【事件の表示】
　特願２００１−　５５０７０「磁気ヘッド及びその製造方法とハード・ディスク・ドライブ」拒絶査定不服審判事件〔平成１３年１０月　５日出願公開、特開２００１−２７３６０７〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１　手続の経緯、本願発明
　本願は、平成１３年２月２８日（パリ条約による優先権主張２０００年３月６日、アメリカ合衆国）の出願であって、平成１６年５月１０日付けで拒絶査定がなされ、これに対し、平成１６年７月２１日に審判が請求されるとともに、平成１６年７月２１日付けで手続補正がなされたものである。
　平成１６年７月２１日付け手続補正は、補正前の請求項２、５、６、８、１０〜２４、２７、２８、３１〜３３、３５、３６を削除して項番号を繰り上げるものであるので、特許法第１７条の２第４項第１号に規定する特許請求の範囲の請求項の削除を目的とするものに該当する。
　本願の請求項１乃至１０に係る発明は、平成１６年７月２１日付け手続補正書により補正された明細書及び図面の記載からみて、それぞれ本願特許請求の範囲の請求項１乃至１０に記載された事項により特定されるとおりのものであるところ、その請求項１に記載された発明（以下、「本願発明」という。）は次のとおりである。
　「【請求項１】磁気ヘッドであって、
　第１の磁極層（２２０）と開口部が形成された第２の磁極層（２３０）とを有する二重層からなる第１の磁極（２０２）と、
　前記第２の磁極層（２３０）の一部に形成された書き込みギャップ層（２６８）と、
　前記書き込みギャップ層（２６８）上に形成された第２の磁極とを有し、さらに、
　前記第２の磁極は前記第２の磁極層（２３０）に形成された前記開口部を部分的に覆って形成された第２の磁極先端部（２４４）を有することを特徴とする磁気ヘッド。」
　
２　引用例
　原査定の拒絶の理由で引用された特開平１１−２８８５０３号公報（以下「引用例１」という。）には、「薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法」に関して次の事項が記載されている。（なお、下線は当審で付与した。）
　（ア）　「【請求項１】
基体と
この基体によって支持された第１の磁性層と
この第１の磁性層の、前記基体によって支持された面とは反対側の面に形成された凹部内に、この面と同一平面となるように埋め込まれた絶縁層と
これら第１の磁性層および絶縁層の平坦な面に沿って設けられたライトギャップ層と、このライトギャップ層の、前記基体とは反対側の面に沿って、前記第１の磁性層の、前記絶縁層が埋め込まれていない部分から絶縁層が埋め込まれている部分まで延在するように設けられた第２の磁性層と
前記ライトギャップ層の、前記基体とは反対側の面に沿って、絶縁分離された状態で配設された薄膜コイルと
前記第２の磁性層の、前記ライトギャップ層とは反対側の面の、エアベアリング面から後退した部分に連結されるとともにエアベアリング面から離れた後方位置において前記第１の磁性層と磁気的に結合された第３の磁性層と、を具える
薄膜磁気ヘッド
　（イ）　「【００２９】さらに、本発明による薄膜磁気ヘッドにおいては、第２の磁性層をエアベアリング面から離れた位置まで延在させているので、上述したように第３の磁性層の先端をエアベアリング面よりも後退させるにも拘らず、第２の磁性層と第３の磁性層との接触面積を大きくすることができる。
【００３０】さらに、このように第２の磁性層の後端をエアベアリング面から離しているにも拘らず、スロートハイト零の基準位置は、エアベアリング面に接近させることができるので、スロートハイトの短い磁極部分を正確に形成することができる。換言すれば、本発明では、ポールチップを構成する第２の磁性層をスロートハイト零の基準位置を越えて内方まで延在させることにより、スロートハイトの短い薄膜磁気ヘッドを正確に得ることができる。」
　（ウ）　「【００３９】次に、図１９に示すように、第１の磁性層２８の凸部２８ｂの上にあるライトギャップ層３０を選択的に除去した後、高磁束密度を有する磁性材料であるＮｉＦｅ（５０％，５０％）やＦｅＮより成る第２の磁性層３１を、２〜４μｍ の膜厚に形成する。（略）」
　
３　対比・判断
（１）対比
　本願発明と引用例１に記載された発明とを対比する。
　引用例１には、上記２（ア）に摘示した記載事項によれば、
　「基体と、
この基体によって支持された第１の磁性層と、
この第１の磁性層の、前記基体によって支持された面とは反対側の面に形成された凹部内に、この面と同一平面となるように埋め込まれた絶縁層と、
これら第１の磁性層および絶縁層の平坦な面に沿って設けられたライトギャップ層と、
このライトギャップ層の、前記基体とは反対側の面に沿って、前記第１の磁性層の、前記絶縁層が埋め込まれていない部分から絶縁層が埋め込まれている部分まで延在するように設けられた第２の磁性層と、
前記ライトギャップ層の、前記基体とは反対側の面に沿って、絶縁分離された状態で配設された薄膜コイルと、
前記第２の磁性層の、前記ライトギャップ層とは反対側の面の、エアベアリング面から後退した部分に連結されるとともにエアベアリング面から離れた後方位置において前記第１の磁性層と磁気的に結合された第３の磁性層と、を具える薄膜磁気ヘッド。」
の発明が記載されている。
　
　引用例１に記載された発明の「第１の磁性層」「ライトギャップ層」「薄膜磁気ヘッド」は、それぞれ本願発明の「第１の磁極」「書き込みギャップ層」「磁気ヘッド」に相当している。
　引用例１に記載された発明の「第２の磁性層」は、本願発明の「第２の磁極先端部」に相当している。
　引用例１に記載された発明の「第２の磁性層」及び「第３の磁性層」は、本願発明の「第２の磁極先端部」を有する「第２の磁極」に相当している。
　引用例１に記載された発明の「ライトギャップ層」は、「第１の磁性層および絶縁層の平坦な面に沿って設けられたライトギャップ層」であり、第１の磁性層の凸部２８ｂにはライトギャップ層が設けられていないから（上記（ウ）参照）、引用例１に記載された発明の「ライトギャップ層」は、第１の磁性層（本願発明の「第１の磁極」に相当。）の一部に形成されているといえる。
　引用例１に記載された発明において、「絶縁層」は、第１の磁性層に形成された凹部内に第１の磁性層の面と同一平面となるように埋め込まれたものであり、「第２の磁性層」は、ライトギャップ層の、基体とは反対側の面に沿って、第１の磁性層の、絶縁層が埋め込まれていない部分から絶縁層が埋め込まれている部分まで延在するように設けられたものであるから、引用例１に記載された発明の「第２の磁性層」（本願発明の「第２の磁極先端部」に相当。）は、ライトギャップ層（本願発明の「書き込みギャップ層」に相当。）上に形成され、かつ第１の磁性層（本願発明の「第１の磁極」に相当。）に形成された凹部を部分的に覆って形成されている構成を、備えている。
　本願発明において、「第２の磁極層」は、「第１の磁極」を構成する二重層の、書き込みギャップ層側の層であるから、「第２の磁極層の一部に形成された書き込みギャップ層」は、引用例１に記載された発明と、「第１の磁極の一部に形成された書き込みギャップ層」である点で共通している。
　してみると、本願発明と引用例１に記載された発明は、
　「磁気ヘッドであって、
　第１の磁極と、
　第１の磁極の一部に形成された書き込みギャップ層と、
　書き込みギャップ層上に形成された第２の磁極とを有し、さらに、
　第２の磁極は第２の磁極先端部を有する磁気ヘッド。」
である点で一致しており、以下の点で相違している。
　
　（相違点１）　本願発明では、「第１の磁極」は、「第１の磁極層と開口部が形成された第２の磁極層とを有する二重層からなる」と特定され、「第２の磁極先端部」は、「第２の磁極層に形成された開口部」を部分的に覆って形成されたと特定されているのに対し、引用例１に記載された発明では、「第１の磁極」は凹部を有し、「第２の磁極先端部」は、第１の磁極に形成された凹部を部分的に覆って形成されている点。
　なお、本願発明において、括弧付きで図面の符号が記載されているが、本願発明が図面の符号のもののみに限定されるものでないことは明らかであるから、本願発明と引用例１に記載された発明は、上記相違点１のみで相違している。
　
（２）相違点についての判断
　書き込みギャップ層を挟む第１及び第２の磁極を備える薄膜磁気ヘッドにおいて、磁極を二重の磁性層で形成することは常套手段であって、第１の磁極が凹部を有する構造であるとき、磁性層の上に部分的に磁性層を重ねることにより、凹部を有する構造を得ることは、周知の事項である。例えば、特開平９−２９３２１０号公報（図２、段落２６（厚い磁性膜をエッチングして凹部を形成したり、又は磁性膜を２層にわけてリフトオフ等の手法を用いることによりパターン形成して凹部を形成する旨）等参照。）、特開平６−３１４４１３号公報、特開平３−１００９１０号公報、特開平７−２２５９１７号公報（図５、図６、段落２７、２８（下部磁極端素子ＰＴ１ａと上部磁極端素子ＰＴ１ｂをそれぞれ独立した磁性体の薄層とする例、下部磁極層Ｐ１の磁極端構造体を単一の層とする例）等参照。）に記載されている。
　してみれば、引用例１に記載された発明の、第１の磁極が凹部を有する構造を、磁性層に、凹部の底部に相当する部分を開口部として部分的に磁性層を重ねて二重層とすることにより得ることは、上記周知の事項に基いて、当業者が容易に想到しうることである。
　そして、引用例１には、第２の磁極先端部が、凹部を部分的に覆う位置まで延在されていることの作用効果について、第３の磁性層の先端をエアベアリング面よりも後退させるにも拘らず、第２の磁性層（本願発明の「第２の磁極先端部」に相当。）と第３の磁性層との接触面積を大きくすることができること（上記（ウ）参照。）、ポールチップを構成する第２の磁性層をスロートハイト零の基準位置を越えて内方まで延在させることにより、スロートハイトの短い薄膜磁気ヘッドを正確に得ることができること（上記（ウ）参照。）が記載されている。これは、本願発明の作用効果として、請求人が請求の理由において主張しているところの、第２の磁極先端部の長さＫを増加させて第３の磁極層との良好な磁気的接続を提供する作用効果と同様のものである。また、引用例１には、第２の磁極先端部からの磁束漏れを抑制する作用効果について記載がないものの、引用例１の凹部により磁束漏れが減少されていることは、その構造自体から明らかであり、原審の拒絶の査定で引用された特開平１１−２１３３２９号公報（「下部磁性膜１２と後述上部第１磁性膜１７１との間での磁界の漏れを防止するために、下部磁性膜１２の中央部から後端側にわたって（略）降下面部１２ａを形成する」（段落２０）等参照。）からも明らかといえる。
　よって、本願発明の効果は、引用例１及び周知の事項に記載された発明から当業者であれば予測される範囲内であり、格別顕著なものではない。
　
４　むすび
　したがって、本願発明は、本願出願前に頒布された引用例１に記載された発明及び周知の事項に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。他の請求項を検討するまでもなく、本願は拒絶すべきものである。
　よって、結論のとおり審決する。