(57)【要約】アレイ基板１１ｂは、第１導電膜と、第１導電膜よりも上層側に配され、少なくとも一部が第１導電膜と平面に視て重畳する第２導電膜と、第１導電膜と第２導電膜との間に介在する形で配される絶縁膜であって、第１導電膜及び第２導電膜に対して平面に視て重畳する位置に開口する形で形成されることで第２導電膜を第１導電膜に対して接続するコンタクトホールを有する絶縁膜と、第２導電膜よりも上層側に配され、コンタクトホールと平面に視て重畳する部分と、コンタクトホールとは平面に視て非重畳とされる部分とを有する配向膜１１ｅと、絶縁膜におけるコンタクトホールの開口縁の少なくとも一部により構成され、平面に視て内側に優角をなすよう屈曲する屈曲部４３と、を備える。
2014103915.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１導電膜と、
前記第１導電膜よりも上層側に配され、少なくとも一部が前記第１導電膜と平面に視て重畳する第２導電膜と、
前記第１導電膜と前記第２導電膜との間に介在する形で配される絶縁膜であって、前記第１導電膜及び前記第２導電膜に対して平面に視て重畳する位置に開口する形で形成されることで前記第２導電膜を前記第１導電膜に対して接続するコンタクトホールを有する絶縁膜と、
前記第２導電膜よりも上層側に配され、前記コンタクトホールと平面に視て重畳する部分と、前記コンタクトホールとは平面に視て非重畳とされる部分とを有する配向膜と、
前記絶縁膜における前記コンタクトホールの開口縁の少なくとも一部により構成され、平面に視て内側に優角をなすよう屈曲する屈曲部と、を備える表示素子。
【請求項２】
前記絶縁膜は、前記コンタクトホールが、前記第１導電膜及び前記第２導電膜の少なくとも一部に対して平面に視て重畳するコンタクトホール本体と、前記コンタクトホール本体の一部を拡張することで形成される拡張開口部とを有してなるとともに、前記コンタクトホール本体と前記拡張開口部とにおける互いに連なる開口縁によって前記屈曲部が構成され、且つ前記拡張開口部の開口間口が前記コンタクトホール本体の開口間口よりも狭くなるよう形成されている請求項１記載の表示素子。
【請求項３】
前記第２導電膜は、透明電極材料からなる画素電極を構成しており、
前記絶縁膜は、前記拡張開口部が前記コンタクトホール本体のうち平面に視て前記画素電極の中心から相対的に遠い側の部分を拡張して形成された構成とされる請求項２記載の表示素子。
【請求項４】
前記絶縁膜は、前記拡張開口部が前記コンタクトホール本体における角部を拡張して形成された構成とされる請求項２または請求項３記載の表示素子。
【請求項５】
前記第２導電膜は、透明電極材料からなる画素電極を構成しており、
前記絶縁膜は、前記拡張開口部が前記画素電極とは平面に視て非重畳となる位置に配された構成とされる請求項２から請求項４のいずれか１項に記載の表示素子。
【請求項６】
前記絶縁膜は、前記拡張開口部が前記第１導電膜とは平面に視て非重畳となる位置に配された構成とされる請求項２から請求項５のいずれか１項に記載の表示素子。
【請求項７】
前記第１導電膜よりも下層側に配され、少なくとも一部が前記第１導電膜と平面に視て重畳する第３導電膜を備えており、
前記絶縁膜は、前記コンタクトホール本体の少なくとも一部が前記第３導電膜に対して平面に視て重畳する位置に配されるのに対し、前記拡張開口部が前記第３導電膜とは平面に視て非重畳とされる位置に配されるよう形成されている請求項２から請求項６のいずれか１項に記載の表示素子。
【請求項８】
前記第１導電膜は、少なくともソース電極とドレイン電極とをそれぞれ構成するのに対し、前記第３導電膜は、少なくとも前記ソース電極と前記ドレイン電極とに対してそれぞれ平面に視て重畳するゲート電極と、前記ゲート電極に対して平面に視て離間した位置に配される補助容量配線とをそれぞれ構成しており、
前記絶縁膜は、前記コンタクトホール本体の少なくとも一部が前記ドレイン電極及び前記ゲート電極に対して平面に視て重畳する位置に配されるのに対し、前記拡張開口部が平面に視て前記ゲート電極と前記補助容量配線とに挟まれた位置に配されるよう形成されている請求項７記載の表示素子。
【請求項９】
前記絶縁膜は、前記コンタクトホール本体の開口間口における最大値をＷｍａｘとしたとき、前記拡張開口部の開口間口がＷｍａｘ／２以下の大きさとなるよう形成されている請求項２から請求項８のいずれか１項に記載の表示素子。
【請求項１０】
前記絶縁膜のうち、前記拡張開口部を構成し且つ前記屈曲部を構成する開口縁は、その長さ寸法がＷｍａｘ／２以下の大きさとなるよう形成されている請求項９記載の表示素子。
【請求項１１】
前記絶縁膜は、前記拡張開口部が平面に視て前記コンタクトホール本体から遠ざかる方向に向けて先細り形状となるよう形成されている請求項２から請求項１０のいずれか１項に記載の表示素子。
【請求項１２】
前記絶縁膜には、有機樹脂材料からなる有機絶縁膜が少なくとも含まれており、
前記コンタクトホールの開口縁のうち少なくとも前記屈曲部は、断面形状が段階的に立ち上がる形態とされていて、相対的に下層側に配され且つ傾斜角度が相対的に大きな第１傾斜部と、相対的に上層側に配され且つ傾斜角度が相対的に小さな第２傾斜部とを少なくとも有している請求項１から請求項１１のいずれか１項に記載の表示素子。
【請求項１３】
前記第１導電膜よりも下層側に配され、少なくとも一部が前記第１導電膜と平面に視て重畳する第３導電膜と、前記第３導電膜と前記第１導電膜との間に介在する形で配される半導体膜とを備えており、
前記第１導電膜は、少なくともソース電極とドレイン電極とをそれぞれ構成し、前記第３導電膜は、少なくとも前記ソース電極と前記ドレイン電極とに対してそれぞれ平面に視て重畳するゲート電極を構成し、前記半導体膜は、前記ソース電極と前記ドレイン電極とにそれぞれ接続されるチャネル部を構成するとともに酸化物半導体からなる請求項１から請求項１２のいずれか１項に記載の表示素子。
【請求項１４】
前記絶縁膜のうち、前記コンタクトホールを構成し且つ互いに隣り合う開口縁には、断面形状が傾斜状をなすとともに傾斜角度が互いに異なる少なくとも２つの傾斜部が形成されている請求項１から請求項１３のいずれか１項に記載の表示素子。
【請求項１５】
請求項１から請求項１４のいずれか１項に記載の表示素子と、前記表示素子と対向するように配置された対向基板と、前記表示素子と前記対向基板との間に配置された液晶とを備える表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示素子及び表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置に用いられる液晶パネルは、一対の基板間に液晶が挟持された構成とされているが、そのうち一方の基板は、各画素の動作を制御するためのアクティブ素子としてＴＦＴが形成されたアレイ基板とされる。このアレイ基板には、その表示領域内にゲート配線とソース配線とが多数本ずつ格子状に設けられ、ゲート配線とソース配線との交差部にＴＦＴが設けられた構成を有している。そして、ゲート配線とソース配線とに囲まれた領域に画素電極が配され、これにより表示単位としての画素が構成されている。ＴＦＴを構成するドレイン電極には、ドレイン配線が連ねられるとともに、このドレイン配線と画素電極との双方に重畳する位置には、両者を絶縁する絶縁膜を貫通する形でコンタクトホールが形成されており、このコンタクトホールを通してドレイン配線と画素電極とが接続されている。その一方、両基板における液晶に接する内面には、液晶分子の配向状態を規制するための配向膜がそれぞれ形成されている。【０００３】
アレイ基板において配向膜を成膜するに際しては、インクジェット装置を用いる場合があり、その一例として下記特許文献１に記載されたものが知られている。このものでは、アレイ基板の面内において各画素が有するコンタクトホールの位置を不規則に配置することで、インクジェットヘッドから吐出された配向膜をなす溶液の液滴がコンタクトホール内に入るのに伴って配向膜に凹部が生じた場合にその凹部に起因して生じるモアレを防止するようにしている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１０−６６３９７号公報
【０００５】
（発明が解決しようとする課題）
上記した特許文献１には、配向膜をなす溶液の液滴がコンタクトホール内に入ったときに、配向膜のうちコンタクトホールに対応する部位に凹部が生じ、その凹部に起因してモアレが生じる旨が記載されているが、現実には、コンタクトホール内に配向膜をなす溶液の液滴が入らないことで膜欠損部位が生じ、その膜欠損部位に起因してモアレが生じており、配向膜の膜欠損部位の解消を図らずして根本的なモアレ防止効果を得ることは困難であった。また、上記した特許文献１に記載されたように各画素が有するコンタクトホールを不規則に配置しても、コンタクトホールが属する画素の形成範囲を超えた配置とすることはできない。このため、隣り合うコンタクトホール間の距離を一定以上に大きくすることができず、それにより得られるモアレ防止効果もごく限られたものとなっていた。
【発明の概要】
【０００６】
本発明は上記のような事情に基づいて完成されたものであって、モアレの発生を抑制または防止することを目的とする。
【０００７】
（課題を解決するための手段）
本発明の第１の表示素子は、第１導電膜と、前記第１導電膜よりも上層側に配され、少なくとも一部が前記第１導電膜と平面に視て重畳する第２導電膜と、前記第１導電膜と前記第２導電膜との間に介在する形で配される絶縁膜であって、前記第１導電膜及び前記第２導電膜に対して平面に視て重畳する位置に開口する形で形成されることで前記第２導電膜を前記第１導電膜に対して接続するコンタクトホールを有する絶縁膜と、前記第２導電膜よりも上層側に配され、前記コンタクトホールと平面に視て重畳する部分と、前記コンタクトホールとは平面に視て非重畳とされる部分とを有する配向膜と、前記絶縁膜における前記コンタクトホールの開口縁の少なくとも一部により構成され、平面に視て内側に優角をなすよう屈曲する屈曲部と、を備える。
【０００８】
このようにすれば、第１導電膜及び絶縁膜を成膜した後に成膜される第２導電膜は、絶縁膜が有するコンタクトホールを通して下層側の第１導電膜に対して接続される。そして、第１導電膜よりも上層側に配される配向膜を成膜する際には、例えば配向膜をなす溶液が第２導電膜などの表面に対して局所的に供給されると、その溶液がコンタクトホール外とコンタクトホール内とにわたって拡がることで、コンタクトホールと平面に視て重畳される部分と、コンタクトホールと平面に視て非重畳とされる部分とを有する配向膜が形成される。ここで、コンタクトホール外に供給された配向膜をなす溶液がコンタクトホール内に向けて拡がる場合に、溶液がコンタクトホールの開口縁において平面に視て内側に優角をなすよう屈曲する屈曲部に達すると、その溶液は屈曲部によりコンタクトホールの内側に引き込まれるよう移動されることになる。この溶液が引き込まれる作用が生じる理由は、例えば溶液が屈曲部に達すると、平面に視て内側に優角をなす屈曲部により溶液には広角に拡がるような力が作用するため、と推考される。これにより、配向膜がコンタクトホール内にも配され易くなるとともに膜欠損が生じ難くなり、もってモアレの発生が好適に抑制または防止される。
【０００９】
本発明の第１の表示素子の実施態様として、次の構成が好ましい。
（１）前記絶縁膜は、前記コンタクトホールが、前記第１導電膜及び前記第２導電膜の少なくとも一部に対して平面に視て重畳するコンタクトホール本体と、前記コンタクトホール本体の一部を拡張することで形成される拡張開口部とを有してなるとともに、前記コンタクトホール本体と前記拡張開口部とにおける互いに連なる開口縁によって前記屈曲部が構成され、且つ前記拡張開口部の開口間口が前記コンタクトホール本体の開口間口よりも狭くなるよう形成されている。まず、拡張開口部及びコンタクトホール本体の開口間口は、例えばそれぞれ互いに対向する一対の開口縁間の間隔によって定義される。ここで、配向膜を成膜するにあたり、コンタクトホールを構成する拡張開口部において互いに対向する一対の開口縁の両方にそれぞれ配向膜をなす溶液が到達した場合、コンタクトホール本体側に比べると、両開口縁に達した溶液同士が繋がり易くなっており、溶液同士が繋がると表面張力によって表面積が小さくなるよう流動することでコンタクトホール内に流れ込み易くなる。しかも、拡張開口部のうちコンタクトホール本体の開口縁に連なる開口縁が屈曲部を構成しているので、屈曲部によって担保されるコンタクトホールへの配向膜をなす溶液の流れ込み容易性とも相まって、コンタクトホール内に配向膜をなす溶液が一層流れ込み易くなる。これにより、配向膜がコンタクトホールと平面に視て重畳される部分に一層配され易くなるとともに膜欠損が一層生じ難いものとされる。
【００１０】
（２）前記第２導電膜は、透明電極材料からなる画素電極を構成しており、前記絶縁膜は、前記拡張開口部が前記コンタクトホール本体のうち平面に視て前記画素電極の中心から相対的に遠い側の部分を拡張して形成された構成とされる。配向膜のうちコンタクトホールと平面に視て重畳する部分は、非重畳とされる部分に対して凹んだ形状とされているため、配向機能を十分に発揮できない場合があり、中でもコンタクトホール本体を拡張して形成された拡張開口部では顕著となる傾向がある。その点、上記したように拡張開口部がコンタクトホール本体のうち平面に視て画素電極の中心から相対的に遠い側の部分を拡張して形成されているので、拡張開口部によって生じ得る配向不良が画素電極による表示に影響し難くなる。従って、拡張開口部に起因して生じ得る表示品位の低下が抑制される。
【００１１】
（３）前記絶縁膜は、前記拡張開口部が前記コンタクトホール本体における角部を拡張して形成された構成とされる。このようにすれば、拡張開口部がコンタクトホールにおいて画素電極から極力遠い位置に配されるので、拡張開口部によって生じ得る配向不良が画素電極による表示により影響し難くなる。
【００１２】
（４）前記第２導電膜は、透明電極材料からなる画素電極を構成しており、前記絶縁膜は、前記拡張開口部が前記画素電極とは平面に視て非重畳となる位置に配された構成とされる。配向膜のうちコンタクトホールと平面に視て重畳する部分は、非重畳とされる部分に対して凹んだ形状とされているため、配向機能を十分に発揮できない場合があり、中でもコンタクトホール本体を拡張して形成された拡張開口部では顕著となる傾向がある。その点、上記したように拡張開口部が画素電極とは平面に視て非重畳となる位置に配されているので、拡張開口部によって生じ得る配向不良が画素電極による表示に影響し難くなる。従って、拡張開口部に起因して生じ得る表示品位の低下が抑制される。また、画素電極の材料として透明電極材料を用いると、画素電極上での配向膜をなす溶液の流動性が低くなる場合があるものの、上記したようにコンタクトホールへの配向膜をなす溶液の流れ込み容易性を担保するための屈曲部を有する拡張開口部が画素電極とは平面に視て非重畳となる配置とされることで、拡張開口部に向かう溶液の流動性が高く保たれる。これにより、配向膜をなす溶液がコンタクトホールへと一層流れ込み易くなる。
【００１３】
（５）前記絶縁膜は、前記拡張開口部が前記第１導電膜とは平面に視て非重畳となる位置に配された構成とされる。このようにすれば、拡張開口部では、コンタクトホール本体に比べると、第１導電膜と平面に視て非重畳とされるために開口深さ、つまり配向膜をなす溶液が供給される第２導電膜などの表面からの落差がより大きなものとされる。従って、配向膜をなす溶液が拡張開口部へとより流れ込み易くなる。
【００１４】
（６）前記第１導電膜よりも下層側に配され、少なくとも一部が前記第１導電膜と平面に視て重畳する第３導電膜を備えており、前記絶縁膜は、前記コンタクトホール本体の少なくとも一部が前記第３導電膜に対して平面に視て重畳する位置に配されるのに対し、前記拡張開口部が前記第３導電膜とは平面に視て非重畳とされる位置に配されるよう形成されている。このようにすれば、拡張開口部では、コンタクトホール本体に比べると、第３導電膜と平面に視て非重畳とされるために開口深さ、つまり配向膜をなす溶液が供給される第２導電膜などの表面からの落差がより大きなものとされる。従って、配向膜をなす溶液が拡張開口部へとより流れ込み易くなる。
【００１５】
（７）前記第１導電膜は、少なくともソース電極とドレイン電極とをそれぞれ構成するのに対し、前記第３導電膜は、少なくとも前記ソース電極と前記ドレイン電極とに対してそれぞれ平面に視て重畳するゲート電極と、前記ゲート電極に対して平面に視て離間した位置に配される補助容量配線とをそれぞれ構成しており、前記絶縁膜は、前記コンタクトホール本体の少なくとも一部が前記ドレイン電極及び前記ゲート電極に対して平面に視て重畳する位置に配されるのに対し、前記拡張開口部が平面に視て前記ゲート電極と前記補助容量配線とに挟まれた位置に配されるよう形成されている。このようにすれば、拡張開口部は、平面に視てゲート電極と補助容量配線とに挟まれた配置とされることで、配向膜をなす溶液が供給される第２導電膜などの表面において谷間を構成することになる。従って、第２導電膜などの表面において、ゲート電極及び補助容量配線と平面に視て重畳する部分から配向膜をなす溶液が拡張開口部へと一層流れ込み易くなる。
【００１６】
（８）前記絶縁膜は、前記コンタクトホール本体の開口間口における最大値をＷｍａｘとしたとき、前記拡張開口部の開口間口がＷｍａｘ／２以下の大きさとなるよう形成されている。このようにすれば、仮に、拡張開口部の開口間口をＷｍａｘ／２以上の大きさとした場合に比べると、配向膜を成膜するにあたり、拡張開口部において互いに対向する一対の開口縁の両方にそれぞれ配向膜をなす溶液が到達したときにそれらの溶液同士がより繋がり易くなる。これにより、配向膜をなす溶液がコンタクトホール内により流れ込み易くなる。
【００１７】
（９）前記絶縁膜のうち、前記拡張開口部を構成し且つ前記屈曲部を構成する開口縁は、その長さ寸法がＷｍａｘ／２以下の大きさとなるよう形成されている。このようにすれば、仮に、拡張開口部を構成し且つ屈曲部を構成する開口縁の長さ寸法をＷｍａｘ／２以上の大きさとした場合に比べると、配向膜を成膜するにあたり、屈曲部を構成する各開口縁に配向膜をなす溶液が到達したときにそれらの溶液同士が一層繋がり易くなる。これにより、配向膜をなす溶液がコンタクトホール内に一層流れ込み易くなる。
【００１８】
（１０）前記絶縁膜は、前記拡張開口部の開口間口、及び前記拡張開口部を構成し且つ前記屈曲部を構成する開口縁の長さ寸法がそれぞれ１μｍ以上の大きさとなるよう形成されている。拡張開口部の開口間口、及び拡張開口部を構成し且つ屈曲部を構成する開口縁の長さ寸法は、共に小さくなるほど配向膜をなす溶液がコンタクトホール内に流れ込み易くなる反面、絶縁膜にコンタクトホール本体及び拡張開口部を形成する困難性が高くなる傾向がある。その点、拡張開口部の開口間口、及び拡張開口部を構成し且つ屈曲部を構成する開口縁の長さ寸法をそれぞれ１μｍ以上の大きさとすることで、コンタクトホール内への配向膜をなす溶液の流れ込み容易性を担保しつつも、絶縁膜にコンタクトホール本体及び拡張開口部を形成する確実性を高くすることができる。
【００１９】
（１１）前記絶縁膜は、前記拡張開口部が平面に視て前記コンタクトホール本体から遠ざかる方向に向けて先細り形状となるよう形成されている。このようにすれば、拡張開口部において互いに対向する一対の開口縁は、コンタクトホール本体から遠ざかると互いに近づくことになるので、配向膜を成膜するにあたり、上記一対の開口縁の両方に配向膜をなす溶液が到達したときにそれらの溶液同士がより繋がり易くなる。これにより、配向膜をなす溶液がコンタクトホール内により流れ込み易くなる。
【００２０】
（１２）前記絶縁膜は、前記コンタクトホール本体の平面形状が円形または楕円形となるよう形成されている。このように、平面形状が円形または楕円形とされたコンタクトホール本体においては、その開口縁に互いに交わる辺が存在しないため、配向膜を成膜する際に配向膜をなす溶液がコンタクトホール本体の開口縁に到達しても溶液同士が繋がり難く、溶液がコンタクトホール内に流れ込み難い傾向にある。その点、コンタクトホール本体の一部を拡張する形で拡張開口部を形成することで、コンタクトホール内への配向膜をなす溶液の流れ込み容易性が十分に高いものとなる。
【００２１】
（１３）前記絶縁膜には、有機樹脂材料からなる有機絶縁膜が少なくとも含まれており、前記コンタクトホールの開口縁のうち少なくとも前記屈曲部は、断面形状が段階的に立ち上がる形態とされていて、相対的に下層側に配され且つ傾斜角度が相対的に大きな第１傾斜部と、相対的に上層側に配され且つ傾斜角度が相対的に小さな第２傾斜部とを少なくとも有している。このようにすれば、仮に屈曲部を全て第１傾斜部により構成した場合には、その傾斜が急であるために配向膜をなす溶液が第１傾斜部側に移動し難くなるのに比べると、第１傾斜部よりも上層側に傾斜が緩やかな第２傾斜部を配することで、配向膜をなす溶液の移動が円滑化される。従って、配向膜を成膜するにあたり、コンタクトホールの開口縁のうちの屈曲部に配向膜をなす溶液が到達すると、その溶液は、相対的に上層側に配され且つ傾斜角度が相対的に小さな第２傾斜部によってコンタクトホール内への流れ込みが促されるので、スムーズに第１傾斜部を通ってコンタクトホール内に入るものとされる。また、仮に屈曲部を全て第２傾斜部により構成した場合にコンタクトホールの開口縁の幅が広くなりがちとなるのに比べると、コンタクトホールが小型の場合に好適となる。
【００２２】
（１４）前記第１導電膜よりも下層側に配され、少なくとも一部が前記第１導電膜と平面に視て重畳する第３導電膜と、前記第３導電膜と前記第１導電膜との間に介在する形で配される半導体膜とを備えており、前記第１導電膜は、少なくともソース電極とドレイン電極とをそれぞれ構成し、前記第３導電膜は、少なくとも前記ソース電極と前記ドレイン電極とに対してそれぞれ平面に視て重畳するゲート電極を構成し、前記半導体膜は、前記ソース電極と前記ドレイン電極とにそれぞれ接続されるチャネル部を構成するとともに酸化物半導体からなる。このようにすれば、ゲート電極に電圧が印加されると、酸化物半導体膜からなるチャネル部を介してソース電極とドレイン電極との間に電流が流される。この酸化物半導体膜は、アモルファスシリコン薄膜などに比べると、電子移動度が高くなっているので、例えばチャネル部の幅を狭くしても、ソース電極とドレイン電極との間に十分な電流を流すことが可能とされる。チャネル部の幅が狭くなれば、ソース電極、ドレイン電極及びゲート電極についても小型化されるので、当該表示素子の高精細化を図る上で好適とされる。このように当該表示素子が高精細化されると、コンタクトホールの数も多くなる傾向となるため、配向膜にも膜欠損が生じ易くなる。その点、上記したように絶縁膜におけるコンタクトホールの開口縁に平面に視て内側に優角をなすよう屈曲する屈曲部が含まれる構成とすることで、配向膜をなす溶液がコンタクトホール内に入り易くなるので、配向膜に膜欠損が生じ難くすることができて好適である。
【００２３】
（１５）前記絶縁膜のうち、前記コンタクトホールを構成し且つ互いに隣り合う開口縁には、断面形状が傾斜状をなすとともに傾斜角度が互いに異なる少なくとも２つの傾斜部が形成されている。このようにすれば、コンタクトホール外に供給された配向膜をなす溶液がコンタクトホール内に向けて拡がる場合に、溶液がコンタクトホールの開口縁に達すると、その溶液は、同開口縁において断面形状が傾斜状をなすとともに傾斜角度が互いに異なる少なくとも２つの傾斜部のうち、傾斜角度が相対的に小さくて傾斜が緩やかな傾斜部によってコンタクトホールの内側への流れ込みが促されるようになっている。しかも、コンタクトホールの開口縁のうち、傾斜角度が互いに異なる傾斜部同士の境界箇所では、傾斜角度が互いに異なることによって配向膜をなす溶液の流動性が高められ、それにより溶液がコンタクトホールの内側により流れ込み易くなっている。それに加えて、コンタクトホールの開口縁の少なくとも一部が平面に視て内側に優角をなすよう屈曲する屈曲部を構成しており、その屈曲部によって担保されるコンタクトホールへの配向膜をなす溶液の流れ込み容易性とも相まって、コンタクトホール内に配向膜をなす溶液が一層流れ込み易くなっている。これにより、少なくとも２つの傾斜部における傾斜角度の差をそれほど大きくしなくても、コンタクトホール内への配向膜をなす溶液の流れ込み容易性が十分に高いものとなるから、相対的に小さな傾斜角度とされる傾斜部の勾配が緩くなり過ぎることが回避されるとともにその延面距離が十分に小さなものとなり、もって当該表示素子において表示に寄与しない部分の面積が十分に小さくなって表示性能が良好なものとなる。
【００２４】
（１６）前記絶縁膜は、前記コンタクトホールの開口面積が１０μｍ２〜１５０μｍ２の範囲となるよう形成されている。仮に、コンタクトホールの開口面積が１０μｍ２よりも小さい場合には、第１導電膜と第２導電膜との接続面積が小さくなり過ぎて接続信頼性が低下するとともに、コンタクトホール自体の形成が困難になるおそれがある。一方、仮に、コンタクトホールの開口面積が１５０μｍ２よりも大きい場合には、配向膜を成膜する際にコンタクトホールの各開口縁に到達した配向膜をなす溶液同士が互いに繋がり難く、そのために配向膜をなす溶液がコンタクトホール内に流れ込み難くなるおそれがある。その点、上記したようにコンタクトホールの開口面積を１０μｍ２〜１５０μｍ２の範囲とすることで、第１導電膜と第２導電膜との接続面積が十分に確保されて接続信頼性が担保されるとともに、絶縁膜におけるコンタクトホールの形成が容易なものとなり、さらには、配向膜をなす溶液がコンタクトホール内に流れ込み易くなる。
【００２５】
次に、本発明の第２の表示素子は、第１導電膜と、前記第１導電膜よりも上層側に配され、少なくとも一部が前記第１導電膜と平面に視て重畳する第２導電膜と、前記第１導電膜と前記第２導電膜との間に介在する形で配される絶縁膜であって、前記第１導電膜及び前記第２導電膜に対して平面に視て重畳する位置に開口する形で形成されることで前記第２導電膜を前記第１導電膜に対して接続するコンタクトホールを有する絶縁膜と、前記第２導電膜よりも上層側に配され、前記コンタクトホールと平面に視て重畳する部分と、前記コンタクトホールとは平面に視て非重畳とされる部分とを有する配向膜と、前記絶縁膜における前記コンタクトホールの開口縁に形成され、その断面形状が傾斜状をなすとともに傾斜角度が互いに異なる少なくとも２つの傾斜部と、を備える。
【００２６】
このようにすれば、第１導電膜及び絶縁膜を成膜した後に成膜される第２導電膜は、絶縁膜が有するコンタクトホールを通して下層側の第１導電膜に対して接続される。そして、第１導電膜よりも上層側に配される配向膜を成膜する際には、例えば配向膜をなす溶液が第２導電膜などの表面に対して局所的に供給されると、その溶液がコンタクトホール外とコンタクトホール内とにわたって拡がることで、コンタクトホールと平面に視て重畳される部分と、コンタクトホールと平面に視て非重畳とされる部分とを有する配向膜が形成される。ここで、コンタクトホール外に供給された配向膜をなす溶液がコンタクトホール内に向けて拡がる場合に、溶液がコンタクトホールの開口縁に達すると、その溶液は、同開口縁において断面形状が傾斜状をなすとともに傾斜角度が互いに異なる少なくとも２つの傾斜部のうち、傾斜角度が相対的に小さくて傾斜が緩やかな傾斜部によってコンタクトホールの内側への流れ込みが促されるようになっている。しかも、コンタクトホールの開口縁のうち、傾斜角度が互いに異なる傾斜部同士の境界箇所では、傾斜角度が互いに異なることによって配向膜をなす溶液の流動性が高められ、それにより溶液がコンタクトホールの内側により流れ込み易くなっている。以上により、配向膜がコンタクトホール内にも配され易くなるとともに膜欠損が生じ難くなり、もってモアレの発生が好適に抑制または防止される。
【００２７】
本発明の表示装置は、上記した表示素子と、前記表示素子と対向するように配置された対向基板と、前記表示素子と前記対向基板との間に配置された液晶とを備える。このような表示装置によると、上記した表示素子が有する配向膜に膜欠損が生じ難く、モアレの発生が好適に抑制または防止されるものであるから、液晶の配向状態を良好なものとすることができて表示品位に優れる。
【００２８】
本発明の第１の表示素子の製造方法は、基板上に第１導電膜、絶縁膜、第２導電膜の順で成膜し、前記絶縁膜については、前記第１導電膜及び前記第２導電膜に対して平面に視て重畳する位置に開口するとともに前記第２導電膜を前記第１導電膜に対して接続するためのコンタクトホールを形成し、且つ前記コンタクトホールの開口縁の少なくとも一部に平面に視て内側に優角をなすよう屈曲する屈曲部を含ませる第１成膜工程と、前記第２導電膜の上層側に、前記コンタクトホールと平面に視て重畳する部分と、前記コンタクトホールとは平面に視て非重畳とされる部分とを有する配向膜を成膜する第２成膜工程と、を備える。
【００２９】
このようにすれば、第１成膜工程では、基板上に第１導電膜及び絶縁膜を成膜した後に第２導電膜を成膜すると、第２導電膜は絶縁膜に形成されたコンタクトホールを通して下層側の第１導電膜に対して接続される。続いて行われる第２成膜工程において、第１導電膜よりも上層側に配向膜を成膜するにあたり、例えば配向膜をなす溶液が第２導電膜などの表面に対して局所的に供給されると、その溶液がコンタクトホール外とコンタクトホール内とにわたって拡がることで、コンタクトホールと平面に視て重畳される部分と、コンタクトホールと平面に視て非重畳とされる部分とを有する配向膜が形成される。ここで、コンタクトホール外に供給された配向膜をなす溶液がコンタクトホール内に向けて拡がる場合に、溶液がコンタクトホールの開口縁において平面に視て内側に優角をなすよう屈曲する屈曲部に達すると、その溶液は屈曲部によりコンタクトホールの内側に引き込まれるよう移動されることになる。この溶液が引き込まれる作用が生じる理由は、例えば溶液が屈曲部に達すると、平面に視て内側に優角をなす屈曲部により溶液には広角に拡がるような力が作用するため、と推考される。これにより、配向膜がコンタクトホール内にも配され易くなるとともに膜欠損が生じ難くなり、もってモアレの発生が好適に抑制または防止される。
【００３０】
本発明の第１の表示素子の製造方法の実施態様として、次の構成が好ましい。
（１）前記第２成膜工程では、インクジェット装置を用いるようにし、前記インクジェット装置に備えられる複数のノズルから前記配向膜をなす溶液を前記第２導電膜の上層側にそれぞれ吐出するようにしている。このようにすれば、第２成膜工程においてインクジェット装置に備えられる複数のノズルから吐出された配向膜をなす溶液は、第２導電膜の上層側に着弾した後にその表面上に拡がる。ここで、インクジェット装置に備えられる複数のノズルは、その配置がコンタクトホールの配置と干渉する場合があり、その場合に各ノズルから吐出された配向膜をなす溶液が十分に拡がらないとモアレが生じることが懸念される。その点、上記したようにコンタクトホールの開口縁に屈曲部が含まれることで、配向膜をなす溶液が屈曲部によってコンタクトホール内に引き込まれるので、配向膜がコンタクトホール内に形成され易くなり、もってモアレの発生が好適に抑制または防止される。
【００３１】
（２）前記第２成膜工程では、孔版印刷装置を用いるようにし、前記孔版印刷装置に備えられるメッシュ状の孔版上に前記配向膜をなす溶液を供給しつつ前記孔版上にてスキージを移動させることで、前記配向膜をなす溶液を前記孔版の孔部から前記第２導電膜の上層側に印刷するようにしている。このようにすれば、第２成膜工程において孔版印刷装置に備えられるメッシュ状の孔版上に供給された配向膜をなす溶液は、孔版上にて移動されるスキージによって孔版の孔部から第２導電膜の上層側に印刷された後にその表面上に拡がる。ここで、孔版印刷装置の孔版は、孔部を有するとともにメッシュ状をなしているため、その孔部の配置がコンタクトホールの配置と干渉する場合があり、その場合に各孔部を通された配向膜をなす溶液が十分に拡がらないとモアレが生じることが懸念される。その点、上記したようにコンタクトホールの開口縁に屈曲部が含まれることで、配向膜をなす溶液が屈曲部によってコンタクトホール内に引き込まれるので、配向膜がコンタクトホール内に形成され易くなり、もってモアレの発生が好適に抑制または防止される。
【００３２】
（３）前記第１成膜工程では、前記絶縁膜として感光性有機樹脂材料からなる有機絶縁膜を少なくとも成膜するとともに、フォトマスクとして半透過膜を含んだハーフトーンマスク、またはスリットによる半透過領域を含むグレートーンマスクを用いて前記有機絶縁膜を露光することで、前記コンタクトホールの開口縁のうちの少なくとも前記屈曲部を、その断面形状が段階的に立ち上がる形態とし、相対的に下層側に配され且つ傾斜角度が相対的に大きな第１傾斜部と、相対的に上層側に配され且つ傾斜角度が相対的に小さな第２傾斜部とが少なくとも有されるよう形成している。このようにすれば、第１成膜工程において成膜される感光性有機樹脂材料からなる有機絶縁膜は、半透過膜を含んだハーフトーンマスク、またはスリットによる半透過領域を含むグレートーンマスクを用いて露光されることで、屈曲部の断面形状が段階的に立ち上がる形態とされるとともに、屈曲部に相対的に下層側に配され且つ傾斜角度が相対的に大きな第１傾斜部と、相対的に上層側に配され且つ傾斜角度が相対的に小さな第２傾斜部とが少なくとも有されるよう形成される。ここで、仮に屈曲部を全て第１傾斜部により構成した場合には、その傾斜が急であるために配向膜をなす溶液が第１傾斜部側に移動し難くなるのに比べると、第１傾斜部よりも上層側に傾斜が緩やかな第２傾斜部を配することで、配向膜をなす溶液の移動が円滑化される。従って、配向膜を成膜するにあたり、コンタクトホールの開口縁のうちの屈曲部に配向膜をなす溶液が到達すると、その溶液は、相対的に上層側に配され且つ傾斜角度が相対的に小さな第２傾斜部によってコンタクトホール内への流れ込みが促されるので、スムーズに第１傾斜部を通ってコンタクトホール内に入るものとされる。また、仮に屈曲部を全て第２傾斜部により構成した場合にコンタクトホールの開口縁の幅が広くなりがちとなるのに比べると、コンタクトホールが小型の場合に好適となる。
【００３３】
本発明の第２の表示素子の製造方法は、基板上に第１導電膜、絶縁膜、第２導電膜の順で成膜し、前記絶縁膜については、前記第１導電膜及び前記第２導電膜に対して平面に視て重畳する位置に開口するとともに前記第２導電膜を前記第１導電膜に対して接続するためのコンタクトホールを形成し、且つ前記コンタクトホールの開口縁に断面形状が傾斜状をなすとともに傾斜角度が互いに異なる少なくとも２つの傾斜部を形成する第１成膜工程と、前記第２導電膜の上層側に、前記コンタクトホールと平面に視て重畳する部分と、前記コンタクトホールとは平面に視て非重畳とされる部分とを有する配向膜を成膜する第２成膜工程と、を備える。
【００３４】
このようにすれば、第１成膜工程では、基板上に第１導電膜及び絶縁膜を成膜した後に第２導電膜を成膜すると、第２導電膜は絶縁膜に形成されたコンタクトホールを通して下層側の第１導電膜に対して接続される。続いて行われる第２成膜工程において、第１導電膜よりも上層側に配向膜を成膜するにあたり、例えば配向膜をなす溶液が第２導電膜などの表面に対して局所的に供給されると、その溶液がコンタクトホール外とコンタクトホール内とにわたって拡がることで、コンタクトホールと平面に視て重畳される部分と、コンタクトホールと平面に視て非重畳とされる部分とを有する配向膜が形成される。ここで、コンタクトホール外に供給された配向膜をなす溶液がコンタクトホール内に向けて拡がる場合に、溶液がコンタクトホールの開口縁に達すると、その溶液は、同開口縁において断面形状が傾斜状をなすとともに傾斜角度が互いに異なる少なくとも２つの傾斜部のうち、傾斜角度が相対的に小さくて傾斜が緩やかな傾斜部によってコンタクトホールの内側への流れ込みが促されるようになっている。しかも、コンタクトホールの開口縁のうち、傾斜角度が互いに異なる傾斜部同士の境界箇所では、傾斜角度が互いに異なることによって配向膜をなす溶液の流動性が高められ、それにより溶液がコンタクトホールの内側により流れ込み易くなっている。以上により、配向膜がコンタクトホール内にも配され易くなるとともに膜欠損が生じ難くなり、もってモアレの発生が好適に抑制または防止される。
【００３５】
本発明の第２の表示素子の製造方法の実施態様として、次の構成が好ましい。
（１）前記第１成膜工程では、前記絶縁膜として感光性有機樹脂材料からなる有機絶縁膜を少なくとも成膜するとともに、フォトマスクとして半透過膜を含んだハーフトーンマスク、またはスリットによる半透過領域を含むグレートーンマスクを用いて前記有機絶縁膜を露光することで、前記ハーフトーンマスクの前記半透過膜、または前記グレートーンマスクの前記半透過領域の透過光により前記コンタクトホールの開口縁に、前記少なくとも２つの傾斜部のうちの相対的に傾斜角度が小さな傾斜部を形成している。このようにすれば、第１成膜工程において成膜される感光性有機樹脂材料からなる有機絶縁膜には、半透過膜を含んだハーフトーンマスク、またはスリットによる半透過領域を含むグレートーンマスクを用いて露光されることで、コンタクトホールが形成される。このコンタクトホールの開口縁には、ハーフトーンマスクの半透過膜、またはグレートーンマスクの半透過領域の透過光により少なくとも２つの傾斜部のうちの相対的に傾斜角度が小さな傾斜部が形成されている。
【００３６】
（発明の効果）
本発明によれば、モアレの発生を抑制または防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１】本発明の実施形態１に係るドライバを実装した液晶パネルとフレキシブル基板と制御回路基板との接続構成を示す概略平面図
【図２】液晶表示装置の長辺方向に沿った断面構成を示す概略断面図
【図３】液晶パネルの断面構成を示す概略断面図
【図４】液晶パネルを構成するアレイ基板の配線構成を概略的に示す平面図
【図５】アレイ基板の非表示部における行制御回路部とゲート配線との接続部分を示す平面図
【図６】図５のvi-vi線断面図
【図７】アレイ基板の表示部における画素の平面構成を示す平面図
【図８】図７におけるＴＦＴ付近を拡大した平面図
【図９】図８のix-ix線断面図
【図１０】図８のx-x線断面図
【図１１】図８のxi-xi線断面図
【図１２】配向膜を塗布するためのインクジェット装置の概略構成を示す斜視図
【図１３】屈曲部における配向膜をなす溶液の挙動を表す概略平面図
【図１４】拡張開口部における配向膜をなす溶液の挙動を表す概略平面図
【図１５】本発明の実施形態２に係るアレイ基板の表示部におけるＴＦＴをＸ軸方向に沿って切断した断面図
【図１６】アレイ基板の表示部におけるＴＦＴをＹ軸方向に沿って切断した断面図
【図１７】グレートーンマスクを用いて有機絶縁膜を露光する工程を示す図１５と同じ断面図
【図１８】グレートーンマスクを用いて有機絶縁膜を露光する工程を示す図１６と同じ断面図
【図１９】本発明の実施形態３に係るスクリーン印刷装置を用いて配向膜を塗布する前の状態を示す断面図
【図２０】本発明の実施形態４に係るアレイ基板の表示部におけるＴＦＴ付近を拡大した平面図
【図２１】本発明の実施形態５に係るアレイ基板の表示部におけるＴＦＴ付近を拡大した平面図
【図２２】本発明の実施形態６に係る下層側コンタクトホールの平面形状を概略的に示す平面図
【図２３】本発明の実施形態７に係る下層側コンタクトホールの平面形状を概略的に示す平面図
【図２４】本発明の実施形態８に係る下層側コンタクトホールの平面形状を概略的に示す平面図
【図２５】本発明の実施形態９に係る下層側コンタクトホールの平面形状を概略的に示す平面図
【図２６】本発明の実施形態１０に係る下層側コンタクトホールの平面形状を概略的に示す平面図
【図２７】本発明の実施形態１１に係る下層側コンタクトホールの平面形状を概略的に示す平面図
【図２８】本発明の実施形態１２に係る下層側コンタクトホールの平面形状を概略的に示す平面図
【図２９】本発明の実施形態１３に係る下層側コンタクトホールの平面形状を概略的に示す平面図
【図３０】本発明の実施形態１４に係るアレイ基板の表示部におけるＴＦＴ付近を拡大した平面図
【図３１】図３０のxxxi-xxxi線断面図
【図３２】図３０のxxxii-xxxii線断面図
【図３３】グレートーンマスクを用いて有機絶縁膜を露光する工程を示す図３１と同じ断面図
【図３４】グレートーンマスクを用いて有機絶縁膜を露光する工程を示す図３２と同じ断面図
【図３５】本発明の実施形態１５に係る下層側コンタクトホールの平面形状を概略的に示す平面図
【図３６】本発明の実施形態１６に係る下層側コンタクトホールの平面形状を概略的に示す平面図
【図３７】本発明の実施形態１７に係るアレイ基板の表示部におけるＴＦＴ付近を拡大した平面図
【図３８】図３７のxxxviii-xxxviii線断面図
【図３９】図３７のxxxix-xxxix線断面図
【図４０】本発明の実施形態１８に係る下層側コンタクトホールの平面形状を概略的に示す平面図
【図４１】本発明の実施形態１９に係る下層側コンタクトホールの平面形状を概略的に示す平面図
【図４２】本発明の実施形態２０に係る下層側コンタクトホールの平面形状を概略的に示す平面図
【図４３】本発明の実施形態２１に係る下層側コンタクトホールの平面形状を概略的に示す平面図
【図４４】本発明の実施形態２２に係る下層側コンタクトホールの平面形状を概略的に示す平面図
【図４５】本発明の実施形態２３に係る下層側コンタクトホールの平面形状を概略的に示す平面図
【図４６】本発明の実施形態２４に係る下層側コンタクトホールの平面形状を概略的に示す平面図
【図４７】本発明の実施形態２５に係る下層側コンタクトホールの平面形状を概略的に示す平面図
【図４８】本発明の実施形態２６に係る下層側コンタクトホールの平面形状を概略的に示す平面図
【図４９】本発明の実施形態２７に係る下層側コンタクトホールの平面形状を概略的に示す平面図
【図５０】本発明の実施形態２８に係る下層側コンタクトホールの平面形状を概略的に示す平面図
【図５１】本発明の実施形態２９に係る下層側コンタクトホールの平面形状を概略的に示す平面図
【図５２】本発明の実施形態３０に係る下層側コンタクトホールの平面形状を概略的に示す平面図
【図５３】本発明の実施形態３１に係る下層側コンタクトホールの平面形状を概略的に示す平面図
【図５４】本発明の実施形態３２に係る下層側コンタクトホールの平面形状を概略的に示す平面図
【図５５】本発明の実施形態３３に係る下層側コンタクトホールの平面形状を概略的に示す平面図
【発明を実施するための形態】
【００３８】
＜実施形態１＞
本発明の実施形態１を図１から図１４によって説明する。本実施形態では、液晶表示装置１０について例示する。なお、各図面の一部にはＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸を示しており、各軸方向が各図面で示した方向となるように描かれている。また、上下方向については、図２などを基準とし、且つ同図上側を表側とするとともに同図下側を裏側とする。
【００３９】
液晶表示装置１０は、図１及び図２に示すように、画像を表示可能な表示部ＡＡ及び表示部ＡＡ外の非表示部ＮＡＡを有する液晶パネル（表示装置）１１と、液晶パネル１１を駆動するドライバ（パネル駆動部）２１と、ドライバ２１に対して各種入力信号を外部から供給する制御回路基板（外部の信号供給源）１２と、液晶パネル１１と外部の制御回路基板１２とを電気的に接続するフレキシブル基板（外部接続部品）１３と、液晶パネル１１に光を供給する外部光源であるバックライト装置（照明装置）１４とを備える。また、液晶表示装置１０は、相互に組み付けた液晶パネル１１及びバックライト装置１４を収容・保持するための表裏一対の外装部材１５，１６をも備えており、このうち表側の外装部材１５には、液晶パネル１１の表示部ＡＡに表示された画像を外部から視認させるための開口部１５ａが形成されている。本実施形態に係る液晶表示装置１０は、ノートパソコン（タブレット型ノートパソコンなどを含む）、携帯電話（スマートフォンなどを含む）、携帯型情報端末（電子ブックやＰＤＡなどを含む）、デジタルフォトフレーム、携帯型ゲーム機、電子インクペーパなどの各種電子機器（図示せず）に用いられるものである。このため、液晶表示装置１０を構成する液晶パネル１１の画面サイズは、数インチ〜１０数インチ程度とされ、一般的には小型または中小型に分類される大きさとされている。
【００４０】
先にバックライト装置１４について簡単に説明する。バックライト装置１４は、図２に示すように、表側（液晶パネル１１側）に向けて開口した略箱形をなすシャーシ１４ａと、シャーシ１４ａ内に配された図示しない光源（例えば冷陰極管、ＬＥＤ、有機ＥＬなど）と、シャーシ１４ａの開口部を覆う形で配される図示しない光学部材とを備える。光学部材は、光源から発せられる光を面状に変換するなどの機能を有するものである。
【００４１】
続いて、液晶パネル１１について説明する。液晶パネル１１は、図１に示すように、全体として縦長な方形状（矩形状）をなしており、その長辺方向における一方の端部側（図１に示す上側）に片寄った位置に表示部（アクティブエリア）ＡＡが配されるとともに、長辺方向における他方の端部側（図１に示す下側）に片寄った位置にドライバ２１及びフレキシブル基板１３がそれぞれ取り付けられている。この液晶パネル１１において表示部ＡＡ外の領域が、画像が表示されない非表示部（ノンアクティブエリア）ＮＡＡとされ、この非表示部ＮＡＡは、表示部ＡＡを取り囲む略枠状の領域（後述するＣＦ基板１１ａにおける額縁部分）と、長辺方向の他方の端部側に確保された領域（後述するアレイ基板１１ｂのうちＣＦ基板１１ａとは重畳せずに露出する部分）とからなり、このうちの長辺方向の他方の端部側に確保された領域にドライバ２１及びフレキシブル基板１３の実装領域（取付領域）が含まれている。液晶パネル１１における短辺方向が各図面のＸ軸方向と一致し、長辺方向が各図面のＹ軸方向と一致している。なお、図１では、ＣＦ基板１１ａよりも一回り小さな枠状の一点鎖線が表示部ＡＡの外形を表しており、当該実線よりも外側の領域が非表示部ＮＡＡとなっている。
【００４２】
続いて、液晶パネル１１に接続される部材について説明する。制御回路基板１２は、図１及び図２に示すように、バックライト装置１４におけるシャーシ１４ａの裏面（液晶パネル１１側とは反対側の外面）にネジなどにより取り付けられている。この制御回路基板１２は、紙フェノールないしはガラスエポキシ樹脂製の基板上に、ドライバ２１に各種入力信号を供給するための電子部品が実装されるとともに、図示しない所定のパターンの配線（導電路）が配索形成されている。この制御回路基板１２には、フレキシブル基板１３の一方の端部（一端側）が図示しないＡＣＦ（Anisotropic Conductive Film）を介して電気的に且つ機械的に接続されている。
【００４３】
フレキシブル基板（ＦＰＣ基板）１３は、図２に示すように、絶縁性及び可撓性を有する合成樹脂材料（例えばポリイミド系樹脂等）からなる基材を備え、その基材上に多数本の配線パターン（図示せず）を有しており、長さ方向についての一方の端部が既述した通りシャーシ１４ａの裏面側に配された制御回路基板１２に接続されるのに対し、他方の端部（他端側）が液晶パネル１１におけるアレイ基板１１ｂに接続されているため、液晶表示装置１０内では断面形状が略Ｕ型となるよう折り返し状に屈曲されている。フレキシブル基板１３における長さ方向についての両端部においては、配線パターンが外部に露出して端子部（図示せず）を構成しており、これらの端子部がそれぞれ制御回路基板１２及び液晶パネル１１に対して電気的に接続されている。これにより、制御回路基板１２側から供給される入力信号を液晶パネル１１側に伝送することが可能とされている。
【００４４】
ドライバ２１は、図１に示すように、内部に駆動回路を有するＬＳＩチップからなるものとされ、信号供給源である制御回路基板１２から供給される信号に基づいて作動することで、信号供給源である制御回路基板１２から供給される入力信号を処理して出力信号を生成し、その出力信号を液晶パネル１１の表示部ＡＡへ向けて出力するものとされる。このドライバ２１は、平面に視て横長の方形状をなす（液晶パネル１１の短辺に沿って長手状をなす）とともに、液晶パネル１１（後述するアレイ基板１１ｂ）の非表示部ＮＡＡに対して直接実装され、つまりＣＯＧ（Chip On Glass）実装されている。なお、ドライバ２１の長辺方向がＸ軸方向（液晶パネル１１の短辺方向）と一致し、同短辺方向がＹ軸方向（液晶パネル１１の長辺方向）と一致している。
【００４５】
改めて、液晶パネル１１について説明する。液晶パネル１１は、図３に示すように、一対の基板１１ａ，１１ｂと、両基板１１ａ，１１ｂ間に介在し、電界印加に伴って光学特性が変化する物質である液晶分子を含む液晶層（液晶）１１ｃとを備え、両基板１１ａ，１１ｂが液晶層１１ｃの厚さ分のギャップを維持した状態で図示しないシール剤によって貼り合わせられている。本実施形態に係る液晶パネル１１は、動作モードがＩＰＳ（In-Plane Switching）モードをさらに改良したＦＦＳ（Fringe Field Switching）モードであり、一対の基板１１ａ，１１ｂのうちのアレイ基板１１ｂ側に後述する画素電極（第２透明電極）１８及び共通電極（第１透明電極）２２を共に形成し、且つこれら画素電極１８と共通電極２２とを異なる層に配してなるものである。一対の基板１１ａ，１１ｂのうち表側（正面側）がＣＦ基板（対向基板）１１ａとされ、裏側（背面側）がアレイ基板（表示素子）１１ｂとされる。これらＣＦ基板１１ａ及びアレイ基板１１ｂは、ほぼ透明な（高い透光性を有する）ガラス基板ＧＳを備えており、当該ガラス基板ＧＳ上に各種の膜を積層形成してなるものとされる。このうち、ＣＦ基板１１ａは、図１及び図２に示すように、短辺寸法がアレイ基板１１ｂと概ね同等であるものの、長辺寸法がアレイ基板１１ｂよりも小さなものとされるとともに、アレイ基板１１ｂに対して長辺方向についての一方（図１に示す上側）の端部を揃えた状態で貼り合わせられている。従って、アレイ基板１１ｂのうち長辺方向についての他方（図１に示す下側）の端部は、所定範囲にわたってＣＦ基板１１ａが重なり合うことがなく、表裏両板面が外部に露出した状態とされており、ここにドライバ２１及びフレキシブル基板１３の実装領域が確保されている。両基板１１ａ，１１ｂの内面側には、液晶層１１ｃに含まれる液晶分子を配向させるための配向膜１１ｄ，１１ｅがそれぞれ形成されている。配向膜１１ｄ，１１ｅは、例えばポリイミドからなるものとされており、両基板１１ａ，１１ｂにおける板面に沿ってそのほぼ全域にわたってベタ状に形成されている。この配向膜１１ｄ，１１ｅは、特定の波長領域の光（例えば紫外線など）が照射されることで、その光の照射方向に沿って液晶分子を配向させることが可能な光配向膜とされる。また、両基板１１ａ，１１ｂの外面側には、それぞれ偏光板１１ｆ，１１ｇが貼り付けられている。
【００４６】
まず、アレイ基板１１ｂの内面側（液晶層１１ｃ側、ＣＦ基板１１ａとの対向面側）に既知のフォトリソグラフィ法によって積層形成された各種の膜について説明する。アレイ基板１１ｂには、図７に示すように、下層（ガラス基板ＧＳ）側から順に第１金属膜（第１導電膜、ゲート金属膜）３４、ゲート絶縁膜（絶縁膜、第１絶縁膜）３５、半導体膜３６、保護膜（絶縁膜、エッチングストッパ膜）３７、第２金属膜（第１導電膜、ソース金属膜）３８、第１層間絶縁膜（絶縁膜、第２絶縁膜）３９、有機絶縁膜（絶縁膜）４０、第１透明電極膜２３、第２層間絶縁膜（第３絶縁膜）４１、第２透明電極膜（第２導電膜）２４が積層形成されている。なお、図７及び図８では、第１金属膜３４、半導体膜３６、及び第２金属膜３８については、それぞれ網掛け状にして図示している。
【００４７】
第１金属膜３４は、チタン（Ｔｉ）及び銅（Ｃｕ）の積層膜により形成されている。ゲート絶縁膜３５は、少なくとも第１金属膜３４の上層側に積層されるものであり、例えば酸化珪素（ＳｉＯ２）からなるものとされる。半導体膜３６は、酸化物半導体の一種であるインジウム（Ｉｎ）、ガリウム（Ｇａ）及び亜鉛（Ｚｎ）を含む酸化物薄膜からなるものとされる。半導体膜３６をなすインジウム（Ｉｎ）、ガリウム（Ｇａ）及び亜鉛（Ｚｎ）を含む酸化物薄膜は、非晶質または結晶質とされている。保護膜３７は、酸化シリコン（ＳｉＯ２）からなるものとされている。第２金属膜３８は、チタン（Ｔｉ）及び銅（Ｃｕ）の積層膜により形成されている。第１層間絶縁膜３９は、酸化シリコン（ＳｉＯ２）からなるものとされている。有機絶縁膜４０は、有機材料であるアクリル系樹脂材料（例えばポリメタクリル酸メチル樹脂（ＰＭＭＡ））からなり、平坦化膜として機能するものである。第１透明電極膜２３及び第２透明電極膜２４は、共にＩＴＯ（Indium Tin Oxide）或いはＺｎＯ（Zinc Oxide）といった透明電極材料からなる。第２層間絶縁膜４１は、窒化シリコン（ＳｉＮｘ）からなものとされる。上記した各膜のうち、第１透明電極膜２３及び第２透明電極膜２４は、アレイ基板１１ｂの表示部ＡＡにのみ形成され、非表示部ＮＡＡには形成されていないのに対し、ゲート絶縁膜３５、保護膜３７、第１層間絶縁膜３９、有機絶縁膜４０及び第２層間絶縁膜４１といった絶縁材料からなる各絶縁膜については、アレイ基板１１ｂのほぼ全面にわたるベタ状のパターン（一部に開口を有する）として形成されている。また、第１金属膜３４、半導体膜３６及び第２金属膜３８は、アレイ基板１１ｂの表示部ＡＡ及び非表示部ＮＡＡの双方に所定のパターンでもって形成されている。
【００４８】
続いて、アレイ基板１１ｂにおける表示部ＡＡ内に存在する構成について順次に詳しく説明する。アレイ基板１１ｂの表示部ＡＡには、図７及び図８に示すように、スイッチング素子であるＴＦＴ（トランジスタ）１７及び画素電極１８が多数個ずつマトリクス状に並んで設けられるとともに、これらＴＦＴ１７及び画素電極１８の周りには、格子状をなすゲート配線（走査信号線、行制御線）１９及びソース配線（列制御線、データ線）２０が取り囲むようにして配設されている。言い換えると、格子状をなすゲート配線１９及びソース配線２０の交差部に、ＴＦＴ１７及び画素電極１８が行列状に並列配置されている。ゲート配線１９は、第１金属膜３４からなるのに対し、ソース配線２０は、第２金属膜３８からなり、相互の交差部位間にはゲート絶縁膜３５及び保護膜３７が介在する形で配されている。詳しくは次述するが、ゲート配線１９とソース配線２０とが、それぞれＴＦＴ１７のゲート電極１７ａとソース電極１７ｂとに接続され、画素電極１８がＴＦＴ１７のドレイン電極１７ｃに接続されている（図９）。ゲート配線１９は、画素電極１８における一方（図７に示す下側）の端部に対して平面に視て（アレイ基板１１ｂの板面に対する法線方向から視て）重畳する配置とされる。さらには、アレイ基板１１ｂには、ゲート配線１９に並行するとともに画素電極１８の一部に対して平面に視て重畳する補助容量配線（蓄積容量配線、Ｃｓ配線）２５が設けられている。補助容量配線２５は、ゲート配線１９と同じ第１金属膜３４からなり、画素電極１８における他方（図７に示す上側）の端部に対して平面に視て重畳する配置、つまりＹ軸方向についてゲート配線１９との間に画素電極１８の中央側部分を挟んで反対側に配されている。言い換えると、補助容量配線２５は、自身が重畳した画素電極１８に対して図７に示す上側に隣り合う画素電極１８にＴＦＴ１７を介して接続されたゲート配線１９との間に、Ｙ軸方向について所定の間隔を空けつつ隣り合う配置とされる。補助容量配線２５は、Ｙ軸方向についてゲート配線１９と交互に配されている。
【００４９】
ＴＦＴ１７は、図８に示すように、ゲート配線１９上に載る形、つまりその全体がゲート配線１９と平面に視て重畳する形で配されており、ゲート配線１９の一部がＴＦＴ１７のゲート電極１７ａを構成するとともに、ソース配線２０のうちゲート配線１９と平面に視て重畳する部分がＴＦＴ１７のソース電極１７ｂを構成している。ＴＦＴ１７は、ソース電極１７ｂとの間にＸ軸方向について所定の間隔を空けつつ対向状に配されることで島状をなすドレイン電極１７ｃを有している。ドレイン電極１７ｃは、ソース電極１７ｂ（ソース配線２０）と同じ第２金属膜３８からなり、画素電極１８における一方の端部（後述するスリット１８ａの非形成部位）と平面に視て重畳する配置とされる。また、ドレイン電極１７ｃには、同じ第２金属膜３８からなるドレイン配線２９が連ねられており、このドレイン配線２９は、連ねられたドレイン電極１７ｃからＹ軸方向に沿って図８に示す下側、つまり補助容量配線２５側に向けて延出するとともにその延出端には、補助容量配線２５及び隣の画素電極１８（詳しくは当該ドレイン電極１７ｃに接続された画素電極１８に対して図８に示す下側に隣り合う画素電極１８）に対して平面に視て重畳することで容量を形成する容量形成部２９ａが形成されている。なお、ゲート配線１９のうちソース配線２０とは平面に視て非重畳とされる部分は、ソース配線２０と平面に視て重畳する部分に比べて線幅が広くなるよう形成されているのに対し、ソース配線２０のうちゲート配線１９及び補助容量配線２５と平面に視て重畳する部分は、ゲート配線１９及び補助容量配線２５とは平面に視て非重畳とされる部分に比べて線幅が広くなるよう形成されている。
【００５０】
ＴＦＴ１７は、図９に示すように、第１金属膜３４からなるゲート電極１７ａと、半導体膜３６からなりゲート電極１７ａと平面に視て重畳するチャネル部１７ｄと、保護膜３７からなりチャネル部１７ｄと平面に視て重畳する位置に２つの開口部１７ｅ１，１７ｅ２が貫通して形成されてなる保護部１７ｅと、第２金属膜３８からなり２つの開口部１７ｅ１，１７ｅ２のうちの一方の開口部１７ｅ１を通してチャネル部１７ｄに接続されるソース電極１７ｂと、第２金属膜３８からなり２つの開口部１７ｅ１，１７ｅ２のうちの他方の開口部１７ｅ２を通してチャネル部１７ｄに接続されるドレイン電極１７ｃとを有している。このうち、ゲート電極１７ａは、ゲート配線１９のうち少なくともソース電極１７ｂ、ドレイン電極１７ｃ及びチャネル部１７ｄと平面に視て重畳する部分を含んでいる。チャネル部１７ｄは、Ｘ軸方向に沿って延在するとともにソース電極１７ｂとドレイン電極１７ｃとを架け渡して両電極１７ｂ，１７ｃ間での電子の移動を可能としている。ここで、チャネル部１７ｄをなす半導体膜３６は、インジウム（Ｉｎ）、ガリウム（Ｇａ）及び亜鉛（Ｚｎ）を含む酸化物薄膜であり、このインジウム（Ｉｎ）、ガリウム（Ｇａ）及び亜鉛（Ｚｎ）を含む酸化物薄膜は、電子移動度がアモルファスシリコン薄膜などに比べると、例えば２０倍〜５０倍程度と高くなっているので、ＴＦＴ１７を容易に小型化して画素電極１８の透過光量を極大化することができ、もって高精細化及び低消費電力化などを図る上で好適とされる。このようなインジウム（Ｉｎ）、ガリウム（Ｇａ）及び亜鉛（Ｚｎ）を含む酸化物薄膜を有するＴＦＴ１７は、ゲート電極１７ａが最下層に配され、その上層側にゲート絶縁膜３５を介してチャネル部１７ｄが積層されてなる、逆スタガ型とされており、一般的なアモルファスシリコン薄膜を有するＴＦＴと同様の積層構造とされる。
【００５１】
画素電極１８は、図８及び図９に示すように、第２透明電極膜２４からなり、ゲート配線１９とソース配線２０とに囲まれた領域において全体として平面に視て縦長の略方形状（略矩形状）をなしている。画素電極１８における一方の端部がゲート配線１９と平面に視て重畳するのに対し、この重畳部分を除いた部分は、ゲート配線１９とは平面に視て非重畳とされるとともに、この非重畳部分には、縦長のスリット１８ａが複数本（図８では２本）設けられることで略櫛歯状に形成されている。なお、このスリット１８ａは、画素電極１８のうちゲート配線１９と平面に視て重畳される部分の一部にまで延びている。また、画素電極１８における図８に示す下端位置は、ゲート配線１９の同下端位置と、ドレイン電極１７ｃの同下端位置との間とされ、詳細にはドレイン電極１７ｃの同下端位置寄りの配置とされる。画素電極１８は、第２層間絶縁膜４１上に形成されており、次述する共通電極２２との間に第２層間絶縁膜４１が介在している。画素電極１８の下層側に配された第１層間絶縁膜３９、有機絶縁膜４０及び第２層間絶縁膜４１のうち、ドレイン電極１７ｃ及び画素電極１８と平面に視て重畳する位置には、表示部側コンタクトホール（コンタクトホール、第１コンタクトホール）２６が上下に貫通する形で形成されており、この表示部側コンタクトホール２６を通して画素電極１８がドレイン電極１７ｃに接続されている。これにより、ＴＦＴ１７のゲート電極１７ａを通電すると、チャネル部１７ｄを介してソース電極１７ｂとドレイン電極１７ｃとの間に電流が流されるとともに画素電極１８に所定の電位が印加される。この表示部側コンタクトホール２６は、第１層間絶縁膜３９及び有機絶縁膜４０に貫通形成された下層側コンタクトホール３０と、第２層間絶縁膜４１に貫通形成されるとともに下層側コンタクトホール３０と部分的に平面に視て重畳する上層側コンタクトホール３１とからなり、詳しくは後に説明するが、両コンタクトホール３０，３１の平面形状が互いに異なるものとされる。画素電極１８のうち下層側コンタクトホール３０及び上層側コンタクトホール３１内に配される部分が、ドレイン電極１７ｃに接続される画素電極側接続部１８ｂとされる。これに対し、ドレイン電極１７ｃのうち下層側コンタクトホール３０及び上層側コンタクトホール３１を通して表側に臨む部分が、画素電極１８の画素電極側接続部１８ｂに接続されるドレイン電極側接続部１７ｃ１とされる。
【００５２】
共通電極２２は、図８及び図９に示すように、第１透明電極膜２３からなり、アレイ基板１１ｂの表示部ＡＡにおけるほぼ全面にわたる、いわゆるベタ状のパターンとされる。共通電極２２は、有機絶縁膜４０と第２層間絶縁膜４１との間に挟まれる形で配されている。共通電極２２には、図示しない共通配線から共通電位（基準電位）が印加されるので、上記のようにＴＦＴ１７により画素電極１８に印加する電位を制御することで、両電極１８，２２間に所定の電位差を生じさせることができる。両電極１８，２２間に電位差が生じると、液晶層１１ｃには、画素電極１８のスリット１８ａによってアレイ基板１１ｂの板面に沿う成分に加えて、アレイ基板１１ｂの板面に対する法線方向の成分を含むフリンジ電界（斜め電界）が印加されるので、液晶層１１ｃに含まれる液晶分子のうち、スリット１８ａに存在するものに加えて、画素電極１８上に存在するものもその配向状態を適切にスイッチングすることができる。もって、液晶パネル１１の開口率が高くなって十分な透過光量が得られるとともに、高い視野角性能を得ることができる。なお、共通電極２２には、ＴＦＴ１７の一部と平面に視て重畳する部分（詳しくは、図８において二点鎖線にて囲んだ略方形状の範囲）に開口部２２ａが形成されている。
【００５３】
続いて、ＣＦ基板１１ａにおける表示部ＡＡ内に存在する構成について詳しく説明する。ＣＦ基板１１ａには、図３に示すように、Ｒ（赤色），Ｇ（緑色），Ｂ（青色）等の各着色部が、アレイ基板１１ｂ側の各画素電極１８と平面に視て重畳するよう多数個マトリクス状に並列して配置されたカラーフィルタ１１ｈが設けられている。カラーフィルタ１１ｈをなす各着色部間には、混色を防ぐための略格子状の遮光層（ブラックマトリクス）１１ｉが形成されている。遮光層１１ｉは、上記したゲート配線１９及びソース配線２０と平面に視て重畳する配置とされる。カラーフィルタ１１ｈ及び遮光層１１ｉの表面には、配向膜１１ｄが設けられている。なお、当該液晶パネル１１においては、Ｒ（赤色），Ｇ（緑色），Ｂ（青色）の３色の着色部及びそれらと対向する３つの画素電極１８の組によって表示単位である１つの表示画素が構成されている。表示画素は、Ｒの着色部を有する赤色画素と、Ｇの着色部を有する緑色画素と、Ｂの着色部を有する青色画素とからなる。これら各色の画素は、液晶パネル１１の板面において行方向（Ｘ軸方向）に沿って繰り返し並べて配されることで、画素群を構成しており、この画素群が列方向（Ｙ軸方向）に沿って多数並んで配されている。
【００５４】
次に、アレイ基板１１ｂにおける非表示部ＮＡＡ内に存在する構成について説明する。アレイ基板１１ｂの非表示部ＮＡＡのうち、表示部ＡＡにおける短辺部に隣り合う位置には、図４に示すように、列制御回路部２７が設けられているのに対し、表示部ＡＡにおける長辺部に隣り合う位置には、行制御回路部２８が設けられている。列制御回路部２７及び行制御回路部２８は、ドライバ２１からの出力信号をＴＦＴ１７に供給するための制御を行うことが可能とされている。列制御回路部２７及び行制御回路部２８は、ＴＦＴ１７と同じインジウム（Ｉｎ）、ガリウム（Ｇａ）及び亜鉛（Ｚｎ）を含む酸化物薄膜（半導体膜３６）をベースとしてアレイ基板１１ｂ上にモノリシックに形成されており、それによりＴＦＴ１７への出力信号の供給を制御するための制御回路を有している。列制御回路部２７及び行制御回路部２８は、アレイ基板１１ｂの製造工程においてＴＦＴ１７などをパターニングする際に既知のフォトリソグラフィ法により同時にアレイ基板１１ｂ上にパターニングされている。
【００５５】
このうち、列制御回路部２７は、図４に示すように、表示部ＡＡにおける図４に示す下側の短辺部に隣り合う位置、言い換えるとＹ軸方向について表示部ＡＡとドライバ２１との間となる位置に配されており、Ｘ軸方向（ソース配線２０の並び方向）に沿って延在する横長な方形状の範囲に形成されている。この列制御回路部２７は、表示部ＡＡに配されたソース配線２０に接続されるとともに、ドライバ２１からの出力信号に含まれる画像信号を、各ソース配線２０に振り分けるスイッチ回路（ＲＧＢスイッチ回路）を有している。具体的には、ソース配線２０は、アレイ基板１１ｂの表示部ＡＡにおいてＸ軸方向に沿って多数本が並列配置されるとともに、Ｒ（赤色），Ｇ（緑色），Ｂ（青色）の各色の画素をなす各ＴＦＴ１７にそれぞれ接続されているのに対して、列制御回路部２７は、スイッチ回路によってドライバ２１からの画像信号をＲ，Ｇ，Ｂの各ソース配線２０に振り分けて供給している。また、列制御回路部２７は、レベルシフタ回路やＥＳＤ保護回路などの付属回路を備えることも可能である。
【００５６】
これに対し、行制御回路部２８は、図４に示すように、表示部ＡＡにおける図４に示す左側の長辺部に隣り合う位置に配されており、Ｙ軸方向（ゲート配線１９の並び方向）に沿って延在する縦長な範囲に形成されている。行制御回路部２８は、表示部ＡＡに配されたゲート配線１９に接続されるとともに、ドライバ２１からの出力信号に含まれる走査信号を、各ゲート配線１９に所定のタイミングで供給して各ゲート配線１９を順次に走査する走査回路を有している。具体的には、ゲート配線１９は、アレイ基板１１ｂの表示部ＡＡにおいてＹ軸方向に沿って多数本が並列配置されているのに対して、行制御回路部２８は、走査回路によってドライバ２１からの制御信号（走査信号）を、表示部ＡＡにおいて図４に示す上端位置のゲート配線１９から下端位置のゲート配線１９に至るまで順次に供給することで、ゲート配線１９の走査を行っている。行制御回路部２８が有する走査回路には、走査信号を増幅するためのバッファ回路が含まれている。また、行制御回路部２８は、レベルシフタ回路やＥＳＤ保護回路などの付属回路を備えることも可能である。なお、列制御回路部２７及び行制御回路部２８は、アレイ基板１１ｂ上に形成された接続配線によってドライバ２１に接続されている。
【００５７】
上記した行制御回路部２８からは、図５に示すように、ゲート配線１９に対して接続される接続配線３２が表示部ＡＡに向けて引き出されている。接続配線３２は、ソース配線２０と同じ第２金属膜３８からなるものとされている。そして、接続配線３２は、行制御回路部２８からＸ軸方向（ゲート配線１９の延在方向）に沿って表示部ＡＡ側に向けて延出するとともにその延出先端部が、非表示部ＮＡＡにおいてゲート配線１９に接続される接続配線側接続部３２ａとされる。ゲート配線１９は、表示部ＡＡから非表示部ＮＡＡにまで引き出されており、その端部が上記した接続配線側接続部３２ａに対して平面に視て重畳する形で配されるとともに接続配線側接続部３２ａに対して接続されるゲート配線側接続部１９ａとされる。接続配線３２の下層側に配されたゲート絶縁膜３５及び保護膜３７のうち、接続配線側接続部３２ａ及びゲート配線側接続部１９ａと平面に視て重畳する位置には、図５及び図６に示すように、非表示部側コンタクトホール（コンタクトホール、第２コンタクトホール）３３が上下に貫通する形で形成されており、この非表示部側コンタクトホール３３を通して接続配線側接続部３２ａがゲート配線側接続部１９ａに接続されている。この非表示部側コンタクトホール３３は、非表示部ＮＡＡにおいてＸ軸方向について行制御回路部２８と表示部ＡＡとの間に位置するとともに、Ｙ軸方向、つまり行制御回路部２８の延在方向に沿って多数（ゲート配線１９の並列数と同数）が間欠的に並列配置されている。
【００５８】
ところで、上記したようにアレイ基板１１ｂに形成された各絶縁膜３５，３７，３９，４０，４１には、表示部側コンタクトホール２６（下層側コンタクトホール３０）及び非表示部側コンタクトホール３３が形成されているため、これらのコンタクトホール２６，３３の形成部位においては、図６及び図９に示すように、最上層位置に配される配向膜１１ｅが凹状に形成されることになる。配向膜１１ｅを成膜する際には、例えば後述するインクジェット装置４２などを用いて配向膜１１ｅをなす溶液をアレイ基板１１ｂの内面に対して局所的に塗布し、その塗布された溶液がアレイ基板１１ｂの面に沿って拡がることで、ベタ状のパターンをなす配向膜１１ｅが形成されるようになっているのであるが、この成膜工程において、アレイ基板１１ｂにおいて凹状をなす各コンタクトホール２６，３３の形成部位に配向膜１１ｅをなす溶液が入り難くなっており、それに起因して配向膜１１ｅに膜欠損部位が生じ易くなっていた。この膜欠損部位の平面配置は、各コンタクトホール２６，３３とほぼ一致していて規則性を有するものであるため、モアレを生じさせるおそれがあった。特に、ＴＦＴ１７の半導体膜３６として酸化物半導体を用いるのに伴って高精細化された液晶パネル１１においては、コンタクトホールの総数が多くなりがちになるのに加えて、１つの画素の面積が小さくなるために隣り合うコンタクトホール間の間隔がより狭くなる傾向にあり、それによりモアレがより生じ易くなっていた。なお、従来では、コンタクトホールの配置を不規則化する手法が採られていたが、コンタクトホールの配置をコンタクトホールが属する画素の形成範囲を超えたものとすることができないため、隣り合うコンタクトホール間の距離を一定以上に大きくすることができず、それにより得られるモアレ防止効果にも限界があった。
【００５９】
そこで、本実施形態では、図５及び図８に示すように、各絶縁膜３５，３７，３９，４０，４１における各コンタクトホール２６，３３の開口縁の少なくとも一部に、平面に視て内側に優角をなすよう屈曲する屈曲部４３がそれぞれ含まれる構成としている。ここで言う「優角」とは、１８０°〜３６０°の角度範囲に含まれる角度のことである。このように、各コンタクトホール２６，３３の開口縁にそれぞれ屈曲部４３が含まれていれば、各コンタクトホール２６，３３外に供給された配向膜１１ｅをなす溶液が各コンタクトホール２６，３３内に向けて拡がって屈曲部４３に達したとき、その溶液は屈曲部４３により各コンタクトホール２６，３３の内側に引き込まれるよう移動されることになる。この溶液が引き込まれる作用が生じる理由は、例えば溶液が屈曲部４３に達すると、平面に視て内側に優角をなす屈曲部４３により溶液には各コンタクトホール２６，３３の内側に向けて広角に拡がるような力が作用するため、と推考される。これにより、配向膜１１ｅがコンタクトホール２６，３３内にも配され易くなるとともに膜欠損が生じ難くなり、もってモアレの発生が好適に抑制または防止される効果が得られるようになっている。以下、各コンタクトホール２６，３３の平面形状などについて順次に詳しく説明する。
【００６０】
表示部側コンタクトホール２６を構成する下層側コンタクトホール３０は、図８に示すように、第２金属膜３８からなるドレイン電極１７ｃ、及び第２透明電極膜２４からなる画素電極１８の少なくとも一部に対して平面に視て重畳するコンタクトホール本体３０ａと、コンタクトホール本体３０ａの一部を拡張することで形成される拡張開口部３０ｂとを有してなる。下層側コンタクトホール３０をなすコンタクトホール本体３０ａ及び拡張開口部３０ｂは、共に平面に視て縦長な方形状（長方形状）をなしており、その長さ方向（長辺方向）がＹ軸方向と、幅方向（短辺方向）がＸ軸方向とそれぞれ一致している。このうち、コンタクトホール本体３０ａは、図８に示す上側（ドレイン配線２９の容量形成部２９ａが平面に視て重畳する補助容量配線２５側とは反対側）の半分強の部分がドレイン電極１７ｃ及び画素電極１８と平面に視て重畳するのに対し、同図下側（ドレイン配線２９の容量形成部２９ａが平面に視て重畳する補助容量配線２５側）の半分弱の部分がドレイン電極１７ｃ及び画素電極１８とは平面に視て非重畳とされる。従って、コンタクトホール本体３０ａのうち図８に示す上側の半分強の部分がドレイン電極１７ｃと画素電極１８との接続に寄与し得るものとされる。さらには、コンタクトホール本体３０ａのうち図８に示す下側の端部は、ゲート配線１９と平面に視て非重畳の配置とされる。また、コンタクトホール本体３０ａの幅寸法は、ドレイン配線２９の線幅よりも大きなものとされており、コンタクトホール本体３０ａのうち図８に示す下側の端部は、幅方向（Ｘ軸方向）の中央側部分がドレイン配線２９と平面に視て重畳するものの、幅方向の両端側部分（両角部を含む）がドレイン配線２９とは平面に視て非重畳とされる。
【００６１】
これに対し、拡張開口部３０ｂは、図７に示すように、コンタクトホール本体３０ａのうち、画素電極１８の中心から相対的に遠い側の部分を拡張することで形成されており、より具体的にはコンタクトホール本体３０ａのうち画素電極１８とは平面に視て非重畳となる側の角部を拡張して形成されている。拡張開口部３０ｂは、図８に示すように、コンタクトホール本体３０ａにおける画素電極１８とは平面に視て非重畳となる一対の角部をそれぞれ拡張することで、一対が対称となる位置に形成されている。拡張開口部３０ｂは、画素電極１８とは平面に視て非重畳となる配置とされるのに加えて、ドレイン電極１７ｃ及びドレイン配線２９とは平面に視て非重畳となる配置とされる。さらには、拡張開口部３０ｂは、第１金属膜３４からなるゲート電極１７ａ、ゲート配線１９及び補助容量配線２５とも平面に視て非重畳となる配置とされている。従って、拡張開口部３０ｂの底部は、図１０及び図１１に示すように、コンタクトホール本体３０ａのうちドレイン配線２９と平面に視て重畳する部分に比べて、ドレイン配線２９の膜厚分低くなっており、さらにはコンタクトホール本体３０ａのうちドレイン電極１７ｃと平面に視て重畳する部分に比べて、ゲート電極１７ａ、ドレイン電極１７ｃ及び画素電極１８の膜厚を足した分だけ低くなっている。しかも、拡張開口部３０ｂは、図８に示すように、平面に視てゲート配線１９と補助容量配線２５との間に挟み込まれた位置に配されており、谷間を構成している。
【００６２】
そして、図８に示すように、下層側コンタクトホール３０をなすコンタクトホール本体３０ａと拡張開口部３０ｂとにおける互いに連なる開口縁４３ａ，４３ｂによって上記した屈曲部４３が構成されている。詳しくは、コンタクトホール本体３０ａの開口縁のうちの長さ方向（Ｙ軸方向）に沿う第１開口縁４３ａと、拡張開口部３０ｂの開口縁のうちの幅方向（Ｘ軸方向）に沿い且つ上記第１開口縁４３ａに対して隣り合う第２開口縁４３ｂとが互いに連なるとともに、それらの頂点（交点）において平面に視て下層側コンタクトホール３０の内側を通りつつなす角度θが約２７０°、つまり優角となっており、これら第１開口縁４３ａ及び第２開口縁４３ｂが屈曲部４３を構成している。すなわち、屈曲部４３をなす第１開口縁４３ａは、第２開口縁４３ｂに対して内側に優角をなす形で交わっており、言い換えると第２開口縁４３ｂに対して外側に劣角（約９０°）をなす形で交わっている。その上で、拡張開口部３０ｂは、その開口間口がコンタクトホール本体３０ａの開口間口よりも狭くなるよう形成されている。具体的には、拡張開口部３０ｂの開口間口における最大値（長さ寸法）は、コンタクトホール本体３０ａの開口間口における最小値（幅寸法）よりも小さなものとされている。なお、コンタクトホール本体３０ａ及び拡張開口部３０ｂの開口間口は、それぞれ互いに対向する一対の開口縁間の間隔によって定義される。
【００６３】
また、表示部側コンタクトホール２６を構成する上層側コンタクトホール３１は、図８に示すように、平面に視て横長の方形状をなしており、その長さ方向（長辺方向）がＸ軸方向と、幅方向（短辺方向）がＹ軸方向とそれぞれ一致している。上層側コンタクトホール３１は、下層側コンタクトホール３０をなすコンタクトホール本体３０ａに対して部分的に重なり合う配置とされており、具体的にはコンタクトホール本体３０ａのうちの図８に示す上側、つまり拡張開口部３０ｂ側とは反対側の端部と平面に視て重畳する配置とされている。従って、上層側コンタクトホール３１は、下層側コンタクトホール３０をなす拡張開口部３０ｂとは平面に視て非重畳の配置とされる。これら上層側コンタクトホール３１と下層側コンタクトホール３０（コンタクトホール本体３０ａ）とにおける互いに重なり合う部分を通して画素電極１８がドレイン電極１７ｃに対して接続されるようになっている。つまり、上層側コンタクトホール３１と下層側コンタクトホール３０とにおける互いに非重畳とされる部分は、画素電極１８とドレイン電極１７ｃとの接続に寄与することがないものとされる。
【００６４】
次に、非表示部側コンタクトホール３３の平面形状について説明する。非表示部側コンタクトホール３３は、図５に示すように、第１金属膜３４からなるゲート配線１９のゲート配線側接続部１９ａ、及び第２金属膜３８からなる接続配線３２の接続配線側接続部３２ａに対して平面に視て重畳するコンタクトホール本体３３ａと、コンタクトホール本体３３ａの一部を拡張することで形成される拡張開口部３３ｂとを有してなる。非表示部側コンタクトホール３３をなすコンタクトホール本体３３ａ及び拡張開口部３３ｂは、共に平面に視て縦長な方形状（長方形状）をなしており、その長さ方向（長辺方向）がＹ軸方向と、幅方向（短辺方向）がＸ軸方向とそれぞれ一致している。これらコンタクトホール本体３３ａ及び拡張開口部３３ｂは、ゲート配線側接続部１９ａ及び接続配線側接続部３２ａに対してそれぞれの全域が平面に視て重畳する配置とされる。このうち、拡張開口部３３ｂは、コンタクトホール本体３３ａのうちの図５に示す下側の一対の角部をそれぞれ拡張することで、一対が対称となる位置に形成されている。そして、非表示部側コンタクトホール３３をなすコンタクトホール本体３３ａと拡張開口部３３ｂとにおける互いに連なる開口縁によって上記した屈曲部４３が構成されている。非表示部側コンタクトホール３３の開口縁に形成された屈曲部４３の構成は、上記した下層側コンタクトホール３０の開口縁に形成された屈曲部４３と同様であるため、重複する説明は割愛する。
【００６５】
本実施形態は以上のような構造であり、続いてその作用を説明する。ここでは、液晶パネル１１のうち、アレイ基板１１ｂ上の構造物の製造手順について詳しく説明する。
【００６６】
アレイ基板１１ｂの表面に対して既知のフォトリソグラフィ法により各構造物を順次に積層形成している。具体的には、まず、アレイ基板１１ｂの表面に第１金属膜３４を成膜してこれをパターニングすることで、図８に示すように、ゲート電極１７ａ、ゲート配線１９及び補助容量配線２５などを形成した後、ゲート絶縁膜３５を成膜してこれをパターニングすることで、非表示部側コンタクトホール３３の下側部分を形成する（図５を参照）。次に、半導体膜３６を成膜してこれをパターニングすることで、チャネル部１７ｄなどを形成した後、保護膜３７を成膜してこれをパターニングすることで開口部１７ｅ１，１７ｅ２を有する保護部１７ｅを形成するとともに非表示部側コンタクトホール３３の上側部分を形成する。これらゲート絶縁膜３５及び保護膜３７の成膜工程（第１成膜工程）では、非表示部側コンタクトホール３３が形成されるのに伴って、その開口縁の一部である屈曲部４３も形成されている。
【００６７】
その後、第２金属膜３８を成膜してこれをパターニングすることで、ソース電極１７ｂ、ドレイン電極１７ｃ、ソース配線２０、ドレイン配線２９、及び接続配線３２などを形成する。このときに形成される接続配線３２は、接続配線側接続部３２ａがゲート絶縁膜３５及び保護膜３７に形成された非表示部側コンタクトホール３３を通して下層側のゲート配線１９のゲート配線側接続部１９ａに対して接続される（図６を参照）。その後、第１層間絶縁膜３９及び有機絶縁膜４０を成膜してこれをパターニングすることで、表示部側コンタクトホール２６をなす下層側コンタクトホール３０を形成する。これら第１層間絶縁膜３９及び有機絶縁膜４０の成膜工程（第１成膜工程）では、下層側コンタクトホール３０が形成されるのに伴って、その開口縁の一部である屈曲部４３も形成されている。また、これら第１層間絶縁膜３９及び有機絶縁膜４０の成膜工程では、有機絶縁膜４０を成膜する際に、マスクを用いて有機絶縁膜４０に開口をパターニングし、その開口が形成された有機絶縁膜４０をレジストとして用いて下層側の第１層間絶縁膜３９をエッチングすることで、有機絶縁膜４０の開口に連通する開口を第１層間絶縁膜３９に形成することができ、もって下層側コンタクトホール３０が形成される。
【００６８】
それから、第１透明電極膜２３を成膜してこれをパターニングすることで、開口部２２ａを有する共通電極２２を形成した後、第２層間絶縁膜４１を成膜してこれをパターニングすることで、表示部側コンタクトホール２６をなす上層側コンタクトホール３１を、下層側コンタクトホール３０の一部に連通する形で形成する。次に、第２透明電極膜２４を成膜してこれをパターニングすることで、スリット１８ａを有する画素電極１８を形成する。このときに形成される画素電極１８は、その画素電極側接続部１８ｂが表示部側コンタクトホール２６を通して下層側のドレイン電極１７ｃのドレイン電極側接続部１７ｃ１に対して接続される（図９及び図１０を参照）。その後に配向膜１１ｅを成膜する（図９から図１１を参照）。この配向膜１１ｅの成膜工程（第２成膜工程）では、次述するインクジェット装置４２が用いられている。
【００６９】
配向膜１１ｅの成膜に用いられるインクジェット装置４２は、図１２に示すように、基台４２ａと、基台４２ａ上に配されるとともにアレイ基板１１ｂが載置されるステージ４２ｂと、基台４２ａ上に配されるとともにステージ４２ｂに対してアレイ基板１１ｂを挟んで対向状に配されるノズルヘッド４２ｃとを少なくとも備えている。ノズルヘッド４２ｃには、図示しない供給タンクから配向膜１１ｅをなす溶液が供給されるとともに、溶液の液滴ＬＤを吐出可能な多数のノズル（吐出口）４２ｄがＸ軸方向に沿ってほぼ等間隔となるよう間欠的に並列する形で形成されている。ステージ４２ｂは、基台４２ａ上においてノズルヘッド４２ｃに対してＸ軸方向及びＹ軸方向について移動可能とされる。ノズルヘッド４２ｃは、基台４２ａ上においてステージ４２ｂに対してＺ軸方向について移動可能とされる。
【００７０】
配向膜１１ｅの成膜工程（第２成膜工程）では、図１２に示すように、上記した構成のインクジェット装置４２におけるステージ４２ｂ上にアレイ基板１１ｂを載置し、ステージ４２ｂをＸ軸方向及びＹ軸方向について移動させてノズルヘッド４２ｃに対する位置合わせを行うとともに、ノズルヘッド４２ｃをＺ軸方向について移動させてアレイ基板１１ｂに対して所定の間隔を空けて近接した位置に配置する。そして、アレイ基板１１ｂがノズルヘッド４２ｃを横切るようにステージ４２ｂをＹ軸方向について移動させつつ、ノズルヘッド４２ｃの各ノズル４２ｄから配向膜１１ｅをなす溶液の液滴ＬＤを間欠的に吐出させるようにする。各ノズル４２ｄから吐出された溶液の液滴ＬＤは、アレイ基板１１ｂの内面における所定の位置に着弾した後に、その板面上を拡がって隣り合う液滴ＬＤに繋がることで、配向膜１１ｅをなす溶液がアレイ基板１１ｂの全域（各コンタクトホール３０，３３と平面に視て重畳する部分、及び各コンタクトホール３０，３３とは平面に視て非重畳とされる部分）にわたってムラ無く塗布されるようになっている。その後、塗布された配向膜１１ｅをなす溶液を乾燥させてから、光配向処理（配向処理）を行うことで、配向膜１１ｅが形成される。
【００７１】
ここで、アレイ基板１１ｂの表面のうち、屈曲部４３を有する各コンタクトホール３０，３３とは平面に視て非重畳とされる部分に着弾した配向膜１１ｅをなす溶液の液滴ＬＤが、屈曲部４３を有する各コンタクトホール３０，３３内に向けて拡がる場合、当該液滴ＬＤが各コンタクトホール３０，３３の開口縁に有される屈曲部４３に達すると、図１３に示すように、その液滴ＬＤは、屈曲部４３によって各コンタクトホール３０，３３内に引き込まれ、例えば同図矢線に示す向きに移動されることになる。なお、図１３では液滴ＬＤを二点鎖線により示している。この液滴ＬＤが各コンタクトホール３０，３３内に引き込まれる作用が生じる理由は、例えば液滴ＬＤが屈曲部４３に達すると、平面に視て内側に優角をなす屈曲部４３により液滴ＬＤにはコンタクトホール本体３０ａ，３３ａ側と拡張開口部３０ｂ，３３ｂ側とに広角に拡がるような力が作用し、液滴ＬＤの表面張力が低下するため、と推考される。これは、例えば液滴ＬＤが各コンタクトホール３０，３３の開口縁のうち平面に視て内側に直角、つまり劣角をなす角部に達した場合には、液滴ＬＤには角部をなす一対の開口縁に挟まれた空間に収束させるような力が作用し、液滴ＬＤの表面張力が上記よりも相対的に大きくなるため、液滴ＬＤが各コンタクトホール３０，３３内に入り難くなっている、と考えられることからも合理的である。以上により、アレイ基板１１ｂのうち各コンタクトホール３０，３３と平面に視て重畳する部分にも配向膜１１ｅが形成され易くなって膜欠損が生じ難くなる。もって、モアレの発生が好適に抑制または防止されるようになっている。
【００７２】
しかも、屈曲部４３を有する各コンタクトホール３０，３３は、コンタクトホール本体３０ａ，３３ａを部分的に拡張することで形成される拡張開口部３０ｂ，３３ｂを有しており、これらコンタクトホール本体３０ａ，３３ａと拡張開口部３０ｂ，３３ｂとにおける互いに連なる開口縁４３ａ，４３ｂによって屈曲部４３が形成されるとともに、拡張開口部３０ｂ，３３ｂの開口間口がコンタクトホール本体３０ａ，３３ａの開口間口よりも狭くなっていることで次の作用及び効果が得られる。すなわち、配向膜１１ｅを成膜するにあたり、図１４に示すように、各コンタクトホール３０，３３を構成する拡張開口部３０ｂ，３３ｂにおいて互いに対向する一対の開口縁の両方にそれぞれ配向膜１１ｅをなす溶液の液滴ＬＤが到達した場合、コンタクトホール本体３０ａ，３３ａ側に比べると、両開口縁に達した液滴ＬＤ同士が繋がり易くなっており、液滴ＬＤ同士が繋がると表面張力によって表面積が小さくなるよう流動することで各コンタクトホール３０，３３内に流れ込み易くなる。なお、図１４では液滴ＬＤを二点鎖線により示している。しかも、拡張開口部３０ｂ，３３ｂのうちコンタクトホール本体３０ａ，３３ａの第１開口縁４３ａに連なる第２開口縁４３ｂが屈曲部４３を構成しているので、屈曲部４３によって担保される各コンタクトホール３０，３３への配向膜１１ｅをなす液滴ＬＤの流れ込み容易性とも相まって、各コンタクトホール３０，３３内に配向膜１１ｅをなす液滴ＬＤが一層流れ込み易くなる。これにより、配向膜１１ｅが各コンタクトホール３０，３３と平面に視て重畳される部分に一層配され易くなるとともに膜欠損が一層生じ難いものとされる。
【００７３】
さらには、画素電極１８の材料として透明電極材料を用いると、画素電極１８上での配向膜１１ｅをなす液滴ＬＤの流動性が低くなることを踏まえて、下層側コンタクトホール３０の拡張開口部３０ｂは、図８に示すように、画素電極１８とは平面に視て非重畳となる位置に配されているので、拡張開口部３０ｂに液滴ＬＤが流れ込み易くなっている。従って、屈曲部４３によって下層側コンタクトホール３０への配向膜１１ｅをなす溶液の流れ込み容易性が担保されていることも相まって、配向膜１１ｅをなす溶液が下層側コンタクトホール３０へと一層流れ込み易くなって膜欠損がより生じ難くなる。もって、モアレの抑制により有効となる。
【００７４】
その上、下層側コンタクトホール３０の拡張開口部３０ｂは、図８に示すように、第２金属膜３８からなるドレイン電極１７ｃや第１金属膜３４からなるゲート電極１７ａ、ゲート配線１９及び補助容量配線２５とは平面に視て非重畳となる位置に配されているので、ドレイン電極１７ｃ、ゲート電極１７ａ及びゲート配線１９と平面に視て重畳するコンタクトホール本体３０ａに比べると、これらをなす第１金属膜３４及び第２金属膜３８の膜厚を足した寸法分だけ開口深さ、つまり配向膜１１ｅをなす液滴ＬＤが供給される画素電極１８などの表面からの落差がより大きなものとされる。これにより、配向膜１１ｅをなす液滴ＬＤが拡張開口部３０ｂへとより流れ込み易くなり、膜欠損がより生じ難くなる。もって、モアレの抑制により有効となる。
【００７５】
上記のようにして配向膜１１ｅは、各コンタクトホール３０，３３内外にわたってアレイ基板１１ｂの板面内においてベタ状に形成される。ここで、下層側コンタクトホール３０における拡張開口部３０ｂは、図８に示すように、コンタクトホール本体３０ａのうち平面に視て画素電極１８の中心から相対的に遠い側の部分、詳しくは画素電極１８から最も遠い位置となる角部を拡張して形成されているから、仮に配向膜１１ｅのうち下層側コンタクトホール３０内に配された部分、特に拡張開口部３０ｂが周りの部分に対して凹状をなしているために配向機能を十分に発揮できなかった場合でも、拡張開口部３０ｂによって生じ得る配向不良が画素電極１８による表示に影響し難くなる。従って、拡張開口部３０ｂに起因して生じ得る表示品位の低下が抑制される。しかも、下層側コンタクトホール３０における拡張開口部３０ｂは、画素電極１８とは平面に視て非重畳となる位置に配されているから、仮に配向膜１１ｅのうち下層側コンタクトホール３０内に配された部分、特に拡張開口部３０ｂが周りの部分に対して凹状をなしているために配向機能を十分に発揮できなかった場合でも、拡張開口部３０ｂによって生じ得る配向不良が画素電極１８による表示に影響し難くなる。従って、拡張開口部３０ｂに起因して生じ得る表示品位の低下が抑制される。
【００７６】
以上説明したように本実施形態のアレイ基板（表示素子）１１ｂは、第１導電膜である第２金属膜３８または第１金属膜３４と、第１導電膜である第２金属膜３８または第１金属膜３４よりも上層側に配され、少なくとも一部が第１導電膜である第２金属膜３８または第１金属膜３４と平面に視て重畳する第２導電膜である第２透明電極膜２４または第２金属膜３８と、第１導電膜（第２金属膜３８または第１金属膜３４）と第２導電膜（第２透明電極膜２４または第２金属膜３８）との間に介在する形で配される絶縁膜であって、第１導電膜（第２金属膜３８または第１金属膜３４）及び第２導電膜（第２透明電極膜２４または第２金属膜３８）に対して平面に視て重畳する位置に開口する形で形成されることで第２導電膜（第２透明電極膜２４または第２金属膜３８）を第１導電膜（第２金属膜３８または第１金属膜３４）に対して接続するコンタクトホールである下層側コンタクトホール３０または非表示部側コンタクトホール３３を有する絶縁膜である第１層間絶縁膜３９及び有機絶縁膜４０またはゲート絶縁膜３５及び保護膜３７と、第２導電膜（第２透明電極膜２４または第２金属膜３８）よりも上層側に配され、コンタクトホール（下層側コンタクトホール３０または非表示部側コンタクトホール３３）と平面に視て重畳する部分と、コンタクトホール（下層側コンタクトホール３０または非表示部側コンタクトホール３３）とは平面に視て非重畳とされる部分とを有する配向膜１１ｅと、絶縁膜（第１層間絶縁膜３９及び有機絶縁膜４０またはゲート絶縁膜３５及び保護膜３７）におけるコンタクトホール（下層側コンタクトホール３０または非表示部側コンタクトホール３３）の開口縁の少なくとも一部により構成され、平面に視て内側に優角をなすよう屈曲する屈曲部４３と、を備える。
【００７７】
このようにすれば、第１導電膜（第２金属膜３８または第１金属膜３４）及び絶縁膜（第１層間絶縁膜３９及び有機絶縁膜４０またはゲート絶縁膜３５及び保護膜３７）を成膜した後に成膜される第２導電膜（第２透明電極膜２４または第２金属膜３８）は、絶縁膜（第１層間絶縁膜３９及び有機絶縁膜４０またはゲート絶縁膜３５及び保護膜３７）が有するコンタクトホール（下層側コンタクトホール３０または非表示部側コンタクトホール３３）を通して下層側の第１導電膜（第２金属膜３８または第１金属膜３４）に対して接続される。そして、第１導電膜（第２金属膜３８または第１金属膜３４）よりも上層側に配される配向膜１１ｅを成膜する際には、例えば配向膜１１ｅをなす溶液が第２導電膜（第２透明電極膜２４または第２金属膜３８）などの表面に対して局所的に供給されると、その溶液がコンタクトホール（下層側コンタクトホール３０または非表示部側コンタクトホール３３）外とコンタクトホール（下層側コンタクトホール３０または非表示部側コンタクトホール３３）内とにわたって拡がることで、コンタクトホール（下層側コンタクトホール３０または非表示部側コンタクトホール３３）と平面に視て重畳される部分と、コンタクトホール（下層側コンタクトホール３０または非表示部側コンタクトホール３３）と平面に視て非重畳とされる部分とを有する配向膜１１ｅが形成される。ここで、コンタクトホール（下層側コンタクトホール３０または非表示部側コンタクトホール３３）外に供給された配向膜１１ｅをなす溶液がコンタクトホール（下層側コンタクトホール３０または非表示部側コンタクトホール３３）内に向けて拡がる場合に、溶液がコンタクトホール（下層側コンタクトホール３０または非表示部側コンタクトホール３３）の開口縁において平面に視て内側に優角をなすよう屈曲する屈曲部４３に達すると、その溶液は屈曲部４３によりコンタクトホール（下層側コンタクトホール３０または非表示部側コンタクトホール３３）の内側に引き込まれるよう移動されることになる。この溶液が引き込まれる作用が生じる理由は、例えば溶液が屈曲部４３に達すると、平面に視て内側に優角をなす屈曲部４３により溶液には広角に拡がるような力が作用するため、と推考される。これにより、配向膜１１ｅがコンタクトホール（下層側コンタクトホール３０または非表示部側コンタクトホール３３）内にも配され易くなるとともに膜欠損が生じ難くなり、もってモアレの発生が好適に抑制または防止される。
【００７８】
また、絶縁膜（第１層間絶縁膜３９及び有機絶縁膜４０またはゲート絶縁膜３５及び保護膜３７）は、コンタクトホール（下層側コンタクトホール３０または非表示部側コンタクトホール３３）が、第１導電膜（第２金属膜３８または第１金属膜３４）及び第２導電膜（第２透明電極膜２４または第２金属膜３８）の少なくとも一部に対して平面に視て重畳するコンタクトホール本体３０ａ，３３ａと、コンタクトホール本体３０ａ，３３ａの一部を拡張することで形成される拡張開口部３０ｂ，３３ｂとを有してなるとともに、コンタクトホール本体３０ａ，３３ａと拡張開口部３０ｂ，３３ｂとにおける互いに連なる開口縁４３ａ，４３ｂによって屈曲部４３が構成され、且つ拡張開口部３０ｂ，３３ｂの開口間口がコンタクトホール本体３０ａ，３３ａの開口間口よりも狭くなるよう形成されている。まず、拡張開口部３０ｂ，３３ｂ及びコンタクトホール本体３０ａ，３３ａの開口間口は、例えばそれぞれ互いに対向する一対の開口縁間の間隔によって定義される。ここで、配向膜１１ｅを成膜するにあたり、コンタクトホール本体３０ａ，３３ａを構成する拡張開口部３０ｂ，３３ｂにおいて互いに対向する一対の開口縁の両方にそれぞれ配向膜１１ｅをなす溶液が到達した場合、コンタクトホール本体３０ａ，３３ａ側に比べると、両開口縁に達した溶液同士が繋がり易くなっており、溶液同士が繋がると表面張力によって表面積が小さくなるよう流動することでコンタクトホール（下層側コンタクトホール３０または非表示部側コンタクトホール３３）内に流れ込み易くなる。しかも、拡張開口部３０ｂ，３３ｂのうちコンタクトホール本体３０ａ，３３ａの第１開口縁４３ａに連なる第２開口縁４３ｂが屈曲部４３を構成しているので、屈曲部４３によって担保されるコンタクトホール（下層側コンタクトホール３０または非表示部側コンタクトホール３３）への配向膜１１ｅをなす溶液の流れ込み容易性とも相まって、コンタクトホール（下層側コンタクトホール３０または非表示部側コンタクトホール３３）内に配向膜１１ｅをなす溶液が一層流れ込み易くなる。これにより、配向膜１１ｅがコンタクトホール（下層側コンタクトホール３０または非表示部側コンタクトホール３３）と平面に視て重畳される部分に一層配され易くなるとともに膜欠損が一層生じ難いものとされる。
【００７９】
また、第２導電膜である第２透明電極膜２４は、透明電極材料からなる画素電極１８を構成しており、絶縁膜である第１層間絶縁膜３９及び有機絶縁膜４０は、拡張開口部３０ｂがコンタクトホール本体３０ａのうち平面に視て画素電極１８の中心から相対的に遠い側の部分を拡張して形成された構成とされる。配向膜１１ｅのうちコンタクトホール本体３０ａと平面に視て重畳する部分は、非重畳とされる部分に対して凹んだ形状とされているため、配向機能を十分に発揮できない場合があり、中でもコンタクトホール本体３０ａを拡張して形成された拡張開口部３０ｂでは顕著となる傾向がある。その点、上記したように拡張開口部３０ｂがコンタクトホール本体３０ａのうち平面に視て画素電極１８の中心から相対的に遠い側の部分を拡張して形成されているので、拡張開口部３０ｂによって生じ得る配向不良が画素電極１８による表示に影響し難くなる。従って、拡張開口部３０ｂに起因して生じ得る表示品位の低下が抑制される。
【００８０】
また、絶縁膜である第１層間絶縁膜３９及び有機絶縁膜４０は、拡張開口部３０ｂがコンタクトホール本体３０ａにおける角部を拡張して形成された構成とされる。このようにすれば、拡張開口部３０ｂがコンタクトホール本体３０ａにおいて画素電極１８から極力遠い位置に配されるので、拡張開口部３０ｂによって生じ得る配向不良が画素電極１８による表示により影響し難くなる。
【００８１】
また、第２導電膜である第２透明電極膜２４は、透明電極材料からなる画素電極１８を構成しており、絶縁膜である第１層間絶縁膜３９及び有機絶縁膜４０は、拡張開口部３０ｂが画素電極１８とは平面に視て非重畳となる位置に配された構成とされる。配向膜１１ｅのうちコンタクトホールである下層側コンタクトホール３０と平面に視て重畳する部分は、非重畳とされる部分に対して凹んだ形状とされているため、配向機能を十分に発揮できない場合があり、中でもコンタクトホール本体３０ａを拡張して形成された拡張開口部３０ｂでは顕著となる傾向がある。その点、上記したように拡張開口部３０ｂが画素電極１８とは平面に視て非重畳となる位置に配されているので、拡張開口部３０ｂによって生じ得る配向不良が画素電極１８による表示に影響し難くなる。従って、拡張開口部３０ｂに起因して生じ得る表示品位の低下が抑制される。また、画素電極１８の材料として透明電極材料を用いると、画素電極１８上での配向膜１１ｅをなす溶液の流動性が低くなる場合があるものの、上記したようにコンタクトホールである下層側コンタクトホール３０への配向膜１１ｅをなす溶液の流れ込み容易性を担保するための屈曲部４３を有する拡張開口部３０ｂが画素電極１８とは平面に視て非重畳となる配置とされることで、拡張開口部３０ｂに向かう溶液の流動性が高く保たれる。これにより、配向膜１１ｅをなす溶液がコンタクトホールである下層側コンタクトホール３０へと一層流れ込み易くなる。
【００８２】
また、絶縁膜である第１層間絶縁膜３９及び有機絶縁膜４０は、拡張開口部３０ｂが第１導電膜である第２金属膜３８とは平面に視て非重畳となる位置に配された構成とされる。このようにすれば、拡張開口部３０ｂでは、コンタクトホール本体３０ａに比べると、第１導電膜である第２金属膜３８と平面に視て非重畳とされるために開口深さ、つまり配向膜１１ｅをなす溶液が供給される第２導電膜である第２透明電極膜２４などの表面からの落差がより大きなものとされる。従って、配向膜１１ｅをなす溶液が拡張開口部３０ｂへとより流れ込み易くなる。
【００８３】
また、第１導電膜である第２金属膜３８よりも下層側に配され、少なくとも一部が第１導電膜である第２金属膜３８と平面に視て重畳する第３導電膜である第１金属膜３４を備えており、絶縁膜である第１層間絶縁膜３９及び有機絶縁膜４０は、コンタクトホール本体３０ａの少なくとも一部が第３導電膜である第１金属膜３４に対して平面に視て重畳する位置に配されるのに対し、拡張開口部３０ｂが第３導電膜である第１金属膜３４とは平面に視て非重畳とされる位置に配されるよう形成されている。このようにすれば、拡張開口部３０ｂでは、コンタクトホール本体３０ａに比べると、第３導電膜である第１金属膜３４と平面に視て非重畳とされるために開口深さ、つまり配向膜１１ｅをなす溶液が供給される第２導電膜である第２透明電極膜２４などの表面からの落差がより大きなものとされる。従って、配向膜１１ｅをなす溶液が拡張開口部３０ｂへとより流れ込み易くなる。
【００８４】
また、第１導電膜である第２金属膜３８は、少なくともソース電極１７ｂとドレイン電極１７ｃとをそれぞれ構成するのに対し、第３導電膜である第１金属膜３４は、少なくともソース電極１７ｂとドレイン電極１７ｃとに対してそれぞれ平面に視て重畳するゲート電極１７ａと、ゲート電極１７ａに対して平面に視て離間した位置に配される補助容量配線２５とをそれぞれ構成しており、絶縁膜である第１層間絶縁膜３９及び有機絶縁膜４０は、コンタクトホール本体３０ａの少なくとも一部がドレイン電極１７ｃ及びゲート電極１７ａに対して平面に視て重畳する位置に配されるのに対し、拡張開口部３０ｂが平面に視てゲート電極１７ａと補助容量配線２５とに挟まれた位置に配されるよう形成されている。このようにすれば、拡張開口部３０ｂは、平面に視てゲート電極１７ａと補助容量配線２５とに挟まれた配置とされることで、配向膜１１ｅをなす溶液が供給される第２導電膜である第２透明電極膜２４などの表面において谷間を構成することになる。従って、第２導電膜である第２透明電極膜２４などの表面において、ゲート電極１７ａ及び補助容量配線２５と平面に視て重畳する部分から配向膜１１ｅをなす溶液が拡張開口部３０ｂへと一層流れ込み易くなる。
【００８５】
また、第１導電膜である第２金属膜３８よりも下層側に配され、少なくとも一部が第１導電膜である第２金属膜３８と平面に視て重畳する第３導電膜である第１金属膜３４と、第３導電膜である第１金属膜３４と第１導電膜である第２金属膜３８との間に介在する形で配される半導体膜３６とを備えており、第１導電膜である第２金属膜３８は、少なくともソース電極１７ｂとドレイン電極１７ｃとをそれぞれ構成し、第３導電膜である第１金属膜３４は、少なくともソース電極１７ｂとドレイン電極１７ｃとに対してそれぞれ平面に視て重畳するゲート電極１７ａを構成し、半導体膜３６は、ソース電極１７ｂとドレイン電極１７ｃとにそれぞれ接続されるチャネル部１７ｄを構成するとともに酸化物半導体からなる。このようにすれば、ゲート電極１７ａに電圧が印加されると、酸化物半導体膜からなるチャネル部１７ｄを介してソース電極１７ｂとドレイン電極１７ｃとの間に電流が流される。この酸化物半導体膜は、アモルファスシリコン薄膜などに比べると、電子移動度が高くなっているので、例えばチャネル部１７ｄの幅を狭くしても、ソース電極１７ｂとドレイン電極１７ｃとの間に十分な電流を流すことが可能とされる。チャネル部１７ｄの幅が狭くなれば、ソース電極１７ｂ、ドレイン電極１７ｃ及びゲート電極１７ａについても小型化されるので、当該アレイ基板１１ｂの高精細化を図る上で好適とされる。このように当該アレイ基板１１ｂが高精細化されると、コンタクトホール（下層側コンタクトホール３０または非表示部側コンタクトホール３３）の数も多くなる傾向となるため、配向膜１１ｅにも膜欠損が生じ易くなる。その点、上記したように絶縁膜（第１層間絶縁膜３９及び有機絶縁膜４０またはゲート絶縁膜３５及び保護膜３７）におけるコンタクトホール（下層側コンタクトホール３０または非表示部側コンタクトホール３３）の開口縁に平面に視て内側に優角をなすよう屈曲する屈曲部４３が含まれる構成とすることで、配向膜１１ｅをなす溶液がコンタクトホール（下層側コンタクトホール３０または非表示部側コンタクトホール３３）内に入り易くなるので、配向膜１１ｅに膜欠損が生じ難くすることができて好適である。
【００８６】
また、本実施形態に係る液晶パネル（表示装置）１１は、上記したアレイ基板１１ｂと、アレイ基板１１ｂと対向するように配置されたＣＦ基板（対向基板）１１ａと、アレイ基板１１ｂとＣＦ基板１１ａとの間に配置された液晶層（液晶）１１ｃとを備える。このような液晶パネル１１によると、上記したアレイ基板１１ｂが有する配向膜１１ｅに膜欠損が生じ難く、モアレの発生が好適に抑制または防止されるものであるから、液晶層１１ｃの配向状態を良好なものとすることができて表示品位に優れる。
【００８７】
また、本実施形態に係るアレイ基板１１ｂの製造方法は、ガラス基板（基板）ＧＳ上に第１導電膜（第２金属膜３８または第１金属膜３４）、絶縁膜（第１層間絶縁膜３９及び有機絶縁膜４０またはゲート絶縁膜３５及び保護膜３７）、第２導電膜（第２透明電極膜２４または第２金属膜３８）の順で成膜し、絶縁膜（第１層間絶縁膜３９及び有機絶縁膜４０またはゲート絶縁膜３５及び保護膜３７）については、第１導電膜（第２金属膜３８または第１金属膜３４）及び第２導電膜（第２透明電極膜２４または第２金属膜３８）に対して平面に視て重畳する位置に開口するとともに第２導電膜（第２透明電極膜２４または第２金属膜３８）を第１導電膜（第２金属膜３８または第１金属膜３４）に対して接続するためのコンタクトホール（下層側コンタクトホール３０または非表示部側コンタクトホール３３）を形成し、且つコンタクトホール（下層側コンタクトホール３０または非表示部側コンタクトホール３３）の開口縁の少なくとも一部に平面に視て内側に優角をなすよう屈曲する屈曲部４３を含ませる第１成膜工程と、第２導電膜（第２透明電極膜２４または第２金属膜３８）の上層側に、コンタクトホール（下層側コンタクトホール３０または非表示部側コンタクトホール３３）と平面に視て重畳する部分と、コンタクトホール（下層側コンタクトホール３０または非表示部側コンタクトホール３３）とは平面に視て非重畳とされる部分とを有する配向膜１１ｅを成膜する第２成膜工程と、を備える。
【００８８】
このようにすれば、第１成膜工程では、ガラス基板ＧＳ上に第１導電膜（第２金属膜３８または第１金属膜３４）及び絶縁膜（第１層間絶縁膜３９及び有機絶縁膜４０またはゲート絶縁膜３５及び保護膜３７）を成膜した後に第２導電膜（第２透明電極膜２４または第２金属膜３８）を成膜すると、第２導電膜（第２透明電極膜２４または第２金属膜３８）は絶縁膜（第１層間絶縁膜３９及び有機絶縁膜４０またはゲート絶縁膜３５及び保護膜３７）に形成されたコンタクトホール（下層側コンタクトホール３０または非表示部側コンタクトホール３３）を通して下層側の第１導電膜（第２金属膜３８または第１金属膜３４）に対して接続される。続いて行われる第２成膜工程において、第１導電膜（第２金属膜３８または第１金属膜３４）よりも上層側に配向膜１１ｅを成膜するにあたり、例えば配向膜１１ｅをなす溶液が第２導電膜（第２透明電極膜２４または第２金属膜３８）などの表面に対して局所的に供給されると、その溶液がコンタクトホール（下層側コンタクトホール３０または非表示部側コンタクトホール３３）外とコンタクトホール（下層側コンタクトホール３０または非表示部側コンタクトホール３３）内とにわたって拡がることで、コンタクトホール（下層側コンタクトホール３０または非表示部側コンタクトホール３３）と平面に視て重畳される部分と、コンタクトホール（下層側コンタクトホール３０または非表示部側コンタクトホール３３）と平面に視て非重畳とされる部分とを有する配向膜１１ｅが形成される。ここで、コンタクトホール（下層側コンタクトホール３０または非表示部側コンタクトホール３３）外に供給された配向膜１１ｅをなす溶液がコンタクトホール（下層側コンタクトホール３０または非表示部側コンタクトホール３３）内に向けて拡がる場合に、溶液がコンタクトホール（下層側コンタクトホール３０または非表示部側コンタクトホール３３）の開口縁において平面に視て内側に優角をなすよう屈曲する屈曲部４３に達すると、その溶液は屈曲部４３によりコンタクトホール（下層側コンタクトホール３０または非表示部側コンタクトホール３３）の内側に引き込まれるよう移動されることになる。この溶液が引き込まれる作用が生じる理由は、例えば溶液が屈曲部４３に達すると、平面に視て内側に優角をなす屈曲部４３により溶液には広角に拡がるような力が作用するため、と推考される。これにより、配向膜１１ｅがコンタクトホール（下層側コンタクトホール３０または非表示部側コンタクトホール３３）内にも配され易くなるとともに膜欠損が生じ難くなり、もってモアレの発生が好適に抑制または防止される。
【００８９】
また、第２成膜工程では、インクジェット装置４２を用いるようにし、インクジェット装置４２に備えられる複数のノズル４２ｄから配向膜１１ｅをなす溶液を第２導電膜（第２透明電極膜２４または第２金属膜３８）の上層側にそれぞれ吐出するようにしている。このようにすれば、第２成膜工程においてインクジェット装置４２に備えられる複数のノズル４２ｄから吐出された配向膜１１ｅをなす溶液は、第２導電膜（第２透明電極膜２４または第２金属膜３８）の上層側に着弾した後にその表面上に拡がる。ここで、インクジェット装置４２に備えられる複数のノズル４２ｄは、その配置がコンタクトホール（下層側コンタクトホール３０または非表示部側コンタクトホール３３）の配置と干渉する場合があり、その場合に各ノズル４２ｄから吐出された配向膜１１ｅをなす溶液が十分に拡がらないとモアレが生じることが懸念される。その点、上記したようにコンタクトホール（下層側コンタクトホール３０または非表示部側コンタクトホール３３）の開口縁に屈曲部４３が含まれることで、配向膜１１ｅをなす溶液が屈曲部４３によってコンタクトホール（下層側コンタクトホール３０または非表示部側コンタクトホール３３）内に引き込まれるので、配向膜１１ｅがコンタクトホール（下層側コンタクトホール３０または非表示部側コンタクトホール３３）内に形成され易くなり、もってモアレの発生が好適に抑制または防止される。
【００９０】
＜実施形態２＞
本発明の実施形態２を図１５から図１８によって説明する。この実施形態２では、有機絶縁膜１４０における下層側コンタクトホール１３０の開口縁の断面形状を変更したものを示す。なお、上記した実施形態１と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。
【００９１】
有機絶縁膜１４０における下層側コンタクトホール１３０の開口縁は、図１５及び図１６に示すように、その断面形状が段階的に立ち上がる形態とされている。詳しくは、有機絶縁膜１４０における下層側コンタクトホール１３０の開口縁は、相対的に下層側に配され且つ傾斜角度が相対的に大きくて急斜面とされた第１傾斜部４４と、相対的に上層側に配され且つ傾斜角度が相対的に小さくて緩斜面とされた第２傾斜部４５とを有している。これら第１傾斜部４４及び第２傾斜部４５は、有機絶縁膜１４０における下層側コンタクトホール１３０の開口縁の全周にわたって形成されており、同開口縁に含まれる屈曲部１４３にも形成されている。
【００９２】
上記のような断面形状とされる有機絶縁膜１４０を形成するため、本実施形態では、有機絶縁膜１４０のパターニングを行うに際してフォトマスクとしてグレートーンマスク４６を用いている。グレートーンマスク４６は、図１７及び図１８に示すように、透明なガラス基材４６ａと、ガラス基材４６ａの板面に形成されて光源からの露光光を遮光する遮光膜４６ｂとからなり、遮光膜４６ｂの一部に露光装置の解像度以下のスリット４６ｂ１を形成することで、露光光の透過率が例えば１０％〜７０％程度とされる半透過領域ＨＴＡを備えている。なお、遮光膜４６ｂの一部には、露光装置の解像度以上の開口が形成されており、それによりグレートーンマスク４６には露光光の透過率がほぼ１００％とされる透過領域ＴＡが備えられている。このような構成のグレートーンマスク４６を介して光源からの露光光が有機絶縁膜１４０に照射されると、有機絶縁膜１４０のうちの透過領域ＴＡと平面に視て重畳する部分に、下層側コンタクトホール１３０の開口部分と、開口縁をなす第１傾斜部４４とが形成されるのに対し、半透過領域ＨＴＡと平面に視て重畳する部分に、下層側コンタクトホール１３０の開口縁をなす第２傾斜部４５が形成される。
【００９３】
上記のようにして有機絶縁膜１４０における下層側コンタクトホール１３０の開口縁に第１傾斜部４４及び第２傾斜部４５を形成した後に、図１５及び図１６に示すように、共通電極１２３、第２層間絶縁膜１４１、画素電極１１８、及び配向膜１１１ｅがそれぞれ順次に形成される。このうち、配向膜１１１ｅの成膜時においては、下層側コンタクトホール１３０外に着弾した配向膜１１１ｅをなす溶液の液滴が下層側コンタクトホール１３０内に向けて拡がる際に、まず、下層側コンタクトホール１３０の開口縁（屈曲部１４３を含む）のうちの傾斜が緩やかな第２傾斜部４５を上記液滴が通ることで、下層側コンタクトホール１３０内へとスムーズに流れ込むようになっている。このように第２傾斜部４５によって流動性が高められた配向膜１１１ｅをなす溶液の液滴は、続いて第１傾斜部４４を通って下層側コンタクトホール１３０内へと流れ込む。これにより、配向膜１１１ｅに膜欠損がより生じ難いものとなる。
【００９４】
以上説明したように本実施形態に係るアレイ基板は、絶縁膜には、有機樹脂材料からなる有機絶縁膜１４０が少なくとも含まれており、コンタクトホールである下層側コンタクトホール１３０の開口縁のうち少なくとも屈曲部１４３は、断面形状が段階的に立ち上がる形態とされていて、相対的に下層側に配され且つ傾斜角度が相対的に大きな第１傾斜部４４と、相対的に上層側に配され且つ傾斜角度が相対的に小さな第２傾斜部４５とを少なくとも有している。このようにすれば、仮に屈曲部を全て第１傾斜部により構成した場合には、その傾斜が急であるために配向膜１１１ｅをなす溶液が第１傾斜部側に移動し難くなるのに比べると、第１傾斜部４４よりも上層側に傾斜が緩やかな第２傾斜部４５を配することで、配向膜１１１ｅをなす溶液の移動が円滑化される。従って、配向膜１１１ｅを成膜するにあたり、コンタクトホールである下層側コンタクトホール１３０の開口縁のうちの屈曲部１４３に配向膜１１１ｅをなす溶液が到達すると、その溶液は、相対的に上層側に配され且つ傾斜角度が相対的に小さな第２傾斜部４５によってコンタクトホールである下層側コンタクトホール１３０内への流れ込みが促されるので、スムーズに第１傾斜部４４を通ってコンタクトホールである下層側コンタクトホール１３０内に入るものとされる。また、仮に屈曲部を全て第２傾斜部により構成した場合にコンタクトホールである下層側コンタクトホール１３０の開口縁の幅が広くなりがちとなるのに比べると、コンタクトホールである下層側コンタクトホール１３０が小型の場合に好適となる。
【００９５】
また、本実施形態に係るアレイ基板の製造方法は、第１成膜工程では、絶縁膜として感光性有機樹脂材料からなる有機絶縁膜１４０を少なくとも成膜するとともに、フォトマスクとしてスリット４６ｂ１による半透過領域ＨＴＡを含むグレートーンマスク４６を用いて有機絶縁膜１４０を露光することで、コンタクトホールである下層側コンタクトホール１３０の開口縁のうちの少なくとも屈曲部１４３を、その断面形状が段階的に立ち上がる形態とし、相対的に下層側に配され且つ傾斜角度が相対的に大きな第１傾斜部４４と、相対的に上層側に配され且つ傾斜角度が相対的に小さな第２傾斜部４５とが少なくとも有されるよう形成している。このようにすれば、第１成膜工程において成膜される感光性有機樹脂材料からなる有機絶縁膜１４０は、スリット４６ｂ１による半透過領域ＨＴＡを含むグレートーンマスク４６を用いて露光されることで、屈曲部１４３の断面形状が段階的に立ち上がる形態とされるとともに、屈曲部１４３に相対的に下層側に配され且つ傾斜角度が相対的に大きな第１傾斜部４４と、相対的に上層側に配され且つ傾斜角度が相対的に小さな第２傾斜部４５とが少なくとも有されるよう形成される。ここで、仮に屈曲部を全て第１傾斜部により構成した場合には、その傾斜が急であるために配向膜１１１ｅをなす溶液が第１傾斜部側に移動し難くなるのに比べると、第１傾斜部４４よりも上層側に傾斜が緩やかな第２傾斜部４５を配することで、配向膜１１１ｅをなす溶液の移動が円滑化される。従って、配向膜１１１ｅを成膜するにあたり、コンタクトホールである下層側コンタクトホール１３０の開口縁のうちの屈曲部１４３に配向膜１１１ｅをなす溶液が到達すると、その溶液は、相対的に上層側に配され且つ傾斜角度が相対的に小さな第２傾斜部４５によってコンタクトホールである下層側コンタクトホール１３０内への流れ込みが促されるので、スムーズに第１傾斜部４４を通ってコンタクトホールである下層側コンタクトホール３０内に入るものとされる。また、仮に屈曲部を全て第２傾斜部により構成した場合にコンタクトホールである下層側コンタクトホール１３０の開口縁の幅が広くなりがちとなるのに比べると、コンタクトホールである下層側コンタクトホール１３０が小型の場合に好適となる。
【００９６】
＜実施形態３＞
本発明の実施形態３を図１９によって説明する。この実施形態３では、配向膜を成膜するのにスクリーン印刷装置４７を用いたものを示す。なお、上記した実施形態１と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。
【００９７】
本実施形態に係るスクリーン印刷装置（孔版印刷装置）４７は、図１９に示すように、アレイ基板２１１ｂとの間に所定の間隔を空けつつ対向状に配されるメッシュ状のスクリーン（孔版）４７ａと、スクリーン４７ａの外周縁部に取り付けられる枠状をなすフレーム４７ｂと、スクリーン４７ａ上においてその面に沿って左右に往復移動可能な一対のスキージ４７ｃ，４７ｄと、アレイ基板２１１ｂを載置するステージ４７ｅとを少なくとも備えている。スクリーン４７ａには、その面に沿って多数の孔部４７ａ１が所定の規則性を有するよう間欠的に並列配置されている。スクリーン４７ａは、フレーム４７ｂにより支持された外周縁部よりも中央側部分が、各スキージ４７ｃ，４７ｄによって押圧されることでＺ軸方向について弾性変形されるようになっている。一対のスキージ４７ｃ，４７ｄのうちの第１スキージ４７ｃは、スクリーン４７ａ上を図１９に示す左側に移動されることで、供給された配向膜をなす溶液Ｌを押し拡げて各孔部４７ａ１内に充填することが可能とされる。第２スキージ４７ｄは、スクリーン４７ａをアレイ基板２１１ｂ側に押し付けつつ図１９に示す右側に移動されることで、各孔部４７ａ１内に充填された配向膜をなす溶液Ｌをアレイ基板２１１ｂ側に転写することが可能とされる。このようなスクリーン印刷装置４７を用いてアレイ基板２１１ｂに配向膜を形成した場合であっても、上記した実施形態１に記載したものと同様の作用及び効果を得ることができる。
【００９８】
以上説明したように本実施形態に係るアレイ基板２１１ｂの製造方法は、第２成膜工程では、スクリーン印刷装置（孔版印刷装置）４７を用いるようにし、スクリーン印刷装置４７に備えられるメッシュ状のスクリーン（孔版）４７ａ上に配向膜をなす溶液Ｌを供給しつつスクリーン４７ａ上にてスキージ４７ｃ，４７ｄを移動させることで、配向膜をなす溶液Ｌをスクリーン４７ａの孔部４７ａ１から第２導電膜（第２透明電極膜または第２金属膜）の上層側に印刷するようにしている。このようにすれば、第２成膜工程においてスクリーン印刷装置４７に備えられるメッシュ状のスクリーン４７ａ上に供給された配向膜をなす溶液Ｌは、スクリーン４７ａ上にて移動されるスキージ４７ｃ，４７ｄによってスクリーン４７ａの孔部４７ａ１から第２導電膜（第２透明電極膜または第２金属膜）の上層側に印刷された後にその表面上に拡がる。ここで、スクリーン印刷装置４７のスクリーン４７ａは、孔部４７ａ１を有するとともにメッシュ状をなしているため、その孔部４７ａ１の配置がコンタクトホール（下層側コンタクトホールまたは非表示部側コンタクトホール）の配置と干渉する場合があり、その場合に各孔部４７ａ１を通された配向膜をなす溶液Ｌが十分に拡がらないとモアレが生じることが懸念される。その点、上記したようにコンタクトホール（下層側コンタクトホールまたは非表示部側コンタクトホール）の開口縁に屈曲部が含まれることで、配向膜をなす溶液Ｌが屈曲部によってコンタクトホール（下層側コンタクトホールまたは非表示部側コンタクトホール）内に引き込まれるので、配向膜がコンタクトホール（下層側コンタクトホールまたは非表示部側コンタクトホール）内に形成され易くなり、もってモアレの発生が好適に抑制または防止される。
【００９９】
＜実施形態４＞
本発明の実施形態４を図２０によって説明する。この実施形態４では、下層側コンタクトホール３３０の平面配置を変更したものを示す。なお、上記した実施形態１と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。
【０１００】
本実施形態に係る下層側コンタクトホール３３０は、図２０に示すように、拡張開口部３３０ｂがその全域にわたって画素電極３１８、ゲート配線３１９（ゲート電極３１７ａ）、及びドレイン電極３１７ｃに対してそれぞれ平面に視て重畳するよう配されている。さらには、下層側コンタクトホール３３０は、拡張開口部３３０ｂの一部が上層側コンタクトホール３３１と平面に視て重畳するよう配されている。
【０１０１】
＜実施形態５＞
本発明の実施形態５を図２１によって説明する。この実施形態５では、下層側コンタクトホール４３０の平面配置を変更したものを示す。なお、上記した実施形態１と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。
【０１０２】
本実施形態に係る下層側コンタクトホール４３０は、図２１に示すように、拡張開口部４３０ｂの一部が画素電極４１８、ゲート配線４１９（ゲート電極４１７ａ）、及びドレイン電極４１７ｃに対してそれぞれ平面に視て重畳するよう配されている。拡張開口部４３０ｂにおける画素電極４１８、ゲート配線４１９、及びドレイン電極４１７ｃに対する重畳面積は、それぞれ異なっており、ゲート配線４１９に対する重畳面積が最大とされるのに対し、ドレイン電極４１７ｃに対する重畳面積が最小とされる。
【０１０３】
＜実施形態６＞
本発明の実施形態６を図２２によって説明する。この実施形態６では、下層側コンタクトホール５３０の平面形状を変更したものを示す。なお、上記した実施形態１と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。
【０１０４】
本実施形態に係る下層側コンタクトホール５３０は、図２２に示すように、一対の拡張開口部５３０ｂが、コンタクトホール本体５３０ａのうちの図２２に示す上側の各角部を拡張して形成された構成とされる。つまり、この下層側コンタクトホール５３０では、拡張開口部５３０ｂがコンタクトホール本体５３０ａのうち、図示しない画素電極の中心に近い側の角部を拡張することで形成されている。
【０１０５】
＜実施形態７＞
本発明の実施形態７を図２３によって説明する。この実施形態７では、下層側コンタクトホール６３０の平面形状を変更したものを示す。なお、上記した実施形態１と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。
【０１０６】
本実施形態に係る下層側コンタクトホール６３０は、図２３に示すように、その長さ方向がＸ軸方向と、幅方向がＹ軸方向とそれぞれ一致する姿勢で配されており、一対の拡張開口部６３０ｂがコンタクトホール本体６３０ａのうちの図２３に示す右側の各角部を拡張して形成された構成とされる。つまり、この下層側コンタクトホール６３０は、上記した実施形態１に記載した上層側コンタクトホールを平面に視て右向きに９０°回動させた配置構成とされる。
【０１０７】
＜実施形態８＞
本発明の実施形態８を図２４によって説明する。この実施形態８では、下層側コンタクトホール７３０の平面形状を変更したものを示す。なお、上記した実施形態１と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。
【０１０８】
本実施形態に係る下層側コンタクトホール７３０は、図２４に示すように、一対の拡張開口部７３０ｂがコンタクトホール本体７３０ａにおける長さ方向についての中央部（非角部）を拡張して形成された構成とされる。このような構成では、コンタクトホール本体７３０ａの開口縁のうちの長さ方向に沿う第１開口縁７４３ａが、拡張開口部７３０ｂによって一対の分断されることになるので、一対の第１開口縁７４３ａが、それぞれ拡張開口部７３０ｂの開口縁のうちの幅方向に沿う一対の第２開口縁７４３ｂに対してそれぞれ連ねられるとともに、互いに連なる第１開口縁７４３ａ及び第２開口縁７４３ｂによって屈曲部７４３が構成されている。つまり、本実施形態では、１つの拡張開口部７３０ｂによって２つの屈曲部７４３が形成されるようになっている。これにより、配向膜の成膜時に配向膜をなす溶液の液滴が下層側コンタクトホール７３０内へと一層引き込まれ易くなっている。
【０１０９】
＜実施形態９＞
本発明の実施形態９を図２５によって説明する。この実施形態９では、下層側コンタクトホール８３０の平面形状を変更したものを示す。なお、上記した実施形態１と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。
【０１１０】
本実施形態に係る下層側コンタクトホール８３０は、図２５に示すように、一対の拡張開口部８３０ｂの開口縁のうち、屈曲部８４３を構成する第２開口縁８４３ｂが平面に視て傾斜状をなすよう形成されている。第２開口縁８４３ｂは、第１開口縁８４３ａに対して内側になす角度θが１８０°〜２７０°の範囲で優角となるよう、平面に視て傾斜している。言い換えると、第２開口縁８４３ｂは、第１開口縁８４３ａに対して外側になす角度が９０°〜１８０°の範囲、つまり鈍角となるよう、平面に視て傾斜している。
【０１１１】
＜実施形態１０＞
本発明の実施形態１０を図２６によって説明する。この実施形態１０では、下層側コンタクトホール９３０の平面形状を変更したものを示す。なお、上記した実施形態１と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。
【０１１２】
本実施形態に係る下層側コンタクトホール９３０は、図２６に示すように、一対の拡張開口部９３０ｂの開口縁のうち、屈曲部９４３を構成する第２開口縁９４３ｂが平面に視て傾斜状をなすよう形成されている。第２開口縁９４３ｂは、第１開口縁９４３ａに対して内側になす角度θが２７０°〜３６０°の範囲で優角となるよう、平面に視て傾斜している。言い換えると、第２開口縁９４３ｂは、第１開口縁９４３ａに対して外側になす角度が０°〜９０°の範囲、つまり鋭角となるよう、平面に視て傾斜している。
【０１１３】
＜実施形態１１＞
本発明の実施形態１１を図２７によって説明する。この実施形態１１では、下層側コンタクトホール１０３０の平面形状を変更したものを示す。なお、上記した実施形態１と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。
【０１１４】
本実施形態に係る下層側コンタクトホール１０３０は、図２７に示すように、一対の拡張開口部１０３０ｂがコンタクトホール本体１０３０ａのうち対角をなす各角部を拡張して形成された構成とされる。
【０１１５】
＜実施形態１２＞
本発明の実施形態１２を図２８によって説明する。この実施形態１２では、下層側コンタクトホール１１３０の平面形状を変更したものを示す。なお、上記した実施形態１と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。
【０１１６】
本実施形態に係る下層側コンタクトホール１１３０は、図２８に示すように、コンタクトホール本体１１３０ａにおける４つの各角部をそれぞれ拡張することで４つの拡張開口部１１３０ｂが形成された構成とされる。屈曲部１１４３は、コンタクトホール本体１１３０ａと各拡張開口部１１３０ｂとに跨る形で４つ形成されている。言い換えると、下層側コンタクトホール１１３０は、その長さ方向についての両端部（拡張開口部１１３０ｂの形成部位）を除いた中央部を窄めた形状とされており、その開口縁に両端部と中央部とに跨る形で４つの屈曲部１１４３が形成されている。
【０１１７】
＜実施形態１３＞
本発明の実施形態１３を図２９によって説明する。この実施形態１３では、下層側コンタクトホール１２３０の平面形状を変更したものを示す。なお、上記した実施形態１と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。
【０１１８】
本実施形態に係る下層側コンタクトホール１２３０は、図２９に示すように、コンタクトホール本体１２３０ａにおける１つの角部を拡張することで１つの拡張開口部１２３０ｂが形成された構成とされる。屈曲部１２４３は、コンタクトホール本体１２３０ａと拡張開口部１２３０ｂとに跨る形で１つのみ形成されている。
【０１１９】
＜実施形態１４＞
本発明の実施形態１４を図３０から図３４によって説明する。この実施形態１４では、下層側コンタクトホール１３３０の平面形状及びその開口縁の断面形状を変更したものを示す。なお、上記した実施形態１と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。
【０１２０】
本実施形態に係る有機絶縁膜１３４０における下層側コンタクトホール１３３０の開口縁は、図３０に示すように、平面に視て縦長の方形状をなしている。つまり、この下層側コンタクトホール１３３０の開口縁には、上記した実施形態１から実施形態１３に記載した屈曲部が有されない構成となっている。言い換えると、下層側コンタクトホール１３３０は、上記した実施形態１から実施形態１３に記載した下層側コンタクトホールから拡張開口部を除去し、コンタクトホール本体のみにより構成されている、と言える。そして、下層側コンタクトホール１３３０の開口縁には、図３１及び図３２に示すように、断面形状が傾斜状をなすとともに傾斜角度が相対的に大きな第１傾斜部４８と、断面形状が傾斜状をなすとともに傾斜角度が相対的に小さな第２傾斜部４９とがそれぞれ形成されている。
【０１２１】
第１傾斜部４８は、図３０及び図３１に示すように、有機絶縁膜１３４０において平面に視て方形状をなす下層側コンタクトホール１３３０の４辺の開口縁（開口周縁）のうち、互いに対向する一対の辺をなす開口縁、具体的にはＹ軸方向に沿って延在するとともに図３０に示す左右一対の辺をなす開口縁にそれぞれ形成されている。第１傾斜部４８は、その断面形状が略弓形形状（略円弧状）をなすとともにその接線がＸ軸方向及びＺ軸方向の双方に対して相対的に急な傾斜状をなしている。これに対し、第２傾斜部４９は、図３０及び図３２に示すように、有機絶縁膜１３４０において平面に視て方形状をなす下層側コンタクトホール１３３０の４辺の開口縁のうち、互いに対向する一対の辺をなし且つ平面に視て各第１傾斜部４８に対して隣り合う開口縁、具体的にはＸ軸方向に沿って延在するとともに図３０に示す上下一対の辺をなす開口縁にそれぞれ形成されている。第２傾斜部４９は、その断面形状が略弓形形状（略円弧状）をなすとともにその接線がＹ軸方向及びＺ軸方向の双方に対して相対的に緩やかな傾斜状をなしている。
【０１２２】
上記のような断面形状とされる有機絶縁膜１３４０を形成するため、本実施形態では、有機絶縁膜１３４０のパターニングを行うに際してフォトマスクとしてグレートーンマスク１３４６を用いている。このグレートーンマスク１３４６は、基本構造が上記した実施形態２に記載したものと同様であり、図３３及び図３４に示すように、透明なガラス基材１３４６ａと、ガラス基材１３４６ａの板面に形成されて光源からの露光光を遮光する遮光膜１３４６ｂとからなり、遮光膜１３４６ｂの一部に露光装置の解像度以上の開口を形成することで透過領域ＴＡを備えるとともに、遮光膜１３４６ｂの一部に露光装置の解像度以下のスリット１３４６ｂ１を形成することで半透過領域ＨＴＡを備えている。本実施形態に係るグレートーンマスク１３４６には、下層側コンタクトホール１３３０の開口部分及び第１傾斜部４８と平面に視て重畳する部分に透過領域ＴＡが形成されるのに対し、第２傾斜部４９と平面に視て重畳する部分に半透過領域ＨＴＡ（スリット１３４６ｂ１）が形成されている。そして、このような構成のグレートーンマスク１３４６を介して光源からの露光光が有機絶縁膜１３４０に照射されると、有機絶縁膜１３４０のうちの透過領域ＴＡと平面に視て重畳する部分に、下層側コンタクトホール１３３０の開口部分と、開口縁をなすとともに傾斜角度が相対的に大きな第１傾斜部４８とが形成されるのに対し、半透過領域ＨＴＡと平面に視て重畳する部分に、下層側コンタクトホール１３３０の開口縁をなすとともに傾斜角度が相対的に小さな第２傾斜部４９が形成される。なお、本実施形態に係るアレイ基板１３１１ｂの製造手順は、上記した実施形態１，２に記載したものと同様である。
【０１２３】
上記のようにして有機絶縁膜１３４０における下層側コンタクトホール１３３０の開口縁に平面に視て互いに隣り合う形の第１傾斜部４８及び第２傾斜部４９を形成した後に、図３１及び図３２に示すように、共通電極１３２３、第２層間絶縁膜１３４１、画素電極１３１８、及び配向膜１３１１ｅがそれぞれ順次に形成される。このうち、配向膜１３１１ｅの成膜時においては、下層側コンタクトホール１３３０外に着弾した配向膜１３１１ｅをなす溶液の液滴が下層側コンタクトホール１３３０内に向けて拡がる際に、下層側コンタクトホール１３３０の開口縁のうち、第１傾斜部４８よりも傾斜が緩やかな第２傾斜部４９へと上記液滴が流れ込み易くなっており、それにより下層側コンタクトホール１３３０内への液滴の流入（導入）が促進されるようになっている。しかも、下層側コンタクトホール１３３０の開口縁のうち、傾斜角度が互いに異なる第１傾斜部４８と第２傾斜部４９との境界箇所、つまり角部では、傾斜角度が互いに異なることによって配向膜１３１１ｅをなす溶液の液滴の流動性が高められ、それにより液滴が下層側コンタクトホール１３３０の内側により流れ込み易くなっている。これにより、配向膜１３１１ｅに膜欠損がより生じ難いものとなり、もってモアレの発生を抑制または防止することができる。このように、本実施形態に係る構成（第１傾斜部４８及び第２傾斜部４９）により、上記した実施形態１に係る構成（屈曲部）によって得られる作用及び効果と概ね同様の作用及び効果を得ることができるとともに、同じ課題（配向膜の膜欠損に伴うモアレの発生）を解決することができるものとされる。
【０１２４】
以上説明したように本実施形態に係るアレイ基板１３１１ｂは、第１導電膜である第２金属膜１３３８と、第１導電膜である第２金属膜１３３８よりも上層側に配され、少なくとも一部が第１導電膜である第２金属膜１３３８と平面に視て重畳する第２導電膜である第２透明電極膜１３２４と、第１導電膜である第２金属膜１３３８と第２導電膜である第２透明電極膜１３２４との間に介在する形で配される絶縁膜であって、第１導電膜である第２金属膜１３３８及び第２導電膜である第２透明電極膜１３２４に対して平面に視て重畳する位置に開口する形で形成されることで第２導電膜である第２透明電極膜１３２４を第１導電膜である第２金属膜１３３８に対して接続するコンタクトホールである下層側コンタクトホール１３３０を有する絶縁膜である第１層間絶縁膜１３３９及び有機絶縁膜１３４０と、第２導電膜である第２透明電極膜１３２４よりも上層側に配され、コンタクトホールである下層側コンタクトホール１３３０と平面に視て重畳する部分と、コンタクトホールである下層側コンタクトホール１３３０とは平面に視て非重畳とされる部分とを有する配向膜１３１１ｅと、絶縁膜である第１層間絶縁膜１３３９におけるコンタクトホールである下層側コンタクトホール１３３０の開口縁に形成され、その断面形状が傾斜状をなすとともに傾斜角度が互いに異なる少なくとも２つの傾斜部４８，４９と、を備える。
【０１２５】
このようにすれば、第１導電膜である第２金属膜１３３８及び絶縁膜である第１層間絶縁膜１３３９及び有機絶縁膜１３４０を成膜した後に成膜される第２導電膜である第２透明電極膜１３２４は、絶縁膜である第１層間絶縁膜１３３９及び有機絶縁膜１３４０が有するコンタクトホールである下層側コンタクトホール１３３０を通して下層側の第１導電膜に対して接続される。そして、第１導電膜である第２金属膜１３３８よりも上層側に配される配向膜１３１１ｅを成膜する際には、例えば配向膜１３１１ｅをなす溶液が第２導電膜である第２透明電極膜１３２４などの表面に対して局所的に供給されると、その溶液がコンタクトホールである下層側コンタクトホール１３３０外とコンタクトホールである下層側コンタクトホール１３３０内とにわたって拡がることで、コンタクトホールである下層側コンタクトホール１３３０と平面に視て重畳される部分と、コンタクトホールである下層側コンタクトホール１３３０と平面に視て非重畳とされる部分とを有する配向膜１３１１ｅが形成される。ここで、コンタクトホールである下層側コンタクトホール１３３０外に供給された配向膜１３１１ｅをなす溶液がコンタクトホールである下層側コンタクトホール１３３０内に向けて拡がる場合に、溶液がコンタクトホールである下層側コンタクトホール１３３０の開口縁に達すると、その溶液は、同開口縁において断面形状が傾斜状をなすとともに傾斜角度が互いに異なる少なくとも２つの傾斜部４８，４９のうち、傾斜角度が相対的に小さくて傾斜が緩やかな傾斜部である第２傾斜部４９によってコンタクトホールである下層側コンタクトホール１３３０の内側への流れ込みが促されるようになっている。しかも、コンタクトホールである下層側コンタクトホール１３３０の開口縁のうち、傾斜角度が互いに異なる傾斜部４８，４９同士の境界箇所では、傾斜角度が互いに異なることによって配向膜１３１１ｅをなす溶液の流動性が高められ、それにより溶液がコンタクトホールである下層側コンタクトホール１３３０の内側により流れ込み易くなっている。以上により、配向膜１３１１ｅがコンタクトホールである下層側コンタクトホール１３３０内にも配され易くなるとともに膜欠損が生じ難くなり、もってモアレの発生が好適に抑制または防止される。
【０１２６】
また、本実施形態に係るアレイ基板１３１１ｂの製造方法は、ガラス基板ＧＳ上に第１導電膜である第２金属膜１３３８、絶縁膜である第１層間絶縁膜１３３９及び有機絶縁膜１３４０、第２導電膜である第２透明電極膜１３２４の順で成膜し、絶縁膜である第１層間絶縁膜１３３９及び有機絶縁膜１３４０については、第１導電膜である第２金属膜１３３８及び第２導電膜である第２透明電極膜１３２４に対して平面に視て重畳する位置に開口するとともに第２導電膜である第２透明電極膜１３２４を第１導電膜である第２金属膜１３３８に対して接続するためのコンタクトホールである下層側コンタクトホール１３３０を形成し、且つコンタクトホールである下層側コンタクトホール１３３０の開口縁に断面形状が傾斜状をなすとともに傾斜角度が互いに異なる少なくとも２つの傾斜部４８，４９を形成する第１成膜工程と、第２導電膜である第２透明電極膜１３２４の上層側に、コンタクトホールである下層側コンタクトホール１３３０と平面に視て重畳する部分と、コンタクトホールである下層側コンタクトホール１３３０とは平面に視て非重畳とされる部分とを有する配向膜１３１１ｅを成膜する第２成膜工程と、を備える。
【０１２７】
このようにすれば、第１成膜工程では、ガラス基板ＧＳ上に第１導電膜である第２金属膜１３３８と、絶縁膜である第１層間絶縁膜１３３９及び有機絶縁膜１３４０とを成膜した後に第２導電膜である第２透明電極膜１３２４を成膜すると、第２導電膜である第２透明電極膜１３２４は、絶縁膜である第１層間絶縁膜１３３９及び有機絶縁膜１３４０に形成されたコンタクトホールである下層側コンタクトホール１３３０を通して下層側の第１導電膜である第２金属膜１３３８に対して接続される。続いて行われる第２成膜工程において、第１導電膜である第２金属膜１３３８よりも上層側に配向膜１３１１ｅを成膜するにあたり、例えば配向膜１３１１ｅをなす溶液が第２導電膜である第２透明電極膜１３２４などの表面に対して局所的に供給されると、その溶液がコンタクトホールである下層側コンタクトホール１３３０外とコンタクトホールである下層側コンタクトホール１３３０内とにわたって拡がることで、コンタクトホールである下層側コンタクトホール１３３０と平面に視て重畳される部分と、コンタクトホールである下層側コンタクトホール１３３０と平面に視て非重畳とされる部分とを有する配向膜１３１１ｅが形成される。ここで、コンタクトホールである下層側コンタクトホール１３３０外に供給された配向膜１３１１ｅをなす溶液がコンタクトホールである下層側コンタクトホール１３３０内に向けて拡がる場合に、溶液がコンタクトホールである下層側コンタクトホール１３３０の開口縁に達すると、その溶液は、同開口縁において断面形状が傾斜状をなすとともに傾斜角度が互いに異なる少なくとも２つの傾斜部４８，４９のうち、傾斜角度が相対的に小さくて傾斜が緩やかな傾斜部である第２傾斜部４９によってコンタクトホールである下層側コンタクトホール１３３０の内側への流れ込みが促されるようになっている。しかも、コンタクトホールである下層側コンタクトホール１３３０の開口縁のうち、傾斜角度が互いに異なる傾斜部４８，４９同士の境界箇所では、傾斜角度が互いに異なることによって配向膜１３１１ｅをなす溶液の流動性が高められ、それにより溶液がコンタクトホールである下層側コンタクトホール１３３０の内側により流れ込み易くなっている。以上により、配向膜１３１１ｅがコンタクトホールである下層側コンタクトホール１３３０内にも配され易くなるとともに膜欠損が生じ難くなり、もってモアレの発生が好適に抑制または防止される。
【０１２８】
また、アレイ基板１３１１ｂの製造方法は、第１成膜工程では、絶縁膜として感光性有機樹脂材料からなる有機絶縁膜１３４０を少なくとも成膜するとともに、フォトマスクとしてスリット１３４６ｂ１による半透過領域ＨＴＡを含むグレートーンマスク１３４６を用いて有機絶縁膜１３４０を露光することで、グレートーンマスク１３４６の半透過領域ＨＴＡの透過光によりコンタクトホールである下層側コンタクトホール１３３０の開口縁に、少なくとも２つの傾斜部４８，４９のうちの相対的に傾斜角度が小さな傾斜部である第２傾斜部４９を形成している。このようにすれば、第１成膜工程において成膜される感光性有機樹脂材料からなる有機絶縁膜１３４０には、スリット１３４６ｂ１による半透過領域ＨＴＡを含むグレートーンマスク１３４６を用いて露光されることで、コンタクトホールである下層側コンタクトホール１３３０が形成される。このコンタクトホールである下層側コンタクトホール１３３０の開口縁には、グレートーンマスク１３４６の半透過領域ＨＴＡの透過光により少なくとも２つの傾斜部４８，４９のうちの相対的に傾斜角度が小さな傾斜部である第２傾斜部４９が形成されている。
【０１２９】
＜実施形態１５＞
本発明の実施形態１５を図３５によって説明する。この実施形態１５では、上記した実施形態１から下層側コンタクトホール１４３０の大きさを変更し、その具体的な寸法を示す。なお、上記した実施形態１と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。
【０１３０】
本実施形態に係る下層側コンタクトホール１４３０は、図３５に示すように、拡張開口部１４３０ｂの開口間口がコンタクトホール本体１４３０ａの開口間口の最大値Ｗｍａｘの半分以下となるよう形成されている。具体的には、コンタクトホール本体１４３０ａは、平面に視て縦長の長方形状をなすとともに、その短辺寸法Ｗｂｓが例えば５μｍ程度とされ、長辺寸法Ｗｂｌが例えば１０μｍ程度とされている。これに対し、拡張開口部１４３０ｂは、平面に視て縦長の長方形状をなすとともに、その短辺寸法Ｗｅｓが例えば１．５μｍ程度とされ、長辺寸法Ｗｅｌが例えば３μｍ程度とされている。一対の拡張開口部１４３０ｂは、コンタクトホール本体１４３０ａを構成する４辺のうち、一対の長辺における角部を構成する端部を拡張することでそれぞれ形成されている。拡張開口部１４３０ｂを構成する４辺のうち、一方の長辺がコンタクトホール本体１４３０ａの長辺（詳しくは角部を構成する端部）と重なり合うことで、拡張開口部１４３０ｂがコンタクトホール本体１４３０ａに繋がっている。
【０１３１】
そして、拡張開口部１４３０ｂにおけるコンタクトホール本体１４３０ａに繋がる部分の開口間口は、拡張開口部１４３０ｂの長辺寸法Ｗｅｌ（例えば３μｍ程度）に等しく且つコンタクトホール本体１４３０ａにおける開口間口の最大値Ｗｍａｘである長辺寸法Ｗｂｌ（例えば１０μｍ程度）の半分以下の大きさで、さらに詳しくは１／３以下の大きさとされている。拡張開口部１４３０ｂの開口間口を上記のような寸法とすることで、配向膜の成膜時に拡張開口部１４３０ｂにおいて互いに対向する一対の開口縁の両方にそれぞれ配向膜をなす溶液の液滴が到達した場合にそれらの液滴同士がより繋がり易くなり、もって下層側コンタクトホール１４３０内に配向膜をなす溶液の液滴がより流入し易くなっている。しかも、拡張開口部１４３０ｂを構成し且つ屈曲部１４４３を構成する第２開口縁１４４３ｂの長さ寸法は、拡張開口部１４３０ｂの短辺寸法Ｗｅｓ（例えば１．５μｍ程度）に等しく且つコンタクトホール本体１４３０ａにおける開口間口の最大値Ｗｍａｘである長辺寸法Ｗｂｌ（例えば１０μｍ程度）の半分以下の大きさで、さらに詳しくは１／５以下の大きさとされている。第２開口縁１４４３ｂの長さ寸法を上記のような寸法とすることで、配向膜の成膜時に屈曲部１４４３を構成する第１開口縁１４４３ａと第２開口縁１４４３ｂの両方にそれぞれ配向膜をなす溶液の液滴が到達した場合にそれらの液滴同士がより繋がり易くなり、もって下層側コンタクトホール１４３０内に配向膜をなす溶液の液滴がより流入し易くなっている。その上、拡張開口部１４３０ｂの開口間口の寸法（長辺寸法Ｗｅｌ）、及び拡張開口部１４３０ｂにおける屈曲部１４４３を構成する第２開口縁１４４３ｂの長さ寸法（短辺寸法Ｗｅｓ）は、それぞれ１μｍ以上の大きさとされている。このようにすれば、配向膜の成膜時に下層側コンタクトホール１４３０内に配向膜をなす溶液の液滴が容易に流れ込み易くなるのに加えて、第１層間絶縁膜及び有機絶縁膜にフォトリソグラフィ法によりコンタクトホール本体１４３０ａ及び拡張開口部１４３０ｂを容易に形成することが可能とされる。また、拡張開口部１４３０ｂは、その長辺寸法Ｗｅｌが短辺寸法Ｗｅｓの約２倍程度の大きさとされる。また、コンタクトホール本体１４３０ａは、その長辺寸法Ｗｂｌが短辺寸法Ｗｂｓの約２倍程度の大きさとされる。つまり、コンタクトホール本体１４３０ａ及び拡張開口部１４３０ｂは、それぞれの長辺寸法Ｗｂｌ，Ｗｅｌと短辺寸法Ｗｂｓ，Ｗｅｓとの比率が互いにほぼ等しいものとされる。
【０１３２】
さらには、下層側コンタクトホール１４３０は、全体の開口面積が約５９μｍ２程度とされており、１０μｍ２〜１５０μｍ２の範囲内とされている。具体的には、コンタクトホール本体１４３０ａは、その開口面積が５０μｍ２程度とされているのに対し、各拡張開口部１４３０ｂは、その開口面積４．５μｍ２程度ずつとされている。上記したように下層側コンタクトホール１４３０の開口面積を１０μｍ２〜１５０μｍ２の範囲とすることで、接続対象である第２金属膜と第２透明電極膜との接続面積を十分に確保することができて高い接続信頼性が得られるとともに、第１層間絶縁膜及び有機絶縁膜にフォトリソグラフィ法によりコンタクトホール本体１４３０ａ及び拡張開口部１４３０ｂを容易に形成することが可能とされ、さらには配向膜の成膜時にその液滴が下層側コンタクトホール１４３０内に流れ込み易くなっている。
【０１３３】
以上説明したように本実施形態に係る下層側コンタクトホール１４３０が形成された第１層間絶縁膜及び有機絶縁膜は、コンタクトホール本体１４３０ａの開口間口における最大値をＷｍａｘとしたとき、拡張開口部１４３０ｂの開口間口がＷｍａｘ／２以下の大きさとなるよう形成されている。このようにすれば、仮に、拡張開口部の開口間口をＷｍａｘ／２以上の大きさとした場合に比べると、配向膜を成膜するにあたり、拡張開口部１４３０ｂにおいて互いに対向する一対の開口縁の両方にそれぞれ配向膜をなす溶液が到達したときにそれらの溶液同士がより繋がり易くなる。これにより、配向膜をなす溶液が下層側コンタクトホール１４３０内により流れ込み易くなる。
【０１３４】
また、下層側コンタクトホール１４３０が形成された第１層間絶縁膜及び有機絶縁膜のうち、拡張開口部１４３０ｂを構成し且つ屈曲部１４４３を構成する第２開口縁（開口縁）１４４３ｂは、その長さ寸法がＷｍａｘ／２以下の大きさとなるよう形成されている。このようにすれば、仮に、拡張開口部を構成し且つ屈曲部を構成する開口縁の長さ寸法をＷｍａｘ／２以上の大きさとした場合に比べると、配向膜を成膜するにあたり、屈曲部１４４３を構成する各開口縁１４４３ａ，１４４３ｂに配向膜をなす溶液が到達したときにそれらの溶液同士が一層繋がり易くなる。これにより、配向膜をなす溶液が下層側コンタクトホール１４３０内に一層流れ込み易くなる。
【０１３５】
また、下層側コンタクトホール１４３０が形成された第１層間絶縁膜及び有機絶縁膜は、拡張開口部１４３０ｂの開口間口、及び拡張開口部１４３０ｂを構成し且つ屈曲部１４４３を構成する第２開口縁１４４３ｂの長さ寸法がそれぞれ１μｍ以上の大きさとなるよう形成されている。拡張開口部１４３０ｂの開口間口、及び拡張開口部１４３０ｂを構成し且つ屈曲部１４４３を構成する第２開口縁１４４３ｂの長さ寸法は、共に小さくなるほど配向膜をなす溶液が下層側コンタクトホール１４３０内に流れ込み易くなる反面、第１層間絶縁膜及び有機絶縁膜にコンタクトホール本体１４３０ａ及び拡張開口部１４３０ｂを形成する困難性が高くなる傾向がある。その点、拡張開口部１４３０ｂの開口間口、及び拡張開口部１４３０ｂを構成し且つ屈曲部１４４３を構成する第２開口縁１４４３ｂの長さ寸法をそれぞれ１μｍ以上の大きさとすることで、下層側コンタクトホール１４３０内への配向膜をなす溶液の流れ込み容易性を担保しつつも、第１層間絶縁膜及び有機絶縁膜にコンタクトホール本体１４３０ａ及び拡張開口部１４３０ｂを形成する確実性を高くすることができる。
【０１３６】
また、下層側コンタクトホール１４３０が形成された第１層間絶縁膜及び有機絶縁膜は、下層側コンタクトホール１４３０の開口面積が１０μｍ２〜１５０μｍ２の範囲となるよう形成されている。仮に、下層側コンタクトホールの開口面積が１０μｍ２よりも小さい場合には、接続対象である第２金属膜と第２透明電極膜との接続面積が小さくなり過ぎて接続信頼性が低下するとともに、下層側コンタクトホール自体の形成が困難になるおそれがある。一方、仮に、下層側コンタクトホールの開口面積が１５０μｍ２よりも大きい場合には、配向膜を成膜する際に下層側コンタクトホールの各開口縁に到達した配向膜をなす溶液同士が互いに繋がり難く、そのために配向膜をなす溶液が下層側コンタクトホール内に流れ込み難くなるおそれがある。その点、上記したように下層側コンタクトホール１４３０の開口面積を１０μｍ２〜１５０μｍ２の範囲とすることで、第２金属膜と第２透明電極膜との接続面積が十分に確保されて接続信頼性が担保されるとともに、第１層間絶縁膜及び有機絶縁膜における下層側コンタクトホール１４３０の形成が容易なものとなり、さらには、配向膜をなす溶液が下層側コンタクトホール１４３０内に流れ込み易くなる。
【０１３７】
＜実施形態１６＞
本発明の実施形態１６を図３６によって説明する。この実施形態１６では、上記した実施形態１５から下層側コンタクトホール１５３０の平面形状及び大きさを変更し、その具体的な寸法を示す。なお、上記した実施形態１５と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。
【０１３８】
本実施形態に係る下層側コンタクトホール１５３０は、図３６に示すように、コンタクトホール本体１５３０ａが平面に視て正方形状をなしている。具体的には、平面に視て正方形状をなすコンタクトホール本体１５３０ａは、４辺の寸法Ｗｂがそれぞれ例えば８μｍ程度とされる。これに対し、拡張開口部１５３０ｂは、その長辺寸法Ｗｅｌ及び短辺寸法Ｗｅｓが上記した実施形態１５と同じとされており、それぞれコンタクトホール本体１５３０ａの開口間口の最大値Ｗｍａｘである寸法Ｗｂの半分以下とされている。また、コンタクトホール本体１５３０ａは、その開口面積が６４μｍ２程度とされているので、下層側コンタクトホール１５３０は、全体の開口面積が約７３μｍ２程度とされており、上記した実施形態１５と同様に１０μｍ２〜１５０μｍ２の範囲内とされている。このような構成であっても上記した実施形態１５と同様に、下層側コンタクトホール１５３０内への配向膜をなす溶液の流れ込み容易性を十分に高いものとすることができる。
【０１３９】
＜実施形態１７＞
本発明の実施形態１７を図３７から図３９によって説明する。この実施形態１７では、上記した実施形態１５から下層側コンタクトホール１６３０の開口縁の断面形状を変更したものを示す。なお、上記した実施形態１５と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。
【０１４０】
本実施形態に係る有機絶縁膜１６４０における下層側コンタクトホール１６３０の開口縁には、図３７から図３９に示すように、断面形状が傾斜状をなすとともに傾斜角度が相対的に大きな第１傾斜部１６４８と、断面形状が傾斜状をなすとともに傾斜角度が相対的に小さな第２傾斜部１６４９とがそれぞれ形成されている。なお、第１傾斜部１６４８及び第２傾斜部１６４９の断面形状、及び有機絶縁膜１６４０に対する形成方法は、上記した実施形態１４に記載した第１傾斜部４８及び第２傾斜部４９と同様とされているので、以下では重複する説明を割愛する。
【０１４１】
第１傾斜部１６４８は、図３７及び図３８に示すように、下層側コンタクトホール１６３０のうちコンタクトホール本体１６３０ａの開口縁のほぼ全域（屈曲部１６４３をなす第１開口縁１６４３ａを含む）に加えて、拡張開口部１６３０ｂの開口縁のうちの一対の短辺側の開口縁（屈曲部１６４３をなす第２開口縁１６４３ｂを含む）に形成されている。第１傾斜部１６４８は、勾配が相対的に急なものとされていてその傾斜角度θ１が例えば４１°程度とされている。これに対し、第２傾斜部１６４９は、図３７及び図３９に示すように、拡張開口部１６３０ｂの開口縁のうち、長辺側の開口縁、つまり屈曲部１６４３をなす第２開口縁１６４３ｂと隣り合う開口縁にのみ形成されている。第２傾斜部１６４９は、勾配が相対的に緩やかなものとされていてその傾斜角度θ２が例えば３６°程度とされている。従って、第１傾斜部１６４８と第２傾斜部１６４９との傾斜角度の差は、例えば６°程度とされていることになる。なお、共に断面形状が略弓形形状（略円弧状）をなす各傾斜部１６４８，１６４９の傾斜角度は、例えば各傾斜部１６４８，１６４９の中央位置（具体的には、傾斜の始端及び終端からの延面距離が互いに等しくなる位置）における接線がＹ軸方向またはＸ軸方向に対してなす角度である。また、図３８及び図３９では、上記接線を一点鎖線により図示している。このような構成とすれば、配向膜１６１１ｅを成膜する際に、下層側コンタクトホール１６３０外に着弾した配向膜１６１１ｅをなす溶液の液滴が下層側コンタクトホール１６３０内に向けて拡がる際に、下層側コンタクトホール１６３０の開口縁のうち、第１傾斜部１６４８よりも勾配が緩やかな第２傾斜部１６４９へと上記液滴が流れ込み易くなっており、それにより下層側コンタクトホール１６３０内への液滴の流入（導入）が促進されるようになっている。しかも、下層側コンタクトホール１６３０の開口縁のうち、傾斜角度が互いに異なる第１傾斜部１６４８と第２傾斜部１６４９との境界箇所、つまり各拡張開口部１６３０ｂにおける２つずつの角部では、傾斜角度が互いに異なることによって配向膜１６１１ｅをなす溶液の液滴の流動性が高められ、それにより液滴が下層側コンタクトホール１６３０の内側により流れ込み易くなっている。それに加えて、下層側コンタクトホール１６３０の開口縁には、平面に視て内側に優角をなすよう屈曲する屈曲部１６４３が含まれており、その屈曲部１６４３をなす第１開口縁１６４３ａ及び第２開口縁１６４３ｂにそれぞれ第１傾斜部１６４８が形成されるとともに、第２開口縁１６４３ｂに対して隣り合う開口縁に第２傾斜部１６４９が形成されているから、２つの傾斜部１６４８，１６４９による効果と、屈曲部１６４３による効果とが相乗して得られることで、下層側コンタクトホール１６３０内に配向膜をなす溶液の液滴がより一層流れ込み易くなっている。これにより、配向膜１６１１ｅに膜欠損がより生じ難いものとなり、もってモアレの発生を抑制または防止することができる。
【０１４２】
以上説明したように本実施形態に係る下層側コンタクトホール１６３０が形成された有機絶縁膜１６４０のうち、下層側コンタクトホール１６３０を構成し且つ互いに隣り合う開口縁には、断面形状が傾斜状をなすとともに傾斜角度が互いに異なる少なくとも２つの傾斜部１６４８，１６４９が形成されている。このようにすれば、下層側コンタクトホール１６３０外に供給された配向膜１６１１ｅをなす溶液が下層側コンタクトホール１６３０内に向けて拡がる場合に、溶液が下層側コンタクトホール１６３０の開口縁に達すると、その溶液は、同開口縁において断面形状が傾斜状をなすとともに傾斜角度が互いに異なる少なくとも２つの傾斜部１６４８，１６４９のうち、傾斜角度が相対的に小さくて傾斜が緩やかな第２傾斜部１６４９によって下層側コンタクトホール１６３０の内側への流れ込みが促されるようになっている。しかも、下層側コンタクトホール１６３０の開口縁のうち、傾斜角度が互いに異なる傾斜部１６４８，１６４９同士の境界箇所では、傾斜角度が互いに異なることによって配向膜１６１１ｅをなす溶液の流動性が高められ、それにより溶液が下層側コンタクトホール１６３０の内側により流れ込み易くなっている。それに加えて、下層側コンタクトホール１６３０の開口縁の少なくとも一部が平面に視て内側に優角をなすよう屈曲する屈曲部１６４３を構成しており、その屈曲部１６４３によって担保される下層側コンタクトホール１６３０への配向膜１６１１ｅをなす溶液の流れ込み容易性とも相まって、下層側コンタクトホール１６３０内に配向膜１６１１ｅをなす溶液が一層流れ込み易くなっている。これにより、少なくとも２つの傾斜部１６４８，１６４９における傾斜角度の差をそれほど大きくしなくても、下層側コンタクトホール１６３０内への配向膜１６１１ｅをなす溶液の流れ込み容易性が十分に高いものとなるから、相対的に小さな傾斜角度とされる第２傾斜部１６４９の勾配が緩くなり過ぎることが回避されるとともにその延面距離が十分に小さなものとなり、もって当該アレイ基板１６１１ｂにおいて表示に寄与しない部分の面積が十分に小さくなって表示性能が良好なものとなる。
【０１４３】
＜実施形態１８＞
本発明の実施形態１８を図４０によって説明する。この実施形態１８では、上記した実施形態１５から下層側コンタクトホール１７３０の平面形状を変更したものを示す。なお、上記した実施形態１５と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。
【０１４４】
本実施形態に係る下層側コンタクトホール１７３０は、図４０に示すように、コンタクトホール本体１７３０ａの開口縁における１つの角部を拡張することで１つの拡張開口部１７３０ｂが形成されるとともに、その拡張開口部１７３０ｂの平面形状が略三角形とされた構成となっている。詳しくは、拡張開口部１７３０ｂは、平面に視て２つの隣辺の長さが互いに異なる略直角三角形状をなすとともに、コンタクトホール本体１７３０ａからＸ軸方向、つまり拡張開口部１７３０ｂの突出方向に沿って遠ざかる方向に向けて先細りとなる形状をなしている。拡張開口部１７３０ｂは、平面に視て直角をなす頂点がコンタクトホール本体１７３０ａの角部の頂点と一致する配置とされることで、隣辺をなす長辺及び短辺がコンタクトホール本体１７３０ａの長辺及び短辺とそれぞれ一直線状をなしている。拡張開口部１７３０ｂの開口縁のうち、平面に視て斜辺と隣辺をなす短辺とは、互いに対向状をなしており、それら斜辺と短辺との間の間隔がコンタクトホール本体１７３０ａからＸ軸方向に沿って遠ざかるに連れて次第に狭くなるとともに、斜辺及び短辺のうちコンタクトホール本体１７３０ａ側とは反対側の先端部同士が繋がって鋭角の頂点を構成している。従って、配向膜の成膜時に配向膜をなす溶液の液滴が、拡張開口部１７３０ｂの開口縁における上記した斜辺と短辺との両方に到達すると、それらの液滴同士が繋がり易くなっている。これにより、配向膜をなす溶液が下層側コンタクトホール１７３０内により流れ込み易くなっている。なお、拡張開口部１７３０ｂの開口縁のうち、隣辺をなす短辺の長さ寸法は、例えば１．５μｍ程度とされ、隣辺をなす長辺の長さ寸法は、例えば３μｍ程度とされる。つまり、この拡張開口部１７３０ｂは、その開口面積が上記した実施形態１５に記載の拡張開口部１４３０ｂの開口面積の半分程度とされるとともに、開口縁のうちの斜辺が、上記した実施形態１５に記載の拡張開口部１４３０ｂにおける対角線とほぼ一致している。
【０１４５】
以上説明したように本実施形態に係る下層側コンタクトホール１７３０が形成された第１層間絶縁膜及び有機絶縁膜は、拡張開口部１７３０ｂが平面に視てコンタクトホール本体１７３０ａから遠ざかる方向に向けて先細り形状となるよう形成されている。このようにすれば、拡張開口部１７３０ｂにおいて互いに対向する一対の開口縁は、コンタクトホール本体１７３０ａから遠ざかると互いに近づくことになるので、配向膜を成膜するにあたり、上記一対の開口縁の両方に配向膜をなす溶液が到達したときにそれらの溶液同士がより繋がり易くなる。これにより、配向膜をなす溶液が下層側コンタクトホール１７３０内により流れ込み易くなる。
【０１４６】
＜実施形態１９＞
本発明の実施形態１９を図４１によって説明する。この実施形態１９では、上記した実施形態１８から下層側コンタクトホール１８３０の平面形状を変更したものを示す。なお、上記した実施形態１８と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。
【０１４７】
本実施形態に係る下層側コンタクトホール１８３０は、図４１に示すように、コンタクトホール本体１８３０ａの開口縁における１つの長辺の中央部分を拡張することで１つの拡張開口部１８３０ｂが形成されるとともに、その拡張開口部１８３０ｂの平面形状が略二等辺三角形とされた構成となっている。詳しくは、拡張開口部１８３０ｂは、その開口縁のうち平面に視て一対の等辺が交わる頂点がコンタクトホール本体１８３０ａ側とは反対側に突き出す形で配されており、コンタクトホール本体１８３０ａからＸ軸方向に沿って遠ざかる方向に向けて先細りとなる形状をなしている。また、拡張開口部１８３０ｂは、その開口縁のうちの底辺がコンタクトホール本体１８３０ａの長辺と一直線状をなしている。拡張開口部１８３０ｂの開口縁のうちの一対の等辺は、互いに対向状をなしており、それら両等辺の間の間隔がコンタクトホール本体１８３０ａからＸ軸方向に沿って遠ざかるに連れて次第に狭くなるとともに、両等辺のうちコンタクトホール本体１８３０ａ側とは反対側の先端部同士が繋がって鋭角の頂点を構成している。従って、配向膜の成膜時に配向膜をなす溶液の液滴が、拡張開口部１８３０ｂの開口縁における上記した両等辺の両方に到達すると、それらの液滴同士が繋がり易くなっている。これにより、配向膜をなす溶液が下層側コンタクトホール１８３０内により流れ込み易くなっている。なお、拡張開口部１８３０ｂにおける頂点からの垂線の長さ寸法は、例えば１．５μｍ程度とされ、底辺の長さ寸法は、例えば３μｍ程度とされる。
【０１４８】
＜実施形態２０＞
本発明の実施形態２０を図４２によって説明する。この実施形態２０では、上記した実施形態１５から下層側コンタクトホール１９３０の平面形状を変更したものを示す。なお、上記した実施形態１５と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。
【０１４９】
本実施形態に係る下層側コンタクトホール１９３０は、図４２に示すように、コンタクトホール本体１９３０ａが平面に視て略楕円形状をなすとともに、拡張開口部１９３０ｂが平面に視て略楕円弓形形状をなしている。詳しくは、コンタクトホール本体１９３０ａは、平面に視て縦長の略楕円形状をなしており、その短軸寸法が例えば５μｍ程度とされ、長軸寸法が例えば１０μｍ程度とされる。拡張開口部１９３０ｂは、コンタクトホール本体１９３０ａの開口縁における長軸方向（Ｙ軸方向）についての中央部を短軸方向（Ｘ軸方向）に沿って両側に拡張することで、一対形成されている。つまり、下層側コンタクトホール１９３０は、平面に視た形状が、大きさが異なる２つの楕円を互いの長軸と短軸とが直交するよう重ねて配置して得られる外形に倣うものとされる。拡張開口部１９３０ｂは、コンタクトホール本体１９３０ａからのＸ軸方向についての突出寸法が例えば１．５μｍ程度とされ、開口間口が例えば３μｍ程度とされる。このような構成では、上記した実施形態８と同様に、１つの拡張開口部１９３０ｂによって２つの屈曲部１９４３が形成されているので、配向膜の成膜時に配向膜をなす溶液の液滴が下層側コンタクトホール１９３０内へと一層流れ込み易くなっている。
【０１５０】
以上説明したように本実施形態に係る下層側コンタクトホール１９３０が形成された第１層間絶縁膜及び有機絶縁膜は、コンタクトホール本体１９３０ａの平面形状が楕円形となるよう形成されている。このように、平面形状が楕円形とされたコンタクトホール本体１９３０ａにおいては、その開口縁に互いに交わる辺が存在しないため、配向膜を成膜する際に配向膜をなす溶液がコンタクトホール本体１９３０ａの開口縁に到達しても溶液同士が繋がり難く、溶液が下層側コンタクトホール１９３０内に流れ込み難い傾向にある。その点、コンタクトホール本体１９３０ａの一部を拡張する形で拡張開口部１９３０ｂを形成することで、下層側コンタクトホール１９３０内への配向膜をなす溶液の流れ込み容易性が十分に高いものとなる。
【０１５１】
＜実施形態２１＞
本発明の実施形態２１を図４３によって説明する。この実施形態２１では、上記した実施形態１５から下層側コンタクトホール２０３０の平面形状を変更したものを示す。なお、上記した実施形態１５と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。
【０１５２】
本実施形態に係る下層側コンタクトホール２０３０は、図４３に示すように、コンタクトホール本体２０３０ａが平面に視て略円形状をなすとともに、拡張開口部２０３０ｂが平面に視て長方形形状をなしている。詳しくは、コンタクトホール本体２０３０ａは、平面に視て略円形状をなしており、その径寸法が例えば８μｍ程度とされる。拡張開口部２０３０ｂは、平面に視て横長の長方形状をなしており、コンタクトホール本体２０３０ａの開口縁における図４３に示す上側部分をＹ軸方向に沿って拡張することで形成されている。また、拡張開口部２０３０ｂは、短辺寸法（コンタクトホール本体２０３０ａからのＹ軸方向についての突出寸法）が例えば１．５μｍ程度とされ、長辺寸法（開口間口）が例えば３μｍ程度とされる。このような構成では、上記した実施形態８と同様に、１つの拡張開口部２０３０ｂによって２つの屈曲部２０４３が形成されているので、配向膜の成膜時に配向膜をなす溶液の液滴が下層側コンタクトホール２０３０内へと一層流れ込み易くなっている。
【０１５３】
以上説明したように本実施形態に係る下層側コンタクトホール２０３０が形成された第１層間絶縁膜及び有機絶縁膜は、コンタクトホール本体２０３０ａの平面形状が円形となるよう形成されている。このように、平面形状が円形とされたコンタクトホール本体２０３０ａにおいては、その開口縁に互いに交わる辺が存在しないため、配向膜を成膜する際に配向膜をなす溶液がコンタクトホール本体２０３０ａの開口縁に到達しても溶液同士が繋がり難く、溶液が下層側コンタクトホール２０３０内に流れ込み難い傾向にある。その点、コンタクトホール本体２０３０ａの一部を拡張する形で拡張開口部２０３０ｂを形成することで、下層側コンタクトホール２０３０内への配向膜をなす溶液の流れ込み容易性が十分に高いものとなる。
【０１５４】
＜実施形態２２＞
本発明の実施形態２２を図４４によって説明する。この実施形態２２では、上記した実施形態１８から下層側コンタクトホール２１３０における拡張開口部２１３０ｂの設置数を変更したものを示す。なお、上記した実施形態１８と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。
【０１５５】
本実施形態に係る下層側コンタクトホール２１３０は、図４４に示すように、コンタクトホール本体２１３０ａの開口縁のうちの１つの短辺を共有する一対の角部をそれぞれ拡張することで、拡張開口部２１３０ｂが一対形成されている。一対の拡張開口部２１３０ｂは、それぞれ平面に視て略直角三角形状をなすとともに、互いに平面に視て線対称形状をなしている。これにより、下層側コンタクトホール２１３０は、平面に視て線対称形状をなしている。
【０１５６】
＜実施形態２３＞
本発明の実施形態２３を図４５によって説明する。この実施形態２３では、上記した実施形態２２から下層側コンタクトホール２２３０における拡張開口部２２３０ｂの配置を変更したものを示す。なお、上記した実施形態２２と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。
【０１５７】
本実施形態に係る下層側コンタクトホール２２３０は、図４５に示すように、コンタクトホール本体２２３０ａの開口縁のうち対角をなす一対の角部をそれぞれ拡張することで、拡張開口部２２３０ｂが一対形成されている。一対の拡張開口部２２３０ｂは、それぞれ平面に視て略直角三角形状をなすとともに、互いに平面に視て点対称形状をなしている。これにより、下層側コンタクトホール２２３０は、平面に視て点対称形状をなしている。
【０１５８】
＜実施形態２４＞
本発明の実施形態２４を図４６によって説明する。この実施形態２４では、上記した実施形態２２から下層側コンタクトホール２３３０における拡張開口部２３３０ｂの設置数を変更したものを示す。なお、上記した実施形態２２と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。
【０１５９】
本実施形態に係る下層側コンタクトホール２３３０は、図４６に示すように、コンタクトホール本体２３３０ａの開口縁のうち４つの各角部をそれぞれ拡張することで拡張開口部２３３０ｂが４つ形成されている。４つの拡張開口部２３３０ｂは、それぞれ平面に視て略直角三角形状をなすとともに、互いに平面に視て線対称形状または点対称形状をなしている。これにより、下層側コンタクトホール２３３０は、平面に視て線対称形状であり且つ点対称形状をなしている。
【０１６０】
＜実施形態２５＞
本発明の実施形態２５を図４７によって説明する。この実施形態２５では、上記した実施形態１９から下層側コンタクトホール２４３０における拡張開口部２４３０ｂの設置数を変更したものを示す。なお、上記した実施形態１９と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。
【０１６１】
本実施形態に係る下層側コンタクトホール２４３０は、図４７に示すように、コンタクトホール本体２４３０ａの開口縁のうち一対の長辺における中央部分をそれぞれ拡張することで、拡張開口部２４３０ｂが一対形成されている。一対の拡張開口部２４３０ｂは、それぞれ平面に視て略二等辺三角形状をなすとともに、互いに平面に視て線対称形状で且つ点対称形状をなしている。これにより、下層側コンタクトホール２４３０は、平面に視て線対称形状で且つ点対称形状をなしている。
【０１６２】
＜実施形態２６＞
本発明の実施形態２６を図４８によって説明する。この実施形態２６では、上記した実施形態２５から下層側コンタクトホール２５３０における拡張開口部２５３０ｂの配置を変更したものを示す。なお、上記した実施形態２５と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。
【０１６３】
本実施形態に係る下層側コンタクトホール２５３０は、図４８に示すように、コンタクトホール本体２５３０ａの開口縁のうち一対の長辺における端寄りの部分をそれぞれ拡張することで、拡張開口部２５３０ｂが一対形成されている。一対の拡張開口部２５３０ｂは、コンタクトホール本体２５３０ａの開口縁において対角となる一対の角部の近くにそれぞれ配されており、互いに平面に視て点対称形状をなしている。これにより、下層側コンタクトホール２５３０は、平面に視て点対称形状をなしている。
【０１６４】
＜実施形態２７＞
本発明の実施形態２７を図４９によって説明する。この実施形態２７では、上記した実施形態２０から下層側コンタクトホール２６３０における拡張開口部２６３０ｂの平面形状などを変更したものを示す。なお、上記した実施形態２０と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。
【０１６５】
本実施形態に係る下層側コンタクトホール２６３０は、図４９に示すように、コンタクトホール本体２６３０ａの開口縁のうち短軸方向（Ｘ軸方向）についての中央部を長軸方向（Ｙ軸方向）に沿って片側に拡張することで、拡張開口部２６３０ｂが１つ形成されている。拡張開口部２６３０ｂは、平面に視て横長の長方形状をなしており、その短辺寸法が例えば１．５μｍ程度とされ、長辺寸法が例えば３μｍ程度とされる。
【０１６６】
＜実施形態２８＞
本発明の実施形態２８を図５０によって説明する。この実施形態２８では、上記した実施形態２７から下層側コンタクトホール２７３０における拡張開口部２７３０ｂの配置を変更したものを示す。なお、上記した実施形態２７と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。
【０１６７】
本実施形態に係る下層側コンタクトホール２７３０は、図５０に示すように、コンタクトホール本体２７３０ａの開口縁のうち長軸方向（Ｙ軸方向）についての中央部を短軸方向（Ｘ軸方向）に沿って片側に拡張することで、平面に視て縦長の長方形状をなす拡張開口部２７３０ｂが１つ形成されている。
【０１６８】
＜実施形態２９＞
本発明の実施形態２９を図５１によって説明する。この実施形態２９では、上記した実施形態２７から下層側コンタクトホール２８３０における拡張開口部２８３０ｂの平面形状を変更したものを示す。なお、上記した実施形態２７と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。
【０１６９】
本実施形態に係る下層側コンタクトホール２８３０は、図５１に示すように、平面に視て略楕円形状をなすコンタクトホール本体２８３０ａの開口縁を拡張して形成された拡張開口部２８３０ｂの平面形状が略二等辺三角形状となるよう形成されている。拡張開口部２８３０ｂは、その開口縁のうち平面に視て一対の等辺が交わる頂点がコンタクトホール本体２８３０ａ側とは反対側に突き出す形で配されており、コンタクトホール本体２８３０ａからＹ軸方向に沿って遠ざかる方向に向けて先細りとなる形状をなしている。拡張開口部２８３０ｂの開口縁のうちの一対の等辺は、互いに対向状をなしており、それら両等辺の間の間隔がコンタクトホール本体２８３０ａからＹ軸方向に沿って遠ざかるに連れて次第に狭くなるとともに、両等辺のうちコンタクトホール本体２８３０ａ側とは反対側の先端部同士が繋がって鋭角の頂点を構成している。従って、配向膜の成膜時に配向膜をなす溶液の液滴が、拡張開口部２８３０ｂの開口縁における上記した両等辺の両方に到達すると、それらの液滴同士が繋がり易くなっている。これにより、配向膜をなす溶液が下層側コンタクトホール２８３０内により流れ込み易くなっている。
【０１７０】
＜実施形態３０＞
本発明の実施形態３０を図５２によって説明する。この実施形態２８では、上記した実施形態２１から下層側コンタクトホール２９３０における拡張開口部２９３０ｂの設置数を変更したものを示す。なお、上記した実施形態２１と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。
【０１７１】
本実施形態に係る下層側コンタクトホール２９３０は、図５２に示すように、平面に視て略円形状をなすコンタクトホール本体２９３０ａの開口縁のうち約１８０°の角度間隔を空けた位置に一対の拡張開口部２９３０ｂが配置されるよう形成されている。一対の拡張開口部２９３０ｂは、互いに平面に視て線対称形状で且つ点対称形状をなしている。これにより、下層側コンタクトホール２９３０は、平面に視て線対称形状で且つ点対称形状をなしている。
【０１７２】
＜実施形態３１＞
本発明の実施形態３１を図５３によって説明する。この実施形態３１では、上記した実施形態３０から下層側コンタクトホール３０３０における拡張開口部３０３０ｂの設置数をさらに変更したものを示す。なお、上記した実施形態３０と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。
【０１７３】
本実施形態に係る下層側コンタクトホール３０３０は、図５３に示すように、平面に視て略円形状をなすコンタクトホール本体３０３０ａの開口縁のうち約１２０°ずつの角度間隔を空けた位置に３つの拡張開口部３０３０ｂが配置されるよう形成されている。３つの拡張開口部３０３０ｂは、コンタクトホール本体３０３０ａの開口縁において等角度間隔を空けた位置に配置されている。これにより、下層側コンタクトホール３０３０は、平面に視て点対称形状をなしている。
【０１７４】
＜実施形態３２＞
本発明の実施形態３２を図５４によって説明する。この実施形態３２では、上記した実施形態２１から下層側コンタクトホール３１３０における拡張開口部３１３０ｂの平面形状を変更したものを示す。なお、上記した実施形態２１と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。
【０１７５】
本実施形態に係る下層側コンタクトホール３１３０は、図５４に示すように、平面に視て略円形状をなすコンタクトホール本体３１３０ａの開口縁を拡張して形成された拡張開口部３１３０ｂの平面形状が略二等辺三角形状となるよう形成されている。拡張開口部３１３０ｂは、その開口縁のうち平面に視て一対の等辺が交わる頂点がコンタクトホール本体３１３０ａ側とは反対側に突き出す形で配されており、コンタクトホール本体３１３０ａからＹ軸方向に沿って遠ざかる方向に向けて先細りとなる形状をなしている。拡張開口部３１３０ｂの開口縁のうちの一対の等辺は、互いに対向状をなしており、それら両等辺の間の間隔がコンタクトホール本体３１３０ａからＹ軸方向に沿って遠ざかるに連れて次第に狭くなるとともに、両等辺のうちコンタクトホール本体３１３０ａ側とは反対側の先端部同士が繋がって鋭角の頂点を構成している。従って、配向膜の成膜時に配向膜をなす溶液の液滴が、拡張開口部３１３０ｂの開口縁における上記した両等辺の両方に到達すると、それらの液滴同士が繋がり易くなっている。これにより、配向膜をなす溶液が下層側コンタクトホール３１３０内により流れ込み易くなっている。
【０１７６】
＜実施形態３３＞
本発明の実施形態３３を図５５によって説明する。この実施形態３３では、上記した実施形態１９から下層側コンタクトホール３２３０における拡張開口部３２３０ｂの平面形状を変更したものを示す。なお、上記した実施形態１９と同様の構造、作用及び効果について重複する説明は省略する。
【０１７７】
本実施形態に係る下層側コンタクトホール３２３０は、図５５に示すように、平面に視て縦長の長方形状をなすコンタクトホール本体３２３０ａの開口縁のうち、一方の長辺を拡張して形成された拡張開口部３２３０ｂが平面に視て略台形状をなすよう形成されている。詳しくは、拡張開口部３２３０ｂは、平面形状が略等脚台形状とされており、開口縁のうちの上辺がコンタクトホール本体３２３０ａ側とは反対側に突き出す形で配されており、コンタクトホール本体３２３０ａからＸ軸方向に沿って遠ざかる方向に向けて先細りとなる形状をなしている。また、拡張開口部３２３０ｂは、その開口縁のうちの下辺がコンタクトホール本体３２３０ａの長辺と一直線状をなしている。拡張開口部３２３０ｂの開口縁のうちの一対の底辺に対して傾斜した一対の対辺は、互いに対向状をなしており、それら一対の対辺の間の間隔がコンタクトホール本体３２３０ａからＸ軸方向に沿って遠ざかるに連れて次第に狭くなっている。従って、配向膜の成膜時に配向膜をなす溶液の液滴が、拡張開口部３２３０ｂの開口縁における上記した一対の対辺の両方に到達すると、それらの液滴同士が繋がり易くなっている。これにより、配向膜をなす溶液が下層側コンタクトホール３２３０内により流れ込み易くなっている。なお、拡張開口部３２３０ｂにおける一対の底辺間の距離は、例えば１．５μｍ程度とされ、下辺の長さ寸法は、例えば３μｍ程度とされる。
【０１７８】
＜他の実施形態＞
本発明は上記記述及び図面によって説明した実施形態に限定されるものではなく、例えば次のような実施形態も本発明の技術的範囲に含まれる。
（１）上記した各実施形態における図面に記載したもの以外にも、屈曲部における第１開口縁と第２開口縁とが内側になす具体的な角度は、優角の範囲内において適宜に変更可能である。
【０１７９】
（２）上記した各実施形態では、屈曲部をなす第１開口縁及び第２開口縁が平面に視て直線状をなすものを示したが、屈曲部をなす第１開口縁及び第２開口縁が平面に視て曲線状をなす構成とすることも可能である。
【０１８０】
（３）上記した各実施形態以外にも、コンタクトホール本体及び拡張開口部の平面形状はそれぞれ適宜に変更可能である。具体的には、コンタクトホール本体及び拡張開口部の平面形状を、例えば正方形、三角形、五角形以上の多角形、菱形、平行四辺形、円形、楕円形などとすることが可能である。
【０１８１】
（４）上記した各実施形態以外にも、コンタクトホール本体に対する拡張開口部の平面配置は適宜に変更可能である。また、拡張開口部の設置数や平面に視た大きさなども適宜に変更可能である。
【０１８２】
（５）上記した各実施形態以外にも、画素構造（ゲート電極、ドレイン電極、チャネル部、絶縁部の開口部、ゲート配線、画素電極、共通電極、ドレイン配線、上層側コンタクトホールなど）に対する上層側コンタクトホールが有する拡張開口部の平面配置は適宜に変更可能である。
【０１８３】
（６）上記した各実施形態以外にも、上層側コンタクトホールの平面配置、平面形状、及び形成範囲などは適宜に変更可能である。例えば、上層側コンタクトホールが下層側コンタクトホールのうちの拡張開口部と平面に視て重畳する配置とすることも可能である。また、上層側コンタクトホールが下層側コンタクトホールと平面に視て重畳する配置構成とすることも可能である。その場合、上層側コンタクトホールの平面形状を下層側コンタクトホールと同一とすることが可能であり、そうすれば上層側コンタクトホールを、下層側コンタクトホールをパターニングするためのマスクとして用いることが可能となる。
【０１８４】
（７）上記した実施形態２，１４では、グレートーンマスクを用いて有機絶縁膜をパターニングした場合を示したが、半透過膜を含んだハーフトーンマスクを用いて有機絶縁膜をパターニングすることも可能である。
【０１８５】
（８）上記した各実施形態では、インクジェット装置またはスクリーン印刷装置を用いて配向膜をアレイ基板に塗布するものを示したが、それ以外にもオフセット印刷装置、凸版印刷装置、凹版印刷装置、平板版印刷装置などを用いて配向膜をアレイ基板に塗布するようにしてもよい。なお、ＣＦ基板側の配向膜を塗布するための装置はアレイ基板側と同じとするのが好ましい。
【０１８６】
（９）上記した各実施形態では、配向膜の材料としてポリイミドを用いた場合を示したが、配向膜の材料としてポリイミド以外の液晶配向材を用いることも可能である。
【０１８７】
（１０）上記した各実施形態では、配向膜の材料として光配向材料を用い、紫外線の照射によって配向処理がなされる光配向膜を形成するようにした場合を示したが、ラビングによって配向処理がなされる配向膜を形成したものにも本発明は適用可能である。
【０１８８】
（１１）上記した各実施形態では、表示部側コンタクトホールがＴＦＴのドレイン電極と平面に視て重畳する配置とされ、画素電極がドレイン電極に直接接続されるものを示したが、表示部側コンタクトホールがドレイン電極とは平面に視て非重畳とされるものの、ドレイン配線（容量形成部を含む）と平面に視て重畳する配置とし、画素電極をドレイン配線に接続するようにしてもよい。
【０１８９】
（１２）上記した各実施形態では、ＴＦＴがゲート配線上に載る形で配されるものを示したが、ＴＦＴがゲート配線とは平面に視て非重畳となる位置に配されるものも本発明に含まれる。その場合、ゲート配線からゲート電極を枝分かれする形で形成すればよい。
【０１９０】
（１３）上記した各実施形態では、ＴＦＴの一部がソース配線上に載る形で配されるものを示したが、ＴＦＴがソース配線とは平面に視て非重畳となる位置に配されるものも本発明に含まれる。その場合、ソース配線からソース電極を枝分かれする形で形成すればよい。
【０１９１】
（１４）上記した各実施形態では、ゲート配線と補助容量配線とが平面に視て画素電極の中央側部分を挟んだ位置に配されるものを示したが、例えば補助容量配線が画素電極における長さ方向の中央部付近を横切る配置とすることも可能である。
【０１９２】
（１５）上記した各実施形態では、行制御回路部とゲート配線とを接続するための非表示部側コンタクトホールにおける開口縁に屈曲部（少なくとも２つの傾斜部）を形成したものを示したが、列制御回路部側とソース配線との接続部位に非表示部側コンタクトホールを形成した場合には、その非表示部側コンタクトホールにおける開口縁に屈曲部（少なくとも２つの傾斜部）を形成することも可能である。それ以外にも、第１金属膜からなる配線と第２金属膜からなる配線とを非表示部において接続するために非表示部側コンタクトホールを設ける場合には、その開口縁に屈曲部（少なくとも２つの傾斜部）を含ませるようにすることが可能である。
【０１９３】
（１６）上記した各実施形態以外にも、アレイ基板における行制御回路部の配置及び設置数は適宜に変更可能である。例えば、行制御回路部がアレイ基板における表示部に対して図４に示す右側に隣り合う配置とされるものや、行制御回路部がアレイ基板において表示部を左右に挟んだ位置に一対配置されるものも本発明に含まれる。
【０１９４】
（１７）上記した各実施形態以外にも、ゲート絶縁膜、保護膜、第１層間絶縁膜、有機絶縁膜、及び第２層間絶縁膜における具体的な材料については、それぞれ適宜に変更することが可能である。
【０１９５】
（１８）上記した各実施形態では、酸化物半導体膜をインジウム（Ｉｎ）、ガリウム（Ｇａ）及び亜鉛（Ｚｎ）を含む酸化物薄膜とした場合を示したが、他の種類の酸化物半導体材料を用いることも可能である。具体的には、インジウム（Ｉｎ）、シリコン（Ｓｉ）及び亜鉛（Ｚｎ）を含む酸化物、インジウム（Ｉｎ）、アルミニウム（Ａｌ）及び亜鉛（Ｚｎ）を含む酸化物、錫（Ｓｎ）、シリコン（Ｓｉ）及び亜鉛（Ｚｎ）を含む酸化物、錫（Ｓｎ）、アルミニウム（Ａｌ）及び亜鉛（Ｚｎ）を含む酸化物、錫（Ｓｎ）、ガリウム（Ｇａ）及び亜鉛（Ｚｎ）を含む酸化物、ガリウム（Ｇａ）、シリコン（Ｓｉ）及び亜鉛（Ｚｎ）を含む酸化物、ガリウム（Ｇａ）、アルミニウム（Ａｌ）及び亜鉛（Ｚｎ）を含む酸化物、インジウム（Ｉｎ）、銅（Ｃｕ）及び亜鉛（Ｚｎ）を含む酸化物、錫（Ｓｎ）、銅（Ｃｕ）及び亜鉛（Ｚｎ）を含む酸化物などを用いることができる。
【０１９６】
（１９）上記した各実施形態では、第１金属膜及び第２金属膜がチタン（Ｔｉ）及び銅（Ｃｕ）の積層膜により形成される場合を示したが、例えばチタンに代えてモリブデン（Ｍｏ）、窒化モリブデン（ＭｏＮ）、窒化チタン（ＴｉＮ）、タングステン（Ｗ）、ニオブ（Ｎｂ）、モリブデン−チタン合金（ＭｏＴｉ）、モリブデン−タングステン合金（ＭｏＷ）などを用いることも可能である。それ以外にも、チタン、銅、アルミニウムなどの単層の金属膜を用いることも可能である。
【０１９７】
（２０）上記した各実施形態では、動作モードがＦＦＳモードとされた液晶パネルについて例示したが、それ以外にもＩＰＳ（In-Plane Switching）モードやＶＡ（Vertical Alignment：垂直配向）モードなどの他の動作モードとされた液晶パネルについても本発明は適用可能である。
【０１９８】
（２１）上記した各実施形態では、液晶パネルにおいて表示部が短辺方向については中央に配されるものの長辺方向についての一方の端部側に片寄った配置とされたものを示したが、液晶パネルにおいて表示部が長辺方向については中央に配されるものの短辺方向について一方の端部側に片寄った配置とされるものも本発明に含まれる。また、液晶パネルにおいて表示部が長辺方向及び短辺方向についてそれぞれ一方の端部側に片寄った配置とされるものも本発明に含まれる。逆に、液晶パネルにおいて表示部が長辺方向及び短辺方向について中央に配置されるものも本発明に含まれる。
【０１９９】
（２２）上記した各実施形態では、ドライバをアレイ基板上に直接ＣＯＧ実装したものを示したが、アレイ基板に対してＡＣＦを介して接続したフレキシブル基板上にドライバを実装するようにしたものも本発明に含まれる。
【０２００】
（２３）上記した各実施形態では、アレイ基板の非表示部に列制御回路部及び行制御回路部を設けるようにした場合を示したが、列制御回路部と行制御回路部とのいずれかまたは双方を省略し、その機能をドライバに担わせることも可能である。行制御回路部を省略した場合には、非表示部側コンタクトホールについても省略されることになる。
【０２０１】
（２４）上記した各実施形態では、縦長な方形状をなす液晶パネルを例示したが、横長な方形状をなす液晶パネルや正方形状をなす液晶パネルにも本発明は適用可能である。
【０２０２】
（２５）上記した各実施形態に記載した液晶パネルに対して、タッチパネルや視差バリアパネル（スイッチ液晶パネル）などの機能性パネルを積層する形で取り付けるようにしたものも本発明に含まれる。また、液晶パネルに直接タッチパネルパターンを形成するようにしたものも本発明に含まれる。
【０２０３】
（２６）上記した各実施形態では、液晶表示装置が備えるバックライト装置としてエッジライト型のものを例示したが、直下型のバックライト装置を用いるようにしたものも本発明に含まれる。
【０２０４】
（２７）上記した各実施形態では、外部光源であるバックライト装置を備えた透過型の液晶表示装置を例示したが、本発明は、外光を利用して表示を行う反射型液晶表示装置にも適用可能であり、その場合はバックライト装置を省略することができる。
【０２０５】
（２８）上記した各実施形態では、液晶表示装置のスイッチング素子としてＴＦＴを用いたが、ＴＦＴ以外のスイッチング素子（例えば薄膜ダイオード（ＴＦＤ））を用いた液晶表示装置にも適用可能であり、またカラー表示する液晶表示装置以外にも、白黒表示する液晶表示装置にも適用可能である。
【０２０６】
（２９）上記した各実施形態では、一対の基板間に液晶が挟持された構成とされ、液晶の配向を制御するための配向膜を備えた液晶パネルについて例示したが、液晶以外の機能性有機分子の配向を制御する配向膜を備えた表示パネルについても本発明は適用可能である。
【０２０７】
（３０）上記した各実施形態では、小型または中小型に分類され、携帯型情報端末、携帯電話、ノートパソコン、デジタルフォトフレーム、携帯型ゲーム機、電子インクペーパなどの各種電子機器などに用いされる液晶パネルを例示したが、画面サイズが例えば２０インチ〜９０インチで、中型または大型（超大型）に分類される液晶パネルにも本発明は適用可能である。その場合、液晶パネルをテレビ受信装置、電子看板（デジタルサイネージ）、電子黒板などの電子機器に用いることが可能とされる。
【０２０８】
（３１）上記した実施形態２，６〜１４では、表示部側コンタクトホールを構成する下層側コンタクトホールにおける開口縁に屈曲部または第１傾斜部及び第２傾斜部を形成した場合を示したが、非表示部側コンタクトホールにおける開口縁に上記した実施形態２，６〜１４と同様の屈曲部または第１傾斜部及び第２傾斜部を形成することも勿論可能である。
【０２０９】
（３２）上記した実施形態１４では、第１傾斜部と第２傾斜部とが同数（一対）ずつ形成されたものを示したが、第１傾斜部の設置数と第２傾斜部の設置数とを異ならせる構成を採ることも可能である。具体的には、下層側コンタクトホール（非表示部側コンタクトホール）における４辺の開口縁のうち、任意の３辺の開口縁に第１傾斜部または第２傾斜部を形成し、残りの１辺の開口縁に第２傾斜部または第１傾斜部を形成することが可能である。また、下層側コンタクトホールの平面形状を方形状以外の形状に変更した場合においても同様に第１傾斜部の設置数と第２傾斜部の設置数とを異ならせることが可能である。なお、下層側コンタクトホールの開口縁における具体的な第１傾斜部及び第２傾斜部の平面配置は、適宜に変更可能である。
【０２１０】
（３３）上記した実施形態１４では、下層側コンタクトホールの開口縁に傾斜角度が異なる２つの傾斜部（第１傾斜部及び第２傾斜部）が含まれる構成を示したが、下層側コンタクトホール（非表示部側コンタクトホール）の開口縁に傾斜角度が異なる傾斜部が３つ以上含まれる構成（具体的には、少なくとも第１傾斜部と、第２傾斜部と、第１傾斜部及び第２傾斜部のいずれとも傾斜角度が異なる第３傾斜部とを含む構成）としたものも本発明に含まれる。
【０２１１】
（３４）上記した実施形態１４に記載した構成と、上記した実施形態１〜１３に記載した構成とを適宜に組み合わせることも勿論可能である。その場合、下層側コンタクトホール（非表示部側コンタクトホール）の開口縁に、屈曲部と、第１傾斜部及び第２傾斜部とが共に形成される構成となる。
【０２１２】
（３５）上記した実施形態１５から実施形態３３に記載したコンタクトホール本体及び拡張開口部の具体的な寸法は適宜に変更可能である。具体的には、実施形態１５，１７〜２０，２２〜２９，３３において、コンタクトホール本体及び拡張開口部の各寸法を変更するに際しては、例えばコンタクトホール本体における長辺寸法と短辺寸法との比率と、拡張開口部における長辺寸法と短辺寸法との比率とを互いに等しくするのが好ましい。なお、コンタクトホール本体における長辺寸法と短辺寸法との比率と、拡張開口部における長辺寸法と短辺寸法との比率とが等しくならない（不等となる）構成を採ることも勿論可能である。また、実施形態１６，２１，３０〜３２において、コンタクトホール本体及び拡張開口部の各寸法を変更するに際して、それら各寸法の比率は適宜に変更することが可能である。また、上記した実施形態１５から実施形態３３に記載したコンタクトホール本体及び拡張開口部について、短辺（短軸）と長辺（長軸）とを逆転させた形状とすることが可能であり、それ以外にも拡張開口部が長辺及び短辺を有さない平面形状、具体的には正方形や半円形などとされるものも本発明に含まれる。また、その他にも、上記した実施形態１５から実施形態３３に記載した構成と、上記した実施形態１〜１４に記載した構成とを適宜に組み合わせることも勿論可能である。
【０２１３】
（３６）上記した実施形態１７では、第２傾斜部が有機絶縁膜における下層側コンタクトホールの開口縁のうち屈曲部をなす第２開口縁に隣り合うとともに拡張開口部を構成する１辺の開口縁にのみ形成された場合を示したが、第２傾斜部を第２開口縁、つまり屈曲部の一部にまで拡張して形成した構成としたり、第２傾斜部を第１開口縁及び第２開口縁、つまり屈曲部の全域にまで拡張して形成した構成とすることも可能である。さらには、有機絶縁膜における下層側コンタクトホールの開口縁における第２傾斜部の形成範囲及び形成位置については適宜に変更可能であるが、特に、屈曲部をなす第１開口縁と第２開口縁とのうちの少なくともいずれか一方、または屈曲部をなす第１開口縁と第２開口縁とのうちの少なくともいずれか一方に対して隣り合う開口縁に第２傾斜部を形成すれば、第１傾斜部及び第２傾斜部により得られる効果に、屈曲部により得られる効果が相乗する形で得られるのでより好ましい。
【０２１４】
（３７）上記した（３６）以外にも、有機絶縁膜における下層側コンタクトホールの開口縁での、第１傾斜部及び第２傾斜部の配置や形成範囲は適宜に変更可能である。
【符号の説明】
【０２１５】
１１…液晶パネル（表示装置）、１１ａ…ＣＦ基板（対向基板）、１１ｂ，２１１ｂ，１３１１ｂ，１６１１ｂ…アレイ基板（表示素子）、１１ｃ…液晶層（液晶）、１１ｅ，１１１ｅ，１３１１ｅ，１６１１ｅ…配向膜、１７ａ，３１７ａ，４１７ａ…ゲート電極、１７ｂ…ソース電極、１７ｃ，３１７ｃ，４１７ｃ…ドレイン電極、１７ｄ…チャネル部、１８，１１８，３１８，４１８，１３１８…画素電極、２４，１３２４…第２透明電極膜（第２導電膜）、２５…補助容量配線、３０，１３０，３３０，４３０，５３０，６３０，７３０，８３０，９３０，１０３０，１１３０，１２３０，１３３０，１４３０，１５３０，１６３０，１７３０，１８３０，１９３０，２０３０，２１３０，２２３０，２３３０，２４３０，２５３０，２６３０，２７３０，２８３０，２９３０，３０３０，３１３０，３２３０…下層側コンタクトホール（コンタクトホール）、３０ａ，５３０ａ，６３０ａ，７３０ａ，８３０ａ，９３０ａ，１０３０ａ，１１３０ａ，１２３０ａ，１４３０ａ，１５３０ａ，１６３０ａ，１７３０ａ，１８３０ａ，１９３０ａ，２０３０ａ，２１３０ａ，２２３０ａ，２３３０ａ，２４３０ａ，２５３０ａ，２６３０ａ，２７３０ａ，２８３０ａ，２９３０ａ，３０３０ａ，３１３０ａ，３２３０ａ…コンタクトホール本体、３０ｂ，３３０ｂ，４３０ｂ，５３０ｂ，６３０ｂ，７３０ｂ，８３０ｂ，９３０ｂ，１０３０ｂ，１１３０ｂ，１２３０ｂ，１４３０ｂ，１５３０ｂ，１６３０ｂ，１７３０ｂ，１８３０ｂ，１９３０ｂ，２０３０ｂ，２１３０ｂ，２２３０ｂ，２３３０ｂ，２４３０ｂ，２５３０ｂ，２６３０ｂ，２７３０ｂ，２８３０ｂ，２９３０ｂ，３０３０ｂ，３１３０ｂ，３２３０ｂ…拡張開口部、３３…非表示部側コンタクトホール（コンタクトホール）、３３ａ…コンタクトホール本体、３３ｂ…拡張開口部、３４…第１金属膜（第１導電膜、第３導電膜）、３５…ゲート絶縁膜（絶縁膜）、３６…半導体膜、３７…保護膜（絶縁膜）、３８，１３３８…第２金属膜（第１金属膜、第２金属膜）、３９，１３３９…第１層間絶縁膜（絶縁膜）、４０，１４０，１３４０，１６４０…有機絶縁膜（絶縁膜）、４２…インクジェット装置、４２ｄ…ノズル、４３，１４３，７４３，８４３，９４３，１１４３，１２４３，１４４３，１６４３，１９４３…屈曲部、４３ａ，７４３ａ，８４３ａ，９４３ａ，１４４３ａ，１６４３ａ…第１開口縁（開口縁）、４３ｂ，７４３ｂ，８４３ｂ，９４３ｂ，１４４３ｂ，１６４３ｂ，１９４３ｂ…第２開口縁（開口縁）、４４…第１傾斜部、４５…第２傾斜部、４６，１３４６…グレートーンマスク、４６ｂ１，１３４６ｂ１…スリット、４７…スクリーン印刷装置（孔版印刷装置）、４７ａ…スクリーン（孔版）、４７ａ１…孔部、４７ｃ，４７ｄ…スキージ、４８，１６４８…第１傾斜部（傾斜部）、４９，１６４９…第２傾斜部（傾斜部）、ＧＳ…ガラス基板（基板）、ＨＴＡ…半透過領域
【図１】
2014103915.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2014103915.tif 000009
【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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【図３６】
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【図３７】
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【図３８】
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【図３９】
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【図４０】
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【図４１】
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【図４２】
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【図４３】
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【図４４】
2014103915.tif 000046
【図４５】
2014103915.tif 000047
【図４６】
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【図４７】
2014103915.tif 000049
【図４８】
2014103915.tif 000050
【図４９】
2014103915.tif 000051
【図５０】
2014103915.tif 000052
【図５１】
2014103915.tif 000053
【図５２】
2014103915.tif 000054
【図５３】
2014103915.tif 000055
【図５４】
2014103915.tif 000056
【図５５】
2014103915.tif 000057
【手続補正書】
【提出日】平成27年6月24日(2015.6.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１導電膜と、
前記第１導電膜よりも上層側に配され、少なくとも一部が前記第１導電膜と平面に視て重畳する第２導電膜と、
前記第１導電膜と前記第２導電膜との間に介在する形で配される絶縁膜であって、前記第１導電膜及び前記第２導電膜に対して平面に視て重畳する位置に開口する形で形成されることで前記第２導電膜を前記第１導電膜に対して接続するコンタクトホールを有する絶縁膜と、
前記第２導電膜よりも上層側に配され、前記コンタクトホールと平面に視て重畳する部分と、前記コンタクトホールとは平面に視て非重畳とされる部分とを有する配向膜と、
前記絶縁膜における前記コンタクトホールの開口縁の少なくとも一部により構成され、平面に視て内側に優角をなすよう屈曲する屈曲部と、を備える表示素子。
【請求項２】
前記絶縁膜は、前記コンタクトホールが、前記第１導電膜及び前記第２導電膜の少なくとも一部に対して平面に視て重畳するコンタクトホール本体と、前記コンタクトホール本体の一部を拡張することで形成される拡張開口部とを有してなるとともに、前記コンタクトホール本体と前記拡張開口部とにおける互いに連なる開口縁によって前記屈曲部が構成され、且つ前記拡張開口部の開口間口が前記コンタクトホール本体の開口間口よりも狭くなるよう形成されている請求項１記載の表示素子。
【請求項３】
前記第２導電膜は、透明電極材料からなる画素電極を構成しており、
前記絶縁膜は、前記拡張開口部が前記コンタクトホール本体のうち平面に視て前記画素電極の中心から相対的に遠い側の部分を拡張して形成された構成とされる請求項２記載の表示素子。
【請求項４】
前記絶縁膜は、前記拡張開口部が前記コンタクトホール本体における角部を拡張して形成された構成とされる請求項２または請求項３記載の表示素子。
【請求項５】
前記第２導電膜は、透明電極材料からなる画素電極を構成しており、
前記絶縁膜は、前記拡張開口部が前記画素電極とは平面に視て非重畳となる位置に配された構成とされる請求項２から請求項４のいずれか１項に記載の表示素子。
【請求項６】
前記絶縁膜は、前記拡張開口部が前記第１導電膜とは平面に視て非重畳となる位置に配された構成とされる請求項２から請求項５のいずれか１項に記載の表示素子。
【請求項７】
前記第１導電膜よりも下層側に配され、少なくとも一部が前記第１導電膜と平面に視て重畳する第３導電膜を備えており、
前記絶縁膜は、前記コンタクトホール本体の少なくとも一部が前記第３導電膜に対して平面に視て重畳する位置に配されるのに対し、前記拡張開口部が前記第３導電膜とは平面に視て非重畳とされる位置に配されるよう形成されている請求項２から請求項６のいずれか１項に記載の表示素子。
【請求項８】
前記第１導電膜は、少なくともソース電極とドレイン電極とをそれぞれ構成するのに対し、前記第３導電膜は、少なくとも前記ソース電極と前記ドレイン電極とに対してそれぞれ平面に視て重畳するゲート電極と、前記ゲート電極に対して平面に視て離間した位置に配される補助容量配線とをそれぞれ構成しており、
前記絶縁膜は、前記コンタクトホール本体の少なくとも一部が前記ドレイン電極及び前記ゲート電極に対して平面に視て重畳する位置に配されるのに対し、前記拡張開口部が平面に視て前記ゲート電極と前記補助容量配線とに挟まれた位置に配されるよう形成されている請求項７記載の表示素子。
【請求項９】
前記絶縁膜は、前記コンタクトホール本体の開口間口における最大値をＷｍａｘとしたとき、前記拡張開口部の開口間口がＷｍａｘ／２以下の大きさとなるよう形成されている請求項２から請求項８のいずれか１項に記載の表示素子。
【請求項１０】
前記絶縁膜のうち、前記拡張開口部を構成し且つ前記屈曲部を構成する開口縁は、その長さ寸法がＷｍａｘ／２以下の大きさとなるよう形成されている請求項９記載の表示素子。
【請求項１１】
前記絶縁膜は、前記拡張開口部が平面に視て前記コンタクトホール本体から遠ざかる方向に向けて先細り形状となるよう形成されている請求項２から請求項１０のいずれか１項に記載の表示素子。
【請求項１２】
前記絶縁膜には、有機樹脂材料からなる有機絶縁膜が少なくとも含まれており、
前記コンタクトホールの開口縁のうち少なくとも前記屈曲部は、断面形状が段階的に立ち上がる形態とされていて、相対的に下層側に配され且つ傾斜角度が相対的に大きな第１傾斜部と、相対的に上層側に配され且つ傾斜角度が相対的に小さな第２傾斜部とを少なくとも有している請求項１から請求項１１のいずれか１項に記載の表示素子。
【請求項１３】
前記第１導電膜よりも下層側に配され、少なくとも一部が前記第１導電膜と平面に視て重畳する第３導電膜と、前記第３導電膜と前記第１導電膜との間に介在する形で配される半導体膜とを備えており、
前記第１導電膜は、少なくともソース電極とドレイン電極とをそれぞれ構成し、前記第３導電膜は、少なくとも前記ソース電極と前記ドレイン電極とに対してそれぞれ平面に視て重畳するゲート電極を構成し、前記半導体膜は、前記ソース電極と前記ドレイン電極とにそれぞれ接続されるチャネル部を構成するとともに酸化物半導体からなる請求項１から請求項１２のいずれか１項に記載の表示素子。
【請求項１４】
前記酸化物半導体は、インジウム（Ｉｎ）、ガリウム（Ｇａ）、亜鉛（Ｚｎ）、酸素（Ｏ）を含んでいる請求項１３記載の表示素子。
【請求項１５】
前記酸化物半導体は、結晶性を有している請求項１４記載の表示素子。
【請求項１６】
前記絶縁膜のうち、前記コンタクトホールを構成し且つ互いに隣り合う開口縁には、断面形状が傾斜状をなすとともに傾斜角度が互いに異なる少なくとも２つの傾斜部が形成されている請求項１から請求項１５のいずれか１項に記載の表示素子。
【請求項１７】
請求項１から請求項１６のいずれか１項に記載の表示素子と、前記表示素子と対向するように配置された対向基板と、前記表示素子と前記対向基板との間に配置された液晶とを備える表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年7月4日(2016.7.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１導電膜と、
前記第１導電膜よりも上層側に配され、少なくとも一部が前記第１導電膜と平面に視て重畳する第２導電膜と、
前記第１導電膜と前記第２導電膜との間に介在する形で配される絶縁膜であって、前記第１導電膜及び前記第２導電膜に対して平面に視て重畳する位置に開口する形で形成されることで前記第２導電膜を前記第１導電膜に対して接続するコンタクトホールを有する絶縁膜と、
前記第２導電膜よりも上層側に配され、前記コンタクトホールと平面に視て重畳する部分と、前記コンタクトホールとは平面に視て非重畳とされる部分とを有する配向膜と、
前記絶縁膜における前記コンタクトホールの開口縁の少なくとも一部により構成され、平面に視て内側に優角をなすよう屈曲する屈曲部と、を備え、
前記絶縁膜は、前記コンタクトホールが、前記第１導電膜及び前記第２導電膜の少なくとも一部に対して平面に視て重畳するコンタクトホール本体と、前記コンタクトホール本体の一部を拡張することで形成される拡張開口部とを有してなるとともに、前記コンタクトホール本体と前記拡張開口部とにおける互いに連なる開口縁によって前記屈曲部が構成され、且つ前記拡張開口部の開口間口が前記コンタクトホール本体の開口間口よりも狭くなるよう形成されており、
前記第２導電膜は、透明電極材料からなる画素電極を構成しており、
前記絶縁膜は、前記拡張開口部が前記コンタクトホール本体のうち平面に視て前記画素電極の中心から相対的に遠い側の部分を拡張して形成された構成とされる表示素子。
【請求項２】
前記絶縁膜は、前記拡張開口部が前記コンタクトホール本体における角部を拡張して形成された構成とされる請求項１記載の表示素子。
【請求項３】
前記第２導電膜は、透明電極材料からなる画素電極を構成しており、
前記絶縁膜は、前記拡張開口部が前記画素電極とは平面に視て非重畳となる位置に配された構成とされる請求項１または請求項２に記載の表示素子。
【請求項４】
前記絶縁膜は、前記拡張開口部が前記第１導電膜とは平面に視て非重畳となる位置に配された構成とされる請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の表示素子。
【請求項５】
前記第１導電膜よりも下層側に配され、少なくとも一部が前記第１導電膜と平面に視て重畳する第３導電膜を備えており、
前記絶縁膜は、前記コンタクトホール本体の少なくとも一部が前記第３導電膜に対して平面に視て重畳する位置に配されるのに対し、前記拡張開口部が前記第３導電膜とは平面に視て非重畳とされる位置に配されるよう形成されている請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の表示素子。
【請求項６】
前記第１導電膜は、少なくともソース電極とドレイン電極とをそれぞれ構成するのに対し、前記第３導電膜は、少なくとも前記ソース電極と前記ドレイン電極とに対してそれぞれ平面に視て重畳するゲート電極と、前記ゲート電極に対して平面に視て離間した位置に配される補助容量配線とをそれぞれ構成しており、
前記絶縁膜は、前記コンタクトホール本体の少なくとも一部が前記ドレイン電極及び前記ゲート電極に対して平面に視て重畳する位置に配されるのに対し、前記拡張開口部が平面に視て前記ゲート電極と前記補助容量配線とに挟まれた位置に配されるよう形成されている請求項５記載の表示素子。
【請求項７】
前記絶縁膜は、前記コンタクトホール本体の開口間口における最大値をＷｍａｘとしたとき、前記拡張開口部の開口間口がＷｍａｘ／２以下の大きさとなるよう形成されている請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の表示素子。
【請求項８】
前記絶縁膜のうち、前記拡張開口部を構成し且つ前記屈曲部を構成する開口縁は、その長さ寸法がＷｍａｘ／２以下の大きさとなるよう形成されている請求項７記載の表示素子。
【請求項９】
前記絶縁膜は、前記拡張開口部が平面に視て前記コンタクトホール本体から遠ざかる方向に向けて先細り形状となるよう形成されている請求項１から請求項８のいずれか１項に記載の表示素子。
【請求項１０】
前記絶縁膜には、有機樹脂材料からなる有機絶縁膜が少なくとも含まれており、
前記コンタクトホールの開口縁のうち少なくとも前記屈曲部は、断面形状が段階的に立ち上がる形態とされていて、相対的に下層側に配され且つ傾斜角度が相対的に大きな第１傾斜部と、相対的に上層側に配され且つ傾斜角度が相対的に小さな第２傾斜部とを少なくとも有している請求項１から請求項９のいずれか１項に記載の表示素子。
【請求項１１】
前記第１導電膜よりも下層側に配され、少なくとも一部が前記第１導電膜と平面に視て重畳する第３導電膜と、前記第３導電膜と前記第１導電膜との間に介在する形で配される半導体膜とを備えており、
前記第１導電膜は、少なくともソース電極とドレイン電極とをそれぞれ構成し、前記第３導電膜は、少なくとも前記ソース電極と前記ドレイン電極とに対してそれぞれ平面に視て重畳するゲート電極を構成し、前記半導体膜は、前記ソース電極と前記ドレイン電極とにそれぞれ接続されるチャネル部を構成するとともに酸化物半導体からなる請求項１から請求項１０のいずれか１項に記載の表示素子。
【請求項１２】
前記酸化物半導体は、インジウム（Ｉｎ）、ガリウム（Ｇａ）、亜鉛（Ｚｎ）、酸素（Ｏ）を含んでいる請求項１１記載の表示素子。
【請求項１３】
前記酸化物半導体は、結晶性を有している請求項１２記載の表示素子。
【請求項１４】
前記絶縁膜のうち、前記コンタクトホールを構成し且つ互いに隣り合う開口縁には、断面形状が傾斜状をなすとともに傾斜角度が互いに異なる少なくとも２つの傾斜部が形成されている請求項１から請求項１３のいずれか１項に記載の表示素子。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、表示素子に関する。
【国際調査報告】
2014103915.tif 000058
2014103915.tif 000059
2014103915.tif 000060
2014103915.tif 000061