(57)【要約】  下記一般式（Ｉ）で表される化合物を硫黄化合物と反応させる工程を経由する下記一般式（ＩＩ）で表される化合物の製造方法及び化合物。2015125781.tif 000150  一般式（Ｉ）、（ＩＩ）中、Ｒ１は水素原子又はアシル基を表し、Ｒ２は水素原子、フッ素原子、アシルオキシ基、アリールメチルオキシ基、アリルオキシ基、アリールメチルオキシカルボニルオキシ基又はアリルオキシカルボニルオキシ基を表し、Ｒ３は水素原子又はアシルオキシ基を表し、Ｒ５はアルキル基又はアリール基を表し、Ｘは離脱基を表す。  ただし、Ｒ２がフッ素原子、アシルオキシ基、アリールメチルオキシ基、アリルオキシ基、アリールメチルオキシカルボニルオキシ基又はアリルオキシカルボニルオキシ基の場合、Ｒ３はアシルオキシ基である。
2015125781.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（Ｉ）で表される化合物を硫黄化合物と反応させる工程を経由する下記一般式（ＩＩ）で表される化合物の製造方法。
【化１】
2015125781.tif 000145
一般式（Ｉ）および（ＩＩ）において、Ｒ１は、水素原子またはアシル基を表し、Ｒ２は、水素原子、フッ素原子、アシルオキシ基、アリールメチルオキシ基、アリルオキシ基、アリールメチルオキシカルボニルオキシ基またはアリルオキシカルボニルオキシ基を表し、Ｒ３は水素原子またはアシルオキシ基を表し、Ｒ５は、アルキル基またはアリール基を表し、Ｘは離脱基を表す。
ただし、Ｒ２がフッ素原子、アシルオキシ基、アリールメチルオキシ基、アリルオキシ基、アリールメチルオキシカルボニルオキシ基またはアリルオキシカルボニルオキシ基の場合、Ｒ３はアシルオキシ基である。
【請求項２】
前記一般式（ＩＩ）で表される化合物が、下記一般式（ＩＩ−１）〜（ＩＩ−１４）のいずれかで表される請求項１に記載の製造方法。
【化２】
2015125781.tif 000146
一般式（ＩＩ−１）〜（ＩＩ−１４）において、Ｒ１およびＲ５は、前記一般式（ＩＩ）におけるＲ１およびＲ５と同義である。Ｒ２ａおよびＲ３ａは各々独立に、アルキル基またはアリール基を表す。Ｒ２ｂは−ＣＨ２−Ａｒ、アリル基、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＣＨ２−Ａｒまたはアリルオキシカルボニル基を表す。ここで、Ａｒはアリール基を表す。なお、チオラン環に結合する厚み一定の破線の結合手は、α側もしくはβ側のいずれか一方に位置する。
【請求項３】
前記Ｒ５がアリール基であり、かつＲ３または−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ３ａがアリールカルボニルオキシ基である請求項１または２に記載の製造方法。
【請求項４】
前記Ｒ５が、フェニル基、４−メチルフェニル基、４−フェニルフェニル基または２−ナフチル基であり、かつＲ３または−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ３ａがフェニルカルボニルオキシ基、４−メチルフェニルカルボニルオキシ基、４−フェニルフェニルカルボニルオキシ基または２−ナフチルカルボニルオキシ基である請求項１〜３のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項５】
前記一般式（Ｉ）で表される化合物を硫黄化合物と反応させる工程で、下記一般式（ＩＩＡ）で表される化合物を合成した後、該一般式（ＩＩＡ）で表される化合物をアシル化する工程で、下記一般式（ＩＩＢ）で表される化合物を合成する請求項１〜４のいずれか１項に記載の製造方法。
【化３】
2015125781.tif 000147
一般式（ＩＩＡ）および（ＩＩＢ）において、Ｒ２、Ｒ３およびＲ５は、前記一般式（ＩＩ）におけるＲ２、Ｒ３およびＲ５と同義である。Ｒ１ａはアシル基を表す。
【請求項６】
前記Ｒ１またはＲ１ａがアセチル基またはアリールカルボニル基である請求項１〜５のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項７】
前記Ｘが、ハロゲン原子、アルキルスルホニルオキシ基またはアリールスルホニルオキシ基である請求項１〜６のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項８】
前記硫黄化合物が、Ｍがアルカリ金属であるＭＳＨまたはＭ２Ｓである請求項１〜７のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項９】
下記一般式（ＩＩ−１）〜（ＩＩ−１４）のいずれかで表される化合物。
【化４】
2015125781.tif 000148
一般式（ＩＩ−１）〜（ＩＩ−１４）において、Ｒ１は水素原子またはアシル基を表し、Ｒ２ａおよびＲ３ａは各々独立に、アルキル基またはアリール基を表し、Ｒ５はアルキル基またはアリール基を表す。Ｒ２ｂは−ＣＨ２−Ａｒ、アリル基、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＣＨ２−Ａｒまたはアリルオキシカルボニル基を表す。ここで、Ａｒはアリール基を表す。なお、チオラン環に結合する厚み一定の破線の結合手は、α側もしくはβ側のいずれか一方に位置する。
【請求項１０】
前記Ｒ１が、水素原子、アセチル基またはアリールカルボニル基であり、Ｒ２ａ、Ｒ３ａおよびＲ５が各々独立に、アリール基である請求項９に記載の化合物。
【請求項１１】
前記Ｒ２ａ、Ｒ３ａおよびＲ５が各々独立に、フェニル基、４−メチルフェニル基、４−フェニルフェニル基または２−ナフチル基である請求項９または１０に記載の化合物。
【請求項１２】
下記一般式（ＩＩ−１Ａ’）、（ＩＩ−１Ｂ）、（ＩＩ−２Ａ）、（ＩＩ−２Ｂ’）、（ＩＩ−３）、（ＩＩ−６Ｂ）、（ＩＩ−９）、（ＩＩ−１３’）または（ＩＩ−１４’）のいずれかで表される化合物。
【化５】
2015125781.tif 000149
一般式（ＩＩ−１Ａ’）、（ＩＩ−１Ｂ）、（ＩＩ−２Ａ）、（ＩＩ−２Ｂ’）、（ＩＩ−３）、（ＩＩ−６Ｂ）、（ＩＩ−９）、（ＩＩ−１３’）および（ＩＩ−１４’）において、Ｒ１、Ｒ１ｂおよびＲ１ｃは各々独立に、水素原子またはアシル基を表す。Ｒ２ａおよびＲ３ａは各々独立に、アルキル基またはアリール基を表す。Ｒ２ｂは−ＣＨ２−Ａｒ、アリル基、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＣＨ２−Ａｒまたはアリルオキシカルボニル基を表す。ここで、Ａｒはアリール基を表す。Ｒ５、Ｒ５ｂ、Ｒ５ｃ、Ｒ５ｄおよびＲ５ｅは各々独立に、アルキル基またはアリール基を表す。ただし、Ｒ１ｂおよびＲ１ｃがアセチル基の場合、Ｒ５ｂはアリール基であり、Ｒ５ｃはアルキル基または置換基で置換されたアリール基である。
【請求項１３】
前記Ｒ１が水素原子、アセチル基、４−メチルベンゾイル基、４−フェニルベンゾイル基または２−ナフトイル基であり、前記Ｒ１ｂおよびＲ１ｃが各々独立に、水素原子、４−メチルベンゾイル基、４−フェニルベンゾイル基または２−ナフトイル基であり、前記Ｒ２ａ、Ｒ３ａ、Ｒ５、Ｒ５ｂおよびＲ５ｃが各々独立に、４−メチルフェニル基、４−フェニルフェニル基または２−ナフチル基であり、前記Ｒ２ｂが、フェニルメチル基であり、前記Ｒ５ｄおよびＲ５ｅが各々独立に、フェニル基、４−メチルフェニル基、４−フェニルフェニル基または２−ナフチル基である請求項１２に記載の化合物。
【請求項１４】
前記化合物が、チオヌクレオシド合成中間体である請求項９〜１３のいずれか１項に記載の化合物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、チオラン骨格型糖化合物の製造方法およびチオラン骨格型糖化合物に関する。
【背景技術】
【０００２】
酸素原子が硫黄原子に置き換わったチオヌクレオシドが、抗ウイルス活性または抗腫瘍活性を示すことが知られている。
例えば、１−（２−デオキシ−２−フルオロ−４−チオ−β−Ｄ−アラビノフラノシル）シトシンは、優れた抗腫瘍活性を有し、腫瘍治療剤として有用であることが知られている（特許文献１参照）。
そのため、チオヌクレオシドを合成するルートおよび合成中間体の研究が盛んに行われている。
このうち、チオラン環を形成する反応も多く検討され、提案されている（例えば、特許文献２〜８参照）。
一方、糖化合物ではないものの、ベンゾテトラヒドロチオフェン環の合成（特許文献８参照）や、イミノ糖の合成反応（特許文献９、非特許文献１参照）も知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】国際公開第１９９７／０３８００１号パンフレット
【特許文献２】米国特許第３，２４３，４２５号明細書
【特許文献３】米国特許第７，１４８，２２３号明細書
【特許文献４】特許第４７１９３５６号公報
【特許文献５】国際公開第１９９９／０４３６９０号パンフレット
【特許文献６】特表２００７−５１４６４３号公報
【特許文献７】特許第４２０２３２７号公報
【特許文献８】特開２００６−３３５７３７号公報
【特許文献９】中国特許出願公開第１０１０５８５８５５号明細書
【非特許文献】
【０００４】
【非特許文献１】Ｓｙｎｌｅｔｔ，２０１０，Ｎｏ３，ｐ．４８８−４９２
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
チオラン環を形成する反応でチオ糖を合成する従来の方法は、主にジチオケタール法やプメラー法である。ジチオケタール法は、ジベンジルメルカプタンのような比較的低級のメルカプタンを使用するため悪臭が強く、環境上も健康上も好ましくない。一方、プメラー法は、プメラー転位工程で、必然的に位置異性体が生成するため、収率や大量製造適性の点で好ましくない。
従って、本発明では、チオラン環を形成する反応において、穏和な条件で、簡便、かつ高収率で、チオヌクレオシド合成中間体を製造する製造方法、少ない工程で、チオ糖骨格を有する化合物を合成できる製造方法を提供することを課題とする。
さらには、抗ウイルス活性または抗腫瘍活性を示すチオヌクレオシド合成中間体として有用なチオラン骨格型糖化合物もしくはその合成中間体の化合物を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、チオラン環を形成する反応を種々検討した結果、特定の化合物に、硫黄化合物を使用することで、上記課題が解決できることを見出した。【０００７】
上記の課題は以下の手段により解決された。
＜１＞下記一般式（Ｉ）で表される化合物を硫黄化合物と反応させる工程を経由する下記一般式（ＩＩ）で表される化合物の製造方法。【０００８】
【化１】
2015125781.tif 000003
【０００９】
一般式（Ｉ）および（ＩＩ）において、Ｒ１は、水素原子またはアシル基を表し、Ｒ２は、水素原子、フッ素原子、アシルオキシ基、アリールメチルオキシ基、アリルオキシ基、アリールメチルオキシカルボニルオキシ基またはアリルオキシカルボニルオキシ基を表し、Ｒ３は水素原子またはアシルオキシ基を表し、Ｒ５は、アルキル基またはアリール基を表し、Ｘは離脱基を表す。
ただし、Ｒ２がフッ素原子、アシルオキシ基、アリールメチルオキシ基、アリルオキシ基、アリールメチルオキシカルボニルオキシ基またはアリルオキシカルボニルオキシ基の場合、Ｒ３はアシルオキシ基である。
＜２＞一般式（ＩＩ）で表される化合物が、下記一般式（ＩＩ−１）〜（ＩＩ−１４）のいずれかで表される＜１＞に記載の製造方法。【００１０】
【化２】
2015125781.tif 000004
【００１１】
一般式（ＩＩ−１）〜（ＩＩ−１４）において、Ｒ１およびＲ５は、一般式（ＩＩ）におけるＲ１およびＲ５と同義である。Ｒ２ａおよびＲ３ａは各々独立に、アルキル基またはアリール基を表す。Ｒ２ｂは−ＣＨ２−Ａｒ、アリル基、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＣＨ２−Ａｒまたはアリルオキシカルボニル基を表す。ここで、Ａｒはアリール基を表す。なお、チオラン環に結合する厚み一定の破線の結合手は、α側もしくはβ側のいずれか一方に位置する。
＜３＞Ｒ５がアリール基であり、かつＲ３または−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ３ａがアリールカルボニルオキシ基である＜１＞または＜２＞に記載の製造方法。
＜４＞Ｒ５が、フェニル基、４−メチルフェニル基、４−フェニルフェニル基または２−ナフチル基であり、かつＲ３または−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ３ａがフェニルカルボニルオキシ基、４−メチルフェニルカルボニルオキシ基、４−フェニルフェニルカルボニルオキシ基もしくは２−ナフチルカルボニルオキシ基である＜１＞〜＜３＞のいずれか１つに記載の製造方法。
＜５＞一般式（Ｉ）で表される化合物を硫黄化合物と反応させる工程で、下記一般式（ＩＩＡ）で表される化合物を合成した後、一般式（ＩＩＡ）で表される化合物をアシル化する工程で、下記一般式（ＩＩＢ）で表される化合物を合成する＜１＞〜＜４＞のいずれか１つに記載の製造方法。【００１２】
【化３】
2015125781.tif 000005
【００１３】
一般式（ＩＩＡ）および（ＩＩＢ）において、Ｒ２、Ｒ３およびＲ５は、一般式（ＩＩ）におけるＲ２、Ｒ３およびＲ５と同義である。Ｒ１ａはアシル基を表す。
＜６＞Ｒ１またはＲ１ａがアセチル基またはアリールカルボニル基である＜１＞〜＜５＞のいずれか１つに記載の製造方法。
＜７＞Ｘが、ハロゲン原子、アルキルスルホニルオキシ基またはアリールスルホニルオキシ基である＜１＞〜＜６＞のいずれか１つに記載の製造方法。
＜８＞硫黄化合物が、Ｍがアルカリ金属であるＭＳＨまたはＭ２Ｓである＜１＞〜＜７＞のいずれか１つに記載の製造方法。
＜９＞下記一般式（ＩＩ−１）〜（ＩＩ−１４）のいずれかで表される化合物。【００１４】
【化４】
2015125781.tif 000006
【００１５】
一般式（ＩＩ−１）〜（ＩＩ−１４）において、Ｒ１は水素原子またはアシル基を表し、Ｒ２ａおよびＲ３ａは各々独立に、アルキル基またはアリール基を表し、Ｒ５はアルキル基またはアリール基を表す。Ｒ２ｂは−ＣＨ２−Ａｒ、アリル基、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＣＨ２−Ａｒまたはアリルオキシカルボニル基を表す。ここで、Ａｒはアリール基を表す。なお、チオラン環に結合する厚み一定の破線の結合手は、α側もしくはβ側のいずれか一方に位置する。
＜１０＞Ｒ１が、水素原子、アセチル基またはアリールカルボニル基であり、Ｒ２ａ、Ｒ３ａおよびＲ５が各々独立に、アリール基である＜９＞に記載の化合物。
＜１１＞Ｒ２ａ、Ｒ３ａおよびＲ５が各々独立に、フェニル基、４−メチルフェニル基、４−フェニルフェニル基または２−ナフチル基である＜９＞または＜１０＞に記載の化合物。
＜１２＞下記一般式（ＩＩ−１Ａ’）、（ＩＩ−１Ｂ）、（ＩＩ−２Ａ）、（ＩＩ−２Ｂ’）、（ＩＩ−３）、（ＩＩ−６Ｂ）、（ＩＩ−９）、（ＩＩ−１３’）または（ＩＩ−１４’）のいずれかで表される化合物。【００１６】
【化５】
2015125781.tif 000007
【００１７】
一般式（ＩＩ−１Ａ’）、（ＩＩ−１Ｂ）、（ＩＩ−２Ａ）、（ＩＩ−２Ｂ’）、（ＩＩ−３）、（ＩＩ−６Ｂ）、（ＩＩ−９）、（ＩＩ−１３’）および（ＩＩ−１４’）において、Ｒ１、Ｒ１ｂおよびＲ１ｃは各々独立に、水素原子またはアシル基を表す。Ｒ２ａおよびＲ３ａは各々独立に、アルキル基またはアリール基を表す。Ｒ２ｂは−ＣＨ２−Ａｒ、アリル基、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＣＨ２−Ａｒまたはアリルオキシカルボニル基を表す。ここで、Ａｒはアリール基を表す。Ｒ５、Ｒ５ｂ、Ｒ５ｃ、Ｒ５ｄおよびＲ５ｅは各々独立に、アルキル基またはアリール基を表す。ただし、Ｒ１ｂおよびＲ１ｃがアセチル基の場合、Ｒ５ｂはアリール基であり、Ｒ５ｃはアルキル基または置換基で置換されたアリール基である。
＜１３＞Ｒ１が水素原子、アセチル基、４−メチルベンゾイル基、４−フェニルベンゾイル基または２−ナフトイル基であり、Ｒ１ｂおよびＲ１ｃが各々独立に、水素原子、４−メチルベンゾイル基、４−フェニルベンゾイル基または２−ナフトイル基であり、Ｒ２ａ、Ｒ３ａ、Ｒ５、Ｒ５ｂおよびＲ５ｃが各々独立に、４−メチルフェニル基、４−フェニルフェニル基または２−ナフチル基であり、Ｒ２ｂが、フェニルメチル基であり、Ｒ５ｄおよびＲ５ｅが各々独立に、フェニル基、４−メチルフェニル基、４−フェニルフェニル基または２−ナフチル基である＜１２＞に記載の化合物。
＜１４＞化合物が、チオヌクレオシド合成中間体である＜９＞〜＜１３＞のいずれか１つに記載の化合物。
なお、「−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ３ａがアリールカルボニルオキシ基である」とは、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ３ａが全体でアリールカルボニルオキシ基を表すことを意味する。すなわち、Ｒ３ａがアリール基である。【００１８】
本明細書において、各置換基は、特段の断りがない限り、さらに置換基で置換されていてもよい。
【発明の効果】
【００１９】
本発明により、チオラン環を形成する反応において、穏和な条件で、簡便、かつ高収率で、チオヌクレオシド合成中間体を製造する製造方法、少ない工程で、チオ糖骨格を有する化合物を合成できる製造方法を提供することができる。
さらには、抗ウイルス活性または抗腫瘍活性を示すチオヌクレオシド合成中間体として有用なチオラン骨格型糖化合物もしくはその合成中間体の化合物を提供することができる。
本発明の上記及び他の特徴及び利点は、下記の記載からより明らかになるであろう。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
＜＜チオラン骨格型糖化合物の製造方法＞＞
本発明のチオラン骨格型糖化合物の製造方法は、下記一般式（ＩＩ）で表される立体制御された化合物の製造方法であり、下記一般式（Ｉ）で表される化合物を硫黄化合物と反応させる工程を経由する。
【００２１】
【化６】
2015125781.tif 000008
【００２２】
一般式（Ｉ）および（ＩＩ）において、Ｒ１は、水素原子またはアシル基を表し、Ｒ２は、水素原子、フッ素原子、アシルオキシ基、アリールメチルオキシ基、アリルオキシ基、アリールメチルオキシカルボニルオキシ基またはアリルオキシカルボニルオキシ基を表し、Ｒ３は水素原子またはアシルオキシ基を表し、Ｒ５は、アルキル基またはアリール基を表し、Ｘは離脱基を表す。
ただし、Ｒ２がフッ素原子、アシルオキシ基、アリールメチルオキシ基、アリルオキシ基、アリールメチルオキシカルボニルオキシ基またはアリルオキシカルボニルオキシ基の場合、Ｒ３はアシルオキシ基である。
【００２３】
なお、一般式（Ｉ）および（ＩＩ）におけるＲ２、Ｒ３およびＣＨ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ５が置換する炭素原子が不斉炭素原子の場合、Ｒ２、Ｒ３およびＣＨ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ５が置換する立体配置は、各々の不斉炭素原子上で実質的にＲまたはＳのいずれか一方である。また、一般式（ＩＩ）において、Ｒ２は実質的にα側またはβ側のいずれか一方に位置し、Ｒ３は実質的にα側またはβ側のいずれか一方に位置し、かつ、ＣＨ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ５は実質的にα側またはβ側のいずれか一方に位置する。
【００２４】
ここで、経由するとは、一般式（Ｉ）で表される化合物を硫黄化合物と反応させる工程のみであっても、硫黄化合物と反応させる工程の後に、さらに、一般式（Ｉ）で表される化合物を硫黄化合物と反応させる工程で合成された化合物を、アシル化する工程を含んでもよいことを意味する。
一般式（ＩＩ）におけるＲ１が水素原子の場合、一般式（Ｉ）で表される化合物を硫黄化合物と反応させる工程のみで製造することができる。
また、Ｒ１がアシル基の場合、硫黄化合物と反応させる工程の後に、アシル化する工程を実施することにより製造することができる。
なお、本発明では、硫黄化合物との反応で得られたＯＨ体をアシル化することが好ましい。
【００２５】
すなわち、一般式（ＩＩ）におけるＲ１がアシル基の場合、一般式（Ｉ）で表される化合物を硫黄化合物と反応させる工程で、下記一般式（ＩＩＡ）で表される化合物を合成した後、一般式（ＩＩＡ）で表される化合物をアシル化する工程で、下記一般式（ＩＩＢ）で表される化合物を製造することが好ましい。
【００２６】
【化７】
2015125781.tif 000009
【００２７】
一般式（ＩＩＡ）および（ＩＩＢ）において、Ｒ２、Ｒ３およびＲ５は、一般式（ＩＩ）におけるＲ２、Ｒ３およびＲ５と同義である。Ｒ１ａはアシル基を表す。
【００２８】
本発明における一般式（ＩＩ）で表される化合物は、基本骨格であるチオラン環を構成する炭素原子として、不斉炭素原子を２〜４個有する。具体的には、Ｒ２およびＲ３が水素原子の場合は不斉炭素原子を２個、Ｒ２またはＲ３の一方が水素原子の場合は不斉炭素原子を３個、それ以外の場合は不斉炭素原子を４個有する。
本発明において、「立体制御された」とは、不斉炭素原子において存在する立体配置を特定の配置にして、一般式（ＩＩ）で表される化合物を製造するものである。
【００２９】
例えば、後述する一般式（ＩＩ−１Ａ）で表される化合物の場合、下記の通りである。
【００３０】
【化８】
2015125781.tif 000010
【００３１】
一般式（Ｉ−１Ａ）および（ＩＩ−１Ａ）において、Ｒ１、Ｒ５およびＸは、一般式（Ｉ）および（ＩＩ）におけるＲ１、Ｒ５およびＸと同義である。Ｒ２ａおよびＲ３ａは各々独立に、アルキル基またはアリール基を表す。Ｍはアルカリ金属を表す。
【００３２】
ここで、ＭＳＨは、下記反応ルートを経由して、Ｘが置換する炭素原子を求核攻撃する。この求核置換反応がＳＮ２反応であるため、チオラン環の上記４位の炭素原子上の配置のみが反転（バルデン反転）し、４位以外の不斉炭素原子の配置は変更なく固定されている。なお、下記反応ルートにおいて、実線の丸部分で示した部分が固定されている配置である。
【００３３】
【化９】
2015125781.tif 000011
【００３４】
一般式（Ｉ）で表される化合物を硫黄化合物と反応させる工程の反応に使用される溶媒は、反応に影響を及ぼさない溶媒であれば特に限定されるものではない。例えば、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、アルコール類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類、芳香族炭化水素類、尿素類および水が挙げられ、これらの溶媒は混合して使用してもよい。
好ましい溶媒は、部分構造にアミド部分またはスルホニル基を有する溶媒、すなわち、アミド類、環状アミド類、尿素類、環状尿素類またはスルホキシド類である。
具体的には、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ−エチルピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンおよびジメチルスルホキシドが挙げられる。
【００３５】
溶媒の使用量は、特に限定されるものではなく、一般式（Ｉ）で表される化合物に対して、１〜５０倍量（ｖ／ｗ）であればよく、１〜１５倍量（ｖ／ｗ）が好ましい。
【００３６】
この反応に使用される硫黄化合物は、硫化水素またはその塩が挙げられる。
硫化水素の塩は、例えば、アルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩が挙げられる。
硫黄化合物は、Ｍがアルカリ金属であるＭＳＨまたはＭ２Ｓが好ましい。
硫黄化合物は、例えば、硫化水素、硫化水素ナトリウム、硫化ナトリウム、硫化水素カリウム、硫化水素カルシウムおよび硫化マグネシウムが挙げられ、硫化水素ナトリウムが好ましい。
硫黄化合物は、水和物でもよく、水溶液に溶解させて使用することもできる。
【００３７】
硫黄化合物の使用量は、一般式（Ｉ）で表される化合物に対して、０．２〜１０倍モルが好ましく、０．５〜２．０倍モルがより好ましく、０．７〜１．５倍モルがさらに好ましい。
【００３８】
反応温度は、−２０〜１００℃が好ましく、−１０〜８０℃がより好ましく、−５〜６０℃がさらに好ましい。
反応時間は、５分間〜５０時間が好ましく、５分間〜２４時間がより好ましく、５分間〜６時間がさらに好ましい。
【００３９】
一般式（ＩＩＡ）で表される化合物をアシル化する工程で使用するアシル化剤は、ハロゲン化アシルおよび酸無水物などが挙げられる。
なお、アシル化剤のアシル部および一般式（ＩＩＢ）で表される化合物におけるＲ１ａは、後述のＲ１におけるアシル基と同義であり、好ましい範囲も同じである。
【００４０】
これらのアシル化剤は、一般式（ＩＩＡ）で表される化合物に対して、０．５〜１０倍モルが好ましく、０．８〜５倍モルがより好ましく、１〜２倍モルがさらに好ましい。
【００４１】
反応溶媒は、脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類、芳香族炭化水素類または尿素類が好ましく、エーテル類、エステル類、ケトン類、ニトリル類、アミド類、スルホキシド類または芳香族炭化水素類がより好ましい。これらの溶媒は混合して用いてもよい。
【００４２】
アシル化する工程では、塩基を使用することが好ましく、例えば、ピリジン類、環構造を有していてもよいトリアルキルアミン類、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアニリン類、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアニリン類、トリアリールアミン類、グアニジン類、水酸化アルカリ金属類、水酸化アルカリ土類金属類、炭酸アルカリ金属類、炭酸アルカリ土類金属類および炭酸水素アルカリ金属類が挙げられ、ピリジン類またはトリアルキルアミン類が好ましい。
また、塩基の使用量は、一般式（ＩＩＡ）で表される化合物に対し、０．２〜５倍モルが好ましい。
【００４３】
反応温度は、−２０〜１００℃が好ましく、−１０〜８０℃がより好ましく、０〜５０℃がさらに好ましい。
反応時間は、５分間〜５０時間が好ましく、１０分間〜２４時間がより好ましく、３０分間〜６時間がさらに好ましい。
【００４４】
また、アシル化する工程は、一般式（Ｉ）で表される化合物から一般式（ＩＩＡ）で表される化合物を合成した後、一般式（ＩＩＡ）で表される化合物を取り出すことなく、同じ容器で合成することが好ましい。
【００４５】
＜＜チオラン骨格型糖化合物＞＞
本発明のチオラン骨格型糖化合物は、前述の一般式（ＩＩ）で表される化合物である。
一般式（ＩＩ）において、Ｒ１は、水素原子またはアシル基を表し、Ｒ２は、水素原子、フッ素原子、アシルオキシ基、アリールメチルオキシ基、アリルオキシ基、アリールメチルオキシカルボニルオキシ基またはアリルオキシカルボニルオキシ基を表し、Ｒ３は水素原子またはアシルオキシ基を表し、Ｒ５は、アルキル基またはアリール基を表す。
ただし、Ｒ２がフッ素原子、アシルオキシ基、アリールメチルオキシ基、アリルオキシ基、アリールメチルオキシカルボニルオキシ基またはアリルオキシカルボニルオキシ基の場合、Ｒ３はアシルオキシ基である。
なお、一般式（ＩＩ）において、Ｒ２は実質的にα側またはβ側のいずれか一方に位置し、Ｒ３は実質的にα側またはβ側のいずれか一方に位置し、かつ、ＣＨ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ５は実質的にα側またはβ側のいずれか一方に位置する。
【００４６】
ここで、「実質的に」とは、例えば、（アノマー位以外の）各不斉炭素について、不斉純度［Ｓ体が過剰の場合は、（Ｓ体／（Ｓ体＋Ｒ体）×１００）］が９５％以上であり、好ましくは９７％以上、より好ましくは９９％以上である。
【００４７】
Ｒ１におけるアシル基の炭素数は、１〜２０が好ましく、２〜２０がより好ましく、２〜１６がさらに好ましい。また、アシル基は、アルキルカルボニル基またはアリールカルボニル基が好ましい。
アルキルカルボニル基は、例えば、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル、ラウロイル、ミリストイル、パルミトイルおよびステアロイルが挙げられる。なお、Ｒ１におけるアシル基はホルミルも含む。
アリールカルボニル基は、例えば、ベンゾイル、４−メチルベンゾイル、４−クロロベンゾイル、４−フェニルベンゾイルおよび２−ナフトイルが挙げられ、４−メチルベンゾイル、４−フェニルベンゾイルまたは２−ナフトイルが好ましい。
【００４８】
これらのアシル基は置換基で置換されていてもよく、置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基およびアリールチオ基が挙げられる。
【００４９】
Ｒ１は水素原子、アセチル基またはアリールカルボニル基が好ましい。
【００５０】
Ｒ２およびＲ３におけるアシルオキシ基のアシル部分は、Ｒ１におけるアシル基で例示したアシル部分が挙げられる。
Ｒ５におけるアルキル基の炭素数は、１〜１９が好ましく、アリール基の炭素数は、６〜１９が好ましく、６〜１５がより好ましい。
アルキル基やアリール基は置換基を有していてもよく、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基およびアリールチオ基が挙げられる。
アルキル基は、例えば、メチル、エチル、イソプロピル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ヘキシル、２−エチルヘキシル、ドデシルおよびオクタデシルが挙げられる。
アリール基は、例えば、フェニル、４−クロロフェニル、４−メチルフェニル、４−フェニルフェニルおよび２−ナフチルが挙げられる。
【００５１】
Ｒ３におけるアシルオキシ基および５位の−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ５で表されるアシルオキシ基は、ベンゾイルオキシ、４−メチルベンゾイル、４−クロロベンゾイル、４−フェニルベンゾイルまたは２−ナフトイルが好ましい。
【００５２】
Ｒ２におけるアリールメチルオキシ基の炭素数は７〜２０が好ましく、７〜１６がより好ましく、例えば、フェニルメチルオキシ、４−クロロフェニルメチルオキシ、４−メチルフェニルメチルオキシ、４−フェニルフェニルメチルオキシおよび２−ナフチルメチルオキシが挙げられる。
【００５３】
Ｒ２におけるアリールメチルオキシカルボニルオキシ基の炭素数は８〜２１が好ましく、８〜１７がより好ましく、例えば、フェニルメチルオキシカルボニルオキシ、４−クロロフェニルメチルオキシカルボニルオキシ、４−メチルフェニルメチルオキシカルボニルオキシ、４−フェニルフェニルメチルオキシカルボニルオキシおよび２−ナフチルメチルオキシカルボニルオキシが挙げられる。
【００５４】
Ｒ２は、水素原子、フッ素原子、アシルオキシ基またはアリールメチルオキシ基が好ましい。
【００５５】
一般式（ＩＩ）において、Ｒ５はアリール基が好ましく、Ｒ３はアリールカルボニルオキシ基が好ましい。
一般式（ＩＩ）において、Ｒ５がアリール基であって、かつＲ３がアリールカルボニルオキシ基である場合がより好ましく、Ｒ５がフェニル基、４−メチルフェニル基、４−フェニルフェニル基または２−ナフチル基であって、かつＲ３がフェニルカルボニルオキシ基、４−メチルフェニルカルボニルオキシ基、４−フェニルフェニルカルボニルオキシ基または２−ナフチルカルボニルオキシ基である場合がさらに好ましい。
【００５６】
一般式（ＩＩ）で表される化合物は、下記一般式（ＩＩ−１）〜（ＩＩ−１４）のいずれかで表される化合物がなかでも好ましい。
【００５７】
【化１０】
2015125781.tif 000012
【００５８】
一般式（ＩＩ−１）〜（ＩＩ−１４）において、Ｒ１およびＲ５は、一般式（ＩＩ）におけるＲ１およびＲ５と同義であり、好ましい範囲も同じである。Ｒ２ａおよびＲ３ａは各々独立に、アルキル基またはアリール基を表す。Ｒ２ｂは−ＣＨ２−Ａｒ、アリル基、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＣＨ２−Ａｒまたはアリルオキシカルボニル基を表す。ここで、Ａｒはアリール基を表す。なお、チオラン環に結合する厚み一定の破線の結合手は、実質的にα側もしくはβ側のいずれか一方に位置する。
【００５９】
ここで、チオラン環に結合する厚み一定の破線の結合手を有する一般式（ＩＩ−１）、（ＩＩ−２）および（ＩＩ−４）〜（ＩＩ−７）で表される化合物は、下記一般式（ＩＩ−１Ａ）、（ＩＩ−１Ｂ）、（ＩＩ−２Ａ）、（ＩＩ−２Ｂ）、（ＩＩ−４Ａ）〜（ＩＩ−７Ａ）および（ＩＩ−４Ｂ）〜（ＩＩ−７Ｂ）で表される。
【００６０】
【化１１】
2015125781.tif 000013
【００６１】
Ｒ２ａおよびＲ３ａにおけるアルキル基およびアリール基は、Ｒ５におけるアルキル基およびアリール基と同義であり、好ましい範囲も同じである。
Ｒ２ａおよびＲ３ａは各々独立に、アリール基が好ましい。
【００６２】
Ａｒにおけるアリール基は、一般式（ＩＩ）のＲ５におけるアリール基と同義であり、好ましい範囲も同じである。
Ｒ２ｂは−ＣＨ２−Ａｒが好ましく、フェニルメチル基がより好ましい。
【００６３】
一般式（ＩＩ−１）〜（ＩＩ−１２）において、Ｒ５はアリール基が好ましく、Ｒ３ａはアリール基が好ましく、Ｒ５がアリール基であって、かつＲ３ａがアリール基である化合物がより好ましい。Ｒ５が、フェニル基、４−メチルフェニル基、４−フェニルフェニル基または２−ナフチル基であって、かつＲ３ａがフェニル基、４−メチルフェニル基、４−フェニルフェニル基または２−ナフチル基である化合物がさらに好ましい。
なお、一般式（ＩＩ−１３）および（ＩＩ−１４）においては、Ｒ５はアリール基が好ましい。
【００６４】
一般式（ＩＩ−１）〜（ＩＩ−１４）において、Ｒ１は水素原子、アセチル基またはアリールカルボニル基が好ましく、Ｒ２ａ、Ｒ３ａおよびＲ５は各々独立に、アリール基が好ましく、Ｒ１が水素原子、アセチル基またはアリールカルボニル基であって、Ｒ２ａ、Ｒ３ａおよびＲ５が各々独立に、アリール基である化合物がより好ましい。
Ｒ２ａ、Ｒ３ａおよびＲ５が各々独立に、フェニル基、４−メチルフェニル基、４−フェニルフェニル基または２−ナフチル基である化合物がさらに好ましい。
【００６５】
一般式（ＩＩ−１）〜（ＩＩ−１４）のいずれかで表される化合物は、なかでも、下記一般式（ＩＩ−１Ａ’）、（ＩＩ−１Ｂ）、（ＩＩ−２Ａ）、（ＩＩ−２Ｂ’）、（ＩＩ−３）、（ＩＩ−６Ｂ）、（ＩＩ−９）、（ＩＩ−１３’）または（ＩＩ−１４’）のいずれかで表される化合物が、特に好ましい。
【００６６】
【化１２】
2015125781.tif 000014
【００６７】
一般式（ＩＩ−１Ａ’）、（ＩＩ−１Ｂ）、（ＩＩ−２Ａ）、（ＩＩ−２Ｂ’）、（ＩＩ−３）、（ＩＩ−６Ｂ）、（ＩＩ−９）、（ＩＩ−１３’）および（ＩＩ−１４’）におけるＲ１、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ３ａおよびＲ５は、一般式（ＩＩ−１）〜（ＩＩ−１４）におけるＲ１、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ３ａおよびＲ５と同義であり、好ましい範囲も同じである。Ｒ１ｂおよびＲ１ｃは水素原子またはアシル基を表す。Ｒ５ｂ、Ｒ５ｃ、Ｒ５ｄおよびＲ５ｅはアルキル基またはアリール基を表す。ただし、Ｒ１ｂおよびＲ１ｃがアセチル基の場合、Ｒ５ｂはアリール基であり、Ｒ５ｃはアルキル基または置換基で置換されたアリール基である。
【００６８】
Ｒ１ｂおよびＲ１ｃにおけるアシル基は、一般式（ＩＩ）におけるアシル基と同義であり、好ましい範囲も同じである。
Ｒ５ｂ、Ｒ５ｃ、Ｒ５ｄおよびＲ５ｅにおけるアルキル基およびアリール基は、一般式（ＩＩ）におけるＲ５と同義であり、好ましい範囲も同じである。
なお、Ｒ１ｂおよびＲ１ｃにおいて、アシル基は、アリールカルボニル基が好ましく、アリールカルボニル基のアリール部は、置換基で置換されたアリール部も好ましい。
アリール部を置換する置換基は、前述のハロゲン原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基およびアリールチオ基等が挙げられ、ハロゲン原子、アルキル基またはアリール基が好ましく、アルキル基またはアリール基がより好ましく、メチル基またはフェニル基がさらに好ましい。
また、Ｒ１ｂおよびＲ１ｃは、２−ナフチルカルボニル基も好ましい。
【００６９】
一般式（ＩＩ−１Ａ’）、（ＩＩ−１Ｂ）、（ＩＩ−２Ａ）、（ＩＩ−２Ｂ’）、（ＩＩ−３）、（ＩＩ−６Ｂ）、（ＩＩ−９）、（ＩＩ−１３’）または（ＩＩ−１４’）のいずれかで表される化合物は、Ｒ１が水素原子、アセチル基、４−メチルベンゾイル基、４−フェニルベンゾイル基または２−ナフトイル基であり、Ｒ１ｂおよびＲ１ｃが水素原子、４−メチルベンゾイル基、４−フェニルベンゾイル基または２−ナフトイル基であり、Ｒ２ａ、Ｒ３ａ、Ｒ５、Ｒ５ｂおよびＲ５ｃが各々独立に、４−メチルフェニル基、４−フェニルフェニル基または２−ナフチル基であり、Ｒ２ｂが、フェニルメチル基であり、Ｒ５ｄおよびＲ５ｅが、フェニル基、４−メチルフェニル基、４−フェニルフェニル基または２−ナフチル基である化合物が最も好ましい。
【００７０】
以下に、本発明の一般式（ＩＩ）で表される化合物の具体例を示す。なお、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００７１】
一般式（ＩＩ−１Ａ）で表される化合物
【００７２】
【化１３】
2015125781.tif 000015
【００７３】
【化１４】
2015125781.tif 000016
【００７４】
一般式（ＩＩ−１Ｂ）で表される化合物
【００７５】
【化１５】
2015125781.tif 000017
【００７６】
【化１６】
2015125781.tif 000018
【００７７】
一般式（ＩＩ−２Ａ）で表される化合物
【００７８】
【化１７】
2015125781.tif 000019
【００７９】
【化１８】
2015125781.tif 000020
【００８０】
一般式（ＩＩ−２Ｂ）で表される化合物
【００８１】
【化１９】
2015125781.tif 000021
【００８２】
【化２０】
2015125781.tif 000022
【００８３】
一般式（ＩＩ−３）で表される化合物
【００８４】
【化２１】
2015125781.tif 000023
【００８５】
【化２２】
2015125781.tif 000024
【００８６】
一般式（ＩＩ−４）で表される化合物
【００８７】
【化２３】
2015125781.tif 000025
【００８８】
一般式（ＩＩ−５）で表される化合物
【００８９】
【化２４】
2015125781.tif 000026
【００９０】
一般式（ＩＩ−６Ａ）で表される化合物
【００９１】
【化２５】
2015125781.tif 000027
【００９２】
【化２６】
2015125781.tif 000028
【００９３】
一般式（ＩＩ−６Ｂ）で表される化合物
【００９４】
【化２７】
2015125781.tif 000029
【００９５】
【化２８】
2015125781.tif 000030
【００９６】
一般式（ＩＩ−７）で表される化合物
【００９７】
【化２９】
2015125781.tif 000031
【００９８】
一般式（ＩＩ−８）で表される化合物
【００９９】
【化３０】
2015125781.tif 000032
【０１００】
一般式（ＩＩ−９）で表される化合物
【０１０１】
【化３１】
2015125781.tif 000033
【０１０２】
一般式（ＩＩ−１０）で表される化合物
【０１０３】
【化３２】
2015125781.tif 000034
【０１０４】
一般式（ＩＩ−１１）で表される化合物
【０１０５】
【化３３】
2015125781.tif 000035
【０１０６】
一般式（ＩＩ−１２）で表される化合物
【０１０７】
【化３４】
2015125781.tif 000036
【０１０８】
一般式（ＩＩ−１３）で表される化合物
【０１０９】
【化３５】
2015125781.tif 000037
【０１１０】
一般式（ＩＩ−１４）で表される化合物
【０１１１】
【化３６】
2015125781.tif 000038
【０１１２】
本発明の一般式（ＩＩ）で表される化合物は、一般式（Ｉ）で表される化合物を硫黄化合物と反応させる工程を経由して合成される。
【０１１３】
＜＜一般式（Ｉ）で表される化合物＞＞
一般式（Ｉ）で表される化合物のうち、一般式（ＩＩ−１）〜（ＩＩ−１４）で表される化合物を合成するための化合物は、下記一般式（Ｉ−１）〜（Ｉ−１４）で表される。
【０１１４】
【化３７】
2015125781.tif 000039
【０１１５】
一般式（Ｉ−１）〜（Ｉ−１４）において、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ３ａおよびＲ５は、一般式（ＩＩ−１）〜（ＩＩ−１４）におけるＲ２ａ、Ｒ２ｂ、Ｒ３ａおよびＲ５と同義であり、好ましい範囲も同じである。Ｘは離脱基を表す。
【０１１６】
なお、一般式（ＩＩ−１）、（ＩＩ−２）および（ＩＩ−４）〜（ＩＩ−７）で表される化合物と同様、チオラン環に結合する厚み一定の破線の結合手を有する一般式（Ｉ−１）、（Ｉ−２）および（Ｉ−４）〜（Ｉ−７）で表される化合物は、下記一般式（Ｉ−１Ａ）、（Ｉ−１Ｂ）、（Ｉ−２Ａ）、（Ｉ−２Ｂ）、（Ｉ−４Ａ）〜（Ｉ−７Ａ）および（Ｉ−４Ｂ）〜（Ｉ−７Ｂ）で表される。
【０１１７】
【化３８】
2015125781.tif 000040
【０１１８】
Ｘはハロゲン原子、アルキルスルホニルオキシ基またはアリールスルホニルオキシ基が好ましい。
ハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子が挙げられる。
アルキルスルホニルオキシ基における炭素数は１〜１０が好ましく、１〜６がより好ましく、１〜３がさらに好ましく、１が特に好ましい。
アルキルスルホニルオキシ基は、例えば、メチルスルホニルオキシ、エチルスルホニルオキシ、プロピルスルホニルオキシ、イソプロピルスルホニルオキシ、ｎ−ブチルスルホニルオキシ、ｔ−ブチルスルホニルオキシ、オクチルスルホニルオキシおよびドデシルスルホニルオキシが挙げられる。
アリールスルホニルオキシ基における炭素数は、６〜１６が好ましく、６〜１２がより好ましく、６〜１０がさらに好ましい。
アリールスルホニルオキシ基は、例えば、ベンゼンスルホニルオキシ、トルエンスルホニルオキシ、ナフチルスルホニルオキシ、４−クロロベンゼンスルホニルオキシおよび２，４，５−トリクロロベンゼンスルホニルオキシが挙げられる。
【０１１９】
ここで、一般式（Ｉ−１Ｂ）における化合物を代表して、具体例を以下に示す。ただし、これによって本発明が限定されるものではない。
なお、一般式（Ｉ−１Ａ）および（Ｉ−２）〜（Ｉ−１４）においても同様に、下記に示す離脱基を適用した化合物が挙げられる。
【０１２０】
【化３９】
2015125781.tif 000041
【０１２１】
これらの化合物は、例えば、代表的に下記一般式（ｉ）で表される化合物の合成で示す方法に準じて、もしくはこれを参考にして合成することができる。
下記一般式（ｉ）で表される化合物は、一般式（Ｉ−１Ｂ）に含まれる化合物であり、下記合成スキームで合成することができる。
【０１２２】
【化４０】
2015125781.tif 000042
【０１２３】
一般式（ｉ）において、Ｒ２ａ、Ｒ３ａおよびＲ５は、一般式（Ｉ−１Ｂ）におけるＲ２ａ、Ｒ３ａおよびＲ５と同義であり、好ましい範囲も同じである。
【０１２４】
【化４１】
2015125781.tif 000043
【０１２５】
化合物（ａ）〔（３Ｒ，４Ｒ，５Ｓ）−５−（ヒドロキシメチル）オキソラン−２，３，４−トリオール〕を酸性条件下、メタノールと反応させて化合物（ｂ）を合成する。ついで、これをアシル化剤と反応させ、一般式（ｃ）で表される化合物を合成する。一般式（ｃ）で表される化合物を臭化水素と反応させ、一般式（ｄ）で表される化合物を合成する。これを加水分解することにより、一般式（ｅ）で表される化合物を合成する。一般式（ｅ）で表される化合物をＯ−メチルヒドロキシルアミンで、一般式（ｆ）で表されるオキシム化合物とした後、２，４，５−トリクロロベンゼンスルホニルクロリドにより、一般式（ｇ）で表される化合物を合成する。一般式（ｇ）で表される化合物を臭化リチウムと反応させ、一般式（ｈ）で表される化合物を合成する。これを酸加水分解することによりオキシムをアルデヒドに変換し、一般式（ｉ）で表される化合物を合成する。
【０１２６】
＜＜一般式（ＩＩ）で表される化合物の用途＞＞
一般式（ＩＩ）で表される化合物は、抗腫瘍剤として有用な１−（２−デオキシ−２−フルオロ−４−チオ−β−Ｄ−アラビノフラノシル）シトシンや１−（４−チオ−β−Ｄ−アラビノフラノシル）シトシンおよびその周辺化合物の製造などに有用な化合物である。
【０１２７】
一般式（ＩＩ）で表される化合物の用途としては、例えば、一般式（Ｖ）で表される化合物が挙げられる。
一般式（Ｖ）で表されるチオヌクレオシドは、一般式（ＩＩ）で表される化合物から直接もしくは一般式（ＩＩＩ）で表される化合物を経由して、一般式（ＩＶ）で表される化合物を合成し、脱保護により合成できる。
すなわち、一般式（Ｖ）で表される化合物は、一般式（ＩＩ）で表される化合物をシリル化された核酸塩基と反応させ、さらに、脱保護することで合成できる。
【０１２８】
【化４２】
2015125781.tif 000044
【０１２９】
一般式（ＩＩＩ）において、Ｒ２、Ｒ３およびＲ５は一般式（ＩＩ）におけるＲ２、Ｒ３およびＲ５と同義であり、好ましい範囲も同じである。Ｘ１はハロゲン原子（好ましくは臭素原子）を表す。
一般式（ＩＶ）において、Ｒ２、Ｒ３およびＲ５は一般式（ＩＩ）におけるＲ２、Ｒ３およびＲ５と同義であり、好ましい範囲も同じである。Ｂ’は核酸塩基または核酸塩基中のアミノ基をアシル基で保護した基を表す。
一般式（Ｖ）において、Ｒ２’およびＲ３’は、一般式（ＩＩ）においてＲ２がアシルオキシ基、アリールメチルオキシカルボニルオキシ基、アリルオキシカルボニルオキシ基、アリールメチルオキシ基もしくはアリルオキシ基を表す場合またはＲ３がアシルオキシ基を表す場合はヒドロキシ基を表し、それ以外の場合は、一般式（ＩＩ）におけるＲ２およびＲ３と同義である。Ｂは核酸塩基を表す。
なお、Ｂ’−ＳｉＲ３は、シリル化された核酸塩基または核酸塩基中のアミノ基をアシル化して保護した基を表し、Ｒはアルキル基（好ましくはメチル）を表す。
【０１３０】
ここで、一般式（ＩＶ）および（Ｖ）における核酸塩基とは、置換されてもよいアデニン、置換されてもよいグアニン、置換されてもよいシトシン、置換されてもよいチミンまたは置換されてもよいウラシルを意味し、例えば以下のような基を表す。
なお、＊はチオラン環の１位に結合する部分を示す。
【０１３１】
【化４３】
2015125781.tif 000045
【０１３２】
一般式（ＩＩＩ）で表される化合物は、一般式（ＩＩ）で表される化合物をハロゲン化することで合成できる。一般式（ＩＶ）で表される化合物は、核酸塩基もしくはこのアミノ基保護体であるシリル化化合物を、一般式（ＩＩ）または（ＩＩＩ）で表される化合物と反応させ、核酸塩基もしくはこのアミノ基保護体を導入することで合成できる。
ここで、一般式（ＩＶ）で表される化合物を合成した後、アミノ基をアシル化することにより結晶性を向上させて精製してもよい。
【０１３３】
一般式（ＩＶ）で表される化合物を脱保護することにより、一般式（Ｖ）で表されるチオヌクレオシドを合成することができる。この方法は、例えばプロテクティブ・グループス・イン・オーガニック・シンセシス（Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ  Ｇｒｏｕｐｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ），第４版，６９６〜９２６頁（２００７年）、ジョン・ウィリイ・アンド・サンズ社（Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ．ＩＮＣ）に記載された方法に準じて行えばよい。
【実施例】
【０１３４】
以下に実施例に基づき、本発明についてさらに詳細に説明するが、本発明がこれに限定して解釈されるものではない。【０１３５】
特に断りのない限り、以下の測定機器を使用して測定した。【０１３６】
（使用測定機器）
カラムクロマトグラフィー
測定機器：山善株式会社製の分取クロマト装置  Ｗ−Ｐｒｅｐ  ２ＸＹ（商品名）
クロマト担体：シリカゲル【０１３７】
１Ｈ−ＮＭＲスペクトル
測定機器：Ｂｒｕｋｅｒ社製のＡＶＡＮＣＥ  ３００（商品名）
全δ値をｐｐｍで示した。【０１３８】
ＬＣ／ＭＳ分析
測定機器：ウオーターズ社製のＳＱＤ（商品名）
カラム：ウオーターズ社製のＢＥＨ  Ｃ１８（商品名）  １．７μｍ，２．１×３０ｍｍ
溶媒：Ａ液：０．１％ギ酸／水
Ｂ液：０．１％ギ酸／アセトニトリル
グラジエントサイクル：０．００ｍｉｎ（Ａ液／Ｂ液＝９５／５）、２．００ｍｉｎ（Ａ液／Ｂ液＝５／９５）、３．００ｍｉｎ（Ａ液／Ｂ液＝５／９５）、３．０１ｍｉｎ（Ａ液／Ｂ液＝１００／０）、３．８０ｍｉｎ（Ａ液／Ｂ液＝１００／０）
流速：０．５ｍＬ／ｍｉｎ
カラム温度：室温
イオン化法：電子スプレーイオン化法（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｓｐｒａｙ  Ｉｏｎｉｚａｔｉｏｎ：ＥＳＩポジティブおよびネガティブイオンピークを検出）
検出波長：２５４ｎｍ【０１３９】
実施例１
〔Ａ〕（３Ｓ，４Ｒ，５Ｓ）−２，４−ビス（４−メチルベンゾイルオキシ）−５−［（４−メチルベンゾイルオキシ）メチル］チオラン−３−イル  ４−メチルベンゾアートの合成【０１４０】
以下のようにして、（２Ｓ，３Ｒ，４Ｒ）−４−ブロモ−１−オキソ−３，５−ビス（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−メチルベンゾアートを１５％硫化水素ナトリウムと反応させて（３Ｓ，４Ｒ，５Ｓ）−２−ヒドロキシ−４−（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）−５−（（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）メチル）チオラン−３−イル  ４−メチルベンゾアートを得、さらに４−メチルベンゾイルクロリドと反応させることにより合成した。【０１４１】
【化４４】
2015125781.tif 000046
【０１４２】
（２Ｓ，３Ｒ，４Ｒ）−４−ブロモ−１−オキソ−３，５−ビス（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−メチルベンゾアート０．５７ｇのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１４ｍＬ溶液に、１０℃以下で、１５％硫化水素ナトリウム水溶液０．５６ｍＬを滴下し、２５℃で１．５時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル３０ｍＬおよび飽和塩化ナトリウム水溶液３０ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液で３回、飽和塩化ナトリウム水溶液で１回順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去することにより、（３Ｓ，４Ｒ，５Ｓ）−２−ヒドロキシ−４−（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）−５−（（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）メチル）チオラン−３−イル  ４−メチルベンゾアートの粗体を得た。【０１４３】
得られた粗体１２０ｍｇのピリジン２ｍＬ溶液にＮ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン５．５ｍｇを加えた後、１０℃以下で、４−メチルベンゾイルクロリド０．１ｍＬを加え、室温で６時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル３０ｍＬおよび１Ｎ塩酸水３０ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を１Ｎ塩酸水、炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／４）で精製することにより、（３Ｓ，４Ｒ，５Ｓ）−２，４−ビス（４−メチルベンゾイルオキシ）−５−［（４−メチルベンゾイルオキシ）メチル］チオラン−３−イル  ４−メチルベンゾアートの２種類のアノマー異性体をそれぞれ８９．４ｍｇ（展開溶媒＝酢酸エチル／ヘキサン＝１／２におけるＴＬＣのＲｆ値＝０．６８）および４１．４ｍｇ（展開溶媒＝酢酸エチル／ヘキサン＝１／２におけるＴＬＣのＲｆ値＝０．６３）得た。これらはいずれも白色アモルファス状であった。【０１４４】
Ｒｆ値＝０．６８の成分
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
２．３１（３Ｈ，ｓ）、２．３６（３Ｈ，ｓ）、２．４２（３Ｈ，ｓ）、２．４４（３Ｈ，ｓ）、４．２９（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．６，５．８Ｈｚ）、４．５３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．９，１１．６Ｈｚ）、４．７０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．７，１１．５Ｈｚ）、６．００（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．６，８．６Ｈｚ）、６．１７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．８，３．５Ｈｚ）、６．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ）、６．９６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、７．１３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、７．２４−７．２７（４Ｈ，ｍ）、７．７９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）、７．８０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）、７．９６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、７．９７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）【０１４５】
Ｒｆ値＝０．６３の成分
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
２．３６（３Ｈ，ｓ）、２．４０（３Ｈ，ｓ）、２．４１（３Ｈ，ｓ）、２．４３（３Ｈ，ｓ）、４．１６（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝２．２，６．５Ｈｚ）、４．５６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．５Ｈｚ）、５．９１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝４．７Ｈｚ）、６．０７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．２，４．４Ｈｚ）、６．６９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ）、７．１０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）、７．１６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ）、７．２４−７．２７（４Ｈ，ｍ）、７．８２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、７．８６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、７．９８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、７．９９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）【０１４６】
〔Ｂ〕原料の合成
なお、原料である上記（２Ｓ，３Ｒ，４Ｒ）−４−ブロモ−１−オキソ−３，５−ビス（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−メチルベンゾアートは、以下のように、複数の工程で合成した。【０１４７】
【化４５】
2015125781.tif 000047
【０１４８】
（３Ｓ，４Ｒ，５Ｓ）−５−（ヒドロキシメチル）オキソラン−２，３，４−トリオール１０ｇのメタノール１２０ｍＬ溶液に、１５℃以下で、アセチルクロリド６．０ｍＬを滴下し、２５℃で２時間攪拌した。反応混合物に２８％ナトリウムメトキシド／メタノール溶液１７．５ｇおよびトルエン８０ｍＬを加え、メタノールを減圧留去することにより（２Ｓ，３Ｒ，４Ｓ）−２−（ヒドロキシメチル）−５−メトキシオキソラン−３，４−ジオールの粗体１７．２ｇを得た。【０１４９】
この粗体に３０℃以下でトルエン１５０ｍＬ、水８０ｍＬ、５０％水酸化ナトリウム水溶液２０ｇおよびテトラブチルアンモニウムクロリド０．６０ｇを加え、１５℃以下で４−メチルベンゾイルクロリド３０．９ｇを３０分かけて滴下し、２５℃で２．５時間攪拌した。反応液に酢酸エチル３００ｍＬおよび水３００ｍＬを添加し、水層を除去した。有機層を水４００ｍＬ（２回）および飽和塩化ナトリウム水溶液４００ｍＬ（２回）で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去することにより、淡黄色オイル状の（３Ｓ，４Ｓ，５Ｓ）−２−メトキシ−４−（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）−５−（（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）メチル）オキソラン−３−イル  ４−メチルベンゾアートの粗体３３．６ｇを得た。この粗体は精製をすることなく、次工程で用いた。１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、約８０：２０のアノマー混合物であった。【０１５０】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
２．３５−２．４５（９Ｈ，ｍ）、３．４０（２．４Ｈ，ｓ）、３．４７（０．６Ｈ，ｓ）、４．４９（０．８Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．２，１２．８Ｈｚ）、４．５６−４．６３（０．４Ｈ，ｍ）、４．６８−４．７３（１．８Ｈ，ｍ）、５．１３（０．８Ｈ，ｓ）、５．３０（０．２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．４，７．１Ｈｚ）、５．３７（０．２Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．４Ｈｚ）、５．６４（０．８Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ）、５．６９（０．２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．４，７．１Ｈｚ）、５．８４（０．８Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８，６．６Ｈｚ）、７．１０−７．３２（６Ｈ，ｍ）、７．７７−８．０４（６Ｈ，ｍ）【０１５１】
【化４６】
2015125781.tif 000048
【０１５２】
（３Ｓ，４Ｓ，５Ｓ）−２−メトキシ−４−（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）−５−（（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）メチル）オキソラン−３−イル  ４−メチルベンゾアートの粗体２６．９ｇのトリフルオロ酢酸３２３ｍＬ溶液に１０℃で水２６．９ｍＬを加え、４０℃で１．５時間攪拌した。約２８０ｍＬのトリフルオロ酢酸を減圧にて留去し、残留物に酢酸エチル７５０ｍＬおよび１０％炭酸水素ナトリウム水溶液７５０ｍＬを添加した。水層を除去した後、有機層を１０％炭酸水素ナトリウム水溶液７５０ｍＬ、水７５０ｍＬおよび飽和塩化ナトリウム水溶液７５０ｍＬで順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、カラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／３→１／２）で精製することにより、白色アモルファス状の（３Ｓ，４Ｓ，５Ｓ）−２−ヒドロキシ−４−（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）−５−（（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）メチル）オキソラン−３−イル  ４−メチルベンゾアート１１．４ｇを得た。１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、約６７：３３のアノマー混合物であった。【０１５３】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
２．３６−２．４０（９Ｈ，ｍ）、３．３２−３．３４（１Ｈ，ｍ）、４．５１−４．７９（３Ｈ，ｍ）、５．４８（０．３３Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．４，６．２Ｈｚ）、５．６１（０．６７Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、５．６５（０．６７Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ）、５．７５−５．７９（０．６６Ｈ，ｍ）、５．８６（０．６７Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．０，６．２Ｈｚ）、７．１０−７．２７（６Ｈ，ｍ）、７．７７−７．９８（６Ｈ，ｍ）【０１５４】
【化４７】
2015125781.tif 000049
【０１５５】
（３Ｓ，４Ｓ，５Ｓ）−２−ヒドロキシ−４−（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）−５−（（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）メチル）オキソラン−３−イル  ４−メチルベンゾアート１２．０ｇのメタノール３８．４ｍＬ溶液にピリジン１２．０ｍＬ、ｐ−トルエンスルホン酸・１水和物６．１ｇおよびＯ−メチルヒドロキシルアミン塩酸塩３．６ｇを２５℃で加え、４０℃で２．５時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル４００ｍＬおよび水４００ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を１０％塩化ナトリウム水溶液で２回、１Ｎ塩酸水で２回、炭酸水素ナトリウム水溶液で１回および飽和塩化ナトリウム水溶液で１回ずつ順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、白色アモルファス状の（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）−４−ヒドロキシ−１−（メトキシイミノ）−３，５−ビス（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−メチルベンゾアート１２．３ｇを得た。１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、約７５：２５のオキシム異性体混合物であった。【０１５６】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
２．３８−２．４１（９Ｈ，ｍ）、３．０９（０．７５Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．８Ｈｚ）、３．２５（０．２５Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）、３．９１（２．２５Ｈ，ｓ）、４．０２（０．７５Ｈ，ｓ）、４．２６−４．４３（２Ｈ，ｍ）、４．５９−４．６４（１Ｈ，ｍ）、５．７６（０．７５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．３，７．９Ｈｚ）、５．８２（０．２５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．８，８．６Ｈｚ）、６．１３（０．７５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．３，６．９Ｈｚ）、６．５３（０．２５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．８，６．１Ｈｚ）、６．９０（０．２５Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．１Ｈｚ）、７．１２−７．２６（６Ｈ，ｍ）、７．５９（０．７５Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、７．８４−７．９３（６Ｈ，ｍ）【０１５７】
【化４８】
2015125781.tif 000050
【０１５８】
（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）−４−ヒドロキシ−１−（メトキシイミノ）−３，５−ビス（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−メチルベンゾアート６．４ｇのアセトニトリル２５．６ｍＬ溶液に、２５℃で、２，４，５−トリクロロベンゼンスルホニルクロリド６．７ｇを加えた後、０〜１０℃で、Ｎ−メチルイミダゾール２．６ｍＬを滴下し、２５℃で２時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル１２０ｍＬおよび水１２０ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を１０％塩化ナトリウム水溶液で２回、１Ｎ塩酸水で１回、炭酸水素ナトリウム水溶液で１回および飽和塩化ナトリウム水溶液で１回ずつ順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去することにより、淡黄色アモルファス状の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）−１−（メトキシイミノ）−３，５−ビス（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）−４−（（（２，４，５−トリクロロベンゼン）スルホニル）オキシ）ペンタン−２−イル  ４−メチルベンゾアートの粗体９．７ｇを得た。この粗体はこれ以上精製することなく次工程に用いた。１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、約７５：２５のオキシム異性体混合物であった。【０１５９】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
２．４１−２．４３（９Ｈ，ｍ）、３．８４（２．２５Ｈ，ｓ）、３．９６（０．７５Ｈ，ｓ）、４．６０（０．２５，ｄｄ，Ｊ＝７．６，１２．８Ｈｚ）、４．６５（０．７５ｄｄ，Ｊ＝７．７，１２．７Ｈｚ）、４．８１（０．７５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．９，１２．７Ｈｚ）、４．９３（０．２８Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．７，１２．８Ｈｚ）、５．４０−５．４５（０．２５Ｈ，ｍ）、５．４８−５．５２（０．７５Ｈ，ｍ）、５．９２（０．７５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．６，５．４Ｈｚ）、６．９８−６．０２（１Ｈ，ｍ）、６．５２（０．２５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８，５．６Ｈｚ）、６．８９（０．２５Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ）、７．１９−７．３５（７Ｈ，ｍ）、７．５３（０．７５Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）、７．７５−８．００（７Ｈ，ｍ）【０１６０】
【化４９】
2015125781.tif 000051
【０１６１】
（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）−１−（メトキシイミノ）−３，５−ビス（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）−４−（（（２，４，５−トリクロロベンゼン）スルホニル）オキシ）ペンタン−２−イル  ４−メチルベンゾアートの粗体９．１ｇのテトラヒドロフラン９．１ｍＬおよび１，２−ジメチルイミダゾール７．８ｍＬ混合溶液に、２５℃で、臭化リチウム２．０ｇを加え、４８℃で５時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル３００ｍＬおよび水１００ｍＬを加え、水層を除去し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／３）で精製することにより、白色アモルファス状の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−４−ブロモ−１−（メトキシイミノ）−３，５−ビス（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）−ペンタン−２−イル  ４−メチルベンゾアート５．５ｇを得た。１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、約７７：２３のオキシム異性体混合物であった。【０１６２】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
２．４１−２．４３（９Ｈ，ｍ）、３．７０（２．３１Ｈ，ｓ）、３．８０（０．６９Ｈ，ｓ）、４．５０−４．７７（３Ｈ，ｍ）、５．９１−６．０１（１．７５Ｈ，ｍ）、６．５０（０．２５Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．４Ｈｚ）、６．８０（０．２５Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．２Ｈｚ）、７．２２−７．２８（６Ｈ，ｍ）、７．４５（０．７５Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）、７．９０−８．００（６Ｈ，ｍ）【０１６３】
【化５０】
2015125781.tif 000052
【０１６４】
（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−４−ブロモ−１−（メトキシイミノ）−３，５−ビス（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）−ペンタン−２−イル  ４−メチルベンゾアート５．２ｇのアセトニトリル６０ｍＬ溶液に５０％グリオキシル酸水溶液１５．６ｍＬを加え、７５℃で９．５時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、酢酸エチル２７０ｍＬおよび水９０ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を１０％塩化ナトリウム水溶液で３回、炭酸水素ナトリウム水溶液で１回、飽和塩化ナトリウム水溶液で３回順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／３→１／２）で精製することにより、白色アモルファス状の（２Ｓ，３Ｒ，４Ｒ）−４−ブロモ−１−オキソ−３，５−ビス（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−メチルベンゾアート３．８ｇを得た。【０１６５】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
２．４１−２．４３（９Ｈ，ｍ）、（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．４，１０．４Ｈｚ）、４．７２−４．８２（２Ｈ，ｍ）、５．６４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．０，７．４Ｈｚ）、５．９８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．１，７．４Ｈｚ）、７．２３−７．２９（６Ｈ，ｍ）、７．９２−７．９９（６Ｈ，ｍ）、９．６９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝０．９６Ｈｚ）【０１６６】
実施例２
〔Ａ〕（３Ｓ，４Ｒ，５Ｓ）−２，４−ビス（４−フェニルベンゾイルオキシ）−５−［（４−フェニルベンゾイルオキシ）メチル］チオラン−３−イル  ４−フェニルベンゾアートの合成【０１６７】
以下のようにして、（２Ｓ，３Ｒ，４Ｒ）−４−ブロモ−１−オキソ−３，５−ビス（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−フェニルベンゾアートを１５％硫化水素ナトリウムと反応させて（３Ｓ，４Ｒ，５Ｓ）−２−ヒドロキシ−４−（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）−５−（（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）メチル）チオラン−３−イル  ４−フェニルベンゾアートを得、さらに水酸基を４−フェニルベンゾイルクロリドと反応させることにより合成した。【０１６８】
【化５１】
2015125781.tif 000053
【０１６９】
（２Ｓ，３Ｒ，４Ｒ）−４−ブロモ−１−オキソ−３，５−ビス（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−フェニルベンゾアートの粗体２．６ｇのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４８ｍＬ溶液に、１０℃以下で、１５％硫化水素ナトリウム水溶液１．９ｍＬを滴下し、２５℃で１．５時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル１５０ｍＬおよび飽和塩化ナトリウム水溶液１５０ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液で３回、飽和塩化ナトリウム水溶液で１回順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去することにより（３Ｓ，４Ｒ，５Ｓ）−２−ヒドロキシ−４−（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）−５−（（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）メチル）チオラン−３−イル  ４−フェニルベンゾアートの粗体を得た。【０１７０】
上記粗体６９ｍｇのピリジン１ｍＬ溶液にＮ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン３ｍｇを加えた後、１０℃以下で、４−フェニルベンゾイルクロリド８５ｍｇを加え、室温で２．５時間攪拌した後、３日間静置した。反応混合物に酢酸エチル３０ｍＬおよび１Ｎ塩酸水３０ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を１Ｎ塩酸水、炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物を酢酸エチル／ヘキサンから再結晶することにより（３Ｓ，４Ｒ，５Ｓ）−２，４−ビス（４−フェニルベンゾイルオキシ）−５−［（４−フェニルベンゾイルオキシ）メチル］チオラン−３−イル  ４−フェニルベンゾアートの白色固体６７ｍｇを得た。１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、約６０：４０のアノマー混合物であった。【０１７１】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
４．２６（０．４Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝１．８，６．４Ｈｚ）、４．３８（０．６Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．６，５．３Ｈｚ）、４．５９−４．６７（１．４Ｈ，ｍ）、４．７５（０．６Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．０，１１．７Ｈｚ）、６．０２（０．４Ｈ，ｔ，Ｊ＝４．６Ｈｚ）、６．１４（０．６Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．６，８．６Ｈｚ）、６．２２（０．４Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．９，４．３Ｈｚ）、６．２８（０．６Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．７，３．５Ｈｚ）、６．３７（０．６Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ）、６．７８（０．４Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ）、７．２７−７．７７（２８Ｈ，ｍ）、７．９６−８．０４（４Ｈ，ｍ）、８．１５−８．２６（４Ｈ，ｍ）【０１７２】
〔Ｂ〕原料の合成
なお、原料である上記（２Ｓ，３Ｒ，４Ｒ）−４−ブロモ−１−オキソ−３，５−ビス（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−フェニルベンゾアートは、以下のように、複数の工程で合成した。【０１７３】
【化５２】
2015125781.tif 000054
【０１７４】
（３Ｓ，４Ｒ，５Ｓ）−５−（ヒドロキシメチル）オキソラン−２，３，４−トリオール７．５ｇのメタノール７５ｍＬ溶液に、１５℃以下で、アセチルクロリド４．５ｍＬを滴下し、２５℃で２時間攪拌した。反応混合物に２８％ナトリウムメトキシド／メタノール溶液１３．１ｇおよびトルエン６０ｍＬを加え、メタノールを減圧留去することにより（２Ｓ，３Ｒ，４Ｓ）−２−（ヒドロキシメチル）−５−メトキシオキソラン−３，４−ジオールの粗体１３．５ｇを得た。【０１７５】
この粗体に３０℃以下でトルエン１００ｍＬ、水６０ｍＬ、５０％水酸化ナトリウム水溶液１５ｇおよびテトラブチルアンモニウムクロリド０．４５ｇを加え、１５℃以下で４−フェニルベンゾイルクロリド３２．６ｇのＴＨＦ１５０ｍＬ溶液を１０回に分けて添加し、２５℃で２．５時間攪拌した。反応液に酢酸エチル２００ｍＬおよび水２００ｍＬを添加し、水層を除去した。有機層を水３００ｍＬ（２回）および飽和塩化ナトリウム水溶液３００ｍＬ（２回）で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去することにより、白色アモルファス状の（３Ｓ，４Ｓ，５Ｓ）−２−メトキシ−４−（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）−５−（（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）メチル）オキソラン−３−イル  ４−フェニルベンゾアートの粗体３６．８ｇを得た。この粗体は精製をすることなく、次工程で用いた。１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、約８７：１３のアノマー混合物であった。【０１７６】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
３．４６（２．６１Ｈ，ｓ）、３．５３（０．３９Ｈ，ｓ）、４．５６−４．６２（１Ｈ，ｍ）、４．６８−４．８０（２Ｈ，ｍ）、５．２０（０．８７Ｈ，ｓ）、５．３９−５．４４（０．２６Ｈ，ｍ）、５．７３（０．８７Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ）、５．７７（０．１３Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．５，６．８Ｈｚ）、５．９３（０．８７Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８，６．６Ｈｚ）、７．２６−７．７７（２１Ｈ，ｍ）、７．９５−８．１８（６Ｈ，ｍ）【０１７７】
【化５３】
2015125781.tif 000055
【０１７８】
（３Ｓ，４Ｓ，５Ｓ）−２−メトキシ−４−（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）−５−（（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）メチル）オキソラン−３−イル  ４−フェニルベンゾアートの粗体３５．６ｇのトリフルオロ酢酸４２７ｍＬ溶液に、１０℃で水３５．６ｍＬを加え、４０℃で１．５時間攪拌した。約３７０ｍＬのトリフルオロ酢酸を減圧にて留去し、残留物に酢酸エチル７５０ｍＬおよび１０％炭酸水素ナトリウム水溶液７５０ｍＬを添加し、不溶物をセライトろ過で除去した。水層を除去した後、有機層を１０％炭酸水素ナトリウム水溶液５００ｍＬ（５回）および飽和塩化ナトリウム水溶液５００ｍＬ（２回）で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、カラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／３→１／２）で精製することにより、淡黄色アモルファス状の（３Ｓ，４Ｓ，５Ｓ）−２−ヒドロキシ−４−（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）−５−（（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）メチル）オキソラン−３−イル  ４−フェニルベンゾアート１０．６ｇを得た。１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、約５７：４３のアノマー混合物であった。【０１７９】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
３．２８（１Ｈ，ｂｒｓ）、４．６０−４．８６（３Ｈ，ｍ）、５．５７（０．４３Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．４，６．３Ｈｚ）、５．６（０．５７Ｈ，ｂｒｓ）、５．７５（０．５７Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝０．８，４．８Ｈｚ）、５．８４−５．８７（０．８６Ｈ，ｍ）、５．９６（０．５７Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８，６．２Ｈｚ）、７．３７−７．７０（２１Ｈ，ｍ）、７．９６−８．２２（６Ｈ，ｍ）【０１８０】
【化５４】
2015125781.tif 000056
【０１８１】
（３Ｓ，４Ｓ，５Ｓ）−２−ヒドロキシ−４−（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）−５−（（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）メチル）オキソラン−３−イル  ４−フェニルベンゾアート９．６ｇのメタノール３０．７ｍＬ溶液にピリジン７．２ｍＬ、ｐ−トルエンスルホン酸・１水和物３．６ｇおよびＯ−メチルヒドロキシルアミン塩酸塩２．１ｇを２５℃で加え、４０℃で２時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル２５０ｍＬおよび水２５０ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を１０％塩化ナトリウム水溶液で２回、１Ｎ塩酸水で２回、炭酸水素ナトリウム水溶液で１回および飽和塩化ナトリウム水溶液で１回ずつ順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、淡黄色アモルファス状の（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）−４−ヒドロキシ−１−（メトキシイミノ）−３，５−ビス（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−フェニルベンゾアート９．６６ｇを得た。１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、約７７：２３のオキシム異性体混合物であった。【０１８２】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
３．０８（０．７７Ｈ，ｂｒｓ）、３．２７（０．２３Ｈ，ｂｒｓ）、３．９４（２．３１Ｈ，ｓ）、４．０６（０．６９Ｈ，ｓ）、４．３２−４．５３（２Ｈ，ｍ）、４．６６−４．７２（１Ｈ，ｍ）、５．８７（０．７７Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．３，７．９Ｈｚ）、５．９２（０．２３Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．７，８．７Ｈｚ）、６．２１（０．７７Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．３，６．８Ｈｚ）、６．６２（０．２３Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．８，６．１Ｈｚ）、６．９７（０．２３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．１Ｈｚ）、７．３８−７．６８（２１．７７Ｈ，ｍ）、８．０４−８．１２（６Ｈ，ｍ）【０１８３】
【化５５】
2015125781.tif 000057
【０１８４】
（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）−４−ヒドロキシ−１−（メトキシイミノ）−３，５−ビス（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−フェニルベンゾアート４．６ｇのアセトニトリル１８．５ｍＬおよびテトラヒドロフラン１０ｍＬ混合溶液に、２５℃で、２，４，５−トリクロロベンゼンスルホニルクロリド３．６ｇを加えた後、０〜１０℃で、Ｎ−メチルイミダゾール１．４ｍＬを滴下し、２５℃で２時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル９０ｍＬおよび水９０ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を１０％塩化ナトリウム水溶液で２回、１Ｎ塩酸水で１回、炭酸水素ナトリウム水溶液で１回および飽和塩化ナトリウム水溶液で１回ずつ順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、カラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／４）で精製することにより、白色アモルファス状の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）−１−（メトキシイミノ）−３，５−ビス（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）−４−（（（２，４，５−トリクロロベンゼン）スルホニル）オキシ）ペンタン−２−イル  ４−フェニルベンゾアート３．７ｇを得た。１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、約７２：２８のオキシム異性体混合物であった。【０１８５】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
３．８８（２．１６Ｈ，ｓ）、４．００（０．８４Ｈ，ｓ）、４．６８（０．２８Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．４，１２．８Ｈｚ）、４．７３（０．７２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１２．７Ｈｚ）、４．９１（０．７２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．９，１２．７Ｈｚ）、４．９３（０．２８Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．７，１２．８Ｈｚ）、５．４９−５．５４（０．２８Ｈ，ｍ）、５．５６−５．６１（０．７２Ｈ，ｍ）、６．０２（０．７２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．７，５．２Ｈｚ）、６．０７−６．１１（１Ｈ，ｍ）、６．６２（０．２８Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８，５．６Ｈｚ）、６．９７（０．２８Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ）、７．３８−７．７２（２２．７２Ｈ，ｍ）、７．９５−８．１８（７Ｈ，ｍ）【０１８６】
【化５６】
2015125781.tif 000058
【０１８７】
（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）−１−（メトキシイミノ）−３，５−ビス（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）−４−（（（２，４，５−トリクロロベンゼン）スルホニル）オキシ）ペンタン−２−イル  ４−フェニルベンゾアート３．７ｇのテトラヒドロフラン３．７ｍＬおよび１，２−ジメチルイミダゾール３．２ｍＬ混合溶液に、２５℃で、臭化リチウム０．６７ｇを加え、４８℃で５時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル１５０ｍＬおよび水５０ｍＬを加え、水層を除去し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去することにより、白色固体の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−４−ブロモ−１−（メトキシイミノ）−３，５−ビス（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−フェニルベンゾアート４．６ｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、約７４：２６のオキシム異性体混合物であった。【０１８８】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
３．７５（２．２２Ｈ，ｓ）、３．８６（０．７８Ｈ，ｓ）、４．６０−４．６６（１Ｈ，ｍ）、４．７３−４．７８（１Ｈ，ｍ）、４．８１−４．８７（１Ｈ，ｍ）、６．０１−６．１０（１．７４Ｈ，ｍ）、６．５９（０．２６Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）、６．８８（０．２６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．２Ｈｚ）、７．３９−７．７１（２１．７４Ｈ，ｍ）、８．０９−８．１９（６Ｈ，ｍ）【０１８９】
【化５７】
2015125781.tif 000059
【０１９０】
（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−４−ブロモ−１−（メトキシイミノ）−３，５−ビス（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−フェニルベンゾアート４．２ｇのアセトニトリル３２０ｍＬ溶液に、５０％グリオキシル酸水溶液２８ｍＬを加え、７５℃で１９時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、酢酸エチル３３０ｍＬおよび水１１０ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を１０％塩化ナトリウム水溶液で３回、炭酸水素ナトリウム水溶液で１回、飽和塩化ナトリウム水溶液で３回順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去することにより淡黄色アモルファス状の（２Ｓ，３Ｒ，４Ｒ）−４−ブロモ−１−オキソ−３，５−ビス（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−フェニルベンゾアートの粗体２．９ｇを得た。この粗体はこれ以上の精製を行うことなく次工程で用いた。【０１９１】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
４．６５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．７，１１．０Ｈｚ）、４．８０−４．９１（２Ｈ，ｍ）、５．７４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝０．８，７．３Ｈｚ）、６．０８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．１，７．２Ｈｚ）、７．３９−７．７２（２１Ｈ，ｍ）、８．１０−８．１９（６Ｈ，ｍ）、９．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝０．８Ｈｚ）【０１９２】
実施例３
〔Ａ〕（３Ｒ，４Ｒ，５Ｓ）−２，４−ビス（４−メチルベンゾイルオキシ）−５−［（４−メチルベンゾイルオキシ）メチル］チオラン−３−イル  ４−メチルベンゾアートの合成【０１９３】
以下のようにして、（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−４−ブロモ−１−オキソ−３，５−ビス（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−メチルベンゾアートを１５％硫化水素ナトリウムと反応させて（３Ｒ，４Ｒ，５Ｓ）−２−ヒドロキシ−４−（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）−５−（（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）メチル）チオラン−３−イル  ４−メチルベンゾアートを得、さらに水酸基を４−メチルベンゾイルクロリドと反応させることにより合成した。【０１９４】
【化５８】
2015125781.tif 000060
【０１９５】
（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−４−ブロモ−１−オキソ−３，５−ビス（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−メチルベンゾアートの油状粗体１．２ｇのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１２ｍＬ溶液に、１０℃以下で、１５％硫化水素ナトリウム水溶液１．６ｍＬを滴下し、２５℃で１．５時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル５０ｍＬおよび飽和塩化ナトリウム水溶液５０ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液で３回、飽和塩化ナトリウム水溶液で１回順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去することにより（３Ｒ，４Ｒ，５Ｓ）−２−ヒドロキシ−４−（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）−５−（（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）メチル）チオラン−３−イル  ４−メチルベンゾアートの粗体を得た。【０１９６】
得られた粗体２０４ｍｇのピリジン２ｍＬ溶液にＮ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン１０ｍｇを加えた後、１０℃以下で、４−メチルベンゾイルクロリド６２．３μＬを加え、室温で１時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル３０ｍＬおよび１Ｎ塩酸水３０ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／４）で精製することにより、（３Ｒ，４Ｒ，５Ｓ）−２，４−ビス（４−メチルベンゾイルオキシ）−５−［（４−メチルベンゾイルオキシ）メチル］チオラン−３−イル  ４−メチルベンゾアートの２種類のアノマー異性体をそれぞれ６６．３ｍｇ（展開溶媒＝酢酸エチル／ヘキサン＝１／２におけるＴＬＣのＲｆ値＝０．６８）および１８３ｍｇ（展開溶媒＝酢酸エチル／ヘキサン＝１／２におけるＴＬＣのＲｆ値＝０．６２）得た。これらはいずれも白色アモルファス状であった。【０１９７】
Ｒｆ値＝０．６８の成分
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
２．３８−２．４２（１２Ｈ，ｍ）、４．２３（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝３．６，７．５Ｈｚ）、４．５４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．３，１１．３Ｈｚ）、４．７４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．９，１１．３Ｈｚ）、５．９０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝３．３Ｈｚ）、６．１４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．０，３．２Ｈｚ）、６．４３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ）、７．１５−７．２８（８Ｈ，ｍ）、７．９０−７．９８（８Ｈ，ｍ）【０１９８】
Ｒｆ値＝０．６２の成分
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
２．３１（３Ｈ，ｓ）、２．３４（３Ｈ，ｓ）、２．３８（３Ｈ，ｓ）、２．４２（３Ｈ，ｓ）、３．９１（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝７．７，６．２Ｈｚ）、４．５２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．２，１１．５Ｈｚ）、４．６７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．１，１１．５Ｈｚ）、５．８５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．５，９．８Ｈｚ）、６．３１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．８，９．８Ｈｚ）、６．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ）、６．９５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、７．１４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、７．１９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、７．２２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、７．７７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、７．８５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）、７．８７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、７．９１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）【０１９９】
〔Ｂ〕原料の合成
なお、原料である上記（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−４−ブロモ−１−オキソ−３，５−ビス（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−メチルベンゾアートは、以下のように、複数の工程で合成した。【０２００】
【化５９】
2015125781.tif 000061
【０２０１】
（３Ｒ，４Ｒ，５Ｓ）−５−（ヒドロキシメチル）オキソラン−２，３，４−トリオール９．６ｇのメタノール９６ｍＬ溶液に、１５℃以下で、アセチルクロリド５．８ｍＬを滴下し、２５℃で１時間攪拌した。反応混合物に２８％ナトリウムメトキシド／メタノール溶液１７．５ｍＬおよびトルエン８０ｍＬを加え、メタノールを減圧留去することにより（２Ｓ，３Ｒ，４Ｒ）−２−（ヒドロキシメチル）−５−メトキシオキソラン−３，４−ジオールの粗体１８．３ｇを得た。【０２０２】
この粗体に３０℃以下でトルエン４８ｍＬ、２５％水酸化ナトリウム水溶液３８．４ｍＬおよびテトラブチルアンモニウムクロリド０．５８ｇを加え、１５℃以下で４−メチルベンゾイルクロリド２５．３ｍＬを１時間かけて滴下し、２５℃で３時間攪拌した。水層を除去し、有機層を水５０ｍＬおよび飽和塩化ナトリウム水溶液５０ｍＬで順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、白色固体の（３Ｒ，４Ｓ，５Ｓ）−２−メトキシ−４−（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）−５−（（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）メチル）オキソラン−３−イル  ４−メチルベンゾアート２９．６ｇを得た。１Ｈ−ＮＭＲより約７５：２５のアノマー混合物であった。【０２０３】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
２．３７−２．４３（９Ｈ，ｍ）、３．３６（０．７５Ｈ，ｓ）、３．４８（２．２５Ｈ，ｓ）、４．４３−４．４８（０．２５Ｈ，ｍ）、４．５３−４．５７（０．７５Ｈ，ｍ）、４．５９−４．６９（１Ｈ，ｍ）、４．７４（０．２５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．５，１１．７Ｈｚ）、４．８３（０．７５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．３，１１．７Ｈｚ）、５．１６（０．７５Ｈ，ｓ）、５．３３（０．２５Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ）、５．４６（０．２５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．５，６．９Ｈｚ）、５．４９（０．７５Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．２Ｈｚ）、５．５５（０．７５Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ）、５．９３（０．２５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．１，６．９Ｈｚ）、７．１６−７．２８（６Ｈ，ｍ）、７．８６−７．９８（６Ｈ，ｍ）【０２０４】
【化６０】
2015125781.tif 000062
【０２０５】
（３Ｒ，４Ｓ，５Ｓ）−２−メトキシ−４−（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）−５−（（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）メチル）オキソラン−３−イル  ４−メチルベンゾアート２９．６ｇの酢酸２９．６ｍＬおよびトルエン３５．３ｍＬの混合液に、２５℃で、３０％臭化水素／酢酸溶液２８ｍＬを加え、同温度で２時間攪拌した。反応混合物にヘキサン１１４ｍＬを加え、固形物をろ取し、白色固体の（３Ｒ，４Ｓ，５Ｓ）−２−ブロモ−４−（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）−５−（（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）メチル）オキソラン−３−イル  ４−メチルベンゾアート２４．４ｇを得た。【０２０６】
（３Ｒ，４Ｓ，５Ｓ）−２−ブロモ−４−（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）−５−（（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）メチル）オキソラン−３−イル  ４−メチルベンゾアート２４ｇのトルエン５７ｍＬ、水２９ｍＬおよびアセトニトリル３６ｍＬ混合溶液に、２５℃で、炭酸水素ナトリウム７．３ｇを加え、５５℃で６時間３０分攪拌した。反応混合物に１０％炭酸水素ナトリウム水溶液３０ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を１０％塩化ナトリウム水溶液１８０ｍＬで洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、白色固体の（３Ｒ，４Ｓ，５Ｓ）−２−ヒドロキシ−４−（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）−５−（（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）メチル）オキソラン−３−イル  ４−メチルベンゾアート１７．３ｇを得た。１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、約７５：２５のアノマー混合物であった。【０２０７】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
２．３５−２．４１（９Ｈ，ｍ）、３．３６（０．７５Ｈ，ｂｒｓ）、３．６３（０．２５Ｈ，ｂｒｓ）、４．４１−４．４６（０．２５Ｈ，ｍ）、４．６２（０．７５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．０，１１．３Ｈｚ）、４．７３−４．８３（２Ｈ，ｍ）、５．５１−５．５５（１．７５Ｈ，ｍ）、５．６６（０．７５Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．９Ｈｚ）、５．７９−５．８６（０．５Ｈ，ｍ）、７．１３−７．２８（６Ｈ，ｍ）、７．８６−７．９８（６Ｈ，ｍ）【０２０８】
【化６１】
2015125781.tif 000063
【０２０９】
（３Ｒ，４Ｓ，５Ｓ）−２−ヒドロキシ−４−（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）−５−（（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）メチル）オキソラン−３−イル  ４−メチルベンゾアート１７．３ｇのメタノール５２ｍＬ溶液に、ピリジン１６．５ｍＬ、ｐ−トルエンスルホン酸・１水和物８．２ｇおよびＯ−メチルヒドロキシルアミン塩酸塩４．９ｇを２５℃で加え、同温度で５時間攪拌し、３５℃で２時間攪拌した。反応液にｐ−トルエンスルホン酸・１水和物１．０ｇおよびＯ−メチルヒドロキシルアミン塩酸塩１．０ｇを追加し、一晩静置した。反応混合物に酢酸エチル１００ｍＬおよび水１００ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を１０％塩化ナトリウム水溶液で２回、１Ｎ塩酸水で２回、炭酸水素ナトリウム水溶液で１回および飽和塩化ナトリウム水溶液で１回ずつ順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、無色油状物の（２Ｓ，３Ｓ，４Ｓ）−４−ヒドロキシ−１−（メトキシイミノ）−３，５−ビス（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−メチルベンゾアート１７．９ｇを得た。１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、約７５：２５のオキシム異性体混合物であった。【０２１０】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
２．３９−２．４３（９Ｈ，ｍ）、３．４１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ）、３．７９（２．２５Ｈ，ｓ）、３．９６（０．７５Ｈ，ｓ）、４．１８−４．２９（１Ｈ，ｍ）、４．３４−４．４２（１Ｈ，ｍ）、４．５２−４．６０（１Ｈ，ｍ）、５．６６（０．７５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．４，８．３Ｈｚ）、５．８４（０．２５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．７，８．４Ｈｚ）、６．１８（０．７５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．４，６．０Ｈｚ）、６．５７（０．２５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．７，５．４Ｈｚ）、６．７６（０．２５Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ）、７．１９−７．２９（６Ｈ，ｍ）、７．４５（０．７５Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）、７．８８−８．０１（６Ｈ，ｍ）【０２１１】
【化６２】
2015125781.tif 000064
【０２１２】
（２Ｓ，３Ｓ，４Ｓ）−４−ヒドロキシ−１−（メトキシイミノ）−３，５−ビス（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−メチルベンゾアート３．８ｇのアセトニトリル１３．５ｍＬ溶液に、２５℃で、２，４，５−トリクロロベンゼンスルホニルクロリド２．４ｇを加えた後、０〜１０℃で、Ｎ−メチルイミダゾール１．５ｍＬを滴下し、１０℃で６時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル２０ｍＬおよび水２０ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を１０％塩化ナトリウム水溶液で２回、塩酸で１回、炭酸水素ナトリウム水溶液で１回および飽和塩化ナトリウム水溶液で１回ずつ順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、無色油状物の（２Ｓ，３Ｒ，４Ｓ）−１−（メトキシイミノ）−３，５−ビス（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）−４−（（（２，４，５−トリクロロベンゼン）スルホニル）オキシ）ペンタン−２−イル  ４−メチルベンゾアート５．１ｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、約７５：２５のオキシム異性体混合物であった。【０２１３】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
２．４０−２．４２（９Ｈ，ｍ）、３．８３（２．２５Ｈ，ｓ）、３．９１（０．７５Ｈ，ｓ）、４．６３−４．７８（２Ｈ，ｍ）、５．３９−５．４５（０．２５Ｈ，ｍ）、５．４６−５．５３（０．７５Ｈ，ｍ）、５．９３−５．９９（１．５Ｈ，ｍ）、６．０４（０．２５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．１，４．３Ｈｚ）、６．３４（０．２５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．３，５．１Ｈｚ）、６．７２（０．２５Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ）、７．１９−７．２７（６７Ｈ，ｍ）、７．４８（０．７５Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ）、７．７５−７．９７（６７Ｈ，ｍ）【０２１４】
【化６３】
2015125781.tif 000065
【０２１５】
（２Ｓ，３Ｒ，４Ｓ）−１−（メトキシイミノ）−３，５−ビス（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）−４−（（（２，４，５−トリクロロベンゼン）スルホニル）オキシ）ペンタン−２−イル  ４−メチルベンゾアート４．９ｇのテトラヒドロフラン４．４ｍＬおよび１，２−ジメチルイミダゾール３．７ｍＬ混合溶液に、１０℃以下で、臭化リチウム１．１ｇを加え、４８℃で６．５時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル８ｍＬおよび水８ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、カラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／４）で精製することにより、無色油状物の（２Ｓ，３Ｒ，４Ｒ）−４−ブロモ−１−（メトキシイミノ）−３，５−ビス（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−メチルベンゾアート２．７ｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、約８０：２０のオキシム異性体混合物であった。【０２１６】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
２．３３−２．４１（９Ｈ，ｍ）、３．８４（２．４Ｈ，ｓ）、３．８８（０．６Ｈ，ｓ）、４．４７（０．８Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．９，１３．３Ｈｚ）、４．５７−４．６１（０．４Ｈ，ｍ）、４．６８−４．７６（１．８Ｈ，ｍ）、６．０４−６．１２（１．８Ｈ，ｍ）、６．４３（０．２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．３Ｈｚ）、６．７６（０．２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ）、７．１０−７．２６（６Ｈ，ｍ）、７．５３（０．８Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．７Ｈｚ）、７．７７−８．００（６Ｈ，ｍ）【０２１７】
【化６４】
2015125781.tif 000066
【０２１８】
（２Ｓ，３Ｒ，４Ｒ）−４−ブロモ−１−（メトキシイミノ）−３，５−ビス（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−メチルベンゾアート２．５ｇのアセトニトリル１０ｍＬ溶液に５０％グリオキシル酸水溶液３．７ｍＬを加え、７５℃で１２時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、酢酸エチル３０ｍＬおよび水１０ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を１０％塩化ナトリウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液の混合液で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−４−ブロモ−１−オキソ−３，５−ビス（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−メチルベンゾアートの油状粗体２．４ｇを得た。この粗体はこれ以上の精製を行うことなく次工程で用いた。【０２１９】
実施例４
〔Ａ−１〕（３Ｒ，４Ｒ，５Ｓ）−２−ヒドロキシ−４−（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）−５−（（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）メチル）チオラン−３−イル  ４−フェニルベンゾアートおよびそのアセチル体【０２２０】
以下のようにして、（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−４−ブロモ−１−オキソ−３，５−ビス（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−フェニルベンゾアートを１５％硫化水素ナトリウムと反応させて、合成した。【０２２１】
【化６５】
2015125781.tif 000067
【０２２２】
（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−４−ブロモ−１−オキソ−３，５−ビス（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−フェニルベンゾアートの粗体１．６ｇのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１６ｍＬ溶液に、１０℃以下で、１５％硫化水素ナトリウム水溶液１．２ｍＬを滴下し、２５℃で１．５時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル１５０ｍＬおよび飽和塩化ナトリウム水溶液１００ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液で３回、飽和塩化ナトリウム水溶液で１回順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧濃縮した。濃縮残留物をテトラヒドロフラン／酢酸エチル＝１／１０から再結晶することにより（３Ｒ，４Ｒ，５Ｓ）−２−ヒドロキシ−４−（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）−５−（（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）メチル）チオラン−３−イル  ４−フェニルベンゾアートの白色結晶０．２ｇを得た。１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、ほぼ単一のアノマーであった。【０２２３】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
２．６７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．１Ｈｚ）、３．９３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．０，１３．４Ｈｚ）、４．６７−４．８８（２Ｈ，ｍ）、５．６７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．１，９．１Ｈｚ）、５．７０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝４．１Ｈｚ）、６．３４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．０，９．１Ｈｚ）、７．２６−７．６４（２１Ｈ，ｍ）、８．００−８．１３（６Ｈ，ｍ）【０２２４】
【化６６】
2015125781.tif 000068
【０２２５】
（３Ｒ，４Ｒ，５Ｓ）−２−ヒドロキシ−４−（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）−５−（（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）メチル）チオラン−３−イル  ４−フェニルベンゾアートの白色結晶０．２ｇの酢酸エチル６ｍＬおよびテトラヒドロフラン１６ｍＬ混合溶液に、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン０．０１ｇ、ピリジン０．１７ｍＬおよび無水酢酸０．２２ｍＬを加え、室温で３．５時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル３０ｍＬおよび０．５Ｎ塩酸水２０ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液で４回、飽和塩化ナトリウム水溶液で１回順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／２）で精製した後、メタノールから再結晶することにより、（３Ｒ，４Ｒ，５Ｓ）−２−（アセチルオキシ）−４−（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）−５−（（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）メチル）チオラン−３−イル  ４−フェニルベンゾアートの白色結晶０．１２ｇを得た。１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、ほぼ単一のアノマーであった。【０２２６】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
２．１０（１Ｈ，ｓ）、３．９４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，１３．６Ｈｚ）、４．６０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．０，１１．３Ｈｚ）、４．７２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．１，１１．３Ｈｚ）、５．７９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．５，９．９Ｈｚ）、６．３０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．７，９．９Ｈｚ）、６．４０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ）、７．３５−７．７０（２１Ｈ，ｍ）、７．９６−８．１３（６Ｈ，ｍ）【０２２７】
〔Ａ−２〕（３Ｒ，４Ｒ，５Ｓ）−２，４−ビス（４−フェニルベンゾイルオキシ）−５−［（４−フェニルベンゾイルオキシ）メチル］チオラン−３−イル  ４−フェニルベンゾアートの合成【０２２８】
以下のようにして、（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−４−ブロモ−１−オキソ−３，５−ビス（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−フェニルベンゾアートを１５％硫化水素ナトリウムと反応させて（３Ｒ，４Ｒ，５Ｓ）−２−ヒドロキシ−４−（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）−５−（（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）メチル）チオラン−３−イル  ４−フェニルベンゾアートを得、さらに水酸基を４−フェニルベンゾイルクロリドと反応させることにより合成した。【０２２９】
【化６７】
2015125781.tif 000069
【０２３０】
（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−４−ブロモ−１−オキソ−３，５−ビス（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−フェニルベンゾアートの粗体０．６ｇのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド８ｍＬ溶液に、１０℃以下で、１５％硫化水素ナトリウム水溶液０．３６ｍＬを滴下し、２５℃で１時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル３０ｍＬおよび飽和塩化ナトリウム水溶液３０ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去することにより、（３Ｒ，４Ｒ，５Ｓ）−２−ヒドロキシ−４−（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）−５−（（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）メチル）チオラン−３−イル  ４−フェニルベンゾアートの粗体を得た。【０２３１】
上記で得られた（３Ｒ，４Ｒ，５Ｓ）−２−ヒドロキシ−４−（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）−５−（（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）メチル）チオラン−３−イル  ４−フェニルベンゾアートの粗体のピリジン５ｍＬ溶液にＮ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン１９ｍｇを加えた後、１０℃以下で４−フェニルベンゾイルクロリド２５０ｍｇを加え、室温で１２時間攪拌した。反応液に４−フェニルベンゾイルクロリド１７０ｍｇを追加してさらに６時間反応させた後、酢酸エチル３０ｍＬおよび１Ｎ塩酸水３０ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を１Ｎ塩酸水、炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物を酢酸エチル／メタノールから再結晶することにより、（３Ｒ，４Ｒ，５Ｓ）−２，４−ビス（４−フェニルベンゾイルオキシ）−５−［（４−フェニルベンゾイルオキシ）メチル］チオラン−３−イル  ４−フェニルベンゾアート８８ｍｇの白色結晶を得た。濾液を減圧濃縮し、さらに酢酸エチル／メタノールから再結晶することにより、（３Ｒ，４Ｒ，５Ｓ）−２，４−ビス（４−フェニルベンゾイルオキシ）−５−［（４−フェニルベンゾイルオキシ）メチル］チオラン−３−イル  ４−フェニルベンゾアート３１６ｍｇの白色固体を得た。１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、第１晶はほぼ単一のアノマーであり、第２晶は約８８：１２のアノマー混合物であった。【０２３２】
第１晶
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
４．３１−４．３７（１Ｈ，ｍ）、４．６６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．８，１１．３Ｈｚ）、４．８２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．３，１１．２Ｈｚ）、６．０２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝３．４Ｈｚ）、６．２５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．２，３．１Ｈｚ）、６．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ）、７．３５−７．７２（２８Ｈ，ｍ）、８．０６−８．１７（８Ｈ，ｍ）【０２３３】
第２晶
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
４．０２（０．８８Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝７．９，５．７Ｈｚ）、４．３２−４．３８（０．１２Ｈ，ｍ）、４．６１−４．７４（１．８８Ｈ，ｍ）、４．８３（０．１２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２，１１．３Ｈｚ）、５．９４（０．８８Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．５，１０．０Ｈｚ）、６．０３（０．１２Ｈ，ｔ，Ｊ＝３．４Ｈｚ）、６．２５（０．１２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．１，３．３Ｈｚ）、６．４５（０．８８Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．０，１０．０Ｈｚ）、６．５１（０．１２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ）、６．６０（０．８８Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ）、７．２５−７．７２（２８Ｈ，ｍ）、７．９５−８．１７（８Ｈ，ｍ）【０２３４】
〔Ｂ〕４−アミノ−１−［（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ，５Ｓ）−３，４−ジヒドロキシ−５−（ヒドロキシメチル）チオラン−２−イル］−１，２−ジヒドロピリミジン−２−オン【０２３５】
４−アミノ−１−［（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ，５Ｓ）−３，４−ジヒドロキシ−５−（ヒドロキシメチル）チオラン−２−イル］−１，２−ジヒドロピリミジン−２−オンは、以下のようにして合成した。【０２３６】
【化６８】
2015125781.tif 000070
【０２３７】
（３Ｒ，４Ｒ，５Ｓ）−２−（アセチルオキシ）−４−（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）−５−（（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）メチル）チオラン−３−イル  ４−フェニルベンゾアート１０．０ｍｇのアセトニトリル０．５ｍＬ溶液に、シトシン２．２ｍｇおよびＮ，Ｏ−ビス（トリメチルシリル）アセトアミド０．０７０ｍＬを加え、マイクロ波を照射（マイクロウェーブ反応装置（Ｉｎｉｔｉａｔｏｒ  Ｓｉｘｔｙ（商品名、Ｂｉｏｔａｇｅ社製））、１２０℃、５分間、２．４５ＧＨｚ、０−２４０Ｗ）した。反応混合物を室温まで冷却後、トリフルオロメタンスルホニルトリメチルシリル４．８μＬを加え、マイクロ波を照射（マイクロウェーブ反応装置（Ｉｎｉｔｉａｔｏｒ  Ｓｉｘｔｙ（商品名、Ｂｉｏｔａｇｅ社製））、１２０℃、１０分間、２．４５ＧＨｚ、０−２４０Ｗ）した。反応混合物の溶媒を減圧留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／４→１／０）で精製し、［（２Ｓ，３Ｒ，４Ｒ，５Ｒ）−５−（４−アミノ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル）−３，４−ビス［（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ］チオラン−２−イル］メチル  ４−フェニルベンゾアート６．８ｍｇを白色固体として得た。【０２３８】
ＬＣ／ＭＳ
保持時間：２．６１ｍｉｎ
［Ｍ＋Ｈ］  ８００．７
なお、得られた１Ｈ−ＮＭＲスペクトルはブロードであり、δ値を求めることはできなかった。【０２３９】
［（２Ｓ，３Ｒ，４Ｒ，５Ｒ）−５−（４−アミノ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル）−３，４−ビス［（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ］チオラン−２−イル］メチル  ４−フェニルベンゾアート６．８ｍｇのメタノール１．０ｍＬ溶液に、５Ｍナトリウムメトキシド−メタノール溶液９μＬを加え、室温で１時間撹拌した。反応混合物に酢酸を加え、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／メタノール＝１／０→３／２）で精製し、４−アミノ−１−［（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ，５Ｓ）−３，４−ジヒドロキシ−５−（ヒドロキシメチル）チオラン−２−イル］−１，２−ジヒドロピリミジン−２−オン１．８ｍｇを白色固体として得た。【０２４０】
ＬＣ／ＭＳ
保持時間：０．２１ｍｉｎ
［Ｍ＋Ｈ］  ２６０．３【０２４１】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ値：
３．５７−３．６９（２Ｈ，ｍ），３．８６−３．９８（２Ｈ，ｍ），４．０９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），５．９４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），６．０２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），８．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）【０２４２】
〔Ｃ〕原料の合成
なお、原料である上記（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−４−ブロモ−１−オキソ−３，５−ビス（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−フェニルベンゾアートは、以下のように、複数の工程で合成した。【０２４３】
【化６９】
2015125781.tif 000071
【０２４４】
（３Ｒ，４Ｒ，５Ｓ）−５−（ヒドロキシメチル）オキソラン−２，３，４−トリオール５．０ｇのメタノール９６ｍＬ溶液に、１５℃以下で、アセチルクロリド３．０ｍＬを滴下し、２５℃で１．５時間攪拌した。反応混合物に２８％ナトリウムメトキシド／メタノール溶液８．８ｇおよびトルエン４０ｍＬを加え、メタノールを減圧留去することにより（２Ｓ，３Ｒ，４Ｒ）−２−（ヒドロキシメチル）−５−メトキシオキソラン−３，４−ジオールの粗体９．３ｇを得た。【０２４５】
この粗体に３０℃以下でトルエン４８ｍＬ、８．３％水酸化ナトリウム水溶液３０ｍＬおよびテトラブチルアンモニウムクロリド０．３ｇを加え、１５℃以下で４−フェニルベンゾイルクロリド２１．７ｇのテトラヒドロフラン１１０ｍＬ溶液を１時間かけて滴下し、２５℃で３時間攪拌した。水層を除去し、有機層を水１００ｍＬで３回、飽和塩化ナトリウム水溶液１００ｍＬで２回順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物を酢酸エチル／ヘキサン＝１／１から再結晶することにより、（３Ｒ，４Ｓ，５Ｓ）−２−メトキシ−４−（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）−５−（（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）メチル）オキソラン−３−イル  ４−フェニルベンゾアートの白色結晶９．７ｇを得た。１Ｈ−ＮＭＲより単一のアノマーであった。【０２４６】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
３．５３（３Ｈ，ｓ）、４．６０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．８，８．５Ｈｚ）、４．７８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．１，１２．０Ｈｚ）、４．９２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．３，１２．０Ｈｚ）、５．２４（１Ｈ，ｓ）、５．５６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．２Ｈｚ）、５．６７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ）、７．３１−７．７０（２１Ｈ，ｍ）、８．０６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）、８．１２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）、８．１６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）【０２４７】
【化７０】
2015125781.tif 000072
【０２４８】
（３Ｒ，４Ｓ，５Ｓ）−２−メトキシ−４−（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）−５−（（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）メチル）オキソラン−３−イル  ４−フェニルベンゾアート１１ｇの酢酸１１ｍＬおよびジクロロメタン１１０ｍＬ混合溶液に、２５℃で、３０％臭化水素／酢酸溶液１１．２ｍＬを加え、同温度で２時間攪拌した後、溶媒を減圧濃縮した。得られた残留物を酢酸エチル／ヘキサン＝１／１からリスラリーすることにより、白色固体の（３Ｒ，４Ｓ，５Ｓ）−２−ブロモ−４−（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）−５−（（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）メチル）オキソラン−３−イル  ４−フェニルベンゾアート１０．７ｇを得た。【０２４９】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
４．８４−５．００（３Ｈ，ｍ）、５．７３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．１Ｈｚ）、６．０１（１Ｈ，ｓ）、６．６９（１Ｈ，ｓ）、７．３２−７．７４（２１Ｈ，ｍ）、８．０２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）、８．１２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）、８．２２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）【０２５０】
【化７１】
2015125781.tif 000073
【０２５１】
（３Ｒ，４Ｓ，５Ｓ）−２−ブロモ−４−（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）−５−（（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）メチル）オキソラン−３−イル  ４−フェニルベンゾアート１０ｇのテトラヒドロフラン１００ｍＬおよび水３０ｍＬ混合溶液に、２５℃で、炭酸水素ナトリウム１．５ｇを加え、５５℃で２．５時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル１００ｍＬおよび１０％炭酸水素ナトリウム水溶液１０００ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を１０％塩化ナトリウム水溶液１００ｍＬで洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、白色固体の（３Ｒ，４Ｓ，５Ｓ）−２−ヒドロキシ−４−（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）−５−（（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）メチル）オキソラン−３−イル  ４−フェニルベンゾアート９．９ｇを得た。１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、約７７：２３のアノマー混合物であった。【０２５２】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
３．０６（０．７７Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．７Ｈｚ）、３．４１（０．２３Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ）、４．４９−４．５４（０．２３Ｈ，ｍ）、４．７２−４．８９（２．７７Ｈ，ｍ）、５．５９−５．６３（１Ｈ，ｍ）、５．６７（０．７７Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ）、５．７４（０．７７Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．７Ｈｚ）、５．８７（０．２３Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．０Ｈｚ）、５．９５（０．２３Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．３Ｈｚ）、７．３３−７．７０（２１Ｈ，ｍ）、８．０５−８．１８（６Ｈ，ｍ）【０２５３】
【化７２】
2015125781.tif 000074
【０２５４】
（３Ｒ，４Ｓ，５Ｓ）−２−ヒドロキシ−４−（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）−５−（（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）メチル）オキソラン−３−イル  ４−フェニルベンゾアート９．５ｇのメタノール６１ｍＬおよびテトラヒドロフラン９５ｍＬ混合溶液に、ピリジン７．１ｍＬ、ｐ−トルエンスルホン酸・１水和物３．５ｇおよびＯ−メチルヒドロキシルアミン塩酸塩２．１ｇを２５℃で加え、同温度で５時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル１５０ｍＬおよび水１５０ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を１０％塩化ナトリウム水溶液で２回、１Ｎ塩酸水で２回、炭酸水素ナトリウム水溶液で１回および飽和塩化ナトリウム水溶液で１回ずつ順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、白色アモルファス状の（２Ｓ，３Ｓ，４Ｓ）−４−ヒドロキシ−１−（メトキシイミノ）−３，５−ビス（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−フェニルベンゾアート９．９ｇを得た。１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、約７０：３０のオキシム異性体混合物であった。【０２５５】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
３．４４−３．４７（１Ｈ，ｍ）、３．８３（２．１Ｈ，ｓ）、４．００（０．９Ｈ，ｓ）、４．２６−４．３７（１Ｈ，ｍ）、４．４６−４．５２（１Ｈ，ｍ）、４．６１−４．６８（１Ｈ，ｍ）、５．７６（０．７Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．５，８．１Ｈｚ）、５．９３（０．３Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．８，８．３Ｈｚ）、６．２６（０．７Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．５，６．０Ｈｚ）、６．６６（０．３Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．８，５．２Ｈｚ）、６．８４（０．３Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．２Ｈｚ）、７．３８−７．７３（２１．７Ｈ，ｍ）、８．０５−８．２１（６Ｈ，ｍ）【０２５６】
【化７３】
2015125781.tif 000075
【０２５７】
（２Ｓ，３Ｓ，４Ｓ）−４−ヒドロキシ−１−（メトキシイミノ）−３，５−ビス（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−フェニルベンゾアート４．０ｇのアセトニトリル１６ｍＬおよびテトラヒドロフラン２０ｍＬ混合溶液に、２５℃で、２，４，５−トリクロロベンゼンスルホニルクロリド２．０ｇを加えた後、０〜１０℃で、Ｎ−メチルイミダゾール１．３ｍＬを滴下し、１０℃で１０時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル５０ｍＬおよび水５０ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を１０％塩化ナトリウム水溶液で２回、塩酸で１回、炭酸水素ナトリウム水溶液で１回および飽和塩化ナトリウム水溶液で１回ずつ順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、白色アモルファス状の（２Ｓ，３Ｒ，４Ｓ）−１−（メトキシイミノ）−３，５−ビス（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）−４−（（（２，４，５−トリクロロベンゼン）スルホニル）オキシ）ペンタン−２−イル  ４−フェニルベンゾアート５．２ｇを得た。１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、約７０：３０のオキシム異性体混合物であった。【０２５８】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
３．８７（２．１Ｈ，ｓ）、３．９７（０．９Ｈ，ｓ）、４．７１−４．８７（２Ｈ，ｍ）、５．４８−５．５３（０．３Ｈ，ｍ）、５．５５−５．５９（０．７Ｈ，ｍ）、６．０２−６．０９（１．４Ｈ，ｍ）、６．１２（０．３Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．４，５．１Ｈｚ）、６．４２（０．３Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．４，５．２Ｈｚ）、６．７９（０．３Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．２Ｈｚ）、７．３８−７．７１（２２．７Ｈ，ｍ）、７．９４−８．１７（７Ｈ，ｍ）【０２５９】
【化７４】
2015125781.tif 000076
【０２６０】
（２Ｓ，３Ｒ，４Ｓ）−１−（メトキシイミノ）−３，５−ビス（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）−４−（（（２，４，５−トリクロロベンゼン）スルホニル）オキシ）ペンタン−２−イル  ４−フェニルベンゾアート３ｇのテトラヒドロフラン３ｍＬおよび１，２−ジメチルイミダゾール２．６ｍＬ混合溶液に、１０℃以下で、臭化リチウム０．５７ｇを加え、４０℃で６時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル４０ｍＬおよび水４０ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、カラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／４→１／３）で精製することにより、白色アモルファス状の（２Ｓ，３Ｒ，４Ｒ）−４−ブロモ−１−（メトキシイミノ）−３，５−ビス（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−フェニルベンゾアート２．０ｇを得た。１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、約８０：２０のオキシム異性体混合物であった。【０２６１】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
３．８８（２．４Ｈ，ｓ）、３．９３（０．６Ｈ，ｓ）、４．５６（０．８Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０．０，１３．５Ｈｚ）、４．６４−４．６９（０．４Ｈ，ｍ）、４．７８−４．８５（１．８Ｈ，ｍ）、６．１１−６．２２（１．８Ｈ，ｍ）、６．５２（０．２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．５Ｈｚ）、６．８３（０．２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ）、７．３６−７．６８（２１．８Ｈ，ｍ）、７．９６−８．１９（６Ｈ，ｍ）【０２６２】
【化７５】
2015125781.tif 000077
【０２６３】
（２Ｓ，３Ｒ，４Ｒ）−４−ブロモ−１−（メトキシイミノ）−３，５−ビス（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−フェニルベンゾアート１．８ｇのアセトニトリル２３ｍＬ溶液に５０％グリオキシル酸水溶液４．２ｍＬを加え、７５℃で１２時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、酢酸エチル３０ｍＬおよび水３０ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を１０％塩化ナトリウム水溶液で３回、炭酸水素ナトリウム水溶液で１回、飽和塩化ナトリウム水溶液で１回ずつ順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、白色アモルファス状の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−４−ブロモ−１−オキソ−３，５−ビス（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−フェニルベンゾアートの粗体１．７ｇを得た。この粗体はこれ以上の精製を行うことなく原料に用いた。【０２６４】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
４．７０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．１，１１．６Ｈｚ）、４．８１−４．９１（２Ｈ，ｍ）、５．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ）、６．０８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．６，５．５Ｈｚ）、７．３９−７．６６（２１Ｈ，ｍ）、８．０４−８．１５（６Ｈ，ｍ）、９．７９（１Ｈ，ｓ）【０２６５】
実施例５
〔Ａ〕（３Ｒ，４Ｒ，５Ｓ）−２，４−ビス（（ナフタレン−２−イル）カルボニルオキシ）−５−［（（ナフタレン−２−イル）カルボニルオキシ）メチル］チオラン−３−イル  ナフタレン−２−カルボキシラートの合成【０２６６】
以下のようにして、（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−４−ブロモ−１−オキソ−３，５−ビス（（ナフタレン−２−イル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ナフタレン−２−カルボキシラートを１５％硫化水素ナトリウムと反応させて（３Ｒ，４Ｒ，５Ｓ）−２−ヒドロキシ−４−（（ナフタレン−２−イル）カルボニルオキシ）−５−（（（ナフタレン−２−イル）カルボニルオキシ）メチル）チオラン−３−イル  ナフタレン−２−カルボキシラートを得、さらに（ナフタレン−２−イル）カルボニルクロリドと反応させることにより合成した。【０２６７】
【化７６】
2015125781.tif 000078
【０２６８】
（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−４−ブロモ−１−オキソ−３，５−ビス（（ナフタレン−２−イル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ナフタレン−２−カルボキシラート２ｇのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４１ｍＬ溶液に、１０℃以下で、１５％硫化水素ナトリウム水溶液１．６５ｍＬを滴下し、２５℃で１時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル１００ｍＬおよび飽和塩化ナトリウム水溶液１００ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液で３回、飽和塩化ナトリウム水溶液で１回順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去することにより（３Ｒ，４Ｒ，５Ｓ）−２−ヒドロキシ−４−（（ナフタレン−２−イル）カルボニルオキシ）−５−（（（ナフタレン−２−イル）カルボニルオキシ）メチル）チオラン−３−イル  ナフタレン−２−カルボキシラートの粗体を得た。【０２６９】
得られた粗体１２５ｍｇのピリジン１ｍＬ溶液にＮ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン４．８ｍｇを加えた後、１０℃以下で、（ナフタレン−２−イル）カルボニルクロリド４６ｍｇを加え、室温で１０時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチル３０ｍＬおよび１Ｎ塩酸水３０ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を１Ｎ塩酸水、炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／３）で精製することにより、（３Ｒ，４Ｒ，５Ｓ）−２，４−ビス（（ナフタレン−２−イル）カルボニルオキシ）−５−［（（ナフタレン−２−イル）カルボニルオキシ）メチル］チオラン−３−イル  ナフタレン−２−カルボキシラートの２種類のアノマー異性体をそれぞれ５０ｍｇ（展開溶媒＝酢酸エチル／ヘキサン＝１／２におけるＴＬＣのＲｆ値＝０．７１）および８６ｍｇ（展開溶媒＝酢酸エチル／ヘキサン＝１／２におけるＴＬＣのＲｆ値＝０．６９）を得た。これらはいずれも白色アモルファス状であった。【０２７０】
Ｒｆ値＝０．７１の成分
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
４．４３−４．５０（１Ｈ，ｍ）、４．７６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．９，１１．３Ｈｚ）、４．９７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４，１１．２Ｈｚ）、６．１６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．８Ｈｚ）、６．３８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．９，２．７Ｈｚ）、６．６４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．２Ｈｚ）、７．３１−８．１４（２８Ｈ，ｍ）、８．５６（１Ｈ，ｓ）、８．６４（１Ｈ，ｓ）、８．６６（１Ｈ，ｓ）、８．７１（１Ｈ，ｓ）【０２７１】
Ｒｆ値＝０．６９の成分
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
４．０８−４．１７（１Ｈ，ｍ）、４．７６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．７，１１．５Ｈｚ）、４．８５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．９，１１．５Ｈｚ）、６．０８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．５，９．７Ｈｚ）、６．５８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．９，９．８Ｈｚ）、６．７１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ）、７．３８−８．０４（２４Ｈ，ｍ）、８．４１（１Ｈ，ｓ）、８．４１（１Ｈ，ｓ）、８．５６（１Ｈ，ｓ）、８．５９（１Ｈ，ｓ）【０２７２】
〔Ｂ〕原料の合成
なお、原料である上記（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−４−ブロモ−１−オキソ−３，５−ビス（（ナフタレン−２−イル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ナフタレン−２−カルボキシラートは、以下のように、複数の工程で合成した。【０２７３】
【化７７】
2015125781.tif 000079
【０２７４】
（３Ｒ，４Ｒ，５Ｓ）−５−（ヒドロキシメチル）オキソラン−２，３，４−トリオール１０ｇのメタノール１００ｍＬ溶液に、１５℃以下で、アセチルクロリド６．０ｍＬを滴下し、２５℃で１．５時間攪拌した。反応混合物に２８％ナトリウムメトキシド／メタノール溶液１７．５ｇおよびトルエン８０ｍＬを加え、メタノールを減圧留去することにより（２Ｓ，３Ｒ，４Ｒ）−２−（ヒドロキシメチル）−５−メトキシオキソラン−３，４−ジオールの粗体１８．６ｇを得た。【０２７５】
この粗体に３０℃以下でトルエン１５０ｍＬ、１０％水酸化ナトリウム水溶液１００ｍＬおよびテトラブチルアンモニウムクロリド０．６ｇを加え、１５℃以下でナフタレン−２−カルボニルクロリド３８ｇのテトラヒドロフラン５０ｍＬ溶液を１時間かけて滴下し、２５℃で２時間攪拌した後、酢酸エチル３００ｍＬおよび水３００ｍＬを添加した。水層を除去し、有機層を１０％塩化ナトリウム水溶液４００ｍＬで２回洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、淡黄色油状の（３Ｒ，４Ｓ，５Ｓ）−２−メトキシ−４−（（ナフタレン−２−イル）カルボニルオキシ）−５−（（（ナフタレン−２−イル）カルボニルオキシ）メチル）オキソラン−３−イル  ４−ナフタレン−２−カルボキシラート４４ｇを得た。１Ｈ−ＮＭＲより約８５：１５のアノマー混合物であった。【０２７６】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
３．４４（０．４５Ｈ，ｓ）、３．５７（２．５５Ｈ，ｓ）、４．６２−４．６７（０．１５Ｈ，ｍ）、４．７１（０．８５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．４，８．５Ｈｚ）、４．７６−４．８７（１．１５Ｈ，ｍ）、５．０１（０．８５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．５，１２．０Ｈｚ）、５．３１（０．８５Ｈ，ｓ）、５．４６（０．１５Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．３Ｈｚ）、５．５９−５．６６（０．１５Ｈ，ｍ）、５．６６（０．８５Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．２Ｈｚ）、５．７８（０．８５Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ）、６．１２−６．２０（０．１５Ｈ，ｍ）、７．４１−８．２１（１８Ｈ，ｍ）、８．５４−８．７９（３Ｈ，ｍ）【０２７７】
【化７８】
2015125781.tif 000080
【０２７８】
（３Ｒ，４Ｓ，５Ｓ）−２−メトキシ−４−（（ナフタレン−２−イル）カルボニルオキシ）−５−（（（ナフタレン−２−イル）カルボニルオキシ）メチル）オキソラン−３−イル  ナフタレン−２−カルボキシラート３３ｇのトリフルオロ酢酸３３０ｍＬ溶液に２５℃で水４９．５ｍＬを加え、４０℃で４．５時間攪拌した。約２８０ｍＬのトリフルオロ酢酸を減圧にて留去し、残留物に酢酸エチル４５０ｍＬおよび１０％炭酸水素ナトリウム水溶液５００ｍＬを添加し、不溶物をセライトろ過で除去した。水層を除去した後、有機層を１０％炭酸水素ナトリウム水溶液５００ｍＬ、水５００ｍＬおよび飽和塩化ナトリウム水溶液５００ｍＬで順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、カラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／２）で精製することにより、白色アモルファス状の（３Ｒ，４Ｓ，５Ｓ）−２−ヒドロキシ−４−（（ナフタレン−２−イル）カルボニルオキシ）−５−（（（ナフタレン−２−イル）カルボニルオキシ）メチル）オキソラン−３−イル  ナフタレン−２−カルボキシラート１５．６ｇを得た。１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、約７５：２５のアノマー混合物であった。【０２７９】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
３．１３（０．７５Ｈ，ｂｒｓ）、３．４５（０．２５Ｈ，ｂｒｓ）、４．５９−４．６４（０．２５Ｈ，ｍ）、４．７９−４．９８（２．７５Ｈ，ｍ）、５．７０−５．７３（１Ｈ，ｍ）、５．７７（０．７５Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．７Ｈｚ）、５．８１（０．７５Ｈ，ｂｒｓ）、５．９４（０．２５Ｈ，ｂｒｓ）、６．０６（０．２５Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．４Ｈｚ）、７．３１−８．１２（１８Ｈ，ｍ）、８．５３−８．６９（３Ｈ，ｍ）【０２８０】
【化７９】
2015125781.tif 000081
【０２８１】
（３Ｒ，４Ｓ，５Ｓ）−２−ヒドロキシ−４−（（ナフタレン−２−イル）カルボニルオキシ）−５−（（（ナフタレン−２イル）カルボニルオキシ）メチル）オキソラン−３−イル  ナフタレン−２−カルボキシラート１８．６ｇのメタノール１２０ｍＬ溶液にピリジン１５．６ｍＬ、ｐ−トルエンスルホン酸・１水和物７．８ｇおよびＯ−メチルヒドロキシルアミン塩酸塩４．７ｇを２５℃で加え、４０℃で３時間攪拌した。メタノール約９０ｍＬを減圧留去した後、酢酸エチル１００ｍＬおよび水１５０ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を１０％塩化ナトリウム水溶液で２回、１Ｎ塩酸水で２回、炭酸水素ナトリウム水溶液で１回および飽和塩化ナトリウム水溶液で１回ずつ順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、白色アモルファス状の（２Ｓ，３Ｓ，４Ｓ）−４−ヒドロキシ−１−（メトキシイミノ）−３，５−ビス（（ナフタレン−２−イル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ナフタレン−２−カルボキシラート２０．６ｇを得た。１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、約７０：３０のオキシム異性体混合物であった。【０２８２】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
３．５３−３．５７（１Ｈ，ｍ）、３．８２（２．１Ｈ，ｓ）、４．０１（０．９Ｈ，ｓ）、４．３９−４．４８（１Ｈ，ｍ）、４．５４−４．６１（１Ｈ，ｍ）、４．６８−４．７５（１Ｈ，ｍ）、５．８６（０．７Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．７，８．０Ｈｚ）、６．０２（０．３Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．９，８．１Ｈｚ）、６．３５（０．７Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．７，６．０Ｈｚ）、６．７４（０．３Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．９，５．２Ｈｚ）、６．９２（０．３Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．２Ｈｚ）、７．４６−８．１６（１８．７Ｈ，ｍ）、８．５７−８．７１（３Ｈ，ｍ）【０２８３】
【化８０】
2015125781.tif 000082
【０２８４】
（２Ｓ，３Ｓ，４Ｓ）−４−ヒドロキシ−１−（メトキシイミノ）−３，５−ビス（（ナフタレン−２−イル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ナフタレン−２−カルボキシラート７．５ｇのアセトニトリル３０ｍＬ溶液に、２５℃で、２，４，５−トリクロロベンゼンスルホニルクロリド４．９ｇを加えた後、０〜１０℃で、Ｎ−メチルイミダゾール２．５ｍＬを滴下し、１０℃で３時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル１５０ｍＬおよび水１５０ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を１０％塩化ナトリウム水溶液で２回、塩酸で１回、炭酸水素ナトリウム水溶液で１回および飽和塩化ナトリウム水溶液で１回ずつ順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、白色アモルファス状の（２Ｓ，３Ｒ，４Ｓ）−１−（メトキシイミノ）−３，５−ビス（（ナフタレン−２−イル）カルボニルオキシ）−４−（（（２，４，５−トリクロロベンゼン）スルホニル）オキシ）ペンタン−２−イル  ナフタレン−２−カルボキシラート９．７ｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、約７０：３０のオキシム異性体混合物であった。【０２８５】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
３．８６（２．１Ｈ，ｓ）、３．９５（０．９Ｈ，ｓ）、４．８１−４．９３（２Ｈ，ｍ）、５．５８−５．６９（１Ｈ，ｍ）、６．１２−６．２１（１．７Ｈ，ｍ）、６．５２（０．３Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．０，５．１Ｈｚ）、６．８８（０．３Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．２Ｈｚ）、７．５０−８．１０（２０．７Ｈ，ｍ）、８．５９−８．７０（３Ｈ，ｍ）【０２８６】
【化８１】
2015125781.tif 000083
【０２８７】
（２Ｓ，３Ｒ，４Ｓ）−１−（メトキシイミノ）−３，５−ビス（（ナフタレン−２−イル）カルボニルオキシ）−４−（（（２，４，５−トリクロロベンゼン）スルホニル）オキシ）ペンタン−２−イル  ナフタレン−２−カルボキシラート６．０ｇのテトラヒドロフラン６．５ｍＬおよび１，２−ジメチルイミダゾール５．５ｍＬ混合溶液に、１０℃以下で、臭化リチウム１．２ｇを加え、４８℃で６時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル４０ｍＬおよび水３０ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、カラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／３）で精製することにより、白色固体の（２Ｓ，３Ｒ，４Ｒ）−４−ブロモ−１−（メトキシイミノ）−３，５−ビス（（ナフタレン−２−イル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ナフタレン−２−カルボキシラート７．６ｇを得た。１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、約８０：２０のオキシム異性体混合物であった。【０２８８】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
３．８６（２．４Ｈ，ｓ）、３．９２（０．６Ｈ，ｓ）、４．６５（０．８Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．８，１３．３Ｈｚ）、４．７０−４．９１（２．２Ｈ，ｍ）、６．１９−６．２７（１．８Ｈ，ｍ）、６．６０（０．２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．５Ｈｚ）、６．９０（０．２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ）、７．２５−８．１４（１８．８Ｈ，ｍ）、８．４３−８．６９（３Ｈ，ｍ）【０２８９】
【化８２】
2015125781.tif 000084
【０２９０】
（２Ｓ，３Ｒ，４Ｒ）−４−ブロモ−１−（メトキシイミノ）−３，５−ビス（（ナフタレン−２−イル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ナフタレン−２−カルボキシラート３．５ｇのアセトニトリル３０ｍＬ溶液に５０％グリオキシル酸水溶液４．５ｍＬを加え、７５℃で１２時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、酢酸エチル２００ｍＬおよび水１５０ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を１０％塩化ナトリウム水溶液で３回、炭酸水素ナトリウム水溶液で１回、飽和塩化ナトリウム水溶液で３回順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／２→１／１）で精製することにより、白色アモルファス状の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−４−ブロモ−１−オキソ−３，５−ビス（（ナフタレン−２−イル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ナフタレン−２−カルボキシラートの油状粗体３．５ｇを得た。【０２９１】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
４．７９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，１１．７Ｈｚ）、４．８９−５．００（２Ｈ，ｍ）、５．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ）、６．１６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．７，５．５Ｈｚ）、７．４３−８．０９（１８Ｈ，ｍ）、８．５１（１Ｈ，ｓ）、８．５３（１Ｈ，ｓ）、８．６５（１Ｈ，ｓ）、９．８４（１Ｈ，ｓ）【０２９２】
実施例６
〔Ａ〕（３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−２，４−ビス（４−フェニルベンゾイルオキシ）−５−［（４−フェニルベンゾイルオキシ）メチル］チオラン−３−イル  ４−フェニルベンゾアートの合成【０２９３】
以下のようにして、（２Ｓ，３Ｒ，４Ｓ）−４−（メタンスルホニルオキシ）−１−オキソ−３，５−ビス（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−フェニルベンゾアートを１５％硫化水素ナトリウムと反応させて（３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−２−ヒドロキシ−４−（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）−５−（（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）メチル）チオラン−３−イル  ４−フェニルベンゾアートを得、さらに水酸基を４−フェニルベンゾイルクロリドと反応させることにより合成した。【０２９４】
【化８３】
2015125781.tif 000085
【０２９５】
（２Ｓ，３Ｒ，４Ｓ）−４−（メタンスルホニルオキシ）−１−オキソ−３，５−ビス（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−フェニルベンゾアート１．７ｇのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３１ｍＬ溶液に、１０℃以下で、１５％硫化水素ナトリウム水溶液１．２ｍＬを滴下し、２５℃で１．５時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル１００ｍＬおよび飽和塩化ナトリウム水溶液１００ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液で３回、飽和塩化ナトリウム水溶液で１回順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去することにより（３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−２−ヒドロキシ−４−（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）−５−（（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）メチル）チオラン−３−イル  ４−フェニルベンゾアートの粗体を得た。【０２９６】
上記粗体１４６ｍｇのピリジン３ｍＬ溶液にＮ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン５ｍｇを加えた後、１０℃以下で、４−フェニルベンゾイルクロリド１９８ｍｇを加え、室温で８時間攪拌した後、一晩静置した。反応混合物に酢酸エチル３０ｍＬおよび１Ｎ塩酸水３０ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を１Ｎ塩酸水、炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物を酢酸エチル／メタノールから再結晶することにより、（３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−２，４−ビス（４−フェニルベンゾイルオキシ）−５−［（４−フェニルベンゾイルオキシ）メチル］チオラン−３−イル  ４−フェニルベンゾアートの白色結晶９７ｍｇを得た。１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、約６０：４０のアノマー混合物であった。【０２９７】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
４．３１（０．４Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．１，１２．３Ｈｚ）、４．５０（０．６Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．７，１３．１Ｈｚ）、４．６６−４．９７（２Ｈ，ｍ）、５．８１（０．４Ｈ，ｔ，Ｊ＝４．４Ｈｚ）、６．２１−６．２８（１．２Ｈ，ｍ）、６．４７−６．５２（１Ｈ，ｍ）、６．７１（０．４Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ）、７．３６−７．７７（２８Ｈ，ｍ）、７．９３−８．２６（８Ｈ，ｍ）【０２９８】
〔Ｂ〕原料の合成
なお、原料である上記（２Ｓ，３Ｒ，４Ｓ）−４−（メタンスルホニルオキシ）−１−オキソ−３，５−ビス（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−フェニルベンゾアートは、以下のように、複数の工程で合成した。【０２９９】
【化８４】
2015125781.tif 000086
【０３００】
（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）−４−ヒドロキシ−１−（メトキシイミノ）−３，５−ビス（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−フェニルベンゾアート４．６ｇのアセトニトリル１８．５ｍＬおよびテトラヒドロフラン１０ｍＬ混合溶液に、１０℃以下でトリエチルアミン２．０ｍＬおよびメタンスルホニルクロリド１．０ｍＬを滴下し、２５℃で２時間攪拌した。反応液にトリエチルアミン０．４ｍＬおよびメタンスルホニルクロリド０．２ｍＬを滴下し、２５℃でさらに１時間攪拌し、酢酸エチル１００ｍＬおよび水１００ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を１０％塩化ナトリウム水溶液で２回、１Ｎ塩酸水で１回、炭酸水素ナトリウム水溶液で１回および飽和塩化ナトリウム水溶液で１回ずつ順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。濃縮残留物をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／２）で精製することにより、白色アモルファス状の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）−４−（メタンスルホニルオキシ）−１−（メトキシイミノ）−３，５−ビス（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−フェニルベンゾアート３．１ｇを得た。１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、約７５：２５のオキシム異性体混合物であった。【０３０１】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
３．１７（０．７５Ｈ，ｓ）、３．２１（２．２５Ｈ，ｓ）、３．９１（２．２５Ｈ，ｓ）、４．０１（０．７５Ｈ，ｓ）、４．５６（０．２５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．５，１２．８Ｈｚ）、４．６２（０．７５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．８，１２．６Ｈｚ）、４．９８（０．７５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．９，１２．６Ｈｚ）、５．０２（０．２５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．８，１２．８Ｈｚ）、５．５３−５．５５（１Ｈ，ｍ）、６．０７−６．１７（１．７５Ｈ，ｍ）、６．６０（０．２５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．９，５．４Ｈｚ）、６．９７（０．２５Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ）、７．３９−７．７２（２１．７５Ｈ，ｍ）、８．０８−８．２０（６Ｈ，ｍ）【０３０２】
【化８５】
2015125781.tif 000087
【０３０３】
（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）−４−（メタンスルホニルオキシ）−１−（メトキシイミノ）−３，５−ビス（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−フェニルベンゾアート３．０ｇのアセトニトリル１００ｍＬ溶液に５０％グリオキシル酸水溶液６．９ｍＬを加え、７５℃で１０時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、酢酸エチル２４０ｍＬおよび水８０ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を１０％塩化ナトリウム水溶液で３回、炭酸水素ナトリウム水溶液で１回、飽和塩化ナトリウム水溶液で３回順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／２→１／１）で精製することにより、白色アモルファス状の（２Ｓ，３Ｒ，４Ｓ）−４−（メタンスルホニルオキシ）−１−オキソ−３，５−ビス（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−フェニルベンゾアート１．７ｇを得た。【０３０４】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
３．１７（３Ｈ，ｓ）、４．５５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．２，１２．９Ｈｚ）、５．００（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．７，１２．８Ｈｚ）、５．６４−５．６９（１Ｈ，ｍ）、５．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．８Ｈｚ）、６．１８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．８，８．１Ｈｚ）、７．３８−７．７５（２１Ｈ，ｍ）、８．０７−８．２８（６Ｈ，ｍ）、９．７９（１Ｈ，ｓ）【０３０５】
実施例７
〔Ａ〕（３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−２−ヒドロキシ−４−（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）−５−（（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）メチル）チオラン−３−イル  ４−メチルベンゾアートおよびそのアシル体【０３０６】
以下のようにして、（２Ｓ，３Ｒ，４Ｓ）−４−（メタンスルホニルオキシ）−１−オキソ−３，５−ビス（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−メチルベンゾアートを１５％硫化水素ナトリウムと反応させて、合成した。【０３０７】
【化８６】
2015125781.tif 000088
【０３０８】
（２Ｓ，３Ｒ，４Ｓ）−４−（メタンスルホニルオキシ）−１−オキソ−３，５−ビス（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−メチルベンゾアート０．５ｇのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１２ｍＬ溶液に、１０℃以下で、１５％硫化水素ナトリウム水溶液０．４８ｍＬを滴下し、２５℃で１時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル２５ｍＬおよび飽和塩化ナトリウム水溶液２５ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液で３回、飽和塩化ナトリウム水溶液で１回順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧濃縮し、得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／３）で精製することにより、白色アモルファス状の（３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−２−ヒドロキシ−４−（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）−５−（（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）メチル）チオラン−３−イル  ４−メチルベンゾアート０．２９ｇを得た。１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、約７９：２１のアノマー混合物であった。【０３０９】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
２．３７−２．４３（９Ｈ，ｍ）、２．７１（０．７９Ｈ，ｂｒｓ）、２．８７（０．２１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．７Ｈｚ）、４．０６−４．１２（０．２１Ｈ，ｍ）、４．４４（０．７９Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．１，１３．５Ｈｚ）、４．５５−４．７０（２Ｈ，ｍ）、５．４３（０．２１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．８，５．８Ｈｚ）、５．６５（０．７９Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．８，５．８Ｈｚ）、５．７４−５．７５（１Ｈ，ｍ）、６．１２（０．７９Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．７，６．１Ｈｚ）、６．３３（０．２１Ｈ，ｔ，Ｊ＝４．６Ｈｚ）、７．１２−７．２８（６Ｈ，ｍ）、７．７６−７．９３（６Ｈ，ｍ）【０３１０】
上記反応において、溶媒をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドからジメチルスルホキシドに変更した以外は同様にして反応を行うことにより、白色アモルファス状の（３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−２−ヒドロキシ−４−（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）−５−（（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）メチル）チオラン−３−イル  ４−メチルベンゾアート０．２８ｇを得た。１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、約７９：２１のアノマー混合物であった。【０３１１】
上記反応において、溶媒をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドからアセトンに変更した以外は同様にして反応を行うことにより、白色アモルファス状の（３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−２−ヒドロキシ−４−（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）−５−（（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）メチル）チオラン−３−イル  ４−メチルベンゾアート０．２３ｇを得た。１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、約７９：２１のアノマー混合物であった。【０３１２】
上記反応において、溶媒をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドからエタノールに変更した以外は同様にして反応を行うことにより、白色アモルファス状の（３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−２−ヒドロキシ−４−（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）−５−（（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）メチル）チオラン−３−イル  ４−メチルベンゾアート０．２４ｇを得た。１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、約７９：２１のアノマー混合物であった。【０３１３】
【化８７】
2015125781.tif 000089
【０３１４】
（３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−２−ヒドロキシ−４−（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）−５−（（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）メチル）チオラン−３−イル  ４−メチルベンゾアート１６５ｍｇのピリジン２ｍＬ溶液にＮ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン７．６ｍｇを加えた後、１０℃以下で、ｐ−メチルベンゾイルクロリド５０μＬを加え、室温で６時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル３０ｍＬおよび１Ｎ塩酸水３０ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を１Ｎ塩酸水、炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／４）で精製することにより、（３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−２，４−ビス（４−メチルベンゾイルオキシ）−５−［（４−メチルベンゾイルオキシ）メチル］チオラン−３−イル  ４−メチルベンゾアートの２種類のアノマー異性体をそれぞれ１３０ｍｇ（展開溶媒＝酢酸エチル／ヘキサン＝１／２におけるＴＬＣのＲｆ値＝０．７１）および４５ｍｇ（展開溶媒＝酢酸エチル／ヘキサン＝１／２におけるＴＬＣのＲｆ値＝０．６３）得た。これらはいずれも白色アモルファス状であった。【０３１５】
Ｒｆ値＝０．７１の成分
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
２．３７（３Ｈ，ｓ）、２．３９（３Ｈ，ｓ）、２．４１（３Ｈ，ｓ）、２．４２（３Ｈ，ｓ）、４．３９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，１３．２Ｈｚ）、４．６２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．４，１１．１Ｈｚ）、４．７５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，１１．１Ｈｚ）、６．１０−６．１７（２Ｈ、ｍ）、６．４１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．４Ｈｚ）、７．１３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、７．１７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）、７．２４−７．２７（４Ｈ，ｍ）、７．７８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）、７．８５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、７．９４−７．９７（４Ｈ，ｍ）【０３１６】
Ｒｆ値＝０．６３の成分
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
２．３４（３Ｈ，ｓ）、２．３８（６Ｈ，ｓ）、２．４３（３Ｈ，ｓ）、４．１６−４．２２（１Ｈ，ｍ）、４．５８−４．７０（２Ｈ，ｍ）、５．７１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．０，５．１Ｈｚ）、６．３８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝４．６Ｈｚ）、６．６２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ）、７．０３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、７．１１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、７．１５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、７．１９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、７．７７（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）、７．８３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、７．９８（２Ｈ，ｄ＝８．２Ｈｚ）【０３１７】
〔Ｂ〕原料の合成
なお、原料である上記（２Ｓ，３Ｒ，４Ｓ）−４−（メタンスルホニルオキシ）−１−オキソ−３，５−ビス（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−メチルベンゾアートは、以下のように、複数の工程で合成した。【０３１８】
【化８８】
2015125781.tif 000090
【０３１９】
（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）−４−ヒドロキシ−１−（メトキシイミノ）−３，５−ビス（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−メチルベンゾアート６．４ｇの酢酸エチル６４ｍＬ溶液に、１０℃以下でトリエチルアミン３．７ｍＬおよびメタンスルホニルクロリド１．９ｍＬを滴下し、２５℃で２時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル６０ｍＬおよび水１２０ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を１０％塩化ナトリウム水溶液で２回、１Ｎ塩酸水で１回、炭酸水素ナトリウム水溶液で１回および飽和塩化ナトリウム水溶液で１回ずつ順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去することにより、白色アモルファス状の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）−４−（メタンスルホニルオキシ）−１−（メトキシイミノ）−３，５−ビス（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−メチルベンゾアートの粗体７．３ｇを得た。この粗体はこれ以上の精製をすることなくそのまま次工程に用いた。１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、約７６：２４のオキシム異性体混合物であった。【０３２０】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
２．４０−２．４２（９Ｈ，ｍ）、３．１１（０．７２Ｈ，ｓ）、３．１６（２．２８Ｈ，ｓ）、３．８７（２．２８Ｈ，ｓ）、３．９７（０．７２Ｈ，ｓ）、４．４７（０．２４Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．７，１２．７Ｈｚ）、４．５３（０．７６Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．１，１２．６Ｈｚ）、４．８９（０．７６Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．７，１２．６Ｈｚ）、４．９４（０．２４Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．８，１２．８Ｈｚ）、５．４３−５．４９（１Ｈ，ｍ）、５．９８−６．０８（１．７６Ｈ，ｍ）、６．５１（０．２４Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．１，５．５Ｈｚ）、６．９０（０．２４Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ）、７．２２−７．２７（６Ｈ，ｍ）、７．５４（０．７６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．１Ｈｚ）、７．８８−７．８０（６Ｈ，ｍ）【０３２１】
【化８９】
2015125781.tif 000091
【０３２２】
（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）−４−（メタンスルホニルオキシ）−１−（メトキシイミノ）−３，５−ビス（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−メチルベンゾアートの粗体６．０ｇのアセトニトリル４０ｍＬ溶液に５０％グリオキシル酸水溶液１７．８ｍＬを加え、７５℃で５時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、酢酸エチル３００ｍＬおよび水１００ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を１０％塩化ナトリウム水溶液で３回、炭酸水素ナトリウム水溶液で１回、飽和塩化ナトリウム水溶液で３回順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／２→１／１）で精製することにより、白色アモルファス状の（２Ｓ，３Ｒ，４Ｓ）−４−（メタンスルホニルオキシ）−１−オキソ−３，５−ビス（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−メチルベンゾアート４．６ｇを得た。【０３２３】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
２．４０−２．４４（９Ｈ，ｍ）、３．１０（３Ｈ，ｓ）、４．４６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．４，１２．９Ｈｚ）、４．９２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．５，１２．８Ｈｚ）、５．５５−５．６１（１Ｈ，ｍ）、５．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．９Ｈｚ）、６．０７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．８，８．０Ｈｚ）、７．２１−７．３１（６Ｈ，ｍ）、７．８７−８．０８（６Ｈ，ｍ）、９．７２（１Ｈ，ｓ）【０３２４】
実施例８
〔Ａ〕（３Ｒ，４Ｒ，５Ｒ）−２，４−ビス（４−メチルベンゾイルオキシ）−５−［（４−メチルベンゾイルオキシ）メチル］チオラン−３−イル  ４−メチルベンゾアートの合成【０３２５】
以下のようにして、（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）−４−（メタンスルホニルオキシ）−１−オキソ−３，５−ビス（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−メチルベンゾアートを１５％硫化水素ナトリウムと反応させて（３Ｒ，４Ｒ，５Ｒ）−２−ヒドロキシ−４−（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）−５−（（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）メチル）チオラン−３−イル  ４−メチルベンゾアートを得、さらに水酸基を４−メチルベンゾイルクロリドと反応させることにより合成した。【０３２６】
【化９０】
2015125781.tif 000092
【０３２７】
（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）−４−（メタンスルホニルオキシ）−１−オキソ−３，５−ビス（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−メチルベンゾアート０．９０ｇのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍＬ溶液に、１０℃以下で、１５％硫化水素ナトリウム水溶液１．２ｍＬを滴下し、２５℃で１．５時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル５０ｍＬおよび飽和塩化ナトリウム水溶液５０ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液で３回、飽和塩化ナトリウム水溶液で１回順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去することにより（３Ｒ，４Ｒ，５Ｒ）−２−ヒドロキシ−４−（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）−５−（（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）メチル）チオラン−３−イル  ４−メチルベンゾアートの粗体を得た。【０３２８】
得られた粗体０．２５ｇのピリジン５ｍＬ溶液にＮ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン２０ｍｇを加えた後、１０℃以下で、４−メチルベンゾイルクロリド１００μＬを加え、室温で１０時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチル３０ｍＬおよび１Ｎ塩酸水３０ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／４）で精製することにより、白色物アモルファス状の（３Ｒ，４Ｒ，５Ｒ）−２，４−ビス（４−メチルベンゾイルオキシ）−５−［（４−メチルベンゾイルオキシ）メチル］チオラン−３−イル  ４−メチルベンゾアート０．２４ｇを得た。１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、約６２：３８のアノマー混合物であった。【０３２９】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
２．３５−２．４５（１２Ｈ，ｍ）、４．２６（０．６２Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝８．３，７．０Ｈｚ）、４．４０−４．４７（１Ｈ，ｍ）、４．６１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．５，１１．６Ｈｚ）、４．７６（０．３８Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，１０．７Ｈｚ）、５．９６（０．３８Ｈ，ｔ，Ｊ＝４．６Ｈｚ）、６．０９（０．６２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．５，１０．０Ｈｚ）、６．１７（０．６２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．３，１０．０Ｈｚ）、６．２５（０．３８Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．０，４．０Ｈｚ）、６．３２（０．３８Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ）、７．０５−７．２８（８Ｈ，ｍ）、７．７６−８．０１（８Ｈ，ｍ）【０３３０】
〔Ｂ〕原料の合成
なお、原料である上記（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）−４−（メタンスルホニルオキシ）−１−オキソ−３，５−ビス（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−メチルベンゾアートは、以下のように、複数の工程で合成した。【０３３１】
【化９１】
2015125781.tif 000093
【０３３２】
（２Ｓ，３Ｓ，４Ｓ）−４−ヒドロキシ−１−（メトキシイミノ）−３，５−ビス（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−メチルベンゾアート３．８ｇのアセトニトリル１３．５ｍＬ溶液に、２５℃でメタンスルホニルクロリド０．６７ｍｌを加えた後、１０℃以下で、Ｎ−メチルイミダゾール１．５ｍＬを滴下し、１０℃で４時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル２０ｍＬおよび水２０ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を１０％塩化ナトリウム水溶液で２回、１Ｎ塩酸水で１回、炭酸水素ナトリウム水溶液で１回および飽和塩化ナトリウム水溶液で１回ずつ順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／２）で精製することにより、無色油状物の（２Ｓ，３Ｒ，４Ｓ）−４−（メタンスルホニルオキシ）−１−（メトキシイミノ）−３，５−ビス（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−メチルベンゾアート３．５ｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、約７０：３０のオキシム異性体混合物であった。【０３３３】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
２．３８−２．４１（９Ｈ，ｍ）、３．０２（０．９Ｈ，ｓ）、３．０８（２．１Ｈ，ｓ）、３．８３（２．１Ｈ，ｓ）、３．９５（０．９Ｈ，ｓ）、４．５０−４．５９（１Ｈ，ｍ）、４．７９−４．８７（１Ｈ，ｍ）、５．３８−５．５０（１Ｈ，ｍ）、６．０２（０．７Ｈ，ｓ）、６．０２（０．７Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．３，１３．９Ｈｚ）、６．１０（０．３Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．０，５．９Ｈｚ）、６．３８（０．３Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．１，５．１Ｈｚ）、６．７３（０．３Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．２Ｈｚ）、７．２０−７．２７（６Ｈ，ｍ）、７．４７（０．７Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ）、７．９１−８．００（６Ｈ，ｍ）【０３３４】
【化９２】
2015125781.tif 000094
【０３３５】
（２Ｓ，３Ｒ，４Ｓ）−４−（メタンスルホニルオキシ）−１−（メトキシイミノ）−３，５−ビス（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−メチルベンゾアート１．２ｇのアセトン１９．３ｍＬ溶液に３０％ホルマリン水溶液１４．３ｍＬおよび２Ｎ塩酸水０．４９ｍＬを加え、５０℃で２．５時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、酢酸エチル３０ｍＬおよび水３０ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を水で２回、飽和塩化ナトリウム水溶液で１回順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／２→１／１）で精製することにより、無色油状物の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）−４−（メタンスルホニルオキシ）−１−オキソ−３，５−ビス（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−メチルベンゾアート０．９３ｇを得た。【０３３６】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
２．４１−２．４３（９Ｈ，ｍ）、３．０４（３Ｈ，ｓ）、４．５４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．０，１２．７Ｈｚ）、４．８７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．８，１２．７Ｈｚ）、５．４７−５．５２（１Ｈ，ｍ）、５．７２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ）、６．０５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．７，７．０Ｈｚ）、７．２３−７．３０（６Ｈ，ｍ）、７．９４（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、８．０１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、９．６８（１Ｈ，ｓ）【０３３７】
実施例９
〔Ａ〕（３Ｒ，４Ｒ，５Ｒ）−２，４−ビス（４−フェニルベンゾイルオキシ）−５−［（４−フェニルベンゾイルオキシ）メチル］チオラン−３−イル  ４−フェニルベンゾアートの合成【０３３８】
以下のようにして、（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）−４−（メタンスルホニルオキシ）−１−オキソ−３，５−ビス（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−フェニルベンゾアートを１５％硫化水素ナトリウムと反応させて（３Ｒ，４Ｒ，５Ｒ）−２−ヒドロキシ−４−（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）−５−（（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）メチル）チオラン−３−イル  ４−フェニルベンゾアートを得、さらに水酸基を４−フェニルベンゾイルクロリドと反応させることにより合成した。【０３３９】
【化９３】
2015125781.tif 000095
【０３４０】
（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）−４−（メタンスルホニルオキシ）−１−オキソ−３，５−ビス（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−フェニルベンゾアート１．６５ｇのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２１．５ｍＬ溶液に、１０℃以下で、１５％硫化水素ナトリウム水溶液１．２ｍＬを滴下し、２５℃で１．５時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル１００ｍＬおよび飽和塩化ナトリウム水溶液１００ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液で３回、飽和塩化ナトリウム水溶液で１回順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧濃縮することにより（３Ｒ，４Ｒ，５Ｒ）−２−ヒドロキシ−４−（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）−５−（（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）メチル）チオラン−３−イル  ４−フェニルベンゾアートの粗体を得た。【０３４１】
得られた粗体０．２８ｇのピリジン５ｍＬ溶液にＮ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン９．５ｍｇを加えた後、１０℃以下で４−フェニルベンゾイルクロリド１７１ｍｇを加え、室温で４時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル３０ｍＬおよび１Ｎ塩酸水３０ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を１Ｎ塩酸水、炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物を酢酸エチル／メタノールで再結晶することにより（３Ｒ，４Ｒ，５Ｒ）−２，４−ビス（４−フェニルベンゾイルオキシ）−５−［（４−フェニルベンゾイルオキシ）メチル］チオラン−３−イル  ４−フェニルベンゾアートの橙色固体２３１ｍｇを得た。濾液を減圧濃縮し、さらに酢酸エチル／メタノールで再結晶することにより（３Ｒ，４Ｒ，５Ｒ）−２，４−ビス（４−フェニルベンゾイルオキシ）−５−［（４−フェニルベンゾイルオキシ）メチル］チオラン−３−イル  ４−フェニルベンゾアートの薄黄色固体１７ｍｇを得た。１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、第１晶は７７：２３のアノマー混合物、第２晶は２３：７７のアノマー混合物であった。【０３４２】
第１晶
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
４．３３−４．３９（０．７７Ｈ，ｍ）、４．４４−４．５３（１Ｈ，ｍ）、４．６８−４．７９（１Ｈ，ｍ）、４．９０（０．２３Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．４，１１．５Ｈｚ）、６．０３−６．０６（０．２３Ｈ，ｍ）、６．１９（０．７７Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．５，１０．２Ｈｚ）、６．２８（０．７７Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．３，１０．２Ｈｚ）、６．４０−６．４２（０．４６Ｈ，ｍ）、６．６３（０．７７Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ）、７．３６−７．７１（２８Ｈ，ｍ）、７．９１−８．１８（８Ｈ，ｍ）【０３４３】
第２晶
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
４．３３−４．３９（０．２３Ｈ，ｍ）、４．４４−４．５３（１Ｈ，ｍ）、４．６８−４．７９（１Ｈ，ｍ）、４．９２（０．７７Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．４，１１．４Ｈｚ）、６．０３−６．０６（０．７７Ｈ，ｍ）、６．１９（０．２３Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．６，１０．２Ｈｚ）、６．２８（０．２３Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．３，１０．２Ｈｚ）、６．４０−６．４１（１．５４Ｈ，ｍ）、６．６３（０．２３Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ）、７．３６−７．７１（２８Ｈ，ｍ）、７．９１−８．１８（８Ｈ，ｍ）【０３４４】
〔Ｂ〕原料の合成
なお、原料である上記（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）−４−（メタンスルホニルオキシ）−１−オキソ−３，５−ビス（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−フェニルベンゾアートは、以下のように、複数の工程で合成した。【０３４５】
【化９４】
2015125781.tif 000096
【０３４６】
（２Ｓ，３Ｓ，４Ｓ）−４−ヒドロキシ−１−（メトキシイミノ）−３，５−ビス（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−フェニルベンゾアート４．１ｇのアセトニトリル１６．４ｍＬおよびテトラヒドロフラン２１ｍＬ混合溶液に、２５℃でメタンスルホニルクロリド０．５８ｍＬを加えた後、１０℃以下で、Ｎ−メチルイミダゾール１．２ｍＬを滴下し、１０℃で２時間攪拌し、メタンスルホニルクロリド０．０４ｍＬおよびＮ−メチルイミダゾール０．１８ｍＬを追加してさらに２時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル１５０ｍＬおよび水１５０ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を１０％塩化ナトリウム水溶液で２回、１Ｎ塩酸水で１回、炭酸水素ナトリウム水溶液で１回および飽和塩化ナトリウム水溶液で１回ずつ順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／３→１／２）で精製することにより、白色アモルファス状の（２Ｓ，３Ｒ，４Ｓ）−４−（メタンスルホニルオキシ）−１−（メトキシイミノ）−３，５−ビス（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−フェニルベンゾアート４．２ｇを得た。１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、約７０：３０のオキシム異性体混合物であった。【０３４７】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
３．０９（０．９Ｈ，ｓ）、３．１５（２．１Ｈ，ｓ）、３．８７（２．１Ｈ，ｓ）、４．００（０．９Ｈ，ｓ）、４．５９−４．６８（１Ｈ，ｍ）、４．８７−４．９３（１Ｈ，ｍ）、５．４７−５．５７（１Ｈ，ｍ）、６．１０（０．７Ｈ，ｓ）、６．１０（０．７Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．４，１４．３Ｈｚ）、６．１８（０．３Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．１，６．０Ｈｚ）、６．４７（０．３Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．１，５．２Ｈｚ）、６．７９（０．３Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．２Ｈｚ）、７．３９−７．７１（２１．７Ｈ，ｍ）、８．１０−８．１９（６Ｈ，ｍ）【０３４８】
【化９５】
2015125781.tif 000097
【０３４９】
（２Ｓ，３Ｒ，４Ｓ）−４−（メタンスルホニルオキシ）−１−（メトキシイミノ）−３，５−ビス（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−フェニルベンゾアート３．４ｇのアセトニトリル２０ｍＬ溶液に５０％グリオキシル酸水溶液３．８ｍＬを加え、７５℃で５時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、酢酸エチル４０ｍＬおよび水３０ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を１０％塩化ナトリウム水溶液で３回、炭酸水素ナトリウム水溶液で１回、飽和塩化ナトリウム水溶液で３回順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／２→１／１）で精製することにより、白色アモルファス状の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）−４−（メタンスルホニルオキシ）−１−オキソ−３，５−ビス（（４−フェニルフェニル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ４−フェニルベンゾアート２．１ｇを得た。【０３５０】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
３．１１（３Ｈ，ｓ）、４．６４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．７，１２．７Ｈｚ）、４．９６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．０，１２．７Ｈｚ）、５．５６−５．６１（１Ｈ，ｍ）、５．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．６Ｈｚ）、６．１５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．６，７．２Ｈｚ）、７．４０−７．７３（２１Ｈ，ｍ）、８．１１−８．２３（６Ｈ，ｍ）、９．７５（１Ｈ，ｓ）【０３５１】
実施例１０
〔Ａ〕（３Ｒ，４Ｒ，５Ｒ）−２，４−ビス（（ナフタレン−２−イル）カルボニルオキシ）−５−［（（ナフタレン−２−イル）カルボニルオキシ）メチル］チオラン−３−イル  ナフタレン−２−カルボキシラートの合成【０３５２】
以下のようにして、（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）−４−（メタンスルホニルオキシ）−１−オキソ−３，５−ビス（（ナフタレン−２−イル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ナフタレン−２−カルボキシラートを１５％硫化水素ナトリウムと反応させて（３Ｒ，４Ｒ，５Ｒ）−２−ヒドロキシ−４−（（ナフタレン−２−イル）カルボニルオキシ）−５−（（（ナフタレン−２−イル）カルボニルオキシ）メチル）チオラン−３−イル  ナフタレン−２−カルボキシラートを得、さらに（ナフタレン−２−イル）カルボニルクロリドを反応させることにより合成した。【０３５３】
【化９６】
2015125781.tif 000098
【０３５４】
（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）−４−（メタンスルホニルオキシ）−１−オキソ−３，５−ビス（（ナフタレン−２−イル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ナフタレン−２−カルボキシラート４．６ｇのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド９３ｍＬ溶液に、１０℃以下で、１５％硫化水素ナトリウム水溶液３．７ｍＬを滴下し、２５℃で１時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル１５０ｍＬおよび飽和塩化ナトリウム水溶液１５０ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液で３回、飽和塩化ナトリウム水溶液で１回順次洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去することにより（３Ｒ，４Ｒ，５Ｒ）−２−ヒドロキシ−４−（（ナフタレン−２−イル）カルボニルオキシ）−５−（（（ナフタレン−２−イル）カルボニルオキシ）メチル）チオラン−３−イル  ナフタレン−２−カルボキシラートの粗体を得た。【０３５５】
得られた粗体１３４ｍｇのピリジン１．３ｍＬ溶液にＮ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン５ｍｇを加えた後、１０℃以下で（ナフタレン−２−イル）カルボニルクロリド８１ｍｇを加え、２５℃で１８時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル３０ｍＬおよび１Ｎ塩酸水３０ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を１Ｎ塩酸水、炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／２）で精製することにより、白色アモルファス状の（３Ｒ，４Ｒ，５Ｒ）−２，４−ビス（（ナフタレン−２−イル）カルボニルオキシ）−５−［（（ナフタレン−２−イル）カルボニルオキシ）メチル］チオラン−３−イル  ナフタレン−２−カルボキシラート１３０ｍｇを得た。
１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、約７１：２９のアノマー混合物であった。【０３５６】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
４．３３−４．３９（０．７１Ｈ，ｍ）、４．５６−４．６４（１Ｈ，ｍ）、４．７７−４．８６（１Ｈ，ｍ）、４．９９（０．２９Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．４，１１．４Ｈｚ）、６．１９−６．２２（０．２９Ｈ，ｍ）、６．３３−６．４２（１．４２Ｈ，ｍ）、６．５１−６．５２（０．５８Ｈ，ｍ）、６．７４（０．７１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．２Ｈｚ）、７．２４−８．１２（２４Ｈ，ｍ）、８．３７−８．６９（４Ｈ，ｍ）【０３５７】
〔Ｂ〕原料の合成
なお、原料である上記（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）−４−（メタンスルホニルオキシ）−１−オキソ−３，５−ビス（（ナフタレン−２−イル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ナフタレン−２−カルボキシラートは、以下のように、複数の工程で合成した。【０３５８】
【化９７】
2015125781.tif 000099
【０３５９】
（２Ｓ，３Ｓ，４Ｓ）−４−ヒドロキシ−１−（メトキシイミノ）−３，５−ビス（（ナフタレン−２−イル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ナフタレン−２−カルボキシラート６．５ｇのアセトニトリル６５ｍＬ溶液に、２５℃でメタンスルホニルクロリド１．２ｍＬを加えた後、１０℃以下でトリエチルアミン２．３ｍＬを滴下し、１０℃で３時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル１５０ｍＬおよび水１５０ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を１０％塩化ナトリウム水溶液で２回、１Ｎ塩酸水で１回、炭酸水素ナトリウム水溶液で１回および飽和塩化ナトリウム水溶液で１回ずつ順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去することにより、白色アモルファス状の（２Ｓ，３Ｒ，４Ｓ）−４−（メタンスルホニルオキシ）−１−（メトキシイミノ）−３，５−ビス（（ナフタレン−２−イル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ナフタレン−２−カルボキシラートの粗体８．４ｇを得た。この粗体は精製することなくそのまま次工程に用いた。１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、約６７：３３のオキシム異性体混合物であった。【０３６０】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
３．０８（０．９９Ｈ，ｓ）、３．１５（２．０１Ｈ，ｓ）、３．８７（２．０１Ｈ，ｓ）、３．９９（０．９９Ｈ，ｓ）、４．６９−４．７８（１Ｈ，ｍ）、４．９６−５．０４（１Ｈ，ｍ）、５．５５−５．６０（０．３３Ｈ，ｍ）、５．６２−５．６７（０．６７Ｈ，ｍ）、６．１７−６．２４（１．３４Ｈ，ｍ）、６．２６（０．３３Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．２，５．５Ｈｚ）、６．５６（０．３３Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．３，５．２Ｈｚ）、６．８８（０．３３Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．２Ｈｚ）、７．４９−７．６３（６．６７Ｈ，ｍ）、７．８１−７．９５（９Ｈ，ｍ）、８．０２−８．１２（３Ｈ，ｍ）、８．６２−８．６８（３Ｈ，ｍ）【０３６１】
【化９８】
2015125781.tif 000100
【０３６２】
（２Ｓ，３Ｒ，４Ｓ）−４−（メタンスルホニルオキシ）−１−（メトキシイミノ）−３，５−ビス（（ナフタレン−２−イル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ナフタレン−２−カルボキシラートの粗体７．２ｇのアセトニトリル３６ｍＬ溶液に５０％グリオキシル酸水溶液９．０ｍＬを加え、７５℃で６時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、酢酸エチル３００ｍＬおよび水１００ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を１０％塩化ナトリウム水溶液で３回、炭酸水素ナトリウム水溶液で１回、飽和塩化ナトリウム水溶液で３回順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／２→１／１）で精製することにより、白色アモルファス状の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）−４−（メタンスルホニルオキシ）−１−オキソ−３，５−ビス（（ナフタレン−２−イル）カルボニルオキシ）ペンタン−２−イル  ナフタレン−２−カルボキシラート５．４ｇを得た。【０３６３】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
３．０９（３Ｈ，ｓ）、４．７５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．０，１２．６Ｈｚ）、５．０４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．１，１２．６Ｈｚ）、５．７０（１Ｈ，ｍ）、５．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．８Ｈｚ）、６．２２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．８，６．６Ｈｚ）、７．４６−８．１５（１８Ｈ，ｍ）、８．６２（１Ｈ，ｓ）、８．６８（１Ｈ，ｓ）、８．７２（１Ｈ，ｓ）、９．８２（１Ｈ，ｓ）【０３６４】
実施例１１
〔Ａ〕（３Ｓ，４Ｓ，５Ｓ）−２−ヒドロキシ−４−（４−メチルベンゾイルオキシ）−５−［（４−メチルベンゾイルオキシ）メチル］チオラン−３−イル  ４−メチルベンゾアートおよびそのアセチル体【０３６５】
以下のようにして、（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）−２−（（メタンスルホニル）オキシ）−５−オキソペンタン−１，３，４−トリイル  トリス（４−メチルベンゾアート）を硫化水素ナトリウムの水和物と反応させて、合成した。【０３６６】
【化９９】
2015125781.tif 000101
【０３６７】
（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）−２−（（メタンスルホニル）オキシ）−５−オキソペンタン−１，３，４−トリイル  トリス（４−メチルベンゾアート）０．９７２ｇのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１４．７ｍＬ溶液に、氷冷下で一硫化水素ナトリウムｎ水和物１８７ｍｇを加え、氷冷下で１時間撹拌した。その後室温で１時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび食塩水を加えた。有機層を分取し、飽和食塩水で有機層を洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去することにより、（３Ｓ，４Ｓ，５Ｓ）−２−ヒドロキシ−４−（４−メチルベンゾイルオキシ）−５−［（４−メチルベンゾイルオキシ）メチル］チオラン−３−イル  ４−メチルベンゾアートの粗体を得た。【０３６８】
ＬＣ／ＭＳ
保持時間：１．９９，２．０２ｍｉｎ
［Ｍ＋Ｈ−Ｈ２Ｏ］  ５０３．４【０３６９】
【化１００】
2015125781.tif 000102
【０３７０】
上記で得られた（３Ｓ，４Ｓ，５Ｓ）−２−ヒドロキシ−４−（４−メチルベンゾイルオキシ）−５−［（４−メチルベンゾイルオキシ）メチル］チオラン−３−イル  ４−メチルベンゾアートの粗体にテトラヒドロフラン８．７ｍＬ、無水酢酸０．２３７ｍＬ、トリエチルアミン０．４１７ｍＬおよび４−ジメチルアミノピリジン（一片）を加え、室温で２．５時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、飽和食塩水で有機層を洗浄後、無水硫酸ナトリウムで有機層を乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９５：５から６０：４０）で精製した。得られた固形物にメタノールを加え攪拌した。固形物を濾取することにより、（３Ｓ，４Ｓ，５Ｓ）−２−（アセチルオキシ）−４−（４−メチルベンゾイルオキシ）−５−［（４−メチルベンゾイルオキシ）メチル］チオラン−３−イル  ４−メチルベンゾアート１４６ｍｇを褐色固体として得た。１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、ほぼ単一のアノマーであった。【０３７１】
ＬＣ／ＭＳ
保持時間：２．１７ｍｉｎ
［Ｍ＋Ｈ−ＡｃＯＨ］  ５０３．４【０３７２】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
２．０８（１Ｈ，ｓ），２．３４（３Ｈ，ｓ），２．３８（３Ｈ，ｓ），２．３８（３Ｈ，ｓ），４．１５−４．２３（１Ｈ，ｍ），４．３７−４．４３（１Ｈ，ｍ），４．５４−４．６０（１Ｈ，ｍ），５．９４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．５，１０．５Ｈｚ），６．０６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．６，１７．７Ｈｚ），６．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ），７．１０−７．２４（６Ｈ，ｍ），７．７５−７．９２（６Ｈ，ｍ）【０３７３】
〔Ｂ〕４−アミノ−１−［（２Ｓ，３Ｓ，４Ｓ，５Ｓ）−３，４−ジヒドロキシ−５−（ヒドロキシメチル）チオラン−２−イル］−１，２−ジヒドロピリミジン−２−オン【０３７４】
４−アミノ−１−［（２Ｓ，３Ｓ，４Ｓ，５Ｓ）−３，４−ジヒドロキシ−５−（ヒドロキシメチル）チオラン−２−イル］−１，２−ジヒドロピリミジン−２−オンは、以下のようにして合成した。【０３７５】
【化１０１】
2015125781.tif 000103
【０３７６】
（３Ｓ，４Ｓ，５Ｓ）−２−（アセチルオキシ）−４−（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）−５−［（（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ）メチル］チオラン−３−イル  ４−メチルベンゾアート４０．２ｍｇのアセトニトリル０．８ｍＬ溶液に、シトシン１１．９ｍｇおよびＮ，Ｏ−ビス（トリメチルシリル）アセトアミド０．０７０ｍＬを加え、窒素雰囲気下、７０℃で１時間撹拌した。トリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル０．０２６ｍＬを加え７０℃で７時間、さらにトリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル０．０２６ｍＬを加え、７０℃で３．５時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加え、水層を除去した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧濃縮した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝４／１→１／０からメタノール／酢酸エチル＝０／１→１／９）で精製し、［（２Ｓ，３Ｓ，４Ｓ，５Ｓ）−５−（４−アミノ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル）−３，４−ビス［（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ］チオラン−２−イル］メチル  ４−メチルベンゾアート３８．７ｍｇを褐色固体として得た。１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、ほぼ単一のアノマーであった。ＮＯＥＳＹスペクトルよりアノマー位の立体はＳと判断した。【０３７７】
ＬＣ／ＭＳ
保持時間：１．７７ｍｉｎ
［Ｍ＋Ｈ］  ６１４．５【０３７８】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ値：
２．３４（３Ｈ，ｓ），２．３７（３Ｈ，ｓ），２．３９（３Ｈ，ｓ），４．２８−４．３６（１Ｈ，ｍ），４．６２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．９，４．０Ｈｚ），４．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），５．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），５．９７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．９，６．６Ｈｚ），６．２３（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），６．４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），７．８（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），７．２６（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．７８（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），７．８８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），８．１２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ）【０３７９】
［（２Ｓ，３Ｓ，４Ｓ，５Ｓ）−５−（４−アミノ−２−オキソ−１，２−ジヒドロピリミジン−１−イル）−３，４−ビス［（４−メチルフェニル）カルボニルオキシ］チオラン−２−イル］メチル  ４−メチルベンゾアート１９．８ｍｇのメタノール０．４ｍＬ溶液に、７Ｍアンモニア−メタノール溶液０．０４６ｍＬを加え、室温で１．５時間撹拌した。さらに７Ｍアンモニア−メタノール溶液０．４６ｍＬを加え、４時間撹拌した。反応混合物の溶媒を減圧濃縮した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：メタノール／酢酸エチル＝０／１→１／１）で精製し、４−アミノ−１−［（２Ｓ，３Ｓ，４Ｓ，５Ｓ）−３，４−ジヒドロキシ−５−（ヒドロキシメチル）チオラン−２−イル］−１，２−ジヒドロピリミジン−２−オン４．０ｍｇを褐色固体として得た。【０３８０】
ＬＣ／ＭＳ
保持時間：０．２１ｍｉｎ
［Ｍ＋Ｈ］  ２６０．２【０３８１】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ値：
３．７３−３．８１（１Ｈ，ｍ），３．８４−４．０２（２Ｈ，ｍ），４．１７−４．２５（２Ｈ，ｍ），５．８６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），５．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．３Ｈｚ），８．３７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）【０３８２】
〔Ｃ〕原料の合成
なお、原料である上記（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）−２−（（メタンスルホニル）オキシ）−５−オキソペンタン−１，３，４−トリイル  トリス（４−メチルベンゾアート）は、以下のように、複数の工程で合成した。【０３８３】
【化１０２】
2015125781.tif 000104
【０３８４】
（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−２−ヒドロキシ−５−（メトキシイミノ）ペンタン−１，３，４−トリイル  トリス（４−メチルベンゾアート）０．９７ｇのアセトニトリル９．７ｍＬ溶液に、室温でメタンスルホニルクロリド０．１８３ｍＬおよび１−メチルイミダゾール０．２１７ｍＬを加え、室温で１２．５時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、飽和食塩水で有機層を洗浄後、無水硫酸ナトリウムで有機層を乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝９０：１０から５０：５０）で精製し、（２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ）−５−（メトキシイミノ）−２−（（メタンスルホニル）オキシ）ペンタン−１，３，４−トリイル  トリス（４−メチルベンゾアート）１．０２ｇを白色泡状物質として得た。１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、約６８：３２のオキシム異性体であった。【０３８５】
ＬＣ／ＭＳ
保持時間：２．０５ｍｉｎ
［Ｍ＋Ｈ］  ６１２．５【０３８６】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
２．３５−２．４５（９Ｈ，ｍ），３．０２（０．９６Ｈ，ｓ），３．０８（２．０４Ｈ，ｓ），３．８３（２．０４Ｈ，ｓ），３．９５（０．９６Ｈ，ｓ），４．４９−４．６１（１Ｈ，ｍ），４．７６−４．８８（１Ｈ，ｍ），５．３６−５．５６（１Ｈ，ｍ），５．９７−６．１１（１．６８Ｈ，ｍ），６．３５−６．４１（０．３２Ｈ，ｍ），６．７２（０．３２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ），７．１７−７．３１（６Ｈ，ｍ），６．７２（０．６８Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ），７．８８−８．０１（６Ｈ，ｍ）【０３８７】
【化１０３】
2015125781.tif 000105
【０３８８】
（２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ）−５−（メトキシイミノ）−２−（（メタンスルホニル）オキシ）ペンタン−１，３，４−トリイル  トリス（４−メチルベンゾアート）（Ｅ／Ｚ混合物）１．０２ｇのアセトン１０ｍＬ溶液に、室温で３５％ホルムアルデヒド液２ｍＬおよび４Ｍ塩酸１．２ｍＬを加え、室温で３．５時間攪拌した。反応混合物に、酢酸エチルおよび水を加えた。有機層を分取し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で有機層を洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、白色泡状の（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）−２−（（メタンスルホニル）オキシ）−５−オキソペンタン−１，３，４−トリイル  トリス（４−メチルベンゾアート）の粗体０．９７ｇを得た。この粗体はこれ以上の精製を行うことなく原料に用いた。【０３８９】
ＬＣ／ＭＳ
保持時間：１．９０ｍｉｎ
［Ｍ＋Ｈ］：５８３．４【０３９０】
実施例１２
〔Ａ〕（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−４−（ベンジルオキシ）−５−ヒドロキシ−２−（（４−メチルベンゾイルオキシ）メチル）チオラン−３−イル  ４−メチルベンゾアートおよびそのアセチル体【０３９１】
以下のようにして、（２Ｓ，３Ｒ，４Ｒ）−４−（ベンジルオキシ）−２−ブロモ−３−（４−メチルベンゾイルオキシ）−５−オキソペンチル  ４−メチルベンゾアートを硫化水素ナトリウムと反応させて、合成した。【０３９２】
【化１０４】
2015125781.tif 000106
【０３９３】
（２Ｓ，３Ｒ，４Ｒ）−４−（ベンジルオキシ）−２−ブロモ−３−（４−メチルベンゾイルオキシ）−５−オキソペンチル  ４−メチルベンゾアートの粗体４．３ｇのＮ−メチルピロリドン５０ｍＬ溶液に、氷冷下、硫化水素ナトリウム１．１ｇのＮ−メチルピロリドン５０ｍＬ溶液を滴下し、室温で３．５時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル３００ｍＬ、水４００ｍＬおよび飽和塩化ナトリウム水溶液２００ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した後、得られた残留物にテトラヒドロフラン５０ｍＬを加え、（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−４−（ベンジルオキシ）−５−ヒドロキシ−２−（（４−メチルベンゾイルオキシ）メチル）チオラン−３−イル  ４−メチルベンゾアートのテトラヒドロフラン溶液を得た。【０３９４】
この溶液にトリエチルアミン３．０ｍＬおよび無水酢酸１．０ｍＬを加えた後、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン０．０７ｇを加え、室温で２時間攪拌した。反応混合物を減圧留去し、得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝０／１→１／４）で精製することにより、淡黄色アモルファス状の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−５−（アセチルオキシ）−４−（ベンジルオキシ）−２−（（４−メチルベンゾイルオキシ）メチル）チオラン−３−イル  ４−メチルベンゾアート２．４ｇを得た。１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、約７４：２６のアノマー混合物であった。【０３９５】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
１．９４（２．２２Ｈ，ｓ）、２．１６（０．７８Ｈ，ｓ）、２．３３−２．４８（６Ｈ，ｍ）、４．１７−４．３２（１Ｈ，ｍ）、４．３７−４．５８（１Ｈ，ｍ）、４．５８−４．７８（３Ｈ，ｍ）、５．７１（０．７４Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．６、５．３Ｈｚ）、５．７７（０．２６Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．６、９．６Ｈｚ）、６．０４（０．７４Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、６．１６（０．２６Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ）、７．０４−７．３７（９Ｈ，ｍ）、７．７６−７．９５（４Ｈ，ｍ）【０３９６】
〔Ｂ〕原料の合成
なお、原料である上記（２Ｓ，３Ｒ，４Ｒ）−４−（ベンジルオキシ）−２−ブロモ−３−（４−メチルベンゾイルオキシ）−５−オキソペンチル  ４−メチルベンゾアートは、以下のように、複数の工程で合成した。【０３９７】
【化１０５】
2015125781.tif 000107
【０３９８】
１，２−Ｏ−イソプロピリデン−α−Ｄ−キシロフラノース１００ｇに、トルエン５００ｍＬ、２０％水酸化ナトリウム水溶液５００ｍＬおよびテトラブチルアンモニウムクロリド１０ｇを加え、氷冷下、２５℃以下で４−メチルベンゾイルクロリド１５０ｍＬを滴下し、２５℃で４．５時間攪拌した。水層を除去し、有機層を水５００ｍＬおよび飽和塩化ナトリウム水溶液２００ｍＬで順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去することにより、無色油状の（３ａＲ，５Ｒ，６Ｓ，６ａＲ）−２，２−ジメチル−５−（（４−メチルベンゾイルオキシ）メチル）−テトラヒドロ−２Ｈ−フロ［２，３−ｄ］［１，３］ジオキソル−６−イル  ４−メチルベンゾアートの粗体３７０ｇを得た。この粗体は精製をすることなく、次工程で用いた。【０３９９】
（３ａＲ，５Ｒ，６Ｓ，６ａＲ）−２，２−ジメチル−５−（（４−メチルベンゾイルオキシ）メチル）−テトラヒドロ−２Ｈ−フロ［２，３−ｄ］［１，３］ジオキソル−６−イル  ４−メチルベンゾアートの粗体３７０ｇに、メタノール１０００ｍＬ、テトラヒドロフラン１２５ｍＬおよび５〜１０％塩化水素／メタノール１２５ｍＬを加え、４０〜４５℃で７時間攪拌した。反応混合物を減圧留去し、トルエン１０００ｍＬを加え、有機層を水５００ｍＬ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液５００ｍＬ、水５００ｍＬおよび飽和塩化ナトリウム水溶液２００ｍＬで順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去することにより、無色油状の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−４−ヒドロキシ−５−メトキシ−２−（（４−メチルベンゾイルオキシ）メチル）オキソラン−３−イル  ４−メチルベンゾアートの粗体２１５ｇを得た。この粗体は精製をすることなく、次工程で用いた。１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、約５９：４１のアノマー混合物であった。【０４００】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
２．４０（６Ｈ，ｓ）、２．８５（０．５９Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．３Ｈｚ）、２．９７（０．４１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）、３．４５（１．７７Ｈ，ｓ）、３．５４（１．２３Ｈ，ｓ）、４．３４−４．３８（０．５９Ｈ，ｍ）、４．４０−４．６９（２．４１Ｈ，ｍ）、４．７０−４．７８（０．４１Ｈ，ｍ）、４．８２−４．９１（０．５９Ｈ，ｍ）、４．９８（０．５９Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、５．０７（０．４１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．６Ｈｚ）、５．３６（０．５９Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．６，６．６Ｈｚ）、５．５２（０．４１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．３，５．９Ｈｚ）、７．１６−７．２５（４Ｈ，ｍ）、７．８５−７．９６（４Ｈ，ｍ）【０４０１】
【化１０６】
2015125781.tif 000108
【０４０２】
（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−４−ヒドロキシ−５−メトキシ−２−（（４−メチルベンゾイルオキシ）メチル）オキソラン−３−イル  ４−メチルベンゾアートの粗体２５ｇのジクロロメタン１００ｍＬ溶液にベンジル  ２，２，２−トリクロロアセトイミダート２５ｇおよびトリフルオロメタンスルホン酸０．６ｍＬを加え、室温で４時間攪拌した。反応混合物を１２時間室温にて静置した後、ジクロロメタン１００ｍＬおよび水２００ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、黄色油状の（２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ）−４−（ベンジルオキシ）−５−メトキシ−２−（（４−メチルベンゾイルオキシ）メチル）オキソラン−３−イル  ４−メチルベンゾアートの粗体４７．３ｇを得た。１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、約５７：４３のアノマー混合物であった。この粗体は精製をすることなく、次工程で用いた。【０４０３】
（２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ）−４−（ベンジルオキシ）−５−メトキシ−２−（（４−メチルベンゾイルオキシ）メチル）オキソラン−３−イル  ４−メチルベンゾアートの粗体４７ｇに、酢酸１００ｍＬおよび２Ｍ塩酸９０ｍＬを加え、９０℃で３．５時間加熱攪拌した。反応混合物に酢酸エチル４００ｍＬおよび水４００ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去した後、得られた残留物にメタノール１００ｍＬを加え、（２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ）−４−（ベンジルオキシ）−５−ヒドロキシ−２−（（４−メチルベンゾイルオキシ）メチル）オキソラン−３−イル  ４−メチルベンゾアートのメタノール溶液を得た。【０４０４】
この溶液にトリエチルアミン１３．４ｍＬおよびＯ−メチルヒドロキシルアミン塩酸塩１０．４ｇを加え、室温で１時間攪拌した。溶媒を減圧留去した後、得られた残留物に酢酸エチル２００ｍＬおよび水２００ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝０／１→１／４）で精製することにより、無色油状の（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）−４−（ベンジルオキシ）−２−ヒドロキシ−５−（メトキシイミノ）−３−（４−メチルベンゾイルオキシ）ペンチル  ４−メチルベンゾアート１０．５ｇを得た。１Ｈ−ＮＭＲを測定した結果、約８０：２０のオキシム異性体混合物であった。【０４０５】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
２．３６−２．４４（６Ｈ，ｍ）、２．８９−２．９４（０．８Ｈ，ｍ）、３．０１−３．０５（０．２Ｈ，ｍ）、３．７８（０．６Ｈ，ｓ）、３．８７（２．４Ｈ，ｓ）、４．２７−４．５１（４Ｈ，ｍ）、４．５６−４．７４（１．８Ｈ，ｍ）、５．０９（０．２０Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．３，６．６Ｈｚ）、５．５０（０．８Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．０，５．９Ｈｚ）、５．５６（０．２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．６，５．３Ｈｚ）、６．８５（０．２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ）、７．１３−７．３４（９Ｈ，ｍ）、７．４４（０．８０Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ）、７．８０−８．００（４Ｈ，ｍ）【０４０６】
【化１０７】
2015125781.tif 000109
【０４０７】
（２Ｒ，３Ｓ，４Ｓ）−４−（ベンジルオキシ）−２−ヒドロキシ−５−（メトキシイミノ）−３−（４−メチルベンゾイルオキシ）ペンチル  ４−メチルベンゾアート９．５ｇのアセトニトリル１００ｍＬ溶液に、氷冷下、２，４，５−トリクロロベンゼンスルホニルクロリド７．８ｇおよびＮ−メチルイミダゾール３．０ｇを加え、室温で１．５時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル５００ｍＬおよび水３００ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、得られた残留物に１，２−ジメチルイミダゾール５０ｍＬを加え、（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）−４−（ベンジルオキシ）−５−（メトキシイミノ）−３−（４−メチルベンゾイルオキシ）−２−（（２，４，５−トリクロロベンゼンスルホニル）オキシ）ペンチル  ４−メチルベンゾアートの１，２−ジメチルイミダゾール溶液を得た。【０４０８】
この溶液に、臭化リチウム１．６ｇを加え、５０〜６０℃で４時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル２００ｍＬ、水１００ｍＬおよび飽和塩化ナトリウム水溶液１００ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を２５％臭化リチウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残留物をカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝０／１→１／４）で精製することにより、褐色油状の（２Ｓ，３Ｒ，４Ｓ）−４−（ベンジルオキシ）−２−ブロモ−５−（メトキシイミノ）−３−（４−メチルベンゾイルオキシ）ペンチル  ４−メチルベンゾアート５．８ｇを得た。【０４０９】
（２Ｓ，３Ｒ，４Ｓ）−４−（ベンジルオキシ）−２−ブロモ−５−（メトキシイミノ）−３−（４−メチルベンゾイルオキシ）ペンチル  ４−メチルベンゾアート５．８ｇのアセトン６０ｍＬ溶液に、３５％ホルムアルデヒド水溶液６ｍＬおよび濃塩酸０．６ｍＬを加え、４０〜５０℃で１時間攪拌した。反応混合物に、氷冷下、酢酸エチル２００ｍＬおよび飽和炭酸水素ナトリウム水溶液２００ｍＬを加え、水層を除去した。有機層を水および飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去することにより淡黄色油状の（２Ｓ，３Ｒ，４Ｒ）−４−（ベンジルオキシ）−２−ブロモ−３−（４−メチルベンゾイルオキシ）−５−オキソペンチル  ４−メチルベンゾアートの粗体４．３ｇを得た。この粗体はこれ以上の精製を行うことなく原料に用いた。【０４１０】
実施例１３
〔Ａ〕（２Ｓ，３Ｓ，４Ｓ）−３−（ベンゾイルオキシ）−４−フルオロ−５−ヒドロキシチオラン−２−イル）メチル  ベンゾエートおよびそのアセチル体【０４１１】
以下のようにして、（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）−３−（ベンゾイルオキシ）−４−フルオロ−２−（メタンスルホニルオキシ）−５−オキソペンチル  ベンゾエートを１５％硫化水素ナトリウムと反応させて、合成した。【０４１２】
【化１０８】
2015125781.tif 000110
【０４１３】
（（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）−３−（ベンゾイルオキシ）−４−フルオロ−２−（メタンスルホニルオキシ）−５−オキソペンチル  ベンゾエート１．０ｇのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍＬ溶液に０〜１０℃で１５％硫化水素ナトリウム水溶液１．２７ｍＬを添加し、室温で２時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび飽和塩化ナトリウム水溶液を加え、有機層を分取した。有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色油状物の（（２Ｓ，３Ｓ，４Ｓ）−３−（ベンゾイルオキシ）−４−フルオロ−５−ヒドロキシチオラン−２−イル）メチル  ベンゾエート０．５２ｇを得た。【０４１４】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
８．０４−７．８７（４Ｈ，ｍ），７．６３−７．５０（２Ｈ，ｍ），７．４８−７．３４（４Ｈ，ｍ），５．９８（０．４４Ｈ，ｄｑ，Ｊ＝６．０，８．７Ｈｚ），５．９１（０．５６Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝４．２，５．１，１０．８Ｈｚ），５．６５（０．４４Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝３．９，８．１，９．６Ｈｚ），５．５６（０．５６Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．１，８．７，１３．１Ｈｚ），５．３５（０．５６Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．６，３．５，４７．８Ｈｚ），５．２２（０．４４Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝３．９，６．１，５０．６Ｈｚ），４．６７（１．１２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），４．５５−４．３３（１．３２Ｈ，ｍ），４．２８（０．５６Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．９，１２．３Ｈｚ），２．７３（０．４４Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４，８．１Ｈｚ），２．５２（０．５６Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）【０４１５】
【化１０９】
2015125781.tif 000111
【０４１６】
（（２Ｓ，３Ｓ，４Ｓ）−３−（ベンゾイルオキシ）−４−フルオロ−５−ヒドロキシチオラン−２−イル）メチル  ベンゾエート１．７４ｇの酢酸エチル２０ｍＬ溶液に、０〜１０℃でピリジン１．５ｍＬ、無水酢酸０．８５ｍＬおよびＮ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン５０ｍｇを加え、室温で１７時間放置した。反応混合物を減圧濃縮し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色油状物の（（２Ｓ，３Ｓ，４Ｓ）−５−（アセチルオキシ）−３−（ベンゾイルオキシ）−４−フルオロチオラン−２−イル）メチル  ベンゾエート１．５０ｇを得た。【０４１７】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
８．０７−７．９５（３．１２Ｈ，ｍ），７．８７−７．８１（０．８８Ｈ，ｍ），７．６２−７．３０（６Ｈ，ｍ），６．２０（０．４４Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．２，４．５Ｈｚ），６．１１（０．５６Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４，１６．５Ｈｚ），６．０１−５．９０（０．４４Ｈ，ｍ），５．９１−５．８２（０．５６Ｈ，ｍ），５．５４（０．５６Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝２．４，５．１，４８．９Ｈｚ），５．４４（０．４４Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝４．５，９．３，５０．７Ｈｚ），４．６７（０．５６Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．９，１１．７Ｈｚ），４．５８−４．４７（１Ｈ，ｍ），４．３７（０．４４Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．１，１１．７Ｈｚ），４．２４−４．１７（１Ｈ，ｍ），２．１９（１．３２Ｈ，ｓ），２．０１（１．６８Ｈ，ｓ）【０４１８】
〔Ｂ〕原料の合成
なお、原料である上記（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）−３−（ベンゾイルオキシ）−４−フルオロ−２−（メタンスルホニルオキシ）−５−オキソペンチル  ベンゾエートは、以下のように、複数の工程で合成した。【０４１９】
（工程１）【０４２０】
【化１１０】
2015125781.tif 000112
【０４２１】
（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−３−（ベンゾイルオキシ）−４−フルオロ−２−ヒドロキシ−５−（メトキシイミノ）ペンチル  ベンゾエート１２．８ｇの酢酸エチル１００ｍＬおよびトリエチルアミン１８ｍＬ混合溶液に０〜１０℃でメタンスルホニルクロリド５．０ｍＬを滴下し、室温で４時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加え、有機層を分取した。有機層を水および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色油状物の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−３−（ベンゾイルオキシ）−４−フルオロ−２−（メタンスルホニルオキシ）−５−（メトキシイミノ）ペンチル  ベンゾエート１４．４ｇを得た。【０４２２】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
８．１１−８．０３（４Ｈ，ｍ），７．６６−７．５５（２Ｈ，ｍ），７．５２−７．３８（４．７５Ｈ，ｍ），６．８５（０．２５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．５，１１．１Ｈｚ），６．０９−６．００（０．２５Ｈ，ｍ），５．９９−５．７４（１Ｈ，ｍ），５．５６−５．３５（１．７５Ｈ，ｍ），４．８７（０．７５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．８，１２．８Ｈｚ），４．８６（０．２５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．８，１２．８Ｈｚ），４．４８（０．７５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．０，１２．６Ｈｚ），４．４６（０．２５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．６，１２．６Ｈｚ），３．９２（０．７５Ｈ，ｓ），３．８５（２．２５Ｈ，ｓ），３．１４（２．２５Ｈ，ｓ），３．１３（０．７５Ｈ，ｓ）【０４２３】
（工程２）【０４２４】
【化１１１】
2015125781.tif 000113
【０４２５】
（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−３−（ベンゾイルオキシ）−４−フルオロ−２−（メタンスルホニルオキシ）−５−（メトキシイミノ）ペンチル  ベンゾエート９．６ｇのアセトン１００ｍＬ溶液に、室温で３７％ホルムアルデヒド水溶液８０ｍＬおよび９％塩酸１．３ｍＬを加え、室温で３時間攪拌した。次いで、９％塩酸３．０ｍＬを加え１２時間攪拌した。反応混合物のアセトンを減圧留去し、得られた水溶液に酢酸エチルを加え、有機層を分取した。有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色油状物の（２Ｒ，３Ｒ，４Ｓ）−３−（ベンゾイルオキシ）−４−フルオロ−２−（メタンスルホニルオキシ）−５−オキソペンチル  ベンゾエート８．１ｇを得た。【０４２６】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
９．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），８．１０−８．００（４Ｈ，ｍ），７．６６−７．５５（２Ｈ，ｍ），７．５１−７．４１（４Ｈ，ｍ），５．９３（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．９，７．１，２４．８Ｈｚ），５．４７（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝２．８，５．８，７．１Ｈｚ），５．３０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．９，４６．４Ｈｚ），４．９１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．８，１２．９Ｈｚ），４．４８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．８，１２．９Ｈｚ），３．１４（３Ｈ，ｓ）【０４２７】
実施例１４
〔Ａ〕（（２Ｓ）−５−ヒドロキシチオラン−２−イル）メチル  ４−メチルベンゾエートおよびそのアセチル体【０４２８】
以下のようにして、（２Ｒ）−２−ブロモ−５−オキソペンチル  ４−メチルベンゾエートを１５％硫化水素ナトリウムと反応させることにより合成した。【０４２９】
【化１１２】
2015125781.tif 000114
【０４３０】
（２Ｒ）−２−ブロモ−５−オキソペンチル  ４−メチルベンゾエート０．３２ｇのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５ｍＬ溶液に０〜１０℃で１５％硫化水素ナトリウム水溶液０．７８ｍＬを添加し、０〜１０℃で２時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび飽和塩化ナトリウム水溶液を加え、有機層を分取した。有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色油状物の（（２Ｓ）−５−ヒドロキシチオラン−２−イル）メチル  ４−メチルベンゾエート０．１８ｇを得た。【０４３１】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
７．９６−７．９０（２Ｈ，ｍ），７．２８−７．２２（２Ｈ，ｍ），５．６３−５．５５（１Ｈ，ｍ），４．５４（０．５５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．６，１１．１Ｈｚ），４．４０（０．５５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．９，１１．１Ｈｚ），４．２７−４．１７（０．９０Ｈ，ｍ），３．９９−３．７７（１Ｈ，ｍ），２．４５−１．９５（８Ｈ，ｍ）【０４３２】
【化１１３】
2015125781.tif 000115
【０４３３】
（（２Ｓ）−５−ヒドロキシチオラン−２−イル）メチル  ４−メチルベンゾエート０．２４ｇの酢酸エチル１０ｍＬ溶液に、０〜１０℃でピリジン０．３ｍＬ、無水酢酸０．１８ｍＬおよびＮ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン１２ｍｇを加え、室温で１６時間放置した。反応混合物を減圧濃縮し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色油状物の（（２Ｓ）−５−（アセチルオキシ）チオラン−２−イル）メチル  ４−メチルベンゾエート０．２９ｇを得た。【０４３４】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
７．９６−７．８９（２Ｈ，ｍ），７．２７−７．２０（２Ｈ，ｍ），６．２０−６．１４（１Ｈ，ｍ），４．５４（０．５２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．４，１１．１Ｈｚ），４．３３（０．５２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．２，１１．１Ｈｚ），４．２８−４．１６（０．９６Ｈ，ｍ），３．９１−３．７５（１Ｈ，ｍ），２．４３−１．８９（１０Ｈ，ｍ）【０４３５】
〔Ｂ〕原料の合成
なお、原料である上記（２Ｒ）−２−ブロモ−５−オキソペンチル  ４−メチルベンゾエートは、以下のように、複数の工程で合成した。【０４３６】
（工程１）【０４３７】
【化１１４】
2015125781.tif 000116
【０４３８】
（３Ｒ，４Ｓ，５Ｒ）−５−（ヒドロキシメチル）オキソラン−２，３，４−トリオール（Ｄ−リボース）３０ｇのメタノール１２０ｍＬおよびアセトン１２０ｍＬ混合溶液に室温で濃塩酸３ｍＬを加え、９０分間加熱還流した。反応混合物にトリエチルアミン５ｍＬを加え、溶媒１００ｍＬを減圧留去した。得られた水溶液に酢酸エチルを加え、有機層を３回分取した。合わせた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去し、淡黄色油状物の（（３ａＲ，４Ｒ，６ａＲ）−６−メトキシ−２，２−ジメチル−テトラヒドロ−２Ｈ−フロ（３，４−ｄ）（１，３）ジオキソール−４−イル）メタノール３４．５ｇを得た。【０４３９】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
４．９８（１Ｈ，ｓ），４．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．９Ｈｚ），４．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．９Ｈｚ），４．４４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），３．７４−３．５７（２Ｈ，ｍ），３．４４（３Ｈ，ｓ），３．２２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．９，１０．４Ｈｚ），１．４９（３Ｈ，ｓ），１．３２（３Ｈ，ｓ）【０４４０】
（工程２）【０４４１】
【化１１５】
2015125781.tif 000117
【０４４２】
（（３ａＲ，４Ｒ，６ａＲ）−６−メトキシ−２，２−ジメチル−テトラヒドロ−２Ｈ−フロ（３，４−ｄ）（１，３）ジオキソール−４−イル）メタノール３４ｇの酢酸エチル２００ｍＬおよびトリエチルアミン３５ｍＬ混合溶液に０〜１０℃で４−メチルベンゾイル  クロリド２８．３ｇおよびＮ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン０．６１ｇを加え、室温で２時間攪拌した。次いで、４−メチルベンゾイル  クロリド５ｍＬおよびトリエチルアミン１５ｍＬを加え、３時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加え、有機層を分取した。有機層を水および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、淡黄色油状物の（（３ａＲ，４Ｒ，６ａＲ）−６−メトキシ−２，２−ジメチル−テトラヒドロ−２Ｈ−フロ（３，４−ｄ）（１，３）ジオキソール−４−イル）メチル  ４−メチルベンゾエート５３ｇを得た。【０４４３】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
７．９６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．２４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），５．０２（１Ｈ，ｓ），４．７７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝０．６，６．０Ｈｚ），４．６５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），４．５３（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝０．６，６．９Ｈｚ），４．３６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．９，１３．９Ｈｚ），４．３２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．９，１３．９Ｈｚ），３．３４（３Ｈ，ｓ），２．４１（３Ｈ，ｓ），１．５０（３Ｈ，ｓ），１．３４（３Ｈ，ｓ）【０４４４】
（工程３）【０４４５】
【化１１６】
2015125781.tif 000118
【０４４６】
（（３ａＲ，４Ｒ，６ａＲ）−６−メトキシ−２，２−ジメチル−テトラヒドロ−２Ｈ−フロ（３，４−ｄ）（１，３）ジオキソール−４−イル）メチル  ４−メチルベンゾエート３２．２ｇのメタノール８００ｍＬ溶液に（７，７−ジメチル−２−オキソビシクロ（２，２，１）ヘプタン−１−イル）メタンスルホン酸（１０−カンファースルホン酸）１．１６ｇを加え、加熱還流し溶媒を４００ｍＬ留去した。次いで、メタノール４００ｍＬおよび水１０ｍＬを加え、加熱還流し溶媒を４００ｍＬ留去した。次いで、メタノール４００ｍＬを加え、加熱還流し溶媒を４００ｍＬ留去した。炭酸水素ナトリウム５ｇを加え、溶媒を減圧留去した。次いで、酢酸エチルおよび飽和塩化ナトリウム水溶液を加え、有機層を２回分取し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、析出した固体を酢酸エチル／ヘキサンで洗浄し、白色固体の（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ）−３，４−ジヒドロキシ−５−メトキシオキソラン−２−イル）メチル  ４−メチルベンゾエート１６．３ｇを得た。【０４４７】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
７．９６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．２４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），４．８８（１Ｈ，ｂｒ），４．５６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．９，１１．９Ｈｚ），４．４７−４．３８（２Ｈ，ｍ），４．２８−４．２１（１Ｈ，ｍ），４．１１−４．０６（１Ｈ，ｍ），３．３３（３Ｈ，ｓ），２．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．３Ｈｚ），２．５３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），２．４１（３Ｈ，ｓ）【０４４８】
（工程４）【０４４９】
【化１１７】
2015125781.tif 000119
【０４５０】
（（２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ）−３，４−ジヒドロキシ−５−メトキシオキソラン−２−イル）メチル  ４−メチルベンゾエート１４．１ｇのテトラヒドロフラン３５０ｍＬおよび二硫化炭素３０ｍＬ混合溶液に０〜１０℃で水素化ナトリウム（油性）８．０ｇを１５分間かけて添加し、室温で３０分間攪拌した。次いで、ヨウ化メチル８５．１ｇを加え、９０分間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加え、有機層を分取した。有機層を水および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、淡黄色油状物の（（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−５−メトキシ−３，４−ビス（（（メチルスルファニル）メタンチオイル）オキシ）オキソラン−２−イル）メチル  ４−メチルベンゾエート２１．９ｇを得た。【０４５１】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
７．９７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．２４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），６．３７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．０，６．３Ｈｚ），６．１６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝０．９，５．０Ｈｚ），５．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝０．９Ｈｚ），４．７４−４．６８（１Ｈ，ｍ），４．６２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．１，１１．９Ｈｚ），４．４５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．７，１１．９Ｈｚ），３．３８（３Ｈ，ｓ），２．５９（３Ｈ，ｓ），２．５５（３Ｈ，ｓ），２．４１（３Ｈ，ｓ）【０４５２】
（工程５）【０４５３】
【化１１８】
2015125781.tif 000120
【０４５４】
（（２Ｒ，３Ｒ，４Ｒ）−５−メトキシ−３，４−ビス（（（メチルスルファニル）メタンチオイル）オキシ）オキソラン−２−イル）メチル  ４−メチルベンゾエート２７．８ｇのトルエン３００ｍＬ溶液に、加熱還流下で水素化トリブチルスズ３５ｇおよび２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオニトリル）（ＡＩＢＮ）２ｇのトルエン８０ｍＬ溶液を７５分間かけて滴下し、加熱還流下で９０分間攪拌した。反応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色油状物の（（２Ｓ）−５−メトキシ−２，５−ジヒドロフラン−２−イル）メチル  ４−メチルベンゾエート１３．７ｇを得た。【０４５５】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
７．９７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．２３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），６．２３−６．１８（１Ｈ，ｍ），５．９６−５．９１（１Ｈ，ｍ），５．７６−５．７３（１Ｈ，ｍ），５．０６−４．９９（１Ｈ，ｍ），４．４４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．２，１１．６Ｈｚ），４．３６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．６，１１．６Ｈｚ），３．４１（３Ｈ，ｓ），２．４１（３Ｈ，ｓ）【０４５６】
（工程６）【０４５７】
【化１１９】
2015125781.tif 000121
【０４５８】
（（２Ｓ）−５−メトキシ−２，５−ジヒドロフラン−２−イル）メチル  ４−メチルベンゾエート４．２ｇのプロパン−２−オール４０ｍＬおよび水１０ｍＬ混合溶液に５％パラジウム炭素３．６ｇを加え、１気圧の水素雰囲気下、室温で１９時間攪拌した。次いで、５％パラジウム炭素１．８ｇを加え、１気圧の水素雰囲気下、室温で３時間攪拌した。反応混合物をセライトでろ過し、ろ液を減圧留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色油状物の（（２Ｓ）−５−メトキシオキソラン−２−イル）メチル  ４−メチルベンゾエート３．２ｇを得た。【０４５９】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
７．９８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．２４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），５．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．６Ｈｚ），４．４９−４．２４（３Ｈ，ｍ），３．２４（３Ｈ，ｓ），２．４１（３Ｈ，ｓ），２．１１−１．８６（４Ｈ，ｍ）【０４６０】
（工程７）【０４６１】
【化１２０】
2015125781.tif 000122
【０４６２】
（（２Ｓ）−５−メトキシオキソラン−２−イル）メチル  ４−メチルベンゾエート３．２ｇの酢酸１３０ｍＬおよび水１３０ｍＬ混合溶液に室温で濃硫酸１．２６ｇを加え、室温で２時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルを加え、有機層を２回分取した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色油状物の（（２Ｓ）−５−ヒドロキシオキソラン−２−イル）メチル  ４−メチルベンゾエート２．８ｇを得た。【０４６３】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
８．００−７．９０（２Ｈ，ｍ），７．２８−７．２０（２Ｈ，ｍ），５．６４（０．５Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．９Ｈｚ），５．４６（０．５Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．６Ｈｚ），４．６４−４．５５（０．５Ｈ，ｍ），４．４７−４．３４（２Ｈ，ｍ），４．２６（０．５Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．０，１１．４Ｈｚ），２．７２（０．５Ｈ，ｂｒ），２．６２（０．５Ｈ，ｂｒ），２．４１（３Ｈ，ｓ），２．３３−１．７１（４Ｈ，ｍ）【０４６４】
（工程８）【０４６５】
【化１２１】
2015125781.tif 000123
【０４６６】
（（２Ｓ）−５−ヒドロキシオキソラン−２−イル）メチル  ４−メチルベンゾエート２．８ｇのメタノール２０ｍＬ溶液にピリジン６．２ｍＬ、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物３．０８ｇおよびＯ−メチルヒドロキシルアミン塩酸塩１．８ｇを添加し、室温で５時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび飽和塩化ナトリウム水溶液を加え、有機層を２回分取した。有機層を水および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色油状物の（２Ｓ）−２−ヒドロキシ−５−（メトキシイミノ）ペンチル  ４−メチルベンゾエート２．６ｇを得た。【０４６７】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
７．９６−７．９０（２Ｈ，ｍ），７．４４（０．６０Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），７．２８−７．２２（２Ｈ，ｍ），６．７２（０．４０Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．９Ｈｚ），４．４１−４．２１（２Ｈ，ｍ），４．０７−３．９２（１Ｈ，ｍ），３．８８（１．２０Ｈ，ｓ），３．８２（１．８０Ｈ，ｓ），２．６４−２．３１（５Ｈ，ｍ），１．８４−１．６７（２Ｈ，ｍ）【０４６８】
（工程９）【０４６９】
【化１２２】
2015125781.tif 000124
【０４７０】
（２Ｓ）−２−ヒドロキシ−５−（メトキシイミノ）ペンチル  ４−メチルベンゾエート０．５３ｇのアセトニトリル１０ｍＬ溶液に０〜１０℃で２，４，５−トリクロロベンゼンスルホニルクロリド０．６２ｇ、Ｎ−メチルイミダゾール０．２４ｍＬを加え、室温で３時間攪拌した。次いで、２，４，５−トリクロロベンゼンスルホニルクロリド０．１ｇを加え、１時間撹拌した。次いで、Ｎ−メチルイミダゾール０．１ｍＬおよび２，４，５−トリクロロベンゼンスルホニルクロリド０．０５ｇを加え、１時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加え、有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、白色固体の（２Ｓ）−５−（メトキシイミノ）−２−（（２，４，５−トリクロロベンゼンスルホニル）オキシ）ペンチル  ４−メチルベンゾエート０．６７ｇを得た。【０４７１】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
８．０６（１Ｈ，ｓ），７．７１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），７．４２−７．３６（１．５８Ｈ，ｍ），７．２１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ），６．７０（０．４２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），５．１１（０．５８Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝３．３，６．７，１２．８Ｈｚ），５．０３（０．４２Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝３．２，６．４，１２．８Ｈｚ），４．５０−４．３４（２Ｈ，ｍ），３．８７（１．２６Ｈ，ｓ），３．８２（１．７４Ｈ，ｓ），２．５８−２．３５（５Ｈ，ｍ），２．１２−１．９８（２Ｈ，ｍ）【０４７２】
（工程１０）【０４７３】
【化１２３】
2015125781.tif 000125
【０４７４】
（２Ｓ）−５−（メトキシイミノ）−２−（（２，４，５−トリクロロベンゼンスルホニル）オキシ）ペンチル  ４−メチルベンゾエート０．６７ｇの１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン２．６ｍＬ溶液に、室温で臭化リチウム０．２３ｇを３回に分けて加え、４０℃で２時間攪拌した。反応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色油状物の（２Ｒ）−２−ブロモ−５−（メトキシイミノ）ペンチル  ４−メチルベンゾエート０．４１ｇを得た。【０４７５】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
７．９８−７．９２（２Ｈ，ｍ），７．４１（０．５８Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ），７．２９−７．２２（２Ｈ，ｍ），６．６８（０．４２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），４．６３−４．４５（２Ｈ，ｍ），４．３５−４．１７（１Ｈ，ｍ），３．８７（１．２６Ｈ，ｓ），３．８１（１．７４Ｈ，ｓ），２．７０−１．８９（７Ｈ，ｍ）【０４７６】
（工程１１）【０４７７】
【化１２４】
2015125781.tif 000126
【０４７８】
（２Ｒ）−２−ブロモ−５−（メトキシイミノ）ペンチル  ４−メチルベンゾエート０．４１ｇのアセトン６ｍＬ溶液に、室温で３７％ホルムアルデヒド水溶液１ｍＬおよび９％塩酸０．０４ｍＬを加え、室温で６０分間攪拌した。次いで、３７％ホルムアルデヒド水溶液１ｍＬを加え、９０分間攪拌した。次いで、３７％ホルムアルデヒド水溶液１ｍＬを加え、６０分間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、有機層を分取した。有機層を水および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色油状物の（２Ｒ）−２−ブロモ−５−オキソペンチル  ４−メチルベンゾエート  ０．３３ｇを得た。【０４７９】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
９．８４（１Ｈ，ｓ），７．９５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．２６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），４．５５（２Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝６．３，１１．７，２８．２Ｈｚ），４．３６−４．２５（１Ｈ，ｍ），２．９０−２．６８（２Ｈ，ｍ），２．４６−２．３２（４Ｈ，ｍ），２．１８−２．０３（１Ｈ，ｍ）【０４８０】
実施例１５
〔Ａ〕（（２Ｓ）−５−ヒドロキシチオラン−２−イル）メチル  ４−フェニルベンゾエートおよびそのアセチル体【０４８１】
以下のようにして、（２Ｒ）−２−ブロモ−５−オキソペンチル  ４−フェニルベンゾエートを硫化水素ナトリウムの水溶液と反応させることにより合成した。【０４８２】
【化１２５】
2015125781.tif 000127
【０４８３】
（２Ｒ）−２−ブロモ−５−オキソペンチル  ４−フェニルベンゾエート０．１５ｇのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４ｍＬ溶液に０〜１０℃で１５％硫化水素ナトリウム水溶液０．３ｍＬを添加し、０〜１０℃で１時間攪拌した後、室温で１時間攪拌した。反応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、（（２Ｓ）−５−ヒドロキシチオラン−２−イル）メチル  ４−フェニルベンゾエートとＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドの混合物０．１７ｇを得た。混合物はさらなる精製を行わず、次工程に進んだ。【０４８４】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
８．１４−８．０８（２Ｈ，ｍ），７．７０−７．５９（４Ｈ，ｍ），７．５１−７．３６（３Ｈ，ｍ），５．６４−５．５６（１Ｈ，ｍ），４．５８（０．５３Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．６，１１．１Ｈｚ），４．４４（０．５３Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．９，１１．１Ｈｚ），４．３２−４．２０（０．９４Ｈ，ｍ），４．０２−３．８０（１Ｈ，ｍ），２．４２−１．９７（５Ｈ，ｍ）【０４８５】
【化１２６】
2015125781.tif 000128
【０４８６】
（（２Ｓ）−５−ヒドロキシチオラン−２−イル）メチル  ４−フェニルベンゾエートとＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドの混合物０．１５ｇの酢酸エチル５ｍＬおよびピリジン１６１μＬ混合溶液に、０〜１０℃で無水酢酸９５μＬおよびＮ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン６ｍｇを加え、室温で一晩静置した。反応混合物を減圧濃縮し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色油状物の（（２Ｓ）−５−（アセチルオキシ）チオラン−２−イル）メチル  ４−フェニルベンゾエート５９ｍｇを得た。【０４８７】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
８．１４−８．０７（２Ｈ，ｍ），７．７０−７．５９（４Ｈ，ｍ），７．５１−７．３６（３Ｈ，ｍ），６．２１−６．１６（１Ｈ，ｍ），４．５８（０．５４Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．４，１１．０Ｈｚ），４．４２−４．２０（１．４６Ｈ，ｍ），３．９４−３．７８（１Ｈ，ｍ），２．４２−１．９１（７Ｈ，ｍ）【０４８８】
〔Ｂ〕原料の合成
なお、原料である上記（２Ｒ）−２−ブロモ−５−オキソペンチル  ４−フェニルベンゾエートは、以下のように、複数の工程で合成した。【０４８９】
（工程１）【０４９０】
【化１２７】
2015125781.tif 000129
【０４９１】
（２Ｓ）−２−ヒドロキシ−５−（メトキシイミノ）ペンチル  ４−フェニルベンゾエート０．２６ｇのアセトニトリル５ｍＬ溶液に室温で２，４，５−トリクロロベンゼンスルホニルクロリド０．２４ｇおよびＮ−メチルイミダゾール９６μＬを加え、室温で１３５分間攪拌した。次いで、２，４，５−トリクロロベンゼンスルホニルクロリド０．１２ｇおよびＮ−メチルイミダゾール９６μＬを加え、７５分間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加え、不溶物をろ別した後、有機層を分取した。有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、（２Ｓ）−５−（メトキシイミノ）−２−（（２，４，５−トリクロロベンゼンスルホニル）オキシ）ペンチル  ４−フェニルベンゾエート０．３５ｇを得た。【０４９２】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
８．０９（１Ｈ，ｓ），７．９４−７．８８（２Ｈ，ｍ），７．７１−７．６０（４Ｈ，ｍ），７．５２−７．３７（４．６５Ｈ，ｍ），６．７０（０．３５Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），５．１９−５．０１（１Ｈ，ｍ），４．５４−４．３９（２Ｈ，ｍ），３．８８（１．０５Ｈ，ｓ），３．８２（１．９５Ｈ，ｓ），２．６３−２．３８（２Ｈ，ｍ），２．１４−１．９９（２Ｈ，ｍ）【０４９３】
（工程２）【０４９４】
【化１２８】
2015125781.tif 000130
【０４９５】
（２Ｓ）−５−（メトキシイミノ）−２−（（２，４，５−トリクロロベンゼンスルホニル）オキシ）ペンチル  ４−フェニルベンゾエート０．３５ｇの１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン２ｍＬ溶液に、室温で臭化リチウム０．１１ｇを加え、４０℃で２時間攪拌した。反応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色油状物の（２Ｒ）−２−ブロモ−５−（メトキシイミノ）ペンチル  ４−フェニルベンゾエート０．１８ｇを得た。【０４９６】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
８．１６−８．１０（２Ｈ，ｍ），７．７１−７．５９（４Ｈ，ｍ），７．５２−７．３７（３．５９Ｈ，ｍ），６．６９（０．４１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），４．６７−４．４９（２Ｈ，ｍ），４．３７−４．２０（１Ｈ，ｍ），３．８８（１．２３Ｈ，ｓ），３．８２（１．７７Ｈ，ｓ），２．７１−１．９４（４Ｈ，ｍ）【０４９７】
（工程３）【０４９８】
【化１２９】
2015125781.tif 000131
【０４９９】
（２Ｒ）−２−ブロモ−５−（メトキシイミノ）ペンチル  ４−フェニルベンゾエート０．１８ｇのアセトン４．６ｍＬ溶液に、室温で３７％ホルムアルデヒド水溶液１．８３ｍＬおよび９％塩酸１７μＬを加え、室温で１５０分間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加え、有機層を分取した。有機層を水および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色油状物の（２Ｒ）−２−ブロモ−５−オキソペンチル  ４−フェニルベンゾエート０．１５ｇを得た。【０５００】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
９．８５（１Ｈ，ｓ），８．１６−８．０９（２Ｈ，ｍ），７．７１−７．５９（４Ｈ，ｍ），７．５１−７．３７（３Ｈ．ｍ），４．６８−４．４９（２Ｈ，ｍ），４．３９−４．２４（１Ｈ，ｍ），２．９２−２．７０（２Ｈ，ｍ），２．４８−１．９７（２Ｈ，ｍ）【０５０１】
実施例１６
〔Ａ〕（（２Ｒ）−５−ヒドロキシチオラン−２−イル）メチル  ベンゾエートおよびそのアセチル体【０５０２】
以下のようにして、（２Ｓ）−２−（メタンスルホニルオキシ）−５−オキソペンチル  ベンゾエートを硫化水素ナトリウムの水和物と反応させて、合成した。【０５０３】
【化１３０】
2015125781.tif 000132
【０５０４】
（２Ｓ）−２−（メタンスルホニルオキシ）−５−オキソペンチル  ベンゾエート０．３ｇのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍＬ溶液に０〜１０℃で硫化水素ナトリウムの水和物１６０ｍｇを添加し、室温で１時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル３０ｍＬおよび飽和塩化ナトリウム水溶液を加え、有機層を分取した。有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色油状物の（（２Ｒ）−５−ヒドロキシチオラン−２−イル）メチル  ベンゾエート０．０６ｇを得た。【０５０５】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
８．０８−８．０１（２Ｈ，ｍ），７．６２−７．５４（１Ｈ，ｍ），７．４８−７．４２（２Ｈ，ｍ），５．６３−５．５３（１Ｈ，ｍ），４．５６（０．５３Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．６，１１．０Ｈｚ），４．４２（０．５３Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．９，１１．０Ｈｚ），４．３０−４．１７（０．９４Ｈ，ｍ），４．００−３．９２（０．４７Ｈ，ｍ），３．９０−３．７８（０．５３Ｈ，ｍ），２．４１−１．９２（５Ｈ，ｍ）【０５０６】
【化１３１】
2015125781.tif 000133
【０５０７】
（（２Ｒ）−５−ヒドロキシチオラン−２−イル）メチル  ベンゾエート０．８３ｇのピリジン１．１３ｍＬおよび酢酸エチル２０ｍＬ混合溶液に、０〜１０℃で無水酢酸６６２μＬを加え、５分間攪拌した。Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン４３ｍｇを加え、室温で１２時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加え、有機層を分取した。有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色油状物の（（２Ｒ）−５−（アセチルオキシ）チオラン−２−イル）メチル  ベンゾエート０．８９ｇを得た。【０５０８】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
８．０８−８．０１（２Ｈ，ｍ），７．６１−７．５３（１Ｈ，ｍ），７．４９−７．４１（２Ｈ，ｍ），６．２０−６．１４（１Ｈ，ｍ），４．５６（０．５４Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．５，１１．０Ｈｚ），４．３９−４．１８（１．４６Ｈ，ｍ），３．９３−３．７６（１Ｈ，ｍ），２．４１−１．９０（７Ｈ，ｍ）【０５０９】
〔Ｂ〕原料の合成
なお、原料である上記（２Ｓ）−２−（メタンスルホニルオキシ）−５−オキソペンチル  ベンゾエートは、以下のように、複数の工程で合成した。【０５１０】
（工程１）【０５１１】
【化１３２】
2015125781.tif 000134
【０５１２】
（５Ｓ）−５−（ヒドロキシメチル）オキソラン−２−オン１０ｇの酢酸エチル１００ｍＬおよびトリエチルアミン１８ｍＬ混合溶液に、窒素雰囲気下、５〜１０℃でベンゾイルクロリド１２ｍＬを滴下し、室温で６０分攪拌した。次いで、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン１ｇを加え、６０分攪拌した。酢酸エチルおよび水を加え、有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、白色結晶物の（（２Ｓ）−５−オキソオキソラン−２−イル）メチル  ベンゾエート１９．２ｇを得た。【０５１３】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
８．０７−８．０１（２Ｈ，ｍ），７．６３−７．５６（１Ｈ，ｍ），７．５０−７．４３（２Ｈ，ｍ），４．９３−４．８３（１Ｈ，ｍ），４．５５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．２，１２．２Ｈｚ），４．４５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．３，１２．２Ｈｚ），２．７３−２．０７（４Ｈ，ｍ）【０５１４】
（工程２）【０５１５】
【化１３３】
2015125781.tif 000135
【０５１６】
（（２Ｓ）−５−オキソオキソラン−２−イル）メチル  ベンゾエート１０．０ｇのエタノール５０ｍＬおよびテトラヒドロフラン２００ｍＬ混合溶液に、窒素雰囲気下、０〜１０℃でテトラヒドロホウ酸ナトリウム３．４４ｇを加え３０分撹拌した後、塩化カルシウム２水和物６．６７ｇのエタノール５０ｍＬ溶液を滴下し、７５分間撹拌した。反応混合物に氷、塩化アンモニウムおよび酢酸エチルを加え、有機層を分取した。有機層を水層を酢酸エチルで２回抽出し、合わせた有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色油状物の（２Ｓ）−２，５−ジヒドロキシペンチル  ベンゾエートと（２Ｓ）−１，５−ジヒドロキシペンタン−２−イル  ベンゾエートの混合物（７８：２２）２．７０ｇを得た。【０５１７】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
８．０８−８．０４（２Ｈ，ｍ），７．６２−７．５５（１Ｈ，ｍ），７．４９−７．４３（２Ｈ，ｍ），５．２２（０．２２Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝３．６，６．１，１２．６Ｈｚ），４．４０（０．７８Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．６，１１．４Ｈｚ），４．２８（０．７８Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．０，１１．４Ｈｚ），４．０８−３．９９（０．７８Ｈ，ｍ），３．９０−３．６７（２．４４Ｈ，ｍ），１．９２−１．５３（４Ｈ，ｍ）【０５１８】
（工程３）【０５１９】
【化１３４】
2015125781.tif 000136
【０５２０】
（２Ｓ）−２，５−ジヒドロキシペンチル  ベンゾエートと（２Ｓ）−１，５−ジヒドロキシペンタン−２−イル  ベンゾエートの混合物（７８：２８）２．７０ｇおよびイミダゾール１．５０ｇのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３０ｍＬ溶液に、窒素雰囲気下、５〜１０℃でトリイソプロピルシリルクロリド３．３５ｍＬを滴下した。反応混合物を室温で１６時間攪拌した後、酢酸エチルおよび水を加え、有機層を分取し、水および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色油状物の（２Ｓ）−２−ヒドロキシ−５−（（トリス（プロパン−２−イル）シリル）オキシ）ペンチル  ベンゾエート３．８５ｇを得た。【０５２１】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
８．０９−８．０４（２Ｈ，ｍ），７．６１−７．５４（１Ｈ，ｍ），７．４８−７．４１（２Ｈ，ｍ），４．３７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．２，１１．３Ｈｚ），４．２９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．３，１１．３Ｈｚ），４．０８−３．９６（１Ｈ，ｍ），３．８４−３．７０（２Ｈ，ｍ），３．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．２Ｈｚ），１．８７−１．５９（４Ｈ，ｍ），１．１８−１．０１（２１Ｈ，ｍ）【０５２２】
（工程４）【０５２３】
【化１３５】
2015125781.tif 000137
【０５２４】
（２Ｓ）−２−ヒドロキシ−５−（（トリス（プロパン−２−イル）シリル）オキシ）ペンチル  ベンゾエート２．９８ｇおよびトリエチルアミン４．５ｍＬの酢酸エチル６０ｍＬ溶液に０〜１０℃でメタンスルホニルクロリド１．２４ｍＬを滴下し、室温で３０分間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび飽和塩化ナトリウム水溶液を加え、有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、無色油状物の（２Ｓ）−２−（メタンスルホニルオキシ）−５−（（トリス（プロパン−２−イル）シリル）オキシ）ペンチル  ベンゾエート３．４１ｇを得た。【０５２５】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
８．１０−８．０４（２Ｈ，ｍ），７．６２−７．５５（１Ｈ，ｍ），７．４９−７．４３（２Ｈ，ｍ），５．０９（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝３．２，６．９，１２．９Ｈｚ），４．５６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．１，１２．３Ｈｚ），４．４３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．９，１２．３Ｈｚ），３．８３−３．７０（２Ｈ，ｍ），３．０３（３Ｈ，ｓ），２．０１−１．６３（４Ｈ，ｍ），１．１５−０．９７（２１Ｈ，ｍ）【０５２６】
（工程５）【０５２７】
【化１３６】
2015125781.tif 000138
【０５２８】
（２Ｓ）−２−（メタンスルホニルオキシ）−５−（（トリス（プロパン−２−イル）シリル）オキシ）ペンチル  ベンゾエート３．４１ｇのメタノール４０ｍＬにｐ−トルエンスルホン酸一水和物０．７０ｇを添加し、室温で１時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えた。有機層を分取し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色油状物の（２Ｓ）−５−ヒドロキシ−２−（メタンスルホニルオキシ）ペンチル  ベンゾエート１．８４ｇを得た。【０５２９】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
８．１０−８．０４（２Ｈ，ｍ），７．６３−７．５５（１Ｈ，ｍ），７．５０−７．４２（２Ｈ，ｍ），５．１１（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝３．１，６．６，１３．１Ｈｚ），４．５７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．１，１２．４Ｈｚ），４．４３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．９，１２．４Ｈｚ），３．７５（１Ｈ，ｂｒ），３．０５（３Ｈ，ｓ），１．９８−１．７０（４Ｈ，ｍ），１．４１（１Ｈ，ｂｒ）【０５３０】
（工程６）【０５３１】
【化１３７】
2015125781.tif 000139
【０５３２】
（２Ｓ）−５−ヒドロキシ−２−（メタンスルホニルオキシ）ペンチル  ベンゾエート１．８４ｇのジクロロメタン３０ｍＬ溶液に、１，１，１−トリアセトキシ−１，１−ジヒドロ−１，２−ベンズヨードキソール−３（１Ｈ）−オン（デス・マーチン・ペルヨージナン）３．９ｇを添加し、室温で１時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび飽和炭酸水素ナトリウム水溶液およびチオ硫酸ナトリウム水溶液を加え、室温で１０分間撹拌した。有機層を分取し、チオ硫酸ナトリウム水溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色油状物の（２Ｓ）−２−（メタンスルホニルオキシ）−５−オキソペンチル  ベンゾエート１．５５ｇを得た【０５３３】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
９．８３（１Ｈ，ｓ），８．０８−８．０３（２Ｈ，ｍ），７．６４−７．５６（１Ｈ，ｍ），７．５１−７．４３（２Ｈ，ｍ），５．１０−５．０２（１Ｈ，ｍ），４．５５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．３，１２．４Ｈｚ），４．４３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．６，１２．４Ｈｚ），３．０４（３Ｈ，ｓ），２．８２−２．７２（２Ｈ，ｍ），２．２６−１．９７（２Ｈ，ｍ）【０５３４】
実施例１７
〔Ａ〕（（２Ｒ）−５−ヒドロキシチオラン−２−イル）メチル  ４−フェニルベンゾエートおよびそのアセチル体【０５３５】
以下のようにして、（２Ｓ）−２−（メタンスルホニルオキシ）−５−オキソペンチル  ４−フェニルベンゾエートを硫化水素ナトリウムの水溶液と反応させることにより合成した。【０５３６】
【化１３８】
2015125781.tif 000140
【０５３７】
（２Ｓ）−２−（メタンスルホニルオキシ）−５−オキソペンチル  ４−フェニルベンゾエート０．２０ｇのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５ｍＬ溶液に０〜１０℃で１５％硫化水素ナトリウム水溶液０．４ｍＬを添加し、室温で２時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび飽和塩化ナトリウム水溶液を加え、有機層を分取した。有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色油状物の（（２Ｒ）−５−ヒドロキシチオラン−２−イル）メチル  ４−フェニルベンゾエート０．０７ｇを得た。【０５３８】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
８．１４−８．０８（２Ｈ，ｍ），７．７０−７．６０（４Ｈ，ｍ），７．５１−７．３６（３Ｈ，ｍ），５．６４−５．５６（１Ｈ，ｍ），４．５９（０．５３Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．６，１１．１Ｈｚ），４．４４（０．５３Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．９，１１．１Ｈｚ），４．２８（０．４７Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．７，１１．１Ｈｚ），４．２３（０．４７Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．６，１１．１Ｈｚ），４．０３−３．９３（０．４７Ｈ，ｍ），３．９２−３．８０（０．５３Ｈ，ｍ），２．４３−１．９４（５Ｈ，ｍ）【０５３９】
【化１３９】
2015125781.tif 000141
【０５４０】
（（２Ｒ）−５−ヒドロキシチオラン−２−イル）メチル  ４−フェニルベンゾエート６５ｍｇのピリジン６６μＬおよび酢酸エチル５ｍＬ混合溶液に、室温で無水酢酸３９μＬを加え、３０分間攪拌した。Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン３ｍｇを加え、室温で静置した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加え、有機層を分取した。有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色油状物の（（２Ｒ）−５−（アセチルオキシ）チオラン−２−イル）メチル  ４−フェニルベンゾエート６０ｍｇを得た。【０５４１】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
８．１４−８．０７（２Ｈ，ｍ），７．７０−７．６９（４Ｈ，ｍ），７．５１−７．３６（３Ｈ，ｍ），６．２２−６．１６（１Ｈ，ｍ），４．５８（０．５４Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．６，１１．１Ｈｚ），４．４１−４．２０（１．４６Ｈ，ｍ），３．９４−３．７９（１Ｈ，ｍ），２．４２−１．９２（７Ｈ，ｍ）【０５４２】
〔Ｂ〕原料の合成
なお、原料である上記（２Ｓ）−２−（メタンスルホニルオキシ）−５−オキソペンチル  ４−フェニルベンゾエートは、以下のように、複数の工程で合成した。【０５４３】
（工程１）【０５４４】
【化１４０】
2015125781.tif 000142
【０５４５】
（（２Ｓ）−５−ヒドロキシオキソラン−２−イル）メチル  ４−フェニルベンゾエート３．６１ｇのメタノール３０ｍＬ溶液にピリジン６．２４ｍＬ、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物３．１１ｇおよびＯ−メチルヒドロキシルアミン塩酸塩１．８２ｇを添加し、室温で２時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび飽和塩化ナトリウム水溶液を加え、有機層を分取した。有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残留物を酢酸エチル／ヘキサンで洗浄し、白色固体の（２Ｓ）−２−ヒドロキシ−５−（メトキシイミノ）ペンチル  ４−フェニルベンゾエート２．５ｇを得た。【０５４６】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
８．１５−８．０８（２Ｈ，ｍ），７．７１−７．５９（４Ｈ，ｍ），７．５２−７．３７（３．５２Ｈ，ｍ），６．７４（０．４８Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），４．４６−４．３７（１Ｈ，ｍ），４．３３−４．２４（１Ｈ，ｍ），４．１０−３．９４（１Ｈ，ｍ），３．８９（１．４４Ｈ，ｓ），３．８３（１．５６Ｈ，ｓ），２．６７−２．３７（３Ｈ，ｍ），１．８７−１．７１（２Ｈ，ｍ）【０５４７】
（工程２）【０５４８】
【化１４１】
2015125781.tif 000143
【０５４９】
（２Ｓ）−２−ヒドロキシ−５−（メトキシイミノ）ペンチル  ４−フェニルベンゾエート１．０ｇの酢酸エチル２０ｍＬおよびトリエチルアミン１．６７ｍＬ混合溶液に０〜１０℃でメタンスルホニルクロリド０．４６ｍＬを滴下し、室温で１００分間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび水を加え、有機層を分取した。有機層を水および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、無色油状物の（２Ｓ）−２−（メタンスルホニルオキシ）−５−（メトキシイミノ）ペンチル  ４−フェニルベンゾエート１．３９ｇを得た。【０５５０】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
８．１７−８．０８（２Ｈ，ｍ），７．７１−７．５８（４Ｈ，ｍ），７．５０−７．３６（３．５８Ｈ，ｍ），６．７２（０．４２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．５Ｈｚ），５．１５−５．００（１Ｈ，ｍ），４．６２−４．４１（２Ｈ，ｍ），３．８８（１．２６Ｈ，ｓ），３．８３（１．７４Ｈ，ｓ），３．０８（１．７４Ｈ，３Ｈ），３．０７（１．２６Ｈ，ｍ），２．６３−２．３７（２Ｈ，ｍ），２．１１−１．９７（２Ｈ，ｍ）【０５５１】
（工程３）【０５５２】
【化１４２】
2015125781.tif 000144
【０５５３】
（２Ｓ）−２−（メタンスルホニルオキシ）−５−（メトキシイミノ）ペンチル  ４−フェニルベンゾエート１．３９ｇのアセトン１５ｍＬ溶液に、室温で３７％ホルムアルデヒド水溶液２．４ｍＬおよび９％塩酸０．１ｍＬを加え、室温で６０分間攪拌した。次いで、３７％ホルムアルデヒド水溶液５ｍＬを加え、７０分間攪拌した。次いで、３７％ホルムアルデヒド水溶液５ｍＬを加え、３０分間攪拌した。反応混合物に酢酸エチルおよび飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、有機層を分取した。有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、無色油状物の（２Ｓ）−２−（メタンスルホニルオキシ）−５−オキソペンチル  ４−フェニルベンゾエート１．１３ｇを得た。【０５５４】
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ値：
９．８４（１Ｈ，ｓ），８．１５−８．０９（２Ｈ，ｍ），７．７２−７．５９（４Ｈ，ｍ），７．５１−７．３７（３Ｈ，ｍ），５．１３−５．０３（１Ｈ，ｍ），４．５７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．３，１２．３Ｈｚ），４．４６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝６．６，１２．３Ｈｚ），３．０６（３Ｈ，ｓ），２．８８−２．６７（２Ｈ，ｍ），２．２５−２．００（２Ｈ，ｍ）【０５５５】
実施例１〜１７で明らかなように、本発明の一般式（Ｉ）で表される鎖状の化合物と硫黄化合物との反応で、硫黄化合物が反応すると直ちにチオラン環が形成される。しかもこの反応は、チオヌクレオシド合成中間体として有用な一般式（ＩＩ）で表される化合物を、穏和な条件で、収率も高く製造できる。
なお、本発明の一般式（ＩＩ）で表される化合物を出発原料とし、常法またはそれに準じた方法により、有用な生理活性物質として期待されるチオヌクレオシドを合成することができる。このように、本発明の一般式（ＩＩ）で表される化合物の製造方法ならびに本発明の一般式（ＩＩ）で表される化合物は、有用である。【０５５６】
本発明をその実施態様とともに説明したが、我々は特に指定しない限り我々の発明を説明のどの細部においても限定しようとするものではなく、添付の請求の範囲に示した発明の精神と範囲に反することなく幅広く解釈されるべきであると考える。【０５５７】
本願は、２０１４年２月１８日に日本国で特許出願された特願２０１４−０２９０２０、及び２０１４年１０月２９日に日本国で特許出願された特願２０１４−２２０３６８に基づく優先権を主張するものであり、これらはいずれもここに参照してその内容を本明細書の記載の一部として取り込む。
【手続補正書】
【提出日】平成27年7月2日(2015.7.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（Ｉ）で表される化合物を硫黄化合物と反応させる工程を経由する下記一般式（ＩＩ）で表される化合物の製造方法。
【化１】
2015125781.tif 000151
一般式（Ｉ）および（ＩＩ）において、Ｒ１は、水素原子またはアシル基を表し、Ｒ２は、水素原子、フッ素原子、アシルオキシ基、アリールメチルオキシ基、アリルオキシ基、アリールメチルオキシカルボニルオキシ基またはアリルオキシカルボニルオキシ基を表し、Ｒ３は水素原子またはアシルオキシ基を表し、Ｒ５は、アルキル基またはアリール基を表し、Ｘは離脱基を表す。
ただし、Ｒ２がフッ素原子、アシルオキシ基、アリールメチルオキシ基、アリルオキシ基、アリールメチルオキシカルボニルオキシ基またはアリルオキシカルボニルオキシ基の場合、Ｒ３はアシルオキシ基である。
【請求項２】
前記一般式（ＩＩ）で表される化合物が、下記一般式（ＩＩ−１）〜（ＩＩ−１４）のいずれかで表される請求項１に記載の製造方法。
【化２】
2015125781.tif 000152
一般式（ＩＩ−１）〜（ＩＩ−１４）において、Ｒ１およびＲ５は、前記一般式（ＩＩ）におけるＲ１およびＲ５と同義である。Ｒ２ａおよびＲ３ａは各々独立に、アルキル基またはアリール基を表す。Ｒ２ｂは−ＣＨ２−Ａｒ、アリル基、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＣＨ２−Ａｒまたはアリルオキシカルボニル基を表す。ここで、Ａｒはアリール基を表す。なお、チオラン環に結合する厚み一定の破線の結合手は、α側もしくはβ側のいずれか一方に位置する。
【請求項３】
前記Ｒ５がアリール基であり、かつＲ３または−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ３ａがアリールカルボニルオキシ基である請求項１または２に記載の製造方法。
【請求項４】
前記Ｒ５が、フェニル基、４−メチルフェニル基、４−フェニルフェニル基または２−ナフチル基であり、かつＲ３または−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ３ａがフェニルカルボニルオキシ基、４−メチルフェニルカルボニルオキシ基、４−フェニルフェニルカルボニルオキシ基または２−ナフチルカルボニルオキシ基である請求項１〜３のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項５】
前記一般式（Ｉ）で表される化合物を硫黄化合物と反応させる工程で、下記一般式（ＩＩＡ）で表される化合物を合成した後、該一般式（ＩＩＡ）で表される化合物をアシル化する工程で、下記一般式（ＩＩＢ）で表される化合物を合成する請求項１〜４のいずれか１項に記載の製造方法。
【化３】
2015125781.tif 000153
一般式（ＩＩＡ）および（ＩＩＢ）において、Ｒ２、Ｒ３およびＲ５は、前記一般式（ＩＩ）におけるＲ２、Ｒ３およびＲ５と同義である。Ｒ１ａはアシル基を表す。
【請求項６】
前記Ｒ１またはＲ１ａがアセチル基またはアリールカルボニル基である請求項１〜５のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項７】
前記Ｘが、ハロゲン原子、アルキルスルホニルオキシ基またはアリールスルホニルオキシ基である請求項１〜６のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項８】
前記硫黄化合物が、Ｍがアルカリ金属であるＭＳＨまたはＭ２Ｓである請求項１〜７のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項９】
下記一般式（ＩＩ−３）〜（ＩＩ−１１）、（ＩＩ−１３）および（ＩＩ−１４）のいずれかで表される化合物。
【化４】
2015125781.tif 000154
一般式（ＩＩ−３）〜（ＩＩ−１１）、（ＩＩ−１３）および（ＩＩ−１４）において、Ｒ１は水素原子またはアシル基を表し、Ｒ２ａおよびＲ３ａは各々独立に、アルキル基またはアリール基を表し、Ｒ５はアルキル基またはアリール基を表す。Ｒ２ｂは−ＣＨ２−Ａｒ、アリル基、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＣＨ２−Ａｒまたはアリルオキシカルボニル基を表す。ここで、Ａｒはアリール基を表す。なお、チオラン環に結合する厚み一定の破線の結合手は、α側もしくはβ側のいずれか一方に位置する。
【請求項１０】
前記Ｒ１が、水素原子、アセチル基またはアリールカルボニル基であり、Ｒ２ａ、Ｒ３ａおよびＲ５が各々独立に、アリール基である請求項９に記載の化合物。
【請求項１１】
前記Ｒ２ａ、Ｒ３ａおよびＲ５が各々独立に、フェニル基、４−メチルフェニル基、４−フェニルフェニル基または２−ナフチル基である請求項９または１０に記載の化合物。
【請求項１２】
下記一般式（ＩＩ−１Ａ’）、（ＩＩ−１Ｂ）、（ＩＩ−２Ａ）、（ＩＩ−２Ｂ’）、（ＩＩ−３）、（ＩＩ−６Ｂ）、（ＩＩ−９）、（ＩＩ−１３’）または（ＩＩ−１４’）のいずれかで表される化合物。
【化５】
2015125781.tif 000155
一般式（ＩＩ−１Ａ’）、（ＩＩ−１Ｂ）、（ＩＩ−２Ａ）、（ＩＩ−２Ｂ’）、（ＩＩ−３）、（ＩＩ−６Ｂ）、（ＩＩ−９）、（ＩＩ−１３’）および（ＩＩ−１４’）において、Ｒ１、Ｒ１ｂおよびＲ１ｃは各々独立に、水素原子またはアシル基を表す。Ｒ２ａおよびＲ３ａは各々独立に、アルキル基またはアリール基を表す。Ｒ２ｂは−ＣＨ２−Ａｒ、アリル基、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＣＨ２−Ａｒまたはアリルオキシカルボニル基を表す。ここで、Ａｒはアリール基を表す。Ｒ５、Ｒ５ｂ、Ｒ５ｃ、Ｒ５ｄおよびＲ５ｅは各々独立に、アルキル基またはアリール基を表す。ただし、Ｒ１ｂおよびＲ１ｃがアセチル基の場合、Ｒ５ｂはアリール基であり、Ｒ５ｃは置換基で置換されたアリール基である。
【請求項１３】
前記Ｒ１が水素原子、アセチル基、４−メチルベンゾイル基、４−フェニルベンゾイル基または２−ナフトイル基であり、前記Ｒ１ｂおよびＲ１ｃが各々独立に、水素原子、４−メチルベンゾイル基、４−フェニルベンゾイル基または２−ナフトイル基であり、前記Ｒ２ａ、Ｒ３ａ、Ｒ５、Ｒ５ｂおよびＲ５ｃが各々独立に、４−メチルフェニル基、４−フェニルフェニル基または２−ナフチル基であり、前記Ｒ２ｂが、フェニルメチル基であり、前記Ｒ５ｄおよびＲ５ｅが各々独立に、フェニル基、４−メチルフェニル基、４−フェニルフェニル基または２−ナフチル基である請求項１２に記載の化合物。
【請求項１４】
前記化合物が、チオヌクレオシド合成中間体である請求項９〜１３のいずれか１項に記載の化合物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
＜５＞一般式（Ｉ）で表される化合物を硫黄化合物と反応させる工程で、下記一般式（ＩＩＡ）で表される化合物を合成した後、一般式（ＩＩＡ）で表される化合物をアシル化する工程で、下記一般式（ＩＩＢ）で表される化合物を合成する＜１＞〜＜４＞のいずれか１つに記載の製造方法。
［００１２］
［化３］
2015125781.tif 000156
［００１３］
一般式（ＩＩＡ）および（ＩＩＢ）において、Ｒ２、Ｒ３およびＲ５は、一般式（ＩＩ）におけるＲ２、Ｒ３およびＲ５と同義である。Ｒ１ａはアシル基を表す。
＜６＞Ｒ１またはＲ１ａがアセチル基またはアリールカルボニル基である＜１＞〜＜５＞のいずれか１つに記載の製造方法。
＜７＞Ｘが、ハロゲン原子、アルキルスルホニルオキシ基またはアリールスルホニルオキシ基である＜１＞〜＜６＞のいずれか１つに記載の製造方法。
＜８＞硫黄化合物が、Ｍがアルカリ金属であるＭＳＨまたはＭ２Ｓである＜１＞〜＜７＞のいずれか１つに記載の製造方法。
＜９＞下記一般式（ＩＩ−３）〜（ＩＩ−１１）、（ＩＩ−１３）および（ＩＩ−１４）のいずれかで表される化合物。
［００１４］
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
［化４］
2015125781.tif 000157
［００１５］
一般式（ＩＩ−３）〜（ＩＩ−１１）、（ＩＩ−１３）および（ＩＩ−１４）において、Ｒ１は水素原子またはアシル基を表し、Ｒ２ａおよびＲ３ａは各々独立に、アルキル基またはアリール基を表し、Ｒ５はアルキル基またはアリール基を表す。Ｒ２ｂは−ＣＨ２−Ａｒ、アリル基、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＣＨ２−Ａｒまたはアリルオキシカルボニル基を表す。ここで、Ａｒはアリール基を表す。なお、チオラン環に結合する厚み一定の破線の結合手は、α側もしくはβ側のいずれか一方に位置する。
＜１０＞Ｒ１が、水素原子、アセチル基またはアリールカルボニル基であり、Ｒ２ａ、Ｒ３ａおよびＲ５が各々独立に、アリール基である＜９＞に記載の化合物。
＜１１＞Ｒ２ａ、Ｒ３ａおよびＲ５が各々独立に、フェニル基、４−メチルフェニル基、４−フェニルフェニル基または２−ナフチル基である＜９＞または＜１０＞に記載の化合物。
＜１２＞下記一般式（ＩＩ−１Ａ’）、（ＩＩ−１Ｂ）、（ＩＩ−２Ａ）、
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
（ＩＩ−２Ｂ’）、（ＩＩ−３）、（ＩＩ−６Ｂ）、（ＩＩ−９）、（ＩＩ−１３’）または（ＩＩ−１４’）のいずれかで表される化合物。
［００１６］
［化５］
2015125781.tif 000158
［００１７］
一般式（ＩＩ−１Ａ’）、（ＩＩ−１Ｂ）、（ＩＩ−２Ａ）、（ＩＩ−２Ｂ’）、（ＩＩ−３）、（ＩＩ−６Ｂ）、（ＩＩ−９）、（ＩＩ−１３’）および（ＩＩ−１４’）において、Ｒ１、Ｒ１ｂおよびＲ１ｃは各々独立に、水素原子またはアシル基を表す。Ｒ２ａおよびＲ３ａは各々独立に、アルキル基またはアリール基を表す。Ｒ２ｂは−ＣＨ２−Ａｒ、アリル基、−Ｃ（＝Ｏ）ＯＣＨ２−Ａｒまたはアリルオキシカルボニル基を表す。ここで、Ａｒはアリール基を表す。Ｒ５、Ｒ５ｂ、Ｒ５ｃ、Ｒ５ｄおよびＲ５ｅは各々独立に、アルキル基またはアリール基を表す。ただし、Ｒ１ｂおよびＲ１ｃがアセチル基の場合、Ｒ５ｂはアリール基であり、Ｒ５ｃは置換基で置換されたアリール基である。
＜１３＞Ｒ１が水素原子、アセチル基、４−メチルベンゾイル基、４−フェニルベンゾイル基または２−ナフトイル基であり、Ｒ１ｂおよびＲ１ｃが各々独立に、水素原子、４−メチルベンゾイル基、４−フェニルベンゾイル基または２−ナフトイル基であり、Ｒ２ａ、Ｒ３ａ、Ｒ５、Ｒ５ｂおよびＲ５ｃが各々独立に、４−メチルフェニル基、４−フェニルフェニル基または２−ナフチル基で
【国際調査報告】
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2015125781.tif 000161
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