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【手続補正書】
【提出日】平成23年11月14日(2011.11.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部を真空とすることが可能な処理室内に、被処理物に対向して配置され、プラズマ処理用のガスの流路を構成する穴が形成された複数のガスノズルを有するプラズマ処理装置において、
前記複数のガスノズルは、互いの間に隙間を保持可能な状態で前記処理室の上下方向に重なり合う位置に配置され、
前記複数のガスノズルは、穴を通過するガスの圧力損失が変化するように、相対的に変位可能に設けられていることを特徴とするプラズマ処理装置。
【請求項２】
第１のガスノズルと、これに対向して回動可能に設けられた第２のガスノズルとを有し、
前記第１のガスノズルにおける穴は、前記回動中心と同心の円上に複数配設され、
前記第２のガスノズルにおける穴は、前記第１のガスノズルに配設された複数の穴に対応する円上に複数配設され、
前記第１のガスノズルにおける穴と前記第２のガスノズルにおける穴とが、周方向にずれた部分を有することを特徴とする請求項１記載のプラズマ処理装置。
【請求項３】
少なくとも一つのガスノズルと、これに対向するガスノズルとの間隔が、可変に設けられていることを特徴とする請求項１記載のプラズマ処理装置。
【請求項４】
前記処理室には、ガスの排気部が設けられ、
前記ガスノズルの少なくとも一つを駆動する駆動機構が、被処理物の被処理面から前記排気部側にあることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のプラズマ処理装置。
【請求項５】
前記被処理物の被処理面から前記排気部側において、前記駆動機構と前記ガスノズルを接続する支持部を有し、
前記支持部は、処理室の内壁の少なくとも一部を覆う位置に設けられていることを特徴とする請求項４記載のプラズマ処理装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
上記のような目的を達成するため、請求項１の発明は、内部を真空とすることが可能な処理室内に、被処理物に対向して配置され、プラズマ処理用のガスの流路を構成する穴が形成された複数のガスノズルを有するプラズマ処理装置において、前記複数のガスノズルは、互いの間に隙間を保持可能な状態で前記処理室の上下方向に重なり合う位置に、複数配置され、前記複数のガスノズルは、穴を通過するガスの圧力損失が変化するように、相対的に変位可能に設けられていることを特徴とする。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
請求項２の発明は、請求項１のプラズマ処理装置において、第１のガスノズルと、これに対向して回動可能に設けられた第２のガスノズルとを有し、前記第１のガスノズルにおける穴は、前記回動中心と同心の円上に複数配設され、前記第２のガスノズルにおける穴は、前記第１ガスノズルに配設された複数の穴に対応する円上に複数配設され、前記第１のガスノズルにおける穴と前記第２のガスノズルにおける穴とが、周方向にずれた部分を有することを特徴とする。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
請求項３の発明は、請求項１のプラズマ処理装置において、少なくとも一つのガスノズルと、これに対向するガスノズルとの間隔が、可変に設けられていることを特徴とする。
以上のような請求項３の発明では、両ガスノズルの穴の位置が接近している場合、圧力損失が大きくガスが流れ難くなり、穴の位置が離れている場合、圧力損失が小さくガスが流れ易くなるので、ガスノズルの間隔を変えることにより、処理速度を制御できる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
請求項５の発明は、請求項４のプラズマ処理装置において、前記被処理物の被処理面から前記排気部側において、前記駆動機構と前記ガスノズルを接続する支持部を有し、前記支持部は、処理室の内壁の少なくとも一部を覆う位置に設けられていることを特徴とする。
以上のような請求項５の発明では、処理室の内壁を覆う支持部によって、処理時のガスから内壁が保護される。
【手続補正書】
【提出日】平成24年8月30日(2012.8.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記ターゲット容器内のガスを排出する排気配管と、
前記排気配管中における還元ガスの反応生成物の濃度を測定して、還元ガスの反応生成物の濃度を表す信号を出力するガス分析装置と、
前記ガス分析装置から出力される信号に基づいて、還元ガスの反応生成物の濃度が所定値以下になったときに、前記還元ガス供給装置に還元ガスの供給を停止させる制御装置と、
をさらに具備する、請求項１記載のターゲット供給装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
前記ターゲット容器に取り付けられたヒータと、
前記ヒータを稼働させて前記ターゲット容器の温度を所定の温度まで上昇させる制御装置と、
をさらに具備する、請求項１記載のターゲット供給装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
なお、加圧ガスボンベ１２内に蓄えられている不活性ガス等を使ってターゲット容器１０をパージすることによっても、炭酸ガスを排出することができる。ターゲット容器１０内を不活性ガス等で加圧するときは、ターゲット容器１０内の圧力が上昇するので、制御装置２０が、流量調整器ＭＦＣ２及びＭＦＣ３を制御することによりターゲット容器１０内の圧力を調整する。また、制御装置２０は、真空チャンバ３４内の圧力を調整することにより、ターゲットノズル１３から溶融したターゲット物質が噴出しないようにする。真空チャンバ３４の内圧を調整するためには、配管と流量調整器を介して加圧ガスボンベ１２から真空チャンバ３４内に不活性ガスを適当量導入するようにすればよい。また、別途、圧力調整用ガスを使ってもよい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
（製造方法）
図１０は、本発明の一実施形態に係るターゲット供給装置の製造方法を示すフローチャートである。
図２〜図６に示す第１〜第４の実施例においては、還元ガスボンベ１１又は気化装置１８を含んだターゲット供給装置について説明した。このようなターゲット供給装置をＥＵＶ光源装置に設けた場合には、ＥＵＶ光源装置のメンテナンス時等にターゲット供給装置内に還元ガスを導入してターゲット物質の酸化物を還元することができる。
一方、図１０においては、還元ガスボンベや気化装置１８を含まないターゲット供給装置の製造方法について説明する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
次に、オペレータは、ターゲット容器内に収容されているターゲット物質に含まれている酸化物を還元する（ステップＳ３２）。例えば、この工程は、図１において、還元ガスボンベ１１から配管を介してターゲット容器１０内に還元ガスを導入することによって実行される。ここで、必要に応じて、ターゲット容器の加熱等によって還元反応を促進しても良い。あるいは、この工程は、図７において、ターゲット容器１０の温度を所定の温度まで上昇させてターゲット物質１を溶融することによって実行される。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
この工程により、ターゲット容器内でターゲット物質の酸化物の還元反応が起こり、還元ガス又は炭素の酸化物が発生するので、オペレータは、ターゲット容器に接続された排気配管により、ターゲット容器内で発生したガスを排出する。このとき、必要に応じて、排気配管に設けたガス分析装置により、排出ガスの中の酸化物の濃度を測定し、排出ガス中の酸化物の濃度が所定の濃度以下になったときに、還元反応を終了させるようにしても良い。また、酸化物の濃度が一定値以下になった後に、真空ポンプによりターゲット容器内を排気して真空にしたり、加圧ガスボンベによりパージガスをターゲット容器内に導入したりしても良い。
その後、オペレータは、ターゲット容器１０を密封する（ステップＳ３３）。例えば、図２において、切替弁２４〜２８を閉じ、ターゲット容器１０を切替弁２７及び２８と共に、流量調整器ＭＦＣ２及びＭＦＣ３、真空ポンプ１４、及び、ガス分析装置２１等から切り離すことにより、ターゲット供給装置が完成する。
以上の工程を、例えば、ターゲット供給装置の製造工場内において行い、ＥＵＶ光源装置の設置場所においてターゲット供給装置をＥＵＶ光源装置に取り付ければ、ターゲット容器中のターゲット物質に含まれている酸化物が少なくターゲットノズルが閉塞しにくいターゲット供給装置を使用することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成24年5月23日(2012.5.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１つ以上の所定のドーパント濃度及び注入エネルギーで、注入イオンと同じ導電型を有する導電性炭化珪素基板の第一表面中に第一導電型のドーパント原子を注入して、炭化珪素基板中に所定の深さまで注入されたドーパントのプロファイルを形成する工程；
注入された基板をアニールする工程；及び
炭化珪素基板の注入第一表面上にＩＩＩ族窒化エピタキシャル層を成長させる工程
を含む、その上に存在する改良エピタキシャル堆積のために炭化珪素基板を処理する方法。
【請求項２】
ドーパント原子を注入する工程が、所定の深さを有する比較的平らな注入プロファイルを生成するために、様々なドーズ量及びエネルギーレベルで複数の注入工程を行うことを含む請求項１に記載の方法。
【請求項３】
約１Ｅ１９〜５Ｅ２１ｃｍ−３の注入ドーパント原子のピーク濃度まで、注入領域においてドーパント原子を注入することを含む請求項２に記載の方法。
【請求項４】
約１Ｅ２１ｃｍ−３の注入ドーパント原子のピーク濃度まで且つ約５００オングストロームの炭化珪素基板内の深さまで、ドーパント原子を注入することを含む請求項２に記載の方法。
【請求項５】
２Ｅ１５ｃｍ−２の第一ドーパント濃度且つ２５ｋｅＶの注入エネルギーで、更に３．６Ｅ１５ｃｍ−２の第二ドーパント濃度且つ５０ｋｅＶの注入エネルギーで、燐ドナー原子を炭化珪素基板に注入することを含む請求項２に記載の方法。
【請求項６】
１つ以上の所定のドーパント濃度及び注入エネルギーで、注入イオンと同じ導電型を有する導電性炭化珪素ウェーハの第一表面中に第一導電型のドーパント原子を注入して、炭化珪素ウェーハ中に所定の深さを有する注入されたドーパントのプロファイルを形成する工程；
注入されたウェーハをアニールする工程；
炭化珪素ウェーハの注入第一表面上に導電性バッファー領域を形成する工程；
導電性バッファー領域上に活性領域を形成する工程；
活性領域上に第一オームコンタクトを形成する工程；及び
炭化珪素ウェーハの反対の表面上に第二オームコンタクトを形成する工程
を含む、発光ダイオードを形成する方法。
【請求項７】
所定の深さを有する比較的平らな注入プロファイルを生成するために、様々なドーズ量及びエネルギーレベルで複数の注入工程を行うことをさらに含む請求項６に記載の方法。
【請求項８】
約１Ｅ１９〜５Ｅ２１ｃｍ−３の注入ドーパント原子のピーク濃度まで、注入領域においてドーパント原子を注入することをさらに含む請求項７に記載の方法。
【請求項９】
約１Ｅ２１ｃｍ−３の注入ドーパント原子のピーク濃度まで且つ約５００オングストロームの厚さで、注入領域においてドーパント原子を注入することをさらに含む請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
基板とエピタキシャル層との間の界面電圧が７００ｍＶより低い、請求項６に記載の方法。
【請求項１１】
第一表面と第二表面とを有し、且つ所定の導電型とドーピング濃度とを有する炭化珪素基板；
第一表面から炭化珪素基板中へと所定の距離まで延びている注入ドーパント原子の領域、該領域は基板の残部におけるドーピング濃度に比べて高いドーピング濃度を有する；
導電性炭化珪素基板の第一表面上の導電性バッファー領域；
導電性バッファー領域上の活性領域；
活性領域上の第一電気コンタクト；及び
炭化珪素基板の第二表面上の第二電気コンタクト
を含む電気デバイス。
【請求項１２】
炭化珪素基板を窒素でドープした、請求項１１に記載の電気デバイス。
【請求項１３】
炭化珪素基板中の窒素のドーピング濃度は、約５Ｅ１７〜３Ｅ１８ｃｍ−３である、請求項１２に記載の電気デバイス。
【請求項１４】
注入ドーパント原子の領域が、第一表面から炭化珪素基板中へ約１０〜５０００オングストロームの深さまで延びている、請求項１１に記載の電気デバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成24年5月31日(2012.5.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
比表面積が４０ｍ２／ｇ以上であって、Ｌａｂ表色系においてＬ＝３０以下の濃青色の色調を有し、粒度分布のメジアン径が３０〜４５ｎｍであり、Ｄ９０が６０ｎｍ以下であることを特徴とする、インジウム錫酸化物粉末。
【請求項２】
請求項１記載のインジウム錫酸化物粉末と、溶媒を含有する、分散液または塗料。
【請求項３】
インジウムと錫の共沈水酸化物を焼成してインジウム錫酸化物粉末を製造する方法において、
（Ａ）２価の錫化合物を用い、ｐＨ４.０〜９.３、液温５℃以上で、乾燥後の色が山吹色から柿色のインジウム錫水酸化物を共沈させる工程、
（Ｂ）インジウム錫水酸化物を乾燥し、焼成する工程、
（Ｃ）得られたインジウム錫酸化物を乾式粉砕をする工程、をこの順で含み、
（Ｂ）工程は、乾燥と同時、焼成と同時、または焼成後に、窒素雰囲気下、または水蒸気、アルコールもしくはアンモニアを含有した窒素雰囲気下、で加熱することによって、比表面積が４０ｍ２/ｇ以上で濃青色の色調を有するインジウム錫酸化物粉末に表面改質する表面改質工程を含み、
前記表面改質工程は、雰囲気ガスの流量を、線速度８×１０−６ｍ／ｓ以上にして、インジウム錫酸化物粉末に表面改質する
ことを特徴とするインジウム錫酸化物粉末の製造方法。
【請求項４】
（Ａ）工程で、三塩化インジウムと二塩化錫の混合水溶液と、アルカリ水溶液と、を同時に水に滴下し、インジウム錫水酸化物を共沈させる、または、アルカリ水溶液に、前記混合水溶液を滴下し、インジウム錫水酸化物を共沈させる、請求項３記載のインジウム錫酸化物粉末の製造方法。
【請求項５】
請求項１記載のインジウム錫酸化物粉末を含有する、導電性膜または熱線遮蔽用膜。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
〔実施例６〕
実施例１の表面改質まで、同一工程で実施し、ハンマー式微粉砕機（装置名：ダルトン製ラボミルＬＭ０５）を用いて大気中で乾式粉砕を実施し、上記実施例１と同様に、導電性評価並びに、熱線遮蔽評価等を実施した。表１に、これらの結果を示す。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
【表１】
2012091953.tif 000001
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
表１に示すように、実施例１〜６の全てで、評価項目全てが良好であった。これに対して、比較例１〜６は、いずれもＩＴＯ粉末のＬ値が高く、メジアン径、Ｄ９０が大きく、比表面積が低く、分散滞留時間が長かった。４価の錫化合物を原料に用いた比較例１、２、および（Ａ）工程で、溶液のｐＨが９．５の比較例３は、いずれも全光線透過率、表面抵抗値、分散液の％Ｔｖと％Ｔｓの全てで悪かった。比較例１は、ヘーズ値が高く、粉末成形試験の結果も悪かった。比較例４〜６は、Ｎ２流量が少なかったためである、と考えられる。
【手続補正書】
【提出日】平成24年4月3日(2012.4.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
インクを吐出するための複数の吐出口が配列されることにより構成される第１吐出口列と第２吐出口列とを有する記録ヘッドを前記第１、第２の吐出口列を構成する吐出口の配列方向と交差する走査方向に走査させながら前記記録ヘッドよりインクを吐出させて記録媒体に画像を記録するインクジェット記録装置であって、
前記第１吐出口列の一部の連続して配置される複数の吐出口と前記第１吐出口列の他部の連続して配置される複数の吐出口との相対的なインクの吐出タイミングを調整するための第１調整値を取得するための第１パターンと、前記第２吐出口列の一部の連続して配置される複数の吐出口と前記第２吐出口列の吐出口のうちの他部の連続して配置される複数の吐出口との相対的なインクの吐出タイミングを調整するための第２調整値を取得するための第２パターンと、前記第１吐出口列の前記一部の連続して配置される複数の吐出口と前記第２吐出口列の前記一部の連続して配置される複数の吐出口との相対的なインクの吐出タイミングを調整するための第３調整値を取得するための第３パターンと、を記録ヘッドに一度に記録させるパターン記録手段と、
前記第１パターンに基づいて前記第１調整値をメモリに格納することと、前記第２パターンに基づいて前記第２調整値をメモリに格納することと、前記第３パターンに基づいて前記第３調整値をメモリに格納することと、を前記第１パターンと前記第２パターンと前記第３パターンとを記録した後に行う制御手段と、を有することを特徴とするインクジェット記録装置。
【請求項２】
前記第１吐出口列と第２吐出口列は前記走査方向に並んで配置されていることを特徴とする請求項１に記載のインクジェット記録装置。
【請求項３】
前記第１吐出口列と第２吐出口列を異なる記録ヘッドに備えていることを特徴とする請求項１または２に記載のインクジェット記録装置。
【請求項４】
前記第１吐出口列と第２吐出口列を異なるチップに備えていることを特徴とする請求項１または２に記載のインクジェット記録装置。
【請求項５】
前記第１調整値に基づき前記第１吐出口列の前記一部の連続する複数の吐出口と前記第１吐出口列の前記一部の連続する複数の吐出口との相対的なインクの吐出タイミングを調整し、前記第３調整値に基づき前記第１吐出口列の前記一部の連続する複数の吐出口と前記第２吐出口列の前記一部の連続する複数の吐出口との相対的なインクの吐出タイミングを調整し、前記第１吐出口列の前記一部の連続して配置される複数の吐出口と前記第２吐出口列の前記一部の連続して配置される複数の吐出口との相対的なインクの吐出タイミングを調整する調整手段を有し、
前記調整手段は、記録データを前記主走査方向にオフセットさせることによりインクの吐出タイミングを調整することを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載のインクジェット記録装置。
【請求項６】
前記第１調整値に基づき前記第１吐出口列の１つの吐出口群と前記第１吐出口列の他の吐出口群との相対的なインクの吐出タイミングを調整し、前記第２調整値に基づき前記第１吐出口列の前記一部の連続する複数の吐出口と前記第２吐出口列の前記一部の連続する複数の吐出口との相対的なインクの吐出タイミングを調整する調整手段を有し、
前記調整手段は、記録データの吐出開始位置を前記主走査方向にオフセットさせることによりインクの吐出タイミングを調整することを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載のインクジェット記録装置。
【請求項７】
前記第１パターン、前記第２パターンおよび前記第３パターンを記録するための画像データは、記録装置内で作成することを特徴とする請求項１から６のいずれかに記載のインクジェット記録装置。
【請求項８】
複数の吐出口が配列されることにより構成される第１吐出口列と第２吐出口列を有する記録ヘッドを前記第１、第２の吐出口列を構成する吐出口の配列方向と交差する走査方向に走査させながら前記記録ヘッドよりインクを吐出させて記録媒体に画像を記録するインクジェット記録制御方法であって、
前記第１吐出口列の一部の連続する複数の吐出口と前記第１吐出口列の他部の連続する複数の吐出口との相対的なインクの吐出タイミングを調整するための第１調整値を取得するための第１パターンと、前記第２吐出口列の一部の連続する複数の吐出口と前記第２吐出口列の他部の連続する複数の吐出口との相対的なインクの吐出タイミングを調整するための第２調整値を取得するための第２パターンと、前記第１吐出口列の前記一部の連続する複数の吐出口と前記第２吐出口列の前記一部の連続する複数の吐出口との相対的なインクの吐出タイミングを調整するための第３調整値を取得するための第２パターンと、を記録ヘッドに一度に記録させるステップと、
前記第１パターンに基づいて前記第１調整値をメモリに格納することと、前記第２パターンに基づいて前記第２調整値をメモリに格納することと、前記第３パターンに基づいて前記第３調整値をメモリに格納することと、を前記第１パターンと前記第２パターンと前記第３パターンとを記録した後に行うステップと、を有することを特徴とするインクジェット記録制御方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４１】
上述の課題を解決する本発明は、インクを吐出するための複数の吐出口が配列されることにより構成される第１吐出口列と第２吐出口列とを有する記録ヘッドを前記第１、第２の吐出口列を構成する吐出口の配列方向と交差する走査方向に走査させながら前記記録ヘッドよりインクを吐出させて記録媒体に画像を記録するインクジェット記録装置であって、前記第１吐出口列の一部の連続して配置される複数の吐出口と前記第１吐出口列の他部の連続して配置される複数の吐出口との相対的なインクの吐出タイミングを調整するための第１調整値を取得するための第１パターンと、前記第２吐出口列の一部の連続して配置される複数の吐出口と前記第２吐出口列の吐出口のうちの他部の連続して配置される複数の吐出口との相対的なインクの吐出タイミングを調整するための第２調整値を取得するための第２パターンと、前記第１吐出口列の前記一部の連続して配置される複数の吐出口と前記第２吐出口列の前記一部の連続して配置される複数の吐出口との相対的なインクの吐出タイミングを調整するための第３調整値を取得するための第３パターンと、を記録ヘッドに一度に記録させるパターン記録手段と、前記第１パターンに基づいて前記第１調整値をメモリに格納することと、前記第２パターンに基づいて前記第２調整値をメモリに格納することと、前記第３パターンに基づいて前記第３調整値をメモリに格納することと、を前記第１パターンと前記第２パターンと前記第３パターンとを記録した後に行う制御手段と、を有することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成24年4月3日(2012.4.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明は、上記の事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、不正行為を阻止可能な設定操作部の被覆動作や被覆解除動作を容易に行うことができるスロットマシンを提供しようとするものである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明は、上記目的を達成するために提案されたものであり、請求項１に記載のものは、変動表示ゲームを実行可能な可変表示装置が内部に設けられた筐体と、該筐体の前面側に開閉可能な状態で取り付けられた前面枠と、を備え、前記変動表示ゲームの結果態様が予め設定された特別結果態様となる確率を複数段階で設定変更可能な確率設定装置を前記筐体内に配置したスロットマシンにおいて、
前記確率設定装置に備えられ、前記確率の設定を変更するための設定操作部と、
前記確率設定装置の外周よりも小さな形状で設けられ、前記設定操作部を被覆可能な被覆部材と、を備え、
前記被覆部材は、当該被覆部材の周縁部を確率設定装置のうち設定操作部の外方に位置する当接外周部へ当接した状態であり、且つ当該被覆部材が設定操作部には接しない状態で前記設定操作部を被覆し、
前記前面枠を筐体に対して閉じることで、筐体と前面枠との間に位置する前記被覆部材により前記設定操作部を被覆した状態に維持可能とすることを特徴とするスロットマシンである。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
本発明によれば、以下のような優れた効果を奏する。
すなわち、変動表示ゲームを実行可能な可変表示装置が内部に設けられた筐体と、該筐体の前面側に開閉可能な状態で取り付けられた前面枠と、を備え、前記変動表示ゲームの結果態様が予め設定された特別結果態様となる確率を複数段階で設定変更可能な確率設定装置を前記筐体内に配置したスロットマシンにおいて、確率設定装置に備えられ、確率の設定を変更するための設定操作部と、確率設定装置の外周よりも小さな形状で設けられ、設定操作部を被覆可能な被覆部材と、を備え、被覆部材は、当該被覆部材の周縁部を確率設定装置のうち設定操作部の外方に位置する当接外周部へ当接した状態であり、且つ当該被覆部材が設定操作部には接しない状態で設定操作部を被覆し、前面枠を筐体に対して閉じることで、筐体と前面枠との間に位置する被覆部材により設定操作部を被覆した状態に維持可能とするので、設定操作部に対して不正行為が行われることを簡単に阻止することができる。また、前面枠を開けば、前面枠の開放動作とは別個の動作を行わずに、被覆部材による設定操作部の被覆状態を解除することができる。したがって、不正行為を阻止可能な設定操作部の被覆動作や被覆解除動作を容易に行うことができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
変動表示ゲームを実行可能な可変表示装置が内部に設けられた筐体と、該筐体の前面側に開閉可能な状態で取り付けられた前面枠と、を備え、前記変動表示ゲームの結果態様が予め設定された特別結果態様となる確率を複数段階で設定変更可能な確率設定装置を前記筐体内に配置したスロットマシンにおいて、
前記確率設定装置に備えられ、前記確率の設定を変更するための設定操作部と、
前記確率設定装置の外周よりも小さな形状で設けられ、前記設定操作部を被覆可能な被覆部材と、を備え、
前記被覆部材は、当該被覆部材の周縁部を確率設定装置のうち設定操作部の外方に位置する当接外周部へ当接した状態であり、且つ当該被覆部材が設定操作部には接しない状態で前記設定操作部を被覆し、
前記前面枠を筐体に対して閉じることで、筐体と前面枠との間に位置する前記被覆部材により前記設定操作部を被覆した状態に維持可能とすることを特徴とするスロットマシン。
【請求項２】
前記被覆部材の周縁部には、前記確率設定装置側へ向けて突出した突出壁を備え、該突出壁の突出端を前記当接外周部に当接可能とし、
前記設定操作部は、前記突出壁の突出方向に押圧操作されることを特徴とする請求項１に記載のスロットマシン。
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月13日(2012.6.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
サブストレート（１）の前面側（ＶＳ）に可動部（２０、３０）を有するウエハが、空洞（Ｋ）を有する保護キャップにより前記空洞が前記前面側に対向するようバキューム封止されるマイクロメカニック式キャップ構造において、
前記空洞（Ｋ）が、１つの基面と、互いに向き合った平行な側壁区分から成る２つの側壁区分対（Ａ１，Ａ２；Ａ３，Ａ４）により形成され、少なくとも１つの、前記基面を補強する壁区分である安定化壁区分（ＳＫ１，ＳＫ２；Ｓ１−Ｓ４）が２つの側壁区分を互いに結合するように設けられており、
前記安定化壁区分（ＳＫ１，ＳＫ２）は、前記空洞（Ｋ）の空洞輪郭に対し低位に配置されていることを特徴とする、マイクロメカニック式キャップ構造。
【請求項２】
前記空洞（Ｋ）が方形の形を有している、請求項１記載のマイクロメカニック式のキャップ構造。
【請求項３】
前記空洞（Ｋ）が側壁区分（Ａ１−Ａ４）に対し平行に基面の上を延びる２つの交差する安定化壁区分（ＳＫ１，ＳＫ２）を有している、請求項１又は２記載のマイクロメカニック式のキャップ構造。
【請求項４】
空洞（Ｋ）が、空洞輪郭に沿って、互いに向き合った平行な安定化壁区分（Ｓ１，Ｓ３；Ｓ２，Ｓ４）を２組有しており、安定化壁区分（Ｓ１，Ｓ３；Ｓ２，Ｓ４）が空洞（Ｋ）の隣り合う側壁区分（Ａ１−Ａ４）を、空洞（Ｋ）が８角形の形を有するように互いに結合している、請求項１記載のマイクロメカニック式のキャップ構造。
【請求項５】
前記８角形の内角が１３５°である、請求項４記載のマイクロメカニック式のキャップ構造。
【請求項６】
基面が（１００）平面であって、側壁区分（Ａ１−Ａ４）が（１１１）平面である、請求項１記載のマイクロメカニック式のキャップ構造。
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月1日(2012.6.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
基材上に、常温大気圧下でガスである原料を用いて、Ｓｉ−Ｏ結合を主として、Ｓｉに疎水性置換基を直接接合された薄膜を形成する薄膜形成工程と、
前記薄膜形成工程で得られた薄膜に励起光を照射し、前記疎水性置換基は残存させて前記薄膜にＯＨ基を有するようにする照射工程と、
該照射工程で得られた薄膜上にシランカップリング剤により有機膜を形成する有機膜形成工程と、を有することを特徴とする撥水膜の形成方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
基材上に、Ｓｉ−Ｏ結合を主として、Ｓｉに疎水性置換基を直接接合された薄膜を塗布して焼成することで形成する薄膜形成工程と、
前記薄膜形成工程で得られた薄膜に励起光を照射し、前記疎水性置換基は残存させて前記薄膜にＯＨ基を有するようにする照射工程と、
該照射工程で得られた薄膜上にシランカップリング剤により有機膜を形成する有機膜形成工程と、を有することを特徴とする撥水膜の形成方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明は、前記目的を達成するために、基材上に、常温大気圧下でガスである原料を用いて、Ｓｉ−Ｏ結合を主として、Ｓｉに疎水性置換基を直接接合された薄膜を形成する薄膜形成工程と、前記薄膜形成工程で得られた薄膜に励起光を照射し、前記疎水性置換基は残存させて前記薄膜にＯＨ基を有するようにする照射工程と、該照射工程で得られた薄膜上にシランカップリング剤により有機膜を形成する有機膜形成工程と、を有することを特徴とする撥水膜の形成方法を提供する。なお、薄膜形成工程は、常温大気圧下でガスである原料を用いる場合、ｃａｔ−ＣＶＤ又はプラズマＣＶＤで行うことが好ましい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１２】
また、本発明は、前記目的を達成するために、基材上に、Ｓｉ−Ｏ結合を主として、Ｓｉに疎水性置換基を直接接合された薄膜を塗布して焼成することで形成する薄膜形成工程と、前記薄膜形成工程で得られた薄膜に励起光を照射し、前記疎水性置換基は残存させて前記薄膜にＯＨ基を有するようにする照射工程と、該照射工程で得られた薄膜上にシランカップリング剤により有機膜を形成する有機膜形成工程と、を有することを特徴とする撥水膜の形成方法を提供する。
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月14日(2012.6.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００２】
蒸気タービンに用いられる低圧段動翼は、これを使用した火力発電設備の発電効率を高めるために、翼長の長大化が望まれる。そして、翼長を長大化するとその遠心力も増加するために、蒸気タービン動翼は安全性確保の観点から高強度化を図る必要がある。
従来、１２Ｃｒ（クロム）鋼を使用した蒸気タービン動翼が知られている（例えば、特許文献１参照）。この蒸気タービン動翼によれば、高強度を具備する１２Ｃｒ鋼によって、高い安全性を確保することができる。
ところで、今後の輸出拡大が見込まれる海外での蒸気タービンプラントにおいては、日本よりも水質が悪い場合を想定して、蒸気タービン動翼の高強度化を図ると共に、水質に応じた耐食性の向上をも図る必要がある。その点を考慮すると、前記した１２Ｃｒ鋼は耐食性が不十分である。
【手続補正書】
【提出日】平成24年2月6日(2012.2.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
船舶の位置情報を取得する位置情報取得装置と、海底形状を含む電子海図と潮位表とを記憶する情報記憶装置と、画像表示装置と、前記画像表示装置に画像を提供する画像提供装置と、前記船舶の向きを取得する向き取得装置と、を含む画像表示システムであって、
前記画像提供装置は、前記位置情報取得装置で取得された前記船舶の位置情報と、前記潮位表と、電子海図の示す水深に関する情報と、に基づいて、前記船舶の位置の海面下の深度を求め、更に、前記位置情報取得装置で取得された前記船舶の位置情報に基づいて特定される前記画像表示装置の位置情報と、前記向き取得装置で取得された向きと、前記画像表示装置の大きさと、に基づいて、前記画像表示装置からの視野を特定し、特定した視野と、前記海面下の深度と、前記電子海図の示す海底地形画像データと、に基づいて、前記視野内の前記深度の海面下の海底形状の仮想空間画像を作成し、前記画像表示装置に提供し、
前記画像表示装置は、前記画像提供装置より提供された海底形状の仮想空間画像を前記画像表示装置からの風景に重畳して表示する画像表示システム。
【請求項２】
前記画像提供装置は、前記情報記憶装置に記憶されている前記船舶の積荷及び乗客数に関する情報のうち少なくともどちらかに応じて前記船舶の喫水を求め、前記喫水と、前記位置情報と、前記海面下の深度と、前記電子海図と、に基づいて、前記船舶の位置の前記深度の海面下の海底形状で、かつ、船体最下部から前記海底形状までの距離が所定の距離内の海底形状を強調表示した海底下の海底形状の仮想空間画像を作成し、前記画像表示装置に提供する請求項１記載の画像表示システム。
【請求項３】
レーダー装置を更に有し、
前記画像提供装置は、前記レーダー装置のエコーに基づく海面下の画像と、前記電子海図の示す海底地形画像データと、を比較し、前記電子海図に載っていない障害物を前記海面下に検知した場合、前記障害物を含む前記海面下の海底形状の仮想空間画像を作成し、前記画像表示装置に提供する請求項１又は２記載の画像表示システム。
【請求項４】
前記船舶の姿勢を検知する検知装置を更に有し、
前記画像提供装置は、前記検知装置で検知された前記船舶の姿勢に基づいて、前記作成した海底形状の仮想空間画像の海面を前記画像表示装置からの風景の海面と水平になるよう座標変換を行い、前記画像表示装置に提供する請求項１乃至３何れか１項記載の画像表示システム。
【請求項５】
情報を受信する受信装置を更に有し、
前記受信装置は、前記船舶が存在する海域の他の船舶の情報を海上交通センターから受信し、
前記画像提供装置は、前記受信装置で受信された前記他の船舶の情報を含む仮想空間画像を作成し、前記画像表示装置に提供し、
前記画像表示装置は、前記画像提供装置より提供された、前記海底形状の仮想空間画像と、前記他の船舶の情報を含む仮想空間画像と、を前記画像表示装置からの風景に重畳して表示する請求項１乃至４何れか１項記載の画像表示システム。
【請求項６】
レーダー装置と、
情報を受信する受信装置を更に有し、
前記受信装置は、他の船舶が取得した前記他の船舶のレーダー装置のエコーを前記他の船舶より受信し、
前記画像提供装置は、前記レーダー装置のエコーに基づく画像と前記受信装置で受信された前記他の船舶のレーダー装置のエコーに基づく画像とを比較することで、前記レーダー装置のエコーで検知した障害物と前記レーダー装置のエコーでは検知できなかった障害物とを含む仮想空間画像を作成し、作成した仮想空間画像を前記画像表示装置に提供し、
前記画像表示装置は、前記画像提供装置より提供された、前記海底形状の仮想空間画像と、前記レーダー装置のエコーで検知した障害物と前記レーダー装置のエコーでは検知できなかった障害物とを含む仮想空間画像と、を前記画像表示装置からの風景に重畳して表示する請求項１乃至５何れか１項記載の画像表示システム。
【請求項７】
船舶の位置情報を取得する位置情報取得装置と、海底形状を含む電子海図と潮位表とを記憶する情報記憶装置と、画像表示装置と、前記画像表示装置に画像を提供する画像提供装置と、前記船舶の向きを取得する向き取得装置と、を含む画像表示システムにおける画像表示方法であって、
前記画像提供装置が、前記位置情報取得装置で取得された前記船舶の位置情報と、前記潮位表と、電子海図の示す水深に関する情報と、に基づいて、前記船舶の位置の海面下の深度を求め、更に、前記位置情報取得装置で取得された前記船舶の位置情報に基づいて特定される前記画像表示装置の位置情報と、前記向き取得装置で取得された向きと、前記画像表示装置の大きさと、に基づいて、前記画像表示装置からの視野を特定し、特定した視野と、前記海面下の深度と、前記電子海図の示す海底地形画像データと、に基づいて、前記視野内の前記深度の海面下の海底形状の仮想空間画像を作成し、前記画像表示装置に提供するステップと、
前記画像表示装置が、前記画像提供装置より提供された海底形状の仮想空間画像を前記画像表示装置からの風景に重畳して表示するステップと、
を含む画像表示方法。
【請求項８】
コンピュータに、
船舶の位置情報と、潮位表と、電子海図の示す水深に関する情報とに基づいて、前記船舶の位置の海面下の深度を求める計測ステップと、
前記船舶の位置情報に基づいて特定される画像表示装置の位置情報と、船舶の向きと、画像表示装置の大きさと、に基づいて、前記画像表示装置からの視野を特定する特定ステップと、
前記特定ステップで特定された視野と、前記計測ステップで求められた海面下の深度と、電子海図の示す海底地形画像データと、に基づいて、前記視野内の前記深度の海面下の海底形状の仮想空間画像を作成し、画像表示装置に提供するステップと、
を実行させるためのプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成24年11月2日(2012.11.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
卵包装装置であって、
卵をＮ列で搬送する卵搬送部と、
卵を収容するように２行×Ｍ列で設けられた収容部を有する複数の容器を搬送する容器搬送部と、
前記卵搬送部から２行×Ｎ列で卵を取り出、取り出した卵を前記容器に充填する移載部とを備え、
前記容器搬送部では、前記移載部により取り出された卵が、列方向を揃えて隣り合う容器の隣り合う前記収容部に渡って充填されるように、搬送される容器が隣接して搬送される、卵包装装置。
【請求項２】
卵包装装置であって、
長軸を鉛直方向としてＮ列で収容された卵を搬送する卵搬送部と、
前記卵搬送部から２行×Ｎ列で取り出した卵を容器にＮ行×２列で充填する移載部と、
前記移載部が卵を充填する容器の卵収容部が２列縦隊となるように複数の容器を隣接させて搬送する容器搬送部と、を備える卵包装装置。
【請求項３】
前記卵搬送部の卵搬送方向と前記容器搬送部の容器搬送方向が平行であり、
前記移載部は、水平に９０°回転してから卵を容器に充填する
請求項１〜３のいずれか一項に記載の卵包装装置。
【請求項４】
前記卵搬送部の卵搬送方向と前記容器搬送部の容器搬送方向が交差する
請求項１〜３のいずれか一項に記載の卵包装装置。
【請求項５】
卵包装方法であって、
卵をＮ列で搬送するステップと、
卵を収容するように２行×Ｍ列で設けられた収容部を有する複数の容器を隣接させて搬送するステップと、
前記卵搬送部から２行×Ｎ列で卵を取り出、取り出した卵を、列方向を揃えて隣り合う容器の隣り合う前記収容部に渡って充填するステップとを含む、卵包装方法。
【請求項６】
卵包装方法であって、
長軸を鉛直方向としてＮ列で収容された卵を搬送するステップと、
２行×Ｎ列で取り出した卵を容器にＮ行×２列で充填するステップと、
卵収容部が２列縦隊となるように複数の容器を隣接させて搬送するステップと、を備える卵包装方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年12月1日(2011.12.1)
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
容器の物品取り出し口に嵌着され、注ぎ口等の物品の取り出し口を有する容器側部材と、前記容器側部材の物品の取り出し口に嵌着されるキャップとを備え、このキャップと容器側部材との相対回転により物品の取り出し口を開放可能なキャップとからなる容器における物品の取り出し口の開閉装置であって、キャップは物品の取り出し口を閉じたときに容器側部材の肩部に近接乃至当接する部分が長円若しくは楕円あるいは角形等の中心から周縁部分までの距離が異なる角型若しくは星型の形状にするとともに、キャップの容器側部材への装着時に、前記容器側部材の物品の取り出し口周縁に設けた掛合受け部に掛合する掛合部をキャップの内方に形成し、容器側部材の肩部には前記キャップの周縁までの長い距離の部分の回転軌跡より内方で、短い距離の回転軌跡中にキャップを肩部から離間させる隆起部を設け、キャップと容器側部材とを相対回転させることにより、キャップの周縁までの距離が短い部分が前記隆起部に乗り上げて、掛合受け部とこれに掛合する掛合部との掛合を解除するように構成したことを特徴とする容器における物品の取り出し口の開閉装置。
【請求項２】
容器側部材の物品の取り出し口が小径の円筒状に形成され、当該円筒状の外周面に掛合受け部を連続若しくは不連続の環状に形成し、キャップの内部の中央部分に前記筒状に形成された物品の取り出し口に外嵌する円筒部分を形成し、当該円筒部分の下端の内周面に前記掛合受け部に掛合する複数の掛合部を形成するとともに、掛合部間に拡開用スリットを形成したことを特徴とする請求項１に記載の容器における物品の取り出し口の開閉装置。
【請求項３】
掛合受け部若しくはこれに当接して掛合する掛合部の当接面の少なくとも一方が、容器側部材の軸線に対して掛合が離脱しやすい角度の傾斜面に形成されていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の容器における物品の取り出し口の開閉装置。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
以下、本発明にかかる容器における物品の取り出し口の開閉装置の最も好ましい実施の形態を図面に基づいて説明する。
図１は本発明にかかる容器における物品の取り出し口の開閉装置を装着した容器の斜視図、図２は物品の取り出し口の開閉装置の縦断正面図であって、図中符号１は物品の取り出し口の開閉装置を装着した容器を全体的に示す。
この容器１は、例えば蜂蜜やコンデンスミルクあるいはマヨネーズ等の粘性液体流動物を貯留するものであって、容器本体２を弾性変形させて中の粘性流体を押し出せるようにするために、ポリプロピレン樹脂で上部に開口部３（図２参照）を有するようにブロー成型された半透明の容器本体２と、当該容器本体２の開口部３に装着される開閉装置４とを備えてなる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
斯くして、容器本体２の開口部３に嵌着された容器１における開閉装置４のキャップ８を外して筒状ノズル１１を開く場合を説明する。
先ず、容器本体２若しくは容器本体２に装着した容器側部材７を一方の手で掴み、他方の手でキャップ８を回動させると、この容器側部材７とキャップ８との相対回転により、図９に示すようにキャップ８の周縁までの距離が短い短軸方向１９の部分が、その回転軌跡２２中に形成された隆起部１７に乗り上げてキャップ８が押し上げられる。
こうしてキャップ８が押し上げられると、これまで掛合受け部１４に掛合していたキャップ８の掛合部１３が、拡開用スリット２３部分で外側に広がり、掛合受け部１４を乗り越えるので、キャップ８は上方に取り外すことができる。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月29日(2011.6.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
脱髄疾患を治療するために哺乳類の神経細胞の再有髄化を促進する量の再有髄化剤で薬剤を使用し、調製することを特徴とする再有髄化剤の使用方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年6月29日(2011.6.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）アルミニウムアジュバント上に吸着された少なくとも１つのＨＰＶ型のＨＰＶウイルス様粒子（ＶＬＰ）であって、各ＨＰＶ型のＶＬＰは１０〜２００ｍｃｇ／ｍｌの濃度で存在し、かつＨＰＶはＨＰＶ６ａ、ＨＰＶ６ｂ、ＨＰＶ１１、ＨＰＶ１６及びＨＰＶ１８からなる群から選択されるＶＬＰ、
ｂ）ＮａＣｌ、ＫＣｌ、Ｎａ２ＳＯ４、（ＮＨ４）２ＳＯ４、リン酸ナトリウムおよびクエン酸ナトリウムよりなる群から選ばれる生理的に許容される塩、
ｃ）ワクチン溶液のｐＨ範囲をｐＨ６．０〜６．５にするヒスチジンバッファー、および
ｄ）ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、トリトンＸ−１００（登録商標）、トリトンＸ−１１４（登録商標）、ＮＰ−４０（登録商標）、スパン８５及び一連のプルロニックの非イオン性界面活性剤からなる群から選択される、非イオン性界面活性剤
を含んでなるヒトパピローマウイルス（ＨＰＶ）ワクチン製剤。
【請求項２】
該塩が０．１５Ｍ〜０．５Ｍの濃度で存在する、請求項１に記載のワクチン製剤。
【請求項３】
該塩が０．３２Ｍ  ＮａＣｌである、請求項２に記載のワクチン製剤。
【請求項４】
ａ）アルミニウム上に吸収された１０〜２００ｍｃｇ／ｍｌの各ＨＰＶ  ＶＬＰ型（該ＶＬＰは、ＨＰＶ６ａ、ＨＰＶ６ｂ、ＨＰＶ１１、ＨＰＶ１６、ＨＰＶ１８およびそれらの混合物よりなる群から選ばれる）、
ｂ）０．３２Ｍ  ＮａＣｌ、
ｃ）１０ｍＭヒスチジンバッファー（ｐＨ６．２）、および
ｄ）０．０１％ポリソルベート８０
を含む、請求項１に記載のワクチン製剤。
【請求項５】
水溶液である、請求項１に記載のワクチン製剤。
【手続補正書】
【提出日】平成23年11月18日(2011.11.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
イミダフェナシン、その塩、その溶媒和物、またはそれらのプロドラッグを含有する手足症候群の予防および／または治療剤。
【請求項２】
イミダフェナシンを含有する手足症候群の予防および／または治療剤。
【請求項３】
手足症候群が、抗癌剤投与に起因する手足症候群である請求項１または２記載の予防および／または治療剤。
【請求項４】
抗癌剤が、代謝拮抗剤または分子標的薬である請求項３記載の予防および／または治療剤。
【請求項５】
代謝拮抗剤がカペシタビンであり、分子標的薬がスニチニブリンゴ酸塩またはソラフェニブトシル酸塩である請求項４記載の予防および／または治療剤。
【請求項６】
抗癌剤が代謝拮抗剤である請求項４記載の予防および／または治療剤。
【請求項７】
抗癌剤が分子標的薬である請求項４記載の予防および／または治療剤。
【請求項８】
代謝拮抗剤がカペシタビンである請求項６記載の予防および／または治療剤。
【請求項９】
分子標的薬がスニチニブリンゴ酸塩、またはソラフェニブトシル酸塩である請求項７記載の予防および／または治療剤。
【請求項１０】
イミダフェナシン、その塩、その溶媒和物、またはそれらのプロドラッグを含有する手足症候群の予防および／または治療剤と、保湿剤、抗生物質、ステロイド外用剤、ステロイド内服薬、非ステロイド性消炎鎮痛剤およびビタミンＢ6製剤からなる群から選択される１以上を組み合わせてなる、手足症候群の予防および／または治療のための医薬。
【請求項１１】
イミダフェナシン、その塩、その溶媒和物、またはそれらのプロドラッグを含有する手足症候群の予防および／または治療剤と、抗癌剤を組み合わせてなる、手足症候群の予防および／または治療のための医薬。
【手続補正書】
【提出日】平成24年2月20日(2012.2.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
炎症性腸疾患の治療における、経口投与のための医薬組成物であって、ヒト・ベータ・ディフェンシンを含む前記組成物。
【請求項２】
前記ヒト・ベータ・ディフェンシンが、０．００１ｍｇ／ｋｇ体重〜１０ｍｇ／ｋｇ体重、好ましくは０．０１ｍｇ／ｋｇ体重〜１０ｍｇ／ｋｇ体重の一日用量で投与される、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記ヒト・ベータ・ディフェンシンが、配列番号１、配列番号２、配列番号３、又は配列番号４のアミノ酸配列と、少なくとも８０％、好ましくは少なくとも８５％、より好ましくは少なくとも９０％、そして最も好ましくは少なくとも９５％の同一性を有する、請求項１又は２に記載の組成物。
【請求項４】
前記ヒト・ベータ・ディフェンシンが、ヒト・ベータ・ディフェンシン１、ヒト・ベータ・ディフェンシン２、ヒト・ベータ・ディフェンシン３、又はヒト・ベータ・ディフェンシン４である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項５】
前記ヒト・ベータ・ディフェンシンが、配列番号２のアミノ酸配列と少なくとも８０％の同一性を有する、請求項１〜４のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項６】
前記ヒト・ベータ・ディフェンシンが、配列番号２のアミノ酸配列と少なくとも８５％の同一性を有する、請求項１〜５のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項７】
前記ヒト・ベータ・ディフェンシンが、配列番号２のアミノ酸配列と少なくとも９０％の同一性を有する、請求項１〜５のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項８】
前記ヒト・ベータ・ディフェンシンが、配列番号２のアミノ酸配列と少なくとも９５％の同一性を有する、請求項１〜５のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項９】
前記ヒト・ベータ・ディフェンシンが、ヒト・ベータ・ディフェンシン２（配列番号２）である、請求項１〜８のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１０】
前記炎症性腸疾患がクローン病である、請求項１〜９のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１１】
前記炎症性腸疾患が潰瘍性大腸炎である、請求項１〜９のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１２】
前記治療がなされた組織中において、ＴＮＦ−アルファ活性が減少する、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項１３】
配列番号１、配列番号２、配列番号３、又は配列番号４のアミノ酸配列のいずれか一つと、少なくとも８０％、好ましくは少なくとも８５％、より好ましくは少なくとも９０％、そして最も好ましくは少なくとも９５％の同一性を有するヒト・ベータ・ディフェンシンを投与することを含む、組織においてＴＮＦ−アルファ活性を減少させる方法。
【請求項１４】
配列番号１、配列番号２、配列番号３、又は配列番号４のアミノ酸配列のいずれか一つと、少なくとも８０％、好ましくは少なくとも８５％、より好ましくは少なくとも９０％、そして最も好ましくは少なくとも９５％の同一性を有するヒト・ベータ・ディフェンシンを投与することを含む、組織においてＴＮＦ−アルファ活性を減少させるイン・ビトロでの方法。
【請求項１５】
配列番号１、配列番号２、配列番号３、又は配列番号４のアミノ酸配列のいずれか一つと、少なくとも８０％、好ましくは少なくとも８５％、より好ましくは少なくとも９０％、そして最も好ましくは少なくとも９５％の同一性を有するヒト・ベータ・ディフェンシンを投与することを含む、組織においてＩＬ−１０活性を増大させる方法。
【請求項１６】
配列番号１、配列番号２、配列番号３、又は配列番号４のアミノ酸配列のいずれか一つと、少なくとも８０％、好ましくは少なくとも８５％、より好ましくは少なくとも９０％、そして最も好ましくは少なくとも９５％の同一性を有するヒト・ベータ・ディフェンシンを投与することを含む、組織においてＩＬ−１０活性を増大させるイン・ビトロでの方法。