【事件の表示】
　平成　９年特許願第１８０７４３号「プラズマ処理装置の放電容器」拒絶査定不服審判事件〔平成１１年　１月２２日出願公開、特開平１１−　１６６９７〕について、次のとおり審決する。
【結　論】
　本件審判の請求は、成り立たない。
【理　由】
１．手続の経緯 
　本願は、平成９年６月２０日の出願であって、平成１８年５月２４日付けで拒絶査定がなされ、これに対して平成１８年６月２９日に審判請求がなされたものである。
　
２．本願発明
　本願の請求項１に係る発明は、平成１８年４月１３日付けの手続補正によって補正された明細書及び図面の記載からみて、特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される次のとおりのものと認める。（以下「本願発明」という。）
「誘電体の筒状電力導入窓と前記電力導入窓の一端を封じる導電性の電極とにより構成される放電容器と、この放電容器に接続され、連通される真空容器と、前記放電容器内でプラズマを発生するためのアンテナを備えたプラズマ生成機構と、前記真空容器の内部を減圧状態に保持するための排気機構と、前記真空容器内に反応ガスを導入するガス導入機構と、前記電極に対し所定間隔をあけ、前記放電容器の内部空間に接近させて前記真空容器内に設置される基板保持機構とを備えたプラズマ処理装置において、前記電極の放電容器内部側の表面形状は前記放電容器の内部に向かって突出した凸形状であり、かつ前記電極は所定電位に保持されることを特徴とするプラズマ処理装置の放電容器。」
　
３．引用刊行物に記載された発明
　原査定の拒絶の理由に引用された特開平７−２３０９８７号（以下「引用刊行物」という。）には、「放電プラズマ処理装置」の発明に関して以下の事項が記載されている。
＜記載事項１＞
「【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、プラズマを利用して、半導体或いは電子部品、その他の基板に対してエッチング、アッシング或いはプラズマＣＶＤ等の処理を行なう放電プラズマ処理装置に関するものである。」
＜記載事項２＞
「【０００２】
【従来の技術】プラズマ生成に誘電体隔壁を通して高周波電力を導入する、いわゆる、誘導結合放電方式は、従来からエッチング、プラズマＣＶＤ等に用いられてきた。添付図面の図３には誘導結合放電型のエッチング装置の一例を示し、Ａは真空チャンバーで、その内部には基板Ｂを装着する基板電極Ｃが配置され、この基板電極Ｃは高周波バイアス電源Ｄに接続されている。基板電極Ｃに対向した位置には対向電極Ｅが誘電体隔壁Ｆを介して取付けられている。誘電体隔壁ＦのまわりにはRFコイルＧが設けられている。図３に示すような従来の誘導結合放電型のエッチング装置では、基板が小さい場合には、処理速度の均一性はそれほど問題になっていなかった。しかしながら、最近、８インチウエハが用いられるようになってきたため誘導結合方式における処理均一性が問題となってきた。誘導結合方式によるエッチングでは、誘導結合によって生成されるプラズマの基板方向への拡散が利用され、プラズマ生成部と基板との距離が基板と真空チャンバー側壁との距離よりも長いと、均一プラズマを生成しても拡散過程でチャンバー側壁への拡散によるプラズマの損失が多くなり、基板表面でのプラズマ均一性が得られない。これを避けるため、プラズマ生成部を基板に近づけることが提案されてきたが、基板交換のための搬送機構が複雑になり、装置の信頼性を低下させる原因となるなどの別の問題が発生する。また、基板電極に印加する高周波バイアス電力をプラズマ生成のための高周波電力よりも高くして均一性をよくすることも提案されてきたが、この方法では誘導結合の利点を生かしきれないことになる。」
＜記載事項３＞
「【０００４】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するために、本発明によれば、誘電体隔壁を通して真空チャンバー内に高周波電力を導入してプラズマを生成させるアンテナを備え、被処理物を処理するために高周波バイアスを印加できる機構を備え、真空チャンバー内でプラズマを利用して被処理物を処理するようにした放電プラズマ処理装置において、被処理物の載置される高周波電力印加電極と対向して設けた対向電極を高周波電力印加電極に向って凸状に構成し、高周波電力印加電極と対向電極との距離を、被処理物の半径と凸状に構成した対向電極の半径との関係に基づいて設定したことを特徴としている。（略）」
＜記載事項４＞
「【０００６】
【実施例】図１には本発明をエッチング装置として実施した場合の一例を概略的に示し、１は真空チャンバー、２は真空チャンバー１内に配置された基板電極で、高周波電源３に接続されている。基板電極２には図示したようにエッチング処理すべき基板４が装着される。真空チャンバー１は排気口1aを介して図示してない排気系に連結される。また５は基板電極２に対向して位置した対向電極であり、この対向電極５は誘電体隔壁６を介して真空チャンバー１の壁に取付けられている。誘電体隔壁６の外周囲にはRFコイル７が設けられ、このRFコイル７は誘電体隔壁６を通して真空チャンバー１内に高周波電力を導入してプラズマを生成させるアンテナを構成している。対向電極５は基板電極２に向かってのびる円柱状の突起部5aを備え、この突起部5aの先端と基板４との距離L1は、基板４の半径ｒ1 と円柱状の突起部5aの半径ｒ2 との差（ｒ1 −ｒ2 ）に等しくなるように設定されている。」
＜記載事項５＞
「【０００７】このように構成した図示装置を用いてエッチングを行なった実験例について説明する。実験条件としては真空チャンバー１内にArガス0.067Pa を導入し、RFコイル７に誘導結合高周波電力 800Ｗ（13.56MHz）を印加し、基板電極２には高周波電力600Ｗ（13.56MHz）を印加した。（略）」
＜記載事項６＞
「【０００９】ところで、図示実施例では基板電極に対向して位置した対向電極として円柱状の突起部を備えたもの及び断面半楕円形状の突起部を備えたものが用いられているが、対向電極は、基板電極と対向電極との距離が基板の半径と対向電極の半径との差にほぼ等しくなるように凸状にすればよく、従ってその形状及び寸法については任意適当に選定することができる。（略）」
　
　そして、プラズマエッチング装置を示した図１によれば、以下の点を読み取ることができる。
（１）誘電体隔壁６の一端を閉じる対向電極５
（２）誘電体隔壁６と上記対向電極５とにより構成される容器
（３）この容器に接続され、連通される真空チャンバー１
（４）対向電極５に対し所定間隔をあけ、真空チャンバー１内に配置される　　　基板電極２
　
　また、「対向電極５は基板電極２に向かってのびる円柱状の突起部5aを備え」るので（記載事項４）、円柱状の突起部5aも対向電極５の一部といえる。
　さらに、「真空チャンバー１内にArガス0.067Pa を導入」（記載事項３）されるので、真空チャンバー１内にArガスを導入するガス導入機構を備えていることは、明らかである。
　
　したがって、上記記載事項１乃至６及び図面に基づけば、引用刊行物には、
「誘電体隔壁６と誘電体隔壁６の一端を閉じる対向電極５，５ａにより構成される容器と、この容器に接続され、連通される真空チャンバー１と、上記誘電体隔壁６を通して該真空チャンバー１内に高周波電力を導入してプラズマを生成させるアンテナを構成しているＲＦコイル７と、排気口１ａを介して真空チャンバー１に連結された排気系と、前記真空チャンバー１内にArガスを導入するガス導入機構と、対向電極５，５ａに対し所定間隔をあけ、真空チャンバー１内に配置される基板４が装着される基板電極２とを備えた放電プラズマ処理装置において、前記対向電極５，５ａを基板電極に向って凸状に構成した放電プラズマ処理装置。」の発明（以下「引用発明」という。）が記載されている。
　
４．対比
　本願発明と引用発明とを比較する。
（１）引用発明の「対向電極５，５ａ」は本願発明の「導電性の電極」に相当し、以下同様に、「真空チャンバー１」は「真空容器」に、「Arガス」は「反応ガス」に、「配置」は「設置」に、「基板４が装着される基板電極２」は「基板保持機構」に、それぞれ相当する。
（２）引用発明において「誘電体隔壁６を通して該真空チャンバー１内に高周波電力を導入して」いるので、引用発明の「誘電体隔壁６」と、本願発明の「誘電体の筒状電力導入窓」とは、誘電体の電力導入窓の点で共通する。
（３）引用発明の「容器」と、本願発明の「放電容器」とは、容器の点で共通する。
（４）引用発明の「アンテナを構成しているＲＦコイル７」がプラズマを生成させるので（記載事項４）、引用発明の対象である「放電プラズマ処理装置」は、本願発明でいう「プラズマ生成機構」を備えていることは明らかである。
（５）引用発明の「真空チャンバー１内に高周波電力を導入してプラズマを生成させる」と本願発明の「放電容器内でプラズマを発生する」とは、プラズマを生成させる点で共通する。
（６）引用発明の対象である「放電プラズマ処理装置」は本願発明の対象である「プラズマ処理装置の放電容器」に相当する。
　
　したがって、両者は、
「誘電体の電力導入窓と前記電力導入窓の一端を封じる導電性の電極とにより構成される容器と、この容器に接続され、連通される真空容器と、プラズマを発生するためのアンテナを備えたプラズマ生成機構と、前記真空容器の内部を減圧状態に保持するための排気機構と、前記真空容器内に反応ガスを導入するガス導入機構と、前記電極に対し所定間隔をあけて前記真空容器内に設置される基板保持機構とを備えたプラズマ処理装置の放電容器。」の点で一致し、以下の点で相違する。
[相違点１]
　誘電体の電力導入窓と前記電力導入窓の一端を封じる導電性の電極とにより構成される容器について、本願発明は、電力導入窓の形状が筒状であり、また、容器を放電容器と限定しているのに対して、引用発明は、かかる限定がされていない点。
[相違点２]
　アンテナが、本願発明は、放電容器内でプラズマを発生するためのものであるのに対して、引用発明は、真空チャンバー１内に高周波電力を導入してプラズマを生成させるためのものである点。
[相違点３]
　真空容器内に設置される基板保持機構が、本願発明は、放電容器の内部空間に接近させているのに対して、引用発明は、そのように限定されていない点。
[相違点４]
　本願発明は、電極の放電容器内部側の表面形状は放電容器の内部に向かって突出した凸形状であるのに対して、引用発明は、対向電極５，５ａを基板電極に向って凸状に構成した点。
[相違点５]
　電力導入窓の一端を封じる導電性の電極について、本願発明は、所定電位に保持されるのに対して、引用発明は、そのように限定されていない点。
　
５．当審の判断
　上記相違点について検討する。
　
（１）相違点２
　まず、相違点２から検討する。
　本願発明の実施例を図示した、本願の図１，２，４〜７，９，１０には、放電容器を構成する誘電体の電力導入窓の周りにアンテナを備えることが、それぞれ記載されている。
　一方、引用発明において、容器を構成する誘電体隔壁の外周囲にはＲＦコイル７（アンテナ）が設けられ、該容器はＡｒガス（反応ガス）が導入された真空チェンバー１（真空容器）に連通している。
　してみると、引用発明においても、ＲＦコイル７（アンテナ）からの高周波電力により、上記容器内で放電が生じ、プラズマが発生すると解される。
　　
　したがって、相違点２に係る本願発明の発明特定事項は、格別なものではない。
　
（２）相違点１
　誘電体の電力導入窓の形状を筒状とすることは、処理すべき基板の形状、電力導入窓の外周に設けられるアンテナの形状等に応じて適宜に決められる設計事項である。
　また、相違点２で検討したように、引用発明の容器内で放電が生じるので、引用発明の「容器」は放電容器といえる。
　
　したがって、相違点１に係る発明特定事項は格別なものではない。
　　
（３）相違点３
　相違点２で述べたように、引用発明の容器（放電容器）内でプラズマが発生すると解され、また、引用刊行物１には、プラズマ生成部と基板を近づける旨が記載されており（記載事項２）、真空チャンバー１真空容器）内に設置される基板電極２（基板保持機構）を本願発明のように、容器（放電容器）の内部空間に接近させる程度のことは、引用刊行物の記載に基づいて当業者が容易に想到し得たことである。
　
　したがって、相違点３に係る本願発明の発明特定事項は、引用刊行物の記載に基づいて当業者が容易に想到し得たことである。
　
（４）相違点４
　引用刊行物の図１，２によれば、対向電極５，５ａは、誘電体隔壁６の内部空間に設けられた円筒状あるいは断面半楕円形の突起部を電極の構成としており、対向電極５，５ａの誘電体隔壁６の内部側の表面形状は、誘電体隔壁６で構成される容器（放電容器）の内部に向かって突出した凸形状であることを読み取ることができる。
　
　したがって、相違点４に係る本願発明の発明特定事項は、格別なものではない。
　
（５）相違点５
　引用刊行物には、対向電極５，５ａの電位状態について記載されていないが、電極である以上、上記対向電極５，５ａの電位を所定の電位に保持することは、容易である。
　なお、上記所定の電位を、「接地電位」と限定し、上記電極の電位を接地電位に保持したとしても、その点は、引用刊行物に記載の放電プラズマによるプラズマ処理装置と同一であるプラズマ処理装置において、基板と対向する電極の電位をフローティング電位に保つことのみならず、接地電位に保つことは、従来周知の技術に過ぎない（特開平７−２６３１９２号公報、特開平８−３１１６６７号公報）。
　
　なお、請求人は、「引用文献１（本審決の「引用刊行物」）の凸状対向電極での関係は、フローティング状態の電極で成立するものである。このため、敢えてこの関係を変更して凸状電極を接地電極にしようとする考え方は、当業者にとって決して想起されない。何故なら、凸状対向電極を接地電極にすれば、上記の距離の関係に基づけばプラズマの密度の均一性が得られないからである。」（審判請求書に係る平成１８年９月２１日付け手続補正書（方式）の第４ページ第３９〜４４行）と主張する。
　しかし、請求項２においては、「前記所定電位は接地電位である」と記載されるものの、本願発明に係る請求項１には、「前記電極は所定電位に保持される」と記載されるにすぎず、請求人の主張は、本願発明に係る特許請求の範囲の請求項１の記載に基づくものではないので、採用できない。
　
　したがって、相違点５に係る本願発明の発明特定事項は、引用刊行物の記載に基づいて当業者が容易に想到し得ることである。
　
　そして、本願発明の効果は、引用刊行物の記載から当業者が予測し得る範囲内のものである。
　
　よって、本願発明は、引用刊行物に記載された発明に基づいて当業者が容易に想到し得たものである。
　
６．むすび
　以上のとおり、本本願発明は、引用刊行物に記載された発明に基づいて当業者が容易に想到し得たものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
　よって、結論のとおり審決する。