【事件の表示】
　特願２０００−６０８４１１「ウェハ処理装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１２年１０月５日国際公開，ＷＯ００／５９００１，平成１４年１１月２６日国内公表，特表２００２−５４０６１９〕について，次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は，成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本願は，平成１２年３月２４日（パリ条約による優先権主張外国庁受理１９９９年３月２６日，独国）を国際出願日とする出願であって，平成１３年３月２０日付け，平成１８年３月２９日付け及び平成１９年３月６日付けで手続補正がなされたところ，同年５月１８日付けで，同年３月６日付けの手続補正についての却下の決定がなされ，また，同日付けで拒絶査定がなされ，これに対し，同年８月２８日に拒絶査定不服審判が請求されるとともに，同年９月２７日付けで手続補正がなされ，その後当審において，平成２１年１２月１８日付けで審尋がなされたものである。
　
第２　平成１９年９月２７日付けの手続補正（以下「本件補正」という。）について
１　本件補正の内容
　本件補正は，平成１９年３月６日付けの手続補正が却下されたため，平成１８年３月２９日付けで補正された本件補正前の請求項１〜１７を，本件補正後の請求項１〜１３とするものであって，本件補正前の請求項１〜１７及び本件補正後の請求項１〜１３は，以下のとおりである。
（１）本件補正前の請求項１〜１７
「【請求項１】　少なくとも１つのクリーンルーム中の周囲の大気中に複数の製造ユニットからなる装置を有し並びに前記の複数の製造ユニットのための原材料の供給及び排出のための供給システムを有するウェハの処理のための装置において，前記の供給システムが周囲の大気よりも重い原材料を重力によって上方から下方へ送る第１の供給導管（７ａ）及び第１の排出導管（８ａ）及び周囲の大気よりも軽い原材料を重力によって下方から上方へ送る第２の供給導管（７ｂ）及び第２の排出導管（８ｂ）を有することを特徴とする，ウェハの処理装置。
　【請求項２】　クリーンルーム（２）が建物（５）の１つのフロア（６）中に存在し，建物（５）の前記フロアの上方並びに下方にあるフロア（９，１０）中に少なくとも原材料の収容のための貯蔵容器が存在する，請求項１記載の装置。
　【請求項３】　第１の供給導管（７ａ）を介して製造ユニット（１）に供給可能な周囲の大気よりも重い液状の原材料及びガス状の原材料のための貯蔵容器は，クリーンルーム（２）の上方のフロア（９）中に配置されている，請求項２記載の装置。
　【請求項４】　周囲の大気よりも重い液状又はガス状の原材料を第１の排出導管（８ａ）を介して供給可能な，前記の原材料を収容するための貯蔵容器は，クリーンルーム（２）の下方のフロア（１０）中に配置されている，請求項３記載の装置。
　【請求項５】　第２の供給導管（７ｂ）を介して製造ユニット（１）に供給可能な周囲の大気よりも軽いガス状の原材料のための貯蔵容器は，クリーンルーム（２）の下方のフロア（１０）中に配置されている，請求項２から４までのいずれか１項記載の装置。
　【請求項６】　周囲の大気よりも軽いガス状の原材料を第２の排出導管（８ｂ）を介して供給可能な，前記の原材料を収容するための貯蔵容器は，クリーンルーム（２）の上方のフロア（９）中に配置されている，請求項５記載の装置。
　【請求項７】　製造ユニット（１）から搬出される液状の原材料を収容するための貯蔵容器が捕集容器（１４）として構成されている，請求項６記載の装置。
　【請求項８】　第１の供給導管（７ａ）及び第２の排出導管（８ｂ）はクリーンルーム（２）の天井（１１）を越えて案内されている，請求項１から７までのいずれか１項記載の装置。
　【請求項９】　第２の供給装置（７ｂ）及び第１の排出導管（８ａ）はクリーンルーム（２）の床（１２）を越えて案内されている，請求項１から８までのいずれか１項記載の装置。
　【請求項１０】　液状の原材料としての原材料が超純水，純水又は冷却水である，請求項１から９までのいずれか１項記載の装置。
　【請求項１１】　液状の原材料としての原材料が液状化学薬品である，請求項５から１０までのいずれか１項記載の装置。
　【請求項１２】　液状化学薬品が，エッチングプロセスの実施のためのエッチング溶液，特にＫＯＨ又はＮａＯＨから形成されている，請求項１１記載の装置。
　【請求項１３】　液状化学薬品が，ウェハの洗浄のためのアルカリ性又は酸性の溶液から形成されている，請求項１１又は１２記載の装置。
　【請求項１４】　ガス状の原材料としての原材料が加熱されかつ汚染された排気であり，前記の排気は製造ユニット（１）の上方の貯蔵容器中へ排出される，請求項１から１３までのいずれか１項記載の装置。
　【請求項１５】　ガス状の原材料としての原材料がエッチングプロセスの実施のためのエッチングガスである，請求項１から１４までのいずれか１項記載の装置。
　【請求項１６】　エッチングガスがハロゲン化合物から形成されている，請求項１５記載の装置。
　【請求項１７】　ガス状の原材料としての原材料が，洗浄プロセスにおけるウェハの洗浄のための酸素及びウェハの乾燥のための窒素である，請求項１から１６までのいずれか１項記載の装置。」
（２）本件補正後の請求項１〜１３
「【請求項１】　ウェハの処理装置において，前記装置は，
　少なくとも１つの中央のフロアと，前記の少なくとも１つの中央のフロアの上方にある少なくとも１つの上のフロアと，前記の少なくとも１つの中央のフロアの下方にある少なくとも１つの下のフロアとを含む複数のフロアを有する建物と，
　複数の貯蔵容器と，
　複数の製造ユニットと，
　周囲の大気中で前記の複数の製造ユニットの少なくとも１つを有する，前記の少なくとも１つの中央のフロア中に配置された少なくとも１つのクリーンルームと
　前記複数の製造ユニットと複数の貯蔵容器との間で原材料を送るための供給導管と排出導管とを有する供給システムとを有し，
　前記の複数の貯蔵容器は，
　ａ）　それぞれの供給導管を介して複数の製造ユニットに重力によって下方に案内される周囲の大気よりも重い液体の原材料を供給する，少なくとも１つの上方のフロアに配置されている貯蔵容器，
　ｂ）　それぞれの排出導管を介して複数の製造ユニットから重力によって下方に案内される周囲の大気よりも重い搬出された液体の原材料を収容する，少なくとも１つの下方のフロアに配置されている貯蔵容器，
　ｃ）　それぞれの供給導管を介して複数の製造ユニットに重力によって下方に案内される周囲の大気よりも重いガス状の原材料を供給する，少なくとも１つの上方のフロアに配置されている貯蔵容器，
　ｄ）　それぞれの排出導管を介して複数の製造ユニットから重力によって下方に案内される周囲の大気よりも重い搬出されたガス状の原材料を収容する，少なくとも１つの下方のフロアに配置されている貯蔵容器，
　ｅ）　それぞれの供給導管を介して複数の製造ユニットに重力によって上方に案内される周囲の大気よりも軽いガス状の原材料を供給する，少なくとも１つの下方のフロアに配置されている貯蔵容器，
　ｆ）　それぞれの排出導管を介して複数の製造ユニットから重力によって上方に案内される周囲の大気よりも軽い搬出されたガス状の原材料を収容する，少なくとも１つの上方のフロアに配置されている貯蔵容器を有する，ウェハの処理装置。
　【請求項２】　前記の複数の貯蔵容器は，前記複数の製造ユニットから搬出される液状の原材料を収容するための捕集容器を有する，請求項１記載の装置。
　【請求項３】　前記供給システムによって供給される原材料は，液状化学薬品を有する，請求項１記載の装置。
　【請求項４】　液状化学薬品が，エッチングプロセスの実施のためのエッチング溶液である，請求項３記載の装置。
　【請求項５】　エッチング溶液がＫＯＨ及びＮａＯＨからなるグループから選択される，請求項４記載の装置。
　【請求項６】　液状化学薬品が，ウェハの洗浄のためのアルカリ性溶液及びウェハの洗浄のための酸性溶液からなるグループから選択される，請求項３記載の装置。
　【請求項７】　前記クリーンルームが天井を有し，
　周囲の大気よりも重い原材料を供給する前記供給導管と，周囲の大気よりも軽い原材料を搬出する前記排出導管とは前記クリーンルームの天井を通って案内されている，請求項１記載の装置。
　【請求項８】　前記クリーンルームが床を有し，
　周囲の大気よりも軽い原材料を供給する前記供給導管と，周囲の大気よりも重い原材料を搬出する前記排出導管とは前記クリーンルームの床を通って案内されている，請求項１記載の装置。
　【請求項９】　前記供給システムにより供給される原材料は，超純水，純水及び冷却水からなるグループから選択される液状の原材料を有する，請求項１記載の装置。
　【請求項１０】　前記の複数の製造ユニットの少なくとも１つの上方に配置された貯蔵容器と，
　前記供給システムにより排出される原材料は，加熱されかつ汚染された排気を有し，前記排気は周囲の大気よりも軽い原材料を搬出する前記排出導管により前記貯蔵容器中へ案内される，請求項１記載の装置。
　【請求項１１】　前記供給システムにより供給される原材料は，エッチングプロセスを実施するためのエッチングガスを有する，請求項１記載の装置。
　【請求項１２】　エッチングガスがハロゲン化合物である，請求項１１記載の装置。
　【請求項１３】　前記供給システムにより供給される原材料は，洗浄プロセスにおけるウェハの洗浄のための酸素及びウェハの乾燥のための窒素を有する，請求項１記載の装置。」
　
２　補正事項の整理
　本件補正の補正事項を整理すると，以下のとおりとなる。
（１）補正事項１
　本件補正前の請求項１〜５を削除し，本件補正前の請求項５を引用する請求項６（請求項５は請求項２〜４を引用し，請求項４は請求項３を引用し，請求項３は請求項２を引用し，請求項２は請求項１を引用するものである。）を本件補正後の請求項１とするとともに，記載を明りょうにするように補正すること。
（２）補正事項２
　本件補正前の請求項７を本件補正後の請求項２とするとともに，記載を明りょうにするように補正すること。
（３）補正事項３
　本件補正前の請求項１１を本件補正後の請求項３とするとともに，記載を明りょうにするように補正すること。
（４）補正事項４
　本件補正前の請求項１２を本件補正後の請求項４及び５とするとともに，記載を明りょうにするように補正すること。
（５）補正事項５
　本件補正前の請求項１３を本件補正後の請求項６とするとともに，記載を明りょうにするように補正すること。
（６）補正事項６
　本件補正前の請求項８〜１０を，それぞれ本件補正後の請求項７〜９とするとともに，記載を明りょうにするように補正すること。
（７）補正事項７
　本件補正前の請求項１４〜１７を，それぞれ本件補正後の請求項１０〜１３とするとともに，記載を明りょうにするように補正すること。
　
３　補正の目的の適否
（１）補正事項１は，本件補正前の請求項１〜５を削除し，本件補正前の請求項５を引用する請求項６（請求項５は請求項２〜４を引用し，請求項４は請求項３を引用し，請求項３は請求項２を引用し，請求項２は請求項１を引用するものである。）を本件補正後の請求項１とするとともに，記載を明りょうにするものであるから，請求項の削除又は明りょうでない記載の釈明を目的とするものに該当する。
（２）補正事項２〜７は，対応する本件補正前の請求項の記載を明りょうにするものであるから，明りょうでない記載の釈明を目的とするものに該当する。
（３）以上で検討したとおり，本件補正は，平成１４年法律第２４号改正附則第２条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第４項第１号又は第４号に掲げる事項を目的とするものであるから，適法になされたものである。
　
第３　本願発明について
１　本願発明
　本件補正は，上記のとおり適法になされたものであるから，本願の請求項１〜１３に係る発明は，本件補正により補正された明細書及び図面の記載からみて，その特許請求の範囲の請求項１〜１３に記載された事項により特定されるとおりのものであり，その内の請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は，上記第２，１（２）に摘示したとおりのものである。
　
２　引用例に記載された発明
（１）原査定の拒絶の理由に引用された特開昭６２−１０２５２０号公報（昭和６２年５月１３日出願公開，以下「引用例」という。）には，第１図とともに，次の記載がある（下線は，当審で付加したもの。以下同じ。）。
ア　「〔産業上の利用分野］
　
この発明は，半導体製造装置に関し
イ　「〔作用〕
　この発明においては，
上部に設けた軽いガスの排出口は，軽いガスの排気を迅速かつ確実に行い，下部に設けた重いガスの排出口は，重いガスの排気を
行う
ウ　「第１図は
縦型の拡散炉
（４ａ）
は水素の供給管
（５ａ）
は，水素の排気管
（４ｂ）
は，窒素の供給管
（５ｂ）
は，窒素の排気管
エ　「次に動作について説明する。
水素雰囲気内でウェハを処理
水素が供給管（４ａ）を通って
供給
窒素は，排気管（５ｂ）を通って排気
窒素が供給管（４ｂ）より供給
水素は排気管（５ａ）を通って排気
オ　「また，上記の実施例では，水素と窒素を使った水素処理の工程について説明したが，他の工程，たとえば，
アルシンと酸素と窒素の混合ガス
カ　「なお，上記実施例では，排出口と供給口を兼ねたもので示したが，排出口とは別に新たに供給口を別の任意の位置に設けてもよい。例えば
軽いガスの供給口を炉の下部に設け，重いガスの供給口を炉の上部に設けた
炉内に供給された軽いガスはその自重により上方へ移動し，重いガスは同様に下方に移動
（２）上記（１）ア，ウ及びエによれば，引用例に記載された発明は，半導体製造装置であって，例えば縦型の拡散炉において水素雰囲気内でウェハを処理するものであるから，ウェハの処理装置のうちの拡散炉に関するものである。
（３）上記（１）ウ及びエによれば，引用例には，（４ａ）は水素の供給管で，（５ａ）は水素の排気管であり，（４ｂ）は窒素の供給管，（５ｂ）は窒素の排気管であること，水素が供給管（４ａ）を通って供給され，窒素は排気管（５ｂ）を通って排気されること，及び，窒素が供給管（４ｂ）より供給され，水素は排気管（５ａ）を通って排気されることが記載されている。そうすると，水素や窒素は，供給管（４ａ，４ｂ），排気管（５ａ，５ｂ）を通って供給・排気されるのであるから，
供給管（４ａ，４ｂ），排気管（５ａ，５ｂ）の先には，通常何らかの貯蔵手段が複数設けられていることは明らかである
（４）ア　上記（１）イ，エ及びカによれば，引用例には，
下部に設けた重いガスの排出口は，重いガスの排気
窒素は排気管（５ｂ）を通って排気
窒素が供給管（４ｂ）より供給
重いガスの供給口を炉の上部に設けた
重いガスである窒素については，供給管（４ｂ）を通って，拡散炉の上部に設けられた供給口から供給するための貯蔵手段と，排気管（５ｂ）を通って，拡散炉の下部に設けられた排気口から排出するための貯蔵手段
イ　また，上記２（１）カによれば，炉内に供給された軽いガスはその自重により上方へ移動し，重いガスは同様に下方に移動すること，すなわち，炉内に供給された重いガスは
その自重により下方に移動
引用例には，供給管（４ｂ）を通って拡散炉に，下方に案内される重いガスを供給し，排気管（５ｂ）を通って拡散炉から，下方に案内される重いガスを排気することが開示
ウ　したがって，上記ア及びイによれば，引用例には，供給管（４ｂ）を通って，拡散炉の上部に設けられた供給口から，下方に案内される重いガスである窒素を供給するための貯蔵手段と，排気管（５ｂ）を通って，拡散炉の下部に設けられた排気口から，下方に案内される重いガスである窒素を排気するための貯蔵手段が開示されていると認められる。
（５）ア　上記（１）イ，エ及びカによれば，引用例には，
上部に設けた軽いガスの排出口は，軽いガスの排気
水素が供給管（４ａ）を通って供給
水素は排気管（５ａ）を通って排気
軽いガスの供給口を炉の下部に設けた
軽いガスである水素については，供給管（４ａ）を通って，拡散炉の下部に設けられた供給口から供給するための貯蔵手段と，排気管（５ａ）を通って，拡散炉の上部に設けられた排気口から排出するための貯蔵手段
イ　また，上記２（１）カによれば，炉内に供給された軽いガスは
その自重により上方へ移動
引用例には，供給管（４ａ）を通って拡散炉に，上方に案内される軽いガスを供給し，排気管（５ａ）を通って拡散炉から，上方に案内される軽いガスを排気することが開示
ウ　したがって，上記ア及びイによれば，引用例には，供給管（４ａ）を通って，拡散炉の下部に設けられた供給口から，上方に案内される軽いガスである水素を供給するための貯蔵手段と，排気管（５ａ）を通って，拡散炉の上部に設けられた排気口から，上方に案内される軽いガスである水素を排気するための貯蔵手段が開示されていると認められる。
（６）よって，引用例には，以下の発明（以下「引用発明」という。）が記載されている。
「ウェハの処理装置において，前記装置は，
　複数の貯蔵手段と，
　拡散炉と，
　拡散炉と複数の貯蔵手段との間で，水素や窒素を供給・排気するための供給管（４ａ，４ｂ），排気管（５ａ，５ｂ）とを有し，
　供給管（４ｂ）を通って，拡散炉の上部に設けられた供給口から，下方に案内される重いガスである窒素を供給するための貯蔵手段と，排気管（５ｂ）を通って，拡散炉の下部に設けられた排気口から，下方に案内される重いガスである窒素を排気するための貯蔵手段を有し，
　供給管（４ａ）を通って，拡散炉の下部に設けられた供給口から，上方に案内される軽いガスである水素を供給するための貯蔵手段と，排気管（５ａ）を通って，拡散炉の上部に設けられた排気口から，上方に案内される軽いガスである水素を排気するための貯蔵手段を有する，ウェハの処理装置。」
　
３　本願発明と引用発明との対比
（１）引用発明の「貯蔵手段」は，本願発明の「貯蔵容器」に相当し，また，引用発明の「拡散炉」は，複数であることは別にして，本願発明の「製造ユニット」に相当する。
（２）引用発明の「水素や窒素」，「供給管（４ａ，４ｂ）」，「排気管（５ａ，５ｂ）」は，本願発明の「原材料」，「供給導管」，「排出導管」にそれぞれ相当するから，引用発明の「拡散炉と複数の貯蔵手段との間で，水素や窒素を供給・排気するための供給管（４ａ，４ｂ），排気管（５ａ，５ｂ）」は，本願発明の製造ユニットが複数であることは別にして，本願発明の「前記複数の製造ユニットと複数の貯蔵容器との間で原材料を送るための供給導管と排出導管とを有する供給システム」に対応する。
（３）引用発明の「重いガスである窒素」は，本願発明の「重いガス状の原材料」に対応し，引用発明の「供給管（４ｂ）」，「排気管（５ｂ）」は，本願発明の「供給導管」，「排出導管」にそれぞれ相当する。したがって，引用発明の「供給管（４ｂ）を通って，拡散炉の上部に設けられた供給口から，下方に案内される重いガスである窒素を供給するための貯蔵手段と，排気管（５ｂ）を通って，拡散炉の下部に設けられた排気口から，下方に案内される重いガスである窒素を排気するための貯蔵手段」は，本願発明の「ｃ）　それぞれの供給導管を介して複数の製造ユニットに重力によって下方に案内される周囲の大気よりも重いガス状の原材料を供給する，少なくとも１つの上方のフロアに配置されている貯蔵容器，　ｄ）　それぞれの排出導管を介して複数の製造ユニットから重力によって下方に案内される周囲の大気よりも重い搬出されたガス状の原材料を収容する，少なくとも１つの下方のフロアに配置されている貯蔵容器」に対応し，本願発明と引用発明とは，本願発明が，製造ユニットが複数であること，重いガス状の原材料が重力によって下方に案内される周囲の大気よりも重いものであること，及び，重いガス状の原材料を供給する貯蔵容器が少なくとも１つの上方のフロアに配置されており，重い搬出されたガス状の原材料を収容する貯蔵容器が少なくとも１つの下方のフロアに配置されていることは別にして，「ｃ）　供給導管を介して製造ユニットに下方に案内される重いガス状の原材料を供給する貯蔵容器，　ｄ）　排出導管を介して製造ユニットから下方に案内される重い搬出されたガス状の原材料を収容する貯蔵容器」である点で共通する。
（４）引用発明の「軽いガスである水素」は，重力によって上方に案内される周囲の大気よりも軽いものであることは明らかであるから，本願発明の「軽いガス状の原材料」に相当する。また，引用発明の「供給管（４ａ）」，「排気管（５ａ）」は，本願発明の「供給導管」，「排出導管」にそれぞれ相当する。したがって，引用発明の「供給管（４ａ）を通って，拡散炉の下部に設けられた供給口から，上方に案内される軽いガスである水素を供給するための貯蔵手段と，排気管（５ａ）を通って，拡散炉の上部に設けられた排気口から，上方に案内される軽いガスである水素を排気するための貯蔵手段」は，本願発明の「ｅ）　それぞれの供給導管を介して複数の製造ユニットに重力によって上方に案内される周囲の大気よりも軽いガス状の原材料を供給する，少なくとも１つの下方のフロアに配置されている貯蔵容器，　ｆ）　それぞれの排出導管を介して複数の製造ユニットから重力によって上方に案内される周囲の大気よりも軽い搬出されたガス状の原材料を収容する，少なくとも１つの上方のフロアに配置されている貯蔵容器」に対応し，本願発明と引用発明とは，本願発明では，製造ユニットが複数であること，及び，軽いガス状の原材料を供給する貯蔵容器が少なくとも１つの下方のフロアに配置されており，軽い搬出されたガス状の原材料を収容する貯蔵容器が少なくとも１つの上方のフロアに配置されていることは別にして，「ｅ）　供給導管を介して製造ユニットに重力によって上方に案内される周囲の大気よりも軽いガス状の原材料を供給する貯蔵容器，　ｆ）　排出導管を介して製造ユニットから重力によって上方に案内される周囲の大気よりも軽い搬出されたガス状の原材料を収容する貯蔵容器」である点で共通する。
（５）以上のことを踏まえると，本願発明と引用発明とは，
「ウェハの処理装置において，前記装置は，
　複数の貯蔵容器と，
　製造ユニットと，
　前記製造ユニットと複数の貯蔵容器との間で原材料を送るための供給導管と排出導管とを有する供給システムとを有し，
　前記の複数の貯蔵容器は，
　ｃ）　供給導管を介して製造ユニットに下方に案内される重いガス状の原材料を供給する貯蔵容器，
　ｄ）　排出導管を介して製造ユニットから下方に案内される重い搬出されたガス状の原材料を収容する貯蔵容器，
　ｅ）　供給導管を介して製造ユニットに重力によって上方に案内される周囲の大気よりも軽いガス状の原材料を供給する貯蔵容器，
　ｆ）　排出導管を介して製造ユニットから重力によって上方に案内される周囲の大気よりも軽い搬出されたガス状の原材料を収容する貯蔵容器を有する，ウェハの処理装置。」
である点で一致し，以下の相違点１〜６で相違する。
相違点１：本願発明では，製造ユニットが複数であるのに対し，引用発明では，拡散炉は１つである点。
相違点２：本願発明は，少なくとも１つの中央のフロアと，少なくとも１つの中央のフロアの上方にある少なくとも１つの上のフロアと，少なくとも１つの中央のフロアの下方にある少なくとも１つの下のフロアとを含む複数のフロアを有する建物と，周囲の大気中で複数の製造ユニットの少なくとも１つを有する，少なくとも１つの中央のフロア中に配置された少なくとも１つのクリーンルームとを有するのに対し，引用発明では，そのような構成がない点。
相違点３：本願発明では，複数の貯蔵容器が，ａ）それぞれの供給導管を介して複数の製造ユニットに重力によって下方に案内される周囲の大気よりも重い液体の原材料を供給する，少なくとも１つの上方のフロアに配置されている貯蔵容器，ｂ）それぞれの排出導管を介して複数の製造ユニットから重力によって下方に案内される周囲の大気よりも重い搬出された液体の原材料を収容する，少なくとも１つの下方のフロアに配置されている貯蔵容器を有するのに対し，引用発明では，そのような構成がない点。
相違点４：本願発明では，重いガス状の原材料が重力によって下方に案内される周囲の大気よりも重いものであるのに対し，引用発明では，重いガスが窒素である点。
相違点５：本願発明では，重いガス状の原材料を供給する貯蔵容器が，少なくとも１つの上方のフロアに配置されており，重い搬出されたガス状の原材料を収容する貯蔵容器が，少なくとも１つの下方のフロアに配置されているのに対し，引用発明では，そのような構成がない点。
相違点６：本願発明では，軽いガス状の原材料を供給する貯蔵容器が，少なくとも１つの下方のフロアに配置されており，軽い搬出されたガス状の原材料を収容する貯蔵容器が，少なくとも１つの上方のフロアに配置されているのに対し，引用発明では，そのような構成がない点。
　
４　当審の判断
（１）上記相違点１及び２について検討すると，
少なくとも１つの中央のフロアと，少なくとも１つの中央のフロアの上方にある少なくとも１つの上のフロアと，少なくとも１つの中央のフロアの下方にある少なくとも１つの下のフロアとを含む複数のフロアを有する建物と，周囲の大気中で複数の製造ユニットの少なくとも１つを有する，少なくとも１つの中央のフロア中に配置された少なくとも１つのクリーンルームと，を有するウェハの処理装置は
従来周知の技術
　
（２）上記相違点３について検討すると，例えば集合住宅やビルディングにおいて，給水タンクを建物の最上階である屋上に設け，下層の各フロアに上水を供給し，下水として最下層の例えば地下に排水することは，建物において一般に採用されているものであって，従来周知の技術である。そして，この上下水の供給・排水構造は，当然に，液体が周囲の大気よりも重いものであって，重力によって下方に案内される特性を利用しているものであることは，明らかである。また，原査定の拒絶の理由に引用された特開平４−３２８８２８号公報（平成４年１１月１７日出願公開）には，次の記載がある。
「【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は，例えば
半導体製造装置
「【００３８】なお，以上説明した各実施例では，配管１６に設けたポンプ１７によって純水を供給する構成としたが，本発明は，このような送液の機構を特に限定するものではない。例えば，純水用タンク１２内にガス導入管１４から供給したガスの圧力で純水を圧送する構成や，
純水用タンク１２を高い位置に配置して重力のみによって純水を自然落下させて供給する構成であってもよい
　これらの記載によれば，半導体製造装置（すなわち，ウェハの処理装置）においても，液体を重力によって下方に案内される技術が採用されていることは，明らかである。したがって，上下水の供給・排水における従来周知の技術を，ウェハの処理装置である引用発明に採用し，上記相違点３からなる構成とすることは，当業者が容易になし得ることである。
　
（３）上記相違点４について検討すると，上記２（１）オによれば，引用例には，重いガスとしてアルシンと酸素と窒素の混合ガスを使用した例が記載されており，アルシンは，周囲の大気よりも重いものであって，重力によって下方に案内されるものであることは明らかである。したがって，引用発明の窒素に代えて，重力によって下方に案内される周囲の大気よりも重いガス状の原材料を採用することは，当業者が必要により適宜選択すればよい技術的な設計事項と認められる。
　
（４）上記相違点５及び６について検討すると，まず，少なくとも１つの中央のフロアの上方にある少なくとも１つの上のフロアと，少なくとも１つの中央のフロアの下方にある少なくとも１つの下のフロアとを含む複数のフロアを有する建物と，周囲の大気中で複数の製造ユニットの少なくとも１つを有する，少なくとも１つの中央のフロア中に配置された少なくとも１つのクリーンルームと，を有するウェハの処理装置が従来周知の技術であることは，前示（１）のとおりである。
　そうすると，引用発明は，供給管（４ｂ）を通って，拡散炉の上部に設けられた供給口から，下方に案内される重いガスである窒素を供給するための貯蔵手段と，排気管（５ｂ）を通って，拡散炉の下部に設けられた排気口から，下方に案内される重いガスである窒素を排気するための貯蔵手段を有するのであり，供給管（４ｂ），排気管（５ｂ）の先に，貯蔵手段が設けられていることは明らかであるから，下方に案内される重いガスを供給する供給管（４ｂ）の先として，少なくとも１つの上方のフロアに貯蔵手段を配置し，また，下方に案内される重いガスを排気する排気管（５ｂ）の先として，少なくとも１つの下方のフロアに貯蔵手段を配置することに，格別の困難性を認めることはできない。したがって，引用発明において，重いガスを供給する貯蔵手段を，少なくとも１つの上方のフロアに配置し，重いガスを排気する貯蔵手段を，少なくとも１つの下方のフロアに配置すること，すなわち，上記相違点５からなる本願発明の「重いガス状の原材料を供給する貯蔵容器が，少なくとも１つの上方のフロアに配置されており，重い搬出されたガス状の原材料を収容する貯蔵容器が，少なくとも１つの下方のフロアに配置されている」構成とすることは，当業者が容易に想到し得るものである。
　また，引用発明は，供給管（４ａ）を通って，拡散炉の下部に設けられた供給口から，上方に案内される軽いガスである水素を供給するための貯蔵手段と，排気管（５ａ）を通って，拡散炉の上部に設けられた排気口から，上方に案内される軽いガスである水素を排気するための貯蔵手段を有するのであり，供給管（４ａ），排気管（５ａ）の先に，貯蔵手段が設けられていることは明らかであるから，上方に案内される軽いガスを供給する供給管（４ａ）の先として，少なくとも１つの下方のフロアに貯蔵手段を配置し，また，上方に案内される軽いガスを排気する排気管（５ａ）の先として，少なくとも１つの上方のフロアに貯蔵手段を配置することに，格別の困難性を認めることはできない。したがって，引用発明において，軽いガスを供給する貯蔵手段を，少なくとも１つの下方のフロアに配置し，軽いガスを排気する貯蔵手段を，少なくとも１つの上方のフロアに配置すること，すなわち，上記相違点６からなる本願発明の「軽いガス状の原材料を供給する貯蔵容器が，少なくとも１つの下方のフロアに配置されており，軽い搬出されたガス状の原材料を収容する貯蔵容器が，少なくとも１つの上方のフロアに配置されている」構成とすることも，当業者が容易に想到し得るものである。
　
（５）そして，上記相違点１〜６を総合して判断したとしても，前示（１）〜（４）のとおり，上記相違点１及び２からなる構成とすることに格別の困難性を認めることはできず，上記相違点３からなる構成とすることは当業者が容易になし得ることであり，重力によって下方に案内される周囲の大気よりも重いガス状の原材料を採用することは当業者が必要により適宜選択すればよい技術的な設計事項であり，上記相違点５及び６からなる本願発明の構成とすることは当業者が容易に想到し得るものであるから，引用発明に基づき，上記相違点１〜６からなる構成をすべて備えるものとすることも，当業者が容易に想到し得る事項にすぎない。
　また，上記各相違点を総合的に検討しても奏される効果は，当業者であれば容易に予測することができる程度のものであって，格別なものとは認められることはできない。
　
５　まとめ
　以上検討したとおり，本願発明は，従来周知の技術を勘案することにより，引用発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから，特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
第４　むすび
　以上のとおりであるから，本願は，他の請求項に係る発明について検討するまでもなく，拒絶すべきものである。
　よって，結論のとおり審決する。