(57)【要約】解像度が高いパターンの膜を提供することである。導電性カーボン層が基材の一面側に設けられる工程と、導電性カーボン層が基材の他面側に設けられる工程と、前記一面側に設けられた導電性カーボン層の上にオーバーコート層が設けられる工程と、前記他面側に設けられた導電性カーボン層の上にオーバーコート層が設けられる工程と、前記一面側に設けられたオーバーコート層の上に所定パターンのマスクが設けられる工程と、前記他面側に設けられたオーバーコート層の上に所定パターンのマスクが設けられる工程と、酸素を有する雰囲気下において、前記マスクの開口部に対応して、紫外線が前記導電性カーボン層に照射される工程とを具備する。
2014098230.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
紫外線照射領域の導電性カーボン層が絶縁性に変性し、紫外線未照射領域の導電性カーボン層が導電性を保持している所定パターンの膜形成方法であって、
導電性カーボン層が基材の一面側に設けられる工程と、
導電性カーボン層が基材の他面側に設けられる工程と、
前記一面側に設けられた導電性カーボン層の上にオーバーコート層が設けられる工程と、
前記他面側に設けられた導電性カーボン層の上にオーバーコート層が設けられる工程と、
前記一面側に設けられたオーバーコート層の上に所定パターンのマスクが設けられる工程と、
前記他面側に設けられたオーバーコート層の上に所定パターンのマスクが設けられる工程と、
酸素を有する雰囲気下において、前記マスクの開口部に対応して、紫外線が前記導電性カーボン層に照射される工程
とを具備することを特徴とする膜形成方法。
【請求項２】
前記オーバーコート層は、加水分解性オルガノシランの加水分解物の群の中から選ばれる少なくとも一つを含有する組成物で構成されてなる
ことを特徴とする請求項１の膜形成方法。
【請求項３】
前記オーバーコート層は、厚さが１ｎｍ〜１μｍである
ことを特徴とする請求項１又は請求項２の膜形成方法。
【請求項４】
前記マスクは、紫外線を透過しない素材の樹脂が用いられて印刷手段で樹脂層として設けられる
ことを特徴とする請求項１〜請求項３いずれかの膜形成方法。
【請求項５】
前記マスクは前記オーバーコート層に密着して設けられる
ことを特徴とする請求項１〜請求項４いずれかの膜形成方法。
【請求項６】
前記紫外線は、１０〜４００ｎｍの範囲に波長を有する紫外線である
ことを特徴とする請求項１〜請求項５いずれかの膜形成方法。
【請求項７】
前記紫外線は、１５０〜１８０ｎｍの範囲に波長を有する紫外線である
ことを特徴とする請求項１〜請求項５いずれかの膜形成方法。
【請求項８】
前記紫外線の照射積算光量は、５０〜５０００００ｍＪ／ｃｍ２である
ことを特徴とする請求項１〜請求項７いずれかの膜形成方法。
【請求項９】
前記紫外線の照射積算光量は、５００〜３００００ｍＪ／ｃｍ２である
ことを特徴とする請求項１〜請求項７いずれかの膜形成方法。
【請求項１０】
前記紫外線照射後、前記マスクが除去される工程を更に具備する
ことを特徴とする請求項１〜請求項９いずれかの膜形成方法。
【請求項１１】
前記酸素を有する雰囲気は、酸素圧が１０１〜２１２７３Ｐａである
ことを特徴とする請求項１〜請求項１０いずれかの膜形成方法。
【請求項１２】
前記酸素を有する雰囲気は、酸素圧が１０１３〜１０１３０Ｐａである
ことを特徴とする請求項１〜請求項１０いずれかの膜形成方法。
【請求項１３】
前記導電性カーボン層が、グラフェンで構成されてなる
ことを特徴とする請求項１〜請求項１２いずれかの膜形成方法。
【請求項１４】
前記導電性カーボン層が、カーボンナノチューブで構成されてなる
ことを特徴とする請求項１〜請求項１３いずれかの膜形成方法。
【請求項１５】
前記導電性カーボン層が、酸処理を受けた単層カーボンナノチューブで構成されてなる
ことを特徴とする請求項１〜請求項１４いずれかの膜形成方法。
【請求項１６】
請求項１〜請求項１５いずれかの膜形成方法によって形成されてなる導電膜。
【請求項１７】
請求項１〜請求項１５いずれかの膜形成方法によって形成されてなる絶縁膜。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば透明導電膜に関する。
【背景技術】
【０００２】
透明導電膜（例えば、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）等からなる透明導電膜）が透明基板上に設けられた透明導電膜基板が知られている。この種の基板は、例えば表示パネルに用いられる。例えば、液晶ディスプレイに用いられる。プラズマディスプレイに用いられる。有機ＥＬディスプレイに用いられる。或いは、タッチパネルに用いられる。又は、太陽電池に用いられる。その他にも各種の分野で用いられる。【０００３】
透明導電膜は所望のパターンに形成されている。このパターン形成方法として、一般的には、ケミカルエッチング手段（フォトレジストやエッチング液が用いられたフォトリソグラフィ手段）が採用されている。【０００４】
前記ケミカルエッチングの手法は、フォトレジスト膜成膜工程（基板の全面に成膜したＩＴＯ膜上にフォトレジスト塗料を塗布）→フォトレジスト膜パターニング工程（露光現像によって、フォトレジスト膜を所定パターンに成形）→ＩＴＯ膜エッチング工程（所定パターンのフォトレジスト膜をマスクとして、ＩＴＯ膜をエッチング）→フォトレジスト膜除去工程と言った多くの工程を必要とする。従って、前記ケミカルエッチングの手法は煩瑣である。前記ケミカルエッチングの手法は、溶液中でのフォトレジスト膜の膨潤に起因して、エッチング精度低下の問題が有る。前記ケミカルエッチングの手法は、エッチング液の取扱性や、廃液処理に問題が有る。【０００５】
前記課題を解決する方法として、レーザーアブレーション法が提案されている。この方法は、レーザーを、直接、導電膜に照射することによって、不要部分を除去する方法である。この方法は、フォトレジストを必要とせず、精度の高いパターニングが可能になる。【０００６】
しかしながら、前記レーザーアブレーション法では、適用可能な基材が限定される。前記レーザーアブレーション法は、プロセスコストが高い。前記レーザーアブレーション法では、処理速度が遅い。従って、前記レーザーアブレーション法は、量産プロセスに適した方法では無い。【０００７】
フォトリソグラフィ工程が不要なケミカルエッチング技術として、「塩化鉄（ＩＩＩ）または塩化鉄（ＩＩＩ）六水和物の、酸化物表面のエッチングのための組成物における、エッチング成分としての使用」「塩化鉄（ＩＩＩ）または塩化鉄（ＩＩＩ）六水和物の、ディスプレイ技術（ＴＦＴ）における、太陽光発電、半導体技術、高性能エレクトロニクス、鉱物学またはガラス工業における、ＯＬＥＤ照明、ＯＬＥＤディスプレイの製造における、およびフォトダイオードの製造のため、およびフラットパネルスクリーン用途（プラズマディスプレイ）のためのＩＴＯガラスの構築のための、ペースト形態の組成物における、エッチング成分としての使用」「酸化物層のエッチングのための組成物であって、ａ）エッチング成分として塩化鉄（ＩＩＩ）または塩化鉄（ＩＩＩ）六水和物、ｂ）溶媒、ｃ）随意的に、均質に溶解した有機増粘剤、ｄ）随意的に、少なくとも１種の無機酸および／または有機酸、および随意的にｅ）添加剤、例えば消泡剤、チキソトロープ剤、流れ制御剤、脱気剤、接着促進剤、を含み、ペースト形態であり印刷可能である、前記組成物」が提案（特表２００８−５４７２３２号公報）されている。【０００８】
「酸化物の透明な導電層をエッチングするためのエッチング媒体であって、リン酸、もしくはその塩またはリン酸付加物またはリン酸と、リン酸塩および／またはリン酸付加物との混合物からなる少なくとも１種のエッチャントを含むエッチング媒体」「酸化物の透明な導電層をエッチングするための方法であって、前記エッチング媒体を、印刷工程によってエッチングする基板に適用することを特徴とする方法」が提案（特表２００９−５０３８２５号公報）されている。【０００９】
しかし、特表２００８−５４７２３２号公報や特表２００９−５０３８２５号公報の技術は、エッチングが面内において均一に進行し難い。この為、ムラが発生する。【００１０】
ところで、透明導電膜は、ＩＴＯ製の透明導電膜の他にも、カーボンナノチューブ製の透明導電膜が知られている。カーボンナノチューブは、直径が１μｍ以下の太さのチューブ状材料である。理想的なカーボンナノチューブは、炭素６角網目の面がチューブの軸に平行になって管を形成した構造である。前記管が多重になることもある。カーボンナノチューブは、炭素で出来た６角網目の繋がり方や、チューブの太さにより、金属的あるいは半導体的な性質を示す。このことから、カーボンナノチューブは機能材料として期待されている。但し、カーボンナノチューブの構成や製造法によっては、太さも方向もランダムである。この為、利用に際して、合成後に回収して精製し、利用する形態に合わせた処理が必要な場合も有る。この種のカーボンナノチューブのパターニングの手法として、次の手法が提案（特表２００６−５１３５５７号公報、特表２００７−５２９８８４号公報（国際公開２００５／０８６９８２号パンフレット））されている。例えば、基板表面にカーボンナノチューブ分散液を塗布する。これにより、カーボンナノチューブ被膜が形成される。このカーボンナノチューブ被膜にバインダ溶液を所定パターンで塗布する。塗布後、溶媒が乾燥除去される。これにより、バインダがカーボンナノチューブ被膜中に残り、カーボンナノチューブのネットワークが強化される。この後、バインダを溶解しない溶媒で、基板が、洗浄される。これにより、バインダが存在する（バインダが塗布された）部分のみが残存したパターンが形成される。バインダの代わりにフォトレジスト材料を用いることも出来る。すなわち、カーボンナノチューブ被膜にフォトレジスト含有塗料を塗布する。これにより、カーボンナノチューブのネットワーク内にフォトレジストが含浸する。この後、フォトリソグラフィを用いて所定パターンに形成する。しかしながら、基板表面全体にカーボンナノチューブ被膜を形成してからパターニングを行う手法は、工程が煩雑である。【００１１】
予めパターン化されたカーボンナノチューブ被膜が、スクリーン印刷、インクジェット、グラビア印刷などの塗布方法によって、直接、基板上に塗布・形成される方法も挙げられる。パターン化されたカーボンナノチューブ被膜をスクリーン印刷などの塗布方法で形成する場合、カーボンナノチューブ含有塗料の物性が塗布方法に合った物性に調整されている必要が有る。カーボンナノチューブ分散液は、一般的には、界面活性剤等の分散剤を含む。比較的、低粘度である。塗布方法に合ったインク物性のものとする為には、粘度や表面張力の調整の為の材料がカーボンナノチューブ分散液に添加されることが必要となる。この場合、カーボンナノチューブの分散性が悪化する恐れが有る。【００１２】
特表２００６−５１３５５７号公報や特表２００７−５２９８８４号公報で提案の技術に代わるものとして、次の技術が提案（国際公開２０１０／１１３７４４号パンフレット）されている。すなわち、沸点が８０℃以上の酸（例えば、硫酸またはスルホン酸化合物）または沸点が８０℃以上の塩基もしくは外部エネルギーにより酸または塩基を発生させる化合物、溶媒、樹脂（例えば、第１級〜第４級アミノ基のいずれかを構造の一部に含むカチオン性樹脂）およびレベリング剤を含む導電膜除去剤が提案されている。基材上にウィスカー状導電体、繊維状導電体（例えば、カーボンナノチューブ）または粒子状導電体を含む導電膜を有する導電膜付き基材の少なくとも一部に、前記の導電膜除去剤を塗布する工程、８０℃以上で加熱処理する工程および液体を用いた洗浄によって導電膜を除去する工程を有する導電膜除去方法が提案されている。この導電膜除去方法であって、導電膜上にオーバーコート層を有する導電膜付き基材からオーバーコート層と導電膜とを除去する導電膜除去方法が提案されている。前記導電膜除去剤を塗布後に８０〜２００℃に加熱処理することにより、導電膜除去剤が塗布された部分の導電膜は、分解、溶解または可溶化され、又、オーバーコート層を有する場合は、オーバーコート層と導電膜とが分解、溶解または可溶化されると謳われている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１３】
【特許文献１】特表２００８−５４７２３２号公報
【特許文献２】特表２００９−５０３８２５号公報
【特許文献３】特表２００６−５１３５５７号公報
【特許文献４】特表２００７−５２９８８４号公報（国際公開２００５／０８６９８２号パンフレット）
【特許文献５】国際公開２０１０／１１３７４４号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
特許文献５の導電膜除去剤を用いた手法で形成されたパターンは、その側面（垂直壁面）にあっては、カーボンナノチューブが露出している。なぜならば、カーボンナノチューブ層上面にオーバーコート層が設けられていたとしても、導電膜除去剤によって、カーボンナノチューブ層およびオーバーコート層が除去されているからである。すなわち、オーバーコート層で覆われていないカーボンナノチューブ面が存在する。この為、耐久性低下（例えば、カーボンナノチューブの脱落、水分による物性変化など）が考えられる。【００１５】
更に、表面に凹凸が出来ると言った問題も考えられる。【００１６】
特許文献５の技術は、所定パターンに塗布された導電膜除去剤を８０℃以上に加熱する加熱工程を必須としている。従って、作業性が悪い。更には、基板は８０℃以上の耐熱性を持つことが要求される。このことは、基板選択の自由度が低下する。【００１７】
本発明は上記問題点の解決を目的とする。特に、本発明が解決しようとする課題は、解像度が高く、かつ、耐久性に優れた導電性（或いは、絶縁性）の膜を簡便な方法で提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
前記問題点についての検討が、鋭意、推し進められて行った。【００１９】
その結果、次のことが判って来た。導電性膜（例えば、導電性カーボンナノチューブを塗布することで構成された導電性膜）上にオーバーコート層が設けられた。このオーバーコート層上に紫外線を遮蔽（遮光）するマスクが設けられた。前記マスクを介して、所定のパターンで、紫外線が照射された。特に、酸素を有する雰囲気中で、紫外線が照射された。このようにして形成されたパターンは、パターン精度が高かった。導電膜（絶縁膜）の耐久性は優れていた。しかも、パターン形成は簡単であった。ここで、所定パターンの導電膜は、逆の立場から眺めると、所定パターンの絶縁膜である。【００２０】
上記知見を基にして本発明が達成された。【００２１】
本発明は、
紫外線照射領域の導電性カーボン層が絶縁性に変性し、紫外線未照射領域の導電性カーボン層が導電性を保持している所定パターンの膜形成方法であって、
導電性カーボン層が基材の一面側に設けられる工程と、
導電性カーボン層が基材の他面側に設けられる工程と、
前記一面側に設けられた導電性カーボン層の上にオーバーコート層が設けられる工程と、
前記他面側に設けられた導電性カーボン層の上にオーバーコート層が設けられる工程と、
前記一面側に設けられたオーバーコート層の上に所定パターンのマスクが設けられる工程と、
前記他面側に設けられたオーバーコート層の上に所定パターンのマスクが設けられる工程と、
酸素を有する雰囲気下において、前記マスクの開口部に対応して、紫外線が前記導電性カーボン層に照射される工程
とを具備することを特徴とする膜形成方法を提案する。
本発明は、
紫外線照射領域の導電性カーボン層が絶縁性に変性し、紫外線未照射領域の導電性カーボン層が導電性を保持している所定パターンの膜形成方法であって、
導電性カーボン層が基材の一面側に設けられる工程と、
導電性カーボン層が基材の他面側に設けられる工程と、
前記一面側に設けられた導電性カーボン層の上にオーバーコート層が設けられる工程と、
前記他面側に設けられた導電性カーボン層の上にオーバーコート層が設けられる工程と、
前記一面側に設けられたオーバーコート層の上に所定パターンのマスクが設けられる工程と、
前記他面側に設けられたオーバーコート層の上に所定パターンのマスクが設けられる工程と、
酸素を有する雰囲気下において、前記マスクの開口部に対応して、紫外線が前記導電性カーボン層に照射される工程と、
前記紫外線照射後、前記マスクが除去される工程
とを具備することを特徴とする膜形成方法を提案する。【００２２】
本発明は、前記膜形成方法であって、前記オーバーコート層は、好ましくは、加水分解性オルガノシランの加水分解物の群の中から選ばれる少なくとも一つを含有する組成物で構成されてなる膜形成方法を提案する。
本発明は、前記膜形成方法であって、前記オーバーコート層は、好ましくは、厚さが１ｎｍ〜１μｍである膜形成方法を提案する。【００２３】
本発明は、前記膜形成方法であって、前記マスクは、好ましくは、紫外線を透過しない素材の樹脂が用いられ、印刷手段で樹脂層として設けられる膜形成方法を提案する。
本発明は、前記膜形成方法であって、前記マスクは、好ましくは、前記オーバーコート層に密着して設けられる膜形成方法を提案する。【００２４】
本発明は、前記膜形成方法であって、前記紫外線は、好ましくは、１０〜４００ｎｍの範囲に波長を有する紫外線である膜形成方法を提案する。
本発明は、前記膜形成方法であって、前記紫外線は、好ましくは、１５０〜１８０ｎｍの範囲に波長を有する紫外線である膜形成方法を提案する。
本発明は、前記膜形成方法であって、前記紫外線の照射積算光量は、好ましくは、５０〜５０００００ｍＪ／ｃｍ２である膜形成方法を提案する。
本発明は、前記膜形成方法であって、前記紫外線の照射積算光量は、好ましくは、５００〜３００００ｍＪ／ｃｍ２である膜形成方法を提案する。【００２５】
本発明は、前記膜形成方法であって、前記酸素を有する雰囲気は、好ましくは、酸素圧が１０１〜２１２７３Ｐａである膜形成方法を提案する。
本発明は、前記膜形成方法であって、前記酸素を有する雰囲気は、好ましくは、酸素圧が１０１３〜１０１３０Ｐａである膜形成方法を提案する。【００２６】
本発明は、前記膜形成方法であって、前記導電性カーボン層が、好ましくは、グラフェンで構成されてなる膜形成方法を提案する。
本発明は、前記膜形成方法であって、前記導電性カーボン層が、好ましくは、カーボンナノチューブで構成されてなる膜形成方法を提案する。
本発明は、前記膜形成方法であって、前記導電性カーボン層が、好ましくは、酸処理を受けた単層カーボンナノチューブで構成されてなる膜形成方法を提案する。【００２７】
本発明は、前記膜形成方法によって形成されてなる導電膜を提案する。【００２８】
本発明は、前記膜形成方法によって形成されてなる絶縁膜を提案する。
【発明の効果】
【００２９】
解像度が高い導電性（又は、絶縁性）の膜が簡単に得られる。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】紫外線照射前における層構成を示す概略断面図
【図２】紫外線照射後における層構成を示す概略断面図
【図３】樹脂層（マスク）の平面図
【発明を実施するための形態】
【００３１】
第１の本発明は膜形成方法である。前記方法は、例えば所定パターンの導電膜を形成する方法である。或いは、所定パターンの絶縁膜を形成する方法である。前記方法は、所定パターンの透明導電膜を形成する方法である。或いは、所定パターンの透明絶縁膜を形成する方法である。前記方法は、紫外線照射領域の導電性カーボン層が絶縁性に変性し、紫外線未照射領域の導電性カーボン層が導電性を保持している所定パターンの膜形成方法である。絶縁性に変性した個所を、特に、取り上げたならば、前記方法は絶縁膜形成方法である。導電性の個所を、特に、取り上げたならば、前記方法は導電膜形成方法である。前記方法は、導電性カーボン層が設けられる工程を具備する。前記導電性カーボン層は、基材の両面（表面と裏面）に設けられる。両面に同時に設けられる場合と、一面側に設けられた後、他面側に設けられる場合とが有る。どちらが採用されても良い。基材（例えば、基板）上に、例えば導電性カーボン（例えば、導電性グラフェン（導電性カーボンナノチューブ））含有（例えば、分散）塗料が塗布される。この塗布によって、導電性カーボン層が設けられる。塗布以外の方法が用いられても良い。例えば、ＣＶＤ（化学的気相成長方法）やＰＶＤ（物理的気相成長方法）を用いることも出来る。但し、塗布方法の採用が好ましい。前記方法は、前記導電性カーボン層の上にオーバーコート層が設けられる工程を具備する。例えば、オーバーコート塗料が前記導電性カーボン層上に塗布される。この塗布により、オーバーコート層が構成される。表面側（一面側）に設けられた導電性カーボン層の上にオーバーコート層が設けられる。裏面側（他面側）に設けられた導電性カーボン層の上にオーバーコート層が設けられる。前記オーバーコート層も、同時に設けられる場合と、一面側に設けられた後、他面側に設けられる場合とが有る。どちらが採用されても良い。前記導電性カーボン層と前記オーバーコート層とは、同時重層塗布方法によって、同時に設けられても良い。或いは、別々に設けられても良い。前記方法は、マスクが前記オーバーコート層の上に設けられる工程を具備する。ここで、マスクは紫外線を透過しない素材の樹脂層の場合で説明される。しかし、マスクはこれに限定されない。前記樹脂層は、表面側（一面側）に設けられたオーバーコート層の上に設けられる。前記樹脂層は、裏面側（他面側）に設けられたオーバーコート層の上に設けられる。前記樹脂層は、両面に同時に設けられる場合と、一面側に設けられた後、他面側に設けられる場合とが有る。どちらが採用されても良い。前記導オーバーコート層と前記樹脂層とは、同時重層塗布方法によって、同時に設けられても良い。或いは、別々に設けられても良い。前記オーバーコート層と前記樹脂層とは、好ましくは、密着している。密着とは剥離に格別な力を要することを意味する。すなわち、［前記オーバーコート層と前記樹脂層との接着強度（剥離強度）］＞０を意味する。紫外線が、前記オーバーコート層と前記樹脂層との境界に、回り込むことが無いことを意味する。酸素（活性酸素）が、前記オーバーコート層と前記樹脂層との境界に、侵入しないことを意味する。この意味では格別に大きな接着強度（剥離強度）は必要でない。前記樹脂層は所定のパターンを持つ。前記導電性カーボン層が導電性を維持する個所（パターン）に対応した個所に、前記樹脂層が設けられる。前記導電性カーボン層が導電性を喪失して絶縁性のものとなる個所（パターン）に対応した個所には、前記樹脂層は設けられない。すなわち、前記所定パターンの樹脂層は、所定パターンの導電膜（絶縁膜）を形成する為のマスクの機能を奏する。紫外線を透過しない樹脂としては各種のものが挙げられる。例えば、レジスト材料、光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂などが挙げられる。勿論、これに限られない。前記所定パターンの樹脂層は、例えばスクリーン印刷などの印刷手段で形成される。或いは、フォトリソグラフィ技術を用いて形成される。勿論、これに限られない。前記方法は、前記所定パターンの樹脂層が設けられた後、酸素を有する雰囲気下において、紫外線が照射される工程を具備する。この照射工程においては、前記樹脂層が存在する個所の下方位置の導電性カーボンには、紫外線が照射されない。前記樹脂層が存在しない個所の下方位置の導電性カーボンには、紫外線が照射される。絶縁性とすべき個所に、紫外線が照射される。紫外線未照射領域は導電性を確保すべき領域である。紫外線照射領域は導電性を喪失すべき領域である。所定パターンの導電性膜（又は、絶縁性膜）を形成する為、紫外線照射が行われる。樹脂層（樹脂製マスク）を用いたことで、オーバーコート層とマスクとの密着性が向上した。これにより、紫外線がマスクされた個所や、紫外線照射による活性化酸素がマスクされた箇所には、紫外線が到達し難くなる。この結果、導電性膜（絶縁性膜）のパターン精度が高くなる。解像度が高いパターンの膜が得られた。前記オーバーコート層は、好ましくは、加水分解性オルガノシランの加水分解物の群の中から選ばれる少なくとも一つを含有する組成物で構成されてなる。前記紫外線は、好ましくは、１０〜４００ｎｍの範囲に波長を有する紫外線である。より好ましくは、１５０〜２６０ｎｍの範囲に波長を有する紫外線である。特に好ましくは、１５０〜１８０ｎｍの範囲に波長を有する紫外線である。前記酸素を有する雰囲気は、好ましくは、酸素圧（混合気体の場合、酸素分圧）が１０１〜２１２７３Ｐａである。より好ましくは、酸素圧が５０７〜２０２６０Ｐａである。特に好ましくは、酸素圧が１０１３〜１０１３０Ｐａである。前記導電性カーボン層は、例えばグラフェンで構成される。前記導電性カーボン層（グラフェン層）は、例えばカーボンナノチューブで構成される。前記導電性カーボン層（カーボンナノチューブ層）は、例えば単層カーボンナノチューブで構成される。前記導電性カーボン層（カーボンナノチューブ層）は、例えば酸処理を受けた単層カーボンナノチューブで構成される。カーボンナノチューブは、好ましくは、Ｇ（１５９０ｃｍ−１付近に表れるグラファイト物質に共通なラマンピークにおける強度）／Ｄ（１３５０ｃｍ−１付近に表れる欠陥に起因するラマンピークにおける強度）≧１０のカーボンナノチューブである。Ｇ／Ｄの上限値は、例えば１５０程度である。
【００３２】
第２の本発明は導電膜である。前記膜は前記膜形成方法により形成された導電膜である。
【００３３】
第３の本発明は絶縁膜である。前記膜は前記膜形成方法により形成された絶縁膜である。
【００３４】
以下、更に詳しい説明がされる。
【００３５】
図１〜図３は本発明の一実施形態の説明図である。図１は紫外線照射前における層構成を示す概略断面図、図２は紫外線照射後における層構成を示す概略断面図、図３はオーバーコート層上に設けられた樹脂層（マスク）の平面図である。
【００３６】
１は、透明導電性カーボン層である。
前記透明導電性カーボン層１は、例えばグラフェンで構成された。
前記透明導電性カーボン層１は、例えばカーボンナノチューブで構成された。
前記透明導電性カーボン層１は、例えば単層カーボンナノチューブで構成された。
前記透明導電性カーボン層１は、例えば酸処理を受けた単層カーボンナノチューブで構成された。
【００３７】
透明導電性カーボン層１を構成するカーボンナノチューブ（ＣＮＴ）としては、単層カーボンナノチューブ、２層カーボンナノチューブ、多層カーボンナノチューブ等が挙げられる。
単層カーボンナノチューブは好ましい。特に、Ｇ／Ｄが１０以上（例えば、２０〜６０）の単層カーボンナノチューブが好ましい。
直径が０．３〜１００ｎｍのＣＮＴが好ましい。特に、直径が０．３〜２ｎｍのＣＮＴが好ましい。
長さが０．１〜１００μｍのＣＮＴが好ましい。特に、長さが０．１〜５μｍのＣＮＴが好ましい。
透明導電性カーボン層１におけるＣＮＴは、例えば互いに絡み合ったものである。
【００３８】
単層カーボンナノチューブは、如何なる製法によって得られた単層カーボンナノチューブでも良い。例えば、アーク放電法、化学気相法、レーザー蒸発法などの製法で得られた単層カーボンナノチューブを用いることが出来る。
結晶性の観点から、アーク放電法で得られた単層カーボンナノチューブが好ましい。このものは入手も容易である。
単層カーボンナノチューブは、酸処理が施された単層カーボンナノチューブが好ましい。酸処理は、酸性液体中に単層カーボンナノチューブが浸漬されることで実施される。浸漬の代わりに噴霧と言った手法が採用されても良い。酸性液体は各種のものが用いられる。例えば、無機酸または有機酸が用いられる。但し、無機酸が好ましい。例えば、硝酸、塩酸、硫酸、リン酸、或いはこれらの混合物が挙げられる。中でも、硝酸、或いは硝酸と硫酸との混酸を用いた酸処理が好ましい。この酸処理によって、単層カーボンナノチューブと炭素微粒子とがアモルファスカーボンを介して物理的に結合している場合に、アモルファスカーボンが分解した。両者が分離した。単層カーボンナノチューブ作製時に使用した金属触媒の微粒子が分解した。前記酸処理によって、官能基が付く。前記酸処理によって、導電性が向上していた。
単層カーボンナノチューブは、濾過によって不純物が除去され、純度が向上した単層カーボンナノチューブが好ましい。不純物による導電性の低下や光透過率の低下が防止されたからである。濾過には各種の手法が採用される。例えば、吸引濾過、加圧濾過、クロスフロー濾過などが用いられる。中でも、スケールアップの観点から、中空糸膜を用いたクロスフロー濾過の採用が好ましい。
【００３９】
導電層（カーボンナノチューブ層）１中には、前記ＣＮＴの他に、好ましくは、フラーレンが含まれる。
導電層１は、好ましくは、前記特徴のＣＮＴ、及びフラーレンを含有する。
本明細書にあっては、「フラーレン」には「フラーレン類縁体」も含まれる。
フラーレンを含ませておくことにより、耐熱性が向上したからである。導電性にも優れていたからである。
フラーレンは如何なるフラーレンでも良い。例えば、Ｃ６０，Ｃ７０，Ｃ７６，Ｃ７８，Ｃ８２，Ｃ８４，Ｃ９０，Ｃ９６等が挙げられる。勿論、複数種のフラーレンの混合物でも良い。
分散性能の観点から、Ｃ６０が、特に好ましい。更に、Ｃ６０は入手し易い。Ｃ６０のみでは無く、Ｃ６０と他の種類のフラーレン（例えば、Ｃ７０）との混合物でも良い。
フラーレン内部に金属原子が内包されたものでも良い。
フラーレン類縁体としては、官能基（例えば、ＯＨ基、エポキシ基、エステル基、アミド基、スルホニル基、エーテル基などの官能基）を持つものが挙げられる。フェニル−Ｃ６１−プロピル酸アルキルエステル、フェニル−Ｃ６１−ブチル酸アルキルエステルも挙げられる。水素化フラーレンなども挙げられる。中でも、ＯＨ基（水酸基）を持つフラーレン（水酸化フラーレン）が好ましい。それは、単層カーボンナノチューブ分散液の塗工時の分散性が高かったからである。尚、ＯＨ基の数が少ないと、単層カーボンナノチューブの分散性向上度が低下する。逆に、多すぎると、合成が困難である。従って、ＯＨ基の数はフラーレン１分子当り５〜３０個が好ましい。特に、８〜１５個が好ましい。フラーレンの添加量（含有量）は、多すぎると、導電性が低下する。逆に、少なすぎると、効果が乏しい。従って、フラーレン量は、好ましくは、ＣＮＴ１００質量部に対して１０〜１０００質量部（特に、２０質量部以上。１００質量部以下。）である。
【００４０】
透明導電性カーボン層（カーボンナノチューブ層）１は、バインダ樹脂を含有していても良い。但し、導電性の観点からすると、バインダ樹脂を含まない方が好ましい。例えば、絡み合ったＣＮＴが用いられると、バインダ樹脂が無くても済む。絡み合ったＣＮＴは、ＣＮＴ同士が、直接、接触している。間に絶縁物が介在してないことから、導電性が良い。走査型電子顕微鏡で導電膜表面を観察したならば、ＣＮＴが絡み合った構造であるか否かを確認・判定できる。
【００４１】
２は基材（基板）である。透明導電性カーボン層１は、基材（基板）２の表裏（上下）両面に、設けられている。
透明導電性カーボン層１は、ＣＮＴ分散液（上記特徴のＣＮＴ、及び必要に応じて添加されたフラーレンが分散した分散液）が基材（基板）２の上に塗布されることによって、構成される。塗布方法としては、例えばダイコート、ナイフコート、スプレー塗布、スピンコート、スリットコート、マイクログラビア、フレキソ等が挙げられる。勿論、これに限らない。カーボンナノチューブ分散液の塗布は基板２の全面に行われる。紫外線照射時の絶縁化を均一に進行させる為、透明導電性カーボン層（カーボンナノチューブ層）１は均一に成膜されることが好ましい。
【００４２】
基板２の構成材料としては各種のものが適宜用いられる。例えば、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、スチレン−メチルメタクリレート共重合体（ＭＳ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、シクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等の樹脂が用いられる。本発明では、パターン形成に際して過度な加熱を要さないことから、耐熱性の要求度が低い。従って、基板２構成材料として樹脂が用いられる場合でも、樹脂選定の自由度が高い。樹脂の他にも、無機ガラス材料やセラミック材料を用いることが出来る。
【００４３】
本発明にあっては、透明導電性カーボン層１上に、オーバーコート層（保護層）３が設けられる。
透明導電性カーボン層１は、基板２の表裏両面に設けられている。従って、オーバーコート層（保護層）３も、基板２の表面側と裏面側とに設けられている。
オーバーコート層３は、有機系高分子材料、無機系高分子材料、又は有機−無機のハイブリッド樹脂などで構成される。
有機系高分子材料としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、セルロース樹脂、光硬化性樹脂などが挙げられる。可視光透過性、基板の耐熱性、ガラス転移点および膜硬化度などの観点から、適宜、選択される。熱可塑性樹脂としては、例えばポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリ乳酸、ＡＢＳ樹脂などが挙げられる。熱硬化性樹脂としては、例えばフェノール樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、ポリイミド、エポキシ樹脂、フッ素樹脂、ウレタン樹脂などが挙げられる。セルロース樹脂としては、例えばアセチルセルロース、トリアセチルセルロース等が挙げられる。光硬化性樹脂としては、例えば各種オリゴマー、モノマー、光重合開始剤を含有する樹脂等が挙げられる。
無機系材料としては、例えばシリカゾル、アルミナゾル、ジルコニアゾル、チタニアゾル等が挙げられる。前記無機系材料に水や酸触媒を加えて加水分解し、脱水縮合させた重合物なども挙げられる。
有機−無機のハイブリッド樹脂としては、例えば前記無機材料の一部が有機官能基で修飾（例えば、置換または付加）されたものや、シランカップリング剤などの各種カップリング剤を主成分とする樹脂等が挙げられる。
オーバーコート層３は、その膜厚が厚すぎると、導電膜の接触抵抗が大きくなる。逆に、オーバーコート層３の膜厚が薄すぎると、保護膜としての効果が得られ難い。従って、オーバーコート層３の厚さは１ｎｍ〜１μｍが好ましい。特に、１０ｎｍ以上が好ましい。２００ｎｍ以下が好ましい。更には１５０ｎｍ以下が好ましい。
【００４４】
透明導電性カーボン層（カーボンナノチューブ層）１上に設けられるオーバーコート層３は、特に、好ましくは、例えば加水分解性オルガノシランの加水分解物を含有する組成物からなる。
好ましくは、４官能加水分解性オルガノシランを含有する組成物からなる。
特に、４官能加水分解性オルガノシランと、エポキシ基及びアルコキシ基を有する加水分解性オルガノシランとの加水分解物を含有する組成物からなる。
中でも、前記エポキシ基及びアルコキシ基を有する加水分解性オルガノシランの加水分解物の含有量が、樹脂の全固形分に対して１〜１０重量％のものが好ましい。
エポキシ基及びアルコキシ基を有する加水分解性オルガノシランの共加水分解物が含まれていると、前記組成物を塗布して硬化させた場合、共加水分解物のエポキシ基が、基板に含まれる水酸基やカルボニル基といった酸素サイトと結合する。この為、オーバーコート層（保護膜）と透明導電性カーボン層（カーボンナノチューブ層）１との密着性が向上する。
シリカ系金属酸化物微粒子を含有する組成物からなる。場合によっては、フッ素置換アルキル基を有する加水分解性オルガノシランの加水分解物を更に含有する組成物からなる。
前記加水分解性オルガノシランの加水分解物は、該加水分解性オルガノシランに含まれるアルコキシ基に対する水比が１．０〜３．０で反応させたものが好ましい。
前記加水分解性オルガノシランの加水分解物は、ポリスチレン換算重量平均分子量１０００〜２０００の化合物のものが好ましい。
【００４５】
前記４官能加水分解性オルガノシランは、例えばＳｉＸ４で表される化合物である。前記Ｘは加水分解基である。例えば、アルコキシ基、アセトキシ基、オキシム基、エノキシ基などである。特に、Ｓｉ（ＯＲ１）４で表される４官能加水分解性オルガノアルコキシシランである。前記Ｒ１は、好ましくは、１価の炭化水素基である。例えば、炭素数１〜８の１価の炭化水素基である。例えば、炭素数１〜８のアルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、へプチル基、オクチル基）である。本実施形態で用いられる４官能加水分解性オルガノシランとしては、例えばテトラメトキシシランやテトラエトキシシラン等が挙げられる。エポキシ基及びアルコキシ基を有する加水分解性オルガノシランは、例えばＲ２Ｓｉ（ＯＲ３）３，Ｒ２Ｒ４Ｓｉ（ＯＲ３）２で表される化合物である。Ｒ２は、エポキシ基、グリシドキシ基、及びこれらの置換体から選ばれた基である。Ｒ３は、前記Ｒ１と同様に、１価の炭化水素基である。例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基などである。Ｒ４は、水素、アルキル基、フルオロアルキル基、アリール基、アルケニル基、メタクリルオキシ基、エポキシ基、グリシドキシ基、アミノ基、及びそれらの置換体から選ばれた基である。
本実施形態で用いられるエポキシ基及びアルコキシ基を有する加水分解性オルガノシランとしては、例えばγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルジメトキシメチルシラン等が挙げられる。
シリカ系金属酸化物微粒子としては、好ましくは、中空シリカ微粒子が用いられる。中空シリカ微粒子は、シリカ系金属酸化物の外殻の内部に空洞が形成されたものである。外殻は、細孔を有する多孔質なものが好ましい。細孔が閉塞されて空洞を密封したものであっても良い。形成された被膜の低屈折率化に寄与するものであれば、必ずしも、上述した中空シリカに限られない。
【００４６】
斯かる組成のオーバーコート層の場合、光反射率が低下し、光透過率が高くなった。摩擦などに対する物理的保護が高かった。熱や湿度などの環境変化に対しても保護が高かった。斯かるオーバーコート層３が設けられていると、短時間での紫外線照射により、透明導電性カーボン層（カーボンナノチューブ層）１が導電性から絶縁性に変性すると言う現象が確認された。本発明では、斯かるオーバーコート層が、紫外線照射工程に先立って、透明導電性カーボン層（カーボンナノチューブ層）１上に設けられている。
【００４７】
オーバーコート層３は、上記組成物を含有する塗料が塗布されることによって設けられる。塗布方法としては、上記ＣＮＴ分散液の塗布で説明された方法が採用される。塗布は導電層（カーボンナノチューブ層）上に行われる。しかも、全面に塗布される。紫外線照射時の絶縁化を均一に進行させる為、オーバーコート層３も均一に成膜されることが好ましい。
【００４８】
所定パターンの樹脂層（マスク）４がオーバーコート層３上に設けられた。オーバーコート層（保護層）３は、基材（基板）２の表面側と裏面側とに設けられている。従って、所定パターンの樹脂層４も、基材（基板）２の表面側と裏面側とに設けられている。表面側に設けられた樹脂層４のパターンと、裏面側に設けられた樹脂層４のパターンとは、同一でも、異なっていても良い。樹脂層４が存在する個所の下方（基板２側）位置の透明導電性カーボン層（カーボンナノチューブ層）１には、紫外線が照射されない。樹脂層４が存在しない個所の下方（基板２側）位置の透明導電性カーボン層（カーボンナノチューブ層）１には、紫外線が照射される。樹脂層４はマスクとしての機能を奏する。樹脂層４を構成する樹脂は、絶縁化の為に用いられる波長の紫外線を透過しない樹脂である。例えば、レジスト材（例えば、ノボラック樹脂、メラミン樹脂など）、光硬化性樹脂（例えば、アクリロイル基変性樹脂など）、熱硬化性樹脂（例えば、エポキシ樹脂など）、熱可塑性樹脂（例えば、アクリル樹脂や芳香族樹脂など）が挙げられる。樹脂層４は上方からの紫外線照射を遮蔽する機能を奏するのみではない。樹脂層４は、オーバーコート層３との高い密着性から、導電性を保持させたい部分への紫外線の漏れ（回り込み）を防止したり、酸素から発生するオゾンなどの活性酸素の漏れ（進入）を防止する。これによって、精度の高いパターニングが得られた。樹脂層４の形成方法は、特に限定され無い。例えば、スクリーン印刷、オフセット印刷、インクジェット印刷、グラビア印刷などの印刷手段を用いることが出来る。印刷手段を採用すれば、所定のパターン対応箇所のオーバーコート層３上に、樹脂を設けることが出来る。
【００４９】
紫外線が、透明導電性カーボン層（カーボンナノチューブ層）１に照射された。この紫外線は、好ましくは、波長が１０〜２６０ｎｍである。より好ましくは、波長が１５０〜２６０ｎｍである。特に好ましくは、波長が１５０〜１８０ｎｍである。もっと好ましくは、波長が１６０〜１７５ｎｍの紫外線である。例えば、２６０ｎｍを越えた長波長の紫外線を照射した場合には、一方の面から照射した紫外線が基材を透過して反対面側の導電性カーボン層を絶縁化する場合がある。導電性カーボンナノチューブを絶縁性カーボンナノチューブに変性させる為には、照射される紫外線は、波長が１８０ｎｍ以下のものが一層好ましかった。例えば、低圧水銀灯の紫外線（波長：１８５ｎｍ，２５４ｎｍ）照射によれば、照射個所においては、カーボンナノチューブは導電性から絶縁性に容易に変性した。但し、基材２が樹脂製の場合、基材２に変色と言った現象が認められる場合も有った。このようなことから、照射紫外線は１８０ｎｍ以下、更には１７５ｎｍ以下の波長のものが特に好ましかった。例えば、キセノンエキシマランプによる紫外線（波長：１７２ｎｍ）は格別に好ましいものであった。上記特性の紫外線照射の時間は、例えば１０秒〜１時間程度である。好ましくは１分以上である。好ましくは４０分以下である。紫外線の照射積算光量は、例えば５０〜５００，０００ｍＪ／ｃｍ２程度であった。好ましくは、１００〜１００，０００ｍＪ／ｃｍ２であった。更に好ましくは５００〜３０，０００ｍＪ／ｃｍ２であった。好ましい積算光量はカーボンナノチューブ層の厚さによっても、多少、変動する。オーバーコート層の有無によって大きく変動した。オーバーコート層が有ると、カーボンナノチューブは、短時間で、導電性から絶縁性に変性した。オーバーコート層の種類や厚さによっても変動した。オーバーコート層が加水分解性オルガノシランの加水分解物を含有する組成物であると、照射時間が、大幅に、短縮された。オーバーコート層３の厚さは、好ましくは、１０ｎｍ〜２００ｎｍであった。更に好ましくは、５０ｎｍ〜１５０ｎｍであった。１ａは紫外線照射個所である。紫外線照射個所１ａは絶縁性に変性している。１ｂは紫外線未照射個所である。紫外線未照射個所１ｂは導電性のままである。
【００５０】
紫外線照射時において、雰囲気中には、酸素（或いは、活性酸素）が存在していることが好ましかった。紫外線照射が行われても、無酸素状態では、透明導電性カーボン層（カーボンナノチューブ層）１の導電性から絶縁性への変性は認められなかった。前記酸素を有する雰囲気は、好ましくは、酸素圧が１０１〜２１２７３Ｐａであった。より好ましくは、酸素圧が５０７〜２０２６０Ｐａであった。特に好ましくは、酸素圧が１０１３〜１０１３０Ｐａであった。
【００５１】
透明導電性カーボン層（カーボンナノチューブ層）１は、紫外線照射によって、所定パターンの導電性（又は絶縁性）膜になる。この本発明と従来のパターン形成方法とは大きく異なる。すなわち、オーバーコート層（被覆層）３が、そのまま、残っている。導電層（絶縁層）がオーバーコート層３で覆われたままである。露出していない。この結果、導電層（絶縁層）の保護効果が高い。すなわち、耐久性が高い。例えば、導電層（絶縁層）に欠け（脱落）が起き難い。導電層（絶縁層）に水分（湿気）が進入し難い。所定パターンの導電膜を得る為、透明導電性カーボン層（カーボンナノチューブ層）１を除去（エッチング除去）する必要が無い。除去の為に薬剤を使用する必要が無いから、環境に優しい。非常に簡単な作業で導電膜（絶縁膜）が得られた。
【００５２】
紫外線照射によって所定パターンの膜が形成された後、樹脂層４は、必要に応じて、除去された。除去方法は、特に限定されない。例えば、粘着シートやロールを使って剥離する方法、ブラシ等を使って擦り取る方法、溶解や膨潤する薬液を使って溶解（又は剥離）させる方法が、適宜、用いられる。
【００５３】
以下、具体的な実施例を挙げて説明が行われる。本発明は下記実施例に限定されない。
【００５４】
［実施例１］
アーク放電により合成されたシングルウォールカーボンナノチューブ（市販品）に対して、酸処理、水洗浄、遠心分離、濾過が行われた。界面活性剤（ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム：ＳＤＢＳ）０．２ｗｔ％水溶液が、前記精製カーボンナノチューブに、加えられた。このカーボンナノチューブ含有水溶液に対して、超音波装置により、分散処理が行われた。次いで、遠心分離が行われた。このようにしてカーボンナノチューブ分散液（ＣＮＴ：３２００ｐｐｍ）が得られた。
【００５５】
上記カーボンナノチューブ分散液が基板２の表裏（上下）両面に塗布された。基板２はＰＥＴフィルム（ＭＫＺ−Ｔ４Ａ：東山フイルム社製）である。塗布方法はダイコーティングである。塗布厚さは０．０５μｍ（乾燥後の厚さ）である。塗布後、イオン交換水洗浄が行われた。これにより、塗膜（カーボンナノチューブ層）中に含まれる界面活性剤が取り除かれた。この後、乾燥（１．５分間；１２０℃）が行われた。このようにして、カーボンナノチューブ層（透明導電性カーボン層）１が、ＰＥＴフィルム２の表裏（上下）両面に、設けられた。
【００５６】
ＰＥＴフィルム２の表裏（上下）両面側にオーバーコート層３が設けられた。一つのオーバーコート層３は一つのカーボンナノチューブ層（透明導電性カーボン層）１の上に、もう一つのオーバーコート層３はもう一つのカーボンナノチューブ層（透明導電性カーボン層）１の上に設けられた。各々のオーバーコート層３の構成には、１．５ｗｔ％エアロセラ（加水分解性オルガノシラン含有組成物：パナソニック社製）が用いられた。塗布方法はダイコーティングである。塗布厚さは０．１μｍ（乾燥後の厚さ）である。
【００５７】
ＰＥＴフィルム２の表裏（上下）両面側に樹脂層（マスク）４が設けられた。一つの樹脂層４は一つのオーバーコート層３の上に、もう一つの樹脂層４はもう一つのオーバーコート層３の上に設けられた。所定パターンのマスク（樹脂層）４は、スクリーン印刷によって、形成された。すなわち、所定の個所に、熱硬化性樹脂（Ｘ−１００  ＣＬ１：太陽インキ製造社製）が印刷された。塗布厚さは５０μｍであった。この後、オーブン中にて１００℃で３０分間硬化処理が行われた。樹脂層４が設けられていない個所は開口部５となっている。開口部５から紫外線がカーボンナノチューブ層（透明導電性カーボン層）１に照射された。開口部５は、ライン幅が１００μｍで、一辺の長さが５ｍｍの□形である。
【００５８】
この後、所定パターンの樹脂層（マスク）４上方から、キセノンエキシマランプによる紫外線（波長：１７２ｎｍ）が、両面に、照射された。紫外線照射時の雰囲気は、窒素９４％、酸素６％であった。混合気体による圧力は１．０１３×１０５Ｐａである。照射紫外線の積算光量は１０，５６０ｍＪ／ｃｍ２であった。照射後に、粘着シートを用いて、樹脂層４が剥離・除去された。
【００５９】
前記□形状のパターンの内側と外側との導通が、テスターで、調べられた。この結果、両者の間では導通が無い（絶縁されている）ことが判明した。
【００６０】
更に、マスク４の開口部５のパターン形状（□形状）と、カーボンナノチューブ導電層のパターン形状（□形状）とが、比較された。両者の一致度は極めて高かった。すなわち、透明導電膜が高精度で形成されていた。
【００６１】
［比較例１］
実施例１において、窒素雰囲気下（酸素分圧０Ｐａ：酸素なし）とした以外は同様に行われた。
【００６２】
紫外線照射個所が、比較例１では、導電性から絶縁性に変性していなかった。
【００６３】
［比較例２］
実施例１において、オーバーコート層３が設けられなかった以外は同様に行われた。
【００６４】
紫外線照射個所が、比較例２でも、導電性から絶縁性に変性していなかった。
【符号の説明】
【００６５】
１        透明導電性カーボン層（カーボンナノチューブ層）
１ａ      紫外線照射個所（絶縁性変性個所）
１ｂ      紫外線未照射個所（透明導電性個所）
２        基板（基材）
３        オーバーコート層（加水分解性オルガノシラン含有組成物層）
４        樹脂層（マスク）
５        開口部（紫外線透過部）
【図１】
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【図２】
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【図３】
2014098230.tif 000005
【国際調査報告】
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