(57)【要約】  高屈折率層と低屈折率層とを積層したユニットを少なくとも１つ含む、溶融押出成形によって形成された反射部、および、ハードコート塗布液の塗布によって形成されたハードコート層を含む光学反射フィルムであって、前記フィルム中の残存溶媒が１〜８ｍｇ／ｇである光学反射フィルムによって、耐候性に優れ、ハードコート層の密着性が改善された光学反射フィルムが提供される。【選択図】なし
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
高屈折率層と低屈折率層とを積層したユニットを少なくとも１つ含む、溶融押出成形によって形成された反射部、および、
ハードコート塗布液の塗布によって形成されたハードコート層を含む光学反射フィルムであって、
前記フィルム中の残存溶媒が１〜８ｍｇ／ｇである、光学反射フィルム。
【請求項２】
前記ハードコート層の厚さが、１．２〜１０μｍである、請求項１に記載の光学反射フィルム。
【請求項３】
前記ハードコート層が、界面活性剤を含有する、請求項１または２に記載の光学反射フィルム。
【請求項４】
前記ハードコート層が、赤外線吸収剤を含有する、請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学反射フィルム。
【請求項５】
前記ハードコート層が、アクリレート樹脂を含有する、請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学反射フィルム。
【請求項６】
前記ハードコート層が、０．１〜０．５の相対蒸発速度である溶媒を、全溶媒量に対して５〜２０質量％含有する塗布液を塗布し、乾燥して形成された、請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学反射フィルム。
【請求項７】
前記ハードコート塗布液の相対蒸発速度が１〜３．５である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学反射フィルム。
【請求項８】
高屈折率層と低屈折率層とを積層したユニットを少なくとも１つ含む積層体を、溶融押出成形によって形成し；
ハードコート塗布液を前記積層体の少なくとも一方の面側に塗布して塗膜を形成し；および
塗膜を形成した前記積層体中の残存溶媒が１〜８ｍｇ／ｇとなるように乾燥すること、を含む、光学反射フィルムの製造方法。
【請求項９】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学反射フィルム、または請求項８に記載の製造方法によって製造された光学反射フィルムが、基体の少なくとも一方の面に設けられてなる光学反射体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学反射フィルムとその製造方法に関する。また、本発明は該光学反射フィルムまたは該製造方法により製造された光学反射フィルムを用いた光学反射体に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、省エネルギー対策への関心が高まり、建築用ガラスや車両用ガラスにおいて、室内あるいは車内に入る太陽輻射エネルギーを遮蔽し、温度上昇、冷房負荷を低減する目的で、赤外線の遮蔽性を有する断熱ガラスが採用されている。赤外光を選択的に反射させ、可視光を透過させることができる赤外遮蔽フィルムは、通常、相対的に低い屈折率を有する低屈折率層と、相対的に高い屈折率を有する高屈折率層とが積層された構造を有する。この際、高屈折率層および低屈折率層について、屈折率および膜厚の積である光学膜厚を制御し、干渉を生じさせることで、赤外光を選択的に反射させることができる。【０００３】
このような光学反射フィルムは、可視光線を透過し、近赤外線を選択的に遮蔽するが、各層の膜厚や屈折率を調整するだけで、反射波長をコントロールすることができ、紫外線や可視光を反射することが可能である。【０００４】
屈折率層の形成方法としては、屈折率の異なる２種の樹脂層を交互に積層する方法（特許文献１）や、金属酸化物を混合した水溶性高分子を塗布することにより屈折率の異なる層を積層し近赤外線反射層を形成する方法（特許文献２）等が提案されている。【０００５】
赤外遮蔽フィルム等の光学反射フィルムは、上述のように、建物や車両の窓ガラスに装着する場合が多い。従って、清掃などの際に表面に傷等がつくことを防止することを目的として、活性放射線硬化性樹脂等を塗布することにより、最外層にハードコート層を形成して耐擦過性を高めることが多い。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特表２００８−５２８３１３号公報（国際公開第２００６／０７４１６８号に相当）
【特許文献２】国際公開第２０１２／０１４６０７号（米国特許出願公開第２０１３／０１０７３５５号明細書に相当）
【発明の概要】
【０００７】
従来の光学反射フィルムは、例えば、建物や車両の窓ガラスに装着されて高温高湿状態にさらされることにより、ヘイズの上昇や変色を起こす等、耐候性が良好でない場合があるという問題が存在していた。また、ハードコート層の密着性が十分でない場合があり、ハードコート層が剥離することがあるという問題も存在していた。
【０００８】
したがって、本発明は、上記事情を鑑みてなされたものであり、耐候性に優れ、ハードコート層の密着性が改善された光学反射フィルム、その製造方法、および該光学反射フィルムまたは該製造法にて製造された光学反射フィルムを用いた光学反射体を提供することを目的とする。
【０００９】
本発明者は、上記課題を解決するために、鋭意研究を行った結果、高屈折率層と低屈折率層とを積層したユニットを少なくとも１つ含む、溶融押出成形によって形成された反射部、および、ハードコート塗布液の塗布によって形成されたハードコート層を含む光学反射フィルムであって、前記フィルム中の残存溶媒が１〜８ｍｇ／ｇである、光学反射フィルムにより、上記の課題が解決されることを見出し、本発明の完成に至った。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の一実施形態に係る光学反射フィルムを模式的に表した断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本発明の第一の側面は、高屈折率層と低屈折率層とを積層したユニットを少なくとも１つ含む、溶融押出成形によって形成された反射部、および、ハードコート塗布液の塗布によって形成されたハードコート層を含む光学反射フィルムであって、前記フィルム中の残存溶媒が１〜８ｍｇ／ｇである、光学反射フィルムである。
【００１２】
本発明の第二の側面は、高屈折率層と低屈折率層とを積層したユニットを少なくとも１つ含む積層体を、溶融押出成形によって形成し；ハードコート塗布液を前記積層体の少なくとも一方の面側に塗布して塗膜を形成し；および塗膜を形成した前記積層体中の残存溶媒が１〜８ｍｇ／ｇとなるように乾燥することを含む、光学反射フィルムの製造方法である。
【００１３】
本発明の第三の側面は、上記光学反射フィルム、または上記の製造方法によって製造された光学反射フィルムが、基体の少なくとも一方の面に設けられてなる光学反射体である。
【００１４】
本発明によれば、耐候性に優れ、ハードコート層の密着性が改善された光学反射フィルム、その製造方法、および該光学反射フィルムまたは該製造法にて製造された光学反射フィルムを用いた光学反射体が提供される。
【００１５】
本発明者は、フィルム中の残存溶媒が多くなると耐候性が低下し、ハードコート層の密着性が低下することを見出した。本発明の技術的範囲を制限するものではないが、これは、過度に残存する溶媒の影響により、材料の劣化が促進されるとともに、溶媒が徐々に揮発することでフィルムのカールが生じるためであると推測される。さらに、フィルム中の残存溶媒が過度に少ないと、施工性が劣化し、密着性も低下することを見出した。本発明の技術的範囲を制限するものではないが、これは、光学反射フィルムが極端に乾燥し残存溶媒が少ないと、フィルムが固く脆くなってしまうため施工時にフィルムの位置調整がしづらくなり、折れやしわが発生しやすくなるためであると考えられる。
【００１６】
以下、本発明の実施の形態を説明する。なお、本発明は、以下の実施の形態のみには限定されない。また、図面の寸法比率は、説明の都合上誇張されており、実際の比率とは異なる場合がある。
【００１７】
また、本明細書において、範囲を示す「Ｘ〜Ｙ」は「Ｘ以上Ｙ以下」を意味し、特記しない限り、操作および物性等の測定は室温（２０〜２５℃）／相対湿度４０〜５０％の条件で測定する。
【００１８】
＜光学反射フィルム＞
以下、図１を参照しながら本形態について説明する。図１は、本発明の第一の側面に係る光学反射フィルムを模式的に表した断面図である。図１に示す光学反射フィルム１０において、光は矢印で示すように粘着層１３の反対側からハードコート層１２、反射部１１へと入射する。
【００１９】
光学反射フィルム１０において、反射部１１は低屈折率層１１１および高屈折率層１１２が積層されたユニット１１３を有する。このように異なる屈折率を有する層を積層させることにより、その境界面で光の反射が起こり、光学反射機能が発現される。なお、図１では、反射部１１として、光入射方向から順に低屈折率層・高屈折率層の３ユニットが積層されているが、反射部は低屈折率層および高屈折率層が積層された少なくとも１つのユニットを有していればよく、低屈折率層および高屈折率層の層数や積層順は特に制限されない。
【００２０】
光学反射フィルム１０は、反射部１１の光が入射する面側に、ハードコート層１２を備える。このようにハードコート層を備えることにより擦傷等から反射部１１を保護し、フィルムの耐久性を向上させることができる。さらに、光学反射フィルム１０は、図示しない支持基材（基体）への貼付のために、最下層に粘着層１３を備える。なお、光学反射フィルム１０は粘着層１３を備えるが、本発明においては、粘着層を備えず、例えば光学反射フィルムの両側の面にハードコート層が設けられても良い。
【００２１】
本態様の光学反射フィルムの全体の厚みは、好ましくは２０μｍ〜５００μｍ、より好ましくは２０μｍ〜３００μｍ、さらに好ましくは３０μｍ〜１５０μｍである。光学反射フィルムの厚みを上記範囲内にすることで、光学反射フィルム（本明細書では、単に「フィルム」とも称する。）中の残存溶媒量を乾燥工程によって調整しやすくなる。
【００２２】
〔反射部〕
本発明の一態様にかかる光学反射フィルムは、高屈折率層と低屈折率層とを積層したユニットを少なくとも１つ含む、溶融押出成形によって形成された反射部を含む。
【００２３】
本態様において、反射部は、異なる屈折率を有する高屈折率層および低屈折率層が交互に積層されてなる。このような低屈折率層および高屈折率層の屈折率差により赤外線や紫外線等の反射機能が発現される。なお、本明細書において、「高屈折率層」および「低屈折率層」なる用語は、隣接した２層の屈折率差を比較した場合に、屈折率が高い方の屈折率層（高屈折率層および／または低屈折率層を、本明細書では、一括して「屈折率層」とも称する。）を高屈折率層とし、低い方の屈折率層を低屈折率層とすることを意味する。したがって、屈折率層が高屈折率層であるか低屈折率層であるかは、隣接層が有する屈折率との関係で定まる相対的なものである。「高屈折率層」および「低屈折率層」なる用語は、光学反射フィルムを構成する各屈折率層において、隣接する２つの屈折率層に着目した場合に、各屈折率層が同じ屈折率を有する形態以外のあらゆる形態を含むものである。
【００２４】
低屈折率層および高屈折率層の層数（屈折率層の総数）は、特に制限はないが、好ましくは６〜２０００（すなわち、３〜１０００ユニット）であり、より好ましくは１０〜１５００（すなわち、５〜７５０ユニット）であり、さらに好ましくは１０〜１０００（すなわち、５〜５００ユニット）である。層数が２０００を超えるとヘイズが発生しやすく、６未満であると所望の反射率に達しないことがある。
【００２５】
反射部においては、高屈折率層と低屈折率層との屈折率の差を大きく設計することが、少ない層数で反射率を高くすることができるという観点から好ましい。高屈折率層および低屈折率層から構成されるユニットの少なくとも１つにおいて、隣接する高屈折率層と低屈折率層との屈折率差が０．１以上であることが好ましく、より好ましくは０．２以上であり、さらに好ましくは０．２５以上である。反射部が低屈折率層および高屈折率層のユニットを複数有する場合には、全てのユニットにおける低屈折率層と高屈折率層との屈折率差が上記好適な範囲内にあることが好ましい。ただし、反射部の最表層や最下層に関しては、上記好適な範囲外の構成であってもよい。
【００２６】
低屈折率層は、より低い屈折率が好ましいが、一般的には屈折率１．２〜１．６の範囲の樹脂が好ましく用いられる。また、高屈折率層は、より高い屈折率が好ましいが一般的には屈折率１．６〜２．５の範囲の樹脂が好ましく用いられる。
【００２７】
また、本態様の光学反射フィルムにおいて、最下層および最表層は、高屈折率層および低屈折率層のいずれであってもよい。しかしながら、低屈折率層が最下層および最表層に位置する層構成とすることにより、最下層の基体への密着性、最上層の吹かれ耐性、さらには最表層へのハードコート層等の塗布性や密着性に優れるという観点から、最下層および最表層が低屈折率層である層構成が好ましい。
【００２８】
上記屈折率は、高屈折率層、低屈折率層の屈折率を下記の方法に従って求め、両者の差分として求める。すなわち、（必要により基材を用いて）各屈折率層を単層で作製し、このサンプルを１０ｃｍ×１０ｃｍに断裁した後、下記の方法に従って屈折率を求める。分光光度計として、Ｕ−４０００型（日立製作所社製）を用いて、各サンプルの測定面とは反対側の面（裏面）を粗面化処理した後、黒色のスプレーで光吸収処理を行って裏面での光の反射を防止して、５度正反射の条件にて可視光領域（４００ｎｍ〜７００ｎｍ）の反射率を２５点測定して平均値を求め、その測定結果より平均屈折率を求める。
【００２９】
特定波長領域の反射率は、隣接する２層の屈折率差と積層数とで決まり、屈折率の差が大きいほど、少ない層数で同じ反射率を得られる。この屈折率差と必要な層数については、市販の光学設計ソフトウェアを用いて計算することができる。例えば、赤外反射率９０％以上を得るためには、屈折率差が０．１より小さいと、２００層以上の積層が必要になることが分かる。反射率の向上と層数を少なくするという観点からは、屈折率差に上限はないが、実質的には１．４程度である。
【００３０】
隣接した層界面での反射は、層間の屈折率比に依存するのでこの屈折率比が大きいほど、反射率が高まる。また、単層膜でみたとき層表面における反射光と、層底部における反射光の光路差を、ｎ・ｄ＝波長／４、で表される関係にすると位相差により反射光を強めあうよう制御出来、反射率を上げることができる。ここで、ｎは屈折率、またｄは層の物理膜厚、ｎ・ｄは光学膜厚である。この光路差を利用することで、反射を制御出来る。この関係を利用して、各層の屈折率と膜厚を制御して、可視光や、近赤外光の反射を制御する。即ち、各層の屈折率、各層の膜厚、各層の積層のさせ方で、特定波長領域の反射率をアップさせることができる。
【００３１】
本発明の光学反射フィルムは反射率をアップさせる特定波長領域を変えることにより、可視光反射フィルムや近赤外線反射フィルムとすることができる。即ち、反射率をアップさせる特定波長領域を可視光領域に設定すれば可視光線反射フィルムとなり、近赤外領域に設定すれば近赤外線反射フィルムとなる。また、反射率をアップさせる特定波長領域を紫外光領域に設定すれば、紫外線反射フィルムとなる。本発明の光学反射フィルムを遮熱フィルムに用いる場合は、（近）赤外反射（遮蔽）フィルムとすればよい。赤外反射フィルムの場合、ＪＩＳ  Ｒ３１０６：１９９８で示される可視光領域の５５０ｎｍでの透過率が５０％以上であることが好ましく、７０％以上であることがより好ましく、７５％以上であることがさらに好ましい。また、１２００ｎｍでの透過率が３５％以下であることが好ましく、２５％以下であることがより好ましく、２０％以下であることがさらに好ましい。かような好適な範囲となるように光学膜厚とユニットを設計することが好ましい。また、波長９００ｎｍ〜１４００ｎｍの領域に反射率５０％を超える領域を有することが好ましい。
【００３２】
太陽直達光の入射スペクトルのうち赤外域が室内温度上昇に関係し、これを遮蔽することで室内温度の上昇を抑えることができる。日本工業規格ＪＩＳ  Ｒ３１０６：１９９８に記載された重価係数をもとに赤外の最短波長（７６０ｎｍ）から最長波長３２００ｎｍまでの累積エネルギー比率をみてみると、波長７６０ｎｍから最長波長３２００ｎｍまでの赤外全域の総エネルギーを１００としたときの、７６０ｎｍから各波長までの累積エネルギーをみると、７６０から１３００ｎｍのエネルギー合計が赤外域全体の約７５％を占めている。従って、１３００ｎｍまでの波長領域を遮蔽することが熱線遮蔽による省エネルギー効果の効率がよい。
【００３３】
この近赤外光域（７６０〜１３００ｎｍ）の反射率を最大ピーク値で約８０％以上にすると体感温度の低下が官能評価により得られる。たとえば８月の午前中の南東方法を向く窓際での体感温度が近赤外光域の反射率を最大ピーク値で約８０％にまで遮蔽したとき明確な差がでた。
【００３４】
屈折率層の１層あたりの膜厚は、８０〜４００ｎｍであることが好ましく、１００〜３００ｎｍであることがより好ましく、１００〜２００ｎｍであることが更に好ましい。屈折率層の１層あたりの厚みは、ダイスの押出口におけるフィルム厚さ方向の幅を変更すること、および／または延伸条件により、調節することができる。また、反射部の厚みは、好ましくは１０μｍ〜４８０μｍ、より好ましくは１０μｍ〜２９０μｍ、さらに好ましくは２０μｍ〜１４０μｍである。なお、積層体を延伸する場合は、上記膜厚および反射部の厚みは、延伸後の厚さを示す。
【００３５】
本発明において、反射部は溶融押出成形によって形成される。より具体的には、例えば特表２００２−５０９２７９号公報（米国特許第６，０４９，４１９号明細書に相当する）に記載されるように、樹脂を溶融して得られた溶融樹脂を、（多層）押出しダイスよりキャスティングドラム上に押出した後、急冷する。この際、溶融樹脂の押出し冷却後、樹脂シートを延伸させてもよい。
【００３６】
塗布法や溶液流涎法のような溶媒を用いる方法と異なり、溶融押出成形によれば溶媒を用いずに反射部を形成することができる。これにより、反射部形成後、ハードコート層の形成前に残存溶媒量の分析や調整をすることなく、光学反射フィルム中の残存溶媒量を１〜８ｍｇ／ｇとすることができる。従って、溶融押出成形により反射部を形成することは、製造効率の観点から利点がある。本発明の一態様にかかる光学反射フィルムは、第１の樹脂を含有する高屈折率層と第２の樹脂を含有する低屈折率層とが同時に積層される、多層押出しによって反射部が形成されたものであることが好ましい。
【００３７】
屈折率層に含まれる樹脂としては、熱可塑性樹脂であれば特に制限されない。上述のように、「高屈折率層」および「低屈折率層」は、隣接した２層の屈折率差を比較した場合に、屈折率が高い方の屈折率層が高屈折率層であり、低い方の屈折率層が低屈折率層である。
【００３８】
例えば、熱可塑性樹脂としては、特表２００２−５０９２７９号公報（米国特許第６，０４９，４１９号明細書に相当する）に記載のものを用いることができる。具体例としては、例えば、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）およびその異性体（例えば、２，６−、１，４−、１，５−、２，７−および２，３−ＰＥＮ）、ポリアルキレンテレフタレート（例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、およびポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート）、ポリイミド（例えば、ポリアクリルイミド）、ポリエーテルイミド、アタクチックポリスチレン、ポリカーボネート、ポリメタクリレート（例えば、ポリイソブチルメタクリレート、ポリプロピルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、およびポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ））、ポリアクリレート（例えば、ポリブチルアクリレート、およびポリメチルアクリレート）、セルロース誘導体（例えば、エチルセルロース、アセチルセルロース、セルロースプロピオネート、アセチルセルロースブチレート、および硝酸セルロース）、ポリアルキレンポリマー（例えば、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリブチレン、ポリイソブチレン、およびポリ（４−メチル）ペンテン）、フッ素化ポリマー（例えば、パーフルオロアルコキシ樹脂、ポリテトラフルオロエチレン、フッ素化エチレンプロピレンコポリマー、ポリフッ化ビニリデン、およびポリクロロトリフルオロエチレン）、塩素化ポリマー（例えば、ポリ塩化ビニリデンおよびポリ塩化ビニル）、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアクリロニトリル、ポリアミド、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、ポリ酢酸ビニル、ポリエーテルアミド、アイオノマー樹脂、エラストマー（例えば、ポリブタジエン、ポリイソプレンおよびネオプレン）、ならびにポリウレタンが挙げられる。コポリマー、例えば、ＰＥＮのコポリマー（例えば、（ａ）テレフタル酸もしくはそのエステル、（ｂ）イソフタル酸もしくはそのエステル、（ｃ）フタル酸もしくはそのエステル、（ｄ）アルカングリコール、（ｅ）シクロアルカングリコール（例えば、シクロヘキサンジメタノールジオール）、（ｆ）アルカンジカルボン酸、および／または（ｇ）シクロアルカンジカルボン酸（例えば、シクロヘキサンジカルボン酸）と、２，６−、１，４−、１，５−、２，７−および／もしくは２，３−ナフタレンジカルボン酸またはそれらのエステルとのコポリマー）、ポリアルキレンテレフタレートのコポリマー（例えば、（ａ）ナフタレンジカルボン酸もしくはそのエステル、（ｂ）イソフタル酸もしくはそのエステル、（ｃ）フタル酸もしくはそのエステル、（ｄ）アルカングリコール、（ｅ）シクロアルカングリコール（例えば、シクロヘキサンジメタノールジオール）、（ｆ）アルカンジカルボン酸、および／または（ｇ）シクロアルカンジカルボン酸（例えば、シクロヘキサンジカルボン酸）と、テレフタル酸もしくはそのエステルとのコポリマー）、ならびにスチレンコポリマー（例えば、スチレン−ブタジエンコポリマー、およびスチレン−アクリロニトリルコポリマー）、４，４−ビス安息香酸およびエチレングリコールも適している。さらに、各層はそれぞれ、２種またはそれ以上の上記のポリマーまたはコポリマーのブレンド（例えば、シンジオタクチックポリスチレン（ＳＰＳ）とアタクチックポリスチレンとのブレンド）を包含してよい。本形態において、高屈折率層および低屈折率層を形成する熱可塑性樹脂の好ましい組み合わせとしては、ＰＥＮ／ＰＭＭＡ、ＰＥＴ／ＰＭＭＡ、ＰＥ／ＰＭＭＡ、ＰＥ／ポリフッ化ビニリデン、ＰＥＮ／ポリフッ化ビニリデン、ＰＥＮ／ＰＥＴ、ＰＥＮ／ポリブチレンテレフタレート等が挙げられる。
【００３９】
屈折率層に含まれる熱可塑性樹脂の重量平均分子量は、１００００〜１００００００程度であり、５００００〜８０００００であることが好ましい。なお、重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定した値を採用する。
【００４０】
また、屈折率層中、熱可塑性樹脂の含有量は、各屈折率層の全固形分に対して、例えば３０〜１００質量％であり、好ましくは５０〜１００質量％であり、より好ましくは７０〜１００質量％である。
【００４１】
（金属酸化物）
本形態の光学反射フィルムにおける低屈折率層または高屈折率層の少なくとも一方は、金属酸化物（粒子）を含有しても良い。金属酸化物粒子を含有することで各屈折率層間の屈折率差を大きくすることができ、反射特性が向上する。低屈折率層および高屈折率層の双方が金属酸化物粒子を含有することにより、屈折率差をより大きくすることができる。金属酸化物粒子を含むことにより、積層数を低減することができ、薄膜とすることができる。層数を減らすことで、生産性が向上し、積層界面での散乱による透明性の減少を抑制することができる。
【００４２】
金属酸化物粒子の平均粒径は、例えば１００ｎｍ以下である。用いる金属酸化物粒子の平均粒径が１００ｎｍ以下であることで、光散乱を抑制し、また光学反射フィルムにおける各屈折率層の膜厚制御の際の精度を向上させることができる。ここで、本明細書において平均粒径は、一次平均粒径を指す。本明細書でいう一次平均粒径とは、粒子そのものをレーザー回折散乱法、動的光散乱法、あるいは電子顕微鏡を用いて観察する方法や、屈折率層の断面や表面に現れた粒子像を電子顕微鏡で観察する方法により、１０００個の任意の粒子の粒径を測定し、その平均を求めた値である。金属酸化物粒子の平均粒径は、金属酸化物粒子が被覆処理されている場合（例えば、後述のシリカ付着二酸化チタン等）、金属酸化物粒子の平均粒径とは母体（上記シリカ付着二酸化チタンの場合は、処理前の二酸化チタン）の平均粒径を指すものとする。
【００４３】
（低屈折率層中の金属酸化物）
低屈折率層に用いる金属酸化物としてはシリカ（二酸化ケイ素）を例示することができ、具体的な例として合成非晶質シリカ、コロイダルシリカ等が挙げられる。これらのうち、酸性のコロイダルシリカゾルを用いることが好ましく、有機溶媒に分散させたコロイダルシリカを用いることがより好ましい。また、屈折率をより低減させるために、低屈折率層の金属酸化物粒子として、粒子の内部に空孔を有する中空微粒子を用いてもよく、特にシリカ（二酸化ケイ素）の中空微粒子が好ましい。また、シリカ以外の公知の金属酸化物粒子も使用することができる。低屈折率層に用いられる金属酸化物粒子は、１種単独であってもよいし、２種以上併用してもよい。
【００４４】
低屈折率層に含まれる金属酸化物粒子（好ましくは二酸化ケイ素）は、その平均粒径が３〜１００ｎｍであることが好ましい。一次粒子の状態で分散された二酸化ケイ素の一次粒子の平均粒径（塗布前の分散液状態での粒径）は、３〜５０ｎｍであるのがより好ましく、３〜４０ｎｍであるのがさらに好ましく、３〜２０ｎｍであるのが特に好ましく、４〜１０ｎｍであるのがもっとも好ましい。また、二次粒子の平均粒径としては、３０ｎｍ以下であることが、ヘイズが少なく可視光透過性に優れる観点で好ましい。
【００４５】
本形態で用いられるコロイダルシリカは、珪酸ナトリウムの酸等による複分解やイオン交換樹脂層を通過させて得られるシリカゾルを加熱熟成して得られるものであり、たとえば、特開昭５７−１４０９１号公報、特開昭６０−２１９０８３号公報などに記載されているものである。
【００４６】
この様なコロイダルシリカは合成品を用いてもよいし、市販品を用いてもよい。市販品としては、日産化学工業株式会社から販売されているスノーテックス（登録商標）シリーズ（スノーテックス（登録商標）ＯＳ、ＯＸＳ、Ｓ、ＯＳ、２０、３０、４０、Ｏ、Ｎ、Ｃ等）が挙げられる。
【００４７】
コロイダルシリカは、その表面をカチオン変性されたものであってもよく、また、Ａｌ、Ｃａ、ＭｇまたはＢａ等で処理された物であってもよい。
【００４８】
また、低屈折率層の金属酸化物粒子として、中空粒子を用いることもできる。中空微粒子を用いる場合には、平均粒子空孔径が、３〜７０ｎｍであるのが好ましく、５〜５０ｎｍがより好ましく、５〜４５ｎｍがさらに好ましい。なお、中空微粒子の平均粒子空孔径とは、中空微粒子の内径の平均値である。中空微粒子の平均粒子空孔径は、上記範囲であれば、十分に低屈折率層の屈折率が低屈折率化される。平均粒子空孔径は、電子顕微鏡観察で、円形、楕円形または実質的に円形は楕円形として観察できる空孔径を、ランダムに５０個以上観察し、各粒子の空孔径を求め、その数平均値を求めることにより得られる。なお、平均粒子空孔径は、円形、楕円形または実質的に円形もしくは楕円形として観察できる空孔径の外縁を、２本の平行線で挟んだ距離のうち、最小の距離を意味する。
【００４９】
低屈折率層における金属酸化物粒子の含有量は、低屈折率層の固形分に対して、例えば２０〜７０質量％であり、３０〜５０質量％であることが好ましい。
【００５０】
（高屈折率層中の金属酸化物）
高屈折率層に用いる金属酸化物粒子としては、例えば、二酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、アルミナ、コロイダルアルミナ、チタン酸鉛、鉛丹、黄鉛、亜鉛黄、酸化クロム、酸化第二鉄、鉄黒、酸化銅、酸化マグネシウム、水酸化マグネシウム、チタン酸ストロンチウム、酸化イットリウム、酸化ニオブ、酸化ユーロピウム、酸化ランタン、ジルコン、酸化スズなどが挙げられる。中でも、透明でより屈折率の高い高屈折率層を形成することのできる、二酸化チタン、酸化ジルコニウム等が好ましく、特に二酸化チタンとしてルチル型（正方晶形）酸化チタン粒子が好ましい。高屈折率層に用いられる金属酸化物粒子は、１種単独であってもよいし、２種以上併用してもよい。
【００５１】
高屈折率層で用いられる金属酸化物粒子に用いられる金属酸化物粒子の一次平均粒径は、３０ｎｍ以下であることが好ましく、１〜３０ｎｍであることがより好ましく、５〜１５ｎｍであることがさらに好ましい。一次平均粒径が１ｎｍ以上３０ｎｍ以下であれば、ヘイズが少なく可視光透過性に優れる観点で好ましい。
【００５２】
一般的に、酸化チタン粒子は、粒子表面の光触媒活性の抑制や、溶媒等への分散性を向上する目的で、表面処理が施された状態で使用されることが多く、表面処理としては、シリカ、アルミナ、水酸化アルミニウム、ジルコニア等、１種またその２種類以上で処理されているものが好ましい。より具体的には、酸化チタン粒子表面をシリカからなる被覆層で覆われ、粒子表面が負電荷を帯びたものや、アルミニウム酸化物からなる被覆層が形成されたｐＨ８〜１０で表面が正電荷を帯びたものが知られている。
【００５３】
酸化チタン粒子を含ケイ素の水和酸化物で被覆した、コアシェル構造を有する粒子を用いてもよい。ここで、「被覆」とは、酸化チタン粒子の表面の少なくとも一部に、含ケイ素の水和酸化物が付着されている状態を意味する。すなわち、金属酸化物粒子として用いられる酸化チタン粒子の表面が、完全に含ケイ素の水和酸化物で被覆されていてもよく、酸化チタン粒子の表面の一部が含ケイ素の水和酸化物で被覆されていてもよい。被覆された酸化チタン粒子の屈折率が含ケイ素の水和酸化物の被覆量により制御される観点から、酸化チタン粒子の表面の一部が含ケイ素の水和酸化物で被覆されることが好ましい。以下ではこのような被覆された酸化チタン粒子を「シリカ付着二酸化チタンゾル」とも称する。
【００５４】
含ケイ素の水和酸化物で被覆された酸化チタン粒子の酸化チタンはルチル型であってもアナターゼ型であってもよいが、ルチル型がより好ましい。これは、ルチル型の酸化チタン粒子が、アナターゼ型の酸化チタン粒子より光触媒活性が低いため、高屈折率層や隣接した低屈折率層の耐候性が高くなり、さらに屈折率が高くなるためである。
【００５５】
本明細書における「含ケイ素の水和酸化物」とは、無機ケイ素化合物の水和物、有機ケイ素化合物の加水分解物および／または縮合物のいずれでもよいが、本形態の効果を得るためにはシラノール基を有することがより好ましい。
【００５６】
含ケイ素の水和酸化物の被覆量は、金属酸化物粒子に対して３〜３０質量％、好ましくは３〜１０質量％、より好ましくは３〜８質量％である。被覆量が３０質量％以下であると、高屈折率層の所望の屈折率化が得られ、被覆量が３質量％以上であると粒子を安定に形成することができるからである。
【００５７】
酸化チタン粒子を含ケイ素の水和酸化物で被覆する方法としては、従来公知の方法により製造することができ、例えば、特開平１０−１５８０１５号公報、特開２０００−２０４３０１号公報、特開２００７−２４６３５１号公報等に記載された事項を参照することができる。
【００５８】
さらに、酸化チタン粒子は、単分散であることが好ましい。ここでいう単分散とは、下記式で求められる単分散度が４０％以下をいう。更に好ましくは３０％以下であり、特に好ましくは０．１〜２０％となる粒子である。
【００５９】
【数１】
2015198762.tif 000003
【００６０】
高屈折率層における金属酸化物粒子の含有量としては、高屈折率層の固形分に対して、例えば２０〜７０質量％であり、３０〜５０質量％であることが好ましい。
【００６１】
（その他の添加物）
各屈折率層は、上記以外にも、例えば、特開昭５７−７４１９３号公報、同５７−８７９８８号公報および同６２−２６１４７６号公報に記載の紫外線吸収剤、特開昭５７−７４１９２号公報、同５７−８７９８９号公報、同６０−７２７８５号公報、同６１−１４６５９１号公報、特開平１−９５０９１号公報および同３−１３３７６号公報等に記載されている退色防止剤、特開昭５９−４２９９３号公報、同５９−５２６８９号公報、同６２−２８００６９号公報、同６１−２４２８７１号公報および特開平４−２１９２６６号公報等に記載されている蛍光増白剤、硫酸、リン酸、酢酸、クエン酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等のｐＨ調整剤、消泡剤、ジエチレングリコール等の潤滑剤、防腐剤、帯電防止剤、マット剤等の公知の各種添加剤を含有していてもよい。これらの添加物の含有量は、屈折率層の固形分に対して、０．１〜１０質量％である。
【００６２】
これらの添加剤のうち、市販の製剤を用いた場合には、製剤中に溶媒が含まれる場合がある。しかしながら、これらの添加剤の添加量は屈折率層中の熱可塑性樹脂量と比べて少量であり、溶融押出プロセスにおいて高温にさらされるため大部分（または完全に）は蒸発する。従って、光学反射フィルム中に残存する添加剤製剤由来の溶媒量は、ハードコート塗布液に由来する溶媒量と比べてごく少量（または、検出されない）となる。よって、上記の含有量であれば、溶融押出によって反射部を形成した後、ハードコート層の形成前に残存溶媒量を調整しなくとも、ハードコート層形成後の乾燥工程のみによって容易にフィルム中の残存溶媒量を調整することができる。
【００６３】
〔ハードコート層〕
光学反射フィルムは、一般的には、真空蒸着法等の乾式成膜法によって形成されたハードコート層を含むものもある。しかしながら、本形態の光学反射フィルムは、ハードコート塗布液の塗布によって形成されたハードコート層を有する。なお、本明細書において「ハードコート層」とは、ＪＩＳ  Ｋ  ５６００−５−４：１９９９に準じた鉛筆硬度がＨ以上の層である。ハードコート層は、光学反射フィルムの耐擦過性を高めるための表面保護層として機能する。
【００６４】
本形態の光学反射フィルムに係るハードコート層は、光学反射フィルムの片表面にのみ形成してもよく、両表面に形成してもよい。また、ハードコート層は、１層のみでもまたは２層以上でもよい。光学反射フィルムが２層以上のハードコート層を有する場合、各ハードコート層の構成は同じでもよいし異なっていてもよい。
【００６５】
ハードコート層を構成するハードコート材料としては、アクリレート樹脂のような活性エネルギー線硬化性樹脂や、ポリシロキサン系に代表される無機系材料が挙げられるが、成形が容易なことから、活性エネルギー線硬化性樹脂が好ましい。このような硬化性樹脂は、単独でもまたは２種以上組み合わせても用いることができる。
【００６６】
ハードコート層中のハードコート材料の量は、ハードコート層の固形分に対して、例えば２０〜９９．９質量％であり、２０〜８０質量％であることが好ましく、３０〜６０質量％であることがより好ましい。ハードコート層には、１〜８ｍｇ／ｇ程度の溶媒が含まれる。
【００６７】
本形態においてハードコート層の形成には、ハードコート材料、ならびに任意に含まれる界面活性剤、赤外線吸収剤、紫外線吸収剤および／または酸化防止剤等を含むハードコート塗布液を、ワイヤーバー等により反射部上に塗布して成膜する方法が採用される。ハードコート層は反射部上に直接設けられても良いが、ハードコート層と反射部との間に導電性層、帯電防止層、ガスバリア層、易接着層（接着層）、防汚層、消臭層、流滴層、易滑層、ハードコート層、耐摩耗性層、反射防止層、電磁波シールド層、紫外線吸収層、赤外線吸収層、印刷層、蛍光発光層、ホログラム層、剥離層、粘着層、接着層、本発明の高屈折率層および低屈折率層以外の赤外線カット層（金属層、液晶層）、着色層（可視光線吸収層）などの機能層を含む場合は、これらの層上に配置されても良い。
【００６８】
ハードコート層を塗布法により形成する際に用いる溶媒は、特に制限されず、例えば、炭化水素類（例えば、トルエン、キシレン、シクロヘキサン等）、アルコール類（例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール等）、ケトン類（例えば、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン等）、エーテル（例えば、テトラヒドロフラン等）、グリコールエーテル類（例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル（メチルセロソルブ）、エチレングリコールモノエチルエーテル（エチルセロソルブ）、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル（ブチルセロソルブ）、エチレングリコールモノ−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、３−メトキシブタノール、３−メトキシ−３−メチルブタノール、３−メトキシ−３−メチルブチルアセテート、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、１−エトキシ−２−プロパノール、１−プロポキシ−２−プロパノール、３−メトキシブチルアセテート、３−エトキシプロピオン酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート等）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸メチル等）、その他の有機溶媒の中から適宜選択し、またはこれらを混合し利用できる。このうち、０．１〜０．５の相対蒸発速度である溶媒を全溶媒量に対して５〜２０質量％含有する塗布液を用いることで、乾燥工程における溶媒の揮発速度が制御しやすくなり、また、乾燥工程において過度に時間を要することなくフィルム中の残存溶媒を調整できることから好ましい。すなわち、本発明の一実施形態では、ハードコート層が、０．１〜０．５の相対蒸発速度である溶媒を、全溶媒量に対して５〜２０質量％含有する塗布液を塗布し、乾燥して形成された光学反射フィルムが提供される。本明細書において、相対蒸発速度とはＡＳＴＭ−Ｄ３５３９−１１に準拠して測定される蒸発速度であり、２５℃、乾燥空気下における酢酸ｎ−ブチルの蒸発時間と各溶媒の蒸発時間との比の値として定義される。
【００６９】
０．１〜０．５の相対蒸発速度である溶媒としては、特に制限されるものでは無いが、例えば、１−ブタノール（相対蒸発速度０．５）、ジイソブチルケトン（相対蒸発速度０．２）、シクロヘキサノン（相対蒸発速度０．３）、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン（相対蒸発速度０．２）、エチレングリコールモノエチルエーテル（相対蒸発速度０．４）、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル（相対蒸発速度０．１）、エチレングリコールモノ−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル（相対蒸発速度０．２）、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート（相対蒸発速度０．３）、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート（相対蒸発速度０．２）、３−メトキシブタノール（相対蒸発速度０．１）、３−メトキシ−３−メチルブタノール（相対蒸発速度０．１）、３−メトキシ−３−メチルブチルアセテート（相対蒸発速度０．１）、１−メトキシ−２−プロピルアセテート（相対蒸発速度０．３）、１−エトキシ−２−プロパノール（相対蒸発速度０．３）、１−プロポキシ−２−プロパノール（相対蒸発速度０．２）、３−メトキシブチルアセテート（相対蒸発速度０．１）、３−エトキシプロピオン酸エチル（相対蒸発速度０．３）、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート（相対蒸発速度０．２）等が挙げられる。
【００７０】
ハードコート層を塗布法により形成する際に用いる塗布液としては、上記のような０．１〜０．５の相対蒸発速度である溶媒を全溶媒量に対して例えば３〜３５質量％含有し、５〜２０質量％含有することが好ましい。より好ましくは、塗布液は、０．１〜０．５の相対蒸発速度である溶媒を、全溶媒量に対して８〜１８質量％含有する。また、０．１を超えて０．５以下の相対蒸発速度である溶媒を５〜２０質量％含有することも好ましい形態であり、０．１を超えて０．５以下の相対蒸発速度である溶媒を８〜１８質量％含有することが更に好ましい。
【００７１】
本発明においては、１〜３．５の相対蒸発速度であるハードコート塗布液もまた、好ましく用いられる。本発明の一実施形態では、相対蒸発速度が１〜３．５のハードコート塗布液の塗布によって形成された光学反射フィルムが提供される。かような塗布液を用いることで、乾燥工程における溶媒の揮発速度が制御しやすくなり、また、乾燥工程において過度に時間を要することなくフィルム中の残存溶媒を調整できる。塗布液の相対蒸発速度を上記範囲とするためには、相対蒸発速度が上記範囲内である溶媒を塗布液の調製に用いればよい。用いた溶媒の相対蒸発速度が、上記のハードコート塗布液の相対蒸発速度の数値として採用される。１〜３．５の相対蒸発速度である溶媒としては、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ、相対蒸発速度１．６）、イソプロパノール（相対蒸発速度１．５）、酢酸プロピル（相対蒸発速度２．１）等が例示できる。塗布液の相対蒸発速度は、１．５〜３．４であることがより好ましく、２．７〜３．４であることがさらに好ましい。１〜３．５の相対蒸発速度である溶媒として、２種以上の溶媒を混合した混合溶媒を塗布液に用いることもできる。塗布液の溶媒として混合溶媒を用いる場合、混合溶媒の相対蒸発速度Ｒｎは以下の式により求めることができる。
【００７２】
【数２】
2015198762.tif 000004
【００７３】
ただし、上記数式（１）中、ｉは混合溶媒を構成する各単独溶媒の名称を、Ｒは相対蒸発速度を、γは活動度係数を、φは体積分率を表す。
【００７４】
１〜３．５の相対蒸発速度である溶媒として、２種以上の溶媒を混合した混合溶媒を塗布液に用いる場合は、例えば、トルエン（相対蒸発速度４．５）、シクロヘキサン（相対蒸発速度４．５）、メタノール（相対蒸発速度１．９）、エタノール（相対蒸発速度１．５）、アセトン（相対蒸発速度５．６）、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）（相対蒸発速度３．７）、メチルイソブチルケトン（相対蒸発速度１．６）、テトラヒドロフラン（相対蒸発速度４．９）、酢酸メチル（相対蒸発速度５．１）、酢酸エチル（相対蒸発速度４．２）等や、上記の０．１〜０．５の相対蒸発速度である溶媒を混合溶媒を構成する各単独溶媒として用い、混合溶媒の相対蒸発速度が目的の数値範囲となる各単独溶媒の体積分率を上記数式（１）から求め、混合溶媒を調製すればよい。
【００７５】
ハードコート層の厚さは、例えば、０．５〜２０μｍであり、１．２〜１０μｍが好ましく、２〜８μｍであることがより好ましい。ハードコート層の厚さが０．５μｍ以上であれば耐擦過性が向上する傾向にあり、２０μｍ以下であれば応力によってハードコート層が割れる危険性が低くなる。また、ハードコート層の厚さを１．２〜１０μｍとすることで、耐久性と耐候性のバランスが良く、好ましく使用できる。
【００７６】
（活性エネルギー線硬化性樹脂）
活性エネルギー線硬化性樹脂とは、紫外線や電子線のような活性エネルギー線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂をいう。活性エネルギー線硬化性樹脂としては、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含む成分が好ましく用いられ、紫外線や電子線のような活性エネルギー線を照射することによって硬化させることができる。活性エネルギー線硬化性樹脂としては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、紫外線照射によって硬化する紫外線硬化性樹脂が好ましい。
【００７７】
紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化性ウレタンアクリレート樹脂、紫外線硬化性ポリエステルアクリレート樹脂、紫外線硬化性エポキシアクリレート樹脂、紫外線硬化性ポリオールアクリレート樹脂、紫外線硬化性アクリルアクリレート樹脂、または紫外線硬化性エポキシ樹脂等が好ましく用いられる。このうち、ハードコート層が、紫外線硬化性ウレタンアクリレート樹脂、紫外線硬化性ポリエステルアクリレート樹脂、紫外線硬化性エポキシアクリレート樹脂、紫外線硬化性ポリオールアクリレート樹脂、または紫外線硬化性アクリルアクリレート樹脂から選択されるアクリレート樹脂を含有することがさらに好ましい。
【００７８】
紫外線硬化性ウレタンアクリレート樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、またはプレポリマーを反応させて得られた生成物にさらに２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（以下、アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する）、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることができる。例えば、特開昭５９−１５１１１０号公報に記載のユニディック（登録商標）１７−８０６（ＤＩＣ株式会社製）１００質量部とコロネート（登録商標）Ｌ（日本ポリウレタン工業株式会社製）１質量部との混合物等が好ましく用いられる。
【００７９】
紫外線硬化性ポリエステルアクリレート樹脂は、一般にポリエステル末端の水酸基やカルボキシル基に２−ヒドロキシエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、アクリル酸のようなモノマーを反応させることによって容易に得ることができる（例えば、特開昭５９−１５１１１２号公報）。
【００８０】
紫外線硬化性エポキシアクリレート樹脂は、エポキシ樹脂の末端の水酸基にアクリル酸、アクリル酸クロライド、グリシジルアクリレートのようなモノマーを反応させて得られる。
【００８１】
紫外線硬化性ポリオールアクリレート樹脂としては、例えば、エチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート等のモノマーの１種または２種以上を硬化させて得られる樹脂を挙げることができる。
【００８２】
さらにまた、これらの樹脂の光増感剤（ラジカル重合開始剤）として、ベンゾイン、べンゾインメチルエーテル、べンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のべンゾインとそのアルキルエーテル類；アセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（商品名：イルガキュア（登録商標）１８４、ＢＡＳＦ社製）等のアセトフェノン類；メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−アミルアントラキノン等のアントラキノン類；チオキサントン、２，４―ジエチルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン類；アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタール等のケタール類；ベンゾフェノン、４，４−ビスメチルアミノべンゾフェノン等のベンゾフェノン類およびアゾ化合物等を用いることができる。これらは単独でもまたは２種以上組み合わせても使用することができる。加えて、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン等の第３級アミン；２−ジメチルアミノエチル安息香酸、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル等の安息香酸誘導体等の光開始助剤等と組み合わせて使用することができる。これらラジカル重合開始剤の使用量は、樹脂の重合性成分１００質量部に対して好ましくは０．５〜２０質量部、より好ましくは１〜１５質量部である。
【００８３】
ハードコート層形成に用いられる活性エネルギー線硬化性樹脂の市販品の例としては、上記の他に、例えば、ユニディック（登録商標）シリーズ（ＤＩＣ株式会社）（例えば、ユニディック（登録商標）Ｖ−４０１８、ユニディック（登録商標）Ｖ−４０２５、ユニディック（登録商標）１７−８０６、ユニディック（登録商標）１７−８２４−９）、ヒタロイド（登録商標）シリーズ（日立化成株式会社製）、紫光（登録商標）シリーズ（日本合成化学工業株式会社製）、ビームセットシリーズ（荒川化学工業株式会社）（例えば、ビームセット（登録商標）５７５、ビームセット（登録商標）５７７）、ＥＴＥＲＭＥＲ２３８２（ＥＴＥＲＮＡＬ  ＣＨＥＭＩＣＡＬ社製）等を挙げることができる。
【００８４】
（ポリシロキサン系ハードコート材料）
ポリシロキサン系ハードコート材料を用いる場合、乾燥工程においてハードコート材料が硬化する。ハードコート層の形成に適用可能なポリシロキサン系ハードコート材料としては、下記一般式（１）で表される化合物が好ましい。
【００８５】
【化１】
2015198762.tif 000005
【００８６】
上記一般式（１）において、ＲおよびＲ１は、それぞれ独立して、炭素数１〜１０の直鎖状、分枝状、または環状のアルキル基を表し、ｍおよびｎは、ｍ＋ｎ＝４の関係を満たす整数である。
【００８７】
具体的な化合物としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等が挙げられる。また、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（Ｎ−アミノベンジルアミノエチル）−γ−アミノプロピルメトキシシラン・塩酸塩、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、アミノシラン、メチルメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、オクタデシルジメチル［３−（トリメトキシシリル）プロピル］アンモニウムクロライドを挙げることができる。これらのメトキシ基、エトキシ基などの加水分解性基がヒドロキシ基に置換した状態のものが、一般的にポリオルガノシロキサン系ハードコート材料といわれている。
【００８８】
前記ポリオルガノシロキサン系ハードコート材料の具体的には、サーコートシリーズ、ＢＰ−１６Ｎ（以上、株式会社動研製）、ＳＲ２４４１（東レ・ダウコーニング株式会社製）、Ｐｅｒｍａ−Ｎｅｗ  ６０００（カリフォルニアハードコーティングカンパニー社製）などを利用することができる。
【００８９】
また、ハードコート層は、以下の界面活性剤、赤外線吸収剤、紫外線吸収剤および／または酸化防止剤を含有することが好ましい。
【００９０】
（界面活性剤）
本形態の光学反射フィルムは、ハードコート層が界面活性剤を含有することが好ましい。界面活性剤を含むハードコート塗布液により塗膜が形成されると、レベリング性の高い塗膜となるため、残存溶媒量が部分的に多い箇所や少ない箇所が形成されることを防止し、ハードコート層の密着性が向上することが期待できる。
【００９１】
界面活性剤の種類としては、特に制限はなく、フッ素系界面活性剤、アクリル系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤等を用いることができる。特に塗布液のレベリング性、撥水性、滑り性という観点で、フッ素系界面活性剤を用いることが好ましい。
【００９２】
フッ素系界面活性剤の例としては、例えば、ＤＩＣ株式会社製のメガファック（登録商標）Ｆシリーズ（Ｆ−４３０、Ｆ−４７７、Ｆ−５５２〜Ｆ−５５９、Ｆ−５６１、Ｆ−５６２等）、ＤＩＣ株式会社製のメガファック（登録商標）ＲＳシリーズ（ＲＳ−７６−Ｅ等）、ＡＧＣセイミケミカル株式会社製のサーフロン（登録商標）シリーズ、ＯＭＮＯＶＡ  ＳＯＬＵＴＩＯＮＳ社製のＰＯＬＹＦＯＸシリーズ、株式会社Ｔ＆Ｋ  ＴＯＫＡのＺＸシリーズ、ダイキン工業株式会社製のオプツール（登録商標）シリーズ、ネオス社製のフタージェント（登録商標）シリーズ（６０２Ａ、６５０Ａ等）等の市販品を使用することができる。アクリル系界面活性剤としては、ポリフローシリーズ（共栄社化学株式会社製）、ニューコールシリーズ（日本乳化剤株式会社製）、ＢＹＫ（登録商標）−３５４（ビックケミー・ジャパン社製）が挙げられる。シリコーン系界面活性剤としては、ＢＹＫ（登録商標）−３４５、ＢＹＫ（登録商標）−３４７、ＢＹＫ（登録商標）−３４８、ＢＹＫ（登録商標）−３４９（ビックケミー・ジャパン社製）が挙げられる。界面活性剤は、単独でもまたは２種以上混合して用いてもよい。
【００９３】
ハードコート層中の界面活性剤の量は、ハードコート塗布液中の界面活性剤の配合量を変更することで調節でき、ハードコート層の乾燥質量当たり界面活性剤の質量が０．０１〜５質量％であることが好ましい。
【００９４】
（赤外線吸収剤）
本形態の光学反射フィルムは、ハードコート層が赤外線吸収剤を含有することが好ましい。ハードコート層が赤外線吸収剤を含有することで、高温高湿状態にさらされた場合のヘイズの上昇や変色が抑制され得る。
【００９５】
ハードコート層に適用可能な赤外線吸収剤としては、無機系赤外線吸収剤および有機系赤外線吸収剤のいずれも使用することができるが、無機系赤外線吸収剤が好ましく、可視光線透過率、赤外線吸収性、樹脂中への分散適性等の観点から、ハードコート層が酸化スズ系赤外線吸収剤を含有することがより好ましい。
【００９６】
例えば、無機系赤外線吸収剤としては、酸化亜鉛、アンチモンドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）、インジウムドープ酸化亜鉛（ＩＺＯ）、ガリウムドープ酸化亜鉛（ＧＺＯ）、アルミニウムドープ酸化亜鉛、酸化スズ、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、インジウムドープ酸化スズ（ＩＴＯ）、アンチモン酸亜鉛、ホウ素化ランタン、ニッケル錯体系化合物を用いることができるが、その中でも、アンチモンドープ酸化亜鉛、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、インジウムドープ酸化スズまたはアンチモン酸亜鉛が好ましい。有機系赤外線吸収剤としては、例えば、イモニウム系、フタロシアニン系、アミニウム系化合物を利用することができる。これら赤外線吸収剤は、単独でもまたは２種以上混合しても用いることができる。
【００９７】
赤外線吸収剤は合成品を用いてもよいし市販品を用いてもよい。市販品の例としては、例えば、酸化亜鉛系としてセルナックス（登録商標）シリーズ（日産化学工業株式会社製）、パゼットシリーズ（ハクスイテック株式会社製）、酸化スズ系としてＳＲ３５Ｍ、ＴＲＢ  Ｐａｓｔｅ（以上、アドバンストナノプロダクツ社製）、ＡＴＯ分散液、ＩＴＯ分散液（以上、三菱マテリアル株式会社製）、ＫＨシリーズ（住友金属鉱山株式会社製）等が挙げられる。有機系の市販品としては、例えば、ＮＩＲ−ＩＭ１、ＮＩＲ−ＡＭ１（以上、ナガセケミテックス株式会社製）、Ｌｕｍｏｇｅｎ（登録商標）シリーズ（ＢＡＳＦ社製）等が挙げられる。赤外線吸収剤は、単独でもまたは２種以上混合して用いてもよい。
【００９８】
ハードコート層中の赤外線吸収剤の含有量は、ハードコート層の乾燥質量当たり、５質量％〜８０質量％であることが好ましく、３０質量％〜７０質量％であることがより好ましい。
【００９９】
また、ハードコート層は、上記赤外線吸収剤以外の無機微粒子を含有してもよい。好ましい無機微粒子としては、チタン、シリカ、ジルコニウム、アルミニウム、マグネシウム、アンチモン、亜鉛またはスズなどの金属を含む無機化合物の微粒子が挙げられる。この無機微粒子の平均粒径は、可視光線の透過性を確保することから、１０００ｎｍ以下が好ましく、１０〜５００ｎｍの範囲にあるものがより好ましい。また、無機微粒子は、ハードコート層を形成する硬化性樹脂との結合力が高い方がハードコート層からの脱落を抑制できることから、単官能または多官能のアクリレートなどの光重合反応性を有する感光性基を表面に導入しているものが好ましい。
【０１００】
（紫外線吸収剤）
本形態の光学反射フィルムは、ハードコート層が紫外線吸収剤を含有しても良い。
【０１０１】
紫外線吸収剤の種類としては、２，４−ジヒドロキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン等のベンゾフェノン系紫外線吸収剤；２−（２’−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤；フェニルサリチレート、２−４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等のサリチル酸フェニル系紫外線吸収剤；ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケート等のヒンダードアミン系紫外線吸収剤；２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−エトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン等のトリアジン系紫外線吸収剤；等が挙げられる。
【０１０２】
紫外線吸収剤としては、上記以外に紫外線の保有するエネルギーを、分子内で振動エネルギーに変換し、その振動エネルギーを、熱エネルギー等として放出する機能を有する化合物が含まれる。
【０１０３】
なお、紫外線吸収剤は、単独でもまたは２種以上混合して用いてもよい。また、紫外線吸収剤は、合成品を用いてもよいし市販品を用いてもよい。市販品の例としては、例えば、Ｔｉｎｕｖｉｎ（登録商標）３２０、Ｔｉｎｕｖｉｎ（登録商標）３２８、Ｔｉｎｕｖｉｎ（登録商標）２３４、Ｔｉｎｕｖｉｎ（登録商標）１５７７、Ｔｉｎｕｖｉｎ（登録商標）６２２（以上、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）、アデカスタブ（登録商標）ＬＡ−３１（以上、株式会社アデカ製）、ＳＥＥＳＯＲＢ（登録商標）１０２、ＳＥＥＳＯＲＢ（登録商標）１０３、ＳＥＥＳＯＲＢ（登録商標）５０１（以上、シプロ化成株式会社製）などが挙げられる。
【０１０４】
紫外線吸収剤の含有量は、ハードコート層の全質量に対して、０．１質量％以上１０質量％以下であることが好ましく、０．１質量％以上５質量％以下であることが好ましい。
【０１０５】
（酸化防止剤）
本形態の光学反射フィルムはまた、ハードコート層が酸化防止剤を含有してもよい。酸化防止剤の種類としては、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、テトラキス−〔メチレン−３−（３’、５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン等のフェノール系酸化防止剤；ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス−（β−ラウリル−チオプロピオネート）等のチオール系酸化防止剤；トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ジ（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト等のホスファイト系酸化防止剤；ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート等のヒンダードアミン系酸化防止剤；などが挙げられる。
【０１０６】
なお、酸化防止剤は、単独でもまたは２種以上混合して用いてもよい。また、酸化防止剤は、合成品を用いてもよいし市販品を用いてもよい。市販品の例としては、例えば、ノクラック（登録商標）シリーズ（大内新興化学工業株式会社製）、アデカスタブ（登録商標）シリーズ（以上、株式会社ＡＤＥＫＡ製）、ＩＲＧＡＮＯＸ（登録商標）シリーズ、ＩＲＧＡＦＯＳ（登録商標）シリーズ（以上いずれもチバ・スペシャルティ・ケミカルズ製）、Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ（登録商標）シリーズ（以上、住友化学株式会社製）等が挙げられる。
【０１０７】
酸化防止剤の含有量は、ハードコート層の全質量に対して、０．１質量％以上１０質量％以下であることが好ましく、０．１質量％以上５質量％以下であることが好ましい。
【０１０８】
また、ハードコート層に染料や顔料を添加して色相を調整することもできる。例えば、カドミウムレッド、モリブデンレッド、クロムパーミリオン、酸化クロム、ビリジアン、チタンコバルトグリーン、コバルトグリーン、コバルトクロムグリーン、ビクトリアグリーン、群青、ウルトラマリンブルー、紺青、ベルリンブルー、ミロリブルー、コバルトブルー、セルリアンブルー、コバルトシリカブルー、コバルト亜鉛ブルー、マンガンバイオレット、ミネラルバイオレッド、コバルトバイオレット等の有色無機顔料や、フタロシアニン顔料等の有機顔料、アントラキノン系染料が好ましく使用される。
【０１０９】
〔その他の層〕
本形態の光学反射フィルムは、さらなる機能の付加を目的として、導電性層、帯電防止層、ガスバリア層、易接着層（接着層）、防汚層、消臭層、流滴層、易滑層、耐摩耗性層、反射防止層、電磁波シールド層、紫外線吸収層、赤外線吸収層、印刷層、蛍光発光層、ホログラム層、剥離層、粘着層、接着層、本発明の高屈折率層および低屈折率層以外の反射層（金属層、液晶層）、着色層（可視光線吸収層）などの機能層の１つ以上を有していてもよい。
【０１１０】
これらの機能層は、例えば、スパッタ法（ＤＣスパッタ法、ＲＦスパッタ法、イオンビームスパッタ法、およびマグネトロンスパッタ法等）、真空蒸着法、イオンプレーティング法等の乾式成膜法の他、塗布法によっても形成され得るが、溶媒を使用しない乾式成膜法で形成することが好ましい。これらの機能層を塗布法により形成した場合であっても、残存溶媒量を測定した後に乾燥工程を行えば、乾燥工程中の重量変化を測定する等の手段によりフィルム中の残存溶媒量を調整することができる。また、これらの機能層を塗布法によって形成する場合には、残存溶媒量の調整がしやすいという観点から、ハードコート層の形成において好ましく使用されるものとして上述した溶媒、特に、０．１〜０．５の相対蒸発速度である溶媒を全溶媒量に対して５〜２０質量％する塗布液を、機能層に用いる材料との相溶性等を考慮したうえで用いることが好ましい。また、１〜３．５の相対蒸発速度である溶媒も好ましく用いることができる。
【０１１１】
反射フィルムにおける上述の各種の機能層の積層順は、特に制限されない。
【０１１２】
〔残存溶媒〕
本形態の光学反射フィルムは、光学反射フィルム中の残存溶媒が１〜８ｍｇ／ｇであることを特徴とする。光学反射フィルム中の残存溶媒は、１〜８ｍｇ／ｇであればよいが、好ましくは１〜５ｍｇ／ｇであり、より好ましくは１〜３．６ｍｇ／ｇであり、さらに好ましくは１〜３ｍｇ／ｇである。光学反射フィルム中の残存溶媒が１ｍｇ／ｇ未満であると、ハードコート層の収縮の影響が大きくなり、カールやひび割れによる密着性の低下やヘイズの劣化が見られる。また、光学反射フィルム中の残存溶媒が８ｍｇ／ｇを超えると、高温高湿状態にさらされた場合にヘイズの上昇や変色を起こしやすくなり、ハードコート層の密着性が低下する。
【０１１３】
本形態の光学反射フィルムにおいて反射部は、溶融押出成形によって形成される。従って、反射部の形成工程において溶媒を使用する必要がない。または、添加物に由来する少量の溶媒が使用される場合であっても、溶融押出プロセスにおいて溶媒は蒸発する。一方、本形態の光学反射フィルムが含むハードコート層はハードコート塗布液の塗布によって形成されることから、ハードコート層の塗膜形成工程において溶媒が使用される。フィルム中の残存溶媒量は、塗膜形成工程後に行われる乾燥工程において、乾燥条件（乾燥温度、乾燥時間等）を制御したり、ハードコート塗膜の膜厚や塗膜形成工程に用いる溶媒を選択したりすることによって、任意に調整することができる。例えば、乾燥温度を高くする、または乾燥時間を長くすることにより、フィルム中の残存溶媒量は少なくなる。一方、乾燥温度を低くする、または乾燥時間を短くすることにより、フィルム中の残存溶媒量は多くなる。また、一定の乾燥温度、乾燥時間で比較した場合、ハードコート塗膜の膜厚を薄くしたり、ハードコート塗布液の調製に相対蒸発速度が高い溶媒を用いたりすると、残存溶媒量は少なくなる。一方、ハードコート塗膜の膜厚を厚くしたり、相対蒸発速度が低い溶媒を用いたりすると、残存溶媒量は多くなる。乾燥前のフィルム中の残存溶媒量を下記方法にて測定し、その後、フィルムの重量変化を観察しつつ乾燥を行うなどの方法により、フィルム中の残存溶媒量を任意に設定できる。
【０１１４】
フィルム中の残存溶媒の量は、ガスクロマトグラフィー法で測定できる。具体的には、膜厚方向に垂直に切り出したフィルム片を秤量し、バイアル瓶に封入し、オーブンで１２０℃、３０分間加熱して発生した気体を下記測定条件にてガスクロマトグラフィーにて測定する。
【０１１５】
（ガスクロマトグラフィー測定条件）
ＧＣ：  カラム    Ｇ＆Ｗ  Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ  ＤＢ−６２４（０．２５ｍｍＩ．Ｄ．×３０Ｍ）
ＯＶＥＮ  ４０℃（２ｍｉｎ）−１０℃／ｍｉｎ−２３０℃（１４ｍｉｎ）
ＩＮＪ  ２３０℃
ＡＵＸ  ２３０℃
ＭＡＳＳ  ｓｃａｎ  ＭａｓｓＲａｎｇｅ  ２０−３００。
【０１１６】
＜光学反射フィルムの製造方法＞
本発明の第二の側面においては、高屈折率層と低屈折率層とを積層したユニットを少なくとも１つ含む積層体を、溶融押出成形によって形成し（反射部形成工程）；ハードコート塗布液を前記積層体の少なくとも一方の面側に塗布して塗膜を形成し（塗膜形成工程）；および塗膜を形成した前記積層体中の残存溶媒が１〜８ｍｇ／ｇとなるように乾燥すること（乾燥工程）、を含む、光学反射フィルムの製造方法が提供される。
【０１１７】
本発明の第二の側面において、高屈折率層と低屈折率層とを積層したユニットを少なくとも１つ含む積層体は、溶融押出成形によって形成される。なお、溶融押出成形によって形成された積層体は、光学反射フィルムにおける反射部に相当する。塗布法や溶液流涎法のような溶媒を用いて反射部を形成する方法と異なり、溶融押出成形により得られる熱可塑性樹脂の積層体を反射部として利用することにより、溶媒を用いずに光学反射フィルムの反射部を形成することができる。また、溶融押出成形を採用することにより、仮に反射部形成工程において使用した添加剤に溶媒が含まれていたとしても、高温にさらされる溶融押出プロセスにおいて大部分（または全部）が蒸発し、積層体に残存する溶媒量はごく微小となる（または、実質的に含まれない）。従って、ハードコート塗膜の形成前に残存溶媒量を調整しなくとも、最終産物であるフィルム中の残存溶媒量を調整することが容易となるため、製造効率の観点から利点がある。
【０１１８】
本態様にかかる光学反射フィルムの製造方法においては、第１の熱可塑性樹脂を含有する高屈折率層と第２の熱可塑性樹脂を含有する低屈折率層とを同時に積層する、多層押出しによって積層体（反射部）を形成することが好ましい。
【０１１９】
本発明の第二の側面においては、各屈折率層材料を１００〜４００℃で押出しに適当な粘度になるように溶融させ、必要に応じて金属酸化物等の添加剤を添加し、高屈折率層が含有する第１の樹脂と、低屈折率層が含有する第２の樹脂との両方の熱可塑性樹脂を交互に二層になるように押出し機によって押し出すことができる。
【０１２０】
上記溶融前に、熱可塑性樹脂、およびその他必要により添加される添加剤を、混合機等により混合しておくことが好ましい。また、押出し機を用いて混合物を直接溶融して成膜するようにしてもよいが、一旦、混合物をペレット化した後、該ペレットを押出し機で溶融して成膜するようにしてもよい。
【０１２１】
押出し機は、市場で入手可能な種々の押出し機を使用可能であるが、溶融混練押出し機が好ましく、単軸押出し機でも２軸押出し機でもよい。
【０１２２】
なお、混合物からペレットを作製せずに、直接成膜を行なう場合、適当な混練度が必要であるため２軸押出し機を用いることが好ましいが、単軸押出し機でも、スクリューの形状をマドック型、ユニメルト、ダルメージ等の混練型のスクリューに変更することにより、適度の混練が得られるので、使用可能である。また、ペレットを使用する場合は、単軸押出し機でも２軸押出し機でも使用可能である。
【０１２３】
また、混練時には、窒素ガス等の不活性ガスで置換するか、あるいは減圧することにより、酸素の濃度を下げることが好ましい。
【０１２４】
次に、押し出された積層膜を、冷却ドラム等により冷却固化し、積層体（光学反射フィルムにおける反射部）を得る。
【０１２５】
その後、任意に、この積層体を加熱してから二方向に延伸してもよい。延伸方法としては、前述の冷却ドラムから剥離され、得られた未延伸積層体を複数のロール群および／または赤外線ヒーター等の加熱装置を介してガラス転移温度（Ｔｇ）−５０℃からＴｇ＋１００℃の範囲内に加熱し、積層体搬送方向（長手方向ともいう）に、一段または多段縦延伸することが好ましい。次に、上記のようにして得られた延伸された積層体を、積層体搬送方向に直交する方向（幅手方向ともいう）に延伸することも好ましい。積層体を幅手方向に延伸するには、テンター装置を用いることが好ましい。
【０１２６】
積層体搬送方向または積層体搬送方向に直交する方向に延伸する場合は、１．５〜５．０倍の倍率で延伸することが好ましく、より好ましくは２．０〜４．０倍の範囲である。なお、延伸の回数は、１回でもよく、２回以上であってもよい。
【０１２７】
また、延伸に引き続き熱固定することもできる。熱固定は、Ｔｇ−１００℃〜Ｔｇ＋５０℃の範囲内で通常０．５〜３００秒間搬送しながら行うことが好ましい。熱固定手段は特に制限なく、一般的に熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波等で行うことができるが、簡便さの点で、熱風で行うことが好ましい。積層体の加熱は段階的に高くしていくことが好ましい。
【０１２８】
熱固定された積層体は通常Ｔｇ以下まで冷却され、積層体両端のクリップ把持部分をカットし巻き取られる。また冷却は、最終熱固定温度からＴｇまでを、毎秒１００℃以下の冷却速度で徐冷することが好ましい。冷却する手段は特に限定はなく、従来公知の手段で行えるが、特に複数の温度領域で順次冷却しながらこれらの処理を行うことがフィルムの寸法安定性向上の点で好ましい。尚、冷却速度は、最終熱固定温度をＴ１、積層体が最終熱固定温度からＴｇに達するまでの時間をｔとしたとき、（Ｔ１−Ｔｇ）／ｔで求めた値である。
【０１２９】
本態様における製造方法では、上記方法にて得られた積層体（フィルムにおける反射部）少なくとも一方の面側に、必要に応じて他の機能層を形成した後、ハードコート塗布液を塗布して塗膜を形成する。塗布方法としては、ワイヤーバーによるコーティング、スピンコーティング、ディップコーティング等が挙げられる。また、ダイコーター、グラビアコーター、コンマコーターなどの連続塗布装置でも塗布することが可能である。
【０１３０】
ハードコート塗布液は、乾燥後のハードコート層の厚みが、例えば、０．５〜２０μｍ、好ましくは１．２〜１０μｍ、より好ましくは２〜８μｍとなるように塗布する。塗布と乾燥工程を複数回繰り返すことで、ハードコート層の厚さを所望の厚さまで厚くすることもできる。一定の乾燥温度、乾燥時間で比較した場合、ハードコート塗膜の膜厚を薄くすることで残存溶媒量を減少させることができ、ハードコート塗膜の膜厚を厚くすることで残存溶媒量を増やすことができる。
【０１３１】
ハードコート塗布液の溶媒は、特に制限されず、例えば、アルコール類等の本発明の第一の実施形態において例示した溶媒の中から適宜選択し、またはこれらを混合し利用できる。このうち、０．１〜０．５の相対蒸発速度である溶媒を全溶媒量に対して５〜２０質量％含有する塗布液を用いることで、乾燥工程における溶媒の揮発速度が制御しやすくなり、また、乾燥工程において過度に時間を要することなくフィルム中の残存溶媒を調整できる。本明細書において、相対蒸発速度とはＡＳＴＭ−Ｄ３５３９−１１に準拠して測定される蒸発速度であり、第一の実施形態と同様である。０．１〜０．５の相対蒸発速度である溶媒としては、第一の実施形態で例示した１−ブタノール（相対蒸発速度０．５）等が挙げられる。
【０１３２】
ハードコート塗膜を形成する際に用いる塗布液としては、上記のような０．１〜０．５の相対蒸発速度である溶媒を全溶媒量に対して、例えば３〜３５質量％含有し、好ましくは、塗布液は、０．１〜０．５の相対蒸発速度である溶媒を、全溶媒量に対して５〜２０質量％含有する。より好ましくは、塗布液は、０．１〜０．５の相対蒸発速度である溶媒を、全溶媒量に対して８〜１８質量％含有する。また、０．１を超えて０．５以下の相対蒸発速度である溶媒を５〜２０質量％含有することも好ましい形態であり、０．１を超えて０．５以下の相対蒸発速度である溶媒を８〜１８質量％含有することが更に好ましい。
【０１３３】
本発明においては、１〜３．５の相対蒸発速度である塗布液もまた、好ましく用いられる。塗布液の相対蒸発速度を上記範囲とするためには、相対蒸発速度が上記範囲内である溶媒を塗布液の調製に用いればよい。用いた溶媒の相対蒸発速度が、上記のハードコート塗布液の相対蒸発速度の数値として採用される。すなわち、本発明の一実施形態では、光学反射フィルムの製造工程は、１〜３．５の相対蒸発速度であるハードコート塗布液を塗布する工程を含む。１〜３．５の相対蒸発速度である溶媒としては、第一の側面で例示したものを用いることができる。塗布液の相対蒸発速度は、１．５〜３．４であることがより好ましく、２．７〜３．４であることがさらに好ましい。この場合、第一の側面で説明したような、２種以上の溶媒を混合した混合溶媒を塗布液に用いることもできる。フィルムの製造において使用する溶媒の相対蒸発速度が１〜３．５であると、乾燥条件の制御による残存溶媒量の調整が容易となる。一定の乾燥温度、乾燥時間で比較した場合、ハードコート塗布液の調製に用いる溶媒の相対蒸発速度が高くなると残存溶媒量が減少し、相対蒸発速度が低くなると残存溶媒量は増加する。
【０１３４】
活性エネルギー線硬化性樹脂や無機系材料等の上述のハードコート材料のハードコート塗布液中の配合量は、ハードコート塗布液全体に対して、３〜８０質量％であることが好ましく、１０〜７０質量％であることがより好ましく、１０〜５０質量％であることがさらに好ましい。また、ハードコート塗布液中の溶媒量は、ハードコート塗布液全体に対して、２０〜９７質量％であることが好ましく、３０〜９０質量％であることがより好ましく、４０〜７０質量％であることが更に好ましい。
【０１３５】
ハードコート塗布液には、界面活性剤を添加して、レベリング性、撥水性、滑り性等を付与することもできる。界面活性剤の種類として、特に制限はなく、上記のフッ素系界面活性剤、アクリル系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤等を用いることができる。特にレベリング性、撥水性、滑り性という観点で、フッ素系界面活性剤を用いることが好ましい。ハードコート塗布液中の界面活性剤の量は、ハードコート塗布液全体に対して、例えば０．００４〜２質量％である。市販の界面活性剤としては、第一の側面で例示したものが採用される。
【０１３６】
赤外線の遮蔽性向上という観点から、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）等の上述の赤外線吸収剤を添加しても良い。ハードコート塗布液中の赤外線吸収剤の量は、ハードコート塗布液全体に対して、例えば２〜４０質量％である。市販の赤外線吸収剤としては、第一の実施形態で例示したものが採用される。
【０１３７】
本発明の一実施形態では、ハードコート塗布液は、３〜３５質量％のハードコート材料、３５〜９０質量％の溶媒、０．０１〜０．５質量％の界面活性剤、および５〜３４．５質量％の赤外線吸収剤（全量で１００質量％）を含む。
【０１３８】
ハードコート塗布液にはまた、上述の紫外線吸収剤や酸化防止剤を添加しても良い。市販の紫外線吸収剤や酸化防止剤としては、第一の側面で例示したものが採用される。
【０１３９】
ハードコート塗布液の製造方法は特に限定されず、溶媒に各成分を添加し、適宜混合することによって得られる。添加順序、添加方法は特に限定されず、攪拌しながら各成分を順次添加し混合してもよいし、攪拌しながら一度に添加し混合してもよい。
【０１４０】
準備されたハードコート塗布液を、上述の積層体（フィルムにおける反射部）の少なくとも一方の面側に直接塗布しても良いが、ハードコート層と反射部との間に導電性層、帯電防止層、ガスバリア層、易接着層（接着層）、防汚層、消臭層、流滴層、易滑層、ハードコート層、耐摩耗性層、反射防止層、電磁波シールド層、紫外線吸収層、赤外線吸収層、印刷層、蛍光発光層、ホログラム層、剥離層、粘着層、接着層、本発明の高屈折率層および低屈折率層以外の赤外線カット層（金属層、液晶層）、着色層（可視光線吸収層）などの機能層を含む場合は、これらの層に塗付しても良い。
【０１４１】
ハードコート層の下層への密着性をさらに高めるため、硬化樹脂層を積層する前にアンカー層（プライマー層）を形成することができる。アンカー層の膜厚は特に限定されるものではないが、０．１〜１０μｍ程度である。好適な例として、アンカー層を構成する樹脂としては、ポリビニルアセタール樹脂、アクリル樹脂が挙げられる。
【０１４２】
その後、塗膜形成後の積層体（乾燥対象物）中の残存溶媒が１〜８ｍｇ／ｇとなるよう、乾燥対象物を乾燥する。乾燥手段は特に限定されず、温風乾燥、赤外乾燥、マイクロ波乾燥が用いられる。乾燥温度としては、用いられる溶媒や乾燥温度等の条件に応じて適宜設定されるが、通常５０〜２００℃であり、好ましくは７０〜１５０℃であり、より好ましくは８０〜１２０℃である。また、乾燥時間としては、例えば３０秒〜３００秒であり、好ましくは９０秒を超えて１８０秒以下である。乾燥温度を高く、および／または乾燥時間を長くすれば、乾燥対象物や最終産物であるフィルム中の残存溶媒量を減少させることができる。反対に、乾燥温度を低く、および／または乾燥時間を短くすれば、乾燥対象物や最終産物であるフィルム中の残存溶媒量を増やすことができる。
【０１４３】
乾燥対象物中の残存溶媒は、１〜８ｍｇ／ｇであればよいが、好ましくは１〜５ｍｇ／ｇであり、より好ましくは１〜３．６ｍｇ／ｇであり、さらに好ましくは１〜３ｍｇ／ｇである。乾燥対象物中の残存溶媒が１ｍｇ／ｇ未満であると、ハードコートの熱収縮が大きくなり、ひび割れが生じやすくなり、密着性が低下する。また、乾燥対象物中の残存溶媒が８ｍｇ／ｇを超えると、高温高湿状態にさらされた場合にヘイズの上昇や変色を起こしやすくなり、ハードコート層の密着性が低下する。
【０１４４】
乾燥対象物中の残存溶媒を調整するため、ハードコート塗布液の塗布後、乾燥工程前における積層体中の残存溶媒量を、上記のガスクロマトグラフィーを用いた方法にて測定してもよい。また、乾燥工程においては、溶媒の蒸発に伴う重量変化を経時で観察することにより、乾燥対象物中の残存溶媒量を調整することが容易となる。
【０１４５】
乾燥後、フィルム中の残存溶媒量を安定化させるため、乾燥対象物を冷却しても良い。冷却方法は特に制限されず、例えば、上述の熱固定後の冷却方法と同様の手法が採用され得る。
【０１４６】
活性エネルギー線硬化性樹脂を用いる場合、乾燥工程後に、ハードコート塗膜に活性エネルギー線を照射し（硬化処理）、ハードコート材料を硬化させてもよい。活性エネルギー線の照射波長、照度、光量によって反応性が変わるため一概には言えないが、例えば、その照度は５０〜１５００ｍＷ／ｃｍ２が好ましく、１００〜１０００ｍＷ／ｃｍ２がより好ましい。このとき、照射エネルギー量は５０〜１５００ｍＪ／ｃｍ２が好ましく、１００〜１０００ｍＪ／ｃｍ２がより好ましい。また、照射時間は、１〜３００秒が好ましい。活性エネルギー線硬化性樹脂の場合、熱硬化性樹脂と異なり硬化条件が穏やかであるため、硬化処理における残存溶媒量への影響を考慮する必要が無いという利点がある。活性エネルギー線としては、用いる活性エネルギー線硬化性樹脂に応じて、紫外線の他にも電子線等も用いられうる。
【０１４７】
＜光学反射体＞
本発明の光学反射フィルムは、幅広い分野に応用することができる。すなわち、本発明の好適な一態様は、上記光学反射フィルム、または上記製造法によって製造された光学反射フィルムが基体の少なくとも一方の面に設けられてなる、光学反射体である。例えば、建物の屋外の窓や自動車窓等長期間太陽光に晒らされる設備（基体）に貼り合せ、熱線反射効果を付与する熱線反射フィルム等の窓貼用フィルム、農業用ビニールハウス用フィルム等として、主として耐候性を高める目的で用いられる。特に、本発明に係る光学反射フィルムが直接または接着剤を介して、ガラスまたはガラス代替樹脂等の基体に貼合されている部材には好適である。
【０１４８】
基体の具体的な例としては、例えば、ガラス、ポリカーボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスルフィド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、ジアリルフタレート樹脂、ポリイミド樹脂、ウレタン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、スチレン樹脂、塩化ビニル樹脂、金属板、セラミック等が挙げられる。樹脂の種類は、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂のいずれでも良く、これらを２種以上組み合わせて用いても良い。基体は、押出成形、カレンダー成形、射出成形、中空成形、圧縮成形等、公知の方法で製造することができる。基体の厚みは特に制限されないが、通常０．１ｍｍ〜５ｃｍである。
【０１４９】
光学反射フィルムと基体とを貼り合わせる接着層または粘着層は、光学反射フィルムを日光（熱線）入射面側に設置することが好ましい。また、光学反射フィルムを、窓ガラスと基体との間に挟持すると、水分等の周囲のガスから封止でき耐久性に優れるため好ましい。本発明に係る赤外遮蔽フィルムを屋外や車の外側（外貼り用）に設置しても環境耐久性があって好ましい。
【０１５０】
光学反射フィルムと基体とを貼り合わせる接着層または粘着層は、窓ガラスなどに貼り合わせたとき、光学反射フィルムが日光（熱線）入射面側にあるように設置することが好ましい。また光学反射フィルムを窓ガラスと基材との間に挟持すると、水分等周囲ガスから封止でき耐久性に好ましい。本発明の光学反射フィルムを屋外や車の外側（外貼り用）に設置しても環境耐久性があって好ましい。
【０１５１】
本発明に適用可能な接着剤としては、光硬化性もしくは熱硬化性の樹脂を主成分とする接着剤を用いることができる。
【０１５２】
接着剤は紫外線に対して耐久性を有するものが好ましく、アクリル系粘着剤またはシリコーン系粘着剤が好ましい。更に粘着特性やコストの観点から、アクリル系粘着剤が好ましい。特に剥離強さの制御が容易なことから、アクリル系粘着剤において、溶剤系およびエマルジョン系の中で溶剤系が好ましい。アクリル溶剤系粘着剤として溶液重合熱可塑性樹脂を使用する場合、そのモノマーとしては公知のものを使用できる。
【０１５３】
また、合わせガラスの中間層として用いられるポリビニルブチラール系樹脂、あるいはエチレン−酢酸ビニル共重合体系樹脂を用いてもよい。具体的には可塑性ポリビニルブチラール（積水化学工業社製、三菱モンサント社製等）、エチレン−酢酸ビニル共重合体（デュポン社製、武田薬品工業社製、デュラミン）、変性エチレン−酢酸ビニル共重合体（東ソー社製、メルセン（登録商標）Ｇ）等である。なお、粘着層や接着層には紫外線吸収剤、抗酸化剤、帯電防止剤、熱安定剤、滑剤、充填剤、着色、接着調整剤等を適宜添加配合してもよい。
【０１５４】
光学反射フィルムまたは光学反射体（赤外遮蔽体）の断熱性能、日射熱遮へい性能は、一般的にＪＩＳ  Ｒ  ３２０９（１９９８）（複層ガラス）、ＪＩＳ  Ｒ  ３１０６（１９９８）（板ガラス類の透過率・反射率・放射率・日射熱取得率の試験方法）、ＪＩＳ  Ｒ  ３１０７（１９９８）（板ガラス類の熱抵抗および建築における熱貫流率の算定方法）に準拠した方法により求めることができる。
【０１５５】
日射透過率、日射反射率、放射率、可視光透過率の測定は、（１）波長（３００〜２５００ｎｍ）の分光測光器を用い、各種単板ガラスの分光透過率、分光反射率を測定する。また、波長５．５〜５０μｍの分光測定器を用いて放射率を測定する。なお、フロート板ガラス、磨き板ガラス、型板ガラス、熱線吸収板ガラスの放射率は既定値を用いる。（２）日射透過率、日射反射率、日射吸収率、修正放射率の算出は、ＪＩＳ  Ｒ  ３１０６（１９９８）に従い、日射透過率、日射反射率、日射吸収率、垂直放射率を算出する。修正放射率に関しては、ＪＩＳ  Ｒ  ３１０７（１９９８）に示されている係数を、垂直放射率に乗ずることにより求める。断熱性、日射熱遮へい性の算出は、（１）厚さの測定値、修正放射率を用いＪＩＳ  Ｒ  ３２０９（１９９８）に従って複層ガラスの熱抵抗を算出する。ただし中空層が２ｍｍを超える場合はＪＩＳ  Ｒ  ３１０７（１９９８）に従って中空層の気体熱コンダクタンスを求める。（２）断熱性は、複層ガラスの熱抵抗に熱伝達抵抗を加えて熱貫流抵抗で求める。（３）日射熱遮蔽性はＪＩＳ  Ｒ  ３１０６（１９９８）により日射熱取得率を求め、１から差し引いて算出する。
【０１５６】
＜実施形態＞
以下に、本発明の実施形態を例示的に示す。
（１）  高屈折率層と低屈折率層とを積層したユニットを少なくとも１つ含む、溶融押出成形によって形成された反射部、および、ハードコート塗布液の塗布によって形成されたハードコート層を含む光学反射フィルムであって、前記フィルム中の残存溶媒が１〜８ｍｇ／ｇである、光学反射フィルム。
（２）  前記ハードコート層の厚さが、１．２〜１０μｍである、（１）に記載の光学反射フィルム。
（３）  前記ハードコート層が、界面活性剤を含有する、（１）または（２）に記載の光学反射フィルム。
（４）  前記ハードコート層が、赤外線吸収剤を含有する、（１）〜（３）のいずれか１つに記載の光学反射フィルム。
（５）  前記ハードコート層が、アクリレート樹脂を含有する、（１）〜（４）のいずれか１つに記載の光学反射フィルム。
（６）  前記ハードコート層が、０．１〜０．５の相対蒸発速度である溶媒を、全溶媒量に対して５〜２０質量％含有する塗布液を塗布し、乾燥して形成された、（１）〜（５）のいずれか１つに記載の光学反射フィルム。
（７）  前記ハードコート塗布液の相対蒸発速度が１〜３．５である、（１）〜（６）のいずれか１つに記載の光学反射フィルム。
（８）  高屈折率層と低屈折率層とを積層したユニットを少なくとも１つ含む積層体を、溶融押出成形によって形成し；ハードコート塗布液を前記積層体の少なくとも一方の面側に塗布して塗膜を形成し；および塗膜を形成した前記積層体中の残存溶媒が１〜８ｍｇ／ｇとなるように乾燥すること、を含む、光学反射フィルムの製造方法。
（９）  （１）〜（７）のいずれか１つに記載の光学反射フィルム、または（８）に記載の製造方法によって製造された光学反射フィルムが、基体の少なくとも一方の面に設けられてなる光学反射体。
【実施例】
【０１５７】
本発明の効果を、以下の実施例および比較例を用いて説明する。ただし、本発明の技術的範囲が以下の実施例のみに制限されるわけではない。【０１５８】
＜製造例：  溶融押出成形による反射部の形成＞
特表２００２−５０９２７９号公報（米国特許第６，０４９，４１９号明細書に相当する）に記載の溶融押出成形法に従い、高屈折率層と低屈折率層とを積層したユニットを少なくとも１つ含む反射部を形成した。具体的には、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）（ＴＮ８０６５Ｓ、帝人化成社製）とポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）（アクリペット（登録商標）ＶＨ、三菱レイヨン社製）とを３００℃に溶融し、多層押出しダイスを用いてキャスティングドラム上に押出した後、ロールとテンターとにより縦方向に３倍、横方向にも３倍延伸し、（ＰＭＭＡ（１５２ｎｍ）／ＰＥＮ（１３７ｎｍ））６４／（ＰＭＭＡ（１６４ｎｍ）／ＰＥＮ（１４８ｎｍ））６４／（ＰＭＭＡ（１７７ｎｍ）／ＰＥＮ（１６０ｎｍ））６４／（ＰＭＭＡ（１９１ｍ）／ＰＥＮ（１７３ｎｍ））６４、となる計２５６層交互積層した積層体を得た。ここで、上記層構成において、「（ＰＭＭＡ（１５２ｎｍ）／ＰＥＮ（１３７ｎｍ））６４」とは、膜厚１５２ｎｍのＰＭＭＡ、膜厚１３７ｎｍのＰＥＮをこの順に積層したユニットが６４個であるという意味であり、他のユニットについても同様に意図される。なお、屈折率の値の相対的な関係から、ＰＭＭＡからなる層が低屈折率層（屈折率：１．４９）であり、ＰＥＮからなる層が高屈折率層である（屈折率：１．７７）。【０１５９】
＜実施例１＞
終濃度が下記の組成となるハードコート塗布液（１）を調製した。表中、ハードコート塗布液の相対蒸発速度は上述の数式（１）により求めた。【０１６０】
【表１】
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【０１６１】
上述の方法で得られた積層体の片側の面に、ハードコート塗布液（１）をグラビア塗布により、乾燥後のハードコート層の厚さが４μｍとなるように塗布した。次に、ハードコート塗膜を形成した積層体をオーブン中で１１０℃、１２０秒乾燥した。得られた乾燥物に活性エネルギー線を照射し、光学反射フィルムＮｏ．（１）を得た。活性エネルギー線の照射には高圧水銀ランプを用い、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量８００ｍＪ／ｃｍ２の条件で行った。【０１６２】
得られたフィルムから膜厚方向に垂直にフィルム片を切り出し、秤量した（１ｇ）。次に、フィルム片をバイアル瓶に封入し、オーブンで１２０℃、３０分間加熱して発生した気体をガスクロマトグラフィーにて測定し、フィルム中の残存溶媒量を求めた。ガスクロマトグラフィーの測定条件は、上述のとおりである。フィルム中の残存溶媒量は７．８ｍｇ／ｇ（フィルム）であった。なお、残存溶媒量の測定は、フィルムの製造後１２時間以内に行った。【０１６３】
＜実施例２〜１２、比較例１〜４＞
実施例１の方法に準じて、下記の表２の条件でハードコート層を形成し、光学反射フィルムＮｏ．（２）〜Ｎｏ．（１２）（実施例２〜１２）、ならびに、光学反射フィルムＮｏ．（１３）〜（１６）（比較例１〜４）を得た。各光学反射フィルム中の残存溶媒量を表２に示す。【０１６４】
＜評価＞
（ヘイズ）
各光学反射フィルムを５０℃、相対湿度８０％環境下で４８時間保持し、その前後でのヘイズ差をヘイズメーター（日本電色工業社製、ＮＤＨ２０００）により測定した。なお、ヘイズメーターの光源は、５Ｖ９Ｗのハロゲン球とし、受光部は、シリコンフォトセル（比視感度フィルター付き）を使用した。結果を表２に示す。【０１６５】
（ＳＷＯＭ変色）
各光学反射フィルムを白板ガラスに貼り付け、ＪＩＳ  Ｋ５４００：１９９０規定条件で稼働したサンシャインウェザーメーター（ＳＷＯＭ）（スガ試験機社製）中で１０００時間保存した。保存前後の光学反射フィルムのＬ＊値、ａ＊値、ｂ＊値を分光光度計（機種名：Ｕ−４１００型、日立製作所社製）で測定した。保存前後におけるＬ＊値の差をΔＬ＊、ａ＊値の差をΔａ＊、ｂ＊値の差をΔｂ＊として、以下の式によってΔＥを算出した。ΔＥが小さいほど変色が小さいことを示す。結果を表２に示す。【０１６６】
【数３】
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【０１６７】
（密着性）
ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−６：１９９９のクロスカット法に従い、各光学反射フィルムについて、フィルム最表面に片刃のカミソリの刃を面に対して９０°の角度で、２ｍｍ間隔でクロスカットし、１０ｍｍ角の碁盤目を作製した。日東電工株式会社製のセロファンテープＮｏ．２９をハードコート層に貼り付けて、テープをはがし、ハードコート層の剥離状態を調べた。【０１６８】
クロスカットしたマス目の数をｎ、テープ剥離後に積層体にハードコート層が残っているマス目の数をｎ１とした時に、Ｆ＝（ｎ１／ｎ）×１００（％）を計算し、以下の基準で評価した。結果を表２に示す
◎：Ｆが１００％、
○：Ｆが８０％以上１００％未満、
△：Ｆが５０％以上８０％未満、
×：Ｆが５０％未満。【０１６９】
【表２】
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【０１７０】
表２から明らかなように、本発明に係る光学反射フィルムは耐候性に優れ、ハードコート層の密着性が高いことが分かる。【０１７１】
本出願は、２０１４年６月２７日に出願された日本特許出願第２０１４−１３３１１２号に基づいており、その開示内容は、参照により全体として本開示に引用される。
【符号の説明】
【０１７２】
１０  光学反射フィルム、
１１  反射部、
１２  ハードコート層、
１３  粘着層、
１１１  低屈折率層、
１１２  高屈折率層、
１１３  ユニット。
【図１】
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【国際調査報告】
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