【事件の表示】
　特願２００５−３６９４３８「磁気記録媒体および磁気記録再生装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１８年４月６日出願公開、特開２００６−９２７４５〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯、本願発明
　本願は平成１４年８月２２日の出願である特願２００２−２４２５１８号（以下、「原出願」という。）の一部を１７年１２月２２日に新たな出願としたものであって、その請求項１〜７に係る発明は、平成１８年１１月２日付け手続補正により補正された特許請求の範囲の請求項１〜７に記載された事項により特定されるものであるところ、請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は次のとおりである。
　
　「【請求項１】
表面に円周方向に沿う条痕を有する、ディスク状のガラス基板上に、配向調整層、非磁性下地層、磁性層及び保護膜をこの順で有する磁気記録媒体において、
前記配向調整層は、Ｃｏ−Ｗ系合金、Ｃｏ−Ｍｏ系合金、Ｃｏ−Ｔａ系合金、Ｃｏ−Ｎｂ系合金、Ｎｉ−Ｔａ系合金、Ｎｉ−Ｎｂ系合金、Ｆｅ−Ｗ系合金、Ｆｅ−Ｍｏ系合金、Ｆｅ−Ｎｂ系合金の中から選択される少なくとも１つの合金を含み、
前記Ｃｏ−Ｗ系合金のＷの組成範囲は３０ａｔ％〜８５ａｔ％であり、
前記Ｃｏ−Ｍｏ系合金のＭｏの組成範囲は３０ａｔ％〜８５ａｔ％であり、
前記Ｃｏ−Ｔａ系合金のＴａの組成範囲は３８ａｔ％〜６５ａｔ％であり、
前記Ｃｏ−Ｎｂ系合金のＮｂの組成範囲は３７ａｔ％〜８６ａｔ％であり、
前記Ｎｉ−Ｔａ系合金のＴａの組成範囲は３８ａｔ％〜６３ａｔ％であり、
前記Ｎｉ−Ｎｂ系合金のＮｂの組成範囲は３１ａｔ％〜８６ａｔ％であり、
前記Ｆｅ−Ｗ系合金のＷの組成範囲は３７ａｔ％〜８６ａｔ％であり、
前記Ｆｅ−Ｍｏ系合金のＭｏの組成範囲は３５ａｔ％〜８５ａｔ％であり、
前記Ｆｅ−Ｎｂ系合金のＮｂの組成範囲は４０ａｔ％〜８６ａｔ％であり、
前記配向調整層はガラス基板と接し、
前記条痕の線密度が７５００（本／ｍｍ）以上２０００００（本／ｍｍ）以下であり、
前記磁性層の磁気的異方性指数（円周方向の保磁力／半径方向の保磁力）が１．０５以上
であることを特徴とする磁気記録媒体。」
　
２．引用例
　原審の拒絶の理由に引用された、原出願の出願前に頒布された刊行物である特開２００２−２２２５１８号公報（平成14年8月9日公開。以下、「引用例」という。）には、次の事項が記載されている。
　（なお、下線は、当審で付加した。）
　ア．「【請求項１】
非磁性基板と、該非磁性基板上に直接
形成された核生成層と、金属下地層と、磁気情報を記録するための強磁性金属層とを備える磁気記録媒体において、　前記核生成層が、少なくともＮｂを含む合金からなることを特徴とする磁気記録媒体。
核生成層のＮｂ含有量が、２０at％以上８０at％以下である
【請求項３】前記核生成層のＮｂ含有量が、３０at％以上５０at％以下であることを特徴とする請求項２に記載の磁気記録媒体。
【請求項４】
非磁性基板と、該非磁性基板上に直接
形成された核生成層と、金属下地層と、磁気情報を記録するための強磁性金属層とを備える磁気記録媒体において、
核生成層が、少なくともＶ、Ｍｏ、Ｗから選ばれる１種以上の元素を含む合金からなることを特徴とする磁気記録媒体
【請求項５】前記
核生成層に含まれるＶ、Ｍｏ、Ｗの含有量が、それぞれ２０at％以上８０at％以下である
【請求項６】前記核生成層に含まれるＶ、Ｍｏ、Ｗの含有量が、それぞれ３０at％以上５０at％以下であることを特徴とする請求項５に記載の磁気記録媒体。
【請求項７】前記
核生成層が、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｆｅ
から選ばれる１種以上の元素を含む
　イ．「【0004】上記のようにガラス基板９２を用いた磁気記録媒体においては、その金属下地層９４や強磁性金属層９５の結晶配向が、ＮｉＰ−Ａｌ基板上に成膜された金属下地層や強磁性金属層とは大きく異なるものである。具体的には、ＮｉＰ−Ａｌ基板上に高温で成膜されたＣｒあるいはＣｒ合金の金属下地層は通常（１００）配向となり、この配向面上に形成されたＣｏ基強磁性合金からなる強磁性金属層はｃ軸が基板面内方向と平行になる（１１０）配向となるが、この磁気記録媒体と同様の条件でガラス基板上に金属下地層、強磁性金属層を成膜すると上記ＮｉＰ−Ａｌ基板に成膜したものとは異なる結晶配向を示すものとなり、結果として記録再生特性に劣るものとなる。このために、
上記ガラス基板９１を用いた磁気記録媒体においては、結晶配向と結晶粒径を制御するためのシード層９３が設けられている
【0005】
上記磁気記録媒体は、金属下地層９４と基板９２との間に、ＮｉＡｌシード層９３を有する材料の層を設けることにより、記録層である強磁性金属層９５の結晶粒を微細化して磁気記録媒体の低ノイズ化を図るものである
このような構成の磁気記録媒体によれば、Ｃｏ基強磁性合金からなる強磁性金属層において、ｈｃｐ構造のｃ軸が基板９２とほぼ平行となるように配向させることができるとされている
　ウ．「【0025】
（シード層（核生成層））本発明に係るシード層２は、金属下地層３や強磁性金属層４の結晶配向および結晶粒径を制御するために設けられている層である
本発明に係る核生成層であるシード層２としては、少なくともＮｂを含む合金、または少なくともＶ、Ｍｏ、Ｗから選ばれる１種以上の材料を含む合金を材料として用いることができる
ＮｉＮｂ
【0026】上記
Ｎｂ、Ｖ、Ｍｏ、Ｗと他の金属元素を合金化して用いる場合には、いずれの元素もその含有量は２０at％〜８０at％とすることが好ましい
【0027】
あるいは、上記に挙げた材料と、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｆｅ
から選ばれる少なくとも１種以上の材料を合金化した材料を用いることができる
ＮｉＮｂ
ＣｏＮｂ
ＣｏＭｏ
ＦｅＮｂ、ＦｅＷ
ＦｅＭｏ
　エ．「【0032】（金属下地層）本実施形態の磁気記録媒体の金属下地層３としては、ＣｒまたはＣｒ合金を用いることが好ましい。Ｃｒ合金を用いる場合には、例えば、Ｍｏ、Ｗ、Ｔｉ、Ｖ、Ｎｂ、Ｎｂ、Ｔａ等との組み合わせを適用することができる。金属下地層２としてＣｒあるいはＣｒ合金を用いることにより、金属下地層３上に形成される強磁性金属層４に対して偏析作用を起こさせることができる。これにより、強磁性金属層４の結晶粒間の磁気的な相互作用を抑えて規格化保磁力を高めることができる。また、
金属下地層３上の強磁性金属層４の磁化容易軸（ｃ軸）が基板面内方向を取るようにすることができる
　オ．「【0043】本実施例では、
基板として表面粗さ０．３ｎｍ未満のディスク状のガラス基板を用い
シード層用のターゲットとしてＮｉ−４０at％Ｎｂターゲットを用い
保護層用ターゲットとしてカーボンターゲットを用いた
　以下の表１は本実施例に係る磁気記録媒体の作製条件である。」
　
　上記摘示事項（特に下線部）によれば、引用例には、次の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されている。
　
　「非磁性基板と、該非磁性基板上に直接形成された核生成層と、金属下地層と、磁気情報を記録するための強磁性金属層と保護層を備える磁気記録媒体において、
　前記核生成層が、少なくともＮｂ、Ｖ、Ｍｏ、Ｗを含む合金からなり、Ｎｂ、Ｖ、Ｍｏ、Ｗの含有量が、２０at％以上８０at％以下であり、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｃｕから選ばれる１種以上の元素を含む磁気記録媒体」
　
３．対比
　引用発明と、本願発明とを比較する。
　引用発明の「非磁性基板」は、ディスク状のガラス基板を用いており（上記オ）、本願発明の「ディスク状のガラス基板」に相当する。
　引用発明の「核生成層」は、金属下地層３や強磁性金属層４の結晶配向および結晶粒径を制御するために設けられている層であるから（上記ウ）、本願発明の配向調整層に相当する。
　引用発明の「金属下地層」「磁気情報を記録するための強磁性金属層」「保護層」は、それぞれ本願発明の「非磁性下地層」、「磁性層」「保護膜」に相当する。
　そして、引用発明の「磁気記録媒体」の各層（膜）の順は、本願発明の「磁気記録媒体」と一致する。
　引用発明では、Ｎｂの範囲は２０at％以上８０at％以下であるから、本願発明のＮｉ−Ｎｂ系合金のＮｂの組成範囲31at％〜80at％の範囲において重複し、引用発明の実施例において、核生成層（シード層）としてＮｉ−４０at％Ｎｂターゲットを使用していて、本願発明の実施例20（60Ｎｉ−40Ｎｂ）と同一組成である。（上記オ）
　また、引用発明では、Ｎｉ−Ｎｂとともに、Ｃｏ−Ｗ、Ｃｏ−Ｍｏ、Ｃｏ−Ｎｂ、Ｎｉ−Ｔａ、Ｎｉ−Ｎｂ、Ｆｅ−Ｗ、Ｆｅ−Ｍｏ、Ｆｅ−Ｎｂ等の合金も同様に使用できるのであるから（上記ウ）、引用発明の「核生成層が、少なくともＮｂ、Ｖ、Ｍｏ、Ｗを含む合金からなり、Ｎｂ、Ｖ、Ｍｏ、Ｗの含有量が、２０at％以上８０at％以下であり、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｃｕから選ばれる１種以上の元素を含む」は、本願発明の「Ｃｏ−Ｗ系合金、Ｃｏ−Ｍｏ系合金、Ｃｏ−Ｔａ系合金、Ｃｏ−Ｎｂ系合金、Ｎｉ−Ｔａ系合金、Ｎｉ−Ｎｂ系合金、Ｆｅ−Ｗ系合金、Ｆｅ−Ｍｏ系合金、Ｆｅ−Ｎｂ系合金の中から選択される少なくとも１つの合金を含み」に相当する。
　更に、Ｎｂ、Ｖ、Ｍｏ、Ｗの含有量は２０at％以上８０at％以下であるから、その含有量は、いずれも本願発明における範囲と重複している。
　そして、引用発明において核生成層は、ガラス基板と接していることは明らかである。
　したがって、本願発明と引用発明との一致点、相違点は、次のとおりである。
　［一致点］
　「ディスク状のガラス基板上に、配向調整層、非磁性下地層、磁性層及び保護膜をこの順で有する磁気記録媒体において、前記配向調整層は、Ｃｏ−Ｗ系合金、Ｃｏ−Ｍｏ系合金、Ｃｏ−Ｔａ系合金、Ｃｏ−Ｎｂ系合金、Ｎｉ−Ｔａ系合金、Ｎｉ−Ｎｂ系合金、Ｆｅ−Ｎｂ系合金の中から選択される少なくとも１つの合金を含み、前記Ｃｏ−Ｗ系合金のＷの組成範囲は３０ａｔ％〜８５ａｔ％であり、
前記Ｃｏ−Ｍｏ系合金のＭｏの組成範囲は３０ａｔ％〜８５ａｔ％であり、
前記Ｃｏ−Ｔａ系合金のＴａの組成範囲は３８ａｔ％〜６５ａｔ％であり、
前記Ｃｏ−Ｎｂ系合金のＮｂの組成範囲は３７ａｔ％〜８６ａｔ％であり、
前記Ｎｉ−Ｔａ系合金のＴａの組成範囲は３８ａｔ％〜６３ａｔ％であり、
前記Ｎｉ−Ｎｂ系合金のＮｂの組成範囲は３１ａｔ％〜８６ａｔ％であり、
前記Ｆｅ−Ｗ系合金のＷの組成範囲は３７ａｔ％〜８６ａｔ％であり、
前記Ｆｅ−Ｍｏ系合金のＭｏの組成範囲は３５ａｔ％〜８５ａｔ％であり、
前記Ｆｅ−Ｎｂ系合金のＮｂの組成範囲は４０ａｔ％〜８６ａｔ％であり、
前記配向調整層はガラス基板と接する磁気記録媒体」
　
　［相違点］
　本願発明は、表面に円周方向に沿う条痕を有し、条痕の線密度が７５００（本／ｍｍ）以上２０００００（本／ｍｍ）以下であり、前記磁性層の磁気的異方性指数（円周方向の保磁力／半径方向の保磁力）が１．０５以上であるのに対し、引用発明は、表面に円周方向に沿う条痕を有する点について特定されていない点。
　
４．当審の判断
　以下、上記の相違点について検討する。
　
　ところで、原出願の出願当時、磁気記録媒体においてガラス基板の表面に直接円周方向の条痕を設けること（テクスチャ加工をすること）により、円周方向の磁気異方性を高めることは周知である。
　（例えば、特開2002-163817号公報(平成14年6月7日公開)、特開2001-357513号公報、特開2001-209927号公報、特開2001-101656号公報等参照。）
　また、磁気記録媒体において、Ｃｏ系合金からなる強磁性金属層の結晶粒の磁化容易軸（ｃ軸）を基板と平行にするために、Ｃｒ又はＣｒ系合金からなる金属下地層を設けることは周知であり、引用発明における核生成層（シード層）は、金属下地層や強磁性金属層の結晶配向および結晶粒径を制御するために設けられるのであって、金属下地層上の強磁性金属層の磁化容易軸（ｃ軸）が基板面内方向を取ること、すなわち、基板面内方向の保磁力を高める方向に強磁性金属層の結晶成長を促すものである。（上記イ、エ）
　前記周知例に記載された磁気記録媒体（ディスク）は、いずれも、金属下地層（非磁性下地層）としてＣｒ又はＣｒ系合金を、磁性層としてＣｏ系合金（例えばＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ系合金）を使用しており、引用発明と同じ面内記録媒体である。
　そうすると、強磁性金属層の磁化容易軸が面内に配向している引用発明について、円周方向の磁気異方性を高めるために、円周方向に沿う条痕を設けることは、当業者が容易に推考しうることである。
　
　また、条痕を設ける場合、条痕の密度が大きすぎても小さすぎてもその効果が得られず、適当な範囲があることは明らかであり、上記周知例における条痕の密度は、10本／１μｍ以上（すなわち10000本／mm以上。特開2001-101656号公報の請求項４、段落[0010]参照）、7500（本／ｍｍ）以上（特開2002-163817号公報の請求項１、段落[0014]等参照。）である。
　そうすると、条痕の密度の範囲を７５００（本／ｍｍ）以上２０００００（本／ｍｍ）以下とすることは、単なる設計事項にすぎない。
　
　しかも、前記周知例（特開2002-163817号公報）には「磁気的異方性指数（円周方向の保磁力／半径方向の保磁力。ＯＲ）が１．０５以上」であることが記載されており（段落[0075]の表１参照）、本願明細書における実施例と比較例（条痕なし）との比較からみても、磁気的異方性指数が１．０５とは、円周方向に沿った条痕を設けたことにより、円周方向の異方性が現れたことを示すにすぎないというべきであって、磁気的異方性指数が１．０５以上であることに特段の技術的意義があるということはできない。
　
　更に、上記相違点により奏される効果についても、当業者が予測しうる域を超えるものと認めることはできない。
　
　したがって、本願発明は、その出願前に頒布された刊行物に記載された発明及び周知技術に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
　なお、請求人は、「引用文献４、５は、本願発明とは異なる方向（基板表面に対して垂直方向）への磁気配向を磁性層に付与する発明です。このことは、本文献に、磁気記録媒体の製造においては一般的である、基板のテクスチャ加工に関する記載が全くないことから明らかです。すなわち、この文献に記載された発明には、円周方向の磁気異方性を付与する技術思想自体が適用し得ず、加えて、この磁気記録媒体に円周方向のテクスチャ加工を加えると、この文献が目的とする磁気配向を乱すことになります。
　以上のように引用文献１〜５の何れの文献を組み合わせても本願発明を為すことはできませんし、また、仮に、ガラス基板へのテクスチャ加工が周知慣用技術であったとしても、この周知慣用技術を引用文献２〜５に組み合わせることには、前述のように、明らかな技術的阻害要因があります。」と主張している。
　しかし、引用例（引用文献５）における「磁性層の磁化容易軸が基板面内方向を取る」（上記エ）とは、ディスクの面に垂直な方向ではなく、半径方向か円周方向かは特定されないが、基板と平行な方向に配向させるものであることは明らかである。そして、磁化容易軸の方向を半径方向ではなく、円周方向にそろえるために、基板に円周に沿った方向に条痕を設けることが、周知であることは上記したとおりであって、引用発明に周知技術を組み合わせることには、何ら阻害要因はなく、むしろ、動機付けがあるというべきである。
　したがって、請求人の上記主張を採用することはできない。
　
５．むすび
　以上のとおりであるから、本願請求項１に係る発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　したがって、その余の請求項について論及するまでもなく、本願は拒絶されるべきである。
　よって、結論のとおり審決する。