(57)【要約】  ＥＵＶ光を安定的に生成する。  極端紫外光生成装置は、内部の所定領域でターゲットにレーザ光が照射されると極端紫外光が生成されるチャンバと、前記チャンバ内の前記所定領域に向かって前記ターゲットを出力することで前記所定領域に前記ターゲットを供給するターゲット供給器と、前記ターゲット供給器から出力され前記レーザ光が照射されなかった前記ターゲットを回収するターゲット回収器と、を具備し、前記ターゲット回収器は、前記ターゲット供給器から出力された前記ターゲットの軌道に対して傾斜して配置され、前記レーザ光が照射されなかった前記ターゲットを衝突させて受けるレシーバと、前記レシーバを振動させる加振装置と、を備えてもよい。
2016135932.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部の所定領域でターゲットにレーザ光が照射されると極端紫外光が生成されるチャンバと、
前記チャンバ内の前記所定領域に向かって前記ターゲットを出力することで前記所定領域に前記ターゲットを供給するターゲット供給器と、
前記ターゲット供給器から出力され前記レーザ光が照射されなかった前記ターゲットを回収するターゲット回収器と、
を具備し、
前記ターゲット回収器は、
前記ターゲット供給器から出力された前記ターゲットの軌道に対して傾斜して配置され、前記レーザ光が照射されなかった前記ターゲットを衝突させて受けるレシーバと、
前記レシーバを振動させる加振装置と、
を備える
極端紫外光生成装置。
【請求項２】
前記ターゲットは、金属材料で形成されており、
前記ターゲット供給器は、前記ターゲットを溶融させドロップレットとして前記チャンバ内に出力し、
前記ターゲット回収器は、前記レシーバが前記ターゲットの融点以上の温度となるよう前記レシーバを加熱する加熱装置を更に備え、
前記レシーバは、溶融した前記ターゲットとの接触角が９０°以上となる材料で形成されている
請求項１に記載の極端紫外光生成装置。
【請求項３】
前記ターゲット回収器は、前記加振装置により発生した振動が前記チャンバに伝達することを抑制する振動減衰部材を更に備える
請求項２に記載の極端紫外光生成装置。
【請求項４】
前記ターゲット回収器は、前記加熱装置により発生した熱が前記加振装置に伝達することを抑制する伝熱抑制部材を更に備える
請求項３に記載の極端紫外光生成装置。
【請求項５】
前記ターゲット回収器は、前記加振装置を冷却する冷却装置を更に備える
請求項４に記載の極端紫外光生成装置。
【請求項６】
前記レシーバは、重力方向に対して傾斜配置されている
請求項４に記載の極端紫外光生成装置。
【請求項７】
前記レシーバは、繊維部材を用いて構成されている
請求項４に記載の極端紫外光生成装置。
【請求項８】
前記ターゲット回収器は、内部に前記レシーバが配置され前記ターゲットを回収する回収容器を更に備え、
前記レシーバは、前記回収容器の内壁面に支持され、
前記加振装置は、前記回収容器の外壁面を介して前記レシーバを振動させる
請求項７に記載の極端紫外光生成装置。
【請求項９】
前記ターゲット供給器は、前記軌道が重力方向に対して傾斜するよう前記ターゲットを出力し、
前記ターゲット回収器は、内部に前記レシーバが配置され前記ターゲットを回収する回収容器を更に備え、
前記回収容器は、
前記レーザ光が照射されなかった前記ターゲットが進入する開口部が形成され前記軌道に沿って延びる第１筒部と、
前記第１筒部に連通し前記重力方向に沿って延びる第２筒部と、
前記第１筒部内に進入した前記ターゲットを前記第２筒部内に反射させる反射面と、
前記第２筒部に連通し前記チャンバ外に配置され少なくとも前記レシーバに衝突した前記ターゲットを収容するタンクと、
を含み、
前記レシーバは、少なくとも前記第１筒部内に配置されている
請求項７に記載の極端紫外光生成装置。
【請求項１０】
前記レシーバは、少なくとも前記第１筒部の内壁面に支持され、
前記加振装置は、前記第２筒部の外壁面を介して前記レシーバを振動させ、
前記第１筒部は、前記振動減衰部材を介して前記チャンバの壁に接続されている
請求項９に記載の極端紫外光生成装置。
【請求項１１】
前記第１筒部は、前記チャンバの壁に固定され、
前記レシーバは、少なくとも前記第１筒部の内壁面に前記振動減衰部材を介して支持され、
前記加振装置は、前記第１筒部の内壁面に支持された前記レシーバに前記伝熱抑制部材を介して接続されている
請求項９に記載の極端紫外光生成装置。
【請求項１２】
軌道に沿って飛来するターゲットの前記軌道に対して傾斜して配置され、飛来した前記ターゲットを衝突させて受けるレシーバと、
前記レシーバを振動させる加振装置と、
を備えるターゲット回収器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、極端紫外光生成装置及びターゲット回収器に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、半導体プロセスの微細化に伴って、半導体プロセスの光リソグラフィにおける転写パターンの微細化が急速に進展している。次世代においては、７０ｎｍ〜４５ｎｍの微細加工、さらには３２ｎｍ以下の微細加工が要求されるようになる。このため、例えば３２ｎｍ以下の微細加工の要求に応えるべく、波長１３ｎｍ程度の極端紫外（ＥＵＶ）光を生成する極端紫外（ＥＵＶ）光生成装置と縮小投影反射光学系（Reduced Projection Reflective Optics）とを組み合わせた露光装置の開発が期待されている。【０００３】
ＥＵＶ光生成装置としては、ターゲットにレーザ光を照射することによって生成されるプラズマを用いたＬＰＰ（Laser Produced Plasma：レーザ励起プラズマ）方式の装置と、放電によって生成されるプラズマを用いたＤＰＰ（Discharge Produced Plasma）方式の装置と、軌道放射光を用いたＳＲ（Synchrotron Radiation）方式の装置との３種類の装置が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特許出願公開２０００−２１９９２１号
【特許文献２】特許出願公開２００８−２２６４６２号
【特許文献３】特許出願公開２０１２−１４６６８２号
【特許文献４】特許出願公表昭和６２−５０２４７８号
【特許文献５】米国特許出願公開２０１０／０２５８７４８号
【特許文献６】国際出願ＰＣＴ／ＪＰ２０１３／０７９０９２号
【特許文献７】国際出願ＰＣＴ／ＪＰ２０１３／０８５１８４号
【概要】
【０００５】
本開示の１つの観点に係る極端紫外光生成装置は、内部の所定領域でターゲットにレーザ光が照射されると極端紫外光が生成されるチャンバと、前記チャンバ内の前記所定領域に向かって前記ターゲットを出力することで前記所定領域に前記ターゲットを供給するターゲット供給器と、前記ターゲット供給器から出力され前記レーザ光が照射されなかった前記ターゲットを回収するターゲット回収器と、を具備し、前記ターゲット回収器は、前記ターゲット供給器から出力された前記ターゲットの軌道に対して傾斜して配置され、前記レーザ光が照射されなかった前記ターゲットを衝突させて受けるレシーバと、前記レシーバを振動させる加振装置と、を備えてもよい。
【０００６】
本開示の１つの観点に係るターゲット回収器は、軌道に沿って飛来するターゲットの前記軌道に対して傾斜して配置され、飛来した前記ターゲットを衝突させて受けるレシーバと、前記レシーバを振動させる加振装置と、を備えてもよい。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
本開示のいくつかの実施形態を、単なる例として、添付の図面を参照して以下に説明する。
【図１】図１は、例示的なＬＰＰ方式のＥＵＶ光生成システムの構成を概略的に示す。
【図２Ａ】図２Ａは、ターゲット回収器の具体的な構成を説明するための図を示す。
【図２Ｂ】図２Ｂは、図２Ａに示されたレシーバ及び筒部をＦ方向から視た図を示す。
【図３Ａ】図３Ａは、第１実施形態のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器の構成を説明するための図を示す。
【図３Ｂ】図３Ｂは、図３Ａに示された加振装置の構成を説明するための図を示す。
【図４Ａ】図４Ａは、第１実施形態の変形例１のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器を説明するための図を示す。
【図４Ｂ】。図４Ｂは、図４Ａに示された振動伝達部材及び加振装置の接続関係を説明するための図を示す。
【図４Ｃ】図４Ｃは、図４Ａに示された振動伝達部材及び加振装置の接続関係に関する他の例を説明するための図を示す。
【図５】図５は、第１実施形態の変形例２のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器を説明するための図を示す。
【図６】図６は、第２実施形態のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器を説明するための図を示す。
【図７】図７は、第２実施形態の変形例１のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器を説明するための図を示す。
【図８】図８は、第２実施形態の変形例２のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器を説明するための図を示す。
【図９】図９は、第３実施形態のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器を説明するための図を示す。
【図１０】図１０は、第３実施形態の変形例１のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器を説明するための図を示す。
【図１１】図１１は、第４実施形態のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器を説明するための図を示す。
【図１２】図１２は、第４実施形態の変形例１のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器を説明するための図を示す。
【図１３】図１３は、第４実施形態の変形例２のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器を説明するための図を示す。
【図１４】図１４は、第５実施形態のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器を説明するための図を示す。
【図１５】図１５は、第５実施形態の変形例１のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器を説明するための図を示す。
【図１６】図１６は、第５実施形態の変形例２のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器を説明するための図を示す。
【図１７】図１７は、第６実施形態のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器を説明するための図を示す。
【図１８Ａ】図１８Ａは、図１７に示されたＰ部分の拡大図であって、振動減衰部材の構成例１を説明するための図を示す。
【図１８Ｂ】図１８Ｂは、図１７に示されたＰ部分の拡大図であって、振動減衰部材の構成例２を説明するための図を示す。
【図１８Ｃ】図１８Ｃは、図１７に示されたＰ部分の拡大図であって、振動減衰部材の構成例３を説明するための図を示す。
【図１９】図１９は、第６実施形態の変形例１のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器を説明するための図を示す。
【図２０】図２０は、第６実施形態の変形例２のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器を説明するための図を示す。
【図２１】図２１は、第７実施形態のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器を説明するための図を示す。
【図２２】図２２は、第７実施形態の変形例１のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器を説明するための図を示す。
【図２３】図２３は、第７実施形態の変形例２のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器を説明するための図を示す。
【実施形態】
【０００８】
〜内容〜
１．概要
２．用語の説明
３．ＥＵＶ光生成システムの全体説明
３．１  構成
３．２  動作
４．ＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器
４．１  構成
４．２  動作
４．３  作用
５．課題
６．第１実施形態のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器
６．１  構成
６．２  動作
６．３  作用
６．４  第１実施形態の変形例１
６．５  第１実施形態の変形例２
７．第２実施形態のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器
７．１  第２実施形態の変形例１
７．２  第２実施形態の変形例２
８．第３実施形態のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器
８．１  構成
８．２  動作
８．３  作用
８．４  第３実施形態の変形例１
９．第４実施形態のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器
９．１  構成
９．２  動作
９．３  作用
９．４  第４実施形態の変形例１
９．５  第４実施形態の変形例２
１０．第５実施形態のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器
１０．１  第５実施形態の変形例１
１０．２  第５実施形態の変形例２
１１．第６実施形態のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器
１１．１  第６実施形態の変形例１
１１．２  第６実施形態の変形例２
１２．第７実施形態のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器
１２．１  構成
１２．２  動作
１２．３  作用
１２．４  第７実施形態の変形例１
１２．５  第７実施形態の変形例２
１３．その他
【０００９】
以下、本開示の実施形態について、図面を参照しながら詳しく説明する。以下に説明される実施形態は、本開示のいくつかの例を示すものであって、本開示の内容を限定するものではない。また、各実施形態で説明される構成及び動作の全てが本開示の構成及び動作として必須であるとは限らない。なお、同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。
【００１０】
［１．概要］
本開示は、以下の実施形態を単なる例として少なくとも開示し得る。
【００１１】
本開示のＥＵＶ光生成装置１は、内部のプラズマ生成領域２５でターゲット２７にパルスレーザ光３３が照射されるとＥＵＶ光２５２が生成されるチャンバ２と、チャンバ２内のプラズマ生成領域２５に向かってターゲット２７を出力することでプラズマ生成領域２５にターゲット２７を供給するターゲット供給器２６と、ターゲット供給器２６から出力されパルスレーザ光３３が照射されなかったターゲット２７を回収するターゲット回収器２８と、を具備し、ターゲット回収器２８は、ターゲット供給器２６から出力されたターゲット２７のターゲット軌道２７２に対して傾斜して配置され、パルスレーザ光３３が照射されなかったターゲット２７を衝突させて受けるレシーバ２８０と、レシーバ２８０を振動させる加振装置２８５１と、を備えてもよい。
このような構成により、ＥＵＶ光生成装置１は、ターゲット２７のレシーバ２８０上での蓄積を抑制し得る。それにより、ＥＵＶ光生成装置１は、ターゲット２７の飛沫がＥＵＶ集光ミラー２３に付着してその反射率が低下することを抑制し得るため、安定したＥＵＶ光２５２を生成し得る。
【００１２】
［２．用語の説明］
「ターゲット」は、チャンバ内に導入されたレーザ光の被照射物である。レーザ光が照射されたターゲットは、プラズマ化してＥＵＶ光を放射する。
「ドロップレット」は、チャンバ内へ供給されるターゲットの一形態である。
「光路軸」は、レーザ光の進行方向に沿ってレーザ光のビーム断面の中心を通る軸である。
「光路」は、レーザ光が通る経路である。光路には、光路軸が含まれてもよい。
「プラズマ生成領域」は、チャンバ内の所定領域である。プラズマ生成領域は、チャンバ内に出力されたターゲットに対してレーザ光が照射され、ターゲットがプラズマ化される領域である。
「ターゲット軌道」は、チャンバ内に出力されチャンバ内を進行するターゲットの軌道である。ターゲット軌道は、プラズマ生成領域において、チャンバ内に導入されたレーザ光の光路と交差してもよい。
【００１３】
［３．ＥＵＶ光生成システムの全体説明］
［３．１  構成］
図１に、例示的なＬＰＰ方式のＥＵＶ光生成システムの構成を概略的に示す。
ＥＵＶ光生成装置１は、少なくとも１つのレーザ装置３と共に用いられてもよい。本願においては、ＥＵＶ光生成装置１及びレーザ装置３を含むシステムを、ＥＵＶ光生成システム１１と称する。図１に示し、かつ、以下に詳細に説明するように、ＥＵＶ光生成装置１は、チャンバ２、ターゲット供給器２６を含んでもよい。チャンバ２は、密閉可能であってもよい。ターゲット供給器２６は、例えば、チャンバ２の壁を貫通するように取り付けられてもよい。ターゲット供給器２６から供給されるターゲット２７の材料は、スズ、テルビウム、ガドリニウム、リチウム、キセノン、又は、それらの内のいずれか２つ以上の組合せを含んでもよいが、これらに限定されない。
【００１４】
チャンバ２の壁には、少なくとも１つの貫通孔が設けられていてもよい。その貫通孔には、ウインドウ２１が設けられてもよく、ウインドウ２１をレーザ装置３から出力されるパルスレーザ光３２が透過してもよい。チャンバ２の内部には、例えば、回転楕円面形状の反射面を有するＥＵＶ集光ミラー２３が配置されてもよい。ＥＵＶ集光ミラー２３は、第１及び第２の焦点を有し得る。ＥＵＶ集光ミラー２３の表面には、例えば、モリブデンと、シリコンとが交互に積層された多層反射膜が形成されていてもよい。ＥＵＶ集光ミラー２３は、例えば、その第１の焦点がプラズマ生成領域２５に位置し、その第２の焦点が中間集光点（ＩＦ）２９２に位置するように配置されるのが好ましい。ＥＵＶ集光ミラー２３の中央部には貫通孔２４が設けられていてもよく、貫通孔２４をパルスレーザ光３３が通過してもよい。
【００１５】
ＥＵＶ光生成装置１は、ＥＵＶ光生成制御部５、ターゲットセンサ４等を含んでもよい。ターゲットセンサ４は、撮像機能を有してもよく、ターゲット２７の存在、軌跡、位置、速度等を検出するよう構成されてもよい。
【００１６】
また、ＥＵＶ光生成装置１は、チャンバ２の内部と露光装置６の内部とを連通させる接続部２９を含んでもよい。接続部２９内部には、アパーチャ２９３が形成された壁２９１が設けられてもよい。壁２９１は、そのアパーチャ２９３がＥＵＶ集光ミラー２３の第２の焦点位置に位置するように配置されてもよい。
【００１７】
更に、ＥＵＶ光生成装置１は、レーザ光進行方向制御部３４、レーザ光集光ミラー２２、ターゲット２７を回収するためのターゲット回収器２８等を含んでもよい。レーザ光進行方向制御部３４は、レーザ光の進行方向を規定するための光学素子と、この光学素子の位置、姿勢等を調整するためのアクチュエータとを備えてもよい。
【００１８】
［３．２  動作］
図１を参照すると、レーザ装置３から出力されたパルスレーザ光３１は、レーザ光進行方向制御部３４を経て、パルスレーザ光３２としてウインドウ２１を透過してチャンバ２内に入射してもよい。パルスレーザ光３２は、少なくとも１つのレーザ光経路に沿ってチャンバ２内を進み、レーザ光集光ミラー２２で反射されて、パルスレーザ光３３として少なくとも１つのターゲット２７に照射されてもよい。
【００１９】
ターゲット供給器２６は、ターゲット２７をチャンバ２内部のプラズマ生成領域２５に向けて出力するよう構成されてもよい。ターゲット２７には、パルスレーザ光３３に含まれる少なくとも１つのパルスが照射されてもよい。パルスレーザ光３３が照射されたターゲット２７はプラズマ化し、そのプラズマからＥＵＶ光２５１が、他の波長の光の放射に伴って放射され得る。ＥＵＶ光２５１は、ＥＵＶ集光ミラー２３によって選択的に反射されてもよい。ＥＵＶ集光ミラー２３によって反射されたＥＵＶ光２５２は、中間集光点２９２で集光され、露光装置６に出力されてもよい。なお、１つのターゲット２７に、パルスレーザ光３３に含まれる複数のパルスが照射されてもよい。
【００２０】
ＥＵＶ光生成制御部５は、ＥＵＶ光生成システム１１全体の制御を統括するよう構成されてもよい。ＥＵＶ光生成制御部５は、ターゲットセンサ４によって撮像されたターゲット２７のイメージデータ等を処理するよう構成されてもよい。また、ＥＵＶ光生成制御部５は、例えば、ターゲット２７が出力されるタイミング制御及びターゲット２７の出力方向等の制御の内の少なくとも１つを行ってもよい。更に、ＥＵＶ光生成制御部５は、例えば、レーザ装置３の出力タイミングの制御、パルスレーザ光３２の進行方向の制御、パルスレーザ光３３の集光位置の制御の内の少なくとも１つを行ってもよい。上述の様々な制御は単なる例示に過ぎず、必要に応じて他の制御が追加されてもよい。
【００２１】
［４．ＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器］
ＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８について説明する。
ターゲット回収器２８は、図１に示されるように、ターゲット供給器２６からチャンバ２内に出力されたターゲット２７を回収する機器であってもよい。
特に、ターゲット回収器２８は、ターゲット供給器２６からチャンバ２内に出力されたターゲット２７のうち、パルスレーザ光３３が照射されなかったターゲット２７を回収する機器であってもよい。
ターゲット回収器２８は、図１に示されるように、チャンバ２の側面側に設けられていてもよい。ターゲット回収部２８は、チャンバ２内に出力されたターゲット２７の進行経路であるターゲット軌道の延長線上に配置されてもよい。
【００２２】
なお、ターゲット２７は、金属材料で形成されてもよい。金属材料で形成されたターゲット２７は、上述のように、スズ、テルビウム、ガドリニウム若しくはリチウム又はそれらの内のいずれか２つ以上の組合せを含んでもよい。
また、ターゲット供給器２６は、金属材料で形成されたターゲット２７を予め溶融させて貯めておいてもよい。ターゲット供給器２６は、溶融状態のターゲット２７をドロップレット２７１としてチャンバ２内のプラズマ生成領域２５に向かって出力してもよい。それにより、ターゲット供給器２６は、プラズマ生成領域２５にターゲット２７を供給してもよい。
【００２３】
［４．１  構成］
図２Ａ及び図２Ｂを用いて、ターゲット回収器２８の具体的な構成について説明する。
図２Ａは、ターゲット回収器２８の具体的な構成を説明するための図を示す。図２Ｂは、図２Ａに示されたレシーバ２８０及び筒部２８２をＦ方向から視た図を示す。
ターゲット回収器２８は、レシーバ２８０と、回収容器２８１と、加熱機構２８４と、を備えてもよい。
【００２４】
回収容器２８１は、パルスレーザ光３３が照射されなかったターゲット２７を回収する容器であってもよい。
回収容器２８１は、筒部２８２と、タンク２８３と、を含んでもよい。
【００２５】
筒部２８２は、底面が開放された中空の略円筒状に形成されてもよい。
筒部２８２は、高い熱伝導性を有し、かつ、ターゲット２７の融点以上の温度に対して耐熱性を有する材料で形成されてもよい。
筒部２８２は、チャンバ２の壁２ａを貫通するように配置されでもよい。筒部２８２の一端側の開口部２８２ａは、チャンバ２の内部に位置してもよい。開口部２８２ａは、パルスレーザ光３３が照射されなかったターゲット２７が回収容器２８１内に進入するための開口であってもよい。筒部２８２の他端側の開口部は、チャンバ２の外部に位置してもよい。
筒部２８２は、図示しない気密フランジ等を用いて壁２ａと接続されてもよい。チャンバ２の内部は、気密性が確保され得る。
筒部２８２は、その中心軸がターゲット軌道２７２と略一致するように配置されてもよい。
【００２６】
タンク２８３は、その内部が筒部２８２に連通した容器であってもよい。
タンク２８３は、チャンバ２の外部側にある筒部２８２の端部に接続されてもよい。
タンク２８３は、高い熱伝導性を有し、かつ、ターゲット２７の融点以上の温度に対して耐熱性を有する材料で形成されてもよい。タンク２８３は、筒部２８２と同じ材料で形成されてもよい。
タンク２８３は、筒部２８２と一体的に形成されてもよい。
【００２７】
加熱機構２８４は、回収容器２８１を加熱すると共に回収容器２８１内の温度を制御する機構であってもよい。
加熱機構２８４は、加熱装置２８４１と、加熱電源２８４２と、温度センサ２８４３と、温度制御部２８４４と、を含んでもよい。
【００２８】
加熱装置２８４１は、回収容器２８１を加熱するヒータであってもよい。
加熱装置２８４１は、筒部２８２及びタンク２８３を覆うように配置されてもよい。
加熱装置２８４１は、筒部２８２の外壁面２８２ｂ及びタンク２８３の外壁面２８３ｂの少なくとも一方に配置されてもよい。
【００２９】
加熱電源２８４２は、加熱装置２８４１に電力を供給する電源であってもよい。
加熱電源２８４２は、加熱装置２８４１に電気的に接続されてもよい。
【００３０】
温度センサ２８４３は、回収容器２８１の温度を検出するセンサであってもよい。
温度センサ２８４３は、タンク２８３の外壁面２８３ｂに設置されてもよい。
【００３１】
温度制御部２８４４は、回収容器２８１内の温度を制御する制御部であってもよい。
温度制御部２８４４は、加熱電源２８４２及び温度センサ２８４３に電気的に接続されてもよい。
温度制御部２８４４は、ＥＵＶ光生成制御部５に接続されてもよい。
【００３２】
レシーバ２８０は、パルスレーザ光３３が照射されなかったターゲット２７を衝突させて受ける部材であってもよい。
レシーバ２８０は、板状部材を用いて構成された弾性体であってもよい。
レシーバ２８０は、高い熱伝導性を有し、かつ、ターゲット２７の融点以上の温度に対して耐熱性を有する材料で形成されてもよい。
レシーバ２８０は、溶融したターゲット２７に濡れ難い材料で形成されてもよい。レシーバ２８０は、溶融したターゲット２７との接触角が９０°以上となる材料で形成されてもよい。
レシーバ２８０は、回収容器２８１の内部に設けられてもよい。
レシーバ２８０は、回収容器２８１の内壁面の一部である筒部２８２の内壁面２８２ｃに支持されてもよい。
レシーバ２８０は、筒部２８２の内部を完全に閉塞しなくてもよい。レシーバ２８０の一端は、筒部２８２の内壁面２８２ｃの一部分に支持されてもよい。レシーバ２８０の他端と内壁面２８２ｃの他の部分との間には間隙２８０ａが形成されてもよい。
レシーバ２８０は、ターゲット軌道２７２及び重力方向のそれぞれに対して傾斜して配置されてもよい。レシーバ２８０は、ターゲット軌道２７２及び重力方向に対する傾斜角度が９０°以外の角度となるように配置されてもよい。
【００３３】
［４．２  動作］
図２Ａに示されたターゲット回収器２８の動作について説明する。
【００３４】
温度制御部２８４４には、ＥＵＶ光生成制御部５から出力された、回収容器２８１の目標温度を指定する信号が入力されてもよい。
温度制御部２８４４には、温度センサ２８４３から出力された温度検出信号が入力されてもよい。
温度制御部２８４４は、温度検出信号が示す検出値が当該目標温度に近付くよう、加熱電源２８４２から加熱装置２８４１に供給される電力を制御してもよい。
【００３５】
筒部２８２及びタンク２８３を含む回収容器２８１の温度は、当該目標温度に制御され得る。このとき、筒部２８２の内壁面２８２ｃに支持されたレシーバ２８０には、加熱装置２８４１により発生した熱が筒部２８２を介して伝達され得る。それにより、レシーバ２８０の温度は、当該目標温度よりも低い所定温度に制御され得る。
レシーバ２８０の当該所定温度は、ターゲット２７の融点以上の温度であってもよい。ターゲット２７がスズである場合、レシーバ２８０の当該所定温度は、例えば２８０℃程度であってもよい。
回収容器２８１の当該目標温度は、レシーバ２８０が当該所定温度となるような温度であってもよい。回収容器２８１の当該目標温度は、レシーバ２８０の当該所定温度よりも高い温度であってもよい。ターゲット２７がスズである場合、回収容器２８１の当該目標温度は、例えば４００℃〜５００℃であってもよい。
【００３６】
ＥＵＶ光生成装置１がＥＵＶ光２５２を生成する際、ターゲット供給器２６は、ＥＵＶ光生成制御部５からの制御により、溶融状態のターゲット２７をドロップレット２７１としてチャンバ２内のプラズマ生成領域２５に向かって出力してもよい。
また、レーザ装置３は、ＥＵＶ光生成制御部５からの制御により、プラズマ生成領域２５においてパルスレーザ光３３がターゲット２７を照射するようパルスレーザ光３１を出力してもよい。
【００３７】
パルスレーザ光３３が照射されたターゲット２７は、プラズマ化してＥＵＶ光２５１を含む光を放射し得る。
一方、パルスレーザ光３３が照射されなかったターゲット２７は、プラズマ生成領域２５を通過して、そのままターゲット軌道２７２に沿って飛来し得る。そして、当該ターゲット２７は、筒部２８２の開口部２８２ａから回収容器２８１内に進入し得る。パルスレーザ光３３が照射されなかったターゲット２７の速度は、６０ｍ／ｓ〜１００ｍ／ｓであってもよい。回収容器２８１内に進入したターゲット２７は、レシーバ２８０に衝突し得る。
【００３８】
レシーバ２８０は、ターゲット２７が衝突すると撓むように変形し得る。それにより、レシーバ２８０は、ターゲット２７の運動エネルギーを低減し得る。レシーバ２８０の変形は復元され得る。
【００３９】
運動エネルギーが低減されたターゲット２７は、ターゲット２７の融点以上の温度に加熱されたタンク２８３内に落下し、タンク２８３内に収容され得る。
その後、後続のターゲット２７が次々にタンク２８３に落下し、タンク２８３内にはターゲット２７の液面が形成され得る。
【００４０】
［４．３  作用］
レシーバ２８０は、上述のように、ターゲット２７が衝突すると撓むように変形することでターゲット２７の運動エネルギーを低減させ得る。
このため、ターゲット回収器２８は、タンク２８３内に形成されたターゲット２７の液面やタンク２８３の底部２８３ｄにターゲット２７が衝突して飛沫が発生することを抑制し得る。
それにより、ターゲット回収器２８は、飛沫が回収容器２８１外に飛散してＥＵＶ集光ミラー２３に付着することを抑制し得る。
【００４１】
また、回収容器２８１は、上述のように、ターゲット２７の融点以上の温度となるように加熱されている。
このため、ターゲット回収器２８は、回収容器２８１のタンク２８３にターゲット２７が落下しても、ターゲット２７がタンク２８３の底部２８３ｄで固化して樹状に堆積して成長することを抑制し得る。
ターゲット２７が樹状に堆積して成長すると、樹状の堆積物がプラズマ生成領域２５に達してＥＵＶ光２５２の生成を阻害する場合があり得る。このため、ターゲット２７の樹状の堆積物が筒部２８２の開口部２８２ａから突出した時点でターゲット回収器２８を交換する必要性が生じ得る。ターゲット２７が樹状に堆積することを抑制できれば、ターゲット回収器２８の稼働時間を向上させ得る。
【００４２】
また、レシーバ２８０は、上述のように、ターゲット２７の融点以上の温度となるように加熱されている。
このため、ターゲット回収器２８は、レシーバ２８０にターゲット２７が衝突しても液体としてレシーバ２８０を伝ってタンク２８３内に落下させ得るため、ターゲット２７がレシーバ２８０上で固化することを抑制し得る。
【００４３】
［５．課題］
図２Ａに示されたターゲット回収器２８では、レシーバ２８０に衝突したターゲット２７を液体としてタンク２８３内に落下させ得るが、ある程度ターゲット２７を回収すると、ターゲット２７の一部がレシーバ２８０上に僅かに付着することがあり得る。この場合、後続するターゲット２７は、レシーバ２８０上に付着したターゲット２７に衝突してその一部が更にレシーバ２８０上に留まることがあり得る。このようにして、図２Ａに示されたターゲット回収器２８では、徐々にターゲット２７がレシーバ２８０上に蓄積することがあり得る。
ターゲット２７がレシーバ２８０上に蓄積すると、後続するターゲット２７が蓄積したターゲット２７に衝突して飛沫が発生することがあり得る。
或いは、蓄積したターゲット２７の重量によって変形したレシーバ２８０が復元できなくなり、後続するターゲット２７の運動エネルギーを低減できなくなることがあり得る。このため、タンク２８３内に形成されたターゲット２７の液面やタンク２８３の底部２８３ｄにターゲット２７が衝突して飛沫が発生することがあり得る。
それにより、図２Ａに示されたターゲット回収器２８を備えるＥＵＶ光生成装置１では、これらの飛沫が回収容器２８１外に飛散してＥＵＶ集光ミラー２３に付着し、ＥＵＶ集光ミラー２３の反射率が部分的に低下することがあり得る。
その結果、図２Ａに示されたターゲット回収器２８を備えるＥＵＶ光生成装置１では、ＥＵＶ光２５２の出力が低下し、ＥＵＶ光２５２のビームプロファイルが悪化することがあり得る。
よって、ターゲット２７のレシーバ２８０上での蓄積を抑制することによってＥＵＶ集光ミラー２３の反射率低下を抑制し、安定したＥＵＶ光２５２を生成し得る技術が望まれている。
【００４４】
［６．第１実施形態のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器］
図３Ａ及び図３Ｂを用いて、第１実施形態のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８について説明する。
第１実施形態のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８は、図２Ａに示されたターゲット回収器２８に対して、加振機構２８５が追加された構成を備えてもよい。
第１実施形態のＥＵＶ光生成装置１の構成において、図１及び図２Ａに示されたＥＵＶ光生成装置１と同様の構成については説明を省略する。
【００４５】
［６．１  構成］
図３Ａは、第１実施形態のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８の構成を説明するための図を示す。図３Ｂは、図３Ａに示された加振装置２８５１の構成を説明するための図を示す。
図３Ａのターゲット回収器２８は、レシーバ２８０と、回収容器２８１と、加熱機構２８４と、を備えてもよい。これらの各構成要素は、図２Ａに示されたターゲット回収器２８と同様であってもよい。なお、図３Ａでは、加熱機構２８４のうちの加熱電源２８４２及び温度制御部２８４４に係る図示が単に省略されているに過ぎず、ターゲット回収器２８は当然ながら加熱電源２８４２及び温度制御部２８４４を含んでもよい。以降の図面でも同様である。
更に、図３Ａのターゲット回収器２８は、加振機構２８５を備えてもよい。
【００４６】
加振機構２８５は、レシーバ２８０を振動させる機構であってもよい。
加振機構２８５は、加振装置２８５１と、加振電源２８５２と、を含んでもよい。
【００４７】
加振装置２８５１は、レシーバ２８０を振動させるバイブレータであってもよい。
加振装置２８５１は、板状部材のレシーバ２８０に直接接続されてもよい。
加振装置２８５１は、レシーバ２８０のターゲット２７と衝突しない側の面に配置されてもよい。
加振装置２８５１は、ターゲット軌道２７２と略直交する方向への振動成分を持つようにレシーバ２８０を振動させてもよい。
【００４８】
加振装置２８５１は、図３Ｂに示されるように、モータ２８５１ａと、アンバランスウェイト２８５１ｂと、モータ保持材２８５１ｃと、ケース２８５１ｄと、を含んでもよい。
そして、加振装置２８５１は、アンバランスウェイト２８５１ｂに接続されたモータ２８５１ａが、モータ保持材２８５１ｃを介してケース２８５１ｄに接続された構成であってもよい。
モータ２８５１ａ用の電気配線は、ケース２８５１ｄを貫通して加振電源２８５２に接続されてもよい。
モータ２８５１ａには、誘導モータ等のＡＣモータ、ＤＣモータ又は超音波モータ等の各種モータが用いられてもよい。
アンバランスウェイト２８５１ｂは、モータ２８５１ａの回転軸に接続されてもよい。アンバランスウェイト２８５１ｂは、モータ２８５１ａの回転軸に対して偏心した重心を有する重量体であってもよい。
【００４９】
加振電源２８５２は、加振装置２８５１に含まれるモータ２８５１ａに電力を供給する電源であってもよい。
加振電源２８５２は、モータ２８５１ａの種類に応じた電源によって構成されてもよい。
加振電源２８５２は、タンク２８３の側部２８３ｅを貫通するフィードスルー２８３ｇを介して、加振装置２８５１に電気的に接続されてもよい。
加振電源２８５２は、図示されていないが、ＥＵＶ光生成制御部５に電気的に接続されてもよい。
【００５０】
なお、加振装置２８５１は、圧電素子、電歪素子又は磁歪素子を用いて構成されてもよい。何れにせよ、加振装置２８５１は、レシーバ２８０に直接接続でき、レシーバ２８０を振動させ得る装置であればよい。
【００５１】
第１実施形態に係るターゲット回収器２８の他の構成については、図２Ａに示されたターゲット回収器２８と同様であってもよい。
【００５２】
［６．２  動作］
第１実施形態に係るターゲット回収器２８の動作について説明する。
第１実施形態に係るターゲット回収器２８の動作において、図２Ａに示されたターゲット回収器２８と同様の動作について説明を省略する。
【００５３】
ＥＵＶ光生成制御部５は、加振装置２８５１のモータ２８５１ａが所定回転数で回転するよう、加振電源２８５２から加振装置２８５１に供給される電力を制御してもよい。
ＥＵＶ光生成制御部５は、ターゲット供給器２６がターゲット２７を出力している間だけ加振装置２８５１が振動するよう、加振電源２８５２を制御してもよい。或いは、ＥＵＶ光生成制御部５は、ＥＵＶ光２５２を生成しない期間に加振装置２８５１が振動するよう、加振電源２８５２を制御してもよい。
加振電源２８５２は、ＥＵＶ光生成制御部５からの制御によりモータ２８５１ａへ供給する電力を変化させてもよい。
【００５４】
加振装置２８５１では、モータ２８５１ａが回転すると、アンバランスウェイト２８５１ｂの回転に伴う慣性力によって振動が発生し得る。当該振動は、モータ２８５１ａの回転軸、モータ２８５１ａ、モータ保持材２８５１ｃ及びケース２８５１ｄを経由してレシーバ２８０に伝達し得る。レシーバ２８０は、当該振動に同期して振動し得る。
【００５５】
上述のように、レシーバ２８０に衝突したターゲット２７の一部は、レシーバ２８０上に僅かに付着することがあり得る。
この場合、レシーバ２８０がターゲット２７の融点以上の温度に加熱されているため、レシーバ２８０に付着したターゲット２７は、溶融状態であり得る。
このため、レシーバ２８０に付着したターゲット２７は、加振装置２８５１によるレシーバ２８０の振動によって、レシーバ２８０を伝ってタンク２８３内に落下し、タンク２８３内に収容され得る。
【００５６】
なお、加振装置２８５１が上述のように圧電素子等で構成されていれば、ＥＵＶ光生成制御部５は、加振装置２８５１が所定振動数で振動するよう加振電源２８５２から加振装置２８５１に供給される電力を制御してもよい。
また、モータ２８５１ａの所定回転数や加振装置２８５１の所定振動数は、レシーバ２８０に付着したターゲット２７が落下するような値を実験等によって予め定めておけばよい。
【００５７】
第１実施形態に係るターゲット回収器２８の他の動作については、図２Ａに示されたターゲット回収器２８と同様であってもよい。
【００５８】
［６．３  作用］
第１実施形態に係るターゲット回収器２８は、ターゲット２７がレシーバ２８０に付着してもレシーバ２８０の振動によりターゲット２７をタンク２８３内に落下させ得るため、ターゲット２７がレシーバ２８０上に蓄積することを抑制し得る。
それにより、第１実施形態に係るターゲット回収器２８を備えるＥＵＶ光生成装置１は、ターゲット２７の飛沫が発生してＥＵＶ集光ミラー２３に付着することを抑制し得る。
その結果、第１実施形態のＥＵＶ光生成装置１は、ＥＵＶ集光ミラー２３の反射率低下を抑制し、安定したＥＵＶ光２５２を生成し得る。
【００５９】
［６．４  第１実施形態の変形例１］
図４Ａ〜図４Ｃを用いて、第１実施形態の変形例１のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８について説明する。
第１実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８は、第１実施形態のターゲット回収器２８に対して、加振装置２８５１の配置が主に異なってもよい。
第１実施形態の変形例１におけるＥＵＶ光生成装置１の構成において、第１実施形態のＥＵＶ光生成装置１と同様の構成については説明を省略する。
【００６０】
図４Ａは、第１実施形態の変形例１のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８を説明するための図を示す。図４Ｂは、図４Ａに示された振動伝達部材２８５３及び加振装置２８５１の接続関係を説明するための図を示す。図４Ｃは、図４Ａに示された振動伝達部材２８５３及び加振装置２８５１の接続関係に関する他の例を説明するための図を示す。
図４Ａの加振装置２８５１は、レシーバ２８０に直接接続されていなくてもよい。
具体的には、加振装置２８５１は、レシーバ２８０と離間するよう回収容器２８１の外に配置されてもよい。加振装置２８５１は、チャンバ２の壁２ａの内壁面に配置されてもよい。
加振装置２８５１及びレシーバ２８０は、回収容器２８１の筒部２８２に設けられた貫通孔２８２ｄを通る振動伝達部材２８５３によって接続されてもよい。
【００６１】
振動伝達部材２８５３は、高い剛性を有する材料で形成されてもよい。
振動伝達部材２８５３は、図４Ｂに示されるように、加振装置２８５１のケース２８５１ｄに取り付けられてもよい。
或いは、振動伝達部材２８５３は、図４Ｃに示されるように、ケース２８５１ｄを貫通し、回転するアンバランスウェイト２８５１ｂに衝突する位置まで延びるように取り付けられてもよい。振動伝達部材２８５３は、回転するアンバランスウェイト２８５１ｂと衝突することで振動し得る。
【００６２】
加振電源２８５２は、チャンバ２の壁２ａを貫通するフィードスルー２ｃを介して、チャンバ２内に配置された加振装置２８５１に電気的に接続されてもよい。
【００６３】
第１実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８の他の構成については、第１実施形態のターゲット回収器２８と同様であってもよい。
【００６４】
このような構成により、加振装置２８５１は、レシーバ２８０と離間しても振動伝達部材２８５３を介してレシーバ２８０に振動を伝達させ得る。
このため、加振装置２８５１は、ターゲット２７の融点以上という高温に加熱されたレシーバ２８０や回収容器２８１から離れて配置され得る。
それにより、加振装置２８５１は、モータ２８５１ａが高温環境下に曝されて故障することを抑制し得る。
その結果、第１実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８は、加振装置２８５１の耐久性を向上させ得るため、ターゲット２７のレシーバ２８０への蓄積を安定して抑制し得る。
なお、図４Ｃに示されるように、アンバランスウェイト２８５１ｂと振動伝達部材２８５３が衝突する場合、振動伝達部材２８５３には比較的大きな振動が発生し得る。このため、振動伝達部材２８５３を含むターゲット回収器２８は、ターゲット２７のレシーバ２８０への蓄積を更に抑制し得る。
【００６５】
［６．５  第１実施形態の変形例２］
図５を用いて、第１実施形態の変形例２のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８について説明する。
第１実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８は、第１実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８に対して、レシーバ２８０及び回収容器２８１の構成が主に異なってもよい。
第１実施形態の変形例２におけるＥＵＶ光生成装置１の構成において、第１実施形態の変形例１のＥＵＶ光生成装置１と同様の構成については説明を省略する。
【００６６】
図５は、第１実施形態の変形例２のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８を説明するための図を示す。
図５のレシーバ２８０は、繊維部材を用いて構成されてもよい。
繊維部材で構成されたレシーバ２８０は、板状部材で構成された上述のレシーバ２８０と同様に、高い熱伝導性を有し、ターゲット２７の融点以上の温度に対して耐熱性を有する材料で形成されてもよい。更に、繊維部材で構成されたレシーバ２８０は、板状部材で構成された上述のレシーバ２８０と同様に、溶融したターゲット２７との接触角が９０°以上となる濡れ難い材料で形成されてもよい。
レシーバ２８０を構成する１つの繊維部材は、複数の繊維束で構成されていてもよい。１つの繊維束は、１又は複数の繊維の束であってもよい。当該繊維束は、例えば炭素繊維やタングステン細線で構成されてもよい。
【００６７】
レシーバ２８０は、支持部材２８０１を介して回収容器２８１の内壁面に支持されてもよい。
支持部材２８０１には、加振装置２８５１に接続された振動伝達部材２８５３が接続されてもよい。
支持部材２８０１は、振動伝達部材２８５３よりも低い剛性を有する材料で形成されてもよい。支持部材２８０１は、振動伝達部材２８５３よりも低い剛性を有する構造に形成されてもよい。
【００６８】
支持部材２８０１が接続される回収容器２８１の内壁面には、図５に示されるように、レシーバ２８０の傾斜角度と略同等の傾斜角度で傾斜する傾斜部２８３ｆが形成されてもよい。
傾斜部２８３ｆは、タンク２８３内に形成されてもよい。傾斜部２８３ｆは、タンク２８３の底部２８３ｄ及び側部２８３ｅの内壁面２８３ｃ上に、底部２８３ｄ及び側部２８３ｅと同じ材料で形成されたバルク状の部材を配置することによって形成されてもよい。傾斜部２８３ｆは、タンク２８３の底部２８３ｄ及び側部２８３ｅと一体的に形成されてもよい。
傾斜部２８３ｆは、レシーバ２８０と同様に、ターゲット軌道２７２及び重力方向のそれぞれに対して傾斜するように形成されてもよい。
傾斜部２８３ｆの傾斜面は、タンク２８３の側部２８３ｅにおける内壁面２８３ｃの一部又は筒部２８２の内壁面２８２ｃの一部を基端として、先端がタンク２８３の底部２８３ｄの内壁面２８３ｃに向かって延びるように形成されてもよい。
傾斜部２８３ｆの傾斜面は、支持部材２８０１に支持されていない側のレシーバ２８０の先端を超えて、底部２８３ｄの内壁面２８３ｃに延びるように形成されてもよい。
【００６９】
第１実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８の他の構成については、第１実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８と同様であってもよい。
【００７０】
このような構成により、支持部材２８０１は、支持部材２８０１よりも高い剛性を有する振動伝達部材２８５３を介して伝達された振動の振幅を増幅させ得る。
それにより、レシーバ２８０は、振動伝達部材２８５３と同程度の剛性を有する支持部材によって支持されている場合に比べて大きな振幅で振動し得る。
その結果、第１実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８は、ターゲット２７のレシーバ２８０への蓄積を更に抑制し得る。
また、レシーバ２８０は、ターゲット２７が衝突すると、レシーバ２８０を構成する幾つかの繊維束が撓むように変形し、衝突したターゲット２７の運動エネルギーを低減させ得る。ターゲット２７は、レシーバ２８０を貫通し、タンク２８３回収容器２８１の傾斜部２８３ｆに落下し得る。すなわち、レシーバ２８０を貫通したターゲット２７は、タンク２８３内に形成されたターゲット２７の液面やタンク２８３の底部２８３ｄに直接落下するのではなく、傾斜部２８３ｆを伝って落下し得る。
その結果、第１実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８は、ターゲット２７の飛沫が発生することを更に抑制し得る。
【００７１】
［７．第２実施形態のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器］
図６を用いて、第２実施形態のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８について説明する。
第２実施形態に係るターゲット回収器２８は、第１実施形態に係るターゲット回収器２８に対して、伝熱抑制部材２８６が追加された構成を備えてもよい。
第２実施形態のＥＵＶ光生成装置１の構成において、第１実施形態のＥＵＶ光生成装置１と同様の構成については説明を省略する。
【００７２】
図６は、第２実施形態のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８を説明するための図を示す。
図６の加振装置２８５１は、板状部材のレシーバ２８０に直接接続されるのではなく、伝熱抑制部材２８６を介してレシーバ２８０に接続されてもよい。
伝熱抑制部材２８６は、低い熱伝導性を有する材料で形成されてもよい。伝熱抑制部材２８６は、低い熱伝導性を有する構造に形成されてもよい。
伝熱抑制部材２８６は、第１実施形態の変形例２に係る振動伝達部材２８５３と同様に、高い剛性を有する材料で形成されてもよく、高い剛性を有する構造に形成されてもよい。伝熱抑制部材２８６は、例えばステンレス又はセラミックスによる箱構造体で形成されてもよい。
【００７３】
第２実施形態に係るターゲット回収器２８の他の構成については、第１実施形態に係るターゲット回収器２８と同様であってもよい。
【００７４】
このような構成により、伝熱抑制部材２８６は、加振装置２８５１からの振動をレシーバ２８０に伝達させ得る。
また、伝熱抑制部材２８６は、ターゲット２７の融点以上という高温に加熱されたレシーバ２８０からの熱が加振装置２８５１に伝達することを抑制し得る。
それにより、伝熱抑制部材２８６は、加振装置２８５１からレシーバ２８０に伝達する振動を極力減衰させずに、加振装置２８５１を熱的に保護してモータ２８５１ａの故障を抑制し得る。
その結果、第２実施形態に係るターゲット回収器２８は、加振装置２８５１の耐久性を向上させ得るため、ターゲット２７のレシーバ２８０への蓄積を安定して抑制し得る。
【００７５】
［７．１  第２実施形態の変形例１］
図７を用いて、第２実施形態の変形例１のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８について説明する。
第２実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８は、第１実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８に対して、伝熱抑制部材２８６が追加された構成を備えてもよい。
第２実施形態の変形例１におけるＥＵＶ光生成装置１の構成において、第１実施形態の変形例１におけるＥＵＶ光生成装置１と同様の構成については説明を省略する。
【００７６】
図７は、第２実施形態の変形例１のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８を説明するための図を示す。
図７の伝熱抑制部材２８６は、加振装置２８５１及びレシーバ２８０を接続する振動伝達部材２８５３の途中に配置されてもよい。
或いは、伝熱抑制部材２８６は、振動伝達部材２８５３の端部に配置されてもよい。
伝熱抑制部材２８６の他の構成については、図６に示された第２実施形態に係るターゲット回収器２８の伝熱抑制部材２８６と同様であってもよい。
【００７７】
第２実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８の他の構成については、第１実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８と同様であってもよい。
【００７８】
このような構成により、伝熱抑制部材２８６は、加振装置２８５１からレシーバ２８０に伝達される振動を極力減衰させずに、加振装置２８５１を熱的に保護してモータ２８５１ａの故障を更に抑制し得る。
その結果、第２実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８は、加振装置２８５１の耐久性を更に向上させ得るため、ターゲット２７のレシーバ２８０への蓄積を更に安定して抑制し得る。
【００７９】
［７．２  第２実施形態の変形例２］
図８を用いて、第２実施形態の変形例２のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８について説明する。
第２実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８は、第１実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８に対して、伝熱抑制部材２８６が追加された構成を備えてもよい。
更に、第２実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８は、第１実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８に対して、回収容器２８１の構成が異なってもよい。
第２実施形態の変形例２におけるＥＵＶ光生成装置１の構成において、第１実施形態の変形例２のＥＵＶ光生成装置１と同様の構成については説明を省略する。
【００８０】
図８は、第２実施形態の変形例２のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８を説明するための図を示す。
図８の回収容器２８１は、タンク２８３の傾斜部２８３ｆがバルク状に形成されていなくてもよい。傾斜部２８３ｆは、タンク２８３の底部２８３ｄ及び側部２８３ｅと同様に、薄い板厚で形成されてもよい。
【００８１】
支持部材２８０１は、タンク２８３の傾斜部２８３ｆにおける内壁面２８３ｃに接続されてもよい。
【００８２】
伝熱抑制部材２８６は、タンク２８３の傾斜部２８３ｆにおける外壁面２８３ｂに接続されてもよい。
伝熱抑制部材２８６の他の構成については、図６に示された第２実施形態に係るターゲット回収器２８の伝熱抑制部材２８６と同様であってもよい。
【００８３】
加振装置２８５１は、チャンバ２及び回収容器２８１の外部に配置されてもよい。
加振装置２８５１は、タンク２８３の傾斜部２８３ｆにおける外壁面２８３ｂに対して、伝熱抑制部材２８６を介して接続されてもよい。
【００８４】
加振電源２８５２は、チャンバ２及び回収容器２８１の外部に配置されてもよい。
加振電源２８５２は、フィードスルーを介さずに、加振装置２８５１に電気的に接続されてもよい。
【００８５】
第２実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８の他の構成については、第１実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８と同様であってもよい。
【００８６】
このような構成により、加振装置２８５１は、チャンバ２及び回収容器２８１の外部に配置される共に伝熱抑制部材２８６によって回収容器２８１からの伝熱が抑制され得る。このため、モータ２８５１ａの故障が更に抑制され、加振装置２８５１の耐久性は更に向上し得る。
また、加振装置２８５１は、薄い板厚で振動を伝達し易い傾斜部２８３ｆの外壁面２８３ｂに対して接続され得る。このため、加振装置２８５１は、振動伝達部材２８５３を介さずに外壁面２８３ｂを介して、レシーバ２８０を支持する支持部材２８０１に振動を伝達させ得る。言い換えると、加振装置２８５１は、回収容器２８１の外壁面を介してレシーバ２８０を振動させ得る。
支持部材２８０１は、加振装置２８５１からの振動が減衰することを抑制しながら当該振動を伝達し得ると共に当該振動の振幅を増幅し得る。レシーバ２８０は、大きな振幅で振動し得る。
その結果、第２実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８は、ターゲット２７のレシーバ２８０への蓄積を更に安定して抑制し得る。
【００８７】
［８．第３実施形態のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器］
図９を用いて、第３実施形態のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８について説明する。
第３実施形態に係るターゲット回収器２８は、第２実施形態に係るターゲット回収器２８に対して、伝熱抑制部材２８６に係る構成が主に異なってもよい。
第３実施形態のＥＵＶ光生成装置１の構成において、第２実施形態のＥＵＶ光生成装置１と同様の構成については説明を省略する。
【００８８】
［８．１  構成］
図９は、第３実施形態のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８を説明するための図を示す。
図９の伝熱抑制部材２８６は、ペルチェ素子２８６１に置換されてもよい。
すなわち、ペルチェ素子２８６１は、レシーバ２８０と加振装置２８５１との間に配置されてもよい。
【００８９】
ペルチェ電源２８６２は、タンク２８３の側部２８３ｅを貫通するフィードスルー２８３ｈを介して、ペルチェ素子２８６１に電気的に接続されてもよい。
ペルチェ電源２８６２は、図示されていないが、ＥＵＶ光生成制御部５に電気的に接続されてもよい。
【００９０】
第３実施形態に係るターゲット回収器２８の他の構成については、第２実施形態に係るターゲット回収器２８と同様であってもよい。
【００９１】
［８．２  動作］
第３実施形態に係るターゲット回収器２８の動作について説明する。
第３実施形態に係るターゲット回収器２８の動作において、第１及び第２実施形態に係るターゲット回収器２８と同様の動作について説明を省略する。
【００９２】
ＥＵＶ光生成制御部５は、加熱装置２８４１が動作している間、ペルチェ素子２８６１が動作するよう、ペルチェ電源２８６２を制御してもよい。
ペルチェ素子２８６１には、加振装置２８５１との接続部分に対して、加振装置２８５１に含まれるモータ２８５１ａの駆動によって発生する熱が伝達され得る。
ペルチェ素子２８６１は、加振装置２８５１との接続部分に伝達された熱をレシーバ２８０に伝達してもよい。それにより、加振装置２８５１は冷却されレシーバ２８０は加熱されてもよい。
【００９３】
第３実施形態に係るターゲット回収器２８の他の動作については、第１及び第２実施形態に係るターゲット回収器２８と同様であってもよい。
【００９４】
［８．３  作用］
第３実施形態に係るターゲット回収器２８は、ペルチェ素子２８６１によってレシーバ２８０が加熱され得るので、加熱装置２８４１に電力を供給する加熱電源２８４２の消費電力を低減し得る。
一方、第３実施形態に係るターゲット回収器２８は、ペルチェ素子２８６１によって加振装置２８５１が冷却され得るので、加振装置２８５１に含まれるモータ２８５１ａの故障を更に抑制し得る。
【００９５】
［８．４  第３実施形態の変形例１］
図１０を用いて、第３実施形態の変形例１のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８について説明する。
第３実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８は、第２実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８に対して、伝熱抑制部材２８６に係る構成が主に異なってもよい。
第３実施形態の変形例１におけるＥＵＶ光生成装置１の構成において、第２実施形態の変形例２におけるＥＵＶ光生成装置１と同様の構成については説明を省略する。
【００９６】
図１０は、第３実施形態の変形例１のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８を説明するための図を示す。
図１０の伝熱抑制部材２８６は、ペルチェ素子２８６１に置換されてもよい。
すなわち、ペルチェ素子２８６１は、チャンバ２及び回収容器２８１の外部に配置されおり、タンク２８３の傾斜部２８３ｆにおける外壁面２８３ｂに接続されてもよい。
ペルチェ素子２８６１の他の構成については、図９に示された第３実施形態に係るターゲット回収器２８のペルチェ素子２８６１と同様であってもよい。
【００９７】
ペルチェ電源２８６２は、チャンバ２及び回収容器２８１の外部に配置され、フィードスルーを介さずに、ペルチェ素子２８６１に電気的に接続されてもよい。
ペルチェ電源２８６２の他の構成については、図９に示された第３実施形態に係るターゲット回収器２８のペルチェ素子２８６１と同様であってもよい。
【００９８】
第３実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８の他の構成については、第２実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８と同様であってもよい。
【００９９】
このような構成により、ペルチェ素子２８６１は、加振装置２８５１との接続部分に伝達された熱をタンク２８３に伝達してもよい。それにより、加振装置２８５１は冷却されタンク２８３は加熱されてもよい。ペルチェ素子２８６１によってタンク２８３に伝達された熱は支持部材２８０１を介してレシーバ２８０に伝達し得るため、レシーバ２８０は加熱され得る。
その結果、第３実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８は、加熱装置２８４１に電力を供給する加熱電源２８４２の消費電力を低減し得ると共に、加振装置２８５１に含まれるモータ２８５１ａの故障を更に抑制し得る。
【０１００】
［９．第４実施形態のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器］
図１１を用いて、第４実施形態のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８について説明する。
第４実施形態に係るターゲット回収器２８は、第２実施形態に係るターゲット回収器２８に対して、冷却機構２８７が追加された構成を備えてもよい。
第４実施形態のＥＵＶ光生成装置１の構成において、第２実施形態のＥＵＶ光生成装置１と同様の構成については説明を省略する。
【０１０１】
［９．１  構成］
図１１は、第４実施形態のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８を説明するための図を示す。
図１１の冷却機構２８７は、加振装置２８５１を冷却する機構であってもよい。
冷却機構２８７は、冷却装置２８７１と、熱交換器２８７２と、配管２８７３と、を含んでもよい。
【０１０２】
冷却装置２８７１は、内部に冷媒流路が形成された部材であってもよい。冷媒流路を流れる冷媒は、例えば水であってもよい。
冷却装置２８７１は、高い熱伝導性を有する金属で形成されてもよい。
冷却装置２８７１は、伝熱抑制部材２８６とは反対側に位置する加振装置２８５１の面に接続されてもよい。
【０１０３】
配管２８７３は、冷却装置２８７１内の冷媒流路と熱交換器２８７２内の冷媒流路とを連通させてもよい。
配管２８７３は、タンク２８３の側部２８３ｅを貫通するフィードスルー２８３ｉを通るように配置されてもよい。
【０１０４】
熱交換器２８７２は、熱交換器２８７２内の冷媒流路、冷却装置２８７１内の冷媒流路及び配管２８７３によって形成されたループにおいて冷媒を循環させてもよい。
熱交換器２８７２は、図示されていないが、ＥＵＶ光生成制御部５に電気的に接続されてもよい。
【０１０５】
第４実施形態に係るターゲット回収器２８の他の構成については、第２実施形態に係るターゲット回収器２８と同様であってもよい。
【０１０６】
［９．２  動作］
第４実施形態に係るターゲット回収器２８の動作について説明する。
第４実施形態に係るターゲット回収器２８の動作において、第１及び第２実施形態に係るターゲット回収器２８と同様の動作について説明を省略する。
【０１０７】
ＥＵＶ光生成制御部５は、加熱装置２８４１が動作している間、冷却装置２８７１内の冷媒流路中の冷媒が流れるよう、熱交換器２８７２を制御してもよい。
熱交換器２８７２は、冷却装置２８７１から流入した冷媒の熱を大気中に排出して冷媒を冷却してもよい。熱交換器２８７２は、冷却された冷媒を冷却装置２８７１に流出させてもよい。それにより、冷却装置２８７１に接続された加振装置２８５１は冷却され得る。
【０１０８】
第４実施形態に係るターゲット回収器２８の他の動作については、第１及び第２実施形態に係るターゲット回収器２８と同様であってもよい。
【０１０９】
［９．３  作用］
第４実施形態に係るターゲット回収器２８は、冷却装置２８７１及び熱交換器２８７２によって加振装置２８５１を冷却し得るので、加振装置２８５１に含まれるモータ２８５１ａの故障を更に抑制し得る。
【０１１０】
［９．４  第４実施形態の変形例１］
図１２を用いて、第４実施形態の変形例１のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８について説明する。
第４実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８は、第２実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８に対して、冷却機構２８７が追加された構成を備えてもよい。
第４実施形態の変形例１におけるＥＵＶ光生成装置１の構成において、第２実施形態の変形例１におけるＥＵＶ光生成装置１と同様の構成については説明を省略する。
【０１１１】
図１２は、第４実施形態の変形例１のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８を説明するための図を示す。
図１２の冷却機構２８７に含まれる冷却装置２８７１は、チャンバ２の壁２ａと加振装置２８５１との間には配置されてもよい。
配管２８７３は、チャンバ２の壁２ａを貫通するフィードスルー２ｄを通るように配置されてもよい。
冷却機構２８７の他の構成については、図１１に示された第４実施形態に係るターゲット回収器２８の冷却機構２８７と同様であってもよい。
【０１１２】
第４実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８の他の構成については、第２実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８と同様であってもよい。
【０１１３】
このような構成により、第４実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８は、冷却装置２８７１及び熱交換器２８７２によって加振装置２８５１を冷却し得るので、加振装置２８５１に含まれるモータ２８５１ａの故障を更に抑制し得る。
【０１１４】
［９．５  第４実施形態の変形例２］
図１３を用いて、第４実施形態の変形例２のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８について説明する。
第４実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８は、第２実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８に対して、冷却機構２８７が追加された構成を備えてもよい。
第４実施形態の変形例２におけるＥＵＶ光生成装置１の構成において、第２実施形態の変形例２におけるＥＵＶ光生成装置１と同様の構成については説明を省略する。
【０１１５】
図１３は、第４実施形態の変形例２のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８を説明するための図を示す。
図１３の冷却機構２８７に含まれる冷却装置２８７１は、伝熱抑制部材２８６とは反対側に位置する加振装置２８５１の面に接続されてもよい。
配管２８７３は、冷却装置２８７１及び熱交換器２８７２を直接連通させてもよい。
冷却機構２８７の他の構成については、図１１に示された第４実施形態に係るターゲット回収器２８の冷却機構２８７と同様であってもよい。
【０１１６】
第４実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８の他の構成については、第２実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８と同様であってもよい。
【０１１７】
このような構成により、第４実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８は、冷却装置２８７１及び熱交換器２８７２によって加振装置２８５１を冷却し得るので、加振装置２８５１に含まれるモータ２８５１ａの故障を更に抑制し得る。
【０１１８】
［１０．第５実施形態のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器］
図１４を用いて、第５実施形態のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８について説明する。
第５実施形態に係るターゲット回収器２８は、第２実施形態に係るターゲット回収器２８に対して、振動減衰部材２８８が追加された構成を備えてもよい。
第５実施形態のＥＵＶ光生成装置１の構成において、第２実施形態のＥＵＶ光生成装置１と同様の構成については説明を省略する。
【０１１９】
図１４は、第５実施形態のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８を説明するための図を示す。
図１４のレシーバ２８０は、筒部２８２の内壁面２８２ｃに振動減衰部材２８８を介して支持されてもよい。
振動減衰部材２８８は、振動を減衰させる弾性体であってもよい。
振動減衰部材２８８は、高い熱伝導性を有する材料で形成されてもよい。
振動減衰部材２８８は、例えば防振性シリコンゴムや熱伝導性シリコンゴムで形成されてもよく、アルミニウムやニッケル等の金属で形成された発泡金属等の、空孔を含む金属部材を用いて形成されてもよい。また、振動減衰部材２８８は、金属のばね材を用いて形成されてもよい。
【０１２０】
第５実施形態に係るターゲット回収器２８の他の構成については、第２実施形態に係るターゲット回収器２８と同様であってもよい。
【０１２１】
このような構成により、振動減衰部材２８８は、レシーバ２８０の振動が、筒部２８２やタンク２８３等のターゲット回収器２８の他の構成要素に伝達することを抑制し得る。
それにより、振動減衰部材２８８は、レシーバ２８０の振動が、ターゲット回収器２８が固定されたチャンバ２やチャンバ２に固定されたターゲット供給器２６に伝達することを抑制し得る。
その結果、第５実施形態に係るターゲット回収器２８は、チャンバ２やターゲット供給器２６が振動してターゲット軌道２７２が乱れることを抑制し得る。
【０１２２】
［１０．１  第５実施形態の変形例１］
図１５を用いて、第５実施形態の変形例１のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８について説明する。
第５実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８は、第２実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８に対して、振動減衰部材２８８が追加された構成を備えてもよい。
第５実施形態の変形例２におけるＥＵＶ光生成装置１の構成において、第２実施形態の変形例１におけるＥＵＶ光生成装置１と同様の構成については説明を省略する。
【０１２３】
図１５は、第５実施形態の変形例１のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８を説明するための図を示す。
図１５の振動減衰部材２８８は、図１４に示された振動減衰部材２８８と同様に、筒部２８２の内壁面２８２ｃとレシーバ２８０との間に配置されてもよい。
振動減衰部材２８８の他の構成については、図１４に示された第４実施形態に係るターゲット回収器２８の振動減衰部材２８８と同様であってもよい。
【０１２４】
第５実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８の他の構成については、第２実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８と同様であってもよい。
【０１２５】
このような構成により、振動減衰部材２８８は、レシーバ２８０の振動がターゲット回収器２８の他の構成要素に伝達することを抑制し得る。
その結果、第５実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８は、レシーバ２８０の振動がチャンバ２やターゲット供給器２６に伝達してターゲット軌道２７２が乱れることを抑制し得る。
【０１２６】
［１０．２  第５実施形態の変形例２］
図１６を用いて、第５実施形態の変形例２のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８について説明する。
第５実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８は、第２実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８に対して、振動減衰部材２８８が追加された構成を備えてもよい。
第５実施形態の変形例２におけるＥＵＶ光生成装置１の構成において、第２実施形態の変形例２におけるＥＵＶ光生成装置１と同様の構成については説明を省略する。
【０１２７】
図１６は、第５実施形態の変形例２のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８を説明するための図を示す。
図１６の振動減衰部材２８８は、タンク２８３の傾斜部２８３ｆの一部として配置されてもよい。振動減衰部材２８８は、傾斜部２８３ｆにおいて加振装置２８５１に接続された伝熱抑制部材２８６が占める領域の周囲に、傾斜部２８３ｆの一部として配置されてもよい。傾斜部２８３ｆの当該伝熱抑制部材２８６が占める領域内の内壁面２８３ｃには、レシーバ２８０を支持する支持部材２８０１が接続されてもよい。
振動減衰部材２８８は、気密性を有する材料で形成されてもよい。振動減衰部材２８８は、例えば防振性シリコンゴムや熱伝導性シリコンゴムで形成されてもよい。
振動減衰部材２８８は、タンク２８３内の気密性が確保され得るように配置されてもよい。
なお、タンク２８３内の気密性の観点から、振動減衰部材２８８は、図１４に示された振動減衰部材２８８とは異なり、発泡金属等の空孔を含む金属部材や金属のばね材でない方が好ましい。
振動減衰部材２８８の他の構成については、図１４に示された第２実施形態に係るターゲット回収器２８の振動減衰部材２８８と同様であってもよい。
【０１２８】
第５実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８の他の構成については、第２実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８と同様であってもよい。
【０１２９】
このような構成により、振動減衰部材２８８は、加振装置２８５１及びレシーバ２８０の振動が、筒部２８２やタンク２８３等のターゲット回収器２８の他の構成要素に伝達することを抑制し得る。
それにより、振動減衰部材２８８は、加振装置２８５１及びレシーバ２８０の振動が、ターゲット回収器２８が固定されたチャンバ２やチャンバ２に固定されたターゲット供給器２６に伝達することを抑制し得る。
その結果、第５実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８は、チャンバ２やターゲット供給器２６が振動してターゲット軌道２７２が乱れることを抑制し得る。
【０１３０】
［１１．第６実施形態のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器］
図１７〜図１８Ｃを用いて、第６実施形態のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８について説明する。
第６実施形態に係るターゲット回収器２８は、第５実施形態に係るターゲット回収器２８に対して、回収容器２８１及び振動減衰部材２８８の構成が主に異なってもよい。
第６実施形態のＥＵＶ光生成装置１の構成において、第５実施形態のＥＵＶ光生成装置１と同様の構成については説明を省略する。
【０１３１】
図１７は、第６実施形態のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８を説明するための図を示す。図１８Ａは、図１７に示されたＰ部分の拡大図であって、振動減衰部材２８８の構成例１を説明するための図を示す。図１８Ｂは、図１７に示されたＰ部分の拡大図であって、振動減衰部材２８８の構成例２を説明するための図を示す。図１８Ｃは、図１７に示されたＰ部分の拡大図であって、振動減衰部材２８８の構成例３を説明するための図を示す。
図１７の回収容器２８１には、保持フランジ２８２ｅ及び接続フランジ２８２ｆが設けられてもよい。
保持フランジ２８２ｅは、鍔状に形成されてもよい。保持フランジ２８２ｅは、筒部２８２の外壁面２８２ｂから径方向外側に向かって突出するように形成されてもよい。保持フランジ２８２ｅは、ターゲット軌道２７２と略直交するように突出して形成されてもよい。
保持フランジ２８２ｅは、筒部２８２と一体的に形成されてもよい。
保持フランジ２８２ｅは、筒部２８２やタンク２８３と同じ材料で形成されてもよい。
なお、保持フランジ２８２ｅは、タンク２８３に設けられてもよい。
【０１３２】
接続フランジ２８２ｆは、チャンバ２に対してターゲット回収器２８を接続するためのフランジであってもよい。
接続フランジ２８２ｆは、リング状に形成されてもよい。
接続フランジ２８２ｆは、筒部２８２やタンク２８３と同じ材料で形成されてもよい。
【０１３３】
接続フランジ２８２ｆには、図１８Ａに示されるように、ボルト穴２８２ｇと、溝２８２ｈと、が形成されてもよい。
ボルト穴２８２ｇは、チャンバ２の壁２ａに対して接続フランジ２８２ｆを固定するボルト２８９１をねじ込む穴であってもよい。
溝２８２ｈは、チャンバ２の壁２ａに対して接続フランジ２８２ｆを気密的に接続するシール部材２８９２を配置するための溝であってもよい。なお、シール部材２８９２を配置するための溝は、接続フランジ２８２ｆに対して形成されるのではなく、チャンバ２の壁２ａに対して形成されてもよい。
【０１３４】
図１７の振動減衰部材２８８は、チャンバ２とターゲット回収器２８との間に配置されてもよい。
振動減衰部材２８８は、図１８Ａに示されるように、ベローズ材２８８１として構成されてもよい。
ベローズ材２８８１は、伸縮自在な筒状に形成されてもよい。
ベローズ材２８８１は、弾性を有する材料で形成されてもよい。
ベローズ材２８８１は、筒部２８２やタンク２８３と同じ材料で形成されてもよい。
ベローズ材２８８１は、保持フランジ２８２ｅ及び接続フランジ２８２ｆのそれぞれに対して、溶接等により気密的に接合されてもよい。
ベローズ材２８８１は、保持フランジ２８２ｅと接続フランジ２８２ｆとを接続してもよい。チャンバ２とターゲット回収器２８とは、振動減衰部材２８８であるベローズ材２８８１を介して接続され得る。
【０１３５】
また、振動減衰部材２８８は、図１８Ｂに示されるように、図１８Ａに示されたベローズ材２８８１の外側に防振ゴム２８８２を追加して構成されてもよい。
防振ゴム２８８２は、上述の防振性シリコンゴムで形成されてもよい。
防振ゴム２８８２は、保持フランジ２８２ｅ及び接続フランジ２８２ｆの間において、筒部２８２を囲むような複数箇所に配置されてもよい。
振動減衰部材２８８は、防振ゴム２８８２の代りに、上述の空孔を含む金属部材を用いて構成されてもよい。空孔を含む金属部材は、上述のアルミニウムやニッケル等の金属で形成された発泡金属等であってもよい。
【０１３６】
また、振動減衰部材２８８は、図１８Ｃに示されるように、図１８Ａに示されたベローズ材２８８１の外側にばね材２８８３を追加して構成されてもよい。
ばね材２８８３は、金属のばね材であってもよい。
ばね材２８８３は、保持フランジ２８２ｅ及び接続フランジ２８２ｆの間において、筒部２８２を囲むような複数箇所に配置されてもよい。
振動減衰部材２８８は、ばね材２８８３の代りに、ガススプリングや油圧ダンパ等のダンパを用いて構成されてもよい。
【０１３７】
第６実施形態に係るターゲット回収器２８の他の構成については、第５実施形態に係るターゲット回収器２８と同様であってもよい。
【０１３８】
このような構成により、振動減衰部材２８８は、レシーバ２８０の振動が、ターゲット回収器２８に接続されたチャンバ２やチャンバ２に固定されたターゲット供給器２６に伝達することを抑制し得る。
その結果、第６実施形態に係るターゲット回収器２８は、チャンバ２やターゲット供給器２６が振動してターゲット軌道２７２が乱れることを抑制し得る。
【０１３９】
［１１．１  第６実施形態の変形例１］
図１９を用いて、第６実施形態の変形例１のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８について説明する。
第６実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８は、第５実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８に対して、回収容器２８１及び振動減衰部材２８８の構成が主に異なってもよい。
第６実施形態の変形例１におけるＥＵＶ光生成装置１の構成において、第５実施形態の変形例１におけるＥＵＶ光生成装置１と同様の構成については説明を省略する。
【０１４０】
図１９は、第６実施形態の変形例１のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８を説明するための図を示す。
図１９の回収容器２８１は、図１７〜図１８Ｃに示された回収容器２８１と同様に、保持フランジ２８２ｅ及び接続フランジ２８２ｆが設けられてもよい。
図１９の振動減衰部材２８８は、図１７〜図１８Ｃに示された振動減衰部材２８８と同様の構成を備え、チャンバ２とターゲット回収器２８との間に配置されてもよい。
【０１４１】
第６実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８の他の構成については、第５実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８と同様であってもよい。
【０１４２】
このような構成により、振動減衰部材２８８は、レシーバ２８０の振動がチャンバ２やターゲット供給器２６に伝達することを抑制し得る。
その結果、第６実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８は、チャンバ２やターゲット供給器２６が振動してターゲット軌道２７２が乱れることを抑制し得る。
【０１４３】
［１１．２  第６実施形態の変形例２］
図２０を用いて、第６実施形態の変形例２のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８について説明する。
第６実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８は、第５実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８に対して、回収容器２８１及び振動減衰部材２８８の構成が主に異なってもよい。
第６実施形態の変形例２におけるＥＵＶ光生成装置１の構成において、第５実施形態の変形例２におけるＥＵＶ光生成装置１と同様の構成については説明を省略する。
【０１４４】
図２０は、第６実施形態の変形例２のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８を説明するための図を示す。
図２０の回収容器２８１には、図１７〜図１８Ｃに示された回収容器２８１と同様に、保持フランジ２８２ｅ及び接続フランジ２８２ｆが設けられてもよい。
回収容器２８１は、タンク２８３の傾斜部２８３ｆの一部に対して振動減衰部材２８８が配置されておらず、図８に示された傾斜部２８３ｆと同様の構成を備えてもよい。
図２０の振動減衰部材２８８は、図１７〜図１８Ｃに示された振動減衰部材２８８と同様の構成を備え、チャンバ２とターゲット回収器２８との間に配置されてもよい。
【０１４５】
第６実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８の他の構成については、第５実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８と同様であってもよい。
【０１４６】
このような構成により、振動減衰部材２８８は、加振装置２８５１及びレシーバ２８０の振動がチャンバ２やターゲット供給器２６に伝達することを抑制し得る。
その結果、第６実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８は、チャンバ２やターゲット供給器２６が振動してターゲット軌道２７２が乱れることを抑制し得る。
【０１４７】
［１２．第７実施形態のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収器］
図２１を用いて、第７実施形態のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８について説明する。
第７実施形態のＥＵＶ光生成装置１は、チャンバ２から露光装置６に向かってＥＵＶ光２５２を導出する方向を、水平方向に対して傾斜させてもよい。このため、略円筒形状のチャンバ２は、その中心軸方向が水平方向に対して傾斜するように設けられてもよい。
チャンバ２の側面部に設けられたターゲット供給器２６は、ターゲット軌道２７２が重力方向に対して傾斜するようターゲット２７を出力してもよい。
第７実施形態に係るターゲット回収器２８は、重力方向に対して傾斜するターゲット軌道２７２の延長線上に配置されてもよい。
第７実施形態のＥＵＶ光生成装置１の構成において、第１〜第６実施形態のＥＵＶ光生成装置１と同様の構成については説明を省略する。
【０１４８】
［１２．１  構成］
図２１は、第７実施形態のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８を説明するための図を示す。
図２１の回収容器２８１は、筒部２８２が屈曲していてもよい。
筒部２８２は、第１筒部２８２１と、第２筒部２８２２と、屈曲部２８２３と、を含んでもよい。
【０１４９】
第１筒部２８２１は、屈曲部２８２３よりもチャンバ２の内部側に位置する筒部２８２の一部分であってもよい。
第１筒部２８２１は、その中心軸がターゲット軌道２７２に沿って延びるように形成されてもよい。第１筒部２８２１の中心軸は、重力方向に対して傾斜し得る。
第１筒部２８２１は、チャンバ２の壁２ａを貫通するように配置されでもよい。第１筒部２８２１の一端側の開口部２８２１ａは、チャンバ２の内部に位置してもよい。開口部２８２１ａは、パルスレーザ光３３が照射されなかったターゲット２７が回収容器２８１内に進入するための開口であってもよい。第１筒部２８２１の他端側の開口部は、チャンバ２の外部に位置してもよい。
【０１５０】
第１筒部２８２１には、図１７〜図１８Ｃに示された筒部２８２と同様に、保持フランジ２８２ｅが一体的に形成されてもよい。そして、第１筒部２８２１は、図１７〜図１８Ｃに示された筒部２８２と同様に、チャンバ２の壁２ａに固定された接続フランジ２８２ｆと、ベローズ材２８８１を介して接続されてもよい。すなわち、第１筒部２８２１は、チャンバ２の壁２ａと、ベローズ材２８８１を介して接続されてもよい。チャンバ２とターゲット回収器２８とは、振動減衰部材２８８であるベローズ材２８８１を介して接続され得る。
【０１５１】
第２筒部２８２２は、屈曲部２８２３よりもチャンバ２の外部側に位置する筒部２８２の一部分であってもよい。
第２筒部２８２２は、その中心軸が重力方向に沿って延びるように形成されてもよい。第２筒部２８２２の中心軸は、ターゲット軌道２７２に対して傾斜し得る。
第２筒部２８２２は、チャンバ２の外部に配置されてもよい。
【０１５２】
屈曲部２８２３は、筒部２８２の一部であって、第１筒部２８２１と第２筒部２８２２との境界部分であってもよい。
屈曲部２８２３は、チャンバ２の外部に位置してもよい。
屈曲部２８２３の内部には、反射板２８２４が設けられてもよい。
反射板２８２４の反射面は、第１筒部２８２１内に進入したターゲット２７を第２筒部内２８２２内に反射させてもよい。
なお、反射板２８２４は、屈曲部２８２３と一体的に形成されてもよい。
また、屈曲部２８２３の内壁面の一部が、反射板２８２４の反射面として機能してもよい。すなわち、屈曲部２８２３の内壁面は、第１筒部２８２１内に進入したターゲット２７を第２筒部内２８２２内に反射させてもよい。
【０１５３】
タンク２８３には、図７に示されたタンク２８３と同様に、傾斜部２８３ｆが形成されてもよい。
タンク２８３は、振動減衰部材２８８であるベローズ材２８８１を介して、第２筒部２８２２と接続されてもよい。
【０１５４】
図２１のレシーバ２８０は、上述の板状部材又は繊維部材を用いて構成されてもよい。図２１〜図２３では、上述の板状部材を用いて構成されたレシーバ２８０が代表して示されている。
レシーバ２８０は、筒部２８２の内部に複数設けられてもよい。
複数のレシーバ２８０の少なくとも１つは、第１筒部２８２１内に配置されてもよい。複数のレシーバ２８０の少なくとも１つは、反射板２８２４よりもチャンバ２の内部側に位置する第１筒部２８２１の内壁面２８２１ｃに支持されてもよい。
複数のレシーバ２８０のそれぞれは、支持部材を介さずに、第１筒部２８２１の内壁面２８２１ｃ及び第２筒部２８２２の内壁面２８２２ｃのそれぞれに対して直接支持されてもよい。或いは、複数のレシーバ２８０のそれぞれは、上述した支持部材２８０１と同様の支持部材を介して、内壁面２８２１ｃ及び２８２２ｃのそれぞれに対して支持されてもよい。
複数のレシーバ２８０は、第１又は第２筒部２８２１又は２８２２の中心軸に対して互い違いに配置されてもよい。
【０１５５】
図２１の加振装置２８５１は、第２筒部２８２２の外壁面２８２２ｂに対して、伝熱抑制部材２８６を介して接続されてもよい。
【０１５６】
図２１の冷却装置２８７１は、加振装置２８５１の伝熱抑制部材２８６とは反対側に位置する面に接続されてもよい。
【０１５７】
第７実施形態に係るターゲット回収器２８の他の構成については、第１〜第６実施形態に係るターゲット回収器２８と同様であってもよい。
【０１５８】
［１２．２  動作］
第７実施形態に係るターゲット回収器２８の動作について説明する。
第７実施形態に係るターゲット回収器２８の動作において、第１〜第６実施形態に係るターゲット回収器２８と同様の動作について説明を省略する。
【０１５９】
ターゲット２７は、重力方向に対して傾斜したターゲット軌道２７２に沿って進行し、第１筒部２８２１内に進入し得る。
第１筒部２８２１内に進入したターゲット２７は、第１筒部２８２１内に配置されたレシーバ２８０に衝突して運動エネルギーが低減され得る。
第１筒部２８２１内に配置されたレシーバ２８０に衝突したターゲット２７は、反射板２８２４の反射面に衝突して進行方向が変更され得る。このとき、ターゲット２７の反射板２８２４への衝突によって飛沫が発生しても、飛沫の回収容器２８１外への飛散は、第１筒部２８２１内に配置されたレシーバ２８０によって阻まれ得る。
反射板２８２４の反射面に衝突したターゲット２７は、第２筒部２８２２内に進入し得る。
第２筒部２８２２内に進入したターゲット２７は、第２筒部２８２２内に配置されたレシーバ２８０に衝突して運動エネルギーが更に低減され得る。
第２筒部２８２２内に配置されたレシーバ２８０に衝突したターゲット２７は、タンク２８３内の傾斜部２８３ｆに落下し、傾斜部２８３ｆを伝ってタンク２８３内に収容され得る。
【０１６０】
上述のように、加振装置２８５１は、ターゲット供給器２６がターゲット２７を出力している間だけ、伝熱抑制部材２８６を介して第２筒部２８２２の外壁面２８２２ｂを振動させてもよい。或いは、加振装置２８５１は、ＥＵＶ光２５２を生成しない期間に、伝熱抑制部材２８６を介して第２筒部２８２２の外壁面２８２２ｂを振動させてもよい。
伝熱抑制部材２８６を介して第２筒部２８２２の外壁面２８２２ｂに加えられた振動は、第２筒部２８２２及び第１筒部２８２１に伝達し得る。
第２筒部２８２２及び第１筒部２８２１に伝達した振動は、第２筒部２８２２内に配置されたレシーバ２８０及び第１筒部２８２１内に配置されたレシーバ２８０に伝達し得る。すなわち、加振装置２８５１は、第２筒部２８２２の外壁面２８２２ｂを介して第１筒部２８２１及び第２筒部２８２２に配置されたレシーバ２８０を振動させ得る。それにより、レシーバ２８０上へのターゲット２７の蓄積は抑制され得る。
また、第２筒部２８２２に伝達した振動は、第２筒部２８２２とタンク２８３との間の振動減衰部材２８８によって減衰され、タンク２８３への伝達が阻まれ得る。第１筒部２８２１に伝達した振動は、第１筒部２８２１とチャンバ２との間の振動減衰部材２８８によって減衰され、チャンバ２への伝達が阻まれ得る。
【０１６１】
第７実施形態に係るターゲット回収器２８の他の動作については、第１〜第６実施形態に係るターゲット回収器２８と同様であってもよい。
【０１６２】
［１２．３  作用］
第７実施形態に係るターゲット回収器２８は、加振装置２８５１及びレシーバ２８０が配置された筒部２８２だけを限定的に振動させ得る。
すなわち、第７実施形態に係るターゲット回収器２８は、加振装置２８５１及びレシーバ２８０の振動が、ターゲット回収器２８が固定されたチャンバ２やチャンバ２に固定されたターゲット供給器２６に伝達することを抑制し得る。
なお、ターゲット回収器２８は、チャンバ２が搭載されるフレームや床面にタンク２８３が設置された状態で使用される場合がある。
この場合でも、第７実施形態に係るターゲット回収器２８は、筒部２８２だけを限定的に振動させ得るため、加振装置２８５１及びレシーバ２８０の振動が、タンク２８３から当該フレームや床面を介してターゲット供給器２６に伝達することを抑制し得る。
その結果、第７実施形態に係るターゲット回収器２８は、チャンバ２やターゲット供給器２６が振動してターゲット軌道２７２が乱れることを抑制し得る。
【０１６３】
［１２．４  第７実施形態の変形例１］
図２２を用いて、第７実施形態の変形例１のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８について説明する。
第７実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８は、第７実施形態に係るターゲット回収器２８に対して、回収容器２８１及び加振機構２８５の構成が主に異なってもよい。
第７実施形態の変形例１におけるＥＵＶ光生成装置１の構成において、第７実施形態のＥＵＶ光生成装置１と同様の構成については説明を省略する。
【０１６４】
図２２は、第７実施形態の変形例１のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８を説明するための図を示す。
図２２の回収容器２８１は、第１筒部２８２１が、ベローズ材２８８１を介さずにチャンバ２の壁２ａに固定されてもよい。
また、回収容器２８１は、第２筒部２８２２が、第１筒部２８２１及び屈曲部２８２３と一体的に形成されるのではなくベローズ材２８８１を介して屈曲部２８２３及びタンク２８３に接続されてもよい。
【０１６５】
図２２の複数のレシーバ２８０のうちで第１筒部２８２１内に配置されたレシーバ２８０は、第１筒部２８２１の内壁面２８２１ｃに対して振動減衰部材２８８を介して支持されてもよい。
複数のレシーバ２８０のうちで第２筒部２８２２内に配置されたレシーバ２８０は、第２筒部２８２２の内壁面２８２２ｃに対して直接支持されてもよい。
【０１６６】
図２２の加振機構２８５は、第１加振装置２８５４と、第１加振電源２８５５と、第２加振装置２８５６と、第２加振電源２８５７と、を含んでもよい。
【０１６７】
第１加振装置２８５４は、第１筒部２８２１内に配置されたレシーバ２８０を振動させるバイブレータであってもよい。
第１加振装置２８５４は、チャンバ２の壁２ａの内壁面に配置されてもよい。
第１加振装置２８５４は、第１筒部２８２１に設けられた貫通孔２８２１ｄを通る伝熱抑制部材２８６を介して、第１筒部２８２１内に配置されたレシーバ２８０と接続されてもよい。
【０１６８】
第１加振電源２８５５は、第１加振装置２８５４に含まれるモータに電力を供給する電源であってもよい。
第１加振電源２８５５は、チャンバ２の壁２ａを貫通するフィードスルー２ｃを介して、チャンバ２内に配置された第１加振装置２８５４に電気的に接続されてもよい。
【０１６９】
第２加振装置２８５６は、第２筒部２８２２内に配置されたレシーバ２８０を振動させるバイブレータであってもよい。
第２加振装置２８５６は、第２筒部２８２２の外壁面２８２２ｂに対して、伝熱抑制部材２８６を介して接続されてもよい。
【０１７０】
第２加振電源２８５７は、第２加振装置２８５６に含まれるモータに電力を供給する電源であって、第２加振装置２８５６と電気的に接続されてもよい。
【０１７１】
図２２の冷却装置２８７１は、第２加振装置２８５６の伝熱抑制部材２８６とは反対側に位置する面に接続されてもよい。
【０１７２】
第７実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８の他の構成については、第７実施形態に係るターゲット回収器２８と同様であってもよい。
【０１７３】
このような構成により、第７実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８は、筒部２８２の一部である第１筒部２８２１がチャンバ２の壁２ａに固定されているため、ターゲット軌道２７２に対する回収容器２８１の位置決めが容易となり得る。
【０１７４】
［１２．５  第７実施形態の変形例２］
図２３を用いて、第７実施形態の変形例２のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８について説明する。
第７実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８は、第７実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８に対して、第２筒部２８２２内に配置されたレシーバ２８０の構成が主に異なってもよい。
第７実施形態の変形例２におけるＥＵＶ光生成装置１の構成において、第７実施形態の変形例１におけるＥＵＶ光生成装置１と同様の構成については説明を省略する。
【０１７５】
図２３は、第７実施形態の変形例２のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収器２８を説明するための図を示す。
図２３の複数のレシーバ２８０のうちで第２筒部２８２２内に配置されたレシーバ２８０は、第２筒部２８２２の内壁面２８２２ｃに対して振動減衰部材２８８を介して支持されてもよい。
【０１７６】
図２３の第２加振装置２８５６は、第２筒部２８２２に設けられた貫通孔２８２２ｄを通る伝熱抑制部材２８６を介して、第２筒部２８２２内に配置されたレシーバ２８０と接続されてもよい。
【０１７７】
第２加振装置２８５６及び冷却装置２８７１は、第２筒部２８２２の外壁面２８２２ｂに設けられたケース２８２２ｅに収容されてもよい。
ケース２８２２ｅは、貫通孔２８２２ｄを囲むように配置されてもよい。
ケース２８２２ｅの内部は、第２筒部２８２２の内部と連通してもよい。
ケース２８２２ｅは、貫通孔２８２２ｄが設けられた第２筒部２８２２の内部を外気から隔絶してもよい。
ケース２８２２ｅは、第２筒部２８２２と一体的に形成されてもよい。
ケース２８２２ｅ内に配置された第２加振装置２８５６は、ケース２８２２ｅを貫通するフィードスルー２８２２ｆを介して、第２加振電源２８５７に電気的に接続されてもよい。
ケース２８２２ｅ内に配置された冷却装置２８７１内の冷媒流路は、ケース２８２２ｅを貫通するフィードスルー２８２２ｇを通る配管２８７３によって、熱交換器２８７２と連通してもよい。
【０１７８】
第７実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８の他の構成については、第７実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８と同様であってもよい。
【０１７９】
このような構成により、第７実施形態の変形例２に係るターゲット回収器２８は、第７実施形態の変形例１に係るターゲット回収器２８と同様に、第１筒部２８２１がチャンバ２に固定されていることによって回収容器２８１の位置決めが容易となり得る。
【０１８０】
［１３．その他］
上記で説明した実施形態は、変形例を含めて各実施形態同士で互いの技術を適用し得ることは、当業者には明らかであろう。
【０１８１】
上記の説明は、制限ではなく単なる例示を意図したものである。従って、添付の特許請求の範囲を逸脱することなく本開示の実施形態に変更を加えることができることは、当業者には明らかであろう。
【０１８２】
本明細書及び添付の特許請求の範囲全体で使用される用語は、「限定的でない」用語と解釈されるべきである。例えば、「含む」又は「含まれる」という用語は、「含まれるものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。「有する」という用語は、「有するものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。また、本明細書、及び添付の特許請求の範囲に記載される修飾語「１つの」は、「少なくとも１つ」又は「１又はそれ以上」を意味すると解釈されるべきである。
【符号の説明】
【０１８３】
１                  …ＥＵＶ光生成装置
２                  …チャンバ
２ａ                …壁
２５                …プラズマ生成領域
２５２              …ＥＵＶ光
２６                …ターゲット供給器
２７                …ターゲット
２７１              …ドロップレット
２７２              …ターゲット軌道
２８                …ターゲット回収器
２８０              …レシーバ
２８１              …回収容器
２８２              …筒部
２８２ｂ            …外壁面
２８２ｃ            …内壁面
２８２１            …第１筒部
２８２１ａ          …開口部
２８２１ｂ          …外壁面
２８２１ｃ          …内壁面
２８２２            …第２筒部
２８２２ｂ          …外壁面
２８２２ｃ          …内壁面
２８２４            …反射板
２８３              …タンク
２８４１            …加熱装置
２８５１            …加振装置
２８６              …伝熱抑制部材
２８７１            …冷却装置
２８８              …振動減衰部材
２８８１            …ベローズ材
３３                …パルスレーザ光
【図１】
2016135932.tif 000003
【図２Ａ】
2016135932.tif 000004
【図２Ｂ】
2016135932.tif 000005
【図３Ａ】
2016135932.tif 000006
【図３Ｂ】
2016135932.tif 000007
【図４Ａ】
2016135932.tif 000008
【図４Ｂ】
2016135932.tif 000009
【図４Ｃ】
2016135932.tif 000010
【図５】
2016135932.tif 000011
【図６】
2016135932.tif 000012
【図７】
2016135932.tif 000013
【図８】
2016135932.tif 000014
【図９】
2016135932.tif 000015
【図１０】
2016135932.tif 000016
【図１１】
2016135932.tif 000017
【図１２】
2016135932.tif 000018
【図１３】
2016135932.tif 000019
【図１４】
2016135932.tif 000020
【図１５】
2016135932.tif 000021
【図１６】
2016135932.tif 000022
【図１７】
2016135932.tif 000023
【図１８Ａ】
2016135932.tif 000024
【図１８Ｂ】
2016135932.tif 000025
【図１８Ｃ】
2016135932.tif 000026
【図１９】
2016135932.tif 000027
【図２０】
2016135932.tif 000028
【図２１】
2016135932.tif 000029
【図２２】
2016135932.tif 000030
【図２３】
2016135932.tif 000031
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月8日(2016.1.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部の所定領域でターゲットにレーザ光が照射されると極端紫外光が生成されるチャンバと、
前記チャンバ内の前記所定領域に向かって前記ターゲットを出力することで前記所定領域に前記ターゲットを供給するターゲット供給器と、
前記ターゲット供給器から出力され前記レーザ光が照射されなかった前記ターゲットを回収するターゲット回収器と、
を具備し、
前記ターゲット回収器は、
前記ターゲット供給器から出力された前記ターゲットの軌道に対して傾斜して配置され、前記レーザ光が照射されなかった前記ターゲットを衝突させて受けるレシーバと、
前記レシーバを振動させる加振装置と、
を備える
極端紫外光生成装置。
【請求項２】
前記ターゲットは、金属材料で形成されており、
前記ターゲット供給器は、前記ターゲットを溶融させドロップレットとして前記チャンバ内に出力し、
前記ターゲット回収器は、前記レシーバが前記ターゲットの融点以上の温度となるよう前記レシーバを加熱する加熱装置を更に備え、
前記レシーバは、溶融した前記ターゲットとの接触角が９０°以上となる材料で形成されている
請求項１に記載の極端紫外光生成装置。
【請求項３】
前記ターゲット回収器は、前記加振装置により発生した振動が前記チャンバに伝達することを抑制する振動減衰部材を更に備える
請求項２に記載の極端紫外光生成装置。
【請求項４】
前記ターゲット回収器は、前記加熱装置により発生した熱が前記加振装置に伝達することを抑制する伝熱抑制部材を更に備える
請求項３に記載の極端紫外光生成装置。
【請求項５】
前記ターゲット回収器は、前記加振装置を冷却する冷却装置を更に備える
請求項４に記載の極端紫外光生成装置。
【請求項６】
前記レシーバは、重力方向に対して傾斜配置されている
請求項４に記載の極端紫外光生成装置。
【請求項７】
前記レシーバは、繊維部材を用いて構成されている
請求項４に記載の極端紫外光生成装置。
【請求項８】
前記ターゲット回収器は、内部に前記レシーバが配置され前記ターゲットを回収する回収容器を更に備え、
前記レシーバは、前記回収容器の内壁面に支持され、
前記加振装置は、前記回収容器の外壁面を介して前記レシーバを振動させる
請求項７に記載の極端紫外光生成装置。
【請求項９】
前記ターゲット供給器は、前記軌道が重力方向に対して傾斜するよう前記ターゲットを出力し、
前記ターゲット回収器は、内部に前記レシーバが配置され前記ターゲットを回収する回収容器を更に備え、
前記回収容器は、
前記レーザ光が照射されなかった前記ターゲットが進入する開口部が形成され前記軌道に沿って延びる第１筒部と、
前記第１筒部に連通し前記重力方向に沿って延びる第２筒部と、
前記第１筒部内に進入した前記ターゲットを前記第２筒部内に反射させる反射面と、
前記第２筒部に連通し前記チャンバ外に配置され少なくとも前記レシーバに衝突した前記ターゲットを収容するタンクと、
を含み、
前記レシーバは、少なくとも前記第１筒部内に配置されている
請求項７に記載の極端紫外光生成装置。
【請求項１０】
前記レシーバは、少なくとも前記第１筒部の内壁面に支持され、
前記加振装置は、前記第２筒部の外壁面を介して前記レシーバを振動させ、
前記第１筒部は、前記振動減衰部材を介して前記チャンバの壁に接続されている
請求項９に記載の極端紫外光生成装置。
【請求項１１】
前記第１筒部は、前記チャンバの壁に固定され、
前記レシーバは、少なくとも前記第１筒部の内壁面に前記振動減衰部材を介して支持され、
前記加振装置は、前記第１筒部の内壁面に支持された前記レシーバに前記伝熱抑制部材を介して接続されている
請求項９に記載の極端紫外光生成装置。
【請求項１２】
（削除）
【国際調査報告】
2016135932.tif 000032
2016135932.tif 000033
2016135932.tif 000034