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　特願２００２−２５００１２「ボイラ装置におけるスケール生成抑制装置およびスケール生成抑制方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１６年　３月１８日出願公開、特開２００４−　８５１４５〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、平成１４年　８月２９日の出願であって、平成１９年　９月　６日付けで拒絶査定がなされ（平成１９年１０月　２日発送）、平成１９年１１月　１日に、拒絶査定不服の審判が請求されるとともに、同日付けで手続補正がさなれたものである。 
 　　 
２．平成１９年１１月　１日付けの手続補正についての補正却下の決定 
［補正却下の決定の結論］ 
　平成１９年１１月　１日付けの手続補正を却下する。 
 　　　 
［理由］
ａ本願補正発明 
　平成１９年１１月　１日付けの手続補正（以下「本件補正」という。）により、特許請求の範囲の請求項１は、 
「給水を加熱して蒸気を生成するボイラ２と、このボイラ２へ給水を供給する給水部３と、前記ボイラ２で生成した蒸気を負荷機器４へ供給する蒸気供給部５とを備えたボイラ装置１において、スケール分散剤を用いて前記ボイラ２におけるスケールの生成を抑制する装置であって、前記給水部３の注水路９中の補給水の全炭酸濃度を透過光強度により測定する第一測定部２０と、前記給水部３の注水路９中の補給水のシリカ濃度を透過光強度により測定する第二測定部５６と、前記第一測定部２０の測定結果を判定する第一制御装置２２と、前記第二測定部５６の測定結果を判定する第二制御装置５８と、前記第一制御装置２２および前記第二制御装置５８の判定結果に基づいて、前記給水部３に対してスケール分散剤を供給する薬剤供給装置６とを備え、さらにこの薬剤供給装置６が、前記第一制御装置２２の判定結果に基づいて、前記ボイラ２において全炭酸に由来するスケール付着を防止するのに必要最低限の供給量を算出してスケール分散剤の無駄をなくすように、スケール分散剤の供給量がゼロを含めて調節可能となっているとともに、前記第二制御装置５８の判定結果に基づいて、前記ボイラ２においてシリカに由来するスケール付着を防止するのに必要最低限の供給量を算出してスケール分散剤の無駄をなくすように、スケール分散剤の供給量がゼロを含めて調節可能となっていることを特徴とするボイラ装置におけるスケール生成抑制装置。」と補正された。 
　
　上記補正は、補正前の請求項における「薬剤供給装置」について、「さらにこの薬剤供給装置６が、前記第一制御装置２２の判定結果に基づいて、前記ボイラ２において全炭酸に由来するスケール付着を防止するのに必要最低限の供給量を算出してスケール分散剤の無駄をなくすように、スケール分散剤の供給量がゼロを含めて調節可能となっているとともに、前記第二制御装置５８の判定結果に基づいて、前記ボイラ２においてシリカに由来するスケール付着を防止するのに必要最低限の供給量を算出してスケール分散剤の無駄をなくすように、スケール分散剤の供給量がゼロを含めて調節可能となっている」との限定を付加するものであって、補正前の請求項１に記載された発明と産業上の利用分野及び解決しようとする課題が同一であるので、改正前の特許法の第１７条の２第４項の特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　　
　そこで、本件補正後の請求項１に記載された発明（以下「本願補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるか否か（平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項の規定において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか）について検討する。 
 　　 
ｂ引用例 
１）原査定の拒絶の理由に引用された特開２００１−２６５４２８号公報（以下「引用例１」という。）には、図面とともに次の事項が記載されている。 
　
ア「【発明の属する技術分野】本発明は、水処理設備等の稼働状態を管理センタにおいて管理して上記設備の稼働条件を最適化するに適した設備管理システムに関する。 
【関連する背景技術】例えば冷却水系またはボイラ系の水処理設備においては、水に含まれる各種の不純物によって、その配管内にスライムやスケールが発生したり、処理水中の塩イオン濃度が上昇することがある。そこで従来より水処理設備の稼働状況に応じて、適宜、その水処理対象水系にスケール除去剤等の水処理薬剤を注入（薬注）することが行われている。また水処理設備に組み込んだ各種センサにより求められる水質等の情報に従って、その薬注を自動制御することも行われている。」（段落【０００１】、【０００２】）
　
イ「本発明はこのような事情を考慮してなされたもので、その目的は、水処理設備等の稼働状態を管理センタにおいて管理しながら、その稼働状態等に応じて設備の稼働条件を変更し、稼働状態の最適化を図ることのできる設備管理システムを提供することにある。」（段落【０００７】） 
　
ウ「ちなみに水処理設備１は、基本的には図２に示すように制御盤１１の制御の下で駆動されるポンプ１２により、給水タンク１３から供給される処理水をボイラ／冷却塔１４に供給して所定の水処理（熱交換）を行う如く構成される。そしてボイラ／冷却塔１４やその配管系に組み込まれた各種センサ１５（１５ａ,〜１５ｄ）により検出される水質情報やスライム・スケール情報等に従い、制御処理部１０からその処理対象水系にスライム除去剤等の薬液を注入（薬注）するように構成される。 
　尚、制御処理部１０は、薬液タンク２１に準備された薬液を処理対象水系に注入するポンプ２２や、各種センサ１５（１５ａ,〜１５ｆ）を介して処理対象水の水質等を検出するセンシング部２３、このセンシング部２３にて検出された情法に従って前記ポンプ２２の作動、即ち、薬注を制御するＣＰＵ２４等を備えている。そしてＣＰＵ２４は、キーボード等の操作部２５から入力される処理動作の指示や、メモリ２６に登録された薬注制御条件を示す設定値（稼働条件）に従って薬注動作を制御する。」（段落【００１３】、【００１４】） 
　
エ「一方、前記管理センタ２は、例えば大型コンピュータにより各種の処理機能を構築した管理部４を主体として構成される。この管理部４は、基本的には水処理設備１からその稼働状態を示す情報（設備稼働情報）を前述した通信回線３を介して定期的に収集するデータ機能、そして収集した設備稼働情報に従って当該水処理設備１の稼働状態を監視する稼働状態監視機能を備える。」（段落【００１５】） 
　
オ「ちなみに前記管理部４が水処理設備１から収集する設備稼働情報は、・・・水処理設備１がボイラ水系である場合には、設備機能として給水量や給水温度に応じた薬注の情報や希釈の情報、その設備情報として薬注量や運転時間、電気伝導度、ブロー量、給水量、更には軟水量やスケール化の要因となる水質硬度等の情報からなる。 
　そして管理部４が備える稼働状態監視機能は、上述した如き設備管理情報を所定の周期で定期的に収集しながら、その設備管理情報に従って当該水処理設備１の稼働状態を逐次認識し、例えば異常や不具合の発生を検知し、或いは予知したり、薬注タンク２１における薬液の残量をモニタする等してその稼働状態の変化を逐次的に管理するものとなっている。」（段落【００１６】、【００１７】） 
　
カ「図３は上述した如く構成された設備管理システムにおける全体的な処理手順の流れを示している。この図３を参照してこの実施形態に係る設備管理システムにおける水処理設備１の管理形態を別の観点から説明すると、・・・（中略）・・・ 
　そしてその稼働状態が前述したセンシング情報等として逐次検出され［ステップＳ４］、例えば所定の周期毎に管理センタ２に通知される（定時通信）。この定時通信の周期はシステム仕様に応じて定められるもので、例えば２４時間毎に１回等として定められる。 
 ・・・（中略）・・・。 
　一方、水処理設備１からの発呼を受けた管理センタ２においては、該水処理設備１から通知される設備状態情報を取り込み（データ収集）、この設備状態情報に従って当該水処理設備１の稼働状態を監視する［ステップＳ２３］。そして前述したデータベース５,６を参照して［ステップＳ２４］、例えばボイラ／冷却塔の形式等の設備仕様に従ってその稼働状態を解析し［ステップＳ２５］、当該水処理設備１が効率的に稼働しているか否か、更にはその稼働効率を高める余地があるか否か等、その稼働状態を評価する。そしてその評価の結果に応じて、当該水処理設備１を効率的に稼働する上で参考となるアドバイス情報や、メンテナンス情報等の水処理設備１にとって有用な情報（価値情報）を作成する［ステップＳ２６］。」（段落【００２５】〜【００２７】） 
　
キ「従って水処理設備１にとっては、その稼働状態の詳細な分析とその管理の全てを管理センタ２に委ねながら、管理センタ２側からリモート的に設定された稼働条件に従って動作するだけで、その稼働環境に応じた効率的な薬注等の水処理を実行することができる。従って設備の稼働環境に変化が生じた場合であっても、水処理設備１が設けられた現場に出向いてその制御値等を設定変更する等の煩わしさがなく、稼働環境に適合した水処理制御を実行させることが可能となる。従って水処理設備に１においては大掛かりな設備管理機能を個々に備えなくても、その効率的な運転（稼働）を容易に実現することができる。　また前述したように設備を稼働するに有用な情報（価値情報）の提示を適宜受けるようにしておけば、水処理設備１においては数値等によって示される設備の稼働状態を個々に評価することなく、該設備の全体的な稼働状態を的確に把握することが可能となる。そして提示された価値情報に従って適切なメンテナンスを施すことが可能となる等の効果が奏せられる。」（段落【００３３】、【００３４】） 
　
ク　図２の記載からみて、センサ１５ｄは、ボイラ１４に供給される配管中における水質情報やスライム・スケール情報等を検出することが理解でき、薬液は、ボイラ１４の上流において注入されているので、引用例１記載のものにおいて、薬液は、スケールの生成を抑制するものであることが理解できる。 
　　
ケ　ボイラは、一般に、給水を加熱して蒸気を生成する装置であり、通常、生成した蒸気を負荷機器へ供給する蒸気供給部を具備するものであるところ、【図２】のボイラ１４後流の配管は、該蒸気供給部を構成するものと理解できる。
　
コ　同様に、一般に、ボイラにおける給水タンクには、給水タンクに水を供給する配管が接続されているものであるから、この水を供給する配管、給水タンクなどが示された、【図２】の給水タンク１３からポンプ２１を介しボイラ１４に導かれる配管は、給水部を構成するものと理解できる。
　
　そうすると、上記の記載及び図面から、引用例１には、 
「給水を加熱して蒸気を生成するボイラ１４と、このボイラ１４へ給水を供給する給水部と、前記ボイラ１４で生成した蒸気を負荷機器へ供給する蒸気供給部とを備えたボイラ水系水処理設備１において、スライム除去剤等の薬液を用いて処理対象水系のスケールの生成を抑制する制御処理部１０であって、前記給水部の配管中の水の水質情報やスライム・スケール情報、更にはスケール化の要因となる水質硬度等の情報を、各種センサ（１５ａ，〜１５ｆ）を有するセンシング部２３で検出し、この情報に従って、管理部４で評価し、その結果に基づいて、給水部に対してスライム除去剤等の薬液を供給する薬液タンク２１及びポンプ２２とを備え、さらに、この薬液タンク２１及びポンプ２２が、ＣＰＵ２４を介し、薬液タンク２１により薬注を制御し、効率的な薬注となるよう制御する制御処理部１０。」（以下「引用発明１」という。）が記載されている。
　
２）同じく、原査定の拒絶の理由に引用された特開平７−２５１１８２号公報（以下「引用例２」という。）には、次の記載がある。 
　
ア「【産業上の利用分野】本発明は、系の中の水処理剤の濃度の調節及び／又は系の操作に関係し、特には、冷却水系、ボイラー水系、水の再生／浄化系、生産プロセスの水系等のような工業的な水系において、水処理剤及び／又はそれを使用する系の運転の効率を高めるように、系の中の標的種、具体的にはスケーリングイオンと汚染物の分析によって、系の中の水処理剤の濃度を調節する方法に関する。」（段落【０００１】） 
　
イ「【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】工業的水系の中の水処理剤のインシステム(in-system) 濃度は、簡便には、標的種の濃度及び／又は系の水の中の水処理剤の濃度の間欠的な測定、又は非選択性測定（例、導電率）に基づいて制御される。殆どの水処理プログラムの制御目標は、系の水の中の水処理剤と標的種（例、スケーリングイオン、汚染物等）の所定の又は最適な比を維持することである。水処理剤のインシステム濃度は、この比を達成又は維持するために調節され、又は標的種が特定の値に合致するように調節される。例えば、ボイラー系に入る硬質イオンの濃度が増すと、水処理剤と標的種の比の目標を維持するために、水処理剤のインシステム濃度の増加が必要になることがある。系の水の中の標的種濃度及び／又は水処理剤濃度の測定は、１回のシフト（１回のシフトは通常約８〜１２時間の系の運転時間に及ぶ）あたり例えば１又は２回、又は数日間に１回の時折の採取サンプルに基づくのが通常である。工業的水系の中の水処理剤及び／又は標的種の濃度測定は、従来旧式（化学的湿式法）の分析方法、導電率、及び／又は水流量計の読み等の水計器の読みに基づくのが一般的であった。」（段落【０００２】） 
　
ウ「例えば、ホスフェート濃度は、分光光度（比色）試験によって測定される。ホスフェートと有機リン化合物の濃度は、温浸（戻り）過程を含む同じ分光光度試験を用いて測定される。滴定法は、水系の水中のカルシウムやマグネシウムのような硬質イオンの濃度、カーボネート、重炭酸塩の濃度を測定するために日常的に使用されている。このような分析方法は妨害（例、濁り）を受けやすく、及び／又は主観的である（色の変化の肉眼観察）。これらの値（その比であることも多い）は、スケール防止剤や中和用アミンのような処理薬品をインシステムの目標濃度に運転者が設定するために使用される。」（段落【０００３】） 
　
　上記記載から、引用例２には、 
「ボイラー水系において、水処理剤とそれを使用する系の運転の効率を高めるよう、系の中のスケーリングイオンと汚染物の濃度分析により、水処理剤の濃度を調節すること。」、及び「水系の水中の硬質イオン濃度、カーボネート、重炭酸塩濃度を測定するために滴定法が使用され、これらの値は、スケール防止剤や中和用アミンのような処理薬品をインシステムの目標濃度に運転者が設定すること。」（以下「引用例２記載の事項」という。）が記載されている。 
　
３）同じく、原査定の拒絶の理由に引用された特開平６−２７７６９５号公報（以下「引用例３」という。）には、次の記載がある。 
　
ア「発明の分野 
本発明はシリカを可溶化する方法に関する。より詳しくは、本発明はシリカを含有する水性系中のコロイドシリカを可溶化する方法に関する。」（段落【０００１】） 
　
イ「これら３つの方法のいずれを利用する場合でも、系の中に存在するシリカの濃度を正確に知ることが望ましい。系の中に存在するシリカの濃度を制限することに依る場合、シリカ濃度が未だ低いときに系を補給水によって溢れ流すか又は補充することになると、エネルギーおよび時間の無駄である。シリカ濃度が高くなり過ぎた後に系を補給水によって溢れ流すか又は補充するとなると、スケールが既に形成されてしまっている。同様に、シリカ濃度を知ってスケール防止剤を経済的に使用できるようにすることは望ましい。　たとえば、冷却水、ボイラー水、・・・のような、水性系においては、シリカ濃度を正確に測定することが望ましい。これらプロセスのいずれにおいても、熱は水から又は水へ伝達される。これら系のうち、３例（冷却水、ボイラー水および砂糖加工）においては、水は加熱され、そして若干の水が蒸発する。水が蒸発すると、シリカ（または珪酸塩）は濃くなる。シリカ濃度がその溶解度を越えると、シリカは析出してガラス質被覆または付着性スケールどちらかを形成し、そうなると、労力を有する機械的または化学的清掃によってしか通常除去できない。地熱処理においては、シリカまたは珪酸塩を帯びた熱水が、家庭や工場での加熱のために使用されるか、またはタービンを駆動し電気を発生させるための蒸気に転換される。上記４例のプロセスはいずれも、或る時点においては、水から熱が奪われ、そうなると、溶解していた珪酸塩はより溶解し難くなり、従って、表面に析出するようになる。」（段落【０００４】、【０００５】） 
　
ウ「同様に、ボイラー水においては、アメリカ機械技師協会(American　Society of Mechanical Engineers)は、シリカをボイラーの操作圧力に依存する特定濃度に制限することを推奨している。たとえば、（３００psig未満の) 低圧ボイラーにおいては、シリカの量は、ＳｉＯ２ として、１５０ppm 未満に維持されるべきである。圧力が上昇するにつれて、再循環ボイラー水中の許容できるシリカ濃度は漸次低くなる。ボイラー（特に、シリカ揮発が大問題にはならない低圧操作ボイラー）を、より高い濃縮サイクルで操作することを可能にさせる重合体は、加熱水を、よりエネルギー効率良く使用することを可能にする。 
　従って、存在するシリカ量を制限することによるか又はスケール制御剤を添加することによるか、どちらにしても、制御方法を効率に使用させるためには、そしてシリカ濃度の推奨限度を越える危険性を最小にするためには、これら系の中のシリカ濃度を測定できることが望ましい。」（段落【０００７】、【０００８】）
　
　以上の記載によると、引用例３には、 
「ボイラー水のシリカ濃度を正確に測定し、シリカ濃度の推奨限度を越える危険性を最小にするため、スケール防止剤を経済的に使用すること。」（以下「引用発明３」という。）
　
ｃ　対比・判断 
　本願補正発明と引用発明１とを対比すると、引用発明１の「ボイラ水系水処理設備１」は本願補正発明の「ボイラ装置」に相当し、以下同様に、「スライム除去剤等の薬液」は「スケール分散剤」に、「処理対象水系のスケール」は「ボイラにおけるスケール」に、「評価」は「判定」に、「薬液タンク２１及びポンプ２２」は「薬剤供給装置」に、「制御処理部１０」は「スケールの生成を抑制する装置」及び「スケール生成抑制装置」に、それぞれ、相当する。 
　　
　また、「給水」とは、運転中のボイラーに供給する水をいうことから、引用発明１中の「給水部の配管中の水」は、実質的に、本願発明における「給水部の注水路中の補給水」に相当する。
　　　
　そして、引用発明１の「スライム・スケール情報、更にはスケール化の要因となる水質硬度等の情報」と本願発明の「全炭酸濃度」及び「シリカ濃度」は、「スケール化情報」である点で共通であり、引用発明１の「各種センサ（１５ａ，〜１５ｆ）を有するセンシング部２３」と、本願発明の「透過光強度により測定する第一測定部２０」及び「透過光強度により測定する第二測定部５６」とは、「測定装置」である点で共通である。
　　　
　さらに、引用発明１の「管理部４」及び「ＣＰＵ２４」は、本願発明の「第一制御装置」及び「第二制御装置」と、「制御装置」である点で共通するものである。
　
　また、引用発明１の「効率的な薬注を行う」ことと、本願補正発明の「スケール付着を防止するのに必要最低限の供給量を算出してスケール分散剤の無駄をなくすように、スケール分散剤の供給量がゼロを含めて調節可能となっている」こととは、広義において共通するものである。 
　
　そうすると、両発明は、 
「給水を加熱して蒸気を生成するボイラと、このボイラへ給水を供給する給水部と、前記ボイラで生成した蒸気を負荷機器へ供給する蒸気供給部とを備えたボイラ装置において、スケール分散剤を用いて前記ボイラにおけるスケールの生成を抑制する装置であって、前記給水部の注水路中の補給水のスケール化情報を測定する測定装置と、測定結果を判定する制御装置と、給水部に対してスケール分散剤を供給する薬剤供給装置とを備え、さらにこの薬剤供給装置が制御装置の判定結果に基づいて、スケール分散剤を効率的に注入するボイラ装置におけるスケール生成抑制装置。」の点で一致する。 
　
　そして、両発明は、次の（ａ）〜（ｃ）の点で相違する。 
（ａ）測定装置について、本願補正発明では、透過光強度により測定する測定部とするものであるのに対し、引用発明１では、センサである点。 
　
（ｂ）スケール化情報と測定装置について、本願補正発明では、全炭酸濃度およびシリカとし、それぞれの測定装置を具備しているのに対し、引用発明１では、それらの記載がない点。 
　
（ｃ）スケール分散剤を効率的に注入する態様について、本願補正発明では、スケール付着を防止するのに必要最低限の供給量を算出してスケール分散剤の無駄をなくすように、スケール分散剤の供給量がゼロを含めて調節可能となっているのに対し、引用発明１では、このような特定がない点。 
　
　そこで、前記相違点について検討する。 
　
　まず、相違点（ａ）について検討する。 
　当該分野において、測定装置として、透過光強度による測定装置は、本願出願前周知の技術であり（例えば、特開平１０−３２５８０１号公報、特開平２−２０１１４０号公報参照。）、引用発明１において、検出装置に、透過光強度により測定する測定部とした点は、当業者であれば、容易に想到し得たことである。 
　
　次に、相違点（ｂ）について検討する。 
　ボイラ水において、スケール化情報、即ち、スケール化の要因となる情報として、炭酸やシリカが存在することは、本願出願前、良く知られたことである（前者については、引用例２に記載の事項、特開平７−１８５５９０号公報を、後者については、引用発明３や特開平９−９４５９８号公報を参照。）。 
　
　そうすると、引用発明１において、スケール化の要因となる情報について、全炭酸濃度およびシリカとした点は、当業者であれば容易に想到し得たことである。 
　
　また、それらを個別に測定する測定装置を用いた点に格別の技術的意義は認められず、当業者が発揮し得る通常の創作能力の範囲内のものである 
　
　さらに、相違点（ｃ）について検討する。 
　薬注による水処理を行うに際し、無駄な薬注を避け、最適なものとすることは、従来良く知られた課題であり（例えば、前審で引用した特開平８−１０５６０５号公報参照。）、引用発明１においても示唆されていることである（前記「ｂ　１）イ」参照。）。 
　
　そうすると、引用発明１において、スケール分散剤を効率的に注入する態様について、本願補正発明のように、スケール付着を防止するのに必要最低限の供給量を算出してスケール分散剤の無駄をなくすように、スケール分散剤の供給量がゼロを含めて調節可能とした点は、当業者が容易に想到し得たことである。 
　
　そして、本願補正発明の奏する効果を全体としてみても、引用発明１、引用例２に記載の事項、引用発明３及び周知技術から当業者が予測できるものである。 
　
　してみると、本願補正発明は、引用発明１、引用例２に記載の事項、引用発明３及び周知技術から当業者が容易に発明をすることができたものである。 
　
ｄ　むすび 
　以上のとおり、本願補正発明は、引用発明１、引用例２に記載の事項、引用発明３及び周知技術から当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項により特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。 
　
　したがって、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項で準用する同法第１２６条第５項の規定に違反する。 
　
（３）まとめ 
　以上のとおり、本件補正は、平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１５９条第１項において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。 
　
３．本願発明について 
（１）本願発明 
　平成１９年１１月　１日付けの手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、平成１９年７月４日付けの手続補正により補正された明細書からみて、その特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される次のとおりのものである。 
「給水を加熱して蒸気を生成するボイラ２と、このボイラ２へ給水を供 給する給水部３と、前記ボイラ２で生成した蒸気を負荷機器４へ供給する蒸気供給部５とを備えたボイラ装置１において、スケール分散剤を用いて前記ボイラ２におけるスケールの生成を抑制する装置であって、前記給水部３の給水路１１中の給水の全炭酸濃度を透過光強度により測定する第一測定部２０と、前記給水部３の給水路１１中の給水のシリカ濃度を透過光強度により測定する第二測定部５６と、前記第一測定部２０の測定結果を判定する第一制御装置２２と、前記第二測定部５６の測定結果を判定する第二制御装置５８と、前記第一制御装置２２および前記第二制御装置５８の判定結果に基づいて、前記給水部３に対してスケール分散剤を供給する薬剤供給装置６を備えたことを特徴とするボイラ装置におけるスケール生成抑制装置。」 
　
（２）引用例 
　原査定の拒絶の理由に引用した引用例１ないし３は、前記「２．［理由］」に記載したとおりである。 
　
（３）対比・判断 
　本願発明と引用発明１とを対比する。 
　本願発明は、前記「２．［理由］」で検討した本願補正発明において、「さらにこの薬剤供給装置６が、前記第一制御装置２２の判定結果に基づいて、前記ボイラ２において全炭酸に由来するスケール付着を防止するのに必要最低限の供給量を算出してスケール分散剤の無駄をなくすように、スケール分散剤の供給量がゼロを含めて調節可能となっているとともに、前記第二制御装置５８の判定結果に基づいて、前記ボイラ２においてシリカに由来するスケール付着を防止するのに必要最低限の供給量を算出してスケール分散剤の無駄をなくすように、スケール分散剤の供給量がゼロを含めて調節可能となっている」との限定を省いたものである。 
　
　そうすると、実質的に本願発明の発明特定事項をすべて含み、さらに、他の発明特定事項を付加したものに相当する本願補正発明が、前記「２．［理由］（２）ｃ」に記載したとおり、引用発明１、引用例２に記載の事項、引用発明３及び周知技術から当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も同様に、引用発明１、引用例２に記載の事項、引用発明３及び周知技術から当業者が容易に発明をすることができたものである。
　　　
（４）むすび 
　以上のとおり、本願発明は、引用発明１、引用例２に記載の事項、引用発明３及び周知技術から当業者が容易に発明をすることができたものであるから特許法第２９条第２項の規定により特許を受けるできない。 
　 
　よって、結論のとおり審決する。