(57)【要約】      （修正有）【課題】製造プロセスを簡単にすると共に、材料コストを節約できる静電式タッチパネルを提供する。【解決手段】基板１０と、該基板１０の上面に設置される複数の導線１３と、基板１０の上面に設置される硬化膜層２０とを有し、かつ、該硬化膜層２０の上面の周囲に不透明な絶縁インク層２１が形成され、該絶縁インク層２１は、各導線を被覆するものである。【選択図】図１
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【実用新案登録請求の範囲】
【請求項１】
基板１０と、
該基板１０の上面に設置される複数の導線１３と、
該基板１０の上面に設置される硬化膜層２０とを有し、
該硬化膜層２０の上面の周囲に不透明な絶縁インク層２１が形成され、
該絶縁インク層２１は、該各導線１３Ａを被覆することを特徴とする静電式タッチパネル。
【請求項２】
前記基板１０は、互いに交差するように排列される複数の第一誘導層１１と、複数の第二誘導層１２とを備え、該複数の第一誘導層１１は、同一の軸方向を有し、該複数の第二誘導層１２は、前記基板１０の上面における第一誘導層１１が設置されないところに設置され、同一の軸方向を有し、
前記基板１０の上面に設置される導線１３の数量は、該第一誘導層１１及び第二誘導層１２の数量と対応し、前記複数の導線１３はそれぞれ、一端が対応した第一誘導層１１又は第二誘導層１２に接続され、他端が基板１０の一側縁部に延設されることを特徴とする請求項１に記載の静電式タッチパネル。
【請求項３】
前記各第一誘導層１１は、互いに接続する複数の誘導区１１１を備えると共に、その軸方向の一側の誘導区１１１の側縁部に、ポート１１２が設置され、
前記各第二誘導層１２は、互いに接続する複数の誘導区１２１を備えると共に、その軸方向の一側の誘導区１２１の側縁部に、ポート１２２が設置され、
前記複数の導線１３はそれぞれ、一端が対応した第一誘導層１１又は第二誘導層１２のポート１１２、１２２に接続され、
前記絶縁インク層２１は、前記各第一誘導層１１及び第二誘導層１２のポート１１２、１２２を被覆することを特徴とする請求項２に記載の静電式タッチパネル。
【請求項４】
前記硬化膜層２０は、二酸化ケイ素からなることを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載の静電式タッチパネル。
【請求項５】
前記第一誘導層１１及び第二誘導層１２における誘導区１１１、１２１は、酸化インジウムスズからなることを特徴とする請求項１乃至３の何れか１項に記載の静電式タッチパネル。
【請求項６】
前記第一誘導層１１及び第二誘導層１２における誘導区１１１、１２１は、酸化インジウムスズからなることを特徴とする請求項４に記載の静電式タッチパネル。
【請求項７】
前記基板１０Ａの上面に、誘導層１４Ａ及び４本の前記導線１３Ａが設置され、該４本の導線１３Ａはそれぞれ、一端が該誘導層１４Ａの隅角部に接続され、他端が前記基板１０Ａの一側縁部に延設されることを特徴とする請求項１に記載の静電式タッチパネル。
【請求項８】
前記硬化膜層２０Ａは、二酸化ケイ素からなることを特徴とする請求項７に記載の静電式タッチパネル。
【請求項９】
前記誘導層１４Ａは、酸化インジウムスズからなることを特徴とする請求項７に記載の静電式タッチパネル。
【請求項１０】
前記誘導層１４Ａは、酸化インジウムスズからなることを特徴とする請求項８に記載の静電式タッチパネル。
【考案の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本考案は、特に上層及び粘着層が不要な静電式タッチパネルに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
タッチパネルは、技術の原理によって、静電容量方式や、抵抗膜方式、表面弾性波方式、赤外線方式などを有し、静電容量方式タッチパネルは、耐水性、スクラッチし、高い光透過率などに優れた点を備えるものであるから、高級製品によく使用される。
【０００３】
前記静電式タッチパネルは、ワンピースの基板のタイプとしては、図５に示すように、静電式タッチパネル３０の基板３１の一側面に、導電グラスが設置され、その導電グラスにキズをしないように、基板３１の側面に保護するための硬化膜層４１が設置される。
【０００４】
また、静電式タッチパネル３０の内部に、タッチポイントの信号を出力するための複数の導線は、不透明なものであることから、それらを使用者に見られないように、一般的に、静電式タッチパネル３０の上面にさらに上層４２が設置されると共に、その上層４２と硬化膜層４１との間に粘着層４３が設置され、その粘着層４３を介して硬化膜層４１と上層４２とを接着することができる。かつ、該上層４２の底面に、静電式タッチパネル３０の導線と対応するところに、不透明なインク層４４が塗布され、それによれば、使用者は、タッチパネルを操作する時に、不透明な導線を見られなくなる。
【考案の概要】
【考案が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、従来の静電式タッチパネルは、上層４２及び粘着層４３において、製造上、又は、材料のコストに問題があり、製品の厚さを増加しまい、コンパクトの製品のトレンドに満たさないことから、改良の必要を有する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本考案に係る静電式タッチパネルは、基板１０と、該基板１０の上面に設置される複数の導線１３と、該基板１０の上面に設置される硬化膜層２０とを有し、且つ、該硬化膜層２０の上面の周囲に不透明な絶縁インク層２１が形成され、該絶縁インク層２１は、該各導線１３Ａを被覆するものである。
【０００７】
また、前記基板１０は、互いに交差するように排列される複数の第一誘導層１１と、複数の第二誘導層１２とを備え、該複数の第一誘導層１１は、同一の軸方向を有し、該複数の第二誘導層１２は、前記基板１０の上面における第一誘導層１１が設置されないところに設置され、同一の軸方向を有し、
前記基板１０の上面に設置される導線１３の数量は、該第一誘導層１１及び第二誘導層１２の数量と対応し、前記複数の導線１３はそれぞれ、一端が対応した第一誘導層１１又は第二誘導層１２に接続され、他端が基板１０の一側縁部に延設されることが好ましい。
【０００８】
さらに、前記各第一誘導層１１は、互いに接続する複数の誘導区１１１を備えると共に、その軸方向の一側の誘導区１１１の側縁部に、ポート１１２が設置され、
前記各第二誘導層１２は、互いに接続する複数の誘導区１２１を備えると共に、その軸方向の一側の誘導区１２１の側縁部に、ポート１２２が設置され、
前記複数の導線１３はそれぞれ、一端が対応した第一誘導層１１又は第二誘導層１２のポート１１２、１２２に接続され、
前記絶縁インク層２１は、前記各第一誘導層１１及び第二誘導層１２のポート１１２、１２２を被覆することが好ましい。
【０００９】
前記硬化膜層２０は、二酸化ケイ素で構成することが望ましい。
【００１０】
前記第一誘導層１１及び第二誘導層１２における誘導区１１１、１２１は、酸化インジウムスズで構成することが望ましい。
【００１１】
前記基板１０Ａの上面に、誘導層１４Ａ及び４本の前記導線１３Ａが設置され、該４本の導線１３Ａはそれぞれ、一端が該誘導層１４Ａの隅角部に接続され、他端が前記基板１０Ａの一側縁部に延設される。
【００１２】
前記誘導層１４Ａは、酸化インジウムスズ構成することが望ましい。
【考案の効果】
【００１３】
本考案に係る静電式タッチパネルは、上記の課題を解決するものであり、硬化膜層に絶縁インク層が形成される技術によって、タッチパネルの製造プロセスを簡単にさせ、材料のコストを節約し、薄くてコンパクトの製品を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本考案に係る静電式タッチパネルの第一実施例の部分分解斜面図である。
【図２】本考案に係る静電式タッチパネルの第一実施例の上側の平面図である。
【図３】本考案に係る静電式タッチパネルの第二実施例の部分分解斜面図である。
【図４】本考案に係る静電式タッチパネルの第二実施例の上側の平面図である。
【図５】従来の静電式タッチパネルの部分分解斜面図である。
【考案を実施するための形態】
【００１５】
以下、添付図面を参照して本考案の好適な実施の形態を詳細に説明する。尚、下記実施例は、本考案の好適な実施の形態を示したものにすぎず、本考案の技術的範囲は、下記実施例そのものに何ら限定されるものではない。
【００１６】
図１及び図２に示すように、本考案に係る静電式タッチパネルは、タッチ技術の原理による、投射型及び表面型の二種類を有し、該投射型静電式パッチパネルは、透明な基板１０と、硬化膜層２０とを有するものである。
【００１７】
前記基板１０は、上面に互いに交差するように排列される複数の第一誘導層１１と複数の第二誘導層１２とを備える。該複数の第一誘導層１１は、それぞれ平行するように同一の軸方向に沿って排列される。該各第一誘導層１１は、互いに接続すると共に、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）からなる複数の誘導区１１１が構成されるものである。該複数の第二誘導層１２には、前記基板１０の上面における第一誘導層１１が設置されないところに設置され、それぞれ平行するように同一の軸方向に沿って排列される。該各第二誘導層１２は、互いに接続すると共に、酸化インジウムスズからなる複数の誘導区１２１が構成されるものである。
【００１８】
本実施例における前記誘導区１１１、１２１は、菱形を呈る。前記各第一誘導層１１は、その軸方向の一側の誘導区１１１の側縁部に、ポート１１２が設置される。前記各第二誘導層１２は、その軸方向の一側の誘導区１２１の側縁部に、ポート１２２が設置される。また、該ポート１１２及びポート１２２は、不透明なものである。さらに、前記基板１０は、上面に、前記第一誘導層１１及び第二誘導層１２の数量と対応するような複数の導線１３が設置される。該複数の導線１３はそれぞれ、一端が対応した第一誘導層１１のポート１１２に接続され、或いは、一端が対応した第二誘導層１２のポート１２２に接続され、他端が基板１０の一側縁部に延設される。
【００１９】
前記硬化膜層２０は、二酸化ケイ素（ＳｉＯ2）で構成されている。硬化膜層２０は前記基板１０の上面に設置されると共に、上面の周囲に不透明な絶縁インク層２１が形成される。該絶縁インク層２１は、前記各誘導区１１１及び誘導区１２１のポート１１２及びポート１２２、又は各導線１３を被覆するものである。
【００２０】
図３及び図４に示すように、本考案に係る表面型静電式タッチパネルには、透明な基板１０Ａと、硬化膜層２０Ａとを有し、該基板１０Ａの上面に、ワンピース型の誘導層１４Ａ及び４本の導線１３Ａが設置される。該誘導層１４Ａは、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）からなる。４本の導線１３Ａはそれぞれ、一端が該誘導層１４Ａの隅角部に接続され、他端が基板１０Ａの一側縁部に延設されるものである。
【００２１】
前記硬化膜層２０Ａは、二酸化ケイ素（ＳｉＯ2）からなり、前記基板１０Ａの上面に設置される。、硬化膜層２０Ａの上面の周囲には不透明な絶縁インク層２１Ａが形成される。該絶縁インク層２１Ａは、前記各導線１３Ａを被覆するものである。
【００２２】
図２及び図４に示すように、本考案に係る静電式タッチパネルにおいて、上側から下側を見れば、硬化膜層２０の上面に形成された絶縁インク層２１、２１Ａは、不透明なものであることから、導線１３、１３Ａ及びポート１１２、１２２を遮蔽することができる。さらに、絶縁インク層２１、２１Ａは、直接に硬化膜層２０、２０Ａに形成されるものであるから、従来の技術における上層と、該上層を着接するための粘着層とを設置することが不要であり、製造プロセスを簡単にし、材料コストを節約できて、タッチパネルに関する製品の厚さを薄くできる。
【産業上の利用可能性】
【００２３】
上述したように、本考案に係る静電式タッチパネルは、従来の技術におけるインク層という構造を変わらないように、上層及び粘着層の構造を除く構造を有することから、製造プロセスを簡単にさせると共に、材料のコストを節約することができる。
【符号の説明】
【００２４】
１０、１０Ａ        基板
１１                    第一誘導層
１１１              誘導区
１１２              ポート
１２                    第二誘導層
１２１              誘導区
１２２              ポート
１３、１３Ａ        導線
１４Ａ              誘導層
２０、２０Ａ        硬化膜層
２１、２１Ａ        絶縁インク層
３０                    静電式タッチパネル
３１                    基板
４１                    硬化膜層
４２                    上層
４３                    粘着層
４４                    インク層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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