【事件の表示】
　平成　９年特許願第３０１５２７号「分子膜の製造方法および製造装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１０年　７月　７日出願公開、特開平１０−１８０１７９〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、平成９年１１月４日（優先権主張、平成８年１１月８日、日本）の出願であって、平成１３年４月４日付で拒絶理由が通知され、同年６月１日付で意見書と同時に手続補正書が提出されたが、平成１４年１月１０日付で拒絶査定がなされ、これに対し、同年２月１３日に本件審判請求がなされるとともに、同日付で手続補正書が提出されたものである。
　
２．平成１４年２月１３日付の手続補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　　平成１４年２月１３日付の手続補正を却下する。
［理由］
（１）　本件補正の補正事項
　本件補正は、特許請求の範囲の請求項１について、
　「【請求項１】　表面に活性水素を有する基材の表面に、少なくともクロル基、アルコキシ基及びイソシアネート基から選ばれる少なくとも一つの反応基を持つシラン系化合物を含む塗布溶液を塗布し、基材表面の活性水素と前記シラン系化合物の反応基との間で脱離反応を起こさせ、基材表面にシラン系化合物を共有結合させる分子膜の製造方法において、
　水蒸気濃度範囲が０ｋｇ／ｍ３　以上０．００７６ｋｇ／ｍ３　以下の低水蒸気濃度雰囲気状態に保持されているチャンバー内に、前記基材を送り込み、
　転写装置を用いて、前記基材の表面にシラン系化合物と溶媒とを含む塗布溶液を最終膜厚が０．１ｎｍ以上０．１μｍ以下の範囲となるように塗布し、前記基材表面の活性水素と前記シラン系化合物の反応基との間で脱離反応を起こさせ、
　その後チャンバー内または外で前記塗布後の未反応塗布溶液を除去して、膜厚が０．１ｎｍ以上０．１μｍ以下の範囲の分子膜を形成することを特徴とする分子膜の製造方法。」を
　「【請求項１】　表面に活性水素を有する基材の表面に、少なくともクロル基、アルコキシ基及びイソシアネート基から選ばれる少なくとも一つの反応基とアルキル基もしくはフルオロアルキル基を持つシラン系化合物を含む塗布溶液を塗布し、基材表面の活性水素と前記シラン系化合物の反応基との間で脱離反応を起こさせ、基材表面にシラン系化合物を共有結合させる分子膜の製造方法であって、
　水蒸気濃度範囲が０ｋｇ／ｍ３　以上０．００７６ｋｇ／ｍ３　以下の低水蒸気濃度雰囲気状態に保持されているチャンバー内に、前記基材を送り込み、
　転写装置を用いて、前記基材の表面にシラン系化合物と溶媒とを含む塗布溶液を塗布し、前記基材表面の活性水素と前記シラン系化合物の反応基との間で脱離反応を起こさせ、
　その後チャンバー内または外で前記塗布後の未反応塗布溶液を除去して、膜厚が０．１ｎｍ以上１μｍ以下の範囲の分子膜を形成することを特徴とする分子膜の製造方法。」とする補正事項を含むものである。
　
（２）　補正の目的
　上記補正事項は、請求項１に記載した発明を特定するために必要な事項である「シラン系化合物」について、「アルキル基もしくはフルオロアルキル基を持つ」との限定を付加するものであって、特許法第１７条の２第４項第２号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　また、膜厚について、「０．１ｎｍ以上０．１μｍ以下」を、「０．１ｎｍ以上１μｍ以下」とする補正は、誤記の訂正を目的とするものと認める。
　
（３）  独立特許要件について
　そこで、本件補正後の請求項１に記載された発明（以下、「本件補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるかについて、以下に検討する。
　
（４）　刊行物の記載事項
　原査定の拒絶の理由に引用された刊行物１（特開平４−２５６４６６号公報）には、以下の事項が記載されている。
　（１ａ）  有機コーティング膜の製造方法（請求項１）
　「ハロゲン基またはアルコキシ基を少なくとも有するシラン系またはチタン系界面活性剤を用いて、脱ハロゲンまたは脱アルコール反応により基体表面と前記界面活性剤が化学結合した有機コーティング膜を基体上に形成する方法であって、反応工程雰囲気を乾燥状態で行うことを特徴とする有機コーティング膜の製造方法。」
　（１ｂ）  乾燥雰囲気で形成する工程（請求項４）
　「有機コーティング膜を乾燥雰囲気で形成する工程が、少なくとも基体上に有機コーティング膜を形成する工程と基体上に形成された有機コーティング膜表面の付着した基体と結合していない界面活性剤を除去する工程からなる請求項１または２記載の有機コーティング膜の製造方法。」
　（１ｃ）  産業上の利用分野（【０００１】）
　「本発明は、ガラス、プラスチック、金属等の表面に透明な超薄膜を形成するための有機コーティング膜の製造方法に関する。」
　（１ｄ）  目的（【０００８】）
　「本発明は、前記従来技術の課題を解決するため、膜厚がナノメートル程度と薄くかつ均一な厚さの透明な有機コーティング膜を形成する方法を提供することを目的とする。」
  （１ｅ）  反応工程雰囲気の乾燥状態（【００１０】）
　「前記構成においては、反応工程雰囲気の乾燥状態が湿度計による測定において３５％以下であることが好ましい。」
  （１ｆ）  界面活性剤（【００１１】〜【００１２】）
　「前記構成においては、界面活性剤が、クロロシラン系界面活性剤、クロロチタン系界面活性剤、アルコキシシラン系界面活性剤、アルコキシチタン系界面活性剤から選ばれる少なくとも一種の化合物であることが好ましい。
　また前記構成においては、シラン系界面活性剤が、モノクロロシラン化合物，ジクロロシラン化合物，トリクロロシラン化合物から選ばれる少なくとも一種の化合物、またはチタン系界面活性剤が、モノクロロチタン化合物，ジクロロチタン化合物，トリクロロチタン化合物から選ばれる少なくとも一種の化合物であることが好ましい。」
  （１ｇ）  作用（【００１４】〜【００１５】）
　「前記本発明方法の構成によれば、反応工程雰囲気を乾燥状態で行うので、ハロゲン基またはアルコキシ基を少なくとも有するシラン系またはチタン系界面活性剤同士の縮合反応を抑制して、基材表面と前記界面活性剤との化学結合の反応を進行させることができ、その結果、膜厚がナノメートル程度と薄くかつ均一な厚さの透明な有機コーティング膜を形成できる。この薄膜は単分子膜ともいえる。前記反応は、基材表面の−ＯＨ基と、前記界面活性剤としてたとえばクロロシラン系界面活性剤の−Ｓｉ−Ｃｌ基とが反応し、−Ｓｉ−Ｏ−基が生成することによって、基材表面と単分子膜とがシロキサン結合によって化学的に結合したものとなる。
　また、反応工程雰囲気の乾燥状態が湿度計による測定において３５％以下であるという本発明の好ましい構成によれば、クロルシリル基またはクロルチタン基の塩素原子は基体表面に露出した水酸基と脱塩化水素反応を起こして共有結合を形成する。このとき界面活性剤同士は雰囲気中の水分が減少しているため縮合反応をほとんど起こさず、基体表面の水酸基とだけ反応し、一様な膜厚の有機コーティング膜を形成することができる。」
  （１ｈ）  実施例１（【００１９】〜【００２７】、図１〜図２）
　「【実施例】以下に、本発明の有機コーティング膜の実施例を詳細に説明する。図１は界面活性剤の有機コーティング膜を基体上に形成する有機コーティング膜の製造装置である。この装置を用いて実験を行った。
　界面活性剤にはオクタデシルトリクロロシランを用いた。前記界面活性剤をヘキサデカン、クロロホルムおよび四塩化炭素の混合溶媒（重量比８０：１２：８）に１ミリモル／リットルとなるように溶かし、有機コーティング用溶液を作成した。前記溶液は密閉したポリテトラフロロエチレン製容器に保存した。
　次に、ガス導入口および手袋が内蔵されたポリプロピレン製グローブバック１内に充分の乾燥窒素ガスを導入し、グローブバック１内にいれた湿度計にて湿度が３５％以下になっていることを確認した。つぎに、基体浸漬用のシャーレ２、基体としてシリコン基板（シリコンウェハ）３、前記溶液をいれたポリテトラフロロエチレン製容器を前記グローブバック１内に入れ、それぞれを乾燥状態に慣らした。つぎに、シャーレ２に界面活性剤溶液をシリコン基板３が浸漬できる容量だけ入れたのち、シリコン基板３を浸漬した。１時間の界面活性剤溶液のシリコン基板の浸漬を行った。１時間の浸漬により、シリコン基板表面の水酸基とトリクロロシラン基との脱塩化水素反応が進み、シリコン基板表面はシラン界面活性剤からなる有機コーティング膜によって一様に覆われた。
　つぎに、前記グローブバック１内にシリコン基板３を洗浄工程に移動するためのクロロホルムの入った密閉式の容器を入れた。クロロホルムは前記界面活性剤をよく溶かすことが分かっており、洗浄液として用いた。クロロホルムはシリコン基板が浸漬できるだけの容量が入っており、また、クロロホルムが入っている容器はシリコン基板３が入る形状をしている。前記グローブバック１内で前記クロロホルムの入っている密閉式の容器を空けて、まず、乾燥雰囲気に慣らした。
　その後、シリコン基板３を界面活性剤の入ったシャーレ２から取り出し、密閉容器に入ったクロロホルムに浸漬した。このときの動作は、乾燥雰囲気にしたグローブバック１内といえども、すばやく行う必要がある。シリコン基板３を浸漬したクロロホルムの入った密閉容器をグローブバック１内で密閉した後、グローブバック１からシリコン基板３を浸漬したクロロホルムの入った密閉容器を取り出した。
　図２は有機コーティング膜を基体（ここではシリコン基板）上に形成した後の洗浄を行う有機コーティング膜の製造装置である。前記グローブバックと同様の形状をしたガス導入口および手袋が内蔵されたポリプロピレン製グローブバック４内にクロロホルムの入ったガラス容器５と前記シリコン基板３を浸漬したクロロホルムの入った密閉容器６を入れた。密閉容器を空けて、シリコン基板をクロロホルムから取り出す前にグローブバック４内に入れたクロロホルムの入ったガラス容器５と前記シリコン基板３を浸漬したクロロホルムの入った密閉容器６を充分に乾燥雰囲気に慣らした。
　その後、密閉容器６からシリコン基板３を取り出し、クロロホルムの入ったガラス容器５内でシリコン基板上に形成した界面活性剤からなる有機コーティング膜表面上のシリコン基板と化学結合していない前記界面活性剤をクロロホルムによって洗浄した。洗浄条件は、目安として５ｃｍ□の基板の場合、５００ｍｌのクロロホルムで１５分浸漬すれば充分である。洗浄ののち、シリコン基板をクロロホルムの入ったガラス容器５から取り出し、グローブバック４内に封入している乾燥窒素で乾かし、グローブバックから取りだした。
　これら一連の処理によって、シリコン基板上にオクタデシルトリクロロシランからなる膜厚が界面活性剤の分子長分（この場合は約２．５ナノメートル）の有機コーティング膜が形成された。この有機コーティング膜の表面には、いまだ、基体とは化学結合を起こしていない溶液内に存在する界面活性剤のクロルシラン基と脱塩化水素反応を起こすべき水酸基が全く存在しないため、基体表面と界面活性剤とが反応を起こすだけで、有機コーティング膜上にさらに膜形成が行われることがなく、膜厚の乱れが生じることがない。さらに、この膜厚は、使用される界面活性剤の分子長分（ナノメートル程度）であり、超薄膜の有機コーティング膜を形成することができた。また、このような膜厚であるため、鏡面状態のシリコン基板に有機コーティング膜を形成した場合は、膜の存在を全く感じさせなかった。
　また、ガラス基板など透明基板上に形成した場合では、透過式可視紫外分光光度計による測定に置いて、基体が持つ透明性を全く損なうことがなかった。」
  （１ｉ）  膜形成法（【００３６】）
　「なお、本実施例では、浸漬法による実施例を示したが、回転塗布ができるような設備を３５％以下の湿度コントロールができるような部屋に置くことができれば、膜形成は可能である。また、その他の膜形成法を湿度コントロールできる状態に置きさえすれば膜形成は可能である。」
  （１ｊ）  乾燥雰囲気（【００３９】）
　「なお、本実施例では、グローブバック内を乾燥雰囲気に保ったが、その他の方法によって、乾燥雰囲気を作っても良い。また、本実施例では乾燥窒素を用いて乾燥雰囲気を作ったが、乾燥空気、アルゴンガス等他のガスを用いても良い。」
　
（５）　対比・判断
　摘示（１ａ）〜（１ｊ）から、刊行物１には以下の発明（以下、刊行物１発明という）が記載されているものと認める。
　「シリコン基板表面にオクタデシルトリクロロシランを含む塗布溶液を塗布し、シリコン基板表面の水酸基とオクタデシルトリクロロシランのトリクロロシラン基との間で脱塩化水素反応を起こさせ、シリコン基板表面にオクタデシルトリクロロシランを共有結合させる単分子膜の製造方法であって、
　湿度が３５％以下に保持されているグローブバッグ内にシリコン基板を導入し、浸漬装置を用いて、シリコン基板表面にオクタデシルトリクロロシランと溶媒とを含む塗布溶液を塗布し、シリコン基板表面の水酸基とオクタデシルトリクロロシランのトリクロロシラン基との間で脱塩化水素反応を起こさせ、
　その後グローブバッグ内で前記塗布後の未反応塗布溶液を除去して、基材表面と膜厚が約２．５ｎｍの単分子膜とがシロキサン結合によって化学的に結合した単分子膜の製造方法」（刊行物１発明）
　そこで、本件補正発明と刊行物１発明とを対比する
  刊行物１発明の「シリコン基板表面」は、表面に水酸基を有するから、本件補正発明の「表面に活性水素を有する基材の表面」に相当し、さらに、刊行物１発明の「オクタデシルトリクロロシランを含む塗布溶液」は、本件補正発明の「少なくともクロル基、アルコキシ基及びイソシアネート基から選ばれる少なくとも一つの反応基とアルキル基もしくはフルオロアルキル基を持つシラン系化合物を含む塗布溶液」に相当する。
  また、刊行物１発明の「反応工程雰囲気の乾燥状態」は、本件補正発明の「水蒸気濃度雰囲気状態」に対応するものであり、その乾燥状態は「湿度が３５％以下」と規定されている。
　刊行物１の記載では、「湿度が３５％以下」について、特に温度条件は規定されていないので、通常の温度条件である「室温」での湿度、即ち２５℃程度、あるいはそれ以下の温度での湿度と推認される。
　そうすると、本願明細書段落【００５８】によれば、「２５℃で相対湿度３５％」が、水蒸気濃度「０．００７６ｋｇ／ｍ３  」に相当するというものであるから、刊行物１発明の「反応工程雰囲気の乾燥状態」は、本件補正発明の「０．００７６ｋｇ／ｍ３　以下の低水蒸気濃度雰囲気状態」に相当するものと認める。
　
（６）　一致点　
　そうすると、本件補正発明と刊行物１発明とは、
　「表面に活性水素を有する基材の表面に、少なくともクロル基、アルコキシ基及びイソシアネート基から選ばれる少なくとも一つの反応基とアルキル基もしくはフルオロアルキル基を持つシラン系化合物を含む塗布溶液を塗布し、基材表面の活性水素と前記シラン系化合物の反応基との間で脱離反応を起こさせ、基材表面にシラン系化合物を共有結合させる分子膜の製造方法であって、
　水蒸気濃度範囲が０ｋｇ／ｍ３　以上０．００７６ｋｇ／ｍ３　以下の低水蒸気濃度雰囲気状態に保持されているコーティング膜製造装置内に、前記基材を送り込み、
　前記基材の表面にシラン系化合物と溶媒とを含む塗布溶液を塗布し、前記基材表面の活性水素と前記シラン系化合物の反応基との間で脱離反応を起こさせ、
　その後コーティング膜製造装置内または外で前記塗布後の未反応塗布溶液を除去して、膜厚が０．１ｎｍ以上１μｍ以下の範囲の分子膜を形成することを特徴とする分子膜の製造方法。」である点で一致し、以下の相違点１及び相違点２で相違するものと認める。
　
（７）　相違点
　（相違点１）
　塗布装置として、本件補正発明は「転写装置」を用いるのに対し、刊行物１発明は「浸漬装置」を用いる点。
　
　（相違点２）
　コーティング膜製造装置を収納する設備として、本件補正発明は「チャンバー」を用いるのに対し、刊行物１発明は「グローブバッグ」を用いる点。
　
（８）　相違点についての検討
　（相違点１について）
  本願明細書の段落【０００４】には、塗布方法として浸漬法を採用した場合の問題点について以下の記載がある。
　「従来の浸漬法は、被膜形成物が平板でなく異型の場合は表面に沿って液が反応するために異型表面に膜形成が可能で優れた方法であるといえるが、浸漬用の液量が多くなくてはならず、基材の出し入れ操作が必要で、操作が繁雑になり操作時間も長く、結果としてコストが高くなるという問題があり、また、クロロシラン系化合物は水分と反応しやすいため、ポットライフが短いという問題がある。さらに、浸漬法では基材全体にクロロシラン系化合物が接触し反応するため、クロロシラン系化合物を塗布したくない面がある場合、不都合になる。」
　そして、本件補正発明では、塗布装置として「転写装置」を用いることにより、以下の効果を奏することが記載されている。
　1)「本発明方法及び装置によれば、成膜に必要な液量を少なくし、塗布溶液のポットライフに気を使うことを必要とせず、基材の操作を容易にし、全体としてコストの安い分子膜の製造方法および膜の製造装置を提供するができる。」（段落【００２７】）
　2)「本発明の成膜方法で平板状の基材へ膜形成が可能となり、従来の浸漬方法に比べて生産性を大幅に向上でき、製造経費を大幅に削減することができる。よって、その工業的価値は大なるものである。」（段落【００６９】）
　
　一方、刊行物１発明は塗布装置として浸漬装置を採用するものであるが、刊行物１には、塗布方法として、浸漬法以外に回転塗布法が記載され、さらに「その他の膜形成法」も「湿度コントロールできる状態に置きさえすれば膜形成は可能である」ことが記載されており（摘示（１ｉ））、刊行物１発明においても、湿度コントロールできる環境下であれば、塗布対象等に応じ、浸漬装置に代えて他の塗布装置を採用できることは明らかである。
　そして、「転写装置」に該当するロールコートが、塗布装置として通常使用されるものであることは、例えば、原査定の拒絶の理由に引用された刊行物４（特開平３−５４８１８号公報），刊行物５（特開平７−６８２１９号公報）からも明らかであり、特に刊行物５には１μｍ程度以下の膜厚の塗布に使用できることも記載されている。
　さらに、ロールーコートは、浸漬法と比較して、平面状の物体への塗布に適した方法であり、生産性が高く効率的な塗装方法であることも、当業者にとって周知の事実である。
　したがって、刊行物１発明においても、生産性向上は当然の課題であることから、板状体への塗布を考慮して、塗布装置を浸漬装置から「転写装置」であるロールコート装置に変更することは、当業者が容易になし得ることであり、また、「ロールコート装置」が「湿度コントロールできる状態」に置くことが困難な装置であるとの技術常識も認められない。
　そして、「ロールコート装置」採用による生産性向上等の効果も、当業者が予測し得る範囲のものである。
　
　（相違点２について）
　コーティング膜製造装置を収納する設備は、そこで使用する塗布装置等に応じて適宜選択でき、刊行物１発明においても、使用する塗布装置に適したものに適宜変更可能なものと認める。
　
　したがって、相違点１及び２は当業者にとって容易であり、本件補正発明は、刊行物１に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
（９）むすび
　以上のとおり、本件補正は、特許法等の一部を改正する法律（平成１５年法律第４７条）附則第２条第７項の規定によりなお従前の例によるものとされた同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第４項の規定に違反するので、特許法第１５９条第１項の規定において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
３．　本件審判請求について
（１）　本願発明について
　平成１４年２月１３日付の手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１〜２１に係る発明は、平成１３年６月１日付手続補正書で補正された明細書のの特許請求の範囲の各請求項に記載された事項により特定されるとおりのものであり、その請求項１に係る発明は、以下のとおりである。
　「【請求項１】　表面に活性水素を有する基材の表面に、少なくともクロル基、アルコキシ基及びイソシアネート基から選ばれる少なくとも一つの反応基を持つシラン系化合物を含む塗布溶液を塗布し、基材表面の活性水素と前記シラン系化合物の反応基との間で脱離反応を起こさせ、基材表面にシラン系化合物を共有結合させる分子膜の製造方法において、
　水蒸気濃度範囲が０ｋｇ／ｍ３　以上０．００７６ｋｇ／ｍ３　以下の低水蒸気濃度雰囲気状態に保持されているチャンバー内に、前記基材を送り込み、
　転写装置を用いて、前記基材の表面にシラン系化合物と溶媒とを含む塗布溶液を最終膜厚が０．１ｎｍ以上１μｍ以下の範囲となるように塗布し、前記基材表面の活性水素と前記シラン系化合物の反応基との間で脱離反応を起こさせ、
　その後チャンバー内または外で前記塗布後の未反応塗布溶液を除去して、膜厚が０．１ｎｍ以上１μｍ以下の範囲の分子膜を形成することを特徴とする分子膜の製造方法。」
　なお、膜厚については、２．（２）で述べたとおり、「０．１μｍ以下」は「１μｍ以下」の誤記と認められるので、上記のとおり認定した。
　
（２）　引用刊行物
　原査定の拒絶の理由に引用された刊行物１及びその記載事項は、前記「２．（４）」に記載したとおりである。
　
（３）　対比・判断
　本願の請求項１に係る発明は、前記「２．」で検討した本件補正発明から「シラン系化合物」の限定事項である「アルキル基もしくはフルオロアルキル基を持つ」という発明特定事項を省いたものである。
　そうすると、本願の請求項１に係る発明の特定事項を全て含み、さらに他の特定事項を付加したものに相当する本件補正発明が、前記「２．」に記載したとおり、刊行物１に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願の請求項１に係る発明も、同様の理由により、刊行物１に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
（４）　むすび
　以上のとおり、本願の請求項１に係る発明は、刊行物１に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。