【事件の表示】
　上記当事者間の特許第３５５６２０４号発明「印刷ブロックを製造する方法及び装置」の特許無効審判事件について、次のとおり審決する。
【結　論】
　訂正を認める。
　本件審判の請求は、成り立たない。
　審判費用は、請求人の負担とする。
【理　由】
１．手続の経緯 
　平成１４年　５月２３日　本件特許出願（特願２００２−１４８８５２号） 
　　　　　　　　　　　　（優先権主張　平成１３年　５月２５日）
　平成１６年　５月２１日　本件特許登録（特許第３５５６２０４号） 
　平成１７年　８月２９日　本件無効審判の請求 
　平成１７年１２月２６日　答弁書 
　平成１７年１２月２６日　訂正請求書 
　平成１８年　２月　９日　弁駁書 
　平成１８年　４月２１日　口頭審理陳述要領書（請求人） 
　平成１８年　４月２１日　口頭審理陳述要領書（被請求人） 
　平成１８年　６月１２日　上申書（請求人）
　平成１８年　６月１２日　上申書（被請求人）
　 
２．訂正の可否に対する判断
（１）平成１７年１２月２６日付け訂正請求（「本件訂正請求」という。）の内容
［訂正事項ａ．］
　　旧請求項１の記載
　「レリーフが印刷ブロックブランクの表面に形成される印刷ブロックの製造方法であって、前記印刷ブロックブランクの材料がトラックに沿って照射によって除去され、
　一つの同じトラックに沿って、各々の場合において、異なる深さに位置するレリーフ領域が、照射への対応する複数回の繰り返し暴露によって製造され、
　前記照射への暴露が、同じトラックに沿って一つずつガイドされる複数のビームによって行われることを特徴とする方法。」を、
　「レリーフが印刷ブロックブランクの表面に形成される印刷ブロックの製造方法であって、前記印刷ブロックブランクの材料がトラックに沿って照射によって除去され、
　一つの同じトラックに沿って、各々の場合において、異なる深さに位置するレリーフ領域が、照射への対応する複数回の繰り返し暴露によって製造され、
　前記照射への暴露が、同じトラックに沿って一つずつガイドされる複数のビームによって行われ
、
　
更に、第１のビームのみが、前記レリーフの表面側部の境界となる前記印刷ブロックブランクの材料の領域を最初に除去することを特徴とする方法。
　
［訂正事項ｂ．］
　　旧請求項７を削除する。
　
［訂正事項ｃ．］
　　旧請求項１９を請求項１８と項番を改め、旧請求項１９の記載
　「印刷ブロックを製造する装置であって、
　印刷ブロックブランクを保持するマウントと、
　前記印刷ブロックブランクの表面を、少なくとも一つのビームによって一つのトラックに沿って順に照射に対して暴露して、これによって前記印刷ブロックブランクの領域を除去する、光学装置と、
　ビームオン及びビームオフ制御コマンドを含むデータファイルの使用によって、前記トラックに沿ったその経路上での前記少なくとも単一のビームの強度の変化を制御する、制御装置と、
　を有しており、
　前記制御装置は、各々が前記トラック全体に沿った前記印刷ブロックブランクを加工する役割を果たし且つ同じトラックに沿って時間遅れで異なるビームによって加工することができるビームオン及びビームオフコマンドを各々含む複数のデータファイルを提供するように構成され、
　前記光学装置は、各々が一つの別個のデータファイルによってのみ制御可能な複数のビームを発するように構成されていることを特徴とする装置。」を、
「
レリーフが印刷ブロックブランクの表面に形成される
　印刷ブロックブランクを保持するマウントと、
　前記印刷ブロックブランクの表面を、少なくとも一つのビームによって一つのトラックに沿って順に照射に対して暴露して、これによって前記印刷ブロックブランクの領域を除去する、光学装置と、
　ビームオン及びビームオフ制御コマンドを含むデータファイルの使用によって、前記トラックに沿ったその経路上での前記少なくとも単一のビームの強度の変化を制御する、制御装置と、
　を有しており、
　前記制御装置は、各々が前記トラック全体に沿った前記印刷ブロックブランクを加工する役割を果たし且つ同じトラックに沿って時間遅れで異なるビームによって加工することができるビームオン及びビームオフコマンドを各々含む複数のデータファイルを提供するように構成され、
　前記光学装置は、各々が一つの別個のデータファイルによってのみ制御可能な複数のビームを発するように構成され
、
　
更に、第１のビームのみが、前記レリーフの表面側部の境界となる前記印刷ブロックブランクの材料の領域を最初に除去する
　
［訂正事項ｄ．］
　　請求項８〜１８及び１９〜３２を請求項７〜１７及び１８〜３１と項番を改めると共に、これに対応して各請求項の引用番号を訂正する。
　
［訂正事項ｅ．］
　　前記請求項記載の訂正に伴い、明細書の段落番号０００１の記載における「請求項１及び２１」を「請求項１及び１８」に、段落番号０００６の３行目「請求項２１」を「請求項１８」に訂正する。
　
（２）判断
［訂正事項ａ、ｃについて］
　　これらの訂正事項に関する記載としては、まず、旧請求項７に
「前記レリーフの表面側部の境界となる前記印刷ブロックブランクの材料の領域を最初に除去することを特徴とする請求項１から６の何れか１項に記載の方法。」なる記載がある。
　　次に、段落【0008】において「本発明によれば、印刷ブロックブランクの表面にレリーフを形成するにあたって、比較的平坦な凹部が、印刷ブロックブランクを照射に１度だけ暴露することによって得られ、一方、より深い凹部は、印刷ブロックブランクの対応する点を照射に対して複数回暴露することによってブロックされる。より深いレベルの領域を作成するための印刷ブロックブランクの照射へのこの複数回暴露は、時間遅れとともに又は連続的に行われ、低層領域が、あたかも繰り返して彫られたかのようにして得られる。」との記載から、
「比較的平坦な凹部」が一度だけの暴露で得られること
段落【0041】の「図１において、参照番号１は、ポリマ材料から形成される印刷ブロックブランクを指す。フレキソ印刷ブロックを作成するために、例えばレリーフが、例えば３つのフォーカスされたレーザビーム３、４、及び５の助けによって印刷ブロックブランク１のポリマ材料の領域を焼き払うことによって、印刷ブロックブランク１の表面２に彫られる。・・・。この目的のために、レーザビーム３、４、及び５は、表面２の上を矢印６の方向に伸びるトラックに沿って、連続して移動される。レーザビーム３は先頭レーザビームであって、印刷ブロックブランク１の表面２に最初に作用する。」の記載から、
レーザビーム３が先頭レーザビームであること
段落【0044】の「本発明の改良によれば、レーザビーム３、４、及び５は、異なるパワーレベルを有することができる。例えば、先頭のレーザビーム３は、他の２つの引き続くレーザビーム４及び５よりも低いパワーを有することができ、最初にレーザビーム３によってレリーフのエッジを比較的低いパワーで良好に規定することができる。」の記載から、複数のレーザビーム３、４、及び５のうち、レーザビーム３は比較的低いパワーのものであって、先頭に位置するものであること、が把握できる。
　　そして、このレーザビーム３、４及び５のパワーオン、パワーオフの制御については、段落【0047】〜【0052】の記載と【図１】〜【図５】の説明の記載によりその詳細を把握することができる。
　　すると、これらの訂正事項は、前記の旧請求項７に係る特定を追加の特定として旧請求項１或いは旧請求項１９に加えるものであって、この際に、レリーフの表面側部の境界、すなわち、レリーフのエッジを規定するビームが、先頭に位置するレーザビーム３であることを明示すべく、「第１のビームが」と補う訂正を行うものである。
　　してみるに、これらの訂正事項による訂正は、旧請求項１或いは請求項１９の記載を限定減縮すると共に、「
前記レリーフの表面側部の境界となる前記印刷ブロックブランクの材料の領域を最初に除去する
　
［訂正事項ｂについて］
　　この訂正事項は、単に、旧請求項７を削除するものであり、特許法第１３４条第２項第１号規定の特許請求の範囲の減縮であると認める。
　
［訂正事項ｄについて］
　　この訂正事項では、前記訂正事項ａ、ｃにより旧請求項１或いは旧請求項１９を引用する請求項の項番を対応して項番表記を改めるものであり、特許法第１３４条第２項第３号規定の明りようでない記載の釈明に相当するものではあるが、対応する新たな請求項１或いは請求項１８の記載は減縮を目的とした訂正がされており、これらを引用する請求項自体も同様に減縮を目的とした訂正がなされたものと認められる。
　　よって、当該訂正事項ｄによる訂正は、特許法第１３４条第２項第１号規定の特許請求の範囲の減縮及び同第３号規定の明りようでない記載の釈明を目的であるものと認める。
　
　　また、前記各訂正事項による訂正は、いずれも、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。
　
（３）まとめ
　　以上のとおりであるから、本件訂正請求を認める。
　
３．本件発明
　　本件特許第３５５６２０４号の請求項１〜３１に係る発明は、平成１７年１２月２６日付け訂正請求書に添付された訂正明細書の特許請求の範囲の請求項１〜３１に記載された次のとおりのものである。
　　以下、各々の発明を請求項番順に「本件発明１」〜「本件発明３１」といい、これらすべてを含めて扱う場合には、「本件発明」ということとする。
　
【請求項１】レリーフが印刷ブロックブランクの表面に形成される印刷ブロックの製造方法であって、前記印刷ブロックブランクの材料がトラックに沿って照射によって除去され、
　一つの同じトラックに沿って、各々の場合において、異なる深さに位置するレリーフ領域が、照射への対応する複数回の繰り返し暴露によって製造され、
　前記照射への暴露が、同じトラックに沿って一つずつガイドされる複数のビームによって行われ
、
　
更に、第１のビームのみが、前記レリーフの表面側部の境界となる前記印刷ブロックブランクの材料の領域を最初に除去することを特徴とする方法。
【請求項２】前記複数のビームは、前記トラックの長手方向に交差する方向に相互に並んで配置されていることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】前記複数のビームは、前記トラックの長手方向に沿った一方向に相互に並んで配置されていることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】異なる深さのレリーフ領域が異なるパワーのビームによって除去されることを特徴とする請求項１から３の何れか１項に記載の方法。
【請求項５】異なる深さのレリーフ領域が異なる波長のビームによって除去されることを特徴とする請求項１から４の何れか１項に記載の方法。
【請求項６】前記印刷ブロックブランクの前記表面の直ぐ下に位置するレリーフ領域が、より低層のレリーフ領域を除去する役割を果たすビームよりもパワーが小さく且つ／又は波長が短いビームによって除去されることを特徴とする請求項４又は５に記載の方法。
【請求項
７
６
【請求項
８
７
【請求項
９
８
【請求項
１０
８
【請求項
１１
１０
【請求項
１２
１１
【請求項
１３
１１
【請求項
１４
１３
【請求項
１５
２次元基本レリーフパターンの構築及び電子的記憶と、
前記基本レリーフパターンから異なる距離に位置してレリーフ領域を識別する一つ又はそれ以上の境界であって、前記基本レリーフパターンからの前記距離が増すと、より深くに位置されるように意図されている境界の構築と、
前記取り囲まれた基本レリーフパターンを通るトラックの描画と、
前記トラックの前記境界に基づいた前記基本レリーフパターン及び前記レリーフ領域における境界の探索と、
前記発見された境界に基づいたビームオン及びビームオフコマンドの決定と前記基本レリーフパターン及び前記低層レリーフ領域に対するそれぞれのデータファイルへの分類と、
によって生成されることを特徴とする請求項
１４
【請求項
１６
１５
【請求項
１７
１６
【請求項
１８
レリーフが印刷ブロックブランクの表面に形成される
印刷ブロックブランクを保持するマウントと、
前記印刷ブロックブランクの表面を、少なくとも一つのビームによって一つのトラックに沿って順に照射に対して暴露して、これによって前記印刷ブロックブランクの領域を除去する、光学装置と、
ビームオン及びビームオフ制御コマンドを含むデータファイルの使用によって、前記トラックに沿ったその経路上での前記少なくとも単一のビームの強度の変化を制御する、制御装置と、を有しており、
前記制御装置は、各々が前記トラック全体に沿った前記印刷ブロックブランクを加工する役割を果たし且つ同じトラックに沿って時間遅れで異なるビームによって加工することができるビームオン及びビームオフコマンドを各々含む複数のデータファイルを提供するように構成され、
前記光学装置は、各々が一つの別個のデータファイルによってのみ制御可能な複数のビームを発するように構成され
、
　
更に、第１のビームのみが、前記レリーフの表面側部の境界となる前記印刷ブロックブランクの材料の領域を最初に除去する
【請求項
１９
１８
【請求項
２０
１８
【請求項
２１
１８
２０
【請求項
２２
１８
２１
【請求項
２３
２２
【請求項
２４
２２
【請求項
２５
１８
２４
【請求項
２６
２５
【請求項
２７
２６
【請求項
２８
２６
【請求項
２９
２５
２８
【請求項
３０
２５
２８
【請求項
３１
１８
３０
　
４．請求人の主張
　　請求項１乃至３、６乃至１０及び１８乃至２１に係る発明は、甲第１号証、又は甲第１号証及び甲第２号証に記載された発明に基づいて容易に発明できたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、これらの特許は特許法第１２３条第１項第２号の規定により、いずれも無効とすべきである。
　　また、請求項４乃至６に係る発明は、甲第１号証及び甲第２号証に記載された発明に基づいて容易に発明できたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、これらの特許は特許法第１２３条第１項第２号の規定により、いずれも無効とすべきである。
　　また、請求項１１乃至１４、２２、２３、２５、２６及び３１に係る発明は、甲第１号証、或いは甲第１号証及び甲第２号証、或いは甲第１号証及び甲第３号証、或いは甲第１号証乃至甲第３号証に基づいて容易に発明できたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、これらの特許は特許法第１２３条第１項第２号の規定により、いずれも無効とすべきである。
　　また、請求項１５乃至１７、２４及び２７乃至３０に係る発明は、甲第１号証及び甲第２号証、又は甲第１号証乃至甲第３号証に記載された発明に基づいて容易に発明できたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、これらの特許は特許法第１２３条第１項第２号の規定により、いずれも無効とすべきである。
　
［証拠方法］
　甲第１号証　　特開平０５−０１６３１８号公報
　甲第２号証　　特表平１１−５００９６２号公報
　甲第３号証　　特開２００１−１２１８３３公報
　甲第４号証　「Converting  Printing（印刷と加工技術）」
　　　　　　　　株式会社加工技術研究会（1996．11．18）発行，
　　　　　　　　一部抜粋（表紙、ｐ293、裏表紙）　
　甲第５号証　　特開平０５−０２４１６９号公報　
　甲第６号証　　特開平０６−２３４０８６号公報　
　甲第８号証　　出願人である被請求人が平成１６年３月１６日付けで提出した意見書　
　
５．被請求人の反論
　　訂正された本件発明は、その請求項１において、印刷ブロックを製造する方法が、「第１のビームのみが、前記レリーフの表面側部の境界となる前記印刷ブロックブランクの材料の領域を最初に除去する」ことを特徴とする。
　　また、本発明に係る印刷ブロックを製造する装置も、光学装置が複数のビームを発するときに、「第１のビームのみが、前記レリーフの表面側部の境界となる前記印刷ブロックブランクの材料の領域を最初に除去する」ことを特徴とする。
　　この結果、本発明によれば、「効果的なことに、表面端でレリーフを固定する印刷ブロックブランクの材料の領域は最初に剥離され、このようにして印刷ブロックブランクがまだ比較的低温である間にレリーフ輪郭が確立されることができる。これが行われた後にのみ、印刷ブロックブランクからの材料の更なる除去が行われて、低層領域を形成する。この手順において、非常に正確な境界がレリーフの表面端に得られる。」（段落番号００１４）すなわち、「照射への対応する複数回の繰り返し暴露」あるいは「複数のビーム」によって順次材料の除去が行われるが、本発明の特徴は、第１のビームによるレリーフの表面側部の境界となる材料の領域の除去がまず最初に行われ、これに続く更に低層領域の除去を行う照射への暴露あるいはビームは決して前記境界領域には触れないのである。この結果、最初に形成されたレリーフの表面側部の境界は正確に保持され、深い凹部を作った場合においても、この微細な精度が保たれるという効果がある。
　　訂正された本件発明は、審判請求人の提示した甲各号証とは異なり、これらいずれの甲号証にも開示あるいは示唆されていない特許性のある発明であり、審判請求人の主張は理由がない。
　
６．甲各号証の記載事項
　　甲第１号証〜甲第６号証及び甲第８号証には、それぞれ下記の事項が記載されている。
　
（１）甲第１号証：特開平５−１６３１８号公報の記載事項
　　当該甲第１号証は、本件特許の優先日（平成１３年５月２５日）より前である平成５年１月２６日に公開されたものであって、以下の記載がある。
　
【発明の名称：レーザ製版装置】
ア．【特許請求の範囲】
「【請求項１】 版胴の版にレーザ源よりレーザビームを照射してグラビア版を製版する様に成した製版装置に於いて、上記版胴の回転方向或は版胴の回転軸方向に沿って配設した複数のレーザ源を有し、上記複数のレーザ源で上記版の画素を多数回製版して、版の製版時間を短縮して成ることを特徴とするレーザ製版装置。」
　
イ．段落【0001】「【産業上の利用分野】本発明はグラビア印刷等に用いる版胴に係り、特にレーザで製版するレーザ製版装置に関する。」
　
ウ．段落【0004】「版２の材料としては比較的融点の分布範囲が狭く、硬化時には硬さがあり、融解時には樹脂が低温で飛散又は昇華する熱可塑性樹脂がよく、例えば、ポリエチレン樹脂、アクリル樹脂、ポリプロピレン樹脂にカーボンを２０％程度含有させたもの等を用いている。」
　
エ．段落【0007】「半導体レーザ１０を出たレーザビームはコリメートレンズ１２で平行光に成され、焦点レンズ１３を介して版２表面位置に焦点を結ぶ様に照射される。」
　
オ．段落【0013】「版胴１の円筒部の外周に沿って合成樹脂の版２を巻付けて固定する。版胴１の左右には金属製のキャップ３Ｌ，３Ｒが嵌着され、左右キャップ３Ｌ，３Ｒに一体に形成した軸４Ｌ，４Ｒが左右側壁６４Ｌ，６４Ｒに回動自在に枢着されている。軸４Ｒは複数のプーリ６‥‥とベルト５‥‥を介してベース１１上に固定された版胴回転モータ７に連結されて、これらプーリ６及びベルト５を介して版胴１に巻回した版２は矢印Ａ或はＢ方向に回転する。」
　
カ．段落【0015】ボールねじ２６には移動子２７が螺合され、この移動子２７とレーザブロック取付台２８がアーム２９で固定され、レーザブロック取付台２８上にはレーザブロック２１が配置され、このレーザブロック２１が案内部２２に沿って版胴１の軸方向に移動することで、レーザブロック２１内の半導体レーザ１０から照射されたレーザビームは版胴１に巻回した版２のＸ及びＹ軸の全方向に対向して窪み１５を形成することが出来る。
　
キ．段落【0018】「【発明が解決しようとする課題】叙上の従来構成によると１本の半導体レーザによって、版２に所定の凹状パターンを形成させて版全体を製版していた。」
　　
ク．段落【0019】「然し、現在、超高出力半導体レーザとして実用に耐え得るパワーは１Ｗ程度であり、この程度の超高出力半導体レーザ１個を用いて、グラビア印刷装置に用いる版を作製すると、例えばＡ４サイズの版を所定の濃度とした所定の深さｄ或は所定の面積Ｓの凹版パターンを得る場合に１〜２時間もの時間を必要とする問題があった。」
　　
ケ．段落【0020】「本発明は叙上の如き問題点を解決するためになされたもので、その目的とするところは短時間で版を作製し、この版を用いてグラビア印刷を行なう版胴を短時間に得ることの出来る製版装置を提供しようとするものである。」
　
コ．段落【0021】「【課題を解決するための手段】本発明の製版装置はその例が図１に示されている様に、版胴１の版２にレーザ源１０Ａよりレーザビームを照射してグラビア版を製版する様に成した製版装置に於いて、版胴１の回転方向或は版胴１の回転軸方向に沿って配設した複数のレーザ源１０Ａ，１０Ｂを有し、複数のレーザ源１０Ａ，１０Ｂで版２の画素を多数回製版して、版２の製版時間を短縮して成るものである。」
　
サ．段落【0022】「【作用】本発明の製版装置は版胴１の版２と対向して複数の半導体レーザ１０Ａ及び１０Ｂを並べて順次に同一画素のドットを製版する様にし、複数の半導体レーザ１０Ａ及び１０Ｂでの個々の製版時の窪み１５の深さｄ又は面積Ｓを選択したので、１本の半導体レーザで製版する時よりも製版時間を短縮することが出来る。」
　
シ．段落【0023】「【実施例】以下、本発明のレーザ製版装置を図１乃至図５によって詳記する。」　
　
ス．段落【0025】「図１に於いて、ベース１１上には左右側壁６４Ｌ，６４Ｒで構成された版胴回転部６２及びこの左右側壁６４Ｌ，６４Ｒの段部に載置されたレーザブロック移動部６３が設けられている。」
　
セ．段落【0026】「このレーザブロック移動部６３上には版胴１の軸方向（Ｘ軸方向）に沿って案内部２２が２本配設され、この案内部２２のレール上を摺動する様にレーザブロック取付台２８が橋絡され、このレーザブロック取付台２８上に複数のレーザブロック２１Ａ及び２１Ｂが版胴１のＸ軸方向に沿って並べられて固定されている。」
　
ソ．段落【0028】「よって、複数のレーザブロック２１Ａ及び２１Ｂは版胴１のＸ軸方向に移動自在と成される。」
　
タ．段落【0030】「図２で入力操作部３０は停止、リセット等のステータス信号３１をマイクロコンピュータ（以下ＣＰＵと記す）３２に供給する。ＣＰＵ３２は正転又は逆点パルスをレーザブロック移動用モータドライバ３３と版胴回転用モータドライバ３５とに供給し、レーザブロック移動用モータ２４と版胴回転用モータ７とを回転駆動させる。２つのレーザブロック２１Ａ及び２１Ｂを並べた状態で、版胴駆動用モータ７で版胴１をＡ又はＢ方向に回転させながら、半導体レーザ１０Ａで画像データ４１に対応した窪み１５Ａを製版する。」
　
チ．段落【0033】「この一画素分の距離移動している時間、即ち版胴開始位置に到達するまでの時間６８の経過後（図３Ａの２本目のグラフ参照）に半導体レーザ１０Ｂをｔ／２時間オンさせて半導体レーザ１０Ａで製版した版の深さｄを更に深くするか、面積Ｓを大きくする様に所定の大きさの濃淡に応じた窪み１５Ａを形成する。」
　
ツ．段落【0037】「図２に戻って説明するとデータＲＡＭ３８にはイメージスキャナ等で取り込んだデジタル画像データ４１が格納されている。ＣＰＵ３２は製版すべき画素の画像データをデータＲＡＭ３８より読みだし、これをグレースケール変換回路４２に送る。グレースケール変換回路４２は画像の濃淡をレーザー照射時間の長短に変換する役割を持つ。このグレースケール変換回路４２の出力によりレーザードライバ４３を介して半導体レーザ１０Ａ及び１０Ｂを駆動する。」
　
テ．段落【0039】「上述の実施例では複数のレーザブロック２１Ａ，２１Ｂを版胴１の軸方向に並設した場合を説明したが、図４は本発明の製版装置の他の実施例を示すもので、版胴１の同一円周上に９０度の角度を離して第１のレーザブロック２１Ａと第２のレーザブロック２１Ｃを配設したものである。」
　
ト．段落【0042】ボールねじ２６Ａには移動子２７Ａが螺合され、この移動子２７Ａとレーザブロック取付台２８Ａがアーム２９Ａで固定され、レーザブロック取付台２８Ａ上にはレーザブロック２１Ｃが載置され、このレーザブロック２１Ｃが案内部２２Ａに沿って版胴１の軸方向に移動することで、レーザブロック２１Ｃ内の半導体レーザ１０Ｃから照射されたレーザビームは版胴１に巻回した版２のＸ及びＹ軸の全方向に対向して窪み１５を形成することか出来る。
　
　イの記載には、当該甲第１号証記載のレーザ製版装置が、グラビア印刷等に用いる版胴にレーザで製版するレーザ製版装置であると記載されている。
　
　キ、クの記載には、従来のレーザ製版装置が、１本の半導体レーザによって、版全体を製版するために、長い製版時間を要することに問題があると記載され、ア、コ、サの記載から、当該甲第１号証記載のレーザ製版装置は、版胴の回転方向或は版胴の回転軸方向に沿って配設した複数のレーザ源を有し、これら複数のレーザ源で版の画素を多数回製版することで、版の製版時間を短縮可能とするものであることが把握できる。
　
　エ〜カ及びスの記載から、版胴は、ベース上に左右側壁で構成された版胴回転部にＹ軸方向に回転自在に支持されていることが把握できる。
　
　また、同様にエ〜カ及びセ、ソの記載から、版胴のＸ軸方向に沿って並べられた複数のレーザブロックが、左右側壁の段部に載置されたレーザブロック移動部に設けられており、これらレーザブロックは版胴のＸ軸方向に移動自在であることが把握できる。
　
　タの記載から、ＣＰＵ３２はレーザブロック移動用モータ２４と版胴回転用モータ７に正転又は逆転パルスを送り、レーザブロックを並べた状態で移動させるとともに、版胴を回転駆動させることが把握できる。
　
　チの記載からは、当該レーザ製版装置において、半導体レーザは素材表面を複数回走査されるものであって、窪み形成に関して、１回目の走査におけるレーザビーム照射で形成された窪みを、二回目の走査におけるレーザビーム照射で深さｄを更に深くする方式と、面積Ｓを大きくする様にされる方式とが存在することが把握できる。
　
　ツの記載から、ＣＰＵが製版すべき画素の画像データをデータＲＡＭより読みだし、これをグレースケール変換回路に送り、グレースケール変換回路が画像の濃淡をレーザー照射時間の長短に変換し、この出力によりレーザドライバを介してレーザを駆動していることが把握できる。
　
（２）甲第２号証：特表平１１−５００９６２号公報の記載事項
　　当該甲第２号証は、本件特許の優先日（平成１３年５月２５日）より前である平成１１年１月２６日に公開されたものであって、以下の記載がある。
　
【発明の名称：レーザ彫刻機】
ア．【要約】「レーザ彫刻機（４）は、素材表面に所望の断面を形成するため、変調レーザビームにより素材表面（２２）を彫刻するのに用いられる。断面の微細な構造は、比較的高い変調周波数の音響光学変調器（１２）により変調された第１のレーザのレーザビームにより形成され、一方、所望の断面の深い領域は、第２のレーザ（１０）のレーザビームにより形成される。そのために、一方では変調器（１２）が、他方では第２のレーザビーム源（１０）が、相互に関連してはいるが別々の制御信号（Ｓ３，Ｓ２）により駆動される。変調器（１２）と第２のレーザビーム源（１０）からの２つの垂直偏光レーザビームは、選択ミラー（１４）によりそれぞれ透過および反射され、そして加工すべき素材表面（２２）に光学系（１８）を経由して共通に与えられる。」
　
イ．【特許請求の範囲】
「１．第１のレーザビーム源（８）と、該第１のレーザビーム源（８）のビーム経路中にある変調器（１２）と、素材とは互いに動く関係にあり素材表面（２２）から間隔を置いて配置された光学系（１８）と、前記変調器（１２）を第１の制御信号（Ｓ３）で駆動することにより、前記素材表面（２２）上に入射する前記変調器の出力レーザ光が前記第１の制御信号（Ｓ３）に従って変調されると共にそれに応じた深さに前記素材表面（２２）を加工するようにした制御装置（６）と、該制御装置（６）により第２の制御信号（Ｓ２）で駆動される第２のレーザビーム源（１０）とを備える、素材表面（２２）を彫刻するためのレーザ彫刻機（４）において、
　前記第２のレーザビーム源（１０）からの出力レーザ光が、前記変調器（１２）からの出力レーザ光と共に前記光学系（１８）の前の１つの共通のビーム軸上に導かれること、及び、
　前記第１の制御信号（Ｓ３）が所望の断面の微細な構造を決定する一方で、前記第２のレーザビーム源（１０）に供給される前記第２の制御信号（Ｓ２）が前記断面の深い箇所に対応するよう、前記第１及び第２の制御信号（Ｓ３、Ｓ２）が形成されること、
　を特徴とするレーザ彫刻機。
２．前記第１及び第２のレーザビーム源（８、１０）はそれぞれ実質的に垂直な偏光ベクトルを有する直線偏光の光を出力すること、及び、前記変調器（１２）からの出力レーザ光と前記第２のレーザビーム源（１０）からの出力レーザ光とは選択ミラー（１４）又はブルースター窓（Ｂ３）に異なる側から与えられ、その透過光と反射光が前記光学系に共通に与えられることを特徴とする請求項１に記載のレーザ彫刻機。
３．前記第１及び第２のレーザビーム源は異なる波長のレーザ光を出力し、これら２つのレーザビームは波長選択ミラーを介して前記光学系に与えられることを特徴とする請求項１に記載のレーザ彫刻機。
４．前記第１の制御信号（Ｓ３）と前記第２の制御信号（Ｓ２）とは、加工される前記素材表面（２２）の所望の断面に対応する１つの制御信号から減算的に得られることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１つに記載のレーザ彫刻機。
５．前記変調器は音響光学変調器（１２）であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１つに記載のレーザ彫刻機。
６．前記変調器は前記第１のレーザビーム源（８）のＱスイッチとして形成されることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１つに記載のレーザ彫刻機。」
　
【発明の詳細な説明】
ウ．４頁３〜２０行「この発明は素材の表面を彫刻するためのレーザ彫刻機に関する。このレーザ彫刻機は第１のレーザビーム源を有し、この第１のレーザビーム源のビームの通路内に変調器と、この変調器に続いて光学系を備え、この光学系は前記素材の表面から間隔を開けて保持されている。前記光学系と前記素材とは互に関連的に動かされ、制御装置は第１の制御信号によって前記変調器を駆動する。その結果、前記素材の表面に衝突する出力放射は前記第１の制御信号によって変調され、それに応じた深さに前記素材の表面が削られる。そして、第２のレーザビーム源は第２の制御信号を持った前記制御装置によって駆動される。
　こうしたレーザ彫刻機のいくつかが既に知られている。レーザビーム源は一般的に炭酸ガスレーザで構成され、この炭酸ガスレーザは制御信号を持った制御装置によって駆動される。そして、前記制御信号は素材の表面の所望の加工断面に依存する。前記素材の表面は前記光学系と互に関連的に動かされる。前記素材は一般的に、例えば、ゴム或いはプラスチック製の円筒体である。この円筒体はレーザ彫刻機の中に固定され、このレーザ彫刻機の中で回転され、同時に、その回転軸に平行して横方向に移動する。従って、前記光学系によって前記素材の表面にその焦点が合わされたレーザビームは前記素材の表面を走査し、前記制御信号に従って対応するビームの強度を変えて、その強弱に応じて前記素材の表面を深くもしくは浅く除去する。」
　
エ．４頁２１行〜５頁１行「図１は部分的に従来技術に対応したレーザ彫刻機を示している。
　素材２はゴムから成る又はゴム表面２２を有する円筒体である。前記素材２は回転され、矢印の方へ横方向に動かされる。
　静止したレーザ彫刻機４は信号発生器及び制御装置として、インターフェースを有するＰＣ（パーソナルコンピュータ）を含んでいる。制御装置６は第１の炭酸ガスレーザ８へ制御信号１を伝達する。この制御信号１は第１の炭酸ガスレーザ８が出力レーザ放射を音響光学変調器１２へ印加するようにさせる。前記第１の炭酸ガスレーザ８の出力レーザ放射は直線偏光され、一定不変の振幅を有している。」
　
オ．５頁２〜１９行「制御装置６のインターフェースＩＦを介して、制御信号Ｓ３は前記音響光学変調器１２へ印加され、その結果、前記第１の炭酸ガスレーザ８からのレーザビームは、前記制御信号Ｓ３の強弱に伴って変化するよう、前記音響光学変調器１２によって前記制御信号Ｓ３の信号の変化に従って変調される。
　音響光学変調器１２の構造と用途は既に公知であり、音響光学変調器１２は水晶と圧電素子を含んでいるのが特徴的である。そして、圧電素子が駆動されると、音波が水晶へ送られ、それに伴い、前記水晶の光学的特性が影響を受ける。前記音響光学変調器を通過したレーザビームは前記音波の周波数に従って回折される。即ち、前記音響光学変調器１２からの出力ビームのパワー若しくは強度が変調される。それにより、前記音響光学変調器から現れる有効なビーム１は前記音響光学変調器による１次回折のビームになる。
　前記音響光学変調器１２からの出力レーザビームは光学系１８を通過し、この光学系１８にてビームの放射の焦点が素材の表面２２の上に合わされる。
　その結果、前記素材の表面２２に衝突するレーザビームのパワーは制御信号Ｓ３に従って変化する。そして、このレーザビームは前記素材の表面２２を一定速度で走査するので、前記制御信号Ｓ３に対応した断面が前記素材の表面２２に現出する。強いビームパワーは大きな刻削深度を引き起こし、弱いビームパワーは小さな刻削深度を引き起こす。」
　
カ．５頁２０〜２６行「ドイツ国公報ＤＥ ４２ １２ ３９０ Ａ１にて知られるように、前述したようなレーザ彫刻機は次のように構成される。即ち、レーザビーム源からの２つのレーザビームは素材の表面に至る別々の光路を介して素材の前に向けられている。この構成により前記素材の表面に数々のビームの正確な重複により凝縮されたビーム点や、あるいは数々の部分的なビームが一部は重複したり或いは全く重複のない一定の形態に結合された多要素ビーム点が現出するように為される。 」
　
キ．６頁５〜１２行「ドイツ国公報ＤＥ ３７ １４ ５０４ Ａ１は異なる波長の二つのレーザビームを利用したレーザ彫刻機を開示している。前記異なる波長の二つのレーザビームは一つの加工点へ共にもたらされる。
　素材の表面２２の上に所望の加工断面を得るために制御装置６の支援の下で動作する第１のレーザ８の動作を直接変調することは公知である。しかしながら、代表的な炭酸ガスレーザは最高限度変調周波数がキロヘルツ程度に限られる。そのために、少なくとも
所望の断面が非常に細かい構造を持つとき
　
ク．５頁２７行〜６頁２行「本発明は前述した類のレーザ彫刻機を提供することを目的とし、本発明に係るレーザ彫刻機は、素材の表面を素速く加工しながら、一方で、
繊細な輪郭線を形成する
　
ケ．７頁３〜末行「この問題は以下に説明する類のレーザ彫刻機における本発明により解決される。即ち、第２のレーザビーム源からの出力レーザ放射は変調器からの出力レーザ放射と共に光学系の前の共通のビーム軸にもたらされ、第１及び第２の制御信号は、第１の制御信号が所望の断面の繊細な構造を特定し、一方、第２のレーザビーム源に供給される第２の制御信号は前記断面の深い部分に対応すると言った態様で形成される。
　レーザビーム源を駆動するために用いられる制御信号は矩形波ではなく傾斜する立ち上がり端を有する。即ち、それら（制御信号）は最高値と最低値との間でレベルが次第に変る。
繊細な構造の端部を形成するために
変調されたレーザビームは繊細な輪郭線を素材の表面に形成する。
　
繊細な輪郭は音響光学変調器の比較的高い変調周波数に基づいて作られる一方で、所望の断面の深い領域は前記第２のレーザビーム源を結合させることにより形成される。
　
コ．８頁１〜７行「従って、この発明における応用は、一方で、音響光学変調器の高い最高変調周波数を利用する。他方で、断面の深い領域を作らなければならないときに、第２のレーザビーム源を結合させた最大レーザパワーによってその制約を補う。
　本発明は基本的に二つの別々のレーザ、例えば、炭酸ガスレーザを有することで実現可能である。実用的な実施例にあっては、二つのレーザ管を持った一つのレーザが利用され、一つのレーザ管は一定振幅のレーザビームを伝達し、一方、他のレーザ管のレーザビームは音響光学的変調器を介して案内される。」
　
サ．８頁２１〜末行「この技術分野における既知の方法によれば、そのようなレーザ彫刻機の制御装置は、主にＰＣ（パーソナルコンピュータ）とそれに対応するインタフェースＩＦとによって構成されている。彫刻すべき素材表面の所望の断面データがメモリ内に格納されている。これらのデータはＰＣによって処理され、制御信号に変換される。ここで、制御信号とは２つのレベル間で時間的に変化する信号であり、その信号レベルは基本的には素材表面上の走査ラインに沿った所望の断面に対応している。」
　
シ．８頁末行〜９頁１５行「この制御信号は、本発明に従えば、音響光学変調器に供給される第１の制御信号と、第２のレーザビーム源に供給される第２の制御信号とに分割される。上記変調器から出力されるレーザパワーは、第２のレーザビーム源から出力されるレーザパワーと同様、当該制御信号の有する振幅に本質的に比例する。第１の制御信号と第２の制御信号とを加えると、ＰＣから最初に提供された制御信号が得られる。第１及び第２の制御信号は、ＰＣで作られた制御信号を適当に引き算分離した結果として得られる。
　上記変調器は、レーザの後段に配置された音響光学変調器であることが好ましい。しかしながら、それと同様な動作モードは、その他の変調器を使用しても達成される。また、レーザ共振器内のＱスイッチを使用しても、素材表面を加工するためのレーザ光に所望の変調をかけることが可能である。
　第１のレーザビーム源と第２のレーザビーム源とは、必ずしも同じ波長のレーザ光を出力する必要はない。第１のレーザと第２のレーザとで異なる波長を用いてもよい。その場合は、レーザ彫刻機の光学系の前段に波長選択ミラーを配置する。」
　
ス．１０頁３〜末行「制御装置６は、第１のレーザ８が直線偏光かつ一定パワーのレーザビームを音響光学変調器１２へ与えるよう、第１のレーザ８に対して制御信号Ｓ１を出力する。音響光学変調器１２は、素材表面２２の所望の断面の微細な輪郭を定める制御信号Ｓ３を制御装置６から受け取る。音響光学変調器１２から出力された上記と同じ直線偏光のレーザビームは選択ミラー１４を透過し、光学系１８を介して素材表面２２上へ導かれる。
　第２のレーザ１０はＰＣ６から制御信号を受け取って、直線偏光されたレーザビームを出力するが、この第２のレーザ１０から出力されたレーザビームの偏光ベクトルは変調器１２から出力されたレーザビームの偏光ベクトルに垂直である。これらの偏光ベクトルが図１中にそれぞれ短線と点で示されていることからわかるように、選択ミラー１４は変調器１２から出力されたレーザビームを透過させ、第２のレーザ１０から出力されたレーザビームを反射させる。その結果、互いに垂直な偏光ベクトルを有する２つのレーザビームが１本の共通のビーム経路内で１つに統合され、光学系１８を介して素材表面２２へ到達する。
　制御信号Ｓ１は一定の振幅を有し、従って第１のレーザ８から出力されるレーザビームもまた一定のパワーを有するけれども、第１の制御信号Ｓ３と第２の制御信号Ｓ２とは、素材表面２２上におけるレーザビームの走査ラインに沿った所望の断面に対応して時間的に変化する。変調器１２と第２のレーザ１０とから出力されるレーザビームのパワーは、それぞれ制御信号Ｓ３，Ｓ２の振幅にほぼ比例する。
　図２のＡ）には、素材２の表面２２の断面が示されている。素材表面上におけるレーザビームの走査ラインに沿った断面形状の変化過程は、レーザビームが素材表面を横切って移動する走査スピードと関係している。」
　
セ．１０頁末行〜１２頁２行「よって、素材表面２２内の断面形状の局所的な変化は、音響光学変調器１２に供給される（第１の）制御信号Ｓ３の時間変化の割合と、制御装置６から第２のレーザ１０へ供給される（第２の）制御信号Ｓ２の時間変化の割合とに対応する。制御信号Ｓ１，Ｓ３，Ｓ２は図２のＢ），Ｃ），Ｄ）に示されている。
　素材表面２２上におけるレーザビームの走査ラインに沿った断面形状の変化過程と、制御信号、特に制御信号Ｓ３，Ｓ２、の時間変化との関係が上述の通りであるため、図２Ａ）に示される断面中の個々の場所を制御信号の変化過程中における時刻ｔ１からｔ６と関係づけることができる。
　第１のレーザ８に供給される制御信号Ｓ１は、レーザ８が一定パワーのレーザビームを音響光学変調器１２へ出力するよう、一定の（最大の）振幅を有している。
　以下では、音響光学変調器１２へ与えられる第１の制御信号Ｓ３の変化過程（図２Ｃ）について考える。時刻ｔ１で、制御信号Ｓ３のレベルが或る一定値へ急激に立ち上り、それにつれて変調器１２からのレーザビームのパワーが突然増大するため、結果的に、素材表面２２には急な段差が形成される。時刻ｔ１と時刻ｔ２との間では、制御信号Ｓ３のレベルが徐々に最大値まで上昇し、それに応じて素材表面２２の断面が徐々に深さを増していく。時刻ｔ２で、制御信号Ｓ３が最大レベルに達し、従って音響光学変調器１２から出力されるレーザビームが最大パワーに達すると、制御信号Ｓ２のレベルが上昇し始める。制御信号Ｓ２のレベルと制御信号Ｓ３のレベルとの合計値に従って、選択ミラー１４で１つに統合されたレーザビームのパワーが素材表面上で増大し、その結果、断面の深さが増していく。時刻ｔ３では、制御信号Ｓ２のレベルがその最大値に達する。
これは最大の断面深さＴGに対応する。合計の断面深さＴGは、２つの制御信号Ｓ２，Ｓ３の最大振幅を加えた結果として得られる。
　時刻ｔ４では、制御信号Ｓ２のレベルが下がり始め、それに応じて素材表面内の断面深さが減少し始める。時刻ｔ２と時刻ｔ５との間では制御信号Ｓ３がその最大レベルを維持し、時刻ｔ５で制御信号Ｓ２が再びゼロレベルに戻ると、その後、制御信号Ｓ３は減少し始め、時刻ｔ６で制御信号Ｓ３のレベルがゼロに落ちる。時刻ｔ６の後は、レーザビームは素材表面上に導かれることはなく、何の彫刻も起こらない。」
　
ソ．１２頁３〜下から２行「制御信号Ｓ３と制御信号Ｓ２とを比較することにより、第２のレーザ１０へ供給される第２の制御信号Ｓ２は、断面が図２Ａ）中の所定の断面深さＸよりも深い時にのみ“作動”させられることがわかる。従って、第２のレーザ１０に要求される“変調周波数”は音響光学変調器１２の変調周波数よりも低い。よって、変調器１２から出力されるレーザビームにより、微細な輪郭が確実に形成される。この変調器１２から出力されるレーザビームだと、最大加工深さＴM（図２Ａ参照）を得ることができる。それ以上の深さでは、第２のレーザ１０が結合される。
　図３には、レーザ彫刻機の更なる特別な実施例が示されている。図１の実施例は基本的に２つの別個のレーザ、例えば２つの炭酸ガスレーザ、を使用するものであるが、図３の実施例は２本のレーザ管を有する１つのレーザ３０を使用するものであって、２本のレーザ管のそれぞれが直線偏光されたレーザ光を出力し、それら２つの偏光ベクトルは互いに垂直である。レーザ３０の出力には、垂直な２成分を有するレーザ光が現れる。このレーザ光は、傾斜ミラーＭ１，Ｍ２で繰り返し偏向させられることにより、図１中のミラー１４に相当する選択ミラーＭ３上に導かれる。直線偏光を有するレーザ光は、図３中に点で示されているが、ミラーＭ３により光学系１８上へ反射される。これに対して垂直に偏光されたレーザ光は、更なる傾斜ミラーＭ４を介して音響光学変調器１２へ達する。そこから出力されたレーザ光は、更なる傾斜ミラーＭ５，Ｍ６を介しミラーＭ３を透過して光学系１８上へ導かれる。ミラーＭ５上では、ゼロ次回折の最大値がほとんど存在しない。このレーザ光の一部は吸収器２０によって吸収される。１次回折の最大値は、その後段のミラーや光学系１８を介して素材２の表面へ到達する。
　以上に記載した実施例は本発明の保護範囲内で変更可能である。」
　
　ウの記載に明らかなように、当該甲第２号証には、一般的に、例えば、ゴム或いはプラスチック製の円筒体である素材の表面を彫刻するためのレーザ彫刻機に関して記載されている。
　そして、当該レーザ彫刻機においては、素材である円筒体が当該レーザ彫刻機の中に固定され、当該レーザ彫刻機の中で回転され、同時に、その回転軸に平行して横方向に移動し、光学系によって前記素材の表面にその焦点が合わされたレーザビームは前記素材の表面を走査し、制御信号に従って対応するビームの強度を変えて、その強弱に応じて前記素材の表面を深くもしくは浅く除去することが把握できる。
　
　エ、オの記載からは、図１を参照して、従来技術として、信号発生器及び制御装置として、インターフェースを有するＰＣ（パーソナルコンピュータ）を含んだレーザ彫刻機４が説明されており、制御装置６からの制御信号Ｓ１により炭酸ガスレーザ８の出力レーザ放射が音響光学変調器１２へ印加され、同制御装置６からの制御信号Ｓ３の強弱に伴って、前記炭酸ガスレーザからのレーザビームが変調されることが把握できる。
　また、音響光学変調器の構造と用途は既に公知であること、音響光学変調器から現れる有効なビーム１が音響光学変調器による一次回折のビームであることが記載されている。
　
　カ、キの記載には、当該甲第２号証記載のレーザ彫刻機と同様なものとして、ドイツ国公報ＤＥ ４２ １２ ３９０ Ａ１：レーザービーム源からの２つのレーザビームが別々の光路を介して素材表面に向けられるもの、或いは、ドイツ国公報ＤＥ ３７ １４ ５０４ Ａ１：異なる波長の二つのレーザビームを一つの加工点にもたらす先行技術が紹介されている。
　そして、キの記載には、「炭酸ガスは最高限度変調周波数がキロヘルツ程度に限られる」ことから、「
所望の断面が非常に細かい構造を持つとき
　
　クの記載には、当該甲第２号証記載のレーザ彫刻機における目的が、素材の表面を素速く加工することであると共に、「
繊細な輪郭線を形成する
　
　ケの記載には、当該甲第２号証記載のレーザ彫刻機においては、第１のレーザビーム源と第２のレーザビーム源とを備えており、第２のレーザビーム源からの出力レーザ放射は変調器からの出力レーザ放射と共に光学系の前の共通のビーム軸にもたらされ、第１及び第２の制御信号のうち、第１のレーザビームに供給される第１の制御信号が所望の断面の繊細な構造を特定し、一方、第２のレーザビーム源に供給される第２の制御信号は前記断面の深い部分に対応する態様であることが記載され、「
繊細な構造の端部を形成するため
音響光学変調器の比較的高い変調周波数に基づいて作られる
所望の断面の深い領域
第２のレーザビーム源を結合させる
　
　そして、コの記載には、当該甲第２号証記載のレーザ彫刻機においては、基本的に二つの別々のレーザを用いること、実用的には、二つのレーザ管を持った一つのレーザを利用して、一つのレーザ管は一定振幅のレーザビームを伝達し、他のレーザ管のレーザービームは音響光学的変調器を介して案内されるものであることが記載されている。
　
　さらに、サの記載には、レーザ彫刻機の制御装置が、主にＰＣ（パーソナルコンピュータ）とそれに対応するインターフェースＩＦとにより構成されるものであり、彫刻すべき素材表面の所望の断面データがメモリ内に記憶されており、このデータをＰＣによって処理して、素材表面上の走査ラインに沿った所望断面に対応し、２つのレベル間で時間的に変化する制御信号に変換することが記載されている。
　
　なお、シの記載には、前記音響光学変調器に代えてレーザ共振器内のＱスイッチを使用しても同様の変調が可能であること、第１のレーザビーム源と第２のレーザビーム源とは、必ずしも同じ波長のレーザ光である必要はなく、異なる波長のものを用いてもよく、その場合には、両者のレーザ光を合成するために波長選択ミラーを配置することが記載されている。
　
　また、スの記載には、【図１】を参照しつつ、制御装置６で発生される第１の制御信号Ｓ３と第２の制御信号Ｓ２とは、素材表面２２上におけるレーザビームの走査ラインに沿った所望の断面に対応して時間的に変化するものであること、これら制御信号のうち制御信号Ｓ３は、素材表面２２の所望の断面の微細な輪郭を定めるものであることが記載されていると共に、【図２】を参照しつつ、第２のレーザ１０へ供給される第２の制御信号Ｓ２が、断面が図２Ａ）中の所定の断面深さＸよりも深い時にのみ“作動”させられるものであることが記載されている。
　
　そして、セの記載には、第１の制御信号Ｓ３と、第２の制御信号Ｓ２の実際の使用形態に関し、断面形状の変化過程と、これら制御信号の時間変化の関係が例示されており、
それによれば、まずｔ１〜ｔ２において、第１の制御信号Ｓ３に基づくレーザビーム照射により、素材表面の深さｘより浅い輪郭形成がなされ、
ｔ２〜ｔ５において、第１の制御信号Ｓ３に基づくレーザビーム照射に加えて第２の制御信号Ｓ２に基づくレーザビーム照射が合わされて、最大深さＴGに至る深さｘよりも深い断面形成がなされ、
ｔ５〜ｔ６において、第１の制御信号Ｓ３に基づくレーザビーム照射のみにより、素材表面の深さｘより浅い輪郭形成がなされること、が記載されている。
　
　また、ソの記載には、音響光学的変調器１２を介して照射される第１のレーザビームの変調周波数は高いので、微細な輪郭形成に必要な応答性が確保されること、このビームとは異なり、断面が図２Ａ）中の所定の断面深さＸよりも深い時にのみ”作動”させられる第２のレーザビームの変調周波数は低いものであることが記載されている。
　
（３）甲第３号証：特開２００１−１２１８３３号公報の記載事項
　　当該甲第３号証は、本件特許の優先日（平成１３年５月２５日）より前である平成１３年５月８日に公開されたものであって、以下の記載がある。
　
【発明の名称】レーザー彫刻による凸版印刷版製作に使用する、シリコーンゴムおよび鉄含有無機固体を含む記録材料
ア．段落【0001】「【発明の属する技術分野】本発明は、凸版印刷版製作、特にフレキソ印刷版製作、に使用するレーザー彫刻が可能な記録材料に係り、寸法安定性の良好な基板、およびシリコーンゴムとレーザー放射線吸収体としての鉄含有無機固体および／またはカーボンブラックとを含む記録層、を含む、レーザー彫刻が可能な記録材料に関する。さらに本発明は、上記記録材料をレーザー彫刻することにより凸版印刷版を製作する方法、およびシリコーンゴムと鉄含有無機固体および／またはカーボンブラックとを含む印刷レリーフを有する凸版印刷版、に関する。」
　
イ．段落【0006】「レーザー彫刻で得られる印刷レリーフの品質を支配する本質的な要素として、特に、レーザー照射下で材料が融解する前にできるだけ遠く気相中に直接拡散する点がある。さもないと版のくぼみの周りに融解したエッジが形成されてしまうからである。このような融解したエッジは、印刷画像の顕著な悪化をもたらし、印刷版および印刷画像の解像度を低下させる。」
　
ウ．段落【0007】「レーザー彫刻工程を経済的に行うためには、記録材料を極めて急速にレーザー彫刻できるように、記録材料のレーザー放射線への感度をできるだけ高めることが重要である。しかしながら、本明細書では、レーザー彫刻が可能な層は、凸版印刷版として重要な性能、例えば、弾性、硬度、粗度、印刷インク受容性または印刷インクによる膨潤性の低さ、のような性能について、十分な性能を有している必要があることも記憶しておく必要がある。レーザー彫刻に関して材料を最適化するにあたっては、上記のような性能についても何らかの欠陥を有する材料であってはならない。」
　
エ．段落【0008】「直接レーザー彫刻することによって凸版印刷版を製作するのに使用する材料は、原則として公知である。」
　
オ．段落【0009】「ＵＳ３５４９７３３は、レーザー彫刻によって印刷版を製作するために使用するポリオキシメチレンまたはポリクロラールの記録材料を開示している。付加的にガラスファイバーまたはルチルを充填剤として使用することができる。」
　
カ．段落【0010】「ＤＥ−Ａ１９６２５７４９は回転式フレキソ印刷のための継ぎ目のない印刷体（スリーブ）を開示しており、この文献では、エラストマー層は、水酸化アルミニウムを充填剤とした、低温硬化型シリコーンポリマーまたはシリコーンフッ素ポリマーによって形成される。」
　
　アの記載からは、凸版印刷版製作、特にフレキソ印刷版製作において、レーザー彫刻が可能な記録材料を使用されることが把握できる。
　　
　そして、イ〜カの記載には、レーザー彫刻に用いる記録材料では、レーザー照射下で材料が融解する前にできるだけ遠く気相中に直接拡散することが好ましく、レーザー彫刻を経済的に行うためには、記録材料を極めて急速にレーザー彫刻できるように、記録材料のレーザー放射線への感度をできるだけ高めることが重要であることが、また、直接レーザー彫刻することで凸版印刷版を製作するのに使用する材料は、各種のものが公知であることが記載されている。
　
（４）甲第４号証：「コンバーティング＆プリンティング
　　　　　　　　Converting  Printing 印刷と加工技術」
　　　　　　　「印刷基本技術編」Ｐ．293
　　　　　　　「I．グラビア印刷　第１章　グラビア製版」
　　　　　　　「画像処理とグラビア製版」の記載事項
　　当該甲第４号証は、本件特許の優先日（平成１３年５月２５日）より前の平成８年１１月１８日に公開されたものであり、以下の記載がある。
　
ア．左欄「２．グラビアの版式と特徴」
「２−１　グラビア製版の版式
　４大印刷方式凸版、平版、凹版、孔版（シルクスクリーン）の中で、グラビアは写真凹版とも言われるように凹版方式の一種である。
　凹版印刷は字のごとくへこんだ部分にインキを入れ、それ以外のインキはドクターでかき取り圧を加えて被印刷体に転写されるものである。
　グラビアの製版法は多様にあるが、大きく分類するとフ食法と彫刻法に分けられる。表１はグラビアの版式をまとめたものである。」
　
イ．左欄「２−２　製版方式の網点形状と階調表現方法」
「グラビアの異なる製版方式の網点形状とその階調表現方法を図１で表してみる。」
　
ウ．右欄「表１　グラビアの版式」
　　　　　　┌　コンベンショナル法（カーボンチッシュ使用）
　　フ食法　┼   網コン法（カーボンチッシュ使用）ＴＨ法、ＴＳ法
　　　　　　└　網グラビア法（ダイレクト法）
　　　　　　　　ポーシェル
　　　　　　　　ブーメランシステム（シンクラボラトリー）
　　　　　　　　レーザーストリーム（シンクラボラトリー）
　
　　　　　　┌　ヘリオクリショグラフ（ライノタイプヘル）
　　彫刻法　┼　オハイオ（オハイオエングレーバ社）
　　　　　　├　バルカス（大日本スクリーン製造）
　　　　　　└　レーザースター（ＭＤＣ）
　
エ．右欄「図１　網点形状と階調表現法」
　図１には、彫刻法と題した「ヘリオ・オハイオバルカス」なる方法について、「ダイヤモンドで銅表面をカッティングして網点の大小、深さの深浅の両方の変化により豊かな階調を表現する。」との記載がある。
　また、「レーザースター」と題した方法について、「レーザーを使用して合金を蒸発させる。深さの深浅により階調を表現する。」との記載がある。
　
　これらア〜エの記載からみて、グラビアの製版法には、「フ食法」と「彫刻法」があること、「彫刻法」には、「レーザースター」という、レーザーを使用して合金を蒸発させ、凹んだ部分の深さの深浅で階調を表現するものが存在していること、が把握できる。
　
（５）甲第５号証：特開平５−２４１６９号公報の記載事項
　　当該甲第５号証は、本件特許の優先日（平成１３年５月２５日）より前の平成５年２月２日に公開されたものであり、以下の記載がある。
　
【発明の名称：半導体レーザ製版装置】
ア．段落【0001】「【産業上の利用分野】本発明は半導体レーザを用いて映像データの濃淡に応じた窪みの版を形成する様にした半導体レーザ製版装置に関する。」
　
イ．段落【0013】「【発明が解決しようとする課題】上述の半導体レーザ１０にオン時に流す駆動電流Ｉは寿命を考慮して半導体レーザのフルパワの７〜９割程度が出力出来る適度の電流を流し、オフ時には全く電流を流さないか、レーザ保護のため少量の電流を流す程度であった。この様な駆動電流で画像データの濃淡に応じてオン，オフ期間ｔ1，ｔ2 ，ｔ3 を変えると共に版胴１を一定速度で回転させれば、画像データに対応した面積Ｓの異なる窪みを形成して階調を表現することが出来るが、版２に形成される窪み１５の深さｄは常に一定であるために、深さ方向の変化が乏しく、グラビア印刷の特徴であるインクの厚み方向による階調表現が出来ない問題があった。」
　
ウ．段落【0014】「本発明は叙上の如き問題点を解決するためになされたもので、その目的とするところはグラビアの版の窪みの深さ方向に変化を持たせ、印刷時にインクの厚み方向に変化を持たせて階調表現出来る半導体レーザ製版装置を提供するにある。」
　
エ．段落【0015】「【課題を解決するための手段】本発明の製版装置はその例が図１に示されている様に半導体レーザを用いて画像データの濃淡に応じて版に窪みを形成する様にした半導体レーザ製版装置に於いて、半導体レーザ１０で版２の窪み１５を形成しているオン期間の電流値を画像データ４１の濃淡に応じて変換させた電流値を記憶する記憶手段４４と、この記憶手段４４の電流値に基づき半導体レーザ１０に流す電流値を設定する電流値設定手段４５とを具備し、この電流値設定手段４５の出力により半導体レーザ１０のオンされる画素分の区間毎に電流値を変化させて画像データに応じた深さの異なる窪みを形成してなるものである。」
　
オ．段落【0023】「この様な半導体レーザ製版装置を用いて、グラビアの版２を形成する形成方法を図１の系統図を用いて説明する。」
　
カ．段落【0024】「図１で入力操作部３０は停止、リセット等のステータス信号３１をマイクロコンピュータ（以下ＣＰＵと記す）３２に供給する。ＣＰＵ３２は正転又は逆転パルスをレーザブロック移動用モータドライバ３３と版胴回転用モータドライバ３５とに供給し、レーザブロック移動用モータ２４と版胴回転用モータ７とを回転駆動させる。版胴駆動用モータ７で版胴１を回転させ、半導体レーザ１０で映像入力信号１６のデータに対応した窪み１５を版面上に形成し、版胴１が回転したらレーザブロック移動用モータ２４を１画素データ分移動させて、版胴１の円周に沿って画面の濃淡に応じた窪み１５を作って行く様にＣＰＵ３２がコントロールしている。」
　
キ．段落【0025】「データＲＡＭ３８にはイメージスキャナ等で取り込んだデジタル画像データ４１が格納されている。ＣＰＵ３２は製版すべき画素の画像データ４１をデータＲＡＭ３８より読みだし、これをグレースケール変換回路４２に送る。グレースケール変換回路４２は画像の濃淡をレーザ照射時間の長短に変換する役割を持つ。このグレースケール変換回路４２の出力によりレーザドライバ４３を介して半導体レーザ１０を駆動する。」
　
ク．段落【0026】「グレースケール変換回路４２には予め用意された半導体レーザ１０のオン時に流す電流値テーブルを有する。この電流値テーブルは例えば画像データ４１の値が階調で２５５で表される時は１．５Ａ、同様に１２８で表せる時には１．０Ａ等と画像データの値に応じた定められた電流値がＲＯＭ或はＲＡＭ等の記憶手段４４に格納されている。」
　
ケ．段落【0027】「グレースケール変換回路４２の出力は上述の記憶手段４４からの電流値を読み出し、この電流値をレーザドライバ４３を介して半導体レーザ１０に流す様な電流値設定回路４５に供給される。即ち、電流値設定回路４５では電流値テーブルの値の半導体レーザ駆動電流を作り出す様になされる。」
　
コ．段落【0028】「上述の構成の系統図での本例の動作を図３及び図４を用いて説明する。上述の１Ｗ程度のレーザパワを出力するための例えば、ＳＬＤ−３０４（ソニー製半導体レーザ）の駆動電流（ｍＡ）とレーザバワ出力（ｍＷ）との特性曲線図は図４に示す如き特性を示している。即ち駆動電流が２００ｍＡ程度或はレーザパワ出力は零であり、駆動電流２５０ｍＡ程度から徐々に出力が立ち上る特性を示している。この半導体レーザの特性曲線４６から解る様に駆動電流を２５０ｍＡ乃至２０００ｍＡ範囲まで変化させれば、パワ出力は０乃至１０００ｍＡ程度まで変化出来る。」
　
サ．段落【0029】「そこで、本例ではグレースケール変換回路４２にＣＰＵ３２から供給された画像データ４１の濃淡に応じて記憶手段４４の電流値テーブルから、その濃淡に対応した電流値を読み出して、電流値設定回路４５に供給する。電流値設定回路４５では図３Ａに示す様に、半導体レーザ１０に流す電流をＩ1，Ｉ2，Ｉ3 ‥‥の様に作り出して、レーザドライバ４３を介して、オン期間の一画素分の時間ｔ3，ｔ1，ｔ2だけ半導体レーザ１０に供給して、電流Ｉ1，Ｉ2，Ｉ3を流すことで、この電流値に対応したパワ出力のレーザビーム１１が版胴１に巻回した版２の表面に照射されて、窪み１５が図３Ｂ及び図３Ｃに示す様に形成される。即ち、電流値Ｉ3の様に電流が大きい所では版２に形成される窪み１５の深さｄ2は深くなり、濃度の濃い階調を表現することが出来る。又、濃度の淡い所では電流値Ｉ1の様に電流が小さい小パワであるため窪み１５の深さｄ3も浅くなる様になされる。」
　
　アの記載から、当該甲第５号証記載の半導体レーザ製版装置が、半導体レーザを用いて、映像データの濃淡に応じた窪みの版を形成するものであることが把握できる。
　
　イ〜ウの記載では、従来の半導体レーザでは、画像データの濃淡に応じてオン、オフ期間を変えて面積の異なる窪みを形成して階調表現を行っているが、窪み深さは常に一定であるために、グラビア印刷の特徴であるインクの厚み方向による階調表現を実現することができなかったことが挙げられ、当該甲第５号証記載の半導体レーザ製版装置では、グラビアの版の窪みの深さ方向に変化を持たせた階調表現を実現することに目的があると記載されている。
　
　そして、エの記載では、当該甲第５号証記載の半導体レーザ製版装置においては、半導体レーザ１０で版２の窪み１５を形成しているオン期間の電流値を画像データ４１の濃淡に応じて変換させた電流値を記憶する記憶手段４４と、この記憶手段４４の電流値に基づき半導体レーザ１０に流す電流値を設定する電流値設定手段４５とを具備し、この電流値設定手段４５の出力により半導体レーザ１０のオンされる画素分の区間毎に電流値を変化させて画像データに応じた深さの異なる窪みを形成するものであることが記載されている。
　
　また、オ〜ケの記載では、図１を参照して、ＣＰＵ３２がデータＲＡＭ３８から読み出して送られた画像データ４１に基づいてグレースケール変換回路４２において画像の濃淡をレーザ照射時間の長短に変換されること、当該グレースケール変換回路４２には電流値テーブル記憶手段が備えられており、画像データ４１の階調値に応じて半導体レーザ１０に流す電流値が読み出されること、そして、当該電流値は電流値設定回路４５に与えられて半導体レーザ１０の駆動電流が作り出されることが記載されている。
　
　さらに、コ、サの記載では、図３及び図４を参照して、用いられるレーザパワ出力は駆動電流に応じて変化させられること、表現すべき濃度階調に対応した窪み１５の深さに応じて、半導体レーザ１０に流す電流Ｉ1 ，Ｉ2 ，Ｉ3を設定して、所望の窪みを形成していることが記載されている。
　
（６）甲第６号証：特開平６−２３４０８６号公報の記載事項
　　当該甲第６号証は、本件特許の優先日（平成１３年５月２５日）より前の平成６年８月２３日に公開されたものであり、以下の記載がある。
　
【発明の名称：レーザ製版装置】
ア．段落【0001】「【産業上の利用分野】本発明は、例えば、グラビア印刷機用の刷版を形成するレーザ製版装置に関する。」
　
イ．段落【0002】「【従来の技術】従来のレーザ製版装置では、版シートが巻き付けられた版胴を一定速度で回転させながらその版シートにレーザビームを照射することで、その版シートに画像情報に対応する凹みが形成されて刷版が製版されていた。」
　
ウ．段落【0003】「この場合、照射されるレーザビームの照射時間を画像情報の濃淡（濃度）に応じて変化させて、画素単位で開口面積の異なる凹みを形成することにより上記画像情報に応じた刷版が製版されていた。」
　
エ．段落【0008】「【発明が解決しようとする課題】ところで、上記した従来のレーザ製版装置では、版シートにおける製版範囲の全体を１回の面走査｛版胴の１回転で主走査方向の１ラインの製版を行いながら、１ライン（１回転）終了後にレーザ光源を１ライン分（１画素分）の幅だけ副走査方向にずらすことで、次の１ラインの主走査方向の製版を行うという過程を全主走査ラインについて順次行うことにより面走査が完了する。｝で行うようにしている。この場合、１枚の版シートに対する総製版時間（１回の面走査に対応する時間）を短くすることが要請されている。」
　
オ．段落【0009】「しかしながら、上記従来のレーザ製版装置では、小さな開口面積を有する凹み（画素）を製版する場合と、大きな開口面積を有する凹み（画素）を製版する場合とで、１画素当たりのレーザの照射時間は異なるものの、１画素当たりの製版時間（走査時間）が同一の時間になるので、総製版時間が同一の時間になり、全体として時間の無駄が大きいという問題があった。」
　
カ．段落【0010】「本発明はこのような課題を考慮してなされたものであり、版シート全体の製版時間を短縮することのできるレーザ製版装置を提供することを目的とする。」
　
キ．段落【0015】「【作用】本発明によれば、版シート２２に対してレーザビームＬを照射して走査し、画像情報の濃度に応じた凹み５８を画素単位に形成することにより刷版を製版する際に、上記画像情報の所定濃度に対応する閾値Ｓｈを設定し、１ラインの走査では、濃度を有する全画素に凹み５８ａ〜５８ｇを形成して製版し、上記１ライン中に閾値Ｓｈを超える画素が存在する場合には、再度その１ラインを走査して製版するようにしたものである。このため、例えば、倍速走査を行うことにより、１ライン中に閾値Ｓｈを超える画素が存在しない場合には、その１ラインは半分の時間で製版できる。また、倍速走査であるので、閾値Ｓｈを超える画素が存在する場合であっても、従来と同一の時間で製版できる。結果として、版シートにおける製版範囲の全体（全製版範囲）の製版時間を短縮することができる。」
　
ク．段落【0016】「また、本発明によれば、版シートに対してレーザビームを照射して走査し、画像情報の濃度に応じた凹みを画素単位に形成することにより刷版を形成する際、上記画像情報の所定濃度に対応する閾値を設定し、１ラインの走査では、上記閾値を超える画素にのみ凹みを形成して製版し、上記１ラインの再度の走査では、濃度を有する全画素に凹みを形成するようにしたものである。このため、例えば、倍速走査を行うことにより、１ライン中に閾値を超える画素が存在しない場合には、その１ラインの最初の走査では、その１ラインをとばすことができる。１ラインの再度の走査では、濃度を有する全画素にその倍速走査で凹みを形成する。結果として、版シートにおける全製版範囲の製版時間を短縮することができる。」　
　
　ア〜カの記載には、従来のレーザ製版装置では、照射されるレーザビームの照射時間を画像情報の濃淡（濃度）に応じて変化させて、画素単位で開口面積の異なる凹みを形成することで刷版が製版されていたこと、この際に凹みの深さを一定とするものであり、小さな開口面積を有する凹み（画素）を製版する場合と、大きな開口面積を有する凹み（画素）を製版する場合とで、１画素あたりのレーザ照射時間は異なるものの、１画素当たりの製版時間（走査時間）が同一時間となるので、総製版時間が同一の時間になり、全体として時間の無駄が大きいという問題があったことが指摘され、当該甲第６号証記載のレーザ製版装置においては、版シート全体の製版時間を短縮することが目的とされていることが記載されている。
　
　そして、キ、クの記載には、当該甲第６号証記載のレーザ製版装置においては、画像情報の濃度に応じた凹みを画素単位に形成することにより刷版を形成する際、上記画像情報の所定濃度に対応する閾値を設定し、２回の走査の内のいずれかの１ラインの走査では、上記閾値を超える画素にのみ凹みを形成して製版し、他方の１ラインの走査では、濃度を有する全画素に凹みを形成するようにすることで、１ライン中に閾値を超える画素が存在しない場合には、その１ラインの走査をとばすことを可能として、結果として、版シートにおける全製版範囲の製版時間を短縮することが実現できるものであることが記載されている。
　
　そして、図１には、１周目の製版による凹みの断面形状（図１Ａ）と、２周目の製版による凹みの断面形状（図１Ｂ）とが開示されており、これら図１Ａと図１Ｂとを対比すると、レリーフの表面側部の境界となる版シート２２（印刷ブロックブランク）の材料領域の除去は、１周目の製版を行うときのビーム（第１のビーム）による除去と、２周目の製版を行うときのビーム（第２のビーム）による除去とにより、画像情報の所定濃度に対応する閾値に応じた窪みが形成されることが開示されている。
　
（７）甲第８号証の記載事項
　　当該甲第８号証は、審査過程において、特開平０６−２３４０８６号公報を引用文献として提示した平成１４年６月２０日付け拒絶理由通知に対して、出願人である被請求人が平成１６年３月１６日付けで提出し意見書であって、以下の記載がある。
　
　３頁「そこで、上記引用文献に記載の発明と本願請求項１および１９に係る発明について比較しますと、引用文献には、本願請求項１に係る「
同じトラックに沿って一つずつガイドされる複数のビームによって
複数回の繰り返し
同じトラックに沿って時間遅れで異なるビームによって加工する
光学装置は、各々が一つの別個のデータファイルによってのみ制御可能な複数のビームを発するように構成されている
　すなわち、引用文献には、異なる複数のビームを用いて、同じトラックに沿って複数回繰り返して加工するという技術的思想がなかったことは明白です。」
　
７．当審の判断
　　本件発明１は、前記「３．本件発明」に記載されたとおりである。
　　そして、これに記載される「第１のビーム」が、「先頭のビーム」の意味であること、「同じトラックに沿って一つずつガイドされる」が、「「トラック」とは走査線であって、「複数のビーム」が同じトラックに位置し得る」の意味であること、について請求人及び被請求人の双方に争いはない（口頭審理調書参照）ものの、
「複数のビーム」及び「最初に除去する」の意味について当事者双方の主張には表現上に違いがある（口頭審理において双方に明確な主張をするように求めた）ので、ここで検討する。
　
７−１［「複数のビーム」の意味について］
　（請求人の主張：平成１８年６月１２日付け上申書）
　　「複数のビーム」とは、異なる２以上のハードウェア（以下、「光源」という。）から照射され、同時に照射されることも可能なビームである。
　　同じ光源から時間遅れで照射される２以上のビームは、同時に照射することが不可能であり、ここに言う「複数のビーム」にはあたらない。
　　「複数のビーム」という文言は、甲第６号証に記載された発明との差異を主張する意見書（甲第８号証）を提出すると共に、補正により追加されたものであり、本件出願人（被請求人）に甲第６号証に記載された発明を本件特許発明から除外する意志があったことは明白である。
　
　（被請求人の主張：平成１８年６月１２日付け上申書）
　　本件発明では、「複数のビーム」は各々ガイドされ、印刷ブロックブランクの同一の領域を異なるタイミングで照射するものであり、第１のビームのみが前記レリーフの表面側部の境界となる領域を最初に除去することを特徴とする。
　　これに対して、甲第２号証には、２個のレーザビーム源が示されるが、実際に素材に送られるレーザビームは、２個のビーム源からの出力を合成した１本のビームであり、この合成した１本のビームが単一にガイドされて素材表面に送られ、その表面を彫刻するものであるから、甲第２号証は素材を彫刻する１本のビームをどのように作るかという技術を開示したに過ぎないものである。
　　よって、本件発明の特徴的な構成が甲第２号証に開示あるいは示唆されているものではない。
　
　（当審の判断）
　　これら双方の主張をみるに、「複数のビーム」とする表現が、「ビーム」を発生させるところの「光源」が独立して発光し得る装置として存在する、との理解において相違はない。
　　そして、前記のように、「同じトラックに沿って一つずつガイドされる」が、「「トラック」とは走査線であって、「複数のビーム」が同じトラックに位置し得る」の意味であることにおいても、双方の理解に相違はない。
　
７−２［「最初に除去する」の意味について］
　（請求人の主張：平成１８年６月１２日付け上申書）
　　「最初に除去する」とは、複数の光源によって行われる走査のうち、第１のビームを照射する光源が当該領域（当審注：後出の「レリーフの表面側部の境界となる印刷ブロックブランクの材料の領域」と解される。）を「最初に」走査し、このときに照射される第１のビームが当該領域（前記に同じ。）を「除去する」の意味である。
　　本件特許では、「レリーフの表面側部の境界となる印刷ブロックブランクの材料の領域（基本レリーフパターンに触れる部分）」は、第１のレーザのみが除去するが、第１のレーザでしか除去されない部分についてはそもそも除去順序が定義できないので、「最初に」が「除去する」にかかると考えると、単に「あたりまえ」のことを記載している無意味なものとなる。
　　一方、光源は、除去（照射）が必要な領域のみ自由に移動するのではなく、必ずすべての領域を順次走査するから、光源による走査は全領域が対象となる（ただし、光源による走査中において、当該光源がビームに照射するかしないかは制御される。）。つまり、ビームによる除去は選択的であるために、すべての領域に対して除去順序を定義することができないが、光源による走査は全領域が対象となることから、光源による走査順序の観点からはすべての領域に対し、その順序を定義できることとなる。
　　以上のとおりであり、「最初に除去する」のうち「最初」とは、複数の光源による走査順序に関して「最初」の意味である。
　
　（被請求人の主張：平成１８年６月１２日付け上申書）
　　本件発明の「最初に除去する」とは、第１のビームによって最初に行われるレリーフの表面側部の境界となる材料の領域の除去であり、これに続く更に低層領域の除去を行う照射への暴露あるいはビームは決して前記境界領域に触れないという意味である。
　　この結果、本件発明によれば、段落【0014】に記載の顕著な効果を生む。
　　複数のビームが同時に同一領域に作用しないようにして、印刷ブロックブランク表面が比較的低温である間に、最初のレーザビームのみによってレリーフの表面側部の境界となる材料の領域を最初に除去することを意味する。
　
　（当審の判断）
　　「最初に除去する」に関し、請求人は、複数の光源によって行われる走査のうち、第１のビームを照射する光源が「レリーフの表面側部の境界となる印刷ブロックブランクの材料の領域」（当該領域）を「最初に」走査し、このときに照射される第１のビームが当該領域を「除去する」の意味とするに対して、被請求人は、第１のビームによって最初に行われるレリーフの表面側部の境界となる材料の領域の除去であるとする。
　　この点、前記で確認したように、「第１のビーム」が、「先頭のビーム」の意味であることについて、請求人と被請求人の間に争いはなく、複数の光源によって行われる走査の順序からみて「最初」に走査が行われるところの「先頭のビーム」である「第１のビーム」により「レリーフの表面側部の境界となる印刷ブロックブランクの材料の領域」の「除去」が行われることと解している点で相違はない。
　　してみれば、「最初に除去する」とは、複数の光源によって行われる走査のうち、第１のビームが照射する光源が、当該第１のビームが「レリーフの表面側部の境界となる印刷ブロックブランクの材料の領域」を「最初に」走査し、このときに照射される第１のビームが当該領域を「その他のビームに先立って除去する」の意味である点において、請求人と被請求人の双方に解釈に差異はないと認められる。
　　
７−３［本件発明の技術的内容についての確認］
　　上記当事者双方の主張する内容確認を前提として、本件発明の技術的内容について確認する。
　　
７−３−１　本件発明における印刷方式について
　　本件発明１或いは本件発明１８においては、「レリーフが印刷ブロックブランクの表面に形成される印刷ブロックの製造方法であって、」或いは「レリーフが印刷ブロックブランクの表面に形成される印刷ブロックの製造装置であって、」と記載され、印刷ブロックブランクの表面には、「レリーフ」が形成されるものとされる。
　　一般に「レリーフ」は、「浮彫(ウキボリ)：relief（英）」（広辞苑第３版）のこととされ、外面形状を指すものであり、本件明細書の段落【0002】、【0003】においては、従来技術として「フレキソ印刷」が記載され、段落【0004】、【0005】の【発明が解決しようとする課題】においても、本件発明が、特に「フレキソ印刷」のフレキソ印刷ブロックの製造方法に適した装置を提供するものとされ、更に、【発明の実施の形態】に係る段落【0040】〜【0050】においても、本発明及び例示的な実施形態と称して、【図３】、【図４】に示される英字の「Ａ」を模した基本レリーフパターン１４を形成する例が記載されている。
　　他方、本件明細書の段落【0001】では、「【発明の属する技術分野】本発明は、請求項１及び２１に従った印刷ブロックの製造のための方法及び装置に関している。この印刷ブロックは、例えば、レリーフ印刷又はグラビア印刷ブロックなどとして機能することができるフレキソ印刷ブロック又は非可とう性印刷ブロックであってもよい。」と記載されており、本件発明における「印刷ブロック」が、フレキソ印刷に代表されるレリーフ印刷、すなわち凸版印刷に係るものに限られず、グラビア印刷、即ち凹版印刷に係るものをも包含しているものと把握される。
　　ここで、グラビア印刷は、版の凹ませた部分にインキを保持し、これを記録体に転写させる方式であり、フレキソ印刷のように版の表面の凸部に保持したインキを記録体に転写する方式とは異なるものであることは明らかである。
　　しかし、前記のように本件明細書では、印刷ブロックブランクとして、フレキソ印刷とグラビア印刷のいずれをも包含するものとして記載されているのであり、たとえ本件明細書に記載される実施の形態がフレキソ印刷のもののみであるとしても、フレキソ印刷版の製造方法に制限的に解釈すべきではない。
　　そこで、フレキソ印刷とグラビア印刷の両者ともにレーザ照射により版の表面から凹ませる処理が行われていることに鑑みれば、本件発明１或いは本件発明１８の「レリーフ」とは、共通に形成されていると認識し得るところの、「版表面に位置するエッジ部分」を含む断面形状を指すものとして理解されるべきこととなる。
　　以下、本件発明１或いは本件発明１８にいう「レリーフ」については、「レーザ照射により版の表面から凹ませた際に形成される版表面に位置するエッジ部分を含む断面形状」を含むものであると解して検討する。
　
７−３−２［本件発明における「
更に、第１のビームのみが、前記レリーフの表面側部の境界となる前記印刷ブロックブランクの材料の領域を最初に除去する
　　当該特定は、訂正請求により本件発明１及び本件発明１８に追加されたものではあるが、前記「２．訂正の可否に対する判断」の「（２）判断」で検討したように、直接的には旧請求項７の「前記レリーフの表面側部の境界となる前記印刷ブロックブランクの材料の領域を最初に除去することを特徴とする請求項１から６の何れか１項に記載の方法。」の記載に根拠を置き、本件明細書の段落【0041】、【0044】及び【0047】〜【0051】の記載と【図１】〜【図５】の説明の記載によりその詳細が把握できる。
　　段落【0041】からは【図１】を参照して、例示されたレーザビーム３、４、及び５のうち、「先頭レーザビーム」が「レーザビーム３」であることが示されており、段落【0048】においては【図３】を参照して、一様に黒塗りされた領域の形態の基本レリーフパターン１４が例示され、段落【0049】では、前記基本レリーフパターン１４の周囲を低層領域１５、１６、及び１７が取り囲んでいることが示され、【図３】に示されるトラックＡ−Ａと基本レリーフパターン又は境界１８、１９との交点が、レーザビームのターンオン点（ビーム照射の開始点）及びターンオフ点（ビーム照射の終了点）であることが示されている。
　　そして、段落【0050】、【0051】では、トラックＡ−Ａの開始位置であるＸ＝０からの距離の基づいて前記ターンオン点とターンオフ点を示すデータファイル構成が示されており、レーザビーム３、４、及び５に相当するターンオン・ターンオフを表わすＤ３、Ｄ４、及びＤ５に着目すると、「先頭レーザビーム」である「レーザビーム３」は、その他のレーザビーム４、及び５に先立って、トラックＡ−Ａを走査されていることから、常に、「レーザビーム３」のターンオン或いはターンオフは、その他のレーザビーム４、及び５に先立っていることとなる。
　　よって、【図４】において示される領域１５の「レーザビーム３」による除去は、その他の領域１６及び１７のレービーム４、及び５による除去に常に先立って行なわれていること、そして、領域１６及び１７に係る境界１８及び１９は、基本レリーフパターン１４からは離れたものとなっており、当該基本レリーフパターンの輪郭はレーザビーム３のみにより形成されていることが把握できる。
　　すなわち、本件発明における「
更に、第１のビームのみが、前記レリーフの表面側部の境界となる前記印刷ブロックブランクの材料の領域を最初に除去する
　　それ故に、本件発明１及び本件発明１８では、段落【0014】に記載されるごとくに、「表面端でレリーフを固定する印刷ブロックブランクの材料の領域は最初に剥離され、このようにして、印刷ブロック部落がまだ比較的低温である間にレリーフ輪郭が確立されることができる。これが行なわれた後にのみ、印刷ブロックブランクからの材料の更なる除去が行なわれて低層領域が形成される。この手順において、非常に正確な境界が、レリーフの表面端に得られる」なる顕著な効果を生むものと解される。
　　換言するに、レリーフ領域は「第１のビーム」である「レーザビーム３」により形成された後には、他のレーザビーム４或いは５の照射の影響を受けることはなく、その輪郭が保持されているという顕著な効果が期待できるのである。
　　ここで、当該段落【0014】の後半では、前記に引き続いて、「しかし、原則的には逆の手順、すなわち、レリーフの表面端の境界が最後にブロックされることが可能である。」との記載がなされ、前記で確認した各レーザビーム走査とは逆の手順、すなわち、レーザビーム５、４、及び３の走査順として、最後にレリーフの表面端の境界を除去するようになすことも可能性として存在することが指摘されている。
　　しかしながら、この場合には、領域１５に相当する深さを形成するレーザビーム３による除去が未だ行なわれていない状態において、走査順が先となったレーザビーム４、及び５による領域１６及び１７に相当する深さからレーザビーム３の担当する領域１５の深さを除いた深さの領域除去が先だって行われ、その後に始めて、領域１５の深さを形成するレーザビーム３による除去が行なわれることとなる。
　　すると、この場合には、既にレーザビーム４、及び５が照射されたことにより、レーザビーム３により除去しようとする領域は、前記他のレーザビーム照射によって与えられた熱の影響を受けることとなるのは明らかであり、当該段落【0014】の後半の記載は、単に走査順を逆とした場合にも、同様の領域除去を行える可能性があることを指摘したに過ぎず、本件発明による走査手順ではないものと解される。
　　この点、被請求人は、当該段落【0014】の後半が本件発明に係る記載ではないと口頭審理において主張しており（口頭審理調書参照）、前記の解釈と符合する。
　　
　　以上のとおりであることから、本件発明１は、「同じトラックに沿って一つずつガイドされる複数のビーム」を前提として、これに、前記「
更に、第１のビームのみが、前記レリーフの表面側部の境界となる前記印刷ブロックブランクの材料の領域を最初に除去する
他方、本件発明１８は、「前記印刷ブロックブランクの表面を、少なくとも一つのビームによって一つのトラックに沿って順に照射して暴露して、」と特定されていることから、「同じトラックに沿って一つずつガイドされる複数のビーム」との前提を欠くものではあるが、前記「
更に、第１のビームのみが、前記レリーフの表面側部の境界となる前記印刷ブロックブランクの材料の領域を最初に除去する
　　
７−４［請求人が提示した甲第１号証〜甲第６号証の記載内容について］
　　以下で検討するように、請求人の提示した甲第１号証〜甲第６号証のいずれにも、
「
更に、第１のビームのみが、前記レリーフの表面側部の境界となる前記印刷ブロックブランクの材料の領域を最初に除去する
　　また、レリーフの表面側部の境界を維持する上で、先だってビーム照射が行われたことにより、当該境界に残存する熱の影響を如何に考慮すべきかを、記載若しくは示唆するところもない。
　　
７−４−１［甲第１号証について］
　　当該甲第１号証は、前記に摘示したケの記載にあるように、短時間で版を作製し、この版を用いてグラビア印刷を行なう版胴を短時間に得ることの出来る製版装置を提供することを目的とする。
　　そして、前記摘示したコの記載にあるように、図１に示されている様に、版胴１の版２にレーザ源１０Ａよりレーザビームを照射してグラビア版を製版する様に成した製版装置に於いて、版胴１の回転方向或は版胴１の回転軸方向に沿って配設した複数のレーザ源１０Ａ，１０Ｂを有し、複数のレーザ源１０Ａ，１０Ｂで版２の画素を多数回製版して、版２の製版時間を短縮して成るものである。
　　また、前記摘示したサの記載にあるように、当該複数のレーザ源１０Ａ，１０Ｂでの個々の製版は、窪み１５の深さｄ又は面積Ｓを選択するものであることからして、窪みを形成する場合、前記摘示したシ〜チに記載される実施例において、ツの記載にあるように、ＣＰＵ３２により製版すべき画素の画像データがデータＲＡＭ３８より読みだされ、これがグレースケール変換回路４２に送られ、グレースケール変換回路４２では画像の濃淡をレーザー照射時間の長短に変換し、このグレースケール変換回路４２の出力によりレーザードライバ４３を介して半導体レーザ１０Ａ及び１０Ｂが駆動されることで、窪み形成が行われる。
　　しかしながら、当該甲第１号証においては、複数のレーザ源１０Ａ，１０Ｂで版２の画素を多数回製版するに際して、半導体レーザ１０Ａ及び１０Ｂの出力が用いられること、これらレーザが版胴１の軸方向に並設した場合と、版胴１の同一円周上に９０度の角度を離して配設されることの記載はあるものの、他方ビームの形成した窪みの輪郭を維持するか否かについての記載はなく、本件発明１におけるごとくの、形成される版の表面側の境界を形成するに際して、「
第１のビームのみが、前記レリーフの表面側部の境界となる前記印刷ブロックブランクの材料の領域を最初に除去する
　　
７−４−２［甲第２号証について］
　　当該甲第２号証に記載されるレーザ彫刻機は、前記に摘示したアの記載【要約】にあるように、確かに「断面の微細な構造は、比較的高い変調周波数の音響光学変調器（１２）により変調された第１のレーザのレーザビームにより形成され、一方、所望の断面の深い領域は、第２のレーザ（１０）のレーザビームにより形成される。」構成を備えるものである。
　　そして、【発明の詳細な説明】にも、前記に摘示したケ、コの記載にあるように、ここで用いるレーザビームとして、断面の微細な構造を形成するための第１のレーザのレーザビームと、所望の断面の深い領域断面の構造を形成するための第２のレーザのレーザビームとを用意し、除去対象とする領域に応じてこれらレーザビームを使い分けられているものであることが記載されている。
　　ここで、当該甲第２号証に記載されるレーザ彫刻機における前記第１のレーザのレーザビームと第２のレーザのレーザビームは、それぞれ異なるレーザビーム源から射出されるものの、いずれも、同じ光学系（１８）から素材表面に照射されるものであって、本件発明１及び本件発明１８において特定されている、「同じトラックに沿って一つずつガイドされる複数のビーム」、すなわち、同じトラック上を走査されるように、各々が一つずつガイドされる「複数のビーム」を前提とするものではない。
　　しかしながら、当該第２号証に記載されるたレーザ彫刻機における、第１のレーザのレーザビームと第２のレーザのレーザビームによるレーザ彫刻が、いかなるものであるかについて当該甲第２号証の記載を参照する。
　　
　　当該レーザビームがどのような照射を行うものであるかは、前記に摘示したスの記載において、【図２】を参照した説明がなされている。
　　ここで、前記スの記載によれば、「制御装置６は、第１のレーザ８が直線偏光かつ一定パワーのレーザビームを音響光学変調器１２へ与えるよう、第１のレーザ８に対して制御信号Ｓ１を出力する。音響光学変調器１２は、素材表面２２の所望の断面の微細な輪郭を定める制御信号Ｓ３を制御装置６から受け取る。音響光学変調器１２から出力された上記と同じ直線偏光のレーザビームは選択ミラー１４を透過し、光学系１８を介して素材表面２２上へ導かれる。」とあるように、制御信号Ｓ３により制御されるレーザビームが専ら素材表面の所望の断面の微細な輪郭を定めるものとして機能することとされる。
　　そして、前記スの記載によれば、第１のレーザ８から出力されるレーザビームは、制御信号Ｓ１によりmaxとされる一定のパワーを出力するものの、第１の制御信号であるＳ３により音響光学変調器１２が制御されており、他方第２のレーザ１０から出力されたレーザビームのパワーは第２の制御信号Ｓ２で制御されており、それぞれのパワーはそれぞれの制御信号Ｓ３あるいはＳ２にほぼ比例した出力となることが把握できる。
　　続く、前記セの記載によれば、【図２】のＡ）に示された断面形状を彫刻するにあたり、まず時刻ｔ１に制御信号Ｓ３が急激に立ち上がり音響光学変調器１２を介した第１のレーザ８から出力されるレーザビームが素材表面に照射され、時刻ｔ２において最大値になることで当該レーザビーム出力により素材表面に深さＸの断面深さが与えられ、当該時刻ｔ２には制御信号Ｓ２が上昇し始め、制御信号Ｓ２のレベルと制御信号Ｓ３のレベルとの合計値に従って、選択ミラー１４で１つに統合された前記第１のレーザビームと第２のレーザビームのパワーが素材表面上で増大し、その結果、断面の深さが増していくことが把握できる。
　　前記スの記載では続いて、時刻ｔ４では制御信号Ｓ２のレベルが下がり始めるので、それに応じて素材表面内の断面深さが減少し始め、時刻ｔ５で制御信号Ｓ２が再びゼロレベルに戻ると、時刻ｔ２と時刻ｔ５との間では制御信号Ｓ３がその最大レベルを維持していた制御信号Ｓ３が減少し始め、時刻ｔ６で制御信号Ｓ３のレベルがゼロに落ち、時刻ｔ６の後は、レーザビームは素材表面上に導かれないので、何の彫刻も起こらないことが把握できる。
　　してみるに、素材表面の所望の断面の微細な輪郭を定める制御信号Ｓ３により制御されるレーザビームは、前記時刻ｔ１からｔ２までの過程において、深さＸを越える彫刻を行うために合成される制御信号Ｓ２により制御される第２のレーザビームに先立って照射されている。
　　他方、時刻ｔ４からｔ６までの過程においては、深さＸを越える彫刻を行うために合成された制御信号Ｓ２により制御される第２のレーザビームが止められた後も、制御信号Ｓ３による出力が保持されていることから第１のレーザビームによる照射は継続されており、【図２】Ａ）の彫刻を要しない素材表面に至って始めて照射を止めるものとされている。
　　これら記載において、【図２】Ａ）の深さＸより浅い断面が、甲第２号証にいう素材表面の所望の断面の微細な輪郭であって、深さＸを越える断面は、前記輪郭を形成するものでないことは明らかである。
　　しかし、制御信号Ｓ３の立ち上げは、制御信号Ｓ２の立ち上げに先だっているものの、その停止は、制御信号Ｓ２の停止後となっており、結果として、素材表面の所望の断面の微細な輪郭の形成は、深さＸを越える断面を形成する期間の前後に亘っており、
換言すれば、時刻ｔ１〜ｔ３においては、素材表面の所望の断面の微細な輪郭の形成が、深さＸを越える断面を形成するに先だち行われているものの、時刻ｔ４〜ｔ６においては、素材表面の所望の断面の微細な輪郭の形成は、深さＸを越える断面を形成した後に行われている。
　　すると、当該甲第２号証に記載されるレーザ彫刻機においては、素材表面の所望の断面の微細な輪郭の形成が、必ず、深さＸを越える断面を形成するに先だって行われるものとはいえない。
　　したがって、当該甲第２号証に記載されるレーザ彫刻機においては、
素材表面の所望の断面の微細な輪郭の形成を行うレーザビームと、深さＸを越える断面の形成を行うレーザビームとを用意して、除去対象となる断面種類に応じてこれらレーザビームを使い分けることで、レーザビームの機能分担を行う技術思想の示唆があるとはいえるものの、本件発明１におけるごとくの「
第１のビームのみが、前記レリーフの表面側部の境界となる前記印刷ブロックブランクの材料の領域を最初に除去する
　　
７−４−３［甲第３号証について］
　　当該甲第３号証においては、前記に摘示したように直接レーザ彫刻することで凸版印刷版を製作するに使用する材料には、各種のものが公知であることの記載はあるものの、レーザ彫刻を行う際に、どのようにレーザビームを制御すべきかの記載は発見できない。
　　
７−４−４［甲第４号証について］
　　当該甲第４号証においては、前記に摘示したように、グラビアの製版法には、「フ食法」と「彫刻法」があること、「彫刻法」には、「レーザースター」が存在していること、が把握できる。
　　そして、図１をみる限り、「レーザースター」以外の「コンベンショナル」、「網コン」、「ダイレクト」及び「彫刻法　ヘリオ・オハイオ　バルカス」においては、階調変化に応じて凹んだ部分の輪郭が大小となることが明らかに把握できるのに対して、「レーザースター」の場合には、凹んだ部分の輪郭がほぼ同様の大きさを維持しているように看取される。
　　しかしながら、当該「レーザースター」に係る説明文には、「レーザーを使用して合金を合金を蒸発させる。深さの深浅により階調を表現する。」とされるのみであって、凹んだ部分の輪郭がいずれの階調度においても同じ輪郭が保持されるものであるとの明記はない。
　　したがって、当該甲第４号証の記載からは、「彫刻法」である「レーザースター」において、レーザビームがどのように制御されるかを把握することはできない。
　　
７−４−５［甲第５号証について］
　　当該甲第５号証に記載される半導体レーザ製版装置は、前記に摘示したように、従来技術である半導体レーザ製版装置においては、画像データに対応した面積の異なる窪みを形成して階調を表現しているものの、版に形成される窪みの深さは常に一定であるために、深さ方向の変化が乏しく、グラビア印刷が特徴とするインクの厚み方向による階調表現ができない問題（イの記載）に鑑み、グラビアの版の窪みの深さ方向に変化を持たせることを目的とするもの（ウの記載）である。
　　当該甲第５号証における半導体レーザが複数のレーザビームを備えることも意図しているか否かは、その記載からは明らかでないものの、その実施例記載を参照するに、単一の半導体レーザ１０を用いる場合について記載されており、本件発明１における「複数のビーム」を備えるものであるとはいえない。
　　また、前記に摘示したカ〜ケの記載を参照しても、窪みを形成するにあたって、その窪みの輪郭を保持するようにレーザビームが制御されることの記載或いは示唆は発見できない。
　　むしろ、コの記載からは、窪みの深さに応じてビーム出力を変更するものとされており、用いられているビームのいずれもがレリーフ表面側部の境界の形成を行うものであって、専らレリーフ表面側部の境界の形成を行うビームを設けたものとはいえない。
　　してみれば、当該甲第５号証に記載される半導体レーザ製版装置は、本件発明１或いは本件発明１８におけるごとくの「
第１のビームのみが、前記レリーフの表面側部の境界となる前記印刷ブロックブランクの材料の領域を最初に除去する
　　
７−４−６［甲第６号証について］
　　当該甲第６号証に記載されるレーザ製版装置は、前記に摘示したように、従来技術であるレーザ製版装置においては、小さな開口面積を有する凹み（画素）を製版する場合と、大きな開口面積を有する凹み（画素）を製版する場合とで、１画素当たりのレーザの照射時間は異なるものの、１画素当たりの製版時間（走査時間）が同一の時間になるので、総製版時間が同一の時間になり、全体として時間の無駄が大きいという問題（オの記載）に鑑み、版シート全体の製版時間を短縮することのできるレーザ製版装置を提供することを目的とする（カの記載）ものである。
　　当該甲第６号証におけるレーザ製版装置が複数のレーザビームを備えることも意図しているか否かは、その記載からは明らかでないものの、その実施例記載を参照するに、画像情報の濃度に応じた凹みを画素単位に形成するにあたり、単一のレーザビームＬを版シート２２に対して２回の走査を行うこととし、いずれかの１ラインの走査では、閾値を超える画素にのみ凹みを形成して製版し、他方の１ラインの走査では、濃度を有する全画素に凹みを形成するように構成することで、１ライン中に閾値を超える画素が存在しない場合には、その１ラインの走査をとばすことを可能として、結果として、版シートにおける全製版範囲の製版時間を短縮することが可能であるものとされる。
　　そこで、１周目の走査（Ａ）において濃度を有する全画素に凹みを形成するように構成したものを示す図１において、その２周目の走査（Ｂ）で形成される窪みの断面図を表す下側の図を参照するに、ここに示された窪みのうち５８ｈ、５８ｉでは、１周目に形成された窪みの輪郭を保持しているように看取できるものの、窪み５８ｊでは、１周目に形成された窪みの輪郭につながって下方向に延長するように形成されていることからして、２周目の走査で照射されたレーザビームが、１周目に形成された窪みの輪郭に触れないものということはできない。
　　また、同図１における２周目の走査（Ｂ）で形成される窪みの平面図を表す上側の図に示された窪みにおいては、前記の５８ｈ、５８ｉ及び５８ｊのいずれもがその窪みの上下において、１周目に形成された窪みの輪郭に接するごとくの記載がされている。
　　してみるに、当該甲第６号証に記載されるレーザ製版装置においては、単一のレーザビームＬを版シート２２に対して２回の走査を行う場合に、２周目で窪みを形成する際に、１周目で形成された窪みの輪郭を保持するように、レーザビームを制御するようにされていることが記載されているものでも、示唆されているものでもない。
　　したがって、当該甲第６号証に記載されるレーザ製版装置は、本件発明１或いは本件発明１８におけるごとくの「
第１のビームのみが、前記レリーフの表面側部の境界となる前記印刷ブロックブランクの材料の領域を最初に除去する
　　
７−５　甲第２号証に記載されるレーザビームの機能分担の技術思想を前提とした容易想到性について
 　　前記のとおりであって、請求人の提示した甲第１号証ないし甲第６号証のいずれにも、本件発明１或いは本件発明１８における「
更に、第１のビームのみが、前記レリーフの表面側部の境界となる前記印刷ブロックブランクの材料の領域を最初に除去する
　　
　　しかしながら、前記のように、甲第２号証に記載されるレーザ彫刻機においては、
素材表面の所望の断面の微細な輪郭の形成を行うレーザビームと、深さＸを越える断面の形成を行うレーザビームとを用意して、除去対象となる断面種類に応じてこれらレーザビームを使い分けることで、レーザビームの機能分担を行う技術思想の示唆がある。
　　また、提示された甲号各証の中には、本件発明１における「同じトラックに沿って一つずつガイドされる複数のビーム」を前提とするもの、及び、本件発明１８における「前記印刷ブロックブランクの表面を、少なくとも一つのビームによって一つのトラックに沿って順に照射して暴露して、」を前提とするものが存在している。
　　そこで、当該レーザビームの機能分担を行う技術思想を、これら甲号各証に適用した場合について検討する。
　　
（甲第２号証に提示される先行技術に対する適用について）
　　まず、甲第２号証のカ、キの記載には、前記に示したように、ドイツ国公報ＤＥ ４２ １２ ３９０ Ａ１：レーザービーム源からの２つのレーザビームが別々の光路を介して素材表面に向けられるもの、或いは、ドイツ国公報ＤＥ ３７ １４ ５０４ Ａ１：異なる波長の二つのレーザビームを一つの加工点にもたらす先行技術が紹介されている。
　　しかし、これらは、二つのレーザビームを一つの加工点に対して照射させることを前提とするものであって、二つのレーザビームにより素材表面を順に走査することの記載或いは示唆はなく、各々が独立して素材表面を走査することのできる二つのレーザビームを想定した場合に、素材表面をどのような走査順で走査するかを把握することはできない。
　　してみれば、これら甲第２号証に提示された先行技術に、甲第２号証に記載されるレーザビームの機能分担の技術思想を適用したとしても、本件発明１或いは本件発明１８に特定される「
更に、第１のビームのみが、前記レリーフの表面側部の境界となる前記印刷ブロックブランクの材料の領域を最初に除去する
　　
　　この点、請求人は、甲第２号証の第２のレーザは、本件特許発明と異なり、第１レーザと同時に照射されており、「印刷精度のために最も重要な表面」は第１レーザのみが触り、第２のレーザが触らない点では、
同様であり
甲第２号証においても、「印刷精度のために最も重要な表面」は第１レーザしか触っていない
　　
　　しかしながら、前記で検討したように、甲第２号証記載のレーザ彫刻機における、第１レーザによる「
レリーフの表面側部の境界となる前記印刷ブロックブランクの材料の領域
「印刷精度のために最も重要な表面」は第１レーザしか触っていない
　　よって、請求人のこの指摘をもっても、本願発明１或いは本願発明１８が当業者にとり容易想到であるとする主張は採用できない。
　　
（甲第１号証、甲第５号証或いは甲第６号証記載のレーザ製版装置に対する適用について）
　　他方、甲第１号証或いは甲第６号証に記載されるレーザ製版装置においては、一つのレーザブロック移動部の上に、複数の半導体レーザを装架するもの、或いは、版胴の回転方向で異なる円周上に存在する各々独立したレーザブロック移動部の上に、複数の半導体レーザをそれぞれ装架するものが記載されている。
　　そして、これらにおける半導体レーザに除去対象となる断面種類に応じて機能分担させる程度のことは、当業者であれば容易に想到し得ることともいえる。
　　
　　そこで、これらのレーザ製版装置における半導体レーザによる窪み形成について、より詳細を検討するに、これらのレーザ製版装置では、半導体レーザが素材表面を複数回走査されるものであって、１回目の走査におけるレーザビーム照射で形成された窪みを、二回目の走査におけるレーザビーム照射で深さｄを更に深くする方式と、面積Ｓを大きくする様にされる方式が挙げられている。
　　ここで、面積Ｓを大きくする様にされる方式では、１回目の走査におけるレーザビーム照射で形成された窪みを更に拡大することとなり、窪みの輪郭が維持されることはあり得ないのであり、残る深さｄを更に深くする方式について検討するに、既に指摘したように、１回目の走査におけるレーザビーム照射で形成された窪みの深さを更に深くする際に、窪みの輪郭を維持するか否かについて何らの記載は発見できない。
　　すると、前記のように、たとえ甲第２号証に記載されるレーザビームの機能分担の技術思想を適用したとしても、窪みの輪郭を維持されるものとはいえないことになる。
　　そして、これらの甲号証には、レーザビーム照射に起因する熱的影響を考慮することに係る記載若しくは示唆は何ら発見できず、当該熱的影響を考慮した上で、本件発明１或いは本件発明１８における「
更に、第１のビームのみが、前記レリーフの表面側部の境界となる前記印刷ブロックブランクの材料の領域を最初に除去する
　　
　　また、この点に関し、甲第５号証に記載される半導体レーザを用いて映像データの濃淡に応じた窪みの版を形成する様にした半導体レーザ製版装置について参照するに、これにおいては、映像データの階調に応じた窪みの深さを形成するにあたり、窪み深さに対応させたレーザ出力を用いるものとされている点で、前記レーザビームの機能分担の技術思想を有するとも解されるが、それぞれの窪みは、その深さに応じたレーザ出力が用いられることから、いずれのレーザ出力においても窪みの輪郭を形成するものであって、専ら窪み輪郭を形成するためのレーザ出力を選択することの示唆があるものとはいえない。
　　以上のとおりであるから、たとえ、甲第２号証の記載からレーザビームの機能分担の技術思想が抽出できたとしても、これを、本件発明１における「同じトラックに沿って一つずつガイドされる複数のビーム」を前提とするもの、及び、本件発明１８における「前記印刷ブロックブランクの表面を、少なくとも一つのビームによって一つのトラックに沿って順に照射して暴露して、」を前提とするものに適用したとしても、熱的影響を考慮する観点から、「
更に、第１のビームのみが、前記レリーフの表面側部の境界となる前記印刷ブロックブランクの材料の領域を最初に除去する
　　
　　請求人は、甲第１号証において形成される窪みの断面形状が直接的に示す図面が添付されていないものの、甲第４号証には、レーザが形成する窪みの深浅によって階調を表現するレーザスターという装置による方式が開示されており、段階的に深くなる「すり鉢状の窪み」の断面形状が明確に示されており、また、甲第５号証（図３）には、レーザによって形成する窪みが「逆台形」の断面形状を有していることが明瞭に開示されており、本件特許の出願前において、窪みの断面形状を、「すり鉢状」あるいは「逆台形」とすることは周知であると指摘する。
　　そして、請求人は、１回目の製版で形成された窪みについて、２回目の製版によってその深さのみを深くしつつ、甲第５号証の記載されているように窪みの最終的な断面形状を逆台形とするためには、２回目以降のビームが、「レリーフの表面側部の境界となる印刷ブロックブランクの材料の領域を」除去してはならないことは当業者にとって明らかであると主張する。
　　
　　しかしながら、窪み深さの深浅により階調を表現する製版方法が既に存在していたことを立証するとの趣旨で提出された甲第４号証には、彫刻法に係る「レーザスター」に関して「レーザーを使用して合金を蒸発させる。深さの深浅により階調を表現する。」との説明と共に、３つの階調を形成すると推察される窪みのいずれもが概ね同径ともみえる円形の窪みとして形成されていると把握される図面が提示されているのみであって、これら異なる階調の窪みの輪郭がはたして同一輪郭を維持することを意図しているものであるのかまで把握することは困難である。
　　当該甲第４号証に提示される他の「フ食法」に係る「コンベンショナル」においても、「網点の大きさは一定であり階調は深度差により表現する。」と同様の記載が認められるが、その他の「網コン」或いは「ダイレクト」と対比すると、その窪み輪郭が変わっていないように見受けられるものの、窪み輪郭を変えないことが積極的に指摘されるところはない。
　　もともと、当該甲第４号証においては、階調表現するにあたって、面積の大小による方式と深さの深浅による方式とが存在することを示すためのものと解されるのであり、対比する概念の大まかな差異を示すべく強調した記載を行うことは、よく行われていることであり、当該甲第４号証の説明及び図面をもって、窪みの大きさの変化がないとまで、断定することはできない。
　　最終的な窪み断面形状が、単に「円形」、「すり鉢状」あるいは「逆台形」であるとするのであれば、２回目の製版において、１回目の製版で形成された窪みよりも若干大きめの窪みが形成されたとしても、その形状は概ね維持されたと言い得ることとなる。
　　また、他方、１回目の製版で形成された窪みの輪郭に合わせてレーザ照射が行われることを想定した場合、２回目のレーザ照射は窪み輪郭に当たっているというべきであり、２回目のレーザ照射による熱影響が窪みの輪郭に及ばないとまでは到底いえない。
　　本件発明１或いは本件発明１８においては、「
更に、第１のビームのみが、前記レリーフの表面側部の境界となる前記印刷ブロックブランクの材料の領域を最初に除去する
第１のビームのみ
前記レリーフの表面側部の境界となる前記印刷ブロックブランクの材料の領域を最初に除去する
　　そして、請求人は、このような熱的影響を考慮することが、当業者にとり容易に想到し得ることであると主張するものの、当業者が熱的影響の考慮をどのように行っているかを把握できる証拠は何ら提出されていないのであるから、容易想到性を検討する材料が存在しないのであり、請求人の主張を採用することはできない。
　　
７−６　まとめ
　　以上のとおりであって、本件発明１が、「同じトラックに沿って一つずつガイドされる複数のビーム」、すなわち、同じトラック上を走査されるように、各々が一つずつガイドされる「複数のビーム」を前提として、これに、「
更に、第１のビームのみが、前記レリーフの表面側部の境界となる前記印刷ブロックブランクの材料の領域を最初に除去する
更に、第１のビームのみが、前記レリーフの表面側部の境界となる前記印刷ブロックブランクの材料の領域を最初に除去する
　　
　　そして、本件発明１及び本件発明１８は、いずれも前記のように特定されることで、前記段落【0014】に記載されるごとくの顕著な効果を生むものである。
　　したがって、本件発明１及び本件発明１８は、請求人の提示した甲第１号証〜甲第６号証に記載されるものであるとも、これらの記載に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものともいえない。
　　すると、本件発明１或いは本件発明１８をそれぞれ直接或いは間接的に引用する本件発明２〜１７或いは本件発明１９〜３１についても、同様に、請求人の提示した甲第１号証〜甲第６号証に記載されるものであるとも、これらの記載に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものともいえない。
　　
 ８．むすび 
　 　以上のとおりであるから、請求人の主張する理由および提出した証拠方法によっては、本件発明の特許を無効とすることはできない。 
 　　審判に関する費用については、特許法第１６９条第２項の規定で準用する民事訴訟法第６１条の規定により、請求人が負担すべきものとする。 
 　　よって、結論のとおり審決する。