【事件の表示】
　特願２００５−　５５２７１「縦型熱処理装置及び被処理体移載方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１７年１１月　４日出願公開、特開２００５−３１１３０６〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１．手続の経緯
　本願は、特許法第４１条に基づく優先権主張を伴う平成１７年３月１日（優先日、平成１６年３月２５日）の出願であって、平成２０年７月３１日付けで手続補正がなされ、同年９月２４日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、同年１０月２８日に拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに、同日付けで特許請求の範囲、及び、明細書を補正対象とする手続補正（以下、同手続補正を「本件補正」という。）がなされたものである。
　
第２．本件補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
本件補正を却下する。
［理由］
（１）補正後の本願発明
　本件補正により、特許請求の範囲は、
「【請求項１】
　下部に炉口を有する熱処理炉と、その炉口を密閉する蓋体と、該蓋体上に設けられ多数枚の被処理体をリング状支持板を介して上下方向に所定間隔で保持する保持具と、前記蓋体を昇降させて保持具を熱処理炉に搬入搬出する昇降機構と、複数枚の被処理体を所定間隔で収納する収納容器と前記保持具との間で被処理体の移載を行う複数枚の基板支持具を所定間隔で有する移載機構とを備え、該移載機構の各基板支持具下に被処理体を上掴みする上掴み機構を設け、該上掴み機構は基板支持具の先端部に設けられ被処理体の前縁部を係止する固定係止部と、基板支持具の後端側に設けられ被処理体の後縁部を着脱可能に係止する可動係止部とを有し、これら固定係止部及び可動係止部は被処理体の下面周縁部を支えるべく傾斜した下面用の傾斜面を有し、前記基板支持具には該基板支持具の下面と被処理体の上面との間に隙間を存するように被処理体の上面前後周縁部を受けるべく傾斜した上面用の傾斜面を有する受け部が設けられていることを特徴とする縦型熱処理装置。
　【請求項２】
　前記リング状支持板には前記固定係止部及び可動係止部との干渉を避けるための切欠部が設けられていることを特徴とする請求項１記載の縦型熱処理装置。
　【請求項３】
　前記基板支持具の先端部にはその両側間に張られた光線を遮るように基板保持具を移動させることにより被検出物の位置を検出するマッピングセンサが設けられていることを特徴とする請求項１記載の縦型熱処理装置。
　【請求項４】
　前記固定係止部及び可動係止部が耐熱性樹脂材からなっていることを特徴とする請求項１記載の縦型熱処理装置。
　【請求項５】
　下部に炉口を有する熱処理炉と、その炉口を密閉する蓋体と、該蓋体上に設けられ多数枚の被処理体をリング状支持板を介して上下方向に所定間隔で保持する保持具と、前記蓋体を昇降させて保持具を熱処理炉に搬入搬出する昇降機構と、複数枚の被処理体を所定間隔で収納する収納容器と前記保持具との間で被処理体の移載を行うための複数枚の基板支持具を所定間隔で有する移載機構とを備え、該移載機構の各基板支持具下に被処理体を上掴みする上掴み機構を設け、該上掴み機構は基板支持具の先端部に設けられ被処理体の前縁部を係止する固定係止部と、基板支持具の後端側に設けられ被処理体の後縁部を着脱可能に係止する可動係止部とを有し、これら固定係止部及び可動係止部は被処理体の下面側周縁部を支えるべく傾斜した下面用の傾斜面を有し、前記基板支持具には該基板支持具の下面と被処理体の上面との間に隙間を存するように被処理体の上面前後周縁部を受けるべく傾斜した上面用の傾斜面を有する受け部が設けられた縦型熱処理装置における被処理体の移載方法であって、前記移載機構の各基板支持具下に設けた上掴み機構により被処理体を上掴みして前記移載を行うことを特徴とする被処理体移載方法。」
と、補正された。
　
（２）補正事項
　上記補正は、補正前の請求項２を削除して補正前の請求項３ないし６を補正後の請求項２ないし５とするとともに、以下の事項からなる。
　
ア．補正事項１
　請求項１に記載された発明を特定する事項である「固定係止部及び可動係止部」について、「固定係止部及び可動係止部は被処理体の周縁部を支えるための傾斜面を有している」であったものを、「固定係止部及び可動係止部は被処理体の下面周縁部を支えるべく傾斜した下面用の傾斜面を有し」と補正する。
　
イ．補正事項２
　請求項１に記載された発明を特定する事項である「基板支持具」について、「前記基板支持具には該基板支持具の下面と被処理体の上面との間に隙間を存するように被処理体の上面前後周縁部を受けるべく傾斜した上面用の傾斜面を有する受け部が設けられている」との事項を加入する。
　
ウ．補正事項３
　請求項５に記載された発明を特定する事項である「固定係止部及び可動係止部」について、「固定係止部及び可動係止部は被処理体の周縁部を支えるための傾斜面を有する」であったものを、「固定係止部及び可動係止部は被処理体の下面側周縁部を支えるべく傾斜した下面用の傾斜面を有し」と補正する。
　
エ．補正事項４
　請求項５に記載された発明を特定する事項である「基板支持具」について、「前記基板支持具には該基板支持具の下面と被処理体の上面との間に隙間を存するように被処理体の上面前後周縁部を受けるべく傾斜した上面用の傾斜面を有する受け部が設けられた」との事項を加入する。
　
（３）補正の目的
　補正事項１，３は、「固定係止部及び可動係止部」が、「被処理体の周縁部を支えるための傾斜面を有する」であったものを、「被処理体の下面側周縁部を支えるべく傾斜した下面用の傾斜面を有」するものと限定するものであり、補正事項２，４は、「基板支持具には該基板支持具の下面と被処理体の上面との間に隙間を存するように被処理体の上面前後周縁部を受けるべく傾斜した上面用の傾斜面を有する受け部が設」けられることを加入するものであるから、これらの補正は、平成１８年法律第５５号による改正前の特許法（以下，「改正前特許法」という。）第１７条の２第４項第２号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　
（４）請求項１に係る発明について
　そこで、本件補正後の前記請求項１に記載された発明（以下、「本願補正発明１」という。）が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（改正前特許法第１７条の２第５項において準用する特許法第１２６条第５項の規定に適合するか）について以下に検討する。
　
（４−１）引用例
○引用例１
　原査定の拒絶の理由に引用された特開２００２−２８９６６６号公報（以下、「引用例１」という。）には、「熱処理装置」に関して、図面とともに、以下のとおり記載されている。
　
ア．【特許請求の範囲】
「【請求項１】　複数の被処理体を保持具に搭載して熱処理炉への搬入搬出を行なうための搬送作業室に、複数の被処理体を多段に収容可能なパスボックスを介して被処理体の移載作業室を接続し、該移載作業室の前部に複数の被処理体を収容した運搬容器を載置する載置台を設置し、前記移載作業室に載置台上の運搬容器とパスボックスとの間で被処理体の移載を行なう第１の移載機構を設け、前記搬送作業室にパスボックスと保持具との間で被処理体の移載を行なう第２の移載機構を設けたことを特徴とする熱処理装置。
【請求項２】　前記運搬容器には蓋が着脱自在に設けられ、前記載置台には前記蓋を開閉する蓋開閉機構が設けられていることを特徴とする請求項１記載の熱処理装置。
【請求項３】　前記第１の移載機構には前記載置台上の運搬容器内の被処理体の位置および数を検知する検知部が設けられていることを特徴とする請求項１記載の熱処理装置。
【請求項４】　前記移載作業室にはノッチを有する被処理体を多段に載置してノッチを整列させるノッチ整列機構が設けられていることを特徴とする請求項１記載の熱処理装置。
【請求項５】　前記移載作業室には複数のダミー被処理体を一時的に保持しておくダミー保持部が設けられていることを特徴とする請求項１記載の熱処理装置。
【請求項６】　前記移載作業室にはダミー被処理体用の運搬容器を前記載置台上から一時的に退避させておく退避機構が設けられていることを特徴とする請求項１記載の熱処理装置。」
　
イ．段落【０００１】〜【０００３】
「【発明の属する技術分野】本発明は、熱処理装置に関する。
【従来の技術】半導体装置の製造においては、被処理体例えば半導体ウエハに例えば酸化、拡散、ＣＶＤ等の各種の処理を施す工程があり、このような処理を行う装置として例えば熱処理装置が用いられている。この熱処理装置としては、一度に多数枚のウエハの熱処理が可能なバッチ式の縦型熱処理装置が知られている。この熱処理装置は、多数例えば１５０枚程度のウエハをボート（保持具）に多段に搭載して熱処理炉への搬入搬出を行なうためのローディングエリア（搬送作業室）と、このローディングエリア内のボートにウエハを供給するために複数例えば２５枚のウエハを収容可能なキャリア（運搬容器）を必要な数だけ保管および搬送可能な搬送保管室とを備えている。
　ローディングエリア内を清浄に保つために、ローディングエリアと搬送保管室とは隔壁で仕切られ、この隔壁にはキャリアを載置するキャリアステージと、このキャリアステージ上のキャリア内からウエハを取出すための開口部と、この開口部を開閉自在に塞ぐ扉とが設けられている。また、前記搬送保管室には、キャリアを出し入れるキャリアポート（出入口）と、その近傍に設けられたキャリア載置台と、複数個のキャリアを保管する保管棚と、これらキャリア載置台、保管棚および前記キャリアステージとの間でキャリアの搬送を行うキャリア搬送機構とが設けられている。」
　
ウ．段落【０００７】
「【課題を解決するための手段】本発明のうち、請求項１の発明は、複数の被処理体を保持具に搭載して熱処理炉への搬入搬出を行なうための搬送作業室に、複数の被処理体を多段に収容可能なパスボックスを介して被処理体の移載作業室を接続し、該移載作業室の前部に複数の被処理体を収容した運搬容器を載置する載置台を設置し、前記移載作業室に載置台上の運搬容器とパスボックスとの間で被処理体の移載を行なう第１の移載機構を設け、前記搬送作業室にパスボックスと保持具との間で被処理体の移載を行なう第２の移載機構を設けたことを特徴とする。」
　
エ．段落【００１３】〜【００１４】
「【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態を添付図面に基いて詳述する。図１は本発明の実施の形態を示す熱処理装置の概略的縦断面図、図２は同熱処理装置の概略的横断面図である。
　これらの図において、１は縦型熱処理装置の外郭を形成する筐体で、この筐体内には、複数例えば３６枚程度の被処理体例えば半導体ウエハｗを保持具であるボート２に搭載して熱処理炉への搬入（ロード）、搬出（アンロード）を行なうための搬送作業室であるローディングエリア３と、ウエハｗの移載作業を行うための移載作業室（ウエハハンドリングエリアともいう）４とが隔壁５を介して設けられている。」
　
オ．段落【００１７】〜【００１８】
「前記ローディングエリア３には、前記熱処理炉６の炉口を開閉する蓋体７が昇降機構（ボートエレベータともいう）９を介して昇降可能に設けられ、この蓋体７上に前記ボート２が載置されている。ボート２は、例えば２５枚の製品ウエハの他に、ダミーウエハおよびモニターウエハを合せて最大３６枚のウエハｗを上下方向に所定間隔で多段に搭載保持可能になっている。
　前記隔壁５には、複数例えば３６枚程度のウエハｗを多段に収容可能なパスボックス１０が隔壁５を貫通する状態で設けられている。このパスボックス１０は、後述する第１の移載機構１１と第２の移載機構１２との間でウエハｗの遣り取りを行うインターフェースとしての機能を有している。パスボックス１０内には、複数例えば３６枚程度のウエハｗを上下方向に所定間隔で多段に支持する棚１３が設けられている。また、パスボックス１０は、ローディングエリア３側と移載作業室４側が開口しており、移載作業室４側からローデインエリア３側へ、あるいは、ローディングエリア３側から移載作業室４側へ、ウエハｗの通過が可能になっている。」
　
カ．段落【００２４】〜【００２６】
「そして、前記移載作業室４には、載置台１７上のキャリア１６とパスボックス１０との間でウエハｗの移載を行なう第１の移載機構１１が設けられ、前記ローディングエリア３には、パスボックス１０とボート２との間でウエハｗの移載を行なう第２の移載機構１２が設けられている。第１の移載機構１１と第２の移載機構１２は、第１の移載機構１１が左右移動機構２７およびウエハマッピングのための検知部２８を有する点を除けば第１の移載機構１１と略同じ構成であるため、第１の移載機構１１についてのみ説明し、第２の移載機構１２の説明は省略する。
　図４は第１の移載機構を示す図である。この第１の移載機構１１は、複数例えば５枚のウエハｗを多段に支持可能な複数例えば５枚のフォーク２９（支持板）を有する移載アーム３０を備えている。この移載アーム３０は、進退移動可能、水平回動可能、上下移動可能および左右移動可能に構成されている。
　具体的には、移載アーム３０は、単独で進退移動可能な中央のフォーク２９と、進退移動およびピッチ変換が可能な４本のフォーク２９とを備えている。移載アーム３０は、これらのフォーク２９を進退移動する図示しない進退移動機構を内蔵した基台３１を有している。この基台３１は、上下移動機構３２の昇降アーム３３に水平回動機構３４を介して水平回動可能に設けられ、この上下移動機構３２の下方には、この上下移動機構３２を左右方向に平行移動可能な左右移動機構２７が設けられている。」
　
　そして、【図１】の記載によれば、開状態の蓋体７が熱処理炉６の下部に位置しているから、蓋体７によって開閉される熱処理炉６の炉口は、熱処理炉６の下部に設けられていることが示されている。
　
　以上によれば、引用例１には、
「下部に炉口を有する熱処理炉と、その炉口を開閉する蓋体と、該蓋体上に設けられ多数枚の被処理体を支持板を介して上下方向に所定間隔で保持するボートと、前記蓋体を昇降させて保持具を熱処理炉に搬入搬出する昇降機構と、複数枚の被処理体を所定間隔で収納するパスボックスと前記保持具との間で被処理体の移載を行う複数枚のフォークを所定間隔で有する移載機構とを備える熱処理装置。」
　との発明（以下、「引用例発明１」という。）が開示されていると認められる。
　
○引用例２
　同じく、原査定の拒絶の理由に引用された特開２００３−３３８５３１号公報（以下、「引用例２」という。）には、「半導体ウエハの搬送装置および熱処理装置」に関して、図面とともに、以下のとおり記載されている。
　
キ．【特許請求の範囲】
「【請求項１】　搬送するウエハ周縁部における下側面に係止して、前記ウエハを吊り下げ状態で支持する複数の係止部材が備えられ、前記各係止部材は、前記ウエハを吊り下げ状態で支持するウエハ支持位置と、前記ウエハの外形周縁の外側まで移動して前記ウエハの支持状態を解除するウエハ解除位置との間で往復移動できるように構成される共に、前記各係止部材は、前記ウエハ支持位置およびウエハ解除位置の範囲でアクチュエータにより往復駆動されるように構成したことを特徴とする半導体ウエハの搬送装置。
【請求項２】　前記係止部材は、平板状に形成された搬送部材の下側面に突出するようにして配置され、前記ウエハを各係止部材によって水平姿勢に支持した状態において、当該ウエハの上面が前記搬送部材の下側面に非接触状態で吊り下げられるように構成したことを特徴とする請求項１に記載された半導体ウエハの搬送装置。
【請求項３】　前記係止部材には、前記搬送部材の下側面から突出する鉛直部と、当該鉛直部に連なり前記ウエハ周縁部における下側面を支える水平方向に延出されたオーバハング部とが備えられ、前記鉛直部とオーバハング部とにより、係止部材がＬ字状に形成されたことを特徴とする請求項２に記載された半導体ウエハの搬送装置。
【請求項４】　前記係止部材における鉛直部が、搬送部材に形成されたスリット内を移動して、前記ウエハ支持位置とウエハ解除位置との間を往復できるように構成され、前記係止部材を駆動するアクチュエータからの駆動力が、搬送部材の上面に配置されたロッド部材を介して伝達されるように構成したことを特徴とする請求項３に記載された半導体ウエハの搬送装置。
【請求項５】　前記係止部材が合成樹脂により形成されていることを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれかに記載された半導体ウエハの搬送装置。
【請求項６】　前記搬送部材には、フッ素樹脂コートが施されていることを特徴とする請求項２ないし請求項４のいずれかに記載された半導体ウエハの搬送装置。
【請求項７】　半導体ウエハをウエハボートに搬入またはウエハボートから搬出させる搬送装置として、請求項１ないし請求項６のいずれかに記載された半導体ウエハの搬送装置を利用した熱処理装置であって、前記ウエハボートには、前記搬送装置によって搬入される半導体ウエハを、上面に重合状態に載置する平板状のウエハホルダが配置され、前記ウエハホルダには、前記アクチュエータによって駆動される前記係止部材の当接を避ける切り欠き部が形成されていることを特徴とする熱処理装置。
【請求項８】　前記半導体ウエハの板面の外形と、ウエハホルダの板面の外径とがほぼ同一寸法に形成されていることを特徴とする請求項７に記載された熱処理装置。」
　
ク．段落【０００１】
「【発明の属する技術分野】この発明は、半導体ウエハを例えば縦型ウエハボートに搬入または搬出させるのに好適な半導体ウエハの搬送装置に関し、特に酸化あるいは拡散等の熱処理工程において、半導体ウエハにスリップを発生させる度合いを低減させることに寄与できる半導体ウエハの搬送装置およびこれを用いた熱処理装置に関する。」
　
ケ．段落【００１８】〜【００２２】
「【課題を解決するための手段】前記した目的を達成するためになされたこの発明にかかる半導体ウエハの搬送装置は、搬送するウエハ周縁部における下側面に係止して、前記ウエハを吊り下げ状態で支持する複数の係止部材が備えられ、前記各係止部材は、前記ウエハを吊り下げ状態で支持するウエハ支持位置と、前記ウエハの外形周縁の外側まで移動して前記ウエハの支持状態を解除するウエハ解除位置との間で往復移動できるように構成される共に、前記各係止部材は、前記ウエハ支持位置およびウエハ解除位置の範囲でアクチュエータにより往復駆動されるように構成した点に特徴を有する。
　前記した構成の搬送装置によると、アクチュエータの駆動により各係止部材は、ウエハ支持位置と解除位置との間で往復移動される。そして、前記搬送装置によってウエハを支持する場合においては、ウエハ周縁部における下側面の複数箇所において各係止部材が係止し、前記ウエハを吊り下げ状態で支持するようになされる。
　この場合、前記係止部材は、平板状に形成された搬送部材の下側面に突出するようにして配置され、前記ウエハを各係止部材によって水平姿勢に支持した状態において、当該ウエハの上面が前記搬送部材の下側面に非接触状態で吊り下げられるように構成されていることが望ましい。加えて、前記係止部材には、前記搬送部材の下側面から突出する鉛直部と、当該鉛直部に連なり前記ウエハ周縁部における下側面を支える水平方向に延出されたオーバハング部とが備えられ、前記鉛直部とオーバハング部とにより係止部材がＬ字状に形成されていることが望ましい。
　この構成によると、ウエハを吊り下げ状態で保持する係止部材は、平板状に形成された搬送部材（フォーク）の下側面に突出するようにして配置されるので、平板状に形成された搬送部材をベースとして、各係止部材の機械的な位置関係を正確に定めることができる。そして、ウエハの上面が前記搬送部材の下側面に非接触状態で吊り下げられるようになされるので、搬送中においてウエハの上面に傷を付ける等の問題も回避することができる。
　さらに、搬送部材の下側面に突出するようにして配置される前記係止部材は、平板状の搬送部材における下側面から突出する鉛直部と、これに連なるオーバハング部とによりＬ字状に形成されているので、前記オーバハング部によって、ウエハ周縁部における下側面を確実に支えることができる。」
　
コ．段落【００５０】〜【００５２】
「ここで、この発明にかかる熱処理装置は、以上説明したウエハ搬送装置２１と、図９に示した縦型ウエハボート１、および図８に示した平板状のウエハホルダＨとの組み合わせにより構成される。図８に示したウエハホルダＨは、例えば多結晶シリコン粒状体を焼結したシリコン焼結体により構成されている。そして、ウエハホルダＨの板面の外径は、前記ウエハ搬送装置２１によって搬送されるウエハＷの板面の外形とほぼ同一寸法に形成されている。またウエハホルダＨには、図８に示すようにその周縁の四か所に切り欠き部５５が施されている。
　この切り欠き部５５は、搬送装置２１における各係止部材３６〜３９によってウエハＷを支持した状態において、各係止部材３６〜３９の当接が避けられる位置に形成されている。そして、前記した構成のウエハホルダＨは、図９に示した縦型ウエハボート１に鎖線で示すように予め配置されている。この場合、前記各切り欠き部５５が搬送装置２１の各係止部材３６〜３９に当接しないように、その位置関係が定められてボート１内に配置される。すなわち、図８に符号５６で示した矢印が、図９に示したウエハボート１におけるウエハの搬入または搬出用の開口部３から奥側に向くようにして、ホルダＨがボート１に配置されている。
　この構成により、搬送装置２１は図示せぬウエハカセットからウエハＷを吊り下げ状態で搬出し、ウエハボート１に予め載置されたウエハホルダＨの上面において支持を解除することにより、ウエハＷはホルダＨの上面に重合状態で載置される。このようにしてウエハボート１に収容されたウエハＷは、周知の熱処理炉内に装填されて酸化あるいは拡散等の熱処理が実行される。」
　
　以上によれば、引用例２には、
「熱処理装置に用いる半導体ウエハの搬送装置であって、ウエハを吊り下げ状態で支持する複数の係止部材が、平板状に形成された搬送部材の下側面に突出するようにして配置され、前記ウエハを各係止部材によって水平姿勢に支持した状態において、当該ウエハの上面が前記搬送部材の下側面に非接触状態で吊り下げられるように構成されている半導体ウエハの搬送装置。」
　との発明（以下、「引用例発明２」という。）が開示されていると認められる。
　
　また、引用例２には、以下の事項も記載されている。
「縦型ウエハボート１に予め配置されている平板状のウエハホルダＨは、ウエハを上面に重合状態で載置するものであり、板面の外径がウエハＷの板面の外形とほぼ同一寸法に形成され、その周縁の四か所に切り欠き部が施され、この切り欠き部５５は、搬送装置２１における各係止部材３６〜３９によってウエハＷを支持した状態において、各係止部材３６〜３９の当接が避けられる位置に形成され、各切り欠き部５５が搬送装置２１の各係止部材３６〜３９に当接しないように、その位置関係が定められてボート１内に配置される。」（以下、「引用例２記載事項」という。）
　
○引用例３
　同じく、原査定の拒絶の理由に引用された特開２００２−１４１４０５号公報（以下、「引用例３」という。）には、「基板搬送装置」に関して、図面とともに、以下のとおり記載されている。
　
サ．【特許請求の範囲】
「【請求項１】基板（７）の周縁部を複数箇所で把持し、この状態で基板（７）を搬送する装置であって、
　所定形状の平板部材（２）と、
　平板部材（２）の所定位置に設けられ、基板（７）の周縁部と係合可能なＶ字状の溝（３ａ）を有する少なくとも１つの固定係合部材（３）と、
　平板部材（２）の他の所定位置に設けられ、基板（７）の周縁部と係合可能なＶ字状の溝（４ａ）を有し、把持された基板（７）の略中心に向かって往復動作可能に構成された少なくとも１つの可動係合部材（４）と、
　平板部材（２）の他の所定位置に設けられ、可動係合部材（４）による係合位置に近接する所定位置と係合すべく把持された基板（７）の略中心に向かって往復動作可能に構成され、かつ基板（７）の周縁部とほぼ直交する係合面（６ａ）を有する補助係合部材（６）と、
　可動係合部材（４）および補助係合部材（６）を互いに独立して動作させる駆動部と、
　を含むことを特徴とする基板搬送装置。
【請求項２】　前記平板部材（２）の、固定係合部材（３）、可動係合部材（４）と近接する所定位置に設けられ、かつ把持された基板（７）の略中心に向かって徐々に低くなるテーパ面を有する傾斜面部材（５）をさらに含む請求項１に記載の基板搬送装置。
【請求項３】　前記補助係合部材（６）は、可動係合部材（４）を基準として互いに対称な所定位置に設けられている請求項１に記載の基板搬送装置。
【請求項４】　前記補助係合部材（６）は、可動係合部材（４）を基準として一方の側に近接する所定位置に設けられている請求項１に記載の基板搬送装置。
【請求項５】　前記傾斜面部材（５）は、平板部材（２）の所定位置に固定されている請求項２に記載の基板搬送装置。
【請求項６】　前記傾斜面部材（５）は、可動係合部材（４）の動作に追従して動作するように構成されている請求項２に記載の基板搬送装置。
【請求項７】　前記平板部材（２）を複数枚有しているとともに、これらの平板部材（２）が厚み方向に所定間隔ごとに配置されている請求項１から請求項６の何れかに記載の基板搬送装置。
【請求項８】　前記駆動部は、全ての可動係合部材（４）を同時動作させるとともに、全ての補助係合部材（６）を同時動作させるものである請求項７に記載の基板搬送装置。」
　
シ．段落【０００１】
「【発明の属する技術分野】この発明は基板搬送装置に関し、さらに詳細にいえば、基板の周縁部を複数箇所で把持し、この状態で基板を搬送する基板搬送装置に関する。」
　
ス．段落【００２９】〜【００３５】
「【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して、この発明の基板搬送装置の実施の態様を詳細に説明する。
　図１はこの発明の基板搬送装置の一実施態様の要部（チャックハンド）を示す斜視図、図２は搬送対象である基板を支持する状態を示す斜視図である。なお、このチャックハンドは、従来公知の産業用ロボットなどにより移動させられるとともに、必要に応じて姿勢変更が行われる。
　このチャックハンドは、ハンド本体１の所定位置にＵ字状の平板部材２の基部を固定し、この平板部材２の２つの先端部に固定係合部材３を、基部に可動係合部材４を設けている。そして、可動係合部材４を挟んで対称位置に傾斜面部材５および補助係合部材６をこの順に設けている。
　前記平板部材２は、搬送対象である基板７を確実に保持できる機械的強度を有し、かつ厚みが可能な限り薄く設定されている。もちろん、平面形状は、搬送対象である基板（例えば、半導体ウエハ）７の保持に適したサイズに設定されている。
　前記固定係合部材３は、平板部材２の先端部に固定された部材であり、搬送対象である基板７の周縁部のみと係合できるように、平板部材２と平行に延びるＶ字状の溝３ａを有しているとともに、溝３ａよりも平板部材側の突出部３ｂが他方の突出部３ｃよりも長く形成されている。なお、溝３ａが搬送対象である基板７に周縁部の接線方向を向くように固定係合部材３の向きが設定されている。
　前記可動係合部材４は、従来公知の図示しない駆動機構によって搬送対象である基板７の半径方向に進退可能に設けられた部材であり、平板部材２と平行に延びるＶ字状の溝４ａを有しているとともに、溝４ａを挟む両側の突出部が互いに等しい長さに形成されている。なお、溝４ａが搬送対象である基板７に周縁部の接線方向を向くように可動係合部材４の向きが設定されている。
　前記傾斜面部材５は、可動係合部材４の移動方向と平行に延びる部材であり、搬送対象である基板７の中心に近い側が平板部材２に近づくようにその上面が傾斜面に形成されているとともに、可動係合部材４が搬送対象である基板７の中心から離れる方向に移動した状態においても基板７の周縁部と係合して基板７を支承できるように固定位置、長さが設定されている。」
　
セ．段落【００６０】〜【００６２】
「図１７はこの発明の基板搬送装置の他の実施態様の要部（チャックハンド）を示す斜視図、図１８は搬送対象である基板を支持する状態を示す斜視図である。
　このチャックハンドが図１のチャックハンドと異なる点は、ハンド本体１の所定位置に４枚の平板部材２を厚み方向に所定間隔毎に設けた点、および各平板部材２に設けられる傾斜面部材５と補助係合部材６との数を共に１に設定した点のみである。
　そして、この場合において、可動係合部材４を駆動する駆動源、および補助係合部材６を駆動する駆動源を平板部材毎に設けてもよいが、全ての可動係合部材４を同時動作させるように駆動源を設けるとともに、全ての補助係合部材６を同時動作させるように駆動源を設けることが好ましく、構成を簡単化することができる。」
　
　以上によれば、引用例３には、
「基板の周縁部を複数箇所で把持し、この状態で基板を搬送する装置であって、所定形状の平板部材と、平板部材の先端部に設けられ、基板の周縁部と係合可能なＶ字状の溝を有する固定係合部材と、平板部材の基部に設けられ、基板の周縁部と係合可能なＶ字状の溝を有し、把持された基板の略中心に向かって往復動作可能に構成された可動係合部材と、可動係合部材を動作させる駆動部と、前記平板部材の、固定係合部材、可動係合部材と近接する所定位置に設けられ、かつ把持された基板の略中心に向かって徐々に低くなるテーパ面を有する傾斜面部材を含み、必要に応じて姿勢変更が行われる基板搬送装置。」
　との発明（以下、「引用例発明３」という。）が開示されていると認められる。
　
（４−２）対比
　そこで、本願補正発明１と引用例発明１とを比較すると、両者は半導体基板用の「熱処理装置」である点において、基本的に一致している。
　そして、両者の「熱処理炉」、「炉口」、「蓋体」、「昇降機構」、「移載機構」は共通しており、引用例発明１の「ボート」は、本願補正発明１の「保持具」に、引用例発明１の「パスボックス」は、本願補正発明１の「収納容器」に相当していることは明らかである。
　
　以上の通りであるから、両者は、
＜一致点＞
「下部に炉口を有する熱処理炉と、その炉口を密閉する蓋体と、該蓋体上に設けられ多数枚の被処理体を支持板を介して上下方向に所定間隔で保持する保持具と、前記蓋体を昇降させて保持具を熱処理炉に搬入搬出する昇降機構と、複数枚の被処理体を所定間隔で収納する収納容器と前記保持具との間で被処理体の移載を行う複数枚の基板支持具を所定間隔で有する移載機構とを備えている縦型熱処理装置。」
　の点で一致し、以下の点で相違している。
　
＜相違点１＞
　本願補正発明１では、保持具の支持板の形状が「リング状」であるのに対し、引用例発明１の支持板の形状は不明である点。
　
＜相違点２＞
　本願補正発明１では、「該移載機構の各基板支持具下に被処理体を上掴みする上掴み機構を設け、
該上掴み機構は基板支持具の先端部に設けられ被処理体の前縁部を係止する固定係止部と、基板支持具の後端側に設けられ被処理体の後縁部を着脱可能に係止する可動係止部とを有し、
これら固定係止部及び可動係止部は被処理体の下面周縁部を支えるべく傾斜した下面用の傾斜面を有し、
前記基板支持具には該基板支持具の下面と被処理体の上面との間に隙間を存するように被処理体の上面前後周縁部を受けるべく傾斜した上面用の傾斜面を有する受け部が設けられている」のに対して、引用例発明１の「移載機構」のがそのようなものであるかは不明である点。
　
（４−３）判断
○　相違点１について
　相違点１について検討すると、熱処理炉において支持板をリング状とすることは、例えば、特開平７−３２６５９３号公報（第２図、ボート３２のリングトレー３０参照。）、特許第２９１３４３９号公報（第１図、ウエハボート４のリング状の保持部材４４参照。）にみられるように周知の事項である。
　してみれば、相違点１に係る構成の違いは、引用例発明１に周知事項を適用したにすぎないものであり、当業者が容易に想到し得たものである。
　
○　相違点２について
　相違点２について検討すると、相違点２の内、上掴みすること自体に関しては、ウエハの上面が前記搬送部材の下側面に非接触状態で吊り下げられる搬送装置として、引用例発明２に示されたものであり、また、引用例発明３は必要に応じて姿勢変更が行われるのであるから、把持する際の基板の位置は様々な姿勢が想定され、そのうち、基板を上方から把持する姿勢は基板を上掴みすることに相当する。
　そして、引用例発明３の「平板部材」は、本願補正発明１の「基板支持具」に、同様に、「固定係合部材」は、「固定係止部」に、「可動係合部材」は、「可動係止部」に相当することが明らかであるから、本願補正発明１の上掴み機構として、「基板支持具の先端部に設けられ被処理体の前縁部を係止する固定係止部と、基板支持具の後端側に設けられ被処理体の後縁部を着脱可能に係止する可動係止部とを有」する点は、引用例発明３に「平板部材の先端部に設けられ、基板の周縁部と係合可能なＶ字状の溝を有する固定係合部材と、平板部材の基部に設けられ、基板の周縁部と係合可能なＶ字状の溝を有し、把持された基板の略中心に向かって往復動作可能に構成された可動係合部材」として示されている。
　また、本願補正発明１の「これら固定係止部及び可動係止部は被処理体の下面周縁部を支えるべく傾斜した下面用の傾斜面を有」する点は、引用例発明３の基板搬送装置を、上掴み姿勢で使用する際の、固定係合部材・可動係合部材のＶ字状の溝を構成する斜面の内、平板部材から離れた側の斜面が基板の下面周縁部に接するから、この点も引用例発明３に示されているものである。
　さらに、本願補正発明１の「前記基板支持具には該基板支持具の下面と被処理体の上面との間に隙間を存するように被処理体の上面前後周縁部を受けるべく傾斜した上面用の傾斜面を有する受け部が設けられている」点についてみると、引用例発明３に示された「把持された基板の略中心に向かって徐々に低くなるテーパ面を有する傾斜面部材」は、その作用からみて、基板と平板部材の隙間を保ち、基板の上面周縁に接しているものであるから、この傾斜面部材は、本願補正発明１の受け部に相当するものである。
　してみれば、相違点２に係る構成の違いは、引用例発明１に引用例発明３を適用したにすぎないものであり、当業者が容易に想到し得たものである。
　
　以上のとおりであるから、本願補正発明１は、引用例発明１、及び、引用例発明２，３、周知事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
（５）むすび
　以上のとおり、本件補正は、改正前特許法第１７条の２第５項において準用する特許法第１２６条第５項の規定に違反するので、改正前特許法第１５９条第１項で読み替えて準用する同法第５３条第１項の規定により却下されるべきものである。
　
第３．本願発明について
（１）本願発明
　本件補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１ないし６に係る発明は、平成２０年７月３１日付け手続補正書の特許請求の範囲の請求項１ないし６に記載されたとおりのものと認められるところ、請求項１ないし６に係る発明（以下、「本願発明１」ないし「本願発明６」という。）は、以下のとおりのものである。
「【請求項１】
　下部に炉口を有する熱処理炉と、その炉口を密閉する蓋体と、該蓋体上に設けられ多数枚の被処理体をリング状支持板を介して上下方向に所定間隔で保持する保持具と、前記蓋体を昇降させて保持具を熱処理炉に搬入搬出する昇降機構と、複数枚の被処理体を所定間隔で収納する収納容器と前記保持具との間で被処理体の移載を行う複数枚の基板支持具を所定間隔で有する移載機構とを備え、該移載機構の各基板支持具下に被処理体を上掴みする上掴み機構を設け、該上掴み機構は基板支持具の先端部に設けられ被処理体の前縁部を係止する固定係止部と、基板支持具の後端側に設けられ被処理体の後縁部を着脱可能に係止する可動係止部とを有し、これら固定係止部及び可動係止部は被処理体の周縁部を支えるための傾斜面を有していることを特徴とする縦型熱処理装置。
【請求項２】
　前記基板支持具には該基板支持具の下面と被処理体の上面との間に隙間を存するように被処理体の前後周縁部を受ける受け部が設けられていることを特徴とする請求項１記載の縦型熱処理装置。
【請求項３】
　前記リング状支持板には前記固定係止部及び可動係止部との干渉を避けるための切欠部が設けられていることを特徴とする請求項１記載の縦型熱処理装置。
【請求項４】
　前記基板支持具の先端部にはその両側間に張られた光線を遮るように基板保持具を移動させることにより被検出物の位置を検出するマッピングセンサが設けられていることを特徴とする請求項１記載の縦型熱処理装置。
【請求項５】
　前記固定係止部及び可動係止部が耐熱性樹脂材からなっていることを特徴とする請求項１記載の縦型熱処理装置。
【請求項６】
　下部に炉口を有する熱処理炉と、その炉口を密閉する蓋体と、該蓋体上に設けられ多数枚の被処理体をリング状支持板を介して上下方向に所定間隔で保持する保持具と、前記蓋体を昇降させて保持具を熱処理炉に搬入搬出する昇降機構と、複数枚の被処理体を所定間隔で収納する収納容器と前記保持具との間で被処理体の移載を行うための複数枚の基板支持具を所定間隔で有する移載機構とを備え、該移載機構の各基板支持具下に被処理体を上掴みする上掴み機構を設け、該上掴み機構は基板支持具の先端部に設けられ被処理体の前縁部を係止する固定係止部と、基板支持具の後端側に設けられ被処理体の後縁部を着脱可能に係止する可動係止部とを有し、これら固定係止部及び可動係止部は被処理体の周縁部を支えるための傾斜面を有する縦型熱処理装置における被処理体の移載方法であって、前記移載機構の各基板支持具下に設けた上掴み機構により被処理体を上掴みして前記移載を行うことを特徴とする被処理体移載方法。」
　
（２）引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された引用例、および、その記載事項、ならびに周知事項は、前記第２．に記載したとおりである。
　
（３）対比・判断
　本願発明１は、前記第２．で検討した本願補正発明１から、前記第２．（２）に記載した補正事項１，２の特定事項を省いたものである。
　そうすると、本願発明１の特定事項を全て含み、さらに他の特定事項を付加したものに相当する本願補正発明１が、前記第２．（４）、（５）に記載したとおり、引用例発明１、及び、引用例発明２，３、周知事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明１も、同様の理由により、引用例発明１、及び、引用例発明２，３、周知事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
（４）むすび
　以上のとおり、本願発明１は、引用例発明１、及び、引用例発明２，３、周知事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができず、他の請求項についてみるまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。
　
　なお、請求人は、平成２２年２月４日付け回答書において、特許請求の範囲の補正案を提示し、補正の用意があると述べている。この補正案は、請求項１、及び請求項４に係る発明に、「前記リング状支持板には前記固定係止部及び可動係止部との干渉を避けるための切欠部が設けられ」ているとの事項をさらに限定しようとするものであるので、これについても検討すると、前記第２．（４−１）○引用例２の、引用例２記載事項で述べたように、このような切欠部を設けることも、引用例２に記載された事項である。
　してみれば、当該補正案を採用した場合の特許請求の範囲の請求項１、及び請求項４に係る発明も、引用例発明１、及び、引用例発明２，３、周知事項に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであるとせざるを得ない。