【事件の表示】
　特願２０００−１７３９７９「光情報記録媒体の情報記録方法及び光情報記録媒体」拒絶査定不服審判事件〔平成１３年１２月２１日出願公開、特開２００１−３５１２６９〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯
　本願は、平成１２年６月９日の出願であって、拒絶理由通知に対し平成１６年１１月１５日付けで手続補正がされたが、平成１６年１２月２日付で拒絶査定され、これに対し、平成１７年１月１３日に拒絶査定不服の審判が請求されるとともに、同年２月１０日付で手続補正がされたものである。
　
２．平成１７年２月１０日付の手続補正についての補正却下の決定
　
　［補正却下の決定の結論］
　　平成１７年２月１０日付の手続補正を却下する。
　
　［理　由］
　
(1) 補正の内容
　平成１７年２月１０日付け手続補正（以下、「本件補正」という。）は、
　特許請求の範囲について、補正前の請求項３の
「その表面にプリグルーブおよびランドを形成した基板と、
　レーザー光を吸収して色素の発熱分解により熱変形可能な光吸収層と、
　この光吸収層と前記基板との間に位置して形成した光反射層と、を有し、
前記レーザー光を利用して前記光吸収層に記録ピットによる情報を記録する光情報記録媒体の情報記録方法であって、
　前記光吸収層の前記光反射層との間の界面とは反対側の界面に前記レーザー光を透過する熱硬化性樹脂で形成した光入射層を形成し、
　この光入射層側から前記光吸収層を通して前記光反射層に向けて前記レーザー光を照射し、前記ランドの部分における前記光吸収層内に前記記録ピットを形成することを特徴とする光情報記録媒体の情報記録方法。」を
「波長が４００〜６００ｎｍのレーザー光を利用して情報を記録する光情報記録媒体の情報記録方法であって、
　前記光情報記録媒体は、
　前記レーザー光を透過する熱硬化性樹脂で形成した厚さが０．１ｍｍ以下の光入射層と、
　この光入射層上に位置して形成するとともに前記レーザー光を吸収して色素の発熱分解により熱変形した記録ピットによる情報を記録する光吸収層と、
　この光吸収層上に位置して形成するとともに前記レーザー光を反射する波長４００〜６００ｎｍ付近で反射率の高い金、銀、アルミニュームなどを採用した光反射層と、
　この光反射層上に位置して形成するとともに、この光反射層との間の界面にプリグルーブおよびランドを有する基板であって、平坦なガラス板の表面にフォトレジスト層を形成し、このフォトレジスト層をレーザー光によりカッテイングして前記基板のプリグルーブおよびランドのパターンとは反転した凹凸パターンを形成することにより前記基板のプリグルーブおよびランドのパターンとは反転した凹凸パターンを有する原盤を作製し、この原盤を用いて、前記基板のプリグルーブおよびランドのパターンを有するマスタースタンパーを作製し、このマスタースタンパーを用いて、前記基板の前記プリグルーブおよびランドのパターンとは反転した凹凸パターンを有するスレイブスタンパーを作製し、このスレイブスタンパーを用いて前記基板を作製することにより得られるその基板と、
　を有し、
前記光入射層側から前記光吸収層を通して前記光反射層に向けて前記レーザー光を照射し、前記ランド部分における前記光吸収層内に前記記録ピットを形成することを特徴とする光情報記録媒体の情報記録方法。」と補正して新たな請求項１とし、補正前の請求項１の
「レーザー光を利用して情報を記録する光情報記録媒体であって、
　前記レーザー光を透過する熱硬化性樹脂で形成した光入射層と、
　この光入射層上に位置して形成するとともに前記レーザー光を吸収して色素の発熱分解により熱変形した記録ピットによる情報を記録する光吸収層と、
　この光吸収層上に位置して形成するとともに前記レーザー光を反射する光反射層と、
　この光反射層上に位置して形成するとともに、この光反射層との間の界面にプリグルーブおよびランドを有する基板と、
　を有し、かつ、
　前記ランドの部分における前記光吸収層に前記記録ピットを形成することを特徴とする光情報記録媒体。」を
「波長が４００〜６００ｎｍのレーザー光を利用して情報を記録する光情報記録媒体であって、
　前記レーザー光を透過する熱硬化性樹脂で形成した厚さが０．１ｍｍ以下の光入射層と、
　この光入射層上に位置して形成するとともに前記レーザー光を吸収して色素の発熱分解により熱変形した記録ピットによる情報を記録する光吸収層と、
　この光吸収層上に位置して形成するとともに前記レーザー光を反射する波長４００〜６００ｎｍ付近で反射率の高い金、銀、アルミニュームなどを採用した光反射層と、
　この光反射層上に位置して形成するとともに、この光反射層との間の界面にプリグルーブおよびランドを有する基板であって、平坦なガラス板の表面にフォトレジスト層を形成し、このフォトレジスト層をレーザー光によりカッテイングして前記基板のプリグルーブおよびランドのパターンとは反転した凹凸パターンを形成することにより前記基板のプリグルーブおよびランドのパターンとは反転した凹凸パターンを有する原盤を作製し、この原盤を用いて、前記基板のプリグルーブおよびランドのパターンを有するマスタースタンパーを作製し、このマスタースタンパーを用いて、前記基板の前記プリグルーブおよびランドのパターンとは反転した凹凸パターンを有するスレイブスタンパーを作製し、このスレイブスタンパーを用いて前記基板を作製することにより得られるその基板と、
　を有し、
　前記光入射層側から前記光吸収層を通して前記光反射層に向けて前記レーザー光を照射し、前記ランド部分における前記光吸収層内に前記記録ピットが形成されることを特徴とする光情報記録媒体。」と補正して、新たな請求項２（以下、「本願補正発明」という。）とするものである。
　
　上記補正は、いずれも、光情報記録媒体について、記録に使用するレーザー光の波長、光入射層の厚さ、光反射層の材質、基板の製法等について限定を加えるものであるから、平成１８年改正前の特許法第１７条の２第４項第２号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　そこで、本件補正後の特許請求の範囲の請求項１及び２に係る発明が特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか）について以下に検討する。
　
(2) 引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された、本願出願前に頒布されたことが明らかな刊行物には、それぞれ、以下の事項が記載されている。
　
　ア．特開平１０−３２６４３５号公報（原審の引用文献２。以下、「引用例１」という。）
　（ア-1）「【請求項１】レーザー光が入射する側の面に情報信号部を有する支持層と、上記支持層上に形成される光透過層を備えた光学記録媒体において、
少なくとも、上記情報信号部の領域において、上記光透過層の厚さｔがｔ＝３〜１７７μｍであって、該光透過層厚さむらをΔｔとしたときに、上記光記録媒体を再生、もしくは記録再生する光学系のN.A.および波長λとの間に以下の関係をみたすことを特徴とする光学記録媒体。
　Δt ≦±５．２６(λ／N.A.４）（μｍ）（N.A.は開口数）」（特許請求の範囲）
　（ア-2）「【請求項９】熱可塑性樹脂からなり０．３〜１．２ｍｍの厚さを有する基板と、
上記基板上に転写形成される案内溝と、
上記案内溝上に順次多層膜が形成あるいは有機色素がスピンコートされており、その上に少なくとも１種類の紫外線硬化性樹脂が３〜１７７μm の厚さでコートされていることを特徴とする請求項１に記載の光学記録媒体。」（特許請求の範囲）
　（ア-3）「また、将来短波長化が進みλ＝０．４μｍとなった場合を仮定すると、N.A.≧０．７８を変えないとすると、ｔ＝１７７μｍになる。この場合、基板の厚さが１．２ｍｍであるＣＤ等の製造設備を流用することを考慮すると、本発明のディスクの厚さは最大約１．３８ｍｍとなる。」（段落【0016】）
　（ア-4）「このように記録密度を上げるためにはN.A.／λを上げることが不可欠である。この場合、例えば記憶容量として８ＧＢを達成させるために、少なくともN.A.を０．７以上とし、レーザーの波長λを０．６８μｍ以下とすることが必要となる。また上記のように光透過層の厚さとスキューとの間には上記に記述された関係があるが、現状の赤色レーザーから将来普及が見込まれる青色レーザーまで対応することを考慮すると、光透過層の厚さは３〜１７７μｍに設定するのが適切である。」（段落【0019】）
　（ア-5）「前述した本発明における光学記録媒体に必要なスペックをみたすピッチおよびピッチむらを実現したスタンパを用い、射出成形法によって基板を作成する。このようなピッチむらの少ない高精度スタンパは従来の送りをネジで行う構造では達成が困難である為、リニアモータによる送り構造をもった原盤露光装置で製造する。……　また、本実施例の場合、この基板の情報信号面上に反射膜、または記録膜を成膜し、その上方から記録再生するので、予め成膜による信号形状の変形を考慮して、基板上にピットを形成する必要がある。」（段落【0029】、【0030】）
　（ア-6）「同様に記録ディスクに形成される案内用溝（グルーブ）に関しても記録膜でグルーブデューティが変化すること、例えばグルーブ記録（記録再生面からみて凹部への記録再生）の場合、溝が狭まるので、スタンパの形状を広めにしておく、等の対応が必要となる。例えばランド／グルーブ記録の場合、光照射側からみて、ランドとグルーブの巾デューティ５０％を得るためには基板側からみて５５〜６５％に設定するのが好適である。」（段落【0032】）
　（ア-7）「次に、図２に示すように、この基板１０の情報信号部１１に記録膜または反射膜を形成する。例えば該ディスクがＲＯＭの場合はＡｌなどの反射膜を２０〜６０ｎｍの厚さで成膜する。……また、追記型の場合は、ＡｕまたはＡｌをスパッタした後、シアニン系または、フタロシアニン系の有機色素膜をスピンコートで塗布、乾燥させる。」（【0034】〜【0037】）
　（ア-8）「図２の例では、基板１０とは反対側から記録再生用対物レンズＬを通じて記録再生光の照射がなされる。」（段落【0038】）
　（ア-9）「次に図３に示すように、更にその上に紫外線硬化性樹脂で、光透過層１２を形成される。例えば、上述のように形成されるいずれかの構造で成膜された基板の成膜面に、紫外線硬化性樹脂を滴下回転延伸することにより光透過層１２を作成する。……　例えば、２５℃で５８００ｃｐｓの粘度の紫外線硬化性樹脂を適用した場合には、基板上に紫外線硬化性樹脂を滴下した後、基板を２０００ｒｐｍで１１秒間回転させることにより、最終的に１００μｍ程度の光透過層１２を形成することができる。」（段落【0039】）
　（ア-10）「また、グルーブ記録やランド記録において、プッシュプルでトラッキングエラー信号を得ようとする場合、プッシュプル信号はピットまたはランドの深さが（λ／８）／Ｎのときに最大となる。さらに、ランド／グルーブ記録において、グルーブ深さはサーボ信号の特性とともに、クロストークやクロスイレースの特性を考慮すべきであり、……グルーブ傾き等を考慮し、両特性を満足させようとすると、（３λ／８）／Ｎが最適となる。……」（段落【0075】、【0076】）
　
　したがって、上記摘示事項及び図面を参照すると、引用例１には
「レーザー光が入射する側の面に情報信号部を有する支持層と、上記支持層上に形成される光透過層を備えた光学記録媒体において、少なくとも、上記情報信号部の領域において、上記光透過層の厚さｔがｔ＝３〜１７７μｍであって、該光透過層厚さむらをΔｔとしたときに、上記光記録媒体を再生、もしくは記録再生する光学系のN.A.および波長λとの間に Δt ≦±５．２６(λ／N.A.4）（μｍ）の関係をみたす光学記録媒体であって（ア-1）、熱可塑性樹脂からなり０．３〜１．２ｍｍの厚さを有する基板と、上記基板上に転写形成される案内溝と、上記案内溝上に順次多層膜が形成あるいは有機色素がスピンコートされており、その上に少なくとも１種類の紫外線硬化性樹脂が３〜１７７μmの厚さでコートされて光透過層が形成され（ア-2）、追記型の場合にはＡｕまたはＡｌをスパッタした後、シアニン系または、フタロシアニン系の有機色素膜をスピンコートで塗布、乾燥させたものであり（ア-7）、更にその上に紫外線硬化樹脂で、光透過層が形成され（ア-9）、基板は反対側から記録再生用対物レンズを通じて記録再生光が照射され（ア-8）、記録はグルーブ記録又はランド記録で行われる（ア-10）光学記録媒体」の発明が記載されているといえる。（以下、「引用発明」という。）
　
　イ．特開平１１−１９１２４０号公報（原審引用文献１。以下、「引用例２」という。）
　（イ-1)「【請求項１】　厚さ０．３〜１．２（ｍｍ）の基板の一主面上に少なくとも反射膜が形成され、
　その上に厚さ３〜１７７（μｍ）の光透過層が形成されてなり、
　上記光透過層の少なくとも一部が、カチオン重合反応により硬化される光硬化型樹脂よりなることを特徴とする光記録媒体。」（特許請求の範囲）
　(イ-2)「【請求項５】　上記光透過層を形成し、カチオン重合反応により硬化される光硬化型樹脂がエポキシ樹脂を含有することを特徴とする請求項１記載の光記録媒体。」（特許請求の範囲）
　(イ-3)「【発明が解決しようとする課題】
　ところで、上述のような光記録媒体においては、基板の厚さを０．３〜１．２（ｍｍ）としており、光透過層の厚さを３〜１７７（μｍ）としている。そして、これを製造するにあたっては、基板の一主面側に必要に応じて凹凸部を形成しておき、当該主面に少なくとも反射膜を形成し、さらに必要に応じて記録膜を形成する。そして、この上に例えばラジカル重合反応により硬化される光硬化型樹脂である、例えばエポキシアクリレート系紫外線硬化型樹脂を配し、これを硬化して光透過層を形成している。
　しかしながら、上記紫外線硬化型樹脂は、光硬化時に収縮し、その体積収縮率は約７〜１２（％）と大きく、この収縮により光記録媒体全体が反ってしまうという不都合が発生する。……上記のようにして製造した光記録媒体においては、これを達成するのは困難である。」（段落【0018】、【0019】）
　(イ-4)「上記のようなエポキシ樹脂としては、ビスフェノールＡとエピクロルヒドリンとの縮合生成物が一般的に挙げられる。このビスフェノールＡ系エポキシ樹脂の特徴としては、他の物質への接着性が非常に優れており、特に金属用、ガラス用の接着剤として広く使用されている。また、この樹脂においては、硬化の際に水やその他の揮発物を副生することがなく、体積収縮が少なく、好ましい。」（段落【0059】）
　(イ-5)「また、ビスフェノール系樹脂の希釈剤として、環状脂肪族系樹脂が好ましく例示される。この環状脂肪族系樹脂は粘度が低く、エポキシ当量が小さく、取り扱いが容易である。また、分子中に芳香環を含まないので変色しにくい。すなわち、４００〜８００（ｎｍ）の波長領域において高い透過率を実現することが可能である。」（段落【0069】）
　
　ウ．特開平２−１０５３６号公報（原審における周知文献。以下、「引用例３」という。）
　(ウ-1)「１、基板表面にフォトレジスト層が形成されてなるレジスト原盤を回転させながら、フォトレジスト層に、光スポットを形成するレーザー光を照射し、次いで該フォトレジストを現像してランドより狭い幅を有するグルーブを形成させる光ディスク原盤作成工程、
　該フォトレジスト層表面に導電膜を形成したのち、その上に電鋳層を一体的に形成し、この電鋳層をフォトレジスト層から分離するマスタースタンパ作成工程、
　該マスタースタンパのグルーブが形成された表面に電鋳層を形成し、この電鋳層をマスタースタンパから分離するマザースタンパ作成工程、そして
　このマザースタンパを成形用金型にグルーブを有する表面を外側にして装着し、これに樹脂を充填して上記光ディスク原盤表面のランドがグルーブに、グルーブがランドに反転した基板を成形した後、離型することからなる光ディスク基板作成工程、
からなる光ディスク基板の製造方法。」（特許請求の範囲）
　(ウ-2)「すなわち、従来通りの方法でフォトレジスト層へレーザー光を照射することにより、幅の狭いグルーブを有する光ディスク原盤を作成したのち、マスタースタンパを経て、マザースタンパを作成し、このマザースタンパを用いて光ディスク基板を製造する。このため、得られた光ディスク基板のグルーブおよびランドが、先の光ディスク原盤のグルーブおよびランドが反転した状態となる。」（3頁左下欄下9行〜末行）
　
(3)対比
　
　引用発明の「光学記録媒体」は本願補正発明における「レーザー光を利用して情報を記録する光情報記録媒体」に相当し、引用発明の「光透過層」、「有機色素膜」は本願発明の「レーザー光を透過する光入射層」、「レーザー光を吸収して色素の発熱分解により熱変形した記録ピットによる情報を記録する光吸収層」に相当し、引用発明における「追記型の場合は、ＡｕまたはＡｌをスパッタした」（ア-7）は、本願補正発明の「レーザー光を反射する金、アルミニュームなどを採用した光反射層」に相当する。
　また、引用発明の「基板上に転写形成される案内溝」（ア-2）は、本願補正発明の「プリグルーブおよびランドを有する基板」に相当し、引用発明の「基板１０とは反対側から記録再生用対物レンズＬを通じて記録再生光の照射がなされる」（ア-8）は、本願補正発明の「光入射層側から前記光吸収層を通して前記光反射層に向けて前記レーザー光を照射し」に相当する。
　そして、引用発明においては、基板上に案内溝が形成され、その上に反射層、有機色素膜、光透過層の順で形成され（ア-2、ア-7、ア-9）、レーザー光を照射する記録再生用対物レンズの側からみると、光透過層上に有機色素膜があり、その上に反射層、その上に基板が位置するという配置である。
　さらに、上記（ア-10）の記載からみて、引用例１には、ランド記録、グルーブ記録、ランド／グルーブ記録が開示されており、引用発明でランド記録を採用する場合には、ランド部分における光吸収層内に記録ピットが形成されることは明らかである。
　
　そこで、本願補正発明と、引用発明とを比較すると、
「レーザー光を利用して情報を記録する光情報記録媒体であって、
　前記レーザー光を透過する樹脂で形成した光入射層と、
　この光入射層上に位置して形成するとともに前記レーザー光を吸収して色素の発熱分解により熱変形した記録ピットによる情報を記録する光吸収層と、
　この光吸収層上に位置して形成するとともに前記レーザー光を反射する金、銀、アルミニュームなどを採用した光反射層と、
　この光反射層上に位置して形成するとともに、この光反射層との間の界面にプリグルーブおよびランドを有する基板を有し、
　前記光入射層側から前記光吸収層を通して前記光反射層に向けて前記レーザー光を照射し、前記ランド部分における前記光吸収層内に前記記録ピットが形成される光情報記録媒体」である点で両者は一致し、以下の点で相違する。
　
　相違点１
　利用するレーザー光の波長について、本願補正発明が４００〜６００ｎｍであるのに対し、引用発明は４００〜６００ｎｍとする点について明記されていない点。
　
　相違点２
　光入射層について、本願補正発明が熱硬化性樹脂で形成し厚さが0.1mm以下であるのに対し、引用発明は紫外線硬化樹脂を用い、厚さが3〜177nmである点。
　
　相違点３
　本願補正発明の反射層は、波長４００〜６００ｎｍ付近で反射率の高い金、銀、アルミニュームなどを採用するのに対し、引用発明では、波長４００〜６００ｎｍ付近で反射率の高いものを用いる点について明記されていない点。
　
　相違点４
　本願補正発明の基板は「平坦なガラス板の表面にフォトレジスト層を形成し、このフォトレジスト層をレーザー光によりカッテイングして前記基板のプリグルーブおよびランドのパターンとは反転した凹凸パターンを形成することにより前記基板のプリグルーブおよびランドのパターンとは反転した凹凸パターンを有する原盤を作製し、この原盤を用いて、前記基板のプリグルーブおよびランドのパターンを有するマスタースタンパーを作製し、このマスタースタンパーを用いて、前記基板の前記プリグルーブおよびランドのパターンとは反転した凹凸パターンを有するスレイブスタンパーを作製し、このスレイブスタンパーを用いて前記基板を作製することにより得られる基板」であるのに対し、引用発明の基板はその製法について具体的に記載されていない点。
　
(4)相違点についての判断
　以下、上記各相違点について検討する。
　
　相違点１について
　引用例１には「将来短波長化が進みλ＝0.4μmとなった場合を仮定するとN.A.≧0.78を変えないとするとt=177μmになる」（上記ア-3）、「記録密度を上げるためにはN.A.／λを上げることが不可欠である。……現状の赤色レーザーから将来普及が見込まれる青色レーザーまで対応することを考慮すると、光透過層の厚さは3〜177μmに設定するのが適切である。」（上記ア-4）と記載されているから、引用発明は波長0.4μm（400nm）の青色レーザー光を利用することを前提としていることは明らかである。
　したがって、引用例の記載から波長600nm〜400nmのレーザー光を使用することは、当業者が容易に想到しうる事項にすぎない。
　
　相違点２について
　引用例２には、「厚さ0.3〜1.2(mm)の基板の一主面上に少なくとも反射膜が形成され、その上に厚さ3〜177(μm)の光透過層が形成されてなり、上記光透過層の少なくとも一部が、カチオン重合反応により硬化される光硬化型樹脂よりなる光記録媒体」の発明（上記イ-1）において、該樹脂はエポキシ樹脂を含有するものが用いられる（上記イ-2）。
　引用例２の発明は、引用発明と同じく、光透過層の厚さを３〜１７７（μｍ）とするものであって、従来の樹脂が光硬化時に収縮するという課題を解決することを目的として光透過層（光入射層）として、体積収縮が少ないエポキシ樹脂を用いるものである（上記イ-3、イ-4）。
　そしてエポキシ樹脂は典型的な熱硬化性樹脂であって成型収縮が小さく、寸法安定性が高いことは周知であるから、引用発明の光入射層（光透過層）を熱硬化性樹脂で成型することは、当業者が容易に想到しうることである。
　
　また、引用発明において、光透過層の厚さを177μm以下とする根拠について、「λ＝0.4μm、N.A.≧0.78を変えないとするとt=177μmになる」（上記ア-3）と記載されている。
　引用発明における光入射層（光透過層）の厚さ177μmはλ＝0.4μm、N.A.≧0.78という条件における上限値を示すものであり、「例えば、……最終的に100μm程度の光透過層12を形成することができる。」（上記ア-9）との例示もあるから、光入射層の厚さを3nm〜177nmの範囲内で100μｍ以下すなわち、0.1mm以下とすることは、当業者にとって容易である。
　
　相違点３について
　引用発明は、反射層としてＡｕ（金）やＡｌ（アルミニウム）を使用するものであり（上記ア-6）、短波長のレーザー光（λ＝0.4μm、すなわち400nm）を使用することを前提とするものであるから（上記ア-3、ア-4）、この点について、本願補正発明との間で実質的な差異があると認められない以上、引用発明においても、使用するレーザー光の波長領域における反射率が高いものであることは明らかである。
　したがって、相違点３は、実質的な相違点とすることはできない。
　
　相違点４について
　引用例３には、「基板表面にフォトレジスト層が形成されてなるレジスト原盤を回転させながら、フォトレジスト層に、光スポットを形成するレーザー光を照射し、次いで該フォトレジストを現像してランドより狭い幅を有するグルーブを形成させる光ディスク原盤作成工程、
　該フォトレジスト層表面に導電膜を形成したのち、その上に電鋳層を一体的に形成し、この電鋳層をフォトレジスト層から分離するマスタースタンパ作成工程、
　該マスタースタンパのグルーブが形成された表面に電鋳層を形成し、この電鋳層をマスタースタンパから分離するマザースタンパ作成工程、そして
　このマザースタンパを成形用金型にグルーブを有する表面を外側にして装着し、これに樹脂を充填して上記光ディスク原盤表面のランドがグルーブに、グルーブがランドに反転した基板を成形した後、離型することからなる光ディスク基板作成工程、
からなる光ディスク基板の製造方法。」が記載されている（上記ウ-1）。
　また、引用例３において「従来通りの方法でフォトレジスト層へレーザー光を照射することにより、幅の狭いグルーブを有する光ディスク原盤を作成したのち、マスタースタンパを経て、マザースタンパを作成し、このマザースタンパを用いて光ディスク基板を製造する。」（上記ウ-2）のであり、光ディスクの基板の製法として、研磨したガラス基板に塗布したフォトレジスト層をレーザーカッティングし、現像、導電化処理してガラス原盤とし、ガラス原盤に電鋳を行ってマスタースタンパを作成する方法、マスタースタンパーからマザースタンパーを作成する方法、スタンパを用いて射出成形法等によって基板を作成する方法は周知である。（例えば、上野直樹「続・わかりやすい光ディスク」（株式会社オプトロニクス社　平成２年５月２１日発行）の156頁〜167頁等参照。）
　引用例３の「光ディスク原盤」、「マスタ−スタンパ」、「マザースタンパ」「光ディスク基板」は、それぞれ、本願補正発明の「原盤」、「マスタースタンパー」「スレイブスタンパー」「基板」に対応し、研磨したガラス基板の表面が平坦であり、「原盤」と「マスタースタンパー」との間や「マスタースタンパー」と「スレイブスタンパー」の間等でプリグルーブとランドのパターンの凹凸パターンが反転することは自明である。
　
　そうすると、本願補正発明における基板の作成方法は、「平坦なガラス板の表面にフォトレジスト層を形成し、このフォトレジスト層をレーザー光によりカッテイングして前記基板のプリグルーブおよびランドのパターンとは反転した凹凸パターンを形成することにより前記基板のプリグルーブおよびランドのパターンとは反転した凹凸パターンを有する原盤を作製し、この原盤を用いて、前記基板のプリグルーブおよびランドのパターンを有するマスタースタンパーを作製し、このマスタースタンパーを用いて、前記基板の前記プリグルーブおよびランドのパターンとは反転した凹凸パターンを有するスレイブスタンパーを作製し、このスレイブスタンパーを用いて前記基板を作製する」点で引用例３記載の方法と一致するといえる。
　
　引用例１には基板の製法について「光学記録媒体に必要なスペックをみたすピッチおよびピッチむらを実現したスタンパを用い、射出成形法にて基板を作成する。」と記載されており（上記ア-5）、ＣＤ等の製造設備を流用することを考慮するのである（ア-3）ことからみて、引用発明の基板は従来のＣＤと同様に周知の方法で作成するものと認めることができる。
　
　したがって、引用発明の光学記録媒体の基板の製造方法として、引用例３記載の方法を採用することは、当業者が容易に推考しうる事項である。
　
　そして、本願明細書の記載からみて、上記各相違点によって奏される効果は当業者が予測しうる程度のものである。
　
　以上のとおりであるから、本願補正発明は、その出願前に頒布された刊行物１乃至３に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、補正後の請求項２に係る発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
(5)むすび
　
　上記のとおり、補正後の請求項２に係る発明は出願の際に独立して特許を受けることができないから、補正後の請求項１について検討するまでもなく、本件補正は特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合しない。
　したがって、本件補正は、特許法第１５９条第１項の規定により、読み替えて準用する特許法第５３条第１項の規定により却下すべきものである。
　
３．本願発明について
(1)上記のとおり、平成１７年２月１０日付の手続補正は却下されたから、本願の請求項１乃至６に係る発明は、平成１６年１１月１５日付け手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１乃至６に記載された事項により特定されるものであるところ、請求項１に係る発明は以下のとおりである。
　
「【請求項１】　レーザー光を利用して情報を記録する光情報記録媒体であって、
　前記レーザー光を透過する熱硬化性樹脂で形成した光入射層と、
　この光入射層上に位置して形成するとともに前記レーザー光を吸収して色素の発熱分解により熱変形した記録ピットによる情報を記録する光吸収層と、
　この光吸収層上に位置して形成するとともに前記レーザー光を反射する光反射層と、
　この光反射層上に位置して形成するとともに、この光反射層との間の界面にプリグルーブおよびランドを有する基板と、
　を有し、かつ、
　前記ランドの部分における前記光吸収層に前記記録ピットを形成することを特徴とする光情報記録媒体。」（以下、「本願発明」という。）
　
(2)引用刊行物
　原査定の拒絶の理由に引用された引用例１及び２、及びその記載事項は、前記「２．(2)」に記載したとおりである。
　
(3)対比
　本願発明と、引用発明とを比較すると、両者は
「レーザー光を利用して情報を記録する光情報記録媒体であって、
　前記レーザー光を透過する樹脂で形成した光入射層と、
　この光入射層上に位置して形成するとともに前記レーザー光を吸収して色素の発熱分解により熱変形した記録ピットによる情報を記録する光吸収層と、
　この光吸収層上に位置して形成するとともに前記レーザー光を反射する光反射層と、
　この光反射層上に位置して形成するとともに、この光反射層との間の界面にプリグルーブおよびランドを有する基板と、
　を有し、かつ、
　前記ランドの部分における前記光吸収層に前記記録ピットを形成することを特徴とする光情報記録媒体。」である点で一致し、本願発明が光入射層を熱硬化樹脂で形成するのに対し、引用発明は紫外線硬化樹脂で形成する点で相違する。
　
(4)相違点についての判断
　上記相違点については、上記２．(4)で相違点２として検討したとおりであるから、同様の理由により、本願発明はその出願前に頒布された刊行物である引用例１及び２に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
(5)むすび
　以上のとおりであるから、本願の請求項１に係る発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、その余の請求項について論及するまでもなく、本願は拒絶をすべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。