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　特願２００２−２３３４２５「プラズマエッチング処理装置及びプラズマエッチング処理方法」拒絶査定不服審判事件〔平成１６年　３月１１日出願公開、特開２００４−　７９５５７〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
I．手続の経緯
　
　本願は、平成１４年８月９日の出願であって、平成１７年３月２４日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、同年４月２７日に拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに、同年５月２５日に手続補正がなされたものである。
　
　
II．平成１７年５月２５日付け手続補正についての補正却下の決定
　
　
［補正却下の決定の結論］
　
　　平成１７年５月２５日付け手続補正を却下する。
　
　
［理由］
　
　本件補正は、本件補正前の特許請求の範囲の
「　【請求項１】　
　処理チャンバ、該処理チャンバ内に処理ガスを導入する処理ガス導入配管、処理チャンバ内に配置され不揮発性材料を含む被エッチング表面を持つ試料を載置して保持する載置電極、前記試料にバイアス電位を供給するバイアス電位生成用高周波電源、及び前記処理ガスに高周波電力を供給し該処理ガスをプラズマ化する誘導コイルを備え不揮発性材料をエッチングするプラズマエッチング装置において、
　前記処理チャンバは、処理チャンバ内面の一部を構成し、前記誘導コイルによって生成された電界を通過させるための絶縁性部材と、該絶縁性部材への反応生成物の付着を防止するために、前記誘導コイルと前記プラズマとの間であって前記絶縁性部材のほぼ全領域に対応した領域に設けられ、かつ、バイアス電圧の印加手段に接続された導電性部材と、
前記処理チャンバの内面の他の部分に形成された反応生成物を付着し捕獲するための着脱可能なトラップ部材とを備えたことを特徴とするプラズマエッチング処理装置。
　【請求項２】　
　処理チャンバ、該処理チャンバ内に処理ガスを導入する処理ガス導入配管、処理チャンバ内に配置され不揮発性材料を含む被エッチング表面を持つ試料を載置して保持する載置電極、前記試料にバイアス電位を供給するバイアス電位生成用高周波電源、及び処理ガスに高周波電力を供給し該処理ガスをプラズマ化する誘導コイルを備え不揮発性材料をエッチングするプラズマエッチング処理装置において、
　前記処理チャンバは、処理チャンバ内面の一部を構成し、前記誘導コイルによって生成された電界を通過させるための絶縁性部材と、該絶縁性部材への反応生成物の付着を防止するために、前記誘導コイルと前記プラズマとの間であって前記絶縁性部材のほぼ全領域に対応した領域に設けられ、かつ、バイアス電圧の印加手段に接続された導電性部材と、
前記処理チャンバの内面の他の部分に形成された反応生成物を付着し捕獲するための温度調整可能なトラップ部材を着脱可能に備えたことを特徴とするプラズマエッチング処理装置。
　【請求項３】　
　請求項１ないし請求項２の何れか１の記載において、
　前記着脱可能なトラップ部材の表面粗さ（Ｒａ）は１０μｍ以上であることを特徴とするプラズマエッチング処理装置。
　【請求項４】　
　請求項１ないし請求項２の何れか１の記載において、
　前記導電体部材で被覆する面、サセプタ用バイアス印加部によりバイアスが印加される載置電極面、試料載置面、及び前記トラップ部材で被覆する面の合計は前記処理チャンバ内のプラズマ生成空間を構成する内壁面の９０％以上であることを特徴とするプラズマエッチング処理装置。
　【請求項５】
　請求項２の記載において、
　前記トラップ部材はその温度を調整するための加熱手段を備えたことを特徴とするプラズマエッチング処理装置。
　【請求項６】
　処理チャンバ、該処理チャンバ内に処理ガスを導入する処理ガス導入配管、処理チャンバ内に配置され不揮発性材料を含む被エッチング表面を持つ試料を載置して保持する載置電極、前記試料にバイアス電位を供給するバイアス電位生成用高周波電源、及び前記処理ガスに高周波電力を供給する誘導コイルを備え、該誘導コイルに高周波電力を供給して前記ガスをプラズマ化して前記不揮発性材料をエッチングするプラズマエッチング処理方法において、
　前記処理チャンバは、処理チャンバの一部を構成し、前記誘導コイルによって生成された電界を通過させるための絶縁性部材と、該絶縁性部材への反応生成物の付着を防止するために、前記誘導コイルと前記プラズマとの間であって前記絶縁性部材のほぼ全領域に対応した領域に設けられ、かつ、バイアス電圧の印加手段に接続された導電性部材と、前記処理チャンバの内面の他の部分に形成された反応生成物を付着し捕獲するための着脱可能なトラップ部材とを備え、該トラップ部材を所定期間毎に交換することを特徴とするプラズマエッチング処理方法。」
の記載を、
「　【請求項１】　
　処理チャンバ、該処理チャンバ内に処理ガスを導入する処理ガス導入配管、処理チャンバ内に配置され不揮発性材料を含む被エッチング表面を持つ試料を載置して保持する載置電極、前記試料にバイアス電位を供給するバイアス電位生成用高周波電源、及び前記処理ガスに高周波電力を供給し該処理ガスをプラズマ化する誘導コイルを備え不揮発性材料をエッチングするプラズマエッチング装置において、
　前記処理チャンバは、処理チャンバ内面の一部を構成し、前記誘導コイルによって生成された電界を通過させるための絶縁性部材と、該絶縁性部材への反応生成物の付着を防止するために、前記誘導コイルと前記プラズマとの間であって前記絶縁性部材の全領域に対応した領域に設けられ、かつ、バイアス電圧の印加手段に接続された導電性部材と、前記処理チャンバの内面の他の部分に形成された反応生成物を付着し捕獲するための着脱可能なトラップ部材を備え、かつ、前記載置電極は該載置電極を保護するサセプタおよび該サセプタにバイアス電圧を印加する手段を備えたことを特徴とするプラズマエッチング処理装置。
　【請求項２】
　請求項１記載のプラズマエッチング装置において、
　前記トラップ部材は、その内表面に複数のフィンを備えたことを特徴とするプラズマエッチング装置。
　【請求項３】
　請求項１記載のプラズマエッチング装置において、
　前記トラップ部材は、その内表面に複数の点状または線状の凹凸を備えたことを特徴とするプラズマエッチング装置。
　【請求項４】
　請求項１記載のプラズマエッチング装置において、
　前記トラップ部材は、同心円状に配置した複数の円筒からなることを特徴とするプラズマエッチング装置。
　【請求項５】
　請求項１記載のプラズマエッチング装置において、
　前記トラップ部材は、同心円状に配置した複数の漏斗状部品からなることを特徴とするプラズマエッチング装置。
　【請求項６】
　請求項１記載のプラズマエッチング装置において、
　前記トラップ部材はその下部が断熱支持された円筒状部材でありプラズマからの入熱により高温に維持されることを特徴とするプラズマエッチング装置。」
と補正することを含むものである。
　
　
　そこで、補正の適否について検討すると、本件補正後の請求項１は、補正前の請求項１にさらに限定を付加したものであり、本件補正後の請求項６は、補正前の請求項２にさらに限定を付加したものであって、特許法第１７条の２第４項第２号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　しかしながら、本件補正後の請求項２〜５は、補正前の請求項３〜６を限定したものではなく、対応する補正の対象となる補正前の請求項が存在しないものであって、特許請求の範囲の減縮を目的とするものには該当せず、請求項の削除、誤記の訂正、又は明りょうでない記載の釈明のいずれを目的とするものにも該当しない。
　
　以上のとおり、本件補正は、特許法第１７条の２第４項の規定に違反するものであり、特許法第１５９条第１項において準用する特許法第５３条第１項の規定により却下されるべきものである。
　
　
III．本願発明について
　
　平成１７年５月２５日付けの手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１〜６に係る発明は、平成１６年９月１０日付け手続補正書により補正された明細書の特許請求の範囲１〜６に記載されたとおりのものと認められ、そのうち請求項１に係る発明（以下、「本願発明」という。）は、次のとおりのものである。
　
「　【請求項１】　
　処理チャンバ、該処理チャンバ内に処理ガスを導入する処理ガス導入配管、処理チャンバ内に配置され不揮発性材料を含む被エッチング表面を持つ試料を載置して保持する載置電極、前記試料にバイアス電位を供給するバイアス電位生成用高周波電源、及び前記処理ガスに高周波電力を供給し該処理ガスをプラズマ化する誘導コイルを備え不揮発性材料をエッチングするプラズマエッチング装置において、
　前記処理チャンバは、処理チャンバ内面の一部を構成し、前記誘導コイルによって生成された電界を通過させるための絶縁性部材と、該絶縁性部材への反応生成物の付着を防止するために、前記誘導コイルと前記プラズマとの間であって前記絶縁性部材のほぼ全領域に対応した領域に設けられ、かつ、バイアス電圧の印加手段に接続された導電性部材と、
前記処理チャンバの内面の他の部分に形成された反応生成物を付着し捕獲するための着脱可能なトラップ部材とを備えたことを特徴とするプラズマエッチング処理装置。」
　
　
１．引用例
　
　原査定の拒絶の理由に引用された本願出願前に頒布された刊行物である特開平８−３１６２１０号公報（以下、「刊行物」という。）には、次の事項が記載されている。
　
（ａ）「【請求項１】  真空チャンバのプラズマ生成領域を画定する誘電体部材の外側に高周波電流を流すことのできる少なくとも一つの高周波アンテナを設け、この高周波アンテナと誘電体部材との間にプラズマと静電的に結合させる電極を設けたことを特徴とするプラズマ処理装置。」
　
（ｂ）「【０００８】【作用】このように構成された本発明によるプラズマ処理装置においては、誘電体部材の外側に高周波電流を流す高周波アンテナと誘電体部材との間にプラズマと静電的に結合させる電極を設けたことにより、誘電体部材の内表面上に一様な電界が形成され、誘電体部材の内表面上への膜の付着を防止できるようになる。・・・」
　
（ｃ）「【０００９】【実施例】以下図面の図１〜図５を参照して本発明の実施例について説明する。図１には本発明の一実施例によるプラズマ処理装置を概略的に示し、図面において、１は処理室を画定している真空チャンバであり、この真空チャンバ１の上部開口には、窓を構成する石英板２が密閉的に取付けられている。この石英板２の外側には石英板２と平行に二巻回のループを成す高周波ループアンテナ３が配置され、この高周波ループアンテナ３はマッチング回路４を介して高周波電源５に接続されている。高周波ループアンテナ３の下側には図示したように多数の板状の永久磁石６が高周波ループアンテナ３に流れる電流に直交しかつ石英板２と平行にループ状に配置されている。また図示実施例ではこのループ状の永久磁石５と石英板２との間には図２に示すような平面形状をもつ線状金属材料で構成された平面状電極７が石英板２から50mm以下の間隔をあけて平行に配置されている。この平面状電極７は石英板２で形成する窓の形状に合わせて構成され、そして石英板２の内表面上に一様な電界を形成し、石英板２の内表面への膜の付着を低減したり、僅かにエッチングすることができるようにするため、可変コンデンサ８及びをマッチング回路４を介して高周波電源５に高周波ループアンテナ３と並列に接続されている。すなわち可変コンデンサ８を最適な値（10pF〜100pF）に調整することにより、石英板２の内表面上における膜の付着を防止することができる。可変コンデンサ８の値は石英板２の厚さによってもかわるので実験的に調整することができる。また真空チャンバ１内にはウエハ９を支持する基板ホルダ10が配置され、この基板ホルダ10は基板バイアス用マッチング回路11を介して基板バイアス用高周波電源12に接続され、基板ホルダ10に高周波バイアスを掛けるようにしている。」
　
（ｄ）「【００１４】【発明の効果】以上説明してきたように、本発明によるプラズマ処理装置においては、誘電体部材の外側に高周波電流を流す高周波アンテナと誘電体部材との間にプラズマと静電的に結合させる電極を設けたことにより、誘電体部材の内表面上に一様な電界が形成され、誘電体部材の内表面上への膜の付着を防止できるようになるので、スパッタ蒸着の前処理としてベアSi基板や金属基板のArプラズマを用いたプリクリーニングとして安定して長時間（８インチウエハで3000枚以上）使用できるようになる。またエッチング装置、プラズマCVD装置或いはイオン注入装置のイオン源として応用した場合には誘電体部材の表面に膜が付着しないため、パーティクルの発生が抑えられ、、デバイスの歩留りを大幅に向上させることができる。また、メンテナンスの周期も大幅に長くすることができるようになる。また、本発明によるプラズマ処理方法においては、高周波アンテナと誘電体部材との間に設けた電極に供給する電力を制御することにより、プロセス中は誘電体部材の内表面がエッチングされないようにでき、またプロセスとプロセスとの間ではクリーニングプロセスを行なうことができるようになるので、ダストの問題や膜の付着の問題を伴わずに長期間安定してプロセスを実施できるようになる。」
　
（ｅ）そして、図１には、高周波ループアンテナとプラズマ生成領域である真空チャンバとの間に、平面状電極が設けられていることが示されている。（【図１】）
　
　
２．対比・判断　
　
　摘記事項（ｃ）によれば、プラズマ処理装置において、真空チャンバの上部開口には、窓を構成する石英板が密閉的に取付けられ、石英板の外側には高周波ループアンテナが配置されること、平面状電極が石英板で形成する窓の形状に合わせて構成され、そして石英板の内表面上に一様な電界を形成し、高周波電源に高周波ループアンテナと並列に接続されて、石英板の内表面上における膜の付着を防止すること、真空チャンバ内にはウエハを支持する基板ホルダが配置され、この基板ホルダは基板バイアス用高周波電源に接続され、基板ホルダに高周波バイアスを掛けるようにしていることが記載され、摘記事項（ｄ）によれば、プラズマ処理装置をエッチング装置として応用した場合には誘電体部材の表面に膜が付着しないため、パーティクルの発生が抑えられ、デバイスの歩留りを大幅に向上させることができることが記載され、摘記事項（ｅ）によれば、高周波ループアンテナとプラズマ生成領域との間に、平面状電極が設けられていることが示されている。
　
　また、真空チャンバ内でプラズマ処理を行っていることから、プラズマ処理装置は、真空チャンバ内に処理ガスを導入する処理ガス導入配管を備えているといえる。
　
　上記摘記事項（ａ）〜（ｅ）を総合すると、刊行物には、以下の発明が記載されていることになる。
　
「真空チャンバ、真空チャンバ内に処理ガスを導入する処理ガス導入配管、真空チャンバ内に配置されウエハを支持する基板ホルダ、基板バイアス用高周波電源、高周波ループアンテナを備えたプラズマエッチング装置において、
　真空チャンバの上部開口に密閉的に取り付けられた窓を構成する石英板と、石英板で形成する窓の形状に合わせて構成され、石英板の内表面上に一様な電界を形成し、高周波電源に接続されて石英板の内表面上における膜の付着を防止し、高周波ループアンテナとプラズマ生成領域との間に設けられた平面状電極とを備えたプラズマエッチング装置」（以下、「刊行物発明」という。）
　
　
　そこで、本願発明と刊行物発明とを対比する。
　
　刊行物発明の「真空チャンバ」は、本願発明の「処理チャンバ」に相当し、以下同様に、「ウエハ」は「試料」に、「支持する基板ホルダ」は「載置して保持する載置電極」に、「基板バイアス用高周波電源」は「試料にバイアス電位を供給するバイアス電位生成用高周波電源」に、「高周波ループアンテナ」は「処理ガスに高周波電力を供給し処理ガスをプラズマ化する誘導コイル」に、「真空チャンバの上部開口に密閉的に取り付けられた窓を構成する」は「処理チャンバ内面の一部を構成し、誘導コイルによって生成された電界を通過させる」に、「石英板」は「絶縁性部材」に、「石英板で形成する窓の形状に合わせて構成され、石英板の内表面上に一様な電界を形成し、高周波電源に接続されて石英板の内表面上における膜の付着を防止し、高周波ループアンテナとプラズマ生成領域との間に設けられた」は「該絶縁性部材への反応生成物の付着を防止するために、前記誘導コイルと前記プラズマとの間であって前記絶縁性部材のほぼ全領域に対応した領域に設けられ、かつ、バイアス電圧の印加手段に接続された」に、「平面状電極」は「導電性部材」に、それぞれ相当する。
　
　そうすると、両者は、「処理チャンバ、該処理チャンバ内に処理ガスを導入する処理ガス導入配管、処理チャンバ内に配置され試料を載置して保持する載置電極、前記試料にバイアス電位を供給するバイアス電位生成用高周波電源、及び前記処理ガスに高周波電力を供給し該処理ガスをプラズマ化する誘導コイルを備えたプラズマエッチング装置において、
　前記処理チャンバは、処理チャンバ内面の一部を構成し、前記誘導コイルによって生成された電界を通過させるための絶縁性部材と、該絶縁性部材への反応生成物の付着を防止するために、前記誘導コイルと前記プラズマとの間であって前記絶縁性部材のほぼ全領域に対応した領域に設けられ、かつ、バイアス電圧の印加手段に接続された導電性部材とを備えたプラズマエッチング処理装置。」の点で一致するものの、以下の点で相違している。
　
［相違点１］
　本願発明では、試料が、不揮発性材料を含む被エッチング表面を持つものであり、不揮発性材料をエッチングしているのに対し、刊行物発明は、これらの点が記載されていない点。
　
［相違点２］
　本願発明では、処理チャンバの内面の他の部分に形成された反応生成物を付着し捕獲するための着脱可能なトラップ部材とを備えているのに対し、刊行物発明には、この点が記載されていない点。
　
　
　上記相違点１、２について検討する。
　
相違点１について
　
　不揮発性材料をエッチングする際に、処理室内壁にエッチング生成物が付着するという課題は、例えば、特開２００２−７５９６３号公報（特に段落【０００４】〜【０００５】参照）、特開２０００−１２５２３号公報（特に段落【０００４】参照）に示されるとおり周知の課題であり、該エッチング生成物を刊行物発明の膜と同様のものとして、該不揮発性材料を含む被エッチング表面をもつ試料を刊行物発明のエッチング対象とすることは当業者ならば容易に想到し得ることである。
　
相違点２について
　
　プラズマエッチング処理装置の必要な部分にトラップ部材を設けることは、原査定の拒絶の理由に引用した特開平１０−８２６９号公報に示したとおり周知の技術である。
　そして、電界を通過させるための窓を有するプラズマ処理装置において、処理チャンバの内面の他の部分に防着部材を設けることは、例えば、特開平５−２５９０９０号公報（特に段落【０００３】〜【０００４】参照）、特開平１１−９２９７０号公報（特に段落【００１４】〜【００１５】、【図２】参照）に示されるとおり周知の技術であり、付着物が付着する防着部材が取り外し可能であることも、例えば、特開平５−２５９０９０号公報（特に段落【０００６】参照）に示されるとおり周知の技術である。そうすると、チャンバの内面に付着物が付着するという点で上記周知技術と共通する刊行物発明において、上記周知技術を付加して本願発明の相違点２のように構成することは当業者ならば容易に想到し得ることである。
　
　
　そして、本願発明の作用効果も、刊行物に記載された発明及び上記周知技術から当業者が予測できる範囲内のものであって、格別顕著なものとは認められない。
　
　したがって、本願発明は、刊行物に記載された発明及び上記周知技術に基いて当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
　
３．むすび
　
　以上のとおり、本願の請求項１に係る発明は、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであり、他の請求項２〜６に係る発明について検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　
　よって、結論のとおり審決する。