(57)【要約】  磁気特性を低下させることなく、ボンド磁石での防錆性及び耐熱性を高めることができるＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末及びＳｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末を提供する。  本発明に係る希土類系磁性粉末は、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末又はＳｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末から選択される磁性粉末により構成され、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサンからなる群から選択される一種以上の環状シロキサン化合物により粒子表面の全面が被覆されており、その環状シロキサン化合物の被覆量が、当該希土類系磁性粉末１０００質量部当たり０．１〜２０質量部である。
2015122271.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末又はＳｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末から選択される磁性粉末により構成され、
ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサンからなる群から選択される一種以上の環状シロキサン化合物により前記磁性粉末の粒子表面の全面が被覆されており、
前記環状シロキサン化合物の被覆量が、当該希土類系磁性粉末１０００質量部当たり０．１〜２０質量部である
ことを特徴とする希土類系磁性粉末。
【請求項２】
予めリン酸化合物で処理された前記磁性粉末に、前記環状シロキサン化合物が被覆されてなることを特徴とする請求項１に記載の希土類系磁性粉末。
【請求項３】
磁気特性として、残留磁束密度が１．２Ｔ（１２ｋＧ）以上で、角形性が３９８ｋＡ／ｍ（５．０ｋＯｅ）以上で、保磁力が８００ｋＡ／ｍ（１０ｋＯｅ）以上であることを特徴とする請求項１又は２に記載の希土類系磁性粉末。
【請求項４】
Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末又はＳｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末から選択される磁性粉末に対し、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサンからなる群から選択される一種以上の環状シロキサン化合物を含む気体と接触させることにより、該磁性粉末の粒子表面の全面に該環状シロキサン化合物を被覆する工程を有し、
前記工程では、前記環状シロキサン化合物を真空容器内で前記磁性粉末と共に配置し、真空圧−０．１ＭＰａ以下、温度４０〜１００℃の条件で、１〜４８時間保持する
ことを特徴とする希土類系磁性粉末の製造方法。
【請求項５】
前記環状シロキサン化合物を粒子表面に被覆した磁性粉末のみを、真空容器内で、真空圧−０．１ＭＰａ以下、温度８０〜１１０℃の条件で、１〜１２時間保持することを特徴とする請求項４に記載の希土類系磁性粉末の製造方法。
【請求項６】
Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末又はＳｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末から選択される磁性粉末に対し、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサンからなる群から選択される一種以上の環状シロキサン化合物を含む気体と接触させることにより、該磁性粉末の粒子表面の全面に該環状シロキサン化合物を被覆する工程を有し、
前記工程では、前記環状シロキサン化合物を容器内で前記磁性粉末と共に配置し、大気圧下、窒素及び／又はアルゴンガスを流通させながら、温度８０〜１１０℃の条件で、１〜２４時間保持する
ことを特徴とする希土類系磁性粉末の製造方法。
【請求項７】
前記環状シロキサン化合物を粒子表面に被覆した磁性粉末のみを、容器内で、窒素及び／又はアルゴンガスを流通させながら、温度８０〜１１０℃の条件で、１〜１２時間保持することを特徴とする請求項６に記載の希土類系磁性粉末の製造方法。
【請求項８】
前記磁性粉末の粒子表面に前記環状シロキサンを被覆するに先立ち、該磁性粉末に対してリン酸化合物で処理することを特徴とする請求項４乃至７のいずれかに１項に記載の希土類系磁性粉末の製造方法。
【請求項９】
請求項１乃至３のいずれかに記載の希土類系磁性粉末と、樹脂とを含有する
ことを特徴とするボンド磁石用樹脂組成物。
【請求項１０】
請求項１乃至３のいずれかに記載の希土類系磁性粉末を含む
ことを特徴とするボンド磁石。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、希土類系磁性粉末に関し、より詳しくは、ボンド磁石用として用いられ、磁気特性を低下させることなく、優れた防錆性、熱耐性を付与したＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系又はＳｍ−Ｆｅ−Ｎ系の希土類系磁性粉末、及びその製造方法、並びにその希土類系磁石粉末を含有するボンド磁石用樹脂組成物、ボンド磁石に関する。
【背景技術】
【０００２】
ボンド磁石は、その形状自在性や高寸法精度等の利点があるため、従来から電気製品や自動車部品等の各種用途に広く使用されている。例えば、ＣＤ、ＤＶＤ、ＨＤＤ用のスピンドルモータ、携帯電話用振動モータ、デジカメのアクチュエータ等の用途や、自動車部品の軽量化・省エネ化・高機能化のために、使用されるボンド磁石自体の高性能化及び苛酷な環境にも耐え得る高い耐食性が強く要求されている。【０００３】
また、ボンド磁石は、通常、ゴム又はプラスチック材料等の結合剤樹脂と磁性粉末とを混練した後に成形することによって製造されているため、ボンド磁石の高性能化のためには磁性粉末の高性能化、すなわち大きな残留磁束密度（Ｂｒ）と高い保磁力（ｉＨｃ）とを有し、その結果、最大磁気エネルギー積（ＢＨ）ｍａｘが大きな磁性粉末が強く要求されている。【０００４】
一般に、磁性粉末として、バリウムフェライトやストロンチウムフェライト等のマグネトプランバイト型フェライトやＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末及びＳｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末が知られている。Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末は、飽和磁化値と異方性磁界がともに高いことから高効率モータに幅広く展開され、焼結磁石としては、携帯電話や各種家電製品をはじめとして、磁気医療診断装置（ＭＲＩ）や放射光発生装置等の大型磁気回路にも幅広く用いられている。【０００５】
また、Ｓｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末は、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末と同じく飽和磁化値と異方性磁界がともに高く、さらに、高いキュリー温度を有することから、近年注目されている。特に、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末よりも高い防錆性を持っていることから、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末を用いたボンド磁石が使用できない苛酷な環境下での使用が期待されている。【０００６】
ところで、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末を得るためには、例えば、ネオジウムと鉄とボロンからなる合金塊を水素雰囲気中で高温処理して希土類の水素化物とＦｅ及びＦｅとＢの化合物とに一度分解する水素化及び不均化処理（ＨＤ処理）を行い、その後に水素を取り除き、再度微細な化合物の結晶を精製（ＤＲ処理）することによって得ることができるが、磁石に用いるためには適度な大きさにする必要がある。そのため、必要最小限の粉砕を施す必要がある。しかしながら、粉砕を施すと、活性な表面が露出することとなり、その表面に起因して酸化が進む。特に、湿度を帯びた空気中では短時間の間に容易に酸化し、磁気特性の低下を引き起こす。さらに、樹脂との混練、成形の各工程では、酸化性もしくは還元性雰囲気と熱により磁気特性の低下を引き起こす。またさらに、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末は、Ｆｅを含むために非常に錆びやすく、ボンド磁石とした後も、例えば海岸等の腐食環境で使用されると、吸水性の低い樹脂を用いてボンド磁石を使用した場合であっても、錆が発生する。【０００７】
一方、Ｓｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末は、サマリウムと鉄との合金に窒素を吸蔵させることで得ることができるが、永久磁石にするにはやはり適度な大きさにする必要があり、必要最小限の粉砕を施す必要がある。しかしながら、このＳｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末においても、粉砕を施すと活性な表面が露出することとなり、その表面に起因して酸化が進み、特に湿度を帯びた空気中においては短時間の間に容易に酸化し、磁気特性の低下を引き起こす。さらに、樹脂との混練、成形の各工程においても、酸化性もしくは還元性雰囲気と、熱により、磁気特性の低下を引き起こす。またさらに、Ｓｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末は、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末よりは錆びにくいものの、高温下では分解することから、ボンド磁石にする際にはエポキシ樹脂やポリアミド樹脂等の低融点樹脂でしか使用できず、吸水することで錆が徐々に発生する。例えば、海岸等の腐食環境で使用されると、容易に錆が発生する。また、吸水しにくいスーパーエンジニアリングプラスチックは、融点が高いために、混練するとＳｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末では保磁力が大きく低下してしまい、目標とするボンド磁石の磁気特性を得ることができない。【０００８】
すなわち、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末及びＳｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末においては、乾燥、表面処理、混練、成形の各工程で受ける酸化性若しくは還元性雰囲気と、熱による磁気特性の劣化が少なく、ボンド磁石とした後も腐食環境で錆びにくいことが強く要求されている。【０００９】
また、ボンド磁石の実用特性の重要な点である成形性は、高温高圧下における樹脂との混合状態での流動性に左右されることから、樹脂との成形時における耐化学反応性を有する磁性粉末であることが重要である。【００１０】
このような状況において、例えば、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末の耐酸化性を向上させる表面処理方法として、リン酸系化合物で被膜する方法が特許文献１に開示されている。また、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末に対してＳｉＯ２保護膜を形成することが特許文献２に開示されている。【００１１】
また、Ｓｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末の耐酸化性を向上させる表面処理方法としては、リン酸系化合物で被膜する方法が特許文献３に開示されている。また、Ｓｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末の耐酸化性を向上させる表面処理方法として、シリカ被膜を形成することが特許文献４〜６に開示されている。さらに、Ｓｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末に対して、リン酸系化合物で被膜した後にシリカ被膜を形成することが特許文献７、８に開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１２】
【特許文献１】特開２００６−４９８６３号公報
【特許文献２】特開平８−１１１３０６号公報
【特許文献３】特開２０００−２６０６１６号公報
【特許文献４】特開２０００−１６０２０５号公報
【特許文献５】特開２０００−３０９８０２号公報
【特許文献６】特開２０１０−２０２９７４号公報
【特許文献７】特開２００９−２４６２９４号公報
【特許文献８】特開２０１０−２０２９７４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
具体的に、特許文献１には、Ａｌ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｚｎ、Ｓｉ、Ｍｎ及びこれらの合金の中から選ばれる少なくとも一種のフレーク状微粉末とシラン及び／又はシランの部分加水分解物とを含む処理液による処理膜を形成することで、耐食性が向上することが記載されている。しかしながら、ボンド磁石とした後に苛酷な条件下、例えば海中の塩分濃度とほぼ同等のＮａＣｌ濃度５％の塩水中やＳＯ４２−が含まれた溶液中に浸漬させる等の苛酷な条件下においては、錆が発生して磁気特性が劣化する。また、特許文献１に記載の方法は、成形後の永久磁石に、処理液をスプレーガンにて加熱複合被膜の膜厚が１０μｍになるように処理するものであり、さらに熱風乾燥炉にて３００℃の高温で熱処理するため、設備投資や生産効率の面から実用的であるとは言い難いものである。【００１４】
また、特許文献２には、プラズマ化学蒸着法によりＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末表面に二酸化ケイ素の保護被膜を形成する方法が記載され、ＳｉＯ２被膜を形成させることによって８０℃、９５ＲＨに保った恒温恒湿槽中で５００時間保持した後でも発錆状態は観察できず、オープンフラックスの減少率も小さかったとしている。しかしながら、処理した磁性粉末を用いてボンド磁石を作製した場合、特許文献２に記載されている８０℃、９５％ＲＨに保った恒温恒湿槽での耐食性評価には一定の効果は見られるものの、より苛酷な条件下、例えば、ＮａＣｌ濃度５％の塩水中に浸漬させる等の苛酷な状況下においては錆が発生してしまい、磁気特性が劣化する。【００１５】
また、特許文献３には、リン酸化合物を被膜させることによってボンド磁石でのオープンフラックスの減少率が抑制できるとしているが、錆については明記されていない。また、特許文献４には、微粒子シリカ被膜を形成させることによって加速劣化後の磁気特性の劣化の程度が大きく改善されるとしているが、この特許文献４においても錆については明記されていない。さらに、特許文献５には、粒子表面にシリカ被膜を形成した磁性粉末を用いてボンド磁石を作製すると、１００℃で所定の時間加熱した後にフラックスを測定した場合に、シリカ被膜を形成した磁性粉末を用いたボンド磁石のフラックスの減少率が抑制され、経時的安定性が極めて高いとしているが、錆については明記されていない。【００１６】
また、特許文献６には、磁性粒子の粒子表面がリン酸化合物からなる第一層で被膜され、その第一層の表面がケイ素化合物とリン酸化合物とを含む複合被膜からなる第二層で被覆することにより、防錆性を与えている。しかしながら、永久磁石用の磁性粒子は互いに磁気的に凝集しているため、湿式での処理では磁気凝集した磁性粒子の凝集面に均一な被膜を形成することが難しく、被膜が形成されていない部分が生じる等の膜厚にムラができてしまい、厚い被膜部分が生じれば磁気特性が低下してしまう可能性がある。被膜は、凝集した粒子の外側を包むように形成されるため、粉末として良好な耐食性等を示しても、樹脂バインダーと共にせん断力をかけて混練してボンド磁石とすると、凝集していた面が露わになるため耐食性の向上が不完全となる。【００１７】
また、特許文献７及び８には、磁性粒子の粒子表面がリン酸化合物からなる第一層で被膜され、その第一層の表面がシリカを主成分とするケイ素化合物からなる第二層で被覆することにより、防錆性を与えている。しかしながら、上述したように、永久磁石用の磁性粒子は互いに磁気的に凝集しているため、これら特許文献７及び８の技術においても、湿式での処理では磁気凝集した磁性粒子の凝集面に均一な被膜を形成することが難しく、被膜が形成されていない部分が生じる等の膜厚にムラができてしまい、厚い被膜部分が生じれば磁気特性が低下してしまう可能性がある。そして、被膜は、上述したように、凝集した粒子の外側を包むように形成されることから、粉末としては良好な耐食性等を示しても、樹脂バインダーと共にせん断力をかけて混練してボンド磁石とすると、凝集していた面が露わになるため耐食性の向上が不完全となってしまう。【００１８】
以上のように、これらの先行技術においては、種々の技術的課題があり、いずれの方法によっても、これらの技術的課題を完全に解決することはできていない。例えば、モータ内でＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末又はＳｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末を用いたボンド磁石を使用している際に錆が発生すると、磁気特性が劣化して性能が低下したり、モーターロックを引き起こして熱損する可能性がある。また、発生した錆が機器周辺を汚染する問題がある。【００１９】
本発明は、このような実情に鑑みて提案されたものであり、磁気特性を低下させることなく、ボンド磁石での防錆性及び耐熱性を高めることができるＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末及びＳｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末、並びにこれら磁性粉末を簡便な処理により得る方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００２０】
本発明者らは、上述した課題を解決するために、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末及びＳｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末の粒子表面に、主要成分のＦｅの溶出を抑制する作用のある被覆膜を粒子全面に極薄く被覆することで磁気特性を低下することなく防錆性を向上させることについて鋭意検討を重ねた。その結果、特定の環状シロキサンを真空容器中で揮発させて、磁気凝集した磁性粉末の凝集面を含む、磁性粉末の表面全面を完全に被覆することによって、より防錆性及び耐熱性を高めることができることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、以下のものである。【００２１】
（１）本発明の第１の発明は、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末又はＳｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末から選択される磁性粉末により構成され、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサンからなる群から選択される一種以上の環状シロキサン化合物により前記磁性粉末の粒子表面の全面が被覆されており、前記環状シロキサン化合物の被覆量が、当該希土類系磁性粉末１０００質量部当たり０．１〜２０質量部であることを特徴とする希土類系磁性粉末である。【００２２】
（２）本発明の第２の発明は、第１の発明において、予めリン酸化合物で処理された前記磁性粉末に、前記環状シロキサン化合物が被覆されてなることを特徴とする希土類系磁性粉末である。【００２３】
（３）本発明の第３の発明は、第１又は第２の発明において、上記（１）又は（２）の発明において、磁気特性として、残留磁束密度が１．２Ｔ（１２ｋＧ）以上で、角形性が３９８ｋＡ／ｍ（５．０ｋＯｅ）以上で、保磁力が８００ｋＡ／ｍ（１０ｋＯｅ）以上であることを特徴とする請求項１又は２に記載の希土類系磁性粉末である。【００２４】
（４）本発明の第４の発明は、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末又はＳｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末から選択される磁性粉末に対し、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサンからなる群から選択される一種以上の環状シロキサン化合物を含む気体と接触させることにより、該磁性粉末の粒子表面の全面に該環状シロキサン化合物を被覆する工程を有し、前記工程では、前記環状シロキサン化合物を真空容器内で前記磁性粉末と共に配置し、真空圧−０．１ＭＰａ以下、温度４０〜１００℃の条件で、１〜４８時間保持することを特徴とする希土類系磁性粉末の製造方法である。【００２５】
（５）本発明の第５の発明は、第４の発明において、前記環状シロキサン化合物を粒子表面に被覆した磁性粉末のみを、真空容器内で、真空圧−０．１ＭＰａ以下、温度８０〜１１０℃の条件で、１〜１２時間保持することを特徴とする希土類系磁性粉末の製造方法である。【００２６】
（６）本発明の第６の発明は、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末又はＳｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末から選択される磁性粉末に対し、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサンからなる群から選択される一種以上の環状シロキサン化合物を含む気体と接触させることにより、該磁性粉末の粒子表面の全面に該環状シロキサン化合物を被覆する工程を有し、前記工程では、前記環状シロキサン化合物を容器内で前記磁性粉末と共に配置し、大気圧下、窒素及び／又はアルゴンガスを流通させながら、温度８０〜１１０℃の条件で、１〜２４時間保持することを特徴とする希土類系磁性粉末の製造方法である。【００２７】
（７）本発明の第７の発明は、第６の発明において、前記環状シロキサン化合物を粒子表面に被覆した磁性粉末のみを、容器内で、窒素及び／又はアルゴンガスを流通させながら、温度８０〜１１０℃の条件で、１〜１２時間保持することを特徴とする希土類系磁性粉末の製造方法である。【００２８】
（８）本発明の第８の発明は、第４乃至第７のいずれかの発明において、前記磁性粉末の粒子表面に前記環状シロキサンを被覆するに先立ち、該磁性粉末に対してリン酸化合物で処理することを特徴とする希土類系磁性粉末の製造方法である。【００２９】
（９）本発明の第９の発明は、第１乃至第３のいずれかの発明に係る希土類系磁性粉末と、樹脂とを含有することを特徴とするボンド磁石用樹脂組成物である。【００３０】
（１０）本発明の第１０の発明は、第１乃至第３のいずれかの発明に係る希土類系磁性粉末を含むことを特徴とするボンド磁石である。
【発明の効果】
【００３１】
本発明によれば、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末又はＳｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末の粒子表面に環状シロキサン化合物の極薄い被覆膜が形成されていることにより、磁気特性を低下させることなく、ボンド磁石での防錆性及び耐熱性を高めることができる。【００３２】
また、このような希土類系磁性粉末によれば、防錆性が高まったことにより、従来使用することができなかったような苛酷な環境においても、錆を発生させることなく使用することができる。また、この希土類系磁性粉末は、耐熱性に優れるため、融点の高いポニフェニレンサルファイド樹脂を用いてボンド磁石を成形する過程においても、磁気特性を維持することができ、これまで以上に苛酷な環境においても使用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】実施例１１〜１３における磁性粉末に対する表面処理で使用した処理装置の構成を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００３４】
以下、本発明の具体的な実施形態（以下、「本実施の形態」という）について、以下の順序で詳細に説明する。なお、本発明は、以下の実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を変更しない範囲で種々の変更が可能である。
１．希土類系磁性粉末
２．希土類系磁性粉末の製造方法
３．ボンド磁石用樹脂組成物
４．ボンド磁石
【００３５】
≪１．希土類系磁性粉末≫
本実施の形態に係る希土類系磁性粉末は、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末又はＳｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末から選択される磁性粉末により構成されるものであり、その粉末粒子表面の全面が特定の環状シロキサン化合物の被覆膜により被覆されていることを特徴としている。
【００３６】
このように、粒子表面の全面に被覆膜を被覆することによって、磁性粉末の主要成分である鉄（Ｆｅ）の溶出を抑制することができ、磁性粉末の磁気特性の低下を防止することができる。そして、この希土類系磁性粉末では、その被覆膜として特定の環状シロキサン化合物を極薄く被覆していることにより、磁気特性を低下させることなく、効果的に防錆性や耐熱性を向上させることができる。
【００３７】
＜１−１．出発原料＞
本実施の形態に係る希土類系磁性粉末において、出発原料として使用する希土類系の磁性粉末は、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末又はＳｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末のいずれかである。
【００３８】
Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末又はＳｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末としては、公知のものを使用することができるが、その中でも、予めリン酸化合物処理されて、その粒子表面がリン酸化合物で被膜されている磁性粉末を使用するのが好ましい。
【００３９】
＜１−２．環状シロキサン化合物の被覆膜を形成した希土類系磁性粉末＞
（被覆膜について）
本実施の形態に係る希土類系磁性粉末は、上述したように、出発原料粉末であるＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末又はＳｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末の粒子表面の全面に、特定の環状シロキサン化合物の被覆膜を形成している。
【００４０】
具体的に、被覆する環状シロキサン化合物は、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサンから選択される一種以上の環状シロキサン化合物である。また、その他の揮発性を有する環状シロキサン化合物を使用することもできる。
【００４１】
詳しくは後述するが、この希土類系磁性粉末においては、上述したような揮発性を有する環状シロキサン化合物を、真空容器内で、又は大気圧下で不活性ガスを流通させながら揮発させ、その気体と出発原料粉末であるＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末又はＳｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末とを気相接触させる、いわゆる気相法により、粒子表面の全面に環状シロキサン化合物の被覆膜を形成させる。この気相法によれば、ナノレベルの極薄い被覆膜層を粒子表面に均一に形成することができ、磁性粉末の磁気特性を低下させることなく、極めて優れた防錆性（耐食性）等を発揮させることができる。
【００４２】
上述した気相法により被覆する環状シロキサン化合物の被覆量としては、希土類系磁性粉末１０００質量部当たり０．１〜２０質量部とすることが重要となる。また、希土類系磁性粉末１０００質量部当たり１〜１０質量部であることがより好ましい。
【００４３】
環状シロキサン化合物の被覆量が０．１質量部未満であると、環状シロキサン化合物の被覆膜が磁性粉末粒子の全面を必ずしも被覆することができず、あるいは全面に被覆されても膜厚が十分に得られないため、環境中の水分と反応し、磁性粉末の主成分であるＦｅが溶出することで錆が発生しやすくなる。また、耐熱性も十分に得られない。一方で、環状シロキサン化合物の被覆量が２０質量部を超えると、被覆膜が厚くなり磁気特性の低下が起こるため好ましくない。
【００４４】
（圧縮密度について）
環状シロキサン化合物の被覆膜を形成した希土類系磁性粉末について、その圧縮密度（ＣＤ）としては、特に限定されないが、４．１ｇ／ｍｌ以上であることが好ましい。圧縮密度が、４．１ｇ／ｍｌ未満の場合には、ボンド磁石を成形する際の射出成形時における体積当たりの密度が低くなり、磁気特性が低下する可能性がある。
【００４５】
（ＢＥＴ比表面積について）
環状シロキサン化合物の被覆膜を形成した希土類系磁性粉末について、そのＢＥＴ比表面積としては、特に限定されないが、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末の場合は、０．０１〜３．５ｍ２／ｇの範囲であることが好ましい。被覆膜を形成したＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末において、ＢＥＴ比表面積が上述の範囲外であると、適切な粉砕が行われていないことを意味し、高い磁気特性を得ることができない。なお、ＢＥＴ比表面積として、０．０１〜２．５ｍ２／ｇの範囲であることがより好ましい。
【００４６】
また、Ｓｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末の場合におけるＢＥＴ比表面積としては、特に限定されないが、０．３５〜２．６ｍ２／ｇであることが好ましい。被覆膜を形成したＳｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末において、ＢＥＴ比表面積が上述の範囲外であると、適切な粉砕が行われていないことを意味し、高い磁気特性を得ることができない。なお、ＢＥＴ比表面積として、０．３５〜２．０ｍ２／ｇの範囲であることがより好ましい。
【００４７】
（粉末粒子の平均粒径について）
環状シロキサン化合物の被覆膜を形成した希土類系磁性粉末について、その粉末粒子の平均粒径としては、特に限定されないが、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末の場合は、１０〜２００μｍであることが好ましく、４０〜１３０μｍであることがより好ましい。
【００４８】
また、Ｓｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末の場合における粉末粒子の平均粒径としては、特に限定されないが、１．０〜５．０μｍであることが好ましく、１．０〜４．０μｍであることがより好ましい。
【００４９】
（磁性粉末の構造について）
環状シロキサン化合物の被覆膜を形成した希土類系磁性粉末について、その粉末構造としては、特に限定されないが、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末の場合は、Ｎｄ２Ｆｅ１４Ｂ型の構造を有することが好ましい。
【００５０】
また、Ｓｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末の場合における粉末構造としては、特に限定されないが、Ｔｈ２Ｚｎ１７型、ＴｂＣｕ７型、又はＴｈ２Ｎｉ１７型の構造を有することが好ましい。
【００５１】
（磁性粉末の磁気特性について）
本実施の形態に係る希土類系磁性粉末は、上述したように、環状シロキサン化合物の被覆膜が極薄く形成されてなっていることにより、磁気特性を低下させることなく、効果的に防錆性や耐熱性を向上させることができる。具体的に、その磁気特性としては、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末を用いた場合、当該磁性粉末を磁場中で配向させて測定した結果として、例えば、保磁力が４７８〜１９８９ｋＡ／ｍ（６〜２５ｋＯｅ）であり、残留磁束密度が１．１〜１．５Ｔ（１１〜１５ｋＧ）であり、最大磁気エネルギー積が１９９．１〜３５８ｋＪ／ｍ３（２５〜４５ＭＧＯｅ）である。
【００５２】
また、Ｓｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末を用いた場合、その磁気特性は、当該磁性粉末を磁場中配向させて測定した結果として、例えば、保磁力が３９８．１〜１５９２ｋＡ／ｍ（５〜２０ｋＯｅ）であり、残留磁束密度が１．０〜１．５Ｔ（１０〜１５ｋＧ）であり、最大磁気エネルギー積が１５８．８〜３５８．１ｋＪ／ｍ３（２０〜４５ＭＧＯｅ）である。
【００５３】
≪２．環状シロキサン化合物の被覆膜を形成した希土類系磁性粉末の製造方法≫
次に、本実施の形態に係る希土類系磁性粉末、すなわち、環状シロキサン化合物の被覆膜を形成した希土類系磁性粉末の製造方法について、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末の場合と、Ｓｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末の場合とに分けて、それぞれ説明する。
【００５４】
＜２−１．出発原料粉末の調製＞
（Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末の場合）
先ず、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末の場合について説明する。出発原料となるＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末は、ブックモールド法、遠心鋳造法、ストリップキャスト法、アトマイズ法、還元拡散法等の公知の合金作製方法のいずれかを用いて、出発合金であるＮｄ−Ｆｅ−Ｂ鋳塊を作製する。
【００５５】
次に、作製したＮｄ−Ｆｅ−Ｂ鋳塊に対し、結晶粒の粗大化及びα−Ｆｅ相の減少等を目的とした均質化処理を行う。この均質化処理は、例えば、雰囲気としては窒素雰囲気以外の不活性ガス中で、１０００〜１２００℃の温度条件で、１〜４８時間の加熱処理を行う。このようにして均質化処理を行うことで、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ鋳塊中の主成分元素の拡散を生じさせて、各成分を均質化させることができる。
【００５６】
ここで、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ鋳塊は、主相であるＮｄ２Ｆｅ１４Ｂ相、Ｎｄリッチ相、及びＢリッチ相から構成されているが、Ｎｄ２Ｆｅ１４Ｂ相の他に、α−Ｆｅ相及びＮｄ２Ｆｅ１７相等の強磁性相が存在していることが多い。そのため、上述した均質化処理を施すことによって、Ｎｄ２Ｆｅ１４Ｂ相のみからなる組織にすることができる。また、このような均質化処理を施すことによって、結晶粒径を約１００μｍ以上に粗大化することができる。平均粒径の粗大化は、磁気異方性を有するようになるため好ましい。
【００５７】
均質化処理の条件に関して、不活性ガス雰囲気として窒素を用いた場合、その窒素がＮｄ−Ｆｅ−Ｂ鋳塊と反応するため好ましくない。また、均質化処理の熱処理温度として、１０００℃未満では、主成分元素の拡散に時間がかかり製造コストを引き上げることになるため好ましくない。一方で、均質化処理の熱処理温度が１２００℃を超えると、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ鋳塊の融解が生じるため好ましくない。
【００５８】
次に、均質化処理が終わったＮｄ−Ｆｅ−Ｂ鋳塊に対して、公知の粉砕方法、例えば、ジョークラッシャーなどの機械的粉砕や、水素吸蔵粉砕、ディスクミルなどを用いた粉砕等により粉砕処理を施す。
【００５９】
粉砕処理後、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末においては、ＨＤＤＲ処理を施すことができる。ＨＤＤＲ処理は、水素化・不均化処理（ＨＤ処理）と、脱水素・再結合処理（ＤＲ）とに分けられる。先ず、粉砕したＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系粉末を真空熱処理炉に投入し、水素ガスを流通させながら、８００℃〜９００℃の温度範囲で１〜５時間、水素化・不均化処理（ＨＤ処理）を行う。その後、ＨＤ処理と同じ温度で、真空中にて脱水素・再結合処理（ＤＲ処理）を行う。このようにしてＨＤＤＲ処理を行うことで、優れた磁気異方性をもった出発原料粉末であるＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末を得ることができる。
【００６０】
（Ｓｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末の場合）
次に、Ｓｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末の場合について説明する。出発原料となるＳｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末は、例えばＴｈ２Ｚｎ１７型構造を有するＳｍ２Ｆｅ１７合金粉末に、窒素を導入して製造することができる。Ｓｍ２Ｆｅ１７合金粉末は、ブックモールド法、遠心鋳造法、ストリップキャスト法、アトマイズ法、還元拡散法等の公知の合金作製方法のいずれかを用いて作製することができるが、その中でも、還元拡散法を用いることが好ましい。
【００６１】
ここで、還元拡散法では、例えば、鉄粉末と酸化サマリウム粉末とを原料とし、これらに金属カルシウム粒を加えて混合して、Ａｒガス等の非酸化性雰囲気中で熱処理（還元拡散処理）を施す。この熱処理においては、金属カルシウムによって酸化サマリウムが還元され、還元されたサマリウムが鉄粉末に拡散することによって合金化する。なお、熱処理後の反応生成物中に含まれる酸化カルシウムは、冷却後に反応生成物を水中に投入して水酸化カルシウムとし、デカンテーションを繰り返すことで洗浄除去することができる。
【００６２】
Ｓｍ２Ｆｅ１７合金粉末に対する窒素の導入（窒化）は、カルシウム成分を除去した後に回収したＳｍ２Ｆｅ１７合金粉末を乾燥し、窒素ガス、アンモニアガス等の窒素を含む雰囲気中で熱処理を施すことによって行われる。このようにして得られた窒化熱処理後の粉末は、Ｓｍ２Ｆｅ１７Ｎ３の組成を有している。なお、窒化を還元拡散後の反応生成物に対して行い、その後にカルシウム成分を除去する洗浄処理を行うようにしてもよい。
【００６３】
そして、得られた窒化後の粉末を、例えば平均粒径が１．０〜５．０μｍとなるように、解砕、粉砕、分級等で粒度調整することによって、出発原料粉末であるＳｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末を得ることができる。
【００６４】
＜２−２．出発原料粉末に対するリン酸化合物処理＞
本実施の形態に係る希土類系磁性粉末の製造方法においては、上述のようにして得られた出発原料粉末に対して環状シロキサン化合物の被覆膜を形成することになるが、その環状シロキサン化合物の被覆膜の形成に先立ち、出発原料粉末の粒子表面にリン酸化合物を付着（被覆）する処理（リン酸化合物処理）を施すことが好ましい。
【００６５】
このように出発原料粉末に対してリン酸化合物処理を施すことによって、原料の磁性粉末の耐久性を向上させることができるとともに、より一層に防錆性等を高めることができる。
【００６６】
リン酸化合物処理に関して、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末又はＳｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末に対する被覆処理に用いるリン酸化合物としては、特に限定されないが、例えば、オルトリン酸、リン酸水素二ナトリウム、ピロリン酸、メタリン酸、リン酸マンガン、リン酸亜鉛、リン酸アルミニウム等を好適に使用することができる。その中でも、粒子表面に付着させるリン酸化合物としては、オルトリン酸が特に好ましい。
【００６７】
また、リン酸化合物処理に際しては、磁性粉末の表面に均一にリン酸化合物を被膜させるために、上述したリン酸化合物に対して、希釈溶液として例えばイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）を混合させ、撹拌機を用いて、５０〜１７５℃の温度条件で、１〜３時間加熱しながら撹拌混合することが好ましい。さらに好ましくは、窒化後の粉末を、平均粒径が１．０〜５．０μｍとなるように解砕、粉砕、分級等で粒度調整する際に、湿式の解砕、粉砕、分級等を行い、その処理溶媒に上述したリン酸化合物を添加する。その後、粒度調整された磁性粉末スラリーを非酸化性雰囲気中５０〜１７５℃の温度条件で、１〜３時間加熱しながら撹拌乾燥する。このようにすることで、磁気凝集している粒子表面にもリン酸化合物被膜を形成することができる。
【００６８】
リン酸化合物の添加量（付着量、被覆量）としては、特に限定されないが、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末又はＳｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末１００質量部に対して、０．１〜５．０質量部程度とするのが好ましい。
【００６９】
＜２−３．環状シロキサン化合物に対する被覆膜の形成＞
次に、上述のようにして調製された出発原料粉末（磁性粉末）に対して、環状シロキサン化合物の被覆膜を形成する工程について説明する。
【００７０】
被覆膜の形成においては、先ず、加熱可能な真空容器内に調製した磁性粉末を入れるとともに、その真空容器内に揮発性を有する環状シロキサン化合物を入れた別容器を設置する。そして、その真空容器内を、真空圧で−０．１ＭＰａ以下に脱気した後、真空容器全体を４０〜１００℃に加熱し、１〜４８時間に亘って加熱処理を行う。つまり、被覆膜の形成においては、別容器に入れた環状シロキサン化合物を揮発させ、磁性粉末表面に対して揮発した環状シロキサン化合物を気相で接触させるようにすることによって、磁気凝集した凝集面を含む、磁性粉末の表面の全面に適度に被覆膜を形成する（気相法による被覆膜の形成）。
【００７１】
被覆膜の形成に際しての温度条件として、真空容器全体の温度が４０℃未満であると、環状シロキサン化合物の揮発が十分ではなく、磁性粉末の粒子全面を被覆することが難しくなる。一方で、温度が１００℃より高温であると、環状シロキサン化合物の変質が起こる恐れがある。したがって、温度条件としては、上述のように真空容器全体を４０〜１００℃に加熱し、より好ましくは５０〜８０℃に加熱する。
【００７２】
また、処理時間に関して、処理時間が少なすぎると、被覆膜の形成が十分ではなく、一方で、処理時間を長くしてもある一定の被覆量以上には被覆されない。このことから、処理時間としては、上述のように１〜４８時間とし、より好ましくは１２時間〜２４時間とする。
【００７３】
気相法に基づく被覆膜の形成条件として、上述した温度条件、処理時間条件とすることによって、真空容器内に、磁性粉末と揮発性を有する環状シロキサン化合物を設置するという簡易な操作だけで、磁性粉末表面に、揮発した環状シロキサン化合物が接触するようになり、磁性粉末の表面の全面、また細部にわたり被覆膜を効率的に形成することができる。また、より効率的に且つより確実に、磁性粉末の粒子全面に環状シロキサン化合物を被覆させるためには、真空容器内部に、撹拌機のような混合する装置を内蔵させることが好ましい。
【００７４】
また、被覆膜の形成においては、磁性粉末を大気圧下で不活性ガスを流しながら、温度８０〜１１０℃の条件で１〜２４時間保持することによって、環状シロキサン化合物と気相接触させるようにしてもよい。流通させるガス種としては、酸素雰囲気中での加熱による磁気特性の低下が懸念される観点から、窒素ガスやアルゴンガス等の不活性ガスであることが好ましい。また、大気中で気相接触させる場合には、積極的に磁性粉末表面に環状シロキサン化合物を接触させるために、磁性粉末を撹拌しながら行うことが好ましい。
【００７５】
ここで、上述したように、磁性粉末の表面の全面に被覆膜の形成した後、表面に付着した環状シロキサン化合物の安定化を行うことが好ましい。具体的に、真空容器内で気相接触させることで被覆した環状シロキサン化合物の安定化の処理は、気相処理に用いた容器から被覆処理を施した磁性粉末のみを取り出し、別の真空容器に移すか、又は、気相処理した同じ真空容器を用いるときは、環状シロキサン化合物を入れた容器を取り出し、内部のガスを大気で置換した後、再度、真空圧で−０．１ＭＰａ以下の真空下にして、８０〜１１０℃の温度条件で１〜１２時間に亘って乾燥処理（熱処理）を施すようにする。
【００７６】
また、大気下において不活性ガスを流通させながら気相接触させて環状シロキサン化合物を被覆させた場合においては、気相処理に用いた容器、又は別の容器内に、不窒素ガスやアルゴンガス等の活性ガスを流通させながら、例えば８０〜１１０℃の温度条件で１〜１２時間に亘って熱処理を施す。なお、上述のように真空容器内で環状シロキサン化合物を被覆させた場合においても、被覆処理を施した磁性粉末のみを別の容器に移して、大気下で、その容器内に不活性ガスを流通させた状態として、同様の処理条件で熱処理を施すようにしてもよい。
【００７７】
このようにして、気相接触により環状シロキサン化合物を被覆した後に熱処理を行うことで、被覆膜の安定化と、余分な吸着分の除去を行うことができる。なお、熱処理の温度条件に関して、８０℃未満であると、磁性粉末に付着した環状シロキサン化合物を十分に安定化させることができず、一方で、１１０℃を超えると、得られる希土類系磁性粉末の磁気特性に影響を与える可能性があるため好ましくない。したがって、８０〜１１０℃の温度条件で行うことが好ましく、８０〜９０℃の温度条件で行うことがより好ましい。
【００７８】
本実施の形態に係る希土類系磁性粉末の製造方法においては、上述したように、気相法を用い、揮発した環状シロキサン化合物を含む気体を気相で磁性粉末表面に接触させて、被覆膜を形成させるようにしている。このような気相法は、液中で表面粒子表面にコーティング層を形成する液相法（湿式法）とは異なり、例えば厚さ０．５〜２０ｎｍ程度、好ましくは１〜５ｎｍ程度のナノレベルの均一な被覆膜層を磁性粉末の粒子表面全面に形成することができる。
【００７９】
このようにして磁性粉末の粒子表面に極薄い均一な被覆膜層を形成することができることにより、磁性粉末の磁気特性を低下させることなく、極めて優れた防錆性（耐食性）、耐熱性を付与することができる。また、気相法により被覆膜を形成した後に、再度熱処理を施すことによって、付着した環状シロキサン化合物を、より緻密で、安定化させた被覆膜層とすることができる。
【００８０】
≪３．ボンド磁石用樹脂組成物≫
次に、本実施の形態に係る希土類系磁性粉末を用いたボンド磁石用樹脂組成物について説明する。
【００８１】
ボンド磁石用樹脂組成物は、磁性粉末を結合剤樹脂中に分散してなるものである。本実施の形態に係るボンド磁石用樹脂組成物は、上述したように、その磁性粉末が、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末又はＳｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末により構成され、特定の環状シロキサン化合物により粒子表面の全面が被覆されている。
【００８２】
ボンド磁石用樹脂組成物は、上述した表面処理されたＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末又はＳｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末を例えば８５〜９９質量％の割合で含有し、残部が結合剤樹脂と、その他必要に応じて添加された添加剤とで構成されている。
【００８３】
ここで、結合剤樹脂としては、特に限定されるものではなく、成形法によって種々選択することができる。例えば、射出成形、押し出し成形、及びカレンダー成形の場合には、熱可塑性樹脂を使用することができ、圧縮成形の場合には、熱硬化性樹脂を使用することができる。熱可塑性樹脂としては、例えば、ナイロン（ＰＡ）系、ポリプロピレン（ＰＰ）系、エチレンビニルアセテート（ＥＶＡ）系、ポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）系、液晶樹脂（ＬＣＰ）系、エラストマー系、ゴム系等の樹脂を使用することができる。また、熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ系、フェノール系、シリコーン系等の樹脂を使用することができる。
【００８４】
また、ボンド磁石用樹脂組成物を製造するに際して、流動性、成形性等を改善し、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末又はＳｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末の磁気特性を十分に引き出すために、必要に応じて、可塑剤、滑剤、カップリング剤等の周知の添加剤を使用することができる。また、フェライト磁石粉末等の他の種類の磁石粉末を混合してもよい。
【００８５】
ボンド磁石用樹脂組成物は、表面処理したＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末又はＳｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末を所定の割合で結合剤樹脂と混合させ、混練することによって得ることができる。混合に際しては、ヘンシェルミキサー、Ｖ字ミキサー、ナウター等の混合機等を用いて行うことができ、混練に際しては、一軸混練機、二軸混練機、臼型混練機、押し出し混練機等を用いて行うことができる。
【００８６】
≪４．ボンド磁石≫
ボンド磁石は、上述したボンド磁石用樹脂組成物を用いて得ることができる。具体的には、上述したボンド磁石用樹脂組成物を射出成形、押出成形、圧縮成形、カレンダー成形等の周知の成形法で成形加工した後、公知の手法に従って電磁石着磁やパルス着磁することにより、ボンド磁石とすることができる。
【００８７】
本実施の形態に係る希土類系磁性粉末は、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末又はＳｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末の粒子表面の全面を環状シロキサン化合物により被覆したものであるため、撥水性が付与されており、また表面状態が著しく変化している。磁性粉末の粒子表面の環状シロキサン化合物からなる被膜は非常に薄く、磁気特性への影響がほとんど認められず、また熱による磁性粉末の変質を抑える効果が認められる。したがって、表面被覆処理していない、すなわち環状シロキサン化合物の被覆膜を形成していない磁性粉末と比較して、磁気特性の低下がみられず、一方で極めて防錆性、耐熱性に優れている。また、このような磁性粉末が有する防錆性、耐熱性は、その磁性粉末を用いてボンド磁石に成形した場合であっても、そのボンド磁石に対して優れた防錆性を付与する。
【実施例】
【００８８】
以下に、実施例を用いて本発明を更に詳細に説明するが、本発明は下記の実施例に限定されない。【００８９】
＜希土類系磁性粉末の作製＞
［実施例１］
異方性Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末（愛知製鋼（株）製，ＭＦ−１８Ｐ）５０ｇを真空デシケーターの下段に設置し、その上段に環状シロキサン化合物（ヘキサメチルシクロトリシロキサン）５ｇを置き、−０．１ＭＰａ以下に減圧後、８０℃の恒温槽に２４時間入れた。これにより、揮発した環状シロキサン化合物と磁性粉末とを気相で接触させ、磁性粉末に対する表面処理を行った。そして、処理後に磁性粉末を取り出し、真空乾燥機中で９０℃、６時間の乾燥を行い、環状シロキサン化合物が被覆されたＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末を得た。【００９０】
処理後のＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末には、環状シロキサン化合物（ヘキサメチルシクロトリシロキサン）が０．３ｇ被覆されていた。すなわち、磁石粉末１０００質量部に対し、環状シロキサン化合物の被覆量は６質量部であった。【００９１】
［実施例２〜３］
実施例２では、環状シロキサン化合物としてオクタメチルシクロテトラシロキサンを用い、実施例３では、環状シロキサン化合物として１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサンを用いたこと以外は、それぞれ実施例１と同様にして表面処理されたＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末を得た。【００９２】
処理後のＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末には、環状シロキサン化合物（実施例２：オクタメチルシクロテトラシロキサン、実施例３：１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン）が実施例２、３ともに０．２ｇ被覆されていた。すなわち、磁石粉末１０００質量部に対し、環状シロキサン化合物の被覆量は４質量部であった。【００９３】
［実施例４〜６］
Ｓｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末（住友金属鉱山（株）製，ＳＦＮ−Ｃ，リン酸化合物処理品）５０ｇを真空デシケーターの下段に設置し、その上段に環状シロキサン化合物（ヘキサメチルシクロトリシロキサン）５ｇを置き、−０．１ＭＰａ以下に減圧後、実施例４では５０℃、実施例５では６０℃、実施例６では８０℃とした恒温槽にそれぞれ２４時間入れた。これにより、揮発した環状シロキサン化合物と磁性粉末とを気相で接触させ、磁性粉末に対する表面処理を行った。そして、処理後に磁性粉末を取り出し、真空乾燥機中で９０℃、６時間の乾燥を行い、環状シロキサン化合物が被覆されたＳｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末を得た。【００９４】
処理後のＳｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末には、環状シロキサン化合物（ヘキサメチルシクロトリシロキサン）が、それぞれ、０．１５ｇ（実施例４）、０．２５ｇ（実施例５）、０．３５ｇ（実施例６）被覆されていた。すなわち、磁石粉末１０００質量部に対し、環状シロキサン化合物の被覆量は、それぞれ、３質量部（実施例４）、５質量部（実施例５）、７質量部（実施例６）であった。【００９５】
［実施例７、８］
環状シロキサン化合物としてオクタメチルシクロテトラシロキサンを用い、実施例７では４０℃、実施例８では８０℃の恒温槽に、それぞれ２４時間入れて気相接触させたこと以外は、それぞれ実施例４と同様にして表面処理されたＳｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末を得た。【００９６】
処理後のＳｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末には、環状シロキサン化合物（オクタメチルシクロテトラシロキサン）が、それぞれ、０．０２５ｇ（実施例７）、０．０５ｇ（実施例８）被覆されていた。すなわち、磁石粉末１０００質量部に対し、環状シロキサン化合物の被覆量は、それぞれ、０．５質量部（実施例７）、１質量部（実施例８）であった。【００９７】
［実施例９、１０］
環状シロキサン化合物として１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサンを用い、実施例９では４０℃、実施例１０では８０℃の恒温槽に、それぞれ２４時間入れた気相接触させたこと以外は、それぞれ実施例４と同様にして表面処理されたＳｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末を得た。【００９８】
処理後のＳｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末には、環状シロキサン化合物（１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン）が、それぞれ、０．１５ｇ（実施例９）、０．２ｇ（実施例１０）被覆されていた。すなわち、磁石粉末１０００質量部に対し、環状シロキサン化合物の被覆量は、それぞれ、３質量部（実施例９）、４質量部（実施例１０）であった。【００９９】
［実施例１１］
実施例１１では、図１に示す装置を用い、磁性粉末を大気圧下で不活性ガスを流しながら環状シロキサン化合物と気相接触させて磁性粉末に対する表面処理を行った。【０１００】
すなわち、先ず、図１に示す装置における混合槽（混合容器）１１内にＳｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末５０ｇを投入し、撹拌しながら８０℃に加熱した。一方、収容槽１２内に環状シロキサン化合物（ヘキサメチルシクロトリシロキサン）２０を収容して加熱し、温度５０℃に保持した。そして、窒素（Ｎ２）ガス３０ａを収容槽１２内に５００ｓｃｃｍ導入し、続いてＮ２ガス３０ｂを１５０ｓｃｃｍの量で送ることによって、環状シロキサン化合物を含んだガスを混合槽１１内に２４時間導入した。これにより、混合層１１内の大気圧下で、揮発した環状シロキサン化合物と磁性粉末とを気相接触させ、その磁性粉末に対する表面処理を行った。【０１０１】
表面処理の後、磁性粉末を取り出し、真空乾燥機中で９０℃、６時間の乾燥を行い、環状シロキサン化合物が被覆されたＳｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末を得た。処理後のＳｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末には、環状シロキサン化合物（ヘキサメチルシクロトリシロキサン）が、０．２５ｇ被覆されていた。すなわち、磁石粉末１０００質量部に対し、環状シロキサン化合物の被覆量は５質量部であった。【０１０２】
［実施例１２、１３］
実施例１２では、環状シロキサン化合物としてオクタメチルシクロテトラシロキサンを用い、実施例１３では、環状シロキサン化合物として１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサンを用いたこと以外は、それぞれ実施例１１と同様にして表面処理を施し、環状シロキサン化合物が被覆されたＳｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末を得た。【０１０３】
処理後のＳｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末には、環状シロキサン化合物（実施例１２：オクタメチルシクロテトラシロキサン、実施例１３：１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン）が、それぞれ、０．０４ｇ（実施例１２）、０．２ｇ（実施例１３）被覆されていた。すなわち、磁石粉末１０００質量部に対し、環状シロキサン化合物の被覆量は、それぞれ、０．８質量部（実施例１２）、４質量部（実施例１３）であった。【０１０４】
［比較例１、２］
上述した実施例にて使用したＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末（比較例１）、及び、Ｓｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末（比較例２）を、表面処理せずに用いて、以下に示すように実施例と同様にして評価した。【０１０５】
＜ボンド磁石の作製＞
実施例１〜１０、比較例１、２で作製した磁性粉末を用い、それぞれにおいて磁性粉末８８．８１質量部と、ポリフェニレンサルファイド樹脂８．９１質量部とをヘンシェルミキサーを用いて混合し、二軸押出混練機により混練（混練温度３００℃）を行い、１５９２ｋＡ／ｍ（２０ｋＯｅ）の配向磁界をかけながら２０ｍｍφ×１３ｍｍの射出成形品を作製した。【０１０６】
＜評価、結果＞
（磁気特性評価）
磁気特性について、配向磁場中で成形したボンド磁石をＢＨトレーサー（東英工業（株）製）により測定し、残留磁束密度（ｋＧ）、角形性（ｋＯｅ）、保磁力（ｋＯｅ）について評価した。表１に、それぞれの結果を示す。【０１０７】
（撥水性試験）
磁性粉末５ｇをステンレス板の上に盛り、水を１滴落として撥水性を観察した。磁性粉末上に水滴が丸く保持されたものは『○』、水滴が楕円形となったものは『△』、磁性粉末中に吸収されたものは『×』として評価した。表１にそれぞれの結果を示す。【０１０８】
（耐食性試験）
磁性粉末５ｇ及びボンド磁石成形体に対して、人口汗液（リン酸水素二ナトリウム０．３２質量％、塩化ナトリウム０．８質量％、酢酸０．５質量％水溶液）による耐食性試験を行った。具体的には、密封容器内に人口汗液１０ｍｌを入れ、磁性粉末又はボンド磁石成形体を並べて、密封容器を３０℃に加温した恒温槽内に入れた状態で２４時間放置した。放置した結果、赤く錆が見られたものは『×』、変色が見られなかったものは『○』として評価した。表１に、それぞれの結果を示す。【０１０９】
（耐熱性試験）
磁性粉末５ｇを所定温度（１５０〜２７０℃）において大気中で１０分間の熱処理を行い、その後の色の変化を確認した。表２に、それぞれの結果を示す。【０１１０】
【表１】
2015122271.tif 000003
【０１１１】
【表２】
2015122271.tif 000004
【０１１２】
表１の結果に示されるように、実施例１〜１３における、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末又はＳｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末に特定の環状シロキサン化合物を所定の被覆量で被覆させて得られた磁性粉末では、比較例１又は比較例２の表面処理を施していない磁性粉末と同程度の磁気特性を有しており、磁気特性が低下していないことが分かる。一方で、それら実施例１〜１３の磁性粉末では、撥水性が向上し、また磁性粉末、並びにその磁性粉末から成形したボンド磁石において錆が発生せず、優れた耐食性を有していることが分かった。【０１１３】
また、表２の結果から、耐熱性に関しても、表面処理を施していないＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末（比較例１）では１５０℃程度という比較的低い温度で変色してしまい、Ｓｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末（比較例２）においても２１０℃程度の温度で変色してしまった。これに対して、実施例１〜１３における磁性粉末では、被覆した環状シロキサン化合物の種類に関係なく、２７０℃までの熱処理後の変色がなかったことから、非常に高温の環境下であっても磁性粉末の変質を抑制する効果があり、優れた耐熱性を有していることが分かった。
【産業上の利用可能性】
【０１１４】
本発明に係る希土類系磁性粉末は、所定の被覆量で耐熱性のある環状シロキサン化合物をＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末又はＳｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末の粒子表面に被覆してなるものであり、磁気特性を低下させることなく、ボンド磁石での防錆性、耐熱性を高めることができる。このような希土類系磁性粉末によれば、ボンド磁石用のＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁性粉末及びＳｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁性粉末として好適に用いることができる。また、この希土類系磁性粉末によれば、これまで困難であった苛酷な、劣悪な、腐食環境下での使用が可能となる。
【符号の説明】
【０１１５】
１１    混合槽（混合容器）
１２    収容槽
２０    環状シロキサン化合物
【図１】
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【国際調査報告】
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