(57)【要約】  高いガスバリア性が必要とされる用途に好適に使用し得る無機物積層シートを提供することを課題とする。  少なくとも一方の表面に構造周期が０．００１μｍ〜１００μｍである分散構造を有するシートの、分散構造を有する面に無機物層が積層された無機物積層シート。
2014208463.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一方の表面に構造周期が０．００１μｍ〜１００μｍである分散構造を有するシートの、分散構造を有する面に無機物層が積層された無機物積層シート。
【請求項２】
前記シートが基材の少なくとも一方の面に構造周期０．００１μｍ〜１００μｍの分散構造を有する下地層が積層されたシートである請求項１に記載の無機物積層シート。
【請求項３】
前記分散構造が相分離構造である請求項１または２に記載の無機物積層シート。
【請求項４】
前記相分離構造が共連続構造、または海島構造である請求項３に記載の無機物積層シート。
【請求項５】
前記シートが、少なくとも２種の樹脂成分を含むポリマーアロイを含有する請求項１〜４のいずれかに記載の無機物積層シート。
【請求項６】
前記無機物積層シートにおける共連続構造または海島構造が、少なくとも２種の樹脂成分をスピノーダル分解によって相分離させることにより形成された請求項５に記載の無機物積層シート。
【請求項７】
前記ポリマーアロイの成分に２官能以上の架橋成分を含む請求項５または６に記載の無機物積層シート。
【請求項８】
前記無機物層が、周期律表における２〜６周期の１〜１７族に属する元素の少なくとも１種を含む請求項１〜７のいずれかに記載の無機物積層シート。
【請求項９】
前記無機物層が、亜鉛化合物とケイ素化合物とを含む請求項１〜８のいずれかに記載の無機物積層シート。
【請求項１０】
前記無機物層が、以下の無機Ａ層または無機Ｂ層のいずれかである請求項１〜９のいずれかに記載の無機物積層シート。無機Ａ層：酸化亜鉛−二酸化ケイ素−酸化アルミニウムの共存相からなる層無機Ｂ層：硫化亜鉛と二酸化ケイ素の共存相からなる層
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれかに記載の無機物積層シートの製造方法であって、シートを形成する工程において、シートを構成する成分の相溶状態を経て相分離構造を形成する工程を含む無機物積層シートの製造方法。
【請求項１２】
請求項１１に記載の無機物積層シートの製造方法において、電磁波または粒子線を用いて相分離構造を形成する無機物積層シートの製造方法。
【請求項１３】
請求項１〜１０のいずれかに記載の無機物積層シート、または、請求項１１または１２のいずれかに記載の製造方法にて得た無機物積層シートを用いてなる電子デバイス。
【請求項１４】
少なくとも一方の表面に構造周期が０．００１μｍ〜１００μｍである分散構造を有するシート。
【請求項１５】
請求項１４に記載のシートの製造方法であって、シートを形成する工程において、シートを構成する成分の相溶状態を経て相分離構造を形成する工程を含むシートの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】  本発明は、無機化合物の層を積層させる際に、無機化合物の層の構造を制御し、得られる無機物積層シートのガスバリア性を向上させ得るシート、および、高いガスバリア性が必要とされる食品や医薬品の包装用途、太陽電池、またタッチパネル、電子ペーパー、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、有機ＥＬ照明などの有機ＥＬデバイス等の電子デバイス用途に好適に使用し得る無機物積層シートに関するものである。
【背景技術】
【０００２】  樹脂の微細構造を制御する方法としてポリマーアロイ技術が注目されており、ポリマーアロイ技術を適用した樹脂を用いたフィルムが提案されている（特許文献１）。【０００３】  一方、フィルムやシートの上に無機化合物の層を形成したり、またその層の組成を制御する手法として、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理気相成長法（ＰＶＤ法）、あるいは、プラズマ化学気相成長法、熱化学気相成長法、光化学気相成長法等の化学気相成長法（ＣＶＤ法）等が提案されている。これらの技術の適用例として、例えば、酸化アルミニウム等の無機物（無機酸化物を含む）を使用し、上記の手法を用いて無機化合物の層を基材の表面に形成し、これをガスバリア層として用いるガスバリア積層体が挙げられる。ガスバリア積層体は、水蒸気や酸素などの各種ガスの遮断を必要とする食品や医薬品などの包装材、太陽電池や、タッチパネル、電子ペーパー、液晶ディスプレイ、有機ＥＬのディスプレイや照明などの表示体など電子デバイスの部材として用いられる。【０００４】  ガスバリア積層体の例としては、有機ケイ素化合物の蒸気と酸素を含有するガスを用いてプラズマＣＶＤ法により基材の上に、ケイ素酸化物を主体とした化合物からなるガスバリア層を形成したガスバリア積層体が提案されている（特許文献２）。また、基板上に樹脂層を設けその上にケイ素系化合物からなるガスバリア層を形成したガスバリア積層体も提案されている（特許文献３）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特許４３０６２６３号公報
【特許文献２】特開平８−１４２２５２号公報
【特許文献３】特許５１０４７１１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】  しかしながら、特許文献２、３のようなガスバリア積層体は、ガスバリア性が不足しやすいという問題があった。また、特許文献１のフィルムは、樹脂フィルム内部の微細構造を制御したものであるが、例えばそのフィルムの表面に無機化合物の層を形成したとしても、無機化合物の構造を制御することは困難であった。【０００７】  本発明は、かかる従来技術の問題に鑑み無機化合物の層を形成する際に、無機化合物の層の構造を制御し、得られる無機物積層シートのガスバリア性を向上させ得るシート、および、高いガスバリア性が必要とされる用途に好適に使用し得る無機物積層シートを提供せんとするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】  本発明は、かかる課題を解決するために、次のような構成を採用する。すなわち、（１）少なくとも一方の表面に構造周期が０．００１μｍ〜１００μｍである分散構造を有するシートの、分散構造を有する面に無機物層が積層された無機物積層シート。（２）前記シートが基材の少なくとも一方の面に構造周期０．００１μｍ〜１００μｍの分散構造を有する下地層が積層されたシートである前記（１）に記載の無機物積層シート。（３）前記分散構造が相分離構造である前記（１）または（２）に記載の無機物積層シート。（４）前記相分離構造が共連続構造、または海島構造である前記（３）に記載の無機物積層シート。（５）前記シートが、少なくとも２種の樹脂成分を含むポリマーアロイを含有する前記（１）〜（４）のいずれかに記載の無機物積層シート。（６）前記無機物積層シートにおける共連続構造または海島構造が、少なくとも２種の樹脂成分をスピノーダル分解によって相分離させることにより形成された前記（５）に記載の無機物積層シート。（７）前記ポリマーアロイの成分に２官能以上の架橋成分を含む前記（５）または（６）に記載の無機物積層シート。（８）前記無機物層が、周期律表における２〜６周期の１〜１７族に属する元素の少なくとも１種を含む前記（１）〜（７）のいずれかに記載の無機物積層シート。（９）前記無機物層が、亜鉛化合物とケイ素化合物とを含む前記（１）〜（８）のいずれかに記載の無機物積層シート。（１０）前記無機物層が、以下の無機Ａ層または無機Ｂ層のいずれかである前記（１）〜（９）のいずれかに記載の無機物積層シート。無機Ａ層：酸化亜鉛−二酸化ケイ素−酸化アルミニウムの共存相からなる層無機Ｂ層：硫化亜鉛と二酸化ケイ素の共存相からなる層（１１）前記（１）〜（１０）のいずれかに記載の無機物積層シートの製造方法であって、シートを形成する工程において、シートを構成する成分の相溶状態を経て相分離構造を形成する工程を含む無機物積層シートの製造方法。（１２）前記（１１）に記載の無機物積層シートの製造方法において、電磁波または粒子線を用いて相分離構造を形成する無機物積層シートの製造方法。（１３）前記（１）〜（１０）のいずれかに記載の無機物積層シート、または、前記（１１）または（１２）のいずれかに記載の製造方法にて得た無機物積層シートを用いてなる電子デバイス。（１４）少なくとも一方の表面に構造周期が０．００１μｍ〜１００μｍである分散構造を有するシート。（１５）前記（１４）に記載のシートの製造方法であって、シートを形成する工程において、シートを構成する成分の相溶状態を経て相分離構造を形成する工程を含むシートの製造方法。
【発明の効果】
【０００９】  無機化合物の層（以下、無機物層と記すこともある）を形成する際に、無機物層の構造を制御し、得られる無機物積層シートのガスバリア性を向上させ得るシートおよびガスバリア性に優れた無機物積層シートを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の無機物積層シートの一例（シートが単層構成である場合）を示す断面の模式図である。
【図２】本発明の無機物積層シートの一例（シートが積層構成である場合）を示す断面の模式図である。
【図３】本発明の無機物積層シートの一例（シートが積層構成である場合）において無機物層が図２と異なる態様である例を示す断面の模式図である。
【図４】本発明のシートにおける表面の分散構造の一例（本例では分散構造が、共連続構造の相分離構造である）を示す模式図である。
【図５】本発明のシートにおける表面の分散構造の一例（本例では分散構造が、海島構造の相分離構造である）を示す模式図である。
【図６】本発明のシートにおける表面の分散構造の一例（本例では分散構造が、シリンダー構造の相分離構造である）を示す模式図である。
【図７】本発明のシートにおける表面の分散構造の一例（本例では分散構造が、ジャイロイド構造の相分離構造である）を示す模式図である。
【図８】本発明のシートにおける表面の分散構造の一例（本例では分散構造が、ラメラ構造の相分離構造である）を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】  ［無機物積層シート］  本発明の無機物積層シートは、少なくとも一方の表面に構造周期が０．００１μｍ〜１００μｍである分散構造を有するシートの、分散構造を有する面に無機物層が積層されたものである。
【００１２】  図１および図２に本発明の無機物積層シートの一例を示す断面の模式図を示す。図１は、単層構成のシート４の分散構造を有する面１に無機物層が積層された態様を示し、図２は、基材３ｂと下地層３ａからなる積層構成のシート５の分散構造を有する面１に無機物層が積層された態様を示す。シート４、５および無機物層２の詳細は後述する。シートの少なくとも一方の構造周期が０．００１μｍ〜１００μｍである分散構造を有する面１に無機物層２を形成してかかる構造の無機物積層シートとすることで、無機物層の構造を制御することができる。これにより優れたガスバリア性を有する無機物積層シートが得られ、かかる無機物積層シートは、様々な用途に使用が可能である。
【００１３】  なお、無機物層の形態としては、図１および２に示すようにシートの表面の全面に設けられた形態に限定されず、図３に示すようにシートの表面の面内において例えばガスバリア性が必要とされる領域に部分的に設けられていている形態を採る場合も無機物層として扱うこととする。
【００１４】  ［シート］  本発明のシートは、少なくとも一方の表面に構造周期が０．００１μｍ〜１００μｍである分散構造を有するシートである。
【００１５】  本発明において分散とは、２種以上の互いに異なる成分が、分子の慣性半径より大きな構造、すなわち分子レベルで混合していない構造に分離している構造状態のことを指し、分散構造とはそれによって形成された構造のことを指す。
【００１６】  本発明おいて、表面における分散構造の構造周期が本発明の範囲であれば、分散構造を形成する構成成分、態様、実現手法はどのようなものであってもよく、例えば、非相溶性の有機成分または無機成分を２種以上含む、単体もしくは化合物から形成していてもよいし、また、有機成分同士、無機成分同士もしくは有機成分と無機成分のハイブリッド成分からなってもよい。さらには、分散構造を形成する１種以上の成分が、粒子のように真球状、非球状、不定形状の特定の形状を有しているものであってもよい。すなわち、本発明においては、分散構造は、相分離構造の上位概念であって、相分離構造以外の態様として、例えば、粒子等が分散した樹脂なども含むものを表している（なお、特許文献３において「分散構造」の文言が使用されているが、当該文献における「分散構造」は、相分離構造の下位概念であり、本発明における「海島構造」と対応するものである）。
【００１７】  本発明において少なくとも一方の表面に分散構造を有するとは、シートや下地層の空気または無機物層との界面から１０ｎｍの深さまでの領域に分散構造が存在することをいう。かかる少なくとも一方の表面に分散構造を有するシートの具体的な態様としては、（ｉ）分散構造を有する単層構成のシートであって少なくとも一方の表面に分散構造を有するシート（例えば図１の符号４に示される）や、（ｉｉ）基材の少なくとも一方の面のに、表面に分散構造を有する下地層積層された積層構成のシート（例えば図２の符号５に示される）が挙げられる。以降、単層構成のシートと積層構成のシートを区別して議論する必要があるときには、前者をシート（ｉ）、後者をシート（ｉｉ）と記す場合がある。また、単に「シート」とした場合はシート（ｉ）とシート（ｉｉ）とを総称しているものとし、同様に「シートの表面」のように記載した場合はシート（ｉ）の表面とシート（ｉｉ）の下地層の表面とを総称しているものとする。
【００１８】  本発明において、シート表面の分散構造は、構造周期は０．００１μｍ〜１００μｍである。ここで構造周期とは、ある一定の周期を持って繰り返される構造の繰り返し単位であり、電界放出形走査型電子顕微鏡により評価することができる。具体的には後述する実施例に記載の方法により算出される。
【００１９】  分散構造の構造周期は、０．００１μｍ〜１００μｍであり、好ましくは０．００５μｍ〜５０μｍであり、より好ましくは０．０１μｍ〜１μｍでり、さらに好ましくは０．０１〜０．１μｍであり、最も好ましくは０．０１μｍ〜０．０３μｍである。かかる構造周期を採ることにより無機物層の構造を制御しやすくなるため好ましい。
【００２０】  分散構造の有無は、顕微鏡観察により確認することができる。分散構造の確認に際しては、その構造周期に応じ、光学顕微鏡、走査型電子顕微鏡（電界放出形走査電子顕微鏡も含む）、透過型電子顕微鏡、原子間力顕微鏡を選択すればよい。
【００２１】  次に、分散構造の構造周期は電子顕微鏡観察により、以下の方法により求めることができる。分散構造として、後述の海島構造の相分離構造と共連続構造の相分離構造を例に定義を、図４および図５を用いて説明する。
【００２２】  図４は分散構造の一例として、分散構造が共連続構造の相分離構造である場合を表す模式図であるが、相分離構造以外でもこの様な形態を有する場合には本例の方法を適用することができる。具体的には、電子顕微鏡像の上で任意に採った正方形の領域に無作為に１０本の直線を描き、その直線と相界面の交点を得、１０本の直線について一本の直線毎に隣り合う交点間の距離を測定し、これらの数平均値を構造周期とする。このときいずれの直線にも２０個以上２００個未満のＡ相とＢ相の境界が直線と交差するようにする。
【００２３】  なお、ここでいう距離とは、実際の距離のことであり、電子顕微鏡像中のスケールバーを基準に実際の距離を求めることとする（以下についても同様とする）。
【００２４】  図５は分散構造の一例として、分散構造が海島構造の相分離構造である場合を表す模式図であるが、相分離構造以外でも不連続に粒子等が分散している様な場合には本方法を適用することができる。かかる場合の測定方法としては、以下に示すＡ法とＢ法が挙げられ、本発明においては、Ａ法及びＢ法の少なくとも何れか一方による構造周期が０．００１μｍ〜１００μｍの範囲の中にあれば、構造周期がその範囲に含まれると判断するものとする。
【００２５】  （Ａ法）  電子顕微鏡観察し符号９で示される海島構造の相分離構造における島相Ｂ（以下、島相Ｂと略す場合もある）が１０個以上１００個未満存在する任意の領域を選出し、当該領域の中で１０本の直線を描き、その直線と相界面の交点を得、１０本の直線について一本の直線毎に隣り合う交点間の距離を測定し、これらの数平均値を構造周期とする。このときいずれの直線にも２０個以上２００個未満のＡ相とＢ相の境界が直線と交差するようにする。
【００２６】  （Ｂ法）  電子顕微鏡観察し符号９で示される海島構造の相分離構造における島相Ｂ（以下、島相Ｂと略す場合もある）が１０個以上１００個未満存在する所定の領域を３箇所選出し、その領域内の島相Ｂのサイズの数平均値を構造周期とする。ここで島相Ｂのサイズとは、個々の島相の重心を通り一方の相界面からもう一方の相界面へ引かれる直線のうち、最短となる直線の長さをいう。
【００２７】  本発明のシートの厚みは、５０ｎｍ以上、１，０００μｍ以下が好ましい。５０ｎｍより薄くなると、無機物層を形成させる際に、シートの表面凹凸の影響を受けて無機物層の構造を制御することが難しくなる場合がある。一方、１，０００μｍより厚くなると、生産性が低下する場合があったり、応力が大きくなることによってシートが反り無機物層にクラック等の欠陥が発生しやすくなったりする場合がある。なお、シートの厚みは、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）や走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）による断面観察画像から測定することが可能である。
【００２８】  特に、本発明のシートにおいては、分散構造が相分離構造であることが好ましい。相分離構造であると、所望の構造周期の分散構造を形成しやすくなり、ひいては無機物層を形成させる際に、無機物層の構造を制御することができ、ガスバリア性を向上させやすくなる。ここでいう相分離とは、相溶状態で共存する２種以上の互いに異なる成分が、それぞれを主成分とする相へと向かって分離することを指す。また、相分離構造とは相分離により形成された構造のことを指す。
【００２９】  相分離構造の有無は、顕微鏡観察により確認することができる。相分離構造の確認に際しては、その構造周期に応じ、光学顕微鏡、走査型電子顕微鏡、透過型電子顕微鏡等により相分離構造を観察すればよい。
【００３０】  本発明のシートは相分離構造が共連続構造、または海島構造のいずれかであることが好ましい。相分離構造が共連続構造または海島構造であると、所望の構造周期に制御することが容易となり、無機物層を形成させる際に、無機物層の構造を制御し、高いガスバリア性の無機物積層シートを得やすくなる。
【００３１】  ここで共連続構造とは、分離した２種以上のそれぞれの相が互いに三次元的に絡み合った連続相を形成した構造を指す。この共連続構造の模式図は、例えば「ポリマーアロイ  基礎と応用（第２版）（第１０．１章）」（高分子学会編：東京化学同人）に記載されている。また、海島構造とは、一方の成分が主成分である粒子状に形成した部分と、もう一方の成分が主成分であるマトリックスとが存在し、そのマトリックスの中に片方の成分が粒子状に点在した構造のことを指す。なお、本発明においては、共連続構造や海島構造の他に、ラメラ構造（図８参照）、ジャイロイド構造（図７参照）、シリンダー構造（図６参照）等の相分離構造をとることも可能である。
【００３２】  ここで、ラメラ構造とは、層状構造を形成した２相が重なり合った相分離構造のことを指す。また、ジャイロイド構造とは、２相からなる相分離構造において、枝分かれした分岐が３つとなる共連続相分離構造のことを指す。また、シリンダー構造とは、２相のうち１相が棒状の構造を形成し、それら棒状の構造が少なくとも局所的に、同方向に規則的に配置した相分離構造のことを指す。
【００３３】  ここで、共連続構造または海島構造の構造周期は、顕微鏡観察により確認することができる。構造周期が０．１μｍ〜１００μｍである場合には、光学顕微鏡により確認することができる。また、構造周期が０．００１μｍ以上０．１μｍ未満である場合には、透過型電子顕微鏡または走査型電子顕微鏡により確認することができる。
【００３４】  確認する際は、予想される構造周期に適した観察倍率の顕微鏡画像を得ることで、構造周期を確認することができる。例えば予想される構造周期が０．００１μｍ以上０．１μｍ未満である場合は５０，０００倍、０．１μｍ以上１μｍ未満である場合は５，０００倍、１μｍ以上は１００倍で観察することで、得られた顕微鏡画像から構造周期を確認することができる。
【００３５】  本発明のシートは、少なくとも２種の樹脂成分を含むポリマーアロイであることが好ましい。シートが少なくとも２種の樹脂成分を含むポリマーアロイであると相分離構造を形成しやすく、無機物層を形成させる際に、無機物層の構造を制御し、ガスバリア性を向上させやすくなる。
【００３６】  ここでポリマーアロイとは少なくとも２種の樹脂成分を含む高分子多成分系のことを指す。ポリマーアロイの成分は相分離構造を形成する組み合わせであれば特に限定されず、有機系高分子または無機系高分子何れも適用することができる。本発明のシートの分散構造が、相分離構造であって、共連続構造または海島構造である場合には、少なくとも２種の樹脂成分がスピノーダル分解によって相分離構造が形成されたものが好ましい。スピノーダル分解によって相分離構造を形成することで、所望の構造サイズに制御することが容易となり、無機物層を形成させる際に、無機物層の構造を制御し、高いガスバリア性の無機物積層シートを得やすくなる。
【００３７】  ここで、スピノーダル分解による相分離構造形成とは、異なる２成分の樹脂組成および温度に対する相図においてスピノーダル曲線の内側の不安定状態で生じる相分離による構造形成のことを指す。かかるスピノーダル曲線とは、組成および温度に対して、異なる２成分の樹脂を混合した場合、相溶した場合の自由エネルギーと相溶しない２相における自由エネルギーの合計との差（ΔＧｍｉｘ）を濃度（φ）で二回偏微分したもの（∂２ΔＧｍｉｘ／∂φ２）が０となる曲線のことであり、またスピノーダル曲線の内側では、∂２ΔＧｍｉｘ／∂φ２＜０の不安定状態であり、外側では∂２ΔＧｍｉｘ／∂φ２＞０である。
【００３８】  詳細な理論によると、スピノーダル分解では、一旦相溶領域の温度で均一に相溶した混合系の温度を、急速に不安定領域の温度にした場合、系は共存組成に向けて急速に相分離を開始する。その際濃度は一定の波長に単色化され、構造周期（Λｍ）で両分離相が共に連続して規則正しく絡み合った共連続構造を形成するため、上述の微細かつ均一な構造を有する相分離構造の形成に好適である。この様にして共連続構造を形成した後、その構造周期を一定に保ったまま、両相の濃度差のみが増大する過程をスピノーダル分解の初期過程と呼ぶ。このスピノーダル分解の初期過程は、光散乱やＸ線散乱測定等において、周期構造に由来する散乱ピークがその極大値に対応する散乱ベクトルの値を変化させずにその強度を増大する過程を経ることで、確認することができる。
【００３９】  スピノーダル分解では、この様な初期過程を経た後、波長の増大と濃度差の増大が同時に生じる中期過程、濃度差が共存組成に達した後、波長の増大が自己相似的に生じる後期過程を経て、最終的には巨視的な２相に分離するまで進行する。中期過程から後期過程にかけての波長の増大過程において、組成や界面張力の影響によっては、片方の相の連続性が途切れ、上述の共連続構造から海島構造に変化する場合もある。
【００４０】  無機系高分子としては、無機系の酸化物等が挙げられ、例えば、珪素酸化物である、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｉ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシランなどのテトラアルコシシラン類、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、ｉ−プロピルトリメトキシシラン、ｉ−プロピルトリエトキシシラン、ｎ−ブチルトリメトキシシラン、ｎ−ブチルトリエトキシシラン、ｎ−ペンチルトリメトキシシラン、ｎ−ペンチルトリエトキシシラン、ｎ−ヘキシルトリメトキシシラン、ｎ−ヘプチルトリメトキシシラン、ｎ−オクチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、シクロヘキシルトリメトキシシラン、シクロヘキシルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリエトキシシラン、３，３，３−トリフロロプロピルトリメトキシシラン、３，３，３−トリフロロプロピルトリエトキシシラン、２−ヒドロキシエチルトリメトキシシラン、２−ヒドロキシエチルトリエトキシシラン、２−ヒドロキシプロピルトリメトキシシラン、２−ヒドロキシプロピルトリエトキシシラン、３−ヒドロキシプロピルトリメトキシシラン、３−ヒドロキシプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、３−（メタ）アクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリルオキシプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン等のトリアルコキシシラン類、メチルトリアセチルオキシシラン、メチルトリフェノキシシランなどのオルガノアルコシシランなどから、加水分解・重合反応によって得られる高分子を使用できる。
【００４１】  有機系高分子としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂などが挙げられ、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリエポキシ系樹脂、ナイロンやベンゾグアナミン等のポリアミド系樹脂、ＡＢＳ樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリエチレンやポリプロピレン等のオレフィン系樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂、ポリ塩化ビニルやポリ塩化ビニリデン等の塩素元素（Ｃｌ元素）を含有する樹脂、フッ素元素（Ｆ元素）を含有する樹脂、シリコーン系樹脂、セルロース系樹脂、等の有機系の高分子化合物が挙げられるが、これらを要求する特性や生産性等を踏まえ少なくとも１種を選択し、また、これらを２種以上混合してもよいが、本発明のシートにおいて好ましくは、２官能以上の架橋成分を含むことが好ましい。
【００４２】  ２官能以上の架橋成分を含むことで、相分離構造を所望の構造サイズに制御することが容易となり、特に無機物層を形成させる際に、無機物層の構造を制御し、高いガスバリア性の無機物積層シートを得やすくなる。
【００４３】  かかる２官能以上の架橋成分は重合反応に寄与する反応性官能基を２個以上有するモノマー、オリゴマー、ポリマーからなる化合物を重合反応（架橋反応）することで得ることができる。
【００４４】  反応性官能基としては、例えば、イソプロペニル基、イソペンテニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、メタクリル基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基、アリリデン基、アリリジン基、ビニルエーテル基や、炭素−炭素二重結合基の炭素にフッ素や塩素等のハロゲン元素が結合したもの（例えば、フッ化ビニル基、フッ化ビニリデン基、塩化ビニル基、塩化ビニリデン基等）や、炭素−炭素二重結合基の炭素にフェニル基やナフチル基等の芳香環を有する置換基が結合したもの（例えばスチリル基等）や、ブタジエニル基（例えば、ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ１）−Ｃ（Ｒ２）＝ＣＨ−、ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ１）−Ｃ（＝ＣＨ２）−（Ｒ１、Ｒ２はＨまたはＣＨ３））のように共役ポリエン構造を有する基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、リン酸基、アミノ基、４級アンモニウム塩基、スルホン酸基、シアノ基等の極性基、またこれら極性基の一部がＮａ＋、Ｋ＋等のカウンターカチオンを有した状態（例えば、−ＯＮａ、−ＣＯＯＮａ、−ＳＯ３Ｎａなど）の極性基、ラクトン・オキサゾール・イミダゾールなどの複素環を含むその他芳香族基及びその開環基、エポキシ基（グリシジル基も含む）、イソシアネート基、メルカプト・スルフィドなどの含硫黄元素官能基、ウレイド・ケチミノなどの含窒素元素官能基、等が挙げられる。これらから要求する特性や生産性等を考慮して、１種または２種以上混合して使用すればよい。
【００４５】  重合反応に寄与する反応性官能を２個以上有する化合物としては、例えば、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ペンタエリスリトールエトキシトリアクリレート、ペンタエリスリトールエトキシトリメタクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラアクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールプロパンエトキシトリアクリレート、トリメチロールプロパンエトキシトリメタクリレート、ジトリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパントリメタクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラメタクリレート、グリセリンプロポキシトリアクリレート、グリセリンプロポキシトリメタクリレートや、シクロプロパン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環等の環状骨格を分子内に有する化合物（例えば、トリアクリレート・トリメタクリレート・テトラアクリレート・テトラメタクリレート・ペンタアクリレート・ペンタメタクリレート・ヘキサアクリレート・ヘキサメタクリレート等）や、これら化合物の一部を変性した化合物（例えば２−ヒドロキシプロパン酸等で変性した２−ヒドロキシプロパン酸変性ペンタエリスリトールトリアクリレート、２−ヒドロキシプロパン酸変性ペンタエリスリトールトリメタクリレート、２−ヒドロキシプロパン酸変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート、２−ヒドロキシプロパン酸変性ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、また、シリコーン骨格を導入したシリコーントリアクリレート、シリコーントリメタクリレート、シリコーンテトラアクリレート、シリコーンテトラメタクリレート、シリコーンペンタアクリレート、シリコーンペンタメタクリレート、シリコーンヘキサアクリレート、シリコーンヘキサメタクリレート等）や、骨格内にビニル基および／またはビニリデン基と共にその他骨格を有する化合物（例えば、ウレタン骨格を有するウレタントリアクリレート、ウレタントリメタクリレート、ウレタンテトラアクリレート、ウレタンテトラメタクリレート、ウレタンペンタアクリレート、ウレタンペンタメタクリレート、ウレタンヘキサアクリレート、ウレタンヘキサメタクリレート、エーテル骨格を有するポリエーテルトリアクリレート、ポリエーテルトリメタクリレート、ポリエーテルテトラアクリレート、ポリエーテルテトラメタクリレート、ポリエーテルペンタアクリレート、ポリエーテルペンタメタクリレート、ポリエーテルヘキサアクリレート、ポリエーテルヘキサメタクリレート���エポキシ由来の骨格を有するエポキシトリアクリレート、エポキシトリメタクリレート、エポキシテトラアクリレート、エポキシテトラメタクリレート、エポキシペンタアクリレート、エポキシペンタメタクリレート、エポキシヘキサアクリレート、エポキシヘキサメタクリレート、エステル骨格を有するポリエステルトリアクリレート、ポリエステルトリメタクリレート、ポリエステルテトラアクリレート、ポリエステルテトラメタクリレート、ポリエステルペンタアクリレート、ポリエステルペンタメタクリレート、ポリエステルヘキサアクリレート、ポリエステルヘキサメタクリレート等）が挙げられるが、特にこれらに限定されるものではない。
【００４６】  本発明においてシート（単層構成のシートであるシート（ｉ）の場合にはシート（ｉ）自体、積層構成のシートであるシート（ｉｉ）の場合には基材および／または下地層）には、本発明の効果を阻害しない範囲内で各種の添加剤を添加することができる。添加剤としては、例えば、有機や無機の微粒子、難燃剤、難燃助剤、耐熱安定剤、耐酸化安定剤、レベリング剤、滑り賦活剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、核剤、染料、充填剤、分散剤およびカップリング剤などを用いることができる。
【００４７】  本発明のシートが、基材の少なくとも一方の面に構造周期が０．００１μｍ〜１００μｍの分散構造を有する下地層が形成されたシート（ｉｉ）である場合に使用される基材としては、具体的には例えば樹脂やガラスなどを挙げることができる。
【００４８】  基材に用いられる樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）やポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリフェニレンスルフィド、アラミド、ポリエチレン（ＰＥ）やポリプロピレン（ＰＰ）等のポリオレフィン、ポリビニルアルコール、ポリスチレン、ポリ乳酸、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル系・メタクリル系樹脂、脂環式アクリル樹脂、シクロオレフィン樹脂（ＣＯＰ）、シクロオレフィン共重合樹脂（ＣＯＣ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ＡＢＳ、ポリ酢酸ビニル、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂、ポリ塩化ビニルやポリ塩化ビニリデン等の塩素元素（Ｃｌ元素）を含有する樹脂、フッ素元素（Ｆ元素）を含有する樹脂、シリコーン系樹脂、エチレン酢酸ビニル共重合体のケン化物、ポリアクリロニトリル、ポリアセタール等が挙げられる。
【００４９】  また、これらの樹脂はホモポリマー、コポリマー、すなわち単独のポリマーであってもよいし複数のポリマーをブレンドして用いてもよく、混合および／または共重合したものでもよい。また、ガラスとしては、通常のソーダガラスを用いることができる。
【００５０】  さらに、これらを複数組み合わせて用いることもできる。例えば、樹脂とガラスとを組み合わせたもの、２種以上の樹脂を積層した複合樹脂であってもよい。
【００５１】  基材の厚みについては、２５０μｍ以下で巻き取り可能なものであっても、厚み２５０μｍを超えるものであってもよい。コスト、生産性、取り扱い性等の観点からは２５０μｍ以下が好ましく、より好ましくは１５０μｍ以下、さらに好ましくは１００μｍ以下、特に好ましくは５０μｍ以下である。また基材の厚みの下限は特には限定されないが、引張りや衝撃に対する強度を確保する観点からより好ましくは５μｍ以上、さらに好ましくは１０μｍ以上である。
【００５２】  基材として前記樹脂のフィルムを用いる場合、樹脂を未延伸、一軸延伸、二軸延伸してフィルムとしたものを適用することができる。さらには、単層フィルム、あるいは、２層以上の、例えば、共押し出し法で製膜したフィルムや、一軸方向あるいは二軸方向に延伸されたフィルム等を使用してもよい。
【００５３】  基材の下地層を形成する側の表面には、密着性を良くするために、コロナ処理、イオンボンバード処理、溶剤処理、粗面化処理、および、有機物または無機物あるいはそれらの混合物で構成されるアンカーコート層の形成処理、といった前処理が施されていても構わない。また、無機物層を形成する側の反対面には、巻き取り時の滑り性の向上および、無機物層を形成した後巻き取る際に無機物層との摩擦を軽減することを目的として、有機物や無機物あるいはこれらの混合物のコーティング層が施されていても構わない。
【００５４】  これら基材のうち、成形性、透明性等の光学特性、生産性等の観点から、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステルフィルム、またポリエチレンナフタレートとの混合および／または共重合したポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリプロピレンフィルム、シクロオレフィン樹脂フィルム、シクロオレフィン共重合樹脂フィルム、を好ましく使用することができる。
【００５５】  本発明のシートを形成する方法（単層構成のシートであるシート（ｉ）の場合においてはシート（ｉ）の形成方法、積層構成のシートであるシート（ｉｉ）の場合においては基材の上への下地層の形成方法）は特には限定されないが、シート（ｉ）を構成する成分、および、下地層を構成する成分は、それぞれシート（ｉ）および下地層を形成する際に相溶状態を経て相分離構造を形成する工程を含むことが好ましい。なお、ここで、相溶状態とは、含まれる少なくとも２種の樹脂成分が分子レベルで均一に混合している状態のことであり、具体的には異なる２種の樹脂成分を含む相が０．００１μｍ以上の相分離構造を形成していない場合を指す。かかる工程を含むことで、相分離構造を所望の構造サイズに制御することが容易となり、無機物層を形成させる際に、無機物層の構造を制御し、高いガスバリア性の無機物積層シートを得やすくなる。
【００５６】  かかる工程を含む方法としては、例えば、シート（ｉ）の場合にはシートの成分を含む混合組成物を、熱溶融成型などによって相分離構造を形成する方法、シート（ｉｉ）の場合の下地層の形成においては、下地層の成分を含む塗工液を調整し、キャスト、スピンコート、ディップコート、バーコート、スプレー、ブレードコート、スリットダイコート、グラビアコート、リバースコート、スクリーン印刷、鋳型塗布、印刷転写、インクジェットなどのウエットコート法等、の一般的な方法で基材の上に塗布し、その後、後述する方法にて、下地層の成分を重合させ下地層の相分離構造を形成する方法が挙げられる。シート（ｉｉ）の場合の下地層の形成におけるこれらの塗布方法のなかでも、下地層を均一にかつ生産性良く形成できるマイクログラビアもしくはスリットダイコートを使用したウエットコート法が好ましい。
【００５７】  また、シート（ｉ）の場合におけるシート（ｉ）の成分を含む混合組成物（以降、混合組成物と略記する場合もある）およびシート（ｉｉ）の場合における下地層の成分を含む塗工液（以降、塗工液と略記する場合もある）には、シート（ｉ）の成分および下地層の成分を均一に相溶させる目的で溶媒を混合させてもよい。溶媒を混合させた混合組成物および塗工液を用いる場合は、前記方法を用いて塗布した後に、シート（ｉ）の成分および下地層を構成する成分の相溶状態を維持した上で溶媒が揮発しうる温度で乾燥させた後、溶媒を含まない場合と同様にシート（ｉ）の成分および下地層の成分を重合させシート（ｉ）および下地層の相分離構造を形成することができる。
【００５８】  かかる場合に用いられる溶媒は、シート（ｉ）の成分および下地層の成分を相溶するものであれば特には限定されず、シート（ｉ）の成分および下地層の成分や形成方法の種類によって適宜選定すればよく、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチルなどの酢酸エステル類、アセトン、アセトフェノン、エチルメチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類、トルエン、キシレン、ベンジルアルコールなどの芳香族炭化水素類、メタノール、エタノール、１，２−プロパンジオール、テルピネオール、アセチルテルピネオール、ブチルカルビトール、エチルセルソルブ、エチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、グリセロールなどのアルコール類、トリエチレングリコールモノブチルエーテルなどのエチレングリコールモノアルキルエーテル類、エチレングリコールジアルキルエーテル類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、エチレングリコールモノアリールエーテル類、ポリエチレングリコールモノアリールエーテル類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類、ジプロピレングリコールジアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、γ−ブチロラクトン、ソルベントナフサ、水、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミド、ジメチルエチレン尿素、Ｎ,Ｎ’−ジメチルプロピレン尿素、テトラメチル尿素などが挙げられ、これらを２種以上含有してもよい。
【００５９】  シート（ｉ）および下地層の相分離構造を形成するための硬化方法として、加熱などにより外部からエネルギーを加える方法が挙げられるが、電磁波または粒子線を用いて相分離構造を形成する方法が好ましい。電磁波または粒子線を用いることで、前述のシート（ｉ）を構成する成分および下地層を構成する成分の相溶状態を経て相分離構造を形成する工程を経やすくなり、ひいては相分離構造を所望の構造サイズに制御することが容易となることで、無機物層を形成させる際に、無機物層の構造を制御し、高いガスバリア性の無機物積層シートを得やすくなる。
【００６０】  電磁波としてはγ線、Ｘ線、紫外線、可視光線、赤外線、マイクロ波などが挙げられ、また粒子線としてはα線、β線、電子線、陽子線、中性子線などが挙げられ、シート（ｉ）を構成する成分および下地層を構成する成分の種類や性質によってこれら２種以上を組み合わせてもよいが、電磁波または粒子線によってシート（ｉ）を構成する成分および下地層を構成する成分の重合反応・硬化反応を進行させるために開始剤を含有させることが好ましい。
【００６１】  ここで開始剤とは、電磁波または粒子線によって、反応を開始させる活性種であるラジカル種、カチオン種、アニオン種等の活性種を生成し、化学反応を開始させる物質である。開始剤を含有させることで、そこに電磁波または粒子線を照射することで系全体に同時に重合反応・硬化反応のための開始種を発生させることができるため、硬化開始に要する時間や硬化時間が短縮でき、前述のシート（ｉ）を構成する成分および下地層を構成する成分の相溶状態を経て相分離構造を形成する工程を経やすくなり、ひいては相分離構造を所望の構造サイズに制御することが容易となることで、無機物層を形成させる際に、無機物層の構造を制御し、高いガスバリア性の無機物積層シートを得やすくなる。
【００６２】  使用可能な開始剤としては例えば、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系、ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイン系、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２−メチル１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モリフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１などのα−ヒドロキシケトン系やα−アミノケトン系、イソプロピルチオキサントン、２−４−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン系、メチルフェニルグリオキシレートなどが挙げられ、極大吸収波長の値、吸光度、色見、着色度合い等の観点から、これら開始剤のうち１種または２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００６３】  かかる光重合開始剤は、市販品としては、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンとしてＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４（ＢＡＳＦ社製）、２−メチル１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モリフォリノプロパン−１−オンとしてＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７（ＢＡＳＦ社製）、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１としてＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９（ＢＡＳＦ社製）等が挙げられ、シートの成分の種類や性質によって１種のみまたは吸収波長領域の異なる２種以上を含有させることができる。
【００６４】  また、電磁波または粒子線を照射するランプ等の照射体の条件（出力条件等）を変更する、照射体と非照射体との照射距離を変更する、さらには本発明のシートの製造に要する非照射体の搬送速度を調整することで照射時間を短くする、などの方法によって積算の照射量を制御・調整することも有効であり、さらには電磁波または粒子線を照射するにあたり、窒素やアルゴン等の不活性ガスにて置換した雰囲気下や酸素脱気した雰囲気下等の酸素濃度を低くした特定の雰囲気下としたりする方法も有効であるため、これらを適宜組み合わせることでシートを形成することができる。
【００６５】  シート（ｉｉ）の場合における下地層の厚みは、５０ｎｍ以上、１０μｍ以下が好ましい。５０ｎｍより薄くなると、基材の凹凸の影響を受けて高いガスバリア性の無機物積層シートが得られない場合がある。１０μｍより厚くなると、下地層の応力が大きくなることによって基材が反り、無機物層にクラックが発生するため、同様に高いガスバリア性の無機物積層シートが得られない場合がある。なお、下地層の厚みは、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）や走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）による断面観察画像から測定することが可能である。
【００６６】  ［無機物層］  本発明の無機物積層シートは、シートによって無機物層の構造を制御することで、高いガスバリア性示す無機物積層シートとなったものである。なお、無機物層を形成した上にさらに下地層と無機物層とを繰り返し積層する多層積層構成としてもよい。また、無機物層はシートの片側にのみ配置してもよいし、片側のみでは無機物層側と反対側の応力バランスが崩れ反りや変形が生じる場合などには、シートの両面に無機物層を設けても構わない。本発明の無機物積層シートは、温度４０℃、湿度９０％ＲＨにおける水蒸気透過率が１ｇ／（ｍ２・２４ｈ・ａｔｍ）以下のガスバリア性を有することが特に好ましい。
【００６７】  本発明における無機物層の厚みは、１０ｎｍ以上が好ましく、５０ｎｍ以上がより好ましい。無機物層の厚みが１０ｎｍより薄くなると、ガスバリア性が十分に確保できない箇所が発生し、無機物積層シートの面内でガスバリア性がばらつくなどが生じる場合がある。また、本発明における無機物層の厚みの上限は２，０００ｎｍ以下が好ましく、１，０００ｎｍ以下がより好ましい。無機物層の厚みが２，０００ｎｍより厚くなると、膜内に残留する応力が大きくなるため、曲げや外部からの衝撃によって無機物層にクラックが発生しやすくなり、使用に伴いガスバリア性が低下する場合がある。
【００６８】  無機物層を構成する無機化合物は特には限定されないが、無機物のみであっても、有機物と無機物の混合物であってもよいが、周期律表における２〜６周期の１〜１７族に属する元素の単体または少なくとも１種を含むことが、本発明のシートによる効果を発現しやすくなり、とりわけガスバリア性の向上効果が発現しやすくなる点で好ましい。無機物層に含まれる具体的な元素としては例えば、ケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、亜鉛（Ｚｎ）、チタン（Ｔｉ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、スズ（Ｓｎ）、インジウム（Ｉｎ）、ニオブ（Ｎｂ）、モリブデン（Ｍｏ）、タンタル（Ｔａ）、パラジウム（Ｐｄ）等が挙げられる。これらの元素を単体、もしくは炭化物、酸化物、窒化物、硫化物等の化合物、またはそれらの混合物として無機物層に含むことができる。
【００６９】  無機物層に含まれる元素の一例としてケイ素（Ｓｉ）について述べる。ケイ素の化合物としては、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）などのケイ素酸化物、窒化ケイ素（Ｓｉ３Ｎ４）などのケイ素窒化物が挙げられるが、ケイ素酸化物が好ましい。
【００７０】  ケイ素酸化物の組成は、ケイ素原子に対する酸素原子の原子数比が１．５〜２．０であるケイ素の酸化物を含むことが好ましい。ケイ素原子に対する酸素原子の原子数比が２．０より大きくなると、含まれる酸素原子量が多くなるため、空隙部分や欠陥部分が増加し、得られる無機物積層シートのガスバリア性の向上効果が乏しい場合がある。また、ケイ素原子に対する酸素原子の原子数比が１．５より小さくなると、酸素原子が減少し緻密な膜質になるが、柔軟性が低下し、熱や外部からの応力に対してクラックが生じやすくなる場合がある。ケイ素原子に対する酸素原子の原子数比のより好ましい範囲は１．７〜１．９である。
【００７１】  なお、ケイ素化合物の組成分析は、組成に応じてＸ線光電子分光法（ＸＰＳ法）やＩＣＰ発光分光分析及び、ラザフォード後方散乱法を使用して、各元素の原子の含有率を定量分析し、そこから求めることができる。無機物層の上にさらに樹脂層が積層されている場合、Ｘ線反射率法により求めた厚み分をイオンエッチングや薬液処理により除去した後、分析することができる。
【００７２】  ケイ素化合物を含む無機物層を形成する方法は特に限定されず、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、化学気相成長法（ＣＶＤ法と略す）、さらにはケイ素化合物を含む塗液を用いて前述のウエットコート法などによって形成することができる。真空蒸着法の場合は、原子半径が小さい元素を含有し、かつ低融点の蒸着材料を、より減圧された環境下で蒸着して形成する方法が好ましい。スパッタリング法の場合は、薄膜を形成する粒子の表面拡散によって緻密な膜質の薄膜を形成するため、ターゲット材料をスパッタリングするプラズマとは別に、シートの表面を酸素ガスや炭酸ガスなどの反応性ガスのプラズマでアシストしながら薄膜を形成する、プラズマアシストスパッタ法が好ましい。ＣＶＤ法の場合は、ケイ素系化合物のモノマー気体を高強度のプラズマにより活性化し、重合反応によって緻密なケイ素系薄膜層を形成することが好ましい。これら方法のうち、スパッタリング法またはＣＶＤ法がより好ましい。
【００７３】  ＣＶＤ法に適用するケイ素系化合物としては、例えば、シラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、テトラメチルシラン、エチルシラン、ジエチルシラン、トリエチルシラン、テトラエチルシラン、プロポキシシラン、ジプロポキシシラン、トリプロポキシシラン、テトラプロポキシシラン、ジメチルジシロキサン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ウンデカメチルシクロヘキサシロキサン、ジメチルジシラザン、トリメチルジシラザン、テトラメチルジシラザン、ヘキサメチルジシラザン、ヘキサメチルシクロトリシラザン、オクタメチルシクロテトラシラザン、デカメチルシクロペンタシラザン、ウンデカメチルシクロヘキサシラザンなどが挙げられる。中でも取り扱い上の観点からヘキサメチルジシロキサン、テトラエトキシシランが好ましい。
【００７４】  次に無機物層に含まれる元素の別の一例として亜鉛（Ｚｎ）について述べる。亜鉛化合物として酸化亜鉛（ＺｎＯ）、硫化亜鉛（ＺｎＳ）などが挙げられる。本発明において亜鉛化合物は、無機物層全体の５０質量％以上であることが好ましく、より好ましくは６０質量％以上、さらに好ましくは８０質量％以上である。
【００７５】  なお、ここで亜鉛化合物は、後述するＸ線光電子分光法（ＸＰＳ法）、ＩＣＰ発光分光分析、ラザフォード後方散乱法等により成分を特定された各元素の組成比が整数で表される組成式を有する化合物として扱う。たとえば、生成時の条件に依存して、ＺｎＳ、ＺｎＯ等が量論比から若干のずれた組成比となる場合でも、ＺｎＳ、ＺｎＯとして扱い上記の質量含有率を算出するものとする。
【００７６】  亜鉛化合物を含む無機物層を形成する方法は特に限定されず、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法等によって形成することができる。これらの方法の中でも、簡便かつ安価に形成可能な方法として、スパッタリング法が好ましい。
【００７７】  亜鉛化合物を含む無機物層は、亜鉛を含んでいれば、ケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、チタン（Ｔｉ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、スズ（Ｓｎ）、インジウム（Ｉｎ）、ニオブ（Ｎｂ）、モリブデン（Ｍｏ）、タンタル（Ｔａ）、パラジウム（Ｐｄ）等の他の元素の単体、もしくは炭化物、酸化物、窒化物、硫化物等の化合物、またはそれらの一種または複数種をさらに含んでいてもよいが、本発明の無機化合物において好ましくは、亜鉛化合物とケイ素酸化物とを含む組成により構成された化合物であると、さらにガスバリア性の高い無機物積層シートを得ることができる。例えば、高いガスバリア性が得られるものとして、酸化亜鉛−二酸化ケイ素−酸化アルミニウムの共存相からなる層（以降［無機Ａ］層と略記する）または硫化亜鉛と二酸化ケイ素の共存相からなる層（以降［無機Ｂ］層と略記する）が好適に用いられる。（なお、［無機Ａ］層と［無機Ｂ］層のそれぞれの詳細説明は後述する）。
【００７８】  ［酸化亜鉛−二酸化ケイ素−酸化アルミニウムの共存相からなる層：無機Ａ層］  本発明の無機物層として好適に用いられる酸化亜鉛−二酸化ケイ素−酸化アルミニウムの共存相からなる層（［無機Ａ］層）について説明する。なお、「酸化亜鉛−二酸化ケイ素−酸化アルミニウムの共存相」を「ＺｎＯ−ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３」と略記することもある。また、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）は、生成時の条件によって、左記組成式のケイ素と酸素の組成比率から若干ずれたもの（ＳｉＯ〜ＳｉＯ２）が生成することがあるが、本明細書においては二酸化ケイ素あるいはＳｉＯ２と表記し、その組成として扱うこととする。かかる組成比の化学式からのずれに関しては、酸化亜鉛、酸化アルミニウムについても同様の扱いとし、それぞれ、本明細書においては、生成時の条件に依存する組成比のずれに関わらず、酸化亜鉛またはＺｎＯ、酸化アルミニウムまたはＡｌ２Ｏ３と表記し、それらの組成として扱うこととする。
【００７９】  本発明の無機物積層シートに［無機Ａ］層を適用することによりガスバリア性が良好となる理由は、酸化亜鉛−二酸化ケイ素−酸化アルミニウムの共存相においては酸化亜鉛に含まれる結晶質成分と二酸化ケイ素の非晶質成分とを共存させることによって、微結晶を生成しやすい酸化亜鉛の結晶成長が抑制され粒子径が小さくなるため層が緻密化し、酸素および水蒸気の透過が抑制されるためと推測している。
【００８０】  また、酸化アルミニウムを共存させることによって、酸化亜鉛と二酸化ケイ素を共存させる場合に比べて、より結晶成長を抑制することができるため、クラックの生成に起因するガスバリア性低下が抑制できたものと考えられる。
【００８１】  ［無機Ａ］層の組成は、後述するようにＩＣＰ発光分光分析法により測定することができる。ＩＣＰ発光分光分析法により測定されるＺｎ原子濃度は２０〜４０ａｔｏｍ％、Ｓｉ原子濃度は５〜２０ａｔｏｍ％、Ａｌ原子濃度は０．５〜５ａｔｏｍ％、Ｏ原子濃度は３５〜７０ａｔｏｍ％であることが好ましい。
【００８２】  Ｚｎ原子濃度が４０ａｔｏｍ％より大きくなる、またはＳｉ原子濃度が５ａｔｏｍ％より小さくなると、酸化亜鉛の結晶成長を抑制する酸化物が不足するため、空隙部分や欠陥部分が増加し、十分なガスバリア性が得られない場合がある。Ｚｎ原子濃度が２０ａｔｏｍ％より小さくなる、またはＳｉ原子濃度が２０ａｔｏｍ％より大きくなると、層内部の二酸化ケイ素の非晶質成分が増加して層の柔軟性が低下し、熱や外部からの応力に対してクラックが生じやすくなる場合がある。また、Ａｌ原子濃度が５ａｔｏｍ％より大きくなると、酸化亜鉛と二酸化ケイ素の親和性が過剰に高くなるため、熱や外部からの応力に対してクラックが生じやすくなる場合がある。Ａｌ原子濃度が０．５ａｔｏｍ％より小さくなると、酸化亜鉛と二酸化ケイ素の親和性が不十分となり、層を形成する粒子間の結合力が向上できないため、柔軟性が低下し、熱や外部からの応力に対してクラックが生じやすくなる場合がある。また、Ｏ原子濃度が７０ａｔｏｍ％より大きくなると、［無機Ａ］層内の欠陥量が増加するため、所定のガスバリア性が得られない場合がある。Ｏ原子濃度が３５ａｔｏｍ％より小さくなると、亜鉛、ケイ素、アルミニウムの酸化状態が不十分となり、結晶成長が抑制できず粒子径が大きくなるため、ガスバリア性が低下する場合がある。かかる観点から、Ｚｎ原子濃度が２５〜３５ａｔｏｍ％、Ｓｉ原子濃度が１０〜１５ａｔｏｍ％、Ａｌ原子濃度が１〜３ａｔｏｍ％、Ｏ原子濃度が５０〜６４ａｔｏｍ％であることがより好ましい。
【００８３】  ［無機Ａ］層に含まれる成分は酸化亜鉛、二酸化ケイ素および酸化アルミニウムが上記組成の範囲でかつ主成分であれば特に限定されず、例えば、ケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、亜鉛（Ｚｎ）、チタン（Ｔｉ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、スズ（Ｓｎ）、インジウム（Ｉｎ）、ニオブ（Ｎｂ）、モリブデン（Ｍｏ）、タンタル（Ｔａ）、パラジウム（Ｐｄ）等の他の元素の単体、もしくは炭化物、酸化物、窒化物、硫化物等の化合物、またはそれらの一種または複数種をさらに含んでも構わない。ここで主成分とは、［無機Ａ］層の組成の５０質量％以上であることを意味し、好ましくは６０質量％以上、さらに好ましくは８０質量％以上である。
【００８４】  ［無機Ａ］層の組成は、層の形成時に使用した混合焼結材料と同等の組成で形成されるため、目的とする層の組成に合わせた組成の混合焼結材料を使用することで［無機Ａ］層の組成を調整することが可能である。
【００８５】  ［無機Ａ］層の組成分析は、ＩＣＰ発光分光分析法を使用して、亜鉛、ケイ素、アルミニウムの各元素を定量分析し、酸化亜鉛と二酸化ケイ素、酸化アルミニウムおよび含有する無機酸化物の組成比を知ることができる。なお、酸素原子は亜鉛原子、ケイ素原子、アルミニウム原子が、それぞれ酸化亜鉛（ＺｎＯ）、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）として存在すると仮定して算出する。
【００８６】  ＩＣＰ発光分光分析は、試料をアルゴンガスとともにプラズマ光源部に導入した際に発生する発光スペクトルから、多元素の同時計測が可能な分析手法であり、組成分析に適用することができる。無機物層の上に樹脂層が積層されている場合、Ｘ線反射率法により求めた厚み分をイオンエッチングや薬液処理により除去した後、ＩＣＰ発光分光分析することができる。
【００８７】  シート（ｉ）上およびシート（ｉｉ）の下地層の上に［無機Ａ］層を形成する方法は特に限定されず、酸化亜鉛と二酸化ケイ素と酸化アルミニウムの混合焼結材料を使用して、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等によって形成することができる。酸化亜鉛と二酸化ケイ素と酸化アルミニウムの単体材料を使用する場合は、酸化亜鉛と二酸化ケイ素と酸化アルミニウムをそれぞれ別の蒸着源またはスパッタ電極から同時に成膜し、所望の組成となるように混合させて形成することができる。これらの方法の中でも、本発明に使用する［無機Ａ］層の形成方法は、ガスバリア性と形成した層の組成再現性の観点から、混合焼結材料を使用したスパッタリング法がより好ましい。
【００８８】  ［硫化亜鉛と二酸化ケイ素の共存相からなる層：無機Ｂ層］  本発明の無機物層として好適に用いられる硫化亜鉛と二酸化ケイ素の共存相からなる層（［無機Ｂ］層）について説明する。なお、「硫化亜鉛−二酸化ケイ素共存相」を、「ＺｎＳ−ＳｉＯ２」と略記することもある。また、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）は、その生成時の条件によって、左記組成式のケイ素と酸素の組成比率から若干ずれたもの（ＳｉＯ〜ＳｉＯ２）が生成することがあるが、本明細書においては二酸化ケイ素あるいはＳｉＯ２と表記し、その組成として扱うこととする。かかる組成比の化学式からのずれに関しては、硫化亜鉛についても同様の扱いとし、本明細書においては、生成時の条件に依存する組成比のずれに関わらず、硫化亜鉛またはＺｎＳと表記し、その組成として扱うこととする。
【００８９】  本発明の無機物積層シートに［無機Ｂ］層を適用することによりガスバリア性が良好となる理由は、硫化亜鉛−二酸化ケイ素共存相においては硫化亜鉛に含まれる結晶質成分と二酸化ケイ素の非晶質成分とを共存させることによって、微結晶を生成しやすい硫化亜鉛の結晶成長が抑制され粒子径が小さくなるため層が緻密化し、酸素および水蒸気の透過が抑制されるためと推測している。また、結晶成長が抑制された硫化亜鉛を含む硫化亜鉛−二酸化ケイ素共存相は、無機酸化物または金属酸化物だけで形成された層よりも柔軟性が優れるため、熱や外部からの応力に対してクラックが生じにくく、かかる［無機Ｂ］層を適用することによりクラックの生成に起因するガスバリア性低下が抑制できたものと考えられる。
【００９０】  ［無機Ｂ］層の組成は、硫化亜鉛と二酸化ケイ素の合計に対する硫化亜鉛のモル分率が０．７〜０．９であることが好ましい。硫化亜鉛と二酸化ケイ素の合計に対する硫化亜鉛のモル分率が０．９より大きくなると、硫化亜鉛の結晶成長を抑制する酸化物が不足するため、空隙部分や欠陥部分が増加し、所定のガスバリア性が得られない場合がある。また、硫化亜鉛と二酸化ケイ素の合計に対する硫化亜鉛のモル分率が０．７より小さくなると、［無機Ｂ］層内部の二酸化ケイ素の非晶質成分が増加して層の柔軟性が低下し、熱や外部からの応力に対してクラックが生じやすくなる場合がある。硫化亜鉛と二酸化ケイ素の合計に対する硫化亜鉛のモル分率のより好ましい範囲は０．７５〜０．８５である。
【００９１】  ［無機Ｂ］層に含まれる成分は硫化亜鉛および二酸化ケイ素が上記組成の範囲でかつ主成分であれば特に限定されず、例えば、ケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、亜鉛（Ｚｎ）、チタン（Ｔｉ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、スズ（Ｓｎ）、インジウム（Ｉｎ）、ニオブ（Ｎｂ）、モリブデン（Ｍｏ）、タンタル（Ｔａ）、パラジウム（Ｐｄ）等の他の元素の単体、もしくは炭化物、酸化物、窒化物、硫化物等の化合物、またはそれらの一種または複数種をさらに含んでも構わない。ここで主成分とは、［無機Ｂ］層の組成の５０質量％以上であることを意味し、好ましくは６０質量％以上、さらに好ましくは８０質量％以上である。
【００９２】  ［無機Ｂ］層の組成は、層の形成時に使用した混合焼結材料と同等の組成で形成されるため、目的に合わせた組成の混合焼結材料を使用することで［無機Ｂ］層の組成を調整することが可能である。
【００９３】  ［無機Ｂ］層の組成分析は、ＩＣＰ発光分光分析によりまず亜鉛及びケイ素の組成比を求め、この値を基にラザフォード後方散乱法を使用して、各元素を定量分析し硫化亜鉛と二酸化ケイ素および含有する他の無機酸化物の組成比を知ることができる。ＩＣＰ発光分光分析は、試料をアルゴンガスとともにプラズマ光源部に導入した際に発生する発光スペクトルから、多元素の同時計測が可能な分析手法であり、組成分析に適用することができる。また、ラザフォード後方散乱法は高電圧で加速させた荷電粒子を試料に照射し、そこから跳ね返る荷電粒子の数、エネルギーから元素の特定、定量を行い、各元素の組成比を知ることができる。なお、［無機Ｂ］層は硫化物と酸化物の複合層であるため、硫黄と酸素の組成比分析が可能なラザフォード後方散乱法による分析を実施する。無機物層の上にや樹脂層が積層されている場合、Ｘ線反射率法により求めた厚み分をイオンエッチングや薬液処理により除去した後、ＩＣＰ発光分光分析及び、ラザフォード後方散乱法にて分析することができる。
【００９４】  シート（ｉ）上およびシート（ｉｉ）の下地層の上に［無機Ｂ］層を形成する方法は特に限定されず、硫化亜鉛と二酸化ケイ素の混合焼結材料を使用して、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等によって形成することができる。硫化亜鉛と二酸化ケイ素の単体材料を使用する場合は、硫化亜鉛と二酸化ケイ素をそれぞれ別の蒸着源またはスパッタ電極から同時に成膜し、所望の組成となるように混合させて形成することができる。これらの方法の中でも、本発明に使用する［無機Ｂ］層の形成方法は、ガスバリア性と形成した層の組成再現性の観点から、混合焼結材料を使用したスパッタリング法がより好ましい。
【００９５】  ［用途例］  本発明の無機物積層シートは、太陽電池や表示体等の電子デバイスに用いることができる。
【００９６】  太陽電池としてはシリコン系太陽電池、化合物系太陽電池、有機系太陽電池等の封止部材として好ましく使用することができ、本発明の無機物積層シートはガスバリア性および接着性に優れているため、太陽電池のバックシートを構成するＰＥＴ樹脂フィルムやフッ素樹脂フィルムに貼り付けることにより、バックシートの水蒸気に対するバリア性を大幅に向上させることができ、バックシートさらには太陽電池の耐久性を大幅に向上させることができる。
【００９７】  また、表示体としてタッチパネル、電子ペーパー、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、有機ＥＬ照明等の封止部材として好ましく使用することができる。
【００９８】  タッチパネルに使用される場合には、ＩＴＯ等が積層された透明導電フィルムに本発明の無機物積層シートを貼り付けることにより、透明導電フィルムのガスバリア性を向上させることができ、これによって水蒸気により透明導電フィルムが劣化することを防ぐことができる。
【００９９】  電子ペーパー、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、有機ＥＬ照明等の封止部材として使用される場合には、例えばフィルムを用いたフレキシブルな電子ペーパー、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、有機ＥＬ照明等の場合、当該製品を構成する透明導電フィルムや拡散フィルム、偏光板等に本発明の無機物積層シートを貼り付けたり、接着剤や粘着剤によって有機ＥＬ素子のいずれか一部を封止もしくは全面封止したりすることにより、高いガスバリア性を発現することができ、さらにはフレキシブル性を発現することができるため、フレキシブルな電子ペーパー、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、有機ＥＬ照明等の耐久性向上、長寿命化を図ることができる。
【実施例】
【０１００】  以下、本発明を実施例に基づき具体的に説明する。ただし、本発明は下記実施例に限定されるものではない。【０１０１】  ［評価方法］  まず、各実施例および比較例における評価方法を説明する。評価ｎ数は、特に断らない限り、ｎ＝５とし平均値を求めた。【０１０２】  （１）シート（ｉ）、基材、下地層、無機物層の厚み  断面観察用サンプルをマイクロサンプリングシステム（（株）日立製作所製、ＦＢ−２０００Ａ）を使用してＦＩＢ法により（具体的には「高分子表面加工学」（岩森暁著）ｐ．１１８〜１１９に記載の方法に基づいて）作製した。透過型電子顕微鏡（（株）日立製作所製、Ｈ−９０００ＵＨＲII）により、加速電圧３００ｋＶとして、観察用サンプルの断面を観察し、各厚みを測定した。【０１０３】  （２）水蒸気透過率  温度４０℃、湿度９０％ＲＨ、測定面積５０ｃｍ２の条件で、英国、テクノロックス（Ｔｅｃｈｎｏｌｏｘ）社製の水蒸気透過率測定装置（機種名：ＤＥＬＴＡＰＥＲＭ（登録商標））を使用して測定した。サンプル数は１水準当たり２検体とし、測定回数は同一サンプルについて各１０回とし、その平均値を水蒸気透過率とした。【０１０４】  （３）［無機Ａ］層の組成  ［無機Ａ］層の組成分析はＩＣＰ発光分光分析（エスアイアイ・ナノテクノロジー社製、ＳＰＳ４０００）により行った。試料中の亜鉛原子、ケイ素原子、アルミニウム原子の含有量を測定し、原子数比に換算した。なお、酸素原子は亜鉛原子、ケイ素原子、アルミニウム原子が、それぞれ酸化亜鉛（ＺｎＯ）、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）として存在する仮定で求めた計算値とした。【０１０５】  （４）［無機Ｂ］層の組成  ［無機Ｂ］層の組成分析はＩＣＰ発光分光分析（セイコー電子工業（株）製、ＳＰＳ４０００）により行い、この値をもとにさらにラザフォード後方散乱法（日新ハイボルテージ（株）製、ＡＮ−２５００）を使用して、各元素を定量分析し硫化亜鉛と二酸化ケイ素の組成比を求めた。【０１０６】  （５）無機物層（［無機Ａ］層、［無機Ｂ］層以外の場合）の組成  無機化合物はＸ線光電子分光法（ＸＰＳ法）を用いることにより、酸素原子に対する含有金属または非金属原子の原子数比、およびケイ素原子に対する酸素原子の原子数比（Ｏ／Ｓｉ比率）を測定し、必要に応じて上記（３）および／または（４）の測定も併用した。測定条件は下記の通りとした。・装置：Ｑｕａｎｔｅｒａ  ＳＸＭ  （ＰＨＩ社製）・励起Ｘ線：ｍｏｎｏｃｈｒｏｍａｔｉｃ  ＡｌＫα１，２・Ｘ線径１００μｍ・光電子脱出角度：１０°。【０１０７】  （６）シート表面（シート（ｉ）表面および下地層表面）における分散構造の確認（分散構造有無、相分離構造の形状）  電界放出形走査型電子顕微鏡（ＪＥＯＬ製  ＪＳＭ−６３０１ＮＦ）により、加速電圧５ｋＶ、エミッション電流１２μＡとして、適当な倍率でシート表面の観察を行い、分散構造の有無及び相分離構造の形状を確認した。なお、ここでいう適当な倍率とは、予想される構造周期が０．００１μｍ以上０．１μｍ未満の場合は５０，０００倍、０．１μｍ以上１μｍ未満の場合は５，０００倍、１μｍ以上の場合は１，０００倍である。【０１０８】  得られた電子顕微鏡画像において、相分離構造が観察されなかった場合を「相溶」、２相以上連続相が互いに絡み合った構造を形成している場合を「共連続構造」とした。また、一方の相が粒子状、もう一方の相がマトリックスとして存在し、そのマトリックスの中に粒子状の相が点在した構造を形成している場合を「海島構造」とした。なお、前述の適当な倍率で相分離構造が観察されなかった場合には、１段階ずつ高倍率にして観察を続け、５０，０００倍まで倍率を上げても相分離構造が見られない場合に相分離構造なしとした。【０１０９】  （７）シートにおける分散構造の構造周期  （６）項と同様の方法で、シート表面（シート（ｉ）表面および下地層表面）を観察し、分散構造を形成しているサンプルについて、分散構造の構造周期を以下の通り測定した。なお、以下でいう長さとは、実際の距離のことであり、観察写真中のスケールバーを基準に実際の距離を求めた。（７−１）分散構造が、海島構造の相分離構造の場合  実施例Ａ１〜Ａ２３および比較例Ａ１〜Ａ５はＡ法を適用し、実施例Ｂ１〜Ｂ２３および比較例Ｂ１〜Ｂ５はＢ法を適用した。（７−１−１）Ａ法  分散構造が相分離構造であり海島構造を形成している場合、電子顕微鏡観察写真上の島相Ｂが１０個以上１００個未満存在する任意の領域を選出し、当該領域にいずれの直線にも２０個以上２００個未満のＡ相とＢ相の境界が直線と交差するように１０本の直線を描き、その直線と相界面の交点を得、１０本の直線について一本の直線毎に隣り合う交点間の距離を測定し、これらの数平均値を構造周期とした。なお、観察倍率は（６）項と同様の倍率を用いた。（７−１−２）Ｂ法  分散構造が相分離構造であり海島構造を形成している場合、電子顕微鏡観察写真上の島相Ｂが１０個以上１００個未満存在する任意の領域を３箇所選出し、その領域内の島相Ｂのサイズの数平均値を構造周期とした。ここで島相Ｂのサイズとは、個々の島相の重心を通り一方の相界面からもう一方の相界面へ引かれる直線のうち、最短となる直線の長さをいう。（７−２）分散構造が、共連続構造の相分離構造の場合  実施例Ａ１〜Ａ２３、比較例Ａ１〜Ａ５、実施例Ｂ１〜Ｂ２３および比較例Ｂ１〜Ｂ５に共通して以下の方法を適用した。【０１１０】  分散構造が相分離構造であり、Ａ相およびＢ相の共連続構造を形成している場合、まず、正方形の電子顕微鏡観察写真に無作為に１０本の直線を描き、その直線と相界面の交点を抽出し、隣り合う交点間の距離を測定し、これらの数平均値を構造周期とした。いずれの直線にも２０個以上２００個未満のＡ相とＢ相の境界が直線と交差するようにした。なお、観察倍率は（６）項と同様の倍率を用いた。【０１１１】  （８）シート成分（シート（ｉ）成分および下地層成分）の同定  サンプルのシート（シート（ｉ）および下地層）が溶解する溶剤に溶解させた。その後必要に応じ、シリカゲルカラムクロマトグラフィー、ゲル浸透クロマトグラフィー、液体高速クロマトグラフィー等に代表される一般的なクロマトグラフィー等を適用し、それぞれ単一物質に分離精製して、以下の定性分析に供した。【０１１２】  さらに、シートの成分（シート（ｉ）成分および下地層成分）を適宜濃縮および希釈を行い、サンプルを調製した。���いで、以下の評価方法を用いサンプル中に含まれる成分を特定した。【０１１３】  分析手法は、以下の分析の手法を組み合わせて行い、より少ない組み合わせで測定できるものを優先して適用した。【０１１４】  核磁気共鳴分光法（１Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲ、２９Ｓｉ−ＮＭＲ、１９Ｆ−ＮＭＲ）、二次元核磁気共鳴分光法（２Ｄ−ＮＭＲ）、赤外分光光度法（ＩＲ）、ラマン分光法、各種質量分析法（ガスクロマトグラフィー−質量分析法（ＧＣ−ＭＳ）、熱分解ガスクロマトグラフィー−質量分析法（熱分解ＧＣ−ＭＳ）、マトリックス支援レーザー脱離イオン化質量分析（ＭＡＬＤＩ−ＭＳ）、飛行時間型質量分析法（ＴＯＦ−ＭＳ）、飛行時間型マトリックス支援レーザー脱離イオン化質量分析（ＭＡＬＤＩ−ＴＯＦ−ＭＳ）、ダイナミック二次イオン質量分析法（Ｄｙｎａｍｉｃ−ＳＩＭＳ）、飛行時間型二次イオン質量分析法（ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）、その他スタティック二次イオン質量分析法（Ｓｔａｔｉｃ−ＳＩＭＳ）等）、Ｘ線回折法（ＸＲＤ）、中性子回折法（ＮＤ）、低速電子線回折法（ＬＥＥＤ）、高速反射電子線回折法（ＲＨＥＥＤ）、原子吸光分析法（ＡＡＳ）、紫外光電子分光法（ＵＰＳ）、オージェ電子分光法（ＡＥＳ）、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）、蛍光Ｘ線元素分析法（ＸＲＦ）、誘導結合プラズマ発光分光法（ＩＣＰ−ＡＥＳ）、電子線マイクロアナリシス法（ＥＰＭＡ）、荷電粒子励起Ｘ線分光法（ＰＩＸＥ）、低エネルギーイオン散乱分光法（ＲＢＳまたはＬＥＩＳ）、中エネルギーイオン散乱分光法（ＭＥＩＳ）、高エネルギーイオン散乱分光法（ＩＳＳまたはＨＥＩＳ）、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）、透過電子顕微鏡−エネルギー分散Ｘ線分光分析（ＴＥＭ−ＥＤＸ）、走査電子顕微鏡−エネルギー分散Ｘ線分光分析（ＳＥＭ−ＥＤＸ）、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）その他元素分析。【０１１５】  ［実施例］  （実施例Ａ１）  （シート（ｉ）の形成）  シート形成用成分としてメタクリル酸メチル／ポリスチレン＝９０／１０［質量比］の組成となるように混合し、次いで熱重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルをメタクリル酸メチルに対し０．５質量％添加し、シート形成用の組成物を得た。なお、ここでいうメタクリル酸メチルに対し０．５質量％添加とは、シート形成用成分に含まれるメタクリル酸メチルの量を１００質量％としたしたときに０．５質量％添加することをいう。本例で具体的に記すと、メタクリル酸メチル／ポリスチレン／アゾビスイソブチロニトリル＝９０／１０／０．５†［質量比］（†０．５は、０．５×９０÷１００より算出）となる。かかる表記は以下同様である。【０１１６】  次いで、前記シート形成用の組成物を８０℃で６０分間加熱し重合させ、厚み５０μｍのシートを形成した。このシートは単層構成のシート（シート（ｉ））である。本シート（ｉ）は、架橋成分を含まず、また成分の非相溶状態から形成されたものであり、構造周期が９６μｍの海島構造の相分離構造が形成されていた。【０１１７】  （無機物層の形成）  二酸化ケイ素で形成された焼結材であるスパッタターゲットを用意し、スパッタリング・化学気相成長装置（以降スパッタ・ＣＶＤ装置と略す）にセットした。【０１１��】  次いで、前記スパッタ・ＣＶＤ装置の真空度が２×１０−１Ｐａとなるようにアルゴンガスを導入し、高周波電源により投入電力５００Ｗを印加することにより、アルゴンガスプラズマを発生させ、スパッタリングにより前記シート（ｉ）上に無機物層としてケイ素化合物からなる層を層の厚みが１００ｎｍとなるように形成した。【０１１９】  （無機物積層シート）  以上のようにして無機物積層シートを得た。本実施例の無機物積層シートにおけるシートは、単層構成のシート（シート（ｉ））であり、架橋成分を含まず、また成分の非相溶状態から形成されたもので、構造周期が９６μｍの海島構造の相分離構造が形成されていた。また、無機物層はケイ素化合物からなる層であり、本実施例の無機物積層シートは、後述するシートに相分離構造を有さない（相溶状態の）シートを用いた比較例Ａ１と比較して、高いガスバリア性を示した。【０１２０】  （実施例Ａ２）  （シート（ｉ）の形成）  シート形成用成分としてメタクリル酸メチル／ポリスチレン＝８５／１５［質量比］の組成となるように混合し、次いで熱重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルをメタクリル酸メチルに対し０．５質量％添加し、シート形成用の組成物を得た。【０１２１】  次いで、前記シート形成用の組成物を８０℃で６０分間加熱し重合させ、厚み５０μｍのシートを形成した。このシートは単層構成のシート（シート（ｉ））である。本シート（ｉ）は、架橋成分を含まず、また成分の非相溶状態から形成されたものであり、構造周期が５４μｍの海島構造の相分離構が形成されていた。【０１２２】  （無機物層の形成）  実施例Ａ１と同様にして、前記シート（ｉ）上に無機物層としてケイ素化合物からなる層を層の厚みが１００ｎｍとなるように形成した。【０１２３】  （無機物積層シート）  以上のようにして無機物積層シートを得た。本実施例の無機物積層シートにおけるシートは、単層構成のシート（シート（ｉ））であり、架橋成分を含まず、また成分の非相溶状態から形成されたもので、構造周期が５４μｍの海島構造の相分離構造が形成されていた。また、無機物層はケイ素化合物からなる層であり、本実施例の無機物積層シートは、後述するシートに相分離構造を有さない（相溶状態の）シートを用いた比較例Ａ１と比較して、高いガスバリア性を示した。【０１２４】  （実施例Ａ３）  （シート（ｉ）の形成）  シート形成用成分としてメタクリル酸メチル／ポリスチレン＝８０／２０［質量比］の組成となるように混合し、次いで熱重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルをメタクリル酸メチルに対し０．５質量％添加し、シート形成用の組成物を得た。【０１２５】  次いで、前記シート形成用の組成物を８０℃で６０分間加熱し重合させ、厚み５０μｍのシートを形成した。このシートは単層構成のシート（シート（ｉ））である。本シート（ｉ）は、架橋成分を含まず、また成分の非相溶状態から形成されたもので、構造周期が４５μｍの海島構造の相分離構が形成されていた。【０１２６】  （無機物層の形成）  実施例Ａ１と同様にして、前記シート（ｉ）上に無機物層としてケイ素化合物からなる層を層の厚みが１００ｎｍとなるように形成した。【０１２７】  （無機物積層シート）  ���上のようにして無機物積層シートを得た。本実施例の無機物積層シートにおけるシートは、単層構成のシート（シート（ｉ））であり、架橋成分を含まず、また成分の非相溶状態から形成されたもので、構造周期が４５μｍの海島構造の相分離構造が形成されていた。また、無機物層はケイ素化合物からなる層であり、本実施例の無機物積層シートは、シートの相分離構造の構造周期が好ましい範囲となることで、実施例Ａ１、Ａ２と比較して高いガスバリア性を示した。【０１２８】  （実施例Ａ４）  （シート（ｉ）の形成）  シート形成用成分としてメタクリル酸メチル／ポリスチレン＝７０／３０［質量比］の組成となるように混合し、次いで熱重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルをメタクリル酸メチルに対し０．５質量％添加し、シート形成用の組成物を得た。【０１２９】  次いで、前記シート形成用の組成物を８０℃で６０分間加熱し重合させ、厚み５０μｍのシートを形成した。このシートは単層構成のシート（シート（ｉ））である。本シート（ｉ）は、架橋成分を含まず、また成分の非相溶状態から形成されたもので、構造周期が１．３μｍの海島構造の相分離構造が形成されていた。【０１３０】  （無機物層の形成）  実施例Ａ１と同様にして、前記シート（ｉ）上に無機物層としてケイ素化合物からなる層を層の厚みが１００ｎｍとなるように形成した。【０１３１】  （無機物積層シート）  以上のようにして無機物積層シートを得た。本実施例の無機物積層シートにおけるシートは、単層構成のシート（シート（ｉ））であり、架橋成分を含まず、また成分の非相溶状態から形成されたもので、構造周期が１．３μｍの海島構造の相分離構造が形成されていた。また、無機物層はケイ素化合物からなる層であり、本実施例の無機物積層シートは、シートの相分離構造の構造周期がより好ましい範囲となることで、実施例Ａ１、Ａ２と比較して高いガスバリア性を示した。【０１３２】  （実施例Ａ５）  （シート（ｉｉ）の下地層の形成）  基材として厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製、商品名：“ルミラー”（登録商標）Ｕ４８））を用意した。【０１３３】  次いで、下地層形成用成分としてアクリル酸メチル／ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）＝１０／９０［質量比］の組成となるように混合し、次いで光重合開始剤として２−メチル１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モリフォリノプロパン−１−オンとしてＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７（ＢＡＳＦ社製）と２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１としてＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９（ＢＡＳＦ社製）とを、アクリル酸メチルに対しそれぞれ２．５質量％（合計５質量％）添加後、そこに酢酸エチル／シクロヘキサノン＝７０／３０［質量比］の混合溶媒を加えて固形分濃度１０質量％まで希釈し下地層形成用の塗工液を調整した。【０１３４】  次いで、前記下地層形成用の塗工液をマイクログラビアコーター（グラビア線番８０Ｒ、グラビア回転比１００％）でポリエチレンテレフタレートフィルム上に塗布し、８０℃で３０秒間加熱乾燥後、紫外線を０．８Ｊ／ｃｍ２照射し重合させ、厚み１μｍの下地層を形成した。このシートは積層構成のシート��シート（ｉｉ））である。本シート（ｉｉ）の下地層は架橋成分を含まないが、下地層の成分が相溶した状態のときに電磁波である紫外線を照射することで相分離構造が形成されたもので、構造周期が０．７μｍの海島構造の相分離構造が形成されていた。【０１３５】  （無機物層の形成）  実施例Ａ１と同様にして、前記シート（ｉｉ）の下地層の上に、無機物層としてケイ素化合物からなる層を層の厚みが１００ｎｍとなるように形成した。【０１３６】  （無機物積層シート）  以上のようにして無機物積層シートを得た。本実施例の無機物積層シートにおけるシートは基材層の一方の面に下地層が積層された積層構成のシート（シート（ｉｉ））であり、下地層は架橋成分を含まないが、下地層の成分が相溶した状態のときに電磁波である紫外線を照射することで相分離構造が形成されたもので、実施例Ａ１〜Ａ４と比較して構造周期が０．７μｍと小さい海島構造の相分離構造が形成されていた。また、無機物層はケイ素化合物からなる層であり、本実施例の無機物積層シートは、下地層の相分離構造の構造周期が実施例Ａ１〜Ａ４よりもさらに好ましい範囲となることで、実施例Ａ１〜Ａ４と比較して高いガスバリア性を示した。【０１３７】  （実施例Ａ６）  （シート（ｉｉ）の下地層の形成）  実施例Ａ５と同様にして、架橋成分を含まないが、成分が相溶した状態のときに電磁波である紫外線を照射し相分離構造を形成することで、構造周期が０．７μｍの海島構造の相分離構造が形成された下地層を有する積層構成のシート（シート（ｉｉ））を得た。【０１３８】  （無機物層の形成）  酸化亜鉛と二酸化ケイ素と酸化アルミニウムで形成された混合焼結材であるスパッタターゲット（組成質量比＝酸化亜鉛／二酸化ケイ素／酸化アルミニウム＝７７．０／２０．０／３．０）を用意し、スパッタ・ＣＶＤ装置にセットした。【０１３９】  次いで、前記スパッタ・ＣＶＤ装置の真空度が２×１０−１Ｐａとなるように酸素ガス分圧１０％としてアルゴンガスおよび酸素ガスを導入し、直流電源により投入電力５００Ｗを印加することにより、アルゴン・酸素ガスプラズマを発生させ、スパッタリングにより前記シート（ｉｉ）の下地層の上に、無機物層として［無機Ａ］層を層の厚みが１５０ｎｍとなるように形成した。この無機物層の組成は、ＺｎＯが７１．２質量％、Ａｌ２Ｏ３が３．７質量％、ＳｉＯ２が２５．１質量％であり、ＺｎＯおよびＡｌ２Ｏ３の合計含有量は７４．９質量％であった。【０１４０】  （無機物積層シート）  以上のようにして無機物積層シートを得た。また、無機物層は［無機Ａ］層であり、本実施例の無機物積層シートは無機物層を好ましい態様とすることで、実施例Ａ５や後述する下地層に相分離構造を有さない（相溶状態の）下地層を用いた比較例Ａ２よりも、さらに高いガスバリア性を示した。【０１４１】  （実施例Ａ７）  （シート（ｉｉ）の下地層の形成）  厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製、商品名：“ルミラー”（登録商標）Ｕ４８））を用意した。【０１４２】  次いで、下地層形成用成分としてアクリル酸メチル／ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）＝２０／８０［質量比］の組成となるように混合し、次いで光重合開��剤として２−メチル１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モリフォリノプロパン−１−オンとしてＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７（ＢＡＳＦ社製）と２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１としてＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９（ＢＡＳＦ社製）とを、アクリル酸メチルに対しそれぞれ２．５質量％（合計５質量％）添加後、そこに酢酸エチル／シクロヘキサノン＝７０／３０［質量比］の混合溶媒を加えて固形分濃度１０質量％まで希釈し下地層形成用の塗工液を調整した。【０１４３】  次いで、前記下地層形成用の塗工液をマイクログラビアコーター（グラビア線番８０Ｒ、グラビア回転比１００％）でポリエチレンテレフタレートフィルム上に塗布し、８０℃で３０秒間加熱乾燥後、紫外線を０．８Ｊ／ｃｍ２照射し重合させ、厚み１μｍの下地層を形成した。このシートは積層構成のシート（シート（ｉｉ））であり、下地層は架橋成分を含まないが、下地層の成分が相溶した状態のときに電磁波である紫外線を照射することで相分離構造が形成されたもので、下地層には構造周期が０．１５μｍの共連続構造の相分離構造が形成されていた。【０１４４】  （無機物層の形成）  実施例Ａ６と同様にして、前記シート（ｉｉ）の下地層の上に無機物層として［無機Ａ］層を層の厚みが１５０ｎｍとなるように形成した。【０１４５】  （無機物積層シート）  以上のようにして無機物積層シートを得た。本実施例の無機物積層シートにおけるシートは基材層の一方の面に下地層が積層された積層構成のシート（シート（ｉｉ））であり、下地層は架橋成分を含まないが、実施例Ａ６とは異なる下地層組成成分が相溶した状態のときに電磁波である紫外線を照射することで相分離構造が形成されたもので、実施例Ａ６と比較して構造周期が０．１５μｍと小さいだけでなく構造形状の異なる共連続構造の相分離構造が形成されていた。また、無機物層は［無機Ａ］層であり、本実施例の無機物積層シートは、下地層が実施例Ａ６とは異なる構造形状である共連続構造の相分離構造を形成することで、実施例Ａ６からガスバリア性の調整が可能となった。【０１４６】  （実施例Ａ８）  （シート（ｉｉ）の下地層の形成）  厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製、商品名：“ルミラー”（登録商標）Ｕ４８））を用意した。【０１４７】  次いで、下地層形成用成分としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート／ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）＝２０／８０［質量比］の組成となるように混合し、次いで光重合開始剤として２−メチル１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モリフォリノプロパン−１−オンとしてＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７（ＢＡＳＦ社製）と２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１としてＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９（ＢＡＳＦ社製）とを、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートに対しそれぞれ２．５質量％（合計５質量％）添加後、そこに酢酸エチル／シクロヘキサノン＝７０／３０［質量比］の混合溶媒を加えて固形分濃度１０質量％まで希釈し下地層形成用の塗工液を調整した。【０１４８】  次いで、前記下地層形成用の塗工液をマイクログラビアコーター（グラビア���番８０Ｒ、グラビア回転比１００％）でポリエチレンテレフタレートフィルム上に塗布し、８０℃で３０秒間加熱乾燥後、紫外線を０．８Ｊ／ｃｍ２照射し重合させ、厚み１μｍの下地層を形成した。このシートは積層構成のシート（シート（ｉｉ））であり、下地層は架橋成分を含み、さらに成分が相溶した状態のときに電磁波である紫外線を照射することで相分離構造が形成されたもので、下地層には構造周期が０．０９３μｍの共連続構造の相分離構造が形成されていた。【０１４９】  （無機物層の形成）  実施例Ａ６と同様にして、前記シート（ｉｉ）の下地層の上に無機物層として［無機Ａ］層を層の厚みが１５０ｎｍとなるように形成した。【０１５０】  （無機物積層シート）  以上のようにして無機物積層シートを得た。本実施例の無機物積層シートにおけるシートは基材層の一方の面に下地層が積層された積層構成のシート（シート（ｉｉ））であるが、下地層は実施例Ａ７とは異なり、架橋成分を含む下地層の組成の成分が相溶した状態のときに電磁波である紫外線を照射することで相分離構造が形成されたもので、下地層には実施例Ａ７と比較して構造周期が０．０９３μｍと小さい共連続構造の相分離構造が形成されていた。また、無機物層は［無機Ａ］層であり、本実施例の無機物積層シートは、下地層の相分離構造の構造周期が実施例Ａ７よりもさらに好ましい範囲となることで、実施例Ａ７と比較して高いガスバリア性を示した。【０１５１】  （実施例Ａ９）  （シート（ｉｉ）の下地層の形成）  厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製、商品名：“ルミラー”（登録商標）Ｕ４８））を用意した。【０１５２】  次いで、下地層形成用成分としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート／ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）＝８０／２０［質量比］の組成となるように混合し、次いで光重合開始剤として２−メチル１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モリフォリノプロパン−１−オンとしてＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７（ＢＡＳＦ社製）と２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１としてＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９（ＢＡＳＦ社製）とを、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートに対しそれぞれ２．５質量％（合計５質量％）添加後、そこに酢酸エチル／シクロヘキサノン＝７０／３０［質量比］の混合溶媒を加えて固形分濃度１０質量％まで希釈し下地層形成用の塗工液を調整した。【０１５３】  次いで、前記下地層形成用の塗工液をマイクログラビアコーター（グラビア線番８０Ｒ、グラビア回転比１００％）でポリエチレンテレフタレートフィルム上に塗布し、８０℃で３０秒間加熱乾燥後、紫外線を０．８Ｊ／ｃｍ２照射し重合させ、厚み１μｍの下地層を形成した。このシートは積層構成のシート（シート（ｉｉ））であり、下地層は架橋成分を含み、さらに成分が相溶した状態のときに電磁波である紫外線を照射することで相分離構造が形成されたもので、下地層には構造周期が０．０８２μｍの共連続構造の相分離構造が形成されていた。【０１５４】  （無機物層の形成）  実施例Ａ６と同様にして、前記シート（ｉｉ）の下地層の上に無機物層として［無機Ａ］層を層の厚みが１５０ｎｍとなるように形成した。【０１５５】  （無機物積層シート）  以上のようにして無機物積層シートを得た。本実施例の無機物積層シートにおけるシートは基材層の一方の面に下地層が積層された積層構成のシート（シート（ｉｉ））であり、下地層は架橋成分を含み、さらに実施例Ａ８と異なる下地層の組成の成分比率での相溶状態に電磁波である紫外線を照射することで相分離構造が形成されたもので、下地層には実施例Ａ７と比較して構造周期が０．０８２μｍと小さい共連続構造の相分離構造が形成されていた。また、無機物層は［無機Ａ］層であり、本実施例の無機物積層シートは、下地層の成分が実施例Ａ８と同様であるが組成の比率を変更することでガスバリア性の調整が可能となった。【０１５６】  （実施例Ａ１０）  （シート（ｉｉ）の下地層の形成）  厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製、商品名：“ルミラー”（登録商標）Ｕ４８））を用意した。【０１５７】  次いで、下地層形成用成分としてペンタエリスリトールテトラアクリレート／ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）＝８０／２０［質量比］の組成となるように混合し、次いで光重合開始剤として２−メチル１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モリフォリノプロパン−１−オンとしてＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７（ＢＡＳＦ社製）と２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１としてＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９（ＢＡＳＦ社製）とを、ペンタエリスリトールテトラアクリレートに対しそれぞれ２．５質量％（合計５質量％）添加後、そこに酢酸エチル／シクロヘキサノン＝７０／３０［質量比］の混合溶媒を加えて固形分濃度１０質量％まで希釈し下地層形成用の塗工液を調整した。【０１５８】  次いで、前記下地層形成用の塗工液をマイクログラビアコーター（グラビア線番８０Ｒ、グラビア回転比１００％）でポリエチレンテレフタレートフィルム上に塗布し、８０℃で３０秒間加熱乾燥後、紫外線を０．８Ｊ／ｃｍ２照射し重合させ、厚み１μｍの下地層を形成した。このシートは積層構成のシート（シート（ｉｉ））であり、下地層は架橋成分を含み、さらに成分が相溶した状態のときに電磁波である紫外線を照射することで相分離構造が形成されたもので、下地層には構造周期が０．０５１μｍの共連続構造の相分離構造が形成されていた。【０１５９】  （無機物層の形成）  実施例Ａ６と同様にして、前記シート（ｉｉ）の下地層の上に無機物層として［無機Ａ］層を層の厚みが１５０ｎｍとなるように形成した。【０１６０】  （無機物積層シート）  以上のようにして無機物積層シートを得た。本実施例の無機物積層シートにおけるシートは基材層の一方の面に下地層が積層された積層構成のシート（シート（ｉｉ））であり、下地層は架橋成分を含み、さらに実施例Ａ９と異なる下地層の組成の成分が相溶した状態のときに電磁波である紫外線を照射することで相分離構造が形成されたもので、下地層には実施例Ａ９と比較して構造周期が０．０５１μｍと小さい共連続構造の相分離構造が形成されていた。また、無機物層は［無機Ａ］層であり、本実施例の無機物積層シートは、下地層の組成の成分比率が実施例Ａ９と同様であるが成分を変更することで相分���構造の構造周期を変化させガスバリア性の調整が可能となった。【０１６１】  （実施例Ａ１１）  （シート（ｉｉ）の下地層の形成）  紫外線を１．９Ｊ／ｃｍ２照射し下地層を重合させたこと以外は実施例Ａ１０と同様にして、架橋成分を含み、さらに成分が相溶した状態のときに電磁波である紫外線の積算光量を変更し照射し相分離構造を形成することで、構造周期が０．０２４μｍの共連続構造の相分離構造が形成された下地層を有する積層構成のシートを得た。【０１６２】  （無機物層の形成）  実施例Ａ６と同様にして、前記シート（ｉｉ）の下地層の上に無機物層として［無機Ａ］層を層の厚みが１５０ｎｍとなるように形成した。【０１６３】  （無機物積層シート）  以上のようにして無機物積層シートを得た。本実施例の無機物積層シートにおけるシートは基材層の一方の面に下地層が積層された積層構成のシート（シート（ｉｉ））であり、下地層は架橋成分を含む下地層の組成の成分が相溶した状態のときに電磁波である紫外線を実施例Ａ１０よりも積算光量が高い条件で照射することで相分離構造が形成されたもので、下地層には実施例Ａ１０と比較して構造周期が０．０２４μｍと小さい共連続構造の相分離構造が形成されていた。また、無機物層は［無機Ａ］層であり、本実施例の無機物積層シートは、下地層の相分離構造の構造周期が実施例Ａ１０よりもさらに好ましい範囲となることで、実施例Ａ１０と比較して高いガスバリア性を示した。【０１６４】  （実施例Ａ１２）  （シート（ｉｉ）の下地層の形成）  厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製、商品名：“ルミラー”（登録商標）Ｕ４８））を用意した。【０１６５】  次いで、下地層形成用成分としてペンタエリスリトールテトラアクリレート／ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）＝９０／１０［質量比］の組成となるように混合し、次いで光重合開始剤として２−メチル１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モリフォリノプロパン−１−オンとしてＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７（ＢＡＳＦ社製）と２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１としてＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９（ＢＡＳＦ社製）とを、ペンタエリスリトールテトラアクリレートに対しそれぞれ２．５質量％（合計５質量％）添加後、そこに酢酸エチル／シクロヘキサノン＝７０／３０［質量比］の混合溶媒を加えて固形分濃度１０質量％まで希釈し下地層形成用の塗工液を調整した。【０１６６】  次いで、前記下地層形成用の塗工液をマイクログラビアコーター（グラビア線番８０Ｒ、グラビア回転比１００％）でポリエチレンテレフタレートフィルム上に塗布し、８０℃で３０秒間加熱乾燥後、紫外線を０．８Ｊ／ｃｍ２照射し重合させ、厚み１μｍの下地層を形成した。このシートは積層構成のシート（シート（ｉｉ））であり、下地層は架橋成分を含み、さらに成分が相溶した状態のときに電磁波である紫外線を照射することで相分離構造が形成されたもので、下地層には構造周期が０．０１２μｍの共連続構造の相分離構造が形成されていた。【０１６７】  （無機物層の形成）  実施例Ａ６と同様にして、前記シート（ｉｉ）の下地層の上に無機物層として［無機Ａ］層を層の厚みが１５��ｎｍとなるように形成した。【０１６８】  （無機物積層シート）  以上のようにして無機物積層シートを得た。本実施例の無機物積層シートにおけるシートは基材層の一方の面に下地層が積層された積層構成のシート（シート（ｉｉ））であり、下地層は架橋成分を含み、さらに実施例Ａ１０と異なる下地層の組成の成分比率での相溶状態に電磁波である紫外線を照射することで相分離構造が形成されたもので、下地層には実施例Ａ１０、Ａ１１と比較して構造周期が０．０１２μｍと小さい共連続構造の相分離構造が形成されていた。また、無機物層は［無機Ａ］層であり、本実施例の無機物積層シートは、下地層の組成の成分比率を変更することで実施例Ａ１１のように成分が相溶した状態のときに照射する紫外線の照射条件を変更することなく、下地層の相分離構造の構造周期を好ましい範囲に調整することができ、実施例Ａ１０と比較して高いガスバリア性を示した。【０１６９】  （実施例Ａ１３）  （シート（ｉｉ）の下地層の形成）  紫外線を１．９Ｊ／ｃｍ２照射し下地層を重合させたこと以外は実施例Ａ１２と同様にして、架橋成分を含み、さらに成分が相溶した状態のときに電磁波である紫外線の積算光量を変更し照射し相分離構造を形成することで、構造周期が０．００６μｍの共連続構造の相分離構造が形成された下地層を有する積層構成のシート（シート（ｉｉ））を得た。【０１７０】  （無機物層の形成）  実施例Ａ６と同様にして、前記シート（ｉｉ）の下地層の上に無機物層として［無機Ａ］層を層の厚みが１５０ｎｍとなるように形成した。【０１７１】  （無機物積層シート）  以上のようにして無機物積層シートを得た。本実施例の無機物積層シートにおけるシートは基材層の一方の面に下地層が積層された積層構成のシート（シート（ｉｉ））であり、下地層は架橋成分を含む下地層の組成の成分が相溶した状態のときに電磁波である紫外線を実施例Ａ１２よりも積算光量が高い条件で照射することで相分離構造が形成された下地層を有するもので、下地層には実施例Ａ１２と比較して構造周期が０．００６μｍと小さい共連続構造の相分離構造が形成されていた。また、無機物層は［無機Ａ］層であり、本実施例の無機物積層シートは、実施例Ａ１２よりも下地層の相分離構造の構造周期が小さくガスバリア性の調整が可能となった。【０１７２】  （実施例Ａ１４）  （シート（ｉｉ）の下地層の形成）  厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製、商品名：“ルミラー”（登録商標）Ｕ４８））を用意した。【０１７３】  次いで、下地層形成用成分としてトリメチロールプロパントリアクリレート／ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）＝８０／２０［質量比］の組成となるように混合し、次いで光重合開始剤として２−メチル１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モリフォリノプロパン−１−オンとしてＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７（ＢＡＳＦ社製）と２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１としてＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９（ＢＡＳＦ社製）とを、トリメチロールプロパントリアクリレートに対しそれぞれ２．５質量％（合計５質量％）添加後、そこに酢酸エチル／シクロヘキサノン＝７０／３０［質量比］の���合溶媒を加えて固形分濃度１０質量％まで希釈し下地層形成用の塗工液を調整した。【０１７４】  次いで、前記下地層形成用の塗工液をマイクログラビアコーター（グラビア線番８０Ｒ、グラビア回転比１００％）でポリエチレンテレフタレートフィルム上に塗布し、８０℃で３０秒間加熱乾燥後、紫外線を０．８Ｊ／ｃｍ２照射し重合させ、厚み１μｍの下地層を形成した。このシートは積層構成のシート（シート（ｉｉ））であり、下地層は架橋成分を含み、さらに成分が相溶した状態のときに電磁波である紫外線を照射することで相分離構造が形成されたもので、下地層には構造周期が０．００３μｍの共連続構造の相分離構造が形成されていた。【０１７５】  （無機物層の形成）  実施例Ａ６と同様にして、前記シート（ｉｉ）の下地層の上に無機物層として［無機Ａ］層を層の厚みが１５０ｎｍとなるように形成した。【０１７６】  （無機物積層シート）  以上のようにして無機物積層シートを得た。本実施例の無機物積層シートにおけるシートは基材層の一方の面に下地層が積層された積層構成のシート（シート（ｉｉ））であり、下地層は架橋成分を含む下地層の組成の成分が相溶した状態のときに電磁波である紫外線を照射することで相分離構造が形成されたもので、下地層には実施例Ａ１３と比較して構造周期が０．００３μｍとさらに小さい共連続構造の相分離が形成されていた。また、無機物層は［無機Ａ］層であり、本実施例の無機物積層シートは、実施例Ａ１２よりも下地層の相分離構造の構造周期が小さくガスバリア性の調整が可能となった。【０１７７】  （実施例Ａ１５）  （シート（ｉｉ）の下地層の形成）  実施例Ａ１０と同様にして、架橋成分を含み、さらに成分が相溶した状態のときに電磁波である紫外線を照射し相分離構造を形成することで、構造周期が０．０５１μｍの共連続構造の相分離構造が形成された下地層を有する積層構成のシート（シート（ｉｉ））を得た。【０１７８】  （無機物層の形成）  厚みが１２０ｎｍとなるようにしたこと以外は実施例Ａ６と同様にして、前記シート（ｉｉ）の下地層の上に無機物層として［無機Ａ］層を形成した。【０１７９】  （無機物積層シート）  以上のようにして無機物積層シートを得た。また、無機物層は［無機Ａ］層であり、本実施例の無機物積層シートは、無機物層の厚みを変更することで実施例Ａ１０と比較してガスバリア性を調整することができた。【０１８０】  （実施例Ａ１６）  （シート（ｉｉ）の下地層の形成）  実施例Ａ１０と同様にして、架橋成分を含み、さらに成分が相溶した状態のときに電磁波である紫外線を照射し相分離構造を形成することで、構造周期が０．０５１μｍの共連続構造の相分離構造が形成された下地層を有する積層構成のシート（シート（ｉｉ））を得た。【０１８１】  （無機物層の形成）  厚みが１００ｎｍとなるようにしたこと以外は実施例Ａ６と同様にして、前記シート（ｉｉ）の下地層の上に無機物層として［無機Ａ］層を形成した。【０１８２】  （無機物積層シート）  以上のようにして無機物積層シートを得た。また、無機物層は［無機Ａ］層であり、本実施例の無機物積層シートは、無機物層の厚みを変更することで実施例Ａ１０、Ａ１５と比較してガスバリア性を調整す���ことができた。【０１８３】  （実施例Ａ１７）  （シート（ｉｉ）の下地層の形成）  実施例Ａ１０と同様にして、架橋成分を含み、さらに成分が相溶した状態のときに電磁波である紫外線を照射し相分離構造を形成することで、構造周期が０．０５１μｍの共連続構造の相分離構造が形成された下地層を有する積層構成のシート（シート（ｉｉ））を得た。【０１８４】  （無機物層の形成）  厚みが５０ｎｍとなるようにしたこと以外は実施例Ａ６と同様にして、前記シート（ｉｉ）の下地層の上に無機物層として［無機Ａ］層を形成した。【０１８５】  （無機物積層シート）  以上のようにして無機物積層シートを得た。また、無機物層は［無機Ａ］層であり、本実施例の無機物積層シートは、無機物層の厚みを変更することで実施例Ａ１０、Ａ１５、Ａ１８と比較してガスバリア性を調整することができた。【０１８６】  （実施例Ａ１８）  （シート（ｉｉ）の下地層の形成）  実施例Ａ１０と同様にして、架橋成分を含み、さらに成分が相溶した状態のときに電磁波である紫外線を照射し相分離構造を形成することで、構造周期が０．０５１μｍの共連続構造の相分離構造が形成された下地層を有する積層構成のシート（シート（ｉｉ））を得た。【０１８７】  （無機物層の形成）  厚みが１５ｎｍとなるようにしたこと以外は実施例Ａ６と同様にして、前記シート（ｉｉ）の下地層の上に無機物層として［無機Ａ］層を形成した。【０１８８】  （無機物積層シート）  以上のようにして無機物積層シートを得た。また、無機物層は［無機Ａ］層であり、本実施例の無機物積層シートは、無機物層の厚みを薄くすることで実施例Ａ１０、Ａ１５、Ａ１６、Ａ１７と比較してガスバリア性が劣るものとなった。【０１８９】  （実施例Ａ１９）  （シート（ｉｉ）の下地層の形成）  実施例Ａ１０と同様にして、架橋成分を含み、さらに成分が相溶した状態のときに電磁波である紫外線を照射し相分離構造を形成することで、構造周期が０．０５１μｍの共連続構造の相分離構造が形成された下地層を有する積層構成のシートを得た。【０１９０】  （無機物層の形成）  硫化亜鉛と二酸化ケイ素で形成された焼結材であるスパッタターゲット（モル組成比＝硫化亜鉛／二酸化ケイ素＝８０／２０）を用意し、スパッタ・ＣＶＤ装置にセットした。【０１９１】  次いで、前記スパッタ・ＣＶＤ装置の真空度が２×１０−１Ｐａとなるようにアルゴンガスを導入し、高周波電源により投入電力５００Ｗを印加することにより、アルゴンガスプラズマを発生させ、スパッタリングにより前記シート（ｉｉ）の下地層の上に無機物層として［無機Ｂ］層を層の厚みが１５０ｎｍとなるように形成した。この無機物層の組成は、ＺｎＳが８６．７質量％、ＳｉＯ２が１３．３質量％であった。【０１９２】  （無機物積層シート）  以上のようにして無機物積層シートを得た。また、無機物層は［無機Ｂ］層であり、本実施例の無機物積層シートは下地層に相分離構造を有することで、後述する相分離構造を有さない（相溶状態の）下地層を用いた比較例Ａ３よりも高いガスバリア性を示し、また実施例Ａ１０と異なる無機物層となってもガスバリア性の向上効果を発現した。【０１９３】  （実施例Ａ２０）  （シート（ｉｉ）の下地層��形成）  実施例Ａ１０と同様にして、架橋成分を含み、さらに成分が相溶した状態のときに電磁波である紫外線を照射し相分離構造を形成することで、構造周期が０．０５１μｍの共連続構造の相分離構造が形成された下地層を有する積層構成のシート（シート（ｉｉ））を得た。【０１９４】  （無機物層の形成）  アルミニウムからなる蒸着材を用意し、真空蒸着装置にセットした。【０１９５】  次いで、前記真空蒸着装置を使用し、抵抗加熱方式によりアルミニウムを蒸気化すると共に酸素ガスを導入する真空蒸着法により前記シート（ｉｉ）の下地層の上に無機物層としてアルミニウム化合物からなる層を層の厚みが２０ｎｍとなるように形成した。【０１９６】  （無機物積層シート）  以上のようにして無機物積層シートを得た。また、無機物層はアルミニウム化合物からなる層であり、本実施例の無機物積層シートは下地層に相分離構造を有することで、後述する下地層に相分離構造を有さない（相溶状態の）下地層を用いた比較例Ａ４よりも高いガスバリア性を示した。【０１９７】  （実施例Ａ２１）  （シート（ｉｉ）の下地層の形成）  厚み５０μｍのポリエチレンナフタレートフィルムを用意した。【０１９８】  次いで、実施例Ａ１０と同様にして、架橋成分を含み、さらに成分が相溶した状態のときに電磁波である紫外線を照射し相分離構造を形成することで、構造周期が０．０５１μｍの共連続構造の相分離構造が形成された下地層を有する積層構成のシート（シート（ｉｉ））を得た。【０１９９】  （無機物層の形成）  実施例Ａ６と同様にして、前記シート（ｉｉ）の下地層の上に無機物層として［無機Ａ］層を層の厚みが１５０ｎｍとなるように形成した。【０２００】  （無機物積層シート）  以上のようにして無機物積層シートを得た。本実施例の無機物積層シートは、ポリエチレンナフタレートフィルムを用い、その上に実施例Ａ１０と同様にして下地層と無機物層を積層したものである。ポリエチレンテレフタレートフィルムをポリエチレンナフタレートフィルムに変更しても高いガスバリア性を示した。【０２０１】  （実施例Ａ２２）  （シート（ｉｉ）の下地層の形成）  厚み１００μｍのシクロオレフィン共重合樹脂フィルム（グンゼ（株）製、商品名：“Ｆフィルム”Ｆ１）を用意した。【０２０２】  次いで、実施例Ａ１０と同様にして、架橋成分を含み、さらに成分が相溶した状態のときに電磁波である紫外線を照射し相分離構造を形成することで、構造周期が０．０５１μｍの共連続構造の相分離構造が形成された下地層を有する積層構成のシート（シート（ｉｉ））を得た。【０２０３】  （無機物層の形成）  実施例Ａ６と同様にして、前記シート（ｉｉ）の下地層の上に無機物層として［無機Ａ］層を層の厚みが１５０ｎｍとなるように形成した。【０２０４】  （無機物積層シート）  以上のようにして無機物積層シートを得た。本実施例の無機物積層シートは、シクロオレフィン共重合樹脂フィルムを用い、その上に実施例Ａ１０と同様にして下地層と無機物層を積層したものである。ポリエチレンテレフタレートフィルムをシクロオレフィン共重合樹脂フィルムに変更しても高いガスバリア性を示した。【０２０５】  （実施例Ａ２３）  （シート（ｉｉ）の下地層の形���）  厚み１００μｍのシクロオレフィン樹脂フィルム（日本ゼオン（株）製、商品名：“ゼオノアフィルム”（登録商標）ＺＦ−１６）を用意した。【０２０６】  次いで、実施例Ａ１０と同様にして、架橋成分を含み、さらに成分が相溶した状態のときに電磁波である紫外線を照射し相分離構造を形成することで、構造周期が０．０５１μｍの共連続構造の相分離構造が形成された下地層を有する積層構成のシート（シート（ｉｉ））を得た。【０２０７】  （無機物層の形成）  実施例Ａ６と同様にして、前記シート（ｉｉ）の下地層の上に無機物層として［無機Ａ］層を層の厚みが１５０ｎｍとなるように形成した。【０２０８】  （無機物積層シート）  以上のようにして無機物積層シートを得た。本実施例の無機物積層シートは、シクロオレフィン樹脂フィルムを用い、その上に実施例Ａ１０と同様にして下地層と無機物層を積層したものである。ポリエチレンテレフタレートフィルムをシクロオレフィン樹脂フィルムに変更しても高いガスバリア性を示した。【０２０９】  （比較例Ａ１）  （シートの下地層の形成）  厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製、商品名：“ルミラー”（登録商標）Ｕ４８））を用意した。【０２１０】  次いで、下地層形成用成分としてペンタエリスリトールテトラアクリレートのみを用意し、次いで光重合開始剤として２−メチル１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モリフォリノプロパン−１−オンとしてＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７（ＢＡＳＦ社製）と２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１としてＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９（ＢＡＳＦ社製）とを、ペンタエリスリトールテトラアクリレートに対しそれぞれ２．５質量％（合計５質量％）添加後、そこに酢酸エチル／シクロヘキサノン＝７０／３０［質量比］の混合溶媒を加えて固形分濃度１０質量％まで希釈し下地層形成用の塗工液を調整した。【０２１１】  次いで、前記下地層形成用の塗工液をマイクログラビアコーター（グラビア線番８０Ｒ、グラビア回転比１００％）でポリエチレンテレフタレートフィルム上に塗布し、８０℃で３０秒間加熱乾燥後、紫外線を０．８Ｊ／ｃｍ２照射し重合させ、厚み１μｍの下地層を形成した。このシートは基材層の一方の面に下地層が積層された積層構成のシートであるが、相分離構造を形成していなかった。【０２１２】  （無機物層の形成）  実施例Ａ１と同様にして、前記シートの下地層の上に無機物層としてケイ素化合物からなる層を層の厚みが１００ｎｍとなるように形成した。【０２１３】  （無機物積層シート）  以上のようにして無機物積層シートを得た。本比較例の無機物積層シートは、相分離構造を有さない積層構成のシート上にケイ素化合物からなる無機物層を積層したものであり、相分離構造を有する下地層の上に同様にして無機物層を形成した実施例Ａ１〜Ａ５と比較してガスバリア性が悪かった。【０２１４】  （比較例Ａ２）  （シートの下地層の形成）  比較例Ａ１と同様にして、相分離構造を有さない下地層を有する積層構成のシートを得た。【０２１５】  （無機物層の形成）  実施例Ａ６と同様にして、前記シートの下地層の上に無機物層として［無機Ａ］層を層の厚みが１５���ｎｍとなるように形成した。【０２１６】  （無機物積層シート）  以上のようにして無機物積層シートを得た。本比較例Ａの無機物積層シートは、相分離構造を有さない積層構成のシート上に［無機Ａ］からなる無機物層を積層したものであり、相分離構造を有する下地層の上に同様にして無機物層を形成した実施例Ａ６〜Ａ１７、Ａ２１、Ａ２２、Ａ２３と比較してガスバリア性が悪かった。【０２１７】  （比較例Ａ３）  （シートの下地層の形成）  比較例Ａ１と同様にして、相分離構造を有さない下地層を有する積層構成のシートを得た。【０２１８】  （無機物層の形成）  実施例Ａ１９と同様にして、前記シートの下地層の上に無機物層として［無機Ｂ］層を層の厚みが１５０ｎｍとなるように形成した。【０２１９】  （無機物積層シート）  以上のようにして無機物積層シートを得た。本比較例の無機物積層シートは、相分離構造を有さない積層構成のシート上に［無機Ｂ］からなる無機物層を積層したものであり、相分離構造を有する下地層の上に同様にして無機物層を形成した実施例Ａ１９と比較してガスバリア性が悪かった。【０２２０】  （比較例Ａ４）  （シートの下地層の形成）  比較例Ａ１と同様にして、相分離構造を有さない下地層を有する積層構成のシートを得た。【０２２１】  （無機物層の形成）  実施例Ａ２０と同様にして、前記シートの下地層の上に無機物層としてアルミニウム化合物からなる層を層の厚みが２０ｎｍとなるように形成した。【０２２２】  （無機物積層シート）  以上のようにして無機物積層シートを得た。本比較例の無機物積層シートは、相分離構造を有さない積層構成のシート上にアルミニウム化合物からなる無機物層を積層したものであり、相分離構造を有する下地層の上に同様にして無機物層を形成した実施例Ａ２０と比較してガスバリア性が悪かった。【０２２３】  （比較例Ａ５）  （シートの下地層の形成）  厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製、商品名：“ルミラー”（登録商標）Ｕ４８））を用意した。【０２２４】  シート形成用成分としてメタクリル酸メチル／ポリスチレン＝５０／５０［質量比］の組成となるように混合し、次いで熱重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルをメタクリル酸メチルに対し０．５質量％添加し、シート形成用の塗工液を得た。【０２２５】  次いで、前記シート形成用の塗工液を８０℃で６０分間加熱し重合させ、厚み５０μｍのシートを形成した。このシートは単層構成であり、架橋成分を含まず、また成分の非相溶状態から形成されたもので、構造周期が１０４μｍの海島構造の相分離構造が形成されていた。なお、この構造周期は、Ｂ法で測定しても１００μｍを超えていた。【０２２６】  （無機物層の形成）  実施例Ａ６と同様にして、前記シート上に無機物層として［無機Ａ］層を層の厚みが１５０ｎｍとなるように形成した。【０２２７】  （無機物積層シート）  以上のようにして無機物積層シートを得た。本比較例の無機物積層シートは、シートが海島構造の相分離構造を有していたものの構造周期が１０４μｍと所望の範囲より大きいものであったため、実施例Ａ６と比較して同様にして無機物層を形成したにも関わらずガスバリア性が悪かった。【０２２８】
【表１−１】
2014208463.tif 000003
【０２２９】
【表１−２】
2014208463.tif 000004
【０２３０】  （実施例Ｂ１）  （シート（ｉｉ）の下地層の形成）  基材として、厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製、商品名：“ルミラー”（登録商標）Ｕ４８））を用意した。【０２３１】  次いで、下地層形成用成分としてメタクリル酸メチル／ポリスチレン＝９０／１０［質量比］の組成となるように混合し、次いで熱重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルをメタクリル酸メチルに対し０．５質量％添加後、そこにトルエン／アセトン＝５０／５０［質量％］の混合溶媒を加えて固形分濃度１０質量％まで希釈し下地層形成用の塗工液を調整した。【０２３２】  次いで、前記下地層形成用の塗工液をマイクログラビアコーター（グラビア線番８０Ｒ、グラビア回転比１００％）で基材の上に塗布し、８０℃で６０分間加熱し重合させ、厚み１μｍの下地層を形成し、積層構成のシート（シート（ｉｉ））とした。このシート（ｉｉ）の下地層は架橋成分を含まず、また成分の非相溶状態から形成されたもので、構造周期が９６μｍの海島構造の相分離構造が形成されていた。【０２３３】  （無機物層の形成）  二酸化ケイ素で形成された焼結材であるスパッタターゲットを用意し、スパッタリング・化学気相成長装置（以降スパッタ・ＣＶＤ装置と略す）にセットした。【０２３４】  次いで、前記スパッタ・ＣＶＤ装置の真空度が２×１０−１Ｐａとなるようにアルゴンガスを導入し、高周波電源により投入電力５００Ｗを印加することにより、アルゴンガスプラズマを発生させ、スパッタリングにより前記シート（ｉｉ）の下地層の上に無機物層としてケイ素化合物からなる層を層の厚みが１００ｎｍとなるように形成した。【０２３５】  （無機物積層シート）  以上のようにして基材の上に下地層、無機物層を積層し無機物積層シートを得た。本実施例の無機物積層シートにおける下地層は、架橋成分を含まず、また成分の非相溶状態から形成されたもので、構造周期が９６μｍの海島構造の相分離構造が形成されていた。また、無機物層はケイ素化合物からなる層であり、本実施例の無機物積層シートは、後述する下地層に相分離構造を有さない（相溶状態の）シートを用いた比較例Ｂ１と比較して高いガスバリア性を示した。【０２３６】  （実施例Ｂ２）  （シート（ｉｉ）の下地層の形成）  基材として、厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製、商品名：“ルミラー”（登録商標）Ｕ４８））を用意した。【０２３７】  次いで、下地層形成用成分としてメタクリル酸メチル／ポリスチレン＝８５／１５［質量比］の組成となるように混合し、次いで熱重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルをメタクリル酸メチルに対し０．５質量％添加後、そこにトルエン／アセトン＝５０／５０［質量比］の混合溶媒を加えて固形分濃度１０質量％まで希釈し下地層形成用の塗工液を調整した。【０２３８】  次いで、前記下地層形成用の塗工液をマイクログラビアコーター（グラビア線番８０Ｒ、グラビア回転比１００％）で基材の上に塗布し、８０℃で６０分間加熱し重合させ、厚み１μｍの下地層を形成した。この下地層は架橋成分を含まず、また成分の非相溶状態から形成されたもので、構造周期が５４μｍの海島構造の相分離構造が形成��れていた。【０２３９】  （無機物層の形成）  実施例Ｂ１と同様にして、前記シート（ｉｉ）の下地層の上に無機物層としてケイ素化合物からなる層を層の厚みが１００ｎｍとなるように形成した。【０２４０】  （無機物積層シート）  以上のようにして基材の上に下地層、無機物層を積層し無機物積層シートを得た。本実施例の無機物積層シートにおける下地層は架橋成分を含まず、また成分の非相溶状態から形成されたもので、構造周期が５４μｍの海島構造の相分離構造が形成されていた。また、無機物層はケイ素化合物からなる層であり、本実施例の無機物積層シートは後述する比較例Ｂ１と比較して高いガスバリア性を示した。【０２４１】  （実施例Ｂ３）  （シート（ｉｉ）の下地層の形成）  基材として、厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製、商品名：“ルミラー”（登録商標）Ｕ４８））を用意した。【０２４２】  次いで、下地層形成用成分としてメタクリル酸メチル／ポリスチレン＝８０／２０［質量比］の組成となるように混合し、次いで熱重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルをメタクリル酸メチルに対し０．５質量％添加後、そこにトルエン／アセトン＝５０／５０［質量比］の混合溶媒を加えて固形分濃度１０質量％まで希釈し下地層形成用の塗工液を調整した。【０２４３】  次いで、前記下地層形成用の塗工液をマイクログラビアコーター（グラビア線番８０Ｒ、グラビア回転比１００％）で基材の上に塗布し、８０℃で６０分間加熱し重合させ、厚み１μｍの下地層を形成し、積層構成のシート（シート（ｉｉ））とした。このシート（ｉｉ）の下地層は架橋成分を含まず、また成分の非相溶状態から形成されたもので、構造周期が４５μｍの海島構造の相分離構造が形成されていた。【０２４４】  （無機物層の形成）  実施例Ｂ１と同様にして、前記シート（ｉｉ）の下地層の上に無機物層としてケイ素化合物からなる層を層の厚みが１００ｎｍとなるように形成した。【０２４５】  （無機物積層シート）  以上のようにして基材の上に下地層、無機物層を積層し無機物積層シートを得た。本実施例の無機物積層シートにおける下地層は架橋成分を含まず、また成分の非相溶状態から形成されたもので、構造周期が４５μｍの海島構造の相分離構造が形成されていた。また、無機物層はケイ素化合物からなる層であり、本実施例の無機物積層シートは、下地層の相分離構造の構造周期が好ましい範囲となることで、実施例Ｂ１、Ｂ２と比較して高いガスバリア性を示した。【０２４６】  （実施例Ｂ４）  （シート（ｉｉ）の下地層の形成）  基材として、厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製、商品名：“ルミラー”（登録商標）Ｕ４８））を用意した。【０２４７】  次いで、下地層形成用成分としてメタクリル酸メチル／ポリスチレン＝７０／３０［質量比］の組成となるように混合し、次いで熱重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルをメタクリル酸メチルに対し０．５質量％添加後、そこにトルエン／アセトン＝５０／５０［質量比］の混合溶媒を加えて固形分濃度１０質量％まで希釈し下地層形成用の塗工液を調整した。【０２４８】  次いで、前記下地層形成用の塗工液をマイクログラビアコーター（グ��ビア線番８０Ｒ、グラビア回転比１００％）で基材の上に塗布し、８０℃で６０分間加熱し重合させ、厚み１μｍの下地層を形成し、積層構成のシート（シート（ｉｉ））とした。このシート（ｉｉ）の下地層は架橋成分を含まず、また成分の非相溶状態から形成されたもので、構造周期が１．３μｍの海島構造の相分離構造が形成されていた。【０２４９】  （無機物層の形成）  実施例Ｂ１と同様にして、前記シート（ｉｉ）の下地層の上に無機物層としてケイ素化合物からなる層を層の厚みが１００ｎｍとなるように形成した。【０２５０】  （無機物積層シート）  以上のようにして基材の上に下地層、無機物層を積層し無機物積層シートを得た。本実施例の無機物積層シートにおける下地層は架橋成分を含まず、また成分の非相溶状態から形成されたもので、構造周期が１．３μｍの海島構造の相分離構造が形成されていた。また、無機物層はケイ素化合物からなる層であり、本実施例の無機物積層シートは、下地層の相分離構造の構造周期が好ましい範囲となることで、実施例Ｂ１、Ｂ２と比較して高いガスバリア性を示した。【０２５１】  （実施例Ｂ５）  （シート（ｉｉ）の下地層の形成）  基材として、厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製、商品名：“ルミラー”（登録商標）Ｕ４８））を用意した。【０２５２】  次いで、下地層形成用成分としてアクリル酸メチル／ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）＝１０／９０［質量比］の組成となるように混合し、次いで光重合開始剤として２−メチル１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モリフォリノプロパン−１−オンとしてＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７（ＢＡＳＦ社製）と２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１としてＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９（ＢＡＳＦ社製）とを、アクリル酸メチルに対しそれぞれ２．５質量％（合計５質量％）添加後、そこに酢酸エチル／シクロヘキサノン＝７０／３０［質量比］の混合溶媒を加えて固形分濃度１０質量％まで希釈し下地層形成用の塗工液を調整した。【０２５３】  次いで、前記下地層形成用の塗工液をマイクログラビアコーター（グラビア線番８０Ｒ、グラビア回転比１００％）で基材の上に塗布し、８０℃で３０秒間加熱乾燥後、紫外線を０．８Ｊ／ｃｍ２照射し重合させ、厚み１μｍの下地層を形成し、積層構成のシート（シート（ｉｉ））とした。このシート（ｉｉ）の下地層は架橋成分を含まないが、成分が相溶した状態のときに電磁波である紫外線を照射することで相分離構造が形成されたもので、構造周期が０．７μｍの海島構造の相分離構造が形成されていた。【０２５４】  （無機物層の形成）  実施例Ｂ１と同様にして、前記シート（ｉｉ）の下地層の上に無機物層としてケイ素化合物からなる層を層の厚みが１００ｎｍとなるように形成した。【０２５５】  （無機物積層シート）  以上のようにして基材の上に下地層、無機物層を積層し無機物積層シートを得た。本実施例の無機物積層シートにおける下地層は架橋成分を含まないが、成分が相溶した状態のときに電磁波である紫外線を照射することで相分離構造が形成されたもので、実施例Ｂ１〜Ｂ４と比較して構造周期が０．７μｍと小さい海島構造の相分離構造が形���されていた。また、無機物層はケイ素化合物からなる層であり、本実施例の無機物積層シートは、下地層の相分離構造の構造周期が実施例Ｂ１〜Ｂ４よりもさらに好ましい範囲となることで、実施例Ｂ１〜Ｂ４と比較して高いガスバリア性を示した。【０２５６】  （実施例Ｂ６）  （シート（ｉｉ）の下地層の形成）  実施例Ｂ５と同様にして、架橋成分を含まないが、成分が相溶した状態のときに電磁波である紫外線を照射し相分離構造を形成することで、構造周期が０．７μｍの海島構造の相分離構造が形成された下地層を、基材の上に厚み１μｍにて形成し、積層構成のシート（シート（ｉｉ））とした。【０２５７】  （無機物層の形成）  酸化亜鉛と二酸化ケイ素と酸化アルミニウムで形成された混合焼結材であるスパッタターゲット（組成質量比＝酸化亜鉛／二酸化ケイ素／酸化アルミニウム＝７７．０／２０．０／３．０）を用意し、スパッタ・ＣＶＤ装置にセットした。【０２５８】  次いで、前記スパッタ・ＣＶＤ装置の真空度が２×１０−１Ｐａとなるように酸素ガス分圧１０％としてアルゴンガスおよび酸素ガスを導入し、直流電源により投入電力５００Ｗを印加することにより、アルゴン・酸素ガスプラズマを発生させ、スパッタリングにより前記下地層の上に無機物層として［無機Ａ］層を層の厚みが１５０ｎｍとなるように形成した。この無機物層の組成は、ＺｎＯが７１．２質量％、Ａｌ２Ｏ３が３．７質量％、ＳｉＯ２が２５．１質量％であり、ＺｎＯおよびＡｌ２Ｏ３の合計含有量は７４．９質量％であった。【０２５９】  （無機物積層シート）  以上のようにして基材の上に下地層、無機物層を積層し無機物積層シートを得た。また、無機物層は［無機Ａ］層であり、本実施例の無機物積層シートは無機物層を好ましい態様とすることで、実施例Ｂ５や後述する下地層に相分離構造を有さない（相溶状態の）シートを用いた比較例Ｂ２よりも、さらに高いガスバリア性を示した。【０２６０】  （実施例Ｂ７）  （シート（ｉｉ）の下地層の形成）  基材として、厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製、商品名：“ルミラー”（登録商標）Ｕ４８））を用意した。【０２６１】  次いで、下地層形成用成分としてアクリル酸メチル／ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）＝２０／８０［質量比］の組成となるように混合し、次いで光重合開始剤として２−メチル１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モリフォリノプロパン−１−オンとしてＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７（ＢＡＳＦ社製）と２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１としてＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９（ＢＡＳＦ社製）とを、アクリル酸メチルに対しそれぞれ２．５質量％（合計５質量％）添加後、そこに酢酸エチル／シクロヘキサノン＝７０／３０［質量比］の混合溶媒を加えて固形分濃度１０質量％まで希釈し下地層形成用の塗工液を調整した。【０２６２】  次いで、前記下地層形成用の塗工液をマイクログラビアコーター（グラビア線番８０Ｒ、グラビア回転比１００％）で基材の上に塗布し、８０℃で３０秒間加熱乾燥後、紫外線を０．８Ｊ／ｃｍ２照射し重合させ、厚み１μｍの下地層を形成し、積層構成のシート（シート（ｉｉ））とした。このシ���ト（ｉｉ）の下地層は架橋成分を含まないが、成分が相溶した状態のときに電磁波である紫外線を照射することで相分離構造が形成されたもので、構造周期が０．１５μｍの共連続構造の相分離構造が形成されていた。【０２６３】  （無機物層の形成）  実施例Ｂ６と同様にして、前記シート（ｉｉ）の下地層の上に無機物層として［無機Ａ］層を層の厚みが１５０ｎｍとなるように形成した。【０２６４】  （無機物積層シート）  以上のようにして基材の上に下地層、無機物層を積層し無機物積層シートを得た。本実施例の無機物積層シートにおける下地層は架橋成分を含まないが、実施例Ｂ６とは異なる下地層組成成分が相溶した状態のときに電磁波である紫外線を照射することで相分離構造が形成されたもので、実施例Ｂ６と比較して構造周期が０．１５μｍと小さいだけでなく構造形状の異なる共連続構造の相分離構造が形成されていた。また、無機物層は［無機Ａ］層であり、本実施例の無機物積層シートは、下地層が実施例Ｂ６とは異なる相分離構造である共連続構造の相分離構造を形成することで、実施例Ｂ６からガスバリア性の調整が可能となった。【０２６５】  （実施例Ｂ８）  （シート（ｉｉ）の下地層の形成）  基材として、厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製、商品名：“ルミラー”（登録商標）Ｕ４８））を用意した。【０２６６】  次いで、下地層形成用成分としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート／ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）＝２０／８０［質量比］の組成となるように混合し、次いで光重合開始剤として２−メチル１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モリフォリノプロパン−１−オンとしてＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７（ＢＡＳＦ社製）と２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１としてＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９（ＢＡＳＦ社製）とを、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートに対しそれぞれ２．５質量％（合計５質量％）添加後、そこに酢酸エチル／シクロヘキサノン＝７０／３０［質量比］の混合溶媒を加えて固形分濃度１０質量％まで希釈し下地層形成用の塗工液を調整した。【０２６７】  次いで、前記下地層形成用の塗工液をマイクログラビアコーター（グラビア線番８０Ｒ、グラビア回転比１００％）で基材の上に塗布し、８０℃で３０秒間加熱乾燥後、紫外線を０．８Ｊ／ｃｍ２照射し重合させ、厚み１μｍの下地層を形成し、積層構成のシート（シート（ｉｉ））とした。このシート（ｉｉ）の下地層は架橋成分を含み、さらに成分が相溶した状態のときに電磁波である紫外線を照射することで相分離構造が形成されたもので、構造周期が０．０９３μｍの共連続構造の相分離構造が形成されていた。【０２６８】  （無機物層の形成）  実施例Ｂ６と同様にして、前記シート（ｉｉ）の下地層の上に無機物層として［無機Ａ］層を層の厚みが１５０ｎｍとなるように形成した。【０２６９】  （無機物積層シート）  以上のようにして基材の上に下地層、無機物層を積層し無機物積層シートを得た。本実施例の無機物積層シートにおける下地層は、実施例Ｂ７とは異なり、架橋成分を含む下地層組成成分が相溶した状態のときに電磁波である紫外線を照射することで相分離構���が形成されたもので、実施例Ｂ７と比較して構造周期が０．０９３μｍと小さい共連続構造の相分離構造が形成されていた。また、無機物層は［無機Ａ］層であり、本実施例の無機物積層シートは、下地層の相分離構造の構造周期が実施例Ｂ７よりもさらに好ましい範囲となることで、実施例Ｂ７と比較して高いガスバリア性を示した。【０２７０】  （実施例Ｂ９）  （シート（ｉｉ）の下地層の形成）  基材として、厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製、商品名：“ルミラー”（登録商標）Ｕ４８））を用意した。【０２７１】  次いで、下地層形成用成分としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート／ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）＝８０／２０［質量比］の組成となるように混合し、次いで光重合開始剤として２−メチル１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モリフォリノプロパン−１−オンとしてＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７（ＢＡＳＦ社製）と２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１としてＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９（ＢＡＳＦ社製）とを、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートに対しそれぞれ２．５質量％（合計５質量％）添加後、そこに酢酸エチル／シクロヘキサノン＝７０／３０［質量比］の混合溶媒を加えて固形分濃度１０質量％まで希釈し下地層形成用の塗工液を調整した。【０２７２】  次いで、前記下地層形成用の塗工液をマイクログラビアコーター（グラビア線番８０Ｒ、グラビア回転比１００％）で基材の上に塗布し、８０℃で３０秒間加熱乾燥後、紫外線を０．８Ｊ／ｃｍ２照射し重合させ、厚み１μｍの下地層を形成し、積層構成のシート（シート（ｉｉ））とした。このシート（ｉｉ）の下地層は架橋成分を含み、さらに成分が相溶した状態のときに電磁波である紫外線を照射することで相分離構造が形成されたもので、構造周期が０．０８２μｍの共連続構造の相分離構造が形成されていた。【０２７３】  （無機物層の形成）  実施例Ｂ６と同様にして、前記シート（ｉｉ）の下地層の上に無機物層として［無機Ａ］層を層の厚みが１５０ｎｍとなるように形成した。【０２７４】  （無機物積層シート）  以上のようにして基材の上に下地層、無機物層を積層し無機物積層シートを得た。本実施例の無機物積層シートにおける下地層は、架橋成分を含み、さらに実施例Ｂ８と異なる下地層組成成分比率での相溶状態に電磁波である紫外線を照射することで相分離構造が形成されたもので、実施例Ｂ７と比較して構造周期が０．０８２μｍと小さい共連続構造の相分離構造が形成されていた。また、無機物層は［無機Ａ］層であり、本実施例の無機物積層シートは、下地層の成分が実施例Ｂ８と同様であるが組成比率を変更することでガスバリア性の調整が可能となった。【０２７５】  （実施例Ｂ１０）  （シート（ｉｉ）の下地層の形成）  基材として、厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製、商品名：“ルミラー”（登録商標）Ｕ４８））を用意した。【０２７６】  次いで、下地層形成用成分としてペンタエリスリトールテトラアクリレート／ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）＝８０／２０［質量比］の組成となるように混合し、次いで光重合開始剤として��−メチル１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モリフォリノプロパン−１−オンとしてＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７（ＢＡＳＦ社製）と２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１としてＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９（ＢＡＳＦ社製）とを、ペンタエリスリトールテトラアクリレートに対しそれぞれ２．５質量％（合計５質量％）添加後、そこに酢酸エチル／シクロヘキサノン＝７０／３０［質量比］の混合溶媒を加えて固形分濃度１０質量％まで希釈し下地層形成用の塗工液を調整した。【０２７７】  次いで、前記下地層形成用の塗工液をマイクログラビアコーター（グラビア線番８０Ｒ、グラビア回転比１００％）で基材の上に塗布し、８０℃で３０秒間加熱乾燥後、紫外線を０．８Ｊ／ｃｍ２照射し重合させ、厚み１μｍの下地層を形成し、積層構成のシート（シート（ｉｉ））とした。このシート（ｉｉ）の下地層は架橋成分を含み、さらに成分が相溶した状態のときに電磁波である紫外線を照射することで相分離構造が形成されたもので、構造周期が０．０５１μｍの共連続構造の相分離構造が形成されていた。【０２７８】  （無機物層の形成）  実施例Ｂ６と同様にして、前記シート（ｉｉ）の下地層の上に無機物層として［無機Ａ］層を層の厚みが１５０ｎｍとなるように形成した。【０２７９】  （無機物積層シート）  以上のようにして基材の上に下地層、無機物層を積層し無機物積層シートを得た。本実施例の無機物積層シートにおける下地層は、架橋成分を含み、さらに実施例Ｂ９と異なる下地層組成成分が相溶した状態のときに電磁波である紫外線を照射することで相分離構造が形成されたもので、実施例Ｂ９と比較して構造周期が０．０５１μｍと小さい共連続構造の相分離構造が形成されていた。また、無機物層は［無機Ａ］層であり、本実施例の無機物積層シートは、下地層の組成成分比率が実施例Ｂ９と同様であるが成分を変更することで相分離構造の構造周期を変化させガスバリア性の調整が可能となった。【０２８０】  （実施例Ｂ１１）  （シート（ｉｉ）の下地層の形成）  紫外線を１．９Ｊ／ｃｍ２照射し下地層を重合させたこと以外は実施例Ｂ１０と同様にして厚み１μｍの下地層を基材の上に形成し、積層構成のシート（シート（ｉｉ））とした。この下地層は架橋成分を含み、さらに成分が相溶した状態のときに電磁波である紫外線の積算光量を変更し照射することで相分離構造が形成されたもので、構造周期が０．０２４μｍの共連続構造の相分離構造が形成されていた。【０２８１】  （無機物層の形成）  実施例Ｂ６と同様にして、前記シート（ｉｉ）の下地層の上に無機物層として［無機Ａ］層を層の厚みが１５０ｎｍとなるように形成した。【０２８２】  （無機物積層シート）  以上のようにして基材の上に下地層、無機物層を積層し無機物積層シートを得た。本実施例の無機物積層シートにおける下地層は、架橋成分を含む下地層組成成分が相溶した状態のときに電磁波である紫外線を実施例Ｂ１０よりも積算光量が高い条件で照射することで相分離構造が形成されたもので、実施例Ｂ１０と比較して構造周期が０．０２４μｍと小さい共連続構造の相分離構造が形成されていた。また、無機物層は［無機Ａ］層であり、本実施例の��機物積層シートは、下地層の相分離構造の構造周期が実施例Ｂ１０よりもさらに好ましい範囲となることで、実施例Ｂ１０と比較して高いガスバリア性を示した。【０２８３】  （実施例Ｂ１２）  （シート（ｉｉ）の下地層の形成）  基材として、厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製、商品名：“ルミラー”（登録商標）Ｕ４８））を用意した。【０２８４】  次いで、下地層形成用成分としてペンタエリスリトールテトラアクリレート／ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）＝９０／１０［質量比］の組成となるように混合し、次いで光重合開始剤として２−メチル１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モリフォリノプロパン−１−オンとしてＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７（ＢＡＳＦ社製）と２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１としてＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９（ＢＡＳＦ社製）とを、ペンタエリスリトールテトラアクリレートに対しそれぞれ２．５質量％（合計５質量％）添加後、そこに酢酸エチル／シクロヘキサノン＝７０／３０［質量比］の混合溶媒を加えて固形分濃度１０質量％まで希釈し下地層形成用の塗工液を調整した。【０２８５】  次いで、前記下地層形成用の塗工液をマイクログラビアコーター（グラビア線番８０Ｒ、グラビア回転比１００％）で基材の上に塗布し、８０℃で３０秒間加熱乾燥後、紫外線を０．８Ｊ／ｃｍ２照射し重合させ、厚み１μｍの下地層を形成し、積層構成のシート（シート（ｉｉ））とした。このシート（ｉｉ）の下地層は架橋成分を含み、さらに成分が相溶した状態のときに電磁波である紫外線を照射することで相分離構造が形成されたもので、構造周期が０．０１２μｍの共連続構造の相分離構造が形成されていた。【０２８６】  （無機物層の形成）  実施例Ｂ６と同様にして、前記シート（ｉｉ）の下地層の上に無機物層として［無機Ａ］層を層の厚みが１５０ｎｍとなるように形成した。【０２８７】  （無機物積層シート）  以上のようにして基材の上に下地層、無機物層を積層し無機物積層シートを得た。本実施例の無機物積層シートにおける下地層は、架橋成分を含み、さらに実施例Ｂ１０と異なる下地層組成成分比率での相溶状態に電磁波である紫外線を照射することで相分離構造が形成されたもので、実施例Ｂ１０、Ｂ１１と比較して構造周期が０．０１２μｍと小さい共連続構造の相分離が形成されていた。また、無機物層は［無機Ａ］層であり、本実施例の無機物積層シートは、下地層の組成成分比率を変更することで実施例Ｂ１１のように成分が相溶した状態のときに照射する紫外線の照射条件を変更することなく、下地層の相分離構造の構造周期を好ましい範囲に調整することができ、実施例Ｂ１０と比較して高いガスバリア性を示した。【０２８８】  （実施例Ｂ１３）  （シート（ｉｉ）の下地層の形成）  紫外線を１．９Ｊ／ｃｍ２照射し下地層を重合させたこと以外は実施例Ｂ１２と同様にして厚み１μｍの下地層を基材の上に形成し、積層構成のシート（シート（ｉｉ））とした。この下地層は架橋成分を含み、さらに成分が相溶した状態のときに電磁波である紫外線の積算光量を変更し照射することで相分離構造が形成されたもので、構造周期が０．００６μｍの��連続構造の相分離構造が形成されていた。【０２８９】  （無機物層の形成）  実施例Ｂ６と同様にして、前記シート（ｉｉ）の下地層の上に無機物層として［無機Ａ］層を層の厚みが１５０ｎｍとなるように形成した。【０２９０】  （無機物積層シート）  以上のようにして基材の上に下地層、無機物層を積層し無機物積層シートを得た。本実施例の無機物積層シートにおける下地層は、架橋成分を含む下地層組成成分が相溶した状態のときに電磁波である紫外線を実施例Ｂ１２よりも積算光量が高い条件で照射することで相分離構造が形成されたもので、実施例Ｂ１２と比較して構造周期が０．００６μｍと小さい共連続構造の相分離構造が形成されていた。また、無機物層は［無機Ａ］層であり、本実施例の無機物積層シートは、実施例Ｂ１２よりも下地層の相分離構造の構造周期が小さくガスバリア性の調整が可能となった。【０２９１】  （実施例Ｂ１４）  （シート（ｉｉ）の下地層の形成）  基材として、厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製、商品名：“ルミラー”（登録商標）Ｕ４８））を用意した。【０２９２】  次いで、下地層形成用成分としてトリメチロールプロパントリアクリレート／ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）＝８０／２０［質量比］の組成となるように混合し、次いで光重合開始剤として２−メチル１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モリフォリノプロパン−１−オンとしてＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７（ＢＡＳＦ社製）と２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１としてＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９（ＢＡＳＦ社製）とを、トリメチロールプロパントリアクリレートに対しそれぞれ２．５質量％（合計５質量％）添加後、そこに酢酸エチル／シクロヘキサノン＝７０／３０［質量比］の混合溶媒を加えて固形分濃度１０質量％まで希釈し下地層形成用の塗工液を調整した。【０２９３】  次いで、前記下地層形成用の塗工液をマイクログラビアコーター（グラビア線番８０Ｒ、グラビア回転比１００％）で基材の上に塗布し、８０℃で３０秒間加熱乾燥後、紫外線を０．８Ｊ／ｃｍ２照射し重合させ、厚み１μｍの下地層を形成し、積層構成のシート（シート（ｉｉ））とした。このシート（ｉｉ）の下地層は架橋成分を含み、さらに成分が相溶した状態のときに電磁波である紫外線を照射することで相分離構造が形成されたもので、構造周期が０．００３μｍの共連続構造の相分離構造が形成されていた。【０２９４】  （無機物層の形成）  実施例Ｂ６と同様にして、前記シート（ｉｉ）の下地層の上に無機物層として［無機Ａ］層を層の厚みが１５０ｎｍとなるように形成した。【０２９５】  （無機物積層シート）  以上のようにして基材の上に下地層、無機物層を積層し無機物積層シートを得た。本実施例の無機物積層シートにおける下地層は、架橋成分を含む下地層組成成分が相溶した状態のときに電磁波である紫外線を照射することで相分離構造が形成されたもので、実施例Ｂ１３と比較して構造周期が０．００３μｍとさらに小さい共連続構造の相分離構造が形成されていた。また、無機物層は［無機Ａ］層であり、本実施例の無機物積層シートは、実施例Ｂ１２よりも下地層の相分離構造の構造周期が��さくガスバリア性の調整が可能となった。【０２９６】  （実施例Ｂ１５）  （シート（ｉｉ）の下地層の形成）  実施例Ｂ１０と同様にして、架橋成分を含み、さらに成分が相溶した状態のときに電磁波である紫外線を照射し相分離構造を形成することで、構造周期が０．０５１μｍの共連続構造の相分離構造が形成された下地層を、基材の上に厚み１μｍにて形成し、積層構成のシート（シート（ｉｉ））とした。【０２９７】  （無機物層の形成）  厚みが１２０ｎｍとなるようにしたこと以外は実施例Ｂ６と同様にして、前記シート（ｉｉ）の下地層の上に無機物層として［無機Ａ］層を形成した。【０２９８】  （無機物積層シート）  以上のようにして基材の上に下地層、無機物層を積層し無機物積層シートを得た。また、無機物層は［無機Ａ］層であり、本実施例の無機物積層シートは、無機物層の厚みを変更することで実施例Ｂ１０と比較してガスバリア性を調整することができた。【０２９９】  （実施例Ｂ１６）  （シート（ｉｉ）の下地層の形成）  実施例Ｂ１０と同様にして、架橋成分を含み、さらに成分が相溶した状態のときに電磁波である紫外線を照射し相分離構造を形成することで、構造周期が０．０５１μｍの共連続構造の相分離構造が形成された下地層を、基材の上に厚み１μｍにて形成し、積層構成のシート（シート（ｉｉ））とした。【０３００】  （無機物層の形成）  厚みが１００ｎｍとなるようにしたこと以外は実施例Ｂ６と同様にして、前記シート（ｉｉ）の下地層の上に無機物層として［無機Ａ］層を形成した。【０３０１】  （無機物積層シート）  以上のようにして基材の上に下地層、無機物層を積層し無機物積層シートを得た。また、無機物層は［無機Ａ］層であり、本実施例の無機物積層シートは、無機物層の厚みを変更することで実施例Ｂ１０、１５と比較してガスバリア性を調整することができた。【０３０２】  （実施例Ｂ１７）  （シート（ｉｉ）の下地層の形成）  実施例Ｂ１０と同様にして、架橋成分を含み、さらに成分が相溶した状態のときに電磁波である紫外線を照射し相分離構造を形成することで、構造周期が０．０５１μｍの共連続構造の相分離構造が形成された下地層を、基材の上に厚み１μｍにて形成し、積層構成のシート（シート（ｉｉ））とした。【０３０３】  （無機物層の形成）  厚みが５０ｎｍとなるようにしたこと以外は実施例Ｂ６と同様にして、前記シート（ｉｉ）の下地層の上に無機物層として［無機Ａ］層を形成した。【０３０４】  （無機物積層シート）  以上のようにして基材の上に下地層、無機物層を積層し無機物積層シートを得た。また、無機物層は［無機Ａ］層であり、本実施例の無機物積層シートは、無機物層の厚みを変更することで実施例Ｂ１０、Ｂ１５、Ｂ１８と比較してガスバリア性を調整することができた。【０３０５】  （実施例Ｂ１８）  （シート（ｉｉ）の下地層の形成）  実施例Ｂ１０と同様にして、架橋成分を含み、さらに成分が相溶した状態のときに電磁波である紫外線を照射し相分離構造を形成することで、構造周期が０．０５１μｍの共連続構造の相分離構造が形成された下地層を、基材の上に厚み１μｍにて形成し、積層構成のシート（シート（ｉｉ））とした。【０３０６】  （無機物層の形成）  厚みが１５ｎｍとなるようにしたこと以外は実施例Ｂ６と同様にして、前記シート（ｉｉ）の下地層の上に無機物層として［無機Ａ］層を形成した。【０３０７】  （無機物積層シート）  以上のようにして基材の上に下地層、無機物層を積層し無機物積層シートを得た。また、無機物層は［無機Ａ］層であり、本実施例の無機物積層シートは、無機物層の厚みを薄くすることで実施例Ｂ１０、Ｂ１５、Ｂ１６、Ｂ１７と比較してガスバリア性が劣るものとなった。【０３０８】  （実施例Ｂ１９）  （シート（ｉｉ）の下地層の形成）  実施例Ｂ１０と同様にして、架橋成分を含み、さらに成分が相溶した状態のときに電磁波である紫外線を照射し相分離構造を形成することで、構造周期が０．０５１μｍの共連続構造の相分離構造が形成された下地層を、基材の上に厚み１μｍにて形成し、積層構成のシート（シート（ｉｉ））とした。【０３０９】  （無機物層の形成）  硫化亜鉛と二酸化ケイ素で形成された焼結材であるスパッタターゲット（モル組成比＝硫化亜鉛／二酸化ケイ素＝８０／２０）を用意し、スパッタ・ＣＶＤ装置にセットした。【０３１０】  次いで、前記スパッタ・ＣＶＤ装置の真空度が２×１０−１Ｐａとなるようにアルゴンガスを導入し、高周波電源により投入電力５００Ｗを印加することにより、アルゴンガスプラズマを発生させ、スパッタリングにより前記下地層の上に無機物層として［無機Ｂ］層を層の厚みが１５０ｎｍとなるように形成した。この無機物層の組成は、ＺｎＳが８６．７質量％、ＳｉＯ２が１３．３質量％であった。【０３１１】  （無機物積層シート）  以上のようにして基材の上に下地層、無機物層を積層し無機物積層シートを得た。また、無機物層は［無機Ｂ］層であり、本実施例の無機物積層シートは下地層に相分離構造を有することで、後述する下地層に相分離構造を有さない（相溶状態の）シートを用いた比較例Ｂ３よりも高いガスバリア性を示し、また実施例Ｂ１０と異なる無機物層となっても高いガスバリア性を示した。【０３１２】  （実施例Ｂ２０）  （シート（ｉｉ）の下地層の形成）  実施例Ｂ１０と同様にして、架橋成分を含み、さらに成分が相溶した状態のときに電磁波である紫外線を照射し相分離構造を形成することで、構造周期が０．０５１μｍの共連続構造の相分離構造が形成された下地層を、基材の上に厚み１μｍにて形成し、積層構成のシート（シート（ｉｉ））とした。【０３１３】  （無機物層の形成）  アルミニウムからなる蒸着材を用意し、真空蒸着装置にセットした。【０３１４】  次いで、前記真空蒸着装置を使用し、抵抗加熱方式によりアルミニウムを蒸気化し酸素ガスを導入して、真空蒸着法により前記下地層の上に無機物層としてアルミニウム化合物からなる層を層の厚みが２０ｎｍとなるように形成した。【０３１５】  （無機物積層シート）  以上のようにして基材の上に下地層、無機物層を積層し無機物積層シートを得た。また、無機物層はアルミニウム化合物からなる層であり、本実施例の無機物積層シートは下地層に相分離構造を有することで、後述する下地層に相分離構造を有さない（相溶状態の）シートを用いた比較例Ｂ４よりも高いガスバリア性を示した。【０３１６】  （実施例Ｂ２１）  （シート（ｉｉ）の下地層の���成）  基材として、厚み５０μｍのポリエチレンナフタレートフィルム用意した。【０３１７】  次いで、実施例Ｂ１０と同様にして、架橋成分を含み、さらに成分が相溶した状態のときに電磁波である紫外線を照射し相分離構造を形成することで、構造周期が０．０５１μｍの共連続構造の相分離構造が形成された下地層を、基材の上に厚み１μｍにて形成し、積層構成のシート（シート（ｉｉ））とした。【０３１８】  （無機物層の形成）  実施例Ｂ６と同様にして、前記シート（ｉｉ）の下地層の上に無機物層として［無機Ａ］層を層の厚みが１５０ｎｍとなるように形成した。【０３１９】  （無機物積層シート）  以上のようにして基材の上に下地層、無機物層を積層し無機物積層シートを得た。本実施例の無機物積層シートは、実施例Ｂ１０とは異なりポリエチレンナフタレートフィルムからなる基材を用い、その基材の上に実施例Ｂ１０と同様にして下地層と無機物層を積層したものである。基材を変更しても高いガスバリア性を示した。【０３２０】  （実施例Ｂ２２）  （シート（ｉｉ）の下地層の形成）  基材として、厚み１００μｍのシクロオレフィン共重合樹脂フィルム（グンゼ（株）製、商品名：“Ｆフィルム”Ｆ１）を用意した。【０３２１】  次いで、実施例Ｂ１０と同様にして、架橋成分を含み、さらに成分が相溶した状態のときに電磁波である紫外線を照射し相分離構造を形成することで、構造周期が０．０５１μｍの共連続構造の相分離構造が形成された下地層を、基材の上に厚み１μｍにて形成し、積層構成のシート（シート（ｉｉ））とした。【０３２２】  （無機物層の形成）  実施例Ｂ６と同様にして、前記シート（ｉｉ）の下地層の上に無機物層として［無機Ａ］層を層の厚みが１５０ｎｍとなるように形成した。【０３２３】  （無機物積層シート）  以上のようにして基材の上に下地層、無機物層を積層し無機物積層シートを得た。本実施例の無機物積層シートは、実施例Ｂ１０とは異なりシクロオレフィン共重合樹脂フィルムからなる基材を用い、その基材の上に実施例Ｂ１０と同様にして下地層と無機物層を積層したものである。基材を変更しても高いガスバリア性を示した。【０３２４】  （実施例Ｂ２３）  （シート（ｉｉ）の下地層の形成）  基材として、厚み１００μｍのシクロオレフィン樹脂フィルム（日本ゼオン（株）製、商品名：“ゼオノアフィルム”（登録商標）ＺＦ−１６）を用意した。【０３２５】  次いで、実施例Ｂ１０と同様にして、架橋成分を含み、さらに成分が相溶した状態のときに電磁波である紫外線を照射し相分離構造を形成することで、構造周期が０．０５１μｍの共連続構造の相分離構造が形成された下地層を、基材の上に厚み１μｍにて形成し、積層構成のシート（シート（ｉｉ））とした。【０３２６】  （無機物層の形成）  実施例Ｂ６と同様にして、前記シート（ｉｉ）の下地層の上に無機物層として［無機Ａ］層を層の厚みが１５０ｎｍとなるように形成した。【０３２７】  （無機物積層シート）  以上のようにして基材の上に下地層、無機物層を積層し無機物積層シートを得た。本実施例の無機物積層シートは、実施例Ｂ１０とは異なりシクロオレフィン樹脂フィルムからなる基材を用い、その基材の上に実施例Ｂ１０と同様にして下地��と無機物層を積層したものである。基材を変更しても高いガスバリア性を示した。【０３２８】  （比較例Ｂ１）  （シートの下地層の形成）  基材として、厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製、商品名：“ルミラー”（登録商標）Ｕ４８））を用意した。【０３２９】  次いで、下地層形成用成分としてペンタエリスリトールテトラアクリレートのみを用意し、次いで光重合開始剤として２−メチル１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モリフォリノプロパン−１−オンとしてＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７（ＢＡＳＦ社製）と２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１としてＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９（ＢＡＳＦ社製）とを、ペンタエリスリトールテトラアクリレートに対しそれぞれ２．５質量％（合計５質量％）添加後、そこに酢酸エチル／シクロヘキサノン＝７０／３０［質量比］の混合溶媒を加えて固形分濃度１０質量％まで希釈し下地層形成用の塗工液を調整した。【０３３０】  次いで、前記下地層形成用の塗工液をマイクログラビアコーター（グラビア線番８０Ｒ、グラビア回転比１００％）で基材の上に塗布し、８０℃で３０秒間加熱乾燥後、紫外線を０．８Ｊ／ｃｍ２照射し重合させ、厚み１μｍの下地層を形成した。この下地層は相分離構造を形成していなかった。【０３３１】  （無機物層の形成）  実施例Ｂ１と同様にして、前記下地層の上に無機物層としてケイ素化合物からなる層を層の厚みが１００ｎｍとなるように形成した。【０３３２】  （無機物積層シート）  以上のようにして基材の上に下地層、無機物層を積層し無機物積層シートを得た。本比較例の無機物積層シートは、相分離構造を有さない下地層の上にケイ素化合物からなる無機物層を積層したものであり、相分離構造を有する下地層の上に同様にして無機物層を形成した実施例Ｂ１〜Ｂ５と比較してガスバリア性が悪かった。【０３３３】  （比較例Ｂ２）  （シートの下地層の形成）  比較例Ｂ１と同様にして、相分離構造を有さない下地層を基材の上に厚み１μｍにて形成した。【０３３４】  （無機物層の形成）  実施例Ｂ６と同様にして、前記下地層の上に無機物層として［無機Ａ］層を層の厚みが１５０ｎｍとなるように形成した。【０３３５】  （無機物積層シート）  以上のようにして基材の上に下地層、無機物層を積層し無機物積層シートを得た。本比較例の無機物積層シートは、相分離構造を有さない下地層の上に［無機Ａ］層からなる無機物層を積層したものであり、相分離構造を有する下地層の上に同様にして無機物層を形成した実施例Ｂ６〜実施例Ｂ１７、Ｂ２１、Ｂ２２、Ｂ２３と比較してガスバリア性が悪かった。【０３３６】  （比較例Ｂ３）  （シートの下地層の形成）  比較例Ｂ１と同様にして、相分離構造を有さない下地層を基材の上に厚み１μｍにて形成した。【０３３７】  （無機物層の形成）  実施例Ｂ１９と同様にして、前記下地層の上に無機物層として［無機Ｂ］層を層の厚みが１５０ｎｍとなるように形成した。【０３３８】  （無機物積層シート）  以上のようにして基材の上に下地層、無機物層を積層し無機物積層シートを得た。本比較例の無機物積層シートは、相分離構造を有さない下地層の上に［無機Ｂ］層から��る無機物層を積層したものであり、相分離構造を有する下地層の上に同様にして無機物層を形成した実施例Ｂ１９と比較してガスバリア性が悪かった。【０３３９】  （比較例Ｂ４）  （シートの下地層の形成）  比較例Ｂ１と同様にして、相分離構造を有さない下地層を基材の上に厚み１μｍにて形成した。【０３４０】  （無機物層の形成）  実施例Ｂ２０と同様にして、前記下地層の上に無機物層としてアルミニウム化合物からなる層を層の厚みが２０ｎｍとなるように形成した。【０３４１】  （無機物積層シート）  以上のようにして基材の上に下地層、無機物層を積層し無機物積層シートを得た。本比較例の無機物積層シートは、相分離構造を有さない下地層の上にアルミニウム化合物からなる無機物層を積層したものであり、相分離構造を有する下地層の上に同様にして無機物層を形成した実施例Ｂ２０と比較してガスバリア性が悪かった。【０３４２】  （比較例Ｂ５）  （シートの下地層の形成）  基材として、厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製、商品名：“ルミラー”（登録商標）Ｕ４８））を用意した。【０３４３】  次いで、下地層形成用成分としてメタクリル酸メチル／ポリスチレン＝５０／５０［質量比］の組成となるように混合し、次いで熱重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルをメタクリル酸メチルに対し０．５質量％添加後、そこにトルエン／アセトン＝５０／５０［質量比］の混合溶媒を加えて固形分濃度１０質量％まで希釈し下地層形成用の塗工液を調整した。【０３４４】  次いで、前記下地層形成用の塗工液をマイクログラビアコーター（グラビア線番８０Ｒ、グラビア回転比１００％）で基材の上に塗布し、８０℃で６０分間加熱し重合させ、厚み１μｍの下地層を形成した。この下地層は架橋成分を含まず、また成分の非相溶状態から形成されたもので、構造周期が１０４μｍの海島構造の相分離構造が形成されていた。なお、この構造周期は、Ａ法で測定しても１００μｍを超えていた。【０３４５】  （無機物層の形成）  実施例Ｂ６と同様にして、前記下地層の上に無機物層として［無機Ａ］層を層の厚みが１５０ｎｍとなるように形成した。【０３４６】  （無機物積層シート）  以上のようにして基材の上に下地層、無機物層を積層し無機物積層シートを得た。本比較例の無機物積層シートは、下地層が海島構造の相分離構造を有していたものの構造周期が１０４μｍと所望の範囲より大きいものであったため、実施例Ｂ６と比較して同様にして無機物層を形成したにも関わらずガスバリア性が悪かった。【０３４７】
【表２−１】
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【０３４８】
【表２−２】
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【産業上の利用可能性】
【０３４９】  本発明のシートは、無機化合物の層を形成する際に、無機化合物層の構造を制御し、ガスバリア性を向上させることができるので、例えば、食品や医薬品の包装用途、太陽電池、またタッチパネル、電子ペーパー、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、有機ＥＬ照明などの表示体に好適に使用することができるが、用途がこれらに限定されるものではない。
【符号の説明】
【０３５０】１：分散構造を有する表面２：無機物層３ａ：分散構造を有する下地層３ｂ：基材４：分散構造を有する単層構成のシート（シート（ｉ））５：分散構造を有する積層構成のシート（シート（ｉｉ））６：共連続構造の相分離構造における連続相Ａ７：共連続構造の相分離構造における連続相Ｂ８：海島構造の相分離構造における海相Ａ９：海島構造の相分離構造における島相Ｂ１０：シリンダー構造の相分離構造における相Ａ１１：シリンダー構造の相分離構造における相Ｂ１２：ジャイロイド構造の相分離構造における相Ａ１３：ジャイロイド構造の相分離構造における相Ｂ１４：ラメラ構造の相分離構造における相Ａ１５：ラメラ構造の相分離構造における相Ｂ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【国際調査報告】
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