(57)【要約】  本発明の課題は、基材変形を抑制するとともに透明性、導電性及び表面粗さに優れた導電性フィルムの製造方法及び導電性フィルムを提供することである。また、上記製造方法で作製された導電性フィルムを備えた有機電子素子及びタッチパネルを提供することである。本発明の導電性フィルムの製造方法は、少なくともステップ（Ａ）及びステップ（Ｂ）を有し、かつ、ポリエステル樹脂が、少なくともスルホン酸基を有する芳香族ジカルボン酸を１〜１５モル％の範囲内の比率で含有するジカルボン酸を構成成分とするものであり、さらに、ステップ（Ｂ）では、波長３．０μｍの分光放射輝度に対する波長５．８μｍの分光放射輝度の比率が、５％以下である赤外線の照射を行うことを特徴とする。
2015093342.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明樹脂フィルム基材上に、少なくとも導電性高分子化合物とポリエステル樹脂とを含有するポリマー導電層を有する導電性フィルムの製造方法であって、
少なくとも下記ステップ（Ａ）及びステップ（Ｂ）を有し、かつ、
前記ポリエステル樹脂が、少なくともスルホン酸基を有する芳香族ジカルボン酸を１〜１５モル％の範囲内の比率で含有するジカルボン酸を構成成分とするものであり、さらに、
下記ステップ（Ｂ）では、波長３．０μｍの分光放射輝度に対する波長５．８μｍの分光放射輝度の比率が、５％以下である赤外線の照射を行うことを特徴とする導電性フィルムの製造方法。
ステップ（Ａ）：前記導電性高分子化合物と前記ポリエステル樹脂とを含有する水系分散液を前記透明樹脂フィルム基材上に塗布するステップ
ステップ（Ｂ）：前記透明樹脂フィルム基材上に塗布した前記水系分散液に対して、前記赤外線の照射を行うことによって前記ポリマー導電層を形成するステップ
【請求項２】
前記透明樹脂フィルム基材上に、あらかじめ少なくともガスバリアー層を備えることを特徴とする請求項１に記載の導電性フィルムの製造方法。
【請求項３】
透明樹脂フィルム基材上に、少なくとも導電性高分子化合物とポリエステル樹脂とを含有するポリマー導電層を有する導電性フィルムであって、
少なくとも下記ステップ（Ａ）及びステップ（Ｂ）を経て製造され、かつ
前記ポリエステル樹脂が、少なくともスルホン酸基を有する芳香族ジカルボン酸を１〜１５モル％の範囲内の比率で含有するジカルボン酸を構成成分とするものであり、さらに、
当該ステップ（Ｂ）では、波長３．０μｍの分光放射輝度に対する波長５．８μｍの分光放射輝度の比率が、５％以下である赤外線の照射を施されたことを特徴とする導電性フィルム。
ステップ（Ａ）：前記導電性高分子化合物と前記ポリエステル樹脂とを含有する水系分散液を前記透明樹脂フィルム基材上に塗布するステップ
ステップ（Ｂ）：前記透明樹脂フィルム基材上に塗布した前記水系分散液に対して、前記赤外線の照射を行うことによって前記ポリマー導電層を形成するステップ
【請求項４】
請求項１若しくは請求項２に記載の導電性フィルムの製造方法によって製造された導電性フィルム又は請求項３に記載の導電性フィルムを電極として備えていることを特徴とする有機電子素子。
【請求項５】
請求項１若しくは請求項２に記載の導電性フィルムの製造方法によって製造された導電性フィルム又は請求項３に記載の導電性フィルムを電極として備えていることを特徴とするタッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、導電性フィルムの製造方法及び導電性フィルムに関する。また、当該製造方法により製造された、導電性フィルムを備えていることを特徴とする有機電子素子及びタッチパネル等に関する。より詳しくは、基材変形を抑制するとともに透明性、導電性及び表面粗さに優れた導電性フィルムの製造方法、導電性フィルム、有機電子素子及びタッチパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、薄型ＴＶ需要の高まりに伴い、液晶、プラズマ、有機エレクトロルミネッセンス（以下、「有機ＥＬ」とも記載する。）、フィールドエミッション等、各種方式のディスプレイ技術が開発されている。これら表示方式の異なるいずれのディスプレイにおいても、透明電極は必須の構成技術となっている。また、テレビ以外でも、タッチパネルや携帯電話、電子ペーパー、各種太陽電池、各種エレクトロルミネッセンス調光素子においても、透明電極は欠くことのできない技術要素となっている。
従来、透明電極は、ガラスや透明なプラスチックフィルム等の透明樹脂フィルム基材上に、インジウム−スズの複合酸化物（以下、「ＩＴＯ」とも記載する。）膜を真空蒸着法やスパッタリング法で成膜したＩＴＯ透明電極が主に使用されてきた。しかし、ＩＴＯに用いられているインジウムはレアメタルであり、かつ近年価格が高騰していることから、脱ＩＴＯ透明電極が望まれている。また、ディスプレイの大画面化、生産性向上に伴い、樹脂基板などのフレキシブル基板（可撓性の透明基板）を用いたロール・トゥ・ロール（ｒｏｌｌ  ｔｏ  ｒｏｌｌ）の生産技術が所望されていることからも、脱ＩＴＯ透明電極が望まれている。【０００３】
ＩＴＯ透明電極に代わる透明電極を製造するに際し、従来用いられてきた真空蒸着法、スパッタリング法等といった生産性の低い乾式塗布法に代えて、湿式塗布法による製造方法が検討されている。例えば、特許文献１に記載されているように、３，４−ポリエチレンジオキシチオフェンポリスルホネート（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）に代表される導電性高分子化合物等の導電性材料を含む分散液を、透明樹脂フィルム基材上に直接塗布し、加熱乾燥して、導電層を形成する湿式塗布法により透明電極を製造する方法が開発されている。
しかし、この導電性高分子化合物を用いた透明電極を有機電子素子（有機ＥＬ素子、有機太陽電池等）に適用した場合、乾燥が不十分であることに起因する導電層中の残存水分や、基板であるＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）に含まれる水分により、例えば、有機ＥＬ素子発光時におけるダークスポットの発生、素子寿命の劣化等、有機電子素子の性能を劣化させる懸念がある。【０００４】
一方、有機電子素子の大面積化及び生産性向上に伴い、上述のロール・トゥ・ロール方式での透明電極の生産技術が所望されている。特に、樹脂フィルム上に導電性高分子化合物を用いた透明電極を有機電子素子に適用する場合には、加熱乾燥時の基材変形（樹脂フィルム自体における低耐熱性）及び前記した素子の性能劣化の問題から、塗布した導電性高分子化合物に対する新たな乾燥方法が望まれている。
また、加熱乾燥以外の乾燥法として、アルミニウムや銅等の金属シート上に電極材、バインダー樹脂（例えば、ＰＶＤＦ（ポリフッ化ビニリデン））、導電剤及び溶媒を混練した電極材ペーストを塗布した後、溶剤の乾燥を３．５μｍ以上の遠赤外線領域をカットした近赤外線ヒーターを用いる方法が提案されている（例えば、特許文献２参照。）。
しかし、特許文献１に記載の方法では、ＰＥＴ上に形成された導電層を基材（透明樹脂フィルム基材）が変形しない１４０℃１分という加熱条件で乾燥するが、当該加熱条件によれば透明電極の性能が低下するという問題があった。これは、塗布液に用いられている溶液の乾燥が不十分でポリマー導電層中に水分が残存し、透明電極としての性能劣化を引き起こすためである。また、これらポリマー導電層やＰＥＴに含まれている水分の影響により、これらの電極を用いて有機ＥＬ素子を製造した場合、電極表面抵抗（シート抵抗値）の増加、電流リークといった著しい性能低下をもたらすという問題もある。【０００５】
また、特許文献２に記載の方法は、塗膜中の溶媒を効率的に乾燥することに主眼が置かれたものであり、基材自体の赤外線吸収による変形防止を考慮したものではなく、とりわけ透明樹脂フィルム基材を用いた場合の赤外線乾燥について言及されていない。また、特許文献２には、赤外線照射効果として、電極材ペーストに含まれるポリエステル樹脂と溶剤との関係についても言及されていない。
以上のことから、樹脂フィルム上に導電性高分子化合物を用いた透明電極においては、基材にダメージを与えずに、導電層中の水を除去することができる技術が、強く望まれていた。【０００６】
また、従来導電性フィルムにおいて、基材上に導電層を形成する塗布液としては、導電性及び透過率を両立させるために、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ等の水分散性導電性高分子化合物とポリエステル樹脂とを含有する組成物が開発されてきた。
バインダー樹脂としては、水分散性導電性高分子化合物との相溶性の観点から、親水性のバインダー樹脂が検討されてきた。近年、基材が高いフレキシブル性を有することが望まれていることから、ＰＥＴ等の樹脂フィルムを基材として使用されている。【０００７】
しかし、樹脂フィルムを基材として使用した場合、フィルムの変形を避ける観点から、ガラス基板を基材として使用した場合と比べて、乾燥温度を低くする必要がある。また、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳと相溶することが知られているヒドロキシ基含有バインダー樹脂は、酸性条件下でヒドロキシ基が脱水反応を起こしポリマー鎖間で架橋するが、低温で乾燥させた場合には架橋不良が起こる。その結果、保存中に架橋反応が進行し水が発生するばかりか、膜中に残存する水の影響で導電性フィルム及び導電性フィルムの透明性、導電性及び算術平均粗さ（以下、「表面粗さ」ともいう。）が悪化し、ひいては、当該導電性フィルムを用いた素子の性能（発光均一性及び発光寿命など）が著しく劣化する懸念があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００９−１７８８９７号公報
【特許文献２】特許第４７９００９２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、基材変形を抑制するとともに透明性、導電性及び表面粗さに優れた導電性フィルムの製造方法及び導電性フィルムを提供することである。また、上記製造方法で作製された導電性フィルムを有機電子素子及びタッチパネルに備えさせることで、発光均一性及び寿命に優れた有機電子素子及びタッチパネルを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者は、上記課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討する過程において、少なくともスルホン酸基を有する芳香族ジカルボン酸を所定の範囲内の比率で含有するジカルボン酸を構成成分とするポリエステル樹脂を使用し、さらに、波長３．０μｍの分光放射輝度に対する波長５．８μｍの分光放射輝度の比率が、所定値以下である赤外線を照射することでポリマー導電層を形成すれば、基材変形を抑制するとともに透明性、導電性及び表面粗さに優れた導電性フィルムを得ることが可能となることを見いだし本発明に至った。
すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。【００１１】
１．透明樹脂フィルム基材上に、少なくとも導電性高分子化合物とポリエステル樹脂とを含有するポリマー導電層を有する導電性フィルムの製造方法であって、
少なくとも下記ステップ（Ａ）及びステップ（Ｂ）を有し、かつ、
前記ポリエステル樹脂が、少なくともスルホン酸基を有する芳香族ジカルボン酸を１〜１５モル％の範囲内の比率で含有するジカルボン酸を構成成分とするものであり、さらに、
下記ステップ（Ｂ）では、波長３．０μｍの分光放射輝度に対する波長５．８μｍの分光放射輝度の比率が、５％以下である赤外線の照射を行うことを特徴とする導電性フィルムの製造方法。
ステップ（Ａ）：前記導電性高分子化合物と前記ポリエステル樹脂とを含有する水系分散液を前記透明樹脂フィルム基材上に塗布するステップ
ステップ（Ｂ）：前記透明樹脂フィルム基材上に塗布した前記水系分散液に対して、前記赤外線の照射を行うことによって前記ポリマー導電層を形成するステップ【００１２】
２．前記透明樹脂フィルム基材上に、あらかじめ少なくともガスバリアー層を備えることを特徴とする第１項に記載の導電性フィルムの製造方法。【００１３】
３．透明樹脂フィルム基材上に、少なくとも導電性高分子化合物とポリエステル樹脂とを含有するポリマー導電層を有する導電性フィルムであって、
少なくとも下記ステップ（Ａ）及びステップ（Ｂ）を経て製造され、かつ
前記ポリエステル樹脂が、少なくともスルホン酸基を有する芳香族ジカルボン酸を１〜１５モル％の範囲内の比率で含有するジカルボン酸を構成成分とするものであり、さらに、
当該ステップ（Ｂ）では、波長３．０μｍの分光放射輝度に対する波長５．８μｍの分光放射輝度の比率が、５％以下である赤外線の照射を施されたことを特徴とする導電性フィルム。
ステップ（Ａ）：前記導電性高分子化合物と前記ポリエステル樹脂とを含有する水系分散液を前記透明樹脂フィルム基材上に塗布するステップ
ステップ（Ｂ）：前記透明樹脂フィルム基材上に塗布した前記水系分散液に対して、前記赤外線の照射を行うことによって前記ポリマー導電層を形成するステップ【００１４】
４．第１項若しくは第２項に記載の導電性フィルムの製造方法によって製造された導電性フィルム又は第３項に記載の導電性フィルムを電極として備えていることを特徴とする有機電子素子。【００１５】
５．第１項若しくは第２項に記載の導電性フィルムの製造方法によって製造された導電性フィルム又は第３項に記載の導電性フィルムを電極として備えていることを特徴とするタッチパネル。
【発明の効果】
【００１６】
本発明の上記手段により、基材変形を抑制するとともに透明性、導電性及び表面粗さに優れた導電性フィルムの製造方法及び導電性フィルムを提供することができる。また、上記製造方法で作製された導電性フィルムを有機電子素子及びタッチパネルに備えさせることで、発光均一性及び寿命に優れた有機電子素子及びタッチパネルを提供することができる。【００１７】
本発明の効果の発現機構・作用機構については、明確にはなっていないが、以下のように推察している。【００１８】
本発明者は、上記問題を解決するために、従来の導電性フィルムにおいては、バインダー樹脂の主骨格と水との相互作用を低減する必要があると推測した。
水等の溶剤との相互作用が小さいバインダー樹脂として、ポリマーエマルジョンが知られている。ポリマーエマルジョンのうち、ポリエステルエマルジョン、アクリルエマルジョン、ポリウレタンエマルジョン等には、ポリマー主鎖及び側鎖に親水性部位であるエステル基及びウレタン基が多く導入されているばかりでなく、水等の溶剤への分散性を高めるために、スルホン酸、カルボン酸、ヒドロキシ基、アンモニウム等の親水性基が存在する。本発明者は、ポリマー中の親水性基が、水、極性溶剤等の水素結合可能な溶剤と水素結合するので、低温かつ短時間の加熱乾燥では水を放出しにくく、このため、当該ポリマーを採用した導電性フィルム及び導電性フィルムを用いた有機電子素子の性能が劣化することを突き止めた。すなわち、本発明者は、低温かつ短時間での導電性フィルムの乾燥性を向上させるためには、水、極性溶剤等の水素結合可能な溶剤に直接エネルギーを付与し、ポリマー中の親水性基と水素結合可能な溶剤との水素結合を切断しうるエネルギーを付与することが必要不可欠となることを見いだした。【００１９】
しかしながら、従来、透明樹脂フィルム基材が変形しない温度において、導電性フィルムの表面からの熱伝導で塗液を乾燥させる加熱乾燥が行われている。この加熱乾燥では、当該導電性フィルムから水和、吸着している水や極性溶剤等の水素結合可能な溶剤を厳密に脱離させることは難しく、結果として溶剤が導電性フィルム中に残留し、ひいては、導電性フィルム及び当該導電性フィルムを用いた有機電子素子及びタッチパネルの諸性能を劣化させてしまう、という問題が生じる。【００２０】
本発明者は、前記した従来技術の問題を解決すべく、さらに鋭意検討した結果、少なくともスルホン酸基を有する芳香族ジカルボン酸を１〜１５モル％の範囲内の比率で含有するジカルボン酸を構成成分とするポリエステル樹脂を採用し、さらに、波長３．０μｍの分光放射輝度に対する波長５．８μｍの分光放射輝度の比率が、５％以下である赤外線を照射しポリマー導電層を形成した。これにより、導電性フィルムの表面から熱伝導で塗布液を乾燥させる加熱乾燥と異なり、水、極性溶剤等の水素結合可能な溶剤（水系溶剤）に直接エネルギーを付与することができることを見いだした。その結果、透明プラスチック等の樹脂製基材が変形しない従来の低温加熱乾燥では実現することができなかった、導電性ポリマーの親水性基部分に存在する水系溶剤を好適に除去することが可能な本発明に至った。【００２１】
すなわち、本発明は、上記構成を有することで、水和、吸着している水素結合可能な溶剤のポリマーからの離脱を可能にした。
これにより、本発明の製造方法で製造された導電性フィルムは、基材が変形することなく、導電性フィルムの透明性と導電性とを両立し、かつ表面粗さに優れ、さらに高温、高湿度環境下における環境試験後でも高い導電性と透明性及び良好な表面粗さを併せ持つことができる。また、本発明の導電性フィルムの製造方法は、ポリエステル樹脂由来の水の発生を抑制することで、安定性の優れた導電性フィルム及び当該導電性フィルムが備えられた発光均一性及び寿命に優れた有機電子素子及びタッチパネルを提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】導電性フィルムの概略構成を示す断面図
【図２Ａ】導電性フィルムの金属導電層のパターン形状の一例を示す平面図
【図２Ｂ】導電性フィルムの金属導電層のパターン形状の他の一例する平面図
【図２Ｃ】導電性フィルムの金属導電層のパターン形状の他の一例する平面図
【図２Ｄ】導電性フィルムの金属導電層のパターン形状の他の一例する平面図
【図３】波長制御赤外線ヒーターの概略構成を示す断面図
【図４】図３の波長制御赤外線ヒーターの変形例を示す断面図
【図５】有機ＥＬ素子の概略構成を示す断面図
【図６Ａ】有機ＥＬ素子の製造方法の一例を説明するための、透明樹脂フィルム基材を示す概略的な平面図
【図６Ｂ】有機ＥＬ素子の製造方法の一例で、金属導電層の形成工程を説明する概略的な平面図
【図６Ｃ】有機ＥＬ素子の製造方法の一例で、ポリマー導電層の形成工程を説明する概略的な平面図
【図６Ｄ】有機ＥＬ素子の製造方法の一例で、有機機能層の形成工程を説明する概略的な平面図
【図６Ｅ】有機ＥＬ素子の製造方法の一例で、対電極の形成工程を説明する概略的な平面図
【図６Ｆ】有機ＥＬ素子の製造方法の一例で、封止部材による封止工程を説明する概略的な平面図
【図７】石英ガラスフィルターの赤外線透過率を示すグラフ
【図８】石英ガラスフィルターの有無による分光放射輝度を示すグラフ
【図９】タッチパネルの一例の断面図
【発明を実施するための形態】
【００２３】
本発明の導電性フィルムの製造方法は、透明樹脂フィルム基材上に、少なくとも導電性高分子化合物とポリエステル樹脂とを含有するポリマー導電層を有する導電性フィルムの製造方法であって、少なくとも上記ステップ（Ａ）及びステップ（Ｂ）を有し、かつ、前記ポリエステル樹脂が、少なくともスルホン酸基を有する芳香族ジカルボン酸を１〜１５モル％の範囲内の比率で含有するジカルボン酸を構成成分とするものであり、さらに、上記ステップ（Ｂ）では、波長３．０μｍの分光放射輝度に対する波長５．８μｍの分光放射輝度の比率が、５％以下である赤外線の照射を行うことを特徴とする。
この特徴は、請求項１から請求項５までの請求項に係る発明に共通する技術的特徴である。
【００２４】
本発明の実施態様としては、本発明の効果発現の観点から、前記透明樹脂フィルム基材上に、あらかじめ少なくともガスバリアー層を備えることが好ましい。これにより、透明樹脂フィルム基材を通して導電性フィルムの内部に水分や酸素が拡散することを防止する効果が得られる。
【００２５】
さらに、本発明の導電性フィルムとしては、透明樹脂フィルム基材上に、少なくとも導電性高分子化合物とポリエステル樹脂とを含有するポリマー導電層を有する導電性フィルムであって、少なくとも上記ステップ（Ａ）及びステップ（Ｂ）を経て製造され、かつ前記ポリエステル樹脂が、少なくともスルホン酸基を有する芳香族ジカルボン酸を１〜１５モル％の範囲内の比率で含有するジカルボン酸を構成成分とするものであり、さらに、当該ステップ（Ｂ）では、波長３．０μｍの分光放射輝度に対する波長５．８μｍの分光放射輝度の比率が、５％以下である赤外線の照射を施されたことを特徴とすることが好ましい。これにより、基材変形を抑制するとともに透明性、導電性及び表面粗さに優れた導電性フィルムを提供できる。
【００２６】
本発明の製造方法で製造された導電性フィルムは、タッチパネル及び有機電子素子の電極として好適に採用できる。これにより、発光均一性及び寿命に優れたタッチパネル及び有機電子素子を提供できる。
【００２７】
以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。
【００２８】
（導電性フィルムの製造方法）
本発明の導電性フィルムの製造方法は、少なくとも下記ステップ（Ａ）及びステップ（Ｂ）を有し、かつ、前記ポリエステル樹脂が、少なくともスルホン酸基を有する芳香族ジカルボン酸を１〜１５モル％の範囲内の比率で含有するジカルボン酸を構成成分とするものであり、さらに、下記ステップ（Ｂ）では、波長３．０μｍの分光放射輝度に対する波長５．８μｍの分光放射輝度の比率が、５％以下である赤外線の照射を行うことを特徴とする。
【００２９】
ステップ（Ａ）：前記導電性高分子化合物と前記ポリエステル樹脂とを含有する水系分散液を前記透明樹脂フィルム基材上に塗布するステップ
ステップ（Ｂ）：前記透明樹脂フィルム基材上に塗布した前記水系分散液に対して、前記赤外線の照射を行うことによって前記ポリマー導電層を形成するステップ
【００３０】
以下において、本実施形態の導電性フィルムの製造方法の典型的例について説明をする。
本実施形態の導電性フィルムの製造方法は、主に下記工程１〜４に示す工程を含む態様の製造方法であることが好ましい。なお、各工程１〜４に用いられる各構成要素、手法については、後に詳述する。
【００３１】
（工程１：ポリエステル樹脂製造工程）
ポリエステル樹脂製造工程では、まず、少なくともスルホン酸基を有する芳香族ジカルボン酸成分、アルコール成分及び触媒（例えば、シュウ酸チタンカリウム）を用意し、反応器に入れて溶液を調製する。この溶液を常圧、窒素雰囲気中で撹拌混合しつつ昇温させることで、エステル交換反応を完了させる。
次に、この溶液を徐々に減圧した後、この減圧状態を保持することで重縮合反応を進行させ、ポリエステル樹脂を得る。この際、必要に応じて減圧度を高めることでポリエステル樹脂の分子量をコントロールする。
得られたポリエステル樹脂を構成するジカルボン酸が、少なくともスルホン酸基を有する芳香族ジカルボン酸をどの程度含有するかは、当該ポリエステル樹脂を、例えば、ＩＣＰ（Ｉｎｄｕｃｔｉｖｅｌｙ  Ｃｏｕｐｌｅｄ  Ｐｌａｓｍａ：誘導結合プラズマ）発光分析装置やイオンクロマトグラフィーで解析したり、酸価等を測定することにより解析したりすることで知ることができる。
【００３２】
得られたポリエステル樹脂、水や有機溶媒（例えば、イソプロピルアルコール。）を、容器内に入れ、これらを撹拌しながら８０〜９５℃の範囲内の温度下に保持することで、水系溶剤に分散可能なポリエステル樹脂を得ることができる。
【００３３】
（工程２：ポリマー導電層形成用組成物の調製工程）
このポリマー導電層形成用組成物の調製工程では、導電性高分子化合物と、ポリエステル樹脂とを混合し、この混合物に、非導電性高分子化合物を混合した後、水を加えることでポリマー導電層形成用組成物を調製する。
【００３４】
（工程３：ポリマー導電層の塗設工程）
このポリマー導電層の塗設工程は、導電性高分子化合物とポリエステル樹脂とを含有する水系分散液を透明樹脂フィルム基材上に塗布するステップ（ステップ（Ａ））である。
ステップ（Ａ）では、具体的には、ガスバリアー性を有する透明樹脂フィルム基材上に、前述のポリマー導電層形成用組成物を用いて、ポリマー導電層を塗設する（図６Ｃ参照）。
なお、ポリマー導電層の塗設工程は、透明樹脂フィルム基材上に、金属細線パターンからなる金属導電層を形成し、その上にポリマー導電層を塗設するものであってもよい（図６Ｂ参照）。
【００３５】
（工程４：乾燥処理工程）
この乾燥処理は、透明樹脂フィルム基材上に塗布した水系分散液に対して、赤外線の照射を行うことによってポリマー導電層を形成するステップ（ステップ（Ｂ））である。
ステップ（Ｂ）では、具体的には、波長３．０μｍの分光放射輝度に対する波長５．８μｍの分光放射輝度の比率が、５％以下である赤外線の照射をすることで、乾燥処理をする。
これにより、ポリマー導電層を形成し、ポリマー導電層を有する導電性フィルムを形成できる。
【００３６】
次に、本発明の導電性フィルムの製造方法に用いられる各構成要素、手法について、詳述する。
【００３７】
〔導電性フィルム〕
導電性フィルムは、少なくとも導電性高分子化合物とポリエステル樹脂とを含有するポリマー導電層を有している。かかる導電性フィルムは、導電性高分子化合物とポリエステル樹脂とを含有する分散液を、透明樹脂フィルム基材上に塗布して乾燥させることによって製造される。
図１に示すように、導電性フィルム１は、透明樹脂フィルム基材２と、金属導電層４と、ポリマー導電層３と、を備えており、透明電極として使用可能である。
【００３８】
金属導電層４は、透明樹脂フィルム基材２上に形成された金属粒子の細線パターンである。金属導電層４における細線パターンは、図２Ａ〜Ｃに示すようにストライプ状に形成されてもよいし、図２Ｄに示すようにメッシュ状（格子、網目状）に形成されてもよい。
【００３９】
ポリマー導電層３は、金属導電層４が形成された透明樹脂フィルム基材２上に形成されている。ポリマー導電層３は、面一的に形成されており、金属導電層４の表面及び金属導電層４間から露出する透明樹脂フィルム基材２の表面を被覆している。
【００４０】
導電性フィルム１は、金属導電層４が省略される構成であってもよいが、前記したように金属導電層４を備え、ポリマー導電層３を金属導電層４上に積層することで、低抵抗かつ均一な面抵抗を有するようになる。
【００４１】
〔ポリエステル樹脂〕
本発明のポリマー導電層は、少なくともポリエステル樹脂を含むものである。
当該ポリエステル樹脂は、少なくともスルホン酸基を有する芳香族ジカルボン酸を１〜１５モル％の範囲内の比率（以下、「芳香族ジカルボン酸の比率」とも記載する。）で含有するジカルボン酸を構成成分とするものであり、さらに、水系溶剤に分散可能である。
【００４２】
ここで、本実施形態において、「水系溶剤に分散可能」とは、水系溶剤中に凝集せずにポリエステル樹脂からなるコロイド粒子が分散している状況であることをいう。コロイド粒子の大きさ（平均粒径）は、一般的に０．００１〜１μｍ（１〜１０００ｎｍ）の範囲内程度である。水系溶剤に分散可能なポリマーのコロイド粒子の大きさ（平均粒径）は、導電性高分子化合物のコロイド粒子と同様、好ましくは１〜５００ｎｍの範囲内であり、より好ましくは５〜３００ｎｍの範囲内であり、さらに好ましくは５〜１００ｎｍの範囲内である。
【００４３】
水系溶剤に分散可能なポリエステル樹脂のコロイド粒子の粒径が５００ｎｍ以下であると、分散液を透明樹脂フィルム基材２へ塗布することによって生成されるポリマー導電層３のヘイズ及び平滑性（表面粗さ（Ｒａ））が向上する。
【００４４】
また、水系溶剤に分散可能なポリエステル樹脂のコロイド粒子が１ｎｍ以上であると、ポリエステル樹脂のコロイド粒子同士の凝集を抑制できるため、分散液の分散性が低下せず、その結果、ポリマー導電層３のヘイズ及び平滑性（表面粗さ（Ｒａ））が向上する。ポリマー導電層３を成膜する際の平滑性を高めるためには、コロイド粒子の大きさは、３〜３００ｎｍの範囲内であることがより好ましく、５〜１００ｎｍの範囲内であることがさらに好ましい。粒子の平均粒径が５ｎｍ以上であると粒子同士が凝集することを抑制するため、分散安定性が劣化せず、その結果塗布面が不均一になる懸念を回避できる。
【００４５】
また、１００ｎｍ以下であると導電性高分子化合物との相溶性が劣化することを抑制できるだけでなく、塗布膜のヘイズが向上し、光学フィルムとしての性能劣化を生じる懸念を回避できる。かかるコロイド粒子の大きさについては、光散乱光度計により測定することができる。
【００４６】
また、前記水系溶剤とは、純水（蒸留水、脱イオン水を含む）のみならず、酸、アルカリ、塩等を含む水溶液、含水の有機溶剤又は親水性の有機溶剤である。水系溶剤としては、純水（蒸留水、脱イオン水を含む）、メタノール、エタノール等のアルコール系溶剤、水とアルコールとの混合溶剤等が挙げられる。
【００４７】
一般的に、水系溶剤に分散可能なポリエステル樹脂は、水系溶剤に安定に分散させるため、ポリマー中に、スルホン酸、カルボン酸等のアニオン性置換基、ヒドロキシ基等のノニオン性置換基、アンモニウム塩構造のカチオン性置換基等の親水性基の解離性基を含有する。これらの解離性基は、水系溶剤への分散安定を保つために導入されている。
しかし、これらの解離性基は親水性であり、乾燥に対しては不利になるため導入率を最小限にとどめる必要がある。
【００４８】
本実施形態では、芳香族ジカルボン酸の比率が、１５モル％より大きいと塗膜形成後の乾燥において、塗膜中の水分を十分に除去することができず、その結果樹脂被膜の耐水性が大きく低下し、導電性フィルムとしてのとしての性能劣化を引き起こすばかりか、これらの導電性フィルムを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ素子）を製造した際、電極表面抵抗の増加、ダークスポットの発生、電流リークといった著しい性能低下をもたらす。
【００４９】
また、芳香族ジカルボン酸の比率が、１モル％未満であるとポリエステルの親水性が低下し、その結果、ポリエステル樹脂の水への分散が下がり、上記ポリエステル樹脂のコロイド粒子の粒径が大きくなる。コロイド粒子の粒径が大きいと、上述のように導電性フィルムのヘイズが高くなるため、光学性能、表面粗さが劣化し、ひいては、当該導電性フィルムが備えられた有機ＥＬ素子やタッチパネルの性能が劣化する要因となる。乾燥性と水への分散性との観点から、芳香族ジカルボン酸の比率は、２〜１０モル％の範囲内がより好ましく、更に好ましくは３〜５モル％の範囲内である。
【００５０】
本発明に係る少なくともスルホン酸基を有する芳香族ジカルボン酸成分としては、５−ナトリウムスルホイソフタル酸（ＳＩＰＡ−Ｎａ）、５−ナトリウムスルホテレフタル酸（ＳＴＰＡ−Ｎａ）、５−カリウムスルホイソフタル酸（ＳＩＰＡ−Ｋ）、５−カリウムスルホテレフタル酸（ＳＴＰＡ−Ｋ）、５−リチウムスルホイソフタル酸（ＳＩＰＡ−Ｌｉ）、５−リチウムスルホテレフタル酸（ＳＴＰＡ−Ｌｉ）、３，５−ジ（カルボ−β−ヒドロキシエトキシ）ベンゼンスルホン酸ナトリウム（ＳＩＰＧ−Ｎａ）、２，５−ジ（カルボ−β−ヒドロキシエトキシ）ベンゼンスルホン酸ナトリウム（ＳＴＰＧ−Ｎａ）、３，５−ジ（カルボ−β−ヒドロキシエトキシ）ベンゼンスルホン酸カリウム（ＳＩＰＧ−Ｋ）、３，５−ジ（カルボ−β−ヒドロキシエトキシ）ベンゼンスルホン酸リチウム（ＳＩＰＧＬｉ）、５−ナトリウムスルホイソフタル酸ジメチル（ＳＩＰＭ−Ｎａ）、５−ナトリウムスルホテレフタル酸ジメチル（ＳＴＰＭ−Ｎａ）、５−カリウムスルホイソフタル酸ジメチル（ＳＩＰＭ−Ｋ）、５−リチウムスルホイソフタル酸ジメチル（ＳＩＰＭ−Ｌｉ）、５−スルホン酸ナトリウムジメチルイソフタル酸等が挙げられる。
【００５１】
本発明に係るポリエステル樹脂の水性分散体においては、ポリエステル樹脂を構成する酸成分として、前記したスルホン酸基を有する芳香族ジカルボン酸成分のモノマーの添加量をできるだけ抑えるべきであり、また、ポリエステル樹脂を乳化分散させるための乳化剤等の各種添加剤の添加も控えるべきである。
【００５２】
ポリエステル樹脂の酸成分は、全酸成分のうち、少なくとも５０モル％以上が芳香族ジカルボン酸成分であることが好ましい。芳香族ジカルボン酸成分が５０モル％以上である場合には、樹脂被膜の耐水性が低下する懸念を回避できる。また、芳香族ジカルボン酸成分の割合が多いポリエステル樹脂では、耐水性の他に、硬度、耐溶媒性、加工性等が向上する。
【００５３】
芳香族ジカルボン酸成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、無水フタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、３−ｔｅｒｔ−ブチルイソフタル酸、ジフェン酸等が挙げられる。これらの芳香族ジカルボン酸成分は、単独で用いられてもよく、２種類以上で併用されてもよい。
特に好適に用いられる芳香族ジカルボン酸成分としては、工業的に多量に生産されており、安価であること等から、テレフタル酸（例えば、ジメチルテレフタル酸。）や、イソフタル酸（例えば、ジメチルイソフタル酸。）が挙げられる。
【００５４】
本発明に係るポリエステル樹脂の構成成分としては、前記した芳香族ジカルボン酸成分の割合を満たす程度、また、前記したガラス転移温度の範囲内となるならば、飽和脂肪族ジカルボン酸成分（シュウ酸、コハク酸、無水コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカン二酸、アイコサン二酸、水添ダイマー酸等）、不飽和脂肪族ジカルボン酸成分（フマル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコン酸、無水シトラコン酸、ダイマー酸等）、脂環式ジカルボン酸成分（１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、１，３−シクロヘキサンジカルボン酸、１，２−シクロヘキサンジカルボン酸、２，５−ノルボルネンジカルボン酸又はこれらの無水物、テトラヒドロフタル酸又はその無水物等）等が用いられる。また、トリメリット酸、ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸、トリメシン酸、エチレングリコールビス（アンヒドロトリメリテート）、グリセロールトリス（アンヒドロトリメリテート）、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸等といった３官能以上のカルボン酸成分もポリエステル樹脂の構成成分として使用可能である。
【００５５】
本発明に係るポリエステル樹脂を合成するためのアルコール成分としては、特に限定されないが、例えば、脂肪族グリコール成分（エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、１，５−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，９−ノナンジオール、２−エチル−２−ブチルプロパンジオール等）、脂環式グリコール成分（１，４−シクロヘキサンジメタノール等）、ビスフェノール類（ビスフェノールＡ）のエチレンオキシド付加体（ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジプロピレングリコール、２，２−ビス［４−（ヒドロキシエトキシ）フェニル］プロパン等）、ビスフェノール類（ビスフェノールＳ）のエチレンオキシド付加体（ビス［４−（ヒドロキシエトキシ）フェニル］スルホン等）、エーテル結合含有グリコール成分（ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等）等が挙げられる。また、グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール等の３官能以上のアルコール成分も使用可能である。
【００５６】
特に好適に用いられるアルコール成分としては、工業的に量産されているので安価であり、しかも樹脂被膜の耐溶剤性及び耐候性が向上する等、諸性能にバランスがとれていることから、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオールが挙げられる。
【００５７】
また、本発明に係るポリエステル樹脂の構成成分には、モノカルボン酸成分、モノアルコール成分、ヒドロキシカルボン酸成分等が共重合されていてもよく、例として、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、安息香酸、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチル安息香酸、シクロヘキサン酸、４−ヒドロキシフェニルステアリン酸、ステアリルアルコール、２−フェノキシエタノール、ε−カプロラクトン、乳酸、β−ヒドロキシ酪酸又はｐ−ヒドロキシ安息香酸のエチレンオキシド付加体等が挙げられる。また、３官能以上のポリオキシカルボン酸成分が共重合されていてもよく、例として、リンゴ酸、グリセリン酸、クエン酸、酒石酸等が挙げられる。
【００５８】
続いて、ポリエステル樹脂の製造方法について説明する。本発明における水系溶剤に分散可能なポリエステル樹脂は、まずポリエステル樹脂を製造後、このポリエステルを用い水系溶剤分散体にする。ポリエステル樹脂を製造する方法としては、例えば、前記した酸成分の１種類以上とアルコール成分の１種類以上とを、公知の方法により、縮重合させることにより製造することができる。全モノマー成分又はその低重合体を不活性雰囲気下で１８０〜２６０℃、２．５〜１０時間の範囲内で反応させてエステル化反応を行い、続いて、縮重合触媒の存在下、１３０Ｐａ以下の減圧下に２２０〜２８０℃の範囲内の温度で、所望の分子量に達するまで縮重合反応を進めて、ポリエステル樹脂を得る方法等が挙げられる。
【００５９】
ポリエステルの縮重合触媒としては、特に限定されることなく、酢酸亜鉛、三酸化アンチモン等の公知の化合物が用いられる。
ポリエステル樹脂に所望の酸価を付与する方法として、前記した縮重合反応の後に、酸成分をさらに添加し、不活性雰囲気下、解重合反応を行う方法等が挙げられる。
また、ポリエステル樹脂に所望の酸価を付与する方法として、前記した縮重合反応の後に、無水物の酸成分をさらに添加し、不活性雰囲気下、ポリエステル樹脂のヒドロキシ基と付加反応する方法を用いることもできるが、かかる方法では、製造途中の溶融粘度が非常に高くなり、ポリエステル樹脂を払い出せなくなることがあるので、注意が必要である。
【００６０】
解重合反応又は付加反応で用いる酸成分としては、前記した３官能以上のカルボン酸が好ましい。３官能以上のカルボン酸を使用することにより、特に、解重合によるポリエステル樹脂の分子量低下を抑制しながら、所望の酸価を付与することができる。３官能以上のカルボン酸としては、芳香族のカルボン酸成分であるトリメリット酸、無水トリメリット酸、ピロメリット酸、無水ピロメリット酸が特に好ましい。
【００６１】
なお、ポリエステル樹脂の数平均分子量が１００００以上である場合には、樹脂被膜が脆くならず、基材への密着性及び耐久性が不足する懸念を回避できる。このため、樹脂被膜の基材への密着性及び耐久性をさらに高めるためには、ポリエステル樹脂の数平均分子量は、１００００以上であることがより好ましい。また、ポリエステル樹脂の数平均分子量は、製造の容易性の観点から、１０００００以下であることが好ましく、２００００以下であることがより好ましい。
【００６２】
続いて、ポリエステル樹脂から水系溶剤に分散されたポリエステル樹脂（以下、「ポリエステル樹脂水性分散体」ともいう。）を製造する方法について説明する。
本発明において、ポリエステル樹脂水性分散体とは、前記したポリエステル樹脂が、水性媒体中に分散されてなる液状物である。ここで、水性媒体とは、水を含む液体からなる媒体であり、有機溶媒、防腐剤、消泡剤、塩基性化合物等の添加剤を含んでいてもよい。
【００６３】
本実施形態において、ポリエステル樹脂水性分散体におけるポリエステル樹脂の含有率は、５〜５０質量％の範囲内が好ましく、１５〜４０質量％の範囲内であることがより好ましい。ポリエステル樹脂の含有率が５０質量％以内であると、分散していたポリエステル樹脂の凝集を抑制でき、ポリエステル樹脂の分散の安定性が向上する傾向にある。
なお、本実施形態における実用的なポリエステル樹脂の含有率は、５質量％以上である。ポリエステル樹脂の分散の安定性を向上させるとともにポリエステルの硬化を実用的に発揮するためには、ポリエステル樹脂水性分散体におけるポリエステル樹脂の含有率は、１５〜４０質量％であることがより好ましい。
【００６４】
本発明において、ポリエステル樹脂水性分散体のｐＨは、特に限定されないが、室温において、５以上８未満であることが好ましい。ｐＨが８未満であると酸性を示す導電性高分子化合物との混合で、ポリエステル樹脂水性分散体が凝集する懸念がなく、均一な水性分散体としては得られなくなる懸念を回避できる。
水については特に制限されず、蒸留水、イオン交換水、市水、工業用水等が挙げられるが、蒸留水又はイオン交換水を使用することが好ましい。
【００６５】
本発明におけるポリエステル樹脂水性分散体の製造方法としては、前記ポリエステル樹脂を水系溶剤へ投入し加熱撹拌する方法、ポリエステル樹脂の末端にあるカルボキシ基を、塩基性化合物を用いて、少なくとも一部又は全部中和することで水性媒体に分散させる方法、分散剤として界面活性剤を用いる方法が挙げられる。また、当該製造方法としては、他にも、ポリエステル樹脂を有機溶媒に溶解させる工程（溶解工程）、次に、有機溶媒に溶解した樹脂溶液（溶解液）を水に分散させる工程（転相乳化工程）、さらに、得られた内容物（分散液）から、有機溶媒を除去する工程（脱溶媒工程）の３工程を行う方法（「転相乳化」）等が挙げられる。
なお、転相乳化では、工程適性の観点から、水系溶剤へ投入し加熱撹拌する方法が好適に用いられる。
【００６６】
〔赤外線照射〕
本発明は、透明樹脂フィルム基材上に塗布した前記水系分散液に対して、前記赤外線の照射を行うことによって前記ポリマー導電層を形成するステップにおいて、波長３．０μｍの分光放射輝度に対する波長５．８μｍの分光放射輝度の比率が、５％以下である赤外線の照射を行うことを特徴とする。
一般に、赤外線とは可視放射の波長より長い光放射のことをいう。
本実施形態において、上記波長３．０μｍの分光放射輝度に対する波長５．８μｍの分光放射輝度の比率は、３％以下であるのが好ましく、１％以下であるのがより好ましく、さらに好ましくは０．５％以下である。
【００６７】
本発明のポリマー導電層を形成するための液状組成物に好ましく用いられる水系溶剤が、約３．０μｍ付近にＯＨ伸縮振動による強い吸収波長を持ち、また本発明の透明樹脂フィルム基材に好ましく用いられるポリエステル樹脂フィルムは、３．０μｍ付近の赤外線波長域にはほとんど吸収波長を持たないが、５．８μｍ以上の赤外線波長域に強い吸収波長を有していることが好ましい。
このような水系溶剤及び透明樹脂フィルム基材を採用し、本発明に係る赤外線を照射することにより、透明樹脂フィルム基材にダメージを与えることをより抑えることができ、また、より効率よくポリマー導電層を乾燥することが可能である。すなわち、ポリマー導電層から水、ヒドロキシ基を有する溶剤や添加剤をより効率よく除去することが可能となる。その結果、高湿度環境下における環境試験後でも高い導電性と透明性及び良好な表面粗さを有するポリマー導電層が得られる。さらには、本発明の製造方法により製造した透明電極を有機ＥＬ素子やタッチパネルに用いることで、有機ＥＬ素子の発光均一性及び寿命の向上、タッチパネルの経時での抵抗値低下抑制といった効果を得ることができる。
【００６８】
本発明における赤外線の照射の方法については、特に限定はないが、赤外線ヒーターで行うのが好ましい。赤外線ヒーターとしては、例えば、特許第４７９００９２号に記載されているような、赤外線ヒーターを好ましく用いることができる。
以下に、本発明に好ましく用いられる赤外線ヒーターについて説明する。
【００６９】
（赤外線ヒーター）
図３は、波長制御赤外線ヒーターの概略構成を示す断面図である。図４は、図３の波長制御赤外線ヒーターの変形例を示す断面図である。
赤外線ヒーター２０は外観が円柱状を有しており、図３に示すとおり、主にフィラメント２２、保護管２４及びフィルター２６、２８がこの順に同心円状に配置された構成を有している。フィルター２６、２８は、波長３．５μｍ以上の赤外線を吸収する機能を有し、フィルター２６、２８の材質としては、石英ガラス、ホウケイ酸クラウンガラスなどがあり、耐熱性、耐熱衝撃性の点から石英ガラスが好ましい。
【００７０】
赤外線ヒーター２０は、波長３．５μｍ以上の赤外線を吸収する機能を有している。詳しくは、フィルター２６、２８自体は、波長３．５μｍ以上の赤外線を吸収するため、フィラメント２２により加熱され高温となるため、自身が赤外線の放射体となり、長波長の赤外線を放射する。
しかし、赤外線ヒーター２０では、フィルター２６、２８の間の中空部３０で冷媒（例えば冷却空気）が流通するようになっており、その冷却機能によりフィルター２６、２８の表面温度を低下させ、フィルター２６、２８が発する２次放射を抑制することができるようになっている。
その結果、波長３．５μｍ以上の赤外線放射が減少し、主に透明樹脂フィルム基材２に吸収領域のある波長５．８μｍ以上の遠赤外線放射を大幅に低減することができる。そして、被乾燥物には、水系溶剤の吸収領域である波長３．０μｍの赤外線を選択的に照射することで、透明樹脂フィルム基材２を変形させることなくポリマー導電層を乾燥させることができる。
【００７１】
フィルター２６、２８の厚さ及び枚数は、必要な赤外線スペクトルにより、適宜選択・変更することができる。
冷却機能としては、上記のとおり、フィルターを中空で二重又は多重積層し、間の中空部分に空気を流すことで冷却できる。
フィルター２６、２８の形状は、上記のとおり、円柱状のフィラメント２２全体を同心円状に覆ってもよいし、図４に示すとおり、フィラメント２２（及び保護管２４）の３方向を反射板３２で被覆し、赤外線の放射面側にフィルター２６、２８を平行板状に配置してもよい。
【００７２】
フィルター２６、２８に加えさらに別のフィルターを配置する多重構造とする場合、冷却用の空気を、フィルター間の中空部同士で互いに逆方向に流すことが冷却効率の点から好ましい。また、排出側の冷却用空気は、系外に排出してもよいし、乾燥工程で使用する熱風の一部として利用してもよい。
【００７３】
乾燥性と基材変形防止との両立の観点から、赤外線ヒーター２０のフィラメント２２の温度は８００℃以上が好ましく、フィラメント２２の耐熱性の点から３０００℃以下とすることが好ましい。フィラメント温度に応じて、これら水系溶剤の吸収に相当する波長域の輻射エネルギーを増加させることができ、フィラメント温度は所望の塗布、乾燥条件によって、適宜選択・変更することができる。フィラメント温度は、例えば、放射温度計を用いて測定することができる。
【００７４】
被乾燥物側に配置される最外側のフィルター２８の表面温度は、自身の赤外線吸収による２次放射を抑制する観点から、２００℃以下とすることが好ましく、１５０℃以下とすることがさらに好ましく、これは二重又は多重に積層されたフィルター間に空気を流すことで調整できる。
【００７５】
また、乾燥工程では、その乾燥ゾーンを赤外線反射性の高い材料で構成（被覆）することにより、被乾燥物に吸収されなかった赤外線を高効率で利用できる。
なお、図３及び図４に示すとおり、波長制御赤外線ヒーター２０には中空部３０で冷媒を流通（循環）させるための冷却機構４０が接続され、さらに冷却機構４０とフィラメント２２とには制御装置４５が接続されている。かかる制御回路において、制御装置４５により、冷却機構４０による中空部３０への冷媒の流通量やフィラメント２２の発熱温度などが制御される。
【００７６】
また、本発明の透明樹脂フィルム基材の変形が生じない程度であれば、本発明の赤外線照射工程前に、別途、予備加熱処理工程を有していてもよい。
予備加熱処理方法としては、特に限定はなく、ホットプレート、ボックス炉、コンベア炉のような電気炉や、近赤外線ヒーター、中赤外線ヒーター、遠赤外線ヒーター、温風、熱風、マイクロ波等が挙げられ、これら単独でもよいし組み合わせてもよい。
【００７７】
本発明における赤外線において、波長３．０μｍの分光放射輝度に対する波長５．８μｍの分光放射輝度の比率は、例えば、以下の方法により求めることができる。
【００７８】
平成１７年度遠赤外ヒーターの放射エネルギーを簡易的に評価する方法の調査研究報告書（社団法人  日本機械工業連合会、社団法人  遠赤外線協会著）、ＦＴＩＲ  ＴＡＬＫ  ＬＥＴＴＥＲ  ｖｏｌ．１３（株式会社  島津製作所著）等に記載の方法を参考にして、まず赤外線ヒーターからの放射出力と、赤外線ヒーターのフィラメント温度と同温度にした標準黒体炉からの放射出力を、ＦＴ−ＩＲ（フーリエ変換赤外分光光度計）で測定することで赤外線ヒーターの分光放射率を求める。
【００７９】
次いで、プランクの放射則にしたがって計算した黒体放射スペクトルに、赤外線ヒーターの分光放射率を乗ずることで、赤外線ヒーターの分光放射スペクトルが得られる。得られた分光放射スペクトルから、波長３．０μｍにおける分光放射輝度の値と、波長５．８μｍにおける分光放射輝度の値を読み取り、波長３．０μｍの分光放射輝度に対する波長５．８μｍの分光放射輝度の比率を百分率で計算し、求めることができる。
【００８０】
〔導電性高分子化合物〕
本発明において、「導電性」とは、電気が流れる状態を指し、ＪＩＳ  Ｋ  ７１９４の「導電性プラスチックの４探針法による抵抗率試験方法」に準拠した方法で測定したシート抵抗値が１×１０８Ω／□よりも低いことをいう。
【００８１】
本発明において、導電性を有するポリマーである導電性高分子化合物とは、カチオン性π共役系導電性高分子とポリアニオンとを有してなる導電性高分子化合物であることが望ましい。こうした導電性高分子化合物は、後記するカチオン性π共役系導電性高分子を形成する前駆体モノマーを、適切な酸化剤及び酸化触媒と後記するポリアニオンとの存在下で化学酸化重合することによって容易に製造することができる。
【００８２】
（カチオン性π共役系導電性高分子）
本発明において、カチオン性π共役系導電性高分子としては、特に限定されず、ポリチオフェン（基本のポリチオフェンを含む、以下同様）類、ポリピロール類、ポリインドール類、ポリカルバゾール類、ポリアニリン類、ポリアセチレン類、ポリフラン類、ポリパラフェニレンビニレン類、ポリアズレン類、ポリパラフェニレン類、ポリパラフェニレンサルファイド類、ポリイソチアナフテン類又はポリチアジル類の鎖状導電性高分子化合物を利用することができる。カチオン性π共役系導電性高分子としては、導電性、透明性、安定性等の観点から、ポリチオフェン類又はポリアニリン類が好ましく、ポリエチレンジオキシチオフェンがより好ましい。
【００８３】
（カチオン性π共役系導電性高分子前駆体モノマー）
本発明において、カチオン性π共役系導電性高分子の形成に用いられる前駆体モノマーとは、分子内にπ共役系を有し、適切な酸化剤の作用によって高分子化した際にもその主鎖にπ共役系が形成されるものである。かかる前駆体モノマーとしては、例えば、ピロール類及びその誘導体、チオフェン類及びその誘導体、アニリン類及びその誘導体等が挙げられる。
【００８４】
前駆体モノマーの具体例としては、ピロール、３−メチルピロール、３−エチルピロール、３−ｎ−プロピルピロール、３−ブチルピロール、３−オクチルピロール、３−デシルピロール、３−ドデシルピロール、３，４−ジメチルピロール、３，４−ジブチルピロール、３−カルボキシルピロール、３−メチル−４−カルボキシルピロール、３−メチル−４−カルボキシエチルピロール、３−メチル−４−カルボキシブチルピロール、３−ヒドロキシピロール、３−メトキシピロール、３−エトキシピロール、３−ブトキシピロール、３−ヘキシルオキシピロール、３−メチル−４−ヘキシルオキシピロール、チオフェン、３−メチルチオフェン、３−エチルチオフェン、３−プロピルチオフェン、３−ブチルチオフェン、３−ヘキシルチオフェン、３−ヘプチルチオフェン、３−オクチルチオフェン、３−デシルチオフェン、３−ドデシルチオフェン、３−オクタデシルチオフェン、３−ブロモチオフェン、３−クロロチオフェン、３−ヨードチオフェン、３−シアノチオフェン、３−フェニルチオフェン、３，４−ジメチルチオフェン、３，４−ジブチルチオフェン、３−ヒドロキシチオフェン、３−メトキシチオフェン、３−エトキシチオフェン、３−ブトキシチオフェン、３−ヘキシルオキシチオフェン、３−ヘプチルオキシチオフェン、３−オクチルオキシチオフェン、３−デシルオキシチオフェン、３−ドデシルオキシチオフェン、３−オクタデシルオキシチオフェン、３，４−ジヒドロキシチオフェン、３，４−ジメトキシチオフェン、３，４−ジエトキシチオフェン、３，４−ジプロポキシチオフェン、３，４−ジブトキシチオフェン、３，４−ジヘキシルオキシチオフェン、３，４−ジヘプチルオキシチオフェン、３，４−ジオクチルオキシチオフェン、３，４−ジデシルオキシチオフェン、３，４−ジドデシルオキシチオフェン、３，４−エチレンジオキシチオフェン、３，４−プロピレンジオキシチオフェン、３，４−ブテンジオキシチオフェン、３−メチル−４−メトキシチオフェン、３−メチル−４−エトキシチオフェン、３−カルボキシチオフェン、３−メチル−４−カルボキシチオフェン、３−メチル−４−カルボキシエチルチオフェン、３−メチル−４−カルボキシブチルチオフェン、アニリン、２−メチルアニリン、３−イソブチルアニリン、２−アニリンスルホン酸、３−アニリンスルホン酸等が挙げられる。
【００８５】
（ポリアニオン）
本発明において、導電性高分子化合物に用いられるポリアニオンは、置換又は未置換のポリアルキレン、置換又は未置換のポリアルケニレン、置換又は未置換のポリイミド、置換又は未置換のポリアミド、置換又は未置換のポリエステル及びこれらの共重合体のいずれかであって、アニオン基を有する構成単位とアニオン基を有さない構成単位とからなるものであることが望ましい。
【００８６】
このポリアニオンは、カチオン性π共役系導電性高分子化合物を溶媒に可溶化させる可溶化高分子である。また、ポリアニオンのアニオン基は、カチオン性π共役系導電性高分子化合物に対するドーパントとして機能して、カチオン性π共役系導電性高分子化合物の導電性及び耐熱性を向上させる。また、ポリアニオンは、カチオン性π共役系導電性高分子化合物に対し過剰量が用いられることで、カチオン性π共役系導電性高分子化合物とポリアニオンとからなる導電性高分子化合物粒子の分散性及び成膜性を向上させる機能も有している。
【００８７】
ポリアニオンのアニオン基としては、カチオン性π共役系導電性高分子化合物への化学酸化ドープが起こりうる官能基であればよい。かかるアニオン基としては、製造の容易さ及び安定性の観点から、一置換硫酸エステル基、一置換リン酸エステル基、リン酸基、カルボキシ基、スルホ基等が好ましい。さらに、かかるアニオン基としては、官能基のカチオン性π共役系導電性高分子化合物へのドープ効果の観点から、スルホ基、一置換硫酸エステル基又はカルボキシ基がより好ましい。
【００８８】
ポリアニオンの具体例としては、ポリビニルスルホン酸、ポリスチレンスルホン酸、ポリアリルスルホン酸、ポリアクリル酸エチルスルホン酸、ポリアクリル酸ブチルスルホン酸、ポリ−２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、ポリイソプレンスルホン酸、ポリビニルカルボン酸、ポリスチレンカルボン酸、ポリアリルカルボン酸、ポリアクリルカルボン酸、ポリメタクリルカルボン酸、ポリ−２−アクリルアミド−２−メチルプロパンカルボン酸、ポリイソプレンカルボン酸、ポリアクリル酸等が挙げられる。また、ポリアニオンは、これらの単独重合体であってもよいし、２種以上の共重合体であってもよい。
【００８９】
また、ポリアニオンは、化合物内にさらにＦ（フッ素原子）を有するものであってもよい。かかるポリアニオンとして、具体的には、パーフルオロスルホン酸基を含有するナフィオン（Ｄｕｐｏｎｔ社製）、カルボン酸基を含有するパーフルオロ型ビニルエーテルからなるフレミオン（旭硝子社製）等を挙げることができる。
【００９０】
これらのうち、ポリアニオンとしてスルホン酸基を有する化合物を用いた場合には、塗布及び赤外線ヒーターによる乾燥によってポリマー導電層３を形成した後に、さらに１００〜１２０℃の範囲内で５分以上の加熱乾燥処理を施してからマイクロ波、近赤外光等の照射をしてもよい。また、場合によっては加熱乾燥処理を省きマイクロ波、近赤外光等の照射のみでもよい。
【００９１】
さらに、スルホン酸を有する化合物の中でも、ポリスチレンスルホン酸、ポリイソプレンスルホン酸、ポリアクリル酸エチルスルホン酸又はポリアクリル酸ブチルスルホン酸が好ましい。
ポリアニオンの重合度は、導電性高分子化合物の分散性の観点からは、モノマー単位が１０〜１０００００個の範囲内であることが好ましく、溶媒溶解性及び導電性の観点からは、５０〜１００００個の範囲内がより好ましい。
【００９２】
ポリアニオンの製造方法としては、例えば、酸を用いてアニオン基を有しないポリマーにアニオン基を直接導入する方法、アニオン基を有しないポリマーをスルホ化剤によりスルホン酸化する方法、アニオン基含有重合性モノマーの重合により製造する方法等が挙げられる。
【００９３】
アニオン基含有重合性モノマーの重合によってポリアニオンを製造する方法としては、溶媒中、アニオン基含有重合性モノマーを、酸化剤又は重合触媒の存在下で、酸化重合又はラジカル重合によって製造する方法が挙げられる。
具体的には、所定量のアニオン基含有重合性モノマーを溶媒に溶解させ、これを一定温度に保ち、それにあらかじめ溶媒に所定量の酸化剤又は重合触媒を溶解した溶液を添加し、所定時間で反応させる。その反応により得られたポリマーは、溶媒によって一定の濃度に調整される。
【００９４】
なお、この製造方法において、アニオン基含有重合性モノマーにアニオン基を有さない重合性モノマーを共重合させてもよい。
また、得られたポリマーがポリアニオンの塩である場合には、ポリアニオンの酸に変質させることが好ましい。ポリアニオンの塩をポリ陰イオン酸に変質させる方法としては、イオン交換樹脂を用いたイオン交換法、透析法、限外ろ過法等が挙げられ、これらの中でも、作業が容易な点から限外ろ過法が好ましい。
【００９５】
導電性高分子化合物に含まれるカチオン性π共役系導電性高分子と導電性高分子化合物を構成するポリアニオンとの比率、すなわち、カチオン性π共役系導電性高分子に対するポリアニオンの質量比の値は、導電性及び分散性の観点から、０．５〜２５の範囲内が好ましい。
【００９６】
カチオン性π共役系導電性高分子に対するポリアニオンの質量比の値が２５以下であれば、導電性が向上するのに加えて、親水性であるポリアニオン又は導電性高分子化合物が保持している水分量が少なくなり、導電性フィルム及び導電性フィルムを用いた有機ＥＬ素子等の保存性が向上する。
【００９７】
また、質量比の値が０．５以上であれば、ドーパントの増加に伴い、導電性高分子化合物の抵抗が低くなるのに加えて、保護コロイドとして作用しているポリアニオンの効果が強まり粒子の安定性が向上し、粒径が抑えられる。
このように、導電性、粒子安定性、導電性フィルム及び導電性フィルムを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子等の保存性の観点から、カチオン性π共役系導電性高分子に対するポリアニオンの質量比は、０．５〜２５の範囲内が好ましい。
【００９８】
カチオン性π共役系導電性高分子に対するポリアニオンの質量比を所望の値にする方法としては、導電性高分子化合物合成時に使用するポリアニオン量を調節する方法が挙げられる。
この方法において、ポリアニオン量をカチオン性π共役系導電性高分子に対して１．０以下の質量比の値とすれば、導電性高分子化合物粒子が大きくなる傾向があるため、導電性高分子化合物合成時に他の高分子化合物を併用することができる。併用可能な高分子化合物としては、導電性高分子化合物粒子を安定化し、かつ、透過率及び導電性を劣化させなければ特に限定はないが、２−ヒドロキシエチルアクリレート等のポリアクリル又は水系溶剤に分散可能なポリマー等の水系分散ポリマーが好ましい。
また、市販のＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ中の水を乾燥除去、トルエンで共沸除去又は凍結乾燥等公知の方法で粉末化した後に、水洗し、ＰＳＳを除去する方法、限外ろ過によりＰＳＳを除去しながら水で置換する方法等が利用可能である。
【００９９】
カチオン性π共役系導電性高分子を形成する前駆体モノマーをポリ陰イオンの存在下で化学酸化重合して、本発明に係る導電性高分子化合物を得る際に使用される酸化剤としては、例えば、Ｊ．Ａｍ．Ｓｏｃ．，８５、４５４（１９６３）に記載されるピロールの酸化重合に適する、いずれかの酸化剤が挙げられる。
かかる酸化剤としては、実際的な理由のために、安価かつ取り扱いやすい酸化剤、例えば鉄（III）塩（例えばＦｅＣｌ３、Ｆｅ（ＣｌＯ４）３、有機酸及び有機残基を含む無機酸の鉄（III）塩）、過酸化水素、重クロム酸カリウム、過硫酸アルカリ（例えば過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウム）、アンモニウム、過ホウ酸アルカリ、過マンガン酸カリウム又は銅塩（例えば四フッ化ホウ酸銅）を用いることが好ましい。加えて、酸化剤として、随時触媒量の金属イオン（例えば鉄イオン、コバルトイオン、ニッケルイオン、モリブデンイオン、バナジウムイオン）の存在下における空気又は酸素も使用することができる。これらの中でも、過硫酸塩、有機酸を含む無機酸の鉄（III）塩又は有機残基を含む無機酸の鉄（III）塩の使用が腐食性でないために大きな応用上の利点を有する。
【０１００】
有機残基を含む無機酸の鉄（III）塩の例としては、炭素数１〜２０の範囲内のアルカノールの硫酸半エステルの鉄（III）塩（例えばラウリル硫酸）、炭素数１〜２０の範囲内のアルキルスルホン酸（例えばメタン、ドデカンスルホン酸）、脂肪族炭素数１〜２０の範囲内のカルボン酸（例えば２−エチルヘキシルカルボン酸）、脂肪族パーフルオロカルボン酸（例えばトリフルオロ酢酸、パーフルオロオクタノン酸）、脂肪族ジカルボン酸（例えばシュウ酸）、殊に芳香族の、随時炭素数１〜２０のアルキル置換されたスルホン酸（例えばベンゼセンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸のＦｅ（III）塩）が挙げられる。
【０１０１】
こうした導電性高分子化合物としては、市販の材料も好ましく利用することができる。
例えば、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸とからなる導電性高分子化合物（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳと略す）が、ヘレオス社からＣｌｅｖｉｏｓシリーズとして、Ａｌｄｒｉｃｈ社からＰＥＤＯＴ／ＰＳＳの４８３０９５、５６０５９６として、Ｎａｇａｓｅ  Ｃｈｅｍｔｅｘ社からＤｅｎａｔｒｏｎシリーズとして市販されている。また、ポリアニリンが、日産化学工業社からＯＲＭＥＣＯＮシリーズとして市販されている。本発明において、こうした剤も導電性高分子化合物として好ましく用いることができる。
【０１０２】
導電性高分子化合物は、第２ドーパントとして有機化合物を含有してもよい。本発明で用いることができる有機化合物には特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、酸素含有化合物が好適に挙げられる。前記酸素含有化合物としては、酸素を含有する限り特に制限はなく、例えば、ヒドロキシ基含有化合物、カルボニル基含有化合物、エーテル基含有化合物、スルホキシド基含有化合物等が挙げられる。前記ヒドロキシ基含有化合物としては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、トリメチレングリコール、１，４−ブタンジオール、グリセリン等が挙げられ、これらの中でも、エチレングリコール、ジエチレングリコールが好ましい。
【０１０３】
前記カルボニル基含有化合物としては、例えば、イソホロン、プロピレンカーボネート、シクロヘキサノン、γ−ブチロラクトン等が挙げられる。前記エーテル基含有化合物としては、例えば、ジエチレングリコールモノエチルエーテル等が挙げられる。前記スルホキシド基含有化合物としては、例えば、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。これらは、１種単独で使用されてもよいし、２種以上が併用されてもよいが、ジメチルスルホキシド、エチレングリコール、ジエチレングリコールから選ばれる少なくとも１種が用いられることが好ましい。
【０１０４】
〔導電性高分子化合物とポリエステル樹脂とを含有する水系分散液〕
本発明に係る導電性高分子化合物とポリエステル樹脂とを含有する水系分散液は、導電性高分子化合物と上述の水系溶剤に分散可能なポリエステル樹脂とが水系溶剤中に分散された液である。
【０１０５】
本発明に係る分散液は、透明であることが好ましく、フィルムを形成する媒体であれば、特に限定されない。また、透明導電性フィルム１表面へのブリードアウト、有機電子素子を積層した場合の素子性能に問題がなければ特に限定はないが、分散液は、ミセル形成を補助する界面活性剤（乳化剤）や成膜温度をコントロールする可塑剤等を含まないことが好ましい。
【０１０６】
本発明に係る分散液の室温におけるｐＨは、所望の導電性が得られれば特に問題ないが、０．１〜７．０の範囲内が好ましく、より好ましくは０．３〜５．０の範囲内である。分散液のｐＨが０．１以上、より好ましくは０．３以上であれば、乾燥時におけるポリマーの分解を好適に防ぐことができる。また、分散液のｐＨが７．０以下、より好ましくは５．０以下であれば、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳの中和を防ぐことによって、ドーパントの機能低下に伴う導電性フィルムのシート抵抗値の劣化を好適に防ぐことができる。
【０１０７】
本発明の導電性フィルム１の製造に用いる水系溶剤に分散可能なポリエステル樹脂の分散液の室温におけるｐＨは、別途相溶させる導電性高分子化合物溶液との相溶性、水系溶剤に分散可能なポリエステル樹脂と導電性高分子化合物との混合液（分散液）の導電性の観点から、好ましくは０．１〜１１．０の範囲内であり、より好ましくは３．０〜９．０の範囲内であり、さらに好ましくは４．０〜７．０の範囲内である。
【０１０８】
本発明に係る分散液の表面張力をコントロールするために、分散液に有機溶剤を添加してもよい。
有機溶剤は、所望の表面張力が得られれば特に限定されないが、一価、二価又は多価のアルコール系溶剤が好ましい。有機溶剤の沸点は、好ましくは２００℃以下であり、より好ましくは１５０℃以下である。有機溶剤の沸点が２００℃以下、より好ましくは１５０℃以下であれば、短時間乾燥において膜中の残存溶媒を好適に低減させることができる。
【０１０９】
本発明に係る分散液に含有される分散処理後の導電性高分子化合物及びポリエステル樹脂の大きさ（平均粒径）は、好ましくは１〜１００ｎｍの範囲内であり、より好ましくは３〜８０ｎｍの範囲内であり、さらに好ましくは５〜５０ｎｍの範囲内である。
【０１１０】
分散液内の導電性高分子化合物及びポリエステル樹脂の粒子の大きさが１００ｎｍ以下であれば、分散液を透明樹脂フィルム基材２へ塗布することによって生成されるポリマー導電層３のヘイズ及び平滑性（表面粗さ（Ｒａ））が向上し、さらには有機ＥＬ素子の性能が向上する。また分散液内の上記粒子の大きさが１ｎｍ以上であれば、粒子同士の凝集の発生が抑えられて分散液の分散性が向上し、その結果、ポリマー導電層３のヘイズ及び平滑性が向上する。
成膜する際の平滑性を高めるためには、分散液内の上記粒子の大きさは、３〜８０ｎｍであることがより好ましく、５〜５０ｎｍであることがさらに好ましい。
また、平均粒径をコントロールしても、使用している水系溶剤に分散可能なポリエステル樹脂の成膜温度が高すぎると乾燥温度内では成膜せずに粒子形状が残り膜表面の平均粗さを劣化させることがあるため、成膜温度もコントロールすることが望ましい。
【０１１１】
（導電性高分子化合物とポリエステル樹脂とを含有する分散液の調製）
平均粒径を所望の範囲とする分散液の調製は、導電性高分子化合物とポリエステル樹脂とを混合した後、水系溶剤に投入し、ホモジナイザー、超音波分散機（ＵＳ分散機）、ボールミル等を用いた分散技術、逆浸透膜、限外ろ過膜、精密ろ過膜を用いた粒子の分級等を用いることで行うことができる。ホモジナイザー、超音波分散機（ＵＳ分散機）、ボールミル等を用いた分散技術は、いずれも高温になると粒子の増大が起こりやすくなるため、分散操作中の温度は、好ましくは−１０〜５０℃の範囲内であり、より好ましくは０〜３０℃の範囲内である。
【０１１２】
ポリマーを切断するような大きな剪断力による分散操作の場合には、分散液の温度が高くなる傾向があり、導電性高分子化合物の共役系が熱により寸断され、性能劣化を引き起こす懸念がある。その結果、温度が５０℃を超える場合には、粒径は小さくなる傾向にあるが、分散液によって生成されるポリマー導電層３のシート抵抗値が上昇してしまう懸念がある。また、水系溶媒中に有機溶媒が含有される場合には、０℃以下（例えば、−１０度以上０℃以下）であっても、溶媒が凝固しなければ好適に分散操作を行うことが可能である。また、分散液は水リッチであるため、０℃以下では粘度上昇が起こり、撹拌に負荷がかかってしまう。また、３０度以上では溶媒の蒸発が起こり、分散液の濃度変動が起きやすく、その結果、導電性フィルム１の性能に影響をきたす懸念がある。分級は、必要に応じて使用する膜を選択すれば特に限定されない。
【０１１３】
本発明に係る分散液中の水系溶剤に分散可能なポリエステル樹脂の粒子と導電性高分子化合物の粒子とは、各々の粒子が独立に分散されて状態になっていて粒径が各々の粒径の和になっていてもよく、組成の異なる粒子同士が凝集していてもよい。また、分散操作中に組成の異なる粒子同士が一部混合した状態になっていてもよく、完全に混合して粒子を形成していてもよい。
【０１１４】
本発明に係る水系溶剤に分散可能なポリエステル樹脂の使用量（固形分）は、導電性高分子化合物の固形分に対して好ましくは５０〜５０００質量％の範囲内であり、より好ましくは１００〜３５００質量％の範囲内であり、さらに好ましくは２００〜２０００質量％の範囲内である。
ここで、水系溶剤に分散可能なポリエステル樹脂の使用量が導電性高分子化合物に対して５０〜５０００質量％の範囲内であることがより好ましい理由は、５０質量％以上であれば、透過率の向上効果が十分となり（導電性高分子化合物は可視光領域の光を吸収するため、透過率を向上させるためには導電性を低下させない範囲で導電性高分子化合物をできるだけ減らしたい）、５０００質量％以下であれば、導電性高分子化合物の比率が小さくなりすぎずに好適な導電性が得られるためである。
このように、透過率の向上効果を得るとともに導電性の低下を防ぐためには、水系溶剤に分散可能なポリエステル樹脂の使用量は、導電性高分子化合物に対して１００〜３５００質量％の範囲内であることがより好ましく、導電性高分子化合物に対して２００〜２０００質量％の範囲内であることがさらに好ましい。
【０１１５】
本発明に係る分散液の粒径測定法は、特に限定されないが、好ましくは動的光散乱法、レーザー回折法又は画像イメージング法であり、より好ましくは動的光散乱法である。水系溶剤に分散可能なポリエステル樹脂の粒子及び導電性高分子化合物の粒子は、希釈により粒径が不安定になるため、溶剤希釈せずにそのままの状態で測定できる濃厚系粒径測定機が好ましい。かかる濃厚系粒径測定機としては、濃厚系粒径アナライザー（大塚電子社製）、ゼータサイザーナノシリーズ（Ｍａｌｖｅｒｎ社製）等が挙げられる。
【０１１６】
本発明に係る分散液には、微粒子が添加されてもよい。かかる微粒子は、乾燥負荷低減、ポリマー導電層の厚さ抑制の観点から、ポリマー導電層を構成する水系溶剤に分散可能なポリエステル樹脂の置き換えで使用されることが好ましい。微粒子の使用量は、好ましくは水系溶剤に分散可能なポリエステル樹脂に対して固形分質量で２５〜７５質量％の範囲内であり、より好ましくは導電性高分子化合物に対して３０〜６０質量％の範囲内である。
ここで、水系溶剤に分散可能なポリマーの使用量が導電性高分子に対して２５〜７５質量％の範囲内であることが好ましい理由は、２５質量％以上であれば、乾燥負荷低減効果が十分となり、７５質量％以下であれば、ポリマー導電層の膜物性が向上するためである。このように、乾燥負荷低減効果を得るとともにポリマー導電層の膜物性低下を防ぐためには、微粒子の使用量が、水系溶剤に分散可能なポリエステル樹脂に対して固形分質量で２５〜７５質量％の範囲内であることがより好ましい。
【０１１７】
上記分散液は、導電性高分子化合物及びポリエステル樹脂の他に水系溶剤に分散可能なポリマーを含有しても良い。水系溶剤に分散可能なポリマーに使用される解離性基としては、アニオン性基（スルホン酸及びその塩、カルボン酸及びその塩、リン酸及びその塩等）、カチオン性基（アンモニウム塩等）等が挙げられる。かかる解離性基は、特に限定はされないが、導電性高分子溶液との相溶性の観点から、アニオン性基が好ましい。解離性基の量は、水系溶剤に分散可能なポリマーが水系溶剤に分散可能であればよく、可能な限り少ない方が工程適性的に乾燥負荷が低減されるため、好ましい。
また、アニオン性基、カチオン性基に使用されるカウンター種（陽イオン、陰イオン）は、特に限定されないが、導電性フィルム１及び導電性フィルム１を備える有機ＥＬ素子を積層した場合の性能の観点から、疎水性で少量であることが好ましい。
【０１１８】
水系溶剤に分散可能なポリマーの主骨格としては、ポリエチレン−ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリエチレン−ポリ酢酸ビニル、ポリエチレン−ポリウレタン、ポリエチレン−ポリアクリル酸、ポリエチレン−ポリメタクリル酸、ポリブタジエン、ポリブタジエン−ポリスチレン、ポリオレフィン共重合体、ポリアミド（ナイロン）、ポリ塩化ビニリデン、ポリエステル、ポリエステル−ウレタン、ポリエステル−アクリレート、ポリアクリレート、ポリアクリレート共重合体、ポリメタクリレート、ポリメタクリレート共重合体、ポリアクリレート−ポリエステル、ポリアクリレート−ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、ポリウレタン−ポリカーボネート、ポリウレタン−ポリエーテル、ポリウレタン−ポリエステル、ポリウレタン−ポリアクリレート、ポリアミド、ポリアクリル−シリカ、ポリアクリル−ポリスチレン−シリカ、シリコーン、シリコーン−ポリウレタン、シリコーン−ポリアクリレート、ポリフッ化ビニリデン−ポリアクリレート、ポリフルオロオレフィン−ポリビニルエーテル等が挙げられる。これらのうち２．５〜３．０μｍに吸収を持たない主骨格は共重合、ブロックやグラフト化の手段により、２．５〜３．０μｍに吸収を有するポリマーへ変換することができる。これらの中では、ポリウレタン−ポリカーボネート、ポリアミド、ポリエステル−ウレタン、ポリアクリル−ポリスチレン−シリカが好ましい。
【０１１９】
市販品としては、スーパーフレックス１３０（ポリウレタン−ポリエーテル、第一工業製薬社製）、スーパーフレックス２１０、スーパーフレックス６２０（ポリウレタン−ポリエステル、第一工業製薬社製）、スーパーフレックス１２６、スーパーフレックス１５０、スーパーフレックス１７０、スーパーフレックス３００（ポリウレタン−ポリエステル−ポリエーテル、第一工業製薬社製）、スーパーフレックス４２０、スーパーフレックス４６０、スーパーフレックス４７０、スーパーフレックス６５０（ポリウレタン−ポリカーボネート、第一工業製薬社製）、ペスレジンＷＡＣ−１４、ＷＡＣ−１７ＸＣ（ウレタン変性ポリエステル、高松油脂社製）モビニール８０２０、モビニール８０３０（アクリル修飾コロイダルシリカ、日本合成化学社製）、モビニール８０５５Ａ（アクリル−スチレン修飾コロイダルシリカ、日本合成化学社製）を用いることができる。また、水系溶剤に分散可能なポリマーは、前記したものを１種含有するものであってもよく、複数種含有するものであってもよい。
【０１２０】
（極性溶媒）
ポリマー導電層を形成するための水系分散液は、極性溶媒を含有することにより、水系溶剤に分散可能なポリマーの分散安定性を損なうことなく、当該組成物を安定に保ち、インクジェット方式により安定して吐出される。
極性溶媒としては、誘電率が２５以上のものを、好ましくは３０以上、より好ましくは４０以上のものを用いることができる。このような極性溶媒としては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ブタンジオール、ペンタンジオール、グリセリン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシドなどを挙げることができる。赤外線ヒーターによる乾燥除去性、組成物の安定性、インクジェット印刷における吐出性、さらにはポリマー導電層の導電性等の観点から、プロピレングリコール、エチレングリコール、ジメチルスルホキシドが特に好ましい。
極性溶媒の添加量は、組成物の安定性の観点から決めることができ、組成物の総質量に対し、５〜４０％の範囲内であることが好ましい。５％以上で組成物の安定化効果が向上し、４０％以下では組成物の表面張力が高すぎず、基板に対する濡れ性が向上する。
溶媒の誘電率は、例えば、液体用誘電率計Ｍｏｄｅｌ−８７１（日本ルフト社製）を用いて測定することができる。
【０１２１】
（透明樹脂基材）
本実施形態における透明樹脂フィルム基材２は、ポリマー導電層３及び金属導電層４（以下、これらをまとめて「導電層３、４」ともいう。）を担持しうる板状体であり、導電性フィルム１を得るためには、ＪＩＳ  Ｋ  ７３６１−１：１９９７（プラスチック−透明材料の全光線透過率の試験方法）に準拠した方法で測定した可視光波長領域における全光線透過率が８０％以上のものが好ましく用いられる。
【０１２２】
透明樹脂フィルム基材２は、フレキシブル性に優れており、誘電損失係数が十分小さくて、マイクロ波の吸収が導電層３、４よりも小さい材質であるものが好ましい。
また、透明樹脂フィルム基材２としては、例えば、樹脂基板、樹脂フィルム等が好適に挙げられるが、軽量性と柔軟性といった性能の観点及び生産性の観点から透明樹脂フィルム基材を用いることが好ましい。本発明において、透明樹脂フィルム基材とは、ＪＩＳ  Ｋ  ７３６１−１：１９９７（プラスチック−透明材料の全光線透過率の試験方法）に準拠した方法で測定した可視光波長領域における全光線透過率が５０％以上のものをいう。
【０１２３】
好ましく用いることができる透明樹脂フィルム基材２には特に制限はなく、その材料、形状、構造、厚さ等については公知のものの中から適宜選択することができる。かかる透明樹脂フィルム基材としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート、変性ポリエステル等のポリエステル系樹脂フィルム、ポリエチレン（ＰＥ）樹脂フィルム、ポリプロピレン（ＰＰ）樹脂フィルム、ポリスチレン樹脂フィルム、環状オレフィン系樹脂等のポリオレフィン類樹脂フィルム、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のビニル系樹脂フィルム、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）樹脂フィルム、ポリサルホン（ＰＳＦ）樹脂フィルム、ポリエーテルサルホン（ＰＥＳ）樹脂フィルム、ポリカーボネート（ＰＣ）樹脂フィルム、ポリアミド樹脂フィルム、ポリイミド樹脂フィルム、アクリル樹脂フィルム、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）樹脂フィルム等を挙げることができる。
【０１２４】
前記した全光線透過率が８０％以上である樹脂フィルムであれば、本発明の透明樹脂フィルム基材２として用いられるフィルム基材として好ましく用いられる。かかるフィルム基材としては、透明性、耐熱性、取り扱いやすさ、強度及びコストの観点から、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム、二軸延伸ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリエーテルサルホンフィルム又はポリカーボネートフィルムが好ましく、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム又は二軸延伸ポリエチレンナフタレートフィルムがより好ましい。
【０１２５】
本発明に用いられる透明樹脂フィルム基材２には、塗布液（分散液）の濡れ性及び接着性を確保するために、表面処理を施したり易接着層を設けたりすることができる。
例えば、表面処理としては、コロナ放電処理、火炎処理、紫外線処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理等の表面活性化処理を挙げることができる。
また、易接着層としては、ポリエステル、ポリアミド、ポリウレタン、ビニル系共重合体、ブタジエン系共重合体、アクリル系共重合体、ビニリデン系共重合体、エポキシ系共重合体等を挙げることができる。易接着層は単層でもよいが、接着性を向上させるためには２層以上の構成にしてもよい。
【０１２６】
また、透明樹脂フィルム基材の表面又は裏面には、無機物の被膜、有機物の被膜又はこれらの両者のハイブリッド被膜が形成されていてもよい。かかる被膜が形成された透明樹脂フィルム基材は、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２９−１９９２に準拠した方法で測定した水蒸気透過度（２５±０．５℃、相対湿度（９０±２）％ＲＨ）が、１×１０−３ｇ／（ｍ２・２４ｈ）以下のガスバリアー性フィルムであることが好ましく、さらには、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２６−１９８７に準拠した方法で測定した酸素透過度が、１×１０−３ｍｌ／ｍ２・２４ｈ・ａｔｍ以下、水蒸気透過度（２５±０．５℃、相対湿度（９０±２）％ＲＨ）が、１×１０−３ｇ／（ｍ２・２４ｈ）以下の高ガスバリアー性フィルムであることが好ましい。
【０１２７】
高ガスバリアー性フィルムとするために透明樹脂フィルム基材の表面又は裏面に形成されるガスバリアー膜を形成する材料としては、水分、酸素等といった素子の劣化をもたらすものの侵入を抑制する機能を有する材料であればよい。かかる材料として、例えば、酸化ケイ素、二酸化ケイ素、窒化ケイ素等を用いることができる。さらにガスバリアー膜の脆弱性を改良するために、これら無機層と有機材料から形成される層の積層構造を持たせることがより好ましい。無機層及び有機層の積層順については特に制限はないが、両者を交互に複数回積層させることが好ましい。
【０１２８】
《ガスバリアー層》
有機ＥＬ素子などの有機電子素子（後述参照）は、素子内部に微量の水分や酸素が存在すると容易に性能劣化が生ずる。透明樹脂フィルム基材には、当該透明樹脂フィルム基材を通して素子内部に水分や酸素が拡散することを防止するため、水分や酸素に対して高い遮蔽能を有するガスバリアー層を形成することが有効である。
【０１２９】
ガスバリアー層の組成や構造及びその形成方法には特に制限はなく、シリカ等の無機化合物による膜を真空蒸着やＣＶＤ法により形成することができる。また、ポリシラザン化合物を含有する塗布液を塗布乾燥後、酸素及び水蒸気を含む窒素雰囲気下で紫外線照射により酸化処理（改質処理）してガスバリアー層を形成することもできる。
【０１３０】
ポリシラザン化合物の塗布方法は、任意の適切な方法を選択することができる。例えば、塗工方法として、フローコート法、流延成膜法、ロールコート法、バーコート法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、キャスティング法、ダイコート法、ブレードコート法、カーテンコート法、スプレーコート法、ドクターコート法等の各種印刷方法に加えて、グラビア印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷、スクリーン印刷法、インクジェット印刷等の各種塗布法を用いることができる。
ガスバリアー層をパターン状に形成することが好ましい場合には、グラビア印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法を用いることが好ましい。
【０１３１】
なお、本実施形態で用いられるポリシラザンとは、ケイ素−窒素結合を持つポリマーで、Ｓｉ−Ｎ、Ｓｉ−Ｈ、Ｎ−Ｈ等からなるＳｉＯ２、Ｓｉ３Ｎ４及び両方の中間固溶体ＳｉＯｘＮｙ等のセラミック前駆体無機ポリマーである。
樹脂基板を用いる場合には、特開平８−１１２８７９号公報に記載されているように比較的低温でセラミック化してシリカに変性するものがよく、下記一般式（１）で表されるものを好ましく用いることができる。
【０１３２】
【化１】
2015093342.tif 000003
【０１３３】
一般式（１）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、アルキルシリル基、アルキルアミノ基又はアルコキシ基を表す。
パーヒドロポリシラザンは、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３の全てが水素原子であり、オルガノポリシラザンは、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３のいずれかがアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、アルキルシリル基、アルキルアミノ基又はアルコキシ基である。得られるガスバリアー膜としての緻密性から、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３の全てが水素原子であるパーヒドロポリシラザンが特に好ましい。
【０１３４】
ガスバリアー層は１層でもよいが、２層以上の積層構造を有していてもよい。積層構造を有する場合には、無機化合物の積層構造であってもよいし、無機化合物と有機化合物のハイブリッド被膜として形成してもよい。またガスバリアー層の間に応力緩和層を挟んでもよい。
単層の場合でも積層した場合でも一つのガスバリアー層の厚さは、３０〜１０００ｎｍの範囲内が好ましく、更に好ましくは３０〜５００ｎｍの範囲内、特に好ましくは９０〜５００ｎｍの範囲内である。３０ｎｍ以上とすると層厚の均一性が良好となり、優れたガスバリアー性能が得られる。１０００ｎｍ以下にすると、屈曲によるクラックが急激に入ることが極めて少なくなり、成膜時の内部応力の増大をとどめて、欠陥の生成を防止することができる。
【０１３５】
ガスバリアー層のガスバリアー性としては、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２９−１９９２に準拠した方法で測定された水蒸気透過度（２５±０．５℃、相対湿度（９０±２）％ＲＨ）が、１×１０−３ｇ／（ｍ２・２４ｈ）以下であることが好ましく、さらには、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２６−１９８７に準拠した方法で測定された酸素透過度が、１×１０−３ｍｌ／ｍ２・２４ｈ・ａｔｍ以下（１ａｔｍは、１．０１３２５×１０５Ｐａである）、水蒸気透過度（２５±０．５℃、相対湿度（９０±２）％ＲＨ）が、１×１０−３ｇ／（ｍ２・２４ｈ）以下であることが好ましい。
【０１３６】
ガスバリアー層を形成する前に、透明樹脂フィルム基材との接着性を向上するために、シランカップリング剤などを用いて透明樹脂フィルム基材の表面に前処理を施すこともできる。
【０１３７】
（金属導電層）
図１に示すように、本発明の実施形態に係る導電性フィルム１は、導電性高分子化合物と水系溶剤に分散可能なポリマーとを含有する導電性層（図１のポリマー導電層３）の他に、透明樹脂フィルム基材２上にパターン状に形成された金属材料を含有する導電性層（図１の金属導電層４）を有する。
【０１３８】
この金属材料としては、導電性を有するものであれば、特に制限はなく、例えば、金、銀、銅、鉄、ニッケル、クロム等の金属の他に合金でもよい。特に、後述のようにパターンの形成のしやすさの観点から金属材料の形状は、金属微粒子又は金属ナノワイヤであることが好ましく、金属材料は、導電性の観点から銀であることが好ましい。
【０１３９】
本発明に係る金属導電層４は、導電性フィルム１を構成するために、開口部を有するパターン状を呈するように透明樹脂フィルム基材２上に形成される。開口部は、透明樹脂フィルム基材２上に金属材料を有さない部分であり透光性窓部である。パターン形状には特に制限はないが、例えば、ストライプ状、メッシュ状又はランダムな網目状であることが好ましい。
導電性フィルム１全体の面に対して開口部が占める割合、すなわち、開口率は、透明性の観点から８０％以上であることが好ましい。
【０１４０】
開口率とは、透明樹脂フィルム基材２の面において、光不透過の導電部（金属導電層４）を除く部分が全体に占める割合である。例えば、光不透過の導電部がストライプ状又はメッシュ状である場合、線幅１００μｍ、線間隔１ｍｍのストライプ状パターンの開口率は、約９０％である。
【０１４１】
パターンの線幅は、透明性及び導電性の観点から、１０〜２００μｍの範囲内が好ましい。
パターンの線幅が１０μｍ以上であれば、所望の導電性が得られ、またパターンの線幅が２００μｍ以下であれば、所望の透明性が得られる。
パターンの高さは、０．１〜１０μｍの範囲内が好ましい。パターンの高さが０．１μｍ以上であれば、所望の導電性が得られ、また細線の高さが１０μｍ以下であれば、有機電子デバイスの形成において、電流リークや機能層の厚さの分布不良が防止される。
【０１４２】
ストライプ状又はメッシュ状の金属導電層４を形成する手法としては、特に、制限はなく、従来公知な手法が利用できる。例えば、透明樹脂フィルム基材２上の全面に金属層を形成し、金属層に公知のフォトリソ法を施すことによって形成できる。
具体的には、透明樹脂フィルム基材２上の全面に、印刷、蒸着、スパッタ、めっき等の１又は２以上の物理的又は化学的形成手法を用いて金属層を形成する、若しくは、金属箔を接着剤で透明樹脂フィルム基材２に積層した後、公知のフォトリソ法を用いて、エッチングすることにより、所望のストライプ状又はメッシュ状に加工された金属導電層４を得ることができる。
金属種としては、通電可能であれば特に制限されず、銅、鉄、コバルト、金、銀等を用いることができるが、導電性の観点から、好ましくは銀又は銅であり、より好ましくは銀である。
【０１４３】
別な手法としては、金属微粒子を含有するインクをスクリーン印刷により所望の形状に印刷する手法、メッキ可能な触媒インクをグラビア印刷又はインクジェット方式で所望の形状に塗布した後にメッキ処理する手法又は銀塩写真技術を応用した方法が挙げられる。
銀塩写真技術を応用した手法については、例えば、特開２００９−１４０７５０号公報の［００７６］−［０１１２］及び実施例を参考にして実施可能である。また、触媒インクをグラビア印刷してメッキ処理する手法については、例えば、特開２００７−２８１２９０号公報を参考にして実施可能である。
【０１４４】
また、ランダムな網目構造としては、例えば、特表２００５−５３０００５号公報に記載されているように、金属微粒子を含有する液を塗布乾燥することにより、自発的に導電性微粒子の無秩序な網目構造を形成する手法が利用可能である。
【０１４５】
また、別な手法として、例えば、特表２００９−５０５３５８号公報に記載されているように、金属ナノワイヤを含有する塗布液（分散液）を塗布乾燥することで、金属ナノワイヤのランダムな網目構造を形成する手法が利用可能である。
金属ナノワイヤとは、金属元素を主要な構成要素とする繊維状構造体のことをいう。特に、本発明における金属ナノワイヤとは、原子スケールからｎｍサイズの短径を有する多数の繊維状構造体を意味する。
【０１４６】
金属ナノワイヤとしては、一つの金属ナノワイヤで長い導電パスを形成するために、平均長さが３μｍ以上であることが好ましく、３〜５００μｍの範囲内であることがより好ましい。
金属ナノワイヤの長さが５００μｍ以下であれば、一本のワイヤがうまく広がって他のワイヤと重ならずに配置され、その結果、金属導電層４の厚さが抑えられ、薄膜化が達成されるとともに透過率が向上する。
また、金属ナノワイヤの長さが３μｍ以上であれば、金属ナノワイヤ同士の接点が増加し、金属ナノワイヤの添加量を抑えつつ、所望のシート抵抗値及び透過率が得られる。
併せて、長さの相対標準偏差は、４０％以下であることが好ましい。これは、長さの相対標準偏差が４０％以下であれば、金属導電層４のシート抵抗値の均一性低下及び膜厚ムラが防止されるためである。
【０１４７】
また、平均短径には特に制限はないが、透明性の観点からは小さいことが好ましく、一方で、導電性の観点からは大きい方が好ましい。
したがって、金属ナノワイヤの平均短径は、１０〜３００ｎｍの範囲内であることが好ましく、３０〜２００ｎｍの範囲内であることがより好ましい。併せて、短径の相対標準偏差は２０％以下であることが好ましい。これは、短径の相対標準偏差が２０％以下であれば、金属導電層４の厚さにムラが発生することを抑えられるとともに、有機ＥＬ素子の輝度ムラの発生を抑えられるためである。
【０１４８】
金属ナノワイヤの目付け量は、０．０２〜０．５ｇ／ｍ２の範囲内が好ましい。金属ナノワイヤの目付け量が０．０２ｇ／ｍ２以上であれば、所望のシート抵抗値が得られ、目付け量が０．５ｇ／ｍ２以下であれば、所望のシート抵抗値及び透過率が得られる。金属ナノワイヤの目付け量は、シート抵抗値及び透過率の観点から、０．０３〜０．２ｇ／ｍ２がより好ましい。
【０１４９】
金属ナノワイヤに用いられる金属としては、銅、鉄、コバルト、金、銀等が挙げられるが、導電性の観点から銀が好ましい。また、金属は単一で用いてもよいが、導電性と安定性（金属ナノワイヤの硫化耐性、酸化耐性及びマイグレーション耐性）を両立するために、主成分となる金属と１種類以上の他の金属を任意の割合で含んでもよい。
金属ナノワイヤの製造方法には特に制限はなく、例えば、液相法、気相法等の公知の手法を用いることができる。また、具体的な製造方法にも特に制限はなく、公知の製造方法を用いることができる。
例えば、銀ナノワイヤの製造方法としては、Ａｄｖ．Ｍａｔｅｒ．，２００２，１４，８３３〜８３７、Ｃｈｅｍ．Ｍａｔｅｒ．，２００２，１４，４７３６〜４７４５、金ナノワイヤの製造方法としては特開２００６−２３３２５２号公報等、銅ナノワイヤの製造方法としては特開２００２−２６６００７号公報等、コバルトナノワイヤの製造方法としては特開２００４−１４９８７１号公報等を参考にすることができる。
特に、前記した文献に開示された銀ナノワイヤの製造方法は、水溶液中で簡便に銀ナノワイヤを製造することができ、また銀の導電率は金属中で最大であることから、本発明に好ましく適用することができる。
【０１５０】
また、金属材料から形成される細線部（金属導電層４）の表面比抵抗は、大面積化という観点から、１００Ω／□以下であることが好ましく、２０Ω／□以下であることがより好ましい。
表面比抵抗は、例えば、ＪＩＳ  Ｋ６９１１、ＡＳＴＭ  Ｄ２５７等に準拠して測定することができ、また市販の表面抵抗率計を用いて簡便に測定することができる。
【０１５１】
また、金属材料から形成される細線部（金属導電層４）は、透明樹脂フィルム基材２にダメージを与えない範囲で加熱処理を施されることが好ましい。これにより、金属微粒子や金属ナノワイヤ同士の融着が進み、金属材料から形成される細線部が高導電化する。
【０１５２】
（水系分散液の塗布、加熱、乾燥）
本発明の導電性フィルムの製造方法は、少なくとも、
ステップ（Ａ）：導電性高分子化合物とポリエステル樹脂とを含有する水系分散液を透明樹脂フィルム基材上に塗布するステップ
ステップ（Ｂ）：透明樹脂フィルム基材上に塗布した水系分散液に対して、赤外線の照射を行うことによってポリマー導電層を形成するステップのステップを有する。
具体的には、本発明の導電性フィルムの製造方法では、前記した導電性高分子化合物とポリエステル樹脂とを含有する水系分散液を、透明樹脂フィルム基材２上に塗布し、加熱、乾燥することによって形成される。導電性フィルム１が金属導電層４として金属材料から形成される細線パターンを有する場合は、この金属材料から形成される細線パターンが形成された透明樹脂フィルム基材２上に前記した塗布液を塗布し、赤外線ヒーターを用いて加熱、乾燥することによってポリマー導電層３が形成される。ここで、ポリマー導電層３は、金属導電層４である金属細線パターンと電気的に接続されていればよく、パターン形成された金属細線パターンを完全に被覆してもよいし、金属細線パターンの一部を被覆してもよいし、金属細線パターンに接触していてもよい。
【０１５３】
導電性高分子化合物とポリエステル樹脂とを含有する水系分散液（塗布液）の塗布は、グラビア印刷法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法等の印刷方法に加えて、ロールコート法、バーコート法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、キャスティング法、ダイコート法、ブレードコート法、バーコート法、グラビアコート法、カーテンコート法、スプレーコート法、ドクターコート法、インクジェット法等の塗布法のいずれかを用いることができる。
【０１５４】
また、金属導電層４の一部を導電性高分子化合物と水系溶剤に分散可能なポリマーとを含有するポリマー導電層３が被覆又は接触している導電性フィルム１を製造する方法としては、転写フィルムに金属導電層４を前記した方法で形成し、さらに導電性高分子化合物とポリエステル樹脂とを含有するポリマー導電層３を後記の方法で形成し、積層したしたものを、前記した透明樹脂フィルム基材２に転写する方法が挙げられる。
【０１５５】
また、導電性フィルム１を製造する方法として、金属細線パターンの非導電部（開口部）にインクジェット法等の公知の方法で、導電性高分子化合物と水系溶剤に分散可能なポリマーとを含有するポリマー導電層３を形成する方法等が挙げられる。
導電性高分子化合物と水系溶剤に分散可能なポリマーとを含有するポリマー導電層３は、カチオン性π共役系高分子に対するポリアニオンの質量比が０．５〜２５の導電性高分子化合物を含むことが好ましい。これにより、高い導電性、高い透明性及び強い膜強度を得ることができる。
【０１５６】
このような構造を有する本発明のポリマー導電層３及び金属導電層４を形成することで、金属若しくは金属酸化物の細線パターン又はポリマー導電層を単独で使用した場合では得ることのできない高い導電性を、導電性フィルム１の面内において均一に得ることができる。
【０１５７】
ポリマー導電層３の乾燥層厚は、表面平滑性及び透明性の観点から、３０〜２０００ｎｍの範囲内であることが好ましく、導電性の観点から、１００ｎｍ以上であることがより好ましく、導電性フィルム１の表面平滑性の観点から、２００ｎｍ以上であることがさらに好ましい。また、ポリマー導電層の乾燥後の厚さは、透明性の観点から、１０００ｎｍ以下であることがより好ましい。
【０１５８】
〔ポリマー導電層の形成〕
ポリマー導電層３は、導電性高分子化合物とポリエステル樹脂とを含有する水系分散液（塗布液）を塗布した後、赤外線照射を施すことによって形成される。
ここで、かかる赤外線照射による乾燥処理に加えて、他の乾燥処理を行うこともできる。赤外線照射と併用される乾燥処理の条件として特に制限はないが、透明樹脂フィルム基材２及び導電層３、４が損傷しない範囲の温度での熱乾燥処理を併用することができ、例えば、８０〜１２０℃の範囲内で１０秒から１０分の熱乾燥処理をすることができる。この熱乾燥処理は、赤外線照射による乾燥処理の前に行ってもよく、後に行ってもよい。
【０１５９】
前記した塗布液は、添加剤として、可塑剤、安定剤（酸化防止剤、硫化防止剤等）、界面活性剤、溶解促進剤、重合禁止剤、着色剤（染料、顔料等）等を含んでいてもよい。さらに、前記した塗布液は、塗布性等の作業性を高める観点から、溶剤（例えば、水や、アルコール類、グリコール類、セロソルブ類、ケトン類、エステル類、エーテル類、アミド類、炭化水素類等の有機溶剤）を含んでいてもよい。
【０１６０】
本発明において、導電層であるポリマー導電層３の表面の平滑性を表すＲｙとＲａとは、Ｒｙ＝粗さ曲線の最大高さ（表面の山頂部と谷底部との高低差）とＲａ＝粗さ曲線の算術平均粗さを意味し、ＪＩＳ  Ｂ６０１（１９９４）に規定される表面粗さに準ずる値である。本発明に係る導電性フィルム１は、導電性の向上という観点から、導電層であるポリマー導電層３の表面の平滑性がＲｙ≦５０ｎｍであり、かつ、導電層であるポリマー導電層３の表面の平滑性がＲａ≦１０ｎｍであることが好ましい。本発明において、Ｒｙ及びＲａの測定には、市販の原子間力顕微鏡（Ａｔｏｍｉｃ  Ｆｏｒｃｅ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｙ：ＡＦＭ）を用いることができ、例えば、以下の手法で測定可能である。
【０１６１】
ＡＦＭとして、日立ハイテクサイエンス社製ＳＰＩ３８００Ｎプローブステーション及びＳＰＡ４００多機能型ユニットを使用し、約１ｃｍ角の大きさに切り取った試料を、ピエゾスキャナー上の水平な試料台上にセットし、カンチレバーを試料表面にアプローチし、原子間力が働く領域に達したところで、ＸＹ方向にスキャンし、その際の試料の凹凸をＺ方向のピエゾの変位で捉える。ピエゾスキャナーは、ＸＹ２０μｍ、Ｚ２μｍが走査可能なものを使用する。カンチレバーは、日立ハイテクサイエンス社製シリコンカンチレバーＳＩ−ＤＦ２０で、共振周波数１２０〜１５０ｋＨｚ、バネ定数１２〜２０Ｎ／ｍのものを用い、ＤＦＭモード（Ｄｙｎａｍｉｃ  Ｆｏｒｃｅ  Ｍｏｄｅ）で測定する。測定領域８０×８０μｍを、走査周波数１Ｈｚで測定する。
【０１６２】
本発明において、Ｒｙの値は、導電性の向上という観点から、５０ｎｍ以下であることがより好ましく、４０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。同様に、Ｒａの値は、導電性の向上という観点から、１０ｎｍ以下であることがより好ましく、５ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
【０１６３】
本発明において、導電性フィルム１は、全光線透過率が６０％以上であることが好ましく、７０％以上であることがより好ましく、８０％以上であることがさらに好ましい。全光透過率は、分光光度計等を用いた公知の方法にしたがって測定することができる。
また、本発明の導電性フィルム１における導電層であるポリマー導電層３の電気抵抗値としては、性能向上という観点から、シート抵抗値として１０００Ω／□以下であることが好ましく、１００Ω／□以下であることがより好ましい。さらには、導電性フィルム１を電流駆動型オプトエレクトロニクスデバイスに適用するためには、電流駆動型オプトエレクトロニクスデバイスに適用した際の性能向上という観点から、シート抵抗値が５０Ω／□以下であることが好ましく、１０Ω／□以下であることがより好ましい。すなわち、シート抵抗値が１０３Ω／□以下であると各種オプトエレクトロニクスデバイスにおいて、導電性フィルム１が電極として好適に機能することができて好ましい。
【０１６４】
前記したシート抵抗値は、例えば、ＪＩＳ  Ｋ  ７１９４：１９９４（導電性プラスチックの４探針法による抵抗率試験方法）等に準拠して測定することができ、また市販の表面抵抗率計を用いて簡便に測定することができる。
本発明に係る導電性フィルム１の厚さには特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、一般的に１０μｍ以下であることが好ましく、厚さが薄くなるほど透明性及び柔軟性が向上するためより好ましい。
【０１６５】
＜有機ＥＬ素子＞
本発明の実施形態に係る有機ＥＬ素子は、導電性フィルム１を電極として備えることを特徴とするものであり、有機発光層を含む有機層と、導電性フィルム１と、を備える。本発明の実施形態に係る有機ＥＬ素子は、導電性フィルム１を陽極として備えることが好ましく、有機発光層及び陰極については、有機ＥＬ素子に一般的に使われている材料、構成等の任意のものを用いることができる。
【０１６６】
有機ＥＬ素子の素子構成としては、陽極／有機発光層／陰極、陽極／正孔輸送層／有機発光層／電子輸送層／陰極、陽極／正孔注入層／正孔輸送層／有機発光層／電子輸送層／陰極、陽極／正孔注入層／有機発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極、陽極／正孔注入層／有機発光層／電子注入層／陰極、等の各種の構成のものを挙げることができる。
【０１６７】
また、本発明において、有機発光層に使用できる発光材料又はドーピング材料としては、アントラセン、ナフタレン、ピレン、テトラセン、コロネン、ペリレン、フタロペリレン、ナフタロペリレン、ジフェニルブタジエン、テトラフェニルブタジエン、クマリン、オキサジアゾール、ビスベンゾキサゾリン、ビススチリル、シクロペンタジエン、キノリン金属錯体、トリス（８−ヒドロキシキノリナート）アルミニウム錯体、トリス（４−メチル−８−キノリナート）アルミニウム錯体、トリス（５−フェニル−８−キノリナート）アルミニウム錯体、アミノキノリン金属錯体、ベンゾキノリン金属錯体、トリ−（ｐ−ターフェニル−４−イル）アミン、１−アリール−２，５−ジ（２−チエニル）ピロール誘導体、ピラン、キナクリドン、ルブレン、ジスチルベンゼン誘導体、ジスチルアリーレン誘導体、各種蛍光色素、希土類金属錯体、リン光発光材料等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、これらの化合物のうちから選択される発光材料を９０〜９９．５質量部、ドーピング材料を０．５〜１０質量部含むようにすることが好ましい。有機発光層は、前記した材料等を用いて、蒸着、塗布、転写等の公知の方法によって製造される。この有機発光層の厚さは、発光効率の観点から、０．５〜５００ｎｍが好ましく、０．５〜２００ｎｍがより好ましい。
【０１６８】
本発明の有機ＥＬ素子は、自発光型ディスプレイ、液晶用バックライト、照明等に用いることができる。本発明の有機ＥＬ素子は、均一にムラなく発光させることができるため、照明用途で用いることが好ましい。
【０１６９】
本発明の導電性フィルム１は、高い導電性と透明性を併せ持ち、液晶表示素子、有機発光素子、無機電界発光素子、電子ペーパー、有機太陽電池、無機太陽電池等の各種オプトエレクトロニクスデバイスや、電磁波シールド、タッチパネル等の分野において好適に用いることができる。その中でも、導電性フィルム表面の平滑性が厳しく求められる有機ＥＬ素子や有機薄膜太陽電池素子の透明電極として特に好ましく用いることができる。
【０１７０】
《有機ＥＬ素子の構成及びその製造方法》
図５に示すとおり、有機ＥＬ素子５０は、透明樹脂フィルム基材５２、金属導電層５４及びポリマー導電層５５からなる導電性フィルム５１（透明電極）を有している。
導電性フィルム５１の透明樹脂フィルム基材５２の側縁部には取出電極５３が形成されている。
取出電極５３は金属導電層５４及びポリマー導電層５５と接触しており、これら部材と電気的に導通している。導電性フィルム５１のポリマー導電層５５上には有機機能層５６が形成されている。有機機能層５６は正孔輸送層、発光層、正孔阻止層、電子輸送層等から構成されている。有機機能層５６上には対電極５７が形成されている。対電極５７は導電性フィルム５１と対向する電極であって導電性フィルム５１とは反対の極性を有している。
【０１７１】
有機ＥＬ素子５０では、取出電極５３の一部が露出した状態で封止部材５８により封止され、封止部材５８が導電性フィルム５１や有機機能層５６を被覆・保護している。
【０１７２】
図６Ａ〜Ｆは、有機ＥＬ素子の製造方法を説明するための概略的な平面図である。
続いて、図６Ａ〜Ｆを参照しながら有機ＥＬ素子５０の製造方法について説明する。
はじめに、透明樹脂フィルム基材５２（図６Ａ）上に、金属粒子の細線パターンを形成し、金属導電層５４を形成する（図６Ｂ）。
その後、導電性高分子化合物とポリエステル樹脂とを含有する水系分散液を含む一定の組成物を調製し、当該組成物を、金属導電層５４の上にインクジェット印刷し、本発明の赤外線にて乾燥させ、ポリマー導電層５５を形成し、金属導電層５４をポリマー導電層５５で被覆する（図６Ｃ）。
【０１７３】
その後、ポリマー導電層５５（導電性フィルム５１）上に、正孔輸送層、発光層、正孔阻止層、電子輸送層等からなる有機機能層５６を形成する（図６Ｄ）。
その後、取出電極５３と、有機機能層５６を被覆するように対電極５７を形成し（図６Ｅ）、導電性フィルム５１及び有機機能層５６を完全に被覆するように封止部材５８にてこれら部材を封止する（図６Ｆ）。
以上の工程により有機ＥＬ素子５０が製造される。
【０１７４】
本発明の実施形態に係る導電性フィルムは、高い導電性と透明性とを併せ持ち、液晶表示素子、有機発光素子、無機電界発光素子、電子ペーパー、有機太陽電池、無機太陽電池等の各種オプトエレクトロニクスデバイスや、電磁波シールド、タッチパネル等の分野において好適に用いることができる。その中でも、導電性フィルムの表面の平滑性が厳しく求められる有機ＥＬ素子や有機薄膜太陽電池素子の導電性フィルムとして特に好ましく用いることができる。
【０１７５】
また、本発明に係る有機電子素子（例えば、有機ＥＬ素子）は、均一にムラなく発光させることができるため、照明用途で用いることが好ましいものであり、自発光型ディスプレイ、液晶用バックライト、照明等に用いることができる。
また、本発明に係るタッチパネルは、フレキシブルで低抵抗であるため、曲面や大面積の用途で用いることができ、銀行等といった金融機関のＡＴＭ、自動販売機や自動券売機のような不特定多数が扱う公共性の高いものをはじめ、携帯電話、携帯情報端末（ＰＤＡ）、デジタルオーディオプレーヤー、携帯ゲーム機、コピー機、ファックス、カーナビ等、デジタル情報機器を中心に多方面で使用することができる。
【０１７６】
なお、本発明を適用可能な実施形態は、上述した実施形態に限定されることなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。
【実施例】
【０１７７】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」又は「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」又は「質量％」を表す。【０１７８】
＜ポリエステル樹脂等の製造＞
本実施例で使用する、表１及び表２に記載のポリエステル樹脂等のバインダー樹脂の製造方法について説明する。【０１７９】
（水系溶剤に分散可能なポリエステル樹脂Ｐ−１）
ジメチルテレフタル酸１３８．６部、ジメチルイソフタル酸２６．０部、５−スルホン酸ナトリウムジメチルイソフタル酸４６．９部、エチレングリコール９９．３部、ジエチレングリコール２１．２部、１，６−ヘキサンジオール２３．６部、触媒（シュウ酸チタンカリウム）０．１部を用意した。【０１８０】
これらの原料を反応器に入れて溶液を調製した。この溶液を常圧、窒素雰囲気中で撹拌混合しながら２００℃に昇温した後、４時間かけて反応温度を２６０℃にまで徐々に昇温することで、エステル交換反応を完了させた。次に、この溶液を２６０℃の温度下で徐々に減圧し、２６０℃、０．６７ｈＰａ（０．５ｍｍＨｇ）の条件下で２時間保持することで重縮合反応を進行させ、ポリエステル樹脂を得た。得られたポリエステル樹脂をＩＣＰ発光分析装置により解析したところ、当該ポリエステル樹脂は、少なくともスルホン酸基を有する芳香族ジカルボン酸を１５モル％の比率（なお、当該比率は、表１及び表２では「比率」と記載。）で含有するジカルボン酸を構成成分とすることを確認した。【０１８１】
このポリエステル樹脂１００部、水２６０部及びイソプロピルアルコール４０部を、容器内に入れ、これらを撹拌しながら８０〜９５℃の範囲内の温度下に２時間保持することで、ポリエステル樹脂濃度２５％の水系溶剤に分散可能なポリエステル樹脂Ｐ−１を得た。【０１８２】
（水系溶剤に分散可能なポリエステル樹脂Ｐ−２）
酸成分として仕込むジメチルテレフタル酸１４６．７部、ジメチルイソフタル酸２７．５部、５−スルホン酸ナトリウムジメチルイソフタル酸３１．２部に、それぞれ変更すること以外は、前記水系溶剤に分散可能なポリエステル樹脂Ｐ−１と同様の方法で水系溶剤に分散可能なポリエステル樹脂Ｐ−２を得た。得られたポリエステル樹脂のＩＣＰ発光分析装置により解析したところ、当該ポリエステル樹脂は、少なくともスルホン酸基を有する芳香族ジカルボン酸を１０モル％の比率で含有するジカルボン酸を構成成分とすることを確認した。【０１８３】
（水系溶剤に分散可能なポリエステル樹脂Ｐ−３）
酸成分として仕込むジメチルテレフタル酸１５３．２部、ジメチルイソフタル酸２８．７部、５−スルホン酸ナトリウムジメチルイソフタル酸１８．７部に、それぞれ変更すること以外は、前記水系溶剤に分散可能なポリエステル樹脂Ｐ−１と同様の方法で水系溶剤に分散可能なポリエステル樹脂Ｐ−３を得た。得られたポリエステル樹脂のＩＣＰ発光分析装置により解析したところ、当該ポリエステル樹脂は、少なくともスルホン酸基を有する芳香族ジカルボン酸を６モル％の比率で含有するジカルボン酸を構成成分とすることを確認した。【０１８４】
（水系溶剤に分散可能なポリエステル樹脂Ｐ−４）
酸成分として仕込むジメチルテレフタル酸１５４．９部、ジメチルイソフタル酸２９．０部、５−スルホン酸ナトリウムジメチルイソフタル酸１５．６部に、それぞれ変更すること以外は、前記水系溶剤に分散可能なポリエステル樹脂Ｐ−１と同様の方法で水系溶剤に分散可能なポリエステル樹脂Ｐ−４を得た。得られたポリエステル樹脂のＩＣＰ発光分析装置により解析したところ、当該ポリエステル樹脂は、少なくともスルホン酸基を有する芳香族ジカルボン酸を５モル％の比率で含有するジカルボン酸を構成成分とすることを確認した。【０１８５】
（水系溶剤に分散可能なポリエステル樹脂Ｐ−５）
酸成分として仕込むジメチルテレフタル酸１５８．１部、ジメチルイソフタル酸２９．６部、５−スルホン酸ナトリウムジメチルイソフタル酸９．４部に、それぞれ変更すること以外は、前記水系溶剤に分散可能なポリエステル樹脂Ｐ−１と同様の方法で水系溶剤に分散可能なポリエステル樹脂Ｐ−５を得た。得られたポリエステル樹脂のＩＣＰ発光分析装置により解析したところ、当該ポリエステル樹脂は、少なくともスルホン酸基を有する芳香族ジカルボン酸を３モル％の比率で含有するジカルボン酸を構成成分とすることを確認した。【０１８６】
（水系溶剤に分散可能なポリエステル樹脂Ｐ−６）
酸成分として仕込むジメチルテレフタル酸１５９．７部、ジメチルイソフタル酸３０．０部、５−スルホン酸ナトリウムジメチルイソフタル酸６．２部に、それぞれ変更すること以外は、前記水系溶剤に分散可能なポリエステル樹脂Ｐ−１と同様の方法で水系溶剤に分散可能なポリエステル樹脂Ｐ−６を得た。得られたポリエステル樹脂のＩＣＰ発光分析装置により解析したところ、当該ポリエステル樹脂は、少なくともスルホン酸基を有する芳香族ジカルボン酸を２モル％の比率で含有するジカルボン酸を構成成分とすることを確認した。【０１８７】
（水系溶剤に分散可能なポリエステル樹脂Ｐ−７）
酸成分として仕込むジメチルテレフタル酸１６１．４部、ジメチルイソフタル酸３０．３部、５−スルホン酸ナトリウムジメチルイソフタル酸３．１部にそれぞれ変更すること以外は、前記水系溶剤に分散可能なポリエステル樹脂Ｐ−１と同様の方法で水系溶剤に分散可能なポリエステル樹脂Ｐ−７を得た。得られたポリエステル樹脂のＩＣＰ発光分析装置により解析したところ、当該ポリエステル樹脂は、少なくともスルホン酸基を有する芳香族ジカルボン酸を１モル％の比率で含有するジカルボン酸を構成成分とすることを確認した。【０１８８】
（水系溶剤に分散可能なポリエステル樹脂Ｐ−８）：比較
酸成分として仕込むジメチルテレフタル酸１３０．４部、ジメチルイソフタル酸２４．５部、５−スルホン酸ナトリウムジメチルイソフタル酸６２．５部にそれぞれ変更すること以外は、前記水系溶剤に分散可能なポリエステル樹脂Ｐ−１と同様の方法で水系溶剤に分散可能なポリエステル樹脂Ｐ−８を得た。得られたポリエステル樹脂のＩＣＰ発光分析装置により解析したところ、当該ポリエステル樹脂は、少なくともスルホン酸基を有する芳香族ジカルボン酸を２０モル％の比率で含有するジカルボン酸を構成成分とすることを確認した。【０１８９】
（水系溶剤に分散可能なポリエステル樹脂Ｐ−９）：比較
酸成分として仕込むジメチルテレフタル酸１６１．７部、ジメチルイソフタル酸３０．３部、５−スルホン酸ナトリウムジメチルイソフタル酸２．５部に、それぞれ変更すること以外は、前記水系溶剤に分散可能なポリエステル樹脂Ｐ−１と同様の方法で水系溶剤に分散可能なポリエステル樹脂Ｐ−９を得た。得られたポリエステル樹脂のＩＣＰ発光分析装置より、解析したところ、当該ポリエステル樹脂は、少なくともスルホン酸基を有する芳香族ジカルボン酸を０．８モル％の比率で含有するジカルボン酸を構成成分とすることを確認した。【０１９０】
（水系溶剤に分散可能なポリエステル樹脂Ｐ−１０）：比較
再公表特許ＷＯ２００７／４０２０８を参考に２，２−ビスヒドロキシメチルプロピオン酸ナトリウムを合成した。
ジメチルテレフタル酸１６３．０部、ジメチルイソフタル酸３０．６部、エチレングリコール９９．３部、ジエチレングリコール２１．２部、２，２−ビスヒドロキシメチルプロピオン酸ナトリウム２３．６部、触媒（シュウ酸チタンカリウム）０．１部を用意した。【０１９１】
これらの原料を反応器に入れて溶液を調製した。この溶液を常圧、窒素雰囲気中で撹拌混合しながら２００℃に昇温した後、４時間かけて反応温度を２６０℃にまで徐々に昇温することで、エステル交換反応を完了させた。次に、この溶液を２６０℃の温度下で徐々に減圧し、２６０℃、０．６７ｈＰａ（０．５ｍｍＨｇ）の条件下で２時間保持することで重縮合反応を進行させ、ポリエステル樹脂を得た。得られたポリエステル樹脂の１Ｈ−ＮＭＲ（プロトン核磁気共鳴）により、当該ポリエステル樹脂は、少なくともスルホン酸基を有する芳香族ジカルボン酸を０モル％の比率で含有するジカルボン酸を構成成分とすることを確認した。【０１９２】
このポリエステル樹脂１００部、水２６０部及びイソプロピルアルコール４０部を、容器内に入れ、これらを撹拌しながら８０〜９５℃の範囲内の温度下に２時間保持することで、ポリエステル樹脂濃度２５％の水系溶剤に分散可能なポリエステル樹脂Ｐ−１０を得た。【０１９３】
（水溶性ポリアクリル樹脂Ｐ−１１）：比較
反応容器へＭｅＯＨ５００部を加え１０分間加熱還流させた後、窒素下で室温に冷却した。アクリルアミド２００部、アクリル酸ナトリウム３４．３部、ＡＩＢＮ５．１部を加え、５時間加熱還流した。室温に冷却した後、３０００部のメチルエチルケトン中に反応溶液を滴下し、１時間撹拌した。メチルエチルケトンをデカンテーション後、１００部のメチルエチルケトンで３回洗浄後、純水でポリマーを溶解し、メスフラスコへ移した。純水を加え２５％濃度とすることで水溶性ポリアクリル樹脂Ｐ−１１を得た。【０１９４】
なお、表１及び表２中、バインダー樹脂の略称は以下のとおりである。
Ｒ−１５０：ポリ（エチレンオキサイド）  アルコックスＲ−１５０（明成化学工業社製、スルホン酸を含有しない）【０１９５】
〔実施例１〕
＜導電性フィルムの製造方法＞
下記の手順で導電性フィルムを製造した。【０１９６】
（１１）透明樹脂フィルム基材の作製
（１１．１）平滑層の形成
厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（コスモシャインＡ４１００、東洋紡績株式会社製）の下引き加工していない面に、ＪＳＲ株式会社製ＵＶ硬化型有機／無機ハイブリッドハードコート材：ＯＰＳＴＡＲ  Ｚ７５０１を、塗布、乾燥後の平均厚さが４μｍになるようにワイヤーバーで塗布した後、８０℃で３分間乾燥させ、その後空気雰囲気下において高圧水銀ランプ使用して硬化条件１．０Ｊ／ｃｍ２で硬化を行い、平滑層を形成した。【０１９７】
（１１．２）ガスバリアー層の形成
次に、上記平滑層を設けた試料基板上にガスバリアー層を以下に示す条件で、形成した。【０１９８】
（１１．２．１）ガスバリアー層塗布液の塗布
パーヒドロポリシラザン（ＰＨＰＳ、ＡＺエレクトロニックマテリアルズ（株）製アクアミカ  ＮＮ３２０）の２０質量％ジブチルエーテル溶液をワイヤーバーにて、乾燥後の平均厚さが、０．３０μｍとなるように塗布し、塗布試料を得た。【０１９９】
（１１．２．２）乾燥及び除湿処理
＜第一工程；乾燥処理＞
得られた塗布試料を温度８５℃、湿度５５％ＲＨの雰囲気下で１分処理し、乾燥試料を得た。
＜第二工程；除湿処理＞
乾燥試料をさらに温度２５℃、湿度１０％ＲＨ（露点温度−８℃）の雰囲気下に１０分間保持し、除湿処理を行った。【０２００】
（１１．２．３）改質処理
除湿処理を行った試料を、下記の装置を用いて下記の条件で改質処理を行い、ガスバリアー層を形成した。改質処理時の露点温度は−８℃で実施した。
＜改質処理装置＞
株式会社エム・ディ・コム製エキシマ照射装置ＭＯＤＥＬ：ＭＥＣＬ−Ｍ−１−２００、波長１７２ｎｍ、ランプ封入ガス  Ｘｅ
＜改質処理条件＞
エキシマ光強度  ６０ｍＷ／ｃｍ２（１７２ｎｍ）
試料と光源の距離  １ｍｍ
ステージ加熱温度  ７０℃
照射装置内の酸素濃度  １％
エキシマ照射時間  ３秒
上記のようにしてガスバリアー性を有する透明樹脂フィルム基材を作製した。【０２０１】
（１２）ポリマー導電層の形成
（１２．１）ポリマー導電層形成用組成物の調製
透明導電性高分子化合物  Ｃｌｅｖｉｏｓ  ＰＨ５１０（Ｈｅｒａｅｕｓ社製  １．８９％液）と、表１及び表２に記載の種類のバインダー樹脂とを、固形分質量比１５：８５で混合し、この混合物７０質量部に、プロピレングリコール１５質量部、エチレングリコールモノブチルエーテル１２質量部を混合した後、水を加えて１００質量部として、ポリマー導電層形成用組成物を調製した。【０２０２】
（１２．２）ポリマー導電層の塗設と乾燥処理
ガスバリアー性を有する透明樹脂フィルム基材上に、前述のポリマー導電層形成用組成物を用いて、インクジェット印刷によりポリマー導電層を塗設した（図６Ｃ参照）。
これを、表１及び表２に記載の乾燥法及び乾燥時間で乾燥処理して、ポリマー導電層を形成し、ポリマー導電層を有する「導電性フィルムサンプル１０１〜１５５（表１及び表２のＴＣ−１０１〜ＴＣ−１５５）」を形成した。
なお、インクジェット印刷は、インクジェットヘッド（コニカミノルタ社製）を取り付けた卓上型ロボット  Ｓｈｏｔｍａｓｔｅｒ−３００（武蔵エンジニアリング社製）を用い、インクジェット評価装置ＥＢ１５０（コニカミノルタ社製）にて制御した。【０２０３】
なお、表１及び表２中の乾燥法は、下記のとおりである。
ＨＰ：ホットプレートによる伝導伝熱乾燥（ＭＨ−１８０ＣＳ、アズワン株式会社製）
ＩＲ−１：赤外線ヒーターによる輻射伝熱乾燥（１０００Ｗ／色温度２５００Ｋ、ウシオ電機株式会社製）
ＩＲ−２：赤外線ヒーターによる輻射伝熱乾燥（上記ＩＲ照射装置ＩＲ−１に、特許第４７９００９２号を参考に、石英ガラス二重管内に空冷機構を有したもの、図３参照）
なお、試料と赤外線ヒーターＩＲ−１及びＩＲ−２との距離は、１００ｍｍとした。
また、表１及び表２中のＨＰ温度は、ホットプレートの加熱温度（設定温度）である。
また、表１及び表２中のフィラメント温度は、非接触式温度計（ＩＲ−ＡＨＳ  株式会社チノー製）にて、タングステンフィラメントの放射率を０．３９として測定し、表１及び表２の温度になるよう赤外線ヒーターの出力を調整した。【０２０４】
石英ガラスフィルターの赤外線透過率を図７に示す。
石英ガラスフィルターの有無による分光放射輝度を図８に示す。
図８中、点線部はフィルター無しの分光放射輝度を、実線部はフィルター有りの分光放射輝度をそれぞれ示しており、波長１μｍからほぼ３μｍまでの分光放射輝度はフィルターの有無にかかわらず同一である。【０２０５】
表１及び表２中の波長３．０μｍの分光放射輝度に対する波長５．８μｍの分光放射輝度の比率は、以下の方法により求めた。
標準黒体炉（Ｍ３９０、Ｍｉｋｒｏｎ社製）の温度を、測定した赤外線ヒーターのフィラメント温度に合わせ、ＦＴ−ＩＲ（ＦＴ／ＩＲ−４１００、日本分光株式会社製）を用いて、標準黒体炉及び赤外線ヒーターの放射出力を、測定波数７８００〜３５０ｃｍ−１、分解能４ｃｍ−１、積算回数３２回で測定し、赤外線ヒーターの分光放射率を求めた。
次いで、プランクの放射測に従い、標準黒体炉と同温度における黒体放射スペクトルを求め、赤外線ヒーターの分光放射率を乗じて、赤外線ヒーターの分光放射スペクトルを得た。
得られた赤外線ヒーターの分光放射スペクトルから、波長３．０μｍにおける分光放射輝度の値と、波長５．８μｍにおける分光放射輝度の値を読み取り、波長３．０μｍの分光放射輝度に対する波長５．８μｍの分光放射輝度の比率を、百分率で計算した。【０２０６】
【表１】
2015093342.tif 000004
【０２０７】
【表２】
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【０２０８】
（１３）サンプルの評価
導電性フィルムＴＣ−１０１〜１５５の特性（乾燥性、基材安定性、透明性、シート抵抗値、表面粗さ）を、サンプルごとに、下記のように評価した。結果は、表３及び表４に示す。【０２０９】
（１３．１）乾燥性
ポリマー導電層の塗膜の乾燥性について、塗膜表面を触診し、下記基準で評価した。
○：べたつきが無く、さらさらしている
△：べたつきがある
×：塗膜が剥離し、溶媒が残っている
評価基準：○と評価された試料が本発明として合格【０２１０】
（１３．２）基材変形（基材安定性）
乾燥処理による透明樹脂フィルム基材のダメージ評価として、基材変形を下記基準で評価した。
○：変形無し
△：僅かに反りがあるが、基板を自由に曲げられる
×：強い反りがあり、反りの部分で基板が曲がらない
評価基準：○と評価された試料が本発明として合格【０２１１】
（１３．３）透明性
ＪＩＳ  Ｋ  ７３６１−１：１９９７に準拠して、東京電色社製  ＨＡＺＥ  ＭＥＴＥＲ  ＮＤＨ５０００を用いて、全光線透過率を測定し、下記基準で評価した。導電性フィルムを有機電子素子として用いるためには、８０％以上であることが好ましい。
○：８０％以上
△：７５％以上８０％未満
×：７０％以上７５％未満
評価基準：強制劣化処理後に、○と評価された試料が本発明として合格【０２１２】
（１３．４）シート抵抗値（表面抵抗）
ＪＩＳ  Ｋ  ７１９４：１９９４に準拠して、抵抗率計（ロレスタＧＰ（ＭＣＰ−Ｔ６１０型）：（株）三菱化学アナリテック社製）を用いてシート抵抗値を測定した。シート抵抗値は、強制劣化処理後に１０００Ω／□以下であることが好ましく、有機電子素子を大面積にするには、強制劣化処理後に３０Ω／□以下であることが好ましい。
評価基準：強制劣化処理後に、１０００Ω／□以下と評価された試料が本発明として合格【０２１３】
（１３．５）表面粗さ（Ｒａ）
ＡＦＭ（日立ハイテクサイエンス社製ＳＰＩ３８００Ｎプローブステーション及びＳＰＡ４００多機能型ユニット）を使用し、約１ｃｍ角の大きさに切り取った試料を用いて、前記の方法（ＪＩＳ  Ｂ６０１（１９９４）に規定される表面粗さ（粗さ曲線の算術平均粗さ）に準ずる。）で測定した。
評価基準：強制劣化処理後に、Ｒａ≦１０ｎｍと評価された試料が本発明として合格【０２１４】
上記透明性、シート抵抗値及び表面粗さについては、下記強制劣化処理を行う前後にそれぞれ評価を行った。【０２１５】
（強制劣化処理）
強制劣化処理として、ＴＣ−１０１〜ＴＣ−１５５を８０％ＲＨの環境下で９０℃１４日間加熱した。【０２１６】
【表３】
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【０２１７】
【表４】
2015093342.tif 000007
【０２１８】
（１４）まとめ
表３及び表４に示すとおり、本発明の赤外線を用いて乾燥を行った導電性フィルムのサンプルＴＣ−１２７〜ＴＣ−１２９、ＴＣ−１３２〜ＴＣ−１３４、ＴＣ−１３７〜ＴＣ−１４４、ＴＣ−１５０〜ＴＣ−１５２及びＴＣ−１５５は、比較例のサンプルＴＣ−１０１〜ＴＣ−１２６、ＴＣ−１３０、ＴＣ−１３１、ＴＣ−１３５、ＴＣ−１３６、ＴＣ−１４５〜ＴＣ−１４９、ＴＣ−１５３及びＴＣ−１５４に対して、塗膜の乾燥性、基材変形（基材安定性）、透明性、シート抵抗値及び表面粗さのいずれも優れていた。【０２１９】
〔実施例２〕
実施例１の導電性フィルムの製造方法において、ガスバリアー性を有する透明樹脂フィルム基材上のガスバリアー面に、以下の方法で金属導電層を形成し、当該金属導電層の上にポリマー導電層の形成したほかは、実施例１の導電性フィルムの製造方法と同様にして金属導電層を有する導電性フィルムＴＣ−２０１〜ＴＣ−２５６を製造した。なお、導電性フィルムＴＣ−２０１〜ＴＣ−２５６の製造において、バインダー樹脂、導電性高分子化合物、金属導電層、乾燥法、ＨＰ温度、フィラメント温度、分光放射輝度の比率及び乾燥時間は表５及び表６のようにした。【０２２０】
【表５】
2015093342.tif 000008
【０２２１】
【表６】
2015093342.tif 000009
【０２２２】
（２１）金属導電層の形成
［銀（Ａｇ）細線］
透明樹脂フィルム基材のガスバリアー層のない面に、グラビア印刷試験機Ｋ３０３ＭＵＬＴＩＣＯＡＴＥＲ（ＲＫ  Ｐｒｉｎｔ  Ｃｏａｔ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ  Ｌｔｄ製）を用い、銀ナノインク（ＴＥＣ−ＰＲ−０３０：Ｉｎｋｔｅｃ社製）を、５０μｍ幅、１ｍｍピッチのメッシュパターンにて印刷し、金属細線パターンからなる金属導電層（表５及び表６に記載のＡｇ細線）を形成した（図６Ｂ参照）。これを、１２０℃、３０分の熱処理を行った。【０２２３】
［銅メッシュ基板］
透明樹脂フィルム基材のガスバリアー層のない面に、金属導電層として、下記の方法により、銅メッシュを作製し、後述の金属微粒子除去液ＢＦによるパターンニングを行い、銅（銅）メッシュ基板を作製した。
パラジウムナノ粒子を含有する森村ケミカル社製の触媒インクＪＩＰＤ−７を用い、それにＣａｂｏｔ製の自己分散タイプカーボンブラック溶液ＣＡＢ−Ｏ−ＪＥＴ３００を、触媒インクに対するカーボンブラック比率が１０．０質量％になるように添加し、更にサーフィノール４６５（日信化学工業株式会社）を添加して、２５℃における表面張力が４８ｍＮ／ｍである導電性インクを調製した。
導電性インクを、インクジェット記録ヘッドとして、圧力印加手段と電界印加手段とを有し、ノズル口径２５μｍ、駆動周波数１２ｋＨｚ、ノズル数１２８、ノズル密度１８０ｄｐｉ（ｄｐｉとは１インチ、即ち２．５４ｃｍ当たりのドット数を表す）のピエゾ型ヘッドを搭載したインクジェットプリント装置に装填し、基材上に線幅１０μｍ、乾燥後の膜厚０．５μｍ、線間隔３００μｍの格子状の導電性メッシュを形成した後、乾燥した。
次いで、メルテックス社製の高速無電解銅メッキ液ＣＵ−５１００を用い、温度５５℃で１０分間浸漬した後、洗浄して、無電解メッキ処理を施して、メッキ厚３μｍの金属導電層を作製した。【０２２４】
〈金属微粒子除去液ＢＦの作製〉
エチレンジアミン４酢酸第２鉄アンモニウム  ６０ｇ
エチレンジアミン４酢酸  ２ｇ
メタ重亜硫酸ナトリウム  １５ｇ
チオ硫酸アンモニウム  ７０ｇ
マレイン酸  ５ｇ
純水で１Ｌに仕上げ、硫酸又はアンモニア水でｐＨを５．５（室温）に調整後、カルボキシメチルセルロースナトリウム（ＳＩＧＭＡ−ＡＬＤＲＩＣＨ社製；Ｃ５０１３）で粘度が１０Ｐａ・ｓ（１００００ｃＰ）に調整し、金属微粒子除去液ＢＦを調製した。【０２２５】
（２２）サンプルの評価
導電性フィルムＴＣ−２０１〜ＴＣ−２５６について特性（乾燥性、基材変形（基材安定性）、透明性、シート抵抗値及び表面粗さ）を、それぞれ実施例１と同様の方法で評価した。結果は表７及び表８に示す。【０２２６】
【表７】
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【０２２７】
【表８】
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【０２２８】
（２３）まとめ
表７及び表８に示すとおり、本発明の赤外線を用いて乾燥を行った導電性フィルムのサンプルＴＣ−２２７〜ＴＣ−２２９、ＴＣ−２３２〜ＴＣ−２３４、ＴＣ−２３７〜ＴＣ−２４６、ＴＣ−２５２〜ＴＣ−２５４は、比較例のサンプルＴＣ−２０１〜ＴＣ−２２６、ＴＣ−２３０、ＴＣ−２３１、ＴＣ−２３５、ＴＣ−２３６、ＴＣ−２４７〜ＴＣ−２５１、ＴＣ−２５５、ＴＣ−２５６に対して、塗膜の乾燥性、基材安定性、透明性、シート抵抗値及び表面粗さのいずれも優れていた。【０２２９】
〔実施例３〕
下記のようにして、有機電子素子として有機ＥＬ素子ＯＥＬ−３０１〜ＯＥＬ−３５６を製造した。
（３１）有機ＥＬ素子（サンプル）の作製
実施例２で作製した導電性フィルムＴＣ−２０１〜ＴＣ−２５６を用いて、以下の方法で、それぞれ対応する有機ＥＬ素子のサンプルＯＥＬ−３０１〜ＯＥＬ−３５６を作製した。【０２３０】
（３１．１）有機機能層の形成
透明電極上に、下記のようにして、有機機能層（正孔輸送層、発光層、正孔阻止層、電子輸送層）を形成した。
有機機能層は蒸着により形成した。市販の真空蒸着装置内の蒸着用るつぼの各々に、各層の構成材料を各々素子作製に最適の量を充填した。蒸着用るつぼは、モリブデン製又はタングステン製の抵抗加熱用材料で作製されたものを用いた。【０２３１】
（３１．１．１）正孔輸送層の形成
真空度１×１０−４Ｐａまで減圧した後、下記化合物１の入った前記蒸着用るつぼに通電して加熱し、蒸着速度０．１ｎｍ／秒で透明電極上に蒸着し、厚さ３０ｎｍの正孔輸送層を設けた（図６Ｄ参照）。【０２３２】
（３１．１．２）発光層の形成
次に、以下の手順で発光層を設けた。
形成した正孔輸送層上に、下記化合物２が１３質量％、下記化合物３が３．７質量％、下記化合物５が８３．３質量％の濃度になるように、化合物２、化合物３及び化合物５を蒸着速度０．１ｎｍ／秒で共蒸着し、発光極大波長が６２２ｎｍ、厚さ１０ｎｍの緑赤色リン光発光層を形成した（図６Ｄ参照）。
次いで、下記化合物４が１０．０質量％、化合物５が９０．０質量％の濃度になるように、化合物４及び化合物５を蒸着速度０．１ｎｍ／秒で共蒸着し、発光極大波長が４７１ｎｍ、厚さ１５ｎｍの青色リン光発光層を形成した（図６Ｄ参照）。【０２３３】
（３１．１．３）正孔阻止層の形成
さらに、形成した発光層上に、下記化合物６を蒸着し、厚さ５ｎｍの正孔阻止層を形成した（図６Ｄ参照）。【０２３４】
（３１．１．４）電子輸送層の形成
引き続き、形成した正孔阻止層上に、ＣｓＦを層厚比で１０％になるように化合物６と共蒸着し、厚さ４５ｎｍの電子輸送層を形成した（図６Ｄ参照）。【０２３５】
【化２】
2015093342.tif 000012
【０２３６】
（３１．２）陰極の形成
形成した電子輸送層の上に、陽極部用外部取り出し端子及び陰極形成用材料として、Ａｌを５×１０−４Ｐａの真空下にてマスク蒸着し、厚さ１００ｎｍの陰極部を形成した。
（３１．３）封止膜の形成
陽極部及び陰極部の外部取り出し端子が形成できるように、端部を除き陰極部の周囲に接着剤を塗り、ポリエチレンテレフタレート樹脂フィルム上にＡｌ２Ｏ３を厚さ３００ｎｍで蒸着した可撓性封止部材を貼合した後、熱処理で接着剤を硬化させ封止膜を形成し、有機ＥＬ素子ＯＥＬ−３０１〜ＯＥＬ−３５６を作製した。
接着剤として、２液性エポキシ配合樹脂（スリーボンド社製）２０１６Ｂと２１０３とを１００：３の割合で配合したものを用いた。【０２３７】
形成した電子輸送層を、ポリエチレンテレフタレートを基材とし、Ａｌ２Ｏ３を厚さ３００ｎｍで蒸着した可撓性封止部材で封止した（図６Ｆ参照）。具体的には、接着剤を塗り、可撓性封止部材を貼合した後、熱処理で接着剤を硬化させて封止した。封止部材の外に出たポリマー導電層及びＡｌを、それぞれ透明電極（陽極、アノード）及び陰極（カソード）の外部取り出し端子とし、「有機ＥＬ素子ＯＥＬ−３０１〜ＯＥＬ−３５６」を作製した。【０２３８】
（３２）有機ＥＬ素子ＯＥＬ−３０１〜ＯＥＬ−３５６の評価
有機ＥＬ素子ＯＥＬ−３０１〜ＯＥＬ−３５６の特性として、発光均一性（発光ムラ）、発光寿命を、それぞれ下記のように評価した。【０２３９】
（３２．１）発光均一性
発光均一性は、ＫＥＩＴＨＬＥＹ製ソースメジャーユニット２４００型を用いて、直流電圧を有機ＥＬ素子に印加し発光させた。１０００ｃｄ／ｍ２で発光させた有機ＥＬ素子ＯＥＬ−３０１〜ＯＥＬ−３５６について、５０倍の顕微鏡で各々の発光輝度ムラを観察した。また、有機ＥＬ素子ＯＥＬ−３０１〜ＯＥＬ−３５６をオーブンにて６０％ＲＨ、８０℃２時間加熱したのち、再び前記２３±３℃、５５±３％ＲＨの環境下で１時間以上調湿した（強制劣化処理）後、同様に発光均一性を観察した。
◎：完全に均一発光しており、申し分ない
○：ほとんど均一発光しており、問題ない
△：部分的に若干発光ムラが見られるが、許容できる
×：全面にわたって発光ムラが見られ、許容できない
評価基準：強制劣化処理後、◎、○と評価された試料が本発明として合格【０２４０】
（３２．２）発光寿命
得られた有機ＥＬ素子の、初期の輝度を５０００ｃｄ／ｍ２で連続発光させて、電圧を固定して、輝度が半減するまでの時間を求めた。アノード電極をＩＴＯとした有機ＥＬ素子を上記と同様の方法で作製し、これに対する比率を求め、以下の基準で評価した。発光寿命は、１００％以上が好ましく、１５０％以上であることがより好ましい。
◎：１５０％以上
○：１００％以上１５０％未満
△：８０％以上１００％未満
×：８０％未満【０２４１】
評価の結果を表９及び表１０に示す。表９及び表１０において、備考における「本発明」は本発明の実施例に該当することを表し、「比較」は比較例であることを表す。また、実施例３における強制劣化処理の条件は、実施例１、２と同一である。【０２４２】
【表９】
2015093342.tif 000013
【０２４３】
【表１０】
2015093342.tif 000014
【０２４４】
（３３）まとめ
表９及び表１０から、比較例の有機ＥＬ素子ＯＥＬ−３０１〜ＯＥＬ−３２６、ＯＥＬ−３３０、ＯＥＬ−３３１、ＯＥＬ−３３５、ＯＥＬ−３３６、ＯＥＬ−３４７〜ＯＥＬ−３５１、ＯＥＬ−３５５、ＯＥＬ−３５６は、強制劣化処理後、発光均一性が著しく劣化して寿命も短いのに対し、本発明の有機ＥＬ素子ＯＥＬ−３２７〜ＯＥＬ−３２９、ＯＥＬ−３３２〜ＯＥＬ−３３４、ＯＥＬ−３３７〜ＯＥＬ−３４６、ＯＥＬ−３５２〜ＯＥＬ−３５４は、加熱後でも発光均一性が安定しており耐久性に優れる（高寿命である）ことが分かる。【０２４５】
〔実施例４〕
＜タッチパネルの作製＞
実施例１、２で作製した導電性フィルムＴＣ−１０１〜ＴＣ−１５５、ＴＣ−２０１〜ＴＣ−２５６を用いて、図９に示すタッチパネル１０１を以下の方法で組み立てた。【０２４６】
＜タッチパネルの組立方法＞
図９に示すように、タッチパネル１０１は、下部電極１１０と、上部電極１２０と、これらの間に設けられた熱硬化タイプドットスペーサ１３０と、を備える。下部電極１１０は、タッチパネル用ガラスＩＴＯ（スパッタリング成膜品）であって、タッチパネル用ガラス１１１と、当該タッチパネル用ガラス１１１上に設けられたＩＴＯ膜１１２と、を備える。上部電極１２０は、前記した実施例における導電性フィルムＴＣ−１０１〜ＴＣ−１５５、ＴＣ−２０１〜ＴＣ−２５６のいずれかを有するものであり、透明樹脂フィルム基材１２１と、ポリマー導電層１２２と、を備える。そして、下部電極１１０のＩＴＯ膜１１２と上部電極１２０のポリマー導電層１２２とを向かい合わせにし、熱硬化タイプドットスペーサ１３０を介在させて７μｍの間隔を空けてパネル化することによって、タッチパネル１０１を組み立てた。【０２４７】
組み立てたタッチパネル１０１の上部電極１２０及び下部電極１１０に抵抗測定機を取り付け、タッチパネル１０１の中央を手で押し、抵抗値を１０００回測定した。その結果、本発明の導電性フィルムＴＣ−１２７〜ＴＣ−１２９、ＴＣ−１３２〜ＴＣ−１３４、ＴＣ−１３７〜ＴＣ−１４４、ＴＣ−１５０〜ＴＣ−１５２、ＴＣ−２２７〜ＴＣ−２２９、ＴＣ−２３２〜ＴＣ−２３４、ＴＣ−２３７〜ＴＣ−２４６、ＴＣ−２５２〜ＴＣ−２５４を有するタッチパネル１０１よりも、比較の導電性フィルムＴＣ−１０１〜ＴＣ−１２６、ＴＣ−１３０、ＴＣ−１３１、ＴＣ−１３５、ＴＣ−１３６、ＴＣ−１４５〜ＴＣ−１４９、ＴＣ−１５３、ＴＣ−１５４、ＴＣ−２０１〜ＴＣ−２２６、ＴＣ−２３０、ＴＣ−２３１、ＴＣ−２３５、ＴＣ−２３６、ＴＣ−２４７〜ＴＣ−２５１、ＴＣ−２５５、ＴＣ−２５６を有するタッチパネル１０１の方が、抵抗値の低下が経時で大きいことが確認された。
【産業上の利用可能性】
【０２４８】
以上のように、本発明は、基材変形を抑制するとともに透明性、導電性及び表面粗さに優れた導電性フィルムの製造方法及び導電性フィルムを提供することに適している。
また、本発明は、上記製造方法で作製された導電性フィルムを有機電子素子及びタッチパネルに備えさせることで、発光均一性及び寿命に優れた有機電子素子及びタッチパネルを提供することに適している。
【符号の説明】
【０２４９】
１          導電性フィルム
２          透明樹脂フィルム基材
３          ポリマー導電層
４          金属導電層
２０        赤外線ヒーター
２２        フィラメント
２４        保護管
２６、２８  フィルター
３０        中空部
３２        反射板
４０        冷却機構
４５        制御装置
５０        素子
５１        導電性フィルム
５２        透明樹脂フィルム基材
５３        取出電極
５４        金属導電層
５５        ポリマー導電層
５６        有機機能層
５７        対電極
１０１      タッチパネル
１１０      下部電極
１１２      ＩＴＯ膜
１２０      上部電極
１２１      透明樹脂フィルム基材
１２２      ポリマー導電層
【図１】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図２Ｃ】
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【図２Ｄ】
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【図３】
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【図４】
2015093342.tif 000021
【図５】
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【図６Ａ】
2015093342.tif 000023
【図６Ｂ】
2015093342.tif 000024
【図６Ｃ】
2015093342.tif 000025
【図６Ｄ】
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【図６Ｅ】
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【図６Ｆ】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【国際調査報告】
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2015093342.tif 000033
2015093342.tif 000034
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