Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月28日(2012.6.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに圧接した２本のローラー間に支持体を通過させて、該支持体の少なくとも一方の表面に無機微粒子とバインダーとを含有するインク受容層用塗工液を塗工し、該支持体の少なくとも一方の表面にインク受容層を形成する工程を有するインクジェット記録媒体の製造方法であって、
該バインダーはアミノ基を有する重量平均分子量１００万以上の水溶性樹脂を含有し、該インク受容層用塗工液中の無機微粒子の含有量をＡ質量部、アミノ基を有する重量平均分子量１００万以上の水溶性樹脂の含有量をＢ質量部としたときに、
３０≦（Ｂ／Ａ）×１００≦１００
となることを特徴とするインクジェット記録媒体の製造方法。
【請求項２】
該アミノ基を有する重量平均分子量１００万以上の水溶性樹脂が両イオン性ポリアクリルアミド系樹脂であるインクジェット記録媒体の製造方法。
【請求項３】
該無機微粒子が非晶質シリカである請求項１または２に記載のインクジェット記録媒体の製造方法。
【請求項４】
該アミノ基を有する重量平均分子量１００万以上の水溶性樹脂の重量平均分子量が１０００万以下である請求項１〜３のいずれか１項に記載のインクジェット記録媒体の製造方法。
【請求項５】
該インク受容層用塗工液がインク定着剤を含有する請求項１〜４のいずれか１項に記載のインクジェット記録媒体の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月28日(2012.6.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに圧接した２本のローラー間に支持体を通過させて、該支持体の少なくとも一方の表面に無機微粒子とバインダーとを含有する塗工液を塗工し、該支持体の少なくとも一方の表面にインク受容層を形成する工程を有するインクジェット記録媒体の製造方法であって、
該バインダーは、重量平均分子量１００万以上のポリアクリルアミド樹脂を含有し、
該ポリアクリルアミド樹脂がノニオン性ポリアクリルアミド樹脂及びカチオン性ポリアクリルアミド樹脂から選択される少なくとも一種を含有し、
該塗工液中の無機微粒子の含有量をＡ質量部、ポリアクリルアミド樹脂の含有量をＢ質量部としたときに、
３０≦（Ｂ／Ａ）×１００≦１００
となることを特徴とするインクジェット記録媒体の製造方法。
【請求項２】
該無機微粒子が非晶質シリカである請求項１に記載のインクジェット記録媒体の製造方法。
【請求項３】
該ポリアクリルアミド樹脂の重量平均分子量が１０００万以下である請求項１または２に記載のインクジェット記録媒体の製造方法。
【請求項４】
該塗工液がインク定着剤を含有する請求項１乃至３の何れか１項に記載のインクジェット記録媒体の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
即ち本発明は、互いに圧接した２本のローラー間に支持体を通過させて、該支持体の少なくとも一方の表面に無機微粒子とバインダーとを含有するインク受容層用塗工液を塗工し、該支持体の少なくとも一方の表面にインク受容層を形成する工程を有するインクジェット記録媒体の製造方法であって、該バインダーは、重量平均分子量１００万以上のポリアクリルアミド樹脂を含有し、該ポリアクリルアミド樹脂がノニオン性ポリアクリルアミド樹脂及びカチオン性ポリアクリルアミド樹脂から選択される少なくとも一種を含有し、該塗工液中の無機微粒子の含有量をＡ質量部、ポリアクリルアミド樹脂の含有量をＢ質量部としたときに、３０≦（Ｂ／Ａ）×１００≦１００となることを特徴とするインクジェット記録媒体の製造方法である。
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月28日(2012.6.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに圧接した２本のローラー間に支持体を通過させて、該支持体の少なくとも一方の表面に無機微粒子とバインダーとを含有するインク受容層用塗工液を塗工し、該支持体の少なくとも一方の表面にインク受容層を形成する工程を有するインクジェット記録媒体の製造方法であって、
該塗工液は、せん断速度６０００（１／ｓ）で測定されるハイシェア粘度が１００ｍＰａ・ｓ以上、３００ｍＰａ・ｓ以下であり、
下記式（１）で表される、該塗工液の付着エネルギーＥが１１ｍＪ／ｍ２以下であることを特徴とするインクジェット記録媒体の製造方法。
式（１）：  付着エネルギーＥ＝（Ｍ・Ｇ・ｓｉｎα）／２πｒ
［式（１）中、αは、塗工液に接するローラーと同じ材料で形成した板状体を、該塗工液の液滴を載せた状態で水平面に対して平行状態から傾けたときに、該液滴の滑落方向に対して最後端が滑落する、板状体の水平面に対する最小の角度である。Ｍは液滴の質量（ｇ）である。Ｇは重力加速度（９．８ｍ／ｓ２）である。ｒは液滴の着液半径（ｍ）である。］
【請求項２】
前記塗工液の表面張力が４５ｍＮ／ｍ以上、７２．７５ｍＮ／ｍ以下である請求項１に記載のインクジェット記録媒体の製造方法。
【請求項３】
前記バインダーが、ポリアクリルアミド系樹脂を有することを特徴とする請求項１または請求項２に記載のインクジェット記録媒体の製造方法。
【請求項４】
前記無機微粒子が、非晶質シリカであることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のインクジェット記録媒体の製造方法。
【請求項５】
前記塗工液の付着エネルギーＥが３ｍＪ／ｍ２以下であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のインクジェット記録媒体の製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月11日(2012.6.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項４】
前記断熱スペーサが、円盤形状または円柱形状であって、その軸心に引っ掛け孔となる貫通孔を有することを特徴とする請求項１ないし請求項３記載の成形機の型締装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１７】
また、本発明の前記断熱スペーサが、円盤形状または円柱形状であって、その軸心に引っ掛け孔となる貫通孔を有すると良い。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
また、本発明の成形機の型締装置によれば、上記断熱スペーサを円盤形状または円柱形状とすることで、その加工を容易にし、また、その軸心に貫通孔を形成することで、プラテンに断熱板を取り付けた状態でも軸心部の貫通孔に棒などを突き刺すなどして引っ掛けることでその断熱スペーサの取り外しを容易にすることができる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
以下、金型装置２０の固定側金型２０ａを例に、さらに詳しく数値例や寸法例を挙げて説明される。固定側金型２０ａに備える固定側取り付け板２２ａは、固定側断熱板３０ａ側の面２３ａが１辺Ｌｘ＝Ｌｙ＝１７０（ｍｍ）であって、その面２３ａの中心にロケートリング２１を備える。固定側の断熱板３０ａには、ロケートリング２１をはめ込むための内径寸法Ｒｒ＝４２（ｍｍ）の貫通孔３４があいている。従来は、そのロケートリング２１部分を除いた固定側取り付け板２２ａの固定側断熱板３０ａ側の面２３ａが、その断熱板３０ａに当接されていた。その当接した面積Ｓｄは、
Ｓｄ＝Ｌｘ・Ｌｙ−π・（Ｒｒ／２）２＝約２７５１５（ｍｍ２）
とされる。ちなみに、従来の断熱板には、熱伝導率λｄ＝約０．３（Ｗ／（ｍ・ｋ））のガラス繊維などを主基材するものであって、厚み寸法ｄｄ＝１０（ｍｍ）を想定する。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
実際に固定側金型２０ａに当接される断熱スペーサ４０は、例えば、セラミックスのうちの熱伝導率λｓ＝約３（Ｗ／（ｍ・ｋ））であるジルコニアからなり、厚み寸法ｄｓ＝１０．１（ｍｍ）の円盤形状または円柱形状のものがｎ＝８個用意される。そのジルコニアは、ヤング率（Ｅｓ＝２０６（ＧＰａ））が高く、また、セラミックスの中でも熱伝導率が低い材質である。しかし、ジルコニアの熱伝導率λｓは、従来の断熱板の熱伝導率λｄに比べて約１０倍ある。そのため、従来の断熱板の断熱効果をジルコニアからなる断熱スペーサ４０で実現するためには、本実施例では従来の断熱板と断熱スペーサ４０の厚み寸法の差が０．１（ｍｍ）程度違うだけなので、断熱スペーサ４０が固定側金型２０ａと当接する面積の合計面積Ｓａを、従来の断熱板が固定側金型２０ａと当接する面積Ｓｄの約１０分の１にすれば良い。そのため、すべての断熱スペーサ４０が固定側金型２０ａと当接する面積の合計面積Ｓａが、
Ｓａ＝Ｓｄ・（ｄｓ／ｄｄ）・（λｄ／λｓ）＝約２７７９（ｍｍ２）
とされる。したがって、本実施例では、固定側の断熱スペーサ４０がｎ＝８個の場合、その断熱スペーサ４０の１個あたりの固定側金型２０ａと当接する面４１の面積Ｓｓが、
Ｓｓ＝Ｓａ／ｎ＝約３４７（ｍｍ２）
とされる。ここで、本実施例の断熱スペーサ４０は、円盤形状または円柱形状に形成されるので、その外径寸法Ｒｓは、
Ｒｓ＝２・｛√（３４７／π）｝＝約２０（ｍｍ）
とされる。そして、断熱板３０ａに形成される断熱スペーサ用の貫通孔３１の内径寸法は、外形寸法Ｒｓの断熱スペーサ４０が挿入され嵌め込まれるとともに抜き取ることもできる寸法に形成されると良い。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
上記では、まず熱伝導率をもとにして断熱スペーサ４０の各寸法を計算で求めた。つぎに、その断熱スペーサ４０が、金型取り付け部材１６による締め付け力を負荷されてどれだけ圧縮されるかを確認し、各寸法が妥当であるか確認する。なお、円盤形状または円柱形状の断熱スペーサ４０は、その厚み寸法ｄｓ＝１０．１（ｍｍ）、その外径Ｒｓ＝２０（ｍｍ）として、その１個あたりの固定側金型２０ａに当接する面の面積Ｓｓは、
Ｓｓ＝π・（Ｒｓ／２）２＝３１４（ｍｍ２）
とする。そして、固定側には、ｎ＝８個の断熱スペーサ４０が使用される。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４２】
ここまで固定側金型２０ａおよび固定側の断熱板３０ａを例に説明してきたが可動側金型２０ｂおよび可動側の断熱板３０ｂに関しても同じである。可動側金型２０ｂの場合には、エジェクタロッド１７が通る貫通孔３５の部分が、可動側金型２０ｂと断熱板３０ｂの当接されない箇所となる。通常は、固定側と可動側ともに同じ個数、同じ形状、そして、同じ寸法の断熱スペーサ４０を同じ位置に使用しても構わない。しかし、それに限定されるものでなく、固定側と可動側で、断熱スペーサ４０の形状、寸法、個数を違えても良いし、金型に当接する位置を違えても良い。また、固定側と可動側の両側に断熱スペーサ４０を備える断熱板３０を取り付けるように説明してきたが、固定側または可動側のどちらか一方でも構わない。なお、実施例では、円盤形状または円柱形状の断熱スペーサ４０で説明したが、その形状は必要に応じた形状に形成されれば良い。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４４】
１        型締装置
１１      固定プラテン
１３      可動プラテン
１６      金型取り付け部材
２０ａ    固定側金型
２０ｂ    可動側金型
２２ａ    固定側取り付け板
２２ｂ    可動側取り付け板
３０      断熱板
３０ａ    固定側の断熱板
３０ｂ    可動側の断熱板
３１      断熱板の断熱スペーサ用の貫通孔
３３      断熱板の金型取り付け部材用の貫通孔
３４      固定側の断熱板のロケートリング用の貫通孔
３５      可動側の断熱板のエジェクタロッド用の貫通孔
３６      断熱板の金型装置が面する領域
４０      断熱スペーサ
４１      断熱スペーサの金型装置に当接する面
４２      断熱スペーサの引っ掛け孔
Ｒｓ      断熱スペーサの外径寸法
ｄｓ      断熱スペーサの厚み寸法
ｄｄ      断熱板の厚み寸法
【手続補正書】
【提出日】平成23年12月15日(2011.12.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可変表示装置の表示状態が特定表示態様となったときに遊技者にとって有利な特定遊技状態に制御可能な遊技機であって、
遊技演出に用いられる複数種類の可動演出装置を備え、
遊技の進行を制御する遊技制御手段と、
前記遊技制御手段からのコマンドに応じて前記複数種類の可動演出装置の動作を制御可能な可動演出装置制御手段とを含み、
前記遊技制御手段は、前記特定遊技状態に制御するか否かとリーチ可変表示を行うか否かとを前記表示結果が前記可変表示装置に導出表示される以前に決定する事前決定手段を有し、
前記複数種類の可動演出装置は、それぞれの意匠が異なり、
前記可動演出装置制御手段は、前記事前決定手段により前記特定遊技状態に制御することに決定されたか否かを示すコマンドと前記事前決定手段により前記リーチ可変表示を行うことに決定されたか否かを示すコマンドとにもとづいて、前記特定遊技状態に制御することに決定されたときまたは前記特定遊技状態に制御することに決定されなかったが前記リーチ可変表示を行うことに決定されたときに、前記特定遊技状態に制御することに決定されなかったときまたは前記リーチ可変表示を行うことに決定されなかったときよりも高い割合で、前記複数種類の可動演出装置のうち一の可動演出装置を第１の状態から前記第１の状態とは異なる第２の状態に遷移させる予告動作制御手段を含み、
前記遊技制御手段は、所定の処理を繰り返し実行するメインルーチンと、前記メインルーチン実行中の所定時間毎に発生するタイマ割込に応じて前記メインルーチンを中断して起動される割込ルーチンとを実行する実行手段を有し、
前記実行手段は、
特定遊技状態とするか否かを決めるための特定遊技状態決定用数値を所定の範囲内で更新する特定遊技状態決定用数値更新処理と前記リーチ可変表示を行うか否かを決定するために使用される数値とを前記割込ルーチンにおいて実行し、
前記特定遊技状態決定用数値の初期値を決定するための初期値用数値を更新する初期値用数値更新処理を前記メインルーチンにおいて実行し、
前記メインルーチンにおける前記初期値用数値更新処理を開始する前に前記タイマ割込による割込を禁止し、前記初期値用数値更新処理の完了後に前記タイマ割込による割込を許可する
ことを特徴とする遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明による遊技機は、可変表示装置（例えば、可変表示装置９）の表示状態が特定表示態様となったときに遊技者にとって有利な特定遊技状態に制御可能な遊技機であって、遊技演出に用いられる複数種類の可動演出装置（例えば、遊技演出装置２５Ａ，２５Ｂ，２９，３０，３３Ａ，３３Ｂ）を備え、遊技の進行を制御する遊技制御手段（例えば、ＣＰＵ５６）と、遊技制御手段からのコマンドに応じて複数種類の可動演出装置の動作を制御可能な可動演出装置制御手段（例えば、表示制御用ＣＰＵ１０１、音制御用ＣＰＵ７０１、ランプ制御用ＣＰＵ３５１、演出制御手段）とを含み、複数種類の可動演出装置は、それぞれの意匠（形状、模様、色彩などを含む概念である。）が異なり、可動演出装置制御手段は、事前決定手段により特定遊技状態に制御することに決定されたか否かを示すコマンドと事前決定手段によりリーチ可変表示を行うことに決定されたか否かを示すコマンドとにもとづいて、特定遊技状態に制御することに決定されたときまたは特定遊技状態に制御することに決定されなかったがリーチ可変表示を行うことに決定されたときに、特定遊技状態に制御することに決定されなかったときまたはリーチ可変表示を行うことに決定されなかったときよりも高い割合で、複数種類の可動演出装置のうち一の可動演出装置を第１の状態から第１の状態とは異なる第２の状態に遷移させる予告動作制御手段を含み、遊技制御手段は、所定の処理を繰り返し実行するメインルーチンと、メインルーチン実行中の所定時間毎に発生するタイマ割込に応じてメインルーチンを中断して起動される割込ルーチンとを実行する実行手段を有し、実行手段は、特定遊技状態とするか否かを決めるための特定遊技状態決定用数値を所定の範囲内で更新する特定遊技状態決定用数値更新処理とリーチ可変表示を行うか否かを決定するために使用される数値とを割込ルーチンにおいて実行し、特定遊技状態決定用数値の初期値を決定するための初期値用数値を更新する初期値用数値更新処理をメインルーチンにおいて実行し、メインルーチンにおける初期値用数値更新処理を開始する前にタイマ割込による割込を禁止し、初期値用数値更新処理の完了後にタイマ割込による割込を許可することを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成24年1月27日(2012.1.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
遊技領域を形成する遊技盤と、
各々が識別可能な複数種類の識別情報の変動表示を行なって表示結果を導出表示する変動表示手段と、
始動領域に遊技球が入賞したことを条件として、前記変動表示手段の変動表示を開始させた後表示結果を導出表示させる変動表示制御手段と、
前記遊技盤に設けられ、遊技球が入賞可能な開放状態と遊技球が入賞不可能な閉鎖状態とのいずれかの状態に制御可能な可変入賞球装置とを備えた遊技機であって、
前記変動表示手段に予め定められた特定表示結果が導出表示されたときに遊技者にとって有利な特定遊技状態とする制御を実行する特定遊技状態制御手段と、
前記可変入賞球装置を前記開放状態に変化させる制御を行なう可変入賞球装置制御手段と、
前記可変入賞球装置に入賞した遊技球を検出する入賞検出手段と、
磁性材料からなり一端に接点部を有する一対の長尺のリードを有し、当該各リードの接点部を互いに対向させて配設してなり、前記リードに印加される磁界によって前記接点部が接触するリードスイッチと、
該リードスイッチの前記接点部が接触したことに基づいて、異常が発生した旨を報知する接触時異常発生報知手段とを備え、
前記可変入賞球装置制御手段は、前記特定遊技状態に制御されているときに、前記可変入賞球装置を前記開放状態に所定回変化させる制御を行ない、
前記可変入賞球装置を開放状態に変化させる制御が行なわれていないときに前記入賞検出手段により前記可変入賞球装置に入賞した遊技球が検出されたことに基づいて、異常が発生した旨を報知する可変入賞球装置異常発生報知手段をさらに備え、
前記可変入賞球装置異常発生報知手段は、前記変動表示手段が変動表示中においても前記異常が発生した旨を報知し、
前記リードスイッチは、前記リードの長手方向が遊技盤面に交差させて配置されていることを特徴とする、遊技機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
（１）  遊技領域（遊技領域７）を形成する遊技盤（遊技盤６）と、
各々が識別可能な複数種類の識別情報の変動表示を行なって表示結果を導出表示する変動表示手段（特別図柄表示器８）と、
始動領域に遊技球が入賞したことを条件として、前記変動表示手段の変動表示を開始させた後表示結果を導出表示させる変動表示制御手段（図４８のＳ９４、図４９、図５０のＳ１３１）と、
前記遊技盤に設けられ、遊技球が入賞可能な開放状態と遊技球が入賞不可能な閉鎖状態とのいずれかの状態に制御可能な可変入賞球装置（可変入賞球装置２０）とを備えた遊技機（パチンコ遊技機１）であって、
前記変動表示手段に予め定められた特定表示結果が導出表示されたときに遊技者にとって有利な特定遊技状態とする制御を実行する特定遊技状態制御手段（停止時の特別図柄が大当り図柄（特定表示結果：具体的には、たとえば「３」、「７」）であると、大当り遊技状態のうちの第１大当り遊技状態（始動動作状態を経ずに開始される大当り遊技状態）に移行する。）と、
前記可変入賞球装置を前記開放状態に変化させる制御を行なう可変入賞球装置制御手段（図５９のＳ４７９、図６１のＳ４９５）と、
前記可変入賞球装置に入賞した遊技球を検出する入賞検出手段（第１役物入賞スイッチ７１ａ、第２役物入賞スイッチ７２ａ）と、
磁性材料（鉄、コバルト、ニッケル、ガドリニウムなど、強磁性体としての性質を利用してさまざまな機能を実現するために用いられる材料）からなり一端に接点部（接点部９５２ａ、９５３ａ）を有する一対の長尺のリード（第１のリード９５２、第２のリード９５３）を有し、当該各リードの接点部を互いに対向させて配設してなり（一対のリードの他端がそれぞれ外部に突出されてガラス管９５４により封入されている）、前記リードに印加される磁界によって前記接点部が接触するリードスイッチ（第３磁気センサ９５ｃ、図５（Ｂ））と、
該リードスイッチの前記接点部が接触したことに基づいて、異常が発生した旨を報知する接触時異常発生報知手段（図９９（Ｃ）、図１０１のステップＳ９２１７〜Ｓ９２２０）とを備え、
前記可変入賞球装置制御手段は、前記特定遊技状態に制御されているときに、前記可変入賞球装置を前記開放状態に所定回変化させる制御を行ない、
前記可変入賞球装置を開放状態に変化させる制御が行なわれていないときに前記入賞検出手段により前記可変入賞球装置に入賞した遊技球が検出されたことに基づいて、異常が発生した旨を報知する可変入賞球装置異常発生報知手段（ステップＳ５９１〜Ｓ５９９、ステップＳ９２７〜Ｓ９３２）をさらに備え、
前記可変入賞球装置異常発生報知手段は、前記変動表示手段が変動表示中においても前記異常が発生した旨を報知し、
前記リードスイッチは、前記リードの長手方向（リードスイッチの軸、図５（Ｂ）の点線Ａ参照）が遊技盤面に交差させて配置（一のリードが他のリードよりも遊技盤に直交する方向に位置をずらして配置）されている（図５参照）。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２３
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】削除
【補正の内容】
【手続補正書】
【提出日】平成24年2月2日(2012.2.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
請求項５に係るレーザ光によるガラス基板加工装置は、請求項４の装置において、偏倚機構は、２枚のウェッジプリズムの間隔を制御して中心軸の回りに回転する複数の集光点の回転半径を制御可能である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３３】
ワークテーブル２は、図２に拡大して示すように、複数のブロック６を有している。この複数のブロック６は、図中、二点鎖線で示すガラス基板Ｇをワークテーブル２の表面から持ち上げて支持するための部材であり、ガラス基板Ｇの加工ラインＬ（破線で示す）を避けるために、ワークテーブル２の任意の位置に取り付けることが可能である。また、ワークテーブル２には複数の吸気口２ａが格子状に形成されるとともに、各ブロック６には上下方向に貫通する吸気孔６ａが形成されている。そして、ブロック６の吸気孔６ａとワークテーブル２の吸気口２ａとを接続することによって、ブロック６上に配置されるガラス基板Ｇを吸着固定することが可能である。なお、吸気のための機構は、周知の排気ポンプ等によって構成されており、詳細は省略する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
第１ミラー２５は、レーザ光出力部１５の出力側の近傍に配置されており、ｙ軸方向に出射されたレーザ光をｘ軸方向に反射する。第２ミラー２６は、ｙ軸方向において第１ミラー２５と並べて配置されており、ｘ軸方向に進行するレーザ光をｙ軸方向に反射して、ワークテーブル２側に導く。第３ミラー２７及び第４ミラー２８は、第１中空モータ１７の上方に配置されている。第３ミラー２７は第２ミラー２６によって反射されてきたレーザ光をｘ軸方向に導く。第４ミラー２８は第３ミラー２７によって反射されてきたレーザ光を下方（ｚ軸方向）に反射して、第１中空モータ１７に導く。ビームエキスパンダ３０は第２ミラー２６と第３ミラー２７との間に配置され、第２ミラー２６によって反射されてきたレーザ光を一定の倍率の平行光束に拡げるために設けられている。このビームエキスパンダ３０によって、レーザ光をより小さなスポットに集光させることが可能となる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５３】
以上のような集光レンズ３５から出力されるレーザ光を、１対のウェッジプリズム３４ａ，３４ｂを通過させることにより、図４に示すように、第１中空モータ１７の中心軸（回転軸Ｒ）から半径ｒだけ偏倚させることができる。すなわち、集光レンズ３５から出射したレーザ光は、第２ウェッジプリズム３４ｂを通過することによってθだけ屈折される。そして、この屈折したレーザ光がさらに第１ウェッジプリズム３４ａを通過することにより、レーザ光は第２ウェッジプリズム３４ｂによって屈折された角度と同じ角度だけ逆に−θだけ屈折される。これにより、４つの集光点の回転軸Ｃは第１中空モータ１７の中心軸に対して平行に半径ｒだけ偏倚されることになる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５７】
そこで通常は、まず、集光点（加工部位）がガラス基板の下面に形成されるように、集光レンズ３５を含む第２中空モータ１９のｚ軸方向の位置をｚ軸方向移動機構２２によって制御する（図７（ａ）参照）。この状態で集光点を加工ラインに沿って１周した後、第２中空モータ１９のｚ軸方向の位置を制御することにより、図７（ｂ）に示すように、集光点を上昇させる。そして、同様に集光点を加工ラインに沿って１周した後、さらに集光点を上昇させる。以上の動作を繰り返し実行することにより、加工ラインの内側部分を抜き落として孔を形成することができる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
（ｂ）前記実施形態では、集光点をｚ軸方向に移動させる機構として、集光レンズ３５を含む第２中空モータ１９をｚ軸方向移動機構２２によって移動させるようにしたが、集光レンズ３５を含む第２中空モータ１９を固定しておき、ワークテーブル２をｚ軸方向に移動させるようにしても良い。
【手続補正７】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項５】
前記偏倚機構は、前記２枚のウェッジプリズムの間隔を制御して前記中心軸の回りに回転する複数の集光点の回転半径を制御可能である、請求項４に記載のレーザ光によるガラス基板加工装置。
【手続補正８】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図４】
2011011212.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成24年1月24日(2012.1.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
シートあるいはシート束を断裁する断裁装置において、
断裁方向に延びる溝を有し、前記断裁方向に移動してシートあるいはシート束を断裁する断裁刃と、
前記断裁刃の溝に入り込んで断裁屑を掻き落とす掻き落とし部材と、
を備えたことを特徴とする断裁装置。
【請求項２】
前記掻き落とし部材はブレードであり、
前記ブレードは、前記断裁刃の溝に当接するように配設されることを特徴とする請求項１に記載の断裁装置。
【請求項３】
前記断裁刃と前記ブレードが相対的に動くことにより断裁屑を掻き落とすことを特徴とする請求項２に記載の断裁装置。
【請求項４】
前記掻き落とし部材は、回転パドルであり、
前記回転パドルは、前記断裁刃の溝に当接するように配設されることを特徴とする請求項１に記載の断裁装置。
【請求項５】
前記断裁刃の断裁速度よりも前記回転パドルの回転速度が速いことを特徴とする請求項４に記載の断裁装置。
【請求項６】
前記断裁刃は、断裁されるシートあるいはシート束を挟んで設けられた固定刃とともに断裁動作を行い、
前記断裁動作において前記断裁刃と前記固定刃が最大量オーバーラップした位置で前記回転パドルを回転させることを特徴とする請求項４または５に記載の断裁装置。
【請求項７】
前記掻き落とし部材は、弾性部材であることを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の断裁装置。
【請求項８】
前記掻き落とし部材は、導電性を有することを特徴とする請求項７に記載の断裁装置。
【請求項９】
前記掻き落とし部材は、前記断裁刃の刃先に向かって断裁屑を掻き落とすことを特徴とする請求項１から８のいずれか１項に記載の断裁装置。
【請求項１０】
前記溝は、前記断裁刃の刃先に向かって断栽方向に傾斜する前記断裁刃の刃面に設けられることを特徴とする請求項１から９のいずれか１項に記載の断裁装置。
【請求項１１】
前記溝は、前記断裁刃の刃先から所定距離離れた位置まで断裁方向に延びることを特徴とする請求項１から１０のいずれか１項に記載の断裁装置。
【請求項１２】
前記溝と前記掻き落とし部材は、前記断裁刃の長手方向に複数並んで配設され、前記複数の掻き落とし部材は、前記複数の溝に入り込んで断裁屑を掻き落とすことを特徴とする請求項１から１１のいずれか１項に記載の断裁装置。
【請求項１３】
前記複数の溝は、前記断裁刃の長手方向端部よりも中央部に多く配設されることを特徴とする請求項１２に記載の断裁装置。
【請求項１４】
シートに画像を形成する画像形成部と、画像形成されたシートを断裁する請求項１から１３のいずれか１項に記載の断裁装置と、を備えたことを特徴とする画像形成装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明は、シートあるいはシート束を断裁する断裁装置において、断裁方向に延びる溝を有し、前記断裁方向に移動してシートあるいはシート束を断裁する断裁刃と、前記断裁刃の溝に入り込んで断裁屑を掻き落とす掻き落とし部材と、を備えたことを特徴とする。
【手続補正書】
【提出日】平成24年3月13日(2012.3.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
モータ本体と該モータ本体から延出する出力軸とを備え該出力軸と一体回転可能なモータピニオンを有するモータと、
切断刃回転軸を備え該切断刃回転軸と一体回転可能な切断刃歯車を有し該切断刃回転軸と一体回転して被切断材を切断する丸鋸刃を備える切断部と、
該モータピニオンの回転力を該切断刃回転軸へ伝達する回転力伝達機構とを備え、
該回転力伝達機構は、該モータピニオンに駆動連結され該モータピニオンの回転により回転する第１ギヤ部と、該第１ギヤ部及び該切断刃歯車に駆動連結され該第１ギヤ部の回転により回転して該第１ギヤ部の回転力を該切断刃歯車へ伝達する第２ギヤ部とを有することを特徴とする切断機。
【請求項２】
該モータが収容され外部にハンドル部が設けられたハウジングを備え、
該出力軸と該切断刃回転軸と該第１ギヤ部の回転軸心と該第２ギヤ部の回転軸心とは平行な位置関係をなし、
該丸鋸刃の側面に平行な方向において、該第１ギヤ部の回転軸心と該第２ギヤ部の回転軸心は、該出力軸と該切断刃回転軸とを結ぶ仮想直線よりも該ハンドル部寄りの位置に配置されていることを特徴とする請求項１記載の切断機。
【請求項３】
該ハンドル部には該モータに電力を供給するための電源コードが接続されていることを特徴とする請求項２記載の切断機。
【請求項４】
該丸鋸刃の側面を境として一方の側に該モータは配置され、
該切断部は、該丸鋸刃の側面の該一方の側と該被切断材の表面とのなす角が鋭角となるように傾斜可能であることを特徴とする請求項１記載の切断機。
【請求項５】
該出力軸と該切断刃回転軸と該第１ギヤ部の回転軸心と該第２ギヤ部の回転軸心とは平行な位置関係をなし、該出力軸には該出力軸と一体回転可能な軸流ファンが設けられていることを特徴とする請求項１記載の切断機。
【請求項６】
該出力軸と該切断刃回転軸と該第１ギヤ部の回転軸心と該第２ギヤ部の回転軸心とは平行な位置関係をなし、
該丸鋸刃の側面に平行な方向において、該出力軸と該切断刃回転軸とを結ぶ仮想直線を境として該第１ギヤ部の回転軸心は一方の側に配置され該第２ギヤ部の回転軸心は他方の側に配置されていることを特徴とする請求項１記載の切断機。
【請求項７】
該第１ギヤ部の最大径は該第２ギヤ部の最大径より大きいことを特徴とする請求項１記載の切断機。
【請求項８】
該第１ギヤ部は、該モータピニオンに噛合する第１ギヤ部入力歯車と、該第１ギヤ部入力歯車と同軸的に一体回転可能な第１ギヤ部出力歯車とを備え、
該第２ギヤ部は、該第１ギヤ部出力歯車に噛合する第２ギヤ部入力歯車と、該切断刃歯車に噛合し該第２ギヤ部入力歯車と同軸的に一体回転可能な第２ギヤ部出力歯車とを備えていることを特徴とする請求項１記載の切断機。
【請求項９】
該第１ギヤ部出力歯車は、該第１ギヤ部入力歯車よりも該丸鋸刃側に配置され、
該第２ギヤ部出力歯車は、該第２ギヤ部入力歯車よりも該モータ側に配置されていることを特徴とする請求項８記載の切断機。
【請求項１０】
該モータピニオンと該第1ギヤ部入力歯車間、該第1ギヤ部出力歯車と該第２ギヤ部入力歯車間、及び該第２ギヤ部出力歯車と該切断刃歯車間の減速比はそれぞれ１以上であることを特徴とする請求項８記載の切断機。
【請求項１１】
該切断刃の少なくとも一部を覆うソーカバーと、
該モータを収容するハウジングと、
該ハウジングに収容され、該モータの回転により回転するファンを備え、
該丸鋸刃の側面に平行な方向において、該出力軸と該切断刃回転軸とを結ぶ仮想直線よりも切断方向後方側には該第１ギヤ部の回転軸心と該第２ギヤ部の回転軸心が配置され、
該丸鋸刃の側面に平行な方向において、該出力軸と該切断刃回転軸とを結ぶ仮想直線よりも切断方向前方側に該ハウジング内部と該ソーカバー内部とを連通させるファン風開口部が配置されていることを特徴とする請求項１記載の切断機。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２０】
また、該第１ギヤ部は、該モータピニオンに噛合する第１ギヤ部入力歯車と、該第１ギヤ部入力歯車と同軸的に一体回転可能な第１ギヤ部出力歯車とを備え、該第２ギヤ部は、該第１ギヤ部出力歯車に噛合する第２ギヤ部入力歯車と、該切断刃歯車に噛合し該第２ギヤ部入力歯車と同軸的に一体回転可能な第２ギヤ部出力歯車とを備えていることが好ましい。ここで該第１ギヤ部出力歯車は、該第１ギヤ部入力歯車よりも該丸鋸刃側に配置され、該第２ギヤ部出力歯車は、該第２ギヤ部入力歯車よりも該モータ側に配置されていることが好ましい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
第１ギヤ部は、モータピニオンに噛合する第１ギヤ部入力歯車と、第１ギヤ部入力歯車と同軸的に一体回転可能な第１ギヤ部出力歯車とを備え、第１ギヤ部出力歯車は、第１ギヤ部入力歯車よりもモータの出力軸の延出方向下流側に配置され、第２ギヤ部は、第１ギヤ部出力歯車に噛合する第２ギヤ部入力歯車と、切断刃歯車に噛合し第２ギヤ部入力歯車と同軸的に一体回転可能な第２ギヤ部出力歯車とを備え、第２ギヤ部出力歯車は、第２ギヤ部入力歯車よりもモータの出力軸の延出方向上流側に配置されているため、モータピニオンと第１ギヤ部と第２ギヤ部と切断刃歯車を収容する切断機の部分の、出力軸の軸方向における幅を小さくすることができ、切断機の小型化を図ることができる。
また、該モータピニオンと該第1ギヤ部入力歯車間、該第1ギヤ部出力歯車と該第２ギヤ部入力歯車間、及び該第２ギヤ部出力歯車と該切断刃歯車間の減速比はそれぞれ１以上であることが好ましい。
更に、該切断刃の少なくとも一部を覆うソーカバーと、該モータを収容するハウジングと、該ハウジングに収容され、該モータの回転により回転するファンを備え、該丸鋸刃の側面に平行な方向において、該出力軸と該切断刃回転軸とを結ぶ仮想直線よりも切断方向後方側には該第１ギヤ部の回転軸心と該第２ギヤ部の回転軸心が配置され、該丸鋸刃の側面に平行な方向において、該出力軸と該切断刃回転軸とを結ぶ仮想直線よりも切断方向前方側に該ハウジング内部と該ソーカバー内部とを連通させるファン風開口部が配置されていることが好ましい。
【手続補正書】
【提出日】平成24年6月18日(2012.6.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
半導体研磨工程で使用され排出される、チタン成分を含む金属成分を含有し洗浄水で希釈された排スラリーから前記金属成分を除去して前記排スラリー中の有用固形成分を回収する方法において、
前記排スラリーを、ｐＨが７より低く、酸化性物質の濃度が１００ｍｇ／Ｌより高くなるように調整する成分調整工程と、
前記成分調整工程で調整された排スラリーを、強酸性カチオン交換装置に通液する金属イオン除去工程とを、チタン成分の濃度が１ｐｐｍ以下になるまで順に繰り返す
ことを特徴とする排スラリー中の有用固形成分の回収方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
半導体研磨工程で使用され排出される、チタン成分を含む金属成分を含有し洗浄水で希釈された排スラリーから前記金属成分を除去して前記排スラリー中の有用固形成分を回収する方法において、
前記排スラリーを濃縮する濃縮工程と、
前記濃縮工程で濃縮された排スラリーに酸化性物質及びｐＨ調整剤を含む薬液を添加して、ｐＨが７より低く、酸化性物質の濃度が１００ｍｇ／Ｌより高くなるように調整する成分調整工程と、
前記成分調整工程で調整された排スラリーを、強酸性カチオン交換装置に通液する金属イオン除去工程と、
前記金属イオン除去工程を経た排スラリーのチタン濃度を測定するチタン濃度判定工程とを有し、
前記成分調整工程と金属イオン除去工程とを、チタン濃度判定工程で測定したチタン成分の濃度が１ｐｐｍ以下になるまで順に繰り返す
ことを特徴とする排スラリー中の有用固形成分の回収方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１６】
ところで、チタンは、過酸化水素の存在下で、ＴｉＯ２・Ｈ２Ｏのような（水和）酸化物を形成することが知られているが、この酸化物は、酸性条件下では、わずかであっても、ＴｉＯ２＋ イオンや ＨＴｉＯ３―イオンに解離するものと推定される。したがって、酸性条件下、酸化性物質の存在のもとに、カチオン交換材を効果的に作用させれば、Ｔｉを他のカチオン成分と同程度にまで除去できる可能性が考えられる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
本発明の排スラリー中の有用固形成分の回収方法の一形態は、半導体研磨工程で使用され排出される、チタン成分を含む金属成分を含有し洗浄水で希釈された排スラリーから前記金属成分を除去して前記排スラリー中の有用固形成分を回収する方法において、前記排スラリーを、ｐＨが７より低く、酸化性物質の濃度が１００ｍｇ／Ｌより高くなるように調整する成分調整工程と、前記成分調整工程で調整された排スラリーを、強酸性カチオン交換装置に通液する金属イオン除去工程とを、チタン成分の濃度が１ｐｐｍ以下になるまで順に繰り返すことを特徴とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
また、本発明の排スラリー中の有用固形成分の回収方法のさらに他の形態は、半導体研磨工程で使用され排出される、チタン成分を含む金属成分を含有し洗浄水で希釈された排スラリーから前記金属成分を除去して前記排スラリー中の有用固形成分を回収する方法において、前記排スラリーを濃縮する濃縮工程と、前記濃縮工程で濃縮された排スラリーに酸化性物質及びｐＨ調整剤を含む薬液を添加して、ｐＨが７より低く、酸化性物質の濃度が１００ｍｇ／Ｌより高くなるように調整する成分調整工程と、前記成分調整工程で調整された排スラリーを、強酸性カチオン交換装置に通液する金属イオン除去工程と、前記金属イオン除去工程を経た排スラリーのチタン濃度を測定するチタン濃度判定工程とを有し、前記成分調整工程と金属イオン除去工程とを、チタン濃度判定工程で測定したチタン成分の濃度が１ｐｐｍ以下になるまで順に繰り返すことを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
排スラリー中には、通常、過酸化水素や酸が含まれているが、これらの成分は、濃縮工程で過剰の水分と一緒にろ過されるため、本発明の成分調整工程では、新たに酸と酸化性物質が添加される。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８１】
実施例及び比較例の測定結果を表１に示す。
【表１】
2011011289.tif 000001
【手続補正書】
【提出日】平成24年7月27日(2012.7.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学基材に直にまたは他の層を介して、金属酸化物を含む透光性の第１の層を形成することと、
前記第１の層の表面にイオンを照射することにより、前記第１の層の表層域に酸素欠陥を導入することと、を有する、
光学物品の製造方法。
【請求項２】
請求項１において、
前記イオンは、アルゴン、キセノン、ヘリウム、窒素およびネオンの少なくともいずれかを含む不活性ガスのイオンである、
光学物品の製造方法。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
前記金属酸化物は遷移金属酸化物である、
光学物品の製造方法。
【請求項４】
請求項１ないし請求項３のいずれか１項において、前記第１の層は多層構造の反射防止層に含まれる１つの層である、光学物品の製造方法。
【請求項５】
光学基材と、
前記光学基材に直にまたは他の層を介して形成された、金属酸化物を含む透光性の第１の層と、を含み、
前記第1の層は、酸素欠陥が導入された酸素欠損域を含む、
光学物品。
【請求項６】
請求項５において、
前記第１の層は多層構造の反射防止層に含まれる、
光学物品。
【請求項７】
請求項５または６において、
前記金属酸化物は遷移金属酸化物である、
光学物品。
【請求項８】
請求項７において、
前記遷移金属酸化物は酸化チタンである、
光学物品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１３】
本発明の他の態様の１つは、光学基材と、光学基材の上に直にまたは他の層を介して形成された、金属酸化物を含む透光性の第１の層であって、表層域に、イオン照射により酸素欠陥が導入された酸素欠損域を含む第１の層とを有する光学物品である。この光学物品においては、第１の層の表層域に酸素欠損域を含み、この酸素欠損域は、酸素欠陥が導入されただけであり、さらに表層域に限られるので第１の層の透光性に影響を与えにくく、さらに、酸素欠陥による導電性の向上が望まれる。したがって、この光学物品は、光学物品としての性能の低下を抑制しながら、帯電防止、ゴミ付着防止などの機能を付与できる。
【手続補正書】
【提出日】平成24年3月30日(2012.3.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
印刷対象の複数の画像を取得する取得手段と、
ユーザによる指示に応じて、前記取得手段により取得された複数の画像が配置された印刷媒体が折り畳まれたときに当該複数の画像の向きに応じた位置に余白が配置されるように、当該複数の画像のそれぞれの向きと、当該印刷媒体において当該複数の画像に付加される余白の当該印刷媒体における位置を設定する設定手段と、
前記複数の画像が印刷される印刷媒体において、当該複数の画像のそれぞれが前記設定手段により設定された向きで配置され、前記設定手段により設定された位置に余白が配置されるように、当該複数の画像を印刷装置に印刷媒体へ印刷させる印刷制御手段と、
を有することを特徴とする印刷制御装置。
【請求項２】
前記設定手段は、印刷媒体における前記余白の位置と大きさを設定し、前記印刷制御手段は、前記設定手段により設定された余白の位置と大きさとに応じて、前記複数の画像のそれぞれの印刷媒体に対する向きを決定し、前記複数の画像が当該決定された向きで印刷媒体に印刷されるように、印刷装置に当該複数の画像を印刷媒体へ印刷させることを特徴とする請求項１に記載の印刷制御装置。
【請求項３】
前記印刷制御手段は、前記印刷装置が前記複数の画像を連続紙へ印刷するときの、前記複数の画像のそれぞれの当該連続紙に対する向きを決定することを特徴とする請求項２に記載の印刷制御装置。
【請求項４】
前記印刷制御手段は、前記複数の画像が印刷された印刷媒体に、当該印刷媒体をユーザに折り畳ませるための折り位置を示す画像を、当該複数の画像の向きに応じた位置に印刷させることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の印刷制御装置。
【請求項５】
前記設定手段は、ユーザにより指定された、印刷媒体が折り畳まれたときの余白の大きさに応じて、当該印刷媒体における余白を設定することを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の印刷制御装置。
【請求項６】
前記印刷制御手段は、前記複数の画像と前記余白を含む印刷画像を作成し、作成された当該印刷画像を印刷装置に印刷媒体へ印刷させることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の印刷制御装置。
【請求項７】
印刷対象の複数の画像を取得する取得工程と、
ユーザによる指示に応じて、前記取得工程において取得された複数の画像が配置された印刷媒体が折り畳まれたときに当該複数の画像の向きに応じた位置に余白が配置されるように、当該複数の画像のそれぞれの向きと、当該印刷媒体において当該複数の画像に付加される余白の当該印刷媒体における位置を設定する設定工程と、
前記複数の画像が印刷される印刷媒体において、当該複数の画像のそれぞれが前記設定工程において設定された向きで配置され、前記設定工程において設定された位置に余白が配置されるように、当該複数の画像を印刷装置に印刷媒体へ印刷させる印刷制御工程と、
を有することを特徴とする印刷制御方法。
【請求項８】
請求項７に記載の印刷制御方法をコンピュータに実行させるためのプログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】印刷制御装置、印刷制御方法、およびプログラム
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、印刷装置に画像を印刷させる印刷制御装置、印刷制御方法、およびプログラムに関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明は上記の課題に鑑みてなされたものであり、印刷媒体が折り畳まれたときの印刷媒体の余白を適切かつ容易に設定することができる印刷制御装置、印刷制御方法、およびプログラムを提供することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の印刷制御装置は、印刷対象の複数の画像を取得する取得手段と、ユーザによる指示に応じて、前記取得手段により取得された複数の画像が配置された印刷媒体が折り畳まれたときに当該複数の画像の向きに応じた位置に余白が配置されるように、当該複数の画像のそれぞれの向きと、当該印刷媒体において当該複数の画像に付加される余白の当該印刷媒体における位置を設定する設定手段と、前記複数の画像が印刷される印刷媒体において、当該複数の画像のそれぞれが前記設定手段により設定された向きで配置され、前記設定手段により設定された位置に余白が配置されるように、当該複数の画像を印刷装置に印刷媒体へ印刷させる印刷制御手段と、を有することを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明によれば、印刷媒体が折り畳まれたときの印刷媒体の余白を適切かつ容易に設定することができる。
【手続補正書】
【提出日】平成24年4月6日(2012.4.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】液晶表示装置の作製方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の可撓性基板と、第２の可撓性基板と、前記第１の可撓性基板と前記第２の可撓性基板とからなる一対の基板間に保持された液晶と、を備えた液晶表示装置の作製方法であり、
前記第１の可撓性基板に第１の無機絶縁膜を形成するとともに、前記第２の可撓性基板に第２の無機絶縁膜を形成し、
前記第１の可撓性基板の前記第１の無機絶縁膜上に画素電極を形成するとともに、前記第２の可撓性基板の前記第２の無機絶縁膜上に対向電極を形成し、
前記第１の可撓性基板の前記第１の無機絶縁膜上に、前記一対の基板の間隔を一定に保つための柱状スペーサを形成し、
前記第２の可撓性基板の前記第２の無機絶縁膜上にシール材を描画し、仮固定し、
前記対向電極上であって前記シール材に囲まれた領域に液晶材料を滴下し、
前記第１の可撓性基板と前記第２の可撓性基板とを貼り合わせ、
前記シール材を固定することを特徴とする液晶表示装置の作製方法。
【請求項２】
第１の可撓性基板と、第２の可撓性基板と、前記第１の可撓性基板と前記第２の可撓性基板とからなる一対の基板間に保持された液晶と、を備えた液晶表示装置の作製方法であり、
前記第１の可撓性基板に第１の無機絶縁膜を形成するとともに、前記第２の可撓性基板に第２の無機絶縁膜を形成し、
前記第１の可撓性基板の前記第１の無機絶縁膜上に画素電極を形成するとともに、前記第２の可撓性基板の前記第２の無機絶縁膜上に対向電極を形成し、
前記第１の可撓性基板の前記第１の無機絶縁膜上に、前記一対の基板の間隔を一定に保つための柱状スペーサを形成し、
前記第１の可撓性基板の前記第１の無機絶縁膜上にシール材を描画し、仮固定し、
前記画素電極上であって前記シール材に囲まれた領域に液晶材料を滴下し、
前記第１の可撓性基板と前記第２の可撓性基板とを貼り合わせ、
前記シール材を固定することを特徴とする液晶表示装置の作製方法。
【請求項３】
請求項１又は２において、
前記柱状スペーサは、アクリル、ポリイミド、ポリイミドアミド、エポキシの少なくとも１つを主成分とする有機樹脂材料、もしくは酸化珪素、窒化珪素、酸化窒化珪素のいずれか一種の材料、或いはこれらの積層膜からなる無機材料であることを特徴とする液晶表示装置の作製方法。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一項において、
前記第１の無機絶縁膜及び前記第２の無機絶縁膜は、高周波スパッタリング法により形成されることを特徴とする液晶表示装置の作製方法。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一項において、
前記第１の無機絶縁膜及び前記第２の無機絶縁膜は、窒化珪素膜であることを特徴とする液晶表示装置の作製方法。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか一項において、
前記第１の無機絶縁膜及び前記第２の無機絶縁膜はシリコンをターゲットとした高周波スパッタリング法により作製される窒化珪素膜であることを特徴とする液晶表示装置の作製方法。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか一項において、
前記第１の無機絶縁膜及び前記第２の無機絶縁膜はターボ分子ポンプもしくはクライオポンプを用いて背圧を１×１０−３Ｐａ以下とし、単結晶シリコンターゲットをＮ２ガスもしくはＮ２と希ガスとの混合ガスでスパッタして作製される窒化珪素膜であることを特徴とする液晶表示装置の作製方法。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか一項において、
前記第１の無機絶縁膜及び前記第２の無機絶縁膜は、アルゴン濃度が１×１０２０〜１×１０２１ｃｍ−３の窒化珪素膜であることを特徴とする液晶表示装置の作製方法。