(57)【要約】  本発明は、抗ウイルス作用を有する新規化合物、更に詳しくは、ＨＩＶインテグラーゼ阻害活性を有するピリドン誘導体及びそれを含有する医薬、特に抗ＨＩＶ薬に関する。本発明化合物は、ウイルス、特にＨＩＶやその耐性ウイルスに対してインテグラーゼ阻害活性および／または細胞増殖阻害活性を有する。よって、インテグラーゼが関与する各種疾患やウイルス感染症（例：エイズ）等の予防または治療に有用である。【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下のいずれかの式で示される化合物またはその製薬上許容される塩。
式（Ｉ−１）または式（Ｉ−２）：
【化１】
2016027879.tif 000100
（式中、
Ｑは、置換もしくは非置換の炭素環式基または置換もしくは非置換の複素環式基であり；
Ａ環は、置換もしくは非置換の複素環であり；
Ｄ環は、置換もしくは非置換の複素環であり；
Ｒ３は、水素、ハロゲン、ヒドロキシ、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシ、置換もしくは非置換の低級アルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアリールオキシ、置換もしくは非置換の複素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基オキシ、または置換もしくは非置換のアミノであり；
Ｒ８は、水素、ハロゲン、ヒドロキシ、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシ、置換もしくは非置換の低級ケルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアリールオキシ、置換もしくは非置換の複素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基オキシまたは置換もしくは非置換のアミノであり；
Ｒ１４およびＲＸは、それぞれ独立して、水素、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシ、置換もしくは非置換の低級アルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアリール低級アルキル、置換もしくは非置換のアリールオキシ、置換もしくは非置換の複素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシ、置換もしくは非置換のリン酸残基、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアリール、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたヒドロキシ、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアミノ、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換された低級アルキル（該低級アルキルは、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ２、ＮＲ５、−Ｎ＝および＝Ｎ−からなる群から選択されるヘテロ原子基を有していてもよい）、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換の低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換のシクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換のアリールカルボニル、置換もしくは非置換のアリール低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換のアリールオキシカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基カルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシカルボニルまたは置換もしくは非置換のアミノカルボニルであり；
Ｒ５は、水素、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシ、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアリール低級アルキル、置換もしくは非置換のアリールオキシ、置換もしくは非置換の複素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシ、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換のリン酸残基、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアリール、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたヒドロキシ、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアミノまたは置換もしくは非置換のリン酸残基で置換された低級アルキル（該低級アルキルは、ＣＯ、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ２、ＮＲａ（Ｒａは水素または低級アルキル）、−Ｎ＝および＝Ｎ−からなる群から選択されるヘテロ原子基を有していてもよい）であり；
または、Ｒ１４とＲＸが、一緒になって置換もしくは非置換のスピロ環を形成してもよく；
破線は結合の存在または非存在を示す；
ただし、ＲＸが結合する炭素原子に隣接する破線が、結合の存在を示す場合、ＲＸは存在せず、Ｒ８が結合する炭素原子に隣接するいずれかの破線が、結合の存在を示す場合、Ｒ８は存在せず、Ｒ８が結合する炭素原子に隣接する破線の両方が、結合の存在を示すことはない；
ただし、以下の化合物を除く
【化２】
2016027879.tif 000101
）
【請求項２】
以下の式で示される請求項１記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
式（Ｉ−１）：
【化３】
2016027879.tif 000102
（式中、各記号は、請求項１と同意義である）
【請求項３】
Ａ環が、以下のいずれかの環である請求項２記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【化４】
2016027879.tif 000103
（式中、
Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３、Ｚ４およびＺ５は、それぞれ独立してＣＲ１Ｒ２、ＣＲ１、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ２、ＮまたはＮＲ１９であり；
または、Ｚ１とＺ３、Ｚ１とＺ４、Ｚ１とＺ５、Ｚ２とＺ４、Ｚ２とＺ５もしくはＺ３とＺ５の間には、置換もしくは非置換の（Ｃ２−Ｃ４）架橋が形成されていても良く；
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシ、置換もしくは非置換の低級アルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアリール低級アルキル、置換もしくは非置換のアリールオキシ、置換もしくは非置換の複素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシ、置換もしくは非置換のリン酸残基、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアリール、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたヒドロキシ、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアミノ、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換された低級アルキル（該低級アルキルは、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ２、ＮＲ５（Ｒ５は、請求項１と同意義である）、−Ｎ＝および＝Ｎ−からなる群から選択されるヘテロ原子基を有していてもよい）、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換の低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換のシクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換のアリールカルボニル、置換もしくは非置換のアリール低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換のアリールオキシカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基カルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシカルボニル、置換もしくは非置換のアミノカルボニル、置換もしくは非置換のウレイドまたは置換もしくは非置換のチオウレイドであり；
または、Ｒ１とＲ２が一緒になってオキソ、チオキソもしくは置換もしくは非置換のスピロ環を形成してもよく；
Ｒ１９は、水素、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルキルカルボニルまたは置換もしくは非置換の低級アルキルスルホニルであり；
破線は結合の存在または非存在を示す；
Ｒ８は、請求項１と同意義である）
【請求項４】
Ａ環が、以下のいずれかの環である、請求項２記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【化５】
2016027879.tif 000104
（式中、Ｅ環は、それぞれ独立して、置換もしくは非置換の炭素環または置換もしくは非置換の複素環であり；
Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３、Ｚ４およびＺ５は、それぞれ独立して、ＣＲ１Ｒ２、ＣＲ１、Ｃ、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ２、ＮまたはＮＲ１９であり（ただし、Ｅ環の構成原子である場合は、ＣＲ１、ＣまたはＮである）；
または、Ｚ１とＺ３、Ｚ１とＺ４、Ｚ１とＺ５、Ｚ２とＺ４、Ｚ２とＺ５もしくはＺ３とＺ５の間には、置換もしくは非置換の（Ｃ２−Ｃ４）架橋が形成されていても良く；
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシ、置換もしくは非置換の低級アルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアリール低級アルキル、置換もしくは非置換のアリールオキシ、置換もしくは非置換の複素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシ、置換もしくは非置換のリン酸残基、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアリール、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたヒドロキシ、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアミノ、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換された低級アルキル（該低級アルキルは、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ２、ＮＲ５（Ｒ５は、請求項１と同意義である）、−Ｎ＝および＝Ｎ−からなる群から選択されるヘテロ原子基を有していてもよい）、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換の低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換のシクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換のアリールカルボニル、置換もしくは非置換のアリール低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換のアリールオキシカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基カルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシカルボニル、置換もしくは非置換のアミノカルボニル、置換もしくは非置換のウレイドまたは置換もしくは非置換のチオウレイドであり；
または、Ｒ１とＲ２が一緒になってオキソ、チオキソもしくは置換もしくは非置換のスピロ環を形成してもよく；
Ｒ１９は、水素、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルキルカルボニルまたは置換もしくは非置換の低級アルキルスルホニルであり；
Ｒ８は、請求項１と同意義であり；
破線は結合の存在または非存在を示す）
【請求項５】
Ｅ環が、置換もしくは非置換の４〜７員の炭素環または置換もしくは非置換の４〜７員の複素環である、請求項４記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【請求項６】
以下のいずれかの式で示される請求項２記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
式（Ｉ−１−１）または（Ｉ−２−１）：
【化６】
2016027879.tif 000105
（式中、Ｘは、ＣＲ９ａＲ９ｂ、ＮＲ１０、ＯまたはＳであり；
Ｒ５ａ、Ｒ５ｂ、Ｒ６ａ、Ｒ６ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ８、Ｒ９ａ、Ｒ９ｂおよびＲ１０は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシ、置換もしくは非置換の低級アルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアリール低級アルキル、置換もしくは非置換のアリールオキシ、置換もしくは非置換の複素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシ、置換もしくは非置換のリン酸残基、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアリール、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたヒドロキシ、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアミノ、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換された低級アルキル（該低級アルキルは、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ２、ＮＲ５（Ｒ５は、請求項１と同意義である）、−Ｎ＝および＝Ｎ−からなる群から選択されるヘテロ原子基を有していてもよい）、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換の低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換のシクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換のアリールカルボニル、置換もしくは非置換のアリール低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換のアリールオキシカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基カルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシカルボニル、置換もしくは非置換のアミノカルボニル、置換もしくは非置換のウレイドまたは置換もしくは非置換のチオウレイドであり；
Ｒ５ａとＲ５ｂ、Ｒ６ａとＲ６ｂ、Ｒ７ａとＲ７ｂおよび／またはＲ９ａとＲ９ｂは一緒になってオキソ、チオキソまたは置換もしくは非置換のスピロ環を形成してもよく；
または、Ｒ５ｂとＲ６ｂ、Ｒ６ｂとＲ７ｂおよび／もしくはＲ７ｂとＲ９ｂは、隣接する原子と一緒になって置換もしくは非置換の炭素環または置換もしくは非置換の複素環を形成してもよく、および／またはＲ５ｂとＲ７ｂ、Ｒ５ｂとＲ８、Ｒ５ｂとＲ９ｂ、Ｒ６ｂとＲ８、Ｒ６ｂとＲ９ｂもしくはＲ７ｂとＲ８は、一緒になって置換もしくは非置換の（Ｃ２−Ｃ４）架橋を形成してもよく；
または、Ｒ５ｂとＲ１０は、隣接する原子と一緒になって置換もしくは非置換の複素環を形成してもよく、またはＲ６ｂとＲ１０もしくはＲ７ｂとＲ１０は、一緒になって置換もしくは非置換の（Ｃ２−Ｃ４）架橋を形成してもよく；
Ｒｘは、水素であり；
その他の記号は請求項１と同意義である）
【請求項７】
ＸがＣＲ９ａＲ９ｂ、ＯまたはＳである、請求項６記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【請求項８】
Ｒ５ａが水素、ハロゲン、ヒドロキシ、置換もしくは非置換の低級アルキルまたは置換もしくは非置換の低級アルコキシである、請求項６または７記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【請求項９】
Ｒ５ｂが水素である、請求項６〜８のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【請求項１０】
Ｒ６ａが水素、ハロゲン、ヒドロキシ、置換もしくは非置換の低級アルキルまたは置換もしくは非置換の低級アルコキシである、請求項６〜９のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【請求項１１】
Ｒ６ｂが水素である、請求項６〜１０のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【請求項１２】
Ｒ７ａが水素、ハロゲン、ヒドロキシ、置換もしくは非置換の低級アルキルまたは置換もしくは非置換の低級アルコキシである、請求項６〜１１のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【請求項１３】
Ｒ７ｂが水素である、請求項６〜１２のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【請求項１４】
Ｒ８が水素である、請求項６〜１３のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【請求項１５】
Ｒ９ａが水素、ハロゲン、ヒドロキシ、置換もしくは非置換の低級アルキルまたは置換もしくは非置換の低級アルコキシである、請求項６〜１４のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【請求項１６】
Ｒ９ｂが水素である、請求項６〜１５のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【請求項１７】
以下のいずれかの式で示される請求項１記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
式：
【化７】
2016027879.tif 000106
（式中、各Ｑは、請求項１と同意義である）
【請求項１８】
以下のいずれかの式で示される請求項１記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
式：
【化８】
2016027879.tif 000107
（式中、各Ｑは、請求項１と同意義である）
【請求項１９】
以下の式で示される請求項１記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
式（Ｉ−２）：
【化９】
2016027879.tif 000108
（式中、各記号は、請求項１と同意義である）
【請求項２０】
以下の式で示される化合物またはその製薬上許容される塩。
式（Ｉ−３）：
【化１０】
2016027879.tif 000109
（式中、
Ｑは、置換もしくは非置換の炭素環式基または置換もしくは非置換の複素環式基であり；
破線は、結合の存在または非存在を示し；
Ｂ１およびＢ２は、いずれか一方がＣＲ２０Ｒ２１、他方がＮＲ２２であり、この場合、破線は結合の非存在を示し、Ｒ２０とＲ２２が隣接する原子と一緒になって置換もしくは非置換の複素環を形成してもよく；
Ｂ２がＮＲ２２の場合、Ｒ４とＲ２２は隣接する原子と一緒になって置換もしくは非置換の複素環を形成してもよく、Ｂ２がＣＲ２０Ｒ２１の場合、Ｒ４とＲ２１は隣接する原子と一緒になって置換もしくは非置換の複素環を形成してもよく；
またはＢ１およびＢ２は、いずれか一方がＣＲ２３、他方がＮであり、この場合、破線は結合の存在を示し、Ｂ２がＣＲ２３の場合、Ｒ４とＲ２３は隣接する原子と一緒になって置換もしくは非置換の複素環を形成してもよく；
Ｒ２０、Ｒ２１、Ｒ２２およびＲ２３は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシ、置換もしくは非置換の低級アルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアリール低級アルキル、置換もしくは非置換のアリールオキシ、置換もしくは非置換の複素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシ、置換もしくは非置換のリン酸残基、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアリール、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたヒドロキシ、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアミノ、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換された低級アルキル（該低級アルキルは、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ２、ＮＲ５（Ｒ５は、Ｒ４とは独立してＲ４と同一の置換基群から選択される）、−Ｎ＝および＝Ｎ−からなる群から選択されるヘテロ原子基を有していてもよい）、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換の低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換のシクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換のアリールカルボニル、置換もしくは非置換のアリール低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換のアリールオキシカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基カルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシカルボニル、置換もしくは非置換のアミノカルボニル、置換もしくは非置換のウレイドまたは置換もしくは非置換のチオウレイドであり；
Ｒ３は、水素、ハロゲン、ヒドロキシ、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシ、置換もしくは非置換の低級アルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアリールオキシ、置換もしくは非置換の複素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基オキシまたは置換もしくは非置換のアミノであり；
Ｒ４は、水素、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシ、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアリール低級アルキル、置換もしくは非置換のアリールオキシ、置換もしくは非置換の複素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシ、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換のリン酸残基、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアリール、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたヒドロキシ、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアミノまたは置換もしくは非置換のリン酸残基で置換された低級アルキル（該低級アルキルは、ＣＯ、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ２、ＮＲa（Ｒaは水素または低級アルキル）、−Ｎ＝および＝Ｎ−からなる群から選択されるヘテロ原子基を有していてもよい）である；
ただし、Ｂ１がＮＲ２２であり、破線が結合の非存在を示し、かつＲ４が非置換エチル基または非置換イソプロピル基である化合物を除く）
【請求項２１】
以下の式で示される請求項２０記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
式（Ｉ−３−１）：
【化１１】
2016027879.tif 000110
（式中、
Ｆ環は、置換もしくは非置換の複素環であり；
Ｂ１は、ＣＲ２０Ｒ２１、ＮまたはＮＲ２２であり；
Ｂ１がＣＲ２０Ｒ２１の場合、破線は結合の非存在を示し、Ｂ２はＮであり；
Ｂ１がＮの場合、破線は結合の存在を示し、Ｂ２はＣであり；
Ｂ１がＮＲ２２の場合、破線は結合の非存在を示し、Ｂ２はＣＲ２０であり；
その他の記号は、請求項２０と同意義である）
【請求項２２】
Ｆ環が、置換もしくは非置換の以下の環である請求項２０記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【化１２】
2016027879.tif 000111
（式中、
Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３、Ｚ４およびＺ５は、それぞれ独立してＣＲ１Ｒ２、ＣＲ１、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ２、ＮまたはＮＲ１９であり；
または、Ｚ１とＺ３、Ｚ１とＺ４、Ｚ１とＺ５、Ｚ２とＺ４、Ｚ２とＺ５もしくはＺ３とＺ５の間には、置換もしくは非置換の（Ｃ２−Ｃ４）架橋が形成されていても良く；
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシ、置換もしくは非置換の低級アルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアリール低級アルキル、置換もしくは非置換のアリールオキシ、置換もしくは非置換の複素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシ、置換もしくは非置換のリン酸残基、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアリール、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたヒドロキシ、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアミノ、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換された低級アルキル（該低級アルキルは、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ２、ＮＲ５（Ｒ５は、請求項２０と同意義である）、−Ｎ＝および＝Ｎ−からなる群から選択されるヘテロ原子基を有していてもよい）、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換の低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換のシクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換のアリールカルボニル、置換もしくは非置換のアリール低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換のアリールオキシカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基カルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシカルボニル、置換もしくは非置換のアミノカルボニル、置換もしくは非置換のウレイドまたは置換もしくは非置換のチオウレイドであり；
または、Ｒ１とＲ２が一緒になってオキソ、チオキソもしくは置換もしくは非置換のスピロ環を形成してもよく；
Ｒ１９は、水素、置換もしくは非置換の低級アルキル、低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルキルカルボニルまたは置換もしくは非置換の低級アルキルスルホニルであり；
破線は結合の存在または非存在を示す；
その他の記号は、請求項２０と同意義である）
【請求項２３】
Ｆ環が、以下のいずれかの環である、請求項２１記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【化１３】
2016027879.tif 000112
（式中、
Ｈ環は、置換もしくは非置換の炭素環または置換もしくは非置換の複素環であり；
Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３、Ｚ４およびＺ５は、それぞれ独立してＣＲ１Ｒ２、ＣＲ１、Ｃ、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ２、ＮまたはＮＲ１９であり（ただし、Ｈ環の構成原子である場合は、ＣＲ１、ＣまたはＮである）；
または、Ｚ１とＺ３、Ｚ１とＺ４、Ｚ１とＺ５、Ｚ２とＺ４、Ｚ２とＺ５もしくはＺ３とＺ５の間には、置換もしくは非置換の（Ｃ２−Ｃ４）架橋が形成されていても良く；
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシ、置換もしくは非置換の低級アルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアリール低級アルキル、置換もしくは非置換のアリールオキシ、置換もしくは非置換の複素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシ、置換もしくは非置換のリン酸残基、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアリール、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたヒドロキシ、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアミノ、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換された低級アルキル（該低級アルキルは、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ２、ＮＲ５（Ｒ５は、請求項２０と同意義である）、−Ｎ＝および＝Ｎ−からなる群から選択されるヘテロ原子基を有していてもよい）、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換の低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換のシクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換のアリールカルボニル、置換もしくは非置換のアリール低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換のアリールオキシカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基カルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシカルボニル、置換もしくは非置換のアミノカルボニル、置換もしくは非置換のウレイドまたは置換もしくは非置換のチオウレイドであり；
または、Ｒ１とＲ２が一緒になってオキソ、チオキソもしくは置換もしくは非置換のスピロ環を形成してもよく；
Ｒ１９は、水素、置換もしくは非置換の低級アルキル、低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルキルカルボニルまたは置換もしくは非置換の低級アルキルスルホニルであり；
破線は結合の存在または非存在を示す；
その他の記号は、請求項２０と同意義である）
【請求項２４】
Ｈ環が、置換もしくは非置換の４〜７員の炭素環または置換もしくは非置換の４〜７員の複素環である、請求項２３記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【請求項２５】
以下の式で示される請求項２０記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
式（Ｉ−３−２）：
【化１４】
2016027879.tif 000113
（式中、
Ｇ環は、置換もしくは非置換の炭素環または置換もしくは非置換の複素環であり；
Ｂ１は、ＣＲ２１またはＮであり；
Ｂ１がＣＲ２１である場合、Ｂ２はＮであり、Ｂ１がＮである場合、Ｂ２はＣＲ２１であり；
その他の記号は、請求項２０と同意義である）
【請求項２６】
Ｇ環が、置換もしくは非置換の以下のいずれかの環である請求項２５記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【化１５】
2016027879.tif 000114
【請求項２７】
Ｂ２がＮまたはＮＲ２２（Ｒ２２は請求項２０と同意義である；ただし、破線が結合の存在を示す場合またはＢ２がＦ環もしくはＧ環の構成原子である場合はＮである）である、請求項２０〜２６のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【請求項２８】
以下のいずれかの式で示される請求項２０〜２７のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
式（Ｉ−３−３）または式（Ｉ−３−４）：
【化１６】
2016027879.tif 000115
（式中、
Ｒ１１、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂおよびＲ１３は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシ、置換もしくは非置換の低級アルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアリール低級アルキル、置換もしくは非置換のアリールオキシ、置換もしくは非置換の複素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシ、置換もしくは非置換のリン酸残基、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアリール、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたヒドロキシ、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアミノ、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換された低級アルキル（該低級アルキルは、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ２、ＮＲ５（Ｒ５は、請求項２０と同意義である）、−Ｎ＝および＝Ｎ−からなる群から選択されるヘテロ原子基を有していてもよい）、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換の低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換のシクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換のアリールカルボニル、置換もしくは非置換のアリール低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換のアリールオキシカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基カルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシカルボニル、置換もしくは非置換のアミノカルボニル、置換もしくは非置換のウレイドまたは置換もしくは非置換のチオウレイドであり；
または、Ｒ１２ａとＲ１２ｂが一緒になってオキソ、チオキソを形成してもよく、
さらに、式（Ｉ−３−４）の場合、Ｒ１２ａとＲ１２ｂが一緒になって置換もしくは非置換のスピロ環を形成してもよく；
Ｑは、請求項２０と同意義である）
【請求項２９】
以下のいずれかの式で示される請求項２０〜２２記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
式（Ｉ−３−５）または式（Ｉ−３−６）：
【化１７】
2016027879.tif 000116
（式中、
Ｘは、ＣＲ１８ａＲ１８ｂ、ＮＲ２４、ＯまたはＳであり；
Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ、Ｒ１６ｂ、Ｒ１７ａ、Ｒ１７ｂ、Ｒ１８ａ、Ｒ１８ｂおよびＲ２４は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシ、置換もしくは非置換の低級アルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアリール低級アルキル、置換もしくは非置換のアリールオキシ、置換もしくは非置換の複素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシ、置換もしくは非置換のリン酸残基、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアリール、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたヒドロキシ、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアミノ、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換された低級アルキル（該低級アルキルは、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ２、ＮＲ５（Ｒ５は、請求項２０と同意義である）、−Ｎ＝および＝Ｎ−からなる群から選択されるヘテロ原子基を有していてもよい）、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換の低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換のシクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換のアリールカルボニル、置換もしくは非置換のアリール低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換のアリールオキシカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基カルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシカルボニル、置換もしくは非置換のアミノカルボニル、置換もしくは非置換のウレイドまたは置換もしくは非置換のチオウレイドであり；
または、Ｒ１５ａとＲ１５ｂ、Ｒ１６ａとＲ１６ｂ、Ｒ１７ａとＲ１７ｂもしくはＲ１８ａとＲ１８ｂが一緒になって、オキソ、チオキソもしくは置換もしくは非置換のスピロ環を形成してもよく；
または、Ｒ１５ｂとＲ１６ｂ、Ｒ１６ｂとＲ１８ｂおよび／もしくはＲ１７ｂとＲ１８ｂが一緒になって置換もしくは非置換の炭素環または置換もしくは非置換の複素環を形成してもよく、またはＲ１５ｂとＲ１７ｂ、Ｒ１５ｂとＲ１８ｂもしくはＲ１６ｂとＲ１７ｂは、一緒になって置換もしくは非置換の（Ｃ２−Ｃ４）架橋を形成してもよく； 
または、Ｒ１６ｂとＲ２４もしくはＲ１７ｂとＲ２４が一緒になって置換もしくは非置換の複素環を形成してもよく、またはＲ１５ｂとＲ２４が一緒になって置換もしくは非置換の（Ｃ２−Ｃ４）架橋を形成してもよく；
その他の記号は、請求項２０と同意義である）
【請求項３０】
Ｒ１５ａが水素または置換もしくは非置換の低級アルキルである、請求項２９記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【請求項３１】
Ｒ１５ｂが水素である、請求項２９または３０記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【請求項３２】
Ｒ１６ａが水素または置換もしくは非置換の低級アルキルである、請求項２９〜３１のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【請求項３３】
Ｒ１６ｂが水素である、請求項２９〜３２のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【請求項３４】
Ｒ１７ａが水素または置換もしくは非置換の低級アルキルである、請求項２９〜３３のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【請求項３５】
Ｒ１７ｂが水素である、請求項２９〜３４のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【請求項３６】
Ｒ１８ａが水素または置換もしくは非置換の低級アルキルである、請求項２９〜３５のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【請求項３７】
Ｒ１８ｂが水素である、請求項２９〜３６のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【請求項３８】
Ｒ２４が水素または置換もしくは非置換の低級アルキルである、請求項２９〜３７のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【請求項３９】
以下のいずれかの式で示される請求項２０記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
式：
【化１８】
2016027879.tif 000117
（式中、各Ｑは、請求項２０と同意義である）
【請求項４０】
Ｑが、置換もしくは非置換の複素環式基である、請求項１〜３９のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【請求項４１】
Ｑが、置換もしくは非置換の５〜７員の単環性複素環式基である、請求項１〜４０のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【請求項４２】
Ｑが、置換もしくは非置換の以下のいずれかの式で示される基である、請求項１〜４１のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
式：
【化１９】
2016027879.tif 000118
【請求項４３】
Ｑが、置換基群Ａから選択される１〜４個の同一または異なる置換基で置換された炭素環式基または複素環式基である、請求項１〜４２のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
置換基群Ａ：低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲン、ハロゲン化低級アルキル、ハロゲン化低級アルコキシおよび式（Ｂ）：
【化２０】
2016027879.tif 000119
（式中、
ＸＡは、以下の群から選択される基：
ＸＡ１：単結合、
ＸＡ２：Ｃ（＝Ｏ）およびＣ（＝Ｓ）から選択される基、
ＸＡ３：Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ２およびＮ（Ｒ１’）（Ｒ１’は水素もしくは低級アルキル）から選択されるヘテロ原子基、
ＸＡ４：ＸＡ２およびＸＡ３から選択される同一または異なる、２以上の基が連結して形成される基、
ＸＡ５：−Ｎ＝Ｎ−、−Ｃ（Ｒ１’）＝Ｎ−または−Ｎ＝Ｃ（Ｒ１’）−（Ｒ１’は水素もしくは低級アルキル）から選択される基、
ＸＡ６：置換もしくは非置換の低級アルキレンまたは置換もしくは非置換の低級アルケニレン、
ＸＡ７：ＸＡ２、ＸＡ３、ＸＡ４およびＸＡ５から選択される１またはいずれかの２以上の基が介在しているＸＡ６、
ＸＡ８：ＣＲ１’Ｒ２’であり、Ｒ１’とＲ２’が一緒になって炭素環または複素環を形成している基、および
ＸＡ９：ＸＡ１〜ＸＡ８の任意の組み合わせからなるスペーサー；
Ｒは、独立して以下の群から選択される基：
（１）低級アルキル、
（２）低級アルコキシ、
（３）ハロゲン、
（４）ハロゲン化低級アルキル、
（５）ハロゲン化低級アルコキシ、および
（６）低級シクロアルキル
ｍは、０〜５の整数である）
【請求項４４】
Ｑが、以下のいずれかの式で示される、請求項１〜４３のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
式（１）または式（２）：
【化２１】
2016027879.tif 000120
（式中、各記号は、請求項４３と同意義である）
【請求項４５】
ＸＡが低級アルキレンであり；Ｒが独立して、低級アルコキシ、ハロゲンまたはハロゲン化低級アルキルであり；ｍが１または２である、請求項４３または４４記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【請求項４６】
Ｑが、置換もしくは非置換の炭素環式基または置換もしくは非置換の複素環式基（ただし、以下の基を除く）である、請求項１〜４５のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【化２２】
2016027879.tif 000121
【請求項４７】
Ｑが、以下のいずれかの基である、請求項１〜４６のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【化２３】
2016027879.tif 000122
【請求項４８】
以下のいずれかの式で示される化合物またはその製薬上許容される塩。
式（Ｉ−１’）、式（Ｉ−２’）、または式（Ｉ−３’）：
【化２４】
2016027879.tif 000123
（式中、Ｙは、以下のいずれかの基であり、
【化２５】
2016027879.tif 000124
（式中、ＲＹは、置換もしくは非置換のアルキルである）
その他記号は、請求項１と同意義である）
【請求項４９】
請求項１〜４８のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩を含有する、医薬組成物。
【請求項５０】
抗ＨＩＶ作用を有する、請求項４９記載の医薬組成物。
【請求項５１】
ＨＩＶインテグラーゼ阻害作用を有する、請求項４９記載の医薬組成物。
【請求項５２】
抗ＨＩＶに有効量の請求項１〜４８のいずれかに記載の化合物をヒトまたは動物に投与することを特徴とする、エイズの治療方法。
【請求項５３】
医薬治療における使用のための請求項１〜４８のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【請求項５４】
エイズの予防または治療のための医薬を製造するための請求項１〜４８のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩の使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、抗ウイルス作用を有する新規化合物、更に詳しくは、ＨＩＶインテグラーゼ阻害活性を有する多環性ピリドン誘導体およびそれを含有する医薬、特に抗ＨＩＶ薬に関する。
【背景技術】
【０００２】
ウイルスのなかでも、レトロウイルスの一種であるヒト免疫不全ウイルス（Human Immunodeficiency Virus、以下ＨＩＶと略す）は、後天性免疫不全症候群（Acquired immunodeficiency syndrome、以下エイズ（ＡＩＤＳ）と略す）の原因となることが知られている。そのエイズの治療薬としては、これまでのところ逆転写酵素阻害剤（ＡＺＴ、３ＴＣ等）とプロテアーゼ阻害剤（インディナビル等）が主流であるが、腎臓障害等の副作用や耐性ウイルスの出現等の問題が判明しており、それらとは異なる作用メカニズムを有する抗ＨＩＶ薬の開発が期待されている。【０００３】
また、エイズの治療においては、耐性ウイルスが容易に出現するという理由から、現在、多剤併用療法が効果的であると報告されている。抗ＨＩＶ薬としては、逆転写酵素阻害剤、プロテアーゼ阻害剤の２種が臨床で使用されているが、同じ作用メカニズムを有する薬剤はしばしば交叉耐性を示し、または付加的な効果を示すに過ぎず、異なった作用メカニズムの抗ＨＩＶ薬の開発が要望されている。【０００４】
このような状況下、新規メカニズムの抗ＨＩＶ薬として、インテグラーゼ阻害剤が注目されている（特許文献１、２）。また同作用を有する抗ＨＩＶ薬として、カルバモイル置換ヒドロキシピリミジノン誘導体（特許文献３）、カルバモイル置換ヒドロキシピロリジオン誘導体（特許文献４）が公知である。またカルバモイル置換ヒドロキシピリドン誘導体（特許文献５、実施例８）が出願されている。【０００５】
また、その他のカルバモイルピリドン誘導体として、５−アルコキシピリジン−３−カルボキサミド誘導体やγ−ピロン−３−カルボキサミド誘導体が公知であるが、植物成長抑制剤や除草剤である（特許文献６〜８）。【０００６】
また、ＨＩＶインテグラーゼ阻害剤としての含窒素縮合環化合物が公知である（特許文献９）。【０００７】
さらに、その他のＨＩＶインテグラーゼ阻害剤が公知であるが、当該化合物はアミド側鎖の末端がアリールである（特許文献１０、１１）。
また、２環性のＨＩＶインテグラーゼ阻害剤が公知である（特許文献１２）。
さらに、本出願人によって含窒素縮合環化合物を有効成分とする抗インフルエンザ薬が特許出願されている（特許文献１３）。【０００８】
また、本出願人によって含窒素縮合環化合物を有効成分とするＨＩＶインテグラーゼ阻害剤が特許出願されている（特許文献１４、１５）。
さらに、スピロ環や架橋型の環を有する含窒素縮合環化合物を有効成分とするＨＩＶインテグラーゼ阻害剤が特許出願されている（特許文献１６〜２７）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】国際公開第０３／０１６２７５号パンフレット
【特許文献２】国際公開第２００４／０２４６９３号パンフレット
【特許文献３】国際公開第０３／０３５０７６号パンフレット
【特許文献４】国際公開第２００４／００４６５７号パンフレット
【特許文献５】特開２００４−２４４３２０号公報
【特許文献６】特開平２−１０８６６８号公報
【特許文献７】特開平２−１０８６８３号公報
【特許文献８】特開平２−９６５０６号公報
【特許文献９】国際公開第２００５／０１６９２７号パンフレット
【特許文献１０】国際公開第２００６／１１６７６４号パンフレット
【特許文献１１】国際公開第２００７／０４９６７５号パンフレット
【特許文献１２】国際公開第２０１１／１０５５９０号パンフレット
【特許文献１３】国際公開第２０１０／１４７０６８号パンフレット
【特許文献１４】国際公開第２０１１／１２９０９５号パンフレット
【特許文献１５】国際公開第２０１３／０５４８６２号パンフレット
【特許文献１６】国際公開第２０１４／０９９５８６号パンフレット
【特許文献１７】国際公開第２０１４／１００３２３号パンフレット
【特許文献１８】国際公開第２０１４／１０４２７９号パンフレット
【特許文献１９】国際公開第２０１４／１７２１８８号パンフレット
【特許文献２０】国際公開第２０１４／１８３５３２号パンフレット
【特許文献２１】国際公開第２０１４／２００８８０号パンフレット
【特許文献２２】国際公開第２０１５／０３９３４８号パンフレット
【特許文献２３】国際公開第２０１５／０４８３６３号パンフレット
【特許文献２４】国際公開第２０１５／０８９８４７号パンフレット
【特許文献２５】国際公開第２０１５／０９５２５８号パンフレット
【特許文献２６】国際公開第２０１５／００６７３１号パンフレット
【特許文献２７】国際公開第２０１５／００６７３３号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
上記の状況下、新規なインテグラーゼ阻害剤の開発が要望されていた。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者らは鋭意検討した結果、新規なピリドン誘導体が強いＨＩＶインテグラーゼ阻害作用を有することを見出した。さらに、本発明化合物およびそれらを含有する医薬が、抗ウイルス薬（例：抗レトロウイルス薬、抗ＨＩＶ薬、抗ＨＴＬＶ−１（Human T cell leukemia virus type 1：ヒトＴ細胞白血病ウイルス１型）薬、抗ＦＩＶ（Feline immunodeficiency virus：ネコエイズウイルス）薬、抗ＳＩＶ（Simian immunodeficiency virus：サルエイズウイルス）薬）、特に抗ＨＩＶ薬、抗ＡＩＤＳ薬、またはその関連疾患の治療薬等として有用であることを見出し、以下に示す本発明を完成した。【００１２】
［１］以下のいずれかの式で示される化合物またはその製薬上許容される塩。
式（Ｉ−１）または式（Ｉ−２）：
【化１】
2016027879.tif 000002
（式中、
Ｑは、置換もしくは非置換の炭素環式基または置換もしくは非置換の複素環式基であり；
Ａ環は、置換もしくは非置換の複素環であり；
Ｄ環は、置換もしくは非置換の複素環であり；
Ｒ３は、水素、ハロゲン、ヒドロキシ、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシ、置換もしくは非置換の低級アルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアリールオキシ、置換もしくは非置換の複素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基オキシ、または置換もしくは非置換のアミノであり；
Ｒ８は、水素、ハロゲン、ヒドロキシ、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシ、置換もしくは非置換の低級ケルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアリールオキシ、置換もしくは非置換の複素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基オキシまたは置換もしくは非置換のアミノであり；
Ｒ１４およびＲＸは、それぞれ独立して、水素、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシ、置換もしくは非置換の低級アルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアリール低級アルキル、置換もしくは非置換のアリールオキシ、置換もしくは非置換の複素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシ、置換もしくは非置換のリン酸残基、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアリール、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたヒドロキシ、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアミノ、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換された低級アルキル（該低級アルキルは、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ２、ＮＲ５、−Ｎ＝および＝Ｎ−からなる群から選択されるヘテロ原子基を有していてもよい）、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換の低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換のシクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換のアリールカルボニル、置換もしくは非置換のアリール低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換のアリールオキシカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基カルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシカルボニルまたは置換もしくは非置換のアミノカルボニルであり；
Ｒ５は、水素、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシ、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアリール低級アルキル、置換もしくは非置換のアリールオキシ、置換もしくは非置換の複素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシ、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換のリン酸残基、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアリール、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたヒドロキシ、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアミノまたは置換もしくは非置換のリン酸残基で置換された低級アルキル（該低級アルキルは、ＣＯ、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ２、ＮＲａ（Ｒａは水素または低級アルキル）、−Ｎ＝および＝Ｎ−からなる群から選択されるヘテロ原子基を有していてもよい）であり；
または、Ｒ１４とＲＸが、一緒になって置換もしくは非置換のスピロ環を形成してもよく；
破線は結合の存在または非存在を示す；
ただし、ＲＸが結合する炭素原子に隣接する破線が、結合の存在を示す場合、ＲＸは存在せず、Ｒ８が結合する炭素原子に隣接するいずれかの破線が、結合の存在を示す場合、Ｒ８は存在せず、Ｒ８が結合する炭素原子に隣接する破線の両方が、結合の存在を示すことはない；
ただし、以下の化合物を除く
【化２】
2016027879.tif 000003
）
［２］以下の式で示される前記［１］記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
式（Ｉ−１）：
【化３】
2016027879.tif 000004
（式中、各記号は、前記［１］と同意義である）
［３］Ａ環が、以下のいずれかの環である前記［２］記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【化４】
2016027879.tif 000005
（式中、
Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３、Ｚ４およびＺ５は、それぞれ独立してＣＲ１Ｒ２、ＣＲ１、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ２、ＮまたはＮＲ１９であり；
または、Ｚ１とＺ３、Ｚ１とＺ４、Ｚ１とＺ５、Ｚ２とＺ４、Ｚ２とＺ５もしくはＺ３とＺ５の間には、置換もしくは非置換の（Ｃ２−Ｃ４）架橋が形成されていても良く；
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシ、置換もしくは非置換の低級アルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアリール低級アルキル、置換もしくは非置換のアリールオキシ、置換もしくは非置換の複素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシ、置換もしくは非置換のリン酸残基、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアリール、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたヒドロキシ、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアミノ、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換された低級アルキル（該低級アルキルは、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ２、ＮＲ５（Ｒ５は、前記［１］と同意義である）、−Ｎ＝および＝Ｎ−からなる群から選択されるヘテロ原子基を有していてもよい）、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換の低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換のシクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換のアリールカルボニル、置換もしくは非置換のアリール低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換のアリールオキシカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基カルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシカルボニル、置換もしくは非置換のアミノカルボニル、置換もしくは非置換のウレイドまたは置換もしくは非置換のチオウレイドであり；
または、Ｒ１とＲ２が一緒になってオキソ、チオキソもしくは置換もしくは非置換のスピロ環を形成してもよく；
Ｒ１９は、水素、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルキルカルボニルまたは置換もしくは非置換の低級アルキルスルホニルであり；
破線は結合の存在または非存在を示す；
Ｒ８は、前記［１］と同意義である）
［４］Ａ環が、以下のいずれかの環である、前記［２］記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【化５】
2016027879.tif 000006
（式中、Ｅ環は、置換もしくは非置換の炭素環または置換もしくは非置換の複素環であり；
Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３、Ｚ４およびＺ５は、それぞれ独立して、ＣＲ１Ｒ２、ＣＲ１、Ｃ、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ２、ＮまたはＮＲ１９であり（ただし、Ｅ環の構成原子である場合は、ＣＲ１、ＣまたはＮである）；
または、Ｚ１とＺ３、Ｚ１とＺ４、Ｚ１とＺ５、Ｚ２とＺ４、Ｚ２とＺ５もしくはＺ３とＺ５の間には、置換もしくは非置換の（Ｃ２−Ｃ４）架橋が形成されていても良く；
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシ、置換もしくは非置換の低級アルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアリール低級アルキル、置換もしくは非置換のアリールオキシ、置換もしくは非置換の複素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシ、置換もしくは非置換のリン酸残基、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアリール、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたヒドロキシ、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアミノ、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換された低級アルキル（該低級アルキルは、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ２、ＮＲ５（Ｒ５は、前記［１］と同意義である）、−Ｎ＝および＝Ｎ−からなる群から選択されるヘテロ原子基を有していてもよい）、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換の低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換のシクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換のアリールカルボニル、置換もしくは非置換のアリール低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換のアリールオキシカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基カルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシカルボニル、置換もしくは非置換のアミノカルボニル、置換もしくは非置換のウレイドまたは置換もしくは非置換のチオウレイドであり；
または、Ｒ１とＲ２が一緒になってオキソ、チオキソもしくは置換もしくは非置換のスピロ環を形成してもよく；
Ｒ１９は、水素、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルキルカルボニルまたは置換もしくは非置換の低級アルキルスルホニルであり；
Ｒ８は、前記［１］と同意義であり；
破線は結合の存在または非存在を示す）
［５］Ｅ環が、置換もしくは非置換の４〜７員の炭素環または置換もしくは非置換の４〜７員の複素環である、前記［４］記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
［６］以下のいずれかの式で示される前記［２］記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
式（Ｉ−１−１）または（Ｉ−２−１）：
【化６】
2016027879.tif 000007
（式中、Ｘは、ＣＲ９ａＲ９ｂ、ＮＲ１０、ＯまたはＳであり；
Ｒ５ａ、Ｒ５ｂ、Ｒ６ａ、Ｒ６ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ８、Ｒ９ａ、Ｒ９ｂおよびＲ１０は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシ、置換もしくは非置換の低級アルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアリール低級アルキル、置換もしくは非置換のアリールオキシ、置換もしくは非置換の複素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシ、置換もしくは非置換のリン酸残基、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアリール、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたヒドロキシ、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアミノ、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換された低級アルキル（該低級アルキルは、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ２、ＮＲ５（Ｒ５は、前記［１］と同意義である）、−Ｎ＝および＝Ｎ−からなる群から選択されるヘテロ原子基を有していてもよい）、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換の低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換のシクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換のアリールカルボニル、置換もしくは非置換のアリール低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換のアリールオキシカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基カルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシカルボニル、置換もしくは非置換のアミノカルボニル、置換もしくは非置換のウレイドまたは置換もしくは非置換のチオウレイドであり；
Ｒ５ａとＲ５ｂ、Ｒ６ａとＲ６ｂ、Ｒ７ａとＲ７ｂおよび／またはＲ９ａとＲ９ｂは一緒になってオキソ、チオキソまたは置換もしくは非置換のスピロ環を形成してもよく；
または、Ｒ５ｂとＲ６ｂ、Ｒ６ｂとＲ７ｂおよび／もしくはＲ７ｂとＲ９ｂは、隣接する原子と一緒になって置換もしくは非置換の炭素環または置換もしくは非置換の複素環を形成してもよく、および／またはＲ５ｂとＲ７ｂ、Ｒ５ｂとＲ８、Ｒ５ｂとＲ９ｂ、Ｒ６ｂとＲ８、Ｒ６ｂとＲ９ｂもしくはＲ７ｂとＲ８は、一緒になって置換もしくは非置換の（Ｃ２−Ｃ４）架橋を形成してもよく；
または、Ｒ５ｂとＲ１０は、隣接する原子と一緒になって置換もしくは非置換の複素環を形成してもよく、またはＲ６ｂとＲ１０もしくはＲ７ｂとＲ１０は、一緒になって置換もしくは非置換の（Ｃ２−Ｃ４）架橋を形成してもよく；
Ｒｘは、水素であり；
その他の記号は、前記［１］と同意義である）
［７］ＸがＣＲ９ａＲ９ｂ、ＯまたはＳである、前記［６］記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
［８］Ｒ５ａが水素、ハロゲン、ヒドロキシ、置換もしくは非置換の低級アルキルまたは置換もしくは非置換の低級アルコキシである、前記［６］または［７］記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
［９］Ｒ５ｂが水素である、前記［６］〜［８］のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
［１０］Ｒ６ａが水素、ハロゲン、ヒドロキシ、置換もしくは非置換の低級アルキルまたは置換もしくは非置換の低級アルコキシである、前記［６］〜［９］のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
［１１］Ｒ６ｂが水素である、前記［６］〜［１０］のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
［１２］Ｒ７ａが水素、ハロゲン、ヒドロキシ、置換もしくは非置換の低級アルキルまたは置換もしくは非置換の低級アルコキシである、前記［６］〜［１１］のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
［１３］Ｒ７ｂが水素である、前記［６］〜［１２］のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
［１４］Ｒ８が水素である、前記［６］〜［１３］のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
［１５］Ｒ９ａが水素、ハロゲン、ヒドロキシ、置換もしくは非置換の低級アルキルまたは置換もしくは非置換の低級アルコキシである、前記［６］〜［１４］のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
［１６］Ｒ９ｂが水素である、前記［６］〜［１５］のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
［１７］以下のいずれかの式で示される前記［１］記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
式：
【化７】
2016027879.tif 000008
（式中、各Ｑは、前記［１］と同意義である）
［１８］以下のいずれかの式で示される前記［１］記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
式：
【化８】
2016027879.tif 000009
（式中、各Ｑは、前記［１］と同意義である）
［１９］以下の式で示される前記［１］記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
式（Ｉ−２）：
【化９】
2016027879.tif 000010
（式中、各記号は、前記［１］と同意義である）
［２０］以下の式で示される化合物またはその製薬上許容される塩。
式（Ｉ−３）：
【化１０】
2016027879.tif 000011
（式中、
Ｑは、置換もしくは非置換の炭素環式基または置換もしくは非置換の複素環式基であり；
破線は、結合の存在または非存在を示し；
Ｂ１およびＢ２は、いずれか一方がＣＲ２０Ｒ２１、他方がＮＲ２２であり、この場合、破線は結合の非存在を示し、Ｒ２０とＲ２２が隣接する原子と一緒になって置換もしくは非置換の複素環を形成してもよく；
Ｂ２がＮＲ２２の場合、Ｒ４とＲ２２は隣接する原子と一緒になって置換もしくは非置換の複素環を形成してもよく、Ｂ２がＣＲ２０Ｒ２１の場合、Ｒ４とＲ２１は隣接する原子と一緒になって置換もしくは非置換の複素環を形成してもよく；
またはＢ１およびＢ２は、いずれか一方がＣＲ２３、他方がＮであり、この場合、破線は結合の存在を示し、Ｂ２がＣＲ２３の場合、Ｒ４とＲ２３は隣接する原子と一緒になって置換もしくは非置換の複素環を形成してもよく；
Ｒ２０、Ｒ２１、Ｒ２２およびＲ２３は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシ、置換もしくは非置換の低級アルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアリール低級アルキル、置換もしくは非置換のアリールオキシ、置換もしくは非置換の複素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシ、置換もしくは非置換のリン酸残基、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアリール、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたヒドロキシ、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアミノ、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換された低級アルキル（該低級アルキルは、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ２、ＮＲ５（Ｒ５は、Ｒ４とは独立してＲ４と同一の置換基群から選択される）、−Ｎ＝および＝Ｎ−からなる群から選択されるヘテロ原子基を有していてもよい）、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換の低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換のシクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換のアリールカルボニル、置換もしくは非置換のアリール低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換のアリールオキシカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基カルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシカルボニル、置換もしくは非置換のアミノカルボニル、置換もしくは非置換のウレイドまたは置換もしくは非置換のチオウレイドであり；
Ｒ３は、水素、ハロゲン、ヒドロキシ、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシ、置換もしくは非置換の低級アルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアリールオキシ、置換もしくは非置換の複素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基オキシまたは置換もしくは非置換のアミノであり；
Ｒ４は、水素、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシ、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアリール低級アルキル、置換もしくは非置換のアリールオキシ、置換もしくは非置換の複素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシ、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換のリン酸残基、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアリール、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたヒドロキシ、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアミノまたは置換もしくは非置換のリン酸残基で置換された低級アルキル（該低級アルキルは、ＣＯ、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ２、ＮＲa（Ｒaは水素または低級アルキル）、−Ｎ＝および＝Ｎ−からなる群から選択されるヘテロ原子基を有していてもよい）であり；
ただし、Ｂ１がＮＲ２２であり、破線が結合の非存在を示し、かつＲ４が非置換エチル基または非置換イソプロピル基である化合物を除く）
［２１］以下の式で示される前記［２０］記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
式（Ｉ−３−１）：
【化１１】
2016027879.tif 000012
（式中、
Ｆ環は、置換もしくは非置換の複素環であり；
Ｂ１は、ＣＲ２０Ｒ２１、ＮまたはＮＲ２２であり；
Ｂ１がＣＲ２０Ｒ２１の場合、破線は結合の非存在を示し、Ｂ２はＮであり；
Ｂ１がＮの場合、破線は結合の存在を示し、Ｂ２はＣであり；
Ｂ１がＮＲ２２の場合、破線は結合の非存在を示し、Ｂ２はＣＲ２０であり；
その他の記号は、前記［２０］と同意義である）
［２２］Ｆ環が、置換もしくは非置換の以下の環である前記［２０］記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【化１２】
2016027879.tif 000013
（式中、
Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３、Ｚ４およびＺ５は、それぞれ独立してＣＲ１Ｒ２、ＣＲ１、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ２、ＮまたはＮＲ１９であり；
または、Ｚ１とＺ３、Ｚ１とＺ４、Ｚ１とＺ５、Ｚ２とＺ４、Ｚ２とＺ５もしくはＺ３とＺ５の間には、置換もしくは非置換の（Ｃ２−Ｃ４）架橋が形成されていても良く；
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシ、置換もしくは非置換の低級アルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアリール低級アルキル、置換もしくは非置換のアリールオキシ、置換もしくは非置換の複素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシ、置換もしくは非置換のリン酸残基、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアリール、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたヒドロキシ、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアミノ、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換された低級アルキル（該低級アルキルは、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ２、ＮＲ５（Ｒ５は、前記［２０］と同意義である）、−Ｎ＝および＝Ｎ−からなる群から選択されるヘテロ原子基を有していてもよい）、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換の低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換のシクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換のアリールカルボニル、置換もしくは非置換のアリール低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換のアリールオキシカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基カルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシカルボニル、置換もしくは非置換のアミノカルボニル、置換もしくは非置換のウレイドまたは置換もしくは非置換のチオウレイドであり；
または、Ｒ１とＲ２が一緒になってオキソ、チオキソもしくは置換もしくは非置換のスピロ環を形成してもよく；
Ｒ１９は、水素、置換もしくは非置換の低級アルキル、低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルキルカルボニルまたは置換もしくは非置換の低級アルキルスルホニルであり；
破線は結合の存在または非存在を示す；
その他の記号は、前記［２０］と同意義である）
［２３］Ｆ環が、以下のいずれかの環である、前記［２１］記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【化１３】
2016027879.tif 000014
（式中、
Ｈ環は、置換もしくは非置換の炭素環または置換もしくは非置換の複素環であり；
Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３、Ｚ４およびＺ５は、それぞれ独立してＣＲ１Ｒ２、ＣＲ１、Ｃ、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ２、ＮまたはＮＲ１９であり（ただし、Ｈ環の構成原子である場合は、ＣＲ１、ＣまたはＮである）；
または、Ｚ１とＺ３、Ｚ１とＺ４、Ｚ１とＺ５、Ｚ２とＺ４、Ｚ２とＺ５もしくはＺ３とＺ５の間には、置換もしくは非置換の（Ｃ２−Ｃ４）架橋が形成されていても良く；
Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシ、置換もしくは非置換の低級アルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアリール低級アルキル、置換もしくは非置換のアリールオキシ、置換もしくは非置換の複素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシ、置換もしくは非置換のリン酸残基、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアリール、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたヒドロキシ、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアミノ、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換された低級アルキル（該低級アルキルは、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ２、ＮＲ５（Ｒ５は、前記［２０］と同意義である）、−Ｎ＝および＝Ｎ−からなる群から選択されるヘテロ原子基を有していてもよい）、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換の低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換のシクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換のアリールカルボニル、置換もしくは非置換のアリール低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換のアリールオキシカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基カルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシカルボニル、置換もしくは非置換のアミノカルボニル、置換もしくは非置換のウレイドまたは置換もしくは非置換のチオウレイドであり；
または、Ｒ１とＲ２が一緒になってオキソ、チオキソもしくは置換もしくは非置換のスピロ環を形成してもよく；
Ｒ１９は、水素、置換もしくは非置換の低級アルキル、低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルキルカルボニルまたは置換もしくは非置換の低級アルキルスルホニルであり；
破線は結合の存在または非存在を示す；
その他の記号は、前記［２０］と同意義である）
［２４］Ｈ環が、置換もしくは非置換の４〜７員の炭素環または置換もしくは非置換の４〜７員の複素環である、前記［２３］記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
［２５］以下の式で示される前記［２０］記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
式（Ｉ−３−２）：
【化１４】
2016027879.tif 000015
（式中、
Ｇ環は、置換もしくは非置換の炭素環または置換もしくは非置換の複素環であり；
Ｂ１は、ＣＲ２１またはＮであり；
Ｂ１がＣＲ２１である場合、Ｂ２はＮであり、Ｂ１がＮである場合、Ｂ２はＣＲ２１であり；
その他の記号は、前記［２０］と同意義である）
［２６］Ｇ環が、置換もしくは非置換の以下のいずれかの環である前記［２５］記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【化１５】
2016027879.tif 000016
［２７］Ｂ２がＮまたはＮＲ２２（Ｒ２２は前記［２０］と同意義である；ただし、破線が結合の存在を示す場合またはＢ２がＦ環もしくはＧ環の構成原子である場合はＮである）である、前記［２０］〜［２６］のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
［２８］以下のいずれかの式で示される前記［２０］〜［２７］のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
式（Ｉ−３−３）または式（Ｉ−３−４）：
【化１６】
2016027879.tif 000017
（式中、
Ｒ１１、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂおよびＲ１３は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシ、置換もしくは非置換の低級アルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアリール低級アルキル、置換もしくは非置換のアリールオキシ、置換もしくは非置換の複素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシ、置換もしくは非置換のリン酸残基、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアリール、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたヒドロキシ、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアミノ、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換された低級アルキル（該低級アルキルは、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ２、ＮＲ５（Ｒ５は、前記［２０］と同意義である）、−Ｎ＝および＝Ｎ−からなる群から選択されるヘテロ原子基を有していてもよい）、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換の低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換のシクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換のアリールカルボニル、置換もしくは非置換のアリール低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換のアリールオキシカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基カルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシカルボニル、置換もしくは非置換のアミノカルボニル、置換もしくは非置換のウレイドまたは置換もしくは非置換のチオウレイドであり；
または、Ｒ１２ａとＲ１２ｂが一緒になってオキソ、チオキソを形成してもよく、
さらに、式（Ｉ−３−４）の場合、Ｒ１２ａとＲ１２ｂが一緒になって置換もしくは非置換のスピロ環を形成してもよく；
Ｑは、前記［２０］と同意義である）
［２９］以下のいずれかの式で示される前記［２０］〜［２２］記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
式（Ｉ−３−５）または式（Ｉ−３−６）：
【化１７】
2016027879.tif 000018
（式中、
Ｘは、ＣＲ１８ａＲ１８ｂ、ＮＲ２４、ＯまたはＳであり；
Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ、Ｒ１６ｂ、Ｒ１７ａ、Ｒ１７ｂ、Ｒ１８ａ、Ｒ１８ｂおよびＲ２４は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシ、置換もしくは非置換の低級アルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアリール低級アルキル、置換もしくは非置換のアリールオキシ、置換もしくは非置換の複素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシ、置換もしくは非置換のリン酸残基、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアリール、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたヒドロキシ、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアミノ、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換された低級アルキル（該低級アルキルは、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ２、ＮＲ５（Ｒ５は、前記［２０］と同意義である）、−Ｎ＝および＝Ｎ−からなる群から選択されるヘテロ原子基を有していてもよい）、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換の低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換のシクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換のアリールカルボニル、置換もしくは非置換のアリール低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換のアリールオキシカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基カルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシカルボニル、置換もしくは非置換のアミノカルボニル、置換もしくは非置換のウレイドまたは置換もしくは非置換のチオウレイドであり；
または、Ｒ１５ａとＲ１５ｂ、Ｒ１６ａとＲ１６ｂ、Ｒ１７ａとＲ１７ｂもしくはＲ１８ａとＲ１８ｂが一緒になって、オキソ、チオキソもしくは置換もしくは非置換のスピロ環を形成してもよく；
または、Ｒ１５ｂとＲ１６ｂ、Ｒ１６ｂとＲ１８ｂおよび／もしくはＲ１７ｂとＲ１８ｂが一緒になって置換もしくは非置換の炭素環または置換もしくは非置換の複素環を形成してもよく、またはＲ１５ｂとＲ１７ｂ、Ｒ１５ｂとＲ１８ｂもしくはＲ１６ｂとＲ１７ｂは、一緒になって置換もしくは非置換の（Ｃ２−Ｃ４）架橋を形成してもよく； 
または、Ｒ１６ｂとＲ２４もしくはＲ１７ｂとＲ２４が一緒になって置換もしくは非置換の複素環を形成してもよく、またはＲ１５ｂとＲ２４が一緒になって置換もしくは非置換の（Ｃ２−Ｃ４）架橋を形成してもよく；
その他の記号は、前記［２０］と同意義である）
［３０］Ｒ１５ａが水素または置換もしくは非置換の低級アルキルである、前記［２９］記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
［３１］Ｒ１５ｂが水素である、前記［２９］または［３０］記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
［３２］Ｒ１６ａが水素または置換もしくは非置換の低級アルキルである、前記［２９］〜［３１］のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
［３３］Ｒ１６ｂが水素である、前記［２９］〜［３２］のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
［３４］Ｒ１７ａが水素または置換もしくは非置換の低級アルキルである、前記［２９］〜［３３］のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
［３５］Ｒ１７ｂが水素である、前記［２９］〜［３４］のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
［３６］Ｒ１８ａが水素または置換もしくは非置換の低級アルキルである、前記［２９］〜［３５］のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
［３７］Ｒ１８ｂが水素である、前記［２９］〜［３６］のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
［３８］Ｒ２４が水素または置換もしくは非置換の低級アルキルである、前記［２９］〜［３７］のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
［３９］以下のいずれかの式で示される前記［２０］記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
式：
【化１８】
2016027879.tif 000019
（式中、各Ｑは、前記［２０］と同意義である）
［４０］Ｑが、置換もしくは非置換の複素環式基である、前記［１］〜［３９］のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
［４１］Ｑが、置換もしくは非置換の５〜７員の単環性複素環式基である、前記［１］〜［４０］のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
［４２］Ｑが、置換もしくは非置換の以下のいずれかの式で示される基である、前記［１］〜［４１］のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
式：
【化１９】
2016027879.tif 000020
［４３］Ｑが、置換基群Ａから選択される１〜４個の同一または異なる置換基で置換された炭素環式基または複素環式基である、前記［１］〜［４２］のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
置換基群Ａ：低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲン、ハロゲン化低級アルキル、ハロゲン化低級アルコキシおよび式（Ｂ）：
【化２０】
2016027879.tif 000021
（式中、
ＸＡは、以下の群から選択される基：
ＸＡ１：単結合、
ＸＡ２：Ｃ（＝Ｏ）およびＣ（＝Ｓ）から選択される基、
ＸＡ３：Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ２およびＮ（Ｒ１’ ）（Ｒ１’は水素もしくは低級アルキル）から選択されるヘテロ原子基、
ＸＡ４：ＸＡ２およびＸＡ３から選択される同一または異なる、２以上の基が連結して形成される基、
ＸＡ５：−Ｎ＝Ｎ−、−Ｃ（Ｒ１’）＝Ｎ−または−Ｎ＝Ｃ（Ｒ１’）−（Ｒ１’は水素もしくは低級アルキル）から選択される基、
ＸＡ６：置換もしくは非置換の低級アルキレンまたは置換もしくは非置換の低級アルケニレン、
ＸＡ７：ＸＡ２、ＸＡ３、ＸＡ４およびＸＡ５から選択される１またはいずれかの２以上の基が介在しているＸＡ６、
ＸＡ８：ＣＲ１’Ｒ２’であり、Ｒ１’とＲ２’が一緒になって炭素環または複素環を形成している基、および
ＸＡ９：ＸＡ１〜ＸＡ８の任意の組み合わせからなるスペーサー；
Ｒは、独立して以下の群から選択される基：
（１）低級アルキル、
（２）低級アルコキシ、
（３）ハロゲン、
（４）ハロゲン化低級アルキル、
（５）ハロゲン化低級アルコキシ、および
（６）低級シクロアルキル
ｍは、０〜５の整数である）
［４４］Ｑが、以下のいずれかの式で示される、前記［１］〜［４３］のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
式（１）または式（２）：
【化２１】
2016027879.tif 000022
（式中、各記号は、前記［４３］と同意義である）
［４５］ＸＡが低級アルキレンであり；Ｒが独立して、低級アルコキシ、ハロゲンまたはハロゲン化低級アルキルであり；ｍが１または２である、前記［４３］または［４４］記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
［４６］Ｑが、置換もしくは非置換の炭素環式基または置換もしくは非置換の複素環式基（ただし、以下の基を除く）である、前記［１］〜［４５］のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【化２２】
2016027879.tif 000023
［４７］Ｑが、以下のいずれかの基である、前記［１］〜［４６］のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【化２３】
2016027879.tif 000024
［４８］以下のいずれかの式で示される化合物またはその製薬上許容される塩。
式（Ｉ−１’）、式（Ｉ−２’）、または式（Ｉ−３’）：
【化２４】
2016027879.tif 000025
（式中、Ｙは、以下のいずれかの基であり、
【化２５】
2016027879.tif 000026
（式中、ＲＹは、置換もしくは非置換のアルキルである）
その他記号は、請求項１と同意義である）
［４９］前記［１］〜［４８］のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩を含有する、医薬組成物。
［５０］抗ＨＩＶ作用を有する、前記［４９］記載の医薬組成物。
［５１］ＨＩＶインテグラーゼ阻害作用を有する、前記［４９］記載の医薬組成物。
［５２］抗ＨＩＶに有効量の前記［１］〜［４８］のいずれかに記載の化合物をヒトまたは動物に投与することを特徴とする、エイズの治療方法。
［５３］医薬治療における使用のための前記［１］〜［４８］のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
［５４］エイズの予防または治療のための医薬を製造するための前記［１］〜［４８］のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩の使用。
［５５］前記［１］記載の化合物（ただし、Ｓ−Ｔ−Ｕの組み合わせからなる化合物を除く；
Ｓは、以下のいずれかの基であり；
【化２６】
2016027879.tif 000027
Ｔは、以下のいずれかの基であり（左側の結合手はＳと結合し、右側の結合手はＵと結合する）；
【化２７】
2016027879.tif 000028
Ｕは、以下のいずれかの基である；
【化２８】
2016027879.tif 000029
）またはその製薬上許容される塩。
［５６］Ｂ１およびＢ２が、それぞれ独立して、ＣＲ２０Ｒ２１またはＣＲ２３である、前記［２０］〜［２６］のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。【００１３】
本発明は、さらに上記化合物の有効量を人に投与することを特徴とする、ＨＩＶの予防または治療方法を提供する。
本発明は、さらに抗ＨＩＶ薬として使用するための上記化合物を提供する。
【発明の効果】
【００１４】
本発明化合物は、ウイルス、特にＨＩＶやその耐性ウイルスに対してインテグラーゼ阻害活性および／または細胞増殖阻害活性を有する。よって、インテグラーゼが関与する各種疾患やウイルス感染症（例えば、エイズ）等の予防または治療に有用である。より好ましくは、本発明化合物は、新たなＨＩＶ耐性ウイルスを発生させにくい等の耐性プロファイルの面でも優れている。さらに好ましくは、本発明化合物は、ＨＩＶ薬剤耐性ウイルスに対しても予防または治療効果を有する。さらにより好ましくは、本発明化合物は、溶解性、経口吸収性、代謝安定性、またはバイオアベイラビリティー等に優れており、また細胞毒性や副作用（例えば、変異原性、心電図ＱＴ間隔延長）の懸念も少ない医薬品として有用である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
本明細書中で用いる用語を以下に説明する。各用語は単独でまたは他の用語と一緒になって以下の意味を有する。
「低級アルキレン」は、炭素数１〜６個の直鎖状または分枝状の低級アルキレンを意味し、例えば、メチレン、エチレン、トリメチレン、プロピレン、テトラメチレン、エチルエチレン、ペンタメチレンまたはヘキサメチレン等が挙げられる。好ましくは、炭素数１〜４個の直鎖状の低級アルキレンであり、例えば、メチレン、エチレン、トリメチレンまたはテトラメチレンが挙げられる。より好ましくは、メチレンまたはエチレンである。
「低級アルケニレン」は、上記「低級アルキレン」に１個またはそれ以上の二重結合を有する炭素数２〜６個の直鎖状または分枝状の低級アルケニレン基を意味し、例えば、ビニレン、プロペニレンまたはブテニレンが挙げられる。好ましくは、炭素数２〜３個の直鎖状の低級アルケニレンであり、例えば、ビニレンまたはプロペニレンが挙げられる。
「アルキル」は、炭素数１〜１０個の直鎖状または分枝状のアルキル基を意味し、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ぺンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｔｅｒｔ−ぺンチル、ｎ−ヘキシル、イソヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル等が挙げられる。好ましくは、炭素数１〜６個の低級アルキル、より好ましくは炭素数１〜４個の低級アルキルであり、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ぺンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｔｅｒｔ−ぺンチル、ｎ−ヘキシル、イソヘキシルが挙げられる。
低級アルキルが、−Ｎ＝または＝Ｎ−で介在されている場合、２重結合が存在していてもよく、例えば、−ＣＨ２−Ｎ＝ＣＨ２、−ＣＨ＝Ｎ−ＣＨ３等を形成し得る。
「アルケニル」は、上記「アルキル」に１個またはそれ以上の二重結合を有する炭素数２〜８個の直鎖状または分枝状のアルケニルを意味し、例えば、ビニル、１−プロペニル、２−プロペニル、１−ブテニル、２−ブテニル、３−ブテニル、１，３−ブタジエニル、３−メチル−２−ブテニル等が挙げられる。好ましくは、炭素数２〜６個の低級アルケニル、より好ましくは、炭素数２〜４個の低級アルケニルである。
「低級アルケニルオキシ」は、上記「低級アルケニル」が結合したオキシを意味し、例えば、ビニルオキシ、１−プロペニルオキシ、２−プロペニルオキシ、１−ブテニルオキシ、２−ブテニルオキシ、３−ブテニルオキシ、１，３−ブタジエニルオキシ、３−メチル−２−ブテニルオキシ等が例示される。
「アルキニル」は、上記「アルキル」に１個またはそれ以上の三重結合を有する炭素数２〜８個の直鎖状または分枝状のアルケニルを意味し、例えば、エチニル、プロパルギル等が挙げられる。好ましくは、炭素数２〜６個の低級アルキニル、より好ましくは、炭素数２〜４個の低級アルキニルである。
【００１６】
「炭素環式基」は、飽和または不飽和の炭素数３〜１０個の炭素環式基を意味し、シクロアルキル、シクロアルケニルおよびアリールを包含する。
「シクロアルキル」は、炭素数３〜１０個の環状飽和炭化水素基を意味し、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル等が挙げられる。好ましくは、炭素数３〜６個のシクロアルキルである。
「シクロアルキル低級アルキル」は、上記シクロアルキルが置換した低級アルキルを意味し、シクロプロピルメチル、シクロプロピルエチル、シクロブチルメチル、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、シクロヘキシルエチル等が挙げられる。好ましくは、炭素数３〜６個のシクロアルキル低級アルキルである。
「アリール」は、単環芳香族炭化水素基（フェニル）および多環芳香族炭化水素基（例えば、１−ナフチル、２−ナフチル、１−アントリル、２−アントリル、９−アントリル、１−フェナントリル、２−フェナントリル、３−フェナントリル、４−フェナントリル、９−フェナントリル等）を意味する。好ましくは、フェニルまたはナフチル（１−ナフチル、２−ナフチル）が挙げられる。
「アラルキル」または「アリール低級アルキル」は、１〜３個の上記「アリール」が置換した上記「低級アルキル」を意味し、例えば、ベンジル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、フェネチル、１−ナフチルメチル、２−ナフチルメチル等）等が挙げられる。好ましくは、ベンジルである。
「アリールオキシ」は、上記「アリール」が結合したオキシを意味し、例えば、１−ナフチルオキシ、２−ナフチルオキシ、１−アントリルオキシ、２−アントリルオキシ、９−アントリルオキシ、１−フェナントリルオキシ、２−フェナントリルオキシ、３−フェナントリルオキシ、４−フェナントリルオキシ、９−フェナントリルオキシ等を意味する。好ましくは、フェニルオキシまたはナフチルオキシ（例えば、１−ナフチルオキシ、２−ナフチルオキシ）が挙げられる。
【００１７】
「複素環式基」は、「ヘテロリング」または「ヘテロアリール」を意味する。
「ヘテロリング」は、窒素原子、酸素原子、リン原子および／または硫黄原子を少なくとも１個以上環内に有する、置換可能な任意の位置に結合手を有する非芳香族複素環式基（好ましくは５〜７員環）を意味し、例えば、１−ピロリニル、２−ピロリニル、３−ピロリニル、１−ピロリジニル、２−ピロリジニル、３−ピロリジニル、１−イミダゾリニル、２−イミダゾリニル、４−イミダゾリニル、１−イミダゾリジニル、２−イミダゾリジニル、４−イミダゾリジニル、１−ピラゾリニル、３−ピラゾリニル、４−ピラゾリニル、１−ピラゾリジニル、３−ピラゾリジニル、４−ピラゾリジニル、ピペリジノ、２−ピペリジル、３−ピペリジル、４−ピペリジル、１−ピペラジニル、２−ピペラジニル、２−モルホリニル、３−モルホリニル、モルホリノ、テトラヒドロピラニル等が挙げられる。
「非芳香族複素環式基」は、飽和または不飽和の環である。
「ヘテロアリール」は、単環芳香族複素環式基および縮合芳香族複素環式基を意味する。
単環芳香族複素環式基は、酸素原子、硫黄原子、リン原子および／または窒素原子を環内に１〜４個含んでいてもよい５〜８員の芳香環から誘導される、置換可能な任意の位置に結合手を有していてもよい基を意味する。
縮合芳香族複素環式基は、酸素原子、硫黄原子、リン原子および／または窒素原子を環内に１〜４個含んでいてもよい５〜８員の芳香環が、１〜４個の５〜８員の芳香族炭素環もしくは他の５〜８員の芳香族ヘテロ環と縮合している、置換可能な任意の位置に結合手を有していてもよい基を意味する。
「ヘテロアリール」としては、例えば、フリル（例えば、２−フリル、３−フリル）、チエニル（例えば、２−チエニル、３−チエニル）、ピロリル（例えば、１−ピロリル、２−ピロリル、３−ピロリル）、イミダゾリル（例えば、１−イミダゾリル、２−イミダゾリル、４−イミダゾリル）、ピラゾリル（例えば、１−ピラゾリル、３−ピラゾリル、４−ピラゾリル）、トリアゾリル（例えば、１，２，４−トリアゾール−１−イル、１，２，４−トリアゾール−３−イル、１，２，４−トリアゾール−４−イル）、テトラゾリル（例えば、１−テトラゾリル、２−テトラゾリル、５−テトラゾリル）、オキサゾリル（例えば、２−オキサゾリル、４−オキサゾリル、５−オキサゾリル）、イソキサゾリル（例えば、３−イソキサゾリル、４−イソキサゾリル、５−イソキサゾリル）、チアゾリル（例えば、２−チアゾリル、４−チアゾリル、５−チアゾリル）、チアジアゾリル、イソチアゾリル（例えば、３−イソチアゾリル、４−イソチアゾリル、５−イソチアゾリル）、ピリジル（例えば、２−ピリジル、３−ピリジル、４−ピリジル）、ピリダジニル（例えば、３−ピリダジニル、４−ピリダジニル）、ピリミジニル（例えば、２−ピリミジニル、４−ピリミジニル、５−ピリミジニル）、フラザニル（例えば、３−フラザニル）、ピラジニル（例えば、２−ピラジニル）、オキサジアゾリル（例えば、１，３，４−オキサジアゾール−２−イル）、ベンゾフリル（例えば、２−ベンゾ［ｂ］フリル、３−ベンゾ［ｂ］フリル、４−ベンゾ［ｂ］フリル、５−ベンゾ［ｂ］フリル、６−ベンゾ［ｂ］フリル、７−ベンゾ［ｂ］フリル）、ベンゾチエニル（例えば、２−ベンゾ［ｂ］チエニル、３−ベンゾ［ｂ］チエニル、４−ベンゾ［ｂ］チエニル、５−ベンゾ［ｂ］チエニル、６−ベンゾ［ｂ］チエニル、７−ベンゾ［ｂ］チエニル）、ベンゾイミダゾリル（例えば、１−ベンゾイミダゾリル、２−ベンゾイミダゾリル、４−ベンゾイミダゾリル、５−ベンゾイミダゾリル）、ジベンゾフリル、ベンゾオキサゾリル、キノキサリル（例えば、２−キノキサリニル、５−キノキサリニル、６−キノキサリニル）、シンノリニル（例えば、３−シンノリニル、４−シンノリニル、５−シンノリニル、６−シンノリニル、７−シンノリニル、８−シンノリニル）、キナゾリル（例えば、２−キナゾリニル、４−キナゾリニル、５−キナゾリニル、６−キナゾリニル、７−キナゾリニル、８−キナゾリニル）、キノリル（例えば、２−キノリル、３−キノリル、４−キノリル、５−キノリル、６−キノリル、７−キノリル、８−キノリル）、フタラジニル（例えば、１−フタラジニル、５−フタラジニル、６−フタラジニル）、イソキノリル（例えば、１−イソキノリル、３−イソキノリル、４−イソキノリル、５−イソキノリル、６−イソキノリル、７−イソキノリル、８−イソキノリル）、プリル、プテリジニル（例えば、２−プテリジニル、４−プテリジニル、６−プテリジニル、７−プテリジニル）、カルバゾリル、フェナントリジニル、アクリジニル（例えば、１−アクリジニル、２−アクリジニル、３−アクリジニル、４−アクリジニル、９−アクリジニル）、インドリル（例えば、１−インドリル、２−インドリル、３−インドリル、４−インドリル、５−インドリル、６−インドリル、７−インドリル）、イソインドリル、フェナジニル（例えば、１−フェナジニル、２−フェナジニル）またはフェノチアジニル（例えば、１−フェノチアジニル、２−フェノチアジニル、３−フェノチアジニル、４−フェノチアジニル）等が挙げられる。
「ヘテロサイクル」および「複素環」は、上記複素環式基に誘導され得る環を意味する。
「スピロ環」とは、２つの環が１個の炭素原子を共有して構成されている環を意味する。２つの環は、それぞれ独立して、炭素環でも複素環でもよい。
【００１８】
「複素環式基低級アルキル」または「ヘテロサイクル低級アルキル」とは、上記「複素環式基」が置換した低級アルキルを意味する。
「複素環式基オキシ」とは、上記「複素環式基」が結合したオキシを意味する。
「低級アルコキシ」または「アルコキシ」は、上記「低級アルキル」または「アルキル」が結合したオキシを意味し、例えば、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、イソブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシなどが挙げられる。
「低級アルキルカルボニル」、「シクロアルキルカルボニル」、「シクロアルキル低級アルキルカルボニル」、「低級アルコキシカルボニル」、「アリールカルボニル」、「アリール低級アルキルカルボニル」、「アリールオキシカルボニル」、「複素環式基カルボニル」、「複素環式基低級アルキルカルボニル」、および「複素環式基オキシカルボニル」は、それぞれ前記の「低級アルキル」、「シクロアルキル」、「シクロアルキル低級アルキル」、「低級アルコキシ」、「アリール」、「アリール低級アルキル」、「アリールオキシ」、「複素環式基」および「複素環式基低級アルキル」が結合したカルボニルを意味する。
「低級アルキルスルホニル」とは、アルキル部分が上記「低級アルキル」である低級アルキルスルホニルを意味する。例えば、メチルスルホニルが挙げられる。
【００１９】
「置換もしくは非置換の低級アルキル」、「置換もしくは非置換のシクロアルキル」、「置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキル」、「置換もしくは非置換の低級アルケニル」、「置換もしくは非置換の低級アルキニル」、「置換もしくは非置換の低級アルコキシ」、「置換もしくは非置換のアリール」、「置換もしくは非置換のアリール低級アルキル」、「置換もしくは非置換のアリールオキシ」、「置換もしくは非置換の複素環」、「置換もしくは非置換の複素環式基」、「置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキル」、「置換もしくは非置換の複素環式基オキシ」、「置換もしくは非置換の低級アルケニルオキシ」、「置換もしくは非置換の低級アルキルカルボニル」、「置換もしくは非置換のシクロアルキルカルボニル」、「置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキルカルボニル」、「置換もしくは非置換の低級アルコキシカルボニル」、「置換もしくは非置換のアリールカルボニル」、「置換もしくは非置換のアリール低級アルキルカルボニル」、「置換もしくは非置換のアリールオキシカルボニル」、「置換もしくは非置換の複素環式基カルボニル」、「置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキルカルボニル」、「置換もしくは非置換の複素環式基オキシカルボニル」、「置換もしくは非置換の低級アルキレン」、「置換もしくは非置換の低級アルケニレン」、「置換もしくは非置換のリン酸残基」、「置換もしくは非置換の炭素環」、「置換もしくは非置換の低級アルキルスルホニル」、「置換もしくは非置換のスピロ環」または「置換もしくは非置換の（Ｃ２−Ｃ４）架橋」等が置換基を有する場合、それぞれ同一または異なる１〜４個の、後述の置換基群Ｂおよび置換基群Ａから選択される基で任意の位置が置換し得る。
【００２０】
置換基群Ｂの例としては、例えば、ヒドロキシ、カルボキシ、ハロゲン（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、ハロ低級アルキル（例：ＣＦ３、ＣＨ２ＣＦ３、ＣＨ２ＣＣｌ３）、ハロ低級アルコキシ（例：ＯＣＦ３、ＯＣＨ２ＣＦ３、ＯＣＨ２ＣＣｌ３）、低級アルキル（例：メチル、エチル、イソプロピル、ｔｅｒｔ−ブチル）、低級アルケニル（例：ビニル）、低級アルキニル（例：エチニル）、シクロアルキル（例：シクロプロピル）、シクロアルケニル（例：シクロプロペニル）、低級アルコキシ（例：メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ）、低級アルケニルオキシ（例：ビニルオキシ、アリールオキシ）、低級アルコキシカルボニル（例：メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）、ニトロ、ニトロソ、置換もしくは非置換のアミノ（例：アルキルアミノ（例：メチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ）、アシルアミノ（例：アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ）、アラルキルアミノ（例：ベンジルアミノ、トリチルアミノ）、ヒドロキシアミノ）、アジド、アリール（例：フェニル）、アラルキル（例：ベンジル）、シアノ、イソシアノ、イソシアナト、チオシアナト、イソチオシアナト、メルカプト、アルキルチオ（例：メチルチオ）、アルキルスルホニル（例：メタンスルホニル、エタンスルホニル）、置換もしくは非置換のアルキルスルホニルアミノ（例：メタンスルホニルアミノ、エタンスルホニルアミノ、Ｎ−メチルスルホニル−Ｎ’−メチルアミノ）、置換もしくは非置換のカルバモイル（例：アルキルカルバモイル（例：メチルカルバモイル、エチルカルバモイル、ジメチルカルバモイル））、スルファモイル、アシル（例：ホルミル、アセチル）、ホルミルオキシ、ハロホルミル、オキサロ、チオホルミル、チオカルボキシ、ジチオカルボキシ、チオカルバモイル、スルフィノ、スルフォ、スルホアミノ、ヒドラジノ、アジド、ウレイド、アミジノ、グアニジノ、フタルイミド、オキソ、リン酸残基、リン酸残基で置換された低級アルキル（ヘテロ原子基を有していてもよい）、リン酸残基で置換されたアリール、リン酸残基で置換されたアラルキル、ヒドロキシ低級アルキル等が挙げられ、より好ましくは、ヒドロキシ、カルボキシ、ハロゲン（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、ハロ低級アルキル（例：ＣＦ３、ＣＨ２ＣＦ３、ＣＨ２ＣＣｌ３）、ハロ低級アルコキシ（例：ＯＣＦ３、ＯＣＨ２ＣＦ３、ＯＣＨ２ＣＣｌ３）、低級アルキル（例：メチル、エチル、イソプロピル、ｔｅｒｔ−ブチル）、低級アルコキシ（例：メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ）、置換もしくは非置換のアミノ（例：アルキルアミノ（例：メチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ）、オキソまたはリン酸残基等が挙げられる。
【００２１】
「置換もしくは非置換のアミノ」、「置換もしくは非置換のカルバモイル」、「置換もしくは非置換のアミノカルボニル」、「置換もしくは非置換のウレイド」または「置換もしくは非置換のチオウレイド」の置換基としては、モノもしくはジ低級アルキル、低級アルキルカルボニルまたは低級アルキルスルホニル、置換もしくは非置換の低級アルキル（例：メチル、エチル、イソプロピル、ベンジル、カルバモイルアルキル（例：カルバモイルメチル）、モノまたはジ低級アルキルカルバモイル低級アルキル（例：ジメチルカルバモイルエチル）、ヒドロキシ低級アルキル、ヘテロサイクル低級アルキル（例：モルホリノエチル、テトラヒドロピラニルエチル）、アルコキシカルボニル低級アルキル（例：エトキシカルボニルメチル、エトキシカルボニルエチル）、モノまたはジ低級アルキルアミノ低級アルキル（例：ジメチルアミノエチル））、低級アルコキシ低級アルキル（例えば、メトキシエチル、エトキシメチル、エトキシエチル、イソプロポキシエチル等）、アシル（例：ホルミル、置換もしくは非置換の低級アルキルカルボニル（例：アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル、ヘキサノイル、オクタノイル、メトキシエチルカルボニル、２，２，２−トリフルオロエチルカルボニル、エトキシカルボニルメチルカルボニル）、低級アルコキシ低級アルキルカルボニル（例：メトキシエチルカルボニル）、低級アルキルカルバモイル低級アルキルカルボニル（例：メチルカルバモイルエチルカルボニル）、アルコキシカルボニルアセチル）、置換もしくは非置換のアリールカルボニル（例：ベンゾイル、トルオイル）、置換もしくは非置換のアラルキル（例：ベンジル、４−フルオロベンジル）、ヒドロキシ、置換もしくは非置換の低級アルキルスルホニル（例：メタンスルホニル、エタンスルホニル、イソプロピルスルホニル、２，２，２−トリフルオロエタンスルホニル、ベンジルスルホニル、メトキシエチルスルホニル）、低級アルキルまたはハロゲンで置換もしくは非置換のアリールスルホニル（例：ベンゼンスルホニル、トルエンスルホニル、４−フルオロベンゼンスルホニル）、シクロアルキル（例：シクロプロピル）、低級アルキルで置換もしくは非置換のアリール（例：フェニル、トリチル）、低級アルキルアミノスルホニル（例：メチルアミノスルホニル、ジメチルアミノスルホニル）、低級アルキルアミノカルボニル（例：ジメチルアミノカルボニル）、低級アルコキシカルボニル（例：エトキシカルボニル）、シクロアルキルカルボニル（例：シクロプロピルカルボニル、シクロヘキシルカルボニル）、置換もしくは非置換のスルファモイル（例：スルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル）、低級アルキルカルボニルアミノ（例：メチルカルボニルアミノ）、ヘテロサイクル（例：モルホリノ、テトラヒドロピラニル）、置換もしくは非置換のアミノ（例：モノまたはジアルキルアミノ（例：ジメチルアミノ）、ホルミルアミノ）等が挙げられる。
【００２２】
「置換もしくは非置換のアミノ」、「置換もしくは非置換のアミノカルボニル」または「置換もしくは非置換のカルバモイル」のアミノ基は、アミノ基の２つの置換基が隣接する窒素原子と共に硫黄原子および／または酸素原子を環内に含有していてもよい含窒素ヘテロサイクル（好ましくは５〜７員環であり、また好ましくは飽和である）を形成してもよく、該環はオキソまたはヒドロキシで置換していてもよい。例えば、ピペラジニル、ピペリジノ、モルホリノ、ピロリジノ、２−オキソピペリジノ、２−オキソピロリジノ、４−ヒドロキシモルホリノ等の５員または６員の環等が好ましい。
「リン酸残基」とは、−ＰＯ（ＯＨ）２で示される基を意味し、「置換もしくは非置換のリン酸残基」とは、そのＯＨ部分および／またはＯＨの水素部分が置換もしくは非置換のリン酸残基を意味する。
【００２３】
（より好ましい態様）
Ｑは、置換されていてもよく縮合していてもよい炭素環式基または置換されていてもよく縮合していてもよい複素環式基である。
Ｑは、好ましくは、置換もしくは非置換の複素環式基である。
Ｑは、より好ましくは、置換されていてもよくＯ、ＳおよびＮ原子から選択される１または２以上の同一または異なるヘテロ原子を１から４個含有する５〜７員の単環性複素環式基であり、さらに好ましくは、該ヘテロ原子を１〜３個含有する単環性芳香族複素環式基であり、特に好ましくは５員環であり、最も好ましくは、１個のＳ原子および１または２個のＮ原子を含有する５員の単環性芳香族複素環式基である。好ましいＱは、具体的には、以下に示される環である。
【化２９】
2016027879.tif 000030
Ｑは、さらに好ましくは、上記（１）、（２）、（３）、（５）、（６）、（７）、（１０）、（１１）、（１２）、（１３）、（１４）、（１５）、（１６）、（１７）の環であり、特に好ましくは、上記（１）、（２）、（３）、（５）または（１７）の環であり、最も好ましくは、上記（１）、（２）または（１７）の環である。
上記の単環複素環式基の縮合環としては、ベンゼン環または他の単環複素環（好ましくは５〜７員）が例示される。
【００２４】
Ｑは、より好ましくは、置換基群Ａから選択される同一または異なる、１〜４個、さらに好ましくは１〜２個の置換基で置換された炭素環式基または複素環式基である。
【００２５】
置換基群Ａ：低級アルキル（例：メチル、エチル）、低級アルコキシ（例：メトキシ、エトキシ）、ハロゲン（例：Ｆ，Ｂｒ）、ハロゲン化低級アルキル（例：−ＣＨ２Ｆ、−ＣＨＦ２、−ＣＦ３、−ＣＨ２ＣＨ２Ｆ、−ＣＨ２ＣＨＦ２、−ＣＨ２ＣＦ３）、ハロゲン化低級アルコキシ（例：−ＯＣＨ２Ｆ、−ＯＣＨＦ２、−ＯＣＦ３、−ＯＣＨ２ＣＨ２Ｆ、−ＯＣＨ２ＣＨＦ２、−ＯＣＨ２ＣＦ３）、および式：
【化３０】
2016027879.tif 000031
で示される基。
上記式中、
ＸＡは、以下の群から選択される基：
ＸＡ１：単結合、
ＸＡ２：Ｃ（＝Ｏ）およびＣ（＝Ｓ）から選択される基、
ＸＡ３：Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ２およびＮ（Ｒ１’）（Ｒ１’は水素もしくは低級アルキル）から選択されるヘテロ原子基、
ＸＡ４：ＸＡ２およびＸＡ３から選択される同一または異なる、２以上の基が連結して形成される基（例：−ＣＯＮＨ−、−ＣＯＮＨＮＨ−、−ＣＯＮＨＮＨＣＯ−、−ＣＯＮＨＯ−、−ＣＯＮＨＮＨＳＯＮＨ−、−ＣＯＮＨＮＭｅ−、−ＮＨＣＯＮＨ―、−ＮＨＣＯＯ−）、
ＸＡ５：−Ｎ＝Ｎ−、−Ｃ（Ｒ１’）＝Ｎ−または−Ｎ＝Ｃ（Ｒ１’）−（Ｒ１’は水素もしくは低級アルキル）から選択される基、
ＸＡ６：置換もしくは非置換の低級アルキレンまたは置換もしくは非置換の低級アルケニレン（置換基の例：メチル、フェニル）、
ＸＡ７：ＸＡ２、ＸＡ３、ＸＡ４およびＸＡ５から選択される１またはいずれかの２以上の基が介在しているＸＡ６（例：−ＣＯＮＨＣＨ２−、−ＣＯＮＭｅＣＨ２−、−ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２−ＳＯ２−、−ＣＯＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−）、
ＸＡ８：ＣＲ１’Ｒ２’であり、Ｒ１’とＲ２’が一緒になって炭素環（例：シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル）または複素環（例：オキセタン、オキソラン）を形成している基、および
ＸＡ９：ＸＡ１〜ＸＡ８の任意の組み合わせからなるスペーサー。
ＸＡにおいて、「介在」とは、ＸＡ２、ＸＡ３、ＸＡ４およびＸＡ５から選択される１またはいずれかの２以上の基が、１）低級アルキレンもしくは低級アルケニレンを構成する炭素原子間に存在する場合、２）低級アルキレンもしくは低級アルケニレンの末端に存在する場合、または１）および２）が混在する場合のいずれでもよい。
ＸＡは、好ましくは、１〜５個、より好ましくは、１〜３個の原子が連結してなるスペーサーである。ＸＡは、より好ましくは、低級アルキレン、さらに好ましくは、Ｃ１〜Ｃ３アルキレンである。
Ｒは、独立して以下の群から選択される基である：
（１）低級アルキル、
（２）低級アルコキシ、
（３）ハロゲン、
（４）ハロゲン化低級アルキル、
（５）ハロゲン化低級アルコキシ、および
（６）低級シクロアルキル
Ｒは、好ましくは、独立して、低級アルコキシ、ハロゲン、またはハロゲン化低級アルキルであり、より好ましくは、ハロゲンである。
ｍは、０〜５の整数であり、好ましくは、１または２である。
Ｑは、より好ましくは、上記（Ｂ）で示される基によって置換される。
【００２６】
さらに好ましいＱとして、以下（Ｑ１）〜（Ｑ３０）の基が挙げられ、特に好ましいＱは、（Ｑ１）、（Ｑ２）、（Ｑ１５）、（Ｑ２１）、（Ｑ２３）、（Ｑ２４）および（Ｑ２５）である。
【化３１】
2016027879.tif 000032
【００２７】
【化３２】
2016027879.tif 000033
Ｒ３としては、本発明化合物の薬理活性に悪影響を及ぼさないものであれば種々の置換基であり得、例えば、水素、ハロゲン、ヒドロキシ、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシ、置換もしくは非置換の低級アルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアリールオキシ、置換もしくは非置換の複素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基オキシ基または置換もしくは非置換のアミノが例示される。「置換もしくは非置換」の置換基としては、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、シアノ、カルボキシ、ホルミル、オキソ、低級アルキル、低級アルコキシ、低級アルキルチオ、カルバモイル、低級アルキルカルバモイル、アリール、複素環式基、低級アルキルカルボニル、低級アルキルカルボニルオキシ、低級アルコキシカルボニル、ハロゲン化低級アルキル、ハロゲン化低級アルコキシなどが例示され、より好ましくは、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、低級アルキル、低級アルコキシ等である。
Ｒ３は、より好ましくは、水素、ハロゲン、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルケニル、低級アルコキシ、低級アルケニルオキシまたはアミノであり、さらに好ましくは、水素または低級アルキル（例：メチル）であり、特に好ましくは、水素である。
破線は、破線は結合の存在または非存在を示す。
ただし、ＲＸが結合する炭素原子に隣接する破線が、結合の存在を示す場合、ＲＸは存在せず、Ｒ８が結合する炭素原子に隣接するいずれかの破線が、結合の存在を示す場合、Ｒ８は存在しない。Ｒ８が結合する炭素原子に隣接する破線の両方が、結合の存在を示すことはない。
【００２８】
Ａ環は、少なくとも１個のＮ原子を含有する置換もしくは非置換の複素環（置換基は、後述の置換基群Ｓ２から選択され得、好ましくは低級アルキルである）である。該複素環は、好ましくは、Ｏ、Ｓおよび／またはＮ原子を１〜３個、好ましくは、２〜３個含有する５〜７員環であり、より好ましくは、前記のヘテロサイクルから選択される。Ａ環の好ましい態様の１つは、以下の（ａ）、（ｂ）または（ｃ）の環であり、より好ましくは（ａ）または（ｂ）の環であり、特に好ましくは（ｂ）の環である。
【化３３】
2016027879.tif 000034
【００２９】
Ｚ１の好ましい態様の１つは、ＣＲ１Ｒ２、Ｏ、ＳまたはＮＲ１９であり、ＣＲ１Ｒ２がより好ましい。
Ｚ２の好ましい態様の１つは、ＣＲ１Ｒ２、Ｏ、ＳまたはＮＲ１９であり、ＣＲ１Ｒ２がより好ましい。
Ｚ３の好ましい態様の１つは、ＣＲ１Ｒ２、Ｏ、ＳまたはＮＲ１９であり、ＣＲ１Ｒ２またはＯがより好ましい。
Ｚ４の好ましい態様の１つは、ＣＲ１Ｒ２、Ｏ、ＳまたはＮＲ１９であり、ＣＲ１Ｒ２、ＯまたはＮＲ１９がより好ましく、ＣＲ１Ｒ２またはＯが特に好ましい。
Ｚ５の好ましい態様の１つは、ＣＲ１Ｒ２、Ｏ、ＳまたはＮＲ１９であり、ＣＲ１Ｒ２またはＯがより好ましい。
または、Ｚ１とＺ３、Ｚ１とＺ４、Ｚ１とＺ５、Ｚ２とＺ４、Ｚ２とＺ５もしくはＺ３とＺ５の間には、置換もしくは非置換の（Ｃ２−Ｃ４）架橋（置換基の例：低級アルキル、ヒドロキシ、ハロゲン）が形成されていてもよい。
【００３０】
Ｒ１およびＲ２は、本発明化合物の薬理活性に悪影響を及ぼさないものであれば種々の置換基であり得、例えば、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシ、置換もしくは非置換の低級アルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアリール低級アルキル、置換もしくは非置換のアリールオキシ、置換もしくは非置換の複素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシ、置換もしくは非置換のリン酸残基、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアリール、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたヒドロキシ、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアミノ、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換された低級アルキル（該低級アルキルは、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ２、ＮＲ５（Ｒ５は、後述のＲ４と同一の置換基群から選択される）、−Ｎ＝および＝Ｎ−からなる群から選択されるヘテロ原子基を有していてもよい）、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換の低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換のシクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換のアリールカルボニル、置換もしくは非置換のアリール低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換のアリールオキシカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基カルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシカルボニル、置換もしくは非置換のアミノカルボニル、置換もしくは非置換のウレイドまたは置換もしくは非置換のチオウレイドであり、好ましくは、水素、ハロゲン、ヒドロキシ、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキルが例示される。
「置換もしくは非置換」の置換基としては、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、シアノ、カルボキシ、ホルミル、オキソ、低級アルキル、低級アルコキシ、低級アルキルチオ、カルバモイル、低級アルキルカルバモイル、アリール、複素環式基、低級アルキルカルボニル、低級アルキルカルボニルオキシ、低級アルコキシカルボニル、ハロゲン化低級アルキル、ハロゲン化低級アルコキシなどが例示され、より好ましくは、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、低級アルキル、低級アルコキシ等である。Ｒ１およびＲ２は、より好ましくは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルケニル、低級アルコキシ、低級アルケニルオキシまたは置換もしくは非置換のアミノであり、さらに好ましくは、それぞれ独立して、水素または低級アルキル（例：メチル）であり、特に好ましくは、水素である。
または、Ｒ１とＲ２は、一緒になってオキソ、チオキソもしくは置換もしくは非置換のスピロ環（置換基の例：低級アルキル、ハロゲン、ハロゲン化低級アルキル、ヒドロキシ、アミノ）を形成してもよく、好ましくは、オキソまたは非置換スピロ環を形成してもよい。
【００３１】
Ｒ１９は、好ましくは、１）水素、２）置換もしくは非置換の低級アルキル（置換基の例：モノまたはジ低級アルキルで置換もしくは非置換のアミノ、シクロアルキル、ヒドロキシ、置換もしくは非置換の複素環基（複素環は好ましくは５〜７員環、例：フリル、チエニル、チアゾリル、ピリジル、モルホリノ、イミダゾール；置換基の例：低級アルキル、ハロゲン）、置換もしくは非置換の複素環基カルボニル（複素環は好ましくは５〜７員環、例：モルホリノカルボニル）、置換もしくは非置換のフェニル（置換基：低級アルキル、アミノ、低級アルキルアミノ、ヒドロキシ、ハロゲン、ハロゲン化低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲン化低級アルコキシ、低級アルキルチオ、低級アルキルスルホニル）、アセチルアミノ、カルバモイル、モノまたはジ低級アルキル置換カルバモイル、低級アルキルスルホニルアミノ、低級アルコキシ、カルボニル、ハロゲン、チオール、低級アルキルチオ）、３）低級アルケニル、４）アシル（例：低級アルキルカルボニル）、５）低級アルキルスルホニルである。Ｒ１９は、後述の置換基群Ｓ２から選択され得る。
【００３２】
Ａ環は、さらに以下のようにＥ環を有していてもよい。この場合、Ｅ環を構成するＺ１、Ｚ２、Ｚ３、Ｚ４およびＺ５は、それぞれ独立して、ＣＲ１、ＣまたはＮである。
【化３４】
2016027879.tif 000035
Ａ環は、より好ましくは、（ａ）または（ｂ）の環であり、特に好ましくは、（ｂ）の環である。
Ｅ環は、好ましくは、置換もしくは非置換の４〜７員の炭素環（置換基の例：低級アルキル、ハロゲン、ヒドロキシ、ハロゲン化低級アルキル）または置換もしくは非置換の４〜７員の複素環（置換基の例：低級アルキル、ハロゲン、ヒドロキシ、ハロゲン化低級アルキル）であり、より好ましくは、５〜６員の非置換炭素環または５〜６員の非置換複素環であり、特に好ましくは、５員の非置換炭素環または５員の非置換複素環である。
【００３３】
置換基群Ｓ２：水素、ハロゲン、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシ、置換もしくは非置換の低級アルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアリール低級アルキル、置換もしくは非置換のアリールオキシ、置換もしくは非置換の複素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシ、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換の低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換のシクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換のアリールカルボニル、置換もしくは非置換のアリール低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換のアリールオキシカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基カルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシカルボニル、置換もしくは非置換のアミノカルボニル、置換もしくは非置換のリン酸残基、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアリール、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアラルキル、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたヒドロキシ、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアミノ、または置換もしくは非置換のリン酸残基で置換された低級アルキル（該低級アルキルは、ＣＯ、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ２、ＮＲ５（Ｒ５は、後述のＲ４と同一の置換基群から選択される）、−Ｎ＝および＝Ｎ−からなる群から選択されるヘテロ原子基を有していてもよい）。
【００３４】
式（Ｉ−１）の化合物は、好ましくは、以下の式（Ｉ−１−１）または式（Ｉ−２−１）のいずれかで示される化合物であり、特に好ましくは式（Ｉ−２−１）で示される化合物である。
【化３５】
2016027879.tif 000036
Ｘは、ＣＲ９ａＲ９ｂ、ＮＲ１０、ＯまたはＳであり、好ましくは、ＣＲ９ａＲ９ｂ、ＮＲ１０またはＯであり、特に好ましくは、ＣＲ９ａＲ９ｂまたはＯである。
Ｒ５ａ、Ｒ５ｂ、Ｒ６ａ、Ｒ６ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ８、Ｒ９ａ、Ｒ９ｂおよびＲ１０は、本発明化合物の薬理活性に悪影響を及ぼさないものであれば種々の置換基であり得、例えば、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシ、置換もしくは非置換の低級アルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアリール低級アルキル、置換もしくは非置換のアリールオキシ、置換もしくは非置換の複素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシ、置換もしくは非置換のリン酸残基、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアリール、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたヒドロキシ、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアミノ、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換された低級アルキル（該低級アルキルは、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ２、ＮＲ５（Ｒ５は、後述のＲ４と同一の置換基群から選択される）、−Ｎ＝および＝Ｎ−からなる群から選択されるヘテロ原子基を有していてもよい）、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換の低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換のシクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換のアリールカルボニル、置換もしくは非置換のアリール低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換のアリールオキシカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基カルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシカルボニル、置換もしくは非置換のアミノカルボニル、置換もしくは非置換のウレイドまたは置換もしくは非置換のチオウレイドであり、好ましくは、水素、ハロゲン、ヒドロキシ、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキルが例示される。「置換もしくは非置換」の置換基としては、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、シアノ、カルボキシ、ホルミル、オキソ、低級アルキル、低級アルコキシ、低級アルキルチオ、カルバモイル、低級アルキルカルバモイル、アリール、複素環式基、低級アルキルカルボニル、低級アルキルカルボニルオキシ、低級アルコキシカルボニル、ハロゲン化低級アルキル、ハロゲン化低級アルコキシなどが例示され、より好ましくは、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、低級アルキル、低級アルコキシ等である。
Ｒ５ａ、Ｒ５ｂ、Ｒ６ａ、Ｒ６ｂ、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ８、Ｒ９ａ、Ｒ９ｂおよびＲ１０は、より好ましくは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルケニル、低級アルコキシ、低級アルケニルオキシまたは置換もしくは非置換のアミノであり、さらに好ましくは、それぞれ独立して、水素または低級アルキル（例：メチル）である。
Ｒ５ａとＲ５ｂ、Ｒ６ａとＲ６ｂ、Ｒ７ａとＲ７ｂおよび／またはＲ９ａとＲ９ｂは一緒になってオキソ、チオキソまたは置換もしくは非置換のスピロ環（置換基の例：ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、シアノ、カルボキシ、ホルミル、オキソ、低級アルキル、低級アルコキシ、低級アルキルチオ、カルバモイル、低級アルキルカルバモイル、アリール、複素環式基、低級アルキルカルボニル、低級アルキルカルボニルオキシ、低級アルコキシカルボニル、ハロゲン化低級アルキル、ハロゲン化低級アルコキシ）を形成してもよく、好ましくは、オキソまたは３員〜５員の非置換スピロ環を形成してもよい。
または、Ｒ５ｂとＲ６ｂ、Ｒ６ｂとＲ７ｂおよび／もしくはＲ７ｂとＲ９ｂは、隣接する原子と一緒になって置換もしくは非置換の炭素環または置換もしくは非置換の複素環を形成してもよく、および／またはＲ５ｂとＲ７ｂ、Ｒ５ｂとＲ８、Ｒ５ｂとＲ９ｂ、Ｒ６ｂとＲ８、Ｒ６ｂとＲ９ｂもしくはＲ７ｂとＲ８は、一緒になって置換もしくは非置換の（Ｃ２−Ｃ４）架橋を形成してもよく、
または、Ｒ５ｂとＲ１０は、隣接する原子と一緒になって置換もしくは非置換の複素環を形成してもよく、またはＲ６ｂとＲ１０もしくはＲ７ｂとＲ１０は、一緒になって置換もしくは非置換の（Ｃ２−Ｃ４）架橋を形成してもよい。
【００３５】
「置換もしくは非置換の炭素環」、「置換もしくは非置換の複素環」または「置換もしくは非置換の（Ｃ２−Ｃ４）架橋」の置換基の例として、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、シアノ、カルボキシ、ホルミル、オキソ、低級アルキル、低級アルコキシ、低級アルキルチオ、カルバモイル、低級アルキルカルバモイル、アリール、複素環式基、低級アルキルカルボニル、低級アルキルカルボニルオキシ、低級アルコキシカルボニル、ハロゲン化低級アルキル、ハロゲン化低級アルコキシなどが例示され、より好ましくは、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、低級アルキル、低級アルコキシ等が挙げられる。
Ｒｘは、水素または置換もしくは非置換の低級アルキルであり、好ましくは、水素である。
【００３６】
式（Ｉ−１）の化合物は、さらに好ましくは、以下の式のいずれかで示される化合物である。
【化３６】
2016027879.tif 000037
【化３７】
2016027879.tif 000038
【００３７】
【化３８】
2016027879.tif 000039
Ｂ１およびＢ２は、いずれか一方がＣＲ２０Ｒ２１、他方がＮＲ２２であり、好ましくは、Ｂ１がＣＲ２０Ｒ２１であり、Ｂ２がＮＲ２２である。
Ｂ２がＮＲ２２の場合、Ｒ４とＲ２２が隣接する原子と一緒になって置換もしくは非置換の複素環（例：Ｆ環）を形成してもよく、
Ｂ１がＣＲ２０Ｒ２１であって、Ｂ２がＮＲ２２であるとき、またはＢ１がＮＲ２２であって、Ｂ２がＣＲ２０Ｒ２１であるとき、Ｒ２０とＲ２２が隣接する原子と一緒になって置換もしくは非置換の複素環（例：Ｇ環）を形成してもよく、Ｂ２がＣＲ２０Ｒ２１の場合、Ｒ４とＲ２１は隣接する原子と一緒になって置換もしくは非置換の複素環を形成してもよく、
または、Ｂ１およびＢ２は、いずれか一方がＣＲ２３、他方がＮであり、この場合、破線は結合の存在を示し、Ｂ２がＣＲ２３の場合、Ｒ４とＲ２３は隣接する原子と一緒になって置換もしくは非置換の複素環を形成してもよく、
または、Ｂ１およびＢ２は、それぞれ独立して、ＣＲ２０Ｒ２１またはＣＲ２３である。
【００３８】
Ｒ３は、水素、ハロゲン、ヒドロキシ、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシ、置換もしくは非置換の低級アルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアリールオキシ、置換もしくは非置換の複素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基オキシ基または置換もしくは非置換のアミノである。「置換もしくは非置換」の置換基としては、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、シアノ、カルボキシ、ホルミル、オキソ、低級アルキル、低級アルコキシ、低級アルキルチオ、カルバモイル、低級アルキルカルバモイル、アリール、複素環式基、低級アルキルカルボニル、低級アルキルカルボニルオキシ、低級アルコキシカルボニル、ハロゲン化低級アルキル、ハロゲン化低級アルコキシなどが例示され、より好ましくは、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、低級アルキル、低級アルコキシ等である。
Ｒ３は、より好ましくは、水素、ハロゲン、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルケニル、低級アルコキシ、低級アルケニルオキシまたはアミノであり、さらに好ましくは、水素または低級アルキル（例：メチル）であり、特に好ましくは、水素である。
【００３９】
Ｒ４は、水素、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシ、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアリール低級アルキル、置換もしくは非置換のアリールオキシ、置換もしくは非置換の複素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシ、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換のリン酸残基、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアリール、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたヒドロキシ、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアミノまたは置換もしくは非置換のリン酸残基で置換された低級アルキル（該低級アルキルは、ＣＯ、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ２、ＮＲａ（Ｒａは水素または低級アルキル）、−Ｎ＝および＝Ｎ−からなる群から選択されるヘテロ原子基を有していてもよい）である。より好ましくは、水素、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアリール低級アルキル、置換もしくは非置換の複素環式基または置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキルである。
Ｒ４は、好ましくは、置換もしくは非置換の低級アルキル（例：メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル；置換基の例：ヒドロキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、低級アルコキシ、アリールオキシ、オキソ、低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基カルボニル（置換基の例：低級アルキル、低級アルコキシ））、具体的には低級アルキルアミノ低級アルキル（例：２−ジメチルアミノエチル、２−ジエチルアミノエチル）、低級アルコキシ低級アルキル（例：１−メトキシエチル、２−メトキシプロピル、２−メトキシエチル、３−メトキシプロピル、４−メトキシブチル、２−エトキシエチル、３−エトキシプロピル、４−エトキシブチル、２−プロポキシエチル、３−プロポキシプロピル、４−プロポキシブチル）またはアリールオキシ低級アルキル（例：２−フェノキシエチル、３−フェノキシプロピル）；置換もしくは非置換のシクロアルキル（例：シクロプロピル）；置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキル（例：シクロプロピルメチル、１−アダマンチルメチル、２−アダマンチルメチル、ドデカヘドランメチル、キュバンメチル）；置換もしくは非置換のアリール（例：フェニル；置換基の例：低級アルキル、ハロゲン、低級アルキルオキシ、ニトロ、または置換基部分は、ヘテロ原子（例：Ｏ）が介在していてもよい低級アルキレンであってもよい）；置換もしくは非置換のアリール低級アルキル（例：ベンジル；置換基の例：低級アルキル、ハロゲン、低級アルキルオキシ、ニトロ、または置換基部分は、ヘテロ原子（例：Ｏ）が介在していてもよい低級アルキレンであってもよい）；置換もしくは非置換の複素環式基（好ましくは５〜６員環）（例：ピコリル、ピリジル；置換基の例：低級アルキル、ハロゲン、低級アルキルオキシ、ニトロ）；または置換もしくは非置換の複素環式基（好ましくは５〜６員環）低級アルキル（例：ピペロニルメチル、２−モルホリノエチル、チオフェンメチル、フランメチル、テトラヒドロフランメチル、ジオキサンメチル、テトラヒドロピランメチル、チアゾールメチル、オキサゾールメチル、１，２，４−オキサジアゾールメチル、１，３，４−オキサジアゾールメチル；置換基の例：低級アルキル、ハロゲン、低級アルキルオキシ、ニトロ；該複素環はベンゼン環と縮合していてもよい。）である。
【００４０】
Ｒ２０、Ｒ２１、Ｒ２２およびＲ２３は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシ、置換もしくは非置換の低級アルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアリール低級アルキル、置換もしくは非置換のアリールオキシ、置換もしくは非置換の複素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシ、置換もしくは非置換のリン酸残基、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアリール、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたヒドロキシ、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアミノ、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換された低級アルキル（該低級アルキルは、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ２、ＮＲ５（Ｒ５は、Ｒ４とは独立してＲ４と同一の置換基群から選択される）、−Ｎ＝および＝Ｎ−からなる群から選択されるヘテロ原子基を有していてもよい）、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換の低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換のシクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換のアリールカルボニル、置換もしくは非置換のアリール低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換のアリールオキシカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基カルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシカルボニル、置換もしくは非置換のアミノカルボニル、置換もしくは非置換のウレイドまたは置換もしくは非置換のチオウレイドである。
Ｒ２０、Ｒ２１、Ｒ２２およびＲ２３は、好ましくは、それぞれ独立して、水素、置換もしくは非置換の低級アルキル（置換基の例：アミノ、低級アルキルアミノ、低級カルボニルアミノ、低級アルコキシ、アリールオキシ、シアノ、ハロゲン、アシルアミノ（例：低級カルボニルアミノ）、低級アルキニル、ヒドロキシ、低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基カルボニル（置換基の例：低級アルキル、低級アルコキシ）、低級アルケニル、置換もしくは非置換のカルバモイル（置換基の例：低級アルキル）、低級アルキルカルボニルオキシ、低級アルキルオキシカルボニル、低級アルキルカルボニルアミノ、オキソ、低級アルキニル）、シクロアルキル、シクロアルキル低級アルキル、置換もしくは非置換のアリール（置換基の例：低級アルキル、ハロゲン、低級アルキルオキシ、ニトロ）、置換もしくは非置換のアリール低級アルキル（置換基の例：低級アルキル、ハロゲン、低級アルキルオキシ、ニトロ、オキソ）、置換もしくは非置換の複素環式基（置換基の例：低級アルキル、ハロゲン、低級アルキルオキシ、ニトロ）、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキル（置換基の例：低級アルキル、ハロゲン、低級アルキルオキシ、ニトロ、オキソ）、置換もしくは非置換の低級アルキルカルボニル（置換基：低級アルコキシ、ハロゲン）、シクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換のベンゾイル（置換基：低級アルコキシ、ハロゲン）、置換スルホニル（置換基：低級アルキル、アリール、複素環式基（好ましくは５〜６員芳香族複素環式基））である。
Ｒ２０およびＲ２１は、より好ましくは、共に水素である。
【００４１】
破線は、結合の存在または非存在を示し、より好ましくは、結合の非存在を示す。
Ｂ１がＮＲ２２であるとき、破線が結合の非存在を示し、Ｒ４が非置換エチル基または非置換イソプロピル基である化合物は、本発明化合物から除かれる。
【００４２】
【化３９】
2016027879.tif 000040
Ｂ１およびＢ２は、式（Ｉ−３）の場合と同意義である。
Ｆ環は、置換もしくは非置換の複素環であり、好ましくは、以下の５〜７員の置換もしくは非置換の複素環である。
【化４０】
2016027879.tif 000041
Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３、Ｚ４およびＺ５は、それぞれ独立して、ＣＲ１Ｒ２、ＣＲ１、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ２、ＮまたはＮＲ１９である。
Ｚ１の好ましい態様の１つは、ＣＲ１Ｒ２、Ｏ、ＳまたはＮＲ１９であり、ＣＲ１Ｒ２がより好ましい。
Ｚ２の好ましい態様の１つは、ＣＲ１Ｒ２、Ｏ、ＳまたはＮＲ１９であり、ＣＲ１Ｒ２がより好ましい。
Ｚ３の好ましい態様の１つは、ＣＲ１Ｒ２、Ｏ、ＳまたはＮＲ１９であり、ＣＲ１Ｒ２またはＯがより好ましい。
Ｚ４の好ましい態様の１つは、ＣＲ１Ｒ２、Ｏ、ＳまたはＮＲ１９であり、ＣＲ１Ｒ２、ＯまたはＮＲ１９がより好ましく、ＣＲ１Ｒ２またはＯが特に好ましい。
Ｚ５の好ましい態様の１つは、ＣＲ１Ｒ２、Ｏ、ＳまたはＮＲ１９であり、ＣＲ１Ｒ２またはＯがより好ましい。
または、Ｚ１とＺ３、Ｚ１とＺ４、Ｚ１とＺ５、Ｚ２とＺ４、Ｚ２とＺ５もしくはＺ３とＺ５の間には、置換もしくは非置換の（Ｃ２−Ｃ４）架橋（置換基の例：低級アルキル、ヒドロキシ、ハロゲン）が形成されていてもよい。
【００４３】
Ｒ１およびＲ２は、本発明化合物の薬理活性に悪影響を及ぼさないものであれば種々の置換基であり得、例えば、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシ、置換もしくは非置換の低級アルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアリール低級アルキル、置換もしくは非置換のアリールオキシ、置換もしくは非置換の複素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシ、置換もしくは非置換のリン酸残基、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアリール、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたヒドロキシ、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアミノ、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換された低級アルキル（該低級アルキルは、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ２、ＮＲ５（Ｒ５は、上述のＲ４と同一の置換基群から選択される）、−Ｎ＝および＝Ｎ−からなる群から選択されるヘテロ原子基を有していてもよい）、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換の低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換のシクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換のアリールカルボニル、置換もしくは非置換のアリール低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換のアリールオキシカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基カルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシカルボニル、置換もしくは非置換のアミノカルボニル、置換もしくは非置換のウレイドまたは置換もしくは非置換のチオウレイドであり、好ましくは、水素、ハロゲン、ヒドロキシ、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキルが例示される。
「置換もしくは非置換」の置換基としては、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、シアノ、カルボキシ、ホルミル、オキソ、低級アルキル、低級アルコキシ、低級アルキルチオ、カルバモイル、低級アルキルカルバモイル、アリール、複素環式基、低級アルキルカルボニル、低級アルキルカルボニルオキシ、低級アルコキシカルボニル、ハロゲン化低級アルキル、ハロゲン化低級アルコキシなどが例示され、より好ましくは、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、低級アルキル、低級アルコキシ等である。
Ｒ１およびＲ２は、より好ましくは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルケニル、低級アルコキシ、低級アルケニルオキシまたは置換もしくは非置換のアミノであり、さらに好ましくは、それぞれ独立して、水素または低級アルキル（例：メチル）であり、特に好ましくは、水素である。
または、Ｒ１とＲ２は、一緒になってオキソ、チオキソもしくは置換もしくは非置換のスピロ環（置換基の例：低級アルキル、ハロゲン、ハロゲン化低級アルキル、ヒドロキシ、アミノ）を形成してもよく、好ましくは、オキソまたは非置換スピロ環を形成してもよい。
【００４４】
Ｒ１９は、好ましくは、１）水素、２）置換もしくは非置換の低級アルキル（置換基の例：モノまたはジ低級アルキルで置換もしくは非置換のアミノ、シクロアルキル、ヒドロキシ、置換もしくは非置換の複素環基（複素環は好ましくは５〜７員環、例：フリル、チエニル、チアゾリル、ピリジル、モルホリノ、イミダゾール；置換基の例：低級アルキル、ハロゲン）、置換もしくは非置換の複素環基カルボニル（複素環は好ましくは５〜７員環、例：モルホリノカルボニル）、置換もしくは非置換のフェニル（置換基：低級アルキル、アミノ、低級アルキルアミノ、ヒドロキシ、ハロゲン、ハロゲン化低級アルキル、低級アルコキシ、ハロゲン化低級アルコキシ、低級アルキルチオ、低級アルキルスルホニル）、アセチルアミノ、カルバモイル、モノまたはジ低級アルキル置換カルバモイル、低級アルキルスルホニルアミノ、低級アルコキシ、カルボニル、ハロゲン、チオール、低級アルキルチオ）、３）低級アルケニル、４）アシル（例：低級アルキルカルボニル）、５）低級アルキルスルホニルである。Ｒ１９は、上述の置換基群Ｓ２から選択され得る。
破線は結合の存在または非存在を示し、好ましくは結合の非存在を示す。
【００４５】
Ｆ環は、さらに以下のようにＨ環を有していてもよい。この場合、Ｈ環を構成するＺ１、Ｚ２、Ｚ３、Ｚ４およびＺ５は、それぞれ独立して、ＣＲ１、ＣまたはＮである。
【化４１】
2016027879.tif 000042
Ｈ環は、それぞれ独立して、置換もしくは非置換の炭素環または置換もしくは非置換の複素環であり、好ましくは、置換もしくは非置換の４〜７員の炭素環（置換基の例：低級アルキル、ハロゲン、ヒドロキシ、ハロゲン化低級アルキル）または置換もしくは非置換の４〜７員の複素環（置換基の例：低級アルキル、ハロゲン、ヒドロキシ、ハロゲン化低級アルキル）であり、より好ましくは、５〜６員の非置換炭素環または５〜６員の非置換複素環であり、特に好ましくは、５員の非置換炭素環または５員の非置換複素環である。
【００４６】
【化４２】
2016027879.tif 000043
Ｇ環は、置換もしくは非置換の炭素環または置換もしくは非置換の複素環である。Ｂ１は、ＣＲ２１またはＮであり、Ｂ１がＣＲ２１である場合、Ｂ２はＮである。Ｂ１がＮである場合、Ｂ２はＣＲ２１である。Ｇ環としては、前記Ｆ環と同様の複素環が例示される。Ｇ環上の置換基は、前記置換基群Ｓ２から選択される同一または異なる、１〜４の置換基が例示される。また、Ｇ環上の置換基部分は、隣接する原子と一緒になって、さらに縮合環またはスピロ環、好ましくは置換もしくは非置換の炭素環（好ましくは５〜６員環）または置換もしくは非置換の複素環（好ましくは５〜６員環）を形成してもよい。
Ｇ環が炭素環の場合、Ｂ１およびＢ２はそれぞれ独立してＣまたはＣＨである、炭素環としては５〜７員環が例示される。
【００４７】
Ｇ環は以下の環を包含する。
【化４３】
2016027879.tif 000044
Ｇ環上の置換基として好ましい態様の一つは、低級アルキル（例：メチル、イソプロピル）、低級アルコキシ低級アルキル（例：２−メトキシエチル）、置換もしくは非置換のアミノ（置換基の例：低級アルキル（例：メチル）、低級アルキルカルボニル（例：アセチル））である。
【００４８】
Ｒ３は、好ましくは、水素または置換もしくは非置換の低級アルキル、より好ましくは水素である。
【００４９】
Ｒ４は、好ましくは、置換もしくは非置換の低級アルキル（例：メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル；置換基の例：ヒドロキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、低級アルコキシ、アリールオキシ、オキソ、低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基カルボニル（置換基の例：低級アルキル、低級アルコキシ））、具体的には低級アルキルアミノ低級アルキル（例：２−ジメチルアミノエチル、２−ジエチルアミノエチル）、低級アルコキシ低級アルキル（例：１−メトキシエチル、２−メトキシプロピル、２−メトキシエチル、３−メトキシプロピル、４−メトキシブチル、２−エトキシエチル、３−エトキシプロピル、４−エトキシブチル、２−プロポキシエチル、３−プロポキシプロピル、４−プロポキシブチル）またはアリールオキシ低級アルキル（例：２−フェノキシエチル、３−フェノキシプロピル）；置換もしくは非置換のシクロアルキル（例：シクロプロピル）；置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキル（例：シクロプロピルメチル、１−アダマンチルメチル、２−アダマンチルメチル、ドデカヘドランメチル、キュバンメチル）；置換もしくは非置換のアリール（例：フェニル；置換基の例：低級アルキル、ハロゲン、低級アルキルオキシ、ニトロ、または置換基部分は、ヘテロ原子（例：Ｏ）が介在していてもよい低級アルキレンであってもよい）；置換もしくは非置換のアリール低級アルキル（例：ベンジル；置換基の例：低級アルキル、ハロゲン、低級アルキルオキシ、ニトロ、または置換基部分は、ヘテロ原子（例：Ｏ）が介在していてもよい低級アルキレンであってもよい）；置換もしくは非置換の複素環式基（好ましくは５〜６員環）（例：ピコリル、ピリジル；置換基の例：低級アルキル、ハロゲン、低級アルキルオキシ、ニトロ）；または置換もしくは非置換の複素環式基（好ましくは５〜６員環）低級アルキル（例：ピペロニルメチル、２−モルホリノエチル、チオフェンメチル、フランメチル、テトラヒドロフランメチル、ジオキサンメチル、テトラヒドロピランメチル、チアゾールメチル、オキサゾールメチル、１，２，４−オキサジアゾールメチル、１，３，４−オキサジアゾールメチル；置換基の例：低級アルキル、ハロゲン、低級アルキルオキシ、ニトロ；該複素環はベンゼン環と縮合していてもよい。）である。
【００５０】
【化４４】
2016027879.tif 000045
Ｒ１１、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂおよびＲ１３は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシ、置換もしくは非置換の低級アルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアリール低級アルキル、置換もしくは非置換のアリールオキシ、置換もしくは非置換の複素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシ、置換もしくは非置換のリン酸残基、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアリール、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたヒドロキシ、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアミノ、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換された低級アルキル（該低級アルキルは、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ２、ＮＲ５（Ｒ５は、Ｒ４とは独立してＲ４と同一の置換基群から選択される）、−Ｎ＝および＝Ｎ−からなる群から選択されるヘテロ原子基を有していてもよい）、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換の低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換のシクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換のアリールカルボニル、置換もしくは非置換のアリール低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換のアリールオキシカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基カルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシカルボニル、置換もしくは非置換のアミノカルボニル、置換もしくは非置換のウレイドまたは置換もしくは非置換のチオウレイドである。
Ｒ１１は、好ましくは、置換もしくは非置換の低級アルキル（例：メチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル（ただし、エチル、イソプロピルを除く）；置換基の例：ヒドロキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、低級アルコキシ、アリールオキシ、オキソ、低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基カルボニル（置換基の例：低級アルキル、低級アルコキシ）、具体的には、低級アルキルアミノ低級アルキル（例：２−ジメチルアミノエチル、２−ジエチルアミノエチル）、低級アルコキシ低級アルキル（例：１−メトキシエチル、２−メトキシプロピル、２−メトキシエチル、３−メトキシプロピル、４−メトキシブチル、２−エトキシエチル、３−エトキシプロピル、４−エトキシブチル、２−プロポキシエチル、３−プロポキシプロピル、４−プロポキシブチル）またはアリールオキシ低級アルキル（例：２−フェノキシエチル、３−フェノキシプロピル）；置換もしくは非置換のシクロアルキル（例：シクロプロピル）；置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキル（例：シクロプロピルメチル、１−アダマンチルメチル、２−アダマンチルメチル、ドデカヘドランメチル、キュバンメチル）；置換もしくは非置換のよくアリール（例：フェニル；置換基の例：低級アルキル、ハロゲン、低級アルキルオキシ、ニトロ、または、置換基部分は、ヘテロ原子（例：Ｏ）が介在していてもよい低級アルキレンであってもよい）；置換もしくは非置換のアリール低級アルキル（例：ベンジル；置換基の例：低級アルキル、ハロゲン、低級アルキルオキシ、ニトロ、または、置換基部分は、ヘテロ原子（例：Ｏ）が介在していてもよい低級アルキレンであってもよい）；置換もしくは非置換の複素環式基（好ましくは５〜６員環）（例：ピコリル、ピリジル；置換基の例：低級アルキル、ハロゲン、低級アルキルオキシ、ニトロ）；または置換もしくは非置換の複素環式基（好ましくは５〜６員環）低級アルキル（例：ピペロニルメチル、２−モルホリノエチル、チオフェンメチル、フランメチル、テトラヒドロフランメチル、ジオキサンメチル、テトラヒドロピランメチル、チアゾールメチル、オキサゾールメチル、１，２，４−オキサジアゾールメチル、１，３，４−オキサジアゾールメチル；置換基の例：低級アルキル、ハロゲン、低級アルキルオキシ、ニトロ；該複素環はベンゼン環と縮合していてもよい。）である。
Ｒ１２ａおよびＲ１２ｂは、好ましくは、それぞれ独立して、水素、置換もしくは非置換の低級アルキル（置換基の例：アミノ、低級アルキルアミノ、低級カルボニルアミノ、低級アルコキシ、アリールオキシ、シアノ、ハロゲン、アシルアミノ（例：低級カルボニルアミノ）、低級アルキニル、ヒドロキシ、低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基カルボニル（置換基の例：低級アルキル、低級アルコキシ）、低級アルケニル、置換もしくは非置換のカルバモイル（置換基の例：低級アルキル）、低級アルキルカルボニルオキシ、低級アルキルオキシカルボニル、低級アルキルカルボニルアミノ、オキソ、低級アルキニル）、シクロアルキル、シクロアルキル低級アルキル、置換もしくは非置換のアリール（置換基の例：低級アルキル、ハロゲン、低級アルキルオキシ、ニトロ）、置換もしくは非置換のアリール低級アルキル（置換基の例：低級アルキル、ハロゲン、低級アルキルオキシ、ニトロ、オキソ）、置換もしくは非置換の複素環式基（置換基の例：低級アルキル、ハロゲン、低級アルキルオキシ、ニトロ）、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキル（置換基の例：低級アルキル、ハロゲン、低級アルキルオキシ、ニトロ、オキソ）、置換もしくは非置換の低級アルキルカルボニル（置換基：低級アルコキシ、ハロゲン）、シクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換のベンゾイル（置換基：低級アルコキシ、ハロゲン）、置換スルホニル（置換基：低級アルキル、アリール、複素環式基（好ましくは５〜６員芳香族複素環式基））である。
より好ましくは、Ｒ１２ａおよびＲ１２ｂは、共に水素である。
または、Ｒ１２ａとＲ１２ｂが一緒になってオキソ、チオキソを形成してもよい。
【００５１】
【化４５】
2016027879.tif 000046
Ｒ１１、Ｒ１２ａ、Ｒ１２ｂおよびＲ１３は、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシ、置換もしくは非置換の低級アルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアリール低級アルキル、置換もしくは非置換のアリールオキシ、置換もしくは非置換の複素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシ、置換もしくは非置換のリン酸残基、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアリール、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたヒドロキシ、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアミノ、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換された低級アルキル（該低級アルキルは、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ２、ＮＲ５（Ｒ５は、上述のＲ４と同一の置換基群から選択される）、−Ｎ＝および＝Ｎ−からなる群から選択されるヘテロ原子基を有していてもよい）、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換の低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換のシクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換のアリールカルボニル、置換もしくは非置換のアリール低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換のアリールオキシカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基カルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシカルボニル、置換もしくは非置換のアミノカルボニル、置換もしくは非置換のウレイドまたは置換もしくは非置換のチオウレイドである。
Ｒ１１は、好ましくは、置換もしくは非置換の低級アルキル（例：メチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル（ただし、エチル、イソプロピルを除く）；置換基の例：ヒドロキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、低級アルコキシ、アリールオキシ、オキソ、低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基カルボニル（置換基の例：低級アルキル、低級アルコキシ）、具体的には、低級アルキルアミノ低級アルキル（例：２−ジメチルアミノエチル、２−ジエチルアミノエチル）、低級アルコキシ低級アルキル（例：１−メトキシエチル、２−メトキシプロピル、２−メトキシエチル、３−メトキシプロピル、４−メトキシブチル、２−エトキシエチル、３−エトキシプロピル、４−エトキシブチル、２−プロポキシエチル、３−プロポキシプロピル、４−プロポキシブチル）またはアリールオキシ低級アルキル（例：２−フェノキシエチル、３−フェノキシプロピル）；置換もしくは非置換のシクロアルキル（例：シクロプロピル）；置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキル（例：シクロプロピルメチル、１−アダマンチルメチル、２−アダマンチルメチル、ドデカヘドランメチル、キュバンメチル）；置換もしくは非置換のよくアリール（例：フェニル；置換基の例：低級アルキル、ハロゲン、低級アルキルオキシ、ニトロ、または、置換基部分は、ヘテロ原子（例：Ｏ）が介在していてもよい低級アルキレンであってもよい）；置換もしくは非置換のアリール低級アルキル（例：ベンジル；置換基の例：低級アルキル、ハロゲン、低級アルキルオキシ、ニトロ、または、置換基部分は、ヘテロ原子（例：Ｏ）が介在していてもよい低級アルキレンであってもよい）；置換もしくは非置換の複素環式基（好ましくは５〜６員環）（例：ピコリル、ピリジル；置換基の例：低級アルキル、ハロゲン、低級アルキルオキシ、ニトロ）；または置換もしくは非置換の複素環式基（好ましくは５〜６員環）低級アルキル（例：ピペロニルメチル、２−モルホリノエチル、チオフェンメチル、フランメチル、テトラヒドロフランメチル、ジオキサンメチル、テトラヒドロピランメチル、チアゾールメチル、オキサゾールメチル、１，２，４−オキサジアゾールメチル、１，３，４−オキサジアゾールメチル；置換基の例：低級アルキル、ハロゲン、低級アルキルオキシ、ニトロ；該複素環はベンゼン環と縮合していてもよい。）である。
Ｒ１２ａおよびＲ１２ｂは、好ましくは、それぞれ独立して、水素、置換もしくは非置換の低級アルキル（置換基の例：アミノ、低級アルキルアミノ、低級カルボニルアミノ、低級アルコキシ、アリールオキシ、シアノ、ハロゲン、アシルアミノ（例：低級カルボニルアミノ）、低級アルキニル、ヒドロキシ、低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基カルボニル（置換基の例：低級アルキル、低級アルコキシ）、低級アルケニル、置換もしくは非置換のカルバモイル（置換基の例：低級アルキル）、低級アルキルカルボニルオキシ、低級アルキルオキシカルボニル、低級アルキルカルボニルアミノ、オキソ、低級アルキニル）、シクロアルキル、シクロアルキル低級アルキル、置換もしくは非置換のアリール（置換基の例：低級アルキル、ハロゲン、低級アルキルオキシ、ニトロ）、置換もしくは非置換のアリール低級アルキル（置換基の例：低級アルキル、ハロゲン、低級アルキルオキシ、ニトロ、オキソ）、置換もしくは非置換の複素環式基（置換基の例：低級アルキル、ハロゲン、低級アルキルオキシ、ニトロ）、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキル（置換基の例：低級アルキル、ハロゲン、低級アルキルオキシ、ニトロ、オキソ）、置換もしくは非置換の低級アルキルカルボニル（置換基：低級アルコキシ、ハロゲン）、シクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換のベンゾイル（置換基：低級アルコキシ、ハロゲン）、置換スルホニル（置換基：低級アルキル、アリール、複素環式基（好ましくは５〜６員芳香族複素環式基））である。
より好ましくは、Ｒ１２ａおよびＲ１２ｂは、共に水素である。
または、Ｒ１２ａとＲ１２ｂが一緒になってオキソ、チオキソまたは置換もしくは非置換のスピロ環（置換基の例：ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、シアノ、カルボキシ、ホルミル、オキソ、低級アルキル、低級アルコキシ、低級アルキルチオ、カルバモイル、低級アルキルカルバモイル、アリール、複素環式基、低級アルキルカルボニル、低級アルキルカルボニルオキシ、低級アルコキシカルボニル、ハロゲン化低級アルキル、ハロゲン化低級アルコキシなどが例示され、より好ましくは、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、低級アルキル、低級アルコキシ等）を形成してもよい。
【００５２】
【化４６】
2016027879.tif 000047
Ｘは、ＣＲ１８ａＲ１８ｂ、ＮＲ２４、ＯまたはＳであり、好ましくは、ＣＲ１８ａＲ１８ｂまたはＯである。
Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ、Ｒ１６ｂ、Ｒ１７ａ、Ｒ１７ｂ、Ｒ１８ａ、Ｒ１８ｂおよびＲ２４は、本発明化合物の薬理活性に悪影響を及ぼさないものであれば種々の置換基であり得、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキル、置換もしくは非置換の低級アルケニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシ、置換もしくは非置換の低級アルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアリール、置換もしくは非置換のアリール低級アルキル、置換もしくは非置換のアリールオキシ、置換もしくは非置換の複素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシ、置換もしくは非置換のリン酸残基、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアリール、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたヒドロキシ、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換されたアミノ、置換もしくは非置換のリン酸残基で置換された低級アルキル（該低級アルキルは、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、ＳＯ２、ＮＲ５（Ｒ５は、上述のＲ４と同一の置換基群から選択される）、−Ｎ＝および＝Ｎ−からなる群から選択されるヘテロ原子基を有していてもよい）、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換の低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換のシクロアルキルカルボニル、置換もしくは非置換のシクロアルキル低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の低級アルコキシカルボニル、置換もしくは非置換のアリールカルボニル、置換もしくは非置換のアリール低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換のアリールオキシカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基カルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基低級アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシカルボニル、置換もしくは非置換のアミノカルボニル、置換もしくは非置換のウレイドまたは置換もしくは非置換のチオウレイドである。
Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ、Ｒ１６ｂ、Ｒ１７ａ、Ｒ１７ｂ、Ｒ１８ａ、Ｒ１８ｂおよびＲ２４は、好ましくは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、ヒドロキシ、置換もしくは非置換の低級アルキル、置換もしくは非置換のシクロアルキルが例示される。「置換もしくは非置換」の置換基としては、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、シアノ、カルボキシ、ホルミル、オキソ、低級アルキル、低級アルコキシ、低級アルキルチオ、カルバモイル、低級アルキルカルバモイル、アリール、複素環式基、低級アルキルカルボニル、低級アルキルカルボニルオキシ、低級アルコキシカルボニル、ハロゲン化低級アルキル、ハロゲン化低級アルコキシなどが例示され、より好ましくは、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、低級アルキル、低級アルコキシ等である。
Ｒ１５ａ、Ｒ１５ｂ、Ｒ１６ａ、Ｒ１６ｂ、Ｒ１７ａ、Ｒ１７ｂ、Ｒ１８ａ、Ｒ１８ｂおよびＲ２４は、より好ましくは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、ヒドロキシ、低級アルキル、低級アルケニル、低級アルコキシ、低級アルケニルオキシまたは置換もしくは非置換のアミノであり、さらに好ましくは、それぞれ独立して、水素または低級アルキル（例：メチル）である。
または、Ｒ１５ａとＲ１５ｂ、Ｒ１６ａとＲ１６ｂ、Ｒ１７ａとＲ１７ｂもしくはＲ１８ａとＲ１８ｂが一緒になって、オキソ、チオキソもしくは置換もしくは非置換のスピロ環を形成してもよく、
または、Ｒ１５ｂとＲ１６ｂ、Ｒ１６ｂとＲ１８ｂおよび／もしくはＲ１７ｂとＲ１８ｂが一緒になって置換もしくは非置換の炭素環または置換もしくは非置換の複素環を形成してもよく、またはＲ１５ｂとＲ１７ｂ、Ｒ１５ｂとＲ１８ｂもしくはＲ１６ｂとＲ１７ｂは、一緒になって置換もしくは非置換の（Ｃ２−Ｃ４）架橋を形成してもよく、 
または、Ｒ１６ｂとＲ２４もしくはＲ１７ｂとＲ２４が一緒になって置換もしくは非置換の複素環を形成してもよく、またはＲ１５ｂとＲ２４が一緒になって置換もしくは非置換の（Ｃ２−Ｃ４）架橋を形成してもよい。
【００５３】
この場合の、「置換もしくは非置換の炭素環」、「置換もしくは非置換の複素環」、「置換もしくは非置換の（Ｃ２−Ｃ４）架橋」または「置換もしくは非置換のスピロ環」の置換基の例として、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、シアノ、カルボキシ、ホルミル、オキソ、低級アルキル、低級アルコキシ、低級アルキルチオ、カルバモイル、低級アルキルカルバモイル、アリール、複素環式基、低級アルキルカルボニル、低級アルキルカルボニルオキシ、低級アルコキシカルボニル、ハロゲン化低級アルキル、ハロゲン化低級アルコキシなどが例示され、より好ましくは、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、低級アルキルアミノ、低級アルキル、低級アルコキシ等が挙げられる。
【００５４】
式（Ｉ−３）、式（Ｉ−３−１）、式（Ｉ−３−２）、式（Ｉ−３−３）、式（Ｉ−３−４）、式（Ｉ−３−５）および式（Ｉ−３−６）の具体的な例として、以下の式が挙げられる。
【化４７】
2016027879.tif 000048
【００５５】
（主骨格と側鎖の組み合わせの具体的態様）
本発明化合物は、上記主骨格の式（Ｉ−１−２）〜式（Ｉ−１−８）、式（Ｉ−２−２）〜式（Ｉ−２−１４）、式（Ｉ−３−７）〜式（Ｉ−３−１５）および以下の式（Ｉ−４−１）〜式（Ｉ−４−４）
【化４８】
2016027879.tif 000049
から選択される１の主骨格に、側鎖の式（Ｑ１）〜式（Ｑ３０）から選択される１の側鎖を組み合わせた化合物が含まれる。
【００５６】
（プロドラッグ）
本発明化合物は、プロドラッグが含まれる。具体的には以下のいずれかの式で示される化合物またはその製薬上許容される塩である。
式（Ｉ−１’）、式（Ｉ−２’）、または式（Ｉ−３’）：
【化４９】
2016027879.tif 000050
（式中、Ｙは、以下のいずれかの基であり、
【化５０】
2016027879.tif 000051
（式中、ＲＹは、置換もしくは非置換のアルキル（置換基の例：ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、シアノ、アミノ、アルキルオキシ、芳香族炭素環式基、非芳香族炭素環式基、芳香族複素環式基、非芳香族複素環式基）である）
その他記号は、前記［１］と同意義である）
【００５７】
ＲＹは、好ましくは、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、またはメトキシエチルである。
ＲＹは、さらに好ましくは、メチル、ｔｅｒｔ−ブチル、またはメトキシエチルである。
【００５８】
本発明化合物は、その化学構造として少なくとも以下の特徴を有する。
（１）主骨格である縮合ヘテロ環上に、オキソ（＝Ｏ）、ヒドロキシ（ＯＨ）およびオキソ（＝Ｏ）が置換している。
（２）縮合ヘテロ環上のオキソの隣接部位に、−Ｑで示される環式基を有する。Ｑは好ましくは、置換もしくは非置換の複素環式基である。
このような構造を有することにより、本発明化合物は、ＨＩＶ（好ましくはＨＩＶ−１）を含むウイルスに対して、非常に強いインテグラーゼ阻害作用および／または細胞増殖阻害活性を示す。また、好ましくは耐性菌にも有効である。一方、その他の部分（Ｒ３、Ｒ８、Ｒ１４、ＲＸ、Ａ環、Ｄ環、Ｅ環、Ｆ環、Ｇ環、Ｈ環、Ｂ１、Ｂ２等）の構造は比較的自由度が大きく、種々の置換基を有していても良く、また縮合環を形成していてもよく、該縮合環はさらに置換されていてもよい。
【００５９】
本発明化合物またはその製薬上許容される塩は、溶媒和物（例えば、水和物等）、共結晶および／または結晶多形を形成する場合があり、本発明はそのような各種の溶媒和物、共結晶および結晶多形も包含する。「溶媒和物」は、本発明化合物に対し、任意の数の溶媒分子（例えば、水分子等）と配位していてもよい。本発明化合物またはその製薬上許容される塩を、大気中に放置することにより、水分を吸収し、吸着水が付着する場合や、水和物を形成する場合がある。また、本発明化合物またはその製薬上許容される塩を、再結晶することで結晶多形を形成する場合がある。「共結晶」は、本発明化合物または塩とカウンター分子が同一結晶格子内に存在することを意味し、任意の数のカウンター分子と形成していてもよい。本発明化合物の理論上可能なすべての互変異性体、幾何異性体、立体異性体、光学異性体、ラセミ体等も、本発明の範囲内である。
本発明化合物の製薬上許容される塩としては、塩基性塩として、例えば、ナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩；カルシウム塩、マグネシウム塩等のアルカリ土類金属塩；アンモニウム塩；トリメチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、エタノールアミン塩、ジエタノールアミン塩、トリエタノールアミン塩、ブロカイン塩、メグルミン塩、ジエタノールアミン塩またはエチレンジアミン塩等の脂肪族アミン
塩；Ｎ，Ｎ−ジベンジルエチレンジアミン、ベネタミン塩等のアラルキルアミン塩；ピリジン塩、ピコリン塩、キノリン塩、イソキノリン塩等のヘテロ環芳香族アミン塩；テトラメチルアンモニウム塩、テトラエチルアンモニウム塩、ベンジルトリメチルアンモニウム塩、ベンジルトリエチルアンモニウム塩、ベンジルトリブチルアンモニウム塩、メチルトリオクチルアンモニウム塩、テトラブチルアンモニウム塩等の第４級アンモニウム塩；アルギニン塩、リジン塩等の塩基性アミノ酸塩等が挙げられる。酸性塩としては、例えば、塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩、リン酸塩、炭酸塩、炭酸水素塩、過塩素酸塩等の無機酸塩；酢酸塩、プロピオン酸塩、乳酸塩、マレイン酸塩、フマール酸塩、酒石酸塩、リンゴ酸塩、クエン酸塩、アスコルビン酸塩等の有機酸塩；メタンスルホン酸塩、イセチオン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩等のスルホン酸塩；アスパラギン酸塩、グルタミン酸塩等の酸性アミノ酸塩等が挙げられる。
本発明化合物の溶媒和物としては、アルコール和物や水和物等が挙げられる。
【００６０】
本発明化合物は、市販試薬や公知化合物を原料にして、好ましくは、特許文献１５に記載の方法や以下の方法またはそれに準じて合成できる。
（製法１）
【化５１】
2016027879.tif 000052
（式中、Ｐ１およびＰ２はヒドロキシ保護基であり、ＲおよびＲ’はカルボキシ保護基であり、ＢはＲ５ａ、Ｒ５ｂ、Ｒ６ａ、Ｒ６ｂ、Ｒ７ａおよびＲ７ｂであり、その他の記号は前記と同義であり、Ｐ１およびＰ２は、Protective Groups in Organic Synthesis, Theodora W Green(John Wiley & Sons)等に記載の方法で保護および／または脱保護できる基であればよく、例えばＰ１はアリールアルキル等であり、Ｒ、Ｒ’およびＰ２は低級アルキル等である。）
第一工程
公知の方法で調製した化合物eaまたは化合物ebに、クロロホルム、ジクロロメタン、ＴＨＦ等の溶媒の存在下、市販または、公知の方法で調製した化合物ecおよび酢酸を加え、０℃〜４０℃、好ましくは１０℃〜３０℃にて０．５時間２４時間、好ましくは１時間〜１２時間反応させることにより、化合物edを得ることができる。
第二工程
化合物edをヒドロキシ保護基の公知の一般的な脱保護反応に付すことにより、化合物eeを得ることができる。
第三工程
化合物eaまたは化合物ebに、クロロホルム、ジクロロメタン、ＴＨＦ等の溶媒の存在下、化合物efおよび酢酸を加え、０℃〜４０℃、好ましくは１０℃〜３０℃にて０．５時間２４時間、好ましくは１時間〜１２時間反応させることにより、化合物egを得ることができる。
第四工程
化合物egをヒドロキシ保護基の公知の一般的な脱保護反応に付すことにより、化合物ehを得ることができる。
【００６１】
【化５２】
2016027879.tif 000053
（式中、Ｐ１はヒドロキシ保護基であり、Ｈａｌはハロゲンであり、その他の記号は前記と同義であり、Ｐ１はProtective Groups in Organic Synthesis, Theodora W Green (John Wiley & Sons)等に記載の方法で保護および／または脱保護できる基であればよく、例えばＰ１はアリールアルキル等である。）
第一工程
公知の方法で調整できる化合物caをジオキサン、ＤＭＦ、ＤＭＥ、テトラヒドロフラン、ＤＭＳＯ等の溶媒あるいは混合溶媒中において、Ｐｄ（ＰＰｈ３）４、Ｐｄ（ＯＡｃ）２、Ｐｄ（ＰＰｈ３）２Ｃｌ２、Ｐｄ（ｄｐｐｆ）２Ｃｌ２やＰｄ（ｄｔｂｐｆ）等のパラジウム触媒と、酢酸カリウム、酢酸ナトリウム、炭酸カリウムやリン酸カリウム等の塩基と、ｂｉｓ（ｐｉｎａｃｏｌａｔｏ）ｄｉｂｏｒｏｎを加え、窒素雰囲気下にて、０℃〜１５０℃、好ましくは６０℃〜１２０℃で、０．５時間〜２４時間、好ましくは１時間〜１２時間反応させることにより、化合物cbを得ることができる。
第二工程
化合物cbをジオキサン、ＤＭＦ、ＤＭＥ、テトラヒドロフラン、水等の溶媒あるいは混合溶媒中において、Ｐｄ（ＰＰｈ３）４、Ｐｄ（ＯＡｃ）２、Ｐｄ（ＰＰｈ３）２Ｃｌ２、Ｐｄ（ｄｐｐｆ）２Ｃｌ２やＰｄ（ｄｔｂｐｆ）等のパラジウム触媒と、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸セシウムやリン酸カリウム等の塩基と、市販または公知の方法により調整した化合物cc加え、窒素雰囲気下にて、０℃〜１５０℃、好ましくは６０℃〜１２０℃で、０．５時間〜２４時間、好ましくは１時間〜１２時間反応させることにより、化合物cdを得ることができる。
第三工程
化合物cdを、ヒドロキシ保護基の公知の一般的な脱保護反応に付すことにより、化合物ceを得ることができる。
【００６２】
（製法２）
【化５３】
2016027879.tif 000054
（式中、ＲおよびＲ’はカルボキシ保護基であり、Ｐ１はヒドロキシル保護基であり、Ｐ２はアミノ保護基であり、その他の記号は前記と同義であり、Ｒ、Ｒ’、Ｐ１およびＰ２はProtective Groups in Organic Synthesis, Theodora W Green (John Wiley & Sons)等に記載の方法で保護および／または脱保護できる基であればよく、例えばＲおよびＲ’は低級アルキル等であり、Ｐ１はアリールアルキル等であり、Ｐ２は低級アルキルオキシカルボニル等である。）
第一工程
市販または公知の方法により調製できる化合物aaに、トルエン、ＴＨＦ、ジオキサン、アセトニトリル等の溶媒の存在下またはそれらの混合溶媒中、市販または公知の方法により調製できる化合物abを加え、２０℃〜１１０℃、好ましくは４０℃〜加熱還流下にて０．５時間〜２４時間、好ましくは１時間〜１２時間反応させることにより、化合物acを得ることができる。
第二工程
化合物acに、アミノ保護基の公知の一般的な脱保護反応に付した後に、トルエン、ＴＨＦ、ジオキサン、アセトニトリル等の溶媒の存在下、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン等の３級アミン存在下、２０℃〜１１０℃、好ましくは８０℃〜１１０℃で、０．１時間〜１０時間、好ましくは０．５時間〜３時間時反応させることにより、化合物adを得ることができる。
第三工程
化合物adを、カルボキシル保護基の公知の一般的な脱保護反応に付すことにより化合物aeを得ることができる。
【００６３】
【化５４】
2016027879.tif 000055
（式中、Ｒはカルボキシ保護基であり、Ｐ１はヒドロキシル保護基であり、Ｐ２はアミノ保護基であり、Ｈａｌはハロゲンであり、その他の記号は前記と同義であり、Ｐ１、Ｐ２およびＲは、Protective Groups in Organic Synthesis, Theodora W Green (John Wiley & Sons)等に記載の方法で保護および／または脱保護できる基であればよく、例えばＲは低級アルキル等であり、Ｐ１はアリールアルキル等であり、Ｐ２は低級アルキルオキシカルボニル等である。）
第一工程
市販または公知の方法により調製できる化合物baに、ＤＭＦ、ＤＭＡ、ＮＭＰ、ＴＨＦ等の溶媒の存在下、ＨＡＴＵ、ＷＳＣ・ＨＣｌ等の縮合剤を加え、市販または公知の方法により調製できる化合物bbおよび、トリエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、ピリジン等の３級アミンを加え、１０℃〜６０℃、好ましくは２０℃〜４０℃にて０．１時間〜２４時間、好ましくは１時間〜１２時間反応させることにより、化合物bcを得ることができる。
第二工程
化合物bcを、アミノ保護基の公知の一般的な脱保護反応に付すことにより、化合物bdを得ることができる。
第三工程
ジクロロメタン、ジクロロエタン、アセトニトリルやＤＭＦ等の溶媒中において、化合物bdに、臭素やＮＢＳ、ＮＣＳ、ＮＩＳなどのハロゲン化試薬を加え、Halがブロモの場合、−３０℃〜５０℃、好ましくは−１０℃〜２０℃、０．１時間〜１０時間、好ましくは０．５時間〜２時間反応することによってbeを得ることができる。Halがクロロまたはヨードの場合、１０℃〜１５０℃、好ましくは６０℃〜１２０℃、０．５時間〜２４時間、好ましくは１時間〜６時間反応することによって、化合物beを得ることができる。
【００６４】
（製法３）
【化５５】
2016027879.tif 000056
（式中、Ｐ１はヒドロキシル保護基であり、Ｐ２はアミノ保護基であり、Ｐ３はカルボキシ保護基であり、Ｈａｌはハロゲンであり、その他の記号は前記と同義であり、Ｐ１、Ｐ２およびＰ３は、Protective Groups in Organic Synthesis, Theodora W Green (John Wiley & Sons)等に記載の方法で保護および／または脱保護できる基であればよく、例えばＰ１はアリールアルキル等であり、Ｐ２は低級アルキルオキシカルボニル等であり、Ｐ３は低級アルキル等である。）
第一工程
公知の方法により調製できる化合物daに、ＤＭＦ、ＤＭＡ、ＮＭＰ、ＴＨＦ等の溶媒の存在下、ＨＡＴＵ、ＷＳＣ・ＨＣｌ等の縮合剤を加え、市販または公知の方法により調製できる化合物dbおよび、トリエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、ピリジン等の３級アミンを加え、１０℃〜６０℃、好ましくは２０℃〜４０℃にて０．１時間〜２４時間、好ましくは１時間〜１２時間反応させることにより、化合物dcを得ることができる。
第二工程
化合物dcを、アミノ保護基の公知の一般的な脱保護反応に付すことにより、化合物deを得ることができる。
第三工程
化合物deに、トルエン、ＤＭＦ、ＤＭＡ、ＮＭＰ等の溶媒の存在下、市販または、公知の方法で調製できる化合物df、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン等の３級アミンおよび酢酸を加え、６０℃〜１２０℃、好ましくは８０℃〜１００℃にて０．１時間〜２４時間、好ましくは１時間〜１２時間反応させることにより、化合物dgを得ることができる。
第四工程
ジクロロメタン、ジクロロエタン、アセトニトリルやＤＭＦ等の溶媒中において、化合物dgに、臭素やＮＢＳ、ＮＣＳ、ＮＩＳなどのハロゲン化試薬を加え、Halがブロモの場合、−３０℃〜５０℃、好ましくは−１０℃〜２０℃、０．１時間〜１０時間、好ましくは０．５時間〜２時間反応することによってdhを得ることができる。Halがクロロまたはヨードの場合、１０℃〜１５０℃、好ましくは６０℃〜１２０℃、０．５時間〜２４時間、好ましくは１時間〜６時間反応することによって、化合物dhを得ることができる。
第五工程
化合物dhをジオキサン、ＤＭＦ、ＤＭＥ、テトラヒドロフラン等の溶媒あるいは混合溶媒中において、Ｐｄ（ＰＰｈ３）４、Ｐｄ（ＯＡｃ）２、Ｐｄ（ＰＰｈ３）２Ｃｌ２、Ｐｄ（ｄｐｐｆ）２Ｃｌ２やＰｄ（ｄｔｂｐｆ）等のパラジウム触媒と、エタノール、プロパノール、ブタノール等の低級アルキルアルコールを加え、一酸化炭素雰囲気下にて、０℃〜１５０℃、好ましくは６０℃〜１２０℃で、０．５時間〜２４時間、好ましくは１時間〜１２時間反応させることにより、化合物diを得ることができる。
第六工程
化合物diを、カルボキシル保護基の公知の一般的な脱保護反応に付すことにより化合物djを得ることができる。
【００６５】
上記で得られた本発明化合物をさらに化学修飾して、別の化合物を合成してもよい。また上記反応中で、側鎖部分などに反応性官能基（例：ＯＨ、ＣＯＯＨ、ＮＨ２）が存在する場合には、所望により、反応前に保護し、反応後に脱保護してもよい。
保護基（アミノ保護基、ヒドロキシ保護基など）としては、例えばエトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル、アセチル、ベンジルなどの、Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ  Ｇｒｏｕｐｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ、Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎ著、Ｊｏｈｎ
Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ  Ｉｎｃ．（１９９１年）などに記載されている保護基をあげることができる。保護基の導入および脱離方法は、有機合成化学で常用される方法［例えば、Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ  Ｇｒｏｕｐｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ、Ｔ．  Ｗ．  Ｇｒｅｅｎｅ著、Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ  Ｉｎｃ．（１９９１年）参照］などに記載の方法あるいはそれらに準じて得ることができる。また、各置換基に含まれる官能基の変換は、上記製造法以外にも公知の方法［例えば、Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｔｒａｎｓｆｏｒｍａｔｉｏｎｓ、Ｒ．Ｃ．Ｌａｒｏｃｋ著（１９８９年）など］によっても行うことができ、本発明の化合物の中には、これを合成中間体としてさらに新規な誘導体へ導くことができるものもある。上記各製造法における中間体および目的化合物は、有機合成化学で常用される精製法、例えば中和、濾過、抽出、洗浄、乾燥、濃縮、再結晶、各種クロマトグラフィーなどに付して単離精製することができる。また、中間体においては、特に精製することなく次の反応に供することも可能である。
【００６６】
本発明化合物は、例えば抗ウイルス薬等の医薬として有用である。本発明化合物は、ウイルスのインテグラーゼに対して顕著な阻害作用を有する。よって本発明化合物は、動物細胞内で感染時に少なくともインテグラーゼを産出して増殖するウイルスに起因する各種疾患に対して、予防または治療効果が期待でき、例えば、レトロウイルス（例、HIV-1、HIV-2、HTLV-1、SIV、FIV等）に対するインテグラーゼ阻害剤として有用であり、抗HIV薬等として有用である。より好ましい化合物は、体内動態として、血中濃度が高い、効果の持続時間が長い、および／または組織移行性が顕著である等の特徴も有している。また、好ましい化合物は副作用の点で安全である。
また、本発明化合物は、逆転写酵素阻害剤および／またはプロテアーゼ阻害剤等の異なる作用メカニズムを有する抗HIV薬と組み合わせて併用療法に用いることもできる。
さらに、上記の使用としては、抗ＨＩＶ用合剤としてのみならず、カクテル療法等のように、他の抗HIV薬の抗HIV活性を上昇させるような併用剤としての使用も含まれる。
また、本発明化合物は、遺伝子治療の分野において、HIVやMLVをもとにしたレトロウイルスベクターを用いる際に、目的の組織以外にレトロウイルスベクターの感染が広がるのを防止するために使用することができる。特に、試験管内で細胞等にベクターを感染しておいてから体内にもどすような場合に、本発明化合物を事前に投与しておくと、体内での余計な感染を防ぐことができる。
【００６７】
本発明化合物は、経口的または非経口的に投与することができる。経口投与による場合、本発明化合物は通常の製剤、例えば、錠剤、散剤、顆粒剤、カプセル剤等の固形剤；水剤；油性懸濁剤；またはシロップ剤もしくはエリキシル剤等の液剤のいずれかの剤形としても用いることができる。非経口投与による場合、本発明化合物は、水性または油性懸濁注射剤、点鼻液として用いることができる。その調製に際しては、慣用の賦形剤、結合剤、滑沢剤、水性溶剤、油性溶剤、乳化剤、懸濁化剤、保存剤、安定剤等を任意に用いることができる。なお、抗HIV薬としては、特に経口剤が好ましい。本発明の製剤は、治療有効量の本発明化合物を製薬上許容される担体または希釈剤とともに組み合わせる（例えば混合する）ことによって製造される。
本発明化合物の投与量は、投与方法、患者の年齢、体重、状態および疾患の種類によっても異なるが、通常、経口投与の場合、成人１日あたり約０．０５ｍｇ〜３０００ｍｇ、好ましくは、約０．１ｍｇ〜１０００ｍｇを、要すれば分割して投与すればよい。また、非経口投与の場合、成人１日あたり約０．０１ｍｇ〜１０００ｍｇ、好ましくは、約０．０５ｍｇ〜５００ｍｇを投与する。
【実施例】
【００６８】
以下に実施例を示す。
〈略号〉
Ｂｎ：ベンジル
ＤＭＡ：ジメチルアセトアミド
ＤＭＦ：ジメチルホルムアミド
ＨＡＴＵ：Ｏ−（７−アザベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウム  ヘキサフルオロホスフェイト
ＮＢＳ：Ｎ−ブロモスクシンイミド
ＮＣＳ：Ｎ−クロロスクシンイミド
ＮＩＳ：Ｎ−ヨードスクシンイミド
ＮＭＰ：Ｎ−メチルピロリドン
ＰｄＣｌ２（ｄｐｐｆ）：ジクロロ［１，１’−ビス（ジフェニルフォスフィノ）フェロセン］パラジウム
Ｐｄ（ＰＰｈ３）４：テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）
ＴＦＡ：トリフルオロ酢酸
ＴＨＦ：テトラヒドロフラン
ＷＳＣ・ＨＣｌ：１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩【００６９】
各実施例で得られたＮＭＲ分析は３００ＭＨｚまたは４００ＭＨｚで行い、ＤＭＳＯ−ｄ６、ＣＤＣｌ３を用いて測定した。
表中、”No.”は化合物番号、”Structure”は化学構造、”RT(min)”はＬＣ／ＭＳ（液体クロマトグラフィー／質量分析）でのリテンションタイム（分）、”[M+H]+”はＬＣ／ＭＳ（液体クロマトグラフィー／質量分析）での分子量を表し、”Method”は以下の測定条件を示す。移動相中で２種の異性体として存在し得る化合物については、測定ピークが２本になり得る。【００７０】
（測定条件）
（Ａ）カラム：ＡＣＱＵＩＴＹ  ＵＰＬＣ（登録商標）ＢＥＨ  Ｃ１８  （１．７μｍ  ｉ．ｄ．２．１ｘ５０ｍｍ）（Ｗａｔｅｒｓ）
流速：０．８  ｍＬ／分；ＵＶ検出波長：２５４ｎｍ；
移動相：［Ａ］は０．１％ギ酸含有水溶液［Ｂ］は０．１％ギ酸含有アセトニトリル溶液
３．５分間で５％−１００％溶媒［Ｂ］のリニアグラジエントを行った後、０．５分間、１００％溶媒［Ｂ］を維持した。
（Ｂ）カラム：Ｓｈｉｍ−ｐａｃｋ  ＸＲ−ＯＤＳ  （２．２μｍ、ｉ．ｄ．５０ｘ３．０ｍｍ）  （Ｓｈｉｍａｄｚｕ）
流速：１．６  ｍＬ／分；ＵＶ検出波長：２５４ｎｍ；
移動相：［Ａ］は０．１％ギ酸含有水溶液、［Ｂ］は０．１％ギ酸含有アセトニトリル溶液
グラジェント：３分間で１０％−１００％溶媒［Ｂ］のリニアグラジエントを行い、０．５分間、１００％溶媒［Ｂ］を維持した。
【００７１】
実施例１
特許文献１５（国際公開第２０１３／０５４８６２号）の実施例１に従い、下記の化合物を合成した。
【表１】
2016027879.tif 000057
【表２】
2016027879.tif 000058
【表３】
2016027879.tif 000059
【００７２】
特許文献１５（国際公開第２０１３／０５４８６２号）の実施例３に従い、下記の化合物を合成した。
【表４】
2016027879.tif 000060
【表５】
2016027879.tif 000061
【表６】
2016027879.tif 000062
【表７】
2016027879.tif 000063
【００７３】
実施例２  化合物Ａ−４０の合成
【化５６】
2016027879.tif 000064
工程１  化合物１の合成
５−ブロモチアゾール−２−カルバルデヒド（１．８１ｇ、９．４３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（３６ｍｌ）に、１ｍｏｌ／Ｌ臭化（２，４−ジフルオロフェニル）マグネシウム／ＴＨＦ溶液（１４ｍＬ）を−７８℃で滴下し、一時間撹拌した。１ｍｏｌ／Ｌ塩酸水溶液を加え、室温に戻した後、酢酸エチルにて抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥後、濃縮した。得られた残渣にトリフルオロ酢酸（１０．９ｍｌ）とトリエチルシラン（５．４ｍＬ）を加えて８０℃で４時間撹拌した。反応液を室温まで冷却し、溶媒を減圧留去し得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン−酢酸エチルで溶出して精製し、化合物１（１．４１ｇ、収率５２％）を得た。
MS: m/z = 290 [M+H]+
工程２  化合物３の合成
化合物２（２．００ｇ、４．７７ｍｍｏｌ）のＤＭＦ溶液（２０ｍｌ）に、ピナコールジボラン（６．０６ｇ、２３．９ｍｍｏｌ）、酢酸カリウム（２．３９ｇ、２４．３ｍｍｏｌ）およびＰｄＣｌ２（ｄｐｐｆ） ＣＨ２Ｃｌ２（３９０ｍｇ、０．４７７ｍｍｏｌ）を加え、１１０℃にて１０分間撹拌した。得られた溶液を室温まで放冷後、水を加え、酢酸エチルにて抽出した。有機層を２回水洗し、飽和食塩水溶媒で洗浄、硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去した。ヘキサン−酢酸エチル（４０：１、ｖ：ｖ）に懸濁させ、固体をろ取、ヘキサン洗浄し、化合物３（１．３９ｇ、収率７６％）を得た。
MS: m/z = 385 [M+H]+
工程３  化合物４の合成
工程２で得られた化合物３（２００ｍｇ、０．５２１ｍｍｏｌ）のＤＭＦ溶液（２ｍｌ）に、工程１で得られた化合物１、２ｍｏｌ／Ｌ炭酸ナトリウム水溶液（５２１μｌ）およびＰｄＣｌ２（ｄｐｐｆ） ＣＨ２Ｃｌ２（４３ｍｇ、０．０５２ｍｍｏｌ）を加え、１１０℃にて９０分間撹拌した。得られた溶液を室温まで放冷後、水を加え、酢酸エチルにて抽出した。有機層を２回水洗、硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、クロロホルム−メタノールで溶出して精製し、化合物４（１４２ｍｇ、収率５０％）を得た。
MS: m/z = 369 [M+H]+
工程４  Ａ−４０の合成
化合物４（１４２ｍｇ、０．２５８ｍｍｏｌ）をＴＦＡ（２ｍｌ）に溶解し室温で１時間撹拌した。得られた反応液を減圧濃縮してクロロホルムで希釈し、炭酸水素ナトリウム水溶液、５％クエン酸水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥して溶媒を減圧留去し、得られた残渣に酢酸エチル−ジイソプロピルエーテルを加えて固化し、固体をろ取することでＡ−４０（１００ｍｇ、収率８５％）を得た。
LC/MS (ESI): 1.78 min, found 460 (M+1)
1H-NMR (DMSO-D6) δ: 12.29 (1H, s), 8.53 (1H, s), 8.16 (1H, s), 7.57-7.46 (1H, m), 7.31-7.22 (1H, m), 7.15-7.04 (1H, m), 5.53-5.43 (1H, m), 4.88-4.76 (1H, m), 4.52-4.40 (1H, m), 4.33 (2H, s), 4.30-4.21 (1H, m), 4.10-4.01 (1H, m), 3.95-3.86 (1H, m), 2.05-1.98 (1H, m), 1.59-1.50 (1H, m), 1.35 (3H, d, J = 7.0 Hz).
【００７４】
実施例２と同様の手法を用いて、下記の化合物を合成した。
【表８】
2016027879.tif 000065
【００７５】
実施例３  化合物Ａ−４５の合成
出発原料に２−ブロモ−４−メチルチアゾール−５−カルバルデヒドを用いて実施例２と同様の方法によりＡ−４５を合成した。
【化５７】
2016027879.tif 000066
LC/MS (ESI): 1.92 min, found 474 (M+1)
1H-NMR (DMSO-D6)δ: 12.46 (1H, br s), 8.64 (1H, s), 7.43-7.34 (1H, m), 7.27-7.19 (1H, m), 7.10-7.02 (1H, m), 5.50-5.42 (1H, m), 4.87-4.76 (1H, m), 4.66-4.56 (1H, m), 4.44-4.35 (1H, m), 4.13 (2H, s), 4.09-3.98 (1H, m), 3.96-3.86 (1H, m), 2.38 (3H, s), 2.11-1.95 (1H, m), 1.62-1.48 (1H, m), 1.34 (3H, d, J = 6.8 Hz).
【００７６】
実施例３と同様の手法を用いて下記化合物を合成した。
【表９】
2016027879.tif 000067
【００７７】
実施例４  化合物Ａ−４９の合成
【化５８】
2016027879.tif 000068
化合物２の合成
窒素気流下、４−ブロモ−１Ｈ−イミダゾール（２００ｍｇ、１．３６ｍｍｏｌ）のアセトン（３ｍｌ）溶液に、炭酸カリウム（２４４ｍｇ、１．７７ｍｍｏｌ）および２，４−ジフルオロベンジルブロミド（０．１７５ｍｌ、１．３６１ｍｍｏｌ）を加え、室温にて２時間撹拌した。得られた反応液を濾過し、ろ液を減圧下濃縮した。得られた粗精製物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、精製した。はじめにヘキサン−酢酸エチル（９：１、ｖ/ｖ）で溶出し、次いでヘキサン−酢酸エチル（１：１、ｖ/ｖ）で溶出した。目的の画分を濃縮し、化合物２（２５６ｍｇ、収率６９％）を得た。
1H-NMR（DMSO-d6）δ：5.25 (s, 2H), 7.13 (m, 1H), 7.29-7.35 (m, 2H), 7.40 (m, 1H), 7.74 (s, 1H).
化合物１から化合物２を用いて、実施例２と同様の手法で化合物Ａ−４９を合成した。
LC/MS (ESI): 1.14 min, found 443 (M+1)
【００７８】
実施例４と同様の手法を用いて、下記の化合物を合成した。
【表１０】
2016027879.tif 000069
【００７９】
実施例５  化合物Ａ−５１の合成
【化５９】
2016027879.tif 000070
化合物１から、実施例２と同様の手法で化合物Ａ−５１を合成した。
LC/MS (ESI): 1.72 min, found 463 (M+1)
【００８０】
実施例６  化合物Ａ−５２の合成
【化６０】
2016027879.tif 000071
化合物２の合成
氷冷下、化合物１（２００ｍｇ、１．０７ｍｍｏｌ）をアセトニトリル（２ｍｌ）に溶解し、ヨウ化メチル（０．３３４ｍｌ、５．３４ｍｍｏｌ）を加えて８０℃にて２時間撹拌した。室温に放冷し、およそ半量の溶媒を減圧留去して、析出した固体をろ取することで化合物２（３２８ｍｇ、収率９３％）を得た。
1H-NMR（DMSO-d6）δ：2.63 (s, 1H), 4.23 (s, 1H), 7.19 (m, 1H), 7.36 (m, 1H), 7.55 (m, 1H), 11.70 (brs, 1H).
工程１  化合物４の合成
氷冷下、化合物３（５００ｍｇ、１．３０ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（５ｍｌ）に懸濁し、トリエチルアミン（０．１９ｍｌ、１．４３ｍｍｏｌ）およびクロロ蟻酸イソブチル（０．３６ｍｌ、２．６０ｍｍｏｌ）を加えた。室温にて１時間撹拌後、この懸濁液を、氷冷下でヒドラジン一水和物（０．６４ｍｌ、１３．０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（３ｍｌ）溶液に加えた。室温に昇温して２時間撹拌後、重曹水を加え、クロロホルムで２回抽出した。合わせた抽出液を硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）に付し、精製した。目的の画分を濃縮し、化合物４（４３０．５ｍｇ、収率８３％）を得た。
1H-NMR（DMSO-d6）δ：1.27 (d, J = 6.8 Hz, 3H), 1.50 (dd, J = 1.2 Hz, 13.6 Hz, 1H), 1.94 (m, 1H), 3.85 (m, 1H), 3.96 (m, 1H), 4.37 (dd, J = 6.0 Hz, 14.0 Hz, 1H), 4.56 (dd, J = 4.5 Hz, 14.0 Hz, 1H), 4.66 (d, J = 4.8 Hz, 2H), 4.78 (m, 1H), 5.07 (s, 1H), 5.34 (m, 1H), 7.28-7.40 (m, 3H), 7.54-7.60 (m, 2H), 8.31 (s, 1H), 8.57 (s, 1H), 10.80 (s, 1H).
工程２  化合物５の合成
化合物４（１５５ｍｇ、０．３９ｍｍｏｌ）のＥｔＯＨ（３ｍｌ）溶液に、化合物２（２８２ｍｇ、０．８６ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（０．１４ｍｌ、０．９７ｍｍｏｌ）を加え、９０℃の油浴にて３時間加熱還流した。さらにマイクロ波照射化、１４０℃で８分間撹拌した。得られた反応液を濾過してろ液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）に付し、精製した。目的の画分を濃縮し、化合物５（６６ｍｇ、収率３２％）を得た。
1H-NMR（CDCl3）δ：1.34 (d, J = 5.1 Hz, 3H), 1.51 (dd, J = 2.4 Hz, 14.4 Hz, 1H), 2.16 (m, 1H), 3.92-3.99 (m, 2H), 4.11 (dd, J = 6.0 Hz, 14.4 Hz, 1H), 4.13 (s, 2H), 4.22 (dd, J =3.6 Hz, 13.2 Hz, 1H), 5.01 (m, 1H), 5.17 (m, 1H), 5.38 (m, 2H), 6.81 (m, 2H), 7.20-7.37 (m, 4H), 7.60-7.64 (m, 2H), 8.32 (s, 1H), 8.57 (s, 1H), 13.0 (s, 1H).
工程３  Ａ−５２の合成
化合物５（６５ｍｇ、０．３９ｍｍｏｌ）をＴＦＡ（１ｍｌ）に溶解し室温で１時間撹拌した。得られた反応液を減圧濃縮してクロロホルムで希釈し、炭酸水素ナトリウム水溶液、５％クエン酸水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥して溶媒を減圧留去し、得られた残渣に酢酸エチルを加えて固化し、固体をろ取することで化合物Ａ−５２（４５ｍｇ、収率８４％）を得た。
LC/MS (ESI): 1.44 min, found 444 (M+1)
【００８１】
実施例７  化合物Ａ−５３の合成
【化６１】
2016027879.tif 000072
工程１  化合物３の合成    
化合物１（８２ｍｇ、０．４１ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（１５ｍＬ）、メタノール（３ｍＬ）に溶解し、トリエチルアミン（１６５ｍｇ、１．６３ｍｍｏｌ）、化合物２（２３１ｍｇ、０．６１ｍｍｏｌ）および酢酸（２５ｍｇ、０．４１ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で４８時間加熱還流した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、塩化メチレンで２回抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（メタノール−クロロホルム）により精製し、化合物３（１１４ｍｇ、収率６４％）を得た。
LC/MS(ESI):438[M+1]
工程２  化合物４の合成    
化合物３（１１４ｍｇ、０．２６ｍｍｏｌ）をメタノール（５ｍＬ）に溶解し、２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（０．２６ｍＬ、０．５２ｍｍｏｌ）を加え、室温で１８時間撹拌した。反応液に水を加え、１ｍｏｌ／Ｌ塩酸水溶液でｐＨ６．８に調整後、クロロホルムで抽出し、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、化合物４（１０２ｍｇ、収率９２％）を得た。
LC/ MS (ESI):424[M+1]
化合物４から、特許文献１５（国際公開第２０１３／０５４８６２号）の実施例３に従い化合物Ａ−５３を合成した。
LC/ MS(ESI):500[M+1]
【００８２】
実施例７と同様の手法を用いて、下記の化合物を合成した。
【表１１】
2016027879.tif 000073
【００８３】
上記いずれかの方法と同様の手法を用いて、下記の化合物を合成した。
【表１２】
2016027879.tif 000074
【表１３】
2016027879.tif 000075
【表１４】
2016027879.tif 000076
【表１５】
2016027879.tif 000077
【表１６】
2016027879.tif 000078
【００８４】
実施例８  化合物Ｂ−１の合成
【化６２】
2016027879.tif 000079
工程１
化合物１（７．４３ｇ、２３．３ｍｍｏｌ）と化合物２（５．００ｇ、２３．３ｍｍｏｌ）をトルエン（７５ｍｌ）に加え，１００℃で５時間撹拌した。反応液を室温まで冷却し、溶媒を減圧留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ｎ−ヘキサン−酢酸エチルで溶出して精製し、化合物３（７．７８ｇ、収率６５％）を得た。
MS: m/z = 515 [M+H]+
工程２
工程１で得られた化合物３（７．７８ｇ、１５．１ｍｍｏｌ）を４ｍｏｌ／Ｌ塩酸／酢酸エチル溶液（８０ｍｌ）に溶解させ、室温で３０分間撹拌した。溶媒を減圧留去した後、トルエンおよびトリエチルアミンを加えて８０℃で２時間撹拌した。反応液を室温まで冷却し、溶媒を減圧留去して得られた粗生成物をジエチルエーテルで洗浄し、化合物４（５．４５ｇ、収率９４％）を得た。
MS: m/z = 383 [M+H]+
工程３
工程２で得られた化合物４（５．４５ｇ、１４．３ｍｍｏｌ）をメタノール（１００ｍｌ）とテトラヒドロフラン（５０ｍｌ）に溶解し、２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（３５．６ｍｌ、７１．３ｍｍｏｌ）を加えて室温で１時間撹拌した。反応液に１ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加えて酸性にし、得られた白色沈殿物をろ取した。水とジエチルエーテルで洗浄した後に乾燥し、化合物５（４．８９ｇ、収率９３％）を得た。
MS: m/z = 369 [M+H]+
化合物５から特許文献１５（国際公開第２０１３／０５４８６２号）の実施例３に従い、化合物Ｂ−１を合成した。
MS: m/z = 445 [M+H]+
【００８５】
実施例８と同様の手法を用いて、下記化合物を合成した。
【表１７】
2016027879.tif 000080
【表１８】
2016027879.tif 000081
【００８６】
実施例９  化合物Ｂ−１２の合成
【化６３】
2016027879.tif 000082
工程１
化合物１（３．００ｇ，１２．２ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（４５ｍｌ）に溶解し、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（１．６５ｇ、１２．２ｍｍｏｌ）、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（２．８０ｇ、１４．６ｍｍｏｌ）、化合物２（３．６７ｇ、１４．６ｍｍｏｌ）およびＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（２．５５ｍｌ、１４．６ｍｍｏｌ）を加えて室温で２時間撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を１ｍｏｌ／Ｌ塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去して化合物３（４．２２ｇ、７８％）を得た。
MS: m/z = 465 [M+H]+
工程２
工程１で得られた化合物３（４．２２ｇ、９．５４ｍｍｏｌ）を４ｍｏｌ／Ｌ塩酸／酢酸エチル溶液（４５ｍｌ）に溶解させ、室温で３０分間撹拌した。溶媒を減圧留去した後、エタノールを加え、飽和炭酸ナトリウム水溶液で反応液を塩基性にして５０℃で２時間撹拌した。反応液を室温まで冷却し、クロロホルムで抽出した後、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去して得られた粗生成物をジクロロメタンとジイソプロピルエーテルから結晶させ、化合物４（２．３３ｇ、収率７５％）を得た。
MS: m/z = 325 [M+H]+
工程３
工程２で得られた化合物４（２．３３ｇ、７．１８ｍｍｏｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（３０ｍｌ）に溶解し、Ｎ−ブロモスクシンイミド（１．３４ｇ、７．５４ｍｍｏｌ）を加えて室温で３０分撹拌した。反応液に水を加え、ジクロロメタンで抽出した。有機層を水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去した。得られた粗成生物をジクロロメタンおよびジイソプロピルエーテルで洗浄し、化合物５（２．８０ｇ、９７％）を得た。
化合物５から特許文献１５（国際公開第２０１３／０５４８６２号）の実施例１に従い、化合物Ｂ−１２を合成した。
【００８７】
実施例９と同様の手法を用いて、下記化合物を合成した。
【表１９】
2016027879.tif 000083
【表２０】
2016027879.tif 000084
【化６４】
2016027879.tif 000085
【００８８】
化合物Ａから実施例２と同様の手法を用いて化合物Ｂ−２０を合成した。
【表２１】
2016027879.tif 000086
【００８９】
上記いずれかの方法と同様の手法を用いて、下記の化合物を合成した。
【表２２】
2016027879.tif 000087
【００９０】
実施例１０  化合物Ｃ−１の合成
【化６５】
2016027879.tif 000088
化合物１を用い、特許文献１５（国際公開第２０１３／０５４８６２号）の実施例３と同様の手法で化合物Ｃ−１を合成した。
MS: m/z = 614.2 [M+H]+
【００９１】
実施例１０と同様の手法により、以下の化合物を合成した。
【表２３】
2016027879.tif 000089
【表２４】
2016027879.tif 000090
【００９２】
実施例１１  化合物Ｃ−１０の合成
【化６６】
2016027879.tif 000091
特許文献１３（国際公開第２０１０／１４７０６８号）の実施例１４５と同様の方法で合成した化合物１から、特許文献１５（国際公開第２０１３／０５４８６２号）の実施例１と同様の手法で化合物Ｃ−１０を合成した。
LC/MS (ESI): 477 (M+1)
【００９３】
実施例１１と同様の手法を用いて以下の化合物を合成した。
【表２５】
2016027879.tif 000092
【００９４】
実施例１２  化合物Ｃ−１４の合成
【化６７】
2016027879.tif 000093
第１工程
特許文献１３（国際公開第２０１０／１４７０６８号）の化合物１７７Ａと同様の方法で化合物２を合成した。
第２工程
化合物２（１．１３７ｇ、２．７５ｍｍｏｌ）の酢酸エチル（３ｍｌ）溶液に、４ｍｏｌ／Ｌ塩酸（酢酸エチル溶液、２．６ｍｌ、１０．４ｍｍｏｌ）を加えた。室温で２時間撹拌した後に、炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて中和し、クロロホルムで３回抽出した。有機層をあわせて硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去することで化合物３（７６８ｍｇ、収率８９％）を得た。
第３工程
化合物３（７４９ｍｇ、２．３９ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（３．７ｍｌ）溶液に、パラホルムアルデヒド（７２ｍｇ、２．３９ｍｍｏｌ）を加え、１２０℃の油浴で１時間撹拌した。室温まで放冷すると固体が析出したためＤＭＦ（３．７ｍｌ）、ジクロロメタン（７．５ｍｌ）を加えて溶解し、Ｎ−ブロモスクシンイミド（４２５ｍｇ、２．３９ｍｍｏｌ）を加えた。室温で１時間撹拌した後に、水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄して硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた固体を酢酸エチル／イソプロピルエーテル(１：２)に懸濁し、ろ取することで化合物４（６３２ｍｇ、収率６５％）を得た。
LC/MS (ESI): 1.30 min. found 404 (M+1)
第４工程
化合物４（６００ｍｇ、１．４８ｍｍｏｌ）のｎ−ブタノール（６ｍｌ）溶液に、ＰｄＣｌ２（ｄｐｐｆ）・ＣＨ２Ｃｌ２（１２１ｍｇ、０．１４８ｍｍｏｌ）とトリエチルアミン（１．０３ｍｌ、７．４２ｍｍｏｌ）を加えて系内を一酸化炭素で置換した。１１０℃の油浴で２時間加熱還流した後に室温に放冷し、不溶物をろ過して除き、ろ液を減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール、９９：１から９５：５）に付し、精製した。目的の画分を減圧濃縮することで化合物５（４０４ｍｇ、収率６４％）を得た。
LC/MS (ESI): 1.69 min. found 426 (M+1)
第５工程
化合物５（４００ｍｇ、０．９４ｍｍｏｌ）のメタノール（４ｍｌ）溶液に、２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（０．９４ｍｌ、１．８８ｍｍｏｌ）を加えた。室温で２時間撹拌した後に、２ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加えて、析出した固体をろ取することで化合物６（２３４ｍｇ、収率６７％）を得た。
LC/MS (ESI): 1.50 min. found 370 (M+1)
化合物６から、特許文献１５（国際公開第２０１３／０５４８６２号）の実施例３に従い、化合物Ｃ−１４を合成した。
LC/MS (ESI): 462 (M+1)
【００９５】
実施例１２と同様の手法を用いて、以下の化合物を合成した。
【表２６】
2016027879.tif 000094
【００９６】
上記いずれかの方法と同様の手法を用いて、下記の化合物を合成した。
【表２７】
2016027879.tif 000095
【表２８】
2016027879.tif 000096
【表２９】
2016027879.tif 000097
【００９７】
試験例１（抗ＨＩＶ活性）
（試験方法）
予め被験試料を９６ウエルプレートに２倍段階希釈系列を作製した(５０μＬ／ウエル)。抗ＨＩＶ活性測定用、細胞毒性測定用の２枚作製した。各薬剤について２重測定を実施した。２．５×１０５／ｍＬのＭＴ−４細胞懸濁液を、被験試料が入った９６ウエルプレートに１００μＬ／ウエルずつ分注した。ＨＩＶのウイルス液を被験試料、細胞が入った９６ウエルプレートに５０μＬ／ウエルずつ分注した。細胞毒性測定用のプレートには、培養液を５０μＬ／ウエルずつ分注した。プレートミキサーで混和し、ＣＯ２インキュベーターで４日間培養した。４日間培養した９６ウエルプレートを肉眼、顕微鏡下で観察し、陽性コントロールおよび陰性コントロールのウエルについて、ウイルス増殖、抑制が問題ない事を確認した。MTT（3-(4,5-dimethylthiazol-2-yl)-2,5-diphenyltetrazolium bromide）液を各ウエルに３０μＬずつ分注した。ＣＯ２インキュベーターで１時間反応させた。各ウエルから、細胞を吸わないように１５０μＬの上清を除去した。１５０μＬの細胞溶解液を加え、プレートミキサーで細胞が全て溶解するまで良く混和した。混和した９６ウエルプレートを、マイクロプレートリーダーで５６０ｎｍ／６９０ｎｍの２波長で吸光度を測定した。次の計算式に基づき５０％ＨＩＶ阻害濃度（ＥＣ５０）を算出した。
EC50 = 10 Z 
Z = (50% - Low %) / (High % -Low %) x {log(High conc.) - log(Low conc.)} + log(Low conc.)
次の計算式に基づき５０％細胞毒性濃度（ＣＣ５０）を算出した。
CC50 = 10 Z 
Z = (50% - Low %) / (High % -Low %) x {log(High conc.) - log(Low conc.)} + log(Low conc.)
次の計算式に基づき選択指数(selectivity index(SI))を算出した。
SI=CC50/EC50
（結果）
【表３０】
2016027879.tif 000098
【表３１】
2016027879.tif 000099
【００９８】
製剤例
「活性成分」なる用語は、本発明化合物、その互変異性体、それらの製薬的に許容されるまたはそれらの溶媒和物を意味する。
（製剤例１）
硬質ゼラチンカプセルは次の成分を用いて製造する：
用量
（ｍｇ／カプセル）
活性成分                            ２５０
デンプン（乾燥）                    ２００
ステアリン酸マグネシウム              １０
合計                                ４６０ｍｇ
（製剤例２）
錠剤は下記の成分を用いて製造する：
用量
（ｍｇ／カプセル）
活性成分                            ２５０
セルロース（微結晶）                ２００
二酸化ケイ素（ヒューム）              １０
ステアリン酸                            ５
合計                                ６６５ｍｇ
成分を混合し、圧縮して各重量６６５ｍｇの錠剤にする。
【産業上の利用可能性】
【００９９】
本発明化合物は、ウイルス、特にＨＩＶに対してインテグラーゼ阻害活性および／または細胞増殖阻害活性を有する。よって、インテグラーゼが関与する各種疾患やウイルス感染症（例：エイズ）等の予防または治療に有用である。
【国際調査報告】
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