【手続補正書】
【提出日】平成24年9月28日(2012.9.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
二酸化チタン顔料を調製するための連続プロセスであって、
ａ）７５℃以下の温度かつ２．０〜９．０のｐＨで、二酸化チタンベースの粒子の水性スラリーを調製する工程と、
ｂ）工程ａ）で得られた水性スラリーの温度を７５℃以下に維持しながら、該水性スラリー中にシリカ被覆ベースの二酸化チタン粒子を形成する工程と、
ｃ）工程ｂ）で得られた水性スラリーのｐＨを５．５〜７．５の範囲に、かつ該水性スラリーの温度を７５℃以下に維持しながら、アルミナ化合物を添加して前記二酸化チタン顔料を形成する工程と、
を含み、
工程ｂ）は、
（ｉ）第１のシリカ沈殿容器中で、工程ａ）で得られた水性スラリーのｐＨを９．６〜９．８の範囲に維持しながら、シリカ化合物を添加する段階と、
（ｉｉ）段階（ｉ）で得られた水性スラリーを第２のシリカ沈殿容器に移し、該水性スラリーのｐＨを９．２〜９．５の範囲に維持する段階と、
（ｉｉｉ）段階（ｉｉ）で得られた水性スラリーを第３のシリカ沈殿容器に移し、該水性スラリーのｐＨを２．４〜６．６の範囲に維持する段階と、
を含む、二酸化チタン顔料を調製するための連続プロセス。
【請求項２】
工程ａ）および工程ｂ）は、それぞれ１回ずつ行われる、請求項１に記載の二酸化チタン顔料を調製するための連続プロセス。
【請求項３】
工程ａ）において、前記水性スラリーは３．０〜８．０のｐＨで調製される、請求項１または２に記載の二酸化チタン顔料を調製するための連続プロセス。
【請求項４】
前記水性スラリーは、前記シリカ化合物の添加および前記アルミナ化合物の添加の間、６０℃〜７４℃の温度で維持される、請求項１〜３のいずれか１項に記載の二酸化チタン顔料を調製するための連続プロセス。
【請求項５】
前記水性スラリーは、前記シリカ化合物の添加および前記アルミナ化合物の添加の間、７０℃の温度で維持される、請求項１〜３のいずれか１項に記載の二酸化チタン顔料を調製するための連続プロセス。
【請求項６】
前記水性スラリーは、前記シリカ化合物の添加および前記アルミナ化合物の添加の間、６５℃の温度で維持される、請求項１〜３のいずれか１項に記載の二酸化チタン顔料を調製するための連続プロセス。
【請求項７】
前記シリカ被覆ベースの二酸化チタン粒子は、３０分未満の滞留時間を有する、請求項２に記載の二酸化チタン顔料を調製するための連続プロセス。
【請求項８】
前記シリカ被覆ベースの二酸化チタン粒子は、１５分未満の滞留時間を有する、請求項２に記載の二酸化チタン顔料を調製するための連続プロセス。
【請求項９】
前記アルミナ化合物は、７のｐＨで添加される、請求項１〜８のいずれか１項に記載の二酸化チタン顔料を調製するための連続プロセス。
【請求項１０】
前記アルミナ化合物は、５．５〜６．５のｐＨで添加される、請求項１〜８のいずれか１項に記載の二酸化チタン顔料を調製するための連続プロセス。
【請求項１１】
前記水性スラリーは、前記アルミナ化合物の添加後３０分未満の滞留時間を有する、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の二酸化チタン顔料を調製するための連続プロセス。
【請求項１２】
前記水性スラリーは、前記アルミナ化合物の添加後１５分未満の滞留時間を有する、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の二酸化チタン顔料を調製するための連続プロセス。
【請求項１３】
前記シリカ化合物は、珪酸ナトリウムである、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の二酸化チタン顔料を調製するための連続プロセス。
【請求項１４】
前記アルミナ化合物は、アルミン酸ナトリウムである、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の二酸化チタン顔料を調製するための連続プロセス。
【請求項１５】
前記二酸化チタンベースの粒子は、アナターゼまたはルチルである、請求項１〜１４のいずれか１項に記載の二酸化チタン顔料を調製するための連続プロセス。
【請求項１６】
前記二酸化チタンベースの粒子は、粉砕されないかまたは湿式粉砕される、請求項１〜１５のいずれか１項に記載の二酸化チタン顔料を調製するための連続プロセス。
【請求項１７】
さらに以下の工程：
ｄ）前記二酸化チタン顔料を濾過し、洗浄し、かつ、乾燥する工程、ならびに、
ｅ）該二酸化チタン顔料を有機化合物で微粉化し、かつ、処理する工程、
を含む、請求項１〜１６のいずれか１項に記載の二酸化チタン顔料を調製するための連続プロセス。
【請求項１８】
前記有機化合物は、ポリオールである、請求項１７に記載の二酸化チタン顔料を調製するための連続プロセス。
【請求項１９】
前記ポリオールは、トリメチロールプロパンである、請求項１８に記載の二酸化チタン顔料を調製するための連続プロセス。
【請求項２０】
前記トリメチロールプロパンは、前記二酸化チタン顔料の重量に基づいて０．２％〜０．８％の量で添加される、請求項１９に記載の二酸化チタン顔料を調製するための連続プロセス。
【請求項２１】
二酸化チタン顔料を調製するための連続プロセスであって、
ａ）７５℃以下の温度かつ２．０〜９．０のｐＨで、二酸化チタンベースの粒子の水性スラリーを調製する工程と、
ｂ）工程ａ）で得られた水性スラリーの温度を７５℃以下に維持しながら、該水性スラリー中にシリカ被覆ベースの二酸化チタン粒子を形成する工程と、
ｃ）工程ｂ）で得られた水性スラリーのｐＨを５．５〜７．５の範囲に、かつ該水性スラリーの温度を７５℃以下に維持しながら、アルミナ化合物を添加して前記二酸化チタン顔料を形成する工程と、
を含み、
工程ｂ）は、
（ｉ）第１のシリカ沈殿容器中で、工程ａ）で得られた水性スラリーのｐＨを１０．０に維持しながら、シリカ化合物を添加する段階と、
（ｉｉ）段階（ｉ）で得られた水性スラリーを第２のシリカ沈殿容器に移し、該水性スラリーのｐＨを９．４に維持する段階と、
（ｉｉｉ）段階（ｉｉ）で得られた水性スラリーを第３のシリカ沈殿容器に移し、該水性スラリーのｐＨを４．９に維持する段階と、
を含む、二酸化チタン顔料を調製するための連続プロセス。
【請求項２２】
二酸化チタン顔料を調製するための連続プロセスであって、
ａ）７５℃以下の温度かつ２．０〜９．０のｐＨで、二酸化チタンベースの粒子の水性スラリーを調製する工程と、
ｂ）工程ａ）で得られた水性スラリーの温度を７５℃以下に維持しながら、該水性スラリー中にシリカ被覆ベースの二酸化チタン粒子を形成する工程と、
ｃ）工程ｂ）で得られた水性スラリーのｐＨを５．５〜７．５の範囲に、かつ該水性スラリーの温度を７５℃以下に維持しながら、アルミナ化合物を添加して前記二酸化チタン顔料を形成する工程と、
を含み、
工程ｂ）は、
（ｉ）第１のシリカ沈殿容器中で、工程ａ）で得られた水性スラリーのｐＨを９．６に維持しながら、シリカ化合物を添加する段階と、
（ｉｉ）段階（ｉ）で得られた水性スラリーを第２のシリカ沈殿容器に移し、該水性スラリーのｐＨを８．９に維持する段階と、
（ｉｉｉ）段階（ｉｉ）で得られた水性スラリーを第３のシリカ沈殿容器に移し、該水性スラリーのｐＨを２．７に維持する段階と、
を含む、二酸化チタン顔料を調製するための連続プロセス。
【請求項２３】
二酸化チタン顔料を調製するための連続プロセスであって、
ａ）７５℃以下の温度かつ２．０〜９．０のｐＨで、二酸化チタンベースの粒子の水性スラリーを調製する工程と、
ｂ）工程ａ）で得られた水性スラリーの温度を７５℃以下に維持しながら、該水性スラリー中にシリカ被覆ベースの二酸化チタン粒子を形成する工程と、
ｃ）工程ｂ）で得られた水性スラリーのｐＨを５．５〜７．５の範囲に、かつ該水性スラリーの温度を７５℃以下に維持しながら、アルミナ化合物を添加して前記二酸化チタン顔料を形成する工程と、
を含み、
工程ｂ）は、
（ｉ）第１のシリカ沈殿容器中で、工程ａ）で得られた水性スラリーのｐＨを９．５に維持しながら、シリカ化合物を添加する段階と、
（ｉｉ）段階（ｉ）で得られた水性スラリーを第２のシリカ沈殿容器に移し、該水性スラリーのｐＨを９．２に維持する段階と、
（ｉｉｉ）段階（ｉｉ）で得られた水性スラリーを第３のシリカ沈殿容器に移し、該水性スラリーのｐＨを６．１に維持する段階と、
を含む、二酸化チタン顔料を調製するための連続プロセス。
【請求項２４】
二酸化チタン顔料を調製するための連続プロセスであって、
ａ）７５℃以下の温度かつ２．０〜９．０のｐＨで、粉砕していない二酸化チタンベースの粒子の水性スラリーを調製する工程と、
ｂ）工程ａ）で得られた水性スラリーの温度を７５℃以下に維持しながら、該水性スラリー中にシリカ被覆ベースの二酸化チタン粒子を形成する工程と、
ｃ）工程ｂ）で得られた水性スラリーのｐＨを５．５〜７．５の範囲に、かつ該水性スラリーの温度を７５℃以下に維持しながら、アルミナ化合物を添加して前記二酸化チタン顔料を形成する工程と、
を含み、
工程ｂ）は、
（ｉ）第１のシリカ沈殿容器中で、工程ａ）で得られた水性スラリーのｐＨを９．４に維持しながら、シリカ化合物を添加する段階と、
（ｉｉ）段階（ｉ）で得られた水性スラリーを第２のシリカ沈殿容器に移し、該水性スラリーのｐＨを９．１に維持する段階と、
（ｉｉｉ）段階（ｉｉ）で得られた水性スラリーを第３のシリカ沈殿容器に移し、該水性スラリーのｐＨを５．０に維持する段階と、
を含む、二酸化チタン顔料を調製するための連続プロセス。
【請求項２５】
二酸化チタン顔料を調製するための連続プロセスであって、
ａ）７５℃以下の温度かつ２．０〜９．０のｐＨで、湿式粉砕した二酸化チタンベースの粒子の水性スラリーを調製する工程と、
ｂ）工程ａ）で得られた水性スラリーの温度を７５℃以下に維持しながら、該水性スラリー中にシリカ被覆ベースの二酸化チタン粒子を形成する工程と、
ｃ）工程ｂ）で得られた水性スラリーのｐＨを５．４〜７．５の範囲に、かつ該水性スラリーの温度を７５℃以下に維持しながら、アルミナ化合物を添加して前記二酸化チタン顔料を形成する工程と、
を含み、
工程ｂ）は、
（ｉ）第１のシリカ沈殿容器中で、ａ）の工程で得られた水性スラリーのｐＨを９．１に維持しながら、シリカ化合物を添加する段階と、
（ｉｉ）段階（ｉ）で得られた水性スラリーを第２のシリカ沈殿容器に移し、該水性スラリーのｐＨを８．６に維持する段階と、
（ｉｉｉ）段階（ｉｉ）で得られた水性スラリーを第３のシリカ沈殿容器に移し、該水性スラリーのｐＨを５．４に維持する段階と、
を含む、二酸化チタン顔料を調製するための連続プロセス。