【事件の表示】
　特願２０００−　　９０１３「金属薄膜層転写材」拒絶査定不服審判事件〔平成１３年　７月２４日出願公開、特開２００１−１９９１９２〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯・本願発明
　本願は、平成１２年１月１８日の出願であって、その請求項１ないし３に係る発明は、平成１７年４月１９日付け手続補正書により補正された明細書の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１ないし３に記載された事項により特定されるとおりのものであるところ、その請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は次のとおりである。
「【請求項１】
　基材フィルムの片面に、
　金属化合物薄膜層と、金属薄膜層と、接着剤層と、をこの順に積層してなる転写材において、
　前記金属化合物薄膜層の厚さが５〜２００ｎｍであり、
　前記金属薄膜層の厚さが１０〜５００ｎｍであり、
　転写時において前記金属化合物薄膜層と前記金属薄膜層との間で剥離を生じること、
　を特徴とする、金属薄膜層転写材。」
　
２．先願明細書の記載事項
　原査定の拒絶の理由に引用された、本願の出願日前の平成１１年４月８日に出願であって本願後に出願公開された特願平１１−１００７４４号の願書に最初に添附した明細書（特開平２０００−２２８５７１号公報参照、以下「先願明細書」という。）には、
(ア)「【請求項１】  プラスチックフィルムの表面に離型層としての酸化された表面を有する金属層を設け、その酸化された表面に転写金属層が設けられていることを特徴とする金属転写フィルム。」
(イ)「【０００９】
【発明の実施の形態】本発明の金属転写フィルムに使用されるプラスチックフィルムは、上記離型金属層との密着性が良好であるものであれば、特に限定されるものではなく、従来公知のプラスチックフィルムを用いることができる。このようなプラスチックフィルムとしては、たとえば、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリイミドフィルム、ポリサルフォンフィルム、ポリエーテルサルフォンフィルム、ポリアミドフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリフェニレンスルフィドフィルムなどが挙げられる。これらのプラスチックフィルムは、その厚みが約１０μｍ〜２００μｍ、とりわけ、約１５μｍ〜１５０μｍであることが好ましい。」
(ウ)「【００１０】本発明の金属転写フィルムは、上記のようなプラスチックフィルムの表面に、離型金属層が形成されている。この離型金属層は、その上に形成される転写金属層に対する離型層としての役割を果たすもので、上記のプラスチックフィルムと良好な密着性があり、かつ、転写金属層に対し離型性を有するものである。この離型金属層を形成する金属材料としては、アルミニウム（Ａｌ）、銅（Ｃｕ）、クロム（Ｃｒ）、チタン（Ｔｉ）、ニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、コバルト（Ｃｏ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、銀（Ａｇ）およびこれらの合金等が用いられる。
【００１１】また、離型金属層は、上記金属材料から形成される金属層の一層から成るものでもよいし、同種あるいは異種の金属層を複数積層したものであってもよい。なお、複数積層する場合、その金属層間が剥離しないように、金属層間の界面が酸化されていないことが必要である。
【００１２】上記の離型金属層は、一般的には、スパッタ蒸着、抵抗加熱蒸着、電子ビーム加熱蒸着などの公知の真空蒸着法により形成されるが、この場合、離型金属層とプラスチックフィルムとの密着力を向上させる目的で、プラスチックフィルム表面をアルゴン、酸素、窒素ガス等の雰囲気中でプラズマ処理することも可能である。
【００１３】そして、離型金属層が有する酸化された表面は、上記のように蒸着で形成した金属表面を酸素を含む雰囲気中でプラズマ処理したり、単に、金属表面を大気中に暴露することにより形成される。あるいは、上記のように金属層を蒸着で形成する際に、その雰囲気に酸素ガスを導入しておいてもよい。
【００１４】また、離型金属層の蒸着以外の形成方法としては、ウエットめっきでも可能で、この場合は特に表面の金属層を酸化させる処理をしなくても、自然に酸化膜が形成される。
【００１５】本発明において、上記離型金属層の厚みは、通常、１０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲が好ましい。」
(エ)「【００１６】本発明の金属転写フィルムにおいては、上記の離型金属層の酸化された表面に、転写金属層が形成されている。この転写金属層を形成する金属材料としては、特に限定されるものではなく従来公知の金属材料を使用することができる。このような金属材料としては、その用途によって異なるが、たとえば、電極を形成するのに好適な材料としては、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、パラジウム（Ｐｄ）、ニッケル（Ｎｉ）、インジウム（Ｉｎ）、錫（Ｓｎ）、銅（Ｃｕ）、亜鉛（Ｚｎ）、クロム（Ｃｒ）、ビスマス（Ｂｉ）、アンチモン（Ｓｂ）、鉛（Ｐｂ）、マグネシウム（Ｍｇ）、アルミニウム（Ａｌ）およびこれらの合金等が挙げられる。
【００１７】また、転写金属層は、上記金属材料から形成される金属層の一層から成るものでもよいし、同種あるいは異種の金属層を複数積層したものであってもよい。なお、複数積層する場合、その金属層間が剥離しないように、金属層間の界面が酸化されていないことが必要である。
【００１８】このような転写金属層は、スパッタ蒸着、抵抗加熱蒸着、電子ビーム加熱蒸着などの公知の真空蒸着法や、電気めっき法、または、これらを併用して形成することができるが、より好ましくは、真空蒸着法で形成するのが良い。なお、上記併用の場合においても、まず、最初の金属層を真空蒸着法で形成するのが良い。
【００１９】本発明において、上記転写金属層の厚みは、用途によって異なるが、通常、約３００ｎｍ〜２０００ｎｍの範囲が好ましい。」
(オ)「【００２４】本発明の金属転写フィルムは、例えば、図１に示すように、プラスチックフィルム１の一方の面に、離型金属層２が設けられており、さらに離型金属層２の酸化された表面３に転写金属層４が設けられた形状をなしている。」
(カ)「【００２８】そして、本発明の金属転写フィルムによって転写金属層を転写するには、たとえば、転写しようとする対象物にその転写金属層を接触させるとともに、プラスチックフィルム側から転写金属層側に向かって、たとえば、熱、超音波、電磁波、物理的な圧力等の外力を加えることによって、上記離型金属層の酸化された表面から転写金属層を剥離させて、その対象物に転写すればよい。なお、この場合には、転写金属層の表面上または対象物の表面上に粘着層を設けて転写性の向上を図ってもよく、また、上記した複数の外力を組合わせて使用してもよい。」
　これらの記載事項から先願明細書には、次の発明が記載されていると認められる。 
「プラスチックフィルムの一方の面に〔(オ)参照〕、離型層としての酸化された表面を有する、厚さ１０ｎｍ〜２００ｎｍのアルミニウム等の金属層を設け〔(ウ)参照〕、その酸化された表面に、金、銀等の厚さ約３００ｎｍ〜２０００ｎｍの転写金属層が設けられており〔(エ)参照〕、転写金属層の表面上に粘着層を設けてもよい〔(カ)参照〕、金属転写フィルム。」
　
３．対比、判断 
　本願発明と先願明細書に記載された発明を対比すると、
　先願明細書に記載された発明の「プラスチックフィルム」、
「離型層としての酸化された表面を有する、厚さ１０ｎｍ〜２００ｎｍのアルミニウム等の金属層」、「金、銀等の厚さ約３００ｎｍ〜２０００ｎｍの転写金属層」、「粘着層」、「金属転写フィルム」は、
　本願発明の「基材フィルム」、「厚さが５〜２００ｎｍの金属化合物薄膜層」、「厚さが１０〜５００ｎｍの金属薄膜層」、「接着剤層」、「金属薄膜層転写材」にそれぞれ相当する。
　したがって、両者は、「基材フィルムの片面に、　金属化合物薄膜層と、金属薄膜層と、をこの順に積層してなる金属薄膜層転写材。」である点で一致し、以下の点で一応相違する。 
　相違点１：金属化合物薄膜層の厚さが、本願発明では、５〜２００ｎｍであるのに対し、先願明細書に記載された発明では、１０〜２００ｎｍである点。
　相違点２：金属薄膜層の厚さが、本願発明では、１０〜５００ｎｍであるのに対し、先願明細書に記載された発明では、約３００ｎｍ〜２０００ｎｍである点。
　相違点３：剥離を生じるのが、本願発明では、金属化合物薄膜層と金属薄膜層との間であるのに対し、先願明細書に記載された発明では、明示されていない点。
　相違点４：金属薄膜層上に、本願発明では、接着剤層を有するのに対し、先願明細書に記載された発明では、粘着層を有してもよい点。
　上記相違点１ないし４について検討する。
　相違点１について
　本願発明の「厚さが５〜２００ｎｍの金属化合物薄膜層」の「金属化合物薄膜層」は、「金属薄膜層とは基材フイルムとの密着力より低い力で密着するようなものであり、金属によって適宜選択して使用されるものであり、特に限定はされないが、例えばケイ素の酸化物、ケイ素の酸窒化物、アルミニウムの酸化物、の単独又は混合物等が挙げられる。これらの金属化合物薄膜層は例えばアルミニウム金属蒸着薄膜のように、その金属蒸着薄膜の表面は純金属表面ではなくその蒸着薄膜表面は蒸着時又はその後の時間経過によって幾分かの雰囲気ガスにより変性され、例えばアルミニウム酸化物になるが、本発明においてはかかる状態の薄膜をも金属化合物薄膜層として包含するものである。」（明細書段落【０００６】）である。そして５〜２００ｎｍは１０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲を含むから、先願明細書に記載された発明の「離型層としての酸化された表面を有する厚さ１０ｎｍ〜２００ｎｍのアルミニウム等の金属層」を包含するものであり、相違となるものではない。
　相違点２について
　本願発明の金属薄膜層の厚さが１０〜５００ｎｍであることは、先願明細書に記載された発明の約３００〜２０００ｎｍと重なる範囲を有するので、実質的な相違にはならない。
　相違点３について
　本願発明の「転写時において前記金属化合物薄膜層と前記金属薄膜層との間で剥離を生じる」ことは、金属化合物薄膜層が離型層ということになるから、先願明細書に記載された発明の離型層〔(ア)参照〕と同じ層のことになり、表現上の相違にとどまることである。
　相違点４について
　本願発明では、転写すると金属薄膜層上の接着剤層によって転写性が向上するものであるが、先願明細書に記載された発明でも、粘着層を設けたものにおいては同じように転写性が向上するのであるから〔(カ)参照〕、接着剤層と粘着層との間で作用効果上格別の差異があるものではない。
　また、本願明細書においても、実施例１、４の具体例において金属薄膜層上に接着剤層を有さないものでも良好に転写すること（段落【０００９】、【００１２】）が記載されており、金属薄膜層上に接着剤層を有することが、金属化合物薄膜層と前記金属薄膜層との間で剥離が生じることに対して特に技術的意義を有するとすることはできない。
　そうすると、金属薄膜層上に接着剤層を有することと、粘着層を設けることとが実質的な相違であるとはいうことができない。
　してみると、本願発明は、実質的に先願明細書に記載された発明と同一である。
　
５．むすび 
　以上のとおり、本願の請求項１に係る発明は、本願の出願の日前に出願された出願であってその出願後に出願公開された特願平１１−１００７４４号の願書に最初に添付した明細書に記載された発明と同一であり、かつ、上記の出願の発明者が本願出願に係る発明の発明者と同一であるとも、また本願出願の時においてその出願人が上記出願の出願人と同一であるとも認められないので、特許法第２９条の２の規定により特許を受けることができないものであり、他の請求項について検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。