(57)【要約】  印刷版の画像部の先端が被印刷体に接触する際のバウンシングを抑制して、ムラのない画像の印刷が可能なフレキソ印刷版およびフレキソ印刷版の製造方法を提供する。画像部の、印刷方向の先端側から０．５ｍｍ〜５ｍｍまでの領域が、この領域以外の画像部の高さよりも高さが低い低層化領域であり、低層化領域は、画像部の先端側の端辺に直交する方向において、非画像部に向かって漸次、低くなる。
2016136357.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像部と、非画像部とを有するフレキソ印刷版であって、
前記画像部の、印刷方向の先端側から０．５ｍｍ〜５ｍｍまでの領域が、前記領域以外の前記画像部の高さよりも高さが低い低層化領域であり、
前記低層化領域は、前記印刷方向において、前記非画像部に向かって漸次、低くなることを特徴とするフレキソ印刷版。
【請求項２】
前記低層化領域における低層化付加量の最大値が、２０μｍ〜１２０μｍである請求項１に記載のフレキソ印刷版。
【請求項３】
前記画像部の端辺から離間する方向に２ｍｍ以上連続する前記非画像部に隣接する前記画像部において、前記低層化領域を形成した請求項１または２に記載のフレキソ印刷版。
【請求項４】
画像部と、非画像部とを有するフレキソ印刷版の製造方法であって、
印刷する画像の元画像データを取得する画像データ取得工程と、
取得した前記元画像データから第１の彫刻形状画像データを生成する第１彫刻画像生成工程と、
前記元画像データから前記画像部と前記非画像部との境界を検出し、前記境界の位置を基準にして、前記画像部の一部の高さを低くするための低層化マスクデータを生成する低層化マスク生成工程と、
前記第１の彫刻形状画像データに前記低層化マスクデータを適用して、前記画像部の、印刷方向の先端側から０．５ｍｍ〜５ｍｍまでの領域を低層化した第２の彫刻形状画像データを生成する第２彫刻画像生成工程とを有することを特徴とするフレキソ印刷版の製造方法。
【請求項５】
前記低層化マスクデータによる低層化付加量の最大値が、２０μｍ〜１２０μｍである請求項４に記載のフレキソ印刷版の製造方法。
【請求項６】
前記低層化マスク生成工程において、前記画像部の端辺から離間する方向に２ｍｍ以上連続する前記非画像部に隣接する前記画像部の前記境界の位置を基準にして前記低層化マスクデータを生成する請求項４または５に記載のフレキソ印刷版の製造方法。
【請求項７】
前記第１彫刻画像生成工程は、前記元画像データを網点画像データに変換し、前記網点画像データに基づいて前記第１の彫刻形状画像データを生成する請求項４〜６のいずれか１項に記載のフレキソ印刷版の製造方法。
【請求項８】
前記第２の彫刻形状画像データに基づいて、フレキソ印刷版原版にレーザー彫刻する彫刻工程を有する請求項４〜７のいずれか１項に記載のフレキソ印刷版の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フレキソ印刷版およびフレキソ印刷版の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
樹脂製やゴム製の柔軟なレリーフ形成層を有するフレキソ印刷版は、印刷用の凸部（画像部）が比較的柔らかく、種々の形状に追従可能なことから、様々な材質の被印刷体や厚みのある被印刷体等への印刷に利用されている。【０００３】
フレキソ印刷版を用いて行われるフレキソ印刷では、フレキソ印刷版は円筒状のドラム（版胴）の周面に装着され、インキがフレキソ印刷版に供給される。版胴および圧胴を回転させつつ、被印刷体を版胴および圧胴の間に挿通して、フレキソ印刷版と被印刷体とを接触させることによって、印刷版の凸部（画像部）の表面から、被印刷体に直接、インキを転写して被印刷体上に画像を形成する。【０００４】
このようなフレキソ印刷において、印刷版は、画像部と非画像部との形成パターンに応じて、周期的に被印刷体との接触と非接触とを繰り返す。そのため、印刷版の画像部の先端が被印刷体に接触する際の衝撃力によって、版胴が振動する、いわゆる、バウンシングが発生して、画像部の先端に近い位置で、印刷版と被印刷体との接触が失われて、インキの転写不良が生じて、印刷された画像にムラが生じてしまうという問題があった。
これに対して、画像部と被印刷体の接触の際の衝撃を吸収するために、印刷版の下層側にクッション性を有する層を設けることが提案されている。【０００５】
例えば、特許文献１には、版胴の回転シャフトが、第１の素材からなる内側円筒体と、第２の素材からなる中間スリーブと、第３の素材からなる外側スリーブとを有し、第２の素材のヤング率は、第１および第３の素材のヤング率よりも実質的に低い構成とすることで、バウンシングを低減することが記載されている。【０００６】
また、特許文献２には、版胴に印刷版を接着する両面テープとして、クッション性を有する両面テープを用いることが記載されている。
また、特許文献３には、印刷版の下層に発泡性樹脂層を設けることが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特表２０１３−５２８５１３号公報
【特許文献２】特表平１０−５０１１９２号公報
【特許文献３】特開２００６−３２６９３８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、印刷版の下層側にクッション性を有する層を設ける場合に、このクッション層は柔らかいほど衝撃力を低減する効果が大きいものの、クッション層が柔らかすぎるとベタ部のインキ濃度の均一性が悪くなり、印刷された画像にムラが生じてしまうという問題があった。【０００９】
また、これ以外の方法として、画像部の配置を工夫することが考えられる。例えば、図１１（Ａ）に示すフレキソ印刷版２１０のように、複数の画像部２００、２０２および２０４を配置し、これらの画像部の先端が印刷の幅方向で揃わないように配置する構成や、図１１（Ｂ）に示すフレキソ印刷版２２０のように、複数の画像部２００、２０２および２０４を配置し、これらの画像部と画像部の間に印刷方向に延在する方向に、ベタのオビ部２２２（いわゆる、捨てオビ）を設ける構成が考えられる。
しかしながら、このような画像部の配置を工夫する構成は、デザイン上の制約を受けるため、１点の画像が版の大面積を占める場合には利用できない。【００１０】
本発明の目的は、このような従来技術の問題点を解決することにあり、印刷版の画像部の先端が被印刷体に接触する際の衝撃によって発生するバウンシングを抑制して、ムラのない画像の印刷が可能なフレキソ印刷版およびフレキソ印刷版の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意研究した結果、画像部の、印刷方向の先端側から０．５ｍｍ〜５ｍｍまでの領域が、この領域以外の高さよりも高さが低い低層化領域であり、低層化領域は、印刷方向において、非画像部に向かって漸次、低くなる構成とすることによって、印刷版の画像部の先端が被印刷体に接触する際の衝撃によって発生するバウンシングを抑制して、ムラのない画像の印刷が可能となることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明は、以下の構成のフレキソ印刷版およびフレキソ印刷版の製造方法を提供する。【００１２】
（１）  画像部と、非画像部とを有するフレキソ印刷版であって、
画像部の、印刷方向の先端側から０．５ｍｍ〜５ｍｍまでの領域が、領域以外の画像部の高さよりも高さが低い低層化領域であり、
低層化領域は、印刷方向において、非画像部に向かって漸次、低くなるフレキソ印刷版。
（２）  低層化領域における低層化付加量の最大値が、２０μｍ〜１２０μｍである（１）に記載のフレキソ印刷版。
（３）  画像部の端辺から離間する方向に２ｍｍ以上連続する非画像部に隣接する画像部において、低層化領域を形成した（１）または（２）に記載のフレキソ印刷版。
（４）  画像部と、非画像部とを有するフレキソ印刷版の製造方法であって、
印刷する画像の元画像データを取得する画像データ取得工程と、
取得した元画像データから第１の彫刻形状画像データを生成する第１彫刻画像生成工程と、
元画像データから画像部と非画像部との境界を検出し、境界の位置を基準にして、画像部の一部の高さを低くするための低層化マスクデータを生成する低層化マスク生成工程と、
第１の彫刻形状画像データに低層化マスクデータを適用して、画像部の、印刷方向の先端側から０．５ｍｍ〜５ｍｍまでの領域を低層化した第２の彫刻形状画像データを生成する第２彫刻画像生成工程とを有するフレキソ印刷版の製造方法。
（５）  低層化マスクデータによる低層化付加量の最大値が、２０μｍ〜１２０μｍである（４）に記載のフレキソ印刷版の製造方法。
（６）  低層化マスク生成工程において、画像部の端辺から離間する方向に２ｍｍ以上連続する非画像部に隣接する画像部の境界の位置を基準にして低層化マスクデータを生成する（４）または（５）に記載のフレキソ印刷版の製造方法。
（７）  第１彫刻画像生成工程は、元画像データを網点画像データに変換し、網点画像データに基づいて第１の彫刻形状画像データを生成する（４）〜（６）のいずれかに記載のフレキソ印刷版の製造方法。
（８）  第２の彫刻形状画像データに基づいて、フレキソ印刷版原版にレーザー彫刻する彫刻工程を有する（４）〜（７）のいずれかに記載のフレキソ印刷版の製造方法。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、印刷版の画像部の先端が被印刷体に接触する際の衝撃によって発生するバウンシングを抑制して、ムラのない画像の印刷が可能なフレキソ印刷版およびフレキソ印刷版の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】図１（Ａ）は、本発明に係るフレキソ印刷版の一例を示す概略上面図であり、図１（Ｂ）は、図１（Ａ）に示すフレキソ印刷版のＡ−Ａ線断面の一部を拡大して示す図である。
【図２】低層化領域における低層化付加量の一例を示すグラフである。
【図３】図３（Ａ）は、本発明のフレキソ印刷版の他の一例を示す概略上面図であり、図３（Ｂ）は、図３（Ａ）に示すフレキソ印刷版のＢ−Ｂ線断面図である。
【図４】本発明のフレキソ印刷版の製造方法の一例を説明するためのフローチャートである。
【図５】図５（Ａ）は、元画像データの一例を示す概略図であり、図５（Ｂ）は、図５（Ａ）の元画像データにおけるＢ−Ｂ線上におけるデータレベルを示すグラフであり、図５（Ｃ）は、図５（Ａ）の元画像データに基づいて生成された低層化マスクデータを示すグラフである。
【図６】図６（Ａ）は、元画像データの他の一例を示す概略図であり、図６（Ｂ）は、図６（Ａ）に示す元画像データから変換した網点画像データを示す概略図であり、図６（Ｃ）は、図６（Ｂ）の網点画像データの１つの網点の形状を示す概略断面図であり、図６（Ｄ）は、図６（Ｂ）の網点画像データに基づいて生成された彫刻形状画像データを示す概略図であり、図６（Ｅ）は、図６（Ｄ）の彫刻形状画像データの１つの網点の形状を示す概略断面図である。
【図７】フレキソ印刷版原版を作製するためのカレンダーロールを概念的に示す図である。
【図８】本発明に係るフレキソ印刷版を用いるフレキソ印刷装置の要部を概念的に示す図である。
【図９】図９（Ａ）および図９（Ｂ）はそれぞれ、印刷位置と濃度との関係を示すグラフである。
【図１０】図１０（Ａ）〜図１０（Ｃ）は、従来のフレキソ印刷版を用いたフレキソ印刷を行う際に発生するバウンシングを説明するための図である。
【図１１】図１１（Ａ）および図１１（Ｂ）は、従来のフレキソ印刷版を用いたフレキソ印刷の一例を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明のフレキソ印刷版およびフレキソ印刷版の製造方法について、添付の図面に示される好適実施態様を基に、詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
【００１６】
［フレキソ印刷版］
本発明に係るフレキソ印刷版（以下、単に、『印刷版』ともいう）は、画像部の、印刷方向の先端側から０．５ｍｍ〜５ｍｍまでの領域が、この領域以外の画像部の高さよりも高さが低い低層化領域であり、低層化領域は、印刷方向において、非画像部に向かって漸次、低くなるフレキソ印刷版である。
以下に、本発明に係るフレキソ印刷版の構成を添付の図面に基づいて詳細に説明する。
【００１７】
図１（Ａ）は、本発明に係るフレキソ印刷版の一例を模式的に示す上面図であり、図１（Ｂ）は、図１（Ａ）のＡ−Ａ線断面図の一部を拡大して示す図である。図１（Ｂ）において、破線で示される部分は、低層化される前のフレキソ印刷版の形状を示すものである。
【００１８】
図１（Ａ）に示すように、本発明に係るフレキソ印刷版の一例である印刷版１ａは、画像部３と、非画像部２とを有する。
画像部３は、印刷時にインキを付着させて、このインキを被印刷物に転写する、すなわち、印刷時に画像を形成する領域である。また、非画像部２は、印刷時にインキを付着させない、すなわち、画像を形成しない領域である。
また、画像部３は、インキを全面的に転写することで、塗りつぶすように印刷するベタ部、および／または、多数の凸状の小点からなり、小点の大きさや密度を変化させることで、被印刷体上に印刷される画像の濃淡（グラデーション）を表現する網点部からなる。
網点部を構成する小点は、通常、所定のスクリーン線数（精細度）、例えば、１００〜１７５ｌｐｉ（line per inch）程度のスクリーン線数で形成される。
【００１９】
また、本発明のフレキソ印刷版である印刷版１ａの画像部３は、印刷方向の先端側に低層化領域４を有する。図１（Ａ）において、印刷方向を矢印ｙで示す方向とすると、画像部３中の図中上側の領域が低層化領域４である。
低層化領域４は、印刷方向の先端側から０．５ｍｍ〜５ｍｍまでの領域であり、低層化領域４以外の画像部３の高さよりも低く形成されており、画像部３の先端側の端辺３ａに直交する方向において、非画像部２に向かって漸次、低くなる構成を有する。
なお、以下の説明では、印刷方向における低層化領域４の幅をＬａとする。すなわち、幅Ｌａは、０．５ｍｍ〜５ｍｍである。
【００２０】
図１（Ｂ）に示す例では、画像部３は、多数の凸状の小点からなる網点部であり、低層化領域４においては、この網点部を形成する小点の頂点を結ぶ仮想的な線（図中、一点鎖線で示す）が、低層化領域４以外の画像部３の高さより低く、また、非画像部２側ほど、低くなるように、小点が形成される。
【００２１】
ここで、通常、印刷版の画像部は、図１（Ｂ）に破線で示すように、全体が（網点部の場合には小点の頂部が）均一な高さで形成される。したがって、本発明の印刷版１ａは、印刷方向の先端側から０．５ｍｍ〜５ｍｍまでの低層化領域４において、この破線で示す画像部の高さよりも高さを低くしたものであるということもできる。
以下、「破線で示す画像部」のことを「元の画像部」ともいう。
【００２２】
低層化領域４以外の画像部３の高さに対する、低層化領域４の高さの差を低層化付加量Δとする。すなわち、この低層化付加量Δは、元の画像部の高さに対する、低層化領域４の高さの差であるということもできる。図１（Ｂ）の低層化領域４における低層化付加量Δを図２に示す。
図２に示すように、低層化付加量Δは、非画像部２と画像部３との境界、すなわち、画像部３の先端側の端辺３ａの位置を基準として、先端側の端辺３ａの位置で最も大きく、非画像部２から離間するにしたがって減少し、先端側の端辺３ａから距離Ｌａの位置で０となるように設定されている。
【００２３】
なお、印刷版の画像部は、同じ面積率の網点部の小点は同じ高さであり、面積率が異なる網点部同士では小点の高さが異なる場合もある。このような場合は、低層化領域４は、低層化領域以外の画像部３の高さの平均値より低くなるように小点が形成される。
【００２４】
また、印刷版に垂直な方向から見た際に、画像部３において、低層化領域４の面積は、低層化領域以外の画像部３の面積よりも小さいのが好ましい。
また、低層化領域４は、画像部３の印刷方向先端側のみに形成されるのが好ましい。
【００２５】
また、図１（Ｂ）に示す例では、画像部３となる凸部の強度確保等の観点から、凸部の側面が傾斜して設けられている。以下、傾斜した側面部を立ち上がり領域ともいう。
したがって、この立ち上がり領域においても、破線で示す元の立ち上がり領域の高さよりも低く形成される。図２に示すように、立ち上がり領域における低層化付加量Δは、画像部３の先端側の端辺３ａから離間するにしたがって減少し、先端側の端辺３ａから所定の距離Ｒの位置で０となるように設定される。
なお、立ち上がり領域の幅は、従来のフレキソ印刷版と同様であればよい。
【００２６】
前述のとおり、フレキソ印刷版を用いて印刷を行う際に、印刷版の画像部の先端が被印刷体に接触する際の衝撃力によって、バウンシングが発生するという問題があった。この点について、図１０（Ａ）〜図１０（Ｃ）を用いて詳細に説明する。
図１０（Ａ）に、従来のフレキソ印刷版を用いた印刷装置の一例の概略部分拡大図を示し、図１０（Ｂ）に、図１０（Ａ）の印刷装置に生じる振動を模式的に表すグラフを示し、図１０（Ｃ）に、図１０（Ａ）の印刷装置で印刷した印刷画像の模式図を示す。
【００２７】
図１０（Ａ）に示す、従来のフレキソ印刷版１００を用いる印刷装置は、版胴１１０の周面に印刷版１００が装着され、版胴１１０と圧胴１１２とによって形成されるニップ部に被印刷体Ｚを挿通して、被印刷体Ｚを印刷版１００の画像部１０３に接触させて、画像部１０３の表面から被印刷体に直接、インキを転写して被印刷体Ｚ上に画像を形成するものである。また、通常、ニップ部に所定の印圧がかかるように、印刷版１００の画像部１０３が、４０〜１００μｍ程度押し込まれるように調整されて印刷される。
このような従来のフレキソ印刷においては、画像部１０３と非画像部１０２との形成パターンに応じて、周期的に被印刷体Ｚとの接触と非接触とを繰り返し、印刷版１００の画像部１０３の先端が被印刷体に接触する際の衝撃力が加わる。これによって、印刷版１００と被印刷体Ｚとの間にバウンシングが生じて、図１０（Ｂ）に示すような、振動が発生する。このバウンシングによって印刷版１００と被印刷体Ｚとの距離が離れて、印刷版１００と被印刷体Ｚとの接触が失われると、インキの転写不良が生じて、図１０（Ｃ）に示すように、印刷された画像にムラが生じてしまうという問題があった。
【００２８】
これに対して、画像部と被印刷体の接触の際の衝撃を吸収するために、印刷版の下層側にクッション性を有する層を設けることが提案されている。しかしながら、印刷版の下層側にクッション性を有する層を設ける場合に、このクッション層は柔らかいほど衝撃力を低減する効果が大きいものの、クッション層が柔らかすぎるとベタ部におけるインキ濃度の均一性が悪くなり、やはり印刷された画像にムラが生じてしまうという問題があった。
【００２９】
これに対して、本発明のフレキソ印刷版である印刷版１ａは、画像部３の、印刷方向の先端側から０．５ｍｍ〜５ｍｍまでの低層化領域４が、印刷方向において、非画像部２に向かって漸次、低くなる構成を有する。
そのため、この印刷版１ａを用いて印刷を行うと、印刷版１ａの画像部３の先端が被印刷体ｚに接触する際の衝撃を弱めることができる。したがって、画像部３の接触に伴うバウンシングを抑制することができ、ムラのない画像の印刷が可能となる。
【００３０】
ここで、低層化領域４における低層化付加量Δの最大値、すなわち、画像部３の先端側の端辺３ａ上における低層化付加量Δは、印圧、印刷速度、版硬度、クッションテープ硬度等に応じて適宜設定すればよい。
フレキソ印刷における標準印圧は、キスタッチから、押し込み量４０μｍ〜１００μｍ程度であるため、低層化付加量Δを２０μｍ以上とすることで、バウンシングをより確実に抑制することができる。また、低層化付加量Δを１２０μｍ以下とすることで、インキ抜けの発生を抑制できる。また、上記観点から、２０μｍ〜１２０μｍが好ましく、４０μｍ〜１００μｍがより好ましい。
【００３１】
また、画像部３の端辺から離間する方向に２ｍｍ以上連続する非画像部２に隣接する画像部３において、低層化領域４を形成するのが好ましい。すなわち、印刷方向に隣接する画像部３同士の間の距離が２ｍｍ以上ある場合に、印刷方向下流側の画像部３の先端側に低層化領域４を形成するのが好ましい。
フレキソ印刷において、ニップ幅は２ｍｍ〜４ｍｍ程度である。したがって、隣接する画像部３同士の間の距離が２ｍｍ未満の場合には、上流側の画像部３が被印刷体ｚに接触しているあいだに、下流側の画像部３が被印刷体に接触するので、バウンシングが発生しづらい。そのため、低層化領域４を形成する必要がない。また、隣接する画像部３同士の間の距離がニップ幅よりも短い場合には、下流側の画像部３に低層化領域４を形成すると、インキ抜けが発生するおそれもある。
したがって、画像部３の端辺から離間する方向に２ｍｍ以上連続する非画像部２に隣接する画像部３において、低層化領域４を形成するのが好ましく、３ｍｍ以上連続する非画像部２に隣接する画像部３において、低層化領域４を形成するのがより好ましい。
【００３２】
また、低層化領域４の幅Ｌａは、バウンシングの抑制、画像エッジの応力分布等の観点から、０．５ｍｍ〜５ｍｍであり、１ｍｍ〜５ｍｍが好ましく、１ｍｍ〜４ｍｍがより好ましい。
【００３３】
また、図１（Ｂ）に示す例では、印刷方向において、低層化領域４の高さは直線的に変化する構成としたが、非画像部に向かって漸次、低くなる形状であれば、これに限定はされない。例えば、非画像部に向かって段階的に低くなる形状であってもよく、あるいは、曲線的に低くなる形状であってもよい。
【００３４】
また、図１（Ａ）に示す例では、画像部３の形状は矩形状としたが、これに限定はされず、印刷する画像に応じて、円形状、楕円形状、三角形状、多角形状、文字形状、数字形状、記号形状等の種々の形状に形成され得る。その際、低層化領域４として、印刷方向の最先端部から幅Ｌａの領域が低層化される。一例として、図３（Ａ）および図３（Ｂ）に示す印刷版１ｂのように、円形状の画像部３を有する場合には、印刷方向において、画像部３の最先端部から幅Ｌａの領域が低層化領域４であり、非画像部２に向かって漸次、低くなるように形成されている。なお、図３（Ｂ）では、立ち上がり領域の図示を省略している。
【００３５】
また、図１（Ｂ）に示す例では、画像部３および低層化領域４が網点部である構成としたが、これに限定はされず、画像部３および低層化領域４がベタ部であってもよい。
また、画像部３が網点部である場合には、網点部を構成する小点の高さ、形状等にも特に限定はなく、従来のフレキソ印刷版における網点部の小点と同様の高さ、形状にすればよい。
【００３６】
〔フレキソ印刷版の製造方法〕
次に、本発明のフレキソ印刷版の製造方法について、詳細に説明する。
本発明のフレキソ印刷版の製造方法は、
印刷する画像の元画像データを取得する画像データ取得工程と、
取得した元画像データから第１の彫刻形状画像データを生成する第１彫刻画像生成工程と、
元画像データから画像部と非画像部との境界を検出し、境界の位置を基準にして、画像部の一部の高さを低くするための低層化マスクデータを生成する低層化マスク生成工程と、
第１の彫刻形状画像データに低層化マスクを適用して、画像部の、印刷方向の先端側から０．５ｍｍ〜５ｍｍまでの領域を低層化した第２の彫刻形状画像データを生成する第２彫刻画像生成工程とを有する製造方法である。
本発明のフレキソ印刷版の製造方法は、さらに、生成した第２の彫刻形状画像データに基づいて、フレキソ印刷版原版にレーザー彫刻を行ってフレキソ印刷版を製造することが好ましい。
また、第１彫刻画像生成工程において、元画像データを網点画像データに変換し、この網点画像データに基づいて第１の彫刻形状画像データを生成することが好ましい。
【００３７】
図４は、本発明のフレキソ印刷版の製造方法（以下、『本発明の製造方法』ともいう）の一例を示すフローチャートである。
まず、画像データ取得工程Ｓ１００において、作製する印刷版の元画像データを取得する。
一例として、図５（Ａ）に示す元画像データ５０を取得する。この元画像データ５０のＣ線上における、データレベルと位置との関係を示すグラフを図５（Ｂ）に示す。
図５（Ｂ）に示すグラフにおいて、データレベルが０％の領域が非画像部となる領域であり、データレベルが０％超の領域が画像部となる領域である。
【００３８】
次に、第１彫刻画像生成工程Ｓ１０２において、取得した元画像データにＲＩＰ（Raster Image Processor）処理を行い、網点画像データに変換し、網点画像データに基づいて第１の彫刻形状画像データを生成する。
具体的には、まず、元画像データのデータレベルに基づいて、データを２値化する。すなわち、画像の各領域における網点率を設定して網点画像データに変換する（図６（Ａ）および図６（Ｂ）参照）。
次に、網点画像データに基づいて、網点を構成する小点（図６（Ｃ）参照）に、立ち上がり領域を付加する等の処理を行って、彫刻する形状（図６（Ｅ）参照）に変換して第１の彫刻形状画像データを生成する（図６（Ｄ）参照）。
【００３９】
一方で、低層化マスク生成工程Ｓ１０４において、元画像データに対して、印刷方向に１ラインごとに画像データを検索して、連続した非画像部（データレベル０％の領域）と画像部（データレベル）の境界の位置を検出して、この境界の位置に基づいて低層化マスクデータを生成する。
例えば、まず、図５（Ａ）のＣ線上を検索することで、非画像部と画像部との境界の位置が２箇所検出される（図５（Ｂ）参照）。検出された境界の位置を基準に、所定の低層化付加量Δの最大値および低層化領域の幅Ｌａ等に基づいて、画像の位置ごとの低層化付加量Δを設定することで、図５（Ｃ）に示すような低層化付加量Δと位置との関係を示すデータを生成する。
このような処理を元画像データの印刷方向の全ラインで行って、低層化マスクデータを生成する。
【００４０】
なお、低層化マスクデータにおける、低層化付加量Δの最大値および低層化領域の幅Ｌａは、予め設定されていても良いし、入力装置から入力された指示に応じて設定されるようにしてもよい。なお、上述のとおり、低層化領域の幅Ｌａは、０．５ｍｍ〜５ｍｍであり、低層化付加量Δの最大値は、２０μｍ〜１２０μｍであるのが好ましい。
【００４１】
また、低層化マスク生成工程において、画像データを検索して、非画像部の長さが２ｍｍ未満の場合には、この非画像部の下流側に隣接する画像部に対しては低層化付加量Δを設定しないのが好ましい。すなわち、上流側に隣接する画像部との間の距離が２ｍｍ以上の画像部の境界の位置を基準として、低層化付加量Δを設定して低層化マスクデータを生成するのが好ましい。
【００４２】
次に、第２彫刻画像生成工程において、上記第１の彫刻形状画像データに低層化マスクデータを適用することで、第１の彫刻形状画像データにおける画像部の印刷方向の先端側から０．５ｍｍ〜５ｍｍまでの領域を低層化して、第２の彫刻形状画像データを生成する。
【００４３】
次に、彫刻工程において、上記のようにして生成した、画像部の印刷方向先端側の領域に低層化付加量Δを付加した第２の彫刻形状画像データを用いて、フレキソ印刷版原版（以下、『印刷版原版』ともいう）に彫刻を行い、フレキソ印刷版を作製する。
本発明においては、レーザー彫刻により彫刻するのが好ましい。レーザー光量と彫刻深度の間には一定の関係があり、光量を制御することで任意の形状を印刷版原版に彫刻することができる。
【００４４】
レーザー彫刻の方法については、基本的に、従来のフレキソ印刷版の製造方法で用いられるレーザー彫刻の方法と同様である。
レーザー彫刻の方法としては、例えば、円筒形を有するドラムの外周面にシート状のレーザー彫刻用印刷版原版を巻き付けてドラムを回転させて、印刷版原版に向けて露光ヘッドから、上記出力画像データに応じたレーザー光を射出し、露光ヘッドを主走査方向と直交する副走査方向に所定ピッチで走査させることで、印刷版原版の表面に２次元画像を高速で彫刻（記録）する方法、等が利用可能である。
【００４５】
レーザー彫刻において利用されるレーザーの種類については特に限定はないが、赤外線レーザーが好ましく用いられる。赤外線レーザーが照射されると、硬化層中の分子が分子振動し、熱が発生する。赤外線レーザーとして炭酸ガスレーザーやＹＡＧレーザーのような高出力のレーザーを用いると、レーザー照射部分に大量の熱が発生し、硬化層中の分子は分子切断又はイオン化されて選択的な除去、すなわち、彫刻がなされる。レーザー彫刻の利点は、彫刻深さを任意に設定できるため、構造を３次元的に制御することができる点である。例えば、微細な網点を印刷する部分は、浅く又はショルダーをつけて彫刻することで、印圧でレリーフが転倒しないようにすることができ、細かい抜き文字を印刷する溝の部分は深く彫刻することで、溝にインキが埋まりにくくなり、抜き文字つぶれを抑制することが可能となる。
中でも、光熱変換剤の吸収波長に対応した赤外線レーザーで彫刻する場合には、より高感度で硬化層の選択的な除去が可能となり、シャープな画像を有するレリーフ層が得られる。
【００４６】
赤外線レーザーとしては、生産性、コスト等の面から、炭酸ガスレーザー（ＣＯ2レーザー）又は半導体レーザーが好ましく、ファイバー付き半導体赤外線レーザー（ＦＣ−ＬＤ）が特に好ましい。一般に、半導体レーザーは、ＣＯ2レーザーに比べレーザー発振が高効率且つ安価で小型化が可能である。また、小型であるためアレイ化が容易である。更に、ファイバーの処理によりビーム形状を制御できる。
半導体レーザーとしては、波長が７００〜１，３００ｎｍのものが好ましく、８００〜１，２００ｎｍのものがより好ましく、８６０〜１，２００ｎｍのものが更に好ましく、９００〜１，１００ｎｍのものが特に好ましい。
また、ファイバー付き半導体レーザーは、更に光ファイバーを取り付けることで効率よくレーザー光を出力できるため、レーザー彫刻には有効である。更に、ファイバーの処理によりビーム形状を制御できる。例えば、ビームプロファイルはトップハット形状とすることができ、安定に版面にエネルギーを与えることができる。半導体レーザーの詳細は、「レーザーハンドブック第２版」レーザー学会編、「実用レーザー技術」電子通信学会編著等に記載されている。
また、特開２００９−１７２６５８号公報及び特開２００９−２１４３３４号公報に詳細に記載されるファイバー付き半導体レーザーを備えた製版装置は、本発明のフレキソ印刷版の製造方法に好適に使用することができる。
【００４７】
なお、本発明において、フレキソ印刷版の製造方法は、レーザー彫刻（ＤＬＥ（Direct Laser Engraving）方式）に限定はされず、レーザーで印刷版原版の表面に画像を書き込み現像するＬＡＭＳ(Laser Abration Masking System)方式等の種々の公知の製造方法が利用可能である。
【００４８】
〔フレキソ印刷版原版〕
本発明で使用されるフレキソ印刷版原版は、公知のフレキソ印刷用の樹脂版又はゴム版であれば特に限定はない。また、印刷版原版は、シート状であっても円筒状であってもよい。
印刷版原版は、硬化層（レリーフ形成層）として、以下の樹脂シートを有するのが好ましい。
【００４９】
＜樹脂シート＞
上記樹脂シートとしては、ジエン系炭化水素に由来する単量体単位を有するポリマーを少なくとも含有する硬化性樹脂組成物（以下、「樹脂シート形成用樹脂組成物」ともいう。）をシート状にした後に、熱及び／又は光の作用により硬化させたシートであることが好ましく、後述する樹脂シート形成用樹脂組成物により形成されることがより好ましい。
また、上記樹脂シートは、レーザー彫刻可能であることが好ましい。
【００５０】
樹脂シートの形成方法としては、樹脂シート形成用樹脂組成物を調製し、必要に応じて、この樹脂組成物から溶剤を除去した後に、支持体上に溶融押し出しする方法、又は、樹脂シート形成用樹脂組成物を調製し、上記樹脂組成物を支持体上に流延し、これをオーブンなどの中で加熱乾燥して溶剤を除去する方法、図７に示すようなカレンダーロールを用い、上記樹脂組成物をシート状に成型する方法が好ましく例示できる。
図７中、カレンダーロール６０は第１〜第４ロール６２ａ〜６２ｄを有しており、これらのロールの間隔、ロールの温度、及び、ロールの回転速度が設定可能となっている。このロールの間に混練物７０をセットし、圧延成形することにより、樹脂シート７１を得ることができる。
【００５１】
＜支持体＞
樹脂シートの形成に支持体を使用する場合、印刷シリンダー上に取り付けることができる物であれば、支持体に使用する素材は特に限定されないが、寸法安定性の高いものが好ましく使用され、例えば、スチール、ステンレス、アルミニウムなどの金属、ポリエステル（例えばＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＢＴ（ポリブチレンテレフタレート）、ＰＡＮ（ポリアクリロニトリル））やポリ塩化ビニルなどのプラスチック樹脂、スチレン−ブタジエンゴムなどの合成ゴム、ガラスファイバーで補強されたプラスチック樹脂（エポキシ樹脂やフェノール樹脂など）が挙げられる。支持体としては、ＰＥＴフィルムやスチール基板が好ましく用いられる。
【００５２】
本発明に用いられる樹脂シート形成用樹脂組成物は、例えば、ジエン系炭化水素に由来する単量体単位を有するポリマー、重合性化合物、香料、可塑剤等を適当な溶剤に溶解又は分散させ、次いで、架橋剤、重合開始剤、架橋促進剤などを溶解させることによって製造できる。樹脂シートの形成の容易さ、得られる円筒状印刷版原版の厚み精度、及び、樹脂シートの取扱いの観点から、溶剤成分の少なくとも一部は、好ましくは、ほとんど全部を、円筒状印刷版原版を製造する段階で除去する必要があるので、溶剤としては、適度の揮発性を有する有機溶剤が好ましい。
【００５３】
次に、樹脂シート、及び、樹脂シート形成用樹脂組成物が含む成分について説明する。
【００５４】
（ジエン系炭化水素に由来する単量体単位を有するポリマー）
本発明に用いられる樹脂シートは、ジエン系炭化水素に由来する単量体単位を有するポリマー（以下、「特定ポリマー」ともいう。）を必須成分として含有するのが好ましい。
特定ポリマーの重量平均分子量は、０．５万〜１６０万が好ましく、１万〜１００万であることがより好ましく、１．５万〜６０万であることが更に好ましい。重量平均分子量が０．５万以上であると、単体樹脂としての形態保持性に優れ、１６０万以下であると、溶媒に溶解しやすくレーザー彫刻用樹脂組成物を調製するのに好都合である。
本発明において、重量平均分子量は、ゲル透過クロマトグラフ法（ＧＰＣ）法にて測定され、標準ポリスチレンで換算して求められる。具体的には、例えば、ＧＰＣは、ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ（東ソー株式会社製）を用い、カラムとして、ＴＳＫｇｅＬ ＳｕｐｅｒＨＺＭ−Ｈ、ＴＳＫｇｅＬ ＳｕｐｅｒＨＺ４０００、ＴＳＫｇｅＬ ＳｕｐｅｒＨＺ２０００（東ソー株式会社製、４．６ｍｍＩＤ×１５ｃｍ）を３本用い、溶離液としてＴＨＦ（テトラヒドロフラン）を用いる。また、条件としては、試料濃度を０．３５質量％、流速を０．３５ｍｌ／ｍｉｎ、サンプル注入量を１０μＬ、測定温度を４０℃とし、ＩＲ検出器を用いて行う。また、検量線は、東ソー株式会社製「標準試料ＴＳＫ ｓｔａｎｄａｒｄ，ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ」：「Ｆ−４０」、「Ｆ−２０」、「Ｆ−４」、「Ｆ−１」、「Ａ−５０００」、「Ａ−２５００」、「Ａ−１０００」、「ｎ−プロピルベンゼン」の８サンプルから作製する。
【００５５】
特定ポリマーは、非共役ジエン系炭化水素に由来する単量体単位を有する特定ポリマーであってもよいが、共役ジエン系炭化水素に由来する単量体単位を有する特定ポリマーであることが好ましい。
【００５６】
（共役ジエン系炭化水素に由来する単量体単位を有する特定ポリマー）
共役ジエン系炭化水素に由来する単量体単位を有する特定ポリマー特定ポリマーとしては、共役ジエン系炭化水素を重合して得られる重合体、共役ジエン系炭化水素と他の不飽和化合物、好ましくはモノオレフィン系不飽和化合物とを重合させて得られる共重合体等が好ましく挙げられる。また、上記の重合体及び共重合体は、修飾されていてもよく、例えば、末端に（メタ）アクリロイル基などの反応性基を導入してもよく、また、内部オレフィンの一部が水素添加されていてもよい。なお、以下の説明において、内部オレフィンの一部が水素添加されたポリブタジエンを「部分水素化ポリブタジエン」、同様に内部オレフィンの一部が水素添加されたポリイソプレンを「部分水素化ポリイソプレン」ともいう。更に共重合体は、ランダム重合体でも、ブロック共重合体でも、グラフト重合体でもよく、特に限定されない。
【００５７】
上記の共役ジエン系炭化水素としては、具体的には、例えば、１，３−ブタジエン、イソプレン等が挙げられる。これらの化合物は単独又は２種類以上組み合わせて用いられる。
上記のモノオレフィン系不飽和化合物としては、具体的には、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、イソブテン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリルアミド酢酸ビニル、（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸等が挙げられる。
【００５８】
上記の共役ジエン系炭化水素を重合させて得られる重合体又は共役ジエン系炭化水素とモノオレフィン系不飽和化合物とを重合させて得られる共重合体としては、特に限定されず、具体的にはブタジエン重合体、イソプレン重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−イソプレン共重合体、アクリル酸エステル−イソプレン共重合体、メタクリル酸エステルと上記共役ジエンの共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体、イソブテン−イソプレン共重合体（ブチルゴム）等が挙げられる。
これらの重合体は、乳化重合させてもよいし、また、溶液重合させてもよい。
【００５９】
本発明において、特定ポリマーは、末端にエチレン性不飽和基を有していてもよく、下記式（Ａ−１）で表される部分構造を有していてもよい。
【００６０】
【化１】
2016136357.tif 000003
（式（Ａ−１）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、ＡはＯ又はＮＨを表し、＊は他の構造との結合位置を表す。）
【００６１】
式（Ａ−１）中、ＡはＯであることが好ましい。
すなわち、特定ポリマーは、分子内に（メタ）アクリロイルオキシ基又は（メタ）アクリルアミド基を有していてもよく、（メタ）アクリロイルオキシ基を有することがより好ましい。
特定ポリマーは、式（Ａ−１）で表される部分構造を主鎖末端又は側鎖のいずれに有してもよいが、主鎖末端に有することが好ましい。
耐刷性の観点から、特定ポリマーは、式（Ａ−１）で表される部分構造を分子内に２個以上有することが好ましい。
【００６２】
式（Ａ−１）で表される部分構造を有する特定ポリマーとしては、ポリブタジエンジ（メタ）アクリレート、部分水素化ポリブタジエンジ（メタ）アクリレート、ポリイソプレンジ（メタ）アクリレート、部分水素化ポリイソプレンジ（メタ）アクリレートなど、水酸基含有ポリオレフィンの水酸基にエチレン性不飽和基含有化合物を反応させて得られたポリオレフィン（メタ）アクリレート（例えば、ＢＡＣ−４５（大阪有機化学工業株式会社製）、ＴＥＡ−１０００、ＴＥ−２０００、ＥＭＡ−３０００（日本曹達株式会社製））が例示される。
また、ポリオレフィンを変性してエチレン性不飽和結合を導入した変性ポリオレフィン（例えば、メタクリレート導入ポリイソプレン（クラプレンＵＣ−２０３、ＵＣ−１０２（株式会社クラレ製））も好ましく例示される。
【００６３】
（ブタジエン及び／又はイソプレンに由来する単量体単位を有するポリマー）
本発明において、特定ポリマーは、ブタジエン及び／又はイソプレンに由来する単量体単位を有するポリマーであることが好ましい。
具体的には、ポリブタジエン（ブタジエンゴム）、部分水素化ポリブタジエン、末端変性ポリブタジエン、ポリイソプレン（イソプレンゴム）、部分水素化ポリイソプレン、末端変性ポリイソプレン、ＳＢＲ（スチレン−ブタジエンゴム）、ＳＢＳ（スチレン−ブタジエン−スチレン  トリブロック共重合体）、ＡＢＳ（アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体）、ＳＩＳ（スチレン−イソプレン−スチレン  トリブロック共重合体）、イソプレン／ブタジエン共重合体等が挙げられる。
なお、末端変性とは、主鎖又は側鎖末端がアミド基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、（メタ）アクリロイル基、グリシジル基等で変性されていていることを意味する。
これらの中でも、ポリブタジエン、部分水素化ポリブタジエン、水酸基末端ポリブタジエン、グリシジルエーテル変性ポリブタジエン、ポリイソプレン、部分水素化ポリイソプレン、末端変性ポリイソプレン、水酸基末端ポリイソプレン、グリシジルエーテル変性ポリイソプレン、ＳＢＳ、ＳＩＳが好ましい。
【００６４】
ブタジエン、イソプレン又はそれらの水素添加物に由来する単量体単位の割合が、合計して３０ｍｏｌ％以上であることが好ましく、５０ｍｏｌ％以上であることがより好ましく、８０ｍｏｌ％以上であることが更に好ましい。
【００６５】
イソプレンは、触媒や反応条件により、１，２−、３，４−又は１，４−付加により重合することが知られているが、本発明においては上記のいずれの付加により重合されたポリイソプレンでもよい。これらの中でも所望の弾性を得る観点から、主成分としてｃｉｓ−１，４−ポリイソプレンを含有することが好ましい。なお、特定ポリマーがポリイソプレンである場合、ｃｉｓ−１，４−ポリイソプレンの含有量は、５０質量％以上であることが好ましく、６５質量％以上であることがより好ましく、８０質量％以上であることが更に好ましく、９０質量％以上であることが特に好ましい。
また、ポリイソプレンとしては、天然ゴムを使用してもよく、また、上市されているポリイソプレンを使用することもでき、例えば、ＮＩＰＯＬ  ＩＲシリーズ（日本ゼオン株式会社製）が例示される。
【００６６】
ブタジエンは、触媒や反応条件により１，２−又は１，４−付加により重合することが知られているが、本発明では上記のいずれの付加により重合されたポリブタジエンでもよい。これらの中でも、所望の弾性を得る観点から、１，４−ポリブタジエンが主成分であることがより好ましい。
なお、特定ポリマーがポリブタジエンである場合、１，４−ポリブタジエンの含有量は、５０質量％以上であることが好ましく、６５質量％以上であることがより好ましく、８０質量％以上であることが更に好ましく、９０質量％以上であることが特に好ましい。
なお、ｃｉｓ体とｔｒａｎｓ体の含有量は特に制限はないが、ゴム弾性を発現させる観点から、ｃｉｓ体が好ましく、ｃｉｓ−１，４−ポリブタジエンの含有量が５０質量％以上であることが好ましく、６５質量％以上であることがより好ましく、８０質量％以上であることが更に好ましく、９０質量％以上であることが特に好ましい。
ポリブタジエンとしては、上市されている製品を使用してもよく、例えば、ＮＩＰＯＬ  ＢＲシリーズ（日本ゼオン株式会社製）、ＵＢＥＰＯＬ  ＢＲシリーズ（宇部興産株式会社製）等が例示される。
【００６７】
（非共役ジエン系炭化水素に由来する単量体単位を有する特定ポリマー）
特定ポリマーは、非共役ジエン系炭化水素に由来する単量体単位を有する特定ポリマーであってもよい。
特定ポリマーとしては、非共役ジエン系炭化水素と他の不飽和化合物、好ましくはαオレフィン系不飽和化合物とを重合させて得られる共重合体等が好ましく挙げられる。共重合体は、ランダム重合体でも、ブロック共重合体でも、グラフト重合体でもよく、特に限定されない。
【００６８】
上記の非共役ジエン系炭化水素としては、具体的には、例えば、ジシクロペンタジエン、１，４−ヘキサジエン、シクロオクタジエン、メチレンノルボルネン、エチリデンノルボルネン等が挙げられ、ジシクロペンタジエン及びエチリデンノルボルネンが好ましく、エチリデンノルボルネンがより好ましい。これらの化合物は単独又は２種類以上組み合わせて用いられる。
上記のモノオレフィン系不飽和化合物としては、具体的には、例えば、エチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ヘキセン、４−メチル−ペンテン等の炭素数２〜２０のα−オレフィンが挙げられ、エチレン及びプロピレンが好ましく、エチレンとプロピレンを組み合わせて用いることがより好ましい。これらの化合物は単独又は２種類以上組み合わせて用いられる。
【００６９】
上記の共役ジエン系炭化水素を重合させて得られる重合体又は共役ジエン系炭化水素とα−オレフィン系不飽和化合物とを重合させて得られる共重合体としては、特に限定されないが、エチレン−αオレフィン−ジエン共重合体であることが好ましく、エチレン−プロピレン−ジエンゴム（ＥＰＤＭ）がより好ましい。
【００７０】
上記の中でも、特定ポリマーとしては、スチレン−ブタジエンゴム、ブタジエンゴム、イソプレンゴム、又は、エチレン−プロピレン−ジエンゴムであることが好ましく、ブタジエンゴムであることがより好ましい。
【００７１】
また、特定ポリマーは、主鎖が主としてイソプレン又はブタジエンを単量体単位とするポリマーであることが好ましく、一部が水素添加されて飽和結合に変換されていてもよい。また、ポリマーの主鎖中又は末端が、アミド、カルボキシ基、ヒドロキシ基、（メタ）アクリロイル基等で変性されていてもよく、エポキシ化されていてもよい。
これらの中でも、特定ポリマーとしては、溶剤への溶解性や、取り扱いの観点から、ポリブタジエン、ポリイソプレン、イソプレン／ブタジエン共重合体が好ましく例示され、ポリブタジエン及びポリイソプレンがより好ましく、ポリブタジエンが更に好ましい。
【００７２】
特定ポリマーは２０℃以下のガラス転移温度（Ｔｇ）を有することが、柔軟性とゴム弾性発現の観点から好ましい。
なお、特定ポリマーのガラス転移温度は、示差走査熱量計（ＤＳＣ）を用いてＪＩＳ  Ｋ７１２１−１９８７に従って測定する。
なお、特定ポリマーが２以上のガラス転移温度を有する場合、少なくとも１つが２０℃以下であることが好ましく、全てのガラス転移温度が２０℃以下であることがより好ましい。
【００７３】
本発明において、特定ポリマーはＳＰ値が１４．０〜１８．０ＭＰａ1/2であることが好ましく、１５．０〜１７．５ＭＰａ1/2であることがより好ましく、１６．０〜１７．５ＭＰａ1/2であることが更に好ましい。
ＳＰ値は、分子の凝集エネルギー密度の平方根であり、分子間の凝集する力の大小を表し、極性の尺度となる。
ＳＰ値が上記範囲であると、ウレタン系接着剤との適度な接着性が得られるため好ましい。
上記ＳＰ値は、日本接着学会誌２９（３）１９９３，２０４−２１１に記載の沖津法に基づき計算される。
【００７４】
特定ポリマーはエラストマー又はプラストマーであることが好ましい。特定ポリマーがエラストマー又はプラストマーであると、これから得られるレーザー彫刻用印刷版原版をシート状、若しくは円筒状に成形する際に、良好な厚み精度や寸法精度を達成することができる。また、フレキソ印刷版に必要な弾性を付与することができるので好ましい。
本発明において「プラストマー」とは、高分子学会編「新版高分子辞典」（日本国、朝倉書店、１９８８年発行）に記載されているように、加熱により容易に流動変形し、かつ冷却により変形された形状に固化できるという性質を有する高分子体を意味する。プラストマーは、エラストマー（外力を加えたときに、その外力に応じて瞬時に変形し、かつ外力を除いたときには、短時間に元の形状を回復する性質を有するもの）に対する言葉であり、エラストマーのような弾性変形を示さず、容易に塑性変形するものである。
本発明において、プラストマーは、元の大きさを１００％としたときに、室温（２０℃）において小さな外力で２００％まで変形させることができ、上記外力を除いても、１３０％以下に戻らないものを意味する。小さな外力とは、具体的には、引張強度が１〜１００ＭＰａである外力をいう。より詳細には、ＪＩＳ  Ｋ  ６２６２−１９９７の引張永久ひずみ試験に基づき、ＪＩＳ  Ｋ  ６２５１−１９９３に規定するダンベル状４号形の試験片を用いた場合に、２０℃における引張試験で上記試験片を引張前の標線間距離の２倍に破断せずに伸ばすことが可能であり、かつ、引張前の標線間距離の２倍に伸ばしたところで６０分間保持した後、引張外力を除いて５分後に引張永久ひずみが３０％以上であるポリマーを意味する。なお、本発明では、試験片をＪＩＳ  Ｋ６２５１−１９９３に規定するダンベル状４号形にすること、保持時間を６０分、及び、試験室の温度を２０℃とすること以外は、全てＪＩＳ  Ｋ  ６２６２−１９９７の引張永久ひずみ試験方法に準拠した。
なお、上記の測定ができないポリマーの場合、すなわち、引張試験において、引張外力を加えなくとも変形して元の形状に戻らないポリマーや、上記測定時の小さな外力を与えて破断するポリマーはプラストマーに上記当する。
更に、本発明において、プラストマーは、ポリマーのガラス転移温度（Ｔｇ）が２０℃未満である。Ｔｇを２つ以上有するポリマーの場合は、全てのＴｇが２０℃未満である。なお、ポリマーのＴｇは、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）法により測定することができる。
【００７５】
本発明において、エラストマーとは、上記の引張試験において、標線間距離の２倍に伸ばすことが可能であり、かつ、引張外力を除いて５分後に引張永久ひずみが３０％未満であるポリマーを意味する。
本発明の特定ポリマーの２０℃における粘度は、好ましくは１０Ｐａ・ｓ〜１０ｋＰａ・ｓであり、より好ましくは５０Ｐａ・ｓ〜５ｋＰａ・ｓである。粘度がこの範囲内の場合には、シート状に樹脂組成物を成形しやすく、プロセスも簡便である。本発明において、特定ポリマーがプラストマーであることにより、樹脂シート形成用樹脂組成物をシート状に成形する際に、良好な厚み精度や寸法精度を達成することができる。
【００７６】
本発明において、特定ポリマーは１種を単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
本発明に用いられる樹脂シートにおける特定ポリマーの総含有量は、樹脂シートの固形分全質量に対し、５〜９０質量％が好ましく、１５〜８５質量％がより好ましく、３０〜８０質量％が更に好ましい。
また、本発明に用いられる樹脂シート形成用樹脂組成物における特定ポリマーの総含有量は、樹脂組成物の固形分全質量に対し、５〜９０質量％が好ましく、１５〜８５質量％がより好ましく、３０〜８０質量％が更に好ましい。特定ポリマーの含有量を５質量％以上とすることで、得られた円筒状印刷版を印刷版として使用するに足る耐刷性が得られ、また、９０質量％以下とすることで、他成分が不足することがなく、円筒状印刷版とした際においても印刷版として使用するに足る柔軟性を得ることができる。
なお、「固形分全質量」とは、樹脂シート又は樹脂シート形成用樹脂組成物から溶剤等の揮発性成分を除いた全質量を意味する。
【００７７】
本発明に用いられる樹脂シート、及び、樹脂シート形成用樹脂組成物は、重合開始剤、光熱変換剤、溶剤、及び、その他の成分を含有することが好ましい。以下、これらの成分について詳述する。
【００７８】
（重合開始剤）
本発明においてレーザー彫刻用樹脂組成物は、重合開始剤を含有する樹脂シート形成用樹脂組成物を用いて形成されることが好ましい。重合開始剤を含有することにより、特定ポリマー、及び、後述する重合性化合物が含有するエチレン性不飽和結合同士の架橋が促進される。
重合開始剤としては、当業者間で公知のものを制限なく使用することができ、光重合開始剤及び熱重合開始剤のいずれも使用することができるが、簡便な装置で架橋が形成できることから、熱重合開始剤が好ましい。以下、好ましい重合開始剤であるラジカル重合開始剤について詳述するが、本発明はこれらの記述により制限を受けるものではない。
【００７９】
本発明において、好ましい重合開始剤としては、（ａ）芳香族ケトン類、（ｂ）オニウム塩化合物、（ｃ）有機過酸化物、（ｄ）チオ化合物、（ｅ）ヘキサアリールビイミダゾール化合物、（ｆ）ケトオキシムエステル化合物、（ｇ）ボレート化合物、（ｈ）アジニウム化合物、（ｉ）メタロセン化合物、（ｊ）活性エステル化合物、（ｋ）炭素ハロゲン結合を有する化合物、（ｌ）アゾ系化合物等が挙げられる。以下に、上記（ａ）〜（ｌ）の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００８０】
本発明においては、彫刻感度と、樹脂シートに適用した際にはレリーフエッジ形状を良好とするといった観点から、（ｃ）有機過酸化物及び（ｌ）アゾ系化合物がより好ましく、（ｃ）有機過酸化物が特に好ましい。
【００８１】
上記（ａ）芳香族ケトン類、（ｂ）オニウム塩化合物、（ｄ）チオ化合物、（ｅ）ヘキサアリールビイミダゾール化合物、（ｆ）ケトオキシムエステル化合物、（ｇ）ボレート化合物、（ｈ）アジニウム化合物、（ｉ）メタロセン化合物、（ｊ）活性エステル化合物、及び（ｋ）炭素ハロゲン結合を有する化合物としては、特開２００８−６３５５４号公報の段落００７４〜０１１８に挙げられている化合物を好ましく用いることができる。
また、（ｃ）有機過酸化物及び（ｌ）アゾ系化合物としては、以下に示す化合物が好ましい。
【００８２】
（ｃ）有機過酸化物
本発明に用いることができる熱重合開始剤として好ましい（ｃ）有機過酸化物としては、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−アミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ヘキシルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−オクチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（クミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｐ−イソプロピルクミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、ジ−ｔ−ブチルジパーオキシイソフタレート、ジ−ｔ−ブチルジパーオキシイソフタレート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ｔ−ブチルパーオキシ−３−メチルベンゾエート、ｔ−ブチルパーオキシラウレート、ｔ−ブチルパーオキシピバレート、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシ−３，５，５−トリメチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシネオヘプタノエート、ｔ−ブチルパーオキシネオデカノエート、ｔ−ブチルパーオキシアセテートなどの過酸化エステル系や、α，α’−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ジイソプロピルベンゼン、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキシルモノカーボネートなどの過酸化エステル系が好ましい。これらの中でも、相溶性に優れる観点から、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエートが特に好ましい。
【００８３】
（ｌ）アゾ系化合物
本発明に用いることができる重合開始剤として好ましい（ｌ）アゾ系化合物としては、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビスプロピオニトリル、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）、４，４’−アゾビス（４−シアノ吉草酸）、２，２’−アゾビスイソ酪酸ジメチル、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオンアミドオキシム）、２，２’−アゾビス［２−（２−イミダゾリン−２−イル）プロパン］、２，２’−アゾビス｛２−メチル−Ｎ−［１，１−ビス（ヒドロキシメチル）−２−ヒドロキシエチル］プロピオンアミド｝、２，２’−アゾビス［２−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）プロピオンアミド］、２，２’−アゾビス（Ｎ−ブチル−２−メチルプロピオンアミド）、２，２’−アゾビス（Ｎ−シクロヘキシル−２−メチルプロピオンアミド）、２，２’−アゾビス［Ｎ−（２−プロペニル）−２−メチルプロピオンアミド］、２，２’−アゾビス（２，４，４−トリメチルペンタン）等を挙げることができる。
【００８４】
なお、本発明においては、上記（ｃ）有機過酸化物が本発明における重合開始剤として、樹脂シートの架橋性及び彫刻感度向上の観点で特に好ましい。
【００８５】
彫刻感度の観点からは、この（ｃ）有機過酸化物と、後述する光熱変換剤とを組み合わせた態様が特に好ましい。
これは、有機過酸化物を用いて樹脂シートを熱架橋により硬化させる際、ラジカル発生に関与しない未反応の有機過酸化物が残存するが、残存した有機過酸化物は、自己反応性の添加剤として働き、レーザー彫刻時に発熱的に分解する。その結果、照射されたレーザーエネルギーに発熱分が加算されるので彫刻感度が高くなったと推定される。
なお、光熱変換剤の説明において詳述するが、この効果は、光熱変換剤としてカーボンブラックを用いる場合に著しい。これは、カーボンブラックから発生した熱が（ｃ）有機過酸化物にも伝達される結果、カーボンブラックだけでなく有機過酸化物からも発熱するため、特定ポリマー等の分解に使用されるべき熱エネルギーの発生が相乗的に生じるためと考えている。
【００８６】
本発明において、重合開始剤は、１種のみを用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
本発明に用いられる樹脂シート中の重合開始剤の含有量は、固形分全質量に対して、０．０１〜３０質量％であることが好ましく、０．１〜２０質量％であることがより好ましく、１〜１５％であることが更に好ましい。
本発明に用いられる樹脂シート形成用樹脂組成物中の重合開始剤の含有量は、固形分全質量に対して、０．０１〜３０質量％であることが好ましく、０．１〜２０質量％であることがより好ましく、１〜１５％であることが更に好ましい。含有量が上記範囲内であると、硬化性（架橋性）に優れ、レーザー彫刻した際のレリーフエッジ形状が良好であり、更に、リンス性に優れるので好ましい。
【００８７】
（光熱変換剤）
本発明に用いられる樹脂シート及び樹脂シート形成用樹脂組成物は、更に、光熱変換剤を含有することが好ましい。すなわち、本発明における光熱変換剤は、レーザーの光を吸収し発熱することにより、レーザー彫刻時の硬化物の熱分解を促進すると考えられる。このため、彫刻に用いるレーザー波長の光を吸収する光熱変換剤を選択することが好ましい。
【００８８】
本発明に用いられる樹脂シートを、７００〜１，３００ｎｍの赤外線を発するレーザー（ＹＡＧレーザー、半導体レーザー、ファイバーレーザー、面発光レーザー等）を光源とするレーザー彫刻に用いる場合、光熱変換剤としては、７００〜１，３００ｎｍに極大吸収波長を有する化合物を用いることが好ましい。
本発明における光熱変換剤としては、種々の染料又は顔料が用いられる。
【００８９】
光熱変換剤のうち、染料としては、市販の染料及び例えば「染料便覧」（有機合成化学協会編集、昭和４５年刊）等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、７００〜１，３００ｎｍに極大吸収波長を有するものが挙げられ、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、ジインモニウム化合物、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が好ましく挙げられる。本発明において好ましく用いられる染料としては、ヘプタメチンシアニン色素等のシアニン系色素、ペンタメチンオキソノール色素等のオキソノール系色素、フタロシアニン系色素及び特開２００８−６３５５４号公報の段落０１２４〜０１３７に記載の染料を挙げることができる。
【００９０】
本発明において使用される光熱変換剤のうち、顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）便覧、「最新顔料便覧」（日本顔料技術協会編、１９７７年刊）、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）、「印刷インキ技術」ＣＭＣ出版、１９８４年刊）に記載されている顔料が利用できる。また、顔料としては、特開２００９−１７８８６９号公報の段落０１２２〜０１２５に記載の顔料が例示できる。
これらの顔料のうち、好ましいものはカーボンブラックである。
【００９１】
カーボンブラックは、組成物中における分散性などが安定である限り、ＡＳＴＭによる分類のほか、用途（例えば、カラー用、ゴム用、乾電池用など）の如何に拘らずいずれも使用可能である。カーボンブラックには、例えば、ファーネスブラック、サーマルブラック、チャンネルブラック、ランプブラック、アセチレンブラックなどが含まれる。なお、カーボンブラックなどの黒色着色剤は、分散を容易にするため、必要に応じて分散剤を用い、予めニトロセルロースやバインダーなどに分散させたカラーチップやカラーペーストとして使用することができ、このようなチップやペーストは市販品として容易に入手できる。また、カーボンブラックとしては、特開２００９−１７８８６９号公報の段落０１３０〜０１３４に記載されたものが例示できる。
【００９２】
本発明に用いられる樹脂シート及び樹脂シート形成用樹脂組成物における光熱変換剤は、１種のみを用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
樹脂シート中における光熱変換剤の含有量は、その分子固有の分子吸光係数の大きさにより大きく異なるが、固形分全質量の０．０１〜３０質量％の範囲が好ましく、０．０５〜２０質量％がより好ましく、０．１〜１０質量％が特に好ましい。
樹脂シート形成用樹脂組成物中における光熱変換剤の含有量は、その分子固有の分子吸光係数の大きさにより大きく異なるが、固形分全質量の０．０１〜３０質量％の範囲が好ましく、０．０５〜２０質量％がより好ましく、０．１〜１０質量％が特に好ましい。
【００９３】
（溶剤）
本発明に用いられる樹脂シート形成用樹脂組成物は、溶剤を含有してもよい。
溶剤としては、有機溶剤を用いることが好ましい。
非プロトン性有機溶剤の好ましい具体例は、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トルエン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシドが挙げられる。
プロトン性有機溶剤の好ましい具体例は、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、１−メトキシ−２−プロパノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１，３−プロパンジオールが挙げられる。
これらの中でも、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが特に好ましく例示できる。
【００９４】
（その他の添加剤）
本発明に用いられる樹脂シート及び樹脂シート形成用樹脂組成物には、公知の各種添加剤を、本発明の効果を阻害しない範囲で適宜配合することができる。例えば、架橋剤、架橋促進剤、可塑剤、充填剤、ワックス、プロセス油、金属酸化物、オゾン分解防止剤、老化防止剤、重合禁止剤、着色剤等が挙げられ、これらは１種を単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００９５】
（重合性化合物）
本発明に用いられる樹脂シートは、架橋構造形成を促進するため、重合性化合物を含有する樹脂シート形成用樹脂組成物を用いて形成することもできる。重合性化合物を含有することにより、架橋構造形成が促進され、得られる円筒状印刷版の耐刷性に優れる。
また、上述のエチレン性不飽和基を有する特定ポリマーは、重合性化合物には含まれない物とする。
更に、重合性化合物は、分子量３，０００未満の化合物であることが好ましく、分子量１，０００未満の化合物であることがより好ましい。
重合性化合物は、ラジカル重合性化合物であることが好ましく、また、エチレン性不飽和化合物であることが好ましい。
【００９６】
本発明に用いられる重合性化合物は、多官能エチレン性不飽和化合物であることが好ましい。上記態様であると、得られる円筒状印刷版の耐刷性により優れる。
多官能エチレン性不飽和化合物としては、末端エチレン性不飽和基を２〜２０個有する化合物が好ましい。このような化合物群は当産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に制限無く用いることができる。
多官能エチレン性不飽和化合物におけるエチレン不飽和基が由来する化合物の例としては、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など）や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル類、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシ基や、アミノ基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル、アミド類と多官能イソシアネート類、エポキシ類との付加反応物、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアナト基やエポキシ基等の親電子性置換基を有する、不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官能又は多官能のアルコール類、アミン類との付加反応物、ハロゲン基や、トシルオキシ基、等の脱離性置換基を有する、不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、ビニル化合物、アリル化合物、不飽和ホスホン酸、スチレン等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
【００９７】
重合性化合物に含まれるエチレン性不飽和基は、反応性の観点でアクリレート、メタクリレート、ビニル化合物、アリル化合物の各残基が好ましい。また、耐刷性の観点から、多官能エチレン性不飽和化合物は、エチレン性不飽和基を３個以上有することがより好ましい。
【００９８】
脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、１，３−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ポリテトラメチレングリコールジアクリレート、１，８−オクタンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、１，１０−デカンジオールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等が挙げられる。
【００９９】
メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、プロピレングリコールジメタクリレート、ジプロピレングリコールジメタクリレート、トリプロピレングリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、１，３−ブタンジオールジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、１，８−オクタンジオールジメタクリレート、１，９−ノナンジオールジメタクリレート、１，１０−デカンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔ｐ−（３−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕ジメチルメタン、ビス〔ｐ−（メタクリルオキシエトキシ）フェニル〕ジメチルメタン等が挙げられる。中でも、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレートが特に好ましい。
【０１００】
イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、１，３−ブタンジオールジイタコネート、１，４−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等が挙げられる。
【０１０１】
クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラクロトネート等が挙げられる。
【０１０２】
イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等が挙げられる。
【０１０３】
マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等が挙げられる。
【０１０４】
その他のエステルの例として、例えば、特公昭４６−２７９２６号、特公昭５１−４７３３４号、特開昭５７−１９６２３１号各公報記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭５９−５２４０号、特開昭５９−５２４１号、特開平２−２２６１４９号各公報記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平１−１６５６１３号公報記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。
【０１０５】
上記エステルモノマーは混合物としても使用することができる。
【０１０６】
また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビスアクリルアミド、メチレンビスメタクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビスメタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等が挙げられる。
【０１０７】
その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭５４−２１７２６号公報記載のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることができる。
【０１０８】
また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭４８−４１７０８号公報中に記載されている１分子に２個以上のイソシアナト基を有するポリイソシアネート化合物に、下記一般式（ｉ）で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させた１分子中に２個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。
【０１０９】
ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ）ＣＯＯＣＨ2ＣＨ（Ｒ’）ＯＨ      （ｉ）
（ただし、Ｒ及びＲ’は、それぞれ、Ｈ又はＣＨ3を示す。）
【０１１０】
また、特開昭５１−３７１９３号、特公平２−３２２９３号、特公平２−１６７６５号各公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭５８−４９８６０号、特公昭５６−１７６５４号、特公昭６２−３９４１７号、特公昭６２−３９４１８号各公報記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。
【０１１１】
更に、特開昭６３−２７７６５３号、特開昭６３−２６０９０９号、特開平１−１０５２３８号各公報に記載される、分子内にアミノ構造を有する付加重合性化合物類を用いることによって、短時間で硬化組成物を得ることができる。
【０１１２】
その他の例としては、特開昭４８−６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０４９０号各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。また、特公昭４６−４３９４６号、特公平１−４０３３７号、特公平１−４０３３６号各公報記載の特定の不飽和化合物や、特開平２−２５４９３号公報記載のビニルホスホン酸系化合物等も挙げることができる。また、ある場合には、特開昭６１−２２０４８号公報記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。更に、日本接着協会誌ｖｏｌ．２０、Ｎｏ．７、３００〜３０８ページ（１９８４年）に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。
【０１１３】
ビニル化合物としては、ブタンジオール−１，４−ジビニルエーテル、エチレングリコールジビニルエーテル、１，２−プロパンジオールジビニルエーテル、１，３−プロパンジオールジビニルエーテル、１，３−ブタンジオールジビニルエーテル、１，４−ブタンジオールジビニルエーテル、ネオペンチルグリコールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、トリメチロールエタントリビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、テトラエチレングリコールジビニルエーテル、ペンタエリスリトールジビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ソルビトールテトラビニルエーテル、ソルビトールペンタビニルエーテル、エチレングリコールジエチレンビニルエーテル、エチレングリコールジプロピレンビニルエーテル、トリメチロールプロパントリエチレンビニルエーテル、トリメチロールプロパンジエチレンビニルエーテル、ペンタエリスリトールジエチレンビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリエチレンビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラエチレンビニルエーテル、１，１，１−トリス〔４−（２−ビニロキシエトキシ）フェニル〕エタン、ビスフェノールＡジビニロキシエチルエーテル、アジピン酸ジビニル等が挙げられる。
【０１１４】
本発明に用いられる樹脂シート、及び、その形成に用いられる樹脂組成物は、重合性化合物を１種のみ用いてもよく、２種以上併用してもよい。
本発明に用いられる樹脂シート中における重合性化合物の含有量は、樹脂組成物の固形分全質量に対し、０．１〜３０質量％が好ましく、０．５〜２０質量％がより好ましく、１〜１０質量％が更に好ましい。
本発明に用いられる樹脂シート形成用樹脂組成物中における重合性化合物の含有量は、樹脂組成物の固形分全質量に対し、０．１〜３０質量％が好ましく、０．５〜２０質量％がより好ましく、１〜１０質量％が更に好ましい。上記範囲であると、レーザー彫刻時に発生する彫刻カスのリンス性により優れ、得られる円筒状印刷版の耐刷性により優れる。
【０１１５】
（各成分の配合量）
本発明に用いられる樹脂シートの固形分全質量に対し、樹脂シート中における特定ポリマーの総含有量は、５〜９０質量％が好ましく、重合開始剤の含有量は、０．０１〜３０質量％であることが好ましく、光熱変換剤の含有量は、０．０１〜３０質量％の範囲が好ましく、重合性化合物の含有量は、０〜３０質量％が好ましい。
また、本発明に用いられる樹脂シート形成用樹脂組成物の固形分全質量に対し、樹脂シート形成用樹脂組成物中における特定ポリマーの総含有量は、５〜９０質量％が好ましく、重合開始剤の含有量は、０．０１〜３０質量％であることが好ましく、光熱変換剤の含有量は、０．０１〜３０質量％の範囲が好ましく、重合性化合物の含有量は、０〜３０質量％が好ましい。
【０１１６】
（樹脂シート硬化方法）
以下、樹脂シート硬化方法について説明する。
本発明に用いられる樹脂シートは、熱及び／又は光の作用により硬化させたシートであることが好ましい。
本発明に用いられる樹脂シートが光重合開始剤を含有する場合、光を照射することにより硬化することができる。
光の照射は、樹脂シート全面に行うことが好ましい。
光としては、可視光、紫外光又は電子線が挙げられるが、紫外光が最も好ましい。樹脂シートの支持体側を裏面とすれば、表面に光を照射するだけでもよいが、支持体が光を透過する透明なフィルムならば、更に裏面からも光を照射することが好ましい。表面からの照射は、保護フィルムが存在する場合、これを設けたまま行ってもよいし、保護フィルムを剥離した後に行ってもよい。酸素の存在下において架橋反応が阻害される恐れがある場合は、樹脂シートに塩化ビニルシートを被せて真空引きした上で、光の照射を行ってもよい。
樹脂シートが熱重合開始剤を含有する場合には（上記の光重合開始剤が熱重合開始剤にもなり得る。）、樹脂シートを加熱することにより硬化することができる（熱により架橋する工程）。熱による架橋を行うための加熱手段としては、樹脂シートを熱風オーブンや遠赤外オーブン内で所定時間加熱する方法や、加熱したロールに所定時間接する方法が挙げられる。
【０１１７】
上記樹脂シート硬化方法としては、樹脂シートを表面から内部まで均一に硬化（架橋）可能という観点で、熱による架橋の方が好ましい。
樹脂シートを架橋することにより、第１にレーザー彫刻後形成されるレリーフがシャープになり、第２にレーザー彫刻の際に発生する彫刻カスの粘着性が抑制されるという利点がある。
【０１１８】
また、フレキソ印刷版の製造方法は、彫刻工程に次いで、更に、必要に応じて下記リンス工程、乾燥工程、及び／又は、後架橋工程を含んでもよい。
リンス工程：彫刻後のレリーフ層表面を、水又は水を主成分とする液体で彫刻表面をリンスする工程。
乾燥工程：彫刻されたレリーフ層を乾燥する工程。
後架橋工程：彫刻後のレリーフ層にエネルギーを付与し、レリーフ層を更に架橋する工程。
前記彫刻工程を経た後、彫刻表面に彫刻カスが付着しているため、水又は水を主成分とする液体で彫刻表面をリンスして、彫刻カスを洗い流すリンス工程を追加してもよい。リンスの手段として、水道水で水洗する方法、高圧水をスプレー噴射する方法、感光性樹脂凸版の現像機として公知のバッチ式又は搬送式のブラシ式洗い出し機で、彫刻表面を主に水の存在下でブラシ擦りする方法などが挙げられ、彫刻カスのヌメリがとれない場合は、石鹸や界面活性剤を添加したリンス液を用いてもよい。
彫刻表面をリンスするリンス工程を行った場合、彫刻された記録層を乾燥してリンス液を揮発させる乾燥工程を追加することが好ましい。
更に、必要に応じて彫刻された記録層を更に架橋させる後架橋工程を追加してもよい。追加の架橋工程である後架橋工程を行うことにより、彫刻によって形成されたレリーフをより強固にすることができる。
【０１１９】
リンス工程に用いられるリンス液のｐＨは、９以上であることが好ましく、１０以上であることがより好ましく、１１以上であることが更に好ましい。また、リンス液のｐＨは１４以下であることが好ましく、１３．５以下であることがより好ましく、１３．１以下であることが更に好ましい。上記範囲であると、取り扱いが容易である。リンス液を上記のｐＨ範囲とするために、適宜、酸及び／又は塩基を用いてｐＨを調整すればよく、使用する酸及び塩基は特に限定されない。
また、リンス液は、主成分として水を含有することが好ましい。また、リンス液は、水以外の溶媒として、アルコール類、アセトン、テトラヒドロフラン等などの水混和性溶媒を含有していてもよい。
【０１２０】
リンス液は、界面活性剤を含有することが好ましい。界面活性剤としては、彫刻カスの除去性、及び、フレキソ印刷版への影響を少なくする観点から、カルボキシベタイン化合物、スルホベタイン化合物、ホスホベタイン化合物、アミンオキシド化合物、又は、ホスフィンオキシド化合物等のベタイン化合物（両性界面活性剤）が好ましく挙げられる。なお、本発明において、アミンオキシド化合物のＮ＝Ｏ、及び、ホスフィンオキシド化合物のＰ＝Ｏの構造はそれぞれ、Ｎ+−Ｏ-、Ｐ+−Ｏ-と見なすものとする。
また、界面活性剤としては、公知のアニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤、ノニオン界面活性剤等も挙げられる。更に、フッ素系、シリコーン系のノニオン界面活性剤も同様に使用することができる。
界面活性剤は、１種単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。
界面活性剤の使用量は特に限定する必要はないが、リンス液の全質量に対し、０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．０５〜１０質量％であることがより好ましい。
【０１２１】
作製したフレキソ印刷版が有するレリーフ層（硬化層）の厚さは、耐磨耗性やインキ転移性のような種々の印刷適性を満たす観点からは、０．０５ｍｍ以上１０ｍｍ以下が好ましく、０．０５ｍｍ以上７ｍｍ以下がより好ましく、０．０５ｍｍ以上３ｍｍ以下が特に好ましい。
【０１２２】
また、作製したフレキソ印刷版が有するレリーフ層のショアＡ硬度は、５０°以上９０°以下であることが好ましい。レリーフ層のショアＡ硬度が５０°以上であると、彫刻により形成された微細な網点が凸版印刷機の強い印圧を受けても倒れてつぶれることがなく、正常な印刷ができる。また、レリーフ層のショアＡ硬度が９０°以下であると、印圧がキスタッチのフレキソ印刷でもベタ部での印刷かすれを防止することができる。
なお、本明細書におけるショアＡ硬度は、測定対象の表面に圧子（押針又はインデンタと呼ばれる）を押し込み変形させ、その変形量（押込み深さ）を測定して、数値化するデュロメータ（スプリング式ゴム硬度計）により測定した値である。
【０１２３】
［フレキソ印刷装置］
次に、本発明に係るフレキソ印刷版を用いるフレキソ印刷装置（以下、単に、『印刷装置』ともいう）の構成について詳細に説明する。フレキソ印刷装置は、上記フレキソ印刷版を用いる以外は、基本的に、従来のフレキソ印刷装置と同様の構成を有する。
【０１２４】
図８は、本発明に係るフレキソ印刷版を用いるフレキソ印刷装置の要部を概念的に示す図である。
図８に示すように、フレキソ印刷装置３０は、上記フレキソ印刷版１、版胴３１、圧胴３２、アニロックスローラ３３、ドクターチャンバ３４、および、ドクターブレード３６を有する。
【０１２５】
版胴３１は、円筒状のドラムであり、フレキソ印刷版１を周面に装着して、回転しつつ、フレキソ印刷版１を被印刷体Ｚに接触させるものである。
圧胴３２は、被印刷体Ｚを所定の搬送経路で搬送する搬送部（図示せず）を構成するローラであり、その周面が、版胴３１の周面と対面して配置されて、被印刷体Ｚをフレキソ印刷版１に接触させるものである。
版胴３１はその回転方向が、被印刷体Ｚの搬送方向と一致するように配置されている。
【０１２６】
アニロックスローラ３３、ドクターチャンバ３４、および、ドクターブレード３６は、フレキソ印刷版１にインキを供給するためのものである。ドクターチャンバ３４は、アニロックスローラ３３の表面に密接して設けられ、内部にインキが保持されている。ドクターチャンバ３４には、循環タンク（図示せず）によってインキが供給される。ドクターチャンバ３４内のインキは、アニロックスローラ３３の表面に供給される。ドクターブレード３６は、アニロックスローラ３３の表面に付着した不要なインキを掻き落とし、インキ量を調整する。アニロックスローラ３３は、版胴３１の周面に当接して同調回転し、インキを印刷版１に塗布（供給）する。
【０１２７】
このように構成されたフレキソ印刷装置３０は、被印刷体ｚを所定の搬送経路で搬送しつつ、版胴３１に載置されたフレキソ印刷版１を回転させて、インキを被印刷体Ｚに転写して印刷を行う。すなわち、フレキソ印刷版を装着する版胴の回転方向が印刷方向となる。
【０１２８】
本発明のフレキソ印刷版を用いるフレキソ印刷装置で用いられる被印刷体の種類には、特に限定はなく、紙、フィルム、段ボール、等の、通常のフレキソ印刷装置で用いられる、種々の公知の被印刷体を用いることができる。
また、本発明のフレキソ印刷版を用いるフレキソ印刷装置で用いられるインキの種類にも、特に限定はなく、水性インキ、ＵＶインキ、油性インキ、ＥＢインキ等の、通常のフレキソ印刷装置で用いられる、種々の公知のインキを用いることができる。
【実施例】
【０１２９】
以下、実施例により、本発明についてさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
なお、実施例におけるポリマーの数平均分子量（Ｍｎ）及び重量平均分子量（Ｍｗ）は、特に断りのない限りにおいて、ＧＰＣ法で測定した値を表示している。【０１３０】
＜実施例１＞
＜フレキソ印刷版の作製＞
フレキソ印刷版原版として、ＤＬＥ型フレキソ版 ＦＬＥＮＥＸ ＦＤ−Ｈ（富士フイルム株式会社製）を用いて、以下の形状となるように、レーザー彫刻機（Hell Gravure Systems社製  Premium Setter １３００Ｓ）により、解像度２５４０ｄｐｉ、レーザーパワー（Depth power）１００％、ドット形状プロファイル：スロープ６０°で彫刻し、その後、洗浄剤（The Procter & Gamble Company社製  ジョイ２％水溶液）を版上に垂らし、豚毛ブラシで擦り、流水にて水洗することで彫刻カスを除去した。【０１３１】
彫刻後の印刷版の形状は、図１（Ａ）に示すような、印刷版の中央に１３５ｍｍ×２１０ｍｍの画像部を有する形状とした。この画像部に隣接する非画像部は、画像部の端辺から離間する方向に２ｍｍ以上連続している。
また、画像部は、全体を網点率１０％の網点とした。
また、画像部の印刷方向の先端側には低層化領域を有する構成とした。画像部の先端側の端辺における低層化付加量Δ、すなわち、低層化付加量Δの最大値は４０μｍとし、低層化領域の幅Ｌａは、１ｍｍとした。【０１３２】
＜比較例１＞
低層化領域を形成しない以外は、実施例１と同様にしてフレキソ印刷版を作製した。【０１３３】
〔評価〕
得られたフレキソ印刷版を用いて印刷を行い、濃度測定を行いバウンシングの有無について評価を行った。【０１３４】
（印刷工程）
印刷機は、ＭＩＲＡＦＬＥＸ ＡＭ（Windmoller & Holscher製）を使用し、版胴として、ＲＯＳＳＩＮＩ社製スリーブを用いた。
得られた印刷版を、クッションテープ（Ｌｏｈｍａｎｎ社製）を介して、版胴に張り込み、印刷機に設置した。その後、キスタッチ（画像全面が着肉し始める印圧）を０（基準印圧）とし、そこから、４０μｍ押し込んだ条件で、印刷速度１５０ｍ／ｍｉｎで印刷を行った。
被印刷体としては、厚さ５０μｍのＯＰＰフィルム（株式会社阿部紙業製）を用いた。また、インキとしては、水性フレキソインキ、ハイドリックＦＣＦ（大日精化株式会社製）を用いた。【０１３５】
（濃度測定）
印刷された画像について、印刷方向の１ライン上の濃度測定を行った。
濃度の測定は、印刷物をスキャナーで読み込み、読み込んだ画像データを濃度に変換して測定した。
測定した実施例１の濃度のグラフを図９（Ａ）に示し、比較例１の濃度のグラフを図９（Ｂ）に示す。【０１３６】
図９（Ｂ）に示す結果から、低層化領域を設けない比較例１では、画像部の先端部分での濃度が所望の濃度（網点率）よりも高くなり、また、先端側の端辺から１７ｍｍの位置で濃度が低くなっていることがわかる。すなわち、画像部の先端と被印刷体とが接触する際の衝撃力によって、バウンシングが発生して印刷された画像にムラが生じていることがわかる。
これに対して、図９（Ａ）に示す結果から、画像部の、印刷方向の先端側から０．５ｍｍ〜５ｍｍまでの領域が、この領域以外の画像部の高さよりも高さが低い低層化領域であり、低層化領域は、印刷方向において、非画像部に向かって漸次、低くなる構成を有する本発明の実施例１は、画像部全体で濃度のばらつきが小さく、ムラが少ないことがわかる。
以上の結果から本発明の効果は明らかである。
【符号の説明】
【０１３７】
１、１００、２１０、２２０  フレキソ印刷版
２、１０２  非画像部
３、１０３、２００、２０２、２０４  画像部
３ａ  先端側の端辺
４  低層化領域
３０  フレキソ印刷装置
３１、１００  版胴
３２、１０４  圧胴
３３  アニロックスローラ
３４  ドクターチャンバ
３６  ドクターブレード
５０  元画像データ
６０  カレンダーロール
６２ａ〜６２ｄ  第１〜第４ロール
７０  混錬物
７１  樹脂シート
２２２  オビ部
ｚ  被印刷体
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【国際調査報告】
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