【手続補正書】
【提出日】平成24年4月24日(2012.4.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
投影光学系と液体とを介してエネルギビームで基板を露光する露光装置であって、
前記投影光学系の下に液体を供給する液浸システムと、
それぞれ基板を載置する第１、第２ステージと、
前記第１、第２ステージをそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と異なる第２領域との一方から他方に移動し、かつ前記第１領域において前記投影光学系と対向して位置付けるとともに、前記供給される液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域を維持する前記第１、第２ステージの一方が他方に置き換えられるように前記投影光学系の下方で前記液浸領域に対して前記第１、第２ステージを移動する電磁モータシステムと、を備える。
【請求項２】
投影光学系と液体とを介してエネルギビームで基板を露光する露光装置であって、
前記投影光学系の下に液体を供給する液浸システムと、
それぞれ基板を載置する第１、第２ステージと、
前記第１、第２ステージをそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と異なる第２領域との一方から他方に移動するとともに、前記供給される液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域に対して、一方が前記投影光学系と対向して位置付けられる前記第１、第２ステージを移動する電磁モータシステムと、を備え、
この移動により前記一方のステージの代わりに前記投影光学系と対向して位置付けられる前記第１、第２ステージの他方によって前記投影光学系の下に前記液浸領域が維持される。
【請求項３】
投影光学系と液体とを介してエネルギビームで基板を露光する露光装置であって、
前記投影光学系の下に液体を供給する液浸システムと、
それぞれ基板を載置する第１、第２ステージと、
前記第１、第２ステージをそれぞれ、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と異なる第２領域との一方から他方に移動するとともに、前記供給される液体によって前記投影光学系の下に形成される液浸領域が前記投影光学系と前記第１、第２ステージの一方との間に維持される第１状態から、前記液浸領域が前記投影光学系と前記第１、第２ステージの他方との間に維持される第２状態に遷移するように、前記投影光学系の下方で前記液浸領域に対して前記第１、第２ステージを移動する電磁モータシステムと、を備える。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動あるいは前記投影光学系の下方に配置される前記第１、第２ステージの一方の他方への置換において、前記液浸領域は、前記投影光学系の下に維持される。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動によって、前記液浸領域は、前記投影光学系の下に維持されつつ前記第１、第２ステージの一方から他方に移動する。
【請求項６】
請求項５に記載の露光装置において、
前記液浸領域は、前記一方のステージから前記他方のステージへの移動において、前記第１、第２ステージの少なくとも一方によって前記投影光学系の下に維持される。
【請求項７】
請求項６に記載の露光装置において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動の途中で、前記液浸領域は、前記１、第２ステージの両方によって前記投影光学系の下に維持される。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記電磁モータシステムによって、前記基板の一部に前記液浸領域が位置するように前記投影光学系の下方で移動され、
前記基板は、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して前記エネルギビームで露光される。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１ステージに載置される基板の露光動作と、前記第２ステージに載置される基板の露光動作とが交互に行われ、前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動はその露光動作の間に行われる。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージを交互に用いて複数の基板の露光動作が行われ、前記液浸領域は、前記複数の基板の露光動作において前記投影光学系の下に維持される。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記第１領域と前記第２領域とで異なる動作が行われるとともに、前記第１、第２領域の一方における動作に続いて前記第１、第２領域の他方に移動される。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第２領域では、前記第１、第２ステージにそれぞれ載置される基板の計測及び／又は交換が行われる。
【請求項１３】
請求項１２に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記第２領域における前記基板の計測に続いて前記第１領域に移動されるとともに、前記第１領域における前記基板の露光に続いて前記第２領域に移動され、前記第２領域において前記露光された基板の交換が行われ、
前記基板の露光前後ではそれぞれ、前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動が行われる。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動前後の少なくとも一方において、前記第１ステージと前記第２ステージとで互いに異なる動作が並行して行われる。
【請求項１５】
請求項１〜１４のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１領域において前記投影光学系と対向して位置付けられる前記第１、第２ステージの一方と、前記第１、第２ステージの他方とで、互いに異なる動作が並行して行われる。
【請求項１６】
請求項１〜１５のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１領域では、前記投影光学系と対向して位置付けられる前記第１、第２ステージの一方に載置される基板の露光に続いて前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動が行われる。
【請求項１７】
請求項１６に記載の露光装置において、
前記液浸領域に対して移動される前記一方のステージには露光後の基板が載置され、前記第１、第２ステージの他方には次に露光が行われる基板が載置される。
【請求項１８】
請求項１６又は１７に記載の露光装置において、
前記一方のステージに載置される基板の露光動作と並行して、前記第２領域において前記第１、第２ステージの他方に載置される基板の計測が行われ、前記液浸領域に対して移動される前記一方のステージには露光後の基板が載置され、前記他方のステージには前記計測後の基板が載置される。
【請求項１９】
請求項１〜１８のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記電磁モータシステムは、前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動に先立ち、前記第２領域に配置される前記他方のステージを、前記一方のステージが配置される前記第１領域に移動する。
【請求項２０】
請求項１〜１９のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第２領域に配置されるマーク検出系を、さらに備え、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記マーク検出系による前記基板のマーク検出を含む前記基板の計測に続いて、前記第２領域から前記第１領域に移動される。
【請求項２１】
請求項１〜２０のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記電磁モータシステムは、前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動によって前記投影光学系の下から離脱可能となる前記一方のステージを、前記第１領域から前記第２領域に移動する。
【請求項２２】
請求項１〜２１のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動によって前記投影光学系の下から離脱可能となる前記一方のステージと、前記一方のステージの代わりに前記投影光学系と対向して位置付けられる前記他方のステージとで、互いに異なる動作が行われる。
【請求項２３】
請求項２２に記載の露光装置において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動に続いて、前記他方のステージに載置される基板の露光が開始される。
【請求項２４】
請求項２２又は２３に記載の露光装置において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動に続いて、前記一方のステージは、前記投影光学系の下から離脱して前記基板の交換が行われる。
【請求項２５】
請求項１〜２４のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ基準部材を有し、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して前記基準部材を用いる計測が行われるように移動される。
【請求項２６】
請求項１〜２５のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第２領域に配置されるマーク検出系を、さらに備え、
前記第１、第２ステージはそれぞれ基準部材を有し、前記マーク検出系によって前記基準部材と前記基板のマークとが検出される。
【請求項２７】
請求項１〜２６のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記基板の載置領域と、内部に前記載置領域が配置される補助部材と、を有し、前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動において、前記補助部材によって前記投影光学系の下に前記液浸領域を維持する。
【請求項２８】
請求項２７に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、その上面が前記補助部材によって実質的に同一面となるように設定される。
【請求項２９】
請求項２７又は２８に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記基板の表面が前記補助部材の表面とほぼ面一となるように前記基板を前記載置領域に載置する。
【請求項３０】
請求項２７〜２９のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記補助部材によって、前記載置領域に載置される基板から外れる前記液浸領域の少なくとも一部を保持する。
【請求項３１】
請求項２７〜３０のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記投影光学系の下方で移動される前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記基板と前記補助部材との少なくとも一方によって前記投影光学系の下に前記液浸領域を維持し、前記液浸領域が前記基板と前記補助部材との隙間を横切って前記基板と前記補助部材との一方から他方に移動する。
【請求項３２】
請求項２７〜３１のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記補助部材との隙間が１ｍｍ以下となるように前記基板を前記載置領域に載置する。
【請求項３３】
請求項２７〜３２のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記補助部材に形成される開口内に設けられる基準部材を有し、
前記基準部材を用いる計測は、前記基板の露光に先立って行われる。
【請求項３４】
請求項３３に記載の露光装置において、
前記基準部材はその表面が前記補助部材の表面とほぼ同一面となるように設けられる。
【請求項３５】
請求項３３又は３４に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記液浸領域の下に前記基準部材が位置付けられるように移動され、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して前記エネルギビームが前記基準部材に照射される。
【請求項３６】
請求項３３〜３５のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記基準部材は、前記基板の露光に用いられるマスクのマーク検出で用いられる。
【請求項３７】
請求項３３〜３６のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動に続いて、前記液浸領域が前記基準部材を経て前記基板まで移動するように前記投影光学系の下方で移動される。
【請求項３８】
請求項１〜３７に記載の露光装置において、
前記電磁モータシステムは、前記投影光学系と対向して位置付けられる前記一方のステージに対して前記他方のステージが接近するように前記第１、第２ステージを相対移動するとともに、前記接近した第１、第２ステージを前記液浸領域に対して移動する。
【請求項３９】
請求項３８に記載の露光装置において、
前記電磁モータシステムは、前記液浸領域に対して前記第１、第２ステージが移動される所定方向に関して、前記第１、第２ステージを接近させるように相対移動する。
【請求項４０】
請求項３９に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージは、前記所定方向と交差する方向に関しても接近するように相対移動される。
【請求項４１】
請求項３８に記載の露光装置において、
前記電磁モータシステムは、前記液浸領域に対して前記第１、第２ステージが移動される所定方向と交差する方向に関して前記第１、第２ステージの位置関係を調整するために、前記第１、第２ステージを相対移動する。
【請求項４２】
請求項１〜４１のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージは、互いに近接あるいは接触した状態で前記液浸領域に対して移動される。
【請求項４３】
請求項１〜４２のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージは、前記投影光学系の下に前記液浸領域が維持される、あるいは前記第１、第２ステージの間隙からの液体の漏出が防止又は抑制されるように近接した状態で、前記液浸領域に対して移動される。
【請求項４４】
請求項１〜４３のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージはその境界が前記液浸領域の下を通るように前記液浸領域に対して移動される。
【請求項４５】
請求項１〜４４のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージはその位置関係が実質的に維持されつつ前記液浸領域に対して移動される。
【請求項４６】
請求項４５に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記第１、第２ステージが移動される所定方向に関して実質的にその位置関係が維持される。
【請求項４７】
請求項１〜４６のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記基板は走査露光が行われ、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して、前記走査露光時に前記基板が移動される方向と交差する所定方向に移動される。
【請求項４８】
請求項１〜４７のいずれか一項に記載の露光装置において、
所定方向と交差する方向に関して前記投影光学系と位置が異なるマーク検出系を、さらに備え、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記所定方向に移動される。
【請求項４９】
請求項１〜４８のいずれか一項に記載の露光装置において、
所定方向に交差する方向に関して前記投影光学系と異なる位置で、前記第１、第２ステージにそれぞれ載置される基板の交換が行われ、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記所定方向に移動される。
【請求項５０】
請求項１〜４９のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２領域は、所定方向と交差する方向に関して位置が異なり、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記所定方向に移動される。
【請求項５１】
請求項１〜４６のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記投影光学系と所定方向に関して位置が異なるマーク検出系を、さらに備え、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記所定方向に移動される。
【請求項５２】
請求項１〜４６、５１のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記投影光学系と所定方向に関して異なる位置で、前記第１、第２ステージにそれぞれ載置される基板の交換が行われ、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記所定方向に移動される。
【請求項５３】
請求項１〜４６、５１、５２のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２領域は、所定方向に関して位置が異なり、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記所定方向に移動される。
【請求項５４】
請求項５１〜５３のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記基板は、その走査露光において、前記所定方向と交差する方向に移動される。
【請求項５５】
請求項１〜５４のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１ステージと前記第２ステージとで、前記第１領域から前記第２領域への移動経路が異なる。
【請求項５６】
請求項１〜５５のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１ステージと前記第２ステージとで、前記第２領域から前記第１領域への移動経路が異なる。
【請求項５７】
請求項１〜５６のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記第１領域から前記第２領域への移動と、前記第２領域から前記第１領域への移動とで逆の経路を辿るように移動される。
【請求項５８】
請求項１〜５７のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸領域に対する移動において対向する前記第１、第２ステージの端部は、前記液浸領域を維持する前記第１ステージの前記第２ステージへの置換と、前記液浸領域を維持する前記第２ステージの前記第１ステージへの置換とで同一となる。
【請求項５９】
請求項１〜５８のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域を維持する前記第１ステージの前記第２ステージへの置換と、前記液浸領域を維持する前記第２ステージの前記第１ステージへの置換とで、前記液浸領域に対して前記第１、第２ステージが移動される所定方向に関して逆向きに移動される。
【請求項６０】
請求項１〜５４のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１ステージと前記第２ステージとで、前記第２領域から前記第１領域への移動経路が同一となる。
【請求項６１】
請求項１〜５４、６０のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１ステージと前記第２ステージとで、前記第１領域から前記第２領域への移動経路が同一となる。
【請求項６２】
請求項１〜５４、６０、６１のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記第１領域から前記第２領域への移動と、前記第２領域から前記第１領域への移動とで異なる経路を辿るように移動される。
【請求項６３】
請求項１〜５４、６０〜６２のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸領域に対する移動において対向する前記第１、第２ステージの端部は、前記液浸領域を維持する前記第１ステージの前記第２ステージへの置換と、前記液浸領域を維持する前記第２ステージの前記第１ステージへの置換とで互いに異なる。
【請求項６４】
請求項６３に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記対向する端部が、前記液浸領域に対して前記第１、第２ステージが移動される所定方向に関して両端に配置される端部である。
【請求項６５】
請求項１〜５４、６０〜６４のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域を維持する前記第１ステージの前記第２ステージへの置換と、前記液浸領域を維持する前記第２ステージの前記第１ステージへの置換とで、前記液浸領域に対して前記第１、第２ステージが移動される所定方向に関して同一向きに移動される。
【請求項６６】
請求項１〜６５のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記基板は、前記液体を介して露光が行われ、かつ前記液体を介することなくマークの検出が行われる。
【請求項６７】
請求項１〜６６のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸システムは、少なくとも前記基板の露光動作において、前記液浸領域への液体供給と、前記液浸領域からの液体回収とを常時行う。
【請求項６８】
請求項１〜６７のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記液浸領域に対する移動において前記第１、第２ステージの間隙からの前記液体の漏れを抑制する抑制部材を、さらに備える。
【請求項６９】
請求項６８に記載の露光装置において、
前記抑制部材は、前記液浸領域に対する移動において前記第１、第２ステージの間に位置する。
【請求項７０】
請求項６８又は６９に記載の露光装置において、
前記抑制部材は、前記液浸領域に対する移動において対向する前記第１、第２ステージの端部の少なくとも一方に設けられる。
【請求項７１】
投影光学系と液体とを介してエネルギビームで基板を露光する露光方法であって、
第１、第２ステージをそれぞれ電磁モータシステムによって、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と異なる第２領域との一方から他方に移動することと、
前記投影光学系の下に液体を供給して形成される液浸領域を維持する前記第１、第２ステージの一方が他方に置き換えられるように、前記電磁モータシステムによって前記投影光学系の下方で前記液浸領域に対して前記第１、第２ステージを移動することと、を含み、
前記第１、第２ステージはそれぞれ基板を載置する。
【請求項７２】
投影光学系と液体とを介してエネルギビームで基板を露光する露光方法であって、
第１、第２ステージをそれぞれ電磁モータシステムによって、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と異なる第２領域との一方から他方に移動することと、
前記投影光学系の下に液体を供給して形成される液浸領域に対して、一方が前記投影光学系と対向して位置付けられる前記第１、第２ステージを、前記電磁モータシステムによって移動することと、を含み、
この移動により前記一方のステージの代わりに前記投影光学系と対向して位置付けられる前記第１、第２ステージの他方によって前記投影光学系の下に前記液浸領域が維持され、
前記第１、第２ステージはそれぞれ基板を載置する。
【請求項７３】
投影光学系と液体とを介してエネルギビームで基板を露光する露光方法であって、
第１、第２ステージをそれぞれ電磁モータシステムによって、前記投影光学系が配置される第１領域と、前記第１領域と異なる第２領域との一方から他方に移動することと、
前記投影光学系の下に液体を供給して形成される液浸領域が前記投影光学系と前記第１、第２ステージの一方との間に維持される第１状態から、前記液浸領域が前記投影光学系と前記第１、第２ステージの他方との間に維持される第２状態に遷移するように、前記電磁モータシステムによって前記投影光学系の下方で前記液浸領域に対して前記第１、第２ステージを移動することと、を含み、
前記第１、第２ステージはそれぞれ基板を載置する。
【請求項７４】
請求項７１〜７３のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動あるいは前記投影光学系の下方に配置される前記第１、第２ステージの一方の他方への置換において、前記液浸領域は、前記投影光学系の下に維持される。
【請求項７５】
請求項７１〜７４のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動によって、前記液浸領域は、前記投影光学系の下に維持されつつ前記第１、第２ステージの一方から他方に移載される。
【請求項７６】
請求項７５に記載の露光方法において、
前記液浸領域は、前記一方のステージから前記他方のステージへの移動において、前記第１、第２ステージの少なくとも一方によって前記投影光学系の下に維持される。
【請求項７７】
請求項７６に記載の露光方法において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動の途中で、前記液浸領域は、前記１、第２ステージの両方によって前記投影光学系の下に維持される。
【請求項７８】
請求項７１〜７７のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記電磁モータシステムによって、前記基板の一部に前記液浸領域が位置するように前記投影光学系の下方で移動され、
前記基板は、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して前記エネルギビームで露光される。
【請求項７９】
請求項７１〜７８のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１ステージに載置される基板の露光動作と、前記第２ステージに載置される基板の露光動作とが交互に行われ、前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動はその露光動作の間に行われる。
【請求項８０】
請求項７１〜７９のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージを交互に用いて複数の基板の露光動作が行われ、前記液浸領域は、前記複数の基板の露光動作において前記投影光学系の下に維持される。
【請求項８１】
請求項７１〜８０のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記第１領域と前記第２領域とで異なる動作が行われるとともに、前記第１、第２領域の一方における動作に続いて前記第１、第２領域の他方に移動される。
【請求項８２】
請求項７１〜８１のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第２領域では、前記第１、第２ステージにそれぞれ載置される基板の計測及び／又は交換が行われる。
【請求項８３】
請求項８２に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記第２領域における前記基板の計測に続いて前記第１領域に移動されるとともに、前記第１領域における前記基板の露光に続いて前記第２領域に移動され、前記第２領域において前記露光された基板の交換が行われ、
前記基板の露光前後ではそれぞれ、前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動が行われる。
【請求項８４】
請求項７１〜８３のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動前後の少なくとも一方において、前記第１ステージと前記第２ステージとで互いに異なる動作が並行して行われる。
【請求項８５】
請求項７１〜８４のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１領域において前記投影光学系と対向して位置付けられる前記第１、第２ステージの一方と、前記第１、第２ステージの他方とで、互いに異なる動作が並行して行われる。
【請求項８６】
請求項７１〜８５のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１領域では、前記投影光学系と対向して位置付けられる前記第１、第２ステージの一方に載置される基板の露光に続いて前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動が行われる。
【請求項８７】
請求項８６に記載の露光方法において、
前記液浸領域に対して移動される前記一方のステージには露光後の基板が載置され、前記第１、第２ステージの他方には次に露光が行われる基板が載置される。
【請求項８８】
請求項８６又は８７に記載の露光方法において、
前記一方のステージに載置される基板の露光動作と並行して、前記第２領域において前記第１、第２ステージの他方に載置される基板の計測が行われ、前記液浸領域に対して移動される前記一方のステージには露光後の基板が載置され、前記他方のステージには前記計測後の基板が載置される。
【請求項８９】
請求項７１〜８８のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動に先立ち、前記第２領域に配置される前記他方のステージは、前記一方のステージが配置される前記第１領域に移動される。
【請求項９０】
請求項７１〜８９のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記第２領域に配置されるマーク検出系による前記基板のマーク検出を含む前記基板の計測に続いて、前記第２領域から前記第１領域に移動される。
【請求項９１】
請求項７１〜９０のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動によって前記投影光学系の下から離脱可能となる前記一方のステージは、前記第１領域から前記第２領域に移動される。
【請求項９２】
請求項７１〜９１のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動によって前記投影光学系の下から離脱可能となる前記一方のステージと、前記一方のステージの代わりに前記投影光学系と対向して位置付けられる前記他方のステージとで、互いに異なる動作が行われる。
【請求項９３】
請求項９２に記載の露光方法において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動に続いて、前記他方のステージに載置される基板の露光が開始される。
【請求項９４】
請求項９２又は９３に記載の露光方法において、
前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動に続いて、前記一方のステージは、前記投影光学系の下から離脱して前記基板の交換が行われる。
【請求項９５】
請求項７１〜９４のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ基準部材を有し、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して前記基準部材を用いる計測が行われるように移動される。
【請求項９６】
請求項７１〜９５のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ基準部材を有し、前記第２領域に配置されるマーク検出系によって前記基準部材と前記基板のマークとが検出される。
【請求項９７】
請求項７１〜９６のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ内部に前記基板の載置領域が配置される補助部材によって、前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動において、前記投影光学系の下に前記液浸領域を維持する。
【請求項９８】
請求項９７に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、その上面が前記補助部材によって実質的に同一面となるように設定される。
【請求項９９】
請求項９７又は９８に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記基板の表面が前記補助部材の表面とほぼ面一となるように前記基板を前記載置領域に載置する。
【請求項１００】
請求項９７〜９９のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記補助部材によって、前記載置領域に載置される基板から外れる前記液浸領域の少なくとも一部を保持する。
【請求項１０１】
請求項９７〜１００のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記投影光学系の下方で移動される前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記基板と前記補助部材との少なくとも一方によって前記投影光学系の下に前記液浸領域を維持し、前記液浸領域が前記基板と前記補助部材との隙間を横切って前記基板と前記補助部材との一方から他方に移動する。
【請求項１０２】
請求項９７〜１０１のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記補助部材との隙間が１ｍｍ以下となるように前記基板を前記載置領域に載置する。
【請求項１０３】
請求項９７〜１０２のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージでそれぞれ前記補助部材に形成される開口内に設けられる基準部材を用いる計測は、前記基板の露光に先立って行われる。
【請求項１０４】
請求項１０３に記載の露光方法において、
前記基準部材はその表面が前記補助部材の表面とほぼ同一面となるように設けられる。
【請求項１０５】
請求項１０３又は１０４に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記液浸領域の下に前記基準部材が位置付けられるように移動され、前記投影光学系と前記液浸領域の液体とを介して前記エネルギビームが前記基準部材に照射される。
【請求項１０６】
請求項１０３〜１０５のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記基準部材は、前記基板の露光に用いられるマスクのマーク検出で用いられる。
【請求項１０７】
請求項１０３〜１０６のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記液浸領域に対する前記第１、第２ステージの移動に続いて、前記液浸領域が前記基準部材を経て前記基板まで移動するように前記投影光学系の下方で移動される。
【請求項１０８】
請求項７１〜１０７に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージは、前記投影光学系と対向して位置付けられる前記一方のステージに対して前記他方のステージが接近するように相対移動され、前記接近した第１、第２ステージが前記液浸領域に対して移動される。
【請求項１０９】
請求項１０８に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記第１、第２ステージが移動される所定方向に関して接近するように相対移動される。
【請求項１１０】
請求項１０９に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージは、前記所定方向と交差する方向に関しても接近するように相対移動される。
【請求項１１１】
請求項１０８に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記第１、第２ステージが移動される所定方向と交差する方向に関してその位置関係が調整されるように相対移動される。
【請求項１１２】
請求項７１〜１１１のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージは、互いに近接あるいは接触した状態で前記液浸領域に対して移動される。
【請求項１１３】
請求項７１〜１１２のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージは、前記投影光学系の下に前記液浸領域が維持される、あるいは前記第１、第２ステージの間隙からの液体の漏出が防止又は抑制されるように近接した状態で、前記液浸領域に対して移動される。
【請求項１１４】
請求項７１〜１１３のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージはその境界が前記液浸領域の下を通るように前記液浸領域に対して移動される。
【請求項１１５】
請求項７１〜１１４のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージはその位置関係が実質的に維持されつつ前記液浸領域に対して移動される。
【請求項１１６】
請求項１１５に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記第１、第２ステージが移動される所定方向に関して実質的にその位置関係が維持される。
【請求項１１７】
請求項７１〜１１６のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記基板は走査露光が行われ、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して、前記走査露光時に前記基板が移動される方向と交差する所定方向に移動される。
【請求項１１８】
請求項７１〜１１７のいずれか一項に記載の露光方法において、
所定方向と交差する方向に関して前記投影光学系と位置が異なるマーク検出系によって前記基板のマーク検出が行われ、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記所定方向に移動される。
【請求項１１９】
請求項７１〜１１８のいずれか一項に記載の露光方法において、
所定方向に交差する方向に関して前記投影光学系と異なる位置で、前記第１、第２ステージにそれぞれ載置される基板の交換が行われ、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記所定方向に移動される。
【請求項１２０】
請求項７１〜１１９のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２領域は、所定方向と交差する方向に関して位置が異なり、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記所定方向に移動される。
【請求項１２１】
請求項７１〜１１６のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記投影光学系と所定方向に関して位置が異なるマーク検出系によって前記基板のマーク検出が行われ、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記所定方向に移動される。
【請求項１２２】
請求項７１〜１１６、１２１のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記投影光学系と所定方向に関して異なる位置で、前記第１、第２ステージにそれぞれ載置される基板の交換が行われ、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記所定方向に移動される。
【請求項１２３】
請求項７１〜１１６、１２１、１２２のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２領域は、所定方向に関して位置が異なり、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域に対して前記所定方向に移動される。
【請求項１２４】
請求項１２１〜１２３のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記基板は、その走査露光において、前記所定方向と交差する方向に移動される。
【請求項１２５】
請求項７１〜１２４のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１ステージと前記第２ステージとで、前記第１領域から前記第２領域への移動経路が異なる。
【請求項１２６】
請求項７１〜１２５のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１ステージと前記第２ステージとで、前記第２領域から前記第１領域への移動経路が異なる。
【請求項１２７】
請求項７１〜１２６のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記第１領域から前記第２領域への移動と、前記第２領域から前記第１領域への移動とで逆の経路を辿るように移動される。
【請求項１２８】
請求項７１〜１２７のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液浸領域に対する移動において対向する前記第１、第２ステージの端部は、前記液浸領域を維持する前記第１ステージの前記第２ステージへの置換と、前記液浸領域を維持する前記第２ステージの前記第１ステージへの置換とで同一となる。
【請求項１２９】
請求項７１〜１２８のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域を維持する前記第１ステージの前記第２ステージへの置換と、前記液浸領域を維持する前記第２ステージの前記第１ステージへの置換とで、前記液浸領域に対して前記第１、第２ステージが移動される所定方向に関して逆向きに移動される。
【請求項１３０】
請求項７１〜１２４のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１ステージと前記第２ステージとで、前記第２領域から前記第１領域への移動経路が同一となる。
【請求項１３１】
請求項７１〜１２４、１３０のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１ステージと前記第２ステージとで、前記第１領域から前記第２領域への移動経路が同一となる。
【請求項１３２】
請求項７１〜１２４、１３０、１３１のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記第１領域から前記第２領域への移動と、前記第２領域から前記第１領域への移動とで異なる経路を辿るように移動される。
【請求項１３３】
請求項７１〜１２４、１３０〜１３２のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液浸領域に対する移動において対向する前記第１、第２ステージの端部は、前記液浸領域を維持する前記第１ステージの前記第２ステージへの置換と、前記液浸領域を維持する前記第２ステージの前記第１ステージへの置換とで互いに異なる。
【請求項１３４】
請求項１３３に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージはそれぞれ、前記対向する端部が、前記液浸領域に対して前記第１、第２ステージが移動される所定方向に関して両端に配置される端部である。
【請求項１３５】
請求項７１〜１２４、１３０〜１３４のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記第１、第２ステージは、前記液浸領域を維持する前記第１ステージの前記第２ステージへの置換と、前記液浸領域を維持する前記第２ステージの前記第１ステージへの置換とで、前記液浸領域に対して前記第１、第２ステージが移動される所定方向に関して同一向きに移動される。
【請求項１３６】
請求項７１〜１３５のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記基板は、前記液体を介して露光が行われ、かつ前記液体を介することなくマークの検出が行われる。
【請求項１３７】
請求項７１〜１３６のいずれか一項に記載の露光方法において、
少なくとも前記基板の露光動作において、前記液浸領域への液体供給と、前記液浸領域からの液体回収とが常時行われる。
【請求項１３８】
請求項７１〜１３７のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記液浸領域に対する移動において前記第１、第２ステージの間隙からの前記液体の漏れを抑制することを含む。
【請求項１３９】
請求項１３８に記載の露光方法において、
前記液浸領域に対する移動において前記第１、第２ステージの間に位置する抑制部材によって、前記液体の漏れが抑制される。
【請求項１４０】
請求項１３８又は１３９に記載の露光方法において、
前記液浸領域に対する移動において対向する前記第１、第２ステージの端部の少なくとも一方に設けられる抑制部材によって、前記液体の漏れが抑制される。
【請求項１４１】
リソグラフィ工程を含むデバイス製造方法であって、
前記リソグラフィ工程では、請求項１〜７０のいずれか一項に記載の露光装置を用いて基板上にデバイスパターンを転写することを特徴とするデバイス製造方法。
【請求項１４２】
リソグラフィ工程を含むデバイス製造方法であって、
前記リソグラフィ工程では、請求項７１〜１４０のいずれか一項に記載の露光方法を用いて基板上にデバイスパターンを転写することを特徴とするデバイス製造方法。