(57)【要約】  本発明の課題は、ガラス基板の厚さが０．６ｍｍ以下であっても、生産性を良好にしつつ、エッグムラが発生しない液晶表示装置を提供することである。当該液晶表示装置は、バックライト光源、偏光板、一対のガラス基板間に液晶層を有する液晶セル及び偏光板をこの順に備えた液晶表示装置であって、少なくとも一枚のガラス基板の厚さが、０．６ｍｍ以下であり、偏光板が、偏光子と、当該偏光子の一方の面に配置された位相差フィルムと、当該偏光子の他方の面に配置された偏光子保護フィルムと、を有し、当該偏光子保護フィルムが、２５℃・５５％ＲＨにおける弾性率（Ｅ1）と２５℃・９５％ＲＨにおける弾性率（Ｅ2）とが、特定の関係を満たし、かつ、透湿度が、特定の範囲内であることを特徴とする。
2016052015.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
バックライト光源、偏光板、一対のガラス基板間に液晶層を有する液晶セル及び偏光板をこの順に備えた液晶表示装置であって、
少なくとも一枚の前記ガラス基板の厚さが、０．６ｍｍ以下であり、
前記偏光板が、偏光子と、当該偏光子の一方の面に配置された位相差フィルムと、当該偏光子の他方の面に配置された偏光子保護フィルムと、を有し、
当該偏光子保護フィルムが、
２５℃・５５％ＲＨにおける弾性率（Ｅ1）と２５℃・９５％ＲＨにおける弾性率（Ｅ2）とが、下記式（１）の関係を満たし、
式（１）：０．９５≦Ｅ1／Ｅ2≦１．３０
かつ、４０℃・９０％ＲＨで測定した、透湿度が、２００〜２０００ｇ／ｍ２・２４ｈの範囲内であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記偏光子保護フィルムが、
２５℃・５５％ＲＨにおける弾性率（Ｅ1）と２５℃・９５％ＲＨにおける弾性率（Ｅ2）とが、下記式（２）の関係を満たす
式（２）：１．０１≦Ｅ1／Ｅ2≦１．２０
ことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記偏光子保護フィルムが、
４０℃・９０％ＲＨで測定した、透湿度が、３００〜１５００ｇ／ｍ２・２４ｈの範囲内であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記偏光子保護フィルムが、総置換度が２．２以上であり、かつ、そのうち芳香族アシル基による置換度が０．２以上であるセルロースエステルフィルムであることを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれか一項に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置に関する。より詳しくは、ガラス基板の厚さが０．６ｍｍ以下であっても、生産性を良好にしつつ、エッグムラが発生しない液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、液晶テレビやパソコンの液晶ディスプレイ等の用途で、需要が拡大している。通常、液晶表示装置は、透明電極、液晶層、カラーフィルター等をガラス板で挟み込んだ液晶セルと、その両側に設けられた２枚の偏光板で構成されており、それぞれの偏光板は、偏光子（偏光フィルムともいう。）を２枚の光学フィルム（例えば、偏光子保護フィルム、位相差フィルム等。）で挟まれた構成となっている。【０００３】
しかし、昨今の液晶テレビ画面の大型化、薄膜化、更には光源にＬＥＤのバックライトが使用されるようになり、液晶セルを挟んで上側偏光板（視認側偏光板）と下側偏光板（光源側偏光板）の組合せによっては、液晶表示装置の設計上、液晶パネル、若しくはバックライトユニット、又はその両者が変形し、部材同士が接触して局所的に円形状の表示ムラ（以下、このような液晶表示装置の表示画面上で発生する円形状（タマゴ状）の表示ムラを、「エッグムラ」ともいう。）が発生するという問題が起こり、その改善が求められていた。【０００４】
ここで、エッグムラの発生機構の詳細は以下のように推察している。
一般に、偏光子が高温高湿下に置かれたときに、配向を緩和しようとするため、配向方向に収縮力が働く。
これまでは、液晶パネルに使われるガラス基板の厚さが０．７ｍｍ以上あったため、従来のフィルム（例えば、特許文献１〜３参照。）を偏光子保護フィルムに使用しても、ガラスの高剛性によって、偏光子の収縮が抑えられ、液晶パネルが反ることはなかった。
しかしながら、最近、液晶テレビ画面の薄型化ニーズでガラス基板の厚さが０．６ｍｍ以下となり、薄くなったことで、ガラス基板が偏光子の収縮を抑える力が低下した。この結果、液晶パネルが反り、バックライトユニット側に膨らむことで、液晶パネルとバックライトユニットとが部分的に接触してしまい、ひいては、エッグムラが発生すると考えられる。
このように、従来、液晶表示装置のエッグムラは、液晶パネルの部材のうち、偏光子が収縮することが主因で発生していると考えられていた。【０００５】
しかし、近年、偏光子保護フィルムにも原因があることが分かった。
すなわち、常温常湿下では高い弾性率を有する偏光子保護フィルムが、高湿度の環境では弾性率が大きく低下してしまうため、偏光子の収縮が抑えきれなくなっていた。
高湿度下における弾性率の低下を抑制するには、含水しにくい疎水的な偏光子保護フィルムを用いる方法が考えられる。
しかしながら、一般的には疎水的な偏光子保護フィルムは透湿性が悪く乾燥性が悪いため、偏光子に水糊で接着した場合、糊が乾きにくい。この結果当該偏光子保護フィルムを用いた液晶表示装置は、生産性が悪くなる問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】国際公開第２００９／０４７９２４号
【特許文献２】特開２００９−１７４４号公報
【特許文献３】特開２００９−１７９７３１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、ガラス基板の厚さが０．６ｍｍ以下であっても、生産性を良好にしつつ、エッグムラが発生しない液晶表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者は、上記課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討する過程において、偏光子保護フィルムが、特定の弾性率及び特定の透湿度であると、ガラス基板の厚さが、０．６ｍｍ以下であっても、偏光子の収縮による液晶パネルの反りを抑えることができるため、エッグムラが発生せず、さらには、偏光子保護フィルムの乾燥性を良好にすることができるため、生産性が良好な液晶表示装置を提供することができることを見いだし本発明に至った。
すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。【０００９】
１．バックライト光源、偏光板、一対のガラス基板間に液晶層を有する液晶セル及び偏光板をこの順に備えた液晶表示装置であって、
少なくとも一枚の前記ガラス基板の厚さが、０．６ｍｍ以下であり、
前記偏光板が、偏光子と、当該偏光子の一方の面に配置された位相差フィルムと、当該偏光子の他方の面に配置された偏光子保護フィルムと、を有し、
当該偏光子保護フィルムが、
２５℃・５５％ＲＨにおける弾性率（Ｅ1）と２５℃・９５％ＲＨにおける弾性率（Ｅ2）とが、下記式（１）の関係を満たし、
式（１）：０．９５≦Ｅ1／Ｅ2≦１．３０
かつ、４０℃・９０％ＲＨで測定した、透湿度が、２００〜２０００ｇ／ｍ２・２４ｈの範囲内であることを特徴とする液晶表示装置。【００１０】
２．前記偏光子保護フィルムが、
２５℃・５５％ＲＨにおける弾性率（Ｅ1）と２５℃・９５％ＲＨにおける弾性率（Ｅ2）とが、下記式（２）の関係を満たす
式（２）：１．０１≦Ｅ1／Ｅ2≦１．２０
ことを特徴とする第１項に記載の液晶表示装置。【００１１】
３．前記偏光子保護フィルムが、
４０℃・９０％ＲＨで測定した、透湿度が、３００〜１５００ｇ／ｍ２・２４ｈの範囲内であることを特徴とする第１項又は第２項に記載の液晶表示装置。【００１２】
４．前記偏光子保護フィルムが、総置換度が２．２以上であり、かつ、そのうち芳香族アシル基による置換度が０．２以上であるセルロースエステルフィルムであることを特徴とする第１項から第３項までのいずれか一項に記載の液晶表示装置。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の上記手段により、少なくとも一枚のガラス基板の厚さが０．６ｍｍ以下であっても、生産性を良好にしつつ、エッグムラが発生しない液晶表示装置を提供することができる。
本発明の効果の発現機構ないし作用機構については、明確にはなっていないが、以下のように推察している。【００１４】
２５℃・５５％ＲＨにおける弾性率（Ｅ1）と２５℃・９５％ＲＨにおける弾性率（Ｅ2）とが、上記式（１）の関係を満たす偏光子保護フィルムを有する偏光板を液晶装置に使用すれば、当該偏光子保護フィルムが偏光子の収縮を抑えることができ、この結果、少なくとも一枚のガラス基板の厚さが０．６ｍｍ以下であっても、液晶パネルが反らず、ひいては、エッグムラが発生しない液晶表示装置を提供できることを見いだした。
さらに、４０℃・９０％ＲＨにおける透湿度が特定の関係を満たす偏光子保護フィルムは、乾燥性が高いため糊が乾きやすく、ひいては、液晶表示装置自体の生産性を良好にできることを見いだし、本発明に至った。
なお、偏光子保護フィルムは、透湿度が２００ｇ／ｍ２・２４ｈ未満では、偏光板作製時にフィルムと偏光子の接着に使う水糊の乾燥が遅くなるため、液晶表示装置の生産速度が上げられず、また、２０００ｇ／ｍ２・２４ｈよりも大きいと、偏光子への水の出入りが制御できずに、偏光子中にあるホウ酸架橋の加水分解を促進してしまう。それにより、配向した状態で固定化されていたヨウ素錯体の配向性が低下するため、偏光子の偏光性能の劣化が起こり、ひいては液晶表示装置の劣化が起こる。【００１５】
また、偏光子保護フィルムの前記弾性率Ｅ1及びＥ2並びに透湿度を上記範囲内とする具体的な手段として、本発明者は、セルロースアセテート（偏光子保護フィルム）のヒドロキシ基を、より疎水的な置換基で置き換えることで、本発明に係る偏光子保護フィルムを作製できることも見いだした。
なお、このような置換は、通常は、疎水性が上がるため、偏光子保護フィルムの透湿度は下がることが予想される。
しかしながら、本発明者は、セルロースアセテートのヒドロキシ基を、特定の割合で、疎水的な置換基で置き換えると、高い透湿度を維持しつつ、含水率を下げることができ、ひいては、弾性率の湿度依存性を大きく低減でき、更には乾燥性も良好なため、生産性を良好にしつつ、エッグムラが発生しない液晶表示装置に適用できることをつきとめた。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の液晶表示装置の構成の一例を説明する概略図
【図２】溶液流延製膜方法のドープ調製工程、流延工程及び乾燥工程の一例を模式的に示した図
【発明を実施するための形態】
【００１７】
本発明の液晶表示装置は、バックライト光源、偏光板、一対のガラス基板間に液晶層を有する液晶セル及び偏光板をこの順に備えた液晶表示装置であって、少なくとも一枚の前記ガラス基板の厚さが、０．６ｍｍ以下であり、前記偏光板が、偏光子と、当該偏光子の一方の面に配置された位相差フィルムと、当該偏光子の他方の面に配置された偏光子保護フィルムと、を有し、当該偏光子保護フィルムが、２５℃・５５％ＲＨにおける弾性率（Ｅ1）と２５℃・９５％ＲＨにおける弾性率（Ｅ2）とが、上記式（１）の関係を満たし、かつ、４０℃・９０％ＲＨで測定した、透湿度が、２００〜２０００ｇ／ｍ２・２４ｈの範囲内であることを特徴とする。この特徴は請求項１から請求項４までの請求項に係る発明に共通する技術的特徴である。
【００１８】
本発明の実施態様としては、前記偏光子保護フィルムが、２５℃・５５％ＲＨにおける弾性率（Ｅ1）と２５℃・９５％ＲＨにおける弾性率（Ｅ2）とが、上記式（２）の関係を満たすことが、少なくとも一枚のガラス基板の厚さが０．６ｍｍ以下であっても、エッグムラがより発生しない液晶表示装置を提供できることから好ましい。
【００１９】
本発明においては、偏光子保護フィルムが、４０℃・９０％ＲＨで測定した、透湿度が、３００〜１５００ｇ／ｍ２・２４ｈの範囲内であることが、生産性が更に良好な液晶表示装置を提供できることから好ましい。
【００２０】
本発明においては、偏光子保護フィルムが、総置換度が２．２以上であり、かつ、そのうち芳香族アシル基による置換度が０．２以上であるセルロースエステルフィルムであることが、少なくとも一枚のガラス基板の厚さが０．６ｍｍ以下であっても、生産性を更に良好にしつつ、エッグムラがより発生しない液晶表示装置を提供できることから好ましい。
【００２１】
以下、本発明とその構成要素及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。
【００２２】
≪液晶表示装置の概要≫
本発明の液晶表示装置は、バックライト光源、偏光板、一対のガラス基板間に液晶層を有する液晶セル及び偏光板をこの順に備えた液晶表示装置であって、少なくとも一枚の前記ガラス基板の厚さが、０．６ｍｍ以下であり、前記偏光板が、偏光子と、当該偏光子の一方の面に配置された位相差フィルムと、当該偏光子の他方の面に配置された偏光子保護フィルムと、を有し、当該偏光子保護フィルムが、２５℃・５５％ＲＨにおける弾性率（Ｅ1）と２５℃・９５％ＲＨにおける弾性率（Ｅ2）とが、下記式（１）の関係を満たし、
式（１）：０．９５≦Ｅ1／Ｅ2≦１．３０
かつ、４０℃・９０％ＲＨで測定した、透湿度が、２００〜２０００ｇ／ｍ２・２４ｈの範囲内であることを特徴とする。
【００２３】
＜液晶表示装置の構成＞
従来の液晶表示装置の構成の例としては、直下型では、図１に示すように、バックライト光源側から［バックライト光源１ａ、光源側偏光板ＰＬ２、液晶セル９ａ及び視認側偏光板ＰＬ１］となっており、主にテレビ等大型の液晶表示装置に用いられている構成である。一方、モバイル用途などの小型液晶表示装置にはサイドライト型の構成（図示せず）のものが用いられている。
【００２４】
拡散板（下拡散シート）３ａは主にバックライトユニット（ＢＬＵ）６ａの面内輝度ムラを低減するための光拡散性の強い光学シートであり、集光シートは拡散光を液晶表示装置１００の正面方向（表示装置平面の法線方向）に集光させるための光学シートであり、上拡散シートは集光シートであるプリズムシートや液晶セル９ａ中の画素など周期的構造により発生するモアレを低減するための、及び下拡散シートで除去しきれない面内輝度ムラを更に低減するために用いられる光学シートである。
【００２５】
液晶セル９ａは、通常、透明電極、液晶層７ａ、カラーフィルター等をガラス基板間に挟み込んだ構成を有している。
液晶セル９ａの表示方法としては、ツイステットネマチック（ＴＮ）、スーパーツイステットネマチック（ＳＴＮ）、バーティカルアライメント（ＶＡ）、インプレインスイッチング（ＩＰＳ）、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル（ＯＣＢ）等のモードの透過型、反射型又は半透過型の液晶表示装置１００に好ましく用いることができる。
【００２６】
バックライト光源１ａに用いられる発光光源２ａ（発光体）としては、ＣＣＦＬ（Ｃｏｌｄ  Ｃａｔｈｏｄｅ  Ｆｌｕｏｒｅｓｃｅｎｔ  Ｌａｍｐ、冷陰極管）、ＨＣＦＬ（Ｈｏｔ  Ｃａｔｈｏｄｅ  Ｆｌｕｏｒｅｓｃｅｎｔ  Ｌａｍｐ、熱陰極管）、ＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ、発光ダイオード）、ＯＬＥＤ（Ｏｒｇａｎｉｃ
ｌｉｇｈｔ−ｅｍｉｔｔｉｎｇ  ｄｉｏｄｅ、有機発光ダイオード［有機ＥＬ］無機ＥＬなどを好ましく用いることができる。
【００２７】
図１に示すように、液晶表示装置は一般にガラス板等の基板で挟み込んだ液晶セルとその液晶セルを挟んで両側に設けられた２枚の偏光板ＰＬ１、ＰＬ２で構成されている。この偏光板のうち一つは視認側（上側）に配置された偏光板を視認側偏光板ＰＬ１、バックライト光源１ａ側（下側）に配置された偏光板を光源側偏光板ＰＬ２と呼ぶ。これらの偏光板は、偏光子（偏光フィルムともいう。）を２枚の光学フィルムで挟んで構成されている。偏光板ＰＬ１は、偏光子を挟んで偏光子保護フィルムＴ１、位相差フィルムＴ２の２枚の光学フィルムから構成されている。偏光板ＰＬ２は、同じく位相差フィルムＴ３、偏光子保護フィルムＴ４の光学フィルムで偏光子を挟んで構成されている。ここで、位相差フィルムＴ２とＴ３が液晶セル側に配置される構造になっている。
【００２８】
＜バックライト光源＞
本発明に係るバックライト光源としては、特に限定されず、公知のものが使用でき、例えば、平板蛍光ランプ、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）及び青色（Ｂ）の発光ダイオード（ＬＥＤ）を有する発光ダイオード（ＬＥＤ）バックライト、有機エレクトロルミネッセンス素子基板を用いた白色バックライト等を用いることができる。
【００２９】
＜液晶セル＞
本発明の液晶表示装置を構成する液晶パネルにおいて、液晶セルは、一対のガラス基板間に液晶層を有するものであれば特に限定されず、任意のものを用いることができる。液晶セルは、ガラス基板８ａと、ガラス基板間に挟時された透明電極、液晶層、カラーフィルター等と、から構成されることが好ましい。
【００３０】
（ガラス基板）
本発明の液晶表示装置においては、少なくとも一枚のガラス基板の厚さは、０．６ｍｍ以下である。
本発明に係るガラス基板は、可視光領域における平均光透過率が６０％で以上であることが好ましく、より好ましくは７０％以上、更に好ましくは８０％以上である。
ガラス材料としては、例えば、シリカガラス、ソーダ石灰シリカガラス、鉛ガラス、ホウケイ酸塩ガラス、無アルカリガラス等が挙げられる。これらのガラス材料の表面には、隣接する層との密着性、耐久性、平滑性の観点から、必要に応じて、研磨等の物理的処理、無機物又は有機物からなる被膜や、これらの被膜を組み合わせたハイブリッド被膜を形成することができる。
液晶セルにおいて、一対のガラス基板のうち一方のガラス基板には、液晶に電圧を印加するための画素電極と対向電極が配置されている。
【００３１】
（液晶層）
液晶層は、特に限定されず、公知のものでよく、例えば、液晶セルの表示方式がＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式である場合、正の誘電率異方性（Δε＞０）又は負の誘電率異方性（Δε＞０）を有する液晶分子を含むものであることが好ましい。また、この場合、液晶分子は、電圧無印加時には基板面に対して水平に配向している。
このように構成された液晶セルでは、一方のガラス基板に設けられた画素電極と対向電極との間に、ガラス基板面に対して水平方向の電界を生じさせる。それにより、ガラス基板面に対して水平配向している液晶分子を、ガラス基板面と水平な面内で回転させる。それにより、液晶分子を駆動し、各副画素の透過率及び反射率を変化させて画像表示を行う。
【００３２】
＜偏光板＞
偏光板は、偏光子とその両側に配置された偏光子と、当該偏光子の一方の面に配置された位相差フィルムと、当該偏光子の他方の面に配置された偏光子保護フィルムと、を少なくとも有して構成される。この偏光板は、自然光や偏光を直線偏光、円偏光、楕円偏光等の任意の偏光に変換する機能を有する。
【００３３】
（偏光子）
偏光板の主たる構成要素である偏光子とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光子（偏光膜ともいう。）は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムで、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがある。
【００３４】
偏光子は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。
【００３５】
（偏光子保護フィルム）
偏光子保護フィルムは、偏光板ＰＬ１においては視認側に配置され、偏光板ＰＬ２においてはバックライト光源１ａ側に配置される。図１においては、Ｔ１及びＴ４が偏光子保護フィルムである。
本発明においては、偏光子保護フィルムは、２５℃・５５％ＲＨにおける弾性率（Ｅ1）と２５℃・９５％ＲＨにおける弾性率（Ｅ2）とが、下記式（１）の関係を満たし、
式（１）：０．９５≦Ｅ1／Ｅ2≦１．３０
かつ、４０℃・９０％ＲＨで測定した、透湿度が、２００〜２０００ｇ／ｍ２・２４ｈの範囲内である。
【００３６】
なお、偏光子保護フィルムは、２５℃・５５％ＲＨにおける弾性率（Ｅ1）と２５℃・９５％ＲＨにおける弾性率（Ｅ2）とが、下記式（２）の関係を満たす
式（２）：１．０１≦Ｅ1／Ｅ2≦１．２０
ことが、更に好ましい。
【００３７】
また、偏光子保護フィルムは、４０℃・９０％ＲＨで測定した、透湿度が、３００〜１５００ｇ／ｍ２・２４ｈの範囲内であることが、さらに好ましい。
【００３８】
偏光子保護フィルムを製造する材料は、特に限定されないが、例えば、後述のフィルム材料を好適に使用することができる。その中でも、総置換度が２．２以上であり、かつ、そのうち芳香族アシル基による置換度が０．２以上であるセルロースエステル樹脂からなるセルロースエステルフィルムであることが、好適に、２５℃・５５％ＲＨにおける弾性率（Ｅ1）と２５℃・９５％ＲＨにおける弾性率（Ｅ2）とが、式（１）の関係を満たし、かつ、４０℃・９０％ＲＨで測定した、透湿度が、２００〜２０００ｇ／ｍ２・２４ｈの範囲内とすることができ、好ましい。
また、偏光子保護フィルムは、総置換度が２．６以上であり、かつ、そのうち芳香族アシル基による置換度が０．６以上であるセルロースエステルフィルムであることが更に好ましい。
【００３９】
（弾性率の測定）
弾性率（引張弾性率）は、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２７に記載の方法に従って測定することができる。
具体的には、例えば、引張試験機及び恒温恒湿槽として（株）オリエンテック製テンシロンＲＴＣ−１２２５Ａ、恒温恒湿槽ＴＬＦ−Ｒ３Ｔ−Ｆ−ＨＳ−Ｗを使用して測定できる。
測定条件としては、例えば、フィルムを７０ｍｍ×１０ｍｍのサイズに切り取り、所定の温湿度（２５℃・５５％ＲＨ又は２５℃・９５％ＲＨ）に保持した恒温恒湿槽内で１時間保持後、チャック間距離５０ｍｍ、試験速度は１００ｍｍ／分で行うことができる。
【００４０】
（透湿度の測定）
透湿度は、ＪＩＳ  Ｚ  ０２０８に記載のカップ法に基づき、測定対象のフィルムを温度４０℃、湿度９０％ＲＨの条件下で２４時間放置して測定できる。
【００４１】
（位相差フィルム）
本発明に係る位相差フィルムは、公知のものを使用でき、所望の位相差を有する視野角拡大に供されるものであれば特に限定されない。位相差フィルムを製造する材料としては、例えば、偏光子保護フィルムと同様に、後述のフィルム材料を好適に使用することができる。
【００４２】
（フィルム材料）
位相差フィルム及び偏光子保護フィルムの製造に用いられるフィルム材料は、特に限定されず、例えば、アクリル樹脂、セルロースエステル樹脂、セルロース樹脂及びシクロオレフィン樹脂が好ましく用いられる。これらの樹脂は透明性があるため好ましい。
なお、以下の説明において、特別に区別する必要のない場合は、偏光子保護フィルムＴ１及びＴ４並びに位相差フィルムＴ２及びＴ３をまとめて、光学フィルムともいう。
【００４３】
（アクリル樹脂）
本発明に係るフィルム材料としてのアクリル樹脂には、メタクリル樹脂も含まれる。樹脂としては特に制限されるものではないが、メチルメタクリレート単位５０〜９９質量％及びこれと共重合可能な他の単量体単位１〜５０質量％からなるものが好ましい。
【００４４】
アクリル樹脂、メタクリル樹脂としては、（メタ）アクリル系単量体の単独又は共重合体、（メタ）アクリル系単量体と共重合性単量体との共重合体が使用できる。（メタ）アクリル系単量体には、例えば、（メタ）アクリル酸；（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸オクチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシルなどの（メタ）アクリル酸Ｃ１−１０アルキル；（メタ）アクリル酸フェニルなどの（メタ）アクリル酸アリール；ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレートなどのヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート；グリシジル（メタ）アクリレート；Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノアルキル（メタ）アクリレート；（メタ）アクリロニトリル；トリシクロデカンなどの脂環式炭化水素基を有する（メタ）アクリレートなどが例示できる。共重合性単量体には、スチレン系単量体、ビニルエステル系単量体、無水マレイン酸、マレイン酸、フマル酸などが例示できる。これらの単量体は単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。
【００４５】
（メタ）アクリル系樹脂としては、例えば、ポリメタクリル酸メチルなどのポリ（メタ）アクリル酸エステル、メタクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸共重合体、メタクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸エステル共重合体、メタクリル酸メチル−アクリル酸エステル−（メタ）アクリル酸共重合体、（メタ）アクリル酸エステル−スチレン共重合体（ＭＳ樹脂など）などが挙げられる。好ましい（メタ）アクリル系樹脂としては、ポリ（メタ）アクリル酸メチルなどのポリ（メタ）アクリル酸Ｃ１−６アルキル、特にメタクリル酸メチルを主成分（５０〜１００質量％、好ましくは７０〜１００質量％程度）とするメタクリル酸メチル系樹脂が挙げられる。
【００４６】
これらの中でも、共重合体の耐熱分解性や流動性の観点から、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｓ−ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート等が好ましく、メチルアクリレートやｎ−ブチルアクリレートが特に好ましく用いられる。
【００４７】
本発明に係るフィルム材料としてのアクリル樹脂は、特に光学フィルムとしての脆性の改善観点で、重量平均分子量（Ｍｗ）が８００００以上であることが好ましい。アクリル樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）が８００００を以上であると、脆性の改善が得られるため好ましい。アクリル樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、８００００〜１００００００の範囲内であることがさらに好ましく、１０００００〜６０００００の範囲内であることが特に好ましく、１５００００〜４０００００の範囲であることが最も好ましい。アクリル樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）の上限値は特に限定されるものではないが、製造上の観点から１００００００以下とされることが好ましい形態である。
【００４８】
（セルロースエステル樹脂）
本発明に係るフィルム材料に使用されるセルロースエステル樹脂としては、特に限定されないが、エステル基は炭素数２〜２２程度の直鎖又は分岐のカルボン酸エステルであることが好ましく、これらのカルボン酸は環を形成してもよく、芳香族カルボン酸のエステルでもよい。なお、これらのカルボン酸は置換基を有してもよい。セルロースエステルとしては、特に炭素数が６以下の低級脂肪酸エステルであることが好ましい。
【００４９】
好ましいセルロースエステル樹脂として、具体的には、セルロースアセテートのほかに、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネートブチレートのようなアセチル基の他にプロピオネート基又はブチレート基が結合したセルロースの混合脂肪酸エステルを挙げることができる。
【００５０】
本発明に係る光学フィルムに用いられるセルロースエステル樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、７５０００以上であり、７５０００〜３０００００の範囲であることが好ましく、１０００００〜２４００００の範囲内であることが更に好ましく、１６００００〜２４００００のものが特に好ましい。セルロースエステル樹脂の重要平均分子量（Ｍｗ）が７５０００以上であれば、セルロースエステル樹脂層自身の自己成膜性や密着の改善効果が発揮され、好ましい。本発明では２種以上のセルロース樹脂を混合して用いることもできる。
【００５１】
前記セルロースエステル樹脂の平均分子量（Ｍｎ、Ｍｗ）は、それぞれゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより以下の測定条件で測定することができる。
【００５２】
溶媒：      メチレンクロライド
カラム：    Ｓｈｏｄｅｘ  Ｋ８０６、Ｋ８０５、Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製を３本接続して使用した）
カラム温度：２５℃
試料濃度：  ０．１質量％
検出器：    ＲＩ  Ｍｏｄｅｌ  ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ：    Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量：      １．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線：  標準ポリスチレンＳＴＫ  ｓｔａｎｄａｒｄ  ポリスチレン（東ソー（株）製）Ｍｗ＝５００〜２８０００００の範囲内の１３サンプルによる校正曲線を使用した。１３サンプルは、ほぼ等間隔に用いることが好ましい。
【００５３】
なお、偏光子保護フィルムＴ１及びＴ４を製造するためのフィルム材料は、式（１）を満たし、かつ、４０℃・９０％ＲＨで測定した、透湿度が、２００〜２０００ｇ／ｍ２・２４ｈの範囲内であるものであれば特に制限されず、例えばポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）などのアクリル樹脂でもよいが、セルロースエステル樹脂であることが好ましい。特に、偏光子保護フィルムは、総置換度が２．２以上であり、かつ、そのうち芳香族アシル基による置換度が０．２以上であるセルロースエステル樹脂（フィルム）であることが、特に好ましい。
また、偏光子保護フィルムＴ１及びＴ４を製造するためのフィルム材料は、式（１）を満たし、かつ、４０℃・９０％ＲＨで測定した、透湿度が、２００〜２０００ｇ／ｍ２・２４ｈの範囲内であるものであれば、市販のセルロースエステルフィルム（例えば、コニカミノルタタックＫＣ８ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ８ＵＡ、ＫＣ６ＵＡ、ＫＣ４ＵＡ、ＫＣ２ＵＡ、ＫＣ４ＡＲ、ＫＣ４ＣＲ、ＫＣ４ＤＲ、ＫＣ４ＦＲ−３、ＫＣ４ＦＲ−４、ＫＣ４ＫＲ、以上コニカミノルタ（株）製）等を用いてもよい。
【００５４】
（芳香族アシル基）
本発明に係る芳香族アシル基（芳香族基を含むアシル基）は、エステル結合部と直接結合しても、連結基を介して結合してもよい。直接結合しているのが好ましい。ここでいう連結基とはアルキレン基、アルケニレン基又はアルキニレン基を表し、連結基は置換基を有していてもよい。連結基として好ましくは炭素原子数が１〜１０のアルキレン基、アルケニレン基及びアルキニレン基、より好ましくは炭素原子数が１〜６のアルキレン基及びアルケニレン基、最も好ましくは炭素原子数が１〜４のアルキレン及びアルケニレン基である。
【００５５】
また、芳香族アシル基における芳香族基は、置換基を有してもよく、芳香族に置換されている置換基及び前述の連結基に置換されている置換基は、例えばアルキル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１２、特に好ましくは１〜８のものであり、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル、シクロヘキシル基などが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１２、特に好ましくは２〜８であり、例えばビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１２、特に好ましくは２〜８であり、例えばプロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素原子数６〜３０、より好ましくは６〜２０、特に好ましくは６〜１２であり、例えばフェニル基、ビフェニル基、ナフチル基などが挙げられる）、アミノ基（好ましくは炭素原子数０〜２０、より好ましくは０〜１０、特に好ましくは０〜６であり、例えばアミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシ基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１２、特に好ましくは１〜８であり、例えばメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる）、アリールオキシ基（好ましくは炭素原子数６〜２０、より好ましくは６〜１６、特に好ましくは６〜１２であり、例えばフェニルオキシ基、２−ナフチルオキシ基などが挙げられる）、アシル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばアセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素原子数７〜２０、より好ましくは７〜１６、特に好ましくは７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニル基などが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１０であり、例えばアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる）、アシルアミノ基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１０であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素原子数７〜２０、より好ましくは７〜１６、特に好ましくは７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素原子数０〜２０、より好ましくは０〜１６、特に好ましくは０〜１２であり、例えばスルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる）、アルキルチオ基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる）、アリールチオ基（好ましくは炭素原子数６〜２０、より好ましくは６〜１６、特に好ましくは６〜１２であり、例えばフェニルチオ基などが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメシル基、トシル基などが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシ基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素原子数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる）、シリル基（好ましくは、炭素原子数３〜４０、より好ましくは３〜３０、特に好ましくは３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）などが挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。
【００５６】
本発明に係る芳香族アシル基が有する芳香族基としては、芳香族炭化水素基でも芳香族ヘテロ環基でもよく、より好ましくは芳香族炭化水素基である。
芳香族炭化水素基としては、炭素原子数が６〜２４のものが好ましく、６〜１２のものがより好ましく、６〜１０のものが最も好ましい。芳香族炭化水素基の具体例としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、ビフェニル基、ターフェニル基などが挙げられ、より好ましくはフェニル基である。芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基が特に好ましい。芳香族ヘテロ環基としては、酸素原子、窒素原子又は硫黄原子のうち少なくとも一つを含むものが好ましい。そのヘテロ環の具体例としては、例えば、フラン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環基としては、ピリジル基、トリアジニル基、キノリル基が特に好ましい。
【００５７】
芳香族アシル基として好ましいものはフェニルアセチル基、ヒドロシンナモイル基、ジフェニルアセチル基、フェノキシアセチル基、ベンジロキシアセチル基、Ｏ−アセチルマンデリル基、３−メトキシフェニルアセチル基、４−メトキシフェニルアセチル基、２，５−ジメトキシフェニルアセチル基、３，４−ジメトキシフェニルアセチル基、９−フルオレニルメチルアセチル基、シンナモイル基、４−メトキシ−シンナモイル基、ベンゾイル基、フェニルベンゾイル基、オルト−トルオイル基、メタ−トルオイル基、パラ−トルオイル基、ｍ−アニソイル基、ｐ−アニソイル基、フェニルベンゾイル基、４−エチルベンゾイル基、４−プロピルベンゾイル基、４−ｔ−ブチルベンゾイル基、４−ブチルベンゾイル基、４−ペンチルベンゾイル基、４−ヘキシルベンゾイル基、４−ヘプチルベンゾイル基、４−オクチルベンゾイル基、４−ビニルベンゾイル基、４−エトキシベンゾイル基、４−ブトキシベンゾイル基、４−ヘキシロキシベンゾイル基、４−ヘプチロキシベンゾイル基、４−ペンチロキシベンゾイル基、４−オクチロキシベンゾイル基、４−ノニロキシベンゾイル基、４−デシロキシベンゾイル基、４−ウンデシロキシベンゾイル基、４−ドデシロキシベンゾイル基、４−イソプロピオキシベンゾイル基、２，３−ジメトキシベンゾイル基、２，５−ジメトキシベンゾイル基、３，４−ジメトキシベンゾイル基、２，６−ジメトキシベンゾイル基、２，４−ジメトキシベンゾイル基、３，５−ジメトキシベンゾイル基、３，４，５−トリメトキシベンゾイル基、２，４，５−トリメトキシベンゾイル基、１−ナフトイル基、２−ナフトイル基、２−ビフェニルカルボニル基、４−ビフェニルカルボニル基、４′−エチル−４−ビフェニルカルボニル基、４′−オクチロキシ−４−ビフェニルカルボニル基、ピペロニロイル基、ジフェニルアセチル基、トリフェニルアセチル基、フェニルプロピオニル基、ヒドロシンナモイル基、α−メチルヒドロシンナモイル基、２，２−ジフェニルプロピオニル基、３，３−ジフェニルプロピオニル基、３，３，３−トリフェニルプロピオニル基、２−フェニルブチリル基、３−フェニルブチリル基、４−フェニルブチリル基、５−フェニルバレリル基、３−メチル−２−フェニルバレリル基、６−フェニルヘキサノイル基、α−メトキシフェニルアセチル基、フェノキシアセチル基、３−フェノキシプロピオニル基、２−フェノキシプロピオニル基、１１−フェノキシデカノイル基、２−フェノキシブチリル基、２−メトキシアセチル基、３−（２−メトキシフェニル）プロピオニル基、３−（ｐ−トルイル）プロピオニル基、（４−メチルフェノキシ）アセチル基、４−イソブチル−α−メチルフェニルアセチル基、４−（４−メトキシフェニル）ブチリル基、（２，４−ジ−ｔ−ペンチルフェノキシ）−アセチル基、４−（２，４−ジ−ｔ−ペンチルフェノキシ）−ブチリル基、（３，４−ジメトキシフェニル）アセチル基、３，４−（メチレンジオキシ）フェニルアセチル基、３−（３，４−ジメトキシフェニル）プロピオニル基、４−（３，４−ジメトキシフェニル）ブチリル基、（２，５−ジメトキシフェニル）アセチル基、（３，５−ジメトキシフェニル）アセチル基、３，４，５−トリメトキシフェニルアセチル基、３−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−プロピオニル基、アセチル基、１−ナフチルアセチル基、２−ナフチルアセチル基、α−トリチル−２−ナフタレン−プロピオニル基、（１−ナフトキシ）アセチル基、（２−ナフトキシ）アセチル基、６−メトキシ−α−メチル−２−ナフタレンアセチル基、９−フルオレンアセチル基、１−ピレンアセチル基、１−ピレンブチリル基、γ−オキソ−ピレンブチリル基、スチレンアセチル基、α−メチルシンナモイル基、α−フェニルシンナモイル基、２−メチルシンナモイル基、２−メトキシシンナモイル基、３−メトキシシンナモイル基、２，３−ジメトキシシンナモイル基、２，４−ジメトキシシンナモイル基、２，５−ジメトキシシンナモイル基、３，４−ジメトキシシンナモイル基、３，５−ジメトキシシンナモイル基、３，４−（メチレンジオキシ）シンナモイル基、３，４，５−トリメトキシシンナモイル基、２，４，５−トリメトキシシンナモイル基、３−メチリデン−２−カルボニル基、４−（２−シクロヘキシロキシ）ベンゾイル基、２，３−ジメチルベンゾイル基、２，６−ジメチルベンゾイル基、２，４−ジメチルベンゾイル基、２，５−ジメチルベンゾイル基、２，４，６−トリメチルベンゾイル基、３−メトキシ−４−メチルベンゾイル基、３，４−ジエトキシベンゾイル基、α−フェニル−Ｏ−トルイル基、２−フェノキシベンゾイル基、２−ベンゾイルベンゾイル基、３−ベンゾイルベンゾイル基、４−ベンゾイルベンゾイル基、２−エトキシ−１−ナフトイル基、９−フルオレンカルボニル基、１−フルオレンカルボニル基、４−フルオレンカルボニル基、９−アントラセンカルボニル基、１−ピレンカルボニル基などが挙げられる。
上記の中でも、より好ましくは、ベンゾイル基、２，４，６−トリメチルベンゾイル基、フェニルベンゾイル基、４−ヘプチルベンゾイル基、２，４，５−トリメトキシベンゾイル基又は３，４，５−トリメトキシベンゾイル基である。
【００５８】
本発明に係る光学フィルムは、光学フィルムとしての機能を損なわない限りは、セルロースエステル樹脂以外の樹脂や添加剤を含有して構成されていても良い。
セルロースエステル樹脂以外の樹脂を含有する場合、添加される樹脂が相溶状態であっても、溶解せずに混合されていてもよい。
【００５９】
本発明に係る光学フィルムにおけるセルロースエステル樹脂の総質量は、光学フィルムの５５質量％以上であることが好ましく、更に好ましくは６０質量％以上であり、特に好ましくは、７０質量％以上である。
【００６０】
セルロースエステル樹脂以外の樹脂や添加剤を用いる際には、本発明に係る光学フィルムの機能を損なわない範囲で添加量を調整することが好ましい。
【００６１】
（シクロオレフィン系樹脂）
本発明に係るフィルム材料としてのシクロオレフィン系樹脂は脂環式構造を含有する重合体樹脂からなるものである。
【００６２】
好ましいシクロオレフィン系樹脂は、環状オレフィンを重合又は共重合した樹脂である。環状オレフィンとしては、ノルボルネン、ジシクロペンタジエン、テトラシクロドデセン、エチルテトラシクロドデセン、エチリデンテトラシクロドデセン、テトラシクロ〔７．４．０．１１０，１３．０２，７〕トリデカ−２，４，６，１１−テトラエンなどの多環構造の不飽和炭化水素及びその誘導体；シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、３，４−ジメチルシクロペンテン、３−メチルシクロヘキセン、２−（２−メチルブチル）−１−シクロヘキセン、シクロオクテン、３ａ，５，６，７ａ−テトラヒドロ−４，７−メタノ−１Ｈ−インデン、シクロヘプテン、シクロペンタジエン、シクロヘキサジエンなどの単環構造の不飽和炭化水素及びその誘導体等が挙げられる。これら環状オレフィンには置換基として極性基を有していてもよい。極性基としては、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルコキシル基、エポキシ基、グリシジル基、オキシカルボニル基、カルボニル基、アミノ基、エステル基、カルボン酸無水物基などが挙げられ、特に、エステル基、カルボキシ基又はカルボン酸無水物基が好適である。
【００６３】
好ましいシクロオレフィン系樹脂は、環状オレフィン以外の単量体を付加共重合したものであってもよい。付加共重合可能な単量体としては、エチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテンなどのエチレン又はα−オレフィン；１，４−ヘキサジエン、４−メチル−１，４−ヘキサジエン、５−メチル−１，４−ヘキサジエン、１，７−オクタジエンなどのジエン等が挙げられる。
【００６４】
環状オレフィンは、付加重合反応又はメタセシス開環重合反応によって得られる。重合は触媒の存在下で行われる。付加重合用触媒として、例えば、バナジウム化合物と有機アルミニウム化合物とからなる重合触媒などが挙げられる。開環重合用触媒として、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、白金などの金属のハロゲン化物、硝酸塩又はアセチルアセトン化合物と、還元剤とからなる重合触媒；または、チタン、バナジウム、ジルコニウム、タングステン、モリブデンなどの金属のハロゲン化物又はアセチルアセトン化合物と、有機アルミニウム化合物とからなる重合触媒などが挙げられる。重合温度、圧力等は特に限定されないが、通常−５０〜１００℃の重合温度、０〜４９０Ｎ／ｃｍ２の重合圧力で重合させる。
【００６５】
フィルム材料としてのシクロオレフィン系樹脂は、環状オレフィンを重合又は共重合させた後、水素添加反応させて、分子中の不飽和結合を飽和結合に変えたものであることが好ましい。水素添加反応は、公知の水素化触媒の存在下で、水素を吹き込んで行う。水素化触媒としては、酢酸コバルト／トリエチルアルミニウム、ニッケルアセチルアセトナート／トリイソブチルアルミニウム、チタノセンジクロリド／ｎ−ブチルリチウム、ジルコノセンジクロリド／ｓｅｃ−ブチルリチウム、テトラブトキシチタネート／ジメチルマグネシウムの如き遷移金属化合物／アルキル金属化合物の組合せからなる均一系触媒；ニッケル、パラジウム、白金などの不均一系金属触媒；ニッケル／シリカ、ニッケル／ケイ藻土、ニッケル／アルミナ、パラジウム／カーボン、パラジウム／シリカ、パラジウム／ケイ藻土、パラジウム／アルミナの如き金属触媒を担体に担持してなる不均一系固体担持触媒などが挙げられる。
【００６６】
または、シクロオレフィン系樹脂として、下記のノルボルネン系ポリマーも挙げられる。ノルボルネン系ポリマーは、ノルボルネン骨格を繰り返し単位として有していることが好ましく、その具体例としては、特開昭６２−２５２４０６号公報、特開昭６２−２５２４０７号公報、特開平２−１３３４１３号公報、特開昭６３−１４５３２４号公報、特開昭６３−２６４６２６号公報、特開平１−２４０５１７号公報、特公昭５７−８８１５号公報、特開平５−３９４０３号公報、特開平５−４３６６３号公報、特開平５−４３８３４号公報、特開平５−７０６５５号公報、特開平５−２７９５５４号公報、特開平６−２０６９８５号公報、特開平７−６２０２８号公報、特開平８−１７６４１１号公報、特開平９−２４１４８４号公報等に記載されたものが好ましく利用できるが、これらに限定されるものではない。また、これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００６７】
本発明においては、前記ノルボルネン系ポリマーの中でも、下記構造式（Ｉ）〜（IV）のいずれかで表される繰り返し単位を有するものが好ましい。
【００６８】
【化１】
2016052015.tif 000003
【００６９】
前記構造式（Ｉ）〜（IV）中、Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤは、各々独立して、水素原子又は一価の有機基を表す。
【００７０】
また、前記ノルボルネン系ポリマーの中でも、下記構造式（Ｖ）又は（VI）で表される化合物の少なくとも１種と、これと共重合可能な不飽和環状化合物とをメタセシス重合して得られる重合体を水素添加して得られる水添重合体も好ましい。
【００７１】
【化２】
2016052015.tif 000004
【００７２】
前記構造式中、Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤは、各々独立して、水素原子又は一価の有機基を表す。ここで、上記Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤは特に限定されないが、好ましくは水素原子、ハロゲン原子、一価の有機基又は少なくとも二価の連結基を介して有機基が連結されてもよく、これらは同じであっても異なっていてもよい。また、Ａ又はＢとＣ又はＤは単環又は多環構造を形成してもよい。ここで、上記少なくとも二価の連結基とは、酸素原子、イオウ原子、窒素原子に代表されるヘテロ原子を含み、例えばエーテル、エステル、カルボニル、ウレタン、アミド、チオエーテル等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、上記連結基を介し、上記有機基は更に置換されてもよい。
【００７３】
また、ノルボルネン系モノマーと共重合可能なその他のモノマーとしては、例えば、エチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、１−オクテン、１−デセン、１−ドデセン、１−テトラデセン、１−ヘキサデセン、１−オクタデセン、１−エイコセンなどの炭素数２〜２０のα−オレフィン及びこれらの誘導体；シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、シクロオクテン、３ａ，５，６，７ａ−テトラヒドロ−４，７−メタノ−１Ｈ−インデンなどのシクロオレフィン及びこれらの誘導体；１，４−ヘキサジエン、４−メチル−１，４−ヘキサジエン、５−メチル−１，４−ヘキサジエン、１，７−オクタジエンなどの非共役ジエン；などが用いられる。これらの中でも、α−オレフィン、特にエチレンが好ましい。
【００７４】
これらの、ノルボルネン系モノマーと共重合可能なその他のモノマーは、それぞれ単独で、又は２種以上を組み合わせて使用することができる。ノルボルネン系モノマーとこれと共重合可能なその他のモノマーとを付加共重合する場合は、付加共重合体中のノルボルネン系モノマー由来の構造単位と共重合可能なその他のモノマー由来の構造単位との割合が、質量比で通常３０：７０〜９９：１、好ましくは５０：５０〜９７：３、より好ましくは７０：３０〜９５：５の範囲となるように適宜選択される。
【００７５】
合成したポリマーの分子鎖中に残留する不飽和結合を水素添加反応により飽和させる場合には、耐光劣化や耐候劣化性などの観点から、水素添加率を９０％以上、好ましくは９５％以上、特に好ましくは９９％以上とする。
【００７６】
このほか、本発明で用いられるシクロオレフィン系樹脂としては、特開平５−２１０８号公報段落番号［００１４］〜［００１９］記載の熱可塑性飽和ノルボルネン系樹脂、特開２００１−２７７４３０号公報段落番号［００１５］〜［００３１］記載の熱可塑性ノルボルネン系ポリマー、特開２００３−１４９０１号公報段落番号［０００８］〜［００４５］記載の熱可塑性ノルボルネン系樹脂、特開２００３−１３９９５０号公報段落番号［００１４］〜［００２８］記載のノルボルネン系樹脂組成物、特開２００３−１６１８３２号公報段落番号［００２９］〜［００３７］記載のノルボルネン系樹脂、特開２００３−１９５２６８号公報段落番号［００２７］〜［００３６］記載のノルボルネン系樹脂、特開２００３−２１１５８９号公報段落番号［０００９］〜［００２３］脂環式構造含有重合体樹脂、特開２００３−２１１５８８号公報段落番号［０００８］〜［００２４］記載のノルボルネン系重合体樹脂若しくはビニル脂環式炭化水素重合体樹脂などが挙げられる。
【００７７】
具体的には、日本ゼオン（株）製ゼオネックス、ゼオノア（ＺＥＯＮＯＲ２３、ＺＥＯＮＯＲ４０）、ＪＳＲ（株）製アートン、三井化学（株）製アペル（ＡＰＬ８００８Ｔ、ＡＰＬ６５０９Ｔ、ＡＰＬ６０１３Ｔ、ＡＰＬ５０１４ＤＰ、ＡＰＬ６０１５Ｔ）などが好ましく用いられる。
【００７８】
本発明で使用されるシクロオレフィン系樹脂の分子量は、使用目的に応じて適宜選択されるが、シクロヘキサン溶液（重合体樹脂が溶解しない場合はトルエン溶液）のゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー法で測定したポリイソプレン又はポリスチレン換算の重量平均分子量で、通常、５０００〜５０００００、好ましくは８０００〜２０００００、より好ましくは１００００〜１０００００の範囲である時に、成形体の機械的強度及び成形加工性が高度にバランスされて好適である。
【００７９】
＜添加剤＞
（可塑剤）
本発明に係る光学フィルムにおいては、組成物の流動性や柔軟性を向上するために、可塑剤を併用することも可能である。可塑剤としては、フタル酸エステル系、脂肪酸エステル系、トリメリット酸エステル系、リン酸エステル系、ポリエステル系又はエポキシ系等が挙げられる。
【００８０】
この中で、ポリエステル系とフタル酸エステル系の可塑剤が好ましく用いられる。ポリエステル系可塑剤は、フタル酸ジオクチルなどのフタル酸エステル系の可塑剤に比べて非移行性や耐抽出性に優れるが、可塑化効果や相溶性にはやや劣る。
【００８１】
したがって、用途に応じてこれらの可塑剤を選択、又は併用することによって、広範囲の用途に適用できる。
【００８２】
ポリエステル系可塑剤は、一価ないし四価のカルボン酸と一価ないし六価のアルコールとの反応物であるが、主に二価カルボン酸とグリコールとを反応させて得られたものが用いられる。代表的な二価カルボン酸としては、グルタル酸、イタコン酸、アジピン酸、フタル酸、アゼライン酸、セバシン酸などが挙げられる。
【００８３】
特に、アジピン酸、フタル酸などを用いると可塑化特性に優れたものが得られる。グリコールとしてはエチレン、プロピレン、１，３−ブチレン、１，４−ブチレン、１，６−ヘキサメチレン、ネオペンチレン、ジエチレン、トリエチレン、ジプロピレンなどのグリコールが挙げられる。これらの二価カルボン酸及びグリコールはそれぞれ単独で、又は混合して使用してもよい。
【００８４】
このエステル系の可塑剤はエステル、オリゴエステル、ポリエステルの型のいずれでもよく、分子量は１００〜１００００の範囲が良いが、好ましくは６００〜３０００の範囲が、可塑化効果が大きい。
【００８５】
また、可塑剤の粘度は分子構造や分子量と相関があるが、アジピン酸系可塑剤の場合相溶性、可塑化効率の関係から２００〜５０００ＭＰａ・ｓ（２５℃）の範囲が良い。さらに、いくつかのポリエステル系可塑剤を併用してもかまわない。
【００８６】
可塑剤は本発明に係る光学フィルム１００質量部に対して、０．５〜３０質量部を添加するのが好ましい。可塑剤の添加量が３０質量部を越えると、表面がべとつくので、実用上好ましくない。
【００８７】
（紫外線吸収剤）
本発明に係る光学フィルムは、紫外線吸収剤を含有することも好ましく、用いられる紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系、２−ヒドロキシベンゾフェノン系又はサリチル酸フェニルエステル系のもの等が挙げられる。例えば、２−（５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール等のトリアゾール類、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン類を例示することができる。
【００８８】
ここで、紫外線吸収剤のうちでも、分子量が４００以上の紫外線吸収剤は、高沸点で揮発しにくく、高温成形時にも飛散しにくいため、比較的少量の添加で効果的に耐候性を改良することができる。
【００８９】
分子量が４００以上の紫外線吸収剤としては、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２−ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］等のベンゾトリアゾール系、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート等のヒンダードアミン系、さらには２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）、１−［２−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］エチル］−４−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン等の分子内にヒンダードフェノールとヒンダードアミンの構造をともに有するハイブリッド系のものが挙げられ、これらは単独で、又は２種以上を併用して使用することができる。これらのうちでも、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２−ベンゾトリアゾールや２，２−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］が特に好ましい。
【００９０】
（その他の添加剤）
さらに、本発明に係る光学フィルムには、成形加工時の熱分解性や熱着色性を改良するために各種の酸化防止剤を添加することもできる。また帯電防止剤を加えて、光学フィルムに帯電防止性能を与えることも可能である。
【００９１】
本発明に係る光学フィルムには、リン系難燃剤を配合した難燃アクリル系樹脂組成物を用いても良い。
【００９２】
ここで用いられるリン系難燃剤としては、赤リン、トリアリールリン酸エステル、ジアリールリン酸エステル、モノアリールリン酸エステル、アリールホスホン酸化合物、アリールホスフィンオキシド化合物、縮合アリールリン酸エステル、ハロゲン化アルキルリン酸エステル、含ハロゲン縮合リン酸エステル、含ハロゲン縮合ホスホン酸エステル、含ハロゲン亜リン酸エステル等から選ばれる１種又は２種以上の混合物を挙げることができる。
【００９３】
具体的な例としては、トリフェニルホスフェート、９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナンスレン−１０−オキシド、フェニルホスホン酸、トリス（β−クロロエチル）ホスフェート、トリス（ジクロロプロピル）ホスフェート、トリス（トリブロモネオペンチル）ホスフェート等が挙げられる。
【００９４】
＜偏光子保護フィルムの製膜方法＞
偏光子保護フィルムの製膜方法の例を説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。本発明に係る偏光子保護フィルムの製膜方法としては、インフレーション法、Ｔ−ダイ法、カレンダー法、切削法、流延法、エマルジョン法、ホットプレス法等の製造法が使用できるが、着色抑制、異物欠点の抑制、ダイラインなどの光学欠点の抑制などの観点から流延法による溶液製膜が好ましい。
なお、この偏光子保護フィルムの製膜方法は、位相差フィルムの製膜方法としても好適に適用できる。
【００９５】
（有機溶媒）
本発明に係る偏光子保護フィルムを溶液流延法で製造する場合のドープを形成するのに有用な有機溶媒は、セルロースエステル樹脂、その他の添加剤を同時に溶解するものであれば制限なく用いることができる。
【００９６】
例えば、塩素系有機溶媒としては、塩化メチレン、非塩素系有機溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−ヘキサフルオロ−１−プロパノール、１，３−ジフルオロ−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−メチル−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロパノール、ニトロエタン等を挙げることができ、塩化メチレン、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトンを好ましく使用し得る。
【００９７】
ドープには、上記有機溶媒の他に、１〜４０質量％の炭素原子数１〜４の直鎖又は分岐鎖状の脂肪族アルコールを含有させることが好ましい。ドープ中のアルコールの比率が高くなるとウェブがゲル化し、金属支持体からの剥離が容易になり、また、アルコールの割合が少ない時は非塩素系有機溶媒系でのセルロースエステル樹脂の溶解を促進する役割もある。
【００９８】
特に、メチレンクロライド及び炭素数１〜４の直鎖又は分岐鎖状の脂肪族アルコールを含有する溶媒に、セルロースエステル樹脂を、少なくとも計１５〜４５質量％溶解させたドープ組成物であることが好ましい。
【００９９】
炭素原子数１〜４の直鎖又は分岐鎖状の脂肪族アルコールとしては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノールを挙げることができる。これらの内ドープの安定性、沸点も比較的低く、乾燥性もよいこと等からエタノールが好ましい。
【０１００】
以下、本発明に係る偏光子保護フィルムの好ましい製膜方法について説明する。
（１）溶解工程
セルロースエステル樹脂に対する良溶媒を主とする有機溶媒に、溶解釜中でセルロースエステル樹脂、場合によって、その他の添加剤を攪拌しながら溶解しドープを形成する工程、又はセルロースエステル樹脂溶液に、場合によって、その他の添加剤溶液を混合して主溶解液であるドープを形成する工程である。
【０１０１】
セルロースエステル樹脂の溶解には、常圧で行う方法、主溶媒の沸点以下で行う方法、主溶媒の沸点以上で加圧して行う方法、特開平９−９５５４４号公報、特開平９−９５５５７号公報又は特開平９−９５５３８号公報に記載の如き冷却溶解法で行う方法、特開平１１−２１３７９号公報に記載の如き高圧で行う方法等種々の溶解方法を用いることができるが、特に主溶媒の沸点以上で加圧して行う方法が好ましい。
【０１０２】
ドープ中のセルロースエステル樹脂は、計１５〜４５質量％の範囲であることが好ましい。溶解中又は後のドープに添加剤を加えて溶解及び分散した後、濾材で濾過し、脱泡して送液ポンプで次工程に送る。
【０１０３】
濾過は捕集粒子径０．５〜５μｍで、かつ濾水時間１０〜２５ｓｅｃ／１００ｍＬの濾材を用いることが好ましい。
【０１０４】
この方法では、粒子分散時に残存する凝集物や主ドープ添加時発生する凝集物を、捕集粒子径０．５〜５μｍで、かつ濾水時間１０〜２５ｓｅｃ／１００ｍＬの濾材を用いることで凝集物だけ除去できる。主ドープでは粒子の濃度も添加液に比べ十分に薄いため、濾過時に凝集物同士がくっついて急激な濾圧上昇することもない。
【０１０５】
図２は、本発明に好ましい溶液流延製膜方法のドープ調製工程、流延工程及び乾燥工程の一例を模式的に示した図である。
【０１０６】
次に主ドープ液はポンプ２によって、主濾過器３に送液されたのち、濾過され、ストックタンク４に送液される。この後、必要に応じて紫外線吸収剤添加液がインライン添加される。
【０１０７】
多くの場合、主ドープには返材が１０〜５０質量％程度含まれることがある。返材にはアクリル粒子が含まれることがある、その場合には返材の添加量に合わせてアクリル粒子添加液の添加量をコントロールすることが好ましい。
【０１０８】
アクリル粒子を含有する添加液には、アクリル粒子を０．５〜１０質量％含有していることが好ましく、１〜１０質量％含有していることが更に好ましく、１〜５質量％含有していることが最も好ましい。
【０１０９】
上記範囲内であれば、添加液は低粘度で取り扱いやすく、主ドープへの添加が容易であるため好ましい。
【０１１０】
なお、返材とは、偏光子保護フィルムを細かく粉砕した物で、偏光子保護フィルムを製膜するときに発生する、フィルムの両サイド部分を切り落とした物や、擦り傷などでスペックアウトした偏光子保護フィルム原反が使用される。
【０１１１】
また、あらかじめアクリル樹脂、セルロースエステル樹脂、場合によってアクリル粒子を混練してペレット化したものも、好ましく用いることができる。
（２）流延工程
この流延工程は、ドープを、送液ポンプ５（例えば、加圧型定量ギヤポンプ）により、濾過器６を通して加圧ダイ３０に送液し、無限に移送する無端の金属ベルト３１、例えばステンレスベルト、又は回転する金属ドラム等の金属支持体上の流延位置に、加圧ダイスリットからドープを流延する工程である。
【０１１２】
ダイの口金部分のスリット形状を調整でき、膜厚を均一にしやすい加圧ダイが好ましい。加圧ダイには、コートハンガーダイやＴダイ等があり、いずれも好ましく用いられる。金属支持体の表面は鏡面となっている。製膜速度を上げるために加圧ダイを金属支持体上に２基以上設け、ドープ量を分割して重層してもよい。または、複数のドープを同時に流延する共流延法によって積層構造のフィルムを得ることも好ましい。
（３）溶媒蒸発工程
ウェブ（流延用支持体上にドープを流延し、形成されたドープ膜をウェブと呼ぶ）を流延用支持体上で加熱し、溶媒を蒸発させる工程である。
【０１１３】
溶媒を蒸発させるには、ウェブ側から風を吹かせる方法及び／又は支持体の裏面から液体により伝熱させる方法、輻射熱により表裏から伝熱する方法等があるが、裏面液体伝熱方法によれば乾燥効率が良く好ましい。また、それらを組み合わせる方法も好ましく用いられる。流延後の支持体上のウェブを４０〜１００℃の雰囲気下、支持体上で乾燥させることが好ましい。４０〜１００℃の雰囲気下に維持するには、この温度の温風をウェブ上面に当てる又は赤外線等の手段により加熱することが好ましい。
【０１１４】
面品質、透湿性、剥離性の観点から、３０〜１２０秒以内で該ウェブを支持体から剥離することが好ましい。
（４）剥離工程
金属支持体上で溶媒が蒸発したウェブを、剥離位置３３で剥離する工程である。剥離されたウェブは次工程に送られる。
【０１１５】
金属支持体上の剥離位置３３における温度は好ましくは１０〜４０℃であり、更に好ましくは１１〜３０℃である。なお、剥離する時点での金属支持体上でのウェブの剥離時残留溶媒量は、乾燥の条件の強弱、金属支持体の長さ等により５０〜１２０質量％の範囲で剥離することが好ましいが、残留溶媒量がより多い時点で剥離する場合、ウェブが柔らか過ぎると剥離時平面性を損ね、剥離張力によるツレや縦スジが発生しやすいため、経済速度と品質との兼ね合いで剥離時の残留溶媒量が決められる。
【０１１６】
ウェブの残留溶媒量は下記式で定義される。
【０１１７】
残留溶媒量（％）＝（ウェブの加熱処理前質量−ウェブの加熱処理後質量）／（ウェブの加熱処理後質量）×１００
なお、残留溶媒量を測定する際の加熱処理とは、１１５℃で１時間の加熱処理を行うことを表す。
【０１１８】
金属支持体とフィルムを剥離する際の剥離張力は、通常、１９６〜２４５Ｎ／ｍであるが、剥離の際に皺が入りやすい場合、１９０Ｎ／ｍ以下の張力で剥離することが好ましく、更には、剥離できる最低張力〜１６６．６Ｎ／ｍ、次いで、最低張力〜１３７．２Ｎ／ｍで剥離することが好ましいが、特に好ましくは最低張力〜１００Ｎ／ｍで剥離することである。
【０１１９】
本発明においては、該金属支持体上の剥離位置３３における温度を−５０〜４０℃とするのが好ましく、１０〜４０℃がより好ましく、１５〜３０℃とするのが最も好ましい。
（５）乾燥及び延伸工程
剥離後、乾燥装置内に複数配置したロール３６にウェブ３２を交互に通して搬送する乾燥装置３５、及び／又はクリップでウェブの両端をクリップして搬送するテンター延伸装置３４を用いて、ウェブ３２を乾燥する。
【０１２０】
乾燥手段はウェブ３２の両面に熱風を吹かせるのが一般的であるが、風の代わりにマイクロウェーブを当てて加熱する手段もある。余り急激な乾燥は出来上がりのフィルムの平面性を損ねやすい。高温による乾燥は残留溶媒が８質量％以下くらいから行うのがよい。全体を通し、乾燥はおおむね４０〜２５０℃で行われる。特に４０〜１６０℃で乾燥させることが好ましい。
【０１２１】
テンター延伸装置３４を用いる場合は、テンターの左右把持手段によってフィルムの把持長（把持開始から把持終了までの距離）を左右で独立に制御できる装置を用いることが好ましい。また、テンター工程において、平面性を改善するため意図的に異なる温度を持つ区画を作ることも好ましい。
【０１２２】
また、異なる温度区画の間にそれぞれの区画が干渉を起こさないように、ニュートラルゾーンを設けることも好ましい。
【０１２３】
なお、延伸操作は多段階に分割して実施してもよく、流延方向、幅手方向に二軸延伸を実施することも好ましい。また、二軸延伸を行う場合には同時二軸延伸を行ってもよいし、段階的に実施してもよい。
【０１２４】
この場合、段階的とは、例えば、延伸方向の異なる延伸を順次行うことも可能であるし、同一方向の延伸を多段階に分割し、かつ異なる方向の延伸をそのいずれかの段階に加えることも可能である。即ち、例えば、次のような延伸ステップも可能である。
【０１２５】
・流延方向に延伸−幅手方向に延伸−流延方向に延伸−流延方向に延伸
・幅手方向に延伸−幅手方向に延伸−流延方向に延伸−流延方向に延伸
また、同時二軸延伸には、一方向に延伸し、もう一方を、張力を緩和して収縮させる場合も含まれる。同時二軸延伸の好ましい延伸倍率は幅手方向、長手方向ともに１．０１〜１．５倍の範囲でとることができる。
【０１２６】
テンターを行う場合のウェブの残留溶媒量は、テンター開始時に２０〜１００質量％であるのが好ましく、かつウェブの残留溶媒量が１０質量％以下になるまでテンターを掛けながら乾燥を行うことが好ましく、更に好ましくは５質量％以下である。
【０１２７】
テンターを行う場合の乾燥温度は、３０〜１６０℃が好ましく、５０〜１５０℃が更に好ましく、７０〜１４０℃が最も好ましい。
【０１２８】
テンター工程において、雰囲気の幅手方向の温度分布が少ないことが、フィルムの均一性を高める観点から好ましく、テンター工程での幅手方向の温度分布は、±５℃以内が好ましく、±２℃以内がより好ましく、±１℃以内が最も好ましい。
（６）巻き取り工程
ウェブ中の残留溶媒量が２質量％以下となってから偏光子保護フィルムとして巻取り機３７により巻き取る工程であり、残留溶媒量を０．４質量％以下にすることにより寸法安定性の良好なフィルムを得ることができる。特に０．００〜０．１０質量％で巻き取ることが好ましい。
【０１２９】
巻き取り方法は、一般に使用されているものを用いればよく、定トルク法、定テンション法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法等があり、それらを使いわければよい。
【０１３０】
本発明に係る偏光子保護フィルムは、長尺フィルムであることが好ましく、具体的には、１００〜５０００ｍ程度のものを示し、通常、ロール状で提供される形態のものである。また、フィルムの幅は１．３〜４ｍであることが好ましく、１．４〜３ｍであることがより好ましい。
【０１３１】
本発明に係る偏光子保護フィルムの膜厚に特に制限はないが、１５〜１５０μｍであることが好ましく、２０〜８０μｍであることがより好ましく、２５〜６０μｍであることが特に好ましい。
【０１３２】
＜偏光板の作製方法＞
本発明に係る偏光板は、一般的な方法で作製することができる。例えば、本発明に係る偏光子保護フィルムの偏光子側をアルカリケン化処理し、ヨウ素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の少なくとも一方の面に、完全ケン化型のポリビニルアルコール水溶液（水糊）を用いて貼り合わせる。また、同様にしてアルカリケン化処理した位相差フィルムを、偏光子のもう一方の面に水糊を用いて貼り合わせる。なお、アクリル樹脂及びシクロオレフィン樹脂からなる光学フィルムは、ケン化処理前に、コロナ放電処理をしておくことが好ましい。
コロナ放電処理とは、大気圧下、電極間に１ｋＶ以上の高電圧を印加し、放電することで行う処理のことである。コロナ処理によって、位相差フィルムの樹脂表面に酸素含有極性基（ヒドロキシ基、カルボニル基、カルボン酸基等）が発生し、表面が親水化される。
【０１３３】
コロナ放電処理は、春日電機（株）や（株）トーヨー電機などで市販されている装置を用いて行うことができる。コロナ放電処理の強度は、電極間距離、単位面積当たりの出力、ジェネレーターの周波数に依存する。コロナ放電処理装置の一方の電極（Ａ電極）は、市販のものを用いることができるが、材質はアルミニウム、ステンレスなどから選択ができる。もう一方はプラスチックフィルムを抱かせるための電極（Ｂ電極）であり、コロナ放電処理が、安定かつ均一に実施されるように、前記Ａ電極に対して一定の距離に設置されるロール電極である。これも通常市販されているものを用いることができ、材質は、アルミニウム、ステンレス、及びそれらの金属でできたロールに、セラミック、シリコン、ＥＰＴゴム、ハイパロンゴムなどがライニングされているロールが好ましく用いられる。
【０１３４】
＜液晶表示装置＞
本発明に係る偏光子保護フィルムを貼合した偏光板を液晶表示装置に組み込むことによって、種々の視認性に優れた液晶表示装置を作製することができるが、特に大型の液晶表示装置やデジタルサイネージ等の屋外用途の液晶表示装置に好ましく用いられる。本発明に係る偏光板は、前記粘着層等を介して液晶セルに貼合する。
【０１３５】
本発明に係る偏光板は反射型、透過型、半透過型ＬＣＤ又はＴＮ型、ＳＴＮ型、ＯＣＢ型、ＨＡＮ型、ＶＡ型（ＰＶＡ型、ＭＶＡ型）、ＩＰＳ型（ＦＦＳ方式も含む）等の各種駆動方式のＬＣＤで好ましく用いられる。特に画面が３０型以上、特に３０型〜５４型の大画面の液晶表示装置では、表示ムラの発生がなく、その効果が長期間維持される。
【０１３６】
なお、本発明を適用可能な実施形態は、上述した実施形態に限定されることなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。
【実施例】
【０１３７】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」又は「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」又は「質量％」を表す。【０１３８】
＜偏光板１０１の作製方法＞
〈偏光子保護フィルムの作製〉
（ドープ液の調製）
総置換度２．９、その内、芳香族アシル基であるベンゾイル基による置換度は１．２、脂肪族アシル基であるアセチル基による置換度は１．７であり、重量平均分子量（ＭＷ）１６００００であるセルロースエステル樹脂  １００質量部をメチレンクロライド３５２質量部とエタノール４８質量部の混合溶媒に溶解した。
なお、上記アセチルセルロースにおける置換度は、ＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に規定の方法により求めた。【０１３９】
上記の組成で作製したドープ液を、ベルト流延装置を用い、温度２２℃、２ｍ幅でステンレスバンド支持体に均一に流延した。ステンレスバンド支持体で、残留溶剤量が１００質量％になるまで溶媒を蒸発させ、剥離張力１６２Ｎ／ｍでステンレスバンド支持体上から剥離した。【０１４０】
剥離したウェブを３５℃で溶媒を蒸発させ、１．６ｍ幅にスリットし、その後、テンターで幅方向に１．１倍に延伸しながら、１３５℃の乾燥温度で乾燥させた。このときテンターで延伸を始めたときの残留溶剤量は１０質量％であった。テンターにより延伸後１３０℃で５分間緩和を行った後、１１０℃、１２０℃の乾燥ゾーンを多数のロールで搬送させながら乾燥を終了させ、１．５ｍ幅にスリットし、フィルム両端に幅１０ｍｍ高さ５μｍのナーリング加工を施し、初期張力２２０Ｎ／ｍ、終張力１１０Ｎ／ｍで内径６インチコアに巻き取り、偏光子保護フィルムを得た。【０１４１】
ステンレスバンド支持体の回転速度とテンターの運転速度から算出されるＭＤ方向の延伸倍率は１．１倍であった。この偏光子保護フィルムの残留溶剤量は０．１質量％であり、厚さは４０μｍ、巻数は４０００ｍであった。【０１４２】
〈偏光板１０１の作製〉
厚さ１２０μｍの長尺ロールポリビニルアルコールフィルムをヨウ素１質量部、ホウ酸４質量部を含む水溶液１００質量部に浸漬し、５０℃で５倍に搬送方向に延伸して偏光子を作製した。【０１４３】
次に、この偏光子の一方の面に、上記で作製した偏光子保護フィルムを、ポリビニルアルコール（商品名「ポバールＰＶＡ２０３」、（株）クラレ製）５質量％水溶液を接着剤として、偏光子の透過軸と偏光子保護フィルムの面内遅相軸とが平行になるように貼り合わせ、６０℃で５分乾燥した。
また、偏光子の他方の面には、位相差フィルムとして、ノルボルネン系重合体からなるフィルム（ＺＥＯＮＯＲ、日本ゼオン（株）製、膜厚５０μｍ）の片面を濡れ指数が５６ｍＮ／ｍとなるようにコロナ放電処理し、ポリビニルアルコール５質量％水溶液を接着剤として貼り合わせて、その後、６０℃で５分乾燥したのち、３５℃で２４時間エージングを行い、偏光板１０１を作製した。【０１４４】
＜偏光板１０２〜１０５の作製方法＞
偏光板１０１の作製方法において、総置換度、ベンゾイル基による置換度、アセチル基による置換度及びプロピル基による置換度を表１のようにしたほかは、同様にして偏光板１０２〜１０５を作製した。【０１４５】
＜偏光板２０１の作製方法＞
偏光板１０１の作製方法の偏光子保護フィルムの作製において、アセチルセルロースを使用する代わりに、ポリエチレンテレフタレート（帝人化成（株）製Ａ−ＰＥＴ。表２ではＰＥＴと記載。）をフィルム材料として使用した。
また、偏光板１０１の作製方法の偏光子保護フィルムの作製において、偏光子保護フィルムの厚さが４０μｍではなく、７５μｍとなるよう延伸倍率、搬送張力を制御した。
そのほかは、偏光板１０１の作製方法と同様にして偏光板２０１を作製した。【０１４６】
＜偏光板２０２の作製方法＞
偏光板１０１の作製方法の偏光子保護フィルムの作製において、アセチルセルロースを使用する代わりに、ポリメチルメタクリレート（住友化学（株）製テクノロイＳ００１。表２ではＰＭＭＡと記載。）をフィルム材料として使用した。
また、偏光板１０１の作製方法の偏光子保護フィルムの作製において、偏光子保護フィルムの厚さが４０μｍではなく、８０μｍとなるよう延伸倍率、搬送張力を制御した。
そのほかは、偏光板１０１の作製方法と同様にして偏光板２０２を作製した。【０１４７】
＜偏光板２０３〜２０８の作製方法＞
偏光板１０３の作製方法の偏光子保護フィルムの作製において、偏光子保護フィルムの厚さが表２に記載のようになるよう延伸倍率、搬送張力を制御した。
そのほかは、偏光板１０３の作製方法と同様にして偏光板２０３〜２０８を作製した。【０１４８】
＜偏光板３０１〜３１６の作製方法＞
偏光板１０１の作製方法の偏光子保護フィルムの作製において、アセチルセルロースの総置換度、アセチル基による置換度、プロピル基による置換度並びに置換した芳香族アシル基の種類及び当該芳香族アシル基による置換度が表３のようなアセチルセルロースをフィルム材料として使用したほかは、同様にして偏光板３０１〜３１６を作製した。【０１４９】
（弾性率の測定）
偏光板１０１〜１０５、２０１〜２０８及び３０１〜３１６の各偏光子保護フィルムの弾性率（引張弾性率）は、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２７に記載の方法に従って測定した。
具体的には、引張試験機及び恒温恒湿槽としてオリエンテック（株）製テンシロン試験機「ＲＴＣ−１２２５Ａ」及び恒温恒湿槽「ＴＬＦ−Ｒ３Ｔ−Ｆ−ＨＳ−Ｗ」を使用し、フィルムｍｍを７０×１０ｍｍのサイズに切り取り、所定の温湿度（２５℃・５５％ＲＨ及び２５℃・９５％ＲＨ）に保持した恒温恒湿槽内で１時間保持後、チャック間距離５０ｍｍ、上記引張試験機により１００ｍｍ／分の引張速度でそれぞれ測定した。測定値（Ｅ1、Ｅ2）及びＥ1／Ｅ2は、表１〜３に示すとおりである。【０１５０】
（透湿度の測定）
透湿度は、ＪＩＳ  Ｚ  ０２０８に記載のカップ法に基づき、偏光板１０１〜１０５、２０１〜２０８及び３０１〜３１６の各偏光子保護フィルムを温度４０℃、湿度９０％ＲＨの条件下で２４時間放置して、それぞれ測定した。測定値は、表１〜３に示す。【０１５１】
＜液晶表示装置としての特性評価＞
ＩＰＳ型液晶表示装置である東芝社製４２型テレビ「ＬＥＤＲＥＧＺＡ４２ＲＥ１」（ガラス基板の厚さ：０．５ｍｍ）のあらかじめ貼合されていた両方の偏光板を剥がして、上記で作製した偏光板１０１〜１０５、２０１〜２０８及び３０１〜３１６を、あらかじめ貼合されていた偏光板と同一の方向に吸収軸が向くように貼合し、偏光板１０１〜１０５、２０１〜２０８及び３０１〜３１６を用いた液晶表示装置を各々作製した。【０１５２】
（エッグムラ）
その後、上記液晶表示装置を５０℃・８０％ＲＨの環境下に７２時間晒した後、２３℃・５５％ＲＨの環境下に２時間放置したのち、電源（バックライト光源）を点灯させ、１２時間後、２４時間後の表示ムラ（エッグムラ）を黒表示にて観察し、それぞれ下記のような基準で評価を行った。なお、下記評価は、画像表示が均一なほどよいものとする。【０１５３】
◎：画像表示が均一である
○：画像表示がほぼ均一である
△：中央部と周囲に僅かな輪郭がある
×：中央部と周囲にはっきりとした輪郭がある【０１５４】
（生産性の評価方法）
６０℃１分の乾燥後に、偏光板１０１〜１０５、２０１〜２０８及び３０１〜３１６の各偏光子保護フィルムとポリビニルアルコールとの接着の強さを評価した。評価を下記に記す。なお、下記評価は、剥がれないほどよいものとする。【０１５５】
◎：１０サンプル中１０サンプルが剥がれない（生産性が非常によい）
○：１０サンプル中８サンプル以上が剥がれない（生産性がよい）
△：１０サンプル中５サンプル以上が剥がれる（実用可能）
×：１０サンプル中８サンプル以上が剥がれる（実用不可）【０１５６】
【表１】
2016052015.tif 000005
【０１５７】
【表２】
2016052015.tif 000006
【０１５８】
【表３】
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【産業上の利用可能性】
【０１５９】
以上のように、本発明は、ガラス基板の厚さが０．６ｍｍ以下であっても、生産性を良好にしつつ、エッグムラが発生しない液晶表示装置を提供することに適している。
【符号の説明】
【０１６０】
１ａ  バックライト光源
２ａ  発光光源
３ａ  拡散板（下拡散シート）
４ａ  集光シート（プリズムシート、レンズシート）
５ａ  上拡散シート
６ａ  バックライトユニット
７ａ  液晶層
８ａ  ガラス基板
９ａ  液晶セル
１０ａ  偏光子
１２ａ  液晶パネル
ＰＬ１  視認側偏光板
ＰＬ２  光源側偏光板
１  溶解釜
３、６  濾過器
４  ストックタンク
５  送液ポンプ
８  導管
３０  加圧ダイ
３１  金属ベルト
３２  ウェブ
３３  剥離位置
３４  テンター延伸装置
３５  ロール乾燥装置
３７  巻取り機
４１  粒子仕込釜
４２  ストック釜
４３  ポンプ
４４  濾過器
Ｔ１、Ｔ４  偏光子保護フィルム
Ｔ２、Ｔ３  位相差フィルム
【図１】
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【図２】
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【国際調査報告】
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