(57)【要約】浮上精度を高め、製品のさらなる薄厚化や、測定精度の高精度化の要請に応えうる浮上精度を実現できるエアベアリング装置及び当該エアベアリング装置を備える測定装置を提供することを目的とする。気体を吐出することによる浮上力により浮上可能なパッド部を備え、前記パッド部は、気体が吐出される吐出領域と、吸引力を付与する吸引領域とを有するベアリング面を有する第１のパッド部を備えるエアベアリング装置及び当該エアベアリング装置を備える測定装置。
2015125756.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
気体を吐出することによる浮上力により浮上可能なパッド部を備え、
前記パッド部は、気体が吐出される吐出領域と、吸引力を付与する吸引領域とを有するベアリング面を有する第１のパッド部を備えることを特徴とするエアベアリング装置。
【請求項２】
前記吐出領域には、多孔質体が配置され、前記吸引領域には、吸気溝が設けられていることを特徴とする請求項１に記載のエアベアリング装置。
【請求項３】
前記吐出領域は、前記吸引領域を取り囲むように配置されていることを特徴とする請求項１又は２に記載のエアベアリング装置。
【請求項４】
前記パッド部は、気体が吐出される吐出領域を具備するが、吸引力を付与する吸引領域を具備しないベアリング面を有する第２のパッド部を備えることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のエアベアリング装置。
【請求項５】
被測定物の平坦度、反り若しくは平面度を測定するための測定手段と、
前記被測定物が配置される載置手段と、
前記測定手段が装着され、前記載置手段に対して相対移動可能な支持部材と、
前記支持部材を前記載置手段から所定距離離間し浮上させるための、前記支持部材に装着されるエアベアリング装置と、を備え、
前記エアベアリング装置は、気体を吐出することによる浮上力により浮上可能なパッド部を備え、前記パッド部が、気体が吐出される吐出領域と、吸引力を付与する吸引領域とを有するベアリング面を有する第１のパッド部を備えることを特徴とする測定装置。
【請求項６】
前記吐出領域には、多孔質体が配置され、前記吸引領域には、吸気溝が設けられていることを特徴とする請求項５に記載の測定装置。
【請求項７】
前記吐出領域は、前記吸引領域を取り囲むように配置されていることを特徴とする請求項５又は６に記載の測定装置。
【請求項８】
前記載置手段は、前記被測定物が載置される上面と、前記上面に対し交差する方向に延在する第１の側面と、を備え、
前記第１のパッド部は、その前記ベアリング面が前記上面及び前記第１の側面に対向するように配置されていることを特徴とする請求項５〜７のいずれか一項に記載の測定装置。
【請求項９】
前記載置手段は、前記第１の側面に対向する第２の側面を備え、
前記パッド部は、気体が吐出される吐出領域を具備するが、吸引力を付与する吸引領域を具備しない、前記第２の側面に対向するベアリング面を有する第２のパッド部を有することを特徴とする請求項８に記載の測定装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、エアベアリング装置及び当該エアベアリング装置を備える測定装置に関し、より具体的には、吸引力を付与する吸引領域が設けられているベアリング面を有するパッド部を備えるエアベアリング装置及び当該エアベアリング装置を備える測定装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、液晶パネルや半導体素子等の製造工程では、ガラス基板や半導体ウエハといった薄板状の被加工物にレジスト液等の塗液を塗布する塗布装置や、被加工物が配置される治具の平面度等を測定する測定装置等にエアベアリング装置が利用されている。【０００３】
例えば、特許文献１に開示される塗布装置は、基板が保持されるステージを有する基台と、基台に配置されているレールと、レールに沿って相対的に移動可能なガントリと、ガントリに装着され基板に塗液を塗布する塗布ユニットと、を備える。ガントリには、エアベアリング装置が装着され、エアベアリング装置がレールの表面にエアを噴出することにより、ガントリはレール上から浮上した状態で支持される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００８−２３８１４４号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、近年、製品の小型化の要求に伴い、液晶パネルの厚さを薄くすること（薄厚化）や半導体素子の微細化が望まれている。しかし、従来の塗布装置で使用されているエアベアリング装置で得られる浮上精度では、製品に対する更なる薄厚化や、エアベアリング装置を備える測定装置が実現できる測定精度の高精度化の要請に応えられない恐れがある。【０００６】
本発明は、かかる事情に鑑みてなされたものである。すなわち、浮上精度を高め、製品のさらなる薄厚化や、測定精度の高精度化の要請に応えうる浮上精度を実現できるエアベアリング装置及び当該エアベアリング装置を備える測定装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明のエアベアリング装置の第１の態様は、気体を吐出することによる浮上力により浮上可能なパッド部を備え、前記パッド部は、気体が吐出される吐出領域と、吸引力を付与する吸引領域とを有するベアリング面を有する第１のパッド部を備える。【０００８】
また、本発明のエアベアリング装置の第２の態様によれば、第１の態様のエアベアリング装置であって、前記吐出領域には、多孔質体が配置され、前記吸引領域には、吸気溝が設けられている。【０００９】
さらに、本発明のエアベアリング装置の第３の態様によれば、第１又は第２の態様のエアベアリング装置であって、前記吐出領域は、前記吸引領域を取り囲むように配置されている。【００１０】
さらに、本発明のエアベアリング装置の第４の態様によれば、第１乃至第３のいずれかの態様のエアベアリング装置であって、前記パッド部は、気体が吐出される吐出領域を具備するが、吸引力を付与する吸引領域を具備しないベアリング面を有する第２のパッド部を備える。【００１１】
さらに、上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明の測定装置の第１の態様は、被測定物の平坦度、反り若しくは平面度を測定するための測定手段と、前記被測定物が配置される載置手段と、前記測定手段が装着され、前記載置手段に対して相対移動可能な支持部材と、前記支持部材を前記載置手段から所定距離離間し浮上させるための、前記支持部材に装着されるエアベアリング装置と、を備え、前記エアベアリング装置は、気体を吐出することによる浮上力により浮上可能なパッド部を備え、前記パッド部が、気体が吐出される吐出領域と、吸引力を付与する吸引領域とを有するベアリング面を有する第１のパッド部を備える。【００１２】
また、本発明の測定装置の第２の態様によれば、第１の態様の測定装置であって、前記吐出領域には、多孔質体が配置され、前記吸引領域には、吸気溝が設けられている。【００１３】
本発明の測定装置の第３の態様によれば、第１又は第２の態様の測定装置であって、前記吐出領域は、前記吸引領域を取り囲むように配置されている。【００１４】
本発明の測定装置の第４の態様によれば、第１乃至第３のいずれかの態様の測定装置であって、前記第１のパッド部は、その前記ベアリング面が前記上面及び前記第１の側面に対向するように複数配置されている。【００１５】
本発明の測定装置の第５の態様によれば、第４の態様の測定装置であって、前記載置手段は、前記第１の側面に対向する第２の側面を備え、前記パッド部は、気体が吐出される吐出領域を具備するが、吸引力を付与する吸引領域を具備しない、前記第２の側面に対向するベアリング面を有する第２のパッド部を有する。
【発明の効果】
【００１６】
本発明にかかるエアベアリング装置及び測定装置は、エアベアリング装置のパッド部に吸引力を付与する吸引領域を設けることで、エアベアリング装置の浮上量の制御をより高精度で行うことができる。よって、エアベアリング装置を備える種々の加工装置により、被加工物の平坦度、反り、若しくは平面度や厚さ等をより高精度に加工できる。特に、本発明のエアベアリング装置を備える測定装置によれば、被測定物の平坦度、反り、若しくは平面度や厚さ等をより高精度で測定できるため、後工程において、当該被測定物を用いて加工する製品の薄厚化を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】第１の実施形態に係る測定装置を模式的に示す正面図である。
【図２】図１に示す測定装置の平面図である。
【図３】図１に示す上面支持エアベアリング装置の第１のパッド部の下面図である。
【図４】図３の線ＩＶ−ＩＶに沿った第１のパッド部の断面図である。
【図５】左側側面支持エアベアリング装置の第２のパッド部の直径に沿った断面図である。
【図６】図１の測定装置の第１及び第２のパッド部の配置を模式的に示す模式平面図である。
【図７】第２の実施形態に係る測定装置の第１及び第２のパッド部の配置を模式的に示す模式平面図である。
【図８】第３の実施形態に係る測定装置の第１のパッド部の配置を模式的に示す模式平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下に、本発明に係るエアベアリング装置を備える測定装置の実施形態について図面を参照しつつ説明する。なお、この実施形態により本発明が限定されるものではない。
【００１９】
（第１の実施形態）
図１は、第１の実施形態に係る測定装置１０１を模式的に示す正面図であり、図２は、図１に示す測定装置１０１の平面図であり、図３は、図１に示す上面支持エアベアリング装置１０９の第１のパッド部１１０の下面図であり、図４は、図３の線ＩＶ−ＩＶ（第１のパッド部１１０の直径）に沿った第１のパッド部１１０の断面図であり、図５は、左側側面支持エアベアリング装置１１８の第２のパッド部１３４の直径に沿った断面図であり、図６は、図１の測定装置の第１のパッド部１１０、１３３、第２のパッド部１３４の配置を模式的に示す模式平面図である。
【００２０】
実施形態の測定装置１０１は、主として、被測定物であるエアレール１０３の平坦度（ＪＩＳＣ２５０４：１９９９）、反り（ＪＩＳＢ０４１５：１９７５）、若しくは平面度（ＪＩＳＢ０１８２：１９９３）を測定するための測定手段であるレーザ変位計１０５と、レーザ変位計１０５により測定されるエアレール１０３が配置される処理領域１０８ａを有する載置手段である定盤１０７と、レーザ変位計１０５が装着され、定盤１０７に対して相対移動可能な支持部材であるガントリ１１５と、ガントリ１１５を定盤１０７から所定距離離間し浮上させるための、ガントリ１１５に装着されるエアベアリング装置である上面支持エアベアリング装置１０９とを備える。なお、エアレール１０３は、気体を吐出することにより薄厚ガラス基板等の被処理物を非接触に支持するエア浮上搬送装置を構成する部材である。
【００２１】
さらに、上面支持エアベアリング装置１０９は、パッド部である第１のパッド部１１０を具備し、第１のパッド部１１０には気体を吐出することによる浮上力を付与するための吐出領域１０４と、吸引力を付与するための吸気溝部１１３が設けられている吸引領域１０６とを有するベアリング面１１４が設けられている。第１のパッド部１１０から付与される浮上力と吸引力により、レーザ変位計１０５が装着されているガントリ１１５を定盤１０７から所定距離離間し浮上させることができる。なお、本実施形態の測定装置１０１は、上面支持エアベアリング装置１０９に加え、後述する左右側面支持エアベアリング装置１１７、１１８を備える。
【００２２】
定盤１０７は直方体形状であり、その平坦な上面１０８は、平面視で矩形状の処理領域１０８ａと、上面１０８の矢印Ｌ方向に直交する方向に関し処理領域１０８ａを挟んで配置される支持領域１０８ｂと、を有する。処理領域１０８ａは、載置されるエアレール１０３までの距離を計測する領域であり、支持領域１０８ｂは、上面支持エアベアリング装置１０５の第１のパッド部１１０が図２の矢印Ｌ方向に従来から知られる不図示の駆動手段により移動する領域である。
【００２３】
ガントリ１１５は、レーザ変位計１０５が装着されている水平保持部１１５ａと、水平保持部１１５ａに交差する方向に延在し、上面支持エアベアリング装置１０９が装着されている２つの第１の支持部１１５ｂと、右側面支持エアベアリング装置１１７が装着される第２の支持部１１５ｃと、左側面支持エアベアリング装置１１８が装着される第３の支持部１１５ｄとを備える。ガントリ１１５は、上面支持エアベアリング装置１０９、右側面支持エアベアリング装置１１７及び左側面支持エアベアリング装置１１８により定盤１０７に接触せずに支持される。
【００２４】
水平保持部１１５ａは、定盤１０７の幅方向（図１及び図２の左右方向）に横切るように延在し、定盤１０７の右側の側面１１９を越えて終端している。その終端部には、正面視において右側に配置される第２の支持部１１５ｃが水平保持部１１５ａに対して垂直に延在する。当該第２の支持部１１５ｃの先端部には、右側面支持エアベアリング装置１１７のパッド部である第１のパッド部１３３が装着されている。
【００２５】
また、正面視において左側に配置される第３の支持部１１５ｄは、逆Ｌ字形状の部材であり、その一端部が、正面視左側に配置される第１の支持部１１５ｂの先端部に連結され、第３の支持部１１５ｄの他端部には、左側面支持エアベアリング装置１１８のパッド部である第２のパッド部１３４が装着されている。
【００２６】
さらに、定盤１０７の上面１０８の支持領域１０８ｂに対応する位置に、上面支持エアベアリング装置１０９の第１のパッド部１１０が配置できるように一対の第１の支持部１１５ｂが、水平保持部１１５ａから延びている。一対の第１の支持部１１５ｂのそれぞれの先端部には、従来より知られるボールジョイント１３１を介して上面支持エアベアリング装置１０９の第１のパッド部１１０が装着されている。
【００２７】
このように、ガントリ１１５は、上面支持エアベアリング装置１０９及び側面支持エアベアリング装置１１７、１１８により、定盤１０７の上面１０８及び側面１１９から所定距離離間し浮上するともに、定盤１０７のＷ方向（ガントリ１１５の水平保持部１１５ａの長手方向、図２のＬ方向に直交する方向）に関する移動は、右側面支持エアベアリング装置１１７、左側面支持エアベアリング装置１１８により規制されている。なお、図１の正面視において、ガントリ１１５の上方向への移動は、後述するように、上面支持エアベアリング装置１０９の吸引力により規制される。
【００２８】
本実施形態に係る測定装置１０１に利用されている上面支持エアベアリング装置１０９について説明する。なお、図６に示されるように、定盤１０７の上面１０８上に正面視で左右にそれぞれ二個ずつ配置される上面支持エアベアリング装置１０９の両第１のパッド部１１０は、同一の形状、構成、寸法である。また、右側面支持エアベアリング装置１１７は、所定圧力で所定流量の気体を供給できるコンプレッサ等の気体供給源（不図示）と、気体供給源から気体を供給される第１のパッド部１３３と、を備える。左側面支持エアベアリング装置１１８は、所定圧力で所定流量の気体を供給できるコンプレッサ等の気体供給源（不図示）と、気体供給源から気体を供給される第２のパッド部１３４と、を備える。従って、操作者が測定装置１０１を操作すると、制御部１３５からの駆動信号により、不図示の気体供給源から気体が第１のパッド部１１０、１３３及び第２のパッド部１３４へ供給され、第１のパッド部１１０、１３３及び第２のパッド部１３４から気体を吐出することで浮上力を発生する。
【００２９】
上面支持エアベアリング装置１０９の第１のパッド部１１０及び右側面支持エアベアリング装置１１７の第１のパッド部１３３は、寸法は異なるものの同一の形状、構成であるので、上面支持エアベアリング装置１０９の第１のパッド部１１０について説明する。なお、図６に示されるように、右側面支持エアベアリング装置１１７は、矢印Ｌ方向に互いに離間配置され、互いに同一の形状、寸法、構成の２つの第１のパッド部１３３を有する。
【００３０】
上面支持エアベアリング装置１０９は、図６に示されるように矢印Ｌ方向に離間する２つの第１のパッド部１１０を有する。第１のパッド部１１０は、図３に示されるように下面視において円形状のベアリング面１１４を備える。ベアリング面１１４は、ほぼ中央に位置する吸引領域１０６と、吸引領域１０６を取り囲む吐出領域１０４とを有する。吸引領域１０６は、所定深さ寸法を有する凹部である吸気溝部１１３により構成される。吸気溝部１１３は、下面視において円形状であり、図４に示されるように吸気溝部１１３には、第１のパッド部１１０の厚さ方向に貫通する吸気貫通路１２１が連通している。従って、真空ポンプ等の不図示の吸引手段からの吸引力が、ベアリング面１１４に対向する上面である反ベアリング面１１２側から吸気貫通路１２１を介し、吸気溝部１１３へ付与される。
【００３１】
また、吐出領域１０４は、所定厚さを有する多孔質体１１１により構成されている。多孔質体１１１は、下面視で円形リング状の部材であり、気体を吐出させる互いに連通する複数の細孔を有する。また、第１のパッド部１１０は、多孔質体１１１が装着される固定溝１１６と、下面視で円形リング状に延在する給気溝１２３と、給気溝１２３に連通し、第１のパッド部１１０の厚さ方向に貫通し反ベアリング面１１２に至る穴である給気貫通路１２５と、を有する。さらに、給気貫通路１２５は、前述の気体供給源に連結されている。
【００３２】
なお、図３に示すように吸気溝部１１３は、下面視では、円形としているが、楕円形、多角形等の種々の形状とすることができることは言うまでもない。吸気溝部１１３を設ける代わりに、複数の吸気口を有する部材又は多孔質体により吸引領域を構成することも可能である。また、給気溝１２３、吸気貫通路１２１及び給気貫通路１２５の数、形状、位置は適宜変更可能である。
【００３３】
上記構成の上面支持エアベアリング装置１０９及び右側面支持エアベアリング装置１１７が、制御部１３５から駆動信号を受けると、不図示の気体供給源から所定圧力及び所定流量の気体が第１のパッド部１１０、１３３に供給される。第１のパッド部１１０、１３３に供給された気体は、給気貫通路１２５及び給気溝１２３を通り多孔質体１１１の細孔から吐出され、定盤１０７の上面１０８及び側面１１９に衝突し第１のパッド部１１０、１３３に浮上力を付与する。
【００３４】
次に、左側面支持エアベアリング装置１１８の第２のパッド部１３４について説明する。左側面支持エアベアリング装置１１８は単一の第２のパッド部１３４を備える。第２のパッド部１３４は、上記の第１のパッド部１１０と同様に、下面視において円形状のベアリング面２１４を有し、ベアリング面２１４は、所定厚さを有する多孔質体２１１により構成されている。すなわち、第２のパッド部１３４のベアリング面２１４は、第１のパッド部１１０のベアリング面１１４と異なり、吸引領域を備えず、吐出領域２０４のみを備える。吐出領域２０４は、多孔質体２１１により構成されている。
【００３５】
多孔質体２１１は、下面視で円形状の部材であり、気体を吐出させる互いに連通する複数の細孔を有する。また、第２のパッド部１３４は、第１のパッド部１１０と同様に、下面視で円形リング状に延在する給気溝２２３と、給気溝２２３に連通し、第２のパッド部１３４の厚さ方向に貫通し反ベアリング面２１２に至る穴である給気貫通路２２５と、を有する。さらに、給気貫通路２２５は、前述の気体供給源に連結されている。
【００３６】
上記構成の第２のパッド部１３４に供給された気体は、給気貫通路２２５及び給気溝２２３を通り多孔質体２１１の細孔から吐出され、定盤１０７の側面１１９に衝突し第２のパッド部１３４に浮上力を付与する。
【００３７】
以上の構成において、測定装置１０１は、制御部１３５からの駆動信号により、気体源から所定圧力の気体（すなわち圧縮気体）が、上面支持エアベアリング装置１０９及び左右側面支持エアベアリング装置１１７、１１８に供給されると、圧縮気体が多孔質体１１１、２１１から噴出し、ガントリ１１５が、定盤１０７の上面１０８及び側面１１９から所定距離離れた状態で支持される。
【００３８】
さらに、不図示の吸引手段も、制御部１３５からの駆動信号により駆動され、所定の吸引力が吸気溝部１１３から定盤１０７の上面１０８及び側面１１９に対して付与される。浮上力と吸引力が適宜制御されることにより、定盤１０７の上面１０８及び側面１１９からベアリング面１１４が所定距離離れた状態で保持される。このように、吸引力を付与できる機能をベアリング面１１４に設けることにより、気体を吐出することによる浮上力とそれに対向する方向へ作用する吸引力を付与し、浮上量に関する制御の精度を向上させることができる。
【００３９】
測定装置１０１は、上述の通りガントリ１１５を定盤１０７から浮上させた状態で、レーザ変位計１０５が制御部１３５の駆動信号により処理領域１０８ａに載置されているエアレール１０３の平坦度、反り、若しくは平面度を測定する。なお、本実施形態では、レーザ変位計１０５は、半導体レーザ等の光線を照射する発光素子と、被測定物から反射される光線を受光する受光素子とを備える従来から知られる測定手段を利用している。
【００４０】
（第２の実施形態）
第２の実施形態に係る測定装置について図７を参照しつつ説明する。図７は、第２の実施形態に係る測定装置の第１のパッド部１１０、１３３、第２のパッド部１３４の配置を模式的に示す模式平面図である。第２の実施形態に係る測定装置は、左側面支持エアベアリング装置１３４が２つの第２のパッド部１３４を備える点で、単一の第２のパッド部１３４を備える第１の実施形態に係る測定装置１０１と異なる。第２の実施形態に係る測定装置のその他の構成及び効果は、第１の実施形態に係る測定装置１０１と同じであるので、詳細は割愛する。
【００４１】
なお、制御部１３５（図１参照。）が、上面支持エアベアリング装置１０９の第１のパッド部１１０、右側面支持エアベアリング装置１１７の第１のパッド部１３３、左側面支持エアベアリング装置１１８の第２のパッド部１３４とに電気的に接続され、各構成要素の動作が制御されることは言うまでない。
【００４２】
本実施形態は、左側面支持エアベアリング装置１１８に第２のパッド部１３４を２つ備える構成であるので、第１の実施形態と比べ、気体の吐出量をより精細に調整することができ、ガントリ１１５（図１参照。）の浮上量をより高精度で行うことができる。
【００４３】
（第３の実施形態）
第３の実施形態に係る測定装置について図８を参照しつつ説明する。図８は、第３の実施形態に係る測定装置の第１のパッド部１１０、１３３の配置を模式的に示す模式平面図である。第３の実施形態に係る測定装置は、左側面支持エアベアリング装置を備えない点で、左側面支持エアベアリング装置１３４を備える第１の実施形態に係る測定装置１０１と異なる。したがって、図１に示される第３の支持部１１５ｄを備えない構成である。第３の実施形態に係る測定装置のその他の構成及び効果は、第１の実施形態に係る測定装置１０１と同じであるので、詳細は割愛する。
【００４４】
本実施形態の構成は、定盤１０７の側面１１９に対向配置される第１のパッド部１３３が、浮上力のみならず吸引力をも発生させ、定盤１０７の上面１０８と、２つの側面１１９の一方に対して離間距離を制御する構成であるにも拘わらず、ガントリ１１５（図１参照。）と定盤１０７との間を所定距離に維持することができる。このように、ガントリの浮上量の制御を高い精度で要求されない場合には、第３の実施形態の構成により、ガントリ１１５の定盤１０７に対する非接触支持を実現することもできる。
【００４５】
なお、上記第１〜第３の実施形態では、多孔質体１１１が吸気溝部１１３を取り囲むように構成されているが、必ずしも完全に取り囲む必要はなく、多孔質体（若しくは吐出口を構成する細孔）を部分的に取り囲むように延在することも可能である。また、本実施形態では、左側面支持エアベアリング装置１１８は、吐出領域のみを備える構成としているが、吸引領域を設けることも可能である。
【００４６】
上記した第１〜第３の実施形態では、気体を吐出する吐出口を多孔質体１１１、２１１の細孔により構成しているが、多孔質体１１１、２１１の代わりに、板部材に細孔を設けることにより吐出口を構成することも可能である。
【００４７】
本発明のエアベアリング装置は、測定装置のみならず、被支持物を非接触で支持する種々の支持装置に適用でき、その適用された装置は、本発明の効果及び作用を奏することは言うまでもない。
【００４８】
上記第１〜第３の実施形態において、処理領域１０８ａを有する定盤１０７が載置手段として用いられているが、本発明の載置手段は、当該定盤に限定されない。塗布作業、測定作業などで使用するための所定の平坦度（ＪＩＳＣ２５０４：１９９９）、反り（ＪＩＳＢ０４１５：１９７５）、若しくは平面度（ＪＩＳＢ０１８２：１９９３）を有する平面を備え、所定の剛性、硬度、耐摩耗性を有する種々の台が載置手段として利用できる。また、定盤として、鋳鉄製の箱型定盤、ＪＩＳ定盤、石定盤等が利用できる。
【００４９】
第１〜第３の実施形態のガントリは、定盤１０７の上面１０８を跨いで設けられる門型支持部材であるが、上面１０８を横切る方向に延びる保持部材と、保持部材一方の端部に連結され、定盤に支持される支持部材と、を備える片持ち梁状の支持部材とすることも可能である。
【００５０】
第１及び第２の実施形態は、定盤１０７の一方の側面に対向する第１のパッド部１３３と、他方の側面１１９に対向する第２のパッド部１３４を備える測定装置であるが、本発明の測定装置は、上記構成に限定されない。両側面１１９に対向するように第２のパッド部を設ける構成とすることも可能である。さらに、矢印Ｌ方向に関する第１のパッド部１１０、１３３の数や位置は、適宜変更できる。例えば、上記実施形態では、矢印Ｌ方向に複数の第１のパッド部１１０、１３３を備える構成であるが、単一の第１のパッド部を備える構成とすることも可能である。また、第１と第２のパッド部を備える上面支持エアベアリング装置を上面１０８に対向配置する構成とすることも可能である。
【００５１】
第１〜第３の実施形態において、定盤１０７の上面１０８に対向配置される第１のパッド部１１０と、側面１１９に対向配置される第１のパッド部１３３は、別体として構成されているが、本発明はこの構成に限定されない。例えば、パッド部が、上面１０８及び側面１１９の両方に対向配置できる正面視でＬ字形状のベアリング面を備える構成とすることも可能である。
【００５２】
第１〜第３の実施形態における定盤１０７は、水平な上面１０８と、上面１０８の両端部に接続する両側面１１９とが、互いに直交する構成であるが、本発明のエアベアリング装置が利用できる載置手段は、この構成に限定されない。例えば、定盤１０７の上面１０８が水平方向に関し傾斜する面であっても、側面１１９が、図１の鉛直方向に関し傾斜する面であっても、パッド部が載置手段の面に対して平行に延在できるベアリング面を備える限り、本発明のエアベアリング装置の目的は達成できる。
【００５３】
本出願は、２０１４年２月１８日に出願された日本特許出願２０１４−０２８０３４号の利益を主張するものであり、その内容は全体として参照して本明細書に援用される。
【符号の説明】
【００５４】
１０１          測定装置
１０３          エアレール
１０４          吐出領域
１０５          レーザ変位計
１０６          吸引領域
１０７          定盤
１０８          上面
１０８ａ        処理領域
１０８ｂ        支持領域
１０９          上面支持エアベアリング装置
１１０、１３３  第１のパッド部
１３４          第２のパッド部
１１１、２１１  多孔質体
１１３          吸気溝部
１１７、１１８  側面支持エアベアリング装置
１２１          吸気貫通路
１２３          吸気溝
１２５          給気貫通路
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【国際調査報告】
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