(57)【要約】本発明は、繰り返し使用時の耐久性に優れ、更に、無荷重時と荷重印加時の抵抗値の変化の幅を大きく確保できる感圧応答性積層体、該感圧応答性積層体に用いることができるコーティング層、及び、導電性基材に感圧応答性を付与する感圧応答性付与材料の提供を目的とし、その課題は、導電性基材上にコーティング層を積層してなり、該コーティング層の表面に、該コーティング層に含まれる非導電性粒子に由来する凹凸が形成されていることを特徴とする感圧応答性積層体、非導電性粒子を含み、且つ表面に該非導電性粒子に由来する凹凸が形成されており、導電性基材に積層されることにより感圧応答性を付与することを特徴とするコーティング層、及び、非導電性粒子を含み、導電性基材に塗布されることにより感圧応答性を付与することを特徴とする感圧応答性付与材料によって解決される。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性基材上にコーティング層を積層してなり、該コーティング層の表面に、該コーティング層に含まれる非導電性粒子に由来する凹凸が形成されていることを特徴とする感圧応答性積層体。
【請求項２】
前記コーティング層の表面は、十点平均粗さＲｚが、３μｍ〜５０μｍの範囲であることを特徴とする請求項１記載の感圧応答性積層体。
【請求項３】
前記コーティング層は、シリコーン系樹脂を含むことを特徴とする請求項１又は２記載の感圧応答性積層体。
【請求項４】
前記導電性基材は、シリコーンゴムを含むことを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載の感圧応答性積層体。
【請求項５】
前記導電性基材の硬度Ｈｓが、４０〜９０の範囲であることを特徴とする請求項１〜４の何れかに記載の感圧応答性積層体。
【請求項６】
非導電性粒子を含み、且つ表面に該非導電性粒子に由来する凹凸が形成されており、導電性基材に積層されることにより感圧応答性を付与することを特徴とするコーティング層。
【請求項７】
非導電性粒子を含み、導電性基材に塗布されることにより感圧応答性を付与することを特徴とする感圧応答性付与材料。
【請求項８】
液体及び又はバインダーを更に含むことを特徴とする請求項７記載の感圧応答性付与材料。
【請求項９】
固形分濃度が、１０％〜２０％の範囲であることを特徴とする請求項７又は８記載の感圧応答性付与材料。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感圧応答性積層体、コーティング層及び感圧応答性付与材料に関し、より詳しくは、印加された圧力（荷重ともいう）に応じて電気抵抗値が変化する感圧応答性素子であり、積層体の形態を有する感圧応答性積層体、該感圧応答性積層体に用いることができるコーティング層、及び、導電性基材に感圧応答性を付与する感圧応答性付与材料に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の感圧導電性エラストマー組成物としては、絶縁性エラストマー中に導電性粒子を混合・成形してなるものが知られている。【０００３】
このような組成物については、改良技術も提案されており、導電性粒子の形状を変更（特許文献１、２）したり、充填剤として非導電性粒子を配合（特許文献３）したりすることで、圧力応答性を改良するとしている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開昭５４−８０３５０号公報
【特許文献２】特開昭５３−７９９３７号公報
【特許文献３】特開２００７−２２０４８１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、従来の改良技術では、感圧特性を向上させるために、多種多量の充填剤を配合する必要があり、実用配合レベルでは、材料自身の強度が低くなるために、繰り返し使用時の耐久性が低くなってしまう欠点があった。【０００６】
更に、従来の改良技術では、感圧特性を発現させるために導電性粒子の配合量を制限する必要があり、導通時の抵抗値が高くなってしまう。そのため、無荷重時と荷重印加時の抵抗値の変化の幅が小さくなってしまう欠点もあった。【０００７】
そこで、本発明の課題は、繰り返し使用時の耐久性に優れ、更に、無荷重時と荷重印加時の抵抗値の変化の幅を大きく確保できる感圧応答性積層体、該感圧応答性積層体に用いることができるコーティング層、及び、導電性基材に感圧応答性を付与する感圧応答性付与材料を提供することにある。【０００８】
また本発明の他の課題は、以下の記載によって明らかとなる。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題は、以下の各発明によって解決される。【００１０】
１．
導電性基材上にコーティング層を積層してなり、該コーティング層の表面に、該コーティング層に含まれる非導電性粒子に由来する凹凸が形成されていることを特徴とする感圧応答性積層体。【００１１】
２．
前記コーティング層の表面は、十点平均粗さＲｚが、３μｍ〜５０μｍの範囲であることを特徴とする前記１記載の感圧応答性積層体。【００１２】
３．
前記コーティング層は、シリコーン系樹脂を含むことを特徴とする前記１又は２記載の感圧応答性積層体。【００１３】
４．
前記導電性基材は、シリコーンゴムを含むことを特徴とする前記１〜３の何れかに記載の感圧応答性積層体。【００１４】
５．
前記導電性基材の硬度Ｈｓが、４０〜９０の範囲であることを特徴とする前記１〜４の何れかに記載の感圧応答性積層体。【００１５】
６．
非導電性粒子を含み、且つ表面に該非導電性粒子に由来する凹凸が形成されており、導電性基材に積層されることにより感圧応答性を付与することを特徴とするコーティング層。【００１６】
７．
非導電性粒子を含み、導電性基材に塗布されることにより感圧応答性を付与することを特徴とする感圧応答性付与材料。【００１７】
８．
液体及び又はバインダーを更に含むことを特徴とする前記７記載の感圧応答性付与材料。【００１８】
９．
固形分濃度が、１０％〜２０％の範囲であることを特徴とする前記７又は８記載の感圧応答性付与材料。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、繰り返し使用時の耐久性に優れ、更に、無荷重時と荷重印加時の抵抗値の変化の幅を大きく確保できる感圧応答性積層体、該感圧応答性積層体に用いることができるコーティング層、及び、導電性基材に感圧応答性を付与する感圧応答性付与材料を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の一態様に係る感圧応答性積層体の使用形態の一例を説明する要部拡大断面図
【図２】Ｆ−Ｒ特性の評価装置を説明する概略図
【図３】図２の評価装置における電極の形状を説明する概略図
【図４】初期のＦ−Ｒ特性のグラフ（実施例）
【図５】初期のＦ−Ｒ特性のグラフ（比較例）
【図６】初期のＦ−Ｒ特性のグラフ（比較例）
【図７】初期のＦ−Ｒ特性のグラフ（比較例）
【図８】初期のＦ−Ｒ特性のグラフ（比較例）
【図９】繰り返し圧縮サイクル後のＦ−Ｒ特性のグラフ（実施例）
【図１０】繰り返し圧縮サイクル後のＦ−Ｒ特性のグラフ（比較例）
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下に、本発明を実施するための形態について説明する。
【００２２】
本発明の感圧応答性積層体は、印加された圧力（荷重ともいう）に応じて電気抵抗値が変化する感圧応答性素子であり、積層体の形態を有する。
【００２３】
感圧応答性積層体は、非導電性粒子を含有するコーティング層と、導電性基材とにより構成される。
【００２４】
積層体とすることによって、各構成要素、即ち、導電性を担う要素（導電性基材）と、感圧特性を付与するための要素（コーティング層）で、機能の分担を図ることができる。
【００２５】
コーティング層の表面には、該コーティング層に含まれる非導電性粒子に由来する凹凸が形成されている。このとき、非導電性粒子は、コーティング層の表面に直接露出した状態であってもよいし、バインダー等により薄く被覆された状態であってもよく、何れにしても、非導電性粒子に由来する凹凸がコーティング層の表面に形成されればよい。特に好ましいのは、非導電性粒子が、コーティング層の表面に直接露出した状態であり、これにより、無荷重時に高い抵抗値が示され、荷重に応じた抵抗値の変化の幅をより大きく確保できる。
【００２６】
図１は、本発明の一態様に係る感圧応答性積層体の使用形態の一例を説明する要部拡大断面図である。
【００２７】
１は感圧応答性積層体であり、導電性基材１１の表面にコーティング層１２を積層して構成されている。図示の例において、コーティング層１２は、非導電性粒子１３と、非導電性粒子１３を保持するバインダー１４とにより構成されている。コーティング層１２の表面には、非導電性粒子１３に由来する凹凸が形成されている。ここで、非導電性粒子１３は、コーティング層１２の表面に直接露出した状態にある。また、バインダー１４は、導電性を有している。
【００２８】
２は電極基盤であり、絶縁性基材２１の表面に一対の電極２２及び２３を備えている。
【００２９】
感圧応答性積層体１と電極基盤２とは、コーティング層１２と一対の電極２２及び２３とを対向させるように配置されている。
【００３０】
図示の状態から、感圧応答性積層体１と電極基盤２とを接触させ、更に、電極基盤２を感圧応答性積層体１に押圧する、及び又は、感圧応答性積層体１を電極基盤２に押圧することにより、感圧応答性積層体１の積層方向に荷重が印加される。
【００３１】
無荷重時には、コーティング層１２の表面（感圧応答性積層体１の表面という場合もある）の抵抗値が大きい。即ち、電極基盤２の一対の電極２２及び２３間に電圧が印加されていても、電流が流れにくい。
【００３２】
一方、荷重印加時には、非導電性粒子１３が潰れる、及び又は、非導電性粒子１３が導電性基材１１側に埋没する。これにより、コーティング層１２中の導電性を有するバインダー１４と、一対の電極２２及び２３との接触面積が増大し、抵抗値が減少する。
【００３３】
このとき、荷重の大きさに応じて接触面積が変化し、これに伴って抵抗値が変化する。一対の電極２２及び２３間に電位を印加しておけば、抵抗値の変化は、電流値の変化として検出できる。従って、例えば、検出される電流値に基づいて荷重の大きさを測定可能な圧力センサーを実現することができる。
【００３４】
通常のゴム成形方式等を用いても、表面に精度よく凹凸を付与することは困難であるが、積層体においては、導電性基材に対してコーティング層を別層として形成することで、非導電性粒子を用いて精度よく凹凸を付与することが可能になる。これにより、精度に優れた感圧応答性を得ることができる。
【００３５】
更に、導電性基材とコーティング層とに機能を分担させることにより、従来技術のように多種多量の充填剤を配合する必要がなくなる。これにより、材料としての強度を充分に確保でき、繰り返し使用時の耐久性を大幅に向上することができる。また、導電性基材において、導電性粒子の配合量が従来のように制限されないため、導通時の抵抗値を低くすることができ、無荷重時と荷重印加時の抵抗値の変化の幅を大きく確保することもできる。
【００３６】
コーティング層は、導電性基材の表面に、感圧応答性付与材料を塗布することにより形成することができる。感圧応答性付与材料は、塗布可能なコーティング剤の形態を有することが好ましい。
【００３７】
コーティング剤は、コーティング層の形成に必要な成分として、少なくとも非導電性粒子を含むことができる。
【００３８】
非導電性粒子は、格別限定されないが、例えば、二酸化ケイ素、アルミナ等のセラミックス粒子、絶縁性のカーボン粒子、アクリル、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ベンゾグアナミン、シリコーン等の樹脂粒子等を好適に用いることができ、中でも、柔軟性に優れる観点から樹脂粒子が好ましく、特にシリコーン樹脂粒子等が好ましい。シリコーン樹脂粒子としては、シリコーンパウダー等として市販されているものを用いることができる。
【００３９】
非導電性粒子は、１種又は２種以上を併用して用いることができる。
【００４０】
非導電性粒子の体積抵抗率は、１×１０６［Ω・ｃｍ］以上であることが好ましく、１×１０１０［Ω・ｃｍ］以上であることがより好ましい。
【００４１】
コーティング剤における非導電性粒子の配合量、あるいは、コーティング剤の塗布量などを調節することで、コーティング層の表面に形成される凹凸の状態、つまりは表面粗さを適宜調節することができる。コーティング層の表面粗さＲｚは、３μｍ〜５０μｍの範囲であることが好ましく、７μｍ〜３０μｍの範囲であることがより好ましい。ここで、表面粗さＲｚは、ＪＩＳ  Ｂ０６０１に準じ、表面粗さ形状測定機を用いて測定された十点平均粗さである。
【００４２】
コーティング剤は、コーティング層に非導電性粒子を保持するためのバインダーを含むことが好ましい。バインダーは、感圧応答性に寄与し得るものであり、導電性のものを好ましく用いることができる。
【００４３】
バインダーは、格別限定されないが、例えば、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、シリコーン系樹脂等を好ましく例示でき、中でもシリコーン系樹脂が好ましい。
【００４４】
シリコーン系樹脂としては、例えば、シリコーン変性ウレタン樹脂やシリコーン変性アクリル樹脂等を例示でき、特に、シリコーン変性ウレタン樹脂等が好適である。シリコーン変性ウレタン樹脂やシリコーン変性アクリル樹脂において、そのシリコーン変性率は、好ましくは、５〜５０重量％の範囲内であることが好ましい。
【００４５】
バインダーは、コーティング剤により形成されたコーティング層に残留し、該コーティング層に非導電性粒子を保持する機能を発揮することができる。この観点では、バインダーとして、導電性基材に対して密着性を好適に確保できるものを選択することが好ましい。例えば、バインダーとしてシリコーン変性ウレタン樹脂を用いる場合は、シリコーンゴムからなる導電性基材に対して、良好な密着性を得ることができる。
【００４６】
バインダーは、導電性を有することが好ましく、該バインダーにより形成された層（上述した非導電性粒子を含まない状態の層）の体積抵抗率が、上述した非導電性微粒子の体積抵抗率よりも小さいことが好ましく、具体的には、１×１０５［Ω・ｃｍ］以下であることが好ましく、１×１０４［Ω・ｃｍ］以下であることがより好ましい。
【００４７】
バインダーは、導電性を有する成分を含むことにより導電性を有するものであってもよい。
【００４８】
導電性を有する成分としては、例えば、カーボンブラック、グラファイト、チタン酸カリウム、酸化鉄、ＴｉＯ2、ＺｎＯ、ＳｎＯ2等のような導電材料や、第四級アンモニウム塩、ホウ酸塩、界面活性剤、金属イオン、ポリエチレンオキサイド（ＰＥＯ）等のようなイオン伝導材料等が用いられる。
【００４９】
導電性を有する成分が粒子である場合、その粒子径は、非導電性粒子の粒子径よりも小さいことが好ましい。
【００５０】
また、バインダーを構成するポリマーとして、自体が導電性を有する導電性ポリマーを用いることもできる。この場合は、導電性の付与に際して、導電性を有する成分の配合を、適宜省略することもできる。
【００５１】
なお、例えば、上述した非導電性粒子自体が導電性基材に対して接着性を発現する場合などには、バインダーの使用は適宜省略してもよい。この場合は、荷重印加時の応力の大きさに応じて、一対の電極に対して接触する導電性基材の接触面積が変化することで、感圧応答性を得ることができる。但し、耐久性の向上や、感圧応答性の安定化などの観点では、上述したように、導電性を有するバインダーを用いることがより好ましい。
【００５２】
コーティング剤は、導電性基材へのコーティング性の向上や、塗布ムラ（粒子の凝集）の防止等の観点で、液体を含むことが好ましい。
【００５３】
液体は、格別限定されず、例えば水や有機溶媒などを好ましく用いることができる。
【００５４】
有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコールや、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトンが挙げられ、中でもケトンが好ましく、特にメチルエチルケトン等が好適である。
【００５５】
コーティング剤の固形分濃度は、１０％〜２０％の範囲とすることが好ましい。この範囲であれば、塗布時のコーティング性や、塗布ムラ（粒子の凝集）を、より好適に回避することができる。
【００５６】
導電性基材の材質は、格別限定されず、例えば、ポリマーや金属等を好ましく例示でき、中でもポリマーが好適である。
【００５７】
ポリマーを用いる場合は、導電性を有する成分を配合して用いることができる。
【００５８】
ポリマーとしては、樹脂やゴム等を好ましく例示でき、特にゴムが好適である。
【００５９】
ゴムとしては、ニトリルゴム（ＮＢＲ）、水素添加ニトリルゴム（ＨＮＢＲ）、アクリルゴム（ＡＣＭ）、エチレンアクリルゴム（ＡＥＭ）、スチレンブタジエンゴム（ＳＢＲ）、シリコーンゴム（ＶＭＱ）、フッ素ゴム（ＦＫＭ）、エチレンプロピレンゴム（ＥＰＤＭ）、クロロプレンゴム（ＣＲ）、ウレタンゴム（Ｕ）、ブタジエンゴム（ＢＲ）、ブチルゴム（ＩＩＲ）、イソプレンゴム（ＩＲ）等を例示でき、中でもエチレンプロピレンゴム（ＥＰＤＭ）、アクリルゴム（ＡＣＭ）、シリコーンゴム（ＶＭＱ）等を好ましく例示でき、特にシリコーンゴム（ＶＭＱ）等が好適である。
【００６０】
ポリマーは、１種又は２種以上を併用して用いることができる。
【００６１】
導電性を有する成分としては、例えば、カーボンブラック、グラファイト、チタン酸カリウム、酸化鉄、ＴｉＯ2、ＺｎＯ、ＳｎＯ2等のような導電材料や、第四級アンモニウム塩、ホウ酸塩、界面活性剤、金属イオン、ポリエチレンオキサイド（ＰＥＯ）等のようなイオン伝導材料等が用いられ、中でも導電材料が好ましく、特にカーボンブラックが好適である。
【００６２】
なお、ポリマーとして、自体が導電性を有する導電性ポリマーを用いる場合は、導電性を有する成分の配合は、適宜省略することができる。
【００６３】
導電性基材の硬度Ｈｓは、４０〜９０の範囲であることが好ましく、６０〜８０の範囲であることがより好ましい。ここで、硬度Ｈｓ（ショアＡ）は、ＪＩＳ  Ｋ６２５３に準拠し、タイプＡデュロメーターで測定した値である。上記の硬度の範囲とすることで、荷重印加に伴って非導電性粒子が導電性基材側に好適に埋没され、より優れた感圧応答性を得ることができる。
【００６４】
導電性基材は、導電性を有するものが用いられ、その体積抵抗率は、上述した非導電性粒子の体積抵抗率よりも小さいことが好ましく、具体的には、１×１０５［Ω・ｃｍ］以下であることが好ましく、１×１０４［Ω・ｃｍ］以下であることがより好ましい。
【００６５】
以上に説明したコーティング剤を導電性基材の表面に塗布することにより、コーティング層を形成することができる。
【００６６】
コーティング剤の塗膜は、必要により追加の工程を経て、コーティング層とすることができる。追加の工程としては、例えば、乾燥工程、硬化工程、架橋工程等を例示できる。ここで、乾燥工程とは、例えば上述した液体（溶媒）を蒸発させる工程である。また、硬化工程とは、例えばバインダーを構成するためのモノマーあるいはオリゴマーを重合してポリマーとする工程である。また、加硫（架橋）工程とは、例えばポリマー間を硫黄系や過酸化物系などの架橋剤で架橋する工程である。追加の工程は、これらの例に限定されない。
【００６７】
図１に示したように、感圧応答性積層体１の使用形態の一例においては、感圧応答性積層体１と対向するように電極基盤２が設けられる。感圧応答性積層体１と、電極基盤２とにより、感圧応答性構造を構成しているということもできる。
【００６８】
本発明の一つの側面において、電極基盤２を構成する絶縁性基材２１や、一対の電極２２及び２３の硬度が調節されていることも好ましいことである。
【００６９】
例えば、感圧応答性積層体１の導電性基材１１や、非導電性粒子１３の硬度が高い場合には、電極基盤２を構成する絶縁性基材２１や、一対の電極２２及び２３の硬度を低く設定することで、非導電性粒子１３を電極基盤側に埋没させて、感圧応答性の安定化を図ることが可能である。即ち、感圧応答性積層体１の導電性基材１１や、非導電性粒子１３の硬度に応じて、電極基盤２を構成する絶縁性基材２１や、一対の電極２２及び２３の硬度を適宜調節することで、感圧応答性の安定化を図ることが可能である。例えば、一対の電極２２及び２３の硬度を調節する観点では、比較的硬度の高いものとして金属等の材料が好適に用いられ、比較的硬度が低いものとして、ポリマー等の材料を用いることができる。ポリマーとしては、導電性を有する成分を配合したポリマーや、導電性ポリマー等を好ましく用いることができ、導電性基材の材料として上述されたもの等を好ましく用いることができる。
【００７０】
以上の説明において、一つの態様について説明された構成は、他の態様に適宜適用することができる。
【実施例】
【００７１】
以下に、本発明の実施例について説明するが、本発明はかかる実施例により限定されない。【００７２】
（実施例１）
１．導電性基材の作製
下記導電性基材用の組成物を、オープンロールにて混練し、専用金型にて１８０℃、４分間プレス加硫（過酸化物架橋）して、０．５ｍｍ厚の加硫シートからなる導電性基材を得た。得られた導電性基材は、硬さＨｓ７９を示した。【００７３】
＜導電性基材用の組成物＞
・導電用シリコーンゴム（カーボンブラック含有）
信越化学工業社製「ＫＥ−３８０１Ｍ−Ｕ」              １００重量部
・架橋剤
信越化学工業社製「Ｃ−８Ａ」（２，５−ジメチル−２，５−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン含有量８０重量％）            １．０重量部【００７４】
２．コーティング剤の作製
下記コーティング剤用の組成物を、ガラス容器内で混合し、超音波洗浄機で５分間、超音波分散を行い、コーティング剤を得た。【００７５】
＜コーティング剤用の組成物＞
・バインダー；シリコーン変性ウレタン樹脂
信越化学工業社製「Ｘ−９３−１５４９」                  １０重量部
信越化学工業社製「Ｘ−９３−１２４８Ｋ」              ０．５重量部
信越化学工業社製「Ｘ−９３−１２４９Ｃ」              ０．５重量部
・非導電性粒子；シリコーンパウダー
信越化学工業社製「Ｘ−５２−８７５」                  ０．３重量部
・液体（溶媒）
メチルエチルケトン                                  １６．６重量部【００７６】
３．感圧応答性積層体の作製
上記コーティング剤を、専用のアプリケータを用いて、上記導電性基材の表面に塗布し、乾燥させた後、１５０℃の雰囲気下で１時間保持し、感圧応答性積層体を得た。【００７７】
４．評価方法
（１）基材の硬度
基材（コーティング層が設けられていない状態のもの）の硬度Ｈｓを測定した。ここで、硬度Ｈｓ（ショアＡ）は、ＪＩＳ  Ｋ６２５３に準拠し、タイプＡデュロメーターで測定した。【００７８】
（２）表面粗さＲｚ
感圧応答性積層体（後述の比較例１〜３の場合は単層体）のコーティング層側の表面（単層体の場合は電極基盤に対向させる面）について、ＪＩＳ  Ｂ０６０１に準じ、表面粗さ形状測定機を用いて、十点平均粗さＲｚ（μｍ）を測定した。【００７９】
（３）コーティング層の表面凹凸
上記表面粗さＲｚに基づいて、表面凹凸を、下記の基準に基づいて評価した。
Ａ：表面粗さＲｚが３μｍ以上である。
Ｂ：表面粗さＲｚが３μｍに満たない。【００８０】
（４）Ｆ−Ｒ（Force - Resistivity）特性（感圧応答性）
図２は、Ｆ−Ｒ特性の評価装置を説明する概略図であり、図３は、図２の評価装置における電極の形状を説明する概略図である。【００８１】
図２に示すように、φ６ｍｍに打ち抜かれた感圧応答性積層体（後述の比較例１〜３の場合は単層体）１０１を、一対の電極を上面に有する５ｍｍ角の電極基盤１０２上に載せ、荷重を印加したときのコーティング層表面（単層体の場合は電極基盤に対向させる面）の抵抗値変化を、回路素子測定器１０３で測定した。【００８２】
ここで、一対の電極１０４及び１０５は、図３に示すように、コーティング層表面に対向する電極基盤１０２の面上に渦巻き状に形成されており、一対の電極１０４及び１０５の電極間距離（平行に隣接する一対の電極間の距離）は、０．５ｍｍであり、電極１０４及び１０５の各々の電極長（直線換算した値）は、２５ｍｍである。【００８３】
無荷重時の抵抗値を、３ｋｇｆの荷重印加時の抵抗値で除した値を抵抗値変化量とし、測定された抵抗値変化量に基づき、下記の評価基準で評価した。【００８４】
＜評価基準＞
Ａ：抵抗値変化量が６ケタ（１０６）以上である。
Ｂ：抵抗値変化量が６ケタ（１０６）未満、３ケタ（１０３）以上である。
Ｃ：抵抗値変化量が３ケタ（１０３）未満である。【００８５】
（５）繰り返し圧縮耐久性
φ６ｍｍに打ち抜かれた感圧応答性積層体（後述の比較例１〜３の場合は単層体）に、１ｋｇ、２Ｈｚの圧縮サイクルを１０万回繰り返した後、上記Ｆ−Ｒ特性の測定と同様の方法により、荷重を印加したときの表面の抵抗値変化量を測定し、上記Ｆ−Ｒ特性と同様の評価基準で評価した。【００８６】
以上の結果を、表１に示した。【００８７】
また、初期のＦ−Ｒ特性のグラフを図４に、前記の初期と、繰り返し圧縮サイクル後のＦ−Ｒ特性のグラフを図９に、それぞれ示した。【００８８】
（実施例２）
実施例１において、導電性基材用の組成物を下記のものに代え、導電性基材に硬さＨｓ６２を付与したこと以外は、実施例１と同様にして、感圧応答性積層体を得た。【００８９】
＜導電性基材用の組成物＞
・導電用シリコーンゴム（カーボンブラック含有）
信越化学工業社製「ＫＥ−３６０１ＳＢ−Ｕ」            １００重量部
・架橋剤
信越化学工業社製「Ｃ−８Ａ」（２，５−ジメチル−２，５−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン含有量８０重量％）            １．０重量部【００９０】
実施例１と同様の評価方法により評価した結果を表１に示した。【００９１】
（実施例３）
実施例１において、非導電性粒子の配合量を、コーティング層の表面粗さＲｚが７μｍとなるように設定したこと以外は、実施例１と同様にして、感圧応答性積層体を得た。【００９２】
実施例１と同様の評価方法により評価した結果を表１に示した。【００９３】
（実施例４）
実施例１において、非導電性粒子の配合量を、コーティング層の表面粗さＲｚが３０μｍとなるように設定したこと以外は、実施例１と同様にして、感圧応答性積層体を得た。【００９４】
実施例１と同様の評価方法により評価した結果を表１に示した。【００９５】
（比較例１）
実施例１において、コーティング層の形成を省略し、導電性基材のみからなる単層体とした。【００９６】
実施例１と同様の評価方法により評価した結果を表１に示した。【００９７】
また、初期のＦ−Ｒ特性のグラフを図５に示した。【００９８】
（比較例２）
比較例２は、特開２００７−２２０４８１号公報に記載の実施例２に対応する下記エラストマーシート（単層体）である。【００９９】
得られたエラストマーシートの表面粗さＲｚは、１５μｍであった。【０１００】
実施例１と同様の評価方法により評価した結果を表１に示した。【０１０１】
また、初期のＦ−Ｒ特性のグラフを図６に、前記の初期と、繰り返し圧縮サイクル後のＦ−Ｒ特性のグラフを図１０に、それぞれ示した。【０１０２】
（比較例３）
比較例２において、エラストマーシートの表面粗さＲｚを、２μｍとしたこと以外は、比較例２と同様にして、エラストマーシート（単層体）を得た。【０１０３】
実施例１と同様の評価方法により評価した結果を表１に示した。【０１０４】
また、初期のＦ−Ｒ特性のグラフを図７に示した。【０１０５】
（参考例１）
実施例１において、導電性基材用の組成物を下記のものに代え、導電性基材に硬さＨｓ２９を付与したこと以外は、実施例１と同様にして、感圧応答性積層体を得た。【０１０６】
＜導電性基材用の組成物＞
・シリコーンゴム
信越化学工業社製「ＫＥ−１９５０−３０−Ａ」            ５０重量部
信越化学工業社製「ＫＥ−１９５０−３０−Ｂ」            ５０重量部
・カーボンブラック
ライオン社製「ケッチェンブラックＥＣ６００ＪＤ」          ５重量部
・ＳｉＨ基含有化合物
信越化学工業社製「Ｘ−９３−９１６」                      １重量部
・白金触媒
信越化学工業社製「Ｘ−９３−１４１０」                ０．２重量部【０１０７】
実施例１と同様の評価方法により評価した結果を表１に示した。【０１０８】
また、初期のＦ−Ｒ特性のグラフを図８に示した。【０１０９】
【表１】
2015198906.tif 000003
【０１１０】
＜評価＞
表１及び図１より、実施例１〜４の感圧応答性積層体は、Ｆ−Ｒ特性（感圧応答性）に優れ、導通時の抵抗値を低くすることができ、無荷重時と荷重印加時の抵抗値の変化の幅を大きく確保できることがわかる。更に、繰り返し使用時の耐久性にも優れることがわかる。【０１１１】
これに対して、コーティング層が設けられていない単層体（導電性基材のみ）である比較例１では、表１及び図５に示されるように、感圧応答性が発揮されないことがわかる。【０１１２】
また、絶縁性エラストマー中に導電性粒子と非導電性粒子を配合した単層体である比較例２は、表１及び図６に示されるように、導通時の抵抗値が比較的低いものの感圧応答性が発揮されることがわかる。しかしながら、図１０にも示されるように、繰り返し使用時の耐久性に劣ることがわかる。【０１１３】
また、比較例２の単層体の表面凹凸を小さくした（表面粗さＲｚを１５μｍから２μｍに変更した）比較例３では、表１及び図７に示されるように、感圧応答性が損なわれることがわかる。このことから、かかる単層体においては、感圧応答性の付与のために、表面凹凸を十分に形成する必要があることがわかる。【０１１４】
参考例１は、感圧応答性積層体において、導電性基材の硬度Ｈｓを２９に低下させたものであり、本評価条件では、表１及び図８に示されるように、感圧応答性が得られるが、高荷重域において抵抗値の上昇がみられた。なお、このように基材硬度が低い感圧応答性積層体であっても、例えば、非導電性粒子の硬度を調節したり、当該感圧応答性積層体と対向させる電極基盤を構成する絶縁性基材や、一対の電極（検出用電極）の硬度を調節したりすることで、感圧応答性の安定化を図ることが可能である。
【符号の説明】
【０１１５】
１：感圧応答性積層体
１１：導電性基材
１２：コーティング層
１３：非導電性粒子
１４：バインダー
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【国際調査報告】
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