(57)【要約】（１）光透過性導電層がパターン化された際の骨見え現象の抑制度合い及び（２）ヘイズ値のバランスが改善された、光透過性導電性フィルムを提供することを課題とする。（Ａ）光透過性支持層；（Ｂ）突起層；及び（Ｃ）光透過性導電層を含有し、前記突起層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、かつ前記光透過性導電層（Ｃ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、かつ突起層（Ｂ）と同じ面に配置されている場合は少なくとも突起層（Ｂ）を介して配置されている光透過性導電性フィルムであって：前記突起層（Ｂ）の光透過性支持層（Ａ）とは反対側の面が、凸曲面を有する複数の突起を有し、かつフィルムの主面に直交する面における前記突起（ただし、裾野部分のうちフィルムの主面方向に対する斜度が３°以上の部分を突起とみなす）の断面図の、フィルムの主面方向への投影直線の長さＸにおいて、前記断面図のうち、フィルムの主面方向に対する斜度が３°以上の部分の投影直線の長さ合計が占める割合が７０％以上である光透過性導電性フィルムを提供する。
2015163332.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）光透過性支持層； 
（Ｂ）突起層；及び
（Ｃ）光透過性導電層
を含有し、
前記突起層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、かつ
前記光透過性導電層（Ｃ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、かつ突起層（Ｂ）と同じ面に配置されている場合は少なくとも突起層（Ｂ）を介して配置されている光透過性導電性フィルムであって：
前記突起層（Ｂ）の光透過性支持層（Ａ）とは反対側の面が、凸曲面を有する複数の突起を有し、かつ
フィルムの主面に直交する面における前記突起（ただし、裾野部分のうちフィルムの主面方向に対する斜度が３°以上の部分を突起とみなす）の断面図の、フィルムの主面方向への投影直線の長さＸにおいて、
前記断面図のうち、フィルムの主面方向に対する斜度が３°以上の部分の投影直線の長さ合計が占める割合が７０％以上である、光透過性導電性フィルム。
【請求項２】
前記突起の頂上が、
平面又は
曲率５×１０５ ｍ−１未満の曲面
である、請求項１に記載の光透過性導電性フィルム。
【請求項３】
前記突起層（Ｂ）の前記表面が前記突起を、１ｍｍ２あたり１００個〜１０，０００個有する、請求項１〜３のいずれかに記載の光透過性導電性フィルム。
【請求項４】
前記突起の裾野部分のうちフィルムの主面方向に対する斜度が１０°以上の部分を突起とみなす、請求項１〜３のいずれかに記載の光透過性導電性フィルム。
【請求項５】
少なくとも一つの前記突起層（Ｂ）が、凸曲面の最大斜度が１５°以下である突起を有する突起層（Ｂ１）である、請求項１〜４のいずれかに記載の光透過性導電性フィルム。
【請求項６】
少なくとも一つの前記突起層（Ｂ）が、凸曲面の最大斜度が３０°以上である突起を有する突起層（Ｂ２）であり、かつ少なくとも一つの前記光透過性導電層（Ｃ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の前記突起層（Ｂ２）とは反対側の面に配置されている、請求項１〜５のいずれかに記載の光透過性導電性フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光透過性導電性フィルム、その製造方法及びその用途に関する。
【背景技術】
【０００２】
タッチパネルに搭載される光透過性導電性フィルムとして、プラスチック等からなる光透過性支持層の少なくとも一方の面に、直接又は他の層を介して、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）等を含有する光透過性導電層を配置した光透過性導電性フィルムが数多く用いられている。【０００３】
上記のフィルムは、光透過性導電層（あるいはさらにその上に層が存在する場合はその層も含めて）をエッチング処理によってパターン化した上で使用されることが多い。このようなフィルムは、光透過性導電層側のフィルム表面の上部から見たときに、光透過性導電層（あるいはその上層）が表面に存在する領域（パターン領域）と、同層が存在せずその下層が露出している領域（エッチング領域）とが観察される。パターン形状は例えば短冊状である。このようなフィルムにおいては、パターン形状が視認されてしまう、いわゆる骨見え現象が生じることが知られている。【０００４】
このような骨見え現象は、複数の要因により引き起こされる事象ではあるが、一因としてエッチング加工により引き起こされる局所的変形が寄与していると考えられている。【０００５】
この骨見え現象を抑制するため、局所的変形自体を抑制する目的で、フィルムの基材となる光透過性支持層として十分に厚いもの（例えば１８８μｍ程度）を用いることや、別のフィルムをさらに貼り合わせること等が提案されている。しかしながら、近年はフィルムの薄型軽量化（例えば５０μｍ程度）が求められており、そのような手段は採用できない状況にある。【０００６】
そこで、骨見え現象を抑制する目的で、基板の透明導電層を形成する側の面にコーティング層を設けることにより、屈折率差を小さくして、エッチング領域の見え方の差を小さくする方法が提案されている（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】国際公開第２００６／１２６６０４号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明者は、光透過性導電層をパターン化した光透過性導電性フィルムにおいて、骨見え現象を改善する目的で、エッチング領域の表面に微細な凹凸を形成することを試みた。
しかし、エッチング領域の表面に微細な凹凸を形成した場合には、骨見え現象は抑制される傾向はみられるものの、これはあくまでフィルム全体を曇らせることによりもたらされる効果であり、骨見え現象のみならず、タッチパネルに搭載して使用する際には表示画像そのものまでもが見えにくくなってしまうという問題があることを見出した。言い換えれば、従来の方法ではヘイズ値が高くなりすぎてタッチパネルに搭載して使用する際には画面の輝度が低下してしまうという問題があることを本発明者は見出した。【０００９】
したがって、本発明は、（１）光透過性導電層がパターン化された際の骨見え現象の抑制度合い及び（２）ヘイズ値のバランスが改善された、光透過性導電性フィルムを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは、鋭意検討を重ね、光透過性支持層と光透過性導電層の間、又は光透過性支持層の光透過性導電層とは反対側の面に突起を有する層（突起層）を設け、この突起の形状を、フィルムの主面方向に対する斜度が３°以上の部分の割合が比較的高いものとすることにより、乱反射を抑制しつつ界面反射を効果的に揺るがせることができ、ひいてはヘイズ値を抑制しつつ、効果的に骨見え現象を抑制できることを見出した。【００１１】
本発明は、これらの新たな知見に基づいてさらに種々の検討を重ねることにより完成されたものであり、次に掲げるものである。
項１
（Ａ）光透過性支持層； 
（Ｂ）突起層；及び
（Ｃ）光透過性導電層
を含有し、
前記突起層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、かつ
前記光透過性導電層（Ｃ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、かつ突起層（Ｂ）と同じ面に配置されている場合は少なくとも突起層（Ｂ）を介して配置されている光透過性導電性フィルムであって：
前記突起層（Ｂ）の光透過性支持層（Ａ）とは反対側の面が、凸曲面を有する複数の突起を有し、かつ
フィルムの主面に直交する面における前記突起（ただし、裾野部分のうちフィルムの主面方向に対する斜度が３°以上の部分を突起とみなす）の断面図の、フィルムの主面方向への投影直線の長さＸにおいて、
前記断面図のうち、フィルムの主面方向に対する斜度が３°以上の部分の投影直線の長さ合計が占める割合が７０％以上である、光透過性導電性フィルム。
項２
前記突起の頂上が、
平面又は
曲率５×１０５ ｍ−１ 未満の曲面
である、項１に記載の光透過性導電性フィルム。
項３
前記突起層（Ｂ）の前記表面が前記突起を、１ｍｍ２あたり１００個〜１０，０００個有する、項１〜３のいずれかに記載の光透過性導電性フィルム。
項４
前記突起の裾野部分のうちフィルムの主面方向に対する斜度が１０°以上の部分を突起とみなす、項１〜３のいずれかに記載の光透過性導電性フィルム。
項５
少なくとも一つの前記突起層（Ｂ）が、凸曲面の最大斜度が１５°以下である突起を有する突起層（Ｂ１）である、項１〜４のいずれかに記載の光透過性導電性フィルム。
項６
少なくとも一つの前記突起層（Ｂ）が、凸曲面の最大斜度が３０°以上である突起を有する突起層（Ｂ２）であり、かつ少なくとも一つの前記光透過性導電層（Ｃ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の前記突起層（Ｂ２）とは反対側の面に配置されている、項１〜５のいずれかに記載の光透過性導電性フィルム。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、乱反射を抑制しつつ界面反射を効果的に揺らがせることができる。本発明によれば、このようにしてヘイズ値を適度に抑制しつつ、効果的に骨見え現象を抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】光透過性支持層（Ａ）の片面に、突起層（Ｂ）及び光透過性導電層（Ｃ）がこの順で配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。
【図２】光透過性支持層（Ａ）の両面に、突起層（Ｂ）及び光透過性導電層（Ｃ）がこの順で配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。
【図３】光透過性支持層（Ａ）の片面に、光透過性導電層（Ｃ）が配置されており、その反対側の面に突起層（Ｂ）が配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。
【図４】光透過性支持層（Ａ）の一方の面に、第一の突起層（Ｂ）及び光透過性導電層（Ｃ）がこの順で配置されており、かつ、他方の面に、第二の突起層（Ｂ）が直接配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。
【図５】本発明の突起層（Ｂ）が有する突起を示す断面図である。
【図６】突起の別の態様を表す断面図である。
【図７】突起のさらに別の態様を表す断面図である。
【図８】突起のさらに別の態様を表す断面図である。
【図９】突起のさらに別の態様を表す断面図である。
【図１０】光透過性支持層（Ａ）の片面に、突起層（Ｂ）、アンダーコート層（Ｄ）及び光透過性導電層（Ｃ）がこの順で配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。
【図１１】光透過性支持層（Ａ）の両面に、突起層（Ｂ）、アンダーコート層（Ｄ）及び光透過性導電層（Ｃ）がこの順で配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。
【図１２】光透過性支持層（Ａ）の一方の面に、第一の突起層（Ｂ）、アンダーコート層（Ｄ）及び光透過性導電層（Ｃ）がこの順で互いに隣接して配置されており、かつ他方の面に、第二の突起層（Ｂ）が直接配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
１．  光透過性導電性フィルム
本発明の光透過性導電性フィルムは、
（Ａ）光透過性支持層； 
（Ｂ）突起層；及び
（Ｃ）光透過性導電層
を含有し、
前記突起層（Ｂ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、かつ
前記光透過性導電層（Ｃ）が、前記光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、かつ突起層（Ｂ）と同じ面に配置されている場合は少なくとも突起層（Ｂ）を介して配置されている光透過性導電性フィルムであって：
前記突起層（Ｂ）の光透過性支持層（Ａ）とは反対側の面が、凸曲面を有する複数の突起を有し、かつ
フィルムの主面に直交する面における前記突起（ただし、裾野部分のうちフィルムの主面方向に対する斜度が３°以上の部分を突起とみなす）の断面図の、フィルムの主面方向への投影直線の長さＸにおいて、
前記断面図のうち、フィルムの主面方向に対する斜度が３°以上の部分の投影直線の長さ合計が占める割合が７０％以上であることを特徴とする、光透過性導電性フィルム
である。
【００１５】
本発明において「光透過性」とは、光を透過させる性質を有する（ｔｒａｎｓｌｕｃｅｎｔ）ことを意味する。「光透過性」には、透明（ｔｒａｎｓｐａｒｅｎｔ）が含まれる。「光透過性」とは、例えば、全光線透過率が８０％以上、好ましくは８５％以上、より好ましくは８７％以上である性質をいう。本発明において全光線透過率は、ヘーズメーター（日本電色社製、商品名：ＮＤＨ−２０００、またはその同等品）を用いてＪＩＳ−Ｋ−７１０５に基づいて測定する。
【００１６】
本明細書において、光透過性支持層（Ａ）の一方の面に配置される複数の層のうち二つの層の相対的な位置関係について言及する場合、光透過性支持層（Ａ）を基準にして、光透過性支持層（Ａ）からの距離が大きい一方の層を「上の層」等といい、光透過性支持層（Ａ）からの距離が小さい他方の層を「下の層」等ということがある。
【００１７】
以下の各層についての説明箇所において特に明記されていない限り、本発明において、各層の厚さは、市販の反射分光膜厚計（大塚電子、ＦＥ−３０００、又はその同等品）を用いて求める。又は、代替的に、市販の透過型電子顕微鏡を用いた観察により求めてもよい。具体的には、ミクロトーム又は収束イオンビーム等を用いて光透過性導電性フィルムをフィルム面に対して垂直方向に薄く切断し、その断面を観察する。
【００１８】
図１に、本発明の光透過性導電性フィルムの一態様を示す。この態様では、光透過性支持層（Ａ）の一方の面に、突起層（Ｂ）及び光透過性導電層（Ｃ）がこの順で配置されている。
【００１９】
図２に、本発明の光透過性導電性フィルムの別の態様を示す。この態様では、光透過性支持層（Ａ）の両方の面に、突起層（Ｂ）及び光透過性導電層（Ｃ）がこの順で配置されている。
【００２０】
１．１  光透過性支持層（Ａ）
本発明において光透過性支持層とは、光透過性導電層を含有する光透過性導電性フィルムにおいて、光透過性導電層を含有する層を支持する役割を果たすものをいう。光透過性支持層（Ａ）としては、特に限定されず、例えば、タッチパネル用光透過性導電性フィルムにおいて、光透過性支持層として通常用いられるものを用いることができる。
【００２１】
光透過性支持層（Ａ）の素材は、特に限定されず、例えば、各種の有機高分子等を挙げることができる。有機高分子としては、特に限定されず、例えば、ポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアクリル系樹脂、ポリメタクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、及びポリフェニレンサルファイド系樹脂等が挙げられる。ポリエステル系樹脂としては、特に限定されず、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、及びポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等が挙げられる。光透過性支持層（Ａ）の素材は、ポリエステル系樹脂が好ましく、特にＰＥＴが好ましい。光透過性支持層（Ａ）は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。
【００２２】
光透過性支持層（Ａ）の厚さは、特に限定されず、例えば、２〜３００μｍの範囲が挙げられる。
【００２３】
１．２  突起層（Ｂ）
本発明の光透過性導電性フィルムは、光透過性支持層（Ａ）の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して突起層（Ｂ）が配置されている。突起層（Ｂ）は、好ましくは光透過性支持層（Ａ）の面に、直接配置されている。
【００２４】
光透過性支持層（Ａ）の一方の面のみに、突起層（Ｂ）が配置されていてもよく、この場合、突起層（Ｂ）は光透過性導電層（Ｃ）と同じ側に配置されていてもよいし（図１）、光透過性導電層（Ｃ）がない面に配置されていてもよい（図３）。
【００２５】
光透過性支持層（Ａ）の両方の面に、突起層（Ｂ）がそれぞれ配置されていてもよい（図４）。
【００２６】
突起層（Ｂ）は、光透過性支持層（Ａ）とは反対側の面が、凸曲面を有する複数の突起を有し、かつフィルムの主面に直交する面における前記突起（ただし、裾野部分のうちフィルムの主面方向に対する斜度が３°以上の部分を突起とみなす）の断面図の、フィルムの主面方向への投影直線の長さＸにおいて、前記断面図のうち、フィルムの主面方向に対する斜度が３°以上の部分の投影直線の長さ合計が占める割合が７０％以上であるという特性を備える。
【００２７】
特に限定されるものではないが、突起断面図のフィルムの主面方向への投影直線の長さＸは通常、０．１μｍ〜１５μｍである。
【００２８】
図５に、フィルムの主面に直交する面における突起の断面図が示してある。図５には、フィルムの主面方向への投影直線の長さＸ、及びフィルムの主面方向に対する斜度が３°以上の部分の投影直線の長さｘ１及びｘ２も示してある。すなわち、この図において、ｘ１及びｘ２の合計値は、Ｘの７０％以上である。
【００２９】
前記突起は、フィルムの主面方向に対する斜度が３°以上の部分の割合が比較的高いという特徴を有している。本発明の光透過性導電性フィルムは、この斜度が３°以上の部分において効果的な反射光の散乱が起きるため、乱反射を抑制しつつ界面反射を効果的に揺らがせることができるという優れた効果を奏する。本発明者らの検討により、フィルムの主面方向に対する斜度が３°未満の部分は、反射光の散乱にほとんど寄与しないということが判っている。
【００３０】
また、本発明の好ましい態様においては、突起層（Ｂ）の突起の裾野部分のうちフィルムの主面方向に対する斜度が１０°以上の部分を突起とみなす。なお、この態様においても、突起層（Ｂ）の突起は、前記断面図のうち、フィルムの主面方向に対する斜度が３°以上の部分の投影直線の長さ合計が占める割合が７０％以上であるという特性を備える。
【００３１】
本発明の一つの態様においては、少なくとも一つの突起層（Ｂ）が、凸曲面の最大斜度が１５°以下である突起を有する突起層（Ｂ１）である。突起層（Ｂ１）の突起の凸曲面の最大斜度は好ましくは６〜１５°であり、より好ましくは８〜１５°である。突起層（Ｂ１）は、パターン化される光透過性導電層（Ｃ）と同じ側の光透過性支持層（Ａ）の面に配置されていてもよいし、異なる側に配置されていてもよい。
【００３２】
本発明の一つの態様においては、少なくとも一つの突起層（Ｂ）が、凸曲面の最大斜度が３０°以上である突起を有する突起層（Ｂ２）である。突起層（Ｂ２）の突起の凸曲面の最大斜度は好ましくは３０〜８０°であり、より好ましくは４０〜７０°である。突起層としてこのような突起を有する突起層（Ｂ２）を備える場合、フィルムの見た目が比較的クリアなままとなり、マット感が付与されて見た目が損なわれる現象を緩和できるため有利である。ただし、突起層（Ｂ２）は、パターン化される光透過性導電層（Ｃ）とは反対側の光透過性支持層（Ａ）の面に配置されていることが好ましい。パターン化される光透過性導電層（Ｃ）とは反対側に突起層（Ｂ２）が配置されていると、フィルムにマット感が付与されにくく、見た目が損なわれにくくなる。
【００３３】
本発明において、以下に掲げる突起の各種評価は、エッチング処理によって上層を除去（測定の前処理）してから行う。エッチング処理は以下のようにして行う。光透過性導電性フィルムを２０％塩酸に浸漬し、表面抵抗が計測不能になるまでエッチング処理を続ける。
【００３４】
本発明において、突起における斜度が３°以上又は１０°以上の部分の割合の測定は、以下の通り行う。
＜斜度の測定方法＞
表面にカーボンを蒸着後、ＦＩＢ−ＳＥＭ（ＦＥＩ社製  Ｈｅｌｉｏｓ  ＮａｎｏＬａｂ  ６５０、又はその同等品）により観察し、突起部についてＦＩＢ（収束イオンビーム）加工により断面を作製後、断面を観察して突起の高さ、突起径（ただし、裾野部分のうちフィルムの主面方向に対する斜度が３°以上の部分を突起とみなす：図５のＸ）、最大斜度θmaxおよび３°以上の斜面（裾野および頂上付近の緩斜面を除く３°以上の斜面を水平面に投影した距離の和：図５のｘ１＋ｘ２）の割合をｎ＝３で求める。
【００３５】
なお、本発明において突起の凸曲面の最大斜度は、断面図の左右の斜面において最大のものを意味する。
【００３６】
上記において、断面の作製時には、より詳細には、凸曲面が概ね最もよく現れるように、かつ断面積が概ね最大となるように突起を切断する。
【００３７】
本発明の効果の面では、突起層（Ｂ）の光透過性支持層（Ａ）とは反対側の面が、前記突起を１ｍｍ２あたり、１００個〜１０，０００個有していれば好ましく、２００〜５，０００個有していればより好ましく、３００〜１，０００個有していればさらに好ましい。
【００３８】
本発明において、単位面積あたりの突起の数の測定は、以下の通り行う。
【００３９】
＜単位面積あたりの突起の数の測定方法＞
レーザー顕微鏡（ＫＥＹＥＮＣＥ社製  ＶＫ−９５００、又はその同等品）を用いて測定倍率１０倍、測定面積１．４１７ｍｍ×０．９８６ｍｍの範囲内の突起数を形状解析ソフトにて求め、１ｍｍ２当たりの突起数に換算する。
【００４０】
本発明の効果の面では、前記突起を有する突起層（Ｂ）の面を基準面とする前記突起の最大高さの平均値が、０．１μｍ〜１μｍであれば好ましく、０．２μｍ〜０．６μｍであればさらに好ましい。
【００４１】
本発明において、突起の最大高さの平均値は、以下の通り算出する。
【００４２】
＜突起の最大高さの平均値を算出する方法＞
非接触式三次元表面粗さ計を用いて測定倍率２５倍、測定面積２８３μｍ×２１３μｍの条件にて３次元の表面形状を測定する。非接触式三次元表面粗さ計に内蔵された表面解析ソフトを用いて突起の最大粗さ（ＳＲｍａｘ）と、３次元の１０点平均粗さ（ＳＲｚ）を求める。突起の最大粗さ（ＳＲｍａｘ）を「前記突起を有する突起層（Ｂ）の面を基準面とする前記突起の最大高さ」とし、３次元の１０点平均粗さ（ＳＲｚ）を「前記突起を有する突起層（Ｂ）の面を基準面とする前記突起の最大高さ」とする。
【００４３】
なお、突起層（Ｂ）の表面にアンダーコート層等の数十ナノメートル程度の厚さの他の層が存在する場合は、当該他の層を除去せずにそのまま当該他の層で覆われた表面の凹凸形状を測定してもよい。
【００４４】
前記突起は、特に限定されず、例えば、突起層（Ｂ）に一部が埋まっている微粒子又は異形微粒子の、突起層（Ｂ）の表面から突出している部分に相当するものであってもよい。
【００４５】
別の態様として、前記突起は、突起層（Ｂ）に全体が埋まっている上記微粒子又は異形微粒子の形状を反映して、周辺のバインダー成分が隆起することにより形成される突起であってもよい（図６）。このとき、微粒子の形状は、頂上付近に凸曲面を有しているものであればよく、特に限定されず、例えば、球状、回転楕円体等であってもよい。
【００４６】
別の態様として、前記突起は、突起層（Ｂ）の下層に設けられている突起が突起層（Ｂ）の表面に突出したものであってもよい（図７）。また、前記突起は、同様に突起層（Ｂ）の下層に設けられている突起であって、突起層（Ｂ）に全体が埋まっている突起の形状を反映して、周辺のバインダー成分が隆起することにより形成される突起であってもよい。
【００４７】
突起層（Ｂ）が光透過性導電層（Ｃ）の下層側に設けられている場合、光透過性導電層（Ｃ）の導電性の点では、前記突起の頂上がバインダー成分に覆われている方が好ましい。
【００４８】
突起層（Ｂ）が光透過性導電層（Ｃ）の下層側に設けられている場合、光透過性導電層（Ｃ）の導電性の点では、前記突起の頂上が平面であるか、あるいは曲率５×１０５ ｍ−１未満の曲面であることが好ましい。
【００４９】
別の態様として、前記突起は、型の転写により突起層（Ｂ）の表面に付与されたものであってもよい（図８）。
【００５０】
別の態様として、前記突起は、突起層（Ｂ）を形成した後に、後加工（印刷及びインクジェット等）により突起層（Ｂ）の表面に付与されたものであってもよい（図９）。
【００５１】
好ましくは、突起層（Ｂ）は、微粒子、及びバインダー成分を含有する。
【００５２】
前記微粒子としては、特に限定されず、好ましくは透明有機高分子粒子、透明無機粒子及び有機無機ハイブリッド粒子等を使用できる。
【００５３】
バインダー成分としては、特に限定されず、例えば、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、メラミン系樹脂及びアルキド系樹脂等が挙げられる。突起層（Ｂ）は、これらのうちいずれか単独をバインダー成分として含有していてもよいし、複数種をバインダー成分として含有していてもよい。
【００５４】
上記において、前記微粒子及び前記バインダー成分の屈折率差が０．１以下であれば好ましい。屈折率差がこの範囲内にあれば、光を透過させた際に、フィルム全面に渡り均一な透過光が得られるため好ましい。屈折率差がこの範囲内となるように適宜材料を選択すればよい。
【００５５】
突起層（Ｂ）は、本発明の効果が奏される限り特に限定されず、前記微粒子に加えてその他の成分をさらに含有していてもよい。その他の成分としては、本発明の効果が奏される限り特に限定されず、例えば、シリカ、ジルコニア、チタニア及びアルミナ等のコロイド粒子、並びにケイ素系有機無機ハイブリッド高分子等が挙げられる。突起層（Ｂ）は、前記微粒子に加えて、これらのうちいずれか単独をさらに含有していてもよいし、複数種をさらに含有していてもよい。
【００５６】
突起層（Ｂ）の厚さ（突起を含めない厚さ）は、０．５〜５μｍであり、好ましくは１〜４μｍ、より好ましくは１〜３μｍである。突起層（Ｂ）の厚さが０．５μｍよりも大きいと、粒子が脱落しにくくなるという利点が得られる。また、突起層（Ｂ）の厚さが５μmよりも小さいと、突起高さの均一性が高まるという利点が得られる。
【００５７】
突起が、突起層（Ｂ）に一部又は全部が埋まっている微粒子又は異形微粒子に基づいて形成されるものである場合、突起層（Ｂ）の厚さは、当該微粒子又は異形微粒子の高さよりもわずかに薄いものであれば好ましい。
【００５８】
本発明において、突起層（Ｂ）の厚さは、次のようにして測定する。透過型電子顕微鏡観察により求める。具体的には、ミクロトーム又は収束イオンビーム等を用いて光透過性導電性フィルムを薄く切断して、その断面を観察する。
【００５９】
突起層（Ｂ）は、他のさらなる機能を兼ね備える層とすることもできる。例えば、光学調整層としての機能を同時に突起層（Ｂ）に付与してもよい。この場合、突起層（Ｂ）が例えば、上方が低屈折領域、下方に高屈折率領域がそれぞれ配置されている、境界が明瞭でなくてもよい多層構造を有するものであってもよい。
【００６０】
突起層（Ｂ）を下地となる層の上に配置する方法としては、特に限定されず、例えば、フィルムに原料を塗布したうえで、熱で硬化する方法、及び紫外線や電子線等の活性エネルギー線で硬化する方法等が挙げられる。生産性の点で、紫外線により硬化する方法が好ましい。
【００６１】
より具体的には、突起層（Ｂ）が前記バインダー成分及び前記微粒子を含有する場合は以下のようにして下地となる層の上に突起層（Ｂ）を配置することができる。
（１）前記バインダー成分及び前記微粒子を含有する原料を用いて前記突起層（Ｂ）を形成する工程を含有する方法により配置することができる。前記工程（１）において、下地となる層の上に前記原料を塗布することにより前記突起層（Ｂ）を形成することがより好ましい。
【００６２】
あるいは、前記のような微粒子を使用せず、インプリント等の方法により所望の突起を突起層（Ｂ）の表面に設けることもできる。
【００６３】
１．３  光透過性導電層（Ｃ）
光透過性導電層（Ｃ）は、光透過性支持層（Ａ）の一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されている。
【００６４】
光透過性導電層（Ｃ）は、光透過性支持層（Ａ）の面のうち、突起層（Ｂ）と同じ面に配置されている場合は少なくとも突起層（Ｂ）を介して配置されている。
【００６５】
本発明において光透過性導電層とは、電気を導通しかつ可視光を透過する役割を果たすものをいう。光透過性導電層（Ｃ）としては、特に限定されず、例えば、タッチパネル用光透過性導電性フィルムにおいて光透過性導電層として通常用いられるものを用いることができる。
【００６６】
光透過性導電層（Ｃ）の素材は、特に限定されず、例えば、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化錫及び酸化チタン等が挙げられる。光透過性導電層（Ｃ）としては、透明性と導電性を両立する点で酸化インジウムにドーパントをドープしたものを含む光透過性導電層が好ましい。光透過性導電層（Ｃ）は、酸化インジウムにドーパントをドープしたものからなる光透過性導電層であってもよい。ドーパントとしては、特に限定されず、例えば、酸化スズ及び酸化亜鉛、並びにそれらの混合物等が挙げられる。
【００６７】
光透過性導電層（Ｃ）の素材として酸化インジウムに酸化スズをドープしたものを用いる場合は、酸化インジウム（ＩＩＩ）（Ｉｎ２Ｏ３）に酸化スズ（ＩＶ）（ＳｎＯ２）をドープしたもの（ｔｉｎ−ｄｏｐｅｄ  ｉｎｄｉｕｍ  ｏｘｉｄｅ；ＩＴＯ）が好ましい。この場合、ＳｎＯ２の添加量としては、特に限定されず、例えば、１〜１５重量％、好ましくは２〜１０重量％、より好ましくは３〜８重量％等が挙げられる。また、ドーパントの総量が左記の数値範囲を超えない範囲で、酸化インジウムスズにさらに他のドーパントが加えられたものを光透過性導電層（Ｃ）の素材として用いてもよい。左記において他のドーパントとしては、特に限定されず、例えばセレン等が挙げられる。
【００６８】
光透過性導電層（Ｃ）は、上記の各種素材のうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。
【００６９】
光透過性導電層（Ｃ）は、特に限定されず、結晶体若しくは非晶質体、又はそれらの混合体であってもよい。
【００７０】
光透過性導電層（Ｃ）を配置する方法は、湿式及び乾式のいずれであってもよく、特に限定されない。光透過性導電層（Ｃ）を配置する方法の具体例として、例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法及びパルスレーザーデポジション法等が挙げられる。
【００７１】
１．４  アンダーコート層（Ｄ）
本発明の光透過性導電性フィルムは、光透過性支持層（Ａ）の光透過性導電層（Ｃ）が配置されている面に、直接又は一以上の他の層を介してアンダーコート層（Ｄ）が配置されていてもよい。アンダーコート層（Ｄ）が配置されている場合、少なくとも一方の前記光透過性導電層（Ｃ）が、少なくとも前記アンダーコート層（Ｄ）を介して前記光透過性支持層（Ａ）の前記面に配置されている。この場合、少なくとも一方の前記光透過性導電層（Ｃ）が、前記アンダーコート層（Ｄ）に隣接して配置されていてもよい。また、光透過性支持層（Ａ）の同じ面にアンダーコート層（Ｄ）及び突起層（Ｂ）が設けられている場合、アンダーコート層（Ｄ）は通常、突起層（Ｂ）よりも光透過性導電層（Ｃ）に近い側に配置されている。
【００７２】
図１０に、本発明の光透過性導電性フィルムの一態様を示す。この態様では、光透過性支持層（Ａ）の一方の面に、突起層（Ｂ）、アンダーコート層（Ｄ）及び光透過性導電層（Ｃ）がこの順で互いに隣接して配置されている。
【００７３】
図１１に、本発明の光透過性導電性フィルムの一態様を示す。この態様では、光透過性支持層（Ａ）の両面に、突起層（Ｂ）、アンダーコート層（Ｄ）及び光透過性導電層（Ｃ）がこの順で互いに隣接して配置されている。
【００７４】
図１２に、本発明の光透過性導電性フィルムの一態様を示す。この態様では、光透過性支持層（Ａ）の一方の面に、第一の突起層（Ｂ）、アンダーコート層（Ｄ）及び光透過性導電層（Ｃ）がこの順で互いに隣接して配置されており、他方の面に、第二の突起層（Ｂ）が直接配置されている。
【００７５】
アンダーコート層（Ｄ）の素材は、特に限定されず、例えば、誘電性を有するものであってもよい。アンダーコート層（Ｄ）の素材としては、特に限定されず、例えば、酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸窒化ケイ素、炭化ケイ素、シリコンアルコキシド、アルキルシロキサン及びその縮合物、ポリシロキサン、シルセスキオキサン、並びにポリシラザン等が挙げられる。アンダーコート層（Ｄ）は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。酸化ケイ素を含有する光透過性下地層が好ましく、酸化ケイ素からなる光透過性下地層がより好ましい。
【００７６】
アンダーコート層（Ｄ）は、一層が配置されていてもよい。あるいは二層以上が互いに隣接して、または他の層を介して互いに離間して配置されていてもよい。
【００７７】
アンダーコート層（Ｄ）の一層あたりの厚さは、１５〜４０ｎｍ等が挙げられる。二層以上が互いに隣接して配置されている場合は互いに隣接している全てのアンダーコート層（Ｄ）の合計厚さが上記範囲内であればよい。
【００７８】
アンダーコート層（Ｄ）を配置する方法としては、湿式及び乾式のいずれでもよく、特に限定されず、湿式としては例えば、ゾル−ゲル法、及び微粒子分散液若しくはコロイド溶液を塗布する方法等が挙げられる。アンダーコート層（Ｄ）を配置する方法として、乾式としては、例えば、スパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法又はパルスレーザーデポジション法により隣接する層上に積層する方法等が挙げられる。
【００７９】
１．５  その他の層
本発明の光透過性導電性フィルムは、光透過性支持層（Ａ）の面に、アンダーコート層（Ｄ）及び少なくとも１種のその他の層（Ｅ）からなる群より選択される少なくとも１種の層がさらに配置されていてもよい。
【００８０】
その他の層（Ｅ）としては、特に限定されず、例えば、接着層等が挙げられる。
【００８１】
接着層とは、二層の間に当該二層と互いに隣接して配置され、当該二層間を互いに接着するために配置される層である。接着層としては、特に限定されず、例えば、タッチパネル用光透過性導電性フィルムにおいて接着層として通常用いられるものを用いることができる。特に限定されず、例えば、カップリング剤を用いることができる。必要に応じて接着される片方の面又は両方の面に対してより接着性を高める目的でコロナ処理を行ってもよい。
【００８２】
１．６  本発明の光透過性導電性フィルムの用途
本発明の光透過性導電性フィルムは、タッチパネルのために好ましく用いられる。本発明の光透過性導電性フィルムは、特に、静電容量型タッチパネルのためにより好ましく用いられる。抵抗膜方式タッチパネルの製造のために用いられる光透過性導電性フィルムは一般に表面抵抗率（シート抵抗）が１６０〜１，０００Ω／ｓｑ程度は必要であるとされる。これに対して静電容量型タッチパネルの製造のために用いられる光透過性導電性フィルムは一般に表面抵抗率が低いほうが有利である。本発明の光透過性導電性フィルムは、抵抗率が低減されており、これにより、静電容量型タッチパネルの製造のために好ましく用いられる。静電容量型タッチパネルについて詳細は、２で説明する通りである。
【００８３】
２．  本発明の静電容量型タッチパネル
本発明の静電容量型タッチパネルは、本発明の光透過性導電性フィルムを含み、さらに必要に応じてその他の部材を含んでなる。
【００８４】
本発明の静電容量型タッチパネルの具体的な構成例としては、次のような構成が挙げられる。なお、保護層（１）側が操作画面側を、ガラス（５）側が操作画面とは反対側を向くようにして使用される。
（１）保護層
（２）本発明の光透過性導電性フィルム（Ｙ軸方向）
（３）絶縁層
（４）本発明の光透過性導電性フィルム（Ｘ軸方向）
（５）ガラス
本発明の静電容量型タッチパネルは、特に限定されず、例えば、上記（１）〜（５）、並びに必要に応じてその他の部材を通常の方法に従って組み合わせることにより製造することができる。
【００８５】
３．  本発明の光透過性導電性フィルムの製造方法
本発明の光透過性導電性フィルムは、それぞれの層について説明した通りそれぞれの層を配置することにより製造することができる。例えば、光透過性支持層（Ａ）の光透過性導電層（Ｃ）が配置されている側の面に、下層側から順次配置させてもよいが、配置の順番は特に限定されない。例えば、最初に光透過性支持層（Ａ）ではない層（例えば、光透過性導電層（Ｃ））の一方の面に他の層を配置させてもよい。あるいは、一方で２種以上の層を互いに隣接するように配置させることにより１種の複合層を得てから、又はそれと同時に、他方で同様に２種以上の層を互いに隣接するように配置させることにより１種の複合層を得て、これらの２種の複合層をさらに互いに隣接するように配置させてもよい。
【実施例】
【００８６】
以下に実施例を掲げて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。
［実施例１］
光透過性支持層として、ＰＥＴを用いた。ＰＥＴ表面に下記に示した塗工液を均一に塗布し樹脂液を乾燥させることにより突起層を形成させた。得られた突起層付きＰＥＴフィルムの表面にカーボンを蒸着後、ＦＩＢ−ＳＥＭ（ＦＥＩ社製  Ｈｅｌｉｏｓ ＮａｎｏＬａｂ  ６５０）により観察し、突起部についてＦＩＢ（収束イオンビーム）加工により断面を作製後、断面を観察して突起径（ただし、裾野部分のうちフィルムの主面方向に対する斜度が３°以上の部分を突起とみなす）、最大斜度および３°以上の斜面の割合（裾野および頂上付近の緩斜面を除く３°以上の斜面を水平面に投影した距離の左右の和と突起径の比：図１参照のこと）を求めた。また、レーザー顕微鏡（ＫＥＹＥＮＣＥ社製  ＶＫ−９５００）を用いて単位面積当たりの突起数を求めた。得られた結果を表１に示した。なお、塗工液の調製は次の通り行った。
［塗工液の調製］
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬社製）７５重量部
エポキシアクリレート（日本化薬社製）                    ２０重量部
マクロモノマーＡＡ−６（東亞合成社製）                  １１重量部
光重合開始剤イルガキュアー（登録商標）１８４（チバガイギー社製）７重量部
スチレン系樹脂微粒子（平均粒径１μｍ）
上記成分をブチルセロソルブ３５重量部、メチルエチルケトン９４．５重量部の混合溶媒を用いて希釈し、よく攪拌して固形分４０％の塗工液を得た。【００８７】
スチレン系樹脂微粒子を０．３重量部とし、突起層の厚さを０．７μｍとした。【００８８】
突起層のうえに光学干渉層として厚さ２０ｎｍのＳｉＯ２からなる層（ｎC＝１．４６０）を形成し、さらにその上に光透過性導電層として酸化インジウムスズからなる層（ｎD＝１．９３８）を厚さ２５ｎｍとなるように成膜した。次いで、１５０℃で１時間熱処理した。得られた光透過性透明導電フィルムに対して、下記方法に従って「骨見え現象の評価」、「ヘイズ値」、「電気抵抗値」を評価した。
［実施例２］
スチレン系樹脂微粒子を０．１重量部とし、突起層の厚さを０．６μｍとしたこと以外は実施例１と同様にして光透過性導電フィルムを得た。実施例１と同様に評価した結果を表１に示した。
［実施例３］
スチレン系樹脂微粒子の代わりにインクジェット法によりＰＥＴ表面に紫外線硬化性アクリル樹脂を用いて１μｍ径で高さ１μｍのドットリブをランダムに１ｍｍ２当たり３００個形成した後、紫外線を照射して硬化させた。その後、微粒子抜きの塗工液を塗布して突起層の厚さを０．６５μｍとした。それ以外は実施例１と同様にして光透過性導電フィルムを得た。
［実施例４］
光透過性支持層の一方の面に、スチレン系樹脂微粒子を含まないこと以外は実施例１の突起層と同様の厚さ０．７μｍの層を形成した。さらに、光透過性支持層の他方の面に、スチレン系樹脂微粒子を０．１重量部とし、厚さを０．６μｍとしたこと以外は実施例１の突起層と同様の突起層を形成した。このようにして形成された、スチレン系樹脂微粒子を含まない厚さ０．７μｍの層の上に光学干渉層及び光透過性導電層を形成して光透過性導電フィルムを得た。実施例１と同様に評価した結果を表１に示した。
［実施例５］
光透過性支持層の一方の面にのみ、スチレン系樹脂微粒子を０．１重量部含み、厚さ０．６μｍとしたこと以外は実施例１の突起層と同様の突起層を形成し、他方の面に直接、実施例１と同様にして光学干渉層及び光透過性導電層をこの順で形成して光透過性導電フィルムを得た。実施例１と同様に評価した結果を表１に示した。
［比較例１］
スチレン系樹脂微粒子を１重量部とし、突起層の厚さを０．９μｍとしたこと以外は実施例１と同様にして光透過性導電フィルムを得た。実施例１と同様に評価した結果を表１に示した。
［比較例２］
スチレン系樹脂微粒子を０．１重量部とし、突起層の厚さを０．４μｍとしたこと以外は実施例１と同様にして光透過性導電フィルムを得た。実施例１と同様に評価した結果を表１に示した。【００８９】
［実施例６］
スチレン系樹脂微粒子を０．３重量部とし、突起層の厚さを０．５μｍとしたこと以外は実施例１と同様にして光透過性導電フィルムを得た。実施例１と同様に評価した結果を表２に示した。なお、実施例６以降についてはマット感についての評価も追加的に行った。【００９０】
［実施例７］
スチレン系樹脂微粒子を０．６重量部とし、突起層の厚さを０．５μｍとしたこと以外は実施例１と同様にして光透過性導電フィルムを得た。実施例６と同様に評価した結果を表２に示した。【００９１】
［実施例８］
スチレン系樹脂微粒子を０．３重量部とし、突起層の厚さを０．４５μｍとしたこと以外は実施例１と同様にして光透過性導電フィルムを得た。実施例６と同様に評価した結果を表２に示した。【００９２】
［実施例９］
スチレン系樹脂微粒子を０．６重量部とし、突起層の厚さを０．４５μｍとしたこと以外は実施例１と同様にして光透過性導電フィルムを得た。実施例６と同様に評価した結果を表２に示した。【００９３】
［実施例１０］
スチレン系樹脂微粒子を０．３重量部とし、突起層の厚さを０．４μｍとしたこと以外は実施例１と同様にして光透過性導電フィルムを得た。実施例６と同様に評価した結果を表２に示した。【００９４】
［実施例１１］
スチレン系樹脂微粒子を０．６重量部とし、突起層の厚さを０．４μｍとしたこと以外は実施例１と同様にして光透過性導電フィルムを得た。実施例６と同様に評価した結果を表２に示した。【００９５】
［実施例１２］
スチレン系樹脂微粒子を０．３重量部とし、突起層の厚さを０．５μｍとしたこと以外は実施例１と同様にして光透過性導電フィルムを得た。実施例６と同様に評価した結果を表２に示した。【００９６】
［実施例１３］
スチレン系樹脂微粒子を０．６重量部とし、突起層の厚さを０．５μｍとしたこと以外は実施例１と同様にして光透過性導電フィルムを得た。実施例６と同様に評価した結果を表２に示した。【００９７】
突起の評価は以下のようにして行った。各評価の前に、光透過性導電性フィルムを２０％塩酸に浸漬し、表面抵抗が計測不能になるまでエッチング処理を続けて上層を除去した。
［斜面の割合の測定方法］
表面にカーボンを蒸着後、ＦＩＢ−ＳＥＭ（ＦＥＩ社製  Ｈｅｌｉｏｓ  ＮａｎｏＬａｂ  ６５０）により観察し、突起部についてＦＩＢ（収束イオンビーム）加工により断面を作製後、断面を観察して突起の高さ、突起径（ただし、裾野部分のうちフィルムの主面方向に対する斜度が３°以上の部分を突起とみなす：図５のＸ）、最大斜度θmaxおよび３°以上の斜面（裾野および頂上付近の緩斜面を除く３°以上の斜面を水平面に投影した距離の和：図５のｘ１＋ｘ２）の割合をｎ＝３で求めた。
［突起の数の測定方法］
上記と同様にしてエッチング処理により上層を除去した後、レーザー顕微鏡（ＫＥＹＥＮＣＥ社製  ＶＫ−９５００）を用いて測定倍率１０倍、測定面積１．４１７ｍｍ×０．９８６ｍｍの範囲内の突起数を形状解析ソフトにて求め、１ｍｍ２当たりの突起数に換算した。
［骨見え現象の評価］
作製した透明導電性積層体を５ｃｍ角に切り出し、透明導電層に３ｍｍ幅のポリイミドテープを３ｍｍの間隔ができるように平行に８本貼り付けた。次いで、このポリイミドテープを貼り付けた積層体をＩＴＯエッチング液（関東化学社製、商品名「ＩＴＯ−０６Ｎ」）に１分間浸漬し、ポリイミドテープを貼り付けていない部分のＩＴＯを除去し、リンス及び乾燥後にポリイミドテープを剥離することで、３ｍｍ間隔で３ｍｍ幅のＩＴＯ膜がパターニングされた積層体を得た。このフィルムを目視観察し、ＩＴＯのパターンが「見えない（◎）」、「ほぼ見えない（○）」、及び「少し見える（×）」のいずれかに該当するかを評価した。
（全光線透過率及びヘイズ値）
日本電色社製ヘーズメーター（ＭＤＨ２０００）を用いてＪＩＳ  Ｋ７３６１−１に準じて測定した。
［電気抵抗値］
表面抵抗は、表面抵抗計（ＭＩＴＳＵＢＩＳＨＩ  ＣＨＥＭＩＣＡＬ  ＡＮＡＬＹＴＥＣＨ社製、商品名：Ｌｏｒｅｓｔａ−ＥＰ）を用いて、４端子法により測定した。
評価結果を表１に示した。【００９８】
一部について、フィルムの見た目が比較的クリアなままか、あるいはマット感が付与されて見た目が損なわれる現象が見られるかを評価した。
［マット感評価］
以下の基準に従い評価した。【００９９】
クリアに見える：◎
マット感が非常に弱い：○
マット感が弱い：△
マット感が強い：×【０１００】
【表１】
2015163332.tif 000003
【０１０１】
【表２】
2015163332.tif 000004
【符号の説明】
【０１０２】
１        光透過性導電性フィルム
１１      光透過性支持層（Ａ）
１２      突起層（Ｂ）
１２１    微粒子
１２２    バインダー
１３      光透過性導電層（Ｃ）
１４      アンダーコート層（Ｄ）
１５      突起層（Ｂ）の下層（光透過性支持層（Ａ）であってもよい）
１５１    下層の突起
２        型
３        後処理により設けられた突起
【図１】
2015163332.tif 000005
【図２】
2015163332.tif 000006
【図３】
2015163332.tif 000007
【図４】
2015163332.tif 000008
【図５】
2015163332.tif 000009
【図６】
2015163332.tif 000010
【図７】
2015163332.tif 000011
【図８】
2015163332.tif 000012
【図９】
2015163332.tif 000013
【図１０】
2015163332.tif 000014
【図１１】
2015163332.tif 000015
【図１２】
2015163332.tif 000016
【国際調査報告】
2015163332.tif 000017
2015163332.tif 000018
2015163332.tif 000019
2015163332.tif 000020