるグループから選択される請求項６記載の装置。
【請求項９】
前記第１プロセッサはさらに前記信号ユニットを再送信する瞬間時を決定するように形成され、前記瞬間時は前記第１帰還信号の受領から変動可能で遅延される請求項６記載の装置。
【請求項１０】
前記第１プロセッサはさらに前記信号ユニットを再送信する瞬間時を決定するように形成され、前記瞬間時は前記第１帰還信号の受領から一定で遅延される請求項６記載の装置。
【請求項１１】
前記宛先受信端末機から受信される第２帰還信号を検出する第２検出器と、そして
前記第２帰還信号を受信し、前記第２帰還信号に従って信号ユニットを選択し、そして前記信号ユニットについて再送信を予定するように形成された第２制御プロセッサと
をさらに含む請求項６記載の装置。
【請求項１２】
前記第２帰還信号は再送信されるべき前記信号ユニットのシーケンス番号を含む請求項１１記載の装置。
【手続補正書】
【提出日】平成24年7月20日(2012.7.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】画像処理を行うための方法、画像処理装置、画像処理を行うプログラムを記録した媒体
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ディジタルカメラと画像処理装置とを用いて、前記ディジタルカメラで取り込んだ画像データに対して画像処理を行うための方法であって、
前記ディジタルカメラにより、複数の被写体の種類のうち、いずれかの種類を設定するための指示をユーザから受け付け、
前記ディジタルカメラにより、撮影により画像データを取り込み、
前記ディジタルカメラにより、前記画像データと、前記ディジタルカメラにおいて受け付けた指示の情報とを含む画像ファイルを出力し、
前記画像処理装置により、前記画像ファイルを取得し、
前記画像処理装置により、複数の被写体の種類のうち、いずれかの種類を設定するための指示をユーザから受け付け、
前記画像処理装置により、前記画像処理装置により受け付けた指示に基づいて選択された被写体の種類に対応する画像処理と、前記ディジタルカメラにより受け付けた指示に基づいて選択された被写体の種類に対応する画像処理とを含む複数の画像処理のうち、いずれかの画像処理を前記画像データに対して施し、
前記画像データに対して施される画像処理は、前記画像処理装置により受け付けた指示に基づいて被写体の種類が選択される場合に、前記画像処理装置により受け付けた指示に基づいて選択された被写体の種類に対応する画像処理であり、前記画像処理装置により受け付けた指示に基づいて被写体の種類が選択されない場合に、前記ディジタルカメラにより受け付けた指示に基づいて選択された被写体の種類に対応する画像処理である、方法。
【請求項２】
前記ディジタルカメラにより設定可能な被写体の種類と、前記画像処理装置により設定可能な被写体の種類とは、同じである、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ディジタルカメラにより設定可能な被写体の種類は、風景および夜景を含み、
前記画像処理装置により設定可能な被写体の種類は、風景および夜景を含む、請求項１または請求項２に記載の方法。
【請求項４】
ディジタルカメラにより取り込んだ画像データに対して画像処理を行う画像処理装置であって、
前記画像データと、複数の被写体の種類のうち、いずれかの種類を設定するための指示の情報であって、前記ディジタルカメラにより、ユーザから受け付けた指示の情報と、を含む画像ファイルを取得する画像データ取得部と、
複数の被写体の種類のうち、いずれかの種類を設定するための指示をユーザから受け付ける選択部と、
前記選択部により受け付けた指示に基づいて選択された被写体の種類に対応する画像処理と、前記ディジタルカメラにより受け付けた指示に基づいて選択された被写体の種類に対応する画像処理とを含む複数の画像処理のうち、いずれかの画像処理を前記画像データに対して施す画像処理部と、
を備え、
前記画像データに対して施される画像処理は、前記選択部により受け付けた指示に基づいて被写体の種類が選択される場合に、前記選択部により受け付けた指示に基づいて選択された被写体の種類に対応する画像処理であり、前記選択部により受け付けた指示に基づいて被写体の種類が選択されない場合に、前記ディジタルカメラにより受け付けた指示に基づいて選択された被写体の種類に対応する画像処理である、画像処理装置。
【請求項５】
前記選択部により設定可能な被写体の種類と、前記ディジタルカメラにより設定可能な被写体の種類とは、同じである、請求項４に記載の画像処理装置。
【請求項６】
前記選択部により設定可能な被写体の種類は、風景および夜景を含み、
前記ディジタルカメラにより設定可能な被写体の種類は、風景および夜景を含む、請求項４または請求項５に記載の画像処理装置。
【請求項７】
ディジタルカメラにより取り込んだ画像データに対して画像処理を行うプログラムを記録した媒体であって、
前記プログラムは、
前記画像データと、複数の被写体の種類のうち、いずれかの種類を設定するための指示の情報であって、前記ディジタルカメラにより、ユーザから受け付けた指示の情報と、を含む画像ファイルを取得する画像データ取得機能と、
複数の被写体の種類のうち、いずれかの種類を設定するための指示をユーザから受け付ける選択機能と、
前記選択機能により受け付けた指示に基づいて選択された被写体の種類に対応する画像処理と、前記ディジタルカメラにより受け付けた指示に基づいて選択された被写体の種類に対応する画像処理とを含む複数の画像処理のうち、いずれかの画像処理を前記画像データに対して施す画像処理機能と、
を、コンピュータに実現させ、
前記画像データに対して施される画像処理は、前記選択機能により受け付けた指示に基づいて被写体の種類が選択される場合に、前記選択機能により受け付けた指示に基づいて選択された被写体の種類に対応する画像処理であり、前記選択機能により受け付けた指示に基づいて被写体の種類が選択されない場合に、前記ディジタルカメラにより受け付けた指示に基づいて選択された被写体の種類に対応する画像処理である、媒体。
【請求項８】
前記選択機能により設定可能な被写体の種類と、前記ディジタルカメラにより設定可能な被写体の種類とは、同じである、請求項７に記載の媒体。
【請求項９】
前記選択機能により設定可能な被写体の種類は、風景および夜景を含み、
前記ディジタルカメラにより設定可能な被写体の種類は、風景および夜景を含む、請求項７または請求項８に記載の媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成24年3月9日(2012.3.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
順番を示す番号が付加されたパケットを基地局から移動局に送信し、移動局においてパケットを番号順に並べ直すと共に、ハードハンドオーバを実行する通信システムにおけるリオーダリング方法において、
移動元基地局で、ハンドオーバシーケンス実行時に上位局より受信したパケットのうち移動局へ送信してないパケットを移動先基地局へ転送するか、転送しないかを設定し、該設定に応じてハンドオーバシーケンス実行時に該パケットの移動先基地局への転送を制御し、該パケットの転送の実行の有無を示す、パケットの引継ぎの有無を示す情報を移動局へ送信し、
移動局で、前記パケットの引継ぎの有無を示す情報を受信し、ハンドオーバシーケンス実行時に、移動元基地局より受信した前記パケットの引継ぎの有無を示す情報に基づいて、移動先基地局より受信するパケットのリオーダリング処理を制御する、
ことを特徴とするリオーダリング方法。
【請求項２】
前記パケットの引継ぎの有無を示す情報は、移動局で移動先基地局より受信するパケットのリオーダリングを実行するか、しないかを決定するために用いられる、
ことを特徴とする請求項１に記載のリオーダリング方法。
【請求項３】
前記移動元基地局で、ハンドオーバシーケンス実行時に移動局へ送信してないパケットを移動先基地局へ転送する場合、該パケットを移動先基地局へ転送すると共に該パケットの引継ぎの実行を示す情報を移動局へ送信し、転送しない場合、該パケットの引継ぎを実行しないことを示す情報を移動局へ送信する、
ことを特徴とする請求項１又は２に記載のリオーダリング方法。
【請求項４】
前記移動元基地局で、通信の呼に応じて、ハンドオーバシーケンス実行時に移動局へ送信してないパケットを移動先基地局へ転送するか、転送しないかを設定する、
ことを特徴とする請求項１〜３のうちいずれかに記載のリオーダリング方法。
【請求項５】
前記移動先基地局で、上位局より受信したパケットおよびハンドオーバシーケンス実行時に移動元基地局より受信したパケットを格納部に格納し、該格納されたパケットを移動局へ送信する、
を備えたことを特徴とする請求項１〜４のうちいずれかに記載のリオーダリング方法。
【請求項６】
前記移動先基地局で、ハンドオーバシーケンス実行時に移動元基地局より受信したパケットを上位局より受信したパケットより優先的に移動局へ送信する、
を備えたことを特徴とする請求項１〜５のうちいずれかに記載のリオーダリング方法。
【請求項７】
前記移動局で、ハンドオーバシーケンス実行時に、移動元基地局より受信した前記パケットの引継ぎの有無を示す情報に基づいて、移動先基地局より受信するパケットのリオーダリングを実行するか、しないかを決定する、
ことを特徴とする請求項１〜６のうちいずれかに記載のリオーダリング方法。
【請求項８】
前記移動元基地局で、通信の呼に応じて設定される、前記パケットの引継ぎの有無を示す情報に基づいて、前記移動局で、移動先基地局より受信するパケットのリオーダリング処理を制御する、
ことを特徴とする請求項１〜７のうちいずれかに記載のリオーダリング方法。
【請求項９】
前記移動局で、基地局より受信したパケットを格納部に格納し、該格納されたパケットのリオーダリング処理を制御する、
ことを特徴とする請求項１〜８のうちいずれかに記載のリオーダリング方法。
【請求項１０】
前記移動局で、所定時間、パケットのリオーダリング処理を実行しても連続する番号のパケットを受信しない場合には、リオーダリング処理を終了する、
ことを特徴とする請求項１〜９のうちいずれかに記載のリオーダリング方法。
【請求項１１】
順番を示す番号が付加されたパケットを基地局から移動局に送信し、移動局においてパケットを番号順に配送すると共に、ハンドオーバを実行する通信システムにおけるリオーダリング方法において、
移動元基地局で、パケットの転送の有無を示す設定情報を移動局へ送信し、
移動局で、前記パケットの転送の有無を示す設定情報を受信し、移動元基地局より受信した前記パケットの転送の有無を示す設定情報に基づいて、ハンドオーバ時に移動先基地局より受信するパケットの番号順配送を制御する、
ことを特徴とするリオーダリング方法。
【請求項１２】
前記移動元基地局が、上位局より受信したパケットのうち移動局へ送信してないパケットを移動先基地局へ転送するか、転送しないかを設定し、該設定に応じてハンドオーバ時に該パケットの移動先基地局への転送を制御し、該パケットの転送の有無を示す設定情報を移動局へ送信することを特徴とする請求項１１に記載のリオーダリング方法。
【請求項１３】
前記移動元基地局が、上位局より受信したパケットのうち移動局へ送信してないパケットを移動先基地局へ転送するか、転送しないかをハンドオーバ時に設定することを特徴とする請求項１２に記載のリオーダリング方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年5月25日(2011.5.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
移動体端末プラットフォーム・アセンブリであって、複数の機能的ソフトウエア・ユニットを有するソフトウエア・サービス・コンポーネント、前記複数の機能的ソフトウエア・ユニットと関連しており、かつそれらによって制御される複数のハードウエア・ユニットを有するハードウエア・コンポーネント、及び前記移動体端末プラットフォーム・アセンブリへのアクセスを提供する少なくとも１つのインタフェースを有するインタフェース・コンポーネントを含む、移動体端末プラットフォーム・アセンブリと、
前記インタフェース・コンポーネントの前記少なくとも１つのインタフェースを介して前記移動体端末プラットフォーム・アセンブリにロードされ、インストールされ、実行されたアプリケーション・ソフトウエアと、を備えることを特徴とする無線通信システムの移動体端末用のプラットフォーム・システム。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月23日(2011.6.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光素子を形成するための方法であって、
反射材料層、該反射材料層の上方に設けられるｐ型材料層、該ｐ型材料層の上方に設けられる光発生領域、該光発生領域の上方に設けられるｎ型材料層、及び該ｎ型材料層の上方に設けられる基板を備え、前記ｎ型材料層は前記基板との界面近傍の部分層を含んでいる、多層積層体を形成する工程と、
前記ｎ型材料層の部分層を加熱することによって前記基板を前記多層積層体から取り外し、及び前記ｎ型材料層の１つの面を露出する工程と、
パターンに従って空間的に変化する誘電関数を有する表面を前記ｎ型材料層に設けるために前記ｎ型材料層の前記１つの面に複数の開口からなるパターンを形成する工程とを備え、
前記反射材料は、前記光発生領域によって生成され、かつ反射材料層に衝突する光のうちの少なくとも５０％の光を反射する機能を備え、
前記発光素子は少なくとも１ミリメートルの端面を有する、発光素子を形成するための方法。
【請求項２】
前記ｎ型材料層と前記基板との間に前記部分層を形成する工程をさらに備える、請求項２に記載の方法。
【請求項３】
基板を取り外す工程は、前記ｎ型材料層と前記基板との間に配置される前記部分層を加熱する工程を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記部分層を加熱することによって、前記部分層の少なくとも一部を分解する、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記部分層の加熱は、レーザが放出する光に前記部分層を曝露する工程を含む、請求項３に記載の方法。
【請求項６】
前記パターンを形成する工程においてナノリソグラフィを用いる、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記発光素子は発光ダイオードからなる、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記発光素子は、ＯＬＥＤ，面発光ＬＥＤ，ＨＢＬＥＤ、及びこれらの組合せから成るグループから選択される、請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年5月8日(2012.5.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
タンタル化合物と、シリコン系被膜又は有機ポリマ膜とを研磨するために使用される、ＣＭＰ用の研磨液であって、
前記研磨液は、有機酸、有機酸エステル、有機酸のアンモニウム塩及び硫酸から選ばれる少なくとも１種の酸化金属溶解剤と、砥粒と、有機溶媒と、水とを含有する研磨液。
【請求項２】
有機溶媒が層間絶縁膜の研磨速度を向上させる請求項１記載の研磨液。
【請求項３】
タンタル化合物と、シリコン系被膜又は有機ポリマ膜と、銅を主成分とする導電性物質とを研磨するために使用される請求項１または２記載の研磨液。
【請求項４】
さらに金属の酸化剤を含む請求項１〜３のいずれか記載の研磨液。
【請求項５】
溝を形成してある絶縁膜上に配線部用金属である導電性物質を堆積して埋め込み、溝部以外の前記導電性物質をＣＭＰにより除去して埋め込み配線を形成するダマシン法において、前記溝部以外の導電性物質の下層に設けられたバリア層と層間絶縁膜との各々を、少なくとも一部取り除くために用いられる研磨液であって、
前記研磨液は、有機酸、有機酸エステル、有機酸のアンモニウム塩及び硫酸から選ばれる少なくとも１種の酸化金属溶解剤と、砥粒と、有機溶媒と、水とを含有する研磨液。
【請求項６】
有機溶媒が層間絶縁膜の研磨速度を向上させる請求項５記載の研磨液。
【請求項７】
前記バリア層と、層間絶縁膜と、導電性物質との各々を少なくとも一部取り除くために用いられる請求項５又は６記載の研磨液。
【請求項８】
さらに金属の酸化剤を含む請求項５〜７のいずれか記載の研磨液。
【請求項９】
導電性物質が銅を主成分とする請求項５〜８のいずれか記載の研磨液。
【請求項１０】
バリア層がタンタル化合物の層である請求項５〜９のいずれか記載の研磨液。
【請求項１１】
層間絶縁膜がシリコン系被膜または有機ポリマ膜である請求項５〜１０のいずれか記載の研磨液。
【請求項１２】
表面が凹部および凸部からなる層間絶縁膜と、前記層間絶縁膜を表面に沿って被覆するバリア層と、前記凹部を充填してバリア層を被覆する導電性物質層とを有する基体を形成し、
導電性物質研磨用の研磨液を用いて前記導電性物質層を研磨して、前記層間絶縁膜の凸部に存在するバリア層を露出させる第１の研磨工程と、
少なくとも前記露出しているバリア層および凹部の導電性物質層を研磨して、凸部のバリア層の下の層間絶縁膜が全て露出し、凹部に配線層となる前記導電性物質が残され、凸部と凹部との境界にバリア層の断面が露出した状態にする第２の研磨工程と、
前記凸部の層間絶縁膜の一部を研磨するオーバー研磨工程と
を有する研磨方法において、
前記第２の研磨工程と前記オーバー研磨工程とに使用される研磨液であって、
前記研磨液は、有機酸、有機酸エステル、有機酸のアンモニウム塩及び硫酸から選ばれる少なくとも１種の酸化金属溶解剤と、砥粒と、金属の酸化剤と、有機溶媒と、水とを含有する研磨液。
【請求項１３】
有機溶媒が層間絶縁膜の研磨速度を向上させる請求項１２記載の研磨液。
【請求項１４】
バリア層がタンタル化合物の層である請求項１２又は１３記載の研磨液。
【請求項１５】
層間絶縁膜がシリコン系被膜または有機ポリマ膜である請求項１２〜１４のいずれか記載の研磨液。
【請求項１６】
導電性物質が銅を主成分とする請求項１２〜１５のいずれか記載の研磨液。
【請求項１７】
有機溶媒を０．１〜５０重量％含有する請求項１〜１６のいずれか記載の研磨液。
【請求項１８】
前記有機溶媒は、水と任意で混合できる有機溶媒である請求項１〜１７のいずれか記載の研磨液。
【請求項１９】
有機溶媒がグリコール類、グリコールモノエーテル類、グリコールジエーテル類、アルコール類、炭酸エステル類、ラクトン類、エーテル類、ケトン類、ジメチルホルムアミド、ｎ−メチルピロリドン、酢酸エチル、乳酸エチル、スルホランから選ばれる少なくとも１種である請求項１〜１８のいずれか記載の研磨液。
【請求項２０】
有機溶媒がグリコール類、グリコールモノエーテル類、グリコールジエーテル類、アルコール類、炭酸エステル類から選ばれる少なくとも１種である請求項１〜１９のいずれか記載の研磨液。
【請求項２１】
さらに重量平均分子量が５００以上の水溶性ポリマを含有する請求項１〜２０のいずれか記載の研磨液。
【請求項２２】
さらに金属防食剤を含有する請求項１〜２１のいずれか記載の研磨液。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
【特許文献１】米国特許第４９４４８３６号明細書
【特許文献２】特開平２−２７８８２２号公報
【特許文献３】特開平８−８３７８０号公報
【特許文献４】特許第２８１９１９６号公報
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
【非特許文献１】ジャーナル・オブ・エレクトロケミカルソサエティ誌、１９９１年、第１３８巻、１１号、p.３４６０−３４６４
【手続補正書】
【提出日】平成24年2月29日(2012.2.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
鋼材表面をブラスト処理し、その後、該ブラスト処理部をプライマーで塗装する鋼材の塗装方法であって、前記ブラスト処理レベルはＩＳＯ  ８５０１−１  仕上げ等級  Ｓａ１と同等又はそれ以上であり、前記プライマーはＺｎ合金粒子を乾燥塗膜中の含有量として質量％で３０％以上含有し、該Ｚｎ合金粒子は、質量％でＭｇ：０．０１〜３０％を含有し、残部Ｚｎ及び不可避的不純物からなる１次粒子を互いに衝突させて、又は該１次粒子を固体に衝突させて、形成される物理的破砕面および／または長さ０．０１μｍ以上のき裂を有し、平均粒径が０．０５〜２００μｍで、最大径と最小径のアスペクト比（最大径／最小径）の平均が１〜１．５である形状を有することを特徴とする鋼材の塗装方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
前記Ｚｎ合金粒子に加え、更に、平均粒子径０．０５〜５０μｍのＺｎおよび不可避的不純物からなるＺｎ金属粒子を混合した金属粒子の混合物を用いることを特徴とする請求項１〜５の何れかに記載の鋼材の塗装方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
質量％で、（前記Ｚｎ合金粒子量）：（前記Ｚｎ金属粒子量）の比の値を１／ｘとしたとき、ｘが３００．０以下であり、かつ、質量％で、前記Ｚｎ合金粒子と前記Ｚｎ金属粒子の混合粒子の合計を１００％としたとき、Ｍｇの含有量が０．０１〜３０％未満であることを特徴とする、請求項６に記載の鋼材の塗装方法。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
本発明は、以上のような検討に基づきなされたものであり、その特徴は以下の通りである。
（１）鋼材表面をブラスト処理し、その後、該ブラスト処理部をプライマーで塗装する鋼材の塗装方法であって、前記ブラスト処理レベルはＩＳＯ  ８５０１−１  仕上げ等級  Ｓａ  １と同等又はそれ以上であり、前記プライマーはＺｎ合金粒子を乾燥塗膜中の含有量として質量％で３０％以上含有し、該Ｚｎ合金粒子は、質量％でＭｇ：０．０１〜３０％を含有し、残部Ｚｎ及び不可避的不純物からなる１次粒子を互いに衝突させて、又は該１次粒子を固体に衝突させて、形成される物理的破砕面および／または長さ０．０１μｍ以上のき裂を有し、平均粒径が０．０５〜２００μｍで、最大径と最小径のアスペクト比（最大径／最小径）の平均が１〜１．５である形状を有することを特徴とする鋼材の塗装方法。
（２）前記Ｚｎ合金粒子が、その表面に、Ｍｇ固溶相及びＺｎ−Ｍｇ金属間化合物を有することを特徴とする、前記（１）に記載の鋼材の塗装方法。
（３）前記Ｚｎ−Ｍｇ金属間化合物が、ＭｇＺｎ2、Ｍｇ2Ｚｎ11、Ｍｇ2Ｚｎ3、ＭｇＺｎまたはＭｇ7Ｚｎ3のうち１種以上を含むことを特徴とする、前記（１）又は（２）に記載の鋼材の塗装方法。
（４）前記Ｚｎ合金粒子は、略球状多面体で、面数が２面以上であることを特徴とする、前記（１）〜（３）の何れかに記載の鋼材の塗装方法。
（５）前記Ｚｎ合金粒子が、更に、質量％で、Ａｌ：０．０１〜３０％、Ｓｉ：０．０１〜３％の１種又は２種を含有することを特徴とする、前記（１）〜（４）の何れかに記載の鋼材の塗装方法。
（６）前記Ｚｎ合金粒子に加え、更に、平均粒子径０．０５〜５０μｍのＺｎおよび不可避的不純物からなるＺｎ金属粒子を混合した金属粒子の混合物を用いることを特徴とする前記（１）〜（５）の何れかに記載の鋼材の塗装方法。
（７）質量％で、（前記Ｚｎ合金粒子量）：（前記Ｚｎ金属粒子量）の比の値を１／ｘとしたとき、ｘが３００．０以下であり、かつ、質量％で、前記Ｚｎ合金粒子と前記Ｚｎ金属粒子の混合粒子の合計を１００％としたとき、Ｍｇの含有量が０．０１〜３０％未満であることを特徴とする、前記（６）に記載の鋼材の塗装方法。
（８）前記（１）〜（７）のいずれかに記載の鋼材の塗装方法により前記プライマーが塗装され、該プライマーと鋼材との間に、ＩＳＯ  ８５０１−１  仕上げ等級  Ｓａ  １で許容される固着した残存ミルスケール、錆、塗膜または、異物を含むことを特徴とする、塗装鋼材。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５９】
【表１−１】
2008200669.tif 000001
【表１−２】
2008200669.tif 000002
【表１−３】
2008200669.tif 000003
【表１−４】
2008200669.tif 000004
【表１−５】
2008200669.tif 000005
【表１−６】
2008200669.tif 000006
【表１−７】
2008200669.tif 000007
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
【表２−１】
2008200669.tif 000008
【表２−２】
2008200669.tif 000009
【表２−３】
2008200669.tif 000010
【表２−４】
2008200669.tif 000011
【表２−５】
2008200669.tif 000012
【表２−６】
2008200669.tif 000013
【表２−７】
2008200669.tif 000014
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６１】
【表３−１】
2008200669.tif 000015
【表３−２】
2008200669.tif 000016
【表３−３】
2008200669.tif 000017
【表３−４】
2008200669.tif 000018
【手続補正書】
【提出日】平成24年7月25日(2012.7.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
モータと、該モータの出力軸の一端に固定されたインペラと、前記モータが収納されるモータ室、および前記インペラが収納されると共にそのインペラの回転によって移送される流体の流路となるインペラ室が設けられたケースと、前記出力軸に接触して前記インペラ室から前記モータ室への流体の浸入を阻止するシール部材とを備え、前記インペラ室の内壁と前記インペラとの当接により前記出力軸の軸線方向への移動が規制されていることを特徴とするポンプ装置。
【請求項２】
前記インペラは、羽根部と、該羽根部より反出力側に突出した筒状部とを備え、前記出力軸は前記筒状部に形成された軸固定孔に固定され、
前記インペラ室の内壁と、前記筒状部の反出力側の端面である反出力端面との当接により前記出力軸の軸線方向への移動が規制されていることを特徴とする請求項１に記載のポンプ装置。
【請求項３】
前記インペラ室は、ケース本体とインペラケースで構成され、
前記ケース本体は、前記モータ室の底面の中央から円筒状に突出した凸部を備え、前記筒状部は、前記凸部によって前記インペラ室内に生まれた凹状の空間内に位置し、
前記筒状部の前記反出力側端面は、所定のクリアランス隔てて前記凹状の空間の底部と対向し、
前記凹状の空間の底部と前記筒状部の反出力端面との当接により前記出力軸の軸線方向への移動が規制されていることを特徴とする請求項２に記載のポンプ装置。
【請求項４】
前記モータのステータは、樹脂によりモールドされており、その樹脂部分に形成された凹部に前記シール部材が固定され、該凹部の開口は、部分的にまたは全面的に前記インペラ室の外壁に覆われていることを特徴とする請求項３に記載のポンプ装置。
【請求項５】
前記凸部は、前記凹部に入り込んで位置することで前記凹部の開口を塞ぐことを特徴とする請求項４に記載のポンプ装置。
【請求項６】
前記ケース内に、前記インペラ室から吐出された前記流体を液体と気体に分離するための気液分離室が設けられていることを特徴とする請求項１ないし５に記載のポンプ装置。
【手続補正書】
【提出日】平成24年1月19日(2012.1.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
請求項４に記載の車両用ドアロック装置において、前記破損補助部は、前記キーレバーを回転可能に支持する円形部分を中心とする円弧状に延在する円弧状リブと、前記円弧状リブの内周側に延在する直線状リブとにより構成されている車両用ドアロック装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
この場合において、前記ハウジングには、前記ロッドが前記キーレバーに向けて設定値以上の力で押動されたときに、前記キーレバーの前記脆弱部での破損を補助する破損補助部が設けられていることも可能である。この場合には、ハウジングに破損補助部を設けない場合に比して、ロッドがキーレバーに向けて設定値以上の力で押動されたときの、キーレバーの脆弱部での破損を確実とすることが可能であり、当該ドアロック装置の盗難防止機能を更に高めることが可能である。
前記破損補助部は、前記キーレバーを回転可能に支持する円形部分を中心とする円弧状に延在する円弧状リブと、前記円弧状リブの内周側に延在する直線状リブとにより構成されていることも可能である。この場合において、前記直線状リブは前記円形部分から前記円弧状リブの中間部に向けて延在し、前記直線状リブと前記円弧状リブとは僅かに離間していることも可能である。
【手続補正書】
【提出日】平成22年12月8日(2010.12.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
プロペン、分子酸素および少なくとも１種の希釈用不活性ガス、この場合、この希釈用不活性ガスは、分子窒素、プロパン、エタン、メタン、ブタン、ペンタン、ＣＯ２、ＣＯ、水蒸気および貴ガスから成る群から成るものである、を含んで成る出発反応ガス混合物を、２５０〜４５０℃の触媒固定床温度を示す触媒を含む固定床中に導き、その際、触媒の活性組成物がモリブデンおよび／またはタングステンの元素ならびにビスマス、テルル、アンチモン、スズおよび銅の少なくとも１種の元素を含有する少なくとも１種の多金属酸化物であり、かつ、反応混合物を触媒固定床中に１回通した時のプロペンの変換率の減少に対抗するために、触媒床温度を方法の稼働時間の増加に伴い上昇させることで、プロペンからアクロレインを生じさせる不均一系触媒による気相部分酸化の長期稼働を行う方法であって、気相部分酸化を４０００時間内に少なくとも１回中断し、そして分子酸素および不活性ガスまたは分子酸素、不活性ガスおよび水蒸気で構成させたガス混合物Ｇを、前記触媒固定床の中に２５０から５５０℃の前記触媒固定床の温度で導入することを特徴とする、前記方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年11月30日(2011.11.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
セルロース誘導体および過酸化水素源を含んでなる水溶性眼用溶液においてクラドスポリウムの増殖を抑制する方法であって、
クラドスポリウムで汚染された場合、クラドスポリウムが増殖する、セルロース誘導体および過酸化水素源を含んでなる水溶液を提供すること；および
有効な量の０．０５ないし０．１重量％のアルカリ土類金属塩を前記溶液に混和して、前記溶液がクラドスポリウムで汚染された場合に、アルカリ土類金属塩を含有しないこと以外は同一の溶液と比較してクラドスポリウムの増殖をより少なくするアルカリ土類金属含有溶液を得ることを含んでなる方法。
【請求項２】
アルカリ土類金属を含む溶液のｐＨが、５．５ないし８．０である、請求項１記載の方法。
【請求項３】
過酸化水素源が、過酸化水素、過ホウ酸ナトリウム、過酸化ナトリウムおよび過酸化尿素からなる群から選択される、請求項２記載の方法。
【請求項４】
アルカリ土類金属を含む溶液が、ジエチレントリアミンペンタ（メチレンホスホン酸）および１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸ならびにそれらの生理的適合塩からなる群から選択される１種以上の過酸化水素安定剤を含む、請求項３記載の方法。
【請求項５】
過酸化水素安定剤が、１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸またはその生理的適合塩である、請求項４記載の方法。
【請求項６】
過酸化水素安定剤が、ジエチレントリアミンペンタ（メチレンホスホン酸）である、請求項４記載の方法。
【請求項７】
溶液が、０．００５ないし０．２重量％の１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸またはその生理的適合塩を含む、請求項５記載の方法。
【請求項８】
溶液が０．００２ないし０．０３重量％のジエチレントリアミンペンタ（メチレンホスホン酸）またはその生理的適合塩を含む、請求項６記載の方法。
【請求項９】
セルロース誘導体がヒドロキシプロピルメチルセルロースである、請求項４記載の方法。
【請求項１０】
溶液が０．１ないし０．５重量％のヒドロキシプロピルメチルセルロースを含む、請求項９記載の方法。
【請求項１１】
溶液が０．０５重量％のアルカリ土類金属塩を含む、請求項１０記載の方法。
【請求項１２】
眼用水溶液であって、
（ａ）過酸化水素源、
（ｂ）セルロース誘導体、
（ｃ）水、および
（ｄ）該溶液がクラドスポリウムで汚染された場合に、アルカリ土類金属塩を含有しないこと以外は同一の溶液と比較してクラドスポリウムの増殖をより低下させるのに有効な量の０．０５ないし０．１重量％のアルカリ土類金属塩
を含むことを特徴とする眼用水溶液。
【請求項１３】
ｐＨが５．５ないし８．０である、請求項１２記載の溶液。
【請求項１４】
過酸化水素源が、過酸化水素、過ホウ酸ナトリウム、過酸化ナトリウムおよび過酸化尿素からなる群から選択される、請求項１２記載の溶液。
【請求項１５】
ジエチレントリアミンペンタ（メチレンホスホン酸）および１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸ならびにこれらの生理的適合塩からなる群から選択される１種以上の過酸化水素安定剤を含む、請求項１４記載の溶液。
【請求項１６】
セルロース誘導体がヒドロキシプロピルメチルセルロースである、請求項１５記載の溶液。
【請求項１７】
０．１ないし０．５重量％のヒドロキシプロピルメチルセルロースを含む、請求項１６記載の溶液。
【請求項１８】
０．２重量％のヒドロキシプロピルメチルセルロース、０．２７重量％の塩化ナトリウム、０．１２重量％の塩化カリウム、０．５重量％のホウ酸、０．０５重量％の塩化カルシウム二水和物、０．００６重量％のジエチレントリアミンペンタ（メチレンホスホン酸）および０．０２８重量％の過ホウ酸ナトリウム四水和物を含んでおり、ｐＨが６．８ないし７．０である、請求項１７記載の溶液。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
過酸化水素安定剤、とりわけ、ジエチレン トリアミン ペンタ（メチレンホスホン酸）（diethylene triamine penta（methylene phosphonic acid）または１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸（1-hydroxyethylidene-1,1-diphosphonic acid）で安定化された眼用溶液において、微量のペルオキシ化合物は、眼内環境で使用される眼湿潤溶液（eye wetting solution）、眼潤滑溶液（eye lubricating solution）または眼内用の有効成分を含んでいる溶液の保存剤として利用することができる。眼内用の有効成分を含んでいる溶液は、眼に直接適用するための少なくとも一つの薬効のある成分を含んでいる。本発明による保存剤は、かかる溶液中の活性成分が微量のペルオキシ化合物と適合性（compatible）である限り、いかなる眼用溶液にも使用することができる。過酸化水素源は、水で加水分解されて、過酸化水素を生成する任意のペルオキシ化合物である。結果として有効量の過酸化水素を提供する過酸化水素源の例は、過酸化水素（hydrogen peroxide）、たとえば、過ホウ酸ナトリウム１０水和物または４水和物のような過ホウ酸ナトリウム（sodium perborate）、過酸化ナトリウム（sodium peroxide）および過酸化尿素（urea peroxide）を含む。過酢酸、有機ペルオキシ化合物は、本系を利用して、安定化することはできないことがわかった。
【手続補正書】
【提出日】平成23年12月6日(2011.12.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プロゲステロン６〜２０重量％および発泡剤５〜１２重量％を含む膣投与用錠剤。
【請求項２】
該錠剤に含まれるプロゲステロンが８〜１２重量％である、請求項１に記載の膣投与用錠剤。
【請求項３】
該錠剤に含まれる発泡剤が６〜８重量％である、請求項１または２に記載の膣投与用錠剤。
【請求項４】
該錠剤に含まれる発泡剤が８重量％である、請求項１に記載の膣投与用錠剤。
【請求項５】
該プロゲステロンが微粒子化プロゲステロンである、請求項１に記載の膣投与用錠剤。
【請求項６】
該錠剤に含まれる微粒子化プロゲステロンが少なくとも５０ｍｇである、請求項５に記載の膣投与用錠剤。
【請求項７】
該錠剤に含まれる微粒子化プロゲステロンが約１００ｍｇである、請求項５に記載の膣投与用錠剤。
【請求項８】
乾燥した微粒子化天然プロゲステロン、コロイド無水シリカ、トウモロコシ１５００デンプン、ポビドン３０、ラクトース、アジピン酸、重炭酸ナトリウム、ステアリン酸マグネシウム、およびラウリル硫酸ナトリウムを含む、請求項１に記載の膣投与用錠剤。
【請求項９】
乾燥した微粒子化天然プロゲステロン  ８重量％、コロイド無水シリカ  ０．２重量％、トウモロコシ１５００デンプン  １６．８重量％、ポビドン３０  ３．９重量％、ラクトース  ６０．８重量％、アジピン酸  ４．６重量％、重炭酸ナトリウム  ３．４重量％、ステアリン酸マグネシウム  １．８重量％、およびラウリル硫酸ナトリウム  ０．４％を含む、請求項８に記載の膣投与用錠剤。
【請求項１０】
膣内に設置後に該錠剤は溶解し、膣内設置後３．０５時間〜９．７５時間のＴｍａｘを提供し、プロゲステロンの膣デリバリー用であることを特徴とする、請求項１に記載の膣投与用錠剤。
【請求項１１】
（ｉ）水および天然プロゲステロンを含む混合物を調製して、湿潤した天然プロゲステロンを得；
（ｉｉ）該湿潤した天然プロゲステロンを乾燥して、乾燥した天然プロゲステロンを得；
（ｉｉｉ）該乾燥した天然プロゲステロンを少なくとも１つの医薬上許容し得る担体および発泡剤と共に混合して、第２混合物を得；および
（ｉｖ）該第２混合物を直接圧縮により打錠して乾燥した錠剤を形成する；
ことによって調製される、請求項１に記載の膣投与用錠剤。