【誤訳訂正書】
【提出日】平成24年5月21日(2012.5.21)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
０．５重量％〜４０重量％の無機塩を含んで成る、式ＩＩ−ｓ：
【化１】
2008063319.tif 000001
（式中、Ｘは、Ｂｒ、Ｃｌ、ＳＯ4、ＭｅＣＯＯ、ＰＯ4、ＭｅＳＯ3、酒石酸、フマル酸、クエン酸、マレイン酸、コハク酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ホウ酸及びアミドスルホン酸から成る群から選択される）のスコピン塩の調製方法であって：
ａ．  前記スコピン塩を含有する混合物を濾過し、濾液を産生する工程、
ｂ．  該濾液に水を添加し、不溶性塩を沈殿させる工程；
ｃ．  該不溶性塩を該濾液から濾過する工程；
ｄ．  酸を該濾液に添加し、前記スコピン塩を沈殿させる工程；そして
ｅ．  該沈殿したスコピン塩を回収する工程、
を含んで成る、方法。
【請求項２】
前記式中、ＸがＢｒである、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記無機塩の含有量が、０．５重量％〜２０重量％である、請求項１又は請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記酸がＨＢｒである、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
さらに、前記沈殿したスコピン塩を極性有機溶媒で洗浄する工程を含んで成る、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記極性有機溶媒が、Ｃ1-6アルコール、Ｃ4-8エーテル、Ｃ3-10ケトン、Ｃ2-4ニトリル、及びこれらの混合物から成る群から選択される、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記極性有機溶媒が、メタノール、エタノール、イソプロパノール、１，４−ジオキサン、アセトン、アセトニトリル、及びこれらの混合物から成る群から選択される、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
臭化チオトロピウムを調製するための方法であって、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法により０．５重量％〜４０重量％の無機塩を含有する式ＩＩ−ｓのスコピン塩を調製し、そしてこれを臭化チオトロピウムに変換する工程を含んで成る、方法。
【請求項９】
式ＩＩＩ
【化２】
2008063319.tif 000002
のＮ−デメチル−チオトロピウムの調製方法であって、
請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法により０．５重量％〜４０重量％の無機塩を含有する式ＩＩ−ｓのスコピン塩を調製し、そして
式Ｉ
【化３】
2008063319.tif 000003
のメチル−ジ−（２−チエニル）−グリコレートと該調製したスコピン塩を反応させる工程を含んで成る、方法。
【請求項１０】
前記方法が、式Ｉ
【化４】
2008063319.tif 000004
のメチル−ジ−（２−チエニル）−グリコレート、弱無機塩基、極性有機溶媒、及び０．５重量％〜４０重量％の無機塩を含有する式ＩＩ−ｓのスコピン塩を混合し、混合物を得、そして該混合物を加熱する工程を含んで成る、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記混合の前に前記スコピン塩が極性有機溶媒中で懸濁される、請求項９又は１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記弱無機塩基が、前記懸濁液に添加される、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記弱無機塩基が無水である、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記弱無機塩基が、８〜１２のｐＫａを有する、請求項１１〜１３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
前記弱無機塩基が、Ｋ2ＣＯ3、ＮａＨＣＯ3、Ｌｉ2ＣＯ3、Ｃｓ2ＣＯ3、ｔ−ＢｕｔＯＫ、及びｔ−ＢｕｔＯＬｉから成る群から選択される、請求項１２に記載の方法。
【請求項１６】
前記弱無機塩基が、Ｋ2ＣＯ3である、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記弱無機塩基の添加後、前記メチル−ジ−（２−チエニル）−グリコレート及び前記弱無機塩基の他の部分を前記新たな懸濁液に添加し、混合物を供する、請求項１０〜１６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１８】
前記メチル−ジ−（２−チエニル）−グリコレートが、極性有機溶媒中の溶液において添加される、請求項１０〜１７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１９】
前記極性有機溶媒が、Ｃ1−Ｃ4アミド、Ｃ2−Ｃ4スルホキシド、Ｃ2−Ｃ4スルホン、Ｃ7−Ｃ8芳香族炭化水素、及びＣ2−Ｃ4ニトリルから成る群から選択される、請求項１０〜１８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２０】
前記極性有機溶媒が、ジメチルホルムアミドである、請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
前記弱無機塩基の量が、前記スコピン塩のモル等量あたり０．４５〜２．５モルである、請求項１０〜２０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２２】
前記弱無機塩基の添加が、２５℃〜６５℃の温度で行われる、請求項１２〜２１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２３】
前記混合物が、７０℃以下の温度に加熱される、請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
さらに、前記Ｎ−デメチル−チオトロピウムを回収する工程を含んで成る、請求項９〜２３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２５】
臭化チオトロピウムの調製方法であって、以下の工程：
ａ．  請求項９〜２４のいずれか一項に記載の方法により、Ｎ−デメチル−チオトロピウムを調製する工程；そして
ｂ．  有機溶媒中で該Ｎ−デメチル−チオトロピウムと臭化メチルを反応させ、臭化チオトロピウムを形成する工程、
を含んで成る方法。
【請求項２６】
前記有機溶媒が、Ｃ2-4ニトリル、Ｃ4-8直状若しくは環状エーテル、Ｃ2-4ニトリルとＣ4-8直状若しくは環状エーテルの混合物、Ｃ7-8芳香族炭化水素とＣ2-4ニトリルの混合物、及びＣ2-4ニトリルとＣ3-10ケトンの混合物から成る群から選択される、請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】
前記有機溶媒が、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、アセトニトリルとテトラヒドロフランの混合物、トルエンとアセトニトリルの混合物及びアセトンとアセトニトリルの混合物から成る群から選択される、請求項２６に記載の方法。
【請求項２８】
前記有機溶媒が、アセトニトリルである、請求項２７に記載の方法。
【請求項２９】
式ＩＩＩのＮ−デメチルチオトロピウム又は臭化チオトロピウムの製造のための方法であって、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法により０．５重量％〜４０重量％の無機塩を含有する式ＩＩ−ｓのスコピン塩を調製し、そして該調製されたスコピン塩を使用する工程、を含んで成る方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４１】
その後、弱無機塩基を新たな懸濁液を供する該懸濁液に添加する。典型的には、スコピンの遊離塩基を得るために、無水弱無機塩基、すなわち＜０．５重量％の水を有するものがこのような反応に使用される。好ましくは該弱無機塩基は、約８〜約１２、さらにより好ましくは約９〜約１０のｐＫａを有する。好ましくは該弱無機塩基は、Ｋ2ＣＯ3、ＮａＨＣＯ3、Ｌｉ2ＣＯ3、Ｃｓ2ＣＯ3、ｔ−ＢｕｔＯＫ、及びｔ−ＢｕｔＯＬｉから成る群から選択される。より好ましくは該弱無機塩基はＫ2ＣＯ3である。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５３】
好ましくは、該弱無機塩基は、約０℃〜約５℃の温度において添加される。好ましくは、該弱無機塩基は、Ｋ2ＣＯ3、ＮａＨＣＯ3、Ｌｉ2ＣＯ3、Ｃｓ2ＣＯ3、ｔ−ＢｕｔＯＫ、及びｔ−ＢｕｔＯＬｉから成る群から選択される。該弱無機塩基はＫ2ＣＯ3である。