(57)【要約】  サイドエッチングの問題を解消しつつ、パターン付ロール製造時の感光材剥離処理における感光材の剥離性及びパターン付ロールを用いて転写した際の転写物の剥離性に優れたパターン付ロール及びその製造方法を提供する。  表面が導電性ＤＬＣ層とされた基材の該表面に感光材を塗布し、露光・現像せしめてレジストパターンを形成し、該導電性ＤＬＣ層及びレジストパターンの表面にＤＬＣ被覆膜を形成し、該レジストパターン上に形成されたＤＬＣ被覆膜を該レジストパターンごと剥離せしめ、導電性ＤＬＣ層の表面にＤＬＣパターンを形成してなるようにした。
2015076180.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面が導電性ＤＬＣ層とされた基材の該表面に感光材を塗布し、露光・現像せしめてレジストパターンを形成し、該導電性ＤＬＣ層及びレジストパターンの表面にＤＬＣ被覆膜を形成し、該レジストパターン上に形成されたＤＬＣ被覆膜を該レジストパターンごと剥離せしめ、導電性ＤＬＣ層の表面にＤＬＣパターンを形成してなることを特徴とするパターン付ロール。
【請求項２】
前記ＤＬＣ被覆膜の厚さが、０．１μｍ〜２０μｍであることを特徴とする請求項１記載のパターン付ロール。
【請求項３】
前記導電性ＤＬＣ層が、体積抵抗率１．０×１０−３Ω・ｃｍ〜１．０×１００Ω・ｃｍの導電率を有することを特徴とする請求項１又は２記載のパターン付ロール。
【請求項４】
前記表面が導電性ＤＬＣ層とされた基材が、Ｎｉ、ステンレス鋼、真鍮、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ａｌからなる群から選ばれた少なくとも一種の材料からなることを特徴とする請求項１〜３いずれか１項記載のパターン付ロール。
【請求項５】
前記基材が、ゴム又はクッション性を有する樹脂からなるクッション層を備えることを特徴とする請求項１〜４いずれか１項記載のパターン付ロール。
【請求項６】
前記パターン付ロールが、連続めっき用ロールであることを特徴とする請求項１〜５いずれか１項記載のパターン付ロール。
【請求項７】
請求項６記載のパターン付ロールによってめっきされたことを特徴とする製品。
【請求項８】
前記パターン付ロールが、電鋳金型ロールであることを特徴とする請求項１〜５いずれか１項記載のパターン付ロール。
【請求項９】
請求項８記載のパターン付ロールによって電鋳されたことを特徴とする製品。
【請求項１０】
前記パターン付ロールが、グラビア印刷用ロールであることを特徴とする請求項１〜５いずれか１項記載のパターン付ロール。
【請求項１１】
請求項１０記載のパターン付ロールによって印刷されたことを特徴とする製品。
【請求項１２】
前記パターン付ロールが、成形用エンボスロールであることを特徴とする請求項１〜５いずれか１項記載のパターン付ロール。
【請求項１３】
請求項１２記載のパターン付ロールによって成形されたことを特徴とする製品。
【請求項１４】
表面が導電性ＤＬＣ層とされた基材を準備する工程と、該基材の表面に感光材を塗布し、露光・現像せしめてレジストパターンを形成する工程と、該導電性ＤＬＣ層及びレジストパターンの表面にＤＬＣ被覆膜を形成する工程と、該レジストパターン上に形成されたＤＬＣ被覆膜を該レジストパターンごと剥離せしめる工程と、を含むことを特徴とするパターン付ロールの製造方法。
【請求項１５】
前記ＤＬＣ被覆膜の厚さが、０．１μｍ〜２０μｍであることを特徴とする請求項１４記載のパターン付ロールの製造方法。
【請求項１６】
前記導電性ＤＬＣ層が、体積抵抗率１．０×１０−３Ω・ｃｍ〜１．０×１００Ω・ｃｍの導電率を有することを特徴とする請求項１４又は１５記載のパターン付ロールの製造方法。
【請求項１７】
前記感光材が塗布される基材が、Ｎｉ、ステンレス鋼、真鍮、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ａｌからなる群から選ばれた少なくとも一種の材料からなることを特徴とする請求項１４〜１６いずれか１項記載のパターン付ロールの製造方法。
【請求項１８】
前記基材が、ゴム又はクッション性を有する樹脂からなるクッション層を備えることを特徴とする請求項１４〜１７いずれか１項記載のパターン付ロールの製造方法。
【請求項１９】
被処理ロールに対して処理を行う処理装置を複数個設け、ロボットアームで該被処理ロールを該処理装置に順次移載して処理するようにしたパターン付ロール全自動製造システムを用いて、パターン付ロールを製造してなることを特徴とする請求項１４〜１８いずれか１項記載のパターン付ロールの製造方法。
【請求項２０】
前記パターン付ロール全自動製造システムが、
被処理ロールをチャックしてハンドリングする第一の産業ロボットのハンドリングエリアを有する処理室Ａと、被処理ロールをチャックしてハンドリングする第二の産業ロボットのハンドリングエリアを有する処理室Ｂと、を有し、前記処理室Ａ及び前記処理室Ｂを連通せしめ、
前記処理室Ａの前記第一の産業ロボットのハンドリングエリア又は前記処理室Ｂの前記第二の産業ロボットのハンドリングエリアに少なくとも一つの真空成膜装置を配置し、
前記処理室Ａの前記第一の産業ロボットのハンドリングエリアに、ロールストック装置、感光材塗布装置、電子彫刻装置、レーザ露光潜像形成装置、脱脂装置、砥石研磨装置、超音波洗浄装置、銅メッキ装置、現像装置、ペーパー研磨装置から選ばれる処理装置の少なくとも一つを配置し、前記処理室Ｂの前記第二の産業ロボットのハンドリングエリアに、前記処理装置のうち前記処理室Ａに配置しなかった処理装置の少なくとも一つを配置し、かつ前記処理室Ａ及び前記処理室Ｂの前記処理装置は、設置及び撤去が可能とされてなり、前記第一の産業ロボット及び第二の産業ロボットで該被処理ロールを該処理装置に順次移載して処理することにより、
表面が導電性ＤＬＣ層とされた基材の該表面に感光材を塗布し、露光・現像せしめてレジストパターンを形成し、該導電性ＤＬＣ層及びレジストパターンの表面にＤＬＣ被覆膜を形成し、該レジストパターン上に形成されたＤＬＣ被覆膜を該レジストパターンごと剥離せしめ、導電性ＤＬＣ層の表面にＤＬＣパターンを形成してなるパターン付ロールを製造してなり、
前記真空成膜装置にて導電性ＤＬＣ層の形成処理及びＤＬＣ被覆膜の形成処理が行われることを特徴とする請求項１９記載のパターン付ロールの製造方法。
【請求項２１】
前記真空成膜装置が二台以上配置されてなり、導電性ＤＬＣ層の形成処理及びＤＬＣ被覆膜の形成処理が各々の前記真空成膜装置で同時に行うことが可能とされてなることを特徴とする請求項２０記載のパターン付ロールの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）によってパターニングを施したパターン付ロール及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
パターン付ロールとしてグラビア印刷用ロールがある。グラビア印刷では、グラビア製版ロール（グラビアシリンダー）に対し、製版情報に応じた微小な凹部（グラビアセル）を形成して版面を製作し当該グラビアセルにインキを充填して被印刷物に転写するものである。一般的なグラビア製版ロールにおいては、アルミニウムや鉄などの版母材の表面に版面形成用の銅メッキ層（版材）を設け、該銅メッキ層にエッチングによって製版情報に応じ多数の微小な凹部（グラビアセル）を形成し、次いでグラビア製版ロールの耐刷力を増すためのクロムメッキによって硬質のクロム層を形成して表面強化被覆層とし、製版（版面の製作）が完了する。本願出願人は、例えば、特許文献１に記載されたグラビア製版ロールを提案している。【０００３】
また、パターン付ロールとして成形用エンボスロールがある。熱可塑性樹脂フィルムにエンボス加工を施し、ＬＣＤ用バックライトやリヤプロジェクションスクリーン等に用いられるプリズムシート、レンチキュラーシート、フレネルシート、反射防止フィルムなどの電子部品を作製したり、金属プレートにエンボス加工を施して意匠性を高めたり、滑り防止機能を持たせたりすることが行われている。本願出願人は、例えば、特許文献２に記載されたエンボスロールを提案している。【０００４】
また、パターン付ロールとして連続めっき用ロールがある。連続めっき用ロールは、連続めっき装置に用いられるもので、例えば、リールに巻き付けた鋼板等の帯状のワークを連続的に巻き取りながらめっき浴中を通すことで、連続的にめっきを行うものである。連続めっき用ロールの例としては、例えば、特許文献３や特許文献４に開示されたシンクロール等のロールがある。【０００５】
上述したようなパターン付ロールを製作する場合、基材に感光材を塗布して露光・現像・バーニングしてエッチングすると、いわゆるサイドエッチングと呼ばれるオーバーエッチングが発生する問題があった。そして、パターニングが微細になる程、サイドエッチングの問題がより一層顕在化する。【０００６】
また、特許文献５に開示された技術のように、レジストで形成した凸パターンの表面に形成されたＤＬＣ膜を、該凸パターン状のレジストと一緒にＤＬＣ膜を剥離して凹版とするものもある。【０００７】
しかしながら、特許文献５に開示された凹版では、レジストがきれいに剥がれにくいため、特許文献５の図２によく示されるように、凹部側面の角度がおおよそ４５度程度の傾斜がついてしまうという問題があった。このため、かかる凹版を用いて電子回路の配線をプリントすると、プリントされた回路配線の横断面が台形となってしまうため、回路配線中に電気抵抗の異なる箇所が生じてしまうという問題があった。【０００８】
また、本願出願人は、特許文献６に示すパターン付ロールも提案しているが、かかるパターン付ロールでは、連続メッキを行った場合に、メッキ物を該パターン付ロールから剥がすために、剥離液が必要であった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】国際公開ＷＯ２００８／１２０７８９
【特許文献２】特開２００９−７２８２８号公報
【特許文献３】特開２００６−２８３０４４号公報
【特許文献４】特開２００１−８９８３６号公報
【特許文献５】特開２００８−２５４３３１号公報
【特許文献６】特開２０１２−１５４９６４号公報
【特許文献７】国際公開ＷＯ２０１１／１２５９２６
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、上記した従来技術の問題点に鑑みなされたもので、サイドエッチングの問題を解消しつつ、パターン付ロール製造時の感光材剥離処理における感光材の剥離性及びパターン付ロールを用いて転写した際の転写物の剥離性に優れたパターン付ロール及びその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記課題を解決するため、本発明のパターン付ロールは、表面が導電性ＤＬＣ層とされた基材の該表面に感光材を塗布し、露光・現像せしめてレジストパターンを形成し、該導電性ＤＬＣ層及びレジストパターンの表面にＤＬＣ被覆膜を形成し、該レジストパターン上に形成されたＤＬＣ被覆膜を該レジストパターンごと剥離せしめ、導電性ＤＬＣ層の表面にＤＬＣパターンを形成してなることを特徴とする。【００１２】
このようにして、表面が導電性ＤＬＣ層とされた基材上に形成されたＤＬＣ被覆膜をいわゆるリフトオフにより剥離せしめるため、パターンの凹部側面が垂直に近くなり、サイドエッチングの問題が解消される利点がある。【００１３】
また、パターン付ロール製造時の感光材剥離処理における感光材（レジスト）の剥離性に優れるため、該レジストパターン上に形成されたＤＬＣ被覆膜を該レジストパターンごと剥離せしめる際の剥離性に優れ、パターンの凹部（又は凸部）がきれいに形成されるという利点もある。【００１４】
さらに、該レジストパターン上に形成されたＤＬＣ被覆膜を該レジストパターンごと剥離するので該表面の導電性ＤＬＣ層が露出することとなり、導電性ＤＬＣの部分と非導電性ＤＬＣの部分とが形成される。基材の表面を導電性ＤＬＣとすることで、例えば、めっきなどができるようになるし、導電性ＤＬＣの部分は、密着性が悪いため剥離しやすい。このため、転写する際の転写物の剥離性に優れたパターン付ロールとなる。【００１５】
前記ＤＬＣ被覆膜の厚さが、０．１μｍ〜２０μｍであることが好ましく、０．１μｍ〜１０μｍがより好ましく、０．１μｍ〜５μｍがさらに好ましい。【００１６】
前記導電性ＤＬＣ層が、体積抵抗率１．０×１０−３Ω・ｃｍ〜１．０×１００Ω・ｃｍの導電率を有するのが好適である。【００１７】
導電性ＤＬＣ層の厚さについては、特に限定はないが、生産効率の観点から、導電性ＤＬＣ層の厚さは０．１μｍ〜２０μｍであることが好ましく、０．１μｍ〜１０μｍがより好ましく、０．１μｍ〜５μｍがさらに好ましい。【００１８】
前記導電性ＤＬＣ層の形成及びＤＬＣ被覆膜の形成にあたっては、めっき、蒸着、ＣＶＤ、ＰＶＤ（PhysicalVapor Deposition）、スパッタリングなど、公知の手法がいずれも適用可能である。【００１９】
前記表面が導電性ＤＬＣ層とされた基材が、Ｎｉ、ステンレス鋼、真鍮、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ａｌからなる群から選ばれた少なくとも一種の材料からなるのが好適である。なお、少なくとも一種の材料であるから、合金であってもよいことは勿論である。【００２０】
前記基材が、ゴム又はクッション性を有する樹脂からなるクッション層を備えるのが好ましい。すなわち、前記基材が、ゴム又はクッション性を有する樹脂からなるクッション層上に金属基材が形成されてなるクッション層を備えた基材でもよい。前記クッション層としては、シリコンゴム等の合成ゴムやポリウレタン、ポリスチレン等の弾力性のある合成樹脂を使用することができる。このクッション層の厚さはクッション性即ち弾力性を付与できる厚さであればよく、特別の限定はないが、例えば、１ｃｍ〜５ｃｍ程度の厚さがあれば充分である。ゴム又はクッション性を有する樹脂からなるクッション層を備えた基材の例としては、例えば特許文献６などがある。【００２１】
前記パターン付ロールが、連続めっき用ロールであるのが好適である。【００２２】
本発明に係る製品は、前記パターン付ロールによってめっきされたことを特徴とする。【００２３】
前記パターン付ロールが、電鋳金型ロールであるのが好適である。【００２４】
本発明に係る製品は、前記パターン付ロールによって電鋳されたことを特徴とする。【００２５】
前記パターン付ロールが、グラビア印刷用ロールであるのが好適である。サイドエッチングの問題がないため、従来よりも濃度範囲を広げることが可能であるからである。【００２６】
本発明に係る製品は、前記パターン付ロールによって印刷されたことを特徴とする。【００２７】
前記パターン付ロールが、成形用エンボスロールであるのが好適である。【００２８】
本発明に係る製品は、前記パターン付ロールによって成形されたことを特徴とする。【００２９】
本発明のパターン付ロールの製造方法は、表面が導電性ＤＬＣ層とされた基材を準備する工程と、該基材の表面に感光材を塗布し、露光・現像せしめてレジストパターンを形成する工程と、該導電性ＤＬＣ層及びレジストパターンの表面にＤＬＣ被覆膜を形成する工程と、該レジストパターン上に形成されたＤＬＣ被覆膜を該レジストパターンごと剥離せしめる工程と、を含むことを特徴とする。【００３０】
前記ＤＬＣ被覆膜の厚さが、０．１μｍ〜２０μｍであることが好ましく、０．１μｍ〜１０μｍがより好ましく、０．１μｍ〜５μｍがさらに好ましい。【００３１】
前記導電性ＤＬＣ層が、体積抵抗率１．０×１０−３Ω・ｃｍ〜１．０×１００Ω・ｃｍの導電率を有するのが好適である。【００３２】
前記感光材が塗布される基材が、Ｎｉ、ステンレス鋼、真鍮、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ａｌからなる群から選ばれた少なくとも一種の材料からなるのが好適である。なお、少なくとも一種の材料であるから、合金であってもよいことは勿論である。【００３３】
前記基材が、ゴム又はクッション性を有する樹脂からなるクッション層を備えるのが好適である。【００３４】
本発明のパターン付ロールの製造方法は、被処理ロールに対して処理を行う処理装置を複数個設け、ロボットアームで該被処理ロールを該処理装置に順次移載して処理するようにしたパターン付ロール全自動製造システムを用いて、パターン付ロールを製造してなるのが好ましい。【００３５】
前記パターン付ロール全自動製造システムが、被処理ロールをチャックしてハンドリングする第一の産業ロボットのハンドリングエリアを有する処理室Ａと、被処理ロールをチャックしてハンドリングする第二の産業ロボットのハンドリングエリアを有する処理室Ｂと、を有し、前記処理室Ａ及び前記処理室Ｂを連通せしめ、前記処理室Ａの前記第一の産業ロボットのハンドリングエリア又は前記処理室Ｂの前記第二の産業ロボットのハンドリングエリアに少なくとも一つの真空成膜装置を配置し、前記処理室Ａの前記第一の産業ロボットのハンドリングエリアに、ロールストック装置、感光材塗布装置、電子彫刻装置、レーザ露光潜像形成装置、脱脂装置、砥石研磨装置、超音波洗浄装置、銅メッキ装置、現像装置、ペーパー研磨装置から選ばれる処理装置の少なくとも一つを配置し、前記処理室Ｂの前記第二の産業ロボットのハンドリングエリアに、前記処理装置のうち前記処理室Ａに配置しなかった処理装置の少なくとも一つを配置し、かつ前記処理室Ａ及び前記処理室Ｂの前記処理装置は、設置及び撤去が可能とされてなり、前記第一の産業ロボット及び第二の産業ロボットで該被処理ロールを該処理装置に順次移載して処理するようにされているのが好適である。【００３６】
そして、表面が導電性ＤＬＣ層とされた基材の該表面に感光材を塗布し、露光・現像せしめてレジストパターンを形成し、該導電性ＤＬＣ層及びレジストパターンの表面にＤＬＣ被覆膜を形成し、該レジストパターン上に形成されたＤＬＣ被覆膜を該レジストパターンごと剥離せしめ、導電性ＤＬＣ層の表面にＤＬＣパターンを形成してなるパターン付ロールを製造してなり、前記真空成膜装置にて導電性ＤＬＣ層の形成処理及びＤＬＣ被覆膜の形成処理が行われるように構成されるのが好適である。【００３７】
前記真空成膜装置が二台以上配置されてなり、導電性ＤＬＣ層の形成処理及びＤＬＣ被覆膜の形成処理が各々の前記真空成膜装置で同時に行うことが可能とされてなるのが好ましい。
【発明の効果】
【００３８】
本発明によれば、サイドエッチングの問題を解消しつつ、感光材の剥離性及び転写物の剥離性に優れたパターン付ロール及びその製造方法を提供することができるという著大な効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】本発明のパターン付ロールの一例を模式的に示す説明図であり、（ａ）は基材の表面に導電性ＤＬＣ層を形成した状態の要部断面図、（ｂ）は導電性ＤＬＣ層の表面に感光材を塗布した状態の要部断面図、（ｃ）は露光・現像せしめてレジストパターンを形成した状態の要部断面図、（ｄ）は導電性ＤＬＣ層及びレジストパターンの表面にＤＬＣ被覆膜を形成した状態の要部断面図、（ｅ）は該レジストパターン上に形成されたＤＬＣ被覆膜を該レジストパターンごと剥離せしめた状態を示す要部断面図である。
【図２】図１に示したパターン付ロールの製造方法の工程順を示すフローチャートである。
【図３】本発明のパターン付ロールの製造方法に用いられるパターン付ロールの全自動製造システムの一つの実施の形態を示す概略平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００４０】
以下に本発明の実施の形態を説明するが、これら実施の形態は例示的に示されるもので、本発明の技術思想から逸脱しない限り種々の変形が可能なことはいうまでもない。なお、同一部材は同一符号で表される。
【００４１】
図１において、符号１０はパターン付ロールを示す。符号１２は基材を示し、Ｎｉ、ステンレス鋼、真鍮、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ａｌからなる群から選ばれた少なくとも一種の材料からなるものを用いることができる。基材１２は円筒状のものが用いられる。また、基材１２の下面に、ゴム又はクッション性を有する樹脂からなるクッション層を備えるようにしてもよい。該クッション層は、ゴム又はクッション性を有する樹脂からなり、１ｍｍ〜１０ｃｍ程度の均一な厚さで表面の平滑度が高いシート状のものを、継ぎ目に隙間が開かないように基材１２に強固に接着し、その後精密円筒研削、鏡面研磨される。
【００４２】
まず、基材１２の表面に導電性ＤＬＣ層１４を形成する（図１（ａ）及び図２のステップ１００）。導電性ＤＬＣ層１４はＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法やスパッタ法によって形成すればよい。
【００４３】
次いで、表面の導電性ＤＬＣ層１４上に感光材１６を塗布する（図１（ｂ）及び図２のステップ１０２）。露光・現像せしめてレジストパターン１８を形成する（図１（ｃ）及び図２のステップ１０４）。感光材として用いる感光性組成物はネガ型及びポジ型のいずれでも使用可能である。このようにして、レジストパターン１８が形成されていない部分は、導電性ＤＬＣ層１４が露出する。
【００４４】
次に、露出した導電性ＤＬＣ層１４及びレジストパターン１８の表面にＤＬＣ被覆膜２０を形成する（図１（ｄ）及び図２のステップ１０６）。ＤＬＣ被覆膜２０はＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法やスパッタ法によって形成すればよい。
【００４５】
次いで、該レジストパターン１８上に形成されたＤＬＣ被覆膜２０を該レジストパターン１８ごと剥離せしめ、導電性ＤＬＣ層１４上にＤＬＣパターン２２を形成する（図１（ｅ）及び図２のステップ１０８）。
【００４６】
また、本発明のパターン付ロールの製造方法は、被処理ロールに対して処理を行う処理装置を複数個設け、ロボットアームで該被処理ロールを該処理装置に順次移載して処理するようにしたパターン付ロール全自動製造システムを用いて、パターン付ロールを製造してなるのが好ましい。
【００４７】
本発明のパターン付ロールの製造方法に用いられる、このようなパターン付ロール全自動製造システムの一つの実施の形態を図３に示す。
【００４８】
図３において、符号３０はパターン付ロール全自動製造システムを示す。
【００４９】
全自動製造システム３０は、大きく分けて処理室Ａと処理室Ｂに分けられている。そして、処理室Ａは、さらに処理室Ｃに分けられている。前記処理室Ａと処理室Ｂ、前記処理室Ａと処理室Ｃとは壁３２，３３で分け隔てられており、かつ開閉自在なシャッター３４を介して連通せしめられている。
【００５０】
処理室Ａの構成について説明する。処理室Ａにおいて、符号３６は第一の産業ロボットであり、旋回自在な多軸のロボットアーム３８を有している。
【００５１】
符号４０は被処理ロールであり、前記被処理ロール４０が上述した基材１２となる。符号４２ａ，４２ｂはそれぞれロールストック装置である。このロールストック装置については例えば特許文献７に開示されたロールストック装置を用いることが可能である。
【００５２】
ロボットアーム３８の先端には、チャック手段９２が設けられており、前記チャック手段９２により、被処理ロール２０を着脱自在にチャック可能とされている。
【００５３】
次に、処理室Ｂの構成について説明する。処理室Ｂにおいて、符号５０は第二の産業ロボットであり、旋回自在な多軸のロボットアーム５２を有している。
【００５４】
ロボットアーム５２の先端には、チャック手段９４が設けられており、前記チャック手段９４により、被処理ロール４０を着脱自在にチャック可能とされている。
【００５５】
符号４４は感光材塗布装置であり、符号４６はレーザ露光装置である。図示例では、レーザ露光装置４６の上に感光材塗布装置４４が設けられている。これらの装置には従来公知の装置を適用することができ、例えば特許文献７に開示されたような感光材塗布装置及びレーザ露光装置を用いることができる。
【００５６】
符号７０は中継のために被処理ロール４０を置くためのロール中継載置台であり、前記第一の産業ロボット３６のハンドリングエリアと第二の産業ロボット５０のハンドリングエリアとが重複する位置に設けられている。符号９０は被処理ロール４０に対し、超音波洗浄処理及び乾燥処理を行うための乾燥機能付超音波洗浄装置であり、前記ロール中継載置台７０に前記乾燥機能付超音波洗浄装置９０が近接して設けられている。
【００５７】
超音波洗浄装置９０は、洗浄水を溜めるための貯留槽と前記貯留槽の下部に設けられた超音波振動子とを有しており、前記超音波振動子の超音波振動で洗浄水を振動させて洗浄を行うことができる装置である。乾燥機能付超音波洗浄装置９０には、さらに乾燥機能が設けられている。乾燥機能付超音波洗浄装置９０により、各処理毎に必要に応じて、超音波洗浄及び乾燥が行えるようになっている。
【００５８】
また、パターン付ロール全自動製造システム３０は、コンピュータ４８で電気的に制御されており、第一の産業ロボット３６及び第二の産業ロボット５０もコンピュータ４８により制御されている。
【００５９】
符号６２は現像装置であり、例えば特許文献７に開示されたような現像装置を用いることができる。
【００６０】
符号５８は脱脂装置であり、符号６０は銅メッキ装置である。図示例では、銅メッキ装置６０の上に脱脂装置５８が設けられている。これらの装置には従来公知の装置を適用することができ、例えば特許文献７に開示されたような電解脱脂装置及び銅メッキ装置を用いることができる。
【００６１】
符号６８ａ，６８ｂは真空成膜装置であり、導電性ＤＬＣ層の形成処理及びＤＬＣ被覆膜の形成処理が可能であればよく、スパッタリング、ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ、真空蒸着法、などを行うための真空成膜装置がいずれも含まれる。図示例では、前記真空成膜装置６８ａ，６８ｂとして、気相状態にある原料を用いて成膜を行う気相成膜装置の例を示した。
【００６２】
前記真空成膜装置６８ａ，６８ｂは複数本の被処理ロール４０を立てた状態で内部に収容でき、複数本の被処理ロール４０に対して同時に処理が可能とされている。
【００６３】
また、図示例では省略したが、必要に応じて、第二の産業ロボット５０のハンドリングエリア内に超音波洗浄装置を設けるようにしてもよい。前記超音波洗浄装置は、洗浄水を溜めるための貯留槽と前記貯留槽の下部に設けられた超音波振動子とを有しており、前記超音波振動子の超音波振動で洗浄水を振動させて洗浄を行うことができる装置である。
【００６４】
次に、処理室Ｃの構成について説明する。処理室Ｃにおいて、符号４１はペーパー研磨を行うためのペーパー研磨装置であり、符号５４は砥石研磨装置である。砥石研磨装置５４には従来公知の装置を適用することができ、例えば特許文献７に開示されたような砥石研磨装置を用いることができる。図示例では、砥石研磨装置５４の上にペーパー研磨装置４１が設けられている。ペーパー研磨装置４１としては、例えば特許文献７に開示されているようなペーパー研磨装置を用いることが可能である。
【００６５】
処理室Ａと処理室Ｃとはシャッター３４を介して連通せしめられており、砥石研磨装置５４及びペーパー研磨装置４１は、前記第一の産業ロボット３６のハンドリングエリアに配置されている。
【００６６】
図示の例では前記処理室Ａがクリーンルームとされている。前記処理室Ａ及び処理室Ｂは、必要に応じてそれぞれクリーンルームとすることが可能である。
【００６７】
処理室Ａの壁７６には扉７８，８０が設けられており、製造されたパターン付ロール１０を取り出したり、新たな被処理ロール（円筒形母材）を入れたりする。製造されたパターン付ロール１０はロールストック装置４２ａ，４２ｂのいずれか一方に載置された後、搬出される。一方、これから処理が行われる被処理ロールは他方のロールストック装置に載置される。処理室Ａの外側には、コンピュータ４８が置かれており、種々の情報をチェックしたり管理したり、種々のプログラムの設定などが行われると共に、パターン付ロールの全自動製造システム３０の制御を行う。
【００６８】
図示例では、ロールストック装置４２ａに被処理ロール４０を載置し、ロールストック装置４２ｂに製造されたパターン付ロール１０を載置した例を示した。
【００６９】
このようにして、本発明のパターン付ロールの製造方法に用いられるパターン付ロールの全自動製造システム３０は、被処理ロール４０をチャックしてハンドリングする第一の産業ロボット３６のハンドリングエリアを有する処理室Ａと、被処理ロールをチャックしてハンドリングする第二の産業ロボット５０のハンドリングエリアを有する処理室Ｂと、を有し、前記処理室Ａ及び前記処理室Ｂを連通せしめ、前記処理室Ａの前記第一の産業ロボット３６のハンドリングエリア又は前記処理室Ｂの前記第二の産業ロボット５０のハンドリングエリアに少なくとも一つの真空成膜装置６８ａ，６８ｂを配置し、前記処理室Ａの前記第一の産業ロボット３６のハンドリングエリアに、ロールストック装置４２ａ，４２ｂ、感光材塗布装置４４、レーザ露光潜像形成装置４６、超音波洗浄装置９０、砥石研磨装置５４、ペーパー研磨装置４１、を配置し、前記処理室Ｂの前記第二の産業ロボットのハンドリングエリアに、前記処理装置のうち前記処理室Ａに配置しなかった処理装置の脱脂装置５８、銅メッキ装置６０、現像装置６２を配置し、かつ前記処理室Ａ及び前記処理室Ｂの前記処理装置は、設置及び撤去が可能とされてなる。
【００７０】
そして、図１及び図３に示すように、前記第一の産業ロボット３６及び第二の産業ロボット５０で該被処理ロール４０を該処理装置に順次移載して処理することにより、表面が導電性ＤＬＣ層１４とされた基材１２の該表面に感光材１６を塗布し、露光・現像せしめてレジストパターン１８を形成し、該導電性ＤＬＣ層１４及びレジストパターン１８の表面にＤＬＣ被覆膜２０を形成し、該レジストパターン１８上に形成されたＤＬＣ被覆膜２０を該レジストパターン１８ごと剥離せしめ、導電性ＤＬＣ層の表面にＤＬＣパターンを形成してなるパターン付ロールを製造してなり、前記真空成膜装置６８ａ，６８ｂにて導電性ＤＬＣ層１４の形成処理及びＤＬＣ被膜２０の形成処理が行われるようにされている。
【００７１】
そして、真空成膜装置は前記真空成膜装置６８ａ，６８ｂの二台配置されているため、導電性ＤＬＣ層１４の形成処理及びＤＬＣ被膜２０の形成処理が各々の前記真空成膜装置６８ａ，６８ｂで同時に行うことが可能とされている。
【００７２】
次に、図３に基づいて、パターン付ロールの製造方法に用いられるパターン付ロールの全自動製造システム３０の作用を説明する。ロールストック装置４２ａ，４２ｂのいずれか一方に載置された被処理ロール４０を第一の産業ロボット３６がチャックしてロール中継載置台７０に置き、第二の産業ロボット５０に受け渡す。被処理ロール４０を第二の産業ロボット５０がチャックして、脱脂装置５８に運んで被処理ロール４０を離して脱脂装置５８にセットする。
【００７３】
脱脂装置５８での脱脂作業を終えると、第二の産業ロボット５０が被処理ロール４０をチャックして銅メッキ装置６０に運んで被処理ロール４０を離して銅メッキ装置６０にセットする。
【００７４】
銅メッキ装置６０でのメッキ作業を終えると、第二の産業ロボット５０が被処理ロール４０をチャックして、ロール中継載置台７０に運んで置き、第一の産業ロボット３６に受け渡す。第一の産業ロボット３６が被処理ロール４０をチャックして砥石研磨装置５４に運んで被処理ロール４０を離して砥石研磨装置５４にセットする。
【００７５】
砥石研磨装置５４での砥石研磨作業を終えると、第一の産業ロボット３６が被処理ロール４０をチャックしてロール中継載置台７０に置き、第二の産業ロボット５０に受け渡す。被処理ロール４０を第二の産業ロボット５０がチャックして、真空成膜装置６８ａに運んで被処理ロール４０を離して真空成膜装置６８ａ又は６８ｂにセットする。そして真空成膜装置６８ａ又は６８ｂで導電性ＤＬＣ層の形成処理を行う。
【００７６】
真空成膜装置６８ａ又は６８ｂでの導電性ＤＬＣ層の形成処理作業を終えると、第二の産業ロボット５０が被処理ロール４０をチャックして、ロール中継載置台７０に運んで置き、第一の産業ロボット３６に受け渡す。第一の産業ロボット３６が被処理ロール４０をチャックして感光材塗布装置４４に運んで被処理ロール４０を離して感光材塗布装置４４にセットする。
【００７７】
感光材塗布装置４４での感光材塗布作業を終えると、第一の産業ロボット３６が被処理ロール４０をチャックしてレーザ露光装置４６に運んで被処理ロール４０を離してレーザ露光装置４６にセットする。
【００７８】
レーザ露光装置４６での露光作業を終えると、第一の産業ロボット３６が被処理ロール４０をチャックしてロール中継載置台７０に置き、第二の産業ロボット５０に受け渡す。被処理ロール４０を第二の産業ロボット５０がチャックして、現像装置６２に運んで被処理ロール４０を離して現像装置６２にセットする。
【００７９】
現像装置６２での現像作業を終えると、第二の産業ロボット５０が被処理ロール４０をチャックして、真空成膜装置６８ａ又は６８ｂに運んで被処理ロール４０を離して真空成膜装置６８ａ又は６８ｂにセットする。そして真空成膜装置６８ａ又は６８ｂでＤＬＣ被覆膜の形成処理を行う。
【００８０】
前記ＤＬＣ被覆膜の形成処理が終了した被処理ロール４０は、前記第二の産業ロボット５０によって前記真空成膜装置６８ａ又は６８ｂの外へと移送され、前記導電性ＤＬＣ層の形成処理又は前記ＤＬＣ被覆膜の形成処理が行われるべき次の被処理ロール４０が順次、前記真空成膜装置６８ａ，６８ｂ内へと移送される。このようにして、前記導電性ＤＬＣ層の形成処理又は前記ＤＬＣ被覆膜の形成処理が同時に順繰りに行われる。
【００８１】
真空成膜装置６８ａ又は６８ｂでのＤＬＣ被覆膜の形成処理を終えると、第二の産業ロボット５０が被処理ロール４０をチャックして、ロール中継載置台７０に運んで置き、第一の産業ロボット３６に受け渡す。
【００８２】
第一の産業ロボット３６が被処理ロール４０をチャックして超音波洗浄装置９０に運んで被処理ロール４０を離して超音波洗浄装置９０にセットし、レジストパターン上に形成されたＤＬＣ被覆膜を該レジストパターンごと剥離処理する。
【００８３】
剥離処理を終えると、第一の産業ロボット３６が被処理ロール４０をチャックしてペーパー研磨装置４１に運んで被処理ロール４０を離してペーパー研磨装置４１にセットする。ペーパー研磨装置４１でペーパー研磨（自動研磨）が行われるとパターン付ロール１０となり、図示例ではロールストック装置４２ｂに載置される。なお、ペーパー研磨は、グラビア印刷用ロールを製造するときのみ必要であり、その他の用途のパターン付ロールを製造する場合は不要である。
【００８４】
このようにして出来上がったパターン付ロール１０は処理室Ａの外側へと運び出されて完成する。
【００８５】
図３の例では、第一の産業ロボット３６及び第二の産業ロボット５０としては、円筒状の被処理ロール４０をチャックしながら被処理ロール４０を各処理装置に運んで被処理ロール４０を離して該処理装置にセットし、該処理装置に設けられた駆動手段によって被処理ロールが回転せしめられる例を示した。
【００８６】
一方、第一の産業ロボット及び第二の産業ロボットとしては、駆動手段付きの産業ロボットを用いて、円筒状の被処理ロール４０をチャックしながら被処理ロール４０を各処理装置に運んで被処理ロール４０を把持したまま該処理装置にセットし、該産業ロボットに設けられた駆動手段によって被処理ロールが回転せしめられる構成としてもよい。
【実施例】
【００８７】
以下に実施例をあげて本発明をさらに具体的に説明するが、これらの実施例は例示的に示されるもので限定的に解釈されるべきでないことはいうまでもない。【００８８】
（実施例１）
円周６００ｍｍ、面長１１００ｍｍの版母材（アルミ中空ロール）を準備し、ＮｅｗＦＸ（株式会社シンク・ラボラトリー製全自動レーザーグラビア製版システム）を用いて下記するパターン付ロールの製造を行った。まず、被処理ロールである版母材（アルミ中空ロール）を銅メッキ槽に装着し、中空ロールをメッキ液に全没させて３０Ａ／ｄｍ2、６．０Ｖで４０μｍの銅メッキ層を形成した。メッキ表面はブツやピットの発生がなく、基材となる均一な銅メッキ層を得た。この銅メッキ層の表面を４ヘッド型研磨機（株式会社シンク・ラボラトリー製研磨機）を用いて研磨して当該銅メッキ層の表面を均一な研磨面とした。【００８９】
次いで、基材である銅メッキ層を形成した被処理ロールを真空成膜装置内に収容し、下記する条件でＣＶＤ法によって導電性ＤＬＣ層を形成した。ＣＶＤ条件は次の通りである。原料ガスにトルエン／アセチレン、成膜温度２００−３００℃、成膜時間６０分で膜厚２μｍの導電性ＤＬＣ層を成膜した。該導電性ＤＬＣ層の体積抵抗率は、５．０×１０−２Ω・ｃｍであった。【００９０】
上記形成した導電性ＤＬＣ層の表面に感光材（サーマルレジスト：ＴＳＥＲ−ＮＳ（株式会社シンク・ラボラトリー製））を塗布（ファウンテンコーター）、乾燥した。得られた感光材の膜厚は膜厚計（ＦＩＬＬＭＥＴＲＩＣＳ社製Ｆ２０、松下テクノトレーデイング社販売）で計ったところ、７μｍであった。ついで、画像をレーザー露光し現像した。上記レーザー露光は、Ｌａｓｅｒ  Ｓｔｒｅａｍ  ＦＸを用い露光条件３００ｍＪ／ｃｍ2で所定のパターン露光を行った。また、上記現像は、ＴＬＤ現像液（株式会社シンク・ラボラトリー製現像液）を用い、現像液希釈比率（原液１：水７）で、２４℃９０秒間行い、所定のレジストパターンを形成した。【００９１】
該導電性ＤＬＣ層及びレジストパターンの表面にＤＬＣ被覆膜をＣＶＤ法で形成した。原料ガスにトルエン、成膜温度８０−１２０℃、成膜時間６０分で膜厚０．１μｍの中間層を成膜した。次に、原料ガスにトルエン、成膜温度８０−１２０℃、成膜時間１８０分で膜厚５μｍのＤＬＣ層を成膜した。【００９２】
次いで、該被処理ロールを水酸化ナトリウム水溶液中で超音波処理を３０分行った。そして、該レジストパターン上に形成されたＤＬＣ被覆膜を該レジストパターンごと剥離せしめ、導電性ＤＬＣ層の表面にＤＬＣパターンが形成されたパターン付ロールを得た。【００９３】
このパターン付ロールの表面を光学顕微鏡で観察したところ、表面に多数の方形状凸部が形成された高精細なパターン付ロールが観察された。ＤＬＣパターンの線幅は１０μｍであり、方形状凸部は、一辺が１００μｍの正方形であった。また、方形状凹部の深度は５μｍであった。【００９４】
得られたパターン付ロールを銅メッキ槽に装着し、該パターン付ロールをメッキ液に全没させて２０Ａ／ｄｍ2、６．０Ｖで２０μｍの銅の連続メッキを行った。得られた銅メッキは剥離液を使用せずとも該パターン付ロールから綺麗に剥がすことができた。【００９５】
（実施例２）
パターニング形状を変えた以外は実施例１と同様にして、電鋳金型ロールを得た。導電性ＤＬＣ層の体積抵抗率は、５．０×１０−２Ω・ｃｍであった。得られた電鋳金型ロールを光学顕微鏡で観察したところ、高精細なＤＬＣパターンが観察された。【００９６】
（実施例３）
パターニング形状を変えた以外は実施例１と同様にし、且つＤＬＣ被覆膜を該レジストパターンごと剥離処理した後ペーパー研磨を行い、グラビア印刷用ロール（グラビアシリンダー）を得た。導電性ＤＬＣ層の体積抵抗率は、５．０×１０−２Ω・ｃｍであった。得られたグラビア印刷用ロールを電子顕微鏡で観察したところ、高精細なＤＬＣパターンが観察された。【００９７】
（実施例４）
パターニング形状を変えた以外は実施例１と同様にして、成形用エンボスロールを得た。導電性ＤＬＣ層の体積抵抗率は、５．０×１０−２Ω・ｃｍであった。得られた成形用エンボスロールを電子顕微鏡で観察したところ、高精細なＤＬＣパターンが観察された。【００９８】
（実施例５）
基材をステンレス鋼とした以外は実施例１と同様にして、パターン付ロールを得た。導電性ＤＬＣ層の体積抵抗率は、５．０×１０−２Ω・ｃｍであった。得られたパターン付ロールを電子顕微鏡で観察したところ、高精細なＤＬＣパターンが観察された。また、得られたパターン付ロールを銅メッキ槽に装着し銅の連続メッキを行った。得られた銅メッキは剥離液を使用せずとも該パターン付ロールから綺麗に剥がすことができた。【００９９】
（実施例６）
基材をチタンとした以外は実施例１と同様にして、パターン付ロールを得た。導電性ＤＬＣ層の体積抵抗率は、５．０×１０−２Ω・ｃｍであった。得られたパターン付ロールを電子顕微鏡で観察したところ、高精細なＤＬＣパターンが観察された。また、得られたパターン付ロールを銅メッキ槽に装着し銅の連続メッキを行った。得られた銅メッキは剥離液を使用せずとも該パターン付ロールから綺麗に剥がすことができた。【０１００】
基材として、シリコンゴム上に板厚０．４ｍｍのニッケルスリーブを嵌着せしめたロールを使用した以外は実施例１同様にしてパターン付ロールを作製した。導電性ＤＬＣ層の体積抵抗率は、５．０×１０−２Ω・ｃｍであった。得られたパターン付ロールを電子顕微鏡で観察したところ、高精細なＤＬＣパターンが観察された。
【符号の説明】
【０１０１】
１０：本発明のパターン付ロール、１２：基材、１４：導電性ＤＬＣ層、１６：感光材、１８：レジストパターン、２０：ＤＬＣ被覆膜、２２：ＤＬＣパターン、３０：パターン付ロール全自動製造システム、３２，３３，７６：壁、３４：シャッター、３６：第一の産業ロボット、３８，５２：ロボットアーム、４０：被処理ロール、４１：ペーパー研磨装置、４２ａ，４２ｂ：ロールストック装置、４４：感光材塗布装置、４６：レーザ露光装置、４８：コンピュータ、５０：第二の産業ロボット、５４：砥石研磨装置、５８：脱脂装置、６０：銅メッキ装置、６２：現像装置、６８ａ，６８ｂ：真空成膜装置、７０：ロール中継載置台、７８，８０：扉、９０：乾燥機能付超音波洗浄装置、９２，９４：チャック手段、Ａ，Ｂ，Ｃ：処理室。
【図１】
2015076180.tif 000003
【図２】
2015076180.tif 000004
【図３】
2015076180.tif 000005
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月2日(2016.9.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面が導電性ＤＬＣ層とされた基材の該表面に感光材を塗布し、露光・現像せしめてレジストパターンを形成し、該導電性ＤＬＣ層及びレジストパターンの表面にＤＬＣ被覆膜を形成し、該レジストパターン上に形成されたＤＬＣ被覆膜を該レジストパターンごと剥離せしめ、導電性ＤＬＣ層の表面にＤＬＣパターンを形成してなることを特徴とするパターン付ロール。
【請求項２】
前記ＤＬＣ被覆膜の厚さが、０．１μｍ〜２０μｍであることを特徴とする請求項１記載のパターン付ロール。
【請求項３】
前記導電性ＤＬＣ層が、体積抵抗率１．０×１０−３Ω・ｃｍ〜１．０×１００Ω・ｃｍの導電率を有することを特徴とする請求項１又は２記載のパターン付ロール。
【請求項４】
前記表面が導電性ＤＬＣ層とされた基材が、Ｎｉ、ステンレス鋼、真鍮、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ａｌからなる群から選ばれた少なくとも一種の材料からなることを特徴とする請求項１〜３いずれか１項記載のパターン付ロール。
【請求項５】
前記基材が、ゴム又はクッション性を有する樹脂からなるクッション層を備えることを特徴とする請求項１〜４いずれか１項記載のパターン付ロール。
【請求項６】
前記パターン付ロールが、連続めっき用ロールであることを特徴とする請求項１〜５いずれか１項記載のパターン付ロール。
【請求項７】
前記パターン付ロールが、電鋳金型ロールであることを特徴とする請求項１〜５いずれか１項記載のパターン付ロール。
【請求項８】
前記パターン付ロールが、グラビア印刷用ロールであることを特徴とする請求項１〜５いずれか１項記載のパターン付ロール。
【請求項９】
前記パターン付ロールが、成形用エンボスロールであることを特徴とする請求項１〜５いずれか１項記載のパターン付ロール。
【請求項１０】
表面が導電性ＤＬＣ層とされた基材を準備する工程と、該基材の表面に感光材を塗布し、露光・現像せしめてレジストパターンを形成する工程と、該導電性ＤＬＣ層及びレジストパターンの表面にＤＬＣ被覆膜を形成する工程と、該レジストパターン上に形成されたＤＬＣ被覆膜を該レジストパターンごと剥離せしめる工程と、を含むことを特徴とするパターン付ロールの製造方法。
【請求項１１】
前記ＤＬＣ被覆膜の厚さが、０．１μｍ〜２０μｍであることを特徴とする請求項１０記載のパターン付ロールの製造方法。
【請求項１２】
前記導電性ＤＬＣ層が、体積抵抗率１．０×１０−３Ω・ｃｍ〜１．０×１００Ω・ｃｍの導電率を有することを特徴とする請求項１０又は１１記載のパターン付ロールの製造方法。
【請求項１３】
前記感光材が塗布される基材が、Ｎｉ、ステンレス鋼、真鍮、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ａｌからなる群から選ばれた少なくとも一種の材料からなることを特徴とする請求項１０〜１２いずれか１項記載のパターン付ロールの製造方法。
【請求項１４】
前記基材が、ゴム又はクッション性を有する樹脂からなるクッション層を備えることを特徴とする請求項１０〜１３いずれか１項記載のパターン付ロールの製造方法。
【請求項１５】
被処理ロールに対して処理を行う処理装置を複数個設け、ロボットアームで該被処理ロールを該処理装置に順次移載して処理するようにしたパターン付ロール全自動製造システムを用いて、パターン付ロールを製造してなることを特徴とする請求項１０〜１４いずれか１項記載のパターン付ロールの製造方法。
【請求項１６】
前記パターン付ロール全自動製造システムが、
被処理ロールをチャックしてハンドリングする第一の産業ロボットのハンドリングエリアを有する処理室Ａと、被処理ロールをチャックしてハンドリングする第二の産業ロボットのハンドリングエリアを有する処理室Ｂと、を有し、前記処理室Ａ及び前記処理室Ｂを連通せしめ、
前記処理室Ａの前記第一の産業ロボットのハンドリングエリア又は前記処理室Ｂの前記第二の産業ロボットのハンドリングエリアに少なくとも一つの真空成膜装置を配置し、
前記処理室Ａの前記第一の産業ロボットのハンドリングエリアに、ロールストック装置、感光材塗布装置、電子彫刻装置、レーザ露光潜像形成装置、脱脂装置、砥石研磨装置、超音波洗浄装置、銅メッキ装置、現像装置、ペーパー研磨装置から選ばれる処理装置の少なくとも一つを配置し、前記処理室Ｂの前記第二の産業ロボットのハンドリングエリアに、前記処理装置のうち前記処理室Ａに配置しなかった処理装置の少なくとも一つを配置し、かつ前記処理室Ａ及び前記処理室Ｂの前記処理装置は、設置及び撤去が可能とされてなり、前記第一の産業ロボット及び第二の産業ロボットで該被処理ロールを該処理装置に順次移載して処理することにより、
表面が導電性ＤＬＣ層とされた基材の該表面に感光材を塗布し、露光・現像せしめてレジストパターンを形成し、該導電性ＤＬＣ層及びレジストパターンの表面にＤＬＣ被覆膜を形成し、該レジストパターン上に形成されたＤＬＣ被覆膜を該レジストパターンごと剥離せしめ、導電性ＤＬＣ層の表面にＤＬＣパターンを形成してなるパターン付ロールを製造してなり、
前記真空成膜装置にて導電性ＤＬＣ層の形成処理及びＤＬＣ被覆膜の形成処理が行われることを特徴とする請求項１５記載のパターン付ロールの製造方法。
【請求項１７】
前記真空成膜装置が二台以上配置されてなり、導電性ＤＬＣ層の形成処理及びＤＬＣ被覆膜の形成処理が各々の前記真空成膜装置で同時に行うことが可能とされてなることを特徴とする請求項１６記載のパターン付ロールの製造方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年11月28日(2016.11.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面が導電性ＤＬＣ層とされた基材を準備する工程と、該基材の表面に感光材を塗布し、露光・現像せしめてレジストパターンを形成する工程と、該導電性ＤＬＣ層及びレジストパターンの表面にＤＬＣ被覆膜を形成する工程と、該レジストパターン上に形成されたＤＬＣ被覆膜を該レジストパターンごと剥離せしめる工程と、を含むパターン付ロールの製造方法であって、
前記基材である被処理ロールに対して処理を行う処理装置を複数個設け、ロボットアームで該被処理ロールを該処理装置に順次移載して処理するようにしたパターン付ロール全自動製造システムを用いて、パターン付ロールを製造し、
前記パターン付ロール全自動製造システムが、被処理ロールをチャックしてハンドリングする第一の産業ロボットのハンドリングエリアを有する処理室Ａと、被処理ロールをチャックしてハンドリングする第二の産業ロボットのハンドリングエリアを有する処理室Ｂと、を有し、前記処理室Ａ及び前記処理室Ｂを連通せしめ、前記処理室Ａの前記第一の産業ロボットのハンドリングエリア又は前記処理室Ｂの前記第二の産業ロボットのハンドリングエリアに二台以上の真空成膜装置を配置し、前記処理室Ａの前記第一の産業ロボットのハンドリングエリアに、ロールストック装置、感光材塗布装置、電子彫刻装置、レーザ露光潜像形成装置、脱脂装置、砥石研磨装置、超音波洗浄装置、銅メッキ装置、現像装置、ペーパー研磨装置から選ばれる処理装置の少なくとも一つを配置し、前記処理室Ｂの前記第二の産業ロボットのハンドリングエリアに、前記処理装置のうち前記処理室Ａに配置しなかった処理装置の少なくとも一つを配置し、かつ前記処理室Ａ及び前記処理室Ｂの前記処理装置は、設置及び撤去が可能とされてなり、前記第一の産業ロボット及び第二の産業ロボットで該被処理ロールを該処理装置に順次移載して処理することにより、表面が導電性ＤＬＣ層とされた基材の該表面に感光材を塗布し、露光・現像せしめてレジストパターンを形成し、該導電性ＤＬＣ層及びレジストパターンの表面にＤＬＣ被覆膜を形成し、該レジストパターン上に形成されたＤＬＣ被覆膜を該レジストパターンごと剥離せしめ、導電性ＤＬＣ層の表面にＤＬＣパターンを形成してなるパターン付ロールを製造してなり、前記真空成膜装置にて導電性ＤＬＣ層の形成処理及びＤＬＣ被覆膜の形成処理が行われ、
前記真空成膜装置が二台以上配置されてなり、導電性ＤＬＣ層の形成処理及びＤＬＣ被覆膜の形成処理が各々の前記真空成膜装置で同時に行うことが可能とされてなることを特徴とするパターン付ロールの製造方法。
【請求項２】
前記ＤＬＣ被覆膜の厚さが、０．１μｍ〜２０μｍであることを特徴とする請求項１記載のパターン付ロールの製造方法。
【請求項３】
前記導電性ＤＬＣ層が、体積抵抗率１．０×１０−３Ω・ｃｍ〜１．０×１００Ω・ｃｍの導電率を有することを特徴とする請求項１又は２記載のパターン付ロールの製造方法。
【請求項４】
前記感光材が塗布される基材が、Ｎｉ、ステンレス鋼、真鍮、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ａｌからなる群から選ばれた少なくとも一種の材料からなることを特徴とする請求項１〜３いずれか１項記載のパターン付ロールの製造方法。
【請求項５】
前記基材が、ゴム又はクッション性を有する樹脂からなるクッション層を備えることを特徴とする請求項１〜４いずれか１項記載のパターン付ロールの製造方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００１】
本発明は、ＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）によってパターニングを施したパターン付ロールの製造方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１０】
本発明は、上記した従来技術の問題点に鑑みなされたもので、サイドエッチングの問題を解消しつつ、パターン付ロール製造時の感光材剥離処理における感光材の剥離性及びパターン付ロールを用いて転写した際の転写物の剥離性に優れたパターン付ロールの製造方法を提供することを目的とする。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
上記課題を解決するため、本パターン付ロールは、表面が導電性ＤＬＣ層とされた基材の該表面に感光材を塗布し、露光・現像せしめてレジストパターンを形成し、該導電性ＤＬＣ層及びレジストパターンの表面にＤＬＣ被覆膜を形成し、該レジストパターン上に形成されたＤＬＣ被覆膜を該レジストパターンごと剥離せしめ、導電性ＤＬＣ層の表面にＤＬＣパターンを形成してなることを特徴とする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
本製品は、前記パターン付ロールによってめっきされたことを特徴とする。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２４】
本製品は、前記パターン付ロールによって電鋳されたことを特徴とする。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
本製品は、前記パターン付ロールによって印刷されたことを特徴とする。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２８】
本製品は、前記パターン付ロールによって成形されたことを特徴とする。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２９】
本発明のパターン付ロールの製造方法は、表面が導電性ＤＬＣ層とされた基材を準備する工程と、該基材の表面に感光材を塗布し、露光・現像せしめてレジストパターンを形成する工程と、該導電性ＤＬＣ層及びレジストパターンの表面にＤＬＣ被覆膜を形成する工程と、該レジストパターン上に形成されたＤＬＣ被覆膜を該レジストパターンごと剥離せしめる工程と、を含むパターン付ロールの製造方法であって、
前記基材である被処理ロールに対して処理を行う処理装置を複数個設け、ロボットアームで該被処理ロールを該処理装置に順次移載して処理するようにしたパターン付ロール全自動製造システムを用いて、パターン付ロールを製造し、
前記パターン付ロール全自動製造システムが、被処理ロールをチャックしてハンドリングする第一の産業ロボットのハンドリングエリアを有する処理室Ａと、被処理ロールをチャックしてハンドリングする第二の産業ロボットのハンドリングエリアを有する処理室Ｂと、を有し、前記処理室Ａ及び前記処理室Ｂを連通せしめ、前記処理室Ａの前記第一の産業ロボットのハンドリングエリア又は前記処理室Ｂの前記第二の産業ロボットのハンドリングエリアに二台以上の真空成膜装置を配置し、前記処理室Ａの前記第一の産業ロボットのハンドリングエリアに、ロールストック装置、感光材塗布装置、電子彫刻装置、レーザ露光潜像形成装置、脱脂装置、砥石研磨装置、超音波洗浄装置、銅メッキ装置、現像装置、ペーパー研磨装置から選ばれる処理装置の少なくとも一つを配置し、前記処理室Ｂの前記第二の産業ロボットのハンドリングエリアに、前記処理装置のうち前記処理室Ａに配置しなかった処理装置の少なくとも一つを配置し、かつ前記処理室Ａ及び前記処理室Ｂの前記処理装置は、設置及び撤去が可能とされてなり、前記第一の産業ロボット及び第二の産業ロボットで該被処理ロールを該処理装置に順次移載して処理することにより、表面が導電性ＤＬＣ層とされた基材の該表面に感光材を塗布し、露光・現像せしめてレジストパターンを形成し、該導電性ＤＬＣ層及びレジストパターンの表面にＤＬＣ被覆膜を形成し、該レジストパターン上に形成されたＤＬＣ被覆膜を該レジストパターンごと剥離せしめ、導電性ＤＬＣ層の表面にＤＬＣパターンを形成してなるパターン付ロールを製造してなり、前記真空成膜装置にて導電性ＤＬＣ層の形成処理及びＤＬＣ被覆膜の形成処理が行われ、
前記真空成膜装置が二台以上配置されてなり、導電性ＤＬＣ層の形成処理及びＤＬＣ被覆膜の形成処理が各々の前記真空成膜装置で同時に行うことが可能とされてなることを特徴とする。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
本発明によれば、サイドエッチングの問題を解消しつつ、感光材の剥離性及び転写物の剥離性に優れたパターン付ロールの製造方法を提供することができるという著大な効果を有する。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３９】
【図１】本発明方法によって製造されるパターン付ロールの一例を模式的に示す説明図であり、（ａ）は基材の表面に導電性ＤＬＣ層を形成した状態の要部断面図、（ｂ）は導電性ＤＬＣ層の表面に感光材を塗布した状態の要部断面図、（ｃ）は露光・現像せしめてレジストパターンを形成した状態の要部断面図、（ｄ）は導電性ＤＬＣ層及びレジストパターンの表面にＤＬＣ被覆膜を形成した状態の要部断面図、（ｅ）は該レジストパターン上に形成されたＤＬＣ被覆膜を該レジストパターンごと剥離せしめた状態を示す要部断面図である。
【図２】図１に示したパターン付ロールの製造方法の工程順を示すフローチャートである。
【図３】本発明のパターン付ロールの製造方法に用いられるパターン付ロールの全自動製造システムの一つの実施の形態を示す概略平面図である。
【国際調査報告】
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