(57)【要約】  表面に金属めっきが施されたリードフレーム（２）に、レーザーによるスポット照射を連続的に行うことにより、金属めっきを鱗状に変形させた鱗状部（３）を設けた。鱗状部（３）は、リードフレーム（２）の任意の箇所、例えばゲートブレイク跡（８ａ）付近や、モールド樹脂（８）により封止される領域内の外周部や、半導体素子（１）の周囲等に配置される。この鱗状部（３）によるアンカー効果によりリードフレーム（２）とモールド樹脂（８）との密着力が向上し、モールド樹脂（８）がリードフレーム（２）から剥離するのを抑制することができる。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体素子を搭載するリードフレームと、前記リードフレームの少なくとも前記半導体素子を搭載した面を封止するモールド樹脂を備えた半導体装置であって、
前記リードフレームは、その表面を部分的または全体的に金属めっきで被覆されると共に、前記モールド樹脂により封止される領域内に、前記金属めっきの表面形状を鱗状に変形させた鱗状部を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
前記鱗状部は、任意の直線上または曲線上に所定幅で配置されることを特徴とする請求項１記載の半導体装置。
【請求項３】
前記鱗状部は、前記所定幅の中央部付近において、前記金属めっきの下の前記リードフレームが露出していることを特徴とする請求項２記載の半導体装置。
【請求項４】
前記モールド樹脂による封止の際に用いられる成形金型は、溶融された前記モールド樹脂の通り道であるゲートを有し、前記鱗状部は、前記リードフレームの前記ゲートに近接する箇所に配置されることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の半導体装置。
【請求項５】
前記モールド樹脂による封止の際に用いられる成形金型は、溶融された前記モールド樹脂の通り道であるゲートを有し、前記鱗状部は、前記リードフレームの前記ゲートから最も直線距離が長い箇所の付近に配置されることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の半導体装置。
【請求項６】
前記鱗状部は、前記リードフレームの前記モールド樹脂により封止される領域内の外周部に配置されることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の半導体装置。
【請求項７】
前記鱗状部は、前記リードフレームの前記半導体素子を搭載した箇所の周囲に配置されることを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の半導体装置。
【請求項８】
前記半導体素子と前記リードフレームの所定の箇所とを電気的に接続するワイヤを有し、前記鱗状部は、前記リードフレームの前記ワイヤとの接続部を除く領域に配置されることを特徴とする請求項１から請求項７のいずれか一項に記載の半導体装置。
【請求項９】
前記リードフレームの離間された二つの領域を跨ぐようにブリッジ実装された電子部品を有し、前記鱗状部は、前記リードフレームの前記電子部品を搭載した箇所の周囲に配置されることを特徴とする請求項１から請求項８のいずれか一項に記載の半導体装置。
【請求項１０】
前記鱗状部は、前記リードフレームにレーザーを照射することにより前記金属めっきを変形させたものであることを特徴とする請求項１から請求項９のいずれか一項に記載の半導体装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、樹脂モールド型の半導体装置に関し、特にリードフレームとモールド樹脂との密着性の向上に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体装置において、半導体素子を搭載するリードフレームには、銅板または銅合金板が用いられ、その表面には耐食性、耐熱性の改善を目的として金、銀、ニッケル、またはスズ等の金属めっきが施される。中でもニッケルめっきが多く採用されている。【０００３】
一方、リードフレーム表面に金属めっきを被覆することにより、トランスファーモールド成形に用いられるエポキシ樹脂等のモールド樹脂との密着性は低下する場合がある。このため、トランスファーモールド成形直後に、リードフレームとモールド樹脂との間に初期的な剥離が発生することがある。また、使用環境下の繰り返しの熱応力で、モールド樹脂がリードフレームから剥離しやすくなることが知られている。【０００４】
リードフレーム表面の金属めっきとモールド樹脂との密着性向上のための構成を有する先行例として、特許文献１では、絶縁性樹脂で封止される被覆面を少なくとも表面の一部に備えるパッケージ部品において、リードフレームの表面を導電性皮膜で被覆し、さらにこの導電性皮膜が上記被覆面において粗面化された粗面めっき層を有するように構成されている（図１３参照）。【０００５】
また、特許文献２では、リードフレームを金型でプレスするいわゆるディンプル加工により、複数の方形凹部を略等間隔で縦横に配置し、アンカー効果によりモールド樹脂の剥離を抑制するようにしている（図１４参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特許第５２６４９３９号
【特許文献２】特許第３７４８８４９号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１に示されたパッケージ部品の粗面めっき層は、平滑面めっき層と比較してワイヤボンディング性が劣るという問題がある。このため、ワイヤの接合強度の低下や未接合の可能性が高まる。また、ワイヤとの接続部に、部分的にストライプめっきやマスクめっきを施す方法もあるが、全面めっきと比較してコストがかかるという問題がある。【０００８】
また、特許文献２に示された半導体装置の方形凹部は、ディンプル加工の加工性を考慮すると２００μｍ程度の幅が必要であり、リードフレームに十分な面積が確保できない場合には加工が難しい。特に、リードフレームのワイヤとの接続部付近は面積が狭い領域であることが多く、ディンプル加工ができないという問題がある。また、方形凹部を形成する面積を確保しようとすると、半導体装置の小型化を妨げることになる。【０００９】
また、リードフレーム表面にニッケルめっき層を形成している場合、ニッケルめっきは銅と比較して硬度が高いため、方形凹部を形成するための金型の突起の摩耗が早くなり、生産性が低下するという問題がある。【００１０】
さらに、ディンプル加工によりリードフレームが歪み、リードフレームの平坦度が確保できないという問題がある。特に、電子部品をブリッジ実装する半導体装置の場合、リードフレームの歪みにより応力が発生し、はんだや電子部品にダメージを与えるため、リードフレームの平坦度の確保は必須であった。【００１１】
本発明は、上記問題点に鑑み、表面に金属めっきが施されたリードフレームとモールド樹脂との密着性を向上させ、小型化が可能で、生産性および信頼性が高い半導体装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明に係る半導体装置は、半導体素子を搭載するリードフレームと、リードフレームの少なくとも半導体素子を搭載した面を封止するモールド樹脂を備えた半導体装置であって、リードフレームは、その表面を部分的または全体的に金属めっきで被覆されると共に、モールド樹脂により封止される領域内に、金属めっきの表面形状を鱗状に変形させた鱗状部を有するものである。
【発明の効果】
【００１３】
本発明に係る半導体装置によれば、鱗状部によるアンカー効果により、リードフレームとモールド樹脂との密着力が向上し、モールド樹脂がリードフレームから剥離することを抑制することができる。鱗状部は、金属めっきの表面形状を変形させたものであるため、任意の箇所に容易に配置することができ、加工時にリードフレームの平坦度を損なわないため、小型化が可能で生産性および信頼性の高い半導体装置が得られる。
この発明の上記以外の目的、特徴、観点及び効果は、図面を参照する以下のこの発明の詳細な説明から、さらに明らかになるであろう。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の実施の形態１に係る半導体装置を示す断面図である。
【図２】本発明の実施の形態１に係る半導体装置のトランスファーモールド成形工程を示す断面図である。
【図３】本発明の実施の形態１に係る半導体装置における鱗状部を示す上面図である。
【図４】本発明の実施の形態１に係る半導体装置における鱗状部を示す断面図である。
【図５】本発明の実施の形態１に係る半導体装置における鱗状部を示す断面図である。
【図６】本発明の実施の形態１に係る半導体装置における鱗状部の形態を示す走査電子顕微鏡写真による図である。
【図７】本発明の実施の形態１に係る半導体装置における鱗状部の形態を示す走査電子顕微鏡写真による図である。
【図８】本発明の実施の形態１に係る半導体装置における鱗状部の配置例を示す図である。
【図９】本発明の実施の形態１に係る半導体装置における鱗状部の配置例を示す図である。
【図１０】本発明の実施の形態１に係る半導体装置における鱗状部の配置例を示す図である。
【図１１】本発明の実施の形態１に係る半導体装置における鱗状部の配置例を示す図である。
【図１２】本発明の実施の形態１に係る半導体装置における鱗状部の配置例を示す図である。
【図１３】従来の半導体装置におけるリードフレームとモールド樹脂との密着性向上のための構成を示す図である。
【図１４】従来の別の半導体装置におけるリードフレームとモールド樹脂との密着性向上のための構成を示す図である。
【図１５】本発明の実施の形態２に係る半導体装置における鱗状部を示す上面図である。
【図１６】本発明の実施の形態２に係る半導体装置における鱗状部を示す断面図である。
【図１７】本発明の実施の形態３に係る半導体装置を示す断面図である。
【図１８】本発明の実施の形態３に係る別の半導体装置を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
実施の形態１．
以下に、本発明の実施の形態１に係る半導体装置について、図面に基づいて説明する。図１に、本実施の形態１に係る樹脂モールド型の半導体装置の構造の一例を示す。本実施の形態１に係る半導体装置１００は、半導体素子１、リードフレーム２、ワイヤ５、インナーリード６、および外部端子７等を含んで構成される。なお、以下の全ての図において、図中、同一、相当部分には同一符号を付している。
【００１６】
半導体素子１は、例えばＩＧＢＴ、ＭＯＳＦＥＴ、ＩＣチップ、ＬＳＩチップ等であり、リードフレーム２の上面に、はんだ、銀等の接合部材４を介して実装される。半導体素子１またはその他の電子部品を搭載するリードフレーム２は、銅板または銅合金板からなり、その表面は、金、銀、ニッケル、スズ等の金属めっき（図示省略）で被膜されている。また、リードフレーム２は、金属めっきの表面形状を鱗状に変形させた鱗状部３を有している。この鱗状部３については、後に詳細に説明する。
【００１７】
半導体素子１の電極パッドは、ワイヤボンディングで接続されたワイヤ５、もしくは、銅板や銅合金板の材料で作成されたインナーリード６を介して外部端子７と接続される。ワイヤ５とインナーリード６は互いに置き換えが可能である。ワイヤ５は、金、銀、アルミ、銅等からなり、線径は２０μｍから５００μｍ程度である。
【００１８】
リードフレーム２の少なくとも半導体素子１を搭載した面は、エポキシ樹脂等のモールド樹脂８によって、トランスファーモールド成形により封止される。図１の例では、リードフレーム２の両面をモールド樹脂８によって封止している。モールド樹脂８の所定の箇所には、ゲートブレイク跡８ａが存在する。
【００１９】
図２は、半導体装置１００の製造工程におけるトランスファーモールド成形工程を示している。図２に示すように、成形金型２０の内部には、半導体素子１およびその他の部材が実装されたリードフレーム２が設置されている。溶融されたモールド樹脂は、成形金型２０の空洞２１に注入される。
【００２０】
成形金型２０におけるモールド樹脂の通り道であるゲート２２内に残ったモールド樹脂は、ランナー８ｂと呼ばれる。トランスファーモールド成形後、成形金型２０から半導体装置１００を取り出した直後に、ランナー８ｂと半導体装置１００を切り離すゲートブレイクが実施される。ゲートブレイク後の半導体装置１００には、ゲートブレイク跡８ａが残る。
【００２１】
このトランスファーモールド成形工程において、半導体装置１００を成形金型２０から排出する際に、リードフレーム２からモールド樹脂８を引き剥がす応力が働き、初期的な剥離が生じることがある。この応力は、成形金型２０にモールド樹脂８が僅かながら密着していることや、成形金型２０からモールド樹脂８が大量に漏れ出さないように外部端子７と成形金型２０とのクリアランスが非常に狭くなっていること等による。
【００２２】
また、半導体装置１００のゲートブレイク跡８ａ付近においても、初期的な剥離が生じやすい。これは、ゲートブレイク時にリードフレーム２に力が加わることや、ゲートブレイク跡８ａ付近は粘度が高くなったモールド樹脂８が流れる箇所であり、リードフレーム２への密着性が劣ることが要因である。
【００２３】
また、半導体装置１００のゲートブレイク跡８ａから最も直線距離が長い箇所、すなわちモールド樹脂の最終充填箇所の付近において、初期的な剥離が生じやすい。これは、熱硬化性のモールド樹脂８が、ゲートブレイク跡８ａから最も距離が長い箇所へ、粘度が高く濡れ性が悪くなった状態で最後に流れ込むため、リードフレーム２への密着性が劣ることが要因である。
【００２４】
さらに、初期的な剥離がなかった場合でも、使用環境下の繰り返しの熱応力により、リードフレーム２とモールド樹脂８の間で剥離が生じることがある。特に、接合部材４としてはんだを用いた場合、はんだとモールド樹脂８との密着性が他の部分よりも低いため、リードフレーム２のはんだが付着した部分からモールド樹脂８が剥離し易い。
【００２５】
このようなリードフレーム２からのモールド樹脂８の剥離を抑制する手段として、半導体装置１００は、リードフレーム２の表面を被覆する金属めっきの表面状態を鱗状に変形させた鱗状部３を有している。この鱗状部３のアンカー効果により、金属めっきとモールド樹脂８との密着力を高め、モールド樹脂８がリードフレーム２から剥離するのを抑制している。
【００２６】
図３は、半導体装置１００における鱗状部３を示す上面図であり、図４は、図３に示すＡ−Ａの部分で切断した断面図、図５は、図３に示すＢ−Ｂの部分で切断した断面図である。また、図６および図７は、鱗状部３の形態を示す走査電子顕微鏡写真による図である。
【００２７】
鱗状部３は、リードフレーム２にレーザーによるスポット照射を連続的に行うことにより、金属めっき層３０を鱗状に変形させたものであり、図３に示すように、任意の直線上または曲線上に所定の幅Ｗで配置される。
【００２８】
鱗状部３は、鱗片状の突起が連続的に配置された鱗片部３１と、鱗片部３１の両側に鱗片部３１よりも高く盛り上がった隆起部３２とを有している。鱗状部３の幅Ｗや高さは、レーザーの出力や走査スピード等により調整することができる。
【００２９】
なお、鱗状部３の幅Ｗは、例えば６０μｍ程度であるが、配置される箇所の面積に応じて大きくしても良い。鱗状部３の幅Ｗを大きくすることにより、モールド樹脂８との密着性がさらに向上する。
【００３０】
鱗状部３の配置例とその効果について、図８〜図１２を用いて説明する。図８に示す例では、鱗状部３は、リードフレーム２のゲートブレイク跡８ａ付近、すなわち成形金型２０のゲート２２（図２参照）に近接する箇所に配置されている。これにより、初期的な剥離が生じやすいゲートブレイク跡８ａ付近の金属めっき層３０とモールド樹脂８の密着力を向上させることができる。
【００３１】
また、図９に示す例では、鱗状部３は、リードフレーム２のゲートブレイク跡８ａから最も直線距離が長い箇所の付近に配置されている。これにより、初期的な剥離が生じやすい最終充填箇所の付近の金属めっき層３０とモールド樹脂８の密着力を向上させることができる。
【００３２】
また、図１０に示す例では、鱗状部３は、リードフレーム２のモールド樹脂８により封止される領域内の外周部に配置されている。これにより、半導体装置１００を成形金型２０から排出する際の応力による初期的な剥離や、その他の外部からの応力による剥離を抑制することができ、モールド樹脂８内部への水分や汚染物質の侵入を防止する効果がある。
【００３３】
また、図１１に示す例では、鱗状部３は、リードフレーム２の半導体素子１を搭載した箇所の周囲に配置されている。これにより、接合部材４の付近において発生しやすい使用環境下の繰り返しの熱応力による剥離を抑制することができ、半導体装置１００の長寿命化が図られる。さらに、接合部材４がはんだの場合、接合部材４の付近を囲むように鱗状部３を配置することにより、はんだの濡れ角が大きくなり、はんだの流出を防ぐことができる。
【００３４】
さらに、図１２に示す例では、鱗状部３は、リードフレーム２のワイヤ接続部２ａを除く領域に広く配置されている。このように、リードフレーム２のワイヤ接続部２ａを避けて鱗状部３を配置することにより、ワイヤボンディング性が低下せず、ワイヤ５とリードフレーム２の良好な接合が行える。
【００３５】
このように、鱗状部３は、レーザーによるスポット照射により形成されるため、リードフレーム２上の任意の箇所に形成することができる。鱗状部３を配置したい箇所だけを選択的に処理し、鱗状部３を配置しない箇所、例えばワイヤ接続部２ａ等は避けて処理することも容易である。また、鱗状部３の処理パターンを、図８〜図１２に示すような一筆書きとすることにより、タクトが短縮でき生産性が向上する。
【００３６】
次に、本実施の形態１に係る半導体装置１００の比較例として、従来の半導体装置におけるリードフレームとモールド樹脂との密着性向上のための構成を図１３および図１４に示す。図１３に示す従来例では、リードフレーム２のモールド樹脂８側の面に、ニッケルめっき層の被覆面において粗面化された表面プロファイルをもった粗面めっき層３３を所定の膜厚で形成している。
【００３７】
このような粗面めっき層３３を形成したパッケージ部品は、リードフレーム２とモールド樹脂８との密着性が向上し、しかもその密着性には劣化がない。しかしながら、粗面めっき層３３は、平滑面めっき層３４と比較してワイヤボンディング性が劣るため、ワイヤの接合強度の低下や未接合の可能性が高まるという課題がある。
【００３８】
これに対し、本実施の形態１に係る半導体装置１００における鱗状部３は、リードフレーム２上の任意の箇所に選択的に形成することが可能であり、リードフレーム２のワイヤ接続部２ａを避けて処理することができるため、ワイヤボンディング性の低下を招かない点で有利である。
【００３９】
また、図１４に示す別の従来例では、リードフレーム２のダイパッド２ｂ以外の領域に、リードフレームプレス金型でのディンプル加工により、複数の方形凹部９をほぼ等間隔で縦横に形成している。このような構成を有する半導体装置においても、方形凹部９によるアンカー効果でリードフレーム２とモールド樹脂との密着性は向上する。
【００４０】
ただし、方形凹部９には、ディンプル加工の加工性を考慮すると２００μｍ程度の幅が必要であり、リードフレーム２の設計によっては十分な面積が確保できず加工が難しい。これに対し、本実施の形態１における鱗状部３は、６０μｍ程度の狭スペースにも形成することが可能であり、半導体装置の小型化に寄与できる。また、鱗状部３はレーザー加工であるため金型は不要であり、金型の突起の摩耗等を考慮する必要はなく、生産性が高い点で有利である。
【００４１】
また、半導体装置１００を超音波映像装置等で検査すると、予想外の箇所に剥離が発生しやすいことが判明することがある。このような場合、成形金型２０（図２参照）を修正したり新規に制作したりすることは、多大な工期とコストが必要となる。本実施の形態１における鱗状部３は、このような事態に対しても有効である。すなわち、剥離が発生しやすいと判明した箇所に選択的に配置することができ、低コストで対応可能である。
【００４２】
さらに、方形凹部９は、隣接する方形凹部９との間に隙間が有るため、この隙間から半導体素子を接合するはんだが周囲に流出する可能性がある。これに対し、本実施の形態１では、図１１に示すように、半導体素子１を取り囲むように鱗状部３を配置することにより、鱗状部３の隆起部３２がストッパーとなり、はんだの流出を防止する効果が大きい。これにより半導体素子１の位置ずれを抑制することができる。
【００４３】
なお、本実施の形態１では、トランスファーモールド法を用いて製造された半導体装置１００について説明したが、半導体装置１００の製造方法はこれに限定されるものではない。例えばインジェクションモールド法を用いても良く、その場合、樹脂のコストが安価であるため低コスト化に寄与することができる。
【００４４】
以上のように、本実施の形態１に係る半導体装置１００は、鱗状部３によるアンカー効果により、リードフレーム２とモールド樹脂８との密着力が向上するため、モールド樹脂８がリードフレーム２から剥離するのを抑制することができる。
【００４５】
また、鱗状部３は、リードフレーム２にレーザーを照射することにより形成されるため、任意の箇所に容易に配置することができ、加工時にリードフレーム２の平坦度を損なわない。これらのことから、本実施の形態１によれば、小型化が可能で生産性および信頼性の高い半導体装置１００が得られる。
【００４６】
実施の形態２．
本発明の実施の形態２に係る半導体装置の全体構成は、上記実施の形態１と同様であるので図１を流用し、各部の説明を省略する。図１５は、本実施の形態２に係る半導体装置１００における鱗状部３ａを示す上面図であり、図１６は、図１５に示すＣ−Ｃの部分で切断した断面図である。
【００４７】
本実施の形態２における鱗状部３ａは、所定幅Ｗの中央部付近において、金属めっき層３０の下のリードフレーム２、すなわち銅または銅合金が露出した露出部２ｃを有している。その他の構成については上記実施の形態１における鱗状部３と同様である。露出した銅または銅合金は、金属めっき層３０と比較してモールド樹脂８との密着性が高いため、上記実施の形態１よりもさらにモールド樹脂の剥離を抑制することができる。
【００４８】
鱗状部３ａの中央部のリードフレーム２を露出させる方法としては、上記実施の形態１よりもレーザー照射の出力を上げて中央部の金属めっきを完全に溶融させる方法や、レーザー処理後、ショットブラスト等の物理加工で金属めっきを削りとる方法等がある。
【００４９】
なお、リードフレーム２の材料である銅は酸化し易く、露出した状態では酸化度の管理にコストがかかるが、本実施の形態２では、トランスファーモールド成形の直前工程で鱗状部３ａを形成するようにし、銅が露出する時間をできる限り短くすることにより、銅の酸化度の管理が容易であり、そのためのコスト上昇を抑制することができる。
【００５０】
本実施の形態２によれば、上記実施の形態１と同様の効果に加え、鱗状部３ａの中央部にモールド樹脂８との密着性が高い銅または銅合金を露出させた露出部２ｃを設けることにより、上記実施の形態１よりもさらにリードフレーム２からのモールド樹脂８の剥離を抑制する効果が高くなる。
【００５１】
実施の形態３．
本発明の実施の形態３では、上記実施の形態１に係る半導体装置１００とは構成の異なる半導体装置に鱗状部３を適用した例について説明する。図１７は、本実施の形態３に係る半導体装置１０１を示している。半導体装置１０１は、リードフレーム２の離間された二つの領域の間を跨ぐようにブリッジ実装された電子部品１０を備えている。電子部品１０は、コンデンサやサーミスタ等である。
【００５２】
本実施の形態３において、電子部品１０がブリッジ実装されるリードフレーム２の二つの領域とは、半導体素子１を搭載している領域と搭載していない領域、半導体素子１を搭載している二つの領域、半導体素子１を搭載していない二つの領域のいずれであっても良い。
【００５３】
電子部品１０をブリッジ実装する場合、リードフレーム２に歪みがあると電子部品１０や接合部材４に応力がかかりダメージを与える。図１４に示した従来例では、金型を用いたディンプル加工により方形凹部９を形成しているため、リードフレームの平坦度が確保できず、ブリッジ実装が技術的に困難である。
【００５４】
これに対し、本実施の形態３に係る半導体装置１０１では、レーザーによるスポット照射により鱗状部３を設けており、加工時にリードフレーム２の平坦度を損なわない。このため、リードフレーム２の各領域間の段差は数十μｍ程度であり、平坦度が確保されている。これにより、ブリッジ実装される電子部品１０や接合部材４にかかる応力が緩和され、電子部品１０や接合部材４のダメージやクラックを防ぐことができる。
【００５５】
また、電子部品１０がノイズフィルタの役割をするコンデンサの場合、ブリッジ実装をすることにより半導体装置１０１の内部に配置することが容易となり、ノイズフィルタとしての効果が大きくなる。さらに、電子部品１０の周囲のリードフレーム２に鱗状部３を配置することにより、接合部材４の付近において発生しやすい使用環境下の繰り返しの熱応力による剥離を抑制することができる。
【００５６】
図１８は、本実施の形態３に係る別の半導体装置１０２を示している。半導体装置１０２は、リードフレーム２の下部に、接着部材１１を介してシート１２が取り付けられている。接着部材１１は、グリース、接着剤、樹脂系接着材等である。シート１２としては、電気絶縁性があり熱伝導率が高いセラミックやシリコーンが用いられる。
【００５７】
また、接着部材１１に電気絶縁性がある場合、シート１２には熱伝導が高い銅が用いられる。さらにヒートシンクを取り付ける場合は、シート１２をヒートシンク側に取り付けていても良い。このように、リードフレーム２の下部がモールド樹脂８で覆われていない場合にも鱗状部３を適用することができ、放熱性に優れた半導体装置１０２が得られる。
【００５８】
なお、図１７、図１８では、半導体装置１０１、１０２に鱗状部３を設けているが、中央部のリードフレーム２が露出した鱗状部３ａを設けても良い。また、鱗状部３、３ａは、例えば図８〜図１２の配置例のように、任意の箇所に配置することができる。
【００５９】
本実施の形態３によれば、上記実施の形態１および実施の形態２と同様の効果、すなわち金属めっき層３０とモールド樹脂８との密着力を高め、リードフレーム２からモールド樹脂８が剥離するのを抑制することが可能であり、さらに、機能性および信頼性が高く、且つ長寿命で小型化が可能な半導体装置が得られる。
【００６０】
なお、本発明が適用される半導体装置の構成および製造方法は、上記実施の形態１〜実施の形態３に限定されるものではない。本発明は、その発明の範囲内において、各実施の形態を自由に組み合わせたり、各実施の形態を適宜、変形、省略することが可能である。
【産業上の利用可能性】
【００６１】
本発明は、樹脂モールド型の半導体装置に利用することができる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
2015151273.tif 000015
【図１４】
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【図１５】
2015151273.tif 000017
【図１６】
2015151273.tif 000018
【図１７】
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【図１８】
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【国際調査報告】
2015151273.tif 000021
2015151273.tif 000022