(57)【要約】  アルデヒド類含有排水（Ｗ１）を排水源（１１）で再利用する排水処理システム（１）であって、排水（Ｗ１）に亜硫酸塩を添加し、所定の環境で反応させることで加工水（Ｗ５）を調製する亜硫酸塩添加装置（３２，３３）と、送水された加工水（Ｗ５）を濾過処理し、透過水（Ｗ６）を得る逆浸透膜装置（４３）と、排水（Ｗ１）又は加工水（Ｗ５）に殺菌剤を添加し、殺菌剤の水溶液（Ｗ１３）を生成する殺菌剤添加装置（２４Ａ，２５Ａ）と、所定の条件を満足した場合に、濾過処理を停止し、亜硫酸塩を添加する位置の近傍と逆浸透膜装置（４３）の一次側配管（Ｌ４１）との間において、殺菌剤の水溶液（Ｗ１３）を接触保持させるように、亜硫酸塩添加装置（３２，３３）、逆浸透膜装置（４３）及び殺菌剤添加装置（２４Ａ，２５Ａ）を制御する制御装置（９１）と、を備える。
2015186260.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
排水源からのアルデヒド類含有排水を前記排水源において再利用するための排水処理方法であって、
前記アルデヒド類含有排水に亜硫酸塩を添加し、所定の環境で反応させることで加工水を調製する加工工程と、逆浸透膜装置に前記加工水を送水して濾過処理し、前記逆浸透膜装置からの透過水を得る濾過工程と、を含む処理工程と、
所定の条件を満足した場合に、前記濾過工程を停止し、前記亜硫酸塩を添加する位置の近傍と前記逆浸透膜装置の一次側配管との間において、第１殺菌剤の水溶液を接触保持させる殺菌剤保持工程を含む休止工程と、
を有する排水処理方法。
【請求項２】
前記休止工程は、
前記殺菌剤保持工程の前に、前記亜硫酸塩を添加する位置の近傍に前記第１殺菌剤の水溶液を導入する殺菌剤導入工程と、
前記殺菌剤保持工程の後に、前記亜硫酸塩を添加する位置の近傍と前記逆浸透膜装置の一次側配管との間に前記加工水を通水する洗浄工程と、を更に含む
請求項１に記載の排水処理方法。
【請求項３】
前記所定の条件は、前記排水源が実質的に稼働していないことを検知した場合、前記排水源の稼働が停止させられた場合、及び外部入力により前記休止工程の実行が指示された場合のいずれかである
請求項１又は２に記載の排水処理方法。
【請求項４】
前記処理工程は、前記排水源からの前記アルデヒド類含有排水を複数の貯水槽に順次供給することで前記加工工程を実行するとともに、前記逆浸透膜装置に複数の前記貯水槽から順次前記加工水を送水することで前記濾過工程を実行し、複数の前記貯水槽のうち前記逆浸透膜装置への前記加工水の送水が完了した貯水槽を順次前記加工工程において前記アルデヒド類含有排水を供給するための貯水槽として再利用するものであり、
前記加工工程においては、所定のタイミングで前記貯水槽に供給される前記アルデヒド類含有排水に第２殺菌剤を添加し、前記貯水槽において所定濃度に調整された前記第２殺菌剤の水溶液を生成して貯留させ、その後、前記アルデヒド類含有排水に添加される前記第２殺菌剤の添加量に基づいて、前記アルデヒド類含有排水に添加される前記亜硫酸塩の添加量を増加させる
請求項１〜３のいずれかに記載の排水処理方法。
【請求項５】
前記処理工程は、前記亜硫酸塩を添加する前の前記アルデヒド類含有排水を限外濾過膜又は精密濾過膜で濾過処理する前段濾過工程を、更に含む
請求項１〜４のいずれかに記載の排水処理方法。
【請求項６】
前記排水源は、食品製造工場におけるレトルト装置、パストライズ装置又は容器洗浄装置である
請求項１〜５のいずれかに記載の排水処理方法。
【請求項７】
排水源からのアルデヒド類含有排水を前記排水源において再利用するための排水処理システムであって、
前記アルデヒド類含有排水に亜硫酸塩を添加し、所定の環境で反応させることで加工水を調製するための亜硫酸塩添加装置と、
送水された前記加工水を濾過処理し、透過水を得る逆浸透膜装置と、
前記アルデヒド類含有排水又は前記加工水に第１殺菌剤を添加し、前記第１殺菌剤の水溶液を生成するための第１殺菌剤添加装置と、
所定の条件を満足した場合に、前記濾過処理を停止し、前記亜硫酸塩を添加する位置の近傍と前記逆浸透膜装置の一次側配管との間において、前記第１殺菌剤の水溶液を接触保持させるように、前記亜硫酸塩添加装置、前記逆浸透膜装置及び前記第１殺菌剤添加装置を制御する制御装置と、を備える排水処理システム。
【請求項８】
前記制御装置は、
前記第１殺菌剤の水溶液を接触保持させる前に、前記亜硫酸塩を添加する位置の近傍に前記第１殺菌剤を添加し、
前記第１殺菌剤の水溶液を接触保持させた後に、前記亜硫酸塩を添加する位置の近傍と前記逆浸透膜装置の一次側配管との間に前記加工水を通水させるように、前記亜硫酸塩添加装置、前記逆浸透膜装置及び前記第１殺菌剤添加装置を制御する
請求項７に記載の排水処理システム。
【請求項９】
前記所定の条件は、前記排水源が実質的に稼働していないことを検知した場合、前記排水源の稼働が停止させられた場合、及び外部入力により前記第１殺菌剤の添加の実行が指示された場合のいずれかである
請求項７又は８に記載の排水処理システム。
【請求項１０】
前記排水源からの前記アルデヒド類含有排水を貯留し、貯留した前記アルデヒド類含有排水に亜硫酸塩を添加して所定の環境で反応させることで加工水を得るための複数の貯水槽と、
前記排水源からの前記アルデヒド類含有排水を複数の前記貯水槽のうちの空のものに順次供給するための供給路と、
前記アルデヒド類含有排水に第２殺菌剤を添加し、前記第２殺菌剤の水溶液を生成するための第２殺菌剤添加装置と、
を更に備え、
複数の前記貯水槽から、順次、前記加工水を前記逆浸透膜装置に送水可能であり、
前記制御装置は、所定のタイミングで前記貯水槽に供給される前記アルデヒド類含有排水に第２殺菌剤を添加し、前記貯水槽において所定濃度に調整された前記第２殺菌剤の水溶液を生成して貯留させ、その後、前記アルデヒド類含有排水に添加される前記第２殺菌剤の添加量に基づいて、前記アルデヒド類含有排水に添加される前記亜硫酸塩の添加量を増加させるように、前記亜硫酸塩添加装置及び前記第２殺菌剤添加装置を制御する
請求項７〜９のいずれかに記載の排水処理システム。
【請求項１１】
前記亜硫酸塩を添加する前の前記アルデヒド類含有排水を限外濾過膜又は精密濾過膜で濾過処理する前段濾過装置を、更に備える
請求項７〜１０のいずれかに記載の排水処理システム。
【請求項１２】
前記排水源は、食品製造工場におけるレトルト装置、パストライズ装置又は容器洗浄装置である
請求項７〜１１のいずれかに記載の排水処理システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、排水源からのアルデヒド類含有排水を排水源において再利用するための排水処理方法及び排水処理システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
排水源としてのレトルト装置からの冷却排水などのホルムアルデヒド含有排水（アルデヒド類含有排水）に亜硫酸塩を添加して加工水を得る加工工程と、逆浸透膜装置（ＲＯ膜装置）に加工水を供給して濾過し、逆浸透膜装置からの透過水を得る濾過工程と、を備える排水処理方法が知られている（例えば、下記特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１４−１２２８１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、特許文献１に記載の排水処理方法においては、逆浸透膜装置の一次側における微生物の繁殖について考慮されていない。微生物の繁殖は、スライムの発生の原因となり、延いては、各種フィルタ（逆浸透膜装置の膜モジュールを含む）の詰まりを発生させるため、排水処理を行う上で安定した水量を維持することが困難となる。【０００５】
従って、本発明は、排水源からのアルデヒド類含有排水を排水源において再利用するための排水処理方法及び排水処理システムにおいて、逆浸透膜装置の一次側における微生物の繁殖を抑制できる排水処理方法及び排水処理システムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、排水源からのアルデヒド類含有排水を前記排水源において再利用するための排水処理方法であって、前記アルデヒド類含有排水に亜硫酸塩を添加し、所定の環境で反応させることで加工水を調製する加工工程と、逆浸透膜装置に前記加工水を送水して濾過処理し、前記逆浸透膜装置からの透過水を得る濾過工程と、を含む処理工程と、所定の条件を満足した場合に、前記濾過工程を停止し、前記亜硫酸塩を添加する位置の近傍と前記逆浸透膜装置の一次側配管との間において、第１殺菌剤の水溶液を接触保持させる殺菌剤保持工程を含む休止工程と、を有する排水処理方法に関する。【０００７】
また、前記休止工程は、前記殺菌剤保持工程の前に、前記亜硫酸塩を添加する位置の近傍に前記第１殺菌剤の水溶液を導入する殺菌剤導入工程と、前記殺菌剤保持工程の後に、前記亜硫酸塩を添加する位置の近傍と前記逆浸透膜装置の一次側配管との間に前記加工水を通水する洗浄工程と、を更に含むことが好ましい。【０００８】
また、前記所定の条件は、前記排水源が実質的に稼働していないことを検知した場合、前記排水源の稼働が停止させられた場合、及び外部入力により前記休止工程の実行が指示された場合のいずれかであることが好ましい。【０００９】
また、前記処理工程は、前記排水源からの前記アルデヒド類含有排水を複数の貯水槽に順次供給することで前記加工工程を実行するとともに、前記逆浸透膜装置に複数の前記貯水槽から順次前記加工水を送水することで前記濾過工程を実行し、複数の前記貯水槽のうち前記逆浸透膜装置への前記加工水の送水が完了した貯水槽を順次前記加工工程において前記アルデヒド類含有排水を供給するための貯水槽として再利用するものであり、前記加工工程においては、所定のタイミングで前記貯水槽に供給される前記アルデヒド類含有排水に第２殺菌剤を添加し、前記貯水槽において所定濃度に調整された前記第２殺菌剤の水溶液を生成して貯留させ、その後、前記アルデヒド類含有排水に添加される前記第２殺菌剤の添加量に基づいて、前記アルデヒド類含有排水に添加される前記亜硫酸塩の添加量を増加させることが好ましい。【００１０】
また、前記処理工程は、前記亜硫酸塩を添加する前の前記アルデヒド類含有排水を限外濾過膜又は精密濾過膜で濾過処理する前段濾過工程を、更に含むことが好ましい。【００１１】
また、前記排水源は、食品製造工場におけるレトルト装置、パストライズ装置又は容器洗浄装置であることが好ましい。【００１２】
本発明は、排水源からのアルデヒド類含有排水を前記排水源において再利用するための排水処理システムであって、前記アルデヒド類含有排水に亜硫酸塩を添加し、所定の環境で反応させることで加工水を調製するための亜硫酸塩添加装置と、送水された前記加工水を濾過処理し、透過水を得る逆浸透膜装置と、前記アルデヒド類含有排水又は前記加工水に第１殺菌剤を添加し、前記第１殺菌剤の水溶液を生成するための第１殺菌剤添加装置と、所定の条件を満足した場合に、前記濾過処理を停止し、前記亜硫酸塩を添加する位置の近傍と前記逆浸透膜装置の一次側配管との間において、前記第１殺菌剤の水溶液を接触保持させるように、前記亜硫酸塩添加装置、前記逆浸透膜装置及び前記第１殺菌剤添加装置を制御する制御装置と、を備える排水処理システムに関する。【００１３】
また、前記制御装置は、前記第１殺菌剤の水溶液を接触保持させる前に、前記亜硫酸塩を添加する位置の近傍に前記第１殺菌剤を添加し、前記第１殺菌剤の水溶液を接触保持させた後に、前記亜硫酸塩を添加する位置の近傍と前記逆浸透膜装置の一次側配管との間に前記加工水を通水させるように、前記亜硫酸塩添加装置、前記逆浸透膜装置及び前記第１殺菌剤添加装置を制御することが好ましい。【００１４】
また、前記所定の条件は、前記排水源が実質的に稼働していないことを検知した場合、前記排水源の稼働が停止させられた場合、及び外部入力により前記第１殺菌剤の添加の実行が指示された場合のいずれかであることが好ましい。【００１５】
また、前記排水源からの前記アルデヒド類含有排水を貯留し、貯留した前記アルデヒド類含有排水に亜硫酸塩を添加して所定の環境で反応させることで加工水を得るための複数の貯水槽と、前記排水源からの前記アルデヒド類含有排水を複数の前記貯水槽のうちの空のものに順次供給するための供給路と、前記アルデヒド類含有排水に第２殺菌剤を添加し、前記第２殺菌剤の水溶液を生成するための第２殺菌剤添加装置と、を更に備え、複数の前記貯水槽から、順次、前記加工水を前記逆浸透膜装置に送水可能であり、前記制御装置は、所定のタイミングで前記貯水槽に供給される前記アルデヒド類含有排水に第２殺菌剤を添加し、前記貯水槽において所定濃度に調整された前記第２殺菌剤の水溶液を生成して貯留させ、その後、前記アルデヒド類含有排水に添加される前記第２殺菌剤の添加量に基づいて、前記アルデヒド類含有排水に添加される前記亜硫酸塩の添加量を増加させるように、前記亜硫酸塩添加装置及び前記第２殺菌剤添加装置を制御することが好ましい。【００１６】
また、前記亜硫酸塩を添加する前の前記アルデヒド類含有排水を限外濾過膜又は精密濾過膜で濾過処理する前段濾過装置を、更に備えることが好ましい。【００１７】
また、前記排水源は、食品製造工場におけるレトルト装置、パストライズ装置又は容器洗浄装置であることが好ましい。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、排水源からのアルデヒド類含有排水を排水源において再利用するための排水処理方法及び排水処理システムにおいて、逆浸透膜装置の一次側における微生物の繁殖を抑制できる排水処理方法及び排水処理システムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の第１実施形態の排水処理システム１を示すフロー図である。
【図２】第１実施形態における配管の殺菌に関する動作状態を示す図（表）である。
【図３】第１実施形態における貯水槽の殺菌に関する動作状態を示す図（表）である。
【図４】第１実施形態の排水処理システム１の第１変形例を示す部分拡大図である。
【図５】本発明の第２実施形態の排水処理システム１Ａを示すフロー図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
［第１実施形態］
以下、図面を参照して、本発明の第１実施形態の排水処理システム１について説明する。第１実施形態の排水処理システム１により、本発明の排水処理方法の第１実施形態が実施される。図１は、本発明の第１実施形態の排水処理システム１を示すフロー図である。図２は、第１実施形態における配管の殺菌に関する動作状態を示す図（表）である。図３は、第１実施形態における貯水槽の殺菌に関する動作状態を示す図（表）である。
【００２１】
第１実施形態の排水処理システム１は、排水源としてのレトルト装置１１（レトルト釜）からのアルデヒド類含有排水としての冷却排水Ｗ１を、レトルト装置１１において再利用するための排水処理システムである。図１に示すように、第１実施形態の排水処理システム１は、食品製造工場におけるレトルト装置１１と、中継槽１２と、中継ポンプ１３と、温度センサＴＥ１と、冷却塔１５と、流量調整槽１４と、前段原水ポンプ２１と、前段プレフィルタ２２と、ＵＦ膜装置２３と、を備える。
【００２２】
また、排水処理システム１は、第２殺菌剤添加装置としての第２殺菌剤貯留部２４Ｂと、第２殺菌剤添加装置としての第２殺菌剤添加ポンプ２５Ｂと、貯水槽３１（３１Ａ，３１Ｂ，３１Ｃ）と、亜硫酸塩添加装置としての亜硫酸塩貯留部３２と、亜硫酸塩添加装置としての亜硫酸塩添加ポンプ３３と、ｐＨ調整剤添加部３４と、循環ポンプ３５と、を備える。
【００２３】
更に、排水処理システム１は、第１殺菌剤添加装置としての第１殺菌剤貯留部２４Ａと、第１殺菌剤添加装置としての第１殺菌剤添加ポンプ２５Ａと、ＲＯ加圧ポンプ４１と、後段プレフィルタ４２と、逆浸透膜装置４３と、冷却水槽４４と、冷却水導入ポンプ４５と、排水槽５１と、排水ポンプ５２と、制御装置９１と、を備える。なお、図１では、制御装置９１と各機器との電気的な接続の経路については図示を省略する。
【００２４】
排水処理システム１は、ラインとして、第１排水ラインＬ１１と、第２排水ラインＬ１２と、前段原水ラインＬ２１と、前段透過水ラインＬ２２（Ｌ２２Ａ，Ｌ２２Ｂ，Ｌ２２Ｃ）と、第２殺菌剤添加ラインＬ２３と、循環ラインＬ３（循環上流側分岐ラインＬ３１Ａ，Ｌ３１Ｂ，Ｌ３１Ｃ、循環下流側分岐ラインＬ３２Ａ，Ｌ３２Ｂ，Ｌ３２Ｃを含む）と、亜硫酸塩添加ラインＬ３３と、ｐＨ調整剤添加ラインＬ３４と、を備える。
【００２５】
また、排水処理システム１は、後段原水ラインＬ４１（Ｌ４１Ａ，Ｌ４１Ｂ，Ｌ４１Ｃ）と、第１殺菌剤添加ラインＬ４８と、後段透過水ラインＬ４２と、濃縮水ラインＬ４３と、ＲＯバイパスラインＬ４４と、冷却水導入ラインＬ４５と、冷却水バイパスラインＬ４６と、補給水ラインＬ４７と、再利用先流通ラインＬ５１と、殺菌剤排水ラインＬ５２と、を備える。「ライン」とは、流路、経路、管路等の流体の流通が可能なラインの総称である。
【００２６】
第１排水ラインＬ１１の上流側の端部は、レトルト装置１１（レトルト釜）の排出部に接続している。第１排水ラインＬ１１の下流側の端部は、中継槽１２の導入部に接続している。第１排水ラインＬ１１には、レトルト装置１１から排出された冷却排水Ｗ１が、中継槽１２に向けて流通する。
【００２７】
第２排水ラインＬ１２の上流側の端部は、中継槽１２の排出部に接続している。第２排水ラインＬ１２の下流側の端部は、流量調整槽１４の導入部に接続している。第２排水ラインＬ１２には、中継槽１２から排出された冷却排水Ｗ１が、冷却塔１５を介して流量調整槽１４に向けて流通する。
【００２８】
前段原水ラインＬ２１の上流側の端部は、流量調整槽１４の排出部に接続している。第２排水ラインＬ１２の下流側の端部は、ＵＦ膜装置２３の一次側に接続している。前段原水ラインＬ２１には、流量調整槽１４から排出された冷却排水Ｗ１が、ＵＦ膜装置２３に向けて流通する。
【００２９】
前段透過水ラインＬ２２の上流側の端部は、ＵＦ膜装置２３の二次側の透過水排出部に接続している。前段透過水ラインＬ２２の下流側は、Ｌ２２Ａ，Ｌ２２Ｂ，Ｌ２２Ｃの３本に分岐し、それぞれ貯水槽３１Ａ，３１Ｂ，３１Ｃの導入部に接続している。前段透過水ラインＬ２２には、ＵＦ膜装置２３から排出された前段透過水Ｗ２が、貯水槽３１Ａ，３１Ｂ，３１Ｃに向けて流通する。前段透過水ラインＬ２２Ａ，Ｌ２２Ｂ，Ｌ２２Ｃは、前段透過水（アルデヒド類含有排水）Ｗ２を複数の貯水槽３１Ａ，３１Ｂ，３１Ｃのうちの空のものに順次供給するための供給路である。
【００３０】
第２殺菌剤添加ラインＬ２３の上流側の端部は、第２殺菌剤貯留部２４Ｂの排出部に接続している。第２殺菌剤添加ラインＬ２３の下流側の端部は、接続部Ｊ１において、分岐する前の前段透過水ラインＬ２２に接続している。第２殺菌剤添加ラインＬ２３には、第２殺菌剤貯留部２４Ｂから排出された第２殺菌剤が、接続部Ｊ１に向けて流通する。
【００３１】
循環ラインＬ３の上流側は、循環上流側分岐ラインＬ３１Ａ，Ｌ３１Ｂ，Ｌ３１Ｃの３本に分岐し、それぞれ貯水槽３１Ａ，３１Ｂ，３１Ｃの排出部に接続している。循環ラインＬ３の下流側は、循環下流側分岐ラインＬ３２Ａ，Ｌ３２Ｂ，Ｌ３２Ｃの３本に分岐し、それぞれ貯水槽３１Ａ，３１Ｂ，３１Ｃの導入部に接続している。循環ラインＬ３には、貯水槽３１Ａ，３１Ｂ，３１Ｃから排出された循環水Ｗ４が、貯水槽３１Ａ，３１Ｂ，３１Ｃの導入部に向けて流通する。つまり、循環ラインＬ３には、貯水槽３１Ａ，３１Ｂ，３１Ｃを介して、循環水Ｗ４が循環する。循環水Ｗ４は、前段透過水Ｗ２に亜硫酸塩が添加されたものである。
【００３２】
亜硫酸塩添加ラインＬ３３の上流側の端部は、亜硫酸塩貯留部３２の排出部に接続している。亜硫酸塩添加ラインＬ３３の下流側の端部は、接続部Ｊ２において、循環ラインＬ３に接続している。亜硫酸塩添加ラインＬ３３には、亜硫酸塩貯留部３２から排出された亜硫酸塩が、接続部Ｊ２に向けて流通する。
【００３３】
ｐＨ調整剤添加ラインＬ３４の上流側の端部は、ｐＨ調整剤添加部３４の排出部に接続している。ｐＨ調整剤添加ラインＬ３４の下流側の端部は、接続部Ｊ３において、循環ラインＬ３に接続している。接続部Ｊ３は、循環ラインＬ３において接続部Ｊ２よりも下流側に位置する。ｐＨ調整剤添加ラインＬ３４には、ｐＨ調整剤添加部３４から排出されたｐＨ調整剤が、接続部Ｊ３に向けて流通する。
【００３４】
後段原水ラインＬ４１の上流側は、Ｌ４１Ａ，Ｌ４１Ｂ，Ｌ４１Ｃの３本に分岐し、それぞれ貯水槽３１Ａ，３１Ｂ，３１Ｃの排出部に接続している。後段原水ラインＬ４１の下流側の端部は、逆浸透膜装置４３の一次側の原水導入部に接続している。後段原水ラインＬ４１は逆浸透膜装置４３の一次側配管とみることもできる。後段原水ラインＬ４１には、貯水槽３１Ａ，３１Ｂ，３１Ｃから排出された加工水Ｗ５が、逆浸透膜装置４３に向けて流通する。
【００３５】
第１殺菌剤添加ラインＬ４８の上流側の端部は、第１殺菌剤貯留部２４Ａの排出部に接続している。第１殺菌剤添加ラインＬ４８の下流側の端部は、接続部Ｊ７において、合流した後の後段原水ラインＬ４１に接続している。接続部Ｊ７は、後段原水ラインＬ４１におけるＲＯ加圧ポンプ４１よりも上流側に配置されている。第１殺菌剤添加ラインＬ４８には、第１殺菌剤貯留部２４Ａから排出された第１殺菌剤が、接続部Ｊ７に向けて流通する。
【００３６】
後段透過水ラインＬ４２の上流側の端部は、逆浸透膜装置４３の二次側の透過水排出部に接続している。後段透過水ラインＬ４２の下流側の端部は、冷却水槽４４の導入部に接続している。後段透過水ラインＬ４２には、逆浸透膜装置４３から排出された後段透過水Ｗ６が、冷却水槽４４に向けて流通する。
【００３７】
濃縮水ラインＬ４３の上流側の端部は、逆浸透膜装置４３の一次側の濃縮水排出部に接続している。濃縮水ラインＬ４３の下流側の端部は、排水槽５１の導入部に接続している。濃縮水ラインＬ４３には、逆浸透膜装置４３から排出された濃縮排水Ｗ７が、排水槽５１に向けて流通する。
【００３８】
ＲＯバイパスラインＬ４４の上流側の端部は、接続部Ｊ４において後段原水ラインＬ４１に接続している。接続部Ｊ４は、後述する後段プレフィルタ４２とＲＯモジュール入口バルブＶ４１との間に位置する。ＲＯバイパスラインＬ４４の下流側の端部は、接続部Ｊ５において濃縮水ラインＬ４３に接続している。接続部Ｊ５は、後述する濃縮水ラインバルブＶ４２よりも下流側に位置する。ＲＯバイパスラインＬ４４には、後段原水ラインＬ４１の接続部Ｊ４から排出された殺菌剤排水Ｗ８（後述）が、接続部Ｊ５に向けて流通する。
【００３９】
冷却水導入ラインＬ４５の上流側の端部は、冷却水槽４４の排出部に接続している。冷却水導入ラインＬ４５の下流側の端部は、レトルト装置１１（レトルト釜）の導入部に接続している。冷却水導入ラインＬ４５には、冷却水槽４４から排出された冷却水Ｗ９が、レトルト装置１１に向けて流通する。
【００４０】
冷却水バイパスラインＬ４６の上流側の端部は、冷却水槽４４の排出部に接続している。冷却水バイパスラインＬ４６の下流側の端部は、中継槽１２の導入部に接続している。冷却水バイパスラインＬ４６には、冷却水槽４４から排出されたバイパス冷却水Ｗ１０が、中継槽１２に向けて流通する。
【００４１】
補給水ラインＬ４７の下流側の端部は、冷却水槽４４の導入部に接続している。補給水ラインＬ４７は、冷却水槽４４に貯留されている冷却水が少ない場合に、冷却水槽４４に補給水として水道水（すなわち、新水）を強制的に供給するラインである。補給水ラインＬ４７には、水道水が冷却水槽４４に向けて流通する。
【００４２】
再利用先流通ラインＬ５１の上流側の端部は、排水槽５１の排出部に接続している。再利用先流通ラインＬ５１の下流側の端部は、濃縮排水の再利用先の工業設備５３に接続している。再利用先流通ラインＬ５１には、排水槽５１から排出された濃縮再利用水Ｗ１１が、工業設備５３に向けて流通する。
【００４３】
殺菌剤排水ラインＬ５２の上流側の端部は、接続部Ｊ６において再利用先流通ラインＬ５１に接続している。接続部Ｊ６は、後述する再利用先バルブＶ５１よりも上流側に位置する。殺菌剤排水ラインＬ５２の下流側の端部は、例えば、所定の排水処理設備に接続している。殺菌剤排水ラインＬ５２には、再利用先流通ラインＬ５１の接続部Ｊ６から排出された濃縮再利用水Ｗ１１が、所定の排水処理設備に向けて流通する。
【００４４】
第１排水ラインＬ１１、第２排水ラインＬ１２、前段原水ラインＬ２１、前段透過水ラインＬ２２、後段原水ラインＬ４１、後段透過水ラインＬ４２、及び冷却水導入ラインＬ４５は、冷却排水Ｗ１の再利用循環ラインを形成する。
【００４５】
次に各機器について説明する。レトルト装置１１（レトルト釜）は、被処理物としての飲料缶（不図示）を収容可能な収容部を有する。レトルト装置１１は、収容部に収容された飲料缶に対して、後述する予熱処理、殺菌処理及び冷却処理を順次実行する。
【００４６】
予熱処理は、収容部に蒸気又は温水を導入して、飲料缶を設定温度まで加熱する処理である。温水を導入して加熱する場合には、飲料缶に充填された内容物の膨張等を防ぐため、レトルト装置１１の内部を加圧することが好ましい。後述する殺菌処理においても同様である。
【００４７】
殺菌処理は、予熱処理に引き続き、収容部に蒸気又は温水を導入して、飲料缶を設定温度で一定時間加熱する処理である。上述した予熱処理及び殺菌処理における設定温度は、例えば、１１０℃〜１２０℃である。
【００４８】
冷却処理は、収容部に冷却水を導入して、飲料缶を冷却する処理である。冷却処理では、冷却水の温度を段階的に下げていき、最終的に２０℃前後の冷却水を導入することにより、飲料缶が４０℃未満となるように冷却する。なお、冷却水を導入して冷却する場合には、飲料缶に充填された内容物の膨張等を防ぐため、レトルト装置１１の内部を加圧することが好ましい。
【００４９】
上記各処理において、加熱や冷却に使用された温水や冷却水は、第１排水ラインＬ１１を介してレトルト装置１１の外部へ、アルデヒド類含有排水としての冷却排水Ｗ１として排出される。冷却排水Ｗ１に含有されるアルデヒド類としては、例えば、ホルムアルデヒドが挙げられる。なお、被処理物は、その他の包装飲食物（例えば、缶詰、パック食材（真空包装された食材））でもよい。ホルムアルデヒドは、包装飲食物の側面に印刷された絵柄の塗料等から溶出したものと考えられている。
【００５０】
中継槽１２は、第１排水ラインＬ１１を介して導入される冷却排水Ｗ１、及び冷却水バイパスラインＬ４６を介して導入されるバイパス冷却水Ｗ１０を貯留する。バイパス冷却水Ｗ１０は、例えば、冷却水槽４４をオーバーフローした冷却水Ｗ９や新水である。
【００５１】
中継ポンプ１３は、第２排水ラインＬ１２に設けられ、中継槽１２から排出される冷却排水Ｗ１（バイパス冷却水Ｗ１０を含む）を吸引し、下流側に向けて送水する。
【００５２】
冷却塔１５は、密閉式の冷却塔であって、第２排水ラインＬ１２における中継ポンプ１３よりも下流側に設けられ、冷却排水Ｗ１を冷却する。
【００５３】
温度センサＴＥ１は、第２排水ラインＬ１２における冷却塔１５よりも上流側に設けられる。温度センサＴＥ１は、第２排水ラインＬ１２を流通する冷却排水Ｗ１の温度を測定する。温度センサＴＥ１は、接続部Ｊ８において、第２排水ラインＬ１２に接続されている。接続部Ｊ８は、第２排水ラインＬ１２における中継ポンプ１３と冷却塔１５との間に配置されている。温度センサＴＥ１の測定精度の点から、接続部Ｊ８の位置は、冷却塔１５の近傍が好ましい。また、温度センサＴＥ１は、密閉式冷却塔に装備されているものを使用することもできる。
【００５４】
流量調整槽１４は、ＵＦ膜装置２３へ導入される冷却排水Ｗ１を、その流量を調整するため一旦貯留する。
【００５５】
前段原水ポンプ２１は、前段原水ラインＬ２１に設けられ、流量調整槽１４から排出される冷却排水Ｗ１を吸引し、下流側に向けて圧送する。
【００５６】
前段プレフィルタ２２は、前段原水ラインＬ２１において前段原水ポンプ２１とＵＦ膜装置２３との間に設けられる。前段プレフィルタ２２は、ＵＦ膜装置２３の上流側において、比較的大きな不純物（例えば、１０μｍ以上の固形物）を捕捉する。
【００５７】
ＵＦ膜装置２３は、限外濾過膜（ＵＦ膜）を有するＵＦ膜モジュールを備え、亜硫酸塩を添加する前の冷却排水Ｗ１を濾過処理し、冷却排水Ｗ１に含まれる懸濁物質等の不純物を除去する。
【００５８】
第２殺菌剤添加装置としての第２殺菌剤貯留部２４Ｂ及び第２殺菌剤添加ポンプ２５Ｂは、前段透過水ラインＬ２２を流通する前段透過水（アルデヒド類含有排水）Ｗ２に第２殺菌剤を添加し、第２殺菌剤の水溶液Ｗ３（有効濃度が数ｍｇ／Ｌの希薄水溶液）を生成する。第２殺菌剤貯留部２４Ｂは、第２殺菌剤を貯留する。第２殺菌剤添加ポンプ２５Ｂは、第２殺菌剤貯留部２４Ｂから排出される第２殺菌剤を吸引し、第２殺菌剤添加ラインＬ２３の下流側に向けて送液する。第２殺菌剤としては、例えば、次亜塩素酸ナトリウム、過酸化水素、過酢酸、オゾンが挙げられる。第２殺菌剤は、通常、水溶液の状態（有効濃度が１〜１５％の水溶液）で第２殺菌剤添加装置から添加されるのが好ましい。第２殺菌剤には、前記の物質以外にも、電解次亜塩素酸溶液を使用することもできる。第２殺菌剤は、後述の第１殺菌剤と同じでもよく、あるいは異なっていてもよい。
【００５９】
貯水槽３１は、３基の貯水槽３１Ａ，３１Ｂ，３１Ｃから構成される。３基（複数）の貯水槽３１Ａ，３１Ｂ，３１Ｃは、後述する前段濾過工程、加工工程及び濾過工程からなる処理工程において、排水源であるレトルト装置１１からの前段透過水Ｗ２（アルデヒド類含有排水）を受水・貯留して、貯留したアルデヒド類含有排水Ｗ１に亜硫酸塩を添加して所定の環境で反応させることで加工水Ｗ５を得るための槽である。複数の貯水槽３１Ａ，３１Ｂ，３１Ｃから、順次、加工水Ｗ５を逆浸透膜装置４３に送水可能である。
【００６０】
貯水槽３１においては、貯留された前段透過水Ｗ２に更に亜硫酸塩が添加され、ホルムアルデヒドとの反応生成物であるヒドロキシメタンスルホン酸イオンを含む加工水Ｗ５が調製される。調製された加工水Ｗ５は、逆浸透膜装置４３に向けて送水される。すなわち、処理工程においては、貯水槽３１Ａ，３１Ｂ，３１Ｃは、受水、反応、送水のいずれかの状態に設定される。
【００６１】
また、殺菌剤導入工程、殺菌剤保持工程、及び洗浄工程を含む休止工程（後述）において、殺菌剤保持工程前の殺菌剤導入工程では、貯水槽３１で調製済みの加工水Ｗ５が第１殺菌剤の希釈水及び導入水として利用される。更に、殺菌剤保持工程後の洗浄工程では、貯水槽３１で調製済みの加工水Ｗ５が洗浄水として利用される。
一方、通常の処理工程に割り込んで実行される殺菌剤貯留工程（後述）において、貯水槽３１は、第２殺菌剤の添加された前段透過水Ｗ２（アルデヒド類含有排水）を受水し、第２殺菌剤の水溶液Ｗ３として貯留する。
【００６２】
亜硫酸塩添加装置としての亜硫酸塩貯留部３２及び亜硫酸塩添加ポンプ３３は、循環ラインＬ３を流通（循環）する循環水（アルデヒド類含有排水）Ｗ４に亜硫酸塩を添加し、所定の環境で反応させることで加工水Ｗ５を調製する。亜硫酸塩貯留部３２は、亜硫酸塩を貯留する。亜硫酸塩添加ポンプ３３は、亜硫酸塩貯留部３２から排出される亜硫酸塩を、亜硫酸塩添加ラインＬ３３の下流側に向けて送液する。
【００６３】
亜硫酸水素イオン源化合物が水に溶解して生成した亜硫酸水素イオンは、循環水（アルデヒド類含有排水）Ｗ４に含まれるホルムアルデヒドと反応して、ヒドロキシメタンスルホン酸イオンを生成する。つまり、加工水Ｗ５は、ヒドロキシスルホン酸イオンを含有する。所定の環境は、例えば、ｐＨが７未満の環境であり、好ましくはｐＨが６．０〜６．５の環境である。
【００６４】
亜硫酸塩添加装置により添加される亜硫酸塩は、水相においてアルデヒド類と反応することでα−ヒドロキシスルホン酸イオンを生成可能なものであれば特に限定されるものではなく、通常、アルカリ金属（好ましくはナトリウム）の亜硫酸塩や亜硫酸水素塩である。亜硫酸塩として、亜硫酸塩と亜硫酸水素塩との混合物を用いることもできる。亜硫酸塩は、通常、水溶液の状態で亜硫酸塩添加装置から添加されるのが好ましい。なお、「亜硫酸塩」の用語は、亜硫酸水素塩を除外する意図で用いる場合を除き、亜硫酸塩及び亜硫酸水素塩を総称するものとして用いる。
【００６５】
ｐＨ調整剤添加部３４は、循環ラインＬ３を流通する循環水Ｗ４にｐＨ調整剤を添加する。ｐＨ調整剤としては、循環水Ｗ４に対してｐＨを高めるための調整剤（例えば、水酸化ナトリウムや水酸化カリウムなどのアルカリ金属の水酸化物等）、又はｐＨを低めるための調整剤（例えば、塩酸、硫酸等）を選択的に添加可能である。
【００６６】
循環ポンプ３５は、循環ラインＬ３に設けられ、循環ラインＬ３を流通する循環水Ｗ４を吸引し、下流側に向けて送水する。
【００６７】
前段透過水ラインＬ２２Ａ，Ｌ２２Ｂ，Ｌ２２Ｃ、循環上流側分岐ラインＬ３１Ａ，Ｌ３１Ｂ，Ｌ３１Ｃ、循環下流側分岐ラインＬ３２Ａ，Ｌ３２Ｂ，Ｌ３２Ｃ、及び、後段原水ラインＬ４１Ａ，Ｌ４１Ｂ，Ｌ４１Ｃには、それぞれラインを開閉するためのバルブ（図１に記号を図示。符号は省略）が設けられる。
【００６８】
第１殺菌剤添加装置としての第１殺菌剤貯留部２４Ａ及び第１殺菌剤添加ポンプ２５Ａは、合流した後の後段原水ラインＬ４１を流通する加工水Ｗ５に第１殺菌剤を添加し、第１殺菌剤の水溶液Ｗ１３（有効濃度が数ｍｇ／Ｌの希薄水溶液）を生成する。第１殺菌剤貯留部２４Ａは、第１殺菌剤を貯留する。第１殺菌剤添加ポンプ２５Ａは、第１殺菌剤貯留部２４Ａから排出される第１殺菌剤を吸引し、後段原水ラインＬ４１の下流側に向けて送液する。
【００６９】
第１実施形態においては、第１殺菌剤の水溶液の接触保持が開始される「亜硫酸塩を添加する位置の近傍」（第１殺菌剤添加ラインＬ４８との接続部Ｊ７）は、貯水槽３１よりも下流側の後段原水ラインＬ４１である。第１殺菌剤の水溶液は、貯水槽３１の内部を通液しない。また、後段原水ラインＬ４１において第１殺菌剤の水溶液が接触保持しない領域が存在することになる。後段原水ラインＬ４１において第１殺菌剤の水溶液が接触保持しない領域を小さくするためには、第１殺菌剤添加ラインＬ４８との接続部Ｊ１は、貯水槽３１の排出部に極力近いことが好ましい。なお、後段原水ラインＬ４１において第１殺菌剤の水溶液が接触保持しない領域を小さくするために、後述する第１変形例の構成を採用することもできる。
【００７０】
ＲＯ加圧ポンプ４１は、合流した後の後段原水ラインＬ４１に設けられ、処理工程及び休止工程においては、いずれかの貯水槽３１から加工水Ｗ５又は第１殺菌剤の水溶液Ｗ１３（第１殺菌剤が添加された加工水Ｗ５）を吸引し、下流側に向けて圧送する。
【００７１】
後段プレフィルタ４２は、後段原水ラインＬ４１においてＲＯ加圧ポンプ４１と逆浸透膜装置４３との間に設けられる。後段プレフィルタ４２は、逆浸透膜装置４３の上流側において、比較的大きな不純物（例えば、１０μｍ以上の固形物）を捕捉する。
【００７２】
逆浸透膜装置４３は、後段原水ラインＬ４１を送水された加工水Ｗ５を膜モジュール（図示せず）によって濾過処理し、ヒドロキシメタンスルホン酸イオンが大幅に除去された後段透過水（透過水）Ｗ６と、ヒドロキシメタンスルホン酸イオンが濃縮された濃縮排水Ｗ７と、に分離させる。
【００７３】
なお、本発明における逆浸透膜装置には、通常の逆浸透膜（ＲＯ膜）よりも細孔がルーズなナノ濾過膜（ＮＦ膜）による濾過処理を行うナノ濾過膜装置も含まれる。
【００７４】
冷却水槽４４は、逆浸透膜装置４３からの後段透過水Ｗ６を貯留する。冷却水導入ポンプ４５は、冷却水導入ラインＬ４５に設けられ、冷却水導入ラインＬ４５を流通する冷却水Ｗ９（後段透過水Ｗ６、又は後段透過水Ｗ６と新水との混合水）を吸引し、下流側に向けて送水する。
【００７５】
排水槽５１は、後述する処理工程において生じた排水であって、濃縮水ラインＬ４３を流通する濃縮排水Ｗ７を貯留する。また、排水槽５１は、後述する休止工程において生じた排水であって、ＲＯバイパスラインＬ４４を流通する殺菌剤排水Ｗ８を貯留する。
【００７６】
排水ポンプ５２は、再利用先流通ラインＬ５１に設けられ、再利用先流通ラインＬ５１を流通する濃縮再利用水Ｗ１１を吸引し、下流側に向けて送水する。
【００７７】
後述する休止工程において逆浸透膜装置４３の一次側配管（後段原水ラインＬ４１における接続部Ｊ４よりも上流側）を通過後の第１殺菌剤の水溶液Ｗ１３、すなわち殺菌剤排水Ｗ８は、レトルト装置１１とは異なる工業設備５３の用水として再利用される。工業設備５３の用水としては、例えば、排出源以外のレトルト装置の一次冷却水、飲料缶・ボトル等の容器洗浄装置の一次洗浄水が挙げられる。
【００７８】
ＲＯモジュール入口バルブＶ４１は、後段原水ラインＬ４１における接続部Ｊ４よりも下流側に設けられ、後段原水ラインＬ４１を開閉する。濃縮水ラインバルブＶ４２は、濃縮水ラインＬ４３における接続部Ｊ５よりも上流側に設けられ、濃縮水ラインＬ４３を開閉する。ＲＯモジュール入口バルブＶ４１及び濃縮水ラインバルブＶ４２を閉じると、後段原水ラインＬ４１における接続部Ｊ４よりも上流側を流通する第１殺菌剤の水溶液Ｗ１３は、ＲＯバイパスラインＬ４４を経由して逆浸透膜装置４３をバイパスして、排水槽５１に向けて流通する。
【００７９】
バイパスラインバルブＶ４３は、ＲＯバイパスラインＬ４４に設けられ、ＲＯバイパスラインＬ４４を開閉する。
【００８０】
再利用先バルブＶ５１は、再利用先流通ラインＬ５１における接続部Ｊ６よりも下流側に設けられ、再利用先流通ラインＬ５１を開閉する。殺菌剤排水バルブＶ５２は、殺菌剤排水ラインＬ５２に設けられ、殺菌剤排水ラインＬ５２を開閉する。再利用先バルブＶ５１を閉じ、殺菌剤排水バルブＶ５２を開くと、再利用先流通ラインＬ５１における接続部Ｊ６よりも上流側を流通する濃縮再利用水Ｗ１１は、工業設備５３には向かわず、殺菌剤排水ラインＬ５２を下流側に向けて流通する。
【００８１】
なお、本実施形態の排水処理システム１には、前述のポンプやバルブ以外にも、ポンプやバルブ等が適宜設けられている。
【００８２】
制御装置９１は、ＣＰＵ及びメモリを含むマイクロプロセッサ（不図示）により構成される。制御装置９１は、前述のポンプやバルブ等の機器を制御する。
【００８３】
制御装置９１は、所定の条件を満足した場合に、逆浸透膜装置４３による濾過処理を停止し、亜硫酸塩を添加する位置（貯水槽３１）の近傍と逆浸透膜装置４３の一次側配管（後段原水ラインＬ４１）との間において、第１殺菌剤の水溶液Ｗ１３（第１殺菌剤が添加された加工水Ｗ５）を接触保持させるように、亜硫酸塩添加装置（亜硫酸塩貯留部３２、亜硫酸塩添加ポンプ３３）、逆浸透膜装置４３及び第１殺菌剤添加装置（第１殺菌剤貯留部２４Ａ、第１殺菌剤添加ポンプ２５Ａ）を制御する。
【００８４】
前記所定の条件（休止工程の開始条件）は、例えば、排水源が実質的に稼働していないことを検知した場合、排水源の稼働が停止させられた場合、外部入力により前記休止工程の実行（第１殺菌剤の添加の実行）が指示された場合である。
【００８５】
「排水源が実質的に稼働していない」とは、排水源を構成する装置（本実施形態においては、レトルト装置１１）の全体が稼働していない場合や、排水源を構成する装置の周辺機器は稼働しているが、排水源を構成する装置の主機能を発揮する機器（本実施形態においては、レトルト釜）が稼働していない場合である。排水源が実質的に稼働していないことの検知は、例えば、冷却塔１５の上流側に設けられる温度センサＴＥ１が測定する冷却排水Ｗ１の温度が所定温度（例えば、４０℃）よりも低い状態が、一定時間（例えば、５時間）継続していることを検知することで、行われる。
【００８６】
「排水源の稼働が停止させられた場合」とは、例えば、操作者の操作により又はシステムの制御装置により、排水源の稼働が停止させられた場合である。
また、「外部入力により第１殺菌剤の添加の実行が指示された場合」とは、例えば、操作者の操作により又はシステムの制御装置により、第１殺菌剤添加装置（第１殺菌剤貯留部２４Ａ、第１殺菌剤添加ポンプ２５Ａ）を作動させるように、第１殺菌剤の添加の実行が指示された場合である。
【００８７】
休止工程の解除条件（通常の処理工程へ復帰条件）は、例えば、排水源が実質的に稼働していることを検知した場合、排水源が稼働させられた場合、外部入力により前記休止工程の実行（第１殺菌剤の添加の実行）の停止が指示された場合である。
【００８８】
排水源が実質的に稼働していることの検知は、例えば、冷却塔１５の上流側に設けられる温度センサＴＥ１が測定する冷却排水Ｗ１の温度が所定温度（例えば、４０℃）以上の状態を検知することで、行われる。
【００８９】
「排水源が稼働させられた場合」とは、例えば、操作者の操作により又はシステムの制御装置により、排水源が稼働させられた場合である。
また、外部入力により第１殺菌剤の添加の実行の停止が指示された場合」とは、例えば、操作者の操作により又はシステムの制御装置により、第１殺菌剤添加装置（第１殺菌剤貯留部２４Ａ、第１殺菌剤添加ポンプ２５Ａ）の作動を停止させるように、指示された場合である。
【００９０】
制御装置９１は、第１殺菌剤の水溶液を接触保持させる前に、亜硫酸塩を添加する位置の近傍に第１殺菌剤を添加するように、亜硫酸塩添加装置（亜硫酸塩貯留部３２、亜硫酸塩添加ポンプ３３）、逆浸透膜装置４３及び第１殺菌剤添加装置（第１殺菌剤貯留部２４Ａ、第１殺菌剤添加ポンプ２５Ａ）を制御する。制御装置９１は、第１殺菌剤の水溶液を接触保持させた後に、亜硫酸塩を添加する位置の近傍と逆浸透膜装置の一次側配管との間に加工水Ｗ５を通水させるように、亜硫酸塩添加装置（亜硫酸塩貯留部３２、亜硫酸塩添加ポンプ３３）、逆浸透膜装置４３及び第１殺菌剤添加装置（第１殺菌剤貯留部２４Ａ、第１殺菌剤添加ポンプ２５Ａ）を制御する。
【００９１】
制御装置９１は、所定のタイミングで貯水槽３１に供給される前段透過水（アルデヒド類含有排水）Ｗ２に第２殺菌剤を添加し、貯水槽３１において所定濃度に調整された第２殺菌剤の水溶液Ｗ３を生成して貯留させ、その後、アルデヒド類含有排水Ｗ２に添加される第２殺菌剤の添加量に基づいて、アルデヒド類含有排水Ｗ２に添加される亜硫酸塩の添加量を増加させるように、亜硫酸塩添加装置（亜硫酸塩貯留部３２、亜硫酸塩添加ポンプ３３）及び第２殺菌剤添加装置（第２殺菌剤貯留部２４Ｂ、第２殺菌剤添加ポンプ２５Ｂ）を制御する。
前段透過水ラインＬ２２の接続部Ｊ１において前段透過水Ｗ２に第２殺菌剤が添加された時点では、第２殺菌剤の水溶液Ｗ３の濃度は安定していないが、貯水槽３１において第２殺菌剤の水溶液Ｗ３は所定濃度に調整される。なお、所定濃度に調整された第２殺菌剤の水溶液Ｗ３は、貯水槽３１の内部において、所定時間の間（例えば、５〜３０分の間）接触保持されるのが好ましい。
【００９２】
亜硫酸塩を添加する位置の「近傍」とは、亜硫酸塩を添加する位置そのものだけではなく、本発明の効果を奏する範囲で、亜硫酸塩を添加する位置よりも上流側の位置又は下流側でもよい。第１実施形態においては、第１殺菌剤の水溶液は、亜硫酸塩を添加する位置としての貯水槽３１よりも下流側の接続部Ｊ７から、後段原水ラインＬ４１の下流側に向けて通液する。
【００９３】
以上の構成を有する第１実施形態の排水処理システム１は、処理工程と休止工程とを有する第１実施形態の排水処理方法を実施することができる。処理工程は、アルデヒド類含有排水としての前段透過水Ｗ２に亜硫酸塩を添加し、所定の環境で反応させることで加工水Ｗ５を調製する加工工程と、逆浸透膜装置４３に加工水Ｗ５を送水して濾過処理し、逆浸透膜装置４３からの後段透過水Ｗ６を得る濾過工程と、亜硫酸塩を添加する前のアルデヒド類含有排水としての冷却排水Ｗ１をＵＦ膜装置２３で濾過処理する前段濾過工程を含む。
【００９４】
前記処理工程は、アルデヒド類含有排水としての前段透過水Ｗ２を貯水槽３１に供給することで加工工程を実行する（すなわち、前段透過水Ｗ２が供給された貯水槽３１において、亜硫酸塩の添加と所定環境での反応を実行する）と共に、逆浸透膜装置４３に貯水槽３１から加工水Ｗ５を送水することで濾過工程を実行する。後述の殺菌剤貯留工程においては、貯水槽３１に供給されるアルデヒド類含有排水としての前段透過水Ｗ２に第１殺菌剤を添加し、貯水槽３１において所定濃度に調整された第１殺菌剤の水溶液Ｗ３を生成する。
【００９５】
前記処理工程は、アルデヒド類含有排水としての前段透過水Ｗ２を複数の貯水槽３１Ａ〜３１Ｃに順次供給し、亜硫酸塩を添加することで加工工程を実行するとともに、逆浸透膜装置４３に複数の貯水槽３１Ａ〜３１Ｃから加工水Ｗ５を順次送水することで濾過工程を実行する。複数の貯水槽３１Ａ〜３１Ｃのうち逆浸透膜装置４３への加工水Ｗ５の送水が完了した貯水槽３１を、加工工程において前段透過水Ｗ２を供給するための貯水槽３１として順次再利用する。
【００９６】
図２に示すように、休止工程は、殺菌剤導入工程と、殺菌剤保持工程と、洗浄工程とを含む逆浸透膜装置４３の一次側配管に対する一連の殺菌処理である。休止工程は、所定の条件を満足した場合に、濾過工程を停止して行われる。
【００９７】
殺菌剤導入工程は、殺菌剤保持工程の前に、亜硫酸塩を添加する位置の近傍に第１殺菌剤の水溶液を導入する。殺菌剤保持工程は、亜硫酸塩を添加する位置（貯水槽３１）の近傍と逆浸透膜装置４３の一次側配管（後段原水ラインＬ４１）との間において、第１殺菌剤の水溶液Ｗ１３を接触保持させる。洗浄工程は、殺菌剤保持工程の後に、亜硫酸塩を添加する位置の近傍と逆浸透膜装置４３の一次側配管（後段原水ラインＬ４１）との間に加工水Ｗ５を通水する。
【００９８】
次に第１実施形態の排水処理システム１の動作状態（運転状態）の具体例について説明する。第１の動作状態は配管の殺菌である。第２の動作状態は貯水槽の殺菌処理である。それぞれにおける３基の貯水槽３１Ａ〜３１Ｃの運転状態及び機器の動作状態は、図２及び図３に示す通りである。その一部を具体的に詳述する。
【００９９】
（１）配管の殺菌
配管の殺菌は、処理工程に休止工程を割り込ませることを特徴とする。まず、処理工程の通常の処理工程について説明する。
（１−１）処理工程においては、３基の貯水槽３１Ａ〜３１Ｃが「受水」、「反応」及び「送水」のいずれかの状態となるように、３基の貯水槽３１Ａ〜３１Ｃをローテーションさせながら運転する。図２では、３基の貯水槽を「貯水槽１」、「貯水槽２」及び「貯水槽３」として示す。中継槽１２が空になると、排水処理システム１の動作は停止する。
【０１００】
（１−１−１）受水
貯水槽３１が満水となるまで、排水（ＵＦ膜装置２３で濾過処理された前段透過水Ｗ２）を供給する。満水になると「反応」に移行する。他の貯水槽３１が「反応」中の場合には、待機となる。
【０１０１】
（１−１−２）反応
貯留された排水を、循環ラインＬ３を介して循環しながら所定量の亜硫酸塩（例：亜硫酸水素ナトリウム＝ＳＢＳ）を添加して、ホルムアルデヒドと反応させ、ヒドロキシメタンスルホン酸イオンを生成させる。排水のｐＨが６．０〜６．５の範囲になるように、ｐＨ調整剤として水酸化ナトリウムを適宜に添加する。所定時間の循環を行うと「送水」に移行する。他の貯水槽３１が「送水」中の場合には、待機となる。待機すると、その貯水槽３１には、加工水Ｗ５が貯留されることになる。
【０１０２】
（１−１−３）送水
反応後のヒドロキシメタンスルホン酸イオン含有排水（加工水）Ｗ５を逆浸透膜装置４３に送水する。貯水槽３１が空になる（ただし、給水ポンプが空運転しない水量は残す）と、「受水」に移行する。他の貯水槽３１が「受水」中の場合には、待機となる。
【０１０３】
本発明の処理工程では、加工工程（貯水槽３１が「反応」状態）において、アルデヒド類含有排水に対してホルムアルデヒド濃度の２〜６モル当量の亜硫酸塩を添加することで、少なくとも１５分間の反応時間を確保する。また、濾過工程（貯水槽３１が「送水」状態）では、膜モジュールの操作圧力を０．６ＭＰａ〜１ＭＰａに設定し、かつ、後段透過水Ｗ６の回収率を６０〜９５％の範囲で調節する。本発明の処理工程に従ってホルムアルデヒド濃度が１〜５ｍｇ／Ｌの冷却排水Ｗ１を処理すると、通常、レトルト装置１１での再利用に適した水道水基準に適合する透過水、すなわち、残留ホルムアルデヒド濃度が０．０８ｍｇ／Ｌ以下でありかつ全有機炭素量が３．０ｍｇ／Ｌ以下の透過水が得られる。
【０１０４】
（１−２）前述の所定の条件を満たした場合に、図２に示すように、以下の殺菌剤導入工程と、殺菌剤保持工程と、洗浄工程とを含む休止処理の動作を割り込ませる。
【０１０５】
（１−２−１）殺菌剤導入工程（プレパージ）
◎貯水槽１：受水
◎貯水槽２：送水（加工水Ｗ５を使用）
◎貯水槽３：反応
前述の所定の条件を満足した場合に、殺菌剤保持工程に先立ち、亜硫酸塩を添加する位置（貯水槽３１）の近傍と逆浸透膜装置４３の一次側配管（後段原水ラインＬ４１）との間において、第１殺菌剤の水溶液Ｗ１３を導入する。具体的には、ＲＯモジュール入口バルブＶ４１及び濃縮水ラインバルブＶ４２を閉じ（濾過工程を停止し）、ＲＯ加圧ポンプ４１を稼働させる。これにより、貯水槽２から、加工水Ｗ５を希釈水及び導入水として逆浸透膜装置４３の一次側配管（後段原水ラインＬ４１）に通水する。そして、後段原水ラインＬ４１を流通する加工水Ｗ５に、第１殺菌剤の添加を開始する。
【０１０６】
後段原水ラインＬ４１を流通する第１殺菌剤が添加された加工水Ｗ５は、逆浸透膜装置４３の一次側配管（後段原水ラインＬ４１）におけるＲＯモジュール入口バルブＶ４１よりも上流側、及びＲＯバイパスラインＬ４４における濃縮水ラインバルブＶ４２よりも上流側に行き渡る。貯水槽１では、排水を受け入れる。貯水槽３では、「反応」中の状態を継続しており、亜硫酸水素ナトリウム（ＳＢＳ）の添加により、殺菌剤（酸化剤）濃度がほぼゼロの加工水Ｗ５が調製される。加工水Ｗ５は、後述する洗浄工程で洗浄水として使用される。
【０１０７】
（１−２−２）殺菌剤保持工程
◎貯水槽１：待機
◎貯水槽２：待機
◎貯水槽３：待機
殺菌剤導入工程の状態から、バイパスラインバルブＶ４３及び再利用先バルブＶ５１を閉じ、後段原水ラインＬ４１を流通する加工水Ｗ５への第１殺菌剤の添加及びＲＯ加圧ポンプ４１を停止する。これにより、亜硫酸塩を添加する位置（貯水槽３１）の近傍と逆浸透膜装置４３の一次側配管（後段原水ラインＬ４１）との間において、第１殺菌剤の水溶液Ｗ１３を接触保持させることができる。
【０１０８】
殺菌剤保持工程において、後段原水ラインＬ４１に接触保持させる第１殺菌剤の水溶液Ｗ１３の濃度は、例えば、１〜１０ｍｇ／Ｌに設定するのが好ましく、２〜５ｍｇ／Ｌに設定するのがより好ましい。殺菌剤濃度が１ｍｇ／Ｌ未満の場合、十分な殺菌・制菌効果が得られない可能性がある。殺菌剤濃度の上限は、配管やポンプ等の金属材料を腐食させる恐れがなければ特に制限はなく、配管内部でスライム汚染等が進行している場合には、１０ｍｇ／Ｌを超える殺菌剤濃度に設定してもよい。また、後段原水ラインＬ４１への第１殺菌剤の水溶液Ｗ１３の接触保持時間は、休止工程の解除条件を満足したか否かに関わらず、少なくとも５分以上確保するのが好ましい。接触保持時間が５分未満の場合、一次側配管内において微生物に対する第１殺菌剤の殺菌効果が不十分となる可能性がある。第１殺菌剤として次亜塩素酸ナトリウムを用いる場合、例えば残留塩素濃度が３ｍｇＣｌ２／Ｌの水溶液を５分以上接触保持させると、微生物（特にバイオフィルム）に対して効果的かつ十分な殺菌・制菌効果が得られる。
【０１０９】
（１−２−３）洗浄工程（ポストパージ）
◎貯水槽１：待機
◎貯水槽２：送水（加工水Ｗ５を使用）
◎貯水槽３：待機
殺菌剤保持工程の状態から、バイパスラインバルブＶ４３及び再利用先バルブＶ５１を開き、ＲＯ加圧ポンプ４１を稼働させる。これにより、貯水槽２から、加工水Ｗ５を洗浄水として逆浸透膜装置４３の一次側配管（後段原水ラインＬ４１）に通水する。逆浸透膜装置４３の一次側配管では、加工水Ｗ５の通水により、殺菌剤の水溶液Ｗ３の押出しと加工水Ｗ５への置換が行われる。通水後の洗浄排水は、排水槽５１に受けられた後、殺菌剤排水ラインＬ５２を介して廃棄される。貯水槽１及び貯水槽３は待機している。
【０１１０】
（１−２−４）（休止工程後の）処理工程
休止工程が完了すると、通常の処理工程に戻る。前述のように、処理工程においては、３基の貯水槽３１Ａ〜３１Ｃが「受水」、「反応」及び「送水」のいずれかの状態となるように、３基の貯水槽３１Ａ〜３１Ｃをローテーションさせながら運転する。逆浸透膜装置４３の後段透過水Ｗ６は冷却水槽４４に供給される。逆浸透膜装置４３からの濃縮排水Ｗ７は、排水槽５１に受けられた後、殺菌剤排水ラインＬ５２を介して廃棄される。
【０１１１】
（２）貯水槽の殺菌
貯水槽の殺菌は、処理工程の実行を継続しながら、加工工程を含む通常の処理工程に殺菌剤貯留工程を割り込ませて、貯水槽３１の殺菌を行う操作である。貯水槽の殺菌は、例えば、１日１回、１日おきに２日に１回行われる。
殺菌剤貯留工程は、図３に示すように、通常の処理工程と比べて、貯水槽３１の受水時に前段透過水Ｗ２に第２殺菌剤を添加させる一方、加工水Ｗ５を調製する際には、添加された第２殺菌剤を還元可能な分量を上乗せするように、亜硫酸塩（ＳＢＳ）の添加量を増加させる。詳述すると、貯水槽３１に第２殺菌剤の水溶液Ｗ３を貯留させて貯水槽３１の殺菌を行い、その後、第２殺菌剤の水溶液Ｗ３に亜硫酸塩を添加させて第２殺菌剤の酸化力を消去させて、それを逆浸透膜装置４３への加工水Ｗ５として使用するものである。なお、第２殺菌剤の酸化力を消去させるのは、逆浸透膜の酸化劣化を防止するためである。
【０１１２】
そのために、殺菌剤貯留工程においては、所定のタイミングで貯水槽３１に供給されるアルデヒド類含有排水Ｗ２に第２殺菌剤を添加し、貯水槽３１において所定濃度に調整された第２殺菌剤の水溶液Ｗ３を生成して貯留させ、その後、アルデヒド類含有排水Ｗ２に添加される第２殺菌剤の添加量に基づいて、アルデヒド類含有排水Ｗ２に添加される亜硫酸塩の添加量を増加させる。増加させる亜硫酸塩の添加量は、殺菌剤貯留工程における第２殺菌剤の添加量に対して反応当量以上であればよい。
【０１１３】
殺菌剤貯留工程において、貯水槽３１に接触保持させる第２殺菌剤の水溶液Ｗ３の濃度は、配管の殺菌と同様に、１〜１０ｍｇ／Ｌに設定するのが好ましく、２〜５ｍｇ／Ｌに設定するのがより好ましい。殺菌剤濃度が１ｍｇ／Ｌ未満の場合、十分な殺菌・制菌効果が得られない可能性がある。殺菌剤濃度の上限は、バルブ等の金属材料を腐食させる恐れがなければ特に制限はなく、貯水槽内部でスライム汚染等が進行している場合には、１０ｍｇ／Ｌを超える殺菌剤濃度に設定してもよい。また、貯水槽３１への第２殺菌剤の水溶液Ｗ３の接触保持時間は、必要に応じて５分以上確保するのが好ましい。５分以上の接触保持時間が確保できる場合、貯水槽３１において微生物に対する第２殺菌剤の殺菌効果をより高めることができる。第２殺菌剤として次亜塩素酸ナトリウムを用いる場合、例えば残留塩素濃度が３ｍｇＣｌ２／Ｌの水溶液を５分以上接触保持させると、微生物（特にバイオフィルム）に対して効果的かつ十分な殺菌・制菌効果が得られる。
【０１１４】
上述した第１実施形態の排水処理システム１によれば、例えば、次のような効果を奏する。
【０１１５】
〔１〕貯水槽３１では、ホルムアルデヒド（アルデヒド類）からヒドロキシメタンスルホン酸イオン（α−ヒドロキシスルホン酸イオン）を生成させるために亜硫酸塩を添加するので、貯水槽３１からの排水（加工水Ｗ５）中には、残留塩素などの殺菌成分はほとんど存在しない。そのため、貯水槽３１と逆浸透膜装置４３との間において、配管内部や膜面に微生物が繁殖し、スライムが発生しやすい。
【０１１６】
この問題に対し、本発明の第１実施形態においては、所定の条件を満たした場合に、逆浸透膜装置４３による濾過処理を停止し、亜硫酸塩を添加する位置の近傍と逆浸透膜装置４３の一次側配管（後段原水ラインＬ４１）との間において、第１殺菌剤の水溶液Ｗ１３を接触保持させている。そのため、第１実施形態によれば、排水処理システム１が停止するような場面では、亜硫酸塩を添加する位置の近傍と逆浸透膜装置４３の一次側配管（後段原水ラインＬ４１）との間が強制的に消毒・殺菌される。この結果、一次側配管（後段原水ラインＬ４１）において、微生物の繁殖やスライムの発生を抑制でき、延いては、逆浸透膜装置４３の詰まりを抑制できる。特に、第１殺菌剤の水溶液Ｗ１３を一次側配管（後段原水ラインＬ４１）に長時間接触保持することができるので、バイオフィルムの抑制効果が高い。
【０１１７】
〔２〕第１実施形態においては、所定のタイミングで貯水槽３１に供給されるアルデヒド類含有排水Ｗ２に第２殺菌剤を添加し、貯水槽３１において第２殺菌剤の水溶液Ｗ３を生成して貯留させ、その後、アルデヒド類含有排水Ｗ２に添加される第２殺菌剤の添加量に基づいて、アルデヒド類含有排水Ｗ２に添加される亜硫酸塩の添加量を増加させる。そのため、殺菌効果が少ない加工水Ｗ５が貯水槽３１に貯留されることに起因する貯水槽３１における微生物の繁殖を抑制することができる。また、貯水槽３１から排出される加工水Ｗ５は、過剰な第２殺菌剤を含んでいない。これにより、逆浸透膜の酸化劣化を防止しながら濾過工程を継続することができる。
【０１１８】
〔３〕飲料充填後の缶・ボトルの外面には、飲料の雫が付着していることがある。レトルト殺菌処理される飲料が乳成分を含む場合（例：コーヒー飲料，紅茶飲料など）、この雫に由来して、冷却排水Ｗ１にタンパク質等の高分子化合物が混入しやすい。このような高分子化合物を含む冷却排水Ｗ１を逆浸透膜装置４３で処理すると、膜面が汚染され、膜モジュールが早期に閉塞する恐れがある。
【０１１９】
この問題に対し、第１実施形態の排水処理システム１は、前段濾過装置として、亜硫酸塩を添加する前のアルデヒド類含有排水（冷却排水Ｗ１）を限外濾過膜で濾過処理するＵＦ膜装置２３を備える。そのため、第１実施形態によれば、ＵＦ膜装置２３により冷却排水Ｗ１中のタンパク質等の高分子化合物を容易に捕捉し、分離することができる。この結果、逆浸透膜装置４３における膜モジュールの閉塞を防止し、初期の透過流束を維持することができる。なお、ＵＦ膜装置は、ＭＦ膜装置よりも、高分子化合物の分離性能が高い点で好ましい。
【０１２０】
（第１変形例）
後段原水ラインＬ４１において第１殺菌剤の水溶液が接触保持しない領域を小さくするために、貯水槽３１の排出部からＲＯ加圧ポンプ４１の周辺までの配管部分を図４に示すように構成することもできる。この第１変形例では、排水処理システム１は、補助循環ラインＬ４９を有している。補助循環ラインＬ４９の上流側の端部は、ＲＯ加圧ポンプ４１の吐出側に接続している。補助循環ラインＬ４９の下流側は、Ｌ４９Ａ，Ｌ４９Ｂ，Ｌ４９Ｃの３本に分岐し、それぞれ後段原水ラインＬ４１Ａ，Ｌ４１Ｂ，Ｌ４１Ｃの始端部（貯水槽３１の排出部に設けられたバルブの二次側）に接続している。そして、第１殺菌剤添加ラインＬ４８の下流側の端部は、接続部Ｊ７において、補助循環ラインＬ４９に接続している。なお、所要のライン上には、逆止弁（符号省略）が設けられている。
【０１２１】
この構成において、ＲＯ加圧ポンプ４１の駆動時には、貯水槽３１から取水された加工水Ｗ５が補助循環ラインＬ４９（Ｌ４９Ａ，Ｌ４９Ｂ，Ｌ４９Ｃ）及び後段原水ラインＬ４１（Ｌ４１Ａ，Ｌ４１Ｂ，Ｌ４１Ｃ）の上流側部分を循環しながら、後段原水ライン４１の下流側部分を流通し、逆浸透膜装置４３へ向かって流れる。そのため、前述の殺菌剤導入工程において第１殺菌剤添加ポンプ２５Ａを作動させると、第１殺菌剤の水溶液Ｗ１３を貯水槽３１の排出部からＲＯ加圧ポンプ４１の周辺までの配管部分に導入させることができる。この結果、前述の殺菌剤保持工程においては、後段原水ライン４１のほぼ全領域を第１殺菌剤の水溶液Ｗ１３と接触保持させることができる。
【０１２２】
（第２変形例）
第１実施形態の休止工程おいては、第１殺菌剤の水溶液Ｗ１３が逆浸透膜装置４３を流通しないように操作したが、逆浸透膜の一次側表面の殺菌を行う目的で、短時間の通液を実行するように変更することもできる。例えば、前述の洗浄工程にて、バイパスラインバルブＶ４３を閉じ、ＲＯモジュール入口バルブＶ４１及び濃縮水ラインバルブＶ４２を開くことにより、後段原水ライン４１に加工水Ｗ５を通水して第１殺菌剤の水溶液Ｗ１３を押し出しながら、逆浸透膜に第１殺菌剤を一時的に接触させることが可能である。なお、洗浄工程の終了時点では、膜モジュールの一次側が加工水Ｗ５で満たされることになる。
【０１２３】
（その他の変形例）
第１実施形態において、限外濾過膜を有するＵＦ膜装置２３に代えて、精密濾過膜を有するＭＦ膜装置を設けてもよい。
第１実施形態において、限外濾過膜を有するＵＦ膜装置２３（又は精密濾過膜を有するＭＦ膜装置）は、循環ラインＬ３の途中や、合流した後の後段原水ラインＬ４１におけるＲＯ加圧ポンプ４１よりも上流側に設けられていてもよい。
第１実施形態において、貯水槽３１は１基で構成されていてもよい。
【０１２４】
［第２実施形態］
次に、本発明の第２実施形態の排水処理システム１Ａについて、図５を参照しながら説明する。図５は、本発明の第２実施形態の排水処理システム１Ａを示すフロー図である。なお、第２実施形態では、主に第１実施形態との相違点について説明する。第２実施形態では、第１実施形態と同一又は同等の構成については同じ符号を付して説明する。また、第２実施形態では、第１実施形態と重複する説明を適宜に省略する。
【０１２５】
第２実施形態においては、ＵＦ膜装置２３に代えて、精密濾過膜（ＭＦ膜）で濾過処理するＭＦ膜装置１２３を備える点、及びＭＦ膜装置１２３とＲＯ加圧ポンプ４１との間の構成が、第１実施形態とは主に異なる。第２実施形態の排水処理システム１Ａは、ＭＦ膜装置１２３とＲＯ加圧ポンプ４１との間における後段原水ラインＬ４１に、前段透過水加圧ポンプ４６、スタティックミキサ４７Ａ及びスタティックミキサ４７Ｂを備える。
【０１２６】
ＭＦ膜装置１２３は、精密濾過膜（ＭＦ膜）を有するＭＦ膜モジュールを備え、亜硫酸塩を添加する前の冷却排水Ｗ１を濾過処理し、冷却排水Ｗ１に含まれる懸濁物質等の不純物を除去する。
【０１２７】
前段透過水ラインＬ２２の上流側の端部は、ＭＦ膜装置１２３の二次側の透過水排出部に接続している。前段透過水ラインＬ２２の下流側の端部は、貯水槽１３１の導入部に接続している。前段透過水ラインＬ２２には、ＭＦ膜装置１２３から排出された前段透過水Ｗ２が、貯水槽１３１に向けて流通する。
【０１２８】
貯水槽１３１は、アルデヒド類含有排水としての前段透過水Ｗ２を、（第１殺菌剤の水溶液Ｗ１３が混合していない状態で）貯留する。
【０１２９】
後段原水ラインＬ４１の上流側の端部は、貯水槽１３１の排出部に接続している。後段原水ラインＬ４１の下流側の端部は、逆浸透膜装置４３の一次側に接続している。後段原水ラインＬ４１には、貯水槽１３１から排出された前段透過水Ｗ２が、逆浸透膜装置４３に向けて流通する。
【０１３０】
第１殺菌剤添加ラインＬ４８の上流側の端部は、第１殺菌剤貯留部２４Ａの排出部に接続している。第１殺菌剤添加ラインＬ４８の下流側の端部は、接続部Ｊ７において、後段原水ラインＬ４１に接続している。第１殺菌剤添加ラインＬ４８には、第１殺菌剤貯留部２４Ａから排出された第１殺菌剤が、接続部Ｊ７に向けて流通する。
【０１３１】
亜硫酸塩添加ラインＬ３３の上流側の端部は、亜硫酸塩貯留部３２の排出部に接続している。亜硫酸塩添加ラインＬ３３の下流側の端部は、接続部Ｊ２において、後段原水ラインＬ４１に接続している。亜硫酸塩添加ラインＬ３３には、亜硫酸塩貯留部３２から排出された亜硫酸塩が、接続部Ｊ２に向けて流通する。
【０１３２】
ｐＨ調整剤添加ラインＬ３４の上流側の端部は、ｐＨ調整剤添加部３４の排出部に接続している。ｐＨ調整剤添加ラインＬ３４の下流側の端部は、接続部Ｊ３において、循環ラインＬ３に接続している。ｐＨ調整剤添加ラインＬ３４には、ｐＨ調整剤添加部３４から排出されたｐＨ調整剤が、接続部Ｊ３に向けて流通する。
【０１３３】
前段透過水加圧ポンプ４６は、後段原水ラインＬ４１に設けられ、後段原水ラインＬ４１を流通する前段透過水Ｗ２を吸引し、下流側に向けて圧送する。
【０１３４】
スタティックミキサ４７Ａ，４７Ｂは、駆動部が無い静的混合部であり、後段原水ラインＬ４１に設けられ、後段原水ラインＬ４１を流通する前段透過水Ｗ２を混合させる。
【０１３５】
後段原水ラインＬ４１において上流側から下流側に向けて、接続部Ｊ７、前段透過水加圧ポンプ４６、接続部Ｊ２、スタティックミキサ４７Ａ、接続部Ｊ３、スタティックミキサ４７Ｂの順で配置している。スタティックミキサ４７Ａ，４７Ｂは混合機能を有し、また、前段透過水加圧ポンプ４６は、羽根車の回転運動に基づく混合機能を有する。
【０１３６】
従って、前述した処理工程においては、スタティックミキサ４７Ａは、前段透過水Ｗ２に更に亜硫酸塩を混合して反応させ、加工水Ｗ５を調製する。スタティックミキサ４７Ｂは、前段透過水Ｗ２に更にｐＨ調整剤を混合する。一方、前述した休止工程（殺菌剤導入工程）においては、前段透過水加圧ポンプ４６は、前段透過水Ｗ２と第１殺菌剤とを混合して第１殺菌剤の水溶液Ｗ１３を得る。
【０１３７】
制御装置９１は、貯水槽１３１から取水されるアルデヒド類含有排水としての前段透過水Ｗ２に第１殺菌剤を添加し、所定濃度に調整された第１殺菌剤の水溶液を生成するように殺菌剤添加装置（第１殺菌剤貯留部２４Ａ、第１殺菌剤添加ポンプ２５Ａ）を制御する。
【０１３８】
第２実施形態においては、処理工程は、貯水槽１３１からアルデヒド類含有排水としての前段透過水Ｗ２を取水しながら、亜硫酸塩及びｐＨ調整剤を添加して加工工程を実行すると共に、逆浸透膜装置４３に加工水Ｗ５を送水することで濾過工程を実行する。休止工程（殺菌剤導入工程）においては、貯水槽１３１から取水されるアルデヒド類含有排水としての前段透過水Ｗ２に第１殺菌剤を添加し、所定濃度に調整された第１殺菌剤の水溶液Ｗ１３を生成する。
【０１３９】
第２実施形態においては、第１殺菌剤の水溶液の接触保持が開始される「亜硫酸塩を添加する位置の近傍」（第１殺菌剤添加ラインＬ４８との接続部Ｊ７）は、貯水槽１３１よりも下流側の後段原水ラインＬ４１である。第１殺菌剤の水溶液は、貯水槽１３１の内部を通液しない。また、後段原水ラインＬ４１において第１殺菌剤の水溶液が接触保持しない領域が存在することになる。後段原水ラインＬ４１において第１殺菌剤の水溶液が接触保持しない領域を小さくするためには、第１殺菌剤添加ラインＬ４８との接続部Ｊ７は、貯水槽１３１の排出部に近いことが好ましい。
【０１４０】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明した。しかし、本発明は、上述した実施形態に限定されることなく、種々の形態で実施することができる。
例えば、本実施形態における排出源は、レトルト装置１１であったが、これに制限されず、パストライズ装置、容器洗浄装置、アセプティック充填装置でもよい。
【０１４１】
前記実施形態は、逆浸透膜装置４３よりも上流側にＵＦ膜装置２３又はＭＦ膜装置１２３を備えているが、これに制限されない。例えば、ＵＦ膜装置２３又はＭＦ膜装置１２３によって補足可能な懸濁物質等の不純物の発生が少ない排水処理システムにおいては、ＵＦ膜装置２３又はＭＦ膜装置１２３は設けられていなくてもよい。
【０１４２】
本発明は、その精神又は主要な特徴から逸脱することなく、他のいろいろな形で実施することができる。そのため、上記の実施形態若しくは実施例は、あらゆる点で単なる例示に過ぎず、限定的に解釈してはならない。本発明の範囲は、請求の範囲によって示すものであって、明細書本文には何ら拘束されない。更に、請求の範囲の均等範囲に属する変形や変更は、全て本発明の範囲内のものである。
【符号の説明】
【０１４３】
１，１Ａ  排水処理システム
１１  レトルト装置（排水源）
１２  中継槽
１３  中継ポンプ
１４  流量調整槽
１５  冷却塔
２１  前段原水ポンプ
２２  前段プレフィルタ
２３  ＵＦ膜装置
１２３  ＭＦ膜装置
２４Ａ  第１殺菌剤貯留部（第１殺菌剤添加装置）
２４Ｂ  第２殺菌剤貯留部（第２殺菌剤添加装置）
２５Ａ  第１殺菌剤添加ポンプ（第１殺菌剤添加装置）
２５Ｂ  第２殺菌剤添加ポンプ（第２殺菌剤添加装置）
３１，３１Ａ，３１Ｂ，３１Ｃ  貯水槽
１３１  貯水槽
３２  亜硫酸塩貯留部（亜硫酸塩添加装置）
３３  亜硫酸塩添加ポンプ（亜硫酸塩添加装置）
３４  ｐＨ調整剤添加部
３５  循環ポンプ
４１  ＲＯ加圧ポンプ
４２  後段プレフィルタ
４３  逆浸透膜装置
４４  冷却水槽
４５  冷却水導入ポンプ
４６  前段透過水加圧ポンプ
４７Ａ  スタティックミキサ
４７Ｂ  スタティックミキサ
５１  排水槽
５２  排水ポンプ
５３  工業設備
９１  制御装置
Ｌ１１  第１排水ライン
Ｌ１２  第２排水ライン
Ｌ２１  前段原水ライン
Ｌ２２，Ｌ２２Ａ，Ｌ２２Ｂ，Ｌ２２Ｃ  前段透過水ライン
Ｌ２３  第２殺菌剤添加ライン
Ｌ３  循環ライン
Ｌ３１Ａ，Ｌ３１Ｂ，Ｌ３１Ｃ  循環上流側分岐ライン
Ｌ３２Ａ，Ｌ３２Ｂ，Ｌ３２Ｃ  循環下流側分岐ライン
Ｌ３３  亜硫酸塩添加ライン
Ｌ３４  ｐＨ調整剤添加ライン
Ｌ４１，Ｌ４１Ａ，Ｌ４１Ｂ，Ｌ４１Ｃ  後段原水ライン（一次側配管）
Ｌ４２  後段透過水ライン
Ｌ４３  濃縮水ライン
Ｌ４４  ＲＯバイパスライン
Ｌ４５  冷却水導入ライン
Ｌ４６  冷却水バイパスライン
Ｌ４７  補給水ライン
Ｌ４８  第１殺菌剤添加ライン
Ｌ４９  補助循環ライン
Ｌ５１  再利用先流通ライン
Ｌ５２  殺菌剤排水ライン
ＴＥ１  温度センサ
Ｖ４１  ＲＯモジュール入口バルブ
Ｖ４２  濃縮水ラインバルブ
Ｖ４３  バイパスラインバルブ
Ｖ５１  再利用先バルブ
Ｖ５２  殺菌剤排水バルブ
Ｗ１  冷却排水（アルデヒド類含有排水）
Ｗ２  前段透過水
Ｗ３  第２殺菌剤の水溶液
Ｗ４  循環水
Ｗ５  加工水
Ｗ６  後段透過水（透過水）
Ｗ７  濃縮排水
Ｗ８  殺菌剤排水
Ｗ９  冷却水
Ｗ１０  バイパス冷却水
Ｗ１１  濃縮再利用水
Ｗ１３  第１殺菌剤の水溶液
【図１】
2015186260.tif 000003
【図２】
2015186260.tif 000004
【図３】
2015186260.tif 000005
【図４】
2015186260.tif 000006
【図５】
2015186260.tif 000007
【国際調査報告】
2015186260.tif 000008
2015186260.tif 000009
2015186260.tif 000010
2015186260.tif 000011