(57)【要約】  実施形態の紫外線透過性基板の洗浄装置は、基板の洗浄面にオゾン水を供給するオゾン水供給部と、前記基板の洗浄面にオゾン水が供給された状態で前記基板の洗浄面と反対側の面に２５０〜２６０ｎｍの波長を含む紫外線を照射する紫外線照射部とを備える。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
紫外線透過性の基板の洗浄装置であって、
前記基板の洗浄面にオゾン水を供給するオゾン水供給部と、
前記基板の洗浄面にオゾン水が供給された状態で前記基板の洗浄面と反対側の面に２５０〜２６０ｎｍの波長を含む紫外線を照射する紫外線照射部と、
を備えることを特徴とする紫外線透過性基板の洗浄装置。
【請求項２】
前記オゾン水供給部は、前記洗浄面に、前記オゾン水を供給するオゾン水ノズルを備えることを特徴とする請求項１記載の紫外線透過性基板の洗浄装置。
【請求項３】
オゾン水を製造して前記オゾン水供給部に供給するオゾン水製造部を備えることを特徴とする請求項１又は２記載の紫外線透過性基板の洗浄装置。
【請求項４】
前記紫外線照射部の光源から前記基板の洗浄面と反対側の面までの距離は、５〜２０ｍｍであることを特徴とする請求項１又は２記載の紫外線透過性基板の洗浄装置。
【請求項５】
前記紫外線照射部は、低圧水銀ランプ、エキシマランプ及び発光ダイオード（ＬＥＤ）から選ばれる１種以上を備えることを特徴とする請求項１又は２記載の紫外線透過性基板の洗浄装置。
【請求項６】
前記基板は、２５４ｎｍの波長の紫外線に対する吸光係数が５０％以下であることを特徴とする請求項１又は２記載の紫外線透過性基板の洗浄装置。
【請求項７】
前記基板は、液晶ガラス基板であることを特徴とする請求項１又は２記載の紫外線透過性基板の洗浄装置。
【請求項８】
紫外線透過性の基板の洗浄方法であって、
前記基板を保持する工程と、
保持された前記基板の洗浄面にオゾン水を供給する工程と、
前記基板の洗浄面にオゾン水の接触した状態で前記基板の洗浄面の反対側の面に２５０〜２６０ｎｍの波長を含む紫外線を照射する工程と
を備えることを特徴とする紫外線透過性基板の洗浄方法。
【請求項９】
前記オゾン水は、オゾン濃度が５０ｐｐｍ以上であることを特徴とする請求項８記載の紫外線透過性基板の洗浄方法。
【請求項１０】
前記オゾン水の温度は、１５℃〜５０℃であることを特徴とする請求項８又は９記載の紫外線透過性基板の洗浄方法。
【請求項１１】
前記基板は、２５４ｎｍの波長の紫外線に対する吸光係数が５０％以下であることを特徴とする請求項８又は９記載の紫外線透過性基板の洗浄方法。
【請求項１２】
前記基板は、液晶ガラス基板であることを特徴とする請求項８又は９記載の紫外線透過性基板の洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、紫外線透過性基板の洗浄装置及び洗浄方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、半導体用シリコン基板や液晶ガラス基板の洗浄方法としてＲＣＡ洗浄法や、アルカリ洗剤等の洗浄液を用いたウェット洗浄方法が行われている。ＲＣＡ洗浄法では、例えば、過酸化水素、硫酸、塩酸、アンモニア等の濃厚薬品を用い、基板表面の被除去物を除去する。また、洗浄液としてアルカリ洗剤等を用いる洗浄にブラシ洗浄、紫外線照射、超音波洗浄等を組み合わせる方法も行われている。これらの方法では、濃厚薬品や洗浄液を大量に用いるため、排水処理作業や環境保全の観点から、濃厚薬品や洗浄液をできるだけ使用しない洗浄方法が求められていた。また、ガラス基板は半導体ウェハと比べてサイズが非常に大きく、また、近年ガラス基板の大型化が顕著である。このような大型のガラス基板の洗浄においては、濃厚薬品や洗浄液の使用量や、これらをリンスする純水の使用量が増大する。そのため、ガラス基板の製造コストの高騰や、排水処理負荷の増大による環境負荷の増大等の問題が生じている。【０００３】
また、洗浄効率を向上させるために、ウェット洗浄の前処理として、ドライ洗浄が行われることもある。ドライ洗浄では、基板に紫外線を照射して表面処理を行い、これにより基板表面の有機物を分解する（例えば、特許文献１，２参照。）。また、前処理として、ドライ洗浄の代わりに、有機溶剤などであらかじめ基板表面の無機物を洗浄し、純水でリンスする方法も行われている。【０００４】
しかしながら、従来のドライ洗浄では、無機物を除去することができないため、これを行った後、濃厚薬品や洗浄液を用いるウェット洗浄を行って、無機物を洗浄することが必要である。そのため、ウェット洗浄後に、多量の排水が生じ、この排水を処理する必要があった。また、前処理として有機溶剤を用いて洗浄する方法においても、有機溶剤洗浄後及びウェット洗浄後にそれぞれ純水でリンスするため、前記同様に多量の排水を処理する必要があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平５−１８２９４５号公報
【特許文献２】特開平５−２２４１６７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は上記した課題を解決するためになされたものであって、従来の濃厚薬品や洗浄液を用いた洗浄方法に比べて、排水処理負荷や環境負荷を軽減することのできる紫外線透過性基板の洗浄装置及び洗浄方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
実施形態の洗浄装置は、紫外線透過性基板の洗浄装置であって、前記基板の洗浄面にオゾン水を供給するオゾン水供給部と、前記基板の洗浄面にオゾン水が供給された状態で前記基板の洗浄面と反対側の面に２５０〜２６０ｎｍの波長を含む紫外線を照射する紫外線照射部とを備えることを特徴とする。【０００８】
実施形態の洗浄方法は、紫外線透過性基板の洗浄方法であって、前記基板の洗浄面にオゾン水を供給するとともに、前記基板の洗浄面の反対側の面に２５０〜２６０ｎｍの波長を含む紫外線を照射することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の紫外線透過性基板の洗浄装置及び洗浄方法によれば、従来の濃厚薬品を用いた洗浄方法に比べて排水処理負荷や環境負荷を軽減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】実施形態の洗浄方法を説明する図である。
【図２】実施形態の洗浄装置を概略的に示す側面図である。
【図３】実施形態の洗浄装置を概略的に示す平面図である。
【図４】実施形態の洗浄方法を示すフロー図である。
【図５】実施例で用いた低圧水銀ランプの波長特性を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明の実施の形態を、図面を用いて説明する。各図において同一の機能を有する構成には同一の符号を付して重複する説明を省略する。本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。
【００１２】
図１は本実施形態の洗浄方法を説明する図である。本実施形態の洗浄方法は、基板２の洗浄面２ａにオゾン水を供給した状態で、洗浄面２ａと反対側の面（以下、紫外線照射面という。）２ｂに紫外線を照射する。本実施形態における被除去物３は例えば、フォトレジスト等の有機薄膜やクリーンルーム内で洗浄面２ａに付着する有機物である。また、本実施形態の洗浄方法では、洗浄面２ａに付着した金属微粒子等の無機物を除去することもできる。
【００１３】
本実施形態の洗浄方法においては、洗浄面２ａにオゾン水を供給した状態で紫外線照射面２ｂに紫外線を照射し、オゾン水に紫外線を照射することで発生するラジカル活性種を利用して洗浄面２ａの被除去物３を除去する。発生するラジカル活性種は、主に下記（１）式で示す反応で生じる酸素ラジカルや、下記(２)式で示す反応で生じるヒドロキシラジカルである。
【００１４】
Ｏ３＋ｈν  →  Ｏ２＋Ｏ・        …（１）
【００１５】
Ｏ・＋Ｈ２Ｏ  →  ２ＯＨ・        …（２）
【００１６】
これら酸素ラジカルやヒドロキシラジカルは、洗浄面２ａの有機物を酸化分解して除去し、同様に、無機物を酸化して酸化物を生成し、除去する。
【００１７】
洗浄面２ａにオゾン水を供給している状態において、洗浄面２ａ上には、所定の厚さを有するオゾン水膜４がある。このオゾン水膜４中のオゾン分子が紫外線によって分解してラジカル活性種が発生する。発生したラジカル活性種が例えば有機物の被除去物３を酸化分解して洗浄する。被除去物３は洗浄面２ａに付着しているので、オゾン水膜４中で生じるラジカル活性種のうち、主として洗浄面２ａ近傍で生じるラジカル活性種がこの被除去物３の分解除去に寄与する。
【００１８】
ここで、洗浄面２ａ側から紫外線を照射した場合には、オゾン水膜４表面で紫外線の一部が散乱や屈折して、照射した紫外線が、洗浄面２ａに到達するまでの間に減衰してしまうと考えられる。また、紫外線の一部がオゾン水膜４内上方部分に存在するオゾン分子に吸収され、照射した紫外線に対して洗浄面２ａに到達する紫外線量が減少してしまうことで、洗浄面２ａ近傍での酸素ラジカルの発生量が少なくなる可能性もある。さらに、オゾン水膜４内の上方部分で発生したラジカル活性種の一部が、洗浄面２ａ上の被除去物３に到達する前にラジカル生成の連鎖反応を起こしたり、ラジカル活性種が、オゾン水の流れにしたがって基板２上から外部に排水されるため、洗浄面２ａ上の被除去物３に到達しない可能性もある。
【００１９】
これに対し、本実施形態の洗浄方法では、洗浄面２ａと反対側の面２ｂに紫外線を照射する。そのため、オゾン水膜４表面での紫外線の散乱、反射、屈折等による紫外線の減衰がない。また、オゾン水膜４中を通過する際の紫外線の減衰もない。また、オゾン水膜４中で発生したラジカル活性種がオゾン水の流れにしたがって基板２上から外部へ排水されることもない。そのため、紫外線を洗浄面２ａ側から照射した場合に比べて、効率よく基板洗浄を行うことができる。
【００２０】
図２は、本実施形態の洗浄装置１を示す概略側面図である。図３は、本実施形態の洗浄装置１を示す概略平面図である。本実施形態の洗浄装置は、いわゆる平流し洗浄装置である。図２に示す洗浄装置１は、洗浄対象である基板２の洗浄面２ａにオゾン水を供給するオゾン水供給部５と、基板２の洗浄面２ａと反対側の面(以下、紫外線照射面ともいう。)２ｂに紫外線を照射する紫外線照射部６とを備えている。基板２の洗浄面２ａには例えば有機物や無機物等の被除去物３が付着している。
【００２１】
符号７は基板２を搬送する搬送ローラを示している。搬送ローラ７は、搬送ローラ７上に載置された基板２を、オゾン水供給部５の下方に搬送するように配設されている。搬送ローラ７は矢印Ａの方向に基板２を搬送し、搬送経路の途中に設置された洗浄装置１が基板２を順次洗浄する。
【００２２】
基板２は、２５４ｎｍの波長の紫外線に対する吸光係数が好ましくは５０％以下の紫外性透過性を有している。基板２は、上記した波長（２５４ｎｍ）の紫外線の透過率が５０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。
【００２３】
基板２としては、上記した吸光係数又は紫外線透過率を有する基板であれば特に限定されず、具体的には、石英ガラス基板、有機ＥＬ用ガラス基板、液晶ガラス基板、炭化ケイ素（ＳｉＣ）基板やガリウムヒ素（ＧａＡｓ）基板等の化合物半導体基板、ポリエチレンフタラート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等の透明樹脂基板などを用いることができる。
【００２４】
本実施形態の洗浄装置１において、オゾン水供給部５は、基板２の洗浄面２ａにオゾン水を供給するオゾン水ノズル５ｂを備えている。また、オゾン水供給部５は、オゾン水を製造してオゾン水ノズル５ｂに供給するオゾン水製造部５ａを備えている。オゾン水製造部５ａは、純水にオゾンを溶解させてオゾン水を製造する。オゾン水製造部５ａとしては、ガス透過膜を介してオゾンガスを純水に溶解させる装置や、オゾンガスと純水とを充填塔内で向流接触させてオゾンガスを純水に溶解させる装置を用いることができる。純水は、基板２の種類や用途及び洗浄目的に応じて、適した純度の純水を使用すればよいが、例えば基板２が液晶ガラス基板である場合には、２５℃換算の抵抗率が１０ＭΩ・ｃｍ以上の純水を好適に用いることができる。
オゾン水製造部５ａが製造するオゾン水の濃度は、５０〜３００ｐｐｍであることが好ましく、１００〜２００ｐｐｍであることがより好ましい。また、オゾンの自己分解を抑制してオゾンを効率的に利用するために、オゾン水には、自己分解抑制剤として二酸化炭素等を添加することが好ましい。
【００２５】
オゾン水供給部５が供給するオゾン水の温度は、特に限定されず、１５℃〜２５℃程度（常温）であってよい。オゾン水を常温で用いる場合には、洗浄のための装置やエネルギーを削減することが可能である。また、オゾン水は、加熱してもよく、この場合には好ましくは１５〜５０℃、より好ましくは常温（２０〜３０℃）程度とすることで、短時間でより清浄化した基板表面を得ることができる。
【００２６】
オゾン水ノズル５ｂとしては、オゾン水を噴射するスプレーノズルや、オゾン水を噴霧するシャワーノズルが用いられる。オゾン水ノズル５ｂは、配管によってオゾン水製造部５ａに接続されている。この配管を介してオゾン水製造部５ａで製造されたオゾン水がオゾン水ノズル５ｂに供給される。供給されたオゾン水は、オゾン水ノズル５ｂから洗浄面２ａに供給される。オゾン水ノズル５ｂは、加圧装置を備えることが好ましく、この場合、加圧装置がオゾン水を加圧して洗浄面２ａに供給することができる。洗浄面２ａに供給されるオゾン水の流速は０．５〜５ｍ／ｓ程度であることが好ましく、これにより、洗浄効率を向上させることができる。
【００２７】
また、オゾン水供給部５は、超音波印加装置を備えることが好ましい。この場合、超音波印加装置がオゾン水に超音波を印加して、オゾン水ノズル５ｂが超音波の印加されたオゾン水を洗浄面２ａに供給する。超音波の周波数は、好ましくは３０ｋＨｚ以上、より好ましくは１００〜２，０００ｋＨｚ、さらに好ましくは７００〜１，５００ｋＨｚである。オゾン水に超音波印加する場合には、ラジカル活性種の発生を促進し、洗浄効果を高めることができる。
【００２８】
本実施形態の洗浄装置１において、紫外線照射部６は、基板２の洗浄面２ａと反対側の面(以下、紫外線照射面ともいう。)２ｂに２５０〜２６０ｎｍの波長を含む紫外線を照射する。紫外線照射部６は、少なくとも波長２５４ｎｍを含む紫外線を照射することが好ましい。波長２５０〜２６０ｎｍの紫外線、特に、波長２５４ｎｍの紫外線は、その他の波長の可視光線ないし紫外線よりも純水中のオゾン分子による吸収率が高い。そのため、上記好ましい波長範囲を含む紫外線を照射することで、上記式（１），（２）に示すラジカル活性種の生成反応が促進される。その結果、被除去物３を効果的に除去することができる。
【００２９】
紫外線照射部６は、少なくとも波長２５０〜２６０ｎｍの紫外線を照射すればよく、上記した波長の紫外線のみでなく、これ以外の波長の光、例えば波長１８５ｎｍ付近の紫外線、波長２２０〜４００ｎｍの範囲の２５０〜２６０ｎｍ以外の波長の紫外線、紫外線以外の可視光線や赤外線の波長の領域の光を照射してもよい。この場合、紫外線照射部６の照射する光の発光ピーク波長の領域は特に限定されないが、少なくとも２５０〜２６０ｎｍの範囲に発光ピーク波長を有していることが好ましい。
【００３０】
紫外線照射部６の光源としては、上記した波長の紫外線を発生するものであれば限定されず、例えば低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、真空紫外ランプ、キセノンランプ、発光ダイオード（ＬＥＤ）等を用いることができる。紫外線照射部６の紫外線照射照度はラジカル活性種の生成濃度（生成量）に大きく影響を与えるため、安定した照度で紫外線を照射でき、発光寿命が長いことでランニングコストが低い光源が好ましい。このような光源としては、低圧水銀ランプを用いることが好ましい。また、例えば基板２が大型のものである場合は、基板２に対して照射される紫外線照度の部分的均一性や洗浄装置の小型化の点から、ＬＥＤを用いることが好ましい。ＬＥＤは発光寿命が長く照射光の直進性にも優れるため、ＬＥＤを用いることでランニングコストを低減することもできる。
【００３１】
紫外線照射部６が照射する紫外線照度は、被除去物３を効率よく除去するために、２〜２０ｍＷ／ｍ２であることが好ましく、３〜８ｍＷ／ｍ２であることがより好ましい。基板２の洗浄面に付着した被除去物３は、オゾン水に紫外線を照射することで生じたラジカル活性種により分解され、オゾン水中に溶解することで除去される。
【００３２】
紫外線照射部６の光源から紫外線照射面２ｂまでの距離は、基板２の吸光係数やオゾン水の濃度、使用する光源の種類等により適宜設定することができる。空気中において、紫外線照度が光源からの距離の２乗に反比例することを考慮して、例えば、数百ｍｍ以下、好ましくは５〜２０ｍｍとする。これにより、紫外線発光照度が、２〜２０ｍＷ／ｍ２程度の紫外線光源であれば、洗浄面２ａにおける紫外線照度を３ｍＷ／ｍ２以上とすることができ、これにより洗浄効率を向上させることができる。
【００３３】
本実施形態の洗浄装置１によれば、紫外線照射部６を基板２の洗浄面２ａと反対側の面２ｂ側に配置することで、紫外線照射部６を複数の搬送ローラ７の間に設置することができる。そのため、洗浄装置１を小型化することが可能である。さらに、紫外線照射部を洗浄面２ａと反対側の面２ｂ側に設けることで、紫外線照射部６の光源とガラス基板２の距離を小さくできるため、紫外線照射効率を向上させることができる。また、紫外線照射部６を基板２の上方に設置する場合には、例えばオゾン水滴がはねて紫外線照射部６光源に触れ、紫外線照射部６の光源が破損する事故が起こる懸念があり、この場合には、基板２を破損するおそれがある。これに対し、本実施形態の洗浄装置１では、紫外線照射部６を基板２の下方に設置するため、防水措置をし易い。
【００３４】
また、紫外線照射部６を洗浄面２ａの上方に備える場合には、オゾン水滴の付着を防ぐために、紫外線の光源を例えば石英ガラス管で保護することがある。石英ガラス管と基板２の距離が近いときには、洗浄時、洗浄された有機物を含んだ水滴が飛散して、石英ガラス管に付着し、その付着した水滴が再び基板２に落下し、基板２を再汚染するおそれがある。これに対し、本実施形態の洗浄装置１では、紫外線照射部６を基板２の下方に備えるため、このようなおそれがない。さらに、本実施形態の洗浄装置１では、紫外線照射部６を基板２の下方に備えるため、紫外線照射部６を基板２の上方に備える場合に比べて、紫外線照射部６を保持するための力も小さくて良い。したがって、装置構成を簡易にできる。
【００３５】
次に、本実施形態の洗浄装置を用いた洗浄方法について図４を参照して説明する。図４に示す本実施形態の洗浄方法は、前記基板を保持する工程Ｓ１００と、保持された前記基板の洗浄面にオゾン水を供給する工程Ｓ２００と、前記基板の洗浄面にオゾン水の接触した状態で前記基板の洗浄面２ａの反対側の面に２５０〜２６０ｎｍの波長を含む紫外線を照射する工程Ｓ３００とを備えている。
【００３６】
本実施形態の洗浄装置１を用いた基板の洗浄は次のように行う。先ず、搬送ローラ７上に洗浄対象である基板２を載置して保持し、搬送ローラ７を作動させて基板２を搬送する。そして、搬送される基板の洗浄面２ａに、工程Ｓ２００でオゾン水ノズル５ｂからオゾンを供給しながら、工程Ｓ３００で紫外線照射面２ｂ側から紫外線照射部６により紫外線を照射する。このときの、オゾン水ノズル５ｂのオゾン水供給流量は、洗浄対象となる基板２の面積に依存するが、洗浄性能の点から、１ｍ２あたり４０〜４００Ｌ／ｍｉｎであることが好ましく、１ｍ２あたり１００〜４００Ｌ／ｍｉｎであることがより好ましい。
【００３７】
なお、上記実施形態では、搬送ローラ７上に基板２を載置して保持しているが、基板２が、洗浄面２ａにオゾン水を供給している状態で、洗浄面２ａと反対側の面に上記波長の紫外線を照射可能な態様で保持されていれば、基板２の保持の態様や方法は特に限定されない。
【００３８】
洗浄装置１における基板の洗浄は、バッチ式で行ってもよく、連続式で行ってもよい。小型の基板を洗浄する場合にはバッチ式で行うことが好ましい。
【００３９】
本発明の洗浄方法は、省エネルギー化、低コスト化、高洗浄能を有することを特徴とする洗浄方法であり、特に、洗浄面積の大きい液晶ガラス基板の洗浄に適用することで大きな効果を発揮することができる。特に、液晶ガラス基板は近年その大型化が顕著であり、洗浄の均一性及び洗浄時間の短縮を目的として平流し洗浄が主流となりつつある。本発明の効果は平流し洗浄方法のみに限定されず、洗浄液をシャワー等で掛け流すシャワリング法や、回転する基板上に洗浄液を供給するスピン洗浄法、基板を洗浄液の入ったバッチ式浸漬槽に浸漬する浸漬洗浄法及びそれらの組み合わせ等の、洗浄液を用いる従来公知のあらゆる洗浄方法に適用することが可能であり、いずれの洗浄方法についても本実施形態と同様に、洗浄効率の向上効果を得ることができる。また、上述したような各洗浄方法にスポンジなどを使用した物理的洗浄を併用することにより、洗浄効率を一層高めることもできる。
【００４０】
以上、本実施形態の洗浄装置によれば、従来の濃厚薬品や洗浄液を用いた洗浄方法に比べて排水処理負荷や環境負荷を軽減することができ、装置構成も簡素化することが可能である。したがって、オゾン水による基板の洗浄効率を向上させることができる。
【実施例】
【００４１】
次に、実施例を説明する。
(実施例１)
被洗浄物として、大きさが縦５０ｍｍ×横５０ｍｍ×厚み０．７ｍｍであって、２５４ｎｍの波長の紫外線に対する透過率が９９％の液晶ガラス基板を用いた。この基板の洗浄面に、濃度１００ｐｐｍのオゾン水を流量１Ｌ／ｍｉｎ（１ｍ２あたりで４００Ｌ／ｍｉｎ）で供給するとともに、洗浄面の反対側の面に２５４ｎｍ付近の波長の紫外線を、ガラス基板より１０ｍｍ下方から紫外線照度３．８ｍＷ／ｍ２で照射した。紫外線照射装置としては、低圧水銀ランプＡＹ−１１(商品名、日本フォトサイエンス(株)社製)を用いた。【００４２】
洗浄前の液晶ガラス基板表面における水接触角と、洗浄時間０秒、３０秒、６０秒、１８０秒、３００秒、６００秒後の液晶ガラス基板表面における水接触角を接触角計ＰＧ−Ｘ(商品名、（株）マツボー社製)により測定した。水接触角の測定結果を表１に示す。水接触角が小さいほど、液晶ガラス基板に付着した有機物が少なく、より良好に洗浄されていることを示す。また、用いた低圧水銀ランプの波長特性を図５に示す。【００４３】
（比較例１）
実施例１において、紫外線を洗浄面側から照射した以外は実施例１と同様の条件で液晶ガラス基板の洗浄を行い、液晶ガラス基板表面における水接触角の経時変化を測定した。結果を表１に示す。【００４４】
（比較例２）
実施例１において、紫外線を照射しないで洗浄を行った以外は実施例１と同様の条件で液晶ガラス基板の洗浄を行い、液晶ガラス基板表面における水接触角の経時変化を測定した。結果を表１に併せて示す。【００４５】
(比較例３)
比較例１において、ファインジェット（ＰＴ−０１０Ｊ５０（プレテック社製)）を用いてオゾン水ノズル５ｂから供給するオゾン水に超音波を印加した以外は比較例１と同様の条件で液晶ガラス基板の洗浄を行い、液晶ガラス基板表面における水接触角の経時変化を測定した。結果を表１に示す。比較例３では、比較例２とほぼ同等の洗浄効果しか示さなった。これは、オゾン水膜に振動が与えられたことで、紫外線がオゾン水膜によって反射されるため、紫外線照射の効果が表れなかったことを示す。【００４６】
【表１】
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【００４７】
以上より、波長２５０〜２６０ｎｍの紫外線を照射することで洗浄効率が向上し、特に液晶ガラス基板の洗浄面と反対側の面から紫外線を照射した場合には、洗浄面側から照射した場合に比べ、短時間で接触角が小さくなる、すなわち、短時間で良好な洗浄が行われることが判明した。
【符号の説明】
【００４８】
１…洗浄装置、２…基板、２ａ…洗浄面、２ｂ…紫外線照射面、３…被洗浄物
４…オゾン水膜、５…オゾン水供給部、５ａ…オゾン水製造部、５ｂ…オゾン水ノズル、６…紫外線照射部、７…搬送ローラ。
【図１】
2015075922.tif 000004
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【国際調査報告】
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