(57)【要約】  オートタキシン阻害作用等に優れ、ＡＴＸが関与する疾患の予防又は治療薬として有効な化合物の提供。本発明は、下記一般式（Ｉ）：2015163435.tif 000171［式中の各記号は、明細書に記載のとおりである。］で表される化合物に関し、これらは優れたオートタキシン阻害作用を有し、ＡＴＸが関与する疾患の予防又は治療薬として有用である。
2015163435.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で示される化合物およびその薬理学的に許容される塩：
【化１】
2015163435.tif 000164
｛式中、
Ａは、シクロアルキル、ヘテロ環基、アリールまたはヘテロアリールを示す；
Ｚ１、Ｚ２およびＺ３は、以下のＡ）〜Ｄ）のいずれかを示す：
Ａ）Ｚ１、Ｚ２およびＺ３のすべてが炭素である；
Ｂ）Ｚ１が窒素であり、Ｚ２およびＺ３が炭素である；
Ｃ）Ｚ２が窒素であり、Ｚ１およびＺ３が炭素である；
Ｄ）Ｚ１およびＺ２が窒素であり、Ｚ３が炭素である；
Ｚ４は、炭素および窒素のいずれかを示す；
Ｒ１は、ハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、シアノ、ヘテロ環基、アリールまたはヘテロアリール（ここで、該ヘテロアリールは、さらにアルキルから選ばれる置換基を有していてもよい。）を示す；
Ｒ２およびＲ３は、同一または異なって、水素、ハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシまたはアリールを示す；
Ｒ４は、水素、アルキルまたはハロゲンを示す；
Ｒ５およびＲ６は、同一または異なって、−Ｘ１−Ｒ７ａを示す（ここで、
Ｘ１は、単結合、直鎖状アルキレン、環状アルキレン、−Ｏ−、−Ｏ−アルキレン−または−ＣＯ−を示す（なお、Ｘ１の直鎖状アルキレン、環状アルキレンおよび−Ｏ−アルキレン−は、さらにヒドロキシ、ハロゲン、アルキル、ヒドロキシアルキルおよびアルコキシから選ばれる置換基を有していてもよい。）；
Ｒ７ａは、水素、ヒドロキシ、ハロゲン、アルキル、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル、アルコキシ、カルボキシル、−ＮＲ７ｂＲ７ｃ（ここで、Ｒ７ｂおよびＲ７ｃは、同一又は異なって、水素、ヒドロキシ、ハロゲン、アルキル、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキルまたはアミノアルキルを示す。）、アルキレンオキシド、シアノ、ジアルキルカルバモイル、アルキルスルホニル、ヘテロ環基またはヘテロアリールを示す（なお、Ｒ７ａのヘテロ環基およびヘテロアリールは、さらにヒドロキシ、ハロゲン、アルキル、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキルおよびアミノアルキルから選ばれる置換基を有していてもよい。））；
Ｌ１は、以下の１）〜６）から選択される基を示す：
１）−Ｘ２−、
２）−Ｘ２−(ＣＨ２)ｎ−、
３）−Ｏ−Ｘ３−、
４）−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−Ｘ３−、
５）−ＣＯ−Ｘ３−、
６）−ＣＯ−ＮＨ−Ｘ３−
（ここで、
Ｘ２は、単結合、直鎖状アルキレン、環状アルキレン、アルケニレン、アルキニレン、ヘテロシクロアルキレンまたはヘテロアリーレンを示す；
Ｘ３は、直鎖状アルキレン、環状アルキレン、アルケニレン、アルキニレン、ヘテロシクロアルキレンまたはヘテロアリーレンを示す；
（なお、Ｘ２およびＸ３の直鎖状アルキレン、環状アルキレン、アルケニレンおよびアルキニレンは、さらにアルキル（ここで、該アルキルは、アリールおよびヘテロアリールから選ばれる置換基を有していてもよい。）、シクロアルキル、ヒドロキシアルキル、ハロアルキルおよびアルキレンオキシドから選ばれる置換基を有していてもよい。）；
ｎは１〜３の整数を示す。）｝。
【請求項２】
Ａが、アリールまたはヘテロアリールである請求項１に記載の化合物、およびその薬理学的に許容される塩。
【請求項３】
Ａが、ヘテロ環基である請求項１に記載の化合物、およびその薬理学的に許容される塩。
【請求項４】
Ｚ１、Ｚ２およびＺ３が、すべてが炭素である請求項１〜３のいずれか１項に記載の化合物、およびその薬理学的に許容される塩。
【請求項５】
Ｒ１が、ハロゲン、ハロアルキルまたはハロアルコキシである請求項１〜４のいずれか１項に記載の化合物、およびその薬理学的に許容される塩。
【請求項６】
Ｒ１が、ハロアルコキシである請求項５に記載の化合物、およびその薬理学的に許容される塩。
【請求項７】
Ｒ１が、当該６員環の３位に置換しているものである請求項１〜６のいずれか１項に記載の化合物、およびその薬理学的に許容される塩。
【請求項８】
Ｒ５およびＲ６が、同一又は異なって、
１）−Ｘ１−Ｒ７ａ（Ｘ１が−Ｏ−であり、Ｒ７ａがアルキルである）、
２）−Ｘ１−Ｒ７ａ（Ｘ１が直鎖状アルキレンまたは環状アルキレンであり、Ｒ７ａが水素である）、および
３）−Ｘ１−Ｒ７ａ（Ｘ１が単結合であり、Ｒ７ａがハロゲンまたはシアノである）
のいずれかである請求項１〜７のいずれか１項に記載の化合物、およびその薬理学的に許容される塩。
【請求項９】
Ｌ１が、１）−Ｘ２−（Ｘ２が直鎖アルキレンまたは環状アルキレンである）である請求項１〜８のいずれか１項に記載の化合物、およびその薬理学的に許容される塩。
【請求項１０】
Ｌ１が、１）−Ｘ２−（Ｘ２がＣ１〜２の直鎖アルキレンまたはＣ３〜６の環状アルキレンである）である請求項９に記載の化合物、およびその薬理学的に許容される塩。
【請求項１１】
Ａのシクロアルキルが、以下から選択される基：
【化２】
2015163435.tif 000165
であり、Ａのヘテロ環基が、以下から選択される基：
【化３】
2015163435.tif 000166
であり、Ａのアリールが、以下の基：
【化４】
2015163435.tif 000167
であり、Ａのヘテロアリールが、以下から選択される基：
【化５】
2015163435.tif 000168
である請求項１および４〜１０のいずれか１項に記載の化合物、およびその薬理学的に許容される塩。
【請求項１２】
Ａが、
【化６】
2015163435.tif 000169
である請求項２および１１のいずれか１項に記載の化合物、およびその薬理学的に許容される塩。
【請求項１３】
Ａが、
【化７】
2015163435.tif 000170
である請求項３および１１のいずれか１項に記載の化合物、およびその薬理学的に許容される塩。
【請求項１４】
一般式（１）で示される化合物が、以下のいずれかである請求項１に記載の化合物、およびその薬理学的に許容される塩：
２−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−３Ｈ−ベンゾイミダゾール−４−カルボン酸、
２−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−ベンゾオキサゾール−６−カルボン酸、
１−メチル−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−１Ｈ−インダゾール−３−カルボン酸、
５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−１Ｈ−インダゾール−３−カルボン酸、
３−｛３−シアノ−２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−プロピオン酸、
３−｛２−クロロ−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−フェニル｝−プロピオン酸、
３−｛３−シアノ−２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−２−メチル−プロピオン酸、
２−｛２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−シクロプロパンカルボン酸、
（１Ｓ，２Ｓ）−２−｛２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−シクロプロパンカルボン酸、
２−［５−メトキシ−６’−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−［２，３’］ビピリジニル−６−イル］−シクロプロパンカルボン酸、
（１Ｓ，２Ｓ）−２−［５−メトキシ−６’−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−［２，３’］ビピリジニル−６−イル］−シクロプロパンカルボン酸、
（１Ｓ，２Ｓ）−２−｛３−メトキシ−６−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−ピリジン−２−イル｝−シクロプロパンカルボン酸、
（１Ｓ，２Ｓ）−２−［５−クロロ−６’−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−［２，３’］ビピリジニル−６−イル］−シクロプロパンカルボン酸、
（１Ｓ，２Ｓ）−２−［５−エトキシ−６’−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−［２，３’］ビピリジニル−６−イル］−シクロプロパンカルボン酸、
（１Ｓ，２Ｓ）−２−［５−メチル−６’−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−［２，３’］ビピリジニル−６−イル］−シクロプロパンカルボン酸、
３−｛２−メトキシ−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−フェニル｝−プロピオン酸、
３−｛２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−プロピオン酸、
２−｛２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−２−メチル−プロピオン酸、
２−｛３−シアノ−２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−２−メチル−プロピオン酸、
２−クロロ−３−（１−メチル−ピロリジン−３−イルオキシ）−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−安息香酸、
２−クロロ−３−（ピロリジン−３−イルオキシ）−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−安息香酸、
３−（アゼチジン−３−イルオキシ）−２−クロロ−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−安息香酸、
２−クロロ−３−（１−メチル−アゼチジン−３−イルオキシ）−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−安息香酸、
２−メトキシ−３−ピリジン−４−イル−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−安息香酸、
２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−安息香酸、
３−フルオロ−２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−安息香酸、
２，３−ジメトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−安息香酸、
２−クロロ−３−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−安息香酸、
３−シアノ−２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−安息香酸、
７−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−１Ｈ−インダゾール−３−カルボン酸、
４−メトキシ−７−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−１Ｈ−インダゾール−３−カルボン酸、
１−（２−メトキシ−エチル）−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−１Ｈ−インダゾール−３−カルボン酸、
１−メチル−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−１Ｈ−インダゾール−３−カルボン酸、
１−（３−メタンスルホニル−プロピル）−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−１Ｈ−インダゾール−３−カルボン酸、
１−（３−シアノ−プロピル）−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−１Ｈ−インダゾール−３−カルボン酸、
（Ｅ）−３−｛３−メチル−２−オキソ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−３−アザ−ビシクロ［４．１．０］ヘプト−４−エン−１−イル｝−アクリル酸、
（Ｅ）−３−［１−メチル−６−オキソ−６’−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−１，６−ジヒドロ−［３，３’］ビピリジニル−５−イル］−アクリル酸、
（１Ｓ，２Ｓ）−２−［５−イソプロポキシ−６’−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−［２，３’］ビピリジニル−６−イル］−シクロプロパンカルボン酸、
３−｛３−シアノ−２−メトキシ−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−フェニル｝−プロピオン酸、
（Ｅ）−３−｛２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−アクリル酸、
３−｛２−メトキシ−４−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−プロピオン酸、
（トランス）−２−｛２−メトキシ−４−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−シクロプロパンカルボン酸、
（トランス）−２−｛２−メトキシ−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−フェニル｝−シクロプロパンカルボン酸、
３−｛２−メトキシ−３−オキセタン−３−イル−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−プロピオン酸、
３−｛３−シアノ−２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−３−メチル−酪酸、
３−｛３−シアノ−２−メトキシ−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−フェニル｝−３−メチル−酪酸、
（３−｛２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−オキセタン−３−イル）−酢酸、
３−｛２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−３−メチル−酪酸、
３−｛２，６−ジメトキシ−４−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−プロピオン酸、
３−｛２，６−ジメトキシ−４−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−２−メチル−プロピオン酸、
１−［１−メチル−６−オキソ−６’−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−１，６−ジヒドロ−［３，３’］ビピリジニル−５−イル］−シクロプロパンカルボン酸、
２−｛３−イミダゾール−１−イルメチル−２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−２−メチル−プロピオン酸、
｛２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−酢酸、
１−｛２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−シクロプロパンカルボン酸、
２−｛２−メトキシ−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−フェニル｝−２−メチル−プロピオン酸、
２−［６−メトキシ−６’−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−［３，３’］ビピリジニル−５−イル］−２−メチル−プロピオン酸、
２−［５−メトキシ−６’−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−［２，３’］ビピリジニル−６−イル］−２−メチル−プロピオン酸、
２−｛３−ヒドロキシメチル−２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−２−メチル−プロピオン酸、
２−｛２−メトキシ−３−メトキシメチル−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−２−メチル−プロピオン酸、
２−｛２−メトキシ−３−［（２，２，２−トリフルオロ−エチルアミノ）−メチル］−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−２−メチル−プロピオン酸、
２−｛３−フルオロメチル−２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−２−メチル−プロピオン酸、
｛２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェノキシ｝−酢酸、
２−｛２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェノキシ｝−プロピオン酸、
２−クロロ−３−（２−メトキシ−エトキシ）−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−安息香酸、
２−クロロ−３−（テトラヒドロ−ピラン−４−イルオキシ）−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−安息香酸、
２−クロロ−３−［２−（２−オキソ−ピロリジン−１−イル）−エトキシ］−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−安息香酸、
２−クロロ−３−（２−オキソ−ピロリジン−３−イルオキシ）−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−安息香酸、
２−クロロ−３−（オキセタン−３−イルオキシ）−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−安息香酸、
２−クロロ−３−ジメチルカルバモイルメトキシ−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−安息香酸、
２−クロロ−３−（２−ジメチルアミノ−エトキシ）−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−安息香酸、
２−クロロ−３−（２−モルホリン−４−イル−エトキシ）−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−安息香酸、
３−フラン−３−イル−２−メトキシ−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−安息香酸、
２−メトキシ−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−安息香酸、および
５−［６−（３−イソプロピル−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−２−メトキシ−安息香酸。
【請求項１５】
請求項１〜１４のいずれか１項に記載の化合物、およびその薬理学的に許容される塩、及び製薬上許容しうる担体を含有する医薬組成物。
【請求項１６】
ＡＴＸ阻害薬として用いられる請求項１５に記載の医薬組成物。
【請求項１７】
ＡＴＸが関与する疾患の治療又は予防のために用いられる請求項１５に記載の医薬組成物。
【請求項１８】
ＡＴＸが関与する疾患が、悪性黒色腫、脳腫瘍、神経芽細胞腫、多型性神経膠芽腫、ＥＢＶ陽性ホジキンリンパ腫、膠芽腫、非小細胞肺癌、肺腫瘍、乳房腫瘍、卵巣腫瘍、膵腫瘍、前立腺上皮内腫瘍、前立腺腫瘍、甲状腺腫瘍、濾胞性リンパ腫、肝臓腫瘍、腎細胞癌などの癌又は腫瘍、肺線維症、肝線維症、腎線維症，アテローム性動脈硬化などの線維症、喘息、関節リウマチ、ＩＩ型糖尿病関連の肥満、急性冠症候群、胆汁うっ滞性そう痒症、炎症性腸疾患、クローン病、潰瘍性大腸炎、神経因性疼痛などの炎症性疾患である請求項１７に記載の医薬組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は新規なオートタキシン阻害剤およびその用途に関する。より詳しくは、一般式（１）で表される化合物若しくはその薬理学的に許容できる塩を有効成分とするオートタキシンに起因する疾患の予防又は治療薬に関する。
【背景技術】
【０００２】
オートタキシン（ａｕｔｏｔａｘｉｎ；ＡＴＸ）はヒト悪性黒色腫細胞株Ａ２０５８の培養上清から単離され細胞遊走促進因子として同定された。ＡＴＸは、分泌型のリゾホスホリパーゼＤ（ｌｙｓｏｐｈｏｐｈｏｌｉｐａｓｅ  Ｄ；ｌｙｓｏＰＬＤ）およびＥＮＰＰ２（Ｅｃｔｏｎｕｃｌｅｏｔｉｄｅ  Ｐｙｒｏｐｈｏｓｐｈａｔａｓｅ／Ｐｈｏｓｐｈｏｄｉｅｓｔｅｒａｓｅ  ２）とも呼ばれ、ｌｙｓｏＰＬＤ活性の主体であり、リゾホスファチジルコリン（ｌｙｓｏｐｈｏｓｐｈａｔｉｄｙｌｃｈｏｌｉｎｅ；ＬＰＣ）を加水分解し多様な生理活性を有する脂質メディエーターであるリゾホスファチジン酸（ｌｙｓｏｐｈｏｓｐｈａｔｉｄｉｃ  ａｃｉｄ；ＬＰＡ）を産生する。【０００３】
ＡＴＸにより産生されたＬＰＡは、Ｇタンパク共役型受容体に結合して細胞内にシグナルを伝達し、様々な生理作用を示す。ＬＰＡ受容体としてはＬＰＡ１からＬＰＡ６までの６種類のサブタイプが知られている。ＬＰＡ受容体サブタイプは生体内の随所に分布するが、サブタイプによって局在組織が異なり、各種受容体サブタイプが組織によってそれぞれの生体機能に関与している。ＬＰＡ受容体は二つのサブファミリーに分類される。ＬＰＡ１からＬＰＡ３は、ｅｎｄｏｔｈｅｌｉａｌ  ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｔｉｏｎ  ｇｅｎｅ  （Ｅｄｇ）  ｆａｍｉｌｙに分類される。ＬＰＡ４からＬＰＡ６は、ｎｏｎ−Ｅｄｇ  ｆａｍｉｌｙ  ＬＰＡ  ｒｅｃｅｐｔｏｒｓであり、ｐｕｒｉｎｅｒｇｉｃ  ｒｅｃｅｐｔｏｒ  ｆａｍｉｌｙに類する受容体である（非特許文献１および２）。これらのＬＰＡ受容体を介して、ＬＰＡは生理学的（恒常性維持および病態の双方に対して）に多岐にわたる生命現象に関わっている。ＬＰＡ受容体を介したＬＰＡの作用として、細胞増殖、抗アポトーシス作用、細胞遊走、癌細胞浸潤、創傷治癒、脳神経系の発達や分化、胎児における血管形成、Ｈｉｇｈ  ｅｎｄｏｔｈｅｌｉａｌ  ｖｅｎｕｌｅｓ  （ＨＥＶｓ）や二次リンパ組織でのＡＴＸの高発現を介したリンパ球トラフィキング、毛嚢形成、骨の石灰化など様々な機能が知られている。【０００４】
一方、疾患との関係としては、まず、ＡＴＸおよびＬＰＡ受容体を介した細胞内シグナル経路が癌に深く関連することは種々の研究から示されている（非特許文献３）。【０００５】
また、ＡＴＸおよびＬＰＡ受容体を介した細胞内シグナル経路が種々の癌や様々な炎症疾患に関与することが明らかとなっている。具体的には、癌、腫瘍、新生物、悪性黒色腫、脳腫瘍、神経芽細胞腫、多型性神経膠芽腫、ＥＢＶ陽性ホジキンリンパ腫、膠芽腫、非小細胞肺癌、肺腫瘍、乳房腫瘍、卵巣腫瘍、膵腫瘍、前立腺上皮内腫瘍、前立腺腫瘍、甲状腺腫瘍、濾胞性リンパ腫、肝臓腫瘍、腎細胞癌などの種々の癌、喘息、特発性肺線維症をはじめとする肺線維症、関節リウマチ、ＩＩ型糖尿病関連の肥満、アテローム性動脈硬化、急性冠症候群、肝線維症、胆汁うっ滞性そう痒症、炎症性腸疾患、クローン病、潰瘍性大腸炎、神経因性疼痛などの様々な疾患と関連付けられる（非特許文献４）。【０００６】
更に、ＡＴＸおよびＬＰＡ受容体を介した細胞内シグナル経路が、各種の線維化疾患に関与することが明らかとなっている。【０００７】
上記疾患との関与に関し、更に詳細には、例えば、肺線維化については特発性肺線維症患者の肺胞洗浄液中でＬＰＡ濃度が上昇することおよびブレオマイシン誘発肺線維症モデルの肺組織中でＡＴＸの濃度が上昇することが示されている。さらにＬＰＡ１欠損マウスではブレオマイシン誘発肺線維症の進行と死亡が著しく抑制されていることが示されている（非特許文献５および６）。【０００８】
肝線維化については、ＬＰＡが肝線維化において中心的な役割を担う肝星細胞の収縮および増殖を促進しアポトーシスを抑制すること、慢性Ｃ型肝炎患者において肝線維化進展に伴って血清オートタキシン活性および血漿ＬＰＡ量が亢進していることが示されている（非特許文献７〜９）。【０００９】
腎線維化については、片側尿管結紮モデルにおいてＬＰＡの産生やＬＰＡ１の発現が亢進し、ＬＰＡ１欠損マウスは線維化に抵抗性を示し、ＬＰＡ受容体拮抗薬が線維化進行を抑制することが示されている（非特許文献１０）。【００１０】
神経因性疼痛については、ＡＴＸにより産生されたＬＰＡが神経因性疼痛の発現に寄与し、ＬＰＡ１欠損マウスは神経因性疼痛に対して抵抗性を示すことが明らかとなっている（非特許文献１１および１２）。【００１１】
関節リウマチについては、関節リウマチ患者の滑膜組織および滑液中のＡＴＸ量が増加し、ＡＴＸ  ｃｏｎｄｉｔｉｏｎａｌ  ノックアウトマウスが関節炎発症に抵抗性を示すことが明らかとなっている（非特許文献１３）。【００１２】
アテローム性動脈硬化については、ＬＰＡが動脈硬化病変に集積し低密度リポタンパク質酸化による血小板および内皮細胞の活性化を促進する（非特許文献１４）。ＬＰＡおよびＡＴＸは、血管内皮細胞のＣｈｅｍｏｋｉｎｅ（Ｃ−Ｘ−Ｃ  ｍｏｔｉｆ）ｌｉｇａｎｄ  １産生を亢進し単球の遊走を促進する（非特許文献１５）。したがって、ＬＰＡおよびＡＴＸは心血管疾患に関与すると考えられる。【００１３】
ＡＴＸ阻害剤として、非特許文献１６には特定の脂質類似体が、また、特許文献１にはテトラヒドロカルボリン誘導体が、特許文献２には１Ｈ−インドール化合物が、特許文献３にはピペリジンまたはピペラジン誘導体が、特許文献４にはピリダジン誘導体がそれぞれ記載されている。
しかしながら、本発明の化合物はこれらの特許に記載された化合物と構造的に類似するものではない。【００１４】
一方、本発明の化合物に類似する化合物として、特許文献５にはある種のアミノ−ピリミジン化合物が、特許文献６には特定のアミノピリダジン化合物が、特許文献７にはある種のアミノ−ピリジン、またはアミノ−トリアジン化合物が、特許文献８にはある種のアミノピリジン化合物が記載されている。
しかしながら、上記特許文献に記載の化合物がオートタキシンに対し阻害作用を有する等の記載はない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１５】
【特許文献１】国際特許公報ＷＯ２０１２／００５２２７
【特許文献２】国際特許公報ＷＯ２０１２／０２４６２０
【特許文献３】国際特許公報ＷＯ２００９／０４６８４１
【特許文献４】国際特許公報ＷＯ２０１３／０６１２９７
【特許文献５】国際特許公報ＷＯ２０１１／１３３８８８
【特許文献６】国際特許公報ＷＯ２０１１／１３３９２０
【特許文献７】国際特許公報ＷＯ２００７／０８９３３５
【特許文献８】国際特許公報ＷＯ２００９／１５１８００
【非特許文献】
【００１６】
【非特許文献１】Ｃｈｏｉら，Ａｎｎｕ  Ｒｅｖ  Ｐｈａｒｍａｃｏｌ  Ｔｏｘｉｃｏｌ．  ２０１０，５０：  １５７−１８６
【非特許文献２】Ｈｏｕｂｅｎら，Ｃａｎｃｅｒ  Ｍｅｔａｓｔａｓｉｓ  Ｒｅｖ．  ２０１１，３０（３−４）：５５７−６５
【非特許文献３】Ｈｏｕｂｅｎら，Ｃａｎｃｅｒ  Ｍｅｔａｓｔａｓｉｓ  Ｒｅｖ．  ２０１１；３０（３−４）：５５７−６５
【非特許文献４】Ｂｅｎｅｓｃｈら，ＦＥＢＳ  Ｌｅｔｔ．  ２０１４
【非特許文献５】Ｔａｇｅｒら，Ｎａｔ  Ｍｅｄ.２００８；１４（１）：４５−５４
【非特許文献６】Ｏｉｋｏｎｏｍｏｕら，Ａｍ  Ｊ  Ｒｅｓｐｉｒ  Ｃｅｌｌ  Ｍｏｌ  Ｂｉｏｌ.２０１２；４７（５）：５６６−７４
【非特許文献７】Ｉｋｅｄａら，Ｂｉｏｃｈｅｍ  Ｂｉｏｐｈｙｓ  Ｒｅｓ  Ｃｏｍｍｕｎ．  １９９８  Ｊｕｌ  ２０；２４８（２）：４３６−４０
【非特許文献８】Ｙａｎａｓｅら，Ｂｉｏｃｈｅｍ  Ｂｉｏｐｈｙｓ  Ｒｅｓ  Ｃｏｍｍｕｎ．  ２０００  Ｏｃｔ  １４；２７７（１）：７２−８
【非特許文献９】Ｉｋｅｄａら，Ａｍ  Ｊ  Ｐｈｙｓｉｏｌ  Ｇａｓｔｒｏｉｎｔｅｓｔ  Ｌｉｖｅｒ  Ｐｈｙｓｉｏｌ．  ２００３  Ｎｏｖ；２８５（５）：Ｇ８８０−６
【非特許文献１０】Ｐｒａｄeｒｅら，Ｊ  Ａｍ  Ｓｏｃ  Ｎｅｐｈｒｏｌ．  ２００７；１８（１２）：３１１０−８
【非特許文献１１】Ｉｎｏｕｅら，Ｎａｔ  Ｍｅｄ.   ２００４；１０（７）：７１２−８
【非特許文献１２】Ｉｎｏｕｅら，Ｍｏｌ  Ｐａｉｎ．  ２００８  Ｆｅｂ  ８；４：６
【非特許文献１３】Ｎｉｋｉｔｏｐｏｕｌｏｕら，Ｊ  Ｅｘｐ  Ｍｅｄ．  ２０１２  ；２０９（５）：９２５−３３
【非特許文献１４】Ｓｉｅｓｓら，Ｐｒｏｃ  Ｎａｔｌ  Ａｃａｄ  Ｓｃｉ  Ｕ  Ｓ  Ａ．  １９９９；９６（１２）：６９３１−６
【非特許文献１５】Ｚｈｏｕら，Ｃｅｌｌ  Ｍｅｔａｂ．  ２０１１  Ｍａｙ  ４；１３（５）：５９２−６００
【非特許文献１６】Ｐｅｎｇら，Ｂｉｏｏｒｇａｎｉｃ  ＆  Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ Ｌｅｔｔｅｒｓ  ２００７、１７：１６３４−１６４０
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１７】
本発明はオートタキシン阻害作用等に優れ、ＡＴＸが関与する疾患の予防または治療に有用な化合物を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意研究した結果、ＡＴＸを阻害する特定の化合物を見出し、ＡＴＸが関与する疾患の予防又は治療薬を提供し得ることを見出して本発明を完成するに至った。すなわち、本発明の要旨は以下の通りである。【００１９】
［１］下記一般式（１）で示される化合物およびその薬理学的に許容される塩：【００２０】
【化１】
2015163435.tif 000003
【００２１】
｛式中、
Ａは、シクロアルキル、ヘテロ環基、アリールまたはヘテロアリールを示す；
Ｚ１、Ｚ２およびＺ３は、以下のＡ）〜Ｄ）のいずれかを示す：
Ａ）Ｚ１、Ｚ２およびＺ３のすべてが炭素である；
Ｂ）Ｚ１が窒素であり、Ｚ２およびＺ３が炭素である；
Ｃ）Ｚ２が窒素であり、Ｚ１およびＺ３が炭素である；
Ｄ）Ｚ１およびＺ２が窒素であり、Ｚ３が炭素である；
Ｚ４は、炭素および窒素のいずれかを示す；
Ｒ１は、ハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、シアノ、ヘテロ環基、アリールまたはヘテロアリール（ここで、該ヘテロアリールは、さらにアルキルから選ばれる置換基を有していてもよい。）を示す；
Ｒ２およびＲ３は、同一または異なって、水素、ハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシまたはアリールを示す；
Ｒ４は、水素、アルキルまたはハロゲンを示す；
Ｒ５およびＲ６は、同一または異なって、−Ｘ１−Ｒ７ａを示す（ここで、
Ｘ１は、単結合、直鎖状アルキレン、環状アルキレン、−Ｏ−、−Ｏ−アルキレン−または−ＣＯ−を示す（なお、Ｘ１の直鎖状アルキレン、環状アルキレンおよび−Ｏ−アルキレン−は、さらにヒドロキシ、ハロゲン、アルキル、ヒドロキシアルキルおよびアルコキシから選ばれる置換基を有していてもよい。）；
Ｒ７ａは、水素、ヒドロキシ、ハロゲン、アルキル、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル、アルコキシ、カルボキシル、−ＮＲ７ｂＲ７ｃ（ここで、Ｒ７ｂおよびＲ７ｃは、同一又は異なって、水素、ヒドロキシ、ハロゲン、アルキル、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキルまたはアミノアルキルを示す。）、アルキレンオキシド、シアノ、ジアルキルカルバモイル、アルキルスルホニル、ヘテロ環基またはヘテロアリールを示す（なお、Ｒ７ａのヘテロ環基およびヘテロアリールは、さらにヒドロキシ、ハロゲン、アルキル、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキルおよびアミノアルキルから選ばれる置換基を有していてもよい。））；
Ｌ１は、以下の１）〜６）から選択される基を示す：
１）−Ｘ２−、
２）−Ｘ２−(ＣＨ２)ｎ−、
３）−Ｏ−Ｘ３−、
４）−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−Ｘ３−、
５）−ＣＯ−Ｘ３−、
６）−ＣＯ−ＮＨ−Ｘ３−
（ここで、
Ｘ２は、単結合、直鎖状アルキレン、環状アルキレン、アルケニレン、アルキニレン、ヘテロシクロアルキレンまたはヘテロアリーレンを示す；
Ｘ３は、直鎖状アルキレン、環状アルキレン、アルケニレン、アルキニレン、ヘテロシクロアルキレンまたはヘテロアリーレンを示す；
（なお、Ｘ２およびＸ３の直鎖状アルキレン、環状アルキレン、アルケニレンおよびアルキニレンは、さらにアルキル（ここで、該アルキルは、アリールおよびヘテロアリールから選ばれる置換基を有していてもよい。）、シクロアルキル、ヒドロキシアルキル、ハロアルキルおよびアルキレンオキシドから選ばれる置換基を有していてもよい。）；
ｎは１〜３の整数を示す。）｝。
［２］Ａが、アリールまたはヘテロアリールである［１］に記載の化合物、およびその薬理学的に許容される塩。
［３］Ａが、ヘテロ環基である［１］に記載の化合物、およびその薬理学的に許容される塩。
［４］Ｚ１、Ｚ２およびＺ３が、すべてが炭素である［１］〜［３］のいずれか１つに記載の化合物、およびその薬理学的に許容される塩。
［５］Ｒ１が、ハロゲン、ハロアルキルまたはハロアルコキシである［１］〜［４］のいずれか１つに記載の化合物、およびその薬理学的に許容される塩。
［６］Ｒ１が、ハロアルコキシである［５］に記載の化合物、およびその薬理学的に許容される塩。
［７］Ｒ１が、当該６員環の３位に置換しているものである［１］〜［６］のいずれか１つに記載の化合物、およびその薬理学的に許容される塩。
［８］Ｒ５およびＲ６が、同一又は異なって、
１）−Ｘ１−Ｒ７ａ（Ｘ１が−Ｏ−であり、Ｒ７ａがアルキルである）、
２）−Ｘ１−Ｒ７ａ（Ｘ１が直鎖状アルキレンまたは環状アルキレンであり、Ｒ７ａが水素である）、および
３）−Ｘ１−Ｒ７ａ（Ｘ１が単結合であり、Ｒ７ａがハロゲンまたはシアノである）
のいずれかである［１］〜［７］のいずれか１つに記載の化合物、およびその薬理学的に許容される塩。
［９］Ｌ１が、１）−Ｘ２−（Ｘ２が直鎖アルキレンまたは環状アルキレンである）である［１］〜［８］のいずれか１つに記載の化合物、およびその薬理学的に許容される塩。
［１０］Ｌ１が、１）−Ｘ２−（Ｘ２がＣ１〜２の直鎖アルキレンまたはＣ３〜６の環状アルキレンである）である［９］に記載の化合物、およびその薬理学的に許容される塩。
［１１］Ａのシクロアルキルが、以下から選択される基：【００２２】
【化２】
2015163435.tif 000004
【００２３】
であり、Ａのヘテロ環基が、以下から選択される基：【００２４】
【化３】
2015163435.tif 000005
【００２５】
であり、Ａのアリールが、以下の基：【００２６】
【化４】
2015163435.tif 000006
【００２７】
であり、Ａのヘテロアリールが、以下から選択される基：【００２８】
【化５】
2015163435.tif 000007
【００２９】
である［１］および［４］〜［１０］のいずれか１つに記載の化合物、およびその薬理学的に許容される塩。
［１２］Ａが、【００３０】
【化６】
2015163435.tif 000008
【００３１】
である［２］および［１１］のいずれか１つに記載の化合物、およびその薬理学的に許容される塩。
［１３］Ａが、【００３２】
【化７】
2015163435.tif 000009
【００３３】
である［３］および［１１］のいずれか１つに記載の化合物、およびその薬理学的に許容される塩。
［１４］一般式（１）で示される化合物が、以下のいずれかである［１］に記載の化合物、およびその薬理学的に許容される塩：
２−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−３Ｈ−ベンゾイミダゾール−４−カルボン酸、
２−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−ベンゾオキサゾール−６−カルボン酸、
１−メチル−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−１Ｈ−インダゾール−３−カルボン酸、
５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−１Ｈ−インダゾール−３−カルボン酸、
３−｛３−シアノ−２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−プロピオン酸、
３−｛２−クロロ−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−フェニル｝−プロピオン酸、
３−｛３−シアノ−２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−２−メチル−プロピオン酸、
２−｛２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−シクロプロパンカルボン酸、
（１Ｓ，２Ｓ）−２−｛２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−シクロプロパンカルボン酸、
２−［５−メトキシ−６’−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−［２，３’］ビピリジニル−６−イル］−シクロプロパンカルボン酸、
（１Ｓ，２Ｓ）−２−［５−メトキシ−６’−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−［２，３’］ビピリジニル−６−イル］−シクロプロパンカルボン酸、
（１Ｓ，２Ｓ）−２−｛３−メトキシ−６−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−ピリジン−２−イル｝−シクロプロパンカルボン酸、
（１Ｓ，２Ｓ）−２−［５−クロロ−６’−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−［２，３’］ビピリジニル−６−イル］−シクロプロパンカルボン酸、
（１Ｓ，２Ｓ）−２−［５−エトキシ−６’−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−［２，３’］ビピリジニル−６−イル］−シクロプロパンカルボン酸、
（１Ｓ，２Ｓ）−２−［５−メチル−６’−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−［２，３’］ビピリジニル−６−イル］−シクロプロパンカルボン酸、
３−｛２−メトキシ−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−フェニル｝−プロピオン酸、
３−｛２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−プロピオン酸、
２−｛２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−２−メチル−プロピオン酸、
２−｛３−シアノ−２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−２−メチル−プロピオン酸、
２−クロロ−３−（１−メチル−ピロリジン−３−イルオキシ）−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−安息香酸、
２−クロロ−３−（ピロリジン−３−イルオキシ）−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−安息香酸、
３−（アゼチジン−３−イルオキシ）−２−クロロ−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−安息香酸、
２−クロロ−３−（１−メチル−アゼチジン−３−イルオキシ）−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−安息香酸、
２−メトキシ−３−ピリジン−４−イル−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−安息香酸、
２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−安息香酸、
３−フルオロ−２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−安息香酸、
２，３−ジメトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−安息香酸、
２−クロロ−３−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−安息香酸、
３−シアノ−２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−安息香酸、
７−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−１Ｈ−インダゾール−３−カルボン酸、
４−メトキシ−７−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−１Ｈ−インダゾール−３−カルボン酸、
１−（２−メトキシ−エチル）−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−１Ｈ−インダゾール−３−カルボン酸、
１−メチル−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−１Ｈ−インダゾール−３−カルボン酸、
１−（３−メタンスルホニル−プロピル）−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−１Ｈ−インダゾール−３−カルボン酸、
１−（３−シアノ−プロピル）−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−１Ｈ−インダゾール−３−カルボン酸、
（Ｅ）−３−｛３−メチル−２−オキソ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−３−アザ−ビシクロ［４．１．０］ヘプト−４−エン−１−イル｝−アクリル酸、
（Ｅ）−３−［１−メチル−６−オキソ−６’−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−１，６−ジヒドロ−［３，３’］ビピリジニル−５−イル］−アクリル酸、
（１Ｓ，２Ｓ）−２−［５−イソプロポキシ−６’−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−［２，３’］ビピリジニル−６−イル］−シクロプロパンカルボン酸、
３−｛３−シアノ−２−メトキシ−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−フェニル｝−プロピオン酸、
（Ｅ）−３−｛２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−アクリル酸、
３−｛２−メトキシ−４−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−プロピオン酸、
（トランス）−２−｛２−メトキシ−４−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−シクロプロパンカルボン酸、
（トランス）−２−｛２−メトキシ−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−フェニル｝−シクロプロパンカルボン酸、
３−｛２−メトキシ−３−オキセタン−３−イル−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−プロピオン酸、
３−｛３−シアノ−２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−３−メチル−酪酸、
３−｛３−シアノ−２−メトキシ−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−フェニル｝−３−メチル−酪酸、
（３−｛２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−オキセタン−３−イル）−酢酸、
３−｛２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−３−メチル−酪酸、
３−｛２，６−ジメトキシ−４−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−プロピオン酸、
３−｛２，６−ジメトキシ−４−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−２−メチル−プロピオン酸、
１−［１−メチル−６−オキソ−６’−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−１，６−ジヒドロ−［３，３’］ビピリジニル−５−イル］−シクロプロパンカルボン酸、
２−｛３−イミダゾール−１−イルメチル−２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−２−メチル−プロピオン酸、
｛２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−酢酸、
１−｛２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−シクロプロパンカルボン酸、
２−｛２−メトキシ−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−フェニル｝−２−メチル−プロピオン酸、
２−［６−メトキシ−６’−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−［３，３’］ビピリジニル−５−イル］−２−メチル−プロピオン酸、
２−［５−メトキシ−６’−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−［２，３’］ビピリジニル−６−イル］−２−メチル−プロピオン酸、
２−｛３−ヒドロキシメチル−２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−２−メチル−プロピオン酸、
２−｛２−メトキシ−３−メトキシメチル−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−２−メチル−プロピオン酸、
２−｛２−メトキシ−３−［（２，２，２−トリフルオロ−エチルアミノ）−メチル］−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−２−メチル−プロピオン酸、
２−｛３−フルオロメチル−２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−２−メチル−プロピオン酸、
｛２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェノキシ｝−酢酸、
２−｛２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェノキシ｝−プロピオン酸、
２−クロロ−３−（２−メトキシ−エトキシ）−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−安息香酸、
２−クロロ−３−（テトラヒドロ−ピラン−４−イルオキシ）−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−安息香酸、
２−クロロ−３−［２−（２−オキソ−ピロリジン−１−イル）−エトキシ］−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−安息香酸、
２−クロロ−３−（２−オキソ−ピロリジン−３−イルオキシ）−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−安息香酸、
２−クロロ−３−（オキセタン−３−イルオキシ）−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−安息香酸、
２−クロロ−３−ジメチルカルバモイルメトキシ−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−安息香酸、
２−クロロ−３−（２−ジメチルアミノ−エトキシ）−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−安息香酸、
２−クロロ−３−（２−モルホリン−４−イル−エトキシ）−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−安息香酸、
３−フラン−３−イル−２−メトキシ−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−安息香酸、
２−メトキシ−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−安息香酸、および
５−［６−（３−イソプロピル−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−２−メトキシ−安息香酸。
［１５］［１］〜［１４］のいずれか１つに記載の化合物、およびその薬理学的に許容される塩、及び製薬上許容しうる担体を含有する医薬組成物。
［１６］ＡＴＸ阻害薬として用いられる［１５］に記載の医薬組成物。
［１７］ＡＴＸが関与する疾患の治療又は予防のために用いられる［１５］に記載の医薬組成物。
［１８］ＡＴＸが関与する疾患が、悪性黒色腫、脳腫瘍、神経芽細胞腫、多型性神経膠芽腫、ＥＢＶ陽性ホジキンリンパ腫、膠芽腫、非小細胞肺癌、肺腫瘍、乳房腫瘍、卵巣腫瘍、膵腫瘍、前立腺上皮内腫瘍、前立腺腫瘍、甲状腺腫瘍、濾胞性リンパ腫、肝臓腫瘍、腎細胞癌などの癌又は腫瘍、肺線維症、肝線維症、腎線維症，アテローム性動脈硬化などの線維症、喘息、関節リウマチ、ＩＩ型糖尿病関連の肥満、急性冠症候群、胆汁うっ滞性そう痒症、炎症性腸疾患、クローン病、潰瘍性大腸炎、神経因性疼痛などの炎症性疾患である［１７］に記載の医薬組成物。
【発明の効果】
【００３４】
本発明は、オートタキシン阻害作用等に優れ、ＡＴＸが関与する疾患の予防または治療、例えば、悪性黒色腫、脳腫瘍、神経芽細胞腫、多型性神経膠芽腫、ＥＢＶ陽性ホジキンリンパ腫、膠芽腫、非小細胞肺癌、肺腫瘍、乳房腫瘍、卵巣腫瘍、膵腫瘍、前立腺上皮内腫瘍、前立腺腫瘍、甲状腺腫瘍、濾胞性リンパ腫、肝臓腫瘍、腎細胞癌などの癌又は腫瘍、肺線維症、肝線維症、腎線維症，アテローム性動脈硬化などの線維症、喘息、関節リウマチ、ＩＩ型糖尿病関連の肥満、急性冠症候群、胆汁うっ滞性そう痒症、炎症性腸疾患、クローン病、潰瘍性大腸炎、神経因性疼痛などの炎症性疾患などの様々な疾患の予防又は治療薬として有効な化合物を提供することが可能である。
【発明を実施するための形態】
【００３５】
本発明化合物は、下記一般式（１）：
【００３６】
【化８】
2015163435.tif 000010
【００３７】
｛式中、
Ａは、シクロアルキル、ヘテロ環基、アリールまたはヘテロアリールを示す；
Ｚ１、Ｚ２およびＺ３は、以下のＡ）〜Ｄ）のいずれかを示す：
Ａ）Ｚ１、Ｚ２およびＺ３のすべてが炭素である；
Ｂ）Ｚ１が窒素であり、Ｚ２およびＺ３が炭素である；
Ｃ）Ｚ２が窒素であり、Ｚ１およびＺ３が炭素である；
Ｄ）Ｚ１およびＺ２が窒素であり、Ｚ３が炭素である；
Ｚ４は、炭素および窒素のいずれかを示す；
Ｒ１は、ハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、シアノ、ヘテロ環基、アリールまたはヘテロアリール（ここで、該ヘテロアリールは、さらにアルキルから選ばれる置換基を有していてもよい。）を示す；
Ｒ２およびＲ３は、同一または異なって、水素、ハロゲン、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシまたはアリールを示す；
Ｒ４は、水素、アルキルまたはハロゲンを示す；
Ｒ５およびＲ６は、同一または異なって、−Ｘ１−Ｒ７ａを示す（ここで、
Ｘ１は、単結合、直鎖状アルキレン、環状アルキレン、−Ｏ−、−Ｏ−アルキレン−または−ＣＯ−を示す（なお、Ｘ１の直鎖状アルキレン、環状アルキレンおよび−Ｏ−アルキレン−は、さらにヒドロキシ、ハロゲン、アルキル、ヒドロキシアルキルおよびアルコキシから選ばれる置換基を有していてもよい。）；
Ｒ７ａは、水素、ヒドロキシ、ハロゲン、アルキル、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル、アルコキシ、カルボキシル、−ＮＲ７ｂＲ７ｃ（ここで、Ｒ７ｂおよびＲ７ｃは、同一又は異なって、水素、ヒドロキシ、ハロゲン、アルキル、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキルまたはアミノアルキルを示す。）、アルキレンオキシド、シアノ、ジアルキルカルバモイル、アルキルスルホニル、ヘテロ環基またはヘテロアリールを示す（なお、Ｒ７ａのヘテロ環基およびヘテロアリールは、さらにヒドロキシ、ハロゲン、アルキル、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキルおよびアミノアルキルから選ばれる置換基を有していてもよい。））；
Ｌ１は、以下の１）〜６）から選択される基を示す：
１）−Ｘ２−、
２）−Ｘ２−(ＣＨ２)ｎ−、
３）−Ｏ−Ｘ３−、
４）−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−Ｘ３−、
５）−ＣＯ−Ｘ３−、
６）−ＣＯ−ＮＨ−Ｘ３−
（ここで、
Ｘ２は、単結合、直鎖状アルキレン、環状アルキレン、アルケニレン、アルキニレン、ヘテロシクロアルキレンまたはヘテロアリーレンを示す；
Ｘ３は、直鎖状アルキレン、環状アルキレン、アルケニレン、アルキニレン、ヘテロシクロアルキレンまたはヘテロアリーレンを示す；
（なお、Ｘ２およびＸ３の直鎖状アルキレン、環状アルキレン、アルケニレンおよびアルキニレンは、さらにアルキル（ここで、該アルキルは、アリールおよびヘテロアリールから選ばれる置換基を有していてもよい。）、シクロアルキル、ヒドロキシアルキル、ハロアルキルおよびアルキレンオキシドから選ばれる置換基を有していてもよい。）；
ｎは１〜３の整数を示す。）｝
で表される新規なオートタキシン阻害作用を有する化合物（本明細書中、「化合物（１）」と略記する場合がある）、又はその製薬上許容しうる塩である。
【００３８】
本明細書中、各記号の置換基は以下の通りである。
【００３９】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ７ｃの「ハロゲン」とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
【００４０】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ７ｃの「アルキル」とは、Ｃ１〜６のアルキルであって、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、１−エチルプロピル、ヘキシル、イソヘキシル、１，１−ジメチルブチル、２，２−ジメチルブチル、３，３−ジメチルブチル、２−エチルブチル等が挙げられる。
【００４１】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ７ａの「アルコキシ」とは、Ｃ１〜６のアルコキシであって、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロピルオキシ、ブトキシ、イソブチルオキシ、ｓｅｃ−ブチルオキシ、ｔｅｒｔ−ブチルオキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、１−エチルプロピルオキシ、ヘキシルオキシ、イソヘキシルオキシ、１，１−ジメチルブチルオキシ、２，２−ジメチルブチルオキシ、３，３−ジメチルブチルオキシ、２−エチルブチルオキシ等が挙げられる。
【００４２】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ７ｃの「ハロアルキル」とは、Ｃ１〜６のハロアルキルであって、例えば、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、２，２，２−トリフルオロエチル、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル等が挙げられる。
【００４３】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３の「ハロアルコキシ」とは、Ｃ１〜６のハロアルコキシであって、例えば、フルオロメチルオキシ、ジフルオロメチルオキシ、トリフルオロメチルオキシ、２，２，２−トリフルオロエチルオキシ、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピルオキシ等が挙げられる。
【００４４】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３の「アリール」とは、Ｃ６〜１０のアリールであって、例えば、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル等が挙げられる。
【００４５】
Ｒ７ａ、Ｒ７ｂ、Ｒ７ｃの「ヒドロキシアルキル」とは、Ｃ１〜６のヒドロキシアルキルであって、例えば、ヒドロキシメチル、１−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシエチル、１−ヒドロキシプロピル、２−ヒドロキシプロピル、３−ヒドロキシプロピル、１−ヒドロキシブチル、２−ヒドロキシブチル、３−ヒドロキシブチル、４−ヒドロキシブチル、１−ヒドロキシペンチル、２−ヒドロキシペンチル、３−ヒドロキシペンチル、４−ヒドロキシペンチル、５−ヒドロキシペンチル、１−ヒドロキシヘキシル、２−ヒドロキシヘキシル、３−ヒドロキシヘキシル、４−ヒドロキシヘキシル、５−ヒドロキシヘキシル、６−ヒドロキシヘキシル等が挙げられる。
【００４６】
Ｒ７ａの「アルキレンオキシド」とは、Ｃ２〜４のアルキレンオキシドであって、例えば、エチレンオキサイド、トリメチレンオキサイド、テトラメチレンオキサイド等が挙げられる。
【００４７】
Ｒ７ａの「アルキルスルホニル」とは、Ｃ１〜６のアルキルスルホニルであって、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、イソプロピルスルホニル、ブチルスルホニル、イソブチルスルホニル、ｓｅｃ−ブチルスルホニル、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニル、ペンチルスルホニル、イソペンチルスルホニル、ネオペンチルスルホニル、１−エチルプロピルスルホニル、ヘキシルスルホニル、イソヘキシルスルホニル、１，１−ジメチルブチルスルホニル、２，２−ジメチルブチルスルホニル、３，３−ジメチルブチルスルホニル、２−エチルブチルスルホニル等が挙げられる。
【００４８】
Ｒ７ａの「ジアルキルカルバモイル」とは、アルキル部が同一または異なるＣ１〜６のアルキルであるジアルキルカルバモイルであって、例えば、ジメチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、ジプロピルカルバモイル、ジブチルカルバモイル、ジペンチルカルバモイル、ジヘキシルカルバモイル、エチルメチルカルバモイル等が挙げられる。
【００４９】
Ｒ７ｂ、Ｒ７ｃの「アルコキシアルキル」とは、Ｃ１〜４のアルキル部にＣ１〜４のアルコキシ部を有するものであって、例えば、メトキシメチル、メトキシエチル、メトキシプロピル、メトキシブチル、エトキシメチル、エトキシエチル、エトキシプロピル、エトキシブチル、プロポキシメチル、プロポキシエチル、プロポキシプロピル、プロポキシブチル、ブトキシメチル、ブトキシエチル、ブトキシプロピル、ブトキシブチル等が挙げられる。
【００５０】
Ｒ７ｂ、Ｒ７ｃの「アミノアルキル」とは、Ｃ１〜６のアミノアルキルであって、例えば、アミノメチル、１−アミノエチル、２−アミノエチル、１−アミノプロピル、２−アミノプロピル、３−アミノプロピル、１−アミノブチル、２−アミノブチル、３−アミノブチル、４−アミノブチル、１−アミノペンチル、２−アミノペンチル、３−アミノペンチル、４−アミノペンチル、５−アミノペンチル、１−アミノヘキシル、２−アミノヘキシル、３−アミノヘキシル、４−アミノヘキシル、５−アミノヘキシル、６−アミノヘキシル等が挙げられる。
【００５１】
Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３の「直鎖状アルキレン」とは、Ｃ１〜６の直鎖アルキレンであって、例えば、メチレン、エチレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレンが挙げられる。
【００５２】
Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３の「環状アルキレン」とは、Ｃ３〜７のシクロアルキレンであって、例えば、シクロプロピレン、シクロブチレン、シクロペンチレン、シクロヘキシレン、シクロヘプチレン等が挙げられる。
【００５３】
Ｘ２、Ｘ３の「アルケニレン」とは、Ｃ２〜６のアルケニレンであって、例えば、エテン−１，２−ジイル、プロペン−１，３−ジイル等のプロペン−ジイル、ブテン−１，４−ジイル等のブテン−ジイル、ペンテン−１，５−ジイル等のペンテン−ジイル、ヘキセン−１，６−ジイル等のヘキセン−ジイル等が挙げられる。
【００５４】
Ｘ２、Ｘ３の「アルキニレン」とは、Ｃ２〜６のアルキニレンであって、例えば、エチン−１，２−ジイル、プロピン−１，３−ジイル、ブチン−１，４−ジイル等のブチン−ジイル、ペンチン−１，５−ジイル等のペンチン−ジイル、ヘキシン−１，６−ジイル等のヘキシン−ジイル等が挙げられる。
【００５５】
Ｘ１の「−Ｏ−アルキレン−」とは、−Ｏ−直鎖Ｃ１〜６アルキレン−であって、例えば、オキシメチレン、オキシエチレン、オキシトリメチレン、オキシテトラメチレン、オキシペンタメチレン、オキシヘキサメチレン等が挙げられる。
【００５６】
Ａのシクロアルキルとは、Ｃ３〜７のシクロアルキルであって、更に２重結合を有していてもよく、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル等が挙げられ、好ましくは、以下のシクロアルキルが挙げられる。
【００５７】
【化９】
2015163435.tif 000011
【００５８】
Ａのヘテロ環基とは、窒素原子を１〜４個、または、硫黄原子、酸素原子を１〜２個含んでいてもよいＣ３〜７のヘテロ環基であって、更に、オキソ置換していてもよい、ヘテロ環基であって、例えば、以下のヘテロ環基が挙げられる。
【００５９】
【化１０】
2015163435.tif 000012
【００６０】
Ａのアリールとは、Ｃ６〜１０のアリールであって、例えば、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル等が挙げられる。好ましくは、フェニルである。
【００６１】
Ａのヘテロアリールとは、窒素原子を１〜４個、または、酸素原子、窒素原子を１〜２個含んでいてもよいＣ５〜１０のヘテロアリールであって、更に、オキソ置換していてもよく、更に、部分的に飽和していてもよく、例えば、以下の基が挙げられる。
【００６２】
【化１１】
2015163435.tif 000013
【００６３】
Ｘ２、Ｘ３の「ヘテロシクロアルキレン」とは、窒素原子を１〜４個含んでいてもよいＣ３〜６のヘテロシクロアルキレンであって、更に、オキソ置換していてもよく、例えば、以下の基が挙げられる。
【００６４】
【化１２】
2015163435.tif 000014
【００６５】
Ｘ２、Ｘ３の「ヘテロアリーレン」とは、窒素原子を１〜４個、または、酸素原子を１〜２個含んでいてもよいＣ５〜６のヘテロアリーレンであって、例えば、以下の基が挙げられる。
【００６６】
【化１３】
2015163435.tif 000015
【００６７】
Ｒ１、Ｒ７ａの「ヘテロ環基」とは、窒素原子を１〜４個、または、硫黄原子、酸素原子を１〜２個含んでいてもよいＣ３〜７のヘテロ環基であって、更に、オキソ置換していてもよく、例えば、以下の基が挙げられる。
【００６８】
【化１４】
2015163435.tif 000016
【００６９】
Ｒ１、Ｒ７ａの「ヘテロアリール」とは、窒素原子を１〜４個、または、酸素原子を１〜２個含んでいてもよいＣ５〜６のヘテロアリールであって、例えば、以下の基が挙げられる。
【００７０】
【化１５】
2015163435.tif 000017
【００７１】
Ｘ１の直鎖状アルキレン、環状アルキレンおよび−Ｏ−アルキレン−は、置換可能な位置に、さらにヒドロキシ、ハロゲン、アルキル、ヒドロキシアルキルおよびアルコキシから選ばれる置換基（好ましくは１〜３個、より好ましくは、１〜２個）を有していてもよい。置換基が複数個存在する場合、各置換基は同一でも異なっていてもよい。
【００７２】
Ｘ１の直鎖状アルキレン、環状アルキレン、−Ｏ−アルキレン−に置換していてもよい「ハロゲン」とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
【００７３】
Ｘ１の直鎖状アルキレン、環状アルキレン、−Ｏ−アルキレン−に置換していてもよい「アルキル」とは、Ｃ１〜４アルキルであって、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル等が挙げられる。
【００７４】
Ｘ１の直鎖状アルキレン、環状アルキレン、−Ｏ−アルキレン−に置換していてもよい「ヒドロキシアルキル」とは、Ｃ１〜４のヒドロキシアルキルであって、例えば、ヒドロキシメチル、１−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシエチル、１−ヒドロキシプロピル、２−ヒドロキシプロピル、３−ヒドロキシプロピル、１−ヒドロキシブチル、２−ヒドロキシブチル、３−ヒドロキシブチル、４−ヒドロキシブチル等が挙げられる。
【００７５】
Ｘ１の直鎖状アルキレン、環状アルキレン、−Ｏ−アルキレン−に置換していてもよい「アルコキシ」とは、Ｃ１〜４のアルコキシであって、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ等が挙げられる。
【００７６】
Ｘ２およびＸ３の直鎖状アルキレン、環状アルキレン、アルケニレンおよびアルキニレンは、置換可能な位置に、さらにアルキル、シクロアルキル、ヒドロキシアルキル、ハロアルキルおよびアルキレンオキシドから選ばれる置換基（好ましくは１〜３個、より好ましくは１〜２個）を有していてもよい。置換基が複数個存在する場合、各置換基は同一でも異なっていてもよい。
【００７７】
Ｘ２、Ｘ３の直鎖状アルキレン、環状アルキレン、アルケニレン、アルキニレンに置換していてもよい「アルキル」とは、Ｃ１〜４のアルキルであって、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル等が挙げられる。
【００７８】
Ｘ２、Ｘ３の直鎖状アルキレン、環状アルキレン、アルケニレン、アルキニレンに置換していてもよい「アルキル」は、置換可能な位置に、アリールおよびヘテロアリールから選ばれる置換基（好ましくは１〜３個、より好ましくは１〜２個）を有していてもよい。置換基が複数個存在する場合、各置換基は同一でも異なっていてもよい。該「アルキル」に置換していてもよい「アリール」とは、Ｃ６〜１０のアリールであって、例えば、フェニル等が挙げられ、該「アルキル」に置換していてもよい「ヘテロアリール」とは、窒素原子を１〜４個、または、酸素原子を１〜２個含んでいてもよいＣ５〜６のヘテロアリールであって、例えば、ピリジル等が挙げられる。
【００７９】
Ｘ２、Ｘ３の直鎖状アルキレン、環状アルキレン、アルケニレン、アルキニレンに置換していてもよい「シクロアルキル」とは、Ｃ３〜７のシクロアルキルであって、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル等が挙げられる。
【００８０】
Ｘ２、Ｘ３の直鎖状アルキレン、環状アルキレン、アルケニレン、アルキニレンに置換していてもよい「ヒドロキシアルキル」とは、Ｃ１〜４のヒドロキシアルキルであって、例えば、ヒドロキシメチル、１−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシエチル、１−ヒドロキシプロピル、２−ヒドロキシプロピル、３−ヒドロキシプロピル、１−ヒドロキシブチル、２−ヒドロキシブチル、３−ヒドロキシブチル、４−ヒドロキシブチル等が挙げられる。
【００８１】
Ｘ２、Ｘ３の直鎖状アルキレン、環状アルキレン、アルケニレン、アルキニレンに置換していてもよい「ハロアルキル」とは、Ｃ１〜４のハロアルキルであって、例えば、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、２，２，２−トリフルオロエチル、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル等が挙げられる。
【００８２】
Ｘ２、Ｘ３の直鎖状アルキレン、環状アルキレン、アルケニレン、アルキニレンに置換していてもよい「アルキレンオキシド」とは、Ｃ２〜４のアルキレンオキシドであって、例えば、エチレンオキサイド、トリメチレンオキサイド、テトラメチレンオキサイド等が挙げられる。
【００８３】
Ｒ１のヘテロアリールは、置換可能な位置に、さらにアルキルから選ばれる置換基（好ましくは１〜３個、より好ましくは１〜２個）を有していてもよい。置換基が複数個存在する場合、各置換基は同一でも異なっていてもよい。
【００８４】
Ｒ１のヘテロアリールに置換していてもよい「アルキル」とは、Ｃ１〜４のアルキルであって、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル等が挙げられる。
【００８５】
Ｒ７ａのヘテロ環基およびヘテロアリールは、置換可能な位置に、さらにヒドロキシ、ハロゲン、アルキル、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキルおよびアミノアルキルから選ばれる置換基（好ましくは１〜３個、より好ましくは１〜２個）を有していてもよい。置換基が複数個存在する場合、各置換基は同一でも異なっていてもよい。
【００８６】
Ｒ７ａのヘテロ環基、ヘテロアリールに置換していてもよい「ハロゲン」とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
【００８７】
Ｒ７ａのヘテロ環基、ヘテロアリールに置換していてもよい「アルキル」とは、Ｃ１〜４のアルキルであって、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル等が挙げられる。
【００８８】
Ｒ７ａのヘテロ環基、ヘテロアリールに置換していてもよい「ハロアルキル」とは、Ｃ１〜４のハロアルキルであって、例えば、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、２，２，２−トリフルオロエチル、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル等が挙げられる。
【００８９】
Ｒ７ａのヘテロ環基、ヘテロアリールに置換していてもよい「ヒドロキシアルキル」とは、Ｃ１〜４のヒドロキシアルキルであって、例えば、ヒドロキシメチル、１−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシエチル、１−ヒドロキシプロピル、２−ヒドロキシプロピル、３−ヒドロキシプロピル、１−ヒドロキシブチル、２−ヒドロキシブチル、３−ヒドロキシブチル、４−ヒドロキシブチル等が挙げられる。
【００９０】
Ｒ７ａのヘテロ環基、ヘテロアリールに置換していてもよい「アルコキシアルキル」とは、Ｃ１〜４のアルコキシ部にＣ１〜４のアルキル部を有するものであって、例えば、メトキシメチル、メトキシエチル、メトキシプロピル、メトキシブチル、エトキシメチル、エトキシエチル、エトキシプロピル、エトキシブチル、プロポキシメチル、プロポキシエチル、プロポキシプロピル、プロポキシブチル、ブトキシメチル、ブトキシエチル、ブトキシプロピル、ブトキシブチル等が挙げられる。
【００９１】
Ｒ７ａのヘテロ環基、ヘテロアリールに置換していてもよい「アミノアルキル」とは、Ｃ１〜６のアミノアルキルであって、例えば、アミノメチル、１−アミノエチル、２−アミノエチル、１−アミノプロピル、２−アミノプロピル、３−アミノプロピル、１−アミノブチル、２−アミノブチル、３−アミノブチル、４−アミノブチル、１−アミノペンチル、２−アミノペンチル、３−アミノペンチル、４−アミノペンチル、５−アミノペンチル、１−アミノヘキシル、２−アミノヘキシル、３−アミノヘキシル、４−アミノヘキシル、５−アミノヘキシル、６−アミノヘキシル等が挙げられる。
【００９２】
Ａは、好ましくは、シクロアルキル（例、シクロヘキセニル）；ヘテロ環基（例、ピペリジニル）；アリール（例、フェニル）；またはヘテロアリール（例、ジヒドロベンゾフラニル、オキソジヒドロピリジニル、オキソアザビシクロヘプテニル、オキサジアゾリル、ピリジル、ベンズイミダゾリル、ベンズオキサゾリル、ベンズイソオキサゾリル、ベンズチアゾリル、インドリル、インダゾリル、イミダゾピリジル）であり、より好ましくは、シクロヘキセニル、ピペリジニル、ジヒドロベンゾフラニル（例、２，３−ジヒドロ−１−ベンゾフラニル）、オキソジヒドロピリジニル（例、２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジル）、オキソアザビシクロヘプテニル（例、２−オキソ−３−アザビシクロ［４．１．０］ヘプタ−４−エニル）、フェニル、オキサジアゾリル（例、１，３，４−オキサジアゾリル）、ピリジル、ベンズイミダゾリル、ベンズオキサゾリル、ベンズイソオキサゾリル、ベンズチアゾリル、インドリル（例、１Ｈ−インドリル）、インダゾリル（例、１Ｈ−インダゾリル）またはイミダゾピリジル（例、イミダゾ［１，２−ａ］ピリジル）である。
【００９３】
Ｚ１、Ｚ２およびＺ３は、好ましくは、
Ａ）Ｚ１、Ｚ２およびＺ３のすべてが炭素であるか、
Ｂ）Ｚ１が窒素であり、Ｚ２およびＺ３が炭素であるか、または
Ｃ）Ｚ２が窒素であり、Ｚ１およびＺ３が炭素である。
【００９４】
Ｚ４は、炭素および窒素のいずれかを示す。
【００９５】
Ｒ１は、好ましくは、ハロゲン（例、フッ素原子、塩素原子）；アルキル（例、メチル、イソプロピル）；ハロアルキル（例、トリフルオロメチル）；アルコキシ（例、イソプロポキシ）；ハロアルコキシ（例、トリフルオロメトキシ）；シアノ；ヘテロ環基（例、ピロリジニル）；アリール（例、フェニル）；またはアルキル（例、メチル）から選ばれる１〜３個の置換基を有していてもよいヘテロアリール（例、ピラゾリル）であり、より好ましくは、フッ素原子、塩素原子、メチル、イソプロピル、トリフルオロメチル、イソプロポキシ、トリフルオロメトキシ、シアノ、ピロリジニル、フェニル、または１〜３個のメチルを有していてもよいピラゾリルである。
【００９６】
Ｒ２およびＲ３は、好ましくは、同一または異なって、水素；ハロゲン（例、フッ素原子、塩素原子）；またはアルキル（例、メチル）であり、より好ましくは、水素、フッ素原子、塩素原子またはメチルである。
【００９７】
Ｒ４は、好ましくは、水素；アルキル（例、メチル）；またはハロゲン（例、フッ素原子、塩素原子）であり、より好ましくは、水素、メチル、フッ素原子または塩素原子である。
【００９８】
Ｒ５およびＲ６は、好ましくは、同一または異なって、Ｘ１が単結合；直鎖状アルキレン（例、メチレン、エチレン、トリメチレン）；−Ｏ−；アルキル（例、メチル）から選ばれる１〜３個の置換基を有していてもよい−Ｏ−アルキレン−（例、−Ｏ−メチレン−、−Ｏ−エチレン−）；または−ＣＯ−であり、Ｒ７ａが水素；ヒドロキシ；ハロゲン（例、フッ素原子、塩素原子）；アルキル（例、メチル、エチル、イソプロピル）；ハロアルキル（例、フルオロメチル、トリフルオロメチル、トリフルオロエチル）；ヒドロキシアルキル（例、ヒドロキシメチル）；アルコキシ（例、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ）；カルボキシル；−ＮＲ７ｂＲ７ｃ（ここで、Ｒ７ｂおよびＲ７ｃは、同一又は異なって、水素；アルキル（例、メチル）；またはハロアルキル（例、トリフルオロエチル）である）；シアノ；ジアルキルカルバモイル（例、ジメチルカルバモイル）；アルキルスルホニル（例、メチルスルホニル）；アルキル（例、メチル）から選ばれる１〜３個の置換基を有していてもよいヘテロ環基（例、オキセタニル、アゼチジニル、ピロリジニル、オキソピロリジニル、テトラヒドロピラニル、モルホリニル）；またはヘテロアリール（例、ピラゾリル、イミダゾリル、フリル、ピリジル）である、−Ｘ１−Ｒ７ａであり、より好ましくは、
（１）Ｘ１が単結合であり、Ｒ７ａが水素；ハロゲン（例、フッ素原子、塩素原子）；アルキル（例、メチル）；ハロアルキル（例、フルオロメチル）；ヒドロキシアルキル（例、ヒドロキシメチル）；アルコキシ（例、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ）；カルボキシル；−ＮＲ７ｂＲ７ｃ（ここで、Ｒ７ｂおよびＲ７ｃは水素である）；シアノ；ヘテロ環基（例、オキセタニル）；またはヘテロアリール（例、フリル、ピリジル）である、−Ｘ１−Ｒ７ａ、
（２）Ｘ１が直鎖状アルキレン（例、メチレン、エチレン、トリメチレン）であり、Ｒ７ａが水素；ヒドロキシ；ハロゲン（例、フッ素原子）；アルコキシ（例、メトキシ）；−ＮＲ７ｂＲ７ｃ（ここで、Ｒ７ｂおよびＲ７ｃは、同一又は異なって、水素またはハロアルキル（例、トリフルオロエチル）である）；シアノ；アルキルスルホニル（例、メチルスルホニル）；またはヘテロアリール（例、ピラゾリル、イミダゾリル）である、−Ｘ１−Ｒ７ａ、
（３）Ｘ１が−Ｏ−であり、Ｒ７ａがアルキル（例、メチル、エチル、イソプロピル）；ハロアルキル（例、トリフルオロメチル、トリフルオロエチル）；またはアルキル（例、メチル）から選ばれる１〜３個の置換基を有していてもよいヘテロ環基（例、オキセタニル、アゼチジニル、ピロリジニル、オキソピロリジニル、テトラヒドロピラニル）である、−Ｘ１−Ｒ７ａ、
（４）Ｘ１がアルキル（例、メチル）から選ばれる１〜３個の置換基を有していてもよい−Ｏ−アルキレン−（例、−Ｏ−メチレン−、−Ｏ−エチレン−）であり、Ｒ７ａが水素；アルキル（例、メチル）；ハロアルキル（例、トリフルオロメチル）；アルコキシ（例、メトキシ）；−ＮＲ７ｂＲ７ｃ（ここで、Ｒ７ｂおよびＲ７ｃは、同一又は異なって、アルキル（例、メチル）である）；ジアルキルカルバモイル（例、ジメチルカルバモイル）；またはヘテロ環基（例、オキソピロリジニル、モルホリニル）である、−Ｘ１−Ｒ７ａ、または
（５）Ｘ１が−ＣＯ−であり、Ｒ７ａが−ＮＲ７ｂＲ７ｃ（ここで、Ｒ７ｂおよびＲ７ｃは、同一又は異なって、水素またはアルキル（例、メチル）である）である、−Ｘ１−Ｒ７ａ
である。
【００９９】
Ｌ１は、好ましくは、
１）Ｘ２が単結合；アルキル（例、メチル）から選ばれる１〜３個の置換基を有していてもよい直鎖状アルキレン（例、メチレン、エチレン）；環状アルキレン（例、シクロプロピレン）；アルケニレン（例、エテン−１，２−ジイル）；またはヘテロシクロアルキレン（例、ピぺリジンジイル）である、−Ｘ２−、
２）Ｘ２が単結合；アルキル（例、メチル）から選ばれる１〜３個の置換基を有していてもよい直鎖状アルキレン（例、メチレン）；環状アルキレン（例、シクロヘキシレン）；ヘテロシクロアルキレン（例、オキセタンジイル、オキソイミダゾリジンジイル）；またはヘテロアリーレン（例、テトラゾールジイル）であり、ｎが１〜３である、−Ｘ２−(ＣＨ２)ｎ−、
３）Ｘ３がアルキル（例、メチル）から選ばれる１〜３個の置換基を有していてもよい直鎖状アルキレン（例、メチレン、エチレン）である、−Ｏ−Ｘ３−、
４）Ｘ３が環状アルキレン（例、シクロヘキシレン）であり、ｎが１〜３である、−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−Ｘ３−、
５）Ｘ３がアルキル（例、メチル）から選ばれる１〜３個の置換基を有していてもよい直鎖状アルキレン（例、エチレン）；またはヘテロシクロアルキレン（例、ピロリジンジイル、ピペリジンジイル）である、−ＣＯ−Ｘ３−、または
６）Ｘ３が（ａ）アリール（例、フェニル）およびヘテロアリール（例、ピリジル）から選ばれる１〜３個の置換基を有していてもよいアルキル（例、メチル、イソプロピル）および（ｂ）ヒドロキシアルキル（例、ヒドロキシメチル）から選ばれる１〜３個の置換基を有していてもよい直鎖状アルキレン（例、メチレン、エチレン）；環状アルキレン（例、シクロペンチレン）；またはヘテロアリーレン（例、ピリジンジイル）である、−ＣＯ−ＮＨ−Ｘ３−
であり、より好ましくは、
１）Ｘ２が単結合；１〜３個のメチルを有していてもよいメチレンまたはエチレン；シクロプロピレン（例、１，１−シクロプロピレン、１，２−シクロプロピレン）；エテン−１，２−ジイル；またはピぺリジンジイル（例、ピペリジン−１，４−ジイル）である、−Ｘ２−、
２）Ｘ２が単結合；１〜３個のメチルを有していてもよいメチレン；シクロヘキシレン（例、１，４−シクロヘキシレン）；オキセタンジイル（例、オキセタン−３，３−ジイル）；オキソイミダゾリジンジイル（例、２−オキソイミダゾリジン−１，３−ジイル）；またはテトラゾールジイル（例、テトラゾール−１，３−ジイル）であり、ｎが１または２である、−Ｘ２−(ＣＨ２)ｎ−、
３）Ｘ３が１〜３個のメチルを有していてもよいメチレンまたはエチレンである、−Ｏ−Ｘ３−、
４）Ｘ３がシクロヘキシレン（例、１，４−シクロヘキシレン）であり、ｎが１である、−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−Ｘ３−、
５）Ｘ３が、１〜３個のメチルを有していてもよいエチレン；ピロリジンジイル（例、ピロリジン−１，２−ジイル）；またはピペリジンジイル（例、ピペリジン−１，４−ジイル）である、−ＣＯ−Ｘ３−、または
６）Ｘ３が、（ａ）フェニルおよびピリジルから選ばれる１〜３個の置換基を有していてもよいメチルおよびイソプロピル、および（ｂ）ヒドロキシメチルから選ばれる１〜３個の置換基を有していてもよいメチレンまたはエチレン；シクロペンチレン（例、１，２−シクロペンチレン）；またはピリジンジイル（例、ピリジン−２，５−ジイル）である、−ＣＯ−ＮＨ−Ｘ３−
である。
【０１００】
１つの実施態様において、Ａは、好ましくは、アリール（例、フェニル）またはヘテロアリール（例、ジヒドロベンゾフラニル、オキソジヒドロピリジニル、オキソアザビシクロヘプテニル、オキサジアゾリル、ピリジル、ベンズイミダゾリル、ベンズオキサゾリル、ベンズイソオキサゾリル、ベンズチアゾリル、インドリル、インダゾリル、イミダゾピリジル）である。別の実施態様において、Ａは、好ましくは、ヘテロ環基（例、ピペリジニル、テトラヒドロピラニル）である。
【０１０１】
１つの実施態様において、Ｚ１、Ｚ２およびＺ３は、好ましくは、Ｚ１、Ｚ２およびＺ３のすべてが炭素である。
【０１０２】
１つの実施態様において、Ｒ１は、好ましくは、ハロゲン（例、フッ素原子、塩素原子）、ハロアルキル（例、トリフルオロメチル）またはハロアルコキシ（例、トリフルオロメトキシ）であり、より好ましくは、ハロアルコキシ（例、トリフルオロメトキシ）である。
【０１０３】
１つの実施態様において、Ｒ１は、Ｒ１が置換する６員環の任意の置換可能な位置に置換しており、好ましくは、当該６員環の３位に置換している。
【０１０４】
１つの実施態様において、Ｒ５およびＲ６は、好ましくは、同一又は異なって、
１）−Ｘ１−Ｒ７ａ（Ｘ１が−Ｏ−であり、Ｒ７ａがアルキル（例、メチル、エチル、イソプロピル）である）、
２）−Ｘ１−Ｒ７ａ（Ｘ１が直鎖状アルキレン（例、メチレン、エチレン、トリメチレン）または環状アルキレンであり、Ｒ７ａが水素である）、および
３）−Ｘ１−Ｒ７ａ（Ｘ１が単結合であり、Ｒ７ａがハロゲン（例、フッ素原子、塩素原子）またはシアノである）
のいずれかである。
【０１０５】
１つの実施態様において、Ｌ１は、好ましくは、１）−Ｘ２−（Ｘ２が直鎖アルキレン（例、メチレン、エチレン）または環状アルキレン（例、シクロプロピレン）である）であり、より好ましくは、１）−Ｘ２−（Ｘ２がＣ１〜２の直鎖アルキレン（例、メチレン、エチレン）またはＣ３〜６の環状アルキレン（例、シクロプロピレン）である）である。
【０１０６】
１つの実施態様において、Ａのシクロアルキルは、好ましくは、以下から選択される基：
【０１０７】
【化１６】
2015163435.tif 000018
【０１０８】
であり、Ａのヘテロ環基は、好ましくは、以下から選択される基：
【０１０９】
【化１７】
2015163435.tif 000019
【０１１０】
であり、Ａのアリールは、好ましくは、以下の基：
【０１１１】
【化１８】
2015163435.tif 000020
【０１１２】
であり、Ａのヘテロアリールは、好ましくは、以下から選択される基：
【０１１３】
【化１９】
2015163435.tif 000021
【０１１４】
であり、より好ましくは、Ａは、
【０１１５】
【化２０】
2015163435.tif 000022
【０１１６】
であるか、または、
【０１１７】
【化２１】
2015163435.tif 000023
【０１１８】
である。
【０１１９】
化合物（１）の好適な例としては、以下の化合物が挙げられる。
［化合物１−Ａ］
Ａが、シクロアルキル（例、シクロヘキセニル）；ヘテロ環基（例、ピペリジニル、テトラヒドロピラニル）；アリール（例、フェニル）；またはヘテロアリール（例、ジヒドロベンゾフラニル、オキソジヒドロピリジニル、オキソアザビシクロヘプテニル、オキサジアゾリル、ピリジル、ベンズイミダゾリル、ベンズオキサゾリル、ベンズイソオキサゾリル、ベンズチアゾリル、インドリル、インダゾリル、イミダゾピリジル）であり；
Ｚ１、Ｚ２およびＺ３が、
Ａ）Ｚ１、Ｚ２およびＺ３のすべてが炭素であるか、
Ｂ）Ｚ１が窒素であり、Ｚ２およびＺ３が炭素であるか、または
Ｃ）Ｚ２が窒素であり、Ｚ１およびＺ３が炭素であり；
Ｚ４が、炭素または窒素であり；
Ｒ１が、ハロゲン（例、フッ素原子、塩素原子）；アルキル（例、メチル、イソプロピル）；ハロアルキル（例、トリフルオロメチル）；アルコキシ（例、イソプロポキシ）；ハロアルコキシ（例、トリフルオロメトキシ）；シアノ；ヘテロ環基（例、ピロリジニル）；アリール（例、フェニル）；またはアルキル（例、メチル）から選ばれる１〜３個の置換基を有していてもよいヘテロアリール（例、ピラゾリル）であり；
Ｒ２およびＲ３が、同一または異なって、水素；ハロゲン（例、フッ素原子、塩素原子）；またはアルキル（例、メチル）であり；
Ｒ４が、水素；アルキル（例、メチル）；またはハロゲン（例、フッ素原子、塩素原子）であり；
Ｒ５およびＲ６が、同一または異なって、Ｘ１が単結合；直鎖状アルキレン（例、メチレン、エチレン、トリメチレン）；−Ｏ−；アルキル（例、メチル）から選ばれる１〜３個の置換基を有していてもよい−Ｏ−アルキレン−（例、−Ｏ−メチレン−、−Ｏ−エチレン−）；または−ＣＯ−であり、Ｒ７ａが水素；ヒドロキシ；ハロゲン（例、フッ素原子、塩素原子）；アルキル（例、メチル、エチル、イソプロピル）；ハロアルキル（例、フルオロメチル、トリフルオロメチル、トリフルオロエチル）；ヒドロキシアルキル（例、ヒドロキシメチル）；アルコキシ（例、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ）；カルボキシル；−ＮＲ７ｂＲ７ｃ（ここで、Ｒ７ｂおよびＲ７ｃは、同一又は異なって、水素；アルキル（例、メチル）；またはハロアルキル（例、トリフルオロエチル）である）；シアノ；ジアルキルカルバモイル（例、ジメチルカルバモイル）；アルキルスルホニル（例、メチルスルホニル）；アルキル（例、メチル）から選ばれる１〜３個の置換基を有していてもよいヘテロ環基（例、オキセタニル、アゼチジニル、ピロリジニル、オキソピロリジニル、テトラヒドロピラニル、モルホリニル）；またはヘテロアリール（例、ピラゾリル、イミダゾリル、フリル、ピリジル）である、−Ｘ１−Ｒ７ａであり；
Ｌ１が、
１）Ｘ２が単結合；アルキル（例、メチル）から選ばれる１〜３個の置換基を有していてもよい直鎖状アルキレン（例、メチレン、エチレン）；環状アルキレン（例、シクロプロピレン）；アルケニレン（例、エテン−１，２−ジイル）；またはヘテロシクロアルキレン（例、ピぺリジンジイル）である、−Ｘ２−、
２）Ｘ２が単結合；アルキル（例、メチル）から選ばれる１〜３個の置換基を有していてもよい直鎖状アルキレン（例、メチレン）；環状アルキレン（例、シクロヘキシレン）；ヘテロシクロアルキレン（例、オキセタンジイル、オキソイミダゾリジンジイル）；またはヘテロアリーレン（例、テトラゾールジイル）であり、ｎが１〜３である、−Ｘ２−(ＣＨ２)ｎ−、
３）Ｘ３がアルキル（例、メチル）から選ばれる１〜３個の置換基を有していてもよい直鎖状アルキレン（例、メチレン、エチレン）である、−Ｏ−Ｘ３−、
４）Ｘ３が環状アルキレン（例、シクロヘキシレン）であり、ｎが１〜３である、−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−Ｘ３−、
５）Ｘ３がアルキル（例、メチル）から選ばれる１〜３個の置換基を有していてもよい直鎖状アルキレン（例、エチレン）；またはヘテロシクロアルキレン（例、ピロリジンジイル、ピペリジンジイル）である、−ＣＯ−Ｘ３−、または
６）Ｘ３が（ａ）アリール（例、フェニル）およびヘテロアリール（例、ピリジル）から選ばれる１〜３個の置換基を有していてもよいアルキル（例、メチル、イソプロピル）および（ｂ）ヒドロキシアルキル（例、ヒドロキシメチル）から選ばれる１〜３個の置換基を有していてもよい直鎖状アルキレン（例、メチレン、エチレン）；環状アルキレン（例、シクロペンチレン）；またはヘテロアリーレン（例、ピリジンジイル）である、−ＣＯ−ＮＨ−Ｘ３−
である；
化合物（１）。
【０１２０】
［化合物１−Ｂ］
Ａが、シクロヘキセニル、ピペリジニル、、テトラヒドロピラニル、ジヒドロベンゾフラニル（例、２，３−ジヒドロ−１−ベンゾフラニル）、オキソジヒドロピリジニル（例、２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジル）、オキソアザビシクロヘプテニル（例、２−オキソ−３−アザビシクロ［４．１．０］ヘプタ−４−エニル）、フェニル、オキサジアゾリル（例、１，３，４−オキサジアゾリル）、ピリジル、ベンズイミダゾリル、ベンズオキサゾリル、ベンズイソオキサゾリル、ベンズチアゾリル、インドリル（例、１Ｈ−インドリル）、インダゾリル（例、１Ｈ−インダゾリル）またはイミダゾピリジル（例、イミダゾ［１，２−ａ］ピリジル）であり；
Ｚ１、Ｚ２およびＺ３が、
Ａ）Ｚ１、Ｚ２およびＺ３のすべてが炭素であるか、
Ｂ）Ｚ１が窒素であり、Ｚ２およびＺ３が炭素であるか、または
Ｃ）Ｚ２が窒素であり、Ｚ１およびＺ３が炭素であり；
Ｚ４が、炭素または窒素であり；
Ｒ１が、フッ素原子、塩素原子、メチル、イソプロピル、トリフルオロメチル、イソプロポキシ、トリフルオロメトキシ、シアノ、ピロリジニル、フェニル、または１〜３個のメチルを有していてもよいピラゾリルであり；
Ｒ２およびＲ３が、同一または異なって、水素、フッ素原子、塩素原子またはメチルであり；
Ｒ４が、水素、メチル、フッ素原子または塩素原子であり；
Ｒ５およびＲ６が、同一または異なって、
（１）Ｘ１が単結合であり、Ｒ７ａが水素；ハロゲン（例、フッ素原子、塩素原子）；アルキル（例、メチル）；ハロアルキル（例、フルオロメチル）；ヒドロキシアルキル（例、ヒドロキシメチル）；アルコキシ（例、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ）；カルボキシル；−ＮＲ７ｂＲ７ｃ（ここで、Ｒ７ｂおよびＲ７ｃは水素である）；シアノ；ヘテロ環基（例、オキセタニル）；またはヘテロアリール（例、フリル、ピリジル）である、−Ｘ１−Ｒ７ａ、
（２）Ｘ１が直鎖状アルキレン（例、メチレン、エチレン、トリメチレン）であり、Ｒ７ａが水素；ヒドロキシ；ハロゲン（例、フッ素原子）；アルコキシ（例、メトキシ）；−ＮＲ７ｂＲ７ｃ（ここで、Ｒ７ｂおよびＲ７ｃは、同一又は異なって、水素またはハロアルキル（例、トリフルオロエチル）である）；シアノ；アルキルスルホニル（例、メチルスルホニル）；またはヘテロアリール（例、ピラゾリル、イミダゾリル）である、−Ｘ１−Ｒ７ａ、
（３）Ｘ１が−Ｏ−であり、Ｒ７ａがアルキル（例、メチル、エチル、イソプロピル）；ハロアルキル（例、トリフルオロメチル、トリフルオロエチル）；またはアルキル（例、メチル）から選ばれる１〜３個の置換基を有していてもよいヘテロ環基（例、オキセタニル、アゼチジニル、ピロリジニル、オキソピロリジニル、テトラヒドロピラニル）である、−Ｘ１−Ｒ７ａ、
（４）Ｘ１がアルキル（例、メチル）から選ばれる１〜３個の置換基を有していてもよい−Ｏ−アルキレン−（例、−Ｏ−メチレン−、−Ｏ−エチレン−）であり、Ｒ７ａが水素；アルキル（例、メチル）；ハロアルキル（例、トリフルオロメチル）；アルコキシ（例、メトキシ）；−ＮＲ７ｂＲ７ｃ（ここで、Ｒ７ｂおよびＲ７ｃは、同一又は異なって、アルキル（例、メチル）である）；ジアルキルカルバモイル（例、ジメチルカルバモイル）；またはヘテロ環基（例、オキソピロリジニル、モルホリニル）である、−Ｘ１−Ｒ７ａ、または
（５）Ｘ１が−ＣＯ−であり、Ｒ７ａが−ＮＲ７ｂＲ７ｃ（ここで、Ｒ７ｂおよびＲ７ｃは、同一又は異なって、水素またはアルキル（例、メチル）である）である、−Ｘ１−Ｒ７ａ
であり；
Ｌ１が、
１）Ｘ２が単結合；１〜３個のメチルを有していてもよいメチレンまたはエチレン；シクロプロピレン（例、１，１−シクロプロピレン、１，２−シクロプロピレン）；エテン−１，２−ジイル；またはピぺリジンジイル（例、ピペリジン−１，４−ジイル）である、−Ｘ２−、
２）Ｘ２が単結合；１〜３個のメチルを有していてもよいメチレン；シクロヘキシレン（例、１，４−シクロヘキシレン）；オキセタンジイル（例、オキセタン−３，３−ジイル）；オキソイミダゾリジンジイル（例、２−オキソイミダゾリジン−１，３−ジイル）；またはテトラゾールジイル（例、テトラゾール−１，３−ジイル）であり、ｎが１〜３である、−Ｘ２−(ＣＨ２)ｎ−、
３）Ｘ３が１〜３個のメチルを有していてもよいメチレンまたはエチレンである、−Ｏ−Ｘ３−、
４）Ｘ３がシクロヘキシレン（例、１，４−シクロヘキシレン）であり、ｎが１〜３である、−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−Ｘ３−、
５）Ｘ３が、１〜３個のメチルを有していてもよいエチレン；ピロリジンジイル（例、ピロリジン−１，２−ジイル）；またはピペリジンジイル（例、ピペリジン−１，４−ジイル）である、−ＣＯ−Ｘ３−、または
６）Ｘ３が、（ａ）フェニルおよびピリジルから選ばれる１〜３個の置換基を有していてもよいメチルおよびイソプロピル、および（ｂ）ヒドロキシメチルから選ばれる１〜３個の置換基を有していてもよいメチレンまたはエチレン；シクロペンチレン（例、１，２−シクロペンチレン）；またはピリジンジイル（例、ピリジン−２，５−ジイル）である、−ＣＯ−ＮＨ−Ｘ３−
である；
化合物（１）。
【０１２１】
［化合物１−Ｃ］
Ａが、アリール（例、フェニル）またはヘテロアリール（例、オキソジヒドロピリジニル、オキソアザビシクロヘプテニル、ピリジル、ベンズイミダゾリル、ベンズオキサゾリル、インダゾリル）であり；
Ｚ１、Ｚ２およびＺ３が、
Ａ）Ｚ１、Ｚ２およびＺ３のすべてが炭素であり；
Ｚ４が、炭素または窒素であり；
Ｒ１が、アルキル（例、イソプロピル）またはハロアルコキシ（例、トリフルオロメトキシ）であり；
Ｒ２およびＲ３が、水素であり；
Ｒ４が、水素であり；
Ｒ５およびＲ６が、同一または異なって、Ｘ１が単結合；直鎖状アルキレン（例、メチレン、エチレン、トリメチレン）；−Ｏ−；アルキル（例、メチル）から選ばれる１〜３個の置換基を有していてもよい−Ｏ−アルキレン−（例、−Ｏ−メチレン−、−Ｏ−エチレン−）；または−ＣＯ−であり、Ｒ７ａが水素；ヒドロキシ；ハロゲン（例、フッ素原子、塩素原子）；アルキル（例、メチル、エチル、イソプロピル）；ハロアルキル（例、フルオロメチル）；ヒドロキシアルキル（例、ヒドロキシメチル）；アルコキシ（例、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ）；−ＮＲ７ｂＲ７ｃ（ここで、Ｒ７ｂおよびＲ７ｃは、同一又は異なって、水素；アルキル（例、メチル）；またはハロアルキル（例、トリフルオロエチル）である）；シアノ；ジアルキルカルバモイル（例、ジメチルカルバモイル）；アルキルスルホニル（例、メチルスルホニル）；アルキル（例、メチル）から選ばれる１〜３個の置換基を有していてもよいヘテロ環基（例、オキセタニル、アゼチジニル、ピロリジニル、オキソピロリジニル、テトラヒドロピラニル、モルホリニル）；またはヘテロアリール（例、イミダゾリル、フリル、ピリジル）である、−Ｘ１−Ｒ７ａであり；
Ｌ１が、
１）Ｘ２が単結合；アルキル（例、メチル）から選ばれる１〜３個の置換基を有していてもよい直鎖状アルキレン（例、メチレン、エチレン）；環状アルキレン（例、シクロプロピレン）；またはアルケニレン（例、エテン−１，２−ジイル）である、−Ｘ２−、
２）Ｘ２が単結合；アルキル（例、メチル）から選ばれる１〜３個の置換基を有していてもよい直鎖状アルキレン（例、メチレン）；またはヘテロシクロアルキレン（例、オキセタンジイル）であり、ｎが１〜３である、−Ｘ２−(ＣＨ２)ｎ−、または
３）Ｘ３がアルキル（例、メチル）から選ばれる１〜３個の置換基を有していてもよい直鎖状アルキレン（例、メチレン）である、−Ｏ−Ｘ３−、
である；
化合物（１）。
【０１２２】
［化合物１−Ｄ］
Ａが、オキソジヒドロピリジニル（例、２−オキソ−１，２−ジヒドロピリジル）、オキソアザビシクロヘプテニル（例、２−オキソ−３−アザビシクロ［４．１．０］ヘプタ−４−エニル）、フェニル、ピリジル、ベンズイミダゾリル、ベンズオキサゾリルまたはインダゾリル（例、１Ｈ−インダゾリル）であり；
Ｚ１、Ｚ２およびＺ３が、
Ａ）Ｚ１、Ｚ２およびＺ３のすべてが炭素であり；
Ｚ４が、炭素または窒素であり；
Ｒ１が、イソプロピルまたはトリフルオロメトキシであり；
Ｒ２およびＲ３が、水素であり；
Ｒ４が、水素であり；
Ｒ５およびＲ６が、同一または異なって、
（１）Ｘ１が単結合であり、Ｒ７ａが水素；ハロゲン（例、フッ素原子、塩素原子）；アルキル（例、メチル）；ハロアルキル（例、フルオロメチル）；ヒドロキシアルキル（例、ヒドロキシメチル）；アルコキシ（例、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ）；シアノ；ヘテロ環基（例、オキセタニル）；またはヘテロアリール（例、フリル、ピリジル）である、−Ｘ１−Ｒ７ａ、
（２）Ｘ１が直鎖状アルキレン（例、メチレン、エチレン、トリメチレン）であり、Ｒ７ａが水素；ヒドロキシ；ハロゲン（例、フッ素原子）；アルコキシ（例、メトキシ）；−ＮＲ７ｂＲ７ｃ（ここで、Ｒ７ｂおよびＲ７ｃは、同一又は異なって、水素またはハロアルキル（例、トリフルオロエチル）である）；シアノ；アルキルスルホニル（例、メチルスルホニル）；またはヘテロアリール（例、イミダゾリル）である、−Ｘ１−Ｒ７ａ、
（３）Ｘ１が−Ｏ−であり、Ｒ７ａがアルキル（例、メチル、エチル、イソプロピル）；またはアルキル（例、メチル）から選ばれる１〜３個の置換基を有していてもよいヘテロ環基（例、オキセタニル、アゼチジニル、ピロリジニル、オキソピロリジニル、テトラヒドロピラニル）である、−Ｘ１−Ｒ７ａ、または
（４）Ｘ１がアルキル（例、メチル）から選ばれる１〜３個の置換基を有していてもよい−Ｏ−アルキレン−（例、−Ｏ−メチレン−、−Ｏ−エチレン−）であり、Ｒ７ａが水素；アルキル（例、メチル）；アルコキシ（例、メトキシ）；−ＮＲ７ｂＲ７ｃ（ここで、Ｒ７ｂおよびＲ７ｃは、同一又は異なって、アルキル（例、メチル）である）；ジアルキルカルバモイル（例、ジメチルカルバモイル）；またはヘテロ環基（例、オキソピロリジニル、モルホリニル）である、−Ｘ１−Ｒ７ａ
であり；
Ｌ１が、
１）Ｘ２が単結合；１〜３個のメチルを有していてもよいメチレンまたはエチレン；シクロプロピレン（例、１，１−シクロプロピレン、１，２−シクロプロピレン）；またはエテン−１，２−ジイルである、−Ｘ２−、
２）Ｘ２が単結合；１〜３個のメチルを有していてもよいメチレン；またはオキセタンジイル（例、オキセタン−３，３−ジイル）であり、ｎが１〜３である、−Ｘ２−(ＣＨ２)ｎ−、
３）Ｘ３が１〜３個のメチルを有していてもよいメチレンである、−Ｏ−Ｘ３−、
である；
化合物（１）。
【０１２３】
［化合物１−Ｅ］
Ａが、アリール（例、フェニル）またはヘテロアリール（例、ピリジル、ベンズイミダゾリル、ベンズオキサゾリル、インダゾリル）であり；
Ｚ１、Ｚ２およびＺ３が、
Ａ）Ｚ１、Ｚ２およびＺ３のすべてが炭素であり；
Ｚ４が、炭素または窒素であり；
Ｒ１が、アルキル（例、イソプロピル）またはハロアルコキシ（例、トリフルオロメトキシ）であり；
Ｒ２およびＲ３が、水素であり；
Ｒ４が、水素であり；
Ｒ５およびＲ６が、同一または異なって、Ｘ１が単結合；直鎖状アルキレン（例、メチレン、エチレン、トリメチレン）；−Ｏ−；または−Ｏ−アルキレン−（例、−Ｏ−メチレン−、−Ｏ−エチレン−）であり、Ｒ７ａが水素；ハロゲン（例、フッ素原子、塩素原子）；アルキル（例、メチル）；アルコキシ（例、メトキシ）；シアノ；アルキルスルホニル（例、メチルスルホニル）；ヘテロ環基（例、オキセタニル、アゼチジニル、テトラヒドロピラニル）；またはヘテロアリール（例、イミダゾリル、フリル、ピリジル）である、−Ｘ１−Ｒ７ａであり；
Ｌ１が、
１）Ｘ２が単結合；アルキル（例、メチル）から選ばれる１〜３個の置換基を有していてもよい直鎖状アルキレン（例、メチレン、エチレン）；または環状アルキレン（例、シクロプロピレン）である、−Ｘ２−、
２）Ｘ２が単結合；直鎖状アルキレン（例、メチレン）；またはヘテロシクロアルキレン（例、オキソイミダゾリジンジイル）であり、ｎが１〜３である、−Ｘ２−(ＣＨ２)ｎ−、
３）Ｘ３が直鎖状アルキレン（例、メチレン）である、−Ｏ−Ｘ３−、または
４）Ｘ３が環状アルキレン（例、シクロヘキシレン）であり、ｎが１〜３である、−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−Ｘ３−、
である；
化合物（１）。
【０１２４】
［化合物１−Ｆ］
Ａが、フェニル、ピリジル、ベンズイミダゾリル、ベンズオキサゾリルまたはインダゾリル（例、１Ｈ−インダゾリル）であり；
Ｚ１、Ｚ２およびＺ３が、
Ａ）Ｚ１、Ｚ２およびＺ３のすべてが炭素であり；
Ｚ４が、炭素または窒素であり；
Ｒ１が、イソプロピルまたはトリフルオロメトキシであり；
Ｒ２およびＲ３が、水素であり；
Ｒ４が、水素であり；
Ｒ５およびＲ６が、同一または異なって、
（１）Ｘ１が単結合であり、Ｒ７ａが水素；ハロゲン（例、フッ素原子、塩素原子）；アルキル（例、メチル）；アルコキシ（例、メトキシ）；シアノ；ヘテロ環基（例、オキセタニル）；またはヘテロアリール（例、フリル、ピリジル）である、−Ｘ１−Ｒ７ａ、
（２）Ｘ１が直鎖状アルキレン（例、メチレン、エチレン、トリメチレン）であり、Ｒ７ａが水素；アルコキシ（例、メトキシ）；アルキルスルホニル（例、メチルスルホニル）；またはヘテロアリール（例、イミダゾリル）である、−Ｘ１−Ｒ７ａ、
（３）Ｘ１が−Ｏ−であり、Ｒ７ａがヘテロ環基（例、オキセタニル、アゼチジニル、テトラヒドロピラニル）である、−Ｘ１−Ｒ７ａ、または
（４）Ｘ１が−Ｏ−アルキレン−（例、−Ｏ−メチレン−、−Ｏ−エチレン−）であり、Ｒ７ａが水素；またはアルコキシ（例、メトキシ）である、−Ｘ１−Ｒ７ａ
であり；
Ｌ１が、
１）Ｘ２が単結合；１〜３個のメチルを有していてもよいメチレンまたはエチレン）；またはシクロプロピレン（例、１，２−シクロプロピレン）である、−Ｘ２−、
２）Ｘ２が単結合；メチレン；またはオキソイミダゾリジンジイル（例、２−オキソイミダゾリジン−１，３−ジイル）であり、ｎが１〜３である、−Ｘ２−(ＣＨ２)ｎ−、
３）Ｘ３がメチレンである、−Ｏ−Ｘ３−、または
４）Ｘ３がシクロヘキシレンであり、ｎが１〜３である、−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−Ｘ３−、である；
化合物（１）。
【０１２５】
［化合物１−Ｇ］
Ａが、アリール（例、フェニル）またはヘテロアリール（例、ピリジル）であり；
Ｚ１、Ｚ２およびＺ３が、
Ａ）Ｚ１、Ｚ２およびＺ３のすべてが炭素であり；
Ｚ４が、炭素または窒素であり；
Ｒ１が、ハロアルコキシ（例、トリフルオロメトキシ）であり；
Ｒ２およびＲ３が、水素であり；
Ｒ４が、水素であり；
Ｒ５およびＲ６が、同一または異なって、Ｘ１が単結合；直鎖状アルキレン（例、メチレン）；−Ｏ−；またはアルキル（例、メチル）から選ばれる１〜３個の置換基を有していてもよい−Ｏ−アルキレン−（例、−Ｏ−メチレン−、−Ｏ−エチレン−）であり、Ｒ７ａが水素；ハロゲン（例、塩素原子）；アルキル（例、メチル、エチル、イソプロピル）；アルコキシ（例、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ）；またはシアノである、−Ｘ１−Ｒ７ａであり；
Ｌ１が、
１）Ｘ２が直鎖状アルキレン（例、エチレン）；または環状アルキレン（例、シクロプロピレン）である、−Ｘ２−
である；
化合物（１）。
【０１２６】
［化合物１−Ｈ］
Ａが、フェニルまたはピリジルであり；
Ｚ１、Ｚ２およびＺ３が、
Ａ）Ｚ１、Ｚ２およびＺ３のすべてが炭素であり；
Ｚ４が、炭素または窒素であり；
Ｒ１が、トリフルオロメトキシであり；
Ｒ２およびＲ３が、水素であり；
Ｒ４が、水素であり；
Ｒ５およびＲ６が、同一または異なって、
（１）Ｘ１が単結合であり、Ｒ７ａが水素；ハロゲン（例、塩素原子）；アルキル（例、メチル）；アルコキシ（例、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ）；またはシアノである、−Ｘ１−Ｒ７ａ、
（２）Ｘ１が直鎖状アルキレン（例、メチレン）であり、Ｒ７ａが水素である、−Ｘ１−Ｒ７ａ、
（３）Ｘ１が−Ｏ−であり、Ｒ７ａがアルキル（例、メチル、エチル、プロピル）である、−Ｘ１−Ｒ７ａ、または
（４）Ｘ１がアルキル（例、メチル）から選ばれる１〜３個の置換基を有していてもよい−Ｏ−アルキレン−（例、−Ｏ−メチレン−、−Ｏ−エチレン−）であり、Ｒ７ａが水素；またはアルキル（例、メチル）である、−Ｘ１−Ｒ７ａ
であり；
Ｌ１が、
１）Ｘ２がエチレンまたはシクロプロピレンである、−Ｘ２−
である；
化合物（１）。
【０１２７】
化合物（１）の具体例としては、例えば、実施例１〜３９および４１〜１７６の化合物が挙げられ、なかでも、
２−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−３Ｈ−ベンゾイミダゾール−４−カルボン酸、
２−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−ベンゾオキサゾール−６−カルボン酸、
１−メチル−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−１Ｈ−インダゾール−３−カルボン酸、
５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−１Ｈ−インダゾール−３−カルボン酸、
３−｛３−シアノ−２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−プロピオン酸、
３−｛２−クロロ−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−フェニル｝−プロピオン酸、
３−｛３−シアノ−２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−２−メチル−プロピオン酸、
２−｛２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−シクロプロパンカルボン酸、
（１Ｓ，２Ｓ）−２−｛２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−シクロプロパンカルボン酸、
２−［５−メトキシ−６’−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−［２，３’］ビピリジニル−６−イル］−シクロプロパンカルボン酸、
（１Ｓ，２Ｓ）−２−［５−メトキシ−６’−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−［２，３’］ビピリジニル−６−イル］−シクロプロパンカルボン酸、
（１Ｓ，２Ｓ）−２−｛３−メトキシ−６−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−ピリジン−２−イル｝−シクロプロパンカルボン酸、
（１Ｓ，２Ｓ）−２−［５−クロロ−６’−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−［２，３’］ビピリジニル−６−イル］−シクロプロパンカルボン酸、
（１Ｓ，２Ｓ）−２−［５−エトキシ−６’−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−［２，３’］ビピリジニル−６−イル］−シクロプロパンカルボン酸、
（１Ｓ，２Ｓ）−２−［５−メチル−６’−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−［２，３’］ビピリジニル−６−イル］−シクロプロパンカルボン酸、
３−｛２−メトキシ−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−フェニル｝−プロピオン酸、
３−｛２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−プロピオン酸、
２−｛２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−２−メチル−プロピオン酸、
２−｛３−シアノ−２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−２−メチル−プロピオン酸、
２−クロロ−３−（１−メチル−ピロリジン−３−イルオキシ）−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−安息香酸、
２−クロロ−３−（ピロリジン−３−イルオキシ）−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−安息香酸、
３−（アゼチジン−３−イルオキシ）−２−クロロ−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−安息香酸、
２−クロロ−３−（１−メチル−アゼチジン−３−イルオキシ）−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−安息香酸、
２−メトキシ−３−ピリジン−４−イル−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−安息香酸、
２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−安息香酸、
３−フルオロ−２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−安息香酸、
２，３−ジメトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−安息香酸、
２−クロロ−３−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−安息香酸、
３−シアノ−２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−安息香酸、
７−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−１Ｈ−インダゾール−３−カルボン酸、
４−メトキシ−７−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−１Ｈ−インダゾール−３−カルボン酸、
１−（２−メトキシ−エチル）−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−１Ｈ−インダゾール−３−カルボン酸、
１−メチル−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−１Ｈ−インダゾール−３−カルボン酸、
１−（３−メタンスルホニル−プロピル）−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−１Ｈ−インダゾール−３−カルボン酸、
１−（３−シアノ−プロピル）−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−１Ｈ−インダゾール−３−カルボン酸、
（Ｅ）−３−｛３−メチル−２−オキソ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−３−アザ−ビシクロ［４．１．０］ヘプト−４−エン−１−イル｝−アクリル酸、
（Ｅ）−３−［１−メチル−６−オキソ−６’−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−１，６−ジヒドロ−［３，３’］ビピリジニル−５−イル］−アクリル酸、
（１Ｓ，２Ｓ）−２−［５−イソプロポキシ−６’−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−［２，３’］ビピリジニル−６−イル］−シクロプロパンカルボン酸、
３−｛３−シアノ−２−メトキシ−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−フェニル｝−プロピオン酸、
（Ｅ）−３−｛２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−アクリル酸、
３−｛２−メトキシ−４−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−プロピオン酸、
（トランス）−２−｛２−メトキシ−４−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−シクロプロパンカルボン酸、
（トランス）−２−｛２−メトキシ−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−フェニル｝−シクロプロパンカルボン酸、
３−｛２−メトキシ−３−オキセタン−３−イル−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−プロピオン酸、
３−｛３−シアノ−２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−３−メチル−酪酸、
３−｛３−シアノ−２−メトキシ−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−フェニル｝−３−メチル−酪酸、
（３−｛２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−オキセタン−３−イル）−酢酸、
３−｛２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−３−メチル−酪酸、
３−｛２，６−ジメトキシ−４−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−プロピオン酸、
３−｛２，６−ジメトキシ−４−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−２−メチル−プロピオン酸、
１−［１−メチル−６−オキソ−６’−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−１，６−ジヒドロ−［３，３’］ビピリジニル−５−イル］−シクロプロパンカルボン酸、
２−｛３−イミダゾール−１−イルメチル−２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−２−メチル−プロピオン酸、
｛２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−酢酸、
１−｛２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−シクロプロパンカルボン酸、
２−｛２−メトキシ−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−フェニル｝−２−メチル−プロピオン酸、
２−［６−メトキシ−６’−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−［３，３’］ビピリジニル−５−イル］−２−メチル−プロピオン酸、
２−［５−メトキシ−６’−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−［２，３’］ビピリジニル−６−イル］−２−メチル−プロピオン酸、
２−｛３−ヒドロキシメチル−２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−２−メチル−プロピオン酸、
２−｛２−メトキシ−３−メトキシメチル−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−２−メチル−プロピオン酸、
２−｛２−メトキシ−３−［（２，２，２−トリフルオロ−エチルアミノ）−メチル］−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−２−メチル−プロピオン酸、
２−｛３−フルオロメチル−２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−２−メチル−プロピオン酸、
｛２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェノキシ｝−酢酸、
２−｛２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェノキシ｝−プロピオン酸、
２−クロロ−３−（２−メトキシ−エトキシ）−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−安息香酸、
２−クロロ−３−（テトラヒドロ−ピラン−４−イルオキシ）−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−安息香酸、
２−クロロ−３−［２−（２−オキソ−ピロリジン−１−イル）−エトキシ］−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−安息香酸、
２−クロロ−３−（２−オキソ−ピロリジン−３−イルオキシ）−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−安息香酸、
２−クロロ−３−（オキセタン−３−イルオキシ）−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−安息香酸、
２−クロロ−３−ジメチルカルバモイルメトキシ−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−安息香酸、
２−クロロ−３−（２−ジメチルアミノ−エトキシ）−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−安息香酸、
２−クロロ−３−（２−モルホリン−４−イル−エトキシ）−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−安息香酸、
３−フラン−３−イル−２−メトキシ−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−安息香酸、
２−メトキシ−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−安息香酸、および
５−［６−（３−イソプロピル−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−２−メトキシ−安息香酸
が好ましい。
【０１２８】
本発明の化合物は分子内に塩基性基及び酸性基を有するため、その薬理的に許容しうる塩としては、例えば、金属塩、アンモニウム塩、有機塩基との塩、無機酸との塩、有機酸との塩、塩基性アミノ酸との塩、酸性アミノ酸との塩等が挙げられる。
【０１２９】
金属塩の好適な例としては、ナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩；カルシウム塩、マグネシウム塩、バリウム塩等のアルカリ土類金属塩；アルミニウム塩等が挙げられる。
【０１３０】
有機塩基との塩の好適な例としては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン、ピコリン、２，６−ルチジン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、シクロヘキシルアミン、ジシクロヘキシルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジベンジルエチレンジアミン等との塩が挙げられる。
【０１３１】
無機酸との塩の好適な例としては、塩酸、臭化水素酸、硝酸、硫酸、リン酸等との塩が挙げられる。
【０１３２】
有機酸との塩の好適な例としては、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、フタル酸、フマル酸、シュウ酸、酒石酸、マレイン酸、クエン酸、コハク酸、リンゴ酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等との塩が挙げられる。
塩基性アミノ酸との塩の好適な例としては、アルギニン、リジン、オルニチン等との塩が挙げられる。
【０１３３】
酸性アミノ酸との塩の好適な例としては、アスパラギン酸、グルタミン酸等との塩が挙げられる。
【０１３４】
このうち、薬学的に許容し得る塩が好ましい。
【０１３５】
また、本発明化合物には上記化合物（１）及びその製薬上許容しうる塩の他にそれらの水和物及び溶媒和物も包含される。
【０１３６】
本発明の化合物（１）は、例えば、下記製造方法１〜２８に従って製造することができる。
製造方法１
【０１３７】
【化２２】
2015163435.tif 000024
【０１３８】
〔上記スキーム中、Ｒ７はアルキルであり、ＸＡはハロゲンであり、Ｑ１はホウ酸エステルであり、他の記号は前記の通りである。〕
［工程１ａ］
上記スキーム中の化合物（Ａ２）は、化合物（Ａ１）とビス（ピナコール）ジボランを溶媒中、遷移金属錯体及び塩基存在下、反応させることにより製造することができる。溶媒は反応に悪影響を及ぼさない限り、特に限定されず、例えばトルエン、ベンゼン、キシレン、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジオキサン、ジエチルエーテル、アセトニトリル、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、メチルアルコール、エチルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、水又は混合溶媒を適宜用いることができる。遷移金属錯体としては、例えば、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）、ビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウム（０）、ビス（トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン）パラジウム（０）、ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウム（０）の如き０価のパラジウム錯体、酢酸パラジウム（ＩＩ）、トリフルオロ酢酸パラジウム（ＩＩ）、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（トリ−Ｏ−トリルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（ベンゾニトリエル）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（アセトニトリエル）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（アセチルアセトン）パラジウム（ＩＩ）、［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィン）ジクロロパラジウム（ＩＩ）（Ａ−ｔａＰｈｏｓ）、ビス（ジシクロヘキシル（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィン）ジクロロパラジウム（ＩＩ）（Ａ−ＣＡＰｈｏｓ）の如き２価のパラジウム錯体が用いられる。また、適当な配位子を加えても良く、例えばトリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン、トリ−シクロヘキシルホスフィン、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン（ＤＰＰＦ）、１−［２−［ビス（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィノ］フェニル］−３，５−ジフェニル−１Ｈ−ピラゾール（ＴｒｉｐｐｙＰｈｏｓ）、（±）−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル（ＢＩＮＡＰ）、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ビフェニル、トリ（ｏｒｔｈｏ−トリル）ホスフィン、１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン、１，２，３，４，５−ペンタフェニル−１−（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィノ）フェロセン（Ｑ−Ｐｈｏｓ）、４，５−ビス（ジフェニルホスフィノ）−９，９−ジメチルキサンテン（Ｘａｎｔｐｈｏｓ）、ジ（１−アダマンチル）−ｎ−ブチルホスフィン（ＣａｔａＣＸｉｕｍ  Ａ）、（２−ビフェニル）ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン（ＪｏｈｎＰｈｏｓ）、（Ｓ）−１−［（１Ｒ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルジシクヘキシルホスフィン（ＣｙＰＦｔＢｕ  ＪｏｓｉＰｈｏｓ）、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジイソプロポキシビフェニル（ＲｕＰｈｏｓ）、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジメトキシビフェニル（ＳＰｈｏｓ）、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ビフェニル（ＤａｖｅＰｈｏｓ）、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル（ＸＰｈｏｓ）、２−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピル−１，１’−ビフェニル（ｔｅｒｔ−ブチル−Ｘ−Ｐｈｏｓ）、２−（ジシクロヘキシルホスフィノ）−３，６−ジメトキシ−２’，４’，６’−トリイソプロピル−１，１’−ビフェニル（ＢｒｅｔｔＰｈｏｓ）などが挙げられる。塩基としては、例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、リチウム  ｔｅｒｔ−ブトキシド、ナトリウム  ｔｅｒｔ−ブトキシド、カリウム  ｔｅｒｔ−ブトキシド、リン酸三カリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸二水素カリウム、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン（ＤＢＵ）、ジアザビシクロノネン（ＤＢＮ）、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）などが挙げられる。遷移金属錯体の使用量としては、化合物（Ａ１）に対して０．０１〜０．３当量、好ましくは０．０３〜０．１当量とすることができる。塩基の使用量は化合物（Ａ１）に対して、１〜１０当量、好ましくは２〜７当量とすることができる。特にＪ．  Ｏｒｇ．  Ｃｈｅｍ．，  １９９５，  ６０，  ７５０８−７５１０に記載されているような反応条件を用いる方法により、好適に製造することができる。
【０１３９】
［工程１ｂ］
上記スキーム中の化合物（Ａ４）は化合物（Ａ２）と化合物（Ａ３）との反応を、溶媒中、遷移金属錯体及び塩基存在下、反応させることにより製造することができる。溶媒は反応に悪影響を及ぼさない限り、特に限定されず、例えばトルエン、ベンゼン、キシレン、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジオキサン、ジエチルエーテル、アセトニトリル、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、メチルアルコール、エチルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、水又は混合溶媒を適宜用いることができる。遷移金属錯体としては、例えば、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）、ビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウム（０）、ビス（トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン）パラジウム（０）、ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウム（０）の如き０価のパラジウム錯体、酢酸パラジウム（ＩＩ）、トリフルオロ酢酸パラジウム（ＩＩ）、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（トリ−Ｏ−トリルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（ベンゾニトリエル）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（アセトニトリエル）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（アセチルアセトン）パラジウム（ＩＩ）、［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィン）ジクロロパラジウム（ＩＩ）（Ａ−ｔａＰｈｏｓ）、ビス（ジシクロヘキシル（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィン）ジクロロパラジウム（ＩＩ）（Ａ−ＣＡＰｈｏｓ）の如き２価のパラジウム錯体が用いられる。また、適当な配位子を加えても良く、例えばトリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン、トリ−シクロヘキシルホスフィン、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン（ＤＰＰＦ）、１−［２−［ビス（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィノ］フェニル］−３，５−ジフェニル−１Ｈ−ピラゾール（ＴｒｉｐｐｙＰｈｏｓ）、（±）−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル（ＢＩＮＡＰ）、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ビフェニル、トリ（ｏｒｔｈｏ−トリル）ホスフィン、１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン、１，２，３，４，５−ペンタフェニル−１−（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィノ）フェロセン（Ｑ−Ｐｈｏｓ）、４，５−ビス（ジフェニルホスフィノ）−９，９−ジメチルキサンテン（Ｘａｎｔｐｈｏｓ）、ジ（１−アダマンチル）−ｎ−ブチルホスフィン（ＣａｔａＣＸｉｕｍ  Ａ）、（２−ビフェニル）ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン（ＪｏｈｎＰｈｏｓ）、（Ｓ）−１−［（１Ｒ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルジシクヘキシルホスフィン（ＣｙＰＦｔＢｕ  ＪｏｓｉＰｈｏｓ）、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジイソプロポキシビフェニル（ＲｕＰｈｏｓ）、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジメトキシビフェニル（ＳＰｈｏｓ）、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ビフェニル（ＤａｖｅＰｈｏｓ）、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル（ＸＰｈｏｓ）、２−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピル−１，１’−ビフェニル（ｔｅｒｔ−ブチル−Ｘ−Ｐｈｏｓ）、２−（ジシクロヘキシルホスフィノ）−３，６−ジメトキシ−２’，４’，６’−トリイソプロピル−１，１’−ビフェニル（ＢｒｅｔｔＰｈｏｓ）などが挙げられる。塩基としては、例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、リチウム  ｔｅｒｔ−ブトキシド、ナトリウム  ｔｅｒｔ−ブトキシド、カリウム  ｔｅｒｔ−ブトキシド、リン酸三カリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸二水素カリウム、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン（ＤＢＵ）、ジアザビシクロノネン（ＤＢＮ）、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）などが挙げられる。遷移金属錯体の使用量としては、化合物（Ａ２）に対して０．０１〜０．３当量、好ましくは０．０３〜０．１当量とすることができる。塩基の使用量は化合物（Ａ２）に対して、１〜１０当量、好ましくは２〜７当量とすることができる。特にＯｒｇａｎｉｃ  Ｌｅｔｔｅｒｓ，  ２００６，  ８，  １７８７−１７８９に記載されているような反応条件を用いる方法により、好適に製造することができる。
【０１４０】
［工程１ｃ］
上記スキーム中の化合物（Ａ５）は化合物（Ａ４）を通常用いられる方法で加水分解することにより製造でき、適当な混合水溶液中、塩基存在下、加水分解することにより、製造できる。溶媒として、例えばメチルアルコール、エチルアルコール、ＴＨＦなどを混合水溶液とすることにより、好適に用いることができる。塩基として、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムを好適に用いることができる。
製造方法２
【０１４１】
【化２３】
2015163435.tif 000025
【０１４２】
〔上記スキーム中、Ｒ７はアルキルであり、ＸＡはハロゲンであり、Ｑ１はホウ酸エステルであり、他の記号は前記の通りである。〕
［工程２ａ］
上記スキーム中の化合物（Ｂ１）は、化合物（Ａ１）とビス（ピナコール）ジボランを［工程１ａ］と同様の手法を用い反応させることにより製造することができる。特にＪ．  Ｏｒｇ．  Ｃｈｅｍ．，  １９９５，  ６０，  ７５０８−７５１０に記載されているような反応条件を用いる方法により、好適に製造することができる。
【０１４３】
［工程２ｂ］
上記スキーム中の化合物（Ａ４）は化合物（Ｂ１）と化合物（Ａ１）との反応を［工程１ｂ］と同様な手法を用い反応させることにより、製造することができる。特にＯｒｇａｎｉｃ  Ｌｅｔｔｅｒｓ，  ２００６，  ８，  １７８７−１７８９に記載されているような反応条件を用いる方法により、好適に製造することができる。
製造方法３
【０１４４】
【化２４】
2015163435.tif 000026
【０１４５】
〔上記スキーム中、ＸＡおよびＸＢはハロゲンであり、他の記号は前記の通りである。〕
［工程３ａ］
上記スキーム中化合物（Ｃ３）は、化合物（Ｃ１）と化合物（Ｃ２）を溶媒中、塩基存在下または非存在下、反応させることにより製造することができる。溶媒として、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、アセトニトリル、エチルアルコール（ＥｔＯＨ）、ｎ−ブチルアルコール（ｎ−ＢｕＯＨ）などの極性溶媒を適宜使用することができる。塩基として、例えばトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンなどの有機塩基または炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸セシウム、リン酸三カリウムなどの無機塩を適宜用いることが出来る。本反応は室温〜２００℃、好ましくは室温〜１５０℃で好適に進行する。また、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔｅｒｓ  ２００２，  ４３，  ５７３９−５７４２に記載されているようなマイクロウェーブ反応装置を用いる方法、またはＢｉｏｏｒｇ．  Ｍｅｄ．  Ｃｈｅｍ．  Ｌｅｔｔ．，  ２００６，  １６，  ４０４８−４０５２に記載されているような反応条件を用いる方法により、好適に製造することができる。
製造方法４
【０１４６】
【化２５】
2015163435.tif 000027
【０１４７】
〔上記スキーム中、ＸＡはハロゲンであり、他の記号は前記の通りである。〕
［工程４ａ］
上記スキーム中（Ｄ３）は、化合物（Ｄ１）と化合物（Ｄ２）を溶媒中、酸触媒下または非触媒下、還元剤で処理することにより製造することができる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドンのようなアミド系溶媒、ジクロロメタンなどのハロゲン系溶媒、テトラヒドロフランの様なエーテル系溶媒）を適宜用いることができる。酸触媒としては、テトライソプロポキシチタンなどのルイス酸、酢酸、トリフルオロ酢酸などが用いられる。還元剤としては水素化ホウ素ナトリウム、シアノ水素化ホウ素ナトリウム、水素化トリアセトキシホウ素ナトリウム、デカボランなどが用いられる。本反応は−７８℃〜４０℃、好ましくは−１０℃〜室温で好適に進行する。
製造方法５
【０１４８】
【化２６】
2015163435.tif 000028
【０１４９】
〔上記スキーム中、ＸＡはハロゲンであり、Ｒ７はアルキルであり、Ｑ１はホウ酸エステルであり、他の記号は前記の通りである。〕
［工程５ａ］
上記スキーム中の化合物（Ｅ１）は化合物（Ｄ２）と化合物（Ｂ１）との反応を、［工程１ｂ］と同様の手法を用いて反応させることにより製造することができる。特にＯｒｇａｎｉｃ  Ｌｅｔｔｅｒｓ，  ２００６，  ８，  １７８７−１７８９に記載されているような反応条件を用いる方法により、好適に製造することができる。
【０１５０】
［工程５ｂ］
上記スキーム中（Ｅ２）は、化合物（Ｅ１）と化合物（Ｄ１）を溶媒中、酸触媒下または非触媒下、還元剤で処理することにより製造することができる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドンのようなアミド系溶媒、ジクロロメタンなどのハロゲン系溶媒、テトラヒドロフランの様なエーテル系溶媒）を適宜用いることができる。酸触媒としては、テトライソプロポキシチタンなどのルイス酸、酢酸、トリフルオロ酢酸などが用いられる。還元剤としては水素化ホウ素ナトリウム、シアノ水素化ホウ素ナトリウム、水素化トリアセトキシホウ素ナトリウム、デカボランなどが用いられる。本反応は−７８℃〜４０℃、好ましくは−１０℃〜室温で好適に進行する。
【０１５１】
［工程５ｃ］
上記スキーム中の化合物（Ｅ３）は化合物（Ｅ２）を通常用いられる方法で加水分解することにより製造でき、適当な混合水溶液中、塩基存在下、加水分解することにより、製造できる。溶媒として、例えばメチルアルコール、エチルアルコール、ＴＨＦなどを混合水溶液とすることにより、好適に用いることができる。塩基として、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどを好適に用いることができる。
製造方法６（Ｚ４が炭素である場合）
【０１５２】
【化２７】
2015163435.tif 000029
【０１５３】
［上記スキーム中、ＸＡはハロゲンであり、Ｒ７はアルキルであり、Ｑ１はホウ酸エステルであり、他の記号は前記の通りである。］
［工程６ａ］
上記スキーム中の化合物（Ｆ２）は化合物（Ｆ１）と化合物（Ｂ１）から工程［１ｂ］と同様な手法を用い反応させることにより、製造することができる。
【０１５４】
［工程６ｂ］
上記スキーム中の化合物（Ｆ３）は化合物（Ｆ２）を溶媒中、酸化剤存在下、作用させることにより製造することができる。溶媒は反応に悪影響を及ぼさない限り、特に限定されず、例えばジクロロメタン、クロロエタン、クロロホルム、酢酸エチル、アセトニトリル、酢酸、アセトン、テトラヒドロフラン、水が挙げられ、これらの混合溶媒であっても良い。酸化剤としては、例えば３−クロロ過安息香酸、メチルトリオキソレニウム（ＶＩＩ）／過酸化水素、ジメチルジオキシランなどが挙げられる。特にＥｕｒｏ．  Ｊ．  Ｍｅｄ．  Ｃｈｅｍ．，  ２０１３，  ６２，  ６４９−６６０に記載されているような反応条件を用いる方法により、好適に製造することができる。
【０１５５】
［工程６ｃ］
上記スキーム中の化合物（Ｆ４）は化合物（Ｆ３）と化合物（Ｃ１）を溶媒中、活性化剤および塩基存在下、反応させることにより製造することができる。溶媒は反応に悪影響を及ぼさない限り、特に限定されず、例えばジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジオキサン、ジエチルエーテル、アセトニトリル、酢酸エチル、トルエンなどが挙げられる。活性化剤としては、パラトルエンスルホニルクロライド、（ベンゾチアゾール−１−イルオキシ）トリス（ジメチルアミノ）ホスホニウム  ヘキサフルオロホスフェート（ＢＯＰ）、（ベンゾチアゾール−１−イルオキシ）トリピロリジノホスホニウム  ヘキサフルオロホスフェート（ＰｙＢＯＰ）などが挙げられ、特に（ベンゾチアゾール−１−イルオキシ）トリピロリジノホスホニウム  ヘキサフルオロホスフェート（ＰｙＢＯＰ）などを使用する条件において好適に進行する。塩基としてはトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、ジメチルアニリン、ジエチルアニリン、ピリジン、２，６−ルチジン、２，４，６−コリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン（ＤＭＡＰ）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン（ＤＢＵ）、ジアザビシクロノネン（ＤＢＮ）、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）などが挙げられる。本反応は０℃〜１００℃、好ましくは室温〜７０℃で好適に進行する。
【０１５６】
［工程６ｄ］
上記スキーム中の化合物（Ｆ５）は、化合物（Ｆ４）から［工程１ｃ］と同様な手法を用い反応させることにより、製造することができる。
製造方法７
【０１５７】
【化２８】
2015163435.tif 000030
【０１５８】
〔上記スキーム中、ＸＡおよびＸＢはハロゲンであり、Ｒ７はアルキルであり、Ｑ２はホウ酸エステルであり、他の記号は前記の通りである。〕
［工程７ａ］
上記スキーム中の化合物（Ｇ２）は、化合物（Ｇ１）とビス（ピナコール）ジボランを［工程１ａ］と同様の手法を用いて反応させることにより製造することができる。特にＪ．  Ｏｒｇ．  Ｃｈｅｍ．，  １９９５，  ６０，  ７５０８−７５１０に記載されているような反応条件を用いる方法により、好適に製造することができる。
【０１５９】
［工程７ｂ］
上記スキーム中の化合物（Ｇ３）は化合物（Ｇ２）と化合物（Ａ１）との反応を、［工程１ｂ］と同様の手法を用いて反応させることにより製造することができる。特にＯｒｇａｎｉｃ  Ｌｅｔｔｅｒｓ，  ２００６，  ８，  １７８７−１７８９に記載されているような反応条件を用いる方法により、好適に製造することができる。
【０１６０】
［工程７ｃ］
上記スキーム中の化合物（Ｇ４）は化合物（Ｇ３）と（Ｃ１）を適当な溶媒中、遷移金属錯体及び塩基存在下、反応させることにより製造することができる。溶媒は反応に悪影響を及ぼさない限り、特に限定されず、例えばトルエン、ベンゼン、キシレン、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジオキサン、ジエチルエーテル、アセトニトリル、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、メチルアルコール、エチルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、水又は混合溶媒を適宜用いることができる。遷移金属錯体としては、例えば、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）、ビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウム（０）、ビス（トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン）パラジウム（０）、ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウム（０）の如き０価のパラジウム錯体、酢酸パラジウム（ＩＩ）、トリフルオロ酢酸パラジウム（ＩＩ）、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（トリ−Ｏ−トリルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（ベンゾニトリエル）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（アセトニトリエル）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（アセチルアセトン）パラジウム（ＩＩ）、［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィン）ジクロロパラジウム（ＩＩ）（Ａ−ｔａＰｈｏｓ）、ビス（ジシクロヘキシル（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィン）ジクロロパラジウム（ＩＩ）（Ａ−ＣＡＰｈｏｓ）などの如き２価のパラジウム錯体が用いられる。また、適当な配位子を加えても良く、例えばトリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン、トリ−シクロヘキシルホスフィン、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン（ＤＰＰＦ）、１−［２−［ビス（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィノ］フェニル］−３，５−ジフェニル−１Ｈ−ピラゾール（ＴｒｉｐｐｙＰｈｏｓ）、（±）−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル（ＢＩＮＡＰ）、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ビフェニル、トリ（ｏｒｔｈｏ−トリル）ホスフィン、１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン、１，２，３，４，５−ペンタフェニル−１−（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィノ）フェロセン（Ｑ−Ｐｈｏｓ）、４，５−ビス（ジフェニルホスフィノ）−９，９−ジメチルキサンテン（Ｘａｎｔｐｈｏｓ）、ジ（１−アダマンチル）−ｎ−ブチルホスフィン（ＣａｔａＣＸｉｕｍ  Ａ）、（２−ビフェニル）ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン（ＪｏｈｎＰｈｏｓ）、（Ｓ）−１−［（１Ｒ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルジシクヘキシルホスフィン（ＣｙＰＦｔＢｕ  ＪｏｓｉＰｈｏｓ）、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジイソプロポキシビフェニル（ＲｕＰｈｏｓ）、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジメトキシビフェニル（ＳＰｈｏｓ）、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ビフェニル（ＤａｖｅＰｈｏｓ）、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル（ＸＰｈｏｓ）、２−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピル−１，１’−ビフェニル（ｔｅｒｔ−ブチル−Ｘ−Ｐｈｏｓ）、２−（ジシクロヘキシルホスフィノ）−３，６−ジメトキシ−２’，４’，６’−トリイソプロピル−１，１’−ビフェニル（ＢｒｅｔｔＰｈｏｓ）などが挙げられる。塩基としては、例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、リチウム  ｔｅｒｔ−ブトキシド、ナトリウム  ｔｅｒｔ−ブトキシド、カリウム  ｔｅｒｔ−ブトキシド、リン酸三カリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸二水素カリウム、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン（ＤＢＵ）、ジアザビシクロノネン（ＤＢＮ）、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）などが挙げられる。遷移金属錯体の使用量としては、化合物（Ｇ３）に対して０．０１〜０．５当量、好ましくは０．０３〜０．１当量とすることができる。塩基の使用量は化合物（Ｇ３）に対して、１〜１０当量、好ましくは２〜５当量とすることができる。特にＪｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，  １９９６，  ６１，  ７２４０−７２４１に記載されるような反応条件において、好適に製造することができる。
【０１６１】
［工程７ｄ］
上記スキーム中の化合物（Ｇ５）は化合物（Ｇ４）を通常用いられる方法で加水分解することにより製造でき、適当な混合水溶液中、塩基存在下、加水分解することにより、製造できる。溶媒として、例えばメチルアルコール、エチルアルコール、ＴＨＦなどを混合水溶液とすることにより、好適に用いることができる。塩基として、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどを好適に用いることができる。
製造方法８（Ａがピロリジニル、ピぺリジニル、ピペラジニル、モルホリニルまたは１，４−オキサゼパニルなどのヘテロ環基である場合）
【０１６２】
【化２９】
2015163435.tif 000031
【０１６３】
〔上記スキーム中、ＸＡはハロゲンであり、Ｒ７はアルキルであり、他の記号は前記の通りである。〕
［工程８ａ］
上記スキーム中化合物（Ｈ２）は化合物（Ｄ３）と（Ｈ１）を適当な溶媒中、遷移金属錯体及び塩基存在下、反応させることにより製造することができる。溶媒は反応に悪影響を及ぼさない限り、特に限定されず、例えばトルエン、ベンゼン、キシレン、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジオキサン、ジエチルエーテル、アセトニトリル、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、メチルアルコール、エチルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、水又は混合溶媒を適宜用いることができる。遷移金属錯体としては、例えば、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）、ビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウム（０）、ビス（トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン）パラジウム（０）、ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウム（０）の如き０価のパラジウム錯体、酢酸パラジウム（ＩＩ）、トリフルオロ酢酸パラジウム（ＩＩ）、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（トリ−Ｏ−トリルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（ベンゾニトリエル）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（アセトニトリエル）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（アセチルアセトン）パラジウム（ＩＩ）、［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィン）ジクロロパラジウム（ＩＩ）（Ａ−ｔａＰｈｏｓ）、ビス（ジシクロヘキシル（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィン）ジクロロパラジウム（ＩＩ）（Ａ−ＣＡＰｈｏｓ）などの如き２価のパラジウム錯体が用いられる。また、適当な配位子を加えても良く、例えばトリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン、トリ−シクロヘキシルホスフィン、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン（ＤＰＰＦ）、１−［２−［ビス（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィノ］フェニル］−３，５−ジフェニル−１Ｈ−ピラゾール（ＴｒｉｐｐｙＰｈｏｓ）、（±）−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル（ＢＩＮＡＰ）、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ビフェニル、トリ（ｏｒｔｈｏ−トリル）ホスフィン、１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン、１，２，３，４，５−ペンタフェニル−１−（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィノ）フェロセン（Ｑ−Ｐｈｏｓ）、４，５−ビス（ジフェニルホスフィノ）−９，９−ジメチルキサンテン（Ｘａｎｔｐｈｏｓ）、ジ（１−アダマンチル）−ｎ−ブチルホスフィン（ＣａｔａＣＸｉｕｍ  Ａ）、（２−ビフェニル）ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン（ＪｏｈｎＰｈｏｓ）、（Ｓ）−１−［（１Ｒ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルジシクヘキシルホスフィン（ＣｙＰＦｔＢｕ  ＪｏｓｉＰｈｏｓ）、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジイソプロポキシビフェニル（ＲｕＰｈｏｓ）、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジメトキシビフェニル（ＳＰｈｏｓ）、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ビフェニル（ＤａｖｅＰｈｏｓ）、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル（ＸＰｈｏｓ）、２−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピル−１，１’−ビフェニル（ｔｅｒｔ−ブチル−Ｘ−Ｐｈｏｓ）、２−（ジシクロヘキシルホスフィノ）−３，６−ジメトキシ−２’，４’，６’−トリイソプロピル−１，１’−ビフェニル（ＢｒｅｔｔＰｈｏｓ）などが挙げられる。塩基としては、例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、リチウム  ｔｅｒｔ−ブトキシド、ナトリウム  ｔｅｒｔ−ブトキシド、カリウム  ｔｅｒｔ−ブトキシド、リン酸三カリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸二水素カリウム、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン（ＤＢＵ）、ジアザビシクロノネン（ＤＢＮ）、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）などが挙げられる。遷移金属錯体の使用量としては、化合物（Ｄ３）に対して０．０１〜０．５当量、好ましくは０．０３〜０．１当量とすることができる。塩基の使用量は化合物（Ｄ３）に対して、１〜１０当量、好ましくは２〜５当量とすることができる。特にＣｈｅｍｉｃａｌ  Ｓｃｉｅｎｃｅ，  ２０１１，  ２，２７−５０に記載されるような反応条件において、好適に製造することができる。
【０１６４】
［工程８ｂ］
上記スキーム中の化合物（Ｈ３）は化合物（Ｈ２）を通常用いられる方法で加水分解することにより製造でき、適当な混合水溶液中、塩基存在下、加水分解することにより、製造できる。溶媒として、例えばメチルアルコール、エチルアルコール、ＴＨＦなどを混合水溶液とすることにより、好適に用いることができる。塩基として、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどを好適に用いることができる。
製造方法９（Ａがベンズイミダゾリル、ベンズオキサゾリルまたはベンズチアゾリルである場合）
【０１６５】
【化３０】
2015163435.tif 000032
【０１６６】
〔上記スキーム中、Ｒ７およびＲ８はアルキルであり、ＤはＮＨ、ＯまたはＳであり、他の記号は前記の通りである。〕
［工程９ａ］
上記スキーム中の化合物（Ｉ２）は化合物（Ｉ１）を通常用いられる方法で加水分解することにより製造でき、適当な混合水溶液中、塩基存在下、加水分解することにより、製造できる。溶媒として、例えばメチルアルコール、エチルアルコール、ＴＨＦなどを混合水溶液とすることにより、好適に用いることができる。塩基として、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムを好適に用いることができる。
【０１６７】
［工程９ｂ］
上記スキーム中化合物（Ｉ４）は、化合物（Ｉ２）と化合物（Ｉ３）を縮合剤存在下、塩基存在下または非存在下、活性化剤存在下または非存在化、溶媒中または非溶媒中で反応させることにより製造できる。縮合剤としては、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＷＳＣ・ＨＣｌ）、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）、シアノホスホン酸ジエチル、Ｏ−（７−アザベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウム  ヘキサフルオロホスフェート（ＨＡＴＵ）、１，１−カルボニルイミダゾール（ＣＤＩ）、（ベンゾチアゾール−１−イルオキシ）トリス（ジメチルアミノ）ホスホニウム  ヘキサフルオロホスフェート（ＢＯＰ）、（ベンゾチアゾール−１−イルオキシ）トリピロリジノホスホニウム  ヘキサフルオロホスフェート（ＰｙＢＯＰ）、ポリリン酸（ＰＰＡ）、無水プロピルホスホン酸（Ｔ３Ｐ（登録商標））、メチル  Ｎ−（トリエチルアンモニウムスルホニル）カーバメート（Ｂｕｒｇｅｓｓ試薬）などが挙げられる。塩基としては、例えばトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、ルチジンなどが挙げられる。活性化剤としては１−ヒドロキシ−７−アザベンゾトリアゾール（ＨＯＡｔ）、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢｔ）などが挙げられる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒であればよく、例えばトルエン、ベンゼン、キシレン、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジオキサン、ジエチルエーテル、アセトニトリル、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、アセトンなどが挙げられる。本反応は０℃〜２５０℃、好ましくは室温〜１５０℃で好適に進行する。特にＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔｅｒｓ，  ２０１２．  ５３．  ２４４０−２４４３に記載されている反応条件において、好適に製造することができる。
【０１６８】
［工程９ｃ］
上記スキーム中の化合物（Ｉ５）は化合物（Ｉ４）を通常用いられる方法で加水分解することにより製造でき、適当な混合水溶液中、塩基存在下、加水分解することにより、製造できる。溶媒として、例えばメチルアルコール、エチルアルコール、ＴＨＦなどを混合水溶液とすることにより、好適に用いることができる。塩基として、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどを好適に用いることができる。
製造方法１０（Ａがオキサジアゾリルである場合）
【０１６９】
【化３１】
2015163435.tif 000033
【０１７０】
〔上記スキーム中、Ｒ７およびＲ８はアルキルであり、他の記号は前記の通りである。〕
［工程１０ａ］
上記スキーム中の化合物（Ｊ１）は化合物（Ｉ１）とヒドラジン・一水和物を溶媒中または非溶媒中、反応させることにより製造できる。溶媒として、例えばメチルアルコール、エチルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコールなどのアルコール溶媒、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジオキサン、ジエチルエーテルなどのエーテル溶媒、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）などの高極性溶媒が挙げられる。本反応は室温〜１５０℃、好ましくは室温〜１００℃で好適に進行する。
【０１７１】
［工程１０ｂ］
上記スキーム中の化合物（Ｊ３）は化合物（Ｊ１）と化合物（Ｊ２）を溶媒中、縮合剤存在下、活性化剤の存在下または非存在下、塩基存在下または非存在下、反応させることにより製造することができる。溶媒は、例えばトルエン、ベンゼン、キシレン、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジオキサン、ジエチルエーテル、アセトニトリル、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、アセトンなどが挙げられる。塩基としては、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、ルチジンなどが挙げられる。縮合剤としては、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＷＳＣ・ＨＣｌ）、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）、シアノホスホン酸ジエチル、Ｏ−（７−アザベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウム  ヘキサフルオロホスフェート（ＨＡＴＵ）、１，１−カルボニルイミダゾール（ＣＤＩ）、（ベンゾチアゾール−１−イルオキシ）トリス（ジメチルアミノ）ホスホニウム  ヘキサフルオロホスフェート（ＢＯＰ）、（ベンゾチアゾール−１−イルオキシ）トリピロリジノホスホニウム  ヘキサフルオロホスフェート（ＰｙＢＯＰ）、ポリリン酸（ＰＰＡ）、無水プロピルホスホン酸（Ｔ３Ｐ（登録商標））、メチル  Ｎ−（トリエチルアンモニウムスルホニル）カーバメート（Ｂｕｒｇｅｓｓ試薬）などが挙げられる。活性化剤としては１−ヒドロキシ−７−アザベンゾトリアゾール（ＨＯＡｔ）、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢｔ）などが挙げられる。本反応は０℃〜１００℃、好ましくは室温〜４０℃で好適に進行する。
【０１７２】
［工程１０ｃ］
上記スキーム中の化合物（Ｊ４）は化合物（Ｊ３）を溶媒中、縮合剤存在下、活性化剤の存在下または非存在下、塩基存在下または非存在下、反応させることにより製造することができる。溶媒は、例えばトルエン、ベンゼン、キシレン、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジオキサン、ジエチルエーテル、アセトニトリル、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、アセトンなどが挙げられる。塩基としては、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、ルチジンなどが挙げられる。縮合剤としては、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＷＳＣ・ＨＣｌ）、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）、シアノホスホン酸ジエチル、Ｏ−（７−アザベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウム  ヘキサフルオロホスフェート（ＨＡＴＵ）、１，１−カルボニルイミダゾール（ＣＤＩ）、（ベンゾチアゾール−１−イルオキシ）トリス（ジメチルアミノ）ホスホニウム  ヘキサフルオロホスフェート（ＢＯＰ）、（ベンゾチアゾール−１−イルオキシ）トリピロリジノホスホニウム  ヘキサフルオロホスフェート（ＰｙＢＯＰ）、ポリリン酸（ＰＰＡ）、無水プロピルホスホン酸（Ｔ３Ｐ（登録商標））、メチル  Ｎ−（トリエチルアンモニウムスルホニル）カーバメート（Ｂｕｒｇｅｓｓ試薬）などが挙げられる。活性化剤としては１−ヒドロキシ−７−アザベンゾトリアゾール（ＨＯＡｔ）、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢｔ）などが挙げられる。本反応は０℃〜１５０℃、好ましくは室温〜１２０℃で好適に進行する。また、例えばＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，  ２００９，  ６５，  ９９８９−９９９６またはＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔｅｒｓ，  ２００９，  ５０，  ６４３５−６４３９に記載されている反応条件を用いることにより、化合物（Ｊ１）からＯｎｅ−Ｐｏｔで、好適に製造することができる。
【０１７３】
［工程１０ｄ］
上記スキーム中の化合物（Ｊ５）は化合物（Ｊ４）を通常用いられる方法で加水分解することにより製造でき、適当な混合水溶液中、塩基存在下、加水分解することにより、製造できる。溶媒として、例えばメチルアルコール、エチルアルコール、ＴＨＦなどを混合水溶液とすることにより、好適に用いることができる。塩基として、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどを好適に用いることができる。
製造方法１１
【０１７４】
【化３２】
2015163435.tif 000034
【０１７５】
［上記スキーム中、ＸＢはハロゲンであり、Ｒ７はアルキルであり、他の記号は前記の通りである。］
【０１７６】
［工程１１ａ］
上記スキーム中化合物（Ｋ２）は、化合物（Ｃ１）と化合物（Ｋ１）を溶媒中、塩基存在下または非存在下、反応させることにより製造することができる。溶媒として、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、エチルアルコール（ＥｔＯＨ）、ｉ−プロピルアルコール（ｉ−ＰｒＯＨ）、ｎ−ブチルアルコール（ｎ−ＢｕＯＨ）などの極性溶媒を適宜使用することができる。塩基として、例えばトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンなどの有機塩基または炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸セシウム、リン酸三カリウムなどの無機塩を適宜用いることが出来る。本反応は室温〜２００℃、好ましくは室温〜１５０℃で好適に進行する。また、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔｅｒｓ，  ２００２，  ４３，  ５７３９−５７４２に記載されているようなマイクロウェーブ反応装置を用いる方法により、好適に製造することができる。また、例えばＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，  ２００８，  ６４，  ５６０４−５６１９、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔｅｒｓ，  ２００７，  ４８，  ２５１９−２５２５またはＣｈｅｍｉｃａｌ  Ｓｃｉｅｎｃｅ．，  ２０１１，  ２，  ２７−５０に記載されているような遷移金属錯体を用いた反応により製造することもできる。
製造方法１２
【０１７７】
【化３３】
2015163435.tif 000035
【０１７８】
［上記スキーム中、Ｒ７はアルキルであり、他の記号は前記の通りである。］
［工程１２ａ］
上記スキーム中の化合物（Ｌ２）は化合物（Ｌ１）から［工程６ｂ］と同様な手法を用い反応させることにより、製造することができる。
【０１７９】
［工程１２ｂ］
上記スキーム中の化合物（Ｌ３）は化合物（Ｌ２）と化合物（Ｃ１）との反応を［工程６ｃ］と同様な手法を用いることにより、製造することができる。
製造方法１３
【０１８０】
【化３４】
2015163435.tif 000036
【０１８１】
［上記スキーム中、Ｒ７はアルキルであり、他の記号は前記の通りである。］
［工程１３ａ］
上記スキーム中（Ｍ２）は、化合物（Ｄ１）と化合物（Ｍ１）を溶媒中、酸触媒下または非触媒下、還元剤で処理することにより製造することができる。溶媒としては、反応に不活性な溶媒（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドンのようなアミド系溶媒、ジクロロメタンなどのハロゲン系溶媒、テトラヒドロフランの様なエーテル系溶媒）を適宜用いることができる。酸触媒としては、テトライソプロポキシチタンなどのルイス酸、酢酸、トリフルオロ酢酸などが用いられる。還元剤としては水素化ホウ素ナトリウム、シアノ水素化ホウ素ナトリウム、水素化トリアセトキシホウ素ナトリウム、デカボランなどが用いられる。本反応は−７８℃〜４０℃、好ましくは−１０℃〜室温で好適に進行する。
製造方法１４（Ｌ１が−Ｏ−Ｘ３−または−Ｏ−（ＣＨ２）ｎ−Ｘ３−である場合）
【０１８２】
【化３５】
2015163435.tif 000037
【０１８３】
〔上記スキーム中、Ｒ７はアルキルであり、ＸＡおよびＸＣはハロゲンであり、Ｑ１はホウ酸エステルであり、Ｌ２は−Ｘ３−または−（ＣＨ２）ｎ−Ｘ３−であり、他の記号は前記の通りである。〕
［工程１４ａ］
上記スキーム中の化合物（Ｎ３）は化合物（Ａ２）と化合物（Ｎ１）から［工程１ｂ］と同様な手法を用いることにより、製造することができる。
【０１８４】
［工程１４ｂ］
上記スキーム中の化合物（Ｎ２）は化合物（Ｎ１）から、［工程２ａ］と同様の手法を用いて製造することができる。
【０１８５】
［工程１４ｃ］
上記スキーム中の化合物（Ｎ３）は化合物（Ａ１）と化合物（Ｎ２）から、［工程１ｂ］と同様の手法を用いて製造することができる。
【０１８６】
［工程１４ｄ］
上記スキーム中の化合物（Ｎ６）は化合物（Ｎ３）と化合物（Ｎ４）を溶媒中、光延試薬およびホスフィン試薬存在下、反応させることにより製造できる。光延試薬として、例えばジエチル  アゾジカルボキシレート（ＤＥＡＤ）、ジイソプロピル  アゾジカルボキシレート（ＤＩＡＤ）、ジ−ｔｅｒｔ−ブチル  アゾジカルボキシレート（ＤＢＡＤ）、１，１’−（アゾジカルボニル）ジピペリジン（ＡＤＰＰ）、ジ−ｐ−ニトロベンジル  アゾジカルボキシレート（ＤＮＡＤ）、１，１’−アゾビス（Ｎ，Ｎ’−ビスジイソプロピル  ホルムアミド）（ＴＩＰＡ）、１，６−ジメチル−１，５，７−ヘキサヒドロ−１，４，６，７−テトラゾシン−２，５−ジオン（ＤＨＴＤ）、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルアゾジカルボキサミド（ＴＭＡＤ）、ジ−ｐ−クロロベンジル  アゾジカルボキシレート（ＤＣＡＤ）、ジ−２−メトキシエチル  アゾジカルボキシレート（ＤＭＥＡＤ）などが挙げられる。ホスフィン試薬として、例えばトリフェニルホスフィン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、トリ−ｎ−オクチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、ジフェニル−２−ピリジルホスフィンなどが挙げられる。また、本反応は、シアノメチレントリブチルホスホレン、シアノメチレントリメチルホスホレートなどの角田試薬を用いた際は、ホスフィン試薬非存在下でも好適に進行する。溶媒は反応に悪影響を及ぼさない限り、特に限定されず、トルエン、ベンゼン、キシレン、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジオキサン、ジエチルエーテル、アセトニトリル、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）などが挙げられる。本反応は−４０℃〜１００℃、好ましくは０℃〜７０℃で好適に進行する。
また、化合物（Ｎ６）は化合物（Ｎ３）と化合物（Ｎ５）を、溶媒中、塩基存在下、相間移動触媒存在下および非存在下、反応させることにより製造することができる。溶媒は反応に悪影響を及ぼさない限り、特に限定されず、トルエン、ベンゼン、キシレン、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジオキサン、ジエチルエーテル、アセトン、アセトニトリル、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）などが挙げられる。塩基として炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水素化ナトリウム、ナトリウム  ｔｅｒｔ−ブトキシド、カリウム  ｔｅｒｔ−ブトキシド、リチウム  ヘキサメチルジシラジド（ＬｉＨＭＤＳ）、ナトリウム  ヘキサメチルジシラジド（ＮａＨＭＤＳ）、カリウム  ヘキサメチルジシラジド（ＫＨＭＤＳ）、リチウム  ジイソプロピルアミド（ＬＤＡ）、ｉｓｏ−プロピルマグネシウムクロライド、ｉｓｏ−プロピルマグネシウムブロマイド、ｉ−プロピルマグネシウムクロライド塩化リチウム塩などが挙げられる。本反応は、特に水素化ナトリウム、カリウム  ｔｅｒｔ−ブトキシドを用いて好適に進行する。相間移動触媒として、ハロゲン化第四級アンモニウム塩またはクラウンエーテルなどが挙げられる。本反応は−７８℃〜１００℃、とりわけ０℃〜７０℃で好適に進行する。
【０１８７】
［工程１４ｅ］
上記スキーム中の化合物（Ｎ７）は化合物（Ｎ６）を通常用いられる方法で加水分解することにより製造でき、適当な混合水溶液中、塩基存在下、加水分解することにより、製造できる。溶媒として、例えばメチルアルコール、エチルアルコール、ＴＨＦなどを混合水溶液とすることにより、好適に用いることができる。塩基として、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムを好適に用いることができる。
製造方法１５（Ｒ６で示される−Ｘ１−Ｒ７ａのＸ１が−Ｏ−または−Ｏ−アルキレン−である場合）
【０１８８】
【化３６】
2015163435.tif 000038
【０１８９】
〔上記スキーム中、Ｒ７はアルキルであり、ＸＡおよびＸＣはハロゲンであり、Ｑ１はホウ酸エステルであり、ＰＧ１は水酸基の保護基であり、ＰＧ２はアミノ基の保護基であり、ｍは０〜６の整数であり、他の記号は前記の通りである。〕
［工程１５ａ］
上記スキーム中の化合物（Ｏ３）は化合物（Ａ２）と化合物（Ｏ１）から［工程１ｂ］と同様な手法を用いることにより、製造することができる。
【０１９０】
［工程１５ｂ］
上記スキーム中の化合物（Ｏ２）は化合物（Ｏ１）から、［工程２ａ］と同様の手法を用いて製造することができる。
【０１９１】
［工程１５ｃ］
上記スキーム中の化合物（Ｏ３）は化合物（Ａ１）と化合物（Ｏ２）から、［工程１ｂ］と同様の手法を用いて製造することができる。
【０１９２】
［工程１５ｄ］
上記スキーム中の化合物（Ｏ４）は化合物（Ｏ３）を通常の手法を用いて、ＰＧ２で保護することにより、製造することができる。
【０１９３】
［工程１５ｅ］
上記スキーム中の化合物（Ｏ５）は通常の手法により、化合物（Ｏ４）のＰＧ１を脱保護することにより、製造することができる。
【０１９４】
［工程１５ｆ］
上記スキーム中の化合物（Ｏ８）は化合物（Ｏ５）から［工程１４ｄ］と同様の手法を用いて、化合物（Ｏ６）もしくは化合物（Ｏ７）と反応させることにより、製造することができる。
【０１９５】
［工程１５ｇ］
上記スキーム中の化合物（Ｏ９）は通常の手法で化合物（Ｏ８）のＰＧ２を脱保護することにより、製造することができる。
【０１９６】
［工程１５ｈ］
上記スキーム中の化合物（Ｏ１０）は化合物（Ｏ９）を通常の手法で加水分解することにより、製造することができる。
製造方法１６（Ｒ５で示される−Ｘ１−Ｒ７ａのＸ１が−Ｏ−であり、Ｒ６がヘテロアリールである（すなわち、Ｒ６で示される−Ｘ１−Ｒ７ａのＸ１が単結合であり、Ｒ７ａがヘテロアリールである）場合）
【０１９７】
【化３７】
2015163435.tif 000039
【０１９８】
〔上記スキーム中、Ｒ７はアルキルであり、ＸＡ、ＸＣおよびＸＤはハロゲンであり、Ｑ１およびＱ２はホウ酸エステルであり、ＰＧ１は水酸基の保護基であり、ＰＧ２はアミノ基の保護基であり、他の記号は前記の通りである。〕
［工程１６ａ］
上記スキーム中の化合物（Ｐ３）は化合物（Ａ２）と化合物（Ｐ１）から［工程１ｂ］と同様な手法を用いることにより、製造することができる。
【０１９９】
［工程１６ｂ］
上記スキーム中の化合物（Ｐ２）は化合物（Ｐ１）から［工程２ａ］と同様な手法を用いることにより、製造することができる。
【０２００】
［工程１６ｃ］
上記スキーム中の化合物（Ｐ３）は化合物（Ａ１）と化合物（Ｐ２）から［工程１ｂ］と同様な手法を用いることにより、製造することができる。
【０２０１】
［工程１６ｄ］
上記スキーム中の化合物（Ｐ４）は化合物（Ｐ３）を通常の手法を用いて、ＰＧ２で保護することにより、製造することができる。
【０２０２】
［工程１６ｅ］
上記スキーム中の化合物（Ｐ５）は化合物（Ｐ４）を通常の手法を用いて、ＰＧ１を脱保護することにより、製造することができる。
【０２０３】
［工程１６ｆ］
上記スキーム中の化合物（Ｐ６）は化合物（Ｐ５）を溶媒中、ハロゲン化試薬存在下、塩基存在下または非存在下、反応させることにより製造することができる。ハロゲン化試薬として、例えば、臭素、ヨウ素、塩素、一塩化ヨウ素、Ｎ−ブロモスクシンイミド（ＮＢＳ）、Ｎ−クロロスクシンイミド（ＮＣＳ）、Ｎ−ヨードスクシンイミド（ＮＩＳ）、ジブロモイソシアヌル酸（ＤＢＩ）、クロラミンＴ、１，３−ジブロモ−５，５’−ジメチルヒダントイン、１，３−ヨード−５，５’−ジメチルヒダントイン、ピリジニウムブロモぺルブロミドなどが挙げられる。塩基はトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジンなどが挙げられる。溶媒は反応に悪影響を及ぼさない限り、特に限定されず、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、ジエチルエーテル、ジオキサン、ジメトキシエタン、アセトニトリル、メチルアルコール、エチルアルコール、水などが挙げられる。本反応は−７８℃〜８０℃、好ましくは０℃〜７０℃で好適に進行する。特にＢｕｌｌ．  Ｃｈｅｍ．  Ｓｏｃ．  Ｊｐｎ．，  １９９３，  ６６，  １５７６−１５７９に記載の反応条件で、好適に進行する。
【０２０４】
［工程１６ｇ］
上記スキーム中の化合物（Ｐ９）は化合物（Ｐ６）から化合物（Ｐ７）もしくは化合物（Ｐ８）を用い、［工程１４ｄ］と同様な手法で製造することができる。
【０２０５】
［工程１６ｈ］
上記スキーム中の化合物（Ｐ１１）は化合物（Ｐ９）と化合物（Ｐ１０）を溶媒中、遷移金属錯体及び塩基存在下、反応させることにより製造することができる。溶媒は反応に悪影響を及ぼさない限り、特に限定されず、例えばトルエン、ベンゼン、キシレン、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジオキサン、ジエチルエーテル、アセトニトリル、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、メチルアルコール、エチルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、水又は混合溶媒などを適宜用いることができる。遷移金属錯体としては、例えば、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）、ビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウム（０）、ビス（トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン）パラジウム（０）、ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウム（０）の如き０価のパラジウム錯体、酢酸パラジウム（ＩＩ）、トリフルオロ酢酸パラジウム（ＩＩ）、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（トリ−Ｏ−トリルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（ベンゾニトリエル）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（アセトニトリエル）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（アセチルアセトン）パラジウム（ＩＩ）、［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィン）ジクロロパラジウム（ＩＩ）（Ａ−ｔａＰｈｏｓ）、ビス（ジシクロヘキシル（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィン）ジクロロパラジウム（ＩＩ）（Ａ−ＣＡＰｈｏｓ）などの如き２価のパラジウム錯体が用いられる。また、適当な配位子を加えても良く、例えばトリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン、トリ−シクロヘキシルホスフィン、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン（ＤＰＰＦ）、１−［２−［ビス（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィノ］フェニル］−３，５−ジフェニル−１Ｈ−ピラゾール（ＴｒｉｐｐｙＰｈｏｓ）、（±）−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル（ＢＩＮＡＰ）、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ビフェニル、トリ（ｏｒｔｈｏ−トリル）ホスフィン、１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン、１，２，３，４，５−ペンタフェニル−１−（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィノ）フェロセン（Ｑ−Ｐｈｏｓ）、４，５−ビス（ジフェニルホスフィノ）−９，９−ジメチルキサンテン（Ｘａｎｔｐｈｏｓ）、ジ（１−アダマンチル）−ｎ−ブチルホスフィン（ＣａｔａＣＸｉｕｍ  Ａ）、（２−ビフェニル）ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン（ＪｏｈｎＰｈｏｓ）、（Ｓ）−１−［（１Ｒ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルジシクヘキシルホスフィン（ＣｙＰＦｔＢｕ  ＪｏｓｉＰｈｏｓ）、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジイソプロポキシビフェニル（ＲｕＰｈｏｓ）、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジメトキシビフェニル（ＳＰｈｏｓ）、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ビフェニル（ＤａｖｅＰｈｏｓ）、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル（ＸＰｈｏｓ）、２−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピル−１，１’−ビフェニル（ｔｅｒｔ−ブチル−Ｘ−Ｐｈｏｓ）、２−（ジシクロヘキシルホスフィノ）−３，６−ジメトキシ−２’，４’，６’−トリイソプロピル−１，１’−ビフェニル（ＢｒｅｔｔＰｈｏｓ）などが挙げられる。塩基としては、例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、リチウム  ｔｅｒｔ−ブトキシド、ナトリウム  ｔｅｒｔ−ブトキシド、カリウム  ｔｅｒｔ−ブトキシド、リン酸三カリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸二水素カリウム、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン（ＤＢＵ）、ジアザビシクロノネン（ＤＢＮ）、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）などが挙げられる。遷移金属錯体の使用量としては、化合物（Ｐ９）に対して０．０１〜０．３当量、好ましくは０．０３〜０．１当量とすることができる。塩基の使用量は化合物（Ｐ９）に対して、１〜１０当量、好ましくは２〜７当量とすることができる。特にＯｒｇａｎｉｃ  Ｌｅｔｔｅｒｓ，  ２００６，  ８，  １７８７−１７８９に記載されているような反応条件を用いる方法により、好適に製造することができる。
【０２０６】
［工程１６ｉ］
上記スキーム中の化合物（Ｐ１２）は化合物（Ｐ１１）のＰＧ２を通常の反応条件で脱保護することにより、製造することができる。
【０２０７】
［工程１６ｊ］
上記スキーム中の化合物（Ｐ１３）は化合物（Ｐ１２）から工程［１ｃ］と同様な手法を用いることにより製造することができる。
製造方法１７（Ｌ１が−ＣＯ−ＮＨ−Ｘ３−である場合）
【０２０８】
【化３８】
2015163435.tif 000040
【０２０９】
〔上記スキーム中、Ｒ７はアルキルであり、他の記号は前記の通りである。〕
［工程１７ａ］
上記スキーム中の化合物（Ｑ２）は化合物（Ａ５）と化合物（Ｑ１）を溶媒中、縮合剤存在下、活性化剤の存在下または非存在下、塩基存在下または非存在下、反応させることにより製造することができる。溶媒は、例えばトルエン、ベンゼン、キシレン、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジオキサン、ジエチルエーテル、アセトニトリル、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、アセトンなどが挙げられる。塩基としては、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、ルチジンなどが挙げられる。縮合剤としては、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＷＳＣ・ＨＣｌ）、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）、シアノホスホン酸ジエチル、Ｏ−（７−アザベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウム  ヘキサフルオロホスフェート（ＨＡＴＵ）、１，１−カルボニルイミダゾール（ＣＤＩ）、（ベンゾチアゾール−１−イルオキシ）トリス（ジメチルアミノ）ホスホニウム  ヘキサフルオロホスフェート（ＢＯＰ）、（ベンゾチアゾール−１−イルオキシ）トリピロリジノホスホニウム  ヘキサフルオロホスフェート（ＰｙＢＯＰ）などが挙げられる。活性化剤としては１−ヒドロキシ−７−アザベンゾトリアゾール（ＨＯＡｔ）、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢｔ）などが挙げられる。本反応は０℃〜１００℃、好ましくは室温〜４０℃で好適に進行する。
【０２１０】
［工程１７ｂ］
上記スキーム中の化合物（Ｑ３）は化合物（Ｑ２）から工程［１ｃ］と同様な手法を用いることにより製造することができる。
製造方法１８
【０２１１】
【化３９】
2015163435.tif 000041
【０２１２】
〔上記スキーム中、Ｒ７はアルキルであり、ＸＡはハロゲンであり、ＡはＮＨまたはＯであり、他の記号は前記の通りである。〕
［工程１８ａ］
上記スキーム中の化合物（Ｒ２）は化合物（Ｒ１）とトリメチルシリルシアニドを溶媒中、塩基またはルイス酸存在下、反応させることにより、製造することができる。塩基としてＮ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタンなどが挙げられる。またルイス酸としてヨウ化亜鉛、塩化鉄（ＩＩＩ）、チタン（ＩＶ）テトライソプロポキシドなどが挙げられる。溶媒としてはジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジオキサン、ジエチルエーテル、アセトニトリル、酢酸エチル、ニトロメタンなどが挙げられる。
【０２１３】
［工程１８ｂ］
上記スキーム中の化合物（Ｒ３）は化合物（Ｒ２）からアルコール溶媒中、酸触媒存在下、反応させることにより、製造することができる。アルコール溶媒は、例えばエチルアルコール、メチルアルコールなどが挙げられる。酸触媒としては、例えば、塩酸、硫酸などが挙げられる。反応温度としては室温〜１５０℃、とりわけ５０℃〜１００℃で好適に進行する。
【０２１４】
［工程１８ｃ］
上記スキーム中の化合物（Ｒ４）は化合物（Ｒ３）からＤＭＳＯ溶媒中、無水酢酸存在下、反応させることにより、製造することができる。本反応は室温〜１５０℃、とりわけ５０℃〜１００℃で好適に進行する。また、一般的な酸化剤を用いる手法によっても、製造することができる。
【０２１５】
［工程１８ｄ］
上記スキーム中の化合物（Ｒ６）は化合物（Ｒ４）と化合物（Ｒ５）を溶媒中、塩基存在下または非存在下、反応させることにより、製造することができる。溶媒は反応に悪影響を及ぼさない限り、特に限定されず、例えばメチルアルコール、エチルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、酢酸、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジオキサン、ジエチルエーテルなどが挙げられ、とりわけアルコール溶媒中で好適に進行する。塩基としてはトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、酢酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウムなどが挙げられる。本反応は反応温度としては室温〜１５０℃、とりわけ５０℃〜１００℃で好適に進行する。
製造方法１９
【０２１６】
【化４０】
2015163435.tif 000042
【０２１７】
〔上記スキーム中、Ｒ７はアルキルであり、ＸＡおよびＸＥはハロゲンであり、ＡはＮＨまたはＯであり、他の記号は前記の通りである。〕
［工程１９ａ］
上記スキーム中の化合物（Ｓ２）は化合物（Ｓ１）とヒドラジン一水和物を溶媒中、塩基存在下または非存在下反応させることにより、製造することができる。溶媒は反応に悪影響を及ぼさない限り、特に限定されず、例えばテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジオキサン、ジエチルエーテル、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、メチルアルコール、エチルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、水などが挙げられる。塩基としてはトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、ピリジン、２，６−ルチジン、２，４，６−コリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン（ＤＭＡＰ）、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン（ＤＢＵ）、ジアザビシクロノネン（ＤＢＮ）、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウムなどが挙げられる。本反応は反応温度としては室温〜１５０℃、とりわけ５０℃〜１００℃で好適に進行する。
【０２１８】
［工程１９ｂ］
上記スキーム中の化合物（Ｓ３）は化合物（Ｓ２）を溶媒中、塩基存在下または非存在下、ハロゲン化試薬で処理することにより、製造することができる。溶媒は反応に悪影響を及ぼさない限り、特に限定されず、例えばトルエン、ベンゼン、キシレン、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジオキサン、ジエチルエーテル、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、メチルアルコール、エチルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、アセトン、水などが挙げられる。ハロゲン化試薬としては、例えば、ヨウ素、臭素、Ｎ−ヨードスクシンイミド、Ｎ−ブロモスクシンイミドなどが挙げられる。塩基としては、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、リチウム  ｔｅｒｔ−ブトキシド、ナトリウム  ｔｅｒｔ−ブトキシド、カリウム  ｔｅｒｔ−ブトキシド、リン酸三カリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸二水素カリウム、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリンなどが挙げられる。本反応は−２０℃〜８０℃、とりわけ０℃〜室温で好適に進行する。
【０２１９】
［工程１９ｃ］
上記スキーム中の化合物（Ｒ６）は化合物（Ｓ３）を、溶媒中、遷移金属錯体及び塩基存在下、一酸化炭素雰囲気下、反応させることにより、製造することができる。溶媒は反応に悪影響を及ぼさない限り、特に限定されず、例えばメチルアルコール、エチルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコールなどのアルコール溶媒が挙げられ、トルエン、ベンゼン、キシレン、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジオキサン、ジエチルエーテル、アセトニトリル、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）との混合溶媒であっても良い。遷移金属錯体としては、例えば、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）、ビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウム（０）、ビス（トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン）パラジウム（０）、ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウム（０）の如き０価のパラジウム錯体、酢酸パラジウム（ＩＩ）、トリフルオロ酢酸パラジウム（ＩＩ）、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（トリ−Ｏ−トリルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（ベンゾニトリエル）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（アセトニトリエル）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（アセチルアセトン）パラジウム（ＩＩ）、［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィン）ジクロロパラジウム（ＩＩ）（Ａ−ｔａＰｈｏｓ）、ビス（ジシクロヘキシル（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィン）ジクロロパラジウム（ＩＩ）（Ａ−ＣＡＰｈｏｓ）の如き２価のパラジウム錯体が用いられる。また、適当な配位子を加えても良く、例えばトリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン、トリ−シクロヘキシルホスフィン、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン（ＤＰＰＦ）、１−［２−［ビス（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィノ］フェニル］−３，５−ジフェニル−１Ｈ−ピラゾール（ＴｒｉｐｐｙＰｈｏｓ）、（±）−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル（ＢＩＮＡＰ）、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ビフェニル、トリ（ｏｒｔｈｏ−トリル）ホスフィン、１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン、１，２，３，４，５−ペンタフェニル−１−（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィノ）フェロセン（Ｑ−Ｐｈｏｓ）、４，５−ビス（ジフェニルホスフィノ）−９，９−ジメチルキサンテン（Ｘａｎｔｐｈｏｓ）、ジ（１−アダマンチル）−ｎ−ブチルホスフィン（ＣａｔａＣＸｉｕｍ  Ａ）、（２−ビフェニル）ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン（ＪｏｈｎＰｈｏｓ）、（Ｓ）−１−［（１Ｒ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルジシクヘキシルホスフィン（ＣｙＰＦｔＢｕ  ＪｏｓｉＰｈｏｓ）、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジイソプロポキシビフェニル（ＲｕＰｈｏｓ）、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジメトキシビフェニル（ＳＰｈｏｓ）、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ビフェニル（ＤａｖｅＰｈｏｓ）、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル（ＸＰｈｏｓ）、２−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピル−１，１’−ビフェニル（ｔｅｒｔ−ブチル−Ｘ−Ｐｈｏｓ）、２−（ジシクロヘキシルホスフィノ）−３，６−ジメトキシ−２’，４’，６’−トリイソプロピル−１，１’−ビフェニル（ＢｒｅｔｔＰｈｏｓ）が挙げられる。塩基としては、例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、リチウム  ｔｅｒｔ−ブトキシド、ナトリウム  ｔｅｒｔ−ブトキシド、カリウム  ｔｅｒｔ−ブトキシド、リン酸三カリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸二水素カリウム、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン（ＤＢＵ）、ジアザビシクロノネン（ＤＢＮ）、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）などが挙げられる。遷移金属錯体の使用量としては、化合物（Ｓ３）に対して０．０１〜０．３当量、好ましくは０．０３〜０．１当量とすることができる。塩基の使用量は化合物（Ｓ３）に対して、１〜１０当量、好ましくは２〜７当量とすることができる。特にＯｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ，  ２００８，  ２７，  ５４０２−５４２２に記載されているような反応条件を用いる方法により、好適に製造することができる。
製造方法２０
【０２２０】
【化４１】
2015163435.tif 000043
【０２２１】
〔上記スキーム中、Ｒ７はアルキルであり、ＸＡおよびＸＥはハロゲンであり、Ｑ２はホウ酸エステルであり、ＡはＮＨまたはＯであり、他の記号は前記の通りである。〕
［工程２０ａ］
上記スキーム中の化合物（Ｔ２）は化合物（Ｔ１）から工程［１８ｄ］と同様な手法を用いることにより製造することができる。
【０２２２】
［工程２０ｂ］
上記スキーム中の化合物（Ｔ３）は化合物（Ｔ２）から工程［１９ｂ］と同様な手法を用いることにより製造することができる。
【０２２３】
［工程２０ｃ］
上記スキーム中の化合物（Ｔ５）は化合物（Ｔ３）と化合物（Ｔ４）から工程［１６ｈ］と同様な手法を用いることにより製造することができる。
製造方法２１
【０２２４】
【化４２】
2015163435.tif 000044
【０２２５】
〔上記スキーム中、Ｒ７はアルキルであり、ＸＡおよびＸＣはハロゲンであり、ＰＧ１はアミノ基の保護基であり、他の記号は前記の通りである。〕
［工程２１ａ］
上記スキーム中の化合物（Ｕ２）および（Ｕ３）は化合物（Ｕ１）を通常の手法を用いて、ＰＧ１で保護することにより、製造することができる。
【０２２６】
［工程２１ｂ］
上記スキーム中の化合物（Ｕ５）および（Ｕ６）は化合物（Ｕ１）と化合物（Ｕ４）を、溶媒中、塩基存在下、相間移動触媒存在下および非存在下、反応させることにより製造することができる。溶媒は反応に悪影響を及ぼさない限り、特に限定されず、トルエン、ベンゼン、キシレン、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジオキサン、ジエチルエーテル、アセトン、アセトニトリル、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）などが挙げられる。塩基として炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水素化ナトリウム、ナトリウム  ｔｅｒｔ−ブトキシド、カリウム  ｔｅｒｔ−ブトキシド、リチウム  ヘキサメチルジシラジド（ＬｉＨＭＤＳ）、ナトリウム  ヘキサメチルジシラジド（ＮａＨＭＤＳ）、カリウム  ヘキサメチルジシラジド（ＫＨＭＤＳ）、リチウム  ジイソプロピルアミド（ＬＤＡ）、ｉｓｏ−プロピルマグネシウムクロライド、ｉｓｏ−プロピルマグネシウムブロマイド、ｉ−プロピルマグネシウムクロライド塩化リチウム塩などが挙げられる。本反応は、特に水素化ナトリウム、カリウム  ｔｅｒｔ−ブトキシドなどを用いて好適に進行する。相間移動触媒として、ハロゲン化第四級アンモニウム塩またはクラウンエーテルなどが挙げられる。本反応は−７８℃〜１００℃、とりわけ０℃〜７０℃で好適に進行する。
製造方法２２
【０２２７】
【化４３】
2015163435.tif 000045
【０２２８】
〔上記スキーム中、Ｒ７はアルキルであり、ＸＡはハロゲンであり、他の記号は前記の通りである。〕
［工程２２ａ］
上記スキーム中の化合物（Ｖ３）は化合物（Ｖ１）と化合物（Ｖ２）を溶媒中、酸またはルイス酸存在下、反応させることにより、製造することができる。溶媒は反応に悪影響を及ぼさない限り、特に限定されず、例えばトルエン、ベンゼン、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、メチルアルコール、エチルアルコール、酢酸などが挙げられる。酸またはルイス酸として、例えば塩酸、硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸ピリジニウム、ポリリン酸、トリフルオロ酢酸、塩化亜鉛、トリフルオロボラン・エーテル錯体などが挙げられる。この反応は５０℃〜１５０℃、とりわけ、７０℃〜１２０℃で好適に進行する。また、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，  ２０１２，  ６８，  １００４９−１００５８に記載の様なマイクロウェーブ反応装置を用いる方法により、好適に製造することができる。
製造方法２３
【０２２９】
【化４４】
2015163435.tif 000046
【０２３０】
〔上記スキーム中、Ｒ７はアルキルであり、ＸＡはハロゲンであり、他の記号は前記の通りである。〕
上記スキーム中の化合物（Ｗ３）は化合物（Ｗ１）と化合物（Ｗ２）から工程［２２ａ］と同様な手法を用いることにより製造することができる。
製造方法２４
【０２３１】
【化４５】
2015163435.tif 000047
【０２３２】
〔上記スキーム中、Ｒ７はアルキルであり、ＸＡはハロゲンであり、他の記号は前記の通りである。〕
［工程２４ａ］
上記スキーム中の化合物（Ｘ３）は化合物（Ｘ１）と化合物（Ｘ２）から工程［２２ａ］と同様な手法を用いることにより製造することができる。
製造方法２５
【０２３３】
【化４６】
2015163435.tif 000048
【０２３４】
〔上記スキーム中、Ｒ７はアルキルであり、ＸＡはハロゲンであり、他の記号は前記の通りである。〕
［工程２５ａ］
上記スキーム中の化合物（Ｙ３）は化合物（Ｙ１）と化合物（Ｙ２）を溶媒中、トリ塩化アルミおよびトリ塩化ホウ素存在下、反応させることにより、製造することができる。溶媒は反応に悪影響を及ぼさない限り、特に限定されず、例えばジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルムなどが挙げられる。とりわけ、Ｊ．  Ｏｒｇ．  Ｃｈｅｍ．，  １９８１，  ４６，  １８９−１９１に記載されているような反応条件を用いる方法により、好適に製造することができる。
【０２３５】
［工程２５ｂ］
上記スキーム中の化合物（Ｙ４）は化合物（Ｙ３）を溶媒中、塩基で処理することにより、製造することができる。溶媒は反応に悪影響を及ぼさない限り、特に限定されず、例えばトルエン、ベンゼン、キシレン、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジオキサン、ジエチルエーテル、アセトニトリル、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、メチルアルコール、エチルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコールなどが挙げられる。塩基としては炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、リチウム  ｔｅｒｔ−ブトキシド、ナトリウム  ｔｅｒｔ−ブトキシド、カリウム  ｔｅｒｔ−ブトキシド、リン酸三カリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸二水素カリウムなどが挙げられる。とりわけＪ．  Ｆｌｕｏｒｅｓｃ，  ２０１１，  ２１，  ２１７３−２１８４に記載されているような反応条件を用いる方法により、好適に製造することができる。
【０２３６】
［工程２５ｃ］
上記スキーム中の化合物（Ｙ６）は化合物（Ｙ４）とＷｉｔｔｇ−Ｈｏｒｎｅｒ試薬（Ｙ５）を溶媒中、塩基存在下、反応させることにより、製造することができる。溶媒は反応に悪影響を及ぼさない限り、特に限定されず、例えばトルエン、ベンゼン、キシレン、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジオキサン、ジエチルエーテル、アセトニトリル、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、メチルアルコール、エチルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコールなどが挙げられる。塩基としては水素化ナトリウム、ナトリウム  ｔｅｒｔ−ブトキシド、カリウム  ｔｅｒｔ−ブトキシドなどが挙げられる。本反応は−２０℃〜８０℃、とりわけ、０℃〜６０℃で好適に進行する。
【０２３７】
［工程２５ｄ］
上記スキーム中の化合物（Ｙ７）は化合物（Ｙ６）を溶媒中、パラジウム炭素（Ｐｄ／Ｃ）存在下、水素雰囲気下、接触水素化反応させることにより、製造することができる。溶媒は反応に悪影響を及ぼさない限り、特に限定されず、例えばメチルアルコール、エチルアルコール、酢酸エチルなどが挙げられる。
【０２３８】
［工程２５ｅ］
上記スキーム中の化合物（Ｙ７ａ）および（Ｙ７ｂ）はキラルカラムを装着した逆相ＨＰＬＣ装置を用いて、化合物（Ｙ７）を光学分割することにより、好適に製造することができる。
製造方法２６
【０２３９】
【化４７】
2015163435.tif 000049
【０２４０】
〔上記スキーム中、Ｒ７はアルキルであり、ＸＡおよびＸＥはハロゲンであり、他の記号は前記の通りである。〕
［工程２６ａ］
上記スキーム中の化合物（Ｚ３）は化合物（Ｚ１）と化合物（Ｚ２）を溶媒中、塩基存在下、相間移動触媒存在下および非存在下、反応させることにより製造することができる。溶媒は反応に悪影響を及ぼさない限り、特に限定されず、トルエン、ベンゼン、キシレン、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジオキサン、ジエチルエーテル、アセトン、アセトニトリル、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）が挙げられる。塩基として炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水素化ナトリウム、ナトリウム  ｔｅｒｔ−ブトキシド、カリウム  ｔｅｒｔ−ブトキシド、リチウム  ヘキサメチルジシラジド（ＬｉＨＭＤＳ）、ナトリウム  ヘキサメチルジシラジド（ＮａＨＭＤＳ）、カリウム  ヘキサメチルジシラジド（ＫＨＭＤＳ）、リチウム  ジイソプロピルアミド（ＬＤＡ）、ｉｓｏ−プロピルマグネシウムクロライド、ｉｓｏ−プロピルマグネシウムブロマイド、ｉ−プロピルマグネシウムクロライド塩化リチウム塩などが挙げられる。本反応は、特に水素化ナトリウム、カリウム  ｔｅｒｔ−ブトキシドを用いて好適に進行する。相間移動触媒として、ハロゲン化第四級アンモニウム塩またはクラウンエーテルなどが挙げられる。本反応は０℃〜１２０℃、とりわけ室温〜８０℃で好適に進行する。
【０２４１】
［工程２６ｂ］
上記スキーム中の化合物（Ｚ４）は化合物（Ｚ３）から溶媒中、遷移金属錯体及び塩基存在下、分子内Ｈｅｃｋ反応により、製造することができる。溶媒は反応に悪影響を及ぼさない限り、特に限定されず、例えばトルエン、ベンゼン、キシレン、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジオキサン、ジエチルエーテル、アセトニトリル、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、メチルアルコール、エチルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、水又は混合溶媒などを適宜用いることができる。遷移金属錯体としては、例えば、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）、ビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウム（０）、ビス（トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン）パラジウム（０）、ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウム（０）の如き０価のパラジウム錯体、酢酸パラジウム（ＩＩ）、トリフルオロ酢酸パラジウム（ＩＩ）、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（トリ−Ｏ−トリルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（ベンゾニトリエル）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（アセトニトリエル）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（アセチルアセトン）パラジウム（ＩＩ）、［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィン）ジクロロパラジウム（ＩＩ）（Ａ−ｔａＰｈｏｓ）、ビス（ジシクロヘキシル（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィン）ジクロロパラジウム（ＩＩ）（Ａ−ＣＡＰｈｏｓ）などの如き２価のパラジウム錯体が用いられる。また、適当な配位子を加えても良く、例えばトリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン、トリ−シクロヘキシルホスフィン、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン（ＤＰＰＦ）、１−［２−［ビス（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィノ］フェニル］−３，５−ジフェニル−１Ｈ−ピラゾール（ＴｒｉｐｐｙＰｈｏｓ）、（±）−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル（ＢＩＮＡＰ）、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ビフェニル、トリ（ｏｒｔｈｏ−トリル）ホスフィン、１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン、１，２，３，４，５−ペンタフェニル−１−（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィノ）フェロセン（Ｑ−Ｐｈｏｓ）、４，５−ビス（ジフェニルホスフィノ）−９，９−ジメチルキサンテン（Ｘａｎｔｐｈｏｓ）、ジ（１−アダマンチル）−ｎ−ブチルホスフィン（ＣａｔａＣＸｉｕｍ  Ａ）、（２−ビフェニル）ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン（ＪｏｈｎＰｈｏｓ）、（Ｓ）−１−［（１Ｒ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルジシクヘキシルホスフィン（ＣｙＰＦｔＢｕ  ＪｏｓｉＰｈｏｓ）、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジイソプロポキシビフェニル（ＲｕＰｈｏｓ）、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジメトキシビフェニル（ＳＰｈｏｓ）、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ビフェニル（ＤａｖｅＰｈｏｓ）、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル（ＸＰｈｏｓ）、２−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピル−１，１’−ビフェニル（ｔｅｒｔ−ブチル−Ｘ−Ｐｈｏｓ）、２−（ジシクロヘキシルホスフィノ）−３，６−ジメトキシ−２’，４’，６’−トリイソプロピル−１，１’−ビフェニル（ＢｒｅｔｔＰｈｏｓ）などが挙げられる。塩基としては、例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、リチウム  ｔｅｒｔ−ブトキシド、ナトリウム  ｔｅｒｔ−ブトキシド、カリウム  ｔｅｒｔ−ブトキシド、リン酸三カリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸二水素カリウム、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン（ＤＢＵ）、ジアザビシクロノネン（ＤＢＮ）、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）などが挙げられる。遷移金属錯体の使用量としては、化合物（Ｚ３）に対して０．０１〜０．３当量、好ましくは０．０３〜０．１当量とすることができる。塩基の使用量は化合物（Ｚ３）に対して、１〜１０当量、好ましくは２〜７当量とすることができる。特にＨｅｔｅｒｏｃｙｃｌｅｓ，  １９８９，  ２８，  ５５−５８に記載されているような反応条件を用いる方法により、好適に製造することができる。
【０２４２】
［工程２５ｃ］
上記スキーム中の化合物（Ｚ５）は化合物（Ｚ４）から工程［２４ｄ］と同様な手法を用いることにより製造することができる。
製造方法２７
【０２４３】
【化４８】
2015163435.tif 000050
【０２４４】
〔上記スキーム中、Ｒ７はアルキルであり、ＸＡはハロゲンであり、他の記号は前記の通りである。〕
［工程２７ａ］
上記スキーム中の化合物（ＡＡ３）は化合物（ＡＡ１）と化合物（ＡＡ２）を溶媒中、塩基存在下、相間移動触媒存在下および非存在下、反応させることにより製造することができる。溶媒は反応に悪影響を及ぼさない限り、特に限定されず、トルエン、ベンゼン、キシレン、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジオキサン、ジエチルエーテル、アセトン、アセトニトリル、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）などが挙げられる。塩基として炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水素化ナトリウム、ナトリウム  ｔｅｒｔ−ブトキシド、カリウム  ｔｅｒｔ−ブトキシド、リチウム  ヘキサメチルジシラジド（ＬｉＨＭＤＳ）、ナトリウム  ヘキサメチルジシラジド（ＮａＨＭＤＳ）、カリウム  ヘキサメチルジシラジド（ＫＨＭＤＳ）、リチウム  ジイソプロピルアミド（ＬＤＡ）、ｉｓｏ−プロピルマグネシウムクロライド、ｉｓｏ−プロピルマグネシウムブロマイド、ｉ−プロピルマグネシウムクロライド塩化リチウム塩などが挙げられる。本反応は、特に炭酸カリウム、炭酸セシウム、水素化ナトリウムなどを用いて好適に進行する。相間移動触媒として、ハロゲン化第四級アンモニウム塩またはクラウンエーテルなどが挙げられる。本反応は室温〜１５０℃、とりわけ８０℃〜１２０℃で好適に進行する。
【０２４５】
［工程２７ｂ］
上記スキーム中の化合物（ＡＡ４）は化合物（ＡＡ３）から工程［２５ｄ］と同様な手法を用いることにより製造することができる。
【０２４６】
［工程２７ｃ］
上記スキーム中の化合物（ＡＡ４ａ）および（ＡＡ４ｂ）は工程［２５ｅ］と同様な手法を用いて化合物（ＡＡ４）を光学分割することにより、製造することができる。
製造方法２８
【０２４７】
【化４９】
2015163435.tif 000051
【０２４８】
〔上記スキーム中、Ｒ７はアルキルであり、ＸＡおよびＸＣはハロゲンであり、他の記号は前記の通りである。〕
［工程２８ａ］
上記スキーム中の化合物（ＡＢ３）は化合物（ＡＢ１）と化合物（ＡＢ２）を溶媒中、塩基存在下、相間移動触媒存在下および非存在下、反応させることにより製造することができる。溶媒は反応に悪影響を及ぼさない限り、特に限定されず、トルエン、ベンゼン、キシレン、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジオキサン、ジエチルエーテル、アセトン、アセトニトリル、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）などが挙げられる。塩基として炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水素化ナトリウム、ナトリウム  ｔｅｒｔ−ブトキシド、カリウム  ｔｅｒｔ−ブトキシド、リチウム  ヘキサメチルジシラジド（ＬｉＨＭＤＳ）、ナトリウム  ヘキサメチルジシラジド（ＮａＨＭＤＳ）、カリウム  ヘキサメチルジシラジド（ＫＨＭＤＳ）、リチウム  ジイソプロピルアミド（ＬＤＡ）、ｉｓｏ−プロピルマグネシウムクロライド、ｉｓｏ−プロピルマグネシウムブロマイド、ｉ−プロピルマグネシウムクロライド塩化リチウム塩などが挙げられる。本反応は、特に水素化ナトリウム、カリウム  ｔｅｒｔ−ブトキシドなどを用いて好適に進行する。相間移動触媒として、ハロゲン化第四級アンモニウム塩またはクラウンエーテルなどが挙げられる。本反応は−７８℃〜１００℃、とりわけ０℃〜７０℃で好適に進行する。特にＪ．  Ａｍ．  Ｃｈｅｍ．  Ｓｏｃ．，  ２０１０，  １３２，  １５３８０−１５３８９に記載されているような反応条件を用いる方法により、好適に製造することができる。
【０２４９】
［工程２８ｂ］
上記スキーム中の化合物（ＡＢ４）は化合物（ＡＢ３）を溶媒中、ハロゲン化試薬存在下、塩基存在下または非存在下、反応させることにより製造することができる。ハロゲン化試薬として、例えば、臭素、ヨウ素、塩素、一塩化ヨウ素、Ｎ−ブロモスクシンイミド（ＮＢＳ）、Ｎ−クロロスクシンイミド（ＮＣＳ）、Ｎ−ヨードスクシンイミド（ＮＩＳ）、ジブロモイソシアヌル酸（ＤＢＩ）、クロラミンＴ、１，３−ジブロモ−５，５’−ジメチルヒダントイン、１，３−ヨード−５，５’−ジメチルヒダントイン、ピリジニウムブロモぺルブロミドなどが挙げられる。塩基はトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジンなどが挙げられる。溶媒は反応に悪影響を及ぼさない限り、特に限定されず、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、ジエチルエーテル、ジオキサン、ジメトキシエタン、アセトニトリル、メチルアルコール、エチルアルコール、水などが挙げられる。本反応は−７８℃〜８０℃、好ましくは０℃〜７０℃で好適に進行する。特にＡｄｖ．Ｓｙｎｔｈ．  Ｃａｔａｌ．，  ３５２，  １６７７−１６８７またはＪ．  Ｏｒｇ．  Ｃｈｅｍ．，１９８９，  ５４，  ３６１８−３６２４に記載の反応条件で、好適に進行する。
【０２５０】
［工程２８ｃ］
上記スキーム中の化合物（ＡＢ６）は化合物（ＡＢ４）と化合物（ＡＢ５）を溶媒中、遷移金属錯体及び塩基存在下、反応させることにより製造することができる。溶媒は反応に悪影響を及ぼさない限り、特に限定されず、例えばトルエン、ベンゼン、キシレン、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジメトキシエタン（ＤＭＥ）、ジオキサン、ジエチルエーテル、アセトニトリル、酢酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、メチルアルコール、エチルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、水又は混合溶媒などを適宜用いることができる。遷移金属錯体としては、例えば、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）、ビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウム（０）、ビス（トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン）パラジウム（０）、ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウム（０）の如き０価のパラジウム錯体、酢酸パラジウム（ＩＩ）、トリフルオロ酢酸パラジウム（ＩＩ）、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（トリ−Ｏ−トリルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（トリシクロヘキシルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（ベンゾニトリエル）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（アセトニトリエル）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（アセチルアセトン）パラジウム（ＩＩ）、［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）ジクロリド、ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィン）ジクロロパラジウム（ＩＩ）（Ａ−ｔａＰｈｏｓ）、ビス（ジシクロヘキシル（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィン）ジクロロパラジウム（ＩＩ）（Ａ−ＣＡＰｈｏｓ）、η３−アリルパラジウム（ＩＩ）クロライド（ダイマー）の如き２価のパラジウム錯体が用いられる。また、適当な配位子を加えても良く、例えばトリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン、トリ−シクロヘキシルホスフィン、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン（ＤＰＰＦ）、１−［２−［ビス（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィノ］フェニル］−３，５−ジフェニル−１Ｈ−ピラゾール（ＴｒｉｐｐｙＰｈｏｓ）、（±）−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル（ＢＩＮＡＰ）、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ビフェニル、トリ（ｏｒｔｈｏ−トリル）ホスフィン、１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン、１，２，３，４，５−ペンタフェニル−１−（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィノ）フェロセン（Ｑ−Ｐｈｏｓ）、４，５−ビス（ジフェニルホスフィノ）−９，９−ジメチルキサンテン（Ｘａｎｔｐｈｏｓ）、ジ（１−アダマンチル）−ｎ−ブチルホスフィン（ＣａｔａＣＸｉｕｍ  Ａ）、（２−ビフェニル）ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン（ＪｏｈｎＰｈｏｓ）、（Ｓ）−１−［（１Ｒ）−２−（ジフェニルホスフィノ）フェロセニル］エチルジシクヘキシルホスフィン（ＣｙＰＦｔＢｕ  ���ｏｓｉＰｈｏｓ）、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジイソプロポキシビフェニル（ＲｕＰｈｏｓ）、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジメトキシビフェニル（ＳＰｈｏｓ）、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ビフェニル（ＤａｖｅＰｈｏｓ）、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル（ＸＰｈｏｓ）、２−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピル−１，１’−ビフェニル（ｔｅｒｔ−ブチル−Ｘ−Ｐｈｏｓ）、２−（ジシクロヘキシルホスフィノ）−３，６−ジメトキシ−２’，４’，６’−トリイソプロピル−１，１’−ビフェニル（ＢｒｅｔｔＰｈｏｓ）などが挙げられる。塩基としては、例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、リチウム  ｔｅｒｔ−ブトキシド、ナトリウム  ｔｅｒｔ−ブトキシド、カリウム  ｔｅｒｔ−ブトキシド、リン酸三カリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸二水素カリウム、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン（ＤＢＵ）、ジアザビシクロノネン（ＤＢＮ）、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）などが挙げられる。遷移金属錯体の使用量としては、化合物（ＡＢ４）に対して０．０１〜０．３当量、好ましくは０．０３〜０．１当量とすることができる。塩基の使用量は化合物（ＡＢ４）に対して、１〜１０当量、好ましくは２〜７当量とすることができる。特にＪ．  Ｏｒｇ．  Ｃｈｅｍ．，  １９７８，  ４３，  ２９４１−２９４６またはＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，  ６１，  ４５６９−４５７６に記載されているような反応条件を用いる方法により、好適に製造することができる。
【０２５１】
［工程２８ｄ］
上記スキーム中の化合物（ＡＢ７）は、化合物（ＡＢ６）からコーリー−チャイコフスキー反応により、製造することができる。特にＪ．  Ａｍ．  Ｃｈｅｍ．  Ｓｏｃ．，  １９６５，  ８７，  １３５３−１３６４に記載されているような反応条件を用いる方法により、好適に製造することができる。
【０２５２】
かくして得られた本発明化合物は、自体公知の分離手段、例えば、濃縮、減圧濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、転溶、クロマトグラフィー等により単離、精製することができる。本発明化合物が遊離体として得られた場合には、自体公知の方法あるいはそれに準じる方法によって目的とする塩に変換することができ、逆に塩として得られた場合には、自体公知の方法あるいはそれに準ずる方法により、遊離体または、目的とする他の塩に変換することができる。
【０２５３】
本発明化合物が、光学異性体、立体異性体、位置異性体、回転異性体等の異性体を有する場合には、いずれか一方の異性体も混合物も本発明化合物に包含される。例えば、本発明化合物に光学異性体が存在する場合には、ラセミ体から分割された光学異性体も本発明化合物に包含される。これらの異性体は、自体公知の合成手法、分離手法（例、濃縮、溶媒抽出、カラムクロマトグラフィー、再結晶）によりそれぞれを単品として得ることができる。
【０２５４】
本発明化合物は、結晶であってもよく、結晶形が単一であっても結晶形混合物であっても本発明化合物に包含される。結晶は、自体公知の結晶化法を適用して、結晶化することによって製造することができる。また、本発明化合物は、薬学的に許容され得る共結晶または共結晶塩であってもよい。ここで、共結晶または共結晶塩とは、各々が異なる物理的性質（例、構造、融点、融解熱、吸湿性、安定性）を持つ、室温で二種またはそれ以上の独特な固体から構成される結晶性物質を意味する。共結晶または共結晶塩は、自体公知の共結晶化法に従い製造することができる。
【０２５５】
同位元素（例、２Ｈ、３Ｈ、１３Ｃ、１４Ｃ、１５Ｎ、３５Ｓ）などで標識された化合物も、本発明化合物に包含される。
【０２５６】
また、本明細書中、オートタキシンに起因する疾患とは、オートタキシンに関与する疾患であって、例えば、悪性黒色腫、脳腫瘍、神経芽細胞腫、多型性神経膠芽腫、ＥＢＶ陽性ホジキンリンパ腫、膠芽腫、非小細胞肺癌、肺腫瘍、乳房腫瘍、卵巣腫瘍、膵腫瘍、前立腺上皮内腫瘍、前立腺腫瘍、甲状腺腫瘍、濾胞性リンパ腫、肝臓腫瘍、腎細胞癌などの癌又は腫瘍、肺線維症、肝線維症、腎線維症，アテローム性動脈硬化などの線維症、喘息、関節リウマチ、ＩＩ型糖尿病関連の肥満、急性冠症候群、胆汁うっ滞性そう痒症、炎症性腸疾患、クローン病、潰瘍性大腸炎、神経因性疼痛などの炎症性疾患などの様々な疾患が挙げられる。
【０２５７】
本発明化合物の投与対象は、ヒト、イヌ、ネコ、ウシ、ウマ、ブタ、サル、ネズミ等の哺乳動物等が挙げられる。
【０２５８】
また、本明細書中、「予防」とは、病気や疾患や症状を発症していない個体に対して本発明化合物又はこれを含有する医薬組成物を投与する行為を意味している。また、「治療」とは、既に病気や疾患や症状を発症した個体に対して本発明化合物又はこれを含有する医薬組成物を投与する行為を意味している。従って、既に病気や疾患や症状を発症した個体に対し、症状等の悪化防止や発作防止や再発防止のために投与する行為は「治療」の一態様である。
【０２５９】
本発明化合物を医薬として用いる場合、本発明化合物を製薬上許容しうる担体（賦形剤、結合剤、崩壊剤、矯味剤、矯臭剤、乳化剤、希釈剤、溶解補助剤など）と混合して得られる医薬組成物あるいは製剤（経口剤、注射剤など）の形態で経口的又は非経口的に投与することができる。医薬組成物は、通常の方法にしたがって製剤化することができる。
【０２６０】
本明細書中、「非経口」とは、皮下注射、静脈内注射、筋肉内注射、腹腔内注射、点滴法あるいは局所投与（経皮的投与、経眼的投与、経肺・気管支的投与、経鼻的投与又は経直腸的投与など）などを含むものである。
【０２６１】
担体と組み合わせることのできる本発明化合物の含有量は、治療される個体と特定投与形態とに応じて変えることができる。ただし、特定患者の特定用量は、年齢、体重、全般的健康状態、性別、食事、投与時間、投与方法、排泄率及び治療中の特定疾患の程度を含む種々の因子に応じて決定される。
【０２６２】
本発明化合物の投与量は、年齢、体重、一般的健康状態、性別、食事、投与時間、投与方法、排泄速度、患者のその時に治療を行っている病状の程度に応じ、それら、あるいはその他の要因を考慮して決められる。本発明化合物は、心拍数に与える影響がなく安全に使用することができ、その１日当たりの投与量は、患者の状態や体重、化合物の種類、投与経路などによって異なるが、たとえば非経口的には皮下、静脈内、筋肉内、経皮的、経眼的、経肺・気管支的、経鼻的又は直腸内に、約０．０００１〜５００ｍｇ／人／日投与され、また経口的には約０．００１〜５０００ｍｇ／人／日投与される。
【実施例】
【０２６３】
以下、本発明を実施例及び実験例により詳細に説明するが、本発明はこれらより何ら限定されるものではない。
以下の実施例においては下記の略号を使用する。
Ｍｅ：メチル
Ｅｔ：エチル
ｔＢｕ：ｔｅｒｔ−ブチル
Ｂｏｃ：ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル
Ｂｎ：ベンジル
Ｔｆ：トリフルオロメタンスルホナート
ＨＰＬＣ：高速液体クロマトグラフィー【０２６４】
実施例１
２−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−３Ｈ−ベンゾイミダゾール−５−カルボン酸【０２６５】
【化５０】
2015163435.tif 000052
【０２６６】
［工程ａ］
化合物１（７．５０  ｇ，  ３９．４  ｍｍｏｌ）と化合物２（５．００  ｇ，  ３２．９  ｍｍｏｌ）のＮ−メチルピロリドン（５０．０  ｍＬ）溶液に、トリフルオロ酢酸（３．７５  ｍｇ，  ３２．９  ｍｍｏｌ）を加え、氷冷した。反応溶液に水素化トリアセトキシホウ素ナトリウム（８．３６  ｇ，  ３９．４  ｍｍｏｌ）を加え、室温まで昇温しながら３日間撹拌した。反応溶液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製した。得られた固体をヘキサンで懸濁洗浄することにより、化合物３（４．２０  ｇ，  ３９．２％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ３２７（Ｍ＋１）＋。【０２６７】
［工程ｂ］
化合物３（３．５０  ｇ，  １０．７  ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１８．０  ｍＬ）とメタノール（１８．０  ｍＬ）混合溶液に、４Ｍ−水酸化ナトリウム水溶液（８．０５  ｍＬ，  ３２．２  ｍｍｏｌ）を加え、室温下、一晩撹拌した。反応溶液を濃塩酸で中和し、水（４０．０  ｍＬ）を加えて析出した固体をろ取後、水で洗浄することにより、化合物４（２．７９  ｇ，  ８３．３％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ３１３（Ｍ＋１）＋。【０２６８】
［工程ｃ］
化合物４（２００  ｍｇ，  ０．６４  ｍｍｏｌ）、化合物５（１０６  ｍｇ，  ０．６４１  ｍｍｏｌ）、ジイソプロピルエチルアミン（１６７  μＬ，  ９６１  μｍｏｌ）とホスホン酸無水プロパン（Ｔ３Ｐ）の５０％酢酸エチル溶液（３７７  μＬ，  ０．６４１  ｍｍｏｌ）の混合溶液をマイクロウェーブ照射下１６０℃で加熱し、３０分間撹拌した。更に反応溶液にジイソプロピルエチルアミン（１６７  μＬ，  ９６１  μｍｏｌ）とホスホン酸無水プロパン（Ｔ３Ｐ）の５０％酢酸エチル溶液（３７７  μＬ，  ６４１  μｍｏｌ）を加え、マイクロウェーブ照射下１６０℃で加熱し、９０分間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（２０．０  ｍＬ）を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製後、得られた固体をクロロホルムに溶解し、ヘキサンを加え、析出した固体をろ取後、クロロホルムとヘキサン（４：１）混合溶液で懸濁洗浄することにより、化合物６（１２５  ｍｇ，  ４４．０％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４４３（Ｍ＋１）＋。【０２６９】
［工程ｄ］
化合物６（１２０  ｍｇ，  ２７７  μｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２．４０  ｍＬ）とメタノール（１．２０  ｍＬ）混合溶液に４Ｍ−水酸化ナトリウム水溶液（２０８  μＬ，  ０．８３１  ｍｍｏｌ）を加え、室温下、一晩撹拌した後、５０℃加熱下、５時間撹拌した。反応溶液に水を加え、ｐＨ４になるまで１Ｍ−塩酸を加えた。析出した固体をろ取後、水で洗浄することにより、化合物７（１１８．７  ｍｇ，  １００％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４２９（Ｍ＋１）＋。【０２７０】
実施例２
２−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−３Ｈ−ベンゾイミダゾール−４−カルボン酸【０２７１】
【化５１】
2015163435.tif 000053
【０２７２】
［工程ａ］
実施例１の工程ｂで得られた化合物１（２００  ｍｇ，  ０．６４  ｍｍｏｌ）、化合物２（１０６  ｍｇ，  ０．６４１  ｍｍｏｌ）、ジイソプロピルエチルアミン（１６７  μＬ，  ９６１  μｍｏｌ）とホスホン酸無水プロパン（Ｔ３Ｐ）の５０％酢酸エチル溶液（３７７  μＬ，  ０．６４１  ｍｍｏｌ）の混合溶液をマイクロウェーブ照射下１６０℃で加熱し、３０分間撹拌した。反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（２０．０  ｍＬ）を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物３（８３  ｍｇ，  ２９．３％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４４３（Ｍ＋１）＋。【０２７３】
［工程ｂ］
化合物３（８０．０  ｍｇ，  １８０  μｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１．６０  ｍＬ）とメタノール（８００  μＬ）混合溶液に４Ｍ−水酸化ナトリウム水溶液（１３６  μＬ，  ５４２  μｍｏｌ）を加え、室温下、３時間撹拌した。反応溶液に更に４Ｍ−水酸化ナトリウム水溶液（１３６  μＬ，  ５４２  μｍｏｌ）を加え、室温下、一晩撹拌した。反応溶液に１Ｍ−塩酸をｐＨ４になるまで加え、クロロホルムで抽出した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥後、ろ過、減圧濃縮することにより、化合物４（６９．８  ｍｇ，  ９０．１％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４２９（Ｍ＋１）＋。【０２７４】
実施例３
２−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−ベンゾオキサゾール−６−カルボン酸【０２７５】
【化５２】
2015163435.tif 000054
【０２７６】
［工程ａ］
実施例１の工程ｂで得られた化合物１（１５０  ｍｇ，  ０．４８０  ｍｍｏｌ）と化合物２（７３．０  ｍｇ，  ０．４３２６  ｍｍｏｌ）のＮ−メチルホルムアミド（３．００  ｍＬ）溶液に１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＷＳＣ・ＨＣｌ）（１０９  ｍｇ，  ０．５５６  ｍｍｏｌ）と１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢｔ）（６５．０  ｍｇ，  ０．４８０  ｍｍｏｌ）を加え、室温下、２０時間撹拌した後、ジイソプロピルエチルアミン（２２８  μＬ，  １．３１  ｍｍｏｌ）を加え、更に２０時間撹拌した。反応溶液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。水層に１Ｎ−塩酸を加え、ｐＨ６に調整後、酢酸エチルで抽出した。有機層を合わせて無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物３（９９．０  ｍｇ，  ４９．２％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４６２（Ｍ＋１）＋。【０２７７】
［工程ｂ］
化合物３（９５．０  ｍｇ，  ０．２０６  ｍｍｏｌ）のキシレン（３．００  ｍＬ）溶液にパラトルエンスルホン酸ピリジニウム（ＰＰＴＳ）（１０．０  ｍｇ，  ０．０４１２  ｍｍｏｌ）を加え、３時間加熱還流した。更に反応溶液にパラトルエンスルホン酸ピリジニウム（ＰＰＴＳ）（２０．０  ｍｇ，  ０．０８２４  ｍｍｏｌ）およびジオキサン（３．００  ｍＬ）を加え、４１時間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、飽和炭酸水素ナトリウム溶液を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物４（７５．０  ｍｇ，  ８２．２％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４４４（Ｍ＋１）＋。【０２７８】
［工程ｃ］
化合物４（３８．０  ｍｇ，  ０．０８５７  ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２．００  ｍＬ）とメタノール（１．００  ｍＬ）混合溶液に２Ｎ−水酸化ナトリウム水溶液（１．００  ｍＬ）を加え、室温下、１時間撹拌した。反応溶液に１Ｎ−塩酸を加えｐＨ３〜４に調整後、クロロホルムで抽出した。水層をメタノールとクロロホルム（１：９）混合溶媒、メタノールと酢酸エチル（１：９）混合溶媒で順に抽出した後、有機層を合わせて、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、減圧濃縮した。残渣をジイソプロピルエーテルとヘキサン（１：１）混合溶液で懸濁洗浄することにより、化合物５（２５．０  ｍｇ，  ６８．０％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４３０（Ｍ＋１）＋。【０２７９】
実施例４
２−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−ベンゾオキサゾール−７−カルボン酸【０２８０】
【化５３】
2015163435.tif 000055
【０２８１】
［工程ａ］
実施例１の工程ｂで得られた化合物１（１５０  ｍｇ，  ０．４８０  ｍｍｏｌ）と化合物２（７３．０  ｍｇ，  ０．４３２６  ｍｍｏｌ）のＮ−メチルホルムアミド（３．００  ｍＬ）溶液に１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＷＳＣ・ＨＣｌ）（１０９  ｍｇ，  ０．５５６  ｍｍｏｌ）と１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢｔ）（６５．０  ｍｇ，  ０．４８０  ｍｍｏｌ）を加え、室温下、２０時間撹拌した後、ジイソプロピルエチルアミン（２２８  μＬ，  １．３１  ｍｍｏｌ）を加え、更に２７時間撹拌した。反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。水層に１Ｎ−塩酸を加え、ｐＨ４に調整後、クロロホルムで抽出した。有機層を合わせて無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物３（４０．０  ｍｇ，  １９．９％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４６２（Ｍ＋１）＋。【０２８２】
［工程ｂ］
化合物３（３８．０  ｍｇ，  ８２．４  μｍｏｌ）のキシレン（３．００  ｍＬ）とジオキサン（３．００  ｍＬ）の混合溶液にパラトルエンスルホン酸ピリジニウム（ＰＰＴＳ）（１２．０  ｍｇ，  ４９．４  μｍｏｌ）を加え、１７時間加熱還流した。更に反応溶液にパラトルエンスルホン酸ピリジニウム（ＰＰＴＳ）（１２．０  ｍｇ，  ４９．４  μｍｏｌ）、キシレン（３．００  ｍＬ）、ジオキサン（３．００  ｍＬ）を加え、８時間撹拌した。その後反応溶液にキシレン（３．００  ｍＬ）、ジオキサン（３．００  ｍＬ）を追加し、２４時間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、飽和炭酸水素ナトリウム溶液を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物４（２１．０  ｍｇ，  ５７．５％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４４４（Ｍ＋１）＋。【０２８３】
［工程ｃ］
化合物４（２０．０  ｍｇ，  ４５．１  μｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１．００  ｍＬ）とメタノール（１．００  ｍＬ）混合溶液に２Ｎ−水酸化ナトリウム水溶液（１．００  ｍＬ）を加え、室温下、１時間撹拌した。反応溶液に１Ｎ−塩酸を加えｐＨ３〜４に調整後、クロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、減圧濃縮した。残渣をジイソプロピルエーテルとヘキサン（１：１）混合溶液で懸濁洗浄することにより、化合物５（１３．５  ｍｇ，  ６９．８％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４３０（Ｍ＋１）＋。【０２８４】
実施例５
２−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−ベンゾチアゾール−６−カルボン酸【０２８５】
【化５４】
2015163435.tif 000056
【０２８６】
［工程ａ］
水酸化カリウム（５．２０  ｇ  ，  ９２．７  ｍｍоｌ）の水（１０．０  ｍＬ）溶液に、化合物１（１．００  ｇ，  ５．１５  ｍｍоｌ）を加え、３時間加熱還流した。反応溶液を氷冷後、濃塩酸を加え、酸性に調整した。析出した固体をろ取し、水で洗浄することにより、化合物２の塩酸塩（６９９  ｍｇ，  ６６．１％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  １７０（Ｍ＋１）＋。【０２８７】
［工程ｂ］
化合物２の塩酸塩（６００  ｍｇ，  ２．６７  ｍｍоｌ）のメタノール（１２  ｍＬ）溶液に濃硫酸（２８６  ｍｇ，  ２．６７  ｍｍоｌ）を加え、８時間加熱還流した。反応溶液を減圧濃縮後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和し、クロロホルムで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物３（２５６  ｍｇ，  ５２．２％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ３６５（Ｍ＋１）＋。【０２８８】
［工程ｃ］
化合物３（８８．０  ｍｇ，  ２４０  μｍｏｌ）、実施例１の工程ｂで得られた化合物４（１５０  ｍｇ，  ４８０  μｍｏｌ）、ジイソプロピルエチルアミン（２５０  μＬ，  １．４４  ｍｍｏｌ）とホスホン酸無水プロパン（Ｔ３Ｐ）の５０％酢酸エチル溶液（５６５  μＬ，  ９６１  μｍｏｌ）の混合溶液をマイクロウェーブ照射下１００℃で加熱し、３０分間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、シリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物５（７３．７  ｍｇ，  ３３．４％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４６０（Ｍ＋１）＋。【０２８９】
［工程ｄ］
化合物５（７０．０  ｍｇ，  １６２  μｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２．８０  ｍＬ）とメタノール（１．４０  ｍＬ）混合溶液に４Ｍ−水酸化ナトリウム水溶液（１２１  μＬ，  ４８５  μｍｏｌ）を加え、室温下、３時間撹拌した。反応溶液に更に４Ｍ−水酸化ナトリウム水溶液（１２１  μＬ，  ４８５  μｍｏｌ）、メタノール（１．４０  ｍＬ）を加え、室温下、３６時間撹拌した。反応溶液に１Ｍ−塩酸をｐＨ４になるまで加えた後、水（１０．０  ｍＬ）加え、クロロホルムで抽出した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥後、ろ過、減圧濃縮し、残渣をクロロホルムで懸濁洗浄することにより、化合物６（４０．７  ｍｇ，  ５６．６％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４４６（Ｍ＋１）＋。【０２９０】
実施例６
｛５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−［１，３，４］オキサジアゾール−２−イル｝−酢酸【０２９１】
【化５５】
2015163435.tif 000057
【０２９２】
［工程ａ］
実施例１の工程ａで得られた化合物１（６００  ｍｇ，  １．８４  ｍｍоｌ）のメタノール（１２．０  ｍＬ）溶液にヒドラジン一水和物（７１６  μＬ，  １４．７  ｍｍоｌ）を加え、室温下、一晩撹拌した。反応溶液に更にメタノール（１２．０  ｍＬ）とヒドラジン一水和物（７１６  μＬ，  １４．７  ｍｍоｌ）を加え、加熱還流下、９時間撹拌した。反応溶液を減圧濃縮後、得られた残渣にエタノール（２４  ｍＬ）とヒドラジン一水和物（７１６  μＬ，  １４．７  ｍｍоｌ）を加え、加熱還流下、９時間撹拌した。反応溶液を減圧濃縮後、ヒドラジン一水和物（７１５  μＬ，  １４．７  ｍｍоｌ）を加え、一晩加熱還流した。反応溶液を減圧濃縮後、残渣をジイソプロピルエーテルで懸濁洗浄することにより、化合物２（５３６  ｍｇ，  ８９．３％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ３２７（Ｍ＋１）＋。【０２９３】
［工程ｂ］
化合物２（１５０  ｍｇ，  ４６０  μｍоｌ）と化合物３（８５．０  ｍｇ，  ４６０  μｍоｌ）の酢酸エチル（２．００  ｍＬ）溶液にトリエチルアミン（１８２  μＬ，  １．３８  ｍｍоｌ）とホスホン酸無水プロパン（Ｔ３Ｐ）の５０％酢酸エチル溶液（６７６  μＬ，  １．１５  ｍｍоｌ）を加え、３時間加熱還流した。更に反応溶液にホスホン酸無水プロパン（Ｔ３Ｐ）の５０％酢酸エチル溶液（６７６  μＬ，  １．１５  ｍｍоｌ）を加え、２時間加熱還流した。反応溶液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物４（３２．５  ｍｇ，  １４．６％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４８５（Ｍ＋１）＋。【０２９４】
［工程ｃ］  化合物４（４０．０  ｍｇ，  ８９．８  μｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（８００  μＬ）とメタノール（４００  μＬ）混合溶液に４Ｍ−水酸化ナトリウム水溶液（６７．２  μＬ，  ２６９  μｍｏｌ）を加え、室温下、一晩撹拌した。反応溶液に１Ｍ−塩酸をｐＨ４になるまで加え、水（１０．０  ｍＬ）を加えた後、クロロホルムで抽出した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥後、ろ過、減圧濃縮することにより、化合物５（３０．２  ｍｇ，  ８５．５％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ３９５（Ｍ＋１）＋。【０２９５】
実施例７
１−メチル−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−１Ｈ−インダゾール−３−カルボン酸【０２９６】
【化５６】
2015163435.tif 000058
【０２９７】
［工程ａ］
参考例６５の工程ｂで得られた化合物１（１７７  ｍｇ，  ４４７  μｍｏｌ）と参考例１の工程ｂで得られた化合物２（１００  ｍｇ，  ３７３  μｍｏｌ）のジオキサン（１．８０  ｍＬ）と水（０．２０  ｍＬ）混合溶媒にリン酸三カリウム（２３８  ｍｇ，  １．１２  ｍｍｏｌ）とビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィン）ジクロロパラジウム（ＩＩ）（１３  ｍｇ，  １８．６  μｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下、１００℃加熱下、２時間撹拌した。反応溶液に酢酸エチルと活性炭とＮＨ−シリカゲル（ＦＵＪＩ  ＳＩＬＹＳＩＡ  ＣＨＥＭＩＣＡＬ  ＬＴＤ．  ＣＨＲＯＭＡＴＯＲＥＸ）を加え、室温下、１５分撹拌した。反応溶液をセライトでろ過し、ろ液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物３（１５５  ｍｇ，  ９１．１％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４５７（Ｍ＋１）＋。【０２９８】
［工程ｂ］
化合物３（１５０  ｍｇ，  ３２８  μｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（４．００  ｍＬ）とメタノール（２．００  ｍＬ）の混合溶液に、２Ｍ−水酸化ナトリウム水溶液（２．００  ｍＬ）を加え、室温下、５時間撹拌した。反応溶液を減圧濃縮後、水とクロロホルムを加え、１Ｍ−塩酸でｐＨ４に調整し、クロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮した。残渣をジイソプロピルエーテルとヘキサンの混合溶液で懸濁洗浄することにより、化合物４（１０７  ｍｇ，  ７３．８％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４４３（Ｍ＋１）＋。【０２９９】
実施例８
５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−１Ｈ−インダゾール−３−カルボン酸【０３００】
【化５７】
2015163435.tif 000059
【０３０１】
［工程ａ］
参考例６５の工程ｂで得られた化合物１（２６７  ｍｇ，  ６７７  μｍｏｌ）と参考例２の工程ａで得られた化合物２（２００  ｍｇ，  ５６４  ｍｍｏｌ）のジオキサン（２．５０  ｍＬ）と水（２８０  μＬ）の混合溶媒にリン酸三カリウム（３５９  ｍｇ，  １．６９  ｍｍｏｌ）とビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィン）ジクロロパラジウム（ＩＩ）（２０  ｍｇ，  ２８．２  μｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下、１００℃加熱下、５時間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、酢酸エチルと水を加えた。析出した固体をろ取後、水、酢酸エチルで洗浄することにより、化合物３（５３．０  ｍｇ，  ２１．３％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４２９（Ｍ＋１）＋。【０３０２】
実施例９
６−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−イミダゾ［１，２−ａ］ピリジン−３−カルボン酸【０３０３】
【化５８】
2015163435.tif 000060
【０３０４】
［工程ａ］
参考例６５の工程ｂで得られた化合物１（２１０  ｍｇ，  ５３３  μｍｏｌ）のジオキサン（４．００  ｍＬ）と水（５００  μＬ）混合溶液に炭酸カリウム（１７０  ｍｇ，  １．２３  ｍｍｏｌ）、化合物２（ＣＡＳ  Ｎｏ．  ９４４８９６−４２−８，  １００  ｍｇ，  ４１５  μｍｏｌ）、ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィン）ジクロロパラジウム（ＩＩ）（３０  ｍｇ，  ４２．３  μｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気中、マイクロウェーブ照射下１５０℃で加熱し、１時間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、１Ｍ−塩酸（３．５  ｍＬ）を加え、テトラヒドロフランと酢酸エチルの混合溶液（１：１）で抽出した。水層を更にテトラヒドロフランとクロロホルムの混合溶液（１：１）で抽出後、有機層を合わせて、飽和食塩水で洗浄し、濃縮した。残渣をカチオン交換樹脂カラム（Ｗａｔｅｒｓ，  ＰｏｒａＰａｋＴＭ，  ＲｘｎＣＸ）で固相抽出精製後、得られた固体を酢酸エチル（２．００  ｍＬ）で懸濁洗浄することにより、化合物３（７０．０  ｍｇ，  ３９．４％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４２９（Ｍ＋１）＋。【０３０５】
実施例１０
３−｛３−シアノ−２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−プロピオン酸【０３０６】
【化５９】
2015163435.tif 000061
【０３０７】
［工程ａ］
化合物１（２．００  ｇ，  ９．９５  ｍｍｏｌ）のアセトニトリル溶液（４０．０  ｍＬ）にＮ−ヨードスクシンイミド（２．３５ｇ，  １０．４  ｍｍｏｌ）を加え、室温下一晩撹拌した後、６５℃加熱下、８時間撹拌した。反応溶液を減圧濃縮後、０．５Ｎ−塩酸水溶液（２０  ｍＬ）を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮した。得られた残渣をジメチルホルムアミド（２５．０  ｍＬ）に溶解し、炭酸カリウム（４．１３  ｇ，  ２９．９  ｍｍｏｌ）とヨウ化メチル（３．５３  ｇ，  ２４．９  ｍｍｏｌ）を加え、室温下、７．５時間撹拌した。反応溶液に０．５Ｎ−塩酸水溶液（６０  ｍＬ）を氷冷下加え、生成した固体をろ取後、水で洗浄した。得られた固体をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物３（２．０８  ｍｇ，  ６１．５％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）δ：  ３．９４（３Ｈ，  ｓ）、  ７．９３（１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝２．１Ｈｚ）、  ８．１５（１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝２．１Ｈｚ）、  １０．２（１Ｈ，  ｓ）。【０３０８】
［工程ｂ］
ジエチルホスホノ酢酸ｔｅｒｔ−ブチル（４５０  ｍｇ，  １．７８  ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１０．０  ｍＬ）溶液に氷冷下、水素化ナトリウム（６０重量％，６５．０  ｍｇ，  １．６３  ｍｍｏｌ）を加え、３０分間撹拌した。反応溶液に化合物３（４３５  ｍｇ，  １．２８  ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（３．００  ｍＬ）を加え、氷冷下、１時間撹拌した。反応溶液に飽和塩化アンモニウム水溶液と水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物４（６３０  ｍｇ，  １００％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）δ：  １．５３（９Ｈ，  ｓ）、３．７８（３Ｈ，  ｓ）、６．３８（１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝１６．４Ｈｚ）、７．６３（１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝２．１Ｈｚ）、７．７２（１Ｈ，  ｄ，Ｊ＝１５．９Ｈｚ）、７．８９（１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝２．６Ｈｚ）。【０３０９】
［工程ｃ］
化合物４（６３０  ｍｇ，  １．２８  ｍｍｏｌ）のＮ−メチルピロリドン（１０．０  ｍＬ）溶液にシアン化銅（４６０  ｍｇ，  ５．１４  ｍｍｏｌ）を加え、１２５℃加熱下、一晩撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、水と酢酸エチルを加え、セライトろ過を実施し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物５（１９０  ｍｇ，  ４３．８％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ３３８，  ３４０（Ｍ＋１）＋。【０３１０】
［工程ｄ］
化合物５（６０．０  ｍｇ，  １７７  μｍｏｌ）と塩化コバルト（ＩＩ）（５．００  ｍｇ，  ３８．５  μｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２．００  ｍＬ）−メタノール（２．００  ｍＬ）混合溶液に、−１０℃冷却下、水素化ホウ素ナトリウム（１３．００  ｍｇ，  ３４４  μｍｏｌ）を加え、４５分間撹拌した。反応溶液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、室温まで昇温し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮した。残渣をジオキサン（３．５０  ｍＬ）に溶解し、水（６００  μＬ）、炭酸カリウム（７０．０  ｍｇ，  ５０７  μｍｏｌ）、参考例６５の工程ｂで得られた化合物７（１００  ｍｇ，  ２５４  μｍｏｌ）、ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィン）ジクロロパラジウム（ＩＩ）（１２．０  ｍｇ，  １６．９  μｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気中、９５℃加熱下、６時間撹拌した。反応溶液にビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィン）ジクロロパラジウム（ＩＩ）（１８  ｍｇ，  ２５．４  μｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気中、９５℃加熱下、３．５時間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物８（２５．０  ｍｇ，  ２６．８％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ５２８（Ｍ＋１）＋。【０３１１】
［工程ｅ］
化合物８（３５  ｍｇ，  ６６．４  μｍｏｌ）のジクロロメタン（２．５０  ｍＬ）溶液にトリフルオロ酢酸（０．５０  ｍＬ）を加え、室温下、４．５時間撹拌した。反応溶液を減圧濃縮後、残渣をカチオン交換樹脂カラム（Ｗａｔｅｒｓ，  ＰｏｒａＰａｋＴＭ，  ＲｘｎＣＸ）で固相抽出精製後、得られた固体をジイソプロピルエーテル（１．５０  ｍＬ）−ヘキサン（１．５０  ｍＬ）混合溶液で懸濁洗浄することにより、化合物９（１０．０  ｍｇ，  ３２．１％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４７２（Ｍ＋１）＋。【０３１２】
実施例１１
３−｛２−クロロ−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−フェニル｝−プロピオン酸【０３１３】
【化６０】
2015163435.tif 000062
【０３１４】
［工程ａ］
ジエチルホスホノ酢酸ｔｅｒｔ−ブチル（３．００  ｍＬ，  １２．８  ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２０．０  ｍＬ）溶液に氷冷下、水素化ナトリウム（６０重量％，４７４  ｍｇ，  １１．８  ｍｍｏｌ）を加えた後、化合物１（２．００  ｇ，  ９．１１  ｍｍｏｌ）を加え、氷冷下、２時間撹拌した。反応溶液に飽和塩化アンモニウム水溶液（５０．０  ｍＬ）を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物２（２．７８  ｇ，  ９５．９％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）δ：  １．４９（９Ｈ，  ｓ）、  ６．７４（１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝１５．９Ｈｚ）、  ７．５０（１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝８．２Ｈｚ）、  ７．６２（１Ｈ，  ｄｄ，  Ｊ＝２．６，  ８．７Ｈｚ）、  ７．７４（１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝１５．９Ｈｚ）、８．１８（１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝２．６Ｈｚ）。【０３１５】
［工程ｂ］
化合物２（１．７５  ｇ，  ５．５１  ｍｍｏｌ）と塩化コバルト（ＩＩ）（１４３  ｍｇ，  １．１０  ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１７．５  ｍＬ）とメタノール（１７．５  ｍＬ）の混合溶液に、−１０℃冷却下、水素化ホウ素ナトリウム（４１７  ｍｇ，  １１．０  ｍｍｏｌ）を少しずつ加え、２時間撹拌した。反応溶液に更に塩化コバルト（ＩＩ）（１４３  ｍｇ，  １．１０  ｍｍｏｌ）を加えた後、水素化ホウ素ナトリウム（４１７  ｍｇ，  １１．０  ｍｍｏｌ）を少しずつ加え、−１０℃冷却下、２時間撹拌した。反応溶液に飽和塩化アンモニウム水溶液（７０．０  ｍＬ）を加え、室温まで昇温し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮することにより、固体（１．６４  ｇ）を得た。得られた固体（３００  ｍｇ）をジオキサン（２．７０  ｍＬ）に溶解し、水（３００  μＬ）、リン酸三カリウム（５６９  ｍｇ，  ２．６８  ｍｍｏｌ）、参考例６６の工程ｂで得られた化合物４（３５３  ｍｇ，  ８９４  μｍｏｌ）、ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィン）ジクロロパラジウム（ＩＩ）（３１．６  ｍｇ，  ４４．７  μｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気中、１００℃加熱下、２時間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、得られた固体をジイソプロピルエーテル（９．００  ｍＬ）とヘキサン（２７．０  ｍＬ）の混合溶液で懸濁洗浄後、ジイソプロピルエーテル（５．００  ｍＬ）とヘキサン（１５．０  ｍＬ）の混合溶液で洗浄することにより、化合物５（４４．５  ｍｇ）を得た。また、得られたろ液を逆相ＨＰＬＣを用い精製することにより、化合物５（２０７  ｍｇ）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ５０８，  ５１０（Ｍ＋１）＋。【０３１６】
［工程ｃ］
化合物５（２００  ｍｇ，  ３９４  μｍｏｌ）のジクロロメタン（２．００  ｍＬ）溶液にトリフルオロ酢酸（１．００  ｍＬ）を加え、室温下、一晩撹拌した。反応溶液を減圧濃縮後、残渣をカチオン交換樹脂カラム（Ｗａｔｅｒｓ，  ＰｏｒａＰａｋＴＭ，  ＲｘｎＣＸ）で固相抽出精製後、得られた精製物をテトラヒドロフラン（２．００  ｍＬ）とメタノール（２．００  ｍＬ）に溶解後、４Ｍ−水酸化ナトリウム水溶液（５００  μＬ）を加え、室温下、一晩撹拌した。反応溶液に１Ｍ−塩酸（２．００  ｍＬ）加えて中和した後、水（２０．０  ｍＬ）を加えた。析出した固体をろ取後、水で洗浄することにより、化合物６（１５１  ｍｇ，  ８５．０％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４５２，  ４５４（Ｍ＋１）＋。【０３１７】
実施例１２
３−｛３−シアノ−２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−２−メチル−プロピオン酸【０３１８】
【化６１】
2015163435.tif 000063
【０３１９】
［工程ａ］
参考例４５で得られた化合物１（１００  ｍｇ，  ３０８  μｍｏｌ）のトルエン（３．００  ｍＬ）溶液に、水（５００  μＬ）、炭酸カリウム（１３０  ｍｇ，  ９４１  μｍｏｌ）、参考例６５の工程ｂで得られた化合物２（１７０  ｍｇ，  ４３１  μｍｏｌ）、ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィン）ジクロロパラジウム（ＩＩ）（２２．０  ｍｇ，  ３１．１  μｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気中、マイクロウェーブ照射下１３５℃で加熱し、１時間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物３（１４０  ｍｇ，  ８９．０％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ５１２（Ｍ＋１）＋。【０３２０】
［工程ｂ］
化合物３（７０．０  ｍｇ，  １３７  μｍｏｌ）のエタノール（４．００  ｍＬ）溶液に、パラジウム／炭素（１０重量％，  １００  ｍｇ）を加え、水素雰囲気中、室温下、３２時間撹拌した。反応溶液をセライトろ過後、濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物４（５０．０  ｍｇ，  ７１．９％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ５１４（Ｍ＋１）＋。【０３２１】
［工程ｃ］
化合物４（４８．０  ｍｇ，  ９３．０  μｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２．００  ｍＬ）、メタノール（１．００  ｍＬ）の混合溶液に、２Ｍ−水酸化ナトリウム水溶液（１．００  ｍＬ）を加え、室温下、一晩撹拌した。反応溶液に、氷冷下、０．５Ｍ−塩酸（４．５０  ｍＬ）を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物５（４６．０  ｍｇ）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４８６（Ｍ＋１）＋。【０３２２】
実施例１３
２−｛２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−シクロプロパンカルボン酸【０３２３】
【化６２】
2015163435.tif 000064
【０３２４】
［工程ａ］
参考例１１で得られた化合物２（１７０  ｍｇ，  ５９６  μｍｏｌ）のジオキサン（６．００  ｍＬ）溶液に、水（１．００  ｍＬ）、炭酸カリウム（２４５  ｍｇ，  １．７８  ｍｍｏｌ）、参考例６５の工程ｂで得られた化合物１（２８０  ｍｇ，  ７１０  μｍｏｌ）、ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィン）ジクロロパラジウム（ＩＩ）（４０．０  ｍｇ，  ５６．５  μｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気中、９０℃加熱下、６時間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、０．２Ｍ−塩酸（５．００  ｍＬ）を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物３（２８０  ｍｇ，  ９９．４％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４７３（Ｍ＋１）＋。【０３２５】
［工程ｂ］
化合物３（２７５  ｍｇ，  ５８５  μｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（３．００  ｍＬ）、メタノール（１．５０  ｍＬ）の混合溶液に、２Ｍ−水酸化ナトリウム水溶液（１．５０  ｍＬ）を加え、室温下、２．５時間撹拌した。反応溶液に、氷冷下、０．５Ｍ−塩酸（６．５０  ｍＬ）を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物４（２２０  ｍｇ，  ８２．０％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４５９（Ｍ＋１）＋。【０３２６】
実施例１４
（１Ｓ，２Ｓ）−２−｛２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−シクロプロパンカルボン酸
（１Ｒ，２Ｒ）−２−｛２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−シクロプロパンカルボン酸【０３２７】
【化６３】
2015163435.tif 000065
【０３２８】
［工程ａ］
実施例１３の工程ｂで得られた化合物１（１６０  ｍｇ）をキラルＨＰＬＣ（ＣＨＩＲＡＬ  ＰＡＫ  ＩＡ，３０×２５０，  テトラヒドロフラン：イソプロピルアルコール：酢酸  ＝  ５：９５：０．１，  １５  ｍＬ／分）を用いて、キラル分割することにより、化合物１ａ（８０．０  ｍｇ，９９．９％ｅｅ）および化合物１ｂ（７９．０  ｍｇ，  ９９．８％ｅｅ）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４５９（Ｍ＋１）＋。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４５９（Ｍ＋１）＋。【０３２９】
実施例１５
（トランス）−２−［５−メトキシ−６’−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−［２，３’］ビピリジニル−６−イル］−シクロプロパンカルボン酸【０３３０】
【化６４】
2015163435.tif 000066
【０３３１】
［工程ａ］
参考例１７の工程ｂで得られた化合物２（１１０  ｍｇ，  ４３０  μｍｏｌ）のトルエン（４．５０  ｍＬ）溶液に、水（５００  μＬ）、炭酸カリウム（１８０  ｍｇ，  １．３０  ｍｍｏｌ）、参考例６５の工程ｂで得られた化合物１（２２０  ｍｇ，  ５５８  μｍｏｌ）、ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィン）ジクロロパラジウム（ＩＩ）（３０．０  ｍｇ，  ４２．４  μｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気中、マイクロウェーブ照射下１３０℃で加熱し、３０分間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物３（２００  ｍｇ，  ９５．５％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４８８（Ｍ＋１）＋。【０３３２】
［工程ｂ］
化合物３（１９５  ｍｇ，  ４００  μｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（４．００  ｍＬ）、メタノール（２．００  ｍＬ）の混合溶液に、２Ｍ−水酸化ナトリウム水溶液（２．００  ｍＬ）を加え、室温下、４時間撹拌した。反応溶液に、氷冷下、０．５Ｍ−塩酸（９．００  ｍＬ）を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物４（１７０  ｍｇ，  ９２．５％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４６０（Ｍ＋１）＋。【０３３３】
実施例１６
（１Ｓ，２Ｓ）−２−［５−メトキシ−６’−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−［２，３’］ビピリジニル−６−イル］−シクロプロパンカルボン酸
（１Ｒ，２Ｒ）−２−［５−メトキシ−６’−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−［２，３’］ビピリジニル−６−イル］−シクロプロパンカルボン酸【０３３４】
【化６５】
2015163435.tif 000067
【０３３５】
［工程ａ］
実施例１５の工程ｂで得られた化合物１（１１０  ｍｇ）をキラルＨＰＬＣ（ＣＨＩＲＡＬ  ＰＡＫ  ＩＡ，３０×２５０，  ヘキサン：テトラヒドロフラン：イソプロピルアルコール：酢酸  ＝  ７０：１５：１５：０．５，  ２０  ｍＬ／分）を用いて、キラル分割することにより、化合物１ａ（４２．０  ｍｇ，  ９９．３％ｅｅ）および化合物１ｂ（４７．０  ｍｇ，  ９２．８％ｅｅ）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４６０（Ｍ＋１）＋。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４６０（Ｍ＋１）＋。【０３３６】
実施例１７
（１Ｓ，２Ｓ）−２−｛３−メトキシ−６−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−ピリジン−２−イル｝−シクロプロパンカルボン酸
（１Ｒ，２Ｒ）−２−｛３−メトキシ−６−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−ピリジン−２−イル｝−シクロプロパンカルボン酸【０３３７】
【化６６】
2015163435.tif 000068
【０３３８】
［工程ａ］
参考例１８の工程ａで得られた化合物２（９５．０  ｍｇ，  ３３５  μｍｏｌ）のトルエン（３．５０  ｍＬ）溶液に、水（５００  μＬ）、炭酸カリウム（１４０  ｍｇ，  １．０１  ｍｍｏｌ）、参考例６６の工程ｂで得られた化合物１（１８５  ｍｇ，  ４６８  μｍｏｌ）、ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィン）ジクロロパラジウム（ＩＩ）（２５．０  ｍｇ，  ３５．３  μｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気中、マイクロウェーブ照射下１３０℃で加熱し、３０分間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物３（２００  ｍｇ）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ５１７（Ｍ＋１）＋。【０３３９】
［工程ｂ］
化合物３（１９０  ｍｇ）をキラルＨＰＬＣ（ＣＨＩＲＡＬ  ＰＡＫ  ＩＦ，３０×２５０，  ヘキサン：エタノール：テトラヒドロフラン：ジエチルアミン  ＝  ８５：５：１０：０．１，  ２０  ｍＬ／分）を用いて、キラル分割することにより、化合物３ａ（７５  ｍｇ，  ９９．９％ｅｅ）および化合物３ｂ（７２．０  ｍｇ，  ９９．８％ｅｅ）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ５１７（Ｍ＋１）＋。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ５１７（Ｍ＋１）＋。【０３４０】
［工程ｃ］
化合物３ａ（７４．０  ｍｇ，  １４３  μｍｏｌ）のジクロロメタン（３．００  ｍＬ）溶液に、トリフルオロ酢酸（６００  μＬ）を加え、室温下、５．５時間撹拌した。反応溶液を濃縮し、酢酸エチル（６．００ｍＬ）で希釈後、２Ｍ−塩酸の酢酸エチル溶液（１５０  μＬ）を加え、再度濃縮した。得られた残渣をジイソプロピルエーテルに懸濁後、濃縮し、メタノールに溶解後、濃縮した。得られた残渣をジイソプロピルエーテル（６．００  ｍＬ）で懸濁洗浄することにより、化合物４ａ（６５．０ｍｇ，  ９１．６％）を塩酸塩として得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４６１（Ｍ＋１）＋。【０３４１】
［工程ｄ］
化合物３ｂ（７２．０  ｍｇ，  １３９  μｍｏｌ）のジクロロメタン（３．００  ｍＬ）溶液に、トリフルオロ酢酸（６００  μＬ）を加え、室温下、３．５時間撹拌した。反応溶液を濃縮し、酢酸エチル（６．００ｍＬ）で希釈後、２Ｍ−塩酸の酢酸エチル溶液（１５０  μＬ）を加え、再度濃縮した。得られた残渣をジイソプロピルエーテルに懸濁後、濃縮し、メタノールに溶解後、濃縮した。得られた残渣をジイソプロピルエーテル（６．００  ｍＬ）で懸濁洗浄することにより、化合物４ｂ（６５．０ｍｇ，  ９４．２％）を塩酸塩として得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４６１（Ｍ＋１）＋。【０３４２】
実施例１８
（１Ｓ，２Ｓ）−２−［５−クロロ−６’−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−［２，３’］ビピリジニル−６−イル］−シクロプロパンカルボン酸
（１Ｒ，２Ｒ）−２−［５−クロロ−６’−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−［２，３’］ビピリジニル−６−イル］−シクロプロパンカルボン酸【０３４３】
【化６７】
2015163435.tif 000069
【０３４４】
［工程ａ］
参考例１２の工程ｂで得られた化合物２（２７０  ｍｇ，  ９３７  μｍｏｌ）のジオキサン（１０．０  ｍＬ）と水（２．５０  ｍＬ）の混合溶液に、炭酸カリウム（３８９  ｍｇ，  ２．８１  ｍｍｏｌ）、参考例６５の工程ｂで得られた化合物１（４４３  ｍｇ，  １．１２  ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（５４．０  ｍｇ，  ４６．７  μｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気中、１００℃加熱下、４時間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、水とクロロホルムを加え、セライトろ過した。得られたろ液をクロロホルムで抽出した。有機層を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製した。得られた精製物を酢酸エチル（１０．０  ｍＬ）に溶解後、ＳＨシリカ（ＦＵＪＩ  ＳＩＬＹＳＩＡ  ＣＨＥＭＩＣＡＬ  ＬＴＤ）（５０．０  ｍｇ）を加え、１時間撹拌後、セライトろ過した。得られたろ液を減圧濃縮後、酢酸エチルに溶解し、ＳＨシリカ（ＦＵＪＩ  ＳＩＬＹＳＩＡ  ＣＨＥＭＩＣＡＬ  ＬＴＤ）（５０．０  ｍｇ）を加え、一晩撹拌し、セライトろ過後、ろ液を減圧濃縮した。得られた残渣をヘキサンで懸濁洗浄することにより、化合物３（４２３  ｍｇ，  ８６．８％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ５２０（Ｍ＋１）＋。【０３４５】
［工程ｂ］
化合物３（４００  ｍｇ）をキラルＨＰＬＣ（ＣＨＩＲＡＬ  ＰＡＫ  ＩＡ，３０×２５０，  ヘキサン：イソプロピルアルコール：ジエチルアミン  ＝  ８０：２０：０．１，  ２０  ｍＬ／分）を用いて、キラル分割することにより、化合物３ａ（１８２  ｍｇ，  ９９．９％ｅｅ）および化合物３ｂ（１８３  ｍｇ，  ９９．４％ｅｅ）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ５２０（Ｍ＋１）＋。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ５２０（Ｍ＋１）＋。【０３４６】
［工程ｃ］
化合物３ａ（１８２  ｍｇ，  ３５２  μｍｏｌ）のジクロロメタン（４．００  ｍＬ）溶液に、トリフルオロ酢酸（５００  μＬ）を加え、室温下、２時間撹拌した。反応溶液に更にトリフルオロ酢酸（５００  μＬ）を加え、室温下、一晩撹拌した。反応溶液をカチオン交換樹脂カラム（Ｗａｔｅｒｓ，  ＰｏｒａＰａｋＴＭ，  ＲｘｎＣＸ）で固相抽出精製後、ヘキサンで懸濁洗浄することにより、化合物４ａ（９８．６  ｍｇ，  ６０．８％，  ９９．９％ｅｅ）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４６４（Ｍ＋１）＋。【０３４７】
［工程ｄ］
化合物３ｂ（１８３  ｍｇ，  ３５２  μｍｏｌ）のジクロロメタン（４．００  ｍＬ）溶液に、トリフルオロ酢酸（１．００  Ｌ）を加え、室温下、一晩撹拌した。反応溶液をカチオン交換樹脂カラム（Ｗａｔｅｒｓ，  ＰｏｒａＰａｋＴＭ，  ＲｘｎＣＸ）で固相抽出精製後、ヘキサンで懸濁洗浄することにより、化合物４ｂ（１５４  ｍｇ，  ９４．３％，  ９９．６％ｅｅ）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４６４（Ｍ＋１）＋。【０３４８】
実施例１９
（１Ｓ，２Ｓ）−２−［５−エトキシ−６’−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−［２，３’］ビピリジニル−６−イル］−シクロプロパンカルボン酸【０３４９】
【化６８】
2015163435.tif 000070
【０３５０】
［工程ａ］
参考例６５の工程ｂで得られた化合物１（２９８  ｍｇ，  ７５６  μｍｏｌ）、参考例２０の工程ｂで得られた化合物２（１７０  ｍｇ，  ６３２  μｍｏｌ）のトルエン（１．８０  ｍＬ）溶液に、水（２００  μＬ）、リン酸三カリウム（４０１  ｍｇ，  １．８９  ｍｍｏｌ）、ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィン）ジクロロパラジウム（ＩＩ）（２３．０  ｍｇ，  ３２．５  μｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気中、１００℃加熱下、２．５時間撹拌した。反応溶液に、化合物１（２４９  ｍｇ，  ６３２  μｍｏｌ）、ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィン）ジクロロパラジウム（ＩＩ）（２３．０  ｍｇ，  ３２．０  μｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気中、１００℃加熱下、３．５時間撹拌した。反応溶液に、水（８００  μＬ）、トルエン（１．００  ｍＬ）、化合物１（２４９  ｍｇ，  ６３２  μｍｏｌ）、ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィン）ジクロロパラジウム（ＩＩ）（２３．０  ｍｇ，  ３２．０  μｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気中、１００℃加熱下、一晩撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、酢酸エチル（１０．０  ｍＬ）と活性炭（３００  ｍｇ）を加え、室温下、３０分間撹拌した。反応溶液をセライトろ過し、水と酢酸エチルで洗浄後、得られたろ液を酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物３（２８５  ｍｇ，  ９０．２％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ５０２（Ｍ＋１）＋。【０３５１】
［工程ｂ］
化合物３（９５．０  ｍｇ，  １９０  μｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（３８０  μＬ）、メタノール（１９０  μＬ）の混合溶液に、２Ｍ−水酸化ナトリウム水溶液（１９０  μＬ）を加え、室温下１時間撹拌した。更に反応溶液に４Ｍ−水酸化ナトリウム水溶液（１９０  μＬ）を加え、室温下、一晩撹拌した。反応溶液に１Ｍ−塩酸（１．１４  ｍＬ）を加え中和し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮した。残渣をメタノール（２０．０  ｍＬ）に溶解後、ＳＨシリカ（ＦＵＪＩ  ＳＩＬＹＳＩＡ  ＣＨＥＭＩＣＡＬ  ＬＴＤ）（５００  ｍｇ）を加え、一晩撹拌後、セライトろ過した。得られたろ液を減圧濃縮後、ジイソプロピルエーテルで懸濁洗浄後、シリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物４（８０．１  ｍｇ，  ８９．２％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４７４（Ｍ＋１）＋。【０３５２】
実施例２０
（１Ｓ，２Ｓ）−２−［５−メチル−６’−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−［２，３’］ビピリジニル−６−イル］−シクロプロパンカルボン酸【０３５３】
【化６９】
2015163435.tif 000071
【０３５４】
［工程ａ］
参考例６５の工程ｂで得られた化合物１（１３１  ｍｇ，  ３３２  μｍｏｌ）、参考例２１の工程ａで得られた化合物２（１００  ｍｇ，  ２７７  μｍｏｌ）のジオキサン（２．００  ｍＬ）溶液に、２Ｍ−リン酸三カリウム水溶液（４１６  μＬ，  ８３１  μｍｏｌ）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）（２５．０  ｍｇ，  ２７．７  μｍｏｌ）、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル（ＸＰｈｏｓ）を加え、窒素雰囲気中、１００℃加熱下３時間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、酢酸エチル（１５．０  ｍＬ）と活性炭（２００  ｍｇ）を加え、室温下一晩撹拌した。反応溶液をセライトろ過し、水と酢酸エチルで洗浄後、得られたろ液を酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物３（１０７  ｍｇ，  ６５．１％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ５９４（Ｍ＋１）＋。【０３５５】
［工程ｂ］
化合物３（１０７  ｍｇ，  １８０  μｍｏｌ）のアセトニトリル（５２０  μＬ）溶液に、氷冷下、二炭酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（４７．０  ｍｇ，  ２１６  μｍｏｌ）とトリエチルアミン（６０．０  μＬ，  ４３２  μｍｏｌ）を加え、室温まで昇温しながら一晩撹拌した後、加熱還流下、３時間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、二炭酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（７８．８  ｍｇ，  ３６１  μｍｏｌ）とトリエチルアミン（１００  μＬ，  ７２１  μｍｏｌ）を加え、加熱還流下、一晩撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、水（３．００  ｍＬ）と酢酸エチル（３．００  ｍＬ）を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物４（９８．５  ｍｇ，  ７９．０％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）δ：  １．２５−１．３０（３Ｈ，  ｍ）、  １．４２（９Ｈ，  ｓ）、  １．５８−１．６３（１Ｈ，  ｍ）、  １．６４−１．７１（１Ｈ，  ｍ）、  ２．３１−２．４０（１Ｈ，  ｍ）、  ３．０９−３．１８（１Ｈ，  ｍ）、  ３．８２（３Ｈ，  ｓ）、  ４．０８−４．２６（２Ｈ，  ｍ）、  ５．０８（２Ｈ，  ｓ）、  ５．２２（２Ｈ，  ｓ）、  ６．９２（２Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝８．７Ｈｚ）、  ７．０７（１Ｈ，  ｂｒｄ，  Ｊ＝８．２Ｈｚ）、  ７．１９（２Ｈ，ｄ，  Ｊ＝８．７Ｈｚ）、  ７．２５（１Ｈ，ｄ，  Ｊ＝８．２Ｈｚ）、  ７．３０（１Ｈ，  ｄｄ，  Ｊ＝７．７，  ７．７Ｈｚ）、  ７．３６（２Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝８．７Ｈｚ）、  ７．４４（１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝８．７Ｈｚ）、  ７．７７（１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝８．７Ｈｚ）、  ８．１５（１Ｈ，  ｄｄ，  Ｊ＝２．６，  ８．７Ｈｚ）、  ８．９０（１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝２．１Ｈｚ）。【０３５６】
［工程ｃ］
化合物４（８５．０  ｇ，  １２３  μｍｏｌ）の酢酸エチル（３５０  μＬ）溶液に、１０％−パラジウム／炭素（２０  ｍｇ）を加え、水素雰囲気中、室温下、２．５時間撹拌した。反応溶液に１０％−パラジウム／炭素（２０  ｍｇ）を加え、水素雰囲気中、室温下、６時間撹拌した。反応溶液をセライトろ過後、濃縮することにより、化合物５（６８．０  ｍｇ，  ９７．２％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ５７４（Ｍ＋１）＋。【０３５７】
［工程ｄ］
化合物５（６８．０  ｍｇ，  １１９  μｍｏｌ）のジクロロメタン（６００  μＬ）溶液に、氷冷下、トリエチルアミン（３７  μＬ，  ２６４  μｍｏｌ）、トリフルオロメタンスルホン酸無水物（２１  μＬ，  １２５  μｍｏｌ）を加え、１時間撹拌した。更に反応溶液に氷冷下、トリエチルアミン（１０．０  μＬ，  ７１．２  μｍｏｌ）、トリフルオロメタンスルホン酸無水物（６．００  μＬ，  ３５．６  μｍｏｌ）を加え、４時間撹拌した。反応溶液にクロロホルム（３．００  ｍＬ）と水（２．００  ｍＬ）を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮することにより、化合物６（８５．０  ｍｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）δ：  １．２８（３Ｈ，  ｔ，  Ｊ＝７．２Ｈｚ）、  １．４３（９Ｈ，  ｓ）、  １．７３（１Ｈ，  ｄｄｄ，  Ｊ＝３．６，  ５．５，  ８．９Ｈｚ）、  １．８０（１Ｈ，  ｄｄｄ，  Ｊ＝３．９，  ６．０，  ８．６Ｈｚ）、  ２．３７−２．４５（１Ｈ，  ｍ）、  ２．８６−２．９４（１Ｈ，  ｍ）、  ４．１９（２Ｈ，  ｑ，  Ｊ＝７．２Ｈｚ）、  ５．２６（２Ｈ，  ｓ）、  ７．０９（１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝８．２Ｈｚ）、  ７．１９（１Ｈ，  ｓ）、  ７．２５（１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝７．２Ｈｚ）、  ７．３０（１Ｈ，  ｄｄ，  Ｊ＝７．７，  ８．２Ｈｚ）、  ７．５８（１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝８．７Ｈｚ）、  ７．６５（１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝８．７Ｈｚ）、  ７．９２（１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝８．７Ｈｚ）、  ８．１８（１Ｈ，  ｄｄ，  Ｊ＝２．６，  ８．７Ｈｚ）、  ８．９３（１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝２．６Ｈｚ）。【０３５８】
［工程ｅ］
化合物６（８５．０  ｍｇ，  １２１  μｍｏｌ）のジオキサン（９６０  μＬ）溶液に、リン酸三カリウム（５１．０  ｍｇ，  ２４０  μｍｏｌ）、２，４，６−トリメチルボロキシン（２５  μＬ，  １８２  μｍｏｌ）、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジメトキシビフェニル（ＳＰｈｏｓ）（７．４  ｍｇ，  １８．０  μｍｏｌ）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）（８．０  ｍｇ，  ８．７４  μｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気中、１００℃加熱下、２時間撹拌した。更に反応溶液に２，４，６−トリメチルボロキシン（３４  μＬ，  ２４２  μｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気中、１００℃加熱下、２時間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、酢酸エチル（１０．０  ｍＬ）と活性炭（１０．０  ｍｇ）を加え、室温下、１５分間撹拌した。反応溶液をセライトろ過し、水と酢酸エチルで洗浄後、得られたろ液を酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物７（４７．０  ｍｇ，  ６８．０％）を得た。
ＭＳ（ＡＰＣＩ）ｍ／ｚ：  ５７２（Ｍ＋１）＋。【０３５９】
［工程ｆ］
化合物７（４７．０  ｍｇ，  ８２．３  μｍｏｌ）のジクロロメタン（１６０  μＬ）溶液に、氷冷下、トリフルオロ酢酸（１６０  μＬ）を加え、室温まで昇温しながら１．５時間撹拌した。反応溶液を氷冷後、クロロホルム（５．００  ｍＬ）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（３．００  ｍＬ）を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物８（３７．０  ｍｇ，  ９５．５％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４７２（Ｍ＋１）＋。【０３６０】
［工程ｇ］
化合物８（３７．０  ｍｇ，  ７８．６  μｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（４００  μＬ）、メタノール（２００  μＬ）の混合溶液に、４Ｍ−水酸化ナトリウム水溶液（２００  μＬ）を加え、室温下、一晩撹拌した。反応溶液に、氷冷下、１Ｍ−塩酸（８００  μＬ）を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、ジエチルエーテルとヘキサン（１：２）の混合溶液で懸濁洗浄することにより、化合物９（３４．０  ｍｇ，  ９７．６％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４４４（Ｍ＋１）＋。【０３６１】
実施例２１
３−｛２−メトキシ−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−フェニル｝−プロピオン酸【０３６２】
【化７０】
2015163435.tif 000072
【０３６３】
［工程ａ］
参考例６６の工程ｂで得られた化合物１（３００  ｍｇ，  ７５９  μｍｏｌ）のジオキサン（４．００  ｍＬ）溶液に、水（５００  μＬ）、炭酸カリウム（３００  ｍｇ，  ２．１７  ｍｍｏｌ）、参考例１０の工程ｂで得られた化合物２（１８５  ｍｇ，  ６７７  μｍｏｌ）、ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィン）ジクロロパラジウム（ＩＩ）（２５．０  ｍｇ，  ３５．３  μｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気中、９０℃加熱下、８時間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、０．５Ｍ−塩酸（２．７０  ｍＬ）を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物３（１４０  ｍｇ，  ４４．８％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４６２（Ｍ＋１）＋。【０３６４】
［工程ｂ］
化合物３（１３０  ｍｇ，  ２８２  μｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２．８０  ｍＬ）、メタノール（１．４０  ｍＬ）の混合溶液に、２Ｍ−水酸化ナトリウム水溶液（１．４０  ｍＬ）を加え、室温下、２．５時間撹拌した。反応溶液に、氷冷下、０．５Ｍ−塩酸（６．００  ｍＬ）を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物４（１００  ｍｇ，  ７９．１％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４４８（Ｍ＋１）＋。【０３６５】
実施例２２
３−｛２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェニル｝−プロピオン酸【０３６６】
【化７１】
2015163435.tif 000073
【０３６７】
［工程ａ］
参考例６５の工程ｂで得られた化合物１（４３５  ｍｇ，  １．１１  ｍｍｏｌ）のジオキサン（５．００  ｍＬ）溶液に、水（１．００  ｍＬ）、炭酸カリウム（３６５  ｍｇ，  ２．６４  ｍｍｏｌ）、参考例１０の工程ｂで得られた化合物２（３００  ｍｇ，  １．１０  ｍｍｏｌ）、ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィン）ジクロロパラジウム（ＩＩ）（４０．０  ｍｇ，  ５６．４  μｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気中、９０℃加熱下、４時間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、０．５Ｍ−塩酸（３．００  ｍＬ）を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物３（４００  ｍｇ，  ７９．０％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４６１（Ｍ＋１）＋。【０３６８】
［工程ｂ］
化合物３（３９５  ｍｇ，  ８５８  μｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（４．００  ｍＬ）、メタノール（２．００  ｍＬ）の混合溶液に、２Ｍ−水酸化ナトリウム水溶液（２．００  ｍＬ）を加え、室温下、２時間撹拌した。反応溶液に、氷冷下、０．５Ｍ−塩酸（９．００  ｍＬ）を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、白色固体（３７０  ｍｇ）を得た。得られた白色固体（３２０  ｍｇ）を酢酸エチル（６．００  ｍＬ）に８０℃加熱下溶解後、ヘキサン（６．００  ｍＬ）を加え、室温まで放冷した。析出した固体をろ取し、酢酸エチルとヘキサンの混合溶液（１：２）で洗浄することにより化合物４（２９５  ｍｇ）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４４７（Ｍ＋１）＋。【０３６９】
実施例２３
｛２−メトキシ−４−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェノキシ｝−酢酸【０３７０】
【化７２】
2015163435.tif 000074
【０３７１】
［工程ａ］
参考例６５の工程ａで得られた化合物１（５．００  ｇ，  １４．４  ｍｍｏｌ）と化合物２（５．４０  ｇ，  ２１．６  ｍｍｏｌ）のジメトキシエタン（１５０  ｍＬ）と水（５０．０  ｍＬ）の混合溶媒に炭酸ナトリウム（４．６０  ｇ，  ４３．４  ｍｍｏｌ）とテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（８３０  ｍｇ，  ７２０  μｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気中、１００℃加熱下、６時間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、飽和食塩水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製した。得られた固体をジイソプロピルエーテルで懸濁洗浄することにより、化合物３（３．７０  ｇ，  ６５．８％）を得た。
ＭＳ（ＡＰＣＩ）ｍ／ｚ：  ３９１（Ｍ＋１）＋。【０３７２】
［工程ｂ］
化合物３（３５０  ｍｇ，  ８９７  μｍｏｌ）のアセトン（５．００  ｍＬ）溶液に、炭酸カリウム（２４８  ｍｇ，  １．７９  ｍｍｏｌ）、ブロモ酢酸エチル（１８０  ｍｇ，  １．０８  ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下、３時間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、更にブロモ酢酸エチル（９０  ｍｇ，  ５３．９  μｍｏｌ）を加え、加熱還流下、３時間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、セライトろ過し、得られたろ液を濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物４（３３１  ｍｇ，  ７７．５％）を得た。
ＭＳ（ＡＰＣＩ）ｍ／ｚ：  ４７７（Ｍ＋１）＋。【０３７３】
［工程ｃ］
化合物４（２６１  ｍｇ，  ５４８  μｍｏｌ）のメタノール（４．００  ｍＬ）溶液に、１Ｍ−水酸化ナトリウム水溶液（２．００  ｍＬ）を加え、室温下、一晩撹拌した。反応溶液に、氷冷下、１Ｍ−塩酸を加え、ｐＨ＝６〜７に調整後、クロロホルムで抽出した。有機層を、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物５（６７．０  ｍｇ，  ２７．３％）を得た。
ＭＳ（ＡＰＣＩ）ｍ／ｚ：  ４４９（Ｍ＋１）＋。【０３７４】
実施例２４
４−｛２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−フェノキシメチル｝−シクロヘキサンカルボン酸【０３７５】
【化７３】
2015163435.tif 000075
【０３７６】
［工程ａ］
参考例６５の工程ａで得られた化合物１（３．５０  ｇ，  １０．１  ｍｍｏｌ）と化合物２（３．００  ｇ，  １２．１  ｍｍｏｌ）のジメトキシエタン（１０５  ｍＬ）と水（３５．０  ｍＬ）の混合溶媒に炭酸ナトリウム（３．２０  ｇ，  ３０．２  ｍｍｏｌ）とテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（５８０  ｍｇ，  ５０４  μｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気中、１００℃加熱下、６時間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、飽和食塩水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製した。得られた固体をジイソプロピルエーテルと酢酸エチルの混合溶液で懸濁洗浄することにより、化合物３（１．７０  ｇ，  ４３．３％）を得た。
ＭＳ（ＡＰＣＩ）ｍ／ｚ：  ３９１（Ｍ＋１）＋。【０３７７】
［工程ｂ］
化合物３（３０．０  ｍｇ，  ７７．０  μｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（８００  μＬ）溶液に、化合物４（ＣＡＳ  Ｎｏ．  １１０９２８−４４−４，  ２６．５  ｍｇ，  １５４  μｍｏｌ）、トリ−ｎ−ブチルホスフィン（３１．０  ｍｇ，  １５４  μｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルアゾジカルボキサミド（ＴＭＡＤ）（２７．０  ｍｇ，  １５４  μｍｏｌ）を加え、室温下、３．０時間撹拌した後、８０℃加熱下一晩撹拌した。反応溶液を濃縮後、テトラヒドロフラン（１．００  ｍＬ）に溶解後、１Ｍ−水酸化ナトリウム水溶液（１５４  μＬ、  １５４  μｍｏｌ）を加え、８０℃加熱下、２時間撹拌した。反応溶液を濃縮後、逆相ＨＰＬＣを用い精製することにより、化合物６（２．５０  ｍｇ，  ６．１％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ５３１（Ｍ＋１）＋。【０３７８】
実施例２５
２−{２−メトキシ−５−[６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル]−フェニル}−２−メチル−プロピオン酸【０３７９】
【化７４】
2015163435.tif 000076
【０３８０】
［工程ａ］
参考例６５の工程ｂで得られた化合物１（３１４  ｍｇ，  ７９７  μｍｏｌ）のトルエン（２．７０  ｍＬ）溶液に、水（３００  μＬ）、リン酸三カリウム（４２３  ｍｇ，  １．９９  ｍｍｏｌ）、参考例５１で得られた化合物２（１９０  ｍｇ，  ６６４  μｍｏｌ）、ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィン）ジクロロパラジウム（ＩＩ）（２４．０  ｍｇ，  ３３．２  μｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気中、１００℃加熱下、２時間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、酢酸エチルで希釈し、活性炭及びＮＨ−シリカゲル（ＦＵＪＩ  ＳＩＬＹＳＩＡ  ＣＨＥＭＩＣＡＬ  ＬＴＤ．  ＣＨＲＯＭＡＴＯＲＥＸ）を加え、室温下１５分間撹拌した後、セライトろ過した。得られたろ液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物３（２６８  ｍｇ，  ８５．１％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４７５（Ｍ＋１）＋。【０３８１】
［工程ｂ］
化合物３（２６５  ｍｇ，  ５５８  μｍｏｌ）のエタノール（５．００  ｍＬ）溶液に、４Ｍ−水酸化ナトリウム水溶液（５．００  ｍＬ）を加え、加熱還流下、１７時間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、減圧濃縮した。残渣をクロロホルムと水で希釈後、氷冷し、６−Ｍ塩酸を加えｐＨ＝４に調整後、クロロホルムで抽出した。有機層を、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物４（１３４  ｍｇ，  ５２．２％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４６１（Ｍ＋１）＋。【０３８２】
実施例２６
２−{３−シアノ−２−メトキシ−５−[６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル]−フェニル}−２−メチル−プロピオン酸【０３８３】
【化７５】
2015163435.tif 000077
【０３８４】
［工程ａ］
参考例６５の工程ｂで得られた化合物１（１２９  ｍｇ，  ３２７  μｍｏｌ）のジオキサン（３．００  ｍＬ）溶液に、水（３００  μＬ）、炭酸カリウム（１１３  ｍｇ，  ８１９  μｍｏｌ）、参考例３６の工程ｂで得られた化合物２（８５．１  ｍｇ，  ２７３  μｍｏｌ）、ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィン）ジクロロパラジウム（ＩＩ）（９．６７  ｍｇ，  １３．７  μｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気中、１００℃加熱下、３．５時間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物３（７６．１  ｍｇ，  ５５．９％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ５００（Ｍ＋１）＋。【０３８５】
［工程ｂ］
化合物３（３０．０  ｍｇ，  ６０．１  μｍｏｌ）のメタノール（１．００  ｍＬ）溶液に、２Ｍ−水酸化ナトリウム水溶液（１００  μＬ）を加え、８０℃加熱下、一晩撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、更にメタノール（１．００  ｍＬ）、２Ｍ−水酸化ナトリウム水溶液（２００  μＬ）を加え、８０℃加熱下、５時間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、水を加え撹拌した。析出した固体を、ろ過により取り除き、ろ液を１Ｍ−塩酸でｐＨ５〜６に調整後、クロロホルムで抽出した。有機層を、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮することにより、化合物４（７．５  ｍｇ，  ２５．７％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４８６（Ｍ＋１）＋。【０３８６】
実施例２７
６’−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−３，４，５，６−テトラヒドロ−２Ｈ−［１，３’］ビピリジニル−３−カルボン酸【０３８７】
【化７６】
2015163435.tif 000078
【０３８８】
［工程ａ］
参考例６５の工程ａで得られた化合物１（２５０  ｍｇ，  ７２０  μｍｏｌ）と化合物２（３４０  μＬ，  ２．１８  ｍｍｏｌ）のジメトキシエタン（３．００  ｍＬ）溶液に、リン酸三カリウム（６１５  ｍｇ，  ２．９０  ｍｍｏｌ）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）（３５．０  ｍｇ，  ３８．２  μｍｏｌ）、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ビフェニル（ＤａｖｅＰｈｏｓ）（６０．０  ｍｇ，  １５２  μｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気中、マイクロウェーブ照射下１３０℃で加熱し、３０分間撹拌した。更に反応溶液を室温まで放冷後、化合物２（２２５  μＬ，  １．４５  ｍｍｏｌ）、リン酸三カリウム（３０５  ｍｇ，  １．４４  ｍｍｏｌ）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）（３０．０  ｍｇ，  ３２．８  μｍｏｌ）、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ビフェニル（ＤａｖｅＰｈｏｓ）（５５．０  ｍｇ，  １４０  μｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気中、マイクロウェーブ照射下１３０℃で加熱し、３０分間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、０．５Ｍ−塩酸（７．００  ｍＬ）を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物３（９５．０  ｍｇ，  ３１．１％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４２４（Ｍ＋１）＋。【０３８９】
［工程ｂ］
化合物３（９０．０  ｍｇ，  ２１３  μｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（４．００  ｍＬ）、メタノール（２．００  ｍＬ）混合溶液に、２Ｍ−水酸化ナトリウム水溶液（２．００  ｍＬ）を加え、室温下、２時間撹拌した。反応溶液に、氷冷下、０．５Ｍ−塩酸（８．５０  ｍＬ）を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物４（３５．０  ｍｇ，  ４１．６％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ３９６（Ｍ＋１）＋。【０３９０】
実施例２８
２−クロロ−３−（１−メチル−ピロリジン−３−イルオキシ）−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−安息香酸【０３９１】
【化７７】
2015163435.tif 000079
【０３９２】
［工程ａ］
参考例６６の工程ｂで得られた化合物１（４．１８  ｇ，  １０．６  ｍｍｏｌ）のジオキサン（７０．０  ｍＬ）と水（７．００  ｍＬ）の混合溶液に、リン酸三カリウム（５．６０  ｇ，  ２６．４  ｍｍｏｌ）、参考例３７の工程ｆで得られた化合物２（３．１３  ｇ，  ８．８０  ｍｍｏｌ）、ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィン）ジクロロパラジウム（ＩＩ）（３１１  ｍｇ，  ４４０  μｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気中、１００℃加熱下、２時間撹拌した。反応溶液をセライトろ過し、濃縮後、シリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物３（３．７６  ｇ，  ７８．４％）を得た。
ＭＳ（ＡＰＣＩ）ｍ／ｚ：  ５４４，  ５４６（Ｍ＋１）＋。【０３９３】
［工程ｂ］
化合物３（３．７６  ｇ，  ６．９０  ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（７５．０  ｍＬ）溶液に二炭酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（３．０１  ｇ，  １３．８  ｍｍｏｌ）とＮ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン（８４３  ｍｇ，  ６．９０  ｍｍｏｌ）を加え、室温下、一晩撹拌した。反応溶液を濃縮後、シリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物４（４．０５  ｇ，  ９１．０％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ６４４，  ６４６（Ｍ＋１）＋。【０３９４】
［工程ｃ］
化合物４（４．０５  ｇ，  ４．０５  ｍｍｏｌ）の酢酸エチル（８１．０  ｍＬ）溶液に、１０％−パラジウム／炭素（４０５  ｍｇ）を加え、水素雰囲気中、室温下、８時間撹拌した。反応溶液をセライトろ過後、濃縮することにより、化合物５（３．２１  ｇ，  ９２．２％）を得た。
ＭＳ（ＡＰＣＩ）ｍ／ｚ：  ５５４，  ５５６（Ｍ＋１）＋。【０３９５】
［工程ｄ］
化合物５（２．００  ｇ，  ３．６１  ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（２０．０  ｍＬ）溶液に、氷冷下、トリフルオロ酢酸（１０．０  ｍＬ）を加え、室温まで昇温しながら１．５時間撹拌した。反応溶液を濃縮後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物６（１．４７  ｇ，  ８９．５％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４５４，  ４５６（Ｍ＋１）＋。【０３９６】
［工程ｅ］
化合物６（１００  ｍｇ，  ２２０  μｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１．１０  ｍＬ）溶液に、氷冷下、化合物７（４６．９  ｍｇ，  ４４１  μｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（１１６  ｍｇ，  ４４１  μｍｏｌ）、ビス（２−メトキシエチル）アゾジカルボキシレート（１０６  ｍｇ，  ４４０  μｍｏｌ）を加え、室温まで昇温しながら、一晩撹拌した。反応溶液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物８（９２．９  ｍｇ，  ７８．５％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ５３７，  ５３９（Ｍ＋１）＋。【０３９７】
［工程ｆ］
化合物８（８５．１  ｍｇ，  １５６  μｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１．００  ｍＬ）、メタノール（１．００  ｍＬ）混合溶液に、氷冷下、１Ｍ−水酸化ナトリウム水溶液（１５６  μＬ）を加え、室温まで昇温しながら、一晩撹拌後、加熱還流下、１時間撹拌した。反応溶液を濃縮後、ジエチルエーテルで懸濁洗浄することにより、化合物８のナトリウム塩（４３．４  ｍｇ，  ５０．３％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ５２３，  ５２５（Ｍ＋Ｈ−Ｎａ＋１）＋。【０３９８】
実施例２９
２−クロロ−３−（ピロリジン−３−イルオキシ）−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−安息香酸【０３９９】
【化７８】
2015163435.tif 000080
【０４００】
［工程ａ］
実施例２８の工程ｃで得られた化合物１（１５０  ｍｇ，  ２７１  μｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１．３５  ｍＬ）溶液に氷冷下、化合物２（７７．６  ｍｇ，  ４０５  μｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（１０７  ｍｇ，  ４０６  μｍｏｌ）、ビス（２−メトキシエチル）アゾジカルボキシレート（９８．１  ｍｇ，  ４０６  μｍｏｌ）を加え、室温まで昇温しながら、一晩撹拌した。更に反応溶液に、氷冷下、化合物２（１５２  ｍｇ，  ８１３  μｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（２１３  ｍｇ，  ８１３  μｍｏｌ）、ビス（２−メトキシエチル）アゾジカルボキシレート（１９０  ｍｇ，  ８１３  μｍｏｌ）を加え、室温まで昇温しながら、４時間撹拌した。反応溶液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、セライトろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物３（１５６  ｍｇ，  ７９．９％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ７２３，  ７２５（Ｍ＋１）＋。【０４０１】
［工程ｂ］
化合物３（１４７  ｍｇ，  ２０４  μｍｏｌ）のジクロロメタン（２．９４  ｍＬ）溶液に、テトラフルオロ酢酸（１．４７  ｍＬ）を加え、室温下、２時間撹拌した。反応溶液を濃縮後、過剰の飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物４（９３．１  ｍｇ，  ８７．５％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ５２３，  ５２５（Ｍ＋１）＋。【０４０２】
［工程ｃ］
化合物４（８７．８  ｍｇ，  １５４  μｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１．００  ｍＬ）とメタノール（１．００  ｍＬ）の混合溶液に、氷冷下、１Ｍ−水酸化ナトリウム水溶液（１５４  μＬ）を加え、室温まで昇温しながら、一晩撹拌後、加熱還流下、１時間撹拌した。更に反応溶液に、１Ｍ−水酸化ナトリウム水溶液（１５４  μＬ）を加え、加熱還流下、１時間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、１Ｍ−塩酸（３０８  μＬ）で中和し、水を加えた。析出した固体をろ取し、水で洗浄後、ジエチルエーテルで懸濁洗浄することにより、化合物５（７２．３  ｍｇ，  ９２．０％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ５０９，  ５１１（Ｍ＋１）＋。【０４０３】
実施例３０
３−（アゼチジン−３−イルオキシ）−２−クロロ−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−安息香酸【０４０４】
【化７９】
2015163435.tif 000081
【０４０５】
［工程ａ］
実施例２８の工程ｄで得られた化合物１（２４５  ｍｇ，  ５４０  μｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２．７０  ｍＬ）溶液に、氷冷下、化合物２（１９３  ｍｇ，  １．０８  ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（２８３  ｍｇ，  １．０８  ｍｍｏｌ）、ビス（２−メトキシエチル）アゾジカルボキシレート（２６１  ｍｇ，  １．０８  ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下、４時間撹拌した。反応溶液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、セライトろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物３（２９７  ｍｇ，  ９０．２％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ６０１，  ６１１（Ｍ＋１）＋。【０４０６】
［工程ｂ］
化合物３（２９１  ｍｇ，  ４７７  μｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２．９１  ｍＬ）とメタノール（２．９１  ｍＬ）の混合溶液に、氷冷下、１Ｍ−水酸化ナトリウム水溶液（７１６  μＬ）を加え、室温まで昇温しながら、一晩撹拌した。反応溶液を１Ｍ−塩酸（７１６  μＬ）で中和し、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、セライトろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をジエチルエーテルで懸濁洗浄することにより、化合物４（２６９  ｍｇ，  ９４．７％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ５９５，  ５９７（Ｍ＋１）＋。【０４０７】
［工程ｃ］
化合物４（１２０  ｍｇ，  ２０２  μｍｏｌ）のジオキサン（２．４０  ｍＬ）溶液に、４Ｍ−塩酸ジオキサン溶液（２．４０  ｍＬ）を加え、室温下、２．５時間撹拌した。反応溶液を濃縮後、残渣を酢酸エチルとジエチルエーテルの混合溶液で懸濁洗浄することにより、化合物５の塩酸塩（７９．８  ｍｇ，  ９９．１％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４９５，  ４０７（Ｍ＋１）＋。【０４０８】
実施例３１
２−クロロ−３−（１−メチル−アゼチジン−３−イルオキシ）−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−安息香酸【０４０９】
【化８０】
2015163435.tif 000082
【０４１０】
［工程ａ］
実施例２８の工程ｃで得られた化合物１（１５０  ｍｇ，  ２７１  μｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１．３５  ｍＬ）溶液に氷冷下、化合物２（７２．５  ｍｇ，  ４０６  μｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（１０７  ｍｇ，  ４０６  μｍｏｌ）、ビス（２−メトキシエチル）アゾジカルボキシレート（９８．１  ｍｇ，  ４０６  μｍｏｌ）を加え、室温まで昇温しながら、一晩撹拌した。更に反応溶液に、氷冷下、化合物２（１５２  ｍｇ，  ８１３  μｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（２１３  ｍｇ，  ０．８１３  ｍｍｏｌ）、ビス（２−メトキシエチル）アゾジカルボキシレート（１９０  ｍｇ，  ８１３  μｍｏｌ）を加え、室温まで昇温しながら、４時間撹拌した。反応溶液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、セライトろ過し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物３（１３６  ｍｇ，  ７０．７％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ７０９，  ７１１（Ｍ＋１）＋。【０４１１】
［工程ｂ］
化合物３（１２８  ｍｇ，  １８０  μｍｏｌ）のジクロロメタン（２．５６  ｍＬ）溶液に、テトラフルオロ酢酸（１．２８  ｍＬ）を加え、室温下、２時間撹拌した。反応溶液を濃縮後、過剰の飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物４（８３．３  ｍｇ，  ９０．８％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ５０９，  ５１１（Ｍ＋１）＋。【０４１２】
［工程ｃ］
化合物４（１７４  ｍｇ，  ３４１  μｍｏｌ）、酢酸（３９．０  μＬ，  ６８２  μｍｏｌ）、パラホルムアルデヒド（５６．９  ｍｇ，  １．７１  ｍｍｏｌ）の１，２−ジクロロエタン（１．７１  ｍＬ）溶液に、氷冷下、トリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウム（３０４  ｍｇ，  １．３６  ｍｍｏｌ）を加え、室温まで昇温しながら、１９時間撹拌した。更に反応溶液にパラホルムアルデヒド（２２．８  ｍｇ，  ６８２  μｍｏｌ）、トリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウム（１５２  ｍｇ，  ６８２  μｍｏｌ）を加え、室温下、３時間撹拌した。更に反応溶液にパラホルムアルデヒド（２２．８  ｍｇ，  ６８２  μｍｏｌ）、トリアセトキシ水素化ホウ素ナトリウム（１５２  ｍｇ，  ６８２  μｍｏｌ）を加え、室温下、２時間撹拌した。反応溶液に過剰の飽和水素化ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物５（７３．４  ｍｇ，  ４１．２％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ５２３，  ５２５（Ｍ＋１）＋。【０４１３】
［工程ｄ］
化合物５（７０．２  ｍｇ，  １３４  μｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１．００  ｍＬ）とメタノール（１．００  ｍＬ）の混合溶液に、氷冷下、１Ｍ−水酸化ナトリウム水溶液（１３４  μＬ）を加え、室温まで昇温しながら、一晩撹拌後、加熱還流下、１時間撹拌した。反応溶液を濃縮後、析出した固体をジエチルエーテルで懸濁洗浄することにより、化合物６のナトリウム塩（６７．７  ｍｇ，  ９７．６％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ５０９，  ５１１（Ｍ＋Ｈ−Ｎａ＋１）＋。【０４１４】
実施例３２
２−クロロ−３−（２，２，２−トリフルオロ−エトキシ）−５−[２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル]−安息香酸【０４１５】
【化８１】
2015163435.tif 000083
【０４１６】
［工程ａ］
実施例２８の工程ｄで得られた化合物１（１００  ｍｇ，  ２２０  μｍｏｌ）と化合物２（７６．７  ｍｇ，  ３３１  μｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１．１０  ｍＬ）溶液に、氷冷下、炭酸カリウム（４５．７  ｍｇ，  ３３１  μｍｏｌ）を加え、室温まで昇温しながら３時間撹拌した。反応溶液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物３（１１４．８  ｍｇ，  ９７．２％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ５３６，  ５３８（Ｍ＋１）＋。【０４１７】
［工程ｂ］
化合物３（１０８  ｍｇ，  ２０２  μｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１．００  ｍＬ）とメタノール（１．００  ｍＬ）の混合溶液に、氷冷下、１Ｍ−水酸化ナトリウム水溶液（３０３  μＬ）を加え、室温まで昇温しながら、一晩撹拌した。反応溶液に１Ｍ−塩酸（３０３  μＬ）を加え、水で希釈後、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、得られた残渣をジエチルエーテルで懸濁洗浄することにより、化合物４（９４．６  ｍｇ，  ９９．４％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ５２２，  ５２４（Ｍ＋１）＋。【０４１８】
実施例３３
２−メトキシ−３−ピリジン−４−イル−５−［２−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリミジン−５−イル］−安息香酸【０４１９】
【化８２】
2015163435.tif 000084
【０４２０】
［工程ａ］
参考例３８の工程ｂで得られた化合物２（４．００  ｇ，  １１．５  ｍｍｏｌ）と参考例６６の工程ａで得られた化合物１（５．０８  ｇ，  １３．８  ｍｍｏｌ）のジオキサン（１００  ｍＬ）と水（１０．０  ｍＬ）の混合溶液にリン酸三カリウム（７．３２  ｇ，  ３４．５  ｍｍｏｌ）、ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィン）ジクロロパラジウム（ＩＩ）（４０７  ｍｇ，  ５７５  μｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気中、１００℃加熱下、１０時間撹拌した。反応溶液をセライトろ過し、水と酢酸エチルを加えて、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物３（２．６６  ｇ，  ４５．５％）を得た。
ＭＳ（ＡＰＣＩ）ｍ／ｚ：  ５１０（Ｍ＋１）＋。【０４２１】
［工程ｂ］
化合物３（３．２６  ｇ，  ６．４０  ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（６５．０  ｍＬ）溶液にＮ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン（７８１  ｍｇ，  ６．４０  ｍｍｏｌ）、二炭酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（２．７９  ｇ，  １２．８  ｍｍｏｌ）を加え、室温下、一晩撹拌した。反応溶液を濃縮後、シリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物４（４．０２  ｇ，  ９７．１％）を得た。
ＭＳ（ＡＰＣＩ）ｍ／ｚ：  ６１０（Ｍ＋１）＋。【０４２２】
［工程ｃ］
化合物４（３．９６  ｇ，  ６．４０  ｍｍｏｌ）の酢酸エチル（８０．０  ｍＬ）溶液に、１０％−パラジウム／炭素（４００  ｍｇ）を加え、水素雰囲気中、室温下、８時間撹拌した。反応溶液をセライトろ過後、濃縮することにより、化合物５（３．３８  ｇ）を得た。
ＭＳ（ＡＰＣＩ）ｍ／ｚ：  ５２０（Ｍ＋１）＋。【０４２３】
［工程ｄ］
化合物５（１．００  ｇ，  １．９３  ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（５．００  ｍＬ）溶液にジイソプロピルアミン（１０９  μＬ，  ０．７７５  ｍｍｏｌ）、Ｎ−ブロモスクシンイミド（３４４  ｍｇ，  １．９３  ｍｍｏｌ）を加え、室温下、１時間撹拌した。反応溶液に飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液を加え、室温下、３０分間撹拌した。反応溶液を酢酸エチルで抽出後、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥、ろ過後、減圧濃縮した。得られた残渣をヘキサンで懸濁洗浄することにより、化合物６（７８３  ｍｇ，  ６７．８％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ５９８（Ｍ＋１）＋。【０４２４】
［工程ｅ］
化合物６（５００  ｍｇ，  ０．８１６  ｍｍｏｌ）のジメチルホルムアミド（５．００  ｍＬ）溶液にヨウ化メチル（６７．０  μＬ，  １．０８  ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（１４７  ｍｇ，  １．０６  ｍｍｏｌ）を加え、室温下、一晩撹拌した。更に反応溶液にヨウ化メチル（６７．０  μＬ，  １．０８  ｍｍｏｌ）を加え、室温下、８時間撹拌した。反応溶液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物７（４３７  ｍｇ，  ８７．６％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ６１２，  ６１４（Ｍ＋１）＋。【０４２５】
［工程ｆ］
化合物７（１００  ｍｇ，１６３  μｍｏｌ）、化合物８（２１．９  ｍｇ，１９５  μｍｏｌ）、炭酸カリウム（７０．０  ｍｇ，  ５０６  μｍｏｌ）のジオキサン（１．００  ｍＬ）と水（１００  μＬ）の混合溶液に、窒素雰囲気中、ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィン）ジクロロパラジウム（ＩＩ）（１０．０  ｍｇ，  １４．１  μｍｏｌ）を加え、１００℃加熱下、５時間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物９（５６．９  ｍｇ，  ５７．２％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ６１１（Ｍ＋１）＋。【０４２６】
［工程ｇ］
化合物９（５６．０  ｍｇ，  ９１．７  μｍｏｌ）にトリフルオロ酢酸（１．００  ｍＬ）を加え、室温下、３．０時間撹拌した。反応溶液を固相抽出（Ｗａｔｅｒｓ，  ＰｏｒａＰａｋＴＭ，  Ｒｘｎ  ＣＸ）で精製することにより、化合物１０（４５．１  ｍｇ，  ９６．０％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ５１１（Ｍ＋１）＋。【０４２７】
［工程ｈ］
化合物１０（４５．０  ｍｇ，  ８８．２  μｍｏｌ）のメタノール（１．００  ｍＬ）溶液に、２Ｍ−水酸化ナトリウム水溶液（１００  μＬ，  ２００  μｍｏｌ）を加え、室温下、７時間撹拌した。反応溶液に更に２Ｍ−水酸化ナトリウム水溶液（１００  μＬ，  ２００  μｍｏｌ）を加え、室温下、一晩撹拌した。反応溶液に１Ｍ−塩酸を加え、ｐＨ６〜７に調整後、固相抽出（Ｗａｔｅｒｓ，  ＰｏｒａＰａｋＴＭ，  Ｒｘｎ  ＣＸ）で精製することにより、化合物１１（４２．７  ｍｇ，  ９７．５％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４９７（Ｍ＋１）＋。【０４２８】
実施例３４
２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−安息香酸【０４２９】
【化８３】
2015163435.tif 000085
【０４３０】
［工程ａ］
参考例６５の工程ａで得られた化合物１（１９．８  ｇ，  ５７．３  ｍｍｏｌ）と参考例３９の工程ａで得られた化合物２（２０．１  ｇ，  ６８．８  ｍｍｏｌ）のトルエン（１２０  ｍＬ）と水（１２．０  ｍＬ）の混合溶液に炭酸カリウム（２３．７  ｇ，  １７２  ｍｍｏｌ）、ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィン）ジクロロパラジウム（ＩＩ）（４０６  ｍｇ，  ０．５７３  ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気中、１００℃加熱下、２時間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、酢酸エチルで希釈し、ＮＨシリカゲル（ＦＵＪＩ  ＳＩＬＹＳＩＡ  ＣＨＥＭＩＣＡＬ  ＬＴＤ．  ＣＨＲＯＭＡＴＯＲＥＸ）と活性炭を加え、室温下、１５分間撹拌後、セライトろ過した。得られたろ液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物３（２３．４  ｇ，  ９４．５％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４３３（Ｍ＋１）＋。【０４３１】
［工程ｂ］
化合物３（３１．４  ｇ，  ６７．０  ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１００  ｍＬ）とメタノール（２００  ｍＬ）の混合溶液に、２Ｍ−水酸化ナトリウム水溶液（１０９  ｍＬ，  ２１８  ｍｍｏｌ）を加え、室温下、６時間撹拌した。反応溶液に、氷冷下、６Ｍ−塩酸を加え、ｐＨが３〜４になるように調整後、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、得られた残渣をエタノールで懸濁洗浄することにより、化合物４（１５．４  ｇ，  ５４．９％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４１９（Ｍ＋１）＋。【０４３２】
実施例３５
２−メトキシ−５−［４−メチル−６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−安息香酸【０４３３】
【化８４】
2015163435.tif 000086
【０４３４】
［工程ａ］
参考例６９で得られた化合物１（２３０  ｍｇ，  ４９３  μｍｏｌ）のジメトキシエタン（１．３０  ｍＬ）溶液に、［１，３−ビス（２，６−ジイソプロピルフェニル）イミダゾール−２−イリデン］（３−クロロピリジル）パラジウム（３価）ジクロリド（ＰＥＰＰＳＩＴＭ−ＩＰｒ）（３０．０  ｍｇ，  ４４μｍｏｌ）、５０％−２，４，６−トリメチルボロキシンのテトラヒドロフラン溶液（１．３０  ｍＬ，  ４．６６  ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（２６０  ｍｇ，  １．８８  ｍｍｏｌ）を加え、マイクロウェーブ照射下、１２５℃加熱下、１時間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷下、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物２（２２０  ｍｇ）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４４７（Ｍ＋１）＋。【０４３５】
［工程ｂ］
化合物２（２１５  ｍｇ，  ４８２  μｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（４．００  ｍＬ）とメタノール（２．００  ｍＬ）の混合溶液に、２Ｍ−水酸化ナトリウム水溶液（２．００  ｍＬ，  ２．００  ｍｍｏｌ）を加え、室温下、２時間撹拌した。反応溶液を氷冷後、０．５Ｍ−塩酸（９．００  ｍＬ）を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、得られた残渣をエタノールで懸濁洗浄後、得られた固体をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物３（１９０  ｍｇ，  ９１．２％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４３３（Ｍ＋１）＋。【０４３６】
実施例３６
｛２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−ベンゾイルアミノ｝−酢酸【０４３７】
【化８５】
2015163435.tif 000087
【０４３８】
［工程ａ］
実施例３４の工程ｂで得られた化合物１（４０．０  ｍｇ，  ９５．６  μｍｏｌ）のジメチルホルムアミド（３００  μＬ）溶液に、化合物２の塩酸塩（１９．３  ｍｇ，  １１５  μｍｏｌ）、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＷＳＣ・ＨＣｌ）（２２．０  ｍｇ，  １１５  μｍｏｌ）、１−ヒドロキシ−７−アザベンゾトリアゾール（ＨＯＡｔ）（１６．０  ｍｇ，  １１５  μｍｏｌ）、ジイソプロピルエチルアミン（４０．０  μＬ，  ２３１  μｍｏｌ）を加え、４０℃加熱下、一晩撹拌した。反応溶液を濃縮後、残渣をジクロロメタン（１．００  ｍＬ）に溶解し、トリフルオロ酢酸（１．００  ｍＬ）を加え、室温下、１日間撹拌した。反応溶液を濃縮し、１Ｍ−水酸化ナトリウム水溶液で中和した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を濃縮後、逆相ＨＰＬＣを用い精製することにより、化合物４（６．８  ｍｇ，  １５．０％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４７６（Ｍ＋１）＋。【０４３９】
実施例３７
５−｛２−メトキシ−５−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−ベンゾイルアミノ｝−ニコチン酸【０４４０】
【化８６】
2015163435.tif 000088
【０４４１】
［工程ａ］
実施例３４の工程ｂで得られた化合物１（４０．０  ｍｇ，  ９５．６  μｍｏｌ）のジメチルホルムアミド（３００  μＬ）溶液に、化合物２（１７．５  ｍｇ，  １１５  μｍｏｌ）、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＷＳＣ・ＨＣｌ）（２２．０  ｍｇ，  １１５  μｍｏｌ）、１−ヒドロキシ−７−アザベンゾトリアゾール（ＨＯＡｔ）（１６．０  ｍｇ，  １１５  μｍｏｌ）、ジイソプロピルエチルアミン（４０．０  μＬ，  ２３１  μｍｏｌ）を加え、４０℃加熱下、一晩撹拌した。反応溶液を濃縮後、残渣をエタノール（１．００  ｍＬ）に溶解し、１Ｍ−水酸化ナトリウム水溶液（７７．０  μＬ）を加え、８０℃加熱下、１日間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷し、１Ｍ−塩酸で中和した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を濃縮後、逆相ＨＰＬＣを用い精製することにより、化合物４（１５．４  ｍｇ，  ２９．９％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ５３９（Ｍ＋１）＋。【０４４２】
実施例３８
５−｛６−［（ビフェニル−３−イルメチル）−アミノ］−ピリジン−３−イル｝−２−メトキシ−安息香酸【０４４３】
【化８７】
2015163435.tif 000089
【０４４４】
［工程ａ］
化合物１（３２０  ｍｇ，  １．４５  ｍｍｏｌ）と化合物２（５１０  ｍｇ，  １．７５  ｍｍｏｌ）のジオキサン（４．００  ｍＬ）、アセトニトリル（４．００  ｍＬ）、水（２．００  ｍＬ）混合溶液に、リン酸三カリウム（７４０  ｍｇ，  ３．４９  ｍｍｏｌ）、ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィン）ジクロロパラジウム（ＩＩ）（５０．０  ｍｇ，  ７０．６  μｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気中、９０℃加熱下、３時間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、０．２Ｍ−塩酸（１０．０  ｍＬ）を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物３（３００  ｍｇ，  ８０．１％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２５９（Ｍ＋１）＋。【０４４５】
［工程ｂ］
化合物３（９０．０  ｍｇ，  ３４８  μｍｏｌ）と化合物４（９５．０  ｍｇ，  ５２１  μｍｏｌ）のジクロロメタン（５．００  ｍＬ）溶液にトリフルオロ酢酸（３３  μＬ，  ４３１  μｍｏｌ）、水素化トリアセトキシホウ素ナトリウム（１９０  ｍｇ，  ８９６  μｍｏｌ）を加え、室温下、一晩撹拌した。更に反応溶液に化合物４（９５．０  ｍｇ，  ５２１  μｍｏｌ）、水素化トリアセトキシホウ素ナトリウム（９０．０  ｍｇ，  ４２４  μｍｏｌ）を加え、室温下、６時間撹拌した。反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１．００  ｍＬ）を加え、珪藻土カラムでろ過後、得られたろ液を濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物５（１５５  ｍｇ）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４２５（Ｍ＋１）＋。【０４４６】
［工程ｃ］
化合物５（１５０  ｍｇ，  ３４８  μｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（３．５０  ｍＬ）とメタノール（１．７５  ｍＬ）の混合溶液に、２Ｍ−水酸化ナトリウム水溶液（１．７５  ｍＬ）を加え、室温下、３時間撹拌した。反応溶液に、氷冷下、０．２Ｍ−塩酸（１９．０  ｍＬ）を加えた後、反応溶液中の有機溶媒を減圧濃縮により留去した。析出した固体をろ取後、０．２Ｍ−塩酸で洗浄することにより、化合物６（１３０  ｍｇ，  ９１．１％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４１１（Ｍ＋１）＋。【０４４７】
実施例３９
２−メトキシ−５−［６−（３−ピロリジン−１−イル−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−安息香酸【０４４８】
【化８８】
2015163435.tif 000090
【０４４９】
［工程ａ］
実施例３８の工程ａで得られた化合物１（１３５  ｍｇ，  ５２３  μｍｏｌ）と化合物２（１８５  ｍｇ，  １．０５  ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（５．００  ｍＬ）溶液に、トリフルオロ酢酸（５０  μＬ，  ６５３  μｍｏｌ）、水素化トリアセトキシホウ素ナトリウム（３３０  ｍｇ，  １．５５  ｍｍｏｌ）を加え、室温下、一日間撹拌した。反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１．００  ｍＬ）を加え、珪藻土カラムでろ過後、得られたろ液を濃縮した。残渣をテトラヒドロフラン（３．００  ｍＬ）とメタノール（１．５０  ｍＬ）の混合溶液に溶解後、４Ｍ−水酸化ナトリウム水溶液（１．５０  ｍＬ）を加え、室温下、３時間撹拌した。反応溶液に１Ｍ−塩酸（６．５０  ｍＬ）、水（１０．０  ｍＬ）を加え、析出した固体をろ取後、酢酸エチルで懸濁洗浄することにより、化合物４（１８５  ｍｇ，  ８７．７％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４０４（Ｍ＋１）＋。【０４５０】
以下の化合物は製造方法１〜２８、実施例、および参考例に準じて製造した。【０４５１】
【表１】
2015163435.tif 000091
【０４５２】
【表２】
2015163435.tif 000092
【０４５３】
【表３】
2015163435.tif 000093
【０４５４】
【表４】
2015163435.tif 000094
【０４５５】
【表５】
2015163435.tif 000095
【０４５６】
【表６】
2015163435.tif 000096
【０４５７】
【表７】
2015163435.tif 000097
【０４５８】
【表８】
2015163435.tif 000098
【０４５９】
【表９】
2015163435.tif 000099
【０４６０】
【表１０】
2015163435.tif 000100
【０４６１】
【表１１】
2015163435.tif 000101
【０４６２】
【表１２】
2015163435.tif 000102
【０４６３】
【表１３】
2015163435.tif 000103
【０４６４】
【表１４】
2015163435.tif 000104
【０４６５】
【表１５】
2015163435.tif 000105
【０４６６】
【表１６】
2015163435.tif 000106
【０４６７】
【表１７】
2015163435.tif 000107
【０４６８】
実施例１７７
（１Ｓ，２Ｓ）−２−［５−シアノ−６’−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−［２，３’］ビピリジニル−６−イル］−シクロプロパンカルボン酸【０４６９】
【化８９】
2015163435.tif 000108
【０４７０】
［工程ａ］
実施例２０の工程ｄで得られた化合物１（１０５  ｍｇ，  １４９  μｍｏｌ）のＮ−メチルピロリドン（１．５  ｍＬ）溶液に、シアン化亜鉛（５０  ｍｇ，  ４２６  μｍｏｌ）、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン（ＤＰＰＦ）（１７  ｍｇ，  ３０．７  μｍｏｌ）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）（１４  ｍｇ，  １５．３  μｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気中、１００℃加熱下、２．５時間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、酢酸エチル（１５  ｍＬ）と水（１５  ｍL）を加え、セライトろ過し、水と酢酸エチルで洗浄後、得られたろ液を酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮した。残渣をジクロロメタン（３  ｍＬ）に溶解し、トリフルオロ酢酸（６００  μＬ）を加え、室温で３．５時間撹拌した。反応溶液を氷冷後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物２（５２  ｍｇ，  ７２．５％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４８３（Ｍ＋１）＋。【０４７１】
［工程ｂ］
化合物２（５０  ｍｇ，  １０４  μｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２  ｍＬ）、メタノール（１  ｍＬ）の混合溶液に、２Ｍ−水酸化ナトリウム水溶液（１  ｍＬ）を加え、室温下、１．５時間撹拌した。反応溶液に、氷冷下、０．５Ｍ−塩酸（４．５  ｍＬ）を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物３（４２  ｍｇ，  ８８．９％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４５５（Ｍ＋１）＋。【０４７２】
実施例１７８
（１Ｓ，２Ｓ）−２−［６’−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−［２，３’］ビピリジニル−６−イル］−シクロプロパンカルボン酸【０４７３】
【化９０】
2015163435.tif 000109
【０４７４】
［工程ａ］
実施例２０の工程ｄで得られた化合物１（１００  ｍｇ，  １４２  μｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１．４  ｍＬ）溶液に、１，３−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン（ＤＰＰＰ）（２．９  ｍｇ，  ７．１  μｍｏｌ）、酢酸パラジウム（ＩＩ）（１．６  ｍｇ，  ７．１  μｍｏｌ）、ギ酸（１１  μＬ，２８４  μｍоｌ）、トリエチルアミン（５９  μＬ，４２６  μｍоｌ）を加え、窒素雰囲気中、８０℃加熱下、１時間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、酢酸エチル（１５  ｍＬ）と水（８  ｍL）を加え、セライトろ過し、水と酢酸エチルで洗浄後、得られたろ液を酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮した。残渣のジクロロメタン（１  ｍＬ）溶液に、氷冷下、トリフルオロ酢酸（５００  μＬ）を加え、室温まで昇温しながら２時間撹拌した。反応溶液を氷冷後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（３．００  ｍＬ）を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮した。残渣をカチオン交換樹脂カラム（Ｗａｔｅｒｓ，  ＰｏｒａＰａｋＴＭ，  ＲｘｎＣＸ）で固相抽出精製することにより、化合物２（５９．０  ｍｇ，  ９０．９％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４５８（Ｍ＋１）＋。【０４７５】
［工程ｂ］
化合物２（５９．０  ｍｇ，  １３０  μｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（６００  μＬ）、メタノール（３００  μＬ）の混合溶液に、４Ｍ−水酸化ナトリウム水溶液（３００  μＬ）を加え、室温下、３．５時間撹拌した。反応溶液に、氷冷下、１Ｍ−塩酸（１．２  ｍＬ）を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、残渣をカチオン交換樹脂カラム（Ｗａｔｅｒｓ，  ＰｏｒａＰａｋＴＭ，  ＲｘｎＣＸ）で固相抽出精製後、ジイソプロピルエーテルとヘキサン（１：１）の混合溶液で懸濁洗浄することにより、化合物３（５３．０  ｍｇ，  ９５．０％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４３０（Ｍ＋１）＋。【０４７６】
実施例１７９
３−｛トランス−４−［６−（３−トリフルオロメトキシ−ベンジルアミノ）−ピリジン−３−イル］−テトラヒドロピラン−２−イル｝プロピオン酸【０４７７】
【化９１】
2015163435.tif 000110
【０４７８】
［工程ａ］
参考例７１の工程ｆで得られた化合物１（９５  ｍｇ，  ０．２０  ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（４  ｍＬ）溶液に、四臭化炭素（１３３  ｍｇ，  ０．３９４  ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（１０７  ｍｇ，  ０．３９４ｍｍｏｌ）を加え、室温下、１６時間撹拌した。反応溶液を減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物２（２４  ｍｇ，  ２２％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ５４５，５４７（Ｍ＋１）＋。【０４７９】
［工程ｂ］
化合物２（２４  ｍｇ，  ４４  μｍｏｌ）のＮ−メチルピロリドン（０．５  ｍＬ）溶液に、化合物３（５１  ｍｇ，  ０．２２  ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（３６  ｍｇ，  ０．２６  ｍｍｏｌ）を加え、マイクロウェーブ照射下、１３５℃で１時間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷した後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物４（１３  ｍｇ，  ４２％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ６９７（Ｍ＋１）＋。【０４８０】
［工程ｃ］
化合物４（１３  ｍｇ，  １９  μｍｏｌ）のジクロロメタン（３  ｍＬ）溶液に、トリフルオロ酢酸（１  ｍＬ）を加え、室温下、３時間撹拌した。反応溶液を減圧濃縮し、残渣をクロロホルムで溶解し、飽和重層水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮した。残渣をエタノール（１  ｍＬ）で溶解し、水酸化カリウム（４．２  ｍｇ，  ７５  μｍｏｌ）のエタノール（１  ｍＬ）溶液を加え、室温下、５日間撹拌した。反応溶液に２Ｍ−塩酸（０．０５  ｍＬ）を加えて、減圧濃縮した。残渣をトルエン（３．５  ｍＬ）で懸濁し、Ｎ，Ｎ−ジイソプロプルエチルアミン（３２  μＬ）を加え、１１０℃加熱下、２６時間撹拌した。反応液を室温まで放冷した後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物５と化合物６の混合物（８．５  ｍｇ，  化合物５：化合物６＝４：１，１００％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４５３（Ｍ＋１）＋，  ５２５（Ｍ＋１）＋。【０４８１】
［工程ｄ］
化合物５と化合物６の混合物（８．５  ｍｇ，  化合物５：化合物６＝４：１）のテトラヒドロフラン（１  ｍＬ）、メタノール（０．５  ｍＬ）の混合溶液に、４Ｍ−水酸化ナトリウム水溶液（０．５  ｍＬ）を加え、室温下、３時間撹拌した。反応溶液に２Ｍ−塩酸（１．１  ｍＬ）を加え、減圧濃縮した。残渣を酢酸（３．５  ｍＬ）で溶解し、１２５℃加熱下、１１時間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷した後、減圧濃縮した。残渣をクロロホルムで溶解し、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮することにより、化合物７（９  ｍｇ）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４２５（Ｍ＋１）＋。【０４８２】
以下の化合物は製造方法１〜２８、実施例、および参考例に準じて製造した。【０４８３】
【表１８】
2015163435.tif 000111
【０４８４】
参考例１【０４８５】
【化９２】
2015163435.tif 000112
【０４８６】
［工程ａ］
化合物１（５．００  ｇ，  ２８．３  ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（３０．０  ｍＬ）溶液に、氷冷下、臭素（１．７４  ｍＬ，  ３４．１  ｍｍｏｌ）を滴下し、室温まで昇温しながら１日間撹拌した。反応溶液を再び氷冷後、臭素（１．７４  ｍＬ，  ３４．１  ｍｍｏｌ）を加え、室温まで昇温しながら１７時間撹拌した。反応溶液に１０％チオ硫酸ナトリウム水溶液と飽和水酸化ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製した。得られた固体をヘキサンで懸濁洗浄することにより、化合物２（４．５１  ｇ，  ６３．０％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２５５，  ２５７（Ｍ＋１）＋。【０４８７】
［工程ｂ］
化合物２（４７０  ｍｇ，  １．８５  ｍｍｏｌ）と炭酸カリウム（６３９  ｍｇ，  ４．６２  ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（８．００  ｍＬ）溶液に、氷冷下、ヨードメタン（２８９  ｍｇ，  ２．０３  ｍｍｏｌ）を加え、室温まで昇温しながら１７時間撹拌した。反応溶液に飽和水酸化ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物３（２２０  ｍｇ，  ４４．４％）と化合物４（１９７  ｍｇ，  ３９．７％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２６９，  ２７１（Ｍ＋１）＋。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２６９，  ２７１（Ｍ＋１）＋。【０４８８】
参考例２【０４８９】
【化９３】
2015163435.tif 000113
【０４９０】
工程［ａ］
化合物１（５００  ｍｇ，  １．９６  ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（３０．０  ｍＬ）溶液にＮ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン（２４．０  ｍｇ，  １９６  μｍｏｌ）、二炭酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（８５９  ｍｇ，  ３９３  ｍｍｏｌ）を加え、室温下、一晩撹拌した。反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物２（６６２  ｍｇ，  ９５．４％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ３５５，  ３５７（Ｍ＋１）＋。【０４９１】
参考例３【０４９２】
【化９４】
2015163435.tif 000114
【０４９３】
［工程ａ］
化合物１（２００  ｍｇ，  ７８４  μｍｏｌ）と炭酸セシウム（３０６  ｍｇ，  ９３９  μｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（８．００  ｍＬ）溶液に、室温下、ヨードメタン（５３．７  μＬ，  ８６３  μｍｏｌ）を加え、３．５時間撹拌した。反応溶液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物２（４６．７  ｍｇ，  ２２．１％）と化合物３（８３．７  ｍｇ，  ３９．７％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２６９，  ２７１（Ｍ＋１）＋。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２６９，  ２７１（Ｍ＋１）＋。【０４９４】
参考例４【０４９５】
【化９５】
2015163435.tif 000115
【０４９６】
［工程ａ］
化合物１（１．００  ｇ，  ４．２９  ｍｍｏｌ）のジメトキシエタン（４．００  ｍＬ）溶液に、ヒドラジン一水和物（４．００  ｍＬ，  １２．８  ｍｍｏｌ）を加え、９０℃加熱下、一晩撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、水を加え、析出した固体をろ取し、得られた固体を水で洗浄することにより、化合物２（７８５  ｍｇ，  ７７．８％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２２７（Ｍ＋１）＋。【０４９７】
［工程ｂ］
化合物２（３５０．０  ｍｇ，  １．５４  ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（８．００  ｍＬ）溶液にＮ−ヨードスクシンイミド（４５１  ｍｇ，  ２．００  ｍｍｏｌ）を加え、室温下、一日間撹拌した。反応溶液に飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、析出した固体をろ取し、得られた固体を水で洗浄することにより化合物３（４２８  ｍｇ，  ７８．８％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ３５３，  ３５５（Ｍ＋１）＋。【０４９８】
［工程ｃ］
化合物３（１００  ｍｇ，  ２８４  μｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１．５０  ｍＬ）とメタノール（１．５０  ｍＬ）の混合溶液にトリエチルアミン（６０．０  μＬ，  ４２６  μｍｏｌ）と［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）ジクロリド（１０．０  ｍｇ，  １４．２  μｍｏｌ）と１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン（８．００  ｍｇ，  １４．２  μｍｏｌ）を加え、一酸化炭素雰囲気中、７０℃加熱下、一晩撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、更にトリエチルアミン（６０．０  μＬ，  ４２６  μｍｏｌ）と［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）ジクロリド（１０．０  ｍｇ，  １４．２  μｍｏｌ）と１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン（８．００  ｍｇ，  １４．２  μｍｏｌ）を加え、一酸化炭素雰囲気中、７０℃加熱下、一晩撹拌した。反応溶液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、ろ過し、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物４（７５．０  ｍｇ，  ９３．０％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２８５，  ２８７（Ｍ＋１）＋。【０４９９】
参考例５【０５００】
【化９６】
2015163435.tif 000116
【０５０１】
［工程ａ］
化合物１（１．００  ｇ，  ４．９３  ｍｍｏｌ）とＮ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン（ＤＭＡＰ）（６．００  ｍｇ，  ４９．１  μｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１０．０  ｍＬ）溶液にトリメチルシリルシアニド（５８７  ｍｇ，  ５．９２  ｍｍｏｌ）を氷冷下加え、室温まで昇温しながら一日間撹拌した。反応溶液を減圧濃縮後、水（１．００  ｍＬ）を加え、氷冷下、更に濃硫酸（３．００  ｍＬ）を加え、加熱還流下、３．５時間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、２Ｍ−水酸化ナトリウム水溶液によりｐＨ＝１０に調整した後、ジエチルエーテルで洗浄した。得られた水層を１Ｍ−塩酸でｐＨ２〜３に調整し、析出した固体をろ取後、水で洗浄することにより化合物２（２９８  ｍｇ，  ２４．３％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２４７，  ２４９（Ｍ−１）−。【０５０２】
［工程ｂ］
化合物２（２８０  ｍｇ，  １．１２  ｍｍｏｌ）のエタノール（３．００  ｍＬ）溶液に濃硫酸（３００  μＬ）を加え、８５℃加熱下、６時間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、１Ｍ−水酸化ナトリウム水溶液で中和し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、ろ過し、減圧濃縮することにより、化合物３（２３３  ｍｇ，  ７５．１％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）δ：  １．２３（３Ｈ，  ｔ，  Ｊ＝７．２Ｈｚ）、  ３．５６（１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝５．１Ｈｚ）、  ４．１６−４．３４（２Ｈ，  ｍ）、  ５．３９（１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝４．６Ｈｚ）、  ７．０１−７．０８（１Ｈ，  ｍ）、  ７．３３（１Ｈ，  ｔｄ，  Ｊ＝７．２，  １．５Ｈｚ）、  ７．５３（１Ｈ，  ｄｄｄ，Ｊ＝８．０，  ６．４，  １．５Ｈｚ）。【０５０３】
［工程ｃ］
化合物３（２３０  ｍｇ，  ８３０  μｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルスルホキシド（２．００  ｍＬ）溶液に無水酢酸（９８．０  μＬ，  １．０４  ｍｍｏｌ）を加え、９０℃加熱下、８時間撹拌した。更に反応溶液に無水酢酸（９８．０  μＬ，  １．０４  ｍｍｏｌ）を加え、９０℃加熱下、７．５時間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物４（５１．０  ｍｇ，  ２２．３％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）δ：  １．４２（３Ｈ，  ｔ，  Ｊ＝７．２Ｈｚ）、  ４．４５（２Ｈ，  ｑ，  Ｊ＝７．０Ｈｚ）、  ７．３６−７．４２（１Ｈ，  ｍ）、  ７．７９−７．９０（２Ｈ，  ｍ）。【０５０４】
［工程ｄ］
化合物４（５１．０  ｍｇ，  １８５  μｍｏｌ）のエタノール（１．００  ｍＬ）溶液にヒドロキシアミン塩酸塩（１７．４  ｍｇ，  ０．２５０  ｍｍｏｌ）と酢酸ナトリウム（２１．５  ｍｇ，  ０．２６２  ｍｍｏｌ）を加え、５０℃加熱下３時間撹拌し、更に室温下一晩撹拌した。反応溶液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、ろ過し、減圧濃縮することにより、化合物５（５７．５  ｍｇ）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２９０，  ２９２（Ｍ＋１）＋。【０５０５】
［工程ｅ］
化合物５（５７．５  ｍｇ，  １９８  μｍｏｌ）のジメチルスルホキシド（１．００  ｍＬ）溶液に炭酸カリウム（３０．０  ｍｇ，  ２１７  μｍｏｌ）を加え、７０℃加熱下、４時間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷し、水を加え、析出した固体をろ取し、水で洗浄することにより、化合物６（２２．７ｍｇ，  ６４．５％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）δ：  １．５０（３Ｈ，  ｔ，  Ｊ＝７．２Ｈｚ）、  ４．５７（２Ｈ，  ｑ，  Ｊ＝７．２Ｈｚ）、  ７．３３（１Ｈ，  ｔ，  Ｊ＝８．０Ｈｚ）、  ７．７９（１Ｈ，  ｄｄ，  Ｊ＝７．７，  １．０Ｈｚ）、８．０５−８．１２（１Ｈ，  ｍ）。【０５０６】
参考例６【０５０７】
【化９７】
2015163435.tif 000117
【０５０８】
［工程ａ］
化合物１（５００  ｍｇ，  ２．２３  ｍｍｏｌ）のメタノール（５．００  ｍＬ）溶液にピルビン酸メチル（３００  μＬ，  ２．６５  ｍｍｏｌ）と酢酸ナトリウム（２１０  ｍｇ，  ２．５６  ｍｍｏｌ）を加え、室温下、１時間３０分撹拌した。反応溶液に水を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、ろ過し、減圧濃縮することにより黄色固体（５７１  ｍｇ）を得た。得られた黄色固体（４７１  ｍｇ）をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物２（３４５  ｍｇ）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２７１，  ２７３（Ｍ＋１）＋。【０５０９】
［工程ｂ］
化合物２（１００  ｍｇ，  ０．３６９  ｍｍｏｌ）のトルエン（４．００  ｍＬ）溶液にｐ−トルエンスルホン酸一水和物（７０．２  ｍｇ，  ０．３６９  ｍｍｏｌ）を加え、Ｄｅａｎ−Ｓｔａｒｋ装置を用い、加熱還流下２時間撹拌した。その後反応溶液にトルエン（５．００  ｍＬ）を追加し、加熱還流を８時間続けた。反応溶液を室温まで放冷後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物３（７２．４  ｍｇ，  ７７．２％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２５４，２５６  （Ｍ＋１）＋。【０５１０】
参考例７【０５１１】
【化９８】
2015163435.tif 000118
【０５１２】
［工程ａ］
化合物１（５００  ｍｇ，  ２．２３  ｍｍｏｌ）のメタノール（２５．０  ｍＬ）溶液にマグネシウム（２７０  ｍｇ，  １１．１  ｍｍｏｌ）を加え、室温下一晩撹拌した。反応溶液を氷冷し、１Ｍ−塩酸水溶液（２５  ｍＬ）を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物２（３３０  ｍｇ，  ６９．６．％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）δ：  ３．８０（３Ｈ，  ｓ）、  ４．３２（１Ｈ，  ｄｄ，  Ｊ＝６．７，  ９．８Ｈｚ）、  ４．６９（１Ｈ，  ｄｄ，  Ｊ＝９．８，  ９．８Ｈｚ）、  ４．９５（１Ｈ，  ｄｄ，  ６．７，  ９．８Ｈｚ）、６．７４（１Ｈ，  ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）、７．１４（１Ｈ，  ｄｄ，  Ｊ＝２．４，  ８．７Ｈｚ）、７．３４（１Ｈ，  ｄｄ，  Ｊ＝  ２．４，  １．０Ｈｚ）。【０５１３】
［工程ｂ］
化合物２（３３０  ｍｇ，  １．４５  ｍｍｏｌ）とビス（ピナコレート）ジボラン（７４０  ｍｇ，  ２．９１  ｍｍｏｌ）と酢酸カリウム（４３０  ｍｇ，  ４．３８  ｍｍｏｌ）のジメトキシエタン（６．００  ｍＬ）溶液に酢酸パラジウム（３４  ｍｇ，０．１４５  ｍｍｏｌ）と２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル（１４０  ｍｇ，  ０．２９４  ｍｍｏｌ）を加え、マイクロウェーブ照射下１３５℃で１時間撹拌した。反応溶液を水と酢酸エチルで希釈後、セライトでろ過し、ろ液を酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物３（５００  ｍｇ）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ３０５（Ｍ＋１）＋。【０５１４】
参考例８【０５１５】
【化９９】
2015163435.tif 000119
【０５１６】
［工程ａ］
ジエチルホスホノ酢酸エチル（２．６６  ｇ，  １１．９  ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１５．０  ｍＬ）溶液に、氷冷下、水素化ナトリウム（６０重量％，０．４３  ｇ，  １０．８  ｍｍｏｌ）を加え、室温下３０分間撹拌した。反応溶液に化合物１（１．００  ｇ，  ５．９３  ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（１０．０  ｍＬ）を加え、室温下、３時間撹拌した。反応溶液に飽和塩化アンモニア水溶液（２．００  ｍＬ）と水（５０．０  ｍＬ）を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物２（８３５  ｍｇ，  ５９．０％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）δ：  １．２９（３Ｈ，  ｔ，  Ｊ＝７．２Ｈｚ）、  ３．６６（２Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝１．０Ｈｚ）、  ４．２０（２Ｈ，  ｑ，  Ｊ＝７．２Ｈｚ）、  ７．２６（１Ｈ，  ｄｄ，  ２．１，  ８．７Ｈｚ）、７．３９（１Ｈ，  ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）、７．５５（１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝２．０Ｈｚ）、７．６５（１Ｈ，  ｓ）。【０５１７】
［工程ｃ］
化合物２（２８０  ｍｇ，  １．１７  ｍｍｏｌ）のエタノール（１２．０  ｍＬ）溶液にパラジウム／炭素（１０重量％，  １２０  ｍｇ）を加え、室温下、水素雰囲気中、一晩撹拌した。反応溶液をセライトでろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。残渣をアセトニトリル（６．００  ｍＬ）に溶解し、室温下、Ｎ−ブロモスクシンイミド（２７０  ｍｇ，  １．５２  ｍｍｏｌ）を加え、４時間撹拌した。反応溶液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物３（２５０  ｍｇ，  ７５．２％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２８５，  ２８７（Ｍ＋１）＋。【０５１８】
参考例９【０５１９】
【化１００】
2015163435.tif 000120
【０５２０】
［工程ａ］
化合物１（２０．９  ｇ，  １０９  ｍｍｏｌ）のメタノール（２００  ｍＬ）溶液にナトリウムメトキシド（２．９４ｇ，  ５４．５  ｍｍｏｌ）を加え、窒素バブリングしながら、室温下、完全に試薬が溶解するまで撹拌した。反応溶液に（＋）−１，１−ビス［（２Ｒ，  ４Ｒ）−２，４−ジエチルホスホタノ］フェロセン（４８２  ｍｇ，  １．０９  ｍｍｏｌ）とテトラフルオロホウ酸ビス（１，５−シクロオクタジエン）ロジウム（Ｉ）（５１０  ｍｇ，  １．０９  ｍｍｏｌ）のメタノール（１００  ｍＬ）溶液を加え、オートクレーブ反応装置を用い、水素雰囲気中、０．５〜０．７  ＭＰａに調整下、５時間撹拌した。反応溶液を減圧濃縮後、１０％クエン酸水溶液（１．０  Ｌ）を加え、酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、ろ過、濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物２（１７．６  ｇ，  ８３．１％，  ８６．９％ｅｅ）を得た。得られた化合物２（１７．１  ｇ，  ８８．０  ｍｍｏｌ）を１Ｍ−水酸化ナトリウム水溶液（２００  ｍＬ）に溶かした後、１Ｍ−塩酸（２００  ｍＬ）を加え、氷冷下、一晩撹拌した。析出した固体をろ過により除去後、得られたろ液を酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、減圧濃縮した。得られた残渣を１Ｍ−水酸化ナトリウム水溶液（１００  ｍＬ）に溶解させた後、１Ｍ−塩酸（１００  ｍＬ）を加え、氷冷下、一晩撹拌した。得られた反応溶液に水（５０  ｍＬ）を加え、室温下、３日間放置した。析出した固体をろ過により除去後、ろ液を酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、減圧濃縮することにより、化合物２（１２．５ｇ，  ５９．１％，  ９２．９％ｅｅ）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  １９５（Ｍ＋１）＋。【０５２１】
［工程ｂ］
化合物２（１２．５  ｇ，  ６４．２  ｍｍｏｌ）のメタノール（１００  ｍＬ）溶液に、濃硫酸（１４０  μＬ）を加え、加熱還流下、２時間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、減圧濃縮し、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水で洗浄後、飽和塩化ナトリウム水溶液（１００  ｍＬ）で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製後、減圧濃縮して得られた固体をヘキサンで懸濁洗浄することにより、化合物３（９．８２  ｇ，  ９９．８％，  ９３．４％ｅｅ）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２０９（Ｍ＋１）＋。【０５２２】
［工程ｃ］
化合物１（９９８  ｍｇ，  ４．７９  ｍｍｏｌ）のピリジン（１０．０  ｍＬ）溶液に氷冷下、トリフルオロメタンスルホン酸無水物（１．６３  ｇ，  ５．７６  ｍｍｏｌ）を２分かけて滴下し、室温まで昇温しながら２時間撹拌した。反応溶液を減圧濃縮後、酢酸エチル（３５．０  ｍＬ）と１Ｍ−塩酸（３５．０  ｍＬ）を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物２（１．５８  ｇ，  ９６．８％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）δ：  ２．６１（１Ｈ，  ｄｄ，  Ｊ＝９．２，  １６．５Ｈｚ）、２．７９（１Ｈ，  ｄｄ，  Ｊ＝５．６，  １６．５Ｈｚ）、３．７３（３Ｈ，  ｓ）、３．８９（１Ｈ，  ｄｄｄｄｄ，  Ｊ＝１．０，  ５．６，  ６．７，  ９．２，  ９．２Ｈｚ）、４．３４（１Ｈ，  ｄｄ，Ｊ＝６．７，  ９．２Ｈｚ）、  ４．８４（１Ｈ，  ｄｄ，  Ｊ＝９．２，９．２Ｈｚ）、６．７０（１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝２．６Ｈｚ）、  ６．７７（１Ｈ，  ｄｄ，  Ｊ＝２．６，  ８．２Ｈｚ）、７．１９（１Ｈ，  ｄｄ，  Ｊ＝１．０，  ８．２Ｈｚ）。【０５２３】
参考例１０【０５２４】
【化１０１】
2015163435.tif 000121
【０５２５】
［工程ａ］
化合物１（１０．０  ｇ，  ４６．５  ｍｍｏｌ）のトルエン（１００  ｍＬ）溶液に、（トリフェニルホスホラニリデン）酢酸エチル（１７．１  ｇ，  ５１．２  ｍｍｏｌ）を加え、１０５℃加熱下２．５時間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷し、減圧濃縮後、トルエン（５０  ｍＬ）を加えた。析出した固体をろ過により除去し、ろ液を減圧濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物２（１２．６  ｇ）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２７３，  ２７５（Ｍ＋１）＋。【０５２６】
［工程ｂ］
化合物２（１．８６  ｇ，  ６．８５  ｍｍｏｌ）のメタノール（３５  ｍＬ）溶液に塩化コバルト（ＩＩ）（４５．０ｍｇ，  ０．３４７  ｍｍｏｌ）を加え、氷冷後、水素化ホウ素ナトリウム（３９０  ｍｇ，  １０．３  ｍｍｏｌ）を加え、２５分間撹拌した。反応溶液に飽和塩化アンモニア水溶液と水を加え、有機溶媒を減圧濃縮後、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物３（２．００  ｇ，  １００％）を得た。【０５２７】
参考例１１【０５２８】
【化１０２】
2015163435.tif 000122
【０５２９】
水素化ナトリウム（６０重量％，  １００  ｍｇ，  ２．５０  ｍｍｏｌ）のジメチルスルホキシド（８．００  ｍＬ）溶液を窒素雰囲気中、６０℃加熱下、３５分間撹拌した。反応溶液に室温下、トリメチルスルホキソニウムヨージド（５９０  ｍｇ，  ２．６８  ｍｍｏｌ）を加え、３０分撹拌した。反応溶液に、化合物１（５６０  ｍｇ，  ２．０６  ｍｍｏｌ）のジメチルスルホキシド（４．０  ｍＬ）溶液を加え、室温下、一晩撹拌した。反応溶液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物２（１７５  ｍｇ，  ２９．８％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２８５，  ２８７（Ｍ＋１）＋。【０５３０】
参考例１２【０５３１】
【化１０３】
2015163435.tif 000123
【０５３２】
工程［ａ］
水素化ナトリウム（６０重量％，５４５  ｍｇ，  １３．６  ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（４０．０  ｍＬ）溶液に、氷冷下、ジエチルホスホノ酢酸ｔｅｒｔ−ブチル（３．２３  ｍＬ，  １３．７  ｍｍｏｌ）を加え、１０分間撹拌した。反応溶液に、氷冷下、化合物１（２．００  ｇ，  １１．４  ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（４０．０  ｍＬ）溶液を加え、室温まで昇温しながら１．３時間撹拌した。反応溶液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物２（２．９３  ｇ，  ９３．８％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２７４（Ｍ＋１）＋。【０５３３】
工程［ｂ］
水素化ナトリウム（６０重量％，  ５０７  ｍｇ，  １２．７  ｍｍｏｌ）のジメチルスルホキシド（４０  ｍＬ）溶液を窒素雰囲気中、７０℃加熱下、１５分間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、トリメチルスルホキソニウムヨージド（２．８０  ｇ，  １２．７  ｍｍｏｌ）を加えて３０分撹拌した。反応溶液に化合物２（２．９０  ｇ，  １０．６  ｍｍｏｌ）のジメチルスルホキシド（４０  ｍＬ）溶液を加え、室温下、一晩撹拌した。反応溶液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製後、得られた固体をヘキサンで懸濁洗浄することにより化合物３（２７８  ｍｇ，  ９．１％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２８８（Ｍ＋１）＋。【０５３４】
参考例１３【０５３５】
【化１０４】
2015163435.tif 000124
【０５３６】
［工程ａ］
化合物１（５．００  ｇ，  ３３．７  ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（５０．０  ｍＬ）溶液に臭素（１．８０  ｍＬ，  ３５．４  ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（２０．０  ｍＬ）溶液を室温下滴下し、７時間撹拌した。反応溶液に水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。析出した固体をジイソプロピルエーテル（１０．０  ｍＬ）で懸濁洗浄し、ろ取後、ジイソプロピルエーテルとヘキサンで洗浄することにより、化合物２（３．５６  ｇ，  ４６．５％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２２７，  ２２９（Ｍ＋１）＋。【０５３７】
［工程ｂ］
化合物２（１．０２  ｇ，  ４．４９  ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１０．０  ｍＬ）溶液に２Ｍ−水酸化ナトリウム水溶液（５．００  ｍＬ）を加え、室温下、１０時間撹拌した。反応溶液を減圧濃縮することにより、有機溶媒を留去し、水（１０．０  ｍＬ）とヨウ化ナトリウム（１．０１  ｇ，  ６．７４  ｍｍｏｌ）を加え、−５℃に冷却した。反応溶液に２％次亜塩素酸ナトリウム水溶液（２０．０  ｍＬ）を４０分かけて加え、−５℃冷却下、１時間撹拌した。反応溶液に２Ｍ−塩酸水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２０．０  ｍＬ）に溶解し、炭酸カリウム（１．８６  ｇ，  １３．４６  ｍｍｏｌ）とヨウ化メチル（０．８５０  ｍＬ，  １３．６５  ｍｍｏｌ）を加え、室温下、一晩撹拌した。反応溶液を氷冷後、０．１Ｍ−塩酸（５０．０  ｍＬ）を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物４（１．４８  ｇ，  ８２．６％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ３９９，  ４０１  （Ｍ＋１）＋。【０５３８】
［工程ｃ］
化合物４（４６０  ｍｇ，  １．１５  ｍｍｏｌ）のＮ−メチルピロリドン（１０．０  ｍＬ）溶液にシアン化銅（５２０  ｍｇ，  １．３１  ｍｍｏｌ）を加え、１２０℃加熱下、一日間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、酢酸エチル（４０．０  ｍＬ）と水（４０．０  ｍＬ）を加え、セライトろ過後、ろ液を酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物５（１６０  ｍｇ，  ４６．７％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２９８，  ３００  （Ｍ＋１）＋。【０５３９】
参考例１４【０５４０】
【化１０５】
2015163435.tif 000125
【０５４１】
［工程ａ］
化合物１（９００  ｍｇ，  ３．７４  ｍｍｏｌ）の酢酸エチル（４０．０  ｍＬ）溶液にパラジウム／炭素（１０重量％，  ４００  ｍｇ）を加えた。反応溶液を水素雰囲気中、室温下、６時間撹拌した。反応容器を窒素で置換後、反応溶液をセライトろ過し、得られたろ液を減圧濃縮した。残渣をジクロロメタン（３０．０  ｍＬ）に溶解し、ジイソプロピルアミン（１３０  μＬ，  ０．９２８  ｍｍｏｌ）を加え、氷冷した。反応溶液にＮ−ブロモスクシンイミド（６４０  ｍｇ，  ３．６０  ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（３０．０  ｍＬ）溶液を５分かけて滴下し、氷冷下、１時間撹拌した。反応溶液に０．０５Ｍ−塩酸（４０．０  ｍＬ）を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物３（７２０  ｍｇ，  ８３．９％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２２７，  ２２９  （Ｍ−１）−。【０５４２】
［工程ｂ］
化合物３（７２０  ｍｇ，  ３．１３  ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１２．０  ｍＬ）溶液に炭酸カリウム（８６５  ｍｇ，  ６．２６  ｍｍｏｌ）とヨウ化メチル（３９０  μＬ，  ６．２７  ｍｍｏｌ）を加え、室温下、１７時間撹拌した。反応溶液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物４（７００  ｍｇ，  ９２．０％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２４３，２４５  （Ｍ＋１）＋。【０５４３】
［工程ｃ］
化合物４（１６０  ｍｇ，  ６５８  μｍｏｌ）のアセトニトリル（３．００  ｍＬ）溶液に、アクリル酸エチル（１４３  μＬ，  １．３２  ｍｍｏｌ）とジイソプロピルエチルアミン（３５０  μＬ，  ２．０１  ｍｍｏｌ）とトリ−（Ｏ−トリル）ホスフィン（８０  ｍｇ，  ２６３  μｍｏｌ）と酢酸パラジウム（ＩＩ）（１５．０  ｍｇ，  ６６．８  μｍｏｌ）を加え、マイクロウェーブ反応装置を用い１３０℃加熱下、１時間撹拌した。反応溶液にアクリル酸エチル（１４３  μＬ，  １．３２  ｍｍｏｌ）とトリ−（Ｏ−トリル）ホスフィン（４０  ｍｇ，  １３１  μｍｏｌ）と酢酸パラジウム（ＩＩ）（１５．０  ｍｇ，  ６６．８  μｍｏｌ）を加え、マイクロウェーブ反応装置を用い１３０℃加熱下、更に１時間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物５（１３０  ｍｇ，  ７５．３％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２６３  （Ｍ＋１）＋。【０５４４】
［工程ｄ］
化合物５（１２５  ｍｇ，  ４７７  μｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（４．５０  ｍＬ）とメタノール（４．５０  ｍＬ）の混合溶液に塩化コバルト（６．０  ｍｇ，  ４６．０  μｍｏｌ）を加えた後、−１０℃冷却下、水素化ホウ素ナトリウム（３５．０  ｍｇ，  ９２６  μｍｏｌ）を加え、４０分間撹拌した。反応溶液に飽和塩化アンモニア水溶液と水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、目的物（１３０  ｍｇ）を油状物として得た。得られた油状物（１３０  ｍｇ）のアセトニトリル（４５．０  ｍＬ）溶液にＮ−ブロモスクシンイミド（１７０  ｍｇ，  ０．９５５  ｍｍｏｌ）を加え、室温下、９時間撹拌した。反応溶液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物７（１２５  ｍｇ，  ７６．４％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ３４３，  ３４５  （Ｍ＋１）＋。【０５４５】
参考例１５【０５４６】
【化１０６】
2015163435.tif 000126
【０５４７】
［工程ａ］
化合物１（１．００  ｇ，  ７．７１  ｍｍｏｌ）と炭酸ナトリウム（１．７１  ｇ，  １６．２  ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（５．００  ｍＬ）と水（５．００  ｍＬ）の混合溶液に、室温下、ヨウ素（２．９４  ｇ，  １６．２  ｍｍｏｌ）を３回に分けて加え、１．５時間撹拌した。反応溶液を１Ｍ−塩酸で中和し、酢酸エチルで抽出した。有機層をチオ硫酸ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮することにより、化合物２（２．０４ｇ）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２５６  （Ｍ＋１）＋【０５４８】
［工程ｂ］
化合物２（２．０４  ｇ）と炭酸カリウム（１．６０  ｇ，  １１．６  ｍｍｏｌ）のジメチルホルムアミド（１５．４  ｍＬ）溶液に、室温下、ヨウ化メチル（０．５８  ｍＬ，  １１．６  ｍｍｏｌ）を加え、１時間撹拌した。反応溶液に水（６０．０  ｍＬ）を加え、１時間撹拌した。析出した固体をろ取し、水（３０．０  ｍＬ）で洗浄することにより、化合物３（１．８１ｇ）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２７０  （Ｍ＋１）＋【０５４９】
［工程ｃ］
化合物３（１．００  ｇ，  ３．７１  ｍｍｏｌ）のアセトニトリル（１１．０  ｍＬ）溶液にアクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル（１．０８  ｍＬ，  ７．４１  ｍｍｏｌ）、ジイソプロピルエチルアミン（１．９４  ｍＬ，  １１．１  ｍｍｏｌ）、酢酸パラジウム（ＩＩ）（４５  ｍｇ，  ０．２００  ｍｍｏｌ）、トリ−（Ｏ−トリル）ホスフィン（２２５  ｍｇ，  ０．７３９  ｍｍｏｌ）を加え、マイクロウェーブ照射下、窒素雰囲気中、１５０℃で２時間撹拌した。反応溶液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物４（９２５  ｍｇ，  ９２．８％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２７０  （Ｍ＋１）＋。【０５５０】
［工程ｄ］
化合物４（２００  ｍｇ，  ０．７４２  ｍｍｏｌ）と塩化コバルト（ＩＩ）（１０  ｍｇ，  ０．０７７０  ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（３．５０  ｍＬ）とメタノール（３．５０  ｍＬ）の混合溶媒に−１０℃冷却下、水素化ホウ素ナトリウム（４０  ｍｇ，  １．０６  ｍｍｏｌ）を加え、４５分間撹拌した。反応溶液に飽和塩化アンモニウム水溶液と水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物５（２１０  ｍｇ）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２７２  （Ｍ＋１）＋。【０５５１】
参考例１６【０５５２】
【化１０７】
2015163435.tif 000127
【０５５３】
［工程ａ］
化合物１（２．００  ｇ，  ８．６２  ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（４０．０  ｍＬ）溶液に窒素雰囲気中、０．９５Ｍ−ボラン−テトラヒドロフラン錯体のテトラヒドロフラン溶液（２１．８  ｍＬ，  ２０．７  ｍｍｏｌ）を滴下し、室温下、一晩撹拌した。反応溶液に３Ｍ−水酸化ナトリウム水溶液（２０．０  ｍＬ）を加えクエンチ後、９０℃加熱下、１時間撹拌した。反応溶液中の有機溶媒を減圧濃縮により留去後、水（４０．０  ｍＬ）を加えた。析出した固体を水で洗浄することにより、化合物２（１．５０  ｇ，  ７９．８％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２１８，  ２２０（Ｍ＋１）＋。【０５５４】
［工程ｂ］
化合物２（５００  ｍｇ，  ２．２９  ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（２５．０  ｍＬ）とトルエン（２５．０  ｍＬ）混合溶液に、二酸化マンガン（９９５  ｍｇ，  １１．４  ｍｍｏｌ）を加え、室温下、一晩撹拌した後、５０℃加熱下、１日間撹拌した。反応溶液をセライトろ過後、ろ液を濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物３（３６０  ｍｇ，  ７２．５％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２１６，２１８  （Ｍ＋１）＋。【０５５５】
［工程ｃ］
ｔｅｒｔ−ブチル  ジエチルホスホノアセテート（５８０  ｍｇ，  ２．３０  ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（６．００  ｍＬ）に、氷冷下、水素化ナトリウム（６０重量％，  ８５  ｍｇ，  ２．１３  ｍｍｏｌ）を加え、３０分撹拌した。反応溶液に、氷冷下、化合物３（３５５  ｍｇ，  １．６４  ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（４．０  ｍＬ）溶液を加え、２時間撹拌した。反応溶液に飽和塩化アンモニウム水溶液と水を加え、クエンチ後、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物４（４８０  ｍｇ，  ９３．３％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ３１４，  ３１６（Ｍ＋１）＋。【０５５６】
［工程ｄ］
化合物４（１２５  ｍｇ，  ０．３９７  ｍｍｏｌ）と塩化コバルト（ＩＩ）（１０  ｍｇ，  ０．０７７０  ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（４．００  ｍＬ）とメタノール（４．００  ｍＬ）の混合溶媒に−１０℃冷却下、水素化ホウ素ナトリウム（３０  ｍｇ，  ７．９３  μｍｏｌ）を加え、５０分間撹拌した。反応溶液に、−１０℃冷却下、飽和塩化アンモニウム水溶液と水を加え、クエンチ後、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物５（８５．０  ｍｇ，  ６７．７％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ３１６，  ３１８  （Ｍ＋１）＋。【０５５７】
参考例１７【０５５８】
【化１０８】
2015163435.tif 000128
【０５５９】
［工程ａ］
化合物１（１．００  ｇ，  ３．７１  ｍｍｏｌ）のジオキサン（２０．０  ｍＬ）と水（５．００  ｍＬ）の混合溶液に４，４，５，５−テトラメチル−２−ビニル−１，３，２−ジオキサボロラン（６９５  μＬ，  ４．１０  ｍｍｏｌ）と炭酸カリウム（１．０３  ｇ，  ７．４１  ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（２２０  ｍｇ，  ０．１９０  ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気中、９０℃加熱下、４時間撹拌した。さらに反応溶液に４，４，５，５−テトラメチル−２−ビニル−１，３，２−ジオキサボロラン（２５５  μＬ，  １．５０  ｍｍｏｌ）とテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）（１３０  ｍｇ，  ０．１１２  ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気中、９０℃加熱下、４時間撹拌した。反応溶液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物２（４２０  ｍｇ，  ６６．８％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  １７０，１７２  （Ｍ＋１）＋。【０５６０】
［工程ｂ］
化合物２（４２０  ｍｇ，  ２．４７  ｍｍｏｌ）のトルエン（１０．０  ｍＬ）溶液に、ジアゾ酢酸エチル（８５％トルエン溶液，２９０  μＬ，  ２．３５  ｍｍｏｌ）を加え、１０５℃加熱下、７時間撹拌した。反応溶液に更にジアゾ酢酸エチル（８５％トルエン溶液，１．２２  ｍＬ，  ８．３４  ｍｍｏｌ）を加え、１０５℃加熱下、１．５時間撹拌した。反応溶液を減圧濃縮後、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物３（３２０  ｍｇ，  ５０．６％）と化合物４（１４０  ｍｇ，  ２２．１％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２５６，  ２５８  （Ｍ＋１）＋。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２５６，  ２５８  （Ｍ＋１）＋。【０５６１】
参考例１８【０５６２】
【化１０９】
2015163435.tif 000129
【０５６３】
［工程ａ］
水素化ナトリウム（６０重量％，  ３５．０  ｍｇ，  ８７６  μｍｏｌ）のジメチルスルホキシド（４．００  ｍＬ）溶液を窒素雰囲気中、６０℃加熱下、３０分間撹拌した。反応溶液に室温下、トリメチルスルホキソニウムヨージド（２２０  ｍｇ，  １．００  ｍｍｏｌ）を加え、３０分撹拌した。反応溶液に、化合物１（２００  ｍｇ，  ７４２  μｍｏｌ）のジメチルスルホキシド（４．００  ｍＬ）溶液を加え、室温下、６時間撹拌した。反応溶液に飽和塩化アンモニウム水溶液と水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物２（１１５  ｍｇ，  ５４．６％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２８４，  ２８６（Ｍ＋１）＋。【０５６４】
参考例１９【０５６５】
【化１１０】
2015163435.tif 000130
【０５６６】
［工程ａ］
２Ｍ−イソプロピルマグネシウムクロリドのテトラヒドロフラン溶液（２４．５  ｍＬ，  ４９．０  ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（３０．０  ｍＬ）溶液に、化合物１（１２．０  ｇ，  ４４．５  ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（３０．０  ｍＬ）溶液を窒素雰囲気中、室温下滴下しながら加え、１時間撹拌した。更に反応溶液に２Ｍ−イソプロピルマグネシウムクロリドのテトラヒドロフラン溶液（４．４５  ｍＬ，  ８．９１  ｍｍｏｌ）を滴下しながら加え、室温下１時間撹拌した。反応溶液に氷冷下、化合物２（６．４３  ｇ，  ４６．８  ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（３０．０  ｍＬ）溶液を加え、２時間撹拌後、室温まで昇温しながら一晩撹拌した。反応溶液に水（４０．０  ｍＬ）と飽和塩化アンモニウム水溶液（１６０  ｍＬ）を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。得られた残渣をクロロホルム（５０．０  ｍＬ）で懸濁洗浄後、この懸濁液にヘキサン（１００  ｍＬ）を加えて再び懸濁洗浄することにより、化合物３（５．８４  ｇ，  ５９．６％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２２０，  ２２２（Ｍ＋１）＋。【０５６７】
［工程ｂ］
化合物３（３．００  ｇ，  １３．６  ｍｍｏｌ），クロロ［（１Ｒ，  ２Ｒ）−Ｎ−（２’，６’−ジメチルベンジルスルホニル）−１，２−ジフェニルエタンジアミン］（ｐ−シメン）ルテニウム（ＩＩ）（１８１  ｍｇ，  ２７２  μｍｏｌ）とトリエチルアミン（３．７８  ｍＬ，  ２７．２  ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２７．３  ｍＬ）溶液に、室温下、ギ酸（２．５７  ｍＬ，  ６８．２  ｍｍｏｌ）を加え、室温下１時間撹拌した。反応溶液に水（１５０  ｍＬ）を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物４（３．０８  ｇ，  ９１．１％ｅｅ）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２２２，  ２２４（Ｍ＋１）＋。【０５６８】
［工程ｃ］
化合物４（３．０８  ｇ，  １３．９  ｍｍｏｌ）のジエチルエーテル（３０．０  ｍＬ）溶液に水（３０．０  ｍＬ）と水酸化カリウム（２．３５  ｇ，  ４１．９  ｍｍｏｌ）を加え、一晩撹拌した。反応溶液を酢酸エチルで抽出後、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮することにより、化合物５（２．３９  ｇ，  ９２．２％，  ９０．０％ｅｅ）を得た。
ＭＳ（ＡＰＣＩ）ｍ／ｚ：  １８６，  １８８（Ｍ＋１）＋。【０５６９】
［工程ｄ］
化合物６（５５６  ｍｇ，  ２．４８  ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１．００  ｍＬ）溶液に１Ｍ−カリウムｔｅｒｔ−ブトキシドのテトラヒドロフラン溶液（２．１６  ｍＬ，  ２．１５  ｍｍｏｌ）を滴下しながら加え、その後反応溶液に化合物５（２００  ｍｇ，  １．０８  ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気中、加熱還流下１日間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、水（１０．０  ｍＬ）を加え、酢酸エチル（３０．０  ｍＬ）で抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物７（２３６  ｍｇ，  ８５．７％，  ８９．６％ｅｅ）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２５６，  ２５８（Ｍ＋１）＋。【０５７０】
参考例２０【０５７１】
【化１１１】
2015163435.tif 000131
【０５７２】
［工程ａ］
化合物１（２．００  ｇ，  ７．８２  ｍｍｏｌ，  ９９．２７％ｅｅ）のジクロロメタン（３０．０  ｍＬ）溶液に、−２０℃冷却下、１Ｍ−三臭化ホウ素のジクロロメタン溶液（２３．５  ｍＬ，  ２３．５  ｍｍｏｌ）を滴下しながら加えた後、室温まで昇温しながら５時間撹拌した。反応溶液に−２０℃冷却下、エタノール（３．００  ｍＬ）を加え、室温まで昇温し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と４Ｍ−水酸化ナトリウム水溶液（３．００  ｍＬ）を加えてｐＨ＝７に調整した後、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物２（１．６０  ｇ，  ８４．９％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２４２（Ｍ＋１）＋。【０５７３】
［工程ｂ］
化合物２（２５０  ｍｇ，  １．０４  ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（５．２  ｍＬ）溶液に炭酸カリウム（２８７  ｍｇ，  ２．０８  ｍｍｏｌ）、ヨウ化エチル（１４２  μＬ，  １．４５  ｍｍｏｌ）を加え、室温下、７時間撹拌した。反応溶液に水（２０．０  ｍＬ）を加え、析出した固体をろ取後、水で洗浄することにより、化合物３（２５８  ｍｇ，  ９２．１％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２７０（Ｍ＋１）＋。【０５７４】
参考例２１【０５７５】
【化１１２】
2015163435.tif 000132
【０５７６】
［工程ａ］
化合物１（１．００  ｇ，  ４．１５  ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２０．０  ｍＬ）溶液に炭酸カリウム（１．１５  ｇ，  ８．３１  ｍｍｏｌ）、４−メトキシベンジルクロリド（８４７  μＬ，  ６．２２  ｍｍｏｌ）を加え、室温下、３日間撹拌した。反応溶液に水（２０．０  ｍＬ）を加えた後、１Ｍ−塩酸を加えて中和し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物２（１．４０  ｇ，  ９３．５％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ３６２（Ｍ＋１）＋。【０５７７】
参考例２２【０５７８】
【化１１３】
2015163435.tif 000133
【０５７９】
［工程ａ］
クロロ（１，５−シクロオクタジエン）ロジウム（Ｉ）二量体（４１０  ｍｇ，  ０．８３１  ｍｍｏｌ）のジオキサン（４０．０  ｍＬ）溶液に、１．５Ｍ−水酸化カリウム水溶液（１４．５  ｍＬ，  ２．１７  ｍｍｏｌ）を加え、化合物２（２．３８  ｇ，  １６．７  ｍｍｏｌ）のジオキサン（４０．０  ｍＬ）溶液、化合物１（２．５４  ｇ，  １６．８  ｍｍｏｌ）のジオキサン（４０．０  ｍＬ）溶液を順に加え、室温下、３時間撹拌した。反応溶液にジエチルエーテルと水を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物３（４４０  ｍｇ）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２５１  （Ｍ＋１）＋。【０５８０】
［工程ｂ］
得られた化合物３（４４０  ｍｇ）のアセトニトリル（１６．０  ｍＬ）溶液に、Ｎ−ブロモスクシンイミド（３３０  ｍｇ，  １．８５  ｍｍｏｌ）を加え、室温下、一晩撹拌した。反応溶液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物４（３３５  ｍｇ）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ３２９，  ３３２  （Ｍ＋１）＋。【０５８１】
参考例２３【０５８２】
【化１１４】
2015163435.tif 000134
【０５８３】
［工程ａ］
化合物１（１０．０  ｍＬ，  ７９．９  ｍｍｏｌ）と化合物２（７．２０  ｇ，  ５６．２  ｍｍｏｌ）のメタンスルホン酸（２４．０  ｍＬ）溶液を６５℃加熱下、４２時間撹拌した。反応溶液を氷冷し、水を加え、ヘキサンで抽出した。有機層を水、２Ｍ−水酸化ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物２（１１．０  ｇ，  ６２．３％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ３１５，  ３１７  （Ｍ＋１）＋。【０５８４】
参考例２４【０５８５】
【化１１５】
2015163435.tif 000135
【０５８６】
［工程ａ］
水素化ナトリウム（６０重量％，  １．００  ｇ，  ２５．０  ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（５０．０  ｍＬ）溶液に、氷冷下、化合物１（４．３３  ｇ，  ２５．０  ｍｍｏｌ）を５回に分けて加え、２５分間撹拌した。更に反応溶液に化合物２（２．８０  ｇ，  ２５．０  ｍｍｏｌ）を加え、室温まで昇温しながら６．５時間撹拌した。反応溶液を氷冷後、２Ｍ−炭酸ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物３（６．７０  ｇ）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２５５，２５７（Ｍ＋１）＋。【０５８７】
［工程ｂ］
化合物３（３．３５  ｇ，  １２．５  ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（１００  ｍＬ）溶液に、氷冷下、塩化アルミニウム（ＩＩＩ）（３．１５  ｇ，  ２４．０  ｍｍｏｌ）を加え、室温まで昇温しながら一晩撹拌した。反応溶液に氷水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物４（１．３０  ｇ，  ４０．８％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２５５，２５７（Ｍ＋１）＋。【０５８８】
［工程ｃ］
化合物４（１．３０  ｇ，  ５．１０  ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１０．０  ｍＬ）とメタノール（５．００  ｍＬ）の混合溶液に２Ｍ−水酸化ナトリウム水溶液（５．１０  ｍＬ，  １０．２  ｍｍｏｌ）を加え、室温下、１．５時間撹拌した。反応溶液に氷冷下、０．５Ｍ−塩酸（２４．０  ｍＬ）を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物４と化合物５の混合物（１．５０ｇ）を固体として得た。得られた固体（５００  ｍｇ）をメタノール（１０．０  ｍＬ）に溶解し、１Ｍ水酸化ナトリウム水溶液（３．５  ｍＬ，  ３．５  ｍｍｏｌ）を加え、室温下、４０分間撹拌した。反応溶液にヨウ化ナトリウム（３８０  ｍｇ，  ２．５４  ｍｍｏｌ）を加え、−１０℃に冷却し、更に次亜塩素酸ナトリウム水溶液（１％，  １５．０  ｍＬ，  ２．０２  ｍｍｏｌ）を加え、３０分間撹拌した。反応溶液にチオ硫酸ナトリウム水溶液（１０％，  ３．５  ｍＬ）を加え、１０分間撹拌した後、０．５Ｍ−塩酸（１４．０  ｍＬ）を加えた。析出した固体を５ｍＭ−塩酸で洗浄した後、エタノールとトルエンに溶解し、減圧濃縮することにより、化合物６（６４５  ｍｇ）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ３９９，４０１（Ｍ＋１）＋。【０５８９】
［工程ｄ］
化合物６（３２０  ｍｇ，  ８０２  μｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（４．００  ｍＬ）溶液に、氷冷下、水素化ナトリウム（６０重量％，  ６５  ｍｇ，  １．６３  ｍｍｏｌ）を加え２０分間撹拌した。更に反応溶液にヨウ化メチル（１５０  μＬ，  ２．４１  ｍｍｏｌ）を加え、室温まで昇温しながら一晩撹拌した。反応溶液に炭酸カリウム（２２０  ｍｇ，  １．５９  ｍｍｏｌ）とヨウ化メチル（１５０  μＬ，  ２．４１  ｍｍｏｌ）を加え、室温下、３時間撹拌した。反応溶液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を５ｍＭ塩酸、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物７（３１５  ｍｇ，  ９２．０％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）δ：  １．４５（６Ｈ，  ｓ）、  ２．８３（２Ｈ，  ｓ）、  ３．５２（３Ｈ，  ｓ）、  ３．９０（３Ｈ，  ｓ）、７．３８（１Ｈ，  ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ）、７．８２（１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝２．１Ｈｚ）。【０５９０】
［工程ｅ］
化合物７（３１０  ｍｇ，  ７２６  μｍｏｌ）のＮ−メチルピロリドン（３．５０  ｍＬ）溶液に、シアン化銅（３３０  ｍｇ，  ３．６８  ｍｍｏｌ）を加え、１５０℃加熱下、４時間撹拌した。反応溶液に水を加え、セライトろ過後、得られたろ液を酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物８（２００  ｍｇ，  ８４．３％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ３２６，３２８（Ｍ＋１）＋。【０５９１】
参考例２５【０５９２】
【化１１６】
2015163435.tif 000136
【０５９３】
［工程ａ］
化合物１（ＣＡＳ  Ｎｏ．  １４５２９−５４−５，  ５００  ｍｇ，  １．８７  ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１０．０  ｍＬ）溶媒に、アクリル酸  ｔｅｒｔ−ブチルエステル（２４０  ｍｇ，  １．８７  ｍｍｏｌ）、酢酸パラジウム（２１．０  ｍｇ，  ９３．７  μｍｏｌ）、トリ−（Ｏ−トリル）ホスフィン（５７．０  ｍｇ，  １８７  μｍｏｌ）、トリエチルアミン（５２１  μＬ，  ３．７５  ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気中、１００℃加熱下、１時間撹拌した。反応溶液を室温まで冷却し、水（５０．０  ｍＬ）を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物２（２４５  ｍｇ，  ４１．１％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ３１４，３１６（Ｍ＋１）＋。【０５９４】
［工程ｂ］
ジメチルスルホキシド（４．００  ｍＬ）に１Ｍ−カリウムｔｅｒｔ−ブトキシドのテトラヒドロフラン溶液（１．３０  ｍＬ，  １．３０  ｍｍｏｌ）を加えた後に、トリメチルスルホキソニウムヨージド（２８６  ｍｇ，  １．３０  ｍｍｏｌ）を少しずつ加え、窒素雰囲気中、室温下、撹拌した。反応溶液に、室温下、化合物２（３４０  ｍｇ，  １．０８  ｍｍｏｌ）のジメチルスルホキシド（２．００  ｍＬ）とテトラヒドロフラン（２．００  ｍＬ）の混合溶液を加え、一晩撹拌した。反応溶液に飽和塩化アンモニウム水溶液（３０．０  ｍＬ）を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物３（２４１  ｍｇ，  ５３．７％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２７２，２７４（Ｍ＋１）＋。【０５９５】
参考例２６【０５９６】
【化１１７】
2015163435.tif 000137
【０５９７】
［工程ａ］
化合物１（３．００  ｇ，  １４．１  ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（３０．０  ｍＬ）溶液にアジ化ナトリウム（４．６０  ｇ，  ７０．７  ｍｍｏｌ）、ピリジン塩酸塩（３．２７  ｇ，  ２８．３  ｍｍｏｌ）を加え、１３０℃加熱下、２時間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、水（２００  ｍＬ）、１Ｍ−塩酸を加え、ｐＨ４〜５に調整し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物２（６８２  ｍｇ，  １８．９％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２５５，  ２５７（Ｍ＋１）＋。【０５９８】
［工程ｂ］
化合物２（５００  ｍｇ，  １．９６  ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１０．０  ｍＬ）溶液に、トリエチルアミン（４９２  μＬ，  ３．５３  ｍｍｏｌ）、ブロモ酢酸エチル（３０４  μＬ，  ２．７４  ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下、３０分間撹拌した。反応溶液を濃縮後、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物３（３７４  ｍｇ，  ５５．９％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ３４１，  ３４３（Ｍ＋１）＋。【０５９９】
参考例２７【０６００】
【化１１８】
2015163435.tif 000138
【０６０１】
［工程ａ］
化合物１（２．００  ｇ，  ９．８０  ｍｍｏｌ）の四塩化炭素（５０．０  ｍＬ）溶液に、室温下、Ｎ−ブロモスクシンイミド（１．９２  ｇ，  １０．７  ｍｍｏｌ）と過酸化ベンゾイル（２４．０  ｍｇ，  ９９．１  μｍｏｌ）を加え、加熱還流下、５時間撹拌した。反応溶液をセライトろ過し、得られたろ液を濃縮後、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物２（８６７  ｍｇ，  ３１．３％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）δ：  ４．５２（２Ｈ，  ｓ）、７．２６（１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝８．７Ｈｚ）、７．３８（１Ｈ，  ｄｄ，  Ｊ＝８．７，  ２．６Ｈｚ）、７．５８（１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝２．６Ｈｚ）。【０６０２】
［工程ｂ］
化合物２（５３３  ｍｇ，  １．８９  ｍｍｏｌ）のアセトニトリル（５．００  ｍＬ）溶液に、氷冷下、Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ−テトラブチルアンモニウムシアニド（３２５  ｍｇ，  １．２１  ｍｍｏｌ）を加え、室温まで昇温しながら５時間撹拌した。更に反応溶液にＮ，Ｎ，Ｎ，Ｎ−テトラブチルアンモニウムシアニド（５８５  ｍｇ，  ２．１８  ｍｍｏｌ）を加え、室温下、２日間撹拌した。反応溶液を濃縮後、残渣に酢酸エチルと炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物３（１４７  ｍｇ，  ３４．０％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）δ：  ３．８２（２Ｈ，  ｓ）、７．３０（１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝８．５Ｈｚ）、７．４４（１Ｈ，  ｄｄ，  Ｊ＝８．５，  ２．３Ｈｚ）、７．６７（１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝２．３Ｈｚ）。【０６０３】
［工程ｃ］
化合物３（１３５  ｍｇ，  ５８９  μｍｏｌ）のエタノール（４．００  ｍＬ）溶液に水（１．００  ｍＬ）、水酸化ナトリウム（９４．０  ｍｇ，  ２．３５  ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下、７時間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、濃縮し、残渣にクロロホルムを加え、氷冷下１Ｍ−塩酸を加えｐＨ１〜２に調整後、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮することにより、化合物４（１１６  ｍｇ，  ７９．４％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２４７（Ｍ−１）−。【０６０４】
［工程ｄ］
化合物４（１１６  ｍｇ，  ４６８  μｍｏｌ）のメタノール（４．００  ｍＬ）溶液に、濃硫酸（２２．０  μＬ，  ４１２  μｍｏｌ）を加え、加熱還流下、２時間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、炭酸水素ナトリウム水溶液と酢酸エチルを加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物５（１０６  ｍｇ，  ８６．５％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２６３，２６５（Ｍ＋１）＋。【０６０５】
［工程ｅ］
化合物５（１００  ｍｇ，  ３８１  μｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（４．００  ｍＬ）溶液に、氷冷下、ヨウ化メチル（９５  μＬ，  １．５２  ｍｍｏｌ）を加え、更に水素化ナトリウム（６０重量％，  ４６．０  ｍｇ，  １．１４  ｍｍｏｌ）を加え、室温まで昇温しながら４時間撹拌した。反応溶液に１Ｍ−塩酸を加えクエンチ後、炭酸水素水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物６（９５．０  ｍｇ，  ８６．０％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２９１，２９３（Ｍ＋１）＋。【０６０６】
参考例２８【０６０７】
【化１１９】
2015163435.tif 000139
【０６０８】
［工程ａ］
化合物１（ＣＡＳ  Ｎｏ．  ３５１４１０−３８−３，  １．００  ｇ，  ５．９８  ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１２．０  ｍＬ）溶液にヨウ化メチル（７４５  μＬ，  １１．９  ｍｍｏｌ）と炭酸カリウム（２．０６  ｇ，  １４．９  ｍｍｏｌ）を加え、室温下、５時間撹拌した。反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と酢酸エチルを加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物２（１．０２  ｇ，  ９４．２％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  １８２（Ｍ＋１）＋。【０６０９】
［工程ｂ］
化合物２（５００  ｍｇ，  ２．７６  ｍｍｏｌ）のクロロホルム（１０．０  ｍＬ）溶液に、氷冷下、臭素（１５５  μＬ，  ３．０３  ｍｍｏｌ）を５分間かけて加え、室温まで昇温しながら、３時間撹拌した。反応溶液に氷冷下、更に臭素（１５５  μＬ，  ３．０３  ｍｍｏｌ）を５分間かけて加え、室温まで昇温しながら、１時間撹拌した後、５０℃加熱下３０分間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、チオ硫酸ナトリウム水溶液を加えクエンチ後、炭酸水素ナトリウム水溶液と酢酸エチルを加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物３（３８０  ｍｇ，  ５３．２％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２６０，  ２６２（Ｍ＋１）＋。【０６１０】
［工程ｃ］
化合物３（２００  ｍｇ，  ７７２  μｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（４．００  ｍＬ）溶液に、氷冷下、ヨウ化メチル（１９２  μＬ，  ３．０８  ｍｍｏｌ）を加え、更に水素化ナトリウム（６０重量％，  ９３．０  ｍｇ，  ２．３１  ｍｍｏｌ）を加え、室温まで昇温しながら５時間撹拌した。反応溶液に１Ｍ−塩酸を加えクエンチ後、炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物４（２０６  ｍｇ，  ９３．０％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２８８，２９０（Ｍ＋１）＋。【０６１１】
参考例２９【０６１２】
【化１２０】
2015163435.tif 000140
【０６１３】
［工程ａ］
化合物１（１．００  ｇ，  ３．７１  ｍｍｏｌ）のジオキサン（６．００  ｍＬ）溶液にマロン酸ジエチル（１．１２  ｍＬ，  ７．４３  ｍｍｏｌ）、ヨウ化銅（Ｉ）（７１  ｍｇ，  ３７１  μｍｏｌ）、ピコリン酸（９１  ｍｇ，  ７４２  μｍｏｌ）、炭酸セシウム（３．６２  ｇ，  １１．１  ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気中、加熱還流下、５時間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物２（１．０４  ｇ，  ９３．１％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ３０２（Ｍ＋１）＋。【０６１４】
［工程ｂ］
化合物２（５００  ｍｇ，  １．６６  ｍｍｏｌ）のエタノール（１８．０  ｍＬ）溶液に、水酸化カリウム（４６６  ｍｇ，  ８．３０  ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下、５時間撹拌した。反応溶液を濃縮後、クロロホルムを加え氷冷した後、１Ｍ−塩酸でｐＨ＝４に調整し、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮することにより、化合物３（２９４  ｍｇ，  ８８．１％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２０２（Ｍ＋１）＋。【０６１５】
［工程ｃ］
化合物３（２９０  ｍｇ，  １．４４  ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（８．００  ｍＬ）とジクロロメタン（４．００  ｍＬ）の混合溶液に炭酸カリウム（４９８  ｍｇ，  ３．６０  ｍｍｏｌ）とヨウ化メチル（１８０  μＬ，  ２．８８  ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気中、室温下、３日間撹拌した。反応溶液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物４（２９４  ｍｇ，  ９４．９％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２１６（Ｍ＋１）＋。【０６１６】
［工程ｄ］
化合物４（１５３  ｍｇ，  ０．７１１  ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（４．００  ｍＬ）溶液に、氷冷下、ヨウ化メチル（１７７  μＬ，  ３．８４  ｍｍｏｌ）を加えた後、更に水素化ナトリウム（６０重量％，  ８５．０  ｍｇ，  ２．１３  ｍｍｏｌ）を加え、室温まで昇温しながら１７時間撹拌した。反応溶液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をジメチルホルムアミド（４．００  ｍＬ）に溶解し、氷冷下、ヨウ化メチル（１７７  μＬ，  ２．８４  ｍｍｏｌ）を加えた後、更に水素化ナトリウム（８５．０  ｍｇ，  ２．１３  ｍｍｏｌ）を加え、室温まで昇温しながら４時間撹拌した。反応溶液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物５（１４２  ｍｇ，  ８２．２％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２４４（Ｍ＋１）＋。【０６１７】
参考例３０【０６１８】
【化１２１】
2015163435.tif 000141
【０６１９】
［工程ａ］
化合物１（８．００  ｇ，  ３６．４  ｍｍｏｌ）のメタノール（１２０  ｍＬ）溶液に、５Ｍ−ナトリウムメトキサイドのメタノール溶液（７２．８  ｍＬ，  ３６４  ｍｍｏｌ）を加え、６０℃加熱下、１日間撹拌した。反応溶液を濃縮後、水を加え、氷冷下、濃塩酸でｐＨ＝３〜４に調整した。析出した固体をろ取し、水で洗浄することにより、化合物２（５．０８  ｇ，  ６０．２％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２３２（Ｍ＋１）＋。【０６２０】
［工程ｂ］
化合物２（１．００  ｇ，  ４．３２  ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２０．０  ｍＬ）溶液に窒素雰囲気中、氷冷下、０．９５Ｍ−ボラン−テトラヒドロフラン錯体のテトラヒドロフラン溶液（１１．４  ｍＬ，  １０．８  ｍｍｏｌ）を滴下し、室温まで昇温しながら、１日間撹拌した。反応溶液に水を加えクエンチ後、３Ｍ−水酸化ナトリウム水溶液（１５．０  ｍＬ）を加え、室温下、１時間撹拌した。反応溶液中の有機溶媒を減圧濃縮により留去後、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物３（８８０  ｍｇ，  ９３．９％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２１８，  ２２０（Ｍ＋１）＋。【０６２１】
［工程ｃ］
化合物３（４４０  ｍｇ，  ２．０２  ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１０．０  ｍＬ）溶液に、氷冷下、窒素雰囲気中、トリエチルアミン（７０６  μＬ，  ５．０５  ｍｍｏｌ）、メタンスルホニルクロライド（２３５  μＬ，  ３．０４  ｍｍｏｌ）を加え、１時間撹拌した。反応溶液に、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と酢酸エチルを加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮することにより、化合物４（５９０  ｍｇ，  ９９．０％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２９６，  ２９８（Ｍ＋１）＋。【０６２２】
［工程ｄ］
化合物４（５９０  ｍｇ，  ２．００  ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（５．００  ｍＬ）溶液に、シアン化ナトリウム（１１９  ｍｇ，  ２．４２  ｍｍｏｌ）とトリエチルアミン（７０６  μＬ，  ５．０５  ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気中、５０℃加熱下、４時間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と酢酸エチルを加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物５（１３０  ｍｇ，  ２８．８％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２２７，  ２２９（Ｍ＋１）＋。【０６２３】
［工程ｅ］
化合物５（１３０  ｍｇ，  ５７５  μｍｏｌ）のエタノール（４．００  ｍＬ）溶液に水（１．００  ｍＬ）、水酸化ナトリウム（９２．０  ｍｇ，  ２．３０  ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下、５時間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、減圧濃縮し、得られた残渣をクロロホルムに溶解し、氷冷下１Ｍ−塩酸を加え、ｐＨ４〜５に調整した後、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮することにより、化合物６（１０７  ｍｇ，  ７５．９％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２４６，  ２４８（Ｍ＋１）＋。【０６２４】
［工程ｆ］
化合物６（１０７  ｍｇ，  ４３７  μｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（４．００ｍＬ）溶液に炭酸カリウム（１９９  ｍｇ，  １．４３  ｍｍｏｌ）とヨウ化メチル（７２．０  μＬ，  １．１５  ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気中、室温下、１２時間撹拌した。反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物７（７６．０  ｍｇ，  ６３．４％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２７４，  ２７６（Ｍ＋１）＋。【０６２５】
［工程ｇ］
化合物７（７６  ｍｇ，  ０．２７８  ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（４．００  ｍＬ）溶液に、氷冷下、ヨウ化メチル（１０７  μＬ，  １．７２  ｍｍｏｌ）を加えた後、更に水素化ナトリウム（６０重量％，  ６９．０  ｍｇ，  １．７２  ｍｍｏｌ）を加え、室温まで昇温しながら２時間撹拌した。反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物８（５５．０  ｍｇ，  ６８．７％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２８８，  ２９０（Ｍ＋１）＋。【０６２６】
参考例３１【０６２７】
【化１２２】
2015163435.tif 000142
【０６２８】
［工程ａ］
化合物１（１０．０  ｇ，  ４３．３  ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（５０．０  ｍＬ）溶液に、窒素雰囲気下、ヨウ化ナトリウム（７．８２  ｇ，  ５２．１  ｍｍｏｌ）とクロラミンＴ三水和物（１４．４ｇ，  ５１．２  ｍｍｏｌ）を加え、１４時間撹拌した。反応溶液をセライトろ過し、得られたろ液にチオ硫酸ナトリウム水溶液と酢酸エチルを加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を１Ｍ−塩酸、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣を酢酸エチルで再結晶することにより、化合物２（１３．９  ｇ，  ９０．３％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ３５６（Ｍ＋１）＋。【０６２９】
［工程ｂ］
化合物２（２．００  ｇ，  ５．６２  ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１０．０  ｍＬ）溶液に炭酸カリウム（１．５５  ｇ，  １１．２  ｍｍｏｌ）とヨウ化メチル（４９０  μＬ，  ７．８６  ｍｍｏｌ）を加え、室温下、１７時間撹拌した。反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と酢酸エチルを加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を１Ｍ−塩酸、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物３（２．０８  ｇ，  １００％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ３７１，  ３７３（Ｍ＋１）＋。【０６３０】
［工程ｃ］
化合物３（６．００  ｇ，  １６．２  ｍｍｏｌ）のジオキサン（４０．０  ｍＬ）溶液にマロン酸ジエチル（５．５６  ｍＬ，  ４８．６  ｍｍｏｌ）、ヨウ化銅（Ｉ）（１．２３  ｇ，  ６．４８  ｍｍｏｌ）、ピコリン酸（１．５９  ｇ，  １２．９  ｍｍｏｌ）、炭酸セシウム（１５．８  ｇ，  ４８．６  ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気中、加熱還流下、２時間撹拌した。反応溶液をセライトろ過後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物４（３．９２  ｇ，  ６４．７％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ３７５，  ３７７（Ｍ＋１）＋。【０６３１】
［工程ｄ］
化合物４（８．００  ｇ，  ２１．３  ｍｍｏｌ）のメタノール（１００  ｍＬ）溶液に、水酸化カリウム（３．６０  ｇ，  ６４．１  ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下、１時間撹拌した。更に反応溶液に、水酸化カリウム（１．８０  ｇ，  ３２．０  ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下、３時間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、濃縮し、クロロホルムを加え、氷冷下、６Ｍ−塩酸でｐＨ＝２に調整した。得られた溶液をクロロホルムで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。得られた残渣をジイソプロピルエーテルで懸濁洗浄することにより、化合物５（５．２９  ｇ，  ８６．２％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２８９，  ２９１（Ｍ＋１）＋。【０６３２】
［工程ｅ］
化合物５（５．２９  ｇ，  １８．３  ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（５０．０ｍＬ）溶液に炭酸カリウム（１０．１  ｇ，  ７３．２  ｍｍｏｌ）とヨウ化メチル（３．４３  ｍＬ，  ５５．１  ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気中、室温下、１７時間撹拌した。反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を、１Ｍ−塩酸、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物６（５．６８  ｇ，  ９８．２％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ３１７，  ３１９（Ｍ＋１）＋。【０６３３】
［工程ｆ］
化合物６（５．６８  ｇ，  １７．９  ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（４０．０  ｍＬ）溶液に、氷冷下、ヨウ化メチル（４．４８  ｍＬ，  ７１．９  ｍｍｏｌ）を加えた後、更に水素化ナトリウム（６０重量％，  ２．８８  ｇ，  ７１．９  ｍｍｏｌ）を加え、室温まで昇温しながら５時間撹拌した。反応溶液を、氷冷下、１Ｍ−塩酸で弱酸性に調整し、酢酸エチルで抽出した。有機層を、炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物７（５．１２  ｇ，  ８３．１％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ３４５（Ｍ＋１）＋。【０６３４】
［工程ｇ］
化合物７（３．３０  ｇ，  ９．５９  ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２０．０  ｍＬ）とメタノール（１０．０  ｍＬ）の混合溶液に２Ｍ−水酸化ナトリウム水溶液（１０．０  ｍＬ）を加え、室温下、１７時間撹拌した。反応溶液に氷冷下６Ｍ−塩酸を加え、ｐＨを２に調整後、クロロホルムで抽出した。有機層を、炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物８（２．９７  ｇ，  ９３．８％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ３２９，  ３３１（Ｍ−１）−。【０６３５】
［工程ｈ］
化合物８（２．９７  ｇ，  ９．００  ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２０．０  ｍＬ）溶液に、窒素雰囲気中、氷冷下、０．９５Ｍ−ボラン−テトラヒドロフラン錯体のテトラヒドロフラン溶液（２０．１  ｍＬ，  １９．１  ｍｍｏｌ）を加え、室温まで放冷しながら５時間撹拌した。反応溶液に、氷冷下、メタノールを加えクエンチ後、１Ｍ−塩酸と酢酸エチルを加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を、炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物９（２．７９  ｇ，  ９８．１％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ３１７（Ｍ＋１）＋。【０６３６】
参考例３２【０６３７】
【化１２３】
2015163435.tif 000143
【０６３８】
［工程ａ］
化合物１（１００  ｍｇ，  ３１６  μｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（３．００  ｍＬ）溶液に、氷冷下、ヨウ化メチル（３９．０  μＬ，  ６３２  μｍｏｌ）、水素化ナトリウム（６０重量％，  １９．０  ｍｇ，  ４７４  μｍｏｌ）を加え、室温まで昇温しながら、５時間撹拌した。反応溶液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物２（８７  ｍｇ，  ８３．４％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ３３１（Ｍ＋１）＋。【０６３９】
参考例３３【０６４０】
【化１２４】
2015163435.tif 000144
【０６４１】
［工程ａ］
化合物１（１００  ｍｇ，  ３１６  μｍｏｌ）のジクロロメタン（３．００  ｍＬ）溶液に、氷冷下、三フッ化Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ硫黄（ＤＡＳＴ）（８３．０  μＬ，  ６３２  μｍｏｌ）を加え、室温まで昇温しながら５時間撹拌した。反応溶液にメタノールを加え、濃縮後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と酢酸エチルを加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物２（７２．０  ｍｇ，  ７１．６％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ３１９，  ３２１（Ｍ＋１）＋。【０６４２】
参考例３４【０６４３】
【化１２５】
2015163435.tif 000145
【０６４４】
［工程ａ］
化合物１（３００  ｍｇ，  ９４９  μｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（５．００  ｍＬ）溶液に、氷冷下、窒素雰囲気中、トリエチルアミン（３３１  μＬ，  ２．３７  ｍｍｏｌ）、メタンスルホニルクロライド（１１０  μＬ，  １．４２  ｍｍｏｌ）を加え、１時間撹拌した。反応溶液に、氷冷下、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と酢酸エチルを加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を、飽和塩化アンモニウム水溶液、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮することにより、化合物２（３９６  ｍｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）δ：  １．５１（６Ｈ，  ｓ）、３．０２（３Ｈ，  ｓ）、３．６７（３Ｈ，  ｓ）、３．７７（３Ｈ，  ｓ）、５．２４（２Ｈ，  ｓ）、７．４６（１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝２．３Ｈｚ）、７．４９（１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝２．３Ｈｚ）。【０６４５】
［工程ｂ］
化合物２（８０．０  ｍｇ，  ２０３  μｍｏｌ）のアセトニトリル（４．００  ｍＬ）溶液に炭酸カリウム（８４．０  ｍｇ，  ６０９  μｍｏｌ）、ピラゾール（１３８  ｍｇ，  ２．０３  ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気中、８０℃加熱下、１７時間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液とクロロホルムを加え、クロロホルムで抽出した。有機層を、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物３（６３．０  ｍｇ，  ８４．８％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ３６７，  ３６９（Ｍ＋１）＋。【０６４６】
参考例３５【０６４７】
【化１２６】
2015163435.tif 000146
【０６４８】
［工程ａ］
化合物１（ＣＡＳ  Ｎｏ．１００９６０−０３−０，  ２．００  ｇ，  １３．１  ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２０．０  ｍＬ）溶液に炭酸カリウム（５．４２  ｇ，  ３９．２  ｍｍｏｌ）とヨウ化メチル（２．４４  ｍＬ，  ３９．２  ｍｍｏｌ）を加え、室温下、６時間撹拌した。更に反応溶液にヨウ化メチル（１．２２  ｍＬ，  １９．６  ｍｍｏｌ）を加えて終夜撹拌した。反応溶液に水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物２（１．２９  ｇ，  ５４．７％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  １８２（Ｍ＋１）＋。【０６４９】
［工程ｂ］
化合物２（１．２５  ｇ，  ６．９０  ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１２．５  ｍＬ）溶液に、Ｎ−ブロモスクシンイミド（１．２９  ｇ，  ７．２４  ｍｍｏｌ）を加え、室温下、終夜撹拌した。反応溶液に水を加え、酢酸エチルで抽出した後、得られた水層をクロロホルムで抽出した。得られた有機層を合わせて、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物３（１．９２  ｇ）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２６０，  ２６２  （Ｍ＋１）＋。【０６５０】
［工程ｃ］
化合物３（１．１０  ｇ，  ４．２３  ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１１．０  ｍＬ）溶液に、窒素雰囲気中、氷冷下、水素化ナトリウム（６０重量％，  ５０８  ｍｇ，  １２．７  ｍｍｏｌ）を加え、１０分間撹拌した。反応溶液に、１，２−ジブロモエタン（１．１９  ｇ，  ６．３４  ｍｍｏｌ）を加え、室温まで昇温しながら３０分間撹拌した。反応溶液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物４（５５５  ｍｇ，  ４８．６％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２８６，  ２８８（Ｍ＋１）＋。【０６５１】
参考例３６【０６５２】
【化１２７】
2015163435.tif 000147
【０６５３】
［工程ａ］
化合物１（１００  ｍｇ，  ３０２  μｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２．００  ｍＬ）溶液に、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（ＨＯＢｔ）（４９．０  ｍｇ，  ３６３  μｍｏｌ）、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＷＳＣ・ＨＣｌ）（６９  ｍｇ，  ３６３  μｍｏｌ）を加え、室温下、６０分間撹拌した。反応溶液に、更に塩化アンモニウム（４８．５  ｍｇ，  ９０６  μｍｏｌ）、ジイソプロピルエチルアミン（１５８  μＬ，  ９０６  μｍｏｌ）を加え、室温下、５時間撹拌した。反応溶液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過、濃縮することにより、化合物２（９６．３  ｍｇ，  ９６．６％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ３３０，  ３３２（Ｍ＋１）＋。【０６５４】
［工程ｂ］
化合物２（９５  ｍｇ，  ２８８  μｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２．００  ｍＬ）溶液に、ピリジン（７０  μＬ，  ８６９  μｍｏｌ）を加え、更に氷冷下、無水トリフルオロ酢酸（１２２  μＬ，  ８６９  μｍｏｌ）を加え、室温に昇温しながら、３．５時間撹拌した。反応溶液に過剰量の１Ｍ−塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過、濃縮することにより、化合物３（８５．１  ｍｇ，  ９４．６％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）δ：  １．５０（６Ｈ，  ｓ）、３．６８（３Ｈ，  ｓ）、４．０７（３Ｈ，  ｓ）、７．５９（２Ｈ，  ｑ，  Ｊ＝２．４Ｈｚ）。【０６５５】
参考例３７【０６５６】
【化１２８】
2015163435.tif 000148
【０６５７】
［工程ａ］
化合物１（１００  ｇ，  ４７３  ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（６３０  ｍＬ）とメタノール（２１０  ｍＬ）の混合溶液にパラジウム／炭素（１０重量％，  １０．０  ｇ）を加え、水素雰囲気中、室温下２９時間撹拌した。更に４０℃加熱下、１９時間撹拌した。反応溶液を窒素置換後、セライトろ過し、濃縮することにより、化合物２（８６．７  ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）δ：  ３．８７（６Ｈ，  ｓ）、６．００（２Ｈ，  ｂｒｓ）、６．５７（１Ｈ，  ｔ，  Ｊ＝８．０Ｈｚ）、６．８５（１Ｈ，ｄｄ，  Ｊ＝１．２，  ８．０Ｈｚ）、７．４７（１Ｈ，  ｄｄ，  Ｊ＝１．２，  ８．４Ｈｚ）。【０６５８】
［工程ｂ］
化合物２（８６．７  ｇ，  ４７３  ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（４３０  ｍＬ）溶液に氷冷下、Ｎ−ブロモスクシンイミドを１５分かけて加え、１時間撹拌した。反応溶液に、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（５００  ｍＬ）と水（５００  ｍＬ）を加え、酢酸エチル（１．０  Ｌ）で抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製後、ｎ−ヘキサン（１２０  ｍＬ）で懸濁洗浄することにより、化合物３（１０８  ｇ，  ８８．１  ％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）δ：  ３．８７（６Ｈ，  ｓ）、６．０３（２Ｈ，  ｂｒｓ）、６．９０（１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝２．０Ｈｚ）、７．２６（１Ｈ，ｓ）、７．６０（１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝２．４Ｈｚ）。【０６５９】
［工程ｃ］
化合物３（４５．１  ｇ，  １７４  ｍｍｏｌ）のジオキサン（９０．０  ｍＬ）溶液に４Ｍ−塩酸のジオキサン溶液（１３５  ｍＬ）と水（９０．０  ｍＬ）を加え、氷冷下、亜硝酸ナトリウム（１３．１４ｇ，  １９０  ｍｍｏｌ）の水（１８０  ｍＬ）溶液を、内温１１℃以下に保持しながら、２０分かけて滴下後、２０分間撹拌することにより、ジアゾニウム塩溶液を調製した。得られたジアゾニウム塩溶液を、室温下、塩化銅（Ｉ）（１８．０  ｇ，  １８２  ｍｍｏｌ）の濃塩酸（１５３  ｍＬ）溶液へ２０分かけて滴下後、室温下、２．５時間撹拌した。反応溶液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。得られた残渣をｎ−ヘキサン（２５０  ｍＬ）で再結晶することにより、化合物４（３５．１ｇ，  ７２．７％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）δ：  ３．９３（６Ｈ，  ｓ）、７．１６（１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝２．０Ｈｚ）、７．４９（１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝２．０Ｈｚ）。【０６６０】
［工程ｄ］
化合物４（４１．４  ｇ，  １４８  ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（２１０  ｍＬ）溶液に、氷冷下、１Ｍ−三臭化ホウ素のジクロロメタン溶液（３８５  ｍＬ，  ３８５  ｍｍｏｌ）を４０分かけて滴下し、室温まで昇温しながら２時間撹拌した。反応溶液に、氷冷下、水（４００  ｍＬ）を加え、セライトろ過し、得られたろ液を酢酸エチルで抽出した。有機層を、水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮することにより、化合物５（３７．５  ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）δ：  ７．２３（１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝２．４Ｈｚ）、７．２８（１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝２．０Ｈｚ）、１１．０（１Ｈ，  ｓ）、１３．５（１Ｈ，  ｂｒｓ）。【０６６１】
［工程ｅ］
化合物５（３７．５  ｇ，  １４８  ｍｍｏｌ）のメタノール（５６０  ｍＬ）溶液に、濃硫酸（３０．２ｇ，  ２９６  ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下、１５時間撹拌した。反応溶液を濃縮後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物６（３６．０  ｇ，  ９２．２  ％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２６５，  ２６７（Ｍ＋１）＋。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）δ：  ３．９４（３Ｈ，  ｓ）、６．００（１Ｈ，  ｓ）、７．３５（１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝２．４Ｈｚ）、７．６０（１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝２．４Ｈｚ）。【０６６２】
［工程ｆ］
化合物６（１０．０  ｇ，  ３７．７  ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１００  ｍＬ）溶液に炭酸カリウム（１０．４  ｇ，  ７５．３  ｍｍｏｌ）、臭化ベンジル（５．３７  ｍＬ，  ４５．２  ｍｍｏｌ）を加え、室温下、３日間撹拌した。反応溶液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物７（１２．４  ｇ，  ９２．７  ％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ３５５，  ３５７（Ｍ＋１）＋。【０６６３】
参考例３８【０６６４】
【化１２９】
2015163435.tif 000149
【０６６５】
［工程ａ］
化合物１（１５．０  ｇ，  ６１．７  ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（６１．７  ｍＬ）溶液に、氷冷下、炭酸カリウム（９．３８  ｇ，  ６７．８  ｍｍｏｌ）、臭化ベンジル（１１．８  ｇ，  ６７．８  ｍｍｏｌ）を加え、室温まで昇温しながら、６時間撹拌した。反応溶液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物２（２０．７  ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）δ：  ３．８１（３Ｈ，  ｓ）、５．２２（２Ｈ，  ｓ）、７．２２（１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝８．７Ｈｚ）、７．３３（１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝７．７Ｈｚ）、７．４０（２Ｈ，  ｔ，  Ｊ＝７．７Ｈｚ）、７．４７（２Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝７．２Ｈｚ）、７．７（１Ｈ，  ｄｄ，  Ｊ＝２．８，  ９．０Ｈｚ），  ７．８０（１Ｈ，  ｄ，  Ｊ＝２．６Ｈｚ）。【０６６６】
［工程ｂ］
化合物２（２０．７  ｇ，  ６４．６  ｍｍｏｌ）のジメチルスルホキシド（２１５  ｍＬ）溶液に、ビス（ピナコレート）ジボラン（１８．０ｇ，  ７１．０  ｍｍｏｌ）、酢酸カリウム（１９．０  ｇ，  １９４  ｍｍｏｌ）と［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）ジクロリド（５．２７  ｇ，  ６．４６  ｍｍｏｌ）を加え、８０℃加熱下、５時間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷し、水と酢酸エチルで希釈後、セライトでろ過し、ろ液を酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物３（１７．７  ｇ，  ７４．４％）を得た。
ＭＳ（ＳＥＩ）ｍ／ｚ：  ３６９（Ｍ＋１）＋。【０６６７】
参考例３９【０６６８】
【化１３０】
2015163435.tif 000150
【０６６９】
［工程ａ］
化合物１（２９．３  ｇ，  １００  ｍｍｏｌ）とビス（ピナコレート）ジボラン（３８．２  ｇ，  １５０  ｍｍｏｌ）と酢酸カリウム（２９．４  ｇ，  ３００  ｍｍｏｌ）のジメチルホルムアミド（２５０  ｍＬ）溶液に、［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）ジクロリド（２．９２  ｇ，  ４．００  ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気中、８０℃加熱下、１７時間撹拌した。反応溶液を減圧濃縮し、溶媒を留去後、水と酢酸エチルで希釈し、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、得られた固体をジイソプロピルエーテルとヘキサンの混合溶液（１：１）で懸濁洗浄することにより、化合物２（２３．１  ｇ，  ７９．１％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２９３（Ｍ＋１）＋。【０６７０】
参考例４０【０６７１】
【化１３１】
2015163435.tif 000151
【０６７２】
［工程ａ］
化合物１（８．００  ｇ，  ３６．４  ｍｍｏｌ）のメタノール（１２０  ｍＬ）溶液に５Ｍ−ナトリウムメトキシドのメタノール溶液（７２．８  ｍＬ，  ３６４  ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下、１日間撹拌した。反応溶液を濃縮し、残渣に水を加え、氷冷下、濃塩酸を加えｐＨ３〜４に調整後、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮することにより、化合物２（６２７  ｍｇ，  ７．４６％）を得た。抽出で得られた水層を濃縮し、メタノールで希釈後、ろ過した。得られたろ液を硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮することにより、化合物２（６７４  ｍｇ，  ８．０２％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２３２，２３４（Ｍ＋１）＋。【０６７３】
［工程ｂ］
化合物２（３００  ｍｇ，  １．２９  ｍｍｏｌ）のメタノール（３．００  ｍＬ）溶液に、硫酸（５００  μＬ）を加え、加熱還流下、２．５時間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和後、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮することにより、化合物３（３０１  ｍｇ，  ９５．０％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２４６，  ２４８（Ｍ＋１）＋。【０６７４】
参考例４１【０６７５】
【化１３２】
2015163435.tif 000152
【０６７６】
［工程ａ］
化合物１（１．００ｇ，  ５．４３  ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１０．０  ｍＬ）溶液に、臭素（８３６  μＬ，  １６．２  ｍｍｏｌ）を加え、６０℃加熱下、１日間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、臭素（８３６  μＬ，  １６．２  ｍｍｏｌ）を加え、６０℃加熱下、更に６時間撹拌した。反応溶液に飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、酢酸エチルを加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物２（１．０９  ｇ，  ７６．６％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２６３，  ２６５（Ｍ＋１）＋。【０６７７】
参考例４２【０６７８】
【化１３３】
2015163435.tif 000153
【０６７９】
［工程ａ］
化合物１（３５０  ｍｇ，  １．９８  ｍｍｏｌ）の酢酸（８．００  ｍＬ）溶液に、室温下、臭素（１３０  μＬ，  ２．５４  ｍｍｏｌ）の酢酸（１．２０  ｍＬ）溶液を滴下し、３時間撹拌した。反応溶液に、更に臭素（１２０  μＬ，  ２．３４  ｍｍｏｌ）の酢酸（８００  μＬ）溶液を滴下し、６．５時間撹拌した。反応溶液に水を加え、析出した固体をろ取した。得られた固体を、水、ヘキサンで洗浄することにより、化合物２（４８０  ｍｇ，  ９４．７％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２５４，  ２５６（Ｍ−１）−。【０６８０】
［工程ｂ］
化合物２（４７５  ｍｇ，  １．８５  ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（７．５０  ｍＬ）溶液に炭酸カリウム（３８５  ｍｇ，  ２．７９  ｍｍｏｌ）とヨウ化メチル（１７５  μＬ，  ２．８１  ｍｍｏｌ）を加え、室温下、一晩撹拌した。反応溶液に更に炭酸カリウム（２５５  ｍｇ，  １．８４  ｍｍｏｌ）とヨウ化メチル（１１５  μＬ，  １．８５  ｍｍｏｌ）を加え、室温下、９．５時間撹拌した。反応溶液に水（４０．０  ｍＬ）を加え、析出した固体をろ取した。得られた固体を、水で洗浄することにより、化合物３（４７５  ｍｇ，  ９５．１％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２７０，  ２７２（Ｍ＋１）＋。【０６８１】
以下の化合物は製造方法１〜２８、実施例、および参考例に準じて製造した。【０６８２】
【表１９】
2015163435.tif 000154
【０６８３】
【表２０】
2015163435.tif 000155
【０６８４】
【表２１】
2015163435.tif 000156
【０６８５】
参考例６５【０６８６】
【化１３４】
2015163435.tif 000157
【０６８７】
［工程ａ］
化合物１（２５．０  ｇ，  １３１  ｍｍｏｌ）と化合物２（２５．０  ｇ，  １４５  ｍｍｏｌ）のＮ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）（２５０ｍＬ）溶液に、氷冷下、トリフルオロ酢酸（ＴＦＡ）（１００  ｍＬ，  １．３１  ｍｏｌ）を加え、１時間撹拌した。反応溶液に水素化トリアセトキシホウ素ナトリウム（３３．４ｇ，  １５８ｍｍｏｌ）を加え、室温まで昇温しながら一晩撹拌した。反応溶液を氷冷後、水（５００  ｍＬ）を加え、１２Ｎ−水酸化ナトリウム水溶液（１０９  ｍＬ，  １．３１  ｍｏｌ）で中和した。更に水（１．００  Ｌ）を加え、生じた固体をろ取し、水で洗浄した。得られた固体をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物３（４１．５  ｇ，  ９１．４％）を得た。
ＭＳ（ＡＰＣＩ）ｍ／ｚ：  ３４７，  ３４９（Ｍ＋１）＋。【０６８８】
［工程ｂ］
化合物３（５０．０  ｇ，  １４４  ｍｍｏｌ）とビス（ピナコレート）ジボラン（５４．９ｇ，  ２１６  ｍｍｏｌ）のジオキサン（１．００  Ｌ）溶液に、酢酸カリウム（４２．４  ｇ，  ４３２  ｍｍｏｌ）と［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）ジクロリド（４．２２  ｇ，  ５．７７  ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気中、８０℃加熱下、一晩撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、酢酸エチルで希釈し、セライトでろ過後、得られたろ液を濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物４（４２．３  ｇ，  ７４．６％）を得た。
ＭＳ（ＡＰＣＩ）ｍ／ｚ：  ３９５（Ｍ＋１）＋。【０６８９】
参考例６６【０６９０】
【化１３５】
2015163435.tif 000158
【０６９１】
［工程ａ］
化合物１（６９．０  ｇ，  ３５７  ｍｍｏｌ）と化合物２（７５．０  ｇ，  ３９２  ｍｍｏｌ）のＮ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）（２００  ｍＬ）溶液にジイソプロピルアミン（５５．３  ｇ，  ４２８  ｍｍｏｌ）を加え、室温下、２日間撹拌した。反応溶液に水（１．００  Ｌ）を加え、生じた固体をろ取し、水で洗浄することにより、化合物３（１１３  ｇ，  ９９．６％）を得た。
ＭＳ（ＡＰＣＩ）ｍ／ｚ：  ３４８，  ３５０（Ｍ＋１）＋。【０６９２】
［工程ｂ］
化合物３（５０．０  ｇ，  １４４  ｍｍｏｌ）とビス（ピナコレート）ジボラン（５４．７ｇ，  ２１５  ｍｍｏｌ）のジオキサン（１．００  Ｌ）溶液に、酢酸カリウム（４２．４  ｇ，  ４３２  ｍｍｏｌ）と［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）ジクロリド（４．２０  ｇ，  ５．７４  ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気中、８０℃加熱下、９時間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、酢酸エチルで希釈し、セライトでろ過後、ろ液を濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物４（４３．０  ｇ，  ７５．７％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ３９６（Ｍ＋１）＋。【０６９３】
以下の化合物は製造方法１〜２８、実施例、および参考例に準じて製造した。【０６９４】
【表２２】
2015163435.tif 000159
【０６９５】
参考例７０【０６９６】
【化１３６】
2015163435.tif 000160
【０６９７】
［工程ａ］
化合物１（５．００  ｇ，  ２８．４  ｍｍｏｌ）のジエチルエーテル（１４０  ｍＬ）溶液に、１．６Ｍ−ブチルリチウムのヘキサン溶液（１８．０  ｍＬ，  ２８．４  ｍｍｏｌ）を窒素雰囲気中、−７８℃で滴下しながら加え、１時間撹拌した。さらに反応溶液に化合物２（４．３０  ｇ，  ３１．３  ｍｍｏｌ）のジエチルエーテル（２０  ｍＬ）溶液を滴下しながら加え、２時間撹拌後、３時間かけて−２０℃まで撹拌しながら昇温した。反応溶液に飽和塩化アンモニウム水溶液（４０  ｍＬ）を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物２（２．３０  ｇ，  ３０．３％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２５２，  ２５４（Ｍ＋１）＋。【０６９８】
［工程ｂ］
化合物３（１．００  ｇ，  ３．４５  ｍｍｏｌ）のメタノール（２７．３  ｍＬ）溶液に、水素化ホウ素ナトリウム（１９６  ｍｇ，  ５．１７  ｍｍｏｌ）を氷浴下で加え、室温で３０分間撹拌した。反応溶液に水（２０  ｍＬ）を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物４（０．８０  ｇ，  ９２％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２５４，  ２５６（Ｍ＋１）＋。【０６９９】
［工程ｃ］
化合物４（５００  ｍｇ，  １．９６  ｍｍｏｌ）のｔ−ブチルメチルエーテル（５．０  ｍＬ）溶液に、２Ｍ−水酸化カリウム水溶液（２．３６  ｍＬ，  ４．７２  ｍｍｏｌ）を加え、室温で５時間半撹拌した。反応溶液に飽和塩化アンモニウム水溶液（４  ｍＬ）を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物５（２８５  ｍｇ，  ６６．５％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２１８，  ２２０（Ｍ＋１）＋。【０７００】
［工程ｄ］
化合物６（３７０  ｍｇ，  １．６５  ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１．５  ｍＬ）溶液に１Ｍ−カリウムｔｅｒｔ−ブトキシドのテトラヒドロフラン溶液（１．３８  ｍＬ，  １．３８  ｍｍｏｌ）を滴下しながら加え、１時間撹拌した後、反応溶液に化合物５（１５０  ｍｇ，  ０．６８８  ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気中、加熱還流下６時間半撹拌した。反応溶液を室温まで放冷後、水（３０  ｍＬ）を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水（１５  ｍＬ）、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物７（０．１１  ｇ，  ５６％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ２８８，  ２９０（Ｍ＋１）＋。【０７０１】
参考例７１【０７０２】
【化１３７】
2015163435.tif 000161
【０７０３】
［工程ａ］
化合物１（ＣＡＳ番号８０１２７−３９−５，  １．９０  ｇ，  ６．８８  ｍｍｏｌ）の酢酸エチル（３５  ｍＬ）溶液に、１０％−パラジウム／炭素（３８０  ｍｇ）を加え、水素雰囲気中、室温下、３時間撹拌した。反応溶液をセライトろ過後、濃縮することにより、化合物２（１．０４  ｇ，  ６８．６％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）δ：  ２．３４−２．３７（２Ｈ，  ｍ）、  ２．４６−２．４９（１Ｈ，  ｍ）、  ２．５３−２．６２（１Ｈ，  ｍ）、  ３．５４−３．５６（２Ｈ，  ｍ）、  ３．７０（１Ｈ，  ｍ）、  ３．８２−３．８６（１Ｈ，  ｍ）、  ４．３３（１Ｈ，  ｍ）、  ４．６０（１Ｈ，  ｓ）、  ７．３３−７．３６（５Ｈ，  ｍ）。【０７０４】
［工程ｂ］
化合物２（１．０４  ｇ，  ４．７２  ｍｍｏｌ）のメタノール（２０  ｍＬ）溶液に、化合物３（９５５  ｍｇ，  ４．７２  ｍｍｏｌ）を加え、室温下、２時間撹拌した。反応溶液を減圧濃縮し、化合物４（１．９  ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（４００  ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）δ：  ２．００−２．４５（３Ｈ，  ｍ）、  ２．５２−２．６５（１Ｈ，  ｍ）、  ３．４０−３．７０（４Ｈ，  ｍ）、  ３．８７（３Ｈ，  ｓ）、  ４．１０−４．２０（１Ｈ，  ｍ）、  ４．５６（２Ｈ，  ｓ）、  ６．９５−７．００（２Ｈ，  ｍ）、  ７．２７−７．４０（５Ｈ，  ｍ）、  ７．８２−７．９０（２Ｈ，  ｍ）。【０７０５】
［工程ｃ］
化合物４（１．９  ｇ，  ４．７２  ｍｍｏｌ）の１，４−ジオキサン（１５  ｍＬ）溶液に、化合物５（１．４３  ｇ，  ７．０９  ｍｍｏｌ）、炭酸セシウム（２．３１  ｇ，  ７．０９  ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気中、１００℃加熱下、２４時間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷した後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物６（３３０  ｍｇ，  １９．２％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ３６２，  ３６４（Ｍ＋１）＋。【０７０６】
［工程ｄ］
化合物６（３３０  ｍｇ，  １．１３  ｍｍｏｌ）の１，４−ジオキサン（２．５  ｍＬ）溶液に、化合物７（３２５  ｍｇ，  １．７０  ｍｍｏｌ）、ｔ−ブトキシナトリウム（１６３  ｍｇ，  １．７０  ｍｍｏｌ）、酢酸パラジウム（２５  ｍｇ，  ０．１１  ｍｍｏｌ）、２−（ジシクロヘキシルホスフィノ）−３，６−ジメトキシ−２’，４’，６’−トリイソプロピル−１，１’−ビフェニル（１２２  ｍｇ，  ０．２２６  ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気中、１００℃加熱下、５時間撹拌した。反応溶液を室温まで放冷した後、飽和塩化アンモニウム水溶液と水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物８（３４０  ｍｇ，  ６３．６％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４７３（Ｍ＋１）＋。【０７０７】
［工程ｅ］
化合物８（３４０  ｍｇ，  ０．７２０  ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（７  ｍＬ）溶液に、トリエチルアミン（０．２０  ｍＬ，  １．４４  ｍｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン（８８  ｍｇ，  ０．７２  ｍｍｏｌ）、二炭酸ジｔ−ブチル（３１４  ｍｇ，  ０．３３１  ｍｍｏｌ）を加え、室温下、４日間撹拌した。反応溶液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物９（３８５  ｍｇ，  ９３．４％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ５７３（Ｍ＋１）＋。【０７０８】
［工程ｆ］
化合物９（３７０  ｍｇ，  ０．６４６  ｍｍｏｌ）のエタノール（１５  ｍＬ）溶液に、２０％−水酸化パラジウム／炭素（７５  ｍｇ）を加え、水素雰囲気中、室温下、４時間撹拌した。反応溶液をセライトろ過後、濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより、化合物１０（１８３  ｍｇ，  ５８．８％）と化合物１１（４３  ｍｇ，  １３．９％）を得た。
ＭＳ（ＥＳＩ）ｍ／ｚ：  ４８３（Ｍ＋１）＋，４８３（Ｍ＋１）＋。【０７０９】
以下の化合物は製造方法１〜２８、実施例、および参考例に準じて製造した。【０７１０】
【表２３】
2015163435.tif 000162
【０７１１】
実験例１：
［酵素阻害試験方法］
Ａｓｓａｙ  ｂｕｆｆｅｒ（５０  ｍＭ  Ｔｒｉｓ  （ｐＨ８．０），１４０  ｍＭ  ＮａＣｌ，５  ｍＭ  ＫＣｌ，１  ｍＭ  ＣａＣｌ２，１  ｍＭ  ＭｇＣｌ２，０．１％  ＢＳＡ（Ａｌｂｕｍｉｎ  ｆｒｏｍ  ｂｏｖｉｎｅ  ｓｅｒｕｍ，ＳＩＧＭＡ），０．００２５％  Ｔｒｉｔｏｎ  Ｘ−１００）で調製した基質及びコリン定量試薬一式の混合液（２００  μＭ  ＬＰＣ（１−Ｏｌｅｏｙｌ−ｓｎ−ｇｌｙｃｅｒｏ−３−ｐｈｏｓｐｈｏｃｈｏｌｉｎｅ  Ｓｉｇｍａ  ＃Ｌ１８８１)，２５  μＭ  Ａｍｐｌｅｘ  ＵｌｔｒａＲｅｄ  ｒｅａｇｅｎｔ  （Ｉｎｖｉｔｒｏｇｅｎ），０．１  Ｕ／ｍＬ  Ｐｅｒｏｘｉｄａｓｅ  （ＴＯＹＯＢＯ），１  Ｕ／ｍＬ  Ｃｈｏｌｉｎｅ  ｏｘｉｄａｓｅ  （ＴＯＹＯＢＯ））１０  μＬ、酵素（０．４ｎｇ／μＬ  ｈｕｍａｎ  ｒｅｃｏｍｂｉｎａｎｔ  ＡＴＸ）１０  μＬ、化合物含有溶液１００  ｎＬを３８４−ｗｅｌｌ  ｐｌａｔｅに分注し、室温で１時間インキュベーションした後の蛍光（Ｅｘ．５２５  ｎｍ／Ｅｍ．５９８  ｎｍ）を測定した。スタンダードとして塩化コリンを用いた。酵素を添加しないｂｌａｎｋを阻害率１００％、阻害剤を添加しないｃｏｎｔｒｏｌを阻害率０％とし、阻害率を算出し、各濃度の阻害活性百分率よりＩＣ５０値を算出した。得られた結果を以下の表２４に示す。【０７１２】
実験例２：
［血漿中におけるＡＴＸ活性測定（ｅｘ  ｖｉｖｏ）］
ミキサーミル（型式：ＭＭ４００）で１０分間湿式粉砕し０．５％  Ｃａｒｂｏｘｙｍｅｔｈｙｌｃｅｌｌｕｌｏｓｅ水溶液で所定の濃度になるように調製した化合物投与液を５  ｍＬ／ｋｇの割合で雄性Ｗｉｓｔａｒラット（使用時５週齢）に経口投与した。投与後８ないし２４時間後に頸静脈から経時的に採血した。血液は少量採血容器キャピジェクト（ＣＪ−ＡＬ，テルモ）を用いてヘパリン処理し、遠心分離（４℃，１２，０００  ｒｐｍ，２分）によって血漿を分離後、−８０℃で保存した。なお、採血後のラットはイソフルラン吸入麻酔下で後大静脈から放血し安楽死させた。血漿中におけるＡＴＸ活性測定は、ＡＴＸのｌｙｓｏｐｈｏｓｐｈｏｌｉｐａｓｅ  Ｄ活性によってｌｙｓｏｐｈｏｓｐｈａｔｉｄｙｌｃｈｏｌｉｎｅ（ＡＴＸの基質）から遊離した血漿中ｃｈｏｌｉｎｅ濃度を指標に評価した。血漿１２  μＬに等量の２×  ａｓｓａｙ  ｂｕｆｆｅｒ（２００  ｍＭ  Ｔｒｉｓ−ＨＣｌ  ｐＨ９．０，１０  ｍＭ  ＭｇＣｌ２，１  Ｍ  ＮａＣｌ，  ０．１％  Ｔｒｉｔｏｎ  Ｘ−１００）を加え、３７℃で６時間反応させる。６時間反応させた反応液１０  μＬ及び４５  μＬの試薬Ｒ１液（１００  ｍＭ  Ｔｒｉｓ−ＨＣｌ  ｐＨ  ８．０，０．５  ｍＭ  ＴＯＯＳ，１０  Ｕ／ｍＬ  ｐｅｒｏｘｉｄａｓｅ，０．０１％  Ｔｒｉｔｏｎ  Ｘ−１００）を加えて混和した後、５５０−７００  ｎｍにおける吸光度を測定し、プレ値とした。スタンダードとして塩化コリンを用いた。１  ｍＭ塩化コリンを２倍段階希釈で７段階まで２×  ａｓｓａｙ  ｂｕｆｆｅｒで希釈し、Ｒ１液を同様に処理して吸光度を測定した。さらに１５  μＬの試薬Ｒ２液（１００  ｍＭ  Ｔｒｉｓ−ＨＣｌ  ｐＨ  ８．０，１  ｍＭ  ４−ａｍｉｎｏａｎｔｉｐｙｒｉｎｅ，１０  Ｕ／ｍＬ  ｃｈｏｌｉｎｅ  ｏｘｉｄａｓｅ，０．０１％  Ｔｒｉｔｏｎ  Ｘ−１００）を加え、室温で１０分間反応させて５５０−７００  ｎｍにおける吸光度を測定した。Ｒ２液添加後の吸光度とＲ２添加前に測定したプレ値との差から反応時間当たりのｃｈｏｌｉｎｅ濃度を算出し、ＡＴＸ活性値とした。
＜算出式＞
阻害活性（％）  ＝  １００×｛１−［試験物質投与群のｃｈｏｌｉｎｅ濃度（μＭ）／溶媒対照群のｃｈｏｌｉｎｅ濃度（μＭ）］｝
得られた結果を以下の表２４に示す。【０７１３】
【表２４】
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【産業上の利用可能性】
【０７１４】
本発明化合物は、優れたオートタキシン阻害作用を有し、オートタキシンに起因する疾患、例えば、悪性黒色腫、脳腫瘍、神経芽細胞腫、多型性神経膠芽腫、ＥＢＶ陽性ホジキンリンパ腫、膠芽腫、非小細胞肺癌、肺腫瘍、乳房腫瘍、卵巣腫瘍、膵腫瘍、前立腺上皮内腫瘍、前立腺腫瘍、甲状腺腫瘍、濾胞性リンパ腫、肝臓腫瘍、腎細胞癌などの癌又は腫瘍、肺線維症、肝線維症、腎線維症，アテローム性動脈硬化などの線維症、喘息、関節リウマチ、ＩＩ型糖尿病関連の肥満、急性冠症候群、胆汁うっ滞性そう痒症、炎症性腸疾患、クローン病、潰瘍性大腸炎、神経因性疼痛などの炎症性疾患などの様々な疾患の予防又は治療薬として有用である。【０７１５】
本出願は、日本で出願された特願２０１４−０９０７５９を基礎としており、その内容は本明細書にすべて包含されるものである。
【国際調査報告】
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