(57)【要約】  本発明の解決課題は、長期間に亘る屋外での使用や洗浄作業等による負荷を受けても、銀反射層と隣接する他の構成層との間の剥離に起因する、銀反射層の腐食や変色に伴う反射率の低下等を抑制できるフィルムミラー、及びそれを備えた太陽熱発電用反射装置を提供することである。当該フィルムミラーは、樹脂基材上に銀反射層が設けられ、銀反射層に隣接し、芳香族性に関与しない非共有電子対を持つ窒素原子を有する化合物を含有する窒素含有層を備え、当該化合物が、芳香族性に関与しない非共有電子対の数をｎ、分子量をＭとしたとき、有効非共有電子対含有率ｎ／Ｍが２．０×１０−３以上の化合物であることを特徴とする。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂基材上に銀反射層が設けられたフィルムミラーであって、
前記銀反射層に隣接し、芳香族性に関与しない非共有電子対を持つ窒素原子を有する化合物を含有する窒素含有層を備え、
前記化合物が、芳香族性に関与しない非共有電子対の数をｎ、分子量をＭとしたとき、有効非共有電子対含有率ｎ／Ｍが２．０×１０−３以上の化合物であることを特徴とするフィルムミラー。
【請求項２】
前記有効非共有電子対含有率ｎ／Ｍが、３．９×１０−３以上であることを特徴とする請求項１に記載のフィルムミラー。
【請求項３】
メタロキサン骨格を有するポリマーを含有するハードコート層を表面に備えていることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のフィルムミラー。
【請求項４】
請求項１から請求項３までのいずれか一項に記載のフィルムミラーと、
前記フィルムミラーを支持する支持基材と、を備えることを特徴とする太陽熱発電用反射装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フィルムミラー及び太陽熱発電用反射装置に関する。特に、長期間に亘る屋外での使用や洗浄作業等による負荷を受けても、銀反射層と隣接する他の構成層との間の剥離に起因する、銀反射層の腐食や変色に伴う反射率の低下等を抑制できるフィルムミラー、及びそれを備えた太陽熱発電用反射装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、化石燃料の代替エネルギーとして最も安定しており、かつ量の多い自然エネルギーは太陽エネルギーであると考えられており、巨大な反射装置で太陽エネルギーを集めることによってその熱エネルギーを媒体として発電する太陽熱発電が提案されている。【０００３】
この反射装置は、太陽光による紫外線や熱、風雨、砂嵐等に晒されるため、従来ガラス製ミラーが用いられてきたが、最近では軽量で柔軟性が高く、かつ生産コスト及び輸送コストが低い太陽熱発電用のミラーとしてフィルムミラーの検討が進められている。【０００４】
太陽熱発電用のフィルムミラーは、フィルム基材に設けられた金属反射層、例えば銀反射層上に、銀反射層の腐食を抑制する樹脂コート層、紫外線曝露による樹脂製の構成層の変色に伴う反射率の低下を抑制する紫外線吸収層、表面の傷付きを抑制するハードコート層等が積層されていることで、耐久性が向上されている。
例えば、特許文献１に記載の技術においては、フィルムの最表層に紫外線吸収剤を含んだアクリル樹脂層を設けており、紫外線曝露に起因する樹脂層の変色による反射率の低下を抑制している。【０００５】
ここで、このようなフィルムミラーは屋外環境下に設置されるため、フィルムミラー表面に砂塵等が付着することに起因する反射率の低下を抑制する目的で、定期的に高圧放水やブラッシングによる洗浄作業が行われる。
上記特許文献１に記載の技術においては、銀反射層とアクリル樹脂層の間にポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）層と粘着層とが挟まれており、半年間以上の屋外曝露後にブラッシングによる洗浄を行うと、洗浄時に生じる応力により、銀反射層とＰＥＴ層との間で剥離が生じてしまうおそれがある。【０００６】
このように、銀反射層と隣接する他の構成層との間で剥離が生じやすいフィルムミラーにあっては、銀反射層と隣接層とが剥離することにより、当該隣接層の上に設けられる腐食防止層や紫外線吸収層等の機能が阻害され、腐食耐性や耐光性が低下してしまう場合がある。
更に、このようなフィルムミラーの表面にハードコート層が設けられている場合には、銀反射層と隣接する他の構成層との間で剥離が生じることでフィルムミラー表面に応力が生じ、ハードコート層にクラックが生じてしまう場合があることも分かった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特表２００９−５２０１７４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、長期間に亘る屋外での使用や洗浄作業等による負荷を受けても、銀反射層と隣接する他の構成層との間の剥離に起因する、銀反射層の腐食や変色に伴う反射率の低下等を抑制できるフィルムミラー、及びそれを備えた太陽熱発電用反射装置を提供することである。【０００９】
本発明に係る上記課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討した結果、樹脂基材上に銀反射層が設けられ、前記銀反射層に隣接し、窒素原子を含有する化合物からなる窒素含有層を備え、前記化合物が、芳香族性に関与しない非共有電子対の数をｎ、分子量をＭとしたとき、有効非共有電子対含有率ｎ／Ｍが２．０×１０−３以上の化合物であることにより、銀反射層と隣接する他の構成層との間の剥離に起因する、銀反射層の腐食や変色に伴う反射率の低下等を抑制できるフィルムミラーを提供できることを見出した。
すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。【００１０】
１．樹脂基材上に銀反射層が設けられたフィルムミラーであって、
前記銀反射層に隣接し、芳香族性に関与しない非共有電子対を持つ窒素原子を有する化合物を含有する窒素含有層を備え、
前記化合物が、芳香族性に関与しない非共有電子対の数をｎ、分子量をＭとしたとき、有効非共有電子対含有率ｎ／Ｍが２．０×１０−３以上の化合物であることを特徴とするフィルムミラー。【００１１】
２．前記有効非共有電子対含有率ｎ／Ｍが、３．９×１０−３以上であることを特徴とする第１項に記載のフィルムミラー。【００１２】
３．メタロキサン骨格を有するポリマーを含有するハードコート層を表面に備えていることを特徴とする第１項又は第２項に記載のフィルムミラー。【００１３】
４．第１項から第３項までのいずれか一項に記載のフィルムミラーと、
前記フィルムミラーを支持する支持基材と、を備えることを特徴とする太陽熱発電用反射装置。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、長期間に亘る屋外での使用や洗浄作業等による負荷を受けても、銀反射層と隣接する他の構成層との間の剥離を抑制することができ、当該剥離に起因する銀反射層の腐食や変色に伴う反射率の低下等を抑制できるフィルムミラー、及びそれを備えた太陽熱発電用反射装置を提供することができる。
また、銀反射層と隣接する他の構成層との剥離を抑制できるため、フィルムミラーの表面にハードコート層が設けられている場合に、当該ハードコート層にクラックが発生することを抑制することもできる。【００１５】
本発明の効果の発現機構ないし作用機構については、明確にはなっていないが、以下のように推察している。
すなわち、銀反射層に隣接する層を、芳香族性に関与しない非共有電子対を持つ窒素原子を有する化合物を含有する窒素含有層としているので、当該窒素含有層に含有される化合物の非共有電子対が銀原子と相互作用することにより、銀反射層と、当該銀反射層に隣接する窒素含有層との密着性が向上されている。また、窒素含有層に含有される化合物の有効非共有電子対含有率ｎ／Ｍが、２．０×１０−３以上であることにより、銀反射層中の銀原子と相互作用可能な窒素原子が窒素含有層に多数含有されており、銀反射層と窒素含有層との高い密着性が得られる。これにより、長期間に亘る屋外での使用や洗浄作業等による負荷を受けても、銀反射層と隣接する他の構成層との間で高い密着性を保持することができ、層間の剥離に起因する銀反射層の腐食や変色に伴う反射率の低下を抑制することができる。
また、銀反射層と窒素含有層とが高い密着性を有しているため、その層間で剥離が発生せず、フィルムミラー表面に応力が発生しにくい。これにより、フィルムミラー表面にハードコート層が設けられている場合に、当該ハードコート層にクラックが発生することを抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１Ａ】本発明の太陽熱発電用ミラーの構成の一例を示す説明図
【図１Ｂ】本発明の太陽熱発電用ミラーの構成の一例を示す説明図
【図２】本発明の太陽熱発電用反射装置の構成の一例を示す説明図
【発明を実施するための形態】
【００１７】
本発明のフィルムミラーは、樹脂基材上に銀反射層が設けられたフィルムミラーであって、前記銀反射層に隣接し、芳香族性に関与しない非共有電子対を持つ窒素原子を有する化合物を含有する窒素含有層を備え、前記化合物が、芳香族性に関与しない非共有電子対の数をｎ、分子量をＭとしたとき、有効非共有電子対含有率ｎ／Ｍが２．０×１０−３以上の化合物であることを特徴とする。この特徴は、請求項１から請求項４までの請求項に共通する技術的特徴である。
また、本発明は、メタロキサン骨格を有するポリマーを含有するハードコート層を表面に備えていることが好ましい。これにより、表面の耐傷性を向上させることができる。
【００１８】
以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。
【００１９】
＜本発明のフィルムミラー及び太陽熱発電用反射装置の概要＞
本発明のフィルムミラーは、樹脂基材上に銀反射層が設けられたフィルムミラーであって、前記銀反射層に隣接し、芳香族性に関与しない非共有電子対を持つ窒素原子を有する化合物を含有する窒素含有層を備え、前記化合物が、芳香族性に関与しない非共有電子対の数をｎ、分子量をＭとしたとき、有効非共有電子対含有率ｎ／Ｍが２．０×１０−３以上の化合物であることを特徴とする。
【００２０】
〔１〕フィルムミラーの構成概要
本発明のフィルムミラーの概要を説明する。
【００２１】
フィルムミラーＦは、例えば、図１Ａに示すように、樹脂基材３上に銀反射層５が形成され、その上に最表層としてハードコート層１０が設けられて構成されている。したがって図１Ａに示す例においては、本発明でいう銀反射層に隣接する窒素含有層は、樹脂基材３及びハードコート層１０が該当し、樹脂基材３及びハードコート層１０のうち少なくとも一層が、芳香族性に関与しない非共有電子対を持つ窒素原子を有する化合物を含有する。
【００２２】
また、フィルムミラーＦには、実際上様々な機能層を設けることが好ましく、例えば、図１Ｂに示すように構成されていても良い。
【００２３】
図１Ｂで示す例では、樹脂基材３と銀反射層５との間にアンカー層４が設けられ、銀反射層５の光入射側に、腐食防止剤や酸化防止剤を含有する樹脂コート層６、銀反射層５や樹脂コート層６を保護するガスバリアー層１１、ガスバリアー層１１上に設けられる接着層７、紫外線吸収剤を含むアクリル樹脂層８、アクリル樹脂層８上に設けられる中間層９、最表層としてハードコート層１０が、この順にそれぞれ設けられている。
また、樹脂基材３における光入射側とは反対側の面には粘着層２が設けられていても良く、更に、粘着層２上には粘着層を保護するための剥離層１２が設けられていても良い。
なお、フィルムミラーＦの構成はこれに限られるものではなく、少なくとも樹脂基材３及び銀反射層５を備えていれば、上記各構成層のうちいずれかの層が設けられていなくても良い。
【００２４】
図１Ｂの構成の場合は、本発明でいう銀反射層に隣接する窒素含有層は、アンカー層４及び樹脂コート層６が該当し、アンカー層４及び樹脂コート層６のうち少なくとも一層が、芳香族性に関与しない非共有電子対を持つ窒素原子を有する化合物を含有する。
なお、本発明の効果を高めるために、当該アンカー層４及び樹脂コート層６の両方に、芳香族性に関与しない非共有電子対を持つ窒素原子を有する化合物を含有させることが好ましい。
【００２５】
なお、銀反射層に隣接する層とは、直接当該銀反射層に接する層以外にも、芳香族性に関与しない非共有電子対を持つ窒素原子を有する化合物が銀反射層の銀原子に作用でき、本発明の効果を発現することができる場合は、層間に当該化合物を含有しない薄膜層（例えば、樹脂層）等があっても良い。
【００２６】
フィルムミラー全体の厚さは、ミラーのたわみ防止、正反射率、取り扱い性等の観点から７５〜２５０μｍの範囲内が好ましく、より好ましくは９０〜２３０μｍの範囲内、更に好ましくは１００〜２２０μｍの範囲内である。
【００２７】
以下、本発明のフィルムミラーを構成する各構成層について順次説明するが、まず、本発明の特徴である、芳香族性に関与しない非共有電子対を持つ窒素原子を有する化合物について説明する。
【００２８】
〔２〕芳香族性に関与しない非共有電子対を持つ窒素原子を有する化合物
窒素含有層は、銀反射層５に隣接して設けられた層であり、芳香族性に関与しない非共有電子対を持つ窒素原子を有する化合物を用いて構成されている。また、当該化合物は、当該化合物に含有される窒素原子のうち、特に銀反射層５を構成する主材料である銀と安定的に結合する窒素原子の非共有電子対を「有効非共有電子対」とし、この有効非共有電子対の含有率が所定範囲である。
【００２９】
ここで、「有効非共有電子対」とは、化合物に含有される窒素原子が有する非共有電子対のうち、芳香族性に関与しない非共有電子対をいう。ここでの芳香族性とは、π電子を持つ原子が環状に並んだ不飽和環状構造をいい、いわゆる「ヒュッケル則」に従う芳香族性であって、環上のπ電子系に含まれる電子の数が「４ｎ＋２」（ｎ＝０又は自然数）個であることを条件としている。
【００３０】
以上のような「有効非共有電子対」は、その非共有電子対を備えた窒素原子自体が、芳香環を構成するヘテロ原子であるか否かにかかわらず、窒素原子が有する非共有電子対が芳香族性と関与しているか否かによって選択される。例えば、ある窒素原子が芳香環を構成するヘテロ原子であっても、その窒素原子が芳香族性に関与しない非共有電子対を有していれば、その非共有電子対は「有効非共有電子対」の一つとしてカウントされる。これに対して、ある窒素原子が芳香環を構成するヘテロ原子でない場合であっても、その窒素原子の非共有電子対の全てが芳香族性に関与していれば、その窒素原子の非共有電子対は「有効非共有電子対」としてカウントされることはない。なお、各化合物において、上述した「有効非共有電子対」の数ｎは、「有効非共有電子対」を有する窒素原子の数と一致する。
【００３１】
本発明においては、芳香族性に関与しない非共有電子対を持つ窒素原子を有する化合物の分子量Ｍに対する「有効非共有電子対」の数ｎを、「有効非共有電子対含有率ｎ／Ｍ」と定義する。
本発明の窒素含有層には、有効非共有電子対含有率ｎ／Ｍが２．０×１０−３以上の化合物が含有されていることを特徴としている。また、窒素含有層に含有される当該化合物の有効非共有電子対含有率ｎ／Ｍが、３．９×１０−３以上であると、銀反射層と窒素含有層の密着性を更に向上させることができるため、好ましい。また、窒素含有層に含有される当該化合物の有効非共有電子対含有率ｎ／Ｍが、１．０×１０−２以下であると、層を均一にコーティングしやすくなるため、好ましい。
【００３２】
また、窒素含有層は、有効非共有電子対含有率ｎ／Ｍが、上述した所定範囲である化合物を用いて構成されていれば良く、このような化合物のみで構成されていても良いし、このような化合物と他の化合物との混合物で構成されていても良い。当該他の化合物としては、窒素原子が含有されていてもいなくても良いし、窒素原子が含有されていても有効非共有電子対含有率ｎ／Ｍが上述した範囲でなくても良い。
【００３３】
窒素含有層が、複数の化合物を用いて構成されている場合、例えば化合物の混合比に基づき、これらの化合物を混合した混合化合物の分子量Ｍを求め、この分子量Ｍに対しての有効非共有電子対の合計の数ｎを、有効非共有電子対含有率ｎ／Ｍの平均値として求め、この値が上述した所定範囲であることが好ましい。つまり、窒素含有層自体の有効非共有電子対含有率ｎ／Ｍが所定範囲であることが好ましい。
【００３４】
なお、窒素含有層が、複数の化合物を用いて構成されている場合であって、層厚方向に化合物の混合比（含有比）が異なる構成であれば、銀反射層５と接する側の窒素含有層の表面における有効非共有電子対含有率ｎ／Ｍが上述した所定範囲であれば良い。
【００３５】
以下に、上述した有効非共有電子対含有率ｎ／Ｍが２．０×１０−３以上である化合物の具体例として化合物Ｎｏ．１〜Ｎｏ．４５を示す。また、下記表１には、これらの化合物Ｎｏ．１〜Ｎｏ．４５の分子量Ｍ、有効非共有電子対の数ｎ、及び有効非共有電子対含有率ｎ／Ｍを示す。なお、下記化合物Ｎｏ．３３の銅フタロシアニンにおいては、窒素原子が有する非共有電子対のうち銅に配位していない非共有電子対が「有効非共有電子対」としてカウントされるものとする。
また、下記化合物Ｎｏ．１９，２０においては、有効非共有電子対の数ｎ及び分子量Ｍをそれぞれ表１に記載の値としているが、各化学式中の繰り返し単位ｎの値によってはこの限りではない。ただし、各化学式中の繰り返し単位ｎの値がいずれであっても、有効非共有電子対含有率ｎ／Ｍの値は表１に記載のとおりである。
【００３６】
【化１】
2015022877.tif 000003
【００３７】
【化２】
2015022877.tif 000004
【００３８】
【化３】
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【００３９】
【化４】
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【００４０】
【化５】
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【００４１】
【化６】
2015022877.tif 000008
【００４２】
【表１】
2015022877.tif 000009
【００４３】
本発明に係る、芳香族性に関与しない非共有電子対を持つ窒素原子を有する化合物は、銀反射層との密着性を改良するために十分な量が用いられ、通常、銀反射層に隣接する層の少なくとも一層に、０．１〜５質量％の範囲内で含有させることが好ましい。より好ましくは１〜５質量％の範囲内である。前記範囲内であれば、密着性を十分に改良でき、コスト上のメリットも高い。
【００４４】
芳香族性に関与しない非共有電子対を持つ窒素原子を有する化合物は、後述するアンカー層及び樹脂コート層のうち少なくとも一方に含有させることが好ましく、当該アンカー層及び樹脂コート層の両方に含有させることがより好ましい。
【００４５】
続いて、本発明のフィルムミラーを構成する各構成層について説明する。
【００４６】
〔３〕樹脂基材
樹脂基材としては、従来公知の種々の樹脂フィルムを用いることができる。例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルム等を挙げることができる。中でも、ポリカーボネート系フィルム、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、及びセルロースエステル系フィルム、アクリルフィルムが好ましい。特にポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系フィルム又はアクリルフィルムを用いることが好ましい。また、樹脂フィルムは、溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても良いし、溶液流延製膜で製造されたフィルムであっても良い。
【００４７】
樹脂基材に、本発明に係る、芳香族性に関与しない非共有電子対を持つ窒素原子を有する化合物を含有させるには、例えば、溶液流延製膜であれば、調製する有機溶媒を含むドープに当該化合物を所定量添加し、次いで金属支持体上に流延することが好ましい。
樹脂基材に当該化合物が含有されている場合には、０．１〜５質量％の範囲で含有されていることが好ましい。
【００４８】
樹脂基材は、銀反射層よりも光入射側から遠い位置にあるため、樹脂基材には紫外線は到達しにくい。特に、樹脂基材よりも光入射側にある層に紫外線吸収剤を含有させたり、紫外線吸収剤を含有するアクリル樹脂層を設けたりすることで、更に紫外線が樹脂基材に到達しにくくすることができる。その場合には、紫外線によって劣化しやすい樹脂であっても、樹脂基材の材料に用いることができる。そのような観点から、樹脂基材の材料として、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステルフィルムを用いることが可能となる。
【００４９】
樹脂基材の厚さは、樹脂の種類及び目的等に応じて適切な厚さに設定することが好ましい。例えば、一般的には、１０〜３００μｍの範囲である。好ましくは２０〜２００μｍの範囲であり、より好ましくは３０〜１００μｍ範囲である。
【００５０】
また、本発明のフィルムミラーは、樹脂基材として長尺状フィルムを用いて製造することが好ましく、長さ１０００ｍ以上であることが好ましく、生産性やハンドリングの観点から５０００ｍ程度の長尺状フィルムを用いることが好ましい。
【００５１】
〔４〕アンカー層
アンカー層は、樹脂からなり、樹脂基材と銀反射層とを密着させるものであり、本発明に係る芳香族性に関与しない非共有電子対を持つ窒素原子を有する化合物が含有されていることが好ましい。したがって、アンカー層は、樹脂基材と銀反射層とを密着する密着性、銀反射層を真空蒸着法等で形成する際の熱に耐え得る耐熱性、及び銀反射層が本来有する高い反射性能を引き出すための平滑性等が必要である。
【００５２】
アンカー層の材料として用いられる樹脂材料は、上記密着性、耐熱性、及び平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等の単独又はこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂の混合樹脂が好ましく、更にイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とするとより好ましい。
【００５３】
アンカー層の形成方法としては、所定の樹脂材料を塗布、塗工するグラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。
【００５４】
アンカー層の厚さは、０．０１〜３μｍの範囲が好ましく、より好ましくは０．１〜１μｍの範囲である。厚さが０．０１μｍより厚いと、密着性が良くなり、また樹脂基材表面の凹凸を覆い隠し、平滑性が良好になり、結果的には銀反射層の反射率を高める効果を発現する。また、厚さが３μｍ以下であると、アンカー層の形成ムラがなく平滑性が高く、またアンカー層の硬化状態として十分なものとなり好ましい。
【００５５】
アンカー層へは、芳香族性に関与しない非共有電子対を持つ窒素原子を有する化合物を０．１〜５質量％の範囲内で含有させることが好ましく、より好ましくは１〜５質量％の範囲である。当該化合物をメタノール、グリコール類、ケトン類等の有機溶媒に適宜溶解させて樹脂材料に添加することが好ましい。
【００５６】
〔５〕銀反射層
銀反射層は、太陽光を反射する機能を有する銀を含有する層である。
【００５７】
銀反射層の表面反射率は好ましくは８０％以上、更に好ましくは９０％以上である。
【００５８】
銀反射層の厚さは、反射率等の観点から、１０〜２００ｎｍの範囲が好ましく、より好ましくは３０〜１５０ｎｍの範囲である。
【００５９】
この反射層の形成法としては、湿式法及び乾式法のどちらも使用することができる。湿式法の代表例としては、めっき法があり、溶液から金属を析出させ膜を形成する方法である。具体例を挙げるとすれば、銀鏡反応などがある。一方、乾式法の代表例としては、真空製膜法があり、具体的に例示するとすれば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法などがある。とりわけ、本発明には連続的に製膜するロール・ツー・ロール方式が可能な蒸着法が好ましく用いられる。例えば、フィルムミラーの製造方法において、銀反射層を銀蒸着によって形成する手法が好ましく用いられる。
【００６０】
なお、上記したように銀反射層の厚さを、例えば３０〜３００ｎｍの範囲とすれば、その銀反射層を有する機能性フィルムを太陽熱発電用フィルムミラーとして使用することが可能になる。より好ましくは耐久性の観点から、８０〜２００ｎｍの範囲である。銀反射層の層厚を上記範囲とすることにより、光の透過や、表面に凹凸が生じることによる光の散乱等を原因とする可視光領域での反射率の低下を抑えることが可能となる。
【００６１】
〔６〕樹脂コート層
樹脂コート層は、銀反射層の光入射側に設けられており、銀反射層に隣接していることが好ましい。
【００６２】
本発明に係る芳香族性に関与しない非共有電子対を持つ窒素原子を有する化合物を樹脂コート層に含有させることで、銀反射層と樹脂コート層との密着性を大幅に向上することができる。
【００６３】
当該樹脂コート層への芳香族性に関与しない非共有電子対を持つ窒素原子を有する化合物の含有量は、０．１〜５質量％の範囲である。より好ましくは、１〜５質量％の範囲である。
【００６４】
加えて、樹脂コート層は、本発明に係る芳香族性に関与しない非共有電子対を持つ窒素原子を有する化合物の効果を阻害しない範囲で、腐食防止剤又は酸化防止剤を含有し、銀反射層の腐食、劣化を防止する機能が付与されていることも好ましい。
【００６５】
樹脂コート層は、１層のみから構成されていても良いし、複数層から構成されていても良い。樹脂コート層の厚さは、１〜１０μｍの範囲が好ましく、より好ましくは２〜８μｍの範囲である。
【００６６】
樹脂コート層のバインダーとしては、以下の樹脂を好ましく用いることができる。例えば、セルロースエステル、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン系、ポリカーボネート、ノルボルネン系、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリル樹脂等を挙げることができる。中でも、耐光性の観点から紫外線に耐性の高いアクリル樹脂が好ましい。
【００６７】
（６−１）腐食防止剤
腐食防止剤としては、銀に対する吸着性基を有することが好ましい。ここで、「腐食」とは、金属（銀）がそれをとり囲む環境物質によって、化学的又は電気化学的に浸食されるか若しくは材質的に劣化する現象をいう（ＪＩＳ  Ｚ０１０３−２００４参照）。
【００６８】
なお、腐食防止剤の含有量は、使用する化合物によって最適量は異なるが、一般的には０．１〜１．０ｇ／ｍ２の範囲内であることが好ましい。
【００６９】
銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤としては、アミン類及びその誘導体、ピロール環を有する化合物、ベンゾトリアゾール等トリアゾール環を有する化合物、ピラゾール環を有する化合物、チアゾール環を有する化合物、イミダゾール環を有する化合物、インダゾール環を有する化合物、銅キレート化合物類、チオール基を有する化合物、チオ尿素類、ナフタレン系の少なくとも一種又はこれらの混合物から選ばれることが望ましい。
【００７０】
ベンゾトリアゾール等の化合物においては、紫外線吸収剤が腐食防止剤を兼ねる場合もある。また、シリコーン変性樹脂を用いることも可能である。樹脂コート層に用いられるシリコーン変性樹脂としては特に限定されるものではない。
【００７１】
これらの化合物については、特開２０１２−２３２５３８号公報段落００６１〜００７３に記載の化合物を好ましく用いることができる。
【００７２】
市販品の例としては、株式会社ＡＤＥＫＡのＬＡ３１、ＢＡＳＦジャパン株式会社のチヌビン２３４などが挙げられる。
【００７３】
（６−２）酸化防止剤
酸化防止能を有する腐食防止剤である酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、チオール系酸化防止剤、ホスファイト系酸化防止剤を使用することが好ましい。また、光安定剤としてヒンダードアミン系光安定剤、ニッケル系紫外線安定剤を好ましく使用することができる。
【００７４】
これらの化合物については、特開２０１２−２３２５３８号公報段落００４６〜００５３に記載の化合物を好ましく用いることができる。
【００７５】
酸化防止剤の含有量は、使用する化合物によって最適量は異なるが、一般的には０．１〜１．０ｇ／ｍ２の範囲内であることが好ましい。
【００７６】
〔７〕接着層
接着層は、層同士の接着性を高める機能があるものであれば特に限定はない。図１Ｂに示す例においては、樹脂コート層とアクリル樹脂層との接着性を高めるために形成される。したがって、接着層は、層同士を密着する密着性、及び、銀反射層が本来有する高い反射性能を引き出すための平滑性が必要である。
【００７７】
接着層の厚さは、密着性、平滑性、反射材の反射率等の観点から、０．０１〜１０μｍの範囲が好ましく、より好ましくは０．１〜１０μｍの範囲である。
【００７８】
接着層が樹脂である場合、樹脂として、上記の密着性、平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等の単独又はこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂の混合樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。接着層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。
【００７９】
また、接着層が金属酸化物である場合、例えば酸化シリコン、酸化アルミニウム、窒化シリコン、窒化アルミニウム、酸化ランタン、窒化ランタン等を各種真空製膜法によって製膜することで接着層を形成できる。例えば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法などによる製膜が可能である。
【００８０】
〔８〕アクリル樹脂層
アクリル樹脂層は、紫外線によるフィルムミラーの劣化防止の目的で紫外線吸収剤を含有してなる層であることが好ましい。アクリル樹脂層は、樹脂基材よりも光入射側に設けられていることが好ましく、銀反射層よりも光入射側に設けられていることが好ましい。
【００８１】
アクリル樹脂層は、バインダーとしてアクリル樹脂を用いた層であり、アクリル樹脂層の厚さは、１〜２００μｍの範囲であることが好ましい。
【００８２】
アクリル樹脂層としては、市販の紫外線吸収剤を含有したアクリルフィルムである、スミペックス  テクノロイ  Ｓ００１Ｇ  ７５μｍ（住友化学株式会社製）等が好ましく用いることができる。
【００８３】
また、フィルムミラーに上記アクリル樹脂層を設ける以外に、樹脂基材よりも光入射側に設けられた構成層のうちのいずれか一層に紫外線吸収剤を添加し、アクリル樹脂層を兼ねるようにしてもよい。例えば、ハードコート層に紫外線吸収剤を添加することが好ましい。
【００８４】
紫外線吸収剤には大別して、有機系と無機系がある。
有機系の紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、サリチル酸フェニル系、トリアジン系等が挙げられ、無機系の紫外線吸収剤としては、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉄等が挙げられる。中でも、ベンゾフェノン系化合物や着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物、トリアジン系化合物が好ましい。また、特開平１０−１８２６２１号公報、同８−３３７５７４号公報記載の紫外線吸収剤、特開平６−１４８４３０号公報、特開２００３−１１３３１７号公報記載の高分子紫外線吸収剤を用いても良い。また、好ましく用いられる紫外線吸収剤としては、特開２０１２−２３２５２８号公報段落００３６〜００４５に記載の化合物が挙げられる。
【００８５】
紫外線吸収剤の含有量は、０．１〜２０質量％の範囲、好ましくは１〜１５質量％の範囲、より好ましくは３〜１０質量％の範囲である。これらの範囲内にすることで、他の構成層の密着性を良好に保ちつつ、耐候性を向上させることが可能となる。
【００８６】
〔９〕中間層
中間層は、アクリル樹脂層と後述するハードコート層の密着性を向上させる構成層である。
【００８７】
この中間層は、ポリビニルアルコール樹脂、酢酸ビニル樹脂、水溶性セルロース、水ガラスのうち、少なくとも１つを含有している。ポリビニルアルコール樹脂、酢酸ビニル樹脂、水溶性セルロース、水ガラスは、反応性基としてヒドロキシ基を有している。
【００８８】
中間層の形成方法としては、例えば塗布による方法を挙げることができる。塗布方式で中間層となる塗膜を塗設する場合には、従来用いられる種々の塗布方法、例えば、スプレーコート、スピンコート、バーコート等の方法を用いることができ、ポリビニルアルコール樹脂、酢酸ビニル樹脂、水溶性セルロース、水ガラスのうち、少なくとも１つを含有している溶液を、例えばアクリル樹脂層上に塗布・塗工することで、中間層を形成することができる。
【００８９】
中間層の層厚は０．１〜５μｍが好ましく、特に好ましくは０．１〜１μｍである。
【００９０】
中間層が、ポリビニルアルコール樹脂、酢酸ビニル樹脂、水溶性セルロース、水ガラスのうち、少なくとも１つを含有していることで、それらとアクリル樹脂層表面の反応性基（ヒドロキシ基やカルボキシ基など）とが化学結合し、また、それらとハードコート層がポリシロキサン化合物を含有する場合は、当該化合物と化学結合することで、中間層とアクリル樹脂層の層間結合、中間層とハードコート層の層間結合がより強固な結合となる。その結果、中間層を介したアクリル樹脂層とハードコート層の密着力が向上する。
【００９１】
また、中間層がポリイソシアネートを含有することも好ましい。特に、中間層の材料として、ポリビニルアルコール樹脂及び水溶性セルロースが用いられている場合には、水分散型のポリイソシアネートが含有されていることが好ましい。
【００９２】
中間層が、ポリイソシアネートを含有することで、中間層とアクリル樹脂層の層間結合や、中間層とハードコート層の層間結合がより一層強化される。
【００９３】
また、中間層が、導電性微粒子を含有することも好ましい。中間層が、導電性微粒子を含有する場合、中間層が帯電防止層の機能を兼ねることができる。
【００９４】
〔１０〕ハードコート層
ハードコート層は、フィルムミラーの最表層に設けられる構成層（保護層）である。フィルムミラーが図１Ａに示すように構成されている場合には、当該ハードコート層に、本発明に係る芳香族性に関与しない非共有電子対を持つ窒素原子を有する化合物が、０．１〜５質量％の範囲で含有されていることが好ましい。
【００９５】
ハードコート層の層厚は、厚すぎれば応力によって割れる危険性があり、また、ハードコート層の層厚が薄すぎれば硬度を維持できない。そのため、層厚は０．５〜１０μｍの範囲であることが好ましく、より好ましくは、１〜５μｍの範囲である。
【００９６】
特に、本発明に用いられるハードコート層は、耐侯性、耐傷性、防汚性を有することが好ましい。耐傷性に関しては、ハードコート層表面の鉛筆硬度はＨ以上６Ｈ未満、加重５００ｇ／ｃｍ２のスチールウール試験における傷が３０本以下であることが好ましい。防汚性に関しては、ハードコート層の転落角が０°より大きく３０°以下であれば水滴が落ちやすく防汚性に優れるため好ましい。
【００９７】
鉛筆硬度は、鉛筆硬度試験ＪＩＳ−Ｋ５４００に基づいて、各サンプルの４５°傾斜、１ｋｇ荷重における鉛筆硬度を評価する。スチールウール試験は往復摩耗試験機（新東科学（株）製ＨＥＩＤＯＮ−１４ＤＲ）に摩耗材としてスチールウール（＃００００）を取り付け、荷重５００ｇ／ｃｍ２の条件で各撥水・防汚性物品の表面を速度１０ｍｍ／ｓｅｃで１０回往復させ、傷本数を評価する試験である。また、転落角は、接触角計ＤＭ５０１（協和界面化学）に滑落法キットＤＭ‐ＳＡ０１を取り付け、水５０μｌ滴下し、支持体を水平状態から０．５°／秒の速度で傾けていき、水滴が転がり落ちるときの角度を転落角として測定する。転落角の小さい方が水滴が落ちやすく防汚性に優れ、好ましい。
【００９８】
（１０−１）メタロキサン骨格を有するポリマー
このハードコート層は、メタロキサン骨格を有するポリマー由来の無機酸化物又は無機窒化物を含有する層であることが好ましい。
【００９９】
本発明でいうメタロキサン骨格とは、メタル原子と酸素原子との結合、すなわちＭ−Ｏ結合を有する骨格であり、メタロキサン骨格を有するポリマーとは、このＭ−Ｏ結合の繰り返しを主鎖骨格とする高分子化合物であり、高分子化する方法としては、ゾル−ゲル法が好ましい。ポリメタロキサンとしては、ポリシロキサン、ポリチタノキサン、ポリアルミノキサン、ポリジルコノキサン等が挙げられる。
【０１００】
メタロキサン骨格を有するポリマー材料としては、ケイ素、チタン、ジルコニウム、アルミニウム等のポリメトキサン、又はポリシラザン、パーヒドロポリシラザン、アルコキシシラン、アルキルアルコキシシラン、ポリシロキサン等を挙げることができる。好ましくは、ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム及びチタンから選ばれる少なくとも１種の元素を含むメタロキサン骨格を有するポリマーである。
【０１０１】
本発明に係るメタロキサン骨格を有するバインダーとしては、金属アルコキシドから形成されたポリメタロキサンから構成されるポリシロキサン、ポリチタノキサン、ポリアルミノキサン、ポリジルコノキサンであることが好ましい。金属アルコキシドは、Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）４、Ａｌ（ＯＣ２Ｈ５）４、Ｔｉ（ＯＣＨ３）４、Ｔｉ（ＯＣ２Ｈ５）４、Ｔｉ（ｉｓｏ−ＯＣ３Ｈ７）４、Ｔｉ（ＯＣ４Ｈ９）４、Ｚｒ（ＯＣ２Ｈ５）４、Ｚｒ（ｉｓｏ−ＯＣ３Ｈ７）４、Ｚｒ（ＯＣ４Ｈ９）４等の単一金属アルコキシドが挙げられる。
【０１０２】
上記の中でも、好ましくは、ポリシロキサンであり、特に好ましくは、下記一般式（１）で表されるポリシロキサンである。これらのメタロキサン骨格を含む材料を塗布乾燥して最表層を形成することが好ましい。また、最表層はゾル−ゲル法を用いた熱硬化反応によって形成されることが好ましい。
【０１０３】
【化７】
2015022877.tif 000010
【０１０４】
一般式（１）中、Ｒ１１及びＲ１２は、互いに同一であっても異なっていても良く、水素原子又はアルキル基若しくはアリール基等の有機基を表す。ｐは繰り返し単位を表す。
【０１０５】
また、ポリシロキサンとしては、例えば、以下のいずれかを用いても良い。テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトキエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等の加水分解性シリル基を有するシラン化合物の部分加水分解物や、有機溶媒中に無水ケイ酸の微粒子を安定に分散させたオルガノシリカゾル、又はオルガノシリカゾルにラジカル重合性を有する上記シラン化合物を付加させたもの等を使用することができる。ただし、これに限られるものではない。
【０１０６】
上記バインダーは、ゾル−ゲル法を用いた熱硬化反応によって無機酸化物が形成される方法を適用することが好ましい。
【０１０７】
ゾル−ゲル法は、無機酸化物の前駆体である有機金属化合物から無機酸化物を形成する方法である。すなわち、有機金属化合物の一種である金属アルコキシドを出発物質とし、その溶液を加水分解、縮重合させゾルを形成した後、空気中の水分などによって更に反応を進めてゲル化させることによって、固体の無機酸化物が得られる。例えば、シリカガラス膜の形成過程では、ケイ素の金属アルコキシドであるテトラエトキシシラン（Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）４）を用いる場合、テトラエトキシシランをアルコール等の溶媒に溶解し、酸等の触媒と少量の水を加えて十分に混合することにより下記の反応式に従い液状のポリシロキサン・ゾルが形成される。
【０１０８】
加水分解反応
Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）４＋４Ｈ２Ｏ→Ｓｉ（ＯＨ）４＋４Ｃ２Ｈ５ＯＨ
脱水縮合反応
ｎＳｉ（ＯＨ）４→［ＳｉＯ２］ｎ＋２ｎＨ２Ｏ
【０１０９】
ポリシロキサン・ゾルを、樹脂基材に塗布して乾燥させると、溶媒や反応によって生じたエチルアルコール（Ｃ２Ｈ５ＯＨ）と水の蒸発に伴いゾルの体積が収縮し、その結果、隣り合うポリマー末端の残留ＯＨ基同士が脱水縮合反応を起こして結合し、塗膜はゲル（固化体）となる。更に、得られたゲル被膜を焼成して、ポリシロキサン粒子同士の結合を強化すると、強度の強いゲル被膜を得ることができる。
【０１１０】
ゾル−ゲル法において、上記した有機金属化合物は、そのまま反応に用いても良いが、反応の制御を容易にするため溶媒で希釈して用いることが好ましい。希釈用溶媒は、有機金属化合物を溶解することができ、かつ水と均一に混合することができるものであれば良い。そのような希釈用溶媒としては、脂肪族の低級アルコール、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、及びそれらの混合物が好適に挙げられる。また、ブタノールとセロソルブとブチルセロソルブの混合溶媒、あるいはキシロールとセロソルブアセテートとメチルイソブチルケトンとシクロヘキサンの混合溶媒などを使用することもできる。
【０１１１】
また、好ましいハードコート層の形成方法として、ポリシラザンを塗布製膜し、５０〜２００℃程度の温度で加熱硬化して硬化膜を得る方法がある。ハードコート層の前駆体が、ポリシラザンを含有する場合、例えば下記の一般式（２）で表されるポリシラザンを含む有機溶剤中に必要に応じて触媒を加えた溶液を塗布した後、溶剤を蒸発させて除去し、それによってフィルムミラーＦ上に０．０５〜３．０μｍの範囲の層厚を有するポリシラザン層を残す。そして、水蒸気を含む雰囲気中で酸素、活性酸素、場合によっては窒素の存在下で、上記のポリシラザン層を局所的に加熱することによって、フィルムミラーＦ上にガラス様の透明なハードコートの被膜を形成することができる。
【０１１２】
一般式（２）
−（ＳｉＲ１Ｒ２−ＮＲ３）ｎ−
【０１１３】
一般式（２）中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、互いに同一であっても異なっていても良く、互いに独立して、水素原子、あるいは場合によっては置換されたアルキル基、アリール基、ビニル基又は（トリアルコキシシリル）アルキル基、好ましくは、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、フェニル基、ビニル基、３−（トリエトキシシリル）プロピル基、３−（トリメトキシシリルプロピル）基からなる群から選択される基を表す。この際、ｎは整数であり、ｎは、ポリシラザンが１５０〜１５００００ｇ／モルの範囲の数平均分子量を有するように定められる。
【０１１４】
触媒としては、好ましくは、塩基性触媒、特にＮ，Ｎ−ジエチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、トリエチルアミン、３−モルホリノプロピルアミン又はＮ−複素環式化合物が使用される。触媒濃度は、ポリシラザンを基準にして通常０．１〜１０モル％の範囲、好ましくは０．５〜７モル％の範囲である。
【０１１５】
なお、好ましい態様の一つでは、一般式（２）中のＲ１、Ｒ２及びＲ３の全てが水素原子であるパーヒドロポリシラザンを含む溶液が使用される。
【０１１６】
また、別の好ましい態様の一つでは、本発明におけるハードコート層は、下記の一般式（３）で表される少なくとも一種のポリシラザンを含む。
【０１１７】
一般式（３）
−（ＳｉＲ１Ｒ２−ＮＲ３）ｎ−（ＳｉＲ４Ｒ５−ＮＲ６）ｐ−
【０１１８】
一般式（３）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、互いに独立して、水素原子、あるいは場合によっては置換されたアルキル基、アリール基、ビニル基又は（トリアルコキシシリル）アルキル基を表す。この際、ｎ及びｐは整数であり、特にｎは、ポリシラザンが１５０〜１５００００ｇ／モルの範囲の数平均分子量を有するように定められる。
【０１１９】
特に好ましいものは、Ｒ１、Ｒ３及びＲ６が水素原子を表し、Ｒ２、Ｒ４及びＲ５がメチル基を表す化合物である。また、特に好ましいものは、Ｒ１、Ｒ３及びＲ６が水素原子を表し、Ｒ２及びＲ４がメチル基を表し、Ｒ５がビニル基を表す化合物である。また、特に好ましいものは、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４及びＲ６が水素原子を表し、Ｒ２及びＲ５がメチル基を表す化合物である。
【０１２０】
更に、別の好ましい態様の一つでは、本発明におけるハードコート層は、下記の一般式（４）で表される少なくとも一種のポリシラザンを含む。
【０１２１】
一般式（４）
−（ＳｉＲ１Ｒ２−ＮＲ３）ｎ−（ＳｉＲ４Ｒ５−ＮＲ６）ｐ−（ＳｉＲ７Ｒ８−ＮＲ９）ｑ−
【０１２２】
一般式（４）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は、互いに独立して、水素、あるいは場合によっては置換されたアルキル基、アリール基、ビニル基又は（トリアルコキシシリル）アルキル基を表す。この際、ｎ、ｐ及びｑは整数であり、特にｎは、ポリシラザンが１５０〜１５００００ｇ／モルの範囲の数平均分子量を有するように定められる。
【０１２３】
特に好ましいものは、Ｒ１、Ｒ３及びＲ６が水素原子を表し、Ｒ２、Ｒ４、Ｒ５及びＲ８がメチル基を表し、Ｒ９が（トリエトキシシリル）プロピル基を表し、そしてＲ７がアルキル基又は水素原子を表す化合物である。
【０１２４】
溶剤中のポリシラザンの割合は、一般的には、ポリシラザン１〜８０質量％の範囲、好ましくは５〜５０質量％の範囲、特に好ましくは１０〜４０質量％の範囲である。
【０１２５】
溶剤としては、特に、水及び反応性基（例えばヒドロキシ基又はアミン基）を含まず、ポリシラザンに対して不活性の有機系で好ましくは非プロトン性の溶剤が好適である。これは、例えば、脂肪族又は芳香族炭化水素、ハロゲン炭化水素、エステル（例えば、酢酸エチル又は酢酸ブチル）、ケトン（例えば、アセトン又はメチルエチルケトン）、エーテル（例えば、テトラヒドロフラン又はジブチルエーテル）、モノ−及びポリアルキレングリコールジアルキルエーテル（ジグライム類）又はこれらの溶剤からなる混合物である。
【０１２６】
ハードコート層の表面の水の接触角は、８０〜１７０°の範囲であることが好ましい。好ましくは９０〜１５０°の範囲である。また、ハードコート層の表面の動摩擦係数が０．１０〜０．３５の範囲であることが好ましい。
【０１２７】
例えば、ハードコート層にフッ素化合物、ケイ素化合物、フッ素又はケイ素を含有させることにより、ハードコート層の表面の水の接触角が８０〜１７０°の範囲とするようにしても良い。より具体的には、フッ素化合物及びケイ素化合物の混合ガス、またフッ素及びケイ素を有する化合物を用いた蒸着により、表面エネルギーを低くし、ハードコート層の水の接触角を８０〜１７０°の範囲とすることができる。
【０１２８】
また、ハードコート層は耐傷性を向上するために、動摩擦係数が０．１０〜０．３５の範囲であることが好ましく、より好ましくは０．１５〜０．３０の範囲の範囲である。
【０１２９】
メタロキサン骨格を有する材料をハードコート層に用いることで、フィルム表面同士の動摩擦係数を０．１０〜０．３５の範囲にすることが可能となる。
【０１３０】
（１０−２）紫外線吸収剤
ハードコート層は、紫外線吸収剤を含有していることも好ましい。
【０１３１】
有機系の紫外線吸収剤としては、前述のアクリル樹脂層に用いられるベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、サリチル酸フェニル系、トリアジン系等が挙げられる。
【０１３２】
また無機系の紫外線吸収剤としては、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉄等の金属酸化物粒子が挙げられる。
【０１３３】
特に、ハードコート層は、２５０〜３００ｎｍの範囲に吸収極大波長を有する紫外線吸収剤を含有していることが好ましい。このような紫外線吸収剤を含有しているハードコート層は、中間層との界面の劣化が抑制されて、ハードコート層と中間層の密着力を長期に亘って維持でき、ハードコート層の耐久性を向上させることができる。
【０１３４】
（１０−３）ハードコート層に含有される無機微粒子
本発明に係るハードコート層は、耐傷性や滑り性を向上させる観点から微粒子を含有することも好ましい。微粒子としては、特に制限はないが、無機酸化物から構成される無機微粒子であることが好ましく、無機酸化物微粒子としては、金属酸化物を構成する金属が、Ｌｉ、Ｎａ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｋ、Ｃａ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｒｂ、Ｓｒ、Ｙ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｍｏ、Ａｇ、Ｃｄ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｓ、Ｂａ、Ｌａ、Ｔａ、Ｈｆ、Ｗ、Ｉｒ、Ｔｌ、Ｐｂ、Ｂｉ等を挙げることができ、具体的には、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウム、酸化インジウム、酸化錫、酸化鉛等が挙げられるが、本発明においては、無機酸化物微粒子が、シリカ、アルミナ、酸化チタン、酸化亜鉛及び酸化ジルコニウムから選ばれる少なくとも１種の透明な無機酸化物微粒子であることが好ましい。また、本発明に用いられる微粒子は、透明性が高いことが好ましい。
【０１３５】
また、微粒子の平均粒径は、１０〜１８０ｎｍの範囲であることが、表面の二乗平均平方根粗さＲｑを５〜５０ｎｍの範囲に制御することができる観点から好ましく、更に好ましくは、１０〜１００ｎｍの範囲である。
【０１３６】
平均粒径が１０ｎｍ以上であれば、二乗平均平方根粗さＲｑを５ｎｍ以上とすることができ、十分な表面粗さを確保することができる。また、平均粒径が１８０ｎｍ以下であれば、二乗平均平方根粗さＲｑを５０ｎｍ以下とすることができ、かつフィルムの透明性を損なうことがない。
【０１３７】
また、本発明に係るハードコート層においては、上記メタロキサン骨格を有するバインダーを１００質量％としたときの微粒子の割合としては、３０〜９０質量％の範囲であることが好ましい。
【０１３８】
（１０−４）ハードコート層の形成
上記した樹脂材料を、樹脂基材上に設けた中間層上に塗工し、加熱硬化させることで、脱水縮合反応が促進し、硬化・架橋することでハードコート層が製膜される。
【０１３９】
このハードコート層となる塗膜の形成方法として、ワイヤーバーによるコーティング、スピンコーティング、ディップコーティングなどによる塗布・塗工方式で形成することができる。また、ダイコーター、グラビアコーター、コンマコーターなどの連続塗布装置でも製膜することが可能である。
【０１４０】
〔１１〕ガスバリアー層
本発明のフィルムミラーでは、必要であればガスバリアー層を形成することが好ましく、図１Ｂに示すように、ガスバリアー層１１としてフィルムミラーを構成していることが好ましい。
【０１４１】
ガスバリアー層は、銀反射層よりも光入射側に設けることが好ましい。
【０１４２】
ガスバリアー層は、湿度の変動、特に高湿度による樹脂基材及び樹脂基材に支持される各構成層等の劣化を防止するためのものであるが、特別の機能・用途を持たせたものであっても良く、劣化防止機能を有する限りにおいて、種々の態様のガスバリアー層を設けることができる。
【０１４３】
ガスバリアー層の防湿性としては、４０℃、９０％ＲＨにおける水蒸気透過度が、１ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることが好ましく、より好ましくは０．５ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下、更に好ましくは０．２ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下である。
【０１４４】
また、ガスバリアー層の酸素透過度としては、測定温度２３℃、湿度９０％ＲＨの条件下で、０．６ｍｌ／ｍ２／ｄａｙ／ａｔｍ以下であることが好ましい。
【０１４５】
ガスバリアー層の形成方法は、真空蒸着法、スパッタリング、イオンビームアシスト、化学気相成長法等の方法により無機酸化物又は無機窒化物を形成する方法が挙げられるが、ゾル−ゲル法による無機酸化物の前駆体（ポリシラザン等）を塗布した後に、その塗布膜に加熱処理及び／又は紫外線照射処理を施して、無機酸化物膜を形成する方法が好ましく用いられる。
【０１４６】
無機酸化物の前駆体、及びゾル−ゲル法の詳細については、特開２０１２−０４７８６１号公報の段落００４９〜００７２に記載され、ポリシラザン法については、同文献の段落００７３〜００８５に記載されている。
【０１４７】
〔１２〕粘着層
粘着層は、フィルムミラーを金属基材に接着し、固定するための構成層である。
【０１４８】
この粘着層としては、フィルムミラーを金属基材に接着することができるものであれば特に制限されず、例えばドライラミネート剤、ウエットラミネート剤、粘着剤、ヒートシール剤、ホットメルト剤などを用いることができる。また、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ニトリルゴムなどを用いても良い。
【０１４９】
樹脂基材の裏面に粘着層を設けるラミネート方法は特に制限されず、例えばロール式で連続的に行う方法が経済性及び生産性の点から好ましい。
【０１５０】
粘着層の厚さは、粘着効果、乾燥速度等の観点から、通常１〜５０μｍ程度の範囲であることが好ましい。
【０１５１】
粘着層に用いられる具体的な材料としては、例えば、綜研化学社製「ＳＫダインシリーズ」、東洋インキ社製Ｏｒｉｂａｉｎ  ＢＰＷシリーズ、ＢＰＳシリーズ、荒川化学社製「アルコン」「スーパーエステル」「ハイペール」等の粘着剤を好適に用いることができる。
【０１５２】
なお、フィルムミラーを金属基材に接着するまで、粘着層は後述する剥離層で覆われており、粘着層の粘着力を保つようになっている。
【０１５３】
粘着層には前述の腐食防止剤である、アミン類及びその誘導体、ピロール環を有する化合物、ベンゾトリアゾール等トリアゾール環を有する化合物、ピラゾール環を有する化合物、チアゾール環を有する化合物、イミダゾール環を有する化合物、インダゾール環を有する化合物、銅キレート化合物類、メルカプト基を有する化合物、チオ尿素類、ナフタレン系の少なくとも一種又はこれらの混合物を含有させることも好ましい。
【０１５４】
〔１３〕剥離層
本発明のフィルムミラーは、粘着層の光入射側と逆側に剥離層を有していても良い。例えば、フィルムミラーの出荷時には剥離層が粘着層に張り付けられた状態で出荷し、剥離層から粘着層を有するフィルムミラーを剥離し、他の基材に貼り合わせて太陽熱発電用反射装置を形成することができる。
【０１５５】
剥離層としては、銀反射層を保護することができれば良く、例えば、アクリルフィルム又はシート、ポリカーボネートフィルム又はシート、ポリアリレートフィルム又はシート、ポリエチレンナフタレートフィルム又はシート、ポリエチレンテレフタレートフィルム又はシート、フッ素フィルムなどのプラスチックフィルム又はシート、又は酸化チタン、シリカ、アルミニウム粉、銅粉などを練り込んだ樹脂フィルム又はシート、これらを練り込んだ樹脂をコーティングしたりアルミニウム等の金属を金属蒸着などの表面加工を施した樹脂フィルム又はシートが用いられる。
【０１５６】
剥離層の厚さは、特に制限はないが通常１２〜２５０μｍの範囲であることが好ましい。
【０１５７】
また、これらの剥離層をフィルムミラーと貼り合わせる前に凹部や凸部を設けてから貼り合せても良く、貼り合せた後で凹部や凸部を有するように成形しても良く、貼り合わせと凹部や凸部を有するように成形することを同時にしても良い。
【０１５８】
〔１４〕太陽熱発電用反射装置
太陽熱発電用反射装置は、フィルムミラーと自己支持性の支持基材とを有しており、粘着層を介してフィルムミラーが支持基材に接合されてなる反射鏡である。
【０１５９】
なお、ここでいう「自己支持性」とは、太陽熱発電用反射装置の支持基材として用いられる大きさに断裁された状態で、支持基材がフィルムミラーの端縁部分を支持することで、フィルムミラーを担持することが可能な程度の剛性を有することを表す。太陽熱発電用反射装置の支持基材が自己支持性を有することで、太陽熱発電用反射装置を設置する際に取り扱い性に優れるとともに、太陽熱発電用反射装置を保持するための保持部材を簡素な構成とすることが可能となるため、反射装置自体を軽量化することが可能となり、太陽追尾の際の消費電力を抑制することが可能となる。
【０１６０】
太陽熱発電用反射装置Ｒは、例えば、図２に示すように、フィルムミラーＦと、支持部材としての金属基材１とから構成されている。具体的には、フィルムミラーＦの粘着層２を金属基材１に接着させて、太陽熱発電用反射装置Ｒが形成されている。
【０１６１】
（１４−１）金属基材
金属基材は、貼付されたフィルムミラーを支持し、フィルムミラーの反射面を好適に維持するための支持部材である。
【０１６２】
太陽熱発電用反射装置の金属基材としては、例えば、鋼板、銅板、アルミニウム板、アルミニウムめっき鋼板、アルミニウム系合金めっき鋼板、銅めっき鋼板、錫めっき鋼板、クロムめっき鋼板、ステンレス鋼板などの金属材料を用いることができる。本発明においては、特に耐食性の良好なめっき鋼板、ステンレス鋼板、アルミニウム板などを用いることが好ましい。
【０１６３】
これらの金属基材の厚みは、取扱性、熱伝導性、熱容量等の観点から、０．０５ｍｍ〜３ｍｍ程度が好ましい。
【０１６４】
（１４−２）保持部材
太陽熱発電用反射装置は、フィルムミラーを保持する保持部材を有する。保持部材は、太陽を追尾可能な状態でフィルムミラーを保持することが好ましい。保持部材の形態としては、特に制限されないが、例えば、フィルムミラーが所望の形状を保持できるように、複数個所を棒状の保持部材により、保持する形態が好ましい。保持部材は太陽を追尾可能な状態でフィルムミラーを保持する構成を有するが、太陽追尾に際しては、手動で駆動させても良いし、別途駆動装置を設けて自動的に太陽を追尾する構成としても良い。
【実施例】
【０１６５】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」あるいは「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量％」を表す。
ここで、以下に説明する実施例で用いられる化合物の構造を以下に示す。【０１６６】
【化８】
2015022877.tif 000011
【０１６７】
《フィルムミラー１の作製》
樹脂基材３として、二軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ２５μｍ）を用いた。上記ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、下記化合物（１）を真空蒸着法によりコーティングして、厚さ０．１μｍのアンカー層４を形成し、アンカー層４上に、銀反射層５として、真空蒸着法により厚さ１００ｎｍの銀反射層を形成した。更に、上記銀反射層５上に、下記化合物（１）を真空蒸着法によりコーティングして、厚さ０．３μｍの樹脂コート層６を形成した。【０１６８】
次に、樹脂コート層６上に、ドライラミネーションプロセスにより、接着層７と、アクリル樹脂層８として透明アクリルフィルム（三菱レイヨン製アクリプレンＨＢＳ０１０Ｐ  厚さ１００μｍ）を、ラミネート温度６０℃にて貼合した。【０１６９】
前記アクリル樹脂層８のドライラミネーションプロセスの前に、アクリル樹脂層８上に、ＰＶＡ−４０３（クラレ株式会社製）を水に５質量％溶解した中間層塗工液を塗布し、８０℃で２分乾燥して中間層９を形成した。中間層９の乾燥層厚は０．５μｍであった。【０１７０】
塗布液として下記組成のハードコート層用塗布液を調製し、前記中間層９上に、ハードコート層用塗布液を硬化後の層厚が３μｍとなるようにマイクログラビアコーターを用いて塗布し、溶剤を蒸発乾燥後、高圧水銀灯を用いて０．２Ｊ／ｃｍ２の紫外線照射により硬化させハードコート層１０を形成した。ハードコート層１０は、ドライラミネーションプロセス後に最外層となる位置に積層する。【０１７１】
〈ハードコート層用塗布液〉
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                          ７０質量部
トリメチロールプロパントリアクリレート                            ３０質量部
光反応開始剤（イルガキュア１８４（ＢＡＳＦジャパン社製））          ４質量部
酢酸エチル                                                      １５０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                          １５０質量部
シリコン化合物（ＢＹＫ−３０７（ビックケミージャパン社製））    ０．４質量部【０１７２】
次いで重量平均分子量５０万の付加反応型シリコーン系粘着剤１００部に白金系触媒１部を加えて３５質量％トルエン溶液としたものを、剥離層１２である厚さ２５μｍのポリエステル製セパレートフィルムの片面に塗布し、１３０℃で５分間加熱して厚さ２５μｍのシリコーン系粘着層２（Ｓｉ系）を形成した後、上記ポリエチレンテレフタレートフィルムのアンカー層４及び銀反射層５とは反対面側にラミネートし、比較例のフィルムミラー１を得た。【０１７３】
《フィルムミラー２〜１１の作製》
フィルムミラー１の作製において、アンカー層４及び樹脂コート層６に用いられる化合物を、表２に記載の化合物に変更した以外は同様にして、フィルムミラー２〜１１を作製した。【０１７４】
《フィルムミラー１〜１１の評価》
上記のように作製したフィルムミラー１〜１１について、下記の方法に従って、腐食耐性、耐光性、銀反射層と樹脂コート層間、又は銀反射層とアンカー層間の密着性、クラックの発生について評価した。評価結果を下記表２に示す。【０１７５】
〈腐食耐性〉
作製したフィルムミラーを５ｃｍ□に断栽後、５質量％の硫化アンモニウム水溶液に浸漬し、３日間放置後に反射面の損傷を目視で確認した。下記の基準に従って腐食耐性の評価を行った。【０１７６】
５：全く腐食は見られない。
４：断栽した端部に黒化した腐食部が見えるが、正面には変色はない。
３：断栽した端部より黒化した腐食部が正面からも確認できるが、腐食部は端部より５ｍｍ以内の範囲にある。
２：反射面の５０％以上が腐食し黒化している。
１：反射面の全てが腐食し黒化している。【０１７７】
〈耐光性〉
作製したフィルムミラーの反射面に対し、６５℃の環境下で、岩崎電気製アイスーパーＵＶテスターを用いて１５０ｍＷ、９６時間の紫外線照射を行った後、正反射率を測定した。
ここで、正反射率は、下記の方法で測定される５度正反射率とした。【０１７８】
日立ハイテクノロジーズ社製の分光光度計Ｕ−４１００（固体試料測定システム）を使って、入射角５度の基準サンプルに対する相対反射率測定を行った。波長範囲は２５０〜２５００ｎｍで測定し、部分的に反射率が落ちる波長範囲がないかどうかを確認した。可視光領域（４００〜８００ｎｍ）における反射率を平均し、これを５度正反射率とした。【０１７９】
あらかじめ上記紫外線照射前のフィルムミラーの５度正反射率を測定しておき、紫外線照射後の５度正反射率との変動幅が少ないほど耐光性に優れていることを表す。
下記の基準に従って耐光性の評価を行った。【０１８０】
５：反射率の変動幅が３％未満。
４：反射率の変動幅が３％以上５％未満
３：反射率の変動幅が５％以上８％未満
２：反射率の変動幅が８％以上１０％未満
１：反射率の変動幅が１０％以上【０１８１】
〈密着性〉【０１８２】
作製したフィルムミラーに対し、６５℃の環境下で、岩崎電気製アイスーパーＵＶテスターを用いて、１５０ｍＷ、９６時間の紫外線照射を行った後、ＪＩＳ  Ｋ５４００規格に基づき碁盤目１００マスクロスカットした際のテープ剥離試験を行い、下記の基準に従って密着性の評価を行った。【０１８３】
５：膜剥離が０マス
４：膜剥離が１マス以上５マス以下
３：膜剥離が６マス以上１０マス以下
２：膜剥離が１１マス以上
１：膜剥離が１５マス以上【０１８４】
〈クラック〉
作製したフィルムミラーに対し、６５℃の環境下で、岩崎電気製アイスーパーＵＶテスターを用いて、１５０ｍＷ、３０日間の紫外線照射を行った後、表面（ハードコート層１０）のクラックの発生を目視確認した。下記の基準に従ってクラックの評価を行った。【０１８５】
○：発生していない
△：わずかに発生している（ルーペでわかる程度）
×：明らかに発生している（肉眼でわかる程度）【０１８６】
【表２】
2015022877.tif 000012
【０１８７】
表２から、アンカー層４及び樹脂コート層６に、芳香族性に関与しない非共有電子対を持つ窒素原子を有する化合物を含有し、当該化合物の有効非共有電子対含有率ｎ／Ｍが２．０×１０−３以上である、本発明のフィルムミラー３〜１１は、比較例のフィルムミラー１，２と比較して、腐食耐性、耐光性、密着性に優れていることが明らかである。
また、本発明のフィルムミラー３〜１１では、ハードコート層１０におけるクラックの発生が抑制されていることが明らかである。【０１８８】
したがって、本発明によれば、砂漠のような紫外線照射量が非常に多い環境でも、銀反射層と他の構成層間の剥離に起因する、銀反射層の腐食や変色に伴う反射率の低下等を抑制できるフィルムミラー及びそれを備えた太陽熱発電用反射装置を提供することができる。また、銀反射層と他の構成層間での剥離を抑制できるため、フィルムミラー表面の変形や歪みを抑制でき、フィルムミラーの表面に設けられるハードコート層にクラックが発生することを抑制することができる。
【産業上の利用可能性】
【０１８９】
以上のように、本発明は、長期間に亘る屋外での使用や洗浄作業等による負荷を受けても、銀反射層と隣接する他の構成層との間の剥離に起因する、銀反射層の腐食や変色に伴う反射率の低下等を抑制できるフィルムミラー、及びそれを備えた太陽熱発電用反射装置を提供することに適している。
【符号の説明】
【０１９０】
１    金属基材
２    粘着層
３    樹脂基材
４    アンカー層
５    銀反射層
６    樹脂コート層
７    接着層
８    アクリル樹脂層
９    中間層
１０  ハードコート層
１１  ガスバリアー層
１２  剥離層
Ｆ    フィルムミラー
Ｒ    太陽熱発電用反射装置
【図１Ａ】
2015022877.tif 000013
【図１Ｂ】
2015022877.tif 000014
【図２】
2015022877.tif 000015
【国際調査報告】
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2015022877.tif 000017