(57)【要約】転写層の転写性が良好であり、転写層の剥がれが無く、かつ、剥離層が転写層側に残らず現像工程が不要となる転写材料を提供する。転写材料は、仮支持体、剥離層、転写層および保護フィルムをこの順で含む転写材料であり、前記保護フィルムを転写材料から剥がすときに前記保護フィルムが前記転写層から剥がれ、かつ、前記転写層が前記剥離層側に残り、前記転写層を前記ガラスまたはＴＡＣ、ＰＥＴ、ＰＣまたはＣＯＰから選ばれるフィルムからなる被転写基材に転写し、前記仮支持体を剥離したときに、剥離した前記仮支持体側に前記剥離層がある。
2014175312.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
仮支持体、剥離層、転写層および保護フィルムをこの順で含む転写材料であり、
前記保護フィルムが前記転写材料から剥がされる場合に、前記保護フィルムが前記転写層から剥がれ、かつ、前記転写層が前記剥離層側に残り、
前記転写層を、ガラスからなる被転写基材、または、トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネートまたはシクロオレフィンポリマーから選ばれるフィルムからなる被転写基材に転写後、前記仮支持体を剥がした場合に、前記剥離層が前記仮支持体とともに剥離されることを特徴とする、転写材料。
【請求項２】
前記保護フィルムを前記転写材料から剥がすときの前記保護フィルムと前記転写層間の剥離力が、１０〜２００ｍＮ／ｍである、請求項１に記載の転写材料。
【請求項３】
前記被転写基材に転写した前記転写層から、前記剥離層および前記仮支持体の積層体を剥離するときの剥離力が、４０〜４００ｍＮ／ｍである、請求項１または２に記載の転写材料。
【請求項４】
前記剥離層が、マット剤を含み、前記剥離層から前記マット剤が１５０〜５００ｎｍ隆起していることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の転写材料。
【請求項５】
前記剥離層が、アルキルジオールと２官能以上のイソシアネートとの縮重合体、シリコーン樹脂、およびオレフィン樹脂から選ばれるポリマーを含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の転写材料。
【請求項６】
前記剥離層が、アルキルジオールと２官能以上のイソシアネートとの縮重合体およびオレフィン樹脂から選ばれるポリマーを含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載の転写材料。
【請求項７】
前記転写層が少なくとも１層以上からなり、
前記転写層のうち少なくとも１層が、バインダー樹脂、ならびに、顔料および染料のうち少なくとも一方を含む、請求項１〜６のいずれか一項に記載の転写材料。
【請求項８】
前記転写層が少なくとも２層からなり、
前記転写層のうち少なくとも１層が、バインダー樹脂、ならびに、顔料および染料のうち少なくとも一方を含み、
前記転写層のうち他の層が、バインダー樹脂を含む、請求項１〜７のいずれか一項に記載の転写材料。
【請求項９】
前記転写層のうち少なくとも１層に含まれる前記バインダー樹脂がシロキサン結合を有する、請求項７または８に記載の転写材料。
【請求項１０】
前記転写層のうち少なくとも１層が、前記顔料または染料として黒色顔料、黒色染料、および白色顔料、から選ばれる少なくとも１つの顔料または染料を含む、請求項７〜９のいずれか一項に記載の転写材料。
【請求項１１】
前記転写層が少なくとも２層からなり、
前記転写層のうち前記剥離層と隣接する層が少なくとも１つの黒色顔料および黒色染料から選ばれる顔料または染料を含み、
前記転写層のうち前記保護フィルムと隣接する層が白色顔料を含む、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の転写材料。
【請求項１２】
前記転写層が少なくとも２層からなり、
前記転写層のうち前記剥離層側の層ほど光学濃度が大きい、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の転写材料。
【請求項１３】
前記転写層が少なくとも２層からなり、
前記転写層のうち前記剥離層と隣接する層の光学濃度が１．０〜６．０である、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の転写材料。
【請求項１４】
前記転写層が少なくとも２層からなり、
前記転写層のうち前記剥離層と隣接する層の膜厚が０．５〜３．０μｍである、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の転写材料。
【請求項１５】
前記転写層が少なくとも２層からなり、
前記転写層のうち前記保護フィルム層と隣接する層の膜厚が５．０〜５０．０μｍである、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の転写材料。
【請求項１６】
前記仮支持体が、ポリエステル樹脂、トリアシルセルロース樹脂、およびシクロオレフィン樹脂から選ばれる樹脂を含む、請求項１〜１５のいずれか一項に記載の転写材料。
【請求項１７】
前記保護フィルムが、ポリオレフィンフィルムである、請求項１〜１６のいずれか一項に記載の転写材料。
【請求項１８】
前記被転写基材がガラスからなる、請求項１〜１７のいずれか一項に記載の転写材料。
【請求項１９】
前記被転写基材がシクロオレフィンポリマーフィルムからなる、請求項１〜１７のいずれか一項に記載の転写材料。
【請求項２０】
以下の（１）〜（３）の工程を含む、請求項１〜１９のいずれか一項に記載の転写材料の製造方法。
（１）前記剥離層を有する前記仮支持体を準備する。
（２）前記仮支持体の前記剥離層側に前記転写層を形成する。
（３）前記転写層側に前記保護フィルムを貼合する。
【請求項２１】
請求項１〜１９のいずれか一項に記載の転写材料を用い、以下の工程を含む、転写層付き基材の製造方法。
（１１）前記転写材料から前記保護フィルムを剥離する。
（１２）前記転写材料の前記転写層側を、前記ガラスからなる被転写基材、またはトリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネートまたはシクロオレフィンポリマーから選ばれるフィルムからなる被転写基材に転写する。
（１３）前記転写層から、前記剥離層と前記仮支持体を一度に剥離する。
【請求項２２】
前記転写層を前記被転写基材に転写する際の前記被転写基材の温度が、４０〜１５０℃である、請求項２１に記載の転写層付き基材の製造方法。
【請求項２３】
請求項２１または２２に記載の転写層付き基材の製造方法で製造された転写層付き基材。
【請求項２４】
２５℃における前記転写層の表面抵抗が１．０×１０10Ω／□以上である、請求項２３に記載の転写層付き基材。
【請求項２５】
請求項２３または２４に記載の転写層付き基材を用い、以下の工程を含む、タッチパネルの製造方法。
（２１）前記転写層付き基材の前記転写層側に導電層を形成する。
（２２）前記導電層を一部除去し、電極パターンを形成する。
【請求項２６】
請求項２３または２４に記載の転写層付き基材を含むタッチパネル。
【請求項２７】
請求項２６に記載のタッチパネルを有する情報表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、転写材料とその製造方法、転写材料を用いた転写層付き基材とその製造方法、転写層付き基材を備えたタッチパネルとその製造方法、およびタッチパネルを備えた情報表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
携帯電話、カーナビゲーション、パーソナルコンピュータ、券売機、銀行の端末などの電子機器では、近年、液晶装置などの表面にタッチパネル型の入力装置が配置されているものがある。タッチパネル型の入力装置では、液晶装置の画像表示領域に表示された指示画像を参照しながら、この指示画像が表示されている箇所に指やタッチペンなどを触れることによって、指示画像に対応する情報の入力が行われる。
このような入力装置（タッチパネル）には、抵抗膜型や静電容量型などがある。静電容量型の入力装置は、単に一枚の基板に透光性導電膜を形成すればよいという利点がある。静電容量型の入力装置においては、表示装置の引き回し回路等を使用者から視認されないようにするため、また見栄えをよくするため、指やタッチペンなどで触れる情報表示部（画像表示部）を囲む枠状に加飾材が配置されて、加飾が行われることがある。【０００３】
タッチパネルの作製以外の技術分野では、転写材料を用いて、所望の層を形成する方法が知られている。例えば、特許文献１には、仮支持体上に、熱可塑性樹脂層（クッション層）、中間層（酸素遮断層）、着色感光性組成物層、更に着色感光性組成物層上にカバーシートが設けられた感光性転写材料を永久支持体上に転写して、仮支持体と酸素遮断層との間で剥離して仮支持体を除去し、永久支持体、着色感光性樹脂組成物からなる層及び酸素遮断層をこの順に形成し、露光後に現像処理して熱可塑性樹脂層と中間層を除き、永久支持体上に色材層を形成する方法が記載されている。【０００４】
また、特許文献２には、仮支持体と剥離層からなる離型フィルムが開示されている。特許文献２では、離型フィルムの剥離層面に、図柄層および接着層などの加飾層を有する転写フィルムを構成することが記載されている。しかし、特許文献２では転写フィルムを製造した例はなく、転写フィルムを用いて加飾層などを転写した例もなく、転写法として成形同時転写法（インモールドで転写した後、仮支持体を剥離する方法）が想定されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１１−０９５７１６号公報
【特許文献２】特開２０１２−１２１９６９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明者がタッチパネルの製造において、転写材料を用いて加飾層などを形成しようとしたところ、特許文献１に記載の仮支持体上にクッション層や酸素遮断層を有する転写材料を用いると、転写層を転写した後にカバーシートを剥離するときに、クッション層や酸素遮断層が転写層側に残ってしまう問題があることがわかった。特許文献１では、これらのクッション層や酸素遮断層を現像によって除去しているが、製造コスト低減の観点から改善が求められる。
また、仮支持体上に、クッション層や酸素遮断層を設けることなく転写層を設けた転写材料を用いると、転写層を転写した後に仮支持体を剥離するときに、転写層の一部が仮支持体に残ったり、転写層が内部で破断したりしてしまう問題があることがわかった。
転写層の上に保護フィルムを設けない場合、ロール状に転写材料を保管するときに、この転写層の一部が仮支持体の裏面に接着して転写できなくなり、転写性が悪くなる問題があることがわかった。また、転写層の上に保護フィルムを設けたとしても、他の層との剥離力を調整しなければ、保護フィルム剥離時に転写層の一部がこの保護フィルム側に接着して転写できなくなり、転写性が悪くなる問題もあることがわかった。【０００７】
本発明が解決しようとする課題は、転写層の転写性が良好であり、かつ、転写した転写層への剥がれ残りが抑制された転写材料、転写層付き基材及びタッチパネル、それらの製造方法、並びに情報表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、仮支持体、剥離層、転写層および保護フィルムをこの順で含む構成とし、各層間の剥離力の大きさを特定の関係を満たすように制御することで、転写層の転写性が良好であり、かつ、転写した転写層への剥がれ残りが抑制された転写材料が得られることを見出した。
すなわち、以下に示す構成の本発明により、上記課題が解決できることを見出し、本発明の完成に至った。【０００９】
［１］  仮支持体、剥離層、転写層および保護フィルムをこの順で含む転写材料であり、
保護フィルムが転写材料から剥がされる場合に保護フィルムが転写層から剥がれ、かつ、前記転写層が前記剥離層側に残り、
転写層をガラスからなる被転写基材、またはＴＡＣ、ＰＥＴ、ＰＣまたはＣＯＰから選ばれるフィルムからなる被転写基材に転写後、仮支持体を剥がした場合に、剥離層が仮支持体とともに剥離されることを特徴とする、転写材料。
［２］  ［１］に記載の転写材料は、保護フィルムを転写材料から剥がすときの保護フィルムと転写層間の剥離力が、１０〜２００ｍＮ／ｍであることが好ましい。［３］  ［１］または［２］に記載の転写材料は、被転写基材に転写した転写層から、剥離層および仮支持体の積層体を剥離するときの剥離力が、４０〜４００ｍＮ／ｍであることが好ましい。
［４］  ［１］〜［３］のいずれか一項に記載の転写材料は、剥離層が、マット剤を含み、剥離層からマット剤が１５０〜５００ｎｍ隆起していることが好ましい。［５］  ［１］〜［４］のいずれか一項に記載の転写材料は、剥離層が、アルキルジオールと２官能以上のイソシアネートとの縮重合体、シリコーン樹脂、およびオレフィン樹脂から選ばれるポリマーを含むことが好ましい。
［６］  ［１］〜［５］のいずれか一項に記載の転写材料は、剥離層が、アルキルジオールと２官能以上のイソシアネートとの縮重合体およびオレフィン樹脂から選ばれるポリマーを含むことが好ましい。
［７］  ［１］〜［６］のいずれか一項に記載の転写材料は、転写層が少なくとも１層以上からなり、転写層のうち少なくとも１層が、バインダー樹脂、ならびに、顔料および染料のうち少なくとも一方を含むことが好ましい。
［８］  ［１］〜［７］のいずれか一項に記載の転写材料は、転写層が少なくとも２層からなり、
転写層のうち少なくとも１層が、バインダー樹脂、ならびに、顔料および染料のうち少なくとも一方を含み、
転写層のうち他の層が、バインダー樹脂を含むことが好ましい。
［９］  ［７］または［８］に記載の転写材料は、転写層のうち少なくとも１層に含まれる前記バインダー樹脂がシロキサン結合を有することが好ましい。
［１０］  ［７］〜［９］のいずれか一項に記載の転写材料は、転写層のうち少なくとも１層の転写層が、顔料または染料として黒色顔料、黒色染料、および白色顔料、から選ばれる少なくとも１つの顔料または染料を含むことが好ましい。
［１１］  ［１］〜［１０］のいずれか一項に記載の転写材料は、転写層が少なくとも２層からなり、
転写層のうち剥離層と隣接する層が少なくとも１つの黒色顔料および黒色染料から選ばれる顔料または染料を含み、
前記保護フィルムと隣接する層が白色顔料を含むことが好ましい。
［１２］  ［１］〜［１１］のいずれか一項に記載の転写材料は、前記転写層が少なくとも２層からなり、
転写層のうち剥離層側の転写層ほど光学濃度が前記保護フィルム側の転写層の光学濃度より大きいことが好ましい。
［１３］  ［１］〜［１２］のいずれか一項に記載の転写材料は、転写層が少なくとも２層からなり、
転写層のうち剥離層と隣接する層の光学濃度が１．０〜６．０であることが好ましい。
［１４］  ［１］〜［１３］のいずれか一項に記載の転写材料は、前記転写層が少なくとも２層からなり、
転写層のうち剥離層と隣接する層の膜厚が０．５〜３．０μｍであることが好ましい。
［１５］  ［１］〜［１４］のいずれか一項に記載の転写材料は、前記転写層が少なくとも２層からなり、
転写層のうち保護フィルム層と隣接する層の膜厚が５．０〜５０．０μｍであることが好ましい。
［１６］  ［１］〜［１５］のいずれか一項に記載の転写材料は、仮支持体が、ポリエステル樹脂、トリアシルセルロース樹脂、およびシクロオレフィン樹脂から選ばれる樹脂を含むことが好ましい。
［１７］  ［１］〜［１６］のいずれか一項に記載の転写材料は、保護フィルムが、ポリオレフィンフィルムであることが好ましい。
［１８］  ［１］〜［１７］のいずれか一項に記載の転写材料は、被転写基材がガラスからなることが好ましい。
［１９］  ［１］〜［１７］のいずれか一項に記載の転写材料は、被転写基材がシクロオレフィンポリマーフィルムからなることが好ましい。
［２０］  以下の（１）〜（３）の工程を含む［１］〜［１９］のいずれか一項に記載の転写材料の製造方法。
（１）剥離層を有する仮支持体を準備する。
（２）仮支持体の剥離層側に転写層を形成する。
（３）転写層側に保護フィルムを貼合する。
［２１］  ［１］〜［１９］のいずれか一項に記載の転写材料を用い、以下の工程を含む、転写層付き基材の製造方法。
（１１）転写材料から保護フィルムを剥離する。
（１２）転写材料の転写層側を、前記ガラスからなる被転写基材、またはＴＡＣ、ＰＥＴ、ＰＣまたはＣＯＰから選ばれるフィルムからなる被転写基材に転写する。
（１３）転写層から、剥離層と仮支持体を一度に剥離する。
［２２］  ［２１］に記載の転写層付き基材の製造方法は、転写層を被転写基材に転写する際の被転写基材の温度が、４０〜１５０℃であることが好ましい。
［２３］  ［２１］または［２２］に記載の転写層付き基材の製造方法で製造された転写層付き基材。
［２４］  ［２３］に記載の転写層付き基材は、２５℃における転写層の表面抵抗が１．０×１０10Ω／□以上であることが好ましい。
［２５］  ［２３］または［２４］に記載の転写層付き基材を用い、以下の工程を含むことを特徴とする、タッチパネルの製造方法。
（２１）転写層付き基材の転写層側に導電層を形成する。
（２２）導電層を一部除去し、電極パターンを形成する。
［２６］  ［２３］または［２４］に記載の転写層付き基材を含むことを特徴とするタッチパネル。
［２７］  ［２６］に記載のタッチパネルを有することを特徴とする情報表示装置。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、転写層の転写性が良好であり、かつ、転写した転写層への剥がれ残りが抑制された転写材料、転写層付き基材及びタッチパネル、それらの製造方法、並びに情報表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１Ａ】本発明のタッチパネルの一例の構成を示す断面概略図である。
【図１Ｂ】本発明のタッチパネルの他の一例の構成を示す断面概略図である。
【図２】タッチパネルの前面板の一例を示す説明図である。
【図３】第一の透明電極パターンおよび第二の透明電極パターンの一例を示す説明図である。
【図４】開口部が形成された強化処理ガラスの一例を示す上面図である。
【図５】白色層および遮光層が形成された前面板の一例を示す上面図である。
【図６】第一の透明電極パターンが形成された前面板の一例を示す上面図である。
【図７】第一および第二の透明電極パターンが形成された前面板の一例を示す上面図である。
【図８】第一および第二の透明電極パターンとは別の導電性要素が形成された前面板の一例を示す上面図である。
【図９】転写材料の断面の一例を示す概略図である。
【図１０】転写材料から保護フィルムを剥離した際の断面の一例を示す概略図である。
【図１１】転写材料の転写層を被転写基材に転写した際の断面の一例を示す概略図である。
【図１２】転写材料の転写層を被転写基材に転写した後に、仮支持体と剥離層とを一度に剥離する際の断面を示す概略図である。
【図１３】ハーフカット方法の一例を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明の転写材料、転写層付き基材およびタッチパネル、それらの製造方法、並びに情報表示装置について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされるものである。本発明は、以下の実施態様に限定されるものではない。本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
【００１３】
［転写材料］
転写材料は、仮支持体、剥離層、転写層および保護フィルムをこの順で含む転写材料であり、この保護フィルムを転写材料から剥がすときに保護フィルムが転写層から剥がれ、かつ、転写層が剥離層側に残り、転写層をガラスまたはＴＡＣ、ＰＥＴ、ＰＣまたはＣＯＰから選ばれるフィルムからなる被転写基材に転写し、仮支持体を剥離したときに、剥離した仮支持体側に剥離層があることを特徴とする。
このような構成により、転写層の転写性が良好であり、転写層の剥がれが無く、かつ、剥離層が転写層側に残らず現像工程が不要となる。
開口部８（図２参照）を有する静電容量型入力装置としてのタッチパネル１０において、白色層２ａや遮光層２ｂ等（図１Ａ及び図１Ｂ参照）を、転写材料２０（図９参照）を用いて形成すると、開口部８を有する被転写基材としての前面板１」でも、この開口部８の部分からレジスト成分のモレが抑制される。特に、前面板１の境界ギリギリまで遮光パターンを形成する必要のある白色層２ａや遮光層２ｂにおいて、ガラス端からのレジスト成分のはみ出しが抑制される。このため、前面板の裏側を汚染することなく、簡略な工程で、薄層及び軽量化のメリットがあるタッチパネル１０の製造が可能となる。
被転写基材としての前面板１は、ガラス基材１０１ａ（カバーガラス）及びフィルム基材１０１ｂのうち少なくともいずれかにより構成される。図１Ａにおいては、前面板１は、ガラス基材１０１ａにより構成されている。図１Ｂにおいては、前面板１は、ガラス基材１０１ａ及びフィルム基材１０１ｂにより構成されている。フィルム基材１０１ｂは、例えば、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）や、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＣ（ポリカーボネート）、ＣＯＰ（シクロオレフィンポリマー）などから選ばれるフィルムからなる。
以下、本発明の転写材料の好ましい態様について説明する。
【００１４】
＜構成＞
まず、転写材料２０の構成を説明する。
図９に本発明の転写材料の好ましい態様の一例を示す。転写材料２０は、仮支持体１１と、剥離層１２と、遮光層２ｂ及び白色層２ａからなる転写層２と、保護フィルム１３とを、この順で含む。転写材料２０は、これら仮支持体１１、剥離層１２、転写層２及び保護フィルム１３が、この順に積層して構成される。
このような構成とすることで、転写材料２０は、転写層２を、ガラス基材１０１ａ、または、ＴＡＣ、ＰＥＴ、ＰＣまたはＣＯＰから選ばれるフィルム基材１０１ｂに転写して、仮支持体１１を剥離したときに、剥離した仮支持体１１側に剥離層１２がある。
【００１５】
＜層間の剥離力＞
保護フィルム１３と転写層２の間の剥離力が、転写層２と剥離層１２の間の剥離力よりも小さいことが好ましい。つまり、転写層２に対して、保護フィルム１３の方が剥離層１２よりもはがれ易い。剥離力の関係が逆の場合は、転写層２と剥離層１２との間で剥離することとなり、望ましい形態を得られないことがある。
保護フィルム１３と転写層２との間の剥離力は、１０〜２００ｍＮ／ｍの範囲であることが好ましい。この剥離力が１０ｍＮ／ｍ未満で有る場合は、ハンドリング中に保護フィルム１３が転写材料２０から無用に剥がれやすくなり、好ましくない。また、２００ｍＮ／ｍより大きい場合は、保護フィルム１３を剥がす際、転写層２と剥離層１２の間で剥がれたり、保護フィルム１３に転写層２が凝集破壊によりくっ付いたりして、好ましくない。
保護フィルム１３と転写層２との間の剥離力は、１５〜１５０ｍＮ／ｍであることがより好ましく、２０〜１００ｍＮ／ｍであることがさらに好まく、３０〜６０ｍＮ／ｍであることが特に好ましい。
【００１６】
被転写基材に転写した転写層２から、剥離層１２および仮支持体１１の積層体を剥離するときの剥離力が、４０〜４００ｍＮ／ｍであることが好ましく、５０〜３００ｍＮ／ｍであることがより好ましく、６０〜２５０ｍＮ／ｍであることが特に好ましい。剥離力がこの範囲にある場合、転写層２をガラス基材１０１ａ、またはフィルム基材１０１ｂに転写して、仮支持体１１を剥離したときに、剥離した仮支持体１１側に剥離層１２があるようにしやすくなる。
【００１７】
＜仮支持体＞
転写材料２０は仮支持体１１を有する。
仮支持体１１は、可撓性を有することが好ましい。また、仮支持体１１は、加圧下、又は、加圧及び加熱下においても、著しい変形、収縮又は伸びを生じないことが好ましい。仮支持体１１としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム等を挙げることができる。仮支持体１１が、ポリエステル樹脂、トリアシルセルロース樹脂、シクロオレフィン樹脂から選ばれる樹脂を含むことが好ましく、その中でも２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを含むことが特に好ましい。
仮支持体１１の厚みには特に限定はないが、５〜３００μｍが好ましく、２０〜２００μｍがより好ましい。
仮支持体１１は透明でもよいし、染料化ケイ素、アルミナゾル、クロム塩、ジルコニウム塩などを含有していてもよい。
仮支持体１１には、特開２００５−２２１７２６号公報に記載の方法などにより、導電性を付与することができる。
【００１８】
＜剥離層＞
転写材料２０は、剥離層１２を含む。
剥離層１２は、アルキルジオールと２官能以上のイソシアネートとの縮重合体、シリコーン樹脂、オレフィン樹脂から選ばれるポリマーを含むことが好ましい。
【００１９】
アルキルジオールと２官能以上のイソシアネートとの縮重合体としては、ポリオレフィンポリオールと２官能以上のイソシアネートとの縮重合体が好ましい。ポリオレフィンポリオールと２官能以上のイソシアネートとの縮重合体としては、特開２０１２−１６２６２５号公報、特開２０１１−９４０９６号公報に記載のものを用いることができる。
ポリオレフィンポリオールとしては、以下のものが好ましい。
エポール（出光興産（株）製）、ユニストールＰ−８０１（三井化学（株）製）。
２官能以上のイソシアネートとしては、以下のものが好ましい。
コロネートＬ、コロネートＨＬ、ミリオネートＭＴ（以上、日本ポリウレタン工業（株）製）、タケネートＤ１１０Ｎ（三井化学（株）製）。
【００２０】
オレフィン樹脂としては、以下のものが好ましい。
タフマーＰ−００８０Ｋ、タフマーＰ−０２８０、タフマーＡ−３５０７０Ｓ、タフマーＰ−０６８０、タフマーＡ−１０７０Ｓ、タフマーＡ−４０８５Ｓ、ルーカントＨＣ−２０００（以上、三井化学（株）製）、エンゲージ８１８０（ダウケミカル（株製））。
酸変性ポリオレフィン樹脂としては、特開２０１１−１２６０４３号、特開２０１２−１５２９６５号、特開２０１２−１７１１５３号に記載のものを用いることが出来る以下のものが好ましい。
酸変性ポリオレフィン樹脂としては、以下のものが好ましい。
ｐｏｌｙｖｅｓｔ  ＯＣ８００Ｓ（エボニック・デグザ社製）、クラプレン  ＬＩＲ−４０３、ＬＩＲ−４１０（以上、クラレ社製）、ボンダイン  ＬＸ−４１１０、ＨＸ−８２１０、ＨＸ−８２９０（以上、アルケマ社製）。ベストブラスト７０８、ベストブラスト４０８（以上、ヒュルスジャパン社製）を無水マレイン酸で変性したもの。
【００２１】
転写材料２０は、仮支持体１１および剥離層１２として、仮支持体１１の少なくとも片面に剥離層１２が形成された「剥離フィルム」を用いてもよい。
剥離フィルムに用いられる剥離層１２は、シリコーン樹脂およびフッ素樹脂の中から選ばれた１種以上を主成分として含有することが好ましい。
【００２２】
シリコーン樹脂としては、一般に離型剤に利用されているシリコーン樹脂を用いることができる。シリコーン樹脂としては、例えば、「シリコーン材料ハンドブック」（東レダウコーニング編、１９９３．８）などに記載の当該分野で一般に使用されるシリコーン樹脂の中から選んで使用することができる。一般的には、熱硬化型シリコーン樹脂または電離放射線硬化型シリコーン樹脂（樹脂および樹脂組成物を包含して言う）が用いられる。熱硬化型シリコーン樹脂としては、例えば縮合反応型および付加反応型のシリコーン樹脂、電離放射線硬化型シリコーン樹脂としては、紫外線もしくは電子線硬化型のシリコーン樹脂などを用いることができる。これらを、基材であるフィルム上に塗布し、乾燥または硬化させることにより剥離層が形成される。
【００２３】
上記硬化型シリコーン樹脂は、その硬化後の重合度が５０〜２０万程度、特に１０００〜１０万程度であることが好ましく、これらの具体例としては、次の樹脂が挙げられる：信越化学工業（株）製のＫＳ−７１８、ＫＳ−７７４、ＫＳ−７７５、ＫＳ−７７８、ＫＳ−７７９Ｈ、ＫＳ−８３０、ＫＳ−８３５、ＫＳ−８３７、ＫＳ−８３８、ＫＳ−８３９、ＫＳ−８４１、ＫＳ−８４３、ＫＳ−８４７、ＫＳ−８４７Ｈ、Ｘ−６２−２４１８、Ｘ−６２−２４２２、Ｘ−６２−２１２５、Ｘ−６２−２４９２、Ｘ−６２−２４９４、Ｘ−６２−５０４８、Ｘ−６２−４７０、Ｘ−６２−２３６６、Ｘ−６２−６３０、Ｘ−９２−１４０、Ｘ−９２−１２８、ＫＳ−７２３Ａ・Ｂ、ＫＳ−７０５Ｆ、ＫＳ−７０８Ａ、ＫＳ−８８３、ＫＳ−７０９、ＫＳ−７１９；東芝シリコン（株）製のＴＰＲ−６７０１、ＴＰＲ−６７０２、ＴＰＲ−６７０３、ＴＰＲ−３７０４、ＴＰＲ−６７０５、ＴＰＲ−６７２１、ＴＰＲ−６７２２、ＴＰＲ−６７００、ＸＳＲ−７０２９、ＹＳＲ−３０２２、ＹＲ−３２８６；ダウコーニング（株）製のＤＫ−Ｑ３−２０２、ＤＫ−Ｑ３−２０３、ＤＫ−Ｑ３−２０４、ＤＫ−Ｑ３−２０５、ＤＫ−Ｑ３−２１０、ＤＫ−Ｑ３−２４０、ＤＫ−Ｑ３−３００３、ＤＫ−Ｑ３−３０５７、ＳＦＸＦ−２５６０；東レ・ダウコ一ニング・シリコーン（株）製のＳＤ−７２２６、ＳＤ−７２２９、ＳＤ−７３２０、ＢＹ−２４−９００、ＢＹ−２４−１７１、ＢＹ−２４−３１２、ＢＹ−２４−３７４、ＳＲＸ−３７５、ＳＹＬ−ＯＦＦ２３、ＳＲＸ−２４４、ＳＥＸ−２９０；アイ・シー・アイ・ジャパン（株）製のＳＩＬＣＯＬＥＡＳＥ４２５など。さらに、特開昭４７−３４４４７号公報、特公昭５２−４０９１８号公報などに記載のシリコーン樹脂も用いることができる。これらの硬化型シリコーン樹脂は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００２４】
フッ素樹脂としては、一般に離型剤に利用されているフッ素樹脂を用いることができる。フッ素樹脂としては、例えば、フッ素含有ビニル重合性単量体からなる重合体（オリゴマーを含む）またはその共重合体、フッ素含有ビニル重合性単量体とフッ素原子を含有しないビニル重合性単量体との共重合体、または、これらの混合物であって、フッ素原子を５〜８０モル％有する樹脂が挙げられる。
【００２５】
仮支持体１１および剥離層１２を含む剥離フィルムの市販品としては、ユニピール  ＴＲ４、ＴＲ６、ＴＲ９（以上、ユニチカ株式会社製）、６５０１、６５０２（以上、リンテック株式会社製）、セラピール  ＢＬＫ（東レフィルム加工株式会社製）、ＨＰ−Ａ３、ＨＰ−Ａ５（以上、フジコー株式会社製）、ＮＳＤ（藤森工業株式会社製）、ＴＮ１１０（東洋紡績株式会社製）、などを好ましく用いることができる。
【００２６】
剥離層１２には、上記樹脂以外に、本発明の効果を損なわない範囲で、当該分野で通常使用される添加剤が含有されていてもよい。添加剤としては、例えば、マット剤、消泡剤、塗布性改良剤、増粘剤、帯電防止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、磁化剤、染料などが挙げられる。
剥離層１２は、ロール形態でのブロッキング防止のためマット剤を含むことが出来る。マット剤は、（メタ）アクリルポリマーからなるもの、シリカからなるもの等、本発明に合致するものを選ぶことが出来る。マット剤は、平均粒径が１００〜１０００ｎｍであることが好ましい。平均粒径が小さい場合はブロッキング防止効果が十分でない可能性があり、大きい場合は転写層２にその跡が残り転写材料２０の品質が劣る原因になる可能性がある。
剥離層１２は、マット剤を含み、この剥離層１２からマット剤が１５０〜５００ｎｍ隆起していることが好ましく、２００〜４００ｎｍ隆起していることがより好ましく、２００〜３５０ｎｍ隆起しているこがさらに好ましく、２００〜３００ｎｍ隆起していることが特に好ましい。この範囲であれば、上述のブロッキング防止効果や転写層２へのマット剤の跡がない転写材料２０を得ることが出来る。
剥離層１２からマット剤が隆起している量は、光学計測器「Ｚｙｇｏ  Ｎｅｗ  Ｖｉｅｗ  ６２００」で測定した剥離層１２の表面凹凸の値から求めることができる。後述の実施例における剥離層からのマット剤隆起高さも、この方法で測定した。
【００２７】
＜転写層＞
（層構成）
転写材料２０は、１層のみからなる転写層２を有していてもよいし、少なくとも２層からなる転写層２を有していてもよい。つまり、転写層２は、１層により構成されていてもよいし、２層以上により構成されていてもよい。
転写層２のうち少なくとも１層が、バインダー樹脂、ならびに、顔料および染料のうち少なくとも一方、を含むことが好ましい。転写層２のうち、顔料および染料のうち少なくとも一方を含む層のことを、「色材層」とも言う。
転写層２が少なくとも２層からなり、そのうちの少なくとも１層が、バインダー樹脂、ならびに、顔料および染料のうち少なくとも一方を含み、他の層が、バインダー樹脂を含むことがより好ましい。
転写層２のうち少なくとも１層が、顔料または染料として、黒色顔料、黒色染料および白色顔料から選ばれる少なくとも１つを含むことが特に好ましい。
転写層２が少なくとも２層からなり、剥離層１２側の層が黒色顔料および黒色染料から選ばれる少なくとも１つを含み、保護フィルム１３側の層２が白色顔料を含むことが、より特に好ましい。
以下、転写層２が色材層を含む場合について説明するが、本発明は、転写層２が色材層を含む場合に限定されるものではない。
【００２８】
転写材料２０は、遮光層２ｂおよび白色層２ａ（以下、まとめて「色材層」ともいう）のうち、少なくとも一方を少なくとも有することが好ましい。
【００２９】
転写材料２０に含まれる遮光層２ｂおよび白色層２ａを、前面板１に転写することで、「転写層付き基材」の加飾層（遮光層２ｂおよび白色層２ａ）を形成することができる。
【００３０】
（色材層の材料）
色材層２ａは、色材と、この色材を色材層として形成するためのバインダー樹脂材とを含む。また、使用する環境、用途に応じて、色材層は、重合性化合物および重合開始剤をさらに含むことが好ましい。その他、色材層は、酸化防止剤、重合禁止剤、を含むことができる。
【００３１】
転写材料２０は、転写層２として、遮光層２ｂおよび白色層２ａを含むことが好ましい。転写材料２０における遮光層２ｂおよび白色層２ａは、転写層付き基材における加飾層に含まれる遮光層２ｂおよび白色層２ａと同じ組成であることが好ましい。しかし、転写材料２０における遮光層２ｂおよび白色層２ａは、前面板１への転写後の製造工程によっては組成が異なっていてもよい。例えば、転写材料２０における遮光層２ｂおよび白色層２ａが重合性化合物を有する場合、転写層付き基材における加飾層に含まれる遮光層２ｂおよび白色層２ａでは、重合性化合物の含有割合が変化していてもよい。
【００３２】
色材：−保護フィルム側の転写層、白色層−
白色層２ａは、白色顔料を含むことがより好ましい。
【００３３】
白色層２ａは、特に見栄えがわかりやすいため、以下の白色層２ａ用の色材を用いることが好ましい。白色層２ａ用の色材としては、顔料が好ましく、白色無機顔料がより好ましい。
白色無機顔料としては、特開２００５−７７６５公報の段落［００１５］や［０１１４］に記載の白色顔料を用いることができる。
具体的には、白色無機顔料としては酸化チタン、酸化亜鉛、リトポン、軽質炭酸カルシウム、ホワイトカーボン、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム及び硫酸バリウムが好ましく、酸化チタン及び酸化亜鉛がより好ましい。白色層２ａは、酸化チタンであることが好ましく、その中でもルチル型またはアナターゼ型酸化チタンがより好ましく、ルチル型酸化チタンが特に好ましい。
【００３４】
酸化チタンの表面は、シリカ処理、アルミナ処理、チタニア処理、ジルコニア処理、有機物処理及びそれらを併用して処理することができる。
これにより、酸化チタンの触媒活性を抑制でき、耐熱性、褪光性等を改善することができる。
加熱後の白色層２ａのｂ値を抑制する観点から、酸化チタンの表面処理は、アルミナ処理又はジルコニア処理が好ましく、アルミナおよびジルコニア併用処理が特に好ましい。
【００３５】
白色層２ａの全固形分に対する白色無機顔料の含有率が２０〜７５質量％であることが好ましく、２５〜６０質量％であることがより好ましく、３０〜５０質量％であることが更に好ましい。白色無機顔料の含有量がこの範囲にある場合、導電性層をスパッタにより蒸着するときと同程度の加熱をした後の良好な明度および白色度（ｂ値が小さいこと）が良好な範囲となり、その他の求められる特性を同時に満たす加飾材を形成することができる。
「全固形分」とは、白色層２ａから溶剤等を除いた不揮発成分の総質量を意味する。
【００３６】
白色無機顔料（なお、遮光層２ｂに用いられるその他の顔料についても同様である）は、分散液として使用することが望ましい。この分散液は、白色無機顔料と顔料分散剤とを予め混合して得られる組成物を、有機溶媒（またはビヒクル）に添加して分散させることによって調製することができる。「ビヒクル」とは、塗料が液体状態にある場合に顔料を分散させている媒質の部分をいい、液状であって顔料と結合して塗膜を形成する成分（バインダー）と、これを溶解希釈する成分（有機溶媒）とを含む。
【００３７】
白色無機顔料を分散させる分散機としては、特に制限はなく、例えば、朝倉邦造著、「顔料の事典」、第一版、朝倉書店、２０００年、４３８項に記載されているニーダー、ロールミル、アトライター、スーパーミル、ディゾルバ、ホモミキサー、サンドミル等の公知の分散機が挙げられる。更に該文献３１０頁記載の機械的摩砕により、摩擦力を利用して白色無機顔料を微粉砕してもよい。
【００３８】
白色無機顔料（白色層用の色材）は、分散安定性及び隠ぺい力の観点から、一次粒子の平均粒径０.１６μｍ〜０．３μｍのものが好ましく、０．１８μｍ〜０．２７μｍのものがより好ましく、０．１９μｍ〜０．２５μｍのものが特に好ましい。一次粒子の平均粒径が０.１６μｍ以上であると、隠ぺい力が高く、遮光層２ｂの下地が見えにくくなり、粘度上昇を起こしにくい。一方、一次粒子の平均粒径が０．３μｍ以下であると、白色度が十分に高く、同時に隠ぺい力が高く、また塗布した際の面状が良好となる。
「一次粒子の平均粒径」とは、粒子の電子顕微鏡写真画像を同面積の円とした時の直径をいう。「数平均粒径」とは、多数の粒子について一次粒子の平均粒径を求め、そのうちの１００個の平均値をいう。
分散液や塗布液中の平均粒径を測定する場合には、レーザー散乱ＨＯＲＩＢＡ  Ｈ（株式会社堀場アドバンスドテクノ社製）を用いることができる。
【００３９】
−剥離層側の転写層、遮光層−
遮光層２ｂ用の色材としては、染料または顔料を含むことが好ましく、顔料を含むことがより好ましく、黒色顔料がさらに好ましい。黒色顔料としては、例えば、カーボンブラック、チタンブラック、チタンカーボン、酸化鉄、酸化チタン、黒鉛などが挙げられる。転写層付き基材では、遮光層２ｂが酸化チタンおよびカーボンブラックのうち少なくとも一つを含むことが好ましく、カーボンブラックを含むことがより好ましい。
【００４０】
バインダー樹脂：
転写層２用のバインダー樹脂としては特に制限は無く、公知のものを用いることができる。
【００４１】
転写材料２０は、転写層２の少なくとも１層に含まれるバインダー樹脂がシロキサン結合を有することが好ましく、シロキサン結合を主鎖に有する樹脂を有することがより好ましい。
このような構成により、転写材料２０は、高温処理後の白色層２ａのｂ値が小さくなる。シロキサン結合を主鎖に有する樹脂は、高温処理後（例えば、２８０℃で３０分間の処理）においても分解しにくい。このため、シロキサン結合を主鎖に有する樹脂を用いた白色層２ａおよび遮光層２ｂは、高温処理後でも、分解などが生じ難く、ｂ値が小さい。特に、シロキサン結合を主鎖に有する樹脂を白色層２ａ自体にのみ含む場合よりも、白色層２ａおよび遮光層２ｂがいずれもシロキサン結合を主鎖に有する樹脂を含む場合の方が、高温処理後のｂ値を小さくすることができる。
【００４２】
シロキサン結合を主鎖に有する樹脂としては、特に制限はないが、シリコーン系レジンが好ましい。
シリコーン系レジンとしては、公知のものが使用できる。メチル系ストレートシリコーンレジン、メチルフェニル系ストレートシリコーンレジン、アクリル樹脂変性シリコーンレジン、ポリエステル樹脂変性シリコーンレジン、エポキシ樹脂変性シリコーンレジン、アルキッド樹脂、変性シリコーンレジン及びゴム系のシリコーンレジン等が使用できる。
より好ましいのは、メチル系ストレートシリコーンレジン、メチルフェニル系ストレートシリコーンレジン及びアクリル樹脂変性シリコーンレジンであり、特に好ましいのは、メチル系ストレートシリコーンレジン及びメチルフェニル系ストレートシリコーンレジンである。
シロキサン結合を主鎖に有する樹脂は、１種のみを用いても、２種以上を混合して用いてもよい。これらを任意の比率で混合することにより、膜物性を制御することもできる。
シロキサン結合を主鎖に有する樹脂は有機溶媒などに溶解されたものを用いてもよく、例えば、キシレン溶液に溶解されたものを用いることができる。
また、シロキサン結合を主鎖に有する樹脂には、硬化性を高める観点から、重合触媒として公知の化合物を添加することが好ましく、亜鉛系の重合触媒を添加することがより好ましい。
【００４３】
但し、本発明の趣旨に反しない限りにおいて転写層２中の「上記バインダー樹脂を含む層」は、「その他のバインダー樹脂」を含んでいてもよい。
その他のバインダー樹脂としては、例えば、（メタ）アクリル酸／ベンジルメタクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／ベンジルメタクリレート／メチル（メタ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／ベンジルメタクリレート／メチル（メタ）アクリレート／エチル（メタ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／ベンジルメタクリレート／メチル（メタ）アクリレート／ブチル（メタ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／ベンジルメタクリレート／メチル（メタ）アクリレート／シロクヘキシル（メタ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／ベンジルメタクリレート／メチル（メタ）アクリレート／イソボニル（メタ）アクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／ベンジルメタクリレート／メチル（メタ）アクリレート／スチレン共重合体、などを挙げることができる。
中でも、加熱圧着時の気泡の混入を回避する点で、（メタ）アクリル酸／ベンジルメタクリレート共重合体、（メタ）アクリル酸／ベンジルメタクリレート／メチル（メタ）アクリレート共重合体及び（メタ）アクリル酸／ベンジルメタクリレート／メチル（メタ）アクリレート／エチル（メタ）アクリレート共重合体、が好ましい。
【００４４】
その他のバインダー樹脂のガラス転移温度Ｔｇ（ｂ）としては、７０〜１４０℃の範囲が好ましく、より好ましくは８０〜１１０℃の範囲である。Ｔｇ（ｂ）は、７０℃以上であると、加熱圧着（ラミネート）時のエア（気泡）の巻き込みを抑制でき、１４０℃以下であると、加熱圧着時のエア（気泡）の巻き込みが充分となり、現像も良好に行える。
その他のバインダー樹脂の重量平均分子量Ｍｗ（ｂ）としては、１０，０００〜５０，０００の範囲が好ましく、より好ましくは１５，０００〜４０，０００の範囲である。Ｍｗ（ｂ）は、１０，０００以上であると加熱圧着時のエア（気泡）の巻き込みを抑止でき、５０，０００以下であると加熱圧着時のエア（気泡）の巻き込みが充分となり、現像も良好に行える。
【００４５】
転写層２中の「上記バインダー樹脂を含む層」におけるその他のバインダー樹脂の含有量としては、この「上記バインダー樹脂を含む層」の全固形分に対して、３０質量％以上とすることが好ましい。その他のバインダー樹脂の量が上記範囲内であると、加熱圧着時の遮光層の溶融粘度を層が柔らかくなり過ぎない程度に維持でき、ある程度の硬さを保って圧着時の気泡の混入を効果的に抑制することができる。
その他のバインダー樹脂の含有量としては、１０〜４０質量％がより好ましく、２０〜３５質量％が更に好ましい。
【００４６】
酸化防止剤：
転写層２には、酸化防止剤を添加してもよい。特に転写層２の白色層２ａは、酸化防止剤が添加されることが好ましい。酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系、セミヒンダードフェノール系、リン酸系、分子内にリン酸/ヒンダードフェノールを持つハイブリッド型酸化防止剤が使用できる。
ヒンダードフェノール系化合物として、アデカスタブ  ＡＯ−６０（ＡＤＥＫＡ社製）を挙げることができる。
酸化防止剤は、着色を抑制する観点から、リン酸系酸化防止剤、例えばＩＲＧＡＦＯＳ１６８（ＢＡＳＦ社製）が好ましい。
【００４７】
溶剤：
転写層２を塗布により製造する際の溶剤としては、特開２０１１−９５７１６号公報の段落［００４３］〜［００４４］に記載の溶剤を用いることができる。
【００４８】
添加剤：
転写層２には、その他の添加剤を用いてもよい。添加剤としては、例えば特許第４５０２７８４号公報の段落［００１７］、特開２００９−２３７３６２号公報の段落［００６０］〜［００７１］に記載の界面活性剤や、特許第４５０２７８４号公報の段落［００１８］に記載の熱重合防止剤、さらに、特開２０００−３１０７０６号公報の段落［００５８］〜［００７１］に記載のその他の添加剤が挙げられる。
【００４９】
−保護フィルム側の転写層、白色層−
白色層２ａ中に含まれていてもよい顔料以外の成分としては、特に制限はないが、公知のバインダー樹脂や、シロキサン結合を主鎖に有する樹脂に加えて、公知の顔料分散安定剤、公知の塗布助剤等、を用いることができる。なかでも、白色層２ａの色味が変わらない、または望ましい色味に変わるものが望ましい。
本発明の効果を得る観点から、白色層２ａ中、「顔料以外の成分」に対する「シロキサン結合を主鎖に有する樹脂」の割合は、８０質量％以上であることが好ましく、９０質量％以上であることがより好ましい。
【００５０】
白色層２ａ中において、「シロキサン結合を主鎖に有する樹脂および顔料以外」の成分の含有量としては、白色層２ａの全固形分に対して、３０質量％以上とすることが好ましい。「シロキサン結合を主鎖に有する樹脂および顔料以外の成分の含有量」が上記範囲内であると、白色層２ａの色味に好ましい影響を与えることが出来る。
白色層２ａ中において、「シロキサン結合を主鎖に有する樹脂および顔料以外」の成分の含有量としては、３０〜６０質量％がより好ましく、３５〜５５質量％が更に好ましく、４０〜５０質量％がより特に好ましい。
【００５１】
−剥離層側の転写層、遮光層−
遮光層２ｂに用いることができる、「シロキサン結合を主鎖に有する樹脂や顔料以外」の成分は、白色層２ａに用いることができるものとそれぞれ同様である。
本発明の効果を得る観点から、遮光層２ｂ中、「顔料以外の成分」に対する「シロキサン結合を主鎖に有する樹脂」の割合は、６０質量％以上であることが好ましく、７０質量％以上であることがより好ましい。
転写層付き基材は、白色層２ａ中、「顔料以外の成分」に対する「シロキサン結合を主鎖に有する樹脂」の割合が９０質量％以上であり、かつ、遮光層２ｂ中、「顔料以外の成分」に対する「シロキサン結合を主鎖に有する樹脂」の割合が７０質量％以上であることが好ましい。この場合の、より好ましい範囲は、白色層２ａまたは遮光層２ｂ中における、より特に好ましい範囲、よりさらに特に好ましい範囲と同様である。
【００５２】
（色材層の特性）
−保護フィルム側の転写層、白色層−
保護フィルム１３側の転写層２の膜厚が１０μｍ〜４０μｍであることが、白色層２ａの隠蔽力を高めるための観点から、好ましい。
白色層２ａの厚みは１５〜４０μｍが更に好ましく、２０〜３８μｍが特に好ましい。
【００５３】
白色層２ａの隠蔽力を高めるための観点から、白色層２ａの光学濃度（ＯＤとも言う）が０．５以上であることが好ましく、１．０以上であることが特に好ましい。
【００５４】
−剥離層側の転写層、遮光層−
転写材料２０は、転写層２が少なくとも２層からなり、転写層２のうち剥離層１２側の層の光学濃度が、保護フィルム１３側の層の光学濃度より大きいことが好ましい。転写材料２０は、転写層２のうち、剥離層１２側の層ほど光学濃度が大きいことがより好ましい。
前記遮光層の隠蔽力を高める観点から、転写材料２０は、転写層２が少なくとも２層からなり、転写層２のうち剥離層１２側の層の光学濃度が１．０〜６．０であることが好ましく、３．５〜６．０であることがより好ましく、４．０〜６．０であることが特に好ましい。
【００５５】
転写材料２０は、転写層２が少なくとも２層からなり、転写層２のうち剥離層１２側の層の膜厚が０．５〜３．０μｍであることが好ましく、１．０〜３．０μｍであることがより好ましく、１．５〜３．０μｍであることが特に好ましい。
【００５６】
タッチパネル１０の製造方法に用いる転写層つき基材の転写材料２０は、この転写材料２０の近傍から基材に向けて配線や透明導電層を形成することから、十分な表面抵抗を有することが好ましい。具体的には、転写材料２０を用いて得られた転写層付き基材の転写層２の表面抵抗が、１．０×１０10Ω／□以上であることが好ましく、１．０×１０11Ω／□以上であることがより好ましく、１．０×１０12Ω／□以上であることがさらに好ましく、１．０×１０13Ω／□以上であることが特に好ましい。
【００５７】
＜保護フィルム＞
転写材料２０には、貯蔵の際の汚染や損傷から保護するために、色材層２ａを覆うようにして保護フィルム１３（カバーフィルムとも言う）が設けられることが好ましい。保護フィルム１３は仮支持体１１と同じか又は類似の材料からなってもよいが、色材層２ａから比較的容易に分離される必要がある。保護フィルム１３の材料としては、例えば、シリコーン紙、ポリオレフィンフィルム、ポリテトラフルオロエチレンシートなどが適当である。
【００５８】
色材層２ａの現像後の白抜け発生をより効果的に抑制する観点から、保護フィルム１３のヘイズ度の最大値は３．０％以下であることが好ましく、２．５％以下がより好ましく、２．０％以下がさらに好ましく、１．０％以下が特に好ましい。
【００５９】
保護フィルム１３の厚みは１〜１００μｍであることが好ましく、５〜５０μｍであることがより好ましく、１０〜３０μｍであることが特に好ましい。この厚みが１μｍ以上であれば保護フィルム１３の強度が十分なため、感光性樹脂層にこの保護フィルム１３を張り合わせる際に、保護フィルム１３が破断しにくい。１００μｍ以下であると保護フィルム１３の価格が高くならず、また、保護フィルム１３をラミネートする際にシワが発生しにくい。
【００６０】
このような保護フィルム１３は市販のものとして、例えば、王子製紙（株）製アルファンＭＡ−４１０、Ｅ−２００Ｃ、Ｅ−５０１、信越フィルム（株）製等のポリプロピレンフィルム、帝人（株）製ＰＳ−２５等のＰＳシリーズなどのポリエチレンテレフタレートフィルム等が挙げられる。なお、保護フィルム１３は、これらに限られるものではない。また、保護フィルム１３は、市販のフィルムをサンドブラスト加工することにより、製造してもよい。
【００６１】
保護フィルム１３として、ポリエチレンフィルムなどのポリオレフィンフィルムを好ましく用いることができる。通常、保護フィルム１３として用いられるポリオレフィンフィルムは、原材料を熱溶融し、混練、押し出し、２軸延伸、キャスティングまたはインフレーション法によって製造される。
【００６２】
保護フィルム１３が、ポリプロピレンフィルムであることが好ましい。
【００６３】
以上、転写材料２０を説明したが、この転写材料２０は、必要に応じてネガ型材料又はポジ型材料であってもよい。
【００６４】
［転写材料の製造方法］
転写材料２０の製造方法は、以下の（１）〜（３）の工程を含む。
（１）剥離層１２を有する仮支持体１１を準備する。
（２）仮支持体１１の剥離層１２側に転写層２を形成する。
（３）転写層２側に保護フィルム１３を貼合する（貼り合わせる）。
【００６５】
転写材料２０を製造する方法としては、上記（１）〜（３）の工程を含むこと以外は特に限定はないが、例えば特開２００５−３８６１号公報の段落［００６４］〜［００６６］に記載の工程によって製造することができる。また、転写材料２０は、例えば特開２００９−１１６０７８号公報に記載の方法で作成することもできる。
【００６６】
（１）剥離層１２を有する仮支持体を準備する工程
転写材料２０の製造方法は、（１）剥離層１２を有する仮支持体１１を準備する工程を含む。
剥離層１２を有する仮支持体１１を準備する方法としては特に制限は無く、公知の剥離層１２付きの仮支持体１１を商業的に入手してもよい。
【００６７】
（２）仮支持体１１の剥離層１２側に転写層２を形成する工程
転写材料２０の製造方法は、（２）仮支持体１１の剥離層１２側に転写層２を形成する工程を含む。
仮支持体１１の剥離層１２側に転写層２を形成する工程の一例としては、剥離層１２を有する仮支持体１上に樹脂組成物を塗布し、乾燥させて転写層２を形成する工程が挙げられる。
【００６８】
転写材料２０は、転写層２として、白色層２ａおよび遮光層２ｂの２層を少なくとも形成してもよい。この場合、転写材料２０は、仮支持体１１上に、剥離層１２、白色層２ａおよび遮光層２ｂをこの順番で積層したものを用いてもよい。この態様によれば、被転写基材に転写材料２０を転写することによって、この被転写基材上に、一度に白色加飾材としての白色層２ａと遮光材としての遮光層２ｂとを設けることができるため、工程的に好ましい。
あるいは、転写層２として、白色層２ａおよび遮光層２ｂのうち少なくとも１層を形成したものを用いてもよい。この場合、仮支持体１１、剥離層１２および白色層２ａを有する転写材料２０を被転写基材上に転写した後にこの仮支持体１１を取り除き、この白色層２ａ上に、仮支持体１１および遮光層２ｂを含む転写材料２０を転写する。
転写材料２０は、本発明の趣旨に反しない限りにおいてさらにその他の層を形成してもよい。
仮支持体１１上に転写層２形成用の組成物を塗布する方法としては、公知の塗布方法を用いることができる。例えば、スピナー、ホワイラー、ローラーコーター、カーテンコーター、ナイフコーター、ワイヤーバーコーター、エクストルーダー等の塗布機を用いて、それらの塗液を塗布し、乾燥させることにより形成できる。
【００６９】
−溶剤−
転写材料２０の転写層２を形成するための感光性組成物は、この感光性組成物に含まれる各成分と共に溶剤を用いて好適に調製することができる。
【００７０】
溶剤としては、
エステル類、例えば酢酸エチル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸アミル、酢酸イソアミル、酢酸イソブチル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、アルキルエステル類、乳酸メチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、並びに、３−オキシプロピオン酸メチル及び３−オキシプロピオン酸エチルなどの３−オキシプロピオン酸アルキルエステル類（例えば、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル）、並びに、２−オキシプロピオン酸メチル、２−オキシプロピオン酸エチル、及び２−オキシプロピオン酸プロピルなどの２−オキシプロピオン酸アルキルエステル類（例えば、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、２−メトキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−エトキシ−２−メチルプロピオン酸エチル）、並びに、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソブタン酸メチル、２−オキソブタン酸エチル等；
【００７１】
エーテル類、例えばジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート等；
【００７２】
ケトン類、例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン等；
【００７３】
芳香族炭化水素類、例えばトルエン、キシレン；
等が挙げられる。
【００７４】
これらのうち、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、キシレン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等が好適である。
溶剤は、単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００７５】
（３）転写層２側に保護フィルム１３を貼合する工程
転写材料２０の製造方法は、（３）転写層２側に保護フィルム１３を貼合する工程を含む。
保護フィルム１３によって転写層２を覆う方法としては特に限定はないが、仮支持体１１上の転写層２に保護フィルム１３を重ね、圧着する方法を用いることができる。
圧着には、ラミネーター、真空ラミネーター、および、より生産性を高めることができるオートカットラミネーター等の公知のラミネーターを使用することができる。
圧着の条件としては、雰囲気温度４０〜１３０℃、線圧１０００〜１００００Ｎ／ｍが好ましい。雰囲気温度及び線圧のうち少なくともいずれかが上記範囲よりも低い場合、ラミネート時に巻き込まれうる空気が、被転写基材と転写層２との間から十分に押し出されない可能性がある。また、雰囲気温度が上記範囲よりも高い場合は、転写層２が熱で硬化することによって好ましくない形態になる可能性がある。線圧が上記範囲よりも高い場合は、転写層２が変形する可能性がある。
【００７６】
［転写層付き基材、転写層付き基材の製造方法］
転写層付き基材の製造方法は、転写材料２０を用い、以下の工程を含むことを特徴とする。
（１１）転写材料２０から、保護フィルム１３を剥離する。
（１２）転写材料２０の転写層２側を、ガラス基材１０１ａ、またはフィルム基材１０１ｂに転写する。
（１３）転写層２から、剥離層１２と仮支持体１１を一度に剥離する。
以下、転写層付き基材とその製造方法の好ましい態様について説明する。
【００７７】
＜転写層付き基材の特性＞
転写層付き基材における「加飾材」とは、白色層２ａと遮光層２ｂとの積層体のことを意味する。白色層２ａのみを被転写基材に転写した場合、光学濃度が低い。このため、このような態様の転写層付き基材を、表示装置の基材として用いたときには、表示装置の光漏れや回路のすけが見える場合がある。転写層付き基材では、基材（フィルムまたはガラス）側から、白色層２ａおよび遮光層２ｂをこの順で含む構成とすることで光漏れ等を抑えることが出来る。
【００７８】
転写層付き基材は光学濃度が、３．５〜６．５であることが好ましく、４．０〜６．０であることがより好ましく、４．５〜５．５であることが特に好ましい。なお、光学濃度は各層ごとの合計として求めてもよい。光学濃度計で測定できる光学濃度の上限を超える場合は、遮光層２ｂの光学濃度と、白色層２ａの光学濃度とを合計して転写層付き基材の光学濃度とする。例えば、光学濃度計で６．０までしか測れない場合、遮光層単独分で５．５の光学濃度、白色層単独分で１．０の光学濃度とそれぞれ測定し、両者の光学濃度の合計６．５を転写層付き基材の光学濃度とする。
【００７９】
＜被転写基材＞
転写層付き基材に用いる被転写基材は、ガラス、またはＴＡＣ、ＰＥＴ、ＰＣまたはＣＯＰから選ばれるフィルムからなる。この被転写基材はフィルム基材１０１ｂであることが好ましく、光学的に歪みがないものや、透明度が高いものを用いることがより好ましい。転写層付き基材では、被転写基材は、全光透過率が、８０％以上であることが好ましい。
【００８０】
フィルム基材１０１ｂの具体的な素材としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート（ＰＣ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）などをあげることができる。
被転写基材は、ガラス基材１０１ａでもよい。
転写層付き基材では、被転写基材は、ガラス、またはＣＯＰからなるフィルムであることが好ましい。
【００８１】
被転写基材の表面には、種々の機能を付加しても良い。具体的には、反射防止層、防眩層、位相差層、視野角向上層、耐傷層、自己修復層、帯電防止層、防汚層、防電磁波層、導電性層などをあげることができる。
転写層付き基材では、被転写基材は、この被転写基材表面に導電性層を有することが好ましい。導電性層としては、特表２００９−５０５３５８号公報に記載のものを好ましく用いることができる。
被転写基材は、さらに少なくとも、耐傷層および防眩層のうち少なくとも一つを有することが好ましい。
【００８２】
転写層付き基材では、被転写基材は、膜厚が４０〜２００μｍであることが好ましく、４０〜１５０μｍであることがより好ましく、５０〜１２０μｍであることが特に好ましい。
【００８３】
また、転写工程におけるラミネートによる転写層２の密着性を高めるために、予め被転写基材（前面板）の非接触面に表面処理を施すことができる。表面処理としては、シラン化合物を用いた表面処理（シランカップリング処理）を実施することが好ましい。シランカップリング剤としては、感光性樹脂と相互作用する官能基を有するものが好ましい。例えばシランカップリング液（Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン０．３質量％水溶液、商品名：ＫＢＭ６０３、信越化学（株）製）をシャワーにより２０秒間吹き付け、純水シャワー洗浄する。この後、加熱により反応させる。加熱槽を用いてもよく、ラミネーターの被転写基材予備加熱を用いて反応を促進してもよい。
【００８４】
−転写材料を所望の形状に形成する工程−
転写層付き基材の製造方法は、（１１）転写材料２０から保護フィルム１３を剥離する工程の前に、転写材料２０を所望の形状に形成する工程を含んでいてもよい。転写材料２０を所望の形状に形成する方法としては、特に制限はないが、仮支持体１１、剥離層１２および転写層２を含む転写材料２０に対して、少なくとも転写層２を厚み方向に貫通する深さであり、かつ、面内方向に直線部分を有する切り込みを入れることが好ましい。切り込みの深さには、特に制限はない。
【００８５】
転写材料２０への切り込みを、面内方向に４カ所以上直線部分（本明細書中、「直線部分」とは直線状の部分を意味し、線分と同義である）を有するように入れることが好ましい。なお、転写材料２０への切り込みは、「大半径の円弧」や「正弦波」で構成することもできるが、本発明の製造方法は特に直線部分を有する切り込みを入れるときに有用である。
【００８６】
本発明の製造方法は、転写材料２０への切り込みを入れる方法としては特に制限はないが、トムソン刃加工またはレーザー光加工から選ばれる方法で入れることが好ましい。
【００８７】
転写材料２０への切り込みの深さとしては、（Ａ−１）転写材料２０への切り込みを転写材料２０の全層を厚み方向に貫通する深さまで入れてもよく、（Ａ−２）着色層を貫通し、かつ仮支持体１１を貫通しない深さの切り込みを入れてもよい。
（Ａ−１）転写材料２０への切り込みを転写材料２０の全層を厚み方向に貫通する深さまで入れることを打ち抜きともいう。なお、打ち抜きを（Ａ）工程で行う場合は、後述の（Ｂ）転写材料２０の面内方向の一部の領域から切り込みの深さまでの転写層２を取り除く工程も同時に行われることが好ましい。なお、打ち抜きと転写層の除去を同時に行うことを、「くり抜き」とも言う。
一方、（Ａ−２）転写層２を貫通し、かつ仮支持体１１を貫通しない深さの切り込みを入れることをハーフカットともいう。
これらの中でも、（Ａ−１）転写材料２０への切り込みを、転写材料２０の全層を厚み方向に貫通する深さまで入れることが好ましい。
【００８８】
（打ち抜き方法）
転写材料２０のうち抜きには、公知の手段を用いることが出来る。
機械式打ち抜き方法としては、例えば、トムソン刃による平抜き、ダイカットロールによる円筒抜きが挙げられる。
光学式打ち抜き方法としては、ＣＯ2レーザーカッターを挙げることができる。
また、枚葉式でも連続式（ロールトゥロール式）でもよい。
【００８９】
機械式打ち抜き方法に用いられる装置としては、例えば、クライムプロダクツ株式会社製  Ｌ−ＣＰＮＣ５５０などを挙げることができる。
【００９０】
（ハーフカット方法）
ハーフカット方法において、切り込みを入れる方法としては特に制限は無く、刃、レーザーなど任意の方法で切り込みを入れることができる。ハーフカット方法としては、刃で切り込みを入れることが好ましい。また、刃の構造は特に限定されることはない。
例えば、図１３に示すように、刃３０もしくはレーザーを用いて、保護フィルム１３の上から、この保護フィルム１３、転写層２および剥離層１２を貫き、仮支持体１１の一部にまで至る切り込みを入れることで、転写する転写層２（画像部）と転写しない転写層２（非画像部）の間を分離することができる。
【００９１】
−（１１）転写材料２０から保護フィルム１３を剥離する工程−
転写層付き基材の製造方法は、転写材料２０から保護フィルム１３を剥離する工程を含む。
図１１に、転写材料２０から、保護フィルム１３を剥離する方法を示す。保護フィルム１３を剥離する具体的な方法は特に制限は無い。転写材料２０は、この転写材料２０から保護フィルム１３を剥離する工程において、保護フィルム１３を転写材料２０から剥がすときに、この保護フィルム１３が転写層２から剥がれ、かつ、転写層２が剥離層１２側に残る。
【００９２】
−（１２）転写材料２０の転写層２側を、前面板１に転写する工程−
転写層付き基材の製造方法は、転写材料２０の転写層２側を、被転写基材（ガラス基材１０１ａまたはフィルム基材１０１ｂ）に転写する工程を含む。「転写材料２０の転写層２側」とは、転写材料２０から保護フィルム１３を剥離した後に、この転写材料２０の表面に露出した転写層２の側を意味する。
図１２に、転写材料２０から、転写層２（白色層２ａ）側を前面板１に転写する方法を示す。
転写層付き基材の製造方法は、少なくとも仮支持体１１、剥離層１２、遮光層２ｂおよび白色層２ａを含む転写材料２０を、前面板１上に転写することが好ましい。
転写層付き基材の製造方法は、二つの転写材料２０を前面板１に転写するようにしてもよい。例えば、仮支持体１１、剥離層１２および遮光層２ｂを含む転写材料２０と、仮支持体１１、剥離層１２および白色層２ａの順に含む転写材料２０とを、前面板１上に転写することにより、白色層２ａおよび遮光層２ｂを形成するようにしてもよい。
あるいは、仮支持体１１、剥離層１２および白色層２ａを有する転写材料２０を前面板１上に転写した後にこの仮支持体１１を取り除き、次いで仮支持体１１、剥離層１２および遮光層２ｂを含む転写材料２０を白色層２ａ上に転写することにより白色層２ａおよび遮光層２ｂを形成するようにしてもよい。
【００９３】
転写層２がその形態を維持する観点から、この転写層２を前面板１に転写する際のこの前面板１の温度は、４０〜１３０℃であることが好ましく、４０〜１１０℃であることがより好ましく、４０〜１００℃であることが特に好ましい。
【００９４】
転写層２の前面板１表面への転写（貼り合わせ）は、この転写層２を前面板１の表面に重ねて、加圧及び加熱することによって行われることが好ましい。貼り合わせには、ラミネーター、真空ラミネーター、および、より生産性を高めることができるオートカットラミネーター等の公知のラミネーターを使用することができる。
ラミネート方法は、打ち抜いた転写材料２０を前面板１に転写する。このため、枚葉式であることが、精度よく、前面板１と転写材料２０間に気泡が入らず、得率を上げられる観点から好ましい。
転写層２を前面板１の表面へ転写する方法としては、真空ラミネーターが好ましい。
【００９５】
ラミネート（連続式及び枚葉式）に用いられる装置としては、例えば、クライムプロダクツ株式会社製  Ｖ−ＳＥ３４０ａａＨなどを挙げることができる。
真空ラミネーター装置としては、例えば、高野精機有限会社製の装置や、大成ラミネーター株式会社製、ＦＶＪ−５４０Ｒ、ＦＶ７００などを挙げることができる。
【００９６】
ラミネート時に気泡が侵入することを抑制する観点から、転写材料２０を前面板１に貼り付ける前に、仮支持体１１の転写層２と反対側に、支持体を積層する工程をさらに含むことが好ましい。このときに用いる支持体としては特に制限はないが、例えば、以下のものを挙げることができる。
ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース、シクロオレフィンポリマー。
また、膜厚は、５０〜２００μｍの範囲で選ぶことが出来る。
【００９７】
−（１３）転写層２から、剥離層１２と仮支持体１１を一度に剥離する工程−
転写層付き基材の製造方法は、転写層２から、剥離層１２と仮支持体１１を一度（同時）に剥離する工程を含む。仮支持体１１を剥がすことによって、この仮支持体１１及び剥離層１２が、転写層２から剥がれる。
図１２に、転写層２の遮光層２ｂから、剥離層１２と仮支持体１１とを一度に剥離する工程を示す。
ラミネート後、転写材料２０からの剥離フィルムの剥離力（転写層２からの剥離層１２の剥離力）は、４００ｍＮ／ｍ以下であることが好ましい。４００ｍＮ／ｍ以下であれば、剥離フィルムを剥がす際に、この剥離フィルムに粘着テープを貼り付けて、剥離フィルムごと粘着テープをはがすことで、転写層２に無用の影響を与えずに済む。
４００ｍＮ／ｍを超える場合は、剥離フィルムを剥がす際に、例えば、転写層２と剥離フィルムとの間に薄い刃物や冶具を差し込んで剥がす必要があり、このとき、転写層２が傷つく可能性がある。また、転写層２にスティッキング等の跡がつき、転写層２の品質に好ましくない影響を与えることがある。
【００９８】
−ポストベーク工程−
転写工程後にポストベーク工程を含むことが好ましい。
転写材料２０の製造方法は、転写材料２０の白色層２ａおよび遮光層２ｂを０．０８〜１．２ａｔｍの環境下で１８０〜３００℃に加熱して形成することが、白色度と生産性の両立の観点から好ましい。
ポストベークの加熱は、０．５ａｔｍ以上の環境下で行うことがより好ましく、１．１ａｔｍ以下の環境下で行うことがさらに好ましく、１．０ａｔｍ以下の環境下で行うことが特に好ましい。特別な減圧装置を用いることなく製造コストを低減できる観点から、約１ａｔｍ（大気圧）環境下で行うことがより特に好ましい。従来は、白色層２ａおよび遮光層２ｂを加熱により硬化して形成する場合、非常に低い圧力の減圧環境下で行い、酸素濃度を低くすることでベーク後の白色度を維持していた。これに対して、転写材料２０を用いることにより、上記圧力の範囲でベークした後も、転写層付き基材の白色層２ａおよび遮光層２ｂの色味を改善し（ｂ値を小さくし）、白色度を高めることができる。
ポストベークの温度は、２００〜２８０℃であることがより好ましく、２２０〜２６０℃であることが特に好ましい。
ポストベークの時間は、２０〜１５０分であることがより好ましく、３０〜１００分であることが特に好ましい。
ポストベークは、空気環境下で行っても、窒素置換環境下で行ってもよい。特別な減圧装置を用いることなく製造コストを低減できる観点から、ポストベークは、空気環境下で行うことが、特に好ましい。
【００９９】
−その他の工程−
転写材料２０の製造方法は、ポスト露光工程等、その他の工程を有していてもよい。
転写層２が光硬化性樹脂を有する場合に白色層２ａおよび遮光層２ｂを形成するときは、ポスト露光工程を含むことが好ましい。ポスト露光工程は、白色層２ａおよび遮光層２ｂの基材と接している側の表面方向のみから行っても、前面板１と接していない側の表面方向のみから行っても、両面方向から行ってもよい。
【０１００】
なお、露光工程およびその他の工程の例としては、特開２００６−２３６９６号公報の段落番号［００３５］〜［００５１］に記載の方法を本発明においても好適に用いることができる。
【０１０１】
［タッチパネル、タッチパネルの製造方法］
タッチパネル１０は、転写層付き基材を有する。
タッチパネル１０は、静電容量型入力装置であることが好ましい。
タッチパネル１０の製造方法は、転写層付き基材を用い、以下の工程を含むことを特徴とする。
（２１）転写層付き基材の転写層２側に導電性層を形成する。
（２２）導電性層を一部除去し、電極パターンを形成する。
【０１０２】
（２１）転写層付き基材の転写層２側に導電性層を形成する工程
転写層付き基材は、遮光層２ｂ上に、さらに導電性層を有することが好ましい。
導電性層としては、特表２００９−５０５３５８号公報に記載のものを好ましく用いることができる。
【０１０３】
（２２）導電性層を一部除去し、電極パターンを形成する工程
導電性層の構成や、この導電性層を一部除去して電極パターンを形成する工程、導電性層を一部除去して形成された電極パターン形状については、第一の透明電極パターン３、第二の電極パターン４および第三の導電性層６の説明として後述する。
転写層付き基材は、導電性層が、インジウム（ＩＴＯやインジウム合金など、インジウム含有化合物を含む）を含むことが好ましい。
転写層付き基材は高温処理後の白色層２ａのｂ値が小さい場合は、導電層をスパッタにより蒸着してなる場合でも、得られた加飾付き基材の白色層２ａのｂ値を小さくすることができる。
【０１０４】
《タッチパネル１０、およびタッチパネル１０を構成要素として備えた情報入力装置》
タッチパネル１０は、前面板１としての前面板と、この前面板の非接触側（図１Ａ及び図１Ｂにおいて上側）に少なくとも下記（３１）〜（３４）の要素と、を有する転写層付き基材、を含むことが好ましい。
（３１）遮光層２ｂおよび白色層２ａを含む加飾材
（３２）複数のパッド部分が接続部分を介して第一の方向に延在して形成された複数の第一の導電性層（第一の透明電極パターン３）
（３３）第一の透明電極パターン３と電気的に絶縁され、第一の方向に交差する方向に延在して形成された複数のパッド部分からなる複数の第二の導電性層（第二の電極パターン４）
（３４）第一の透明電極パターン３と第二の電極パターン４とを電気的に絶縁する絶縁層５
第二の電極パターン４は、透明電極パターンであってもよい。
タッチパネル１０は、下記（３５）をさらに有していてもよい。
（３５）第一の透明電極パターン３および第二の透明電極パターン４の少なくとも一方に電気的に接続され、第一の透明電極パターン３および第二の透明電極パターン４とは別の導電性要素である第三の導電性層６（以下、単に「導電性要素６」という場合がある）
タッチパネル１０は、前面板と、（３１）遮光層２ｂおよび白色層２ａを含む加飾材と、導電性層として（３２）、（３３）および（３５）のうち少なくとも１つの電極パターンと、を有する積層体として転写層付き基材、を含むことがより好ましい。
【０１０５】
＜タッチパネル１０の構成＞
まず、タッチパネル１０の構成について説明する。図１Ａおよび図１Ｂは、タッチパネル１０の好ましい構成を示す断面図である。図１Ａにおいてタッチパネル１０は、ガラス基材１０１ａと、白色層２ａと、遮光層２ｂと、第一の透明電極パターン３と、第二の透明電極パターン４と、絶縁層５と、導電性要素６と、透明保護層７と、から構成されている。
【０１０６】
前面板は、透光性基材で構成されていることが好ましい。透光性基材は、ガラス基材１０１ａに加飾材を設けた構成（図１Ａ参照）、又は、ガラス基材１０１ａ、フィルム基材１０１ｂの順に積層して、このフィルム基材１０１ｂに加飾材を設けた構成（図１Ｂ参照）、いずれをも用いることが出来る。ガラス基材１０１ａに加飾材を設けた構成は、タッチパネル１０の薄型化の観点から好ましい。フィルム基材１０１ｂに加飾材を設け、それをカバーガラス１０１ａに張り合わせた構成は、タッチパネル１０の生産性の観点から好ましい。
フィルム基材１０１ｂの電極の反対側に、更に ガラス基材１０１ａを設けるようにしてもよい。ガラス基材１０１ａとしては、コーニング社のゴリラガラスに代表される強化ガラスなどを用いることができる。また前面板１に対して各要素が設けられている側（図１Ａ及び図１Ｂにおいて上側）を、「非接触面１ａ」と称する。タッチパネル１０においては、前面板１の接触面（非接触面１ａの反対の面、図１Ａ及び図１Ｂにおいて下側）に、指などを接触させることによって所定の指示が入力される。
【０１０７】
前面板１の非接触面１ａ上には、加飾材として、白色層２ａと遮光層２ｂとが設けられている。加飾材は、タッチパネル１０の前面板の非接触側に形成された表示領域周囲の額縁状のパターンである。加飾材は、引回し配線等が見えないようにする目的や、加飾する目的として形成される。
タッチパネル１０には、配線取出し口（不図示）を設けることができる。加飾材形成用の液体レジストやスクリーン印刷インクを用いて加飾材を形成する場合、配線取出し部からのレジスト成分のモレや、加飾材でのガラス端からのレジスト成分のはみ出しを生じて、前面板１の裏側を汚染することがある。これに対して、転写材料２０を用いて加飾材を形成する場合、レジスト成分のモレやはみ出しを抑制して、基材裏側の汚染が防止される。
【０１０８】
前面板１の非接触面１ａには、複数の第一の透明電極パターン３と、複数の第二の電極パターン４と、絶縁層５とが形成されている。第一の透明電極パターン３は、複数のパッド部分が接続部分を介して第一の方向に延在して形成される。第二の透明電極パターン４は、第一の透明電極パターン３と電気的に絶縁され、第一の方向に交差する方向に延在して形成された複数のパッド部分からなる。絶縁層５は、第一の透明電極パターン３と第二の透明電極パターン４とを電気的に絶縁する。
第一の透明電極パターン３と、第二の電極パターン４と、導電性要素６とは、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）やＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）などの透光性の導電性金属酸化膜で作製することができる。このような金属膜としては、ＩＴＯ膜；Ａｌ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｍｏ等の金属膜；ＳｉＯ2等の金属酸化膜などが挙げられる。
各要素の、膜厚は１０〜２００ｎｍとすることができる。焼成して、アモルファスのＩＴＯ膜を多結晶のＩＴＯ膜とすることにより、電気的抵抗を低減することもできる。また、第一の透明電極パターン３と、第二の透明電極パターン４と、導電性要素６とは、導電性繊維を用いた光硬化樹脂層を有する転写フィルムを用いて製造することもできる。その他、ＩＴＯ等によって第一の導電性パターン等を形成する場合には、特許第４５０６７８５号公報の段落［００１４］〜［００１６］等を参考にすることができる。
【０１０９】
第一の透明電極パターン３および第二の電極パターン４の少なくとも一方は、前面板１の非接触面１ａ、および、遮光層２ｂの非接触側（図１Ａおよび図１Ｂにおいて上側）の面、これら両方の領域にまたがって設置することができる。
図１Ａおよび図１Ｂにおいては、第二の電極パターン４が前面板１の非接触面１ａ、および、遮光層２ｂの非接触側の面、これら両方の領域にまたがって設置され、白色層２ａの側面を第二の透明電極パターン４が覆っている。
白色層２ａの幅を、遮光層２ｂの幅よりも狭くすることもできる。その場合は、第一の透明電極パターン３および第二の透明電極パターン４の少なくとも一方は、前面板１の非接触面１ａ、白色層２ａおよび遮光層２ｂの非接触側の面の領域にまたがって設置することができる。
このように、一定の厚みが必要な白色層２ａおよび遮光層２ｂを含む加飾材と、前面板１の裏面と、にまたがって転写フィルムをラミネートする場合でも、転写材料２０（特に後述の熱可塑性樹脂層を有する転写材料）を用いることで真空ラミネーターなどの高価な設備を用いなくても、簡単な工程で加飾材の部分境界における泡の発生が抑制される。
【０１１０】
−熱可塑性樹脂層−
導電性層などの形成に用いられる転写フィルムは、熱可塑性樹脂層を少なくとも１層有していてもよい。熱可塑性樹脂層は、仮支持体と光硬化樹脂層との間に設けられることが好ましい。すなわち、上記転写フィルムは、仮支持体、熱可塑性樹脂層および光硬化樹脂層をこの順で含むことが好ましい。
熱可塑性樹脂層に用いる成分としては、特開平５−７２７２４号公報に記載されている有機高分子物質が好ましく、ヴイカーＶｉｃａｔ法（具体的にはアメリカ材料試験法エーエステーエムデーＡＳＴＭＤ１２３５によるポリマー軟化点測定法）による軟化点が約８０℃以下の有機高分子物質より選ばれることが特に好ましい。
【０１１１】
熱可塑性樹脂層に用いる成分としては、具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、エチレンと酢酸ビニル或いはそのケン化物の様なエチレン共重合体、エチレンとアクリル酸エステル或いはそのケン化物、ポリ塩化ビニル、塩化ビニルと酢酸ビニル及びそのケン化物の様な塩化ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデン共重合体、ポリスチレン、スチレンと（メタ）アクリル酸エステル或いはそのケン化物の様なスチレン共重合体、ポリビニルトルエン、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステル或いはそのケン化物の様なビニルトルエン共重合体、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等の（メタ）アクリル酸エステル共重合体、酢酸ビニル共重合体ナイロン、共重合ナイロン、Ｎ−アルコキシメチル化ナイロン、Ｎ−ジメチルアミノ化ナイロンの様なポリアミド樹脂等の有機高分子が挙げられる。
【０１１２】
熱可塑性樹脂層の厚みは６〜１００μｍが好ましく、６〜５０μｍがより好ましい。熱可塑性樹脂層の厚みが６〜１００μｍの範囲では、基材上に凹凸がある場合であってもこの凹凸を吸収することができる。
【０１１３】
−中間層−
導電性層などの形成に用いられる転写フィルムは、複数の塗布層の塗布時、及び塗布後の保存時における成分の混合を防止する目的から、中間層を少なくとも１層有していてもよい。中間層は、仮支持体と色材層との間（熱可塑性樹脂層を有する場合には、熱可塑性樹脂層と光硬化樹脂層との間）に設けられることが好ましい。すなわち、上記転写材料は、仮支持体、熱可塑性樹脂層、中間層および光硬化樹脂層をこの順で含むことが好ましい。
中間層としては、特開平５−７２７２４号公報に「分離層」として記載されている、酸素遮断機能のある酸素遮断膜を用いることが好ましく、この場合、露光時感度がアップし、露光機の時間負荷が減り、生産性が向上する。
酸素遮断膜としては、低い酸素透過性を示し、水又はアルカリ水溶液に分散又は溶解するものが好ましく、公知のものの中から適宜選択することができる。これらの内、特に好ましいのは、ポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンとの組み合わせである。
【０１１４】
中間層の厚みは、０．１〜５．０μｍが好ましく、０．５〜２．０μｍがより好ましい。０．１〜５．０μｍの範囲では酸素遮断能が低下することもなく、現像時または中間層除去時に時間がかかりすぎることもない。
【０１１５】
−熱可塑性樹脂層を除去する工程、中間層を除去する工程−
さらに、導電性層などの形成に用いられる転写フィルムが熱可塑性樹脂層や中間層を含む場合は、熱可塑性樹脂層と中間層とを除去する工程と有することが好ましい。
熱可塑性樹脂層と中間層とを除去する工程は、一般にフォトリソ方式で使用されるアルカリ現像液を用いて行うことができる。アルカリ現像液としては、特に制約はなく、特開平５−７２７２４号公報に記載のものなど、公知の現像液を使用することができる。現像液は、加飾材が溶解型の現像挙動をするものが好ましく、例えば、ｐＫａ＝７〜１３の化合物を０．０５〜５ｍｏｌ／Ｌの濃度で含むものが好ましい。現像液には、水と混和性を有する有機溶剤を更に少量添加してもよい。水と混和性を有する有機溶剤としては、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドン等を挙げることができる。該有機溶剤の濃度は０．１質量％〜３０質量％が好ましい。
また、前記アルカリ現像液には、更に公知の界面活性剤を添加することができる。界面活性剤の濃度は０．０１質量％〜１０質量％が好ましい。
【０１１６】
熱可塑性樹脂層と中間層とを除去する工程の方式としては、パドル、シャワー、シャワー＆スピン、ディップ等のいずれでもよい。現像液をシャワーにより吹き付けることにより、熱可塑性樹脂層や中間層を除去することができる。また、現像の後に、洗浄剤などをシャワーにより吹き付け、ブラシなどで擦りながら、残渣を除去することが好ましい。液温度は２０℃〜４０℃が好ましく、また、ｐＨは８〜１３が好ましい。
【０１１７】
図１Ａおよび図１Ｂにおいて、遮光層２ｂの非接触側の面には、導電性要素６が設置されている。導電性要素６は、第一の透明電極パターン３および第二の電極パターン４の少なくとも一方に電気的に接続されており、第一の透明電極パターン３および第二の電極パターン４とは別の要素である。図１Ａおよび図１Ｂにおいては、導電性要素６が第二の電極パターン４に接続されている。
【０１１８】
図１Ａおよび図１Ｂにおいては、各構成要素全体を覆うように透明保護層７が設置されている。透明保護層７は、各構成要素の一部のみを覆うように設置されていてもよい。透明保護層７は、絶縁層５と、同一材料であってもよいし、異なる材料であってもよい。透明保護層７と絶縁層５とを構成する材料としては、表面硬度、耐熱性が高いものが好ましく、公知の感光性シロキサン樹脂材料、アクリル樹脂材料などが用いられる。
【０１１９】
タッチパネル１０、およびこのタッチパネル１０を構成要素として備えた情報入力装置は、『最新タッチパネル技術』（２００９年７月６日発行（株）テクノタイムズ）、三谷雄二監修、“タッチパネルの技術と開発”、シーエムシー出版（２００４，１２）、ＦＰＤ  Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ  ２００９  Ｆｏｒｕｍ  Ｔ−１１講演テキストブック、Ｃｙｐｒｅｓｓ  Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ  アプリケーションノートＡＮ２２９２等に開示されている構成を適用することができる。
【０１２０】
［情報表示装置］
情報表示装置は、タッチパネル１０を有する。
タッチパネル１０が用いられる情報表示装置としては、モバイル機器が好ましく、例えば、以下の情報表示装置を挙げることができる。
ｉＰｈｏｎｅ４、ｉＰａｄ（以上、米国  アップル社製）、Ｘｐｅｒｉａ（ＳＯ−０１Ｂ）（ソニー・エリクソン・モバイルコミュニケーション社製）、Ｇａｌａｘｙ  Ｓ（ＳＣ−０２Ｂ）、Ｇａｌａｘｙ  Ｔａｂ（ＳＣ−０１Ｃ）（以上、韓国  サムスン電子社製）、ＢｌａｃｋＢｅｒｒｙ  ８７０７ｈ（加国  リサーチ・イン・モーション社製）、Ｋｉｎｄｌｅ（米国  アマゾン社製）、Ｋｏｂｏ  Ｔｏｕｃｈ（楽天株式会社製）。
【実施例】
【０１２１】
以下、実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。下記実施例に示す材料、試薬、割合、機器、操作等は、本発明の範囲から逸脱しない限り適宜変更することができる。本発明は、以下に示す実施例に限定されるものではない。なお、下記実施例において、特に断りのない限り、「％」及び「部」はいずれも質量基準であり、分子量は重量平均分子量を表す。【０１２２】
［実施例１〜８および比較例２］
＜黒色着色液および白色着色液の調製＞
黒色着色液１、２及び白色着色液１〜３を調製した。黒色着色液１、２及び白色着色液１〜３の組成を、下記表１に示す。【０１２３】
【表１】
2014175312.tif 000003
【０１２４】
・黒色分散液（ＧＢ４０１６、山陽色素株式会社製、下記組成）
黒色顔料（カーボンブラック）                                  ２５．０質量％
分散助剤                                                        ９．５質量％
分散溶媒（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）  ６５．５質量％【０１２５】
・白色分散液（ＦＰ  Ｗｈｉｔｅ  Ｂ４２２、山陽色素株式会社製、下記組成）
白色顔料（二酸化チタン）                                      ７０．０質量％
分散助剤                                                        ３．５質量％
分散溶媒（メチルエチルケトン）                                ２６．５質量％【０１２６】
・シリコーン樹脂溶液１（ＫＲ３００、信越シリコーン株式会社製、下記組成）
シリコーン樹脂のキシレン溶液（固形分５０質量％）【０１２７】
・シリコーン樹脂溶液２（ＫＲ３１１、信越シリコーン株式会社製、下記組成）
シリコーン樹脂のキシレン溶液（固形分６０質量％）【０１２８】
・シリコーン樹脂溶液３（ＫＲ２５１、信越シリコーン株式会社製、下記組成）
シリコーン樹脂のキシレン溶液（固形分２０質量％）【０１２９】
・シリコーン樹脂溶液４（Ｘ−４０−９２４６、信越シリコーン株式会社製、下記組成）シリコーン樹脂（固形分１００質量％）【０１３０】
・重合触媒（Ｄ−１５、信越化学株式会社製、下記組成）
亜鉛含有触媒のキシレン溶液（固形分５０質量％）【０１３１】
・酸化防止剤（ＩＲＧＡＦＯＳ  １６８、ＢＡＳＦ社製、下記化合物）
【化１】
2014175312.tif 000004
【０１３２】
・塗布助剤（メガファックＦ−７８０Ｆ、ＤＩＣ株式会社製、下記組成）
界面活性剤                                                ３０質量％
メチルエチルケトン                                        ７０質量％【０１３３】
・アクリル樹脂溶液（下記組成）
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸ランダム共重合体
（モル比７８／２２、重量平均分子量  ３８，０００）        ２７質量％
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセタート          ７３質量％【０１３４】
・アクリルモノマー溶液（日本化薬株式会社製、下記組成）
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                  ７６質量％
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセタート          ２４質量％【０１３５】
・重合開始剤（ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＯＸＥ  ０１、ＢＡＳＦ社製、下記化合物）
【化２】
2014175312.tif 000005
【０１３６】
・重合禁止剤（フェノチアジン、下記化合物）
【化３】
2014175312.tif 000006
【０１３７】
・有機溶媒１（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセタート）
・有機溶媒２（メチルエチルケトン）
・有機溶媒３（シクロヘキサノン）【０１３８】
＜剥離フィルムの準備＞
剥離層付きの仮支持体として、以下の剥離フィルムを準備した。
・ユニピール  ＴＲ６（ユニチカ株式会社製、厚さ７５μｍのＰＥＴフィルム上に、剥離層からマット剤が２００ｎｍ隆起しているオレフィン系の剥離層を有する）
・６５０２（リンテック株式会社製、厚さ５０μｍのＰＥＴフィルム上に、剥離層からマット剤が３２０ｎｍ隆起している非シリコーン系の剥離層を有する）
・セラピール  ＢＬＫ（東レフィルム加工株式会社製、厚さ５０μｍのＰＥＴフィルム上に、剥離層からマット剤が２００ｎｍ隆起している非シリコーン系の剥離層を有する）
・ＨＰ−Ａ５（フジコー株式会社、厚さ７５μｍのＰＥＴフィルム上に、剥離層からマット剤が４００ｎｍ隆起している非シリコーン系の剥離層を有する）
・フィルムバイナ  ＮＳＤ（藤森工業株式会社、厚さ５０μｍのＰＥＴフィルム上に、剥離層からマット剤が２７０ｎｍ隆起している非シリコーン系の剥離層を有する）
・東洋紡エステルフィルム  ＴＮ１１０（東洋紡績株式会社製、厚さ７５μｍのＰＥＴフィルム上に、剥離層からマット剤が３２０ｎｍ隆起しているシリコーン系の剥離層を有する）【０１３９】
＜保護フィルムの準備＞
次に、以下の保護フィルムを準備した。
・アルファンＥ−５０１（王子エフテックス株式会社製、厚さ１２μｍのポリプロピレンフィルム）【０１４０】
＜仮支持体上への色材層（遮光層および白色層からなる転写層）の作製＞
Ｅ型塗布機を使用し、剥離層付きの仮支持体の剥離層上に、遮光層を形成するための上記表１に記載の黒色着色液１または２を、乾燥厚み２．０μｍとなるように塗布し、乾燥させた。
遮光層の上に、白色層を形成するための上記表１に記載の白色着色液１〜３のいずれかを、乾燥厚み３２．０μｍとなるように塗布し、乾燥させた。
白色層の上に、上記の保護フィルムを圧着し、仮支持体幅２６０ｍｍ、転写層２４０ｍｍ、塗布長２０ｍの転写材料を作製した。具体的な層の構成は下記表２のとおりである。得られた転写材料を、実施例１〜８および比較例２の転写材料とした。【０１４１】
＜フィルム転写法による転写層付き基材の作製＞
図２のような開口部８（１５ｍｍΦ）が形成された強化処理ガラス（３００ｍｍ×４００ｍｍ×０．７ｍｍ）を、２５℃に調整したガラス洗浄剤液をシャワーにより２０秒間吹き付けながらナイロン毛を有する回転ブラシで洗浄した。このガラス基板を基材予備加熱装置で９０℃、２分間予備加熱した。【０１４２】
実施例１〜８および比較例２の転写材料を、ガラス基板の四辺に対応するサイズの額縁状に成形した後で、上記のガラス基板上に転写した。詳細を以下に示す。
転写材料を１辺が９８ｍｍとなり、更に額縁幅が１０ｍｍとなるよう、打ち抜く。１辺が１２０ｍｍ、厚さ１００μｍのＰＥＴシートを準備する。このＰＥＴシートの中心を基準に、１辺が９０ｍｍとなるように粘着剤ＳＫダイン１６０４Ｎ（綜研化学（株））を塗布して、粘着フィルムを形成する。そして、このＰＥＴシートに、打ち抜いた転写材料の仮支持体側を貼り付ける。これとは別に、１辺が７０ｍｍ、厚さ５０μｍのＰＥＴシートを準備して、粘着フィルムの粘着剤が転写材料を貼り付けた範囲外に影響しないように、このＰＥＴシートを貼り付ける。次に転写材料から保護フィルムを取り除く。次いで、１辺が１００ｍｍのガラス基板を準備する。ラミネート装置を用いて、転写材料を貼り付けたＰＥＴシート側から、粘着フィルムごとこの転写材料をガラス基板に転写する。転写材料をガラス基板に転写する際のガラス基板の温度は、４０℃とした。ついで仮支持体を粘着シートごとガラスシートから取り除く。
こうして、転写層つきガラス基板を得る。【０１４３】
＜転写層付き基材の作製＞
次いで、ＩＴＯスパッタを想定した、２８０℃、３０分の加熱を行い、ガラス基板、白色層、遮光層がこの順で積層された実施例１〜８および比較例２の転写層付き基材を得た。【０１４４】
＜剥離力の測定＞
（１）保護フィルムを転写層から剥離する工程
保護フィルムと転写層（白色層）との間の剥離力を、以下の方法で測定した。その結果を下記表２に記載した。
１辺が１００ｍｍのガラス基板を準備する。ガラス基板上に、１辺が９０ｍｍの転写材料を保護フィルムが空気側となるように、仮支持体側を両面接着テープＮｏ．５６１０（日東電工（株）製）を用いて貼り付ける。保護フィルムを一部剥離し、デジタル荷重機／引張圧縮試験機ＳＶ−５５（（株）今田製作所製）を用いて剥離力を測定する。【０１４５】
（２）転写層を被転写基材（ガラス基板）に転写し、仮支持体を剥離する工程
被転写基材（ガラス基板）と転写層（白色層）との間の剥離力を、以下の方法で測定した。その結果を下記表２に記載した。
１辺が１００ｍｍのガラス基板を準備する。１辺が９０ｍｍの転写材料を用意する。転写材料から保護フィルムを剥がした後、転写層をガラス基板側にして、４０℃としたガラス基板にラミネートする。ラミネートした転写材料から仮支持体を一部剥離し、テンシロン万能試験機ＲＴＧ−１２１０（（株）エー・アンド・ディー製）を用いて剥離力を測定する。【０１４６】
＜評価＞
（遮光層の品質）
得られた実施例１〜８および比較例２の転写層付き基材について、色材層を基材に転写して、保護フィルム及び剥離層を剥離した後の遮光層の品質を、目視にて評価した。
色材層の転写性が良好であり、色材層の剥がれが無く、かつ、剥離層が色材層側に残らない（現像工程が不要となる）場合を、「良い」評価とした。
一方、色材層の転写性に問題があるか、色材層の剥がれがあるか、剥離層が色材層側に残る場合（現像工程が必要となる場合）は、いずれの場合も実用上問題がある。
評価した結果を下記表２に示した。【０１４７】
（光学濃度）
上記で作製した実施例１〜８および比較例２の転写層付き基材の、転写層（遮光層と白色層）と被転写基材との積層体の光学濃度を、サカタインクス株式会社製  ＢＭＴ−１を用いて測定した。
評価した結果を下記表２に示した。【０１４８】
（遮光層上の表面抵抗）
上記で作製した実施例１〜８および比較例２の転写層付き基材の遮光層上の表面抵抗を、株式会社アドバンテスト製、Ｒ８３４０Ａ  ＵＬＴＲＡ  ＨＩＧＨ  ＲＥＳＩＳＴＡＮＣＥ  ＭＥＴＥＲを用いて測定した。
実施例１〜８および比較例２の転写層付き基材の遮光層の表面抵抗が、２５℃において１．０ｘ１０13Ω／□以上であることがわかった。  【０１４９】
（表面元素分析）
上記で作製した実施例１〜８および比較例２の転写層付き基材の遮光層上に、剥離層が残っていないことを確認するために、転写材料の状態での剥離層の表面と、転写層剥離後の剥離層の表面について、Ｘ線光電子分光分析装置（ＡＸＩＳ−ＨＳｉ、（株）島津製作所製）を用い元素分析を行った。
結果を下記表２に示した。
なお、実施例１では、転写材料の状態（剥離前）での剥離層の表面にＯ，Ｎ，Ｃが確認され、転写層を剥離した後の剥離層の表面にＯ，Ｎ，Ｃ，Ｓｉが確認された。これは転写層を剥離した後に、剥離層が仮支持体側にあることを示している。
後述するように、剥離層を有していない比較例１では、転写材料の状態で仮支持体の表面元素を確認し、転写層を剥離した後にも仮支持体の表面を確認したところ、転写層を剥離した後に、仮支持体の表面にＮ、Ｓｉが観察された。これは仮支持体を剥離した時に遮光層が剥げたことを示している。【０１５０】
［比較例１］
剥離フィルムの代わりに、剥離層がない仮支持体（ユニピール  ＴＲ６の剥離層が無い側のＰＥＴを使用した）上に色材層（遮光層および白色層からなる転写層）を作製した以外は、実施例１と同様にして、比較例１の転写材料および転写層付き基材を作製した。
得られた転写材料および転写層付き基材について、実施例１と同様に、各剥離力の測定と、転写層付き基材の評価とを行った。得られた結果を下記表２に示した。
下記表２中、比較例１の転写層と被転写基材の光学濃度は、遮光層が剥げたことにより光学濃度の低い部分ができたことを意味する。【０１５１】
［比較例３および５］
＜熱可塑性樹脂層と中間層付き仮支持体の作製＞
以下の方法で、仮支持体上に熱可塑性樹脂層と中間層を形成した。
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、下記処方Ｈ１からなる熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布、乾燥させた。次に、下記処方Ｐ１からなる中間層用塗布液を塗布、乾燥させた。【０１５２】
（熱可塑性樹脂層用塗布液：処方Ｈ１）
・メタノール                                                ：１１．１質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート          ：６．３６質量部
・メチルエチルケトン                                        ：５２．４質量部
・メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／ベンジル
メタクリレート／メタクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝
５５／１１．７／４．５／２８．８、分子量＝１０万、Ｔｇ≒７０℃）
：５．８３質量部
・スチレン／アクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比）＝６３／３７、
重量平均分子量＝１万、Ｔｇ≒１００℃）                    ：１３．６質量部
・モノマー１（商品名：ＢＰＥ−５００、新中村化学工業（株）製）
：９．１質量部
・塗布助剤                                                  ：０．５４質量部
なお、熱可塑性樹脂層用塗布液Ｈ１の溶剤除去後の１２０℃の粘度は１５００Ｐａ・ｓ
ｅｃであった。【０１５３】
（中間層用塗布液：処方Ｐ１）
・ポリビニルアルコール                                      ：３２．２質量部
（商品名：ＰＶＡ２０５、（株）クラレ製、鹸化度＝８８％、重合度５５０）
・ポリビニルピロリドン                                      ：１４．９質量部
（商品名：Ｋ−３０、アイエスピー・ジャパン（株）製）
・蒸留水                                                      ：５２４質量部
・メタノール                                                  ：４２９質量部【０１５４】
＜転写材料の作製＞
剥離フィルムの代わりに、得られた熱可塑性樹脂層と中間層付き仮支持体の中間層上に色材層を作製した以外は、実施例１と同様にして、比較例３の転写材料および転写層付き基材を作製した。
また、黒色着色液および白色着色液を変更した以外は、比較例３と同様にして、比較例５の転写材料および転写層付き基材を作製した。
得られた転写材料および転写層付き基材について、実施例１と同様に各剥離力の測定と、転写層付き基材の評価を行った。得られた結果を下記表２に示した。  【０１５５】
［比較例４］
実施例１に対し、保護フィルム無しとした以外は実施例１と同様にして、比較例４の転写材料および転写層付き基材を作製した。
得られた転写材料および転写層付き基材について、実施例１と同様に、各剥離力の測定と、転写層付き基材の評価を行った。得られた結果を下記表２に示した。【０１５６】
【表２】
2014175312.tif 000007
【０１５７】
上記表２より、実施例１〜８の転写材料は、色材層の転写性が良好であり、転写層を基材（ガラス基板）に転写してこの基材から仮支持体を剥離するときに色材層の剥がれが無く、かつ、剥離層が色材層側に残らない（転写層側に剥離層が付着せず、仮支持体と剥離層が一体ではがれる）ものであることがわかった。転写層への剥離層の剥がれ残りが生じた場合（剥離層の一部が転写層から剥がれずにこの転写層の表面に残った場合）には、この剥がれ残りを除去する工程（例えば、現像工程）が必要となる。これに対して、本実施例１〜８の転写材料によれば、剥離層の剥がれ残りが抑制されているため、この剥がれ残りを除去する工程が不要となる。
一方、比較例１より、転写材料に対する仮支持体（仮支持体と遮光層との間）の剥離力が所定の上限値を上回る転写材料を用いると、仮支持体を剥離した時に、遮光層が白色層から剥がれることがわかった。
比較例２より、剥離層と転写層（遮光層）との間の剥離力が、保護フィルムと転写層（白色層）との間の剥離力よりも小さい転写材料を用いると、保護フィルムに白色層が付き、所望の転写が出来ないことがわかった。
比較例３および５より、仮支持体と剥離層との間の剥離力が、剥離層と転写層（遮光層）との間の剥離力よりも小さい転写材料を用いると、仮支持体を剥離した際に、剥離層が遮光層に残る（現像工程が必要となってしまう）ことがわかった。
比較例４より、保護フィルムを用いない場合（保護フィルム無しの場合）、仮支持体の反塗布面に白色層が付き、所望の転写が出来ないことがわかった。具体的には、保護フィルムが存在しないため、比較例４の転写材料をロール状とした場合に、被転写基材に転写される白色層が仮支持体と接触した状態となる。このため、転写する前の段階において、白色層の表面は外部からの影響を受けやすくなる。したがって、比較例４の転写材料は、被転写基材に対する転写が不良となる。【０１５８】
［実施例１０１：タッチパネルの作製］
《第一の透明電極パターンの形成》
＜透明電極層の形成＞
実施例１〜８の転写層付き基材を、真空チャンバー内に導入し、ＳｎＯ2含有率が１０質量％のＩＴＯターゲット（インジウム：錫＝９５：５（モル比））を用いて、ＤＣマグネトロンスパッタリング（条件：基材の温度２５０℃、アルゴン圧０．１３Ｐａ、酸素圧０．０１Ｐａ）により、厚さ４０ｎｍのＩＴＯ薄膜を形成して、透明電極層を形成した前面板（前面板Ａ）を得た。ＩＴＯ薄膜の表面抵抗は８０Ω／□であった。【０１５９】
＜エッチング用転写フィルムＥ１の調製＞
比較例５の転写材料の調製において、黒色着色液１を下記処方Ｅ１からなるエッチング用光硬化性樹脂層用塗布液に代え、白色着色液１を用いなかった以外はこの比較例５の転写材料の調製と同様にして、仮支持体、熱可塑性樹脂層、中間層（酸素遮断膜）、エッチング用光硬化性樹脂層および保護フィルムとが一体となった、エッチング用転写フィルムＥ１を得た。エッチング用光硬化性樹脂層の膜厚は２．０μｍであった。【０１６０】
（エッチング用光硬化性樹脂層用塗布液：処方Ｅ１）
・メチルメタクリレート／スチレン／メタクリル酸共重合体
（共重合体組成（質量％）：３１／４０／２９、質量平均分子量６００００、
酸価１６３ｍｇＫＯＨ／ｇ）                                      ：１６質量部
・モノマー１（商品名：ＢＰＥ−５００、新中村化学工業（株）製）  ：５．６質量部
・ヘキサメチレンジイソシアネートのテトラエチレンオキシドモノ
メタクリレート０．５モル付加物                                    ：７質量部
・分子中に重合性基を１つ有する化合物としてのシクロヘキサンジ
メタノールモノアクリレート                                    ：２．８質量部
・２−クロロ−Ｎ−ブチルアクリドン                            ：０．４２質量部
・２，２−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル
ビイミダゾール                                              ：２．１７質量部
・ロイコクリスタルバイオレット                                ：０．２６質量部
・フェノチアジン                                            ：０．０１３質量部
・界面活性剤（商品名：メガファックＦ−７８０Ｆ、大日本インキ（株）製）
：０．０３質量部
・メチルエチルケトン                                              ：４０質量部
・１−メトキシ−２−プロパノール                                  ：２０質量部【０１６１】
＜第一の透明電極パターンの形成＞
上述した前面板Ａを洗浄して、保護フィルムを除去したエッチング用転写フィルムＥ１をラミネートした（基材温度：１３０℃、ゴムローラー温度１２０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．２ｍ／分）。仮支持体を剥離後、露光マスク（透明電極パターンを有す石英露光マスク）面と該エッチング用光硬化性樹脂層との間の距離を２００μｍに設定し、露光量５０ｍＪ／ｃｍ2（ｉ線）でパターン露光した。
次に、トリエタノールアミン系現像液（トリエタノールアミン３０質量％含有、商品名：Ｔ−ＰＤ２（富士フイルム（株）製）を純水で１０倍に希釈した液）を用いて２５℃で１００秒間処理し、界面活性剤含有洗浄液（商品名：Ｔ−ＳＤ３（富士フイルム（株）製）を純水で１０倍に希釈した液）を用いて３３℃で２０秒間処理し、回転ブラシ、超高圧洗浄ノズルで熱可塑性樹脂層と中間層との残渣除去を行った。続いて、１３０℃、３０分間のポストベーク処理を行って、白色層、遮光層、透明電極層、及びエッチング用光硬化性樹脂層パターンを形成した前面板（前面板Ｂ）を得た。【０１６２】
前面板Ｂを、ＩＴＯエッチャント（塩酸、塩化カリウム水溶液。液温３０℃）を入れたエッチング槽に浸漬し、１００秒処理して、エッチング用光硬化性樹脂層で覆われていない露出した領域の透明電極層を溶解除去した。このようにして、白色層、遮光層及びエッチング用光硬化性樹脂層パターンのついた透明電極層パターン付の前面板（前面板Ｃ）を得た。【０１６３】
次に、前面板Ｃを、レジスト剥離液（Ｎ−メチル−２−ピロリドン、モノエタノールアミン、界面活性剤（商品名：サーフィノール４６５、エアープロダクツ製）液温４５℃）を入れたレジスト剥離槽に浸漬し、２００秒処理し、エッチング用光硬化性樹脂層を除去した。このようにして、白色層と、遮光層と、前面板の非接触面および遮光層の非接触面側の面の両方の領域にまたがって設置された第一の透明電極パターン（図１Ａ参照）とを形成した前面板（前面板Ｄ）を得た。【０１６４】
《絶縁層の形成》
＜絶縁層形成用転写フィルムＷ１の調製＞
比較例５の転写材料の調製において、黒色着色液１を下記処方Ｗ１からなる絶縁層形成用塗布液に代え、白色着色液１を用いなかった以外は、この比較例５と同様にして、仮支持体、熱可塑性樹脂層、中間層（酸素遮断膜）、絶縁層用光硬化性樹脂層および保護フィルムとが一体となった、絶縁層形成用転写フィルムＷ１を得た。絶縁層用光硬化性樹脂層の膜厚は１．４μｍであった。【０１６５】
（絶縁層形成用塗布液：処方Ｗ１）
・バインダー３（シクロヘキシルメタクリレート（ａ）／メチルメタクリレート（ｂ）／メタクリル酸共重合体（ｃ）のグリシジルメタクリレート付加物（ｄ）（組成（質量％）：ａ／ｂ／ｃ／ｄ＝４６／１／１０／４３、質量平均分子量：３６０００、酸価６６ｍｇＫＯＨ／ｇ）の１−メトキシ−２−プロパノール、メチルエチルケトン溶液（固形分：４５％））                                              ：１２．５質量部
・ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬（株）製）のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液（７６質量％）
：１．４質量部
・ウレタン系モノマー（商品名：ＮＫオリゴＵＡ−３２Ｐ、新中村化学（株）製：不揮発分７５％、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート：２５％）
：０．６８質量部
・トリペンタエリスリトールオクタアクリレート（商品名：Ｖ＃８０２、大阪有機化学工業（株）製）                                                  ：１．８質量部
・ジエチルチオキサントン                                    ：０．１７質量部
・２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−  ［４−（４−モルホリニル）フェニル］−１−ブタノン（商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ３７９、ＢＡＳＦ製）                                                      ：０．１７質量部
・分散剤（商品名：ソルスパース２００００、アビシア製）      ：０．１９質量部
・界面活性剤（商品名：メガファックＦ−７８０Ｆ、大日本インキ製）
：０．０５質量部
・メチルエチルケトン                                        ：２３．３質量部
・ＭＭＰＧＡｃ（ダイセル化学（株）製）                      ：５９．８質量部
なお、絶縁層形成用塗布液Ｗ１の溶剤除去後の１００℃の粘度は４０００Ｐａ・ｓｅｃであった。【０１６６】
前面板Ｄを洗浄して、保護フィルムを除去した絶縁層形成用転写フィルムＷ１をラミネートした（基材温度：１００℃、ゴムローラー温度１２０℃、線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度２．３ｍ／分）。仮支持体を剥離後、露光マスク（絶縁層用パターンを有す石英露光マスク）面と該エッチング用光硬化性樹脂層との間の距離を１００μｍに設定し、露光量３０ｍＪ／ｃｍ2（ｉ線）でパターン露光した。【０１６７】
次に、トリエタノールアミン系現像液（トリエタノールアミン３０質量％含有、商品名：Ｔ−ＰＤ２（富士フイルム（株）製）を純水で１０倍に希釈した液）を用いて３３℃で６０秒間処理し、炭酸ナトリウム／炭酸水素ナトリウム系現像液（商品名：Ｔ−ＣＤ１（富士フイルム（株）製）を純水で５倍に希釈した液）を用いて２５℃で５０秒間処理し、界面活性剤含有洗浄液（商品名：Ｔ−ＳＤ３（富士フイルム（株）製）を純水で１０倍に希釈した液）を用いて３３℃で２０秒間処理して、回転ブラシ、超高圧洗浄ノズルで残渣除去を行った。次いで、２３０℃、６０分間のポストベーク処理を行って、白色層、遮光層、第一の透明電極パターン及び絶縁層パターンを形成した前面板（前面板Ｅ）を得た。【０１６８】
《第二の透明電極パターンの形成》
＜透明電極層の形成＞
第一の透明電極パターンの形成と同様にして、前面板Ｅを、ＤＣマグネトロンスパッタリング処理して（条件：基材の温度５０℃、アルゴン圧０．１３Ｐａ、酸素圧０．０１Ｐａ）、厚さ８０ｎｍのＩＴＯ薄膜を形成し、白色層、遮光層、第一の透明電極パターン、絶縁層パターン及び透明電極層を形成した前面板（前面板Ｆ）を得た。ＩＴＯ薄膜の表面抵抗は１１０Ω／□であった。【０１６９】
第一の透明電極パターンの形成と同様にして、エッチング用転写フィルムＥ１を用いて、白色層、遮光層、第一の透明電極パターン、絶縁層パターン、透明電極層及びエッチング用光硬化性樹脂層パターンを形成した前面板（前面板Ｇ）を得た。ポストベーク処理は、１３０℃で３０分間とした。
さらに、第一の透明電極パターンの形成と同様にして、エッチング（３０℃、５０秒間）して、エッチング用光硬化性樹脂層を除去（４５℃、２００秒間）した。このようにして、白色層、遮光層、第一の透明電極パターン、絶縁層パターン、前面板の非接触面および遮光層の非接触面側の面の両方の領域にまたがって設置された第二の透明電極パターン（図１Ａ参照）を形成した前面板（前面板Ｈ）を得た。【０１７０】
《第一および第二の透明電極パターンとは別の導電性要素の形成》
第一および第二の透明電極パターンの形成と同様にして、前面板Ｈを、ＤＣマグネトロンスパッタリング処理し、厚さ２００ｎｍのアルミニウム（Ａｌ）薄膜を形成した前面板（前面板Ｉ）を得た。【０１７１】
第一および第二の透明電極パターンの形成と同様にして、エッチング用転写フィルムＥ１を用いて、白色層、遮光層、第一の透明電極パターン、絶縁層パターン、第二の透明電極パターン、アルミニウム薄膜及びエッチング用光硬化性樹脂層パターンを形成した前面板（前面板Ｊ）を得た（ポストベーク処理；１３０℃、３０分間）。
さらに、第一の透明電極パターンの形成と同様にして、エッチング（３０℃、５０秒間）して、エッチング用光硬化性樹脂層を除去（４５℃、２００秒間）することにより、白色層、遮光層、第一の透明電極パターン、絶縁層パターン、第二の透明電極パターン、及び導電性要素を形成した前面板（前面板Ｋ）を得た。【０１７２】
《透明保護層の形成》
絶縁層の形成と同様にして、前面板Ｋに、保護フィルムを除去した絶縁層形成用転写フィルムＷ１をラミネートして、仮支持体を剥離後、露光マスクを介さずに露光量５０ｍＪ／ｃｍ2（ｉ線）で前面露光し、現像、ポスト露光（１０００ｍＪ／ｃｍ2）、ポストベーク処理を行った。このようにして、白色層、遮光層、第一の透明電極パターン、絶縁層パターン、第二の透明電極パターン、及び導電性要素の全てを覆うように絶縁層（透明保護層）を積層した前面板（前面板Ｌ）（図１Ａ参照）を得た。得られた前面板Ｌを実施例１〜８のタッチパネルとした。【０１７３】
《情報表示装置の作製》
特開２００９−４７９３６公報に記載の方法で製造した液晶表示素子に、前面板Ｌ（実施例１〜８のタッチパネル）を貼り合せ、公知の方法でタッチパネルを構成要素として備えた実施例１〜８の情報表示装置を作製した。【０１７４】
《前面板および情報表示装置の全体評価》
前面板Ｌ（実施例１〜８のタッチパネル）は、開口部、および裏面に汚れがなく、洗浄が容易であり、かつ、他部材の汚染がなかった。
また、白色層にはピンホールがなく、白色度、ムラも問題なかった。遮光層には同様にピンホールがなく、光遮蔽性に優れていた。
そして、第一の透明電極パターン、第二の透明電極パターン、および導電性要素の、各々の導電性には問題がなかった。また、第一の透明電極パターンと第二の電極パターンとの間では絶縁性を有していた。
さらに、透明保護層にも気泡等の欠陥がなく、表示特性に優れた情報表示装置が得られた。
【符号の説明】
【０１７５】
１    前面板
１ａ  非接触面
２    転写層（加飾材）
２ａ  白色層
２ｂ  遮光層
３    第一の透明電極パターン
４    第二の電極パターン
５    絶縁層
６    導電性要素
７    透明保護層
８    開口部
１０    タッチパネル
１１    仮支持体
１２    剥離層
１３    保護フィルム
２０    転写材料
３０    刃
１０１ａ  ガラス基材
１０１ｂ  フィルム基材
【図１Ａ】
2014175312.tif 000008
【図１Ｂ】
2014175312.tif 000009
【図２】
2014175312.tif 000010
【図３】
2014175312.tif 000011
【図４】
2014175312.tif 000012
【図５】
2014175312.tif 000013
【図６】
2014175312.tif 000014
【図７】
2014175312.tif 000015
【図８】
2014175312.tif 000016
【図９】
2014175312.tif 000017
【図１０】
2014175312.tif 000018
【図１１】
2014175312.tif 000019
【図１２】
2014175312.tif 000020
【図１３】
2014175312.tif 000021
【手続補正書】
【提出日】平成28年10月3日(2016.10.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
仮支持体、剥離層、転写層および保護フィルムをこの順で含む転写材料であり、
前記保護フィルムが前記転写材料から剥がされる場合に、前記保護フィルムが前記転写層から剥がれ、かつ、前記転写層が前記剥離層側に残り、
前記転写層を、ガラスからなる被転写基材、または、トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネートまたはシクロオレフィンポリマーから選ばれるフィルムからなる被転写基材に転写後、前記仮支持体を剥がした場合に、前記剥離層が前記仮支持体とともに剥離され、
前記保護フィルムを前記転写材料から剥がすときの前記保護フィルムと前記転写層間の剥離力が、１０〜２００ｍＮ／ｍであり、
前記被転写基材に転写した前記転写層から、前記剥離層および前記仮支持体の積層体を剥離するときの剥離力が、４０〜４００ｍＮ／ｍであることを特徴とする、転写材料。
【請求項２】
前記剥離層が、マット剤を含み、前記剥離層から前記マット剤が１５０〜５００ｎｍ隆起していることを特徴とする、請求項１に記載の転写材料。
【請求項３】
前記剥離層が、アルキルジオールと２官能以上のイソシアネートとの縮重合体、シリコーン樹脂、およびオレフィン樹脂から選ばれるポリマーを含む、請求項１または２に記載の転写材料。
【請求項４】
前記剥離層が、アルキルジオールと２官能以上のイソシアネートとの縮重合体およびオレフィン樹脂から選ばれるポリマーを含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の転写材料。
【請求項５】
前記転写層が少なくとも１層以上からなり、
前記転写層のうち少なくとも１層が、バインダー樹脂、ならびに、顔料および染料のうち少なくとも一方を含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の転写材料。
【請求項６】
前記転写層が少なくとも２層からなり、
前記転写層のうち少なくとも１層が、バインダー樹脂、ならびに、顔料および染料のうち少なくとも一方を含み、
前記転写層のうち他の層が、バインダー樹脂を含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載の転写材料。
【請求項７】
前記転写層のうち少なくとも１層に含まれる前記バインダー樹脂がシロキサン結合を有する、請求項５または６に記載の転写材料。
【請求項８】
前記転写層のうち少なくとも１層が、前記顔料または染料として黒色顔料、黒色染料、および白色顔料、から選ばれる少なくとも１つの顔料または染料を含む、請求項５〜７のいずれか一項に記載の転写材料。
【請求項９】
前記転写層が少なくとも２層からなり、
前記転写層のうち前記剥離層と隣接する層が少なくとも１つの黒色顔料および黒色染料から選ばれる顔料または染料を含み、
前記転写層のうち前記保護フィルムと隣接する層が白色顔料を含む、請求項１〜８のいずれか一項に記載の転写材料。
【請求項１０】
前記転写層が少なくとも２層からなり、
前記転写層のうち前記剥離層側の層ほど光学濃度が大きい、請求項１〜９のいずれか一項に記載の転写材料。
【請求項１１】
前記転写層が少なくとも２層からなり、
前記転写層のうち前記剥離層と隣接する層の光学濃度が１．０〜６．０である、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の転写材料。
【請求項１２】
前記転写層が少なくとも２層からなり、
前記転写層のうち前記剥離層と隣接する層の膜厚が０．５〜３．０μｍである、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の転写材料。
【請求項１３】
前記転写層が少なくとも２層からなり、
前記転写層のうち前記保護フィルム層と隣接する層の膜厚が５．０〜５０．０μｍである、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の転写材料。
【請求項１４】
前記仮支持体が、ポリエステル樹脂、トリアシルセルロース樹脂、およびシクロオレフィン樹脂から選ばれる樹脂を含む、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の転写材料。
【請求項１５】
前記保護フィルムが、ポリオレフィンフィルムである、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の転写材料。
【請求項１６】
前記被転写基材がガラスからなる、請求項１〜１５のいずれか一項に記載の転写材料。
【請求項１７】
前記被転写基材がシクロオレフィンポリマーフィルムからなる、請求項１〜１５のいずれか一項に記載の転写材料。
【請求項１８】
以下の（１）〜（３）の工程を含む、請求項１〜１７のいずれか一項に記載の転写材料の製造方法。
（１）前記剥離層を有する前記仮支持体を準備する。
（２）前記仮支持体の前記剥離層側に前記転写層を形成する。
（３）前記転写層側に前記保護フィルムを貼合する。
【請求項１９】
請求項１〜１７のいずれか一項に記載の転写材料を用い、以下の工程を含む、転写層付き基材の製造方法。
（１１）前記転写材料から前記保護フィルムを剥離する。
（１２）前記転写材料の前記転写層側を、前記ガラスからなる被転写基材、またはトリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネートまたはシクロオレフィンポリマーから選ばれるフィルムからなる被転写基材に転写する。
（１３）前記転写層から、前記剥離層と前記仮支持体を一度に剥離する。
【請求項２０】
前記転写層を前記被転写基材に転写する際の前記被転写基材の温度が、４０〜１５０℃である、請求項１９に記載の転写層付き基材の製造方法。
【請求項２１】
２５℃における前記転写層の表面抵抗が１．０×１０10Ω／□以上である、請求項１９または２０に記載の転写層付き基材の製造方法。
【請求項２２】
請求項１９〜２１のいずれか一項に記載の転写層付き基材の製造方法を用い、以下の工程を含む、タッチパネルの製造方法。
（２１）前記転写層付き基材の前記転写層側に導電層を形成する。
（２２）前記導電層を一部除去し、電極パターンを形成する。
【国際調査報告】
2014175312.tif 000022
2014175312.tif 000023
2014175312.tif 000024
2014175312.tif 000025