【手続補正書】
【提出日】平成24年8月27日(2012.8.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
上面に研磨布を貼ったテーブルと、
ポリッシング対象物を保持し、前記研磨布に対して押圧するトップリングと、
前記トップリングの周囲に上下動自在に配置されたガイドリングと、
前記ガイドリングに押圧力を与えるための圧力を調節するレギュレータと、
前記トップリングを回転させる際の軸中心となるトップリングシャフトと、
該ガイドリングを保持するガイドリング保持部材と、
前記トップリングシャフトの周囲に別個に設けられ、ポリッシング対象物を研磨する際、前記トップリングシャフトとは一緒に回転しないよう構成された部材を備え、
前記レギュレータからガイドリング保持部材を介してガイドリングへ行われる押圧力の伝達が、前記トップリングシャフトの周囲に別個に設けられた部材を介して行われることを特徴とするポリッシング装置。
【請求項２】
前記トップリングシャフトの周囲に別個に設けられ、ポリッシング対象物を研磨する際、前記トップリングシャフトとは一緒に回転しないよう構成された部材は、少なくとも１つ以上のローラを有することを特徴とする請求項１に記載のポリッシング装置。
【請求項３】
上面に研磨布を貼ったテーブルと、
ポリッシング対象物を保持し、前記研磨布に対して押圧するトップリングと、
前記トップリングの周囲に上下動自在に配置される前記研磨布を押圧するためのガイドリングと、
前記ガイドリングに押圧力を与えるための押圧力調節機構と、
前記ガイドリングに押圧力を与えるために該ガイドリングと前記押圧力調節機構との間に設けられたガイドリング保持部材とを有することを特徴とするポリッシング装置。
【請求項４】
前記押圧力調節機構に接続される流体源を有することを特徴とする請求項３記載のポリッシング装置。
【請求項５】
前記押圧力調整機構は、少なくとも１つ以上のローラを有することを特徴とする請求項３又は４に記載のポリッシング装置。
【請求項６】
上面に研磨布を貼ったテーブルと、
酸化膜を有するポリッシング対象物を保持するトップリングと、
前記ポリッシング対象物に押圧力Ｆ1を与えるための第１の流体圧を調整する第１のレギュレータと、
前記トップリングの周囲に上下動自在に配置されて前記研磨布を押圧するガイドリングと、
前記ガイドリングに押圧力Ｆ2を与えるための第２の流体圧を調整する第２のレギュレータを備え、
前記ポリッシング対象物を研磨する際、前記第１の流体圧と前記第２の流体圧は、前記ポリッシング対象物への押圧力Ｆ1よりも前記ガイドリングへの押圧力Ｆ2を小さくして、前記ポリッシング対象物の周縁部の研磨量を該ポリッシング対象物の内部側より少なくして該ポリッシング対象物の周縁部の酸化膜を厚く残すように前記第１のレギュレータと前記第２のレギュレータにより調整されることを特徴とするポリッシング装置。
【請求項７】
上面に研磨布を貼ったテーブルとトップリングとの間にポリッシング対象物を介在させて押圧し、研磨するポリッシング方法であって、
前記トップリングに前記ポリッシング対象物を保持したまま該トップリングをトップリングシャフトの軸中心に回転させ、調節された第１の圧力でポリッシング対象物を前記研磨布に対して押圧し、
前記第１の圧力と独立に調整された第２の圧力で、ガイドリング保持部材を介して、ガイドリングを前記研磨布に対して押圧することを特徴とするポリッシング方法。
【請求項８】
トップリングの周囲に上下動自在に配置されたガイドリングを有し、
ガイドリング保持部材を介して前記ガイドリングを前記研磨布に対して押圧する押圧手段とは独立に、研磨布に対してポリッシング対象物を押圧するトップリングを用いてポリッシング対象物をポリッシングする方法において、
前記ポリッシング対象物を研磨する際、前記ポリッシング対象物への押圧力Ｆ1よりもガイドリングへの押圧力Ｆ2を小さくして、前記ポリッシング対象物の周縁部の研磨量を該ポリッシング対象物の内部側より少なくして該ポリッシング対象物の周縁部の酸化膜を厚く残すようにしたことを特徴とするポリッシング方法。
【請求項９】
トップリングの周囲に上下動自在に配置されたガイドリングと、
トップリングを軸中心に回転させるためのトップリングシャフトと、
前記トップリングシャフトと接合するボールとを有し、
前記ガイドリングを前記研磨布に対して押圧する押圧手段とは独立に、研磨布に対してポリッシング対象物を押圧するトップリングを用いてポリッシング対象物をポリッシングする方法において、
前記ポリッシング対象物を研磨する際、前記ポリッシング対象物への押圧力Ｆ1よりもガイドリングへの押圧力Ｆ2を小さくして、前記ポリッシング対象物の周縁部の研磨量を該ポリッシング対象物の内部側より少なくして該ポリッシング対象物の周縁部の酸化膜を厚く残すようにしたことを特徴とするポリッシング方法。
【請求項１０】
前記トップリングと前記ガイドリングとが、一体に上下動および回転することができるように構成されたことを特徴とする請求項９又は１０に記載のポリッシング方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
上述した目的を達成するため、本発明のポリッシング装置の第１の態様は、上面に研磨布を貼ったテーブルと、ポリッシング対象物を保持し、前記研磨布に対して押圧するトップリングと、前記トップリングの周囲に上下動自在に配置されたガイドリングと、前記ガイドリングに押圧力を与えるための圧力を調節するレギュレータと、前記トップリングを回転させる際の軸中心となるトップリングシャフトと、該ガイドリングを保持するガイドリング保持部材と、前記トップリングシャフトの周囲に別個に設けられ、ポリッシング対象物を研磨する際、前記トップリングシャフトとは一緒に回転しないよう構成された部材を備え、前記レギュレータからガイドリング保持部材を介してガイドリングへ行われる押圧力の伝達が、前記トップリングシャフトの周囲に別個に設けられた部材を介して行われることを特徴とするものである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
本発明のポリッシング装置の第２の態様は、上面に研磨布を貼ったテーブルと、ポリッシング対象物を保持し、前記研磨布に対して押圧するトップリングと、前記トップリングの周囲に上下動自在に配置される前記研磨布を押圧するためのガイドリングと、前記ガイドリングに押圧力を与えるための押圧力調節機構と、前記ガイドリングに押圧力を与えるために該ガイドリングと前記押圧力調節機構との間に設けられたガイドリング保持部材とを有することを特徴とするものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
本発明のポリッシング方法の第１の態様は、上面に研磨布を貼ったテーブルとトップリングとの間にポリッシング対象物を介在させて押圧し、研磨するポリッシング方法であって、前記トップリングに前記ポリッシング対象物を保持したまま該トップリングをトップリングシャフトの軸中心に回転させ、調節された第１の圧力でポリッシング対象物を前記研磨布に対して押圧し、前記第１の圧力と独立に調整された第２の圧力で、ガイドリング保持部材を介して、ガイドリングを前記研磨布に対して押圧することを特徴とするものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
本発明のポリッシング方法の第２の態様は、トップリングの周囲に上下動自在に配置されたガイドリングを有し、ガイドリング保持部材を介して前記ガイドリングを前記研磨布に対して押圧する押圧手段とは独立に、研磨布に対してポリッシング対象物を押圧するトップリングを用いてポリッシング対象物をポリッシングする方法において、前記ポリッシング対象物を研磨する際、前記ポリッシング対象物への押圧力Ｆ1よりもガイドリングへの押圧力Ｆ2を小さくして、前記ポリッシング対象物の周縁部の研磨量を該ポリッシング対象物の内部側より少なくして該ポリッシング対象物の周縁部の酸化膜を厚く残すようにしたことを特徴とするものである。
本発明のポリッシング方法の第３の態様は、トップリングの周囲に上下動自在に配置されたガイドリングと、トップリングを軸中心に回転させるためのトップリングシャフトと、前記トップリングシャフトと接合するボールとを有し、前記ガイドリングを前記研磨布に対して押圧する押圧手段とは独立に、研磨布に対してポリッシング対象物を押圧するトップリングを用いてポリッシング対象物をポリッシングする方法において、前記ポリッシング対象物を研磨する際、前記ポリッシング対象物への押圧力Ｆ1よりもガイドリングへの押圧力Ｆ2を小さくして、前記ポリッシング対象物の周縁部の研磨量を該ポリッシング対象物の内部側より少なくして該ポリッシング対象物の周縁部の酸化膜を厚く残すようにしたことを特徴とするものである。