(57)【要約】  製造環境における静電気に起因する性能劣化を防止することが可能な有機発光素子を提供する。  有機発光素子（１）は、透明樹脂基材（１１）上に形成されたガスバリア層（１２）と、ガスバリア層（１２）上に形成された帯電防止層（１３）と、帯電防止層（１３）上に形成された透明電極（１４）と、透明電極（１４）上に形成された有機発光層（１５）と、有機発光層（１５）上に形成された対向電極（１６）と、を備え、帯電防止層（１３）の表面抵抗は、１×１０８〜１×１０１１Ω／□である。
2016136008.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明樹脂基材上に形成されたガスバリア層と、
前記ガスバリア層上に形成された帯電防止層と、
前記帯電防止層上に形成された透明電極と、
前記透明電極上に形成された有機発光層と、
前記有機発光層上に形成された対向電極と、
を備え、
前記帯電防止層の表面抵抗は、１×１０８〜１×１０１１Ω／□である
ことを特徴とする有機発光素子。
【請求項２】
前記帯電防止層の表面抵抗は、真空中においても、大気圧２５℃相対湿度６０％の大気中においても、１×１０８〜１×１０１１Ω／□である
ことを特徴とする請求項１に記載の有機発光素子。
【請求項３】
前記帯電防止層は、導電性を有しない金属酸化物に酸素欠損を生じさせたものによって形成されている
ことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の有機発光素子。
【請求項４】
前記帯電防止層は、酸素欠損状態の酸化ニオブ又は酸化チタンによって形成されている
ことを特徴とする請求項３に記載の有機発光素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機発光素子に関する。【０００２】
従来、有機発光素子を製造するに際し、可撓性を有する帯状の透明樹脂基材をロールトゥロールで間欠搬送し、透明樹脂基材上に各機能層を形成することが行われている。【０００３】
かかる透明樹脂基材は、従来の重くて割れやすいガラス基板と比較して、大面積化が容易であり、生産性が高い。
しかし、透明樹脂基材は、ガラス基板と比較して静電気が発生しやすいため、有機発光素子の使用環境において静電気の発生を防止することが求められている。特に、有機発光素子の製造工程が真空で行われる場合には、静電気が透明樹脂基材に帯電しやすく除電しにくいため、静電気発生の防止がより重要である。【０００４】
かかる問題を解決するため、特許文献１，２には、透明樹脂基材の表面上に電極及び発光層を備えるものにおいて、透明樹脂基材の裏面側に帯電防止層を設ける構造が記載されている。
また、特許文献３には、透明樹脂基材の表面上に電極及び発光層を備えるものにおいて、透明樹脂基材の表面側に帯電防止層及びガスバリア層を順に設け、ガスバリア層上に電極及び発光層を設ける構造が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００１−３１３１６４号公報
【特許文献２】特開平５−２５９５９１号公報
【特許文献３】特開２００２−５０４６９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１，２に記載の構造では、帯電防止層が電極及び発光層とは反対側の面に設けられているため、製造環境において透明樹脂基材に静電気が発生した場合には、電極及び発光層が形成される面に異物が付着したり、透明樹脂基材が有機発光素子製造装置に貼り付いたりすることに伴う性能劣化が生じるおそれがある。
また、特許文献３に記載の構造でも、製造環境でガスバリア層に静電気が発生した場合には、電極及び発光層が形成される面に異物が付着したり、透明樹脂基材が有機発光素子製造装置に貼り付いたりすることに伴う性能劣化が生じるおそれがある。【０００７】
本発明は、前記事情に鑑みて創案されたものであり、製造環境における静電気に起因する性能劣化を防止することが可能な有機発光素子を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記課題を解決するための本発明は、以下の構成を備える。
１．透明樹脂基材上に形成されたガスバリア層と、前記ガスバリア層上に形成された帯電防止層と、前記帯電防止層上に形成された透明電極と、前記透明電極上に形成された有機発光層と、前記有機発光層上に形成された対向電極と、を備え、前記帯電防止層の表面抵抗は、１×１０８〜１×１０１１Ω／□であることを特徴とする有機発光素子。
２．前記帯電防止層の表面抵抗は、真空中においても、大気圧２５℃相対湿度６０％の大気中においても、１×１０８〜１×１０１１Ω／□であることを特徴とする前記１に記載の有機発光素子。
３．前記帯電防止層は、導電性を有しない金属酸化物に酸素欠損を生じさせたものによって形成されていることを特徴とする前記１又は２に記載の有機発光素子。
４．前記帯電防止層は、酸素欠損状態の酸化ニオブ又は酸化チタンによって形成されていることを特徴とする前記３に記載の有機発光素子。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によると、有機発光素子の製造環境における静電気に起因する性能劣化を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の実施形態に係る有機発光素子を示す模式断面図である。
【図２】本発明の実施形態に係る有機発光素子製造装置を示す模式図である。
【図３】本発明の実施形態に係る有機発光素子製造方法を説明するためのフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
［有機発光素子］
まず、本発明の実施形態に係る有機発光素子について、図１を参照して説明する。図１に示すように、本発明の実施形態に係る有機発光素子１は、透明樹脂基材１１と、ガスバリア層１２と、帯電防止層１３と、透明電極１４と、有機層１５と、対向電極１６と、接接着剤層１７と、封止部材１８と、を備える。かかる有機発光素子１において、有機層１５によって発光された光は、透明電極１４、帯電防止層１３、ガスバリア層１２及び透明樹脂基材１１を介して外部に出射される。
【００１２】
［透明樹脂基材］
透明樹脂基材１１は、光透過性及び可撓性を有する透明又は半透明の高分子樹脂基材である。透明樹脂基材１１上には、有機発光素子１の各機能層が形成される。透明樹脂基材１１の光透過性は、７０％以上、好ましくは８０％以上、より好ましくは９０％以上、さらに好ましくは９５％以上とする。透明樹脂基材１の厚さは、好ましくは１０〜５００μｍ、より好ましくは２０〜２５０μｍ、さらに好ましくは３０〜１５０μｍである。透明樹脂基材１１の厚さが１０〜５００μｍの範囲にあると、例えば透明樹脂基材１１の搬送が安定する等、ロールトゥロール方式の製造に好適に用いることが可能となる。
【００１３】
透明樹脂基材１１としては、例えば、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアリレート、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ナイロン（Ｎｙ）、芳香族ポリアミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリイミド、ポリエーテルイミド等の樹脂フィルムを用いることができる。このような樹脂フィルムは、一軸延伸、二軸延伸、アニール処理等が施されていてもよい。また、樹脂フィルムは、単層構造であっても多層構造であってよい。
【００１４】
［ガスバリア層］
ガスバリア層１２は、ガスの透過を遮断するガスバリア性が高い層であり、透明樹脂基材１１上に全面にわたって形成されている。ガスバリア層１２としては、例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム等の無機化合物や、シラン、アルコキシシラン、ハロゲン化シラン、オルガノシロキサン、シラザン、オルガノポリシロキサン、オルガノポリシラザン等の有機化合物を前駆体として形成することができる。ガスバリア層１２は、このような無機化合物及び有機化合物のいずれかの単層構成としてよいし、積層構造を持たせた多層構成としてもよい。
【００１５】
ガスバリア層１２は、雰囲気中に存在するアウトガス、酸素、水分等が、透明樹脂基材１１側から透明電極１４側に透過、拡散し、有機層１５等に侵入するのを防止することができる。なお、ガスバリア性とは、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２９−１９９２に準拠した方法で測定された水蒸気透過度（６０±０．５℃、相対湿度（９０±２）％ＲＨ）が、１×１０−３ｇ／（ｍ２・２４ｈ）以下であり、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２６−１９８７に準拠した方法で測定された酸素透過度が、１×１０−３ｍｌ／ｍ２・２４ｈ・ａｔｍ以下であることをいう。有機発光素子は水分のダメージを受けやすいことから、水蒸気透過度は、１×１０−４ｇ／（ｍ２・２４ｈ）以下であることが望ましい。
【００１６】
［帯電防止層］
帯電防止層１３は、使用環境に加えて製造環境である真空中において、透明樹脂基材１１及びガスバリア層１２の帯電を防止するための導電性を有する層であり、ガスバリア層１２上に全面にわたって形成されている。また、帯電防止層１３は、使用環境下、すなわち、大気圧２５℃相対湿度６０％の環境下において、両電極（透明電極１４及び対向電極１６）又は両電極１４，１６に電気的に接続された取り出し電極に対して電気的に接続されている。そのため、帯電防止層１３は、両電極１４，１６がリーク（ショート）しない抵抗値を有することが必要である。
しかし、従来の帯電防止層として用いられる材料には、外部環境によって表面抵抗が大きく変化するものがある。
そのため、帯電防止層が製造環境である真空中で帯電しない表面抵抗に設計される場合であっても、使用環境である大気中では、帯電防止層の表面抵抗が変化してリークしてしまうおそれ等がある。
かかる事情に鑑みると、製造環境においても使用環境においても帯電防止層１３の機能を好適に発揮させるためには、外部環境による抵抗値変化が少ない材料を使うことが望ましい。
【００１７】
製造環境又は使用環境で帯電防止層１３の表面抵抗が１×１０８Ω／□未満である場合には、当該環境で両電極１４，１６がリークするおそれがある。
また、製造環境又は使用環境で帯電防止層１３の表面抵抗が１×１０１１Ω／□よりも大きい場合には、当該環境で帯電防止層１３が帯電防止機能を発揮することができないおそれがある。
したがって、帯電防止層１３の表面抵抗（シート抵抗）は、製造環境においても使用環境においても１×１０８〜１×１０１１Ω／□の範囲内となることが好ましい。
【００１８】
［透明電極］
透明電極１４は、有機発光素子１に一般的に用いられている光透過性を有する陽極材料によって形成されており、本実施形態では、帯電防止層１３上の一部に直接形成されている。陽極材料としては、仕事関数の大きい（４ｅＶ以上）金属、合金、電気伝導性化合物、又は、これらの混合物等が挙げられる。具体的には、例えば、Ａｕ、Ａｇ等の金属薄膜、ＣｕＩ、インジウムチンオキシド（ＩＴＯ）、ＳｎＯ２、ＺｎＯ等の導電性透明材料を用いることができる。また、ＩＤＩＸＯ（Ｉｎ２Ｏ３−ＺｎＯ）等の非晶質で透明導電膜を作製可能な材料を用いることができる。
【００１９】
透明電極１４の膜厚は、材料とする電極物質に応じて適宜のものとすることができるが、１０〜１０００ｎｍ、好ましくは１０〜２００ｎｍの範囲とする。透明電極４の表面抵抗は、数百Ω／□以下であることが好ましい。
【００２０】
［有機層］
有機層１５は、透明電極１４上に形成された有機発光層を含む層である。有機層１５の一部は、帯電防止層１３のうち、透明電極１４から露出した部位上に形成されている。有機層１５は、一般的な有機発光素子において採用されている適宜の層構成とすることができる。具体的には、次のような構成を例示することができる。
（１）正孔輸送層／発光層／電子輸送層
（２）正孔輸送層／発光層／電子輸送層
（３）正孔輸送層／電子阻止層／発光層／正孔阻止層／電子輸送層
（４）正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電子注入層
（５）正孔注入層／第１正孔輸送層／第２正孔輸送層／発光層／第１電子輸送層／第２電子輸送層／電子注入層
（６）正孔注入層／正孔輸送層／発光層／正孔阻止層／電子輸送層／電子注入層
（７）正孔注入層／正孔輸送層／電子阻止層／発光層／正孔阻止層／電子輸送層／電子注入層
【００２１】
≪発光層≫
発光層は、電極から注入されてくる電子と正孔とが再結合して発光する層である。発光層は、発光を生じる有機発光材料を含有する有機発光層である。有機発光材料としては、ホスト化合物とドーパント化合物とを含有することが好ましい。なお、発光する部分は、発光層の層内であっても発光層と隣接層との界面であってもよい。
【００２２】
各発光層には複数のホスト化合物及びドーパント化合物が含まれていてもよい。ホスト化合物を複数種用いることで、電荷の移動を調整することが可能であり、有機発光素子を高効率化することができる。
【００２３】
ドーパント化合物としては、燐光発光性ドーパント化合物や蛍光発光性ドーパント化合物を用いることができる。また、ドーパント化合物は、発光層の膜厚方向に対して、均一な濃度で含有されていてもよく、濃度分布を有していてもよい。
【００２４】
＜燐光発光性ドーパント化合物＞
燐光発光性ドーパント化合物は、励起三重項からの発光が観測される化合物である。具体的には、室温（２５℃）にて燐光発光する化合物であり、燐光量子収率が２５℃において０．０１以上の化合物であると定義される。燐光発光性ドーパント化合物の燐光量子収率は、好ましくは０．１以上である。
【００２５】
＜蛍光発光性ドーパント化合物＞
蛍光発光性ドーパント化合物としては、一般的な有機発光素子の発光層に使用される公知の化合物を用いることができる。具体的には、例えば、クマリン系色素、ピラン系色素、シアニン系色素、クロコニウム系色素、スクアリウム系色素、オキソベンツアントラセン系色素、フルオレセイン系色素、ローダミン系色素、ピリリウム系色素、ペリレン系色素、スチルベン系色素、ポリチオフェン系色素、希土類錯体系蛍光体等が挙げられる。
【００２６】
発光層の膜厚は、好ましくは５ｎｍ〜２００ｎｍ、より好ましくは１０ｎｍ〜１００ｎｍである。発光層の膜厚がこのような範囲であると、形成される発光層の均質性が確保され易く、また、駆動電圧が過度に高くなる恐れが低くなる。
【００２７】
＜ホスト化合物＞
ホスト化合物は、発光層において主に電荷の輸送を担う化合物である。ホスト化合物としては、室温（２５℃）における燐光発光の燐光量子収率が、０．１未満の化合物が好ましく、０．０１未満の化合物がより好ましい。また、ホスト化合物は、発光層に含有される化合物のうちで、その層中での質量比が２０％以上であることが好ましい。
【００２８】
ホスト化合物としては、一般的な有機発光素子の発光層に使用される公知の化合物を用いることができる。具体的には、例えば、カルバゾール誘導体、トリアリールアミン誘導体、芳香族誘導体、含窒素複素環化合物、チオフェン誘導体、フラン誘導体、オリゴアリーレン化合物等の基本骨格を有する化合物や、カルボリン誘導体や、ジアザカルバゾール誘導体（カルボリン誘導体のカルボリン環を構成する炭化水素環の少なくとも一つの炭素原子が窒素原子で置換されているもの）等が挙げられる。ホスト化合物は、低分子化合物や、繰り返し単位を有する高分子化合物でもよく、或いは、ビニル基やエポキシ基のような反応性基を有する化合物でもよい。ホスト化合物としては、正孔輸送能又は電子輸送能を有し、且つ、発光の長波長化を防ぎ、高ガラス転移温度（Ｔｇ）である化合物が好ましい。ホスト化合物のＴｇは、好ましくは９０℃以上、より好ましくは１２０℃以上である。なお、Ｔｇは、ＤＳＣ（Ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ  Ｓｃａｎｎｉｎｇ  Ｃｏｌｏｒｉｍｅｔｒｙ：示差走査熱量法）を用いて、ＪＩＳ−Ｋ−７１２１に準拠した方法により求められる値である。
【００２９】
≪正孔輸送層≫
正孔輸送層は、注入された正孔を発光層側に輸送する機能を有する層である。
【００３０】
正孔輸送層に適用可能な材料としては、例えば、ポルフィリン誘導体、フタロシアニン誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、トリアリールアミン誘導体、カルバゾール誘導体、インドロカルバゾール誘導体、イソインドール誘導体、アントラセンやナフタレン等のアセン系誘導体、フルオレン誘導体、フルオレノン誘導体、ポリビニルカルバゾール、芳香族アミンを主鎖若しくは側鎖に導入した高分子材料又はオリゴマー、ポリシラン、導電性ポリマー又はオリゴマー（例えば、ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ、アニリン系共重合体、ポリアニリン、ポリチオフェン等）等が挙げられる。
【００３１】
正孔輸送層の膜厚は、特に制限されるものではないが、通常５ｎｍ〜５μｍ、好ましくは２ｎｍ〜５００ｎｍ、より好ましくは５ｎｍ〜２００ｎｍである。
【００３２】
≪電子輸送層≫
電子輸送層は、注入された電子を発光層側に輸送する機能を有する層である。電子輸送層は、単層からなるものであっても、複数層からなるものであってもよい。
【００３３】
電子輸送層に適用可能な材料としては、例えば、含窒素芳香族複素環誘導体、芳香族炭化水素環誘導体、ジベンゾフラン誘導体、ジベンゾチオフェン誘導体、シロール誘導体等が挙げられる。含窒素芳香族複素環誘導体としては、例えば、カルバゾール誘導体、アザカルバゾール誘導体（カルバゾール環を構成する炭素原子の１つ以上が窒素原子に置換）、ピリジン誘導体、ピリミジン誘導体、ピラジン誘導体、ピリダジン誘導体、トリアジン誘導体、キノリン誘導体、キノキサリン誘導体、フェナントロリン誘導体、アザトリフェニレン誘導体、オキサゾール誘導体、チアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、ベンズオキサゾール誘導体、ベンズチアゾール誘導体等が挙げられる。また、芳香族炭化水素環誘導体としては、例えば、ナフタレン誘導体、アントラセン誘導体、トリフェニレン誘導体等が挙げられる。
【００３４】
電子輸送層の膜厚は、特に制限されるものではないが、２ｎｍ〜５μｍ、好ましくは２ｎｍ〜５００ｎｍであり、より好ましくは５ｎｍ〜２００ｎｍである。また、電子輸送層の電子移動度は、好ましくは１０−５ｃｍ２／Ｖｓ以上である。
【００３５】
≪正孔注入層≫
正孔注入層は、駆動電圧低下や発光輝度向上のために陽極と発光層との間に設けられる層である。正孔注入層は、例えば、陽極と発光層との間や、陽極と正孔輸送層との間に介在させることができる。正孔注入層については、「有機ＥＬ素子とその工業化最前線（１９９８年１１月３０日エヌ・ティー・エス社発行）」の第２編第２章「電極材料」（１２３〜１６６頁）に詳細に記載されている。
【００３６】
≪電子注入層≫
電子注入層は、駆動電圧低下や発光輝度向上のために陰極と発光層との間に設けられる層である。電子注入層は、例えば、陰極と発光層との間や、陰極と電子輸送層との間に介在させることができる。電子注入層については、「有機ＥＬ素子とその工業化最前線（１９９８年１１月３０日エヌ・ティー・エス社発行）」の第２編第２章「電極材料」（１２３〜１６６頁）に詳細に記載されている。
【００３７】
電子注入層の膜厚は、特に制限されるものではないが、好ましくは０．１ｎｍ〜５μｍである。
【００３８】
≪正孔阻止層≫
正孔阻止層は、広い意味では電子輸送層の機能を有し、電子を輸送する機能を有しつつ正孔を輸送する能力が著しく小さい層とされる。電子を輸送しつつ正孔を阻止することで電子と正孔の再結合確率を向上させることができる。
【００３９】
正孔阻止層に適用可能な正孔阻止材料としては、例えば、電子輸送層に適用可能な材料として挙げられた化合物や、ホスト化合物として挙げられた化合物等が挙げられる。
【００４０】
正孔阻止層の膜厚は、好ましくは３ｎｍ〜１００ｎｍであり、より好ましくは５ｎｍ〜３０ｎｍである。
【００４１】
≪電子阻止層≫
電子阻止層は、広い意味では正孔輸送層の機能を有し、正孔を輸送する機能を有しつつ電子を輸送する能力が著しく小さい層とされる。正孔を輸送しつつ電子を阻止することで電子と正孔の再結合確率を向上させることができる。
【００４２】
電子阻止層に適用可能な電子阻止材料としては、例えば、正孔輸送材料と同様の種を用いることができる。正孔輸送層に適用可能な材料として挙げられた化合物や、ホスト化合物として挙げられた化合物等が挙げられる。
【００４３】
電子阻止層の膜厚は、好ましくは３ｎｍ〜１００ｎｍであり、より好ましくは５ｎｍ〜３０ｎｍである。
【００４４】
［対向電極］
対向電極１６は、有機発光素子に一般的に用いられている陰極材料によって形成されており、有機層１５上に形成されている。また、対向電極１６の一部は、帯電防止層１３のうち、透明電極１４から露出した部位上に形成されている。陰極材料としては、仕事関数の小さい（４ｅＶ以下）金属、合金、電気伝導性化合物、又は、これらの混合物を電極物質とする電極が挙げられる。具体的には、例えば、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、マグネシウム、リチウム、マグネシウム／銅混合物、マグネシウム／銀混合物、マグネシウム／アルミニウム混合物、マグネシウム／インジウム混合物、アルミニウム／酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）混合物、インジウム、リチウム／アルミニウム混合物、アルミニウム、銀、銀を主成分とする合金、アルミニウム／銀混合物、希土類金属等が挙げられる。
【００４５】
対向電極１６の膜厚は、材料に応じて適宜のものとすることができるが、１０ｎｍ〜５μｍ、好ましくは５０〜２００ｎｍの範囲とする。対向電極６の表面抵抗は、数百Ω／□以下であることが好ましい。
【００４６】
［接着剤層］
接着剤層１７は、透明電極１４、発光層１５及び対向電極１６を覆うように、帯電防止層１３上に形成された層である。接着剤層１７は、後記する封止部材１８を接着させるための層である。接着剤層１７として用いられる接着剤は、室温から８０℃までに接着硬化できるものが好ましい。接着剤の塗布は、市販のディスペンサーを使ってよいし、スクリーン印刷によってもよい。
【００４７】
接着剤層１７としては、例えば、アクリル酸系オリゴマー、メタクリル酸系オリゴマー等の反応性ビニル基を有する光硬化型又は熱硬化型接着剤、２−シアノアクリル酸エステル等の湿気硬化型接着剤、エポキシ系等の熱硬化型又は化学硬化型（二液混合）接着剤、ホットメルト型のポリアミド系、ポリエステル系、ポリオレフィン系等の接着剤、カチオン硬化タイプの紫外線硬化型エポキシ樹脂接着剤等が挙げられる。
【００４８】
［封止部材］
封止部材１８は、接着剤からなる接着剤層１７を介して有機発光素子１の各層を封止する基材である。封止部材１８は、有機発光素子１００の表示領域を覆うように配置されればよく、凹板状でも平板状でもよい。封止部材８の透明性や電気絶縁性は、特に問わない。
【００４９】
封止部材１８としては、例えば、ガラス板、ポリマー板、ポリマーフィルム、金属板、金属フィルム等が挙げられる。ガラス板としては、具体的には、ソーダ石灰ガラス、バリウム・ストロンチウム含有ガラス、鉛ガラス、アルミノケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、バリウムホウケイ酸ガラス、石英等を挙げることができる。ポリマー板、ポリマーフィルムとしては、具体的には、ポリカーボネート、アクリル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルサルファイド、ポリサルフォン等が挙げられる。金属板、金属フィルムとしては、具体的には、ステンレス、鉄、銅、アルミニウム、マグネシウム、ニッケル、亜鉛、クロム、チタン、モリブテン、シリコン、ゲルマニウム及びタンタルからなる群から選ばれる一種以上の金属又はこれらの合金からなるものが挙げられる。封止部材８を凹状に加工するには、サンドブラスト加工、化学エッチング加工等を用いることができる。封止部材８として特に好ましいのは、ガスバリア性を有するバリア層が積層された樹脂フィルムである。樹脂フィルムとしては、前記の透明基板１と同様のものから選択して用いることができる。
【００５０】
［有機発光素子製造装置］
続いて、本発明の実施形態に係る有機発光素子製造装置及び有機発光素子製造方法について、図２及び図３を参照して説明する。図２に示すように、有機発光素子製造装置２は、透明樹脂基材１１上にガスバリア層１２が予め形成された透明バリア基材Ａを用いて、有機発光素子１を製造する装置である。有機発光素子製造装置２は、帯電防止層形成部２０と、素子形成部３０と、これらを制御する制御部（図示せず）と、を備える。有機発光素子製造装置２は、特に、ロールトゥロール方式の生産方式が採用されることによって、長尺帯状の可撓性を有する透明バリア基材Ａ上に前記した有機発光素子１を連続的に形成することを可能とする装置である。
【００５１】
有機発光素子製造装置２において、長尺帯状の可撓性を有する透明バリア基材Ａは、図２において模式的に示されている搬送ローラーやバックアップローラーによって支持されながら、帯電防止層形成部２０及び素子形成部３０内を搬送されて移動する。
そして、帯電防止層形成部２０によって行われる真空加熱処理工程Ｓ１及び帯電防止層形成工程Ｓ２と、素子形成部３０によって行われる透明電極形成工程Ｓ３、有機層形成工程Ｓ４及び対向電極形成工程Ｓ５と、別装置で行われる封止工程Ｓ６と、を経て、有機発光素子１００が形成される（図３参照）。
【００５２】
＜帯電防止層形成部＞
帯電防止層形成部２０は、透明バリア基材Ａに真空加熱処理を施す真空加熱処理工程Ｓ１（図３参照）を行うとともに、真空加熱処理された透明バリア基材Ａ上に帯電防止層１３を形成する帯電防止層形成工程Ｓ２（図３参照）を行う。
【００５３】
帯電防止層形成部２０は、連結されたチャンバー２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃ内に、繰り出し部２１と、張力調整部２２と、位置調整部２３と、真空加熱部２４と、帯電防止層成膜部２５と、を備える。
帯電防止層形成部２０は、チャンバー２０Ａ，２０Ｂ，２０Ｃが連結されて真空雰囲気とされており、例えば、真空度が１×１０−６Ｐａ以上１×１０−２Ｐａ以下程度の環境となるように管理されている。
【００５４】
＜繰り出し部＞
繰り出し部２１は、チャンバー２０Ａ内に設けられており、ロール状に巻回された透明バリア基材Ａを巻き解いて繰り出す工程を行う。
繰り出し部２１には、ガスバリア層１２上に保護フィルムが貼合された透明バリア基材Ａの元巻ロール１０１が装着される。そして、透明バリア基材Ａは、繰り出し部２１の回転によって、保護フィルムが剥離されながら繰り出される。
かかる繰り出し部２１は、有機発光素子製造装置２内の他のローラー及び後記する巻き取り部３７とともに、透明バリア基材Ａを搬送する搬送部を構成する。
繰り出し部２１から繰り出された透明バリア基材Ａは、図２において上側が透明樹脂基材１１、下側がガスバリア層１２となる姿勢で搬送され、ガスバリア層１２の下面側に各機能層が形成される。
【００５５】
＜張力調整部＞
張力調整部２２は、チャンバー２０Ａ内に設けられており、繰り出し部２１によって繰り出された透明バリア基材Ａの搬送方向等の張力を調整する工程を行う。
張力の調整は、速度の調整及びトルクの調整のいずれであってもよく、ダンサーローラーによる調整、フィードローラーによる調整等のいずれかによって張力負荷を行うものであってもよい。
本実施形態において、張力調整部２２は、張力計測手段によって計測された張力に基づいて、アキュームコンベア１１１をフィードバック制御し、透明バリア基材Ａの張力を調整する。
張力調整部２２によって張力が調整された透明バリア基材Ａは、位置調整部２３へ搬送される。
【００５６】
＜位置調整部＞
位置調整部２３は、チャンバー２０Ａ内に設けられており、透明バリア基材Ａの幅方向縁部の位置を検出し、当該縁部の位置ずれを補正するように調整するＥＰＣ制御（Edge Position Control）、又は、透明バリア基材Ａの幅方向中心部の位置を検出し、当該中心部の位置ずれを補正するように調整するＣＰＣ制御（Center Position Control）によって、透明バリア基材Ａの幅方向の位置を調整する。
位置制御部２３によって位置が調整された透明バリア基材Ａは、真空加熱部２４へ搬送される。
【００５７】
＜真空加熱部＞
真空加熱部２４は、チャンバー２０Ａの下流側に連結されたチャンバー２０Ｂ内に設けられており、真空雰囲気下において、透明バリア基材Ａを加熱処理する真空加熱工程Ｓ１（図３参照）を行う。
真空加熱部２４は、真空雰囲気における加熱処理によって、減圧するだけでは十分に除去することができないアウトガス、酸素、水分等をも揮発、放散させて透明バリア基材Ａから除去し、これらの残留量を低減する。
本実施形態において、有機発光素子製造装置２は、透明バリア基材Ａの表面側及び裏面側にそれぞれ設けられる一対の真空加熱部２４を備えており、透明バリア基材Ａは、一対の真空加熱部２４によって両面側から真空加熱処理される。
真空加熱部２４によって真空加熱処理された透明バリア基材Ａは、帯電防止層成膜部２５へ搬送される。
【００５８】
真空加熱部２４は、赤外線加熱装置等の加熱処理線源を備えており、特に波長制御赤外線加熱装置とすることが好ましい。波長制御赤外線加熱装置は、例えば、フィラメントと、保護管と、フィルタと、を備える構成とすることができる。かかる構成によると、赤外線源となるフィラメントを保護管に収容し、保護管の周囲をフィルタによって覆うことによって、透明バリア基材Ａの吸収領域である赤外線（例えば、波長３．５μｍ以上）をフィルタに吸収させることができる。
【００５９】
＜帯電防止層成膜部＞
帯電防止層成膜部２５は、チャンバー２０Ｂの下流側に連結されたチャンバー２０Ｃ内に設けられており、真空加熱処理された透明バリア基材Ａ上に帯電防止層１３を形成する帯電防止層形成工程Ｓ２（図３参照）を行う。
帯電防止層成膜部２５によって帯電防止層１３が形成された透明バリア基材Ａは、素子形成部３０へ搬送される。
【００６０】
本発明の帯電防止層１３は、ガスバリア層１２上に形成されており、透明電極１４に直接接触することから、帯電防止に必要な導電性があり、かつ、電極同士がリークしない範囲に表面抵抗を調節する必要がある。
そのため、帯電防止層１３の表面抵抗は、製造中の環境下である真空中においても、使用状態の環境下である大気圧２５℃相対湿度６０％の大気中においても、１×１０８〜１×１０１１Ω／□の範囲内となるように設定されている。
【００６１】
透明バリア基材Ａ上に帯電防止層１３を形成する具体的な手法としては、スパッタリング法、化学気相成長法（ＣＶＤ法）、イオンプレーティング法、真空蒸着法などの方法が挙げられる。
【００６２】
本実施形態において、帯電防止層１３は、導電性を有しない金属酸化物に酸素欠損を生じさせたものによって形成されていることが望ましく、酸素欠損状態の酸化ニオブ又は酸化チタンによって形成されていることがより望ましい。
したがって、帯電防止層１３を形成する手法としては、帯電防止層１３の電気抵抗の調整が容易なことから、スパッタリング法が望ましい。スパッタリング法によると、酸素欠損ターゲットを用い、かつ、成膜時の酸素ガスの流量を調整変化させることにより、帯電防止層３の酸素欠損量を調整すること可能であり、帯電防止層３の表面抵抗を好適な値に調整することができる。
スパッタリング法としては、たとえば、交流（ＡＣ）、直流（ＤＣ）、高周波（ＲＦ）によるスパッタリング法が挙げられる。
【００６３】
なお、帯電防止層１３が導電性を有しない金属酸化物に酸素欠損を生じさせたものによって形成されている場合には、酸素欠損の割合を多くすると、表面抵抗が小さく（導電性が高く）なるとともに光の屈折率が低くなり、酸素欠損の割合を少なくすると、表面抵抗が大きく（導電性が低く）なるとともに光の屈折率が高くなる。
【００６４】
＜素子形成部＞
素子形成部３０は、帯電防止層１３上に透明電極１４を形成する透明電極形成工程Ｓ３と、透明電極１４上に有機層１５を形成する有機層形成工程Ｓ４と、有機層１５上に対向電極１６を形成する対向電極形成工程Ｓ５と、を行う。
【００６５】
素子形成部３０は、連結されたチャンバー３０Ａ，３０Ｂ，３０Ｃ，３０Ｄ，３０Ｅ内に、張力調整部３２と、位置調整部３３と、透明電極形成部３４と、有機層形成部３５と、対向電極形成部３６と、巻き取り部３７と、を備える。
なお、図２においては、有機層形成部３５及び対向電極形成部３６の図示を簡略化している。素子形成部３０は、チャンバー３０Ａ，３０Ｂ，３０Ｃ，３０Ｄ，３０Ｅが連結されて真空雰囲気とされており、例えば、真空度が１×１０−６Ｐａ以上１×１０−２Ｐａ以下程度の環境となるように管理されている。
【００６６】
＜張力調整部３２＞
張力調整部３２は、チャンバー２０Ｃの下流側に連結されたチャンバー３０Ａ内に設けられており、前記した張力調整部２２と同様に、繰り出された透明バリア基材Ａの搬送方向等の張力を調整する工程を行う。
張力制御部３２によって張力が調整された透明バリア基材Ａは、位置調整部３３へ搬送される。
【００６７】
＜位置調整部＞
位置調整部３３は、チャンバー３０Ａ内に設けられており、前記した位置調整部２３と同様に、透明バリア基材Ａの幅方向縁部の位置を検出し、当該縁部の位置ずれを補正するように調整するＥＰＣ制御（Edge Position Control）、又は、透明バリア基材Ａの幅方向中心部の位置を検出し、当該中心部の位置ずれを補正するように調整するＣＰＣ制御（Center Position Control）によって、透明バリア基材Ａの幅方向の位置を調整する。
位置制御部３３によって位置が調整された透明バリア基材Ａは、透明電極形成部３４へ搬送される。
【００６８】
＜透明電極形成部＞
透明電極形成部３４は、チャンバー３０Ａの下流側に連結されたチャンバー３０Ｂ内に設けられており、帯電防止層１３上に透明電極１４をパターン形成する透明電極形成工程Ｓ３（図３参照）を行う。
透明電極１４がパターン形成された透明バリア基材Ａは、有機層形成部３５へ搬送される。
【００６９】
図２において、透明電極形成部３４は、真空蒸着法によって透明電極１４を形成する構成となっている。
透明電極形成部３４では、蒸着源から気化した電極材料がマスク（図示せず）等を介して透明バリア基材Ａに蒸着することによって、透明電極１４がパターン成膜される。
【００７０】
＜有機層形成部＞
有機層形成部３５は、チャンバー３０Ｂの下流側に連結されたチャンバー３０Ｃ内に設けられており、透明電極１４上に有機層１５をパターン形成する有機層形成工程Ｓ４（図３参照）を行う。有機層形成部３５は、所望の有機層１５の層構成に応じて、各層の形成に適した湿式塗布装置、真空成膜装置等が単数又は複数組み合わされることによって構成される。
有機層１５が形成された透明バリア基材Ａは、対向電極形成部３６へ搬送される。
【００７１】
＜対向電極形成部＞
対向電極形成部３６は、チャンバー３０Ｃの下流側に連結されたチャンバー３０Ｄ内に設けられており、有機層１５上に対向電極１６をパターン形成する対向電極形成工程Ｓ５（図３参照）を行う。
対向電極１６が形成された透明バリア基材Ａは、巻き取り部３７へ搬送される。
【００７２】
図２において、対向電極形成部３６は、真空蒸着法によって対向電極を形成する構成となっている。
対向電極形成部３６では、蒸着源から気化した電極材料がマスク（図示せず）等を介して透明バリア基材Ａに蒸着することによって、対向電極１６がパターン成膜される。
【００７３】
＜巻き取り部＞
巻き取り部３７は、チャンバー３０Ｄの下流側に連結されたチャンバー３０Ｅ内に設けられており、透明電極１４、有機層１５及び対向電極１６が形成された透明バリア基材Ａに保護フィルムを貼合しながらロール状に巻き取る工程を行う。透明バリア基材Ａがロール状に巻き取られた元巻ロール１０２は、回収されて封止工程等の後工程に供され、有機発光素子１が製造される。ここでは、封止工程等の後工程を別工程としたが、連続した工程として有機発光素子製造装置２が行う構成としてもよい。
【００７４】
≪用途≫
本発明に実施形態に係る有機発光素子１は、表示デバイス、ディスプレイ、各種発光光源として用いることができる。発光光源としては、例えば、家庭用照明、車内照明、時計や液晶用のバックライト、看板広告、信号機、光記憶媒体の光源、電子写真複写機の光源、光通信処理機の光源、光センサーの光源等が挙げられる。
【００７５】
本発明の実施形態に係る有機発光素子１は、帯電防止層１３の表面抵抗が１×１０８〜１×１０１１Ω／□であるので、製造環境である真空中において透明樹脂基材１１及びガスバリア層１２の帯電を防止することができ、さらに使用環境である大気中においても透明樹脂基材１１及びガスバリア層１２の帯電を防止するとともに両電極１４，１６からのリークを防止することができる。
したがって、有機発光素子１は、製造環境における静電気に起因する性能劣化を防止することができるとともに、使用環境においても性能を好適に発揮することができる。
また、有機発光素子１は、帯電防止層１３が導電性を有しない金属酸化物に酸素欠損を生じさせたもの（好ましくは、酸素欠損状態の酸化ニオブ又は酸化チタン）によって形成されている場合には、酸素欠損の割合に応じて、表面抵抗及び屈折率を調整することができる。
【００７６】
また、本発明の実施形態に係る有機発光素子製造装置２は、帯電防止層形成部２５及び透明電極形成部３４が連続した真空雰囲気下で帯電防止層１３及び透明電極１４を形成する、すなわち、帯電防止層１３が形成されてから透明電極１４が形成されるまでの間に製造途中の有機発光素子１が大気に触れることがないので、帯電防止層１３と透明電極１４との密着を均一に行うことができ、結果として発光ムラを好適に防止することができる。
【００７７】
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は前記実施形態に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。例えば、有機発光素子製造装置２は、帯電防止層形成部２０よりも上流側に、透明樹脂基材１１上にガスバリア層１２を形成するガスバリア層形成部を備える構成であってもよい。また、有機発光素子製造装置は、帯電防止層形成部と素子形成部とが別装置となっており、帯電防止層形成部によって帯電防止層が形成された透明バリア基材の元巻ロールが、大気中で管理された後に素子形成部に供給されて各機能層が形成される構成であってもよい。
【実施例】
【００７８】
以下、本発明の実施例を示して本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。【００７９】
＜有機発光素子１の製造＞
本発明の実施例として、真空加熱処理工程Ｓ１と、帯電防止層形成工程Ｓ２と、透明電極形成工程Ｓ３と、有機層形成工程Ｓ４と、対向電極形成工程Ｓ５と、封止工程Ｓ６とを経て、透明バリア基材Ａのガスバリア層１２上に帯電防止層１３と透明電極１４とが順に積層され、透明電極１４上に有機層１５と透明電極１４の対極である対向電極１６とが配置された有機発光素子１の試料を製造した。そして、その有機発光素子１の試料について、帯電量及びリーク（ショートの有無）を評価した。【００８０】
はじめに、透明樹脂基材１１として、幅２５０ｍｍ、長さ１０ｍ、厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（帝人・デュポン社製フィルム、以下、ＰＥＴと略記する）を準備し、この透明樹脂基材１１の全面に、特開２００４−６８１４３号公報に記載の構成からなる大気圧プラズマ放電処理装置を用いて、可撓性フィルムである透明樹脂基材１１上に連続して、ＳｉＯｘからなる無機物のガスバリア層１２を厚さ５００ｎｍとなるように形成し、酸素透過度０．００１ｍｌ／ｍ２／ｄａｙ以下、水蒸気透過度０．００１ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下の透明バリア基材Ａを作製した。【００８１】
続いて、前記した透明バリア基材Ａの元巻を図２に示す有機発光素子製造装置２に供給し、真空加熱部２４によって真空加熱処理を施した。
真空加熱処理は、真空度を１．０×１０−5Ｐａとした減圧雰囲気下で、赤外線加熱源（ハロゲンランプ）を用いた赤外線加熱装置により行った。加熱処理時間は、３０分間とし、加熱温度は、基板温度が８０℃になるように設定した。【００８２】
続いて、透明バリア基材Ａのガスバリア層１２上に、帯電防止層成膜部２５によって、スパッタリング法を用いて、酸化ニオブからなる膜厚２０ｎｍの帯電防止層１３を形成した。
帯電防止層１３は、酸化ニオブの酸素欠損ターゲットを用い、かつ、成膜時の酸素ガスの流量を調整変化させることにより、帯電防止層１３の酸素欠損量を変化させて、所定の表面抵抗（真空中においても、大気圧２５℃相対湿度６０％の大気中においても、１×１０８〜１×１０１１Ω／□）に調整した。真空中での帯電防止層１３の表面抵抗値については、Ｎａｇｙ社製の非接触表面抵抗測定器で測定し、大気中での帯電防止層１３の表面抵抗値については、三菱化学アナリテック社製の表面抵抗計で測定した。【００８３】
続いて、透明バリア基材Ａの帯電防止層１３上に、透明電極形成部３４によって、スパッタリング法を用い、ＩＴＯからなる膜厚が１００ｎｍの透明電極１４をパターン形成した。【００８４】
続いて、透明バリア基材Ａの透明電極１４上に、有機層形成部３５によって、有機層１５をパターン形成した。
有機層１５としては、正孔注入層、第１正孔輸送層、第２正孔輸送層、発光層、第１電子輸送層、第２電子輸送層、電子注入層の７層を次のとおり形成した。【００８５】
はじめに、透明電極１４上に、真空蒸着法によって、９９．７質量部の４，４’，４’’−トリス（Ｎ，Ｎ−（２−ナフチル）−フェニルアミノ）トリフェニルアミン（２−ＴＮＡＴＡ）と、０．３質量部のＦ４−ＴＣＮＱとを共蒸着して、膜厚が１５０ｎｍの正孔注入層を形成した。
続いて、正孔注入層上に、真空蒸着法によって、α−ＮＰＤを蒸着して、膜厚が７ｎｍの第１正孔輸送層を形成した。
続いて、第１正孔輸送層上に、真空蒸着法によって、下記化学式に示す正孔輸送材料を蒸着して、膜厚が３ｎｍの第２正孔輸送層を形成した。【００８６】
【化１】
2016136008.tif 000003
【００８７】
続いて、第２正孔輸送層上に、真空蒸着法を用いて、６０質量部の下記ホスト材料と、４０質量部の下記化学式に示す燐光発光材料とを共蒸着して、膜厚が３０ｎｍの発光層を形成した。【００８８】
【化２】
2016136008.tif 000004
【００８９】
続いて、発光層上に、真空蒸着法を用いて、ＢＡｌｑ（ビス（２−メチル−８−キノリノレート）−４−（フェニルフェノラート）アルミニウム）を蒸着して、膜厚が３９ｎｍの第１電子輸送層を形成した。次いで、第１電子輸送層上に、真空蒸着法によって、ＢＣＰ（２，９‐ジメチル‐４，７‐ジフェニル‐１，１０‐フェナントロリン）を蒸着して、膜厚が１ｎｍの第２電子輸送層を形成した。そして、第２電子輸送層上に、真空蒸着法によって、ＬｉＦを蒸着して、膜厚が１ｎｍの電子注入層を形成した。【００９０】
続いて、電子注入層上に、対向電極形成部３６によって、真空蒸着法を用いて、Ａｌを蒸着して、膜厚が１００ｎｍの対向電極１６をパターン形成した。
続いて、透明バリア基材Ａの対向電極１６が形成された側に、前記透明バリア基材Ａの封止基材１８を熱硬化型接着剤である接着剤層１７を介して貼合して封止を行って、実施例に係る有機発光素子１とした。【００９１】
＜比較例＞
比較例に係る有機発光素子を、以下の手順で製造した。【００９２】
＜比較例１＞
特許文献３と同様に、１０００Ω／□の帯電防止層１３を、ガスバリア層１２と透明電極１４との間ではなく、透明樹脂基材１１とガスバリア層１２との間に形成した。すなわち、帯電防止層形成部２０を省略した有機発光素子製造装置２において、透明樹脂基材とガスバリア層１２との間に帯電防止層１３が予め形成された基材を搬送し、各機能層を形成した。透明電極１４が形成されるガスバリア層１２の表面抵抗は、１．０×１０−５Ｐａの真空環境においても、大気圧２５℃相対湿度６０％の大気環境においても、１×１０１３Ω／□以上であった。【００９３】
＜比較例２＞
実施例に係る有機発光素子１から、帯電防止層１３を省略した。すなわち、帯電防止層形成部２０を省略した有機発光素子製造装置２において、透明バリア基材Ａを搬送し、各機能層を形成した。透明電極１４が形成されるガスバリア層１２の表面抵抗は、１．０×１０−５Ｐａの真空環境においても、大気圧２５℃相対湿度６０％の大気環境においても、１×１０１３Ω／□以上であった。【００９４】
＜比較例３＞
実施例に係る有機発光素子１と同様の順序に各機能層が設けられた有機発光素子を有機発光素子製造装置２によって製造するに際し、帯電防止層を成膜するときの酸素ガスの流量を調整して、大気圧２５℃相対湿度６０％の大気環境における帯電防止層の表面抵抗を５×１０７Ω／□にした。比較例３に係る有機発光素子において、１．０×１０−５Ｐａの真空環境における帯電防止層の表面抵抗は、大気環境における表面抵抗とほぼ同等であった。【００９５】
＜比較例４＞
実施例に係る有機発光素子１と同様の順序に各機能層が設けられた有機発光素子を有機発光素子製造装置２によって製造するに際し、帯電防止層を成膜するときの酸素ガスの流量を調整して、１．０×１０−５Ｐａの真空環境における帯電防止層の表面抵抗を５×１０１１Ω／□にした。比較例４に係る有機発光素子において、大気圧２５℃相対湿度６０％の大気環境における帯電防止層の表面抵抗は、真空環境における表面抵抗とほぼ同等であった。【００９６】
実施例に係る有機発光素子１及び比較例に係る有機発光素子に関し、帯電量（帯電電圧）及びリーク（ショートの有無）を測定した結果を表１に示す。【００９７】
【表１】
2016136008.tif 000005
【００９８】
＜帯電量の評価手法＞
有機発光素子製造装置において、透明バリア基材Ａの搬送時に当該透明バリア基材Ａの帯電電圧をシシド静電気社製の電位測定器スタチロンＤＳ３Ｈ−Ｂを用いて測定した。
○：帯電電圧が５ｋＶ未満
△：帯電電圧が５ｋＶ以上かつ１０ｋＶ未満
×：帯電電圧が１０ｋＶ以上かつ１５ｋＶ未満
××：帯電電圧が１５ｋＶ以上
帯電量に関しては、「○」であれば合格、「△」以下であれば不合格と評価した。【００９９】
＜リーク（ショート）の評価手法＞
定電圧電源を用いて、有機発光素子に逆方向の電圧（逆バイアス）５Ｖを５秒間印加し、そのときに有機発光素子に流れる電流を測定した。各例に関してサンプル１０枚の発行領域について測定し、電流の最大値をリーク電流としてリークの代用特性とした。
○：リーク電流が１×１０−６Ａ未満
△：リーク電流が１×１０−６Ａ以上かつ１×１０−４Ａ未満
×：リーク電流が１×１０−４Ａ以上
リークに関しては、「○」であれば合格、「△」以下であれば不合格と評価した。【０１００】
表１に示すように、実施例に係る有機発光素子１は、透明バリア基材Ａと透明電極１４との間に設けられた帯電防止層１３の表面抵抗が真空中においても大気中（大気圧２５℃相対湿度６０％）においても１×１０８〜１×１０１１Ω／□に設定されているので、帯電量及びリークの両方が「○」評価となり、製造環境において静電気の発生（透明バリア基材Ａの帯電）を防止するとともに、使用環境において静電気の発生を防止するとともにリーク（両電極１４，１６のリーク）の発生を防止することができることが分かった。
【符号の説明】
【０１０１】
１      有機発光素子
２      有機発光素子製造装置
１１    透明樹脂基材
１２    ガスバリア層
１３    帯電防止層
１４    透明電極
１５    有機層（有機発光層を含む有機層）
１６    対向電極
Ａ      透明バリア基材
【図１】
2016136008.tif 000006
【図２】
2016136008.tif 000007
【図３】
2016136008.tif 000008
【国際調査報告】
2016136008.tif 000009
2016136008.tif 000010
2016136008.tif 000011
2016136008.tif 000012