【手続補正書】
【提出日】平成24年10月17日(2012.10.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を搬送する搬送機構と、
前記搬送機構により搬送される前記基板に現像液を供給する現像液供給部と、
前記現像液供給部に対し、前記搬送機構により搬送される前記基板の搬送方向の下流側に設けられ、前記現像液が供給されて表面が前記現像液で覆われた前記基板が前記搬送機構により搬送される現像領域と、
前記現像領域において、前記搬送機構が停止したときに前記現像領域に在る前記基板に対して洗浄液を供給する洗浄液供給部と
を備える現像装置。
【請求項２】
前記洗浄液供給部が、前記基板の表面に垂直な方向から傾いた方向に沿って前記洗浄液を供給する、請求項１に記載の現像装置。
【請求項３】
前記洗浄液供給部が、前記搬送方向に沿って延び、前記搬送方向と交わる方向に移動可能である、請求項１または２に記載の現像装置。
【請求項４】
前記洗浄液供給部が、前記搬送方向と交わる方向に延び、前記搬送方向と平行な方向に移動可能である、請求項１または２に記載の現像装置。
【請求項５】
前記現像領域に対して前記搬送方向の下流側に設けられ、前記搬送機構により搬送される前記基板の表面を覆う現像液が洗浄液により洗浄される洗浄領域を更に備える、請求項１から４のいずれか一項に記載の現像装置。
【請求項６】
前記現像領域に対して前記搬送方向の下流側に設けられ、前記搬送機構により搬送される前記基板の表面を覆う現像液が洗浄液により洗浄される洗浄領域を更に備え、
前記洗浄液供給部が、前記洗浄領域において前記搬送機構により前記洗浄領域へ搬送される前記基板に対し洗浄液を供給する、請求項４に記載の現像装置。
【請求項７】
基板に現像処理を行う現像装置であって、
前記基板を搬送する搬送機構と、
前記搬送機構によって搬送される基板に現像液を供給する現像液供給部と、
前記現像液供給部に対して前記搬送機構が搬送する前記基板の搬送方向の下流側に設けられ、前記現像液が供給されて表面が該現像液で覆われた基板が前記搬送機構によって搬送される現像領域と、
前記現像領域に対して前記搬送方向の下流側に設けられ、該現像液で覆われた基板に洗浄液を供給して、現像を停止させる洗浄領域と、
前記現像領域に設けられ、該現像液に覆われた基板の搬送が非常停止した際に、該現像液に覆われた基板に洗浄液を供給するノズルと
を備える現像装置。
【請求項８】
現像液を盛った基板を水平に移動させて、該基板を現像処理する現像装置であって、
前記基板に前記現像液を供給する現像ノズルと、
前記現像処理を停止するために、移動中の基板に洗浄液を供給するリンスノズルと、
現像処理中の基板の移動が非常停止した際に、該現像処理中の基板に洗浄液を供給する洗浄ノズルと
を備える現像装置。
【請求項９】
基板を水平に搬送させて、該基板を現像処理する現像装置であって、
前記基板に現像液を供給する現像ノズルと、
前記現像ノズルから供給された現像液で覆われた基板の搬送が現像処理中に非常停止した際に、該現像処理中の該現像液で覆われた基板に洗浄液を供給する洗浄ノズルと
を備える現像装置。
【請求項１０】
基板上にフォトレジスト膜を形成するフォトレジスト膜形成装置と、
露光された前記フォトレジスト膜を現像する、請求項１から９のいずれか一項に記載の現像装置と
を備える塗布現像処理システム。
【請求項１１】
基板上にフォトレジスト膜を形成し、露光された前記フォトレジスト膜を現像する現像装置を用いて当該フォトレジスト膜を現像する方法であって、
露光されたフォトレジスト膜を有する基板に対し、搬送機構により基板を搬送しながら現像液を供給する工程と、
前記現像液で表面が覆われた前記基板を前記搬送機構により搬送する工程と、
前記現像装置において発生した又は外部機器から受信した警報信号に応答して前記搬送機構を停止する工程と、
前記搬送機構を停止する工程により搬送が停止した前記基板であって、表面が前記現像液で覆われた前記基板に対して洗浄液を供給する工程と
を含む、フォトレジスト膜の現像方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
本発明の第１の態様によれば、基板を搬送する搬送機構と、前記搬送機構により搬送される前記基板に現像液を供給する現像液供給部と、前記現像液供給部に対し、前記搬送機構により搬送される前記基板の搬送方向の下流側に設けられ、前記現像液が供給されて表面が前記現像液で覆われた前記基板が前記搬送機構により搬送される現像領域と、前記現像領域において、前記搬送機構が停止したときに前記現像領域に在る前記基板に対して洗浄液を供給する洗浄液供給部とを備える現像装置が提供される。
また、本発明の第１の態様の他の態様によれば、基板に現像処理を行う現像装置であって、前記基板を搬送する搬送機構と、前記搬送機構によって搬送される基板に現像液を供給する現像液供給部と、前記現像液供給部に対して前記搬送機構が搬送する前記基板の搬送方向の下流側に設けられ、前記現像液が供給されて表面が該現像液で覆われた基板が前記搬送機構によって搬送される現像領域と、前記現像領域に対して前記搬送方向の下流側に設けられ、該現像液で覆われた基板に洗浄液を供給して、現像を停止させる洗浄領域と、前記現像領域に設けられ、該現像液に覆われた基板の搬送が非常停止した際に、該現像液に覆われた基板に洗浄液を供給するノズルとを備える現像装置が提供される。
また、本発明の第１の態様の他の態様によれば、現像液を盛った基板を水平に移動させて、該基板を現像処理する現像装置であって、前記基板に前記現像液を供給する現像ノズルと、前記現像処理を停止するために、移動中の基板に洗浄液を供給するリンスノズルと、現像処理中の基板の移動が非常停止した際に、該現像処理中の基板に洗浄液を供給する洗浄ノズルとを備える現像装置が提供される。
また、本発明の第１の態様の他の態様によれば、基板を水平に搬送させて、該基板を現像処理する現像装置であって、前記基板に現像液を供給する現像ノズルと、前記現像ノズルから供給された現像液で覆われた基板の搬送が現像処理中に非常停止した際に、該現像処理中の該現像液で覆われた基板に洗浄液を供給する洗浄ノズルとを備える現像装置が提供される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３５】
図２のＩ−Ｉ線に沿った断面図である図３を参照すると、洗浄ノズル５１ｂは、コロ１７０による基板搬送の方向と直交する方向において基板Ｓの一方端（図示の例では右端）の上方に配置されている。吐出部５１ｄは、図示のとおり、鉛直方向より基板Ｓの他方端（図示の例では左端）側に向かって傾いており、これにより、吐出部５１ｄから吐出されたＤＩＷは、基板Ｓ上で概ね一方端から他方端に向かって流れる。このため、基板Ｓ上の現像液ＤＬはＤＩＷにより洗い流されることとなる。洗浄ノズル５１ａおよび５１ｃもまた、洗浄ノズル５１ｂと同一の構成を有している。洗浄ノズル５１ａ〜５１ｃは、フォトレジスト膜の現像、洗浄、および乾燥といった一連の処理手順において常時使用されるわけではなく、具体的な動作については後述する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
また、現像ユニット３０および塗布現像処理システム１００が正常に動作している間に、洗浄ノズル５１ａ〜５１ｃの吐出部５１ｄ（または５１ｅ）からＤＩＷが基板Ｓ上に垂れると、現像むらが生じるため、たとえば図７（ａ）に示すように吐出部５１ｄの先端が基板Ｓの外側上方に位置するよう洗浄ノズル５１ａ〜５１ｃを配置すると好ましい。また、図７（ｂ）に示す吐出部５１ｆは、洗浄ノズル５１ｂに対して旋回可能に構成されている。これによれば、正常動作時には、吐出部５１ｆの先端が基板Ｓの外側上方に位置し、異常により現像ユニット３０および塗布現像処理システム１００が停止したときに、吐出部５１ｆの先端が基板Ｓの内側上方に位置することができる。また、図７（ｃ）に示すように、図６に示した変形例の洗浄ノズル５１ｂを、吐出部５１ｅの先端が基板Ｓの外側上方に位置し得るように移動させても良い。