【事件の表示】
　平成　６年特許願第２０５２９１号「ナノ結晶磁性合金の熱処理方法」拒絶査定不服審判事件〔平成　８年　３月１２日出願公開、特開平　８−　６７９１１〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、平成６年８月３０日の出願であって、平成１６年１２月２８日付けで拒絶査定がなされ、平成１７年２月４日付けで拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに、同年３月７日付けで手続補正がなされたものである。これに対して、前置審査において、平成１７年４月４日付けで拒絶理由が通知され、期間を指定して意見書を提出する機会が与えられたが、請求人からは何らの応答もされなかった。
　
２．平成１７年３月７日付の手続補正についての補正の却下の決定
［補正の却下の決定の結論］
平成１７年３月７日付の手続補正を却下する。
　
［理由］
（１）本件補正の内容 
　本件補正は、特許請求の範囲の請求項１を、次のとおりとする補正を含むものである。
「平均結晶粒径が100nm以下である結晶粒が組織の少なくとも一部を占めるナノ結晶合金をアモルファス合金の結晶化を目的とする熱処理により製造する工程において、熱処理期間の少なくとも一部の期間に前記アモルファス合金の合金薄帯の長手方向へ２００／０．０９（ｇ／ｍｍ２）以上の張力を印加することで、Ｂ−Ｈループを傾斜させるための熱処理を行うことを特徴とするナノ結晶磁性合金の熱処理方法。」
　
（２）当審の判断
　上記請求項１についての補正は、補正前の「前記アモルファス合金に所定の応力を印加する」を「前記アモルファス合金の合金薄帯の長手方向へ２００／０．０９（ｇ／ｍｍ２）以上の張力を印加する」に補正するものということができる。
　しかしながら、本願の願書に最初に添付した明細書又は図面（以下、「当初明細書等」という。）には、幅５mm厚さ18μmのアモルファス合金薄帯を200gの張力をかけながらステンレスリングに巻くことによって、アモルファス合金薄帯の長手方向へ２００／０．０９（ｇ／ｍｍ２）の張力を印加することは記載されているものの、「アモルファス合金の合金薄帯の長手方向へ２００／０．０９（ｇ／ｍｍ２）」を超える張力を印加することは、本願の当初明細書等に明示的に記載された事項ではなく、これらの記載から自明な事項でもない。
　したがって、この補正事項を含む請求項１についての補正は、本願の当初明細書等に記載した事項の範囲内においてしたものではないから、特許法第１７条の２第３項の規定に違反するものである
　
（３）まとめ
　よって、本件補正は、その余を検討するまでもなく、特許法第１７条の２第３項の規定に違反するものであるから、特許法第１５９条第１項の規定において読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。 
 
　
３．本願発明についての審決
（１）本願発明
　平成１７年３月７日付けの手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１〜６に係る発明は、平成１６年１１月２９日付けの手続補正で補正された明細書の特許請求の範囲の請求項１〜６に記載された事項により特定されるものであるところ、そのうち請求項１の記載を引用する請求項２の記載を更に引用する請求項３に係る発明を独立形式で記載すると、次のとおりのものである。 
「平均結晶粒径が100nm以下である結晶粒が組織の少なくとも一部を占めるナノ結晶合金をアモルファス合金の結晶化を目的とする熱処理により製造する工程において、熱処理期間の少なくとも一部の期間に前記アモルファス合金に所定の応力を印加することで、Ｂ−Ｈループを傾斜させるための熱処理を行い、前記応力の印加が、合金薄帯の長手方向への張力をかけながら心材に巻きつけるものであることを特徴とするナノ結晶磁性合金の熱処理方法。」（以下、「本願発明３」という。）
　
（２）原査定の理由の概要
　原審の拒絶査定の理由の概要は、次のとおりのものである。
　本願の請求項１〜６に係る発明は、その出願前頒布された下記刊行物に記載された発明であるから、特許法第２９条第１項第３号に該当し、特許を受けることができない。
　　　　　　　　　　　　　　　　記
特開昭６３−３０２５０４号公報
　
（３）引用刊行物とその記載事項
　原査定の拒絶の理由に引用された特開昭６３−３０２５０４号公報（以下、「引用文献」という。）には、次の事項が記載されている。
　
（イ）「（１８）一般式：（Ｆｅ１−ａＭａ）１００−Ｘ−Ｙ−Ｚ−α−β−γＣｕＸＳｉＹＢＺＭ′αＭ″βＸγ（原子％）（ただし、ＭはＣｏ及び／又はＮｉであり、Ｍ′はＮｂ、Ｗ、Ｔａ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｔｉ及びＭｏからなる群から選ばれた少なくとも１種の元素、Ｍ″はＶ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ａｌ、白金属元素、Ｓｃ、Ｙ、希土類元素、Ａｕ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｒｅからなる群から選ばれた少なくとも１種の元素、ＸはＣ、Ｇｅ、Ｐ、Ｇａ、Ｓｂ、Ｉｎ、Ｂｅ、Ａｓからなる群から選ばれた少なくとも１種の元素であり、ａ、ｘ、ｙ、ｚ、α、β及びγはそれぞれ０≦ａ＜０．５、０．１≦ｘ≦３、０≦ｙ≦３０、０≦ｚ≦２５、０≦ｙ＋ｚ≦３５、０．１≦α≦３０、０≦β≦１０及び０≦γ≦１０を満たす。）により表わされる組成を有し、組織の少なくとも５０％が微細な結晶粒からなるＦｅ基軟磁性合金から形成された磁心を製造する方法であって、前記組成の溶湯を急冷することにより非晶質合金薄帯とする工程と、作製した前記非晶質合金薄帯を巻回す、あるいは積層する工程と、平均粒径が５００Å以下の微細な結晶粒を形成するための熱処理工程とを含むことを特徴とする磁心の製造方法。
（中略）
（２０）特許請求の範囲第１８項又は第１９項に記載の磁心の製造方法において、前記熱処理を磁場中及び／または応力を加えた状態で行なうことを特徴とする磁心の製造方法。」（特許請求の範囲第１８〜２０項）
　
（ロ）「熱処理を直流あるいは交流等の磁場中で行うこともできる。更には磁場中熱処理により本磁心に用いられている合金に磁気異方性を生じさせ特性向上をはかることができる。磁場は熱処理の間中かける必要はなく、合金のキュリ一温度Ｔｃより低い温度のときであればよい場合が多い。本磁心の磁路方向に磁心が飽和する程度の磁場を印加し熱処理した場合は、Ｂ−Ｈカーブの角形性が良いものが得られ、可飽和リアクトル用磁心、磁気スイッチ、エキシマレーザ励起回路に用いられるパルス圧縮用コア等に好適となる。一方磁路と直角方向に磁心がほぼ飽和する強さの磁場を印加し熱処理した場合は、Ｂ−Ｈカーブが傾斜し、低角形比で恒透磁率特性に優れたものが得られ、動作範囲が広がるので、トランスやノイズフィルター、チョークコイル等に好適となる。また本発明の磁心は回転磁場中熱処理を適用することも可能であり、より高透磁率化が可能である。また磁場中熱処理の場合も熱処理を２段階以上で行うことができる。また、張力や圧縮力を加えながら熱処理磁気特性を改善することもできる。
　本発明磁心は前述のように巻磁心や積層磁心等が含まれ、特に高周波で使用したり、広幅の合金薄帯を使用する場合は合金薄帯表面の１部または全面に絶縁層を形成した方がコア損失を低減できるため好ましい結果が得られる。」（第６頁右上欄１４行〜同頁左下欄１９行）
　
（ハ）「この非晶質合金は結晶相を含んでいてもよいが、後の熱処理により微細な結晶粒を均一に生成するためには非晶質であるのが望ましい。」（第５頁左下欄１５〜１７行）
　
（ニ）「また巻磁心を作製する場合、張力をかけながら薄帯を巻いた方が占積率が上がり好ましい結果が得られる。」（第７頁１７〜１９行）
　
（４）当審の判断
（４−１）引用発明
　引用文献の（イ）の特許請求の範囲第１８項を引用した第２０項の発明を独立形式で記載すると、「一般式：（Ｆｅ１−ａＭａ）１００−Ｘ−Ｙ−Ｚ−α−β−γＣｕＸＳｉＹＢＺＭ′αＭ″βＸγ（原子％）（ただし、ＭはＣｏ及び／又はＮｉであり、Ｍ′はＮｂ、Ｗ、Ｔａ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｔｉ及びＭｏからなる群から選ばれた少なくとも１種の元素、Ｍ″はＶ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ａｌ、白金属元素、Ｓｃ、Ｙ、希土類元素、Ａｕ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｒｅからなる群から選ばれた少なくとも１種の元素、ＸはＣ、Ｇｅ、Ｐ、Ｇａ、Ｓｂ、Ｉｎ、Ｂｅ、Ａｓからなる群から選ばれた少なくとも１種の元素であり、ａ、ｘ、ｙ、ｚ、α、β及びγはそれぞれ０≦ａ＜０．５、０．１≦ｘ≦３、０≦ｙ≦３０、０≦ｚ≦２５、０≦ｙ＋ｚ≦３５、０．１≦α≦３０、０≦β≦１０及び０≦γ≦１０を満たす。）により表わされる組成を有し、組織の少なくとも５０％が微細な結晶粒からなるＦｅ基軟磁性合金から形成された磁心を製造する方法であって、前記組成の溶湯を急冷することにより非晶質合金薄帯とする工程と、作製した前記非晶質合金薄帯を巻回す、あるいは積層する工程と、平均粒径が５００Å以下の微細な結晶粒を形成するための熱処理工程とを含み、前記熱処理を磁場中及び／または応力を加えた状態で行なう磁心の製造方法。」となる。
　そして、（ニ）の「巻磁心を作製する場合、張力をかけながら薄帯を巻いた方が占積率が上がり好ましい結果が得られる。」という記載によれば、非晶質金属薄帯に張力をかけながら巻回すことが記載されているから、上記「作製した前記非晶質合金薄帯を巻回す」工程において、非晶質金属薄帯に張力をかけながら巻回すことが記載されているといえる。
　更に、巻磁心が、巻芯である心材に磁性合金薄帯を巻回して作製されることは本願出願時の技術常識であるし、薄帯に張力をかけて心材に巻回す際に、張力を薄帯の長手方向へかけながら巻回すことは、当業者にとって自明なことである。
　また、上記「平均粒径が５００Å以下の微細な結晶粒を形成するための熱処理工程」は、非晶質合金に結晶粒を形成するものであるから、この「熱処理工程」は非晶質合金の結晶化を目的とするものであるといえる。ここで、１０Å＝１ｎｍであるから、５００Åは５０ｎｍのことである。
　
　上記記載及び認定事項を本願発明３の記載ぶりに則って整理すると、引用文献には、次のとおりの発明が記載されているといえる。
　
「組織の少なくとも５０％が平均粒径が５０ｎｍ以下の微細な結晶粒からなるＦｅ基軟磁性合金から形成された磁心を製造する方法であって、一般式：（Ｆｅ１−ａＭａ）１００−Ｘ−Ｙ−Ｚ−α−β−γＣｕＸＳｉＹＢＺＭ′αＭ″βＸγ（原子％）（ただし、ＭはＣｏ及び／又はＮｉであり、Ｍ′はＮｂ、Ｗ、Ｔａ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｔｉ及びＭｏからなる群から選ばれた少なくとも１種の元素、Ｍ″はＶ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ａｌ、白金属元素、Ｓｃ、Ｙ、希土類元素、Ａｕ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｒｅからなる群から選ばれた少なくとも１種の元素、ＸはＣ、Ｇｅ、Ｐ、Ｇａ、Ｓｂ、Ｉｎ、Ｂｅ、Ａｓからなる群から選ばれた少なくとも１種の元素であり、ａ、ｘ、ｙ、ｚ、α、β及びγはそれぞれ０≦ａ＜０．５、０．１≦ｘ≦３、０≦ｙ≦３０、０≦ｚ≦２５、０≦ｙ＋ｚ≦３５、０．１≦α≦３０、０≦β≦１０及び０≦γ≦１０を満たす。）により表わされる組成の溶湯を急冷することにより作製した非晶質合金薄帯を、長手方向への張力をかけながら心材に巻回し、非晶質合金の結晶化を目的とする熱処理を行い、前記熱処理を応力を加えた状態で行なう磁心の製造方法。」（以下、「引用発明」という。）
　
（４−２）本願発明３と引用発明の対比
　本願発明３と引用発明とを対比する。
　引用発明の「平均粒径」及び「一般式：（Ｆｅ１−ａＭａ）１００−Ｘ−Ｙ−Ｚ−α−β−γＣｕＸＳｉＹＢＺＭ′αＭ″βＸγ（原子％）（ただし、ＭはＣｏ及び／又はＮｉであり、Ｍ′はＮｂ、Ｗ、Ｔａ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｔｉ及びＭｏからなる群から選ばれた少なくとも１種の元素、Ｍ″はＶ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ａｌ、白金属元素、Ｓｃ、Ｙ、希土類元素、Ａｕ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｒｅからなる群から選ばれた少なくとも１種の元素、ＸはＣ、Ｇｅ、Ｐ、Ｇａ、Ｓｂ、Ｉｎ、Ｂｅ、Ａｓからなる群から選ばれた少なくとも１種の元素であり、ａ、ｘ、ｙ、ｚ、α、β及びγはそれぞれ０≦ａ＜０．５、０．１≦ｘ≦３、０≦ｙ≦３０、０≦ｚ≦２５、０≦ｙ＋ｚ≦３５、０．１≦α≦３０、０≦β≦１０及び０≦γ≦１０を満たす。）により表わされる組成を有する非晶質合金」は、それぞれ、本願発明３の「平均結晶粒径」及び「アモルファス合金」に相当する。
　そして、引用発明の「Ｆｅ基軟磁性合金」は、「組織の少なくとも５０％が平均粒径が５０ｎｍ以下である微細な結晶粒からなる」ものであり、平均粒径が５０ｎｍ以下というナノオーダーの結晶粒が組織の少なくとも一部を占めるものであるから、本願発明３の「ナノ結晶磁性合金」に相当するし、本願発明３と引用発明は、「平均結晶粒径が50nm以下である結晶粒が組織の少なくとも一部を占めるナノ結晶合金」の点で一致するといえる。
　また、引用発明の「磁心の製造方法」は、処理工程の観点でみると、心材に巻回した所定組成の非晶質合金薄帯に、ナノオーダーの結晶粒を形成させてＦｅ基軟磁性合金とするための熱処理をする巻磁心の製造方法であって、ナノオーダーの結晶粒を形成した軟磁性合金とするための熱処理であるといえるから、本願発明３の「ナノ結晶磁性合金の熱処理方法」に相当するといえる。
　そうすると、本願発明３と引用発明は、「平均結晶粒径が50nm以下である結晶粒が組織の少なくとも一部を占めるナノ結晶合金をアモルファス合金の結晶化を目的とする熱処理により製造する工程において、熱処理期間の少なくとも一部の期間に前記アモルファス合金に所定の応力を印加する熱処理を行い、前記応力の印加が、合金薄帯の長手方向への張力をかけながら心材に巻きつけるものである、ナノ結晶磁性合金の熱処理方法。」である点で一致し、次の点で一応相違する。
　
相違点：
　本願発明３では、熱処理がＢ−Ｈループを傾斜させるためのものであるのに対して、引用発明では、熱処理がＢ−Ｈループを傾斜させるためのものであるか否か不明である点。
　
（４―３）相違点についての判断
　そこで、上記相違点について検討する。
　引用文献の（イ）の「前記熱処理を磁場中及び／または応力を加えた状態で行なう」という記載によれば、熱処理が「磁場中」又は「応力を加えた状態」のいずれか一方で行うことが記載されており、この記載から、「磁場中」と「応力を加えた状態」とは、熱処理時に付加する工程として、互いに置換可能で同様の作用をもった同等なものとして位置づけられていると解するのが自然であるといえる。
　そして、（ロ）の「本磁心の磁路方向に・・・磁場を印加し熱処理した場合は、Ｂ−Ｈカーブの角形性が良いものが得られ、可飽和リアクトル用磁心、磁気スイッチ、エキシマレーザ励起回路に用いられるパルス圧縮用コア等に好適となる。一方磁路と直角方向に・・・磁場を印加し熱処理した場合は、Ｂ−Ｈカーブが傾斜し、低角形比で恒透磁率特性に優れたものが得られ、動作範囲が広がるので、トランスやノイズフィルター、チョークコイル等に好適となる。」という記載によれば、熱処理を磁場中で行うことにより、得られた磁性合金のＢ−Ｈカーブが傾斜することが記載されており、磁場中の熱処理はＢ−Ｈカーブを傾斜させるためであることが記載されているといえる。ここで、「Ｂ−Ｈカーブ」は、本願発明の「Ｂ−Ｈループ」に相当することは当業者にとって明らかである。
　すると、上述のように、磁場中での熱処理と、応力を加えた状態での熱処理とは、互いに置換可能で同様の作用をもった同等なものであると解することができるから、引用文献には、アモルファス合金に応力を加えた状態での熱処理が、磁場中での熱処理と同様に、Ｂ−Ｈループを傾斜させるためであることが記載されているといえ、引用発明における「熱処理を応力を加えた状態で行なう」ことは、Ｂ−Ｈループを傾斜させるための熱処理であるといえる。そうすると、上記相違点は、実質的なものではない。
　
（４−４）小括
　したがって、本願発明３は、引用文献に記載された発明であるといえる。
　
４．むすび
　以上のとおり、本願発明３は引用発明であって、特許法第２９条第１項第３号に該当し特許を受けることができないから、その余の発明について検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。