【事件の表示】
　平成１１年特許願第１９２９９４号「スパッタリング用ターゲットの製造方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１３年　１月２３日出願公開、特開２００１−　２００６５〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯・本願発明
　本願は平成１１年７月７日の出願であって、平成１７年３月２３日付けで拒絶理由が通知され、同年５月３０日付けで意見書及び手続補正書が提出され、平成１８年４月１３日付けで拒絶理由が通知され、同年６月１９日付けで意見書及び手続補正書が提出され、同年８月１０日付けで当該６月１９日付け手続補正書による補正が却下されるとともに、拒絶査定され、同年１０月５日付けで拒絶査定不服審判が請求され、その後、平成２１年８月３日付けで当審から拒絶理由が通知され、同年１０月２日に意見書及び手続補正書が提出されたものであって、その請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、平成２１年１０月２日付け手続補正書によって補正された明細書の特許請求の範囲請求項１に記載された事項により特定される次のとおりのものであると認める。
　
【請求項１】　高融点金属材料を主体とする粉末材料を水素ガスを導入した高周波熱プラズマ内に導入し、該高周波熱プラズマの高温帯を通過させながら溶融することにより精錬及び球状化し、得られた粉末を加圧焼結することを特徴とするスパッタリング用ターゲットの製造方法。
　
２．引用文献
２−１．引用例１
　当審からの拒絶理由に引用文献１として引用された本願出願前に頒布された刊行物である特開平３−１７３７０４号公報（以下、「引用例１」という。）には、次の事項が記載されている。
（あ）「（１）所定の成分組成になるように溶製した難加工性材料をプラズマ回転電極法により球状粉末とし、この粉末を所定のカプセルに充填して脱気密封した後、熱間静水圧プレス法により圧縮成型することを特徴とするスパッタリング用ターゲットの製造方法。」（特許請求の範囲　請求項１）
（い）「本発明は、高純度でかつ均質性の高い難加工性材料からなるスパッタリング用ターゲット、特に、半導体用電極材料の製造に使用されるスパッタリング用ターゲットの製造方法に関する。」（１頁左下欄１８行〜同頁右下欄１行）
（う）「原料として・・・・・・タングステンシリサイド、モリブデンシリサイド、ニオブシリサイドまたはタンタルシリサイドのような難加工性材料を用いた場合、本発明方法は特に効果的である。」（２頁右下欄１４〜１８行）
（え）「本発明方法においては、溶製材を再度溶融状態とし、粉末状にした後焼結する工程を採用しているので、ミクロ偏析は最小限に抑えられる。しかも、回転電極法の採用により球状の粉末が得られるので、カプセルに充填した際の充填率が高く、熱間静水圧プレス処理に伴う収縮変形が少ない。また、従来行われている機械的な破砕工程を伴わないので、酸素含有量の増加や破砕機からの重金属等の汚染もなく、均質で、純度の高いターゲットを製造することが可能となる。」（２頁右下欄２０行〜３頁左上欄９行）
２−２．引用例２
　同じく、当審からの拒絶理由に引用文献２として引用された本願出願前に頒布された刊行物である特開平４−２４６１０４号公報（以下、「引用例２」という。）には、次の事項が記載されている。
（お）「【請求項１】高周波磁場を利用して誘導的に高周波プラズマを発生させるとともに、この発生したプラズマフレームの先端領域に、このプラズマフレームの流れの方向と向流的に処理物質を供給することを特徴とするプラズマによる球状化粒子の製造方法。」（特許請求の範囲　請求項１）
（か）「本発明は、高周波誘導プラズマ反応装置により発生させたプラズマフレームを利用して、金属、非金属およびセラミックスなどの不定型粒子の反応性物質を原料として、球状化粒子を製造する方法およびその装置に関する。」（段落【０００１】）
（き）「前記プラズマ発生装置１は、二重管構造の石英管３の外周に高周波コイル２が巻回されており、その下方のガス供給口１ａからアルゴンなどのガスを流し込むとともに、前記高周波コイル２に高周波電流を流し点火することによって、プラズマフレームＦを生じさせるようになっている。・・・・・・前記流入ガスとしては、アルゴンガスの他、ヘリューム、窒素等のガスを使用することでもよい。さらに、特に酸化物の少ない金属粒子を得るために、水素を補助ガスとして同時供給するようにすれば、酸化されない用途的に広い金属粒子を得ることができる。」（段落【００１２】）
（く）「前記処理物質供給ノズル５から供給された処理物質は、プラズマフレームＦの先端領域Ｂ部分と接触し、溶融・凝固することによって、球状化され容器４の排出口４ａより回収される。前記処理物質としては、金属、非金属物質およびセラミック系物質などを処理対象物質として挙げることができる。」（段落【００１３】）
（け）「本発明によれば、従来法では得られないサイズの球状粒子が高い球状化率をもって得ることができる。」（段落【００１８】）
２−３．引用例３
　同じく、当審からの拒絶理由に引用文献３として引用された本願出願前に頒布された刊行物である、吉田豊信、明石和夫、熱プラズマによる金属および金属化合物粉の製造、金属、１９７７年１１月、第４７巻、第１１号、通巻６９２号、２３−２８頁（以下、「引用例３」という。）には、次の事項が記載されている。
（こ）「高周波（ｒｆ）プラズマがある。」（２３頁右欄１１行）
（さ）「他方時代の要請によってより高純度の材料が求められつつあり、そのため電極材料が生成物中に混入するというアークプラズマの欠点を防ぐ方法がいくつか考案されているが、・・・・・・。その点、ｒｆプラズマは電極を必要としないため、不純物の混入の可能性は石英管からのみであり、・・・・・・たとえばＡｒ−Ｏ２のような混合プラズマの場合には、まったく不純物は検出されないといわれる。」（２４頁左欄２３行〜同頁右欄１行）
（し）「Ａ）球状粒子の作成
　プラズマ中に非球形の粉体を投入し、表面または全体を溶融状態にすることによってその表面張力を利用し粉体を球状化させることが可能となる。・・・・・・。またＭｏ、Ｗ、Ｃｒ等の高融点金属も球状化されている。」（２６頁右欄９行〜２７頁左欄１行）
　
３．対比・判断
　引用例１には、上記（あ）の記載からみて「所定の成分組成になるように溶製した難加工性材料をプラズマ回転電極法により球状粉末とし、この粉末を所定のカプセルに充填して脱気密封した後、熱間静水圧プレス法により圧縮成型するスパッタリング用ターゲットの製造方法。」の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されているといえる。
　ここで、本願発明と引用発明とを対比する。
（１）引用例１の上記（う）には、「難加工性材料」として、タングステンシリサイドなどが記載されている。これら金属シリサイドは、金属間化合物であるから合金の一種、すなわち、金属材料であるから、引用例１の「難加工性材料」は金属材料を含むものといえる。
（２）引用発明の「所定の成分組成になるように溶製した難加工性材料をプラズマ回転電極法により球状粉末と」することと、本願発明の「高融点金属材料を主体とする粉末材料を水素ガスを導入した高周波熱プラズマ内に導入し、該高周波熱プラズマの高温帯を通過させながら溶融することにより」「球状化」することとは、金属材料の球状粉末を得る手段である点で共通する。
（３）引用発明の「粉末を所定のカプセルに充填して脱気密封した後、熱間静水圧プレス法により圧縮成型すること」は、本願発明の「粉末を加圧焼結すること」に包含されることは明らかである。 
（４）そうすると、両者は、
 「金属材料の球状粉末を得て、得られた粉末を加圧焼結するスパッタリング用ターゲットの製造方法」である点で一致し、次の点で相違する。
相違点Ａ：金属材料につき、本願発明では「高融点金属材料」であるのに対し、引用発明では、タングステンシリサイドなどの金属シリサイドある点
相違点Ｂ：金属材料の球状粉末を得る手段につき、本願発明では「高融点金属材料を主体とする粉末材料を水素ガスを導入した高周波熱プラズマ内に導入し、該高周波熱プラズマの高温帯を通過させながら溶融することによ」るもので、しかも、「精練」をも行うものであるのに対し、引用発明では「所定の成分組成になるように溶製した高融点金属材料をプラズマ回転電極法によ」るものである点。
　そこで、これら相違点について検討する。
・相違点Ａについて
（５）本願発明の「高融点金属材料」について、本願明細書の記載をみると、「高融点金属（より具体的には鉄よりも高融点の金属材料）」（【００１１】）と記載されており、鉄の融点よりも高融点の金属をいうことは明らかである。ところで、鉄の融点は１５３５℃であり、タングステンシリサイド（ＷＳｉ２）などの金属シリサイドはその融点が上記鉄の融点を超えるものであることは明らかだから、引用発明１の難加工性材料は、本願発明の高融点材料に相当する。また、仮にそうでなくても、高融点材料として、周知のタングステンシリサイドなどの金属シリサイドなる難加工性材料を用いるとは当業者であれば困難なくなし得たことである。
・相違点Ｂについて
（６）引用例２には、上記（お）に、「高周波磁場を利用して誘導的に高周波プラズマを発生させるとともに、この発生したプラズマフレームの先端領域に、このプラズマフレームの流れの方向と向流的に処理物質を供給することを特徴とするプラズマによる球状化粒子の製造方法」と記載され、上記（か）に、金属、非金属およびセラミックスなどの不定型粒子の反応性物質を原料とすること、上記（き）に、アルゴンなどのガスを流し込むとともに高周波コイルに高周波電流を流し点火することによってプラズマフレームを生じさせること、さらに、水素を補助ガスとして同時供給することが、上記（く）に、処理物質はプラズマフレームの先端領域部分と接触し、溶融・凝固することが、それぞれ、記載されているといえる。
　そうすると、引用例２には、金属、非金属およびセラミックスなどの不定型粒子を、水素を補助ガスとして供給して高周波磁場を利用して誘導的に発生させたプラズマフレームに供給し、溶融・凝固することによって球状化する方法、すなわち、「金属、非金属およびセラミックスなどの不定型粒子を、水素を導入した高周波熱プラズマに導入し、溶融することにより球状化する方法」（以下、「球状化方法」という。）が記載されていると認められる。
　さらに、引用例２には、上記（け）に、この球状化方法によれば、従来法では得られないサイズの球状粒子が高い球状化率をもって得ることができることも記載されているといえる。
（７）ところで、引用例２には、上記球状化方法により、鉄よりも融点の高い金属材料の球状粉末を得ることができるとの明記はない。しかし、引用例３の上記（し）に、プラズマ中に非球形の粉体を投入し、表面または全体を溶融状態にすることによってその表面張力を利用し粉体を球状化させる方法により、Ｍｏ、Ｗ、Ｃｒ等の高融点金属も球状化されていることが記載されているとみることができるから、上記球状化方法により高融点金属材料の球状粉末を得ることができるといえる。
（８）また、引用例２には、水素を補助ガスとして供給することに関し、上記（き）に「特に酸化物の少ない金属粒子を得るために、水素を補助ガスとして同時供給するようにすれば、酸化されない用途的に広い金属粒子を得ることができる。」との記載があるだけで、この記載のみからは上記球状化方法により高融点金属材料の球状化と共に精錬がなされるか否かは明確でない。しかし、水素ガスを導入したプラズマ雰囲気中において高融点金属を溶融した場合、水素ガスが解離して発生した活性化水素により高融点金属中の金属不純物、酸素などの非金属不純物が低減され、優れた精錬効果が得られることは、本願出願前当該技術分野において広く知られていたことであるから（必要であれば、特開昭６４−７３０２８号公報、特開平７−９０３９８号公報、特開平８−９２６６２号公報（特に段落【０００９】、【００２５】）を参照。）、上記球状化方法により高融点金属材料の球状粉末を得る場合、高融点金属材料の溶融時に、金属不純物、酸素などの非金属不純物の低減、すなわち精錬が行われることは当業者にとって当然予測し得たことである。さらに、上記球状化方法で使用する高周波熱プラズマは不純物の混入が少ないことは引用例３の上記（こ）（さ）に記載されている。
（９）さらに、本願発明でいう「高周波プラズマ内に導入し、高周波熱プラズマの高温帯を通過させながら溶融する」とは、本願の図１に記載されているように、プラズマガス噴射域から高温プラズマ内を通過させて溶融することと解すると、引用例２には、かかる事項については記載はされていない。
　しかし、上記球状化方法は、不定型粒子を高周波プラズマにより溶融・凝固することによって球状化しているから、この溶融・凝固に当たって不定型粒子が球状化しやすいように高周波プラズマに供給し溶融させることは当然に考慮すべき事項であって、その際、例えば、いずれも平成１８年８月１０日付けの補正却下で提示された、特開平６−３４０９６０号公報、及び、川嵜一博、横田誠二、大西慶一，誘導加熱の上手な利用法−高周波誘導熱プラズマによる超微粒子の合成−、電熱、１９９０年１１月　５日、Ｎｏ．５４、ｐ．２４−３０に記載されているような周知の供給方法といえる、粒子を高周波プラズマ内に導入し、高周波熱プラズマの高温帯を通過させるようにすることは、当業者であれば、適宜選択採用する事項である。
（１０）ところで、引用発明は引用例１の上記（い）に記載のとおり、半導体電極材料の製造に使用される高純度の材料からなるスパッタリング用ターゲットの製造方法に関し、また、同上記（え）に記載のようにカプセル充填の際の充填率の高さ、熱間静水圧プレス処理の際の収縮変形の少なさという球状粉末を得るものといえる。
　そうであれば、半導体電極材料の製造に当たっては材料の純度はより高い方が望ましいことは技術常識であるし、高い球状化率を持った材料が熱間静水圧プレス処理の際に望ましいことは明らかであるから、より高純度の粉末を得るべく、高い球状化率の球状粉末を得る手段として、プラズマ回転電極法に代えて、引用例２に記載された上記球状化方法を採用し、さらには、高周波プラズマにより溶融・凝固するに当たり、粒子を高周波プラズマ内に導入し、高周波熱プラズマの高温帯を通過させながら溶融することは、当業者であれば容易に想到し得たことである。
（１１）そして、本願明細書及び図面の記載を検討しても、本願発明によって当業者が予測し得ない格別顕著な効果を奏するものとは認められない。 
　
４．むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用例１〜３に記載された発明、及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、その余の請求項について論及するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。