(57)【要約】  本発明は、親水性に優れ、防汚性などに優れた歯科材料、特に歯科用補綴物を提供することを目的とする。本発明の歯科用補綴物は、アニオン性親水基、およびカチオン性親水基から選ばれる少なくとも一つの親水基と、重合性炭素−炭素二重結合を有する少なくとも１つの官能基とを有する化合物（Ｉ）；重合性炭素−炭素二重結合を有する官能基を２つ以上有する化合物（ＩＩ）（ただし、アニオン性親水基、およびカチオン性親水基はいずれも有さない。）；および、アニオン性親水基、カチオン性親水基、または２つ以上の水酸基を有する親水部、および有機残基からなる疎水部を有する界面活性剤（ＩＩＩ）（ただし、重合性炭素−炭素二重結合を有さない。）を含む組成物を硬化して得られる単層膜を有する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
アニオン性親水基、およびカチオン性親水基から選ばれる少なくとも一つの親水基と、重合性炭素−炭素二重結合を有する少なくとも１つの官能基とを有する化合物（Ｉ）；
重合性炭素−炭素二重結合を有する官能基を２つ以上有する化合物（ＩＩ）（ただし、アニオン性親水基、およびカチオン性親水基はいずれも有さない。）；および
アニオン性親水基、カチオン性親水基、または２つ以上の水酸基を有する親水部、および有機残基からなる疎水部を有する界面活性剤（ＩＩＩ）（ただし、重合性炭素−炭素二重結合を有さない。）
を含む組成物を硬化して得られる単層膜を有する、歯科用補綴物。
【請求項２】
アニオン性親水基、カチオン性親水基、および水酸基から選ばれる少なくとも一つの親水基の、
表面濃度（Ｓａ）と、
単層膜の膜厚１／２地点における濃度（Ｄａ）と
から求められる傾斜度（Ｓａ／Ｄａ）が１．１以上である請求項１に記載の歯科用補綴物。
【請求項３】
前記単層膜の水接触角が３０°以下である、請求項１または２に記載の歯科用補綴物。
【請求項４】
前記単層膜の膜厚が、０．１〜１００μｍである、請求項１〜３のいずれか１項に記載の歯科用補綴物。
【請求項５】
前記単層膜が、
前記化合物(I)、化合物(II)、化合物(III)および溶剤を含む組成物を基材に塗布し、次いで溶剤を除去し、その後硬化することによって得られたものである、請求項１〜４のいずれか１項に記載の歯科用補綴物。
【請求項６】
前記塗布工程が、ディップ方法である請求項５記載の歯科用補綴物。
【請求項７】
上記化合物（Ｉ）が下記一般式（１００）で表される化合物である請求項１〜６のいずれか１項に記載の歯科用補綴物。
【化１】
2016006637.tif 000055
（上記式（１００）中、
Ａは、重合性炭素−炭素二重結合を有する官能基を１〜５個有する炭素数２〜１００の有機基を表し、
ＣＤは、下記一般式（１０１）、（１０２）および（１１２）から選ばれる、少なくとも１つの親水基を含む基を表し、
ｎは、ＣＤに結合するＡの数であり、１または２を表し、
ｎ０は、Ａに結合するＣＤの数であり、１〜５の整数を表す。）
【化２】
2016006637.tif 000056
（上記式（１０１）中、Ｍは水素原子、アルカリ金属、１／２原子のアルカリ土類金属、またはアンモニウムイオンを表し、＃１は式（１００）のＡに含まれる炭素原子に結合する結合手を表す。）
【化３】
2016006637.tif 000057
（上記式（１０２）中、Ｍは水素原子、アルカリ金属、１／２原子のアルカリ土類金属、またはアンモニウムイオンを表し、＃１は式（１００）のＡに含まれる炭素原子に結合する結合手を表す。）
【化４】
2016006637.tif 000058
（上記式（１１２）中、Ａ（−）は、ハロゲンイオン、蟻酸イオン、酢酸イオン、硫酸イオン、硫酸水素イオン、燐酸イオン、または燐酸水素イオンを表し、Ｒ6〜Ｒ8は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、アルキルアリール基、アルキルベンジル基、アルキルシクロアルキル基、アルキルシクロアルキルメチル基、シクロアルキル基、フェニル基、またはベンジル基を表し、＃１は式（１００）のＡに含まれる炭素原子に結合する結合手を表す。）
【請求項８】
上記一般式（１００）中のＡが、下記一般式（１２０）、（１２３）および（１２４）から選ばれる少なくとも１つの官能基である請求項７に記載の歯科用補綴物。
【化５】
2016006637.tif 000059
（上記式（１２０）中、Ｘは、−Ｏ−，−Ｓ−，−ＮＨ−，または−ＮＣＨ3−を表し、ｒは水素原子またはメチル基を表し、ｒ1〜ｒ4は、それぞれ独立して、水素原子、メチル基、エチル基、または水酸基を表し、ｍ１は０〜１０の整数を表し、ｎ１は０〜１００の整数を表し、＃２は上記一般式（１０１）、（１０２）および（１１２）で表される基から選ばれる少なくとも１つの基に含まれる＃１に結合する結合手を表す。）
【化６】
2016006637.tif 000060
（上記式（１２３）中、ｒは水素原子またはメチル基を表し、ｒ1およびｒ2は、独立して、水素原子、メチル基、エチル基、または水酸基を表し、ｍ１は０〜１０の整数を表し、＃２は上記一般式（１０１）、（１０２）および（１１２）で表される基から選ばれる少なくとも１つの基に含まれる＃１に結合する結合手を表す。）
【化７】
2016006637.tif 000061
（上記式（１２４）中、ｒは水素原子またはメチル基を表し、ｒ1およびｒ2は、独立して、水素原子、メチル基、エチル基、または水酸基を表し、ｍ１は０〜１０の整数を表し、ｍ２は０〜５の整数を表し、ｎ０は１〜５の整数を表し、＃２は上記一般式（１０１）、（１０２）および（１１２）で表される基から選ばれる少なくとも１つの基に含まれる＃１に結合する結合手を表す。）
【請求項９】
界面活性剤が下記一般式（３００）で表される化合物である請求項１〜８のいずれか１項に記載の歯科用補綴物。
【化８】
2016006637.tif 000062
（上記式（３００）中、
Ｒは、炭素数４〜１００の有機残基を表し、
ＦＧは、下記一般式（３０１）、（３０２）、（３１２）および（３１８）から選ばれる親水基を少なくとも１つ含む基を表し、
ｎは、ＦＧに結合するＲの数であり、１または２を表し、
ｎ０は、Ｒに結合するＦＧの数であり、１〜５の整数を表し、ＦＧが水酸基を１つ含む基である場合にはｎ０は２〜５の整数を表す。）
【化９】
2016006637.tif 000063
（上記式（３０１）中、Ｍは水素原子、アルカリ金属、１／２原子のアルカリ土類金属、またはアンモニウムイオンを表し、＃３は式（３００）のＲに含まれる炭素原子に結合する結合手を表す。）
【化１０】
2016006637.tif 000064
（上記式（３０２）中、Ｍは水素原子、アルカリ金属、１／２原子のアルカリ土類金属、またはアンモニウムイオンを表し、＃３は式（３００）のＲに含まれる炭素原子に結合する結合手を表す。）
【化１１】
2016006637.tif 000065
上記式（３１２）中、Ｘ3およびＸ4は、独立して、−ＣＨ2−、−ＣＨ（ＯＨ）−、または−ＣＯ−を表し、ｎ30は０〜３の整数を表し、ｎ50は０〜５の整数を表し、ｎ30が２以上の場合、Ｘ3同士は同一でも異なってもよく、ｎ50が２以上の場合、Ｘ4同士は同一でも異なっても良く、＃３は式（３００）のＲに含まれる炭素原子に結合する結合手を表す。
【化１２】
2016006637.tif 000066
（上記式（３１８）中、Ｒ6およびＲ7は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、アルキルアリール基、アルキルベンジル基、アルキルシクロアルキル基、アルキルシクロアルキルメチル基、シクロアルキル基、フェニル基、またはベンジル基を表し、＃３は式（３００）のＲに含まれる炭素原子に結合する結合手を表す。）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、歯科用補綴物に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、プラスチックなどの有機材料、及びガラスなどの無機材料から形成される基材の曇り、汚れに対する改善要求が高まってきている。【０００３】
曇りの問題を解決する方法として、反応性界面活性剤、アクリル系オリゴマーを含む防曇塗料により、親水性、吸水性を向上する方法が提案されている（例えば、非特許文献１参照。）。また、汚れの問題を解決する手段として、材料表面の親水性を向上させることによって、外壁等に付着した外気疎水性物質などの汚れを散水又は降雨により浮き上がらせて除去する方法が提案されている（例えば、非特許文献２及び３参照。）。【０００４】
また、基材の表面に架橋重合性モノマー組成物を塗布し紫外線照射量をコントロールして不完全に重合した架橋ポリマーを形成させ、次いで親水性モノマーを塗布し再び紫外線を照射する事により親水モノマーを架橋ポリマーの表面にブロック又はグラフト重合させる親水性材料が提案されている（特許文献１および特許文献２）。【０００５】
しかしながら、上記の単純な基材表面に親水性モノマーをブロック又はグラフト重合させる方法は、親水性基が表面にしか存在しないため、耐久性が低く長期間の使用に耐えない問題を抱えていた。【０００６】
本発明者らは、上記問題を解決する手段として、特定のアニオン性親水基が膜内部から膜表面へ傾斜（偏析）し、表面付近にアニオン性親水基が高濃度で存在する単層膜を先に提案している（特許文献３および特許文献４）。【０００７】
一方、特許文献５には、親水性基を有する単量体単位を含む主鎖を有し、該主鎖の両末端にそれぞれフルオロアルキル基を含む末端基を有する鎖状重合体からなるフッ素化合物、重合性単量体、および重合開始剤を含有する歯科用重合性組成物が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００１−９８００７号公報
【特許文献２】特開２０１１−２２９７３４号公報
【特許文献３】国際公開第２００７／０６４００３号公報
【特許文献４】国際公開第２０１２／０１４８２９号公報
【特許文献５】特許第４６７３３１０号
【非特許文献】
【０００９】
【非特許文献１】東亜合成研究年報、ＴＲＥＮＤ１９９９年  ２月号、３９〜４４頁
【非特許文献２】高分子，４４（５），３０７頁
【非特許文献３】未来材料，２（１），３６−４１頁
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、親水性に優れ、防汚性などに優れた歯科材料、特に歯科用補綴物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者らは、上記の課題を解決すべく検討を重ねた結果、特定の親水基と重合性炭素−炭素二重結合を有する官能基とを有する化合物、重合性炭素−炭素二重結合を有する官能基を２つ以上有する化合物に加えて、さらに特定の界面活性剤を含ませた組成物から、歯科用補綴物などの歯科材料として好適な、親水性に優れ、防汚性などに優れた硬化物、特に、単層膜が得られること、並びに、そのような単層膜を用いることにより、親水性に優れ、防汚性などに優れた歯科用補綴物が得られることを見出し、本発明に到達した。【００１２】
即ち、本発明は、次の［１］〜［９］に関する。【００１３】
［１］
アニオン性親水基、およびカチオン性親水基から選ばれる少なくとも一つの親水基と、重合性炭素−炭素二重結合を有する少なくとも１つの官能基とを有する化合物（Ｉ）；
重合性炭素−炭素二重結合を有する官能基を２つ以上有する化合物（ＩＩ）（ただし、アニオン性親水基、およびカチオン性親水基はいずれも有さない。）；および
アニオン性親水基、カチオン性親水基、または２つ以上の水酸基を有する親水部、および有機残基からなる疎水部を有する界面活性剤（ＩＩＩ）（ただし、重合性炭素−炭素二重結合を有さない。）
を含む組成物を硬化して得られる単層膜を有する、歯科用補綴物。【００１４】
［２］
アニオン性親水基、カチオン性親水基、および水酸基から選ばれる少なくとも一つの親水基の、
表面濃度（Ｓａ）と、
単層膜の膜厚１／２地点における濃度（Ｄａ）と
から求められる傾斜度（Ｓａ／Ｄａ）が１．１以上である前記［１］に記載の歯科用補綴物。【００１５】
［３］
前記単層膜の水接触角が３０°以下である、前記［１］または［２］に記載の歯科用補綴物。【００１６】
［４］
前記単層膜の膜厚が、０．１〜１００μｍである、前記［１］〜［３］のいずれかに記載の歯科用補綴物。【００１７】
［５］
前記単層膜が、前記化合物（Ｉ）、化合物（ＩＩ）、化合物（ＩＩＩ）および溶剤を含む組成物を基材に塗布し、次いで溶剤を除去し、その後硬化することによって得られたものである、前記［１］〜［４］のいずれかに記載の歯科用補綴物。【００１８】
［６］
前記塗布工程が、ディップ方法である前記［５］記載の歯科用補綴物。【００１９】
［７］
上記化合物（Ｉ）が下記一般式（１００）で表される化合物である前記［１］〜［６］のいずれかに記載の歯科用補綴物。【００２０】
【化１】
2016006637.tif 000002
【００２１】
（上記式（１００）中、
Ａは、重合性炭素−炭素二重結合を有する官能基を１〜５個有する炭素数２〜１００の有機基を表し、
ＣＤは、下記一般式（１０１）、（１０２）および（１１２）から選ばれる、少なくとも１つの親水基を含む基を表し、
ｎは、ＣＤに結合するＡの数であり、１または２を表し、
ｎ０は、Ａに結合するＣＤの数であり、１〜５の整数を表す。）【００２２】
【化２】
2016006637.tif 000003
【００２３】
（上記式（１０１）中、Ｍは水素原子、アルカリ金属、１／２原子のアルカリ土類金属、またはアンモニウムイオンを表し、＃１は式（１００）のＡに含まれる炭素原子に結合する結合手を表す。）【００２４】
【化３】
2016006637.tif 000004
【００２５】
（上記式（１０２）中、Ｍは水素原子、アルカリ金属、１／２原子のアルカリ土類金属、またはアンモニウムイオンを表し、＃１は式（１００）のＡに含まれる炭素原子に結合する結合手を表す。）【００２６】
【化４】
2016006637.tif 000005
【００２７】
（上記式（１１２）中、Ａ（−）は、ハロゲンイオン、蟻酸イオン、酢酸イオン、硫酸イオン、硫酸水素イオン、燐酸イオン、または燐酸水素イオンを表し、Ｒ6〜Ｒ8は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、アルキルアリール基、アルキルベンジル基、アルキルシクロアルキル基、アルキルシクロアルキルメチル基、シクロアルキル基、フェニル基、またはベンジル基を表し、＃１は式（１００）のＡに含まれる炭素原子に結合する結合手を表す。）
［８］
上記一般式（１００）中のＡが、下記一般式（１２０）、（１２３）および（１２４）から選ばれる少なくとも１つの官能基である前記［７］に記載の歯科用補綴物。【００２８】
【化５】
2016006637.tif 000006
【００２９】
（上記式（１２０）中、Ｘは、−Ｏ−，−Ｓ−，−ＮＨ−，または−ＮＣＨ3−を表し、ｒは水素原子またはメチル基を表し、ｒ1〜ｒ4は、それぞれ独立して、水素原子、メチル基、エチル基、または水酸基を表し、ｍ１は０〜１０の整数を表し、ｎ１は０〜１００の整数を表し、＃２は上記一般式（１０１）、（１０２）および（１１２）で表される基から選ばれる少なくとも１つの基に含まれる＃１に結合する結合手を表す。）【００３０】
【化６】
2016006637.tif 000007
【００３１】
（上記式（１２３）中、ｒは水素原子またはメチル基を表し、ｒ1およびｒ2は、独立して、水素原子、メチル基、エチル基、または水酸基を表し、ｍ１は０〜１０の整数を表し、＃２は上記一般式（１０１）、（１０２）および（１１２）で表される基から選ばれる少なくとも１つの基に含まれる＃１に結合する結合手を表す。）【００３２】
【化７】
2016006637.tif 000008
【００３３】
（上記式（１２４）中、ｒは水素原子またはメチル基を表し、ｒ1およびｒ2は、独立して、水素原子、メチル基、エチル基、または水酸基を表し、ｍ１は０〜１０の整数を表し、ｍ２は０〜５の整数を表し、ｎ０は１〜５の整数を表し、＃２は上記一般式（１０１）、（１０２）および（１１２）で表される基から選ばれる少なくとも１つの基に含まれる＃１に結合する結合手を表す。）
［９］
界面活性剤が下記一般式（３００）で表される化合物である前記［１］〜［８］のいずれかに記載の歯科用補綴物。【００３４】
【化８】
2016006637.tif 000009
【００３５】
（上記式（３００）中、
Ｒは、炭素数４〜１００の有機残基を表し、
ＦＧは、下記一般式（３０１）、（３０２）、（３１２）および（３１８）から選ばれる親水基を少なくとも１つ含む基を表し、
ｎは、ＦＧに結合するＲの数であり、１または２を表し、
ｎ０は、Ｒに結合するＦＧの数であり、１〜５の整数を表し、ＦＧが水酸基を１つ含む基である場合にはｎ０は２〜５の整数を表す。）【００３６】
【化９】
2016006637.tif 000010
【００３７】
（上記式（３０１）中、Ｍは水素原子、アルカリ金属、１／２原子のアルカリ土類金属、またはアンモニウムイオンを表し、＃３は式（３００）のＲに含まれる炭素原子に結合する結合手を表す。）【００３８】
【化１０】
2016006637.tif 000011
【００３９】
（上記式（３０２）中、Ｍは水素原子、アルカリ金属、１／２原子のアルカリ土類金属、またはアンモニウムイオンを表し、＃３は式（３００）のＲに含まれる炭素原子に結合する結合手を表す。）【００４０】
【化１１】
2016006637.tif 000012
【００４１】
上記式（３１２）中、Ｘ3およびＸ4は、独立して、−ＣＨ2−、−ＣＨ（ＯＨ）−、または−ＣＯ−を表し、ｎ30は０〜３の整数を表し、ｎ50は０〜５の整数を表し、ｎ30が２以上の場合、Ｘ3同士は同一でも異なってもよく、ｎ50が２以上の場合、Ｘ4同士は同一でも異なっても良く、＃３は式（３００）のＲに含まれる炭素原子に結合する結合手を表す。【００４２】
【化１２】
2016006637.tif 000013
【００４３】
（上記式（３１８）中、Ｒ6およびＲ7は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、アルキルアリール基、アルキルベンジル基、アルキルシクロアルキル基、アルキルシクロアルキルメチル基、シクロアルキル基、フェニル基、またはベンジル基を表し、＃３は式（３００）のＲに含まれる炭素原子に結合する結合手を表す。）
【発明の効果】
【００４４】
本発明の組成物によれば、歯科材料、例えば、歯科用補綴物として有用な、親水性に優れ、防汚性などに優れた硬化物、特に単層膜を提供することができる。このような単層膜を有する歯科用補綴物は、親水性に優れ、防汚性などに優れる。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】図１は、実施例において、親水基濃度（アニオン濃度）の傾斜度（Ｓａ／Ｄａ）を測定するための試料調製の方法を示す略図である。
【図２】図２は、実施例において、重合性組成物から溶剤を除去する方法を示す略図である。
【発明を実施するための形態】
【００４６】
以下、本発明について説明する。
【００４７】
〔組成物〕
本発明で用いられる組成物は、下記化合物（Ｉ）、下記化合物（ＩＩ）、および下記界面活性剤（ＩＩＩ）を含む。なお、本明細書において、説明の便宜上、この組成物は、「本発明の歯科用組成物」または「本発明の組成物」と呼ばれる場合がある。
【００４８】
＜化合物（Ｉ）＞
本発明の歯科用組成物に含まれる化合物（Ｉ）は、アニオン性親水基、およびカチオン性親水基から選ばれる少なくとも１つの親水基と、重合性炭素−炭素二重結合を有する少なくとも１つの官能基とを有する。すなわち、本発明において、化合物（Ｉ）は、親水基として、必ず、アニオン性親水基、カチオン性親水基、あるいは、アニオン性親水基とカチオン性親水基との両方を有するのである。このような親水基と炭素−炭素二重結合を有する官能基とを有する化合物が含まれる組成物を重合することにより、得られる硬化物に親水性が付与され得、親水性に優れる歯科用補綴物を得ることができる。なお、化合物（Ｉ）は、親水基として、アニオン性親水基および／またはカチオン性親水基に加えて、水酸基を有していても有していなくてもよい。
【００４９】
親水基
上記アニオン性親水基としては、例えば、スルホ基、カルボキシル基、リン酸基、Ｏ−硫酸基（−Ｏ−ＳＯ3-）、およびＮ−硫酸基（−ＮＨ−ＳＯ3-）などが挙げられる。これらアニオン性親水基の中でも、スルホ基、カルボキシル基、およびリン酸基が好ましい。ここで、本発明においては、これらのアニオン性親水基のうち、スルホ基、及びリン酸基が特に好ましい。
【００５０】
ここで、化合物（Ｉ）において、上記アニオン性親水基は、遊離酸の形態を有していてもよいし、あるいは、適当なカチオンとの塩の形態を有していてもよい。
【００５１】
したがって、典型的には、スルホ基は下記式（α）、カルボキシル基は下記式（β）、リン酸基は、下記式（γ１）または（γ２）の形で化合物（Ｉ）に含まれていればよい。ここで、本発明においては、化合物（Ｉ）がリン酸基を含む場合、このリン酸基は、下記式（γ１）の形で化合物（Ｉ）に含まれていることが好ましい。
【００５２】
−ＳＯ3Ｚ    （α）
−ＣＯＯＺ    （β）
−ＯＰ＝Ｏ（ＯＺ）2    （γ１）
（−Ｏ）2Ｐ＝Ｏ（ＯＺ）1    （γ２）
上記式（α）〜（γ２）中、Ｚは、水素イオン、アンモニウムイオン、アルカリ金属イオン、及び１／２原子のアルカリ土類金属イオンからなる群より選ばれる少なくとも１つのカチオンである。
【００５３】
なお、本発明でいうアンモニウムイオンとは、アンモニア、１級アミン、２級アミン又は３級アミンに水素イオンが結合してできた陽イオンである。上記アンモニウムイオンとしては、親水性の観点からは、アンモニア及び炭素数の少ないアミンに水素イオンが結合した陽イオンが好ましく、アンモニアに水素イオンが結合して形成されるアンモニウムイオン、メチルアンモニウムがより好ましい。
【００５４】
また、本発明でいう上記アルカリ金属は、周期表１族の金属を意味し、そのような金属としては、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウムなどが挙げられる。
【００５５】
また、本発明でいう上記アルカリ土類金属は、周期表２族の金属を意味し、そのような金属としては、例えば、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウムなどが挙げられる。
【００５６】
上記Ｚとなり得るカチオンの中でもアルカリ金属イオンが好ましく、ナトリウムイオン、カリウムイオン、及びルビジウムイオンがより好ましい。
【００５７】
上記カチオン性親水基としては、例えば、４級アンモニウム基、ベタイン基、およびアミンオキシド基などが挙げられる。これらカチオン性親水基の中でも、４級アンモニウム基およびベタイン基が好ましく、本発明においては、４級アンモニウム基が特に好ましい。
【００５８】
上記水酸基としては、本発明の効果を奏する限り、アルコール性水酸基、フェノール性水酸基のいずれであってもよいが、アルコール性水酸基が好ましい。なお、上記アニオン性親水基の中には、スルホ基、リン酸基およびカルボキシル基などのように形式上『−ＯＨ』で表される部分構造が含まれる場合があるが、本発明においては、このように上記アニオン性親水基の一部となっている『−ＯＨ』は、『水酸基』とは見なさない。
【００５９】
上記化合物（Ｉ）が有する親水基としては、アニオン性親水基が好ましい。
【００６０】
なお、化合物（Ｉ）が、親水基を２以上有する場合、これらの親水基は、同一であっても良く、あるいは、互いに異なっていてもよい。
【００６１】
重合性炭素−炭素二重結合を有する官能基
重合性炭素−炭素二重結合を有する官能基としては、その官能基がラジカル重合またはイオン重合可能であれば特に制限はないが、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、アクリロイルチオ基、メタクリロイルチオ基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基、アリル基、ビニル基、イソプロペニル基、マレイル基（−ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯ−）、イタコニル基（−ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯ−）、およびスチリル基などが挙げられる。なお、本明細書中、アクリロイルとメタクリロイルとを総称して（メタ）アクリロイル、アクリロイルオキシとメタクリロイルオキシとを総称して（メタ）アクリロイルオキシ、アクリロイルチオとメタクリロイルチオとを総称して（メタ）アクリロイルチオ、アクリルアミドとメタクリルアミドとを総称して（メタ）アクリルアミドと称することもある。
【００６２】
なお、化合物（Ｉ）が、『重合性炭素−炭素二重結合を有する官能基』を２以上有する場合、これらの官能基は、同一であっても良く、あるいは、互いに異なっていてもよい。
【００６３】
化合物（Ｉ）の好適な態様
本発明で用いられる化合物（Ｉ）は、上述したような親水基と、重合性炭素−炭素二重結合を有する官能基を有する化合物であり、化合物（Ｉ）に含まれる「親水基」及び「重合性炭素−炭素二重結合を有する官能基」の数は、いずれも、１つであっても良く、２以上であっても良い。
【００６４】
ここで、本発明においては、上記化合物（Ｉ）が下記一般式（１００）で表される化合物であることが好ましい。
【００６５】
【化１３】
2016006637.tif 000014
【００６６】
上記式（１００）中、
Ａは、重合性炭素−炭素二重結合を有する官能基を１〜５個有する炭素数２〜１００の有機基を表し、
ＣＤは、下記一般式（１０１）、（１０２）および（１１２）から選ばれる、少なくとも１つの親水基を含む基を表し、
ｎは、ＣＤに結合するＡの数であり、１または２を表し、
ｎ０は、Ａに結合するＣＤの数であり、１〜５の整数を表す。
【００６７】
上記ＣＤとなる、アニオン性親水基を含む基としては、例えば、下記一般式（１０１）および（１０２）で表される親水基が挙げられる。
【００６８】
【化１４】
2016006637.tif 000015
【００６９】
上記式（１０１）中、Ｍは水素原子、アルカリ金属、１／２原子のアルカリ土類金属、またはアンモニウムイオンを表し、＃１は式（１００）のＡに含まれる炭素原子に結合する結合手を表す。
【００７０】
【化１５】
2016006637.tif 000016
【００７１】
上記式（１０２）中、Ｍは水素原子、アルカリ金属、１／２原子のアルカリ土類金属、またはアンモニウムイオンを表し、＃１は式（１００）のＡに含まれる炭素原子に結合する結合手を表す。
【００７２】
上記ＣＤとなる、カチオン性親水基を含む基としては、例えば、下記一般式（１１２）で表される親水基が挙げられる。
【００７３】
【化１６】
2016006637.tif 000017
【００７４】
上記式（１１２）中、Ａ（−）は、ハロゲンイオン、蟻酸イオン、酢酸イオン、硫酸イオン、硫酸水素イオン、燐酸イオン、または燐酸水素イオンを表し、Ｒ6〜Ｒ8は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、アルキルアリール基、アルキルベンジル基、アルキルシクロアルキル基、アルキルシクロアルキルメチル基、シクロアルキル基、フェニル基、またはベンジル基を表し、＃１は式（１００）のＡに含まれる炭素原子に結合する結合手を表す。
【００７５】
上記式（１００）中の、Ａとしては、下記一般式（１２０）、（１２３）および（１２４）から選ばれる、少なくとも１つの重合性炭素−炭素二重結合を有する官能基であることが好ましく、その中でも、炭素数２〜１００の有機基がより好ましい。すなわち、Ａとして好適に用いられる官能基は、下記一般式（１２０）、（１２３）および（１２４）から選ばれる少なくとも１つである。
【００７６】
【化１７】
2016006637.tif 000018
【００７７】
上記式（１２０）中、Ｘは、−Ｏ−，−Ｓ−，−ＮＨ−，または−ＮＣＨ3−を表し、ｒは水素原子またはメチル基を表し、ｒ1〜ｒ4は、それぞれ独立して、水素原子、メチル基、エチル基、または水酸基を表し、ｍ１は０〜１０の整数を表し、ｎ１は０〜１００の整数を表し、＃２は上記一般式（１０１）、（１０２）および（１１２）で表される基から選ばれる少なくとも１つの基に含まれる＃１に結合する結合手を表す。
【００７８】
【化１８】
2016006637.tif 000019
【００７９】
上記式（１２３）中、ｒは水素原子またはメチル基を表し、ｒ1およびｒ2は、独立して、水素原子、メチル基、エチル基、または水酸基を表し、ｍ１は０〜１０の整数を表し、＃２は上記一般式（１０１）、（１０２）および（１１２）で表される基から選ばれる少なくとも１つの基に含まれる＃１に結合する結合手を表す。
【００８０】
【化１９】
2016006637.tif 000020
【００８１】
上記式（１２４）中、ｒは水素原子またはメチル基を表し、ｒ1およびｒ2は、独立して、水素原子、メチル基、エチル基、または水酸基を表し、ｍ１は０〜１０の整数、ｍ２は、独立して、０〜５の整数を表し、ｎ０は１〜５の整数を表し、＃２は上記一般式（１０１）、（１０２）および（１１２）で表される基から選ばれる少なくとも１つの基に含まれる＃１に結合する結合手を表す。
【００８２】
上記化合物（Ｉ）となるアニオン性親水基を有する化合物としては、下記一般式（Ｉａ）、（Ｉｃ）、（Ｉｄ）および（Ｉｌ）のいずれかで表される化合物が好ましい。
【００８３】
【化２０】
2016006637.tif 000021
【００８４】
上記式（Ｉａ）中、Ｘは、−Ｏ−，−Ｓ−，−ＮＨ−，または−ＮＣＨ3−を表し、ｒは水素原子またはメチル基を表し、ｒ1〜ｒ4は、それぞれ独立して、水素原子、メチル基、エチル基、または水酸基を表し、ｍ１は０〜１０の整数を表し、ｎ１は０〜１００の整数を表し、Ｍは、水素イオン、アンモニウムイオン、アルカリ金属イオン、または１／２原子のアルカリ土類金属イオンを表す。
【００８５】
上記一般式（Ｉａ）で表される化合物としては、例えば、１−（メタ）アクリロイルオキシメチルスルホン酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルスルホン酸、２−（メタ）アクリロイルチオエチルスルホン酸、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルスルホン酸、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルスルホン酸、３−（メタ）アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル−１−スルホン酸、４−（メタ）アクリロイルオキシブチルスルホン酸、５−（メタ）アクリロイルオキシ−３−オキサペンチルスルホン酸、５−（メタ）アクリロイルオキシ−３−チアペンチルスルホン酸、６−（メタ）アクリロイルオキシヘキシルスルホン酸、８−（メタ）アクリロイルオキシ−３，６−ジオキサオクチルスルホン酸、（メタ）アクリルアミドメチルスルホン酸、（メタ）アクリルチオメチルスルホン酸、２−（メタ）アクリルチオエチルスルホン酸、３−（メタ）アクリルチオプロピルスルホン酸、（メタ）アクリルアミドメチルスルホン酸、２−（メタ）アクリルアミドエチルスルホン酸、２−（メタ）アクリルアミド−Ｎ−メチル−エチルスルホン酸、３−（メタ）アクリルアミドプロピル−１−スルホン酸、２−（メタ）アクリルアミドプロピル−１−スルホン酸、および２−（メタ）アクリルアミド−２−メチル−プロパンスルホン酸（（メタ）アクリルアミド−ｔ−ブチルスルホン酸）、並びに、これらのリチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩、ルビジウム塩、アンモニウム塩、マグネシウム塩、およびカルシウム塩などが挙げられる。
【００８６】
【化２１】
2016006637.tif 000022
【００８７】
上記式（Ｉｃ）中、ｒは水素原子またはメチル基を表し、ｒ1およびｒ2は、独立して、水素原子、メチル基、エチル基、または水酸基を表し、ｍ１は０〜１０の整数を表し、Ｍは、水素イオン、アンモニウムイオン、アルカリ金属イオン、または１／２原子のアルカリ土類金属イオンを表し、ｎ１は1〜１０の整数を表す。
【００８８】
上記一般式（Ｉｃ）で表される化合物としては、例えば、ビニルスルホン酸、イソプロペニルスルホン酸、アリルスルホン酸、メタリルスルホン酸、および５，６−ヘキセニル−１−スルホン酸、並びに、これらのリチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩、ルビジウム塩、アンモニウム塩、マグネシウム塩、およびカルシウム塩などが挙げられる。
【００８９】
【化２２】
2016006637.tif 000023
【００９０】
上記式（Ｉｄ）中、ｒは水素原子またはメチル基を表し、ｒ1およびｒ2は、独立して、水素原子、メチル基、エチル基、または水酸基を表し、ｍ１は０〜１０の整数、ｍ２は０〜５の整数を表し、ｎ０は１〜５の整数を表し、Ｍは、水素イオン、アンモニウムイオン、アルカリ金属イオン、または１／２原子のアルカリ土類金属イオンを表し、ｎ１は1〜１０の整数を表す。
【００９１】
上記一般式（Ｉｄ）で表される化合物としては、例えば、
スチレンスルホン酸、イソプロペニルベンゼンスルホン酸、アリルベンゼンスルホン酸、メタリルベンゼンスルホン酸、ビニルナフタレンスルホン酸、イソプロペニルナフタレンスルホン酸、アリルナフタレンスルホン酸、メタリルナフタレンスルホン酸、ビニルアントラセンスルホン酸、イソプロペニルアントラセンスルホン酸、アリルアントラセンスルホン酸、メタリルアントラセンスルホン酸、ビニルフェナントレンスルホン酸、イソプロペニルフェナントレンスルホン酸、アリルフェナントレンスルホン酸、およびメタリルフェナントレンスルホン酸、並びに、これらのリチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩、ルビジウム塩、アンモニウム塩、マグネシウム塩、およびカルシウム塩；
スチレンジスルホン酸、並びに、これらのジリチウム塩、ジナトリウム塩、ジカリウム塩、ジルビジウム塩、ジアンモニウム塩、マグネシウム塩、およびカルシウム塩；
イソプロペニルベンゼンジスルホン酸、並びに、これらのリチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩、ルビジウム塩、アンモニウム塩、マグネシウム塩、およびカルシウム塩；
ビニルナフタレントリスルホン酸、並びに、これらのトリリチウム塩、トリナトリウム塩、トリカリウム塩、トリルビジウム塩、トリアンモニウム塩、マグネシウム塩、およびカルシウム塩；並びに、
イソプロペニルナフタレントリスルホン酸、並びに、これらのジリチウム塩、ジナトリウム塩、ジカリウム塩、ジルビジウム塩、ジアンモニウム塩、マグネシウム塩、およびカルシウム塩
などが挙げられる。
【００９２】
【化２３】
2016006637.tif 000024
【００９３】
上記式（Ｉｌ）中、Ｘは、−Ｏ−，−Ｓ−，−ＮＨ−，または−ＮＣＨ3−を表し、ｒは水素原子またはメチル基を表し、ｒ1〜ｒ4は、それぞれ独立して、水素原子、メチル基、エチル基、または水酸基を表し、ｍ１は０〜１０の整数を表し、ｎ１は０〜１００の整数を表し、Ｍは、水素イオン、アンモニウムイオン、アルカリ金属イオン、または１／２原子のアルカリ土類金属イオンを表す。ａは１且つｂは２であり、Ｍ同士は互いに同一でも異なっていてもよい。
【００９４】
上記一般式（Ｉｌ）で表される化合物としては、例えば、
（メタ）アクリロイルオキシメチルリン酸、２−（メタ）アクリロイルオキシ−エチルリン酸、２−（メタ）アクリロイルオキシ−プロピルリン酸、３−（メタ）アクリロイルオキシ−プロピルリン酸、４−（メタ）アクリロイルオキシ−ブチルリン酸、６−（メタ）アクリロイルオキシ−ヘキシルリン酸、５−（メタ）アクリロイルオキシ−３−オキサペンチルリン酸、および８−（メタ）アクリロイルオキシ−３，６−ジオキサオクチルリン酸、並びに、これらのリチウム塩、ジリチウム塩、ナトリウム塩、ジナトリウム塩、カリウム塩、ジカリウム塩、アンモニウム塩、ジアンモニウム塩、マグネシウム塩、およびカルシウム塩などが挙げられる。
【００９５】
上記化合物（Ｉ）となるカチオン性親水基を有する化合物としては、下記一般式（Ｉｒ）で表される化合物が好ましい。
【００９６】
【化２４】
2016006637.tif 000025
【００９７】
上記式（Ｉｒ）中、Ｘは、−Ｏ−，−Ｓ−，−ＮＨ−，または−ＮＣＨ3−を表し、ｒ1〜ｒ4は、それぞれ独立して、水素原子、メチル基、エチル基、または水酸基を表す。ｍ１は０〜１０の整数を表し、ｎ１は０〜１００の整数を表し、ｎ１が２以上の場合は、ｒ1同士〜ｒ4同士、およびＸ同士は、互いに同一でも異なってもよく、Ａ（−）は、ハロゲンイオン、蟻酸イオン、酢酸イオン、硫酸イオン、硫酸水素イオン、燐酸イオン、または燐酸水素イオンを表し、Ｒ6〜Ｒ8は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、アルキルアリール基、アルキルベンジル基、アルキルシクロアルキル基、アルキルシクロアルキルメチル基、シクロアルキル基、フェニル基、またはベンジル基を表す。
【００９８】
上記一般式（Ｉｒ）で表される化合物としては、例えば、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ−プロピル−２−（メタ）アクリレート、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ−プロピル−３−（メタ）アクリレート、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ−ブチル−４−（メタ）アクリレート、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ−ヘキシル−６−（メタ）アクリレート、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ−オクチル−８−（メタ）アクリレート、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ−３−オキサペンチル−５−（メタ）アクリレート、
Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、
Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノエチル（メタ）アクリレート、
３−（メタ）アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル−１−トリエチルアンモニウム、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリルアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ−プロピル−２−（メタ）アクリルアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ−プロピル−３−（メタ）アクリルアミド、および
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ−ブチル−４−（メタ）アクリルアミド、
の各塩酸塩、臭化水素塩、硫酸塩、蟻酸塩、酢酸塩、およびリン酸塩などが挙げられる。
【００９９】
上記化合物（Ｉ）の分子量は、通常７２〜１８,０００、好ましくは７２〜３，０００、より好ましくは７２〜１０００である。
【０１００】
上記化合物（Ｉ）は１種単独で用いてもよいし、２種以上混合して用いてもよい。
【０１０１】
なお、本発明の組成物には上記化合物（Ｉ）が含まれるが、上記化合物（Ｉ）の少なくとも一部が反応してオリゴマーの形になって上記組成物に含まれていてもよい。なお、ここでいうオリゴマーとは上記化合物（Ｉ）から形成される繰り返し単位を通常２〜２０含むものである。
【０１０２】
上記化合物（Ｉ）は公知の方法又は公知に準ずる方法により製造できる。また、上記化合物（Ｉ）は市販品としても入手できる。
【０１０３】
＜化合物（ＩＩ）＞
本発明の歯科用組成物に含まれる化合物（ＩＩ）は、重合性炭素−炭素二重結合を有する官能基を２個以上有する。ただし、化合物（ＩＩ）は、水酸基を有していてもよいが、アニオン性親水基、およびカチオン性親水基はいずれも有さず、化合物（Ｉ）とは異なる。このような化合物が含まれた組成物を硬化することにより、十分に架橋した硬化物が得られ得る。
【０１０４】
ここで、本発明において化合物（ＩＩ）を構成する「重合性炭素−炭素二重結合を有する官能基」として、上記化合物（Ｉ）を構成する重合性炭素−炭素二重結合を有する官能基と同様のものが挙げられる。ただ、本発明における典型的な態様においては、化合物（ＩＩ）を構成する「重合性炭素−炭素二重結合を有する官能基」として、（メタ）アクリロイル基が好適に用いられる。なお、（メタ）アクリロイルは、アクリロイルとメタクリロイルの総称である。
【０１０５】
上記（メタ）アクリロイル基としては、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリロイルチオ基、および（メタ）アクリルアミド基等が挙げられる。これら（メタ）アクリロイル基の中でも、（メタ）アクリロイルオキシ基および（メタ）アクリロイルチオ基が好ましい。
【０１０６】
上記化合物（ＩＩ）の中でも、１個以上の水酸基と２個以上の（メタ）アクリロイル基とを有する化合物、エーテル結合およびチオエーテル結合から選ばれる１個以上の結合と２個以上の（メタ）アクリロイル基とを有する化合物、１個以上のエステル結合（ただし、（メタ）アクリロイル基と直接結合した部分のエステル結合を除く。）と２個以上の（メタ）アクリロイル基とを有する化合物、脂環族基および芳香族基から選ばれる１個以上の基と２個以上の（メタ）アクリロイル基とを有する化合物、１個以上のヘテロ環と２個以上の（メタ）アクリロイル基とを有する化合物が好ましい。
【０１０７】
上記化合物（ＩＩ）としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，２−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、２−メチル−１，８−オクタンジオールジ（メタ）アクリレート、２−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、１，２−ビス｛３−（メタ）アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシ−プロピルオキシ｝エタン、１，２−ビス｛３−（メタ）アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシ−プロピルオキシ｝プロパン、１，３−ビス｛３−（メタ）アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシ−プロピルオキシ｝プロパン、１，４−ビス｛３−（メタ）アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシ−プロピルオキシ｝プタン、１，６−ビス｛３−（メタ）アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシ−プロピルオキシ｝ヘキサン；ネオペンチルグリコールヒドロキシピバリン酸ジ（メタ）アクリレート；ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，２−ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，３−ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ポリブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール−ビス｛３−（メタ）アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシ−プロピル｝エーテル、１，２−ポリプロピレングリコール−ビス｛３−（メタ）アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシ−プロピル｝エーテル；１，２−ポリプロピレングリコール−ビス｛（メタ）アクリロイル−ポリ（オキシエチレン）｝エーテル；１，３−ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ポリブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ポリブチレングリコール−ビス｛３−（メタ）アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシ−プロピル｝エーテルなどが挙げられる。
【０１０８】
また上記化合物（ＩＩ）としては、例えば、ビス｛２−（メタ）アクリロイルチオ−エチル｝スルフィド、ビス｛５−（メタ）アクリロイルチオ−３−チアペンチル｝スルフィド；シクロヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ビス｛（メタ）アクリロイルオキシ−メチル｝シクロヘキサン、ビス｛７−（メタ）アクリロイルオキシ−２，５−ジオキサヘプチル｝シクロヘキサン、ビス｛（メタ）アクリロイルオキシ−ポリ（エチレンオキシ）−メチル｝シクロヘキサン；トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート；２−プロペノイックアシッド｛２−（１，１，−ジメチル−２−｛（１−オキソ−２−プロペニル）オキシ｝エチル）−５−エチル−１，３−ジオキサン−５−イル｝メチルエステル（日本化薬社製，商品名「ＫＡＹＡＲＡＤ Ｒ−６０４」）；Ｎ，Ｎ'，Ｎ"−トリス｛２−（メタ）アクリロイルオキシ−エチル｝イソシアヌレート；キシリレンジオールジ（メタ）アクリレート、ビス｛７−（メタ）アクリロイルオキシ−２，５−ジオキサヘプチル｝ベンゼン、ビス｛（メタ）アクリロイルオキシ−ポリ（エチレンオキシ）−メチル｝ベンゼン；ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ビス｛（メタ）アクリロイル−オキシエチル｝ビスフェノールＡ、ビス｛（メタ）アクリロイル−オキシプロピル｝ビスフェノールＡ、ビス｛（メタ）アクリロイル−ポリ（オキシエチレン）｝ビスフェノールＡ、ビス｛（メタ）アクリロイル−ポリ（オキシ−１，２−プロピレン）｝ビスフェノールＡ、ビス｛３−（メタ）アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシ−プロピル｝ビスフェノールＡ、ビス｛３−（メタ）アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシ−プロピルーオキシエチル｝ビスフェノールＡ、ビス｛３−（メタ）アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシ−プロピル−オキシプロピル｝ビスフェノールＡ、ビス｛３−（メタ）アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシ−プロピル−ポリ（オキシエチレン）｝ビスフェノールＡ、ビス｛３−（メタ）アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシ−プロピル−ポリ（オキシ−１，２−プロピレン）｝ビスフェノールＡ；ビス｛（メタ）アクリロイル−オキシエチル−オキシプロピル｝ビスフェノールＡ、ビス｛（メタ）アクリロイルポリ（オキシエチレン）−ポリ（オキシ−１，２−プロピレン）｝ビスフェノールＡ；ナフタレンジオールジ（メタ）アクリレート、ビス｛３−（メタ）アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシ−プロピル−オキシ｝ナフタレン；９，９−フルオレンジオールジ（メタ）アクリレート、９，９−ビス｛４−（２−（メタ）アクリロイルオキシ−エチル−オキシ）｝フルオレン、９，９−ビス｛３−フェニル−４−（メタ）アクリロイルオキシ−ポリ（エチレンオキシ）｝フルオレン；などが挙げられる。
【０１０９】
さらに上記化合物（ＩＩ）としては、例えば、フェノールノボラック型エポキシ（メタ）アクリレート（新中村化学製，商品名「ＮＫオリゴ ＥＡ−６３２０，ＥＡ−７１２０，ＥＡ−７４２０」）；グリセリン−１，３−ジ（メタ）アクリレート、１−アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシ−３−メタクリロイルオキシ−プロパン、２，６，１０−トリヒドロキシ−４，８−ジオキサウンデカン−１，１１−ジ（メタ）アクリレート、１，３−ビス｛３−（メタ）アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシ−プロピル−オキシ｝−２−ヒドロキシプロパン、１，２，３−トリス｛３−（メタ）アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシ−プロピル−オキシ｝プロパン、１，２，３−トリス｛２−（メタ）アクリロイルオキシ−エチル−オキシ｝プロパン、１，２，３−トリス｛２−（メタ）アクリロイルオキシ−プロピル−オキシ｝プロパン、１，２，３−トリス｛（メタ）アクリロイルオキシ−ポリ（１，２−エチレンオキシ）｝プロパン、１，２，３−トリス｛（メタ）アクリロイルオキシ−ポリ（１，２−プロピレンオキシ）｝プロパン、１，２，３−トリス｛（メタ）アクリロイルオキシ−ポリ（１，３−プロピレンオキシ）｝プロパン；トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン−トリス｛（メタ）アクリロイルオキシ−エチル−オキシ｝エーテル、トリメチロールプロパン−トリス｛２−（メタ）アクリロイルオキシ−プロピル−オキシ｝エーテル、トリメチロールプロパン−トリス｛（メタ）アクリロイルオキシ−ポリ（エチレンオキシ）｝エーテル、トリメチロールプロパン−トリス｛（メタ）アクリロイルオキシ−ポリ（１，２−プロピレンオキシ）｝エーテル、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール−テトラキス｛（メタ）アクリロイルオキシ−エチル−オキシ｝エーテル、ペンタエリスリトール−テトラキス｛２−（メタ）アクリロイルオキシ−プロピル−オキシ｝エーテル、ペンタエリスリトール−テトラキス｛（メタ）アクリロイルオキシ−ポリ（エチレンオキシ）｝エーテル、ペンタエリスリトール−テトラキス｛（メタ）アクリロイルオキシ−ポリ（１，２−プロピレンオキシ）｝エーテル；ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパン−テトラキス｛（メタ）アクリロイルオキシ−エチル−オキシ｝エーテル、ジトリメチロールプロパン−テトラキス｛２−（メタ）アクリロイルオキシ−プロピル−オキシ｝エーテル、ジトリメチロールプロパン−テトラキス｛（メタ）アクリロイルオキシ−ポリ（エチレンオキシ）｝エーテル、ジトリメチロールプロパン−テトラキス｛（メタ）アクリロイルオキシ−ポリ（１，２−プロピレンオキシ）｝エーテル、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトール−ヘキサ｛（メタ）アクリロイルオキシ−エチル−オキシ｝エーテル、ジペンタエリスリトール−ヘキサ｛２−（メタ）アクリロイルオキシ−プロピル−オキシ｝エーテル、ジペンタエリスリトール−ヘキサ｛（メタ）アクリロイルオキシ−ポリ（エチレ��オキシ）｝エーテル、ジペンタエリスリトール−ヘキサ｛（メタ）アクリロイルオキシ−ポリ（１，２−プロピレンオキシ）｝エーテル；等が挙げられる。
【０１１０】
加えて、上記化合物（ＩＩ）としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、または４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートとヘキサメチレンジイソシアナートとのウレタン反応物；２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、または４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートとイソホロンジイソシアナートとのウレタン反応物；２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、または４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートとビス（イソシアナトメチル）ノルボルナンとのウレタン反応物；２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、または４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートとノルビス（４−イソシアナトシクロヘキシル）メタンとのウレタン反応物；２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、または４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートと１，３−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサンとのウレタン反応物；２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、または４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートとｍ−キシリレンジイソシアナートとのウレタン反応物；等が挙げられる。
【０１１１】
上記化合物（ＩＩ）は１種単独で用いてもよいし、２種以上混合して用いてもよい。また、これら化合物（ＩＩ）は、公知の方法、または公知の方法に準ずる方法により製造できるが、市販品として入手することもできる。
【０１１２】
化合物（Ｉ）および化合物（ＩＩ）の配合比率は、化合物（Ｉ）および化合物（ＩＩ）の重量に対して、化合物（Ｉ）が０．１〜５０重量％、化合物（ＩＩ）が９９．９〜５０重量％含まれていることが好ましく、化合物（Ｉ）が０．３〜３０重量％、化合物（ＩＩ）が９９．７〜７０重量％含まれていることがより好ましく、化合物（Ｉ）が０．５〜２０重量％、化合物（ＩＩ）が９９．５〜８０重量％含まれていることがさらに好ましい。
【０１１３】
＜界面活性剤（ＩＩＩ）＞
本発明の歯科用組成物には、上記化合物（Ｉ）および化合物（ＩＩ）に加えて、界面活性剤（ＩＩＩ）も含まれる。ここで、本発明の歯科用組成物を構成する界面活性剤（ＩＩＩ）は、アニオン性親水基、カチオン性親水基、または２つ以上の水酸基を有する親水部、および有機残基からなる疎水部を有するが、重合性炭素−炭素二重結合を有さない。このような界面活性剤（ＩＩＩ）を含む組成物を硬化することにより、得られる硬化物の表面に上記化合物（Ｉ）に由来する親水基が濃縮されやすくなり、例えば硬化物が単層膜である場合には、その表面に親水基が傾斜しやすくなる。
【０１１４】
上記界面活性剤の中でも、下記一般式（３００）で表される化合物が好ましい。
【０１１５】
【化２５】
2016006637.tif 000026
【０１１６】
上記式（３００）中、
Ｒは、炭素数４〜１００の有機残基を表し、
ＦＧは、アニオン性親水基、カチオン性親水基、および水酸基から選ばれる少なくとも１つの基を含む親水基を表し、
ｎは、ＦＧに結合するＲの数であり、１または２を表し、
ｎ０は、Ｒに結合するＦＧの数であり、１〜５の整数を表し、ＦＧが水酸基を１つ含む基である場合にはｎ０は２〜５の整数を表す。
【０１１７】
このように、ＦＧは、アニオン性親水基、カチオン性親水基、および水酸基から選ばれる親水基を少なくとも１つ含む。
【０１１８】
上記ＦＧとなる、アニオン性親水基を含む基としては、例えば、下記一般式（３０１）および（３０２）のいずれかで表される親水基が挙げられる。
【０１１９】
【化２６】
2016006637.tif 000027
【０１２０】
上記式（３０１）中、Ｍは水素原子、アルカリ金属、１／２原子のアルカリ土類金属、またはアンモニウムイオンを表し、＃３は式（３００）のＲに含まれる炭素原子に結合する結合手を表す。
【０１２１】
【化２７】
2016006637.tif 000028
【０１２２】
上記式（３０２）中、Ｍは水素原子、アルカリ金属、１／２原子のアルカリ土類金属、またはアンモニウムイオンを表し、＃３は式（３００）のＲに含まれる炭素原子に結合する結合手を表す。
【０１２３】
ＦＧが上記一般式（３０１）で表される界面活性剤としては、例えば、アルキルスルホン酸系界面活性剤、アルケニルスルホン酸系界面活性剤（ただし、その界面活性剤に含まれるアルケニル基は重合性ではない。）、アルキル酢酸スルホン酸系界面活性剤、Ｎ−アシル化スルホン酸系界面活性剤、ヒドロキシアルカンスルホン酸系界面活性剤、アリールスルホン酸系界面活性剤、スルホコハク酸エステル系界面活性剤などが挙げられる。
【０１２４】
アルキルスルホン酸系界面活性剤としては、例えば、ブチルスルホン酸、ペンチルスルホン酸、ヘキシルスルホン酸、ヘプチルスルホン酸、オクチルスルホン酸、ノニルスルホン酸、デシルスルホン酸、ウンデシルスルホン酸、ドデシルスルホン酸、トリデシルスルホン酸、テトラデシルスルホン酸、ペンタデシルスルホン酸、ヘキサデシルスルホン酸、ヘプタデシルスルホン酸、オクタデシルスルホン酸、ノナデシルスルホン酸、およびイコサニルスルホン酸、並びに、これらのナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩、マグネシウム塩、およびカルシウム塩などが挙げられる。
【０１２５】
アルケニルスルホン酸系界面活性剤としては、例えば、ブチニルスルホン酸、ヘキシニルスルホン酸、オクチニルスルホン酸、デシニルスルホン酸、ドデシニルスルホン酸、テトラデシニルスルホン酸、ヘキサデシニルスルホン酸、オクタデシニルスルホン酸、イコサニニルスルホン酸、ブチニルオキシスルホン酸、ヘキシニルオキシスルホン酸、オクチニルオキシスルホン酸、デシニルオキシスルホン酸、ドデシニルオキシスルホン酸、テトラデシニルオキシスルホン酸、ヘキサデシニルオキシスルホン酸、オクタデシニルオキシスルホン酸、イコサニニルオキシスルホン酸、ブチニルオキシ−３−オキサペンチルスルホン酸、ヘキシニルオキシ−３−オキサペンチルスルホン酸、オクチニルオキシ−３−オキサペンチルスルホン酸、デシニルオキシ−３−オキサペンチルスルホン酸、ドデシニルオキシ−３−オキサペンチルスルホン酸、テトラデシニルオキシ−３−オキサペンチルスルホン酸、ヘキサデシニルオキシ−３−オキサペンチルスルホン酸、オクタデシニルオキシ−３−オキサペンチルスルホン酸、イコサニニルオキシ−３−オキサペンチルスルホン酸、ブチニルオキシ−３，６−ジオキサオクチルスルホン酸、ヘキシニルオキシ−３，６−ジオキサオクチルスルホン酸、オクチニルオキシ−３，６−ジオキサオクチルスルホン酸、デシニルオキシ−３，６−ジオキサオクチルスルホン酸、ドデシニルオキシ−３，６−ジオキサオクチルスルホン酸、テトラデシニルオキシ−３，６−ジオキサオクチルスルホン酸、ヘキサデシニルオキシ−３，６−ジオキサオクチルスルホン酸、オクタデシニルオキシ−３，６−ジオキサオクチルスルホン酸、イコサニニルオキシ−３，６−ジオキサオクチルスルホン酸、ブチニルオキシ−３，６，９−トリオキサウンデシルスルホン酸、ヘキシニルオキシ−３，６，９−トリオキサウンデシルスルホン酸、オクチニルオキシ−３，６，９−トリオキサウンデシルスルホン酸、デシニルオキシ−３，６，９−トリオキサウンデシルスルホン酸、ドデシニルオキシ−３，６，９−トリオキサウンデシルスルホン酸、テトラデシニルオキシ−３，６，９−トリオキサウンデシルスルホン酸、ヘキサデシニルオキシ−３，６，９−トリオキサウンデシルスルホン酸、オクタデシニルオキシ−３，６，９−トリオキサウンデシルスルホン酸、およびイコサニニルオキシ−３，６，９−トリオキサウンデシルスルホン酸、並びに、これらのナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩、トリエタノールアミン塩、マグネシウム塩、およびカルシウム塩などが挙げられる。
【０１２６】
アルキル酢酸スルホン酸系界面活性剤としては、例えば、α−スルホ酢酸エチル、α−スルホ酢酸プロピル、α−スルホ酢酸ブチル、α−スルホ酢酸ペンチル、α−スルホ酢酸ヘキシル、α−スルホ酢酸ヘプチル、α−スルホ酢酸オクチル、α−スルホ酢酸ノニル、α−スルホ酢酸デシル、α−スルホ酢酸ドデシル、α−スルホ酢酸テトラデシル、α−スルホ酢酸ヘキサデシル、α−スルホ酢酸オクタデシル、およびα−スルホ酢酸イコシル、並びに、それらのナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩、マグネシウム塩、およびカルシウム塩などが挙げられる。
【０１２７】
Ｎ−アシル化スルホン酸系界面活性剤としては、例えば、２−ヘキシル酸アミド−エタンスルホン酸、２−オクチル酸アミド−エタンスルホン酸、２−ラウリン酸アミド−エタンスルホン酸、２−ミリスチン酸アミド−エタンスルホン酸、２−バルミチン酸アミド−エタンスルホン酸、２−ステアリン酸アミド−エタンスルホン酸、２−オレイン酸アミド−エタンスルホン酸、２−ベヘニン酸アミド−エタンスルホン酸、Ｎ−メチル−２−ヘキシル酸アミド−エタンスルホン酸、Ｎ−メチル−２−オクチル酸アミド−エタンスルホン酸、Ｎ−メチル−２−ラウリン酸アミド−エタンスルホン酸、Ｎ−メチル−２−ミリスチン酸アミド−エタンスルホン酸、Ｎ−メチル−２−バルミチン酸アミド−エタンスルホン酸、Ｎ−メチル−２−ステアリン酸アミド−エタンスルホン酸、Ｎ−メチル−２−オレイン酸アミド−エタンスルホン酸、Ｎ−メチル−２−ベヘニン酸アミド−エタンスルホン酸、３−ヘキシル酸アミド−プロパンスルホン酸、３−オクチル酸アミド−プロパンスルホン酸、３−ラウリン酸アミド−プロパンスルホン酸、３−ミリスチン酸アミド−プロパンスルホン酸、３−バルミチン酸アミド−プロパンスルホン酸、３−ステアリン酸アミド−プロパンスルホン酸、３−オレイン酸アミド−プロパンスルホン酸、および３−ベヘニン酸アミド−プロパンスルホン酸、並びに、それらのナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩、マグネシウム塩、およびカルシウム塩などが挙げられる。
【０１２８】
ヒドロキシアルカンスルホン酸系界面活性剤としては、例えば、２−ヒドロキシブチルスルホン酸、２−ヒドロキシペンチルスルホン酸、２−ヒドロキシヘキシルスルホン酸、２−ヒドロキシヘプチルスルホン酸、２−ヒドロキシオクチルスルホン酸、２−ヒドロキシノニルスルホン酸、２−ヒドロキシデシルスルホン酸、２−ヒドロキシウンデシルスルホン酸、２−ヒドロキシドデシルスルホン酸、２−ヒドロキシトリデシルスルホン酸、２−ヒドロキシテトラデシルスルホン酸、２−ヒドロキシペンタデシルスルホン酸、２−ヒドロキシヘキサデシルスルホン酸、２−ヒドロキシヘプタデシルスルホン酸、２−ヒドロキシオクタデシルスルホン酸、２−ヒドロキシノナデシルスルホン酸、２−ヒドロキシイコサニルスルホン酸、３−ヒドロキシブチルスルホン酸、３−ヒドロキシペンチルスルホン酸、３−ヒドロキシヘキシルスルホン酸、３−ヒドロキシヘプチルスルホン酸、３−ヒドロキシオクチルスルホン酸、３−ヒドロキシノニルスルホン酸、３−ヒドロキシデシルスルホン酸、３−ヒドロキシウンデシルスルホン酸、３−ヒドロキシドデシルスルホン酸、３−ヒドロキシトリデシルスルホン酸、３−ヒドロキシテトラデシルスルホン酸、３−ヒドロキシペンタデシルスルホン酸、３−ヒドロキシヘキサデシルスルホン酸、３−ヒドロキシヘプタデシルスルホン酸、３−ヒドロキシオクタデシルスルホン酸、３−ヒドロキシノナデシルスルホン酸、３−ヒドロキシイコサニルスルホン酸、４−ヒドロキシブチルスルホン酸、４−ヒドロキシペンチルスルホン酸、４−ヒドロキシヘキシルスルホン酸、４−ヒドロキシヘプチルスルホン酸、４−ヒドロキシオクチルスルホン酸、４−ヒドロキシノニルスルホン酸、４−ヒドロキシデシルスルホン酸、４−ヒドロキシウンデシルスルホン酸、４−ヒドロキシドデシルスルホン酸、４−ヒドロキシトリデシルスルホン酸、４−ヒドロキシテトラデシルスルホン酸、４−ヒドロキシペンタデシルスルホン酸、４−ヒドロキシヘキサデシルスルホン酸、４−ヒドロキシヘプタデシルスルホン酸、４−ヒドロキシオクタデシルスルホン酸、４−ヒドロキシノナデシルスルホン酸、および４−ヒドロキシイコサニルスルホン酸、並びに、それらのナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩、マグネシウム塩、およびカルシウム塩などが挙げられる。
【０１２９】
アリールスルホン酸系界面活性剤としては、例えば、フェニルスルホン酸、メチルベンゼンスルホン酸、エチルベンゼンスルホン酸、プロピルベンゼンスルホン酸、ブチルベンゼンスルホン酸、ペンチルベンゼンスルホン酸、ヘキシルベンゼンスルホン酸、ヘプチルベンゼンスルホン酸、オクチルベンゼンスルホン酸、ノニルベンゼンスルホン酸、デシルベンゼンスルホン酸、ウンデシルベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、トリデシルベンゼンスルホン酸、テトラデシルベンゼンスルホン酸、ペンタデシルベンゼンスルホン酸、ヘキサデシルベンゼンスルホン酸、ヘプタデシルベンゼンスルホン酸、オクタデシルベンゼンスルホン酸、ノナデシルベンゼンスルホン酸、イコサニルベンゼンスルホン酸、ジ（メチル）ベンゼンスルホン酸、ジ（エチル）ベンゼンスルホン酸、ジ（プロピル）ベンゼンスルホン酸、ジ（ブチル）ベンゼンスルホン酸、ジ（ペンチル）ベンゼンスルホン酸、ジ（ヘキシル）ベンゼンスルホン酸、ジ（ヘプチル）ベンゼンスルホン酸、ジ（オクチル）ベンゼンスルホン酸、ジ（ノニル）ベンゼンスルホン酸、ジ（デシル）ベンゼンスルホン酸、ジ（ウンデシル）ベンゼンスルホン酸、ジ（ドデシル）ベンゼンスルホン酸、ジ（トリデシル）ベンゼンスルホン酸、ジ（テトラデシル）ベンゼンスルホン酸、ジ（ペンタデシル）ベンゼンスルホン酸、ジ（ヘキサデシル）ベンゼンスルホン酸、ジ（ヘプタデシル）ベンゼンスルホン酸、ジ（オクタデシル）ベンゼンスルホン酸、ジ（ノナデシル）ベンゼンスルホン酸、ジ（イコサニル）ベンゼンスルホン酸、トリ（メチル）ベンゼンスルホン酸、トリ（エチル）ベンゼンスルホン酸、トリ（プロピル）ベンゼンスルホン酸、トリ（ブチル）ベンゼンスルホン酸、トリ（ペンチル）ベンゼンスルホン酸、トリ（ヘキシル）ベンゼンスルホン酸、トリ（ヘプチル）ベンゼンスルホン酸、トリ（オクチル）ベンゼンスルホン酸、トリ（ノニル）ベンゼンスルホン酸、トリ（デシル）ベンゼンスルホン酸、トリ（ウンデシル）ベンゼンスルホン酸、トリ（ドデシル）ベンゼンスルホン酸、トリ（トリデシル）ベンゼンスルホン酸、トリ（テトラデシル）ベンゼンスルホン酸、トリ（ペンタデシル）ベンゼンスルホン酸、トリ（ヘキサデシル）ベンゼンスルホン酸、トリ（ヘプタデシル）ベンゼンスルホン酸、トリ（オクタデシル）ベンゼンスルホン酸、トリ（ノナデシル）ベンゼンスルホン酸、トリ（イコサニル）ベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、メチルナフタレンスルホン酸、エチルナフタレンスルホン酸、プロピルナフタレンスルホン酸、ブチルナフタレンスルホン酸、ペンチルナフタレンスルホン酸、ヘキシルナフタレンスルホン酸、ヘプチルナフタレンスルホン酸、オクチルナフタレンスルホン酸、ノニルナフタレンスルホン酸、デシルナフタレンスルホン酸、ウンデシルナフタレンスルホン酸、ドデシルナフタレンスルホン酸、トリデシルナフタレンスルホン酸、テトラデシルナフタレンスルホン酸、ペンタデシルナフタレンスルホン酸、ヘキサデシルナフタレンスルホン酸、ヘプタデシルナフタレンスルホン酸、オクタデシルナフタレンスルホン酸（ステアリルナフタレンスルホン酸）、ノナデシルナフタレンスルホン酸、イコサニルナフタレンスルホン酸、ジ（メチル）ナフタレンスルホン酸、ジ（エチル）ナフタレンスルホン酸、ジ（プロピル）ナフタレンスルホン酸、ジ（ブチル）ナフタレンスルホン酸、ジ（ペンチル）ナフタレンスルホン酸、ジ（ヘキシル）ナフタレンスルホン酸、ジ（ヘプチル）ナフタレンスルホン酸、ジ（オクチル）ナフタレンスルホン酸、ジ（ノニル）ナフタレンスルホン酸、ジ（デシル）ナフタレンスルホン酸、ジ（ウンデシル）ナフタレンスルホン酸、ジ（ドデシル）ナフタレンスルホン酸、ジ（トリデシル）ナフタレンスルホン酸、ジ（テトラデシル）ナフタレンスルホン酸、ジ（ペンタデシル）ナフタレンスルホン酸、ジ（ヘキサデシル）ナフタレンスルホン酸、ジ（ヘプタデシル）ナフタレンスルホン酸、ジ（オクタデシル）ナフタレンスルホン酸、ジ（ノナデシル）ナフタレンスルホン酸、ジ（イコサニル）ナフタレンスルホン酸、トリ（メチル）ナフタレンスルホン酸、トリ（エチル）ナフタレンスルホン酸、トリ（プロピル）ナフタレンスルホン酸、トリ（ブチル）ナフタレンスルホン酸、トリ（ペンチル）ナフタレンスルホン酸、トリ（ヘキシル）ナフタレンスルホン酸、トリ（ヘプチル）ナフタレンスルホン酸、トリ（オクチル）ナフタレンスルホン酸、トリ（ノニル）ナフタレンスルホン酸、トリ（デシル）ナフタレンスルホン酸、トリ（ウンデシル）ナフタレンスルホン酸、トリ（ドデシル）ナフタレンスルホン酸、トリ（トリデシル）ナフタレンスルホン酸、トリ（テトラデシル）ナフタレンスルホン酸、トリ（ペンタデシル）ナフタレンスルホン酸、トリ（ヘキサデシル）ナフタレンスルホン酸、トリ（ヘプタデシル）ナフタレンスルホン酸、トリ（オクタデシル）ナフタレンスルホン酸、トリ（ノナデシル）ナフタレンスルホン酸、トリ（イコサニル）ナフタレンスルホン酸、
ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、メチルナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、エチルナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、プロピルナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、ブチルナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、ペンチルナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、ヘキシルナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、ヘプチルナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、オクチルナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、ノニルナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、デシルナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、ウンデシルナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、ドデシルナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、トリデシルナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、テトラデシルナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、ペンタデシルナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、ヘキサデシルナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、ヘプタデシルナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、オクタデシルナフタレンスルホン酸（ステアリルナフタレンスルホン酸）ホルマリン縮合物、ノナデシルナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、イコサニルナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、ジ（メチル）ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、ジ（エチル）ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、ジ（プロピル）ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、ジ（ブチル）ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、ジ（ペンチル）ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、ジ（ヘキシル）ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、ジ（ヘプチル）ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、ジ（オクチル）ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、ジ（ノニル）ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、ジ（デシル）ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、ジ（ウンデシル）ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、ジ（ドデシル）ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、ジ（トリデシル）ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、ジ（テトラデシル）ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、ジ（ペンタデシル）ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、ジ（ヘキサデシル）ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、ジ（ヘプタデシル）ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、ジ（オクタデシル）ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、ジ（ノナデシル）ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、ジ（イコサニル）ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、トリ（メチル）ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、トリ（エチル）ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、トリ（プロピル）ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、トリ（ブチル）ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、トリ（ペンチル）ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、トリ（ヘキシル）ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、トリ（ヘプチル）ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、トリ（オクチル）ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、トリ（ノニル）ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、トリ（デシル）ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、トリ（ウンデシル）ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、トリ（ドデシル）ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、トリ（トリデシル）ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、トリ（テトラデシル）ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、トリ（ペンタデシル）ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、トリ（ヘキサデシル）ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、トリ（ヘプタデシル）ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、トリ（オクタデシル）ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、トリ（ノナデシル）ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、トリ（イコサニル）ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、ジフェニルエーテルスルホン酸、メチルジフェニルエーテルスルホン酸、エチルジフェニルエーテルスルホン酸、プロピルジフェニルエーテルスルホン酸、ブチルジフェニルエーテルスルホン酸、ペンチルジフェニルエーテルスルホン酸、ヘキシルジフェニルエーテルスルホン酸、ヘプチルジフェニルエーテルスルホン酸、オクチルジフェニルエーテルスルホン酸、ノニルジフェニルエーテルスルホン酸、デシルジフェニルエーテルスルホン酸、ウンデシルジフェニルエーテルスルホン酸、ドデシルジフェニルエーテルスルホン酸、トリデシルジフェニルエーテルスルホン酸、テトラデシルジフェニルエーテルスルホン酸、ペンタデシルジフェニルエーテルスルホン酸、ヘキサデシルジフェニルエーテルスルホン酸、ヘプタデシルジフェニルエーテルスルホン酸、オクタデシルジフェニルエーテルスルホン酸、ノナデシルジフェニルエーテルスルホン酸、イコサニルジフェニルエーテルスルホン酸、ジフェニルエーテルジスルホン酸、メチルジフェニルエーテルジスルホン酸、エチルジフェニルエーテルジスルホン酸、プロピルジフェニルエーテルジスルホン酸、ブチルジフェニルエーテルジスルホン酸、ペンチルジフェニルエーテルジスルホン酸、ヘキシルジフェニルエーテルジスルホン酸、ヘプチルジフェニルエーテルジスルホン酸、オクチルジフェニルエーテルジスルホン酸、ノニルジフェニルエーテルジスルホン酸、デシルジフェニルエーテルジスルホン酸、ウンデシルジフェニルエーテルジスルホン酸、ドデシルジフェニルエーテルジスルホン酸、トリデシルジフェニルエーテルジスルホン酸、テトラデシルジフェニルエーテルジスルホン酸、ペンタデシルジフェニルエーテルジスルホン酸、ヘキサデシルジフェニルエーテルジスルホン酸、ヘプタデシルジフェニルエーテルジスルホン酸、オクタデシルジフェニルエーテルジスルホン酸、ノナデシルジフェニルエーテルジスルホン酸、およびイコサニルジフェニルエーテルジスルホン酸、並びに、これらのナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩、マグネシウム塩、およびカルシウム塩などが挙げられる。
【０１３０】
スルホコハク酸エステル系界面活性剤としては、例えば、
モノ（メチル）スルホコハク酸エステル、モノ（エチル）スルホコハク酸エステル、モノ（プロピル）スルホコハク酸エステル、モノ（ブチル）スルホコハク酸エステル、モノ（ペンチル）スルホコハク酸エステル、モノ（ヘキシル）スルホコハク酸エステル、モノ（ヘプチル）スルホコハク酸エステル、モノ（オクチル）スルホコハク酸エステル、モノ（ノニル）スルホコハク酸エステル、モノ（デシル）スルホコハク酸エステル、モノ（ウンデシル）スルホコハク酸エステル、モノ（ドデシル）スルホコハク酸エステル、モノ（トリデシル）スルホコハク酸エステル、モノ（テトラデシル）スルホコハク酸エステル、モノ（ペンタデシル）スルホコハク酸エステル、モノ（ヘキサデシル）スルホコハク酸エステル、モノ（ヘプタデシル）スルホコハク酸エステル、モノ（オクタデシル）スルホコハク酸エステル、モノ（ノナデシル）スルホコハク酸エステル、モノ（イコサニル）スルホコハク酸エステル、モノ（ベンジル）スルホコハク酸エステル、モノ（ブトキシエチル）スルホコハク酸エステル、モノ（ヘキシロキシエチル）スルホコハク酸エステル、モノ（オクチロシキエチル）スルホコハク酸エステル、モノ（ノニロキシエチル）スルホコハク酸エステル、モノ（デシロキシエチル）スルホコハク酸エステル、モノ（ウンデシロキシエチル）スルホコハク酸エステル、モノ（ドデシロキシエチル）スルホコハク酸エステル、モノ（トリデシロキシエチル）スルホコハク酸エステル、モノ（テトラデシロキシエチル）スルホコハク酸エステル、モノ（ペンタデシロキシエチル）スルホコハク酸エステル、モノ（ヘキサデシロキシエチル）スルホコハク酸エステル、モノ（へプタデシロキシエチル）スルホコハク酸エステル、モノ（オクタデシロキシエチル）スルホコハク酸エステル、モノ（ノナデシロキシエチル）スルホコハク酸エステル、およびモノ（イサコノロキシエチル）スルホコハク酸エステル、並びに、これらのナトリウム塩、ジナトリウム塩、カリウム塩、ジカリウム塩、アンモニウム塩、ジアンモニウム塩、マグネシウム塩、およびカルシウム塩；
ジ（メチル）スルホコハク酸エステル、ジ（エチル）スルホコハク酸エステル、ジ（プロピル）スルホコハク酸エステル、ジ（ブチル）スルホコハク酸エステル、ジ（ペンチル）スルホコハク酸エステル、ジ（ヘキシル）スルホコハク酸エステル、ジ（ヘプチル）スルホコハク酸エステル、ジ（オクチル）スルホコハク酸エステル、ジ（ノニル）スルホコハク酸エステル、ジ（デシル）スルホコハク酸エステル、ジ（ウンデシル）スルホコハク酸エステル、ジ（ドデシル）スルホコハク酸エステル、ジ（トリデシル）スルホコハク酸エステル、ジ（テトラデシル）スルホコハク酸エステル、ジ（ペンタデシル）スルホコハク酸エステル、ジ（ヘキサデシル）スルホコハク酸エステル、ジ（ヘキサデシル）スルホコハク酸エステル、ジ（ヘキサデシル）スルホコハク酸エステル・カリウム、ジ（ヘキサデシル）スルホコハク酸エステル・アンモニウム、ジ（ヘプタデシル）スルホコハク酸エステル、ジ（オクタデシル）スルホコハク酸エステル、ジ（ノナデシル）スルホコハク酸エステル、ジ（イコサニル）スルホコハク酸エステル、ジベンジルスルホコハク酸エステル、ジ（ブトキシエチル）スルホコハク酸エステル、ジ（ヘキシロキシエチル）スルホコハク酸エステル、ジ（オクチロシキエチル）スルホコハク酸エステル、ジ（ノニロキシエチル）スルホコハク酸エステル、ジ（デシロキシエチル）スルホコハク酸エステル、ジ（ウンデシロキシエチル）スルホコハク酸エステル、ジ（ドデシロキシエチル）スルホコハク酸エステル、ジ（トリデシロキシエチル）スルホコハク酸エステル、ジ（テトラデシロキシエチル）スルホコハク酸エステル、ジ（ペンタデシロキシエチル）スルホコハク酸エステル、ジ（ヘキサデシロキシエチル）スルホコハク酸エステル、およびジ（オクタデシロキシエチル）スルホコハク酸エステル、並びに、これらのナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩、マグネシウム塩、およびカルシウム塩；並びに、
（ノナデシロキシエチル）スルホコハク酸エステル・ナトリウム、（イサコノロキシエチル）スルホコハク酸エステル・ナトリウムなどが挙げられる。
【０１３１】
ＦＧが一般式（３０１）で表される界面活性剤の中では、炭素数６〜１００の有機残基を有する化合物が好ましく、炭素数８〜６０の有機残基を有する化合物であればより好ましく、炭素数１０〜４０の有機残基を有する化合物であればさらに好ましい。また、上記界面活性剤の中では、スルホコハク酸エステル系界面活性剤が比較的好ましい。
【０１３２】
ＦＧが上記一般式（３０２）で表される界面活性剤としては、例えば、アルコール硫酸エステル塩系界面活性剤、アリール硫酸エステル塩系界面活性剤、アルケニル硫酸塩系界面活性剤（ただし、その界面活性剤に含まれるアルケニル基は重合性ではない。）などが挙げられる。
【０１３３】
アルコール硫酸エステル塩系界面活性剤としては、例えば、ブチル硫酸エステル、ペンチル硫酸エステル、ヘキシル硫酸エステル、ヘプチル硫酸エステル、オクチル硫酸エステル、ノニル硫酸エステル、デシル硫酸エステル、ウンデシル硫酸エステル、ドデシル硫酸エステル、トリデシル硫酸エステル、テトラデシル硫酸エステル、ペンタデシル硫酸エステル、ヘキサデシル硫酸エステル、ヘプタデシル硫酸エステル、オクタデシル硫酸エステル、ノナデシル硫酸エステル、イコサニル硫酸エステル、３−ラウリン酸−２−ヒドロキシ−プロピル硫酸エステル、３−ミリスチン酸−２−ヒドロキシ−プロピル硫酸エステル、３−バルミチン酸−２−ヒドロキシ−プロピル硫酸エステル、３−ステアリン酸−２−ヒドロキシ−プロピル硫酸エステル、３−オレイン酸−２−ヒドロキシ−プロピル硫酸エステル、３−ベヘニン酸−２−ヒドロキシ−プロピル硫酸エステル、エチレングリコールモノ（オクチルフェニル）エーテル硫酸エステル、ジエチレングリコールモノ（オクチルフェニル）エーテル硫酸エステル、トリエチレングリコールモノ（オクチルフェニル）エーテル硫酸エステル、
テトラエチレングリコールモノ（オクチルフェニル）エーテル硫酸エステル、ポリエチレングリコールモノ（オクチルフェニル）エーテル硫酸エステル、エチレングリコールモノ（ノニルフェニル）エーテル硫酸エステル、ジエチレングリコールモノ（ノニルフェニル）エーテル硫酸エステル、トリエチレングリコールモノ（ノニルフェニル）エーテル硫酸エステル、テトラエチレングリコールモノ（ノニルフェニル）エーテル硫酸エステル、ポリエチレングリコールモノ（ノニルフェニル）エーテル硫酸エステル、ブチルオキシエチル硫酸エステル、イソブチルオキシエチル硫酸エステル、ｔ−ブチルオキシエチル硫酸エステル、ペンチルオキシエチル硫酸エステル、ヘキシルオキシエチル硫酸エステル、ヘプチルオキシエチル硫酸エステル、オクチルオキシエチル硫酸エステル、ノニルオキシエチル硫酸エステル、デシルオキシエチル硫酸エステル、ウンデシルオキシエチル硫酸エステル、ドデシルオキシエチル硫酸エステル・（ラウリルオキシエチル硫酸エステル）、トリデシルオキシエチル硫酸エステル、テトラデシルオキシエチル硫酸エステル、ペンタデシルオキシエチル硫酸エステル、ヘキサデシルオキシエチル硫酸エステル、ヘプタデシルオキシエチル硫酸エステル、オクタデシルオキシエチル硫酸エステル、ノナデシルオキシエチル硫酸エステル、イコサニルオキシエチル硫酸エステル、ブチルオキシプロピル−２−硫酸エステル、イソブチルオキシプロピル−２−硫酸エステル、ｔ−ブチルオキシプロピル−２−硫酸エステル、ペンチルオキシプロピル−２−硫酸エステル、ヘキシルオキシプロピル−２−硫酸エステル、ヘプチルオキシプロピル−２−硫酸エステル、オクチルオキシプロピル−２−硫酸エステル、ノニルオキシプロピル−２−硫酸エステル、デシルオキシプロピル−２−硫酸エステル、ウンデシルオキシプロピル−２−硫酸エステル、ドデシルオキシプロピル−２−硫酸エステル（ラウリルオキシプロピル−２−硫酸エステル）、トリデシルオキシプロピル−２−硫酸エステル、テトラデシルオキシプロピル−２−硫酸エステル、ペンタデシルオキシプロピル−２−硫酸エステル、ヘキサデシルオキシプロピル−２−硫酸エステル、ヘプタデシルオキシプロピル−２−硫酸エステル、オクタデシルオキシプロピル−２−硫酸エステル、ノナデシルオキシプロピル−２−硫酸エステル、イコサニルオキシプロピル−２−硫酸エステル、ブチルオキシ−３−オキサペンチル硫酸エステル、イソブチルオキシ−３−オキサペンチル硫酸エステル、ｔ−ブチルオキシ−３−オキサペンチル硫酸エステル、ペンチルオキシ−３−オキサペンチル硫酸エステル、ヘキシルオキシ−３−オキサペンチル硫酸エステル、ヘプチルオキシ−３−オキサペンチル硫酸エステル、オクチルオキシ−３−オキサペンチル硫酸エステル、ノニルオキシ−３−オキサペンチル硫酸エステル、デシルオキシ−３−オキサペンチル硫酸エステル、ウンデシルオキシ−３−オキサペンチル硫酸エステル、ドデシルオキシ−３−オキサペンチル硫酸エステル（ラウリルオキシ−３−オキサペンチル硫酸エステル）、トリデシルオキシ−３−オキサペンチル硫酸エステル、テトラデシルオキシ−３−オキサペンチル硫酸エステル、ペンタデシルオキシ−３−オキサペンチル硫酸エステル、ヘキサデシルオキシ−３−オキサペンチル硫酸エステル、ヘプタデシルオキシ−３−オキサペンチル硫酸エステル、オクタデシルオキシ−３−オキサペンチル硫酸エステル、ノナデシルオキシ−３−オキサペンチル硫酸エステル、イコサニルオキシ−３−オキサペンチル硫酸エステル、ブチルオキシ−３，６−ジオキサオクチル硫酸エステル、イソブチルオキシ−３，６−ジオキサオクチル硫酸エステル、ｔ−ブチルオキシ−３，６−ジオキサオクチル硫酸エステル、ペンチルオキシ−３，６−ジオキサオクチル硫酸エステル、ヘキシルオキシ−３，６−ジオキサオクチル硫酸エステル、ヘプチルオキシ−３，６−ジオキサオクチル硫酸エステル、オクチルオキシ−３，６−ジオキサオクチル硫酸エステル、ノニルオキシ−３，６−ジオキサオクチル硫酸エステル、デシルオキシ−３，６−ジオキサオクチル硫酸エステル、ウンデシルオキシ−３，６−ジオキサオクチル硫酸エステル、ドデシルオキシ−３，６−ジオキサオクチル硫酸エステル（ラウリルオキシ−３，６−ジオキサオクチル硫酸エステル）、トリデシルオキシ−３，６−ジオキサオクチル硫酸エステル、テトラデシルオキシ−３，６−ジオキサオクチル硫酸エステル、ペンタデシルオキシ−３，６−ジオキサオクチル硫酸エステル、ヘキサデシルオキシ−３，６−ジオキサオクチル硫酸エステル、ヘプタデシルオキシ−３，６−ジオキサオクチル硫酸エステル、オクタデシルオキシ−３，６−ジオキサオクチル硫酸エステル、ノナデシルオキシ−３，６−ジオキサオクチル硫酸エステル、およびイコサニルオキシ−３，６−ジオキサオクチル硫酸エステル、並びに、これらのトリエタノールアミン塩、ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩、マグネシウム塩、およびカルシウム塩などが挙げられる。
【０１３４】
アリール硫酸エステル塩系界面活性剤としては、例えば、フェニル硫酸エステル・ナトリウム、メチルベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、エチルベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、プロピルベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、ブチルベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、ペンチルベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、ヘキシルベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、ヘプチルベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、オクチルベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、ノニルベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、デシルベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、ウンデシルベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、ドデシルベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、トリデシルベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、テトラデシルベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、ペンタデシルベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、ヘキサデシルベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、ヘプタデシルベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、オクタデシルベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、ノナデシルベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、イコサニルベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、７−エチル−２−メチル−ウンデカン−４−硫酸エステル・ナトリウム、ジ（メチル）ベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、ジ（エチル）ベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、ジ（プロピル）ベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、ジ（ブチル）ベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、ジ（ペンチル）ベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、ジ（ヘキシル）ベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、ジ（ヘプチル）ベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、ジ（オクチル）ベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、ジ（ノニル）ベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、ジ（デシル）ベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、ジ（ウンデシル）ベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、ジ（ドデシル）ベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、ジ（トリデシル）ベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、ジ（テトラデシル）ベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、ジ（ペンタデシル）ベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、ジ（ヘキサデシル）ベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、ジ（ヘプタデシル）ベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、ジ（オクタデシル）ベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、ジ（ノナデシル）ベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、ジ（イコサニル）ベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、トリ（メチル）ベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、トリ（エチル）ベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、トリ（プロピル）ベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、トリ（ブチル）ベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、トリ（ペンチル）ベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、トリ（ヘキシル）ベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、トリ（ヘプチル）ベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、トリ（オクチル）ベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、トリ（ノニル）ベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、トリ（デシル）ベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、トリ（ウンデシル）ベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、トリ（ドデシル）ベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、トリ（トリデシル）ベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、トリ（テトラデシル）ベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、トリ（ペンタデシル）ベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、トリ（ヘキサデシル）ベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、トリ（ヘプタデシル）ベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、トリ（オクタデシル）ベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、トリ（ノナデシル）ベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、トリ（イコサニル）ベンゼン硫酸エステル・ナトリウム、ナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、メチルナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、エチルナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、プロピルナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、ブチルナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、ペンチルナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、ヘキシルナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、ヘプチルナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、オクチルナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、ノニルナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、デシルナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、ウンデシルナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、ドデシルナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、トリデシルナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、テトラデシルナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、ペンタデシルナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、ヘキサデシルナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、ヘプタデシルナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、オクタデシルナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、ノナデシルナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、イコサニルナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、ジ（メチル）ナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、ジ（エチル）ナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、ジ（プロピル）ナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、ジ（ブチル）ナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、ジ（ペンチル）ナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、ジ（ヘキシル）ナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、ジ（ヘプチル）ナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、ジ（オクチル）ナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、ジ（ノニル）ナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、ジ（デシル）ナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、ジ（ウンデシル）ナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、ジ（ドデシル）ナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、ジ（トリデシル）ナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、ジ（テトラデシル）ナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、ジ（ペンタデシル）ナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、ジ（ヘキサデシル）ナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、ジ（ヘプタデシル）ナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、ジ（オクタデシル）ナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、ジ（ノナデシル）ナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、ジ（イコサニル）ナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、トリ（メチル）ナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、トリ（エチル）ナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、トリ（プロピル）ナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、トリ（ブチル）ナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、トリ（ペンチル）ナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、トリ（ヘキシル）ナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、トリ（ヘプチル）ナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、トリ（オクチル）ナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、トリ（ノニル）ナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、トリ（デシル）ナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、トリ（ウンデシル）ナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、トリ（ドデシル）ナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、トリ（トリデシル）ナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、トリ（テトラデシル）ナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、トリ（ペンタデシル）ナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、トリ（ヘキサデシル）ナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、トリ（ヘプタデシル）ナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、トリ（オクタデシル）ナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、トリ（ノナデシル）ナフタレン硫酸エステル・ナトリウム、トリ（イコサニル）ナフタレン硫酸エステル・ナトリウムなどが挙げられる。
【０１３５】
アルケニル硫酸塩系界面活性剤としては、例えば、ブチニル硫酸エステル、ヘキシニル硫酸エステル、オクチニル硫酸エステル、デシニル硫酸エステル、ドデシニル硫酸エステル、テトラデシニル硫酸エステル、ヘキサデシニル硫酸エステル、オクタデシニル硫酸エステル、イコサニニル硫酸エステル、ブチニルオキシ硫酸エステル、ヘキシニルオキシ硫酸エステル、オクチニルオキシ硫酸エステル、デシニルオキシ硫酸エステル、ドデシニルオキシ硫酸エステル、テトラデシニルオキシ硫酸エステル、ヘキサデシニルオキシ硫酸エステル、オクタデシニルオキシ硫酸エステル、イコサニニルオキシ硫酸エステル、ブチニルオキシ−３−オキサペンチル硫酸エステル、ヘキシニルオキシ−３−オキサペンチル硫酸エステル、オクチニルオキシ−３−オキサペンチル硫酸エステル、デシニルオキシ−３−オキサペンチル硫酸エステル、ドデシニルオキシ−３−オキサペンチル硫酸エステル、テトラデシニルオキシ−３−オキサペンチル硫酸エステル、ヘキサデシニルオキシ−３−オキサペンチル硫酸エステル、オクタデシニルオキシ−３−オキサペンチル硫酸エステル、イコサニニルオキシ−３−オキサペンチル硫酸エステル、ブチニルオキシ−３，６−ジオキサオクチル硫酸エステル、ヘキシニルオキシ−３，６−ジオキサオクチル硫酸エステル、オクチニルオキシ−３，６−ジオキサオクチル硫酸エステル、デシニルオキシ−３，６−ジオキサオクチル硫酸エステル、ドデシニルオキシ−３，６−ジオキサオクチル硫酸エステル、テトラデシニルオキシ−３，６−ジオキサオクチル硫酸エステル、ヘキサデシニルオキシ−３，６−ジオキサオクチル硫酸エステル、オクタデシニルオキシ−３，６−ジオキサオクチル硫酸エステル、イコサニニルオキシ−３，６−ジオキサオクチル硫酸エステル、ブチニルオキシ−３，６，９−トリオキサウンデシル硫酸エステル、ヘキシニルオキシ−３，６，９−トリオキサウンデシル硫酸エステル、オクチニルオキシ−３，６，９−トリオキサウンデシル硫酸エステル、デシニルオキシ−３，６，９−トリオキサウンデシル硫酸エステル、ドデシニルオキシ−３，６，９−トリオキサウンデシル硫酸エステル、テトラデシニルオキシ−３，６，９−トリオキサウンデシル硫酸エステル、ヘキサデシニルオキシ−３，６，９−トリオキサウンデシル硫酸エステル、オクタデシニルオキシ−３，６，９−トリオキサウンデシル硫酸エステル、およびイコサニニルオキシ−３，６，９−トリオキサウンデシル硫酸エステル、ならびに、これらのナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩、トリエタノールアミン塩、マグネシウム塩、およびカルシウム塩などが挙げられる。
【０１３６】
ＦＧが一般式（３０２）で表される界面活性剤の中では、炭素数６〜１００の有機残基を有する化合物が好ましく、炭素数８〜６０の有機残基を有する化合物であればより好ましく、炭素数１０〜４０の有機残基を有する化合物であればさらに好ましい。また上記界面活性剤の中では、アルコール硫酸エステル塩系界面活性剤が比較的好ましい。
【０１３７】
上記ＦＧとなる、水酸基を含む基としては、例えば、下記一般式（３１２）で表される親水基が挙げられる。
【０１３８】
【化２８】
2016006637.tif 000029
【０１３９】
上記式（３１２）中、Ｘ3およびＸ4は、独立して、−ＣＨ2−、−ＣＨ（ＯＨ）−、または−ＣＯ−を表し、ｎ30は０〜３の整数を表し、ｎ50は０〜５の整数を表し、ｎ30が２以上の場合、Ｘ3同士は同一でも異なってもよく、ｎ50が２以上の場合、Ｘ4同士は同一でも異なっても良く、＃３は式（３００）のＲに含まれる炭素原子に結合する結合手を表す。
【０１４０】
ＦＧが上記一般式（３１２）で表される界面活性剤としては、例えば、酪酸リボース、吉草酸リボース、カプロン酸リボース、カプリル酸リボース、カプリン酸リボース、ラウリン酸リボース、ミリスチン酸リボース、バルミチン酸リボース、ステアリン酸リボース、イソステアリン酸リボース、オレイン酸リボース、ベヘニン酸リボース、シクロヘキサンカルボン酸リボース、フェニル酢酸リボース、酪酸アスコルビン酸、吉草酸アスコルビン酸、カプロン酸アスコルビン酸、カプリル酸アスコルビン酸、カプリン酸アスコルビン酸、ラウリン酸アスコルビン酸、ミリスチン酸アスコルビン酸、バルミチン酸アスコルビン酸、ステアリン酸アスコルビン酸、イソステアリン酸アスコルビン酸、オレイン酸アスコルビン酸、ベヘニン酸アスコルビン酸、シクロヘキサンカルボン酸アスコルビン酸、フェニル酢酸アスコルビン酸、酪酸キシロール、吉草酸キシロール、カプロン酸キシロール、カプリル酸キシロール、カプリン酸キシロール、ラウリン酸キシロール、ミリスチン酸キシロール、バルミチン酸キシロール、ステアリン酸キシロール、イソステアリン酸キシロール、オレイン酸キシロール、ベヘニン酸キシロール、シクロヘキサンカルボン酸キシロール、フェニル酢酸キシロール、酪酸ソルビタン、吉草酸ソルビタン、カプロン酸ソルビタン、カプリル酸ソルビタン、カプリン酸ソルビタン、ラウリン酸ソルビタン、ミリスチン酸ソルビタン、バルミチン酸ソルビタン、ステアリン酸ソルビタン、イソステアリン酸ソルビタン、オレイン酸ソルビタン、ベヘニン酸ソルビタン、シクロヘキサンカルボン酸ソルビタン、フェニル酢酸ソルビタン、酪酸グルコース、吉草酸グルコース、カプロン酸グルコース、カプリル酸グルコース、カプリン酸グルコース、ラウリン酸グルコース、ミリスチン酸グルコース、バルミチン酸グルコース、ステアリン酸グルコース、イソステアリン酸グルコース、オレイン酸グルコース、ベヘニン酸グルコース、シクロヘキサンカルボン酸グルコース、フェニル酢酸グルコース、酪酸グルコノ−１，５−ラクトン、吉草酸グルコノ−１，５−ラクトン、カプロン酸グルコノ−１，５−ラクトン、カプリル酸グルコノ−１，５−ラクトン、カプリン酸グルコノ−１，５−ラクトン、ラウリン酸グルコノ−１，５−ラクトン、ミリスチン酸グルコノ−１，５−ラクトン、バルミチン酸グルコノ−１，５−ラクトン、ステアリン酸グルコノ−１，５−ラクトン、イソステアリン酸グルコノ−１，５−ラクトン、オレイン酸グルコノ−１，５−ラクトン、ベヘニン酸グルコノ−１，５−ラクトン、シクロヘキサンカルボン酸グルコノ−１，５−ラクトン、フェニル酢酸グルコノ−１，５−ラクトン、ならびにこれらのエチレンオキサイド付加物、プロピレンオキサイド付加物、ブチロラクトン付加物、およびこれらを脱水縮合した多量体などが挙げられる。
【０１４１】
上記一般式（３１２）で表される界面活性剤の中では、炭素数６〜１００の有機残基を有する化合物が好ましく、炭素数８〜６０の有機残基を有する化合物であればより好ましく、炭素数１０〜４０の有機残基を有する化合物であればさらに好ましい。
【０１４２】
上記ＦＧとなる、カチオン性親水基を含む基としては、例えば、下記一般式（３１８）で表される親水基が挙げられる。
【０１４３】
【化２９】
2016006637.tif 000030
【０１４４】
上記式（３１８）中、Ｒ6およびＲ7は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、アルキルアリール基、アルキルベンジル基、アルキルシクロアルキル基、アルキルシクロアルキルメチル基、シクロアルキル基、フェニル基、またはベンジル基を表し、＃３は式（３００）のＲ（に含まれる炭素原子）に結合する結合手を表す。
【０１４５】
ＦＧが上記一般式（３１８）で表される界面活性剤としては、例えば、ブチル−ジメチルベタイン、ペンチル−ジメチルベタイン、ヘキシル−ジメチルベタイン、ヘプチル−ジメチルベタイン、オクチル−ジメチルベタイン、ノニル−ジメチルベタイン、デシル−ジメチルベタイン、ウンデシル−ジメチルベタイン、ドデシル−ジメチルベタイン、テトラデシル−ジメチルベタイン、トリデシル−ジメチルベタイン、ペンタデシル−ジメチルベタイン、ヘキサデシル−ジメチルベタイン、ヘプタデシル−ジメチルベタイン、オクタデシル−ジメチルベタイン、ノナデシル−ジメチルベタイン、イコサニル−ジメチルベタイン、ブチル−ベンジルメチルベタイン、ペンチル−ベンジルメチルベタイン、ヘキシル−ベンジルメチルベタイン、ヘプチル−ベンジルメチルベタイン、オクチル−ベンジルメチルベタイン、ノニル−ベンジルメチルベタイン、デシル−ベンジルメチルベタイン、ウンデシル−ベンジルメチルベタイン、ドデシル−ベンジルメチルベタイン、トリデシルベンジルメチルベタイン、テトラデシルベンジルメチルベタイン、ペンタデシル−ベンジルメチルベタイン、ヘキサデシル−ベンジルメチルベタイン、ヘプタデシル−ベンジルメチルベタイン、オクタデシル−ベンジルメチルベタイン、ノナデシル−ベンジルメチルベタイン、イコサニル−ベンジルメチルベタイン、ブチル−シクロヘキシルメチルベタイン、ペンチル−シクロヘキシルメチルベタイン、ヘキシル−シクロヘキシルメチルベタイン、ヘプチル−シクロヘキシルメチルベタイン、オクチル−シクロヘキシルメチルベタイン、ノニル−シクロヘキシルメチルベタイン、デシル−シクロヘキシルメチルベタイン、ウンデシル−シクロヘキシルメチルベタイン、ドデシル−シクロヘキシルメチルベタイン、トリデシルシクロヘキシルメチルベタイン、テトラデシルシクロヘキシルメチルベタイン、ペンタデシル−シクロヘキシルメチルベタイン、ヘキサデシル−シクロヘキシルメチルベタイン、ヘプタデシル−シクロヘキシルメチルベタイン、オクタデシル−シクロヘキシルメチルベタイン、ノナデシル−シクロヘキシルメチルベタイン、イコサニル−シクロヘキシルメチルベタイン、ブチル−ドデシルメチルベタイン、ペンチル−ドデシルメチルベタイン、ヘキシル−ドデシルメチルベタイン、ヘプチル−ドデシルメチルベタイン、オクチル−ドデシルメチルベタイン、ノニル−ドデシルメチルベタイン、デシル−ドデシルメチルベタイン、ウンデシル−ドデシルメチルベタイン、ドデシル−ドデシルメチルベタイン、トリデシルドデシルメチルベタイン、テトラデシルドデシルメチルベタイン、ペンタデシル−ドデシルメチルベタイン、ヘキサデシル−ドデシルメチルベタイン、ヘプタデシル−ドデシルメチルベタイン、オクタデシル−ドデシルメチルベタイン、ノナデシル−ドデシルメチルベタイン、イコサニル−ドデシルメチルベタイン、ならびにこれらのハロゲン化水素付加物、カルボン付加物、アンモニア付加物、アミン付加物、アルカリ金属水酸化物付加物、およびアルカリ土類金属水酸化物付加物などが挙げられる。
【０１４６】
ＦＧが一般式（３１８）で表される界面活性剤の中では、炭素数６〜１００の有機残基を有する化合物が好ましく、炭素数８〜６０の有機残基を有する化合物であればより好ましく、炭素数１０〜４０の有機残基を有する化合物であればさらに好ましい。
【０１４７】
本発明の組成物中、上記化合物（ＩＩＩ）は、化合物（Ｉ）及び化合物（ＩＩ）の合計に対して、通常０．０００１〜５０重量％の範囲で含まれ、好ましくは０．００１〜２０重量％の範囲、より好ましくは０．０１〜１０重量％の範囲で含まれる。このような範囲で化合物（ＩＩＩ）が含まれた組成物を硬化することにより、上記化合物（Ｉ）に由来する親水基が硬化物の表面に濃縮されやすくなり、例えば硬化物が単層膜である場合には、その表面に親水基が傾斜しやすくなる。
【０１４８】
＜その他の成分＞
本発明の歯科用組成物には、さらに必要に応じて、その他の成分が含まれていてもよい。
【０１４９】
その他の成分としては、例えば、重合開始剤、重合促進剤、紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定剤（ＨＡＬＳ）、溶剤、フィラー、酸化防止剤、重合禁止剤、色素、抗菌剤、Ｘ線造影剤、増粘剤、蛍光剤などが挙げられる。
【０１５０】
重合開始剤
本発明の歯科用組成物から後述する本発明の歯科用硬化物（歯科用親水性硬化物）を製造する際には、その組成物を硬化させ、例えば単層膜の形態とする。ここで、重合開始剤は、歯科分野で用いられる一般的な重合開始剤を使用することができ、通常、重合性モノマーの重合性と重合条件を考慮して選択される。
【０１５１】
本発明の歯科用組成物の硬化を常温で行う場合には、たとえば、酸化剤及び還元剤を組み合わせたレドックス系の重合開始剤が好適である。レドックス系の重合開始剤を使用する場合、酸化剤と還元剤が別々に包装された形態をとり、使用する直前に両者を混合する必要がある。
【０１５２】
酸化剤としては、特に限定されないが、例えば、ジアシルパーオキサイド類、パーオキシエステル類、ジアルキルパーオキサイド類、パーオキシケタール類、ケトンパーオキサイド類およびハイドロパーオキサイド類などの有機過酸化物を挙げることができる。上記有機過酸化物としては、例えば、ベンゾイルパーオキサイド、２，４−ジクロロベンゾイルパーオキサイドおよびｍ−トルオイルパーオキサイド等のジアシルパーオキサイド類；ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ビス−ｔ−ブチルパーオキシイソフタレート、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ベンゾイルパーオキシ）ヘキサン、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエートおよびｔ−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート等のパーオキシエステル類；ジクミルパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイドおよびラウロイルパーオキサイド等のジアルキルパーオキサイド類；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン等のパーオキシケタール類；メチルエチルケトンパーオキサイド等のケトンパーオキサイド類；ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド等のハイドロパーオキサイド類などが挙げられる。
【０１５３】
また、還元剤としては、特に限定されないが、通常第三級アミンが用いられる。第三級アミンとしては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−ｐ−トルイジン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−ｍ−トルイジン、Ｎ，Ｎ−ジエチル−ｐ−トルイジン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−３，５−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−３，４−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−エチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−ｉ−プロピルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−ｔ−ブチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−ｐ−トルイジン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３，５−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３，４−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−４−エチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−４−ｉ−プロピルアニリン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−４−ｔ−ブチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジ（２−ヒドロキシエチル）−３，５−ジ−ｉ−プロピルアニリン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリン、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸ｎ−ブトキシエチル、４−ジメチルアミノ安息香酸（２−メタクリロイルオキシ）エチル、トリメチルアミン、トリエチルアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、Ｎ−エチルジエタノールアミン、Ｎ−ｎ−ブチルジエタノールアミン、Ｎ−ラウリルジエタノールアミン、トリエタノールアミン、（２−ジメチルアミノ）エチルメタクリレート、Ｎ，Ｎ−ビス（メタクリロイルオキシエチル）−Ｎ−メチルアミン、Ｎ，Ｎ−ビス（メタクリロイルオキシエチル）−Ｎ−エチルアミン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メタクリロイルオキシエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ビス（メタクリロイルオキシエチル）−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アミン、トリス（メタアクリロイルオキシエチル）アミンなどが挙げられる。
【０１５４】
これら有機過酸化物／アミン系の他には、クメンヒドロパーオキサイド／チオ尿素系、アスコルビン酸／Ｃｕ2+塩系、有機過酸化物／アミン／スルフィン酸（又はその塩）系等のレドックス系重合開始剤を用いることができる。また、重合開始剤として、トリブチルボラン、有機スルフィン酸なども好適に用いられる。
【０１５５】
また、本発明の歯科用組成物を、放射線、例えば、紫外線により硬化させる場合には、光重合開始剤を混合物に添加する。また、熱により硬化させる場合には、熱重合開始剤を添加する。
【０１５６】
光重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤、光カチオン重合開始剤、および光アニオン重合開始剤等が挙げられるが、これら光重合開始剤の中でも、光ラジカル重合開始剤が好ましい。
【０１５７】
上記光ラジカル重合開始剤としては、例えば、イルガキュアー１２７（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）、イルガキュアー６５１（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）、イルガキュアー１８４（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）、ダロキュアー１１７３（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、イルガキュアー５００（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）、イルガキュアー２９５９（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）、イルガキュアー９０７（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）、イルガキュアー３６９（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）、イルガキュアー１３００（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）、イルガキュアー８１９（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）、Ｓｐｅｅｄｃｕｒｅ  ＣＰＴＸ（ＬＡＭＢＳＯＮ社製）、Ｓｐｅｅｄｃｕｒｅ  ＤＥＴＸ（ＬＡＭＢＳＯＮ社製）、Ｓｐｅｅｄｃｕｒｅ  ＣＴＸ（ＬＡＭＢＳＯＮ社製）、Ｓｐｅｅｄｃｕｒｅ  ＩＴＸ（ＬＡＭＢＳＯＮ社製）、イルガキュアー３７９ＥＧ（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）、イルガキュアー１８００（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）、ダロキュアーＴＰＯ（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製；（２，４，６−トリメチルベンゾイル）ジフェニルホスフィンオキシド）、ダロキュアー４２６５（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）、イルガキュアーＯＸＥ０１（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）、イルガキュアーＯＸＥ０２（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製））、エサキュアーＫＴ５５（ランベルティー社製）、エサキュアーＯＮＥ（ランベルティー社製）、エサキュアーＫＩＰ１５０（ランベルティー社製）、エサキュアーＫＩＰ１００Ｆ（ランベルティー社製）、エサキュアーＫＴ３７（ランベルティー社製）、エサキュアーＫＴＯ４６（ランベルティー社製）、エサキュアー１００１Ｍ（ランベルティー社製）、エサキュアーＫＩＰ／ＥＭ（ランベルティー社製）、エサキュアーＤＰ２５０（ランベルティー社製）、エサキュアーＫＢ１（ランベルティー社製）、カンファーキノン、２−エチルアントラキノン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−ｐ−トルイジン、ベンジル、２，３−ペンタンジオン、ベンジルジメチルケタール、ベンジルジエチルケタール、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２，６−ジメトキシベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２，６−ジクロロベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２，３，５，６−テトラメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ベンゾイルビス（２，６−ジメチルフェニル）ホスホネート、２，４，６−トリメチルベンゾイルエトキシフェニルホスフィンオキサイド、３，３'−カルボニルビス（７−ジエチルアミノ）クマリン、３−（４−メトキシベンゾイル）クマリン、３−チエノイルクマリン、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス（トリブロモメチル）−ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン等が挙げられる。
【０１５８】
これら光重合開始剤の中でも、イルガキュアー１２７（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）、イルガキュアー１８４（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）、ダロキュアー１１７３（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）、イルガキュアー５００（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）、イルガキュアー８１９（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）、ダロキュアーＴＰＯ（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）、エサキュアーＯＮＥ（ランベルティー社製）、エサキュアーＫＩＰ１００Ｆ（ランベルティー社製）、エサキュアーＫＴ３７（ランベルティー社製）およびエサキュアーＫＴＯ４６（ランベルティー社製）、カンファーキノンなどが好ましい。
【０１５９】
上記光カチオン重合開始剤としては、例えば、イルガキュアー２５０（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）、イルガキュアー７８４（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）、エサキュアー１０６４（ランベルティー社製）、ＣＹＲＡＵＲＥ ＵＶＩ６９９０（ユニオンカーバイト日本社製）、アデカオプトマーＳＰ−１７２（旭電化社製）、アデカオプトマーＳＰ−１７０（旭電化社製）、アデカオプトマーＳＰ−１５２（旭電化社製）、アデカオプトマーＳＰ−１５０（旭電化社製）等が挙げられる。
【０１６０】
なお、光重合開始剤を用いる場合、光硬化性を促進させるために、光重合開始剤と還元剤とを併用することができる。
【０１６１】
還元剤としては、主として、第３級アミン類、アルデヒド類、チオール基を有する化合物などが挙げられ、これらは、それぞれ単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
【０１６２】
第３級アミン類の例としては、２−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ビス〔（メタ）アクリロイルオキシエチル〕−Ｎ−メチルアミン、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸ブチル、４−ジメチルアミノ安息香酸ブトキシエチル、Ｎ−メチルジエタノールアミン、４−ジメチルアミノベンゾフェノンなどが挙げられる。
【０１６３】
アルデヒド類の例としては、ジメチルアミノベンズアルデヒド、テレフタルアルデヒドなどが挙げられる。
【０１６４】
チオール基を有する化合物の例としては、２−メルカプトベンゾオキサゾール、デカンチオール、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、チオ安息香酸などが挙げられる。
【０１６５】
また、上記光重合開始剤を使用する場合には、光重合促進剤を併用してもよい。光重合促進剤としては、例えば、２，２−ビス（２−クロロフェニル）−４，５'−テトラフェニル−２'Ｈ−＜１，２'＞ビイミダゾルイル、トリス（４−ジメチルアミノフェニル）メタン、４，４'−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、２−エチルアントラキノン、カンファーキノン等が挙げられる。
【０１６６】
上記熱重合開始剤としては、例えば、メチルイソブチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド等のケトンパーオキサイド類；
イソブチリルパーオキサイド、ｏ−クロロベンゾイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド等のジアシルパーオキサイド類；
トリス（ｔ−ブチルパーオキシ）トリアジン、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド等のジアルキルパーオキサイド類；
２，２−ビス（４，４−ジ−ｔ−ブチルパーオキシシクロヘキシル）プロパン、２，２−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタン等のパーオキシケタール類；
α−クミルパーオキシネオデカノエート、ｔ−ブチルパーオキシピバレート、２，４，４−トリメチルペンチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシ−３，５，５−トリメチルヘキサノエート等のアルキルパーエステル類；
ジ−３−メトキシブチルパーオキシジカーボネート、ビス（４−ｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート、ジエチレングリコールビス（ｔ−ブチルパーオキシカーボネート）等のパーカボネート類等が挙げられる。
【０１６７】
上記光重合開始剤および熱重合開始剤は、いずれも、それぞれ１種単独でまたは２種以上を混合して用いることができる。
【０１６８】
上記光重合開始剤および熱重合開始剤の使用量は、化合物（Ｉ）および（ＩＩ）の合計に対して、好ましくは０．０１〜２０重量％の範囲、より好ましくは０．０５〜１０重量％の範囲、さらに好ましくは０．１〜５重量％の範囲である。
【０１６９】
紫外線吸収剤，ヒンダードアミン系光安定剤
本発明の歯科用親水性硬化物、例えば歯科用単層膜を、例えば防汚材料などとして使用し、長期間外部に曝されても変質しないようにするためには、本発明の組成物に、さらに紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定剤を添加した耐候処方の組成物とすることが望ましい。このことは、この歯科用単層膜を有する歯科用補綴物を得る際にも同様である。
【０１７０】
上記紫外線吸収剤は特に限定はされず、例えば、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾエート系紫外線吸収剤、プロパンジオック酸エステル系紫外線吸収剤、オキサニリド系紫外線吸収剤等の種々の紫外線吸収剤を用いることができる。
【０１７１】
上記紫外線吸収剤としては、例えば、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−ｐ−クレゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ビス（１−メチル-１−フェニルエチル）フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（１−メチル-１−フェニルエチル）フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（３−オン−４−オキサ−ドデシル）−６−ｔｅｒｔ−ブチル−フェノール、２−｛５−クロロ（２Ｈ）−ベンゾトリアゾール−２−イル｝−４−（３−オン−４−オキサ−ドデシル）−６−ｔｅｒｔ−ブチル−フェノール、２−｛５−クロロ（２Ｈ）−ベンゾトリアゾール−２−イル｝−４−メチル-６−ｔｅｒｔ−ブチル−フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルフェノール、２−｛５−クロロ（２Ｈ）−ベンゾトリアゾール−２−イル｝−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−ｔｅｒｔ−オクチルフェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−メチル６−ｎ−ドデシルフェノール、メチル-３−｛３−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル｝プロピオネート／ポリエチレングリコール３００の反応性生物等のベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤；２−（４−フェノキシ−２−ヒドロキシ−フェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オキサ−ヘキサデシロキシ）−４，６−ジ（２，４−ジメチル-フェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オキサ−ヘプタデシロキシ）−４，６−ジ（２，４−ジメチル-フェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ｉｓｏ−オクチロキシ−フェニル）−４，６−ジ（２，４−ジメチル-フェニル）−１，３，５−トリアジン、商品名チヌビン４００（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ株式会社製）、商品名チヌビン４０５（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ株式会社製）、商品名チヌビン４６０（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ株式会社製）、商品名チヌビン４７９（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ株式会社製）等のトリアジン系紫外線吸収剤；２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン系紫外線吸収剤；２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等のベンゾエート系紫外線吸収剤；プロパンジオック酸−｛（４−メトキシフェニル）−メチレン｝−ジメチルエステル、商品名ホスタビンＰＲ−２５（クラリアント・ジャパン株式会社製）、商品名ホスタビンＢ−ＣＡＰ（クラリアント・ジャパン株式会社製）等のプロパンジオック酸エステル系紫外線吸収剤；２−エチル−２'−エトキシ−オキサニリド、商品名Ｓａｎｄｕｖｏｒ ＶＳＵ（クラリアント・ジャパン株式会社製）等のオキサニリド系紫外線吸収剤等が挙げられる。これら紫外線吸収剤の中でもトリアジン系紫外線吸収剤が好ましい傾向にある。
【０１７２】
上記ヒンダードアミン系光安定剤（Ｈｉｎｄｅｒｅｄ Ａｍｉｎ Ｌｉｇｈｔ Ｓｔａｂｉｌｉｚｅｒｓ：略称ＨＡＬＳ）は、通常、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン骨格を有する化合物の総称であり、分子量により、低分子量ＨＡＬＳ、中分子量ＨＡＬＳ、高分子量ＨＡＬＳ及び反応型ＨＡＬＳに大別される。ヒンダードアミン系光安定剤としては、例えば、商品名チヌビン１１１ＦＤＬ（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ株式会社製）、ビス（１−オクチロキシ−２，２，６，６−テトラメチル-４−ピペリジル）セバケート（商品名チヌビン１２３（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ株式会社製））、商品名チヌビン１４４（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ株式会社製）、商品名チヌビン２９２（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ株式会社製）、商品名チヌビン７６５（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ株式会社製）、商品名チヌビン７７０（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ株式会社製）、Ｎ，Ｎ'−ビス（３−アミノプロピル）エチレンジアミン−２，４−ビス［Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル-４−ピペリジル）アミノ］−６−クロロ−１，３，５−トリアジン縮合物（商品名ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ１１９ＦＬ（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ株式会社製））、商品名ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ２０２０ＦＤＬ（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ株式会社製）、コハク酸ジメチル-１−（２−ヒドロキシエチル）−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン重縮合物（商品名ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ６２２ＬＤ（チバ・スペシャリ・ティー・ケミカルズ株式会社製））、ポリ［｛６−（１，１，３，３−テトラメチル-ブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，２，６，６−テトラメチルラウリル−４−ピペリジル）イミノ｝］（商品名ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ９４４ＦＤ（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ株式会社製））、商品名Ｓａｎｄｕｖｏｒ３０５０ Ｌｉｑ．（クラリアント・ジャパン株式会社製）、商品名Ｓａｎｄｕｖｏｒ３０５２ Ｌｉｑ．（クラリアント・ジャパン株式会社製）、商品名Ｓａｎｄｕｖｏｒ３０５８ Ｌｉｑ．（クラリアント・ジャパン株式会社製）、商品名Ｓａｎｄｕｖｏｒ３０５１ Ｐｏｗｄｅｒ．（クラリアント・ジャパン株式会社製）、商品名Ｓａｎｄｕｖｏｒ３０７０ Ｐｏｗｄｅｒ．（クラリアント・ジャパン株式会社製）、商品名ＶＰ Ｓａｎｄｕｖｏｒ ＰＲ−３１（クラリアント・ジャパン株式会社製）、商品名ホスタビンＮ２０（クラリアント・ジャパン株式会社製）、商品名ホスタビンＮ２４（クラリアント・ジャパン株式会社製）、商品名ホスタビンＮ３０（クラリアント・ジャパン株式会社製）、商品名ホスタビンＮ３２１（クラリアント・ジャパン株式会社製）、商品名ホスタビンＰＲ−３１（クラリアント・ジャパン株式会社製）、商品名ホスタビン８４５（クラリアント・ジャパン株式会社製）、商品名ナイロスタッブＳ−ＥＥＤ（クラリアント・ジャパン株式会社製）等が挙げられる。
【０１７３】
上記紫外線吸収剤およびヒンダードアミン系光安定剤の添加量は、特に限定はされないが、化合物（Ｉ）および（ＩＩ）の合計に対して、紫外線吸収剤は、通常０．１〜２０重量％、好ましくは０．５〜１０重量％であり、ヒンダードアミン系光安定剤は、通常０．１〜１０重量％、好ましくは０．５〜５重量％、より好ましくは１〜３重量％の範囲である。紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定剤の添加量が上記範囲内である場合には、本発明の組成物から得られる硬化物、例えば単層膜の耐候性改良効果が大きくなる。紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定剤の添加量が上記範囲未満である場合には、得られる硬化物、例えば単層膜の耐候性の改良効果が小さくなる傾向にある。一方、紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定剤の添加量が上記範囲を超える場合には、本発明の歯科用組成物の硬化に際して、上記化合物（Ｉ）と上記化合物（ＩＩ）との共重合反応が不十分な場合がある。
【０１７４】
溶剤
本発明の組成物は、化合物（Ｉ）および化合物（ＩＩ）に加え化合物（ＩＩＩ）を含むため、その組成物に溶剤を含まない場合でも、親水基が表面に偏析した硬化物が得られる。しかし、組成物から硬化物、例えば単層膜を作製する際の作業性などを考慮すると、本発明の組成物には溶剤を含んでいてもよい。
【０１７５】
上記溶剤としては、表面が親水性の硬化物が得られる限り特に制限はないが、本発明で用いる単量体組成物に含まれる構成成分に対して反応したり、該構成成分と塩を形成したりするなど相互作用の強すぎる溶剤、および沸点が高すぎる溶剤、例えば沸点が２００℃を超える溶剤は好ましくない。例えば、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、Ｎ−エチル−エタノールアミン、Ｎ−（２−エチルヘキシル）エタノールアミン、Ｎ−ブチル−ジエタノールアミン、Ｎ−ヘキシル−ジエタノールアミン、Ｎ−ラウリル−ジエタノールアミン、Ｎ−セチル−ジエタノールアミンなどのヒドロキシエチルアミノ構造を有するエタノールアミン系化合物〔ＮＲａＲｂ（ＣＨ2ＣＨ2ＯＨ）：  ＲａおよびＲｂは独立して、水素、炭素数１〜１５のアルキル基、またはＣＨ2ＣＨ2ＯＨ基である。〕は、化合物（Ｉ）に含まれる親水基と相互作用、例えばスルホ基に代表されるアニオン性親水基とは塩または塩に近い形を形成しやすく、また蒸発しにくいため、塗布した混合物から溶剤を除去しようとしても、外気に接する表面へ移動しにくく内部に残留する傾向にある。したがって、化合物（Ｉ）に含まれる親水基が、塗布物の外気に接する表面への傾斜（集中化）起こりにくい傾向にある。そのため、上記エタノールアミン系化合物は溶剤としては望ましくない。
【０１７６】
上述のような溶剤を除き、化合物（Ｉ）、化合物（ＩＩ）、および化合物（ＩＩＩ）の溶解性などを考慮して、適切な溶剤を使用することができる。
【０１７７】
例えば、従来の組成物では比較的極性の高い溶剤、例えば溶解度パラメーター（ＳＰ値）σが、９．３（ｃａｌ／ｃｍ3）1/2以上の溶剤が好ましく用いられていたが、本発明の組成物では、ＳＰ値が９．３未満の溶剤を用いた場合であっても、その組成物から親水基が表面に偏析した硬化物が得られる。
【０１７８】
なお、比較的多くの溶剤を含む状態（低固形分）で、本発明の組成物を使用する場合は、低極性の溶剤のみを大量に用いると、化合物（Ｉ）または化合物（ＩＩ）が分離して、均一な組成の組成物が作製できない場合があり、その状態の組成物を基材に塗布すると、均一な組成の塗布物（例えば、塗膜）が得られない場合がある。従って、溶解性の観点から、本発明の組成物には、高極性の溶剤が少なくとも１種含まれていた方が好ましい傾向にある。このような高極性の溶剤としては、溶解度パラメーター（ＳＰ値）σで９．０（ｃａｌ／ｃｍ3）1/2以上の溶剤が好ましい。
【０１７９】
上記好ましいＳＰ値の範囲にある溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、１−プロパノール、イソプロパノール（ＩＰＡ）、１−ブタノール、イソブタノール、１−ペンタノール（１−アミルアルコール）、イソペンタノール、２−ペンタノール、３−ペンタノール、シクロヘキサノール、１−メトキシ−２−プロパノール（メトキシプロパノール）、２−メトキシ−１−プロパノール、２−メトキシ−１−エタノール（メトキシエタノール）、２−イソプロポキシ−１−エタノール、アセトニトリル、アセトンおよび水等が挙げられる。これら溶剤の中でも、メタノール、エタノール、１−プロパノール、１−ブタノール、１−ペンタノール（１−アミルアルコール）などの、ＳＰ値で９．０（ｃａｌ／ｃｍ3）1/2以上の１級アルコール、および１−メトキシ−２−プロパノール（メトキシプロパノール）、２−メトキシ−１−エタノール（メトキシエタノール）、２−イソプロポキシ−１−エタノール等のＳＰ値で９．０（ｃａｌ／ｃｍ3）1/2以上のアルコキシアルコールがより好ましい。
【０１８０】
ここでいう溶解パラメーター（ＳＰ値）は以下に示す簡易計算法によって容易に計算することができる。
【０１８１】
溶解パラメーターσの計算式
１）１ｍｏｌ当たりの蒸発潜熱
Ｈｂ＝２１×（２７３＋Ｔｂ）  （単位：ｃａｌ／ｍｏｌ），Ｔｂ：沸点（℃）
２）２５℃での１ｍｏｌ当たりの蒸発潜熱
Ｈ２５＝Ｈｂ×｛１＋０．１７５×（Ｔｂ−２５）／１００｝  （単位：ｃａｌ／ｍｏｌ），Ｔｂ：沸点（℃）
３）分子間結合エネルギー  Ｅ＝Ｈ２５−５９６  （単位：ｃａｌ／ｍｏｌ）
４）溶剤１ｍｌ（ｃｍ3）当たりの分子間結合エネルギー
Ｅ１＝Ｅ×Ｄ／Ｍｗ  （単位：ｃａｌ／ｃｍ3），Ｄ：密度（ｇ／ｃｍ3），
ＭＷ：分子量
５）溶解パラメーター（ＳＰ値）  σ＝（Ｅ１）1/2  （単位：ｃａｌ／ｃｍ3）1/2
ただ、本発明の歯科用組成物は、歯科材料に用いられることを考慮すると、溶剤は、常圧での沸点が４０〜１８０℃の範囲内にある液体であることが好ましい。例えば、水や、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−プロパノール、ブタノール、シクロヘキサノールなどのアルコール系、クロロホルム、塩化メチレン、クロロベンゼンなどのハロゲン系、ヘキサン、シクロヘキサン、トルエン、キシレンなどの炭化水素系、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系、エーテル系などが挙げられるが、本発明は、かかる例示のみに限定されるものではない。これらのうち、塗布後に比較的容易に蒸発させることができる溶剤、例えば、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−プロパノール、ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭ）、２−メトキシ−１−エタノール（ＥＧＭ）、アセトンなどが好ましい。これらの溶剤は、１種単独で用いてもよく、あるいは、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１８２】
本発明の組成物に含まれる溶剤の量は、本発明により得られる硬化物、例えば単層膜の物性、経済性等を考慮して適宜決定できる。
【０１８３】
溶剤の使用量は、上記組成物に含有される固形分（化合物（Ｉ）〜（ＩＩＩ）および「その他の成分」のうち、溶剤を除く構成成分の合計量）の濃度（固形分／（固形分＋溶剤）×１００）で、通常１重量％以上、好ましくは１０〜９０重量％、より好ましくは２０〜８０重量％、さらに好ましくは３０〜７０重量％の範囲である。
【０１８４】
フィラー
本発明の歯科用組成物には、歯科用コンポジットレジンを調製する場合など必要により、フィラーを含んでいても良い。ここで、フィラーは、歯科分野で用いられる一般的なフィラーを使用することができる。フィラーは、通常、有機フィラーと無機フィラーに大別される。
【０１８５】
有機フィラーとしては、例えば、ポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸エチル、メタクリル酸メチル−メタクリル酸エチル共重合体、架橋型ポリメタクリル酸メチル、架橋型ポリメタクリル酸エチル、エチレン−酢酸ビニル共重合体およびスチレン−ブタジエン共重合体；ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、テトラフルオロエチレン−エチレン共重合体、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体（ＦＥＰ）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、ポリトリフルオロ塩化エチレン（ＰＣＴＦＥ）などのフッ素樹脂などの微粉末が挙げられる。
【０１８６】
無機フィラーとしては、例えば、各種ガラス類（二酸化珪素（石英、石英ガラス、シリカゲルなど）、アルミナ、珪素を主成分とし、必要に応じ、重金属、ホウ素およびアルミニウム等の酸化物を含有する）、各種セラミック類、珪藻土、カオリン、粘土鉱物（モンモリロナイト等）、活性白土、合成ゼオライト、マイカ、フッ化カルシウム、フッ化イッテルビウム、リン酸カルシウム、硫酸バリウム、二酸化ジルコニウム、二酸化チタン、ヒドロキシアパタイト等の微粉末が挙げられる。このような無機フィラーの具体例としては、例えば、バリウムボロシリケートガラス（キンブルレイソーブＴ３０００、ショット８２３５、ショットＧＭ２７８８４およびショットＧＭ３９９２３など）、ストロンチウムボロアルミノシリケートガラス（レイソーブＴ４０００、ショットＧ０１８−０９３およびショットＧＭ３２０８７など）、ランタンガラス（ショットＧＭ３１６８４など）、フルオロアルミノシリケートガラス（ショットＧ０１８−０９１およびショットＧ０１８−１１７など）、ジルコニウムおよび／またはセシウム含有のボロアルミノシリケートガラス（ショットＧ０１８−３０７、Ｇ０１８−３０８およびＧ０１８−３１０など）が挙げられる。
【０１８７】
また、これら無機フィラーに重合性モノマーを予め添加し、ペースト状にした後、重合硬化させ、粉砕して得られる有機無機複合フィラーを用いても差し支えない。
【０１８８】
また、歯科組成物において、粒径が０．１μｍ以下のミクロフィラーが配合された組成物は、歯科用コンポジットレジンに好適な態様の一つである。かかる粒径の小さなフィラーの材質としては、シリカ（例えば、商品名アエロジル）、アルミナ、ジルコニア、チタニアなどが好ましい。このような粒径の小さい無機フィラーの配合は、コンポジットレジンの硬化物の研磨滑沢性を得る上で有利である。
【０１８９】
これらのフィラーに対しては、目的に応じて、シランカップリング剤などにより表面処理が施される場合がある。かかる表面処理剤としては、公知のシランカップリング剤、例えば、γ−メタクリルオキシアルキルトリメトキシシラン（メタクリルオキシ基とケイ素原子との間の炭素数：３〜１２）、γ−メタクリルオキシアルキルトリエトキシシラン（メタクリルオキシ基と珪素原子との間の炭素数：３〜１２）、ビニルトリメトキシシラン、ビニルエトキシシランおよびビニルトリアセトキシシラン等の有機珪素化合物が使用される。表面処理剤の濃度は、フィラー１００重量％に対して、通常０．１〜２０重量％、好ましくは１〜１０重量％の範囲で使用される。
【０１９０】
また、硬化後の表面からフッ素イオン徐放性を期待する場合、フルオロアルミノシリケートガラスフィラー、フッ化カルシウム、フッ化ナトリウム、モノフルオロリン酸ナトリウムなどのフッ素イオン徐放性フィラーを添加することもできる。
【０１９１】
これらのフィラーは１種単独で又は２種類以上を組み合わせて適宜用いられる。フィラーの配合量は、コンポジットレジンペーストの操作性（粘稠度）やその硬化物の機械的物性を考慮して適宜決定すればよく、歯科組成物中に含まれるフィラー以外の全成分１００重量部に対して、通常１０〜２０００重量部、好ましくは５０〜１０００重量部、より好ましくは１００〜６００重量部である。
【０１９２】
その他の添加剤
本発明の歯科用組成物には、その他、以下の成分も含むことができる。
【０１９３】
抗菌性を期待する場合は、例えば、セチルピリジニウムクロライド、１２−（メタ）アクリロイルオキシドデシルピリジニウムブロマイドなどの抗菌活性を有する界面活性剤や光触媒性酸化チタンを添加することができる。
【０１９４】
Ｘ線造影性を付与する場合は、バリウム、イッテルビウム、ストロンチウム、ランタンなどの重金属元素を含むガラスフィラー（例えば、バリウムボロアルミノシリケートガラスなど）、フッ化イッテルビウム、硫酸バリウムなどの微粉を添加することができる。
【０１９５】
粘性や塗布性を調整する場合には、ポリアクリル酸ナトリウム、アルギン酸ナトリウム、アラビアゴムなどの増粘剤や、平均粒径が０．１μｍ以下のミクロフィラーシリカ〔例えば、日本アエロジル（株）製、商品名：アエロジル〕を添加することができる。
【０１９６】
＜調製方法＞
本発明の歯科用組成物は、上記化合物（Ｉ）、上記化合物（ＩＩ）、上記界面活性剤（ＩＩＩ）、並びに、必要に応じて、上記「その他の成分」を混合することにより得ることができる。
【０１９７】
ここで、本発明の歯科用組成物は、これらの成分を一度に混合することによって得ることができるし、あるいは、一旦、上記化合物（Ｉ）および上記化合物（ＩＩ）を含むが、上記界面活性剤（ＩＩＩ）および上記重合開始剤を含まない重合性組成物を調製し、この重合性組成物に対して、上記界面活性剤（ＩＩＩ）、および、必要により上記重合開始剤などその他の成分を配合することにより得ることもできる。
【０１９８】
なお、溶剤をほとんどまたは全く含まない歯科用組成物は、はじめから溶剤を用いることなく上記化合物（Ｉ）、上記化合物（ＩＩ）、上記界面活性剤（ＩＩＩ）等を混合することによって得ても良いし、あるいは、一旦、上記溶剤を含む希釈歯科用組成物を製造しておき、その後、この希釈歯科用組成物について、上記化合物（Ｉ）および上記化合物（ＩＩ）が反応を引き起こさない適当な条件下で溶剤除去を行うことによって得てもよい。
【０１９９】
〔歯科用硬化物〕
本発明の歯科用硬化物は、上述した本発明の歯科用組成物を硬化して得られる。ここで、本発明の歯科用硬化物は、一定の親水性を有することから、本明細書において、「歯科用親水性硬化物」または「親水性硬化物」と呼ぶ場合がある。また、本明細書の文脈上、本発明の歯科用硬化物を指すことが明らかな場合には、便宜上「硬化物」と呼ぶ場合もある。
【０２００】
ここで、本発明の歯科用硬化物（歯科用親水性硬化物）が取りうる形態は特に限定されないものの、本発明の好適且つ典型的な態様においては、単層膜の形態を有する。このような単層膜を、本発明では、「歯科用単層膜」と呼ぶことがある。
【０２０１】
＜歯科用単層膜＞
本発明の歯科用単層膜は、上述した歯科用組成物を硬化することにより得られる架橋樹脂、すなわち、歯科用親水性硬化物から形成される。すなわち、本発明の歯科用単層膜は、歯科用親水性硬化物からなる単層膜である。
【０２０２】
なお、本明細書においては、このような歯科用単層膜のことを便宜上「単層膜」と呼ぶ場合もある。
【０２０３】
本発明において、この単層膜のアニオン性親水基、カチオン性親水基、および水酸基から選ばれる少なくとも一つの親水基の表面濃度（Ｓａ）と単層膜の膜厚１／２地点における親水基の濃度（深部濃度）（Ｄａ）から求められる親水基濃度の傾斜度（アニオン濃度比）（Ｓａ／Ｄａ）は、１．１以上であり、好ましくは１.２以上、より好ましくは１．３以上であり、さらに好ましくは１．５以上である。
【０２０４】
本発明の単層膜は、通常、歯面や歯科用補綴物等の少なくとも片面上に設けられ上記親水基を有する被膜として設けられている。そしてこの単層膜中では、上記親水基が、歯面や歯科用補綴物等の存在する側の膜深部から表面まで分布し、特に単層膜が外気と接する最表面に多く分布するように濃度差（傾斜度（親水基濃度比）（Ｓａ／Ｄａ））を有している。
【０２０５】
これは、下記「形成方法」で後述するように、上記歯科用組成物を、歯面や歯科用補綴物等に塗布して、熱、放射線等により硬化すると、アニオン性親水基、カチオン性親水基、および水酸基から選ばれる少なくとも１種の親水基が外気に接する表面に偏析（傾斜化）した後、上記歯科用組成物の硬化物からなる単層膜が形成されるためであると考えられる。
【０２０６】
このように、本発明の歯科材料を構成する単層膜は、その表面に上記親水基が高濃度で存在するので、防汚性またはセルフクリーニング性等に優れる。
【０２０７】
上記傾斜度（親水基濃度比）は、所定の単層膜サンプルを斜めに切断し、単層膜の外気に接していた表面と、単層膜の膜厚１／２地点とにおける、アニオン性親水基（例えば、スルホ基、カルボキシル基、リン酸基など）、カチオン性親水基（例えば、４級アンモニウム基など）、および水酸基を有する基の濃度を、飛行時間型２次イオン質量分析装置（ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）を用いてフラグメントイオン強度としてそれぞれ測定して、その値（相対強度）から求める。
【０２０８】
例えば、図１に示す試料調製の通りサンプルを斜めに切断し、飛行時間型２次イオン質量分析装置(ＴＯＦ−ＳＩＭＳ)を用いて、スルホ基、カルボキシル基、リン酸基、４級アンモニウム基、および水酸基などの親水基を有する親水性化合物のフラグメントイオンについて、その親水性化合物に由来する外表面のフラグメントイオン濃度（Ｓａ）と上記中間地点とのフラグメントイオン濃度（Ｄａ）とを測定する。そして、これらの値から外気に接する膜の外表面と膜の内表面と外表面との中間地点の親水性化合物に由来する親水基の濃度の比、すなわち親水基濃度の傾斜度（Ｓａ／Ｄａ）を求めることができる。
【０２０９】
本発明の歯科材料を構成する単層膜の水接触角は通常５０°以下であり、好ましくは３０°以下である。
【０２１０】
水接触角が上記数値以下の単層膜は、親水性が高く、水となじみ（濡れ）やすく親水性材料として優れる。そのため、例えば、防汚材料、防汚被膜またはセルフクリーニングコート等に有用である。たとえば、セルフクリーニングコートとして用いると水が汚れとコーティング面の間に入り込み汚れを浮かせて除去することができるため防汚効果に優れている。さらに親水性の単層膜は、水が広がることにより蒸発面積が拡大し、蒸発速度が向上して乾燥が早くなる。
【０２１１】
上記水接触角が上記上限値以下である場合は、本発明の単層膜は、防汚材料として特に好ましく用いられる。なお、上記水接触角は通常０°以上である。
【０２１２】
化合物(ＩＩＩ)を含む組成物を硬化することにより、溶剤なしで化合物（Ｉ）に由来する親水基が、単層膜の表面へ偏析（傾斜化）することが可能となり、より幅広い条件で高親水性の硬化物が得られるようになるとともに、化合物（Ｉ）と化合物（ＩＩ）の分離を抑制する相溶効果と思われる効果により、硬化物の透明性も相対的に高められる。また、極性溶剤の蒸発に同伴させて表面に偏析（傾斜化）させる従来の方法（例えば、国際公開２００７／０６４００３号公報）では傾斜化できなかった一般的な親水性の重合性化合物（例えば、国際公開２００７／０６４００３号公報で請求項に記載された範囲の化合物を除く親水性重合性化合物）を含む組成物からも、化合物(ＩＩＩ)を含むことにより、親水基が表面に偏在（傾斜化）した親水性の硬化物が得られるようになる。また、上記公報の記載の親水性化合物を含む組成物からは、より表面に親水基が偏析（傾斜化）した、より高い親水性の硬化物、例えば単層膜が得られる傾向になる。さらに、従来では傾斜化が困難だった溶解パラメーター（ＳＰ値）が９．３未満の低極性溶剤を使用しても、比較的容易に表面に親水基が偏析（傾斜化）した親水性の硬化物が得られるようになる。したがって、これらの硬化物からなる高い親水性と透明性を有する単層膜が従来よりも容易に幅広い材料で得られるようになり、歯科材料への応用も可能となった。
【０２１３】
本発明の単層膜の膜厚は、通常０．０００１〜５００μｍ、好ましくは０．０５〜５００μｍ、より好ましくは０．１〜３００μｍ、より好ましくは、０．１〜１００μｍ、さらに好ましくは０．５〜１００μｍ、さらにより好ましくは１〜５０μｍ、特に好ましくは２〜３０μｍの範囲である。
【０２１４】
＜形成方法＞
本発明の歯科用硬化物、例えば上記単層膜の形成方法、には特に制限はないが、例えば、重合性組成物である上記歯科用組成物を基材の表面に塗布し、必要に応じて該重合性組成物に含まれている溶剤を除去した後、重合性組成物を硬化させる方法が挙げられる。この方法によれば、上記単層膜を好適に形成することができる。
【０２１５】
ここで、上記塗布は、筆による塗布、またはディップコートやスプレーコート、スピンコート、バーコート等の常法に従って行うことができる。後述する本発明に係る歯科用補綴物を製造する場合、上記塗布は、例えば、後述する実施例で示すようにディップコートによって好適に行うことができる。
【０２１６】
また、上述の従来公知の塗工方法でポリマーフィルム上に単層膜を形成し、当該フィルムを貼り合せることで本発明の歯科用補綴物を得ることもできる。
【０２１７】
基材
ここで、本発明の歯科用組成物による塗布の対象となる基材は、歯または歯科用補綴物である。基材として用いられる歯科用補綴物の例としては、インレー、クラウン、ブリッジ、部分義歯、総義歯、インプラント等が挙げられる。さらに本発明において補綴物は、歯科用修復材料、マウスピース、歯科矯正具、口腔内装具であってもよい。さらに人工歯ないし天然歯であってもよい。これらの材料として、具体的には、歯質、並びに、歯科用補綴物として通常用いうる各種の金属、セラミック、樹脂（レジン）、およびコンポジットレジンなどが挙げられる。ここで、本発明で上記基材として用いうるセラミックとして、例えば、ガラス、シリカ、金属酸化物等が挙げられ、上記無機フィラーと同様のものであってもよい。また、本発明で上記基材として用いうる樹脂として、ポリアクリル酸エステルおよびポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）などのポリメタクリル酸エステル等の各種アクリル樹脂、アクリル酸エステルと各種モノマーとの共重合材料、メチルメタクリレート（ＭＭＡ）などのメタクリル酸エステルと各種モノマーとの共重合材料、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、塩化ビニル樹脂、シリコーン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）樹脂、ポリエーテルケトン（ＰＥＫ）樹脂、ポリエーテルケトンケトン（ＰＥＫＫ）樹脂、ポリエーテルエーテルケトンケトン（ＰＥＥＫＫ）樹脂、ポリエーテルケトンエーテルケトンケトン（ＰＥＫＥＫＫ）樹脂、ポリスルホン（ＰＳＵ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリフェニルスルホン（ＰＰＳＵ）、および上記樹脂を含む各種ポリマーアロイ材料等が挙げられ、上記有機フィラーと同様のものであってもよい。また、コンポジットレジンとして、上記有機無機複合フィラーと同様の材質のものを用いてもよい。
【０２１８】
ここで、本発明の歯科用組成物を、歯面や歯科用補綴物へのコーティング剤として用いる場合、表面との密着性を増強するために、歯面や歯科用補綴物に対して種々の前処理を施すことができる。例えば、口腔内で天然歯牙に塗布する場合には、リン酸水溶液、シュウ酸水溶液、クエン酸水溶液、酒石酸水溶液、塩化第二鉄水溶液によりエッチング処理を施したり、歯質に接着性を有する機能性モノマーが配合された接着性のプライマーやボンディング剤をあらかじめ塗布することもできる。
【０２１９】
また、歯科用補綴物として用いる基材がセラミックス、コンポジットレジン、金属などの場合には、サンドブラスト処理や、シランカップリング剤やリン酸モノマーを含むプライマー処理を施すこともできる。また、義歯床レジンのように、基材がポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）やポリカーボネートなどのようなレジンの場合には、塩化メチレンやアセトン、メチルイソブチルケトンなどの溶剤を塗布して基材処理を施すこともできる。
【０２２０】
また、本発明で用いられる上記基材の表面は必要に応じて、基材表面を活性化することを目的に、コロナ処理、オゾン処理、酸素ガスもしくは窒素ガス等を用いた低温プラズマ処理、グロー放電処理、化学薬品等による酸化処理、火炎処理等の物理的または化学的処理を施すこともできる。またこれら処理に替えてあるいはこれら処理に加えてプライマー処理、アンダーコート処理、アンカーコート処理を施してもよい。
【０２２１】
上記プライマー処理、アンダーコート処理、アンカーコート処理に用いるコート剤としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、エポキシ樹脂、フェノール系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリエチレンおよびポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂またはその共重合体ないし変性樹脂、セルロース系樹脂等の樹脂をビヒクルの主成分とするコート剤を用いることができる。上記コート剤としては、溶剤型コート剤、水性型コート剤のいずれであってもよい。
【０２２２】
これらコート剤の中でも、変性ポリオレフィン系コート剤、エチルビニルアルコール系コート剤、ポリエチレンイミン系コート剤、ポリブタジエン系コート剤、ポリウレタン系コート剤；ポリエステル系ポリウレタンエマルジョンコート剤、ポリ塩化ビニルエマルジョンコート剤、レタンアクリルエマルジョンコート剤、シリコンアクリルエマルジョンコート剤、酢酸ビニルアクリルエマルジョンコート剤、アクリルエマルジョンコート剤；スチレン−ブタジエン共重合体ラテックスコート剤、アクリルニトリル−ブタジエン共重合体ラテックスコート剤、メチルメタクリレート−ブタジエン共重合体ラテックスコート剤、クロロプレンラテックスコート剤、ポリブタジエンラテックスのゴム系ラテックスコート剤、ポリアクリル酸エステルラテックスコート剤、ポリ塩化ビニリデンラテックスコート剤、ポリブタジエンラテックスコート剤、あるいはこれらラテックスコート剤に含まれる樹脂のカルボン酸変性物ラテックスもしくはディスパージョンからなるコート剤が好ましい。
【０２２３】
これらコ−ト剤は、例えば、グラビアコ−ト法、リバ−スロ−ルコ−ト法、ナイフコ−ト法、キスコ−ト法などにより塗布することができ、基材への塗布量は、乾燥状態で、通常０．０５ｇ／ｍ2〜１０ｇ／ｍ2である。
【０２２４】
これらコート剤の中では、ポリウレタン系コート剤がより好ましい。ポリウレタン系のコート剤は、そのコート剤に含まれる樹脂の主鎖あるいは側鎖にウレタン結合を有するものである。ポリウレタン系コート剤は、例えば、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、またはアクリルポリオールなどのポリオールとイソシアネート化合物とを反応させて得られるポリウレタンを含むコート剤である。
【０２２５】
これらポリウレタン系コート剤の中でも、縮合系ポリエステルポリオール、ラクトン系ポリエステルポリオールなどのポリエステルポリオールとトリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート等のイソシアネート化合物とを混合して得られるポリウレタン系コート剤が、密着性に優れているため好ましい。
【０２２６】
ポリオール化合物とイソシアネート化合物とを混合する方法は、特に限定されない。また配合比も特に制限されないが、イソシアネート化合物が少なすぎると硬化不良を引き起こす場合があるためポリオール化合物のＯＨ基とイソシアネート化合物のＮＣＯ基が当量換算で２／１〜１／４０の範囲であることが好適である。
【０２２７】
本発明における基材では、上記表面活性化処理された基材面を含んでもよい。
【０２２８】
このようにして基材表面に本発明の親水性硬化物からなる単層膜を形成したものは、基材と単層膜とを含む積層体として用いることができる。
【０２２９】
なお、本明細書において、基材として用いられる上記歯科用補綴物は、後述する本発明に係る歯科用補綴物との区別のため「基材補綴物」と呼ばれることがある。後述するように、「基材補綴物」表面に本発明の親水性硬化物からなる単層膜を形成して得られるものは、後述する本発明に係る歯科用補綴物として用いることができる。
【０２３０】
溶剤除去
本発明の歯科用組成物については、当該組成物が上記溶剤を含む場合には、歯面や歯科用修復材料等に組成物を塗布後、後述する硬化を行う前に、加熱等により溶剤を充分除去することが好ましい。上記組成物からの溶剤の除去が不十分な場合、化合物（Ｉ）に由来する親水基（アニオン性親水基、カチオン性親水基、および水酸基から選ばれる少なくとも一つの親水基）が、塗布物の外気に接する表面への移動がより少なくなるため、得られる単層膜の親水性等がより小さくなる傾向にある。また、塗布物の外気に接する表面に上記親水基が移動した場合であっても、上記組成物中に溶剤が残存すると、外気に接する表面に存在する大気（疎水性）との反発する相互作用が働き、塗布物の内部へその親水基がより移動しやすくなる傾向にある。そのため、得られる単層膜の親水基の外気に接する表面への傾斜が不十分になる場合があり、また親水性が低下する場合があり、さらに歯面や歯科用修復材料等との密着性も低下する傾向にある。したがって、上記組成物中の硬化直前の残存溶剤はより少ない方が好ましい傾向にあり、通常１０重量％以下、好ましくは５重量％以下、より好ましくは３重量％以下、さらに好ましくは１重量％以下である。
【０２３１】
溶剤除去の際の温度は適時決められるが、通常室温〜２００℃の範囲、好ましくは３０〜１５０℃の範囲、さらに好ましくは４０〜１２０℃の範囲である。
【０２３２】
上記組成物からの溶剤除去のための時間は適時決定すればよいが、生産性を考慮した場合、短時間の方が好ましい傾向にある。例えば、通常３０分以下、好ましくは１０分以下、好ましくは５分以下の時間で乾燥すればよい。溶剤除去の際の雰囲気は大気でも窒素等の不活性ガスでも構わないが、雰囲気の湿度が低い方が、得られる単層膜の外観が悪化（ゆず肌、透明性低下など）しないなど好ましい傾向にある。具体的には、雰囲気の湿度は８０％以下が好ましく、６５％以下がより好ましく、５５％以下がさらに好ましい。
【０２３３】
風を伴い溶剤を除去する場合の風速は、好ましくは３０ｍ／秒以下、より好ましくは０．１〜３０ｍ／秒の範囲、さらに好ましくは０．２〜２０ｍ／秒の範囲、特に好ましくは０．３〜１０ｍ／秒の範囲である。
【０２３４】
溶剤除去の際の圧力は特に限定されず、常圧または減圧が比較的に好ましいが、微加圧であってもよい。
【０２３５】
硬化
本発明の歯科用親水性硬化物は、上記歯科用組成物を上記基材等に塗布した後、硬化することにより得られる。ここで、上記歯科用組成物が上記溶剤を含む場合、硬化は、上記基材等に塗布した後、必要により、さらに上記溶剤除去を行ってから行うことができる。
【０２３６】
ここで、上記歯科用組成物の硬化は、上記化合物（Ｉ）と上記化合物（ＩＩ）が、上記界面活性剤（ＩＩＩ）の存在下で共重合することにより行われる。
【０２３７】
上記硬化方法には特に制限はなく、例えば、熱または放射線を用いて、あるいは両者を併用して硬化することができる。
【０２３８】
本発明の歯科用組成物は、前述の重合開始剤の重合方式にあわせ適切な条件で硬化することができる。
【０２３９】
上記硬化は大気下で行うこともできるが、窒素等の不活性ガス雰囲気下で行った場合は硬化時間を短縮できる点で好ましい。
【０２４０】
熱を用いて硬化する場合、通常、上記歯科用組成物に有機過酸化物等の熱ラジカル発生剤を加え室温から３００℃以下の範囲で加熱する。
【０２４１】
放射線を用いて硬化する場合、放射線としては波長領域が０．０００１〜８００ｎｍ範囲のエネルギー線を用いることができる。上記放射線は、α線、β線、γ線、Ｘ線、電子線、紫外線、可視光等に分類されており、上記混合物の組成に応じて適宜選択して使用できる。これら放射線の中でも紫外線が好ましく、紫外線の出力ピークは、好ましくは２００〜４５０ｎｍの範囲、より好ましくは２３０〜４４５ｎｍの範囲、さらに好ましくは２４０〜４３０ｎｍ範囲、特に好ましくは２５０〜４００ｎｍの範囲である。上記出力ピークの範囲の紫外線を用いた場合には、硬化時の黄変及び熱変形等の不具合が少なく、且つ紫外線吸収剤を添加した場合も比較的に短時間で硬化を完結できる。
【０２４２】
また、上記組成物中に紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系安定剤が添加されている場合には、出力ピークが２５０〜２８０ｎｍまたは３７０〜４３０ｎｍの範囲の紫外線を用いることが好ましい。
【０２４３】
一方、上記組成物中に、カンファーキノンやダロキュアーＴＰＯなど可視光を吸収する光重合開始剤が添加されている場合には、硬化に用いる放射線として可視光を用いることもできる。この場合、出力ピークが４００〜５００ｎｍの範囲の光を用いることが好ましい。
【０２４４】
放射線により上記組成物の重合を行う場合には、酸素による重合阻害を回避する目的で、上記組成物を基材等に塗布して、必要に応じて乾燥を行った後、該塗布層を被覆材（フィルム等）で被覆し放射線を照射して重合してもよい。被覆材で該塗布層を被覆する際には、該塗布層と被覆材との間に空気（酸素）を含まないように密着することが望ましい。
【０２４５】
酸素を遮断することにより、例えば、（光）重合開始剤量および放射線照射量を減らせる場合がある。
【０２４６】
上記被覆材としては、酸素が遮断される材料であれば如何なる材料および形態でも構わないが、操作性の面からフィルムが好ましく、それらフィルム中でも放射線重合が容易な透明フィルムが好ましい。フィルムの厚さは通常３〜２００μｍの範囲であり、それらの中でも５〜１００μｍが好ましく、１０〜５０μｍであればさらに好ましい。
【０２４７】
上記被覆材として好ましく用いられるフィルムの材質としては、例えば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、エチレン・ビニルアルコール共重合体等のビニルアルコール系重合体、ポリアクリルアミド、ポリイソプロピルアクリルアミド、ポリアクリロニトリル、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリスチレン（ＰＳ）、二軸延伸ポリプロピレン（ＯＰＰ）が挙げられる。
【０２４８】
なお、装置は高価だが、０．０１〜０．００２ｎｍの範囲の電子線を放射線として用いると、短時間で重合が完結できるため好ましい。
【０２４９】
例えば、可視光照射による光重合開始剤を含有している本発明の歯科用組成物の場合は、該歯科用組成物を所定の形状に加工したのち、公知の光照射装置を用いて所定の時間可視光を照射することにより、所望の硬化物を得ることができる。照射強度、照射強度等の条件は、歯科用組成物の硬化性に合わせて適切に変更することができる。また、可視光をはじめとした、光照射により硬化した硬化物を、さらに適切な条件で熱処理をすることにより、硬化物の機械的物性を向上させることもできる。
【０２５０】
なお、操作の簡便性の観点から、光照射により歯科用組成物を硬化させる方法が好ましい。
【０２５１】
〔歯科用組成物および歯科用硬化物の用途〕
上述した本発明の歯科用組成物は、上記歯科用硬化物の形で、歯科材料として好適に用いることができる。ここで、本発明において、この歯科材料の好適な例として、上記歯科用単層膜を有する歯科用補綴物が挙げられる。
【０２５２】
この本発明に係る歯科用補綴物は、上述した本発明の歯科用組成物を硬化して得られる単層膜を有している。本発明に係る歯科用補綴物は、具体的には、上記「基材」の項で上述した歯科用補綴物（すなわち、「基材補綴物」）と、上述した本発明の歯科用組成物を硬化して得られる単層膜とを含む。本発明の典型的な態様において、前記単層膜は、前記基材補綴物の表面の一部または全部を覆う態様で位置している。このような本発明に係る歯科用補綴物は、上記「基材」の項で上述した歯科用補綴物（すなわち、「基材補綴物」）を基材として採用し、この基材補綴物に対して、上記「形成方法」に記載された方法を適用することにより得られる。
【０２５３】
本発明の歯科用組成物の用途の具体例としては、歯科用複合充填材料、歯冠用材料、合着用材料などの歯科用コンポジットレジン、歯列矯正用接着剤、窩洞塗布用接着剤および歯牙裂溝封鎖材などの歯科用接着剤、義歯床用材料、義歯床用粘膜調整材、フィッシャーシーラント、歯面や歯科用補綴物へのコーティング剤、表面滑沢剤などが挙げられるが、上述のように溶剤を含む場合には、硬化後に硬質の薄い被膜を生成させることができるので、各種のコーティング用途、例えば、フィッシャーシーラント、歯面や歯科用補綴物への歯科用コーティング剤や表面ステインや表面滑沢剤、知覚過敏抑制剤、歯科用マニキュアなどとして好適に用いることができる。
【０２５４】
本発明の歯科用硬化物の使用方法は、歯科材料の使用法として一般に知られているものであれば、特に制限されない。例えば、本発明の歯科用組成物の場合を齲蝕窩洞充填用コンポジットレジンとして使用する場合は、口腔内の窩洞に該歯科用組成物を充填した後、公知の光照射装置を用いて光硬化させることにより、目的を達成できる。また、歯冠用コンポジットレジンとして使用する場合は、適切な形状に加工した後、公知の光照射装置を用いて光硬化させ、さらに所定の条件で熱処理を行うことで、所望の歯冠材料を得ることができる。
【実施例】
【０２５５】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明がこれら実施例のみに限定されるものではない。【０２５６】
ここで、本明細書における以下の記載において、「固形分濃度」は、組成物全体の量に占める、溶剤以外の成分の合計量の割合を意味する。【０２５７】
なお、本発明において被膜の物性評価は、下記のようにして行った。【０２５８】
＜アニオン濃度比の測定＞
図１に示す試料調製の通りサンプルを斜めに切断し、飛行時間型２次イオン質量分析装置(ＴＯＦ−ＳＩＭＳ)を用いて、上記外表面のアニオン濃度（Ｓａ）と上記中間地点とのアニオン濃度（Ｄａ）とを測定し、その値から外気に接する膜の外表面と膜の内表面と外表面との中間地点のアニオン濃度の比、すなわちアニオン濃度の傾斜度（Ｓａ／Ｄａ）を求めた。【０２５９】
（分析装置と測定条件）
ＴＯＦ−ＳＩＭＳ：  ＩＯＮ・ＴＯＦ社製  ＴＯＦ．ＳＩＭＳ  ５
1次イオン：  Ｂｉ32+  (加速電圧２５ｋＶ)
測定面積：  ３５０−５００μｍ2
測定には帯電補正用中和銃を使用
（試料調製等）
図１に示す通りに、基材１０の表面にコート層２０が設けられたサンプルを切削方向３０に向かって、精密斜め切削を行った後、１０×１０ｍｍ2程度の大きさに切り出し、測定面にメッシュを当て、サンプルホルダーに固定し、外気と接するコート層表面４０および膜の内部であるコート層内部５０（膜厚１／２の地点、基材１０に接するコート層の内表面）で飛行時間型２次イオン質量分析装置(ＴＯＦ−ＳＩＭＳ)を用いてアニオン濃度を測定した。【０２６０】
（評価）
評価は以下の計算式で行った。尚、各測定点のイオン濃度は、相対強度（トータル検出イオンに対する）を用いた。【０２６１】
Ｓａ／Ｄａ（アニオン濃度比，傾斜度）＝コート層表面４０でのアニオン濃度／コート層２０の膜厚１／２の地点でのアニオン濃度
＜水接触角の測定＞
協和界面科学社製の水接触角測定装置ＣＡ−Ｖ型を用いて、１サンプルについて３箇所測定し、これら値の平均値を水接触角の値とした。【０２６２】
＜色差の測定＞
コーティング試験片（サイズ：20mm×70mm×2mm厚）を親油性着色剤（大塚食品(株)ボンカレーGold中辛（具除去））に浸し、４０℃で６時間保持した。流水洗浄後、試験体片を蒸留水に浸し、室温で１２〜１８時間保持した。これを６回繰り返し、７回目の流水洗浄後、試験片の測色値を分光測色計（コニカミノルタ製：ＣＭ−２５００ｄ、Ｃ光源、測色視野２度）で測定した。着色剤浸漬前の測色値を基準として、浸漬後の色差ΔＥ*abを求めた。ΔＥ*abの数値が大きいほど、耐汚染性が劣ることを意味する。【０２６３】
ここで、色差ΔＥ*abは、L*a*b*表色系で表したときの、着色剤浸漬前における測色値（L*0, a*0, b*0）および着色剤浸漬後における測色値（L*1, a*1, b*1）を用いて、下記式
ΔＥ*ab＝〔(L*1 − L*0)2 ＋ (a*1 − a*0)2 ＋ (b*1 − b*0)2〕1/2
に基づき算出される。【０２６４】
〔調製例１〕
（重合性組成物１の調製）
表１の配合比に従い、固形分濃度８０ｗｔ％の均一な重合性組成物１を調製した。なお、表１に記載の記号で示される化合物は下記化学式で示される化合物である。【０２６５】
【表１】
2016006637.tif 000031
【０２６６】
【化３０】
2016006637.tif 000032
【０２６７】
〔調製例２〕
（重合性組成物２の調製）
表２の配合比に従い、固形分濃度８０ｗｔ％の均一な重合性組成物２を調製した。なお、表２に記載の記号で示される化合物は下記化学式で示される化合物である。【０２６８】
【表２】
2016006637.tif 000033
【０２６９】
【化３１】
2016006637.tif 000034
【０２７０】
〔調製例３〕
（重合性組成物３の調製）
表３の配合比に従い、固形分濃度８０ｗｔ％の均一な重合性組成物３を調製した。なお、表３に記載の記号で示される化合物は下記化学式で示される化合物である。【０２７１】
【表３】
2016006637.tif 000035
【０２７２】
【化３２】
2016006637.tif 000036
【０２７３】
〔調製例４−１〕
（化合物（ＩＩＩ）溶液の調製：ＤＳ−Ｎａ−１）
下記化学式で表されるジステアリルスルホコハク酸ナトリウム（以下ＤＳ−Ｎａと略す）１０ｇ、水３０ｇ、および１−メトキシ−２−プロパノール（以下ＰＧＭと略す）６０ｇをホモミキサー（プライミクス株式会社，ロボミックス（登録商標）Ｓ−ｍｏｄｅｌ）を用いて１５０００ｒｐｍで３分間かき混ぜ、固形分濃度１０ｗｔ％のＤＳ−Ｎａ混合液を調製した。【０２７４】
【化３３】
2016006637.tif 000037
【０２７５】
〔調製例４−２〕
（化合物（ＩＩＩ）溶液の調製：ＤＳ−Ｎａ−２）
ジステアリルスルホコハク酸ナトリウム（以下ＤＳ−Ｎａと略す）１０ｇ、エタノール６４ｇ、および水２６ｇをホモミキサー（プライミクス株式会社，ロボミックス（登録商標） Ｓ−ｍｏｄｅｌ）を用いて１５０００ｒｐｍで３分間かき混ぜ、固形分濃度１０ｗｔ％のＤＳ−Ｎａ混合液を調製した。【０２７６】
〔調製例４−３〕
（化合物（ＩＩＩ）溶液の調製：ＤＴ−Ｎａ）
調製例４−２のＤＳ−Ｎａを、下記化学式で表されるジトリデカニルスルホコハク酸ナトリウム（以下ＤＴ−Ｎａと略す）に変更して、固形分濃度１０ｗｔ％のＤＴ−Ｎａ混合液を調製した。【０２７７】
【化３４】
2016006637.tif 000038
【０２７８】
〔調製例４−４〕
（化合物（ＩＩＩ）溶液の調製：ＤＨ−ＮＨ４）
下記化学式で表されるジヘキシルスルホコハク酸アンモニウム（以下ＤＨ−ＮＨ４と略す）１０ｇ、エタノール７０ｇ、および水２０ｇをホモミキサー（プライミクス株式会社，ロボミックス（登録商標） Ｓ−ｍｏｄｅｌ）を用いて１５０００ｒｐｍで３分間かき混ぜ、固形分濃度１０ｗｔ％のＤＨ−ＮＨ４混合液を調製した。【０２７９】
【化３５】
2016006637.tif 000039
【０２８０】
〔調製例４−５〕
（化合物（ＩＩＩ）溶液の調製：ＬＳ−Ｎａ）
調製例４−２のＤＳ−Ｎａを、下記化学式で表されるドデシル硫酸ナトリウム（ラウリル硫酸ナトリウムともいう。以下ＬＳ−Ｎａと略す）に変更して、固形分濃度１０ｗｔ％のＬＳ−Ｎａ混合液を調製した。【０２８１】
【化３６】
2016006637.tif 000040
【０２８２】
＜基材の前処理＞
コート用基材として使用する透明アクリル板（日東樹脂工業製，ＣＬＡＲＥＸ−００１）は、あらかじめ以下のように前処理して使用した。【０２８３】
アセトンとＩＰＡ（イソプロピルアルコール）の混合液（重量比で１：１）に、使用基材を５分間浸漬後、取り出してエアーブローを行った。次いで、４０℃の送風乾燥機で５分間乾燥した基材をコーティングに使用した。【０２８４】
（基材へのコートと評価）
〔実施例１〕
調製例１で得られた固形分濃度８０ｗｔ％の重合性組成物１：  １００ｇ  と調製例４−１で得られた固形分濃度１０ｗｔ％のＤＳ−Ｎａ−１溶液（化合物（ＩＩＩ）溶液）  ０．８ｇ（化合物（Ｉ）と化合物（ＩＩ）の合計重量に対して０．１重量％）、希釈溶剤としてメタノール  ６２ｇ、光重合開始剤としてダロキュアー１１７３（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）  ２．４ｇ（化合物（Ｉ）と化合物（ＩＩ）の合計重量に対して３．０重量％）とを混合して固形分濃度５０ｗｔ％のコーティング溶液を調製した。この溶液に、上記「基材の前処理」に記載の方法によりあらかじめ前処理した透明アクリル板（日東樹脂工業製，ＣＬＡＲＥＸ−００１）を浸漬し、１ｍｍ／secで引き上げることにより、基材表面に溶液を塗布した。５０〜６０℃温風乾燥機に５分間入れて、塗布物中に含まれる溶剤を除去した。【０２８５】
溶剤が十分に除去されたサンプルをＵＶコンベアー（高圧水銀ランプ，１６０Ｗ／ｃｍ，高さ１９ｃｍ，コンベアー速度５ｍ／分，照度２００ｍＷ／ｃｍ2，積算光量６００ｍＪ／ｃｍ2， ウシオ電機  ＵＩＴ−１５０にて測定）内に入れて通過させることによりＵＶ照射し、透明アクリル板上に膜厚３．５μｍの親水性の単層膜を形成した。その後、単層膜表面を流水洗浄、乾燥した後、得られたサンプルを評価した。結果を表４−１に掲載する。【０２８６】
〔実施例２〕
実施例１の希釈溶剤をメタノール  ４１．３ｇとプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭ）  ２０．７ｇの混合溶剤に変更する以外は、実施例１と同様の操作を行った。調製した固形分濃度５０ｗｔ％のコーティング溶液を、実施例１と同様に透明アクリル板上へ塗布後、溶剤の除去、ＵＶ照射を行い、透明アクリル板上に膜厚４μｍの単層膜を形成した。その後、単層膜表面を流水洗浄、乾燥した後、得られたサンプルを評価した。結果を表４−１に掲載する。【０２８７】
〔実施例３〕
実施例１の希釈溶剤をエタノール  ５５．８ｇと蒸留水  ６．２ｇの混合溶剤に変更する以外は、実施例１と同様の操作を行った。調製した固形分濃度５０ｗｔ％のコーティング溶液を、実施例１と同様に透明アクリル板上へ塗布後、溶剤の除去、ＵＶ照射を行い、透明アクリル板上に膜厚３．５μｍの単層膜を形成した。その後、単層膜表面を流水洗浄、乾燥した後、得られたサンプルを評価した。結果を表４−１に掲載する。【０２８８】
〔実施例４〕
（界面活性剤の添加と溶剤の除去）
アルミホイールで遮光された図２に示す下記実験装置に、調製例１の重合性組成物１：  １２５ｇと、調製例４−１の固形分濃度１０ｗｔ％のＤＳ−Ｎａ−１混合液  １ｇを装入し、液中に乾燥空気（露点−３０℃以下）をバブリングさせながら減圧下（＜１００ｍｍＨｇ）で３日間保持（室温）して脱溶剤したところ、薄く乳白濁した重合性の高粘調液体を得た。この高粘調液体をＧＣ（内部標準物質法）にて分析したところ、残溶剤（メタノール）は＜０．１ｗｔ％であった。ＧＣ条件を以下に記載する。【０２８９】
ＧＣ分析条件
ＧＣ機種名：  島津製作所，ＧＣ−２０１０
カラム：  Ｊ＆Ｗ Ｓｃｉｅｎｃｅ，ＤＢ−６２４，φ０．５３ｍｍ×７５ｍ（膜厚３μｍ）
キャリアーガス：  Ｈｅ  １００ｃｍ／秒
Ｉｎｊ．：  ２４０℃
Ｄｅｔ．：  ＦＩＤ，２６０℃
サンプルの調製
ＩＳ（内部標準物質）：  ２−メトキシ−１−エタノール  ５０ｍｇ
サンプル：  重合性組成物  １００ｍｇ
希釈溶剤：  ジクロロメタン  １０ｍｌ
注入量：  １μｌ
（コーティング溶液の調製）
上記で得られた重合性の高粘調液体（溶剤含有量＜０．１ｗｔ％）  １０．０ｇに、重合開始剤としてダロキュアー１１７３（ＢＡＳＦ）  ０．３ｇを添加し、攪拌棒を用いて丹念にかき混ぜることにより、固形分濃度１００ｗｔ％のコーティング溶液を得た。【０２９０】
（基材へのコーティング、ＵＶ照射）
透明アクリル板（日東樹脂工業製，ＣＬＡＲＥＸ−００１）に、上記コーティング溶液をバーコーター＃１０で塗布し、室温（２３℃−２７％ＲＨ）で３０分間静置後、ＵＶ照射（無電極放電ランプ，Ｈバルブ ２４０Ｗ／ｃｍ，照度２００ｍＷ／ｃｍ2，積算光量１５０ｍＪ／ｃｍ2，ウシオＵＩＴ−１５０にて測定）して、ＰＣ板上に１４μｍの親水性表面を有する架橋樹脂からなる単層膜を形成させた。最後に、膜表面を流水洗浄し、エアガンで乾燥して評価用サンプルとした。評価結果を表４−１に掲載する。【０２９１】
〔実施例５〕
調製例２で得られた固形分濃度８０ｗｔ％の重合性組成物２：  １００ｇ  と調製例４−１で得られた固形分濃度１０ｗｔ％のＤＳ−Ｎａ−１溶液（化合物（ＩＩＩ）溶液）  ０．８ｇ（化合物（Ｉ）と化合物（ＩＩ）の合計重量に対して０．１重量％）、希釈溶剤としてメタノール  １１３．３ｇとＰＧＭ  ５６．７ｇの混合溶剤、光重合開始剤としてダロキュアー１１７３（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）  ２．４ｇ（化合物（Ｉ）と化合物（ＩＩ）の合計重量に対して３．０重量％）とを混合して固形分濃度３０ｗｔ％のコーティング溶液を調製した。この溶液に、あらかじめ前処理した透明アクリル板（日東樹脂工業製，ＣＬＡＲＥＸ−００１）を浸漬し、１ｍｍ／secで引き上げることにより、基材表面に溶液を塗布した。５０〜６０℃温風乾燥機に５分間入れて、塗布物中に含まれる溶剤を除去した。【０２９２】
溶剤が十分に除去されたサンプルをＵＶコンベアー（高圧水銀ランプ，１６０Ｗ／ｃｍ，高さ１９ｃｍ，コンベアー速度５ｍ／分，照度２００ｍＷ／ｃｍ2，積算光量６００ｍＪ／ｃｍ2， ウシオ電機  ＵＩＴ−１５０にて測定）内に入れて通過させることによりＵＶ照射し、透明アクリル板上に膜厚０．５μｍの親水性の単層膜を形成した。その後、単層膜表面を流水洗浄、乾燥した後、得られたサンプルを評価した。結果を表４−１に掲載する。【０２９３】
〔実施例６〕
実施例５の希釈溶剤をメタノール  ４１．３ｇとＰＧＭ  ２０．７ｇの混合溶剤に変更する以外は、実施例５と同様の操作を行った。調製した固形分濃度５０ｗｔ％のコーティング溶液を、実施例５と同様に透明アクリル板上へ塗布後、溶剤の除去、ＵＶ照射を行い、透明アクリル板上に膜厚４μｍの単層膜を形成した。その後、単層膜表面を流水洗浄、乾燥した後、得られたサンプルを評価した。結果を表４−１に掲載する。【０２９４】
〔実施例７〕
実施例５の希釈溶剤をメタノール  ２３．３ｇとＰＧＭ  １１．７ｇの混合溶剤に変更する以外は、実施例５と同様の操作を行った。調製した固形分濃度６０ｗｔ％のコーティング溶液を、実施例５と同様に透明アクリル板上へ塗布後、溶剤の除去、ＵＶ照射を行い、透明アクリル板上に膜厚７μｍの単層膜を形成した。その後、単層膜表面を流水洗浄、乾燥した後、得られたサンプルを評価した。結果を表４−１に掲載する。【０２９５】
〔比較例１〕
透明アクリル板（日東樹脂工業製，ＣＬＡＲＥＸ−００１）を流水洗浄、乾燥した後、得られたサンプルを評価した。この比較例１は、基板としての透明アクリル板を、本発明の歯科用組成物による塗布及び硬化のいずれも行うことなく、そのまま用いた場合に相当する。【０２９６】
結果を表４−１，４−２，５，７に掲載する。【０２９７】
〔比較例２〕
歯科材料として使用されるアクロン（ジーシー）の透明アクリル板を作製し、流水洗浄、乾燥した後、得られたサンプルを評価した。義歯床用材料として市販されている樹脂を、本発明の歯科用組成物による塗布及び硬化のいずれも行うことなく、そのまま用いた場合に相当する。【０２９８】
結果を表４−１，４−２，５，７に掲載する。【０２９９】
【表４−１】
2016006637.tif 000041
【０３００】
〔実施例８〕
調製例３で得られた固形分濃度８０ｗｔ％重合性組成物３：  １００ｇ  と調製例４−２で得られた固形分濃度１０ｗｔ％のＤＳ−Ｎａ−２溶液（化合物（ＩＩＩ）溶液）  ０．８ｇ（化合物（Ｉ）と化合物（ＩＩ）の合計重量に対して０．１重量％）、希釈溶剤としてメタノール  ４１．３ｇとＰＧＭ  ２０．７ｇの混合溶剤、光重合開始剤としてダロキュアー１１７３（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）  ２．４ｇ（化合物（Ｉ）と化合物（ＩＩ）の合計重量に対して３．０重量％）とを混合して固形分濃度５０ｗｔ％のコーティング溶液を調製した。この溶液に、あらかじめ前処理した透明アクリル板（日東樹脂工業製，ＣＬＡＲＥＸ−００１）を浸漬し、１ｍｍ／secで引き上げることにより、基材表面に溶液を塗布した。５０〜６０℃温風乾燥機に５分間入れて、塗布物中に含まれる溶剤を除去した。【０３０１】
溶剤が十分に除去されたサンプルをＵＶコンベアー（高圧水銀ランプ，１６０Ｗ／ｃｍ，高さ１９ｃｍ，コンベアー速度５ｍ／分，照度２００ｍＷ／ｃｍ2，積算光量６００ｍＪ／ｃｍ2， ウシオ電機  ＵＩＴ−１５０にて測定）内に入れて通過させることによりＵＶ照射し、透明アクリル板上に親水性の単層膜を形成した。その後、単層膜表面を流水洗浄、乾燥した後、得られたサンプルを評価した。結果を表４−２に掲載する。【０３０２】
〔実施例９〕
調製例３で得られた固形分濃度８０ｗｔ％重合性組成物３：  １００ｇ  と調製例４−２で得られた固形分濃度１０ｗｔ％のＤＳ−Ｎａ−２溶液（化合物（ＩＩＩ）溶液）  ０．８ｇ（化合物（Ｉ）と化合物（ＩＩ）の合計重量に対して０．１重量％）、希釈溶剤としてエタノール  ５５．８ｇと蒸留水  ６．２ｇの混合溶剤、光重合開始剤としてダロキュアー１１７３（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）  ２．４ｇ（化合物（Ｉ）と化合物（ＩＩ）の合計重量に対して３．０重量％）とを混合して固形分濃度５０ｗｔ％のコーティング溶液を調製した。この溶液に、あらかじめ前処理した透明アクリル板（日東樹脂工業製，ＣＬＡＲＥＸ−００１）を浸漬し、１ｍｍ／secで引き上げることにより、基材表面に溶液を塗布した。５０〜６０℃温風乾燥機に５分間入れて、塗布物中に含まれる溶剤を除去した。【０３０３】
溶剤が十分に除去されたサンプルをＵＶコンベアー（高圧水銀ランプ，１６０Ｗ／ｃｍ，高さ１９ｃｍ，コンベアー速度５ｍ／分，照度２００ｍＷ／ｃｍ2，積算光量６００ｍＪ／ｃｍ2， ウシオ電機  ＵＩＴ−１５０にて測定）内に入れて通過させることによりＵＶ照射し、透明アクリル板上に親水性の単層膜を形成した。その後、単層膜表面を流水洗浄、乾燥した後、得られたサンプルを評価した。結果を表４−２に掲載する。【０３０４】
〔実施例１０〕
実施例９において、化合物（ＩＩＩ）溶液を、調製例４−３で得られた固形分濃度１０ｗｔ％のＤＴ−Ｎａ溶液に変更する以外は、実施例９と同様の操作を行った。調製した固形分濃度５０ｗｔ％のコーティング溶液を、実施例９と同様に透明アクリル板上へ塗布後、溶剤の除去、ＵＶ照射を行い、単層膜を形成した。その後、単層膜表面を流水洗浄、乾燥した後、得られたサンプルを評価した。結果を表４−２に掲載する。【０３０５】
〔実施例１１〕
実施例９において、化合物（ＩＩＩ）溶液を、調製例４−４で得られた固形分濃度１０ｗｔ％のＤＨ−ＮＨ４溶液に変更する以外は、実施例９と同様の操作を行った。調製した固形分濃度５０ｗｔ％のコーティング溶液を、実施例９と同様に透明アクリル板上へ塗布後、溶剤の除去、ＵＶ照射を行い、単層膜を形成した。その後、単層膜表面を流水洗浄、乾燥した後、得られたサンプルを評価した。結果を表４−２に掲載する。【０３０６】
〔実施例１２〕
実施例９において、化合物（ＩＩＩ）溶液を、調製例４−５で得られた固形分濃度１０ｗｔ％のＬＳ−Ｎａ溶液に変更する以外は、実施例９と同様の操作を行った。調製した固形分濃度５０ｗｔ％のコーティング溶液を、実施例９と同様に透明アクリル板上へ塗布後、溶剤の除去、ＵＶ照射を行い、単層膜を形成した。その後、単層膜表面を流水洗浄、乾燥した後、得られたサンプルを評価した。結果を表４−２に掲載する。【０３０７】
【表４−２】
2016006637.tif 000042
【０３０８】
（単層膜の膜厚方向のアニオン濃度の傾斜度の分析）
実施例１〜９で得られた単層膜について、その外表面のアニオン濃度（Ｓａ）と膜厚方向の中間地点（膜の外表面と膜の内表面との中間地点）のアニオン濃度（Ｄａ）とを測定し、これらの値からアニオン濃度の傾斜度（Ｓａ／Ｄａ）を求めたところ、いずれも傾斜度１．１以上であった。【０３０９】
〔調製例５〕
（化合物（Ｉ）溶液の調製：ＡＴＢＳ−Ｎａ）
２−アクリルアミド−２−メチルスルホン酸（以下ＡＴＢＳと略す。）を水酸化ナトリウムで中和・乾燥して得られた２−アクリルアミド−２−メチルスルホン酸ナトリウム（以下ＡＴＢＳ−Ｎａと略す。）  １０ｇに水  ３０ｇを加えて超音波で混合溶解し、次いで１−メトキシ−２-プロパノール（以下ＰＧＭと略す。）  ６０ｇを加えて激しく混合撹拌し、固形分１０ｗｔ％のＡＴＢＳ−Ｎａ混合液を調製した。【０３１０】
【化３７】
2016006637.tif 000043
【０３１１】
〔実施例１３〕
（コーティング溶液の調製）
化合物（Ｉ）として１０ｗｔ％のＡＴＢＳ−Ｎａ混合液（調製例５）  ５０ｇ、化合物（ＩＩ）としてジペンタエリスリトールペンタアクリレート（以下Ａ−９５３０と略す。）  １００ｇ、化合物（ＩＩＩ）として１０ｗｔ％のＤＳ−Ｎａ−１混合液（調製例４−１）  １.１ｇ、重合開始剤としてダロキュアー１１７３  ３ｇ、および希釈溶剤として２−メトキシ−１−エタノール（以下ＥＧＭと略す。）を６２ｇ加えて混合溶解し、固形分濃度５０ｗｔ％のコーティング溶液を調製した。この溶液に、あらかじめ前処理した透明アクリル板（日東樹脂工業製，ＣＬＡＲＥＸ−００１）を浸漬し、１ｍｍ／secで引き上げることにより、基材表面に溶液を塗布した。５０〜６０℃温風乾燥機に５分間入れて、塗布物中に含まれる溶剤を除去した。【０３１２】
溶剤が十分に除去されたサンプルをＵＶコンベアー（高圧水銀ランプ，１６０Ｗ／ｃｍ，高さ１９ｃｍ，コンベアー速度５ｍ／分，照度２００ｍＷ／ｃｍ2，積算光量６００ｍＪ／ｃｍ2， ウシオ電機  ＵＩＴ−１５０にて測定）内に入れて通過させることによりＵＶ照射し、透明アクリル板上に親水性の単層膜を形成した。その後、単層膜表面を流水洗浄、乾燥した後、得られたサンプルを評価した。結果を表５に掲載する。【０３１３】
〔実施例１４〕
実施例１３において、化合物（ＩＩＩ）溶液を１０ｗｔ％のＤＳ−Ｎａ−１混合液（調製例４−１）  ２．２ｇに変更し、希釈溶剤をＥＧＭ６１ｇに変更する以外は、実施例１３と同様の操作を行った。調製した固形分濃度５０ｗｔ％のコーティング溶液を、実施例１３と同様に透明アクリル板上へ塗布後、溶剤の除去、ＵＶ照射を行い、透明アクリル板上に単層膜を形成した。その後、単層膜表面を流水洗浄、乾燥した後、得られたサンプルを評価した。結果を表５に掲載する。【０３１４】
〔実施例１５〕
実施例１３において、化合物（ＩＩＩ）溶液を１０ｗｔ％のＤＳ−Ｎａ−１混合液（調製例４−１）  ５．５ｇに変更し、希釈溶剤をＥＧＭ５８ｇに変更する以外は、実施例１３と同様の操作を行った。調製した固形分濃度５０ｗｔ％のコーティング溶液を、実施例１３と同様に透明アクリル板上へ塗布後、溶剤の除去、ＵＶ照射を行い、透明アクリル板上に単層膜を形成した。その後、単層膜表面を流水洗浄、乾燥した後、得られたサンプルを評価した。結果を表５に掲載する。【０３１５】
〔実施例１６〕
実施例１３において、化合物（ＩＩＩ）溶液を１０ｗｔ％のＤＳ−Ｎａ−１混合液（調製例４−１）  １１ｇに変更し、希釈溶剤をＥＧＭ５４ｇに変更する以外は、実施例１３と同様の操作を行った。調製した固形分濃度５０ｗｔ％のコーティング溶液を、実施例１３と同様に透明アクリル板上へ塗布後、溶剤の除去、ＵＶ照射を行い、透明アクリル板上に単層膜を形成した。その後、単層膜表面を流水洗浄、乾燥した後、得られたサンプルを評価した。結果を表５に掲載する。【０３１６】
【表５】
2016006637.tif 000044
【０３１７】
〔実施例１７−１９，２１および参考例２０〕
（重合性組成物の調製）
表６の配合比に従い、それぞれ重合性組成物５Ａ〜５Ｅを調製した。なお、表６に記載の記号で示される化合物は下記化学式で示される化合物である。【０３１８】
【表６】
2016006637.tif 000045
【０３１９】
【化３８】
2016006637.tif 000046
【０３２０】
〔実施例１７〕
（基材へのコートと評価）
重合性組成物５Ａに、重合開始剤としてダロキュアー１１７３  ３ｇを加え、固形分濃度５０ｗｔ％のコーティング溶液を調製した。この溶液に、あらかじめ前処理した透明アクリル板（日東樹脂工業製，ＣＬＡＲＥＸ−００１）を浸漬し、１ｍｍ／secで引き上げることにより、基材表面に溶液を塗布した。５０〜６０℃温風乾燥機に５分間入れて、塗布物中に含まれる溶剤を除去した。【０３２１】
溶剤が十分に除去されたサンプルをＵＶコンベアー（高圧水銀ランプ，１６０Ｗ／ｃｍ，高さ１９ｃｍ，コンベアー速度５ｍ／分，照度２００ｍＷ／ｃｍ2，積算光量６００ｍＪ／ｃｍ2， ウシオ電機  ＵＩＴ−１５０にて測定）内に入れて通過させることによりＵＶ照射し、透明アクリル板上に親水性の単層膜を形成した。その後、単層膜表面を流水洗浄、乾燥した後、得られたサンプルを評価した。結果を表７に掲載する。【０３２２】
〔実施例１８，１９，２１および参考例２０〕
実施例１７において、重合性組成物５Ａを重合性組成物５Ｂ〜５Ｅに変更する以外は、実施例１７と同様の操作を行った。それぞれの結果を表７に掲載する。【０３２３】
【表７】
2016006637.tif 000047
【０３２４】
＜義歯の作製＞
（ワックス製の義歯の作製）
患者の上顎及び下顎の概形印象を採り、その概形印象から患者に合った形のトレーを作製し、得られたトレーを用いて患者の精密印象を採得した。採得された精密印象に基づき、患者に合った形の、上下別個の石膏模型を作製した。【０３２５】
次に、石膏模型の上下を連結し、上下の咬み合わせを再現するための、ベースプレートとワックスとからなる咬合床を作製した。【０３２６】
次に、患者の口腔を見て顎運動の様子を観察し、その顎運動を上記咬合床で再現して咬合状態を三次元的に採得して咬合位置を決定し、ワックス製の義歯床（上顎用義歯床と下顎用義歯床とのセット）を作製した。【０３２７】
得られたワックス製の義歯床に、人工歯を並べ、次いで試適及び調整を行うことにより、ワックス製の義歯（上顎用義歯と下顎用義歯とのセット）が完成した。【０３２８】
（義歯用の石膏型の作製）
まず、フラスコ下型とフラスコ上型とから構成される義歯作製用フラスコを準備した。【０３２９】
次に、ワックス製の義歯と上述の石膏模型とを組み合わせた状態でフラスコ下型の中に入れ、そこに所定量の水と混ぜ合わせた石膏デンタルブラスターを一杯まで流し込んでしばらく放置した。石膏が固まった後に、上述の分離剤を石膏の上に垂らし、筆を用いて全体に塗布した。その後、上記フラスコ下型の上にフラスコ上型を乗せ、そこに石膏を枠一杯まで流し込み、蓋をして石膏が完全に固まるまで放置した。【０３３０】
石膏が固まった後、フラスコ上型とフラスコ下型とを分離し、お湯で温めてワックスを溶かし出しベースプレートを取り外した。【０３３１】
以上により、石膏型上型と石膏型下型とからなる、義歯用の石膏型を得た。【０３３２】
次いで、石膏型上型及び石膏型下型の石膏面全体に上記分離剤を塗布した。【０３３３】
（義歯の作製）
上記義歯用の石膏型が作製された義歯作製用フラスコを用い、石膏型内でＭＭＡを重合させることにより、ＰＭＭＡからなる義歯を得た後、研磨を行った。詳細な操作を以下に示す。【０３３４】
まず、床用レジン材料アクロンクリアＮｏ．５（ジーシー社製）を用意し、その粉材１２ｇと液材５ｇとを容器に量り取り、混ぜ合わせた。得られた混合物をしばらく放置して餅状になったところで、餅状になった混合物を、フラスコ下型内に作製された石膏型下型の窪みの上に多めに載せて形を整えた。【０３３５】
次に、このフラスコ下型の上に、内部に石膏型上型が作製されたフラスコ上型を載せ、プレス機で圧力を掛けた。次に、このフラスコ上型を外し、窪みからはみ出た餅状床用レジン材料を取り除き、再び上記フラスコ上型を載せ、プレス機で圧力を掛けた。その後、フラスコクランプで、フラスコ（上記フラスコ上型と上記フラスコ下型とが組み合わさったフラスコ）を固定した。【０３３６】
このフラスコを水の入った鍋に入れ、ガスレンジで１００℃迄３０分以上かけてゆっくり加熱した。１００℃に達してから３０〜４０分加熱した後、加熱を終了し３０℃まで冷却した。【０３３７】
次いでフラスコ下型とフラスコ上型とを分離し、次いで石膏型を割り、出来上がった義歯（ＰＭＭＡ製）を取り出した後、仕上げの研磨を実施した。【０３３８】
＜義歯の前処理＞
研磨後の義歯を、アセトンとＩＰＡ（イソプロピルアルコール）の混合液（重量比で１：１）に、使用基材を５分間浸漬後、取り出してエアーブローを行った。次いで、４０℃の送風乾燥機で５分間乾燥した義歯をコーティングに使用した。【０３３９】
〔実施例２２〕
調製例１で得られた固形分濃度８０ｗｔ％重合性組成物１：  ３００ｇ  と調製例４−１で得られた固形分濃度１０ｗｔ％のＤＳ−Ｎａ−１溶液（化合物（ＩＩＩ）溶液）  ２．４ｇ（化合物（Ｉ）と化合物（ＩＩ）の合計重量に対して０．１重量％）、希釈溶剤としてメタノール  １８６ｇ、光重合開始剤としてダロキュアー１１７３（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）  ７．２ｇ（化合物（Ｉ）と化合物（ＩＩ）の合計重量に対して３．０重量％）とを混合して、実施例１と同様の固形分濃度５０ｗｔ％のコーティング溶液を調製した。この溶液に、上記「義歯の前処理」に従ってあらかじめ前処理した義歯を浸漬し、１ｍｍ／secで引き上げることにより、基材表面に溶液を塗布した。５０〜６０℃温風乾燥機に５分間入れて、塗布物中に含まれる溶剤を除去した。【０３４０】
溶剤が十分に除去されたサンプルをＵＶコンベアー（高圧水銀ランプ，１６０Ｗ／ｃｍ，高さ１９ｃｍ，コンベアー速度５ｍ／分，照度２００ｍＷ／ｃｍ2，積算光量６００ｍＪ／ｃｍ2， ウシオ電機  ＵＩＴ−１５０にて測定）内に入れて通過させ、裏返して再度通過させることによりＵＶ照射し、義歯表面上に親水性の単層膜を形成した。【０３４１】
〔実施例２３〕
調製例２で得られた固形分濃度８０ｗｔ％重合性組成物２：  ３００ｇ  と調製例４−１で得られた固形分濃度１０ｗｔ％のＤＳ−Ｎａ−１溶液（化合物（ＩＩＩ）溶液）  ２．４ｇ（化合物（Ｉ）と化合物（ＩＩ）の合計重量に対して０．１重量％）、希釈溶剤としてメタノール  １２３．９ｇとＰＧＭ  ６２．１ｇの混合溶剤、光重合開始剤としてダロキュアー１１７３（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）  ７．２ｇ（化合物（Ｉ）と化合物（ＩＩ）の合計重量に対して３．０重量％）とを混合して、実施例６と同様の固形分濃度５０ｗｔ％のコーティング溶液を調製した。次いで、実施例２２と同様にディップコート、乾燥、ＵＶ照射を行い、義歯表面上に親水性の単層膜を形成した。【０３４２】
〔実施例２４〕
調製例３で得られた固形分濃度８０ｗｔ％重合性組成物３：  ３００ｇ  と調製例４−２で得られた固形分濃度１０ｗｔ％のＤＳ−Ｎａ−２溶液（化合物（ＩＩＩ）溶液）  ２．４ｇ（化合物（Ｉ）と化合物（ＩＩ）の合計重量に対して０．１重量％）、希釈溶剤としてエタノール  １６７．４ｇと蒸留水  １８．６ｇの混合溶剤、光重合開始剤としてダロキュアー１１７３（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）  ７．２ｇ（化合物（Ｉ）と化合物（ＩＩ）の合計重量に対して３．０重量％）とを混合して、実施例９と同様の固形分濃度５０ｗｔ％のコーティング溶液を調製した。次いで、実施例２２と同様にディップコート、乾燥、ＵＶ照射を行い、義歯表面上に親水性の単層膜を形成した。【０３４３】
〔比較例３〕
前記義歯について、本発明の歯科用組成物の塗布を行うことなく、そのまま下記の評価に供した。【０３４４】
＜耐汚染性の評価１＞
実施例２２〜２４で作製したコーティング済みの義歯、および比較例３のコーティングしていない義歯を、それぞれ、水洗、乾燥後、ゼブラ（株）製の油性マーカー「マッキー極細」（黒，品番MO-120-MC-BK）でマークし、流水洗浄を行った。実施例２２〜２４で作製したコーティング済みの義歯は、いずれもマークの大部分が流れ落ちるか、軽くこすると除去できた。一方、比較例３のコーティングしていない義歯のマーカーはこすっても全く落ちなかった。【０３４５】
＜耐汚染性の評価２＞
実施例２２〜２４で作製したコーティング済みの義歯、および比較例３のコーティングしていない義歯を、親油性着色剤（大塚食品(株)ボンカレーGold中辛（具除去））に浸し、４０℃で６時間保持した。流水洗浄後、試験体片を蒸留水に浸し、室温で１２〜１８時間保持した。これを６回繰り返し、７回目の流水洗浄後、汚れの程度を目視で観察した。【０３４６】
実施例２２〜２４で作製したコーティング済みの義歯には油汚れの付着もなく、着色も見られなかった。一方、比較例３のコーティングしていない義歯には、表面や歯間に油汚れが付着していた。【０３４７】
＜義歯の作製２＞
（ワックス製の義歯の作製）
患者の上顎及び下顎の概形印象を採り、その概形印象から患者に合った形のトレーを作製し、得られたトレーを用いて患者の精密印象を採得した。採得された精密印象に基づき、患者に合った形の、上下別個の石膏模型を作製した。【０３４８】
次に、石膏模型の上下を連結し、上下の咬み合わせを再現するための、ベースプレートとワックスとからなる咬合床を作製した。【０３４９】
次に、患者の口腔を見て顎運動の様子を観察し、その顎運動を上記咬合床で再現して咬合状態を三次元的に採得して咬合位置を決定し、ワックス製の義歯床（上顎用義歯床と下顎用義歯床とのセット）を作製した。【０３５０】
得られたワックス製の義歯床に、予めワックスパターン分離剤ＳＥＰ（松風社製）を塗布しておいた人工歯（ヘレウスクルツァー社製ｅ−Ｈａ）を並べ、次いで試適及び調整を行うことにより、ワックス製の義歯（上顎用義歯と下顎用義歯とのセット）が完成した。【０３５１】
（義歯床用の石膏型の作製）
まず、フラスコ下型とフラスコ上型とから構成される義歯作製用フラスコを準備した。【０３５２】
更に、上記ワックス製の義歯から人工歯を取り外し、ワックス製の義歯床を準備した。【０３５３】
次に、ワックス製の義歯床と上述の石膏模型とを組み合わせた状態でフラスコ下型の中に入れ、そこに所定量の水と混ぜ合わせた石膏デンタルブラスターを一杯まで流し込んでしばらく放置した。石膏が固まった後に、上述の分離剤を石膏の上に垂らし、筆を用いて全体に塗布した。その後、上記フラスコ下型の上にフラスコ上型を乗せ、そこに石膏を枠一杯まで流し込み、蓋をして石膏が完全に固まるまで放置した。【０３５４】
石膏が固まった後、フラスコ上型とフラスコ下型とを分離し、お湯で温めてワックスを溶かし出しベースプレートを取り外した。【０３５５】
以上により、石膏型上型と石膏型下型とからなる、義歯床用の石膏型を得た。【０３５６】
ここで、石膏型上型はフラスコ上型内に作製され、石膏型下型はフラスコ下型内に作製された。石膏型上型及び石膏型下型は、この２つが組み合わさったときに、上記ワックス製の義歯床の形状の空間が形成されるようになっている。【０３５７】
次いで、石膏型上型及び石膏型下型の石膏面全体に上記分離剤を塗布した。【０３５８】
（コンベンショナル義歯床の作製）
上記義歯床用の石膏型が作製された義歯作製用フラスコを用い、石膏型内でＭＭＡを重合させることにより、コンベンショナル義歯床（上顎義歯床と下顎義歯床とのセット；材質はいずれもＰＭＭＡ）を得た。詳細な操作を以下に示す。【０３５９】
まず、床用レジン材料アクロンクリアＮｏ．５（ジーシー社製）を用意し、その粉材６重量部と液材２．５重量部とを容器に量り取り、混ぜ合わせた。得られた混合物をしばらく放置して餅状になったところで、餅状になった混合物を、フラスコ下型内に作製された石膏型下型の窪みの上に多めに載せて形を整えた。【０３６０】
次に、このフラスコ下型の上に、内部に石膏型上型が作製されたフラスコ上型を載せ、プレス機で圧力を掛けた。次に、このフラスコ上型を外し、窪みからはみ出た餅状床用レジン材料を取り除き、再び上記フラスコ上型を載せ、プレス機で圧力を掛けた。その後、フラスコクランプで、フラスコ（上記フラスコ上型と上記フラスコ下型とが組み合わさったフラスコ）を固定した。【０３６１】
このフラスコを水の入った鍋に入れ、ガスレンジで１００℃迄３０分以上かけてゆっくり加熱した。１００℃に達してから３０〜４０分加熱した後、加熱を終了し３０℃まで冷却した。【０３６２】
次いでフラスコ下型とフラスコ上型とを分離し、次いで石膏型を割り、出来上がった義歯床（ＰＭＭＡ製）を取り出し研磨し、コンベンショナル義歯床を得た。【０３６３】
（ＣＡＤ／ＣＡＭ義歯床の作製）
上記で作製したコンベンショナル義歯床の３Ｄデータを、３Ｄスキャナを用いて取得した。【０３６４】
この３Ｄデータから、ＣＡＤ／ＣＡＭソフトを用いて、義歯床用材料としてのＰＭＭＡ樹脂ブロック（日東樹脂工業社製ＣＬ−０００）を切削して義歯床を得るための切削プログラムを作成した。【０３６５】
この切削プログラムに従い、ＣＮＣ切削機を用いて上記樹脂ブロックを切削し、ＣＡＤ／ＣＡＭ義歯床を得た。【０３６６】
（ＣＡＤ／ＣＡＭ義歯の作製）
上記にて作製したＣＡＤ／ＣＡＭ義歯床の全てのソケット部に対し、歯科アクリル系レジン（サンメディカル社製メタファスト）を接着剤として用いて、人工歯（ヘレウスクルツァー社製ｅ−Ｈａ）を接着し、ＣＡＤ／ＣＡＭ義歯を作製した。【０３６７】
＜義歯の前処理２＞
上記「義歯の作製２」で作成したＣＡＤ／ＣＡＭ義歯について、研磨後の義歯を、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）に５分間浸漬後、取り出してエアーブローを行った。次いで、４０℃の送風乾燥機で５分間乾燥し、乾燥後の義歯をコーティングに使用した。【０３６８】
〔実施例２５〕
調製例３で得られた固形分８０ｗｔ％重合性組成物３：  ３００ｇ  と調製例４−２で得られた固形分濃度１０ｗｔ％のＤＳ−Ｎａ−２溶液（化合物（ＩＩＩ）溶液）２．４ｇ（化合物（Ｉ）と化合物（ＩＩ）の合計重量に対して０．１重量％）、希釈溶剤としてエタノール  １４９．５ｇと蒸留水１６．２ｇの混合溶剤、光重合開始剤としてダロキュアー１１７３（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）  ７．２ｇ（化合物（Ｉ）と化合物（ＩＩ）の合計重量に対して３．０重量％）とを混合して、固形分濃度５２ｗｔ％のコーティング溶液を調製した。【０３６９】
この溶液に、上記「義歯の前処理２」に従ってあらかじめ前処理した義歯を浸漬し、１ｍｍ／secで引き上げることにより、義歯表面に溶液を塗布した。次いで、５０〜６０℃温風乾燥機に５分間入れて、塗布物中に含まれる溶剤を除去した。乾燥後の義歯を、ＵＶコンベアー（高圧水銀ランプ，１６０Ｗ／ｃｍ，高さ１４ｃｍ，コンベアー速度５ｍ／分，照度４００ｍＷ／ｃｍ2，積算光量１２００ｍＪ／ｃｍ2， ウシオ電機  ＵＩＴ−２５０にて測定）内に入れて通過させ、裏返して再度通過させることにより全面をＵＶ照射し、義歯表面上に親水性の単層膜を形成した。【０３７０】
〔実施例２６〜３０〕
実施例２５において、化合物（ＩＩＩ）溶液の種類、および希釈溶剤におけるエタノールと蒸留水との配合量を表８に示すものに変更する以外は、実施例２５と同様の操作を行い、それぞれ、表８に示す固形分濃度を有するコーティング溶液を得た。各実施例において、調製したコーティング溶液を、実施例２５と同様に義歯表面へ塗布後、溶剤の除去、ＵＶ照射を行い、それぞれ、義歯表面上に単層膜を形成した。【０３７１】
なお、表８中、化合物（ＩＩＩ）溶液の項目で「ＤＴ−Ｎａ」とあるのは、化合物（ＩＩＩ）溶液として、調製例４−３で得られた固形分濃度１０ｗｔ％のＤＴ−Ｎａ溶液を採用したことを意味する。【０３７２】
【表８】
2016006637.tif 000048
【０３７３】
＜耐汚染性の評価３＞
実施例２５〜３０で作製したコーティング済みの義歯を水洗、乾燥後、ゼブラ（株）製の油性マーカー「マッキー極細」（黒，品番MO-120-MC-BK）でマークし、流水洗浄を行った。コーティング済みの義歯は、いずれもマークの大部分が流れ落ちるか、軽くこすると除去できた。【０３７４】
（可視光硬化）
〔実施例３１〕
調製例３で得た固形分濃度８０ｗｔ％の重合性組成物３：  １．２６ｇと調製例４−２で得られた固形分濃度１０ｗｔ％のＤＳ−Ｎａ−２溶液（化合物（ＩＩＩ）溶液）  ０．０１０ｇ、希釈溶媒としてエタノール  ０．８５ｇ、蒸留水  ０．０９６ｇを混合し、光重合開始剤としてカンファーキノン（和光純薬製）  ０．０２２ｇ（合計重量に対して１．０ｗｔ％）を混合し、固形分濃度４６ｗｔ％のコーティング溶液を調製した。【０３７５】
上記「基材の前処理」と同様の方法に従ってあらかじめ前処理した透明アクリル板（日東樹脂工業製，ＣＬＡＲＥＸ−００１）を基材として用い、このコーティング溶液をバーコーター＃３０により、この基材表面に溶液を塗布した。５０〜６０℃温風乾燥機に５分間入れて、塗布物中に含まれる溶剤を除去した。【０３７６】
溶剤が十分に除去されたサンプルを可視光照射装置アルファライトV（ＭＯＲＩＴＡ製，ＬＥＤランプ，４００〜４０８ｎｍ、４６５〜４７５ ｎｍ：照度  ６０ ｍＷ／ｃｍ2，積算光量 ３６００  ｍＪ／ｃｍ2, ウシオ電機  ＵＩＴ−２５０（４０５ｎｍ）にて測定）の装置内に入れて、１分間照射させることにより、透明アクリル板上に膜厚１８μｍの親水性の単層膜を形成した。その後、単層膜表面を流水洗浄、乾燥した後、得られたサンプルの外観および水接触角を評価した。結果を表９−１に掲載する。【０３７７】
【化３９】
2016006637.tif 000049
【０３７８】
〔実施例３２〜４２〕
実施例３１において、重合性組成物３の量、化合物（ＩＩＩ）溶液の種類、並びに、重合開始剤の種類および量を、表９−１〜９−２に記載のものに変更する以外は、実施例３１と同様の操作を行い、それぞれ、表９−１〜９−２に示す固形分濃度を有するコーティング溶液を得た。各実施例において、調製したコーティング溶液を、実施例３１と同様に透明アクリル板上へ塗布後、溶剤の除去、可視光照射を行い、それぞれ、透明アクリル板上に膜厚１８μｍの単層膜を形成した。その後、各単層膜表面を流水洗浄、乾燥した後、得られたサンプルの外観および水接触角を評価した。結果を表９−１〜９−２に掲載する。【０３７９】
ここで、表９−２中、化合物（ＩＩＩ）溶液の項目で「ＤＴ−Ｎａ」とあるのは、化合物（ＩＩＩ）溶液として、調製例４−３で得られた固形分濃度１０ｗｔ％のＤＴ−Ｎａ溶液を採用したことを意味する。【０３８０】
また、表９−１および９−２中、重合開始剤の項目で「ＬＵＣＩＲＩＮ  ＴＰＯ」とあるのは、重合開始剤として、カンファーキノンに代えて、ＬＵＣＩＲＩＮ  ＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製）を採用したことを意味する。【０３８１】
【表９−１】
2016006637.tif 000050
【０３８２】
【表９−２】
2016006637.tif 000051
【０３８３】
〔実施例４３〕
調製例３で得た固形分濃度８０ｗｔ％の重合性組成物３：  １．２５ｇと調製例４−２で得られた固形分濃度１０ｗｔ％のＤＳ−Ｎａ−２溶液（化合物（ＩＩＩ）溶液）  ０．０１０ｇ、希釈溶媒としてエタノール  ０．８５ｇ、蒸留水  ０．０９６ｇを混合し、光重合開始剤としてカンファーキノン（東京化成製）  ０．０３４ｇ（合計重量に対して１．５ｗｔ％）を混合し、固形分濃度４６ｗｔ％のコーティング溶液を調製した。【０３８４】
上記「基材の前処理」の方法に従って、あらかじめ前処理した透明アクリル板（日東樹脂工業製，ＣＬＡＲＥＸ−００１）を基材として用い、このコーティング溶液をバーコーター＃３０により、この基材表面に溶液を塗布した。５０〜６０℃温風乾燥機に５分間入れて、塗布物中に含まれる溶剤を除去した。【０３８５】
溶剤が十分に除去されたサンプルを可視光照射装置アルファライトV（ＭＯＲＩＴＡ製，ＬＥＤランプ，４００〜４０８ｎｍ、４６５〜４７５ ｎｍ：照度  ６０ｍＷ／ｃｍ2，積算光量 ３６００ｍＪ／ｃｍ2, ウシオ電機  ＵＩＴ−２５０（４０５ｎｍ）にて測定）の装置内に入れて、１分間照射させることにより、透明アクリル板上に膜厚１８μｍの親水性の単層膜を形成した。その後、単層膜表面を流水洗浄、乾燥した後、得られたサンプルの外観および水接触角を評価した。結果を表１０に掲載する。【０３８６】
〔実施例４４〜５１〕
実施例４３の重合開始剤を、表１０に記載の開始剤  ０．０３４ｇ（合計重量に対して１．５ｗｔ％）に変更する以外は、実施例４３と同様の操作を行った。調製した固形分濃度４６ｗｔ％のコーティング溶液を、実施例４３と同様に透明アクリル板上へ塗布後、溶剤の除去、可視光照射を行い、透明アクリル板上に膜厚１８μｍの単層膜を形成した。その後、単層膜表面を流水洗浄、乾燥した後、得られたサンプルの外観および水接触角を評価した。結果を表１０に掲載する。【０３８７】
〔実施例５２〕
調製例３で得た固形分濃度８０ｗｔ％の重合性組成物３：  １．２０ｇと調製例４−２で得られた固形分濃度１０ｗｔ％のＤＳ−Ｎａ−２溶液（化合物（ＩＩＩ）溶液）  ０．０１０ｇ、希釈溶媒としてエタノール  ０．８５ｇ、蒸留水  ０．０９６ｇを混合し、光重合開始剤としてカンファーキノン（和光純薬社製）  ０．０３４ｇ（合計重量に対して１．５ｗｔ％）およびＮ，Ｎ−ジメチル−ｐ−トルイジン（和光純薬社製）  ０．０３４ｇ（合計重量に対して１．５ｗｔ％）を混合し、固形分濃度４６ｗｔ％のコーティング溶液を調製した。【０３８８】
上記「基材の前処理」の方法に従って、あらかじめ前処理した透明アクリル板（日東樹脂工業製，ＣＬＡＲＥＸ−００１）を基材として用い、このコーティング溶液をバーコーター＃３０により、この基材表面に溶液を塗布した。５０〜６０℃温風乾燥機に５分間入れて、塗布物中に含まれる溶剤を除去した。【０３８９】
溶剤が十分に除去されたサンプルを可視光照射装置アルファライトV（ＭＯＲＩＴＡ製，ＬＥＤランプ，４００〜４０８ｎｍ、４６５〜４７５ ｎｍ：照度  ６０ｍＷ／ｃｍ2，積算光量 ３６００ｍＪ／ｃｍ2, ウシオ電機  ＵＩＴ−２５０（４０５ｎｍ）にて測定）の装置内に入れて、１分間照射させることにより、透明アクリル板上に膜厚１８μｍの親水性の単層膜を形成した。その後、単層膜表面を流水洗浄、乾燥した後、得られたサンプルの外観および水接触角を評価した。結果を表１０に掲載する。【０３９０】
〔実施例５３〕
実施例５２の重合開始剤を、２−エチルアントラキノン（山本化成社製）  ０．０３４ｇ（合計重量に対して１．５ｗｔ％）およびＮ，Ｎ−ジメチル−ｐ−トルイジン（和光純薬社製）  ０．０３４ｇ（合計重量に対して１．５ｗｔ％）に変更する以外は、実施例５２と同様の操作を行った。調製した固形分濃度４６ｗｔ％のコーティング溶液を、実施例５２と同様に透明アクリル板上へ塗布後、溶剤の除去、可視光照射を行い、透明アクリル板上に膜厚１８μｍの単層膜を形成した。その後、単層膜表面を流水洗浄、乾燥した後、得られたサンプルの外観および水接触角を評価した。結果を表１０に掲載する。【０３９１】
【表１０】
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【０３９２】
〔実施例５４〕
調製例３で得られた固形分８０ｗｔ％重合性組成物３：  １．２５ｇと調製例４−２で得られた固形分濃度１０ｗｔ％のＤＳ−Ｎａ−２溶液（化合物（ＩＩＩ）溶液）０．０１０ｇ、希釈溶剤としてエタノール  １．１４ｇと蒸留水０．１５ｇの混合溶剤、光重合開始剤としてダロキュアー１１７３（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）  ０．０３０ｇ（化合物（Ｉ）と化合物（ＩＩ）の合計重量に対して３．０重量％）を混合し、固形分濃度４０ｗｔ％のコーティング溶液を調製した。【０３９３】
この溶液を、上記「基材の前処理」の方法に従って、あらかじめ前処理した透明アクリル板（日東樹脂工業製，ＣＬＡＲＥＸ−００１）に、歯科用の筆を用いて塗布し、次いで、５０〜６０℃温風乾燥機に５分間入れて、塗布物中に含まれる溶剤を除去した。乾燥後のアクリル板を、ＵＶコンベアー（高圧水銀ランプ，１６０Ｗ／ｃｍ，高さ１４ｃｍ，コンベアー速度５ｍ／分，照度４００ｍＷ／ｃｍ2，積算光量１２００ｍＪ／ｃｍ2， ウシオ電機  ＵＩＴ−２５０にて測定）内に入れて通過させ、アクリル板上に親水性の単層膜を形成した。その後、単層膜表面を流水洗浄、乾燥した後、得られたサンプルの外観、水接触角を評価した。結果を表１１に掲載する。【０３９４】
〔実施例５５〜５７〕
実施例５４において、化合物（ＩＩＩ）溶液の種類、並びに、溶媒の種類を、表１１に記載のものに変更する以外は、実施例５４と同様の操作を行い、それぞれ、表１１に示す固形分濃度を有するコーティング溶液を得た。各実施例において、調製したコーティング溶液を、実施例５４と同様に透明アクリル板上へ塗布後、溶剤の除去、ＵＶ照射を行い、それぞれ、透明アクリル板上に親水性の単層膜を形成した。その後、各単層膜表面を流水洗浄、乾燥した後、得られたサンプルの外観および水接触角を評価した。結果を表１１に掲載する。【０３９５】
ここで、表１１中、化合物（ＩＩＩ）溶液の項目で「ＤＴ−Ｎａ」とあるのは、化合物（ＩＩＩ）溶液として、調製例４−３で得られた固形分濃度１０ｗｔ％のＤＴ−Ｎａ溶液を採用したことを意味する。【０３９６】
【表１１】
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【０３９７】
＜マウスピースの作製＞
（印象および咬合の採得）
有歯顎患者の上顎及び下顎の精密印象を採得した。次にジョージ・ゲージを用い、患者の下顎最大前方位の70%の位置におけるバイトを採得した。採得された精密印象に基づき、上型と下型からなる石膏模型を作製した。【０３９８】
（マウスピースの作製）
上記採得されたバイトにより上記石膏模型を固定し、咬合器にマウントした。バイトを取り外し、パラフィンワックス（FEED Bextmill社製）にて、石膏模型上のアンダーカット部をブロックアウトした。【０３９９】
次にパラフィンワックスを用いて、上型の石膏模型上にガイドを作製した。いびき防止装置として使用されているISTアプライアンスのフィキシングパーツ（Scheu社製）を第一大臼歯及び第二大臼歯の間の位置において、ガイドの頬側に固定した。【０４００】
次に矯正用レジン材料オーソパレット（松風社製）にて、石膏模型上にふりかけ法によりレジンを築盛した。余分なレジンを取り除いた後、プレッシャーポット（東邦歯科産業社製）に入れ、0.2MPa、40〜50℃温水中で、10分間加圧重合した。冷却後、プレッシャーポットから取り出し、石膏模型上型から上顎マウスピースを取り外し、歯牙と接触する面以外の形態修正、研磨を行った。【０４０１】
石膏模型下型においても、同様にパラフィンワックスによりガイドを作製、作製した上顎マウスピースとともに再び咬合器にマウントした。ISTフィキシングパーツのポジショニングサポート（Scheu社製）を用いて、上顎マウスピースのISTフィキシングパーツより前方に、下顎マウスピースのISTフィキシングパーツの位置を決定し、ガイドの頬側に固定した。上顎マウスピースと咬合するように下顎のレジン築盛を行った。プレッシャーポットにて上顎と同条件で加圧重合を行った後、形態修正、研磨を行った。【０４０２】
＜マウスピースの前処理＞
上記「マウスピースの作製」で得られた研磨後のマウスピースを、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）に５分間浸漬後、取り出してエアーブローを行った。次いで、４０℃の送風乾燥機で５分間乾燥したマウスピースをコーティングに使用した。【０４０３】
〔実施例５８〕
調製例３で得られた固形分８０ｗｔ％重合性組成物３：  ３００ｇ  と調製例４−２で得られた固形分濃度１０ｗｔ％のＤＳ−Ｎａ−２溶液（化合物（ＩＩＩ）溶液）２．４ｇ（化合物（Ｉ）と化合物（ＩＩ）の合計重量に対して０．１重量％）、希釈溶剤としてエタノール  １４９．５ｇと蒸留水１６．２ｇの混合溶剤、光重合開始剤としてダロキュアー１１７３（チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）  ７．２ｇ（化合物（Ｉ）と化合物（ＩＩ）の合計重量に対して３．０重量％）とを混合して、固形分濃度５２ｗｔ％のコーティング溶液を調製した。【０４０４】
この溶液に、上記「マウスピースの前処理」の方法に従って、あらかじめ前処理したマウスピースを浸漬し、１ｍｍ／secで引き上げることにより、マウスピース表面に溶液を塗布した。次いで、５０〜６０℃温風乾燥機に５分間入れて、塗布物中に含まれる溶剤を除去した。乾燥後のマウスピースを、ＵＶコンベアー（高圧水銀ランプ，１６０Ｗ／ｃｍ，高さ１４ｃｍ，コンベアー速度５ｍ／分，照度４００ｍＷ／ｃｍ2，積算光量１２００ｍＪ／ｃｍ2， ウシオ電機  ＵＩＴ−２５０にて測定）内に入れて通過させ、裏返して再度通過させることにより全面をＵＶ照射し、マウスピース表面上に親水性の単層膜を形成した。【０４０５】
〔実施例５９〜６３〕
実施例５８において、化合物（ＩＩＩ）溶液の種類、および希釈溶剤におけるエタノールと蒸留水との配合量を、表１２の実施例５９〜６３に示すものに変更する以外は、実施例５８と同様の操作を行い、それぞれ、表１２に示す固形分濃度を有するコーティング溶液を得た。各実施例において、調製したコーティング溶液を、実施例５８と同様にマウスピース表面へ塗布後、溶剤の除去、ＵＶ照射を行い、それぞれ、マウスピース表面上に単層膜を形成した。【０４０６】
なお、表１２中、化合物（ＩＩＩ）溶液の項目で「ＤＴ−Ｎａ」とあるのは、化合物（ＩＩＩ）溶液として、調製例４−３で得られた固形分濃度１０ｗｔ％のＤＴ−Ｎａ溶液を採用したことを意味する。【０４０７】
〔比較例４〕
前記マウスピースについて、本発明の歯科材料用組成物の塗布を行うことなく、そのまま下記の評価に供した。【０４０８】
＜耐汚染性の評価４＞
実施例５８〜６３で作製したコーティング済みのマウスピース、および比較例４のコーティングしていないマウスピースを、それぞれ、水洗、乾燥後、ゼブラ（株）製の油性マーカー「マッキー極細」（黒，品番MO-120-MC-BK）で臼歯部の咬合面に長さ約３ｃｍマークし、3分間経過後に流水洗浄を行った。実施例５８〜６３で作製したコーティング済みのマウスピースは、マークの大部分が流れ落ち、軽くこすると除去できた。【０４０９】
一方、比較例４で作製したコーティングしていないマウスピースは、こすってもマークが全く落ちなかった。【０４１０】
【表１２】
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【産業上の利用可能性】
【０４１１】
本発明の歯科用組成物から得られる硬化物、例えば単層膜は、親水性が高く防汚性を有するため、種々の歯科用途に有用である。その中でも歯科用コート材として有用であり、特に歯科用補綴物の表面コーティングに有用である。
【図１】
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【図２】
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【国際調査報告】
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