(57)【要約】  レーザ装置は、レーザビームを発生させるように構成された第一のレーザ共振器、第一の方向における前記レーザビームのダイバージェンスを調整するように構成された第一の光学素子、前記第一の方向に対して垂直な第二の方向における前記レーザビームのダイバージェンスを調整するように構成された第二の光学素子、前記第一の方向及び前記第二の方向における前記レーザビームのダイバージェンスを計測するように構成された計測装置、並びに、前記計測装置によって計測された前記第一の方向及び前記第二の方向における前記レーザビームのダイバージェンスに基づいて前記第一の光学素子及び前記第二の光学素子の少なくとも一方を制御するように構成された制御部を含む、レーザ装置であってもよい。
2015092855.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ装置であって、
レーザビームを発生させるように構成された第一のレーザ共振器、
第一の方向における前記レーザビームのダイバージェンスを調整するように構成された第一の光学素子、
前記第一の方向に対して垂直な第二の方向における前記レーザビームのダイバージェンスを調整するように構成された第二の光学素子、
前記第一の方向及び前記第二の方向における前記レーザビームのダイバージェンスを計測するように構成された計測装置、並びに、
前記計測装置によって計測された前記第一の方向及び前記第二の方向における前記レーザビームのダイバージェンスに基づいて前記第一の光学素子及び前記第二の光学素子の少なくとも一方を制御するように構成された制御部
を含む、レーザ装置。
【請求項２】
請求項１に記載のレーザ装置において、
前記レーザ装置は、さらに、前記レーザビームのポインティングを調整するように構成された第三の光学素子を含むと共に、
前記計測装置は、さらに、前記レーザビームのポインティングを計測するように構成されたものであると共に、
前記制御部は、さらに、前記計測装置によって計測された前記レーザビームのポインティングに基づいて前記第三の光学素子を制御するように構成されたものである、
レーザ装置。
【請求項３】
請求項２に記載のレーザ装置において、
前記レーザ装置は、さらに、前記レーザビームの位置を調整するように構成された第四の光学素子を含むと共に、
前記計測装置は、さらに、前記レーザビームの位置を計測するように構成されたものであると共に、
前記制御部は、さらに、前記計測装置によって計測された前記レーザビームの位置に基づいて前記第四の光学素子を制御するように構成されたものである、
レーザ装置。
【請求項４】
請求項１に記載のレーザ装置において、
前記レーザ装置は、さらに、前記レーザビームの出力を増幅させるように構成された第二の共振器及び前記レーザビームのパルスを伸長させるように構成された光学パルスストレッチャを含むと共に、
前記第二の共振器は、前記第一の光学素子を含むと共に、
前記光学パルスストレッチャは、前記第二の光学素子を含む、
レーザ装置。
【請求項５】
請求項１に記載のレーザ装置において、
前記レーザ装置は、さらに、前記レーザビームのパルスを伸長させるように構成された第一の光学パルスストレッチャ及び第二の光学パルスストレッチャを含むと共に、
前記第一の光学パルスストレッチャは、前記第一の光学素子を含むと共に、
前記第二の光学パルスストレッチャは、前記第二の光学素子を含む、
レーザ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、レーザ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、半導体露光装置（以下、「露光装置」という）においては、半導体集積回路の微細化および高集積化につれて、解像力の向上が要請されている。このため、露光用光源から放出される光の短波長化が進められている。一般的に、露光用光源には、従来の水銀ランプに代わってガスレーザ装置が用いられる。たとえば、露光用のガスレーザ装置としては、波長２４８ｎｍの紫外線のレーザ光を出力するＫｒＦエキシマレーザ装置、ならびに波長１９３ｎｍの紫外線のレーザ光を出力するＡｒＦエキシマレーザ装置が用いられる。【０００３】
次世代の露光技術としては、露光装置側の露光用レンズとウエハとの間が液体で満たされる液浸露光が実用化されている。この液浸露光では、露光用レンズとウエハとの間の屈折率が変化するため、露光用光源の見かけの波長が短波長化する。ＡｒＦエキシマレーザ装置を露光用光源として液浸露光が行われた場合、ウエハには水中における波長１３４ｎｍの紫外光が照射される。この技術をＡｒＦ液浸露光（又はＡｒＦ液浸リソグラフィー）という。【０００４】
ＫｒＦエキシマレーザ装置およびＡｒＦエキシマレーザ装置の自然発振幅は、約３５０〜４００ｐｍと広い。そのため、ＫｒＦ及びＡｒＦレーザ光のような紫外線を透過する材料で投影レンズを構成すると、色収差が発生してしまう場合がある。その結果、解像力が低下し得る。そこで、ガスレーザ装置から出力されるレーザ光のスペクトル線幅を、色収差が無視できる程度となるまで狭帯域化する必要がある。そのため、ガスレーザ装置のレーザ共振器内には、スペクトル線幅を狭帯域化するために、狭帯域化素子（エタロン、グレーティング等）を有する狭帯域化モジュール（Ｌｉｎｅ  Ｎａｒｒｏｗｉｎｇ  Ｍｏｄｕｌｅ：ＬＮＭ）が設けられる場合がある。以下では、スペクトル線幅が狭帯域化されるレーザ装置を狭帯域化レーザ装置という。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特許第４２９０００１号公報
【特許文献２】米国特許第６６９３９３９号
【特許文献３】特許第４８１８８７１号公報
【特許文献４】特許第５０９６０３５号公報
【特許文献５】特許第５１１１９３０号公報
【特許文献６】特許第５１７８０４７号公報
【概要】
【０００６】
レーザ装置は、レーザビームを発生させるように構成された第一のレーザ共振器、第一の方向における前記レーザビームのダイバージェンスを調整するように構成された第一の光学素子、前記第一の方向に対して垂直な第二の方向における前記レーザビームのダイバージェンスを調整するように構成された第二の光学素子、前記第一の方向及び前記第二の方向における前記レーザビームのダイバージェンスを計測するように構成された計測装置、並びに、前記計測装置によって計測された前記第一の方向及び前記第二の方向における前記レーザビームのダイバージェンスに基づいて前記第一の光学素子及び前記第二の光学素子の少なくとも一方を制御するように構成された制御部を含む、レーザ装置であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
本開示のいくつかの実施形態を、単なる例として、添付の図面を参照して以下に説明する。【０００８】
図において、実線の矢印は、信号の入力及び出力の少なくとも一つを意味する。図において、点線の矢印は、光の進行を意味する。
【図１】図１は、本開示の第一の実施形態に係るレーザ装置の構成の全体を例示する図である。
【図２Ａ】図２Ａは、本開示の第一の実施形態に係るレーザ装置に含まれたビーム特性計測装置の一部を例示する断面図である。
【図２Ｂ】図２Ｂは、本開示の第一の実施形態に係るレーザ装置に含まれたビーム特性計測装置の一部を例示する斜視図である。
【図３Ａ】図３Ａは、本開示の第一の実施形態に係るレーザ装置に含まれたビーム特性計測装置の一部を例示する断面図である。
【図３Ｂ】図３Ｂは、本開示の第一の実施形態に係るレーザ装置に含まれたビーム特性計測装置の一部を例示する斜視図である。
【図４Ａ】図４Ａは、本開示の第一の実施形態に係るレーザ装置に含まれたパワーオシレータ共振器におけるミラーの制御の動作を例示する図である。
【図４Ｂ】図４Ｂは、本開示の第一の実施形態に係るレーザ装置に含まれたパワーオシレータ共振器におけるミラーの制御の効果を例示する図である。
【図５Ａ】図５Ａは、本開示の第一の実施形態に係るレーザ装置に含まれた光学パルスストレッチャにおけるミラーの制御の動作を例示する図である。
【図５Ｂ】図５Ｂは、本開示の第一の実施形態に係るレーザ装置に含まれた光学パルスストレッチャにおけるミラーの制御の効果を例示する図である。
【図６】図６は、本開示の第一の実施形態に係るレーザ装置に含まれたパワーオシレータビームステアリングユニットにおけるミラーの制御を例示する図である。
【図７】図７は、本開示の第一の実施形態に係るレーザ装置を制御する方法のメインルーチンを例示する図である。
【図８】図８は、本開示の第一の実施形態に係るレーザ装置を制御する方法のサブルーチンを例示する図である。
【図９】図９は、本開示の第一の実施形態に係るレーザ装置を制御する方法のサブルーチンを例示する図である。
【図１０Ａ】図１０Ａは、本開示の第一の実施形態に係るレーザ装置を制御する方法のサブルーチンを例示する図である。
【図１０Ｂ】図１０Ｂは、本開示の第一の実施形態に係るレーザ装置におけるレーザビームのダイバージェンス及びポインティングを例示する図である。
【図１１Ａ】図１１Ａは、本開示の第一の実施形態に係るレーザ装置を制御する方法のサブルーチンを例示する図である。
【図１１Ｂ】図１１Ｂは、本開示の第一の実施形態に係るレーザ装置におけるレーザビームの位置を例示する図である。
【図１２】図１２は、本開示の第一の実施形態に係るレーザ装置を制御する方法のサブルーチンを例示する図である。
【図１３】図１３は、本開示の第一の実施形態に係るレーザ装置を制御する方法のサブルーチンを例示する図である。
【図１４】図１４は、本開示の第一の実施形態に係るレーザ装置を制御する方法のサブルーチンを例示する図である。
【図１５Ａ】図１５Ａは、本開示の第二の実施形態に係るレーザ装置に含まれた二つの光学パルスストレッチャにおけるミラーの制御の動作を例示する図である。
【図１５Ｂ】図１５Ｂは、本開示の第二の実施形態に係るレーザ装置に含まれた二つの光学パルスストレッチャにおけるミラーの制御の効果を例示する図である。
【図１６】図１６は、本開示の第三の実施形態に係るレーザ装置に含まれたパワーオシレータ共振器におけるミラーの制御の動作を例示する図である。
【図１７】図１７は、本開示の第四の実施形態に係るレーザ装置の構成の全体を例示する図である。
【図１８Ａ】図１８Ａは、本開示の第四の実施形態に係るレーザ装置に含まれたビームダイバージェンス制御部の第一の例を例示する上面図である。
【図１８Ｂ】図１８Ｂは、本開示の第四の実施形態に係るレーザ装置に含まれたビームダイバージェンス制御部の第一の例を例示する側面図である。
【図１９Ａ】図１９Ａは、本開示の第四の実施形態に係るレーザ装置に含まれたビームダイバージェンス制御部の第二の例を例示する上面図である。
【図１９Ｂ】図１９Ｂは、本開示の第四の実施形態に係るレーザ装置に含まれたビームダイバージェンス制御部の第二の例を例示する側面図である。
【図２０】図２０は、本開示の実施形態におけるアクチュエータ付きミラーホルダを例示する図である。
【図２１】図２１は、本開示の実施形態における制御部を例示する図である。
【実施形態】
【０００９】
内容
１．概要  
２．本開示の第一の実施形態に係るレーザ装置
２．１  レーザ装置の構成
２．２  レーザ装置の動作
２．３  レーザ装置に含まれたビーム特性計測装置
２．４  パワーオシレータ共振器におけるミラーの制御
２．５  光学パルスストレッチャにおけるミラーの制御
２．６  パワーオシレータビームステアリングユニットにおけるミラーの制御
２．７  ビーム特性の安定化のためのフローチャート
３．本開示の第二の実施形態に係るレーザ装置
４．本開示の第三の実施形態に係るレーザ装置
５．本開示の第四の実施形態に係るレーザ装置
６．その他
６．１  アクチュエータ付きミラーホルダ
６．２  制御部（コントローラ）
以下、本開示の実施形態について、図面を参照しながら詳しく説明する。以下に説明される実施形態は、本開示の一例を示すものであって、本開示の内容を限定するものではない。また、各実施形態で説明される構成及び動作の全てが本開示の構成及び動作として必須であるとは限らない。なお、同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。
【００１０】
１．概要  
本開示の実施形態は、レーザ装置に関するものであってもよい。本開示の実施形態は、レーザ装置から出力されるレーザビームの特性を所定の範囲内に安定化することが可能なレーザ装置に関するものであってもよい。レーザ装置から出力されるレーザビームの特性は、例えば、レーザビームのダイバージェンス（レーザビームの広がり角）、レーザビームのポインティング（レーザビームの進行方向）、レーザビームの位置（レーザビームの中心の位置）などであってもよい。
【００１１】
本開示の実施形態に係るレーザ装置は、露光用レーザ装置であってもよい。露光用レーザ装置は、半導体露光装置用のレーザ装置であってもよい。
【００１２】
本開示の実施形態に係るレーザ装置は、放電励起式ガスレーザ装置であってもよい。放電励起式ガスレーザ装置は、レーザ発振のために、チャンバの中に配置された一対の電極に所定の電圧を印加することによってチャンバに供給されるレーザガスを放電及び励起する装置であってもよい。レーザガスは、例えば、希ガス、ハロゲンガス、及びバッファガスの混合物であるエキシマレーザガスであってもよい。希ガスは、例えば、アルゴン（Ａｒ）ガス又はクリプトン（Ｋｒ）ガスであってもよい。ハロゲンガスは、例えば、フッ素（Ｆ２）ガスであってもよい。バッファガスは、例えば、ネオン（Ｎｅ）ガスであってもよい。
【００１３】
レーザ装置は、より長時間レーザビームの特性を所定の範囲内に安定化することが要求されることがあってもよい。例えば、ウエハを露光する露光装置の性能を安定化させるために、レーザ装置から出力されるレーザ光のビーム特性を所定の範囲内に安定化することが要求されることがあってもよい。
【００１４】
例えば、レーザ装置の停止からレーザ装置の高負荷運転への切り替えのときに、レーザビームの特性が変動することがあり得る。例えば、レーザ装置の低負荷運転からレーザ装置の高負荷運転への切り替えのときに、レーザビームの特性が変動することがあり得る。例えば、レーザ装置の高負荷運転からレーザ装置の低負荷運転への切り替えのときに、レーザビームの特性が変動することがあり得る。低負荷運転は、相対的に低い平均出力の運転（例えば、バースト運転のデューティ＝５〜２０％）を意味してもよい。高負荷運転は、相対的に高い平均出力の運転（例えば、バースト運転のデューティ＝６０〜１００％を意味してもよい。上述したようなレーザ装置の運転の切り替えのときに、例えば、レーザ装置から出力されるレーザビームのダイバーシェンス及びポインティングがそれぞれの許容範囲を超えることがあり得る。上述したようなレーザ装置の運転の切り替えのときに、例えば、レーザ装置から出力されるレーザビームのダイバーシェンス及びポインティングをそれぞれの許容範囲内に安定化することが要求されることがあってもよい。
【００１５】
本開示の一つの実施形態の目的は、レーザ装置から出力されるレーザビームの特性を所定の範囲内に安定化することが可能なレーザ装置を提供することであってもよい。
【００１６】
本開示の一つの実施形態に係るレーザ装置は、第一のレーザ共振器、第一の光学素子、第二の光学素子、計測装置、及び、制御部を含む、レーザ装置であってもよい。第一のレーザ共振器は、レーザビームを発生させるように構成されたものであってもよい。第一の光学素子は、第一の方向におけるレーザビームのダイバージェンスを調整するように構成されたものであってもよい。第二の光学素子は、第一の方向に対して垂直な第二の方向におけるレーザビームのダイバージェンスを調整するように構成されたものであってもよい。計測装置は、第一の方向及び第二の方向におけるレーザビームのダイバージェンスを計測するように構成されたものであってもよい。制御部は、計測装置によって計測された第一の方向及び第二の方向におけるレーザビームのダイバージェンスに基づいて第一の光学素子及び第二の光学素子の少なくとも一方を制御するように構成されたものであってもよい。
【００１７】
レーザ装置は、さらに、第三の光学素子を含む、レーザ装置であってもよい。第三の光学素子は、レーザビームのポインティングを調整することが可能なものであってもよい。計測装置は、さらに、レーザビームスのポインティングを計測するように構成されたものであってもよい。制御部は、さらに、計測装置によって計測されたレーザビームのポインティングに基づいて第三の光学素子を制御するように構成されたものであってもよい。
【００１８】
レーザ装置は、さらに、第四の光学素子を含む、レーザ装置であってもよい。第四の光学素子は、レーザビームの位置を調整することが可能なものであってもよい。計測装置は、さらに、レーザビームの位置を計測するように構成されたものであってもよい。制御部は、さらに、計測装置によって計測されたレーザビームの位置に基づいて第四の光学素子を制御するように構成されたものであってもよい。
【００１９】
本開示の一つの実施形態によれば、レーザ装置から出力されるレーザビームの特性を所定の範囲内に安定化することが可能なレーザ装置を提供することができてもよい。
【００２０】
例えば、レーザ装置は、計測装置によって計測された第一の方向及び第二の方向におけるレーザビームのダイバージェンスに基づいて第一の光学素子及び第二の光学素子の少なくとも一方を制御することで、レーザ装置から出力されるレーザビームのダイバージェンスを所定の範囲内に安定化することができてもよい。
【００２１】
例えば、レーザ装置は、計測装置によって計測されたレーザビームのポインティングに基づいて第三の光学素子を制御することで、レーザ装置から出力されるレーザビームのポインティングを所定の範囲内に安定化することができてもよい。
【００２２】
例えば、レーザ装置は、計測装置によって計測されたレーザビームの位置に基づいて第四の光学素子を制御することで、レーザ装置から出力されるレーザビームの位置を所定の範囲内に安定化することができてもよい。
【００２３】
２．本開示の第一の実施形態に係るレーザ装置
２．１  レーザ装置の構成
図１は、本開示の第一の実施形態に係るレーザ装置の構成の全体を例示する図である。
【００２４】
放電励起式ガスレーザ装置であるレーザ装置１０００は、半導体露光装置２０００と共に使用されてもよい。レーザ装置１０００から出力されたレーザビームは、半導体露光装置２０００へ入射してもよい。半導体露光装置２０００は、露光装置制御部２１００を含んでもよい。露光装置制御部２１００は、半導体露光装置２０００を制御するように構成されてもよい。
【００２５】
レーザ装置１０００は、マスタオシレータ（Ｍａｓｔｅｒ  Ｏｓｃｉｌｌａｔｏｒ：ＭＯ）１１００及びマスタオシレータビームステアリングユニット（ＭＯビームステアリングユニット）１２００を含んでもよい。レーザ装置１０００は、パワーオシレータ（Ｐｏｗｅｒ  Ｏｓｃｉｌｌａｔｏｒ：ＰＯ）１３００及びパワーオシレータビームステアリングユニット（ＰＯビームステアリングユニット）１４００を含んでもよい。レーザ装置１０００は、光学パルスストレッチャ（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｐｕｌｓｅ  Ｓｔｒｅｔｃｈｅｒ：ＯＰＳ）１５００、ビーム特性計測装置１６００、制御部１７００、及びシャッタ１８００を含んでもよい。
【００２６】
マスタオシレータ１１００は、狭体域化モジュール（Ｌｉｎｅ  Ｎａｒｒｏｗｉｎｇ  Ｍｏｄｕｌｅ：ＬＮＭ）１１１０、第一のチャンバ１１２０、及び第一の出力結合ミラー（Ｏｕｔｐｕｔ  Ｃｏｕｐｌｅｒ：ＯＣ）１１３０を含んでもよい。
【００２７】
狭帯域化モジュール１１１０は、スペクトル幅を狭帯域化するためのプリズムビームエキスパンダ１１１１及びグレーティング１１１２を含んでもよい。プリズムビームエキスパンダ１１１１及びグレーティング１１１２の配置は、レーザ光の入射角度及びレーザ光の回折角度が一致するように、リトロー配置であってもよい。
マスタオシレータ１１００は、固体レーザであってもよい。例えば、マスタオシレータ１１００は、狭帯域化されたチタンサファイヤレーザ及び非線形結晶の組み合わせにより構成されてもよい。
【００２８】
第一の出力結合ミラー１１３０は、部分反射ミラー（反射率２０％〜３０％）であってもよい。狭帯域化モジュール１１１０及び第一の出力結合ミラー１１３０は、共振器を構成するように配置されてもよい。第一のチャンバ１１２０は、共振器の光路上に配置されてもよい。
【００２９】
第一のチャンバ１１２０は、一対の放電電極１１２１ａ，１１２１ｂ、及び二枚のウィンドウ１１４０ａ，１１４０ｂを含んでもよい。一対の放電電極１１２１ａ，１１２１ｂは、互いに対向するように配置されてもよい。第一のチャンバ１１２０にはエキシマレーザガスが充填されていてもよい。エキシマレーザガスは、例えば、希ガス（Ａｒ又はＫｒガス）、ハロゲンガス（Ｆ２ガス）、及びバッファガス（Ｎｅガス）の混合物であってもよい。二枚のウィンドウ１１４０ａ，１１４０ｂは、レーザビームが透過するようなものであってもよい。
【００３０】
マスタオシレータビームステアリングユニット１２００は、第一の高反射ミラー１２１０及び第二の高反射ミラー１２２０を含んでもよい。第一の高反射ミラー１２１０及び第二の高反射ミラー１２２０は、マスタオシレータ１１００から出力されたレーザビームが、パワーオシレータ１３００に入射するように配置されてもよい。
【００３１】
パワーオシレータ１３００は、リアミラー１３１０、第二のチャンバ１３２０、及び第二の出力結合ミラー１３３０を含んでもよい。リアミラー１３１０及び第二の出力結合ミラー１３３０は、共振器を構成するように配置されてもよい。第二のチャンバ１３２０は、共振器の光路上に配置されてもよい。パワーオシレータ１３００は、リング型の共振器を含んでよい。
【００３２】
第二のチャンバ１３２０は、第一のチャンバ１１２１と同様に、一対の放電電極１３２１ａ，１３２１ｂ、及び二枚のウィンドウ１３４０ａ，１３４０ｂを含んでもよい。第二のチャンバ１３２０にはエキシマレーザガスが充填されていてもよい。
【００３３】
リアミラー１３１０は、部分反射ミラー（反射率８０％〜９０％）であってもよい。第二の出力結合ミラー１３３０は、部分反射ミラー（反射率２０％〜３０％）であってもよい。リアミラー１３１０は、リアミラー１３１０の姿勢角度を変化させることが可能なアクチュエータ付きミラーホルダに保持されてもよい。
【００３４】
パワーオシレータステアリングユニット１４００は、第三の高反射ミラー１４１０及び第四の高反射ミラー１４２０を含んでもよい。第三の高反射ミラー１４１０は、第三の高反射ミラー１４１０の姿勢角度を変化させることが可能なアクチュエータ付きミラーホルダに保持されてもよい。第四の高反射ミラー１４２０は、第四の高反射ミラー１４２０の姿勢角度を変化させることが可能なアクチュエータ付きミラーホルダに保持されてもよい。第三の高反射ミラー１４１０及び第四の高反射ミラー１４２０は、パワーオシレータ１４００から出力されたレーザビームが、光学パルスストレッチャ１５００に入射するように配置されてもよい。
【００３５】
光学パルスストレッチャ１５００は、ビームスプリッタ（反射率：約６０％）及び四枚の凹面高反射ミラーを含んでもよい。ビームスプリッタ及び四枚の凹面高反射ミラーは、ビームスプリッタから反射されたレーザビームが、四枚の凹面高反射ミラーによって反射された後にビームスプリッタに結像するように、配置されてもよい。四枚の凹面高反射ミラーのうち少なくとも一枚の凹面高反射ミラーは、姿勢角度を変化させることが可能なアクチュエータ付きミラーホルダに保持されてもよい。レーザ装置１０００は、複数の光学パルスストレッチャＳを含んでよい。
【００３６】
ビーム特性計測装置１６００は、レーザビームのダイバージェンス及びポインティングを計測するシステム並びにレーザビームのプロファイル及び位置を計測するシステムを含んでもよい。レーザビームのダイバージェンス及びポインティングを計測するシステムは、第一のビームスプリッタ１６１０、集光光学系１６２０、及び第一のイメージセンサ１６３０を含んでもよい。第一のイメージセンサ１６３０は、集光光学系１６２０の焦点の位置に配置されてもよい。レーザビームのプロファイル及び位置を計測するシステムは、第二のビームスプリッタ１６４０、転写光学系１６５０、及び第二のイメージセンサ１６６０を含んでもよい。第二のイメージセンサ１６６０は、転写光学系１６５０の焦点の位置に配置されてもよい。
【００３７】
２．２  レーザ装置の動作
制御部１７００は、半導体露光装置２０００へレーザビームの特性の異常を示す信号を通知すると共にシャッタ１８００を閉じてもよい。
【００３８】
制御部１７００は、マスタオシレータ１１００の図示しない電源を介して、所定の繰り返し周波数（例えば、１０００Ｈｚの繰り返し周波数）で、一対の放電電極１１２１ａ，１１２１ｂの間にパルス状の高電圧を印加してもよい。
【００３９】
制御部１７００は、パワーオシレータ１３００の図示しない電源を介して、所定の繰り返し周波数（例えば、１０００Ｈｚの繰り返し周波数）で、一対の放電電極１３２１ａ，１３２１ｂの間にパルス状の高電圧を印加してもよい。第一のチャンバ１１２０において放電を引き起こすとき、エキシマレーザガスが励起されてもよい。エキシマレーザガスが励起されるとき、狭帯域化モジュール１１１０及び第一の出力結合ミラー１１３０で構成される共振器によって、狭帯域化されたパルスレーザビームが第一の出力結合ミラー１１３０から出力されてもよい。
【００４０】
マスタオシレータ１１００から出力されたパルスレーザビームは、マスタオシレータビームステアリングユニット１２００によって、パワーオシレータ１３００のリアミラー１３１０に入射してもよい。
【００４１】
パルスレーザビームがリアミラー１３１０を透過した後、第二のチャンバ１３２０において放電を引き起こして、第二のチャンバ１３２０におけるレーザガスを励起してもよい。パルスレーザビームは、リアミラー１３１０及び第二の出力結合ミラー１３３０で構成されるファブリペロ型の共振器によって、増幅されてもよい。第二の出力結合ミラー１３３０から増幅されたパルスレーザビームが出力されてもよい。
【００４２】
第二の出力結合ミラー１３３０からから出力されたパルスレーザビームは、パワーオシレータステアリングユニット１４００を通過すると共に、光学パルスストレッチャ１５００に入射してもよい。パルスレーザビームのパルス幅は、光学パルスストレッチャ１５００によって、伸長されてもよい。
【００４３】
光学パルスストレッチャ１５００を通過したパルスレーザビームは、図示しないモニタモジュールを通過すると共に、ビーム特性計測装置１６００に入射してもよい。モニタモジュールは、パルスレーザビームのパルスエネルギ、スペクトル線幅、及び波長等を計測するように構成されてもよい。
【００４４】
ビーム特性計測装置１６００では、パルスレーザビームの一部が第一のビームスプリッタ１６１０によって反射され、集光光学系１６２０を通過し、第一のイメージセンサ１６３０に集束されてもよい。第一のイメージセンサ１６３０に集束されたパルスレーザビームからレーザビームのダイバージェンス及びポインティングを計測してもよい。ビーム特性計測装置１６００では、パルスレーザビームの一部が第二のビームスプリッタ１６４０によって反射され、転写光学系１６５０を通過し、第二のイメージセンサ１６６０に集束されてもよい。第二のイメージセンサ１６６０に集束されたパルスレーザビームからレーザビームのプロファイル及び位置を計測してもよい。
【００４５】
制御部１７００は、ビーム特性計測装置１６００によって計測されたレーザビームの特性に基づいて、パワーオシレータ１３００のリアミラー１３１０の姿勢角度を制御してもよい。制御部１７００は、ビーム特性計測装置１６００によって計測されたレーザビームの特性に基づいて、光学パルスストレッチャ１５００の凹面高反射ミラーの姿勢角度を制御してもよい。制御部１７００は、ビーム特性計測装置１６００によって計測されたレーザビームの特性に基づいて、パワーオシレータステアリングユニット１４００の第三の高反射ミラー１４１０及び第四の高反射ミラー１４２０の姿勢角度の少なくとも一つを制御してもよい。
【００４６】
（ａ）制御部１７００は、ビーム特性計測装置１６００によって計測された水平方向及び垂直方向におけるレーザビームのダイバージェンスに基づいて、パワーオシレータ１３００のリアミラー１３１０の姿勢角度を制御してもよい。パワーオシレータ１３００のリアミラー１３１０の姿勢角度は、レーザビームの目標のダイバージェンスが得られるように、制御されてもよい。制御部１７００は、ビーム特性計測装置１６００によって計測された水平方向及び垂直方向におけるレーザビームのダイバージェンスに基づいて、光学パルスストレッチャ１５００の凹面高反射ミラーの姿勢角度を制御してもよい。光学パルスストレッチャ１５００の凹面高反射ミラーの姿勢角度は、レーザビームの目標のダイバージェンスが得られるように、制御されてもよい。
【００４７】
（ｂ）制御部１７００は、ビーム特性計測装置１６００によって計測された水平方向及び垂直方向におけるレーザビームのポインティング及び位置に基づいて、パワーオシレータステアリングユニット１４００の第三の高反射ミラー１４１０及び第四の高反射ミラー１４２０の姿勢角度を制御してもよい。パワーオシレータステアリングユニット１４００の第三の高反射ミラー１４１０及び第四の高反射ミラー１４２０の姿勢角度は、レーザビームの目標のポインティング及び位置が得られるように制御されてもよい。
【００４８】
（ｃ）ビーム特性計測装置１６００によって計測されたレーザビームの特性がその許容範囲内になるまで、（ａ）及び（ｂ）の制御を繰り返してもよい。
【００４９】
（ｄ）制御部１７００は、ビーム特性計測装置１６００によって計測されたレーザビームの特性がその許容範囲内になったとき、上述したような調整発振を中止し、シャッタ１８００を開けてもよい。制御部１７００は、半導体露光装置２０００の露光装置制御部２１００へレーザビームの特性の承認を通知してもよい。
【００５０】
制御部１７００は、露光装置制御部２１００からレーザ発振のトリガを受信してもよい。
【００５１】
制御部１７００は、露光装置制御部２１００から受信したトリガに同期して、マスタオシレータ１１００の一対の放電電極１１２１ａ，１１２１ｂ及びパワーオシレータ１３００の一対の放電電極１３２１ａ，１３２１ｂに電圧を印加してもよい。マスタオシレータ１１００の第一のチャンバ１１２０及びパワーオシレータ１３００の第二のチャンバ１３２０に含まれるレーザガスの放電を引き起こしてもよい。レーザ装置１０００から所望の特性のレーザビームが出力されてもよい。
【００５２】
制御部１７００は、半導体露光装置２０００によるウエハの露光の間に、上述した（ａ）及び（ｂ）の制御を繰り返してもよい。半導体露光装置２０００によるウエハの露光の間においても、レーザビームの特性を安定化させることができてもよい。
【００５３】
ビーム特性計測装置１６００によって計測されたレーザビームの特性に基づいて、パワーオシレータ１３００のリアミラー１３１０の姿勢角度、光学パルスストレッチャ１５００の凹面高反射ミラーの姿勢角度、及び、パワーオシレータステアリングユニット１４００の第三の高反射ミラー１４１０及び第四の高反射ミラー１４２０の姿勢角度の少なくとも一つを制御することで、レーザ装置１０００から出力されるパルスレーザビームの特性を安定化させることができてもよい。
【００５４】
２．３  レーザ装置に含まれたビーム特性計測装置
図２Ａは、本開示の第一の実施形態に係るレーザ装置に含まれたビーム特性計測装置の一部を例示する断面図である。図２Ｂは、本開示の第一の実施形態に係るレーザ装置に含まれたビーム特性計測装置の一部を例示する斜視図である。
【００５５】
図２Ａ及び図２Ｂに例示するビーム特性計測装置１６００の一部は、レーザビームのダイバージェンス及びポインティングを計測するシステムであってもよい。光学パルスストレッチャ１５００から出力されたレーザビームの一部は、第一のビームスプリッタ１６１０によって反射され、集光光学系１６２０に入射してもよい。集光光学系１６２０は、例えば、単一のレンズ又は複数のレンズで構成されてもよい。集光光学系１６２０を透過したレーザビームは、集光光学系１６２０の焦点距離ｆの位置に配置された第一のイメージセンサ１６３０に集束されてもよい。第一のイメージセンサ１６３０は、二次元の電荷結合素子（Ｃｈａｒｇｅ  Ｃｏｕｐｌｅｄ  Ｄｅｖｉｃｅ：ＣＣＤ）であってもよい。集光光学系１６２０によって集束されたレーザビームのプロファイルを第一のイメージセンサ１６３０によって計測してもよい。第一のイメージセンサ１６３０によって計測されたレーザビームのプロファイルは、制御部１７００に送信されてもよい。
【００５６】
制御部１７００は、レーザビームのダイバージェンスθを、θ＝Ｗ／ｆの式によって計算してもよい。ｆは、集光光学系の焦点距離であってもよい。Ｗは、レーザビームのプロファイルの所定の高さにおけるレーザビームのプロファイルの幅であってもよい。例えば、Ｗは、レーザビームのプロファイルの高さの１／ｅ２の高さにおけるレーザビームのプロファイルの全幅であってもよい。
【００５７】
制御部１７００は、第一のイメージセンサ１６３０によって計測されたレーザビームのプロファイルの所定の高さにおけるレーザビームのプロファイルの幅Ｗからレーザビームのダイバージェンスθを計算してもよい。
【００５８】
一般に、放電励起式ガスレーザ装置であるレーザ装置１０００についての水平方向ＨにおけるレーザビームのダイバージェンスθＨ及び垂直方向ＶにおけるレーザビームのダイバージェンスθＶは、θＶ＞θＨの関係を満たしてもよい。垂直方向Ｖは、一対の放電電極１３２１ａ，１３２１ｂによって印加される電場の方向であってもよい。水平方向Ｈは、垂直方向Ｖ及びレーザビームの進行方向Ｚと垂直な方向であってもよい。制御部１７００は、第一のイメージセンサ１６３０によって計測されたレーザビームのプロファイルの所定の高さにおけるレーザビームのプロファイルの水平方向Ｈにおける幅から水平方向ＨにおけるレーザビームのダイバージェンスθＨを計算してもよい。制御部１７００は、第一のイメージセンサ１６３０によって計測されたレーザビームのプロファイルの所定の高さにおけるレーザビームのプロファイルの垂直方向Ｖにおける幅から垂直方向ＶにおけるレーザビームのダイバージェンスθＶを計算してもよい。
【００５９】
制御部１７００は、第一のイメージセンサ１６３０によって計測されたレーザビームのプロファイルの中心の位置からレーザビームのポインティング（レーザビームの進行方向）を計算してもよい。
【００６０】
図３Ａは、本開示の第一の実施形態に係るレーザ装置に含まれたビーム特性計測装置の一部を例示する断面図である。図３Ｂは、本開示の第一の実施形態に係るレーザ装置に含まれたビーム特性計測装置の一部を例示する斜視図である。
【００６１】
図３Ａ及び図３Ｂに例示するビーム特性計測装置１６００の一部は、レーザビームのプロファイル及び位置を計測するシステムであってもよい。光学パルスストレッチャ１５００から出力されたレーザビームの一部は、第二のビームスプリッタ１６４０によって反射され、転写光学系１６５０に入射してもよい。転写光学系１６５０は、例えば、複数のレンズで構成されてもよい。転写光学系１６５０を透過したレーザビームは、第二のイメージセンサ１６６０に転写されてもよい。転写光学系１６５０の構成及び第二のイメージセンサの配置は、レーザビームのプロファイルの倍率が所定の倍率Ｍになるように、決定されてもよい。第二のイメージセンサ１６６０は、二次元の電荷結合素子（Ｃｈａｒｇｅ  Ｃｏｕｐｌｅｄ  Ｄｅｖｉｃｅ：ＣＣＤ）であってもよい。転写光学系１６５０によって転写されたレーザビームのプロファイルを第二のイメージセンサ１６６０によって計測してもよい。第二のイメージセンサ１６６０によって計測されたレーザビームのプロファイルは、制御部１７００に送信されてもよい。
【００６２】
制御部１７００は、第二のイメージセンサ１６６０によって計測されたレーザビームのプロファイルの中心の位置からレーザビームの位置を計算してもよい。
【００６３】
制御部１７００は、第二のイメージセンサ１６６０によって計測されたレーザビームのプロファイルの水平方向Ｈにおける中心の位置から水平方向Ｈにおけるレーザビームの位置を計算してもよい。制御部１７００は、第二のイメージセンサ１６６０によって計測されたレーザビームのプロファイルの垂直方向Ｖにおける中心の位置から垂直方向Ｖにおけるレーザビームの位置を計算してもよい。垂直方向Ｖは、一対の放電電極１３２１ａ，１３２１ｂによって印加される電場の方向であってもよい。水平方向Ｈは、垂直方向Ｖ及びレーザビームの進行方向Ｚと垂直な方向であってもよい。
【００６４】
２．４  パワーオシレータ共振器におけるミラーの制御
図４Ａは、本開示の第一の実施形態に係るレーザ装置に含まれたパワーオシレータ共振器におけるミラーの制御の動作を例示する図である。図４Ｂは、本開示の第一の実施形態に係るレーザ装置に含まれたパワーオシレータ共振器におけるミラーの制御の効果を例示する図である。
【００６５】
図４Ａに例示されるパワーオシレータ１３００は、ファブリペロ型の共振器の構成を有してもよい。パワーオシレータ１３００は、リアミラー１３１０、放電電極及び二枚のウィンドウ１３４０ａ，１３４０ｂが設けられた第二のチャンバ１３２０、第二の出力結合ミラー１３３０を含んでもよい。リアミラー１３１０は、アクチュエータ付きホルダ１３１５によって保持されてもよい。アクチュエータ付きホルダ１３１５は、リアミラー１３１０の姿勢角度を変化させるように、制御部１７００によって制御されてもよい。
【００６６】
パワーオシレータ１３００におけるリアミラー１３１０及び第二の出力結合ミラー１３３０の少なくとも一つの姿勢角度を変化させることで、レーザビームのダイバージェンスを制御してもよい。例えば、パワーオシレータ１３００におけるリアミラー１３１０の姿勢角度を変化させることで、レーザビームのダイバージェンスを制御してもよい。
【００６７】
リアミラー１３１０は、共振器の光軸に対して僅かに傾斜するように配置されてもよい。パワーオシレータ１３００のリアミラー１３１０の姿勢角度を、リアミラー１３１０及び第二の出力結合ミラー１３３０の間におけるレーザビームの往復の回数に依存して、水平方向Ｈにおけるレーザビームの射出角が変化するように、配置してもよい。
【００６８】
パワーオシレータ１３００の共振器の光路長は、マスタオシレータ１１００のレーザビームの時間的コヒーレント長よりも大きくてもよい。
【００６９】
図４Ａに例示されるように、第二の高反射ミラー１２２０によって反射されたレーザビームは、パワーオシレータ１３００のリアミラー１３１０からウィンドウ１３４０ａを通過して、共振器の光軸に対して斜めに第二のチャンバ１３２０に入射してもよい。第二のチャンバ１３２０に入射するレーザビームは、より狭いスペクトル幅を有してもよい。レーザビームは、第二のチャンバ１３２０に設けられた放電電極間における放電によって増幅されてもよい。増幅されたレーザビームは、ウィンドウ１３４０ｂを透過してもよい。ウィンドウ１３４０ｂを透過したレーザビームの一部は、第二の出力結合ミラー１３３０を透過して、パワーオシレータ１３００から０．５回の往復のレーザビームとして出力されてもよい。反射角α１で第二の出力結合ミラー１３３０から反射されたレーザビームは、ウィンドウ１３４０ｂを透過して、第二のチャンバ１３２０内で増幅されてもよい。第二のチャンバ１３２０内で増幅されたレーザビームは、ウィンドウ１３４０ａを通過して、リアミラー１３１０に入射してもよい。
【００７０】
反射角β１でリアミラー１３１０から反射されたレーザビームは、ウィンドウ１３４０ａを通過し、第二のチャンバ１３２０内で増幅され、ウィンドウ１３４０ｂを通過し、第二の出力結合ミラー１３３０に入射してもよい。反射角α２で第二の出力結合ミラー１３３０から反射されたレーザビームは、ウィンドウ１３４０ｂを通過し、第二のチャンバ１３２０内で増幅され、ウィンドウ１３４０ａを通過し、リアミラー１３１０に入射してもよい。反射角β２でリアミラー１３１０から反射されたレーザビームは、ウィンドウ１３４０ａを通過し、第二のチャンバ１３２０内で増幅され、ウィンドウ１３４０ｂを通過し、第二の出力結合ミラー１３３０に入射してもよい。
【００７１】
リアミラー１３１０及び第二の出力結合ミラー１３３０からの反射されたレーザビームの反射角は、α１＞β１＞α２＞β２＞…の関係を有してもよい。
【００７２】
このように第二の出力結合ミラー１３３０の光軸に対して水平方向Ｈにおけるリアミラー１３１０の姿勢角度を変化させることで、レーザビームの往復毎に第二の出力結合ミラー１３３０から出力されるレーザビームの方向が変化してもよい。第二の出力結合ミラー１３３０から出力されるレーザビームのダイバージェンスを増加させることができてもよい。第二の出力結合ミラー１３３０を透過するレーザビーム及び第二の出力結合ミラー１３３０から反射された後にリアミラー１３１０から反射されて第二の出力結合ミラー１３３０を透過するレーザビームの干渉性は、抑制されてもよい。
【００７３】
図４Ｂに例示されるように、第二の出力結合ミラー１３３０を透過するレーザビームは、リアミラー１３１０及び第二の出力結合ミラー１３３０の間におけるレーザビームの往復に依存して、水平方向Ｈにおいて移動してもよい。水平方向Ｈにおいて移動する、第二の出力結合ミラー１３３０を透過するレーザビームが合成されたものは、水平方向Ｈにおいてより大きいダイバージェンスのレーザビームであってもよい。
【００７４】
このように水平方向Ｈにおいてリアミラー１３１０の姿勢角度を変化させることによって、水平方向Ｈにおけるレーザビームのダイバージェンスを増加させてもよい。
【００７５】
同様に、垂直方向Ｖにおいてリアミラー１３１０の姿勢角度を変化させることによって、垂直方向Ｖにおけるレーザビームのダイバージェンスを増加させてもよい。
【００７６】
同様に、第二の出力結合ミラー１３３０の光軸に対するリアミラー１３１０の姿勢角度を変化させる代わりに、リアミラー１３１０の光軸に対する第二の出力結合ミラー１３３０の姿勢角度を変化させてもよい。第二の出力結合ミラー１３３０から出力されるレーザビームの方向及び位置の変化を低減するためには、第二の出力結合ミラー１３３０の光軸に対するリアミラー１３１０の姿勢角度を変化させることが好ましくてもよい。
【００７７】
２．５  光学パルスストレッチャにおけるミラーの制御
図５Ａは、本開示の第一の実施形態に係るレーザ装置に含まれた光学パルスストレッチャにおけるミラーの制御の動作を例示する図である。図５Ｂは、本開示の第一の実施形態に係るレーザ装置に含まれた光学パルスストレッチャにおけるミラーの制御の効果を例示する図である。
【００７８】
図５Ａに例示される光学パルスストレッチャ１５００は、ビームスプリッタ１５１０及び四枚の凹面高反射ミラー１５２０，１５３０，１５４０，１５５０を含んでもよい。ビームスプリッタ１５１０は、ビームスプリッタホルダ１５１５に保持されてもよい。第一の凹面高反射ミラー１５２０は、第一のミラーホルダ１５２５に保持されてもよい。第二の凹面高反射ミラー１５３０は、第二のミラーホルダ１５３５に保持されてもよい。第三の凹面高反射ミラー１５４０は、第三のミラーホルダ１５４５に保持されてもよい。第四の凹面高反射ミラー１５５０は、アクチュエータ付きミラーホルダ１５５５に保持されてもよい。アクチュエータ付きミラーホルダ１５５５は、第四の凹面高反射ミラー１５５０の姿勢角度を変化させるように制御部１７００によって制御されてもよい。
【００７９】
第一の凹面高反射ミラー１５２０、第二の凹面高反射ミラー１５３０、第三の凹面高反射ミラー１５４０、及び第四の凹面高反射ミラー１５５０は、焦点距離Ｆの同一の凹面ミラーであってもよい。
【００８０】
ビームスプリッタ１５１０及び四枚の凹面高反射ミラー１５２０，１５３０，１５４０，１５５０は、ビームスプリッタ１５１０から反射されたレーザビームが、再度、ビームスプリッタ１５１０に入射するように配置されてもよい。第一の凹面高反射ミラー１５２０及び第二の凹面高反射ミラー１５３０は、ビームスプリッタ１５１０から反射されたレーザビームのプロファイルが、１の倍率で転写されるように、配置されてもよい。第三の凹面高反射ミラー１５４０及び第四の凹面高反射ミラー１５５０は、第二の凹面高反射ミラー１５２０から反射されたレーザビームのプロファイルが、ビームスプリッタ１５１０の位置で１の倍率で転写されるように、配置されてもよい。ビームスプリッタ１５１０及び四枚の凹面高反射ミラー１５２０，１５３０，１５４０，１５５０は、ビームスプリッタ１５１０から反射されたレーザビームのプロファイルが、ビームスプリッタ１５１０の位置で１の倍率で転写されるように、配置されてもよい（正転写型の光学パルスストレッチャ）。
【００８１】
図１に例示されるように、パワーオシレータ１３００から出力された増幅されたレーザビームは、パワーオシレータビームステアリングユニット１４００を通じて、光学パルスストレッチャ１５００に入射してもよい。光学パルスストレッチャ１５００に入射するレーザビームの一部は、ビームスプリッタ１５１０を透過すると共に、光学パルスストレッチャ１５００に入射するレーザビームの一部は、ビームスプリッタ１５１０によって反射されてもよい。ビームスプリッタ１５１０によって反射されたレーザビームは、第一の凹面高反射ミラー１５２０に入射してもよい。
【００８２】
第一の凹面高反射ミラー１５２０に入射したレーザビームは、第一の凹面高反射ミラー１５２０によって反射させられてもよい。第一の凹面高反射ミラー１５２０によって反射させられたレーザビームは、ビームスプリッタ１５１０におけるレーザビームの倒立像として集束させられてもよい。第一の凹面高反射ミラー１５２０によって反射させられたレーザビームは、第二の凹面高反射ミラー１５３０に入射してもよい。
【００８３】
第二の凹面高反射ミラー１５３０に入射したレーザビームは、第二の凹面高反射ミラー１５３０によって反射させられてもよい。第二の凹面高反射ミラー１５３０によって反射させられたレーザビームは、上述したレーザビームの倒立像の倒立像、すなわち、ビームスプリッタ１５１０におけるレーザビームの正立像として集束させられてもよい。第二の凹面高反射ミラー１５３０によって反射させられたレーザビームは、第三の凹面高反射ミラー１５４０に入射してもよい。
【００８４】
第三の凹面高反射ミラー１５４０に入射したレーザビームは、第三の凹面高反射ミラー１５４０によって反射させられてもよい。第三の凹面高反射ミラー１５４０によって反射させられたレーザビームは、上述したレーザビームの正立像の倒立像、すなわち、ビームスプリッタ１５１０におけるレーザビームの倒立像として集束させられてもよい。第三の凹面高反射ミラー１５４０によって反射させられたレーザビームは、第四の凹面高反射ミラー１５５０に入射してもよい。
【００８５】
第四の凹面高反射ミラー１５５０に入射したレーザビームは、第四の凹面高反射ミラー１５５０によって反射させられてもよい。第四の凹面高反射ミラー１５５０によって反射させられたレーザビームは、上述したレーザビームの倒立像の倒立像、すなわち、ビームスプリッタ１５１０におけるレーザビームの正立像として集束させられてもよい。第四の凹面高反射ミラー１５５０によって反射させられたレーザビームは、再度、ビームスプリッタ１５１０に入射してもよい。このように第四の凹面高反射ミラー１５５０によって反射させられたレーザビームは、ビームスプリッタ１５１０におけるレーザビームの正立像としてビームスプリッタ１５１０に入射してもよい。
【００８６】
ビームスプリッタ１５１０に再度入射した光の一部は、ビームスプリッタ１５１０によって反射させられ、光学パルスストレッチャ１５００から出力されてもよい。ビームスプリッタ１５１０に再度入射した光の一部は、ビームスプリッタ１５１０を透過して、四枚の高反射ミラー１５２０，１５３０，１５４０，１５５０を通じてビームスプリッタ１５１０に入射してもよい。
【００８７】
光学パルスストレッチャ１５００は、遅延回路としての四つの凹面高反射ミラー１５２０，１５３０，１５４０，１５５０を使用することで、ビームスプリッタ１５１０に入射するレーザビームの一部の出力を遅延させてもよい。それにより、光学パルスストレッチャ１５００は、ビームスプリッタ１５１０に入射するレーザビームの一部のパルス幅を伸長させてもよい。上述した遅延回路の光路長がレーザビームの時間的コヒーレント長よりも大きくてもよい。それにより、ビームスプリッタ１５１０を透過するレーザビームの一部及び遅延回路を通じてビームスプリッタ１５１０によって反射させられるレーザビームの干渉縞の発生は抑制されてもよい。
【００８８】
四つの凹面高反射ミラー１５２０，１５３０，１５４０，１５５０の少なくとも一つの姿勢角度を変化させることによって、遅延回路を通じて出力されるレーザビームの進行方向を変化させてもよい。光学パルスストレッチャ１５００において、遅延回路を通じて出力されるレーザビームの進行方向を変化させることによって、レーザ装置１０００から出力されるレーザビームのダイバージェンスを変化させてもよい。
【００８９】
例えば、図５Ａに例示されるように、光学パルスストレッチャ１５００から出力されるレーザビームが垂直方向Ｖにおいて移動するように、垂直方向Ｖにおいて第四の凹面高反射ミラー１５５０の姿勢角度を変化させてもよい。垂直方向Ｖにおいて第四の凹面高反射ミラー１５５０の姿勢角度を変化させることによって、例えば、図５Ｂに例示されるように、遅延回路を通じて光学パルスストレッチャ１５００から出力されるレーザビームは、垂直方向Ｖにおいて移動してもよい。垂直方向Ｖにおいて移動する、遅延回路を通じて光学パルスストレッチャ１５００から出力されるレーザビームが合成されたものは、垂直方向Ｖにおいてより大きいダイバージェンスのレーザビームであってもよい。このように垂直方向Ｖにおいて第四の凹面高反射ミラー１５５０の姿勢角度を変化させることによって、垂直方向Ｖにおけるレーザ装置１０００から出力されるレーザビームのダイバージェンスを増加させてもよい。
【００９０】
ビームスプリッタ１５１０によって反射させられたレーザビームの一部は、遅延回路を通じてビームスプリッタ１５１０から正立像として出力させられてもよい。遅延回路を通じて光学パルスストレッチャ１５００から出力されるレーザビームの正立像は、垂直方向Ｖにおいて移動してもよい。
【００９１】
垂直方向Ｖにおいて四つの凹面高反射ミラー１５２０，１５３０，１５４０，１５５０の少なくとも一つの姿勢角度を変化させることによって、垂直方向Ｖにおけるレーザビームのダイバージェンスを変化させてもよい。水平方向Ｈにおいて四つの凹面高反射ミラー１５２０，１５３０，１５４０，１５５０の少なくとも一つの姿勢角度を変化させることによって、水平方向Ｈにおけるレーザビームのダイバージェンスを変化させてもよい。
【００９２】
垂直方向Ｖにおいてビームスプリッタ１５１０の姿勢角度を変化させることによって、垂直方向Ｖにおけるレーザビームのダイバージェンスを変化させてもよい。水平方向Ｈにおいてビームスプリッタ１５１０の姿勢角度を変化させることによって、水平方向Ｈにおけるレーザビームのダイバージェンスを変化させてもよい。
【００９３】
２．６  パワーオシレータビームステアリングユニットにおけるミラーの制御
図６は、本開示の第一の実施形態に係るレーザ装置に含まれたパワーオシレータビームステアリングユニットにおけるミラーの制御を例示する図である。
【００９４】
図６に例示するパワーオシレータステアリングユニット１４００は、第三の高反射ミラー１４１０及び第四の高反射ミラー１４２０を含んでもよい。第三の高反射ミラー１４１０は、アクチュエータ付きミラーホルダ１４１５に保持されてもよい。第四の高反射ミラー１４２０は、アクチュエータ付きミラーホルダ１４２５に保持されてもよい。アクチュエータ付きミラーホルダ１４１５は、二軸（例えば、水平方向Ｈ及び垂直方向Ｖ）に関して第三の高反射ミラー１４１０の姿勢角度を変化させるものであってもよい。アクチュエータ付きミラーホルダ１４２５は、二軸（例えば、水平方向Ｈ及び垂直方向Ｖ）に関して第四の高反射ミラー１４２０の姿勢角度を変化させるものであってもよい。アクチュエータ付きミラーホルダ１４１５，１４２５は、制御部１７００によって制御されてもよい。
【００９５】
第三の高反射ミラー１４１０及び第四の高反射ミラー１４２０は、パワーオシレータ１３００から光学パルスストレッチャ１５００までのレーザビームの光路上に配置されてもよい。
【００９６】
制御部１７００は、第三の高反射ミラー１４１０及び第四の高反射ミラー１４２０の姿勢角度を変化させるように、アクチュエータ付きミラーホルダ１４１５，１４２５を制御してもよい。
【００９７】
二軸に関して第三の高反射ミラー１４１０及び第四の高反射ミラー１４２０の各々の姿勢角度を変化させることによって、レーザビームのポインティング（進行方向）及び位置（中心の位置）を変化させてもよい。
【００９８】
２．７  ビーム特性の安定化のためのフローチャート
図７は、本開示の第一の実施形態に係るレーザ装置を制御する方法のメインルーチンを例示する図である。
【００９９】
ステップＳ１０１０において、制御部１７００は、レーザ装置１０００から出力されるレーザビームの特性（ダイバージェンス、ポインティング、及び位置）の目標値及び許容範囲を取得するためのサブルーチンを実行してもよい。制御部１７００は、レーザビームの特性の目標値及び許容範囲のデータを露光装置制御部２１００から受信してもよい。制御部１７００は、レーザビームの特性の目標値及び許容範囲のデータを制御部１７００における図示されない記憶部から読み出しもよい。
【０１００】
パワーオシレータ１３００の共振器におけるリアミラー１３１０は、リアミラー１３１０の光軸が第二の出力結合ミラー１３３０の光軸と略一致するように、予め配置されてもよい。光学パルスストレッチャ１５００における第四の凹面高反射ミラー１５５０は、第四の凹面高反射ミラー１５５０の光軸の方向がビームスプリッタ１５１０に入射するレーザビームの進行方向と略直交するように、予め配置されてもよい。
【０１０１】
ステップＳ１０２０において、制御部１７００は、レーザビームの調整発振のために、露光装置制御部２１００にレーザビームの特性の不良を通知してもよい。
【０１０２】
ステップＳ１０３０において、制御部１７００は、レーザビームの調整発振においてレーザ装置１０００から露光装置２０００へレーザビームを出力することを予防するために、シャッタ１８００を閉じてもよい。
【０１０３】
ステップＳ１０４０において、制御部１７００は、レーザビームの特性を制御するためにレーザビームの調整発振を行ってもよい。制御部１７００は、レーザ装置１０００において、所定の繰り返し周波数（例えば、１０００Ｈｚ）及び所定の放電電圧でレーザ発振を行ってもよい。
【０１０４】
ステップＳ１０５０において、制御部１７００は、レーザビームの特性（ダイバージェンス、ポインティング、及び位置）を計測するためのサブルーチンを実行してもよい。
【０１０５】
ステップＳ１０６０において、制御部１７００は、水平方向Ｈにおけるレーザビームのダイバージェンスを制御するためのサブルーチンを実行してもよい。水平方向Ｈにおけるレーザビームのダイバージェンスが水平方向Ｈにおけるレーザビームのダイバージェンスの目標値に近づくように、制御部１７００は、例えば、パワーオシレータ１３００のリアミラー１３１０の姿勢角度を制御してもよい。
【０１０６】
ステップＳ１０７０において、制御部１７００は、垂直方向Ｖにおけるレーザビームのダイバージェンスを制御するためのサブルーチンを実行してもよい。垂直方向Ｖにおけるレーザビームのダイバージェンスが垂直方向Ｖにおけるレーザビームのダイバージェンスの目標値に近づくように、制御部１７００は、例えば、光学パルスストレッチャ１５００における第四の凹面高反射ミラー１５５０の姿勢角度を制御してもよい。
【０１０７】
ステップＳ１０８０において、制御部１７００は、レーザビームのポインティング及びレーザビームの位置を制御するためのサブルーチンを実行してもよい。レーザビームのポインティング及び位置が、それぞれ、レーザビームのポインティング及び位置の目標値に近づくように、制御部１７００は、例えば、パワーオシレータステアリングユニット１４００の第三の高反射ミラー１４１０及び第四の高反射ミラー１４２０の姿勢角度を制御してもよい。
【０１０８】
ステップＳ１１００において、制御部１７００は、レーザビームの特性を計測するためのサブルーチンを実行してもよい。
【０１０９】
ステップＳ１１１０において、制御部１７００は、計測されたレーザビームの特性（ダイバージェンス、ポインティング、及び位置）がレーザビームの特性の許容範囲内にあるか否かについて判断をしてもよい。計測されたレーザビームの特性がレーザビームの特性の許容範囲内にある場合には、制御部１７００は、ステップＳ１１２０に進んでもよい。計測されたレーザビームの特性がレーザビームの特性の許容範囲内にない場合には、制御部１７００は、ステップＳ１０２０に戻ってもよい。
【０１１０】
ステップＳ１１２０において、制御部１７００は、レーザ装置１０００から露光装置２０００へレーザビームを出力するために、露光装置制御部２１００にレーザビームの特性の承認を通知してもよい。
【０１１１】
ステップＳ１１３０において、制御部１７００は、レーザ装置１０００から露光装置２０００へレーザビームを出力するために、シャッタ１８００を開いてもよい。
【０１１２】
ステップＳ１１４０において、制御部１７００は、レーザビームの発振を行ってもよい。
【０１１３】
ステップＳ１１５０において、制御部１７００は、レーザビームの特性の制御を中止するか否かについて判断をしてもよい。制御部１７００が、レーザビームの特性の制御を中止する場合には、制御部１７００は、レーザ装置を制御する方法のメインルーチンを終了してもよい。制御部１７００が、レーザビームの特性の制御を中止しない場合には、制御部１７００は、ステップＳ１０５０に戻ってもよい。
【０１１４】
図８は、本開示の第一の実施形態に係るレーザ装置を制御する方法のサブルーチンを例示する図である。
【０１１５】
図８に例示するサブルーチンは、図７に例示するビームの特性の目標値及び許容範囲を取得するためのサブルーチン（Ｓ１０１０）である。
【０１１６】
ステップＳ１０１１において、制御部１７００は、レーザビームのダイバージェンスの許容範囲を取得してもよい。制御部１７００は、水平方向におけるレーザビームのダイバージェンスの許容範囲の最小値θＨｍｉｎ及び最大値θＨｍａｘを取得してもよい。制御部１７００は、垂直方向におけるレーザビームのダイバージェンスの許容範囲の最小値θＶｍｉｎ及び最大値θＶｍａｘを取得してもよい。
【０１１７】
ステップＳ１０１２において、制御部１７００は、レーザビームのダイバージェンスの目標値を計算してもよい。制御部１７００は、水平方向におけるレーザビームのダイバージェンスの目標値θＨｔを計算してもよい。水平方向におけるレーザビームのダイバージェンスの目標値θＨｔは、水平方向におけるレーザビームのダイバージェンスの許容範囲内の値であってもよい（θＨｍｉｎ≦θＨｔ≦θＨｍａｘ）。制御部１７００は、垂直方向におけるレーザビームのダイバージェンスの目標値θＶｔを計算してもよい。垂直方向におけるレーザビームのダイバージェンスの目標値θＶｔは、垂直方向におけるレーザビームのダイバージェンスの許容範囲内の値であってもよい（θＶｍｉｎ≦θＶｔ≦θＶｍａｘ）。水平方向におけるレーザビームのダイバージェンスの目標値θＨｔは、水平方向におけるレーザビームのダイバージェンスの許容範囲の最小値θＨｍｉｎ及び最大値θＨｍａｘの平均値（（θＨｍｉｎ＋θＨｍａｘ）／２）であってもよい。垂直方向におけるレーザビームのダイバージェンスの目標値θＶｔは、垂直方向におけるレーザビームのダイバージェンスの許容範囲の最小値θＶｍｉｎ及び最大値θＶｍａｘの平均値（（θＶｍｉｎ＋θＶｍａｘ）／２）であってもよい。
【０１１８】
ステップＳ１０１３において、制御部１７００は、レーザビームのポインティングの許容範囲を取得してもよい。制御部１７００は、水平方向におけるレーザビームのポインティングの許容範囲の最小値ＰｏＨｍｉｎ及び最大値ＰｏＨｍａｘを取得してもよい。制御部１７００は、垂直方向におけるレーザビームのポインティングの許容範囲の最小値ＰｏＶｍｉｎ及び最大値ＰｏＶｍａｘを取得してもよい。
【０１１９】
ステップＳ１０１４において、制御部１７００は、レーザビームのポインティングの目標値を計算してもよい。制御部１７００は、水平方向におけるレーザビームのポインティングの目標値ＰｏＨｔを計算してもよい。水平方向におけるレーザビームのポインティングの目標値ＰｏＨｔは、水平方向におけるレーザビームのポインティングの許容範囲内の値であってもよい（ＰｏＨｍｉｎ≦ＰｏＨｔ≦ＰｏＨｍａｘ）。制御部１７００は、垂直方向におけるレーザビームのポインティングの目標値ＰｏＶｔを計算してもよい。垂直方向におけるレーザビームのポインティングの目標値ＰｏＶｔは、垂直方向におけるレーザビームのポインティングの許容範囲内の値であってもよい（ＰｏＶｍｉｎ≦ＰｏＶｔ≦ＰｏＶｍａｘ）。水平方向におけるレーザビームのポインティングの目標値ＰｏＨｔは、水平方向におけるレーザビームのポインティングの許容範囲の最小値ＰｏＨｍｉｎ及び最大値ＰｏＨｍａｘの平均値（（ＰｏＨｍｉｎ＋ＰｏＨｍａｘ）／２）であってもよい。垂直方向におけるレーザビームのポインティングの目標値ＰｏＶｔは、垂直方向におけるレーザビームのポインティングの許容範囲の最小値ＰｏＶｍｉｎ及び最大値ＰｏＶｍａｘの平均値（（ＰｏＶｍｉｎ＋ＰｏＶｍａｘ）／２）であってもよい。
【０１２０】
ステップＳ１０１５において、制御部１７００は、レーザビームの位置の許容範囲を取得してもよい。制御部１７００は、水平方向におけるレーザビームの位置の許容範囲の最小値ＢｐＨｍｉｎ及び最大値ＢｐＨｍａｘを取得してもよい。制御部１７００は、垂直方向におけるレーザビームの位置の許容範囲の最小値ＢｐＶｍｉｎ及び最大値ＢｐＶｍａｘを取得してもよい。
【０１２１】
ステップＳ１０１６において、制御部１７００は、レーザビームの位置の目標値を計算してもよい。制御部１７００は、水平方向におけるレーザビームの位置の目標値ＢｐＨｔを計算してもよい。水平方向におけるレーザビームの位置の目標値ＢｐＨｔは、水平方向におけるレーザビームの位置の許容範囲内の値であってもよい（ＢｐＨｍｉｎ≦ＢｐＨｔ≦ＢｐＨｍａｘ）。制御部１７００は、垂直方向におけるレーザビームの位置の目標値ＢｐＶｔを計算してもよい。垂直方向におけるレーザビームの位置の目標値ＢｐＶｔは、垂直方向におけるレーザビームの位置の許容範囲内の値であってもよい（ＢｐＶｍｉｎ≦ＢｐＶｔ≦ＢｐＶｍａｘ）。水平方向におけるレーザビームの位置の目標値ＢｐＨｔは、水平方向におけるレーザビームの位置の許容範囲の最小値ＢｐＨｍｉｎ及び最大値ＢｐＨｍａｘの平均値（（ＢｐＨｍｉｎ＋ＢｐＨｍａｘ）／２）であってもよい。垂直方向におけるレーザビームの位置の目標値ＢｐＶｔは、垂直方向におけるレーザビームの位置の許容範囲の最小値ＢｐＶｍｉｎ及び最大値ＢｐＶｍａｘの平均値（（ＢｐＶｍｉｎ＋ＢｐＶｍａｘ）／２）であってもよい。
【０１２２】
図９は、本開示の第一の実施形態に係るレーザ装置を制御する方法のサブルーチンを例示する図である。
【０１２３】
図９に例示するサブルーチンは、図７及び図１４に例示するビームの特性を計測するためのサブルーチン（Ｓ１０５０、Ｓ１１００、Ｓ１０８４、及びＳ１０８９）である。
【０１２４】
ステップＳ１０５１において、制御部１７００は、レーザビームのダイバージェンス及びレーザビームのポインティングを計測するためのサブルーチンを実行してもよい。
【０１２５】
ステップＳ１０５６において、制御部１７００は、レーザビームの位置を計測するためのサブルーチンを実行してもよい。
【０１２６】
図１０Ａは、本開示の第一の実施形態に係るレーザ装置を制御する方法のサブルーチンを例示する図である。図１０Ｂは、本開示の第一の実施形態に係るレーザ装置におけるレーザビームのダイバージェンス及びポインティングを例示する図である。
【０１２７】
図１０Ａに例示するサブルーチンは、図９、図１２、及び図１３に例示するビームのダイバージェンス及びビームのポインティングを計測するためのサブルーチン（Ｓ１０５１、Ｓ１０６３、及びＳ１０７３）である。
【０１２８】
ステップＳ１０５２において、制御部１７００は、第一のイメージセンサ１６３０のピクセルにおけるレーザビームの強度のデータを読み出してもよい。制御部１７００は、第一のイメージセンサ１６３０のピクセルにおけるレーザビームの強度のデータに基づいて、第一のイメージセンサ１６３０におけるレーザビームの強度プロファイルを得てもよい。
【０１２９】
ステップＳ１０５３において、制御部１７００は、第一のイメージセンサ１６３０におけるレーザビームの強度プロファイルから、水平方向及び垂直方向におけるレーザビームの強度プロファイルの幅及び中心の位置を計算してもよい。
【０１３０】
水平方向におけるレーザビームの強度プロファイルの幅Ｗｈは、水平方向におけるレーザビームの強度プロファイルの所定の高さにおけるレーザビームの強度プロファイルの座標の間隔によって計算されてもよい。例えば、水平方向におけるレーザビームの強度プロファイルの幅Ｗｈは、水平方向におけるレーザビームの強度プロファイルのピークの高さの１／ｅ２（ｅ：自然対数の底）倍の高さにおけるレーザビームの強度プロファイルの座標の間隔（｜Ｈ２−Ｈ１｜）によって計算されてもよい。水平方向におけるレーザビームの強度プロファイルの所定の高さは、水平方向におけるレーザビームの強度プロファイルのピークの高さの５％以上１０％以下の高さであってもよい。
【０１３１】
垂直方向におけるレーザビームの強度プロファイルの幅Ｗｖは、垂直方向におけるレーザビームの強度プロファイルの所定の高さにおけるレーザビームの強度プロファイルの座標の間隔によって計算されてもよい。例えば、垂直方向におけるレーザビームの強度プロファイルの幅Ｗｖは、垂直方向におけるレーザビームの強度プロファイルのピークの高さの１／ｅ２（ｅ：自然対数の底）倍の高さにおけるレーザビームの強度プロファイルの座標の間隔（｜Ｖ２−Ｖ１｜）によって計算されてもよい。垂直方向におけるレーザビームの強度プロファイルの所定の高さは、垂直方向におけるレーザビームの強度プロファイルのピークの高さの５％以上１０％以下の高さであってもよい。
【０１３２】
水平方向におけるレーザビームの強度プロファイルの中心の位置Ｐｐｈは、水平方向におけるレーザビームの強度プロファイルの所定の高さにおけるレーザビームの強度プロファイルの座標の中心によって計算されてもよい。例えば、水平方向におけるレーザビームの強度プロファイルの中心の位置Ｐｐｈは、水平方向におけるレーザビームの強度プロファイルのピークの高さの１／ｅ２（ｅ：自然対数の底）倍の高さにおけるレーザビームの強度プロファイルの座標の中心（（Ｈ１＋Ｈ２）／２）によって計算されてもよい。水平方向におけるレーザビームの強度プロファイルの所定の高さは、水平方向におけるレーザビームの強度プロファイルのピークの高さの５％以上１０％以下の高さであってもよい。
【０１３３】
垂直方向におけるレーザビームの強度プロファイルの中心の位置Ｐｐｖは、垂直方向におけるレーザビームの強度プロファイルの所定の高さにおけるレーザビームの強度プロファイルの座標の中心によって計算されてもよい。例えば、垂直方向におけるレーザビームの強度プロファイルの中心の位置Ｐｐｖは、垂直方向におけるレーザビームの強度プロファイルのピークの高さの１／ｅ２（ｅ：自然対数の底）倍の高さにおけるレーザビームの強度プロファイルの座標の中心（（Ｖ１＋Ｖ２）／２）によって計算されてもよい。垂直方向におけるレーザビームの強度プロファイルの所定の高さは、垂直方向におけるレーザビームの強度プロファイルのピークの高さの５％以上１０％以下の高さであってもよい。
【０１３４】
ステップＳ１０５４において、制御部１７００は、水平方向及び垂直方向におけるレーザビームのダイバージェンス及びレーザビームのポインティングを計算してもよい。
【０１３５】
水平方向におけるレーザビームのダイバージェンスθＨは、水平方向におけるレーザビームの強度プロファイルの幅Ｗｈ及び集光光学系１６２０の焦点距離ｆに基づいて、θＨ＝Ｗｈ／ｆの式に従って計算されてもよい。
【０１３６】
垂直方向におけるレーザビームのダイバージェンスθＶは、垂直方向におけるレーザビームの強度プロファイルの幅Ｗｖ及び集光光学系１６２０の焦点距離ｆに基づいて、θＶ＝Ｗｖ／ｆの式に従って計算されてもよい。
【０１３７】
水平方向におけるレーザビームのポインティングＰｏＨは、水平方向におけるレーザビームの強度プロファイルの中心の位置Ｐｐｈ及び集光光学系１６２０の焦点距離ｆに基づいて、ＰｏＨ＝Ｐｐｈ／ｆの式に従って計算されてもよい。
【０１３８】
垂直方向におけるレーザビームのポインティングＰｏＶは、垂直方向におけるレーザビームの強度プロファイルの中心の位置Ｐｐｖ及び集光光学系１６２０の焦点距離ｆに基づいて、ＰｏＶ＝Ｐｐｖ／ｆの式に従って計算されてもよい。
【０１３９】
水平方向におけるレーザビームのポインティングＰｏＨは、水平方向におけるレーザビームの強度プロファイルの重心の位置及び集光光学系１６２０の焦点距離ｆに基づいて、計算されてもよい。
【０１４０】
垂直方向におけるレーザビームのポインティングＰｏＶは、垂直方向におけるレーザビームの強度プロファイルの重心の位置及び集光光学系１６２０の焦点距離ｆに基づいて、計算されてもよい。
【０１４１】
図１１Ａは、本開示の第一の実施形態に係るレーザ装置を制御する方法のサブルーチンを例示する図である。図１１Ｂは、本開示の第一の実施形態に係るレーザ装置におけるレーザビームの位置を例示する図である。
【０１４２】
図１１Ａに例示するサブルーチンは、図９に例示するビームの位置を計測するためのサブルーチン（Ｓ１０５６）である。
【０１４３】
ステップＳ１０５７において、制御部１７００は、第二のイメージセンサ１６６０のピクセルにおけるレーザビームの強度のデータを読み出してもよい。制御部１７００は、第二のイメージセンサ１６６０のピクセルにおけるレーザビームの強度のデータに基づいて、第二のイメージセンサ１６６０におけるレーザビームの強度プロファイルを得てもよい。
【０１４４】
ステップＳ１０５８において、制御部１７００は、第二のイメージセンサ１６６０におけるレーザビームの強度プロファイルから、水平方向及び垂直方向におけるレーザビームの中心の位置を計算してもよい。
【０１４５】
水平方向におけるレーザビームの強度プロファイルの中心の位置Ｂｐｈは、水平方向におけるレーザビームの強度プロファイルの所定の高さにおけるレーザビームの強度プロファイルの座標の中心によって計算されてもよい。例えば、水平方向におけるレーザビームの強度プロファイルの中心の位置Ｂｐｈは、水平方向におけるレーザビームの強度プロファイルのピークの高さの１／ｅ２（ｅ：自然対数の底）倍の高さにおけるレーザビームの強度プロファイルの座標の中心（（Ｈ１＋Ｈ２）／２）によって計算されてもよい。水平方向におけるレーザビームの強度プロファイルの所定の高さは、水平方向におけるレーザビームの強度プロファイルのピークの高さの５％以上１０％以下の高さであってもよい。
【０１４６】
垂直方向におけるレーザビームの強度プロファイルの中心の位置Ｂｐｖは、垂直方向におけるレーザビームの強度プロファイルの所定の高さにおけるレーザビームの強度プロファイルの座標の中心によって計算されてもよい。例えば、垂直方向におけるレーザビームの強度プロファイルの中心の位置Ｂｐｖは、垂直方向におけるレーザビームの強度プロファイルのピークの高さの１／ｅ２（ｅ：自然対数の底）倍の高さにおけるレーザビームの強度プロファイルの座標の中心（（Ｖ１＋Ｖ２）／２）によって計算されてもよい。垂直方向におけるレーザビームの強度プロファイルの所定の高さは、垂直方向におけるレーザビームの強度プロファイルのピークの高さの５％以上１０％以下の高さであってもよい。
【０１４７】
ステップＳ１０５９において、制御部１７００は、水平方向及び垂直方向におけるレーザビームの位置を計算してもよい。
【０１４８】
水平方向におけるレーザビームの位置ＢｐＨは、水平方向におけるレーザビームの強度プロファイルの中心の位置Ｂｐｈ及び転写光学系１６５０の倍率Ｍに基づいて、ＢｐＨ＝Ｂｐｈ／Ｍの式に従って計算されてもよい。
【０１４９】
垂直方向におけるレーザビームのポインティングＢｐＶは、垂直方向におけるレーザビームの強度プロファイルの中心の位置Ｂｐｖ及び転写光学系１６５０の倍率Ｍに基づいて、ＢｐＶ＝Ｂｐｖ／Ｍの式に従って計算されてもよい。
【０１５０】
水平方向におけるレーザビームの位置ＢｐＨは、水平方向におけるレーザビームの強度プロファイルの重心の位置及び転写光学系１６５０の倍率Ｍに基づいて、計算されてもよい。
【０１５１】
垂直方向におけるレーザビームのポインティングＢｐＶは、垂直方向におけるレーザビームの強度プロファイルの重心の位置及び転写光学系１６５０の倍率Ｍに基づいて、計算されてもよい。
【０１５２】
図１２は、本開示の第一の実施形態に係るレーザ装置を制御する方法のサブルーチンを例示する図である。
【０１５３】
図１２に例示するサブルーチンは、図７に例示する水平方向のビームのダイバージェンスを制御するためのサブルーチン（Ｓ１０６０）である。
【０１５４】
ステップＳ１０６１において、制御部１７００は、水平方向におけるレーザビームのダイバージェンスの目標値θＨｔに対する水平方向におけるレーザビームのダイバージェンスの計測値θＨの差ΔθＨを、ΔθＨ＝θＨ−θＨｔの式に従って計算してもよい。
【０１５５】
ステップＳ１０６２において、制御部１７００は、上述した差ΔθＨが０に近づくように、水平方向におけるレーザビームのダイバージェンスを変化させる反射ミラーの姿勢角度を制御してもよい。水平方向におけるレーザビームのダイバージェンスを変化させる反射ミラーは、例えば、図４Ａに例示されるように、パワーオシレータ１３００におけるリアミラー１３１０であってもよい。
【０１５６】
ステップＳ１０６３において、制御部１７００は、図９に例示されるような、レーザビームのダイバージェンス及びレーザビームのポインティングを計測するためのサブルーチン（Ｓ１０５１）を実行してもよい。
【０１５７】
ステップＳ１０６４において、制御部１７００は、水平方向におけるレーザビームのダイバージェンスの計測値θＨが、水平方向におけるレーザビームのダイバージェンスの許容範囲内にあるか否かについて、判断をしてもよい。制御部１７００は、水平方向におけるレーザビームのダイバージェンスの計測値θＨが、θＨｍｉｎ≦θＨ≦θＨｍａｘを満たすか否かについて、判断をしてもよい。θＨｍｉｎ及びθＨｍａｘは、それぞれ、水平方向におけるレーザビームのダイバージェンスの許容範囲の最小値及び最大値であってもよい。水平方向におけるレーザビームのダイバージェンスの計測値θＨが、θＨｍｉｎ≦θＨ≦θＨｍａｘを満たす場合には、制御部１７００は、メインルーチンに戻ってもよい。水平方向におけるレーザビームのダイバージェンスの計測値θＨが、θＨｍｉｎ≦θＨ≦θＨｍａｘを満たさない場合には、制御部１７００は、ステップＳ１０６１を戻ってもよい。
【０１５８】
図１３は、本開示の第一の実施形態に係るレーザ装置を制御する方法のサブルーチンを例示する図である。
【０１５９】
図１３に例示するサブルーチンは、図７に例示する垂直方向のビームのダイバージェンスを制御するためのサブルーチン（Ｓ１０７０）である。
【０１６０】
ステップＳ１０７１において、制御部１７００は、垂直方向におけるレーザビームのダイバージェンスの目標値θＶｔに対する垂直方向におけるレーザビームのダイバージェンスの計測値θＶの差ΔθＶを、ΔθＶ＝θＶ−θＶｔの式に従って計算してもよい。
【０１６１】
ステップＳ１０７２において、制御部１７００は、上述した差ΔθＶが０に近づくように、垂直方向におけるレーザビームのダイバージェンスを変化させる反射ミラーの姿勢角度を制御してもよい。垂直方向におけるレーザビームのダイバージェンスを変化させる反射ミラーは、例えば、図５Ａに例示されるように、光学パルスストレッチャ１５００における第四の凹面高反射ミラー１５５０であってもよい。
【０１６２】
ステップＳ１０７３において、制御部１７００は、図９に例示されるような、レーザビームのダイバージェンス及びレーザビームのポインティングを計測するためのサブルーチン（Ｓ１０５１）を実行してもよい。
【０１６３】
ステップＳ１０７４において、制御部１７００は、垂直方向におけるレーザビームのダイバージェンスの計測値θＶが、垂直方向におけるレーザビームのダイバージェンスの許容範囲内にあるか否かについて、判断をしてもよい。制御部１７００は、垂直方向におけるレーザビームのダイバージェンスの計測値θＶが、θＶｍｉｎ≦θＶ≦θＶｍａｘを満たすか否かについて、判断をしてもよい。θＶｍｉｎ及びθＶｍａｘは、それぞれ、水平方向におけるレーザビームのダイバージェンスの許容範囲の最小値及び最大値であってもよい。垂直方向におけるレーザビームのダイバージェンスの計測値θＶが、θＶｍｉｎ≦θＶ≦θＶｍａｘを満たす場合には、制御部１７００は、メインルーチンに戻ってもよい。垂直方向におけるレーザビームのダイバージェンスの計測値θＶが、θＶｍｉｎ≦θＶ≦θＶｍａｘを満たさない場合には、制御部１７００は、ステップＳ１０７１に戻ってもよい。
【０１６４】
図１４は、本開示の第一の実施形態に係るレーザ装置を制御する方法のサブルーチンを例示する図である。
【０１６５】
図１４に例示するサブルーチンは、図７に例示するビームのポインティング及びビームの位置を制御するためのサブルーチン（Ｓ１０８０）である。
【０１６６】
ステップＳ１０８１において、制御部１７００は、水平方向におけるレーザビームのポインティングの目標値ＰｏＨｔに対する水平方向におけるレーザビームのポインティングの計測値ＰｏＨの差ΔＰｏＨを、ΔＰｏＨ＝ＰｏＨ−ＰｏＨｔの式に従って計算してもよい。
【０１６７】
ステップＳ１０８２において、制御部１７００は、垂直方向におけるレーザビームのポインティングの目標値ＰｏＶｔに対する垂直方向におけるレーザビームのポインティングの計測値ＰｏＶの差ΔＰｏＶを、ΔＰｏＶ＝ＰｏＶ−ＰｏＶｔの式に従って計算してもよい。
【０１６８】
ステップＳ１０８３において、制御部１７００は、上述した差ΔＰｏＨ及びΔＰｏＶの両方が０に近づくように、水平方向及び垂直方向におけるレーザビームのポインティングを変化させる反射ミラーの姿勢角度を制御してもよい。水平方向及び垂直方向におけるレーザビームのポインティングを変化させる反射ミラーは、例えば、図６に例示されるように、パワーオシレータビームステアリングユニット１４００における第四の高反射ミラー１４２０であってもよい。
【０１６９】
ステップＳ１０８４において、制御部１７００は、図９に例示されるような、ビームの特性を計測するためのサブルーチン（Ｓ１０５１）を実行してもよい。
【０１７０】
ステップＳ１０８５において、制御部１７００は、水平方向及び垂直方向におけるレーザビームのポインティングの計測値ＰｏＨ及びＰｏＶが、水平方向及び垂直方向におけるレーザビームのポインティングの許容範囲内にあるか否かについて、判断をしてもよい。制御部１７００は、水平方向及び垂直方向におけるレーザビームのポインティングの計測値ＰｏＨ及びＰｏＶが、ＰｏＨｍｉｎ≦ＰｏＨ≦ＰｏＨｍａｘ及びＰｏＶｍｉｎ≦ＰｏＶ≦ＰｏＶｍａｘを満たすか否かについて、判断をしてもよい。ＰｏＨｍｉｎ及びＰｏＨｍａｘは、それぞれ、水平方向におけるレーザビームのポインティングの許容範囲の最小値及び最大値であってもよい。ＰｏＶｍｉｎ及びＰｏＶｍａｘは、それぞれ、垂直方向におけるレーザビームのポインティングの許容範囲の最小値及び最大値であってもよい。水平方向及び垂直方向におけるレーザビームのポインティングのＰｏＨ及びＰｏＶが、ＰｏＨｍｉｎ≦ＰｏＨ≦ＰｏＨｍａｘ及びＰｏＶｍｉｎ≦ＰｏＶ≦ＰｏＶｍａｘを満たす場合には、制御部１７００は、ステップ１０８６に進んでもよい。水平方向及び垂直方向におけるレーザビームのポインティングのＰｏＨ及びＰｏＶが、ＰｏＨｍｉｎ≦ＰｏＨ≦ＰｏＨｍａｘ及びＰｏＶｍｉｎ≦ＰｏＶ≦ＰｏＶｍａｘを満たさない場合には、制御部１７００は、ステップＳ１０８１に戻ってもよい。
【０１７１】
ステップＳ１０８６において、制御部１７００は、水平方向におけるレーザビームの位置の目標値ＢｐＨｔに対する水平方向におけるレーザビームの位置の計測値ＢｐＨの差ΔＢｐＨを、ΔＢｐＨ＝ＢｐＨ−ＢｐＨｔの式に従って計算してもよい。
【０１７２】
ステップＳ１０８７において、制御部１７００は、垂直方向におけるレーザビームの位置の目標値ＢｐＶｔに対する垂直方向におけるレーザビームの位置の計測値ＢｐＶの差ΔＢｐＶを、ΔＢｐＶ＝ＢｐＶ−ＢｐＶｔの式に従って計算してもよい。
【０１７３】
ステップＳ１０８８において、制御部１７００は、上述した差ΔＢｐＨ及びΔＢｐＶの両方が０に近づくように、水平方向及び垂直方向におけるレーザビームの位置を変化させる反射ミラーの姿勢角度を制御してもよい。水平方向及び垂直方向におけるレーザビームの位置を変化させる反射ミラーは、例えば、図６に例示されるように、パワーオシレータビームステアリングユニット１４００における第三の高反射ミラー１４１０であってもよい。
【０１７４】
ステップＳ１０８９において、制御部１７００は、図９に例示されるような、ビームの特性を計測するためのサブルーチン（Ｓ１０５１）を実行してもよい。
【０１７５】
ステップＳ１０９０において、制御部１７００は、水平方向及び垂直方向におけるレーザビームの位置の計測値ＢｐＨ及びＢｐＶが、水平方向及び垂直方向におけるレーザビームの位置の許容範囲内にあるか否かについて、判断をしてもよい。制御部１７００は、水平方向及び垂直方向におけるレーザビームの位置の計測値ＢｐＨ及びＢｐＶが、ＢｐＨｍｉｎ≦ＢｐＨ≦ＢｐＨｍａｘ及びＢｐＶｍｉｎ≦ＢｐＶ≦ＢｐＶｍａｘを満たすか否かについて、判断をしてもよい。ＢｐＨｍｉｎ及びＢｐＨｍａｘは、それぞれ、水平方向におけるレーザビームの位置の許容範囲の最小値及び最大値であってもよい。ＢｐＶｍｉｎ及びＢｐＶｍａｘは、それぞれ、垂直方向におけるレーザビームの位置の許容範囲の最小値及び最大値であってもよい。水平方向及び垂直方向におけるレーザビームの位置ＢｐＨ及びＢｐＶが、ＢｐＨｍｉｎ≦ＢｐＨ≦ＢｐＨｍａｘ及びＢｐＶｍｉｎ≦ＢｐＶ≦ＢｐＶｍａｘを満たす場合には、制御部１７００は、ステップ１０９１に進んでもよい。水平方向及び垂直方向におけるレーザビームの位置のＢｐＨ及びＢｐＶが、ＢｐＨｍｉｎ≦ＢｐＨ≦ＢｐＨｍａｘ及びＢｐＶｍｉｎ≦ＢｐＶ≦ＢｐＶｍａｘを満たさない場合には、制御部１７００は、ステップＳ１０８６に戻ってもよい。
【０１７６】
ステップＳ１０９１において、制御部１７００は、再度、水平方向及び垂直方向におけるレーザビームのポインティングの計測値ＰｏＨ及びＰｏＶが、水平方向及び垂直方向におけるレーザビームのポインティングの許容範囲内にあるか否かについて、判断をしてもよい。制御部１７００は、再度、水平方向及び垂直方向におけるレーザビームのポインティングの計測値ＰｏＨ及びＰｏＶが、ＰｏＨｍｉｎ≦ＰｏＨ≦ＰｏＨｍａｘ及びＰｏＶｍｉｎ≦ＰｏＶ≦ＰｏＶｍａｘを満たすか否かについて、判断をしてもよい。水平方向及び垂直方向におけるレーザビームのポインティングのＰｏＨ及びＰｏＶが、ＰｏＨｍｉｎ≦ＰｏＨ≦ＰｏＨｍａｘ及びＰｏＶｍｉｎ≦ＰｏＶ≦ＰｏＶｍａｘを満たす場合には、制御部１７００は、メインルーチンに戻ってもよい。水平方向及び垂直方向におけるレーザビームのポインティングのＰｏＨ及びＰｏＶが、ＰｏＨｍｉｎ≦ＰｏＨ≦ＰｏＨｍａｘ及びＰｏＶｍｉｎ≦ＰｏＶ≦ＰｏＶｍａｘを満たさない場合には、制御部１７００は、ステップＳ１０８１を繰り返してもよい。
【０１７７】
本開示の第一の実施形態は、水平方向及び垂直方向におけるレーザビームのダイバージェンスをパワーオシレータ１３００のリアミラー１３１０の姿勢角度及び光学パルスストレッチャ１５００の第四の凹面高反射ミラー１５５０の姿勢角度によって制御する例に限定されない。水平方向及び垂直方向におけるレーザビームのダイバージェンスは、それぞれ、光学パルスストレッチャ１５００に含まれる反射ミラーの姿勢角度及びパワーオシレータ１３００に含まれる反射ミラーの姿勢角度によって制御されてもよい。光学パルスストレッチャ１５００に含まれる反射ミラーは、例えば、第四の凹面高反射ミラー１５５０であってもよい。パワーオシレータ１３００に含まれる反射ミラーは、例えば、リアミラー１３１０であってもよい。
【０１７８】
３．本開示の第二の実施形態に係るレーザ装置
図１５Ａは、本開示の第二の実施形態に係るレーザ装置に含まれた二つの光学パルスストレッチャにおけるミラーの制御の動作を例示する図である。図１５Ｂは、本開示の第二の実施形態に係るレーザ装置に含まれた二つの光学パルスストレッチャにおけるミラーの制御の効果を例示する図である。
【０１７９】
本開示の第二の実施形態に係るレーザ装置は、本開示の第一の実施形態に係るレーザ装置１０００における一つの光学パルスストレッチャ１５００を図１５Ａに例示するような二つの光学パルスストレッチャ１４５０ａ，１４５０ｂに変更したようなものであってもよい。
【０１８０】
本開示の第二の実施形態に係るレーザ装置は、第一の光学パルスストレッチャ１４５０ａ及び第二の光学パルスストレッチャ１４５０ｂを含んでもよい。
【０１８１】
第一の光学パルスストレッチャ１４５０ａは、第一のビームスプリッタ１４５１、第一の凹面高反射ミラー１４５２、第二の凹面高反射ミラー１４５３、第三の凹面高反射ミラー１４５４、及び第四の凹面高反射ミラー１４５５を含んでもよい。第一の凹面高反射ミラー１４５２、第二の凹面高反射ミラー１４５３、第三の凹面高反射ミラー１４５４、及び第四の凹面高反射ミラー１４５５の少なくとも一つは、制御部１７００によって制御されるアクチュエータ付きミラーホルダに保持されてもよい。例えば、第一の凹面高反射ミラー１４５２、第二の凹面高反射ミラー１４５３、及び第三の凹面高反射ミラー１４５４が、ミラーホルダに保持される一方、第四の凹面高反射ミラー１４５５は、アクチュエータ付きミラーホルダに保持されてもよい。第四の凹面高反射ミラー１４５５を保持するアクチュエータ付きミラーホルダは、例えば、水平方向Ｈに第四の凹面高反射ミラー１４５５の姿勢角度を変化させるように、制御部１７００によって制御されてもよい。
【０１８２】
第二の光学パルスストレッチャ１４５０ｂは、第二のビームスプリッタ１４５６、第五の凹面高反射ミラー１４５７、第六の凹面高反射ミラー１４５８、第七の凹面高反射ミラー１４５９、及び第八の凹面高反射ミラー１４６０を含んでもよい。第五の凹面高反射ミラー１４５７、第六の凹面高反射ミラー１４５８、第七の凹面高反射ミラー１４５９、及び第八の凹面高反射ミラー１４６０の少なくとも一つは、制御部１７００によって制御されるアクチュエータ付きミラーホルダに保持されてもよい。例えば、第五の凹面高反射ミラー１４５７、第六の凹面高反射ミラー１４５８、及び第七の凹面高反射ミラー１４５９が、ミラーホルダに保持される一方、第八の凹面高反射ミラー１４６０は、アクチュエータ付きミラーホルダに保持されてもよい。第八の凹面高反射ミラー１４６０を保持するアクチュエータ付きミラーホルダは、例えば、垂直方向Ｖに第八の凹面高反射ミラー１４６０の姿勢角度を変化させるように、制御部１７００によって制御されてもよい。
【０１８３】
第一のビームスプリッタ１４５１に入射するレーザビームの一部は、第一のビームスプリッタ１４５１を透過してもよい。第一のビームスプリッタ１４５１に入射するレーザビームの一部は、第一のビームスプリッタ１４５１によって反射されてもよい。第一のビームスプリッタ１４５１によって反射されたレーザビームは、第一の凹面高反射ミラー１４５２、第二の凹面高反射ミラー１４５３、第三の凹面高反射ミラー１４５４、及び第四の凹面高反射ミラー１４５５によって反射されて第一のビームスプリッタ１４５１に再度入射してもよい。第一のビームスプリッタ１４５１に再度入射したレーザビームの一部は、第一の光学パルスストレッチャ１４５０ａから出力されると共に第二のビームスプリッタ１４５６に入射してもよい。制御部１７００は、水平方向Ｈに第四の凹面高反射ミラー１４５５の姿勢角度を変化させてもよい。水平方向における第一の光学パルスストレッチャ１４５０ａから出力されるレーザビームは、図１５Ａに例示するように、水平方向Ｈに第四の凹面高反射ミラー１４５５の姿勢角度を変化させることによって、水平方向に移動してもよい。
【０１８４】
第二のビームスプリッタ１４５６に入射するレーザビームの一部は、第二のビームスプリッタ１４５６を透過してもよい。第二のビームスプリッタ１４５６に入射するレーザビームの一部は、第二のビームスプリッタ１４５６によって反射されてもよい。第二のビームスプリッタ１４５６によって反射されたレーザビームは、第五の凹面高反射ミラー１４５７、第六の凹面高反射ミラー１４５８、第七の凹面高反射ミラー１４５９、及び第八の凹面高反射ミラー１４６０によって反射されて第二のビームスプリッタ１４５６に再度入射してもよい。第二のビームスプリッタ１４５６に再度入射したレーザビームの一部は、第二の光学パルスストレッチャ１４５０ｂから出力されてもよい。制御部１７００は、垂直方向Ｖに第八の凹面高反射ミラー１４６０の姿勢角度を変化させてもよい。垂直方向における第二の光学パルスストレッチャ１４５０ｂから出力されるレーザビームは、図１５Ａに例示するように、垂直方向Ｖに第八の凹面高反射ミラー１４６０の姿勢角度を変化させることによって、垂直方向に移動してもよい。
【０１８５】
図１５Ｂに例示するように、第二の光学パルスストレッチャ１４５０ｂから出力されるレーザビームの水平方向Ｈにおけるダイバージェンスは、図１５Ａに例示するように、水平方向Ｈに第四の凹面高反射ミラー１４５５の姿勢角度を変化させることによって、変化させられてもよい。図１５Ｂに例示するように、第二の光学パルスストレッチャ１４５０ｂから出力されるレーザビームの垂直方向Ｖにおけるダイバージェンスは、図１５Ａに例示するように、垂直方向Ｖに第八の凹面高反射ミラー１４６０の姿勢角度を変化させることによって、変化させられてもよい。
【０１８６】
本開示の第二の実施形態に係るレーザ装置においては、本開示の第一の実施形態に係るレーザ装置１０００におけるパワーオシレータ１３００に含まれるリアミラー１３１０は、アクチュエータ無しのミラーホルダに保持されてもよい。本開示の第二の実施形態に係るレーザ装置においては、リアミラー１３１０及び第二の出力結合ミラー１３３０の姿勢角度のいずれも制御することなく、水平方向及び垂直方向におけるレーザビームのダイバージェンスが制御されてもよい。
【０１８７】
本開示の第二の実施形態に係るレーザ装置において、光学パルスストレッチャの数は、三つ以上であってもよい。三つ以上の光学パルスストレッチャのうち二つの光学パルスストレッチャの各々に含まれる一つの凹面高反射ミラーをアクチュエータ付きミラーホルダによって保持してもよい。二つの光学パルスストレッチャに含まれるアクチュエータ付きミラーホルダによって保持された二つの凹面高反射ミラーの姿勢角度を変化させることで、例えば、水平方向及び垂直方向におけるレーザビームのダイバージェンスを制御してもよい。
【０１８８】
４．本開示の第三の実施形態に係るレーザ装置
図１６は、本開示の第三の実施形態に係るレーザ装置に含まれたパワーオシレータ共振器におけるミラーの制御の動作を例示する図である。
【０１８９】
本開示の第三の実施形態に係るレーザ装置は、図４Ａに例示されるようなファブリペロ型の共振器を有するパワーオシレータ１３００の代わりに、図１６に例示するようなリング型の共振器を有するパワーオシレータ１３０１を含んでもよい。
【０１９０】
パワーオシレータ１３０１は、第二のチャンバ１３２０、二つの放電電極１３２１ａ，１３２１ｂ、二つのウィンドウ１３４０ａ，１３４０ｂ、出力結合ミラー１３５０ａ、第五の高反射ミラー１３５１、第六の高反射ミラー１３５２、第七の高反射ミラー１３５３、及び第八の高反射ミラー１３５４を含んでもよい。出力結合ミラー１３５０ａの他方の表面には部分透過コート１３５０ｂが設けられてもよい。出力結合ミラー１３５０ａの一方の表面には反射防止コート１３５０ｃが設けられてもよい。部分透過コート１３５０ｂ及び反射防止コート１３５０ｃが設けられた出力結合ミラー１３５０ａは、出力結合ミラーホルダ１３６０によって保持されてもよい。第六の高反射ミラー１３５２は、制御部１７００によって制御されるアクチュエータ付きミラーホルダ１３６２によって保持されてもよい。第七の高反射ミラー１３５３は、ミラーホルダ１３６３に保持されてもよい。第八の高反射ミラー１３５４は、ミラーホルダ１３６４に保持されてもよい。部分透過コート１３５０ｂ及び反射防止コート１３５０ｃが設けられた出力結合ミラー１３５０ａ、第七の高反射ミラー１３５３、及び第八の高反射ミラー１３５４は、リング型共振器を構成してもよい。
【０１９１】
パワーオシレータ１３０１においては、第五の高反射ミラー１３５１に入射するレーザビームは、第五の高反射ミラー１３５１によって反射されてもよい。第五の高反射ミラー１３５１によって反射されたレーザビームは、反射防止コート１３５０ｃ、出力結合ミラー１３５０ａ、部分透過コート１３５０ｂを透過して第六の高反射ミラー１３５２に入射してもよい。第六の高反射ミラー１３５２に入射したレーザビームは、第六の高反射ミラー１３５２、第七の高反射ミラー１３５３、及び第八の高反射ミラー１３５４によって反射されてもよい。第八の高反射ミラー１３５４によって反射されたレーザビームは、ウィンドウ１３４０ｂ、第二のチャンバ１３２０、及びウィンドウ１３４０ａを通過すると共に増幅されてもよい。増幅されたレーザビームの一部は、部分透過コート１３５０ｂ及び反射防止コート１３５０ｃが設けられた出力結合ミラー１３５０ａを透過してパワーオシレータ１３０１から出力されてもよい。
【０１９２】
パワーオシレータ１３０１から出力されるレーザビームは、例えば、図１６に例示されるように、水平方向Ｈに第六の高反射ミラー１３５２の姿勢角度を変化させることによって、水平方向Ｈに移動させられてもよい。パワーオシレータ１３０１から出力されるレーザビームのダイバージェンスは、例えば、水平方向Ｈに第六の高反射ミラー１３５２の姿勢角度を変化させることによって、水平方向Ｈに変化させられてもよい。
【０１９３】
パワーオシレータ１３０１から出力されるレーザビームは、例えば、垂直方向Ｖに第六の高反射ミラー１３５２の姿勢角度を変化させることによって、垂直方向Ｖに移動させられてもよい。パワーオシレータ１３０１から出力されるレーザビームのダイバージェンスは、例えば、垂直方向Ｖに第六の高反射ミラー１３５２の姿勢角度を変化させることによって、垂直方向Ｖに変化させられてもよい。
【０１９４】
パワーオシレータ１３０１におけるリング共振器を構成する反射ミラーの少なくとも一つをアクチュエータ付きミラーホルダによって保持すると共に反射ミラーの少なくとも一つの姿勢角度を変化させてもよい。本開示の第三の実施形態に係るレーザ装置においては、第六の高反射ミラー１３５２に代えて、第七の高反射ミラー１３５３及び第八の高反射ミラー１３５４の一つをアクチュエータ付きミラーホルダによって保持すると共にそれの姿勢角度を変化させてもよい。本開示の第三の実施形態に係るレーザ装置においては、第六の高反射ミラー１３５２、第七の高反射ミラー１３５３、及び第八の高反射ミラー１３５４の二つ以上をアクチュエータ付きミラーホルダによって保持すると共にそれの姿勢角度を変化させてもよい。
【０１９５】
５．本開示の第四の実施形態に係るレーザ装置
図１７は、本開示の第四の実施形態に係るレーザ装置の構成の全体を例示する図である。図１に例示するレーザ装置の構成要素と同一の又は同様の図１７に例示するレーザ装置の構成要素には同一の参照符号を付与すると共にその構成要素についての記述を省略することにする。
【０１９６】
図１７に例示される本開示の第四の実施形態に係るレーザ装置１００１は、ビームダイバージェンス制御部１９００を含んでもよい。ビームダイバージェンス制御部１９００は、レーザ装置１００１から出力されるレーザビームのダイバージェンスを制御するように構成されたものでもよい。例えば、ビームダイバージェンス制御部１９００は、水平方向Ｈ及び垂直方向Ｖにおけるレーザ装置１００１から出力されるレーザビームのダイバージェンスを制御するように構成されたものでもよい。
【０１９７】
ビームダイバージェンス制御部１９００は、マスタオシレータ１１００及びパワーオシレータ１３００の間の光路上に設けられてもよい。例えば、ビームダイバージェンス制御部１９００は、マスタオシレータ１１００に含まれる第一の出力結合ミラー１１３０及びマスタオシレータビームステアリングユニット１２００に含まれる第一の高反射ミラー１２１０の間に設けられてもよい。
【０１９８】
レーザ装置１００１においては、パワーオシレータ１３００に含まれるリアミラー１３１０は、アクチュエータ無しのミラーホルダに保持されてもよい。レーザ装置１００１においては、リアミラー１３１０及び第二の出力結合ミラー１３３０の姿勢角度のいずれも制御することなく、ビームダイバージェンス制御部１９００によってレーザビームのダイバージェンスが制御されてもよい。
【０１９９】
レーザ装置１００１においては、光学パルスストレッチャ１５００に含まれる第四の凹面高反射ミラー１５５０は、アクチュエータ無しのミラーホルダに保持されてもよい。レーザ装置１００１においては、光学パルスストレッチャ１５００に含まれる四つの凹面高反射ミラーの姿勢角度のいずれも制御することなく、ビームダイバージェンス制御部１９００によってレーザビームのダイバージェンスが制御されてもよい。
【０２００】
図１８Ａは、本開示の第四の実施形態に係るレーザ装置に含まれたビームダイバージェンス制御部の第一の例を例示する上面図である。図１８Ｂは、本開示の第四の実施形態に係るレーザ装置に含まれたビームダイバージェンス制御部の第一の例を例示する側面図である。
【０２０１】
図１８Ａ及び図１８Ｂに例示されるビームダイバージェンス制御部１９０１は、水平方向Ｈ及び垂直方向Ｖにおけるレーザビームのダイバージェンスを制御するように、制御部１７００によって制御されてもよい。
【０２０２】
ビームダイバージェンス制御部１９０１は、第一のシリンドリカル凹レンズ１９１１、第一のシリンドリカル凸レンズ１９１２、第二のシリンドリカル凹レンズ１９１３、及び第二のシリンドリカル凸レンズ１９１４を含んでもよい。ビームダイバージェンス制御部１９０１は、第一の自動マイクロメータ１９２３を備えた第一のリニアステージ１９２１及び第二の自動マイクロメータ１９２４を備えた第二のリニアステージ１９２２を含んでもよい。第一の自動マイクロメータ１９２３及び第二の自動マイクロメータ１９２４は、制御部１７００によって制御されてもよい。
【０２０３】
第一のシリンドリカル凹レンズ１９１１、第一のシリンドリカル凸レンズ１９１２、第二のシリンドリカル凹レンズ１９１３、及び第二のシリンドリカル凸レンズ１９１４は、順にレーザビームの光路上に配置されてもよい。
【０２０４】
第一のシリンドリカル凹レンズ１９１１のラインフォーカスの方向及び第一のシリンドリカル凸レンズ１９１２のラインフォーカスの方向は、相互に略同一であってもよい。第一のシリンドリカル凹レンズ１９１１のラインフォーカスの方向及び第一のシリンドリカル凸レンズ１９１２のラインフォーカスの方向は、水平方向Ｈと略同一であってもよい。
【０２０５】
第二のシリンドリカル凹レンズ１９１３のラインフォーカスの方向及び第二のシリンドリカル凸レンズ１９１４のラインフォーカスの方向は、相互に略同一であってもよい。第二のシリンドリカル凹レンズ１９１３のラインフォーカスの方向及び第二のシリンドリカル凸レンズ１９１４のラインフォーカスの方向は、垂直方向Ｖと略同一であってもよい。
【０２０６】
第一のシリンドリカル凸レンズ１９１２は、第一の自動マイクロメータ１９２３を備えた第一のリニアステージ１９２１に配置されてもよい。レーザビームの進行方向Ｚにおける第一のシリンドリカル凹レンズ１９１１及び第一のシリンドリカル凸レンズ１９１２の間の間隔は、第一の自動マイクロメータ１９２３を備えた第一のリニアステージ１９２１によって調整されてもよい。
【０２０７】
第二のシリンドリカル凸レンズ１９１４は、第二の自動マイクロメータ１９２４を備えた第二のリニアステージ１９２２に配置されてもよい。レーザビームの進行方向Ｚにおける第二のシリンドリカル凹レンズ１９１３及び第二のシリンドリカル凸レンズ１９１４の間の間隔は、第二の自動マイクロメータ１９２４を備えた第二のリニアステージ１９２２によって調整されてもよい。
【０２０８】
第一のシリンドリカル凹レンズ１９１１及び第一のシリンドリカル凸レンズ１９１２の間の間隔を変化させることで、垂直方向Ｖにおけるビームダイバージェンス制御部１９００を通過するレーザビームのダイバージェンスを変化させてもよい。それによって、垂直方向Ｖにおけるレーザ装置１００１から出力されるレーザビームのダイバージェンスを変化させてもよい。
【０２０９】
第二のシリンドリカル凹レンズ１９１３及び第二のシリンドリカル凸レンズ１９１４の間の間隔を変化させることで、水平方向Ｈにおけるビームダイバージェンス制御部１９０１を通過するレーザビームのダイバージェンスを変化させてもよい。それによって、水平方向Ｈにおけるレーザ装置１００１から出力されるレーザビームのダイバージェンスを変化させてもよい。
【０２１０】
シリンドリカル凹レンズ及びシリンドリカル凸レンズの組み合わせの二組を使用することで、水平方向Ｈ及び垂直方向Ｖにおけるビームダイバージェンス制御部１９０１を通過するレーザビームのダイバージェンスを独立に変化させてもよい。それによって、水平方向Ｈ及び垂直方向Ｖにおけるレーザ装置１００１から出力されるレーザビームのダイバージェンスを独立に変化させてもよい。パワーオシレータ１３００に含まれる反射ミラーの姿勢角度を制御することなく、ビームダイバージェンス制御部１９０１を使用することで、水平方向Ｈ及び垂直方向Ｖにおけるレーザビームのダイバージェンスを変化させてもよい。光学パルスストレッチャ１５００に含まれる反射ミラーの姿勢角度を制御することなく、ビームダイバージェンス制御部１９０１を使用することで、水平方向Ｈ及び垂直方向Ｖにおけるレーザビームのダイバージェンスを変化させてもよい。
【０２１１】
ビームダイバージェンス制御部１９０１によって、水平方向Ｈ及び垂直方向Ｖにおけるレーザビームのダイバージェンスの一方のみを変化させてもよい。パワーオシレータ１３００又は光学パルスストレッチャ１５００に含まれる反射ミラーの姿勢角度を制御することによって、水平方向Ｈ及び垂直方向Ｖにおけるレーザビームのダイバージェンスの他方を変化させてもよい。
【０２１２】
図１９Ａは、本開示の第四の実施形態に係るレーザ装置に含まれたビームダイバージェンス制御部の第二の例を例示する上面図である。図１９Ｂは、本開示の第四の実施形態に係るレーザ装置に含まれたビームダイバージェンス制御部の第二の例を例示する側面図である。
【０２１３】
図１９Ａ及び図１９Ｂに例示されるビームダイバージェンス制御部１９０２は、水平方向Ｈ及び垂直方向Ｖにおけるレーザビームのダイバージェンスを制御するように、制御部１７００によって制御されてもよい。
【０２１４】
ビームダイバージェンス制御部１９０２は、両面シリンドリカル凹レンズ１９３１、第一のシリンドリカル凸レンズ１９３２、及び第二のシリンドリカル凸レンズ１９３３を含んでもよい。ビームダイバージェンス制御部１９０２は、第一の自動マイクロメータ１９４３を備えた第一のリニアステージ１９４１及び第二の自動マイクロメータ１９４４を備えた第二のリニアステージ１９４２を含んでもよい。第一の自動マイクロメータ１９４３及び第二の自動マイクロメータ１９４４は、制御部１７００によって制御されてもよい。
【０２１５】
両面シリンドリカル凹レンズ１９３１、第一のシリンドリカル凸レンズ１９３２、及び第二のシリンドリカル凸レンズ１９３３は、順にレーザビームの光路上に配置されてもよい。
【０２１６】
両面シリンドリカル凹レンズ１９３１の二つのラインフォーカスの方向は、水平方向Ｈ及び垂直方向Ｖに略同一であってもよい。
【０２１７】
第一のシリンドリカル凸レンズ１９３２のラインフォーカスの方向は、両面シリンドリカル凹レンズ１９３１のラインフォーカスの一方の方向と略同一であってもよい。第一のシリンドリカル凸レンズ１９３２のラインフォーカスの方向は、例えば、水平方向Ｈと略同一であってもよい。
【０２１８】
第二のシリンドリカル凸レンズ１９３３のラインフォーカスの方向は、両面シリンドリカル凹レンズ１９３１のラインフォーカスの他方の方向と略同一であってもよい。第二のシリンドリカル凸レンズ１９３３のラインフォーカスの方向は、例えば、垂直方向Ｖと略同一であってもよい。
【０２１９】
第一のシリンドリカル凸レンズ１９３２は、第一の自動マイクロメータ１９４３を備えた第一のリニアステージ１９４１に配置されてもよい。レーザビームの進行方向Ｚにおける両面シリンドリカル凹レンズ１９３１及び第一のシリンドリカル凸レンズ１９３２の間の間隔は、第一の自動マイクロメータ１９４３を備えた第一のリニアステージ１９４１によって調整されてもよい。
【０２２０】
第二のシリンドリカル凸レンズ１９３３は、第二の自動マイクロメータ１９４４を備えた第二のリニアステージ１９４２に配置されてもよい。レーザビームの進行方向Ｚにおける両面シリンドリカル凹レンズ１９３１及び第二のシリンドリカル凸レンズ１９３３の間の間隔は、第二の自動マイクロメータ１９４４を備えた第二のリニアステージ１９４２によって調整されてもよい。
【０２２１】
両面シリンドリカル凹レンズ１９３１及び第一のシリンドリカル凸レンズ１９３２の間の間隔を変化させることで、垂直方向Ｖにおけるビームダイバージェンス制御部１９０２を通過するレーザビームのダイバージェンスを変化させてもよい。それによって、垂直方向Ｖにおけるレーザ装置１００１から出力されるレーザビームのダイバージェンスを変化させてもよい。
【０２２２】
両面シリンドリカル凹レンズ１９３１及び第二のシリンドリカル凸レンズ１９３３の間の間隔を変化させることで、水平方向Ｈにおけるビームダイバージェンス制御部１９０２を通過するレーザビームのダイバージェンスを変化させてもよい。それによって、水平方向Ｈにおけるレーザ装置１００１から出力されるレーザビームのダイバージェンスを変化させてもよい。
【０２２３】
両面シリンドリカル凹レンズ及び二つのシリンドリカル凸レンズの組み合わせを使用することで、水平方向Ｈ及び垂直方向Ｖにおけるビームダイバージェンス制御部１９０２を通過するレーザビームのダイバージェンスを独立に変化させてもよい。それによって、水平方向Ｈ及び垂直方向Ｖにおけるレーザ装置１００１から出力されるレーザビームのダイバージェンスを独立に変化させてもよい。パワーオシレータ１３００に含まれる反射ミラーの姿勢角度を制御することなく、ビームダイバージェンス制御部１９０２を使用することで、水平方向Ｈ及び垂直方向Ｖにおけるレーザビームのダイバージェンスを変化させてもよい。光学パルスストレッチャ１５００に含まれる反射ミラーの姿勢角度を制御することなく、ビームダイバージェンス制御部１９０２を使用することで、水平方向Ｈ及び垂直方向Ｖにおけるレーザビームのダイバージェンスを変化させてもよい。
【０２２４】
図１９Ａ及び図１９Ｂに例示されるビームダイバージェンス制御部１９０２に含まれる光学素子の数は、図１８Ａ及び図１８Ｂに例示されるビームダイバージェンス制御部１９０１に含まれる光学素子の数よりも少なくてもよい。
【０２２５】
ビームダイバージェンス制御部１９０２によって、水平方向Ｈ及び垂直方向Ｖにおけるレーザビームのダイバージェンスの一方のみを変化させてもよい。パワーオシレータ１３００又は光学パルスストレッチャ１５００に含まれる反射ミラーの姿勢角度を制御することによって、水平方向Ｈ及び垂直方向Ｖにおけるレーザビームのダイバージェンスの他方を変化させてもよい。
【０２２６】
６．その他
６．１  アクチュエータ付きミラーホルダ
図２０は、本開示の実施形態におけるアクチュエータ付きミラーホルダを例示する図である。
【０２２７】
図２０に例示されるアクチュエータ付きミラーホルダ３０００は、二軸のジンバル機構付きのミラーホルダであってもよい。
【０２２８】
アクチュエータ付きミラーホルダ３０００は、プレート３００１、ミラー保持部３００２、Ｌ型プレート３００３、第一の引っ張りバネ３００４、第二の引っ張りバネ３００５、支点３００６、第一の稼働ピン３００７、第一の自動マイクロメータ３００８、第二の稼働ピン３００９、及び第二の自動マイクロメートル３０１０を含んでもよい。
【０２２９】
本開示の実施形態に係るレーザ装置に使用される反射ミラーは、ミラー保持部３００２に設けられてもよい。ミラー保持部３００２は、プレート３００１に設けられてもよい。プレート３００１及びＬ型プレート３００３は、支点３００６、第一の自動マイクロメータ３００８の第一の稼働ピン３００７、及び第二のマイクロメータ３０１０の第二の稼働ピン３００９によって支持されてもよい。プレート３０００１は、支点３００６、第一の稼働ピン３００７、及び第二の稼働ピン３００９によって、Ｌ型プレート３００３に対して三点で支持されてもよい。プレート３００１及びＬ型プレート３００３は、第一の引っ張りバネ３００４及び第二の引っ張りバネ３００５によって、互いに引っ張られると共に互いに固定されてもよい。第一の稼働ピン３００７を有する第一の自動マイクロメータ３００８は、第一の稼働ピン３００７が移動するように、制御部１７００によって制御されてもよい。第二の稼働ピン３００９を有する第二の自動マイクロメータ３０１０は、第二の稼働ピン３００９が移動するように、制御部１７００によって制御されてもよい。
【０２３０】
支点３００６から第一の稼働ピン３００７までの方向におけるＬ型プレート３００３に対するプレート３００１の傾斜の角度は、第一の自動マイクロメータ３００８の第一の稼働ピン３００７の移動によって調整されてもよい。支点３００６から第一の稼働ピン３００７までの方向におけるミラー保持部３００２の傾斜の角度（ミラーの姿勢角度）は、第一の自動マイクロメータ３００８の第一の稼働ピン３００７の移動によって調整されてもよい。
【０２３１】
支点３００６から第二の稼働ピン３００９までの方向におけるＬ型プレート３００３に対するプレート３００１の傾斜の角度は、第二の自動マイクロメータ３０１０の第二の稼働ピン３００９の移動によって調整されてもよい。支点３００６から第二の稼働ピン３００９までの方向におけるミラー保持部３００２の傾斜の角度（ミラーの姿勢角度）は、第二の自動マイクロメータ３０１０の第二の稼働ピン３００９の移動によって調整されてもよい。
【０２３２】
第一の自動マイクロメータ３００８及び第二の自動マイクロメータ３０１０の両方を制御することによって、ミラー保持部３００２によって保持された反射ミラーの姿勢角度が二軸で制御されてもよい。第一の自動マイクロメータ３００８及び第二の自動マイクロメータ３０１０の一方を制御することによって、ミラー保持部３００２によって保持された反射ミラーの姿勢角度が一軸で制御されてもよい。
ミラー保持部３００２によって保持された反射ミラーの姿勢角度の制御を要求しない方向については、第一の自動マイクロメータ３００８及び第二の自動マイクロメータ３０１０の一方を手動のマイクロメータに変更してもよい。
【０２３３】
アクチュエータ付きミラーホルダは、二軸のジンバル機構付きのミラーホルダ以外の反射ミラーの姿勢角度を調整することが可能な機構を有するミラーホルダであってもよい。
【０２３４】
アクチュエータ付きミラーホルダ３０００は、例えば、パワーオシレータ１３００に含まれるリアミラー１３１０を保持するために使用されてもよい。アクチュエータ付きミラーホルダ３０００は、例えば、パワーオシレータ１３００に含まれるリアミラー１３１０の姿勢角度を変化させるために使用されてもよい。一軸のアクチュエータ付きミラーホルダとして、第一の自動マイクロメータ３００８及び第二の自動マイクロメータ３０１０の一方のみが制御部１７００によって制御されてもよい。
【０２３５】
アクチュエータ付きミラーホルダ３０００は、例えば、パワーオシレータ１３００に含まれる第二の出力結合ミラー１３３０を保持するために使用されてもよい。アクチュエータ付きミラーホルダ３０００は、例えば、パワーオシレータ１３００に含まれる第二の出力結合ミラー１３３０の姿勢角度を変化させるために使用されてもよい。一軸のアクチュエータ付きミラーホルダとして、第一の自動マイクロメータ３００８及び第二の自動マイクロメータ３０１０の一方のみが制御部１７００によって制御されてもよい。
【０２３６】
アクチュエータ付きミラーホルダ３０００は、例えば、パワーオシレータ１３００に含まれる第二の出力結合ミラー１３３０を保持するために使用されてもよい。アクチュエータ付きミラーホルダ３０００は、例えば、パワーオシレータ１３００に含まれる第二の出力結合ミラー１３３０の姿勢角度を変化させるために使用されてもよい。一軸のアクチュエータ付きミラーホルダとして、第一の自動マイクロメータ３００８及び第二の自動マイクロメータ３０１０の一方のみが制御部１７００によって制御されてもよい。
【０２３７】
アクチュエータ付きミラーホルダ３０００は、例えば、光学パルスストレッチャ１５００に含まれる第四の凹面高反射ミラー１５５０を保持するために使用されてもよい。アクチュエータ付きミラーホルダ３０００は、例えば、光学パルスストレッチャ１５００に含まれる第四の凹面高反射ミラー１５５０の姿勢角度を変化させるために使用されてもよい。一軸のアクチュエータ付きミラーホルダとして、第一の自動マイクロメータ３００８及び第二の自動マイクロメータ３０１０の一方のみが制御部１７００によって制御されてもよい。
【０２３８】
アクチュエータ付きミラーホルダ３０００は、例えば、パワーオシレータビームステアリングユニット１４００に含まれる第三の高反射ミラー１４１０を保持するために使用されてもよい。アクチュエータ付きミラーホルダ３０００は、例えば、パワーオシレータビームステアリングユニット１４００に含まれる第三の高反射ミラー１４１０の姿勢角度を変化させるために使用されてもよい。二軸のアクチュエータ付きミラーホルダとして、第一の自動マイクロメータ３００８及び第二の自動マイクロメータ３０１０の両方が制御部１７００によって制御されてもよい。
【０２３９】
アクチュエータ付きミラーホルダ３０００は、例えば、パワーオシレータビームステアリングユニット１４００に含まれる第四の高反射ミラー１４２０を保持するために使用されてもよい。アクチュエータ付きミラーホルダ３０００は、例えば、パワーオシレータビームステアリングユニット１４００に含まれる第四の高反射ミラー１４２０の姿勢角度を変化させるために使用されてもよい。二軸のアクチュエータ付きミラーホルダとして、第一の自動マイクロメータ３００８及び第二の自動マイクロメータ３０１０の両方が制御部１７００によって制御されてもよい。
【０２４０】
６．２  制御部（コントローラ）
図２１は、本開示の実施形態における制御部を例示する図である。
【０２４１】
上述した実施の形態における各制御部は、コンピュータやプログラマブルコントローラ等汎用の制御機器によって構成されてもよい。たとえば、以下のように構成されてもよい。
＜構成＞
制御部は、処理部４０００と、処理部４０００に接続される、ストレージメモリ４００５と、ユーザインターフェイス４０１０と、パラレルＩ／Ｏコントローラ４０２０と、シリアルＩ／Ｏコントローラ４０３０と、Ａ／Ｄ、Ｄ／Ａコンバータ４０４０とによって構成されてもよい。また、処理部４０００は、ＣＰＵ４００１と、ＣＰＵ４００１に接続された、メモリ４００２、タイマ４００３、ＧＰＵ４００４とから構成されてもよい。
＜動作＞
処理部４０００は、ストレージメモリ４００５に記憶されたプログラムを読み出してもよい。また、処理部４０００は、読み出したプログラムを実行したり、プログラムの実行に従ってストレージメモリ４００５からデータを読み出したり、ストレージメモリ４００５にデータを記憶させたりしてもよい。
【０２４２】
パラレルＩ／Ｏコントローラ４０２０は、パラレルＩ／Ｏポートを介して通信可能な機器に接続されてもよい。パラレルＩ／Ｏコントローラ４０２０は、処理部４０００がプログラムを実行する過程で行うパラレルＩ／Ｏポートを介した、デジタル信号による通信を制御してもよい。
【０２４３】
シリアルＩ／Ｏコントローラ４０３０は、シリアルＩ／Ｏポートを介して通信可能な機器に接続されてもよい。シリアルＩ／Ｏコントローラ４０３０は、処理部４０００がプログラムを実行する過程で行うシリアルＩ／Ｏポートを介した、デジタル信号による通信を制御してもよい。
【０２４４】
Ａ／Ｄ、Ｄ／Ａコンバータ４０４０は、アナログポートを介して通信可能な機器に接続されてもよい。Ａ／Ｄ、Ｄ／Ａコンバータ４０４０は、処理部４０００がプログラムを実行する過程で行うアナログポートを介した、アナログ信号による通信を制御してもよい。
【０２４５】
ユーザインターフェイス４０１０は、オペレータが処理部４０００によるプログラムの実行過程を表示したり、オペレータによるプログラム実行の中止や割り込み処理を処理部４０００に行わせるよう構成されてもよい。
【０２４６】
処理部４０００のＣＰＵ４００１はプログラムの演算処理を行ってもよい。メモリ４００２は、ＣＰＵ４００１がプログラムを実行する過程で、プログラムの一時記憶や、演算過程でのデータの一時記憶を行ってもよい、。タイマ４００３は、時刻や経過時間を計測し、プログラムの実行に従ってＣＰＵ４００１に時刻や経過時間を出力してもよい。ＧＰＵ４００４は、処理部４０００に画像データが入力された際、プログラムの実行に従って画像データを処理し、その結果をＣＰＵ４００１に出力してもよい。
【０２４７】
パラレルＩ／Ｏコントローラ４０２０に接続される、パラレルＩ／Ｏポートを介して通信可能な機器は、他の制御部等であってもよい。
【０２４８】
シリアルＩ／Ｏコントローラ４０３０に接続される、シリアルＩ／Ｏポートを介して通信可能な機器は、ＤＣ高圧電源等であってもよい。
【０２４９】
Ａ／Ｄ、Ｄ／Ａコンバータ４０４０に接続される、アナログポートを介して通信可能な機器は、第一のイメージセンサ及び第二のイメージセンサのようなセンサ等であってもよい。
【０２５０】
上記の説明は、制限ではなく単なる例示を意図したものである。従って、添付の特許請求の範囲を逸脱することなく本開示の実施形態に変更を加えることができることは、当業者には明らかであろう。
【０２５１】
本明細書及び添付の特許請求の範囲全体で使用される用語は、「限定的でない」用語と解釈されるべきである。例えば、「含む」又は「含まれる」という用語は、「含まれるものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。「有する」という用語は、「有するものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。また、本明細書、及び添付の特許請求の範囲に記載される不定冠詞「１つの」は、「少なくとも１つ」又は「１又はそれ以上」を意味すると解釈されるべきである。
【符号の説明】
【０２５２】
１０００  レーザ装置
１００１  レーザ装置
１１００  マスタオシレータ
１１１０  狭帯域化モジュール
１１１１  プリズムビームエキスパンダ
１１１２  回折格子
１１２０  第一のチャンバ
１１２１ａ，１１２１ｂ  放電電極
１１３０  第一の出力結合ミラー
１１４０ａ，１１４０ｂ  ウィンドウ
１２００  マスタオシレータビームステアリングユニット
１２１０  第一の高反射ミラー
１２２０  第二の高反射ミラー
１３００，１３０１  パワーオシレータ
１３１０  リアミラー
１３１５  アクチュエータ付きミラーホルダ
１３２０  第二のチャンバ
１３２１ａ，１３２１ｂ  放電電極
１３３０  第二の出力結合ミラー
１３４０ａ，１３４０ｂ  ウィンドウ
１３５０ａ  出力結合ミラー
１３５０ｂ  反射防止コート
１３５０ｃ  部分反射コート
１３５１  第五の高反射ミラー
１３５２  第六の高反射ミラー
１３５３  第七の高反射ミラー
１３５４  第八の高反射ミラー
１３６０  出力結合ミラーホルダ
１３６２  アクチュエータ付きミラーホルダ
１３６３，１３６４  ミラーホルダ
１４００  パワーオシレータビームステアリングユニット
１４１０  第三の高反射ミラー
１４１５  アクチュエータ付きミラーホルダ
１４２０  第四の高反射ミラー
１４２５  アクチュエータ付きミラーホルダ
１４５０ａ  第一の光学パルスストレッチャ
１４５０ｂ  第二の光学パルスストレッチャ
１４５１  第一のビームスプリッタ
１４５２  第一の凹面高反射ミラー
１４５３  第二の凹面高反射ミラー
１４５４  第三の凹面高反射ミラー
１４５５  第四の凹面高反射ミラー
１４５６  第二のビームスプリッタ
１４５７  第五の凹面高反射ミラー
１４５８  第六の凹面高反射ミラー
１４５９  第七の凹面高反射ミラー
１４１０  第八の凹面高反射ミラー
１５００  光学パルスストレッチャ
１５１０  ビームスプリッタ
１５１５  ビームスプリッタホルダ
１５２０  第一の凹面高反射ミラー
１５２５  第一のミラーホルダ
１５３０  第二の凹面高反射ミラー
１５３５  第二のミラーホルダ
１５４０  第三の凹面高反射ミラー
１５４５  第三のミラーホルダ
１５５０  第四の凹面高反射ミラー
１５５５  アクチュエータ付きミラーホルダ
１６００  ビーム特性計測装置
１６１０  第一のビームスプリッタ
１６２０  集光光学系
１６３０  第一のイメージセンサ
１６４０  第二のビームスプリッタ
１６５０  転写光学系
１６６０  第二のイメージセンサ
１７００  制御部
１８００  シャッタ
１９００，１９０１，１９０２  ビームダイバージェンス制御部
１９１１  第一のシリンドリカル凹レンズ
１９１２  第一のシリンドリカル凸レンズ
１９１３  第二のシリンドリカル凹レンズ
１９１４  第二のシリンドリカル凸レンズ
１９２１  第一のリニアステージ
１９２２  第二のリニアステージ
１９２３  第一の自動マイクロメータ
１９２４  第二の自動マイクロメータ
１９３１  両面シリンドリカル凹レンズ
１９３２  第一のシリンドリカル凸レンズ
１９３３  第二のシリンドリカル凸レンズ
１９４１  第一のリニアステージ
１９４２  第二のリニアステージ
１９４３  第一の自動マイクロメータ
１９４４  第二の自動マイクロメータ
２０００  半導体露光装置
２１００  露光装置制御部
３０００  アクチュエータ付きミラーホルダ
３００１  プレート
３００２  ミラー保持部
３００３  Ｌ型プレート
３００４  第一の引っ張りバネ
３００５  第二の引っ張りバネ
３００６  支点
３００７  第一の稼働ピン
３００８  第一の自動マイクロメータ
３００９  第二の稼働ピン
３０１０  第二の自動マイクロメータ
４０００  処理部
４００１  ＣＰＵ
４００２  メモリ
４００３  タイマ
４００４  ＧＰＵ
４００５  ストレージメモリ
４０１０  ユーザインターフェイス
４０２０  パラレルＩ／Ｏコントローラ
４０３０  シリアルＩ／Ｏコントローラ
４０４０  Ａ／Ｄ、Ｄ／Ａコンバータ
【図１】
2015092855.tif 000003
【図２Ａ】
2015092855.tif 000004
【図２Ｂ】
2015092855.tif 000005
【図３Ａ】
2015092855.tif 000006
【図３Ｂ】
2015092855.tif 000007
【図４Ａ】
2015092855.tif 000008
【図４Ｂ】
2015092855.tif 000009
【図５Ａ】
2015092855.tif 000010
【図５Ｂ】
2015092855.tif 000011
【図６】
2015092855.tif 000012
【図７】
2015092855.tif 000013
【図８】
2015092855.tif 000014
【図９】
2015092855.tif 000015
【図１０Ａ】
2015092855.tif 000016
【図１０Ｂ】
2015092855.tif 000017
【図１１Ａ】
2015092855.tif 000018
【図１１Ｂ】
2015092855.tif 000019
【図１２】
2015092855.tif 000020
【図１３】
2015092855.tif 000021
【図１４】
2015092855.tif 000022
【図１５Ａ】
2015092855.tif 000023
【図１５Ｂ】
2015092855.tif 000024
【図１６】
2015092855.tif 000025
【図１７】
2015092855.tif 000026
【図１８Ａ】
2015092855.tif 000027
【図１８Ｂ】
2015092855.tif 000028
【図１９Ａ】
2015092855.tif 000029
【図１９Ｂ】
2015092855.tif 000030
【図２０】
2015092855.tif 000031
【図２１】
2015092855.tif 000032
【国際調査報告】
2015092855.tif 000033
2015092855.tif 000034
2015092855.tif 000035
2015092855.tif 000036