【事件の表示】
　平成１０年特許願第１７２８０１号「ウエハ搬送装置及びその方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１２年　１月１４日出願公開、特開２０００−　１２６４７〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本件出願は、平成１０年６月１９日の特許出願であって、同１６年１月９日付で拒絶の理由が通知され、同１６年３月１５日に意見書及び手続補正書が提出されたが、同１６年９月１４日付で拒絶をすべき旨の査定がされ、これに対し、同１６年１０月２２日に本件審判の請求がされ、同１６年１１月２２日に手続補正（以下、「本件補正」という。）がされたものである。
　
第２　本件補正についての補正の却下の決定
［補正の却下の決定の結論］
　本件補正を却下する。
　
［理由］
１．補正の内容の概要
　本件補正は特許請求の範囲を含む明細書について補正をするものであって、請求項１について、補正前後の記載を補正箇所に下線を付して示すと以下のとおりである。
　
（１）補正前の請求項１
「イオン注入装置において、イオンを注入する真空室内にウエハを給排するためのウエハ搬送装置であって、
　前記イオンを注入する真空室にウエハを出し入れするロードロック室を連通可能に配設すると共に、１つのアライナと、該アライナに対して配置される複数のロボットとを、前記真空室の外側で前記ロードロック室に対向して設け、
　前記ロードロック室には左右に分かれた２つのロックドアを設けて、前記ロボットのアームの回転中心を、該２つのロックドアにそれぞれ対面するように構成して、該ロボットの各々に対してロボットアームの旋回移動範囲内に少なくとも１つのカセットステーションを配置し、
　前記複数のロボットは、前記イオンを注入する真空室に連通可能なロードロック室のウエハ受け取りプラテンから処理済のウエハを排出して１つのカセットステーションに格納し、そこから新たな未処理のウエハを取り出して前記アライナに載置する一連の第１動作を実行する第１のロボットと、このアライナに既に載置されている未処理のウエハを受取り保持待機して前記ロードロック室内のウエハ受け取りプラテンに供給する第２動作を実行する第２のロボットから構成され、さらに、
　前記両ロックドアの開放動作のつぎに、前記第１のロボットが前記ロードロック室内のウエハ受け取りプラテンから処理済のウエハを排出し、続いて、前記第２のロボットが、未処理のウエハを前記ロードロック室内のウエハ受け取りプラテンに供給して、前記両ロックドアの閉鎖の動作を実行するように制御するコントローラを備えたことを特徴とするウエハ搬送装置。」
　
（２）補正後の請求項１
「イオン注入装置において、イオンを注入する真空室内にウエハを給排するためのウエハ搬送装置であって、
　
プラテンアセンブリとトランスファーアームを有する
の大気中に
の左右に分かれた２つのロックドアに
　
前記
前記
前記
　
前記ロードロック室は、上側ロードロック室と下側ロードロック室を備え、これら２つの室の間をウエハ受け取りプラテンが駆動機構により垂直方向に移動し、処理済ウエハを載置した前記ウエハ受け取りプラテンの上昇時に２つの室の間を閉じるとともに２つのロックドアを開くように構成し
　前記複数のロボットは、前記イオンを注入する真空室に連通可能なロードロック室のウエハ受け取りプラテンから処理済のウエハを排出して１つのカセットステーションに格納し、
該カセットステーションから
って
し
　
前記真空室と前記下側ロードロック室との間で、前記プラテンアセンブリに載置された処理済ウエハと前記ウエハ受け取りプラテンに載置された未処理ウエハとを、上下動と旋回によって搬送するトランスファーアームと
　前記両ロックドアの開放動作のつぎに、前記第１のロボットが前記ロードロック室内のウエハ受け取りプラテンから処理済のウエハを排出し、続いて、前記第２のロボットが未処理のウエハを前記ロードロック室内のウエハ受け取りプラテンに供給して、前記両ロックドアの閉じ動作を実行するように制御するコントローラとを備え、
　
前記真空室のプラテンアセンブリ上で未処理のウエハがイオン注入処理されるとともに、前記トランスファーアームにより、前記プラテンアセンブリに載置された処理済ウエハとウエハ受け取りプラテンに載置された未処理ウエハとを同時に搬送して、処理済ウエハを上側ロードロック室に搬送するように構成し
　
前記カセットステーションに処理済のウエハを格納して該カセットステーションから新たな未処理のウエハを取り出して前記アライナに載置する、前記第１ロボットの第１動作の後工程（７０〜７４）と、前記アライナのアライニング動作（７５）と、このアライナに載置された未処理ウエハを受取って保持待機する、前記第２ロボットの第２動作の前工程（７６、７７）とが、前記ロックドアを閉じたイオン注入処理動作時に処理される
　
２　補正の適否
　請求項１における補正は、少なくとも、（ａ）真空室がプラテンアセンブリとトランスファーアームを有したものであり、（ｂ）ロードロック室が上側ロードロック室と下側ロードロック室を備え、これら２つの室の間をウエハ受け取りプラテンが駆動機構により垂直方向に移動し、処理済ウエハを載置した前記ウエハ受け取りプラテンの上昇時に２つの室の間を閉じるとともに２つのロックドアを開くように構成したものであり、（ｃ）真空室と下側ロードロック室との間で、プラテンアセンブリに載置された処理済ウエハとウエハ受け取りプラテンに載置された未処理ウエハとを、上下動と旋回によって搬送するトランスファーアームを備えたものであり、（ｄ）真空室のプラテンアセンブリ上で未処理のウエハがイオン注入処理されるとともに、トランスファーアームにより、前記プラテンアセンブリに載置された処理済ウエハとウエハ受け取りプラテンに載置された未処理ウエハとを同時に搬送して、処理済ウエハを上側ロードロック室に搬送するように構成したものであり、（ｅ）カセットステーションに処理済のウエハを格納して該カセットステーションから新たな未処理のウエハを取り出してアライナに載置する、第１ロボットの第１動作の後工程（７０〜７４）と、前記アライナのアライニング動作（７５）と、このアライナに載置された未処理ウエハを受取って保持待機する、第２ロボットの第２動作の前工程（７６、７７）とが、ロックドアを閉じたイオン注入処理動作時に処理されるものであるという限定事項を付加するものであって、特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　そこで、本件補正後の請求項１に記載された発明（以下、「本件補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか否かについて、以下検討する。
　
（１）本件補正発明
　本件補正発明は、本件補正により補正がされた明細書及び図面の記載からみて、上記１（２）の補正後の請求項１に記載された事項により特定されるとおりのものと認める。
　
（２）刊行物記載事項
　原査定の拒絶の理由に引用された本件出願前に頒布された刊行物である実願平４−８４２４８号（実開平６−４４００６号）のＣＤ−ＲＯＭ（以下、「刊行物１」という。）、特開平８−１８１１８９号公報（以下、「刊行物２」という。）及び特開平５−１３５４９号公報（以下、「刊行物３」という。）並びに原査定における備考欄に従来周知の事項の例として示された実願昭６２−１８０７１７号（実開平１−８４４２８号）のマイクロフィルム（以下、「刊行物４」という。）には、以下のとおり記載されている。
　
ア　刊行物１
（１−ア）第４頁第３行〜第５頁第６行
「【産業上の利用分野】この考案は、ウェーハディスクを有していて、一度に複数枚のウェーハにイオンビームを照射して、イオン注入、エッチング、薄膜形成等の処理を施すことができる、いわゆるバッチ式のイオン処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】この種のイオン処理装置の従来例を図４に示す。このイオン処理装置は、複数枚のウェーハ２を装着可能なウェーハディスク４を有していて、当該ウェーハディスク４上のウェーハ２にイオンビームを照射してイオン注入等の処理を施す処理室６と、それに真空弁１０を介して隣接されていて、処理室６と大気中との間でウェーハ２を出し入れするための真空予備室（エアロック室）８とを有している。この真空予備室８と大気中との間には真空弁１２が設けられている。
【０００３】
　この真空予備室８の前の方にはこの例ではステージ１４が設けられており、その前端部付近であって真空予備室８の前方に位置する所に、この例では二つのウェーハカセット台１６ａおよび１６ｂが設けられている。各ウェーハカセット台１６ａ、１６ｂには、複数枚のウェーハ２を収納可能なウェーハカセット１８ａ、１８ｂがそれぞれ装着される。このウェーハカセット１８ａ、１８ｂの装着は、通常は、当該イオン処理装置の手前側に設けられたカセット搬送ロボット（図示省略）によって行われる。そのため、両ウェーハカセット台１６ａ、１６ｂは、矢印Ｅのように左右に回転可能であり、ウェーハ２を出し入れするための前面１９ａ、１９ｂが奥の方に向けられた状態でウェーハカセット１８ａ、１８ｂが装着された後に回転して、両ウェーハカセット１８ａ、１８ｂの前面１９ａ、１９ｂを後述するウェーハ搬送ロボット２０の中心の方に向ける。
【０００４】
　両ウェーハカセット台１６ａ、１６ｂと真空予備室８との間には、ウェーハ搬送ロボット２０が設けられている。このウェーハ搬送ロボット２０は、矢印Ｂ〜Ｄのように回転可能な三つのアーム２２〜２４を有し、かつそれらを矢印Ａのように上下動させることのできる４自由度を有する多関節ロボットである。このような構成によって、このウェーハ搬送ロボット２０は、アーム２４の先端部のウェーハ支持部にウェーハ２を載せて、各ウェーハカセット台１６ａ、１６ｂ上のウェーハカセット１８ａ、１８ｂと真空予備室８との間でウェーハ２を１枚ずつ搬送することができる。」
　
（１−イ） 図４の記載によれば、ウェーハ搬送ロボット２０のアームの回転中心が、真空弁１２に対面するように構成され、前記ウェーハ搬送ロボット２０に対してロボットアームの旋回移動範囲内にウェーハカセット１８ａ、１８ｂが配置されていることが看取できる。
　
　刊行物１において、真空予備室８内にはウェーハ受け取りプラテンが設けられていること、ウェーハ受け取りプラテンに載置された未処理のウェーハをウェーハディスク４に搬送し、ウェーハディスク４に載置された処理済のウェーハをウェーハ受け取りプラテンに搬送する搬送手段が設けられていること、コントローラにより、真空弁１２の開放動作、ウェーハ搬送ロボット２０の搬送動作、真空弁１２の閉じ動作を実行するように制御されていることは、技術常識より明らかである。
　
　そこで、上記記載事項を本件補正発明に照らして、技術常識を勘案しながら整理すると、刊行物１には、次の発明（以下、「刊行物記載１の発明」という。）が記載されていると認められる。
「イオン処理装置において、イオンを注入する処理室６内にウェーハ２を給排するためのウェーハ搬送装置であって、
　ウェーハディスク４を有する処理室６にウェーハ２を出し入れする真空予備室８を連通可能に配設すると共に、ウェーハ搬送ロボット２０を、前記真空予備室８の外側の大気中に前記真空予備室８の真空弁１２に対向して設け、
　前記ウェーハ搬送ロボット２０のアームの回転中心を、前記真空弁１２に対面するように構成して、前記ウェーハ搬送ロボット２０に対してロボットアームの旋回移動範囲内にウェーハカセット１８ａ、１８ｂを配置し、
　前記ウェーハ搬送ロボット２０は、前記イオンを注入する処理室６に連通可能な真空予備室８のウェーハ受け取りプラテンから処理済のウェーハ２を排出して１つのウェーハカセットに格納し、該ウェーハカセットから新たな未処理のウェーハ２を取り出して前記真空予備室８内のウェーハ受け取りプラテンに供給する動作を実行するように構成され、さらに、
　前記処理室６と前記真空予備室８との間で、前記ウェーハディスク４に載置された処理済のウェーハ２と前記ウェーハ受け取りプラテンに載置された未処理のウェーハ２とを搬送する搬送手段と、
　前記真空弁１２の開放動作、前記ウェーハ搬送ロボット２０の搬送動作、前記真空弁１２の閉じ動作を実行するように制御するコントローラとを備え、
　前記処理室６のウェーハディスク４上で未処理のウェーハ２がイオン注入処理されるとともに、前記搬送手段により、前記ウェーハディスク４に載置された処理済のウェーハ２とウェーハ受け取りプラテンに載置された未処理のウェーハ２とを搬送して、処理済みのウェーハ２を前記真空予備室８に搬送するように構成したウェーハ搬送装置。」
　
イ　刊行物２
（２−ア）第３欄第３７〜４２行
「【産業上の利用分野】本発明は高い処理速度で真空室内の加工物を移動させる装置及び方法に関する。より詳しく言うと、本発明は加工物の連続的な流れを維持しながら加工物を真空室に導入し、適当な方向に配向させ、一度に１つ処理し、そして真空室から送出する装置及び方法に関する。」
　
（２−イ）第７欄第６行〜第８欄第３５行
「【００１３】本発明の実施例を図３に示す。排気された第１エアロック２２ａ内に収容した第１カセット３０ａから、半導体ウエーハ１３は真空室４０に移動して一度に一個づつ処理される。ウエーハの第２のカセット３０ｂはそれに続いて第２エアロック２２ｂに送入されても処理装置１００の全体的な生産性すなわち時間当たりの生産量には影響しない。第２カセットの送入及び排気に必要な時間は、第１カセット３０ａのウエーハの全部を処理するに要する時間（ウエーハ１枚あたりの処理時間に依存する）に実質的に等しい。例えば処理時間がほぼ１０秒ならば、２５枚のウエーハを有するカセットに対する処理時間は約５分である。
【００１４】処理装置１００の基本的な構成部分は、第１及び第２ロボット（ウエーハ取扱い機構）６２、６４と、イオン注入部２５と、転送部５０を含む。イオン注入部２５は、イオンビーム処理中にウエーハを位置決めして保持するための、平坦なプラテンまたは台と、整列及びクランプ機構と、冷却手段とを有する。転送部５０は処理に先立ってウエーハを方向づける整列ターンテーブルから構成しても良いし、或いは整列が不要ならば（イオン注入がウエーハの面に垂直な場合）単純な台でも良い。
【００１５】ロボット６２、６４は複数の部材からなる枢動腕として例示されている。しかし、以下に述べる所定の運動が生成できるかぎり、その実際の機構は数種の異なった機構の任意のものにより、並進（直線）運動を含ませるように構成できる。一般に、ロボットはウエーハを実際につかまないで、ウエーハがリフトピン等により接近可能な位置に持ち上げられた時に、ウエーハの下側にヨーク状の支持部材を滑り込ませる。次に、ロボットはウエーハが滑り落ちるような過分の加速を行わないように運動を行う必要がある。これらの運動は、ウエーハをその初期位置から次の所望の位置に移動させるようにプログラム制御された順序で行われる１つ以上の直線運動と回転運動とからなる。
【００１６】
【作用】処理装置１００の動作は次の通りである。ウエーハを保持したカセット３０ａを収容した第１エアロック２２ａを約１００ｍｔｏｒｒに排気した後、隔離弁２３を開放してウエーハを第１エアロック２２ａから真空室４０に、最後には処理部（プラテン）２５に移行できるようにする。第１ロボット６２はウエーハ１３を第１エアロック２２ａ内の第１カセット３０ａから取り出して、ウエーハ転送部５０に移す。図示の例では、転送部５０は単純なウエーハ整列ターンテーブルであり、例えば米国マサチューセッツ州グローセスター所在のＶａｒｉａｎ　Ｃｏｍｐａｎｙより市販されているＭｏｄｅｌ　Ｅ−２２０ｌが使用できる。次に、第２ロボット６４がウエーハを転送部５０から処理部２５のプラテン上に移す。この間に第１ロボットは第１エアロックに戻り、次のウエーハを取り出してこれを転送部５０に載せる。第１ウエーハがイオン注入部２５で処理されたら、第１ロボットは処理済のウエーハを処理部（プラテン）２５から取り除く。第１ロボットが処理済のウエーハを処理部２５から取り除いている間に、第２ロボットはすでに転送部５０に載っている次のウエーハを取り上げて、これを直ちにイオン注入部２５のプラテン上に移す。この第２のウエーハが処理されている間に、第１ロボットは処理済のウエーハを第１エアロック内の第１カセットに戻し、そこで次の未処理ウエーハを取り上げて転送部５０に載せる。第１ロボットは再び処理位置に移動して第２の処理済ウエーハをイオン注入部のプラテンから取り上げてこれを転送部５０上に載せ、その間に、転送部で待機している未処理ウエーハを取り上げた第２ロボットはそれを処理部２５のプラテン上に直ちに移す。
【００１７】こうして、第１カセットからのウエーハを処理するには、第１ロボットは各ウエーハの移動経路を３つに分割した場合の第１脚（区分）すなわち第１エアロック内の第１カセットから転送部５０までの経路、及び第３脚（区分）すなわち処理部２５から第１カセットまでの経路を実行し、第２ロボットは中間の第２脚（区分）、すなわち転送部５０から処理部２５までの経路を実行する。特に、少なくとも１つのロボット及び多くは２つのロボットが各瞬間に作業に従事し、２つのウエーハが任意の時間に真空室内を移動しており、また両ロボットは同時に処理部への送入とそこからの取り出しに従事し、そのためイオン注入処理部はほんの短い時間だけ中断するに過ぎずない。これらの工程は第１エアロックのカセット３０ａのすべてのウエーハが処理されるまで反復される。」
　
　上記摘記事項からみて、刊行物２には、次の事項が記載されていると認められる。
「イオンを注入する処理部２５にウエーハを給排するためのウエーハ搬送装置において、１つの転送部５０と、転送部５０に対して配置される２つのロボット６２、６４とを設け、前記ロボット６２、６４の各々に対してロボットアームの旋回移動範囲内に１つのカセット３０ａ、３０ｂを配置し、前記２つのロボット６２、６４が、処理部２５から処理済のウエーハを取り除いて１つのカセット３０ａに戻し、該カセット３０ａから新たな未処理のウエーハを取り上げて転送部５０に載せる一連の動作を実行する第１ロボット６２と、この転送部５０に既に載せられている未処理のウエーハを取り上げて、前記処理部２５に供給する動作を実行する第２ロボット６４から構成されること。」（以下「刊行物２記載の技術的事項」という。）及び「この技術的事項により処理部に対するウェーハの給排時間を短縮すること。」
　
ウ　刊行物３
（３−ア）第４欄第４２行〜第５欄第１３行
「なお、主処理室１２の側壁には処理室１と搬送室７を連通するウエハＡの搬入・搬出用の窓１６が開設されており、この窓１６にはゲートバルブ６が開閉可能に取付られている。・・・カセット室５は図示しない排気手段に接続されて真空状態が維持されるようになっており、また、カセット室５の正面側の壁にはカセットＢの出し入れのための窓５ａが開設され、この窓にゲートバルブ６が開閉可能に取り付けられている。」
　
（３−イ）第９欄第３１〜４４行
「図９はこの発明の真空搬送処理装置の第二実施例の概略平面図が示されている。
【００４１】第二実施例における真空搬送処理装置は処理室が１つで、かつ、反転手段で反転されたウエハを直接処理室内に搬送するようにした場合である。すなわち、ロードロック室４に連通する２つの窓５ａ，５ａを介して処理室１を配設し、第１及び第２のウエハ搬送手段５０ａ，５０ｂにて第１又は第２の反転手段３０ａ，３０ｂで反転されたウエハＡを直接処理室１内に搬送し、処理後のウエハＡをウエハ搬送手段５０ａ，５０ｂにて反転手段３０ａ，３０ｂに搬送するようにした場合である。なお、図９において、その他の部分は上記第一実施例と同じであるので、同一部分には同一符号を付して、その説明は省略する。」
　
（３−ウ）第１０欄第１４〜２２行
「ウエハＡの反転中に待機していた第２のウエハ搬送手段３０ｂによってウエハＡが処理室１内に搬送された後、処理室１内に供給される反応性ガスによってウエハＡの成膜処理が施される。
　・・・
　成膜処理後のウエハＡは第１のウエハ搬送手段５０ａによって第１のウエハ反転手段３０ａに移動された後、第１のウエハ反転手段３０ａの反転体３２の回転により反転されて鏡面が上向きとなる。」
　
　上記摘記事項及び図９の記載からみて、刊行物３には、次の事項が記載されていると認められる。
「第１及び第２ウエハ搬送手段５０ａ，５０ｂに対応させて処置室１に２つのゲートバルブ６，６を設けること。」（以下「刊行物３記載の技術的事項」という。）
　
エ　刊行物４
（４−ア）明細書第５頁下から９行〜第８頁６行
「本案装置の動作を第１図と第３図から第７図を参照して説明する。
　なお、第３図から７図はプッシャーの昇降機構の部分は図示を省略してある。
　真空チャンバー１０および基板搬入側予備室部１７（以下、予備室部１７という）と基板搬出側予備室部１９（以下、予備室部１９という）は密閉され、排気口１３、２０より真空ポンプ（図示せず）により真空排気されてそれぞれ内部は所定の真空度にされる。この時、サセプター３３は回転円板３１上に載置されており、かつサセプター３３と予備室部１７の開口部１４は対応関係にある（第３図参照）。
　第３図に示す状態から、プッシャー３９がシリンダー４４の駆動により上昇して、サセプター３３を押し上げ、更に上昇してサセプター３３を真空チャンバー１０の上面板１２の下面に押し付け、予備室部１７と真空チャンバー１０はシールリング４２、５１により気密性が保持されて仕切られる（第４図参照）。
　次いで、予備室部１７の真空排気が停止され、予備室部１７はパージされて大気圧と等しくされ、ゲート２１がゲートシリンダー２２により引き下げられて開口部２４が開かれる。すると、基板Ｐがセットされた搬送アーム５２が開口部２４より予備室部１７内に挿入されて降下し、基板Ｐがピン４１上に移載される（第５図参照）。
　次いで、搬送アーム５２が後退して予備室部１７の外へ出ると、ゲート２１が上昇し密閉される。
　予備室部１７はその排気口２０より真空ポンプにより排気され、真空チャンバー１０内の真空度と同一にされる。
　次いで、シリンダー４４の駆動を介してプッシャー３９が下降し、サセプター３３が回転円板３１の開口部３２の部分に載直され、更にプッシャー３９が下降すると基板Ｐがサセプター３３上に載置され、プッシャー３３は最下位の待機位置で停止する（第７図参照）。
　次いで、モータ３４の駆動により回転筒２８と一体に回転円板３１が正確に１２０度時計方向（第２図に示す実線矢印イ方向）に回転し、基板Ｐとサセプター３３は処理室部１８へ送られる。
　・・・（中略）・・・
　基板Ｐの載ったサセプター３３が処理室部１８に送られてくると、シリンダー４４の駆動により処理室プッシャー４０が上昇し、基板Ｐの載置されたサセプター３３を押し上げ処理室位置まで上昇する（第１図参照）。すると、プラズマ発生器２５に所定の処理ガスが流され、ここに高周波やマイクロ波等が印加されプラズマが処理室部１８の内部に発生する。」　
　
　上記摘記事項及び第１図の記載からみて、刊行物４には、次の事項が記載されていると認められる。
「真空チャンバー１０の上部に予備室部１７を備え、真空チャンバー１０の予備室部側と予備室部１７との２つの室の間をピン４１がシリンダー４４により垂直方向に移動し、ピン４１の上昇時に２つの室の間を閉じるとともにゲート２１を開くように構成し、さらに、真空チャンバー１０内の予備室部１７側から処理室部１８側へ、前記ピン４１に載置された未処理の基板Ｐを旋回によって搬送する回転円板３１を備えることにより、予備室部１７内から真空チャンバー１０内の処理室部１８側へ未処理の基板Ｐを搬送すること。」（以下「刊行物４記載の技術的事項」という。）
　
（３）対比 
　本件補正発明と刊行物１記載の発明とを対比すると、刊行物１記載の発明における「処理室」は、本件補正発明における「真空室」に相当しており、以下同様に、「ウェーハ」は「ウエハ」に、「ウェーハディスク」は「プラテンアセンブリ」に、「真空予備室」は「ロードロック室」に、「ウェーハ搬送ロボット」は「ロボット」に、「真空弁」は「ロックドア」に、「ウェーハカセット」は「カセットステーション」にそれぞれ相当している。
　また、刊行物１記載の発明における「ロボットを、前記真空室の外側の大気中に前記ロードロック室のロックドアに対向して設け、前記ロボットのアームの回転中心を、前記ロックドアに対面するように構成して、前記ロボットに対してロボットアームの旋回移動範囲内にカセットステーションを配置し、前記ロボットは、前記イオンを注入する真空室に連通可能なロードロック室内のウエハ受け取りプラテンから処理済のウエハを排出して１つのカセットステーションに格納し、該カセットステーションから新たな未処理のウエハを取り出して前記ロードロック室内のウエハ受け取りプラテンに供給する動作を実行するように構成され、さらに、前記真空室と前記ロードロック室との間で、前記プラテンアセンブリに載置された処理済ウエハと前記ウエハ受け取りプラテンに載置された未処理ウエハとを搬送する搬送手段と、前記ロックドアの開放動作、前記ロボットの搬送動作、前記ロックドアの閉じ動作を実行するように制御するコントローラとを備え」は、その限りにおいて、本件補正発明における「１つのアライナと、該アライナに対して配置される複数のロボットとを、前記真空室の外側の大気中に前記ロードロック室の左右に分かれた２つのロックドアに対向して設け、前記ロボットのアームの回転中心を、前記２つのロックドアにそれぞれ対面するように構成して、前記ロボットの各々に対してロボットアームの旋回移動範囲内に少なくとも１つのカセットステーションを配置し、前記ロードロック室は、上側ロードロック室と下側ロードロック室を備え、これら２つの室の間をウエハ受け取りプラテンが駆動機構により垂直方向に移動し、処理済ウエハを載置した前記ウエハ受け取りプラテンの上昇時に２つの室の間を閉じるとともに２つのロックドアを開くように構成し、前記複数のロボットは、前記イオンを注入する真空室に連通可能なロードロック室のウエハ受け取りプラテンから処理済のウエハを排出して１つのカセットステーションに格納し、該カセットステーションから新たな未処理のウエハを取り出して前記アライナに載置する一連の第１動作を実行する第１のロボットと、このアライナに既に載置されている未処理のウエハを受取って保持待機し、前記ロードロック室内のウエハ受け取りプラテンに供給する第２動作を実行する第２のロボットから構成され、さらに、前記真空室と前記下側ロードロック室との間で、前記プラテンアセンブリに載置された処理済ウエハと前記ウエハ受け取りプラテンに載置された未処理ウエハとを、上下動と旋回によって搬送するトランスファーアームと、前記両ロックドアの開放動作のつぎに、前記第１のロボットが前記ロードロック室内のウエハ受け取りプラテンから処理済のウエハを排出し、続いて、前記第２のロボットが未処理のウエハを前記ロードロック室内のウエハ受け取りプラテンに供給して、前記両ロックドアの閉じ動作を実行するように制御するコントローラとを備え」と共通している。
　したがって、両者の一致点と相違点は次のとおりと認められる。
［一致点］
「イオン注入装置において、イオンを注入する真空室内にウエハを給排するためのウエハ搬送装置であって、
　プラテンアセンブリを有する真空室にウエハを出し入れするロードロック室を連通可能に配設すると共に、ロボットを、前記真空室の外側の大気中に前記ロードロック室のロックドアに対向して設け、
　前記ロボットのアームの回転中心を、前記ロックドアに対面するように構成して、前記ロボットに対してロボットアームの旋回移動範囲内にカセットステーションを配置し、
　前記ロボットは、前記イオンを注入する真空室に連通可能なロードロック室内のウエハ受け取りプラテンから処理済のウエハを排出して１つのカセットステーションに格納し、該カセットステーションから新たな未処理のウエハを取り出して前記ロードロック室内のウエハ受け取りプラテンに供給する動作を実行するように構成され、さらに、
　前記真空室と前記ロードロック室との間で、前記プラテンアセンブリに載置された処理済ウエハと前記ウエハ受け取りプラテンに載置された未処理ウエハとを搬送する搬送手段と、
　前記ロックドアの開放動作、前記ロボットの搬送動作、前記ロックドアの閉じ動作を実行するように制御するコントローラとを備え、
　前記真空室のプラテンアセンブリ上で未処理のウエハがイオン注入処理されるとともに、前記搬送手段により、前記プラテンアセンブリに載置された処理済ウエハとウエハ受け取りプラテンに載置された未処理ウエハとを搬送して、処理済ウエハをロードロック室に搬送するように構成したウエハ搬送装置。」
［相違点１］
　本件補正発明では、ロックドアが左右に分かれた２つのロックドアであり、１つのアライナを備え、ロボットが、該アライナに対して配置され、２つのロックドアに対向して設けられた複数のロボットであり、前記ロボットのアームの回転中心を、前記２つのロックドアにそれぞれ対面するように構成して、前記ロボットの各々に対してロボットアームの旋回移動範囲内に少なくとも１つのカセットステーションを配置したものであり、前記複数のロボットが、ロードロック室内のウエハ受け取りプラテンから処理済のウエハを排出して１つのカセットステーションに格納し、該カセットステーションから新たな未処理のウエハを取り出してアライナに載置する一連の第１動作を実行する第１のロボットと、このアライナに既に載置されている未処理のウエハを受取って保持待機し、前記ロードロック室内のウエハ受け取りプラテンに供給する第２動作を実行する第２のロボットから構成されるものであり、コントローラが前記両ロックドアの開放動作のつぎに、前記第１のロボットが前記ロードロック室内のウエハ受け取りプラテンから処理済のウエハを排出し、続いて、前記第２のロボットが未処理のウエハを前記ロードロック室内のウエハ受け取りプラテンに供給して、前記両ロックドアの閉じ動作を実行するように制御するものであるのに対し、刊行物１記載の発明では、ロボット及びロックドアは一つであり、ロボット、ロックドア及びコントローラがそのように特定されていない点。
［相違点２］
　本件補正発明では、ロードロック室が上側ロードロック室と下側ロードロック室を備え、これら２つの室の間をウエハ受け取りプラテンが駆動機構により垂直方向に移動し、処理済ウエハを載置した前記ウエハ受け取りプラテンの上昇時に２つの室の間を閉じるとともに２つのロックドアを開くように構成されており、真空室とロードロック室との間でウエハを搬送する搬送手段が、真空室と下側ロードロック室との間で、プラテンアセンブリに載置された処理済ウエハとウエハ受け取りプラテンに載置された未処理ウエハとを、上下動と旋回によって同時に搬送するトランスファーアームであり、前記トランスファーアームにより、前記プラテンアセンブリに載置された処理済ウエハとウエハ受け取りプラテンに載置された未処理ウエハとを同時に搬送して、処理済ウエハを上側ロードロック室に搬送するように構成されているのに対し、刊行物１記載の発明では、真空室と下側ロードロック室との間でウエハをどのように搬送するか明らかでない点。
［相違点３］
　本件補正発明では、前記カセットステーションに処理済のウエハを格納して該カセットステーションから新たな未処理のウエハを取り出して前記アライナに載置する、前記第１ロボットの第１動作の後工程（７０〜７４）と、前記アライナのアライニング動作（７５）と、このアライナに載置された未処理ウエハを受取って保持待機する、前記第２ロボットの第２動作の前工程（７６、７７）とが、前記ロックドアを閉じたイオン注入処理動作時に処理されるものであるのに対し、刊行物１記載の発明では、そのように特定されていない点。
　
（４）相違点についての検討
ア　相違点１について
　刊行物２には、上記（２）のイに示したとおり、処理部に対するウェーハの給排時間を短縮することができる技術的事項が記載されており、刊行物２記載の技術的事項の「転送部」は本件補正発明の「アライナ」に相当するものである。
　そして、刊行物２記載の技術的事項と刊行物１記載の発明とは処理部にウエハを給排する技術という共通の技術分野に属するものであるとともに、刊行物１記載の発明においてもロードロック室に対するウエハの給排時間を短縮べきことは自明の課題である。
　したがって、刊行物１記載の発明におけるロードロック室に対するロボットによるウエハの給排に、刊行物２記載の技術的事項を採用し、１つのアライナと、該アライナに対して配置される２つのロボットとを設け、前記ロボットの各々に対してロボットアームの旋回移動範囲内にカセットステーションを配置し、前記２つのロボットを、ロードロック室内から処理済のウエハを排出して１つのカセットステーションに格納し、該カセットステーションから新たな未処理のウエハを取り出してアライナに載置する一連の第１動作を実行する第１のロボットと、このアライナに既に載置されている未処理のウエハを受取って、前記ロードロック室内に供給する第２動作を実行する第２のロボットから構成することは当業者が容易になし得たことである。
　また、２つのロボットを設けるに当たり、２つのロボットの各々に対応させてロックドアを２つ設けることは、例えば、２つのロボットに相当する第１及び第２ウエハ搬送手段に対応させて処置室に２つのロックドアに相当するゲートバルブを設けることが刊行物３に記載されているように、必要に応じて適宜なされる設計的事項にすぎず、２つのロボットをロードロック室の左右に分かれた２つのロックドアに対向して設け、ロボットのアームの回転中心を、前記２つのロックドアにそれぞれ対面するように構成して、前記ロボットの各々に対してロボットアームの旋回移動範囲内にカセットステーションを配置し、コントローラにより、前記両ロックドアの開放動作のつぎに、前記第１のロボットが前記ロードロック室内のウエハ受け取りプラテンから処理済のウエハを排出し、続いて、前記第２のロボットが未処理のウエハを前記ロードロック室内のウエハ受け取りプラテンに供給して、前記両ロックドアの閉じ動作を実行するように制御することにも格別の困難性は見当たらない。
　さらに、第２ロボットの第２動作について、未処理のウエハを受取って保持待機してからロードロック室内に供給することは、ロードロック室内への未処理ウエハの供給時間の短縮という自明の課題を解決するために当業者が適宜採用し得る設計的事項にすぎない。
　
イ　相違点２について
　刊行物４には、上記（２）エに示したとおり、予備室部内から真空チャンバー内の処理室部側へ未処理の基板を搬送する技術的事項が記載されている。
　そして、刊行物４記載の技術的事項と刊行物１記載の発明とは処理部にウエハを給排する技術という共通の技術分野に属するものであるから、刊行物１記載の発明におけるロードロック室内のウエハ受け取りプラテンに載置された未処理ウエハを搬送する搬送手段に刊行物４記載の技術的事項を採用し、予備室部を上側ロードロック室とし、予備室部側の真空チャンバーを下側ロードロック室とし、ピンをウエハ受け取りプラテンとすることにより、ロードロック室が、上側ロードロック室と下側ロードロック室を備え、これら２つの室の間をウエハ受け取りプラテンが駆動機構により垂直方向に移動し、処理済ウエハを載置した前記ウエハ受け取りプラテンの上昇時に２つの室の間を閉じるとともにロックドアを開くように構成し、下側ロードロック室内のウエハ受け取りプラテンに載置された未処理ウエハを旋回することにより真空室内のプラテンアセンブリに搬送することは当業者が容易になし得たことである。
　また、未処理ウエハをウエハ受け取りプラテンからプラテンアセンブリに搬送するに際し、未処理ウエハを受け取り位置から受け渡し位置に搬送すると同時に処理済ウエハを受け取り位置から受け渡し位置に搬送する旋回と旋回軸方向の移動とを行うトランスファーアームは、例えば、特開平４−１３６１６８号公報（「アーム４８」を参照）に記載されているように従来周知の事項であるから、真空室にトランスファーアームを設け、前記トランスファーアームの上下動と旋回により、前記真空室と下側ロードロック室との間で、前記プラテンアセンブリに載置された処理済ウエハとウエハ受け取りプラテンに載置された未処理ウエハとを同時に搬送して、処理済ウエハを上側ロードロック室に搬送するように構成することにも格別の困難性が見当たらない。
　さらに、上記アで検討したようにロックドアが２つ設けられるのであるからウエハ受け取りプラテンの上昇時に２つの室の間を閉じるとともに２つのロックドアを開くように構成することにも格別の困難性が見当たらない。
　
ウ　相違点３について
　カセットステーションに処理済のウエハを格納して該カセットステーションから新たな未処理のウエハを取り出してアライナに載置する、第１ロボットの第１動作の後工程と、アライナのアライニング動作と、このアライナに載置された未処理ウエハを受取って保持待機する、第２ロボットの第２動作の前工程とは、ロックドアを閉じた状態で処理できるものであることが明らかであるから、これらの工程をロックドアを閉じたイオン注入処理動作時に処理することは、ロードロック室に対するウエハの給排時間を短縮するという自明の課題を解決するために当業者が適宜採用し得る設計的事項にすぎない。
　
エ　本件補正発明の作用効果について
　本件補正発明が奏する作用効果は、刊行物１記載の発明、刊行物２記載の技術的事項、刊行物３記載の技術的事項及び従来周知の事項から当業者であれば予測できる程度のものであって格別のものではない。
　
　したがって、本件補正発明は、刊行物１記載の発明、刊行物２記載の技術的事項乃至刊行物４記載の技術的事項及び従来周知の事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
３　むすび
　以上のとおりであるので、本件補正は、特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するので、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
第３　本件発明について 
１　本件発明
　本件補正は、上記のとおり却下されたので、本件出願の請求項１乃至５に係る発明は、平成１６年３月１５日付手続補正書により補正がされた明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１乃至５に記載された事項により特定されるとおりのものであると認められるところ、請求項１に係る発明（以下「本件発明」という。）は、上記第２の１（１） の補正前の請求項１に示したとおりである。
　
２　引用刊行物の記載事項
　これに対して、原査定の拒絶の理由に引用された刊行物１乃至刊行物４及びその記載事項は、上記第２の２（２） に示したとおりである。
　
３　対比・判断
　本件発明は、上記第２の２で述べたとおり、本件補正発明の特定事項から、上記限定事項が省かれたものである。
　そうすると、本件発明を構成する事項の全てを含み、さらに他の事項を付加したものに相当する本件補正発明が、前記第２の２（４）で示したとおり、刊行物１記載の発明、刊行物２記載の技術的事項乃至刊行物４記載の技術的事項及び従来周知の事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本件発明も同様の理由により当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
４　むすび
　以上のとおりであり、本件発明は、刊行物１記載の発明、刊行物２記載の技術的事項乃至刊行物４記載の技術的事項及び従来周知の事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、本件出願のその余の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本件出願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。