【事件の表示】
　特願２００５−１８１４７２「リソグラフィ装置およびデバイス製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１８年　１月１２日出願公開、特開２００６−　１３５０２〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は、平成１７年（２００５年）６月２２日（パリ条約による優先権主張２００４年６月２３日、米国）に出願された特願２００５−１８１４７２号であって、平成１９年７月１８日付けで拒絶理由が通知され、同年１１月２０日付けで手続補正がなされ、同年１２月１４日付けで拒絶査定がなされ、これに対して、平成２０年３月１８日に拒絶査定不服審判の請求がなされるとともに、同年４月１６日付けで手続補正がなされたものである。
　その後、同年１０月１６日付けで審尋を行い、平成２１年４月７日付けで回答書が提出された。
　
　
第２　補正の却下の決定
［結論］
　平成２０年４月１６日付けの手続補正（以下、「本件補正」という。）を却下する。
　
［理由］
１　本件補正の内容
　本件補正は、特許請求の範囲についてなされたものであり、補正前（願書に最初に添付された特許請求の範囲、及び平成１９年１１月２０日付け手続補正書を参照。）に、
「【請求項１】
　放射線のビームを調節するように構成した照明システム、
　放射線のビームの断面にパターンを与えるのに役立つパターニング装置を保持するように構成した支持構造体、
　基板を保持するように構成した基板テーブル、
　パターン化したビームをこの基板の目標部分上に投影するように構成した投影システム、
　該投影システムの少なくとも一部、照明システムの少なくとも一部、またはその両方を含む容積に流体を提供するように構成した流体供給システム、および
　前記流体供給システムにおいて所定の向きに設けられた第１のガスベアリング、および、前記流体供給システムにおいて前記所定の向きと異なる向きに設けられた第２のガスベアリングを備える結合装置であって、該流体供給システムを、前記基板テーブル、基板、支持構造体、パターニング装置、またはその任意の組合せに、非接触で結合するように構成した結合装置、
を含むリソグラフィ装置。
【請求項２】
　前記流体供給システムがパージ容積にガスを提供するように構成したガスパージシステムを含み、このパージ容積は、上記投影システムの一部、上記照明システムの少なくとも一部、またはその両方を含む請求項１に記載されたリソグラフィ装置。
【請求項３】
　前記流体供給システムが上記投影システムと前記基板の局部領域との間のスペースに液体を提供するように構成した液体供給システムを含む請求項１に記載されたリソグラフィ装置。
【請求項４】
　使用中、前記基板テーブル、支持構造体、パターニング装置、またはその任意の組合せが第１方向および第２の異なる方向が定める区域に配置してあり、前記流体供給システムが、前記区域に対してある角度で伸びる第３方向で前記基板テーブル、支持構造体、パターニング装置、またはその任意の組合せに結合してある請求項１に記載されたリソグラフィ装置。
【請求項５】
　前記第１、第２、および第３方向が実質的に相互に垂直である請求項４に記載されたリソグラフィ装置。
【請求項６】
　前記流体供給システムが、使用中、前記第３方向、前記第１方向周りの回転方向、および上記第２方向周りの回転方向に上記基板テーブル、基板、支持構造体、パターニング装置、またはその任意の組合せに柔軟に結合してある請求項４に記載されたリソグラフィ装置。
【請求項７】
　前記流体供給システムが、使用中、前記第１方向、前記第２方向、および前記第３方向周りの回転方向に前記投影システム、前記照明システム、基準フレーム、またはその任意の組合せに堅く結合してある請求項４に記載されたリソグラフィ装置。
【請求項８】
　前記結合装置がガスベアリングを含む請求項１に記載されたリソグラフィ装置。
【請求項９】
　前記ガスベアリングが前記流体供給システムから漏れる流体を少なくとも減らすためにシールを設けるように構成してある請求項８に記載されたリソグラフィ装置。
【請求項１０】
　前記ガスベアリングが実質的に密閉した流体区画室を設けるように構成してある請求項８に記載されたリソグラフィ装置。
【請求項１１】
　前記ガスベアリングが、使用中、前記パターン化したビームを受けるように配置した前記基板の表面と前記流体供給システムの間に少なくとも一つの安定した且つ小さい隙間を提供する請求項８に記載されたリソグラフィ装置。
【請求項１２】
　前記ガスベアリングが、使用中、前記放射線ビームを受けるように配置した前記パターニング装置の表面と前記流体供給システムの間に少なくとも一つの安定した且つ小さい隙間を提供する請求項８に記載されたリソグラフィ装置。
【請求項１３】
　前記ガスベアリングが前記パターン化したビームを受けるように配置した前記基板の表面と前記流体供給システムの間の隙間の寸法を制御するためにガスの流量および／または圧力を調整するように構成した制御要素を含む請求項８に記載されたリソグラフィ装置。
【請求項１４】
　前記ガスベアリングが前記放射線ビームを受けるように配置した前記パターニング装置の表面と前記流体供給システムの間の隙間の寸法を制御するためにガスの流量および／または圧力を調整するように構成した制御要素を含む請求項８に記載されたリソグラフィ装置。
【請求項１５】
　前記流体供給システムが前記基板、前記基板テーブルまたはその両方の表面の上を、前記基板テーブルが配置してある第１および第２方向が定める区域にある角度で伸びる第３方向に十分な剛性で、浮動するように、前記ガスベアリングにガスを供給するように構成したガス供給、前記ガスベアリングからガスを除去するように構成した少なくとも部分真空、および前記ガス供給および前記少なくとも部分真空を合同して制御するように構成した制御要素をさらに含む請求項８に記載されたリソグラフィ装置。
【請求項１６】
　前記流体供給システムが前記パターニング装置、前記支持構造体またはその両方の表面の上を、前記支持構造体が配置してある第１および第２方向が定める区域にある角度で伸びる第３方向に十分な剛性で、浮動するように、前記ガスベアリングにガスを供給するように構成したガス供給、前記ガスベアリングからガスを除去するように構成した少なくとも部分真空、および前記ガス供給および前記少なくとも部分真空を合同して制御するように構成した制御要素をさらに含む請求項８に記載されたリソグラフィ装置。
【請求項１７】
　前記流体供給システムが、パージ容積にガスを提供すように構成したガスパージシステムを含み、このパージ容積は、前記投影システムの少なくとも一部、前記照明システムの少なくとも一部、またはその両方を含み、このパージシステムは、パージフードを含み、および前記パージフードを第３方向に挙げるように構成したアクチュエータを含み、この第３方向は、前記基板テーブル、前記支持構造体、またはその両方が配置してある区域にある角度の方向に伸びる請求項８に記載されたリソグラフィ装置。
【請求項１８】
　前記アクチュエータは、上記基板テーブルを第２基板テーブルと交換するとき、使用中、上記パージフードを挙げるように構成してある請求項１７に記載されたリソグラフィ装置。
【請求項１９】
　前記ガスベアリングが結合領域に加圧ガスを提供できるガス出口を含む請求項８に記載されたリソグラフィ装置。
【請求項２０】
　前記ガスベアリングが前記結合領域から加圧ガスを除去できる部分真空を含む請求項１９に記載されたリソグラフィ装置。
【請求項２１】
　前記流体供給システムと前記基板テーブル、基板、支持構造体、パターニング装置またはその任意の組合せの間で前記ガスベアリングを制御するように構成した制御要素を含む請求項８に記載されたリソグラフィ装置。
【請求項２２】
　前記制御要素は、前記流体供給システムと前記基板テーブル、基板、支持構造体、パターニング装置またはその任意の組合せの間に所定のガス隙間を与えるために、前記ガスベアリングが前記結合に与える圧力、真空、またはその両方を制御することによって前記ガスベアリングを制御するように構成してある請求項２１に記載されたリソグラフィ装置。
【請求項２３】
　前記制御要素は、前記容積を周囲環境から孤立させるように、前記基板テーブル、基板、支持構造体、パターニング装置、またはその任意の組合せと前記流体供給システムの間に最小ガス隙間を与えるように構成してある請求項２１に記載されたリソグラフィ装置。
【請求項２４】
　前記基板テーブル、前記支持構造体、またはその両方が、それぞれ、前記基板およびパターニング装置を受けるように構成した窪みを備える請求項１に記載されたリソグラフィ装置。
【請求項２５】
　前記窪みは、深さが、それぞれ、前記基板および／またはパターニング装置の厚さと実質的に等しい請求項２４に記載されたリソグラフィ装置。
【請求項２６】
　前記窪みは、前記窪みの周辺の周りに拡がる縁を有し、上記装置は、更に、上記流体供給システムが、それぞれ、上記基板および／または上記パターニング装置の縁の上を動くとき、上記容積へまたは上記容積から漏れる流体を少なくとも減らすために、前記窪みの縁の周りに設けたガス入口および／またはガス出口のアレイを含む請求項２４に記載されたリソグラフィ装置。
【請求項２７】
　使用中、前記パターン化したビームを受けるように配置した前記基板の表面が前記基板テーブルの表面と実質的に同じ高さである請求項２４に記載されたリソグラフィ装置。
【請求項２８】
　使用中、前記放射線ビームを受けるように配置した前記パターニング装置の表面が前記支持構造体の表面と実質的に同じ高さである請求項２４に記載されたリソグラフィ装置。
【請求項２９】
　前記パージシステムがパージフードを含み、それを、使用中、前記基板テーブル、前記基板、上記支持構造体、前記パターニング装置、またはその任意の組合せに結合する請求項２に記載されたリソグラフィ装置。
【請求項３０】
　前記パージシステムがパージフードを含み、および上記装置が、更に、前記結合装置に関連して、このパージフードを第３方向に挙げさせるように構成したアクチュエータを含み、この第３方向は、前記基板テーブル、前記支持構造体、またはその両方が配置してある区域にある角度の方向に伸びる請求項２に記載されたリソグラフィ装置。
【請求項３１】
　前記アクチュエータが磁石に前記パージフードを挙げさせる請求項３０に記載されたリソグラフィ装置。
【請求項３２】
　前記第１、第２および第３方向が、それぞれ、Ｘ、ＹおよびＺ方向に対応する請求項４に記載されたリソグラフィ装置。
【請求項３３】
　前記流体供給システムがパージ容積にガスを提供するように構成したガスパージシステムを含み、このパージ容積は、前記投影システムの少なくとも一部、前記照明システムの少なくとも一部、またはその両方を含み、このパージシステムは、パージフードを含み、並びにこのパージフードの前記ＸおよびＹ方向およびそれぞれの回転方向は、このパージフードを前記照明システム、基準フレーム、またはその両方に堅く結合することによって決り、一方このパージフードの、使用中の、前記基板、前記基板テーブル、前記支持構造体、上記パターニング装置、またはその任意の組合せへのＺ方向の結合は柔軟である請求項３２に記載されたリソグラフィ装置。
【請求項３４】
　前記Ｙ方向が走査方向であり、前記Ｘ方向および前記Ｙ方向は、使用中、前記基板テーブル、前記基板、前記支持構造体、前記パターニング装置、またはその任意の組合せが配置してある平面を形成し、並びに前記Ｚ方向は、この平面に実質的に垂直な方向に伸びる請求項３２に記載されたリソグラフィ装置。
【請求項３５】
　前記パージシステムがパージフードを含み、および前記結合装置は、このパージフードを、使用するとき、前記基板テーブル、または前記支持構造体に関して結合するように構成してあり、それで前記基板テーブルおよび基板、または支持構造体およびパターニング装置の、それぞれ、前記基板テーブルおよび支持構造体が、それぞれ、配置してある区域にある角度で伸びる第３方向の運動にこのパージフードが追従する請求項２に記載されたリソグラフィ装置。
【請求項３６】
　前記パージガスを前記結合装置のガスベアリングのガスとして使い、逆もまた同様である請求項２に記載されたリソグラフィ装置。
【請求項３７】
　前記液体供給システムが前記投影システムの下からの液体の漏れを少なくとも減らすように構成したシール部材を含む請求項３に記載されたリソグラフィ装置。
【請求項３８】
　前記シール部材が前記基板テーブル、基板、支持構造体、パターニング装置、またはその任意の組合せに結合してある請求項３７に記載されたリソグラフィ装置。
【請求項３９】
　前記ガスパージシステムが前記パージ容積の内部を前記パージ容積の外部環境から孤立させるように構成したシール部材を含む請求項２に記載されたリソグラフィ装置。
【請求項４０】
　デバイス製造方法であって、
　パターン化した放射線のビームをリソグラフィ装置の投影システムを使って基板の目標部分上に投影する工程、
　流体供給システムを使って流体を、この投影システムの少なくとも一部、照明システムの少なくとも一部、またはその両方を含む容積に提供する工程、および
　前記流体供給システムにおいて所定の向きに設けられた第１のガスベアリング、および、前記流体供給システムにおいて前記所定の向きと異なる向きに設けられた第２のガスベアリングを備える結合装置によって、該流体供給システムを、前記基板、この基板を保持する基板テーブル、このパターン化したビームを作るために使うパターニング装置、このパターニング装置を保持する支持構造体、またはその任意の組合せに、非接触で結合する工程、
を含む方法。」
　
とあったものを、
　
「　　【請求項１】
　放射線のビームを調節するように構成した照明システム、
　放射線のビームの断面にパターンを与えるのに役立つパターニング装置を保持するように構成した支持構造体、
　基板を保持するように構成した基板テーブル、
　パターン化したビームをこの基板の目標部分上に投影するように構成した投影システム、
　該投影システムの少なくとも一部、照明システムの少なくとも一部、またはその両方を含む容積に流体を提供するように構成した流体供給システム、および
　前記流体供給システムにおいて所定の向きに設けられた第１のガスベアリング、および、前記流体供給システムにおいて前記所定の向きと異なる向きに設けられた第２のガスベアリングを備える結合装置であって、該流体供給システムを、前記基板テーブル、前記基板、前記支持構造体、前記パターニング装置、またはその任意の組合せに、非接触で結合するように構成した結合装置、
を含んでおり、
　前記第１および第２のガスベアリングの一方が、前記基板テーブル、前記基板、前記支持構造体、および、前記パターニング装置のいずれかに対向しており、かつ、前記第１および第２のガスベアリングの他方が、前記基板テーブル、前記基板、前記支持構造体、および、前記パターニング装置以外の機器の表面に対向しており、
　前記第１および第２のガスベアリングの一方が、前記第１および第２のガスベアリングの他方よりも、前記流体供給システムに堅く結合するように構成されている、
リソグラフィ装置。
　　【請求項２】
　前記流体供給システムがパージ容積にガスを提供するように構成したガスパージシステムを含み、このパージ容積は、上記投影システムの一部、上記照明システムの少なくとも一部、またはその両方を含む請求項１に記載されたリソグラフィ装置。
　　【請求項３】
　前記流体供給システムが上記投影システムと前記基板の局部領域との間のスペースに液体を提供するように構成した液体供給システムを含む請求項１に記載されたリソグラフィ装置。
　　【請求項４】
　使用中、前記基板テーブル、支持構造体、パターニング装置、またはその任意の組合せが第１方向および第２の異なる方向が定める区域に配置してあり、前記流体供給システムが、前記区域に対してある角度で伸びる第３方向で前記基板テーブル、支持構造体、パターニング装置、またはその任意の組合せに結合してある請求項１に記載されたリソグラフィ装置。
　　【請求項５】
　前記第１、第２、および第３方向が実質的に相互に垂直である請求項４に記載されたリソグラフィ装置。
　　【請求項６】
　前記流体供給システムが、使用中、前記第３方向、前記第１方向周りの回転方向、および上記第２方向周りの回転方向に上記基板テーブル、基板、支持構造体、パターニング装置、またはその任意の組合せに柔軟に結合してある請求項４に記載されたリソグラフィ装置。
　　【請求項７】
　前記流体供給システムが、使用中、前記第１方向、前記第２方向、および前記第３方向周りの回転方向に前記投影システム、前記照明システム、基準フレーム、またはその任意の組合せに堅く結合してある請求項４に記載されたリソグラフィ装置。
　　【請求項８】
　前記結合装置がガスベアリングを含む請求項１に記載されたリソグラフィ装置。
　　【請求項９】
　前記ガスベアリングが前記流体供給システムから漏れる流体を少なくとも減らすためにシールを設けるように構成してある請求項８に記載されたリソグラフィ装置。
　　【請求項１０】
　前記ガスベアリングが実質的に密閉した流体区画室を設けるように構成してある請求項８に記載されたリソグラフィ装置。
　　【請求項１１】
　前記ガスベアリングが、使用中、前記パターン化したビームを受けるように配置した前記基板の表面と前記流体供給システムの間に少なくとも一つの安定した且つ小さい隙間を提供する請求項８に記載されたリソグラフィ装置。
　　【請求項１２】
　前記ガスベアリングが、使用中、前記放射線ビームを受けるように配置した前記パターニング装置の表面と前記流体供給システムの間に少なくとも一つの安定した且つ小さい隙間を提供する請求項８に記載されたリソグラフィ装置。
　　【請求項１３】
　前記ガスベアリングが前記パターン化したビームを受けるように配置した前記基板の表面と前記流体供給システムの間の隙間の寸法を制御するためにガスの流量および／または圧力を調整するように構成した制御要素を含む請求項８に記載されたリソグラフィ装置。
　　【請求項１４】
　前記ガスベアリングが前記放射線ビームを受けるように配置した前記パターニング装置の表面と前記流体供給システムの間の隙間の寸法を制御するためにガスの流量および／または圧力を調整するように構成した制御要素を含む請求項８に記載されたリソグラフィ装置。
　　【請求項１５】
　前記流体供給システムが前記基板、前記基板テーブルまたはその両方の表面の上を、前記基板テーブルが配置してある第１および第２方向が定める区域にある角度で伸びる第３方向に十分な剛性で、浮動するように、前記ガスベアリングにガスを供給するように構成したガス供給、前記ガスベアリングからガスを除去するように構成した少なくとも部分真空、および前記ガス供給および前記少なくとも部分真空を合同して制御するように構成した制御要素をさらに含む請求項８に記載されたリソグラフィ装置。
　　【請求項１６】
　前記流体供給システムが前記パターニング装置、前記支持構造体またはその両方の表面の上を、前記支持構造体が配置してある第１および第２方向が定める区域にある角度で伸びる第３方向に十分な剛性で、浮動するように、前記ガスベアリングにガスを供給するように構成したガス供給、前記ガスベアリングからガスを除去するように構成した少なくとも部分真空、および前記ガス供給および前記少なくとも部分真空を合同して制御するように構成した制御要素をさらに含む請求項８に記載されたリソグラフィ装置。
　　【請求項１７】
　前記流体供給システムが、パージ容積にガスを提供すように構成したガスパージシステムを含み、このパージ容積は、前記投影システムの少なくとも一部、前記照明システムの少なくとも一部、またはその両方を含み、このパージシステムは、パージフードを含み、および前記パージフードを第３方向に挙げるように構成したアクチュエータを含み、この第３方向は、前記基板テーブル、前記支持構造体、またはその両方が配置してある区域にある角度の方向に伸びる請求項８に記載されたリソグラフィ装置。
　　【請求項１８】
　前記アクチュエータは、上記基板テーブルを第２基板テーブルと交換するとき、使用中、上記パージフードを挙げるように構成してある請求項１７に記載されたリソグラフィ装置。
　　【請求項１９】
　前記ガスベアリングが結合領域に加圧ガスを提供できるガス出口を含む請求項８に記載されたリソグラフィ装置。
　　【請求項２０】
　前記ガスベアリングが前記結合領域から加圧ガスを除去できる部分真空を含む請求項１９に記載されたリソグラフィ装置。
　　【請求項２１】
　前記流体供給システムと前記基板テーブル、基板、支持構造体、パターニング装置またはその任意の組合せの間で前記ガスベアリングを制御するように構成した制御要素を含む請求項８に記載されたリソグラフィ装置。
　　【請求項２２】
　前記制御要素は、前記流体供給システムと前記基板テーブル、基板、支持構造体、パターニング装置またはその任意の組合せの間に所定のガス隙間を与えるために、前記ガスベアリングが前記結合に与える圧力、真空、またはその両方を制御することによって前記ガスベアリングを制御するように構成してある請求項２１に記載されたリソグラフィ装置。
　　【請求項２３】
　前記制御要素は、前記容積を周囲環境から孤立させるように、前記基板テーブル、基板、支持構造体、パターニング装置、またはその任意の組合せと前記流体供給システムの間に最小ガス隙間を与えるように構成してある請求項２１に記載されたリソグラフィ装置。
　　【請求項２４】
　前記基板テーブル、前記支持構造体、またはその両方が、それぞれ、前記基板およびパターニング装置を受けるように構成した窪みを備える請求項１に記載されたリソグラフィ装置。
　　【請求項２５】
　前記窪みは、深さが、それぞれ、前記基板および／またはパターニング装置の厚さと実質的に等しい請求項２４に記載されたリソグラフィ装置。
　　【請求項２６】
　前記窪みは、前記窪みの周辺の周りに拡がる縁を有し、上記装置は、更に、上記流体供給システムが、それぞれ、上記基板および／または上記パターニング装置の縁の上を動くとき、上記容積へまたは上記容積から漏れる流体を少なくとも減らすために、前記窪みの縁の周りに設けたガス入口および／またはガス出口のアレイを含む請求項２４に記載されたリソグラフィ装置。
　　【請求項２７】
　使用中、前記パターン化したビームを受けるように配置した前記基板の表面が前記基板テーブルの表面と実質的に同じ高さである請求項２４に記載されたリソグラフィ装置。
　　【請求項２８】
　使用中、前記放射線ビームを受けるように配置した前記パターニング装置の表面が前記支持構造体の表面と実質的に同じ高さである請求項２４に記載されたリソグラフィ装置。
　　【請求項２９】
　前記パージシステムがパージフードを含み、それを、使用中、前記基板テーブル、前記基板、上記支持構造体、前記パターニング装置、またはその任意の組合せに結合する請求項２に記載されたリソグラフィ装置。
　　【請求項３０】
　前記パージシステムがパージフードを含み、および上記装置が、更に、前記結合装置に関連して、このパージフードを第３方向に挙げさせるように構成したアクチュエータを含み、この第３方向は、前記基板テーブル、前記支持構造体、またはその両方が配置してある区域にある角度の方向に伸びる請求項２に記載されたリソグラフィ装置。
　　【請求項３１】
　前記アクチュエータが磁石に前記パージフードを挙げさせる請求項３０に記載されたリソグラフィ装置。
　　【請求項３２】
　前記第１、第２および第３方向が、それぞれ、Ｘ、ＹおよびＺ方向に対応する請求項４に記載されたリソグラフィ装置。
　　【請求項３３】
　前記流体供給システムがパージ容積にガスを提供するように構成したガスパージシステムを含み、このパージ容積は、前記投影システムの少なくとも一部、前記照明システムの少なくとも一部、またはその両方を含み、このパージシステムは、パージフードを含み、並びにこのパージフードの前記ＸおよびＹ方向およびそれぞれの回転方向は、このパージフードを前記照明システム、基準フレーム、またはその両方に堅く結合することによって決り、一方このパージフードの、使用中の、前記基板、前記基板テーブル、前記支持構造体、上記パターニング装置、またはその任意の組合せへのＺ方向の結合は柔軟である請求項３２に記載されたリソグラフィ装置。
　　【請求項３４】
　前記Ｙ方向が走査方向であり、前記Ｘ方向および前記Ｙ方向は、使用中、前記基板テーブル、前記基板、前記支持構造体、前記パターニング装置、またはその任意の組合せが配置してある平面を形成し、並びに前記Ｚ方向は、この平面に実質的に垂直な方向に伸びる請求項３２に記載されたリソグラフィ装置。
　　【請求項３５】
　前記パージシステムがパージフードを含み、および前記結合装置は、このパージフードを、使用するとき、前記基板テーブル、または前記支持構造体に関して結合するように構成してあり、それで前記基板テーブルおよび基板、または支持構造体およびパターニング装置の、それぞれ、前記基板テーブルおよび支持構造体が、それぞれ、配置してある区域にある角度で伸びる第３方向の運動にこのパージフードが追従する請求項２に記載されたリソグラフィ装置。
　　【請求項３６】
　前記パージガスを前記結合装置のガスベアリングのガスとして使い、逆もまた同様である請求項２に記載されたリソグラフィ装置。
　　【請求項３７】
　前記液体供給システムが前記投影システムの下からの液体の漏れを少なくとも減らすように構成したシール部材を含む請求項３に記載されたリソグラフィ装置。
　　【請求項３８】
　前記シール部材が前記基板テーブル、基板、支持構造体、パターニング装置、またはその任意の組合せに結合してある請求項３７に記載されたリソグラフィ装置。
　　【請求項３９】
　前記ガスパージシステムが前記パージ容積の内部を前記パージ容積の外部環境から孤立させるように構成したシール部材を含む請求項２に記載されたリソグラフィ装置。
　　【請求項４０】
　デバイス製造方法であって、
　パターン化した放射線のビームをリソグラフィ装置の投影システムを使って基板の目標部分上に投影する工程、
　流体供給システムを使って流体を、この投影システムの少なくとも一部、照明システムの少なくとも一部、またはその両方を含む容積に提供する工程、および
　前記流体供給システムにおいて所定の向きに設けられた第１のガスベアリング、および、前記流体供給システムにおいて前記所定の向きと異なる向きに設けられた第２のガスベアリングを備える結合装置によって、該流体供給システムを、前記基板、この基板を保持する基板テーブル、このパターン化したビームを作るために使うパターニング装置、このパターニング装置を保持する支持構造体、またはその任意の組合せに、非接触で結合する工程、
を含んでおり、
　前記第１および第２のガスベアリングの一方が、前記基板テーブル、前記基板、前記支持構造体、および、前記パターニング装置のいずれかに対向し、かつ、前記第１および第２のガスベアリングの他方が、前記基板テーブル、前記基板、前記支持構造体、および、前記パターニング装置以外の機器の表面に対向し、
　前記第１および第２のガスベアリングの一方が、前記第１および第２のガスベアリングの他方よりも、前記流体供給システムに堅く結合する、
方法。
　　【請求項４１】
　放射線のビームを調節するように構成した照明システム、
　放射線のビームの断面にパターンを与えるのに役立つパターニング装置を保持するように構成した支持構造体、
　基板を保持するように構成した基板テーブル、
　パターン化したビームをこの基板の目標部分上に投影するように構成した投影システム、
　該投影システムの少なくとも一部、照明システムの少なくとも一部、またはその両方を含む容積に流体を提供するように構成した流体供給システム、および
　前記流体供給システムにおいて所定の向きに設けられた第１のガスベアリング、および、前記流体供給システムにおいて前記所定の向きと異なる向きに設けられた第２のガスベアリングを備える結合装置であって、該流体供給システムを、前記基板テーブル、前記基板、前記支持構造体、前記パターニング装置、またはその任意の組合せに、非接触で結合するように構成した結合装置、
を含んでおり、
　前記第１および第２のガスベアリングの一方が、前記基板および／または前記基板テーブルの上面、或いは、前記支持構造体および／または前記パターニング装置の表面に対向しており、かつ、前記第１および第２のガスベアリングの他方が、前記基板テーブル、前記基板、前記支持構造体、および、前記パターニング装置以外の機器の側壁に対向している、
リソグラフィ装置。
　　【請求項４２】
　デバイス製造方法であって、
　パターン化した放射線のビームをリソグラフィ装置の投影システムを使って基板の目標部分上に投影する工程、
　流体供給システムを使って流体を、この投影システムの少なくとも一部、照明システムの少なくとも一部、またはその両方を含む容積に提供する工程、および
　前記流体供給システムにおいて所定の向きに設けられた第１のガスベアリング、および、前記流体供給システムにおいて前記所定の向きと異なる向きに設けられた第２のガスベアリングを備える結合装置によって、該流体供給システムを、前記基板、この基板を保持する基板テーブル、このパターン化したビームを作るために使うパターニング装置、このパターニング装置を保持する支持構造体、またはその任意の組合せに、非接触で結合する工程、
を含んでおり、
　前記第１および第２のガスベアリングの一方が、前記基板および／または前記基板テーブルの上面、或いは、前記支持構造体および／または前記パターニング装置の表面に対向し、かつ、前記第１および第２のガスベアリングの他方が、前記基板テーブル、前記基板、前記支持構造体、および、前記パターニング装置以外の機器の側壁に対向する、
方法。
　　【請求項４３】
　放射線のビームを調節するように構成した照明システム、
　放射線のビームの断面にパターンを与えるのに役立つパターニング装置を保持するように構成した支持構造体、
　基板を保持するように構成した基板テーブル、
　パターン化したビームをこの基板の目標部分上に投影するように構成した投影システム、
　該投影システムの少なくとも一部、照明システムの少なくとも一部、またはその両方を含む容積に流体を提供するように構成した流体供給システム、および
　前記流体供給システムにおいて所定の向きに設けられた第１のガスベアリング、および、前記流体供給システムにおいて前記所定の向きと異なる向きに設けられた第２のガスベアリングを備える結合装置であって、該流体供給システムを、前記基板テーブル、前記基板、前記支持構造体、前記パターニング装置、またはその任意の組合せに、非接触で結合するように構成した結合装置、
を含んでおり、
　前記第１および第２のガスベアリングの一方が、前記基板テーブル、前記基板、前記支持構造体、および、前記パターニング装置のいずれかの第１の表面に対向しており、かつ、前記第１および第２のガスベアリングの他方が、前記基板テーブル、前記基板、前記支持構造体、および、前記パターニング装置以外の機器の第２の表面に対向しており、
　前記第１および第２の表面が互いに角度を有する、
リソグラフィ装置。
　　【請求項４４】
　デバイス製造方法であって、
　パターン化した放射線のビームをリソグラフィ装置の投影システムを使って基板の目標部分上に投影する工程、
　流体供給システムを使って流体を、この投影システムの少なくとも一部、照明システムの少なくとも一部、またはその両方を含む容積に提供する工程、および
　前記流体供給システムにおいて所定の向きに設けられた第１のガスベアリング、および、前記流体供給システムにおいて前記所定の向きと異なる向きに設けられた第２のガスベアリングを備える結合装置によって、該流体供給システムを、前記基板、この基板を保持する基板テーブル、このパターン化したビームを作るために使うパターニング装置、このパターニング装置を保持する支持構造体、またはその任意の組合せに、非接触で結合する工程、
を含んでおり、
　前記第１および第２のガスベアリングの一方が、前記基板テーブル、前記基板、前記支持構造体、および、前記パターニング装置のいずれかの第１の表面に対向し、かつ、前記第１および第２のガスベアリングの他方が、前記基板テーブル、前記基板、前記支持構造体、および、前記パターニング装置以外の機器の第２の表面に対向し、
　前記第１および第２の表面が互いに角度を有する、
リソグラフィ装置。
　　【請求項４５】
　前記第１および第２の表面が互いに略直交する、
請求項４３記載のリソグラフィ装置。
　　【請求項４６】
　前記流体供給システムに堅く結合する前記第１および第２のガスベアリングの一方は、前記流体供給システムの移動を、当該リソグラフィ装置におけるＸおよびＹ方向に制限する、
請求項１記載のリソグラフィ装置。」
　
と補正するものであるところ、その内容は、次の補正事項のとおりである。
　
　
（１）補正事項１
　請求項４１〜４６を追加する補正。
　
（２）補正事項２
　請求項１において、「前記第１および第２のガスベアリングの一方が、前記基板テーブル、前記基板、前記支持構造体、および、前記パターニング装置のいずれかに対向しており、かつ、前記第１および第２のガスベアリングの他方が、前記基板テーブル、前記基板、前記支持構造体、および、前記パターニング装置以外の機器の表面に対向しており、
　前記第１および第２のガスベアリングの一方が、前記第１および第２のガスベアリングの他方よりも、前記流体供給システムに堅く結合するように構成されている」との発明特定事項を付加する補正。
　
（３）補正事項３
　請求項４０において、「前記第１および第２のガスベアリングの一方が、前記基板テーブル、前記基板、前記支持構造体、および、前記パターニング装置のいずれかに対向し、かつ、前記第１および第２のガスベアリングの他方が、前記基板テーブル、前記基板、前記支持構造体、および、前記パターニング装置以外の機器の表面に対向し、
　前記第１および第２のガスベアリングの一方が、前記第１および第２のガスベアリングの他方よりも、前記流体供給システムに堅く結合する」との発明特定事項を付加する補正。
　
　
２　補正の適否について
（１）補正事項１について
　上記補正事項１によって追加された請求項４１〜４６は、本件補正前の各請求項の記載により特定される発明よりも限定されていると認められるものの、当該請求項４１〜４６の追加により、本件補正前後の各請求項に係る発明が一対一又はこれに準ずるような対応関係に立つものとはいえず、実質的に、新たな６個の請求項を追加する増項補正を含むものであるから、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法（以下、「平成１８年改正前特許法」という。）第１７条の２第４項第２号に規定する特許請求の範囲の減縮を目的としたものではない。（なお、増項補正が認められないことについては、東京高裁平成１６年４月１４日判決（平成１５年（行ケ）第２３０号）、知財高裁平成１７年４月２５日判決（平成１７年（行ケ）第１０１９２号）を参照。）
　また、補正事項１が、請求項の削除、誤記の訂正、及び明りょうでない記載の釈明を目的としたものでないことも明らかであるから、平成１８年改正前特許法第１７条の２第４項の第１〜４号に掲げるいずれの事項をも目的としたものでもない。
　
　
（２）補正事項２〜３について
ア　請求項１、４０は、上記補正事項２〜３によって「前記第１および第２のガスベアリングの他方が、前記基板テーブル、前記基板、前記支持構造体、および、前記パターニング装置以外の機器の表面に対向し」という記載を含むものとなったが、本願の願書に最初に添付した明細書、特許請求の範囲、又は図面（以下、「当初明細書等」という。）には、ガスベアリングが対向する機器であって、基板テーブル、基板、支持構造体、およびパターニング装置以外の機器としては、「投影システム」又は「照明システム」が記載されているのみであり、その他のあらゆる機器に対向させることについてまでは記載されておらず、そのような技術は当業者にとって自明な事項でもない。
　
イ　請求項１、４０は、上記補正事項２〜３によって「前記第１および第２のガスベアリングの一方が、前記第１および第２のガスベアリングの他方よりも、前記流体供給システムに堅く結合する」という記載を含むものとなったが、当初明細書等には、投影システム又は照明システム側のガスベアリングが堅い結合であり、基板及び基板テーブル側のガスベアリングが柔軟な結合であることは記載されているものの（当初明細書等の【００４８】、【００５３】〜【００５６】、【００６０】、【００７１】〜【００７２】を参照。）、ガスベアリングを２個使用する場合に、その一方の結合が他方の結合よりも堅い、というだけの広範囲な技術までは記載されておらず、そのような技術は当業者にとって自明な事項でもない。
　
ウ　したがって、上記補正事項２〜３は、当初明細書等に記載した事項の範囲内においてしたものではない。
　
　
３　本件補正に関するむすび
　以上のとおり、上記補正事項１は、平成１８年改正前特許法第１７条の２第４項の規定に違反し、上記補正事項２〜３は、同法第１７条の２第３項の規定に違反するので、当該補正事項１〜３を含む本件補正は、同法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。 
　
　
第３　本願発明
１　本願発明
　平成２０年４月１６日付け手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、平成１９年１１月２０日付け手続補正書の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定されるものである。（上記「第２　補正の却下の決定」の「１　本件補正の内容」を参照。）
　
２　引用例
　原査定の拒絶の理由で引用された本願優先日前に頒布された刊行物である国際公開第０３／０５４９３６号（以下、「引用例」という。）には、図面とともに以下の技術的事項の記載がある。（後述の「３　引用発明」及び「４　対比」において、特に関連する箇所に下線を付した。）
　
ａ　明細書第１６ページ第１行〜第１５行；
「以下、本発明の第１の実施形態について図１〜図７Ｂに基づいて説明する。
　図１には、本第１の実施形態に係る露光装置１００の構成が概略的に示されている。この露光装置１００は、エネルギビームとしての露光用照明光ＥＬをマスクとしてのレチクルＲに照射して、該レチクルＲと基板としてのウエハＷとを所定の走査方向（ここでは、図１における紙面直交方向であるＹ軸方向とする）に同期移動してレチクルＲのパターンを投影光学系ＰＬを介してウエハＷ上複数のショット領域に転写するステップ・アンド・スキャン方式の
投影露光装置
　
この露光装置１００は、不図示の光源及び光学装置（照明光学系）としての照明ユニットＩＬＵを含み、露光用照明光（以下、「露光光」と呼ぶ）ＥＬによりレチクルＲを照明する照明系、レチクルＲを保持するマスク保持部材としてのレチクルステージＲＳＴ、レチクルＲから射出される露光光ＥＬをウエハＷ上に投射する投影光学系ＰＬ、ウエハＷを保持する基板保持部材としてのウエハステージＷＳＴ、及びこれらの制御系、並びに構成各部を支持する支持架台ＢＤ等を備えている
　
ｂ　明細書第１６ページ最終行〜第１７ページ１９行；
「
前記光源としては、ここでは、波長約１２０ｎｍ〜約１８０ｎｍの真空紫外域に属する光を発する光源、例えば出力波長１５７ｎｍのフッ素レーザ（Ｆ
２
レーザ）が用いられている。
　前記光源は、実際には、照明ユニットＩＬＵ及び投影光学系ＰＬ等を含む露光装置本体が設置されるクリーンルームとは別のクリーン度の低いサービスルーム、あるいはクリーンルーム床下のユーティリティスペースなどに設置されている。なお、光源として、出力波長１４６ｎｍのクリプトンダイマーレーザ（Ｋｒ２レーザ）、出力波長１２６ｎｍのアルゴンダイマーレーザ（Ａｒ２レーザ）などの他の真空紫外光源を用いても良く、あるいは、出力波長１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザ、出力波長２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザ等を用いても良い。
　
前記照明ユニットＩＬＵは、
その内部に所定の位置関係で配置されたオプティカルインテグレータを含む照度均一化光学系、リレーレンズ、可変ＮＤフィルタ、レチクルブラインド、及び光路折り曲げ用のミラー等（いずれも不図示）から成る照明光学系とを含んで構成されている
　
ｃ　明細書第２１ページ第１２行〜第１９行；
「前記投影光学系ＰＬは、ホタル石、フッ化リチウム等のフッ化物結晶から成るレンズや反射鏡からなる光学系を、鏡筒１９で密閉したものである。投影光学系ＰＬとしては、ここでは、一例として両側テレセントリックで投影倍率βが例えば１／４あるいは１／５の屈折系が用いられているものとする。このため、前述の如く、
照明ユニットＩＬＵからの露光光ＥＬによりレチクルＲが照明されると、その照明領域部分のレチクルＲ上のパターンが投影光学系ＰＬによりウエハＷ上のショット領域の一部に縮小投影され、前記露光光ＥＬで照明されたパターン部分の縮小像（部分像）が形成される
　
ｄ　明細書第２７ページ下から第５行〜第２９ページ第７行
「前記
第２遮蔽機構１０２は
投影系側ガスパージスカート２８は、その上端面２８ａが、レチクルステージＲＳＴの下面（投影光学系ＰＬ側の面）に接触することなく近接して配置され、その下端面２８ｂは投影光学系ＰＬの鏡筒１９の上端面に、接触することなく近接して配置されている。すなわち、投影系側ガスパージスカート２８の上端面２８ａとレチクルステージＲＳＴ下面との間、投影系側ガスパージスカート２８の下端面２８ｂと投影光学系ＰＬとの間には、それぞれクリアランスが形成されている。
　ここで、上記クリアランスは、前述の照明ユニットＩＬＵとレチクルステージＲＳＴとの間のクリアランスと同様に、狭ければ狭い程好ましいが、レチクルステージＲＳＴの走査方向への移動に伴う上下振動が生じた場合にもレチクルステージＲＳＴと投影系側ガスパージスカート２８の接触を回避する必要があるので、その間隔をある程度開けることとしている。この場合のクリアランスとしては、上記と同様に３ｍｍ以下に設定することが好ましい。この場合にも、投影系側ガスパージスカート２８の上端部などにベローズ及び該ベローズを伸縮駆動及びチルト駆動する駆動機構を設け、投影系側ガスパージスカート２８上端面２８ａの全周に渡ってクリアランスを均一に設定することとしても良い。
　投影系側ガスパージスカート２８の上端部の形状、大きさ等は上記照明系側ガスパージスカート２２の下端部と同様（すなわち内部がＹ軸方向長さＳＹ、Ｘ軸方向長さＳＸである平面視矩形枠状）に設定されている。このような形状、大きさを採用した理由は、照明系側ガスパージスカート２２の場合と同様であるので、その説明は省略するものとする。
　なお、この場合、
レチクルステージＲＳＴの駆動に伴って、レチクルステージＲＳＴ及びレチクルＲが投影系側ガスパージスカート２８に接触しないように、ペリクル５６や、その他のレチクル周辺の構造物の全てがレチクルステージＲＳＴよりも下側にはみ出さないような構成（図３Ｂ参照）を採用する必要がある
　一方、投影系側ガスパージスカート２８の下端面２８ｂの形状は円形枠状とされている。これは投影光学系ＰＬの鏡筒１９が円筒形状を有し、その上端面の形状が円形枠状であるので、空間ＭＰの気密性の観点からは、投影系側ガスパージスカート２８の下端面２８ｂを、投影光学系ＰＬの鏡筒１９の上端面と同一形状とするのが好ましいからである。」
　
ｅ　明細書第３３ページ下から第６行〜第３８ページ第４行；
「前記投影系側ガスパージスカート２８には、図２に示されるように、第１給気管７７、第１排気管７８、第２給気管８１，８３、及び第２排気管８２，８４がそれぞれ接続されている。
　図６Ａには、投影系側ガスパージスカート２８の上端面２８ａとレチクルステージＲＳＴとが近接配置された部分が断面図にて示されており、
図６Ｂには、投影系側ガスパージスカート２８と投影光学系ＰＬの鏡筒１９とが近接配置された部分が断面図に示されている
　前記第１給気管７７は、図６Ａに示されるように、投影系側ガスパージスカート２８の側壁に外側から内側に連通して形成された供給用開口としての貫通孔２５２に対して、コネクタ８６を介して投影系側ガスパージスカート２８の外側から接続されている。また、貫通孔２５２の第１給気管７７とは反対側には、給気ノズル８７が設けられている。
　前記第１排気管７８は、不図示ではあるが、上記第１給気管７７と同様に、投影系側ガスパージスカート２８の側壁に外側から内側に連通して形成された貫通孔に対して、コネクタを介して投影系側ガスパージスカート２８の外側から接続されている。
　本実施形態のように、真空紫外域の露光波長を使用する露光装置では、酸素、水蒸気等の吸収性ガスによる露光光の吸収を避けるために、空間ＭＰ内の気体も低吸収性ガスで置換する必要がある。このため、本実施形態では、第１給気管７７及び第１排気管７８を用いて空間ＭＰ内を前記低吸収性ガスで満たすこととしている。
　すなわち、前記第１給気管７７の他端は、図２に示されるように、ガス供給装置５０に接続され、第１排気管７８の他端は不図示のガス回収装置に接続されている。第１給気管７７、第１排気管７８には、それぞれ不図示の給気弁、及び排気弁が設けられており、不図示の制御装置が、給気弁、排気弁の開閉、及びガス供給装置５０に内蔵されたポンプの作動、停止を適宜制御することにより、空間ＭＰ内に低吸収性ガスが充填され、その内部の吸収性ガスの濃度は数ｐｐｍ以下の濃度となっている。なお、空間ＭＰ内に低吸収性ガスを常時フローすることとしても良い。
　前記第２給気管８１の一端は、図６Ａに示されるように、投影系側ガスパージスカート２８の側壁内部に形成された断面Ｌ字状の給気管路１６９に対してコネクタ８８を介して接続されている。この第２給気管８１の一端が接続された給気管路１６９は、投影系側ガスパージスカート２８の上端面２８ａに形成された給気口としての給気用環状凹溝１７０に連通した状態となっている。この場合において、給気用環状凹溝１７０は、その幅が例えば１〜３ｍｍ程度、その深さが例えば１〜３ｍｍ程度に設定されている。
　また、第２排気管８２の一端は、投影系側ガスパージスカート２８の側壁内部に形成された断面Ｌ字状の排気管路１７１に対してコネクタ８９を介して接続されている。この第２排気管８２の一端が接続された排気管路１７１は、投影系側ガスパージスカート２８の上端面２８ａの空間ＭＰに対して給気用環状凹溝１７０の外側に形成された排気口としての排気用環状凹溝１７２に連通した状態となっている。この場合において、排気用環状凹溝１７２は、給気用環状凹溝１７０と同様、その幅が例えば１〜３ｍｍ程度、その深さが例えば１〜３ｍｍ程度に設定されている。また、各環状凹溝１７０，１７２間の間隔は、５〜２０ｍｍ程度に設定することができる。なお、気密性確保の点からは、その間隔を投影系側ガスパージスカート２８の側壁の厚さに応じて、可能な限り広く設定しておくことが好ましい。
　ここで、
第２給気管８１の他端は、図２に示されるように、前述の供給装置８０に接続され、第２排気管８２の他端は、真空ポンプ７９に接続されている。そして、不図示の制御装置が、供給装置８０に内蔵されたポンプ及び真空ポンプ７９の作動、停止を適宜制御することにより、図６Ａに示されるように、第２給気管８１及び給気管路１６９を介して供給された加圧気体が、環状凹溝１７０から投影系側ガスパージスカート２８の上端面２８ａとレチクルステージＲＳＴの下面との間のクリアランスＤ２に供給され、そのクリアランスＤ２内部のガスが環状凹溝１７２、排気管路１７１、及び第２排気管８２を介して外部に排気される。すなわち、第２給気管８１及び第２排気管８２を含む気体の流れは、主に第２給気管８１→給気管路１６９→給気用環状凹溝１７０→クリアランスＤ２→排気用環状凹溝１７２→排気管路１７１→第２排気管８２となり、クリアランスＤ２中には、投影系側ガスパージスカート２８の内側（すなわち空間ＭＰ側）から外側に向かう気体の流れが形成されることになる
　この場合、給気用環状凹溝１７０から供給される低吸収性ガスの一部は、クリアランスＤ２を介して空間ＭＰに浸入する。また、排気用環状凹溝１７２を介してクリアランスＤ２内の気体が外部に排気されているので、投影系側ガスパージスカート２８の外部の気体の一部がクリアランスＤ２に浸入しても、この気体は排気用環状凹溝１７２を介して外部に排気される。
　前記第２給気管８３の一端は、図６Ｂに示されるように、投影系側ガスパージスカート２８の側壁内部に形成された断面Ｌ字状の給気管路１７３に対してコネクタ９０を介して接続されている。この第２給気管８３の一端が接続された給気管路１７３は、投影系側ガスパージスカート２８の下端面２８ｂに形成された給気口としての給気用環状凹溝１７４に連通した状態となっている。この場合において、給気用環状凹溝１７４は、その幅が例えば１〜３ｍｍ程度、その深さが例えば１〜３ｍｍ程度に設定されている。
　また、第２排気管８４の一端は、投影系側ガスパージスカート２８の側壁内部に形成された断面Ｌ字状の排気管路１７５に対してコネクタ９１を介して接続されている。この第２排気管８４の一端が接続された排気管路１７５は、投影系側ガスパージスカート２８の下端面２８ｂの空間ＭＰに対して給気用環状凹溝１７４の外側に形成された排気口としての排気用環状凹溝１７６に連通した状態となっている。この場合において、排気用環状凹溝１７６は、給気用環状凹溝１７４と同様、その幅が例えば１〜３ｍｍ程度、その深さが例えば１〜３ｍｍ程度に設定されている。また、各環状凹溝１７４，１７６間の間隔は、５〜２０ｍｍ程度に設定することができる。なお、気密性確保の点からは、上記と同様、その間隔を投影系側ガスパージスカート２８の側壁の厚さに応じて、可能な限り広く設定
しておくことが好ましい。
　ここで、
第２給気管８３の他端は、図２に示されるように、前述の供給装置８０に接続され、第２排気管８４の他端は、真空ポンプ７９に接続されている。そして、不図示の制御装置が、供給装置８０に内蔵されたポンプ及び真空ポンプ７９の作動、停止を適宜制御することにより、図６Ｂに示されるように、第２給気管８３及び給気管路１７３を介して供給された加圧気体が、環状凹溝１７４から投影系側ガスパージスカート２８の下端面２８ｂとレチクルステージＲＳＴの下面との間のクリアランスＤ３に供給され、そのクリアランスＤ３内部のガスが環状凹溝１７６、排気管路１７５、及び第２排気管８４を介して外部に排気される。すなわち、第２給気管８３及び第２排気管８４を含む気体の流れは、主に第２給気管８３→給気管路１７３→給気用環状凹溝１７４→クリアランスＤ３→排気用環状凹溝１７６→排気管路１７５→第２排気管８４となり、クリアランスＤ３中には、投影系側ガスパージスカート２８の内側（すなわち空間ＭＰ側）から外側に向かうガスの流れが形成されることになる
　このように、投影系側ガスパージスカート２８の上端面２８ａ及び下端面２８ｂの両方において、空間ＭＰの外側から内側へのガスの流れが形成されていることから、空間ＭＰに対する投影系側ガスパージスカート２８の外側の酸素や水蒸気の流入を遮断することができ、空間ＭＰ内のパージ性能（すなわち、酸素濃度，水蒸気濃度の低減性能）向上に極めて効果がある。
　この場合、給気用環状凹溝１７４から供給される低吸収性ガスの一部は、クリアランスＤ３を介して空間ＭＰに浸入する。また、排気用環状凹溝１７６を介してクリアランスＤ３内の気体が外部に排気されているので、投影系側ガスパージスカート２８の外部の気体の一部がクリアランスＤ３に浸入しても、この気体は排気用環状凹溝１７６を介して外部に排気される。
　なお、実際には、環状凹溝１７０，１７２，１７４，１７６にはそれぞれ複数（例えば３つ）の給気管路及び排気管路が連通状態で形成されており、これら管路に、第２給気管及び第２排気管がそれぞれ接続されているが、図２等では説明及び図示の便宜上、第２給気管及び第２排気管は投影系側ガスパージスカート２２にそれぞれ２本ずつ接続されているものとして示している。
　なお、環状凹溝としては上記のように２つの凹溝を形成する場合に限らず、２つの溝をさらに複数組み合わせ、４重又は６重…の溝を形成することも可能である。」
　
ｆ　明細書第４７ページ第１５行〜第２１行；
「また、
投影光学系ＰＬと投影系側ガスパージスカート２８の間には、所定のクリアランスＤ３が形成されている
　
　
３　引用発明
　上記記載事項からして、引用例には以下の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されている。
「出力波長１５７ｎｍのフッ素レーザからなる光源及び照明光学系としてのリレーレンズや光路折り曲げ用のミラー等からなる照明ユニットＩＬＵ、
　レチクルＲを保持するマスク保持部材としてのレチクルステージＲＳＴ、
　ウエハＷを保持する基板保持部材としてのウエハステージＷＳＴ、
　照明ユニットＩＬＵからの露光光ＥＬによりレチクルＲが照明されると、その照明領域部分のレチクルＲ上のパターンをウエハＷ上のショット領域の一部に縮小投影する投影光学系ＰＬ、
　投影系側ガスパージスカート２８、及び
　上記投影系側ガスパージスカート２８の上端面２８ａとレチクルステージＲＳＴの下面との間のクリアランスＤ２、及び投影系側ガスパージスカート２８の下端面２８ｂと投影光学系ＰＬの上面との間のクリアランスＤ３に、加圧気体を供給する供給装置８０、を含み、
　上記投影系側ガスパージスカート２８は、
　第２給気管８１及び給気管路１６９を介して供給された加圧気体が、環状凹溝１７０から投影系側ガスパージスカート２８の上端面２８ａとレチクルステージＲＳＴの下面との間のクリアランスＤ２に供給され、そのクリアランスＤ２内部のガスが環状凹溝１７２、排気管路１７１、及び第２排気管８２を介して外部に排気される機構、および
　第２給気管８３及び給気管路１７３を介して供給された加圧気体が、環状凹溝１７４から投影系側ガスパージスカート２８の下端面２８ｂと投影光学系ＰＬの上面との間のクリアランスＤ３に供給され、そのクリアランスＤ３内部のガスが環状凹溝１７６、排気管路１７５、及び第２排気管８４を介して外部に排気される機構
とを有し、レチクルステージＲＳＴの駆動に伴って、レチクルステージＲＳＴ及びレチクルＲが投影系側ガスパージスカート２８に接触しないような構成とした投影露光装置。」
　
　
４　対比
（１）本願発明と引用発明とを対比する。
　
　引用発明の「出力波長１５７ｎｍのフッ素レーザからなる光源」は、本願発明の「放射線のビーム」に相当するから、引用発明の「出力波長１５７ｎｍのフッ素レーザからなる光源及びリレーレンズや光路折り曲げ用のミラー等からなる照明光学系としての照明ユニットＩＬＵ」は、本願発明の「放射線のビームを調節するように構成した照明システム」に相当する。
　
　引用発明の「レチクルＲ」は、本願発明の「パターニング装置」に相当するから、引用発明の「レチクルＲを保持するマスク保持部材としてのレチクルステージＲＳＴ」は、本願発明の「放射線のビームの断面にパターンを与えるのに役立つパターニング装置を保持するように構成した支持構造体」に相当する。
　
　引用発明の「ウエハＷを保持する基板保持部材としてのウエハステージＷＳＴ」は、本願発明の「基板を保持するように構成した基板テーブル」に相当する。
　
　引用発明の「照明ユニットＩＬＵからの露光光ＥＬによりレチクルＲが照明されると、その照明領域部分のレチクルＲ上のパターンをウエハＷ上のショット領域の一部に縮小投影する投影光学系ＰＬ」は、本願発明の「パターン化したビームをこの基板の目標部分上に投影するように構成した投影システム」に相当する。
　
　引用発明の「上記投影系側ガスパージスカート２８の上端面２８ａとレチクルステージＲＳＴの下面との間のクリアランスＤ２、及び投影系側ガスパージスカート２８の下端面２８ｂと投影光学系ＰＬの上面との間のクリアランスＤ３に、加圧気体を供給する供給装置８０」と、本願発明の「該投影システムの少なくとも一部、照明システムの少なくとも一部、またはその両方を含む容積に流体を提供するように構成した流体供給システム」とは、「投影システムの少なくとも一部を含む容積に流体を提供するように構成し」ている点で共通する。
　
　引用発明の「第２給気管８１及び給気管路１６９を介して供給された加圧気体が、環状凹溝１７０から投影系側ガスパージスカート２８の上端面２８ａとレチクルステージＲＳＴの下面との間のクリアランスＤ２に供給され、そのクリアランスＤ２内部のガスが環状凹溝１７２、排気管路１７１、及び第２排気管８２を介して外部に排気される機構」が、上記「供給装置８０」からの加圧気体を供給する「システム」を構成していることは明らかであるから、本願発明の「前記流体供給システムにおいて所定の向きに設けられた第１のガスベアリング」に相当し、　
　引用発明の「第２給気管８３及び給気管路１７３を介して供給された加圧気体が、環状凹溝１７４から投影系側ガスパージスカート２８の下端面２８ｂと投影光学系ＰＬの上面との間のクリアランスＤ３に供給され、そのクリアランスＤ３内部のガスが環状凹溝１７６、排気管路１７５、及び第２排気管８４を介して外部に排気される機構」も、上記「供給装置８０」からの加圧気体を供給する「システム」を構成していることは明らかであり、且つクリアランスＤ３がクリアランスＤ２「異なる向き」であることは明らかであるから、本願発明の「前記流体供給システムにおいて前記所定の向きと異なる向きに設けられた第２のガスベアリング」に相当する。
　よって、引用発明の「投影系側ガスパージスカート２８」は、その構造を総合的に勘案すると、本願発明の第１のガスベアリング及び第２のガスベアリングを備える「結合装置」に相当する。
　
　また、引用発明において、クリアランスＤ２が形成されているということは、投影系側ガスパージスカート２８はレチクルステージＲＳＴと接触することなく近接して配置されており、且つ引用発明は「レチクルステージＲＳＴの駆動に伴って、レチクルステージＲＳＴ及びレチクルＲが投影系側ガスパージスカート２８に接触しないような構成」であるのだから、引用発明の「投影系側ガスパージスカート２８」と、本願発明の「該流体供給システムを、前記基板テーブル、基板、支持構造体、パターニング装置、またはその任意の組合せに、非接触で結合するように構成した結合装置」とは、「該流体供給システムを、支持構造体及びパターニング装置に、非接触で結合するように構成した結合装置」である点で共通する。
　
　そして、引用発明の「投影露光装置」が、本願発明の「リソグラフィ装置」に相当することも明らかである。
　
　
（２）一致点
　してみれば、本願発明と引用発明とは、以下のとおりの発明である点で一致する。
　
「放射線のビームを調節するように構成した照明システム、
　放射線のビームの断面にパターンを与えるのに役立つパターニング装置を保持するように構成した支持構造体、
　基板を保持するように構成した基板テーブル、
　パターン化したビームをこの基板の目標部分上に投影するように構成した投影システム、
　投影システムの少なくとも一部を含む容積に流体を提供するように構成し、
　前記流体供給システムにおいて所定の向きに設けられた第１のガスベアリング、および、前記流体供給システムにおいて前記所定の向きと異なる向きに設けられた第２のガスベアリングを備える結合装置であって、該流体供給システムを、支持構造体及びパターニング装置に非接触で結合するように構成した結合装置
を含むリソグラフィ装置。」
　
　
（３）形式上の相違点
ア　相違点１
　流体供給システムが流体を供給する対象が、本願発明では「該投影システムの少なくとも一部、照明システムの少なくとも一部、またはその両方を含む容積」であるのに対し、引用発明には、照明システムに対して流体を供給する技術は開示されていない点。
　
イ　相違点２
　流体供給システムを非接触で結合する対象が、本願発明では「前記基板テーブル、基板、支持構造体、パターニング装置、またはその任意の組合せ」であるのに対し、引用発明には、「基板テーブル」と「基板」に対して結合する技術は開示されていない点。
　
　
５　当審の判断
　上記相違点について検討する。
（１）相違点１について
　本願発明は、流体供給システムが流体を供給する対象について選択肢を有する記載となっているから、本願発明においてその選択肢の一つである「投影システムの少なくとも一部」を発明特定事項とすれば、引用発明と差異はない。
　
（２）相違点２について
　本願発明は、流体供給システムを非接触で結合する対象について選択肢を有する記載となっているから、本願発明においてその選択肢の一つである「支持構造体」又は「パターニング装置」を発明特定事項とすれば、引用発明と差異はない。
　
（３）まとめ
　してみれば、本願発明と引用発明との間に相違点はない。
　
　
第４　むすび
　したがって、本願発明は、引用例に記載された発明であるから、特許法第２９条第１項第３号の規定により特許を受けることができない。
　よって、結論のとおり審決する。