(57)【要約】  分析装置２００に複数の試料を順次導入するための試料導入システムにおいて、サンプルラック３１０上に載置されたプレート３１１が備える各ウェル３１２又は該ウェル３１２にセットされた試料容器３１３から試料を吸引するサンプリングニードル３０２と、該サンプリングニードル３０２を水平方向及び垂直方向に移動させるニードル駆動機構３０３とを備えるオートサンプラ３００と、ニードル駆動機構３０３によるサンプルニードル３０２の移動を使用者が指示するための操作部１０と、使用者が操作部１０を操作することでニードル駆動機構３０３を動作させてサンプリングニードル３０２をプレート３１１上の基準点となる所定位置に移動させる較正作業において、前記基準点と対応付けられたウェル３１２の識別子を表示部３０の画面上に表示させる表示制御部２８とを備える。
2015177857.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
サンプルラック上に載置されたプレートが備える各ウェル又は該ウェルにセットされた試料容器に収容された試料を分析する分析装置に複数の試料を順次導入するためのシステムであって、
a)前記各ウェル又は前記試料容器から試料を吸引するサンプリングニードルと、該サンプリングニードルを水平方向及び垂直方向に移動させるニードル駆動機構とを備えるオートサンプラと、
b)前記ニードル駆動機構による前記サンプルニードルの移動を使用者が指示するための操作部と、
c)使用者が前記操作部を操作することで前記ニードル駆動機構を動作させて前記サンプリングニードルを前記プレート上の基準点となる所定位置に移動させる較正作業において、前記基準点と対応付けられたウェルの識別子を表示部の画面上に表示させる表示制御部と、
を備えることを特徴とする試料導入システム。
【請求項２】
d)前記サンプルラック上に載置された前記プレートの種類を特定するプレート特定部と、
e)前記プレート特定部が特定した前記プレートの種類ごとに、前記基準点と対応付けられたウェルの識別子を特定するウェル識別子特定部と、
をさらに備え、
前記表示制御部は、前記ウェル識別子特定部によって特定されたウェルの識別子を前記表示部の画面上に表示させることを特徴とする請求項１に記載の試料導入システム。
【請求項３】
前記表示制御部はさらに、前記較正作業において、前記基準点と対応付けられたウェルの前記プレートにおける位置を示す画像を、当該ウェルの識別子とともに前記表示部の画面上に表示させることを特徴とする請求項１又は２に記載の試料導入システム。
【請求項４】
サンプルラック上に載置されたプレートが備える各ウェル又は該ウェルにセットされた試料容器から試料を吸引するサンプリングニードル、及び該サンプリングニードルを水平方向及び垂直方向に移動させるニードル駆動機構を備えるオートサンプラと、前記ニードル駆動機構による前記サンプルニードルの移動を使用者が指示するための操作部とを有する、分析装置に複数の試料を順次導入するための試料導入システムにおいて、前記オートサンプラの動作を制御するための制御装置であって、
使用者が前記操作部を操作することで前記ニードル駆動機構を動作させて前記サンプリングニードルを前記プレート上の基準点となる所定位置に移動させる較正作業において、前記基準点と対応付けられたウェルの識別子を表示部の画面上に表示させる表示制御手段を備えることを特徴とする制御装置。
【請求項５】
a)前記サンプルラック上に載置された前記プレートの種類を特定するプレート特定手段と、
b)前記プレート特定手段が特定した前記プレートの種類ごとに、前記基準点と対応付けられたウェルの識別子を特定するウェル識別子特定手段と、
をさらに備え、
前記表示制御手段は、前記ウェル識別子特定手段によって特定されたウェルの識別子を前記表示部の画面上に表示させることを特徴とする請求項４に記載の制御装置。
【請求項６】
前記表示制御手段はさらに、前記較正作業において、前記基準点と対応付けられたウェルの前記プレートにおける位置を示す画像を、当該ウェルの識別子とともに前記表示部の画面上に表示させることを特徴とする請求項４又は５に記載の制御装置。
【請求項７】
コンピュータを請求項４〜６のいずれかに記載の制御装置の各手段として機能させるための制御プログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、試料を分析するための分析装置に複数の試料を順次導入するオートサンプラを含む試料導入システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、液体クロマトグラフを使用して複数の試料を自動的に分析しようとする場合、各試料を該液体クロマトグラフに順次導入するためにオートサンプラが用いられる。オートサンプラは、試料容器（例えばバイアル）をセットするためのウェル（有底の穴）、又は試料を直接セットするためのウェルを複数備えるプレートを、１枚又は複数枚載置可能なサンプルラック（例えば特許文献１を参照）を収容するとともに、予め指定された順序で各ウェルから所定量の試料を採取して液体クロマトグラフの移動相流路に注入する。【０００３】
オートサンプラによる試料の採取は、サンプリングニードルが降下して（セプタム（試料容器の蓋）やプレート用のフィルムがあればこれを貫通して）液体試料に先端を浸漬させた状態で液体試料を吸引することにより行われる。プレートに設けられたウェルの個数及び該ウェルの配置はプレートの種類ごとに規定されている。そこで、こうしたウェルの個数及び配置情報に基づき、指定されたウェルの中心に自動的にニードルが降下するよう、各ウェルに対する降下位置の初期値がプレートの種類ごとに定められている。しかしながら、サンプルラック上でのプレートの位置ずれ（特に水平面内での傾き等）により、該初期値に基づく位置にて降下したニードルの先端が、プレート上の指定されたウェルの中心から大きくずれることがしばしばある。そのため、ニードルの先端が試料容器（又はウェル）からはみ出さぬように、降下位置の較正作業が従来より行われている。具体的には、まず、プレートの種類ごとに予め定められた、較正の基準となる複数のウェル（例えば図１０に黒丸で示す４個のウェル、以下「基準ウェル」とする。）の直上、すなわち該複数のウェルに対する降下位置の初期値として定められた位置にニードルが移動し、停止する。次に、ユーザがニードルを徐々に降下させ、該ニードルが各基準ウェルの中心を通るように目視で確認しつつ、ニードルの水平面内の位置を調整する。そして、ニードルが基準ウェルの中心を通ることが確認されれば、ユーザの指示により前記基準ウェルに対する降下位置が確定される。【０００４】
このような較正作業により、サンプルラック上でのプレートの位置ずれによって生じる、基準ウェルに対するニードルの降下位置の初期値と確定値との差分値が算出され、分析における試料採取時には該差分値に基づいて各ウェルに対するニードルの降下位置が補正される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開2012-185001号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
プレートの上面には、図１０に示すようにウェルごとの番号（ウェル番号）が印字されており、較正作業においてユーザはこの印字された番号を目視で参照してニードルの降下位置を調整する。同図に示す例ならば、ポジション１の決定時には第１プレートの１番のウェルの中心にニードルが降下するように、水平面内の位置を調整する。【０００７】
較正作業においては、各基準ウェルの番号をユーザが正確に把握していないことが原因で、適切な較正が行われない場合がある。例えば、図１０に示すポジション３に対応する第１プレートの９番のウェルの直上に移動したニードルを、ポジション４に対応する第２プレートの１番のウェル（あるいはポジション３に近接する別のウェル）の中心に誤って誘導してしまうといったことが起こり得る。こうしたミスが発生すると、ウェルの位置とニードルの降下位置とにずれが生じ、分析の際にニードルが指定されたウェルから試料を採取することができないという不都合が生じ得る。
ユーザが分析装置のマニュアルを参照してプレートの種類ごとに各ポジションに対応する基準ウェルの番号を確認すれば上述のようなミスを防ぐことはできるが、こうした作業はユーザを煩わせることになりやすい。【０００８】
本発明は上記の事情に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、サンプリングニードルの降下位置の較正作業において、ユーザによる位置調整ミスを簡易に防止可能な試料分析システム等を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために成された本発明に係る試料導入システムは、
サンプルラック上に載置されたプレートが備える各ウェル又は該ウェルにセットされた試料容器に収容された試料を分析する分析装置に複数の試料を順次導入するためのシステムであって、
a)前記各ウェル又は前記試料容器から試料を吸引するサンプリングニードルと、該サンプリングニードルを水平方向及び垂直方向に移動させるニードル駆動機構とを備えるオートサンプラと、
b)前記ニードル駆動機構による前記サンプルニードルの移動を使用者が指示するための操作部と、
c)使用者が前記操作部を操作することで前記ニードル駆動機構を動作させて前記サンプリングニードルを前記プレート上の基準点となる所定位置に移動させる較正作業において、前記基準点と対応付けられたウェルの識別子を表示部の画面上に表示させる表示制御部と、
を備えることを特徴とする。【００１０】
前記操作部は、オートサンプラに備えられていてもよいし、該オートサンプラと接続された制御装置が備えるものであってもよい。あるいはこれらとは独立に設けられていてもよく、その設置場所は特に限定されない。【００１１】
また前記ウェルの識別子としては、例えば上述のウェル番号を用いることができる。なお、サンプルラック上に複数のプレートを載置可能である場合には、表示制御部は、前記ウェルの識別子に加えて該ウェルが設けられているプレートの識別子を表示してもよい。【００１２】
上記の構成によれば、プレート上の基準点となる所定位置にサンプリングニードルを移動させる較正作業において、表示部の画面上に当該基準点と対応付けられたウェルの識別子が表示される。これにより使用者は、較正作業時に表示部を参照すれば、ニードルを誘導すべきウェルの識別子を容易に把握することができる。従って、ユーザはこの表示されたウェルの識別子と、プレートの上面に印字された番号等の識別子とを照合することでニードルを適切なウェルに誘導することができ、較正作業における位置調整ミスが防止される。【００１３】
前記試料導入システムはさらに、
d)前記サンプルラック上に載置された前記プレートの種類を特定するプレート特定部と、
e)前記プレート特定部が特定した前記プレートの種類ごとに、前記基準点と対応付けられたウェルの識別子を特定するウェル識別子特定部と、
を備え、
前記表示制御部は、前記ウェル識別子特定部によって特定されたウェルの識別子を前記表示部の画面上に表示させることが好ましい。【００１４】
上記の構成によれば、プレートの種類ごとに異なるウェルが各基準点と対応付けられているような場合に、ユーザがプレートの種類を変更して分析を行うに際して分析装置のマニュアルを確認するといった作業が不要となり、利便性の向上に寄与する。【００１５】
前記表示制御部はさらに、前記較正作業において、前記基準点と対応付けられたウェルの前記プレートにおける位置を示す画像を、当該ウェルの識別子とともに前記表示部の画面上に表示させることが好ましい。【００１６】
上記の構成によれば、使用者はニードルを誘導すべきウェルのプレート上での位置を視覚的に把握することができるため、位置調整ミスがより効果的に防止される。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、サンプリングニードルの降下位置の較正作業において、ユーザによる位置調整ミスを簡易に防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る試料導入システムを含む試料分析システムの概略構成を示すブロック図。
【図２】図１に示す試料分析システムの外観を示す斜視図。
【図３】同実施形態において参照されるポジション対応テーブルのデータ構造例。
【図４】同実施形態において参照される、１．５ｍＬ試料びん用プレートの各ウェルに対するサンプリングニードルの降下位置座標を示すウェル座標テーブルのデータ構造例。
【図５】同実施形態において制御装置及びオートサンプラが行う較正情報算出処理の流れを示すフローチャート。
【図６】同実施形態における表示部による画面表示例であり、（ａ）は較正作業開始時を、（ｂ）はポジション１に係る降下位置調整時の例を示す。
【図７】同実施形態における表示部による画面表示例であり、（ａ）はポジション２、（ｂ）はポジション３、（ｃ）はポジション４に係る降下位置調整時の例を示す。
【図８】本発明の第２の実施形態に係る試料分析システムにおける、ポジション１に係る降下位置調整時の表示部による画面表示例。
【図９】本発明の第３の実施形態に係る試料分析システムの概要を示す説明図。
【図１０】サンプルラック上に載置された２個のプレートを、該プレートに対応する４個の基準ウェルとともに示す上面図。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、本発明を実施するための形態について、図面を参照しつつ詳細に説明する。以下の記載において、先に説明した図面と同一の機能を有する部材には同一の番号を付し、その説明を省略する。
【００２０】
〔第１の実施形態〕
図１は本発明の第１の実施形態に係る試料導入システムを含む試料分析システム１の概略構成を示すブロック図である。試料分析システム１は、制御装置１００と、液体クロマトグラフ装置（ＬＣ）２００と、オートサンプラ３００とを含む。このうち、制御装置１００とオートサンプラ３００とから成るシステムが、本発明の試料導入システムに相当する。
なおＬＣ２００は本発明における分析装置の一例であり、本発明の分析装置は例えば液体クロマトグラフ質量分析装置（ＬＣ−ＭＳ）、ガスクロマトグラフ装置（ＧＣ）、ガスクロマトグラフ質量分析装置（ＧＣ−ＭＳ）、又は分光光度計等であってもよい。
【００２１】
試料分析システム１は、図２に示すように一体の装置として実現される。これらの他に、ワークステーションやＰＣ（Personal Computer）等から成る外部の制御用コンピュータが制御装置１００と有線又は無線で接続されていてもよく、該制御用コンピュータによってユーザが分析作業を管理したりＬＣ２００で得られたデータを解析・処理したりするようにしてもよい。
【００２２】
ＬＣ２００は、移動相容器２０１に収容された移動相を送液する送液ポンプ２０２と、液体試料を移動相流路に注入するインジェクタ２０３と、カラム２０５を収容すると共に、該カラム２０５を所定の温度に維持するためのヒータ２０６を備えたカラムオーブン２０４と、カラム２０５から順次溶出される試料成分を検出するための検出器２０７とを備えている。
【００２３】
インジェクタ２０３には、移動相流路に注入する液体試料を所定量採取するためのオートサンプラ３００が接続されている。オートサンプラ３００は、２個のプレート３１１（第１プレート３１１ａ及び第２プレート３１１ｂ）が載置されたサンプルラック３１０を収容可能なサンプルラック収容部３０１を備えており、更に、プレート３１１上の各ウェル３１２に収容された試料容器３１３から試料を吸引するためのサンプリングニードル３０２と、サンプリングニードル３０２を水平方向及び垂直方向に移動させるためのニードル駆動機構３０３とを備えている。
【００２４】
サンプルラック収容部３０１の壁面にはフォトセンサ３０４が備えられている。また、サンプルラック３１０上のプレート３１１には、該プレート３１１の種類を示すための認識部３１４が設けられている。認識部３１４にはプレート３１１の種類ごとに異なる識別情報が付されており、該識別情報は例えばバーコードやＱＲコード（登録商標）等である。サンプルラック収容部３０１にサンプルラック３１０が収容されたことを不図示の収容センサが検知すると、フォトセンサ３０４が認識部３１４に付された識別情報を読み取る。フォトセンサ３０４による読み取り結果は制御装置１００が備えるプレート特定部２５に出力される。
なお、プレート３１１の種類を表す識別情報の別の例として、ＲＦＩＤ（Radio Frequency IDentification）等の非接触型のＩＣタグが認識部３１４に付されていてもよい。この場合オートサンプラ３００は、このＩＣタグを読み取るための読み取り器を、フォトセンサ３０４に代えて備えていればよい。あるいは、特許文献１に記載された技術を用いてもよい。
【００２５】
制御装置１００の実態はコンピュータであり、タッチパネル１０（本発明の操作部に相当）、制御部２０、表示部３０及び記憶部４０を備えて成る構成である。制御装置１００はこの他に、上述のような外部の制御用コンピュータとの接続を司る通信手段を備えていてもよい。
【００２６】
タッチパネル１０は、ユーザによるタッチ（指示体の接触又は近接）を検知するための手段であり、例えば静電容量方式や抵抗膜方式のタッチパネルによって実現される。本実施形態では、サンプリングニードル３０２の降下位置の調整はタッチパネル１０を介した入力操作によって行われる。
【００２７】
制御部２０は、制御装置１００が備える各要素の機能を統括し、制御装置１００の動作を制御する。制御部２０は例えばＣＰＵ（Central Processing Unit）等で実現され、制御部２０が備える後述の各要素は、制御部２０としてのＣＰＵが、記憶部４０に記憶されているプログラムを、ＲＡＭ等の揮発性記憶装置で構成される不図示の一時記憶領域に読み出して実行することで実現される。
制御部２０は、図１に示すとおり、機能ブロックとして、操作取得部２１、ポジション決定部２２、較正情報算出部２３、分析制御部２４、プレート特定部２５、ウェル番号特定部２６（本発明のウェル識別子特定部及びウェル識別子特定手段に相当）、画像生成部２７及び表示制御部２８を備えている。
【００２８】
操作取得部２１は、タッチパネル１０が検知した操作信号（例えば、静電容量方式のタッチパネルの場合は各電極の容量値）を取得し、該操作信号に基づき、ユーザによるタッチ操作がなされた位置の座標を特定するとともに、これを操作情報として後述のポジション決定部２２や分析制御部２４に出力する。座標特定の方法については公知の技術を用いることができる。
【００２９】
ポジション決定部２２は、較正に係る各ポジションに対応するウェル３１２（基準ウェル）に対するサンプリングニードル３０２の降下位置の水平面内座標を決定する。具体的には、ポジション決定部２２は、操作取得部２１から、或る基準ウェルに対するサンプリングニードル３０２の降下位置を決定する旨の操作情報（例えば所定のＧＵＩ（Graphical User Interface）ボタンの表示領域上でのタッチ操作）を取得すると、後述するニードル駆動制御部２４１から現在のサンプリングニードル３０２の停止位置の水平面内座標を取得し、これを当該基準ウェルに対するサンプリングニードル３０２の降下位置として決定するとともに、該座標を一時記憶領域に保存する。
以下の記載において、サンプリングニードル３０２の降下位置及びウェル３１２の中心点（本発明の基準点に相当）に関して単に「座標」と表現するとき、特に断りがない限りは水平面内座標を意味する。
【００３０】
較正情報算出部２３は、較正情報を算出する。具体的には、較正情報算出部２３は、各基準ウェルに対するサンプリングニードル３０２の降下位置座標について、ポジション決定部２２が決定した値と、後述するウェル座標テーブル４００に登録されている初期値との差分を求める。
なお、上記差分値は本実施形態における一例であり、上記差分値を所定の式に代入して得られた値を較正情報としてもよい。
【００３１】
分析制御部２４は、ユーザが指示した分析が適切に実行されるよう、ＬＣ２００及びオートサンプラ３００の動作を制御するものである。具体的には、分析制御部２４は、操作取得部２１から取得した操作情報に基づき分析条件等を定め、該定めた分析条件等に従ってＬＣ２００及びオートサンプラ３００に対し所定の駆動信号を出力する。分析制御部２４はまた、ＬＣ２００による分析結果を取得し、該分析結果や現在の設定値等を、表示制御部２８を介して表示部３０の画面上に画像として表示させる。別の例として、分析制御部２４は、外部の制御用コンピュータ上で設定された分析条件等を不図示の通信手段を介して取得し、該取得した分析条件等に従ってＬＣ２００及びオートサンプラ３００に対し所定の駆動信号を出力してもよい。分析制御部２４は、ニードル駆動制御部２４１を備える。
【００３２】
ニードル駆動制御部２４１は、ニードル駆動機構３０３に対し、サンプリングニードル３０２を移動させるための駆動信号を出力する。具体的には、ニードル駆動制御部２４１は、ユーザの指示等に従って水平方向及び／又は垂直方向にサンプリングニードル３０２が所定量移動するよう、ニードル駆動機構３０３に対し駆動信号を出力する。ニードル駆動制御部２４１は、サンプルラック収容部３０１内でのサンプリングニードル３０２の位置を(x, y, z)の３次元座標によって定義する。なお、ｚ軸を垂直軸とする。ニードル駆動制御部２４１は補正処理部２４２を備える。
【００３３】
補正処理部２４２は、各ウェル３１２に対するサンプリングニードル３０２の降下位置座標を補正するものである。具体的には、制御装置１００の製造時に設定された所定の補正式に較正情報算出部２３が算出した較正情報を加味したものを、各ウェル３１２に対する降下位置座標の初期値に対し適用し、その値を変換する。
【００３４】
プレート特定部２５は、サンプルラック３１０上に載置されたプレート３１１の種類を特定する。具体的には、プレート特定部２５は、プレート３１１の認識部３１４に付された識別情報の読み取り結果をフォトセンサ３０４から取得し、該取得した読み取り結果を、後述するプレート情報記憶部４３に格納されている対応表（不図示）に照会することで、プレート３１１の種類、すなわちウェル３１２の数や配置を特定する。
【００３５】
ウェル番号特定部２６は、基準ウェルの番号を特定する。具体的には、ウェル番号特定部２６は、プレート特定部２５によって特定されたプレート３１１の種類を、後述するポジション対応テーブル４２に照会し、当該プレート３１１について各ポジションと紐付けられているウェル３１２の番号を特定する。
【００３６】
画像生成部２７は、基準ウェルの番号及び位置を視覚的に示す較正作業支援画像６００（図６（ｂ）及び図７参照）を生成する。具体的には、画像生成部２７は、プレート特定部２５が特定したプレート３１１の種類と、ウェル番号特定部２６が特定した基準ウェルの番号とに基づき、各基準ウェルの番号と、当該基準ウェルのプレート３１１上での位置とを示す画像を生成する。
【００３７】
表示制御部２８は、表示部３０に対し、制御部２０によって処理された各種情報の映像信号を出力するものである。本実施形態では特に、画像生成部２７が生成した較正作業支援画像６００を、表示部３０の画面上に表示させる。表示制御部２８はこの他、所定の通知画像やＧＵＩボタン等を表示させる機能も具備する。
【００３８】
表示部３０は、制御装置１００が扱う情報を表示するものであり、例えばＬＣＤ（Liquid Crystal Display）等の表示装置によって実現される。また、表示部３０はタッチパネル１０と重畳するようにタッチパネル１０の裏面側に設けられており、ＧＵＩボタン等を表示することでユーザのタッチ操作を補助する。
【００３９】
記憶部４０は、制御装置１００の制御部２０が実行する制御プログラム及びＯＳ（Operating System）プログラム、制御部２０が本発明の分析装置としての各種機能を実行するためのアプリケーションプログラム、並びに制御部２０が該アプリケーションプログラムを実行するときに読み出す各種データを非一時的に記憶するものであり、ＲＯＭ（Read only Memory）、フラッシュメモリ、ＥＰＲＯＭ（Erasable Programmable ROM）、ＥＥＰＲＯＭ（登録商標）（Electrically EPROM）、ＨＤＤ（Hard Disc Drive）及びＳＳＤ（Solid State Drive）等の不揮発性記憶装置によって実現される。記憶部４０は、較正情報記憶部４１、ポジション対応テーブル４２及びプレート情報記憶部４３を備える。
【００４０】
較正情報記憶部４１は、較正情報算出部２３が算出した、補正処理部２４２によるサンプリングニードル３０２の降下位置の補正において用いられる較正情報を記憶する。
【００４１】
ポジション対応テーブル４２は、各ポジションに、所定のウェル３１２（すなわち基準ウェル）の番号と該ウェル３１２が設けられたプレート３１１の番号とを紐付けた対応テーブルである。図３にポジション対応テーブル４２のデータ構造の一例を示す。同図に示すポジション対応テーブル４２では、プレート３１１の種類ごとに、各基準ウェルの番号と、該基準ウェルが設けられたプレート３１１の番号とが規定されている。
なお、同図に例示するポジション対応テーブル４２は、サンプルラック３１０上に同じ種類のプレート３１１が２個載置されることを前提としているため、第１のプレート３１１ａ上に３個、第２のプレート３１１ｂ上に１個のポジションが設定されている。ポジション１〜３により、第１プレート３１１ａの水平面内の傾きが求められ、同型のプレートである第２プレート３１１ｂの傾きも同じであると仮定される。そして、ポジション４により第１プレート３１１ａと第２プレート３１１ｂとの載置間隔が特定される。異なる種類の複数のプレート３１１が載置される場合には、各プレート３１１についてポジション１〜３が設定されてもよい。
【００４２】
プレート情報記憶部４３は、プレート３１１の種類ごとの各種情報を記憶する。ここでの各種情報とは具体的には、プレート３１１の種類と所定の識別情報との対応関係や、プレート３１１に設けられた各ウェル３１２に対するサンプリングニードル３０２の降下位置座標のリスト等である。後者の例を図４に示す。ウェル座標テーブル４００は、サンプルラック３１０上に載置された位置に応じたプレート３１１（一例として１．５ｍＬ試料びん用プレート）の番号と、各プレート３１１に設けられた複数のウェル３１２の番号と、当該複数のウェル３１２に対するサンプリングニードル３０２の降下位置座標(x', y')とを対応付けたものである。なお、この座標は予め設定された初期値であり、実際の分析では(x', y')に上述の較正情報を加味した補正値(x, y)がサンプリングニードル３０２の降下位置となる。
【００４３】
〔較正情報算出処理の流れ〕
以下、フローチャートである図５、及び表示部３０による画面表示例である図６〜図７を参照しつつ、制御装置１００及びオートサンプラ３００による較正情報算出処理の流れについて説明を行う。今、ユーザがプレート３１１ａ、３１１ｂ上のウェル３１２に複数の試料容器３１３をそれぞれセットし、該プレート３１１ａ、３１１ｂを載置したサンプルラック３１０をオートサンプラ３００のサンプルラック収容部３０１に収容したものとする。
【００４４】
これにより、不図示の収容センサがサンプルラック３１０が収容されたことを検知し（ステップＳ１０１でＹｅｓ）、フォトセンサ３０４が認識部３１４に付された光学情報を読み取る。該読み取り結果は制御装置１００が備えるプレート特定部２５に出力される。
なお、サンプルラック３１０の収容が検知されない場合は（ステップＳ１０１でＮｏ）、収容が検知されるまで待機の状態となる。
【００４５】
次に、プレート特定部２５がプレート３１１ａ、３１１ｂの種類を特定する（ステップＳ１０２）。具体的には、プレート特定部２５は、フォトセンサ３０４による光学情報の読み取り結果をプレート情報記憶部４３に照会し、プレート３１１ａ、３１１ｂの種類を特定する。
【００４６】
次に、ウェル番号特定部２６が基準ウェルの番号を特定する（ステップＳ１０３）。具体的には、ウェル番号特定部２６は、ステップＳ１０２にてプレート特定部２５が特定したプレート３１１ａ、３１１ｂの種類をポジション対応テーブル４２に照会する。そして、現在サンプルラック３１０に載置されているプレート３１１ａ、３１１ｂについて、各ポジションと紐付けられているウェル３１２の番号、及び該ウェル３１２が設けられたプレート３１１の番号を特定する。
【００４７】
ユーザによる較正開始の指示があれば（ステップＳ１０４でＹｅｓ）、まずポジション１について（ステップＳ１０５）、ニードル駆動機構３０３が、基準ウェルＷ１の直上にサンプリングニードル３０２を移動させる（ステップＳ１０６）。ここで、ステップＳ１０４における較正開始の指示とは、例えば図６（ａ）に示すような、表示部３０の画面上に表示された、較正作業を開始するためのＧＵＩボタン６０１の領域内でのタップ（タッチパネル１０を指示体で軽く叩く操作）であってもよい。操作取得部２１が該領域におけるタップを検出すると、ニードル駆動制御部２４１は、ポジション対応テーブル４２にて規定されるポジション１の基準ウェルＷ１を、プレート情報記憶部４３に記憶されているウェル座標テーブル４００に照会する。そして、当該基準ウェルＷ１に対するサンプリングニードル３０２の降下位置座標の初期値(x', y')に基づき、ニードル駆動機構３０３に所定の駆動信号を出力する。ニードル駆動機構３０３は該駆動信号に従い、サンプリングニードル３０２を(x', y')の位置に移動させる。
【００４８】
次に、表示制御部２８が、基準ウェルＷ１の番号Ｎ１及び位置を表示部３０の画面上に表示させる（ステップＳ１０７）。具体的には、まず画像生成部２７が、ステップＳ１０２にて特定されたプレート３１１ａ、３１１ｂの種類と、ステップＳ１０３にて特定された基準ウェルの番号及び該基準ウェルが設けられたプレート３１１の番号とに基づいて、図６（ｂ）に示すような較正作業支援画像６００を生成する。較正作業支援画像６００は、基準ウェルＷｉの番号Ｎｉと、プレート３１１ａ、３１１ｂ上での位置とをユーザに視覚的に提示するための画像である。画像生成部２７は生成した較正作業支援画像６００を表示制御部２８に出力し、表示制御部２８はこの較正作業支援画像６００を表示部３０の画面に表示させるための映像信号を、表示部３０に対し出力する。
なお、ステップＳ１０６とＳ１０７とは順序が逆であっても構わない。
【００４９】
本実施形態では、ステップＳ１０７において表示制御部２８はさらに、図６（ｂ）に示すように、ＧＵＩとして、サンプリングニードル３０２を水平方向及び垂直方向に移動させるための移動ボタン６０２及び６０３と、サンプリングニードル３０２の降下位置の決定を指示するための決定ボタン６０４とを表示させる。操作取得部２１が移動ボタン６０２、６０３の表示領域上でのタッチ操作を検出すると、分析制御部２４が備えるニードル駆動制御部２４１が、該タッチ操作の位置・回数・持続時間等に基づき、ニードル駆動機構３０３に対し所定の駆動信号を出力する。ニードル駆動機構３０３は該駆動信号に従い、サンプリングニードル３０２を水平方向及び垂直方向に所定量移動させる（ステップＳ１０８）。
【００５０】
その後、ユーザによる位置決定指示があれば（ステップＳ１０９でＹｅｓ）、ポジション決定部２２が基準ウェルＷ１に対するサンプリングニードル３０２の降下位置座標を決定する（ステップＳ１１０）。具体的には、操作取得部２１が決定ボタン６０４の表示領域上でのタップを検出すると、ポジション決定部２２は、ニードル駆動制御部２４１から現在のサンプリングニードル３０２の停止位置の水平面内座標を取得し、これを基準ウェルＷ１に対するサンプリングニードル３０２の降下位置として決定するとともに、該座標を一時記憶領域に保存する。
【００５１】
続いてポジション決定部２２はｉをインクリメントし（ステップＳ１１１）、ｉが予め設定されたポジションの総数Ｉ（本実施形態ではＩ＝４）を上回っていなければ（ステップＳ１１２でＮｏ）、次なるポジションｉについてステップＳ１０６〜Ｓ１１２を実行する。図７（ａ）〜（ｃ）に、ポジション２〜４についてのステップＳ１０７における表示部３０による画面表示例を示す。
【００５２】
一方、ステップＳ１１１におけるインクリメントの結果、ｉがＩを上回った場合（ステップＳ１１２でＹｅｓ）、この判定結果は全てのポジションについて基準ウェルに対するサンプリングニードル３０２の降下位置が決定されたことを意味するため、続いて較正情報算出部２３が較正情報を算出する（ステップＳ１１３）。具体的には、較正情報算出部２３は、基準ウェルＷｉに対するサンプリングニードル３０２の降下位置座標について、ステップＳ１１０にてポジション決定部２２が決定した値と、ウェル座標テーブル４００に登録されている初期値との差分を求める。該求められた差分値は較正情報として較正情報記憶部４１に保存される。
本ステップにて求められた較正情報は、実際の分析において、補正処理部２４２が各ウェル３１２に対するサンプリングニードル３０２の降下位置座標を補正する際に参照されることとなる。
【００５３】
以上説明した処理によれば、ユーザがプレート３１１ａ、３１１ｂを載置したサンプルラック３１０をサンプルラック収容部３０１に収容すると、プレート３１１ａ、３１１ｂの種類に応じて定められた基準ウェルＷｉが特定され、該基準ウェルＷｉの番号Ｎｉ及び位置が表示部３０の画面上に表示される。これによりユーザは、サンプリングニードル３０２を誘導すべきウェル３１２、すなわち基準ウェルＷｉの番号Ｎｉ及び位置を把握することができる。そして、これらの情報とプレート３１１ａ、３１１ｂの上面に印字されたウェル番号及びウェル３１２の配置とを照合しながら、サンプリングニードル３０２の降下位置を調整することができる。従って、基準ウェルＷｉではないウェル３１２に誤ってサンプリングニードル３０２を誘導してしまうといったミスを防止することができる。
また、プレート３１１ａ、３１１ｂの種類に応じた基準ウェルＷｉが自動的に特定されるため、プレート３１１の種類を変更したときに装置のマニュアルを都度参照する必要がなくなり、ユーザにとっての利便性を高めることができる。
【００５４】
〔第２の実施形態〕
上記第１の実施形態では、較正作業時に各基準ウェルＷｉの番号Ｎｉとプレート３１１ａ、３１１ｂ上での位置との両方を視覚的に提示する構成について説明した。別の実施形態として、図８に示すように、表示部３０ａに各ポジションの基準ウェルＷｉの番号Ｎｉとプレート３１１の番号とを文字として表示させてもよい。本実施形態では較正作業支援画像６００は表示されないため、上記第１の実施形態にて説明した画像生成部２７は必須ではない。本実施形態によれば、表示部３０ａが図形等を表示する機能を十分に備えていない場合でも、ユーザは文字情報によって基準ウェルＷｉの番号Ｎｉ及び位置を把握することができる。また、上記第１の実施形態におけるＧＵＩボタン６０１〜６０４に代えて、図８に示すハードウェアボタン１０ａを操作することでサンプリングニードル３０２を移動させてもよい。
【００５５】
〔第３の実施形態〕
さらに別の実施形態として、図９に示すように、本発明の表示部を外部装置によって実現してもよい。表示部３０ｂは例えばＰＣに付属のモニタ等、画面上に較正作業支援画像６００を表示可能な表示装置であればよい。本実施形態では、試料分析システム１ａは一体の装置ではなく、ＰＣ１００ａと、ＬＣ２００及びオートサンプラ３００とがネットワークケーブルＮＷ（又は無線ＬＡＮ（Local Area Network））によって接続されて成る。この場合、本発明の操作部はオートサンプラ３００に設けられたボタン等によって実現されることが好ましいが、ＰＣ１００ａに付属の入力装置を本発明の操作部としてもよい。また、ＰＣ１００ａは上記第１の実施形態にて説明した画像生成部２７と表示制御部２８とを少なくとも備えていればよく、それ以外の機能はオートサンプラ３００が備える不図示の制御部によって実現されても構わない。さらに、上記第２の実施形態のように基準ウェルＷｉの番号Ｎｉとプレート３１１の番号とを文字として表示する場合には、画像生成部２７は必須ではない。
本実施形態によれば、例えばＰＣ１００ａに所定のプログラムをインストールすることで表示制御手段を実現することが可能であり、較正作業を支援する簡易かつ自由度の高いアプローチとすることができる。
【００５６】
本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨の範囲で適宜変更が許容される。例えば、上述の実施形態ではサンプルラック３１０に直方体形状のプレート３１１を２個載置する場合について説明したが、円盤状のプレートを用いる場合や、プレートを１個又は３個以上載置する場合にも本発明を同様に適用することができる。なお、サンプルラックにプレートが１個しか載置されない構成の場合、ポジション対応テーブル４２及びウェル座標テーブル４００においてプレートの欄は必須ではない。
また、上述の実施形態では第１プレート上の３点（ポジション１〜３）から当該第１プレートの傾きを求める構成として説明したが、２点あるいは４点以上であっても構わない。
さらに、上記第１の実施形態では、各ウェル３１２に対するサンプリングニードル３０２の降下位置座標は図４に示すウェル座標テーブル４００に初期値が定められており、補正処理部２４２がこの初期値を補正する構成として説明を行った。しかし、このように全てのウェル３１２に対して事前に座標が対応付けられていなくともよく、各座標は計算によって求められてもよい。具体的には、例えば基準ウェルに対するサンプリングニードル３０２の降下位置座標が定められれば、残りのウェル３１２に対する降下位置座標は、プレート３１１上のウェル３１２の配置に基づいて算出されてもよい。この構成例では、基準ウェルに対するサンプリングニードル３０２の降下位置座標について初期値と決定値との差分を求めることは必須ではない。
【符号の説明】
【００５７】
１、１ａ…試料分析システム
１０…タッチパネル
１００…制御装置
１００ａ…ＰＣ
１０ａ…ハードウェアボタン
２０…制御部
２００…ＬＣ
２０２…送液ポンプ
２０４…カラムオーブン
２１…操作取得部
２２…ポジション決定部
２３…較正情報算出部
２４…分析制御部
２４１…ニードル駆動制御部
２４２…補正処理部
２５…プレート特定部
２６…ウェル番号特定部
２７…画像生成部
２８…表示制御部
３０、３０ａ、３０ｂ…表示部
３００…オートサンプラ
３０１…サンプルラック収容部
３０２…サンプリングニードル
３０３…ニードル駆動機構
３０４…フォトセンサ
３１０…サンプルラック
３１１…プレート
３１１ａ…第１プレート
３１１ｂ…第２プレート
３１２…ウェル
３１３…試料容器
３１４…認識部
４０…記憶部
４００…ウェル座標テーブル
４１…較正情報記憶部
４２…ポジション対応テーブル
４３…プレート情報記憶部
６００…較正作業支援画像
Ｎ１、Ｎ２、Ｎ３、Ｎ４…ウェル番号
Ｗ１、Ｗ２、Ｗ３、Ｗ４…基準ウェル
【図１】
2015177857.tif 000003
【図２】
2015177857.tif 000004
【図３】
2015177857.tif 000005
【図４】
2015177857.tif 000006
【図５】
2015177857.tif 000007
【図６】
2015177857.tif 000008
【図７】
2015177857.tif 000009
【図８】
2015177857.tif 000010
【図９】
2015177857.tif 000011
【図１０】
2015177857.tif 000012
【手続補正書】
【提出日】平成28年6月27日(2016.6.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
サンプルラック上に載置されたプレートが備える各ウェル又は該ウェルにセットされた試料容器に収容された試料を分析する分析装置に複数の試料を順次導入するためのシステムであって、
a)前記各ウェル又は前記試料容器から試料を吸引するサンプリングニードルと、該サンプリングニードルを水平方向及び垂直方向に移動させるニードル駆動機構とを備えるオートサンプラと、
b)前記ニードル駆動機構による前記サンプリングニードルの移動を使用者が指示するための操作部と、
c)使用者が前記操作部を操作することで前記ニードル駆動機構を動作させて前記サンプリングニードルを前記プレート上の基準点となる所定位置に移動させる較正作業において、前記基準点と対応付けられたウェルの識別子を表示部の画面上に表示させる表示制御部と、
を備えることを特徴とする試料導入システム。
【請求項２】
d)前記サンプルラック上に載置された前記プレートの種類を特定するプレート特定部と、
e)前記プレート特定部が特定した前記プレートの種類ごとに、前記基準点と対応付けられたウェルの識別子を特定するウェル識別子特定部と、
をさらに備え、
前記表示制御部は、前記ウェル識別子特定部によって特定されたウェルの識別子を前記表示部の画面上に表示させることを特徴とする請求項１に記載の試料導入システム。
【請求項３】
前記表示制御部はさらに、前記較正作業において、前記基準点と対応付けられたウェルの前記プレートにおける位置を示す画像を、当該ウェルの識別子とともに前記表示部の画面上に表示させることを特徴とする請求項１又は２に記載の試料導入システム。
【請求項４】
サンプルラック上に載置されたプレートが備える各ウェル又は該ウェルにセットされた試料容器から試料を吸引するサンプリングニードル、及び該サンプリングニードルを水平方向及び垂直方向に移動させるニードル駆動機構を備えるオートサンプラと、前記ニードル駆動機構による前記サンプリングニードルの移動を使用者が指示するための操作部とを有する、分析装置に複数の試料を順次導入するための試料導入システムにおいて、前記オートサンプラの動作を制御するための制御装置であって、
使用者が前記操作部を操作することで前記ニードル駆動機構を動作させて前記サンプリングニードルを前記プレート上の基準点となる所定位置に移動させる較正作業において、前記基準点と対応付けられたウェルの識別子を表示部の画面上に表示させる表示制御手段を備えることを特徴とする制御装置。
【請求項５】
a)前記サンプルラック上に載置された前記プレートの種類を特定するプレート特定手段と、
b)前記プレート特定手段が特定した前記プレートの種類ごとに、前記基準点と対応付けられたウェルの識別子を特定するウェル識別子特定手段と、
をさらに備え、
前記表示制御手段は、前記ウェル識別子特定手段によって特定されたウェルの識別子を前記表示部の画面上に表示させることを特徴とする請求項４に記載の制御装置。
【請求項６】
前記表示制御手段はさらに、前記較正作業において、前記基準点と対応付けられたウェルの前記プレートにおける位置を示す画像を、当該ウェルの識別子とともに前記表示部の画面上に表示させることを特徴とする請求項４又は５に記載の制御装置。
【請求項７】
コンピュータを請求項４〜６のいずれかに記載の制御装置の各手段として機能させるための制御プログラム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上記課題を解決するために成された本発明に係る試料導入システムは、
サンプルラック上に載置されたプレートが備える各ウェル又は該ウェルにセットされた試料容器に収容された試料を分析する分析装置に複数の試料を順次導入するためのシステムであって、
a)前記各ウェル又は前記試料容器から試料を吸引するサンプリングニードルと、該サンプリングニードルを水平方向及び垂直方向に移動させるニードル駆動機構とを備えるオートサンプラと、
b)前記ニードル駆動機構による前記サンプリングニードルの移動を使用者が指示するための操作部と、
c)使用者が前記操作部を操作することで前記ニードル駆動機構を動作させて前記サンプリングニードルを前記プレート上の基準点となる所定位置に移動させる較正作業において、前記基準点と対応付けられたウェルの識別子を表示部の画面上に表示させる表示制御部と、
を備えることを特徴とする。
【国際調査報告】
2015177857.tif 000013
2015177857.tif 000014
2015177857.tif 000015
2015177857.tif 000016