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【手続補正書】
【提出日】平成24年3月21日(2012.3.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を回転させつつ成膜させることにより、成膜基板を製造する成膜基板製造方法において、
前記基板への成膜のための反応ガス流を流すステップと、
前記反応ガス流について、複数の部分制御範囲のそれぞれ毎にガス流量を所定の量に調整して前記基板を回転させつつ成膜させることにより前記成膜基板を製造するステップと、
前記基板を回転させつつ行われた回転成膜により前記基板上に形成された膜厚データに基づいて、前記基板上の種々の位置における膜成長速度と所定の目標膜成長速度との間の偏差を求めるステップと、
複数の前記部分制御範囲のそれぞれのガス流量の変化が、前記基板への回転成膜時において膜成長速度分布の変化に及ぼす感度を定義した回転時膜成長感度データを用いて、前記種々の位置における偏差を減らすように、調整対象の前記部分制御範囲のそれぞれの調整するガス流量を決定するステップと、
複数の前記部分制御範囲のそれぞれのガス流量を、前記決定したガス流量に調整して新たな基板を回転させつつ成膜させることにより前記成膜基板を製造するステップと
を有する成膜基板製造方法。
【請求項２】
内部に基板が置かれる反応室を構成する反応室構成部と、
前記反応室内の前記基板の周縁に沿った幅方向へ所定の範囲で延び、反応ガス流を前記反応室内に流入させるためのガス流入口を構成するガス流入口部と
を備え、請求項１に記載の成膜基板製造方法を用いて基板上に成膜するための成膜反応装置において、
前記ガス流入口の上流側に、ガス流量を制御可能な複数の部分制御範囲が構成されており、
複数の前記部分制御範囲におけるガス流量を制御するガス流量制御部を備え、
前記ガス流量制御部は、
前記基板を回転させつつ行われた回転成膜により前記基板上に形成された膜厚データに基づいて、前記基板上の種々の位置における膜成長速度と所定の目標膜成長速度との間の偏差を求める手段と、
複数の前記部分制御範囲のそれぞれのガス流量の変化が、前記基板への回転成膜時において膜成長速度分布の変化に及ぼす感度を定義した回転時膜成長感度データを用いて、前記種々の位置における偏差を減らすように、調整対象の前記部分制御範囲のそれぞれのガス流量を制御する手段と
を有する成膜反応装置。
【請求項３】
前記ガス流入口によるガス流れの方向に平行であり、且つ前記基板の回転中心軸を通る基準線に対して、回転上流側と、回転下流側とで、異なる部分制御範囲が構成されている
請求項２に記載の成膜反応装置。
【請求項４】
前記基準線に対して前記回転下流側において、回転上流側と、回転下流側との少なくとも２つの部分制御範囲が構成されている
請求項３に記載の成膜反応装置。
【請求項５】
前記基準線に対して前記回転上流側に１つの部分制御範囲が構成され、前記基準線に対して前記回転下流側において、回転上流側と、回転下流側との２つの部分制御範囲が構成されている
請求項４に記載の成膜反応装置。
【請求項６】
複数の前記部分制御範囲には、前記基板の中心近傍における膜形成に寄与する傾向が高い第１の部分制御範囲と、前記基板の半径の略中間近傍における膜形成に寄与する傾向が高い第２の部分制御範囲とがある
請求項２乃至請求項５のいずれか一項に記載の成膜反応装置。
【請求項７】
複数の前記部分制御範囲は、前記基板の中心近傍における膜形成に寄与する傾向が高い第１の部分制御範囲と、前記基板の半径の略中間近傍における膜形成に寄与する傾向が高い第２の部分制御範囲と、それ以外の部分制御範囲との３つの部分制御範囲である
請求項６に記載の成膜反応装置。
【請求項８】
複数の前記部分制御範囲には、前記基板の外周近傍における膜形成に寄与する傾向が高い第３の部分制御範囲がある
請求項６に記載の成膜反応装置。
【請求項９】
複数の前記部分制御範囲は、前記第１の部分制御範囲と、前記第２の部分制御範囲と、前記第３の部分制御部分と、それ以外の部分制御範囲との４つの部分制御範囲である
請求項８に記載の成膜反応装置。
【請求項１０】
前記部分制御範囲におけるガス流量を調整するガス調整機構を、前記部分制御範囲毎に１つずつ備えている
請求項２乃至請求項９のいずれか一項に記載の成膜反応装置。
【手続補正書】
【提出日】平成24年3月9日(2012.3.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１電圧を供給するための高電圧端子と接地された接地端子間に接続された電源と、前記第１電圧よりも低い第２電圧を供給するための低電圧端子と前記接地端子間に接続された電流計とを備えたメータに接続される半導体装置であって、
第１導電型の半導体基板の表面部に形成された第２導電型のウェルと、
前記第２導電型のウェルの表面部に形成された第１導電型の拡散層と、
前記第２導電型のウェルの表面部に形成された第２導電型の拡散層と、
前記第２導電型のウェルの表面部に、又は、前記第２導電型のウェルの上に形成された金属層と、
前記金属層上に形成された第１のコンタクトと、
前記第１導電型の拡散層上に形成された第２のコンタクトと、
前記第２導電型の拡散層上に形成された第３のコンタクトと、
前記第１〜３のコンタクト上にそれぞれ形成され、寄生容量を除く容量を前記メータによって測定するために、それぞれ前記メータの前記接地端子、前記低電圧端子、前記高電圧端子が接続される第１〜３の金属配線層と
を具備する半導体装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置
【手続補正書】
【提出日】平成24年2月23日(2012.2.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ドレイン領域となる第一導電型半導体層上に第二導電型半導体層を形成する工程と、
前記第二導電型半導体層を貫通し、互いに連結した第一乃至第三のトレンチを形成する工程と、
前記第一乃至第三のトレンチにソース配線層を埋め込み、かつ、前記第二のトレンチの上端より上に前記ソース配線層を突出させる工程と、
前記第一及び前記第三のトレンチをゲート電極で埋め込む工程と、
前記第二のトレンチの上端より上に突出させた前記ソース配線層とソース電極を接触させる工程と、
前記第三のトレンチ内で前記ゲート電極にゲート配線層を接触させる工程と、
を含む、半導体装置の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置の製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
さらに、実施形態では、図１で示すように、格子状にトレンチを形成するＦＥＴを例に挙げて説明したが、ストライプ状に形成するＦＥＴでも同様に実施可能である。言い換えると、図１において、トレンチの形状が横長の複数のストライプ状（はしごの桁の部分、つまり縦方向に連結する部分が無い形状）になっており、当該複数のトレンチの中にそれぞれ形成されているソース配線層１４同士の接続およびゲート電極１６同士の接続は、それぞれ、ソース電極１８およびゲート配線層１９を介して接続するような構成としても良い。
他の実施の形態を以下に例示する。
［１］  ドレイン領域となる第一導電型半導体層上に第二導電型半導体層を形成する工程と、
前記第二導電型半導体層を貫通し、互いに連結した第一乃至第三のトレンチを形成する工程と、
前記第一乃至第三のトレンチにソース配線層を埋め込み、かつ、前記第二のトレンチの上端より上に前記ソース配線層を突出させる工程と、
前記第一及び前記第三のトレンチをゲート電極で埋め込む工程と、
前記第二のトレンチの上端より上に突出させた前記ソース配線層とソース電極を接触させる工程と、
前記第三のトレンチ内で前記ゲート電極にゲート配線層を接触させる工程と、
を含む、半導体装置の製造方法。
［２］前記第一及び前記第三のトレンチを前記ゲート電極で埋め込む前記工程は、
前記第一及び前記第三のトレンチ内及び前記第二導電型半導体層上に前記ゲート電極となる導電膜を形成する工程と、
前記導電膜をエッチバックすることにより、前記第二のトレンチの上端より上に突出している前記ソース配線層の側壁に、前記導電膜により形成されたサイドウォールが形成される工程と、
を含む［１］に記載の半導体装置の製造方法。
［３］前記ソース配線層と前記ゲート電極とをポリシリコン膜で形成する、［１］または［２］に記載の半導体装置の製造方法。
［４］前記第一導電型半導体層は、
ＭＯＳトランジスタ構造が設けられたセル領域と、
前記セル領域に隣接しているターミナル領域と、
が設けられており、
前記第一乃至第三のトレンチを形成する前記工程において、前記セル領域に前記第一及び第二のトレンチを形成する、［１］乃至［３］いずれかに記載の半導体装置の製造方法。
［５］  ドレイン領域となる第一導電型半導体層と、
前記第一導電型半導体層上に形成された第二導電型半導体層と、
前記第二導電型半導体層を貫通し、互いに連結した第一乃至第三のトレンチと、
前記第一乃至第三のトレンチに埋め込まれ、かつ、前記第二のトレンチの上端より上に突出しているソース配線層と、
前記第一及び前記第三のトレンチにそれぞれ埋め込まれ、前記ソース配線層上に形成されたゲート電極と、
前記第二のトレンチの上端より上に突出している前記ソース配線層に接触しているソース電極と、
前記第三のトレンチ内で前記ゲート電極に接触しているゲート配線層と、
を有する、半導体装置。
［６］  前記第二のトレンチの上端より上に突出している前記ソース配線層の側壁に、前記ゲート電極と同一の材料により形成されたサイドウォール状の導電膜を有する、［５］に記載の半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成24年3月15日(2012.3.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２３】
【表１】
2010258151.tif 000001
図３に焼結体の変形量を示す。
径方向外径変形量および長さ方向外径変形量は、ともに焼結治具の軸方向長さが２５ｍ
ｍ（焼結体軸方向長さの６０％）から急激に小さくなることが分かる。
また焼結治具の軸方向長さが焼結体の軸方向長さを超えると焼結体の割れが発生するこ
とが確認できた。
このことから焼結治具の軸方向長さが焼結体の軸方向長さの６０％以上であれば、成型体の変形を抑えることが出来、さらに焼結治具の軸方向長さが焼結体の軸方向長さを超えると焼結による割れが発生し、焼結体の歩留まりが下がることがわかった。
焼結治具の軸方向長さを更に長くし、成型体の軸方向長さを超えると割れの発生が激増
し、割れの発生率が５％を超えた。
焼結治具の軸方向長さが焼結体の軸方向長さを超えると割れの発生が急増する理由につ
いては、焼結治具の軸方向長さが焼結体の軸方向長さを超える状態で焼結を繰り返すと、
焼結治具の焼結体から突出している上端部径方向が膨らむことが要因となっているものと
推測される。
なお、上記焼結時の割れ以外に、焼結後に焼結治具を焼結体から取り外す際に、上記膨
らみにより焼結体が抜けづらくなり無理にはずす際に焼結体の割れが発生することが多々
ある。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
（実施例５）
実施例１と同じ方法で、Ｒ−ＴＭ−Ｂ系ラジアル異方性リング磁石成型体を作製した。
実施例１と同じ材質、同じ外径で図５に示す円柱体からなる焼結治具の軸方向長さＡ４０ｍｍ、面取りＣ２、全長Ｂ４２ｍｍのもの１０ケ、同様に焼結治具の軸方向長さＡ４０ｍｍ、面取りＣ３、全長Ｂ４３ｍｍのもの１０ケを作成し、それぞれ実施例１と同じ方法で各１０回焼結した、得られた焼結体各１０ケについて実施例１と同じ方法で変形量を調べたが、結果は実施例１の焼結治具の軸方向長さ４０ｍｍの場合と同じで良好であった。
実施例５においては図６に示すようには円柱体の上端部は焼結後には焼結体からから突
出した状態になる寸法であったが、焼結治具の上端部の径方向への膨張の焼結体のへの変
形の影響はなかった。
【手続補正書】
【提出日】平成24年3月9日(2012.3.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の表面電極が設けられた半導体チップと、
前記半導体チップが搭載されたダイパッドと、
前記半導体チップの周囲に配置された複数のリードと、
前記半導体チップの前記複数の表面電極と前記複数のリードとをそれぞれ接続する複数のワイヤと、
前記半導体チップ、前記複数のリードの一部及び前記複数のワイヤを封止する封止体と、
を有し、
前記複数のリードのうち、前記半導体チップのＧＮＤ用の前記表面電極と前記ワイヤによって電気的に接続されたＧＮＤ用リードが、前記封止体によって覆われるインナ部と前記封止体から露出するアウタ部とを有し、
前記ＧＮＤ用リードは、前記インナ部において分岐リードに分岐され、
前記分岐リードの一部が前記ダイパッドに接続し、
前記半導体チップのＧＮＤ用の前記表面電極と電気的に接続する前記ワイヤが、前記分岐リードに接続されていることを特徴とする半導体装置。
【手続補正書】
【提出日】平成24年1月19日(2012.1.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
りん光を発する発光材料を含む発光層と、該発光層を挟んで該発光層にそれぞれ隣接して配置された第１および第２の隣接層とを含む複数の層が、電極間に積層されてなる有機エレクトロルミネッセンス素子であって、
前記発光材料の第１励起３重項エネルギーレベルが、前記第１および第２の隣接層を構成する複数の材料の第１励起３重項エネルギーレベルうち最も低いエネルギーレベルよりも高く、
前記発光層の近傍に、前記発光層からの発光光によるプラズモン共鳴を表面に生じせしめる金属部材を備えていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項２】
前記金属部材と前記発光領域との距離が、３０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項３】
前記金属部材が、前記複数の層の間に配置された金属膜であることを特徴とする請求項１または２記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項４】
前記金属膜が、粒径５ｎｍ以上の多数の金属微粒子が膜状に分散されてなるアイランド構造膜であることを特徴とする請求項３記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項５】
前記金属膜の少なくとも一方の面に、該金属膜の仕事関数を、該金属膜に隣接する層の仕事関数に近づける極性を有する末端基を備えた表面修飾が施されていることを特徴とする請求項３または４記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項６】
前記金属部材が、金属微粒子コアと、該金属微粒子コアを覆う絶縁体シェルとからなるコアシェル型微粒子であることを特徴とする請求項１または２記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項７】
前記複数の層が、該素子内に前記発光層からの発光光による定在波の電界強度が最大となる領域が、前記発光層と略一致するような共鳴条件を満たす層厚と屈折率とを有するものであることを特徴とする請求項１から６いずれか１項記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。
【手続補正書】
【提出日】平成24年3月5日(2012.3.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＦｉｎＦＥＴ（Ｆｉｎ  Ｆｉｅｌｄ  Ｅｆｆｅｃｔ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）と、
前記ＦｉｎＦＥＴと同一のチップ上に設けられたＰｌａｎａｒＦＥＴ（Ｐｌａｎａｒ  Ｆｉｅｌｄ  Ｅｆｆｅｃｔ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）と
を具備し、
前記ＰｌａｎａｒＦＥＴの第２ゲート絶縁層は、前記ＦｉｎＦＥＴの第１ゲート絶縁層よりも厚い
半導体装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】半導体装置
【手続補正書】
【提出日】平成24年2月2日(2012.2.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コンテンツにおけるシーンの切替え位置を取得するシーン切替位置取得部と、
立体視表示のための奥行値の変化が前記シーンの切替えの前後において所定の表示速度により遷移するように前記奥行値を補正する奥行値補正部と
を具備する画像情報処理装置。
【請求項２】
前記奥行値補正部は、前記コンテンツにおける何れかの領域に対応する奥行値の変化が前記シーンの切替の前後において所定の表示速度により遷移するように前記奥行値を補正する請求項１記載の画像情報処理装置。
【請求項３】
前記奥行値補正部は、前記シーンの切替えの前後において画像全体の奥行値を望遠側に補正する請求項１記載の画像情報処理装置。
【請求項４】
前記奥行値補正部は、前記シーンの切替えの前の奥行値から前記シーンの切替の後の奥行値に所定の表示速度により遷移するように前記奥行値を補正する請求項１記載の画像情報処理装置。
【請求項５】
前記奥行値補正部は、前記シーンの切替前の所定の区間において奥行値を遷移させるよう補正する請求項１記載の画像情報処理装置。
【請求項６】
前記奥行値補正部は、前記シーンの切替後の所定の区間において奥行値を遷移させるよう補正する請求項１記載の画像情報処理装置。
【請求項７】
前記奥行値補正部は、前記シーンの切替えの前後に跨った所定の区間において奥行値を遷移させるよう補正する請求項１記載の画像情報処理装置。
【請求項８】
前記シーン切替位置取得部は、前記シーンの切替え位置として立体視画像と平面視画像の切替え位置を取得する請求項１記載の画像情報処理装置。
【請求項９】
前記シーン切替位置取得部は、前記シーンの切替え位置として動画と静止画の切替え位置を取得する請求項１記載の画像情報処理装置。
【請求項１０】
コンテンツを構成する画像データを立体視表示するための奥行値について一定の値を固定奥行値として設定する固定奥行値設定部と、
前記画像データの何れかの領域を選択して当該領域に対応する奥行値を基準奥行値として特定する基準奥行値特定部と、
前記画像データの各領域に対応する奥行値について前記基準奥行値が前記固定奥行値となる比率によって補正を行う奥行値補正部と
を具備する画像情報処理装置。
【請求項１１】
画像を撮像して撮像画像および立体視表示のための奥行値を供給する撮像画像供給部と、
前記撮像画像におけるシーンの切替え位置を取得するシーン切替位置取得部と、
前記奥行値の変化が前記シーンの切替えの前後において所定の表示速度により遷移するように前記奥行値を補正する奥行値補正部と
を具備する撮像装置。
【請求項１２】
コンテンツにおけるシーンの切替え位置を取得するシーン切替位置取得手順と、
立体視表示のための奥行値の変化が前記シーンの切替えの前後において所定の表示速度により遷移するように前記奥行値を補正する奥行値補正手順と
を具備する画像情報処理方法。
【請求項１３】
コンテンツにおけるシーンの切替え位置を取得するシーン切替位置取得手順と、
立体視表示のための奥行値の変化が前記シーンの切替えの前後において所定の表示速度により遷移するように前記奥行値を補正する奥行値補正手順と
をコンピュータに実行させるプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成24年2月20日(2012.2.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入力クロック信号に同期して入力信号の値を記録し、前記入力信号、第１の設定値及び第２の設定値に基づいて生成された第１の値を前記入力クロック信号に応じて出力する第１の演算器と、
前記第１の値、第３の設定値及び第４の設定値に基づいて生成された第２の値を出力する第２の演算器と、
前記第２の値と第５の設定値とを比較してハイ信号またはロウ信号を出力クロック信号として出力する比較器とを少なくとも備え、
前記第２の値は前記第１の演算器に帰還して前記入力信号の値となり、
前記入力クロック信号を、前記第５の設定値を前記第１の設定値で除した値である分周比で分周した前記出力クロック信号を出力するクロック分周回路。
【手続補正書】
【提出日】平成24年2月21日(2012.2.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入力電圧を受け取る差動増幅段と第１〜第ｎ出力系統とを備えるアナログ増幅回路と（ｎは２以上の自然数）、
第１〜第ｎ出力ノードと、
出力パッドと、
第１〜第ｎ静電保護抵抗
とを具備し、
前記第１〜第ｎ出力系統のうちの第ｉ出力系統は（ｉは、１以上ｎ以下の任意の整数）、
前記第１〜第ｎ出力ノードのうちの前記第ｉ出力ノードにドレインが接続され、ゲートが前記差動増幅段の第１出力に接続されたＰＭＯＳトランジスタと、
前記第ｉ出力ノードにドレインが接続され、ゲートが前記差動増幅段の第２出力に接続されたＮＭＯＳトランジスタ
とを備え、
前記第１〜第ｎ静電保護抵抗が、それぞれ、前記第１〜第ｎ出力ノードと前記出力パッドの間に接続された
出力回路。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】出力回路
【手続補正書】
【提出日】平成24年2月20日(2012.2.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光入力信号を電流信号に変換する受光素子と、
前記電流信号を電圧信号に変換する第１の電流電圧変換回路と、
前記第１の電流電圧変換回路が動作状態から非動作状態に切り替わるとき、前記第１の電流電圧変換回路からの過渡電流を処理する第１の過渡電流処理回路と、
前記第１の過渡電流処理回路の入力端子の電圧を所定値に保つ第１のクリップ回路とを備える受光回路。
【手続補正書】
【提出日】平成24年2月20日(2012.2.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
動画像データを入力し、複数の予測モードのうち少なくとも１つの予測モードを用いて、マクロブロック単位の動画像データを前記マクロブロックの周辺にある参照画素から予測し、その予測した動画像データを用いて、前記入力した動画像データを符号化する画像符号化装置であって、
前記複数の予測モードのうちの第１の予測モードにより、前記参照画素から第１の予測画素を生成する第１の予測画素生成部と、
入力画素の画素値と、前記第１の予測画素の画素値の差分を求めることにより第１の予測誤差を生成する差分計算部と、
前記第１の予測誤差値を直交変換し、第１の予測誤差変換値を生成する直交変換値生成部と、
前記複数の予測モードのうち少なくとも１つの第２の予測モードにより、前記参照画素から第２の予測画素を直交変換した画素値と、前記第１の予測画素を直交変換した画素値とに対する補正値を計算する補正値計算部と、
前記補正値と、前記第１の予測誤差変換値に応じて、前記第２の予測モードに対する第２の予測誤差変換値を生成する変換値生成部と、
前記第１及び第２の予測誤差変換値に応じた値を比較して、前記１つの予測モードを判定する判定部と、を有する
画像符号化装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】画像符号化装置
【手続補正書】
【提出日】平成24年3月12日(2012.3.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外部からアナログ信号が入力されるアナログ信号入力回路と、
最大基準電圧と最小基準電圧との間に接続された抵抗ラダーを有し、それぞれ異なる基準電圧を発生させる基準電圧発生回路と、
前記アナログ信号及び前記基準電圧または前記アナログ信号及び前記基準電圧に応じて生成された第１の入力信号及び第２の入力信号が入力される増幅器群と、
前記増幅器群からの出力信号を補間して補間信号を出力する補間回路とを少なくとも備え、
前記増幅器群は、
前記アナログ信号と前記基準電圧との、または前記第１の入力信号と前記第２の入力信号との差電圧が規定値よりも小さい場合には前記差電圧を増幅し、前記差電圧が規定値よりも大きい場合には電流が遮断される複数の増幅器を備え、
前記補間回路は、
隣接する前記増幅器間に直列に接続された複数の抵抗器を備える、
補間型Ａ／Ｄ変換器。
【手続補正書】
【提出日】平成24年4月16日(2012.4.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入力された画像の画素毎の輝度値から、輝度ヒストグラムを作成する作成手段と、
前記画像の画素毎に、その画素の輝度値とその周辺画素の輝度値から、当該画素が局所的に暗い局所暗部画素であるか否かを判断する判断手段と、
前記画像の階調を補正する階調補正パラメータを、前記輝度ヒストグラムと前記局所暗部画素の総数とを用いて生成する生成手段と、
を有し、
前記生成手段は、
前記局所暗部画素の総数が所定の閾値以上の場合に、前記輝度ヒストグラムから前記局所暗部画素の階調を含む輝度領域を除いた範囲から、頻度が極大となる注目階調を検出し、
前記注目階調を含む注目階調近傍の階調性を高くする階調補正パラメータを生成する
ことを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記生成手段は、複数の前記注目階調が検出された場合に、少なくとも最も低階調側の注目階調を含む注目階調近傍の階調性を高くする階調補正パラメータを生成する
ことを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記判断手段は、前記画素の輝度値が所定の輝度閾値よりも小さく、且つ、前記画素の輝度値と少なくとも１つの周辺画素の輝度値との差分が所定の差分閾値よりも大きい場合に、当該画素を局所暗部画素とする
ことを特徴とする請求項１または２に記載の画像処理装置。
【請求項４】
前記輝度閾値は入力される画像の種類毎に異なる
ことを特徴とする請求項３に記載の画像処理装置。
【請求項５】
前記画像を複数の領域に分割する分割手段を更に有し、
階調補正パラメータは前記領域毎に生成される
ことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の画像処理装置。
【請求項６】
入力された画像の画素毎の輝度値から、輝度ヒストグラムを作成する作成ステップと、
前記画像の画素毎に、その画素の輝度値とその周辺画素の輝度値から、当該画素が局所的に暗い局所暗部画素であるか否かを判断する判断ステップと、
前記画像の階調を補正する階調補正パラメータを、前記輝度ヒストグラムと前記局所暗部画素の総数とを用いて生成する生成ステップと、
を有し、
前記生成ステップでは、
前記局所暗部画素の総数が所定の閾値以上の場合に、前記輝度ヒストグラムから前記局所暗部画素の階調を含む輝度領域を除いた範囲から、頻度が極大となる注目階調を検出し、
前記注目階調を含む注目階調近傍の階調性を高くする階調補正パラメータを生成する
することを特徴とする画像処理方法。
【請求項７】
前記生成ステップでは、複数の前記注目階調が検出された場合に、少なくとも最も低階調側の注目階調を含む注目階調近傍の階調性を高くする階調補正パラメータを生成する
ことを特徴とする請求項６に記載の画像処理方法。
【請求項８】
前記判断ステップでは、前記画素の輝度値が所定の輝度閾値よりも小さく、且つ、前記画素の輝度値と少なくとも１つの周辺画素の輝度値との差分が所定の差分閾値よりも大きい場合に、当該画素を局所暗部画素とする
ことを特徴とする請求項６または７に記載の画像処理方法。
【請求項９】
前記輝度閾値は入力される画像の種類毎に異なる
ことを特徴とする請求項８に記載の画像処理方法。
【請求項１０】
前記画像を複数の領域に分割する分割ステップを更に有し、
階調補正パラメータは前記領域毎に生成される
ことを特徴とする請求項６〜９のいずれか１項に記載の画像処理方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
また、本発明の画像処理方法は、入力された画像の画素毎の輝度値から、輝度ヒストグラムを作成する作成ステップと、前記画像の画素毎に、その画素の輝度値とその周辺画素の輝度値から、当該画素が局所的に暗い局所暗部画素であるか否かを判断する判断ステップと、前記画像の階調を補正する階調補正パラメータを、前記輝度ヒストグラムと前記局所暗部画素の総数とを用いて生成する生成ステップと、を有し、前記生成ステップでは、前記局所暗部画素の総数が所定の閾値以上の場合に、前記輝度ヒストグラムから前記局所暗部画素の階調を含む輝度領域を除いた範囲から、頻度が極大となる注目階調を検出し、前記注目階調を含む注目階調近傍の階調性を高くする階調補正パラメータを生成することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成24年3月2日(2012.3.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
現在位置を取得する位置取得部から現在位置を示す位置情報を取得し、予め各位置に対応付けられた、各位置での撮影に適した撮影設定を示す設定情報を複数記憶している記憶部から、現在位置での撮影に適した撮影設定を示す設定情報を読み出し、当該設定情報に基づいて撮影設定を行う制御部と、
上記制御部による撮影設定に基づいて被写体を撮像する撮像部と
を具える撮像装置。
【請求項２】
上記設定情報の各々には、対応付けられた位置と、当該位置での撮影に適した撮影設定の設定値とが示され、
上記制御部は、
上記位置取得部により取得された現在位置と上記設定情報に示されている位置とに基づいて、上記記憶部に記憶されている設定情報の中から、現在位置での撮影に適した撮影設定を示す設定情報を検索し、検索の結果得られた当該設定情報に含まれる設定値をもとに撮影設定を行う
請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
上記制御部は、
上記位置取得部に所定時間ごとに現在位置を取得させ、現在位置と上記設定情報に示されている位置とに基づいて、上記記憶部に記憶されている設定情報の中から、現在位置での撮影に適した撮影設定を示す設定情報を所定時間ごとに検索し、検索の結果、現在位置での撮影に適した撮影設定を示す設定情報が得られると、現在位置での撮影をユーザに促す
請求項２に記載の撮像装置。
【請求項４】
上記設定情報の各々には、対応付けられた位置に対するお薦め度が設定されており、
上記制御部は、
検索の結果、現在位置での撮影に適した撮影設定を示す設定情報が得られると、当該設定情報に設定されているお薦め度に基づいて、現在位置での撮影をユーザに促すか否かを判断する
請求項３に記載の撮像装置。
【請求項５】
電池残量を検出する電池残量検出部を具え、
上記制御部は、
現在位置での撮影に適した撮影設定を示す設定情報に設定されているお薦め度と、電池残量検出部から得られる電池残量とに基づいて、現在位置での撮影をユーザに促すか否かを判断する
請求項４に記載の撮像装置。
【請求項６】
上記撮像部から得られた画像を記録する記録媒体の残容量を検出する残容量検出部を具え、
上記制御部は、
現在位置での撮影に適した撮影設定を示す設定情報に設定されているお薦め度と、残容量検出部から得られる残容量とに基づいて、現在位置での撮影をユーザに促すか否かを判断する
請求項４に記載の撮像装置。
【請求項７】
撮像部のレンズが向けられている方位を検出する方位検出部を具え、
上記設定情報の各々には、対応付けられた位置での撮影に適した撮影方位が示され、
上記制御部は、
検索の結果得られた設定情報に示されている撮影方位と、方位検出部から得られる方位とのズレを算出して、当該ズレがなくなると、上記撮像部を制御して自動的に画像を撮影する
請求項２に記載の撮像装置。
【請求項８】
上記制御部は、
検索の結果得られた上記設定情報に示されている設定値を、撮像装置で設定可能な範囲の設定値となるように調整する
請求項２に記載の撮像装置。
【請求項９】
上記制御部は、
上記撮像部を制御して撮影した画像を画像ファイルとして所定の記録媒体に記録すると共に、当該画像ファイルに、上記位置取得部により取得された現在位置と、撮影設定の設定値とを付帯情報として付与し、当該画像ファイルに付与した付帯情報をもとに、上記設定情報を生成または更新する
請求項２に記載の撮像装置。
【請求項１０】
撮像装置の制御部が、位置取得部により取得された現在位置での撮影に適した撮影設定を示す設定情報を、予め各位置に対応付けられた、各位置での撮影に適した撮影設定を示す設定情報を複数記憶している記憶部から読み出し、当該設定情報に基づいて撮影設定を行う
撮影設定方法。
【請求項１１】
撮像装置に、
位置取得部により取得された現在位置での撮影に適した撮影設定を示す設定情報を、予め各位置に対応付けられた、各位置での撮影に適した撮影設定を示す設定情報を複数記憶している記憶部から制御部が読み出す読出ステップと、
上記読出ステップで読み出された設定情報に基づいて上記制御部が撮影設定を行う設定ステップと
を実行させるための撮影設定プログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
かかる課題を解決するため本発明においては、現在位置を取得する位置取得部から現在位置を示す位置情報を取得し、予め各位置に対応付けられた、各位置での撮影に適した撮影設定を示す設定情報を複数記憶している記憶部から、現在位置での撮影に適した撮影設定を示す設定情報を読み出し、当該設定情報に基づいて撮影設定を行う制御部と、制御部による撮影設定に基づいて被写体を撮像する撮像部とを設けるようにした。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６３】
制御部１０は、まず、自動設定用ファイル３２の管理情報３１に記されている１０個の地域代表ＩＮＤＥＸ３０のＩＤをもとに、全ＩＮＤＥＸ３０の中から１０個の地域代表ＩＮＤＥＸ３０を検索する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８８】
一方で、ＩＮＤＥＸ３０（ＩＤ＝４）の撮影ポイントが、現在位置から所定範囲Ｄ外にあれば、このＩＮＤＥＸ３０（ＩＤ＝４）を、現在位置に対応するＩＮＤＥＸ３０とはしない。そしてこのとき制御部１０は、現在位置に対応するＩＮＤＥＸ３０が見付からなかったと判別する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２５８】
これに限らず、例えば、予めユーザにお薦め度に対する閾値（例えば「３」）を選ばせておき、ＩＮＤＥＸ３０に記されているお薦め度が、この閾値以上であるか否かで、現在位置での撮影を促すか否かを判断するようにしてもよい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図６】
2010258526.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成24年4月18日(2012.4.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
撮像装置から送信される画像を表示手段に表示させるようにする制御手段と、
前記表示手段に表示されている画像内の所定の範囲と、操作手段を用いて制御される所定のマークとが重なって表示されている場合に、前記所定の範囲に対応する画像に基づく撮影準備処理が前記撮像装置によって行われるようにするための第１のデータを前記撮像装置に送信する第１の指示手段と、
前記所定の範囲と前記所定のマークとが重なって表示されている状態で前記操作手段が操作された場合、撮影処理が前記撮像装置によって行われるようにするための第２のデータを前記撮像装置に送信する第２の指示手段とを有することを特徴とする制御装置。
【請求項２】
前記第１のデータが前記撮像装置に送信された後、前記所定の範囲と前記所定のマークとが重なって表示されていない場合、前記撮影準備処理が行われないようにするための第３のデータが前記撮像装置に送信されるようにすることを特徴とする請求項１に記載の制御装置。
【請求項３】
前記表示手段に表示されている画像内に複数の所定の範囲が含まれることを特徴とする請求項１または２に記載の制御装置。
【請求項４】
前記第１のデータが前記撮像装置に送信される場合、前記所定のマークが重なって表示されている所定の範囲が前記撮像装置に通知されるようにすることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の制御装置。
【請求項５】
前記所定の範囲の位置を示す第１の情報と前記所定のマークの位置を示す第２の情報とを用いて、前記所定の範囲と前記所定のマークとが重なって表示されているか否かを判定する判定手段をさらに有することを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の制御装置。
【請求項６】
前記所定の範囲は、前記撮像装置における測距枠に関連する範囲を含むことを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の制御装置。
【請求項７】
前記操作手段は、マウス、トラックパッド、トラックボールまたはキーボードであることを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の制御装置。
【請求項８】
請求項１から７のいずれか１項に記載の制御装置を制御するための制御方法。
【請求項９】
撮像装置から送信される画像を表示手段に表示させるようにするステップと、
前記表示手段に表示されている画像内の所定の範囲と、操作手段を用いて制御される所定のマークとが重なって表示されている場合に、前記所定の範囲に対応する画像に基づく撮影準備処理が前記撮像装置によって行われるように要求するための第１のデータを前記撮像装置に送信するステップと、
前記所定の範囲と前記所定のマークとが重なって表示されている状態で前記操作手段が操作された場合、撮影処理が前記撮像装置によって行われるように要求するための第２のデータを前記撮像装置に送信するステップとをコンピュータに実行させるためのプログラム。
【請求項１０】
コンピュータを請求項１から７のいずれか１項に記載の制御装置として機能させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】制御装置及びプログラム
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、制御装置及びプログラムに関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明に係る制御装置は、撮像装置から送信される画像を表示手段に表示させるようにする制御手段と、前記表示手段に表示されている画像内の所定の範囲と、操作手段を用いて制御される所定のマークとが重なって表示されている場合に、前記所定の範囲に対応する画像に基づく撮影準備処理が前記撮像装置によって行われるようにするための第１のデータを前記撮像装置に送信する第１の指示手段と、前記所定の範囲と前記所定のマークとが重なって表示されている状態で前記操作手段が操作された場合、撮影処理が前記撮像装置によって行われるようにするための第２のデータを前記撮像装置に送信する第２の指示手段とを有することを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明に係るプログラムは、撮像装置から送信される画像を表示手段に表示させるようにするステップと、前記表示手段に表示されている画像内の所定の範囲と、操作手段を用いて制御される所定のマークとが重なって表示されている場合に、前記所定の範囲に対応する画像に基づく撮影準備処理が前記撮像装置によって行われるように要求するための第１のデータを前記撮像装置に送信するステップと、前記所定の範囲と前記所定のマークとが重なって表示されている状態で前記操作手段が操作された場合、撮影処理が前記撮像装置によって行われるように要求するための第２のデータを前記撮像装置に送信するステップとをコンピュータに実行させるためのプログラムである。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成24年4月20日(2012.4.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
撮像光学系と、
該撮像光学系によって形成される像を光電変換する撮像素子と、
前記撮像素子によって得られた撮影画像の画像処理を行う画像処理手段を有する撮像装置において、
該撮像装置の振動を検出する振動検出手段と、
該振動検出手段の検出結果に基づいて、前記撮像光学系の一部により構成される防振レンズ群を前記撮像素子に対して偏心させる画像ぶれ補正手段を有し、
前記画像処理手段は、撮影時の防振レンズ群の位置に対応する画像回復フィルタを用いて画像処理を行うことを特徴とする撮像装置。
【請求項２】
前記防振レンズ群の位置を検出する位置検出手段を有することを特徴とする請求項１に記載の撮像装置。
【請求項３】
撮像光学系と、
該撮像光学系によって形成される像を光電変換する撮像素子と、
前記撮像素子によって得られた撮影画像の画像処理を行う画像処理手段を有する撮像装置において、
該撮像装置の振動を検出する振動検出手段と、
該振動検出手段の検出結果に基づいて、前記撮像素子を前記撮像光学系に対して偏心させる画像ぶれ補正手段を有し、
前記画像処理手段は、撮影時の撮像素子の位置に対応する画像回復フィルタを用いて画像処理を行うことを特徴とする撮像装置。
【請求項４】
前記撮像素子の位置を検出する位置検出手段を有することを特徴とする請求項３に記載の撮像装置。
【請求項５】
画像を取得する画像取得工程と、
該画像取得工程において取得した画像の撮影情報を取得する撮影情報取得工程と、
撮影時の防振レンズ群の位置情報を取得する位置情報取得工程と、
前記撮影情報と前記位置情報に基づいて決定される画像回復フィルタを用いて前記画像取得工程において取得した画像を処理する画像回復工程を有することを特徴とする画像変換方法。
【請求項６】
画像を取得する画像取得工程と、
該画像取得工程において取得した画像の撮影情報を取得する撮影情報取得工程と、
撮影時の撮像素子の位置情報を取得する位置情報取得工程と、
前記撮影情報と前記位置情報に基づいて決定される画像回復フィルタを用いて前記画像取得工程において取得した画像を処理する画像回復工程を有することを特徴とする画像変換方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
本発明の撮像装置は、撮像光学系と、
該撮像光学系によって形成される像を光電変換する撮像素子と、
前記撮像素子によって得られた撮影画像の画像処理を行う画像処理手段を有する撮像装置において、
該撮像装置の振動を検出する振動検出手段と、
該振動検出手段の検出結果に基づいて、前記撮像光学系の一部により構成される防振レンズ群を前記撮像素子に対して偏心させる画像ぶれ補正手段を有し、
前記画像処理手段は、撮影時の防振レンズ群の位置に対応する画像回復フィルタを用いて画像処理を行うことを特徴としている。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
本発明の他の撮像装置は、撮像光学系と、
該撮像光学系によって形成される像を光電変換する撮像素子と、
前記撮像素子によって得られた撮影画像の画像処理を行う画像処理手段を有する撮像装置において、
該撮像装置の振動を検出する振動検出手段と、
該振動検出手段の検出結果に基づいて、前記撮像素子を前記撮像光学系に対して偏心させる画像ぶれ補正手段を有し、
前記画像処理手段は、撮影時の撮像素子の位置に対応する画像回復フィルタを用いて画像処理を行うことを特徴とを特徴としている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の画像変換方法は、画像を取得する画像取得工程と、
該画像取得工程において取得した画像の撮影情報を取得する撮影情報取得工程と、
撮影時の防振レンズ群の位置情報を取得する位置情報取得工程と、
前記撮影情報と前記位置情報に基づいて決定される画像回復フィルタを用いて前記画像取得工程において取得した画像を処理する画像回復工程を有することを特徴としている。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の他の画像変換方法は、画像を取得する画像取得工程と、
該画像取得工程において取得した画像の撮影情報を取得する撮影情報取得工程と、
撮影時の撮像素子の位置情報を取得する位置情報取得工程と、
前記撮影情報と前記位置情報に基づいて決定される画像回復フィルタを用いて前記画像取得工程において取得した画像を処理する画像回復工程を有することを特徴としている。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３２】
［実施例２］
実施例２では、露光時間内の防振レンズ群１０１ｂの各位置に対応した点像分布関数ＰＳＦを平均化する演算によって新たな点像分布関数ＰＳＦを求めている。新たな点像分布関数ＰＳＦに基づいて画像回復フィルタを生成し、撮影画像に対して画像回復処理を実行している。本実施例において多次元マトリクスに用意すべき情報は、点像分布関数ＰＳＦである。以上のように本実施例では、光学防振システムにおける防振レンズ群１０１ｂの各位置に対応する点像分布関数ＰＳＦを平均化して求められる点像分布関数に基づいて、防振画像回復フィルタを生成している。図３は実施例２のフローチャートである。以上の構成により実施例１と同様の効果を得ている。
【手続補正書】
【提出日】平成24年9月27日(2012.9.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
親局と複数の子局とを光スプリッタを備えた光ファイバ網で接続した光通信システムにおいて、前記光ファイバ網に前記親局と前記複数の子局との間で送受信する信号を中継する中継器であって、
該中継器と前記複数の子局の夫々との間の伝送距離もしくは伝送時間を測定する測定部と、
該夫々の子局の送信帯域要求に基づき該子局が該中継器に信号を送信するタイミングを決定する決定部と、
該夫々の子局から受信した信号を処理して前記親局へ送信する信号処理部とを有する制御部とを備えた中継器を備え、
前記中継器は、
前記測定部での測定実施後に、前記決定部が決定したタイミングを前記複数の子局の夫々に通知し、
該タイミングで夫々の子局からヘッダとペイロードからなるバースト信号を受信すると、前記信号処理部は、該タイミングに基づき受信バースト信号のヘッダの一部を削除し、削除後の領域と前記受信バースト信号同士の間隙領域にダミー信号を挿入した一連の信号に変換して前記親局に送信し、
前記親局が、前記複数の子局からの信号を前記中継器で変換された一連の信号として受信することを特徴とする光通信システム。
【請求項２】
親局と複数の子局とを光スプリッタを備えた光ファイバ網で接続した光通信システムにおいて、前記光ファイバ網に前記親局と前記複数の子局との間で送受信する信号を中継する中継器であって、
該中継器と前記複数の子局の夫々との間の伝送距離もしくは伝送時間を測定する測定部と、
前記複数の子局の夫々を複数の群に分け、該夫々の子局の送信帯域要求に基づき該子局が該中継器に信号を送信するタイミングを群毎に決定する決定部と、
該夫々の子局から受信した信号を処理して前記親局へ送信する信号処理部とを有する制御部とを備えた中継器を備え、
前記中継器は、
前記測定部での測定実施後に、前記決定部が決定したタイミングを前記複数の子局の夫々に通知し、
該タイミングで夫々の子局からヘッダとペイロードからなるバースト信号を受信すると、前記信号処理部は、該タイミングに基づき受信バースト信号のヘッダの一部を削除し、削除後の領域と各群の子局から受信するバースト信号同士の間隙領域に各群の任意の子局で受信した信号のタイミングを変更挿入することで一連の信号に変換して前記親局に送信し、
前記親局が、前記複数の子局からの信号を前記中継器で変換された一連の信号として受信することを特徴とする光通信システム。
【請求項３】
上記光ファイバ網において、上記中継器を上記親局と上記光スプリッタとの間の第１の光ファイバに挿入したことを特徴とする請求項１もしくは請求項２のいずれかに記載の光通信システム。
【請求項４】
上記中継器が上記親局に送信する一連の信号は、前記複数の子局の夫々が受信したフレーム信号の光強度にかかわらず、前記中継器と親局との間で設定した一定強度の連続光信号であることをを特徴とする請求項１もしくは請求項２のいずれかに記載の光通信システム。
【請求項５】
上記タイミングは、上記複数の子局の夫々が出力するバースト信号同士の光ファイバ網で干渉を防止する上記間隙領域であるガードタイム、ならびに、各バースト信号のヘッダに含まれるプリアンブルとデリミタを含めて決定され、
上記信号処理部は、少なくとも該プリアンブルとデリミタを削除し、該削除領域とガードタイムにダミー信号を挿入することを特徴とする請求項１に記載の光通信システム。
【請求項６】
上記タイミングは、上記複数の子局の夫々が出力するバースト信号同士の光ファイバ網で干渉を防止する上記間隙領域であるガードタイム、ならびに、各バースト信号のヘッダに含まれるプリアンブルとデリミタを含めて決定され、
上記信号処理部は、少なくとも該プリアンブルとデリミタを削除し、該削除領域と間隙領域に任意の子局から受信したバースト信号のタイミングを変更して挿入することを特徴とする請求項２に記載の光通信システム。
【請求項７】
親局と複数の子局とを光スプリッタと該親局と該複数の子局との間で送受信する信号を中継する中継器を備えた光ファイバ網で接続した光通信システムの運用方法であって、
前記中継器により、
前記光通信システムの運用開始時に、該中継器と前記複数の子局との間の伝送距離もしくは伝送時間を測定し、
前記光通信システムの運用中は、前記測定の結果と前記複数の子局の送信帯域要求に基づき該複数の子局の夫々が信号を送信するタイミングを決め、
前記複数の子局から該タイミングでヘッダとペイロードからなるバースト信号を送信させると、該タイミングに基づき受信したバースト信号のヘッダの一部を削除し、削除後の領域と受信したバースト信号同士の間隙領域にダミー信号を挿入することで一連の信号に変換して前記親局に送信し、
前記親局により、前記複数の子局からの信号を前記中継器で変換された一連の信号として受信することを特徴とする光通信システムの運用方法。
【請求項８】
親局と複数の子局とを光スプリッタと該親局と該複数の子局との間で送受信する信号を中継する中継器を備えた光ファイバ網で接続した光通信システムの運用方法であって、
前記中継器により、
前記光通信システムの運用開始時に、該中継器と前記複数の子局との間の伝送距離もしくは伝送時間を測定し、
前記光通信システムの運用中は、前記複数の子局の夫々を複数の群に分け、前記測定の結果と各子局の送信帯域要求に基づき該複数の子局の夫々が信号を送信するタイミングを群毎に決め、
前記複数の子局から該タイミングでヘッダとペイロードからなるバースト信号を送信させると、該タイミングに基づき受信したバースト信号のヘッダの一部を削除し、削除後の領域と各群の子局から受信するバースト信号同士の間隙領域に各群の任意の子局で受信した信号のタイミングを変更挿入することで一連の信号に変換して前記親局に送信し、
前記親局により、前記複数の子局からの信号を前記中継器で変換された一連の信号として受信することを特徴とする光通信システムの運用方法。
【請求項９】
上記中継器が上記親局に送信する一連の信号は、前記複数の子局の夫々が受信したフレーム信号の光強度にかかわらず、前記中継器と親局との間で設定した一定強度の連続光信号に変換出力することをを特徴とする請求項７もしくは請求項８のいずれかに記載の光通信システムの運用方法。