【手続補正書】
【提出日】平成24年8月6日(2012.8.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光導波路のクラッドまたはコアを形成するための硬化性組成物であって、
架橋性官能基を有する含フッ素ポリアリーレンプレポリマー（Ａ）と、
下式（Ｉ）で表され、フッ素原子を有さない化合物（Ｂ）とを含み、
実質的に溶媒を含まない、硬化性組成物。
［Ｘ］ｎＹ  ・・・（Ｉ）。
ただし、ｎは、１〜５の整数であり、Ｘは、架橋性官能基であり、Ｙは、エーテル性酸素原子を有していてもよいｎ価の脂肪族または脂環式の有機基である。
【請求項２】
前記化合物（Ｂ）の２５℃における粘度が、３０００ｍＰａ・ｓ以下である、請求項１に記載の硬化性組成物。
【請求項３】
前記含フッ素ポリアリーレンプレポリマー（Ａ）の割合が、前記含フッ素ポリアリーレンプレポリマー（Ａ）と前記化合物（Ｂ）との合計（１００質量％）のうち、１〜９７質量％である、請求項１または２に記載の硬化性組成物。
【請求項４】
前記式（Ｉ）におけるｎが、２〜３の整数である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の硬化性組成物。
【請求項５】
前記式（Ｉ）におけるＸが、ビニル基、アリル基、エチニル基、ビニルオキシ基、アリルオキシ基、アクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイル基およびメタクリロイルオキシ基からなる群から選ばれる１種以上である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の硬化性組成物。
【請求項６】
前記化合物（Ｂ）が、下式（Ｂ−１）で表される化合物、下式（Ｂ−２）で表される化合物、下式（Ｂ−３）で表される化合物、下式（Ｂ−４）で表される化合物、下式（Ｂ−５）で表される化合物、下式（Ｂ−６）で表される化合物、下式（Ｂ−７）で表される化合物、下式（Ｂ−８）で表される化合物および下式（Ｂ−１５）で表される化合物からなる群から選ばれる１種以上である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の硬化性組成物。
【化１】
2012063620.tif 000001
【請求項７】
前記含フッ素ポリアリーレンプレポリマー（Ａ）の架橋性官能基が、ビニル基、アリル基、アリルオキシ基、メタクリロイル（オキシ）基、アクリロイル（オキシ）基、ビニルオキシ基、トリフルオロビニル基、トリフルオロビニルオキシ基、エチニル基、１−オキソシクロペンタ−２，５−ジエン−３−イル基、シアノ基、アルコキシシリル基、ジアリールヒドロキシメチル基、ヒドロキシフルオレニル基、シクロブタレン環およびオキシラン環からなる群から選ばれる１種以上である、請求項１〜６のいずれか一項に記載の硬化性組成物。
【請求項８】
前記含フッ素ポリアリーレンプレポリマー（Ａ）が、ペルフルオロ（１，３，５−トリフェニルベンゼン）またはペルフルオロビフェニルと、１，３，５−トリヒドロキシベンゼンまたは１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタンと、ペンタフルオロスチレン、アセトキシスチレンまたはクロルメチルスチレンとを、脱ハロゲン化水素剤の存在下で反応させて得られるポリマーである、請求項１〜７のいずれか一項に記載の硬化性組成物。
【請求項９】
基材の表面にアンダークラッド層を形成し、
前記アンダークラッド層の表面にコアを形成し、
前記アンダークラッド層および前記コアの表面を覆うようにオーバークラッド層を形成する、光導波路の製造方法であって、
少なくとも前記アンダークラッド層および／または前記オーバークラッド層の形成に、請求項１〜８のいずれか一項に記載の硬化性組成物を用いる、光導波路の製造方法。
【請求項１０】
前記コアの形成に、前記含フッ素ポリアリーレンプレポリマー（Ａ）を含み、前記化合物（Ｂ）を含まないコア形成用硬化性組成物を用いる、請求項９に記載の光導波路の製造方法。
【請求項１１】
前記コア形成用硬化性組成物が、溶媒をさらに含む、請求項１０に記載の光導波路の製造方法。
【請求項１２】
前記溶媒が、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸ペンチル、酢酸イソペンチル、イソ酪酸イソブチル、メチル−３−メトキシプロピオネート、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、シクロペンタノン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンおよびジブチルケトンからなる群から選ばれる１種以上である、請求項１１に記載の光導波路の製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
前記化合物（Ｂ）の２５℃における粘度は、３０００ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましい。
前記含フッ素ポリアリーレンプレポリマー（Ａ）の割合は、前記含フッ素ポリアリーレンプレポリマー（Ａ）と前記化合物（Ｂ）との合計（１００質量％）のうち、１〜９７質量％であることが好ましい。
前記式（Ｉ）におけるｎは、２〜３の整数であることが好ましい。
前記式（Ｉ）におけるＸは、ビニル基、アリル基、エチニル基、ビニルオキシ基、アリルオキシ基、アクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイル基およびメタクリロイルオキシ基からなる群から選ばれる１種以上であることが好ましい。
前記化合物（Ｂ）は、下式（Ｂ−１）で表される化合物、下式（Ｂ−２）で表される化合物、下式（Ｂ−３）で表される化合物、下式（Ｂ−４）で表される化合物、下式（Ｂ−５）で表される化合物、下式（Ｂ−６）で表される化合物、下式（Ｂ−７）で表される化合物、下式（Ｂ−８）で表される化合物および下式（Ｂ−１５）で表される化合物からなる群から選ばれる１種以上であることが好ましい。
【化１】
2012063620.tif 000002
前記含フッ素ポリアリーレンプレポリマー（Ａ）の架橋性官能基は、ビニル基、アリル基、アリルオキシ基、メタクリロイル（オキシ）基、アクリロイル（オキシ）基、ビニルオキシ基、トリフルオロビニル基、トリフルオロビニルオキシ基、エチニル基、１−オキソシクロペンタ−２，５−ジエン−３−イル基、シアノ基、アルコキシシリル基、ジアリールヒドロキシメチル基、ヒドロキシフルオレニル基、シクロブタレン環およびオキシラン環からなる群から選ばれる１種以上であることが好ましい。
前記含フッ素ポリアリーレンプレポリマー（Ａ）は、ペルフルオロ（１，３，５−トリフェニルベンゼン）またはペルフルオロビフェニルと、１，３，５−トリヒドロキシベンゼンまたは１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタンと、ペンタフルオロスチレン、アセトキシスチレンまたはクロルメチルスチレンとを、脱ハロゲン化水素剤の存在下で反応させて得られるポリマーであることが好ましい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
本発明の光導波路の製造方法は、基材の表面にアンダークラッド層を形成し、前記アンダークラッド層の表面にコアを形成し、前記アンダークラッド層および前記コアの表面を覆うようにオーバークラッド層を形成する、光導波路の製造方法であって、少なくとも前記アンダークラッド層および／または前記オーバークラッド層の形成に、本発明の硬化性組成物を用いることを特徴とする。
本発明の光導波路の製造方法においては、前記コアの形成に、前記含フッ素ポリアリーレンプレポリマー（Ａ）を含み、前記化合物（Ｂ）を含まないコア形成用硬化性組成物を用いることが好ましい。
前記コア形成用硬化性組成物は、溶媒をさらに含むことが好ましい。
前記溶媒は、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸ペンチル、酢酸イソペンチル、イソ酪酸イソブチル、メチル−３−メトキシプロピオネート、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、シクロペンタノン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンおよびジブチルケトンからなる群から選ばれる１種以上であることが好ましい。