(57)【要約】  吐出装置等を使用して吐出量及び濡れ広がり範囲を良好にコントロールすることができ、ＵＶ−ＬＥＤの照射により優れた硬化性を発現して、ハンダリフロー耐熱性に優れた硬化物を形成することができる光硬化性組成物を提供する。  本発明の光硬化性組成物は、下記成分（Ａ）、成分（Ｂ）、成分（Ｃ）、及び成分（Ｄ）を含む。  成分（Ａ）：脂環式エポキシ基を有し、且つエステル結合を有しないエポキシ化合物  成分（Ｂ）：オキセタン化合物  成分（Ｃ）：フッ化アルキル基が結合したリンを含むアニオン、又はホウ素を含むアニオンを有する光カチオン重合開始剤  成分（Ｄ）：無機フィラー【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記成分（Ａ）、成分（Ｂ）、成分（Ｃ）、及び成分（Ｄ）を含む光硬化性組成物。
成分（Ａ）：脂環式エポキシ基を有し、且つエステル結合を有しないエポキシ化合物
成分（Ｂ）：オキセタン化合物
成分（Ｃ）：フッ化アルキル基が結合したリンを含むアニオン、又はホウ素を含むアニオンを有する光カチオン重合開始剤
成分（Ｄ）：無機フィラー
【請求項２】
成分（Ａ）が、下記式（ａ）で表される化合物である請求項１に記載の光硬化性組成物。
【化１】
2015198921.tif 000007
［式中、Ｒ1〜Ｒ18は同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、酸素原子若しくはハロゲン原子を含んでいてもよい炭化水素基、又は置換基を有していてもよいアルコキシ基を示す。Ｘは、単結合又は連結基（エステル結合を含む連結基を除く）を示す］
【請求項３】
成分（Ｂ）の含有量が光硬化性組成物に含まれる全カチオン重合性化合物の５〜４０重量％である請求項１又は２に記載の光硬化性組成物。
【請求項４】
成分（Ａ）の含有量が光硬化性組成物に含まれる全カチオン重合性化合物の２０〜６０重量％である請求項１〜３の何れか１項に記載の光硬化性組成物。
【請求項５】
成分（Ｄ）の含有量が光硬化性組成物全量の１〜１０重量％である請求項１〜４の何れか１項に記載の光硬化性組成物。
【請求項６】
成分（Ｃ）の光カチオン重合開始剤のアニオン部が、下記式（c-1）
［（Ｒｆ）sＰＦ6-s］-        （c-1）
（式中、Ｒｆは水素原子の８０％以上がフッ素原子で置換された炭素数１〜４のアルキル基を示し、ｓは１〜５の整数を示す）
で表されるアニオン、又は下記式（c-2）
［（Ｒ’ｆ）tＢＦ4-t］-        （c-2）
（式中、Ｒ’ｆは水素原子の一部又は全部がフッ素原子で置換されたアリール基を示し、ｔは０〜４の整数を示す）
で表されるアニオンである請求項１〜５の何れか１項に記載の光硬化性組成物。
【請求項７】
成分（Ｄ）がシリカである請求項１〜６の何れか１項に記載の光硬化性組成物。
【請求項８】
粘度［２５℃、せん断速度２０（１／ｓ）における］が５〜２０Ｐａ・ｓ、且つ２５℃におけるＴＩ値［せん断速度２（１／ｓ）時の粘度／せん断速度２０（１／ｓ）時の粘度］が２以上である請求項１〜７の何れか１項に記載の光硬化性組成物。
【請求項９】
請求項１〜８の何れか１項に記載の光硬化性組成物を含む光学素子用接着剤。
【請求項１０】
請求項９に記載の光学素子用接着剤を被着体に塗布して、光を照射することを特徴とする光学部品の製造方法。
【請求項１１】
下記工程を有する請求項１０に記載の光学部品の製造方法。
工程１：請求項９に記載の光学素子用接着剤を被着体としての光学素子アレイに塗布し、これを複数枚積層して光学素子アレイ積層体を製造する工程
工程２：光を照射して光学素子用接着剤を硬化させる工程
工程３：光学素子アレイ積層体をダイシングする工程
【請求項１２】
光学素子用接着剤の塗布を、ディスペンサーを使用して行う請求項１０又は１１に記載の光学部品の製造方法。
【請求項１３】
光学素子用接着剤の塗布を、スクリーン印刷により行う請求項１０又は１１に記載の光学部品の製造方法。
【請求項１４】
光照射をＵＶ−ＬＥＤ（波長：３５０〜４００ｎｍ）を使用して行う請求項１０〜１３の何れか１項に記載の光学部品の製造方法。
【請求項１５】
光照射の積算光量が５０００ｍＪ／ｃｍ2以下である請求項１０〜１４の何れか１項に記載の光学部品の製造方法。
【請求項１６】
光学素子用接着剤の塗布厚が０．０１〜０．３ｍｍである請求項１０〜１５の何れか１項に記載の光学部品の製造方法。
【請求項１７】
工程１において、光学素子部と基板部からなる光学素子アレイの基板部に光学素子用接着剤を塗布する請求項１１〜１６の何れか１項に記載の光学部品の製造方法。
【請求項１８】
被着体が、その構成材料にエポキシ樹脂を含有する請求項１０〜１７の何れか１項に記載の光学部品の製造方法。
【請求項１９】
請求項１０〜１８の何れか１項に記載の光学部品の製造方法により得られる光学部品。
【請求項２０】
光学素子用接着剤の硬化物が被着体と接する面積が、被着体表面積の２〜５０％である請求項１９に記載の光学部品。
【請求項２１】
光学素子用接着剤の硬化物の厚みが０．０１〜０．３ｍｍである請求項１９又は２０に記載の光学部品。
【請求項２２】
被着体が光学素子部と基板部からなる光学素子アレイであり、光学素子用接着剤の硬化物が光学素子アレイと接する面積が、光学素子部面積の２〜５０％である請求項１９〜２１の何れか１項に記載の光学部品。
【請求項２３】
請求項１９〜２２の何れか１項に記載の光学部品を備えた光学装置。
【請求項２４】
請求項１９〜２２の何れか１項に記載の光学部品をリフロー半田付けにより基板実装して得られる光学装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光硬化性組成物、及びそれを含む光学素子用接着剤に関する。本願は、２０１４年６月２３日に日本に出願した、特願２０１４−１２７８７２号の優先権を主張し、その内容をここに援用する。
【背景技術】
【０００２】
現在、携帯電話、スマートフォン等の携帯型電子機器の需要が拡大している。このような電子機器には小型で薄型の撮像ユニットが搭載されており、前記撮像ユニットは、一般に、固体撮像素子（ＣＣＤ型イメージセンサやＣＭＯＳ型イメージセンサ等）とレンズ等の光学部品より構成されている。そして、解像度の向上を目的として複数枚のレンズが接着剤で固定された状態で使用される。【０００３】
上記複数枚のレンズを固定する接着剤としては、カチオン硬化性組成物が、ラジカル重合性組成物に比べ、酸素による硬化阻害が起こらない点、及び硬化時の収縮が小さい点から好ましく使用される。【０００４】
前記カチオン硬化性組成物としては、例えば、特許文献１〜３に記載の組成物等が知られている。しかし、これらの組成物は、ＵＶ−ＬＥＤの照射では、十分な硬化性が得られないことが問題であった。尚、ＵＶ−ＬＥＤは、点灯／消灯を迅速に行うことができ、高効率、長寿命であり、有害なオゾンの発生がなく、環境負荷物質である水銀を用いないことから、好ましく使用される。
また、得られる硬化物の耐熱性が不十分であり、鉛フリーハンダを使用したリフロー半田付けにより基板実装する場合、レンズの剥がれや位置ずれが発生することが問題であった。
更に、塗布後の形状安定性が低い為、ジェットディスペンサー等の吐出装置を使用して吐出量及び濡れ広がり範囲をコントロールすることが困難であり、レンズ部に接着剤が付着して光学特性が低下することも問題であった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１２−４６６７３号公報
【特許文献２】特開２００５−３１６４１５号公報
【特許文献３】特開２００３−１４９４７６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
従って、本発明の目的は、吐出装置等を使用して吐出量及び濡れ広がり範囲を良好にコントロールすることができ、ＵＶ−ＬＥＤの照射により優れた硬化性を発現して、ハンダリフロー耐熱性に優れた硬化物を形成することができる光硬化性組成物を提供することにある。
本発明の他の目的は、前記光硬化性組成物を含む光学素子用接着剤を提供することにある。
本発明の更に他の目的は、前記光学素子用接着剤を使用することを特徴とする光学部品の製造方法を提供することにある。
本発明の更に他の目的は、前記製造方法により得られる光学部品や、該光学部品を備えた光学装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者等は上記課題を解決するため鋭意検討した結果、脂環式エポキシ基を有する特定の化合物と、オキセタン化合物と、特定の光カチオン重合開始剤と、無機フィラーとを含有する光硬化性組成物は、ジェットディスペンサー等の吐出装置を使用してコントロール良く吐出することができ、ＵＶ−ＬＥＤの照射により優れた硬化性を発現して、リフロー耐熱性に優れた硬化物を形成することができることを見いだした。尚、本明細書において「脂環式エポキシ基」とは、脂環を構成する隣り合う２つの炭素原子が１つの酸素原子と共に環を形成してなる基（特に、シクロヘキサン環を構成する隣接する２つの炭素原子と酸素原子とで構成されるエポキシ基）である。本発明はこれらの知見に基づいて完成させたものである。【０００８】
すなわち、本発明は、下記成分（Ａ）、成分（Ｂ）、成分（Ｃ）、及び成分（Ｄ）を含む光硬化性組成物を提供する。
成分（Ａ）：脂環式エポキシ基を有し、且つエステル結合を有しないエポキシ化合物
成分（Ｂ）：オキセタン化合物
成分（Ｃ）：フッ化アルキル基が結合したリンを含むアニオン、又はホウ素を含むアニオンを有する光カチオン重合開始剤
成分（Ｄ）：無機フィラー【０００９】
本発明は、また、成分（Ａ）が、下記式（ａ）で表される化合物である前記の光硬化性組成物を提供する。
【化１】
2015198921.tif 000002
［式中、Ｒ1〜Ｒ18は同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、酸素原子若しくはハロゲン原子を含んでいてもよい炭化水素基、又は置換基を有していてもよいアルコキシ基を示す。Ｘは、単結合又は連結基（エステル結合を含む連結基を除く）を示す］【００１０】
本発明は、また、成分（Ｂ）の含有量が光硬化性組成物に含まれる全カチオン重合性化合物の５〜４０重量％である前記の光硬化性組成物を提供する。【００１１】
本発明は、また、成分（Ａ）の含有量が光硬化性組成物に含まれる全カチオン重合性化合物の２０〜６０重量％である前記の光硬化性組成物を提供する。【００１２】
本発明は、また、成分（Ｄ）の含有量が光硬化性組成物全量の１〜１０重量％である前記の光硬化性組成物を提供する。【００１３】
本発明は、また、成分（Ｃ）の光カチオン重合開始剤のアニオン部が、下記式（c-1）
［（Ｒｆ）sＰＦ6-s］-        （c-1）
（式中、Ｒｆは水素原子の８０％以上がフッ素原子で置換された炭素数１〜４のアルキル基を示し、ｓは１〜５の整数を示す）
で表されるアニオン、又は下記式（c-2）
［（Ｒ’ｆ）tＢＦ4-t］-        （c-2）
（式中、Ｒ’ｆは水素原子の一部又は全部がフッ素原子で置換されたアリール基を示し、ｔは０〜４の整数を示す）
で表されるアニオンである前記の光硬化性組成物を提供する。【００１４】
本発明は、また、成分（Ｄ）がシリカである前記の光硬化性組成物を提供する。【００１５】
本発明は、また、粘度［２５℃、せん断速度２０（１／ｓ）における］が５〜２０Ｐａ・ｓ、且つ２５℃におけるＴＩ値［せん断速度２（１／ｓ）時の粘度／せん断速度２０（１／ｓ）時の粘度］が２以上である前記の光硬化性組成物を提供する。【００１６】
本発明は、また、前記の光硬化性組成物を含む光学素子用接着剤を提供する。【００１７】
本発明は、また、前記の光学素子用接着剤を被着体に塗布して、光を照射することを特徴とする光学部品の製造方法を提供する。【００１８】
本発明は、また、下記工程を有する前記の光学部品の製造方法を提供する。
工程１：前記の光学素子用接着剤を被着体としての光学素子アレイに塗布し、これを複数枚積層して光学素子アレイ積層体を製造する工程
工程２：光を照射して光学素子用接着剤を硬化させる工程
工程３：光学素子アレイ積層体をダイシングする工程【００１９】
本発明は、また、光学素子用接着剤の塗布を、ディスペンサーを使用して行う前記の光学部品の製造方法を提供する。【００２０】
本発明は、また、光学素子用接着剤の塗布を、スクリーン印刷により行う前記の光学部品の製造方法を提供する。【００２１】
本発明は、また、光照射をＵＶ−ＬＥＤ（波長：３５０〜４００ｎｍ）を使用して行う前記の光学部品の製造方法を提供する。【００２２】
本発明は、また、光照射の積算光量が５０００ｍＪ／ｃｍ2以下である前記の光学部品の製造方法を提供する。【００２３】
本発明は、また、光学素子用接着剤の塗布厚が０．０１〜０．３ｍｍである前記の光学部品の製造方法を提供する。【００２４】
本発明は、また、工程１において、光学素子部と基板部からなる光学素子アレイの基板部に光学素子用接着剤を塗布する前記の光学部品の製造方法を提供する。【００２５】
本発明は、また、被着体が、その構成材料にエポキシ樹脂を含有する前記の光学部品の製造方法を提供する。【００２６】
本発明は、また、前記の光学部品の製造方法により得られる光学部品を提供する。【００２７】
本発明は、また、光学素子用接着剤の硬化物が被着体と接する面積が、被着体表面積の２〜５０％である前記の光学部品を提供する。【００２８】
本発明は、また、光学素子用接着剤の硬化物の厚みが０．０１〜０．３ｍｍである前記の光学部品を提供する。【００２９】
本発明は、また、被着体が光学素子部と基板部からなる光学素子アレイであり、光学素子用接着剤の硬化物が光学素子アレイと接する面積が、光学素子部面積の２〜５０％である前記の光学部品を提供する。【００３０】
本発明は、また、前記の光学部品を備えた光学装置を提供する。【００３１】
本発明は、また、前記の光学部品をリフロー半田付けにより基板実装して得られる光学装置を提供する。【００３２】
すなわち、本発明は以下に関する。
［１］  下記成分（Ａ）、成分（Ｂ）、成分（Ｃ）、及び成分（Ｄ）を含む光硬化性組成物。
成分（Ａ）：脂環式エポキシ基を有し、且つエステル結合を有しないエポキシ化合物
成分（Ｂ）：オキセタン化合物
成分（Ｃ）：フッ化アルキル基が結合したリンを含むアニオン、又はホウ素を含むアニオンを有する光カチオン重合開始剤
成分（Ｄ）：無機フィラー
［２］  成分（Ａ）が、式（ａ）で表される化合物である［１］に記載の光硬化性組成物。
［３］  式（ａ）で表される化合物が、（３，４，３’，４’−ジエポキシ）ビシクロヘキシル、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）エーテル、１，２−エポキシ−１，２−ビス（３，４−エポキシシクロヘキサン−１−イル）エタン、２，２−ビス（３，４−エポキシシクロヘキサン−１−イル）プロパン、及び１，２−ビス（３，４−エポキシシクロヘキサン−１−イル）エタンからなる群より選択される少なくとも１種の化合物である［２］に記載の光硬化性組成物。
［４］  成分（Ｂ）が、式（ｂ）で表される化合物である［１］〜［３］の何れか１つに記載の光硬化性組成物。
［５］  式（ｂ）で表される化合物が、式（b-1）〜（b-15）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物である［４］に記載の光硬化性組成物。
［６］  成分（Ａ）、（Ｂ）以外に、カチオン重合性官能基としてエポキシ基又は水酸基を含有する、重量平均分子量が１０００〜１００００のカチオン重合性化合物を、光硬化性組成物に含まれる全カチオン重合性化合物の１０〜４０重量％含有する［１］〜［５］の何れか１つに記載の光硬化性組成物。
［７］  成分（Ｂ）の含有量が光硬化性組成物に含まれる全カチオン重合性化合物の５〜４０重量％である［１］〜［６］の何れか１つに記載の光硬化性組成物。
［８］  成分（Ａ）の含有量が光硬化性組成物に含まれる全カチオン重合性化合物の２０〜６０重量％である［１］〜［７］の何れか１つに記載の光硬化性組成物。
［９］  光硬化性組成物に含まれる全カチオン重合性化合物におけるエステル結合を有する脂環式エポキシ化合物の含有量が５〜３０重量％である［１］〜［８］の何れか１つに記載の光硬化性組成物。
［１０］  成分（Ｃ）の光カチオン重合開始剤のアニオン部が、下記式（c-1）
［（Ｒｆ）sＰＦ6-s］-        （c-1）
（式中、Ｒｆは水素原子の８０％以上がフッ素原子で置換された炭素数１〜４のアルキル基を示し、ｓは１〜５の整数を示す）
で表されるアニオン、又は下記式（c-2）
［（Ｒ’ｆ）tＢＦ4-t］-        （c-2）
（式中、Ｒ’ｆは水素原子の一部又は全部がフッ素原子で置換されたアリール基を示し、ｔは０〜４の整数を示す）
で表されるアニオンである［１］〜［９］の何れか１つに記載の光硬化性組成物。
［１１］  フッ化アルキル基が結合したリンを含むアニオンが、［（Ｃ2Ｆ5）3ＰＦ3］-、［（Ｃ3Ｆ7）3ＰＦ3］-、［（（ＣＦ3）2ＣＦ）3ＰＦ3］-、［（（ＣＦ3）2ＣＦ）2ＰＦ4］-、［（（ＣＦ3）2ＣＦＣＦ2）3ＰＦ3］-、及び［（（ＣＦ3）2ＣＦＣＦ2）2ＰＦ4］-からなる群より選択される少なくとも１種のアニオンである［１］〜［１０］の何れか１つに記載の光硬化性組成物。
［１２］  ホウ素を含むアニオンが、ＢＦ4-、［Ｂ（Ｃ6Ｆ5）4］-、［Ｂ（Ｃ6Ｆ4Ｈ）4］-、［Ｂ（Ｃ6Ｆ3Ｈ2）4］-、［Ｂ（Ｃ6Ｆ2Ｈ3）4］-、及び［Ｂ（Ｃ6ＦＨ4）4］-からなる群より選択される少なくとも１種のアニオンである［１］〜［１１］の何れか１つに記載の光硬化性組成物。
［１３］  光カチオン重合開始剤のカチオン部がアリールスルホニウムイオンである［１］〜［１２］の何れか１つに記載の光硬化性組成物。
［１４］  光カチオン重合開始剤が、（４−ヒドロキシフェニル）メチルベンジルスルホニウム  テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、４−（４−ビフェニリルチオ）フェニル−４−ビフェニリルフェニルスルホニウム  テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、４−（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウム  トリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、４−（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウム  テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、及び［４−（４−ビフェニリルチオ）フェニル］−４−ビフェニリルフェニルスルホニウム  トリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェートからなる群より選択される少なくとも１種の化合物である［１］〜［９］の何れか１つに記載の光硬化性組成物。
［１５］  成分（Ｄ）の含有量が光硬化性組成物全量の１〜１０重量％である［１］〜［１４］の何れか１つに記載の光硬化性組成物。
［１６］  成分（Ｄ）がシリカである［１］〜［１５］の何れか１つに記載の光硬化性組成物。
［１７］  粘度［２５℃、せん断速度２０（１／ｓ）における］が５〜２０Ｐａ・ｓ、且つ２５℃におけるＴＩ値［せん断速度２（１／ｓ）時の粘度／せん断速度２０（１／ｓ）時の粘度］が２以上である［１］〜［１６］の何れか１つに記載の光硬化性組成物。
［１８］  ［１］〜［１７］の何れか１つに記載の光硬化性組成物を含む光学素子用接着剤。
［１９］  ［１８］に記載の光学素子用接着剤を被着体に塗布して、光を照射することを特徴とする光学部品の製造方法。
［２０］  下記工程を有する［１９］に記載の光学部品の製造方法。
工程１：［１８］に記載の光学素子用接着剤を被着体としての光学素子アレイに塗布し、これを複数枚積層して光学素子アレイ積層体を製造する工程
工程２：光を照射して光学素子用接着剤を硬化させる工程
工程３：光学素子アレイ積層体をダイシングする工程
［２１］  光学素子用接着剤の塗布を、ディスペンサーを使用して行う［１９］又は［２０］に記載の光学部品の製造方法。
［２２］  光学素子用接着剤の塗布を、スクリーン印刷により行う［１９］又は［２０］に記載の光学部品の製造方法。
［２３］  光照射をＵＶ−ＬＥＤ（波長：３５０〜４００ｎｍ）を使用して行う［１９］〜［２２］の何れか１つに記載の光学部品の製造方法。
［２４］  光照射の積算光量が５０００ｍＪ／ｃｍ2以下である［１９］〜［２３］の何れか１つに記載の光学部品の製造方法。
［２５］  光学素子用接着剤の塗布厚が０．０１〜０．３ｍｍである［１９］〜［２４］の何れか１つに記載の光学部品の製造方法。
［２６］  工程１において、光学素子部と基板部からなる光学素子アレイの基板部に光学素子用接着剤を塗布する［２０］〜［２５］の何れか１つに記載の光学部品の製造方法。
［２７］  被着体が、その構成材料にエポキシ樹脂を含有する［１９］〜［２６］の何れか１つに記載の光学部品の製造方法。
［２８］  ［１９］〜［２７］の何れか１つに記載の光学部品の製造方法により得られる光学部品。
［２９］  光学素子用接着剤の硬化物が被着体と接する面積が、被着体表面積の２〜５０％である［２８］に記載の光学部品。
［３０］  光学素子用接着剤の硬化物の厚みが０．０１〜０．３ｍｍである［２８］又は［２９］に記載の光学部品。
［３１］  被着体が光学素子部と基板部からなる光学素子アレイであり、光学素子用接着剤の硬化物が光学素子アレイと接する面積が、光学素子部面積の２〜５０％である［２８］〜［３０］の何れか１つに記載の光学部品。
［３２］  ［２８］〜［３１］の何れか１つに記載の光学部品を備えた光学装置。
［３３］  ［２８］〜［３１］の何れか１つに記載の光学部品をリフロー半田付けにより基板実装して得られる光学装置。
【発明の効果】
【００３３】
本発明の光硬化性組成物は上記構成を有するため、ジェットディスペンサー等の吐出装置を使用して、糸引きを生じることなく、吐出量及び濡れ広がり範囲を良好にコントロールして塗布することができ、ＵＶ−ＬＥＤの照射により優れた硬化性を発現して、リフロー耐熱性に優れた硬化物を形成することができる。また、酸素雰囲気下でも、速やかに且つ硬化収縮を抑制しつつ硬化物を形成することができる。そのため、本発明の光硬化性組成物を光学素子用接着剤として使用すると、ウェハレベルレンズの積層体を、ＵＶ−ＬＥＤを使用して効率よく製造することができ、得られたウェハレベルレンズの積層体は、耐リフロー耐熱性を有するため、リフロー工程に曝してもレンズの剥がれや位置ずれが生じることが無い。そのため、レンズを別工程で実装する必要がなく、リフロー処理により一括して実装が可能であり、優れた生産性でレンズが搭載された光学装置を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】図１は本発明の光学部品の製造方法の一例を示す模式図であり、光学素子アレイ（３）に光学素子用接着剤（４）を塗布する工程（Ia）、これを複数枚積層する工程（Ib）、光照射して光学素子用接着剤を硬化させて積層体を接着する工程（II）、接着された光学素子アレイ積層体（５）をダイシングして光学素子モジュール積層体（9a、9b）を得る工程（III）を有する。
【発明を実施するための形態】
【００３５】
（成分（Ａ））
成分（Ａ）は脂環式エポキシ基を有し、且つエステル結合を有しないエポキシ化合物である。前記エポキシ化合物は、カチオン重合性化合物である。
【００３６】
前記脂環式エポキシ基を有し、且つエステル結合を有しないエポキシ化合物としては、例えば、下記式（ａ）で表される化合物を挙げることができる。
【００３７】
【化２】
2015198921.tif 000003
【００３８】
上記式（ａ）におけるＲ1〜Ｒ18は同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、酸素原子若しくはハロゲン原子を含んでいてもよい炭化水素基、又は置換基を有していてもよいアルコキシ基を示す。Ｘは単結合又は連結基（エステル結合を含む連結基を除く）を示す。
【００３９】
Ｒ1〜Ｒ18におけるハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等を挙げることができる。
【００４０】
Ｒ1〜Ｒ18における炭化水素基としては、例えば、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基、及びこれらが２以上結合した基を挙げることができる。
【００４１】
上記脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ヘキシル、オクチル、イソオクチル、デシル、ドデシル基等のＣ1-20アルキル基（好ましくはＣ1-10アルキル基、特に好ましくはＣ1-4アルキル基）；ビニル、アリル、メタリル、１−プロペニル、イソプロペニル、１−ブテニル、２−ブテニル、３−ブテニル、１−ペンテニル、２−ペンテニル、３−ペンテニル、４−ペンテニル、５−ヘキセニル基等のＣ2-20アルケニル基（好ましくはＣ2-10アルケニル基、特に好ましくはＣ2-4アルケニル基）；エチニル、プロピニル基等のＣ2-20アルキニル基（好ましくはＣ2-10アルキニル基、特に好ましくはＣ2-4アルキニル基）等を挙げることができる。
【００４２】
上記脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロドデシル基等のＣ3-12シクロアルキル基；シクロヘキセニル基等のＣ3-12シクロアルケニル基；ビシクロヘプタニル、ビシクロヘプテニル基等のＣ4-15架橋環式炭化水素基等を挙げることができる。
【００４３】
上記芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル、ナフチル基等のＣ6-14アリール基（好ましくはＣ6-10アリール基）等を挙げることができる。
【００４４】
また、上述の脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、及び芳香族炭化水素基から選択される基が２以上結合した基における、脂肪族炭化水素基と脂環式炭化水素基とが結合した基としては、例えば、シクロへキシルメチル基等のＣ3-12シクロアルキル置換Ｃ1-20アルキル基；メチルシクロヘキシル基等のＣ1-20アルキル置換Ｃ3-12シクロアルキル基等を挙げることができる。脂肪族炭化水素基と芳香族炭化水素基とが結合した基としては、例えば、ベンジル基、フェネチル基等のＣ7-18アラルキル基（特に、Ｃ7-10アラルキル基）；シンナミル基等のＣ6-14アリール−Ｃ2-20アルケニル基；トリル基等のＣ1-20アルキル置換Ｃ6-14アリール基；スチリル基等のＣ2-20アルケニル置換Ｃ6-14アリール基等を挙げることができる。
【００４５】
Ｒ1〜Ｒ18における酸素原子若しくはハロゲン原子を含んでいてもよい炭化水素基としては、上述の炭化水素基における少なくとも１つの水素原子が、酸素原子を有する基又はハロゲン原子を有する基で置換された基等を挙げることができる。上記酸素原子を有する基としては、例えば、ヒドロキシル基；ヒドロパーオキシ基；メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロピルオキシ、ブトキシ、イソブチルオキシ基等のＣ1-10アルコキシ基；アリルオキシ基等のＣ2-10アルケニルオキシ基；Ｃ1-10アルキル基、Ｃ2-10アルケニル基、ハロゲン原子、及びＣ1-10アルコキシ基から選択される置換基を有していてもよいＣ6-14アリールオキシ基（例えば、トリルオキシ、ナフチルオキシ基等）；ベンジルオキシ、フェネチルオキシ基等のＣ7-18アラルキルオキシ基；アセチルオキシ、プロピオニルオキシ、（メタ）アクリロイルオキシ、ベンゾイルオキシ基等のＣ1-10アシルオキシ基；メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル基等のＣ1-10アルコキシカルボニル基；Ｃ1-10アルキル基、Ｃ2-10アルケニル基、ハロゲン原子、及びＣ1-10アルコキシ基から選択される置換基を有していてもよいＣ6-14アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル、トリルオキシカルボニル、ナフチルオキシカルボニル基等）；ベンジルオキシカルボニル基等のＣ7-18アラルキルオキシカルボニル基；グリシジルオキシ基等のエポキシ基含有基；エチルオキセタニルオキシ基等のオキセタニル基含有基；アセチル、プロピオニル、ベンゾイル基等のＣ1-10アシル基；イソシアナート基；スルホ基；カルバモイル基；オキソ基；及びこれらの２以上がＣ1-10アルキレン基等を介して、又は介することなく結合した基等を挙げることができる。上記ハロゲン原子を有する基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等を挙げることができる。
【００４６】
Ｒ1〜Ｒ18におけるアルコキシ基としては、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロピルオキシ、ブトキシ、イソブチルオキシ基等のＣ1-10アルコキシ基を挙げることができる。
【００４７】
前記アルコキシ基が有していてもよい置換基としては、例えば、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、Ｃ1-10アルコキシ基、Ｃ2-10アルケニルオキシ基、Ｃ6-14アリールオキシ基、Ｃ1-10アシルオキシ基、メルカプト基、Ｃ1-10アルキルチオ基、Ｃ2-10アルケニルチオ基、Ｃ6-14アリールチオ基、Ｃ7-18アラルキルチオ基、カルボキシル基、Ｃ1-10アルコキシカルボニル基、Ｃ6-14アリールオキシカルボニル基、Ｃ7-18アラルキルオキシカルボニル基、アミノ基、モノ又はジＣ1-10アルキルアミノ基、Ｃ1-10アシルアミノ基、エポキシ基含有基、オキセタニル基含有基、Ｃ1-10アシル基、オキソ基、及びこれらの２以上がＣ1-10アルキレン基等を介して、又は介することなく結合した基等を挙げることができる。
【００４８】
Ｒ1〜Ｒ18としては、なかでも水素原子が好ましい。
【００４９】
上記式（ａ）におけるＸは、単結合又は連結基（１以上の原子を有する２価の基、エステル結合を含む連結基を除く）を示す。上記連結基としては、例えば、２価の炭化水素基、炭素−炭素二重結合の一部又は全部がエポキシ化されたアルケニレン基、カルボニル基、エーテル結合、アミド基、及びこれらが複数個連結した基等を挙げることができる。上記２価の炭化水素基としては、例えば、メチレン、メチルメチレン、ジメチルメチレン、エチレン、プロピレン、トリメチレン基等の直鎖又は分岐鎖状のＣ1-18アルキレン基（好ましくは直鎖又は分岐鎖状のＣ1-3アルキレン基）；１，２−シクロペンチレン、１，３−シクロペンチレン、シクロペンチリデン、１，２−シクロヘキシレン、１，３−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキシレン、シクロヘキシリデン基等のＣ3-12シクロアルキレン基、及びＣ3-12シクロアルキリデン基（好ましくはＣ3-6シクロアルキレン基、及びＣ3-6シクロアルキリデン基）等を挙げることができる。
【００５０】
上記炭素−炭素二重結合の一部又は全部がエポキシ化されたアルケニレン基（「エポキシ化アルケニレン基」と称する場合がある）におけるアルケニレン基としては、例えば、ビニレン基、プロペニレン基、１−ブテニレン基、２−ブテニレン基、ブタジエニレン基、ペンテニレン基、ヘキセニレン基、ヘプテニレン基、オクテニレン基等の炭素数２〜８の直鎖又は分岐鎖状のアルケニレン基等が挙げられる。特に、上記エポキシ化アルケニレン基としては、炭素−炭素二重結合の全部がエポキシ化されたアルケニレン基が好ましく、より好ましくは炭素−炭素二重結合の全部がエポキシ化された炭素数２〜４のアルケニレン基である。
【００５１】
上記式（ａ）で表される化合物の代表的な例としては、（３，４，３’，４’−ジエポキシ）ビシクロヘキシル、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）エーテル、１，２−エポキシ−１，２−ビス（３，４−エポキシシクロヘキサン−１−イル）エタン、２，２−ビス（３，４−エポキシシクロヘキサン−１−イル）プロパン、１，２−ビス（３，４−エポキシシクロヘキサン−１−イル）エタン等を挙げることができる。これらは１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて使用することができる。本発明においては、なかでも、耐熱性に優れた硬化物が得られる点で、（３，３’，４，４’−ジエポキシ）ビシクロへキシル及び／又はビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）エーテルを使用することが好ましい。
【００５２】
光硬化性組成物に含まれるカチオン重合性化合物全量（１００重量％）における成分（Ａ）の含有量（２種以上含有する場合はその総量）は、例えば２０〜６０重量％、好ましくは２０〜５０重量％、特に好ましくは３０〜５０重量％である。成分（Ａ）の含有量が上記範囲を下回ると、硬化性が低下する傾向がある。一方、成分（Ａ）の含有量が上記範囲を上回ると接着性が低下する傾向がある。
【００５３】
（成分（Ｂ））
本発明の成分（Ｂ）はオキセタン化合物である。オキセタン化合物は、カチオン重合性化合物である。
【００５４】
オキセタン化合物は、例えば、下記式（ｂ）で表される。
【化３】
2015198921.tif 000004
（式中、Ｒaは１価の有機基を示し、Ｒbは水素原子又はエチル基を示す。ｍは０以上の整数を示す）
【００５５】
前記Ｒaにおける１価の有機基には１価の炭化水素基、１価の複素環式基、置換オキシカルボニル基（アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、シクロアルキルオキシカルボニル基等）、置換カルバモイル基（Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイル基等）、アシル基（アセチル基等の脂肪族アシル基；ベンゾイル基等の芳香族アシル基等）、及びこれらの２以上が単結合又は連結基を介して結合した１価の基が含まれる。
【００５６】
前記１価の炭化水素基としては、上記式（ａ）中のＲ1〜Ｒ18と同様の例を挙げることができる。
【００５７】
前記１価の炭化水素基は、種々の置換基［例えば、ハロゲン原子、オキソ基、ヒドロキシル基、置換オキシ基（例えば、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アシルオキシ基等）、カルボキシル基、置換オキシカルボニル基（アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基等）、置換又は無置換カルバモイル基、シアノ基、ニトロ基、置換又は無置換アミノ基、スルホ基、複素環式基等］を有していてもよい。前記ヒドロキシル基やカルボキシル基は有機合成の分野で慣用の保護基で保護されていてもよい。
【００５８】
前記複素環式基を構成する複素環としては、例えば、ヘテロ原子として酸素原子を含む複素環（例えば、オキセタン環等の４員環；フラン環、テトラヒドロフラン環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、γ−ブチロラクトン環等の５員環；４−オキソ−４Ｈ−ピラン環、テトラヒドロピラン環、モルホリン環等の６員環；ベンゾフラン環、イソベンゾフラン環、４−オキソ−４Ｈ−クロメン環、クロマン環、イソクロマン環等の縮合環；３−オキサトリシクロ［４．３．１．１4,8］ウンデカン−２−オン環、３−オキサトリシクロ［４．２．１．０4,8］ノナン−２−オン環等の架橋環）、ヘテロ原子としてイオウ原子を含む複素環（例えば、チオフェン環、チアゾール環、イソチアゾール環、チアジアゾール環等の５員環；４−オキソ−４Ｈ−チオピラン環等の６員環；ベンゾチオフェン環等の縮合環等）、ヘテロ原子として窒素原子を含む複素環（例えば、ピロール環、ピロリジン環、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環等の５員環；ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、ピペリジン環、ピペラジン環等の６員環；インドール環、インドリン環、キノリン環、アクリジン環、ナフチリジン環、キナゾリン環、プリン環等の縮合環等）等を挙げることができる。１価の複素環式基としては、上記複素環の構造式から１個の水素原子を除いた基を挙げることができる。
【００５９】
上記複素環式基は、前記炭化水素基が有していてもよい置換基のほか、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基等のＣ1-4アルキル基等）、シクロアルキル基、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基等）等の置換基を有していてもよい。
【００６０】
前記連結基としては、例えば、カルボニル基（−ＣＯ−）、エーテル結合（−Ｏ−）、チオエーテル結合（−Ｓ−）、エステル結合（−ＣＯＯ−）、アミド結合（−ＣＯＮＨ−）、カーボネート結合（−ＯＣＯＯ−）、シリル結合（−Ｓｉ−）、及びこれらが複数個連結した基等を挙げることができる。
【００６１】
上記式（ｂ）で表される化合物としては、例えば、３−メトキシオキセタン、３−エトキシオキセタン、３−プロポキシオキセタン、３−イソプロポキシオキセタン、３−（ｎ−ブトキシ）オキセタン、３−イソブトキシオキセタン、３−（ｓ−ブトキシ）オキセタン、３−（ｔ−ブトキシ）オキセタン、３−ペンチルオキシオキセタン、３−ヘキシルオキシオキセタン、３−ヘプチルオキシオキセタン、３−オクチルオキシオキセタン、３−（１−プロペニルオキシ）オキセタン、３−シクロヘキシルオキシオキセタン、３−（４−メチルシクロヘキシルオキシ）オキセタン、３−［（２−パーフルオロブチル）エトキシ］オキセタン、３−フェノキシオキセタン、３−（４−メチルフェノキシ）オキセタン、３−（３−クロロ−１−プロポキシ）オキセタン、３−（３−ブロモ−１−プロポキシ）オキセタン、３−（４−フルオロフェノキシ）オキセタンや、下記式（b-1）〜（b-15）で表される化合物等を挙げることができる。
【００６２】
【化４】
2015198921.tif 000005
【００６３】
オキセタン化合物としては、例えば、「アロンオキセタンＯＸＴ−１０１」、「アロンオキセタンＯＸＴ−１２１」、「アロンオキセタンＯＸＴ−２１２」、「アロンオキセタンＯＸＴ−２１１」、「アロンオキセタンＯＸＴ−２１３」、「アロンオキセタンＯＸＴ−２２１」、「アロンオキセタンＯＸＴ−６１０」（以上、東亞合成（株）製）等の市販品を使用することができる。
【００６４】
光硬化性組成物に含まれるカチオン重合性化合物全量（１００重量％）における成分（Ｂ）の含有量（２種以上含有する場合はその総量）は、例えば５〜４０重量％、好ましくは５〜３０重量％、特に好ましく１０〜３０重量％である。成分（Ｂ）の含有量が上記範囲を外れると、速硬化性が得られにくくなり、初期接着力が低下する傾向がある。
【００６５】
（その他のカチオン重合性化合物）
本発明の光硬化性組成物は、上記成分（Ａ）、（Ｂ）以外にも他のカチオン重合性化合物を含有していてもよい。
【００６６】
他のカチオン重合性化合物としては、例えば、重量平均分子量が５００以上（好ましくは５００〜１０００００、更に好ましくは５００〜８００００、特に好ましくは５００〜５００００、最も好ましくは１０００〜１００００）のカチオン重合性化合物（以後「高分子量カチオン重合性化合物」と称する場合がある）や、重量平均分子量又は分子量が５００未満（例えば１００〜４５０程度、好ましくは１００〜３００）のカチオン重合性化合物（以後「低分子量カチオン重合性化合物」と称する場合がある）等を挙げることができる。高分子量カチオン重合性化合物を添加することにより、吐出装置等を使用して吐出する場合の吐出量及び濡れ広がり範囲のコントロール性をより一層向上することができる。また、低分子量カチオン重合性化合物を添加することにより、初期硬化速度をより一層向上することができる。
【００６７】
高分子量カチオン重合性化合物及び低分子量カチオン重合性化合物はカチオン重合性官能基を含有する化合物であり、１分子内に含有するカチオン重合性官能基の数は２個以上が好ましい。
【００６８】
前記カチオン重合性官能基としては、例えば、水酸基、エポキシ基、オキセタニル基等の電子供与性基を挙げることができる。本発明の高分子量カチオン重合性化合物及び低分子量カチオン重合性化合物は前記電子供与性基の１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて含有することができる。
【００６９】
高分子量カチオン重合性化合物としては、例えば、ポリカーボネート骨格、ポリエステル骨格、ポリジエン骨格、ノボラック骨格、及び脂環骨格等から選択される主鎖と上記カチオン重合性官能基を含む側鎖を有する化合物等を挙げることができる。具体的には、特願２０１３−００４７５８号に記載の化合物を挙げることができる。これらは１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて使用することができる。本発明においては、なかでも、カチオン重合性官能基としてエポキシ基又は水酸基を含有する高分子量カチオン重合性化合物を使用することが好ましい。
【００７０】
低分子量カチオン重合性化合物としては、上記式（ａ）で表される化合物以外のエポキシ化合物［例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ化合物、ビスフェノールＦ型エポキシ化合物等の芳香族グリシジルエーテル系エポキシ化合物；前記芳香族グリシジルエーテル系エポキシ化合物を水素化して得られる脂環式グリシジルエーテル系エポキシ化合物；脂肪族多価アルコールのモノ又はポリグリシジルエーテル等の脂肪族グリシジルエーテル系エポキシ化合物；グリシジルエステル系エポキシ化合物；グリシジルアミン系エポキシ化合物；エステル結合を有する脂環式エポキシ化合物；エポキシ変性シロキサン化合物（例えば、エポキシ変性ポリオルガノシルセスキオキサン、エポキシ変性シリコーン等）］や、水酸基含有化合物（ジエチレングリコール）等の、カチオン重合性官能基としてエポキシ基又は水酸基を含有する低分子量カチオン重合性化合物を使用することが好ましい。これらは１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００７１】
本発明の光硬化性組成物に含まれるカチオン重合性化合物全量（１００重量％）におけるその他のカチオン重合性化合物の配合量（２種以上使用する場合はその総量）は、例えば２０〜６０重量％、好ましくは２５〜６０重量％、特に好ましくは３０〜５５重量％、最も好ましくは４０〜５５重量％である。
【００７２】
本発明の光硬化性組成物に含まれるカチオン重合性化合物全量（１００重量％）におけるエステル結合を有する脂環式エポキシ化合物の配合量（２種以上使用する場合はその総量）は、例えば５〜３０重量％、好ましくは１０〜３０重量％、特に好ましくは１０〜２０重量％である。エステル結合を有する脂環式エポキシ化合物の含有量が上記範囲を上回ると、速硬化性が得られにくくなり、初期接着力が低下する傾向がある。
【００７３】
本発明の光硬化性組成物に含まれるカチオン重合性化合物全量（１００重量％）における高分子量カチオン重合性化合物（特に、エポキシ基又は水酸基を含有する高分子量カチオン重合性化合物）の配合量（２種以上使用する場合はその総量）は、例えば１０〜４０重量％、好ましくは１０〜３０重量％、特に好ましくは２０〜３０重量％である。
【００７４】
本発明の光硬化性組成物に含まれるカチオン重合性化合物全量（１００重量％）における低分子量カチオン重合性化合物の配合量（２種以上使用する場合はその総量）は、例えば１０〜５０重量％、好ましくは２０〜５０重量％、特に好ましくは２０〜４０重量％である。
【００７５】
本発明の光硬化性組成物に含まれるカチオン重合性化合物全量（１００重量％）における、上記成分（Ａ）、成分（Ｂ）、その他のカチオン重合性化合物としてのエポキシ基又は水酸基を含有する高分子量カチオン重合性化合物、及びエポキシ基又は水酸基を含有する低分子量カチオン重合性化合物以外のカチオン重合性化合物の含有量は、例えば３０重量％以下、好ましくは２０重量％以下、特に好ましくは１０重量％以下である。
【００７６】
（成分（Ｃ））
光カチオン重合開始剤（＝光酸発生剤）は、光の照射によって酸を発生して、光硬化性組成物に含まれるカチオン重合性化合物の硬化反応を開始させる化合物であり、光を吸収するカチオン部と酸の発生源となるアニオン部からなる。本発明においては、アニオン部としてフッ化アルキル基が結合したリンを含むアニオン、又はホウ素を含むアニオンを有する光カチオン重合開始剤を使用することを特徴とする。光カチオン重合開始剤は１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００７７】
前記フッ化アルキル基が結合したリンを含むアニオンとしては、下記式（c-1）で表されるフッ化アルキルフルオロリン酸アニオンが好ましい。
［（Ｒｆ）sＰＦ6-s］-        （c-1）
（式中、Ｒｆは水素原子の８０％以上がフッ素原子で置換された炭素数１〜４のアルキル基を示し、ｓは１〜５の整数を示す）
【００７８】
前記Ｒｆは水素原子の８０％以上がフッ素原子で置換された炭素数１〜４のアルキル基であり、なかでも、ＣＦ3、Ｃ2Ｆ5、（ＣＦ3）2ＣＦ、Ｃ3Ｆ7、Ｃ4Ｆ9、（ＣＦ3）2ＣＦＣＦ2、ＣＦ3ＣＦ2（ＣＦ3）ＣＦ、（ＣＦ3）3Ｃ等の、水素原子の全てがフッ素原子で置換された直鎖状又は分岐鎖状のＣ1-4アルキル基が好ましい。
【００７９】
従って、フッ化アルキル基が結合したリンを含むアニオンとしては、［（Ｃ2Ｆ5）3ＰＦ3］-、［（Ｃ3Ｆ7）3ＰＦ3］-、［（（ＣＦ3）2ＣＦ）3ＰＦ3］-、［（（ＣＦ3）2ＣＦ）2ＰＦ4］-、［（（ＣＦ3）2ＣＦＣＦ2）3ＰＦ3］-、及び［（（ＣＦ3）2ＣＦＣＦ2）2ＰＦ4］-等が好ましい。
【００８０】
前記ホウ素を含むアニオンとしては、下記式（c-2）で表されるアニオンが好ましい。
［（Ｒ’ｆ）tＢＦ4-t］-        （c-2）
（式中、Ｒ’ｆは水素原子の一部又は全部がフッ素原子で置換されたアリール基を示し、ｔは０〜４の整数を示す）
【００８１】
前記Ｒ’ｆは水素原子の一部又は全部がフッ素原子で置換されたアリール基であり、例えば、Ｃ6Ｆ5、Ｃ6Ｆ4Ｈ、Ｃ6Ｆ3Ｈ2、Ｃ6Ｆ2Ｈ3、Ｃ6ＦＨ4等を挙げることができる。
【００８２】
従って、ホウ素を含むアニオンとしては、ＢＦ4-、［Ｂ（Ｃ6Ｆ5）4］-、［Ｂ（Ｃ6Ｆ4Ｈ）4］-、［Ｂ（Ｃ6Ｆ3Ｈ2）4］-、［Ｂ（Ｃ6Ｆ2Ｈ3）4］-、［Ｂ（Ｃ6ＦＨ4）4］-等が好ましく、特に［Ｂ（Ｃ6Ｆ5）4］-等の上記式（c-2）中のＲ’ｆが水素原子の全てがフッ素原子で置換されたアリール基であるフッ化アリールホウ酸アニオンやフッ化アリールフルオロホウ酸アニオンが好ましい。
【００８３】
また、光カチオン重合開始剤のカチオン部としては、ヨードニウムイオン、スルホニウムイオン、セレニウムイオン等を挙げることができる。本発明においては、なかでもスルホニウムイオンが好ましい。
【００８４】
前記スルホニウムイオンとしては、例えば、（４−ヒドロキシフェニル）メチルベンジルスルホニウムイオン、トリフェニルスルホニウムイオン、ジフェニル［４−（フェニルチオ）フェニル］スルホニウムイオン、トリ−ｐ−トリルスルホニウムイオン等のアリールスルホニウムイオン（特に、トリアリールスルホニウムイオン）を挙げることができる。
【００８５】
本発明の光カチオン重合開始剤としては、例えば、（４−ヒドロキシフェニル）メチルベンジルスルホニウム  テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、４−（４−ビフェニリルチオ）フェニル−４−ビフェニリルフェニルスルホニウム  テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、４−（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウム  トリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、４−（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウム  テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、［４−（４−ビフェニリルチオ）フェニル］−４−ビフェニリルフェニルスルホニウム  トリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート等が好ましい。
【００８６】
成分（Ｃ）の含有量としては、光硬化性組成物に含まれるカチオン重合性化合物（２種以上含有する場合はその総量）１００重量部に対して、例えば０．１〜２０重量部、好ましくは０．５〜１０重量部、特に好ましくは０．５〜５重量部である。成分（Ｃ）の含有量が上記範囲を下回ると、硬化性が低下する傾向がある。一方、成分（Ｃ）の含有量が上記範囲を上回ると、光硬化性組成物の保存安定性が低下する傾向がある。
【００８７】
（成分（Ｄ））
本発明の成分（Ｄ）は無機フィラーである。本発明の光硬化性組成物は無機フィラーを含有するためチクソトロピー性が高い。そのため、吐出装置を用いて吐出する場合に吐出量のコントロールを精度良く行うことができる。また、吐出後の形状安定性に優れ、濡れ広がり範囲を良好にコントロールすることができる。
【００８８】
本発明の無機フィラーとしては、シリカを好適に使用することができる。
【００８９】
無機フィラーの形状としては、例えば、真球状、略真球状、板状（角板状、円板状）、立方体、直方体、角柱状、円柱状、塊状等を挙げることができる。
【００９０】
無機フィラーの１次平均粒子径（無機フィラーが板状を呈する場合は、長軸長さ）は、例えば５〜１００ｎｍ、特に好ましくは５〜５０ｎｍである。尚、本発明における平均粒子径は、レーザー回折式粒子径分布測定法等により求めた値である。
【００９１】
無機フィラーの比表面積（ＢＥＴ法）は、例えば１００〜５００ｍ2／ｇ、特に好ましくは２００〜４００ｍ2／ｇである。
【００９２】
また、無機フィラーは、シランカップリング剤等の表面修飾剤により表面修飾されたものであってもよい。
【００９３】
成分（Ｄ）の含有量（配合量）は、光硬化性組成物全量（１００重量％）の例えば１〜１０重量％、好ましくは３〜８重量％、特に好ましくは３〜６重量％である。また、光硬化性組成物に含まれるカチオン重合性化合物（２種以上含有する場合はその総量）１００重量部に対して、例えば１〜１０重量部、好ましくは３〜８重量部、特に好ましくは３〜６重量部である。成分（Ｄ）の含有量が上記範囲を上回ると、粘度が高くなりすぎて、吐出装置を用いて吐出することが困難となる傾向がある。一方、成分（Ｄ）が上記範囲を下回ると、吐出後の形状安定性が低下して、濡れ広がり範囲をコントロールすることが困難となる傾向がある。
【００９４】
本発明の光硬化性組成物には、上記カチオン重合性化合物、光カチオン重合開始剤、無機フィラー以外にも、本発明の効果を損なわない範囲で他の成分を含有していてもよい。他の成分としては、例えば、光増感剤、消泡剤、レベリング剤、カップリング剤、界面活性剤、難燃剤、紫外線吸収剤、イオン吸着体、蛍光体、離型剤、分散剤、分散助剤等の慣用の添加剤を挙げることができる。これらの含有量（２種以上を含有する場合はその総量）は、光硬化性組成物全量（１００重量％）の１０重量％以下程度である。
【００９５】
本発明の光硬化性組成物は、例えば、上記成分を所定の割合で撹拌・混合して、必要に応じて真空下で脱泡することにより調製することができる。
【００９６】
本発明の光硬化性組成物の粘度［２５℃、せん断速度２０（１／ｓ）における］は、例えば５〜２０Ｐａ・ｓ、好ましくは１０〜２０Ｐａ・ｓである。尚、本発明の粘度はレオメーター（商品名「ＰＨＹＳＩＣＡ  ＵＤＳ２００」、Anton Paar社製）を用いて測定できる。
【００９７】
また、本発明の光硬化性組成物はチキソトロピー性が高く、２５℃におけるＴＩ値は、例えば２以上、好ましくは２〜５．５、特に好ましくは２〜４、特に好ましくは２〜３．５である。尚、ＴＩ値（Thixotropy Index）は、せん断速度２（１／ｓ）時の粘度とせん断速度２０（１／ｓ）時の粘度の比［せん断速度２（１／ｓ）時の粘度／せん断速度２０（１／ｓ）時の粘度］で表される値であり、レオメーター（商品名「ＰＨＹＳＩＣＡ  ＵＤＳ２００」、Anton Paar社製）を使用して測定できる。
【００９８】
本発明の光硬化性組成物は上記粘度とチキソトロピー性を併せて有するため、吐出装置（例えば、ジェットディスペンサー等）を使用して吐出した際に液滴の濡れ広がりを抑制することができ、塗布形状を維持することができる。粘度が上記範囲を下回ると、液滴の濡れ広がりを抑制することができず、塗布形状を維持することが困難となる傾向がある。一方、粘度が上記範囲を上回ると、吐出装置を使用して吐出することが困難となる傾向がある。また、ＴＩ値が上記範囲を外れると、良好な吐出性と液滴の濡れ広がり抑制性を兼ね備えることが困難となる傾向がある。
【００９９】
更に、本発明の光硬化性組成物は硬化性に優れ、光照射することにより速やかに硬化物を形成することができる。光照射に使用する光（活性エネルギー線）としては、光硬化性組成物の重合反応を進行させる光であればよく、赤外線、可視光線、紫外線、Ｘ線、電子線、α線、β線、γ線等の何れを使用することもできるが、取り扱い性に優れる点で、紫外線が好ましい。紫外線の照射には、例えば、ＵＶ−ＬＥＤ（波長：３５０〜４００ｎｍ）、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、カーボンアーク、メタルハライドランプ、太陽光、レーザー等を使用することができる。本発明の光硬化性組成物は優れた硬化性を有するため、ＵＶ−ＬＥＤによる光照射でも速やかに硬化反応を進行させて硬化物を形成することができる。
【０１００】
本発明の光硬化性組成物を硬化させる際の光の照射条件は、紫外線を照射する場合には、積算光量を例えば５０００ｍＪ／ｃｍ2以下（例えば２５００〜５０００ｍＪ／ｃｍ2）に調整することが好ましい。
【０１０１】
本発明の光硬化性組成物の硬化物は優れた初期接着力を有し、例えば５ＭＰａ以上、好ましくは６ＭＰａ以上、特に好ましくは７ＭＰａ以上である。
【０１０２】
また、本発明の光硬化性組成物の硬化物は耐熱性に優れ、リフロー温度ファイル（最高温度：２７０℃）に基づく耐熱試験（連続して３回）に付した後の接着力は、例えば５ＭＰａ以上、好ましくは６ＭＰａ以上、特に好ましくは７ＭＰａ以上である。尚、接着力は実施例に記載の方法により測定できる。
【０１０３】
本発明の光硬化性組成物は、吐出装置等を使用して吐出量及び濡れ広がり範囲を良好にコントロールすることができ、ＵＶ−ＬＥＤ等を使用して光照射することにより速やかに耐熱性に優れた硬化物を形成することができるため、光学素子用接着剤（特に、ウェハレベルレンズ積層用接着剤等のレンズ接着剤）等として好適に使用することができる。
【０１０４】
［光学部品の製造方法］
本発明の光学部品の製造方法は、上記光硬化性組成物を含む光学素子用接着剤を被着体に塗布して、光を照射することを特徴とする。本発明の光学部品の製造方法は上記光硬化性組成物を含む光学素子用接着剤（上記光硬化性組成物の含有量は光学素子用接着剤全量の例えば６０重量％以上、好ましくは８０重量％以上）を使用するため、被着体には光学素子アレイ（ウェハレベルレンズアレイ等の、複数の光学素子部（例えば、レンズ部）が基板部に形成された構成を有する構造体）が好適である。また、被着体としては、構成材料にエポキシ樹脂を含有するものが、特に優れた接着性を発揮することができる点で好ましい。
【０１０５】
本発明の光学部品の製造方法は、下記工程を有することが好ましい。
工程１：上記光硬化性組成物を含む光学素子用接着剤を被着体としての光学素子アレイ（複数個の光学素子部と基板部からなる）に塗布し、これを複数枚（例えば、２〜５枚）積層して光学素子アレイ積層体を製造する工程
工程２：光を照射して光学素子用接着剤を硬化させる工程
工程３：光学素子アレイ積層体をダイシングする工程
【０１０６】
前記工程１における光学素子用接着剤を被着体に塗布する方法としては、ディスペンサーを使用する方法、スクリーン印刷、カーテンコート法、スプレー法等を挙げることができる。本発明においては、なかでも、ディスペンサーを使用する方法や、スクリーン印刷による方法が好ましい。
【０１０７】
光学素子用接着剤の塗布厚みとしては、例えば０．０１〜０．３ｍｍ、好ましくは０．０５〜０．２ｍｍである。
【０１０８】
光学素子用接着剤の塗布範囲としては、光学素子部と基板部からなる光学素子アレイの基板部に塗布することが好ましく、光学素子アレイの表面積の２〜５０％（好ましくは２〜３０％、特に好ましくは２〜２０％、最も好ましくは２〜１０％）の範囲に光学素子用接着剤を塗布することが好ましい。また、光学素子アレイにおける光学素子９個を含む範囲の面積の２〜５０％（好ましくは２〜３０％、特に好ましくは２〜２０％）の範囲に光学素子用接着剤を塗布することが好ましい。更に、光学素子アレイにおける基板部の面積の２〜６０％（好ましくは２〜４０％、特に好ましくは２〜３０％）の範囲に光学素子用接着剤を塗布することが好ましい。そして、本発明の光学素子用接着剤は、上記光硬化性組成物を含むため、吐出装置等を使用して吐出量及び濡れ広がり範囲を上記範囲に良好にコントロールすることができる。塗布部位が上記範囲を外れると、若しくは塗布面積が上記範囲を外れると、光学素子の光学特性が低下する傾向がある。一方、塗布面積が上記範囲を下回ると、接着強度が不足する場合がある。
【０１０９】
工程２は光学素子用接着剤を硬化させて、光学素子アレイ積層体を接着・固定する工程であり、光の照射に使用する光や、その積算光量は、本発明の光硬化性組成物において使用される光やその積算光量と同様である。
【０１１０】
工程３は、基板部に光学素子部を形成した構成である光学素子アレイの積層体を基板部において切断して、１個の光学素子部とその周辺の基板部からなる光学素子モジュールが複数枚積層されてなる光学素子モジュール積層体に分離する工程である。前記ダイシングは、ダイシングブレード等の切断手段を用いて行われる。
【０１１１】
上記製造方法で得られる光学部品は、光学素子用接着剤の硬化物が被着体と接する面積が、被着体表面積の例えば２〜５０％（好ましくは２〜３０％、特に好ましくは２〜２０％）であることが好ましい。
【０１１２】
また、光学素子モジュール積層体における、光学素子用接着剤の硬化物が光学素子モジュールと接する面積は、基板部面積の例えば２〜５０％（好ましくは２〜３０％、特に好ましくは２〜２０％）、光学素子部面積に対して例えば２〜５０％（好ましくは２〜３０％、特に好ましくは２〜２０％）であることが好ましく、光学素子用接着剤の硬化物の厚みは、例えば０．０１〜０．３ｍｍ（好ましくは０．０５〜０．２ｍｍ）であることが、優れた接着性と光学特性を兼ね備えることができる点で好ましい。
【０１１３】
本発明の光学部品の製造方法によれば、光学部品（例えば、デジタルカメラ、カメラ付き携帯電話、監視カメラ等のデジタルイメージセンサー用レンズユニット）を効率よく製造することができる。また、本発明の光学部品の製造方法により得られる光学部品（例えば、カメラ用レンズユニット）は、光学素子モジュールが耐熱性に優れた上記光学素子用接着剤で接着固定されているため、リフロー炉を使用してハンダ（特に、鉛フリーハンダ）付けを行う基板実装工程に付しても、レンズの剥がれや位置ずれが発生することがない。また、上記光学素子用接着剤は吐出量及び濡れ広がり範囲を良好にコントロールすることができるので、光学素子モジュールの基板部に選択的に塗布することができ、光学素子の光学性能を低下させること無く接着することができる。
【０１１４】
［光学装置］
本発明の光学装置（例えば、デジタルカメラ、カメラ付き携帯電話、監視カメラ等）は、上記光学部品を備えることを特徴とし、優れた光学性能（画素数、分解能）を有する。また、本発明の光学部品はリフロー半田付けにより基板実装するのに十分な耐熱性を有する接着剤で光学素子が接着固定されているため、レンズを別工程で実装する必要がなく、リフロー処理により一括して実装が可能であり、光学装置を効率よく、且つ低コストで製造することができる。
【実施例】
【０１１５】
以下、実施例により本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。【０１１６】
製造例１（（３，４，３’，４’−ジエポキシ）ビシクロヘキシルの製造）
９５重量％硫酸７０ｇ（０．６８モル）と１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン−７（ＤＢＵ）５５ｇ（０．３６モル）を撹拌混合して脱水触媒を調製した。
撹拌機、温度計、及び脱水管を備え且つ保温された留出配管を具備した３リットルのフラスコに、水添ビフェノール（＝４，４’−ジヒドロキシビシクロヘキシル）１０００ｇ（５．０５モル）、上記で調製した脱水触媒１２５ｇ（硫酸として０．６８モル）、プソイドクメン１５００ｇを入れ、フラスコを加熱した。内温が１１５℃を超えたあたりから水の生成が確認された。さらに昇温を続けてプソイドクメンの沸点まで温度を上げ（内温：１６２〜１７０℃）、常圧で脱水反応を行った。副生した水は留出させ、脱水管により系外に排出した。脱水触媒は反応条件下において液体であり、反応液中に微分散していた。３時間経過後、ほぼ理論量の水（１８０ｇ）が留出したため反応終了とした。反応終了液を１０段のオールダーショウ型の蒸留塔を用い、プソイドクメンを留去した後、内部圧力１０Ｔｏｒｒ（１．３３ｋＰａ）、内温１３７〜１４０℃にて蒸留し、７３１ｇのビシクロヘキシル−３，３’−ジエンを得た。【０１１７】
得られたビシクロヘキシル−３，３’−ジエン２４３ｇ、酢酸エチル７３０ｇを反応器に仕込み、窒素を気相部に吹き込みながら、且つ、反応系内の温度を３７．５℃になるようにコントロールしながら約３時間かけて３０重量％過酢酸の酢酸エチル溶液（水分率：０．４１重量％）２７４ｇを滴下した。
過酢酸溶液滴下終了後、４０℃で１時間熟成し反応を終了した。さらに３０℃で反応終了時の粗液を水洗し、７０℃／２０ｍｍＨｇで低沸点化合物の除去を行い、脂環式エポキシ化合物２７０ｇを得た。得られた脂環式エポキシ化合物のオキシラン酸素濃度は１５．０重量％であった。また1Ｈ−ＮＭＲの測定では、δ４．５〜５ｐｐｍ付近の内部二重結合に由来するピークが消失し、δ３．１ｐｐｍ付近にエポキシ基に由来するプロトンのピークの生成が確認された。そのため、脂環式エポキシ化合物は（３，４，３’，４’−ジエポキシ）ビシクロヘキシルであることが確認された。【０１１８】
製造例２［ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）エーテルの製造］
５Ｌの反応器に水酸化ナトリウム（顆粒状）（４９９ｇ、１２．４８モル）、及びトルエン（７２７ｍＬ）を加え、窒素置換した後に、テトラヒドロベンジルアルコール（４２０ｇ、３．７４モル）のトルエン（４８４ｍＬ）溶液を添加し、７０℃で１．５時間熟成した。次いで、メタンスルホン酸テトラヒドロベンジル（４１９ｇ、２．２０モル）を添加し、３時間還流下で熟成させた後、室温まで冷却し、水（１２４８ｇ）を加えて反応を停止し、分液した。分液した有機層を濃縮後、減圧蒸留を行うことにより無色透明液体のジテトラヒドロベンジルエーテルを得た（収率：８５％）。【０１１９】
得られたジテトラヒドロベンジルエーテル（２００ｇ、０．９７モル）、２０％ＳＰ−Ｄ（酢酸溶液）（０．３９ｇ）、及び酢酸エチル（６６９ｍＬ）を反応器に加え、４０℃に昇温した。次いで、２９．１重量％過酢酸（６０８ｇ）を５時間かけて滴下し、３時間熟成した。その後、アルカリ水溶液で３回、イオン交換水で２回有機層を洗浄後、減圧蒸留を行って、無色透明液体のビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）エーテルを得た（収率：７７％）。【０１２０】
実施例１〜６、比較例１〜４（光硬化性組成物の製造）
撹拌装置付きの容器に、表１に示す配合割合（単位：重量部）で、カチオン重合性化合物、光カチオン重合開始剤を投入し、４時間室温で撹拌して均一に混合した。得られた混合液に無機フィラーを添加し、ホモディスパー（商品名「ホモディスパー」、プライミクス（株）製）を使用して２時間撹拌した。撹拌を停止し、１時間静置して、光硬化性組成物を得、得られた光硬化性組成物について、以下の評価を行った。【０１２１】
［粘度］
光硬化性組成物の粘度（Ｐａ・ｓ）は、レオメーター（商品名「ＰＨＹＳＩＣＡ  ＵＤＳ２００」、Anton Paar社製）を用いて、温度２５℃、回転速度２０／秒で測定した。【０１２２】
［チクソトロピー性］
チクソトロピー性は、レオメーター（商品名「ＰＨＹＳＩＣＡ  ＵＤＳ２００」、Anton Paar社製）を使用し、２５℃において、回転速度を５０／秒まで上昇させて、粘度が十分下がったことを確認してから回転速度を除々に落とし、せん断速度２（１／ｓ）時の粘度とせん断速度２０（１／ｓ）時の粘度からＴＩ値を下記式にて算出した。
ＴＩ値＝［せん断速度２（１／ｓ）時の粘度／せん断速度２０（１／ｓ）時の粘度］【０１２３】
［塗布性］
１０ｍＬの遮光性シリンジ（商品名「ＵＶブロックシリンジ」、武蔵エンジニアリング（株）製）に光硬化性組成物を充填し、ジェットディスペンサー（商品名「Ａｅｒｏ  Ｊｅｔ」、武蔵エンジニアリング（株）製）を用いてスライドグラス（商品名「Ｓ１１１２」、松浪硝子工業（株）製）に、塗布径（若しくは液滴径）の大きさが１．０ｍｍ±０．２ｍｍになるように光硬化性組成物を塗布し、下記基準で評価した。
評価基準
○：塗布してから１分後の液滴高さが１００μｍ以上であり、塗布してから１０分後の液滴高さが１分後の液滴高さと比べて８０％以上である
△：塗布してから１分後の液滴高さが１００μｍ以上であり、塗布してから１０分後の液滴高さが１分後の液滴高さと比べて５０％以上、８０％未満である
×：塗布してから１分後の液滴高さが１００μｍ以上であり、塗布してから１０分後の液滴高さが１分後の液滴高さと比べて５０％未満であるか、又は塗布してから１分後の液滴高さが１００μｍ未満である【０１２４】
［高圧水銀ランプによる硬化性］
ジェットディスペンサー（商品名「Ａｅｒｏ  Ｊｅｔ」、武蔵エンジニアリング（株）製）を使って、光硬化性組成物（直径：１．０ｍｍ、高さ：０．２ｍｍ）を塗布した後、紫外線照射装置（商品名「ＬＣ−８」、浜松ホトニクス（株）製）を使用して光硬化性組成物に光を照射（照射強度：５０〜１００ｍＷ／ｃｍ、積算照射量：２５００〜５０００ｍＪ／ｃｍ2）して硬化した。光を照射してから３０分後に得られた硬化物の表面を指で触って、下記基準で硬化性を評価した。
評価基準
○：表面にタック性がなく、硬化物の表面形状に変化がなかった
△：表面のタック性はないが、硬化物の表面形状が変化した
×：表面にタック性を有する【０１２５】
［ＵＶ−ＬＥＤによる硬化性］
高圧水銀ランプ（商品名「ＬＣ−８」、浜松ホトニクス（株）製）に代えて、ＵＶ−ＬＥＤ（３６５ｎｍ）（商品名「ＺＵＶ−Ｃ２０Ｈ」、オムロン（株）製）を使用した以外は［高圧水銀ランプによる硬化性］と同様にして硬化性を評価した。【０１２６】
［初期接着力］
ジェットディスペンサー（商品名「Ａｅｒｏ  Ｊｅｔ」、武蔵エンジニアリング（株）製）を使って、エポキシ樹脂の平板上に光硬化性組成物（直径：１．０ｍｍ、高さ：０．２ｍｍ）を塗布した。光硬化性組成物の厚みが１００μｍになるようにエポキシ樹脂の平板を重ね合わせて、紫外線照射装置（商品名「ＺＵＶ−Ｃ２０Ｈ」、オムロン（株）製）を使用して光硬化性組成物に光を照射（照射強度：５０〜１００ｍＷ／ｃｍ、積算照射量：２５００〜５０００ｍＪ／ｃｍ2）してサンプル（光硬化性組成物の硬化物／エポキシ樹脂の平板積層体）を得た。
得られたサンプルを引張・圧縮試験機（商品名「テンシロンＲＴＦ−１３５０」、エー・アンド・ディ社製）を用いて、光硬化性樹脂組成物の硬化物（直径：１．０ｍｍ、厚み：１００μｍ）の垂直方向における接着強度（ＭＰａ）を測定して、初期接着力とした。また、接着力を測定する治具にサンプルをセットした時点で剥がれたり、セットできなかったサンプルは測定不能と表記した。
尚、エポキシ樹脂の平板としては、エポキシ樹脂（商品名「セロキサイド２０２１Ｐ」、（株）ダイセル製）にカチオン重合開始剤（商品名「サンエイド  ＳＩ−１００Ｌ」、三新化学（株）製）を０．５重量％添加して得られたエポキシ樹脂組成物をインプリント成型機（商品名「ＮＡＮＯＩＭＰＲＩＮＴＥＲ ＮＭ−０５０１」、明昌機工（株）製）を使用して１５０℃で１５分間加熱して、硬化、成型、次いで離型し、更に予め１５０℃に熱したオーブンで３０分間加熱してアニール処理を行って得られた平板（厚み：１．０ｍｍ）を使用した。【０１２７】
［ダイシング前後の剥離や割れ］
ジェットディスペンサー（商品名「Ａｅｒｏ  Ｊｅｔ」、武蔵エンジニアリング（株）製）を使って、光硬化性組成物をエポキシ樹脂の平板上に、四角形（５ｍｍ×５ｍｍ）の頂点にくるように４点に塗布した（塗布形状；直径：１．０ｍｍ、高さ：０．２ｍｍ、尚、実施例６では、塗布形状を直径：０．６ｍｍ、高さ：０．２ｍｍに変更した）。
その後、光硬化性組成物の厚みが１００μｍになるようにエポキシ樹脂の平板を重ね合わせて、紫外線照射装置（商品名「ＺＵＶ−Ｃ２０Ｈ」、オムロン（株）製）を使用して光硬化性組成物に光を照射（照射強度：５０〜１００ｍＷ／ｃｍ、積算照射量：２５００〜５０００ｍＪ／ｃｍ2）してサンプル（エポキシ樹脂の平板／光硬化性組成物の硬化物／エポキシ樹脂の平板）を得た。
得られたサンプルにおける光硬化性組成物の硬化物の中心をダイシング刃が通るように四角形の４辺をカットして個片サンプルを得た。尚、ダイシング条件は以下の通りである。
ダイシング刃厚み：０．１ｍｍ
ダイシング速度：３０ｍｍ／秒
ダイシング刃の回転速度：３００００ｒｐｍ
サンプル１００個をダイシングした後、ＣＣＤカメラ（商品名「ＶＨ−Ｚ２０ＵＲ」、キーエンス（株）製）を使って、ダイシング面を観察し、光硬化性組成物の硬化物と平板との間に剥離や割れがないサンプルの個数を計測してダイシング適性を評価した。【０１２８】
［接着面積］
上記［ダイシング前後の剥離や割れ］試験で得られた個片サンプル（５ｍｍ×５ｍｍ）を真上から見た際の、全体の面積を平板の面積とし、平板と光硬化性組成物の硬化物が接着している面積を接着面積として、平板における接着面積の割合を以下の式から算出した。
接着面積（％）＝（光硬化性組成物の硬化物が接着している面積（ｍｍ2））／（平板の面積（ｍｍ2））×１００【０１２９】
［耐熱試験後接着力］
上記［初期接着力］の評価用サンプルと同じサンプルに、シンアペック社製卓上リフロー炉を使用して、ＪＥＤＥＣ規格記載のリフロー温度プロファイル（最高温度：２７０℃）に基づく耐熱試験を連続して３回施した後、［初期接着力］と同様の方法により接着力を評価した。尚、耐熱試験後に剥離等が生じ、装置にセットできなくなったサンプルは測定不能と表記した。【０１３０】
上記結果を下記表にまとめて示す。
【表１】
2015198921.tif 000006
【０１３１】
尚、表１中の各成分の化合物名は、次のとおりである。
＜カチオン重合性化合物＞
（ａ−１）：製造例１により得られた（３，４，３’，４’−ジエポキシ）ビシクロヘキシル
（ａ−２）：製造例２により得られたビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）エーテル
（ｂ−１）：３−エチル−３｛［（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシ］メチル｝オキセタン、商品名「アロンオキセタンＯＸＴ２２１」、東亞合成（株）製
ＰＢ３６００：エポキシ化ポリブタジエン、重量平均分子量：５９００、商品名「エポリード  ＰＢ３６００」、（株）ダイセル製
ＣＤ２２０ＰＬ：ポリカーボネートジオール、重量平均分子量：２０００、商品名「プラクセル  ＣＤ２２０ＰＬ」、（株）ダイセル製
ＹＸ８０００：水添ビスフェノールＡ型ジグリシジルエーテル、分子量：３５２．５、商品名「ＹＸ８０００」、三菱化学（株）製
セロキサイド２０２１Ｐ：３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（３，４−エポキシ）シクロヘキサンカルボキシレート、分子量：２５２．３、商品名「セロキサイド２０２１Ｐ」、（株）ダイセル製
ＤＥＧ：ジエチレングリコール、分子量：１０６．１２、商品名「ＤＥＧ」、丸善石油化学（株）製
＜光カチオン重合開始剤＞
（ｃ−１）：４−（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウム  トリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート
（ｃ−２）：［４−（４−ビフェニリルチオ）フェニル］−４−ビフェニリルフェニルスルホニウム  トリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート
（ｃ−３）：４−（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウム  テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート
ＣＰＩ−１００Ｐ：４−（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウム  ヘキサフルオロホスフェートのプロピレンカーボネート５０％溶液、商品名「ＣＰＩ−１００Ｐ」、サンアプロ（株）製
＜無機フィラー＞
（ｄ−１）：親水性フュームドシリカ、比表面積（ＢＥＴ法）：３００±３０ｍ2／ｇ、商品名「アエロジル３００」、日本アエロジル（株）製
【産業上の利用可能性】
【０１３２】
本発明の光硬化性組成物は、ジェットディスペンサー等の吐出装置を使用して、糸引きを生じることなく、吐出量及び濡れ広がり範囲を良好にコントロールして塗布することができ、ＵＶ−ＬＥＤの照射により優れた硬化性を発現して、リフロー耐熱性に優れた硬化物を形成することができる。また、酸素雰囲気下でも、速やかに且つ硬化収縮を抑制しつつ硬化物を形成することができる。そのため、本発明の光硬化性組成物は光学素子用接着剤として有用である。
【符号の説明】
【０１３３】
１      基板部
２      光学素子部
３      光学素子アレイ
４      光学素子用接着剤
５      光学素子アレイ積層体
６      ダイシング部
７      光学素子モジュール
８      光学素子用接着剤の硬化物
９ａ    上から見た光学素子モジュール積層体
９ｂ    側面から見た光学素子モジュール積層体
【図１】
2015198921.tif 000008
【国際調査報告】
2015198921.tif 000009
2015198921.tif 000010
2015198921.tif 000011
2015198921.tif 000012