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　特願２０００−３５８２５３号「基体の表面を処理するための方法および装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１３年　８月２８日出願公開、特開２００１−２３２３１７号〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、平成１２年１１月２４日（パリ条約による優先権主張１９９９年１１月２６日、ドイツ連邦共和国）の出願であって、平成１６年４月６日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、平成１６年６月３０日に拒絶査定不服審判の請求がなされたものである。
　その請求項１０に係る発明は、平成１５年９月３０日付け手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１０に記載された事項により特定される次のとおりのものである（以下、「本願発明」という。）。
　
「所定の間隔をおいて配置された、放電ランプとしての少なくとも１つのＵＶ照射器によるＵＶ照射によって、有機物または無機物から成る基体の表面を処理するための装置であって、前記ＵＶ照射器は、ガス充填された縦長の放電室を有しており、該放電室の壁は誘電体によって形成されていて、該誘電体の放電室とは反対側の面に少なくとも１つの電極が設けられている形式のものにおいて、
　少なくとも１つのＵＶ照射器（４）が照射ユニット（５）に配置されており、基体（１，１´）に対して相対的に照射ユニット（５）が並進運動するために少なくとも１つの摺動エレメントが設けられていることを特徴とする、基体の表面を処理するための装置。」
（「電極が設けられている形式のもにおいて」は、「電極が設けられている形式のものにおいて」の誤記とみて、前記のように認定した。）
　
２．引用例
　これに対して、原審における拒絶の理由で引用した、特開平９−２２８８９号公報（以下、「引用例１」という。）には、「基板処理装置」に関して以下の事項が図面とともに記載されている。
　
（１）「【請求項１】所定量の紫外線エネルギーを基板に与える基板処理装置であって、基板を支持する支持手段と、
前記支持手段に支持された基板に対向して配置され、当該基板に向けて紫外線を出射する紫外線ランプと、
前記支持手段と前記紫外線ランプとを相対移動させることにより前記基板の前記紫外線ランプに対する距離を変化させる駆動手段と、
前記駆動手段を制御して、前記紫外線ランプからの紫外線が実質的に到達する紫外線到達領域内に基板を位置決めし、前記所定量の紫外線エネルギーが当該基板に与えられると、前記駆動手段を駆動させて当該基板を前記紫外線到達領域の外に退避させる制御手段と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。
　（中略）
【請求項３】前記紫外線ランプが誘電体バリア放電ランプである請求項２記載の基板処理装置。」（【特許請求の範囲】）
（２）「【産業上の利用分野】この発明は、半導体製造装置や液晶製造装置などにおいて、半導体ウエハ，液晶用基板や各種ワークなどの被処理物（以下、「基板」と総称する）に対し紫外線を照射してオゾンを発生させ、基板表面上の有機物を分解させたり、基板表面を親水化させて後段の洗浄工程における水洗効果を高めたりするために使用される基板処理装置に関する。」（段落【０００１】）
（３）「この種の基板処理装置は、具体的には、基板を支持するチャックの上方位置に低圧水銀ランプを配設しており、チャックに搭載された基板表面に低圧水銀ランプからの紫外線を、装置のタクトタイムに等しい所定時間ｔ１（図７）だけ照射することにより、適量の紫外線エネルギー（図７の斜線部分Ｒ1 の面積に相当）を基板に与えるように構成されている。」（段落【０００２】）
（４）「【発明が解決しようとする課題】ところで、従来の基板処理装置では、低圧水銀ランプと基板との距離は一定に保たれており、しかも低圧水銀ランプの出力は、定常的な点灯状態では短期的にはほぼ一定である。したがって、基板処理工程のタクトが変化して基板処理装置内に基板が載置される時間が長くなると、基板に作用する紫外線エネルギーが必要以上に多くなってしまう。例えば、タクトタイムが時間ｔ１から時間ｔ２（＞ｔ１）になると、斜線部分Ｒ2 の面積に相当する量の紫外線エネルギーが過剰に基板に与えられてしまう。その結果、基板が白濁してしまうなどのダメージを受けることがある。
　これを解消するためには、基板に必要量の紫外線エネルギーが与えられた時点（時間ｔ１）で低圧水銀ランプを消灯させることが考えられるが、低圧水銀ランプは一旦消灯されると、図８に示すように、次に低圧水銀ランプを時刻Ｔ3で点灯させてからランプ出力が１００％に達し、定常状態で安定するまでに長時間Δｔを要する。そのため、低圧水銀ランプの点灯・消灯により処理工程全体のタクトが長くなったり、処理が不安定になるという欠点がある。……（中略）……
　この発明は、上記の問題を解決するためになされたものであり、紫外線ランプを消灯させることなく、適量の紫外線エネルギーを基板に与えることができる基板処理装置を提供することを目的とする。」（段落【０００３】〜【０００５】）
（５）「【実施例】図１はこの発明にかかる基板処理装置の一実施例を示す平面図であり、図２はこの実施例の断面図である。この基板処理装置では、図２に示すように、基板ボックス１には、複数の支持ピン２ｂが昇降自在に設けられている。この支持ピン２ｂは基板ボックス１外に設けられたステージ２ａの上面から上方向に突設され、これら複数の支持ピン２ｂとステージ２ａとでステージ部２を構成しており、複数の支持ピン２ｂにより基板３を支持している。このように、この実施例では、ステージ部２が支持手段として機能する。
　このステージ部２にはステージ昇降機構２１が連結されてステージ昇降部２２からの指令に応じて昇降駆動されて、基板３を昇降方向（上下方向）に位置決めする。」（段落【００１２】〜【００１３】）
（６）「そして、この開口４とほぼ同一サイズの開口５を底面部に有するランプボックス６が、両開口４，５が対向するようにして、基板ボックス１の上に配置されている。また、この開口５を塞ぐように、ランプボックス６内に石英板７が配置され、ランプボックス６側でランプ空間ＳＰLが形成されるとともに、基板ボックス１側で基板処理空間ＳＰTが形成される。さらに、この石英板７の上方位置に８本の誘電体バリア放電ランプ９が一列に整列配置されている。したがって、ランプ電源１０から電力が送電されると、電源中継ボックス１１を介して誘電体バリア放電ランプ９に与えられて誘電体バリア放電ランプ９が点灯する。この誘電体バリア放電ランプ９はエキシマ発光を利用して紫外線を出射するもので、これにより、誘電体バリア放電ランプ９からの紫外線が石英板７を介して支持ピン２ｂに支持された基板３側に向けて出射される。」（段落【００１５】）
（７）「一方、基板ボックス１側では、上記のように基板ボックス１と石英板７とで基板処理空間ＳＰTが形成されており、空気雰囲気で誘電体バリア放電ランプ９からの紫外線が基板３に向けて照射されて所定の基板処理を行うことができるようになっている。この基板処理空間ＳＰTには、排気システムや排気ポンプなどの排気手段（図示省略）が接続されており、基板処理空間ＳＰTで発生するオゾンや基板処理に生じたガスなどを排出可能となっている。また、この基板処理空間ＳＰT内では、図１に示すように、基板３と干渉しない位置に照度計１５が配置されて石英板７を介して基板３側に照射される紫外線を受光し、基板３への紫外線照度を測定する。この照度計１５は照度調整部１６と電気的に接続され、照度計１５により測定された照度が照度調整部１６に与えられる。」（段落【００１７】）
（８）「この照度調整部１６では、照度計１５から与えられた照度の変化に基づきステージ部２の昇降タイミングを求める。」（段落【００１８】）
（９）「この照度調整部１６は装置全体を制御する制御部１７と電気的に接続されており、上記のようにして求められた昇降タイミングに関する信号が制御部１７に与えられる。そして、この信号を受けて制御部１７は、ステージ昇降部２２に指令を与えて後述するタイミングでステージ部２を昇降させる。また、制御部１７は誘電体バリア放電ランプ９の点灯・消灯を切り替える切替手段として機能するランプ電源調整部１８を介してランプ電源１０から誘電体バリア放電ランプ９への電力供給を制御し、誘電体バリア放電ランプ９のＯＮ・ＯＦＦを制御する。
　次に、上記のように構成された基板処理装置の動作について図３を参照しながら説明する。
　まず、装置の起動時に、制御部１７からの指令に応じてランプ電源１０から誘電体バリア放電ランプ９に電力が供給されて誘電体バリア放電ランプ９が点灯する。この実施例では、このように紫外線ランプとして誘電体バリア放電ランプ９を用いているので、誘電体バリア放電ランプ９から出射される紫外線の中心波長は１７２ｎｍであり、しかも基板３の周辺の雰囲気は空気であるため、誘電体バリア放電ランプ９からの紫外線が実質的に到達する紫外線到達領域ＵＲは、図３に示すように、石英板７から下方向に長さＤの範囲に限られる。その理由について図４を参照しながら説明する。」（段落【００１９】〜【００２１】）
（１０）「図３に戻って基板処理装置の動作の説明を続ける。この実施例では、予めステージ部２を降下させて紫外線到達領域ＵＲから退避させておき（同図(a)）、処理すべき基板３を基板搬入搬出口１９（図１）を介して基板処理空間ＳＰT内に搬入し、支持ピン２ｂ上に載置した後、制御部１７からの処理開始指令に応じてステージ昇降部２２がステージ昇降機構２１を駆動してステージ部２を上昇させて基板３を紫外線到達領域ＵＲ内に位置決めする（同図(b)）。これにより、誘電体バリア放電ランプ９からの紫外線が基板３に照射されて基板処理が実行される。
　そして、一定時間（照射時間ｔ1）が経過して基板３に必要量の紫外線エネルギーが与えられた時点で、制御部１７からステージ昇降部２２に指令が与えれ、これに応じてステージ昇降部２２がステージ昇降機構２１を駆動してステージ部２を降下させて基板３を紫外線到達領域ＵＲの外に退避する（同図(a)）。これにより、基板３に紫外線が届かなくなり、誘電体バリア放電ランプ９を消灯したのと同様の効果が得られる。」（段落【００２３】〜【００２４】）
（１１）「以上のように、この実施例によれば、ステージ部２を上昇させて基板３を紫外線到達領域ＵＲ内に位置決めし、基板３に紫外線を照射する一方、適当な時間が経過すると、ステージ部２を降下させて基板３を紫外線到達領域ＵＲから退避させているので、誘電体バリア放電ランプ９を消灯させることなく、所定量の紫外線エネルギーを基板３に与えることができる。もちろん、タクトタイムが変化したとしても、基板３への紫外線エネルギーが所定量となった時点でステージ部２を降下させて基板３を紫外線到達領域ＵＲから退避させるので、タクトタイムの変化にかかわらず基板３に与えられる紫外線エネルギーを所定量に調整することができる。」（段落【００２６】）
（１２）「さらに、上記実施例では、８本の誘電体バリア放電ランプ９により基板３に紫外線を照射するようにしているが、誘電体バリア放電ランプ９の本数は任意であり、１本あるいは複数であってもよい。」（段落【００３３】）
（１３）【図２】には、ランプボックス６の上方に、所定の間隔をおいて配置された複数本の誘電体バリア放電ランプ９が配置され、ランプボックス６の下方に石英板７が配置されていることが図示されている。また、ランプボックス６の開口５に対向して基板ボックス１が配置され、基板ボックス１には、ステージ昇降機構２１に支持された、基板３が上方に配置されていることが図示されている。
　
　上記記載事項を総合すると、引用例１には、次の発明（以下、「引用発明」という）が記載されていると認められる。
　
「所定の間隔をおいて配置された、複数本の誘電体バリア放電ランプによる紫外線の出射によって、半導体ウエハ、液晶用基板や各種ワークなどの被処理物である基板の表面を処理するための装置であって、複数本の誘電体バリア放電ランプがランプボックスに配置されており、前記基板を支持する手段と前記誘電体バリア放電ランプとを相対移動させる駆動手段とを備えた基板の表面を処理するための装置。」
　
３．対比
　そこで、本願発明と引用発明とを対比すると、後者の「複数本の誘電体バリア放電ランプ」は、その作用、機能、構造からみて、前者の「放電ランプとしての少なくとも１つのＵＶ照射器」、「少なくとも１つのＵＶ照射器（４）」に相当し、以下同様に、後者の「紫外線の出射」は、前者の「ＵＶ照射」に、後者の「半導体ウエハ、液晶用基板や各種ワークなどの被処理物である基板」は前者の「有機物または無機物から成る基体」に、後者の「ランプボックス」は前者の「照射ユニット（５）」にそれぞれ相当する。
　また、後者の「駆動手段」と、前者の「摺動エレメント」とは、ともに基体（基板）とＵＶ照射器（４）（誘電体バリア放電ランプ）を相対的移動させる移動手段である点で共通する。
　
そこで、本願発明の用語を用いて表現すると、両者は
「所定の間隔をおいて配置された、放電ランプとしての少なくとも１つのＵＶ照射器によるＵＶ照射によって、有機物または無機物から成る基体の表面を処理するための装置であって、
　少なくとも１つのＵＶ照射器が照射ユニットに配置されており、基体とＵＶ照射器とを相対的移動させる移動手段が設けられている、基体の表面を処理するための装置。」
　である点で一致し、次の点で相違している。
＜相違点１＞
　基体に向けＵＶ（紫外線）を照射するＵＶ照射器に関し、前者では、ガス充填された縦長の放電室を有しており、該放電室の壁は誘電体によって形成されていて、該誘電体の放電室とは反対側の面に少なくとも１つの電極が設けられている形式のものであるのに対し、後者では、誘電体バリア放電ランプであるが、その詳細は不明である点。
　
＜相違点２＞
　基体とＵＶ照射器とを相対的移動させる移動手段に関し、前者では、基体に対して相対的に照射ユニットが並進運動するために少なくとも１つの摺動エレメントが設けられているのに対し、後者では、基板（基体）を支持する手段と誘電体バリア放電ランプ（ＵＶ照射器）とを相対移動させる駆動手段である点。
　
　４．判断
　上記相違点について検討する。
　
＜相違点１＞について
　紫外線を放射する誘電体バリア放電ランプは、石英ガラス板のような光透過性の誘電体２枚を対向して設けて放電空間を形成し、その放電空間に稀ガス等を充填し、２枚の誘電体の放電空間に対向していない面に電極を設ける形式のものが、従来周知の技術（例えば、特開平６−１８１０５６号公報、特開平２−７３５３号公報、特開平７−１６９４４４号公報を参照）であるので、引用発明の誘電体バリア放電ランプに、該周知技術を適用して相違点１に係る本願発明の発明特定事項のようにすることは当業者が容易に想到し得たことである。
　
＜相違点２＞について
　液晶表示ディスプレイ基板等に、紫外線を照射して処理を行う装置において、紫外線ランプの照射ユニットと基体とを相対的に移動させるために、照射ユニットを基体側に対して移動させることは、従来周知の技術（例えば、特開平９−２１９３５６号公報（段落【００４７】），特開平１１−２１４２９１号公報（段落【００６６】）を参照）であるから、これを引用発明に適用して、相違点２に係る本願発明の発明特定事項のようにすることは当業者が容易に想到し得たことである。
　
　そして、本願発明の上記相違点１，２に係る発明特定事項とすることによる効果も格別なものではない。
　
５．むすび
　以上のことから、本願発明は、引用発明及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができない。