(57)【要約】  潤滑性に優れる膜を形成できる含フッ素ポリエーテル化合物、潤滑剤および液状組成物、ならびに基材上に潤滑性に優れる膜を有する物品の提供。  ｛Ｘ−Ｏ−［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ａ−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ］｝ｍ−Ｙ−｛［（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｃ−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｄ］−Ｏ−Ｚ｝ｎで表される含フッ素ポリエーテル化合物を用いる。Ｘは水酸基、カルボキシ基、エステル基またはアリール基を有する基であり、Ｙは（ｍ＋ｎ）価の連結基であり、Ｚはハロアルキル基を有する基であり、ｍ、ｎは１〜１０の整数であり、ｍ＋ｎは２〜２０の整数であり、ａ〜ｄは、１〜１００の整数である。【特許請求の範囲】
【請求項１】
下式（Ａ）で表される含フッ素ポリエーテル化合物。
｛Ｘ−Ｏ−［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ａ−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ］｝ｍ−Ｙ−｛［（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｃ−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｄ］−Ｏ−Ｚ｝ｎ  ・・・（Ａ）
ただし、
Ｘは、水酸基、カルボキシ基、エステル基またはアリール基を有する基であり、
Ｙは、末端にエーテル性酸素原子を有しない、（ｍ＋ｎ）価の連結基であり、
Ｚは、水酸基、カルボキシ基、エステル基およびアリール基を有さず、かつハロアルキル基（ただし、ハロゲン原子はフッ素原子または塩素原子である。）または炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入されたハロアルキル基（ただし、ハロゲン原子はフッ素原子または塩素原子である。）を有する基であり、
ｍは、１〜１０の整数であり、
ｎは、０〜１０の整数であり、
ｍ＋ｎは、２〜２０の整数であり、
ａ、ｂ、ｃ、ｄは、それぞれ独立に１〜１００の整数であり、
［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ａ−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ］中のａ個の（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位およびｂ個の（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位の結合順序、および、［（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｃ−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｄ］中のｃ個の（ＯＣＦ２ＣＦ２）単位およびｄ個の（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）単位の結合順序、は限定されない。
【請求項２】
数平均分子量が、５００〜５０，０００である、請求項１に記載の含フッ素ポリエーテル化合物。
【請求項３】
ｂ／（ａ＋ｂ）が０．２〜０．８であり、ｄ／（ｃ＋ｄ）が０．２〜０．８である、請求項１または２に記載の含フッ素ポリエーテル化合物。
【請求項４】
（ＯＣＦ２ＣＦ２）単位と（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）単位とが交互に配置された構造を有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の含フッ素ポリエーテル化合物。
【請求項５】
Ｘが、ＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−基またはＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２−基である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の含フッ素ポリエーテル化合物。
【請求項６】
下式（Ｂ）で表される含フッ素ポリエーテル化合物。
Ｘ−Ｏ−［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｇ−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｈ］−Ｗ  ・・・（Ｂ）
ただし、
Ｘは、水酸基、カルボキシ基、エステル基またはアリール基を有する基であり、
Ｗは、水酸基、カルボキシ基、エステル基、アリール基、またはハロアルキル基（ただし、ハロゲン原子はフッ素原子または塩素原子である。）もしくは炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入されたハロアルキル基（ただし、ハロゲン原子はフッ素原子または塩素原子である。）を有する基であり、
ｇ、ｈは、それぞれ独立に１〜２００の整数であり、
［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｇ−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｈ］中のｇ個の（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位およびｈ個の（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位の結合順序は限定されない。
【請求項７】
数平均分子量が、５００〜５０，０００である、請求項６に記載の含フッ素ポリエーテル化合物。
【請求項８】
ｈ／（ｇ＋ｈ）が０．２〜０．８である、請求項６または７に記載の含フッ素ポリエーテル化合物。
【請求項９】
（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位と（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位とが交互に配置された構造を有する、請求項６〜８のいずれか一項に記載の含フッ素ポリエーテル化合物。
【請求項１０】
Ｘが、ＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−基またはＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２−基である、請求項６〜９のいずれか一項に記載の含フッ素ポリエーテル化合物。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか一項に記載の含フッ素ポリエーテル化合物を含む、潤滑剤。
【請求項１２】
請求項１〜１０のいずれか一項に記載の含フッ素ポリエーテル化合物と液状媒体とを含む、液状組成物。
【請求項１３】
基材上に、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の含フッ素ポリエーテル化合物を含む膜を有する、物品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、含フッ素ポリエーテル化合物、該含フッ素ポリエーテル化合物を含む潤滑剤および液状組成物、ならびに該含フッ素ポリエーテル化合物からなる膜を有する物品に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気ディスクは、基材と、基材の表面に形成された磁気記録層と、磁気記録層の表面に形成された炭素保護膜と、磁気ディスクおよび読取ヘッドを保護する目的で、炭素保護膜の表面に潤滑剤を塗布して形成された膜（以下、「表面層」とも記す。）を有する。【０００３】
近年、ハードディスクドライブの記憶容量の増大にともない、記録密度の向上のために磁気ディスクと読取ヘッドとの距離が狭くなってきており、磁気ディスクと読取ヘッドとが接触しやすくなっている。そのため、表面層には、表面層の薄膜化および表面層の潤滑性の向上が要求されている。
また、磁気ディスクからの情報の読み取り速度および磁気ディスクへの情報の書き込み速度の高速化にともない、磁気ディスクの回転は速くなってきている。そのため、表面層には、高速回転する磁気ディスクから飛散しないように炭素保護膜への密着性の向上が要求されている。【０００４】
表面層を形成するための潤滑剤としては、たとえば、下記のものが提案されている。
（１）４価の連結基に結合した４本のポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖を有し、該鎖が（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位のみからなり、該鎖の末端にＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２−基を有する含フッ素ポリエーテル化合物（特許文献１）。
（２）３価以上の連結基に結合した３本以上のポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖を有し、該鎖が（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位のみからなり、少なくとも２つの該鎖の末端にＨＯＣＨ２ＣＦ２−基、ＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２−基等を有する含フッ素ポリエーテル化合物（特許文献２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００９−１９７２１０号公報
【特許文献２】特許第５０２８８０１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位のみからなるポリ（オキシペルフルオロアルキレン）鎖は、柔軟性が不充分であるため、該鎖を有する（１）、（２）の含フッ素ポリエーテル化合物は、潤滑性が不充分である。そのため、該含フッ素ポリエーテル化合物から形成される表面層の潤滑性が、最近の磁気ディスクと読取ヘッドとの距離の狭さに対応できなくなってきている。【０００７】
本発明の目的は、潤滑性に優れる膜を形成できる含フッ素ポリエーテル化合物、潤滑剤および液状組成物、ならびに基材上に潤滑性に優れる膜を有する物品を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、次の［１］〜［１３］の構成を有する含フッ素ポリエーテル化合物、潤滑剤液状組成物および物品を提供する。
［１］下式（Ａ）で表される含フッ素ポリエーテル化合物。
｛Ｘ−Ｏ−［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ａ−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ］｝ｍ−Ｙ−｛［（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｃ−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｄ］−Ｏ−Ｚ｝ｎ  ・・・（Ａ）
ただし、
Ｘは、水酸基、カルボキシ基、エステル基またはアリール基を有する基であり、
Ｙは、末端にエーテル性酸素原子を有しない、（ｍ＋ｎ）価の連結基であり、
Ｚは、水酸基、カルボキシ基、エステル基およびアリール基を有さず、かつハロアルキル基（ただし、ハロゲン原子はフッ素原子または塩素原子である。）または炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入されたハロアルキル基（ただし、ハロゲン原子はフッ素原子または塩素原子である。）を有する基であり、
ｍは、１〜１０の整数であり、
ｎは、０〜１０の整数であり、
ｍ＋ｎは、２〜２０の整数であり、
ａ、ｂ、ｃ、ｄは、それぞれ独立に１〜１００の整数であり、
［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ａ−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ］中のａ個の（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位およびｂ個の（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位の結合順序、および、［（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｃ−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｄ］中のｃ個の（ＯＣＦ２ＣＦ２）単位およびｄ個の（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）単位の結合順序、は限定されない。【０００９】
［２］数平均分子量が、５００〜５０，０００である、［１］の含フッ素ポリエーテル化合物。
［３］ｂ／（ａ＋ｂ）が０．２〜０．８であり、ｄ／（ｃ＋ｄ）が０．２〜０．８である、［１］または［２］の含フッ素ポリエーテル化合物。
［４］（ＯＣＦ２ＣＦ２）単位と（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）単位とが交互に配置された構造を有する、［１］〜［３］のいずれかの含フッ素ポリエーテル化合物。
［５］Ｘが、ＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−基またはＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２−基である、［１］〜［４］のいずれかの含フッ素ポリエーテル化合物。【００１０】
［６］下式（Ｂ）で表される含フッ素ポリエーテル化合物。
Ｘ−Ｏ−［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｇ−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｈ］−Ｗ  ・・・（Ｂ）
ただし、
Ｘは、水酸基、カルボキシ基、エステル基またはアリール基を有する基であり、
Ｗは、水酸基、カルボキシ基、エステル基、アリール基、またはハロアルキル基（ただし、ハロゲン原子はフッ素原子または塩素原子である。）もしくは炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入されたハロアルキル基（ただし、ハロゲン原子はフッ素原子または塩素原子である。）を有する基であり、
ｇ、ｈは、それぞれ独立に１〜２００の整数であり、
［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｇ−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｈ］中のｇ個の（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位およびｈ個の（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位の結合順序は限定されない。【００１１】
［７］数平均分子量が、５００〜５０，０００である、［６］の含フッ素ポリエーテル化合物。
［８］ｈ／（ｇ＋ｈ）が０．２〜０．８である、［６］または［７］の含フッ素ポリエーテル化合物。
［９］（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位と（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位とが交互に配置された構造を有する、［６］〜［８］のいずれかの含フッ素ポリエーテル化合物。
［１０］Ｘが、ＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−基またはＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２−基である、［６］〜［９］のいずれかの含フッ素ポリエーテル化合物。【００１２】
［１１］前記［１］〜［１０］のいずれかの含フッ素ポリエーテル化合物を含む、潤滑剤。
［１２］前記［１］〜［１０］のいずれかの含フッ素ポリエーテル化合物と液状媒体とを含む、液状組成物。
［１３］基材上に、前記［１］〜［１０］のいずれかの含フッ素ポリエーテル化合物を含む膜を有する、物品。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の含フッ素ポリエーテル化合物、潤滑剤および液状組成物によれば、潤滑性に優れる膜を形成できる。
本発明の物品は、基材上に潤滑性に優れる膜を有する。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下の用語の定義は、本明細書および特許請求の範囲にわたって適用される。
「アルカン基」とは、アルカンから水素原子を１個以上除いた１価以上の基を意味する。なお、１価のアルカン基はアルキル基であり、２価のアルカン基はアルキレン基である。
「ペルフルオロ」とは、炭素原子に結合した水素原子のすべてがフッ素原子に置換されたことを意味する。
「フルオロアルカン基」とは、アルカン基の水素原子の一部またはすべてがフッ素原子に置換された基を意味する。
「ペルフルオロアルカン基」とは、アルカン基の水素原子のすべてがフッ素原子に置換された基を意味する。
「ハロアルキル基」とは、アルキル基の水素原子の一部またはすべてがフッ素原子、塩素原子またはその両方に置換された基を意味する。
「フルオロアルキル基」とは、アルキル基の水素原子の一部またはすべてがフッ素原子に置換された基を意味する。
「エステル基」とは、ＲＣ（Ｏ）Ｏ−またはＲＯＣ（Ｏ）−（ただし、Ｒは炭化水素基である。）で表される基を意味する。
「エーテル性酸素原子」とは、炭素原子−炭素原子間においてエーテル結合（−Ｏ−）を形成する酸素原子を意味する。
「ポリエーテル鎖」とは、オキシアルキレン基（ただし、アルキルレン基の水素原子の一部またはすべてはフッ素原子、塩素原子またはその両方に置換されていてもよい。）が複数連結した、鎖状の構造の、２価の基を意味する。「ポリエーテル鎖」は、ポリ（オキシアルキレン）基、ポリ（オキシフルオロアルキレン）基、ポリ（オキシペルフルオロアルキレン）基等を包含する。
【００１５】
〔含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ）〕
本発明の含フッ素ポリエーテル化合物の第１の態様は、下式（Ａ）で表される含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ）（以下、化合物（Ａ）とも記す。）である。
｛Ｘ−Ｏ−［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ａ−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ］｝ｍ−Ｙ−｛［（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｃ−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｄ］−Ｏ−Ｚ｝ｎ  ・・・（Ａ）
【００１６】
（Ｘを有する基）
Ｘは、水酸基、カルボキシ基、エステル基またはアリール基を有する基である。
Ｘを有する基の数ｍは、１〜１０の整数であり、化合物（Ａ）の溶剤への溶解性、粘度、潤滑性に優れる点から、１〜６が好ましい。
【００１７】
Ｘとしては、たとえば、下式（Ｘ１）で表される基（Ｘ１）が挙げられる。
（Ｘ１）ｉ−Ｑ１−  ・・・（Ｘ１）
ただし、
Ｘ１は、水酸基、カルボキシ基、エステル基またはアリール基であり、
Ｑ１は、（ｉ＋１）価の連結基（ただし、右側に隣接する酸素原子に結合する酸素原子を有さず、Ｘ１が水酸基またはＲＣ（Ｏ）Ｏ−基の場合は、これらに結合する酸素原子を有しない。）であり、
ｉは、１または２である。
【００１８】
基（Ｘ１）としては、たとえば、下式（Ｘ１１）で表される基（Ｘ１１）、下式（Ｘ１２）で表される基（Ｘ１２）、下式（Ｘ１３）で表される基（Ｘ１３）、下式（Ｘ１４）で表される基（Ｘ１４）、下式（Ｘ１５）で表される基（Ｘ１５）、下式（Ｘ１６）で表される基（Ｘ１６）が挙げられる。
ＨＯ−（ＣＨ２）ｊＱＦ−  ・・・（Ｘ１１）
（ＨＯ）ｉ−Ｑ１１Ｏ（ＣＨ２）ｊＱＦ−  ・・・（Ｘ１２）
ＨＯＣ（Ｏ）−ＱＦ−  ・・・（Ｘ１３）
Ｒ１１Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ２）ｊＱＦ−  ・・・（Ｘ１４）
Ｒ１１ＯＣ（Ｏ）−ＱＦ−  ・・・（Ｘ１５）
φ−Ｑ１２Ｏ−（ＣＨ２）ｊＱＦ−  ・・・（Ｘ１６）
ただし、
ＱＦは、−ＣＦ２−または−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−であり、
Ｑ１１は、（ｉ＋１）価のアルカン基（アルキレン基、アルカン−トリイル基）または炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入された（ｉ＋１）価のアルカン基であり、
Ｑ１２は、単結合、−Ｃ（Ｏ）−、−ＮＨ−、アルキレン基または炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入されたアルキレン基であり、
Ｒ１１は、炭素数１〜２０のアルキル基であり、
φは、アリール基であり、
ｉは、１または２であり、炭素保護膜との密着性に優れる点から、２が好ましく、
ｊは、１または２であり、化合物を製造しやすい点から、１が好ましい。
【００１９】
基（Ｘ１１）としては、たとえば、下記の基が挙げられる。
ＨＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−
ＨＯＣＨ２ＣＦ２−
ＨＯＣＨ２ＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−
ＨＯＣＨ２ＣＨ２ＣＦ２−
【００２０】
基（Ｘ１２）としては、たとえば、下記の基が挙げられる。
ＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−
ＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２−
ＨＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−
ＨＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２−
ＨＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−
ＨＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２−
ＨＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−
ＨＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２−
ＨＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−
ＨＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２−
ＨＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−
ＨＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２−
【００２１】
基（Ｘ１３）としては、たとえば、下記の基が挙げられる。
ＨＯＣ（Ｏ）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−
ＨＯＣ（Ｏ）ＣＦ２−
【００２２】
基（Ｘ１４）としては、たとえば、下記の基が挙げられる。
Ｒ１１Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−
Ｒ１１Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＦ２−
【００２３】
基（Ｘ１５）としては、たとえば、下記の基が挙げられる。
Ｒ１１ＯＣ（Ｏ）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−
Ｒ１１ＯＣ（Ｏ）ＣＦ２−
【００２４】
基（Ｘ１６）におけるφとしては、たとえば、下記の基が挙げられる。ただし、置換基Ｒ１２は、水酸基、ハロゲン（ただし、ハロゲン原子はフッ素原子または塩素原子である。）、エステル基、アルコキシ基、炭化水素基、炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入された炭化水素基、窒素原子を有する炭化水素基、ハロアルキル基（ただし、ハロゲン原子はフッ素原子または塩素原子である。）、ハロアルコキシ基（ただし、ハロゲン原子はフッ素原子または塩素原子である。）、またはアリール基であり、ｐは０以上の整数である。Ｒ１２の位置は特に限定されるものではなく、ｐが２以上である場合にはＲ１２は異なっていてもよく、また、ｐの上限はアリール基が芳香族性を保ちうる限りの数である。ｐは０または１が好ましい。
【００２５】
【化１】
2015022871.tif 000002
【００２６】
基（Ｘ１）としては、炭素保護膜との密着性に優れる点から、ｉが２の基（Ｘ１２）が好ましく、化合物を製造しやすく、化合物の安定性に優れる点から、下記の基が特に好ましい。
ＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−
ＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２−
【００２７】
（Ｙ基）
Ｙは、末端にエーテル性酸素原子を有しない、（ｍ＋ｎ）価の連結基である。
Ｙの価数ｍ＋ｎは、２〜２０の整数であり、化合物（Ａ）の溶剤への溶解性、粘度、潤滑性に優れる点、さらに化合物（Ａ）を製造しやすい点から、２〜６の整数が好ましい。
【００２８】
Ｙとしては、（ｍ＋ｎ）価のアルカン基、炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入された（ｍ＋ｎ）価のアルカン基、（ｍ＋ｎ）価のフルオロアルカン基、炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入された（ｍ＋ｎ）価のフルオロアルカン基、シクロトリホスファゼン構造（Ｐ３Ｎ３）等が挙げられ、化合物（Ａ）を塗布することで基材の表面エネルギーを低下させられる点、かつ、化合物（Ａ）の潤滑性に優れる点から、（ｍ＋ｎ）価のペルフルオロアルカン基、炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入された（ｍ＋ｎ）価のペルフルオロアルカン基が好ましい。
【００２９】
２価のＹとしては、下記の基が挙げられる。
−ＣＦ２ＣＦ２−
−ＣＨ２ＣＨ２−
【００３０】
３価のＹとしては、下記の基が挙げられる。ただし、ｋは、０〜５の整数である。
【００３１】
【化２】
2015022871.tif 000003
【００３２】
４価のＹとしては、下記の基が挙げられる。
【００３３】
【化３】
2015022871.tif 000004
【００３４】
５価のＹとしては、下記の基が挙げられる。
【００３５】
【化４】
2015022871.tif 000005
【００３６】
６価のＹとしては、下記の基が挙げられる。
【００３７】
【化５】
2015022871.tif 000006
【００３８】
（Ｚを有する基）
Ｚは、水酸基、カルボキシ基、エステル基およびアリール基を有さず、かつハロアルキル基（ただし、ハロゲン原子はフッ素原子または塩素原子である。）または炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入されたハロアルキル基（ただし、ハロゲン原子はフッ素原子または塩素原子である。）を有する基である。
Ｚを有する基の数ｎは、０〜１０の整数であり、化合物（Ａ）の溶剤への溶解性、粘度、潤滑性に優れる点、さらに化合物（Ａ）を製造しやすい点から、０〜５が好ましい。
【００３９】
Ｚとしては、たとえば、ハロアルキル基（ただし、ハロゲン原子はフッ素原子または塩素原子である。）または炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入されたハロアルキル基（ただし、ハロゲン原子はフッ素原子または塩素原子である。）が挙げられる。
【００４０】
Ｚとしては、たとえば、下式（Ｚ１）で表される基（Ｚ１）が挙げられる。
−ＱＦ（ＣＨ２）ｊＯＲ２１  ・・・（Ｚ１）
ただし、
ＱＦは、−ＣＦ２−または−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−であり、
Ｒ２１は、ハロアルキル基（ただし、ハロゲン原子はフッ素原子または塩素原子である。）または炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入されたハロアルキル基（ただし、ハロゲン原子はフッ素原子または塩素原子である。）であり、
ｊは、１または２であり、化合物を製造しやすく、化合物の安定性に優れる点から、１が好ましい。
【００４１】
基（Ｚ１）におけるＲ２１としては、たとえば、下記の基が挙げられる。
−ＣＨ２ＣＦ３
−ＣＨ（ＣＦ３）２
−ＣＨ２ＣＦ２ＣＨＦ２
−ＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３
−ＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨＦ２
−ＣＨ２ＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３
−ＣＨ２ＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３
−ＣＨ２ＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３
−ＣＨ２ＣＣｌ３
−ＣＨ２ＣＨ２Ｃｌ
【００４２】
（ポリエーテル鎖）
化合物（Ａ）におけるポリエーテル鎖は、（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位と（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位とからなる。（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位のみからなるポリエーテル鎖は、柔軟性が不充分なため、該ポリエーテル鎖を有する含フッ素ポリエーテル化合物は、潤滑性が不充分である。該ポリエーテル鎖に（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位を導入することによって、ポリエーテル鎖が、比較的柔らかくなり、そのようなポリエーテル鎖を有する含フッ素ポリエーテル化合物は、潤滑性に優れる。
ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位と（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位とからなるポリエーテル鎖は、ポリエーテル鎖の柔軟性が充分であって、かつポリエーテル鎖中の柔軟性の均一性に優れる点から、（ＯＣＦ２ＣＦ２）単位と（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）単位とが交互に配置された構造を有することが好ましい。
【００４３】
＜［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ａ−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ］＞
ａは、１〜１００の整数であり、化合物（Ａ）の溶剤への溶解性、粘度、潤滑性に優れる点から、１〜５０が好ましく、１〜２０が特に好ましい。
ｂは、１〜１００の整数であり、化合物（Ａ）の溶剤への溶解性、粘度、潤滑性に優れる点から、１〜５０が好ましく、１〜２０が特に好ましい。
【００４４】
ｂ／（ａ＋ｂ）は、ポリエーテル鎖の柔軟性が充分であって、化合物（Ａ）の潤滑性に優れる点から、０．２〜０．８が好ましく、０．３〜０．７がより好ましく、０．４〜０．６が特に好ましい。
【００４５】
［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ａ−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ］中のａ個の（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位およびｂ個の（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位の結合順序は限定されない。すなわち、（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位と（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位とがランダムに配置されていてもよく、（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位と（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位とが交互に配置されていてもよく、複数の（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位からなる１つ以上のブロックと複数の（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位からなる１つ以上のブロックとが連結していてもよい。ポリエーテル鎖の柔軟性が充分であって、かつ該鎖中の柔軟性の均一性に優れる点から、［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ａ−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ］において（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位と（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位とが交互に配置された構造を有することが好ましく、ポリエーテル鎖中に該交互に配置された構造部分を５０％以上有することがより好ましく、８０％以上有することがさらに好ましく、９０％以上有することが特に好ましい。
【００４６】
（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位と（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位とが交互に配置されている［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ａ−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ］としては、たとえば、下記のポリエーテル鎖が挙げられる。
−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｅ−
ただし、
ｅは、１〜９９の整数であり、化合物（Ａ）の溶剤への溶解性、粘度、潤滑性に優れる点から、１〜５０が好ましく、１〜２０が特に好ましい。
【００４７】
＜［（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｃ−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｄ］＞
ｃは、１〜１００の整数であり、化合物（Ａ）の溶剤への溶解性、粘度、潤滑性に優れる点から、１〜５０が好ましく、１〜２０が特に好ましい。
ｄは、１〜１００の整数であり、化合物（Ａ）の溶剤への溶解性、粘度、潤滑性に優れる点から、１〜５０が好ましく、１〜２０が特に好ましい。
【００４８】
ｄ／（ｃ＋ｄ）は、ポリエーテル鎖の柔軟性が充分であって、化合物（Ａ）の潤滑性に優れる点から、０．２〜０．８が好ましく、０．３〜０．７がより好ましく、０．４〜０．６が特に好ましい。
【００４９】
［（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｃ−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｄ］中のｃ個の（ＯＣＦ２ＣＦ２）単位およびｄ個の（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）単位の結合順序は限定されない。すなわち、（ＯＣＦ２ＣＦ２）単位と（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）単位とがランダムに配置されていてもよく、（ＯＣＦ２ＣＦ２）単位と（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）単位とが交互に配置されていてもよく、複数の（ＯＣＦ２ＣＦ２）単位からなる１つ以上のブロックと複数の（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）単位からなる１つ以上のブロックとが連結していてもよい。ポリエーテル鎖の柔軟性が充分であって、かつ該鎖中の柔軟性の均一性に優れる点から、［（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｃ−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｄ］において（ＯＣＦ２ＣＦ２）単位と（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）単位とが交互に配置された構造を有することが好ましく、ポリエーテル鎖中に該交互に配置された構造部分を５０％以上有することがより好ましく、８０％以上有することがさらに好ましく、９０％以上有することが特に好ましい。
【００５０】
（ＯＣＦ２ＣＦ２）単位と（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）単位とが交互に配置されている［（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｃ−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｄ］としては、たとえば、下記のポリエーテル鎖が挙げられる。
−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｅＯＣＦ２ＣＦ２−
ただし、
ｅは、１〜９９の整数であり、化合物（Ａ）の溶剤への溶解性、粘度、潤滑性に優れる点から、１〜５０が好ましく、１〜２０が特に好ましい。
【００５１】
（−ＯＣＦ２Ｏ−構造）
化合物（Ａ）は、下記の点から、−ＯＣＦ２Ｏ−構造を有しないことが好ましい。
・−ＯＣＦ２Ｏ−構造を有する含フッ素ポリエーテル化合物は、−ＯＣＦ２Ｏ−構造を有しない含フッ素ポリエーテル化合物に比べ、化学的な安定性が劣る。
・ポリエーテル鎖が（ＣＦ２Ｏ）単位を有すると、ポリエーテル鎖が柔軟になりすぎ、ランダムコイル状態となる。そのため、基材に塗布した場合、一部でかたまりになって盛り上がり、塗膜の薄肉化が難しい。
【００５２】
（数平均分子量）
化合物（Ａ）の数平均分子量は、５００〜５０，０００が好ましく、５００〜１０，０００がより好ましく、１，０００〜５，０００が特に好ましい。化合物（Ａ）の数平均分子量が前記下限値以上であれば、溶剤への溶解性、粘度、潤滑性に優れる。化合物（Ａ）の数平均分子量が前記上限値以下であれば、磁気ディスク上に塗布された場合に、使用中に揮発しにくくなる。
【００５３】
（含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ）の製造方法）
含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ）の製造方法としては、たとえば、下記の方法（１）および方法（２）が挙げられる。なお、含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ）の製造方法は、これらに限定はされない。
（１）（ｍ＋ｎ）個の水酸基を有するポリオールを起点とし、ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＨを付加重合させ、フッ素化することによって（ｍ＋ｎ）価のＹで連結されたポリエーテル鎖を形成し、末端にＸ、必要に応じてＺを導入するする方法。
（２）ポリエーテル鎖の一方の末端にＸを導入した含フッ素ポリエーテル化合物、必要に応じてポリエーテル鎖の一方の末端にＺを導入した含フッ素ポリエーテル化合物を用意し、（ｍ＋ｎ）個の−ＳＯ２ＣＨ３基等を有する化合物と反応させる方法。
以下、方法（１）の例として方法（１−１）〜（１−３）を説明し、方法（２）の例として方法（２−１）〜（２−２）を説明する。
【００５４】
＜方法（１−１）＞
下式（Ａ１）で表される化合物（Ａ１）、下式（Ａ２）で表される化合物（Ａ２）および下式（Ａ５）で表される化合物（Ａ５）の製造方法について説明する。
｛ＨＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｅ｝ｍ−ＹＦ  ・・・（Ａ１）
｛ＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｅ｝ｍ−ＹＦ  ・・・（Ａ２）
｛Ｒ１１ＯＣ（Ｏ）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｅ｝ｍ−ＹＦ  ・・・（Ａ５）
ただし、
ＹＦは、末端にエーテル性酸素原子を有しない、（ｍ＋ｎ）価のペルフルオロアルカン基、または炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入された（ｍ＋ｎ）価のペルフルオロアルカン基である。
化合物（Ａ１）におけるＨＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−は、基（Ｘ１１）であり、
化合物（Ａ２）におけるＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−は、基（Ｘ１２）であり、
化合物（Ａ５）におけるＲ１１ＯＣ（Ｏ）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−は、基（Ｘ１５）である。
【００５５】
下式（１）で表される化合物（１）を還元剤（水素化ホウ素ナトリウム等）で還元して下式（２）で表される化合物（２）を得る。
ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ３  ・・・（１）
ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ  ・・・（２）
【００５６】
塩基性化合物（炭酸カリウム等）または４級アンモニウム塩の存在下、下式（３）で表される化合物（３）を起点とし、化合物（２）を付加重合させて下式（４）で表される化合物（４）を得る。ただし、Ｙ１は、末端にエーテル性酸素原子を有さず、かつ末端がＣＨ２である、（ｍ＋ｎ）価のアルカン基、炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入された（ｍ＋ｎ）価のアルカン基、（ｍ＋ｎ）価のフルオロアルカン基、または炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入された（ｍ＋ｎ）価のフルオロアルカン基である。
（ＨＯ）ｍ−Ｙ１  ・・・（３）
｛ＨＯ−（ＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＨＦＣＦ２Ｏ）ｅ＋１｝ｍ−Ｙ１  ・・・（４）
【００５７】
化合物（４）と下式（５）で表される化合物（５）とのエステル化反応によって下式（６）で表される化合物（６）を得る。ただし、Ｒｆは、ペルフルオロアルキル基または炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入されたペルフルオロアルキル基である。化合物（５）の酸フロリドの代わりに酸クロリド、酸ブロミド、酸無水物等を用いてもよい。
ＲｆＣ（Ｏ）Ｆ  ・・・（５）
｛ＲｆＣ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＨＦＣＦ２Ｏ）ｅ＋１｝ｍ−Ｙ１  ・・・（６）
【００５８】
フッ素ガスを用いて化合物（６）の水素原子をフッ素原子に置換することによって下式（７）で表される化合物（７）を得る。フッ素化は、たとえば、国際公開第２０００／５６６９４号に記載の方法等にしたがって実施できる。
｛ＲｆＣ（Ｏ）Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｅ＋１｝ｍ−ＹＦ  ・・・（７）
【００５９】
化合物（７）に下式（８）で表される化合物（８）を作用させて化合物（Ａ５）を得る。
Ｒ１１ＯＨ  ・・・（８）
｛Ｒ１１ＯＣ（Ｏ）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｅ｝ｍ−ＹＦ  ・・・（Ａ５）
【００６０】
化合物（Ａ５）を還元剤（水素化ホウ素ナトリウム等）で還元して化合物（Ａ１）を得る。
｛ＨＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｅ｝ｍ−ＹＦ  ・・・（Ａ１）
【００６１】
化合物（Ａ１）に下式（９）で表される化合物（９）を反応させて化合物（Ａ２）を得る。
【００６２】
【化６】
2015022871.tif 000007
【００６３】
｛ＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｅ｝ｍ−ＹＦ  ・・・（Ａ２）
【００６４】
＜方法（１−２）＞
下式（Ａ１１）で表される化合物（Ａ１１）の製造方法について説明する。
｛ＨＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｅ｝ｍ−ＹＦ−｛（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２）ｅＯＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＲ２１｝ｎ  ・・・（Ａ１１）
ＨＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−は、基（Ｘ１１）であり、
−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＲ２１は、基（Ｚ１）である。
【００６５】
方法（１−１）と同様にして化合物（Ａ１）を得る。
｛ＨＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｅ｝ｍ＋ｎ−ＹＦ  ・・・（Ａ１）
【００６６】
塩基性化合物（トリエチルアミン、トリメチルアミン塩酸塩等）の存在下、下式（１０）で表される化合物（１０）とメシルクロリドとを反応させて下式（１１）で表される化合物（１１）を得る。
ＨＯＲ２１  ・・・（１０）
ＣＨ３ＳＯ２−ＯＲ２１  ・・・（１１）
【００６７】
化合物（Ａ１）と金属ナトリウムまたは塩基性化合物（水素化ナトリウム、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド）とを反応させた後、さらに化合物（１１）を反応させる。得られた粗生成物を、特開２００９−１９７２１０号公報の実施例に記載の方法でシリカゲルカラムで精製し、化合物（Ａ１１）を得る。
｛ＨＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｅ｝ｍ−ＹＦ−｛（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２）ｅＯＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＲ２１｝ｎ  ・・・（Ａ１１）
【００６８】
＜方法（１−３）＞
下式（Ａ６）で表される化合物（Ａ６）の製造方法について説明する。
｛φＱ１２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｅ｝ｍ−ＹＦ  ・・・（Ａ６）
φＱ１２Ｏ（ＣＨ２）ｊＱＦ−は、基（Ｘ１６）である。
【００６９】
方法（１−１）と同様にして化合物（Ａ１）を得る。
｛ＨＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｅ｝ｍ−ＹＦ  ・・・（Ａ１）
【００７０】
化合物（Ａ１）と金属ナトリウムまたは塩基性化合物（水素化ナトリウム、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド）とを反応させた後、さらに下式（１２）で表される化合物（１２）を反応させて化合物（Ａ６）を得る。ただし、Ａは、水酸基、ヨウ素原子または臭素原子であり、水酸基の場合は方法（１−２）と同様にメシルクロリドと反応させた後に用いることができる。
φＱ１２−Ａ  ・・・（１２）
｛φＱ１２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｅ｝ｍ−ＹＦ  ・・・（Ａ６）
【００７１】
＜方法（２−１）＞
下式（Ａ６１）で表される化合物（Ａ６１）および下式（Ａ６２）で表される化合物（Ａ６２）の製造方法について説明する。
｛φＱ１２Ｏ（ＣＨ２）ｊＱＦ−Ｏ−［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ａ−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ］−ＱＦ（ＣＨ２）ｊＯ｝ｍ＋ｎ−Ｙ２  ・・・（Ａ６１）
｛φＱ１２Ｏ（ＣＨ２）ｊＱＦ−Ｏ−［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ａ−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ］−ＱＦ（ＣＨ２）ｊＯ｝ｍ−Ｙ２−｛Ｏ（ＣＨ２）ｊＱＦ−［（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｃ−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｄ］−Ｏ−ＱＦ（ＣＨ２）ｊＯＲ２１｝ｎ  ・・・（Ａ６２）
ただし、
Ｙ２は、末端にエーテル性酸素原子を有さず、かつ末端がＣＨ２である、（ｍ＋ｎ）価のアルカン基、炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入された（ｍ＋ｎ）価のアルカン基、（ｍ＋ｎ）価のフルオロアルカン基、または炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入された（ｍ＋ｎ）価のフルオロアルカン基である。
｛−ＱＦ（ＣＨ２）ｊＯ｝ｍ−Ｙ２−｛Ｏ（ＣＨ２）ｊＱＦ−｝ｎは、Ｙに相当し、
φＱ１２Ｏ（ＣＨ２）ｊＱＦ−は、基（Ｘ１６）であり、
−ＱＦ（ＣＨ２）ｊＯＲ２１は、基（Ｚ１）である。
【００７２】
下式（１３）で表される化合物（１３）および下式（１４）で表される化合物（１４）を用意する。化合物（１３）および化合物（１４）の製造方法は、後述する方法（３）にて説明する。
ＨＯ（ＣＨ２）ｊＱＦ−Ｏ−［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ａ−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ］−ＱＦ（ＣＨ２）ｊＯＨ  ・・・（１３）
ＨＯ（ＣＨ２）ｊＱＦ−［（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｃ−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｄ］−ＯＱＦ（ＣＨ２）ｊＯＨ  ・・・（１４）
【００７３】
方法（１−３）と同様にして、化合物（１３）と金属ナトリウムまたは塩基性化合物（水素化ナトリウム、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド）とを反応させた後、さらに化合物（１２）とを反応させる。得られた粗生成物を特開２００９−１９７２１０号公報の実施例に記載の方法でシリカゲルカラムで精製し、下式（１５）で表される化合物（１５）を得る。
φＱ１２−Ａ  ・・・（１２）
φＱ１２Ｏ（ＣＨ２）ｊＱＦ−Ｏ−［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ａ−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ］−ＱＦ（ＣＨ２）ｊＯＨ  ・・・（１５）
【００７４】
方法（１−２）と同様にして、化合物（１４）と金属ナトリウムまたは塩基性化合物（水素化ナトリウム、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド）とを反応させた後、さらに合物（１１）を反応させて下式（１６）で表される化合物（１６）を得る。
ＣＨ３ＳＯ２−ＯＲ２１  ・・・（１１）
ＨＯ（ＣＨ２）ｊＱＦ−［（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｃ−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｄ］−Ｏ−ＱＦ（ＣＨ２）ｊＯＲ２１  ・・・（１６）
【００７５】
塩基性化合物（トリエチルアミン、トリメチルアミン塩酸塩等）の存在下、下式（１７）で表される化合物（１７）とメシルクロリドとを反応させて下式（１８）で表される化合物（１８）を得る。
（ＨＯ）ｍ＋ｎ−Ｙ２  ・・・（１７）
（ＣＨ３ＳＯ２−Ｏ）ｍ＋ｎ−Ｙ２  ・・・（１８）
【００７６】
化合物（１５）と金属ナトリウムまたは塩基性化合物（水素化ナトリウム、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド）とを反応させた後、さらに化合物（１８）を反応させて下式（１９）で表される化合物（１９）および下式（Ａ６１）で表される化合物（Ａ６１）を得る。
｛φＱ１２Ｏ（ＣＨ２）ｊＱＦ−Ｏ−［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ａ−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ］−ＱＦ（ＣＨ２）ｊＯ｝ｍ−Ｙ２−（Ｏ−ＳＯ２ＣＨ３）ｎ  ・・・（１９）
｛φＱ１２Ｏ（ＣＨ２）ｊＱＦ−Ｏ−［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ａ−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ］−ＱＦ（ＣＨ２）ｊＯ｝ｍ＋ｎ−Ｙ２  ・・・（Ａ６１）
【００７７】
化合物（１６）と金属ナトリウムまたは塩基性化合物（水素化ナトリウム、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド）とを反応させた後、さらに化合物（１９）を反応させて化合物（Ａ６２）を得る。
｛φＱ１２Ｏ（ＣＨ２）ｊＱＦ−Ｏ−［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ａ−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ］−ＱＦ（ＣＨ２）ｊＯ｝ｍ−Ｙ２−｛Ｏ（ＣＨ２）ｊＱＦ−［（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｃ−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｄ］−Ｏ−ＱＦ（ＣＨ２）ｊＯＲ２１｝ｎ
・・・（Ａ６２）
【００７８】
＜方法（２−２）＞
下式（Ａ６３）で表される化合物（Ａ６３）の混合物の製造方法について説明する。
｛φＱ１２Ｏ（ＣＨ２）ｊＱＦ−Ｏ−［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ａ−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ］−ＱＦ（ＣＨ２）ｊＯ｝ｍ１−Ｐ３Ｎ３−｛Ｏ（ＣＨ２）ｊＱＦ−［（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｃ−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｄ］−Ｏ−ＱＦ（ＣＨ２）ｊＯＲ２１｝ｎ１  ・・・（Ａ６３）
ただし、
Ｐ３Ｎ３は、シクロトリホスファゼン構造であり、
ｍ１は、０〜６の整数であり、
ｎ１は、０〜６の整数であり、
ｍ１＋ｎ１＝６である。
｛−ＱＦ（ＣＨ２）ｊＯ｝ｍ１−Ｐ３Ｎ３−｛Ｏ（ＣＨ２）ｊＱＦ−｝ｎ１は、Ｙに相当し、
φＱ１２Ｏ（ＣＨ２）ｊＱＦ−は、基（Ｘ１６）であり、
−ＱＦ（ＣＨ２）ｊＯＲ２１は、基（Ｚ１）である。
【００７９】
化合物（１５）と金属ナトリウムまたは塩基性化合物（水素化ナトリウム、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド）とを反応させた後、さらにホスホニトリルクロリドのシクロトリマー（すなわち、ヘキサクロロシクロトリホスファゼン）を反応させて下式（２０）で表される化合物（２０）の混合物を得る。
｛φＱ１２Ｏ（ＣＨ２）ｊＱＦ−Ｏ−［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ａ−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ］−ＱＦ（ＣＨ２）ｊＯ｝ｍ１−Ｐ３Ｎ３−（Ｃｌ）ｎ１  ・・・（２０）
【００８０】
化合物（１６）と金属ナトリウムまたは塩基性化合物（水素化ナトリウム、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド）とを反応させた後、さらに化合物（２０）の混合物を反応させて化合物（Ａ６３）の混合物を得る。
｛φＱ１２Ｏ（ＣＨ２）ｊＱＦ−Ｏ−［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ａ−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ］−ＱＦ（ＣＨ２）ｊＯ｝ｍ１−Ｐ３Ｎ３−｛Ｏ（ＣＨ２）ｊＱＦ−［（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｃ−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｄ］−Ｏ−ＱＦ（ＣＨ２）ｊＯＲ２１｝ｎ１  ・・・（Ａ６３）
【００８１】
＜方法（３）＞
化合物（１３）および化合物（１４）の製造方法について、化合物（１３）を例にとり説明する。化合物（１４）は、化合物（１３）と同様にして製造できる。
ＨＯ（ＣＨ２）ｊＱＦ−Ｏ−［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ａ−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ］−ＱＦ（ＣＨ２）ｊＯＨ  ・・・（１３）
ＨＯ（ＣＨ２）ｊＱＦ−［（ＯＣＦ２ＣＦ２）ｃ−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）ｄ］−Ｏ−ＱＦ（ＣＨ２）ｊＯＨ  ・・・（１４）
【００８２】
＜方法（３−１）＞
方法（３−１）は、（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位と（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位とが交互に配置されている化合物（１３）の製造例である。
（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位と（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位とが交互に配置されている化合物（１３）は、方法（１−１）によって化合物（Ａ１）を製造する際に、化合物（３）として、下式（３−１）で表される化合物（３−１）を用いることによって製造できる。
ＨＯ−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＨ  ・・・（３−１）
【００８３】
＜方法（３−２）＞
方法（３−２）は、（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位と（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位とがランダムに配置されている化合物（１３）の製造例である。
【００８４】
下式（２１）で表される化合物（２１）を用意する。ａ１は、１〜１００の整数であり、ｂ１は、１〜１００の整数である。
ＨＯ−［（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ａ１−（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｂ１］−Ｈ  ・・・（２１）
化合物（２１）の市販品としては、日油社製のポリセリン（登録商標）シリーズ（ＤＣ−１１００、ＤＣ−１８００Ｅ、６０ＤＣ−１８００、ＤＣ−３０００Ｅ）等が挙げられる。
【００８５】
化合物（２１）と化合物（５）とのエステル化反応によって下式（２２）で表される化合物（２２）を得る。
ＲｆＣ（Ｏ）Ｆ  ・・・（５）
ＲｆＣ（Ｏ）Ｏ−［（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ａ１−（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｂ１］−Ｃ（Ｏ）Ｒｆ  ・・・（２２）
【００８６】
フッ素ガスを用いて化合物（２２）の水素原子をフッ素原子に置換することによって下式（２３）で表される化合物（２３）を得る。
ＲｆＣ（Ｏ）Ｏ−［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ａ１−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ１］−Ｃ（Ｏ）Ｒｆ  ・・・（２３）
【００８７】
化合物（２３）に化合物（８）を作用させて下式で表される化合物（２４ｉ）〜（２４ｉｉｉ）の混合物を得る。
Ｒ１１ＯＨ  ・・・（８）
Ｒ１１ＯＣ（Ｏ）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ａ１−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ１−２］−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＯＲ１１  ・・・（２４ｉ）
Ｒ１１ＯＣ（Ｏ）ＣＦ２−Ｏ−［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ａ１−１−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ１−１］−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＯＲ１１  ・・・（２４ｉｉ）
Ｒ１１ＯＣ（Ｏ）ＣＦ２−Ｏ−［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ａ１−２−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ１］−ＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＯＲ１１  ・・・（２４ｉｉｉ）
【００８８】
化合物（２４ｉ）〜（２４ｉｉｉ）の混合物を還元剤（水素化ホウ素ナトリウム等）で還元して下式で表される化合物（１３ａｉ）〜（１３ａｉｉｉ）の混合物を得る。
ＨＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ａ１−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ１−２］−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ  ・・・（１３ａｉ）
ＨＯＣＨ２ＣＦ２−Ｏ−［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ａ１−１−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ１−１］−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ  ・・・（１３ａｉｉ）
ＨＯＣＨ２ＣＦ２−Ｏ−［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ａ１−２−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ１］−ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ  ・・・（１３ａｉｉｉ）
【００８９】
＜方法（３−３）＞
方法（３−３）は、複数の（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位からなる１つ以上のブロックと複数の（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位からなる１つ以上のブロックとが連結した化合物（１３）の製造例である。
【００９０】
下式（２５）で表される化合物（２５）および下式（２６）で表される化合物（２６）を用意する。ａ２は、１〜５１の整数であり、ｂ２は、１〜５１の整数である。
ＨＯ−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ａ２−Ｈ  ・・・（２５）
ＨＯ−（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｂ２−Ｈ  ・・・（２６）
化合物（２５）の市販品としては、日油社製のポリエチレングリコール（ＰＥＧ＃２００Ｔ、ＰＥＧ＃２００、ＰＥＧ＃３００、ＰＥＧ＃４００、ＰＥＧ＃６００、ＰＥＧ＃１０００、ＰＥＧ＃１５４０、ＰＥＧ＃２０００）等が挙げられる。
化合物（２６）の市販品としては、日油社製のユニオール（登録商標）シリーズ（ＰＢ−５００、ＰＢ−７００、ＰＢ−１０００、ＰＢ−２０００、ＰＢ−４８００）等が挙げられる。
【００９１】
塩基性化合物（トリエチルアミン、トリメチルアミン塩酸塩等）の存在下、化合物（２５）または化合物（２６）とメシルクロリドとを反応させて下式（２７）で表される化合物（２７）または下式（２８）で表される化合物（２８）を得る。
ＣＨ３ＳＯ２−Ｏ−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ａ２−ＳＯ２ＣＨ３  ・・・（２７）
ＣＨ３ＳＯ２−Ｏ−（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｂ２−ＳＯ２ＣＨ３  ・・・（２８）
【００９２】
化合物（２６）と金属ナトリウムまたは塩基性化合物（水素化ナトリウム、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド）とを反応させた後、さらに化合物（２７）を反応させて下式（２９ｉ）で表される化合物（２９ｉ）を得る。または、化合物（２５）と金属ナトリウムまたは塩基性化合物（水素化ナトリウム、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド）とを反応させた後、さらに化合物（２８）を反応させて下式（２９ｉｉ）で表される化合物（２９ｉｉ）を得る。
ＨＯ−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ａ２−（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｂ２−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ａ２−Ｈ  ・・・（２９ｉ）
ＨＯ−（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｂ２−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ａ２−（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｂ２−Ｈ  ・・・（２９ｉｉ）
【００９３】
化合物（２９ｉ）または化合物（２９ｉｉ）と化合物（５）とのエステル化反応によって下式（３０ｉ）で表される化合物（３０ｉ）または下式（３０ｉｉ）で表される化合物（３０ｉｉ）を得る。
ＲｆＣ（Ｏ）Ｆ  ・・・（５）
ＲｆＣ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ａ２−（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｂ２−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ａ２−Ｃ（Ｏ）Ｒｆ  ・・・（３０ｉ）
ＲｆＣ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｂ２−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ａ２−（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｂ２−Ｃ（Ｏ）Ｒｆ  ・・・（３０ｉｉ）
【００９４】
フッ素ガスを用いて化合物（３０ｉ）または化合物（３０ｉｉ）の水素原子をフッ素原子に置換することによって下式（３１ｉ）で表される化合物（３１ｉ）または下式（３１ｉｉ）で表される化合物（３１ｉｉ）を得る。
ＲｆＣ（Ｏ）Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ａ２−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ２−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ａ２−Ｃ（Ｏ）Ｒｆ  ・・・（３１ｉ）
ＲｆＣ（Ｏ）Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ２−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ａ２−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ２−Ｃ（Ｏ）Ｒｆ  ・・・（３１ｉｉ）
【００９５】
化合物（３１ｉ）または化合物（３１ｉｉ）に化合物（８）を作用させて下式（３２ｉ）で表される化合物（３２ｉ）または下式（３２ｉｉ）で表される化合物（３２ｉｉ）を得る。
Ｒ１１ＯＨ  ・・・（８）
Ｒ１１ＯＣ（Ｏ）ＣＦ２Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ａ２−１−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ２−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ａ２−１−ＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＯＲ１１  ・・・（３２ｉ）
Ｒ１１ＯＣ（Ｏ）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ２−１−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ａ２−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ２−１−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＯＲ１１  ・・・（３２ｉｉ）
【００９６】
化合物（３２ｉ）または化合物（３２ｉｉ）を還元剤（水素化ホウ素ナトリウム等）で還元して下式（１３ｂｉ）で表される化合物（１３ｂｉ）または下式（１３ｂｉｉ）で表される化合物（１３ｂｉｉ）を得る。
ＨＯＣＨ２ＣＦ２−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ａ２−１−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ２−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ａ２−１−ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ  ・・・（１３ｂｉ）
ＨＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ２−１−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ａ２−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｂ２−１−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ  ・・・（１３ｂｉｉ）
【００９７】
（作用効果）
以上説明した含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ）にあっては、ポリエーテル鎖が（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位と（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位とからなるため、（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位のみからなるポリエーテル鎖に比べ、柔軟性に優れる。そのため、（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位と（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位とからなるポリエーテル鎖を有する含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ）は、潤滑性に優れる。
また、含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ）が−ＯＣＦ２Ｏ−構造を有しなければ、−ＯＣＦ２Ｏ−構造を有する含フッ素ポリエーテル化合物に比べ、化学的な安定性に優れる。また、−ＯＣＦ２Ｏ−構造を有する含フッ素ポリエーテル化合物に比べ、直線性が高く、ランダムコイル状態とならないため、塗膜の薄肉化に対応できる。
また、式（Ａ）中のＸがＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−基またはＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２−基であれば、基材との密着性に優れる。
【００９８】
〔含フッ素ポリエーテル化合物（Ｂ）〕
本発明の含フッ素ポリエーテル化合物の第２の態様は、下式（Ｂ）で表される含フッ素ポリエーテル化合物（Ｂ）（以下、化合物（Ｂ）とも記す。）である。
Ｘ−Ｏ−［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｇ−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｈ］−Ｗ  ・・・（Ｂ）
【００９９】
（Ｘ基）
Ｘは、水酸基、カルボキシ基、エステル基またはアリール基を有する基である。
Ｘの例示、好ましい態様については、含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ）のＸと同様であり、詳細は省略する。
以下、含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ）における符号と同じ符号についても、詳細は省略する。
【０１００】
（Ｗ基）
Ｗは、水酸基、カルボキシ基、エステル基、アリール基、またはハロアルキル基（ただし、ハロゲン原子はフッ素原子または塩素原子である。）もしくは炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入されたハロアルキル基（ただし、ハロゲン原子はフッ素原子または塩素原子である。）を有する基である。
【０１０１】
Ｗとしては、たとえば、下式（Ｗ１）で表される基（Ｗ１）または下式（Ｗ２）で表される基（Ｗ２）が挙げられる。Ｒ２は、ハロアルキル基（ただし、ハロゲン原子はフッ素原子または塩素原子である。）または炭素原子−炭素原子間にエーテル性酸素原子が挿入されたハロアルキル基（ただし、ハロゲン原子はフッ素原子または塩素原子である。）である。
−Ｑ１−（Ｘ１）ｉ  ・・・（Ｗ１）
−Ｒ２  ・・・（Ｗ２）
【０１０２】
基（Ｗ１）としては、たとえば、下式（Ｗ１１）で表される基（Ｗ１１）、下式（Ｗ１２）で表される基（Ｗ１２）、下式（Ｗ１３）で表される基（Ｗ１３）、下式（Ｗ１４）で表される基（Ｗ１４）、下式（Ｗ１５）で表される基（Ｗ１５）、下式（Ｗ１６）で表される基（Ｗ１６）が挙げられる。
−ＱＦ（ＣＨ２）ｊ−ＯＨ  ・・・（Ｗ１１）
−ＱＦ（ＣＨ２）ｊＯＱ１１−（ＯＨ）ｉ  ・・・（Ｗ１２）
−ＱＦ−Ｃ（Ｏ）ＯＨ  ・・・（Ｗ１３）
−ＱＦ（ＣＨ２）ｊ−ＯＣ（Ｏ）Ｒ１１  ・・・（Ｗ１４）
−ＱＦ−Ｃ（Ｏ）ＯＲ１１  ・・・（Ｗ１５）
−ＱＦ（ＣＨ２）ｊ−ＯＱ１２−φ  ・・・（Ｗ１６）
【０１０３】
基（Ｗ２）としては、たとえば、下式（Ｗ２１）で表される基（Ｗ２１）が挙げられる。
−ＱＦ（ＣＨ２）ｊＯＲ２１  ・・・（Ｗ２１）
【０１０４】
Ｗとしては、炭素保護膜との密着性に優れる点から、ｉが２の基（Ｗ１２）が好ましく、化合物を製造しやすく、化合物の安定性に優れる点から、下記の基が特に好ましい。
−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＨ
−ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＨ
【０１０５】
（ポリエーテル鎖）
化合物（Ｂ）におけるポリエーテル鎖は、（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位と（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位とからなる。（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位のみからなるポリエーテル鎖は、柔軟性が不充分なため、該鎖を有する含フッ素ポリエーテル化合物は、潤滑性が不充分である。該鎖に（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位を導入することによって、ポリエーテル鎖が、比較的柔らかくなり、該鎖を有する含フッ素ポリエーテル化合物は、潤滑性に優れる。
ポリエーテル鎖は、ポリエーテル鎖の柔軟性が充分であって、かつ該鎖中の柔軟性の均一性に優れる点から、（ＯＣＦ２ＣＦ２）単位と（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）単位とが交互に配置された構造を有することが好ましい。
【０１０６】
＜［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｇ−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｈ］＞
ｇは、１〜２００の整数であり、化合物（Ｂ）の溶剤への溶解性、粘度、潤滑性に優れる点から、１〜１００が好ましく、１〜４０が特に好ましい。
ｈは、１〜２００の整数であり、化合物（Ｂ）の溶剤への溶解性、粘度、潤滑性に優れる点から、１〜１００が好ましく、１〜４０が特に好ましい。
【０１０７】
ｈ／（ｇ＋ｈ）は、ポリエーテル鎖の柔軟性が充分であって、化合物（Ｂ）の潤滑性に優れる点から、０．２〜０．８が好ましく、０．３〜０．７がより好ましく、０．４〜０．６が特に好ましい。
【０１０８】
［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｇ−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｈ］鎖中のｇ個の（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位およびｈ個の（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位の結合順序は限定されない。すなわち、（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位と（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位とがランダムに配置されていてもよく、（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位と（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位とが交互に配置されていてもよく、複数の（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位からなる１つ以上のブロックと複数の（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位からなる１つ以上のブロックとが連結していてもよい。ポリエーテル鎖の柔軟性が充分であって、かつ該鎖中の柔軟性の均一性に優れる点から、［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｇ−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｈ］鎖において（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位と（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位とが交互に配置された構造を有することが好ましく、ポリエーテル鎖中に該交互に配置された構造部分を５０％以上有することがより好ましく、８０％以上有することがさらに好ましく、９０％以上有することが特に好ましい。
【０１０９】
（−ＯＣＦ２Ｏ−構造）
化合物（Ｂ）は、含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ）と同じ理由から、−ＯＣＦ２Ｏ−構造を有しないことが好ましい。
【０１１０】
（数平均分子量）
化合物（Ｂ）の数平均分子量は、含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ）と同じ理由から、５００〜５０，０００が好ましく、５００〜１０,０００がより好ましく、１,０００〜５,０００が特に好ましい。
【０１１１】
（含フッ素ポリエーテル化合物（Ｂ）の製造方法）
含フッ素ポリエーテル化合物（Ｂ）は、含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ）と同様にして製造できる。また、含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ）の製造過程で得られる中間体としても得られる。
【０１１２】
たとえば、上述した方法（３−１）によって、下式（Ｂ１）で表される化合物（Ｂ１）が得られる。（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位と（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位とは一部を除いて交互に配置されている。
ＨＯ（ＣＨ２）ｊＱＦ−Ｏ−［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｇ−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｈ］−ＱＦ（ＣＨ２）ｊＯＨ  ・・・（Ｂ１）
【０１１３】
さらに、上述した方法（１−１）の最後の工程によって、化合物（Ｂ１）から下式（Ｂ２）で表される化合物（Ｂ２）が得られる。
ＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２Ｏ（ＣＨ２）ｊＱＦ−Ｏ−［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｇ−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｈ］−ＱＦ（ＣＨ２）ｊＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＨ  ・・・（Ｂ２）
【０１１４】
上述した方法（３−２）によって得られる化合物（２４ｉ）〜（２４ｉｉｉ）、化合物（１３ａｉ）〜（１３ａｉｉｉ）も含フッ素ポリエーテル化合物（Ｂ）に該当する。
上述した方法（３−３）によって得られる化合物（３２ｉ）、化合物（３２ｉｉ）、化合物（１３ｂｉ）、化合物（１３ｂｉｉ）も含フッ素ポリエーテル化合物（Ｂ）に該当する。
上述した方法（２−１）によって得られる化合物（１５）、化合物（１６）も含フッ素ポリエーテル化合物（Ｂ）に該当する。
なお、含フッ素ポリエーテル化合物（Ｂ）の製造方法は、これらに限定はされない。
【０１１５】
（作用効果）
以上説明した含フッ素ポリエーテル化合物（Ｂ）にあっては、ポリエーテル鎖が（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位と（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位とからなるため、（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位のみからなるポリエーテル鎖に比べ、柔軟性に優れる。そのため、（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位と（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位とからなるポリエーテル鎖を有する含フッ素ポリエーテル化合物（Ｂ）は、潤滑性に優れる。
また、含フッ素ポリエーテル化合物（Ｂ）が−ＯＣＦ２Ｏ−構造を有しなければ、−ＯＣＦ２Ｏ−構造を有する含フッ素ポリエーテル化合物に比べ、化学的な安定性に優れる。また、−ＯＣＦ２Ｏ−構造を有する含フッ素ポリエーテル化合物に比べ、直線性が高く、ランダムコイル状態とならないため、塗膜の薄肉化に対応できる。
また、式（Ｂ）中のＸがＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−基またはＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２−基であれば、基材との密着性に優れる。
【０１１６】
〔含フッ素ポリエーテル化合物の用途〕
本発明の含フッ素ポリエーテル化合物は、表面改質剤または界面活性剤として有用である。表面改質剤としては、潤滑剤等が挙げられる。
【０１１７】
本発明の含フッ素ポリエーテル化合物の他の用途としては、電線被覆材、撥インク剤（たとえば塗装用、インクジェット等の印刷機器用）、半導体素子用接着剤（たとえばＬＯＣ（リードオンチップ）テープ用接着剤）、半導体用保護コート（たとえば防湿コート剤、半田用這い上がり防止剤）、光学分野に用いる薄膜（たとえばペリクル膜等）への添加剤、ディスプレイ用反射防止膜の潤滑剤、レジスト用反射防止膜等が挙げられる。
【０１１８】
本発明の含フッ素ポリエーテル化合物は、基材上に、本発明の含フッ素ポリエーテル化合物を含む膜（表面層）を形成する用途に好適に用いられる。
表面層は、分子末端に水酸基、カルボキシ基、エステル基またはアリール基を有する本発明の含フッ素ポリエーテル化合物を含むことから、高い潤滑性を保持する。そのため、該表面層を基材上に設けることで、潤滑性等の機能を付与することができる。また、表面層は、基材に対する密着性が高く、耐久性に優れる。また、表面層は、透明であり、屈折率が低く、または耐熱性もしくは耐薬品性に優れる。
【０１１９】
基材の形状および材質は特に限定されず、該表面層を設けた基材の用途に応じたものを適宜用いることができる。該表面層を設けた基材の用途としては、磁気ディスク、光ファイバ、鏡、太陽電池、光ディスク、タッチパネル、感光および定着ドラム、フィルムコンデンサ、ガラス窓用反射防止フィルム等の各種フィルム等が挙げられる。
【０１２０】
表面層の厚さは、用途に応じて適宜設定される。
表面層の厚さは、たとえば薄膜解析用Ｘ線回折計（ＲＩＧＡＫＵ社製、ＡＴＸ−Ｇ）を用いて、Ｘ線反射率法によって反射Ｘ線の干渉パターンを得て、該干渉パターンの振動周期から算出できる。
【０１２１】
本発明の含フッ素ポリエーテル化合物に液状媒体を加えて液状組成物としてもよい。特に、本発明の含フッ素ポリエーテル化合物を、表面改質剤として基材上に表面層を形成する用途に使用する場合には、本発明の含フッ素ポリエーテル化合物に液状媒体を加えて液状組成物として用いることが好ましい。
【０１２２】
〔潤滑剤〕
本発明の潤滑剤は、本発明の含フッ素ポリエーテル化合物を含むものである。本発明の潤滑剤は、１種の含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ）を単独で含んでいてもよく、式（Ａ）中のＸ、Ｙ、Ｚ、ｍ、ｎ、ａ〜ｄの１つ以上が異なる含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ）の２種以上を含んでいてもよい。また、１種の含フッ素ポリエーテル化合物（Ｂ）を単独で含んでいてもよく、式（Ｂ）中のＸ、Ｗ、ｇ、ｈの１つ以上が異なる含フッ素ポリエーテル化合物（Ｂ）の２種以上を含んでいてもよい。また、含フッ素ポリエーテル化合物（Ａ）と含フッ素ポリエーテル化合物（Ｂ）とを含んでいてもよい。
本発明の潤滑剤は、本発明の含フッ素ポリエーテル化合物のみからなるものでもよく、他の成分をさらに含むものであってもよい。
本発明の潤滑剤における本発明の含フッ素ポリエーテル化合物の含有量は、潤滑剤の総質量に対し、９０〜１００質量％が好ましく、１００質量％が特に好ましい。すなわち、本発明の潤滑剤は、本発明の含フッ素ポリエーテル化合物のみからなるのが特に好ましい。
【０１２３】
他の成分としては、潤滑剤として使用可能なものであって本発明の含フッ素ポリエーテル化合物に該当しない任意の化合物を使用でき、たとえば本発明の含フッ素ポリエーテル化合物以外の含フッ素ポリエーテル化合物、シラン系、エポキシ系、チタン系、アルミニウム系等のカップリング剤等が挙げられる。本発明の含フッ素ポリエーテル化合物を潤滑剤として用いる場合、該カップリング剤を使用することで基材と本発明の含フッ素ポリエーテル化合物との密着性を向上させ得る。
【０１２４】
潤滑剤の用途としては、磁気ディスク用、特に磁気ディスクのダイヤモンド状炭素保護膜（ＤＬＣ膜）上に塗布して潤滑性を付与する用途が好ましい。
磁気ディスクとしては、たとえば、ＮｉＰメッキされた基板（アルミニウム、ガラス等。）上に、下地層、磁気記録層、ダイヤモンド状炭素保護膜（ＤＬＣ膜）を順に有するものが挙げられる。ＤＬＣ膜の厚さは、５ｎｍ以下が好ましい。ＤＬＣ膜の平均表面粗さ（Ｒａ）は、２ｎｍ以下が好ましい。
【０１２５】
磁気ディスクのＤＬＣ膜上に潤滑剤を塗布して形成される表面層の場合、その厚さは、０．１〜２ｎｍが好ましく、０．５〜１ｎｍが特に好ましい。該表面層の厚さが前記下限値以上であれば、表面層による潤滑効果等が充分に得られる。該表面層の厚さが前記上限値以下であれば、磁気ディスクの高密度記録化に高く寄与できる。本発明の含フッ素ポリエーテル化合物によれば、薄膜化しても充分な潤滑性を発揮する表面層を形成し得る。そのため、表面層の厚さが薄いほど本発明の有用性が高い。
【０１２６】
〔液状組成物〕
本発明の液状組成物は、本発明の含フッ素ポリエーテル化合物と、液状媒体とを含むものである。
本発明の液状組成物は、溶液、懸濁液、または乳化液のいずれであってもよく、溶液であるのが好ましい。
液状組成物中の本発明の含フッ素ポリエーテル化合物の濃度は、用途に応じて適宜調節でき、液状組成物の総質量に対し、０．００５〜５０質量％であることが好ましく、０．００５〜５質量％がより好ましく、０．０１〜１質量％が特に好ましい。本発明の含フッ素ポリエーテル化合物の濃度が前記範囲内であると、均一な表面層を形成できる。
【０１２７】
液状媒体としては、本発明の含フッ素ポリエーテル化合物を溶解または分散し得るものであればよく、有機溶媒が好ましい。有機溶媒は、フッ素系有機溶媒であってもよく、非フッ素系有機溶媒であってもよく、これら両溶媒を含んでもよい。
【０１２８】
フッ素系有機溶媒としては、フルオロアルカン、フルオロ芳香族化合物、フルオロアルキルエーテル、フルオロアルキルアミン、フルオロアルコール等が挙げられる。
フルオロアルカンとしては、炭素数４〜８の化合物が好ましい。市販品としては、たとえばＣ６Ｆ１３Ｈ（旭硝子社製、ＡＣ−２０００）、Ｃ６Ｆ１３Ｃ２Ｈ５（旭硝子社製、ＡＣ−６０００）、Ｃ２Ｆ５ＣＨＦＣＨＦＣＦ３（デュポン社製、バートレル（登録商標）ＸＦ）等が挙げられる。
フルオロ芳香族化合物としては、たとえばヘキサフルオロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン、ペルフルオロトルエン、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン等が挙げられる。
フルオロアルキルエーテルとしては、炭素数４〜１２の化合物が好ましい。フルオロアルキルエーテルとしては、ヒドロフルオロアルキルエーテルが好ましい。市販品としては、たとえばＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｈ（旭硝子社製、ＡＥ−３０００）、Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３（３Ｍ社製、ノベック（登録商標）−７１００）、Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５（３Ｍ社製、ノベック（登録商標）−７２００）、Ｃ６Ｆ１３ＯＣＨ３（３Ｍ社製、ノベック（登録商標）−７３００）等が挙げられる。
フルオロアルキルアミンとしては、ペルフルオロアルキルアミンが好ましく、たとえばペルフルオロトリプロピルアミン、ペルフルオロトリブチルアミン等が挙げられる。
フルオロアルコールとしては、たとえば２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール、２，２，２−トリフルオロエタノール、ヘキサフルオロイソプロパノール等が挙げられる。
フッ素系有機溶媒としては、含フッ素ポリエーテル化合物の溶解性の点で、フルオロアルカン、フルオロ芳香族化合物、フルオロアルキルエーテルが好ましい。これらの中でも、オゾン破壊係数が低い点で、ヒドロフルオロアルキルエーテルが特に好ましい。
【０１２９】
非フッ素系有機溶媒としては、水素原子および炭素原子のみからなる化合物と、水素原子、炭素原子および酸素原子のみからなる化合物が好ましく、炭化水素系有機溶媒、アルコール系有機溶媒、ケトン系有機溶媒、エーテル系有機溶媒、エステル系有機溶媒が挙げられる。
炭化水素系有機溶媒としては、ヘキサン、へプタン、シクロヘキサン等が好ましい。
アルコール系有機溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール等が好ましい。
ケトン系有機溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等が好ましい。
エーテル系有機溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラエチレングリコールジメチルエーテル等が好ましい。
エステル系有機溶媒としては、酢酸エチル、酢酸ブチル等が好ましい。
非フッ素系有機溶媒としては、含フッ素ポリエーテル化合物の溶解性の点で、ケトン系有機溶媒が特に好ましい。
【０１３０】
液状媒体としては、フルオロアルカン、フルオロ芳香族化合物、フルオロアルキルエーテル、水素原子および炭素原子のみからなる化合物、ならびに、水素原子、炭素原子および酸素原子のみからなる化合物からなる群から選択される少なくとも１種の有機溶媒が好ましい。特に、フルオロアルカン、フルオロ芳香族化合物およびフルオロアルキルエーテルから選ばれるフッ素系有機溶媒が好ましい。
液状媒体としては、フッ素系有機溶媒であるフルオロアルカン、フルオロ芳香族化合物、フルオロアルキルエーテル、非フッ素系有機溶媒である水素原子、炭素原子および酸素原子のみからなる化合物からなる群から選択される少なくとも１種の有機溶媒を、合計で液状媒体全体の９０質量％以上含むことが、含フッ素ポリエーテル化合物の溶解性を高める点で好ましい。
【０１３１】
液状組成物は、必要に応じて、本発明の効果を損なわない範囲で、本発明の含フッ素ポリエーテル化合物および液状媒体以外の他の成分をさらに含んでもよい。
他の成分としては、ラジカルスカベンジャー（たとえばＤｏｗ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製、Ｘ−１ｐ）等が挙げられる。
【０１３２】
液状組成物は、所望の性能を達成できないおそれがあることから、金属イオン類、陰イオン類、水分、低分子極性化合物等を含まないことが好ましい。
金属イオン類（Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、Ａｌ等。）は、陰イオンと結合してルイス酸触媒を生成し、含フッ素ポリエーテル化合物の分解反応を促進する場合がある。陰イオン類（Ｆ、Ｃｌ、ＮＯ２、ＮＯ３、ＰＯ４、ＳＯ４、Ｃ２Ｏ４等。）および水分は、基材の表面を腐食させる場合がある。よって、液状組成物中の含水率は、２，０００ｐｐｍ以下が好ましい。
低分子極性化合物（アルコール類；樹脂から溶出する可塑剤等。）は、基材と表面層との密着性を低減させる場合がある。
【０１３３】
〔含フッ素ポリエーテル化合物の使用方法〕
含フッ素ポリエーテル化合物や液状組成物の使用方法は、目的に応じ公知の方法を適用できる。
たとえば本発明の含フッ素ポリエーテル化合物を、潤滑剤として使用する場合には、本発明の含フッ素ポリエーテル化合物を基材上に塗布することによって、または本発明の含フッ素ポリエーテル化合物を含む液状組成物を基材上に塗布し、乾燥すること（すなわち、液状組成物から液状媒体を除去すること）によって、本発明の含フッ素ポリエーテル化合物を含む膜（表面層）を形成させて、目的とする機能を発現させるのが好ましい。
本発明の含フッ素ポリエーテル化合物やそれを含む液状組成物を塗布する基材は特に限定されず、たとえば表面層を設ける基材として前記で挙げたものと同様のものが挙げられる。基材としては、本発明の有用性の点で、磁気ディスクが好ましい。
【０１３４】
含フッ素ポリエーテル化合物やそれを含む液状組成物の塗布方法としては、たとえば、ロールコート法、キャスト法、ディップコート法、スピンコート法、水上キャスト法、ダイコート法、ラングミュア・プロジェット法、真空蒸着法等が挙げられ、スピンコート法、ディップコート法、または真空蒸着法が好ましい。
液状組成物を塗布した場合、乾燥方法としては、たとえば自然乾燥、真空乾燥、遠心乾燥、加熱乾燥等が挙げられる。
【０１３５】
基材上に本発明の含フッ素ポリエーテル化合物を含む表面層を形成した後、本発明の含フッ素ポリエーテル化合物を基材上（たとえば磁気ディスクの炭素保護膜上）に強固に密着させるために、密着処理を行ってもよい。
密着処理としては、加熱処理、赤外線照射処理、紫外線照射処理、プラズマ処理等が挙げられ、加熱処理または紫外線照射処理が好ましく、加熱処理が特に好ましい。乾燥処理が密着処理を兼ねてもよい。
さらに、密着処理後の基材を、付着物の除去、余剰の含フッ素ポリエーテル化合物の除去を目的に、フッ素系有機溶媒にて洗浄してもよい。
【０１３６】
〔物品〕
本発明の物品は、基材上に、本発明の含フッ素ポリエーテル化合物を含む膜を有するものである。
本発明の液状組成物を塗布する基材は特に限定されず、たとえば表面層を設ける基材として前記で挙げたものと同様のものが挙げられる。基材としては、本発明の有用性の点で、磁気ディスクが好ましい。
該膜を基材上に設ける方法としては、含フッ素ポリエーテル化合物からなる膜の形成方法として公知の方法が利用できる。たとえば上述した本発明の液状組成物を基材上に液状組成物を塗布して表面層を形成する方法等によって該膜を形成できる。
【実施例】
【０１３７】
以下、実施例を示して本発明を詳細に説明する。ただし、本発明はこれらの例によって限定されない。
例１、２、５〜８は実施例であり、例３、４は比較例である。
各例における評価方法を以下に示す。【０１３８】
〔評価方法〕
（ＧＰＣ分析）
数平均分子量（Ｍｎ）および分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（以下、ＧＰＣとも記す。）によって測定した。なお、Ｍｗは質量平均分子量を示す。
ＧＰＣによる測定は、特開２００１−２０８７３６号公報に記載の方法にしたがい、下記条件にて行った。
移動相：Ｒ−２２５（旭硝子社製、アサヒクリンＡＫ−２２５ＳＥＣグレード１）およびヘキサフルオロイソプロピルアルコールの混合溶媒（Ｒ−２２５：ヘキサフルオロイソプロピルアルコール＝９９：１（体積比））。
分析カラム：ＰＬｇｅｌ  ＭＩＸＥＤ−Ｅカラム（ポリマーラボラトリーズ社製）を２本直列に連結したもの。
分子量測定用標準試料：Ｍｗ／Ｍｎが１．１未満で、Ｍｎが２，０００〜１０，０００のペルフルオロポリエーテル４種、およびＭｗ／Ｍｎが１．１以上で、Ｍｎが１，３００のペルフルオロポリエーテル１種。
移動相流速：１．０ｍＬ／分。
カラム温度：３７℃。
検出器：蒸発光散乱検出器。【０１３９】
（動摩擦係数測定）
基材上に表面層を設けた物品の最表面（物品の表面のうち表面層を設けた場所）の動摩擦係数は、摩擦測定器（Ｈｅｉｄｏｎ社製、Ｔｒｉｂｏｇｅａｒ）を用いて測定した。接触子としてはφ１０ｍｍのＳＵＳ製の球を用い、荷重１００ｇ、移動距離２０ｍｍ、移動速度１ｍｍ／秒にて測定した。下記の基準にて評価した。
○（良好）：動摩擦係数が１．７以下である。
×（不良）：動摩擦係数が１．７超である。【０１４０】
（Ｆ／Ｓｉの測定）
基材（シリコンウェハ）上に設けた表面層の被覆率は、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ：Ｘ−ｒａｙ  Ｐｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ）により下記の測定条件にて測定されるＦ／Ｓｉにより下記の基準にて評価した。
○（良好）：Ｆ／Ｓｉが０．８〜１．０である。
×（不良）：Ｆ／Ｓｉが０．８未満、または１．０超である。【０１４１】
ＸＰＳは、Ａｌ、Ｍｇ等の特性Ｘ線を試料に入射し、光電効果により放出される光電子の運動エネルギーおよび強度を測定することで、固体表面に存在する原子の種類や量、化学結合状態等を知る方法である。
試料より放出される光電子の運動エネルギーＥｋは、入射Ｘ線のエネルギーｈν（ｈ：プランク定数、ν：振動数）から結合エネルギーＥｂおよび仕事関数Ｗを減じた値（Ｅｋ＝ｈν−Ｅｂ−Ｗ）である。結合エネルギーＥｂは、光電子が試料中で捕獲されていた原子の種類、電子軌道、化学結合状態に依存する値である。入射Ｘ線のエネルギーｈνおよび仕事関数Ｗは既知である。そのため、運動エネルギーＥｋを測定すれば、結合エネルギーＥｂを求めることができ、試料中の原子の種類・電子軌道・化学結合状態を知ることができる。
入射Ｘ線は試料の深さ数μｍ程度まで侵入する。しかし、深い場所にある原子より放出された電子は、試料中の他の原子に束縛されている電子との非弾性散乱等によりエネルギーを失い、試料より放出されない。そのため、非弾性平均自由行程（電子が非弾性散乱を起こさずに進める距離）で決まる、数ｎｍ程度の深さの極く最表面から放出された電子が、光電子として観測される。したがって、ＸＰＳは、試料の最表面に存在する原子の種類や量、化学結合状態を高感度に測定する方法であり、基材上に塗布された極く薄い膜を高感度に検出でき、薄膜の被覆率を評価するのに有効な方法である。
後述する各例で得た物品（基材としてシリコンウェハを用い、基材上に、含フッ素ポリエーテル化合物を含む潤滑剤で表面層を設けた物品）の最表面のＸＰＳ測定を行うと、基材上において表面層で被覆されている箇所では、表面層中のフッ素原子の１ｓ軌道から放出される光電子強度（以下、Ｆ１ｓピーク強度と記す。）は強く検出され、基材中のシリコン原子のＳｉ２ｐ軌道から放出される光電子強度（以下、Ｓｉ２ｐピーク強度と記す。）は弱く検出されるかあるいは検出されない。これに対し、基材上において表面層で被覆されていない箇所では、フッ素原子から放出される光電子は検出されず、シリコン原子のＳｉ２ｐ軌道から放出される光電子強度が強く検出される。したがって、ＸＰＳ測定により得られたＦ１ｓピーク強度とＳｉ２ｐピーク強度とから算出されるＦ原子濃度とＳｉ原子濃度の比は、基材上に設けた表面層の被覆率と正の相関があると考えることができる。【０１４２】
ＸＰＳ装置としてはアルバック・ファイ社製、ＰＨＩ  Ｑｕａｎｔｅｒａ  ＳＸＭを用いた。Ｘ線源として径５０μｍ程度に集光されたＡｌＫα線（１４８６．６ｅＶ）を用い、照射Ｘ線強度１２．４Ｗ、検出器のパスエネルギー２２４ｅＶ、光電子取り出し角度４５°にて測定した。照射Ｘ線はスキャンせずに固定して測定し、また試料最表面の測定を行い、試料のエッチングは行わなかった。なお、試料からの光電子放出に伴う帯電補正のため、装置に付属の電子線およびＡｒ＋中和銃を用いた。Ｆ１ｓピーク強度の算出には結合エネルギー６８２〜６９１ｅＶ、Ｓｉ２ｐピーク強度の算出には結合エネルギー９６〜１０７ｅＶのエネルギー範囲でバックグラウンドを除去したピークの積分強度を用いた。さらに、装置固有の各元素の相対感度係数を用いてＦ原子濃度およびＳｉ原子濃度を算出した。【０１４３】
〔例１〕
（例１−１）
３００ｍＬの３つ口丸底フラスコに、水素化ホウ素ナトリウム粉末の１４．１ｇを取り入れ、ＡＫ−２２５（旭硝子社製）の３５０ｇを加えた。氷浴で冷却しながら撹拌し、窒素雰囲気下、内温が１０℃を超えないように化合物（１）の１００ｇ、メタノールの１５．８ｇ、ＡＫ−２２５の２２ｇを混合した溶液を滴下漏斗からゆっくり滴下した。全量滴下した後、さらにメタノールの１０ｇとＡＫ−２２５の１０ｇを混合した溶液を滴下した。その後、氷浴を取り外し、室温までゆっくり昇温しながら撹拌を続けた。室温で１２時間撹拌後、再び氷浴で冷却し、液性が酸性になるまで塩酸水溶液を滴下した。反応終了後、水で１回、飽和食塩水で１回洗浄し、有機相を回収した。回収した有機相を硫酸マグネシウムで乾燥した後、固形分をフィルタによりろ過し、ろ液をエバポレータで濃縮した。回収した濃縮液を減圧蒸留し、化合物（２）の８０．６ｇ（収率８８％）を得た。
ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ３  ・・・（１）
ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ  ・・・（２）【０１４４】
化合物（２）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：テトラメチルシラン（以下、ＴＭＳと記す。））  δ（ｐｐｍ）：２．２（１Ｈ）、４．１（２Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−８５．６（２Ｆ）、−１１４．０（１Ｆ）、−１２２．２（１Ｆ）、−１２３．３（２Ｆ）、−１２７．４（２Ｆ）、−１３５．２（１Ｆ）。【０１４５】
（例１−２）
還流冷却器を接続した５００ｍＬのナスフラスコに、化合物（２）の１００ｇ、化合物（３−１）の１１．０ｇ、炭酸カリウム粉末の２５．２ｇを加えた。窒素雰囲気下、７５℃で１時間撹拌した後、１２０℃まで昇温し、内温が１３０℃以下になるように制御しながら、化合物（２）の２００ｇを滴下した。全量滴下した後、１２０℃でさらに１時間撹拌した。ＮＭＲで化合物（２）のビニルエーテル基が完全に消失したことを確認した。塩酸水溶液を加えて、過剰の炭酸カリウムを処理し、水とＡＫ−２２５を加えて分液処理を行った。３回の水洗後、有機相を回収し、エバポレータで濃縮することによって、下式（４−１）で表される化合物（４−１）の３１０ｇを得た。再び、ＡＫ−２２５の１１０ｇで希釈し、シリカゲルカラムクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＫ−２２５、酢酸エチル）に展開して分取し、不純物の除去、分子量の精製を行うことで化合物（４−１）の１５０ｇを得た。
ＨＯ−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＨ  ・・・（３−１）
ＨＯ−（ＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＨＦＣＦ２Ｏ）３−ＣＨ２ＣＨ２−（ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２）３−ＯＨ  ・・・（４−１）【０１４６】
化合物（４−１）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重アセトン、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：３．４〜４．０（８Ｈ）、４．３（８Ｈ）、５．８〜７．０（６Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重アセトン、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−８４．３〜−８５．１（１２Ｆ）、−８９．４〜−９０．５（１２Ｆ）、−１２０．２（８Ｆ）、−１２２．０（４Ｆ）、−１２６．６（８Ｆ）、−１２７．０（４Ｆ）、−１４５．１（６Ｆ）。【０１４７】
（例１−３）
還流冷却器を接続した３００ｍＬのナスフラスコに、化合物（４−１）の１００ｇ、フッ化ナトリウム粉末の９．０ｇを取り入れ、下式（５−１）で表される化合物（５−１）の４０ｇを加えた。窒素雰囲気下、５０℃で１３時間撹拌した後、７０℃で３時間撹拌した。加圧ろ過器でフッ化ナトリウム粉末を除去した後、過剰の化合物（５−１）とＡＫ−２２５を減圧留去し、下式（６−１）で表される化合物（６−１）の１３０ｇ（収率９７％）を得た。
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）Ｃ（Ｏ）Ｆ  ・・・（５−１）
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＨＦＣＦ２Ｏ）３−ＣＨ２ＣＨ２−（ＯＣＦ２ＣＨＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２）３−ＯＣ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３  ・・・（６−１）【０１４８】
化合物（６−１）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：３．４〜４．０（８Ｈ）、４．３（４Ｈ）、４．９（４Ｈ）、５．８〜７．０（６Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−８０．０（１Ｆ）、−８１．９（３Ｆ）、−８２．７（３Ｆ）、−８４．７〜−８５．０（１２Ｆ）、−８６．０（１Ｆ）、−９０．５〜−９３．０（１２Ｆ）、−１２１．１（４Ｆ）、−１２１．５（８Ｆ）、−１２８．０（１２Ｆ）、−１３０．３（２Ｆ）、−１３２．５（１Ｆ）、−１４５．３（６Ｆ）。【０１４９】
（例１−４）
オートクレーブ（ニッケル製、内容積１Ｌ）を用意し、オートクレーブのガス出口に、０℃に保持した冷却器、ＮａＦペレット充填層、および−１０℃に保持した冷却器を直列に設置した。また−１０℃に保持した冷却器から凝集した液をオートクレーブに戻す液体返送ラインを設置した。
オートクレーブにＲ−１１３（ＣＦ２ＣｌＣＦＣｌ２）の７５０ｇを投入し、２５℃に保持しながら撹拌した。オートクレーブに窒素ガスを２５℃で１時間吹き込んだ後、窒素ガスで２０体積％に希釈したフッ素ガス（以下、２０％フッ素ガスと記す。）を、２５℃、流速３．２Ｌ／時間で１時間吹き込んだ。次いで、２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブに、化合物（６−１）の１３０ｇをＲ−１１３の４４８ｇに溶解した溶液を、２２時間かけて注入した。
次いで、２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブの内圧を０．１５ＭＰａ（ゲージ圧）まで加圧した。オートクレーブ内に、Ｒ−１１３中に０．０１５ｇ／ｍＬのベンゼンを含むベンゼン溶液の８ｍＬを、２５℃から４０℃にまで加熱しながら注入し、オートクレーブのベンゼン溶液注入口を閉めた。２０分撹拌した後、再びベンゼン溶液の４ｍＬを、４０℃を保持しながら注入し、注入口を閉めた。同様の操作をさらに７回繰り返した。ベンゼンの注入総量は０．６ｇであった。
さらに、２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、１時間撹拌を続けた。次いで、オートクレーブ内の圧力を大気圧にして、窒素ガスを１時間吹き込んだ。オートクレーブの内容物をエバポレータで濃縮し、下式（７−１）で表される化合物（７−１）の１４５ｇ（収率９８％）を得た。
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｏ）３−ＣＦ２ＣＦ２−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）３−ＯＣ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３  ・・・（７−１）【０１５０】
化合物（７−１）のＮＭＲスペクトル；
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−８０．０（１Ｆ）、−８２．０〜−８２．５（６Ｆ）、−８４．０（２４Ｆ）、−８７．８（４Ｆ）、−８９．２（２８Ｆ）、−１２６．５（２４Ｆ）、−１３０．４（２Ｆ）、−１３２．４（１Ｆ）。【０１５１】
（例１−５）
５００ｍＬのテトラフルオロエチレン−ペルフルオロ（アルコキシビニルエーテル）共重合体（ＰＦＡ）製丸底ナスフラスコに、化合物（７−１）の１４５ｇを入れた。氷浴で冷却しながら撹拌し、窒素雰囲気下、メタノールの３５ｇを滴下漏斗からゆっくり滴下した。窒素でバブリングしながら１２時間撹拌した。反応混合物をエバポレータで濃縮し、下式（Ａ５−１）で表される化合物（Ａ５−１）の１０８ｇ（収率１００％）を得た。
ＣＨ３ＯＣ（Ｏ）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｏ）２−ＣＦ２ＣＦ２−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）２ＯＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ３  ・・・（Ａ５−１）【０１５２】
化合物（Ａ５−１）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：３．９（６Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−８４．０（２８Ｆ）、−８９．２（２８Ｆ）、−１１９．８（４Ｆ）、−１２６．５（２４Ｆ）。【０１５３】
（例１−６）
３００ｍＬの３つ口丸底フラスコに、エタノールの２００ｇ、リチウムクロリドの２．１ｇ、化合物（Ａ５−１）の１００ｇを取り入れ、氷浴で冷却しながら撹拌し、窒素雰囲気下、水素化ホウ素ナトリウム粉末の９．５ｇをエタノール２００ｇに溶解させたものを滴下した。全量滴下した後、氷浴を取り外し、室温までゆっくり昇温しながら１２時間撹拌を続けた。その後、再び氷浴で冷却し、液性が酸性になるまで塩酸水溶液を滴下した。反応終了後、水で１回、飽和食塩水で１回洗浄し、有機相を回収した。回収した液をエバポレータで濃縮した。回収した濃縮液を減圧蒸留し、得られた粗生成物を特開２００９−１９７２１０号公報の実施例に記載の方法でシリカゲルカラムで精製した後、特開２００９−１９７２１０号公報の実施例に記載の方法で超臨界精製し、下式（Ａ１−１）で表される化合物（Ａ１−１）の９５ｇ（収率９８％）得た。化合物（Ａ１−１）の数平均分子量は、２，１００であり、分子量分布は１．０５であった。
ＨＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｏ）２−ＣＦ２ＣＦ２−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）２ＯＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ  ・・・（Ａ１−１）【０１５４】
化合物（Ａ１−１）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：４．１（４Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−８４．０（２８Ｆ）、−８９．２（２８Ｆ）、−１２３．３（４Ｆ）、−１２６．５（２４Ｆ）。【０１５５】
（物品の製造）
化合物（Ａ１−１）を、濃度が０．０５質量％となるようにバートレル（登録商標）ＸＦ（デュポン社製）に溶解して液状組成物を調製した。
液状組成物をシリコンウェハにディップコートで塗布して物品（表面層付き基材）を得た。ディップコータとしてはマイクロスピードディップコータ（ＳＤＩ社製）を用い、１０ｍｍ／秒の速さでディッピングし、６０秒間浸漬した後に、２ｍｍ／秒の速さで引き揚げた。引き揚げたシリコンウェハを１５０℃のオーブンで１０分間加熱して表面層を形成し、物品を得た。【０１５６】
〔例２〕
３００ｍＬの３つ口丸底フラスコに、ｔｅｒｔ−ブチルアルコールの５０ｇ、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシドの５．６ｇ、精製前の（粗生成物としての）化合物（Ａ１−１）の１００ｇを取り入れ、８０℃に加熱しながら撹拌し、窒素雰囲気下、グリシドール（化合物（９））の７．４ｇを滴下した。全量滴下した後、５時間撹拌を続けた。その後、氷浴で冷却し、液性が酸性になるまで塩酸水溶液を滴下した。反応終了後、水で１回、飽和食塩水で１回洗浄し、有機相を回収した。回収した液をエバポレータで濃縮した。回収した濃縮液を減圧蒸留し、例１と同様にして精製を行い、下式（Ａ２−１）で表される化合物（Ａ２−１）の１００ｇ（収率９３％）を得た。化合物（Ａ２−１）の数平均分子量は、２，２００であり、分子量分布は１．０５であった。化合物（Ａ２−１）を用いた以外は、例１と同様にして物品を得た。
ＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｏ）２−ＣＦ２ＣＦ２−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）２ＯＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＨ  ・・・（Ａ２−１）【０１５７】
化合物（Ａ２−１）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：３．５（８Ｈ）、３．７（２Ｈ）、３．８（４Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−８４．０（２８Ｆ）、−８９．２（２８Ｆ）、−１２３．３（４Ｆ）、−１２６．５（２４Ｆ）。【０１５８】
〔例３〕
下式（Ｃ−１）で表される化合物（Ｃ−１）（ソルベイ社製、フォンブリン（登録商標）Ｚ  ＤＯＬ４０００、数平均分子量４，０００）を用意した。化合物（Ｃ−１）を用いた以外は、例１と同様にして物品を得た。
ＨＯ−（ＣＦ２Ｏ）ｓ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｔ−Ｈ  ・・・（Ｃ−１）【０１５９】
〔例４〕
３００ｍＬの３つ口丸底フラスコに、ｔｅｒｔ−ブチルアルコールの５０ｇ、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシドの２．８ｇ、化合物（Ｃ−１）の１００ｇを取り入れ、８０℃に加熱しながら撹拌し、窒素雰囲気下、グリシドールの３．７ｇを滴下した。全量滴下した後、５時間撹拌を続けた。その後、氷浴で冷却し、液性が酸性になるまで塩酸水溶液を滴下した。反応終了後、水で１回、飽和食塩水で１回洗浄し、有機相を回収した。回収した液をエバポレータで濃縮した。回収した濃縮液を減圧蒸留し、下式（Ｃ−２）で表される化合物（Ｃ−２）の９９ｇ（収率９５％）を得た。化合物（Ｃ−２）を用いた以外は、例１と同様にして物品を得た。
ＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２Ｏ−（ＣＦ２Ｏ）ｓ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｔ−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＨ  ・・・（Ｃ−２）【０１６０】
化合物（Ｃ−２）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：３．５（８Ｈ）、３．７（２Ｈ）、３．８（４Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−８４．０（２８Ｆ）、−８９．２（２８Ｆ）、−１２３．３（４Ｆ）、−１２６．５（２４Ｆ）。【０１６１】
〔評価〕
例１〜４の物品について、最表面（物品の表面のうち表面層を設けた場所）の動摩擦係数、Ｆ／Ｓｉを測定した。また、例１〜４の物品について、含フッ素エーテル化合物と基材上の炭素保護膜との密着性を確認するために、１５０℃、１０ｍｍＨｇに設定した真空オーブンにそれぞれの物品を１週間保持し、処理後の動摩擦係数、Ｆ／Ｓｉを測定した。結果を表１に示す。【０１６２】
【表１】
2015022871.tif 000008
【０１６３】
Ｆ／Ｓｉの値は基材上に付着している含フッ素ポリエーテル量、すなわち表面層の厚さを表しており、従来の知見から０．８〜１．０程度が潤滑性の点から適していることが分かっている。
処理前においては、例３、４は、Ｆ／Ｓｉが高い数値を示している、すなわち表面層が厚すぎ、潤滑性が不足していることが分かる。一方、例１、２は、Ｆ／Ｓｉが所望の範囲に入っている、すなわち適した表面層を形成している。
処理後においては、例１、３は、Ｆ／Ｓｉが所望の範囲を下回っており、さらに、動摩擦係数が高い数値を示している、すなわち処理によって、表面層の一部が消失していることを示している。一方、例２、４は、処理前後で動摩擦系数、Ｆ／Ｓｉともに変化がないことから、表面層が基材としっかり密着していることを示している。【０１６４】
〔例５〕
（例５−１）
下式（１０−１）で表される化合物（１０−１）、トリエチルアミン、アセトニトリルを撹拌しながら、メシルクロリドを加える。ＮＭＲで化合物（１０−１）が消費されていることを確認した後に、水で有機相を洗浄し、得られた有機相の溶媒を留去することによって、下式（１１−１）で表される化合物（１１−１）を得る。
ＨＯＣＨ２ＣＦ３  ・・・（１０−１）
ＣＨ３ＳＯ２−ＯＣＨ２ＣＦ３  ・・・（１１−１）【０１６５】
（例５−２）
例１と同様にして、化合物（Ａ１−１）、すなわち下式（１３−１）で表される化合物（１３−１）を得る。（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位と（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位とは一部を除いて交互に配置されている。化合物（１３−１）は、含フッ素ポリエーテル化合物（Ｂ）として用いてもよい。
ＨＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）７−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）４］−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ  ・・・（１３−１）【０１６６】
（例５−３）
テトラヒドロフラン中、化合物（１３−１）と金属ナトリウムとを氷浴で冷却しながら充分に反応させた後に、化合物（１１−１）に滴下する。ＮＭＲで化合物（１１−１）が消費されていることを確認した後に、０．１Ｎの塩酸で有機相を洗浄し、得られた有機相の溶媒を留去することによって、下式で表される化合物（１６−１）、（１６−２）および化合物（１３−１）の混合物を得る。化合物（１６−１）は、含フッ素ポリエーテル化合物（Ｂ）として用いてもよい。
ＨＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）７−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）４］−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ３  ・・・（１６−１）
ＣＦ３ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）７−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）４］−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ３  ・・・（１６−２）【０１６７】
混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィで分画精製することにより目的とする化合物（１６−１）を得る。シリカゲルとしては、ＡＧＣエスアイテック社製、Ｄ−５０−１２０Ａ、Ｄ−７５−６０Ａ等を用いる。展開溶媒としては、非極性溶媒として旭硝子社製、アサヒクリンＡＫ−２２５、アサヒクリンＡＣ−２０００、アサヒクリンＡＣ−６０００等を用い、極性溶媒としてアサヒクリンＡＥ−３０００、酢酸エチル、アセトン、エタノール等を用いる。シリカゲルは、分画するものに対して５〜２０質量倍用いる。展開溶媒は、分画するものに対して２０〜１００体積倍用いる。分取されたもののうち、化合物（１６−１）、（１６−２）および化合物（１３−１）の存在比率は、ＮＭＲ、ＨＰＬＣ等の方法で判断する。【０１６８】
（例５−４）
テトラヒドロフラン中、化合物（１３−１）と金属ナトリウムとを充分に反応させた後に、下式（１２−１）で表される化合物（１２−１）を滴下する。下式で表される化合物（１５−１）、（１５−２）および化合物（１３−１）の混合物を得る。ただし、Ｐｈは、フェニル基である。化合物（１５−１）、（１５−２）は、含フッ素ポリエーテル化合物（Ｂ）として用いてもよい。
Ｐｈ−Ｉ  ・・・（１２−１）
ＰｈＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）７−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）４］−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ  ・・・（１５−１）
ＰｈＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）７−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）４］−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＰｈ  ・・・（１５−２）【０１６９】
混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィで分画精製することにより目的とする化合物（１５−１）を得る。シリカゲルとしては、ＡＧＣエスアイテック社製、Ｄ−５０−１２０Ａ、Ｄ−７５−６０Ａ等を用いる。展開溶媒としては、非極性溶媒として旭硝子社製、アサヒクリンＡＫ−２２５、アサヒクリンＡＣ−２０００、アサヒクリンＡＣ−６０００等を用い、極性溶媒としてアサヒクリンＡＥ−３０００、酢酸エチル、アセトン、エタノール等を用いる。シリカゲルは、分画するものに対して５〜２０質量倍用いる。展開溶媒は、分画するものに対して２０〜１００体積倍用いる。分取されたもののうち、化合物（１５−１）、（１５−２）および化合物（１３−１）の存在比率は、ＮＭＲ、ＨＰＬＣ等の方法で判断する。【０１７０】
（例５−５）
化合物（３−１）、トリエチルアミン、アセトニトリルを撹拌しながら、メシルクロリドを加える。ＮＭＲで化合物（３−１）が消費されていることを確認した後に、水で有機相を洗浄し、得られた有機相の溶媒を留去することによって、下式（１８−１）で表される化合物（１８−１）を得る。
ＨＯ−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＨ  ・・・（３−１）
ＣＨ３ＳＯ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−ＳＯ２ＣＨ３  ・・・（１８−１）【０１７１】
（例５−６）
テトラヒドロフラン中、化合物（１５−１）と金属ナトリウムとを充分に反応させた後に、化合物（１８−１）に滴下する。ＮＭＲで化合物（１８−１）が消費されていることを確認した後に、０．１Ｎの塩酸で有機相を洗浄し、得られた有機相の溶媒を留去することによって、下式で表される化合物（１９−１）、（Ａ６１−１）および化合物（１８−１）の混合物を得る。
ＰｈＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）７−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）４］−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−ＳＯ２ＣＨ３  ・・・（１９−１）
ＰｈＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）７−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）４］−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−［（ＯＣＦ２ＣＦ２）７−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）４］−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＰｈ  ・・・（Ａ６１−１）【０１７２】
混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィで分画精製することにより目的とする化合物（１９−１）、（Ａ６１−１）を得る。シリカゲルとしては、ＡＧＣエスアイテック社製、Ｄ−５０−１２０Ａ、Ｄ−７５−６０Ａ等を用いる。展開溶媒としては、非極性溶媒として旭硝子社製、アサヒクリンＡＫ−２２５、アサヒクリンＡＣ−２０００、アサヒクリンＡＣ−６０００等を用い、極性溶媒としてアサヒクリンＡＥ−３０００、酢酸エチル、アセトン、エタノール等を用いる。シリカゲルは、分画するものに対して５〜２０質量倍用いる。展開溶媒は、分画するものに対して２０〜１００体積倍用いる。分取されたもののうち、化合物（１９−１）、（Ａ６１−１）および化合物（１８−１）の存在比率は、ＮＭＲ、ＨＰＬＣ等の方法で判断する。【０１７３】
（例５−７）
テトラヒドロフラン中、化合物（１６−１）と金属ナトリウムとを充分に反応させた後に、化合物（１９−１）に滴下する。下式（Ａ６２−１）で表される化合物（Ａ６２−１）を得る。
ＰｈＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）７−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）４］−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−［（ＯＣＦ２ＣＦ２）７−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）４］−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ３  ・・・（Ａ６２−１）【０１７４】
〔例６〕
（例６−１）
３００ｍＬの三つ口フラスコに環流管を取りつけ、化合物（１５−１）の０．３モル、金属ナトリウムの０．３３モル、脱水したテトラヒドロフランの１００ｍＬを加え、金属ナトリウムが消費されるまで７０℃で撹拌を続ける。金属ナトリウウムが消失された後、ホスホニトリルクロリドのシクロトリマーの０．１モルを添加し、同様に７０℃で反応させ、ＮＭＲで化合物（１５−１）の消費を確認し、反応を終了する。反応終了後はアサヒクリンＡＫ−２２５（旭硝子社製）の５０ｇ、０．１Ｎ塩酸の５０ｇを添加し、よく撹拌した後に、有機相のみを取り出す。再度、０．１Ｎ塩酸の５０ｇを添加し、有機相を洗浄した後に、有機相を取り出し、溶媒を留去して下式（２０−１）で表される化合物（２０−１）の混合物を得る。
｛ＰｈＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）７−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）４］−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２Ｏ｝ｍ１−Ｐ３Ｎ３−（Ｃｌ）ｎ１  ・・・（２０−１）【０１７５】
（例６−２）
３００ｍＬの三つ口フラスコに環流管を取りつけ、化合物（１６−１）の０．３モルと金属ナトリウムの０．３３モル、脱水したテトラヒドロフランの１００ｍＬを加え、金属ナトリウムが消費されるまで７０℃で撹拌を続ける。金属ナトリウウムが消失された後、化合物（２０−１）の混合物を添加し、同様に７０℃で反応させ、ＮＭＲで化合物（２０−１）の消費を確認し、反応を終了する。反応終了後はアサヒクリンＡＫ−２２５（旭硝子社製）の５０ｇ、０．１Ｎ塩酸の５０ｇを添加し、よく撹拌した後に、有機相のみを取り出す。再度、０．１Ｎ塩酸の５０ｇを添加し、有機相を洗浄した後に、有機相を取り出し、溶媒を留去して下式（Ａ６３−１）で表される化合物（Ａ６３−１）の混合物を得る。
｛ＰｈＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）７−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）４］−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２Ｏ｝ｍ１−Ｐ３Ｎ３−｛ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−［（ＯＣＦ２ＣＦ２）７−（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）４］−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ３｝ｎ１  ・・・（Ａ６３−１）【０１７６】
〔例７〕
（例７−１）
下式（２１−１）で表される化合物（２１−１）（日油社製、ポリセリン（登録商標）ＤＣ−１１００、（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位と（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）単位とはランダムに配置されている。）にフッ化ナトリウムを加え、充分に撹拌し、下式（５−２）で表される化合物（５−２）を滴下した後に、室温で充分に反応させる。化合物（２１−１）が消費されたことをＮＭＲで確認した後に、加圧ろ過器でフッ化ナトリウムを除去し、過剰の化合物（５−２）を減圧留去し、下式（２２−１）で表される化合物（２２−１）を得る。
ＨＯ−［（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）１５−（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）５］−Ｈ  ・・・（２１−１）
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）Ｃ（Ｏ）Ｆ  ・・・（５−２）
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）Ｃ（Ｏ）Ｏ−［（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）１５−（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）５］−Ｃ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２（ＣＦ３）ＣＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３  ・・・（２２−１）【０１７７】
（例７−２）
オートクレーブ（ニッケル製）にＲ−１１３（ＣＦ２ＣｌＣＦＣｌ２）を投入し、窒素ガスを２５℃で１時間吹き込んだ後、２０％フッ素ガスを２５℃で１時間吹き込む。２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込んだ状態で、化合物（２２−１）をＲ−１１３に希釈して、連続的にフィードする。フィードが完了した時点で、内圧を０．１５ＭＰａ（ゲージ圧）まで加圧し、２５℃から４０℃に加熱して撹拌する。ＮＭＲで水素原子が残存していないことを確認した後に、窒素ガスを２５℃で１時間吹き込んで反応を終了する。得られた反応溶液から溶媒を留去することで、下式（２３−１）で表される化合物（２３−１）を得る。
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）Ｃ（Ｏ）Ｏ−［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）１５−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）５］−Ｃ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２（ＣＦ３）ＣＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３  ・・・（２３−１）【０１７８】
（例７−３）
化合物（２３−１）を氷浴で冷却しながら撹拌し、窒素雰囲気下、メタノールをゆっくり滴下した後に、窒素でバブリングしながら１２時間撹拌する。ＮＭＲで化合物（２３−１）の消費を確認した後に、反応溶液から溶媒を留去することで、下式で表される化合物（２４−１ｉ）〜（２４−１ｉｉｉ）の混合物を得る。化合物（２４−１ｉ）〜（２４−１ｉｉｉ）は、含フッ素ポリエーテル化合物（Ｂ）として用いてもよい。
ＣＨ３ＯＣ（Ｏ）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）１５−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）３］−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ３  ・・・（２４−１ｉ）
ＣＨ３ＯＣ（Ｏ）ＣＦ２−Ｏ−［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）１４−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）４］−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ３  ・・・（２４−１ｉｉ）
ＣＨ３ＯＣ（Ｏ）ＣＦ２−Ｏ−［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）１３−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）５］−ＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ３  ・・・（２４−１ｉｉｉ）【０１７９】
（例７−４）
反応器にエタノール、リチウムクロリド、化合物（２４−１ｉ）〜（２４−１ｉｉｉ）の混合物を入れ、氷浴で冷却しながら撹拌し、窒素雰囲気下、水素化ホウ素ナトリウム粉末をエタノールに分散させたものを滴下する。全量滴下した後、室温までゆっくり昇温し撹拌を続ける。ＮＭＲで化合物（２４−１ｉ）〜（２４−１ｉｉｉ）が消費されていることを確認した後に、再び氷浴で冷却し、液性が酸性になるまで０．１Ｎの塩酸およびアサヒクリンＡＫ−２２５を添加し、有機相を回収する。再び水で２回洗浄した後に有機相を回収する。回収した有機相から溶媒を留去することで化合物（１３ａ−１ｉ）〜（１３ａ−１ｉｉｉ）の混合物を得る。化合物（１３ａ−１ｉ）〜（１３ａ−１ｉｉｉ）は、含フッ素ポリエーテル化合物（Ｂ）として用いてもよい。
ＨＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）１５−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）３］−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ  ・・・（１３ａ−１ｉ）
ＨＯＣＨ２ＣＦ２−Ｏ−［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）１４−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）４］−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ  ・・・（１３ａ−１ｉｉ）
ＨＯＣＨ２ＣＦ２−Ｏ−［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）１３−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）５］−ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ  ・・・（１３ａ−１ｉｉｉ）【０１８０】
〔例８〕
（例８−１）
下式（２５−１）で表される化合物（２５−１）（日油社製、ＰＥＧ＃２００）および下式（２６−１）で表される化合物（２６−１）（日油社製、ユニオール（登録商標）ＰＢ−５００）を用意する。
ＨＯ−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）４−Ｈ  ・・・（２５−１）
ＨＯ−（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）７−Ｈ  ・・・（２６−１）【０１８１】
化合物（２５−１）または化合物（２６−１）、トリエチルアミン、アセトニトリルを撹拌しながら、２当量以上のメシルクロリドを加える。ＮＭＲで化合物（２５−１）または化合物（２６−１）が消費されていることを確認した後に、水で有機相を洗浄し、得られた有機相の溶媒を留去することによって、下式（２７−１）で表される化合物（２７−１）または下式（２８−１）で表される化合物（２８−１）を得る。
ＣＨ３ＳＯ２−Ｏ−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）４−ＳＯ２ＣＨ３  ・・・（２７−１）
ＣＨ３ＳＯ２−Ｏ−（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）７−ＳＯ２ＣＨ３  ・・・（２８−１）【０１８２】
（例８−２）
テトラヒドロフラン中、化合物（２６−１）と金属ナトリウムとを氷浴で冷却しながら充分に反応させた後に、化合物（２７−１）を滴下する。または、テトラヒドロフラン中、化合物（２５−１）と金属ナトリウムとを氷浴で冷却しながら充分に反応させた後に、化合物（２８−１）を滴下する。このとき、化合物（２６−１）または化合物（２５−１）のアルコキサイドは、滴下する化合物（２７−１）または化合物（２８−１）に対して大過剰量存在することが好ましく、化合物（２７−１）または化合物（２８−１）の滴下速度は反応に対して充分に遅いことが好ましい。ＮＭＲで化合物（２７−１）または化合物（２８−１）が消費されていることを確認した後に、０．１Ｎの塩酸で有機相を洗浄し、得られた有機相の溶媒を留去することによって、下式（２９−１ｉ）で表される化合物（２９−１ｉ）または下式（２９−１ｉｉ）で表される化合物（２９−１ｉｉ）を得る。
ＨＯ−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）４−（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）７−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）４−Ｈ  ・・・（２９−１ｉ）
ＨＯ−（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）７−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）４−（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）７−Ｈ  ・・・（２９−１ｉｉ）【０１８３】
（例８−３）
化合物（２９−１ｉ）または化合物（２９−１ｉｉ）にフッ化ナトリウムを加え、充分に撹拌し、化合物（５−２）を滴下した後に、室温で充分に反応させる。化合物（２９−１ｉ）または化合物（２９−１ｉｉ）が消費されたことをＮＭＲで確認した後に、加圧ろ過器でフッ化ナトリウムを除去し、過剰の化合物（５−２）を減圧留去し、下式（３０−１ｉ）で表される化合物（３０−１ｉ）または下式（３０−１ｉｉ）で表される化合物（３０−１ｉｉ）を得る。
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）Ｃ（Ｏ）Ｆ  ・・・（５−２）
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）４−（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）７−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）４−Ｃ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２（ＣＦ３）ＣＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３  ・・・（３０−１ｉ）
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）７−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）４−（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）７−Ｃ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２（ＣＦ３）ＣＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３  ・・・（３０−１ｉｉ）【０１８４】
（例８−４）
オートクレーブ（ニッケル製）にＲ−１１３（ＣＦ２ＣｌＣＦＣｌ２）を投入し、窒素ガスを２５℃で１時間吹き込んだ後、２０％フッ素ガスを２５℃で１時間吹き込む。２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込んだ状態で、化合物（３０−１ｉ）または化合物（３０−１ｉｉ）をＲ−１１３に希釈して、連続的にフィードする。フィードが完了した時点で、内圧を０．１５ＭＰａ（ゲージ圧）まで加圧し、２５℃から４０℃に加熱して撹拌する。ＮＭＲで水素原子が残存していないことを確認した後に、窒素ガスを２５℃で１時間吹き込んで反応を終了する。得られた反応溶液から溶媒を留去することで、下式（３１−１ｉ）で表される化合物（３１−１ｉ）または下式（３１−１ｉｉ）で表される化合物（３１−１ｉｉ）を得る。
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）４−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）７−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）４−Ｃ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２（ＣＦ３）ＣＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３  ・・・（３１−１ｉ）
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）７−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）４−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）７−Ｃ（Ｏ）ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２（ＣＦ３）ＣＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３  ・・・（３１−１ｉｉ）【０１８５】
（例８−５）
化合物（３１−１ｉ）または化合物（３１−１ｉｉ）を氷浴で冷却しながら撹拌し、窒素雰囲気下、メタノールをゆっくり滴下した後に、窒素でバブリングしながら１２時間撹拌する。ＮＭＲで化合物（３１−１ｉ）または化合物（３１−１ｉｉ）の消費を確認した後に、反応溶液から溶媒を留去することで、下式（３２−１ｉ）で表される化合物（３２−１ｉ）または下式（３２−１ｉｉ）で表される化合物（３２−１ｉｉ）を得る。化合物（３２−１ｉ）、（３２−１ｉｉ）は、含フッ素ポリエーテル化合物（Ｂ）として用いてもよい。
ＣＨ３ＯＣ（Ｏ）ＣＦ２−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）３−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）７−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）３−ＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ３  ・・・（３２−１ｉ）
ＣＨ３ＯＣ（Ｏ）ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）６−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）４−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）６−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ３  ・・・（３２−１ｉｉ）【０１８６】
（例８−６）
反応器にエタノール、リチウムクロリド、化合物（３２−１ｉ）または化合物（３２−１ｉｉ）を入れ、氷浴で冷却しながら撹拌し、窒素雰囲気下、水素化ホウ素ナトリウム粉末をエタノールに分散させたものを滴下する。全量滴下した後、室温までゆっくり昇温し撹拌を続ける。ＮＭＲで化合物（３２−１ｉ）または化合物（３２−１ｉｉ）が消費されていることを確認した後に、再び氷浴で冷却し、液性が酸性になるまで０．１Ｎの塩酸およびアサヒクリンＡＫ−２２５を添加し、有機相を回収する。再び水で２回洗浄した後に有機相を回収する。回収した有機層から溶媒を留去することで、下式（１３ｂ−１ｉ）で表される化合物（１３ｂ−１ｉ）または下式（１３ｂ−１ｉｉ）で表される化合物（１３ｂ−１ｉｉ）を得る。化合物（１３ｂ−１ｉ）、（１３ｂ−１ｉｉ）は、含フッ素ポリエーテル化合物（Ｂ）として用いてもよい。
ＨＯＣＨ２ＣＦ２−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）３−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）７−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）３−ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ  ・・・（１３ｂ−１ｉ）
ＨＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）６−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）４−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）６−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ  ・・・（１３ｂ−１ｉｉ）
【産業上の利用可能性】
【０１８７】
本発明の含フッ素ポリエーテル化合物は、表面改質剤（潤滑剤等）または界面活性剤として有用であり、磁気ディスクのダイヤモンド状炭素保護膜（ＤＬＣ膜）上に塗布されて潤滑性を付与する潤滑剤として特に有用である。
なお、２０１３年８月１３日に出願された日本特許出願２０１３−１６８１０３号の明細書、特許請求の範囲および要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。
【国際調査報告】
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