【事件の表示】
　平成１０年特許願第１４５９３５号「磁気記録媒体及び磁気ディスク装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１１年１２月１０日出願公開、特開平１１−３３９２４０〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯、本願発明
　本願は、平成１０年５月２７日の出願であって、その請求項１〜１２に係る発明は、平成１５年２月１７日付けの手続補正で補正された明細書の特許請求の範囲の請求項１〜１２に記載された事項により特定されるとおりのものと認められるところ、そのうち請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、次のとおりである。
　【請求項１】「非磁性の基板上に下地膜を介して磁性金属材料からなる磁性膜を設けてなる磁気記録媒体において、
　前記基板が、無方向性凹凸を表面に有するガラス基板又はシリコン基板であり、
　前記下地膜が、前記基板上に順次形成された、クロムを主成分とする第１の下地膜、ニッケル・燐（ＮｉＰ）からスパッタ法により成膜された第２の下地膜及びＣｒＷ，ＣｒＶ，ＣｒＴｉ及びＣｒＭｏからなる群から選択されたクロムを主成分とする合金から成膜された第３の下地膜からなり、
　第２の下地膜としての前記ＮｉＰ膜が、その表面に機械的テクスチャ処理により円周方向に形成された筋状の突起部及び溝部を有しており、
　前記ＮｉＰ膜の表面における粗さが、円周方向でＲａ1＜１nmであり、半径方向でＲａ2＜２nmであり、そしてＲａ1＜Ｒａ2であり、かつ
　前記ＮｉＰ膜におけるＮｉ及びＰの比（ａｔ％）が、６７〜８５：３３〜１５であり、そして
　前記磁性膜が、円周方向を磁化容易方向とし、かつコバルトを主成分として含有し、１４〜２２ａｔ％のクロム及び４〜１０ａｔ％の白金を含み、さらにタンタル又はタンタル及びニオブを組み合わせて有する合金から構成されていることを特徴とする磁気記録媒体。」
　
２．引用例
　これに対し、原査定の拒絶の理由に引用された本願出願前の刊行物である、特開平４−２８０１３号公報（以下、「引用例１」という。）、及び特開平９−２９３２２７号公報（以下、「引用例２」という。）には、図面とともに次のような事項が記載されている。
　
　引用例１には、
　　（1-i）「１．
ガラス基板の表面にＮｉＰ合金膜が形成され、その上に、磁性膜を面内異方性とするための金属膜、強磁性金属からなる磁性膜、磁性膜を被覆する保護潤滑膜等が積層成膜されていることを特徴とする金属薄膜型磁気記録ディスク
　２．
ＮｉＰ合金膜が非晶質である
　（1-ii）「〔発明が解決しようとする課題〕
　磁気ディスクの記録密度を高めるには、ディスク表面にアクセスする磁気ヘッドのグライド高さを可及的に小さくし、その低フライングハイトで安定なフローティング状態を維持し得ることが望ましい。そのためには磁性膜をより平面性・平行性のすぐれたものとすることが必要である。また、磁気ヘッドの耐久性を高め、安定な記録再生機能を維持するには、磁性膜の平面性・平行性の改善と併せて、ディスク表面に対する磁気ヘッドの吸着とそれによる膜面の損傷を抑制・防止することが必要である。
　本発明は、上記に鑑みてなされたものであり、
アルミ合金を基板とする従来の磁気ディスクを凌く低フライングハイトとそれによる高密度記録を可能とし、かつ磁気ヘッドの接触による損傷を生じにくい改良された磁気ディスクを提供する
　（1-iii）「〔課題を解決するための手段および作用〕
　本発明の金属薄膜型磁気ディスクは、ガラスを基板とし、基板表面にＮｉＰ合金膜を形成し、その上に磁性膜を面内異方性とするための金属膜、強磁性金属からなる磁性膜、および磁性膜を被覆する保護潤滑膜等を積層形成したことを特徴としている。
　本発明において、
ガラスを基板としたのは、ガラスは極めて硬質で、かつ平面性・平行性が高く、従ってその基板上に積層形成される磁性膜にすぐれた平面性・平行性を付与することができるからである
　また、
ガラス基板の表面に、ＮｉＰ合金膜を形成することとしたのは、このＮｉＰ合金膜にメカニカルテキスチャを施すことにより積層膜の耐久性を確保するためである。すなわち、ガラスは極めて硬質な脆性材料であるため、その表面にメカニカルテキスチャを施すことが困難である。そこで本発明は、ガラス基板の表面にＮｉＰ合金膜を形成し、その膜面にメカニカルテキスチャを施すことにより、磁気ヘッドのディスク表面に対する吸着現象および摩擦特性を改善し、磁気ディスクの耐久性を確保することを可能としている
　（1-iv）「
ガラス基板表面のＮｉＰ合金は、従来のアルミ合金基板表面に形成されるそれと異なるものである必要はなく、その組成は、非磁性、高硬度、および膜強度等の点から、Ｐ含有量が約７〜１３重量％のものが好ましい。また、その合金膜は、表面の平滑性の点から、粒界を有しない非晶質であることが望ましい
　ガラス基板表面のＮｉＰ合金膜の形成は、アルミ合金基板表面に対するＮｉＰ合金膜の形成と同じように無電解めっき法によることもできるが、基板に対する十分な密着性を確保する点から、
高エネルギのスパッタリングによるのが好適である
　
ガラス基板表面に形成されるＮｉＰ合金膜は、ガラス基板表面が転写された高度の平面性・平行性を有している。その膜厚は、メカニカルテキスチャによる積層膜の十分な密着力を確保する
　
基板表面に形成されたＮｉＰ合金膜面のメカニカルテキスチャは、アルミ合金基板表面のＮｉＰ合金膜の場合と同様に行えばよい
そのテキスチャ加工は、膜面全体に行って構わない
　（1-v）「本発明の磁気ディスクは、上記のようにガラスを基板とし、その表面にＮｉＰ合金膜が成膜されている点を除き、
そのＮｉＰ合金膜面上の積層膜構造および成膜方法は従来のそれと異ならず、ＮｉＰ合金膜面にメカニカルテキスチャを施したうえ、
まず磁性膜を面内異方性とするためのＣｒまたはＣｒ合金からなる金属膜、ついでＣｏ系合金等の強磁性金属からなる磁性膜、更にその磁性膜面を保護するための炭素質膜に代表される固体潤滑膜等を積層成膜することにより製造される
磁気ヘッドに対する潤滑特性をより高めるために保護潤滑膜の上に液体潤滑剤が塗布される
　（1-vi）「〔実施例〕
〔Ｉ〕供試磁気ディスクの製作
　
ガラス基板（珪酸ガラス、平面度：５μｍ、表面あらさＲａ：８Å
非晶質のＮｉＰ合金膜
を形成
メカニカルテキスチャを施したのち、Ｃｒ膜、ＣｏＣｒＴａ合金からなる磁性膜、および炭素質膜（グラファイト・カーボン）をこの順に積層成膜
各層の成膜は、いずれもマグネトロンスパッタリング（雰囲気：０．７×１０
−２
Ｔｏｒｒ　Ａｒ）により行った
　上記供試ディスクNo.１（発明例）のほか、比較例として下記供試ディスクNo.２〜No.４を用意した。
供試ディスクNo.２（比較例）
　ガラス基板表面に対するＮｉＰ合金膜の形成を省略し、ガラス表面にメカニカルテキスチャを施した点を除いて上記供試ディスクNo.１と同じ。
供試ディスクNo.３
　ガラス基板表面に対するメカニカルテキスチャを省略した点を除いて供試ディスクNo.２と同じ。
供試ディスクNo.４（比較例）
　基板としてアルミ合金（シルミン）板を使用した点を除いて上記供試ディスクNo.１と同じ。」（第３頁左上欄末行〜同頁左下欄５行参照）こと、
　（1-vii）第１表中に、供試ディスクＮo.１として、表面粗さがＲa１０Å、Ｒmax１６０Å、面ぶれ２．９μｍ、ディスク表面フラットネス５μｍ、グライド高さ０．０４μｍのデータ、及び、第２表中に、供試ディスクＮo.１として、３×１０４回反復ＣＳＳ試験で疵なし、摩耗試験で４８時間後も疵なしのデータ（第４頁の第１表、第２表参照）、
　（1-viii）「〔発明の効果〕
　本発明の磁気ディスクは、従来のアルミ合金基板を使用した磁気ディスクに比べて、ディスク表面の平面性・平行性にすぐれており、その表面にアクセスする磁気ヘッドの低フライングハイトと安定なフローティングによる高密度記録を可能とするものであり、また基板に対する積層膜の密着力が強く耐久性にもすぐれている。」（第５頁左上欄１〜８行参照）こと、が記載されている。
　
　引用例２には、
　（2-i）「【請求項１】　
非磁性支持体と該支持体上に非磁性金属材料からなる下地層を介して形成された磁性金属材料からなる磁気記録膜とを含んでなる磁気記録媒体
下地層が、クロムを主成分とするかもしくはクロムとモリブデンを主成分とする金属材料から構成されており
磁気記録膜が、コバルト、クロム、タンタル及び白金からなる群から選ばれた少なくとも１員を主成分とする金属材料から構成されている
【請求項２】　前記磁気記録膜が、クロム、タンタル、白金及びコバルトからなる四元系合金から構成されており、その際、前記合金の組成は、
クロム　　１４〜２５ａｔ％
タンタル　　１〜７．５ａｔ％
白金　　　　２〜２０ａｔ％
コバルト　　残部
であることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。」（【特許請求の範囲】の【請求項１】，【請求項２】参照）、及び、
　（2-ii）「【請求項８】　前記
非磁性支持体がガラスディスク
　（2-iii）「【請求項２３】　前記
下地層が、１０〜３０ａｔ％のモリブデン及び残部のクロムからなる合金から構成され
磁気記録膜が、その中間に介在せしめられた非磁性中間膜を介して形成された２層もしくはそれ以上の
多層構造膜であり
磁性層が、それぞれ、コバルト及びクロムを主成分として含有しかつ４〜１０ａｔ％の白金ならびに５ａｔ％以下の
タンタル及びニオブからなる群から選ばれる少なくとも１員を追加の成分として含有する金属材料から構成されており
　（2-iv）「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は磁気記録媒体に関し、さらに詳しく述べると、
高い保磁力により高密度記録を可能とするとともに、ノイズを低減し、Ｓ／Ｎ比を向上させた磁気記録媒体に関する
低ノイズを維持したまま再生出力を向上させることによりＳ／Ｎ比を向上させた磁気記録媒体にも関する
基板上に下地層としてＣｒＭｏ膜を直接に形成した場合にもＣｒＭｏ結晶粒の成長が基板の表面状態の影響を受けることがなく、従って、その下地結晶の（１００）面配向性が変化せしめられないような磁気記録媒体にも関する
　（2-v）「【００１２】また、
ＣｏＣｒ系面内磁気記録媒体の場合、磁性膜の磁化容易軸（Ｃ軸）はできるかぎり面内に配向していることが望ましい。現在の磁気記録媒体では、磁性膜の磁性膜の磁化容易軸（Ｃ軸）を面内に配向させる手段として、その磁性膜の直下にＣｒの下地を形成することを屡々行っている。これは、Ｃｒ（１００）面上にはＣｏ合金系磁性膜のＣ軸に平行な面が結晶学的に配向しやすいことに依存している
先にも引用し説明した特開平７−５０００９号公報では、Ｃｒ下地中にＭｏ、Ｗのうちの１種以上を添加することにより、高保磁力及び低ノイズに加えて、磁性膜の面内配向性を高めている
　（2-vi）「【００１８】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記したような従来の技術のいろいろな問題点を解決することにある。本発明の第１の目的は、したがって、高い保磁力とノイズの低下という２つの大きな目標を同時に達成することのできる改良された磁気記録媒体を提供することにある。
【００１９】本発明の第２の目的は、高い再生出力に結びつく高い保磁力を有し、しかもノイズの低下ももたらすことのできる磁気記録媒体、そして、低ノイズを維持したまま再生出力を向上させることによりＳ／Ｎ比を向上させることのできる磁気記録媒体を提供することにある。また、本発明の第３の目的は、
基板上にＣｒＭｏ膜を直接に形成した場合にもＣｒＭｏ粒の成長が基板の表面状態の影響を受けることがなく、従って、その下地結晶の（１００）面配向性が変化せしめられない
　
３．対比、判断
　そこで、本願発明と引用例１に記載の発明とを対比する。
　引用例１には、上記摘示からみて、次の発明（以下、「引用例１発明」という。）が記載されていると認められる。
　「ガラス基板の表面にＮｉＰ合金膜が形成され、その上に、磁性膜を面内異方性とするための金属膜、強磁性金属からなる磁性膜、磁性膜を被覆する保護潤滑膜等が積層成膜されている金属薄膜型磁気記録ディスクにおいて、
　前記ガラス基板が、平面度５μｍ、表面粗さＲａ８Åの珪酸ガラスなどであり、
　前記ＮｉＰ合金膜が、スパッタリングで形成されたものであり、
　前記ＮｉＰ合金膜が、メカニカルテキスチャを施したものであり、
　前記ＮｉＰ合金膜におけるＰ含有量が、約７〜１３重量％であり、
　前記磁性膜を面内異方性とするための金属膜が、ＣｒまたはＣｒ合金からなる金属膜であり、
　前記強磁性金属からなる磁性膜が、ＣｏＣｒＴａ合金などのＣｏ系合金である、
　金属薄膜型磁気記録ディスク。」
　
　そして、
　（ａ）引用例１発明の「ガラス基板の表面にＮｉＰ合金膜が形成され、その上に、磁性膜を面内異方性とするための金属膜、強磁性金属からなる磁性膜、磁性膜を被覆する保護潤滑膜等が積層成膜されている金属薄膜型磁気記録ディスクにおいて」は、
　該「ガラス基板」が、本願発明の「非磁性の基板」に相当し、また、
　該「ＮｉＰ合金膜が形成され、その上に、磁性膜を面内異方性とするための金属膜」が、基板と磁性膜の間に介在して成膜されるため下地膜と言えるので、本願発明の「下地膜を介して」に相当することから、
　本願発明の「非磁性の基板上に下地膜を介して磁性金属材料からなる磁性膜を設けてなる磁気記録媒体において」に相当する。
　
　（ｂ）引用例１発明の「前記ガラス基板が、平面度５μｍ、表面粗さＲａ８Åの珪酸ガラスなどであり」は、
　該「表面粗さＲａ８Å」が凹凸表面であることを示していることを勘案すると、
　本願発明の「前記基板が、」「凹凸を表面に有するガラス基板」に相当する。
　なお、凹凸が「無方向性」の点は追って検討する。
　
　（ｃ）引用例１発明の「前記ＮｉＰ合金膜が、スパッタリングで形成されたものであり」は、本願発明の「ニッケル・燐（ＮｉＰ）からスパッタ法により成膜された第２の下地膜」に相当する。
　なお、本願発明の「第２の下地膜としての前記ＮｉＰ膜」との表現は、先行する箇所に「ＮｉＰ膜」との表現が無く文言上不明ではあるが、技術常識からみて、また第２下地膜に関しての本願明細書の全主旨からみて、「ニッケル・燐（ＮｉＰ）からスパッタ法により成膜された」膜を指すものと解した（以下の＜一致点＞でもそのままの表現を採用した。）。
　また、「第２の」との表現は、以下の相違点（Ｂ）として検討する第１の下地膜の有無によって生じている単なる表現上の差にすぎず、各膜の成膜順序に相違を生じさせるものではなく、技術的意義に影響を与えるものでもない（以下の（ｆ）の「第３の」下地膜についても同様である。）。
　
　（ｄ）引用例１発明の「前記ＮｉＰ合金膜が、メカニカルテキスチャを施したものであり」は、
　本願発明の「第２の下地膜としての前記ＮｉＰ膜が、その表面に機械的テクスチャ処理により円周方向に形成された筋状の突起部及び溝部を有しており」に対応するところ、
　いずれも、「第２の下地膜としての前記ＮｉＰ膜が、その表面に機械的テクスチャ処理を施したもの」である点で一致する。
　なお、「テクスチャ処理により円周方向に形成された筋状の突起部及び溝部を有」するか否かは追って検討する。
　
　（ｅ）引用例１発明の「前記ＮｉＰ合金膜におけるＰ含有量が、約７〜１３重量％であり」は、
　本願発明の「前記ＮｉＰ膜におけるＮｉ及びＰの比（ａｔ％）が、６７〜８５：３３〜１５であり」に対応するところ、
　Ｎｉの原子量が５８．６９で、Ｐの原子量が３０．９７であることに鑑み、重量％を原子％（ａｔ％）に換算すると、Ｐ含有量７重量％が１２．５原子％に当たり、Ｐ含有量１３重量％が２２．１原子％に当たるので、引用例１発明の「約７〜１３重量％」が「１２．５〜２２．１ａｔ％」に他ならないと言え、両発明のＰ含有量は１５〜２２．１ａｔ％で一致することになるから、
　両発明は、「前記ＮｉＰ膜におけるＮｉ及びＰの比（ａｔ％）が、７７．９〜８５：２２．１〜１５であり」点で一致する。
　
　（ｆ）引用例１発明の「前記磁性膜を面内異方性とするための金属膜が、ＣｒまたはＣｒ合金からなる金属膜であり」は、本願発明の「クロムを主成分とする合金から成膜された第３の下地膜」に相当する。
　なお、クロムを主成分とする合金の膜が「ＣｒＷ，ＣｒＶ，ＣｒＴｉ及びＣｒＭｏからなる群から選択された」ものである点は追って検討する。
　
　（ｇ）引用例１発明の「前記強磁性金属からなる磁性膜が、ＣｏＣｒＴａ合金などのＣｏ系合金である」は、
　本願発明の「前記磁性膜が、円周方向を磁化容易方向とし、かつコバルトを主成分として含有し、１４〜２２ａｔ％のクロム及び４〜１０ａｔ％の白金を含み、さらにタンタル又はタンタル及びニオブを組み合わせて有する合金から構成されている」に対応するところ、
　両発明の磁性膜は、「前記磁性膜が、Ｃｏ系合金から構成されている」点で一致する。
　
　してみると、本願発明と引用例１発明は、次の一致点で一致し、次の相違点（Ａ）〜（Ｅ）で相違する。
＜一致点＞
　「非磁性の基板上に下地膜を介して磁性金属材料からなる磁性膜を設けてなる磁気記録媒体において、
　前記基板が、凹凸を表面に有するガラス基板であり、
　前記下地膜が、前記基板上に順次形成された、ニッケル・燐（ＮｉＰ）からスパッタ法により成膜された第２の下地膜及びクロムを主成分とする合金から成膜された第３の下地膜からなり、
　第２の下地膜としての前記ＮｉＰ膜が、その表面に機械的テクスチャ処理を施したものであり、
　前記ＮｉＰ膜におけるＮｉ及びＰの比（ａｔ％）が、７７．９〜８５：２２．１〜１５であり、そして
　前記磁性膜が、Ｃｏ系合金から構成されている、
　磁気記録媒体。」
＜相違点＞
　（Ａ）ガラス基板の凹凸表面に関し、本願発明では「無方向性凹凸」と規定しているのに対し、引用例１発明ではそのような規定がない点、
　（Ｂ）下地膜に関し、本願発明では「前記基板上に順次形成された、クロムを主成分とする第１の下地膜」を有するのに対し、引用例１発明ではそのような構成が言及されていない点、
　（Ｃ）クロムを主成分とする合金から成膜された第３の下地膜に関して、本願発明では「ＣｒＷ，ＣｒＶ，ＣｒＴｉ及びＣｒＭｏからなる群から選択された」ものと規定しているのに対し、引用例１発明ではその合金の成分について具体的には言及していない点、
　（Ｄ）テクスチャ処理を施したものに関し、本願発明では、「テクスチャ処理により円周方向に形成された筋状の突起部及び溝部を有し」とされ、「前記ＮｉＰ膜の表面における粗さが、円周方向でＲａ1＜１nmであり、半径方向でＲａ2＜２nmであり、そしてＲａ1＜Ｒａ2であり」としているのに対し、引用例１発明ではそのような言及がない点、
　（Ｅ）Ｃｏ系合金から構成されている磁性膜に関し、本願発明では、「円周方向を磁化容易方向とし、かつコバルトを主成分として含有し、１４〜２２ａｔ％のクロム及び４〜１０ａｔ％の白金を含み、さらにタンタル又はタンタル及びニオブを組み合わせて有する合金から構成されている」と規定しているのに対し、引用例１発明ではそのような規定がない点。
　
　そこで、これらの相違点について検討する。
　（Ａ）の点について
　引用例１には、ガラス基板の表面凹凸が無方向か否かの言及はないけれども、（イ）ガラス基板の上に積層するＮｉＰ層にテクスチャーを施すのであるから、また、（ロ）テクスチャーを施したＮｉＰ層を設ける理由が、硬質な脆性材料であるガラスの基板にメカニカルテクスチャーを施すのが困難なため（摘示（1-iii）参照）であるから、ガラス基板の表面凹凸に方向性を設けるべき必然性もなければ、ガラス基板の表面に（方向性のある）メカニカルテクスチャを施す理由もないことを勘案すると、引用例１発明に用いるガラス基板の表面凹凸は無方向性のものと解するのが相当であり、少なくとも、無方向性の凹凸を採用することは、格別の障害はなく当業者が容易に想到し採用し得るというべきである。
　
　（Ｂ）の点について
　ガラス基板とＮｉＰ層との間にＣｒを主成分とする第１の下地膜（なお、主成分との表現が成されているが、本願明細書段落【００２５】ではクロム単独でも良いとされていること、及び殆どの実施例でＣｒ単独の第１の下地膜が採用されていることからみて、クロム単独の場合を包含するものと解するのが相当である。）を設けることは、引用例１には明示がないけれども、そのような構成は普通に知られているのである。　例えば、特開平８−１３８２２８号公報（段落【００３４】参照）には、スパッタリング成膜装置内においてガラス基板にＣｒ下地膜、８０Ｎｉ−２０Ｐ下地膜、ＣｒＴｉ下地膜、ＣｏＣｒＴａ合金磁性膜を順にスパッタ成膜したものに関し、Ｃｒ下地膜は接着層としての機能と説明されているし、特開平５−１９７９４１号公報には、ガラス基板に順にＣｒの層、ＮｉＰ層、Ｃｒ下地層、磁性層を設けることが記載され、また国際公開ＷＯ９８／０６０９３（１９９８年２月１２日公開）の第６頁５〜１０行には、ガラス基板と配向制御層との間にＣｒ等の金属を形成することによりガラスとの密着性が向上することが記載されているし、特開平１０−１１７３３号公報（段落【０００９】参照）にも、ガラス基板と下地膜との間の中間膜として密着性が強いＣｒを使用することが説明されている。
　そうであるから、（Ｂ）の相違点に係るガラス基板とＮｉＰ層との間にＣｒを主成分とする層を設けることは適宜採用されていることであり、密着性が更に改善されることも容易に予想されることにすぎない。
　ところで、審判請求理由（請求の理由の平成１６年８月１９日付けの手続補正書の【本願発明が特許されるべき理由】の（ｂ）本願発明と引用発明との対比の項を参照）において請求人は、「引用例４（当審注：引用例１に相当）の場合、２頁右下欄に記載されるように、ＮｉＰをスパッタリングによって成膜すれば基板に対する十分な密着性を確保できるといっており、本願発明で言う第１の下地膜（Ｃｒ）の使用を推奨していない。」と主張している。なるほど、ＮｉＰ合金膜の形成を「スパッタリングによるのが好適である。」と記載されているけれども、その記載は従来既に実施されている基板とＮｉＰ下地膜との間にＣｒ下地膜を介在させることを阻害するものではなく、更なる密着性の向上を期待してＣｒ下地膜を介在させることは、格別の困難性があるとは認められないし、当業者であれは容易に検討し採用できる程度のものというべきである。
　
　（Ｃ）と（Ｅ）の点について
　ところで、引用例２には、上記摘示から明らかな如く、「非磁性支持体と該支持体上に非磁性金属材料からなる下地層を介して形成された磁性金属材料からなる磁気記録膜とを含んでなる磁気記録媒体において、前記下地層が、クロムを主成分とするかもしくはクロムとモリブデンを主成分とする金属材料から構成されており、そして前記磁気記録膜が、コバルト、クロム、タンタル及び白金からなる群から選ばれた少なくとも１員を主成分とする金属材料から構成されていることを特徴とする磁気記録媒体」が記載（摘示（2-i）など参照）され、高い保磁力により高密度記録を可能とするとともに、ノイズを低減し、Ｓ／Ｎ比を向上させた磁気記録媒体に関し、該磁気記録媒体は、また、低ノイズを維持したまま再生出力を向上させることによりＳ／Ｎ比を向上させた旨（摘示（2-iv）〜（2-vi）など参照）が説明されている。更に、クロムとモリブデンの合金としては、クロムが主成分でモリブデンを添加することが説明（摘示（2-iii），（2-v）参照）されている。そして、磁気記録膜のクロム、タンタル、白金、コバルトからなる金属材料の成分比に関しては、例えば引用例２の請求項２にコバルトが残部（主成分であることが明らかである。）で、クロムが１４〜２５ａｔ％で、白金が２〜２０ａｔ％（請求項２３では４〜１０ａｔ％）とすることが示されているところ、本願発明のＣｏを主成分とし、１４〜２２ａｔ％のクロム、４〜１０ａｔ％の白金、さらにタンタルを含有することとは、クロム含有量が１４〜２２ａｔ％、白金含有量が４〜１０ａｔ％、タンタルを含有しコバルトを主成分とすることで重複し、一致している。
　即ち、磁性膜に対する下地層として、クロムを主成分とする合金とし、モリブデンを成分として含有させたＣｒＭｏを用い、かつ、磁性膜として、コバルトを主成分として含有し、１４〜２２ａｔ％のクロムおよび４〜１０ａｔ％の白金を含み、さらにタンタルを組み合わせて有する構成とすることは、引用例２に記載があり、その構成による上記摘示の作用効果を期待して、そのような下地層と磁性膜の構成を採用することは業者が容易になし得るものである。
　次に、「円周方向を磁化容易方向とし」の点は、例えば、特開平５−２３４０６９号公報（段落【０００４】参照）には、「磁気ディスクでは記録が面内の円周方向の磁化により行われるので、面内でも円周方向に磁化が向きやすくなっていることが好ましい」とされ、「テクスチャ加工は通常、ディスクを回転させながら砥粒の埋め込まれた加工用テープをディスク表面に押し付ける等の方法により行われるので、」テクスチャ加工で円周方向に溝がつき易く、円周方向に磁化容易軸が与えられる旨が記載されているし、特開昭６４−７９９３７号公報（第２頁左上欄の従来の技術の項参照）には、面内磁化膜を用い円周方向に記録再生が行われる場合に、磁性膜の磁化容易方向が円周方向に配列していれば、再生出力およびＳＮ比の高い優れた電磁変換特性を持つことが記載されているように、ディスク状の磁気記録媒体の構成として一般に知られていることにすぎない。
　したがって、（Ｃ）と（Ｅ）の相違点に係る本願発明の構成は、周知技術乃至引用例２の記載を勘案し当業者が容易に想到し得るものである。　
　
　（Ｄ）の点について
　テクスチャを円周方向に施すことも普通に知られている（そのようなテクスチャ処理によって当然に筋状の突起部と溝部が形成される。）し、その際に半径方向の粗さＲaを２ｎｍ程度以下とすることも適宜なされている。　例えば、前記特開平５−２３４０６９号公報（段落【０００４】参照）にはテキスチャを円周方向に施すことが通常と記載されているし、特開平５−１２０６６４号公報には、Ｃｒ合金下地膜上にＣｏを主成分としＣｒとＰｔまたはＴａを添加した磁性膜を形成した磁気ディスクに関し、「円周方向に形成したテクスチャの半径方向の平均粗さＲａが２ｎｍ以下で、更に円周方向に磁気異方性が生じている」（請求項１，２参照）とされ、「テクスチャ粗さを小さくすることでヘッドギャップと磁性膜との距離が空間的に均一となり、トラック一周のヘッド再生出力波形が均一となる作用がある」（段落【００２１】参照）との説明もあるし、前記特開平８−１３８２２８号公報には研磨テープを押し付けながらディスクを回転させてＲａが１．５ｎｍのテクスチャー溝を形成したこと（なお、当然に円周方向にテクスチャが形成され、測定されたＲａがテクスチャー溝に関してのものであるから半径方向のＲａであることも明白）（段落【００２８】参照）が記載されている。
　そうであるから、引用例１発明において、テクスチャを円周方向に施す（即ち、円周方向に筋状の突起部及び溝部を形成する）ことは適宜ないし容易になし得ることであり、半径方向の粗さＲａを２ｎｍ程度以下（半径方向のＲａ２＜２ｎｍ）とすることも容易に採用し得る程度のことというべきである。　そして、そのようにテクスチャを円周方向に施せば、円周方向の粗さＲａが半径方向の粗さＲａよりも小さくなること（Ｒａ1＜Ｒａ2）は、当然のことと認められるし、それ故、引用例１発明において、半径方向の粗さＲａを２ｎｍ以下とする際に、円周方向の粗さＲａを１ｎｍ程度以下（円周方向でＲａ1＜１nm）とすることは適宜と認められ、乃至格別のものとは認められない。　なお、特開平７−７８３２７号公報には、媒体の表面に関してではあるが、テクスチャ加工によって半径方向の表面粗さＲａ（ｒ）を０．３〜３ｎｍとし、円周方向の表面粗さＲａ（θ）に対する半径方向の表面粗さＲａ（ｒ）の比を１．１〜３．０とすることで、ヘッドの浮上特性とサーボ信号の品質の問題が解決できると記載（段落【００９６】参照）されている文献もあり、前記判断の妥当性が明らかである。　なお、本願明細書では、表面粗さに関しては、「かかる表面粗さは、換言すると、潤滑剤を凹凸表面に適用した時にその潤滑剤で凹凸が埋まってしまわない程度の粗さである。」（段落【００２９】）とされているだけであるところ、そのような配慮は当然のことというべきである。
　したがって、（Ｄ）の相違点に係る本願発明の構成は、周知技術を勘案し、当業者が容易に想到し得たものである。　
　
　そして、（Ａ）〜（Ｅ）の相違点を総合的に勘案しても、本願発明が格別予想外の作用効果を奏しているとは認められない。
　よって、本願発明は、周知技術を勘案し、引用例１発明と引用例２に記載の発明に基づいて、当業者が容易に想到し得たものである。
　
４．むすび
　以上のとおりであるから、本願請求項１に係る発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。　それ故、他の請求項について論及するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。