(57)【要約】式：ＣＨＡｒ１Ａｒ２ＳＯ２Ａｒ（Ａｒ１、Ａｒ２及びＡｒは置換又は無置換の芳香族基）で示されるジアリールメチルアリールスルホン化合物と、式：Ａｒ３−Ｂ（ＯＨ）２（Ａｒ３は置換又は無置換の芳香族基）で示されるアリールボロン酸又はそのエステル化合物とを、パラジウム触媒及び含窒素複素環式カルベン配位子の存在下で反応させることで、種々のトリアリールメタン化合物を高収率且つ少ない工程で製造する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）：
【化１】
2015064584.tif 000021
［式中、Ａｒ１、Ａｒ２及びＡｒ３は同じか又は異なり、それぞれ置換又は無置換の芳香族基である。］
で示されるトリアリールメタン化合物の製造方法であって、
（III）一般式（２）：
【化２】
2015064584.tif 000022
［式中、Ａｒ１及びＡｒ２は前記に同じ；Ａｒは置換又は無置換の芳香族基である。］
で示されるジアリールメチルアリールスルホン化合物と、
一般式（３）：
【化３】
2015064584.tif 000023
［式中、Ａｒ３は前記に同じ；Ｒ１及びＲ２は同じか又は異なり、それぞれアルキル基；Ｒ１とＲ２は互いに結合し、隣接する−Ｏ−Ｂ−Ｏ−とともに環を形成してもよい。］
で示されるアリールボロン酸又はそのエステル化合物とを、パラジウム触媒及び含窒素複素環式カルベン配位子の存在下で反応させる工程
を備える、製造方法。
【請求項２】
前記工程（III）が、塩基の存在下で行われる、請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
前記塩基が金属アルコキシド、リン酸アルカリ金属塩及びアルカリ金属水酸化物よりなる群から選ばれる少なくとも１種である、請求項２に記載の製造方法。
【請求項４】
前記工程（III）が、反応溶媒の存在下で行われる、請求項１〜３のいずれかに記載の製造方法。
【請求項５】
前記反応溶媒がジオキサンを含有する、請求項４に記載の製造方法。
【請求項６】
前記工程（III）の前に、
（II）一般式（４）：
Ａｒ１−ＣＨ２−ＳＯ２−Ａｒ      （４）
［式中、Ａｒ１及びＡｒは前記に同じである。］
で示されるアリールメチルアリールスルホン化合物と、
一般式（７）：
Ａｒ２−Ｘ１      （７）
［式中、Ａｒ２は前記に同じ；Ｘ１はハロゲン原子である。］
で示されるハロゲン化アレーン化合物とを、パラジウム触媒及びホスフィン配位子の存在下で反応させる工程
を備える、請求項１〜５のいずれかに記載の製造方法。
【請求項７】
前記工程（II）が、塩基の存在下で行われる、請求項６に記載の製造方法。
【請求項８】
前記工程（II）の前に、
（I）一般式（５）：
ＣＨ３−ＳＯ２−Ａｒ      （５）
［式中、Ａｒは前記に同じである。］
で示されるメチルアリールスルホン化合物と、
一般式（６）：
Ａｒ１−Ｘ２      （６）
［式中、Ａｒ１は前記に同じ；Ｘ２はハロゲン原子である。］
で示されるハロゲン化アレーン化合物とを、パラジウム触媒及びホスフィン配位子の存在下で反応させる工程
を備える、請求項６又は７に記載の製造方法。
【請求項９】
前記工程（I）が、塩基の存在下で行われる、請求項８に記載の製造方法。
【請求項１０】
一般式（２ａ）：
【化４】
2015064584.tif 000024
［式中、Ａｒ１ａ、Ａｒ２ａ及びＡｒは同じか又は異なり、それぞれ置換又は無置換の芳香族基；ただし、Ａｒ１ａ及び／又はＡｒ２ａはベンジルオキシ基で置換された芳香族基である。］
で示されるジアリールメチルアリールスルホン化合物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、トリアリールメタン化合物の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
トリアリールメタン化合物及びその関連構造の合成は、医薬品化学及び材料科学の分野で非常に興味を持たれている。【０００３】
実際、トリアリールメタン化合物は、染料、蛍光プローブ、天然物及び生物学的活性化合物等、種々の分野で利用されている。【０００４】
芳香環に対してアルキル基又はアシル基が求電子置換する反応であるフリーデル・クラフツ反応は、トリアリールメタン構造の構築法として簡易で汎用されている（例えば、非特許文献１等）が、しばしば望ましくない位置異性体を生成することがあり、また、求電子置換反応であるが故に芳香環が電子求引性基を有していると反応が起きない。しかも、合成できるトリアリールメタン化合物の種類は制限されており、種々のトリアリールメタン化合物を合成することはできない。【０００５】
また、トリアリールメタン化合物の合成法としては、トリアリールメタノールの脱ヒドロキシル化反応が一般的な手順であった（例えば、非特許文献２等）が、多段階合成であり、工程数が非常に多いため、簡便な方法ではない。【０００６】
最近、前記の欠点を解決するため、遷移金属触媒を用いた試みがいくつか報告されている。これらの報告のうち、パラジウム触媒クロスカップリング反応に関する報告としては、例えば、非特許文献３及び特許文献１が挙げられ、金属触媒によるＣ−Ｈ結合のアリール化反応に関する報告としては、例えば、非特許文献４及び特許文献２が挙げられ、エナンチオ選択的経路に関する報告としては、例えば、非特許文献５が挙げられる。【０００７】
特に非特許文献３には、ジアリールメチルアリールスルホン化合物とアリールボロン酸化合物とを、代表的なホスフィン類（一座若しくは二座ホスフィン配位子）又はアミン配位子とパラジウム源からなる触媒前駆体を用いて反応させるとトリアリールメタン化合物が得られることが開示されているが、原料のジアリールメチルアリールスルホン化合物の１つのアリール基は３−インドリル基に限定されており、含窒素複素環式カルベン配位子については何ら言及されていない。また、この反応は、酸素、湿気等に対して不安定な触媒を使用せざるを得ないうえに、原料の調製のみならず反応剤の調製にも多段階合成を必要とすることから、少ない工程でトリアリールメタン化合物を合成することができない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】国際公開第２０１２／１６９６３５号
【特許文献２】国際公開第２０１３／０６５４６３号
【非特許文献】
【０００９】
【非特許文献１】G. K. S. Prakash, C. Panja, A. Shakhmin, E. Shah, T. Mathew, G. A. Olah, J. Org. Chem. 2009, 74, 8659.
【非特許文献２】A. Ono, N. Suzuki, J. Kamimura, Synthesis, 1987, 8, 736.
【非特許文献３】L. -L. Cao, X. -N. Li, F. -Y. Meng, G. -F. Jiang, Tetrahedron Lett. 2012, 53, 3873.
【非特許文献４】T. Niwa, H. Yorimitsu, K. Oshima, Org. Lett. 2007, 9, 2373.
【非特許文献５】B. L. H. Taylor, M. R. Harris, E. R. Jarvo, Angew. Chem. 2012, 121, 7910.
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、上記のような課題を解決しようとするものであり、その目的は、種々のトリアリールメタン化合物を少ない工程で製造できる方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者らは、鋭意研究を重ねた結果、特定のジアリールメチルアリールスルホン化合物と、特定のアリールボロン酸又はそのエステル化合物とを、パラジウム触媒及び含窒素複素環式カルベン配位子の存在下で反応させることで、所望のトリアリールメタン化合物が得られることを見出した。この際原料として使用するジアリールメチルアリールスルホン化合物は、メチルアリールスルホン化合物を出発化合物として、２段階合成で合成することができる。つまり、従来の製造方法にはない最短の３段階のみで合成することができることを見出した。この３段階の合成は、いずれも入手及び調製が容易な原料のみを用いて行うことも可能であり、しかも、この３段階の合成は、いずれも、大気下で安定に取り扱えるパラジウム触媒を使用して反応を進行させることができる。本発明は、このような知見に基づき、さらに研究を重ね、完成したものである。すなわち、本発明は、以下の構成を包含する。【００１２】
項１．一般式（１）：【００１３】
【化１】
2015064584.tif 000002
【００１４】
［式中、Ａｒ１、Ａｒ２及びＡｒ３は同じか又は異なり、それぞれ置換又は無置換の芳香族基である。］
で示されるトリアリールメタン化合物の製造方法であって、
（III）一般式（２）：【００１５】
【化２】
2015064584.tif 000003
【００１６】
［式中、Ａｒ１及びＡｒ２は前記に同じ；Ａｒは置換又は無置換の芳香族基である。］
で示されるジアリールメチルアリールスルホン化合物と、
一般式（３）：【００１７】
【化３】
2015064584.tif 000004
【００１８】
［式中、Ａｒ３は前記に同じ；Ｒ１及びＲ２は同じか又は異なり、それぞれアルキル基；Ｒ１とＲ２は互いに結合し、隣接する−Ｏ−Ｂ−Ｏ−とともに環を形成してもよい。］
で示されるアリールボロン酸又はそのエステル化合物とを、パラジウム触媒及び含窒素複素環式カルベン配位子の存在下で反応させる工程
を備える、製造方法。【００１９】
項２．前記工程（III）が、塩基の存在下で行われる、項１に記載の製造方法。【００２０】
項３．前記塩基が金属アルコキシド、リン酸アルカリ金属塩及びアルカリ金属水酸化物よりなる群から選ばれる少なくとも１種である、項２に記載の製造方法。【００２１】
項４．前記工程（III）が、反応溶媒の存在下で行われる、項１〜３のいずれかに記載の製造方法。【００２２】
項５．前記反応溶媒がジオキサンを含有する、項４に記載の製造方法。【００２３】
項６．前記工程（III）の前に、
（II）一般式（４）：
Ａｒ１−ＣＨ２−ＳＯ２−Ａｒ      （４）
［式中、Ａｒ１及びＡｒは前記に同じである。］
で示されるアリールメチルアリールスルホン化合物と、
一般式（７）：
Ａｒ２−Ｘ１      （７）
［式中、Ａｒ２は前記に同じ；Ｘ１はハロゲン原子である。］
で示されるハロゲン化アレーン化合物とを、パラジウム触媒及びホスフィン配位子の存在下で反応させる工程
を備える、項１〜５のいずれかに記載の製造方法。【００２４】
項７．前記工程（II）が、塩基の存在下で行われる、項６に記載の製造方法。【００２５】
項８．前記工程（II）の前に、
（I）一般式（５）：
ＣＨ３−ＳＯ２−Ａｒ      （５）
［式中、Ａｒは前記に同じである。］
で示されるメチルアリールスルホン化合物と、
一般式（６）：
Ａｒ１−Ｘ２      （６）
［式中、Ａｒ１は前記に同じ；Ｘ２はハロゲン原子である。］
で示されるハロゲン化アレーン化合物とを、パラジウム触媒及びホスフィン配位子の存在下で反応させる工程
を備える、項６又は７に記載の製造方法。【００２６】
項９．前記工程（I）が、塩基の存在下で行われる、項８に記載の製造方法。【００２７】
項１０．一般式（２ａ）：【００２８】
【化４】
2015064584.tif 000005
【００２９】
［式中、Ａｒ１ａ、Ａｒ２ａ及びＡｒは同じか又は異なり、それぞれ置換又は無置換の芳香族基；ただし、Ａｒ１ａ及び／又はＡｒ２ａはベンジルオキシ基で置換された芳香族基である。］
で示されるジアリールメチルアリールスルホン化合物。
【発明の効果】
【００３０】
本発明によれば、特定のジアリールメチルアリールスルホン化合物と、特定のアリールボロン酸又はそのエステル化合物とを、パラジウム触媒及び含窒素複素環式カルベン配位子の存在下で反応させることで、所望のトリアリールメタン化合物を合成することができる。本発明では、従来は合成できなかった様々なトリアリールメタン化合物を合成することができる。また、本発明の好適な態様においては、高収率でトリアリールメタン化合物を合成することが可能である。【００３１】
本発明において原料として使用するジアリールメチルアリールスルホン化合物は、メチルアリールスルホン化合物を出発化合物として、パラジウム触媒を用いた２段階の反応で合成することができる。つまり、従来の製造方法では不可能であった最短の３段階のみでトリアリールメタン化合物を合成することができる。【００３２】
本発明において採用される上記３段階の反応は、いずれも入手及び調製が容易な原料のみを用いて行うことも可能であり、しかも、この３段階の反応は、いずれも、大気下で安定に取り扱えるパラジウム触媒を使用して反応を進行させることができる。【００３３】
本発明において原料として使用するジアリールメチルアリールスルホン化合物のうち、一部の化合物は、文献未記載の新規化合物である。
【発明を実施するための形態】
【００３４】
本発明の製造方法においては、特定のジアリールメチルアリールスルホン化合物と、特定のアリールボロン酸又はそのエステル化合物とを反応させることにより、トリアリールメタン化合物を合成する（工程（III））。
【００３５】
また、本発明において、原料として使用するジアリールメチルアリールスルホン化合物は、特に制限はないが、例えば、特定のアリールメチルアリールスルホン化合物と、特定のハロゲン化アレーン化合物とを反応させることにより合成することができる（工程（II））。さらに、上記特定のアリールメチルアリールスルホン化合物は、特に制限はないが、例えば、特定のメチルアリールスルホン化合物と、特定のハロゲン化アレーン化合物とを反応させることにより合成することができる（工程（I））。
【００３６】
このように、容易に入手可能なメチルアリールスルホン化合物を原料として、後述の工程（I）〜（II）を経てジアリールメチルアリールスルホン化合物を合成することにより、置換基Ａｒ１及びＡｒ２の導入の選択性及び収率をより向上させることができることから、本発明で原料として使用するジアリールメチルアリールスルホン化合物は、メチルアリールスルホン化合物を原料として、後述の工程（I）〜（II）を経て合成することが好ましい。
【００３７】
１．工程（I）：メチルアリールスルホン化合物のアリール化
本工程では、
（I）一般式（５）：
ＣＨ３−ＳＯ２−Ａｒ      （５）
［式中、Ａｒは置換又は無置換の芳香族基である。］
で示されるメチルアリールスルホン化合物と、
一般式（６）：
Ａｒ１−Ｘ２      （６）
［式中、Ａｒ１は前記に同じ；Ｘ２はハロゲン原子である。］
で示されるハロゲン化アレーン化合物とを、パラジウム触媒及びホスフィン配位子の存在下で反応させる工程
により、アリールメチルアリールスルホン化合物を合成する。
【００３８】
一般式（５）において、置換基Ａｒは、置換又は無置換の芳香族基である。
【００３９】
置換基Ａｒで示される置換又は無置換の芳香族基における芳香族基としては、例えば、フェニル基等の単環芳香族炭化水素基；ナフチル基（１−ナフチル基、２−ナフチル基等）、アントリル基（１−アントリル基、２−アントリル基、９−アントリル基等）、フルオレニル基（１−フルオレニル基、２−フルオレニル基、９−フルオレニル基等）、フェナントリル基、ピレニル基（１−ピレニル基、２−ピレニル基、４−ピレニル基等）、クリセニル基、ペリレニル基、ピセニル基等の縮合環芳香族炭化水素基；フリル基（２−フリル基、３−フリル基等）、チエニル基（２−チエニル基、３−チエニル基等）、ピロリル基（２−ピロリル基、３−ピロリル基等）、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、トリアゾリル基（１，２，３−トリアゾリル基、１，２，４−トリアゾリル基等）、ピリジル基（２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基等）、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラジニル基等の単環芳香族複素環式基；キノリル基、イソキノリル基、インドリル基、ピリドチエノピリミジン環基等の縮合環芳香族複素環式基等が挙げられる。これらのなかでも、単環芳香族炭化水素基又は単環芳香族複素環式基が好ましく、六員単環芳香族炭化水素基又は六員単環芳香族複素環式基がより好ましく、フェニル基、ピリジル基（２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基等）、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラジニル基等がさらに好ましく、フェニル基、ピリジル基（２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基等）、ピリミジニル基等が特に好ましい。
【００４０】
置換基Ａｒにおいて、芳香族基における置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ヘキシル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のＣ１−６−アルキル基；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等のＣ１−６−アルコキシ基；メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基、イソペンチルオキシカルボニル基、シクロプロピルオキシカルボニル基、シクロブチルオキシカルボニル基、シクロペンチルオキシカルボニル基等のＣ１−６−アルコキシ−カルボニル基；水酸基；フェニル基、トリル基、ナフチル基等の芳香族炭化水素基；フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子；ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基；ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基（プロパノイル基）、ブチリル基（ブタノイル基）、バレリル基（ペンタノイル基）、ヘキサノイル基等のＣ１−６−脂肪族アシル基；ベンゾイル基、トルオイル基等の芳香族アシル基（アロイル基）；アラルキルオキシ基（ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基等）；カルボキシ基；Ｃ１−６−アルキルアミノ基（メチルアミノ基、エチルアミノ基等）；ジＣ１−６−アルキルアミノ基（ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等）；トリアルキルシリル基（トリメチルシリル基、トリエチルシリル基等）等の１〜６個が挙げられる。これらのなかでも、詳細には、Ｃ１−６−アルキル基、Ｃ１−６−アルコキシ基、ハロゲン原子等が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ヘキシル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等がより好ましく、メチル基、メトキシ基、フッ素原子等がさらに好ましい。
【００４１】
このような条件を満たす置換基Ａｒで示される置換された芳香族基としては、例えば、トリル基（ｏ−トリル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基等）、エチルフェニル基（４−エチルフェニル基、３−エチルフェニル基、２−エチルフェニル基等）、４−ｎ−プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基（４−イソプロピルフェニル基、２−イソプロピルフェニル基等）、４−ｎ−ブチルフェニル基、４−イソブチルフェニル基、ｓｅｃ−ブチルフェニル基（４−ｓｅｃ−ブチルフェニル基、２−ｓｅｃ−ブチルフェニル基等）、ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基等）、４−ｎ−ペンチルフェニル基、４−イソペンチルフェニル基、２−ネオペンチルフェニル基、４−ｔｅｒｔ−ペンチルフェニル基、４−ｎ−ヘキシルフェニル基、４−（２−エチルブチル）フェニル基、４−ｎ−ヘプチルフェニル基、４−ｎ−オクチルフェニル基、４−（２−エチルヘキシル）フェニル基、４−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル基、４−ｎ−デシルフェニル基、４−ｎ−ドデシルフェニル基、４−ｎ−テトラデシルフェニル基、４−シクロペンチルフェニル基、シクロヘキシルフェニル基（４−シクロヘキシルフェニル基、３−シクロヘキシルフェニル基、２−シクロヘキシルフェニル基等）、４−（４−メチルシクロヘキシル）フェニル基、４−（４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル）フェニル基、４−エチル−１−ナフチル基、６−ｎ−ブチル−２−ナフチル基、ジメチルフェニル基（２，４−ジメチルフェニル基、２，５−ジメチルフェニル基、３，４−ジメチルフェニル基、３，５−ジメチルフェニル基、２，６−ジメチルフェニル基等）、トリメチルフェニル基（２，３，５−トリメチルフェニル基、２，３，６−トリメチルフェニル基、３，４，５−トリメチルフェニル基等）、ジエチルフェニル基（２，４−ジエチルフェニル基、２，６−ジエチルフェニル基等）、２，５−ジイソプロピルフェニル基、２，６−ジイソブチルフェニル基、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基等）、４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メチルフェニル基、５−ｔｅｒｔ−ブチル−２−メチルフェニル基、４−ｔｅｒｔ−ブチル−２，６−ジメチルフェニル基、９−メチル−２−フルオレニル基、９−エチル−２−フルオレニル基、９−ｎ−ヘキシル−２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−フルオレニル基、９，９−ジエチル−２−フルオレニル基、９，９−ジ−ｎ−プロピル−２−フルオレニル基、メトキシフェニル基（４−メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、２−メトキシフェニル基等）、エトキシフェニル基（４−エトキシフェニル基、３−エトキシフェニル基、２−エトキシフェニル基等）、ｎ−プロポキシフェニル基（４−ｎ−プロポキシフェニル基、３−ｎ−プロポキシフェニル基等）、イソプロポキシフェニル基（４−イソプロポキシフェニル基、２−イソプロポキシフェニル基等）、４−ｎ−ブトキシフェニル基、４−イソブトキシフェニル基、２−ｓｅｃ−ブトキシフェニル基、４−ｎ−ペンチルオキシフェニル基、イソペンチルオキシフェニル基（４−イソペンチルオキシフェニル基、２−イソペンチルオキシフェニル基等）、ネオペンチルオキシフェニル基（４−ネオペンチルオキシフェニル基、２−ネオペンチルオキシフェニル基等）、４−ｎ−ヘキシルオキシフェニル基、２−（２−エチルブチル）オキシフェニル基、４−ｎ−オクチルオキシフェニル基、４−ｎ−デシルオキシフェニル基、４−ｎ−ドデシルオキシフェニル基、４−ｎ−テトラデシルオキシフェニル基、シクロヘキシルオキシフェニル基（４−シクロヘキシルオキシフェニル基、２−シクロヘキシルオキシフェニル基等）、メトキシナフチル基（２−メトキシ−１−ナフチル基、４−メトキシ−１−ナフチル基、６−メトキシ−２−ナフチル基、７−メトキシ−２−ナフチル基等）、エトキシナフチル基（５−エトキシ−１−ナフチル基、６−エトキシ−２−ナフチル基等）、ｎ−ブトキシナフチル基（４−ｎ−ブトキシ−１−ナフチル基、６−ｎ−ブトキシ−２−ナフチル基、７−ｎ−ブトキシ−２−ナフチル基等）、６−ｎ−ヘキシルオキシ−２−ナフチル基、メチルメトキシフェニル基（２−メチル−４−メトキシフェニル基、２−メチル−５−メトキシフェニル基、３−メチル−４−メトキシフェニル基、３−メチル−５−メトキシフェニル基、２−メトキシ−４−メチルフェニル基、３−メトキシ−４−メチルフェニル基等）、３−エチル−５−メトキシフェニル基、ジメトキシフェニル基（２，４−ジメトキシフェニル基、２，５−ジメトキシフェニル基、２，６−ジメトキシフェニル基、３，４−ジメトキシフェニル基、３，５−ジメトキシフェニル基等）、３，５−ジエトキシフェニル基、３，５−ジ−ｎ−ブトキシフェニル基、メトキシエトキシフェニル基（２−メトキシ−４−エトキシフェニル基、２−メトキシ−６−エトキシフェニル基等）、３，４，５−トリメトキシフェニル基、ヒドロキシフェニル基（４−ヒドロキシフェニル基、３−ヒドロキシフェニル基、２−ヒドロキシフェニル基等）、メトキシカルボニルフェニル基（４−メトキシカルボニルフェニル基、３−メトキシカルボニルフェニル基、２−メトキシカルボニルフェニル基等）、ビフェニリル基（４−ビフェニリル基、３−ビフェニリル基、２−ビフェニリル基等）、トリルフェニル基（４−（ｐ−トリル）フェニル基、４−（ｍ−トリル）フェニル基、４−（ｐ−トリル）フェニル基、２−（ｏ−トリル）フェニル基等）、４−（４−ｎ−ブトキシフェニル）フェニル基、４−（４−クロロフェニル）フェニル基、３−メチル−４−フェニルフェニル基、３−メトキシ−４−フェニルフェニル基、ターフェニル基、３，５−ジフェニルフェニル基、１０−フェニル−９−アントリル基、１０−（３，５−ジフェニルフェニル）−９−アントリル基、９−フェニル−２−フルオレニル基、クロロフェニル基（４−クロロフェニル基、３−クロロフェニル基、２−クロロフェニル基等）、ブロモフェニル基（４−ブロモフェニル基、２−ブロモフェニル基等）、クロロナフチル基（４−クロロ−１−ナフチル基、４−クロロ−２−ナフチル基等）、６−ブロモ−２−ナフチル基、ジクロロフェニル基（２，３−ジクロロフェニル基、２，４−ジクロロフェニル基、２，５−ジクロロフェニル基、３，４−ジクロロフェニル基、３，５−ジクロロフェニル基等）、２，５−ジブロモフェニル基、２，４，６−トリクロロフェニル基、ジクロロナフチル基（２，４−ジクロロ−１−ナフチル基、１，６−ジクロロ−２−ナフチル基等）、クロロメチルフェニル基（２−クロロ−４−メチルフェニル基、２−クロロ−５−メチルフェニル基、２−クロロ−６−メチルフェニル基、３−クロロ−４−メチルフェニル基、２−メチル−３−クロロフェニル基、２−メチル−４−クロロフェニル基、３−メチル−４−クロロフェニル基等）、２−クロロ−４，６−ジメチルフェニル基、フルオロメトキシフェニル基（２−フルオロ−４−メトキシフェニル基、２−フルオロ−６−メトキシフェニル基、２−メトキシ−４−フルオロフェニル基等）、フルオロエトキシ基（２−フルオロ−４−エトキシフェニル基、３−フルオロ−４−エトキシフェニル基等）、クロロメトキシ基（３−クロロ−４−メトキシフェニル基、２−メトキシ−５−クロロフェニル基、３−メトキシ−６−クロロフェニル基等）、５−クロロ−２，４−ジメトキシフェニル基、４−アセチルフェニル基、４−トリフルオロメチルフェニル基、４−ジメチルアミノフェニル基、４−トリメチルシリルフェニル基、４−ベンジルオキシフェニル基等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００４２】
本発明において、置換基Ａｒの種類は特に制限はなく、前記の置換又は無置換の芳香族基のいずれでもよいが、置換若しくは無置換の単環芳香族炭化水素基、又は置換若しくは無置換の単環芳香族複素環式基が好ましく、置換若しくは無置換の六員単環芳香族炭化水素基、又は置換若しくは無置換の六員単環芳香族複素環式基がより好ましく、フェニル基、トリル基（ｏ−トリル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基等）、メトキシフェニル基（２−メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基等）、クロロフェニル基（２−クロロフェニル基、３−クロロフェニル基、４−クロロフェニル基等）、ペンタフルオロフェニル基、ピリジル基（２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基等）、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラジニル基等がさらに好ましく、フェニル基、４−トリル基、４−メトキシフェニル基、４−クロロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、ピリミジル基等が特に好ましい。
【００４３】
一般式（６）において、置換基Ａｒ１は、置換又は無置換の芳香族基である。一般式（６）において、置換基Ａｒ１における芳香族基、Ａｒ１が置換されている場合の置換基の種類及び数、Ａｒ１が置換されている場合の置換された芳香族基としては、上記Ａｒについて詳述したものと同様のものを採用することができる。
【００４４】
置換基Ａｒ１は、最終生成物であるトリアリールメタン化合物が有するアリール基（芳香族基）のうち１つを構成しており、種々様々な芳香族基を採用することができるが、本反応の収率の観点から、置換若しくは無置換の単環芳香族炭化水素基、又は置換若しくは無置換の単環芳香族複素環式基が好ましく、置換若しくは無置換の六員単環芳香族炭化水素基、又は置換若しくは無置換の五又は六員単環芳香族複素環式基がより好ましく、フェニル基、トリル基（ｏ−トリル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基等）、メトキシフェニル基（２−メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基等）、ベンジルオキシフェニル基（２−ベンジルオキシフェニル基、３−ベンジルオキシフェニル基、４−ベンジルオキシフェニル基等）、フルオロフェニル基（２−フルオロフェニル基、３−フルオロフェニル基、４−フルオロフェニル基等）、トリフロオロメチルフェニル基（２−トリフロオロメチルフェニル基、３−トリフロオロメチルフェニル基、４−トリフロオロメチルフェニル基等）、クロロフェニル基（２−クロロフェニル基、３−クロロフェニル基、４−クロロフェニル基等）、ペンタフルオロフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基（２−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、３−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基等)、ナフチル基（１−ナフチル基、２−ナフチル基等）、チエニル基（２−チエニル基、３−チエニル基等）、フリル基（２−フリル基、３−フリル基等）、ピリジル基（２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基等）、インドリル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラジニル基等がさらに好ましく、フェニル基、トリル基（ｏ−トリル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基等）、メトキシフェニル基（２−メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基等）、ベンジルオキシフェニル基（２−ベンジルオキシフェニル基、３−ベンジルオキシフェニル基、４−ベンジルオキシフェニル基等）、フルオロフェニル基（２−フルオロフェニル基、３−フルオロフェニル基、４−フルオロフェニル基等）、トリフロオロメチルフェニル基（２−トリフロオロメチルフェニル基、３−トリフロオロメチルフェニル基、４−トリフロオロメチルフェニル基等）、ナフチル基（１−ナフチル基、２−ナフチル基等）、チエニル基（２−チエニル基、３−チエニル基等）等が特に好ましく、フェニル基、ｐ−トリル基、４−メトキシフェニル基、４−ベンジルオキシフェニル基、４−フルオロフェニル基、４−トリフルオロメチルフェニル基、１−ナフチル基、３−チエニル基等が最も好ましい。
【００４５】
一般式（６）において、Ｘ２はハロゲン原子であり、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。これらのなかでも、本工程における選択性及び収率の観点から、臭素原子が好ましい。
【００４６】
本工程において、一般式（６）で示されるハロゲン化アレーン化合物の使用量は、選択率及び収率の観点から、前記一般式（５）で示されるメチルアリールスルホン化合物１モルに対して、通常、０．２〜３モルが好ましく、０．３〜２．５モルがより好ましい。
【００４７】
本工程で使用するパラジウム触媒としては、特に限定されるものではないが、例えば、酢酸パラジウム（Ｐｄ（ＯＣＯＣＨ３）２；Ｐｄ（ＯＡｃ）２）、トリフルオロ酢酸パラジウム（Ｐｄ（ＯＣＯＣＦ３）２）、ｐ−アリルパラジウム（II）クロリドダイマー（［ＰｄＣｌ（allyl）］２）、ｐ−シンナミルパラジウム（II）クロリドダイマー、ジ−μ−クロロビス（２’−アミノ−１，１’−ビフェニル−２−Ｃ，Ｎ）ジパラジウム（II）、塩化パラジウム（ＰｄＣｌ２）、臭化パラジウム（ＰｄＢｒ２）、ヨウ化パラジウム（ＰｄＩ２）、Ｐｄ（ＣＨ２ＣＯＣＨ２ＣＯＣＨ３）２、Ｋ２ＰｄＣｌ４、Ｋ２ＰｄＣｌ６、Ｋ２Ｐｄ（ＮＯ３）４、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（0）、ビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウム（0）、ジクロロビス（エチレン）パラジウム（ＰｄＣｌ２（Ｃ２Ｈ４）２）、ジクロロ（１，５−シクロオクタジエン）パラジウム（II）、２，５−ノルボルナジエンパラジウムジクロリド、ビス（アセトニトリル）パラジウムジクロリド、ビス（ベンゾニトリル）パラジウムジクロリド、Ｐｄ（π−Ｃ５Ｈ５）２等の有機配位子錯体；ＰｄＣｌ２（ＮＨ３）２、ＰｄＣｌ２［Ｎ（Ｃ２Ｈ５）３］ ２、Ｐｄ（ＮＯ３）２（ＮＨ３）６等のＮ−配位錯体等を挙げることができる。これらは単独で使用してもよく、また、複数併用してもよい。なかでも、本工程では、選択率、収率及び安全性の観点から、有機配位子錯体が好ましく、酢酸パラジウム（Ｐｄ（ＯＣＯＣＨ３）２）、ｐ−アリルパラジウム（II）クロリドダイマー、トリフロオロ酢酸パラジウム、ビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウム（0）、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム（0）等がより好ましく、ｐ−アリルパラジウム（II）クロリドダイマーがさらに好ましい。
【００４８】
本工程において、パラジウム触媒の使用量は、選択率及び収率の観点から、前記一般式（５）で示されるメチルアリールスルホン化合物１モルに対して、通常、０．０２〜１モルが好ましく、０．０３〜０．２５モルがより好ましい。
【００４９】
本工程で使用するホスフィン配位子としては、特に限定されるものではないが、例えば、次式：ＰＲ３Ｒ４Ｒ５で示されるホスフィン配位子（ここで、Ｒ３、Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立して、Ｃ１−８アルキル基（メチル基、エチル基等）、Ｃ１−４アルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基等）、Ｃ３−８シクロアルキル基（シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、フェニル基、ビフェニル基、フェノキシ基、フリル基を表す。Ｃ３−８シクロアルキル基は更にＣ１−４アルキル基（メチル基、エチル基等）で置換されていてもよい。フェニル基は更にメチル基、スルホン酸又はその塩で置換されていてもよい。ビフェニル基は更にそれぞれ独立して、Ｃ１−４アルキル基（メチル基、エチル基等）、Ｃ１−４アルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基等）、ジアルキルアミノ基（ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等）で置換されてもよい。）が挙げられる。
【００５０】
前記ＰＲ３Ｒ４Ｒ５で示されるホスフィン配位子としては、例えば、ｔｅｒｔ−ブチルジシクロヘキシルホスフィン、イソブチルジシクロヘキシルホスフィン、（ｎ−ブチル）ジシクロヘキシルホスフィン、イソプロピルジシクロヘキシルホスフィン、（ｎ−プロピル）ジシクロヘキシルホスフィン、エチルジシクロヘキシルホスフィン、メチルジシクロへキシルホスフィン、シクロプロピルジシクロヘキシルホスフィン、シクロブチルジシクロヘキシルホスフィン、ｔｅｒｔ−ブチルジシクロオクチルホスフィン、ｔｅｒｔ−ブチルジシクロヘプチルホスフィン、ｔｅｒｔ−ブチルジシクロペンチルホスフィン、ｔｅｒｔ−ブチルジシクロブチルホスフィン、ｔｅｒｔ−ブチルジシクロプロピルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリ（ｎ−プロピル）ホスフィン、トリ（イソプロピル）ホスフィン、トリ（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィン、トリ（ｎ−ブチル）ホスフィン、トリ（ｎ−オクチル）ホスフィン、トリ（シクロオクチル）ホスフィン、トリ（シクロヘプチル）ホスフィン、トリ（シクロヘキシル）ホスフィン、トリ（シクロペンチル）ホスフィン、トリ（シクロブチル）ホスフィン、トリ（シクロプロピル）ホスフィン、ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）メチルホスフィン、ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）エチルホスフィン、ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）ｎ−プロピルホスフィン、ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）イソプロピルホスフィン、ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）ｎ−ブチルホスフィン、ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）イソブチルホスフィン、ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）ネオペンチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリ（オルト−トルイル）ホスフィン、トリ（メシチル）ホスフィン、トリ（フェノキシ）ホスフイン、トリ−（２−フリル）ホスフィン、トリメトキシホスフィン、トリエトキシホスフィン、トリ（ｎ−プロピルオキシ）ホスフィン、トリ（イソプロピルオキシ）ホスフィン、トリ（ｎ−ブチルオキシ）ホスフィン、トリ（イソブチルオキシ）ホスフィン、トリ（ｔｅｒｔ−ブチルオキシ）ホスフィン、ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）シクロヘキシルホスフィン、ジ（イソブチル）シクロヘキシルホスフィン、ジ（ｎ−ブチル）シクロヘキシルホスフィン、ジ（イソプロピル）シクロヘキシルホスフィン、ジ（ｎ−プロピル）シクロヘキシルホスフィン、ジエチルシクロヘキシルホスフィン、ジメチルシクロヘキシルホスフィン、ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）シクロペンチルホスフィン、ジ（イソブチル）シクロペンチルホスフィン、ジ（ｎ−ブチル）シクロペンチルホスフィン、ジ（イソプロピル）シクロペンチルホスフィン、ジ（ｎ−プロピル）シクロペンチルホスフィン、ジエチルシクロペンチルホスフィン、ジメチルシクロペンチルホスフィン、ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）シクロオクチルホスフィン、ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）シクロヘプチルホスフィン、ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）シクロペンチルホスフィン、ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）シクロブチルホスフィン、ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）シクロプロピルホスフィン、ジメチルフェニルホスフィン、ジエチルフェニルホスフィン、ジ（ｎ−プロピル）フェニルホスフィン、ジ（イソプロピル）フェニルホスフィン、ジ（ｎ−ブチル）フェニルホスフィン、ジ（イソブチル）フェニルホスフィン、ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）フェニルホスフィン、ジシクロオクチルフェニルホスフィン、ジシクロヘプチルフェニルホスフィン、ジシクロヘキシルフェニルホスフィン、ジシクロペンチルフェニルホスフィン、ジシクロブチルフェニルホスフィン、ジシクロプロピルフェニルホスフィン、ジシクロヘキシル−（パラ−トルイル）−ホスフィン、ジシクロヘキシル−（オルト−トルイル）ホスフィン、ジシクロヘキシル−（パラ−トルイル）ホスフィン、ジシクロヘキシル−（２，４，６−トリメチルフェニル）ホスフィン、メチルジフェニルホスフィン、エチルジフェニルホスフィン、（ｎ−プロピル）ジフェニルホスフィン、イソプロピルジフェニルホスフィン、（ｎ−ブチル）ジフェニルホスフィン、イソブチルジフェニルホスフィン、（ｔｅｒｔ−ブチル）ジフェニルホスフィン、シクロオクチルジフェニルホスフィン、シクロヘプチルジフェニルホスフィン、シクロヘキシルジフェニルホスフィン、シクロペンチルジフェニルホスフィン、シクロブチルジフェニルホスフィン、シクロプロピルジフェニルホスフィン、ビス（パラ−スルホナートフェニル）フェニルホスフィンカリウム、ｃＢＲＩＤＰ、ＢｉｐｐｙＰｈｏｓ、ＴｒｉｐｐｙＰｈｏｓ、ＸＰｈｏｓ（２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピル−１，１’−ビフェニル；後述の実施例のＬ５）、ｔ−Ｂｕ−ＸＰｈｏｓ（後述の実施例のＬ６）、ＪｏｈｎＰｈｏｓ（後述の実施例のＬ２）、Ｃｙ−ＪｏｈｎＰｈｏｓ（後述の実施例のＬ１）、ＭｅＰｈｏｓ、ｔ−Ｂｕ−ＭｅＰｈｏｓ、ＤａｖｅＰｈｏｓ（後述の実施例のＬ４）、ｔ−Ｂｕ−ＤａｖｅＰｈｏｓ、ＳＰｈｏｓ（後述の実施例のＬ３）、ＲｕＰｈｏｓ（２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジイソプロポキシ−１，１’−ビフェニル）、ＣａｔａＣＸｉｕｍ  Ａ、ｃａｔａＣＸｉｕｍ  ＡＢｎ、ｃａｔａＣＸｉｕｍ  ＰｔＢ、ｃａｔａＣＸｉｕｍ  ＰＣｙ、ｃａｔａＣＸｉｕｍ  ＰＯＭｅｔＢ、ｃａｔａＣＸｉｕｍ  ＰＯＭｅＣｙ、ｃａｔａＣＸｉｕｍ  ＰＩｎｔＢ、ｃａｔａＣＸｉｕｍ  ＰＩｎＣｙ、ｃａｔａＣＸｉｕｍ  ＰＩＣｙ、Ｑ−Ｐｈｏｓ、ＪＯＳＩＰＨＯＳ等が挙げられる。さらに、これらのホスフィン配位子には、ハロゲン原子（塩素原子等）、ＨＣｌ、ＨＦ、ＨＢｒ、ＨＩ、ＨＢＦ４等との塩である配位子前駆体として用いてもよい。これらは単独で使用してもよく、また、複数併用してもよい。なかでも、本工程では、選択率、収率及び安全性の観点から、ＸＰｈｏｓ（後述の実施例のＬ５）、ｔ−Ｂｕ−ＸＰｈｏｓ（後述の実施例のＬ６）、ＪｏｈｎＰｈｏｓ（後述の実施例のＬ２）、ＤａｖｅＰｈｏｓ（後述の実施例のＬ４）、Ｃｙ−ＪｏｈｎＰｈｏｓ（後述の実施例のＬ１）、ＳＰｈｏｓ（後述の実施例のＬ３）等が好ましく、ＸＰｈｏｓ（後述の実施例のＬ５）、ｔ−Ｂｕ−ＸＰｈｏｓ（後述の実施例のＬ６）、ＳＰｈｏｓ（後述の実施例のＬ３）等がより好ましく、ＸＰｈｏｓ（後述の実施例のＬ５）等がさらに好ましい。
【００５１】
本工程において、ホスフィン配位子の使用量は、選択率及び収率の観点から、前記パラジウム触媒１モルに対して、通常、０．２〜３モルが好ましく、０．３〜２．５モルがより好ましい。
【００５２】
本工程では、塩基を使用することが好ましい。つまり、工程（I）は、塩基の存在下で行われることが好ましい。本工程で使用できる塩基としては、例えば、リチウムｔｅｒｔ−ブトキシド、ナトリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等の金属アルコキシド；リチウムジイソプロピルアミド、リチウムビス（トリメチルシリル）アミド、ナトリウムビス（トリメチルシリル）アミド、カリウムビス（トリメチルシリル）アミド等の金属アミド等が挙げられる。これらは単独で使用してもよく、また、複数併用してもよい。なかでも、本工程では、選択率、収率及び安全性の観点から、金属アルコキシドが好ましく、リチウムｔｅｒｔ−ブトキシド、ナトリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等がより好ましく、リチウムｔｅｒｔ−ブトキシドがさらに好ましい。
【００５３】
本工程において、塩基を使用する場合、塩基の使用量は、選択率及び収率の観点から、前記一般式（５）で示されるメチルアリールスルホン化合物１モルに対して、通常、０．５〜４モルが好ましく、１〜３モルがより好ましい。
【００５４】
本工程は、通常、反応溶媒下で行われる。使用できる反応溶媒としては、例えば、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジイソブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル（ＣＰＭＥ）等のエーテル系溶媒；ベンゼン、トルエン、ｏ−キシレン、ｍ−キシレン、ｐ−キシレン、混合キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素溶媒等の有機溶媒を用いることが好ましい。これらは単独で使用してもよく、また、複数併用してもよい。なかでも、選択率、収率及び安全性の観点から、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、トルエン、ｍ−キシレン等が好ましく、シクロペンチルメチルエーテルがより好ましい。
【００５５】
これらの反応溶媒（有機溶媒）の使用量は、反応が進行すれば特に限定されるものではないが、通常、一般式（５）で示されるメチルアリールスルホン化合物の濃度が０．１〜５ｍｏｌ／Ｌ、好ましくは０．１〜２ｍｏｌ／Ｌとなるように調整することが好ましい。
【００５６】
本工程の反応温度は、使用する反応溶媒の沸点等によっても異なるが、通常１００℃以上、特に１００〜３００℃程度、さらに１１０〜２５０℃程度の反応温度で実施することが好ましい。また、本工程は通常、不活性ガス（例えば、窒素、アルゴン、ヘリウム等）気流下で実施することが好ましい。また、反応は、常圧で実施してもよく、また、必要に応じて、減圧又は加圧条件下で実施することも可能であるが、常圧下で実施することが好ましい。反応時間は、特に制限はなく、反応が十分に進行する時間とすればよい。
【００５７】
反応の進行は、クロマトグラフィーのような通常の方法で追跡することができる。反応終了後、溶媒を留去し、生成物はクロマトグラフィー法、再結晶法等の通常の方法で単離精製することができる。また、生成物の構造は、元素分析、ＭＳ（ＦＤ−ＭＳ）分析、ＩＲ分析、１Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲ等により同定することができる。
【００５８】
また、本工程で合成されるアリールメチルアリールスルホン化合物は、精製処理を施さずに次の工程（工程（II））に用いてもよいが、必要に応じて、活性炭処理、再結晶、カラムクロマトグラフィー等の通常の精製方法により精製することも可能である。
【００５９】
２．工程（II）：アリールメチルアリールスルホン化合物のアリール化
本工程では、
（II）一般式（４）：
Ａｒ１−ＣＨ２−ＳＯ２−Ａｒ      （４）
［式中、Ａｒ１及びＡｒは前記に同じである。］
で示されるアリールメチルアリールスルホン化合物と、
一般式（７）：
Ａｒ２−Ｘ１      （７）
［式中、Ａｒ２は前記に同じ；Ｘ１はハロゲン原子である。］
で示されるハロゲン化アレーン化合物とを、パラジウム触媒及びホスフィン配位子の存在下で反応させる工程
により、ジアリールメチルアリールスルホン化合物を合成する。
【００６０】
一般式（４）で示されるアリールメチルアリールスルホン化合物は、前記工程（I）で合成することができる化合物であり、種々様々な化合物を採用することができる。また、一般式（４）におけるＡｒ及びＡｒ１は、前記説明したものを挙げることができる。好ましい具体例も同様である。
【００６１】
一般式（７）において、置換基Ａｒ２は、置換又は無置換の芳香族基である。一般式（７）において、置換基Ａｒ２における芳香族基、Ａｒ２が置換されている場合の置換基の種類及び数、Ａｒ２が置換されている場合の置換された芳香族基としては、上記Ａｒについて詳述したものと同様のものを採用することができる。
【００６２】
置換基Ａｒ２は、最終生成物であるトリアリールメタン化合物が有するアリール基（芳香族基）のうち１つを構成しており、種々様々な芳香族基を採用することができるが、本反応の収率の観点から、置換若しくは無置換の単環芳香族炭化水素基、又は置換若しくは無置換の単環芳香族複素環式基が好ましく、置換若しくは無置換の六員単環芳香族炭化水素基、又は置換若しくは無置換の五又は六員単環芳香族複素環式基がより好ましく、フェニル基、トリル基（ｏ−トリル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基等）、メトキシフェニル基（２−メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基等）、ベンジルオキシフェニル基（２−ベンジルオキシフェニル基、３−ベンジルオキシフェニル基、４−ベンジルオキシフェニル基等）、フルオロフェニル基（２−フルオロフェニル基、３−フルオロフェニル基、４−フルオロフェニル基等）、トリフロオロメチルフェニル基（２−トリフロオロメチルフェニル基、３−トリフロオロメチルフェニル基、４−トリフロオロメチルフェニル基等）、クロロフェニル基（２−クロロフェニル基、３−クロロフェニル基、４−クロロフェニル基等）、ペンタフルオロフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基（２−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、３−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基等）、ナフチル基（１−ナフチル基、２−ナフチル基等）、チエニル基（２−チエニル基、３−チエニル基等）、フリル基（２−フリル基、３−フリル基等）、ピリジル基（２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基等）、インドリル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラジニル基等がさらに好ましく、フェニル基、トリル基（ｏ−トリル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基等）、メトキシフェニル基（２−メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基等）、フルオロフェニル基（２−フルオロフェニル基、３−フルオロフェニル基、４−フルオロフェニル基等）、トリフロオロメチルフェニル基（２−トリフロオロメチルフェニル基、３−トリフロオロメチルフェニル基、４−トリフロオロメチルフェニル基等）、チエニル基（２−チエニル基、３−チエニル基）等が特に好ましく、フェニル基、ｐ−トリル基、４−メトキシフェニル基、４−フルオロフェニル基、４−トリフロオロメチルフェニル基、３−チエニル基等が最も好ましい。
【００６３】
一般式（７）において、Ｘ１はハロゲン原子であり、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。これらのなかでも、本工程における選択性及び収率の観点から、臭素原子及びヨウ素原子が好ましく、特にヨウ素原子が好ましい。
【００６４】
本工程において、一般式（７）で示されるハロゲン化アレーン化合物の使用量は、選択率及び収率の観点から、前記一般式（４）で示されるアリールメチルアリールスルホン化合物１モルに対して、通常、０．２〜３モルが好ましく、１〜２．５モルがより好ましい。
【００６５】
本工程で使用するパラジウム触媒としては、特に限定されるものではないが、例えば、ｐ−アリルパラジウム（II）クロリドダイマー（［ＰｄＣｌ（allyl）］２）、ｐ−シンナミルパラジウム（II）クロリドダイマー、ジ−μ−クロロビス（２’−アミノ−１，１’−ビフェニル−２−Ｃ，Ｎ）ジパラジウム（II）、酢酸パラジウム（Ｐｄ（ＯＣＯＣＨ３）２；Ｐｄ（ＯＡｃ）２）、トリフルオロ酢酸パラジウム（Ｐｄ（ＯＣＯＣＦ３）２）、塩化パラジウム（ＰｄＣｌ２）、臭化パラジウム（ＰｄＢｒ２）、ヨウ化パラジウム（ＰｄＩ２）、Ｐｄ（ＣＨ２ＣＯＣＨ２ＣＯＣＨ３）２、Ｋ２ＰｄＣｌ４、Ｋ２ＰｄＣｌ６、Ｋ２Ｐｄ（ＮＯ３）４、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（0）、ビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウム（0）、ジクロロビス（エチレン）パラジウム（ＰｄＣｌ２（Ｃ２Ｈ４）２）、ジクロロ（１，５−シクロオクタジエン）パラジウム（II）、２，５−ノルボルナジエンパラジウムジクロリド、ビス（アセトニトリル）パラジウムジクロリド、ビス（ベンゾニトリル）パラジウムジクロリド、Ｐｄ（π−Ｃ５Ｈ５）２等の有機配位子錯体；ＰｄＣｌ２（ＮＨ３）２、ＰｄＣｌ２［Ｎ（Ｃ２Ｈ５）３］ ２、Ｐｄ（ＮＯ３）２（ＮＨ３）６等のＮ−配位錯体等を挙げることができる。これらは単独で使用してもよく、また、複数併用してもよい。なかでも、本工程では、選択率、収率及び安全性の観点から、有機配位子錯体が好ましく、ｐ−アリルパラジウム（II）クロリドダイマー、酢酸パラジウム（Ｐｄ（ＯＣＯＣＨ３）２）、トリフロオロ酢酸パラジウム、ビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウム（0）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（0）がより好ましく、ｐ−アリルパラジウム（II）クロリドダイマーがさらに好ましい。
【００６６】
本工程において、パラジウム触媒の使用量は、選択率及び収率の観点から、前記一般式（４）で示されるアリールメチルアリールスルホン化合物１モルに対して、通常、０．０２〜１モルが好ましく、０．０３〜０．２５モルがより好ましい。
【００６７】
本工程で使用するホスフィン配位子としては、特に限定されるものではないが、例えば、工程（I）で使用されるのと同様のホスフィン配位子を例示することができる。さらに、これらのホスフィン配位子には、ハロゲン原子（塩素原子等）、ＨＣｌ、ＨＦ、ＨＢｒ、ＨＩ、ＨＢＦ４等との塩である配位子前駆体として用いてもよい。これらは単独で使用してもよく、また、複数併用してもよい。なかでも、本工程では、選択率、収率及び安全性の観点から、トリ（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィン、トリ（シクロヘキシル）ホスフィン、ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）メチルホスフィン、ＪｏｈｎＰｈｏｓ（後述の実施例のＬ２）、Ｃｙ−ＪｏｈｎＰｈｏｓ（後述の実施例のＬ１）等が好ましく、トリ（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィン、トリ（シクロヘキシル）ホスフィン、ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）メチルホスフィン等がより好ましく、トリ（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィン等がさらに好ましい。
【００６８】
本工程において、ホスフィン配位子の使用量は、選択率及び収率の観点から、前記パラジウム触媒１モルに対して、通常、０．２〜３モルが好ましく、０．３〜２．５モルがより好ましい。
【００６９】
本工程では、塩基を使用することが好ましい。つまり、工程（II）は、塩基の存在下で行われることが好ましい。本工程で使用できる塩基としては、例えば、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、ナトリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、リチウムｔｅｒｔ−ブトキシド等の金属アルコキシド；リチウムジイソプロピルアミド、リチウムビス（トリメチルシリル）アミド、ナトリウムビス（トリメチルシリル）アミド、カリウムビス（トリメチルシリル）アミド等の金属アミド等を挙げることができる。これらは単独で使用してもよく、また、複数併用してもよい。なかでも、本工程では、選択率、収率及び安全性の観点から、金属アルコキシドが好ましく、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、ナトリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等がより好ましく、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシドがさらに好ましい。
【００７０】
本工程において、塩基を使用する場合、塩基の使用量は、選択率及び収率の観点から、前記一般式（４）で示されるアリールメチルアリールスルホン化合物１モルに対して、通常、０．５〜５モルが好ましく、１〜４モルがより好ましい。
【００７１】
本工程は、通常、反応溶媒下で行われる。使用できる反応溶媒としては、上記工程（I）で使用されるのと同様の反応溶媒が例示される。これらは単独で使用してもよく、また、複数併用してもよい。なかでも、選択率、収率及び安全性の観点から、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、トルエン、ｍ−キシレン等が好ましく、１，４−ジオキサンがより好ましい。
【００７２】
これらの反応溶媒（有機溶媒）の使用量は、反応が進行すれば特に限定されるものではないが、通常、一般式（４）で示されるアリールメチルアリールスルホン化合物の濃度が０．１〜５ｍｏｌ／Ｌ、好ましくは０．１〜２ｍｏｌ／Ｌとなるように調整することが好ましい。
【００７３】
本工程の反応温度は、使用する反応溶媒の沸点等によっても異なるが、通常４０℃以上、特に６０〜２００℃程度、さらに６５〜１８０℃程度の反応温度で実施することが好ましい。また、本工程は通常、不活性ガス（例えば、窒素、アルゴン、ヘリウム等）気流下で実施することが好ましい。また、反応は、常圧で実施してもよく、また、必要に応じて、減圧又は加圧条件下で実施することも可能であるが、常圧下で実施することが好ましい。反応時間は、特に制限はなく、反応が十分に進行する時間とすればよい。
【００７４】
反応の進行は、クロマトグラフィーのような通常の方法で追跡することができる。反応終了後、溶媒を留去し、生成物はクロマトグラフィー法、再結晶法等の通常の方法で単離精製することができる。また、生成物の構造は、元素分析、ＭＳ（ＦＤ−ＭＳ）分析、ＩＲ分析、１Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲ等により同定することができる。
【００７５】
また、本工程で合成されるアリールメチルアリールスルホン化合物は、精製処理を施さずに次の工程（工程（III））に用いてもよいが、必要に応じて、活性炭処理、再結晶、カラムクロマトグラフィー等の通常の精製方法により精製することも可能である。
【００７６】
３．工程（III）：ジアリールメチルアリールスルホン化合物のアリール化
本工程では、
（III）一般式（２）：
【００７７】
【化５】
2015064584.tif 000006
【００７８】
［式中、Ａｒ１、Ａｒ２及びＡｒは前記に同じである。］
で示されるジアリールメチルアリールスルホン化合物と、
一般式（３）：
【００７９】
【化６】
2015064584.tif 000007
【００８０】
［式中、Ａｒ３は前記に同じ；Ｒ１及びＲ２は同じか又は異なり、それぞれアルキル基；Ｒ１とＲ２は互いに結合し、隣接する−Ｏ−Ｂ−Ｏ−とともに環を形成してもよい。］
で示されるアリールボロン酸又はそのエステル化合物とを、パラジウム触媒及び含窒素複素環式カルベン配位子の存在下で反応させる工程
により、目的化合物であるトリアリールメタン化合物を合成する。
【００８１】
一般式（２）で示されるジアリールメチルアリールスルホン化合物は、前記工程（II）で合成することができる化合物であり、種々様々な化合物を採用することができる。また、一般式（２）におけるＡｒ、Ａｒ１及びＡｒ２は、前記説明したものを挙げることができる。好ましい具体例も同様である。
【００８２】
一般式（３）において、置換基Ａｒ３は、置換又は無置換の芳香族基である。一般式（３）において、置換基Ａｒ３における芳香族基、Ａｒ３が置換されている場合の置換基の種類及び数、Ａｒ３が置換されている場合の置換された芳香族基としては、上記Ａｒについて詳述したものと同様のものを採用することができる。
【００８３】
置換基Ａｒ３は、最終生成物であるトリアリールメタン化合物が有するアリール基（芳香族基）のうち１つを構成しており、種々様々な芳香族基を採用することができるが、本反応の収率の観点から、置換若しくは無置換の単環芳香族炭化水素基、又は置換若しくは無置換の単環芳香族複素環式基が好ましく、置換若しくは無置換の六員単環芳香族炭化水素基、又は置換若しくは無置換の五又は六員単環芳香族複素環式基がより好ましく、フェニル基、トリル基（ｏ−トリル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基等）、メトキシフェニル基（２−メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基等）、ベンジルオキシフェニル基（２−ベンジルオキシフェニル基、３−ベンジルオキシフェニル基、４−ベンジルオキシフェニル基等）、フルオロフェニル基（２−フルオロフェニル基、３−フルオロフェニル基、４−フルオロフェニル基等）、トリフロオロメチルフェニル基（２−トリフロオロメチルフェニル基、３−トリフロオロメチルフェニル基、４−トリフロオロメチルフェニル基等）、クロロフェニル基（２−クロロフェニル基、３−クロロフェニル基、４−クロロフェニル基等）、アセチル基（２−アセチル基、３−アセチル基、４−アセチル基等）、ペンタフルオロフェニル基、アルコキシカルボニル基（２−メトキシカルボニル基、３−メトキシカルボニル基、４−メトキシカルボニル基等）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基（２−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、３−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基等）、アミノカルボニル基（２−ジメチルアミノカルボニル基、３−ジメチルアミノカルボニル基、４−ジメチルアミノカルボニル基等）、シリル基（２−トリメチルシリル基、３−トリメチルシリル基、４−トリメチルシリル基等）、チエニル基（２−チエニル基、３−チエニル基）、フリル基（２−フリル基、３−フリル基等）、ピリジル基（２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基等）、インドリル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラジニル基等がさらに好ましく、フェニル基、トリル基（ｏ−トリル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基等）、メトキシフェニル基（２−メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基等）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基（２−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、３−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基等）、フルオロフェニル基（２−フルオロフェニル基、３−フルオロフェニル基、４−フルオロフェニル基等）、トリフロオロメチルフェニル基（２−トリフロオロメチルフェニル基、３−トリフロオロメチルフェニル基、４−トリフロオロメチルフェニル基等）、アセチル基（２−アセチル基、３−アセチル基、４−アセチル基等）、シリル基（２−トリメチルシリル基、３−トリメチルシリル基、４−トリメチルシリル基等）、９−フェナントリル基、チエニル基（２−チエニル基、３−チエニル基等）、フリル基（２−フリル基、３−フリル基等）、ピリジル基（２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基等）等が特に好ましく、フェニル基、ｏ−トリル基、ｐ−トリル基等、４−メトキシフェニル基等、４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、４−フルオロフェニル基、４−トリフロオロメチルフェニル基、４−アセチル基、４−トリメチルシリル基、９−フェナントリル基、３−チエニル基、３−フリル基、３−ピリジル基等が最も好ましい。
【００８４】
一般式（３）において、Ｒ１及びＲ２で示されるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基等のＣ１−８−アルキル基等が採用できる。このアルキル基に置換し得る置換基としては、上記説明したＡｒに置換し得る置換基が挙げられる。置換基の数についても同様である。
【００８５】
また、一般式（３）において、Ｒ１及びＲ２がともにアルキル基である場合、互いに結合して、隣接する−Ｏ−Ｂ−Ｏ−とともに環を形成してもよい。この場合、上記アリールボロン酸又はそのエステル化合物は、例えば、
【００８６】
【化７】
2015064584.tif 000008
【００８７】
［式中、Ａｒ３は前記に同じである。］
等が挙げられる。
【００８８】
一般式（３）で示されるアリールボロン酸のエステル化合物を使用する場合、その具体例としては、例えば、ジメチルエステル、ジエチルエステル、ジプロピルエステル、ジイソプロピルエステル、ジブチルエステル、ジヘキシルエステル、ジシクロヘキシルエステル、エチレングリコールエステル、プロピレングリコール（１，２−プロパンジオールエステル、１，３−プロパンジオールエステル）、トリメチレングリコールエステル、ネオペンチルグリコールエステル、ピナコールエステル、カテコールエステル、グリセリンエステル、トリメチロールエタンエステル、Ｎ−メチルイミノ二酢酸エステル等を挙げることができる。
【００８９】
アリールボロン酸及びアリールボロン酸のエステルのなかでも、収率の観点から、アリールボロン酸を使用することが好ましい。
【００９０】
本工程において、一般式（３）で示されるアリールボロン酸又はそのエステル化合物の使用量は、選択率及び収率の観点から、前記一般式（２）で示されるジアリールメチルアリールスルホン化合物１モルに対して、通常、０．５〜５モルが好ましく、１〜４モルがより好ましい。
【００９１】
本工程で使用するパラジウム触媒としては、特に限定されるものではないが、例えば、前記工程（II）において使用されるパラジウム触媒と同様のものを使用することができる。これらは単独で使用してもよく、また、複数併用してもよい。なかでも、本工程では、選択率、収率及び安全性の観点から、有機配位子錯体が好ましく、ｐ−アリルパラジウム（II）クロリドダイマー、酢酸パラジウム（Ｐｄ（ＯＣＯＣＨ３）２）、トリフロオロ酢酸パラジウム、ビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウム（0）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（0）がより好ましく、ｐ−アリルパラジウム（II）クロリドダイマーがさらに好ましい。
【００９２】
本工程で使用する含窒素複素環式カルベン配位子としては、特に制限されないが、例えば、以下のものが挙げられる。
【００９３】
【化８】
2015064584.tif 000009
【００９４】
前記式（Ａ）〜（Ｃ）中、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１はそれぞれ独立して、水素又はＣ１−２０−アルキル基（メチル基、エチル基等）、Ｃ２−２０−アルケニル基（ビニル基、アリル基等）、Ｃ２−２０−アルキニル基（エチニル基、プロパルギル基等）、アリール基（フェニル基、ナフチル基等）、Ｃ１−２０−アシルオキシ基（アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基等）、Ｃ１−２０−アルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基等）、Ｃ２−２０−アルケニルオキシ基（ビニルオキシ基、アリルオキシ基等）、Ｃ２−２０−アルキニルオキシ基（エチニルオキシ基、プロパルギルオキシ基等）、アリールオキシ基（フェニルオキシ基、ナフチルオキシ基等）、Ｃ２−２０−アルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等）、Ｃ１−２０−アルキルチオ基（メチルチオ基、エチルチオ基等）、Ｃ１−２０−アルキルスルホニル基（メチルスルホニル基、エチルスルホニル基等）及びＣ１−２０−アルキルスルフィニル基（メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基等）のうちから選択される置換基が挙げられる。任意に、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０及びＲ１１の各置換基は、Ｃ１−１０−アルキル基（メチル基、エチル基等）、Ｃ１−１０−アルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基等）及びアリール基（フェニル基、ナフチル基等）からなる１つ以上の基で置換されていてもよく、それらの各基はさらに、ハロゲン原子、Ｃ１−５−アルキル基（メチル基、エチル基等）、Ｃ１−５−アルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基等）及びフェニル基から選択される１つ以上の基で置換されていてもよい。
【００９５】
本発明で使用する含窒素複素環式カルベン配位子のなかでも、選択率及び収率の観点から、上記願窒素複素環式カルベン配位子（Ａ）が好ましい。このうち好ましい具体例としては、前記式（Ａ）において、Ｒ１０及びＲ１１がアリール基（例えば、２，６−ジイソプロピルフェニル基、メシチル基等）であり、Ｒ６及びＲ７が水素であるものが挙げられる。
【００９６】
含窒素複素環式カルベン配位子は、ハロゲン原子（塩素原子等）、ＨＣｌ、ＨＦ、ＨＢｒ、ＨＩ、ＨＢＦ４等との塩である配位子前駆体として用いてもよい。また、ＰＥＰＰＳＩＴＭ−ＩＰｒ触媒（Ｓｉｇｍａ−Ａｌｄｒｉｃｈ社、別名：［１，３−ビス（２，６−ジイソプロピルフェニル）イミダゾール−２−イリデン］（３−クロロピリジル）パラジウム（II）ジクロリド）のような市販のＰｄ−ＮＨＣ錯体として用いてもよい。
【００９７】
本工程において、含窒素複素環式カルベン配位子の使用量は、選択率及び収率の観点から、前記パラジウム触媒１モルに対して、通常、０．２〜３モルが好ましく、０．３〜２．５モルがより好ましい。
【００９８】
本工程では、塩基を使用することが好ましい。つまり、工程（III）は、塩基の存在下で行われることが好ましい。本工程で使用できる塩基としては、例えば、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、ナトリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、リチウムｔｅｒｔ−ブトキシド等の金属アルコキシド；リン酸リチウム、リン酸ナトリウム、リン酸カリウム等のリン酸アルカリ金属塩；水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム等のアルカリ金属水酸化物；炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等の炭酸アルカリ金属塩；リチウムジイソプロピルアミド、リチウムビス（トリメチルシリル）アミド、ナトリウムビス（トリメチルシリル）アミド、カリウムビス（トリメチルシリル）アミド等の金属アミド；トリエチルアミン、ジアザビシクロウンデセン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン等のアミン等を挙げることができる。これらは単独で使用してもよく、また、複数併用してもよい。なかでも、本工程では、選択率、収率及び安全性の観点から、金属アルコキシド、リン酸アルカリ金属塩、アルカリ金属水酸化物等が好ましく、アルカリ金属水酸化物等がより好ましく、水酸化ナトリウムがさらに好ましい。
【００９９】
本工程において、塩基を使用する場合、塩基の使用量は、選択率及び収率の観点から、前記一般式（２）で示されるジアリールメチルアリールスルホン化合物１モルに対して、通常、０．５〜５モルが好ましく、１〜４モルがより好ましい。
【０１００】
本工程は、通常、反応溶媒下で行われる。使用できる反応溶媒としては、例えば、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジイソブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル系溶媒、及び前記エーテル系溶媒と水との混合溶媒（好ましくは１，４−ジオキサン／水＝５／１〜５／４（モル比））；ベンゼン、トルエン、ｏ−キシレン、ｍ−キシレン、ｐ−キシレン、混合キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素溶媒及び前記芳香族炭化水素系溶媒と水との混合溶媒（好ましくはトルエン／水＝５／１〜５／４（モル比））等の溶媒を用いることが好ましい。これらは単独で使用してもよく、また、複数併用してもよい。なかでも、選択率、収率及び安全性の観点から、反応溶媒は、ジオキサン（１，４−ジオキサン）を含有することが好ましく、ジオキサン（１，４−ジオキサン）と水との混合溶媒がより好ましく、１，４−ジオキサン／水＝５／１〜５／４（モル比）の混合溶媒がさらに好ましく、１，４−ジオキサン／水＝５／２〜５／４（モル比）の混合溶媒が特に好ましい。
【０１０１】
これらの反応溶媒（有機溶媒）の使用量は、反応が進行すれば特に限定されるものではないが、通常、一般式（２）で示されるジアリールメチルアリールスルホン化合物の濃度が０．１〜５ｍｏｌ／Ｌ、好ましくは１〜２．５ｍｏｌ／Ｌとなるように調整することが好ましい。
【０１０２】
本工程の反応温度は、使用する反応溶媒の沸点等によっても異なるが、通常１００℃以上、特に１００〜３００℃程度、さらに１１０〜２５０℃程度の反応温度で実施することが好ましい。また、本工程は通常、不活性ガス（例えば、窒素、アルゴン、ヘリウム等）気流下で実施することが好ましい。また、反応は、常圧で実施してもよく、また、必要に応じて、減圧又は加圧条件下で実施することも可能であるが、常圧下で実施することが好ましい。反応時間は、特に制限はなく、反応が十分に進行する時間とすればよい。
【０１０３】
反応の進行は、クロマトグラフィーのような通常の方法で追跡することができる。反応終了後、溶媒を留去し、生成物はクロマトグラフィー法、再結晶法等の通常の方法で単離精製することができる。また、生成物の構造は、元素分析、ＭＳ（ＦＤ−ＭＳ）分析、ＩＲ分析、１Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲ等により同定することができる。
【０１０４】
また、本工程で合成されるトリアリールメタン化合物は、必要に応じて、活性炭処理、再結晶、カラムクロマトグラフィー等の通常の精製方法により精製することも可能である。
【０１０５】
以上のようにして得られるトリアリールメタン化合物が、ベンジルオキシ基等の保護基を有する場合には、常法により脱保護した後、目的に応じて種々の置換基を導入することも可能である。
【０１０６】
４．合成中間体
本発明において原料として用いられる一般式（２）で示されるジアリールメチルアリールスルホン化合物のうち、Ａｒ１及びＡｒ２の少なくとも一方がベンジルオキシ基で置換された芳香族基である化合物、すなわち、一般式（２ａ）：
【０１０７】
【化９】
2015064584.tif 000010
【０１０８】
［式中、Ａｒ１ａ、Ａｒ２ａ及びＡｒは同じか又は異なり、それぞれ置換又は無置換の芳香族基；ただし、Ａｒ１ａ及び／又はＡｒ２ａはベンジルオキシ基で置換された芳香族基である。］
で示されるジアリールメチルアリールスルホン化合物は、文献未記載の新規化合物である。
【０１０９】
当該新規化合物としては、例えば、Ａｒ１ａがベンジルオキシ基で置換されたフェニル基、Ａｒ２ａがメトキシ基で置換されていてもよいフェニル基、Ａｒが置換又は無置換のフェニル基である化合物、好ましくはＡｒ１ａが４−ベンジルオキシフェニル基、Ａｒ２ａが４−メトキシフェニル基、Ａｒがフェニル基である化合物等が挙げられる。
【０１１０】
前記一般式（２ａ）で示されるジアリールメチルアリールスルホン化合物は、本発明に従って、トリアリールメタン化合物に変換した後、脱ベンジル化して、種々の置換基を導入することにより、後述の実施例２に記載の抗乳癌剤［７］又はその類縁体等の生理活性物質を製造することも可能である。
【実施例】
【０１１１】
以下、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではない。【０１１２】
［実施例１］
（１）メチルフェニルスルホン化合物のアリール化（アリールメチルフェニルスルホン化合物の合成）【０１１３】
【化１０】
2015064584.tif 000011
【０１１４】
内容積１０ｍＬの密閉可能なガラス容器内に、磁気撹拌子を収容し、減圧下、ヒートガンで乾燥させた。その後、室温に冷却し、アルゴンガスを満たした。次いで、前記ガラス容器に、６．７ｍｇ（０．０３ｍｍｏｌ）の酢酸パラジウム、２８．６ｍｇ（０．０６ｍｍｏｌ）の２−ジシクロヘキシルホスフイノ−２’，４’，６’−トリイソプロピル−１，１’−ビフェニル（ＸＰｈｏｓ）、１．０ｍＬの脱水シクロペンチルメチルエーテル（ＣＰＭＥ）をアルゴン気流下で加えて、室温で３０分撹拌した。その後、１４０．６ｍｇ（０．９ｍｍｏｌ）のメチルフェニルスルホン、７２ｍｇ（０．９ｍｍｏｌ）のリチウムｔｅｒｔ−ブトキシド（ＬｉＯｔ−Ｂｕ）、３１．５μＬ（０．３ｍｍｏｌ）のブロモベンゼン（１ａ）、１．０ｍＬの脱水シクロペンチルメチルエーテルをアルゴン気流下で加えて、１２０℃で１２時間撹拌した。反応系を室温に冷却し、１００μＬの飽和塩化アンモニウム水溶液を加えた。反応液を、短パッドのシリカゲルで濾過した。そして、沈澱物を酢酸エチルで洗浄し、濾液を濃縮した。その後、和光純薬工業社のシリカゲルＢ−５Ｆを用いたＰＴＬＣ（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン／ジクロロメタン＝１／９／３（モル比））により、ベンジルフェニルスルホン（２ａ、白色固体）を得た。収量は５９. ７ｍｇであり、収率は８６％であった。【０１１５】
（ベンジルフェニルスルホンの物性）
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 4.31 (s, 2H), 7.07 (d, J = 7.8 Hz, 2H), 7.25 (t, J = 7.8 Hz, 2H), 7.31 (t, J = 7.8 Hz, 1H), 7.44 (t, J = 7.8 Hz, 2H), 7.59 (t, J = 7.8 Hz, 1H), 7.63 (d, J = 7.8Hz, 2H).
13C NMR (150 MHz, CDCl3) δ 62.8, 128.0, 128.5, 128.6, 128.7, 128.8, 130.7, 133.6, 137.8.
HRMS (FAB) m/z calcd for C13H12O2SNa [M+Na]+: 254.0450, found 254.0462。【０１１６】
メチルフェニルスルホン（Ｘ）とブロモベンゼン（Ｙ）との当量比、並びにホスフィン配位子、塩基（アルカリ金属アルコキシド）及び溶媒の種類を変えて、前記と同様に処理した結果を表１に示す。【０１１７】
【表１】
2015064584.tif 000012
【０１１８】
表１に示すように、酢酸パラジウム及び２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピル−１，１’−ビフェニル（ＸＰｈｏｓ）を触媒前駆体として使用することにより、エクスクルーシブ・モノアリール化が起こった。アリール化が起こると、α位のプロトンはより酸性になり、望ましくないジアリール化体を生成しやすくなくなるので、前記の結果は異なるアリール基の導入や非対称トリアリールメタンの合成に極めて有用である。【０１１９】
前記ブロモベンゼン（１ａ）を他のブロモアレーンに代える以外は前記と同様に処理して以下に示すアリールメチルフェニルスルホンを得た。
４−メチルフェニルメチルフェニルスルホン（4-Methylphenylmethyl phenyl sulfone （２ｂ））
Purification by PTLC (EtOAc/hexane/CH2Cl2 = 1:9:3).
57.7 mg, 78% isolated yield; white solid.
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 2.32 (s, 3H), 4.27 (s, 2H), 6.96 (d, J = 7.8Hz, 2H), 7.06 (d, J = 7.8 Hz, 2H), 7.45 (t, J = 7.8 Hz, 2H), 7.60 (t, J = 7.8 Hz, 1H), 7.64 (d, J = 7.8 Hz, 2H).
13C NMR (150 MHz, CDCl3) δ 21.2, 62.6, 124.9, 128.6, 128.8, 129.3, 130.7, 133.6, 138.0, 138.7.
HRMS (FAB) m/z calcd for C14H14O2SNa [M+Na]+: 269.0607, found 269.0615。
４−メトキシフェニルメチルフェニルスルホン（4-Methoxyphenylmethyl phenyl sulfone（２ｃ））
Purification by preparative recycling HPLC.
58.4 mg, 74% isolated yield; white solid.
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 3.28 (s, 3H), 4.25 (s, 2H), 6.78 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 6.99 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 7.45 (t, J = 7.2 Hz, 2H), 7.60 (t, J = 7.2 Hz, 1H), 7.64 (d, J = 7.2 Hz, 2H).
13C NMR (150 MHz, CDCl3) δ 55.2, 62.1, 114.0, 119.9, 128.6, 128.8, 131.9, 133.6, 137.9, 159.9.
HRMS (FAB) m/z calcd for C14H14O3SNa [M+Na]+: 285.0556, found 285.0563。
４−ベンジルオキシフェニルメチルフェニルスルホン（4-Benzyloxyphenylmethyl phenyl sulfone（２ｄ））
Purification by preparative recycling HPLC.
71.1 mg, 70% isolated yield; white solid.
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 4.24 (s, 2H), 5.04 (s, 2H), 6.85 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 6.99 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 7.33 (t, J = 7.2 Hz, 1H), 7.37-7.45 (m, 6H), 7.59 (t, J = 7.2 Hz, 1H), 7.63 (d, J = 7.2 Hz, 2H).
13C NMR (150 MHz, CDCl3) δ 62.2, 70.0, 115.0, 120.2, 127.4, 128.1, 128.6, 128.6, 128.8, 132.0, 133.6, 136.6, 137.9, 159.2.
HRMS (FAB) m/z calcd for C20H18O3SNa [M+Na]+: 361.0874, found 361.0881。
４−フルオロフェニルメチルフェニルスルホン（4-Fluorophenylmethyl phenyl sulfone（２ｅ））
Purlfication by preparative recycling HPLC.
61.2 mg, 82% isolated yield; white solid.
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 4.28 (s, 2H), 6.95 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 7.05-7.08 (m, 2H), 7.47 (t, J = 8.4 Hz, 2H), 7.60-7.65 (m, 3H).
13C NMR (150 MHz, CDCl3) δ 61.9, 115.6 (d, J = 23.1 Hz), 123.9, 128.5, 128.9, 132.5 (d, J = 8.7 Hz), 133.8, 137.6, 163.0 (d, J = 249 Hz).
HRMS (FAB) m/z calcd for C13H12O2FSNa [M+Na]+: 273.0356, found 273.0354。
（４−トリフルオロメチル）フェニルメチルフェニルスルホン（(4-Trifluoromethyl)phenylmethyl phenyl sulfone（２ｆ））
Purlficatlon by PTLC (EtOAc/hexane/CH2Cl2 = 1:9:3).
50.2 mg, 56% isolated yleld; white solid.
1H NMR (600 MHz, DMSO) δ 4.84 (s, 2H), 7.39 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 7.61 (t, J = 7.8 Hz, 2H), 7.68 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 7.72-7.75 (m, 3H).
13C NMR (150 MHz, DMSO) δ 60.0, 124.1 (q, J = 273 Hz), 125.1 (q, J = 8.7 Hz), 128.0, 128.8 (q, J = 31.7Hz), 129.2, 131.8, 133.5, 134.0, 138.2.
HRMS (FAB) m/z calcd for C14H11O2F3SNa [M+Na]+: 323.0324, found 323.0339。
１−ナフチルメチルフェニルスルホン（1-Naphthylmethyl phenyl sulfone（２ｇ））
Purification by PTLC (EtOAc/hexane/CH2Cl2 = 1:9:3).
66.8mg, 79% isolated yield; white solid.
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 4.82 (s, 2H), 7.20 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 7.33-7.36 (m, 3H), 7.40 (t, J = 7.8 Hz, 1H), 7.44 (t, J = 7.8 Hz, 1H), 7.51 (t, J = 7.8 Hz, 1H), 7.59 (d, J = 7.8 Hz, 2H), 7.80-7.83 (m, 3H).
13C NMR (150 MHz, CDCl3) δ 59.8, 123,5, 124.5, 125.0, 125.9, 126.6, 128.6, 128.8, 129.7, 130.6, 132.0, 133.6, 133.7, 137.9.
HRMS (FAB) m/z calcd for C17H14O2SNa [M+Na]+: 305.0607, found 305.0609。
３−チエニルメチルフェニルスルホン（3-Thienylmethyl phenyl sulfone（２ｈ））
Reaction time was 24h. Purification by PTLC (EtOAc/hexane/CH2Cl2= 1:9:3). 24.3 mg, 34% isolated yield; white solid.
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 4.37 (s, 2H), 6.90 (d, J = 4.8 Hz, 1H), 7.03 (s, 1H), 7.24 (d, J = 4.8 Hz, 1H), 7.46 (t, J = 7.8 Hz, 2H), 7.61 (t, J = 7.8 Hz, 1H), 7.65 (d, J = 7.8 Hz, 2H).
13C NMR (150 MHz, CDCl3) δ 57.5, 126.1, 126.7, 127.9, 128.4, 128.9, 128.9, 133.7, 137.8.
HRMS (FAB) m/z calcd for C11H16O2S2Na [M+Na]+: 261.0014, found 261.0019。【０１２０】
また、ブロモベンゼンにおける臭素原子を他のハロゲン原子に変えて、前記（工程（１））と同様に処理した結果を表２に示す。【０１２１】
【表２】
2015064584.tif 000013
【０１２２】
（２）アリールメチルフェニルスルホン化合物のアリール化（ジアリールメチルフェニルスルホン化合物の合成）【０１２３】
【化１１】
2015064584.tif 000014
【０１２４】
内容積１０ｍＬの密閉可能なガラス容器内に、磁気撹拌子を収容し、減圧下、ヒートガンで乾燥させた。その後、室温に冷却し、アルゴンガスを満たした。次いで、前記ガラス容器に、５．５ｍｇ（０．０３ｍｍｏｌ）アリルパラジウム（II）クロリドダイマー、１７．４ｍｇ（０．０６ｍｍｏｌ）のトリｔｅｒｔ−ブチルホスホニウムテトラフルオロボレート、１０１ｍｇ（０．９ｍｍｏｌ）のカリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、０．８ｍＬの脱水ジオキサンをアルゴン気流下で加えて、室温で３０分撹拌した。その後、６９．６ｍｇ（０．３ｍｍｏｌ）のベンジルフェニルスルホン（２ａ）、５０μＬ（０．４５ｍｍｏｌ）のヨードベンゼン（３ａ）、０．８ｍＬの脱水ジオキサンをアルゴン気流下で加えて、８０℃で１２時間撹拌した。反応系を室温に冷却し、１００μＬの飽和塩化アンモニウム水溶液を加えた。反応液を、短パッドのシリカゲルで液過した。そして、沈澱物を酢酸エチルで洗浄し、液液を濃縮した。その後、和光純薬工業社のシリカゲルＢ−５Ｆを用いたＰＴＬＣ（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン／ジクロロメタン＝１／９／３（モル比））により、ジフェニルメチルフェニルスルホン（４ａａ、白色固体）を得た。収量は７５．５ｍｇであり、収率は８２％であった。【０１２５】
（ジフェニルメチルフェニルスルホンの物性）
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 5.29 (s, 1H), 7.25-7.39 (m, 8H), 7.49-7.53 (m, 5H), 7.62 (d, J = 7.8 Hz, 2H).
13C NMR (150 MHz, CDCl3) δ 76.4, 128.58, 128.61, 128.7, 129.0, 129.9, 132.9, 133.4, 138.2.
HRMS (FAB) m/z calcd for C19H16O2SNa [M+Na]+: 331.0763, found 331.0767。【０１２６】
ハロベンゼン、パラジウム触媒、配位子、塩基（アルカリ金属アルコキシド）及び溶媒の種類、並びにベンジルフェニルスルホン（２ａ）に対するハロベンゼンの当量比を変えて、前記と同様に処理した結果を表３に示す。【０１２７】
【表３】
2015064584.tif 000015
【０１２８】
表３において、ＳＩＰｒ・ＨＣｌは１，３−ビス−（２，６−ジイソプロピルフェニル）イミダゾリニウムクロリドを意味する。【０１２９】
前記ヨードベンゼン（３ａ）及び／又はベンジルフェニルスルホン（２ａ）を他のブロモアレーン及び／又はアリールメチルフェニルスルホンに代える以外は前記と同様に処堤して以下に示すジアリールメチルフェニルスルホンを得た。
（４−メトキシフェニル）フェニルメチルフェニルスルホン（(4-Methoxyphenyl)phenylmethyl phenyl sulfone（４ａｃ））
Purification by PTLC (EtOAc/hexane/CH2Cl2 = 1:9:3).
68.6 mg, 68% isolated yield; white solid.
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 3.76 (s, 3H), 5.25 (s, 1H), 6.83 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 7.29-7.30 (m, 3H), 7.35 (t, J = 7.8 Hz, 2H), 7.44 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 7.49-7.52 (m, 3H), 7.62 (d, J = 7.8 Hz, 2H).
13C NMR (150 MHz, CDCl3) δ 55.2, 75.8, 114.0, 124.7, 128.5, 128.57, 128.62, 128.9, 129.8, 131.2, 133.2, 133.4, 138.2, 159.8.
HRMS (FAB) m/z calcd for C20H18O3SNa [M+Na]+: 361.0869, found 361.0872。
（４−フルオロフェニル）フェニルメチルフェニルスルホン（(4-Fluorophenyl)phenylmethyl phenyl sulfone（４ａｅ））
Purification by preparative recycling HPLC.
45.0 mg, 46% isolated yield; white solid.
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 5.28 (s, 1H), 7.01 (t, J = 8.4 Hz, 2H), 7.30-7.32 (m, 3H), 7.38 (t, J = 7.8 Hz, 2H), 7.49-7.54 (m, 5H), 7.62 (d, J = 7.8 Hz, 2H).
13C NMR (150 MHz, CDCl3) δ 75.6, 115.7 (d, J = 21.6 Hz), 128.7, 128.7, 128.8, 129.0, 129.8, 131.8 (d, J = 7.2 Hz), 132.8, 133.6, 138.0, 162.9 (d, J = 251 Hz).
HRMS (FAB) m/z calcd for C19H15O2FSNa [M+Na]+: 349.0669, found 349.0679。
（４−メチルフェニル）フェニルメチルフェニルスルホン（(4-Methylphenyl)phenylmethyl phenyl sulfone（４ｂａ））
Purification by PTLC (EtOAc/hexane/CH2Cl2 = 1:9:3).
79.9 mg, 83% isolated yield; white solid.
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 2.31 (s, 3H), 5.26 (s, 1H), 7.12 (d, J = 7.8 Hz, 2H), 7.29-7.30 (m, 3H), 7.36 (t, J = 7.2 Hz, 2H), 7.42 (d, J = 7.8 Hz, 2H), 7.49-7.52 (m, 3H), 7.62 (d, J = 7.2 Hz, 2H).
13C NMR (150 MHz, CDCl3) δ 21.1, 76.2, 128.5, 128.56, 128.61, 129.0, 129.4, 129.8, 129.9, 133.1, 133.4, 138.3, 138.6.
HRMS (FAB) m/z calcd for C20H18O2SNa [M+Na]+: 345.0920, found 345.0934。
ジ−（４−メトキシフェニル）メチルフェニルスルホン（Di-(4-methoxyphenyl)methyl phenyl sulfone（４ｃｃ））
Purification by preparative recycling HPLC.
83.2 mg, 75% isolated yield; white solid.
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 3.76 (s, 6H), 5.21 (s, 1H), 6.83 (d, J = 8.4 Hz, 4H), 7.36 (t, J = 7.2 Hz, 2H), 7.43 (d, J = 8.4 Hz, 4H), 7.50 (t, J = 7.2 Hz, 1H), 7.62 (d, J = 7.2 Hz, 2H).
13C NMR (150 MHz, CDCl3) δ 55.2, 75.1, 114.0, 125.0, 128.6, 128.9, 131.1, 133.3, 138.4, 159.7.
HRMS (FAB) m/z calcd for C21H20O4SNa [M+Na]+: 391.0975, found 391.0981。
（４−ベンジルオキシフェニル）（３−メトキシフェニル）メチルフェニルスルホン（(4-Benzyloxyphenyl)(4-methoxyphenyl)methyl phenyl sulfone（４ｄｃ））
Purification by preparative recycling HPLC.
87.3 mg, 66% isolated yield; white solid.
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 3.76 (s, 3H), 5.03 (s, 2H) 5.20 (s, 1H), 6.83 (d, J = 9.0 Hz, 2H), 6.90 (d, J = 9.0 Hz, 2H), 7.30-7.43 (m, 11H), 7.49 (t, J = 7.8 Hz, 1H), 7.61 (d, J = 7.8 Hz, 2H).
13C NMR (150 MHz, CDCl3) δ 55.2, 69.9, 75.2, 114.0, 114.9, 124.9, 125.2, 127.4, 128.0, 128.6, 128.9, 131.10, 131.13, 133.3, 136.6, 138.3, 158.9, 159.7.
HRMS (FAB) m/z calcd for C27H24O4SNa [M+Na]+: 467.1293, found 467.1300。
（４−フルオロフェニル）（４−メチルフェニル）メチルフェニルスルホン（(4-Fluorophenyl)(4-methylphenyl)methyl phenyl sulfone（４ｅｂ））
Purification by PTLC (EtOAc/hexane/CH2Cl2 = 1:9:3).
79.4 mg, 78% isolated yield; white solid.
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 2.32 (s, 3H), 5.24 (s, 1H), 6.98-7.01 (m, 2H), 7.13 (d, J = 7.2 Hz, 2H), 7.37-7.39 (m, 4H), 7.48-7.54 (m, 3H), 7.62 (d, J = 7.2 Hz, 2H).
13C NMR (150 MHz, CDCl3) δ 21.1, 75.3, 115.7 (d, J = 21.6 Hz), 128.7, 128.9, 129.0, 129.5, 129.6, 129.7, 131.7 (d, J = 8.7 Hz), 133.6, 138.1, 138.8, 162.8 (d, J = 238 Hz).
HRMS (FAB) m/z calcd for C20H17O2SFNa [M+Na]+: 363.0825, found 363.0839。
フェニル（４−トリフルオロメチルフェニル）メチルフェニルスルホン（Phenyl(4-trifluoromethylphenyl)methyl phenyl sulfone（４ｆａ））
Reaction was conducted at 60℃. Purification by PTLC (EtOAc/hexane/CH2Cl2= 1:9.3).
97.4 mg, 86% isolated yield; white solid.
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 5.36 (s, 1H), 7.29-7.32 (m, 3H), 7.37 (t, J = 7.2 Hz, 2H), 7.47-7.48 (m, 2H), 7.53 (t, J = 7.2 Hz, 1H), 7.59 (d, J = 7.8 Hz, 2H), 7.63 (d, J = 7.8 Hz, 2H), 7.71 (d, J = 7.2 Hz, 2H).
13C NMR (150 MHz, CDCl3) δ 75.9, 123.8 (q, J = 274 Hz), 125.6 (br.d, J = 4.2 Hz), 128.8, 128.9, 128.96, 128.99, 129.8, 130.3, 130.8 (q, J = 33 Hz), 132.2, 133.8, 136.9, 137.8.
HRMS (FAB) m/z calcd for C20H15O2F3SNa [M+Na]+: 399.0637, found 399.0647。
ジ（４−トリフルオロメチルフェニル）メチルフェニルスルホン（Di-(4-trifluoromethylphenyl)methyl phenyl sulfone（４ｆｆ））
Purification by PTLC (EtOAc/hexane/CH2Cl2 = 1:9:3).
62.4 mg, 47% isolated yield; white solid.
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 5.44 (s, 1H), 7.40 (t, J = 7.8 Hz, 2H), 7.55-7.60 (m, 5H), 7.63-7.66 (m, 6H).
13C NMR (150 MHz, CDCl3) δ 75.2, 123.7 (q, J = 274 Hz), 125.8 (br.d, J = 4.4 Hz), 128.9, 129.0, 130.2, 131.1 (q, J = 31.7 Hz), 134.2, 136.2, 137.4.
HRMS (FAB) m/z calcd for C21H14O2SF6Na [M+Na]+: 467.0516, found 467.0509。
（１−ナフチル）フェニルメチルフェニルスルホン（(1-Naphthyl)phenylmethyl phenyl sulfone（４ｇａ））
Reaction time was 12h. Purification by PTLC (EtOAc/hexane/CH2Cl2= 1:9:3).
85.4 mg, 79% isolated yield; white solid.
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 6.22 (s, 1H), 7.26-7.27 (m, 3H), 7.30 (t, J = 7.8 Hz, 2H), 7.31-7.41 (m, 2H), 7.45 (dt, J = 7.2, 1.2 Hz, 1H), 7.49-7.50 (m, 2H), 7.57 (t, J = 7.8 Hz, 1H), 7.64 (dd, J = 8.4, 1.2 Hz, 2H), 7.79-7.83 (m, 3H), 8.48 (d, J = 7.2 Hz, 1H).
13C NMR (150 MHz, CDCl3) δ 70.7, 121.9, 125.3, 125.6, 126.7, 127.3, 128.55, 128.61, 128.64, 128.95, 129.03, 129.1, 129.2, 130.3, 131.4, 133.0, 133.5, 133.9, 138.4.
HRMS (FAB) m/z calcd for C23H18O2SNa [M+Na]+: 381.0920, found 381.0916。
フェニル（３−チエニル）メチルフェニルスルホン（Phenyl(3-thienyl)methyl phenyl sulfone（４ｈａ））
Purification by PTLC (EtOAc/hexane/CH2Cl2 = 1:9:3).
39.5 mg, 42% isolated yield; white solid.
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 5.44 (s, 1H), 7.29-7.31 (m, 5H), 7.36 (t, J = 7.8 Hz, 2H), 7.41 (s, 1H), 7.44-7.45 (m, 2H), 7.51 (t, J = 7.8 Hz, 1H), 7.59 (d, J = 7.8 Hz, 2H).
13C NMR (150 MHz, CDCl3) δ 72.3, 126.0, 126.1, 128.55, 128.57, 128.60, 128.8, 128.9, 130.1, 132.42, 132.44, 133.5, 137.8.
HRMS (FAB) m/z calcd for C17H14O2S2Na [M+Na]+: 337.0327, found 337.0329。
ジ（３−チエニル）メチルフェニルスルホン（Di-(3-thienyl)methyl phenyl sulfone（４ｈｈ））
3 equivalents of Ar2I were used. Reaction was conducted at 120℃. Purification by PTLC (EtOAc/hexane/CH2Cl2 = 1:9:3).
28.9 mg, 30% isolated yield; pale yellow solid.
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 5.59 (s, 1H), 7.25-7.26 (m, 2H), 7.30-7.31 (m, 4H), 7.38 (dt, J = 7.2, 1.2 Hz, 2H), 7.53 (dt, J = 7.2, 1.2 Hz, 1H), 7.58 (dd, J = 7.2, 1.2 Hz, 2H).
13C NMR (150 MHz, CDCl3) δ 67.8, 126.1, 126.4, 128.5, 128.6, 128.9, 132.3, 133.5, 137.6.
HRMS (FAB) m/z calcd for C15H12O2S3Na [M+Na]+: 342.9892, found 342.9899。【０１３０】
また、ヨードベンゼンにおけるヨウ素原子を他のハロゲン原子に変えて、前記（工程（２））と同様に処理した結果を表４に示す。【０１３１】
【表４】
2015064584.tif 000016
【０１３２】
（３）ジアリールメチルフェニルスルホン化合物のアリール化（トリアリールメタン化合物の合成）【０１３３】
【化１２】
2015064584.tif 000017
【０１３４】
内容積１０ｍＬの密閉可能なガラス容器内に、磁気撹幹子を収容し、減圧下、ヒートガンで乾燥させた。その後、室温に冷却し、アルゴンガスを満たした。次いで、前記ガラス容器に、５．５ｍｇ（０．０３ｍｍｏｌ）のアリルパラジウム（II）クロリドダイマー、１２．８ｍｇ（０．０３ｍｍｏｌ）の１，３−ビス−（２，６−ジイソプロピルフェニル）イミダゾリニウムクロリド（ＳＩＰｒ・ＨＣｌ）、０．７５ｍＬの脱水ジオキサン、０．９ｍＬ（０．９ｍｍｏ１）の１Ｍ水酸化ナトリウム水溶液をアルゴン気流下で加えて、室温で３０分撹拌した。その後、９２．４ｍｇ（０．３ｍｍｏｌ）のジフェニルメチルフェニルスルホン（４ａａ）、８１．６ｍｇ（０．６ｍｍｏｌ）のｐ−トリルボロン酸（５ｂ）、０．７５ｍＬの脱水ジオキサンをアルゴン気流下加えて、１２０℃で１２時間撹拌した。反応系を室温に冷却し反応液を、短パッドのシリカゲルで液過した。そして、沈澱物を酢酸エチルで洗浄し、溶液を濃縮した。その後、和光純薬工業社のシリカゲルＢ−５Ｆを用いたＰＴＬＣ（展開溶媒：ヘキサン）により、（４−メチルフェニル）ジフェニルメタン（白色固体）を得た。収量は６５．８ｍｇであり、収率は８５％であった。【０１３５】
（（４−メチルフェニル）ジフェニルメタンの物性）
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 2.32 (s, 3H), 5.51 (s, 1H), 7.00 (d, J = 7.8 Hz, 2H), 7.09 (d, J = 7.8 Hz, 2H), 7.11 (d, J = 7.8 Hz, 4H), 7.20 (t, J = 7.8 Hz, 2H), 7.27 (t, J = 7.8 Hz, 4H).
13C NMR (150 MHz, CDCl3) δ 21.0, 56.4, 126.2, 128.2, 129.0, 129.3, 129.4, 135.8, 140.9, 144.1.
HRMS (DART) m/z calcd for C20H17 [M-H]+: 257.1330, found 257.1333。【０１３６】
配位子、塩基及び溶媒の種類を変えて、前記と同様に処理した結果を表５に示す。【０１３７】
【表５】
2015064584.tif 000018
【０１３８】
代表的なホスフィン類（一座・二座ホスフィン配位子）及びアミン配位子は望ましい生成物６ａａｂを与えなかった（表５、entries 1-6）。【０１３９】
一方、配位子として、１，３−ビス−（２，６−ジイソプロピルフェニル）イミダゾール−２−イリデン（ＳＩＰｒ）、１，３−ジメシチルイミダゾール−２−イリデン（ＩＭｅｓ）、１，３−ジシクロ-キシルイミダゾール−２−イリデン（ＩＣｙ）等の含窒素複素環式カルベン配位子（ＮＨＣ）配位子を用いると、望ましい生成物６ａａｂが得られた(entries 7-13)。また、ＰＥＰＰＳＩＴＭ−ＩＰｒ触媒（sigma-Aldrich社、別名：［１，３−ビス（２，６−ジイソプロピルフェニル）イミダゾール−２−イリデン］（３−クロロピリジル）パラジウム（II）ジクロリド）のような市販のＰｄ−ＮＨＣ錯体も類似の反応性を示した（表５、entry 14）。ｐ−トリルボロン酸（５ｂ）のピナコールエステルも望ましい生成物６ａａｂを好収率で与えた（表５、entry 15）。【０１４０】
前記ジフェニルメチルフェニルスルホン（４ａａ）及び／又はｐ−トリルボロン酸（５ｂ）を他のジアリールメチルフェニルスルホン及び／又はアリールボロン酸に代える以外は前記と同様に処理して以下に示すトリアリールメタンを得た。
トリフェニルメタン（Triphenylmethane（６ａａａ））
Purification by PTLC (hexane).
66.0 mg, 90% isolated yield; white solid.
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 5.54 (s, 1H), 7.11 (d, J = 7.8 Hz, 6H), 7.19 (t, J = 7.8 Hz, 3H), 7.26 (t, J = 7.8 Hz, 6H).
13C NMR (150 MHz, CDCl3) δ 56.8, 126.3, 128.3, 129.4, 143.9.
HRMS (DART) m/z calcd for C19H15 [M-H]+: 243.1174, found243.1168。
（４−メトキシフェニル）ジフェニルメタン（(4-Methoxyphenyl)diphenylmethane（６ａａｃ））
Purification by preparative recycling HPLC.
75.6 mg, 92% isolated yield; colorless oil.
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 3.75 (s, 3H), 5.49 (s, 1H), 6.81 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 7.02 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 7.10 (d, J = 7.2 Hz, 4H), 7.19 (t, J = 7.2 Hz, 2H), 7.26 (t, J = 7.2 Hz, 4H).
13C NMR (150MHz, CDCl3) δ 55.2, 56.0, 113.6, 126.2, 128.2, 129.3, 130.3, 136.1, 144.2, 158.0.
HRMS (DART) m/z calcd for C20H17O [M-H]+: 273.1279, found273.1277。
［４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）フェニル］ジフェニルメタン（[4-(N,N-Dimethylamino)phenyl]diphenylmethane（６ａａｉ））
Purification by PTLC (hexane:EtOAc = 20:1).
76.0mg, 88% isolated yield; pale yellow solid.
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 2.89 (s, 6H), 5.45 (s, 1H), 6.65 (d, J = 9.0 Hz, 2H), 6.97 (d, J = 9.0 Hz, 2H), 7.12 (d, J = 7.8 Hz, 4H), 7.17 (t, J = 7.8 Hz, 2H), 7.25 (t, J = 7.8 Hz, 4H).
13C NMR (150 MHz, CDCl3) δ 40.6, 55.9, 112.5, 126.0, 128.1, 129.4, 130.0, 131.9, 144.7, 149.0.
HRMS (DART) m/z calcd for C21H20N [M-H]+: 286.1596, found 286.1592。
（４−フルオロフェニル）ジフェニルメタン（(4-Fluorophenyl)diphenylmethane（６ａａｅ））
Purification by PTLC (hexane).
69.9 mg, 89% isolated yield; white solid.
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 5.52 (s, 1H), 6.95 (t, J = 8.4 Hz, 2H), 7.04-7.07 (m, 2H), 7.08 (d, J = 7.2 Hz, 4H), 7.21 (t, J = 7,2 Hz, 2H), 7.27 (t, J = 7.2 Hz, 4H).
13C NMR (150 MHz, CDCl3) δ 56.0, 115.1 (d, J = 21.6 Hz), 126.4, 128.4, 129.3, 130.8 (d, J = 8.7 Hz), 139.6 (d, J = 2.9 Hz), 143.7, 161.4 (d, J = 245 Hz).
HRMS (DART) m/z calcd for C19H14F [M-H]+: 261.1080, found 261.1081。
ジフェニル［４−（トリフルオロメチル）フェニル］メタン（Diphenyl[4-(trifluoromethyl)phenyl]methane（６ａａｆ））
Reaction was conducted at 150℃. Purification by PTLC (hexane).
77.3 mg, 83% isolated yield; colorless oil.
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 5.59 (s, 1H), 7.09 (d, J = 7.2 Hz, 4H), 7.19-7.30 (m, 8H), 7.52 (d, J = 7.2 Hz, 2H).
13C NMR (150 MHz, CDCl3) δ 56.6, 124.3 (q, J = 272 Hz), 125.2 (br.d, J = 3.2 Hz), 126.7, 128.5, 128.6 (q, J = 31.7 Hz), 129.4, 129.8, 142.9, 148.0.
HRMS (DART) m/z calcd for C20H14F3 [M-H]+: 311.1048, found 311.1046。
ジフェニル［４−（トリメチルシリル）フェニル］メタン（Diphenyl[4-(trimethylsilyl)phenyl]methane（６ａａｊ））
Purification by PTLC (hexane).
76.1 mg, 80% isolated yield; colorless oil.
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 0.24 (s, 9H), 5.52 (s, 1H), 7.09-7.12 (m, 6H), 7.18 (t, J = 7.2 Hz, 2H), 7.26 (t, J = 7.2 Hz, 4H), 7.43 (d, J = 7.8 Hz, 2H).
13C NMR (150 MHz, CDCl3) δ -1.1, 56.9, 126.3, 128.3, 128.8, 129.5, 133.4, 138.0, 143.8, 144.4.
HRMS (DART) m/z calcd for C22H23Si [M-H]+: 315.1569, found315.1572。
（４−アセチルフェニル）ジフェニルメタン（(4-Acetylphenyl)diphenylmethane（６ａａｋ））
Purification by PTLC (hexane:EtOAc = 5:1).
70.2 mg, 82% isolated yield; colorless oil.
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 2.56 (s, 3H), 5.59 (s, 1H), 7.09 (d, J = 7.8 Hz, 4H), 7.21-7.23 (m, 4H), 7.29 (t, J = 7.8 Hz, 4H), 7.87 (d, J = 7.8 Hz, 2H).
13C NMR (150 MHz, CDCl3) δ 26.5, 56.7, 126.6, 128.4, 128.4, 129.3, 129.6, 135.3, 142.9, 149.5, 197.7.
HRMS (DART) m/z calcd for C21H17O [M-H]+: 285.1279, found 285.1280。
（２−メチルフェニル）ジフェニルメタン（(2-Methylphenyl)diphenylmethane（６ａａｌ））
PEPPSI-IPr (10%) was used as a catalyst. Reaction was conducted at 150℃. Purification by PTLC (hexane).
46.1 mg, 60% isolated yield; white solid.
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 2.21 (s, 3H), 5.67 (s, 1H), 6.81 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 7,05 (d, J = 7.8 Hz, 4H), 7.08-7.16 (m, 3H), 7.20 (t, J = 7.2 Hz, 2H), 7.26 (t, J = 7.2 Hz, 4H).
13C NMR (150 MHz, CDCl3) δ 19.9, 53.5, 125.7, 126.2, 126.4, 128.3, 129.4, 129.6, 130.4, 136.6, 142.3, 143.4.
HRMS (DART) m/z calcd for C20H17 [M-H]+: 257.1330, found 257.1327。
ジフェニル（３−チエニル）メタン（Diphenyl(3-thienyl)methane（６ａａｈ））
Reaction was conducted at 150℃. Purification by PTLC (hexane).
52.6 mg, 71% isolated yield; white solid.
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 5.50 (s, 1H), 6.72-6.73 (m, 1H), 6.87 (d, J = 4.8 Hz, 1H), 7.15 (d, J = 7.8 Hz, 4H), 7.21 (t, J = 7.8 Hz, 2H), 7.25 (dd, J = 4.8, 3.0 Hz, 1H), 7.29 (d, J = 7.8 Hz, 4H).
13C NMR (150 MHz, CDCl3) δ 52.6, 122.7, 125.5, 126.4, 128.3, 128.7, 129.0, 143.8, 144.9.
HRMS (DART) m/z calcd for C17H13S [M-H]+: 249.0738, found 249.0733。
（３−フリル）ジフェニルメタン（(3-Furyl)diphenylmethane（６ａａｍ））
Reaction was conducted at 150℃. Purification by PTLC (hexane).
36.7 mg, 52% isolated yield; white solid.
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 5.26 (s, 1H), 6.22 (s, 1H), 6.94 (s, 1H), 7.19-7.21 (m, 6H), 7.27-7.29 (m, 4H), 7.38 (s, 1H).
13C NMR (150 MHz, CDCl3) δ 48.1, 111.4, 126.5, 128.3, 128.4, 128.7, 141.0, 143.1, 143.5.
HRMS (DART) m/z calcd for C17H13O [M-H]+: 233.0966, found 233.0966。
ジフェニル（３−ピリジル）メタン（Diphenyl(3-pyridyl)methane（６ａａｎ））
Reaction was conducted at 150℃. Purification by PTLC (CH2Cl2, then hexane: EtOAc = 5:1).
33.3 mg, 45% isolated yield; white solid.
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 5.56 (s, 1H), 7.11 (d, J = 7.2 Hz, 4H), 7.20-7.25 (m, 3H), 7.30 (t, J = 7.2 Hz, 4H), 7.40 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 8.44-8.47 (m, 2H).
13C NMR (150 MHz, CDCl3) δ 54.3, 123.2, 126.7, 128.5, 129.3, 136.6, 139.3, 142.7, 147.7, 150.8.
HRMS (DART) m/z calcd for C18H16N [M+H]+: 246.1283, found 246.1281。
（４−メトキシフェニル）（４−メチルフェニル）フェニルメタン（(4-Methoxyphenyl)(4-methylphenyl)phenylmethane（６ａｃｂ））
Purification by PTLC (hexane).
75.7 mg, 87% isolated yield; white solid.
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 2.30 (s, 3H), 3.75 (s, 3H), 5.45 (s, 1H), 6.81 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 6.99 (d, J = 7.8 Hz, 2H), 7.01 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 7.08 (d, J = 7.8 Hz, 2H), 7.10 (d, J = 7.2 Hz, 2H), 7.18 (t, J = 7.2 Hz, 1H), 7.25 (t, J = 7.2 Hz, 1H).
13C NMR (150 MHz, CDCl3) δ 21.0, 55.2, 55.6, 113.6, 126.1, 128.2, 129.0, 129.2, 129.3, 130.3, 135.7, 136.3, 141.3, 144.4, 157.9.
HRMS (DART) m/z calcd for C21H19O [M-H]+: 287.1436, found 287.1428。
（４−フルオロフェニル）（２−メチルフェニル）フェニルメタン（(4-Fluorophenyl)(2-methylphenyl)phenylmethane（６ａｅｌ））
Purification by PTLC (hexane).
55.4 mg, 67% isolated yield; colorless oil.
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 2.92 (s, 1H), 5.64 (s, 1H), 6.78 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 6.95 (t, J = 8.4 Hz, 2H), 6.99-7.01 (m, 2H), 7.03 (d, J = 7.2 Hz, 2H), 7.09 (t, J = 7.2 Hz, 1H), 7.12-7.16 (m, 2H), 7.20 (t, J = 7.2 Hz, 1H), 7.27 (t, J = 7.2 Hz, 2H).
13C NMR (150 MHz, CDCl3) δ 19.8, 52.7, 115.1 (d, J = 20.3 Hz), 125.8, 126.4, 126.5, 128.4, 129.3, 129.5, 130.5, 131.0 (d, J = 7.2 Hz), 136.5, 139.1 (d, J = 2.9 Hz), 142.1, 143.2, 161.4 (d, J = 245 Hz).
HRMS (DART) m/z calcd for C20H16F [M-H]+: 275.1236, found275.1244。
（４−アセチルフェニル）（４−メチルフェニル）フェニルメタン（(4-Acetylphenyl)(4-methylphenyl)phenylmethane（６ｂａｋ））
Purification by PTLC (hexane:EtOAc = 5:1).
75.3 mg, 84% isolated yield; colorless oil.
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 2.31 (s, 3H), 2.55 (s, 3H), 5.55 (s, 1H), 6.98 (d, J = 7.8 Hz, 2H), 7.09 (d, J = 7.2 Hz, 2H), 7.10 (d, J = 7.2 Hz, 2H), 7.20-7.22 (m, 3H), 7.28 (t, J = 7.8 Hz, 2H), 7.86 (d, J = 7.8 Hz, 2H).
13C NMR (150 MHz, CDCl3) δ 21.0, 26.5, 56.4, 126.5, 128.35, 128.38, 129.1, 129.2, 129.3, 129.6, 135.2, 136.1, 139.9, 143.1, 149.7, 197.7.
HRMS (DART) m/z calcd for C22H19O [M-H]+: 299.1436, found 299.1429。
トリス（４−メトキシフェニル）メタン（Tris(4-methoxyphenyl)methane（６ｃｃｃ））
Purification by preparative recycling HPLC.
94.7 mg, 94% isolated yield; pale yellow oil.
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 3.76 (s, 9H), 5.39 (s, 1H), 6.81 (d, J = 7.2 Hz, 6H), 7.00 (d, J = 7.2 Hz, 6H).
13C NMR (150 MHz, CDCl3) δ 54.3, 55.1, 113.5, 130.1, 136.7, 157.8.
HEMS (DART) m/z calcd for C22H21O3 [M-H]+: 333.1491, found 333.1496。
（４−フルオロフェニル）（４−メトキシフェニル）（４−メチルフェニル）メタン（(4-Fluorophenyl)(4-methoxyphenyl)(4-methylphenyl)methane（６ｅｂｃ））
Purification by PTLC (hexane).
77.7 mg, 85% isolated yield; colorless oil.
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 2.31 (s, 3H), 3.76 (s, 3H), 5.43 (s, 1H), 6.81 (d, J = 7.8 Hz, 2H), 6.92-7.00 (m, 6H), 7.03-7.06 (m, 2H), 7.08 (d, J = 7.8 Hz, 2H).
13C NMR (150 MHz, CDCl3) δ 21.0, 54.8, 55.2, 113.7, 115.0 (d, J = 20.3 Hz), 129.0, 129.1, 130.2, 130.7 (d, J = 8.6 Hz), 135.9, 136.1, 140.2 (d, J = 2.9 Hz), 141.1, 158.0, 161.3 (d, J = 246 Hz).
HRMS (DART) m/z calcd for C21H18FO [M-H]+: 305.1341, found 305.1347。
［４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）フェニル］フェニル（４−トリフルオロメチルフェニル）メタン（[4-(N,N-Dimethylamino)phenyl]phenyl(4-trifluoromethylphenyl)methane（６ｆａｉ））
Purification by preparative recycling HPLC.
62.4 mg, 59% isolated yield; pale yellow oil.
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 2.91 (s, 6H), 5.49 (s, 1H), 6.67 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 6.95 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 7.10 (d, J = 7.8 Hz, 2H), 7.19-7.24 (m, 3H), 7.28 (t, J = 7.8 Hz, 2H), 7.51 (d, J = 7.8 Hz, 2H).
13C NMR (150 MHz, CDCl3) δ 40.5, 55.7, 112.5, 124.3 (q, J = 272 Hz), 125.1 (q, J = 4.4 Hz), 126.4, 128.3 (q, J = 31.7 Hz), 128.4, 129.3, 129.7, 129.9, 130.8, 143.7, 148.9, 149.2.
HRMS (DART) m/z calcd for C22H19F3N [M-H]+: 354.1470, found 354.1470。
トリス（４−トリフルオロメチルフェニル）メタン（Tris(4-trifluoromethylphenyl)methane（６ｆｆｆ））
Purification by preparative recycling HPLC.
113.6 mg, 84% isolated yield; white solid.
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 5.71 (s, 1H), 7.21 (d, J = 7.2 Hz, 6H), 7.59 (d, J = 7.2 Hz, 6H).
13C NMR (150 MHz, CDCl3) δ 56.2, 124.0 (q, J = 274 Hz), 125.7 (br.d, J = 4.4 Hz), 129.5 (q, J = 33 Hz), 129.7, 146.0.
HRMS (DART) m/z calcd for C22H12F9 [M-H]+: 447.0795, found 447.0790。
（４−メチルフェニル）（１−ナフチル）フェニルメタン（(4-Methylphenyl)(1-naphthyl)phenylmethane（６ｇａｂ））
Purification by PTLC (hexane)
53.5 mg, 58% isolated yield; white solid.
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 2.30 (s, 3H), 6.23 (s, 1H), 6.94 (d, J = 7.2 Hz, 1H), 6.99 (d, J = 7.8 Hz, 2H), 7.07 (d, J = 7.2 Hz, 2H), 7.10 (d, J = 7.2 Hz, 2H), 7.18-7.20 (m, 1H), 7.25 (t, J = 7.8 Hz, 2H), 7.32-7.42 (m, 3H), 7.72 (d, J = 8.4 Hz, 1H), 7.83 (d, J = 8.4 Hz, 1H), 7.98 (d, J = 8.4 Hz, 1H).
13C NMR (150 MHz, CDCl3) δ 21.0, 52.7, 124.3, 125.2, 125.4, 126.0, 126.3, 127.2, 127.5, 128.3, 128.7, 129.1, 129.5, 129.6, 131.9, 133.9, 135.8, 140.1, 140.7, 144.0.
HEMS (DART) m/z calcd for C24H19 [M-H]+: 307.1487, found 307.1483。
フェニル（３−ピリジル）（３−チエニル）メタン（Phenyl(3-pyridyl)(3-thlenyl)methane（６ｈａｎ））
Purification by PTLC (CH2Cl2).
53.5 mg, 58% isolated yield; white solid.
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 5.52 (s, 1H), 6.74 (br.s, 1H), 6.86 (d, J = 4.8 Hz, 1H), 7.14 (d, J = 7.2 Hz, 2H), 7.21-7.25 (m, 2H), 7.30-7.32 (m, 3H), 7.44 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 8.48 (br.s, 2H).
13C NMR (150 MHz, CDCl3) δ 50.1, 123.0, 123.3, 126.0, 126.8, 128.3, 128.6, 128.8, 136.3, 139.3, 142.5, 143.6, 147.8, 150.3.
HRMS (DART) m/z calcd for C16H14NS [M+H]+: 252.0847, found 252.0846。
トリス（３−チエニル）メタン（Tris(3-thlenyl)methane（６ｈｈｈ））
Purification by PTLC (hexane).
71.2 mg, 90% isolated yield; white solid.
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 5.56 (s, 1H), 6.84 (dd, J = 3.0, 1.2 Hz, 3H), 6.91 (dd, J = 4.8, 1.2 Hz, 3H), 7.23 (dd, J = 4.8, 3.0 Hz, 2H).
13C NMR (150 MHz, CDCl3) δ 43.5, 121.9, 125.5, 128.2, 144.5.
HRMS (DART) m/z calcd for C13H9S3 [M-H]+: 260.9866, found 260.9861。【０１４１】
また、アリールボロン酸化合物におけるアリール基の種類を変えて、前記（工程（３））と同様に処理した結果を表６に示す。【０１４２】
【表６】
2015064584.tif 000019
【０１４３】
［実施例２］抗乳癌剤（７）の合成【０１４４】
【化１３】
2015064584.tif 000020
【０１４５】
内容積１０ｍＬの密閉可能なガラス容器内に、磁気撹幹子を収容し、減圧下、ヒートガンで乾燥させた。その後、室温に冷却し、アルゴンガスを満たした。次いで、前記ガラス容器に、１２７．２ｍｇ（０．３ｍｍｏｌ）の（４−ベンジルオキシフェニル）（４−メトキシフェニル）メチルフェニルスルホン（４ｄｃ）、１３３ｍｇ（０．６ｍｍｏｌ）の９−フェナントレンボロン酸（５ｏ）、２０．４ｍｇ（０．０３ｍｍｏｌ）のＰＥＰＰＳＩＴＭ−ＩＰｒ触媒（sigma-Aldrich社、別名：［１，３−ビス（２，６−ジイソプロピルフェニル）イミダゾール−２−イリデン］（３−クロロピリジル）パラジウム（II）ジクロリド）、０．７５ｍＬの脱水ジオキサン、０．９ｍＬ（０．９ｍｍｏｌ）の１Ｍ水酸化ナトリウム水溶液をアルゴン気流下加えて、１２０℃で１２時間撹拌した。反応系を室温に冷却し反応液を、短パッドのシリカゲルで漉過した。そして、沈澱物を酢酸エチルで洗浄し、濾液を濃縮した。その後、和光純薬工業社のシリカゲルＢ−５Ｆを用いたＴＬＣ（展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝１０／１）により、（４−ベンジルオキシフェニル）（４−メトキシフェニル）（９−フェナントリル）メタン（６ｄｃｏ）（白色固体）を得た。収量は１２９．０ｍｇであり、収率は９０％であった。【０１４６】
（（４−ベンジルオキシフェニル）（４−メトキシフェニル）（９−フェナントリル）メタンの物性）
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 3.77 (s, 3H), 5.02 (s, 2H), 6.15 (s, 1H), 6.82 (d, J = 9.0 Hz, 2H), 6.90 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 7.06 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 7.16 (s, 1H), 7.31 (t, J = 7.2 Hz, 1H), 7.37 (t, J = 7.8 Hz, 2H), 7.42 (d, J = 7.2 Hz, 2H), 7.47-7.53 (m, 2H), 7.58-7.60 (m, 2H), 7.67 (d, J = 8.4 Hz, 1H), 8.03 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 8.65 (d, J = 8.4 Hz, 1H), 8.71 (d, J = 8.4 Hz, 1H).
13C NMR (150 MHz, CDCl3) δ 51.8, 55.2, 70.0, 113.8, 114.7, 122.3, 123.0, 125.2, 126.1, 126.4, 126.5, 126.6, 127.6, 127.9, 128.4, 128.6, 128.7, 129.8, 130.57, 130.59, 130.8, 131.2, 131.5, 135.9, 136.2, 137.1, 138.8, 157.4, 158.1.
HRMS (DART) m/z calcd for C35H27O2 [M-H]+: 479.2011, found 479.2010。【０１４７】
内容積１０ｍＬの密閉可能なガラス容器内に、磁気撹幹子を収容し、アルゴンガスを満たした。次いで、前記ガラス容器に、３０ｍｇ（０．０６２ｍｍｏｌ）の（４−ベンジルオキシフェニル）（４−メトキシフェニル）（９−フェナントリル）メタン（６ｄｃｏ）、４５０μＬのジクロロエタンをアルゴン気流下、室温で加えて、混合物を、１．３５ｍＬの酢酸と４５０μＬの濃塩酸水溶液の混合溶媒で希釈した。混合物を８０℃で反応が終了するまで（約６時間）撹拌した。混合物を室温に冷却し、５ｍＬの水で希釈し、５ｍＬのジクロロメタンで３回抽出した。抽出液を合わせ、硫酸ナトリウム上で乾燥し、減圧下で溶媒を留去し、脱ベンジル体である粗フェノール化合物（黄色油状物）を得た。【０１４８】
内容積１０ｍＬの密閉可能なガラス容器内に、磁気撹幹子を収容し、減圧下、ヒートガンで乾燥させた。その後、室温に冷却し、アルゴンガスを満たした。次いで、前記ガラス容器に、１８．０ｍｇ（０．１２４ｍｍｏｌ）の２−クロロ−Ｎ，Ｎ−ジメチルエチルアミン・塩酸塩、１０１ｍｇ（０．３１２ｍｍｏｌ）の炭酸セシウム、及び前工程で得られた粗フェノール化合物の脱水ＤＭＦ（１．５ｍＬ）溶液をアルゴン気流下加えて、５０℃で１２時間撹拌した。混合物を３ｍＬの水で希釈し、５ｍＬの酢酸エチルで３回抽出した。抽出液を合わせ、硫酸ナトリウム上で乾燥し、減圧下で溶媒を留去した。その後、和光純薬工業社のシリカゲルＢ−５Ｆを用いたＰＴＬＣ（展開溶媒：酢酸エチル／トリエチルアミン＝２０／１）により、抗乳癌剤（７）（Talyor, B. L. H.; Harris, M. R.; Jarvo, E. R. Angew. Chem. Int. Ed. 2012, 51, 7790; Shagufta, Srivastava, A. K.; Sharma, R.; Mishra, R.; Balapure, A. K.; Murthy, P. S. R.; Panda, G. Bloorg. Med. Chem. 2006, 14, 1497）（淡黄色油状物）を得た。収量は２５．１ｍｇであり、２工程の収率は８７％であった。【０１４９】
（抗乳癌剤（７）の物性）
1H NMR (600 MHz, CDCl3) δ 2.33 (s, 6H), 2.72 (t, J = 6.0 Hz, 2H), 3.78 (s, 3H), 4.04 (t, J = 6.0 Hz, 2H), 6.14 (s, 1H), 6.82 (d, J = 9.0 Hz, 2H), 6.84 (d, J = 9.0 Hz, 2H), 7.05 (apparent t, J = 7.8 Hz, 4H), 7.15 (s, 1H), 7.47-7.53 (m, 2H), 7.58-7.61 (m, 2H), 7.67 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 8.04 (d, J = 8.4 Hz, 1H), 8.65 (d, J = 8.4 Hz, 1H), 8.71 (d, J = 8.4 Hz, 1H).
13C NMR (150 MHz, CDCl3) δ 45.9, 51.8, 55.2, 58.3, 65.8, 113.8, 114.4, 122.3, 123.0, 125.2, 126.0, 126.3, 126.5, 126.6, 128.4, 128.7, 129.7, 130.5, 130.6, 130.8, 131.2, 131.4, 135.9, 136.0, 138.8, 157.3, 158.0.
HRMS (FAB) m/z calcd for C35H32NO2 [M+H]+: 462.2433, found 462.2429。
【国際調査報告】
2015064584.tif 000025
2015064584.tif 000026
2015064584.tif 000027
2015064584.tif 000028