(57)【要約】印刷面（１０３）を上に向け、かつ、水平に保持された姿勢である第一姿勢の基板（１００）に、発光層を含む発光寄与層の少なくとも１層を形成するための原料液を塗布する印刷工程を経て有機ＥＬ表示パネル（３００）を製造する方法であって、基板（１００）を洗浄する湿式洗浄工程と、湿式洗浄工程の後に、第一姿勢に対し印刷面が９０度以上、２７０度以下の範囲から選定される角度の関係となる基板（１００）の姿勢である第二姿勢から第一姿勢に基板（１００）を回転させる第一正転工程とを含み、第一正転工程の後に、印刷工程を実行する。
2015162892.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の一面である印刷面を上に向け、かつ、水平に保持された姿勢である第一姿勢の前記基板の前記印刷面に、発光層を含む発光寄与層の少なくとも１層を形成するための原料液を塗布する印刷工程を経て有機ＥＬ表示パネルを製造する方法であって、
前記基板を、液体を用いて洗浄する湿式洗浄工程と、
前記湿式洗浄工程の後に、第一姿勢に対し前記印刷面が９０度以上、２７０度以下の範囲から選定される角度の関係となる前記基板の姿勢である第二姿勢から第一姿勢に前記基板を回転させる第一正転工程とを含み、
前記第一正転工程の後に、前記印刷工程を実行する有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項２】
前記湿式洗浄工程の後に、第一姿勢から第二姿勢に前記基板を回転させる第一反転工程と、
前記第一反転工程により第二姿勢となった前記基板に対し乾式の洗浄を行う乾式洗浄工程とを含む請求項１に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項３】
前記湿式洗浄工程と前記印刷工程との間に、第二姿勢の状態で前記基板を搬送する第二姿勢搬送工程を含む請求項１または２に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項４】
前記湿式洗浄工程と前記印刷工程との間に、複数枚の前記基板を第二姿勢の状態で保管する第二姿勢保管工程を含む請求項１〜３のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項５】
前記印刷工程において塗布された原料液を乾燥させる乾燥工程と、
第一姿勢から第二姿勢に前記基板を回転させる第二反転工程と、
前記第二反転工程により第二姿勢となった前記基板に対し前記乾燥工程よりも高温で処理を行うベーク工程とを含む請求項１〜４のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項６】
基板の一面である印刷面を上に向け、かつ、水平に保持された姿勢である第一姿勢の前記基板の前記印刷面に、発光層を含む発光寄与層の少なくとも１層を形成するための原料液を塗布する印刷装置と、
前記印刷装置に搬入する前の前記基板を液体を用いて洗浄する湿式洗浄装置と、
生産ラインにおいて前記湿式洗浄装置と前記印刷装置との間に配置され、第一姿勢に対し前記印刷面が９０度以上、２７０度以下の範囲から選定される角度の関係となる前記基板の姿勢である第二姿勢から第一姿勢に前記基板を回転させる第一正転装置とを備える有機ＥＬ表示パネルの製造システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、有機ＥＬ表示パネルを製造する方法、および、有機ＥＬ表示パネルの製造システムに関し、特に印刷技術が採用される有機ＥＬ表示パネルの製造方法、および、有機ＥＬ表示パネルの製造システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１は、有機ＥＬ表示パネルを製造するにあたり、基板上に設けたバンク（隔壁）の間に原料液（機能液）を塗布する技術が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００６−１１３４２３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本開示は、有機ＥＬ表示パネルを製造する方法、および、有機ＥＬ表示パネルの製造システムであって、印刷工程前の基板に対し異物が付着する可能性を低減する有機ＥＬ表示パネルを製造する方法、および、有機ＥＬ表示パネルの製造システムを提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記目的を達成するために、有機ＥＬ表示パネルの製造方法は、基板の一面である印刷面を上に向け、かつ、水平に保持された姿勢である第一姿勢の前記基板の前記印刷面に、発光層を含む発光寄与層の少なくとも１層を形成するための原料液を塗布する印刷工程を経て有機ＥＬ表示パネルを製造する方法であって、前記基板を、液体を用いて洗浄する湿式洗浄工程と、前記湿式洗浄工程の後に、第一姿勢に対し前記印刷面が９０度以上、２７０度以下の範囲から選定される角度の関係となる前記基板の姿勢である第二姿勢から第一姿勢に前記基板を回転させる第一正転工程とを含み、前記第一正転工程の後に、前記印刷工程を実行する。
【発明の効果】
【０００６】
本開示によれば、印刷工程前の基板に異物が付着することを可及的に回避することが可能となる。これにより、基板の印刷面に付着した異物による原料液の吸収等を回避することができ、有機ＥＬ表示パネルの製造歩留まりを向上させることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】図１は、有機ＥＬ表示パネルの製造中における基板を模式的に示す斜視図である。
【図２】図２は、有機ＥＬ表示パネルを備えたテレビを示す斜視図である。
【図３】図３は、有機ＥＬ表示パネルの製造システムを模式的に示す図である。
【図４】図４は、第一姿勢の基板を示す側面図である。
【図５】図５は、選択可能な下限としての第二姿勢の基板を示す側面図である。
【図６】図６は、選択可能な上限としての第二姿勢の基板を示す側面図である。
【図７】図７は、有機ＥＬ表示パネルの製造方法を示すフローチャートである。
【図８】図８は、有機ＥＬ表示パネルの製造方法の変形例を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
図１は、有機ＥＬ表示パネルの製造中における基板を模式的に示す斜視図である。
【０００９】
同図に示す基板１００は、印刷工程に入る前であって湿式洗浄工程後の基板１００の一部である。印刷工程に入る前の基板１００の印刷面（図中Ｚ軸方向正側の面）には縦方向（図中Ｘ軸方向）に延びて配置されるバンク１０１（隔壁）である縦バンク１１１と横方向（図中Ｙ軸方向）に延びて配置されるバンク１０１である横バンク１１２とが格子状に設けられている。図１には、湿式洗浄工程から印刷工程までのいずれかの段階で基板１００に付着した異物Ａが説明のために示されている。
【００１０】
このように偶然に異物Ａが付着した基板１００に対し、例えば発光層を形成する有機ＥＬ材料を含む原料液（いわゆるインク）を塗布する印刷工程を実行した場合、異物Ａが存在する発光画素１０２や、当該発光画素１０２に塗布された原料液と接触する原料液が塗布された発光画素１０２の輝度が、異物Ａが存在しない発光画素１０２の輝度よりも高くなることを本開示者らは見出した。また、電子注入層、電子輸送層、正孔輸送層、正孔注入層その他中間層を形成する原料液を塗布する印刷工程を行った場合でも、異物Ａの存在により製造された有機ＥＬ表示パネルに不具合が生じることを見出した。
【００１１】
特に、図１に示すような、縦方向に線状に延びた縦バンク１１１の高さが横バンク１１２の高さより高く、縦バンク１１１に沿って配置される発光画素１０２は、塗布された原料液が相互に接触するラインバンク形式の有機ＥＬ表示パネルでは、異物Ａが付着する発光画素１０２ばかりでなく、縦バンク１１１に沿って筋状に不具合が発生することを見出した。
【００１２】
本開示は、上記新しく得られた知見に基づいてなされたものである。以下に適宜図面を参照しながら、実施の形態を説明する。但し、必要以上に詳細な説明は省略する場合がある。例えば、既によく知られた事項の詳細説明や実質的に同一の構成に対する重複説明を省略する場合がある。これは、以下の説明が不必要に冗長になるのを避け、当業者の理解を容易にするためである。
【００１３】
なお、本開示者らは、当業者が本開示を十分に理解するために添付図面および以下の説明を提供するのであって、これらによって請求の範囲に記載の主題を限定することを意図するものではない。
【００１４】
（実施の形態）
［有機ＥＬ表示パネルの概要］
有機ＥＬ表示パネル３００は、例えば図２に示すように、映像や画像、文字などを表示する装置であり、図１に示すような基板１００から製造される表示装置である。例えば、有機ＥＬ表示パネル３００は、受信した放送波等から得られる映像を出力するテレビ３９９に組み込まれる。有機ＥＬ表示パネル３００は、有機ＥＬ材料で発光層が形成された発光ダイオードである有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ  Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）ダイオードを発光素子として備えている。
【００１５】
本開示では、電子注入層、電子輸送層、発光層、正孔輸送層、正孔注入層その他中間層など有機ＥＬ表示パネル３００の発光画素１０２の発光に寄与し、陰電極と陽電極とに挟まれる発光寄与層の少なくとも一つの層を印刷法によって形成する場合を説明する。
【００１６】
［有機ＥＬ表示パネルの製造システム］
図３は、有機ＥＬ表示パネルの製造システムを模式的に示す図である。
【００１７】
同図に示すように製造システム４００は、複数の設備が搬送設備で一連に接続される生産ラインの一部を構成するシステムであり、製造システム４００自身も生産ラインを備えている。製造システム４００は、生産ラインの上流から、湿式洗浄装置４０１と、第一正転装置４０７と、印刷装置４０８とを備えている。本実施の形態の場合、製造システム４００はさらに、第一反転装置４０３と、乾式洗浄装置４０４と、第二姿勢搬送装置４０５と、第二姿勢保管装置４０６と、乾燥装置４０９と、第二反転装置４１０と、ベーク装置４１１も備えている。
【００１８】
湿式洗浄装置４０１は、水などの液体を用いて基板１００の特に印刷面を洗浄する装置である。本実施の形態の場合、湿式洗浄装置４０１は、第一姿勢の基板１００の少なくとも印刷面に液体を吹き付けて基板１００を洗浄している。
【００１９】
ここで、第一姿勢とは、図４に示すように、平板形状の基板１００（例えばガラス製の基板）の一面である印刷面１０３（図中では仮想的に破線で示している。）を上方に向け（図中Ｚ軸方向（鉛直方向）正の向き）、かつ、印刷面１０３が水平（図中ＸＹ平面）に沿うように配置される基板１００の姿勢を意味している。また、水平とは、完全な水平ばかりでなく、ある程度の誤差を含む概念として用いている。ある程度の誤差とは、印刷工程において原料液の塗布により基板１００に印刷できる程度の誤差であり、基板１００の反りや歪みも許容する。
【００２０】
なお、湿式洗浄装置４０１は吹き付け式の洗浄装置ばかりでなく、液体に基板１００を浸漬して洗浄する浸漬式の洗浄装置でもかまわない。また、洗浄中の基板１００の姿勢は、第一姿勢に限定されるものでは無い。
【００２１】
第一反転装置４０３は、基板１００を第二姿勢に回転（反転）させる装置である。本実施の形態の場合、第一反転装置４０３は、湿式洗浄装置４０１で洗浄された基板１００を第一姿勢から第二姿勢に回転（反転）させている。
【００２２】
ここで第二姿勢とは、水平面に含まれる回転軸の周りを第一姿勢に対し印刷面が９０度傾いた状態（図５参照）から２７０度傾いた状態（図６参照）までの範囲から選定される角度で回転させた状態の基板１００の姿勢である。例えば、印刷面１０３を下方に向け、かつ、印刷面１０３が水平に沿うように配置される基板１００の姿勢、つまり、第一姿勢から基板１００を１８０度回転させた姿勢も第二姿勢であり、印刷面１０３を下方に向け、かつ、印刷面１０３が第一姿勢に対し４５度に傾いて配置される基板１００の姿勢も第二姿勢であり、図５、６のように基板１００が垂直に立った状態も第二姿勢である。
【００２３】
なお、湿式洗浄装置４０１が基板１００を第二姿勢で洗浄していた場合、第一反転装置４０３は不要となる場合がある。
【００２４】
本実施の形態の場合、第一反転装置４０３は、洗浄液乾燥装置４０２の下流に設けられている。洗浄液乾燥装置４０２は、湿式洗浄装置４０１によってぬらされた基板１００を乾燥させる装置であり、例えばエアナイフなどを挙示することができる。なお、第一反転装置４０３は、洗浄液乾燥装置４０２の上流に設けられてもよい。
【００２５】
乾式洗浄装置４０４は、洗浄液乾燥装置４０２で乾燥した基板１００の表面に僅かに残存する可能性のある残渣を光やガス、プラズマなどを用いて除去する装置である。
【００２６】
第二姿勢搬送装置４０５は、湿式洗浄装置４０１と印刷装置４０８との間に、第二姿勢の基板１００を搬送する装置である。図３において、第二姿勢搬送装置４０５は、乾式洗浄装置４０４と第一正転装置４０７との間にのみ記載されているが、これは代表的に示したものであり、いずれの装置の間であっても、第二姿勢の基板１００を搬送する装置は第二姿勢搬送装置４０５である。
【００２７】
第二姿勢保管装置４０６は、湿式洗浄装置４０１と印刷装置４０８との間において、基板１００を第二姿勢で保管する装置である。図３において、第二姿勢保管装置４０６は、製造システム４００の主たるラインから分岐した状態で設けられていが、ライン内に設けられるものでもよい。また、第二姿勢保管装置４０６は、湿式洗浄装置４０１と印刷装置４０８との間ばかりでなく、製造システム４００のボトルネックとなる装置の上流などいずれの場所に分岐して、または、インラインで設けてもよい。
【００２８】
第一正転装置４０７は、湿式洗浄装置４０１と印刷装置４０８との間に、第二姿勢から第一姿勢に基板１００を回転（正転）させる装置である。
【００２９】
ここで、第一反転装置４０３と第一正転装置４０７として水平に延びる回転軸の周りで基板１００を回転させる装置を説明したが、第一反転装置４０３と第一正転装置４０７とは、同じ機能を備えているものでもかまわない。また、第二姿勢から第一姿勢に基板１００の姿勢を転換することを「正転」、第一姿勢から第二姿勢に基板１００の姿勢を転換することを「反転」として「正転」と「反転」の用語を用いており、「正転」と「反転」の用語を基板１００の回転の向きを限定するものとして用いていない。
【００３０】
印刷装置４０８は、第一姿勢の基板１００の印刷面１０３に、発光寄与層の少なくとも１層を形成するための原料液を塗布する装置である。
【００３１】
本実施の形態における印刷装置４０８は、基板１００のバンク１０１の間にインターレイヤを形成するための材料を含む原料液を塗布する装置である。印刷装置４０８としては、ジェットディスペンス方式の装置を例示することができる。本実施の形態の場合、印刷装置４０８は、線上、または、細い幅の帯状領域内に並んで配置された多数の吐出口を有し、それぞれの吐出口からの原料液の吐出を制御することができるヘッドを備え、当該ヘッドと基板１００とを相対的に移動させることで、基板１００の任意の位置に任意の種類の原料液を塗布することができる装置である。
【００３２】
なお、本実施の形態の場合、第一正転装置４０７は、印刷装置４０８の直前に設けられている。ここで直前とは第一正転装置４０７と印刷装置４０８との間に有機ＥＬ表示パネル３００の製造に関与する装置（搬送装置を除く）が無い状態を意味する。
【００３３】
また、本実施の形態の場合、第一正転装置４０７と印刷装置４０８とは一つのチャンバー４８１内に収容されている。これにより、第一姿勢となった基板１００に異物が付着することを可及的に回避している。
【００３４】
乾燥装置４０９は、印刷装置４０８により基板１００に印刷された原料液を乾燥させる装置である。例えば乾燥装置４０９は、基板１００を気温よりも高い温度に上昇させる炉である。
【００３５】
第二反転装置４１０は、印刷装置４０８の下流に設けられ、第一姿勢から第二姿勢に基板１００を回転させる装置である。なお、第一反転装置４０３と第二反転装置４１０とは同種類の装置であってもよく、また、異なる種類の装置であってもよい。
【００３６】
ベーク装置４１１は、第二反転装置４１０により第二姿勢となった基板１００に対し乾燥装置４０９よりも高温で第二姿勢のままで処理を行う装置である。
【００３７】
以上のような製造システム４００によれば、基板１００の発光寄与層を形成する面である印刷面１０３に異物が付着することを可及的に抑制することが可能となる。
【００３８】
［有機ＥＬ表示パネルの製造方法］
次に、有機ＥＬ表示パネル３００の製造方法について説明する。
【００３９】
図７は、有機ＥＬ表示パネルの製造方法を示すフローチャートである。
【００４０】
まず、前工程においてバンク１０１等が形成された基板１００に対し、湿式洗浄装置４０１により水などの液体を用いての印刷面１０３を洗浄する（湿式洗浄工程Ｓ５０１）。本実施の形態の場合、湿式洗浄工程（Ｓ５０１）においては、基板１００は第一姿勢で洗浄される。
【００４１】
次に、湿式洗浄工程（Ｓ５０１）によってぬらされた基板１００を洗浄液乾燥装置４０２により乾燥させる（洗浄液乾燥工程Ｓ５０２）。
【００４２】
次に、基板１００を第一反転装置４０３により第二姿勢に回転（反転）させる（第一反転工程Ｓ５０３）。なお、第一反転工程（Ｓ５０３）は、洗浄液乾燥工程（Ｓ５０２）の前に実施してもかまわない。
【００４３】
次に、第二姿勢のままで第二姿勢搬送装置４０５により基板１００を搬送する（第二姿勢搬送工程（同フローチャート内の太い矢印線））。
【００４４】
次に洗浄液乾燥工程（Ｓ５０２）で乾燥された基板１００の表面に僅かに残存する可能性のある残渣を、基板１００を第二姿勢に維持した状態で光やガス、プラズマなどを用いて除去する（乾式洗浄工程Ｓ５０４）。
【００４５】
次に製造システム４００は、各工程の進捗を監視し、乾式洗浄工程Ｓ５０４より下流の工程において、進捗の遅れがあるか否かを検出する（検出工程Ｓ５０５）。監視の結果、乾式洗浄工程Ｓ５０４より下流が滞っており、基板１００を一時的に保管する必要がある場合（Ｓ５０５：Ｙ）、第二姿勢保管装置４０６により基板１００を第二姿勢で保管する第二姿勢保管工程Ｓ５０６）。
【００４６】
次に、湿式洗浄工程（Ｓ５０１）と印刷工程（Ｓ５０８）との間において、第一正転装置４０７により第二姿勢から第一姿勢に基板１００を回転（正転）させる（第一正転工程Ｓ５０７）。
【００４７】
次に、第一姿勢の基板１００の印刷面１０３に、発光寄与層の少なくとも１層を形成するための原料液を塗布する（印刷工程Ｓ５０８）。
【００４８】
なお、本実施の形態では、乾式洗浄工程Ｓ５０４より下流であって、最初の印刷処理を印刷工程Ｓ５０８として説明したが、発光寄与層の複数の層を印刷により形成する場合、各工程が印刷工程Ｓ５０８となる。
【００４９】
次に、印刷工程（Ｓ５０８）により基板１００に印刷された原料液を乾燥装置４０９により乾燥させる（乾燥工程Ｓ５０９）。例えば乾燥工程（Ｓ５０９）は、ヒーターなどを用いて基板１００を気温よりも高い温度に上昇させる。
【００５０】
次に、印刷工程（Ｓ５０８）において原料液が印刷された基板１００を、第一姿勢から第二姿勢に第二反転装置４１０を用いて基板１００を回転させる（第二反転工程Ｓ５１０）。
【００５１】
次に、第二反転工程（Ｓ５１０）により第二姿勢となった基板１００に対し乾燥工程（Ｓ５０９）よりも高温で第二姿勢のままの基板１００に対し熱処理を行う（ベーク工程（Ｓ５１１）。
【００５２】
以上のような製造方法によれば、湿式洗浄工程Ｓ５０１の終了後、印刷工程Ｓ５０８に至る間において、異物が付着しにくい第二姿勢で基板１００が維持され、基板１００の発光寄与層を形成する面である印刷面１０３に異物が付着することを可及的に抑制することが可能となる。
【００５３】
［変形例］
図８は、複数の印刷工程がある場合を示すフローチャートである。
【００５４】
同図に示すように最初の印刷工程Ｓ５０８、乾燥工程Ｓ５０９、第二反転工程Ｓ５１０、ベーク工程Ｓ５１１が終了後、発光寄与層の他の１層を形成するために、基板１００が第一姿勢となるように回転させる第二正転工程Ｓ５１２を実施する。
【００５５】
次に、第一姿勢となった基板１００に対し発光寄与層の他の１層を形成する第二印刷工程Ｓ５１３を実施する。
【００５６】
次に、印刷された原料液を乾燥させるために、第二乾燥工程Ｓ５１４を実施する。これにより、発光寄与層の他の１層が基板１００の表面に形成される。
【００５７】
以上の状態によって、基板１００を回転させても原料液が落下するなどの恐れがなくなるため、次に第三反転工程Ｓ５１５を実施する。
【００５８】
これにより、異物が付着しにくい姿勢で基板１００を維持することが可能となる。そして、第二姿勢に維持された基板１００に対し第二ベーク工程Ｓ５１６を実施する。
【００５９】
以上のように印刷工程が複数回繰り返される場合においては、それぞれの印刷工程後に反転工程を実施することで、基板１００に異物が付着する可能性を可及的に抑制することが可能となる。
【００６０】
（他の実施の形態）
以上のように、本出願において開示する技術の例示として、実施の形態、および、変形例を説明した。しかしながら、本開示における技術は、これらに限定されず、適宜、変更、置き換え、付加、省略などを行った実施の形態にも適用可能である。また、上記実施の形態１や変形例で説明した各構成要素を組み合わせて、新たな実施の形態とすることも可能である。
【００６１】
たとえば、実施の形態において、有機ＥＬ表示パネル３００はテレビに備えられるものであるとした。しかし、有機ＥＬ表示パネル３００はテレビ以外に用いられるものであってもかまわない。例えば、有機ＥＬ表示パネル３００は、外部から入力される映像を表示するモニタ装置、広告媒体として使用されるデジタルサイネージ、ならびに、タッチパネルによってユーザの操作を受け付ける携帯端末、タブレット端末、および、テーブル型有機ＥＬ表示パネル３００等として実現されてもよい。
【００６２】
以上のように、本開示における技術の例示として、実施の形態を説明した。そのために、添付図面および詳細な説明を提供した。
【００６３】
したがって、添付図面および詳細な説明に記載された構成要素の中には、課題解決のために必須な構成要素だけでなく、上記技術を例示するために、課題解決のためには必須でない構成要素も含まれ得る。そのため、それらの必須ではない構成要素が添付図面や詳細な説明に記載されていることをもって、直ちに、それらの必須ではない構成要素が必須であるとの認定をするべきではない。
【００６４】
また、上述の実施の形態は、本開示における技術を例示するためのものであるから、請求の範囲またはその均等の範囲において種々の変更、置き換え、付加、省略などを行うことができる。
【産業上の利用可能性】
【００６５】
本開示は、画像や文字、動画を表示する有機ＥＬ表示パネルの製造方法、および、有機ＥＬ表示パネルの製造システムであって、特に大型の有機ＥＬ表示パネルに適用可能である。具体的には、テレビ、モニタ表示、デジタルサイネージ、携帯端末、タブレット端末、および、テーブル型有機ＥＬ表示パネルなどの電子機器に、本開示は適用可能である。
【符号の説明】
【００６６】
１００  基板
１０１  バンク
１０２  発光画素
１０３  印刷面
１１１  縦バンク
１１２  横バンク
３００  有機ＥＬ表示パネル
３９９  テレビ
４００  製造システム
４０１  湿式洗浄装置
４０２  洗浄液乾燥装置
４０３  第一反転装置
４０４  乾式洗浄装置
４０５  第二姿勢搬送装置
４０６  第二姿勢保管装置
４０７  第一正転装置
４０８  印刷装置
４０９  乾燥装置
４１０  第二反転装置
４１１  ベーク装置
４８１  チャンバー
【図１】
2015162892.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
2015162892.tif 000007
【図６】
2015162892.tif 000008
【図７】
2015162892.tif 000009
【図８】
2015162892.tif 000010
【国際調査報告】
2015162892.tif 000011
2015162892.tif 000012
2015162892.tif 000013
2015162892.tif 000014