【事件の表示】
　特願２００２−２３１８６２「露光装置の管理方法、マスクの管理方法、露光方法、および半導体装置の製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１６年　３月　４日出願公開、特開２００４−　７１９７８〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯・本願発明
　本願は、平成１４年８月８日の出願であって、平成１８年９月１３日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、同年１０月１９日に拒絶査定に対する審判請求がなされ、平成１８年１１月８日付けで手続補正がなされ、当審において平成１９年２月１９日付けで平成１８年１１月８日付け手続補正の却下とともに、拒絶理由通知がなされ、平成１９年４月２３日付けで意見書とともに手続補正書が提出されたものである。
　本願請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、平成１９年４月２３日付けで手続補正された明細書及び図面の記載からみて、請求項１に記載された次のとおりのものである。
「複数台の露光装置について、これら各露光装置を用い、かつ同一の露光条件に基づいて基板に転写されるそれぞれの露光パターンの寸法を測定し、前記各露光パターンが転写される露光領域全体のうちの所定の露光領域内において前記各露光装置間における前記測定寸法の差が所定の許容範囲内に収まる露光装置を、前記所定の露光領域ごとに前記各露光装置の中から１台ないしは複数台選択し、これらの選択された露光装置を一群として前記各露光装置を群分けして管理することを特徴とする露光装置の管理方法。」
　
２．当審の拒絶理由
　当審において平成１９年２月１９日付けで通知した拒絶の理由の概要は、本願発明は、本願の出願前である平成１２年７月１４日に頒布された特開２０００−１９５７８３号公報（以下、「引用例」という。）に記載された発明に基いて当業者が容易に発明することができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない、というものである。
　
２．１　引用例の記載内容
　【０００１】段落には、
「【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、縮小投影露光装置（以下、ステッパと称する）を用いて集積回路のパターンをウェハ上のレジストに転写する際の回路パターン転写方法に関するものである。」
と記載されている。
　
　【００１２】段落には、
「【００１２】この発明は上記のような問題点を解決するためになされたもので、縮小投影レンズのうち回路パターンの転写に際して収差の影響の強い部分を露光に用いないようにして歩留まりを向上させる回路パターン転写方法である。」
と記載されている。
　
　【００２３】段落には、
「【００２３】…フォトマスクとレジスト付きウェハをステッパにセットして、ウェハ上のレジストに対して一回の露光操作で露光可能な最大の領域である最大露光可能領域…の全面に露光することによりレジストに多数のパターンＰ１を形成する。…」
と記載されている。
　
　【００２６】段落には、
「【００２６】…最大露光可能領域ＦＤを、有効露光領域ＯＫ１と無効露光領域ＮＧ１とに区分する…。」
と記載されている。
　
　【００５５】〜【００６０】段落には、
「【００５５】縮小投影レンズの収差によるベストフォーカスポイントずれや位置ずれの分布はステッパ毎に固有である。
…
【００５７】…有効露光領域内に包含されて転写されるチップパターンの集まった領域がイメージフィールドとして決定されるが、複数のステッパの場合は当然ながら各ステッパ毎にイメージフィールドとして決定される領域が異なってくる。そのため各ステッパ毎にフォトマスクを製作しなければならない。しかし、ステッパ毎にそれぞれにとって最適なフォトマスクの回路パターン描画データを製作することは効率的ではない。
【００５８】そこでこのような問題を解決するために、収差の傾向が似たステッパのイメージフィールドのうち重複部分となる共通イメージフィールドを割り出し、その共通イメージフィールドを備えた共通フォトマスクを各ステッパで用いるようにすればよい。…以下で、その方法について説明する。
【００５９】まず、縮小投影レンズの収差の傾向が似たステッパをグループ分けする。…
【００６０】次に、グループ内での各ステッパの有効露光領域のうち共通する部分を全体としての共通有効露光領域とする。…」
と記載されている。
　
２．２　引用例記載の発明の認定
　引用例の上記記載から、引用例には、
　「縮小投影露光装置（ステッパ）を用いて集積回路のパターンをウェハ上のレジストに転写する際の回路パターン転写方法であって、
  縮小投影レンズの収差の傾向が似たステッパをグループに分け、
  グループに分けたステッパのイメージフィールド（マスクの露光領域）のうち重複部分となる共通イメージフィールドを割り出し、その共通イメージフィールドを備えた共通フォトマスクを各ステッパで用い、
　グループに分けた各ステッパの有効露光領域のうち共通する部分を全体としての共通有効露光領域とする回路パターン転写方法。」
の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されている。
　
３．　対比・判断
　本願発明と引用発明を対比する。
　ア．引用発明の「ステッパ」、「ウェハ」、「回路パターン」、「有効露光領域」、「共通有効露光領域」及び「グループ」は、それぞれ、本願発明の「露光装置」、「基板」、「露光パターン」、「露光領域全体」、「所定の露光領域」及び「群」に相当する。
　イ．引用発明の「縮小投影レンズの収差の傾向が似たステッパをグループに分け」ることは、本願発明の「各露光装置の中から１台ないしは複数台選択」することに相当する。
　ウ．引用発明の「グループに分けたステッパのイメージフィールド（マスクの露光領域）のうち重複部分となる共通イメージフィールドを割り出」すことにおいて、その割り出しをするためには、各ステッパにより基板に転写されるそれぞれの露光パターンの寸法を測定することが必須であることが当業者において自明のことであるから、本願発明の「複数台の露光装置について、これら各露光装置を用い、基板に転写されるそれぞれの露光パターンの寸法を測定」することに相当する構成を有するといえる。
　エ．引用発明の「グループに分けたステッパのイメージフィールド（マスクの露光領域）のうち重複部分となる共通イメージフィールドを割り出し、その共通イメージフィールドを備えた共通フォトマスクを各ステッパで用い、グループに分けた各ステッパの有効露光領域のうち共通する部分を全体としての共通有効露光領域」として共通有効露光領域を基板に露光することをいいかえると、収差の傾向が似た複数のステッパを選択し、当該複数のステッパに対して共通フォトマスクを用い、有効露光量域内の共通有効露光領域即ち　″所定の露光領域″を基板に露光することを意味する。
　その際、収差の補正を考慮した共通フォトマスクを用いて、縮小投影レンズの収差の傾向が似たステッパの収差を補正して露光することは上記【００５７】、【００５８】段落の記載から明らかであり、上記「ステッパの収差を補正して露光する」ことは、共通フォトマスクを用いて露光した露光パターンの寸法を測定し、測定した寸法が　″所定の許容範囲内に収まる″ようにすることを行っていることは当業者において明らかである。
　そうすると、引用発明は、「複数のステッパを選択し、共通フォトマスクを用いて複数のステッパにより当該共通フォトマスクの　″所定の露光領域″を露光して露光パターンの寸法を測定し、測定した寸法が　″所定の許容範囲内に収まる″ようにする」ものであるから、本願発明の「各露光パターンが転写される露光領域全体のうちの所定の露光領域内において前記各露光装置間における前記測定寸法の差が所定の許容範囲内に収まる露光装置を、前記各露光装置の中から複数台選択」することに実質的に相当する構成を有する。
　オ．引用発明は、「群分けして管理する」との記載がないが、本願明細書【００３４】、【００３６】段落を参照すると、「群分けして扱う」程度の意味にすぎないから、引用発明においても「群分けして管理する」といえる。
　
　そうすると、両者は、
「複数台の露光装置について、これら各露光装置を用い、かつ基板に転写されるそれぞれの露光パターンの寸法を測定し、前記各露光パターンが転写される露光領域全体のうちの所定の露光領域内において前記各露光装置間における測定寸法の差が所定の許容範囲内に収まる露光装置を、前記各露光装置の中から複数台選択し、これらの選択された露光装置を一群として前記各露光装置を群分けして管理する露光装置の露光方法。」
において一致し、以下の点で相違する。
　
　相違点１
　本願発明は、各露光装置を用い、「同一の露光条件に基づいて」基板に転写されるそれぞれの露光パターンの寸法を測定するのに対し、引用発明では、「同一の露光条件に基づいて」とは限定されていない点。
　
　相違点２
　本願発明は、測定寸法の差が所定の許容範囲内に収まる露光装置を、「所定の露光領域ごと」に各露光装置の中から１台ないしは複数台選択し、これらの選択された露光装置を一群として前記各露光装置を群分けするのに対し、引用発明では、測定寸法の差が所定の許容範囲内に収まる露光装置を、各露光装置の中から複数台選択し、これらの選択された露光装置を一群として前記各露光装置を群分けするものの、「所定の露光領域ごと」に選択する旨の記載がない点及び「１台ないしは」の限定がない点。
　
　相違点についての検討
　相違点１について検討する。
　同一の露光パターンを有するマスクを用いて複数の露光装置により各基板を露光する（引用発明において複数のステッパに対して共通フォトマスクを用いている。）ときには、各基板がなるべく同一の露光状態となるようにするため、複数の露光装置が同一の露光条件となるようにすることは、当業者が当然採用する事項であって、相違点１に係る本願発明の構成については、当業者が容易に想到できたことである。
　
　相違点２について検討する。
　引用例１には、「【００５９】まず、縮小投影レンズの収差の傾向が似たステッパをグループ分けする。…
【００６０】
　次に、グループ内での各ステッパの有効露光領域のうち共通する部分を全体としての共通有効露光領域とする。…」と記載され、ステッパ（露光装置）をグループ分け（群分け）して、共通有効露光領域（所定の露光領域）とすることが記載されている。
　当該共通有効露光領域は、各収差（コマ収差、非点収差等）によって露光領域内の異なる位置に生じ得るから、共通有効露光領域を有する一群の露光装置を、所定の露光領域ごとに群分けしたものとすることは、当業者が容易に想到できたことである。
　また、測定寸法の差が所定の許容範囲内に収まる露光装置が１台の場合には、複数台することができないことは自明であり、「１台ないしは」の限定を加えることに何ら困難性はない。
　 
　また、本願発明が有する効果についても引用例に記載された発明及び設計事項から予測できた程度のものにすぎない。
　　
４．むすび
　そうすると、本願発明は、引用発明及び設計事項に基いて当業者が容易に発明できたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　よって結論のとおり審決する。