【事件の表示】
　平成１０年特許願第　９７１１５号「基板処理装置」拒絶査定不服審判事件〔平成１１年１０月２９日出願公開、特開平１１−２９７５８９〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続きの経緯
　本願は、平成１０年４月９日の出願であって、平成１７年８月１２日付で拒絶査定がなされ、これに対し、平成１７年９月２１日に拒絶査定に対する審判請求がなされるとともに、同年１０月２１日付で手続補正がなされたものである。
　
２．平成１７年１０月２１日付の手続補正についての補正却下の決定
［補正却下の決定の結論］
　平成１７年１０月２１日付の手続補正を却下する。
［理由］
（１）　補正後の本願発明
　本件補正により、特許請求の範囲の請求項１は、平成１７年４月１４日付の手続補正による
「【請求項１】　処理液供給源から導かれる処理液を基板に供給して所定の処理を行う基板処理装置であって、
　基板を保持する基板保持手段と、
　前記基板保持手段に保持された基板に処理液を吐出するノズルと、
　前記処理液供給源の処理液を前記ノズルへ送り出すポンプと、
　前記ポンプを駆動するモータと、
　前記ノズルからの処理液の吐出動作を制御する制御情報および前記ポンプの特性に応じて前記制御情報を補正するための補正情報を入力する入力手段と、
　前記入力手段により入力された前記制御情報を前記補正情報に基づいて補正し、補正後の制御情報に基づいて前記モータの動作を制御する制御手段とを備えたことを特徴とする基板処理装置。」
を、
「【請求項１】　処理液供給源から導かれる処理液を基板に供給して所定の処理を行う基板処理装置であって、
　基板を保持する基板保持手段と、
　前記基板保持手段に保持された基板に処理液を吐出するノズルと、
　前記処理液供給源の処理液を前記ノズルへ送り出すポンプと、
　前記ポンプを駆動するモータと、
　前記ノズルからの処理液の吐出動作を制御する制御情報および前記ポンプの特性に応じて前記制御情報を補正するための補正情報を作業者が入力するための入力手段と、
　前記入力手段により入力された前記制御情報および前記補正情報をライブラリとして格納するとともに、前記制御情報を前記補正情報に基づいて補正し、補正後の制御情報に基づいて前記モータの動作を制御する制御手段とを備えたことを特徴とする基板処理装置。」
と補正された。
　上記補正は、請求項１に記載した発明の「補正情報を入力する入力手段」を、「補正情報を作業者が入力するための入力手段」と限定し、また、「制御情報を前記補正情報に基づいて補正し」を、「制御情報および前記補正情報をライブラリとして格納するとともに、前記制御情報を前記補正情報に基づいて補正し」と限定するものであって、特許法第１７条の２第４項第２号の特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　そこで、本件補正後の前記請求項１に記載された発明（以下、「本願補正発明」という。）が、特許出願の際独立して特許を受けることができるものであるか（特許法第１７条の２第５項において準用する同法第１２６条第５項の規定に適合するか）について以下に検討する。
　
（２）引用例
　引用例１；特開平５−１９０４３７号公報
（２）．１　引用例１の記載内容
　引用例１の特許請求の範囲には、
「【請求項１】　フォトレジストをウェーハ上に塗布する半導体製造装置において、ノズルから滴下されるレジスト量を自動計測する計量器と、その計測値をフィードバックし規格値と比較する比較判定回路と、規格値からずれた場合の補正量を設定する演算回路と、その信号によりレジスト吐出機構を自動制御し補正を行う滴下量自動調整機構とを備えることを特徴とする半導体製造装置。」
と記載されている。
　
　引用例１の【０００１】〜【０００７】段落には、
「【０００１】
【産業上の利用分野】　本発明は半導体基板（ウェーハ）を製造するフォトレジスト塗布工程に使用される半導体製造装置に関する。
…
【０００５】
【実施例】　次に本発明について図面を参照して説明する。図１は本発明の実施例を示すブロック図である。…
【０００６】　あらかじめ入力されたプログラムシーケンスにより、任意の吐出回数分に担当（当該「担当」は、「相当」の明らかな誤記である。）する量のレジストがアナログ出力付計量器６に滴下され、１回あたりの滴下量が比較判定回路７に入力される。この計量器６からの信号が設定値（量）とどの程度違うかを比較判定回路７において比較し、演算回路８で処理される。滴下量が規格内ならばレジスト吐出ノズル１をウェーハチャック２上に移動させて製品処理に入るが、規格より外れた場合には滴下量の多少を比較判定回路７で判定し、演算回路８で補正量を計算し、吐出量調整モーター５に信号を送り、レジスト吐出ポンプ４を動作させ、規格内になるまでこのシーケンスをくり返す。
【０００７】
…
【図面の簡単な説明】
【図１】　本発明の一実施例のブロック図である。
…
【符号の説明】
　１　　レジスト吐出ノズル
　２　　ウェーハチャック
　３　　サックバック
　４　　レジスト吐出ポンプ
　５　　吐出量調整モーター
　６　　アナログ出力付計量器
　７　　比較判定回路
　８　　演算回路
　９　　Ｄ／Ａ変換器
　１０　　ドライバー
　１１　　メスシリンダー」
と記載されている。
　
　引用例１に記載された図１は以下のとおりである。
　
　　
　
　
　
（２）．２　引用例１に記載された発明
　上記引用例１の記載から、引用例１には、
「あらかじめ入力されたプログラムシーケンスにより、任意の吐出回数分に相当する量のレジストを計量器６に滴下し、１回あたりの滴下量を比較判定回路７に入力し、計量器６からの信号が設定値とどの程度違うかを比較判定回路７において比較し、演算回路８で処理し、滴下量が規格内ならばレジスト吐出ノズル１をウェーハチャック２上に移動させて製品処理に入り、規格より外れた場合には滴下量の多少を比較判定回路７で判定し、演算回路８で補正量を計算し、吐出量調整モーター５に信号を送り、レジスト吐出ポンプ４を動作させ、規格内になるまでこのシーケンスをくり返し、フォトレジストをウェーハ上に塗布する半導体製造装置。」
の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されている。
　
（３）対比
　そこで、本願補正発明と引用発明とを比較する。
　引用発明の「レジスト」、「ウェーハ」、「フォトレジストをウェーハ上に塗布する半導体製造装置」、「ウェーハチャック」、「レジスト吐出ノズル」、「レジスト吐出ポンプ」及び「吐出量調整モーター」は、それぞれ、本願補正発明の「処理液」、「基板」、「基板処理装置」、「基板保持手段」、「ノズル」、「ポンプ」及び「モータ」に相当する。
　また、引用例１には、レジスト供給源が明示されていないが、フォトレジストをウェーハ上に塗布する半導体製造装置において、レジスト供給源を設けることは常用手段であるから、引用例１において、レジスト供給源は記載を省略されているにすぎず、引用発明において実質的にレジスト供給源を有していると認められる。
　また、引用発明は、「あらかじめ入力されたプログラムシーケンスにより、任意の吐出回数分に相当する量のレジストを計量器６に滴下」し、「レジスト吐出ノズル１をウェーハチャック２上に移動させて製品処理に入」る構成を有しており、ノズルからレジスト吐出させるプログラムを入力する手段、即ち入力手段を有し、当該プログラムは作業者が入力することが明らかであるから、引用発明は、本願補正発明の「ノズルからの処理液の吐出動作を制御する制御情報を作業者が入力するための入力手段」を有していると言える。
　
　そうすると両者は、
「処理液供給源から導かれる処理液を基板に供給して所定の処理を行う基板処理装置であって、
　基板を保持する基板保持手段と、
　前記基板保持手段に保持された基板に処理液を吐出するノズルと、
　前記処理液供給源の処理液を前記ノズルへ送り出すポンプと、
　前記ポンプを駆動するモータと、
　前記ノズルからの処理液の吐出動作を制御する制御情報を作業者が入力するための入力手段と、
　を備えた基板処理装置。」
において一致し、以下の点で相違する。
　
　相違点１
　本願補正発明が、「ポンプの特性に応じて制御情報を補正するための補正情報を作業者が入力するための入力手段」を有するのに対し、引用発明は、その旨の記載がない点。
　
　相違点２
　本願補正発明は、「入力手段により入力された制御情報および補正情報をライブラリとして格納する」のに対し、引用発明は、その旨の記載がない点。
　
　相違点３
　本願補正発明は、「制御情報を補正情報に基づいて補正し、補正後の制御情報に基づいてモータの動作を制御する制御手段」を有するのに対し、引用発明は、その旨の記載がない点。
　
（４）判断
　相違点１について検討する。
　引用発明は、滴下量が規格内になるように、吐出量調整モーター５に信号を送りレジスト吐出ポンプ４を自動的に動作させるものであるから、「ポンプの特性に応じて制御情報を補正する」ことを満たしており、ポンプの特性に応じて制御情報を補正することは、実質的な相違点ではない。
　そうすると、相違点１に係る本願補正発明と引用発明の相違は、本願補正発明では、「補正情報を作業者が入力する」のに対し、引用発明では、「補正情報を自動的に入力する」ことにすぎず、上記相違に係る構成は、当業者が容易に想到できたことである。
　
　相違点２について検討する。
　処理手段を制御するための制御情報及び補正情報を記憶・記録することは、半導体製造装置の技術分野において周知手段であるから、制御情報及び補正情報を「ライブラリとして格納する」程度のことは、当業者が容易に想到できたことにすぎない。
　
　相違点３について検討する。
　引用発明の、滴下量が規格内になるように、吐出量調整モーターに送る信号は、補正後の制御情報に相当し、それにより、吐出量調整モーターでポンプを動作させるものであるから、「制御情報を補正情報に基づいて補正し、補正後の制御情報に基づいてモータの動作を制御する」ことは、上記相違点１について検討したように、引用発明においても実質的に行っていることにすぎず、相違点３は、実質的な相違ではない。
　
　そして、本願補正発明の作用効果も、引用発明及び周知手段から当業者が予測できる範囲のものである。
　
　したがって、本願補正発明は、引用発明及び周知手段に基づいて当業者が容易に想到しえたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許出願の際独立して特許を受けることができないものである。
　
（５）むすび
　以上のとおり、本件補正は、特許法第１７条の２第５項で準用する同法第１２６条第５項の規定に違反するものであり、特許法第１５９条第１項で準用する特許法第５３条第１項の規定により却下されるべきものである。
　
３．本願発明について
　平成１７年１０月２１日付の手続補正は上記のとおり却下されたので、本願の請求項１に係る発明（以下、同項記載の発明を「本願発明」という。）は、平成１７年４月１４日付で補正された明細書の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される、以下のとおりのものである。
「【請求項１】処理液供給源から導かれる処理液を基板に供給して所定の処理を行う基板処理装置であって、
　基板を保持する基板保持手段と、
　前記基板保持手段に保持された基板に処理液を吐出するノズルと、
　前記処理液供給源の処理液を前記ノズルへ送り出すポンプと、
　前記ポンプを駆動するモータと、
　前記ノズルからの処理液の吐出動作を制御する制御情報および前記ポンプの特性に応じて前記制御情報を補正するための補正情報を入力する入力手段と、
　前記入力手段により入力された前記制御情報を前記補正情報に基づいて補正し、補正後の制御情報に基づいて前記モータの動作を制御する制御手段とを備えたことを特徴とする基板処理装置。」
（１）引用例
　原査定の拒絶の理由に引用された引用例１及びその記載事項は、前記「２．（２）」に記載したとおりである。
　
（２）対比・判断      
　本願発明は、前記２．で検討した本願補正発明の、「補正情報を作業者が入力するための入力手段」から、「補正情報を作業者が」の限定を省き、また、「制御情報および前記補正情報をライブラリとして格納するとともに、前記制御情報を前記補正情報に基づいて補正し」から、「制御情報および前記補正情報をライブラリとして格納する」の限定を省くものである。
　そうすると、本願発明の構成要件を全て含み、さらに他の構成要件を付加したものに相当する本願補正発明が、前記「２．（４）」に記載したとおり、引用発明及び周知手段に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本願発明も、同様の理由により、引用発明及び周知手段に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものである。
　
（３）むすび
　以上のとおり、本願発明は、引用発明及び周知手段に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
よって、結論のとおり審決する。