【事件の表示】
　特願２０００−　　４５２２「板状ワークの洗浄装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１３年　７月１９日出願公開、特開２００１−１９５７３１〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、平成１２年１月１３日の出願であって、平成１８年１０月３日付けで手続補正がなされ、平成１９年１０月１０日付けで拒絶査定がなされ、これに対して、平成１９年１１月１５日付けで審判請求がなされたものである。
　
２．本願発明
　本願の請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、平成１８年１０月３日付手続補正書により補正された明細書及び図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１に記載された次のとおりのものである。
「【請求項１】　板状ワークの表面を洗浄するために、洗浄条件が変更可能となった洗浄機構を有する１または複数の洗浄工程と、洗浄後にワークを乾燥する乾燥工程とを含む洗浄機構部と、
　洗浄・乾燥後のワークの表面の欠陥検査を行い、表面欠陥がある場合には、洗浄不良に基づく表面欠陥であるか、他の表面欠陥であるかを判定する表面検査部と、
　前記表面検査部の検出結果からワークの洗浄精度を判定して、洗浄精度が低下したことを検出した時には、前記洗浄機構部に洗浄条件を変更する指令を出力するコントローラとを備える構成としたことを特徴とする板状ワークの洗浄装置。」
　
３．引用例
　これに対して原査定の拒絶の理由に引用された特開平７−２２５１９８号公報（以下、「引用例１」という。）には、図面とともに以下の各記載がある（なお、下線は当審で付与した。）。
　（１）「【０００８】
【作用】磁気記録媒体用のガラス基板等に用いられる薄型のガラス基板では可視光のほとんどが透過するとともに、透過光が基板上の欠陥によって変化する。したがって、
成膜工程等の付加価値を付ける工程の前に透過型自動外観装置でその欠陥を検査することができ、しかも製品段階で確実に不良になる基板や、ほこりなど洗浄により再生が可能な基板に分類することができる
　
　（２）「【００１０】磁気記録媒体用のガラス基板の生産工程について説明すると、材料となる基板１はガラス切断工程２を経て円形に切断され、このとき基板を保持するためのクランプ部分も同時に加工されてドーナツ状となる。この加工された基板１は面取加工工程３で切断部分を面取加工された後、研磨工程４で表面が鏡面状態になるように研磨され、
洗浄工程５を経て研磨後の砥粒等が洗い落とされ、更に透過型自動外観検査装置６にて基板表面の外観検査が行われる
　
　（３）「【００１５】この自動検査装置６の作用を説明すると、レーザー光源１２からのレーザー光をこりメータ１２ａ、レンズ１３を介してポリゴンミラー１４でスキャンし、同時に基板１を回転させて、基板１の表面全体をスキャンする。このとき、基板１表面に照射されたレーザー光のスポット中に異物或いはキズ等の欠陥があれば、基板１を透過したレーザー光の光強度が変化するので、その変化量の大きなものを欠陥と判別することができる。
【００１６】また、基板１を透過した光が直接入射されるセンサ１７は、異物や汚れなどの光を吸収する欠陥に対して敏感に反応するのに対して、光路から外れた位置に配設されたセンサ１８には、基板１表面に光を回析・散乱させる欠陥があるときに、レーザー光は図２に点線で示すような光路を通って入射され、これに対して敏感に反応する。
【００１７】
そこで、センサ１７，１８の信号強度によって、センサ１７の信号強度変化がセンサ１８の信号強度変化より大きいときには、光吸収性の欠陥と識別することができ、センサ１７の信号強度変化がセンサ１８の信号強度変化よりも小さいときには、光回析・散乱性の欠陥と識別することができる
【００１８】
更に、ＣＣＤカメラ２２〜２５の受光信号を画像処理することによって、ガラス基板と異なって、基板１自身の強度に大きな影響を及ぼす内外周部分の欠けや割れなどの欠陥を検査することができる
　
　（４）「【００２１】
【発明の効果】以上に説明したように本発明によれば、ガラス基板に磁性膜等を成膜する工程等の付加価値を付ける工程前に
透過型自動外観検査装置によってガラス基板の外観検査を行うようにしたので、欠陥のあるガラス基板を早期に除去することができて、製品の品質が向上するとともに、歩留りが向上し、更に生産ラインへの不良発生に対するフィードバックを迅速に行うことができる
　
　（５）
透過型自動外観検査装置６は、洗浄工程５などの各工程に対してフィートバックを行う。
　
　上記記載事項及び図面を総合勘案すると、引用例１には、次の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されている。
「ガラス基板に対して、洗浄工程５を経て研磨後の砥粒等が洗い落とされた後、基板表面の外観検査を行い、光吸収性の欠陥か、光回折・散乱性の欠陥か、あるいは内外周部分の欠けや割れなどの欠陥かを識別することができ、製品段階で確実に不良になる基板や、ほこりなど洗浄により再生が可能な基板に分類することができる透過型自動外観検査装置６と、
　透過型自動外観検査装置６は生産ライン中の洗浄工程５などへの不良発生に対するフィードバックを迅速に行うことができるようにした装置。」
　
４．対比
　そこで、本願発明と引用発明とを対比すると、
　引用発明における「ガラス基板」は、本願発明における「板状ワーク」に相当する。
　引用発明における「洗浄工程５」は、本願発明における「洗浄工程」に相当し、引用発明においても洗浄工程を有する以上、そのための洗浄機構を備えることも明らかである。
　引用発明における「洗浄工程５を経て研磨後の砥粒等が洗い落とされた後、基板表面の外観検査を行い、光吸収性の欠陥か、光回折・散乱性の欠陥か、あるいは内外周部分の欠けや割れなどの欠陥かを識別することがてき、製品段階で確実に不良になる基板や、ほこりなど洗浄により再生が可能な基板に分類することができる透過型自動外観検査装置６」は、当該透過型自動外観検査装置６がガラス基板すなわちワークの表面の欠陥を検査していることは明らかであり、また、表面欠陥について、ほこりなど洗浄により再生が可能なものであるか、そうでないものであるかを識別・分類できるものであるといえるから、「洗浄後のワークの表面の欠陥検査を行い、表面欠陥がある場合には、どのような表面欠陥であるかを判定する表面検査部」である点で本願発明と相違がない。
　さらに、引用発明における「透過型自動外観検査装置６は生産ライン中の洗浄工程５などへの不良発生に対するフィードバックを迅速に行うことができるようにした」ことは、透過型自動外観検査装置６がその検査結果に基づいて洗浄工程５へ不良発生に対するフィードバックをするための何らかの指令（信号）を出力するコントローラを有しているといえるから、「表面検査部の検出結果に基づいて、洗浄機構部に所定の指令を出力するコントローラとを備える」点で本願発明と相違がない。
　よって、本願補正発明と引用発明とは、
　「板状ワークの表面を洗浄するために、洗浄機構を有する洗浄工程を含む洗浄機構部と、
　洗浄後のワークの表面の欠陥検査を行い、表面欠陥がある場合には、どのような表面欠陥であるかを判定する表面検査部と、
　前記表面検査部の検出結果に基づいて、前記洗浄機構部に所定の指令を出力するコントローラとを備える構成としたことを特徴とする板状ワークの洗浄装置。」
である点で一致し、以下の点で相違する。
［相違点１］
　本願発明は、洗浄機構部が１または複数の洗浄工程と、洗浄後にワークを乾燥する乾燥工程とを含み、ワークの表面の欠陥検査が洗浄・乾燥後に行われるものであるのに対し、引用発明では、単に洗浄工程を有するとされ、ワークの表面の欠陥検査は洗浄後に行われるものである点。
［相違点２］
　本願発明は、表面検査部が洗浄不良に基づく表面欠陥であるか、他の表面欠陥であるかを判定し、コントローラが表面検査部の検出結果からワークの洗浄精度を判定して、洗浄精度が低下したことを検出した時には、洗浄機構部に洗浄条件を変更する指令を出力するものであるのに対し、引用発明では、表面検査部がほこりなど洗浄により再生が可能な表面欠陥であるか、そうでない表面欠陥であるかを識別・分類し、コントローラが表面検査部の検出結果に基づいて洗浄機構部に不良発生に対するフィードバックをするための指令を出力するものである点。
　
５．判断
　上記相違点について検討すると、
［相違点１］について
　例えば特開平５−２４１３２９号公報（図１参照）に見られるように、洗浄後にワークを乾燥する乾燥工程を設けることはごく普通のことであり、ワークの表面の欠陥検査を洗浄・乾燥後に行うようにすることも当然のことにすぎない。
　なお、同じく特開平５−２４１３２９号公報（図１参照）に見られるように洗浄処理部にブラシ洗浄、超音波洗浄など複数の洗浄工程を設けることも当業者が適宜なし得ることである。
［相違点２］について
　引用発明の表面検査部は、ほこりなど洗浄により再生が可能な表面欠陥であるか、そうでない表面欠陥であるかを識別・分類している。そして、かかる検査は洗浄後に行われているものであるから、洗浄後にも「ほこりなど洗浄により再生が可能な」表面欠陥が識別された場合、洗浄精度（洗浄能力）が低下していることを意味し得ることは明らかなことである（例えば特開昭６０−１１０１９４号公報の１５頁上右欄３行〜同頁下右欄２行の記載参照）。
　一方、引用例１には表面検査部の検出結果に基づいて具体的に何をフィードバックするかは明記されていないが、フィードバックは当然、歩留まり向上のために行われるものであり、また、上記の特開平５−２４１３２９号公報にも記載（段落【０００５】１１〜１６行、段落【０００７】を参照）のように洗浄後の表面欠陥の検査結果に基づいて洗浄処理部に洗浄条件（例えば洗浄時間）の変更を指令するなどして洗浄パラメータ、シーケンスを最適化することは周知の技術事項であるから、引用発明における洗浄工程の洗浄機構も洗浄条件を変更可能なものであり、洗浄機構部へのフィードバックを洗浄条件の変更にて行うことは実質的に開示されているに等しいことであり、当業者であればごく普通に考えられることである。
　したがって、引用発明においても、洗浄機構部の洗浄機構が洗浄条件の変更可能となったものであり、表面検査部が洗浄不良に基づく表面欠陥であるか、他の表面欠陥であるかを判定し、コントローラが表面検査部の検出結果からワークの洗浄精度を判定して、洗浄精度が低下したことを検出した時には、洗浄機構部に洗浄条件を変更する指令を出力するようにすることは当業者が容易になし得ることである。
　そして、本願発明が奏する効果は、引用発明及び周知の技術事項から、当業者が十分に予測できたものであって、格別顕著なものがあるとはいえない。
　
６．むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用発明及び周知の技術事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、本願は、その余の請求項について論及するまでもなく拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。