【手続補正書】
【提出日】平成24年3月2日(2012.3.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２７】
この場合、第１の階層の第１の膜形成ユニット、第１の現像ユニット、第１の検査周辺露光ユニットおよび第１の搬送機構による基板の処理および搬送と、第２の階層の第２の膜形成ユニット、第２の現像ユニット、第２の検査周辺露光ユニットおよび第２の搬送機構による基板の処理および搬送とを並行して行うことができる。それにより、基板処理装置におけるスループットのさらなる向上が可能となる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
（８）検査周辺露光ユニットは、基板を保持しつつ回転させる基板保持回転装置と、基板保持回転装置により回転される基板の外周端部の位置を検出する外周端部検出部と、基板保持回転装置により回転される基板の表面状態を検出する表面状態検出部と、外周端部検出部により検出された外周端部の位置に基づいて基板保持回転装置により回転される基板の周縁部に露光用の光を照射する露光用光照射部とを備えてもよい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
（１１）第３の発明に係る検査周辺露光装置は、基板を保持しつつ回転させる基板保持回転装置と、基板保持回転装置により回転される基板の外周端部の位置を検出する外周端部検出部と、基板保持回転装置により回転される基板の表面状態を検出する表面状態検出部と、外周端部検出部により検出された外周端部の位置に基づいて基板保持回転装置により回転される基板の周縁部に露光用の光を照射する露光用光照射部とを備えるものである。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３４】
次に、搬送機構１２７は、ハンドＨ１により上段熱処理部３０１（図３）の所定の熱処理ユニットＰＨＰから熱処理後の基板Ｗを取り出す。また、搬送機構１２７は、ハンドＨ２に保持されている反射防止膜形成後の基板Ｗをその熱処理ユニットＰＨＰに搬入する。熱処理ユニットＰＨＰにおいては、基板Ｗの加熱処理および冷却処理が連続的に行われる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１４２】
なお、上記の例では、塗布処理室２２における反射防止膜の形成処理前に冷却ユニットＣＰにおいて基板Ｗの冷却処理が行われるが、適正に反射防止膜を形成することが可能であれば、反射防止膜の形成前に冷却ユニットＣＰにおいて基板Ｗの冷却処理が行われなくてもよい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５５】
搬送機構１３８は、搬送機構１３７と同様の動作により、基板載置部ＰＡＳＳ７，ＰＡＳＳ８，載置兼バッファ部Ｐ−ＢＦ２（図５）、現像処理室３３（図２）、塗布処理室３４（図２）および下段熱処理部３０４（図３）に対して基板Ｗの搬入および搬出を行う。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６５】
また、搬送機構１２７（図５）の動作速度と搬送機構１２８（図５）の動作速度とは略等しい。また、現像処理室３１（図２）、塗布処理室３２（図２）および上段熱処理部３０３（図３）における基板Ｗの処理速度と、現像処理室３３（図２）、塗布処理室３４（図２）および下段熱処理部３０４（図３）における基板Ｗの処理速度とは略等しい。また、搬送機構１３７（図５）の動作速度と搬送機構１３８（図５）の動作速度とは略等しい。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６６】
したがって、上記のように、搬送機構１４１（図７）により載置兼バッファ部Ｐ−ＢＦ１，Ｐ−ＢＦ２（図５）から載置兼冷却部Ｐ−ＣＰに基板Ｗが交互に搬送されることにより、キャリア１１３から基板処理装置１００に搬入される基板Ｗの順序と、洗浄乾燥処理ブロック１４Ａから載置兼冷却部Ｐ−ＣＰ（図５）に搬送される基板Ｗの順序とが一致する。この場合、基板処理装置１００における各基板Ｗの処理履歴の管理が容易になる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２０３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２０３】
上記のように、ＣＣＤラインセンサ５５３の受光量分布に基づいて、ＣＣＤラインセンサ５５３上にある基板Ｗの外周端部の位置を検出することができる。基板Ｗが１回転することにより、基板Ｗの外周端部の全体がＣＣＤラインセンサ５５３上を通過する。基板Ｗが１回転する期間に、ＣＣＤラインセンサ５５３の受光量分布が連続的に制御部１１４に与えられる。これにより、制御部１１４は、基板Ｗの外周端部の形状および基板Ｗの回転中心から基板Ｗの外周端部までの距離を検出することができる。したがって、制御部１１４は、基板Ｗの外周端部の切り欠きおよび基板Ｗの偏心量を検出することができる。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２２５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２２５】
一方、基板Ｗの表面状態が正常でないと判定された場合、制御部１１４は、作成した矩形の表面画像データＤ１を基板Ｗの形状（円形）に補正してメインパネルＰＮに表示する（ステップＳ９）。なお、制御部１１４は、円形に補正した表面画像データＤ１を図１のホストコンピュータ８００に送信してもよい。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２５２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２５２】
（９−４）
また、本実施の形態では、洗浄乾燥処理ブロック１４Ａにおいて、搬送機構１４１が載置兼バッファ部Ｐ−ＢＦ１，Ｐ−ＢＦ２、洗浄乾燥処理部１６１および載置兼冷却部Ｐ−ＣＰの間で基板Ｗを搬送することができ、搬送機構１４２が載置兼バッファ部Ｐ−ＢＦ１，Ｐ−ＢＦ２、洗浄乾燥処理部１６２、熱処理部１３３および載置兼冷却部Ｐ−ＣＰの間で基板Ｗを搬送することができる。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２５３】
これにより、洗浄乾燥処理ブロック１４Ａにおける基板Ｗの搬送経路の選択肢が多様化される。したがって、第１および第２の処理ブロック１２，１３および洗浄乾燥処理部１６１，１６２における基板Ｗの処理内容に応じて最適な経路で基板Ｗを搬送することが可能になる。その結果、基板Ｗの搬送効率を向上させることが可能となり、スループットを向上させることができる。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２５５】
このように、洗浄乾燥処理ブロック１４Ａおよび搬入搬出ブロック１４Ｂにおいて、露光処理前の基板Ｗの搬送経路と露光処理後の基板Ｗの搬送経路とがそれぞれ独立に確保されている。この場合、露光処理前の基板Ｗの搬送経路と露光処理後の基板Ｗの搬送経路とが交錯する場合に比べて、搬送機構１４１，１４２，１４６の動作が簡略化される。それにより、基板Ｗの搬送効率が向上し、スループットを向上させることが可能になる。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２５６】
（９−６）
また、洗浄乾燥処理ブロック１４Ａにおいて、露光処理前の基板Ｗは、搬送機構１４１により載置兼バッファ部Ｐ−ＢＦ１，Ｐ−ＢＦ２から洗浄乾燥処理部１６１を経由して載置兼冷却部Ｐ−ＣＰ搬送され、露光処理後の基板Ｗは、搬送機構１４２により基板載置部ＰＡＳＳ９から洗浄乾燥処理部１６２を経由して上段熱処理部３０３または下段熱処理部３０４に搬送される。また、搬入搬出ブロック１４Ｂにおいて、露光処理前の基板Ｗは、搬送機構１４６のハンドＨ７により載置兼冷却部Ｐ−ＣＰから露光装置１５に搬送され、露光処理後の基板Ｗは搬送機構１４６のハンドＨ８により露光装置１５から基板載置部ＰＡＳＳ９に搬送される。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２６４】
（９−１１）
また、洗浄／乾燥処理ユニットＳＤ２において、露光処理後の基板Ｗの乾燥処理が行われることにより、露光処理時に基板Ｗに付着した液体が、基板処理装置１００内に落下することが防止される。また、露光処理後の基板Ｗの乾燥処理を行うことにより、露光処理後の基板Ｗに雰囲気中の塵埃等が付着することが防止されるので、基板Ｗの汚染を防止することができる。
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２６８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２６８】
（１０）他の動作例
（１０−１）
上記実施の形態では、不良基板Ｗが載置兼バッファ部Ｐ−ＢＦ１，Ｐ−ＢＦ２に載置された後、不良基板Ｗがエッジ露光部ＥＥＷから取り出されてから基板載置部ＰＡＳＳ６，ＰＡＳＳ８に搬送されるまでの時間と、正常基板Ｗがエッジ露光部ＥＥＷから取り出されてから基板載置部ＰＡＳＳ６，ＰＡＳＳ８に搬送されるまでの時間とが等しくなるタイミングで、不良基板Ｗが載置兼バッファ部Ｐ−ＢＦ１，Ｐ−ＢＦ２から取り出され、キャリア１１３に戻される。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２８７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２８７】
上記の実施の形態では、塗布処理ユニット１２９が膜形成ユニットの例であり、現像処理ユニット１３９が現像ユニットの例であり、エッジ露光部ＥＥＷが検査周辺露光ユニットおよび検査周辺露光装置の例であり、搬送機構１１５，１２７，１２８，１３７，１３８，１４１，１４２，１４６が搬送装置の例であり、制御部１１４が制御部の例であり、載置兼バッファ部Ｐ−ＢＦ１，Ｐ−ＢＦ２が収容部の例であり、キャリア載置部１１１が容器載置部の例である。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２９０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２９０】
また、基板回転ユニット５４０が基板保持回転装置の例であり、外周端部検出ユニット５５０が外周端部検出部の例であり、表面検査処理ユニット５８０が表面状態検出部の例であり、投光部５１０が露光用光照射部の例である。
請求項の各構成要素として、請求項に記載されている構成または機能を有する他の種々の要素を用いることもできる。
【手続補正１９】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に露光処理を行う露光装置に隣接するように配置される基板処理装置であって、
前記露光装置による露光処理前に、基板上に感光性膜を形成する膜形成ユニットと、
前記露光装置による露光処理後に、基板上の感光性膜に現像処理を行う現像ユニットと、
前記膜形成ユニットによる感光性膜の形成後で前記露光装置による露光処理前に、基板の表面状態の検査および基板上の感光性膜の周縁部の露光処理を行う検査周辺露光ユニットと、
前記膜形成ユニット、前記現像ユニット、前記検査周辺露光ユニットおよび前記露光装置の間で基板を搬送する搬送装置とを備えたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
前記検査周辺露光ユニットにおける基板の表面状態の検査結果に基づいて基板の表面状態が正常であるか否かを判定し、正常であると判定された基板を前記露光装置に搬送し、正常でないと判定された基板を前記露光装置に搬送しないように前記搬送装置を制御する制御部をさらに備えることを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記制御部により正常でないと判定された基板を収容する収容部をさらに備えることを特徴とする請求項２記載の基板処理装置。
【請求項４】
収容容器が載置される容器載置部をさらに備え、
前記制御部は、前記収容容器から基板を順に取り出すように前記搬送装置を制御するとともに、前記露光装置による露光処理および前記現像ユニットによる現像処理が行われた基板および前記収容部に収容された基板を取り出しの順序と同じ順序で前記収容容器に収容するように前記搬送装置を制御することを特徴とする請求項３記載の基板処理装置。
【請求項５】
処理部と、
前記処理部と前記露光装置との間に配置され、前記露光装置に対して基板を搬入および搬出する受け渡し部とをさらに備え、
前記膜形成ユニットおよび前記現像ユニットは前記処理部に設けられ、
前記検査周辺露光ユニットは前記処理部および前記受け渡し部の少なくとも一方に設けられ、
前記搬送装置は、
前記処理部において基板を搬送する処理部用搬送機構と、
前記受け渡し部において基板を搬送する受け渡し部用搬送機構とを含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記処理部は、第１の階層および第２の階層を含み、
前記膜形成ユニットは、前記第１の階層に設けられる第１の膜形成ユニットと、前記第２の階層に設けられる第２の膜形成ユニットとを含み、
前記現像ユニットは、前記第１の階層に設けられる第１の現像ユニットと、前記第２の階層に設けられる第２の現像ユニットとを含み、
前記検査周辺露光ユニットは、前記第１の階層に設けられる第１の検査周辺露光ユニットと、前記第２の階層に設けられる第２の検査周辺露光ユニットとを含み、
前記処理部用搬送機構は、
前記第１の階層に設けられ、前記第１の階層において基板を搬送する第１の搬送機構と、
前記第２の階層に設けられ、前記第２の階層において基板を搬送する第２の搬送機構とを含むことを特徴とする請求項５記載の基板処理装置。
【請求項７】
前記制御部は、
前記第１の検査周辺露光ユニットにおける基板の表面状態の検査結果に基づいて基板の表面状態が正常であるか否かを判定し、正常であると判定された基板を前記受け渡し部に搬送するように前記第１の搬送機構を制御し、正常でないと判定された基板を前記受け渡し部に搬送しないように前記第１の搬送機構を制御し、
前記第２の検査周辺露光ユニットにおける基板の表面状態の検査結果に基づいて基板の表面状態が正常であるか否かを判定し、正常であると判定された基板を前記受け渡し部に搬送するように前記第２の搬送機構を制御し、正常でないと判定された基板を前記受け渡し部に搬送しないように前記第２の搬送機構を制御することを特徴とする請求項６記載の基板処理装置。
【請求項８】
前記検査周辺露光ユニットは、
基板を保持しつつ回転させる基板保持回転装置と、
前記基板保持回転装置により回転される基板の外周端部の位置を検出する外周端部検出部と、
前記基板保持回転装置により回転される基板の表面状態を検出する表面状態検出部と、
前記外周端部検出部により検出された外周端部の位置に基づいて前記基板保持回転装置により回転される基板の周縁部に露光用の光を照射する露光用光照射部とを備えることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の基板処理装置。
【請求項９】
前記表面状態検出部は、前記外周端部検出部により外周端部の位置が検出されているときに基板の表面状態を検出するように構成されたことを特徴とする請求項８記載の基板処理装置。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれかに記載の１または複数の基板処理装置と、
前記１または複数の基板処理装置に接続されるホストコンピュータとを備え、
前記１または複数の基板処理装置の各々における前記検査周辺露光ユニットの検査結果を前記ホストコンピュータに送信するように構成されたことを特徴とする基板処理システム。
【請求項１１】
基板を保持しつつ回転させる基板保持回転装置と、
前記基板保持回転装置により回転される基板の外周端部の位置を検出する外周端部検出部と、
前記基板保持回転装置により回転される基板の表面状態を検出する表面状態検出部と、
前記外周端部検出部により検出された外周端部の位置に基づいて前記基板保持回転装置により回転される基板の周縁部に露光用の光を照射する露光用光照射部とを備えることを特徴とする検査周辺露光装置。
【請求項１２】
前記表面状態検出部は、前記外周端部検出部により外周端部の位置が検出されているときに基板の表面状態を検出するように構成されたことを特徴とする請求項１１記載の検査周辺露光装置。