(57)【要約】  低臭加工ニンニクの製造装置１は、低臭加工溶液が貯留される低臭加工溶液貯留容器１０と、低臭加工溶液を霧化或いは気化させるガス化装置１１と、ニンニクが配置されるとともに霧化或いは気化された低臭加工溶液が導入されてニンニクの低臭化が行われる低臭加工反応槽３０と、低臭加工溶液貯留容器１０と低臭加工反応槽３０とをつなぎ霧化或いは気化された低臭加工溶液が通過して低臭加工反応槽３０へ流入する配管２０と、を備える。
2015114764.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
低臭加工溶液が貯留される低臭加工溶液貯留容器と、
前記低臭加工溶液を霧化或いは気化させるガス化装置と、
ニンニクが配置されるとともに霧化或いは気化された前記低臭加工溶液が導入されて前記ニンニクの低臭化が行われる低臭加工反応槽と、
前記低臭加工溶液貯留容器と前記低臭加工反応槽とをつなぎ霧化或いは気化された前記低臭加工溶液が通過して前記低臭加工反応槽へ流入する配管と、を備える、
ことを特徴とする低臭加工ニンニクの製造装置。
【請求項２】
前記低臭加工反応槽内を加熱する加熱装置を備える、
ことを特徴とする請求項１に記載の低臭加工ニンニクの製造装置。
【請求項３】
前記低臭加工反応槽内の温度を４３〜５３℃に維持する制御装置を備える、
ことを特徴とする請求項２に記載の低臭加工ニンニクの製造装置。
【請求項４】
前記ガス化装置は前記低臭加工溶液を超音波振動により霧化させる超音波霧化装置である、
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の低臭加工ニンニクの製造装置。
【請求項５】
前記ガス化装置は前記低臭加工溶液を蒸発させて気化させる加熱装置である、
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の低臭加工ニンニクの製造装置。
【請求項６】
低臭加工溶液貯留容器に貯留された低臭加工溶液を霧化或いは気化させる工程と、
前記低臭加工溶液貯留容器と低臭加工反応槽をつなぐ配管を通じて、霧化或いは気化された前記低臭加工溶液を前記低臭加工反応槽へと供給する工程と、
前記低臭加工反応槽内に配置したニンニクの低臭化を行う工程と、を具備する、
ことを特徴とする低臭加工ニンニクの製造方法。
【請求項７】
前記低臭加工反応槽内を加熱してニンニクの低臭化を行う、
ことを特徴とする請求項６に記載の低臭加工ニンニクの製造方法。
【請求項８】
前記低臭加工反応槽内の温度を４３〜５３℃に維持する、
ことを特徴とする請求項７に記載の低臭加工ニンニクの製造方法。
【請求項９】
前記低臭加工溶液を超音波振動により霧化させる、
ことを特徴とする請求項６乃至８のいずれか一項に記載の低臭加工ニンニクの製造方法。
【請求項１０】
前記低臭加工溶液を蒸発させて気化させる、
ことを特徴とする請求項６乃至８のいずれか一項に記載の低臭加工ニンニクの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、低臭加工ニンニクの製造装置及び製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ニンニクは抗酸化作用、抗血栓作用、免疫機能向上作用など、種々の効能を有する貴重な食材である。これらの効能はニンニクに含まれるアリシンが中心的役割を果たすものと言われており、ニンニクに含まれるアリインが酵素（アリナーゼ）により分解され、アリシンが生成する。【０００３】
ニンニクは種々の効能を有する食材であるものの、食して消化された後、口臭として体外に発散される特有の匂いが本人や周りの者に不快感を与えてしまうため敬遠されがちである。このため、食後の口臭が低減され得るニンニク（以下、低臭加工ニンニク）が望まれている。【０００４】
このような低臭加工ニンニクの製造装置として、ミルラ液を用いた製造装置が開示されている（特許文献１）。この製造装置では、単一の容器内にて、ミルラ液の上方にニンニクが配置されており、ミルラ液を加熱蒸発させて低臭加工ニンニクを製造している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００９−２１３４６１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１の製造装置では、多量のニンニクを処理しようとすると、ミルラ液の蒸気を多量に発生させる必要上、加熱温度を高くせざるを得ない。単一の容器内にミルラ液とニンニクが配置されているため、加熱温度を高くすると容器内の温度上昇が避けられず、この熱によって酵素が失活し、有効成分であるアリシンの生成が阻害されてしまう。【０００７】
本発明は上記事項に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、ニンニクの有効成分の消失を抑制しつつ、多量のニンニクの低臭化が可能な低臭加工ニンニクの製造装置及び製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の第１の観点に係る低臭加工ニンニクの製造装置は、
低臭加工溶液が貯留される低臭加工溶液貯留容器と、
前記低臭加工溶液を霧化或いは気化させるガス化装置と、
ニンニクが配置されるとともに霧化或いは気化された前記低臭加工溶液が導入されて前記ニンニクの低臭化が行われる低臭加工反応槽と、
前記低臭加工溶液貯留容器と前記低臭加工反応槽とをつなぎ霧化或いは気化された前記低臭加工溶液が通過して前記低臭加工反応槽へ流入する配管と、を備える、
ことを特徴とする。【０００９】
また、前記低臭加工反応槽内を加熱する加熱装置を備えることが好ましい。【００１０】
また、前記低臭加工反応槽内の温度を４３〜５３℃に維持する制御装置を備えることが好ましい。【００１１】
また、前記ガス化装置は前記低臭加工溶液を超音波振動により霧化させる超音波霧化装置であってもよい。【００１２】
また、前記ガス装置は前記低臭加工溶液を蒸発させて気化させる加熱装置であってもよい。【００１３】
本発明の第２の観点に係る低臭加工ニンニクの製造方法は、
低臭加工溶液貯留容器に貯留された低臭加工溶液を霧化或いは気化させる工程と、
前記低臭加工溶液貯留容器と低臭加工反応槽をつなぐ配管を通じて、霧化或いは気化された前記低臭加工溶液を前記低臭加工反応槽へと供給する工程と、
前記低臭加工反応槽内に配置したニンニクの低臭化を行う工程と、を具備する、
ことを特徴とする。【００１４】
また、前記低臭加工反応槽内を加熱してニンニクの低臭化を行うことが好ましい。【００１５】
また、前記低臭加工反応槽内の温度を４３〜５３℃に維持することが好ましい。【００１６】
また、前記低臭加工溶液を超音波振動により霧化させてもよい。【００１７】
また、前記低臭加工溶液を蒸発させて気化させてもよい。
【発明の効果】
【００１８】
本発明に係る低臭加工ニンニクの製造装置では、ニンニクの有効成分の消失を抑制しつつ、多量のニンニクの低臭加工が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】低臭加工ニンニクの製造装置の概略構成図である。
【図２】低臭加工反応槽の変形例を示す概略構成図である。
【図３】ニンニク摂取後の経過時間と呼気中の硫化水素濃度とを示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
図を参照しつつ、低臭加工ニンニクの製造装置及び製造方法について説明する。図１に示すように、低臭加工ニンニクの製造装置１（以下、製造装置１）は、低臭加工溶液貯留容器１０、ガス化装置１１、配管２０、低臭加工反応槽３０、加熱装置３１を備える。
【００２１】
低臭加工溶液貯留容器１０は、低臭加工溶液が貯留される槽である。低臭加工溶液は低臭加工溶液供給路１２を通じて低臭加工溶液貯留容器１０に充填される。用いられる低臭加工溶液として、ミルラ液、ターメリック、緑茶などが挙げられる。
【００２２】
ミルラ液は、ミルラ樹脂からアルコール又は水で希釈したアルコールで抽出してえられたミルラ抽出物が水で所定の濃度に希釈された液体である。低臭加工溶液としてミルラ液を用いる場合、アルコール濃度が５０重量％以上であることと、食用アルコールで抽出されていることが好ましい。また、ミルラ液中のミルラ樹脂由来の成分の濃度が０．２重量％〜３．０重量％であることが好ましい。
【００２３】
ガス化装置１１は、低臭加工溶液貯留容器１０に貯留されている低臭加工溶液をガス化させる。なお、本明細書におけるガス化とは、気化或いは霧化をいう。ここでは、ガス化装置１１として、圧電振動子により超音波振動を発生させて低臭加工溶液を霧化させる超音波霧化装置が用いられている。
【００２４】
配管２０は内部が中空の管状体であり、低臭加工溶液貯留容器１０と低臭加工反応槽３０とを接続している。配管２０は、ガス化された低臭加工溶液が通過する通路である。配管２０には、ガス化された低臭加工溶液を低臭加工反応槽３０へと送気する送気ファン１３、ガス化された低臭加工溶液の流入量を調整するバルブ２１が設置されている。
【００２５】
低臭加工反応槽３０は、ニンニクの低臭加工が行われる反応場であり、内部には加熱装置３１、複数の網棚３２、温度検出装置３３、循環ファン３４が設置されている。
【００２６】
加熱装置３１として、低臭加工反応槽３０内を加熱可能であれば、どのような装置が用いられてもよく、例えば、電気ヒーターが挙げられる。加熱装置３１は、低臭加工反応槽３０の外部に設置された形態であってもよい。加熱装置３１は、温度検出装置３３で検出された温度に基づいてその駆動が制御され、低臭加工反応槽３０の内部温度を４３〜５３℃に維持する。
【００２７】
網棚３２はニンニクが載置される棚であり、低臭加工反応槽３０の内部に複数配置される。循環ファン３４は、ガス化された低臭加工溶液を低臭加工反応槽３０内に循環させるとともに、低臭加工反応槽３０の内部温度を一定に保つ機能を果たす。また、温度検出装置３３は低臭加工反応槽３０の内部温度を常時検出する。また、低臭加工反応槽３０には、排気口（不図示）が配置されていてもよい。
【００２８】
制御装置４０は、ガス化装置１１、送気ファン１３、バルブ２１、加熱装置３１、循環ファン３４の駆動を制御する。
【００２９】
続いて、製造装置１による低臭加工ニンニクの製造法について説明する。まず、低臭加工溶液貯留容器１０に低臭加工溶液を充填するとともに、低臭加工反応槽３０内の網棚３２にニンニクを載置する。
【００３０】
ガス化装置１１の駆動によって、低臭加工溶液が霧化される。ガス化装置１１として圧電振動子を用いた場合、圧電振動子が超音波振動子として機能し、その振動エネルギーが液面に集中して液柱が立ち、表面張力が大幅に低下した液柱の先端部から低臭加工溶液の微粒子が飛散することになる。なお、用いられる圧電振動子の発振周波数、直径や厚みにより適切な低臭加工溶液の水深が異なる。このため、低臭加工溶液の霧化が進行するよう、低臭加工溶液が低臭加工溶液供給路１２を通じて低臭加工溶液貯留容器１０に補充され、適切な水深に維持される。
【００３１】
霧化された低臭加工溶液は送気ファン１３によって吸引され配管２０へと送られる。霧化された低臭加工溶液は、配管２０を通過して低臭加工反応槽３０の内部へ流入する。また、低臭加工反応槽３０に流入する低臭加工溶液の流量はバルブ２１により調整される。
【００３２】
低臭加工反応槽３０に流入した低臭加工溶液は、循環ファン３４により、低臭加工反応槽３０の内部に行き渡り、配置されているニンニクに付着する。また、加熱装置３１の駆動により、低臭加工反応槽３０の内部は加熱され、循環ファン３４により内部の温度は全域に渡ってほぼ均一化されている。
【００３３】
低臭加工反応槽３０の内部温度は、温度検出装置３３により常時検出されており、温度検出装置３３の検出温度に基づいて、低臭加工反応槽３０の内部温度が４３〜５３℃に維持される。例えば、温度検出装置３３によって検出された低臭加工反応槽３０の内部温度が５０℃まで上昇した場合には、制御装置４０が加熱装置３１の駆動を停止させ、一方、低臭加工反応槽３０の内部温度が４５℃まで下降した場合には、制御装置４０が加熱装置３１の駆動を再開させるように設定すればよい。
【００３４】
そして、一定時間経過後、低臭加工反応槽３０からニンニクが取り出される。なお、低臭加工反応槽３０内におけるニンニクの処理時間は、１５分間〜３時間であることが好ましい。そして、低臭加工されたニンニクを低臭加工反応槽３０から取り出した後、新たなニンニクが低臭加工反応槽３０内に配置され、上記と同じようにして、新たなニンニクの低臭加工が行われる。
【００３５】
原理は明かではないが、以上のようにして、低臭加工ニンニクが製造される。低臭加工ニンニクは、食後のニンニク臭が少なく、短時間で匂いがなくなるにも関わらず、ニンニク本来の食味を維持するとともに、ニンニクの有効成分の消失が抑えられている。
【００３６】
ニンニクにおける抗酸化作用、抗血栓作用、免疫機能向上作用などの効能はニンニクに含まれるアリシンが中心的役割を果たすと言われ、ニンニクに含まれるアリインが酵素（アリナーゼ）により分解され、アリシンが生成する。特許文献１の製造装置では、単一の容器内にミルラ液とニンニクが配置され、ミルラ液を蒸発させて気化させているため、多量のニンニクを処理しようとすれば、ミルラ液の蒸気を多量に発生させなければならない。このため、ミルラ液の加熱温度を高くせざるを得ず、これに伴って容器内の温度が必要以上に上昇してしまい、容器内を６５℃以下に調節することが困難である。容器内が６５℃を超えてしまうと、ニンニクに含まれる酵素が失活し、有効成分であるアリシンの生成が阻害されるので、結果、上記の効能を有さないニンニクになってしまう。
【００３７】
しかしながら、本実施の形態に係る製造装置１では、低臭加工溶液のガス化を行う低臭加工溶液貯留容器１０と、ニンニクの低臭加工を行う低臭加工反応槽３０とが分離し、配管２０で接続していること、更には、低臭加工溶液を加熱せずに霧化させていることから、低臭加工溶液貯留容器１０の温度に影響を受けずに、低臭加工反応槽３０内の温度調節を行うことができる。このため、酵素の失活を抑えてニンニクの有効成分の消失を抑えつつ、多量のニンニクの低臭加工を行うことができる。
【００３８】
なお、加熱装置３１は、低臭加工反応槽３０の内部温度を４３〜５３℃にできれば、電気ヒーターに限られず、間接加熱式などどのような形態であってもよい。
【００３９】
また、低臭加工反応槽３０に加熱装置３１が設置されず、低臭加工反応槽３０内を常温で行っても、ニンニクの低臭加工は可能である。しかしながら、常温でニンニクを低臭加工した場合、製造された低臭加工ニンニクにカビが繁殖しやすく、長期間の保存に問題が生じる。低臭加工反応槽３０内を加熱してニンニクの低臭加工を行うことで、得られた低臭加工ニンニクにカビが繁殖し難くなり、低臭加工ニンニクを長期間保存することができる。
【００４０】
また、ガス化装置１１として、上記では圧電振動子を利用して超音波振動を発生させて低臭加工溶液を霧化する超音波霧化装置を例に説明したが、他の原理により超音波振動を発生させる装置や、霧吹きの原理を利用して霧化させる装置であってもよい。また、低臭加工溶液を蒸発させて気化させるヒーター等の加熱装置であってもよい。低臭加工溶液を気化できれば、加熱装置が低臭加工溶液の内部、外部のいずれに設置されていてもよい。加熱装置で低臭加工溶液を気化させる場合、低臭加工溶液の温度が６０〜６３℃に維持されるよう行うとよい。この場合、低臭加工溶液の温度を検出する温度検出装置が低臭加工溶液貯留容器１０に設置され、温度検出装置が検出する温度に基づいて、制御装置４０が加熱装置の駆動を制御し、低臭加工溶液の温度を６０〜６３℃に維持する。
【００４１】
また、低臭加工反応槽３０内へのニンニクの配置について、ニンニクが配置可能であれば上記の網棚３２に限られず、箱状のものにニンニクを入れて配置したり、袋状のものにニンニクを入れて配置したり、紐状のものにニンニクを吊したりするなど、どのような形態でもよい。
【００４２】
また、低臭加工反応槽３０は、ニンニクが配置でき、容器内温度を一定に保ち得る形態であればどのような形態であってもよく、例えば、図２に示す連続式の低臭加工反応槽５０でもよい。低臭加工反応槽５０は、投入容器５１、ベルトコンベア５２を備えている。
【００４３】
ベルトコンベア５２は、ベルト５２ａ、駆動ローラ５２ｂ、ガイドローラ５２ｃを備えており、駆動ローラ５２ｂの駆動により、ベルト５２ａが紙面上時計回りに回転する。ニンニクが投入容器５１に入れられており、投入容器５１から順次ニンニクがベルト５２ａに載せられる。低臭加工反応槽５０には、上記と同様、加熱装置３０、温度検出装置３３が設置されており、低臭加工反応槽５０の内部温度が４３〜５３℃に維持されている。ニンニクは、ベルト５２ａに載置されて低臭加工反応槽５０内を移動し、低臭加工されて低臭加工反応槽５０から排出され、回収容器５３に順次回収される。
【００４４】
なお、ベルト５２ａの移動速度は、ニンニクが投入されて排出されるまでの時間が１５分間〜３時間となるよう調整される。その他については、上記と同様である。
【実施例】
【００４５】
密閉式の容器にミルラ液、超音波振動子を入れ、ミルラ液に浸らないように網を載置し、網の上にニンニクを載置した。超音波振動子を１５分間駆動させ、室温にてミルラ液を霧化した。その後、４３〜５３℃の温度雰囲気下に１５分間おき、低臭加工ニンニクを得た。また、無加工のニンニクについても準備し、以下の検証を行った。【００４６】
被験者に低臭加工ニンニクと無加工ニンニク２ｇを日を置いて別々に摂取させ、摂取後の呼気をガス採取バッグに採取し、硫化水素用ニオイセンサー（ＸＰ−３２９Ｓ：新コスモス電機株式会社）にて硫化水素を検出した。その結果を図３に示す。【００４７】
無加工ニンニクでは、摂取後２４時間経過後でも呼気中に硫化水素が検出された。一方、低臭加工ニンニクでは、摂取後２時間で呼気中の硫化水素が０ｐｐｍであった。【００４８】
また、加熱を行わなかった以外、上記と同様にして、ニンニクの低臭加工を行った。そして、得られた低臭加工ニンニクについて、室温で保存した。また、加熱を行って得られた低臭加工ニンニクについても、同様の条件で保存した。【００４９】
保存６月経過後、加熱を行わなかった低臭加工ニンニクにはカビが繁殖していた。一方、加熱を行った低臭加工ニンニクでは、保存６月経過後でもカビは生成していなかった。このことから、加熱して低臭加工を行うことで、長期保存が可能であることがわかった。
【符号の説明】
【００５０】
１    製造装置
１０    低臭加工溶液貯留容器
１１    ガス化装置
１２    低臭加工溶液供給路
１３    送気ファン
２０    配管
２１    バルブ
３０    低臭加工反応槽
３１    加熱装置
３２    網棚
３３    温度検出装置
３４    循環ファン
４０    制御装置
５０    低臭加工反応槽
５１    投入容器
５２    ベルトコンベア
５２ａ  ベルト
５２ｂ  駆動ローラ
５２ｃ  ガイドローラ
５３    回収容器
【図１】
2015114764.tif 000003
【図２】
2015114764.tif 000004
【図３】
2015114764.tif 000005
【国際調査報告】
2015114764.tif 000006
2015114764.tif 000007
2015114764.tif 000008
2015114764.tif 000009