(57)【要約】高抵抗部の発生を防ぎ、電極の抵抗値のばらつきを無くす、もしくは抑制して、タッチパネルのセンサ感度を維持、若しくは向上させることができる導電性フィルム、及びこれを備える静電容量方式のタッチパネルセンサを提供する。導通電極の一方向に延在する予め設定された電極形状の両側の各エッジラインと交差する金属細線からなる複数の第１セルは、エッジラインからその外側に一定の距離離間した拡張エッジラインより内側にセルを構成する全ての頂点が含まれる複数の第２セルの個数割合が５０％以上である、閉じた状態の複数の第３セルを除いて、第１セルを構成する金属細線とエッジラインとの交差位置に断線部を有し、隣接するエッジラインと拡張エッジラインとの間にある複数の第３セルの頂点は端点であるか、又は当該頂点から直接拡張エッジラインに向かう金属細線は断線部を有し、一定の距離は、隣接するセルが内包される最小サイズの円の直径をメッシュサイズとして定義する場合、メッシュサイズの７％〜２０％の距離である導電性フィルム。
2016084449.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一方向に延在する複数の導通電極を有する透明電極層を備え、
前記導通電極は、金属細線による多角形の複数のセルにより構成され、
前記複数のセルは、ランダム形状であり、
前記導通電極は、前記一方向に延在する予め設定された電極形状を持ち、
前記複数のセルは、前記電極形状の両側の各エッジラインと交差する前記金属細線からなる複数の第１セルを有し、
前記複数の第１セルは、前記エッジラインからその外側に一定の距離離間した拡張エッジラインよりも内側に１つのセルを構成する前記金属細線の交点からなる前記多角形の全ての頂点が含まれ、該全ての頂点の内の少なくとも１つの頂点が隣接する前記エッジラインと前記拡張エッジラインとの間に含まれる複数の第２セルを有し、
前記複数の第２セルの中で、個数割合が５０％以上であって、閉じた状態の複数の第３セルを構成する前記金属細線を除いて、前記第１セルおよび前記第２セルを構成する金属細線と前記エッジラインとの交差位置に断線部を有し、
隣接する前記エッジラインと前記拡張エッジラインとの間にある前記複数の第３セルの各頂点は、前記拡張エッジラインに向かって伸び、途中に断線部を有する前記金属細線に接続されるか、他の第３セルの頂点に繋がる前記金属細線に接続されるか、又は端点であるかのいずれかであり、
前記一定の距離は、隣接する前記セルが内包される最小サイズの円の直径をメッシュサイズとして定義する場合、前記メッシュサイズの７％〜２０％の距離であることを特徴とする導電性フィルム。
【請求項２】
透明絶縁体である基体と、該基体に配置される第１電極を含む第１透明電極層、及び第２電極を含む第２透明電極層とを有し、
前記第１電極及び前記第２電極の少なくとも一方が、前記導通電極である請求項１に記載の導電性フィルム。
【請求項３】
前記第１電極の電極幅は、前記第２電極の電極幅より小さい請求項２に記載の導電性フィルム。
【請求項４】
前記第１電極は、前記導通電極であり、
前記第２電極は、前記金属細線による複数の多角形のランダム形状なセルにより構成され、前記一方向と直交する直交方向に延在する予め設定された前記電極形状を持ち、
前記電極形状の両側のエッジラインにかかる前記セルを構成する前記金属細線は、前記エッジラインとの交点に断線部を有する請求項２又は３に記載の導電性フィルム。
【請求項５】
前記第１電極は、前記基体の一方の側に配置され、前記第２電極は、前記基体の他方の側に配置される請求項２〜４のいずれか１項に記載の導電性フィルム。
【請求項６】
前記第１電極、及び前記第２電極は、前記基体の両側の面にそれぞれ形成される請求項２〜５のいずれか１項に記載の導電性フィルム。
【請求項７】
さらに、前記基体と異なる、透明絶縁体である第２基体を有し、
前記第１電極は、前記基体の一方の面に形成され、
前記第２電極は、前記第２の基体の一方の面に形成され、かつ前記基体の他方の面の側に配置される請求項２〜５のいずれか１項に記載の導電性フィルム。
【請求項８】
前記第１電極、及び前記第２電極は、前記基体の片側に絶縁層を介してそれぞれ形成される請求項２〜４のいずれか１項に記載の導電性フィルム。
【請求項９】
前記エッジラインと前記拡張エッジラインとの間の前記一定の距離は、２０μｍ〜１２０μｍである請求項１〜８のいずれか１項に記載の導電性フィルム。
【請求項１０】
前記透明電極層は、前記導通電極に加え、さらに、前記金属細線による複数の多角形のランダムなセルにより構成され、前記一方向に延在する予め設定された電極形状を持ち、前記導通電極と前記断線部によって電気的に絶縁されたダミー電極を有する請求項１〜９のいずれか１項に記載の導電性フィルム。
【請求項１１】
前記透明電極層は、複数の前記導通電極と、複数のダミー電極とを交互に備え、
前記導通電極は、少なくともその内部に前記導通電極と電気的に分離された非導通部を備え、
前記導通電極の面積Ａと、前記非導通部の面積Ｂとが、下記式を満足する請求項１０に記載の導電性フィルム。
５％＜（Ｂ／（Ａ＋Ｂ））×１００＜９７％
【請求項１２】
前記第１電極は、前記第２電極よりも観察側に配置される請求項２〜１１のいずれか１項に記載の導電性フィルム。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載の導電性フィルムを用いたタッチパネルセンサ。
【請求項１４】
スタイラスペンを使用して操作される請求項１３に記載のタッチパネルセンサ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、導電性フィルム、及びこれを備えるタッチパネルセンサに係る。詳しくは、複数の金属細線による複数のセルが組み合わさって構成された２つの電極パターンの少なくとも一方が不規則性を付与したセルにより構成されたランダムパターンである導電性フィルム、及びこれを備えるタッチパネルセンサに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、タッチパネルディスプレイ等において、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透明導電材料からなる帯状の電極パターン、又は銀や銅等の金属細線からなるメッシュ状電極パーンを持つ２層構造の検出電極を備える導電性フィルムにより構成された静電容量方式等のタッチパネルセンサが利用されている（例えば、特許文献１及び２参照）。【０００３】
特許文献１は、ディスプレイパネルの画素の周期的配列との干渉によるモアレを生じない特定の非周期的なランダムメッシュパターンからなる導電体メッシュを有するタッチパネル用電極基材、これを、絶縁層を介して２層に用いたタッチパネル及び画像表示装置を開示している。
特許文献１に開示の技術では、導電体メッシュが透明導電膜として機能してタッチパネルに必要な透明性及び導電性が確保された上で、この導電体メッシュのメッシュパターンが、一つの分岐点から延びる境界線分の数の平均値Ｎが、３．０≦Ｎ＜４．０であり、かつ、周囲を囲繞する境界線分の数が同一の開口領域の形状は一定でない特定の非周期的パターンであるために、ディスプレイパネルの画素の周期的配列との干渉によるモアレが発生しないとしている。【０００４】
一方、特許文献２には、上部電極層の複数のセンサ電極が導電性細線の格子からなるメッシュ形状であり、格子の細線の方向が、センサ電極の配置方向に対し３０°〜６０°の傾斜角を有し、上部電極のメッシュ状導電性細線を断線除去することにより隣り合うセンサ電極間に形成された非導電性の帯状境界域の幅は、センサ電極の延出方向に１０μｍ〜１００μｍの間でランダムに変化し、その幅の平均値が１５μｍ〜７０μｍである静電容量方式タッチパネルを開示している。
特許文献２に開示の技術では、干渉縞が防止でき、視認しやすい画像が得られ、大面積にしても応答性に優れ、マルチタッチが可能なタッチパネルを提供することができるとしている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１３−６９２６１号公報
【特許文献２】特開２０１２−９４１１５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、特許文献１に開示の技術では、ディスプレイパネルの画素の周期的配列との干渉によるモアレの発生の抑制が目的である。この技術では、ランダムメッシュパターンを持つ四角形又は菱形形状の複数の単位電極を、その角部分で１方向に連結して形成される電極パターンを用いている。このため、電極パターンの両側の各エッジラインは、１方向に連結される複数の単位電極の片側の２辺のエッジを連結したものとして形成され、電極パターンの幅は、隣接する単位電極の連結部分は細く、単位電極の中央では広いことから変動している。
しかし、特許文献１は、開口領域（セル）を構成する境界線分の分岐点（交点）の位置に対する単位電極のエッジの設定について開示していない。【０００７】
また、特許文献２に開示の技術では、上部電極の隣り合うセンサ電極間にメッシュ状導電性細線を除去することにより形成された非導電性の帯状境界域の幅が、センサ電極の延出方向にランダムに変化しているが、境界域をメッシュの交点に対してどのような位置に設定するのが良いかは示されていない。【０００８】
なお、金属細線メッシュにより構成される導電性フィルムにおいて、ランダムなセル、例えばサイズの異なる複数の多角形セルを用いて電極を構成した場合、図１０（Ａ）及び（Ｂ）に示すように、電極形状のエッジライン５２に合わせてランダム配線パターン４８のセル４６を形成する金属細線４０に断線部５４を入れて、ダミー電極１０２を電気的に分離して導通電極１００を形成する。こうすると、セル４６を構成する金属細線４０の交点（セル４６の多角形の頂点）５８の位置によっては、交点５８の内側で断線されることになる。このような交点５８を持つセル４６は、開放されたセル４６となるため、抵抗が高い部分が発生し、電極の抵抗値にばらつきが生じるという問題が生じやすいことがわかった。
また、特許文献１及び２に開示のように、電極幅が広くできる場合には、電極幅を広げて対応することによって、金属細線による電極において、金属細線の交点の数を所定数確保することができるので、開放されたセルがあってもその影響を無くす、若しくは抑制することが可能であるが、電極幅の設計自由度が無くなるという課題が生じる。【０００９】
本発明は、上記従来技術の問題点を解消し、金属細線の交点の数が抵抗値を左右する金属細線による電極において、予め設定された電極形状のエッジライン上の金属細線に断線部が設けられ、予め設定された電極領域が設けられる際に、設計上のエッジラインの外側に所定幅の柔軟な領域（拡張エッジライン）を設定して、この柔軟な領域の範囲内に交点があり、拡張エッジラインの内側にセル全体が含まれて閉じたセルとなる場合には、エッジライン上の金属細線に断線部を設けずに、交点を設計上の電極領域に接続させて閉じたセルのままにしておくことにより、高抵抗部の発生を防ぎ、電極の抵抗値のばらつきを無くす、もしくは抑制して、タッチパネルのセンサ感度を維持、若しくは向上させることができる導電性フィルム、及びこれを備える静電容量方式のタッチパネルセンサを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成するために、本発明の第１の態様に係る導電性フィルムは、一方向に延在する複数の導通電極を有する透明電極層を備え、導通電極は、金属細線による多角形の複数のセルにより構成され、複数のセルは、ランダム形状であり、導通電極は、一方向に延在する予め設定された電極形状を持ち、複数のセルは、電極形状の両側の各エッジラインと交差する金属細線からなる複数の第１セルを有し、複数の第１セルは、エッジラインからその外側に一定の距離離間した拡張エッジラインよりも内側に１つのセルを構成する金属細線の交点からなる多角形の全ての頂点が含まれ、全ての頂点の内の少なくとも１つの頂点が隣接するエッジラインと拡張エッジラインとの間に含まれる複数の第２セルを有し、複数の第２セルの中で、個数割合が５０％以上であって、閉じた状態の複数の第３セルを構成する金属細線を除いて、第１セル及び第２のセルを構成する金属細線とエッジラインとの交差位置に断線部を有し、隣接するエッジラインと拡張エッジラインとの間にある複数の第３セルの各頂点は、拡張エッジラインに向かって伸び、途中に断線部を有する金属細線に接続されるか、他の第３セルの頂点に繋がる金属細線に接続されるか、又は端点であるかのいずれかであり、一定の距離は、隣接するセルが内包される最小サイズの円の直径をメッシュサイズとして定義する場合、メッシュサイズの７％〜２０％の距離であることを特徴とする。【００１１】
ここで、透明絶縁体である基体と、基体に配置される第１電極を含む第１透明電極層、及び第２電極を含む第２透明電極層とを有し、第１電極、及び第２電極の少なくとも一方が、導通電極であることが好ましい。
また、第１電極の電極幅は、第２電極の電極幅より小さいことが好ましい。
また、第１電極は、導通電極であり、第２電極は、金属細線による複数の多角形のランダム形状なセルにより構成され、一方向と直交する直交方向に延在する予め設定された電極形状を持ち、電極形状の両側のエッジラインにかかるセルを構成する金属細線は、エッジラインとの交点に断線部を有することが好ましい。【００１２】
また、第１電極は、基体の一方の側に配置され、第２電極は、基体の他方の側に配置されることが好ましい。
また、第１電極、及び第２電極は、基体の両側の面にそれぞれ形成されることが好ましい。
また、さらに、基体と異なる、透明絶縁体である第２基体を有し、第１電極は、基体の一方の面に形成され、第２電極は、第２の基体の一方の面に形成され、かつ基体の他方の面の側に配置されることが好ましい。
また、第１電極、及び第２電極は、基体の片側に絶縁層を介してそれぞれ形成されることが好ましい。【００１３】
また、エッジラインにかかるセルを構成する金属細線は、セルの多角形の頂点を構成する金属細線の交点がエッジラインからその外側に２０μｍ離間する範囲以内にあるセルを構成する金属細線を除いて、エッジラインとの交点に断線部を有することが好ましい。
また、透明電極層は、導通電極に加え、さらに、金属細線による複数の多角形のランダムなセルにより構成され、一方向に延在する予め設定された電極形状を持ち、導通電極と断線部によって電気的に絶縁されたダミー電極を有することが好ましい。【００１４】
また、透明電極層は、複数の導通電極と、複数のダミー電極とを交互に備え、導通電極は、少なくともその内部に導通電極と電気的に分離された非導通部を備え、導通電極の面積Ａと、非導通部の面積Ｂとが、下記式を満足することが好ましい。
５％＜（Ｂ／（Ａ＋Ｂ））×１００＜９７％
また、導通電極の面積Ａと、非導通部の面積Ｂとが、下記式を満足することがより好ましい。
１０％≦（Ｂ／（Ａ＋Ｂ））×１００≦８０％
また、導通電極の面積Ａと非導通部の面積Ｂとが、下記式を満足することがさらに好ましい。
１０％≦（Ｂ／（Ａ＋Ｂ））×１００≦６０％【００１５】
また、非導通部は、第１方向に延在するスリット状であり、導通電極は、非導通部により分割される複数の副導通電極列を有し、複数の副導通電極列の面積Ａ１と非導通部の面積Ｂ１とが、下記式を満足することが好ましい。
４０％≦（Ｂ１／（Ａ１+Ｂ１））×１００≦６０％
また、複数の副導通電極列の幅の合計幅をＷａと、導通電極を分割する全ての非導通部の幅の合計とダミー電極の幅との合計をＷｂとが、下記式を満足することが好ましい。
Ｗａ≦（Ｗａ＋Ｗｂ）／２
また、複数の副導通電極列の幅の合計幅をＷａと、導通電極を分割する全ての非導通部の幅の合計とダミー電極の幅との合計をＷｂとが、下記式を満足することが好ましい。
１．０ｍｍ≦Ｗａ≦５．０ｍｍ
１．５ｍｍ≦Ｗｂ≦５．０ｍｍ【００１６】
また、予め設定された電極形状の両側に存在する全ての断線部の内側の点をそれぞれ片側ずつ接続した２つの接続線の中心の回帰直線を近似中心線とし、各接続線を一定の距離を線幅とする直線と見做して、各接続線を、それぞれがメッシュサイズの５倍以上の長さを持つ、近似中心線に平行な１以上の平行線分領域及び近似中心線に対して傾斜した１以上の傾斜線分領域の少なくとも一方に分類する時、予め設定された電極形状の片側のエッジラインは、当該片側の接続線において、平行線分領域では、平行線分領域内の接続線を構成する全ての断線部の内側の点の回帰直線より中心側にある平行線分領域内の２以上の断線部の内側の点を用いて生成される、近似中心線に平行な平行線分、及び、傾斜線分領域では、傾斜線分領域内の接続線を構成する全ての断線部の内側の点の回帰直線より中心側にある傾斜線分領域内の２以上の断線部の内側の点を用いて生成される、近似中心線に対して同じ角度で傾斜する傾斜線分の少なくとも一方からなることが好ましい。
また、第１電極は、第２電極よりも観察側に配置されることが好ましい。【００１７】
また、上記目的を達成するために、本発明の第２の態様に係るタッチパネルセンサは、上記第１の態様に係る導電性フィルムを用いたものである。
さらに、導電性フィルムの透明電極層が配置される基体から遠い導電性フィルムの表面側からの接触位置又は近接位置を検出する検出制御部と、を備えることが好ましい。
ここで、第１電極は、第２電極よりも、導電性フィルムの、基体から遠い表面側に配置されることが好ましい。
また、スタイラスペンを使用して操作されることが好ましい。
【発明の効果】
【００１８】
以上説明したように、本発明によれば、閉じたセルを構成する金属細線の交点の数が抵抗値を左右する金属細線による電極において、予め設定された（設計上の）電極形状のエッジライン上の金属細線に断線部が設けられ、予め設定された（設計上の）電極エリア（領域）が設けられる際に、設計上のエッジラインの外側に拡張エッジラインを設定し、所定幅の柔軟なエリア（領域）を設定して、そのエリアの範囲内に交点があり、拡張エッジラインの内側にセル全体が含まれて閉じたセルとなる場合には、エッジライン上の金属細線に断線部を設けずに、交点を設計上の電極エリアに接続させて閉じたセルのままにしておくことにより、高抵抗部の発生を防ぎ、電極の抵抗値のばらつきを無くす、もしくは抑制して、タッチパネルのセンサ感度を維持、若しくは向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の一実施形態に係る導電性フィルムを有するタッチパネルセンサの一例を模式的に示す平面図である。
【図２】図１に示すタッチパネルセンサに用いられる導電性フィルムの一例の模式的断面図である。
【図３】（Ａ）及び（Ｂ）は、図１に示す導電性フィルムに用いられる導通電極の一例を模式的に示す平面図及びその部分拡大図である。
【図４】（Ａ）及び（Ｂ）は、図１に示す導電性フィルムに用いられる導通電極の他の例を模式的に示す平面図及びその部分拡大図である。
【図５】本発明の他の実施形態に係る導電性フィルムの他の一例の模式的断面図である。
【図６】本発明の他の実施形態に係る導電性フィルムの一例を模式的に示す平面図である。
【図７】図６に示す導電性フィルムの観察側の電極の構成を模式的に示す平面図である。
【図８】図６に示す導電性フィルムの観察側と逆側の電極の構成を模式的に示す平面図である。
【図９】本発明の実施例において用いられた導通電極の模式的平面図である。
【図１０】（Ａ）及び（Ｂ）は、従来の導電性フィルムに用いられる導通電極を模式的に示す平面図及びその部分拡大図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下に、本発明に係る導電性フィルム、及びこれを備えるタッチパネルセンサを添付の図面に示す好適な実施形態を参照して詳細に説明する。
以下では、本発明に係る導電性フィルムについては、タッチパネルセンサ用導電性フィルムを代表例として説明するが、本発明はこれに限定されず、透明な絶縁体である基体（透明絶縁性基体）の両側に配置される、もしくは片側に絶縁層を介して配置される第１及び第２電極の両電極パターンの内、少なくとも一方が、不規則性が付与された多角形セル（開口部）の電極パターンを持つ導電性フィルムであれば、どのようなものでも良い。
【００２１】
なお、本発明に係る導電性フィルムとしては、例えば、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ：Liquid Crystal Display）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ：Plasma Display Panel）、有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）（ＯＥＬ：Organic Electro-Luminescence）を利用した有機ＥＬ（発光）ダイオード（ＯＬＥＤ：Organic Light Emitting Diode）や有機ＥＬディスプレイ（ＯＥＬＤ：Organic Electro-Luminescence Display）、無機ＥＬ（Electro-Luminescence）ディスプレイ、電子ペーパ等の表示装置の表示パネル上に設置してタッチパネルセンサとして用いられる導電性フィルム等を挙げることができる。
【００２２】
（静電容量式タッチパネルセンサ）
図１は、本発明の第１実施形態に係る導電性フィルムを有するタッチパネルセンサの一例を模式的に示す平面図であり、図２は、図１に示すタッチパネルセンサに用いられる本発明の第１実施形態に係る導電性フィルムの一例の模式的断面図であり、図３（Ａ）及び（Ｂ）は、図２に示す導電性フィルムに用いられるランダム電極パターンの一例を模式的に示す平面図及びその部分拡大図である。
【００２３】
図１に示すタッチパネルセンサ１０は、上述したように、表示装置（図示せず）の表示画面上（操作者側）に配置され、人間の指などの外部導体が接触、又は近接するときに発生する静電容量の変化を利用して、人間の指などの外部導体の位置を検出するセンサである。このため、タッチパネルセンサ１０は、表示パネルにより表示される画像を認識するために透明である。また、表示装置は、動画等を含めて所定の画像を画面に表示することができれば、特に限定されるものではない。
なお、本発明のタッチパネルセンサ１０では、外部導体として、人間の指などの代わりに、スタイラスペンを使用して接触を行っても良い。
【００２４】
タッチパネルセンサ１０は、透明電極層を備え、センサ部を構成する本発明の導電性フィルム１２と、コントローラ１４と、導電性フィルム１２とコントローラ１４とを接続するＦＰＣ（フレキシブル配線基板）１６とを有する。
タッチパネルセンサ１０の導電性フィルム１２におけるセンサ部の構成は、特に制限されないが、通常、２層構造の検出電極（例えば、図１中ｘ方向に延びる複数の第１検出電極２０及び図１中ｙ方向に延びる複数の第２検出電極３０）を有し、指等の物体が接触又は近接した２層構造の検出電極間の静電容量変化を検出し、ＩＣ制御回路等からなるコントローラ１４により指等の物体の位置座標を算出し、特定する。コントローラ１４は、導電性フィルム１２の外部機器であり、導電フィルム１２の主面側（操作側、観察側）からの接触位置又は近接位置を検出する検出制御部を構成するもので、例えば静電容量式のタッチパネルセンサの位置検出に利用される公知のものを用いることができる。
【００２５】
図１に示すように、導電性フィルム１２においては、基体１８上に一方向（図示例ではＸ方向）に伸びる第１検出電極２０が、Ｘ方向に直交するＹ方向に間隔を設けて複数（図示例では７本）配置されており、一方、他の一方向（図示例ではＹ方向）に伸びる第２検出電極３０が、Ｘ方向に間隔を設けて複数（図示例では１０本）配置されている。このように、互いに直交するように配置される複数の第１検出電極２０及び複数の第２検出電極３０は、指等の物体（以下、指により代表する）の接触又は近接（以下、接触により代表する）を検知可能な検出領域を形成する。
この検出領域は、図１には示されていないが、複数の第１検出電極２０と、複数の第２検出電極３０と、この両者の間に介在する基体１８（図２参照）とによって透明電極層として構成される。第１検出電極２０は、基体１８の観察側の面に配置され、第２検出電極３０は、基体１８の観察側と反対側の面、即ち第１検出電極が形成された面とは反対側の面に配置される。
【００２６】
なお、図示例においては、７本の第１検出電極２０及び１０本の第２検出電極３０によって検出領域を形成しているが、検出領域を形成する第１検出電極２０及び第２検出電極３０の数は、特に制限されず、検出精度や検出感度の必要性能に応じて適宜設定すればよい。
また、図１には示されていないが、モアレの視認の抑制の点から、Ｙ方向に間隔を設けて隣接する２つの第１検出電極２０の間には、第１検出電極２０と電気的に接続されていないダミー電極２８（図２参照）が設けられていることが好ましい。同様に、図１には示されていないが、モアレの視認の抑制の点からは、Ｘ方向に間隔を設けて隣接する２つの第２検出電極３０の間には、第２検出電極３０と電気的に接続されていないダミー電極３８（図２参照）が設けられていることが好ましい。
なお、本発明においては、第１検出電極２０及び第２検出電極３０は、電気的に接続されていないダミー電極２８及び３８を含まない電極を指すものとする。
【００２７】
複数の第１検出電極２０は、それぞれ、その一端において第１の端子部２２を有し、第１の端子部２２によって、それぞれ複数の第１引出配線２４と電気的に接続されている。複数の第１引出配線２４は、ＦＰＣ１６に電気的に接続されている。ＦＰＣ１６は、コントローラ１４に電気的に接続されている。
第１検出電極２０は、検出領域に接近した使用者の指のＹ方向における入力位置の検出を行う役割を有するものである。
【００２８】
複数の第２検出電極３０は、それぞれ、その一端において第２の端子部３２を有し、第２の端子部３２によって、それぞれ複数の第２引出配線３４と電気的に接続されている。複数の第２引出配線３４は、ＦＰＣ１６に電気的に接続されている。
第２検出電極３０は、検出領域に接近した使用者の指のＸ方向における入力位置の検出を行う役割を有するものである。
【００２９】
なお、複数の第１引出配線２４及び複数の第２引出配線３４は、導電性フィルム１２の検出領域以外の領域に形成される。
図示例においては、第１検出電極２０及び第２検出電極３０は、いずれも模式的に帯状に示されているが、その具体的な構成については、後に詳細に説明する。
【００３０】
図２は、図１に示すタッチパネルセンサ１０の導電性フィルム１２において、第１検出電極２０と第２検出電極３０とが直交して重なっている領域の部分断面図である。
この領域において、導電性フィルム１２は、図２に示すように、透明な絶縁体である基体（透明絶縁性基体）１８と、基体１８の表面（主面側の面）１８ａに複数の金属細線４０によって形成される第１検出電極２０及びダミー電極２８を有する第１電極層２６と、第１電極層２６の第１検出電極２０及びダミー電極２８の表面（主面側の面）を覆うように接着層４１を介して設けられる保護層４２と、基体１８の裏面（主面と逆側の面）１８ｂに複数の金属細線４０によって形成される第２検出電極３０及びダミー電極３８を有する第２電極層３６と、第２電極層３６の第２検出電極３０及びダミー電極２８の表面（主面と逆側の面）を覆うように接着層４３を介して設けられる保護層４４とを有する。
【００３１】
このように、第１検出電極２０及び第２検出電極３０は、基体１８の両側にそれぞれ配置され、いずれも金属細線４０により構成されており、いずれもタッチパネルセンサ１０において指の接触位置を検出する検出電極として機能するものである。
１つの基体１８の両面に、それぞれ第１検出電極２０及び第２検出電極３０を形成することにより、基体１８が収縮しても第１検出電極２０と第２検出電極３０との位置関係のズレを小さくすることができる。
また、第１電極層２６には、隣接する第１検出電極２０間を埋めるようにダミー電極２８が設けられ、第２電極層３６には、隣接する第２検出電極３０間を埋めるようにダミー電極３８が設けられているので、金属細線の場所による密度差を無くし、細線の可視性を低減することができる。
なお、本発明においては、第１電極層２６を第１検出電極２０のみで構成し、第２電極層３６を第２検出電極３０のみで構成し、ダミー電極２８及び３８を設けなくでも良い。
【００３２】
基体１８は、第１検出電極２０及びダミー電極２８並びに第２検出電極３０及びダミー電極３８を支持するものであり、透明な電気絶縁材料により構成されることが好ましい。基体１８は、透明であり、かつ可撓性を有することが好ましい。基体１８は、例えば、プラスチックフィルム、プラスチック板、ガラス板等を用いることができる。プラスチックフィルム及びプラスチック板は、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル類、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン、エチレンビニルアセテート（ＥＶＡ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、シクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ）等のポリオレフィン類、ビニル系樹脂、その他、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等により構成することができる。基体１８としては、光透過性、熱収縮性、及び加工性等の観点から、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、シクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ）等のポリオレフィン類により構成することが好ましい。
【００３３】
基体１８としては、大気圧プラズマ処理、コロナ放電処理、及び紫外線照射処理の内、少なくとも１つの処理が施された処理済支持体を用いることもできる。上述の処理が施されることにより、処理済支持体表面にはＯＨ基等の親水性基が導入され、第１検出電極２０、第２検出電極３０、及びダミー電極２８、３８との密着性がより向上する。上述の処理の中でも、第１検出電極２０、第２検出電極３０、及びダミー電極２８、３８との密着性がより向上する点で、大気圧プラズマ処理が好ましい。
【００３４】
第１検出電極２０及び第２検出電極３０は、図２に示すように、それぞれ、第１及び第２電極層２６及び３６において、複数の金属細線４０により形成されるものであり、それぞれ電気的に接続されているものである。
第１検出電極２０及び第２検出電極３０は、図３（Ａ）及びその部分拡大図である図３（Ｂ）に平面視で示すように、それぞれ、複数の金属細線４０によりメッシュ状に形成される複数の多角形、図示例では菱形のセル（開口部）４６が組み合わさって構成され、セル４６の形状が多角形、例えば、形状及びサイズの少なくとも一方が異なる多角形、図示例ではサイズの異なる菱形であり、電気的に接続されたランダム電極パターン４８を有する導通電極５０を用いて構成される。
【００３５】
図３（Ａ）及び（Ｂ）に示す導通電極５０は、本発明の特徴とする導電電極であって、本発明の導電性フィルムに用いられるランダム電極パターン４８を構成する金属細線４０を、導通電極５０の電極形状に対応させて部分的に電極形状のエッジライン５２の外側で断線して断線部５４を設けることにより電極形状から突出する閉じたセル４６を含む一部拡張されたセル構造を持つ導電電極として形成されたものである。なお、その結果、導通電極５０の両外側には、断線部５４によって導通電極５０と電気的に分離されているダミー電極５６が設けられる。これらのダミー電極５６は、第１検出電極２０及び第２検出電極３０を構成する導通電極５０と同様のランダム電極パターン４８を持つものであるが、図２に示すダミー電極２８及び３８を構成することができるものである。
【００３６】
図３（Ａ）及び（Ｂ）に示す導通電極５０の電極形状は、一方向に延在する予め設定された帯状形状であり、所定電極幅を持つ設計上の電極形状であり、その両側に予め設定された設計上のイメージラインである平行な直線からなるエッジライン５２が規定される。
図示例の導通電極５０においては、電極形状のエッジライン５２からその外側に所定の一定距離、図示例では４０μｍ離間した位置に拡張エッジライン５３を設定する。
本発明では、エッジライン５２と交差する金属細線４０を１つの構成要素として持つ複数のセル４６（４６ａ、４６ｂ、４６ｃ等）を第１セル４５ａと定義する。したがって、この導通電極５０を構成する複数のセル４６は、エッジライン５２と交差する金属細線４０からなる第１セル４５ａを有する。
【００３７】
次に、第１セル４５ａの内、拡張エッジライン５３より内側（電極の中心側）においてセル全体が含まれるセル４６の交点５８が、エッジライン５２から拡張エッジライン５３までの範囲、即ちエッジライン５２から外側に突き出す突出し量が４０μｍである範囲に含まれる領域にある複数のセル４６（４６ａ、４６ｂ等）を第２セル４５ｂと定義する。即ち、第２セル４５ｂは、１つの第２セル４５ｂを構成する金属細線４０の全ての交点５８からなる多角形の全ての頂点が拡張エッジライン５３より内側に含まれ、これらの全ての交点（頂点）５８の内の少なくとも１つの交点（頂点）５８がエッジライン５２と拡張エッジライン５３との間の領域に含まれるセル４６として定義される。
【００３８】
次に、このような第１セル４５ａに含まれる第２セル４５ｂの内、セル４６の個数割合で、第２セル４５ｂに含まれる５０％以上の複数のセル４６（４６ａ、４６ｂ等）を第３セル４５ｃとして定義する。
この第３セル４５ｃを構成する金属細線４０を除く、第１セル４５ａの金属細線４０には、エッジライン５２との交点５９において、断線を入れて断線部５４を設ける。即ち、第３セル４５ｃを除く、５０％未満の第２セルの金属細線４０、及び第２セルの金属細線４０を除く、第１セル４５ａの金属細線４０には、エッジライン５２上に断線を入れて断線部５４を設ける。
【００３９】
一方、第３セル４５ｃにおいては、エッジライン５２上の金属細線４０であっても、断線を入れない、即ちエッジライン５２と金属細線４０との交点５９であっても、断線部５４を設けない。したがって、第３セル４５ｃは、閉じたセル４６となる。
このように、導通電極５０においては、第３セル４５ｃにおいてエッジライン５２上の金属細線４０に断線部５４を設けない代わりに、第３セル４５ｃの交点（頂点）５８の外側の拡張エッジライン５３に直接延びる金属細線４０、即ち外側方向に隣接するセル４６を構成する金属細線４０に断線を入れて断線部５４を設ける。
こうすることにより、導通電極５０は、エッジライン５２が一部、即ち部分的に拡張されたセル構造を持つ電極形状となる。
【００４０】
具体的には、図３（Ａ）及び（Ｂ）に示す例は、ランダム電極パターン４８が、菱形メッシュのピッチＰが２００μｍ、及び菱形の辺の傾斜角度θが３０°の定型電極パターンの菱形のピッチＰに付与されたランダム性が±１０％であり、本発明の導電電極５０における突出し量を、４０μｍに設定した例である。
このとき、拡張エッジライン５３より内側にセル全体（全頂点）が含まれるセル４６ａは、第１セル４５ａであり、そのセル４６ａの交点（頂点）５８ａは、エッジライン５２から外側に０．０２０２９ｍｍ（２０．２９μｍ）離れた位置にあり、拡張エッジライン５３より内側、即ち上述した突出し量４０μｍ以内の範囲にあるので、第２セル４５ｂである。
このようなセル４６ａでは、交点（頂点）５８ａの外側の拡張エッジライン５３に直接延びる（外側方向に隣接するセル４６を構成する）２本の金属細線４０に断線が入れられて２つの断線部５４が設けられる。その結果、セル４６ａは、構成する金属細線４０のいずれにも断線部５４が設けられていない第３セルであり、閉じた状態のまま閉じたセル４６として残される。
【００４１】
また、拡張エッジライン５３より内側にセル全体（全頂点）が含まれるセル４６ｂの交点（頂点）５８ｂは、エッジライン５２から外側に０．０２９０４ｍｍ（２９．０４μｍ）離れた位置にあり、拡張エッジライン５３より内側、即ち上述した突出し量４０μｍ以内の範囲にあるので、交点（頂点）５８ｂの外側の拡張エッジライン５３に直接延びる（外側方向に隣接するセル４６を構成する）２本の金属細線４０に断線が入れられて２つの断線部５４が設けられる。その結果、セル４６ａは閉じた状態のまま残される。したがって、セル４６ｂは、第１セル４５ａ、第２セル４５ｂ及び第３セル４５ｃのいずれにも該当する。
これに対し、金属細線４０がエッジライン５２と交差するセル４６ｃの交点５８ｃ（頂点）は、エッジライン５２から外側に０．０４７３６ｍｍ（４７．３６μｍ）離れた位置にあり、拡張エッジライン５３より外側、即ち上述した突出し量４０μｍ範囲を超えた位置にあるので、交点（頂点）５８ｃの内側の２本の金属細線４０とエッジライン５２が交差する各交差位置５９に断線が入れられて２つの断線部５４が設けられる。したがって、セル４６ｃは、第１セル４５ａに該当するが、第２セル４５ｂ及び第３セル４５ｃのいずれにも該当しない。
【００４２】
こうして、交点５８ｃを持つセル４６ｃは、金属細線４０とエッジライン５２との交差位置５９で断線されるため、開放されたセル４６ｃとなり、電極の導電性の向上には寄与しないが、セル４６を構成する金属細線４０がエッジライン５２と交差するセル４６（第１セル４５ａ）であっても、交点５８ａを持つセル４６ａや交点５８ａを持つセル４６ｂは、電極形状から拡張された閉じたセル４６（第３セル４５ｃ）となり、電極の導電性の向上に寄与する。
その結果、金属細線４０によって構成される導通電極の場合、図１０（Ａ）及び（Ｂ）に示す導通電極１００に比べて、図３（Ａ）及び（Ｂ）に示す導通電極５０においては、交点５８の数及び閉じたセル４６（第３セル４５ｃ）の数を増やすことができ、電極内で局所的に高抵抗部が発生することを防止できる。
【００４３】
なお、図３（Ａ）に示す導通電極５０では、エッジライン５２が平行な２本の直線からなる帯状の電極形状であるが、本発明はこれに限定されず、従来公知の電極形状を含め種々の形状が適用可能である。
図４（Ａ）に示す導通電極６０では、菱形（ダイヤモンド）形状の単位電極部６０ａに２本の帯状の接続電極部６０ｂが接続され、一方向に延在する予め設定された電極形状を有し、両側のエッジライン６２及び６４は、一方向に沿った電極形状の中心線に対して対称であり、それぞれ、中心線に平行な平行線分６２ａ及び６４ａ、中心線に対して所定角度で傾斜する傾斜線分６２ｂ及び６４ｂ、中心線に対して逆側に同じ所定角度で傾斜する傾斜線分６２ｃ及び６４ｃ、並びに中心線に平行な平行線分６２ｄ及び６４ｄから構成される。
【００４４】
なお、図４（Ａ）及び（Ｂ）に示す例は、図３（Ａ）及び（Ｂ）に示す例と同様なランダム電極パターン４８であり、突出し量を、４０μｍに設定して設計した例である。
導通電極６０においても、図４（Ｂ）に示す傾斜線分６２ｃの一部分を拡大して示すように、第１セル４５ａであるセル４６ｄの交点（頂点）５８ｄは、エッジライン６２の傾斜線分６２ｃから外側に０．０２７５４ｍｍ（２７．５４μｍ）離れた位置にあり、傾斜線分６２ｃから外側に４０μｍ離間した位置にある拡張エッジライン６３より内側、即ち上述した突出し量４０μｍ以内の範囲にある。このため、セル４６ｄは、第２セル４５ｂであると共に第３セル４５ｃに該当し、閉じたセル４６となり、交点（頂点）５８ｄの外側の拡張エッジライン５３に直接延びる２本の金属細線４０に断線が入れられて２つの断線部５４が設けられる。
【００４５】
これに対し、第１セル４５ａであるセル４６ｅの交点（頂点）交点５８ｅは、傾斜線分６２ｃから外側に０．０６３４３ｍｍ（６３．４３μｍ）離れた位置にあり、拡張エッジライン６３より外側、即ち上述した突出し量４０μｍ範囲を超えた位置にあるので、交点（頂点）５８ｅの内側の１本の金属細線４０と傾斜線分６２ｃが交差する交差位置５９に断線が入れられて断線部５４が設けられる。このため、セル４６ｅは、第１セル４５ａに該当するが、第２セル４５ｂ及び第３セル４５ｃのいずれにも該当しない。
【００４６】
こうして、交点５８ｅを持つセル４６ｅは、金属細線４０とエッジライン６２ｃとの交差位置５９で断線されるため、開放されたセル４６となり、電極の導電性を高める寄与はしないが、セル４６を構成する金属細線４０がエッジライン６２ｃと交差するセル４６であっても、交点５８ｄを持つセル４６ｄは、電極形状から拡張された閉じたセル４６（第３セル４５ｃ）となり、電極の導電性を高めるセルとして寄与する。
その結果、金属細線４０によって構成される導通電極の場合、図１０（Ａ）及び（Ｂ）に示す導通電極１００に比べて、図４（Ａ）及び（Ｂ）に示す導通電極６０においては、交点５８の数及び閉じたセル４６（第３セル４５ｃ）の数を増やすことができ、高抵抗部の発生を防ぐことができる。
【００４７】
上述したように、導通電極５０及び６０においては、その電極形状の両側のエッジライン５２及び６２，６４にかかるセル４６（第１セル４５ａ）を構成する金属細線４０は、これらのセル４６が拡張エッジライン５３及び６３の内側にセル全体（全頂点）がある（第２セル４５ｂである）時、セル４６の多角形の頂点を構成する金属細線４０の交点５８がエッジライン５２及び６２，６４からその外側に所定の突出し量、例えば、図示例では４０μｍ離間する範囲以内の領域にあるセル４６（第３セル４５ｃ）を構成する金属細線４０を除いて、との交差位置５９に断線部５４を有しているということができる。また、このような交点（頂点）５８が上記突出し量範囲以内にあるセル４６と当該交点５８を共有する外側の（外側方向に隣接する）セル４６を構成する金属細線４０は、当該交点５８に隣接する位置で断線部５４を有しているということができる。
【００４８】
したがって、第３セル４５ｃに該当する複数のセル４６の複数の交点（頂点）５８の内の、隣接するエッジライン５２と拡張エッジライン５３との間にある各交点（頂点）５８は、拡張エッジライン５３に向かって伸び、途中に断線部５４を有する金属細線４０に接続されるか、又は他の第３セルの頂点に繋がる金属細線４０に接続されるか、若しくは、孤立した端点となり、いずれの金属細線４０に接続されない。なお、図示例においては、エッジライン５２及び６２，６４に沿って少し拡張された位置において、電極パターン４８を構成する複数の金属細線４０に断線部５４が設けられて、導通電極５０及び６０と、それぞれの両側のダミー電極５６及び６６との間を物理的に離間させ、導通電極５０及び６０と、ダミー電極５６及び６６とを電気的に絶縁（遮断）しているが、本発明はこれに限定されず、ダミー電極５６及び６６を設けない構成としても良い。この場合には、断線部５４の外側には、金属細線４０は存在しないし、孤立した端点の外側のどのような延長上にも金属細線４０は存在しない。
【００４９】
換言すれば、導通電極５０及び６０においては、第１セル４５ａに該当するセル４６の多角形の頂点を構成する金属細線４０の交点５８が、エッジライン５２及び６２，６４からその外側に所定の突出し量離間する範囲以内の領域にある第２セル４５ｂの内の第３セル４５ｃに該当する場合には、エッジライン５２及び６２，６４との交差位置５９に断線部５４を設けないということができる。また、導通電極５０及び６０の電極形状の両側の各エッジライン５２及び６２，６４と交差する金属細線４０からなるセル４６（第１セル４５ａ）の内、エッジライン５２及び６２，６４からその外側に所定の突出し量離間した拡張エッジライン５３，６３より内側に、閉じた状態でセル全体（全頂点）が含まれるセル４６（第２セル４５ｂの中の第３セル４５ｃ）には、セル４６を構成する金属細線４０とエッジライン５２及び６２，６４との交差位置に断線部５４を設けないということができる。
【００５０】
上述した導通電極５０及び６０の例では、エッジライン５２及び６２，６４との交差位置５９に断線部５４を設けない金属細線４０の交点（頂点）５８及び第３セル４５ｃに該当するセル４６は、エッジライン５２及び６２，６４からその外側に所定の突出し量離間する範囲以内の領域（エッジライン５２及び６２，６４と拡張エッジライン５３及び６３との間の領域）にある全ての交点５８、及びこれらの全ての交点５８に係る全てのセル４６、又は拡張エッジライン５３，６３より内側に、閉じた状態でセル全体（頂点）が含まれる第２セル４５ｂに該当する全てのセル４６である。即ち、図示例では、第２セル４５ｂに該当する全てのセル４６は、全て第３セル４５ｃである。
【００５１】
しかしながら、本発明はこれに限定されず、第３セル４５ｃに該当するセル４６は、セル４６の個数割合で第２セルに該当する全てのセル４６の５０％以上のセル４６であれば良い。または、断線部５４を設けない金属細線４０の交点（頂点）５８は、エッジライン５２及び６２，６４と拡張エッジライン５３，６３との間の領域にある全ての交点５８の５０％以上の交点（頂点）５８であれば良いし、第３セル４５ｃに該当するセル４６は、これらの交点５８に係るセル４６であれば良い。
本発明では、第２セル４５ｂの内の５０％以上のセル４６を第３セル３５ｃとする必要がある。
【００５２】
このため、第１セル４５ａに含まれる第２セル４５ｂの内の５０％未満のセル４６においては、エッジライン５２及び６２，６４と交差する金属細線４０の交差位置５９において断線部５４が設けられることになる。即ち、第３セル４５ｃに該当する複数のセル４６を構成する金属細線を除いて、第１セル４５ａを構成する金属細線４０とエッジライン５２及び６２，６４との交差位置５９には、断線部５４が設けられることになる。
本発明において、第２セルに該当する全てのセルの内の５０％以上のセル、又は上記交点において、エッジラインとの交差位置に断線部を設けない理由は、エッジラインとの交差位置に断線部を設けないセルや交点（頂点）が５０％未満では、エッジライン近傍で閉じたセルやその交点が少なくなるため、抵抗が増加し、高抵抗化を招くからである。
【００５３】
なお、図３（Ａ）、（Ｂ）及び図４（Ａ）、（Ｂ）に示す例では、導通電極５０及び６０の電極形状のエッジライン５２及び６２，６４からその外側への突出し量は４０μｍであるが、本発明においては、これには限定されず、導通電極のメッシュサイズの７％〜２０％である必要がある。ここで、メッシュサイズは、隣接するセルが内包される最小サイズの円、即ち当該セルの最小の外接円の直径として定義される。
なお、本発明では、メッシュサイズは、３００μｍ〜６００μｍの範囲であるのが好ましく、突出し量は、２０μｍ〜１２０μｍの範囲であるのが好ましく、２０μｍ〜１００μｍの範囲であるのがより好ましい。
【００５４】
本発明で、突出し量をメッシュサイズの７％〜２０％に限定する理由は、突出し量を７％未満にすると、抵抗バラつきを減らす効果が小さくなり過ぎるからである。また、突出し量を２０％超にすると電極幅の変動が大きくなり過ぎて、静電容量Ｃｍ値が上昇し、センサ感度が低下する恐れがあるからである。
また、突出し量を大きくとればとるほど電極の抵抗値を低くできるが、想定した電極のエッジラインから形状が大きくずれる可能性が高くなり、検出時に誤差の原因となる場合がある。
【００５５】
本発明においては、断線部５４の長さは、特に制限的ではないが、５μｍ〜３０μｍであるのが好ましく、１０μｍ〜２０μｍであるのがより好ましい。断線部５４の長さが５μｍ未満で短すぎると、異物などによりショートする可能性がある。逆に、３０μｍ超で長すぎると、断線部自身が視認されたり、断線がある非電極部と断線がない電極部の濃度差により視認性が悪化したりする可能性がある。
【００５６】
なお、本発明においては、予め設定された設計上のエッジライン、例えば図３（Ａ）、（Ｂ）及び図４（Ａ）、（Ｂ）に示す導通電極５０及び６０の電極形状の両側のエッジライン５２及び６２，６４は、以下のようにして規定することができる。
まず、導通電極５０及び６０の電極幅に沿って存在する断線部５４は、予め設定された電極形状の両側のエッジライン５２、６２，６４に沿ってその近傍に存在するので、存在する全ての断線部５４の中心側、即ち内側の点をそれぞれ片側ずつ接続した２つの接続線を作り、それらの２本の全ての断線部５４の接続線の中心の回帰直線を求める。求められた回帰直線を近似中心線とし、２本の接続線の各接続線を一定の長さ、例えば突出し量と想定される長さ、図示例では４０μｍを線幅とする直線と見做して、各接続線を、それぞれがメッシュサイズの５倍以上の長さを持つ、近似中心線に平行な１以上の平行線分領域と近似中心線に対して傾斜した１以上の傾斜線分領域との少なくとも一方に分類する。
【００５７】
例えば、図３（Ａ）に示す導通電極５０の場合には、２本の断線部５４の接続線は、両側のエッジライン５２の近傍に沿った２本の平行線分領域内に存在することとなる。この時、予め設定された電極形状の両側の設計上のエッジライン５２の片側のエッジライン５２を求めるためには、まず、電極形状の片側にある接続線における平行線分領域で、平行線分領域内の接続線を構成する全ての断線部５４の内側の点の回帰直線を求める。次いで、求められた回帰直線より中心側、即ち近似中心線側にある平行線分領域内に存在する２以上の断線部５４の内側の点を選び出し、選び出された点を用いて近似中心線に平行な平行線分を生成する。こうして生成された近似中心線に平行な平行線分を、予め設定された設計上のエッジライン５２として規定することができる。こうして片側の設計上のエッジライン５２を規定することができ、同様にして、もう片側の設計上のエッジライン５２をも規定することができる。
【００５８】
一方、図４（Ａ）に示す導通電極６０の場合には、両側の全断線部５４の内側の点をそれぞれに接続した２本の接続線は、両側のエッジライン６２，６４の平行な平行線分６２ａ及び６４ａ並びに６２ｄ及び６４ｄのそれぞれの近傍に沿った４つの平行線分領域と、中心線に対して傾斜する傾斜線分６２ｂ及び６４ｂ、並びに傾斜線分６２ｃ及び６４ｃのそれぞれの近傍に沿った４つの傾斜線分領域とに分類される。この時、予め設定された電極形状の両側の設計上のエッジライン６２及び６４の内の片側のエッジライン、例えばエッジライン６２を求めるためには、この片側の接続線における２つの平行線分領域では、上述したように、各平行線分領域内の接続線を構成する全ての断線部５４の内側の点の回帰直線より中心側にある平行線分領域内に存在する２以上の断線部５４の内側の点を用いてそれぞれ近似中心線に平行な２本の平行線分を生成する。こうして生成された近似中心線に平行な平行線分を、予め設定された設計上のエッジライン６２の平行線分６２ａ及び６２ｄとして規定することができる。こうして、設計上のエッジライン６２の平行線分６２ａ及び６２ｄを規定することができ、同様にして、もう片側の設計上のエッジライン６４の平行線分６４ａ及び６４ｄをも規定することができる。
【００５９】
また、片側のエッジライン６２を求めるためには、この片側の接続線における２つの傾斜線分領域では、各傾斜線分領域内の接続線を構成する全ての断線部５４の内側の点の回帰直線をそれぞれ求める。求められた各回帰直線より中心側にある各傾斜線分領域内に存在する１以上の断線部５４の内側の点をそれぞれ選び出し、それぞれ選び出された点を用いて、近似中心線に対してそれぞれ同じ角度で傾斜する２本の傾斜線分を生成する。こうして生成された２本の傾斜線分が、予め設定された設計上のエッジライン６２の傾斜線分６２ｂ及び６２ｃとして規定される。こうして、設計上のエッジライン６２の傾斜線分６２ｂ及び６２ｃが規定され、同様にして、もう片側の設計上のエッジライン６４の傾斜線分６４ｂ及び６４ｃも規定される。
以上のようにして、導通電極の予め設定された電極形状の両側の設計上のエッジラインを、製造された実際の導通電極に存在する多数の断線部から規定することができる。
【００６０】
ここで、本発明に用いられる導通電極の電極パターンは、セルの多角形を構成する頂点の角度、辺の長さ、辺の数及び多角形のピッチ等の少なくとも１つに対して不規則性が付与されたランダムパターンである。ランダムパターンでは交点が一定の位置に配列しないために電極エッジを設計した場合に本発明のような設計を入れないと電極ごとの導電性がばらつきやすくなる。
図３（Ａ）及び（Ｂ）に示す導通電極５０の電極パターン４８及びダミー電極５６の電極パターン４８は、複数の菱形のセル４６が組み合わさって構成されたランダム電極パターンであり、菱形セル４６を構成する辺の長さや配置ピッチに対しても不規則性が付与されたランダムパターンである。なお、図４（Ａ）及び（Ｂ）に示す導通電極６０及びダミー電極６６も、図１０（Ａ）及び（Ｂ）に示す導通電極１００及びダミー電極１０２も、同じの電極パターン４８を有するので、以下では、図３（Ａ）及び（Ｂ）に示す導通電極５０及びダミー電極５６を代表例として説明する。
【００６１】
導通電極５０及びダミー電極５６の電極パターン４８を構成する金属細線４０により形成されるセル４６の形状は、菱形であるが、本発明はこれに限定されず、多角形であれば良いが、例えば、正三角形、二等辺三角形、直角三角形等の三角形、正方形、長方形、菱形、平行四辺形、台形等の四角形、（正）六角形、（正）八角形等の（正）ｎ角形、星形等を組み合わせた幾何学図形が挙げられる。
なお、「多角形」には、幾何学的に完全な多角形のみならず、完全な多角形に対し軽微な変更を加えた「実質的な多角形」も含まれるものとする。軽微な変更の例示として、金属細線４０により形成されるセル４６の形状と比べて微小な点要素及び線要素の付加、セル４６を形成する金属細線４０の各辺の部分的欠損、ならびに構成する辺が曲線を含む等が挙げられる。
【００６２】
金属細線４０は、特に限定されるものではなく、例えば、ＩＴＯ、Ａｕ、Ａｇ又はＣｕにより形成される。また、金属細線４０は、ＩＴＯ、Ａｕ、Ａｇ又はＣｕに、さらにバインダを含むものにより構成してもよい。金属細線４０は、バインダを含むことにより、曲げ加工しやすくなり、かつ曲げ耐性が向上する。このため、金属細線４０はバインダを含む導体により構成することが好ましい。バインダとしては、導電性フィルムの配線に利用されるものを適宜用いることができ、例えば、特開２０１３−１４９２３６号公報に記載されているものを用いることができる。
【００６３】
第１検出電極２０及び第２検出電極３０を構成する導通電極５０とダミー電極５６との金属細線４０の形成方法は、特に限定されるものではない。例えば、感光性ハロゲン化銀塩を含有する乳剤層を有する感光材料を露光し、現像処理を施すことによって形成することができる。また、基体１８上に金属箔を形成し、各金属箔上にレジストをパターン状に印刷するか、又は全面塗布したレジストを露光し、現像することによってパターン化して、開口部の金属をエッチングすることにより、金属細線４０に断線部５４が設けられた導通電極５０及びダミー電極５６を形成することができる。これ以外にも、第１検出電極２０及び第２検出電極３０を構成する導通電極５０とダミー電極５６との形成方法としては、上述の導体を構成する材料の微粒子を含むペーストを印刷し、ペーストに金属めっきを施す方法、及び上述の導体を構成する材料の微粒子を含むインクを用いたインクジェット法を用いる方法が挙げられる。
なお、第１の端子部２２、第１引出配線２４、第２の端子部３２、及び第２引出配線３４も、例えば、上述の金属細線４０の形成方法により同時にあるいは別々に形成することができる。
【００６４】
導通電極５０の電極幅、及び導通電極６０の電極幅は、特に制限されないが、例えば、０．３ｍｍ〜７．０ｍｍであることが好ましく、受信電極では、０．５ｍｍ〜３．０ｍｍであることがより好ましく、駆動電極では、３．０ｍｍ〜６．０ｍｍであることがより好ましい。ここでいう電極幅は、導通電極５０及び導通電極６０等の導通電極の延在方向（一方向）に垂直な方向の長さということができ、２本のエッジライン５２間の距離として定義できるが、導通電極６０のように途中で幅が変わる形状の場合は、最も狭い部分を指す。
ここで、電極幅が狭いほど、導通電極の交点、即ち閉じたセルの数を増やした効果は大きいが、上記範囲の下限値より細くなると、交点及び閉じたセルの絶対数が少なくなるため、全体が高抵抗となり好ましくない。一方、電極幅が広いと、導通電極の交点及び閉じたセルの絶対数が多いため、導通電極の交点、即ち閉じたセルの数を増やした効果は小さくなる。したがって、上述の受信電極の範囲であれば、本発明の高い効果が生じやすくなる。
【００６５】
金属細線４０の線幅は、特に制限されないが、例えば０．５μｍ〜３０μｍであれば良く、１．０μｍ〜１０μｍであることが好ましく、１．０μｍ〜７μｍであることがより好ましく、１．０μｍ〜４μｍであることが最も好ましい。上述の範囲であれば、第１検出電極２０と第２検出電極３０を比較的容易に低抵抗にできる。
金属細線４０がタッチパネル用導電性フィルムにおける周辺配線（例えば、第１及び第２引出配線２４及び３４）として適用される場合には、金属細線４０の線幅は５００μｍ以下が好ましく、５０μｍ以下がより好ましく、３０μｍ以下が特に好ましい。上述の範囲であれば、低抵抗のタッチパネル電極を比較的容易に形成できる。
【００６６】
また、金属細線４０がタッチパネル用導電性フィルムにおける周辺配線として適用される場合、タッチパネル用導電性フィルムにおける周辺配線は、メッシュ電極パターンとすることもでき、その場合、線幅は特に制限されないが、３０μｍ以下が好ましく、１５μｍ以下がより好ましく、１０μｍ以下がさらに好ましく、９μｍ以下が特に好ましく、７μｍ以下が最も好ましく、０．５μｍ以上が好ましく、１．０μｍ以上がより好ましい。上述の範囲であれば、低抵抗の周辺配線を比較的容易に形成できる。タッチパネル用導電性フィルムにおける周辺配線をメッシュパターンとすることによって、検出電極（導電層）、端子部、周辺配線（引出配線）の均一性を高めることができる他、透明粘着層を貼合した場合に、検出電極、端子部、周辺配線のピール強度を一定にでき、面内分布が小さくできる点で好ましい。
【００６７】
金属細線４０の厚みは、特に制限されないが、０．００１μｍ〜２００μｍであることが好ましく、３０μｍ以下であることがより好ましく、２０μｍ以下であることがさらに好ましく、０．０１μｍ〜９μｍであることが特に好ましく、０．０５μｍ〜５μｍであることが最も好ましい。上述の範囲であれば、低抵抗で、耐久性に優れた検出電極、端子部、周辺配線を比較的容易に形成できる。
【００６８】
保護層４２は、第１検出電極２０を、保護層４４は、第２検出電極３０を保護するためのものである。保護層４２、及び４４は、その構成は、特に限定されるものではない。例えば、ガラス、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、アクリル樹脂（ＰＭＭＡ）等を用いることができる。
接着層４１、及び４３は、それぞれ保護層４２、及び４４を基体１８に固定するものである。いずれも、例えば、光学的透明な粘着剤（ＯＣＡ）及びＵＶ硬化樹脂等の光学的透明な樹脂（ＯＣＲ）を用いることができる。
【００６９】
ところで、第１検出電極２０及び第２検出電極３０の少なくとも一方には、本発明の特徴とする導通電極、例えば、図３（Ａ）及び図４（Ａ）に示す導通電極５０及び６０を用いる必要がある。この際には、導通電極５０及び６０と共に、それぞれダミー電極５６及び６６を用いるのが好ましい。
なお、導通電極５０及び６０等の本発明の導通電極が、第１検出電極２０及び第２検出電極３０の一方に用いられている場合には、他方の電極は、いかなる導通電極を用いても良く、例えば、導通電極５０及び６０等の本発明の導通電極でも良いし、図１０（Ａ）及び（Ｂ）に示す従来型の導通電極１００を用いても良いし、その他の従来公知の電極を用いても良い。
【００７０】
なお、本発明の導電性フィルム１２では、第１検出電極２０を観察側（トップ側ともいう）の電極とすると、第２検出電極３０は、ディスプレイ側（ボトム側ともいう）の電極と言うことになる。
ところで、本発明の導電性フィルム１２をタッチパネルセンサとして用いる場合には、検出の容易さや精度の点から、トップ側の第１検出電極２０に電極幅の狭い電極が用いられ、ボトム側の第２検出電極３０には、電極幅の広い電極が用いられることが好ましい。このような場合には、本発明の導通電極、例えば、図３（Ａ）及び図４（Ａ）に示す導通電極５０及び６０を、トップ側の第１検出電極２０に用いるのが好ましい。これに対し、第２検出電極３０においては、電極幅を広くとることができ、閉じたセルからなる交点の数は十分に確保されるので、本発明を適用する効果が薄いため、図１０（Ａ）及び（Ｂ）に示す従来型の導通電極１００を用いることができるし、その他の従来公知の電極を用いることもできる。なお、このような場合に、第２検出電極３０においても、本発明の導通電極を用いても良いのは勿論である。
【００７１】
なお、図３（Ａ）に示す導通電極５０、図４（Ａ）に示す導通電極６０、及び図１０（Ａ）及び（Ｂ）に示す従来型の導通電極１００は、いずれもランダム電極パターン４８からなるものであるので、これらの少なくとも１種の導通電極を第１検出電極２０及び第２検出電極３０の両方に対して用いた場合には、第１検出電極２０及び第２検出電極３０の各電極パターン４８の金属細線４０の視認や、第１検出電極２０及び第２検出電極３０の両電極パターン４８の合成電極パターンの視認、具体的には合成電極パターンと表示装置のブラックマトリックス（ＢＭ）、又はＲＧＢ画素等の画素配列パターンとの干渉によるモアレの視認を低減することができる。
本発明の第１実施形態に係る導電性フィルム及びこれを備えるタッチパネルセンサは、基本的に以上のように構成される。
【００７２】
図２に示す第１実施形態の導電性フィルム１２においては、基体１８の上側及び下側の両側の表面にそれぞれ第１及び第２検出電極２０及び３０が形成されているが、本発明はこれに限定されず、第１及び第２検出電極２０及び３０が基体１８の片側に絶縁層を介して配置される構造としても良いし、図５に示す本発明の第２実施形態の導電性フィルム１２Ａのように、２つの基体１８及び１９のそれぞれ一方の表面（図５中上側の面）に複数の金属細線４０からなる第１検出電極２０及び第２検出電極３０を形成した導電性フィルム要素を２つ重ねる構造としても良い。
【００７３】
図５に示す本発明の第２実施形態の導電性フィルム１２Ａは、図５中、下側の第２基体１９と、この第２基体１９の上側表面１９ａに形成された複数の金属細線４０からなる第２検出電極３０を有する第２電極層３６と、第２電極層３６上に第２検出電極３０の複数の金属細線４０を覆うように形成された接着層４７と、この接着層４７によって第２電極層３６上に接着されて配置される上側の第１基体（基体）１６と、この第１基体１８の上側表面１６ａに形成された複数の金属細線４０からなる第１検出電極２０を有する第１電極層２６と、第１電極層２６上に接着層４１を介して接着される保護層４２とを有する。
ここで、第１検出電極２０及び第２検出電極３０の少なくとも一方には、本発明の導通電極、例えば、金属細線４０による複数のセル４６によって構成されるランダム電極パターン４８からなる導通電極５０、６０が用いられる必要があるのは、図２に示す例と同様である。
【００７４】
なお、図５に示す本発明の第２実施形態の導電性フィルム１２Ａでは、第１電極層２６には第１検出電極２０のみ、第２電極層３６には第２検出電極３０のみを備えているが、本発明はこれに限定されず、図２に示す本発明の第１実施形態の導電性フィルム１２と同様に、第１電極層２６及び第２電極層３６には、それぞれダミー電極２８及び３８を備えていても良い。
したがって、図５に示す導電性フィルム１２Ａにおいても、図２に示す導電性フィルム１２と同様に、第１検出電極２０及び第２検出電極３０を構成しても良いので、その詳細な説明は省略する。
本発明の第２実施形態に係る導電性フィルムは、基本的に以上のように構成される。
【００７５】
図１に示す第１実施形態の導電性フィルム１２においては、同様な電極幅を持つ複数の第１検出電極２０と同様な電極幅を持つ複数の第２検出電極３０とを直交させているが、本発明はこれに限定されず、図６に示すように、第１検出電極７０と第２検出電極８０とが異なる電極幅を持つものであっても良い。
図６は、本発明の第３の実施形態に係る導電性フィルムの一例を模式的に示す平面図であり、図７は、図６に示す導電性フィルムの観察側の電極の構成を模式的に示す平面図であり、図８は、図６に示す導電性フィルムの観察側と逆側の電極の構成を模式的に示す平面図である。
【００７６】
同図に示す本発明の第３の実施形態に係る導電性フィルム１２Ｂは、第１及び第２の実施形態と同様な断面構造、例えば図２又は図５に示す断面構造を持つものであり、平面視による構成が異なるものであるので、断面構造についての説明は省略する。
図６に示す導電性フィルム１２Ｂは、本発明に係る導通電極７２によって構成される複数の第１検出電極７０と、本発明に係る導通電極８２によって構成される複数の第２検出電極８０とを有し、両者を直交させるように配置させたものである。第１検出電極７０において、導通電極７２は、内部に非導通部７４を備え、全体として櫛形の構造を有する。
第１検出電極７０の導通電極７２の電極パターンと第２検出電極８０の導通電極８２の電極パターンとにより、組合せパターンが形成される。なお、導通電極８２は、本発明に係る導通電極を用いるのが好ましいが、図１０（Ａ）及び（Ｂ）に示す従来の導通電極１００であっても、従来公知の電極であっても良い。
【００７７】
図６において、ダミー電極７６が導通電極７２と同様に金属細線４０により構成される。また、導通電極７２に形成される非導通部７４が導通電極７２と同様に金属細線４０により構成される。導通電極７２とは電気的に分離され、かつ非導通部７４とダミー電極７６とを金属細線４０により構成することによって、いわゆるダミー配線部が形成される。ダミー配線部を形成することによって、不規則性が付与された間隔で配置される金属細線４０のランダムセル４６により略全面が覆われることとなる。これにより、視認性の低下を防止することができる。
同様に、ダミー電極８４が、導通電極８２と同様に金属細線４０により構成される。導通電極８２と電気的に分離され、かつダミー電極８４を金属細線４０により構成することにより、いわゆるダミー配線部が形成される。ダミー配線部を形成することによって、不規則性が付与された間隔で配置される金属細線４０のランダムセル４６により略全面が覆われることとなる。これにより視認性の低下を防止することができる。金属細線４０により構成されるダミー配線部は、金属細線４０に断線部５４を有し、導通電極７２及び導通電極８２と電気的に分離される。
【００７８】
図７は、図６に示す導電性フィルム１２Ｂの観察側の電極の構成を模式的に示す。図７には、さらに２種類の導通電極７２を示す。第１検出電極７０は金属細線４０による多数のセル４６にて構成された２つの導通電極７２を備える。各導通電極７２は、一端において、第１の端子部２２と電気的に接続される。各第１の端子部２２は各第１引出配線２４の一方端と電気的に接続される。各第１引出配線２４は、他方端で、図示しないＦＰＣに電気的に接続される。各導通電極７２はダミー電極７６により電気的に分離される。
各導通電極７２は第１方向（Ｘ方向）に延在し、並列して配列される。各導通電極７２は各導通電極７２と電気的に分離するスリット状の非導通部７４を備える。各導通電極７２は各非導通部７４により分割される複数の副導通電極列７８を備える。スリット状の非導通部７４は他方端に開放されている。
このように、副導通電極列７８及び導通電極７２は、電極幅が狭くなるので、本発明の特徴とする導通電極により構成することが特に好ましい。
【００７９】
図７に示すように、スリット状の非導通部７４を備えることによって、導電性フィルム１２Ｂの端部側に位置する（図７において上側）導通電極７２は櫛形構造となる。本実施の形態において、導通電極７２は２つの非導通部７４を有しており、これにより３本の副導通電極列７８が形成される。副導通電極列７８の数に関しては、３本に限定されるものではない。各副導通電極列７８は、各第１の端子部２２とそれぞれ接続されているので、同電位となる。
なお、導電性フィルム１２Ｂにおいて、図７に示すように、各導通電極７２は内部に導通電極７２と電気的に分離された非導通部７４を備えており、各導通電極７２の面積Ａと各非導通部７４の面積Ｂとした場合、５％＜（Ｂ／（Ａ＋Ｂ））×１００＜９７％の関係を満たすことが好ましい。面積Ａは、一つの導通電極７２の一端から他端までの全体の面積であり、面積Ｂは、一つの導通電極７２の一端から他端までに含まれる非導通部７４の面積である。また、１０％≦（Ｂ／（Ａ＋Ｂ））×１００≦８０％の関係を満たすことがより好ましく、１０％≦（Ｂ／（Ａ＋Ｂ））×１００≦６０％の関係を満たすことがさらに好ましい。
【００８０】
図７は、さらに別の導通電極７２を示す。導電性フィルム１２Ｂの中央に位置する（図７において下側）導通電極７２は、他方端に、追加の第１の端子部２３を備えている。スリット状の非導通部７４は導通電極７２内に閉じられる。追加の第１の端子部２３を設けることによって各導通電極７２の検査を容易に行うことができる。
本実施形態において、導通電極７２の面積Ａ１と非導通部７４の面積Ｂ１とした場合、１０％≦（Ｂ１／（Ａ１+Ｂ１））×１００≦８０％が好ましく、４０％≦（Ｂ１／（Ａ１+Ｂ１））×１００≦６０％であることがさらに好ましい。この範囲とすることにより、指が接触したときと、指が接触していないときの静電容量の差を大きくできる。つまり、検出精度を高めることができる。
図７における導通電極７２の面積Ａ１と非導通部７４の面積Ｂとは、副導通電極列７８に対して接するように仮想ラインを引き、この仮想ラインで囲まれる面積を計算することで求める。
【００８１】
副導通電極列７８の幅の合計幅をＷａと、非導通部７４の幅の合計とダミー電極７６の幅との合計をＷｂとした場合、Ｗａ≦（Ｗａ＋Ｗｂ）／２を満たす。
ここで、図７に示すように副導通電極列７８の幅ａ1、ａ2、ａ3の合計がＷａとなり、非導通部７４の幅ｂ1、ｂ2とダミー電極７６の幅ｂ3との合計がＷｂとなる。
他の実施形態では、さらに、好ましくは、各副導通電極列７８の幅の合計幅Ｗａと、各非導通部７４の幅の合計幅Ｗｂとが、１．０ｍｍ≦Ｗａ≦５．０ｍｍ、及び１．５ｍｍ≦Ｗｂ≦５．０ｍｍの関係を満たすのが良い。人の平均的な指の大きさを考慮すると、この範囲とすることにより、より正確に位置を検出することができる。さらに、Ｗａの値について、１．５ｍｍ≦Ｗａ≦４．０ｍｍが好ましく、２．０ｍｍ≦Ｗａ≦２．５ｍｍがさらに好ましい。また、さらに、Ｗｂの値について、１．５ｍｍ≦Ｗｂ≦４．０ｍｍが好ましく、２．０ｍｍ≦Ｗｂ≦３．０ｍｍがさらに好ましい。
【００８２】
第１検出電極７０を構成する金属細線４０は、上述したように、３０μｍ以下の線幅を有する。第１検出電極７０を構成する金属細線４０は、金、銀、銅などの金属材料や金属酸化物等の導電材料で構成される。
第１検出電極７０は、交差する金属細線４０により構成される複数のセル４６を含んでいる。セル４６は金属細線４０で囲まれる開口領域を含んでいる。セル４６は２５０μｍ〜９００μｍの長さの一辺を有する。一辺の長さは、好ましくは３００μｍ〜７００μｍであることが望ましい。
【００８３】
本実施の形態における導通電極７２では、可視光透過率の点から開口率は８５％以上であることが好ましく、９０％以上であることがさらに好ましく、９５％以上であることが最も好ましい。開口率とは、所定領域において第１検出電極７０の金属細線４０を除いた透光性部分が全体に占める割合に相当する。
【００８４】
図８に示すように、第２検出電極８０は金属細線４０による多数のセル４６にて構成される。第２検出電極８０は、第１方向（Ｘ方向）と直交する第２方向（Ｙ方向）に延び、並列に配列された複数の導通電極８２を備える。各導通電極８２は、ダミー電極８４により電気的に分離される。
各導通電極８２は、第２の端子部３２と電気的に接続される。各第２の端子部３２は導電性の第２引出配線３４と電気的に接続される。各導通電極８２は、一端において、第２の端子部３２と電気的に接続される。各第２の端子部３２は各第２引出配線３４の一方端と電気的に接続される。各第２引出配線３４は、他方端で、図示しないＦＰＣに電気的に接続される。各導通電極８２は第２方向に沿って、実質的に一定の幅を有する短冊構造で構成される。但し、各導通電極８２は短冊形状に限定されるものではない。
【００８５】
第２検出電極８０は、他方端に、追加の第２の端子部３３を設けてもよい。追加の第２の端子部３３を設けることによって各導通電極８２の検査を容易に行うことができる。
第２検出電極８０を構成する金属細線４０は、第１検出電極７０と実質的に同じ線幅、実質的に同じ材料により構成される。第２検出電極８０は交差する金属細線４０により構成される複数のセル４６を含んでおり、実質的に同じ形状を有する。セル４６の一辺の長さ、セル４６の開口率についても同等となる。
【００８６】
図７では、第１検出電極７０として金属細線４０により構成される導通電極７２を示す。導通電極７２に加えて、第１検出電極７０にダミー配線部を形成することができる。ダミー配線部は、導通電極７２と同様に金属細線４０により構成されるが、導通電極７２とは電気的に分離される。図７で示される第１検出電極７０について、ダミー配線部は、隣接する導通電極７２の間、及び非導通部７４の領域に形成される。
また、図８で示される第２検出電極８０について、ダミー配線部は、隣接する導通電極８２の間の領域に形成される。導電性フィルム１２Ｂにおいて、ダミー配線部を有する第１検出電極７０とダミー配線部を有する第２検出電極８０とが対向配置される。平面視では、導電性フィルム１２Ｂは重なったセルを有するように見える。これにより導電性フィルム１２Ｂの視認性の劣化を防止することができる。
本発明の第２実施形態に係る導電性フィルムは、基本的に以上のように構成される。
【実施例】
【００８７】
以下に、本発明を実施例に基づいて具体的に説明する。
（実施例１）
実施例１として、図９に示すように、帯状の導通電極９０に横断するように等間隔で９本の導電ポイント（端子）Ｘ１〜Ｘ１０を設け、導通電極９０を９つの領域Ｘ１−Ｘ２、Ｘ２−Ｘ３、Ｘ３−Ｘ４、Ｘ４−Ｘ５、Ｘ５−Ｘ６、Ｘ６−Ｘ７，Ｘ７−Ｘ８、Ｘ８−Ｘ９及びＸ９−Ｘ１０に分けて、各領域Ｘ１−Ｘ２〜Ｘ９−Ｘ１０のポイント間の抵抗を抵抗計により測定した。その測定結果を表１に示す。
なお、実施例１の導通電極のランダム電極パターンでは、菱形メッシュのセル４６のピッチＰが３５２μｍであり、菱形のセル４６の一辺の傾斜角度θが３０°の定型メッシュ電極パターンの菱形のピッチＰに±１０％以内のランダム性を付与してあり、実施例１の導電電極９０における突出し量を３０μｍに設定した。また、帯状の導通電極９０の電極幅は、５ｍｍであった。【００８８】
（実施例２〜３、及び比較例１〜３）
実施例２〜３及び比較例１〜３として、実施例１の図９に示すような帯状の導通電極９０に対して、突出し量を変えた帯状の導通電極を作成し、実施例１の図９に示すように、同様に、作成された導通電極に９本の導電ポイント（端子）Ｘ１〜Ｘ１０を設け、９つの領域Ｘ１−Ｘ２〜Ｘ９−Ｘ１０に分けて、各領域Ｘ１−Ｘ２〜Ｘ９−Ｘ１０のポイント間の抵抗をそれぞれ抵抗計により測定した。その測定結果を表１に示す。
なお、表１に示すように、実施例２〜３及び比較例１〜３では、突出し量は、それぞれ４０μｍ、５０μｍ、０μｍ、２０μｍ、及び９０μｍに設定された。【００８９】
表１には、以上のようにして実施例１〜３及び比較例１〜３でそれぞれ測定されたポイントＸ１〜Ｘ１０の各領域Ｘ１−Ｘ２〜Ｘ９−Ｘ１０のポイント間抵抗値（Ω）を示す。
実施例１〜３及び比較例１〜３の各例において各領域Ｘ１−Ｘ２〜Ｘ９−Ｘ１０のポイント間抵抗値と、その中の最も低い抵抗値との差分を求め、求められた差分の最も低い抵抗値に対する割合（百分率％）を抵抗ばらつきとして求めた。その測定も表１に示す。
こうして得られた実施例１〜３及び比較例１〜３の各例の各領域のポイント間Ｘ１−Ｘ２〜Ｘ９−Ｘ１０の抵抗ばらつきを評価した。評価では、抵抗ばらつきが２０％以下である場合をＯＫ、２０％未満である場合をＮＧとして評価した。その測定も表１に示す。【００９０】
【表１】
2016084449.tif 000003
【００９１】
表１に示す結果から、分かるように、比較例１，２，および３では、２０％以上の抵抗ばらつき（ＮＧ）を示す領域が存在するが、実施例１，２，および３では、抵抗ばらつきは、最も大きい領域（実施例１の領域Ｘ３−Ｘ４）でも１１．０％であり、領域間の抵抗ばらつきを半減できたことが分かる。
以上から、本発明の効果は明らかである。【００９２】
以上に、本発明に係る導電性フィルム、及びこれを備えるタッチパネルセンサについて種々の実施形態及び実施例を挙げて説明したが、本発明は、上述の実施形態及び実施例に限定されず、本発明の要旨を逸脱しないかぎり、種々の改良や設計の変更を行っても良いことはもちろんである。
【符号の説明】
【００９３】
１０  タッチパネルセンサ
１２、１２Ａ、１２Ｂ  導電性フィルム
１４  コントローラ
１６  ＦＰＣ（フレキシブル配線基板）
１８  基体
２０、７０  第１検出電極
２２，２３，３２，３３  端子部
２４、３４  引出配線
２６，３６  電極層
２８，３８，５６、６６、７６、８４  ダミー電極
３０、８０  第２検出電極
４０  金属細線
４１，４３，４７  接着層
４２，４４  保護層
４６  セル（開口部）
４８  ランダム電極パターン
５０，６０、７２，８２、９０  導通電極
５２，６２，６４  エッジライン
５４  断線部
５８  交点
５９  交差位置
７４  非導通部
７８  副導通電極列
【図１】
2016084449.tif 000004
【図２】
2016084449.tif 000005
【図３】
2016084449.tif 000006
【図４】
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【図５】
2016084449.tif 000008
【図６】
2016084449.tif 000009
【図７】
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【図８】
2016084449.tif 000011
【図９】
2016084449.tif 000012
【図１０】
2016084449.tif 000013
【手続補正書】
【提出日】平成29年5月8日(2017.5.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
なお、金属細線メッシュにより構成される導電性フィルムにおいて、ランダムなセル、例えばサイズの異なる複数の多角形セルを用いて電極を構成した場合、図１０（Ａ）及び（Ｂ）に示すように、電極形状のエッジライン５２に合わせてランダム電極パターン４８のセル４６を形成する金属細線４０に断線部５４を入れて、ダミー電極１０２を電気的に分離して導通電極１００を形成する。こうすると、セル４６を構成する金属細線４０の交点（セル４６の多角形の頂点）５８の位置によっては、交点５８の内側で断線されることになる。このような交点５８を持つセル４６は、開放されたセル４６となるため、抵抗が高い部分が発生し、電極の抵抗値にばらつきが生じるという問題が生じやすいことがわかった。
また、特許文献１及び２に開示のように、電極幅が広くできる場合には、電極幅を広げて対応することによって、金属細線による電極において、金属細線の交点の数を所定数確保することができるので、開放されたセルがあってもその影響を無くす、若しくは抑制することが可能であるが、電極幅の設計自由度が無くなるという課題が生じる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
タッチパネルセンサ１０は、透明電極層を備え、センサ部を構成する本発明の導電性フィルム１２と、コントローラ１４と、導電性フィルム１２とコントローラ１４とを接続するＦＰＣ（フレキシブル配線基板）１６とを有する。
タッチパネルセンサ１０の導電性フィルム１２におけるセンサ部の構成は、特に制限されないが、通常、２層構造の検出電極（例えば、図１中Ｘ方向に延びる複数の第１検出電極２０及び図１中Ｙ方向に延びる複数の第２検出電極３０）を有し、指等の物体が接触又は近接した２層構造の検出電極間の静電容量変化を検出し、ＩＣ制御回路等からなるコントローラ１４により指等の物体の位置座標を算出し、特定する。コントローラ１４は、導電性フィルム１２の外部機器であり、導電性フィルム１２の主面側（操作側、観察側）からの接触位置又は近接位置を検出する検出制御部を構成するもので、例えば静電容量式のタッチパネルセンサの位置検出に利用される公知のものを用いることができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
次に、このような第１セル４５ａに含まれる第２セル４５ｂの内、セル４６の個数割合で、第２セル４５ｂに含まれる５０％以上の複数のセル４６（４６ａ、４６ｂ等）を第３セル４５ｃとして定義する。
この第３セル４５ｃを構成する金属細線４０を除く、第１セル４５ａの金属細線４０には、エッジライン５２との交差位置５９において、断線を入れて断線部５４を設ける。即ち、第３セル４５ｃを除く、５０％未満の第２セルの金属細線４０、及び第２セルの金属細線４０を除く、第１セル４５ａの金属細線４０には、エッジライン５２上に断線を入れて断線部５４を設ける。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
一方、第３セル４５ｃにおいては、エッジライン５２上の金属細線４０であっても、断線を入れない、即ちエッジライン５２と金属細線４０との交差位置５９であっても、断線部５４を設けない。したがって、第３セル４５ｃは、閉じたセル４６となる。
このように、導通電極５０においては、第３セル４５ｃにおいてエッジライン５２上の金属細線４０に断線部５４を設けない代わりに、第３セル４５ｃの交点（頂点）５８の外側の拡張エッジライン５３に直接延びる金属細線４０、即ち外側方向に隣接するセル４６を構成する金属細線４０に断線を入れて断線部５４を設ける。
こうすることにより、導通電極５０は、エッジライン５２が一部、即ち部分的に拡張されたセル構造を持つ電極形状となる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４０】
具体的には、図３（Ａ）及び（Ｂ）に示す例は、ランダム電極パターン４８が、菱形メッシュのピッチＰが２００μｍ、及び菱形の辺の傾斜角度θが３０°の定型電極パターンの菱形のピッチＰに付与されたランダム性が±１０％であり、本発明の導通電極５０における突出し量を、４０μｍに設定した例である。
このとき、拡張エッジライン５３より内側にセル全体（全頂点）が含まれるセル４６ａは、第１セル４５ａであり、そのセル４６ａの交点（頂点）５８ａは、エッジライン５２から外側に０．０２０２９ｍｍ（２０．２９μｍ）離れた位置にあり、拡張エッジライン５３より内側、即ち上述した突出し量４０μｍ以内の範囲にあるので、第２セル４５ｂである。
このようなセル４６ａでは、交点（頂点）５８ａの外側の拡張エッジライン５３に直接延びる（外側方向に隣接するセル４６を構成する）２本の金属細線４０に断線が入れられて２つの断線部５４が設けられる。その結果、セル４６ａは、構成する金属細線４０のいずれにも断線部５４が設けられていない第３セルであり、閉じた状態のまま閉じたセル４６として残される。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
上述したように、導通電極５０及び６０においては、その電極形状の両側のエッジライン５２及び６２，６４にかかるセル４６（第１セル４５ａ）を構成する金属細線４０は、これらのセル４６が拡張エッジライン５３及び６３の内側にセル全体（全頂点）がある（第２セル４５ｂである）時、セル４６の多角形の頂点を構成する金属細線４０の交点５８がエッジライン５２及び６２，６４からその外側に所定の突出し量、例えば、図示例では４０μｍ離間する範囲以内の領域にあるセル４６（第３セル４５ｃ）を構成する金属細線４０を除いて、エッジライン５２との交差位置５９に断線部５４を有しているということができる。また、このような交点（頂点）５８が上記突出し量範囲以内にあるセル４６と当該交点５８を共有する外側の（外側方向に隣接する）セル４６を構成する金属細線４０は、当該交点５８に隣接する位置で断線部５４を有しているということができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４８】
したがって、第３セル４５ｃに該当する複数のセル４６の複数の交点（頂点）５８の内の、隣接するエッジライン５２と拡張エッジライン５３との間にある各交点（頂点）５８は、拡張エッジライン５３に向かって伸び、途中に断線部５４を有する金属細線４０に接続されるか、又は他の第３セルの頂点に繋がる金属細線４０に接続されるか、若しくは、孤立した端点となり、いずれの金属細線４０にも接続されない。なお、図示例においては、エッジライン５２及び６２，６４に沿って少し拡張された位置において、電極パターン４８を構成する複数の金属細線４０に断線部５４が設けられて、導通電極５０及び６０と、それぞれの両側のダミー電極５６及び６６との間を物理的に離間させ、導通電極５０及び６０と、ダミー電極５６及び６６とを電気的に絶縁（遮断）しているが、本発明はこれに限定されず、ダミー電極５６及び６６を設けない構成としても良い。この場合には、断線部５４の外側には、金属細線４０は存在しないし、孤立した端点の外側のどのような延長上にも金属細線４０は存在しない。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６０】
ここで、本発明に用いられる導通電極の電極パターンは、セルの多角形を構成する頂点の角度、辺の長さ、辺の数及び多角形のピッチ等の少なくとも１つに対して不規則性が付与されたランダムパターンである。ランダムパターンでは交点が一定の位置に配列しないために電極エッジを設計した場合に本発明のような設計を入れないと電極ごとの導電性がばらつきやすくなる。
図３（Ａ）及び（Ｂ）に示す導通電極５０の電極パターン４８及びダミー電極５６の電極パターン４８は、複数の菱形のセル４６が組み合わさって構成されたランダム電極パターンであり、菱形セル４６を構成する辺の長さや配置ピッチに対しても不規則性が付与されたランダムパターンである。なお、図４（Ａ）及び（Ｂ）に示す導通電極６０及びダミー電極６６も、図１０（Ａ）及び（Ｂ）に示す導通電極１００及びダミー電極１０２も、同じ電極パターン４８を有するので、以下では、図３（Ａ）及び（Ｂ）に示す導通電極５０及びダミー電極５６を代表例として説明する。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７３】
図５に示す本発明の第２実施形態の導電性フィルム１２Ａは、図５中、下側の第２基体１９と、この第２基体１９の上側表面１９ａに形成された複数の金属細線４０からなる第２検出電極３０を有する第２電極層３６と、第２電極層３６上に第２検出電極３０の複数の金属細線４０を覆うように形成された接着層４７と、この接着層４７によって第２電極層３６上に接着されて配置される上側の第１基体（基体）１８と、この第１基体１８の上側表面１８ａに形成された複数の金属細線４０からなる第１検出電極２０を有する第１電極層２６と、第１電極層２６上に接着層４１を介して接着される保護層４２とを有する。
ここで、第１検出電極２０及び第２検出電極３０の少なくとも一方には、本発明の導通電極、例えば、金属細線４０による複数のセル４６によって構成されるランダム電極パターン４８からなる導通電極５０、６０が用いられる必要があるのは、図２に示す例と同様である。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８７】
以下に、本発明を実施例に基づいて具体的に説明する。
（実施例１）
実施例１として、図９に示すように、帯状の導通電極９０に横断するように等間隔で９本の導電ポイント（端子）Ｘ１〜Ｘ１０を設け、導通電極９０を９つの領域Ｘ１−Ｘ２、Ｘ２−Ｘ３、Ｘ３−Ｘ４、Ｘ４−Ｘ５、Ｘ５−Ｘ６、Ｘ６−Ｘ７，Ｘ７−Ｘ８、Ｘ８−Ｘ９及びＸ９−Ｘ１０に分けて、各領域Ｘ１−Ｘ２〜Ｘ９−Ｘ１０のポイント間の抵抗を抵抗計により測定した。
その測定結果を表１に示す。
なお、実施例１の導通電極のランダム電極パターンでは、菱形メッシュのセル４６のピッチＰが３５２μｍであり、菱形のセル４６の一辺の傾斜角度θが３０°の定型メッシュ電極パターンの菱形のピッチＰに±１０％以内のランダム性を付与してあり、実施例１の導通電極９０における突出し量を３０μｍに設定した。また、帯状の導通電極９０の電極幅は、５ｍｍであった。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図６】
2016084449.tif 000014
【手続補正１２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図７】
2016084449.tif 000015
【手続補正１３】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図８】
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【手続補正１４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図９】
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【国際調査報告】
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