(57)【要約】  ハニカム構造部４と、ハニカム構造部４の側面５に配設された一対の電極部２１とを備え、ハニカム構造部４の電気抵抗率が、１〜２００Ωｃｍであり、一対の電極部２１のそれぞれが、ハニカム構造部４のセルの延びる方向に延びる帯状に形成され、セルの延びる方向に直交する断面において、一方の電極部２１が、他方の電極部２１に対して、ハニカム構造部４の中心を挟んで反対側に配設され、ハニカム構造部４に、側面５に開口部を有する特定スリット６ａが１本以上形成され、特定スリット６ａに充填された充填材７の第２領域充填部の少なくとも一つが、スリット６の延びる方向に直交する方向の長さがセルの幅の半分の長さ以上の長さの有効第２領域充填部であるハニカム構造体１００。触媒担体であると共に電圧を印加することによりヒーターとしても機能し、耐熱衝撃性に優れたハニカム構造体を提供する。
2015053133.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体の流路となる一方の端面から他方の端面まで延びる複数のセルを区画形成する多孔質の隔壁と、最外周に位置する外周壁とを有する柱状のハニカム構造部と、前記ハニカム構造部の側面に配設された一対の電極部とを備え、
前記ハニカム構造部の電気抵抗率が、１〜２００Ωｃｍであり、
前記一対の電極部のそれぞれが、前記ハニカム構造部のセルの延びる方向に延びる帯状に形成され、
前記セルの延びる方向に直交する断面において、前記一対の電極部における一方の前記電極部が、前記一対の電極部における他方の前記電極部に対して、前記ハニカム構造部の中心を挟んで反対側に配設され、
前記ハニカム構造部に、側面に開口部を有するスリットが１本以上形成され、
少なくとも１本の前記スリットが、前記セルの延びる方向に直交する断面において、前記スリットの前記開口部の幅と同じ幅で前記開口部から前記スリットの延びる方向と同じ方向に延びる領域である第１領域と、前記第１領域の幅方向に隣接する領域である第２領域と、を有する特定スリットであり、前記第２領域の少なくとも一部の、前記スリットの延びる方向に直交する方向の長さが、前記セルの幅の半分の長さ以上の長さであり、
前記特定スリットに充填材が充填され、
前記充填材が、前記特定スリットを構成する空間のうちの前記第１領域に充填された第１領域充填部と、前記第２領域に充填された第２領域充填部と、を有し、前記第２領域充填部の少なくとも一つが有効第２領域充填部であり、前記有効第２領域充填部が、前記セルの延びる方向に直交する断面において、前記スリットの延びる方向に直交する方向の長さが前記セルの幅の半分の長さ以上の長さであるハニカム構造体。
【請求項２】
前記特定スリットが、前記セルの延びる方向に直交する断面において、前記ハニカム構造部の一部の前記隔壁に直交するように延びている請求項１に記載のハニカム構造体。
【請求項３】
前記有効第２領域充填部が、前記隔壁のみによって区画形成された前記セルのうちの最外周に位置するセルである最外周セルに充填された前記充填材の少なくとも一部によって構成されている請求項１または２に記載のハニカム構造体。
【請求項４】
前記充填材は、前記セルの延びる方向に直交する断面において、前記有効第２領域充填部が、前記第１領域充填部の幅方向の一方の端部、または一方と他方の端部に隣接するように位置する請求項１〜３のいずれかに記載のハニカム構造体。
【請求項５】
前記充填材が、前記外周壁及び前記隔壁によって区画形成されたセルに更に充填されている請求項３または４に記載のハニカム構造体。
【請求項６】
前記充填材は、前記セルの延びる方向に直交する断面において、前記有効第２領域充填部が、前記第１領域充填部の幅方向の一方と他方の端部に隣接するように位置し、前記有効第２領域充填部の最大の長さが、前記第１領域充填部の幅方向の一方と他方で同じ長さである請求項４または５に記載のハニカム構造体。
【請求項７】
前記特定スリットの深さが、当該特定スリットの前記開口部の幅より大きな値である請求項１〜６のいずれかに記載のハニカム構造体。
【請求項８】
前記特定スリットの深さが、前記ハニカム構造部の半径の１〜８０％である請求項１〜７のいずれかに記載のハニカム構造体。
【請求項９】
前記特定スリットの幅が、前記ハニカム構造部の前記セルの延びる方向に直交する断面における外周の長さの０．３〜５％である請求項１〜８のいずれかに記載のハニカム構造体。
【請求項１０】
前記特定スリットの数が、１〜２０本である請求項１〜９のいずれかに記載のハニカム構造体。
【請求項１１】
前記特定スリットが複数本形成され、前記ハニカム構造部の中心軸を挟んで対向する前記特定スリットが少なくとも１対形成されている請求項１〜１０のいずれかに記載のハニカム構造体。
【請求項１２】
前記充填材のヤング率が、０．００１〜２０ＧＰａである請求項１〜１１のいずれかに記載のハニカム構造体。
【請求項１３】
前記充填材の気孔率が、４０〜８０％である請求項１〜１２のいずれかに記載のハニカム構造体。
【請求項１４】
前記充填材の電気抵抗率が、前記ハニカム構造部の電気抵抗率の１００〜１０００００％である請求項１〜１３のいずれかに記載のハニカム構造体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ハニカム構造体に関する。さらに詳しくは、触媒担体であると共に電圧を印加することによりヒーターとしても機能し、耐熱衝撃性に優れたハニカム構造体に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、コージェライト製のハニカム構造体に触媒を担持したものを、自動車エンジンから排出された排ガス中の有害物質の処理に用いていた。また、炭化珪素質焼結体によって形成されたハニカム構造体を排ガスの浄化に使用することも知られている。【０００３】
ハニカム構造体に担持した触媒によって排ガスを処理する場合、触媒を所定の温度まで昇温する必要があるが、エンジン始動時には、触媒温度が低いため、排ガスが十分に浄化されないという問題があった。【０００４】
そのため、触媒が担持されたハニカム構造体の側面に一対の電極部を配設して、この一対の電極部間に通電することによってハニカム構造体を発熱させ、ヒーターとしても機能するハニカム構造体が報告されている（例えば、特許文献１を参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】国際公開第２０１１／１２５８１５号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１に記載のハニカム構造体は、触媒担体であると共に電圧を印加することによりヒーターとしても機能し、排ガスの浄化性能が良好であるが、耐熱衝撃性については未だ改良の余地があった。【０００７】
本発明は、上述した問題に鑑みてなされたものであり、触媒担体であると共に電圧を印加することによりヒーターとしても機能し、耐熱衝撃性に優れたハニカム構造体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上述の課題を解決するため、本発明は、以下のハニカム構造体を提供する。【０００９】
［１］  流体の流路となる一方の端面から他方の端面まで延びる複数のセルを区画形成する多孔質の隔壁と、最外周に位置する外周壁とを有する柱状のハニカム構造部と、前記ハニカム構造部の側面に配設された一対の電極部とを備え、前記ハニカム構造部の電気抵抗率が、１〜２００Ωｃｍであり、前記一対の電極部のそれぞれが、前記ハニカム構造部のセルの延びる方向に延びる帯状に形成され、前記セルの延びる方向に直交する断面において、前記一対の電極部における一方の前記電極部が、前記一対の電極部における他方の前記電極部に対して、前記ハニカム構造部の中心を挟んで反対側に配設され、前記ハニカム構造部に、側面に開口部を有するスリットが１本以上形成され、少なくとも１本の前記スリットが、前記セルの延びる方向に直交する断面において、前記スリットの前記開口部の幅と同じ幅で前記開口部から前記スリットの延びる方向と同じ方向に延びる領域である第１領域と、前記第１領域の幅方向に隣接する領域である第２領域と、を有する特定スリットであり、前記第２領域の少なくとも一部の、前記スリットの延びる方向に直交する方向の長さが、前記セルの幅の半分の長さ以上の長さであり、前記特定スリットに充填材が充填され、前記充填材が、前記特定スリットを構成する空間のうちの前記第１領域に充填された第１領域充填部と、前記第２領域に充填された第２領域充填部と、を有し、前記第２領域充填部の少なくとも一つが有効第２領域充填部であり、前記有効第２領域充填部が、前記セルの延びる方向に直交する断面において、前記スリットの延びる方向に直交する方向の長さが前記セルの幅の半分の長さ以上の長さであるハニカム構造体。【００１０】
［２］  前記特定スリットが、前記セルの延びる方向に直交する断面において、前記ハニカム構造部の一部の前記隔壁に直交するように延びている［１］に記載のハニカム構造体。【００１１】
［３］  前記有効第２領域充填部が、前記隔壁のみによって区画形成された前記セルのうちの最外周に位置するセルである最外周セルに充填された前記充填材の少なくとも一部によって構成されている［１］または［２］に記載のハニカム構造体。【００１２】
［４］  前記充填材は、前記セルの延びる方向に直交する断面において、前記有効第２領域充填部が、前記第１領域充填部の幅方向の一方の端部、または一方と他方の端部に隣接するように位置する［１］〜［３］のいずれかに記載のハニカム構造体。【００１３】
［５］  前記充填材が、前記外周壁及び前記隔壁によって区画形成されたセルに更に充填されている［３］または［４］に記載のハニカム構造体。【００１４】
［６］  前記充填材は、前記セルの延びる方向に直交する断面において、前記有効第２領域充填部が、前記第１領域充填部の幅方向の一方と他方の端部に隣接するように位置し、前記有効第２領域充填部の最大の長さが、前記第１領域充填部の幅方向の一方と他方で同じ長さである［４］または［５］に記載のハニカム構造体。【００１５】
［７］  前記特定スリットの深さが、当該特定スリットの前記開口部の幅より大きな値である［１］〜［６］のいずれかに記載のハニカム構造体。【００１６】
［８］  前記特定スリットの深さが、前記ハニカム構造部の半径の１〜８０％である［１］〜［７］のいずれかに記載のハニカム構造体。【００１７】
［９］  前記特定スリットの幅が、前記ハニカム構造部の前記セルの延びる方向に直交する断面における外周の長さの０．３〜５％である［１］〜［８］のいずれかに記載のハニカム構造体。【００１８】
［１０］  前記特定スリットの数が、１〜２０本である［１］〜［９］のいずれかに記載のハニカム構造体。【００１９】
［１１］  前記特定スリットが複数本形成され、前記ハニカム構造部の中心軸を挟んで対向する前記特定スリットが少なくとも１対形成されている［１］〜［１０］のいずれかに記載のハニカム構造体。【００２０】
［１２］  前記充填材のヤング率が、０．００１〜２０ＧＰａである［１］〜［１１］のいずれかに記載のハニカム構造体。【００２１】
［１３］  前記充填材の気孔率が、４０〜８０％である［１］〜［１２］のいずれかに記載のハニカム構造体。【００２２】
［１４］  前記充填材の電気抵抗率が、前記ハニカム構造部の電気抵抗率の１００〜１０００００％である［１］〜［１３］のいずれかに記載のハニカム構造体。
【発明の効果】
【００２３】
本発明のハニカム構造体は、一対の電極部のそれぞれが、ハニカム構造部のセルの延びる方向に延びる帯状に形成されている。そして、本発明のハニカム構造体は、セルの延びる方向に直交する断面において、一対の電極部における一方の電極部が、一対の電極部における他方の電極部に対して、ハニカム構造部の中心を挟んで反対側に配設されている。そのため、本発明のハニカム構造体は、ヒーターとして好適に用いることができる。また、本発明のハニカム構造体は、ハニカム構造部の電気抵抗率が１〜２００Ωｃｍであるため、電圧の高い電源を用いて電流を流しても、過剰に電流が流れず、ヒーターとして好適に用いることができる。【００２４】
更に、本発明のハニカム構造体は、ハニカム構造部に、スリットが１本以上形成され、少なくとも１本のスリットが特定スリットであり、この特定スリットに、第１領域充填部と第２領域充填部とを有する充填材が充填されている。そして、本発明のハニカム構造体は、充填材の第２領域充填部の少なくとも一つが、有効第２領域充填部である。そして、有効第２領域充填部は、セルの延びる方向に直交する断面において、スリットの延びる方向に直交する方向の長さがセルの幅の半分の長さ以上の長さである。本発明のハニカム構造体は、充填材が上記有効第２領域充填部を有するため、耐熱衝撃性に優れたものである。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本発明のハニカム構造体の一の実施形態を模式的に示す斜視図である。
【図２】本発明のハニカム構造体の一の実施形態の一方の端面を示す模式図である。
【図３】本発明のハニカム構造体の一の実施形態の、セルの延びる方向に平行な断面を示す模式図である。
【図４】本発明のハニカム構造体の一の実施形態の、セルの延びる方向に直交する断面を示す模式図である。
【図５】本発明のハニカム構造体の一の実施形態の、充填材が充填される前の状態における一方の端面の一部を拡大して模式的に示す平面図である。
【図６】本発明のハニカム構造体の一の実施形態の一方の端面の一部を拡大して模式的に示す平面図である。
【図７】本発明のハニカム構造体の他の実施形態の一方の端面の一部を拡大して模式的に示す平面図である。
【図８】本発明のハニカム構造体の更に他の実施形態の一方の端面の一部を拡大して模式的に示す平面図である。
【図９】本発明のハニカム構造体の更に他の実施形態の一方の端面の一部を拡大して模式的に示す平面図である。
【図１０】本発明のハニカム構造体の更に他の実施形態の一方の端面の一部を拡大して模式的に示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
次に本発明を実施するための形態を図面を参照しながら詳細に説明する。本発明は以下の実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、当業者の通常の知識に基づいて、適宜設計の変更、改良等が加えられることが理解されるべきである。
【００２７】
（１）ハニカム構造体：
本発明のハニカム構造体の一の実施形態は、図１〜図３に示すように、柱状のハニカム構造部４と、一対の電極部２１とを備えるものである。柱状のハニカム構造部４は、流体の流路となる一方の端面１１から他方の端面１２まで延びる複数のセル２を区画形成する多孔質の隔壁１と、最外周に位置する外周壁３とを有するものである。一対の電極部２１は、ハニカム構造部４の側面５に配設されたものである。本実施形態のハニカム構造体１００は、ハニカム構造部４の電気抵抗率が、１〜２００Ωｃｍである。そして、本実施形態のハニカム構造体１００は、一対の電極部２１，２１のそれぞれが、ハニカム構造部４のセル２の延びる方向に延びる帯状に形成されたものである。そして、本実施形態のハニカム構造体１００は、セル２の延びる方向に直交する断面において、一方の電極部２１が、他方の電極部２１に対して、ハニカム構造部４の中心Ｏを挟んで反対側に配設されたものである。一方の電極部２１は、一対の電極部２１，２１における（一対の電極部２１，２１の中の）一方の電極部２１であり、他方の電極部２１は、一対の電極部２１，２１における（一対の電極部２１，２１の中の）他方の電極部２１である。換言すると、一対の電極部２１，２１の中の片方の電極部２１が一方の電極部２１であり、一対の電極部２１，２１の中の残りの片方の電極部２１が他方の電極部２１である。そして、本実施形態のハニカム構造体１００は、ハニカム構造部４に、側面５に開口部８を有するスリット６が１本以上形成されたものである。そして、本実施形態のハニカム構造体１００は、少なくとも１本のスリット６が、特定スリット６ａである。特定スリット６ａは、セル２の延びる方向に直交する断面において、スリット６の開口部８の幅Ｈと同じ幅でこの開口部８からスリット６の延びる方向と同じ方向に延びる領域である第１領域１６を有している。また、特定スリット６ａは、セル２の延びる方向に直交する断面において、第１領域１６の幅方向に隣接する領域である第２領域１７（１７ａ，１７ｂ）（図５を参照）と、を有している。特定スリット６ａの第２領域１７の少なくとも一部の、スリット６の延びる方向に直交する方向の長さは、セル２の幅の半分の長さ以上の長さである。そして、本実施形態のハニカム構造体１００は、スリット６（特定スリット６ａ）に充填材７が充填されている。更に、本実施形態のハニカム構造体１００は、充填材７が、特定スリット６ａを構成する空間のうちの第１領域１６に充填された第１領域充填部１８と、第２領域１７に充填された第２領域充填部１９と、を有している。そして、ハニカム構造体１００において第２領域充填部１９の少なくとも一つは、有効第２領域充填部２０である。そして、有効第２領域充填部２０は、セル２の延びる方向に直交する断面において、スリット６の延びる方向に直交する方向の長さがセル２の幅の半分の長さ以上の長さを満たすものである。ここで、セル２の延びる方向に直交する断面において、１つの有効第２領域充填部２０における、スリット６の延びる方向に直交する方向の長さの最大値を「有効第２領域充填部２０の最大の長さ」という。
【００２８】
図１は、本発明のハニカム構造体の一の実施形態を模式的に示す斜視図である。図２は、本発明のハニカム構造体の一の実施形態の一方の端面を示す模式図である。図３は、本発明のハニカム構造体の一の実施形態の、セルの延びる方向に平行な断面を示す模式図である。
【００２９】
尚、ハニカム構造部４の側面５は、ハニカム構造部４の外周壁３の表面のことである。そして、「（ハニカム構造部４の）側面５に開口部を有するスリット６」とは、ハニカム構造部４の外周壁３の表面に開口するスリットのことである。スリットは、側面に開口部を有すると共に、端面にも開口部を有するものであってもよい。つまり、スリットは、ハニカム構造部の一方の端面から他方の端面までの全部に亘って形成されていてもよい。
【００３０】
また、「特定スリットに充填材が充填され」とは、１本の特定スリットにおける少なくとも一部に充填材が充填されることを意味する。つまり、「特定スリットに充填材が充填され」というときは、１本の特定スリットの空間の全部に充填材が充填されていない場合も含む。また、「少なくとも一部に充填材が充填」とは、特定スリットの深さ方向における「一部」でもよく、特定スリットの長さ方向における「一部」でもよく、これらの組合せであってもよい。
【００３１】
また、「セルの幅」（セル幅）とは、セルの延びる方向に直交する断面における形状が、四角形の場合には、１辺の長さのことであり、正六角形の場合には、セルの延びる方向に直交する断面におけるセルの中心を挟んで対向する２つの頂点の間の距離のことである。
【００３２】
このような本実施形態のハニカム構造体１００は、一対の電極部２１，２１のそれぞれが、ハニカム構造部４のセル２の延びる方向に延びる帯状に形成されている。そして、本実施形態のハニカム構造体１００は、セル２の延びる方向に直交する断面において、一対の電極部２１，２１における一方の電極部２１が、一対の電極部２１，２１における他方の電極部２１に対して、ハニカム構造部４の中心Ｏを挟んで反対側に配設されている。そのため、ヒーターとして好適に用いることができる。また、本実施形態のハニカム構造体１００は、ハニカム構造部４の電気抵抗率が１〜２００Ωｃｍであるため、電圧の高い電源を用いて電流を流しても、過剰に電流が流れず、ヒーターとして好適に用いることができる。
【００３３】
更に、本実施形態のハニカム構造体１００は、ハニカム構造部４に、側面５に開口部８を有するスリット６が１本以上形成されている。このように、スリット６が形成されることにより、本実施形態のハニカム構造体１００の昇温時にハニカム構造部４の側面にクラックが発生することを防止できる。このスリット６には、スリット６からのガス漏れを防止するとともに、ハニカム構造体１００のアイソスタティック強度を向上させるために、充填材７を充填してもよい。そして、本実施形態のハニカム構造体１００は、少なくとも１本のスリット６が、特定スリット６ａであり、特定スリット６ａには充填材７が充填されている。この充填材７は、特定スリット６ａの第２領域１７に充填された第２領域充填部１９少なくとも一部が、有効第２領域充填部２０である。つまり、本実施形態のハニカム構造体１００は、充填材７が有効第２領域充填部２０を有する。本実施形態のハニカム構造体１００は、特定スリット６ａ（スリット６）が形成されることにより、上述のように、本実施形態のハニカム構造体１００の昇温時にハニカム構造部４の側面にクラック（つまり、隔壁のひび割れ）が発生することを防止できる。そして、スリット６に充填材７が充填されているため、スリット６からのガス漏れを防止することができる。そして、充填材７が有効第２領域充填部２０を有することにより、ハニカム構造部４の端面にクラックが発生することを防止できる。具体的には、充填材７が有効第２領域充填部２０を有することにより、ハニカム構造部４の端面や側面において充填材７が隔壁１から剥離したときに、この剥離のハニカム構造体内部への拡大が、有効第２領域充填部２０によって止められる。つまり、有効第２領域充填部２０が有ることにより、上記剥離がハニカム構造体の内部に延びて有効第２領域充填部２０に到達したときに、有効第２領域充填部２０のところで、剥離が止まることになる。このようなことから、本実施形態のハニカム構造体１００は、耐熱衝撃性に優れるものである。
【００３４】
また、「セル２の延びる方向に直交する断面において、一対の電極部２１，２１における一方の電極部２１が、一対の電極部２１，２１における他方の電極部２１に対して、ハニカム構造部４の中心Ｏを挟んで反対側に配設される」の意味は、以下の通りである。つまり、図４に示されるように、まず、セル２の延びる方向に直交する断面において、「一方の電極部２１の中央部Ｃ（「ハニカム構造部４の周方向」における中央の点）とハニカム構造部４の中心Ｏとを結ぶ線分」を線分Ｌ１とする。そして、セル２の延びる方向に直交する断面において、「他方の電極部２１の中央部Ｃ（「ハニカム構造部４の周方向」における中央の点）とハニカム構造部４の中心Ｏとを結ぶ線分」を線分Ｌ２とする。そのとき、線分Ｌ１と線分Ｌ２とにより形成される角度β（「中心Ｏ」を中心とする角度）が、１７０°〜１９０°の範囲となるような位置関係になるように、一対の電極部２１，２１がハニカム構造部４に配設されていることを意味する。図４は、本発明のハニカム構造体の一の実施形態の、セルの延びる方向に直交する断面を示す模式図である。図４においては、隔壁、スリット、及び充填材は省略されている。「ハニカム構造部４の周方向」とは、ハニカム構造部４の「セル２の延びる方向に直交する断面」における、外周に沿う方向のことである。
【００３５】
（１−１）スリット；
本実施形態のハニカム構造体１００は、特定スリット６ａが１本以上形成されている。この特定スリット６ａは、図５に示すように、第１領域１６と、この第１領域１６の幅方向に隣接する第２領域１７（１７ａ，１７ｂ）と、を有している。図５では、第１領域１６を破線で示している。この特定スリット６ａは、図５に示すように、セル２の延びる方向に直交する断面において、ハニカム構造部４の隔壁１の一部に直交するように延びていることが好ましい。また、特定スリット６ａは、セル２の延びる方向に直交する断面において、ハニカム構造部４の隔壁１の一部に平行に延びていてもよい。更に、これらの両方であってもよい。図５は、本発明のハニカム構造体の一の実施形態の、充填材が充填される前の状態における一方の端面の一部である端面領域Ｐ（図２参照）を拡大して模式的に示す平面図である。
【００３６】
本実施形態のハニカム構造体１００は、図５に示すように、特定スリット６ａが、第１領域１６の長手方向に隣接する領域である「第３領域２３」を有している。特定スリット６ａの第３領域２３は、スリットの延びる方向に直交する隔壁１を取り除くことにより形成できるためその形成が容易である。本発明のハニカム構造体は、第３領域を有してもよいし、有さなくてもよい。
【００３７】
「第１領域の幅方向に隣接する領域」とは、以下の領域を意味する。つまり、セルの延びる方向に直交する断面において、スリットの空間内に、第１領域を区画形成する仮想境界線を想定する。このとき、「第１領域の幅方向に隣接する領域」とは、この仮想境界線のうちの特定スリットの開口部の一端及び他端からそれぞれ延びる仮想境界線のそれぞれを境界として第１領域と隣り合う領域を意味する。ハニカム構造体１００では、特定スリット６ａの開口部８の一端Ａ（図５参照）から延びる第１仮想境界線Ｋ１、他端Ｂ（図５参照）から延びる第２仮想境界線Ｋ２のそれぞれを境界として第１領域１６と隣り合う領域（第２領域１７ａ，１７ｂ）のことである。
【００３８】
本実施形態のハニカム構造体１００は、特定スリット６ａの深さが、その特定スリット６ａの開口部８の幅Ｈより大きな値であることが好ましい。このようにすることにより、ハニカム構造部４の端面や側面において、充填材７が隔壁１から剥離したときに、この剥離のハニカム構造体内部への拡大がより確実に止められるという利点がある。つまり、特定スリット６ａの開口部８の幅Ｈが、特定スリット６ａの深さより大きい場合（別言すれば、特定スリット６ａの開口部８の幅Ｈが広く、特定スリット６ａが浅い場合）、充填材７が隔壁１から剥離し易くなる。そのため、特定スリット６ａの深さは、その特定スリット６ａの開口部８の幅Ｈより大きな値であることが好ましい。このようにすると、開口部８の部分から充填材７の剥離が始まろうとしたときに、開口部８からハニカム構造体１００までの距離が長い（つまり、特定スリット６ａが深い）ため、充填材７の剥離がハニカム構造体内部に拡大することを、より確実に止めることができる。つまり、ハニカム構造体１００にクラックが発生することを防止できる。
【００３９】
本実施形態のハニカム構造体１００において、特定スリット６ａの深さは、ハニカム構造部が円筒の場合、ハニカム構造部４の半径の１〜８０％であることが好ましい。「ハニカム構造部４の半径」は、ハニカム構造部４の「セル２の延びる方向に直交する断面」における半径のことである。そして、特定スリット６ａの深さは、ハニカム構造部の半径の１〜６０％であることが更に好ましく、１〜３０％であることが特に好ましい。特定スリット６ａの深さが、ハニカム構造部の半径の１％より小さいと、ハニカム構造体１００の耐熱衝撃性を低減する効果が低下することがある。特定スリット６ａの深さが、ハニカム構造部の半径の８０％より大きいと、ハニカム構造部に均一に電流を流すことが難しくなることがある。尚、特定スリット６ａの深さは、外周壁３を除いたハニカム構造部４の外周から、特定スリット６ａの最も深い位置までの距離のことである。特定スリットが複数本存在する場合には、特定スリットの深さは、各スリットによって異なっていてもよく、全て同じであってもよい。
【００４０】
本実施形態のハニカム構造体１００において、特定スリット６ａの「開口部の幅」は、ハニカム構造部４の「セル２の延びる方向に直交する断面」における外周の長さの０．３〜５％であることが好ましい。ハニカム構造部４の「セル２の延びる方向に直交する断面」における外周の長さは、以下「ハニカム構造部の外周長」と称することがある。そして、特定スリット６ａの開口部の幅は、ハニカム構造部の外周長の０．３〜３％であることが更に好ましく、０．３〜１％であることが特に好ましい。特定スリット６ａの開口部の幅が、ハニカム構造部の外周長の０．３％より小さいと、ハニカム構造体の側面に生じるクラック（側面クラック）の発生防止効果が低減することがある。特定スリット６ａの開口部の幅が、ハニカム構造部の外周長の１％より大きいと、アイソスタティック強度が低下することがある。特定スリット６ａが複数本存在する場合には、特定スリット６ａの開口部の幅は、各特定スリット６ａによって異なっていてもよく、全て同じであってもよい。
【００４１】
本実施形態のハニカム構造体１００において、特定スリット６ａの「幅」は、ハニカム構造部の外周長の０．３〜５％であることが好ましい。そして、特定スリット６ａの幅は、ハニカム構造部の外周長の０．３〜３％であることが更に好ましく、０．３〜１％であることが特に好ましい。特定スリット６ａの幅が、ハニカム構造部の外周長の０．３％より小さいと、ハニカム構造体１００の耐熱衝撃性を低減する効果が低下することがある。特定スリット６ａの幅が、ハニカム構造部の外周長の５％より大きいと、ハニカム構造体１００の機械的強度が低下することがある。「特定スリット６ａの「幅」」は、特定スリット６ａの「開口部の延びる方向に直交し且つスリットの深さ方向に直交する方向」における最大の長さ（幅）のことである。特定スリットが複数本存在する場合には、特定スリット６ａの幅は、各特定スリットによって異なっていてもよく、全て同じであってもよい。ここで、本実施形態のハニカム構造体１００においては、特定スリット６ａは、セルの延びる方向に延びるように形成されているため、「開口部の延びる方向」は、「セルの延びる方向」と同じである。
【００４２】
特定スリット６ａの「開口部の延びる方向に直交し且つスリットの深さ方向に直交する方向」における長さは、最外周セルが形成された位置で最大となることが好ましい。このようにすると、ハニカム構造部４の端面や側面において、充填材７が隔壁１から剥離したときに、この剥離のハニカム構造体内部への拡大の程度をより小さくできるという利点がある。最外周セルは、隔壁のみによって区画形成されたセルのうちの最外周に位置するセルのことである。
【００４３】
本実施形態のハニカム構造体１００において、特定スリット６ａの「セルの延びる方向」における長さは、ハニカム構造部の「セルの延びる方向」における長さと同じであることが好ましい。つまり、本実施形態のハニカム構造体１００において、特定スリット６ａがハニカム構造部の両端面間に亘って（全長に亘って）形成されていることが好ましい。また、特定スリット６ａの「セルの延びる方向」における長さが、ハニカム構造部の「セルの延びる方向」における長さの８０〜１００％であることも好ましい態様である。耐熱衝撃性に優れるという観点では全長に亘っている方がよいが、一部形成されていない部分が残っていると、強度が高くなるという観点で好ましい。全長に亘っていない場合、特定スリットの片端はハニカム構造部の端面に位置することが好ましい。この場合、特定スリットは、ハニカム構造部の片方の端面側のみに形成されていてもよいし、ハニカム構造部の両方の端面側に形成されていてもよい。特定スリットが、ハニカム構造部の両方の端面側に形成された場合、特定スリットの「セルの延びる方向」における合計の長さが、ハニカム構造部の「セルの延びる方向」における長さの８０〜１００％であることが好ましい。また、特定スリットが、ハニカム構造部の片方の端面側のみに形成される場合、ハニカム構造体を使用する際に、特定スリットが形成された端面側を、熱衝撃がより大きくかかる方向を向けて使用することが好ましい。特定スリットが複数本存在する場合には、特定スリットの長さは、各特定スリットによって異なっていてもよく、全て同じであってもよい。
【００４４】
また、特定スリットが複数本形成される場合には、ハニカム構造部の中心軸を挟んで対向する特定スリットが少なくとも１対形成されていることが好ましい。また、特定スリットの深さ、特定スリットの幅、特定スリットの長さは、ハニカム構造部の中心軸を対称軸とする線対称であることが好ましい。
【００４５】
本実施形態のハニカム構造体１００において、スリット６の本数は、１〜２０本が好ましく、１〜１５本が更に好ましく、１〜１０本が特に好ましい。スリット６の本数が２０本を超えると、ハニカム構造体１００の機械的強度が低下することがある。図１に示されるハニカム構造体１００においては、８本のスリット６が形成されている。
【００４６】
また、本実施形態のハニカム構造体１００において、特定スリット６ａの本数は、１〜２０本が好ましく、１〜１５本が更に好ましく、１〜１０本が特に好ましい。特定スリット６ａの本数が２０本を超えると、ハニカム構造体１００の機械的強度が低下することがある。図１に示されるハニカム構造体１００においては、８本の特定スリット６ａが形成されている。
【００４７】
（１−２）充填材；
本実施形態のハニカム構造体１００は、特定スリット６ａに充填された充填材７を有している。この充填材７は、図６に示すように、第１領域１６（図５参照）に充填された第１領域充填部１８と、第２領域１７ａ，１７ｂ（図５参照）に充填された第２領域充填部１９と、を有している。第２領域充填部１９は、第１領域充填部１８の幅方向に隣接した部分であり、第１領域充填部１８と連続して形成されている。第１領域充填部１８と第２領域充填部１９とは、一体に形成されていることが好ましい。また、本実施形態のハニカム構造体１００は、第２領域充填部１９の少なくとも一つが、有効第２領域充填部２０である。
【００４８】
本実施形態のハニカム構造体１００は、図６に示すように、充填材７が、第３領域２３（図５参照）に充填された第３領域充填部２５を有している。第３領域充填部２５を有することにより、ハニカム構造部４の端面や側面において、充填材７が隔壁１から剥離したときに、この剥離のハニカム構造体内部への拡大がより確実に止められるという利点がある。つまり、仮に、有効第２領域充填部２０によっても、隔壁１からの充填材７の剥離を防止できなかったとしても、第３領域充填部を有することにより、クラック（つまり、隔壁のひび割れ）が生じることを防止できる。具体的には、第３領域充填部が無い場合（つまり、第３領域が空洞である場合）、第３領域まで剥離が拡大すると、その後の剥離の拡大を遮るものがないため、剥離を拡大させる力がそのままハニカム構造体に伝わり、クラックが生じてしまう。一方、第３領域充填部を有することにより、第３領域まで剥離が拡大したとしても、剥離を拡大させる力がそのままハニカム構造体に伝わることがなく、クラックが生じることを防止できる。尚、本発明のハニカム構造体は、第３領域充填部２５を有してもよいが、有さなくてもよい。
【００４９】
ハニカム構造体１００において第２領域充填部１９の少なくとも一つは、有効第２領域充填部２０である。有効第２領域充填部２０は、セル２の延びる方向に直交する断面において、「スリットの延びる方向に直交する方向の長さ」がセル２の幅の半分の長さ以上の長さを満たすものである。セル２の延びる方向に直交する断面において、有効第２領域充填部２０の「スリットの延びる方向に直交する方向の長さ」は、セル２の幅の６０％以上であることが好ましい。そして、セル２の延びる方向に直交する断面において、有効第２領域充填部２０の「スリットの延びる方向に直交する方向の長さ」は、セル２の幅の８０％以上であることが更に好ましい。セル２の延びる方向に直交する断面において、有効第２領域充填部２０の「スリットの延びる方向に直交する方向の長さ」がセル２の幅の半分の長さ未満である場合、ハニカム構造体１００の耐熱衝撃性が低下する。
【００５０】
有効第２領域充填部２０は、セル２の延びる方向に直交する断面において、特定スリット６ａの開口部８からの距離が、特定スリット６ａの深さの１〜９０％の範囲に位置することが好ましい。そして、有効第２領域充填部２０は、特定スリット６ａの深さの１〜８０％の範囲に位置することが更に好ましく、特定スリット６ａの深さの１〜７０％の範囲に位置することが特に好ましい。有効第２領域充填部２０が、特定スリット６ａの深さの９０％超の位置にのみある場合、ハニカム構造部４の端面や側面において、充填材７が隔壁１から剥離したときに、この剥離のハニカム構造体内部への拡大が止められないことがある。「有効第２領域充填部２０の、特定スリット６ａの開口部８からの距離」とは、開口部８から、「有効第２領域充填部２０と第１領域充填部１８との境界部分において、最も外周壁に近い部分」までの距離のことである。
【００５１】
有効第２領域充填部２０は、隔壁１のみによって区画形成されたセル２のうちの最外周に位置するセル２である最外周セル２に充填された充填材７の少なくとも一部によって構成されていることが好ましい。このように充填材７が充填されることにより、ハニカム構造部４の端面や側面において、充填材７が隔壁１から剥離したときに、この剥離のハニカム構造体内部への拡大の程度をより小さくできるという利点がある。
【００５２】
セル２の延びる方向に直交する断面において、有効第２領域充填部２０は、第１領域充填部１８の幅方向の一方の端部に位置してもよいし、一方と他方（両方）の端部に隣接するように位置してもよい。有効第２領域充填部２０は、第１領域充填部１８の幅方向の両方の端部に隣接するように位置することが好ましい。このように、有効第２領域充填部２０が第１領域充填部１８の幅方向の両方の端部に位置すると、充填材７が隔壁１から剥離したときに、この剥離のハニカム構造体内部への拡大が、有効第２領域充填部２０によってより確実に止められるという利点がある。本実施形態のハニカム構造体１００は、充填材７の有効第２領域充填部２０が、第１領域充填部１８の幅方向の両方の端部に隣接するように位置している。「第１領域充填部の幅方向の一方の端部、または一方と他方の端部に隣接するように位置する」とは、以下のように位置することを意味する。つまり、まず、セルの延びる方向に直交する断面において、スリットの空間内に、第１領域と第２領域との境界である上述の第１仮想境界線Ｋ１（仮想境界線Ｋ）、第２仮想境界線Ｋ２（仮想境界線Ｋ）を想定する。そして、これらの第１仮想境界線Ｋ１及び第２仮想境界線Ｋ２の一方または一方と他方（両方）を境界として第１領域充填部１８に隣接して位置することを意味する。本実施形態のハニカム構造体１００は、図６に示すように、有効第２領域充填部２０，２０（第２領域充填部１９，１９）が、第１仮想境界線Ｋ１及び第２仮想境界線Ｋ２のそれぞれを境界として第１領域充填部１８に隣接して位置している。
【００５３】
有効第２領域充填部２０が第１領域充填部１８の幅方向の両方の端部に隣接するように位置する場合、有効第２領域充填部２０の最大の長さが、第１領域充填部１８の幅方向における一方と他方（両方）で同じ長さであることが好ましい。つまり、「第１領域充填部１８の幅方向の一方の端部に位置する有効第２領域充填部２０の最大の長さ」は、「第１領域充填部１８の幅方向の他方の端部に位置する有効第２領域充填部２０の最大の長さ」と同じであることが好ましい。このように有効第２領域充填部２０の最大の長さが第１領域充填部１８の幅方向の一方と他方で同じであると、充填材７が隔壁１から剥離したときに、この剥離のハニカム構造体内部への拡大が、有効第２領域充填部２０によってより確実に止められる。具体的には、セル２の延びる方向に直交する断面における第１領域充填部１８（充填材７）の幅方向の一方の端部側と他方の端部側とでは、同程度の割合で、充填材７の剥離が生じると考えられる。また、有効第２領域充填部２０の最大の長さが長い方が、充填材７の剥離の拡大をより確実に防止できる。そのため、有効第２領域充填部２０の最大の長さが第１領域充填部１８の幅方向の一方と他方で異なる場合、つまり、どちらか片方が短い場合、短い方での充填材７の剥離が生じ易くなる。一方、有効第２領域充填部２０の最大の長さが第１領域充填部１８の幅方向の一方と他方（両方）で同じであると、第１領域充填部１８の幅方向の両方で、より確実に剥離の拡大を防止できる。有効第２領域充填部２０の最大の長さとは、有効第２領域充填部２０の「スリットの開口部の延びる方向に直交し且つスリットの深さ方向に直交する方向」における最大の長さを意味する。
【００５４】
充填材７は、「外周壁３及び隔壁１によって区画形成されたセル２（不完全セル）であって、第１領域に連通するセル２」に、更に充填されていることが好ましい。このように充填材７が更に不完全セルに充填されると、ハニカム構造部４の端面や側面において、充填材７が隔壁１から剥離したときに、この剥離のハニカム構造体内部への拡大の程度をより小さくできるという利点がある。
【００５５】
本実施形態のハニカム構造体１００において、充填材７の深さは、特定スリット６ａの深さの８０〜１００％であることが好ましい。そして、充填材７の深さは、特定スリット６ａの深さの８５〜１００％であることが更に好ましく、９０〜１００％であることが特に好ましい。充填材７の深さが、特定スリット６ａの深さの８０％より小さいと、ハニカム構造体１００の耐熱衝撃性を低減する効果が低下することがある。尚、「充填材７の深さ」は、特定スリット６ａの「側面５における開口部」から、充填材７の最も深い位置までの距離のことである。複数本のスリットに充填材がそれぞれ充填されている場合には、充填材の深さは、各スリットによって異なっていてもよく、全て同じであってもよい。
【００５６】
充填材は、ハニカム構造部に、特定スリットに該当しないスリットが形成されている場合、この「特定スリットに該当しないスリット」にも充填されていることが好ましい。また、充填材は、特定スリットを含む全てのスリットに充填されることが好ましい。このように、全てのスリットに充填材が充填されることにより、ハニカム構造体のアイソスタティック強度を向上させることができる。
【００５７】
充填材７は、ハニカム構造部の主成分が炭化珪素、又は珪素−炭化珪素複合材である場合、炭化珪素を５０質量％以上含有することが好ましい。これにより、充填材７の熱膨張係数を、ハニカム構造部の熱膨張係数に近い値にすることができ、ハニカム構造体の耐熱衝撃性を向上させることができる。また、充填材７は、シリカ、アルミナ等を５０質量％以上含有するものであってもよい。
【００５８】
本実施形態のハニカム構造体１００において、充填材７のヤング率は、０．００１〜２０ＧＰａであることが好ましく、０．００５〜１５ＧＰａであることが更に好ましく、０．０１〜１０ＧＰａであることが特に好ましい。０．００１ＧＰａより低いと、ハニカム構造体１００の機械的強度が低くなることがある。２０ＧＰａより高いと、ハニカム構造体１００の耐熱衝撃性が低くなることがある。
【００５９】
本実施形態のハニカム構造体１００において、充填材７の気孔率は、４０〜８０％であることが好ましく、４３〜７０％であることが更に好ましく、４５〜６５％であることが特に好ましい。４０％より低いと、ハニカム構造体１００の機械的強度が低くなることがある。８０％より高いと、ハニカム構造体１００の耐熱衝撃性が低くなることがある。
【００６０】
本実施形態のハニカム構造体１００において、充填材７の電気抵抗率は、ハニカム構造部４の電気抵抗率の１００〜１０００００％であることが好ましく、２００〜１０００００％であることが更に好ましく、３００〜１０００００％であることが特に好ましい。１００％より低いと、充填材７に電流が流れ易くなるため、ハニカム構造部に均一に電流を流すことが難しくなることがある。充填材７の電気抵抗率は、高過ぎても特に問題はない。充填材７は絶縁体であってもよい。充填材７の電気抵抗率は、実際には、ハニカム構造部４の電気抵抗率の１０００００％程度が上限となる。充填材７としては、複数種の充填材を併用してもよい。例えば、１本の特定スリットの中で部位によって使い分けたり、複数本の特定スリットが存在する場合に各特定スリットによって使い分けたりすることができる。充填材の電気抵抗率は、４００℃における値である。
【００６１】
（１−３）電極部；
本実施形態のハニカム構造体１００は、図１〜図３に示されるように、ハニカム構造部４の側面５に一対の電極部２１，２１が配設されている。本実施形態のハニカム構造体１００は、一対の電極部２１，２１間に電圧を印加することにより、発熱する。印加する電圧は１２〜９００Ｖが好ましく、６４〜６００Ｖが更に好ましい。
【００６２】
本実施形態のハニカム構造体１００は、図１，２に示されるように、特定スリット６ａは、一対の電極部２１，２１で覆われていない。特定スリット６ａは、電極部２１によって覆われていないことが好ましいが、覆われていてもよい。特定スリット６ａが、電極部２１によって覆われていない場合には、特定スリットに生じる応力が電極部に直接伝わることを防止できるため、電極部にクラックが発生することを防止できるという利点がある。
【００６３】
図１〜図３に示されるように、一対の電極部２１，２１のそれぞれは、ハニカム構造部４のセル２の延びる方向に延びる「帯状」に形成されている。そして、セル２の延びる方向に直交する断面において、一対の電極部２１，２１における一方の電極部２１が、一対の電極部２１，２１における他方の電極部２１に対して、ハニカム構造部４の中心部Ｏを挟んで反対側に配設されている。そのため、一対の電極部２１，２１間に電圧を印加した時に、ハニカム構造部４内を電流が流れ、これによりハニカム構造部４を発熱させることができる。そして、更に、図４に示されるように、本実施形態のハニカム構造体１００は、セル２の延びる方向に直交する断面において、それぞれの電極部２１，２１の中心角αの０．５倍（中心角αの０．５倍の角度θ）が、１５〜６５°であることが好ましい。これにより、ハニカム構造部４内の発熱の偏りを、より効果的に抑制することができる。このように、「電極部２１の中心角αの０．５倍が１５〜６５°であるとともに、セルの延びる方向に延びている」という電極部２１の形状は、「帯状」の一態様である。また、「電極部２１の中心角α」は、図４に示されるように、セルの延びる方向に直交する断面において、電極部２１の両端とハニカム構造部４の中心Ｏとを結ぶ２本の線分により形成される角度である。換言すると、「電極部２１の中心角α」は、直交断面において、「電極部２１」と「電極部２１の一方の端部と中心Ｏとを結ぶ線分」と「電極部２１の他方の端部と中心Ｏとを結ぶ線分」とにより形成される形状（扇形、等）における、中心Ｏの部分の内角である。ここで、「直交断面」とは、「ハニカム構造体のセルの延びる方向に直交する断面」のことである。
【００６４】
セル２の延びる方向に直交する断面において、電極部２１，２１の「中心角αの０．５倍の角度θ」の上限値は、６０°が更に好ましく、５５°が特に好ましい。また、セル２の延びる方向に直交する断面において、電極部２１，２１の「中心角αの０．５倍の角度θ」の下限値は、２０°が更に好ましく、３０°が特に好ましい。また、一方の電極部２１の「中心角αの０．５倍の角度θ」は、他方の電極部２１の「中心角αの０．５倍の角度θ」に対して、０．８〜１．２倍の大きさであることが好ましく、１．０倍の大きさ（同じ大きさ）であることが更に好ましい。これにより、一対の電極部２１，２１間に電圧を印加した時に、ハニカム構造部４内を流れる電流の偏りを抑制することができ、これによりハニカム構造部４内の発熱の偏りを抑制することができる。
【００６５】
電極部２１の厚さは、０．０１〜５ｍｍであることが好ましい。このような範囲とすることにより、均一に発熱することができる。
【００６６】
電極部２１は、炭化珪素粒子及び珪素を主成分とすることが好ましく、通常含有される不純物以外は、炭化珪素粒子及び珪素を原料として形成されていることが更に好ましい。ここで、「炭化珪素粒子及び珪素を主成分とする」とは、炭化珪素粒子と珪素との合計質量が、電極部全体の質量の９０質量％以上であることを意味する。このように、電極部２１が炭化珪素粒子及び珪素を主成分とすることにより、電極部２１の成分とハニカム構造部４の成分とが同じ成分又は近い成分（ハニカム構造部の材質が炭化珪素である場合）となる。そのため、電極部２１とハニカム構造部４の熱膨張係数が同じ値又は近い値になる。また、材質が同じもの又は近いものになるため、電極部２１とハニカム構造部４との接合強度も高くなる。そのため、ハニカム構造体に熱応力がかかっても、電極部２１がハニカム構造部４から剥れたり、電極部２１とハニカム構造部４との接合部分が破損したりすることを防ぐことができる。
【００６７】
電極部２１の電気抵抗率は、０．１〜１００Ωｃｍであることが好ましく、０．１〜５０Ωｃｍであることが、更に好ましい。電極部２１の電気抵抗率をこのような範囲にすることにより、一対の電極部２１，２１が、高温の排ガスが流れる配管内において、効果的に電極の役割を果たす。電極部２１の電気抵抗率が０．１Ωｃｍより小さいと、セルの延びる方向に直交する断面において、電極部２１の両端付近のハニカム構造部の温度が上昇し易くなることがある。電極部２１の電気抵抗率が１００Ωｃｍより大きいと、電流が流れ難くなるため、電極としての役割を果たし難くなることがある。電極部の電気抵抗率は、４００℃における値である。
【００６８】
電極部２１は、気孔率が３０〜６０％であることが好ましい。これにより、好適な電気抵抗率が得られる。気孔率は、水銀ポロシメータで測定した値である。
【００６９】
電極部２１は、平均細孔径が５〜４５μｍであることが好ましい。これにより、好適な電気抵抗率が得られる。平均細孔径は、水銀ポロシメータで測定した値である。
【００７０】
電極部２１の主成分が炭化珪素粒子及び珪素である場合に、電極部２１に含有される炭化珪素粒子の平均粒子径が１０〜６０μｍであることが好ましい。これにより、電極部２１の電気抵抗率を０．１〜１００Ωｃｍの範囲で制御することができる。電極部２１に含有される炭化珪素粒子の平均粒子径は、レーザー回折法で測定した値である。
【００７１】
電極部２１に含有される「炭化珪素粒子と珪素のそれぞれの質量の合計」に対する、電極部２１に含有される珪素の質量の比率が、２０〜４０質量％であることが好ましい。これにより、電極部２１の電気抵抗率を０．１〜１００Ωｃｍの範囲にすることができる。
【００７２】
本実施形態のハニカム構造体１００においては、隔壁１及び外周壁３の材質が、珪素−炭化珪素複合材又は炭化珪素を主成分（９０質量％以上）とするものであることが好ましい。このような材質を用いることにより、ハニカム構造部の電気抵抗率を１〜２００Ωｃｍにすることができる。ハニカム構造部の電気抵抗率は、４００℃における値である。
【００７３】
本実施形態のハニカム構造体１００は、隔壁厚さが５０〜２００μｍであり、７０〜１３０μｍであることが好ましい。これにより、ハニカム構造体１００を触媒担体として用いて、触媒を担持しても、排ガスを流したときの圧力損失が大きくなり過ぎることを抑制できる。
【００７４】
本実施形態のハニカム構造体１００は、セル密度が４０〜１５０セル／ｃｍ２であることが好ましい。これにより、排ガスを流したときの圧力損失を小さくした状態で、触媒の浄化性能を高くすることができる。
【００７５】
本実施形態のハニカム構造体１００において、ハニカム構造部４を構成する炭化珪素粒子（骨材）の平均粒子径は、３〜５０μｍであることが好ましい。これにより、ハニカム構造部４の４００℃における電気抵抗率を１〜２００Ωｃｍにすることができる。炭化珪素粒子の平均粒子径はレーザー回折法で測定した値である。
【００７６】
本実施形態のハニカム構造体１００において、ハニカム構造部４の電気抵抗率は、１〜２００Ωｃｍであり、１０〜１００Ωｃｍであることが好ましい。電気抵抗率が１Ωｃｍより小さいと、例えば、２００Ｖ以上の高電圧の電源によってハニカム構造体１００に通電したときに（電圧は２００Ｖには限定されない）、電流が過剰に流れることがある。電気抵抗率が２００Ωｃｍより大きいと、例えば、２００Ｖ以上の高電圧の電源によってハニカム構造体１００に通電したときに（電圧は２００Ｖには限定されない）、電流が流れ難くなり、十分に発熱しないことがある。ハニカム構造部の電気抵抗率は、四端子法により測定した値である。
【００７７】
本実施形態のハニカム構造体１００においては、電極部２１の電気抵抗率は、ハニカム構造部４の電気抵抗率より低いものであることが好ましい。電極部２１の電気抵抗率は、ハニカム構造部４の電気抵抗率の、２０％以下であることが更に好ましく、１〜１０％であることが特に好ましい。電極部２１の電気抵抗率を、ハニカム構造部４の電気抵抗率の、２０％以下とすることにより、電極部２１が、より効果的に電極として機能するようになる。
【００７８】
本実施形態のハニカム構造体１００においては、ハニカム構造部４の材質が、珪素−炭化珪素複合材である場合、ハニカム構造部４に含有される、「骨材としての炭化珪素粒子の質量」と「結合材としての珪素の質量」との関係は以下のとおりである。つまり、「骨材としての炭化珪素粒子の質量」と、「結合材としての珪素の質量」との合計に対する、「結合材としての珪素の質量」の比率が、１０〜４０質量％であることが好ましい。
【００７９】
ハニカム構造部４の隔壁１の気孔率は、３５〜６０％であることが好ましい。気孔率は、水銀ポロシメータにより測定した値である。
【００８０】
ハニカム構造部４の隔壁１の平均細孔径は、２〜１５μｍであることが好ましい。平均細孔径は、水銀ポロシメータにより測定した値である。
【００８１】
また、本実施形態のハニカム構造体１００の最外周を構成する外周壁３の厚さは、０．１〜２ｍｍであることが好ましい。
【００８２】
本実施形態のハニカム構造体１００は、セル２の延びる方向に直交する断面におけるセル２の形状が、四角形、六角形、八角形、又はこれらの組み合わせ、であることが好ましい。これらのなかでも、正方形及び六角形が更に好ましく、六角形が特に好ましい。以下、セルの延びる方向に直交する断面における「セルの形状」を、単に、「セル形状」と称することがある。セル形状が正六角形であると、外周からの応力が分散されるという利点がある。
【００８３】
本実施形態のハニカム構造体の形状（ハニカム構造部の形状）は特に限定されず、従来のハニカム構造体の形状とすることができる。
【００８４】
本実施形態のハニカム構造体１００のアイソスタティック強度は、１ＭＰａ以上であることが好ましい。アイソスタティック強度は水中にて静水圧をかけて測定した値である。
【００８５】
本実施形態のハニカム構造体１００は、触媒が担持されて、触媒体として使用されることが好ましい。
【００８６】
次に、本発明のハニカム構造体の更に他の実施形態について説明する。図７に示されるように、本実施形態のハニカム構造体１１０は、上記本発明のハニカム構造体の一の実施形態（ハニカム構造体１００（図６））において、特定スリット６ａが第３領域２３を有するものである。つまり、充填材７が更に深く充填されている。このように充填材が深く充填されると、ハニカム構造部４の端面や側面において、充填材７が隔壁１から剥離したときに、この剥離のハニカム構造体内部への拡大がより確実に止められる。つまり、第３領域充填部を有すると、上述したように、クラック（つまり、隔壁のひび割れ）が生じることを防止できる。そして、充填材７が更に深く充填されていることは、第３領域充填部が更に深く形成されていることである。第３領域充填部が更に深く形成されていると、更に深く形成されている部分の分だけ上述した「剥離を拡大させる力」がハニカム構造体に伝わり難くなり、クラックが生じることを更に防止できる。図７は、本発明のハニカム構造体の他の実施形態の一方の端面の一部を拡大して模式的に示す平面図である。
【００８７】
次に、本発明のハニカム構造体の更に他の実施形態について説明する。図８に示されるように、本実施形態のハニカム構造体１２０は、上記本発明のハニカム構造体の一の実施形態（ハニカム構造体１００（図６））において、有効第２領域充填部２０が、第１領域充填部１８の幅方向の一方の端部のみに位置する。このように有効第２領域充填部２０が位置すると、ハニカム構造体１００に比べてより少ない量の充填材で耐熱衝撃性を向上させることができるという利点がある。図８は、本発明のハニカム構造体の更に他の実施形態の一方の端面の一部を拡大して模式的に示す平面図である。
【００８８】
次に、本発明のハニカム構造体の更に他の実施形態について説明する。図９に示されるように、本実施形態のハニカム構造体１３０は、上記本発明のハニカム構造体の更に他の実施形態（ハニカム構造体１２０（図８））において、特定スリット６ａの第２領域１７の一部に充填材７が充填されているものである。つまり、本実施形態のハニカム構造体１３０は、特定スリット６ａの第２領域１７の全部に充填材７が充填されたものではなく、第２領域１７の一部に隙間が形成されている。このように、充填材７は、有効第２領域充填部２０を有する限り第２領域１７の全部を充填する必要はなく、第２領域１７の一部に隙間が形成されるように充填されていてもよい。このように充填材７が充填されると、ハニカム構造体１２０に比べてより少ない量の充填材で耐熱衝撃性を向上させることができるという利点がある。尚、第１領域についても、第１領域全体に充填材が充填されていることが好ましいが、第１領域の一部に隙間が形成されていてもよい。図９は、本発明のハニカム構造体の更に他の実施形態の一方の端面の一部を拡大して模式的に示す平面図である。
【００８９】
次に、本発明のハニカム構造体の他の実施形態について説明する。図１０に示されるように、本実施形態のハニカム構造体１４０は、上記本発明のハニカム構造体の一の実施形態（ハニカム構造体１００（図１））において、セル２の延びる方向に直交する断面におけるセル２の形状が、四角形になったものである。図１０は、本発明のハニカム構造体の更に他の実施形態の一方の端面の一部を拡大して模式的に示す平面図である。
【００９０】
（２）ハニカム構造体の製造方法：
次に、本発明のハニカム構造体の製造方法の一の実施形態について説明する。
【００９１】
（２−１）ハニカム成形体の作製；
まず、以下の方法で、ハニカム成形体を作製する。炭化珪素粉末（炭化珪素）に、金属珪素粉末（金属珪素）、バインダ、界面活性剤、造孔材、水等を添加して成形原料を作製する。
【００９２】
次に、成形原料を混練して坏土を形成する。成形原料を混練して坏土を形成する方法としては特に制限はなく、例えば、ニーダー、真空土練機等を用いる方法を挙げることができる。
【００９３】
次に、坏土を押出成形してハニカム成形体を作製する。ハニカム成形体は、流体の流路となる複数のセルを区画形成する隔壁と最外周に位置する外周壁とを有する構造である。
【００９４】
次に、得られたハニカム成形体について、乾燥を行うことが好ましい。乾燥後のハニカム成形体を「ハニカム乾燥体」と称することがある。乾燥の方法は特に限定されない。  
【００９５】
（２−２）電極部形成原料の作製；
次に、電極部を形成するための電極部形成原料を調合する。電極部の主成分を、炭化珪素及び珪素とする場合、電極部形成原料は、炭化珪素粉末及び珪素粉末に、所定の添加物を添加し、混練して形成することが好ましい。電極部形成原料は、ペースト状であることが好ましい。
【００９６】
（２−３）電極部原料付きハニカム乾燥体の作製；
次に、得られた電極部形成原料を、乾燥させたハニカム成形体（ハニカム乾燥体）の側面に塗布することが好ましい。
【００９７】
次に、ハニカム乾燥体の側面に塗布した電極部形成原料を乾燥させて、「電極部原料付きハニカム乾燥体」を作製することが好ましい。乾燥条件は、５０〜１００℃とすることが好ましい。ハニカム乾燥体の側面に電極部形成原料を塗布して乾燥させるまでの工程は、国際公開第２０１１／１２５８１５号に記載の方法を用いることができる。
【００９８】
（２−４）スリットを形成したハニカム乾燥体の作製；
次に、電極部原料付きハニカム乾燥体に、スリットを形成して「スリットを形成したハニカム乾燥体」を得ることが好ましい。スリットは、リューター（電動切削工具）等を使用して形成することが好ましい。スリットは、電極部原料付きハニカム乾燥体の側面に開口部を有するように形成する。電極部原料付きハニカム乾燥体に形成するスリットとしては、上記本発明のハニカム構造体に形成される特定スリットと同様のスリットを少なくとも１本形成することが好ましい。特定スリットの形成方法としては、特に制限はないが、図６に示すような特定スリット６ａを形成する方法の一例を以下に示す。まず、電極部原料付きハニカム乾燥体の隔壁の一部に直交する方向に、電極部原料付きハニカム乾燥体の側面から切削を行い、特定スリットの開口部の幅と同じ幅の開口部を有する切削スリットを形成する。「切削スリット」は、加工（この場合は切削加工）により形成されたスリットであることを意味する、製造過程における名称であり、得られハニカム構造体においては、第１領域等を有する特定スリットになる。具体的には、図６に示すような第１領域１６に相当する領域内にある隔壁を切削して空間を形成する。この切削スリットによって、特定スリットを構成する空間のうちの第１領域１６と第２領域１７が形成される。次に、切削スリットの深さを更に深くするように隔壁を切削する。切削スリットの深さを更に深くする際には、「第１領域１６が深く伸びる方向に位置するとともにスリットの延びる方向に直交する」隔壁のみを切削する。つまり、切削スリット（第１領域１６）の延びる方向に沿って延びる隔壁は切削しない。図１のように、セル形状が六角形の場合は、切削スリットの延びる方向に沿ってジグザクに延びる隔壁は切削しない。このようにして、特定スリットを構成する空間のうちの第３領域２３が形成される。このようにして、第１領域１６、第２領域１７、及び第３領域２３を有する特定スリット６ａを形成することができる。
【００９９】
尚、電極部原料付きハニカム乾燥体を焼成した後に、スリットを形成してもよい。例えば、充填材用原料として、電極部の焼成温度より低温での熱処理を必要とする材料を用いる場合には、「電極部原料付きハニカム乾燥体」を作製した後に、仮焼成及び本焼成を行い、「電極部付きハニカム焼成体」を得ることが好ましい。そして、その後に、「電極部付きハニカム焼成体」にスリットを形成することが好ましい。
【０１００】
（２−５）充填材用原料付きハニカム乾燥体の作製；
次に、「スリットを形成したハニカム乾燥体」のスリットに充填材用原料を充填し、乾燥して、「充填材用原料付きハニカム乾燥体」を得ることが好ましい。充填材用原料は、電極部形成原料の好ましい組成と同様の組成であることが好ましい。充填材用原料は、電極部形成原料の好ましい組成と異なる組成であってもよい。充填材用原料をスリットに充填する際には、箆（へら）等を用いることが好ましい。乾燥条件は、５０〜２００℃とすることが好ましい。
【０１０１】
充填材用原料としては、電極部形成原料の好ましい組成と異なる組成である場合、無機粒子及び無機接着剤を含有するものであることが好ましい。充填材用原料には、更に、有機バインダ、界面活性剤、発泡樹脂、水等が含有されることが好ましい。無機粒子としては、板状粒子、球状粒子、塊状粒子、繊維状粒子、針状粒子等を挙げることができる。また、無機粒子の材質としては、炭化珪素、マイカ、タルク、窒化ホウ素、ガラスフレーク、コージェライト、アルミナチタネート、リチウムアルミニウムシリケート等を挙げることができる。無機粒子としては、複数種類の無機粒子の混合物であってもよい。そして、無機粒子としては、少なくとも炭化珪素粒子を３０質量％以上含有するものであることが好ましい。無機接着剤としては、コロイダルシリカ（ＳｉＯ２ゾル）、コルイダルアルミナ（アルミナゾル）、各種酸化物ゾル、エチルシリケート、水ガラス、シリカポリマー、リン酸アルミニウム等を挙げることができる。
【０１０２】
（２−６）焼成工程；
次に、「充填材用原料付きハニカム乾燥体」を焼成して、ハニカム構造体を得ることが好ましい。例えば、図１に示されるハニカム構造体のようなハニカム構造体を作製することが好ましい。焼成の条件は、従来の方法（例えば、国際公開第２０１１／１２５８１５号に記載の方法）を用いることができる。
【実施例】
【０１０３】
以下、本発明を実施例によって更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によって何ら限定されるものではない。【０１０４】
（実施例１）
炭化珪素（ＳｉＣ）粉末と金属珪素（Ｓｉ）粉末とを８０：２０の質量割合で混合して、炭化珪素−金属珪素混合物を作製した。そして、炭化珪素−金属珪素混合物に、バインダとしてヒドロキシプロピルメチルセルロース、造孔材として吸水性樹脂を添加すると共に、水を添加して成形原料とし、成形原料を真空土練機により混練し、円柱状の坏土を作製した。バインダの含有量は炭化珪素（ＳｉＣ）粉末と金属珪素（Ｓｉ）粉末の合計を１００質量部としたときに７質量部であった。造孔材の含有量は炭化珪素（ＳｉＣ）粉末と金属珪素（Ｓｉ）粉末の合計を１００質量部としたときに３質量部であった。水の含有量は炭化珪素（ＳｉＣ）粉末と金属珪素（Ｓｉ）粉末の合計を１００質量部としたときに４２質量部であった。炭化珪素粉末の平均粒子径は２０μｍであり、金属珪素粉末の平均粒子径は６μｍであった。また、造孔材の平均粒子径は、２０μｍであった。炭化珪素、金属珪素及び造孔材の平均粒子径は、レーザー回折法で測定した値である。【０１０５】
得られた円柱状の坏土を押出成形機を用いて成形し、ハニカム成形体を得た。得られたハニカム成形体を高周波誘電加熱乾燥した後、熱風乾燥機を用いて１２０℃で２時間乾燥し、両端面を所定量切断した。【０１０６】
次に、炭化珪素（ＳｉＣ）粉末と金属珪素（Ｓｉ）粉末とを６０：４０の質量割合で混合し、これに、バインダとしてヒドロキシプロピルメチルセルロース、保湿剤としてグリセリン、分散剤として界面活性剤を添加すると共に、水を添加して、混合した。混合物を混練して電極部形成原料とした。バインダの含有量は炭化珪素（ＳｉＣ）粉末と金属珪素（Ｓｉ）粉末の合計を１００質量部としたときに０．５質量部であった。グリセリンの含有量は炭化珪素（ＳｉＣ）粉末と金属珪素（Ｓｉ）粉末の合計を１００質量部としたときに１０質量部であった。界面活性剤の含有量は炭化珪素（ＳｉＣ）粉末と金属珪素（Ｓｉ）粉末の合計を１００質量部としたときに０．３質量部であった。水の含有量は炭化珪素（ＳｉＣ）粉末と金属珪素（Ｓｉ）粉末の合計を１００質量部としたときに０．３質量部であった。炭化珪素粉末の平均粒子径は５２μｍであり、金属珪素粉末の平均粒子径は６μｍであった。炭化珪素及び金属珪素の平均粒子径は、レーザー回折法で測定した値である。混練は、縦型の撹拌機で行った。【０１０７】
次に、電極部形成原料を、乾燥させたハニカム成形体の側面に、厚さが０．１５ｍｍ、「セルの延びる方向に直交する断面において中心角の０．５倍が５０°」になるようにして、ハニカム成形体の両端部間（両端面間）に亘るように帯状に塗布した。ここで、「セルの延びる方向に直交する断面において中心角の０．５倍」を「５０°」としたため、電極部形成原料の、ハニカム成形体の外周の周方向の長さは、８０ｍｍとなった。電極部形成原料は、乾燥させたハニカム成形体の側面に、２箇所塗布した。そして、セルの延びる方向に直交する断面において、２箇所の電極部形成原料を塗布した部分の中の一方が、他方に対して、ハニカム成形体の中心を挟んで反対側に配置されるようにした。【０１０８】
次に、ハニカム成形体に塗布した電極部形成原料を乾燥させて、電極部原料付きハニカム乾燥体を得た。乾燥条件は、７０℃とした。【０１０９】
次に、電極部原料付きハニカム乾燥体に、周方向に隣り合うスリットの間隔が等しくなるように８本のスリットを形成して「スリットを形成したハニカム乾燥体」を得た。スリットは、リューターを用いて形成した。８本のスリットのうち２本を特定スリットとした。２本の特定スリットは、ハニカム構造部の中心軸を挟んで対向するように形成した。具体的には、「一方の電極部２１の中央部Ｃ（図４参照）」の位置に１本の特定スリット６ａを形成し、「他方の電極部２１の中央部Ｃ（図４参照）」の位置に他の１本の特定スリット６ａを形成した。電極部２１の中央部Ｃは、「ハニカム構造部４の周方向」における中央の点のことである。【０１１０】
次に、「スリットを形成したハニカム乾燥体」に充填材用原料を、箆（へら）を用いて全てのスリットに充填し、１２０℃で乾燥して「充填材用原料付きハニカム乾燥体」を得た。充填材用原料は、以下のようにして作製したものを用いた。まず、炭化珪素（ＳｉＣ）粉末とシリカ（シリカ粉末、コロイダルシリカ：ＳｉＯ２）を固形分量として６８：３２の質量割合で混合した。このとき、シリカの質量は、酸化物（ＳｉＯ２）換算した質量である。これに、バインダとしてカルボニルメチルセルロース、保湿剤としてグリセリンを添加すると共に、水を添加して混合して混合物を得た。次に、この混合物を混練して充填材形成原料とした。バインダの含有量は、炭化珪素（ＳｉＣ）粉末とシリカ（ＳｉＯ２）の固形分量の合計を１００質量部としたときに１．０質量部であった。グリセリンの含有量は、炭化珪素（ＳｉＣ）粉末とシリカ（ＳｉＯ２）の固形分量の合計を１００質量部としたときに４質量部であった。水の含有量は、炭化珪素（ＳｉＣ）粉末と金属珪素（Ｓｉ）粉末の合計を１００質量部としたときに３０質量部であった。炭化珪素粉末の平均粒子径は８μｍであった。この平均粒子径は、レーザー回折法で測定した値である。混練は、自公転撹拌機で行った。【０１１１】
次に、「充填材用原料付きハニカム乾燥体」を、脱脂し、焼成し、更に酸化処理してハニカム構造体を得た。脱脂の条件は、５５０℃で３時間とした。焼成の条件は、アルゴン雰囲気下で、１４５０℃、２時間とした。酸化処理の条件は、１３００℃で１時間とした。【０１１２】
得られたハニカム構造体は、側面に８本のスリットが形成され、８本のスリットのうち２本が特定スリットであった。全てのスリットの深さは、１．９セル分の深さ（３．３ｍｍ）であった（つまり、ハニカム構造部の半径（表２中、「半径に対する割合」と示す）の７．１％であった）。つまり、特定スリットの深さは１．９セル分の深さであった。全てのスリットの開口部の幅は、１セル分の幅（１．７ｍｍ）であった（つまり、ハニカム構造部の外周長（表２中、「外周長に対する割合」と示す）の０．５９％であった）。つまり、特定スリット開口部の幅は１セル分の幅であった。特定スリットの幅は、２．３セル分の幅（４．０ｍｍ）であった（つまり、ハニカム構造部の外周長の１．４％であった）。「特定スリットの幅」は、最外周セルにおいて測定されたものであった。「特定スリットの幅」とは、特定スリットの「開口部の長手方向に直交し且つスリットの深さ方向に直交する方向」における最大の長さ（幅）のことである。セルの延びる方向に直交する断面における、セルの形状は、正六角形であった。尚、「特定スリットの幅」が測定された位置を、表２中の「「特定スリットの幅」の位置」の欄に示す。表２の「通過しているセル数」の欄は、「「特定スリットの幅」が測定された位置」において、特定スリットがいくつのセルを通過しているかを示す。尚、「通過しているセル数」を数える場合、特定スリットの深さ方向にずれているセルがあるときは、いずれか一方のセルのみを数えることとする。例えば、図６に示す特定スリット６ａは、「「特定スリットの幅」が測定された位置」（有効第２領域充填部２０が形成された位置）において、３つのセルを通過しているということができる。この場合、「通過しているセル数」は、「３」となる。表２の「「特定スリットの幅」の位置」の欄中、「１（セル）」は、「特定スリットの幅」が測定された位置が、「最外周セルから数えて１番目のセル」つまり「最外周セル」であったことを示す。「２（セル）」は、「特定スリットの幅」が測定された位置が、「最外周セルから数えて２番目のセル」であったことを示す。【０１１３】
尚、表２において、特定スリットの深さ、特定スリットの開口部の幅、及び、特定スリットの幅が「ｎセル」とは、特定スリットの深さ、特定スリットの開口部の幅、及び、特定スリットの幅のそれぞれが、セル幅のｎ倍であることを示す。【０１１４】
全てのスリットの空間には、完全に充填材が充填されていた。２本の特定スリットには、図６に示すようにして特定スリットの第１領域と第２領域とに充填材が充填されていた。充填材は、第１領域充填部と第２領域充填部とが連続して形成され、第２領域充填部の少なくとも一つが有効第２領域充填部であった。この有効第２領域充填部は、最外周セルに位置していた。つまり、特定スリットの第２領域を構成する最外周セルに充填された充填材が、有効第２領域充填部であった。また、充填材は、有効第２領域充填部が、第１領域充填部の幅方向の「一方と他方」（両方）の端部に隣接するように位置し、この有効第２領域充填部の最大の長さは、第１領域充填部の幅方向の一方と他方で同じ長さであった。また、有効第２領域充填部が、第１領域充填部の幅方向の「一方と他方」（両方）の端部に隣接するように位置する場合、「両方」と示す。【０１１５】
得られたハニカム構造体の隔壁の平均細孔径（気孔径）は８．６μｍであり、気孔率は４５％であった。平均細孔径および気孔率は、水銀ポロシメータにより測定した値である。また、ハニカム構造体の、隔壁の厚さは９０μｍであり、セル密度は９３セル／ｃｍ２であった。また、ハニカム構造体の底面は直径（外径）９３ｍｍの円形であり、ハニカム構造体のセルの延びる方向における長さは７５ｍｍであった。また、ハニカム構造体の、２つの電極部の、セルの延びる方向に直交する断面における中心角の０．５倍は、５０°であった。電極部の、ハニカム構造体の外周の周方向の長さ（表１中、「電極部の幅」と記す）としては、８０ｍｍであった。また、２つの電極部の厚さは、いずれも０．１５ｍｍであった。また、電極部の電気抵抗率は、０．５Ωｃｍであり、ハニカム構造部の電気抵抗率は、３５Ωｃｍであった。また、ハニカム構造体の、セルの延びる方向に直交する断面における、セルの形状は正六角形であった。【０１１６】
また、得られたハニカム構造体の充填材のヤング率は０．５ＧＰａであり、気孔率は５２％であった。ハニカム構造体の充填材の電気抵抗率は、１００００Ωｃｍ以上であった。【０１１７】
「充填材のヤング率」は、ＪＩＳ  Ｒ１６０２に準拠して、曲げ共振法によって測定した値である。測定に用いる試験片は、以下の方法で作製した。まず、充填材を形成する原料を用いてバルク体を作製した。そして、このバルク体を３ｍｍ×４ｍｍ×４０ｍｍの大きさに切り出したものを、試験片とした。また、充填材の気孔率は、水銀ポロシメータにより測定した値である。【０１１８】
次に、得られたハニカム構造体について、以下に示す方法で、「耐熱衝撃性試験（バーナー試験）」を行った。結果を表３に示す。【０１１９】
尚、ハニカム構造部、電極部、及び充填材の電気抵抗率は、以下の方法で測定した。測定対象と同じ材質で１０ｍｍ×１０ｍｍ×５０ｍｍの試験片を作製した。つまり、ハニカム構造部の電気抵抗率を測定する場合にはハニカム構造部と同じ材質で、そして、電極部の電気抵抗率を測定する場合には電極部と同じ材質で、それぞれ試験片を作製した。試験片の両端部全面に銀ペーストを塗布し、配線して通電できるようにした。試験片に電圧印加電流測定装置をつないだ。試験片中央部に熱伝対を設置した。試験片に電圧を印加し、電圧印加時の試験片温度の経時変化をレコーダーにて確認した。更に具体的には、１００〜２００Ｖの電圧を印加し、試験片温度が４００℃の状態における電流値及び電圧値を測定し、得られた電流値及び電圧値、並びに試験片寸法から電気抵抗率を算出した。【０１２０】
（耐熱衝撃性試験（バーナー試験））
「ハニカム構造体を収納する金属ケースと、当該金属ケース内に加熱ガスを供給することができるプロパンガスバーナーと、を備えたプロパンガスバーナー試験機」を用いてハニカム構造体の加熱冷却試験を実施した。上記加熱ガスは、ガスバーナー（プロパンガスバーナー）でプロパンガスを燃焼させることにより発生する燃焼ガスとした。そして、上記加熱冷却試験によって、ハニカム構造体にクラックが発生するか否かを確認することにより、耐熱衝撃性を評価した。具体的には、まず、プロパンガスバーナー試験機の金属ケースに、得られたハニカム構造体を収納（キャニング）した。そして、金属ケース内に、プロパンガスバーナーにより加熱されたガス（燃焼ガス）を供給し、ハニカム構造体内を通過するようにした。金属ケースに流入する加熱ガスの温度条件（入口ガス温度条件）を以下のようにした。まず、５分で指定温度まで昇温し、指定温度で１０分間保持し、その後、５分で１００℃まで冷却し、１００℃で１０分間保持した。このような昇温、冷却、保持の一連の操作を「昇温、冷却操作」と称する。その後、ハニカム構造体のクラックを確認した。そして、指定温度を８２５℃から２５℃ずつ上昇させながら上記「昇温、冷却操作」を繰り返した。指定温度は、８２５℃から２５℃ずつ、１４段階設定した。つまり、上記「昇温、冷却操作」は、指定温度が１１５０℃になるまで行った。指定温度が高くなると昇温峻度が大きくなり、中心部に対して外周部の昇温が遅れることにより、中心部と外周部の温度差が拡大し、発生応力が大きくなる。指定温度が９００℃を超えるまでクラックが発生しないハニカム構造体は、耐熱衝撃性試験が合格である。つまり、指定温度９００℃においてクラックが発生しなければ、更に高い指定温度においてクラックが発生しても合格であり、指定温度９００℃以下でクラックが発生した場合に不合格となる。表３において、「耐熱衝撃性試験」の欄の「縦クラック」は、耐熱衝撃性試験において、ハニカム構造体の側面にクラックが発生したときの指定温度を示している。また、表３において、「耐熱衝撃性試験」の欄の「端面クラック」は、耐熱衝撃性試験において、ハニカム構造体の端面にクラックが発生したときの指定温度を示している。【０１２１】
【表１】
2015053133.tif 000003
【０１２２】
【表２】
2015053133.tif 000004
【０１２３】
【表３】
2015053133.tif 000005
【０１２４】
（実施例２〜１７、比較例１〜４）
各条件を、表１，２に示すように変更した以外は、実施例１と同様にしてハニカム構造体を作製した。実施例１の場合と同様にして、「耐熱衝撃性試験」を行った。結果を表３に示す。【０１２５】
表３より、「特定スリットが形成され、この特定スリットに充填された充填材が有効第２領域充填部を有する」ハニカム構造体は、耐熱衝撃性に優れることがわかる。
【産業上の利用可能性】
【０１２６】
本発明のハニカム構造体は、自動車の排ガスを浄化する排ガス浄化装置用の触媒担体として好適に利用することができる。
【符号の説明】
【０１２７】
１：隔壁、２：セル、３：外周壁、４：ハニカム構造部、５：側面、６：スリット、６ａ：特定スリット、７：充填材、８：開口部、１１：一方の端面、１２：他方の端面、１６：第１領域、１７，１７ａ，１７ｂ：第２領域、１８：第１領域充填部、１９：第２領域充填部、２０：有効第２領域充填部、２１：電極部、２３：第３領域、２５：第３領域充填部、１００，１１０，１２０，１３０，１４０：ハニカム構造体、Ｏ：中心、Ｃ：（電極部の）中央部、Ｋ：仮想境界線、Ｋ１：第１仮想境界線、Ｋ２：第２仮想境界線、Ｌ１，Ｌ２：線分、α：中心角、β：角度、θ：中心角の０．５倍の角度、Ａ：一端、Ｂ：他端、Ｈ：開口部の幅、Ｐ：端面領域。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【国際調査報告】
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