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　特願２０００−１９３４１４「半田付けシステム及び半田付け方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１４年　１月　８日出願公開、特開２００２−　　１２５３〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
第１　手続の経緯・本件出願の発明
　本件出願は、平成１２年６月２７日の特許出願であって、平成２０年３月３１日、平成２０年１０月２７日に手続補正がなされたが、平成２０年１１月２８日に拒絶査定がされ、これに対し、平成２１年１月５日に本件審判請求がなされたものである。
　
　その特許請求の範囲の請求項１ないし請求項６に係る発明は、平成２０年１０月２７日に補正された明細書及び図面の記載からみて、請求項１ないし請求項６に記載された事項により特定されるとおりのものであると認められるところ、請求項１に係る発明（以下「本件出願の発明」という。）は、次のとおりである。
　　
「【請求項１】　絶縁材料で形成される反応容器と、反応容器内に交流又はパルス状の電圧を印加するための電極とを具備して構成され、アルゴンと水素の混合ガスをプラズマ生成用ガスとして反応容器内に供給すると共に反応容器内に交流又はパルス状の電圧を印加することにより大気圧近傍の圧力下で反応容器内に放電を生じさせてプラズマを生成し、反応容器に設けた吹き出し口から被処理物に向かって上記プラズマをジェット状に吹き出すプラズマ洗浄装置と、このプラズマ洗浄装置でプラズマ処理された被処理物に接合部品を半田付けするための半田付け装置と、プラズマ洗浄装置と半田付け装置との両方を収納して非酸化性雰囲気中に維持するためのカバーとを備えて成ることを特徴とする半田付けシステム。」
　
第２　刊行物
　これに対して、原査定の拒絶の理由に引用された本件出願の出願前に日本国内において頒布された刊行物である特開平１１−２６０５９７号公報（以下「刊行物」という。）の記載内容は以下のとおりである。
　
１　刊行物記載の事項
　刊行物には以下の事項が記載されている。
「【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、被処理物の表面に存在する有機物等の異物のクリーニング、レジストの剥離、有機フィルムの密着性の改善、金属酸化物の還元、製膜、表面改質などのプラズマ処理に利用されるプラズマを発生させるためのプラズマ処理装置、及びこれを用いたプラズマ処理方法に関するものであり、精密な接合が要求される電子部品の表面のクリーニングに応用されるものである。」
　
「【００３０】図１にプラズマ処理装置の一例を示す。反応管２は絶縁性材料（誘電体材料）で円筒状に形成されるものであって、その下端には直径が下側ほど小さくなるように絞り込まれたテーパー構造の集束部２０が形成されていると共に、反応管２の下端面である集束部２０の下面には吹き出し口２１が設けられている。このように集束部２０を設けないで吹き出し口２１の口径を反応管２の直径とほぼ同じに形成した場合、吹き出し口２１から吹き出されるプラズマジェット６５の流速を上げようとすると、後述の外側電極１と内側電極３の間隔を小さくして放電空間２２の体積を小さくしなければならず、このために外側電極１と内側電極３の冷却が難しくなるが、本発明のように反応管２よりも直径が絞り込まれた集束部２０を設けることによって、放電空間２２の体積を小さくすることなくプラズマジェット６５の流速を上げることができ、被処理物７のプラズマ処理を効率よく行うことができる。」
　
「【００３２】また反応管２の上部にはガス導入管７０が突設されている。反応管２を形成する絶縁性材料の誘電率は放電空間２２（図１に斜線で示す）の低温化の重要な要素であって、誘電率が２０００以下の絶縁性材料を用いるのが好ましい。反応管２の絶縁性材料の誘電率が２０００を超えると、外側電極１と内側電極３の空間に印加される電圧が大きくなる代わりに、外側電極１と内側電極３の間の放電空間２２でのプラズマの温度（ガス温度）が上昇する恐れがある。反応管２の絶縁性材料の誘電率の下限値は特に限定されないが、２であり、これよりも小さいと、放電を維持するために、外側電極１と内側電極３の間に印加する交流の電圧を大きくしなければならず、このため、外側電極１と内側電極３の間の放電空間２２での電力消費量が大きくなって放電空間２２でのプラズマの温度が上昇する恐れがある。」
「【００３４】集束部２０の上側部分において反応管２の外周には金属製の外側電極１が全周に亘って設けられている。外側電極１の金属材料としては熱伝導性の高いものであることが好ましく、このことで外側電極１の放熱性が向上して放電の均一化を図ることができる。具体的には外側電極１の金属材料として、銅、アルミニウム、真鍮、耐食性の高いステンレスなどを用いることができる。また外側電極１は板状やメッシュ状（網状）に形成することができる。」
　
「【００３７】反応管２の内部には反応管２の中心部を上下に貫くように内側電極（中心電極）３が配設されている。内側電極３は断面略円形であって、その直径（外径）は１〜２０ｍｍに設定するのが好ましい。内側電極３の直径が１ｍｍ未満であれば、放電空間２２の面する内側電極３の表面積が小さくなり過ぎて放電が起こりにくくなり、プラズマを充分に生成することができなくなる恐れがあり、内側電極３の直径が２０ｍｍを超えると、相対的に反応管２や外側電極１を大きくしなければならず、装置が大型化する恐れがある。この内側電極３は集束部２０の上側から反応管２の上側に突出するまでに設けられており、反応管２の内部において複数個の支持具２４にて支持されている。そして反応管２の内部において、外側電極１と内側電極３の間の空間が放電空間２２として内側電極３を囲うように形成されている。」
　
「【００４５】本発明において外側電極１と内側電極３に印加される交流の周波数は、１ｋＨｚ〜５０ＧＨｚ、好ましくは１０ｋＨｚ〜２００ＭＨｚに設定される。交流の周波数が１ｋＨｚ未満であれば、放電空間２２での放電を安定化させることができなくなる恐れがあり、交流の周波数が５０ＧＨｚを超えると、放電空間２２でのプラズマの温度上昇が著しくなる恐れがある。また外側電極１と内側電極３に交流を印加する場合、外側電極１と電源１５を接続し、内側電極３を接地するのが好ましく、このことで内側電極３と被処理物７の間のストリーマー放電を抑制することができる。これは、内側電極３と被処理物７の間の電位差がほとんど０になり、ストリーマー放電が生成されにくくなるためであり、特に、被処理物７に金属部分が含まれている場合はストリーマー放電の生成が著しくなるので、内側電極３を接地するのが好ましい。尚、図１のものでは内側電極３は供給管２６の供給部２８から接地されている。」
　
「【００４７】本発明においてプラズマ生成用ガスとしては、不活性ガス（希ガス）あるいは不活性ガスと反応ガスの混合気体を用いることができる。不活性ガスとしては、ヘリウム、アルゴン、ネオン、クリプトンなどを使用することができるが、放電の安定性や経済性を考慮すると、アルゴンやヘリウムを用いるのが好ましい。またアルゴン単独ではストリーマー放電が生成し易いので、アルゴンをヘリウムで希釈した混合ガスを用いることが好ましく、その混合比率は放電空間２２の温度とも密接に関連するが、プラズマジェット６５の温度を２５０℃以下にした場合は、アルゴンを９０重量％以下にするのが好ましい。これよりもアルゴンが多くなると、ストリーマー放電が生じ易くなる恐れがある。尚、アルゴンが多いとストリーマー放電が生じ易くなるのは、アルゴンがヘリウムに比べて準安定状態のエネルギーや寿命がヘリウムに比べて小さいためであると考えられる。
【００４８】また上記反応ガスの種類は処理の内容によって任意に選択することができる。例えば、被処理物の表面に存在する有機物のクリーニング、レジストの剥離、有機フィルムのエッチングなどを行う場合は、酸素、空気、ＣＯ２、Ｎ２Ｏなどの酸化性ガスを用いるのが好ましい。また反応ガスとしてＣＦ４などのフッ素系ガスも適宜用いることができ、シリコンなどのエッチングを行う場合にはこのフッ素系ガスを用いるのが効果的である。また金属酸化物の還元を行う場合は、水素、アンモニアなどの還元性ガスを用いることができ、その添加量は不活性ガスに対して１０重量％以下、好ましくは０．１〜５重量％の範囲である。反応ガスの添加量が０．１重量％未満であれば、処理効果が低くなる恐れがあり、反応ガスの添加量が１０重量％を超えると、放電が不安定になる恐れがある。」
　
「【００５０】次に、上記のように形成されるプラズマ処理装置Ａを用いたプラズマ処理方法を説明する。まず、ガス導入管７０を通じて反応管２の内部にプラズマ生成用ガスを導入する（矢印）と共に、外側電極１と内側電極３に高周波などの交流を印加し、さらにこれと同時に内側電極３を冷媒によって冷却すると共に外側電極１に冷却された空気を吹き付けるなどして外側電極１を空冷して冷却する。この後、外側電極１と内側電極３の間に印加された交流電界により大気圧下で反応管２の放電空間２２でグロー放電を発生させ、グロー放電で反応管２の内部に導入されたプラズマ生成用ガスをプラズマ化し、プラズマ活性種を含むこのプラズマを図２に示すように吹き出し口２１からプラズマジェット６５として吹き出して被処理物７の表面に吹きつけることによって、プラズマ処理を行うことができる。」
　
２　刊行物記載の発明
　刊行物記載の事項における、不活性ガスと反応ガスの混合気体からなるプラズマ生成用ガスについて、不活性ガスとしてアルゴンを、また、反応ガスとして金属酸化物の還元に適した水素を採用した場合に留意して、刊行物記載の事項を本件出願の発明に照らして整理すると、刊行物には以下の発明が記載されていると認める。
　
「絶縁性材料で形成される反応管２と、反応管２内に交流の電圧を印加するための外側電極１と内側電極３とを具備して構成され、アルゴンと水素の混合ガスをプラズマ生成用ガスとして反応管２内に供給すると共に反応管２内に交流の電圧を印加することにより大気圧下で反応管２内にグロー放電を生じさせてプラズマを生成し、反応管２に設けた吹き出し口２１から被処理物７に向かって上記プラズマをジェット状に吹き出すプラズマ処理装置。」
　
第３　対比
　本件出願の発明と刊行物記載の発明とを対比すると以下のとおりである。
　刊行物記載の発明の「反応管２」及び「外側電極１と内側電極３」は、それぞれ本件出願の発明の「反応容器」及び「電極」に相当することが明らかである。
　また、刊行物記載の発明において「大気圧下で反応管２内にグロー放電を生じさせてプラズマを生成」することは、本件出願の発明において「大気圧近傍の圧力下で反応容器内に放電を生じさせてプラズマを生成」することと実質的に異ならない。
　さらに、刊行物記載の発明は、「プラズマ処理装置」として表現されているが、上記第２の１に摘記したように「精密な接合が要求される電子部品の表面のクリーニングに応用されるものである」（引用例の段落【０００１】参照。）ことからみて、「プラズマ洗浄装置」とみることができるものである。
　そうしてみると、本件出願の発明と刊行物記載の発明とは以下の点で一致する。
　
［一致点］
「絶縁材料で形成される反応容器と、反応容器内に交流の電圧を印加するための電極とを具備して構成され、アルゴンと水素の混合ガスをプラズマ生成用ガスとして反応容器内に供給すると共に反応容器内に交流の電圧を印加することにより大気圧近傍の圧力下で反応容器内に放電を生じさせてプラズマを生成し、反応容器に設けた吹き出し口から被処理物に向かって上記プラズマをジェット状に吹き出すプラズマ洗浄装置。」　                  
　
　そして、本件出願の発明と刊行物記載の発明とは以下の点で相違している。
［相違点］
　本件出願の発明は、プラズマ洗浄装置のほかに、このプラズマ洗浄装置でプラズマ処理された被処理物に接合部品を半田付けするための半田付け装置と、プラズマ洗浄装置と半田付け装置との両方を収納して非酸化性雰囲気中に維持するためのカバーとを備えて成る半田付けシステムであるのに対して、刊行物記載の発明は、そのようなものではない点。
　
第４　相違点についての検討
　刊行物記載の発明のプラズマ洗浄装置は、上記したように「精密な接合が要求される電子部品の表面のクリーニングに応用されるものである」こと、また、電子部品の接合方法として大気圧下での半田付けがあり、半田付け物品又は半田付け部の予備処理として表面洗浄、酸化物除去があることは、それぞれ特に例示するまでもなく従来周知である。
　よって、刊行物記載の発明に、プラズマ洗浄装置でプラズマ処理された被処理物に接合部品を大気圧下で半田付けするための半田付け装置を付加して半田付けシステムを構成することに格別の困難性は見当たらない。
　かかる半田付けシステムを構成するに当たって、プラズマ処理された被処理物の被処理部が、半田付け装置に送られる間に酸化しないようにすること、半田付けの際に接合部が酸化しないようにすることは、それぞれ当該システムの製作者に当然求められる課題である。
　また、半田付けにおける酸化防止のために、半田付け装置を収納して大気圧近傍の非酸化性雰囲気中に維持するためのカバーを備えることは、例えば、特開平４−２６２８６１号公報の【図２】の「加熱室１、仕切壁２０」に示されているように従来周知である。
　刊行物記載の発明におけるプラズマの生成、周知技術である半田付け、いずれも大気圧近傍という同様な環境でなされ、ともに被処理部が酸化しないようにする必要がある。
　両工程は隣接するものであり、部品点数の削減は周知の課題であることから、刊行物記載の発明に半田付け装置を付加して半田付けシステムを構成するに当たって、プラズマ洗浄装置と半田付け装置との両方を収納して非酸化性雰囲気中に維持するためのカバーを備えることは、当業者が必要に応じて適宜なし得る設計的事項にすぎない。
　また、本件出願の発明の採用する構成によってもたらされる効果も、刊行物記載の発明及び上記従来周知の各事項から当業者であれば予測できる程度のものであって格別のものではない。
　
第５　むすび
　したがって、本件出願の発明は、刊行物記載の発明及び従来周知の事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許をすることができない。
　よって、本件出願のその余の請求項に係る発明について検討するまでもなく、本件出願は拒絶されるべきであるから、結論のとおり審決する。