【事件の表示】
　特願２００４−１６６３１２号「流体供給装置、洗浄装置および洗浄方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１７年１２月１５日出願公開、特開２００５−３４７５７５号〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯  
　本件に係る出願（以下「本願」という。）は、平成１６年６月３日の特許出願であって、平成１９年１０月１２日付けで拒絶査定がなされ（発送日：同年１０月１６日）、これに対し、同年１１月１５日に審判請求がなされ、同年１２月１４日付けで手続補正がなされたものである。  
　
２．平成１９年１２月１４日付けの手続補正についての補正却下の決定  
［補正却下の決定の結論］
　平成１９年１２月１４日付けの手続補正（以下「本件補正」という。）を却下する。
　
［理由］  
(1)補正後の本願発明  
　本件補正は、特許請求の範囲の請求項１について、補正前の請求項５に
「新しい液体を被洗浄物に向けて吐出して洗浄する新液洗浄手段と、洗浄に使用した液体を回収し、回収した液体である回収液を被洗浄物に向けて吐出して洗浄する回収液洗浄手段とを含む洗浄装置であって、
　新液洗浄手段は、
　　新しい液体を用いて被洗浄物を洗浄する第１洗浄手段と、
　　新しい液体を貯留する貯留装置と、
　　貯留装置から第１洗浄手段まで新しい液体を流す新液供給流路と、
　　新しい液体中の微粒子を除去するフィルタと、
　　１つのフィルタを迂回して新しい液体を流す新液迂回流路とを含んで構　成され、
　　新液迂回流路にはフィルタが設置されず、新液供給流路には上流側にろ　過精度の高いフィルタ、下流側にろ過精度の低いフィルタとなるように複　数のフィルタが直列に設置され、
　回収液洗浄手段は、
　　回収液を用いて被洗浄物を洗浄する第２洗浄手段と、
　　第１、第２洗浄手段のうち、少なくとも１つの洗浄手段から排出した回　収液を貯留する回収液貯留部と、
　　回収液貯留部から第２洗浄手段まで回収液を流す回収液供給流路と、
　　回収液貯留部から回収液供給流路に回収液を送るポンプと、
　　回収液供給流路を流れる回収液中の微粒子を除去する異物除去部とを含　んで構成され、
　異物除去部は、
　　微粒子を除去するフィルタと、
　　１つのフィルタを迂回して回収液を流す回収液迂回流路とを含んでポン　プより下流側に配置され、
　　回収液迂回流路にはフィルタが設置されず、回収液供給流路には上流側　にろ過精度の高いフィルタ、下流側にろ過精度の低いフィルタとなるよう　に複数のフィルタが直列に設置されることを特徴とする洗浄装置。」とあ　ったものを、
「新しい液体を被洗浄物に向けて吐出して洗浄する新液洗浄手段と、洗浄に使用した液体を回収し、回収した液体である回収液を被洗浄物に向けて吐出して洗浄する回収液洗浄手段とを含
み、被洗浄物が搬送される搬送方向上流側に回収液洗浄手段が配設され、搬送方向下流側に新液洗浄手段が配設される
　新液洗浄手段は、
　　新しい液体を用いて被洗浄物を洗浄する第１洗浄手段と、
　　新しい液体を貯留する貯留装置と、
　　貯留装置から第１洗浄手段まで新しい液体を流す新液供給流路と、
　　新しい液体中の微粒子を除去するフィルタと、
　　１つのフィルタを迂回して新しい液体を流す新液迂回流路とを含んで構　成され、
　　新液迂回流路にはフィルタが設置されず、新液供給流路には上流側にろ　過精度の高いフィルタ、下流側にろ過精度の低いフィルタとなるように複　数のフィルタが直列に設置され、
　回収液洗浄手段は、
　　回収液を用いて被洗浄物を洗浄する第２洗浄手段と、
　　第１、第２洗浄手段のうち、少なくとも１つの洗浄手段から排出した回　収液を貯留する回収液貯留部と、
　　回収液貯留部から第２洗浄手段まで回収液を流す回収液供給流路と、
　　回収液貯留部から回収液供給流路に回収液を送るポンプと、
　　回収液供給流路を流れる回収液中の微粒子を除去する異物除去部とを含　んで構成され、
　異物除去部は、
　　微粒子を除去するフィルタと、
　　１つのフィルタを迂回して回収液を流す回収液迂回流路とを含んでポン　プより下流側に配置され、
　　回収液迂回流路にはフィルタが設置されず、回収液供給流路には上流側　にろ過精度の高いフィルタ、下流側にろ過精度の低いフィルタとなるよう　に複数のフィルタが直列に設置されることを特徴とする洗浄装置。」（下線は当審にて付与、以下同様。）と補正しようとするものである。
　
(2)補正の目的
　上記補正は、洗浄装置について「
被洗浄物が搬送される搬送方向上流側に回収液洗浄手段が配設され、搬送方向下流側に新液洗浄手段が配設される
　
(3）独立特許要件
　そこで、本件補正の請求項１に記載された発明（以下「本件補正発明」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（平成１８年法律第５５号改正附則第３条第１項によりなお従前の例によるとされる同法による改正前の特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか）否かについて検討する。
(3-1)刊行物  
(3-1-1)本願の出願前に頒布された刊行物である特開２００４−１４６４１４号公報（以下「刊行物１」という。）には、図面と共に次の事項が記載されている。 
a)「薬液を貯留する薬液貯留槽と、基板に薬液を供給するための第１薬液供給ノズルと、前記薬液貯留槽に貯留された薬液を前記第１薬液供給ノズルに送液する第１薬液供給路と、前記第１薬液供給ノズルから基板に供給された薬液を前記薬液貯留槽に回収する第１薬液回収路とを有する第１薬液処理機構と、
新しい薬液を供給する新液供給部と、前記第１薬液処理機構により処理された基板に対して薬液を供給するための第２薬液供給ノズルと、前記新液供給部から前記第２薬液供給ノズルに新しい薬液を送液する第２薬液供給路と、前記第２薬液供給ノズルから基板に供給された薬液を前記薬液貯留槽、前記第１薬液回収路または前記第１薬液供給路のいずれかに回収する第２薬液回収路とを有する第２薬液処理機構と、
純水を供給する純水供給部と、前記第２薬液処理機構により処理された基板に対して純水を供給するための純水供給ノズルと、前記純水供給部から前記純水供給ノズルに純水を送液する純水供給路とを有する純水処理機構と、
を備えたことを特徴とする基板処理装置。」（【請求項１】）
b)「【従来の技術】
　例えば、
基板の表面に付着したフォトレジストを剥離液により剥離した後
　このため、基板を剥離液により処理するための剥離槽を２槽連設し、第１剥離槽でフォトレジストの大部分を剥離した後、第２剥離槽により仕上げの剥離を行うことで、フォトレジストが高濃度で溶解した剥離液と純水との基板上での混合を防止するようにした基板処理装置も提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】
特開平１１−２１６４３３号公報
【発明が解決しようとする課題】
　特許文献１に記載された基板処理装置においては、基板上で純水と混合される剥離液のフォトレジストの濃度を低減させることは可能ではあるが、第２剥離槽においても剥離液を循環使用していることに違いはないことから、剥離液中に溶解していたフォトレジストが基板上で析出し、パーティクルや異物となって基板上に固着する現象を確実に防止することは困難である。
　また、特許文献１に記載された基板処理装置においては、剥離液が基板とともに第２剥離槽から持ち出され、あるいは、ミストとなった剥離液が排気とともに持ち出されることに対応するため、新しい剥離液を補充するようにしている。この新液の補充により循環使用される剥離液中のフォトレジストの濃度は一時的に低下するが、この補充量は少量であることから、剥離液中に溶解していたフォトレジストの基板上での析出を完全に防止するには至らない。
　また、この補充は一定時間毎、あるいは、一定枚数の基板を処理する毎に実行されることから、連続して処理される基板毎の処理品質が異なるという問題も発生する。
　この発明は上記課題を解決するためになされたものであり、処理液の使用量を増加させることなく、レジストの析出等を防止して基板を高品質に処理することが可能な基板処理装置を提供することを目的とする。」（段落【0002】ないし【0008】）
c)「この基板処理装置は、矩形状の液晶表示パネル用ガラス基板（以下「基板」という）１を搬送する多数の搬送ローラ２と、この搬送ローラ２により搬送される
基板１に循環使用される剥離液を供給して処理する第１薬液処理機構３
基板１に新しい剥離液を供給して処理する第２薬液処理機構４
処理された基板１に純水を供給して水洗する
　多数の搬送ローラ２は、矩形状の基板１を、その下面両端部を支持した状態で図１における左方向から右方向に搬送する構成となっている。このとき、多数の搬送ローラ２は、基板１の主面が水平方向に対し交差するように、基板１を若干傾斜させた状態で支持して搬送する。但し、基板１の主面を、水平方向を向けた状態で搬送するようにしてもよい。
　第１薬液処理機構３は、剥離液を貯留する薬液貯留槽３１と、基板１に剥離液を供給するための複数の第１薬液供給ノズル３２と、ポンプ３５および
フィルタ３６を備え薬液貯留槽３１に貯留された剥離液を第１薬液供給ノズル３２に送液する第１薬液供給路３３
第１薬液供給ノズル３２から基板１に供給された剥離液を薬液貯留槽３１に回収する
　複数の
第１薬液供給ノズル３２は
基板１の両面に剥離液を噴出する
　第２薬液処理機構４は、新しい剥離液を供給するための剥離液の供給源４４に接続された
新液供給槽４１
ポンプ４５を備え新液供給槽４１から第２薬液供給ノズル４２に新しい剥離液を送液する第２薬液供給路４３
第２薬液供給ノズル４２から基板１に供給された剥離液を薬液貯留槽３１に回収する
　
第２薬液供給ノズル４２は
基板１の表面に新しい剥離液を滴下する
d)「次に、この基板処理装置による基板１の処理動作について説明する。
　最初に、基板１が、前段の処理工程から搬送ローラ２によって第１チャンバー３７内に搬送される。また、
薬液貯留槽３１内の剥離液がポンプ３５の作用によりフィルター３６を介して第１薬液供給ノズル３２に送液される
　基板１の処理に供された剥離液は、一対のエアナイフ３８の作用により、基板１の表面から除去される。そして、この剥離液は、第１チャンバー３７の底部から第１薬液回収路３４を介して薬液貯留槽３１に回収される。
　なお、基板１に供給された剥離液が基板１の表面で完全に乾燥すると、後段の水洗工程においてこの剥離液を基板１から除去することが困難となる。このため、一対のエアナイフ３８を使用する場合においても、第１チャンバー３７から搬出される基板１の表面には、少量の剥離液が残存している。また、剥離液の外部への拡散を防止するため、第１チャンバー３７内の雰囲気は、図示しない排気機構により排気されている。このため、第１チャンバー３７内存在するミスト状の剥離液が排気とともに第１チャンバー３７内から排出される。これらの理由により、薬液貯留槽３１、第１薬液供給路３３、第１薬液供給ノズル３２および第１薬液回収路３４を循環する剥離液の量は、徐々に減少することになる。
　第１チャンバー３７内において第１薬液処理機構３により処理された基板１は、搬送ローラ２により第２チャンバー４７内に搬送される。また、新液供給槽４１内の新しい剥離液がポンプ４５の作用により第２薬液供給ノズル４２に送液される。そして、搬送ローラ２により搬送される基板１の表面に、第２薬液供給ノズル４２から新しい剥離液が滴下される。
　基板１の表面に供給された剥離液は、一対のエアナイフ４８の作用により、基板１の表面から除去される。そして、この剥離液は、第２チャンバー４７の底部から第２薬液回収路４４を介して、第１薬液処理機構３における薬液貯留槽３１に回収される。
　上述したように、第１薬液処理機構３においては、薬液貯留槽３１、第１薬液供給路３３、第１薬液供給ノズル３２および第１薬液回収路３４を循環する剥離液の量が徐々に減少する。しかしながら、この基板処理装置においては、第２薬液供給ノズル４２から基板１に供給された剥離液が薬液貯留槽３１に回収される構成を採用していることから、第２薬液供給ノズル４２から供給される新しい剥離液が補充液として機能することになる。」（段落【0023】ないし【0029】）
e)上記摘記事項cおよび【図1】の記載によると、
基板１搬送方向上流側に第１薬液処理機構３が設けられ、基板搬送方向下流側に第２薬液処理機構４が設けられること
　
　上記記載事項及び図面の記載事項を総合勘案すると、刊行物１には、次の発明が記載されている。
「新しい剥離液を基板１に供給して表面に付着したフォトレジストを剥離する第２薬液処理機構４と、
　循環使用される剥離液を基板１に供給して表面に付着したフォトレジストを剥離する第１薬液処理機構３とを備え、
　基板１搬送方向上流側に第１薬液処理機構３が設けられ、基板搬送方向下流側に第２薬液処理機構４が設けられる基板処理装置であって、
　第２薬液処理機構４は、
　　基板１の表面に新しい剥離液を滴下する第２薬液供給ノズル４２と、
　　新液供給槽４１と、
　　ポンプ４５を備え新液供給槽４１から第２薬液供給ノズル４２に新しい　剥離液を送液する第２薬液供給路４３とから構成され、
　第１薬液処理機構３は、
　　基板１の両面に剥離液を噴出する第１薬液供給ノズル３２と、
　　第２薬液供給ノズル４２から基板１に供給された剥離液と第１薬液供給　ノズル３２から基板１に供給された剥離液を回収する薬液貯留槽３１と、
　　薬液貯留槽３１に貯留された剥離液を第１薬液供給ノズル３２に送液す　る第１薬液供給路３３と、
　　薬液貯留槽３１内の剥離液を第１薬液供給ノズル３２に送液するポンプ　３５と、
　　第１薬液供給路３３に備えられたフィルタ３６とから構成され、
剥離液を供給して処理された基板１に純水を供給して水洗する
基板処理装置。」
　
(3-1-2)原査定の拒絶の理由に引用された、本願の出願前に頒布された刊行物である特開平１０−８１０００号公報（以下「刊行物２」という。）には、図面と共に次の事項が記載されている。 
a)「【発明の属する技術分野】本発明は印刷用のインキを清浄化することができるインキ清浄装置に係り、とりわけ使用態様を広げることができる
インキ清浄装置
b)「【従来の技術】図２により、印刷機に用いる従来のインキ清浄装置について説明する。図２に示すように
インキ清浄装置１０は
ダイヤフラムポンプ１に連結され
ダイヤフラムポンプ１の上流側には供給管３が連結され
　インキ清浄装置１０はケース５と、このケース５内に収納されたフィルタ２とを有し、このうちフィルタ２のメッシュサイズはグラビア印刷機の場合、２５μｍまたは５０μｍとなっている。
【発明が解決しようとする課題】従来のインキ清浄装置１０では、フィルタ２に目詰りが生じた場合、その都度ダイヤフラムポンプ１を停止しなければならず、この場合は印刷機全体も停止するため、生産性が悪化する。
　また印刷中のフィルタ２の目詰りを予め防止するため、使用可能なフィルタ２を印刷品目切り替えの際に新品に取り替えることがあり、この場合もフィルタの運用効率を低下させてしまう。
　他方、フィルタ２のメッシュサイズは２５μｍまたは５０μｍとなっているが、より細かなメッシュサイズのフィルタを用いてインキをより清浄化したい場合もある。
　本発明はこのような点を考慮してなされたものであり、フィルタに目詰りが生じた場合でも
ダイヤフラムポンプを停止させることなく
インキをより清浄化したい
インキ清浄装置を提供することを目的とする
c)「【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。図１は本発明によるインキ清浄装置の一実施の形態を示す図である。
　図１に示すように、
インキ清浄装置１０は
大粒径フィルタ部１１と
小粒径フィルタ部１２とを備えている
　このうち大粒径フィルタ部１１と小粒径フィルタ部１２は、いずれも従来のインキ清浄装置１０と同様ケース５とケース５内のフィルタ２とを有している（図２参照）。また大粒径フィルタ部１１のフィルタサイズは５０μｍとなっており、小粒径フィルタ部１２のフィルタサイズは３〜５μｍとなっている。
　また図１に示すように大粒径フィルタ部１１と小粒径フィルタ部１２は、互いに並列に配置され、大粒径フィルタ部１１の第１入口管１１ａと
小粒径フィルタ部１２の第２入口管１２ａ
　また大粒径フィルタ部１１の第１出口管１１ｂと小粒径フィルタ部１２の第２入口管１２ａとは、弁１５ａを有する連通管１５により連結されている。さらに小粒径フィルタ部１２の第２入口管１２ａと第２出口管１２ｂには、各々弁１８および弁１９が設けられており、また第２出口管１２ｂの下流側にはフィルタの目詰りを測定する圧力計１６が配設されている。
　次にこのような構成からなる本実施の形態の作用について説明する。まず、図１（ａ）に示すように弁１３ａ、１５ａ、１９を各々開とし、弁１４ａ、１８を閉とする。この状態でダイヤフラムポンプ１（図２参照）を作動させると、
ダイヤフラムポンプ１より流入するインキは、
大粒径フィルタ部１１
小粒径フィルタ部１２を順次直列に流れて清浄化される
　このように、インキはまずメッシュサイズが粗い大粒径フィルタ部１１を経て、次にメッシュサイズが細かい小粒径フィルタ部１２で清浄化されるので、効率的にインキ中の異物を除去することができ、また大粒径フィルタ１１に比べ耐久性の低い小粒径フィルタ部１２のフィルタの寿命を長くすることができる。
　この間、圧力計１６によりフィルタの目詰りが測定され、例えば大粒径フィルタ部１１に目詰りが生じた場合は大粒径フィルタ部１１のフィルタ２が交換される。この場合は、図１（ｂ）に示すように弁１３ａ、１４ａ、１５ａ、が閉となり、弁１８、１９が開となってダイヤフラムポンプ１より流入するインキが小粒径フィルタ部１２のみを通り、この間、大粒径フィルタ部１１のフィルタ２が交換される。
　この際、弁の切り換えおよび大粒径フィルタ部のフィルタ交換を自動的に実行する手段により、弁の切り換えおよびフィルタ変換を行なってもよい。」(段落【0010】ないし【0018】）
d)「以上本発明の実施の形態によれば、インキを大粒径フィルタ部１１および小粒径フィルタ部１２に直列に通過させて、効率的にインキを清浄化することができる。また大粒径フィルタ部１１または小粒径フィルタ部１２のフィルタ交換時、または大粒径フィルタ部１１および小粒径フィルタ部１２のうちいずれか一方のみにインキを通過させた場合、ダイヤフラムポンプを停止することなく弁の切り換えのみで適切に対応することができる。
【発明の効果】以上のように本発明によれば、連通管の弁を開として、インキを大粒径フィルタ部および小粒径フィルタ部に直列に流すことができる。このためインキの
異物を
除去する
e)上記摘記事項cおよび【図1】の記載によると、開となった弁１８を通ることによって
大粒径フィルタ部１１を迂回する第２入口管１２ａにはフィルタ部が設けられず
インキ清浄装置１０は第２入口管１２ａを有する配管
ダイヤフラムポンプより下流側に連結され
小粒径フィルタ部１２
　
　上記記載事項及び図面の記載事項を総合勘案すると、刊行物２には、次の発明が記載されている。
「ダイヤフラムポンプを停止させることなく、またよりインキを清浄化する
インキ清浄装置を提供することを目的として、
　インキ清浄装置１０は、
　ダイヤフラムポンプ１を介して供給管３に連結され、
　異物を除去する大粒径フィルタ部１１と小粒径フィルタ部１２と、
　大粒径フィルタ部１１を迂回する小粒径フィルタ部１２の第２入口管１２ａとを備え、
　小粒径フィルタ部１２の第２入口管１２ａにはフィルタ部が設けられず、インキが配管の大粒径フィルタ部１１、小粒径フィルタ部１２を順次直列に流れて清浄化されるインキ清浄装置１０。」（以下「刊行物２に記載された第１の発明」という。）
および
「ダイヤフラムポンプを停止させることなく、またよりインキを清浄化する
インキ清浄装置を提供することを目的として、
　インキ清浄装置１０は、
　異物を除去する大粒径フィルタ部１１と小粒径フィルタ部１２と、
　大粒径フィルタ部１１を迂回する小粒径フィルタ部１２の第２入口管１２ａを有する配管とを含んでダイヤフラムポンプより下流側に連結され、
　小粒径フィルタ部１２の第２入口管１２ａにはフィルタ部が設けられず、インキが配管の大粒径フィルタ部１１、小粒径フィルタ部１２を順次直列に流れて清浄化される
インキ清浄装置１０。」（以下「刊行物２に記載された第２の発明」という。）の発明が記載されている。
　
(3-2)対比  
　本件補正発明と刊行物１に記載された発明とを対比する。  
　刊行物１に記載された発明の「基板１」は、剥離液を供給して処理された後に純水を供給して水洗されることから本件補正発明の「被洗浄物」に相当し、以下同様に、
　「新しい剥離液を」「供給して表面に付着したフォトレジストを剥離する」「第２薬液処理機構４」は、基板１表面のフォトレジストを剥離して洗浄を行うものであるから「新しい液体を」「吐出して洗浄する」「新液洗浄手段」に、
　「循環使用される剥離液を」「供給して表面に付着したフォトレジストを剥離する」「第１薬液処理機構３」は「洗浄に使用した液体を回収し、回収した液体である回収液を」「吐出して洗浄する」「回収液洗浄手段」に、
　「基板１搬送方向上流側に第１薬液処理機構３が設けられ」ることは「被洗浄物が搬送される搬送方向上流側に回収液洗浄手段が配設され」ることに、
　「基板搬送方向下流側に第２薬液処理機構４が設けられる」ことは「搬送方向下流側に新液洗浄手段が配設される」ことに、
　「基板処理装置」は、基板１に剥離液を供給して処理した後に純水を供給して水洗する装置であることから「洗浄装置」に、
　「基板１の表面に新しい剥離液を滴下する」「第２薬液供給ノズル４２」は「新しい液体を用いて被洗浄物を洗浄する」「第１洗浄手段」に、
　「新液供給槽４１」は「新しい液体を貯留する貯留装置」に、
　「ポンプ４５を備え新液供給槽４１から第２薬液供給ノズル４２に新しい　剥離液を送液する」「第２薬液供給路４３」は「貯留装置から第１洗浄手段まで新しい液体を流す」「新液供給流路」に、
　「基板１の両面に剥離液を噴出する」「第１薬液供給ノズル３２」は「回収液を用いて被洗浄物を洗浄する」「第２洗浄手段」に、
　「第２薬液供給ノズル４２から基板１に供給された剥離液と第１薬液供給ノズル３２から基板１に供給された剥離液を回収する」「薬液貯留槽３１」は「第１、第２洗浄手段のうち、少なくとも１つの洗浄手段から排出した回収液を貯留する」「回収液貯留部」に、
　「薬液貯留槽３１に貯留された剥離液を第１薬液供給ノズル３２に送液す　る」「第１薬液供給路３３」は「回収液貯留部から第２洗浄手段まで回収液を流す」「回収液供給流路」に、
　「薬液貯留槽３１内の剥離液を第１薬液供給ノズル３２に送液するポンプ　３５」は「回収液貯留部から回収液供給流路に回収液を送るポンプ」に、　「第１薬液供給路３３に備えられたフィルタ３６」は、「フィルタ３６」が「異物除去部」に含まれることから、「回収液供給流路を流れる回収液中の微粒子を除去する異物除去部」に、
　それぞれ相当する。
　
　したがって、上記両者の一致点及び相違点は、次のとおりである。
［一致点］  
「新しい液体を被洗浄物に向けて吐出して洗浄する新液洗浄手段と、洗浄に使用した液体を回収し、回収した液体である回収液を被洗浄物に向けて吐出して洗浄する回収液洗浄手段とを含み、被洗浄物が搬送される搬送方向上流側に回収液洗浄手段が配設され、搬送方向下流側に新液洗浄手段が配設される洗浄装置であって、
　新液洗浄手段は、
　　新しい液体を用いて被洗浄物を洗浄する第１洗浄手段と、
　　新しい液体を貯留する貯留装置と、
　　貯留装置から第１洗浄手段まで新しい液体を流す新液供給流路と、
　を含んで構成され、
　回収液洗浄手段は、
　　回収液を用いて被洗浄物を洗浄する第２洗浄手段と、
　　第１、第２洗浄手段のうち、少なくとも１つの洗浄手段から排出した回　収液を貯留する回収液貯留部と、
　　回収液貯留部から第２洗浄手段まで回収液を流す回収液供給流路と、
　　回収液貯留部から回収液供給流路に回収液を送るポンプと、
　　回収液供給流路を流れる回収液中の微粒子を除去する異物除去部とを含　んで構成される洗浄装置。」
　
［相違点１］
　本件補正発明では、新液洗浄手段が、新しい液体中の微粒子を除去するフィルタと、１つのフィルタを迂回して新しい液体を流す新液迂回流路とを含んで構成され、新液迂回流路にはフィルタが設置されず、新液供給流路には上流側にろ過精度の高いフィルタ、下流側にろ過精度の低いフィルタとなるように複数のフィルタが直列に設置されるのに対して、刊行物１に記載された発明では、当該発明特定事項を備えていない点。
　
［相違点２］
　回収液洗浄手段の異物除去部について、本件補正発明では、微粒子を除去するフィルタと、１つのフィルタを迂回して回収液を流す回収液迂回流路とを含んでポンプより下流側に配置され、回収液迂回流路にはフィルタが設置されず、回収液供給流路には上流側にろ過精度の高いフィルタ、下流側にろ過精度の低いフィルタとなるように複数のフィルタが直列に設置されるのに対して、刊行物１に記載された発明では、１つのフィルタ３６のみから構成される点。
　
(3-3)当審の判断
(3-3-1)相違点１について
　まず、本件補正発明と刊行物２に記載された第１の発明とを対比する。
　刊行物２に記載された第１の発明の「ダイヤフラムポンプ」は、その構成および機能からみて、本件補正発明の「ポンプ」に相当し、また、
　「インキ」は「液体」といえる。
　そして、刊行物２に記載された第１の発明の「インキ清浄装置１０」と本件補正発明の微粒子を除去するフィルタを具備する「洗浄装置」とは、前者がインキ中の異物を除去するものであり、後者が洗浄に際し液体中の微粒子を除去するものであることから「液体中の異物を除去するフィルタを具備する装置」である点で共通し、同様に、
　「ダイヤフラムポンプ１を介して供給管３に連結され」る（インキ清浄装置１０）と「貯留装置から第１洗浄手段まで新しい液体を流す新液供給流路」とは、前者の供給管３とインキ清浄装置１０とがインキを流す流路を構成することから「液体を流す液供給流路」である点で共通する。
　また、刊行物２に記載された第１の発明の「異物を除去する大粒径フィルタ部１１と小粒径フィルタ部１２」は、その構成および機能からみて本件補正発明の「液体中の微粒子を除去するフィルタ」に相当し、以下同様に、
　「大粒径フィルタ部１１を迂回する」「小粒径フィルタ部１２の第２入口管１２ａ」は「１つのフィルタを迂回して」「液体を流す」「液迂回流路」に、
　「フィルタ部が設けられ」ないことは「フィルタが設置され」ないことに
　「インキが配管の大粒径フィルタ部１１、小粒径フィルタ部１２を順次直列に流れて清浄化される」ことは「供給流路には上流側にろ過精度の低いフィルタ、下流側にろ過精度の高いフィルタとなるように複数のフィルタが直列に設置される」ことに、
それぞれ相当する。
　
　したがって、刊行物２に記載された第１の発明は、
「ポンプを停止させることなく、また液体をより清浄化する液体中の異物を除去する装置を提供することを目的とし、
　液体中の異物を除去する装置は、
　液体を流す液供給流路と、
　液体中の微粒子を除去するフィルタと、
　１つのフィルタを迂回して液体を流す液迂回流路とを備え、
　液迂回流路にはフィルタが設置されず、液供給流路には上流側にろ過精度の低いフィルタ、下流側にろ過精度の高いフィルタとなるように複数のフィルタが直列に設置される液中の異物を除去する装置。」と言い換えることができる。
　
　ところで、刊行物１に記載された基板処理装置は、高い表面清浄度が要求される基板を扱っている以上、洗浄液にも高い清浄度が要求されるという自明の課題を内在するものである。
　一方、半導体基板洗浄装置の技術分野において、液供給流路にフィルタを設け、フィルタにより異物を除去し、清浄化された薬液を洗浄手段に供給することは、本願出願前周知の技術事項であり（例えば、特開２００１−３４５３０４号公報の段落【0037】、【図1】や特開２００３−３０５４１８号公報の段落【0026】、【図1】参照。）、刊行物１に記載された発明においても、第２薬液供給路（本件補正発明の「新液供給流路」に相当する。）に異物を除去するためにフィルタを設けることは、当業者が普通に行い得たことである。
　そして、流路にフィルタを直列接続し、上流側にろ過精度の高いフィルタ、下流側にろ過精度の低いフィルタを設置することは、本件出願前周知の技術事項（例えば、実願平４−７４３８１号（実開平６−３４７３０号）のＣＤ−ＲＯＭの段落【0025】や、特開平６−１５２７１号公報の【請求項1】、段落【0014】や、特開昭６２−７８４２０号公報や、特開平１０−３４１４８号公報の段落【0022】参照。）であるから、上記適用に際して、上流側にろ過精度の高いフィルタを設置し、下流側にろ過精度の低いフィルタを設置することは、当業者が適宜なし得たものである。
　ゆえに、刊行物１に記載された発明における新液供給流路（第２薬液供給路）に、装置（ポンプ）を停止させることなく、またより清浄化するという目的を解決するために、刊行物２に記載された第１の発明を適用して、上記相違点１における、本件補正発明が具備する発明特定事項に到達することは、当業者が容易になし得たものである。
　
(3-3-2)相違点２について
　次に、本件補正発明と刊行物２に記載された第２の発明とを対比する。
　刊行物２に記載された第２の発明の「ダイヤフラムポンプ」は、その構成および機能からみて、本件補正発明の「ポンプ」に相当し、また、
　「インキ」は「液体」といえる。
　そして、刊行物２に記載された第２の発明の「インキ清浄装置１０」と本件補正発明の微粒子を除去するフィルタを具備する「洗浄装置」とは、前者がインキ中の異物を除去するものであり、後者が洗浄に際し液体中の微粒子を除去するものであることから「液中の異物を除去するフィルタを具備する装置」である点で共通する。
　また、刊行物２に記載された第２の発明の「異物を除去する大粒径フィルタ部１１と小粒径フィルタ部１２」は、その構成および機能からみて、本件補正発明の「微粒子を除去するフィルタ」に相当し、以下同様に、
　「大粒径フィルタ部１１を迂回する」「小粒径フィルタ部１２の第２入口管１２ａ」は「１つのフィルタを迂回して液を流す」「液迂回流路」に、
　「ダイヤフラムポンプより下流側に連結され」ることは「ポンプより下流側に配置され」ることに、
　「フィルタ部が設けられ」ないことは「フィルタが設置され」ないことに
　「配管」は「液供給流路」に、
　「インキが配管の大粒径フィルタ部１１、小粒径フィルタ部１２を順次直列に流れて清浄化される」ことは「液供給流路には上流側にろ過精度の低いフィルタ、下流側にろ過精度の高いフィルタとなるように複数のフィルタが直列に設置されること」に、
それぞれ相当する。
　
　したがって、刊行物２に記載された第２の発明は、
「ポンプを停止させることなく、また液をより清浄化する液中の異物を除去する装置を提供することを目的とし、
　液中の異物を除去する装置は、
　微粒子を除去するフィルタと、
　１つのフィルタを迂回して液を流す液迂回流路とを含んでポンプより下流側に配置され、
　液迂回流路にはフィルタが設置されず、液供給流路には上流側にろ過精度の高いフィルタ、下流側にろ過精度の低いフィルタとなるように複数のフィルタが直列に設置される
　液中の異物を除去する装置。」と言い換えることができる。
　ところで、刊行物１に記載された基板処理装置は、高い表面清浄度が要求される基板を扱っている以上、洗浄液にも高い清浄度が要求されるという自明の課題を内在するものである。
　そして、流路にフィルタを直列接続し、上流側にろ過精度の高いフィルタ、下流側にろ過精度の低いフィルタを設置することは、本件出願前周知の技術事項（例えば、実願平４−７４３８１号（実開平６−３４７３０号）のＣＤ−ＲＯＭの段落【0025】や、特開平６−１５２７１号公報の【請求項1】、段落【0014】や、特開昭６２−７８４２０号公報や、特開平１０−３４１４８号公報の段落【0022】参照。）であるから、上記適用に際して、上流側にろ過精度の高いフィルタを設置し、下流側にろ過精度の低いフィルタを設置することは、当業者が適宜なし得たものである。
　ゆえに、刊行物１に記載された発明の回収液洗浄手段の異物除去部に、装置（ポンプ）を停止させることなく、またより清浄化するという目的を解決するために、刊行物２に記載された第２の発明を適用して上記相違点２における本件補正発明が具備する発明特定事項に到達することは、当業者が容易になし得たものである。
　
(3-3-3)小括
　本件補正発明の奏する効果についてみても、刊行物１および２に記載された発明および周知の技術事項により奏される効果の範囲内のものである。 
　
(3-3-4)まとめ
　本件補正発明は、刊行物１および２に記載された発明および周知の技術事項に基いて当業者が容易に想到し得たものである。 
　よって、本件補正発明は、刊行物１および２に記載された発明および周知の技術事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により、特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。　  
　
(3-4)むすび  
　以上のとおりであるから、本件補正は、平成１８年改正前特許法第１７条の２第５項で準用する特許法第１２６条第５項の規定に違反するものであり、平成１８年改正前特許法第１５９条第１項で読み替えて準用する同法第５３条の規定により却下すべきものである。  
 　  
３．本願発明について
(1)本願発明
　平成１９年１２月１４日付け手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明（以下「本願発明」という。）は、平成１９年７月２７日付け手続補正書の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される次のとおりのものである。
「流体を貯留する貯留装置と、
　貯留装置から供給先まで流体を流す供給流路と、
　流体中の微粒子を除去するフィルタと、
　１つのフィルタを迂回して流体を流す迂回流路とを含み、
　迂回流路にはフィルタが設置されず、
　供給流路には上流側にろ過精度の高いフィルタ、下流側にろ過精度の低いフィルタとなるように、複数のフィルタが直列に設置され、
　供給流路の下流側に設置される、ろ過精度の低いフィルタには迂回流路を設置しないことを特徴とする流体供給装置。」
　
(2)刊行物  
(2-1)原査定の拒絶の理由に引用され、本願の出願前に頒布された刊行物である特開２００３−５９８８４号公報（以下「刊行物３」という。）には、図面と共に次の事項が記載されている。
a)「【発明の属する技術分野】本発明は，例えば半導体ウェハやＬＣＤ基板用ガラス等の基板を洗浄処理などする
基板処理装置
b)「【発明が解決しようとする課題】しかしながら，従来の基板洗浄処理装置にあっては，レジスト膜のドライケミカル処理のように，比較的大きな異物が発生する工程の後に洗浄処理を行うと，回収路や循環系の配管に異物が詰まりやすい問題があった。そのため，配管等を頻繁に洗浄する必要があった。また，処理液を清浄化するフィルターは，異物によって目詰まりを起こしやすかった。そのため，フィルターを頻繁に交換する必要があり，コストアップの原因となっていた。また，循環系の洗浄やフィルターの交換作業は，ウェハの洗浄処理を中断して行うので，ウェハ処理全体のスループットが低下する原因となっていた。
　従って本発明の目的は，配管等の異物詰まりを解消し，かつ，フィルターを長寿命化する基板処理装置及び基板処理方法を提供することにある。」（段落【0003】および【0004】）
c)「図１０に示すように，薬液循環ユニット１５８は，タンク２２０，ポンプ２２１，メインフィルター２２２を備えている。薬液回収路１３７はタンク２２０に接続され，タンク２２０には薬液循環路１５６と，弁２２４を備えた排液管２２３が設けられている。ポンプ２２１，メインフィルター２２２は薬液循環路１５６に設けられている。メインフィルター２２２は異物除去部１５７のフィルター２００，２１０より目の細かいものを使用すると良い。薬液回収路１３７によって薬液循環ユニット１５８に送られた
薬液は，タンク２２０に回収される
メインフィルター２２２は，薬液から微細な混濁物質を除去して，薬液を再利用が可能な状態に清浄化する
薬液は，薬液循環路１５６を通過して薬液供給路１６０に流れる
d)上記摘記事項cと【図10】の記載によると、
タンク２２０からの薬液を通過させて薬液供給路１６０に流す薬液循環路１５６
　
　上記記載事項及び図面の記載事項を総合勘案すると、刊行物３には、次の発明が記載されている。
「薬液が回収されるタンク２２０と、
　タンク２２０からの薬液を通過させて薬液供給路１６０に流す薬液循環路１５６と、
　薬液から微細な混濁物質を除去して，薬液を再利用が可能な状態に清浄化するメインフィルター２２２とを含んだ
　基板処理装置。」
　
(2-2)同じく、上記刊行物２には、上記(3-1-2)において指摘した事項が記載されている。 
　
　刊行物２の記載事項を総合勘案すると、刊行物２には、次の発明が記載されている。
「ダイヤフラムポンプを停止させることなく、またよりインキを清浄化するインキ清浄装置を提供することを目的とし、
　インキ清浄装置１０は、
　ダイヤフラムポンプ１を介して供給管３に連結され、
　異物を除去する大粒径フィルタ部１１と小粒径フィルタ部１２と、
　大粒径フィルタ部１１を迂回する小粒径フィルタ部１２の第２入口管１２ａを備え、
　第２入口管１２ａにはフィルタ部が設けられず、インキが配管の大粒径フィルタ部１１、小粒径フィルタ部１２を順次直列に流れて清浄化され、弁１４ａを閉じることにより小粒径フィルタ部１２を迂回させない
　インキ清浄装置１０。」（以下「刊行物２に記載された第３の発明」という。）
　
(3)対比
　本願発明と刊行物３に記載された発明とを対比する。
　刊行物３に記載された発明の「薬液が回収されるタンク２２０」は、その構成および作用からみて本件補正発明の「流体を貯留する貯留装置」に相当し、以下同様に、
　「タンク２２０からの薬液を通過させて薬液供給路１６０に流す薬液循環路１５６」は「貯留装置から供給先まで流体を流す供給流路」に、
　「薬液から微細な混濁物質を除去して，薬液を再利用が可能な状態に清浄化するメインフィルター２２２」は「流体中の微粒子を除去するフィルタ」に、
　「基板処理装置」は、流体である薬液を薬液供給路１６０に供給することを含むものであるから「流体供給装置」に、
それぞれ相当する。
　
　したがって、上記両者の一致点及び相違点は、次のとおりである。
［一致点］  
「流体を貯留する貯留装置と、
　貯留装置から供給先まで流体を流す供給流路と、
　流体中の微粒子を除去するフィルタとを含んだ
　流体供給装置。」
　
［相違点３］
　本願発明では、１つのフィルタを迂回して流体を流す迂回流路とを含み、迂回流路にはフィルタが設置されず、供給流路には上流側にろ過精度の高いフィルタ、下流側にろ過精度の低いフィルタとなるように、複数のフィルタが直列に設置され、供給流路の下流側に設置される、ろ過精度の低いフィルタには迂回流路を設置しないのに対して、刊行物３に記載された発明では、当該発明特定事項を具備しない点。
　
(4)当審の判断
　上記相違点３について検討する。
　本願発明と刊行物２に記載された第３の発明とを対比する。
　刊行物２に記載された第３の発明の「ダイヤフラムポンプ」は、その構成および機能からみて、本願発明の「ポンプ」に相当し、また、
　「インキ」は「流体」といえる。
　そして、刊行物２に記載された第３の発明の「インキ清浄装置１０」と本願発明の微粒子を除去するフィルタを具備する「洗浄装置」とは、前者がインキ中の異物を除去するものであり、後者が洗浄に際し液体中の微粒子を除去するものであることから「流体中の異物を除去するフィルタを具備する装置」である点で共通し、同様に、
　「ダイヤフラムポンプ１を介して供給管３に連結され」る（インキ清浄装置１０）と「貯留装置から供給先まで流体を流す供給流路」とは、前者の供給管３とインキ清浄装置１０とがインキを流す流路を構成することから、両者は、「流体を流す供給流路」である点で共通する。
　また、刊行物２に記載された第３の発明の「異物を除去する大粒径フィルタ部１１と小粒径フィルタ部１２」は、その構成および機能からみて本願発明の「流体中の微粒子を除去するフィルタ」に相当し、以下同様に、
　「大粒径フィルタ部１１を迂回する」「小粒径フィルタ部１２の第２入口管１２ａ」は「１つのフィルタを迂回して流体を流す」「迂回流路」に、
　「フィルタ部が設けられ」ないことは「フィルタが設置され」ないことに
　「インキが配管の大粒径フィルタ部１１、小粒径フィルタ部１２を順次直列に流れて清浄化され」ることは「供給流路には上流側にろ過精度の低いフィルタ、下流側にろ過精度の高いフィルタとなるように、複数のフィルタが直列に設置され」ることに、
　「弁１４ａを閉じることにより小粒径フィルタ部１２を迂回させないこと」は、弁１４ａを閉じ、小粒径フィルタ部１２を迂回する配管にインキ（本願発明の「流体」に相当する。）を流さない状態であることから、「供給流路の下流側に設置される、ろ過精度の低いフィルタには迂回流路を設置しないこと」に、
それぞれ相当する。
　
　したがって、刊行物２に記載された第３の発明は、
「ポンプを停止させることなく、また流体をより清浄化する流体中の異物を除去する装置を提供することを目的とし、
　流体中の異物を除去する装置は、
　流体を流す液供給流路と、
　流体中の微粒子を除去するフィルタと、
　１つのフィルタを迂回して流体を流す迂回流路とを備え、
　迂回流路にはフィルタが設置されず、供給流路には上流側にろ過精度の低いフィルタ、下流側にろ過精度の高いフィルタとなるように複数のフィルタが直列に設置さる液体中の異物を除去する装置。」と言い換えることができる。
　
　ところで、刊行物３に記載された基板処理装置は、高い表面清浄度が要求される基板を扱っている以上、洗浄液にも高い清浄度が要求されるという自明の課題を内在するものである。
　そして、流路にフィルタを直列接続し、上流側にろ過精度の高いフィルタ、下流側にろ過精度の低いフィルタを設置することは、本件出願前周知の技術事項（例えば、実願平４−７４３８１号（実開平６−３４７３０号）のＣＤ−ＲＯＭの段落【0025】や、特開平６−１５２７１号公報の【請求項1】、段落【0014】や、特開昭６２−７８４２０号公報や、特開平１０−３４１４８号公報の段落【0022】参照。）であるから、上記適用に際して、上流側にろ過精度の高いフィルタを設置し、下流側にろ過精度の低いフィルタを設置することは、当業者が適宜なし得たものである。
　
　ゆえに、刊行物３に記載された発明において、装置（ポンプ）を停止させることなく、またより清浄化するという目的を解決するために、刊行物２に記載された第３の発明に倣って、上記相違点３における本願発明が具備する発明特定事項に到達することは、当業者が容易になし得たものである。
　本願発明の奏する効果についてみても、刊行物３および２に記載された発明により奏される効果の範囲内のものである。 
　
(5)まとめ
　本願発明は、刊行物３および２に記載された発明および周知の技術事項に基いて当業者が容易に想到し得たものである。 
　
(6)むすび  
　以上のとおりであるから、本願発明は、刊行物３および刊行物２に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。  
　したがって、本願のその他の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。  
　
　よって、結論のとおり審決する。