(57)【要約】本発明のスリット加工装置（１００）は、第一検出装置（１０６）を用いて蛇行制御を行いながら光学フィルム（Ｆ１）のスリット加工を行う。第一検出装置（１０６）は、光学フィルム（Ｆ１）の第一面を支持する第一支持体（１１１）と、第一反射面（ＲＳ）上に位置する光学フィルム（Ｆ１）に向けて光学フィルム（Ｆ１）の第二面側から光を照射する第一光源部（１１２ａ）と、第一光源部（１１２ａ）から光学フィルム（Ｆ１）に向かう光の光路上に設けられた第一偏光板（１１２ｃ）と、第一反射面（ＲＳ）上に位置する光学フィルム（Ｆ１）の反射光像を光学フィルム（Ｆ１）の第二面側から撮像する第一撮像部（１１２ｂ）と、第一撮像部（１１２ｂ）により撮像された光学フィルム（Ｆ１）の反射光像に基づいて、第一反射面（ＲＳ）上に位置する複数の偏光パターン列（Ｆ１４ａ，Ｆ１４ｂ）を検出する第一パターン検出部（１１４）と、を含む。
2016002618.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
位相差層と、偏光子層と、互いに遅相軸の方向が異なる複数の偏光パターン列を含むパターン化位相差層と、が第一面側から第二面側に向けて、この順で設けられた長尺状の光学フィルムをスリット加工するスリット加工装置であって、
前記光学フィルムを、その長手方向に繰り出すフィルム供給部と、
前記フィルム供給部によって繰り出された前記光学フィルムの前記複数の偏光パターン列を検出する第一検出装置と、
前記第一検出装置によって検出された前記複数の偏光パターン列の位置に基づいて、前記光学フィルムの幅方向の蛇行を制御する第一蛇行制御部と、
前記第一蛇行制御部によって前記光学フィルムの幅方向の蛇行を制御する位置よりも下流側で、前記光学フィルムを、その搬送方向と平行なスリットラインに沿って切断する切断部と、
を含み、
前記第一検出装置は、
前記光学フィルムの前記第一面を支持する第一支持面を有し、前記第一支持面内の少なくとも一部に、前記光学フィルムを前記第二面側から前記第一面側に透過した光を反射する第一反射面を有する第一支持体と、
前記第一反射面上に位置する前記光学フィルムに向けて前記光学フィルムの前記第二面側から光を照射する第一光源部と、
前記第一光源部から前記光学フィルムに向かう前記光の光路上に設けられた第一偏光板と、
前記第一反射面上に位置する前記光学フィルムの反射光像を前記光学フィルムの前記第二面側から撮像する第一撮像部と、
前記第一撮像部により撮像された前記光学フィルムの前記反射光像に基づいて、前記第一反射面上に位置する前記複数の偏光パターン列を検出する第一パターン検出部と、
を含むスリット加工装置。
【請求項２】
前記第一検出装置は、前記第一偏光板の偏光軸と前記偏光パターン列の遅相軸との相対角度を調整する第一調整部を含む
請求項１に記載のスリット加工装置。
【請求項３】
前記第一蛇行制御部によって前記光学フィルムの幅方向の蛇行を制御する位置よりも下流側で、前記光学フィルムの前記複数の偏光パターン列を検出する第二検出装置と、
前記第二検出装置によって検出された前記複数の偏光パターン列の位置に基づいて、前記第一蛇行制御部によって前記光学フィルムの幅方向の蛇行を制御する位置よりも下流側で、前記光学フィルムの幅方向の蛇行を制御する第二蛇行制御部と、
を含み、
前記第二検出装置は、
前記光学フィルムの前記第一面を支持する第二支持面を有し、前記第二支持面内の少なくとも一部に、前記光学フィルムを前記第二面側から前記第一面側に透過した光を反射する第二反射面を有する第二支持体と、
前記第二反射面上に位置する前記光学フィルムに向けて前記光学フィルムの前記第二面側から光を照射する第二光源部と、
前記第二光源部から前記光学フィルムに向かう前記光の光路上に設けられた第二偏光板と、
前記第二反射面上に位置する前記光学フィルムの反射光像を前記光学フィルムの前記第二面側から撮像する第二撮像部と、
前記第二撮像部により撮像された前記光学フィルムの前記反射光像に基づいて、前記第二反射面上に位置する前記複数の偏光パターン列を検出する第二パターン検出部と、
を含む請求項１または２に記載のスリット加工装置。
【請求項４】
前記第二検出装置は、前記第二偏光板の偏光軸と前記偏光パターン列の遅相軸との相対角度を調整する第二調整部を含む
請求項３に記載のスリット加工装置。
【請求項５】
前記第一蛇行制御部は、前記フィルム供給部によって前記光学フィルムが繰り出される位置を前記光学フィルムの幅方向に移動させることにより、前記光学フィルムの蛇行を制御し、
前記第二蛇行制御部は、前記光学フィルムを支持するガイドロールを前記光学フィルムの搬送方向に対して回転軸の方向を傾斜させることにより、前記光学フィルムの幅方向の蛇行を制御する
請求項３または４に記載のスリット加工装置。
【請求項６】
位相差層と、互いに遅相軸の方向が異なる複数の偏光パターン列を含むパターン化位相差層と、偏光子層と、が第一面側から第二面側に向けて、この順で設けられた長尺状の光学フィルムをスリット加工するスリット加工装置であって、
前記光学フィルムを、その長手方向に繰り出すフィルム供給部と、
前記フィルム供給部によって繰り出された前記光学フィルムの前記複数の偏光パターン列を検出する第一検出装置と、
前記第一検出装置によって検出された前記複数の偏光パターン列の位置に基づいて、前記光学フィルムの幅方向の蛇行を制御する第一蛇行制御部と、
前記第一蛇行制御部よりも前記光学フィルムの搬送方向の下流側で、前記光学フィルムを、その搬送方向と平行なスリットラインに沿って切断する切断部と、
を含み、
前記第一検出装置は、
前記光学フィルムの前記第一面を支持する第一支持面を有し、前記第一支持面内の少なくとも一部に、前記光学フィルムを前記第二面側から前記第一面側に透過した光を反射する第一反射面を有する第一支持体と、
前記第一反射面上に位置する前記光学フィルムに向けて前記光学フィルムの前記第二面側から光を照射する第一光源部と、
前記第一反射面上に位置する前記光学フィルムの反射光像を前記光学フィルムの前記第二面側から撮像する第一撮像部と、
前記第一撮像部により撮像された前記光学フィルムの前記反射光像に基づいて、前記第一反射面上に位置する前記複数の偏光パターン列を検出する第一パターン検出部と、
を含むスリット加工装置。
【請求項７】
前記第一蛇行制御部によって前記光学フィルムの幅方向の蛇行を制御する位置よりも下流側で、前記光学フィルムの前記複数の偏光パターン列を検出する第二検出装置と、
前記第二検出装置によって検出された前記複数の偏光パターン列の位置に基づいて、前記第一蛇行制御部によって前記光学フィルムの幅方向の蛇行を制御する位置よりも下流側で、前記光学フィルムの幅方向の蛇行を制御する第二蛇行制御部と、
を含み、
前記第二検出装置は、
前記光学フィルムの前記第一面を支持する第二支持面を有し、前記第二支持面内の少なくとも一部に、前記光学フィルムを前記第二面側から前記第一面側に透過した光を反射する第二反射面を有する第二支持体と、
前記第二反射面上に位置する前記光学フィルムに向けて前記光学フィルムの前記第二面側から光を照射する第二光源部と、
前記第二反射面上に位置する前記光学フィルムの反射光像を前記光学フィルムの前記第二面側から撮像する第二撮像部と、
前記第二撮像部により撮像された前記光学フィルムの前記反射光像に基づいて、前記第二反射面上に位置する前記複数の偏光パターン列を検出する第二パターン検出部と、
を含む請求項６に記載のスリット加工装置。
【請求項８】
前記第一蛇行制御部は、前記フィルム供給部によって前記光学フィルムが繰り出される位置を前記光学フィルムの幅方向に移動させることにより、前記光学フィルムの蛇行を制御し、
前記第二蛇行制御部は、前記光学フィルムを支持するガイドロールを前記光学フィルムの搬送方向に対して回転軸の方向を傾斜させることにより、前記光学フィルムの幅方向の蛇行を制御する
請求項７に記載のスリット加工装置。
【請求項９】
位相差層と、偏光子層と、互いに遅相軸の方向が異なる複数の偏光パターン列を含むパターン化位相差層と、が第一面側から第二面側に向けて、この順で設けられた長尺状の光学フィルムをスリット加工するスリット加工方法であって、
前記光学フィルムを、その長手方向に繰り出すフィルム供給ステップと、
前記フィルム供給ステップによって繰り出された前記光学フィルムの前記複数の偏光パターン列を検出する第一検出ステップと、
前記第一検出装置によって検出された前記複数の偏光パターン列の位置に基づいて、前記光学フィルムの幅方向の蛇行を制御する第一蛇行制御ステップと、
前記第一蛇行制御ステップによって前記光学フィルムの幅方向の蛇行を制御する位置よりも下流側で、前記光学フィルムを、その搬送方向と平行なスリットラインに沿って切断する切断ステップと、
を含み、
前記第一検出ステップは、
前記光学フィルムの前記第一面を支持する第一支持面を有し、前記第一支持面内の少なくとも一部に、前記光学フィルムを前記第二面側から前記第一面側に透過した光を反射する第一反射面を有する第一支持体によって、前記光学フィルムの前記第一面を支持する第一支持ステップと、
前記第一反射面上に位置する前記光学フィルムに向けて前記光学フィルムの前記第二面側から第一偏光板を介して光を照射する第一照射ステップと、
前記第一反射面上に位置する前記光学フィルムの反射光像を前記光学フィルムの前記第二面側から撮像する第一撮像ステップと、
前記第一撮像ステップにより撮像された前記光学フィルムの前記反射光像に基づいて、前記第一反射面上に位置する前記複数の偏光パターン列を検出する第一パターン検出ステップと、
を含むスリット加工方法。
【請求項１０】
前記第一検出ステップは、前記第一偏光板の偏光軸と前記偏光パターン列の遅相軸との相対角度を調整する第一調整ステップを含む
請求項９に記載のスリット加工方法。
【請求項１１】
前記第一蛇行制御ステップによって前記光学フィルムの幅方向の蛇行を制御する位置よりも下流側で、前記光学フィルムの前記複数の偏光パターン列を検出する第二検出ステップと、
前記第二検出ステップによって検出された前記複数の偏光パターン列の位置に基づいて、前記第一蛇行制御ステップによって前記光学フィルムの幅方向の蛇行を制御する位置よりも下流側で、前記光学フィルムの幅方向の蛇行を制御する第二蛇行制御ステップと、
を含み、
前記第二検出ステップは、
前記光学フィルムの前記第一面を支持する第二支持面を有し、前記第二支持面内の少なくとも一部に、前記光学フィルムを前記第二面側から前記第一面側に透過した光を反射する第二反射面を有する第二支持体によって、前記光学フィルムの前記第一面を支持する第二支持ステップと、
前記第二反射面上に位置する前記光学フィルムに向けて前記光学フィルムの前記第二面側から第二偏光板を介して光を照射する第二照射ステップと、
前記第二反射面上に位置する前記光学フィルムの反射光像を前記光学フィルムの前記第二面側から撮像する第二撮像ステップと、
前記第二撮像ステップにより撮像された前記光学フィルムの前記反射光像に基づいて、前記第二反射面上に位置する前記複数の偏光パターン列を検出する第二パターン検出ステップと、
を含む請求項９または１０に記載のスリット加工方法。
【請求項１２】
前記第二検出ステップは、前記第二偏光板の偏光軸と前記偏光パターン列の遅相軸との相対角度を調整する第二調整ステップを含む
請求項１１に記載のスリット加工方法。
【請求項１３】
前記第一蛇行制御ステップは、前記フィルム供給ステップによって前記光学フィルムが繰り出される位置を前記光学フィルムの幅方向に移動させることにより、前記光学フィルムの蛇行を制御し、
前記第二蛇行制御ステップは、前記光学フィルムを支持するガイドロールを前記光学フィルムの搬送方向に対して回転軸の方向を傾斜させることにより、前記光学フィルムの幅方向の蛇行を制御する
請求項１１または１２に記載のスリット加工方法。
【請求項１４】
位相差層と、互いに遅相軸の方向が異なる複数の偏光パターン列を含むパターン化位相差層と、偏光子層と、が第一面側から第二面側に向けて、この順で設けられた長尺状の光学フィルムをスリット加工するスリット加工方法であって、
前記光学フィルムを、その長手方向に繰り出すフィルム供給ステップと、
前記フィルム供給ステップによって繰り出された前記光学フィルムの前記複数の偏光パターン列を検出する第一検出ステップと、
前記第一検出ステップによって検出された前記複数の偏光パターン列の位置に基づいて、前記光学フィルムの幅方向の蛇行を制御する第一蛇行制御ステップと、
前記第一蛇行制御ステップによって前記光学フィルムの幅方向の蛇行を制御する位置よりも下流側で、前記光学フィルムを、その搬送方向と平行なスリットラインに沿って切断する切断ステップと、
を含み、
前記第一検出ステップは、
前記光学フィルムの前記第一面を支持する第一支持面を有し、前記第一支持面内の少なくとも一部に、前記光学フィルムを前記第二面側から前記第一面側に透過した光を反射する第一反射面を有する第一支持体によって、前記光学フィルムの前記第一面を支持する第一支持ステップと、
前記第一反射面上に位置する前記光学フィルムに向けて前記光学フィルムの前記第二面側から光を照射する第一照射ステップと、
前記第一反射面上に位置する前記光学フィルムの反射光像を前記光学フィルムの前記第二面側から撮像する第一撮像ステップと、
前記第一撮像ステップにより撮像された前記光学フィルムの前記反射光像に基づいて、前記第一反射面上に位置する前記複数の偏光パターン列を検出する第一パターン検出ステップと、
を含むスリット加工方法。
【請求項１５】
前記第一蛇行制御ステップによって前記光学フィルムの幅方向の蛇行を制御する位置よりも下流側で、前記光学フィルムの前記複数の偏光パターン列を検出する第二検出ステップと、
前記第二検出ステップによって検出された前記複数の偏光パターン列の位置に基づいて、前記第一蛇行制御ステップによって前記光学フィルムの幅方向の蛇行を制御する位置よりも下流側で、前記光学フィルムの幅方向の蛇行を制御する第二蛇行制御ステップと、
を含み、
前記第二検出ステップは、
前記光学フィルムの前記第一面を支持する第二支持面を有し、前記第二支持面内の少なくとも一部に、前記光学フィルムを前記第二面側から前記第一面側に透過した光を反射する第二反射面を有する第二支持体によって、前記光学フィルムの前記第一面を支持する第二支持ステップと、
前記第二反射面上に位置する前記光学フィルムに向けて前記光学フィルムの前記第二面側から光を照射する第二照射ステップと、
前記第二反射面上に位置する前記光学フィルムの反射光像を前記光学フィルムの前記第二面側から撮像する第二撮像ステップと、
前記第二撮像ステップにより撮像された前記光学フィルムの前記反射光像に基づいて、前記第二反射面上に位置する前記複数の偏光パターン列を検出する第二パターン検出ステップと、
を含む請求項１４に記載のスリット加工方法。
【請求項１６】
前記第一蛇行制御ステップは、前記フィルム供給ステップによって前記光学フィルムが繰り出される位置を前記光学フィルムの幅方向に移動させることにより、前記光学フィルムの蛇行を制御し、
前記第二蛇行制御ステップは、前記光学フィルムを支持するガイドロールを前記光学フィルムの搬送方向に対して回転軸の方向を傾斜させることにより、前記光学フィルムの幅方向の蛇行を制御する
請求項１５に記載のスリット加工方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、スリット加工装置およびスリット加工方法に関するものである。
本出願は、２０１４年６月３０日に日本に出願された特願２０１４−１３４６２９号に基づき、優先権を主張し、その内容をここに援用する。
【背景技術】
【０００２】
立体画像を表示する方式として、ＦＰＲ（Ｆｉｌｍ  Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ  Ｒｅｔａｒｄｅｒ）方式と呼ばれる方式が知られている。ＦＰＲ方式の３Ｄ液晶ディスプレイでは、右眼用画像と左眼用画像とを分離するために、液晶パネルの表面にＦＰＲフィルムと呼ばれるパターン化位相差フィルムが配置される（特許文献１参照）。【０００３】
ＦＰＲフィルムは、右眼用偏光パターン列と左眼用偏光パターン列とを含む。右眼用偏光パターン列と左眼用偏光パターン列とは、液晶パネルの右眼用画素列と左眼用画素列に対応して交互に配置される。右眼用偏光パターン列と左眼用偏光パターン列とは、互いに遅相軸の方向が直交する。右眼用偏光パターン列と左眼用偏光パターン列とが配置されるアクティブエリアの外側には、アライメント用の偏光パターン列が配置されることもある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１２−３２４４５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ＦＰＲフィルムには、多数の偏光パターン列が微細な幅で形成される。そのため、ＦＰＲフィルムを所定の幅または形状に切断したり、ＦＰＲフィルムを液晶パネルに貼合したりするときには、偏光パターン列の位置を正確に検出し、その位置に基づいて、ＦＰＲフィルムをアライメントしなければならない。【０００６】
例えば、特許文献１には、偏光パターン列の検出装置として、ＦＰＲフィルムの下面側から光を照射し、ＦＰＲフィルムの上面側からカメラで撮像する装置が記載されている。
ＦＰＲフィルムと光源との間には偏光板が配置され、ＦＰＲフィルムとカメラとの間には、ＦＰＲフィルム側から位相差板（１／４波長板）と偏光板が順に配置される。右眼用偏光パターン列と左眼用偏光パターン列は、フィルムの長手方向に沿って延在する。これらの偏光パターン列は、ＦＰＲフィルムの巻き出しおよび搬送に伴って連続的に検出される。【０００７】
しかしながら、特許文献１の構成では、ＦＰＲフィルムの下面側に光源が設置されるため、ＦＰＲフィルムの下面側には、支持体を配置することができない。よって、ＦＰＲフィルムが、支持体によって支持されない不安定な位置で、偏光パターン列の検出を行わなければならない。支持体に貫通孔を設けることも考えられるが、貫通孔を通過する光のみでは、十分にＦＰＲフィルムを照明することはできない。【０００８】
また、ＦＰＲフィルムの最表面には、プロテクションフィルムやセパレータフィルムなどの保護フィルムが設けられる。保護フィルムは、複屈折性を有しており、意図せぬ位相差を生じさせる。保護フィルムが存在しなければ、右眼用偏光パターン列と左眼用偏光パターン列は、明パターンと暗パターンとして表示されるが、保護フィルムが存在すると、明パターンと暗パターンのコントラストが低下し、両者を明確に区別することができない。そのため、光学測定を行う前に、保護フィルムを剥離するなどの工夫が必要になる。【０００９】
また、ＦＰＲフィルムは、液晶パネルの表示面側の偏光板の表面に貼合されるが、最近では、偏光板とＦＰＲフィルムとを一体化した偏光板一体型のＦＰＲフィルムを液晶パネルの表面に貼合することも検討されている。この構成では、偏光板の面内の光学軸のばらつきにより、上述の明パターンと暗パターンのコントラストがさらに低下し、よりいっそう両者を区別することが困難になる。【００１０】
本発明の目的は、偏光パターン列を精度よく検出してスリット加工を行うことが可能なスリット加工装置およびスリット加工方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の第一の形態に係るスリット加工装置は、位相差層と、偏光子層と、互いに遅相軸の方向が異なる複数の偏光パターン列を含むパターン化位相差層と、が第一面側から第二面側に向けて、この順で設けられた長尺状の光学フィルムをスリット加工するスリット加工装置であって、前記光学フィルムを、その長手方向に繰り出すフィルム供給部と、前記フィルム供給部によって繰り出された前記光学フィルムの前記複数の偏光パターン列を検出する第一検出装置と、前記第一検出装置によって検出された前記複数の偏光パターン列の位置に基づいて、前記光学フィルムの幅方向の蛇行を制御する第一蛇行制御部と、前記第一蛇行制御部によって前記光学フィルムの幅方向の蛇行を制御する位置よりも下流側で、前記光学フィルムを、その搬送方向と平行なスリットラインに沿って切断する切断部と、を含み、前記第一検出装置は、前記光学フィルムの前記第一面を支持する第一支持面を有し、前記第一支持面内の少なくとも一部に、前記光学フィルムを前記第二面側から前記第一面側に透過した光を反射する第一反射面を有する第一支持体と、前記第一反射面上に位置する前記光学フィルムに向けて前記光学フィルムの前記第二面側から光を照射する第一光源部と、前記第一光源部から前記光学フィルムに向かう前記光の光路上に設けられた第一偏光板と、前記第一反射面上に位置する前記光学フィルムの反射光像を前記光学フィルムの前記第二面側から撮像する第一撮像部と、前記第一撮像部により撮像された前記光学フィルムの前記反射光像に基づいて、前記第一反射面上に位置する前記複数の偏光パターン列を検出する第一パターン検出部と、を含む。【００１２】
本発明の第一の形態に係るスリット加工装置において、前記第一検出装置は、前記第一偏光板の偏光軸と前記偏光パターン列の遅相軸との相対角度を調整する第一調整部を含むことができる。【００１３】
本発明の第一の形態に係るスリット加工装置において、前記第一蛇行制御部によって前記光学フィルムの幅方向の蛇行を制御する位置よりも下流側で、前記光学フィルムの前記複数の偏光パターン列を検出する第二検出装置と、前記第二検出装置によって検出された前記複数の偏光パターン列の位置に基づいて、前記第一蛇行制御部によって前記光学フィルムの幅方向の蛇行を制御する位置よりも下流側で、前記光学フィルムの幅方向の蛇行を制御する第二蛇行制御部と、を含み、前記第二検出装置は、前記光学フィルムの前記第一面を支持する第二支持面を有し、前記第二支持面内の少なくとも一部に、前記光学フィルムを前記第二面側から前記第一面側に透過した光を反射する第二反射面を有する第二支持体と、前記第二反射面上に位置する前記光学フィルムに向けて前記光学フィルムの前記第二面側から光を照射する第二光源部と、前記第二光源部から前記光学フィルムに向かう前記光の光路上に設けられた第二偏光板と、前記第二反射面上に位置する前記光学フィルムの反射光像を前記光学フィルムの前記第二面側から撮像する第二撮像部と、前記第二撮像部により撮像された前記光学フィルムの前記反射光像に基づいて、前記第二反射面上に位置する前記複数の偏光パターン列を検出する第二パターン検出部と、を含むことができる。【００１４】
本発明の第一の形態に係るスリット加工装置において、前記第二検出装置は、前記第二偏光板の偏光軸と前記偏光パターン列の遅相軸との相対角度を調整する第二調整部を含むことができる。【００１５】
本発明の第一の形態に係るスリット加工装置において、前記第一蛇行制御部は、前記フィルム供給部によって前記光学フィルムが繰り出される位置を前記光学フィルムの幅方向に移動させることにより、前記光学フィルムの蛇行を制御し、前記第二蛇行制御部は、前記光学フィルムを支持するガイドロールを前記光学フィルムの搬送方向に対して回転軸の方向を傾斜させることにより、前記光学フィルムの幅方向の蛇行を制御することができる。【００１６】
本発明の第二の形態に係るスリット加工装置は、位相差層と、互いに遅相軸の方向が異なる複数の偏光パターン列を含むパターン化位相差層と、偏光子層と、が第一面側から第二面側に向けて、この順で設けられた長尺状の光学フィルムをスリット加工するスリット加工装置であって、前記光学フィルムを、その長手方向に繰り出すフィルム供給部と、前記フィルム供給部によって繰り出された前記光学フィルムの前記複数の偏光パターン列を検出する第一検出装置と、前記第一検出装置によって検出された前記複数の偏光パターン列の位置に基づいて、前記光学フィルムの幅方向の蛇行を制御する第一蛇行制御部と、前記第一蛇行制御部よりも前記光学フィルムの搬送方向の下流側で、前記光学フィルムを、その搬送方向と平行なスリットラインに沿って切断する切断部と、を含み、前記第一検出装置は、前記光学フィルムの前記第一面を支持する第一支持面を有し、前記第一支持面内の少なくとも一部に、前記光学フィルムを前記第二面側から前記第一面側に透過した光を反射する第一反射面を有する第一支持体と、前記第一反射面上に位置する前記光学フィルムに向けて前記光学フィルムの前記第二面側から光を照射する第一光源部と、前記第一反射面上に位置する前記光学フィルムの反射光像を前記光学フィルムの前記第二面側から撮像する第一撮像部と、前記第一撮像部により撮像された前記光学フィルムの前記反射光像に基づいて、前記第一反射面上に位置する前記複数の偏光パターン列を検出する第一パターン検出部と、を含む。【００１７】
本発明の第二の形態に係るスリット加工装置において、前記第一蛇行制御部によって前記光学フィルムの幅方向の蛇行を制御する位置よりも下流側で、前記光学フィルムの前記複数の偏光パターン列を検出する第二検出装置と、前記第二検出装置によって検出された前記複数の偏光パターン列の位置に基づいて、前記第一蛇行制御部によって前記光学フィルムの幅方向の蛇行を制御する位置よりも下流側で、前記光学フィルムの幅方向の蛇行を制御する第二蛇行制御部と、を含み、前記第二検出装置は、前記光学フィルムの前記第一面を支持する第二支持面を有し、前記第二支持面内の少なくとも一部に、前記光学フィルムを前記第二面側から前記第一面側に透過した光を反射する第二反射面を有する第二支持体と、前記第二反射面上に位置する前記光学フィルムに向けて前記光学フィルムの前記第二面側から光を照射する第二光源部と、前記第二反射面上に位置する前記光学フィルムの反射光像を前記光学フィルムの前記第二面側から撮像する第二撮像部と、前記第二撮像部により撮像された前記光学フィルムの前記反射光像に基づいて、前記第二反射面上に位置する前記複数の偏光パターン列を検出する第二パターン検出部と、を含むことができる。【００１８】
本発明の第二の形態に係るスリット加工装置において、前記第一蛇行制御部は、前記フィルム供給部によって前記光学フィルムが繰り出される位置を前記光学フィルムの幅方向に移動させることにより、前記光学フィルムの蛇行を制御し、前記第二蛇行制御部は、前記光学フィルムを支持するガイドロールを前記光学フィルムの搬送方向に対して回転軸の方向を傾斜させることにより、前記光学フィルムの幅方向の蛇行を制御することができる。【００１９】
本発明の第一の形態に係るスリット加工方法は、位相差層と、偏光子層と、互いに遅相軸の方向が異なる複数の偏光パターン列を含むパターン化位相差層と、が第一面側から第二面側に向けて、この順で設けられた長尺状の光学フィルムをスリット加工するスリット加工方法であって、前記光学フィルムを、その長手方向に繰り出すフィルム供給ステップと、前記フィルム供給ステップによって繰り出された前記光学フィルムの前記複数の偏光パターン列を検出する第一検出ステップと、前記第一検出装置によって検出された前記複数の偏光パターン列の位置に基づいて、前記光学フィルムの幅方向の蛇行を制御する第一蛇行制御ステップと、前記第一蛇行制御ステップによって前記光学フィルムの幅方向の蛇行を制御する位置よりも下流側で、前記光学フィルムを、その搬送方向と平行なスリットラインに沿って切断する切断ステップと、を含み、前記第一検出ステップは、前記光学フィルムの前記第一面を支持する第一支持面を有し、前記第一支持面内の少なくとも一部に、前記光学フィルムを前記第二面側から前記第一面側に透過した光を反射する第一反射面を有する第一支持体によって、前記光学フィルムの前記第一面を支持する第一支持ステップと、前記第一反射面上に位置する前記光学フィルムに向けて前記光学フィルムの前記第二面側から第一偏光板を介して光を照射する第一照射ステップと、前記第一反射面上に位置する前記光学フィルムの反射光像を前記光学フィルムの前記第二面側から撮像する第一撮像ステップと、前記第一撮像ステップにより撮像された前記光学フィルムの前記反射光像に基づいて、前記第一反射面上に位置する前記複数の偏光パターン列を検出する第一パターン検出ステップと、を含む。【００２０】
本発明の第一の形態に係るスリット方法において、前記第一検出ステップは、前記第一偏光板の偏光軸と前記偏光パターン列の遅相軸との相対角度を調整する第一調整ステップを含むことができる。【００２１】
本発明の第一の形態に係るスリット方法において、前記第一蛇行制御ステップによって前記光学フィルムの幅方向の蛇行を制御する位置よりも下流側で、前記光学フィルムの前記複数の偏光パターン列を検出する第二検出ステップと、前記第二検出ステップによって検出された前記複数の偏光パターン列の位置に基づいて、前記第一蛇行制御ステップによって前記光学フィルムの幅方向の蛇行を制御する位置よりも下流側で、前記光学フィルムの幅方向の蛇行を制御する第二蛇行制御ステップと、を含み、前記第二検出ステップは、前記光学フィルムの前記第一面を支持する第二支持面を有し、前記第二支持面内の少なくとも一部に、前記光学フィルムを前記第二面側から前記第一面側に透過した光を反射する第二反射面を有する第二支持体によって、前記光学フィルムの前記第一面を支持する第二支持ステップと、前記第二反射面上に位置する前記光学フィルムに向けて前記光学フィルムの前記第二面側から第二偏光板を介して光を照射する第二照射ステップと、前記第二反射面上に位置する前記光学フィルムの反射光像を前記光学フィルムの前記第二面側から撮像する第二撮像ステップと、前記第二撮像ステップにより撮像された前記光学フィルムの前記反射光像に基づいて、前記第二反射面上に位置する前記複数の偏光パターン列を検出する第二パターン検出ステップと、を含むことができる。【００２２】
本発明の第一の形態に係るスリット方法において、前記第二検出ステップは、前記第二偏光板の偏光軸と前記偏光パターン列の遅相軸との相対角度を調整する第二調整ステップを含むことができる。【００２３】
本発明の第一の形態に係るスリット方法において、前記第一蛇行制御ステップは、前記フィルム供給ステップによって前記光学フィルムが繰り出される位置を前記光学フィルムの幅方向に移動させることにより、前記光学フィルムの蛇行を制御し、前記第二蛇行制御ステップは、前記光学フィルムを支持するガイドロールを前記光学フィルムの搬送方向に対して回転軸の方向を傾斜させることにより、前記光学フィルムの幅方向の蛇行を制御することができる。【００２４】
本発明の第二の形態に係るスリット加工方法は、位相差層と、互いに遅相軸の方向が異なる複数の偏光パターン列を含むパターン化位相差層と、偏光子層と、が第一面側から第二面側に向けて、この順で設けられた長尺状の光学フィルムをスリット加工するスリット加工方法であって、前記光学フィルムを、その長手方向に繰り出すフィルム供給ステップと、前記フィルム供給ステップによって繰り出された前記光学フィルムの前記複数の偏光パターン列を検出する第一検出ステップと、前記第一検出ステップによって検出された前記複数の偏光パターン列の位置に基づいて、前記光学フィルムの幅方向の蛇行を制御する第一蛇行制御ステップと、前記第一蛇行制御ステップによって前記光学フィルムの幅方向の蛇行を制御する位置よりも下流側で、前記光学フィルムを、その搬送方向と平行なスリットラインに沿って切断する切断ステップと、を含み、前記第一検出ステップは、前記光学フィルムの前記第一面を支持する第一支持面を有し、前記第一支持面内の少なくとも一部に、前記光学フィルムを前記第二面側から前記第一面側に透過した光を反射する第一反射面を有する第一支持体によって、前記光学フィルムの前記第一面を支持する第一支持ステップと、前記第一反射面上に位置する前記光学フィルムに向けて前記光学フィルムの前記第二面側から光を照射する第一照射ステップと、前記第一反射面上に位置する前記光学フィルムの反射光像を前記光学フィルムの前記第二面側から撮像する第一撮像ステップと、前記第一撮像ステップにより撮像された前記光学フィルムの前記反射光像に基づいて、前記第一反射面上に位置する前記複数の偏光パターン列を検出する第一パターン検出ステップと、を含む。【００２５】
本発明の第二の形態に係るスリット加工方法において、前記第一蛇行制御ステップによって前記光学フィルムの幅方向の蛇行を制御する位置よりも下流側で、前記光学フィルムの前記複数の偏光パターン列を検出する第二検出ステップと、前記第二検出ステップによって検出された前記複数の偏光パターン列の位置に基づいて、前記第一蛇行制御ステップによって前記光学フィルムの幅方向の蛇行を制御する位置よりも下流側で、前記光学フィルムの幅方向の蛇行を制御する第二蛇行制御ステップと、を含み、前記第二検出ステップは、前記光学フィルムの前記第一面を支持する第二支持面を有し、前記第二支持面内の少なくとも一部に、前記光学フィルムを前記第二面側から前記第一面側に透過した光を反射する第二反射面を有する第二支持体によって、前記光学フィルムの前記第一面を支持する第二支持ステップと、前記第二反射面上に位置する前記光学フィルムに向けて前記光学フィルムの前記第二面側から光を照射する第二照射ステップと、前記第二反射面上に位置する前記光学フィルムの反射光像を前記光学フィルムの前記第二面側から撮像する第二撮像ステップと、前記第二撮像ステップにより撮像された前記光学フィルムの前記反射光像に基づいて、前記第二反射面上に位置する前記複数の偏光パターン列を検出する第二パターン検出ステップと、を含むことができる。【００２６】
本発明の第二の形態に係るスリット加工方法において、前記第一蛇行制御ステップは、前記フィルム供給ステップによって前記光学フィルムが繰り出される位置を前記光学フィルムの幅方向に移動させることにより、前記光学フィルムの蛇行を制御し、前記第二蛇行制御ステップは、前記光学フィルムを支持するガイドロールを前記光学フィルムの搬送方向に対して回転軸の方向を傾斜させることにより、前記光学フィルムの幅方向の蛇行を制御することができる。
【発明の効果】
【００２７】
本発明によれば、偏光パターン列を精度よく検出してスリット加工を行うことが可能なスリット加工装置およびスリット加工方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本発明の第一の実施の形態に係るスリット加工装置の概略図である。
【図２】スリット加工装置に備えられる第一検出装置の概略図である。
【図３】第一検出装置の概念図である。
【図４】光学フィルムの一例を示す断面図である。
【図５】光学フィルムの一例を示す平面図である。
【図６】光学フィルムの反射光像の光量分布および色分布を示す図である。
【図７】本発明の第二の実施の形態に係るスリット加工装置に適用される第一検出装置の概念図である。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
［第一の実施の形態］
図１は、本発明の第一の実施の形態に係るスリット加工装置１００の概略図である。
図２は、スリット加工装置１００に備えられる第一検出装置１０６の概略図である。
図３は、第一検出装置１０６の概念図である。
図４は、光学フィルムＦ１の一例を示す断面図である。
図５は、光学フィルムＦ１の一例を示す平面図である。
【００３０】
図１に示すように、本実施形態のスリット加工装置１００は、フィルム供給部１０１、フィルム巻き取り部１０２，１０３、耳巻き取り部１０４、第一蛇行制御部１０５、第一検出装置１０６、第二蛇行制御部１０７、第二検出装置１０８、切断部１０９および制御装置１１０を含む。
【００３１】
フィルム供給部１０１は、光学フィルムＦ１を巻き取った原反ロールＲ１を保持するとともに、光学フィルムＦ１をその長手方向に繰り出す。フィルム供給部１０１から繰り出された光学フィルムＦ１の搬送経路ＦＣＬには、搬送方向上流側から、第一蛇行制御部１０５、第一検出装置１０６、第二蛇行制御部１０７、第二検出装置１０８および切断部１０９が順に配置される。
【００３２】
スリット加工装置１００は、第一蛇行制御部１０５および第二蛇行制御部１０７によって光学フィルムＦ１の蛇行を制御しながら、光学フィルムＦ１をスリットラインＳＬ１，ＳＬ２，ＳＬ３（図５参照）に沿ってスリット加工する。
【００３３】
図５に示すように、光学フィルムＦ１は、アクティブエリアＡＣと周辺エリアＳＲとを、長手方向と直交する幅方向において交互に含む、長尺状のフィルムである。アクティブエリアＡＣは、例えば、液晶パネルの表示領域と対向する部分であり、周辺エリアＳＲは、液晶パネルの表示領域の周辺部に位置する周辺領域と対向する部分である。
【００３４】
アクティブエリアＡＣには、互いに遅相軸の方向が異なる複数の偏光パターン列ＤＰＡａ，ＤＰＡｂが、液晶パネルの複数の画素列に対応して設けられている。液晶パネルの表示領域には、右眼用画像を表示する右眼用画素列と、左眼用画像を表示する左眼用画素列と、が交互に配置される。そのため、アクティブエリアＡＣには、右眼用画素列に対応した右眼用偏光パターン列ＤＰＡａと、左眼用画素列に対応した左眼用偏光パターン列ＤＰＡｂと、が交互に配置される。
【００３５】
周辺エリアＳＲには、遅相軸の方向が右眼用偏光パターン列ＤＰＡａと平行な第一偏光パターン列ＡＰＡａと、遅相軸の方向が左眼用偏光パターン列ＤＰＡｂと平行な第二偏光パターン列ＡＰＡｂと、が交互に配置される。周辺エリアＳＲに設けられる偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂは、単独で、または、アクティブエリアＡＣに設けられる偏光パターン列ＤＰＡａ，ＤＰＡｂとともに、光学フィルムＦ１の走行位置を検出するための基準として用いることができる。偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂの検出を容易にするために、例えば、周辺エリアＳＲに設けられる偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂのうち、少なくとも一の偏光パターン列の幅は、アクティブエリアＡＣに設けられる偏光パターン列ＤＰＡａ，ＤＰＡｂの幅よりも広くすることができる。
【００３６】
光学フィルムＦ１は、液晶パネル複数分（図５では例えば２つ分）の幅を有する。光学フィルムＦ１は、スリット加工装置１００を用いて、スリットラインＳＬ１，ＳＬ２，ＳＬ３に沿って切断される。スリットラインＳＬ１，ＳＬ２，ＳＬ３は、周辺エリアＳＲ内に設定される。これにより、光学フィルムＦ１は、液晶パネル１つ分の幅を有する複数の長尺フィルムに分割される。スリットラインＳＬ１，ＳＬ２，ＳＬ３は、例えば、周辺エリアＳＲに設けられた偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂの境界線の位置に設定される。なお、本実施形態のスリット加工によって切断されるスリットラインの位置は、加工上（生産上）の問題が無い限り、細いラインで切断される。
【００３７】
図１に戻って、フィルム供給部１０１から繰り出された光学フィルムＦ１の繰り出し直後の走行位置は、第一検出装置１０６を用いて検出される。第一検出装置１０６は、光学フィルムＦ１に設けられた複数の偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂ，ＤＰＡａ，ＤＰＡｂ（図５参照）を検出する。制御装置１１０は、第一検出装置１０６によって検出された複数の偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂ，ＤＰＡａ，ＤＰＡｂの位置（例えば、偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂ，ＤＰＡａ，ＤＰＡｂの境界線の位置）に基づいて、光学フィルムＦ１の走行位置のずれを検出し、第一蛇行制御部１０５を制御して光学フィルムＦ１の幅方向の蛇行を制御する。
【００３８】
第一蛇行制御部１０５によって蛇行が制御された後の光学フィルムＦ１の走行位置は、第二検出装置１０８を用いて検出される。第二検出装置１０８は、光学フィルムＦ１に設けられた複数の偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂ，ＤＰＡａ，ＤＰＡｂ（図５参照）を検出する。制御装置１１０は、第二検出装置１０８によって検出された複数の偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂ，ＤＰＡａ，ＤＰＡｂの位置（例えば、偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂ，ＤＰＡａ，ＤＰＡｂの境界線の位置）に基づいて、光学フィルムＦ１の走行位置のずれを検出し、第二蛇行制御部１０７を制御して光学フィルムＦ１の幅方向の蛇行を制御する。
【００３９】
第一蛇行制御部１０５は、例えば、第一検出装置１０６および制御装置１１０により検出された光学フィルムＦ１の走行位置のずれに基づいて、フィルム供給部１０１によって光学フィルムＦ１が繰り出される位置（原反ロールＲ１の位置）を、光学フィルムＦ２の幅方向に移動させる。第一蛇行制御部１０５により、光学フィルムＦ１の走行位置のずれが粗く制御される。
【００４０】
第二蛇行制御部１０７は、例えば、第二検出装置１０８および制御装置１１０により検出された光学フィルムＦ１の走行位置のずれに基づいて、光学フィルムＦ１を支持する第一ガイドロール１１５および第二ガイドロール１１６を光学フィルムＦ１の搬送方向に対して傾斜させる。第一ガイドロール１１５と第二ガイドロール１１６とは、互いに回転軸を平行にして配置される。第二蛇行制御部１０７は、第一ガイドロール１１５と第二ガイドロール１１６の回転軸の方向を光学フィルムＦ１の走行方向に対して一体に傾斜させる。これにより、光学フィルムＦ１の走行位置が幅方向に微調整され、光学フィルムＦ１は予め設定された走行位置を走行するようになる。
【００４１】
なお、第二蛇行制御部１０７は、光学フィルムＦ１を支持する一本のガイドロールを光学フィルムＦ１の搬送方向に対して回転軸の方向を傾斜させる構成であってもよい。
【００４２】
切断部１０９に搬送される光学フィルムＦ１の走行位置は、第一蛇行制御部１０５および第二蛇行制御部１０７によって精密に制御される。第一蛇行制御部１０５および第二蛇行制御部１０７の構成は、上記のものに限定されない。第一蛇行制御部１０５としては、第二蛇行制御部１０７よりも光学フィルムＦ１の走行位置を大きく調整できるものが好ましい。第二蛇行制御部１０７としては、第一蛇行制御部１０５よりも光学フィルムＦ１の走行位置を精密に調整できるものが好ましい。
【００４３】
また、第一蛇行制御部１０５、第一検出装置１０６、第二蛇行制御部１０７および第二検出装置１０８の配置は、上記のものに限定されない。第一検出装置１０６は、第一蛇行制御部１０５の上流側でもよいし、下流側でもよい。第二検出装置１０８は、第二蛇行制御部１０７の上流側でもよいし、下流側でもよい。第二検出装置１０８は、第一蛇行制御部１０５によって光学フィルムＦ１の幅方向の蛇行を制御する位置よりも下流側で、且つ、切断部１０９によって光学フィルムＦ１を切断する位置よりも上流側で、光学フィルムＦ１の複数の偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂ，ＤＰＡａ，ＤＰＡｂを検出するものであればよい。
第二蛇行制御部１０７は、第一蛇行制御部１０５によって光学フィルムＦ１の幅方向の蛇行を制御する位置よりも下流側で、且つ、切断部１０９によって光学フィルムＦ１を切断する位置よりも上流側で、光学フィルムＦ１の幅方向の蛇行を制御するものであればよい。
【００４４】
切断部１０９は、光学フィルムＦ１を、図５中に示したスリットラインＳＬ１，ＳＬ２、ＳＬ３に沿って切断する。切断部１０９は、例えば、切断刃やレーザーカッターなどにより構成することができる。切断部１０９は、スリットラインＳＬ１，ＳＬ２，ＳＬ３の配置間隔と同じ間隔で、光学フィルムＦ１の幅方向に複数配置される。制御装置１１０は、切断部１０９の直下にスリットラインＳＬ１，ＳＬ２，ＳＬ３が配置されるように、第一蛇行制御部１０５および第二蛇行制御部１０７により光学フィルムＦ１の走行位置を制御する。切断部１０９は、第一蛇行制御部１０５および第二蛇行制御部１０７によって光学フィルムＦ１の幅方向の蛇行を制御する位置よりも下流側で、光学フィルムＦ１を、その搬送方向と平行なスリットラインＳＬ１，ＳＬ２，ＳＬ３に沿って切断する。
【００４５】
切断部１０９によって幅方向に分割された光学フィルムＦ１のうち、アクティブエリアＡＣを含む部分は、フィルム巻き取り部１０２，１０３により巻き取られ、液晶パネル一つ分の幅を有する長尺状フィルムの原反ロールＲ２，Ｒ３として提供される。切断部１０９によって分割された光学フィルムＦ１のうち、アクティブエリアＡＣを含まない部分は、耳巻き取り部１０４により巻き取られ、廃棄される。
【００４６】
以下、図２および図３を用いて、第一検出装置１０６および第二検出装置１０８の構成を説明する。第一検出装置１０６と第二検出装置１０８の構成は同じである。よって、以下の説明では、第一検出装置１０６の構成を中心に説明する。
【００４７】
図２および図３に示すように、本実施形態の第一検出装置１０６は、第一支持体１１１と、第一撮像ユニット１１２と、第一パターン検出部１１４と、第一調整部１１３と、を含む。第一検出装置１０６は、光学フィルムＦ１に含まれる偏光パターン列ＡＰＡａ，ＡＰＡｂ，ＤＰＡａ，ＤＰＡｂ（図５参照）を検出する。
【００４８】
光学フィルムＦ１は、位相差層Ｆ２０と、偏光子層Ｆ１６と、パターン化位相差層Ｆ１４と、を少なくとも含む。位相差層Ｆ２０と、偏光子層Ｆ１６と、パターン化位相差層Ｆ１４は、光学フィルムＦ１の第一面（第一支持体１１１によって支持される側の面）側から第二面（第一支持体１１１によって支持される側とは反対側の面）側に向けて、この順で設けられている。光学フィルムＦ１のうち、位相差層Ｆ１１を除く部分が、光学フィルム本体部Ｆ２１である。
【００４９】
パターン化位相差層Ｆ１４は、互いに遅相軸ＲＴＡＸの方向が異なる複数の偏光パターン列Ｆ１４ａ，Ｆ１４ｂを含む。パターン化位相差層Ｆ１４は、例えば、遅相軸ＲＴＡＸの方向が互いに直交する第一偏光パターン列Ｆ１４ａと、第二偏光パターン列Ｆ１４ｂとを含む。第一偏光パターン列Ｆ１４ａの遅相軸ＲＴＡＸは、光学フィルムＦ１の法線方向から見て、例えば、偏光子層Ｆ１６の偏光軸（透過軸）ＰＬＡＸ１に対して右回りに４５°の角度をなす。第二偏光パターン列Ｆ１４ｂの遅相軸ＲＴＡＸは、光学フィルムＦ１の法線方向から見て、例えば、偏光子層Ｆ１６の偏光軸ＰＬＡＸ１に対して左回りに４５°の角度をなす。第一偏光パターン列Ｆ１４ａと第二偏光パターン列Ｆ１４ｂは、その長手方向と直交する方向に交互に配置されている。第一偏光パターン列Ｆ１４ａは、図５の偏光パターン列ＡＰＡａおよび偏光パターン列ＤＰＡａに対応し、第二偏光パターン列Ｆ１４ｂは、図５の偏光パターン列ＡＰＡｂおよび偏光パターン列ＤＰＡｂに対応する。
【００５０】
位相差層Ｆ２０は、光学フィルム本体部Ｆ２１の保護フィルム（セパレータフィルム）として、光学フィルム本体部Ｆ２１に剥離可能に設けられる。保護フィルムは、通常、二軸延伸によって製造され、複屈折性を有している。保護フィルムは、パターン化位相差層Ｆ１４や偏光子層Ｆ１６などに比べて位相差が十分に制御されていない。そのため、保護フィルムは、パターン化位相差層Ｆ１４を透過した光に対して意図せぬ位相差を付与する。このような位相差は、光学測定の精度を低下させるため、排除されるべきであるが、本実施形態では、このような位相差を積極的に利用して、偏光パターン列Ｆ１４ａ，Ｆ１４ｂの検出を行っている。この点については、後述する。
【００５１】
光学フィルムＦ１は、位相差層Ｆ２０、偏光子層Ｆ１６およびパターン化位相差層Ｆ１４以外の層を含むことができる。本実施形態では、例えば、図４に示した光学フィルムＦ２の一部もしくは全部を、光学フィルムＦ１として用いることができる。
【００５２】
図４の光学フィルムＦ２は、第一位相差層（プロテクションフィルム）Ｆ１１、基材層Ｆ１２、光配向層Ｆ１３、パターン化位相差層Ｆ１４、第一接着層Ｆ１５、偏光子層Ｆ１６、第二接着層Ｆ１７、偏光子保護層Ｆ１８、粘着層Ｆ１９および第二位相差層（セパレータフィルム）Ｆ２０を、厚み方向で、この順で含む。光学フィルムＦ２のうち、第一位相差層Ｆ１１と第二位相差層Ｆ２０を除く部分が、光学フィルム本体部Ｆ２１である。
【００５３】
以下、光学フィルムＦ２の具体的な構成を説明する。
【００５４】
＜偏光子層＞
偏光子層Ｆ１６は、入射する光のうち、ある方向の振動面を有する光を透過し、それと直交する振動面を有する光を吸収する。偏光子層Ｆ１６を介して射出される光は直線偏光となる。
【００５５】
偏光子層Ｆ１６としては、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを一軸延伸する工程と、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを二色性色素で染色することによって二色性色素を吸着させる工程と、二色性色素が吸着されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸水溶液で処理する工程と、ホウ酸水溶液による処理後に水洗する工程と、を経て製造される偏光フィルムを用いることができる。
【００５６】
ポリビニルアルコール系樹脂は、ポリ酢酸ビニル系樹脂をケン化することにより得ることができる。ポリ酢酸ビニル系樹脂は、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルの他にも、酢酸ビニルとそれに共重合可能な他の単量体との共重合体であってもよい。酢酸ビニルに共重合可能な他の単量体としては、例えば、不飽和カルボン酸類、オレフィン類、ビニルエーテル類、不飽和スルホン酸類、アンモニウム基を有するアクリルアミド類などを挙げることができる。
【００５７】
二色性色素としては、例えば、ヨウ素や二色性の有機染料が用いられる。二色性色素としてヨウ素を用いる場合は、ヨウ素及びヨウ化カリウムを含有する水溶液に、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを浸漬して染色する方法を採用することができる。
【００５８】
ポリビニルアルコール系樹脂フィルムの一軸延伸は、二色性色素による染色の前に行なってもよいし、二色性色素による染色と同時に行なってもよいし、二色性色素による染色の後、例えばホウ酸処理中に行なってもよい。
【００５９】
偏光子層Ｆ１６の厚みは、例えば、平均厚さで５μｍ以上４０μｍ以下とすることができる。
【００６０】
＜パターン化位相差層＞
パターン化位相差層Ｆ１４は、入射する直線偏光を２種の偏光状態の光として射出する。パターン化位相差層Ｆ１４は、光配向層Ｆ１３上に形成されている。
【００６１】
光配向層Ｆ１３は、液晶性を有する材料（以下、液晶材料と称する）に対して配向規制力を有する。光配向層Ｆ１３は、重合性の光配向材料を用いて形成される。光配向材料としては、偏光光で露光されることにより、配向規制力を発現するものが用いられる。光配向材料に偏光光を露光し、配向規制力を発現させた上で重合させることで、配向規制力を保持した光配向層Ｆ１３が形成される。このような光配向材料としては、通常知られたものを用いることができる。
【００６２】
光配向層Ｆ１３は、例えば、配向規制力の方向が互いに直交する第一配向領域と第二配向領域とを含む。第一配向領域と第二配向領域は、それぞれ光学フィルムＦ２の一辺と平行な方向に帯状に延在する。第一配向領域と第二配向領域は、自身の延在方向と直交する方向に交互に設けられる。
【００６３】
パターン化位相差層Ｆ１４は、光配向層Ｆ１３の第一配向領域に対応する第一偏光パターン列Ｆ１４ａと、第二配向領域に対応する第二偏光パターン列Ｆ１４ｂと、を含む。第一偏光パターン列Ｆ１４ａと第二偏光パターン列Ｆ１４ｂは、互いに遅相軸が直交する。第一偏光パターン列Ｆ１４ａは、直線偏光を第一の円偏光に変化させる。第二偏光パターン列Ｆ１４ｂは、直線偏光を第一の円偏光とは回転方向が異なる第二の円偏光に変化させる。
【００６４】
パターン化位相差層Ｆ１４は、重合性の官能基を有する液晶材料を用いて形成される。パターン化位相差層Ｆ１４は、光配向層Ｆ１３が有する第一配向領域および第二配向領域の配向規制力に応じて液晶材料を２方向に配列させ、さらに、液晶材料が有する重合性の官能基を反応させて、用いる液晶材料の液晶相を維持して硬化させることにより得られる。このような重合性の液晶材料としては、通常知られたものを用いることができる。
【００６５】
＜基材層＞
基材層Ｆ１２は、光配向層Ｆ１３およびパターン化位相差層Ｆ１４を支持する基材として用いられる。光配向層Ｆ１３およびパターン化位相差Ｆ１４は、基材層Ｆ１２の表面に光配向材料および液晶材料を塗布することにより形成される。
【００６６】
基材層Ｆ１２の形成材料としては、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリスチレン系樹脂、（メタ）アクリレート系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂やポリプロピレン系樹脂を包含するポリオレフィン系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂などを挙げることができる。
【００６７】
基材層Ｆ１２の厚みは、例えば、平均厚さで４０μｍ以上１００μｍ以下とすることができる。
【００６８】
＜偏光子保護層＞
偏光子保護層Ｆ１８の形成材料としては、上述の基材層Ｆ１２と同様のものを用いることができる。このような材料としては、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリスチレン系樹脂、（メタ）アクリレート系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂やポリプロピレン系樹脂を包含するポリオレフィン系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂などを挙げることができる。
【００６９】
偏光子保護層Ｆ１８の厚みは、例えば、平均厚さで５μｍ以上８０μｍ以下とすることができる。
【００７０】
＜接着層＞
第一接着層Ｆ１５および第二接着層Ｆ１７の形成材料は、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂またはウレタン樹脂を用いた組成物を主成分として水に溶解したものまたは水に分散させた水系接着剤や、光硬化性樹脂と光カチオン重合開始剤などを含有する無溶剤の光硬化性接着剤が挙げられる。第一接着層Ｆ１５および第二接着層Ｆ１７の形成材料としては、製造時の体積収縮が少なく、厚さの制御が容易である観点から、光硬化性接着剤を用いることが好ましく、紫外線硬化型接着剤を用いることがより好ましい。
【００７１】
紫外線硬化型接着剤としては、液状の塗布可能な状態で供給される限りにおいて、従来から偏光板の製造に使用されている各種のものを用いることができる。紫外線硬化型接着剤は、耐候性や重合性などの観点から、カチオン重合性の化合物、例えば、エポキシ化合物、より具体的には、特開２００４−２４５９２５号公報に記載されるような、分子内に芳香環を有しないエポキシ化合物を、紫外線硬化性成分の一つとして含有するものが好ましい。
【００７２】
このようなエポキシ化合物としては、例えば、ビスフェノールＡのジグリシジルエーテルを代表例とする芳香族エポキシ化合物の原料である芳香族ポリヒドロキシ化合物を核水添し、それをグリシジルエーテル化して得られる水素化エポキシ化合物、脂環式環に結合するエポキシ基を分子内に少なくとも１個有する脂環式エポキシ化合物、脂肪族ポリヒドロキシ化合物のグリシジルエーテルを代表例とする脂肪族エポキシ化合物などが挙げられる。
【００７３】
紫外線硬化型接着剤には、エポキシ化合物を代表例とするカチオン重合性化合物のほか、重合開始剤、特に紫外線の照射によりカチオン種またはルイス酸を発生し、カチオン重合性化合物の重合を開始させるための光カチオン重合開始剤が配合される。さらに、紫外線硬化型接着剤には、加熱によって重合を開始させる熱カチオン重合開始剤、その他、光増感剤などの各種添加剤が配合されていてもよい。
【００７４】
第一接着層Ｆ１５および第二接着層Ｆ１７の形成材料は、同じであっても、あるいは異なっていてもよいが、生産性の観点からは、適度の接着力が得られるという前提で、第一接着層Ｆ１５および第二接着層Ｆ１７を、同じ接着剤を用いて形成することが好ましい。
【００７５】
第一接着層Ｆ１５および第二接着層Ｆ１７の厚みは、例えば、平均厚さで０．５μｍ以上５μｍ以下とすることができる。
【００７６】
＜粘着層＞
粘着層Ｆ１９は、例えば、光学フィルム本体部Ｆ２１を液晶パネルの表示面に貼合するために用いられる。粘着層Ｆ１９を形成する粘着剤としては、例えば、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリエステル、ポリウレタン、ポリエーテルなどをベース樹脂とするものを挙げることができる。その中でも、アクリル系樹脂をベース樹脂とするアクリル系粘着剤は、光学的な透明性に優れ、適度の濡れ性や凝集力を保持し、さらに耐候性や耐熱性などに優れ、加熱や加湿の条件下で浮きや剥がれなどの剥離問題が生じにくいため、好適に用いられる。
【００７７】
アクリル系粘着剤を構成するアクリル系樹脂には、エステル部分が、メチル基、エチル基、ブチル基、又は２−エチルヘキシル基のような炭素数２０以下のアルキル基を有するアクリル酸アルキルエステルと、（メタ）アクリル酸や（メタ）アクリル酸−２−ヒドロキシエチルのような官能基含有（メタ）アクリル系モノマーとのアクリル系共重合体が好適に用いられる。
【００７８】
このようなアクリル系共重合体を含む粘着層Ｆ１９は、液晶パネルに貼合した後に何らかの不具合があって剥離する必要が生じた場合に、ガラス基板に糊残りなどを生じさせることなく、比較的容易に剥離することができる。アクリル系共重合体は、そのガラス転移温度が２５℃以下であることが好ましく、０℃以下であることがより好ましい。また、このアクリル系共重合体は、通常１０万以上の重量平均分子量を有する。
【００７９】
粘着層Ｆ１９の厚みは、例えば、平均厚さで１μｍ以上４０μｍ以下とすることができる。
【００８０】
＜第一位相差層＞
第一位相差層（プロテクションフィルム）Ｆ１１は、基材層Ｆ１２とともにパターン化位相差層Ｆ１４を保護する。第一位相差層Ｆ１１は、基材層Ｆ１２に対して剥離自在に設けられている。
【００８１】
第一位相差層Ｆ１１は、透明樹脂フィルムに粘着・剥離性の樹脂層又は付着性の樹脂層を形成して、弱い粘着性を付与したものが用いられる。透明樹脂フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフトレート、ポリエチレン、及びポリプロピレンのような熱可塑性樹脂の押出フィルム、それらを組み合わせた共押出フィルム、それらを一軸又は二軸に延伸したフィルムなどを挙げることができる。透明樹脂フィルムとしては、透明性及び均質性に優れ、廉価であるポリエチレンテレフタレート又はポリエチレンの一軸又は二軸延伸フィルムを用いることが好ましい。
【００８２】
粘着・剥離性の樹脂層としては、例えば、アクリル系粘着剤、天然ゴム系粘着剤、スチレン−ブタジエン共重合樹脂系粘着剤、ポリイソブチレン系粘着剤、ビニルエーテル系樹脂粘着剤、シリコーン系樹脂粘着剤などを挙げることができる。また、付着性の樹脂層としては、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂などを挙げることができる。粘着・剥離性の樹脂層としては、透明性に優れるアクリル系粘着剤を用いることが好ましい。
【００８３】
第一位相差層Ｆ１１の厚みは、例えば、平均厚さで１５μｍ以上７５μｍ以下とすることができる。
【００８４】
＜第二位相差層＞
第二位相差層（セパレータフィルム）Ｆ２０は、粘着層Ｆ１９を覆って粘着層Ｆ１９を保護する。第二位相差層Ｆ２０は、粘着層Ｆ１９に対して剥離自在に設けられている。第二位相差層Ｆ２０としては、第一位相差層Ｆ１１と同様の透明樹脂フィルムを用いることができる。
【００８５】
第二位相差層Ｆ２０の厚みは、例えば、平均厚さで１５μｍ以上７５μｍ以下とすることができる。
【００８６】
本実施形態では、例えば、光学フィルムＦ２を光学フィルムＦ１として用いる。しかし、光学フィルムＦ２から、例えば、第一位相差層Ｆ１１を剥離したものを光学フィルムＦ１として用いてもよい。
【００８７】
図２および図３に戻って、第一支持体１１１は、光学フィルムＦ１の幅方向と平行な円柱状の第一支持面１１１ａを有する。第一支持体１１１は、例えば、光学フィルムＦ１の搬送経路ＦＣＬ（図１参照）を構成する複数の搬送ロールのうちの一つである。第一支持体１１１は、光学フィルムＦ１の第一面（本実施形態では、例えば、図４の第二位相差層Ｆ２０の上面）を支持しつつ、光学フィルムＦ１の搬送に伴って回転する。
【００８８】
第一支持体１１１は、第一支持面１１１ａ内の少なくとも一部に、光学フィルムＦ１を第二面側から第一面側に透過した光を反射する反射面ＲＳ（第一反射面）を有する。本実施形態の場合、第一支持体１１１は、例えば、鏡面加工を施された金属製のロールであり、第一支持面１１１ａ全体が反射面ＲＳとなっているが、第一支持体１１１の構成はこれに限られない。反射面ＲＳの材料や構成は、特に限定されない。反射面ＲＳは、第一支持体１１１の表面を鏡面加工することにより形成されてもよく、第一支持体１１１の表面に金属反射膜や反射型偏光板等の反射部材を配置することにより形成されてもよい。また、第一支持面１１１ａ全体が反射面ＲＳとなっていてもよく、第一支持面１１１ａの一部の領域のみが反射面ＲＳとなっていてもよい。
【００８９】
第一撮像ユニット１１２は、第一光源部１１２ａと、第一撮像部１１２ｂと、第一偏光板１１２ｃと、を含む。第一撮像ユニット１１２は、例えば、一の偏光パターン列を透過して反射面ＲＳで反射された光が、同じ一の偏光パターン列を透過して第一撮像部１１２ｂに入射するように、第一光源部１１２ａと第一撮像部１１２ｂとを近接させて一体に保持している。
【００９０】
第一光源部１１２ａは、反射面上に位置する光学フィルムＦ１に向けて光学フィルムＦ１の第二面（図４の第一位相差層Ｆ１１の下面）側から光を照射する。第一偏光板１１２ｃは、第一光源部１１２ａから光学フィルムＦ１に向かう光の光路上に設けられる。第一光源部１１２ａから照射された光は、第一偏光板１１２ｃを透過して直線偏光に変換される。第一光源部１１２ａとしては、ＬＥＤなどの公知の光源を用いることができる。第一光源部１１２ａは、例えば、光学フィルムＦ１に向けて白色光を照射するが、第一光源部１１２ａが照射する光はこれに限られない。例えば、光学フィルムＦ１に含まれる位相差層Ｆ２０、パターン化位相差層Ｆ１４および偏光子層Ｆ１６や第一偏光板１１２ｃの位相差や波長分散特性などに応じて、適切な波長の光を第一光源部１１２ａから照射することができる。
【００９１】
第一撮像部１１２ｂは、反射面ＲＳ上に位置する光学フィルムＦ１の反射光像を光学フィルムＦ１の第二面側から撮像する。第一撮像部１１２ｂとしては、ＣＣＤカメラなどの公知の撮像手段を用いることができる。
【００９２】
第一パターン検出部１１４は、光学フィルムＦ１の反射光像に基づいて、反射面ＲＳ上に位置する第一偏光パターン列Ｆ１４ａ（ＡＰＡａ，ＤＰＡａ）および第二偏光パターン列Ｆ１４ｂ（ＡＰＡｂ，ＤＰＡｂ）を検出し、偏光パターン列Ｆ１４ａ，Ｆ１４ｂの境界線の位置情報を抽出する。第一パターン検出部１１４としては、公知の画像処理手段を用いることができる。第一撮像部１１２ｂによって撮像された反射光像の画像信号は、第一パターン検出部１１４によってデジタルデータ化された画像データに変換され、色抽出処理や二値化処理などの公知の画像処理が施される。
【００９３】
第一偏光パターン列Ｆ１４ａと第二偏光パターン列Ｆ１４ｂは、第一偏光板１１２ｃの偏光軸（透過軸）ＰＬＡＸ２に対する遅相軸ＲＴＡＸのなす方向が互いに異なる。そのため、第一偏光板１１２ｃ、パターン化位相差層Ｆ１４、偏光子層Ｆ１６および位相差層Ｆ２０を透過し、反射面ＲＳで反射して再度位相差層Ｆ２０、偏光子層Ｆ１６およびパターン化位相差層Ｆ１４を透過した光の輝度や色は、第一偏光パターン列Ｆ１４ａを透過したものと第二偏光パターン列Ｆ１４ｂを透過したものとで異なる。よって、第一パターン検出部１１４は、第一偏光パターン列Ｆ１４ａと第二偏光パターン列Ｆ１４ｂの反射光像の輝度または色の違いに基づいて、第一偏光パターン列Ｆ１４ａと第二偏光パターン列Ｆ１４ｂを検出する。
【００９４】
例えば、図６中の（ａ）および（ｂ）に示すように、第一光源部１１２ａから白色光を照射すると、第一偏光パターン列Ｆ１４ａを透過して第一撮像部１１２ｂに入射する光は、赤色Ｒで光量も大きいのに対し、第二偏光パターン列Ｆ１４ｂを透過して第一撮像部１１２ｂに入射する光は、緑色Ｇで光量も小さいというような現象が生じる。第一パターン検出部１１４は、反射光像の画像データに対して、色抽出処理や二値化処理などの公知の画像処理を施すことにより、第一偏光パターン列Ｆ１４ａおよび第二偏光パターン列Ｆ１４ｂを検出する。色抽出処理や二値化処理は、いずれか一つを選択して用いることもできるが、両者を併用して用いることもできる。例えば、第一パターン検出部１１４は、反射光像の画像データにおいて，より明るく表示される色（図６中では、例えば、赤色Ｒ）を有する部分を抽出し、抽出された画像データをさらに二値化処理することにより、第一偏光パターン列Ｆ１４ａと第二偏光パターン列Ｆ１４ｂとを、明パターンと暗パターンとして検出する。色抽出処理や二値化処理のアルゴリズムは多数知られており、特定の検出方法に限定されない。
【００９５】
複数の偏光パターン列Ｆ１４ａ，Ｆ１４ｂの反射光像のコントラスト（反射光像の輝度の比）を調整するために、第一光源部１１２ａは、赤色や緑色などの色光を照射してもよい。例えば、第一光源部１１２ａから赤色Ｒの光を照射すると、赤色Ｒを殆ど含まない第二偏光パターン列Ｆ１４ｂの反射光像は黒となる。よって、第一偏光パターン列Ｆ１４ａの反射光像の輝度と、第二偏光パターン列Ｆ１４ｂの反射光像の輝度との比（以下、「第一偏光パターン列と第二偏光パターン列の反射光像のコントラスト」という）が大きくなり、第一偏光パターン列Ｆ１４ａと第二偏光パターン列Ｆ１４ｂの検出が容易になる。
【００９６】
第一光源部１１２ａは、緑色Ｇの光を照射することもできる。しかし、より明るく表示される色（図６中では、例えば、赤色Ｒ）を照射する第一光源部１１２ａを用いるほうが、第一偏光パターン列Ｆ１４ａと第二偏光パターン列Ｆ１４ｂの反射光像のコントラストを高める上で有利である。
【００９７】
上述のように、第一偏光パターン列Ｆ１４ａと第二偏光パターン列Ｆ１４ｂの反射光像のコントラストは、光学フィルムＦ１に入射する光の波長によって異なる。第一光源部１１２ａから照射される光の波長は、第一偏光パターン列Ｆ１４ａと第二偏光パターン列Ｆ１４ｂの反射光像のコントラストが、白色光を照射する場合に比べて相対的に大きくなるような波長に設定することができる。
【００９８】
第一調整部１１３は、第一偏光板１１２ｃの偏光軸ＰＬＡＸ２と、偏光パターン列Ｆ１４ａ，Ｆ１４ｂの遅相軸ＲＴＡＸとの相対角度を調整する。第一調整部１１３によって、第一偏光板１１２ｃの偏光軸ＰＬＡＸ２に対する、第一偏光パターン列Ｆ１４ａおよび第二偏光パターン列Ｆ１４ｂの遅相軸ＲＴＡＸのなす角度を調整することにより、第一偏光パターン列Ｆ１４ａと第二偏光パターン列Ｆ１４ｂの反射光像の非対称性（色や輝度などの相違）を大きくすることができる。よって、第一パターン検出部１１４は、反射面上に位置する偏光パターン列Ｆ１４ａ，Ｆ１４ｂを精度よく検出することができる。
なお、上記した第一偏光板１１２ｃの偏光軸ＰＬＡＸ２と、偏光パターン列Ｆ１４ａ，Ｆ１４ｂの遅相軸ＲＴＡＸとの相対角度の調整は、例えば、第一調整部１１３により、第一偏光板１１２ｃを回転可能な治具に貼り付けた後、作業者が光学フィルムＦ１の反射光像を確認しながら、回転可能な治具に貼り付けられた第一偏光板１１２ｃを、治具ごと回転させることで行うことができる。この場合、作業者が光学フィルムＦ１の反射光像を確認しながら治具を回転させ、第一偏光パターン列Ｆ１４ａと第二偏光パターン列Ｆ１４ｂの非対称性が最も大きくなったと判断した位置で、治具の回転を停止する手順とすることができる。一方、上記の相対角度の調整は、第一調整部１１３により、治具を図示略のモータ等で回転させることで、自動で行うことも可能である。また、上記の相対角度の調整は、１回の工程毎に実施してもよいが、原反ロール（図１中の符号Ｒ１を参照）の交換時に光学フィルムＦ１の反射光像を確認し、この反射光像における非対称性が大きい場合には相対角度の調整を行わず、非対称性が小さくパターン認識が良好で無いときのみ調整してもよい。
【００９９】
制御装置１１０は、第一パターン検出部１１４が抽出した偏光パターン列Ｆ１４ａ，Ｆ１４ｂの境界線の位置情報を取得する。制御装置１１０は、偏光パターン列Ｆ１４ａ，Ｆ１４ｂの境界線の位置情報に基づいて、第一支持体１１１に対する光学フィルムＦ１の配置位置を確認する。制御装置１１０は、偏光パターン列Ｆ１４ａ，Ｆ１４ｂの位置（例えば、偏光パターン列Ｆ１４ａ，Ｆ１４ｂの境界線の位置）に基づいて、予め設定された走行位置に対して、実際の光学フィルムＦ１の走行位置がどの程度ずれているかを検出する。制御装置１１０は、光学フィルムＦ１の走行位置のずれを低減するように、図１に示した第一蛇行制御部１０５により、フィルム供給部１０１を光学フィルムＦ１の搬送方向と直交する幅方向に移動させる。
【０１００】
制御装置１１０は、コンピュータシステムを含んで構成される。コンピュータシステムは、ＣＰＵ等の演算処理部と、メモリやハードディスク等の記憶部とを含む。第一パターン検出部１１４の機能は、演算処理部によって実現される。制御装置１１０は、コンピュータシステムの外部の装置との通信を実行可能なインターフェースを含み、フィルム供給部１０１、フィルム巻き取り部１０２，１０３、耳巻き取り部１０４、第一蛇行制御部１０５、第一検出装置１０６、第二蛇行制御部１０７、第二検出装置１０８および切断部１０９などの外部の装置の動作を統括的に制御する。
【０１０１】
第二検出装置１０８の構成は、第一検出装置１０６と同様である。第二検出装置１０８は、第二支持体１１７と、第二撮像ユニット１１８と、第二パターン検出部１２０と、第二調整部１１９と、を含む。第二支持体１１７は第一支持体１１１と同じ構成であり、第二撮像ユニット１１８は第一撮像ユニット１１２と同じ構成であり、第二パターン検出部１２０は第一パターン検出部１１４と同じ構成であり、第二調整部１１９は第一調整部１１３と同じ構成である。
【０１０２】
第二検出装置１０８は、第一検出装置１０６と同様に、第二支持体１１７の反射面ＲＳ（第二反射面）で反射された光学フィルムＦ１の反射光像を第二撮像ユニット１１８により撮像し、その撮像結果に基づいて、反射面ＲＳ上に位置する第一偏光パターン列Ｆ１４ａ（ＡＰＡａ，ＤＰＡａ）および第二偏光パターン列Ｆ１４ｂ（ＡＰＡｂ，ＤＰＡｂ）を検出し、第一偏光パターン列Ｆ１４ａと第二偏光パターン列Ｆ１４ｂとの境界線の位置情報を抽出する。
【０１０３】
以上のように、本実施形態のスリット加工装置１００では、第一検出装置１０６および第二検出装置１０８として、上記の構成のものが用いられている。第一検出装置１０６および第二検出装置１０８では、パターン化位相差層Ｆ１４および偏光子層Ｆ１６を透過した光を、位相差層Ｆ２０を介して反射面ＲＳに入射させ、反射面ＲＳで反射した光を、再度位相差層Ｆ２０を介して偏光子層Ｆ１６およびパターン化位相差層Ｆ１４に入射させる。そのため、撮像部１１２ｂ，１１８ｂによって撮像される反射光像には、色や輝度の異なる複数のパターン列が、第一偏光パターン列Ｆ１４ａと第二偏光パターン列Ｆ１４ｂに対応して表示される。よって、この反射光像の画像データに対して色抽出処理や二値化処理などの画像処理を施せば、第一偏光パターン列Ｆ１４ａと第二偏光パターン列Ｆ１４ｂを精度よく検出することができる。
【０１０４】
位相差層Ｆ２０がパターン化位相差層Ｆ１４と反射面ＲＳとの間に設けられていなければ、撮像部１１２ｂ，１１８ｂによって撮像される反射光像は全面黒の画像となる。よって、第一偏光パターン列Ｆ１４ａと第二偏光パターン列Ｆ１４ｂを検出することはできない。位相差層Ｆ２０がパターン化位相差層Ｆ１４と反射面ＲＳとの間に設けられることによって、偏光子層Ｆ１６から漏れる光が発生し、その光の色や輝度も、第一偏光パターン列Ｆ１４ａを透過したものと第二偏光パターン列Ｆ１４ｂを透過したものとでは異なる。
【０１０５】
位相差層Ｆ２０は、パターン化位相差層Ｆ１４や偏光子層Ｆ１６などに比べて、その位相差が十分に制御されていないため、光学測定においては不都合を生じさせることが多い。そのため、光学測定の前に予め位相差層を剥離するなどの工夫が必要であるが、本実施形態では、位相差層Ｆ２０の位相差を積極的に利用して、位相差層Ｆ２０を剥離することなく、偏光パターン列Ｆ１４ａ，Ｆ１４ｂを検出する。そのため、偏光パターン列Ｆ１４ａ，Ｆ１４ｂを精度よく効率的に検出することが可能な検出装置および検出方法を提供することができる。
【０１０６】
また、本実施形態では、調整部１１３，１１９によって、第一偏光パターン列Ｆ１４ａと第二偏光パターン列Ｆ１４ｂの反射光像の非対称性を大きくすることができる。よって、偏光パターン列Ｆ１４ａ，Ｆ１４ｂの検出精度が高まる。
【０１０７】
本実施形態のスリット加工装置１００は、第一検出装置１０６および第二検出装置１０８により検出された偏光パターン列Ｆ１４ａ，Ｆ１４ｂの位置（例えば、偏光パターン列Ｆ１４ａ，Ｆ１４ｂの境界線の位置）に基づいて、光学フィルムＦ１の走行位置を制御する。そのため、走行位置の制御を精度よく行うことができる。また、走行位置の制御を第一蛇行制御部１０５と第二蛇行制御部１０７を用いて二段階で行うため、光学フィルムＦ１の走行位置のずれを殆どなくすことができる。よって、走行位置のずれによりアクティブエリアＡＣを誤って切断してしまうおそれが低減され、歩留りが向上する。また、走行位置のずれを考慮した余剰部分（周辺エリア）の幅を狭くすることができるため、光学フィルムＦ１の無駄が少なくなり、製造コストが低減される。
【０１０８】
［第二の実施の形態］
図７は、本発明の第二の実施の形態に係るスリット加工装置に適用される第一検出装置１３０の概念図である。
本実施形態において、第一の実施の形態と共通する構成要素については、同じ符号を付し、詳細な説明は省略する。
【０１０９】
本実施形態においては、第一支持体１１１に支持される光学フィルムＦ１の姿勢が第一の実施の形態と異なる。また、この姿勢の違いに基づいて、第一検出装置１３０の構成も第一の実施の形態の第一検出装置１０６とは異なっている。
【０１１０】
本実施形態の第一検出装置１３０は、第一支持体１１１と、第一撮像ユニット１３１と、第一パターン検出部１１４と、を含む。第一支持体１１１は、光学フィルムＦ１のパターン化位相差層Ｆ２１が偏光子層Ｆ１６よりも下側に配置されるような姿勢で光学フィルムＦ１を支持する。光学フィルムＦ１は、第一支持体１１１によって支持される側の面を第一面とし、第一支持体１１１によって支持される側とは反対側の面を第二面としたときに、第一面側から第二面側に向けて、第一位相差層Ｆ１１、パターン化位相差層Ｆ１４および偏光子層Ｆ１６を、この順で含む。
【０１１１】
第一撮像ユニット１３１は、第一光源部１１２ａと、第一撮像部１１２ｂと、を含む。
本実施形態では、偏光子層Ｆ１６がパターン化位相差層Ｆ１４と第一光源部１１２ａとの間に配置されるため、第一光源部１１２ａと光学フィルムＦ１との間に、別途偏光板を配置する必要がない。したがって、第一の実施の形態で示した第一偏光板１１２ｃおよび第一調整部１１３は省略されている。
【０１１２】
第一パターン検出部１１４は、光学フィルムＦ１の反射光像に基づいて、反射面ＲＳ上に位置する偏光パターン列Ｆ１４ａ，Ｆ１４ｂを検出し、偏光パターン列Ｆ１４ａ，Ｆ１４ｂの境界線の位置情報を抽出する。第一撮像部１１２ｂによって撮像された反射光像の画像信号は、第一パターン検出部１１４によってデジタルデータ化された画像データに変換され、色抽出処理や二値化処理などの公知の画像処理が施される。
【０１１３】
第一偏光パターン列Ｆ１４ａと第二偏光パターン列Ｆ１４ｂは、偏光子層Ｆ１６の偏光軸ＰＬＡＸに対する遅相軸ＲＴＡＸのなす方向が互いに異なる。そのため、偏光子層Ｆ１６、パターン化位相差層Ｆ１４および位相差層Ｆ１１を透過し、反射面ＲＳで反射して再度位相差層Ｆ１１、パターン化位相差層Ｆ１４および偏光子層Ｆ１６を透過した光の輝度や色は、第一偏光パターン列Ｆ１４ａを透過したものと第二偏光パターン列Ｆ１４ｂを透過したものとで異なる。よって、第一パターン検出部１１４は、第一偏光パターン列Ｆ１４ａと第二偏光パターン列Ｆ１４ｂの反射光像の輝度または色の違いに基づいて、第一偏光パターン列Ｆ１４ａと第二偏光パターン列Ｆ１４ｂを検出する。
【０１１４】
図示は省略したが、第二検出装置の構成も第一検出装置１３０と同じである。第二検出装置においても、第一の実施の形態で示した第二偏光板１１８ｃおよび第二調整部１１９は省略されている。第二検出装置においても、第二支持体１１７に支持される光学フィルムＦ１の姿勢が第一の実施の形態とは異なるため、第二撮像部１１８ｂによって撮像される第一偏光パターン列Ｆ１４ａと第二偏光パターン列Ｆ１４ｂの反射光像の輝度または色の違いに基づいて、第一偏光パターン列Ｆ１４ａと第二偏光パターン列Ｆ１４ｂを検出することができる。
【０１１５】
本実施形態においても、位相差層Ｆ１１の位相差を積極的に利用して、位相差層Ｆ１１を剥離することなく、偏光パターン列Ｆ１４ａ，Ｆ１４ｂを検出する。そのため、偏光パターン列Ｆ１４ａ，Ｆ１４ｂを精度よく効率的に検出することが可能な検出装置および検出方法を提供することができる。そして、このような検出装置および検出方法を用いて光学フィルムＦ１の走行位置を制御することで、走行位置の制御を精度よく行うことが可能なスリット加工装置およびスリット加工方法を提供することができる。
【０１１６】
以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施の形態例について説明したが、本発明は係る例に限定されるものではない。上述した例において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。
【０１１７】
また、上記の実施の形態では、パターン化位相差層に含まれる偏光パターン列として二種類の偏光パターン列を説明した。しかし、パターン化位相差層に含まれる偏光パターン列は二種類に限定されず、三種類以上とすることもできる。この場合も、複数の偏光パターン列の反射光像は、互いに輝度や色などが異なるものとなる。よって、パターン検出部は、複数の偏光パターン列の反射光像の輝度または色の違いに基づいて、複数の偏光パターン列を検出することができる。
【産業上の利用可能性】
【０１１８】
本発明に係るスリット加工装置およびスリット加工方法によれば、偏光パターン列を精度よく検出してスリット加工を行うことが可能なスリット加工装置およびスリット加工方法を提供することができる。
【符号の説明】
【０１１９】
１００…スリット加工装置、１０１…フィルム供給部、１０５…第一蛇行制御部、１０６…第一検出装置、１０７…第二蛇行制御部、１０８…第二検出装置、１０９…切断部、１１１…第一支持体、１１１ａ…第一支持面、１１２ａ…第一光源部、１１２ｂ…第一撮像部、１１２ｃ…第一偏光板、１１３…第一調整部、１１４…第一パターン検出部、１１５…第一ガイドロール、１１６…第二ガイドロール、１１７…第二支持体、１１７ａ…第二支持面、１１８ａ…第二光源部、１１８ｂ…第二撮像部、１１８ｃ…第二偏光板、１１９…第二調整部、１２０…第二パターン検出部、Ｆ１，Ｆ２…光学フィルム、Ｆ１１…第一位相差層（位相差層）、Ｆ１４…パターン化位相差層、Ｆ１４ａ，Ｆ１４ｂ，ＡＰＡａ，ＡＰＡｂ，ＤＰＡａ，ＤＰＡｂ…偏光パターン列、Ｆ１６…偏光子層、Ｆ２０…第二位相差層（位相差層）、ＲＳ…反射面、ＳＬ１，ＳＬ２，ＳＬ３…スリットライン
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【国際調査報告】
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