【手続補正書】
【提出日】平成24年4月23日(2012.4.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光透過性基材の一面側に、膜厚ｄの低屈折率層を備える光学フィルムであって、
当該低屈折率層は、平均１次粒径が１０〜１００ｎｍの中空粒子及び分散平均粒径が１〜２０ｎｍ、且つ、当該膜厚ｄの半分以下である中実粒子を含み、
当該低屈折率層の膜厚方向の断面、且つ、層平面方向の幅５００ｎｍの領域において、少なくとも１個の当該中空粒子が、当該低屈折率層の硬化した樹脂に被覆されて当該低屈折率層の光透過性基材とは反対側の界面に接しており、
当該中実粒子が、当該中空粒子の接している部分以外の当該界面の５０％以上の範囲を占め、且つ、当該界面から膜厚方向の当該中実粒子の分散平均粒径２個分までの深さに、偏在していることを特徴とする、光学フィルム。
【請求項２】
前記偏在している中実粒子の割合が、前記領域に存在する中実粒子の全量の４０〜１００％であることを特徴とする、前記請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項３】
前記中空粒子の平均１次粒径と前記中実粒子の分散平均粒径の比（平均１次粒径／分散平均粒径）が２．０以上であることを特徴とする、前記請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項４】
前記界面のＪＩＳ  Ｂ  ０６０１−１９９８に規定する最大高さＲｙが０．０５０μｍ以下であることを特徴とする、前記請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項５】
前記光透過性基材と前記低屈折率層との間に、さらに、ハードコート層、高屈折率層、中屈折率層、帯電防止層及び防眩層からなる群より選ばれる１種以上の層が設けられていることを特徴とする、前記請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項６】
前記低屈折率層の光透過性基材とは反対側の界面に、さらに防汚層が設けられていることを特徴とする、前記請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項７】
前記請求項１に記載の光学フィルムを備えることを特徴とする偏光板。
【請求項８】
前記請求項１に記載の光学フィルムを含むことを特徴とするディスプレイパネル。
【請求項９】
前記請求項７に記載の偏光板を含むことを特徴とするディスプレイパネル。
【請求項１０】
背面側部材の視聴者側に、前記請求項１に記載の光学フィルムを配置したことを特徴とするディスプレイ。
【請求項１１】
背面側部材の視聴者側に、前記請求項７に記載の偏光板を備えることを特徴とするディスプレイ。
【請求項１２】
背面側部材の視聴者側に、前記請求項８に記載のディスプレイパネルを備えることを特徴とするディスプレイ。
【請求項１３】
背面側部材の視聴者側に、前記請求項９に記載のディスプレイパネルを備えることを特徴とするディスプレイ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
本発明に係る光学フィルムにおいては、前記低屈折率層の前記界面のＪＩＳ  Ｂ  ０６０１−１９９８に規定する最大高さＲｙが０．０５０μｍ以下であることが、良好な耐擦傷性が得られる点から好ましい。
低屈折率層の光透過性基材とは反対側の界面をスチールウール等で引っ掻かれ、擦れるとき、当該界面の上記最大高さＲｙが０．０５０μｍよりも大きいと、スチールウールのような引っ掻いたものがその凹凸に引っ掛かり、界面の傷となり易い。
これに対して、上記のように最大高さＲｙを０．０５０μｍ以下とすることで、スチールウール等が引っ掛かり難くなり、界面に傷が生じ難くなる。
最大高さＲｙは、小さければ小さいほど耐擦傷性や光学特性に有効であり、０．０５０μｍ以下であることが好ましく、０．０１０μｍ以下であることがより好ましく、その最小値は０．００５μｍ程度が好ましい。
なお、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１−１９９８にあるように、Ｒｙを求める場合には、傷とみなされるような並外れて高い山及び低い谷がない部分から上記領域を選択する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
以上のようなモノマー組成物から得られるフッ素含有共重合体のフッ素含有割合は、好ましくは、６２〜７０％、特に好ましくは６４〜６８％である。フッ素含有割合が、このような６２〜７０％であることにより、フッ素含有重合体は、溶剤に対して良好な溶解性を有する。そして、低屈折率層用組成物は、このようなフッ素含有重合体を成分として含有することにより、光透過性基材に対して優れた密着性を有し、高い透明性と低い屈折率を有すると共に低屈折率層の耐擦傷性を高めることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８４】
（表面処理中実シリカ粒子（２）の調製）
上記表面処理中実シリカ粒子（１）の調製において、中実シリカ粒子（１）に代えて、中実シリカ粒子（２）を用いた以外は同様に表面処理を行い、表面処理された中実シリカ粒子（２）の２０質量％のＭＩＢＫ分散液を得た。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８５】
（表面処理中実シリカ粒子（３）の調製）
上記表面処理中実シリカ粒子（１）の調製において、中実シリカ粒子（１）に代えて、中実シリカ粒子（３）を用いた以外は同様に表面処理を行い、表面処理された中実シリカ粒子（３）の２０質量％のＭＩＢＫ分散液を得た。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０１】
（実施例２〜４並びに比較例１〜５）
実施例１において、低屈折率層用硬化性樹脂組成物１をそれぞれ、下記表１に示す低屈折率層用硬化性樹脂組成物に代えた以外は実施例１と同様にして、光学フィルムを得た。
ただし、比較例２では、中実シリカ粒子の分散平均粒径が低屈折率層の膜厚の半分を超えた。
比較例３では、中空シリカと中実シリカの平均粒径比が小さく耐擦傷性が劣り、比較例４では、中実シリカが表層付近に偏在せず、膜内に均一になって耐擦傷性が劣り、比較例５では、粒子が中実シリカを過剰にしてしまったので膜が硬いがもろくなったため密着性が悪くなっている。
実施例１〜４並びに比較例１〜５の低屈折率層の膜厚は、上記分光光度計によって測定した反射率が極小となった部分の反射率と波長から算出すると、全て約１００ｎｍであった。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０９】
（結果のまとめ）
表１より、実施例では、最低反射率が低く、耐擦傷性及び硬度ともに良好であったことに加えて、密着性についても良好な結果が得られた。また、最大高さＲｙも低く、中実粒子が界面を占める割合も高かった。
図６の実施例２の低屈折率層の断面写真及びその模式図の図７から、中実粒子が断面の層平面方向５００ｎｍの範囲において、中空粒子が接している部分以外では１００％の範囲を占めていることがわかる。
しかし、比較例１〜５では、耐擦傷性は不十分な結果となり、硬度も低かった。比較例５ではさらに密着性も低下した。これは、比較例１では、中実シリカが含まれていないためと考えられ、比較例２では、中実粒子が界面の５０％以上を占めるものの、中実粒子の分散平均粒径が大きく、低屈折率層の界面の凹凸が大きくなり、界面の平滑性が低下したためと考えられる。比較例３では中実粒子の粒径が大きいため、中実粒子が界面を占める割合が小さくなったためであると考えられる。比較例４では、中実シリカが表層付近に偏在せず、膜内に均一になってしまい、中実粒子が界面を占める割合が小さくなったためであると考えられる。比較例５では粒子が過剰に存在することで脆くなってしまったためと考えられる。