(57)【要約】  本発明により、無機窒化物または無機酸化物がボロン酸化合物で表面修飾された新規な表面修飾無機物およびこれを利用した放熱材料、熱伝導材料、及び潤滑剤が提供される。また、本発明により上記表面修飾無機物の製造方法、ならびに無機酸化物および無機窒化物から選択される無機物の有機物での新規表面修飾方法として、無機窒化物または無機酸化物にボロン酸化合物を接触させることを含む無機窒化物または無機酸化物の表面を有機物で修飾する方法が提供される。
2016084873.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
無機窒化物または無機酸化物がボロン酸化合物で表面修飾された表面修飾無機物。
【請求項２】
無機窒化物がボロン酸化合物で表面修飾された表面修飾無機物。
【請求項３】
前記無機窒化物がホウ素、アルミニウムまたは珪素を含む請求項２に記載の表面修飾無機物。
【請求項４】
前記無機窒化物が窒化ホウ素である請求項２に記載の表面修飾無機物。
【請求項５】
前記無機窒化物が窒化アルミニウムである請求項２に記載の表面修飾無機物。
【請求項６】
無機酸化物がボロン酸化合物で表面修飾された表面修飾無機物。
【請求項７】
前記無機酸化物が酸化チタン、酸化アルミニウム、または酸化亜鉛である請求項６に記載の表面修飾無機物。
【請求項８】
前記表面修飾が前記無機窒化物または前記無機酸化物表面にボロン酸化合物が共有結合することによる修飾である請求項１〜６のいずれか一項に記載の表面修飾無機物。
【請求項９】
前記ボロン酸化合物が以下の一般式Ｉで表される請求項１〜８のいずれか一項に記載の表面修飾無機物。
【化１】
2016084873.tif 000025
式中、Ｚは、重合性基、水素原子、ハロゲン原子、第４級アンモニウム基もしくはその塩または置換基を有していてもよい第４級ピリジニウム基もしくはその塩を表し、Ｘは、置換基を有していてもよい２価の脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよいアリーレン基、および置換基を有していてもよいヘテロアリーレン基からなる群より選択される連結基Ａを少なくとも１つ含む２価の連結基を表し、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよいアリール基、又は置換基を有していてもよいヘテロアリール基を表し、Ｒ1およびＲ2は、アルキレン連結基、アリール連結基、又はこれらの組み合わせからなる連結基を介して連結していてもよい。
【請求項１０】
前記ボロン酸化合物が以下の一般式ＩＩで表される請求項１〜８のいずれか一項に記載の表面修飾無機物；
【化２】
2016084873.tif 000026
式中、Ｚは、重合性基、水素原子、ハロゲン原子、第４級アンモニウム基もしくはその塩または置換基を有していてもよい第４級ピリジニウム基もしくはその塩を表し、Ｘ2は、置換基を有していてもよい２価の脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよいアリーレン基、および置換基を有していてもよいヘテロアリーレン基からなる群より選択される連結基Ａを少なくとも１つ含むｎ＋１価の連結基を表し、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよいアリール基、又は置換基を有していてもよいヘテロアリール基を表し、Ｒ1およびＲ2は、アルキレン連結基、アリール連結基、又はこれらの組み合わせからなる連結基を介して連結していてもよく、ｎは２以上の整数を表す。
【請求項１１】
前記一般式Ｉまたは前記一般式ＩＩにおいて、Ｚが（メタ）アクリレート基、オキシラニル基または水素原子である請求項９または１０に記載の表面修飾無機物。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載の表面修飾無機物を含む放熱材料。
【請求項１３】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載の表面修飾無機物を含む熱伝導材料。
【請求項１４】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載の表面修飾無機物を含む潤滑剤。
【請求項１５】
無機窒化物または無機酸化物にボロン酸化合物を接触させることを含む請求項１〜１１のいずれか一項に記載の表面修飾無機物の製造方法。
【請求項１６】
前記接触が無機窒化物または無機酸化物およびボロン酸化合物を含む溶液を攪拌することにより行われる請求項１５に記載の表面修飾無機物の製造方法。
【請求項１７】
前記溶液の溶媒が、酢酸エチル、メチルエチルケトンまたはジクロロメタンである請求項１６に記載の表面修飾無機物の製造方法。
【請求項１８】
無機窒化物または無機酸化物にボロン酸化合物を接触させることを含む無機窒化物または無機酸化物の表面を有機物で修飾する方法。
【請求項１９】
前記接触が無機窒化物または無機酸化物およびボロン酸化合物を含む溶液を攪拌することにより行われる請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記溶液の溶媒が、酢酸エチル、メチルエチルケトンまたはジクロロメタンである請求項１９に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表面修飾無機物および表面修飾無機物の製造方法に関する。本発明はまた、無機物表面を有機物で修飾する方法に関する。本発明はさらに、放熱材料、熱伝導材料、及び潤滑剤に関する。
【背景技術】
【０００２】
無機酸化物または無機窒化物などの無機物は、顔料、触媒、電極材料、半導体材料、放熱材料、熱伝導材料、および潤滑剤などして応用範囲が広く、粒子状、または基板状の形態で様々な分野で利用されている。表面が有機物で修飾されることによっては、無機物の有機材料への分散性や親和性が向上するため、無機物の応用範囲を広げることができる。そのため、従来から、様々な有機物で修飾された表面修飾無機物が提供されてきている（例えば特許文献１）。
無機酸化物の表面修飾に用いられる化合物としては、長鎖アルキル脂肪酸などのカルボン酸のほか、有機ホスホン酸または有機リン酸エステルなどの酸が酸塩基反応により化学結合を形成することによる表面修飾や、有機シラン分子とのシランカップリング反応で形成された化学結合による表面修飾が良く知られている。
無機窒化物の表面修飾方法としては、特許文献２に、窒化ホウ素を１，４−フェニレンジイソシアネートと混合して溶媒中で加熱還流する方法が報告されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００９−５０２５２９号公報
【特許文献２】特開２００１−１９２５００号公報
【特許文献３】特許４６９４９２９号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、無機酸化物および無機窒化物から選択される無機物を有機物で表面修飾した表面修飾無機物として、新規な表面修飾無機物を提供すること、およびこの表面修飾無機物を利用した放熱材料、熱伝導材料、及び潤滑剤を提供することを課題とする。本発明は、同時に、上記の表面修飾無機物の製造方法を提供すること、および無機酸化物および無機窒化物から選択される無機物の有機物での表面修飾方法として新規の方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者が、上記課題の解決のため、種々の化合物による無機物の表面修飾を試みていたところ、特許文献３などに記載のあるボロン酸化合物を用いて、無機物の表面修飾を特許文献２に開示の方法に比較してはるかに容易に行うことができることを見出した。特許文献１においても、ボロン酸との記載が見られるが、実際にボロン酸で表面修飾を行った例は開示されていない。本発明者は上記知見に基づいて、さらに検討を重ね本発明を完成させた。【０００６】
すなわち、本発明は下記の［１］〜［２０］を提供するものである。
［１］無機窒化物または無機酸化物がボロン酸化合物で表面修飾された表面修飾無機物。
［２］無機窒化物がボロン酸化合物で表面修飾された表面修飾無機物。
［３］上記無機窒化物がホウ素、アルミニウムまたは珪素を含む［２］に記載の表面修飾無機物。
［４］上記無機窒化物が窒化ホウ素である［２］に記載の表面修飾無機物。
［５］上記無機窒化物が窒化アルミニウムである［２］に記載の表面修飾無機物。
［６］無機酸化物がボロン酸化合物で表面修飾された表面修飾無機物。
［７］上記無機酸化物が酸化チタン、酸化アルミニウム、または酸化亜鉛である［６］に記載の表面修飾無機物。
［８］上記表面修飾が上記無機窒化物または上記無機酸化物表面にボロン酸化合物が共有結合することによる修飾である［１］〜［７］のいずれか一項に記載の表面修飾無機物。
［９］上記ボロン酸化合物が以下の一般式Ｉで表される［１］〜［８］のいずれか一項に記載の表面修飾無機物。【０００７】
【化１】
2016084873.tif 000003
【０００８】
式中、Ｚは、重合性基、水素原子、ハロゲン原子、第４級アンモニウム基もしくはその塩または置換基を有していてもよい第４級ピリジニウム基もしくはその塩を表し、Ｘは、置換基を有していてもよい２価の脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよいアリーレン基、および置換基を有していてもよいヘテロアリーレン基からなる群より選択される連結基Ａを少なくとも１つ含む２価の連結基を表し、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよいアリール基、又は置換基を有していてもよいヘテロアリール基を表し、Ｒ1およびＲ2は、アルキレン連結基、アリール連結基、又はこれらの組み合わせからなる連結基を介して連結していてもよい。
［１０］上記ボロン酸化合物が以下の一般式ＩＩで表される［１］〜［８］のいずれか一項に記載の表面修飾無機物。【０００９】
【化２】
2016084873.tif 000004
【００１０】
式中、Ｚは、重合性基、水素原子、ハロゲン原子、第４級アンモニウム基もしくはその塩または置換基を有していてもよい第４級ピリジニウム基もしくはその塩を表し、Ｘ2は、置換基を有していてもよい２価の脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよいアリーレン基、および置換基を有していてもよいヘテロアリーレン基からなる群より選択される連結基Ａを少なくとも１つ含むｎ＋１価の連結基を表し、Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよいアリール基、又は置換基を有していてもよいヘテロアリール基を表し、Ｒ1およびＲ2は、アルキレン連結基、アリール連結基、又はこれらの組み合わせからなる連結基を介して連結していてもよく、ｎは２以上の整数を表す。
［１１］上記一般式Ｉまたは上記一般式ＩＩにおいて、Ｚが（メタ）アクリレート基、オキシラニル基または水素原子である［９］または［１０］のいずれか一項に記載の表面修飾無機物。【００１１】
［１２］［１］〜［１１］のいずれか一項に記載の表面修飾無機物を含む放熱材料。
［１３］［１］〜［１１］のいずれか一項に記載の表面修飾無機物を含む熱伝導材料。
［１４］［１］〜［１１］のいずれか一項に記載の表面修飾無機物を含む潤滑剤。
［１５］無機窒化物または無機酸化物にボロン酸化合物を接触させることを含む［１］〜［１１］のいずれか一項に記載の表面修飾無機物の製造方法。
［１６］上記接触が無機窒化物または無機酸化物およびボロン酸化合物を含む溶液を攪拌することにより行われる［１５］に記載の表面修飾無機物の製造方法。
［１７］上記溶液の溶媒が、酢酸エチル、メチルエチルケトンまたはジクロロメタンである［１６］に記載の表面修飾無機物の製造方法。
［１８］無機窒化物または無機酸化物にボロン酸化合物を接触させることを含む無機窒化物または無機酸化物の表面を有機物で修飾する方法。
［１９］上記接触が無機窒化物または無機酸化物およびボロン酸化合物を含む溶液を攪拌することにより行われる［１８］に記載の方法。
［２０］上記溶液の溶媒が、酢酸エチル、メチルエチルケトンまたはジクロロメタンである［１９］に記載の方法。
【発明の効果】
【００１２】
本発明により、無機酸化物および無機窒化物から選択される無機物を有機物で表面修飾した表面修飾無機物として、新規な表面修飾無機物、これを利用した放熱材料、熱伝導材料、および潤滑剤、ならびに上記表面修飾無機物の製造方法が提供される。本発明はさらに、無機酸化物および無機窒化物から選択される無機物を有機物で表面修飾する方法として新規な方法を提供する。本発明の表面修飾無機物は容易な製造方法で得ることが可能である。また、本発明の方法により、従来から広く用いられているシランカップリング剤による表面修飾が困難な無機窒化物の表面修飾も容易に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】アリザリン溶液および酸化亜鉛添加後のアリザリン溶液のろ過液の可視吸収スペクトルを示す図である。
【図２】化合物Ａ−１ジクロロメタン溶液、および無機物添加後の化合物Ａ−１ジクロロメタン溶液のろ過液の可視吸収スペクトルを示す図である。
【図３】化合物Ａ−２ジクロロメタン溶液、および無機物添加後の化合物Ａ−２ジクロロメタン溶液のろ過液の可視吸収スペクトルを示す図である。
【図４】化合物Ａ−１酢酸エチル溶液、および各種形状の窒化ホウ素添加後の化合物Ａ−１酢酸エチル溶液のろ過液の、可視吸収スペクトルを示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明を詳細に説明する。
本明細書において、「〜」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。本明細書において、「（メタ）アクリレート」との記載は、「アクリレートおよびメタクリレートのいずれか一方または双方」の意味を表す。
【００１５】
本明細書において、「表面修飾」とは表面の少なくとも一部に有機物が吸着している状態を意味する。吸着の形態は特に限定されないが、結合している状態であればよい。すなわち、表面修飾は、有機物の一部が脱離して得られる有機基が無機物表面に結合している状態も含む。結合は、共有結合、配位結合、イオン結合、水素結合、ファンデルワールス結合、金属結合など、いずれの結合であってもよいが、共有結合であることが好ましい。表面修飾は、表面の少なくとも一部に単分子膜を形成するようになされていてもよい。単分子膜は、有機分子の化学吸着によって形成される単層膜であり、Self-Assembled Monolayer(SAM)として知られている。有機物は、いわゆる有機化合物であり、炭素原子を含む化合物であって、慣例上無機化合物に分類される一酸化炭素、二酸化炭素、炭酸塩等を除いたものを意味する。なお、本明細書において、表面修飾は、表面の一部のみであっても、全体であってもよい。
本明細書において、「表面修飾無機物」は、表面修飾されている無機物、すなわち無機物の表面に有機物が吸着している物質を意味する。
【００１６】
＜無機物＞
本発明の表面修飾無機物における無機物としては、無機酸化物または無機窒化物が用いられる。無機物は無機酸化窒化物であってもよい。無機物の形状は特に限定されず、粒子状であってもよく、フィルム状もしくは板状であってもよい。
粒子は米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状、鱗片状、凝集状又は不定形状であればよい。
【００１７】
無機酸化物は、特に限定されないが、例えば、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2）、酸化チタン（ＴｉＯ2）、酸化ケイ素（ＳｉＯ2）、酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）、酸化鉄（Ｆｅ2Ｏ3、ＦｅＯ、Ｆｅ3Ｏ4）、酸化銅（ＣｕＯ、Ｃｕ2Ｏ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化イットリウム（Ｙ2Ｏ3）、酸化ニオブ（Ｎｂ2Ｏ5）、酸化モリブデン（ＭｏＯ3）、酸化インジウム（Ｉｎ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ）、酸化スズ（ＳｎＯ2）、酸化タンタル（Ｔａ2Ｏ5）、酸化タングステン（ＷＯ3、Ｗ2Ｏ5）、酸化鉛（ＰｂＯ、ＰｂＯ2）、酸化ビスマス（Ｂｉ2Ｏ3）、酸化セリウム（ＣｅＯ2、Ｃｅ2Ｏ3）、酸化アンチモン（Ｓｂ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ5）、酸化ゲルマニウム（ＧｅＯ2、ＧｅＯ）、酸化ランタン（Ｌａ2Ｏ3）、酸化ルテニウム（ＲｕＯ2）等が挙げられる。
上記の無機酸化物は、単独で用いてもよく、複数を組み合わせて用いてもよい。
無機酸化物は、酸化チタン、酸化アルミニウム、または酸化亜鉛であることが好ましい。
本発明の表面修飾無機物における無機酸化物としては、非酸化物として用意された金属が、環境下などで酸化したことにより生じている酸化物であってもよい。
【００１８】
無機窒化物は、特に限定されない。無機窒化物の例としては、窒化ホウ素（ＢＮ）、窒化炭素（Ｃ3Ｎ4）、窒化ケイ素（Ｓｉ3Ｎ4）、窒化ガリウム（ＧａＮ）、窒化インジウム（ＩｎＮ）、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）、窒化クロム（Ｃｒ2Ｎ）、窒化銅（Ｃｕ3Ｎ）、窒化鉄（Ｆｅ4Ｎ）、窒化鉄（Ｆｅ3Ｎ）、窒化ランタン（ＬａＮ）、窒化リチウム（Ｌｉ3Ｎ）、窒化マグネシウム（Ｍｇ3Ｎ2）、窒化モリブデン（Ｍｏ2Ｎ）、窒化ニオブ（ＮｂＮ）、窒化タンタル（ＴａＮ）、窒化チタン（ＴｉＮ）、窒化タングステン（Ｗ2Ｎ）、窒化タングステン（ＷＮ2）、窒化イットリウム（ＹＮ）、窒化ジルコニウム（ＺｒＮ）などが挙げられる。
上記の無機窒化物は、単独で用いてもよく、複数を組み合わせて用いてもよい。
本発明の表面修飾無機物における無機窒化物はアルミニウム、ホウ素または珪素を含むことが好ましく、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、または窒化珪素であることが好ましい。
【００１９】
＜ボロン酸化合物＞
本発明の表面修飾無機物の表面修飾はボロン酸化合物を用いて行われる。ボロン酸化合物は、ホウ酸の水酸基の１つ以上が炭化水素基などの有機基で置換された構造を有する。ボロン酸化合物は、通常ホウ素部分で無機物に吸着することにより、無機物を表面修飾する。ボロン酸化合物は、例えば、以下一般式Ｉで表される化合物であればよい。
【００２０】
【化３】
2016084873.tif 000005
【００２１】
一般式Ｉ中、Ｚは、重合性基、水素原子、ハロゲン原子、第４級アンモニウム基もしくはその塩、第４級ピリジニウム基もしくはその塩を表す。第４級ピリジニウム基は置換基を有していてもよい。
Ｘは、２価の連結基を表す。Ｘは、置換基を有していてもよい２価の脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよいアリーレン基、および置換基を有していてもよいヘテロアリーレン基からなる群より選択される連結基Ａを少なくとも１つ含む。Ｘは、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＣＯＯ−、および−Ｏ−ＣＯＯ−からなる群より選択される連結基Ｂを１つ以上含んでいてもよい。すなわち、Ｘは連結基Ａ、２つ以上の連結基Ａの組み合わせで構成される連結基、または１つ以上の連結基Ａおよび１つ以上の連結基Ｂの組み合わせで構成される連結基である。
Ｒ1及びＲ2はそれぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよいアリール基、又は置換基を有していてもよいヘテロアリール基を表す。
また、Ｒ1とＲ2とは、アルキレン連結基、アリーレン連結基、又はこれらの組み合わせからなる連結基を介して連結していてもよい。
【００２２】
上記の置換基を有していてもよい２価の脂肪族炭化水素基には、置換基を有していてもよいアルキレン基および置換基を有していてもよいアルケニレン基が含まれる。
Ｒ1及びＲ2がそれぞれ表す置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基には、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基および置換基を有していてもよいアルキニル基が含まれる。
【００２３】
本明細書において、アルキル基は直鎖状、分枝鎖状または環状のいずれでもよい。アルキル基の炭素数は１〜３０が好ましく、２〜１０がより好ましい。アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ-ブチル基、ｔｅｒｔ-ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１-メチルブチル基、イソヘキシル基、２-メチルヘキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、１-アダマンチル基、２-ノルボルニル基等が挙げられる。アルキル基に関する上記説明はアルキル基を含むアルコキシ基等の他の基においても同様である。また、アルキレン基はアルキル基の任意の水素原子を除いて得られる基であり、アルキレン基の例としては上記のアルキル基の例のそれぞれから任意の水素原子を除いて得られる基を挙げることができる。
【００２４】
本明細書において、アルケニル基は直鎖状、分枝鎖または環状のいずれでもよい。アルケニル基の炭素数は２〜３０が好ましく、２〜１０がより好ましい。アルケニル基の具体例としては、ビニル基、１-プロペニル基、１-ブテニル基、１-メチル-１-プロペニル基、１-シクロペンテニル基、１-シクロヘキセニル基等が挙げられる。アルケニル基に関する上記説明はアルケニル基を含む他の基においても同様である。また、アルケニレン基はアルケニル基の任意の水素原子を除いて得られる基であり、アルケニレン基の例としては上記のアルケニル基の例のそれぞれから任意の水素原子を除いて得られる基を挙げることができる。
【００２５】
アルキニル基の炭素数は２〜３０が好ましく、２〜１０がより好ましい。アルキニル基の具体例としては、エチニル基、１-プロピニル基、１-ブチニル基、１-オクチニル基等が挙げられる。
アリール基は単環の基であっても、２以上の環を含む縮合環の基であってもよい。アリール基の炭素数は、５〜１８が好ましく、５〜１０がより好ましい。アリール基の具体例としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセナブテニル基、フルオレニル基、ピレニル基等が挙げられる。また、アリーレン基はアリール基の任意の水素原子を除いて得られる基であり、アリーレン基の例としては上記のアリール基の例のそれぞれから任意の水素原子を除いて得られる基を挙げることができる。
【００２６】
ヘテロアリール基の例には、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選ばれるヘテロ原子を１個以上含む複素芳香環上の水素原子を１個除き、ヘテロアリール基としたものが挙げられる。窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選ばれるヘテロ原子を１個以上含む複素芳香環の具体例としては、ピロール、フラン、チオフェン、ピラゾール、イミダゾール、トリアゾール、オキサゾール、イソオキサゾール、オキサジアゾール、チアゾール、チアジアゾール、インドール、カルバゾール、ベンゾフラン、ジベンゾフラン、チアナフテン、ジベンゾチオフェン、インダゾールベンズイミダゾール、アントラニル、ベンズイソオキサゾール、ベンズオキサゾール、ベンゾチアゾール、プリン、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジン、キノリン、アクリジン、イソキノリン、フタラジン、キナゾリン、キノキザリン、ナフチリジン、フェナントロリン、プテリジン等が挙げられる。また、ヘテロアリーレン基はヘテロアリール基の任意の水素原子を除いて得られる基であり、ヘテロアリーレン基の例としては上記のヘテロアリール基の例のそれぞれから任意の水素原子を除いて得られる基を挙げることができる。
【００２７】
本明細書において、「置換基を有していてもよい」というときの置換基の種類、置換基の位置、置換基の数は特に限定されない。置換基の数は例えば、１つ、２つ、３つ、またはそれ以上であればよい。置換基の例としては水素を除く１価の非金属原子団を挙げることができ、例えば、以下の置換基群Ｙから選択することができる。
【００２８】
置換基群Ｙ：
ハロゲン原子（-Ｆ、-Ｂｒ、-Ｃｌ、-Ｉ）、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、Ｎ-アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ-ジアルキルアミノ基、Ｎ-アリールアミノ基、Ｎ，Ｎ-ジアリールアミノ基、Ｎ-アルキル-Ｎ-アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、Ｎ-アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ-アリールカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ-ジアルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ-ジアリールカルバモイルオキシ基、Ｎ-アルキル-Ｎ-アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、Ｎ-アルキルアシルアミノ基、Ｎ-アリールアシルアミノ基、ウレイド基、Ｎ'-アルキルウレイド基、Ｎ'，Ｎ'-ジアルキルウレイド基、Ｎ'-アリールウレイド基、Ｎ'，Ｎ'-ジアリールウレイド基、Ｎ'-アルキル-Ｎ'-アリールウレイド基、Ｎ-アルキルウレイド基、Ｎ-アリールウレイド基、Ｎ'-アルキル-Ｎ-アルキルウレイド基、Ｎ'-アルキル-Ｎ-アリールウレイド基、Ｎ'，Ｎ'-ジアルキル-Ｎ-アルキルウレイド基、Ｎ'，Ｎ'-ジアルキル-Ｎ-アリールウレイド基、Ｎ'-アリール-Ｎ-アルキルウレイド基、Ｎ'-アリール-Ｎ-アリールウレイド基、Ｎ'，Ｎ'-ジアリール-Ｎ-アルキルウレイド基、Ｎ'，Ｎ'-ジアリール-Ｎ-アリールウレイド基、Ｎ'-アルキル-Ｎ'-アリール-Ｎ-アルキルウレイド基、Ｎ'-アルキル-Ｎ'-アリール-Ｎ-アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ-アルキル-Ｎ-アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ-アルキル-Ｎ-アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ-アリール-Ｎ-アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ-アリール-Ｎ-アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基及びその共役塩基基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ-アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ-ジアルキルカルバモイル基、Ｎ-アリールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ-ジアリールカルバモイル基、Ｎ-アルキル-Ｎ-アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基（-ＳＯ3Ｈ）及びその共役塩基基、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、Ｎ-アルキルスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ-ジアルキルスルフィナモイル基、Ｎ-アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ-ジアリールスルフィナモイル基、Ｎ-アルキル-Ｎ-アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、Ｎ-アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ-ジアルキルスルファモイル基、Ｎ-アリールスルファモイル基、Ｎ，Ｎ-ジアリールスルファモイル基、Ｎ-アルキル-Ｎ-アリールスルファモイル基、Ｎ-アシルスルファモイル基及びその共役塩基基、Ｎ-アルキルスルホニルスルファモイル基（-ＳＯ2ＮＨＳＯ2（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基、Ｎ-アリールスルホニルスルファモイル基（-ＳＯ2ＮＨＳＯ2（ａｒｙｌ））及びその共役塩基基、Ｎ-アルキルスルホニルカルバモイル基（-ＣＯＮＨＳＯ2（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基、Ｎ-アリールスルホニルカルバモイル基（-ＣＯＮＨＳＯ2（ａｒｙｌ））及びその共役塩基基、アル���キシシリル基（-Ｓｉ（Ｏａｌｋｙｌ）3）、アリーロキシシリル基（-Ｓｉ（Ｏａｒｙｌ）3）、ヒドロキシシリル基（-Ｓｉ（ＯＨ）3）及びその共役塩基基、ホスホノ基（-ＰＯ3Ｈ2）及びその共役塩基基、ジアルキルホスホノ基（-ＰＯ3（ａｌｋｙｌ）2）、ジアリールホスホノ基（-ＰＯ3（ａｒｙｌ）2）、アルキルアリールホスホノ基（-ＰＯ3（ａｌｋｙｌ）（ａｒｙｌ））、モノアルキルホスホノ基（-ＰＯ3Ｈ（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基、モノアリールホスホノ基（-ＰＯ3Ｈ（ａｒｙｌ））及びその共役塩基基、ホスホノオキシ基（-ＯＰＯ3Ｈ2）及びその共役塩基基、ジアルキルホスホノオキシ基（-ＯＰＯ3（ａｌｋｙｌ）2）、ジアリールホスホノオキシ基（-ＯＰＯ3（ａｒｙｌ）2）、アルキルアリールホスホノオキシ基（-ＯＰＯ3（ａｌｋｙｌ）（ａｒｙｌ））、モノアルキルホスホノオキシ基（-ＯＰＯ3Ｈ（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基、モノアリールホスホノオキシ基（-ＯＰＯ3Ｈ（ａｒｙｌ））及びその共役塩基基、シアノ基、ニトロ基、アリール基、アルケニル基及びアルキニル基。
また、これらの置換基は、可能であるならば置換基同士、又は置換している基と結合して環を形成してもよい。
【００２９】
重合性基の例としては、（メタ）アクリレート基、スチリル基、ビニルケトン基、ブタジエン基、ビニルエーテル基、オキシラニル基、アジリジニル基又はオキセタン基等が挙げられる。これらのうち、（メタ）アクリレート基、スチリル基、オキシラニル基もしくはオキセタン基がより好ましく、（メタ）アクリレート基もしくはオキシラニル基がさらに好ましい。
【００３０】
一般式Ｉ中のＲ1及びＲ2としては水素原子が好ましい。
一般式Ｉ中のＸとしては、少なくとも１つの置換基を有していてもよいフェニレン基を含む連結基が好ましい。２つの置換基を有していてもよいフェニレン基が−ＣＯＯ−で連結されている部分構造を有する連結基がより好ましい。また、Ｘとしては、無置換のフェニレン基を含む連結基が好ましく、この無置換のフェニレン基がボロン酸のホウ素原子に直接結合していることが特に好ましい。
一般式Ｉ中のＺとしては、（メタ）アクリレート基、オキシラニル基または水素原子が好ましい。
【００３１】
ボロン酸化合物は、鎖状の構造を有していることも好ましい。単分子膜を形成しやすいからである。
以下に一般式Ｉで示されるボロン酸化合物の好ましい例を示すが、これらの例に限定されるものではない。
【００３２】
【化４】
2016084873.tif 000006
【００３３】
【化５】
2016084873.tif 000007
【００３４】
【化６】
2016084873.tif 000008
【００３５】
【化７】
2016084873.tif 000009
【００３６】
【化８】
2016084873.tif 000010
【００３７】
また下記のような一般式ＩＩで表されるボロン酸化合物を使用してもよい。
【００３８】
【化９】
2016084873.tif 000011
【００３９】
一般式ＩＩ中、Ｚ、Ｒ1及びＲ2の定義は一般式Ｉとそれぞれ同様であり、好ましい範囲もそれぞれ同様である。
Ｘ2は、上記Ｘで表される２価の連結基からさらに任意のｎ−１個の水素原子を除いて得られるｎ＋１価の連結基である。このときのＸの好ましい範囲は上述したものと同様である。さらに、Ｘ2は、連結基Ａまたは２つ以上の連結基Ａの組み合わせで構成される２価の連結基からさらに水素原子を除いて得られるｎ＋１価の連結基であることが好ましく、このときの連結基Ａは、置換基を有していてもよいアリーレン基または置換基を有していてもよいヘテロアリーレン基であることが好ましく、フェニル基またはピロール、フラン、チオフェンから水素原子を除いて形成される２価の基であることがより好ましい。
ｎは２以上の整数である。ｎは２〜１０であることが好ましく、もしくは３であることがより好ましい。
【００４０】
【化１０】
2016084873.tif 000012
【００４１】
無機物と接触させることにより容易に分解して上記ボロン酸化合物を与える化合物も同様に好ましい。このような化合物としては例えば上記ボロン酸化合物においてホウ素に結合する１つまたは２つの水酸基の水素が水素原子以外の他の置換基に置換した化合物が挙げられる。また、上記ボロン酸化合物のボロン酸（―Ｂ（ＯＨ）2）部位の代わりに、無機物との接触時に平衡または吸着により（―Ｂ（ＯＨ）2）と同様の効果を発現する構造を有する部位を有する化合物が挙げられる。無機物と接触させることにより容易に分解して上記ボロン酸化合物を与える化合物の例として具体的には、以下のいずれかの式で表される部分構造を含む化合物が挙げられる。なお、以下の式で表される部分構造は、いずれも置換可能な部位において置換基を有していてもよく、以下の式はいずれもホウ素（Ｂ）から延びる単結合の先で、化合物の残りの部分と結合しているものとする。
【００４２】
【化１１】
2016084873.tif 000013
【００４３】
＜ボロン酸化合物の製造方法＞
ボロン酸化合物としては、市販のボロン酸化合物をそのまま用いてもよく、置換基を有するボロン酸化合物を原料として、エステル化、アミド化、アルキル化など一般的な合成反応を施すことによって合成してもよい。例えば、ハロゲン化物（例えばアリールブロマイド等）からｎ−ブチルリチウムとトリアルコキシボラン（例えばトリメトキシボラン等）によって合成したり、金属マグネシウムを用いたＷｉｔｔｉｇ反応を施すことで合成することができる。
【００４４】
＜表面修飾無機物＞
表面修飾無機物において、ボロン酸化合物は、無機窒化物または無機酸化物である無機物を表面修飾している。ボロン酸化合物は、無機物と化学反応し、表面修飾を達成していることが好ましい。典型的には、ボロン酸化合物は無機物表面の−ＮＨ2基または−ＯＨ基と反応し、−ＮＨ−Ｂ−で表される結合または−Ｏ−Ｂ−で表される結合を形成していればよい。このような結合を介して、例えば、ボロン酸化合物として、一般式Ｉで表される化合物を用いた場合、Ｚ−Ｘ−で表される有機鎖が無機物表面に存在することができる。有機鎖は、好ましくは整列して、単分子膜を形成していればよい。
本発明の表面修飾無機物の形状は、特に限定されず、粒子状であってもよく、フィルム状もしくは板状であってもよい。
【００４５】
＜表面修飾無機物の製造方法＞
表面修飾無機物は、無機物をボロン酸化合物と接触させることにより容易に製造することができる。無機物とボロン酸化合物との接触は、例えば、無機窒化物または無機酸化物およびボロン酸化合物を含む溶液を攪拌することにより行うことができる。特に、無機窒化物または無機酸化物が粒子状である場合、攪拌で上記接触が行われることが好ましい。
上記溶液の溶媒は、特に限定されないが、有機溶媒であることが好ましい。有機溶媒の例としては、酢酸エチル、メチルエチルケトン、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）などを挙げることができる。
無機物とボロン酸化合物との混合比は、無機物の構造、表面積、ボロン酸化合物の分子のアスペクト比などの構造を考慮して決定すればよい。
攪拌条件は特に限定されない。例えば、室温下であってもよく、攪拌回転数５０ｒｐｍ程度の攪拌を1〜１０秒程度行ってもよい。
【００４６】
＜表面修飾無機物の用途＞
本発明の表面修飾無機物は上記のようなボロン酸化合物を用いて表面修飾されていることによって、有機溶媒、水溶媒、樹脂などへの分散性能が調整されており、顔料、触媒、電極材料、半導体材料、放熱材料、熱伝導材料、及び潤滑剤などして様々な分野に応用することができる。
【００４７】
（放熱材料、熱伝導材料）
上記のように得られる表面修飾無機物は、放熱材料、熱伝導材料の作製に使用することができる。放熱材料および熱伝導材料は、表面修飾無機物を樹脂バインダー（低分子モノマー、高分子樹脂）に混合、分散もしくは混練してフィルムとすることにより作製できる。具体的には、例えば、表面修飾無機物と樹脂バインダーとを含む組成物を塗布成膜し、その後、プレス加工を行うことにより、作製することができる。
樹脂バインダーとしては、従来公知のものを使用してもよい。樹脂バインダーとしては、液晶化合物を使用することも好ましい。熱伝導性を向上させることができるからである。放熱材料または熱伝導材料の作製については、「高熱伝導性コンポジット材料」（シーエムシー出版、竹澤由高著）を参照してもよい。
【００４８】
（潤滑剤）
上記のように得られる表面修飾無機物は、潤滑剤の作製に使用することができる。潤滑剤はグリース（低分子モノマー、高分子樹脂）等に表面修飾無機物を混合、分散もしくは混練することにより作製できる。グリースとしては、従来公知のものを使用してもよい。潤滑剤の作製には、特に無機物が窒化ホウ素である表面修飾無機物を使用することが好ましい。特に窒化ホウ素は高温領域でそのもの自身が潤滑性を示すことが知られているからである。
【実施例】
【００４９】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の実施例に限定されるものではない。【００５０】
［実施例１：表面修飾無機物の作製および評価］
（化合物Ａ−１の合成）
【化１２】
2016084873.tif 000014
【００５１】
１００ｍＬ三口フラスコに化合物１（１．００ｇ、４．８５ｍｍｏｌ）とアセトニトリル１５ｍＬを加え、氷−メタノールにて冷却した。その後メシルクロライド０．４ｍＬを添加し、しばらく攪拌した。その後ＤＩＰＥＡ（ジイソプロピルエチルアミン）０．８８ｍＬを滴下した。１時間後、化合物２（１．９５ｇ、５．１０ｍｍｏｌ）をアセトニトリル１０ｍＬに溶かした溶液にＢＨＴを触媒量、ＤＭＡＰを触媒量加えて滴下した。その後ＤＩＰＥＡを滴下した。２時間後、メタノールを５５ｍＬ添加して反応をクエンチした。反応液をろ過して、得られた結晶をアセトニトリルで懸濁洗浄した後に、ろ過してアセトニトリルで洗浄して化合物３を１．５４ｇ得た。【００５２】
得られた化合物３（１．５４ｇ）をＴＨＦ２０ｍＬに溶解させ、室温で攪拌した後に、１Ｎ塩酸７ｍＬを添加して攪拌した。２時間後、水１５０ｍＬを添加してろ過した後に、水洗した。酢酸エチルで不溶物を除去して濃縮して目的の化合物を０．９８ｇ得た。【００５３】
【化１３】
2016084873.tif 000015
【００５４】
（化合物Ａ−２の合成）
同様にして下記の合成スキームにて化合物Ａ−２を合成した。
【化１４】
2016084873.tif 000016
【００５５】
（化合物Ａ−３の合成）
同様にして下記の合成スキームにて化合物Ａ−３を合成した。【００５６】
【化１５】
2016084873.tif 000017
【００５７】
上記反応中に使用されている化合物略称の正式名称または構造は下記である。
ＴＥＭＰＯ：
２，２，６，６−テトラメチルピペリジン  １−オキシル  （２，２，６，６−ｔｅｔｒａｍｅｔｈｙｌｐｉｐｅｒｉｄｉｎｅ  １−ｏｘｙｌ）
ＤＩＰＥＡ：
Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン【００５８】
【化１６】
2016084873.tif 000018
【００５９】
＜実験系の確立＞
アリザリンは酸化亜鉛と結合して酸化亜鉛表面を修飾することがよく知られている化合物である（特許５４７９１７５号）。アリザリン（和光純薬社製、カタログ番号０１５−０１１５１）１２ｍｇをメチルエチルケトン３００ｍＬに溶解させて、この溶液の可視吸収スペクトル（島津製作所製ＵＶ−３１００ＰＣ）を用いて波長４２７ｎｍの吸光度を測定した。さらに、この溶液の２５ｍＬを別に用意した酸化亜鉛微粒子（和光純薬社製、２６４−００３６５）に添加して軽く攪拌した。約５分後、溶液の上澄み液を０．４５ミクロンフィルター（ザルトリウス社製Ｍｉｎｉｓａｒｔ  ＲＣ１５）を使用してフィルターろ過した。このフィルターろ過した液について、上記と同様に吸光度を測定した。その結果、酸化亜鉛添加前の吸光度に対して、添加後の溶液の吸光度が２７．６％であった。なお、両者で測定された吸収スペクトルを図１に示す。得られた結果から、上記のような吸光度の比較を行うことにより、吸光度の減少分からボロン酸化合物の無機物の表面修飾の有無、およびその程度が決定できることが分かった。【００６０】
（窒化物、酸化物への吸着試験）
化合物（Ａ−１）５．０ｍｇをジクロロメタン３００ｍＬに溶解させて、別に用意した窒化物または酸化物各０．５ｇ：窒化ホウ素（和光純薬社製、０２８−０２２８１）、窒化珪素（和光純薬社製、３２３−３８３３２）、窒化チタン（和光純薬社製、２００−１２４５１）、窒化アルミニウム（高純度化学社製、ＡＬＩ１４ＰＢ）、酸化チタン（和光純薬社製、２０７−１３６４２）、酸化亜鉛（和光純薬社製、２６４−００３６５）、および酸化アルミニウム（和光純薬社製、０１２−０１９６５）、にそれぞれ色素溶液２５ｍＬを添加して、攪拌棒で軽く攪拌した。約５分後、各溶液の上澄み液を０．４５ミクロンフィルター（ザルトリウス社製Ｍｉｎｉｓａｒｔ  ＲＣ１５）を使用してフィルターろ過した。このフィルターろ過した液を紫外・可視吸収スペクトル（島津製作所製ＵＶ−３１００ＰＣ）を用いて吸光度を測定した。結果を図２に示す。また、窒化物および酸化物を添加しない上記の化合物（Ａ−１）のジクロロメタン溶液の３５６ｎｍでの吸光度を１００％として、各窒化物、酸化物を添加後の上記ろ過液の３５６ｎｍでの吸光度を％で表した結果を以下表１に示す。【００６１】
【表１】
2016084873.tif 000019
【００６２】
上記表が示す結果から分かるように、窒化物または酸化物の添加前に比較して、窒化ホウ素、窒化珪素、窒化アルミニウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウムの添加後は顕著（５０％超）に３５６ｎｍでの吸光度が減少した。この減少分はボロン酸化合物が窒化物または酸化物の表面に吸着し、単分子膜を形成したことに相当する。【００６３】
化合物（Ａ−２）５．１ｍｇをジクロロメタン５００ｍＬに溶解させて、上記と同様に窒化物または酸化物０．５ｇに色素溶液２５ｍＬを添加して攪拌棒で軽く攪拌した。その後、上記と同様な操作の後にフィルターろ過した液を紫外・可視吸収スペクトルを用いて吸光度を測定した。結果を図３に示す。また、窒化物および酸化物を添加しない上記の化合物（Ａ−２）のジクロロメタン溶液の２４５ｎｍでの吸光度を１００％として、各窒化物、酸化物を添加後の上記ろ過液の２４５ｎｍでの吸光度での吸光度を％で表した結果を以下表２に示す。【００６４】
【表２】
2016084873.tif 000020
【００６５】
上記表が示す結果から分かるように、窒化物または酸化物の添加前に比較して、窒化ホウ素、窒化珪素、酸化チタン、酸化亜鉛の添加後は顕著（５０％超）に２４５ｎｍでの吸光度が減少した。この減少分はボロン酸化合物が粒子の表面に吸着し、単分子膜を形成したことに相当する。【００６６】
化合物（Ａ−３）５．０ｍｇをジクロロメタン３００ｍＬに溶解させて、同様に無機粒子０．５ｇに色素溶液２５ｍＬを添加して攪拌棒で軽く攪拌した。その後実施例１と同様な操作の後にフィルターろ過した液を紫外・可視吸収スペクトルを用いて吸光度を測定した。窒化物および酸化物を添加しない上記の化合物（Ａ−３）のジクロロメタン溶液の２６４ｎｍでの吸光度を１００％として、各窒化物、酸化物を添加後の上記ろ過液の２６４ｎｍでの吸光度を％で表した結果を以下表３に示す。【００６７】
【表３】
2016084873.tif 000021
【００６８】
上記表が示す結果から分かるように、窒化物または酸化物の添加前に比較して、窒化ホウ素、窒化珪素、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウムの添加後は顕著（５０％超）に２６４ｎｍでの吸光度が減少した。この減少分はボロン酸化合物が粒子の表面に吸着し、単分子膜を形成したことに相当する。【００６９】
化合物（Ａ−１）６．７４ｍｇを酢酸エチル４００ｍＬに溶解させて、窒化ホウ素の各種類（和光純薬社（ＷＡＫＯ特級）、ｐｌａｔｅｌｅｔｓ００１、ｐｌａｔｅｌｅｔｓ０１５、ｆｌａｋｅｓ  Ｈ３０／５００、ＡＧＧＬＯＭＥＲＡＴＥ  ５０、ＡＧＧＬＯＭＥＲＡＴＥ  １００（いずれもスリーエム社製））０．５ｇに色素溶液２５ｍＬを添加して攪拌棒で軽く攪拌した。その後実施例１と同様な操作の後にフィルターろ過した液を紫外・可視吸収スペクトルを用いて吸光度を測定した。結果を図４に示す。また、窒化ホウ素を添加しない上記の化合物（Ａ−１）の酢酸エチル溶液の３５６ｎｍでの吸光度を１００％として、窒化ホウ素添加後の上記ろ過液の３５６ｎｍでの吸光度の値を％で表した結果を以下表４に示す。【００７０】
【表４】
2016084873.tif 000022
【００７１】
上記表が示す結果から分かるように、各種窒化ホウ素の添加前に比較して各種窒化ホウ素の添加後は３５６ｎｍでの吸光度が減少した。この減少分はボロン酸化合物が粒子の表面に吸着し、単分子膜を形成したことに相当する。また、上記結果から窒化ホウ素の形状によって、ボロン酸化合物の表面への吸着量が異なることがわかる。【００７２】
［実施例２：熱伝導材料の作製］
（１）下記構造で示される重合性液晶化合物（メルク社製、ＲＭ−２５７）１７質量部、化合物Ａ−２で処理した窒化ホウ素８０質量部または未処理の窒化ホウ素８０質量部、および熱重合開始剤Ｖ−Ａｍ１１０（和光純薬社製、１０時間半減期温度１１０℃）３質量部をメチルエチルケトン１００質量部に溶解させ、組成物１及び２を得た。組成物１及び２をそれぞれポリビニルアルコールフィルム上にアプリケーターを用いて厚さが１００μになるように塗布した。組成物が塗布されたフィルムを室温で１時間乾燥し、さらに１２０℃で１２０分間乾燥し、半硬化させた後に、溶媒を留去し、ポリビニルアルコールフィルムを剥がして、プリプレグシートを得た。得られたプリプレグシートを厚さ４０μｍのアルミ箔で挟み、真空プレス成形（プレス温度；１３０℃、真空度；１ｋＰａ、プレス圧；６ＭＰａ、処理時間；２０分）を行ない、その後さらに４０分かけてプレス温度を１８０℃まで昇温した。プレス成形後、アルミ箔を剥がし、厚さ３２０μｍのシート状の硬化物を得た。【００７３】
【化１７】
2016084873.tif 000023
【００７４】
ＮＥＴＺＣＩＩ製キセノンフラッシュアナライザーnanoflash LFA447型を用いて、得られた硬化物の熱伝導度を測定したところ処理済の窒化ホウ素を用いた組成液１の硬化物は７．２Ｗ/ｍ・Ｋであったのに対して、未処理の窒化ホウ素を用いた組成液２の硬化物は５．６Ｗ/ｍ・Ｋという一段劣る性能であった。【００７５】
（２）上記（１）で用いた重合性液晶化合物を特許第２６９６４８０号
に記載の下記化合物に替えた以外は実施例１と同様にして厚さ３００μｍのシート状の硬化物を得た。【００７６】
【化１８】
2016084873.tif 000024
【００７７】
ＮＥＴＺＣＩＩ製キセノンフラッシュアナライザーnanoflash LFA447型を用いて、得られた硬化物の熱伝導度を測定したところ処理済の窒化ホウ素を用いた組成液１の硬化物は８．１Ｗ/ｍ・Ｋであったのに対して、未処理の窒化ホウ素を用いた組成液２の硬化物は５．９Ｗ/ｍ・Ｋという一段劣る性能であった。
【図１】
2016084873.tif 000027
【図２】
2016084873.tif 000028
【図３】
2016084873.tif 000029
【図４】
2016084873.tif 000030
【手続補正書】
【提出日】平成28年4月11日(2016.4.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（削除）
【請求項２】
無機窒化物がボロン酸化合物で表面修飾された表面修飾無機物であって、
前記無機窒化物がホウ素もしくは珪素を含むか、または前記無機窒化物が窒化アルミニウムである表面修飾無機物。
【請求項３】
前記無機窒化物がホウ素または珪素を含む請求項２に記載の表面修飾無機物。
【請求項４】
前記無機窒化物が窒化ホウ素である請求項２に記載の表面修飾無機物。
【請求項５】
前記無機窒化物が窒化アルミニウムである請求項２に記載の表面修飾無機物。
【請求項６】
無機酸化物がボロン酸化合物で表面修飾された表面修飾無機物であって、
前記ボロン酸化合物が以下の一般式Ｉで表される表面修飾無機物；
【化１】
2016084873.tif 000031
式中、Ｚは、重合性基、水素原子、第４級アンモニウム基もしくはその塩または置換基を有していてもよい第４級ピリジニウム基もしくはその塩を表し、
Ｘは、２つ以上の連結基Ａの組み合わせで構成される連結基、または１つ以上の連結基Ａおよび１つ以上の連結基Ｂの組み合わせで構成される連結基、または置換基を有していてもよい２価の脂肪族炭化水素基を表し、
連結基Ａは、置換基を有していてもよい２価の脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよいアリーレン基、および置換基を有していてもよいヘテロアリーレン基からなる群より選択され、
連結基Ｂは、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＣＯＯ−、および−Ｏ−ＣＯＯ−からなる群より選択され、
Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよいアリール基、又は置換基を有していてもよいヘテロアリール基を表し、Ｒ１およびＲ２は、アルキレン連結基、アリール連結基、又はこれらの組み合わせからなる連結基を介して連結していてもよい。
【請求項７】
前記無機酸化物が酸化チタン、酸化アルミニウム、または酸化亜鉛である請求項６または２２に記載の表面修飾無機物。
【請求項８】
前記表面修飾が前記無機窒化物または前記無機酸化物表面にボロン酸化合物が共有結合することによる修飾である請求項２〜７、請求項９〜１１および請求項２１〜２２のいずれか一項に記載の表面修飾無機物。
【請求項９】
前記ボロン酸化合物が以下の一般式Ｉで表される請求項２〜５、および請求項２１のいずれか一項に記載の表面修飾無機物。
【化２】
2016084873.tif 000032
式中、Ｚは、重合性基、水素原子、ハロゲン原子、第４級アンモニウム基もしくはその塩または置換基を有していてもよい第４級ピリジニウム基もしくはその塩を表し、Ｘは、置換基を有していてもよい２価の脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよいアリーレン基、および置換基を有していてもよいヘテロアリーレン基からなる群より選択される連結基Ａを少なくとも１つ含む２価の連結基を表し、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよいアリール基、又は置換基を有していてもよいヘテロアリール基を表し、Ｒ１およびＲ２は、アルキレン連結基、アリール連結基、又はこれらの組み合わせからなる連結基を介して連結していてもよい。
【請求項１０】
前記ボロン酸化合物が以下の一般式ＩＩで表される請求項２〜５、および請求項２１のいずれか一項に記載の表面修飾無機物；
【化３】
2016084873.tif 000033
式中、Ｚは、重合性基、水素原子、ハロゲン原子、第４級アンモニウム基もしくはその塩または置換基を有していてもよい第４級ピリジニウム基もしくはその塩を表し、Ｘ２は、置換基を有していてもよい２価の脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよいアリーレン基、および置換基を有していてもよいヘテロアリーレン基からなる群より選択される連結基Ａを少なくとも１つ含むｎ＋１価の連結基を表し、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよいアリール基、又は置換基を有していてもよいヘテロアリール基を表し、Ｒ１およびＲ２は、アルキレン連結基、アリール連結基、又はこれらの組み合わせからなる連結基を介して連結していてもよく、ｎは２以上の整数を表す。
【請求項１１】
前記一般式Ｉまたは前記一般式ＩＩにおいて、Ｚが（メタ）アクリレート基、オキシラニル基または水素原子である請求項９または１０に記載の表面修飾無機物。
【請求項１２】
請求項２〜１１および請求項２１〜２２のいずれか一項に記載の表面修飾無機物を含む放熱材料。
【請求項１３】
請求項２〜１１および請求項２１〜２２のいずれか一項に記載の表面修飾無機物を含む熱伝導材料。
【請求項１４】
請求項２〜１１および請求項２１〜２２のいずれか一項に記載の表面修飾無機物を含む潤滑剤。
【請求項１５】
無機窒化物または無機酸化物にボロン酸化合物を接触させることを含む請求項２〜１１および請求項２１〜２２のいずれか一項に記載の表面修飾無機物の製造方法。
【請求項１６】
前記接触が無機窒化物または無機酸化物およびボロン酸化合物を含む溶液を攪拌することにより行われる請求項１５に記載の表面修飾無機物の製造方法。
【請求項１７】
前記溶液の溶媒が、酢酸エチル、メチルエチルケトンまたはジクロロメタンである請求項１６に記載の表面修飾無機物の製造方法。
【請求項１８】
（削除）
【請求項１９】
（削除）
【請求項２０】
（削除）
【請求項２１】
無機窒化物がボロン酸化合物で表面修飾された表面修飾無機物であって、−ＮＨ−Ｂ−で表される結合を含む表面修飾無機物。
【請求項２２】
前記一般式Ｉにおいて、Ｚが（メタ）アクリレート基、オキシラニル基または水素原子である請求項６に記載の表面修飾無機物。
【国際調査報告】
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