Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月21日(2012.6.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体サンプルを取り扱う装置において、当該装置が、少なくとも１つの流動路と、少なくとも１つのサンプル受け取りゾーンと、輸送又は培養ゾーンと、を備えており、前記装置が、前記液体サンプルを受け取ることができ、且つ、前記輸送又は培養ゾーンを通る前記サンプルの流速を支持又は制御できる、シンクを、更に備えており、前記シンクが、その表面に対して実質的に垂直な突起を有する領域を備えており、
前記突起が、側方毛細管流動が達成されるような、高さ、直径、および相互間隔を有し、前記シンクが、外的影響に対して応答するようになっており、前記シンクと突起の両方で、前記液体サンプルを受け取る能力を規制する、ことを特徴とする装置。
【請求項２】
請求項１記載の装置において、２つ以上の流動路が設けられており、各流動路が、それぞれ、１つのシンクに連結されており、前記装置が、１つのサンプルについて多数の分析を実行するようになっている、装置。
【請求項３】
請求項１記載の装置において、２つ以上の流動路が設けられており、各流動路が、同一のシンクに連結されており、前記装置が、１つのサンプルについて多数の分析を実行するようになっている、装置。
【請求項４】
請求項２又は３に記載の装置において、前記多数の分析が並行して実行される、装置。
【請求項５】
請求項１記載の装置において、多数の、試薬、バッファ等を、流動路に連続して添加できる、装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１つに記載の装置において、前記液体サンプルを受け取る前記シンクの能力を規制する前記外的影響が、加熱、冷却、可視光線照射、赤外線照射、振動、及び電流適用、の内から選択される、装置。
【請求項７】
請求項６記載の装置において、前記シンクが、小区画に分割され得るようになっており、前記外的影響を連続して受けるのに適している、装置。
【請求項８】
請求項６又は７に記載の装置において、前記シンク又はその小区画が、液体サンプルをそこから蒸発させるために加熱される、装置。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１つに記載の装置において、前記シンクに流体連通している１つ以上の流動路が、毛細管の溝又は開放チャンネル、閉じた毛細管、繊維材料又はゲル様材料を通る曲がりくねった路、として形成された流動路、の内から選択される、装置。
【請求項１０】
請求項１〜８のいずれか１つに記載の装置において、前記シンクに流体連通している１つ以上の流動路が、実質的に垂直な突起を有する領域を備えている、装置。
【請求項１１】
請求項１０記載の装置において、前記垂直な突起が、前記流動路のゾーンが異なる場合には異なる断面を有している、装置。
【請求項１２】
請求項１記載の装置において、サンプルの逆流が、少なくとも１つの流動路、前記実質的に垂直な突起の断面、外的影響、又はそれらの組み合わせ、の適切なデザインであって前記流動路の少なくとも一部に作用するデザインによって、防止され、当該外的影響は、加熱、冷却、可視光線照射、赤外線照射、振動、及び電流適用、の内から選択される、装置。
【請求項１３】
サンプル中の検体と１つ以上の試薬との間の反応を含む、化学的又は生化学的アッセイにおいて、当該サンプルが、請求項１〜１２のいずれか１つに記載の装置に添加されることを特徴とする、アッセイ。
【請求項１４】
サンプル中の検体と１つ以上の試薬との間の反応を含む、化学的又は生化学的アッセイにおいて、前記反応が、請求項１〜１２のいずれか１つに記載の装置において実行されることを特徴とする、アッセイ。
【請求項１５】
液体サンプルを取り扱う方法において、請求項１〜１２のいずれか１つに記載の装置が使用されることを特徴とする、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年3月2日(2012.3.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明支持体上に、一方向に処理された配向膜と、重合性基を有する液晶を主成分とする一種の組成物をから形成された光学異方性層とを少なくとも有する光学フィルムであって、
前記光学異方性層が、互いに直交する面内遅相軸を有する第１位相差領域及び第２位相差領域を含み、前記第１及び第２位相差領域が、面内において交互に配置されているパターン光学異方性層であり、前記第１及び第２位相差領域の互いに直交する遅相軸の一方が前記配向膜に施された処理の一方向と平行であり、且つ他方が前記配向膜に施された処理の一方向と直交であることを特徴とする光学フィルム。
【請求項２】
前記配向膜が、一方向にラビング処理されたラビング配向膜であることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項３】
Ｒｅ（５５０）が、１１０〜１６５ｎｍであることを特徴とする請求項１又は２に記載の光学フィルム：
但し、Ｒｅ（５５０）は波長５５０ｎｍにおける面内レターデーション値（単位：ｎｍ）である。
【請求項４】
前記透明支持体のＲｅ（５５０）が、０〜１０ｎｍであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項５】
Ｒｔｈ（５５０）が、｜Ｒｔｈ（５５０）｜≦２０を満足することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学フィルム：
但し、Ｒｔｈ（５５０）は、波長５５０ｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である。
【請求項６】
前記配向膜が、変性又は未変性ポリビニルアルコールを主成分として含有する膜であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項７】
前記重合性基を有する液晶が、円盤状液晶であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項８】
前記光学異方性層が、ピリジニウム化合物又はイミダゾリウム化合物の少なくとも１種をさらに含有することを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項９】
前記光学異方性層が、下記一般式（２ａ）のピリジニウム化合物又は下記一般式（２ｂ）のイミダゾリウム化合物をさらに含有することを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の光学フィルム：
【化１】
2012008170.tif 000001
式中、Ｌ23及びＬ24はそれぞれ二価の連結基（単結合を含む）を表し；Ｒ22は水素原子、無置換アミノ基、又は炭素原子数が１〜２０の置換アミノ基を表し、Ｒ22が、ジアルキル置換アミノ基である場合、２つのアルキル基が互いに結合して含窒素複素環を形成してもよく；Ｘはアニオンを表し；Ｙ22及びＹ23はそれぞれ、５又は６員環を部分構造として有する２価の連結基を表し；ｍは１又は２であり、ｍが２のとき、複数のＹ23及びＬ24は、互いに同一であっても異なっていてもよく；Ｚ21は、ハロゲン置換フェニル、ニトロ置換フェニル、シアノ置換フェニル、炭素原子数が１〜１０のアルキル基で置換されたフェニル、炭素原子数が２〜１０のアルコキシ基で置換されたフェニル、炭素原子数が１〜１２のアルキル基、炭素原子数が２〜２０のアルキニル基、炭素原子数が１〜１２のアルコキシ基、炭素原子数が２〜１３のアルコキシカルボニル基、炭素原子数が７〜２６のアリールオキシカルボニル基および炭素原子数が７〜２６のアリールカルボニルオキシ基からなる群より選ばれる一価の基を表し；ｐは、１〜１０の整数であり、Ｒ30は、水素原子又は炭素原子数が１〜１２のアルキル基である。
【請求項１０】
前記光学異方性層が、フルオロ脂肪族基含有共重合体の少なくとも１種をさらに含有することを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項１１】
前記重合性基を有する液晶が円盤状液晶であり、前記光学異方性層中、円盤状液晶が垂直配向状態に固定されていることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか１項に記載の光学フィルムと、偏光膜とを含み、前記光学異方性層の第１及び第２の位相差領域のそれぞれの面内遅相軸方向と、偏光膜の吸収軸方向とが４５°であることを特徴とする偏光板。
【請求項１３】
前記光学フィルムと、前記偏光膜とが粘着層を介して積層されていることを特徴とする請求項１２に記載の偏光板。
【請求項１４】
さらに最表面に一層以上の反射防止フィルムが積層されていることを特徴とする請求項１２又は１３に記載の偏光板。
【請求項１５】
第１及び第２の偏光膜；
第１及び第２の偏光膜の間に配置される、少なくとも一方に電極を有し対向配置された一対の基板と、該一対の基板間の液晶層とを含む液晶セル；及び
第１偏光膜の外側に請求項１〜１１のいずれか１項に記載の光学フィルム；
を少なくとも有する画像表示装置であって、
前記第１偏光膜の吸収軸方向と、前記光学フィルムの第１及び第２位相差領域の面内遅相軸がそれぞれ±４５°の角度をなすことを特徴とする画像表示装置。
【請求項１６】
請求項１５に記載の画像表示装置と、前記光学フィルムの外側に配置される第３の偏光板とを少なくとも備え、第３の偏光板を通じて立体画像を視認させる立体画像表示システム。
【請求項１７】
請求項１〜１１のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法であって、
１）透明支持体上にラビング配向膜を形成する工程
２）ラビング配向膜を一方向にラビング処理する工程
３）ラビング配向膜上に、重合性基を有する液晶を主成分とする一種の組成物を塗布する工程
４）温度Ｔ1℃で加熱してラビング方向に対して、液晶の遅相軸を直交配向させる工程
５）フォトマスク下、紫外線照射して照射領域を直交配向状態で固定化する工程
６）温度Ｔ2（但し、Ｔ1＜Ｔ2）℃で加熱して、ラビング方向に対して未照射領域の液晶の遅相軸を平行配向させる工程
７）紫外線照射して平行配向状態で固定化する工程
をこの順で含むことを特徴とする光学フィルムの製造方法。
【請求項１８】
請求項１〜１１のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法であって、
ａ）透明支持体上に配向膜を形成する工程、
ｂ）配向膜の全面を一方向に配向処理する工程
ｃ）配向膜上に、重合性基を有する液晶を主成分とする一種の組成物を塗布する工程、
ｄ）液晶の遅相軸を、配向膜に施された処理の一方向に対して直交又は平行に配向させて第１の配向状態にする工程
ｅ）配向状態を固定して光学異方性層を形成する工程
をこの順で含み、
かつ
ｆ）配向膜中に含有される少なくとも１種の成分と前記組成物中に含まれる少なくとも１種の成分との親和性を変化させることで、液晶の遅相軸を、配向膜に施された処理の一方向に対して、変化させる前が直交である場合は平行、又は変化させる前が平行である場合は直交に配向させて第２の配向状態にする工程、
を含むことを特徴とする光学フィルムの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成23年8月26日(2011.8.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源からの光束で試料を照明する照明用光学系と、
対物レンズを介して前記試料の像を形成するとともに、該像を接眼レンズに案内する観察用光学系とを有する顕微鏡において、
前記顕微鏡を上面から見た場合の前記接眼レンズの光路と略平行な方向を縦方向としたとき、前記照明用光学系は、少なくともその一部に、前記光源からの光束を横方向に案内する光路を有し、その横方向の光路内に、前記光源からの光束を制御する絞り部材が配置されている顕微鏡。
【請求項２】
前記顕微鏡を上面から見た場合、前記照明用光学系の最も前記光源に近い領域の光路は、前記接眼レンズの光路とほぼ平行であり、
前記照明用光学系は、前記光源からの光束を前記横方向の光路に向けて偏向する偏向部材を有する
請求項１に記載の顕微鏡。
【請求項３】
前記照明用光学系は、前記光源からの光束を集光して光源像を形成するリレー光学系を有し、
前記偏向部材は、前記リレー光学系からの光束を前記絞り部材に向けて偏向する  
請求項２に記載の顕微鏡。
【請求項４】
前記絞り部材は視野絞りを含み、
前記照明用光学系は、前記視野絞りの位置と前側焦点位置とが一致するように、前記視野絞りより前記対物レンズ側に配置されたフィールドレンズ群を有し、
前記フィールドレンズ群の焦点距離をｆ１、前記フィールドレンズ群の最も前記視野絞りから遠い面と、前記視野絞りの面との光軸に沿った距離をＬ１とするとき、焦点距離ｆ１と距離Ｌ１は、以下の式
１＜Ｌ１／ｆ１＜１．２
を満足する
請求項２または３に記載の顕微鏡。
【請求項５】
前記絞り部材は前記リレー光学系の前記試料側に配置された開口絞りを含み、
前記リレー光学系の焦点距離をｆ２、前記リレー光学系の最も前記開口絞り側の光学部材の面から、前記開口絞り面までの光軸に沿った距離をＬ２とするとき、焦点距離ｆ２と距離Ｌ２は、以下の式
０．７＜Ｌ２／ｆ２＜１．０
を満足する
請求項３または４に記載の顕微鏡。
【請求項６】
前記照明用光学系と前記観察用光学系の前記試料側の光路を共通光路とする光束合成部材を有し、前記光束合成部材よりも前記試料側に対物レンズを配置したことを特徴とする
請求項１乃至５のいずれかに記載の顕微鏡。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明は、光源からの光束で試料を照明する照明用光学系と、対物レンズを介して前記試料の像を形成するとともに、該像を接眼レンズに案内する観察用光学系とを有する顕微鏡において、前記顕微鏡を上面から見た場合の前記接眼レンズの光路と平行な方向を縦方向としたとき、前記照明用光学系は、少なくともその一部に、前記光源からの光束を横方向に案内する光路を有し、その横方向の光路内に、前記光源からの光束を制御する絞り部材が配置されている顕微鏡である。
【手続補正書】
【提出日】平成23年11月21日(2011.11.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００３】
従来のフライヤー構造においては、特開２００１−９５６９４号公報（特許文献１）に開示されている（特に段落[００１０]及び図１）ように、コンベアユニットと油槽の底面との間にヒータを配置して油液を加熱する構造になっていた。フライヤーにおいては、フライヤーの稼動中において、油液中を搬送される食材から剥離した、パン粉等の食材の小片が油液中に浮遊し、炭化して、その後沈殿して油槽の底部にカスとして溜まるので、油槽をクリーニングしてこのカスを定期的に除去する必要がある。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
さらに、ヒータを油槽内に配置する構造では、直接油液を加熱するため、油液の劣化が速くなり、このための油液のかかる費用がかさむことにもなる。また、直接油液を加熱することは油液内の温度勾配が大きくなりやすく、油槽内の油液の均一化を阻害することになる。
【特許文献１】特開２００１−９５６９４号公報
【手続補正書】
【提出日】平成23年2月3日(2011.2.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１入力クロックの１クロック周期に対応する第１デジタル値を出力するマスタ遅延固定ループと、
前記第１デジタル値を受信し、前記第１入力クロックの１クロック周期より短い時間ほど第２入力クロックを遅延させて出力するスレーブ遅延固定ループと、を備え、
前記スレーブ遅延固定ループは、
前記第１デジタル値をシフトして第２デジタル値として出力するシフタと、
前記第２デジタル値に、工程、電圧及び温度（ＰＶＴ）によって変化するオフセット値を加算または減算して、第３デジタル値として出力する演算器と、
前記第３デジタル値に対応する時間ほど前記第２入力クロックを遅延させて出力する可変遅延回路と、を備えることを特徴とする遅延固定ループ。
【請求項２】
前記シフタは、
前記第１デジタル値に含まれるビットを右側にシフトすることを特徴とする請求項１に記載の遅延固定ループ。
【請求項３】
前記可変遅延回路は、
直列に連結され、単位遅延時間をそれぞれ持つ複数の単位遅延部を備え、
前記第２入力クロックは、前記第３デジタル値に対応する時間ほど遅延されるように、前記複数の単位遅延部のうち一部の単位遅延部に伝えられることを特徴とする請求項１または２に記載の遅延固定ループ。
【請求項４】
前記それぞれの単位遅延部は、
バッファと、
マルチプレクサと、を備え、
前記単位遅延部のバッファは直列に連結され、前記単位遅延部のマルチプレクサは直列に連結され、
前記それぞれの単位遅延部のマルチプレクサは、対応するバッファの出力信号及びすぐその前のマルチプレクサの出力信号のうち一つを選択して出力することを特徴とする請求項３に記載の遅延固定ループ。
【請求項５】
前記第３デジタル値を受信して、前記第２入力クロックが伝えられる前記一部の単位遅延部を選択する選択信号を発生させるデコーダをさらに備えることを特徴とする請求項３または４に記載の遅延固定ループ。
【請求項６】
前記マスタ遅延固定ループは、
ハーフデテクションモードで、前記第１入力クロックの半クロック周期に対応する第１デジタル値を出力することを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載の遅延固定ループ。
【請求項７】
ハーフデテクションモードを指示するハーフデテクションモード信号に応答して、前記シフタのシフト値を設定するシフト制御部をさらに備えることを特徴とする請求項６に記載の遅延固定ループ。
【請求項８】
第１入力クロックの１クロック周期値を検出するマスタ遅延固定ループと、
前記第１入力クロックの１クロック周期値を受信し、前記第１入力クロックの１クロック周期より短い時間ほど第２入力クロックを遅延させて出力するスレーブ遅延固定ループと、を備え、
前記スレーブ遅延固定ループは、
前記第１入力クロックの１クロック周期値を所定のシフト値で割って第２デジタル値として出力するシフタと、
前記第２デジタル値に、工程、電圧及び温度（ＰＶＴ）によって変化するオフセット値を加算または減算して第３デジタル値として出力する演算器と、
前記第３デジタル値に対応する時間ほど前記第２入力クロックを遅延させて出力する可変遅延回路と、を備えることを特徴とする遅延固定ループ。
【請求項９】
前記所定のシフト値は、
１より大きい自然数であることを特徴とする請求項８に記載の遅延固定ループ。
【請求項１０】
前記マスタ遅延固定ループは、
ハーフデテクションモードで、前記第１入力クロックの半クロック周期に対応する第１デジタル値を出力することを特徴とする請求項８または９に記載の遅延固定ループ。
【請求項１１】
第１入力クロックの１クロック周期に対応する第１デジタル値をシフトして第２デジタル値として出力するシフタと、
前記第２デジタル値に、工程、電圧及び温度（ＰＶＴ）によって変化するオフセット値を加算または減算して、第３デジタル値として出力する演算器と、
前記第３デジタル値に対応する時間ほど前記第２入力クロックを遅延させて出力する可変遅延回路と、を備えることを特徴とする遅延固定ループ。
【請求項１２】
前記シフタは、
前記第１デジタル値に含まれるビットを右側にシフトすることを特徴とする請求項１１に記載の遅延固定ループ。
【請求項１３】
第１入力クロックの１クロック周期に対応する第１デジタル値を検出するステップと、
前記第１デジタル値を受信し、前記第１入力クロックの１クロック周期より短い時間ほど第２入力クロックを遅延させるステップと、を含み、
前記第２入力クロックを遅延させるステップは、
前記第１デジタル値をシフトして第２デジタル値として出力するシフティングステップと、
前記第２デジタル値に、工程、電圧及び温度（ＰＶＴ）によって変化するオフセット値を加算または減算して、第３デジタル値として出力する加減算ステップと、
前記第３デジタル値に対応する時間ほど前記第２入力クロックを遅延させて出力する可変遅延ステップと、を含むことを特徴とするクロック遅延方法。
【請求項１４】
前記シフティングステップは、
前記第１デジタル値に含まれるビットを右側にシフトすることを特徴とする請求項１３に記載のクロック遅延方法。
【請求項１５】
前記第１デジタル値を検出するステップは、
ハーフデテクションモードで、前記第１入力クロックの半クロック周期に対応する第１デジタル値を出力することを特徴とする請求項１３または１４に記載のクロック遅延方法。
【請求項１６】
ハーフデテクションモードを指示するハーフデテクションモード信号に応答して、前記シフティングステップのシフト値を設定するシフト制御ステップをさらに含むことを特徴とする請求項１５に記載のクロック遅延方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年10月1日(2012.10.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対象の生の超音波データを収集するように構成された探触子（１２）と、
前記生の超音波データから生成された現在の超音波画像（７０）を表示するように構成された一体型ディスプレイ（１４）と、
収集した生の超音波データをフレーム処理することなしに保存するように構成されたデータメモリ（２２）と、
保存された前記生の超音波データに基づいて、イメージング対象の低い分解能の画像と高い分解能の画像を再構成する再構成プロセスを使用してフレーム処理することなしに前記生の超音波データを処理するプロセッサと、
を備え、
前記プロセッサは、
ユーザに表示するために、前記一体型ディスプレイ（１４）に前記低い分解能の画像を送信し、
ユーザに表示するために、前記外部ディスプレイに前記高い分解能の画像を送信し、
少なくとも保存する又は更なる処理を行うためにフレーム処理することなしに前記生の超音波データを外部装置に送信するように構成される、
携行型超音波システム（１０）。
【請求項２】
ユーザからコマンドを受け取り、ユーザの所望の分解能で画像を保存することを指令するユーザコマンドを前記プロセッサが受けることを可能にするユーザインタフェース（２８）を備える、請求項１に記載の携行型医用撮像デバイス。
【請求項３】
前記探触子に動作可能に結合されたビーム形成器（２０）をさらに備えると共に、前記データメモリは収集した生画像データが該ビーム形成器により処理済みになった後で該収集した生画像データを保存するように構成されている、請求項１に記載の携行型医用撮像デバイス。
【請求項４】
前記ユーザインタフェースはボタン（８２）からなるキーボード（８０）及び少なくとも１つのソフトキー（８４）を含むと共に、該ソフトキーは一体型ディスプレイ上にラベル付けされている、請求項２に記載の携行型医用撮像デバイス。
【請求項５】
前記プロセッサを制御する命令を含むソフトウエアメモリを備え、前記ソフトウエアメモリがフラッシュメモリカードを含む、請求項１に記載の携行型医用撮像デバイス。
【請求項６】
探触子（１２）を有する携行型医用撮像デバイス（１０）を動作させるための方法であって、
前記探触子（１２）を使用して、生の超音波データを収集する工程と、
超音波画像（７０）を一体型ディスプレイ（１４）上に表示する工程と、
前記探触子（１２）により収集した生の超音波データをフレーム処理することなしにメモリに保存する工程と、
複数の走査サイズ又は複数の画像分解能で画像再構成を行う再構成処理を使用してフレーム処理することなしに前記探触子（１２）により収集した前記生の超音波データを処理する工程と、
第１の低い分解能の医用画像（７０）を作成して、前記一体型ディスプレイ上に表示する工程と、
外部デバイス（２４）に対して第２のより高い分解能で別に医用画像（７２）を作成して送る又は、収集した生画像データをフレーム処理することなしに外部デバイス（２４）に送る工程と、
ユーザインタフェース（２８）を介してユーザからコマンドを受け取る工程であって、該コマンドに応答してプロセッサが作成された医用画像を一体型ディスプレイ上に第１の分解能で表示する又は、前記外部デバイスに前記医用画像を前記第２のより高い分解能で作成して送る又は、収集した生画像データをフレーム処理することなしに外部デバイス（２４）に送る、前記受け取る工程と、
を含む方法。
【請求項７】
前記ユーザインタフェースを介して受け取った命令に従って、
生医用画像データに対して走査変換を実行し、得られた医用画像（７０）を第１の分解能で一体型ディスプレイ上に表示する工程（６４、１４）と、
生医用画像データに対して走査変換を実行し、得られた医用画像（７２）を第２のより高い分解能で外部ディスプレイまたはプリンタ上に表示する工程（６４、２４）と、
のうちの一方を含む、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
シリアルケーブル、パラレルケーブル、ＵＳＢポート、ワイヤレスネットワーク（２６）及び有線式ネットワークのうちの１つを介して得られた医用画像を第２のより高い分解能で外部ディスプレイまたはプリンタに送る工程をさらに含む請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記ユーザインタフェースを介して受け取った命令に従って、
生医用画像データに対して走査変換を実行し、得られた医用画像（７０）を第１の分解能で一体型ディスプレイ上に表示する工程（６４、１４）と、
追加の処理または記憶のために生データを外部デバイスに転送する工程（６８）と、
のうちの一方を含む、請求項６に記載の方法。
【請求項１０】
前記携行型医用撮像デバイスはさらに前記探触子に動作可能に結合されたビーム形成器（２０）を備えると共に、収集した生画像データが該ビーム形成器により処理済みになった後に該収集生画像データを保存する工程をさらに含む請求項６に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年3月7日(2012.3.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
隠しスライドファスナーに関し、本発明者は、ストリンガ２６が固着されている折返代と、その折返代から続くベーステープ本体との境目である折り目３３において、折返代と共に９０度折り返してストリンガをベーステープの側縁に垂直に立ち上げることが出来、その立ち上げた折り目３３に沿ってミシン針３０を当てることによって、ベーステープ２８と縫製生地の縫い代３４を縫合するミシン糸目３５をストリンガの噛合素子２３に接近させることが出来、そうすることによって、スライドファスナーの閉合箇所３６で向き合う縫製生地と縫製生地を密着させ、ベーステープ本体２８によってではなく、その密着する縫製生地と縫製生地によってストリンガを覆い隠すことが出来る、との知見を得た。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
そこで、本発明者は、ミシン針３０の作用箇所においてスライドファスナー２５を縫製生地２７に押さえ付けるミシンの押圧片３１に、垂直に立ち上げたストリンガ２６が嵌合して通過する下向きの案内溝３２を付設し、その案内溝３２に導かれてストリンガ２６がベーステープ２８から垂直に立ち上った状態で押圧片３１を通過させることを試みた。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
しかし、ストリンガ２６を垂直に立ち上った状態で押圧片３１を通過させるためには、ミシンを掛け直す度に逐一ストリンガ２６を案内溝３２に嵌め込まなければならず、その作業に手間取り、その縫製作業が非能率になる。
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月27日(2012.6.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明に係る冷蔵庫の調整脚は、断熱箱体である筐体の傾きを調整する冷蔵庫の調整脚において、筐体底面に密接する取付座面と、取付座面から下側に突出して設けられた雄ネジ部と、雄ネジ部の内側に下端側を開放して形成された凹部と、凹部に形成され取付座面を貫通する固定用穴とを有する調整軸と、雌ネジ部を有し、雌ネジ部が雄ネジ部と螺合して調整軸に装着される回転脚とを備え、固定用穴と対向する位置にネジ穴が形成され、固定用穴を介してネジにより、調整軸が筐体に固定されている。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
断熱箱体である筐体の傾きを調整する冷蔵庫の調整脚において、
前記筐体底面に密接する取付座面と、前記取付座面から下側に突出して設けられた雄ネジ部と、前記雄ネジ部の内側に下端側を開放して形成された凹部と、前記凹部に形成され前記取付座面を貫通する固定用穴とを有する調整軸と、
雌ネジ部を有し、前記雌ネジ部が前記雄ネジ部と螺合して前記調整軸に装着される回転脚とを備え、
前記固定用穴と対向する位置にネジ穴が形成され、前記固定用穴を介してネジにより、前記調整軸が前記筐体に固定されている
ことを特徴とする冷蔵庫の調整脚。
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月13日(2012.6.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
４５〜９０ｍｏｌ％のＴｉＯ２と、残部のＺｎＯと、からなり、比抵抗が０．００１Ωｃｍ〜１Ωｃｍである光メディア用スパッタリングターゲット。
【請求項２】
４５〜９０ｍｏｌ％のＴｉＯ２と、残部のＺｎＯと、からなる組成を有する原料粉体を真空中で焼成する工程を備える光メディア用スパッタリングターゲットの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年7月19日(2012.7.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
冷媒としてＨＦＣ３２（ジフルオロメタン）を使用し、少なくとも圧縮機、室内熱交換器、膨張弁、室外熱交換器が順番に接続されてなる冷凍サイクルと、
前記冷凍サイクルの制御を行う制御部と
を備え、
前記室内熱交換器は、
暖房運転時において、前記圧縮機で圧縮されてガス状態になった前記冷媒と空気との熱交換を行う主熱交換器と、
前記主熱交換器で熱交換が行われた前記冷媒と空気との熱交換を行う補助熱交換器と、
前記主熱交換器の温度を検知する凝縮温度サーミスタと、
前記補助熱交換器の入口付近の温度を検知する補助熱交換器サーミスタと
を具備し、
前記制御部は、
前記凝縮温度サーミスタと前記補助熱交換器サーミスタとの検知結果に基づいて、前記主熱交換器で熱交換が行われて気液二相状態になった前記冷媒が前記主熱交換器から流出するまでは気液二相状態を保ち、かつ、前記補助熱交換器の入口付近では液相状態になっているかどうか判定し、判定結果に応じて、前記膨張弁の開度を制御することを特徴とする空気調和機。
【請求項２】
前記主熱交換器は、複数の熱交換器が直列接続されてなり、
前記凝縮温度サーミスタは、前記複数の熱交換器を直列接続する配管に設けられていることを特徴とする請求項１記載の空気調和機。
【請求項３】
前記制御部は、
前記凝縮温度サーミスタの検知温度と前記補助熱交換器サーミスタの検知温度との差ΔＴが下限値Ｔａより小さければ、前記主熱交換器で熱交換が行われて気液二相状態になった前記冷媒が前記補助熱交換器の入口付近で液相状態になっていないと判定し、前記膨張弁の開度を下げ、差ΔＴが上限値Ｔｂより大きければ、前記主熱交換器で熱交換が行われて気液二相状態になった前記冷媒が前記主熱交換器から流出するまで気液二相状態を保っていないと判定し、前記膨張弁の開度を上げることを特徴とする請求項１又は２記載の空気調和機。
【請求項４】
前記圧縮機で圧縮されてガス状態になった前記冷媒が前記圧縮機から吐出される際の前記冷媒の温度を検知する吐出温度サーミスタ
を備え、
前記制御部は、
前記吐出温度サーミスタの検知温度が目標の設定温度になるように、前記膨張弁の開度を制御するとともに、差ΔＴが下限値Ｔａより小さければ、前記目標の設定温度をより高く設定し、差ΔＴが上限値Ｔｂより大きければ、前記目標の設定温度をより低く設定することを特徴とする請求項３記載の空気調和機。
【請求項５】
前記圧縮機の密閉容器の温度を検知する密閉容器温度サーミスタ
を備え、
前記制御部は、
前記密閉容器温度サーミスタの検知温度が目標の設定温度になるように、前記膨張弁の開度を制御するとともに、差ΔＴが下限値Ｔａより小さければ、前記目標の設定温度をより高く設定し、差ΔＴが上限値Ｔｂより大きければ、前記目標の設定温度をより低く設定することを特徴とする請求項３記載の空気調和機。
【請求項６】
前記主熱交換器の熱交換用の配管に、外径が４〜５ｍｍの円管が用いられていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の空気調和機。
【請求項７】
前記主熱交換器の熱交換用の配管に、管内が隔壁により複数空間に分割された扁平管が用いられていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の空気調和機。
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月21日(2012.6.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
本発明に係る冷蔵庫は、冷蔵庫本体の底部に設けられ、冷媒の吐出管及び吸入管が接続された圧縮機が設置される機械室台板を有し、
該機械室台板は、凹状でほぼ平坦な底面に切起こしにより前記圧縮機を取付ける複数の支持部が設けられ、該支持部及び該支持部を切起こしたあとの穴を囲んで周囲ビードが形成され、
前記圧縮機に接続された吸入管に下方に折曲げたターン部を設け、前記圧縮機を機械室台板上に設置したときに、前記ターン部が前記周囲ビードで囲まれた領域の外に位置するように構成したものである。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
冷蔵庫本体の底部に設けられ、冷媒の吐出管及び吸入管が接続された圧縮機が設置される機械室台板を有し、
該機械室台板は、凹状でほぼ平坦な底面に切起こしにより前記圧縮機を取付ける複数の支持部が設けられ、該支持部及び該支持部を切起こしたあとの穴を囲んで周囲ビードが形成され、
前記圧縮機に接続された吸入管に下方に折曲げたターン部を設け、前記圧縮機を機械室台板上に設置したときに、前記ターン部が前記周囲ビードで囲まれた領域の外に位置するように構成したことを特徴とする冷蔵庫。
【請求項２】
前記機械室台板の底面に設けられた切り起こしによって形成された支持部に代えて、前記底面に設けた複数の穴にそれぞれスタッド状の部材の下部を挿入固定して支持部を形成し、該支持部の囲りに周囲ビードを設けたことを特徴とする請求項１記載の冷蔵庫。
【請求項３】
前記周囲ビードを、前記機械室台板の底面の４箇所に四角形となるように設けたことを特徴とする請求項１又は請求項２記載の冷蔵庫。
【請求項４】
前記底面の幅方向の両端部に後脚を形成する凹部が設けられており、
前記機械室台板の底面に設けた前後方向の周囲ビードの間に、幅方向に延設されて両端部が前記後脚を形成する凹部に臨む横ビードを設けたことを特徴とする請求項３記載の冷蔵庫。
【請求項５】
前記周囲ビードの高さを１〜１０ｍｍ程度としたことを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれか一項に記載の冷蔵庫。
【請求項６】
前記圧縮機に接続された吸入管のターン部が、角形ターン部であることを特徴とする請求項１〜請求項５のいずれか一項に記載の冷蔵庫。
【請求項７】
前記吸入管の角形ターン部を、前記吸入管を横方向にほぼ９０°折曲げた第１の折曲げ部と、該第１の折曲げ部に連続する直線部と、該直線部に連続して上方にほぼ９０°折曲げた第２の折曲げ部とによって形成したことを特徴とする請求項６記載の冷蔵庫。
【請求項８】
前記角形ターン部は、前記圧縮機を機械室台板上に設置したときに該機械室台板の前後の周壁の内側に位置することを特徴とする請求項６又は請求項７記載の冷蔵庫。
【手続補正書】
【提出日】平成24年2月1日(2012.2.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
燃料電池のイオン伝導性高分子膜を製造するための方法であって、それぞれが、
少なくとも１つの重合可能な基と、
ホスホニルエステル、アシルエステル、スルホニルエステル、ハロゲン化カルボニル、またはハロゲン化チオニルによって形成される群から選択される少なくとも１つのイオン伝導性官能基の前駆体基と
を含む少なくとも２つの同一もしくは異なる重合可能なモノマーをプラズマ蒸発による化学蒸着させるステップを含む方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
本目的のために、本発明は、燃料電池用イオン伝導性高分子膜を製造するための方法であって、それぞれが、
少なくとも１つの重合可能な基と、
ホスホニルエステル、アシルエステル、スルホニルエステル、ハロゲン化カルボニル、またはハロゲン化チオニルによって形成される基から選択される少なくとも１つのイオン伝導性官能基の前駆体基と
を含む少なくとも２つの同一もしくは異なる重合可能なモノマーをプラズマ蒸発による化学蒸着させるステップを含む方法を提供する。
【手続補正書】
【提出日】平成24年2月9日(2012.2.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ロード室、該ロード室に連結された共通室、および該共通室に連結された複数の処理室と、レーザ光源とを有する製造装置であって、
前記共通室のチャンバー壁は、レーザ光源からのレーザ光が通過する窓を有し、
前記共通室は、真空排気手段と、２枚の基板の位置合わせ手段と、第１の基板及び第２の基板を固定した状態で移動させる基板移動手段とを有し、
前記複数の処理室の一つは、前記第２の基板上に材料層を形成する手段を有し、
前記位置合わせ手段は、前記第２の基板における前記材料層が形成された面と前記第１の基板の被成膜面とが対向するように位置合わせして基板間隔を固定する手段を有し、
前記レーザ光は、前記第２の基板に照射されることを特徴とする製造装置。
【請求項２】
ロード室、該ロード室に連結された共通室、および該共通室に連結された複数の処理室と、レーザ光源とを有する製造装置であって、
前記共通室のチャンバー壁は、レーザ光源からのレーザ光が通過する窓を有し、
前記共通室は、真空排気手段と、２枚の基板の位置合わせ手段と、第１の基板及び第２の基板を固定した状態で移動させる基板移動手段とを有し、
前記複数の処理室の一つは、前記第２の基板上に材料層を形成する手段を有し、
前記位置合わせ手段は、前記第２の基板における前記材料層が形成された面と前記第１の基板の被成膜面とが対向するように位置合わせして基板間隔を固定する手段を有し、
前記レーザ光を前記第２の基板に照射し、前記第２の基板上の前記材料層を前記第１の基板に選択的に成膜することを特徴とする製造装置。
【請求項３】
ロード室、該ロード室に連結された共通室、および該共通室に連結された複数の処理室と、レーザ光源とを有する製造装置であって、
前記共通室のチャンバー壁は、レーザ光源からのレーザ光が通過する窓を有し、
前記共通室は、真空排気手段と、２枚の基板の位置合わせ手段と、第１の基板及び第２の基板、または前記第１の基板及び第３の基板を固定した状態で移動させる基板移動手段とを有し、
前記複数の処理室の一つは、前記第２の基板上に第１の材料層を形成する手段を有し、
前記複数の処理室の他の一つは、前記第３の基板上に第２の材料層を形成する手段を有し、
前記位置合わせ手段は、
前記第２の基板における前記第１の材料層が形成された面と前記第１の基板の被成膜面とが対向するように位置合わせして基板間隔を固定する手段と、
前記第３の基板における前記第２の材料層が形成された面と前記第１の基板の被成膜面とが対向するように位置合わせして基板間隔を固定する手段と、を有し、
前記レーザ光を前記第２の基板に照射し、前記第２の基板上の前記第１の材料層を前記第１の基板に選択的に成膜し、
前記レーザ光を前記第３の基板に照射し、前記第３の基板上の前記第２の材料層を前記第１の基板に選択的に成膜することを特徴とする製造装置。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一において、
前記第２の基板は、レーザ光を吸収する光吸収層を選択的に有することを特徴とする製造装置。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一において、
前記共通室は、少なくともプラズマ発生手段を有し、スパッタリングターゲットと、材料ガスを導入する手段とを有することを特徴とする製造装置。
【請求項６】
請求項１乃至請求項５のいずれか一において、
前記共通室は、スパッタリングターゲットを移動させる手段を有することを特徴とする製造装置。
【手続補正書】
【提出日】平成24年2月20日(2012.2.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の上に配置されている有機発光素子であって、
前記基板側から順に、第１電極と、発光層と、第２電極とを有し、前記発光層よりも第１電極側にある第１反射面と、前記発光層よりも第２電極側にある第２反射面との間の光学距離が、前記発光層で発光した光を共振させるように設定されており、
前記光学距離が相対的に短い第１領域と前記光学距離が相対的に長い第２領域とを有している有機発光素子において、
前記第１領域における前記光学距離Ｌ１と前記第２領域における前記光学距離Ｌ２は、共振波長λ１とλ２とλ３と、前記第１反射面及び前記第２反射面で反射する際の位相シフトの和φｔと、ある視野角αとの間で、式１の関係を満たすことを特徴とする有機発光素子。
（式１）
λ１＝２Ｌ１／（ｐ−φｔ／２π）
λ２＝２Ｌ２／（ｑ＋１−φｔ／２π）
λ３＝２Ｌ２ｃｏｓα／（ｑ−φｔ／２π）
（ｐ、ｑは、それぞれ独立な正の整数、α≠０°）
かつ、λ１＝λ２＝λ３
【請求項２】
前記式１において、ｐ＝２、ｑ＝２であることを特徴とする請求項１に記載の有機発光素子。
【請求項３】
前記視野角αは、０°＜｜α｜＜６０°であることを特徴とする請求項１または２に記載の有機発光素子。
【請求項４】
有機発光素子を備える画素を複数有する表示装置において、前記画素の少なくとも１つを構成する有機発光素子が、請求項１乃至請求項３に記載の有機発光素子であることを特徴とする表示装置。
【請求項５】
基板の上に有機発光素子を備える画素を複数有する表示装置であって、
各有機発光素子は、前記基板側から順に、第１電極と、発光層と、第２電極とを有し、前記発光層よりも第１電極側にある第１反射面と、前記発光層よりも第２電極側にある第２反射面との間の光学距離が、前記発光層で発光した光を共振させるように設定されており、
前記光学距離が相対的に短い第１画素と、前記光学距離が相対的に長い第２画素とを有している表示装置において、
前記第１画素における前記光学距離Ｌ１と前記第２画素における前記光学距離Ｌ２は、共振波長λ１とλ２とλ３と、前記第１反射面及び前記第２反射面で反射する際の位相シフトの和φｔと、ある視野角αとの間で式２の関係を満たすことを特徴とする表示装置。
（式２）
λ１＝２Ｌ１／（ｐ−φｔ／２π）
λ２＝２Ｌ２／（ｑ＋１−φｔ／２π）
λ３＝２Ｌ２ｃｏｓα／（ｑ−φｔ／２π）
（ｐ、ｑは、それぞれ独立な正の整数、α≠０°）
かつ、λ１＝λ２＝λ３
【請求項６】
発光色が互いに異なる複数の画素を含む、第１の画素ユニットと、第２の画素ユニットと、を複数有しており、
前記第１の画素ユニットと前記第２の画素ユニットに共通して含まれる、ある発光色の画素は、前記第１の画素ユニットにおいて前記第１画素となっており、前記第２の画素ユニットにおいて前記第２画素となっていることを特徴とする請求項５に記載の表示装置。
【請求項７】
前記第１の画素ユニットと前記第２の画素ユニットとは、互いに隣り合っており、
前記ある発光色の前記第１画素と前記第２画素とが互いに隣り合っていることを特徴とする請求項６に記載の表示装置。
【請求項８】
前記第２画素に供給される電流値が前記第１画素に供給される電流値よりも大きいことを特徴とする請求項５または請求項６に記載の表示装置。
【請求項９】
発光色が互いに異なる複数の画素を含む画素ユニットを複数有しており、
前記画素ユニットは、前記発光色のうちの少なくともある発光色について、前記第１画素と前記第２画素とを備えることを特徴とする請求項５に記載の表示装置。
【請求項１０】
前記ある発光色とは、青色であることを特徴とする請求項６または請求項９に記載の表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成24年2月2日(2012.2.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
上部開口を有する処理容器と、
下面に厚み寸法が連続的に変化するように傾斜する傾斜面を有し、前記処理容器の上部開口を閉鎖するように配置される誘電体と、
前記誘電体の上面に配置され、前記誘電体にマイクロ波を供給して前記誘電体の下面にプラズマを発生させるアンテナとを備え、
前記アンテナは、前記傾斜面の鉛直上方に位置する複数のスロットを有する、プラズマ処理装置。
【請求項２】
前記誘電体の下面には、内周側壁面および外周側壁面が前記傾斜面であるリング形状の凹溝が形成されており、
前記スロットは、前記内周側壁面および前記外周側壁面それぞれの鉛直上方に位置する、請求項１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項３】
前記スロットは、中央部領域の鉛直上方に位置する第１のスロット群と、前記内周側壁面の鉛直上方に位置する第２のスロット群と、前記凹溝の底壁の鉛直上方に位置する第３のスロット群と、前記外周側壁面の鉛直上方に位置する第４のスロット群とに区分されている、請求項２に記載のプラズマ処理装置。
【手続補正書】
【提出日】平成24年2月17日(2012.2.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】薄膜トランジスタ
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ゲート絶縁層を介してゲート電極と重畳し、ドナーとなる不純物元素を含む半導体層と、
前記半導体層上に重ねて設けられたバッファ層と、
前記バッファ層の側面及び前記半導体層の側面を被覆する非晶質半導体層と、
前記非晶質半導体層上に設けられ、一導電型を付与する不純物元素を含む一対の不純物半導体層と、を有することを特徴とする薄膜トランジスタ。
【請求項２】
ゲート絶縁層を介してゲート電極と重畳し、ドナーとなる不純物元素を含む半導体層と、
前記半導体層上に重ねて設けられたバッファ層と、
前記バッファ層の側面及び前記半導体層の側面を被覆する非晶質半導体層と、
前記非晶質半導体層上に設けられ、一導電型を付与する不純物元素を含む一対の不純物半導体層と、を有し、
前記半導体層は微結晶半導体層であり、
前記バッファ層の側面の傾斜は、３０°〜６０°であることを特徴とする薄膜トランジスタ。
【請求項３】
請求項１又は２において、
前記バッファ層は、半導体層である第１のバッファ層と、前記第１のバッファ層上に設けられた絶縁層である第２のバッファ層を有することを特徴とする薄膜トランジスタ。
【請求項４】
請求項１又は２において、
前記バッファ層は、絶縁層であることを特徴とする薄膜トランジスタ。
【請求項５】
請求項１又は２において、
前記バッファ層は、非晶質半導体層、又は水素、窒素若しくはハロゲンを含む非晶質半導体層であることを特徴とする薄膜トランジスタ。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一項において、
前記ドナーとなる不純物元素を含む半導体層及び前記バッファ層は、環状に形成されていることを特徴とする薄膜トランジスタ。
【手続補正書】
【提出日】平成24年1月13日(2012.1.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に形成されたゲート電極と、
前記ゲート電極上に形成されたゲート絶縁層と、
前記ゲート絶縁層上に選択的に形成された、アクセプターとなる不純物元素が添加された半導体層と、
前記ゲート絶縁層及び前記アクセプターとなる不純物元素が添加された半導体層上に形成された、チャネル形成領域を有する非晶質半導体層と、
前記非晶質半導体層上に形成されたソース領域及びドレイン領域を有する一導電型を付与する不純物元素が添加された一対の不純物半導体層と、を有する薄膜トランジスタであって、
前記アクセプターとなる不純物元素が添加された領域と、前記一対の不純物領域は重なることを特徴とする薄膜トランジスタ。
【請求項２】
基板上に形成されたゲート電極と、
前記ゲート電極上に形成されたゲート絶縁層と、
前記ゲート絶縁層上に選択的に形成された、アクセプターとなる不純物元素が添加された半導体層と、
前記アクセプターとなる不純物元素が添加された半導体層上に形成された非晶質半導体層を有するバッファ層と、
前記ゲート絶縁層及び前記バッファ層上に形成された、チャネル形成領域を有する非晶質半導体層と、
前記非晶質半導体層上に形成されたソース領域及びドレイン領域を有する一導電型を付与する不純物元素が添加された一対の不純物半導体層と、を有する薄膜トランジスタであって、
前記アクセプターとなる不純物元素が添加された領域と、前記一対の不純物領域は重なることを特徴とする薄膜トランジスタ。
【請求項３】
基板上に形成されたゲート電極と、
前記ゲート電極上に形成されたゲート絶縁層と、
前記ゲート絶縁層上に選択的に形成された、アクセプターとなる不純物元素が添加された半導体層と、
前記アクセプターとなる不純物元素が添加された半導体層上に形成された絶縁層と、
前記ゲート絶縁層及び前記絶縁層上に形成された、チャネル形成領域を有する非晶質半導体層と、
前記非晶質半導体層上に形成されたソース領域及びドレイン領域を有する一導電型を付与する不純物元素が添加された一対の不純物半導体層と、を有する薄膜トランジスタであって、
前記アクセプターとなる不純物元素が添加された領域と、前記一対の不純物領域は重なることを特徴とする薄膜トランジスタ。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一項において、
前記アクセプターとなる不純物元素が添加された半導体層の電気伝導度が７×１０−７Ｓ／ｃｍ乃至０．０１Ｓ／ｃｍであることを特徴とする薄膜トランジスタ。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一項において、
前記アクセプターとなる不純物元素が添加された半導体層のアクセプター濃度は、１×１０１６ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以上２×１０１９ａｔｏｍｓ／ｃｍ３以下であることを特徴とする薄膜トランジスタ。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一項において、
前記アクセプターとなる不純物元素が添加された半導体層は微結晶シリコン層であることを特徴とする薄膜トランジスタ。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか一項において、
前記チャネル形成領域を有する非晶質半導体層が非晶質シリコン層であることを特徴とする薄膜トランジスタ。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか一項に記載の薄膜トランジスタが画素部の各画素に設けられていることを特徴とする表示装置。