(57)【要約】  本発明の課題は、優れた印刷性を維持しつつ、透明導電層等に対する密着性が良好な電極等を形成することができる導電性組成物ならびにこれを用いて形成した集電電極を有する太陽電池セルおよび太陽電池モジュールを提供することである。本発明の導電性組成物は、金属粉末（Ａ）と、エポキシ樹脂（Ｂ）と、カチオン系硬化剤（Ｃ）と、グリシジル基以外のカチオン重合性官能基を有するカチオン重合性化合物（Ｄ）とを含有し、上記カチオン重合性化合物（Ｄ）の２５℃での粘度が１５０ｍＰａ・ｓ以下である。
2016021535.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属粉末（Ａ）と、エポキシ樹脂（Ｂ）と、カチオン系硬化剤（Ｃ）と、グリシジル基以外のカチオン重合性官能基を有するカチオン重合性化合物（Ｄ）とを含有し、
前記カチオン重合性化合物（Ｄ）の２５℃での粘度が１５０ｍＰａ・ｓ以下である、導電性組成物。
【請求項２】
前記カチオン重合性化合物（Ｄ）の含有量が、前記金属粉末（Ａ）１００質量部に対して０．１〜１０質量部である、請求項１に記載の導電性組成物。
【請求項３】
前記カチオン重合性化合物（Ｄ）が、前記カチオン重合性官能基として、ビニルエーテル基および／またはオキセタニル基を有する、請求項１または２に記載の導電性組成物。
【請求項４】
前記金属粉末（Ａ）が、球状の金属粉末（Ａ１）とフレーク状の金属粉末（Ａ２）とを併用し、これらの質量比（Ａ１：Ａ２）が７０：３０〜３０：７０である、請求項１〜３のいずれかに記載の導電性組成物。
【請求項５】
更に、フェノキシ樹脂（Ｅ）を含有する、請求項１〜４のいずれかに記載の導電性組成物。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の導電性組成物を用いて形成された集電電極を有する太陽電池セル。
【請求項７】
前記集電電極の下地層として透明導電層を具備する請求項６に記載の太陽電池セル。
【請求項８】
請求項６または７に記載の太陽電池セルを用いた太陽電池モジュール。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、導電性組成物、太陽電池セルおよび太陽電池モジュールに関する。
【背景技術】
【０００２】
太陽光のような光エネルギーを電気エネルギーに変換する太陽電池は、地球環境問題に対する関心が高まるにつれ、積極的に種々の構造・構成のものが開発されている。その中でも、シリコンなどの半導体基板を用いた太陽電池は、その変換効率、製造コストなどの優位性により最も一般的に用いられている。【０００３】
このような太陽電池の電極を形成する材料としては、エポキシ樹脂系のペースト材料が知られている。
例えば、特許文献１には、「銀粉（Ａ）と、エポキシ樹脂（Ｂ）と、硬化剤（Ｃ）とを含有し、前記エポキシ樹脂（Ｂ）が、少なくとも、エポキシ当量が１５００〜４０００ｇ／ｅｑのビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（ｂ１）およびエポキシ当量が１０００ｇ／ｅｑ以下の多価アルコール系グリシジル型エポキシ樹脂（ｂ２）であり、前記硬化剤（Ｃ）が、スルホニウムカチオン系硬化剤である導電性組成物。」が開示されている（［請求項１］）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１２−０７４２８８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、本発明者らが、特許文献１に記載の導電性組成物について検討したところ、電極や配線（以下、「電極等」ともいう。）を形成する際の印刷性は良好であったが、使用する溶媒の量や種類によっては、透明導電層（例えば、透明導電酸化物層（ＴＣＯ））等に電極等を形成したときに密着性が劣る場合があることが明らかとなった。【０００６】
そこで、本発明は、優れた印刷性を維持しつつ、透明導電層等に対する密着性が良好な電極等を形成することができる導電性組成物ならびにこれを用いて形成した集電電極を有する太陽電池セルおよび太陽電池モジュールを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意検討した結果、所定の粘度を有する特定のカチオン重合性化合物を配合することにより、優れた印刷性を維持しつつ、透明導電層等に対する密着性が良好な電極等が形成できることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明者らは、以下の構成により上記課題が解決できることを見出した。【０００８】
［１］  金属粉末（Ａ）と、エポキシ樹脂（Ｂ）と、カチオン系硬化剤（Ｃ）と、グリシジル基以外のカチオン重合性官能基を有するカチオン重合性化合物（Ｄ）とを含有し、
上記カチオン重合性化合物（Ｄ）の２５℃での粘度が１５０ｍＰａ・ｓ以下である、導電性組成物。
［２］  上記カチオン重合性化合物（Ｄ）の含有量が、上記金属粉末（Ａ）１００質量部に対して０．１〜１０質量部である、［１］に記載の導電性組成物。
［３］  上記カチオン重合性化合物（Ｄ）が、上記カチオン重合性官能基として、ビニルエーテル基および／またはオキセタニル基を有する、［１］または［２］に記載の導電性組成物。
［４］  上記金属粉末（Ａ）が、球状の金属粉末（Ａ１）とフレーク状の金属粉末（Ａ２）とを併用し、これらの質量比（Ａ１：Ａ２）が７０：３０〜３０：７０である、［１］〜［３］のいずれかに記載の導電性組成物。
［５］  更に、フェノキシ樹脂（Ｅ）を含有する、［１］〜［４］のいずれかに記載の導電性組成物。
［６］  ［１］〜［５］のいずれかに記載の導電性組成物を用いて形成された集電電極を有する太陽電池セル。
［７］  上記集電電極の下地層として透明導電層を具備する［６］に記載の太陽電池セル。
［８］  ［６］または［７］に記載の太陽電池セルを用いた太陽電池モジュール。
【発明の効果】
【０００９】
以下に示すように、本発明によれば、優れた印刷性を維持しつつ、透明導電層等に対する密着性が良好な電極等を形成することができる導電性組成物ならびにこれを用いて形成した集電電極を有する太陽電池セルおよび太陽電池モジュールを提供することができる。【００１０】
また、本発明の導電性組成物を用いれば、低温〜中温（４５０℃未満）、特に低温（１５０〜３５０℃程度）での熱処理（乾燥ないし焼成）であっても、優れた印刷性を維持しつつ、透明導電層等に対する密着性が良好な電極等を形成することができるため、太陽電池セル（特に後述する第２の好適態様）への熱によるダメージを軽減できる効果も有し、非常に有用である。
更に、本発明の導電性組成物を用いれば、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）やシリコンなどの耐熱性の高い材料のみならず、例えばＰＥＴフィルムなどの耐熱性の低い材料上にも電子回路、アンテナ等の回路を容易かつ短時間で作製することができるため非常に有用である。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】図１は、太陽電池セルの第１の好適態様を示す断面図である。
【図２】図２は、太陽電池セルの第２の好適態様を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下に、本発明の導電性組成物ならびにこれを用いて形成した集電電極を有する太陽電池セルおよび太陽電池モジュールについて説明する。
なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
【００１３】
〔導電性組成物〕
本発明の導電性組成物は、金属粉末（Ａ）と、エポキシ樹脂（Ｂ）と、カチオン系硬化剤（Ｃ）と、グリシジル基以外のカチオン重合性官能基を有するカチオン重合性化合物（Ｄ）とを含有し、上記カチオン重合性化合物（Ｄ）の２５℃での粘度が１５０ｍＰａ・ｓ以下である、導電性組成物である。
また、本発明の導電性組成物は、後述するように、必要に応じて、フェノキシ樹脂（Ｅ）、溶媒（Ｆ）などを含有していてもよい。
【００１４】
本発明においては、上述した通り、上記カチオン重合性化合物（Ｄ）を配合することにより、優れた印刷性を維持しつつ、透明導電層等に対する密着性が良好な電極等が形成できる導電性組成物となる。
これは、詳細には明らかではないが、およそ以下のとおりと推測される。
すなわち、上記カチオン重合性化合物（Ｄ）は、２５℃での粘度が１５０ｍＰａ・ｓ以下であることにより、熱処理（乾燥ないし焼成）する前においては、一般的な溶媒などと同様、粘度調整剤として作用すると考えられ、また、熱処理後においては、カチオン重合性官能基を有していることによりエポキシ樹脂の硬化系に取り込まれることにより、透明導電層等に対する密着強度が向上すると考えられる。言い換えると、上記カチオン重合性化合物（Ｄ）は、反応性の希釈剤として作用しているとも考えられる。
このことは、後述する比較例に示すように、カチオン重合性化合物（Ｄ）を配合しない比較例では、溶媒の配合量を変えても密着性が向上していない結果からも推察することができる。
【００１５】
以下に、本発明の導電性組成物が含有する金属粉末（Ａ）、エポキシ樹脂（Ｂ）、カチオン系硬化剤（Ｃ）およびカチオン重合性化合物（Ｄ）ならびに所望により含有してもよい他の成分について詳述する。
【００１６】
＜金属粉末（Ａ）＞
本発明の導電性組成物が含有する金属粉末（Ａ）は、特に限定されず、例えば、電気抵抗率が２０×１０-6Ω・ｃｍ以下の金属材料を用いることができる。
上記金属材料としては、具体的には、例えば、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、マグネシウム（Ｍｇ）、ニッケル（Ｎｉ）等が挙げられ、これらを１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
これらのうち、接触抵抗の低い集電電極を形成することができる理由から、銀粉末、または、銀以外の金属粉末（例えば、ニッケル粉末、銅粉末など）の表面の少なくとも一部に銀がコートされた銀コート金属粉末であるのが好ましい。
【００１７】
本発明においては、上記金属粉末（Ａ）は、印刷性（特に、スクリーン印刷性）がより良好となる理由から、球状の金属粉末（Ａ１）を用いるのが好ましく、球状の金属粉末（Ａ１）とともにフレーク（鱗片）状の金属粉末（Ａ２）を併用するのがより好ましく、球状の金属粉末（Ａ１）とフレーク状の金属粉末（Ａ２）とを質量比（Ａ１：Ａ２）が７０：３０〜３０：７０となる割合で併用するのがより好ましい。
ここで、球状とは、長径／短径の比率が２以下の粒子の形状をいい、また、フレーク状とは、長径／短径の比率が２超の形状をいう。
【００１８】
上記金属粉末（Ａ）としての球状金属粉末（Ａ１）の平均粒子径は、印刷性がより良好となる理由から、０．５〜１０μｍであるのが好ましく、０．５〜５．０μｍであるのがより好ましい。
ここで、球状金属粉末（Ａ１）の平均粒子径とは、球状の金属粉末の粒子径の平均値をいい、レーザー回折式粒度分布測定装置を用いて測定された５０％体積累積径（Ｄ５０）をいう。なお、平均値を算出する基になる粒子径は、金属粉末の断面が楕円形である場合はその長径と短径の合計値を２で割った平均値をいい、正円形である場合はその直径をいう。
【００１９】
上記金属粉末（Ａ）としてのフレーク状金属粉末（Ａ２）の平均厚さは、印刷性がより良好となり、ペースト化しやすいという理由から、０．０５〜２．０μｍであるのが好ましく、０．０５〜１．０μｍであるのがより好ましい。
ここで、フレーク状金属粉末（Ａ２）の平均厚さとは、フレーク状の金属粉末の比表面積をＢＥＴ法（気体吸着法）により測定した値をＳ（ｍ2／ｇ）として、下記式（ｉ）から算出した値をいう。
平均厚さ＝０．１９／Ｓ  ・・・（ｉ）
【００２０】
本発明においては、上記金属粉末（Ａ）として市販品を用いることができる。
球状の銀粉末の市販品の具体例としては、ＡＧ２−１Ｃ（平均粒子径：１．０μｍ、ＤＯＷＡエレクトロニクス社製）、ＡＧ４−８Ｆ（平均粒子径：２．２μｍ、ＤＯＷＡエレクトロニクス社製）、ＡＧ３−１１Ｆ（平均粒子径：１．４μｍ、ＤＯＷＡエレクトロニクス社製）、ＡｇＣ−１０２（平均粒子径：１．５μｍ、福田金属箔粉工業社製）、ＡｇＣ−１０３（平均粒子径：１．５μｍ、福田金属箔粉工業社製）、ＥＨＤ（平均粒子径：０．５μｍ、三井金属社製）等が挙げられる。
また、フレーク状の銀粉末の市販品の具体例としては、Ａｇ−ＸＦ３０１Ｋ（平均厚さ：０．１μｍ、福田金属箔粉工業社製）等が挙げられる。
【００２１】
＜エポキシ樹脂（Ｂ）＞
本発明の導電性組成物が含有するエポキシ樹脂（Ｂ）は、１分子中に２個以上のオキシラン環（エポキシ基）（好ましくは、グリシジル基）を有する化合物からなる樹脂であれば特に限定されず、一般的に、エポキシ当量が５０〜１０，０００ｇ／ｅｑであり、好ましくは９０〜５０００ｇ／ｅｑのものである。
このようなエポキシ樹脂としては、従来公知のエポキシ樹脂を用いることができる。
具体的には、例えば、ビスフェノールＡ型、ビスフェノールＦ型、ビスフェノールＥ型、臭素化ビスフェノールＡ型、水添ビスフェノールＡ型、ビスフェノールＳ型、ビスフェノールＡＦ型、ビフェニル型等のビスフェニル基を有するエポキシ化合物や、ポリアルキレングリコール型、アルキレングリコール型のエポキシ化合物や、ナフタレン環を有するエポキシ化合物や、フルオレン基を有するエポキシ化合物等の二官能型のグリシジルエーテル系エポキシ樹脂；
下記式で表される構造式を有する３官能エポキシ樹脂；
【化１】
2016021535.tif 000003
フェノールノボラック型、オルソクレゾールノボラック型、トリスヒドロキシフェニルメタン型、テトラフェニロールエタン型等の多官能型のグリシジルエーテル系エポキシ樹脂；
ダイマー酸等の合成脂肪酸のグリシジルエステル系エポキシ樹脂；
Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン（ＴＧＤＤＭ）、テトラグリシジルジアミノジフェニルスルホン（ＴＧＤＤＳ）、テトラグリシジル−ｍ−キシリレンジアミン（ＴＧＭＸＤＡ）、トリグリシジル−ｐ−アミノフェノール、トリグリシジル−ｍ−アミノフェノール、Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアニリン、テトラグリシジル１，３−ビスアミノメチルシクロヘキサン（ＴＧ１，３−ＢＡＣ）、トリグリシジルイソシアヌレート（ＴＧＩＣ）等のグリシジルアミン系エポキシ樹脂；
トリシクロ〔５，２，１，０2,6〕デカン環を有するエポキシ化合物、具体的には、例えば、ジシクロペンタジエンとメタクレゾール等のクレゾール類またはフェノール類を重合させた後、エピクロルヒドリンを反応させる公知の製造方法によって得ることができるエポキシ化合物；
脂環型エポキシ樹脂；東レチオコール社製のフレップ１０に代表されるエポキシ樹脂主鎖に硫黄原子を有するエポキシ樹脂；ウレタン結合を有するウレタン変性エポキシ樹脂；ポリブタジエン、液状ポリアクリロニトリル−ブタジエンゴムまたはアクリロニトリルブタジエンゴム（ＮＢＲ）を含有するゴム変性エポキシ樹脂等が挙げられる。
【００２２】
これらは、１種単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
また、これらのうち、硬化性、耐熱性、耐久性およびコストの観点から、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂であるのが好ましい。
【００２３】
本発明においては、上記エポキシ樹脂（Ｂ）は、硬化収縮が少ないエポキシ樹脂を用いるのが好ましい。基板であるシリコンウエハは破損しやすいため、硬化収縮が大きいエポキシ樹脂を用いると、ウエハの割れや欠けの原因になる。昨今では、低コスト化のため、シリコンウエハの薄型化が進んでおり、硬化収縮の少ないエポキシ樹脂は、ウエハの反りを抑える効果も併せ持つ。
硬化収縮を低減し、また、形成される集電電極の接触抵抗が低くなり、更に、透明導電層等との密着性もより良好となる理由から、エチレンオキシドおよび／またはプロピレンオキシドが付加されたエポキシ樹脂であるのが好ましい。
ここで、エチレンオキシドおよび／またはプロピレンオキシドが付加されたエポキシ樹脂は、例えば、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ等をエピクロロヒドリンと反応させてエポキシ樹脂を調製する際に、エチレンおよび／またはプロピレンを添加して付加（変性）することで得られる。
エチレンオキシドおよび／またはプロピレンオキシドが付加されたエポキシ樹脂としては市販品を用いることができ、その具体例としては、エチレンオキシド付加ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（ＢＥＯ−６０Ｅ、新日本理化社製）、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（ＢＰＯ−２０Ｅ、新日本理化社製）、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（ＥＰ−４０１０Ｓ、ＡＤＥＫＡ社製）、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（ＥＰ−４０００Ｓ、ＡＤＥＫＡ社製）等が挙げられる。
【００２４】
また、本発明においては、上記エポキシ樹脂（Ｂ）は、硬化収縮を低減し、また、形成される集電電極の接触抵抗がより低くなり、更に、透明導電層等との密着性もより良好となる理由から、エポキシ当量が１５００〜４０００ｇ／ｅｑのビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（Ｂ１）、エポキシ当量が１０００ｇ／ｅｑ以下の多価アルコール系グリシジル型エポキシ樹脂（Ｂ２）、および、１０００ｇ／ｅｑ以下の希釈タイプのビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（Ｂ３）からなる群から選択されるエポキシ樹脂を２種以上併用するのが好ましい。
【００２５】
（ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（Ｂ１））
上記ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（Ｂ１）は、エポキシ当量が１５００〜４０００ｇ／ｅｑのビスフェノールＡ型エポキシ樹脂である。
上記ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（Ｂ１）は、エポキシ当量が上記範囲であるため、上記のとおりビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（Ｂ１）を併用すると、本発明の導電性組成物の硬化収縮が抑えられ、基板や透明導電層に対する密着性も良好となる。より体積抵抗率が低くなることから、エポキシ当量は２０００〜４０００ｇ／ｅｑであるのが好ましく、２０００〜３５００ｇ／ｅｑであるのがより好ましい。
【００２６】
（多価アルコール系グリシジル型エポキシ樹脂（Ｂ２））
上記多価アルコール系グリシジル型エポキシ樹脂（Ｂ２）は、エポキシ当量が１０００ｇ／ｅｑ以下の多価アルコール系グリシジル型エポキシ樹脂である。
上記多価アルコール系グリシジル型エポキシ樹脂（Ｂ２）は、エポキシ当量が上記範囲であるため、上記のとおり多価アルコール系グリシジル型エポキシ樹脂（Ｂ２）を併用すると、本発明の導電性組成物の粘度が良好となり、印刷性が良好となる。
また、上記多価アルコール系グリシジル型エポキシ樹脂（Ｂ２）のエポキシ当量は、スクリーン印刷をする際の粘度が適当になる理由から、１００〜４００ｇ／ｅｑであるのが好ましく、１００〜３００ｇ／ｅｑであるのがより好ましい。
【００２７】
（希釈タイプのビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（Ｂ３））
希釈タイプのビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（Ｂ３）は、エポキシ当量が１０００ｇ／ｅｑ以下のビスフェノールＡ型エポキシ樹脂である。エポキシ樹脂の特性を損なわずに反応性希釈剤を用いて低粘度化したものである。
上記ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（Ｂ３）は、エポキシ当量が上記範囲であるため、上記のとおりビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（Ｂ３）を併用すると、本発明の導電性組成物の粘度が良好となり、印刷性が良好となる。
また、上記ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（Ｂ３）のエポキシ当量は、スクリーン印刷をする際の粘度が適当になる理由から、１００〜４００ｇ／ｅｑであるのが好ましく、１００〜３００ｇ／ｅｑであるのがより好ましい。
【００２８】
本発明においては、上記エポキシ樹脂（Ｂ）の含有量は、形成される集電電極の接触抵抗がより低くなり、また、透明導電層等との密着性もより良好となる理由から、上記金属粉末（Ａ）１００質量部に対して２〜２０質量部であるのが好ましく、２〜１５質量部であるのがより好ましく、２〜１０質量部であるのがさらに好ましい。
【００２９】
＜カチオン系硬化剤（Ｃ）＞
本発明の導電性組成物が含有するカチオン系硬化剤（Ｃ）は特に限定されず、アミン系、スルホニウム系、アンモニウム系、ホスホニウム系の硬化剤が好ましい。
上記カチオン系硬化剤（Ｃ）としては、具体的には、例えば、三フッ化ホウ素エチルアミン、三フッ化ホウ素ピペリジン、三フッ化ホウ素フェノール、ｐ−メトキシベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニルイオドニウムヘキサフルオロホスフェート、テトラフェニルスルホニウム、テトラ−ｎ−ブチルホスホニウムテトラフェニルボレート、テトラ−ｎ−ブチルホスホニウム−ｏ，ｏ−ジエチルホスホロジチオエート、下記式（Ｉ）で表されるスルホニウム塩等が挙げられ、これらを１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
これらのうち、硬化時間が短くなるという理由から、下記式（Ｉ）で表されるスルホニウム塩を用いるのが好ましい。
【００３０】
【化２】
2016021535.tif 000004
（式中、Ｒ1は、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基またはハロゲン原子を表し、Ｒ2は、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルキル基で置換されていてもよいベンジル基またはα−ナフチルメチル基を表し、Ｒ3は、炭素数１〜４のアルキル基を表す。また、Ｑは、下記式（ａ）〜（ｃ）のいずれかで表される基を表し、Ｘは、ＳｂＦ6、ＰＦ6、ＣＦ3ＳＯ3、（ＣＦ3ＳＯ2）2Ｎ、ＢＦ4、Ｂ（Ｃ6Ｆ5）4またはＡｌ（ＣＦ3ＳＯ3）4を表す。）
【化３】
2016021535.tif 000005
（式（ａ）中、Ｒは、水素原子、アセチル基、メトキシカルボニル基またはベンジルオキシカルボニル基を表す。）
【００３１】
上記式（Ｉ）で表されるスルホニウム塩のうち、半田付け性が良好な電極を形成することができる理由から、上記式（Ｉ）中のＸがＳｂＦ6で表されるスルホニウム塩であるのが好ましく、その具体例としては、下記式（１）および（２）で表される化合物が挙げられる。
【００３２】
【化４】
2016021535.tif 000006
【００３３】
本発明においては、上記カチオン系硬化剤（Ｃ）の含有量は、熱により活性化してエポキシ基の開環反応を十分に進行させることができるという理由から、上記エポキシ樹脂（Ｂ）１００質量部に対して１〜１０質量部であるのが好ましく、１〜５質量部であるのがより好ましい。
【００３４】
＜カチオン重合性化合物（Ｄ）＞
本発明の導電性組成物が含有するカチオン重合性化合物（Ｄ）は、２５℃での粘度が１５０ｍＰａ・ｓ以下であり、グリシジル基以外のカチオン重合性官能基を有するカチオン重合性化合物である。
ここで、「２５℃での粘度」は、回転式粘度計（例えば、ＲＳ−６００（ＨＡＡＫＥ社製））を用い、恒温槽を２５℃に保ち、温度制御を行った上で、ずり速度４００（１／ｓ）にて測定される値をいう。
また、「グリシジル基以外のカチオン重合性官能基を有する」とは、上述したエポキシ樹脂（Ｂ）と区別するための規定である。
【００３５】
カチオン重合性官能基としては、例えば、ビニルエーテル基および／またはオキセタニル基が好ましい。
ここで、「ビニルエーテル基」とは、置換基を有していてもよいビニル基および酸素原子からなる基をいう。
更に、「オキセタニル基」とは、オキセタン（トリメチレンオキシド）環を有する基をいう。
【００３６】
本発明においては、上述した通り、カチオン重合性化合物（Ｄ）を配合することにより、優れた印刷性を維持しつつ、透明導電層等に対する密着性が良好な電極等が形成できる導電性組成物となる。
そして、透明導電層等に対する密着性がより良好な電極等を形成することができる理由から、カチオン重合性化合物（Ｄ）の２５℃での粘度は、１〜１４０ｍＰａ・ｓであるのが好ましく、１〜１００ｍＰａ・ｓであるのがより好ましい。
また、同様の理由から、カチオン重合性化合物（Ｄ）は、カチオン重合性官能基を２個以上有する多官能タイプであるのが好ましい。
【００３７】
上記カチオン重合性化合物（Ｄ）のうち、ビニルエーテル基を有するカチオン重合性化合物としては、例えば、下記式（３）で表される化合物が挙げられる。
また、オキセタニル基を有するカチオン重合性化合物としては、例えば、下記式（４）で表される化合物が挙げられる。
【００３８】
【化５】
2016021535.tif 000007
【００３９】
上記式（３）中、Ｒ4はｎ価の脂肪族炭化水素基またはｎ価の芳香族炭化水素基を示し、ｎは１〜４の整数を示す。ｎが２以上の整数であるとき、Ｒ4に結合する複数の酸素原子は、互いにＲ4の同一炭素原子に結合していてもよく、Ｒ4の異なる炭素原子に結合していてもよい。
また、上記式（４）中、Ｒ5は水素原子、フッ素原子または１価の炭化水素基を示し、Ｒ6は水素原子、ｍ価の脂肪族炭化水素基またはｍ価の芳香族炭化水素基を示し、ｍは１〜６の整数を示す。ただし、Ｒ6が水素原子のときｍは１である。ｍが２以上の整数であるとき、Ｒ6に結合する複数の酸素原子は、互いにＲ6の同一炭素原子に結合していてもよく、Ｒ6の異なる炭素原子に結合していてもよい。
【００４０】
上記式（３）で表される、ビニルエーテル基を有するカチオン重合性化合物としては、具体的には、例えば、１，４−ブタンジオールジビニルエーテル（以下、「ＢＤＶＥ」とも略す。）、ジエチレングリコールジビニルエーテル（以下、「ＤＥＧＤＶＥ」とも略す。）、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル（以下、「ＣＨＤＶＥ」とも略す。）、トリエチレングリコールジビニルエーテル（以下、「ＴＥＧＤＶＥ」とも略す。）、エチルオキセタンメチルビニルエーテル（以下、「ＥＯＸＴＶＥ」とも略す。）、トリエチレングリコールジビニルエーテル（以下、「ＴＤＶＥ」とも略す。）等が挙げられる。
また、上記式（４）で表される、オキセタニル基を有するカチオン重合性化合物としては、具体的には、例えば、１，４−ジ［（３−オキセタニル−ｎ−ブトキシ）メチル］ベンゼン、４，４’−ビス［（３−オキセタニル−ｎ−ブトキシ）メチル］ビフェニル、３−エチル−３｛［（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシ］メチル｝オキセタン、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン、ビス（１−エチル（３−オキセタニル））メチルエーテル、キシリレンビスオキセタン、２−エチルヘキシルオキセタン、ジシクロペンタジエンビニルエーテル等が挙げられる。
【００４１】
一方、ビニルエーテル基およびオキセタニル基以外のカチオン重合性官能基を有するカチオン重合性化合物としては、例えば、シクロペンタジエン、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン、テトラヒドロフラン、クマロン等が挙げられる。
【００４２】
本発明においては、上記カチオン重合性化合物（Ｄ）の含有量は、上記金属粉末（Ａ）１００質量部に対して０．１〜１０質量部であるのが好ましく、１〜５質量部であるのがより好ましい。
また、上記カチオン重合性化合物（Ｄ）の含有量は、上記エポキシ樹脂（Ｂ）１００質量部に対して１〜５０質量部であるのが好ましく、１０〜４０質量部であるのがより好ましい。
【００４３】
＜フェノキシ樹脂（Ｅ）＞
本発明の導電性組成物は、上述したエポキシ樹脂（Ｂ）と相溶して安定したペースト状態を得ることができる理由から、フェノキシ樹脂（Ｅ）を含有するのが好ましい。フェノキシ樹脂はビスフェノール類とエピクロルヒドリンより合成されるポリヒドロキシポリエーテル（熱可塑性樹脂）である。熱可塑製樹脂であることから、実質的にエポキシ基は有さず、ある程度の分子量（重量平均分子量（Ｍｗ）で数万以上）を有するのが一般的である。
フェノキシ樹脂（Ｅ）の重量平均分子量は、１０，０００以上であることが好ましく、より好ましくは２０，０００以上、さらに好ましくは３０，０００以上であり、１２０，０００以下が好ましく、より好ましくは１００，０００以下、さらに好ましくは９０，０００以下である。
上記フェノキシ樹脂（Ｅ）としては、具体的には、例えば、ビスフェノールＡ型フェノキシ樹脂、ビスフェノールＦ型フェノキシ樹脂が挙げられる。
【００４４】
本発明においては、上記フェノキシ樹脂（Ｅ）として市販品を用いることができ、その具体例としては、ビスフェノールＡ型フェノキシ樹脂（１２５６、ジャパンエポキシレジン社製）、ビスフェノールＡ型フェノキシ樹脂（ＹＰ−５０、東都化成社製）、ビスフェノールＦ型フェノキシ樹脂（ＦＸ−３１６、東都化成社製）、ビスフェノールＡ型とビスフェノールＦ型との共重合タイプ（ＹＰ−７０、東都化成社製）等が挙げられる。
【００４５】
また、本発明においては、上記フェノキシ樹脂（Ｅ）を含有する場合の含有量は、形成される集電電極の接触抵抗が低くなり、また、透明導電層等との密着性もより良好となる理由から、上記金属粉末（Ａ）１００質量部に対して０．１〜１０質量部であるのが好ましく、０．５〜５質量部であるのがより好ましい。
【００４６】
＜溶媒（Ｆ）＞
本発明の導電性組成物は、作業性等の観点から、必要に応じて溶媒（Ｆ）を含有していてもよい。
上記溶媒（Ｆ）は、本発明の導電性組成物を基板上に塗布することができるものであれば特に限定されず、その具体例としては、ブチルカルビトール、メチルエチルケトン、イソホロン、α−テルピネオール等が挙げられ、これらを１種単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【００４７】
＜添加剤＞
本発明の導電性組成物は、必要に応じて、還元剤等の添加剤を含有していてもよい。
上記還元剤としては、具体的には、例えば、エチレングリコール類等が挙げられる。
また、本発明の導電性組成物は、高温（７００〜８００℃）焼成タイプの導電性ペーストとして一般的に用いられるガラスフリットについては特に必要がなく、上記金属粉末（Ａ）１００質量部に対して０．１質量部未満であるのが好ましく、実質的に含有していないのが好ましい。
【００４８】
本発明の導電性組成物の製造方法は特に限定されず、上述した各成分を、ロール、ニーダー、押出し機、万能かくはん機等により混合する方法が挙げられる。
【００４９】
〔太陽電池セル〕
本発明の太陽電池セルは、上述した本発明の導電性組成物を集電電極に用いた太陽電池セルである。
【００５０】
＜太陽電池セルの第１の好適な態様＞
本発明の太陽電池セルの第１の好適な態様としては、受光面側の表面電極、半導体基板および裏面電極を具備し、上記表面電極および／または上記裏面電極が、上述した本発明の導電性組成物を用いて形成される太陽電池セルが挙げられる。
以下に、本発明の太陽電池セルの第１の好適な態様について図１を用いて説明する。
【００５１】
図１に示すように、太陽電池セル１は、受光面側の表面電極４と、ｐ層５およびｎ層２が接合したｐｎ接合シリコン基板７と、裏面電極６とを具備するものである。
また、図１に示すように、太陽電池セル１は、反射率低減のため、例えば、ウエハ表面にエッチングを施して、ピラミッド状のテクスチャを形成し、反射防止膜３を具備するのが好ましい。
以下に、本発明の太陽電池セルの第１の好適な態様が具備する上記表面電極、裏面電極およびシリコン基板並びに具備していてもよい上記反射防止膜について詳述する。
【００５２】
（表面電極／裏面電極）
表面電極および裏面電極は、いずれか一方または両方が本発明の導電性組成物を用いて形成されていれば、電極の配置（ピッチ）、形状、高さ、幅等は特に限定されない。なお、電極の高さは、通常、数〜数十μｍに設計されるが、本発明の導電性組成物を用いて形成した電極の断面の高さと幅の比率（高さ／幅）（以下、「アスペクト比」という。）を大きく（例えば、０．３５程度以上）調整することが可能となる。
ここで、表面電極および裏面電極は、図１に示すように、通常、複数個有するものであるが、例えば、複数の表面電極の一部のみが本発明の導電性組成物で形成されたものであってもよく、複数の表面電極の一部と複数の裏面電極の一部が本発明の導電性組成物で形成されたものであってもよい。
【００５３】
（反射防止膜）
反射防止膜は、受光面の表面電極が形成されていない部分に形成される膜（膜厚：０．０５〜０．１μｍ程度）であって、例えば、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜、酸化チタン膜、これらの積層膜等から構成されるものである。
【００５４】
また、上記シリコン基板はｐｎ接合を有するが、これは、第１導電型の半導体基板の表面側に第２導電型の受光面不純物拡散領域が形成されていることを意味する。なお、第１導電型がｎ型の場合には、第２導電型はｐ型であり、第１導電型がｐ型の場合には、第２導電型はｎ型である。
ここで、ｐ型を与える不純物としては、ホウ素、アルミニウム等が挙げられ、ｎ型を与える不純物としては、リン、砒素などが挙げられる。
【００５５】
（シリコン基板）
シリコン基板は特に限定されず、太陽電池を形成するための公知のシリコン基板（板厚：８０〜４５０μｍ程度）を用いることができ、また、単結晶または多結晶のいずれのシリコン基板であってもよい。
【００５６】
本発明の太陽電池セルの第１の好適な態様において、太陽電池セルは、表面電極および／または裏面電極が本発明の導電性組成物を用いて形成されているため、電極のアスペクト比を大きくし易く、受光により発生した起電力を電流として効率良く取り出すことができる。
【００５７】
なお、上述した本発明の導電性組成物は全裏面電極型（いわゆるバックコンタクト型）太陽電池の裏面電極の形成にも適用することができるため、全裏面電極型の太陽電池にも適用することができる。
【００５８】
＜太陽電池セル（第１の好適な態様）の製造方法＞
上記太陽電池セル（第１の好適な態様）の製造方法は特に限定されないが、本発明の導電性組成物をシリコン基板上に塗布して配線を形成する配線形成工程と、形成された配線を熱処理して電極（表面電極および／または裏面電極）を形成する熱処理工程とを有する方法が挙げられる。
なお、太陽電池セルが反射防止層を具備する場合、反射防止膜は、プラズマＣＶＤ法等の公知の方法により形成することができる。
以下に、配線形成工程、熱処理工程について詳述する。
【００５９】
（配線形成工程）
上記配線形成工程は、本発明の導電性組成物をシリコン基板上に塗布して配線を形成する工程である。
ここで、塗布方法としては、具体的には、例えば、インクジェット、スクリーン印刷、グラビア印刷、オフセット印刷、凸版印刷等が挙げられる。
【００６０】
（熱処理工程）
上記熱処理工程は、上記配線形成工程で形成された塗膜を熱処理（乾燥ないし焼成）して導電性の配線（電極）を形成する工程である。
【００６１】
上記熱処理は特に限定されないが、１５０〜３５０℃の比較的低い温度で、数秒〜数十分間、加熱（焼成）する処理であるのが好ましい。温度および時間がこの範囲であると、シリコン基板上に反射防止膜を形成した場合であっても、容易に電極を形成することができる。
また、本発明の太陽電池セルの第１の好適な態様においては、本発明の導電性組成物を用いているため、１５０〜３５０℃の比較的低い温度であっても、良好な熱処理（焼成）を施すことができる。
本発明においては、上記配線形成工程で形成された配線は、紫外線または赤外線の照射でも電極を形成することができるため、上記熱処理工程は、紫外線または赤外線の照射によるものであってもよい。
【００６２】
＜太陽電池セルの第２の好適な態様＞
本発明の太陽電池セルの第２の好適な態様としては、ｎ型単結晶シリコン基板を中心にその上下にアモルファスシリコン層および透明導電層（例えば、ＴＣＯ）を具備し、上記透明導電層を下地層として、上記透明導電層上に上述した本発明の導電性組成物を用いて集電電極を形成した太陽電池（例えば、ヘテロ接合型太陽電池）セルが挙げられる。上記太陽電池セル（第２の好適な態様）は、単結晶シリコンとアモルファスシリコンとをハイブリッドした太陽電池セルであり、高い変換効率を示す。
以下に、本発明の太陽電池セルの第２の好適な態様について図２を用いて説明する。
【００６３】
図２に示すように、太陽電池セル１００は、ｎ型単結晶シリコン基板１１を中心に、その上下にｉ型アモルファスシリコン層１２ａおよび１２ｂ、並びに、ｐ型アモルファスシリコン層１３ａおよびｎ型アモルファスシリコン層１３ｂ、並びに、透明導電層１４ａおよび１４ｂ、並びに、上述した本発明の導電性組成物を用いて形成した集電電極１５ａおよび１５ｂを具備する。
【００６４】
上記ｎ型単結晶シリコン基板は、ｎ型を与える不純物がドープされた単結晶シリコン層である。ｎ型を与える不純物は上述のとおりである。
上記ｉ型アモルファスシリコン層は、ドープされていないアモルファスシリコン層である。
上記ｐ型アモルファスシリコンは、ｐ型を与える不純物がドープされたアモルファスシリコン層である。ｐ型を与える不純物は上述のとおりである。
上記ｎ型アモルファスシリコンは、ｎ型を与える不純物がドープされたアモルファスシリコン層である。ｎ型を与える不純物は上述のとおりである。
上記集電電極は、上述した本発明の導電性組成物を用いて形成された集電電極である。集電電極の具体的な態様は上述した表面電極または裏面電極と同じである。
【００６５】
（透明導電層）
上記透明導電層の材料の具体例としては、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化インジウム、酸化チタンなどの単一金属酸化物、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化インジウム亜鉛、酸化インジウムチタン、酸化スズカドミウム、などの多種金属酸化物、ガリウム添加酸化亜鉛、アルミニウム添加酸化亜鉛、硼素添加酸化亜鉛、チタン添加酸化亜鉛、チタン添加酸化インジウム、ジルコニウム添加酸化インジウム、フッ素添加酸化スズなどのドーピング型金属酸化物などが挙げられる。
【００６６】
＜太陽電池セル（第２の好適な態様）の製造方法＞
上記太陽電池セル（第２の好適な態様）の製造方法は特に限定されないが、例えば、特開２０１０−３４１６２号公報に記載の方法などで製造することができる。
具体的には、ｎ型単結晶シリコン基板１１の片方の主面上に、ＰＥＣＶＤ（ｐｌａｓｍａ  ｅｎｈａｎｃｅｄ  ｃｈｅｍｉｃａｌ  ｖａｐｏｒ  ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法などによって、ｉ型アモルファスシリコン層１２ａを形成する。さらに、形成したｉ型アモルファスシリコン層１２ａ上にＰＥＣＶＤ法などによってｐ型アモルファスシリコン層１３ａを形成する。
次に、ｎ型単結晶シリコン基板１１のもう一方の主面上に、ＰＥＣＶＤ法などによって、ｉ型アモルファスシリコン層１２ｂを形成する。さらに、形成したｉ型アモルファスシリコン層１２ｂ上にＰＥＣＶＤ法などによってｎ型アモルファスシリコン層１３ｂを形成する。
次に、スパッタ法などによって、ｐ型アモルファスシリコン層１３ａ上およびｎ型アモルファスシリコン層１３ｂ上にＩＴＯなどの透明導電層１４ａおよび１４ｂを形成する。
次に、形成した透明導電層１４ａおよび１４ｂ上に本発明の導電性組成物を塗布して配線を形成し、さらに、形成した配線を熱処理することで集電電極１５ａおよび１５ｂを形成する。
配線を形成する方法は、上述した太陽電池セル（第１の好適な態様）の配線形成工程に記載した方法と同じである。
配線を熱処理する方法は、上述した太陽電池セル（第１の好適な態様）の熱処理工程に記載した方法と同じであるが、熱処理温度（焼成温度）は１５０〜２００℃であることが好ましい。
【実施例】
【００６７】
以下、実施例を用いて、本発明の導電性組成物について詳細に説明する。ただし、本発明はこれに限定されるものではない。【００６８】
〔実施例１〜１１、比較例１〜４〕
ボールミルに、下記第１表に示す金属粉末等を下記第１表中に示す組成比（質量比）となるように添加し、これらを混合することにより導電性組成物を調製した。なお、下記第１表中、カチオン重合性化合物の項目に記載された粘度（ｍＰａ・ｓ）は、上述した通り、回転式粘度計（ＲＳ−６００、ＨＡＡＫＥ社製）を用い、恒温槽を２５℃に保ち、温度制御を行った上で、ずり速度４００（１／ｓ）にて測定される値である。【００６９】
＜密着性＞
ソーダライムガラスの表面に、透明導電層としてＩＴＯ（Ｓｎをドープした酸化インジウム）を製膜した。
次いで、調製した各導電性組成物を、透明導電層上にスクリーン印刷で塗布して、幅１．５ｍｍ、長さ１５ｍｍの細線形状のテストパターンを形成した。
オーブンにて２００℃で２０分間または２００℃で３０分間乾燥し、細線形状の導電性被膜（細線電極）を形成し、太陽電池セルのサンプルを作製した。
作製した太陽電池セルのサンプルのテストパターン（細線電極）上に半田リボンを半田付けした後、１８０度引張り試験を行い、ピール強度を求めた。結果を下記第１表に示す。ピール強度が１．０Ｎ以上の場合を密着十分と判断した。【００７０】
＜印刷性＞
メッシュカウント３２５、線径１８μｍ、乳剤厚２０μｍのステンレス製スクリーンマスクを用いて、ライン幅５０μｍのスクリーン製版を作製した。
次いで、調製した各導電性組成物をスクリーン製版上にスクリーン印刷し、乾燥後の線幅および高さを顕微鏡（ＶＨＸ−２０００、キーエンス社製）にて測定し、アスペクト比（高さ／幅）を求めた。結果を下記第１表に示す。アスペクト比が０．３５以上の場合を印刷性が良好であると判断した。
なお、比較例３は、断線が生じ、アスペクト比が測定できないため、下記第１表中の評価は「−」と表記している。【００７１】
【表１】
2016021535.tif 000008
【００７２】
第１表中の各成分は、以下のものを使用した。
・球状金属粉末Ａ１−１：ＡｇＣ−１０３（形状：球状、平均粒子径：１．５μｍ、福田金属箔粉工業社製）
・フレーク状金属粉末Ａ２−１：ＡｇＣ−２２４（形状：フレーク状、平均厚さ：０．７μｍ、福田金属箔粉工業社製）
・ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂Ｂ３−１：ＥＰ−４１００Ｅ（エポキシ当量：１９０ｇ／ｅｑ、ＡＤＥＫＡ社製）
・ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂Ｂ１−１：ＹＤ−０１９（エポキシ当量：２４００〜３３００ｇ／ｅｑ、新日鉄住金社製）
・多価アルコール系グリシジル型エポキシ樹脂Ｂ２−１：ＥＸ−８５０（エポキシ当量：１２２ｇ／ｅｑ、ナガセケムテックス社製）
・ビスフェノールＡ型フェノキシ樹脂Ｅ−１：ＹＰ−５０Ｓ（重量平均分子量：６０，０００、新日鉄住金化学社製）【００７３】
・１，４−ブタンジオールジビニルエーテル：ＢＤＶＥ（粘度：１．２ｍＰａ・ｓ、日本カーバイド社製）
・ジエチレングリコールジビニルエーテル：ＤＥＧＤＶＥ（粘度：２．０ｍＰａ・ｓ、日本カーバイド社製）
・シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル：ＣＨＤＶＥ（粘度：４．５ｍＰａ・ｓ、日本カーバイド社製）
・トリエチレングリコールジビニルエーテル：ＴＥＧＤＶＥ（粘度：３．４ｍＰａ・ｓ、日本カーバイド社製）
・エチルオキセタンメチルビニルエーテル：ＥＯＸＴＶＥ（粘度：２．０ｍＰａ・ｓ、丸善石油化学工業社製）
・トリエチレングリコールジビニルエーテル：ＴＤＶＥ（粘度：３．５ｍＰａ・ｓ、丸善石油化学工業社製）
・ビス（１−エチル（３−オキセタニル））メチルエーテル：ＯＸＴ−２２１（粘度：１２．８ｍＰａ・ｓ、東亞合成社製）
・キシリレンビスオキセタン：ＯＸＴ−１２１（粘度：１４０ｍＰａ・ｓ、東亞合成社製）
・２−エチルヘキシルオキセタン：ＯＸＴ−２１２（粘度：４．０ｍＰａ・ｓ、東亞合成社製）
・ジシクロペンタジエンビニルエーテル：ＤＣＰ−ＶＥ（粘度：４．５ｍＰａ・ｓ、丸善石油化学工業社製）
・オキセタニルシルセスキオキサン：ＯＸ−ＳＱ−Ｈ（粘度：２０００〜６０００ｍＰａ・ｓ、東亞合成社製）【００７４】
・カチオン系硬化剤：三フッ化ホウ素エチルアミン（ステラケミファ社製）
・溶媒：テルピネオール：テルピネオール（ヤスハラケミカル社製）【００７５】
第１表に示す結果から、カチオン重合性化合物（Ｄ）を配合せずに調製した比較例１および２の導電性組成物は、印刷性は良好であったが、透明導電層との密着性が劣ることが分かった。
また、２５℃での粘度が１５０ｍＰａ・ｓより大きいカチオン重合性化合物を配合して調製した比較例３の導電性組成物は、印刷性に劣り、印刷ラインの断線が見られることが分かった。なお、粘度の大きいカチオン重合性化合物とともに溶媒を併用した場合は、印刷性は改善されたが、比較例１および２と同様、透明導電層との密着性が劣ることが分かった（比較例４）。
これに対し、カチオン重合性化合物（Ｄ）を配合して調製した実施例１〜１１の導電性組成物は、いずれも、優れた印刷性を維持しつつ、透明導電層に対する密着性が良好となることが分かった。
特に、実施例１〜１１を対比すると、反応性の高い２官能性のカチオン重合性化合物を配合して調製した実施例１〜５および７〜９は、乾燥条件が２００℃で２０分であっても密着性が良好となることが分かった。
【符号の説明】
【００７６】
１、１００  太陽電池セル
２  ｎ層
３  反射防止膜
４  表面電極
５  ｐ層
６  裏面電極
７  シリコン基板
１１  ｎ型単結晶シリコン基板
１２ａ、１２ｂ  ｉ型アモルファスシリコン層
１３ａ  ｐ型アモルファスシリコン層
１３ｂ  ｎ型アモルファスシリコン層
１４ａ、１４ｂ  透明導電層
１５ａ、１５ｂ  集電電極
【図１】
2016021535.tif 000009
【図２】
2016021535.tif 000010
【国際調査報告】
2016021535.tif 000011
2016021535.tif 000012
2016021535.tif 000013
2016021535.tif 000014