(57)【要約】  本技術は、光電変換部の光電変換特性の劣化を抑制することができるようにする固体撮像素子および電子機器に関する。固体撮像素子は、半導体基板の外側に形成された光電変換部と、光電変換部で生成された信号電荷を保持する電荷保持部と、電荷保持部の電位をリセットするリセットトランジスタと、電荷保持部に接続され、電荷保持部の容量を切り替える容量切替トランジスタと、容量切替トランジスタに接続された付加容量素子とを有する画素を備える。本技術は、例えば、固体撮像素子等に適用できる。
2016121521.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板の外側に形成された光電変換部と、
前記光電変換部で生成された信号電荷を保持する電荷保持部と、
前記電荷保持部の電位をリセットするリセットトランジスタと、
前記電荷保持部に接続され、前記電荷保持部の容量を切り替える容量切替トランジスタと、
前記容量切替トランジスタに接続された付加容量素子と
を有する画素を備える
固体撮像素子。
【請求項２】
前記容量切替トランジスタが、前記リセットトランジスタと前記電荷保持部の間に接続されている
請求項１に記載の固体撮像素子。
【請求項３】
前記容量切替トランジスタにより、前記電荷保持部の容量が低容量に切り替えられた場合、前記リセットトランジスタは常時オンするように制御される
請求項２に記載の固体撮像素子。
【請求項４】
前記リセットトランジスタは、前記電荷保持部の電位を、前記半導体基板と同電位にリセットする
請求項２に記載の固体撮像素子。
【請求項５】
前記リセットトランジスタは、前記電荷保持部の電位を、GNDにリセットする
請求項４に記載の固体撮像素子。
【請求項６】
前記付加容量素子は、MOSキャパシタで構成される
請求項１に記載の固体撮像素子。
【請求項７】
前記MOSキャパシタのゲート部が、前記電荷保持部に接続される
請求項６に記載の固体撮像素子。
【請求項８】
前記MOSキャパシタの前記半導体基板内の拡散層が、前記電荷保持部に接続される
請求項６に記載の固体撮像素子。
【請求項９】
前記リセットトランジスタは、前記電荷保持部の電位を、電源電圧にリセットする
請求項１に記載の固体撮像素子。
【請求項１０】
前記容量切替トランジスタと前記リセットトランジスタは、直列に接続されている
請求項１に記載の固体撮像素子。
【請求項１１】
前記容量切替トランジスタと前記リセットトランジスタは、並列に接続されている
請求項１に記載の固体撮像素子。
【請求項１２】
前記光電変換部は、光電変換膜の上下を電極で挟み込む構造により形成されている
請求項１に記載の固体撮像素子。
【請求項１３】
前記画素は、前記光電変換部の上方または下方に、他の光電変換部をさらに有する
請求項１に記載の固体撮像素子。
【請求項１４】
前記他の光電変換部は、前記半導体基板に形成されたフォトダイオードである
請求項１３に記載の固体撮像素子。
【請求項１５】
前記光電変換部で生成された前記信号電荷は、正孔である
請求項１に記載の固体撮像素子。
【請求項１６】
前記光電変換部で生成された前記信号電荷は、電子である
請求項１に記載の固体撮像素子。
【請求項１７】
半導体基板の外側に形成された光電変換部と、
前記光電変換部で生成された信号電荷を保持する電荷保持部と、
前記電荷保持部の電位をリセットするリセットトランジスタと、
前記電荷保持部に接続され、前記電荷保持部の容量を切り替える容量切替トランジスタと、
前記容量切替トランジスタに接続された付加容量素子と
を有する画素を備える固体撮像素子
を備える電子機器。
【請求項１８】
前記容量切替トランジスタを制御するための制御信号を出力する制御回路をさらに備える
請求項１７に記載の電子機器。
【請求項１９】
前記制御回路は、前記固体撮像素子で撮像された画像に基づいて、前記容量切替トランジスタを制御するための制御信号を出力する
請求項１７に記載の電子機器。
【請求項２０】
前記制御回路は、ユーザによって指定された設定情報に基づいて、前記容量切替トランジスタを制御するための制御信号を出力する
請求項１７に記載の電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本技術は、固体撮像素子および電子機器に関し、特に、光電変換部の光電変換特性の劣化を抑制することができるようにする固体撮像素子および電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、イメージセンサの特性を非連続的に変える技術として、半導体基板外に光電変換部を配置する構成が提案されている。例えば、特許文献１乃至３には、光電変換部を半導体基板上部に配置し、光電変換信号を半導体基板に蓄積する構造が開示されている。このような構造では、従来の半導体基板材料で決定されていた光電変換特性を大きく変更することが可能となり、遠赤外用途など、従来Si（シリコン）を用いたイメージセンサでは実現困難であった分野にセンサ技術を適用できる可能性を秘めている。【０００３】
また、現在イメージセンサで広く用いられているRed、Blue、Greenのカラーフィルタを平面状に並べた画素配列では、画素単位で特定波長の光を吸収することで色分離が実施されている。そのため、例えばRed画素では、BlueとGreenの波長の光はカラーフィルタに吸収されて損失してしまう。【０００４】
この解決方法として、例えば、特許文献１では、同一画素空間にRed,Blue,Greenの光を光電変換する光電変換領域を積層した積層型の固体撮像素子が提案されている。この構造を用いればカラーフィルタの光吸収による感度低下を抑制することができる。さらに本構造では補間処理を必要としない為、偽色が発生しないという効果も期待できる。【０００５】
半導体基板外に光電変換部を配置する構造では、光電変換部と半導体基板を電気的に接続する必要がある。光電変換部と半導体基板の接続には金属が使用されるため、光電変換部で発生した信号電荷を転送ゲートによって電荷保持部に完全転送することはできない。このため、このような構造では一般に特許文献１に開示されているように、光電変換部と電荷保持部を直接接続する構成が採用されている。【０００６】
しかしながら、このような構造の光電変換部では、光電変換とともに光電変換部の感度が劣化する。この光電変換部の感度劣化を改善するには、電荷保持部の容量を大きくし、信号電荷に対する電圧変動を小さくする手段が有効である。しかし、電荷保持部の容量を大きくすると、電荷保持部の信号増幅率が低下する為、固体撮像素子のＳ／Ｎ比が低下してしまう。【０００７】
そこで、特許文献４では、信号電荷量に応じて電荷保持部の容量を制御する方法が提案されている。具体的には、高Ｓ／Ｎ比が要求される低照度時は信号保持部の容量を小さくし、大量の信号電荷を保持する必要のある高照度時は容量付加部を用いて電荷保持部の容量を大きくするように、電荷保持部の容量が制御される。【０００８】
しかし、この構成では、高Ｓ／Ｎ比が要求される低照度時に電荷保持部の容量を小さくするため容量付加部を空乏化する必要がある。その結果、電荷保持部に空乏領域が接続されてしまい、暗時リーク特性が悪化する。【０００９】
また、特許文献５では、FD（フローティングディフュージョン）部とリセットTrの間に容量付加用のトランジスタ（Tr）を配置し、信号増幅率の制御を可能としている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２００７−３２９１６１号公報
【特許文献２】特開２０１０−２７８０８６号公報
【特許文献３】特開２０１１−１３８９２７号公報
【特許文献４】特開２０１３−８９８６９号公報
【特許文献５】特開２０１０−１２４４１８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかしながら、特許文献５の構成では、光電変換部と信号増幅部の間に読み出しTrを配置しているため、光電変換部と読み出しTrの間の部位の容量は制御できない。このため、信号電荷量に応じて光電変換部の電圧が変動するので、やはり、光電変換効率が変動してしまう。【００１２】
本技術は、このような状況に鑑みてなされたものであり、光電変換部の光電変換特性の劣化を抑制することができるようにするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本技術の第１の側面の固体撮像素子は、半導体基板の外側に形成された光電変換部と、前記光電変換部で生成された信号電荷を保持する電荷保持部と、前記電荷保持部の電位をリセットするリセットトランジスタと、前記電荷保持部に接続され、前記電荷保持部の容量を切り替える容量切替トランジスタと、前記容量切替トランジスタに接続された付加容量素子とを有する画素を備える。【００１４】
本技術の第２の側面の電子機器は、半導体基板の外側に形成された光電変換部と、前記光電変換部で生成された信号電荷を保持する電荷保持部と、前記電荷保持部の電位をリセットするリセットトランジスタと、前記電荷保持部に接続され、前記電荷保持部の容量を切り替える容量切替トランジスタと、前記容量切替トランジスタに接続された付加容量素子とを有する画素を備える固体撮像素子を備える。【００１５】
本技術の第１及び第２の側面においては、半導体基板の外側に形成された光電変換部で生成された信号電荷が電荷保持部で保持され、前記電荷保持部の電位がリセットトランジスタによりリセットされる。前記電荷保持部に接続される容量切替トランジスタによって前記電荷保持部の容量が切り替えられ、前記容量切替トランジスタには付加容量素子が接続されている。【００１６】
固体撮像素子及び電子機器は、独立した装置であっても良いし、他の装置に組み込まれるモジュールであっても良い。
【発明の効果】
【００１７】
本技術の第１及び第２の側面によれば、光電変換部の光電変換特性の劣化を抑制することができる。【００１８】
なお、ここに記載された効果は必ずしも限定されるものではなく、本技術中に記載されたいずれかの効果であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】基本画素の等価回路を示す図である。
【図２】基本画素の断面構造を示す図である。
【図３】基本画素で起こる問題について説明する図である。
【図４】基本画素で起こる問題について説明する図である。
【図５】第１の実施の形態における画素の等価回路を示す図である。
【図６】第１の実施の形態における画素の断面構造を示す図である。
【図７】第１の実施の形態における画素の駆動を説明する図である。
【図８】第２の実施の形態における画素の等価回路を示す図である。
【図９】第２の実施の形態における画素の断面構造を示す図である。
【図１０】第２の実施の形態における画素の駆動を説明する図である。
【図１１】第１の実施の形態と第２の実施の形態の違いについて説明する図である。
【図１２】第１の実施の形態と第２の実施の形態の違いについて説明する図である。
【図１３】第３の実施の形態における画素の等価回路を示す図である。
【図１４】第３の実施の形態における画素の断面構造を示す図である。
【図１５】第２の実施の形態と第３の実施の形態の違いについて説明する図である。
【図１６】第２の実施の形態と第３の実施の形態の違いについて説明する図である。
【図１７】第４の実施の形態における画素の等価回路を示す図である。
【図１８】第４の実施の形態における画素の断面構造を示す図である。
【図１９】第３の実施の形態と第４の実施の形態の違いについて説明する図である。
【図２０】第３の実施の形態と第４の実施の形態の違いについて説明する図である。
【図２１】第５の実施の形態における画素の等価回路を示す図である。
【図２２】第５の実施の形態における画素の断面構造を示す図である。
【図２３】本技術が適用された固体撮像素子の概略構成を示す図である。
【図２４】本技術が適用された電子機器としての撮像装置の構成例を示すブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本技術を実施するための形態（以下、実施の形態という）について説明する。なお、説明は以下の順序で行う。
１．基本画素の説明
２．第１の実施の形態（リセットトランジスタと容量切替トランジスタが並列接続される構成例）
３．第２の実施の形態（リセットトランジスタと容量切替トランジスタが直列接続される構成例）
４．第３の実施の形態（信号電荷として正孔を用いる構成例）
５．第４の実施の形態（付加容量素子のゲート部を電荷保持部に接続する構成例）
６．第５の実施の形態（光電変換膜とフォトダイオードを有する構成例）
７．固体撮像素子の概略構成例
８．電子機器への適用例
【００２１】
＜１．基本画素の説明＞
初めに、本技術の理解を容易にするため、本技術が適用される基本の構成となる固体撮像素子の画素（以下、基本画素という。）について説明する。
【００２２】
＜基本画素の等価回路＞
図１は、基本画素の等価回路を示している。
【００２３】
図１に示される基本画素１は、光電変換部１１、電荷保持部１２、リセットトランジスタ１３、増幅トランジスタ（出力トランジスタ）１４、および選択トランジスタ１５を有する。
【００２４】
光電変換部１１は、受光した光量に応じた電荷（信号電荷）を生成し、かつ、蓄積する。光電変換部１１の一方は接地されるとともに、他方は電荷保持部１２、リセットトランジスタ１３のソース、及び、増幅トランジスタ１４のゲートに接続されている。図１の構成においては、信号電荷は電子となる。
【００２５】
電荷保持部１２は、光電変換部１１から読み出された電荷を保持する。電荷保持部１２は、図２でも後述するが、光電変換部１１の一端、リセットトランジスタ１３のソース、及び、増幅トランジスタ１４のゲートと接続されているため、実際には、これら全体で電荷が保持される。
【００２６】
リセットトランジスタ１３は、ゲートに供給されるリセット信号RSTによりオンされたとき、電荷保持部１２に蓄積されている電荷がドレイン（電源電圧VDD）に排出されることで、電荷保持部１２の電位をリセットする。
【００２７】
増幅トランジスタ１４のゲートは電荷保持部１２と接続され、ドレインは電源電圧VDDに、ソースは選択トランジスタ１５のドレインに接続されている。増幅トランジスタ１４は、電荷保持部１２の電位に応じた画素信号を出力する。すなわち、増幅トランジスタ１４は、基本画素１から出力される画素信号を伝送する列信号線１６を介して接続されている定電流源としての負荷MOS（不図示）とソースフォロア回路を構成し、電荷保持部１２に蓄積されている電荷に応じたレベルの画素信号が、増幅トランジスタ１４から選択トランジスタ１５を介して、不図示のAD変換部に出力される。負荷MOSは、例えば、２次元配列された複数の基本画素１に対し、列単位に設けられるAD変換部内に設けられている。
【００２８】
選択トランジスタ１５のドレインは、増幅トランジスタ１４のソースと接続され、ソースは、列方向（垂直方向）に並ぶ各基本画素１の画素信号を伝送する列信号線１６と接続されている。選択トランジスタ１５は、ゲートに供給される選択信号SELにより基本画素１が選択されたときオンされ、基本画素１の画素信号を、列信号線１６を介してAD変換部に出力する。
【００２９】
＜基本画素の断面構造＞
図２は、基本画素の断面構造を示す図である。
【００３０】
基本画素１では、P型半導体基板（P-Well）２１の一方の界面（図中、上側の面）に、リセットトランジスタ１３、増幅トランジスタ１４、および選択トランジスタ１５が形成されている。
【００３１】
具体的には、リセットトランジスタ１３が、P型半導体基板２１上のゲート部１３GTと、P型半導体基板２１内のｎ型拡散層２２および２３で構成され、増幅トランジスタ１４が、P型半導体基板２１上のゲート部１４GTと、P型半導体基板２１内のｎ型拡散層２３および２４で構成され、選択トランジスタ１５が、P型半導体基板２１上のゲート部１５GTと、P型半導体基板２１内のｎ型拡散層２４および２５で構成されている。ゲート部１３GT、１４GT、及び、１５GTは、例えば、ポリシリコンで形成される。
【００３２】
ｎ型拡散層２２は、リセットトランジスタ１３のソースと電荷保持部１２を兼用し、後述する光電変換部１１の下部電極２９Bと、増幅トランジスタ１４のゲート部１４GTに、金属配線２６で接続されている。従って、金属配線２６で接続されている、光電変換部１１の下部電極２９B、ｎ型拡散層２２、及び増幅トランジスタ１４のゲート部１４GTの全体が、電荷が保持される電荷保持部１２となる。金属配線２６は、例えば、タングステン（Ｗ）、アルミニウム（Al）、銅（Cu）などの材料で形成される。
【００３３】
ｎ型拡散層２３は、リセットトランジスタ１３のドレインと、増幅トランジスタ１４のドレインを兼用し、ｎ型拡散層２３には電源電圧VDDが印加されている。
【００３４】
ｎ型拡散層２４は、増幅トランジスタ１４のソースと、選択トランジスタ１５のドレインを兼用する。ｎ型拡散層２５は、選択トランジスタ１５のソースとして機能し、列信号線１６と接続されている。
【００３５】
P型半導体基板２１の各画素トランジスタ（リセットトランジスタ１３、増幅トランジスタ１４、および選択トランジスタ１５）の上側には、絶縁層２７を介して光電変換部１１が形成されている。
【００３６】
光電変換部１１は、光電変換膜２８を上部電極２９Aと下部電極２９Bで挟み込む構造により形成されている。光電変換膜２８としては、例えば、有機光電変換膜や、CIGS（Cu,In,Ga,Se化合物）、CIS（Cu,In,Se化合物）、カルコパイライト構造半導体、GaAsなどの化合物半導体などを採用することができる。上部電極２９Aは、例えば、酸化インジウム錫（ITO）膜、酸化インジウム亜鉛膜等の透明性の電極膜で形成される。下部電極２９Bは、例えば、タングステン（Ｗ）、アルミニウム（Al）、銅（Cu）などの電極膜で形成される。上部電極２９Aは全画素共通に全面に形成されているのに対して、下部電極２９Bは、画素単位に形成されている。上部電極２９AはGND（グラウンド）に接続されている。
【００３７】
上部電極２９Aの上側には、保護膜（絶縁膜）３０を介して、カラーフィルタ３１とオンチップレンズ３２が形成されている。カラーフィルタ３１は、例えば、Red、Green、または、Blueが画素単位にベイヤ配列で配列されている。したがって、光電変換膜２８は、カラーフィルタ３１を透過してきたRed、Green、または、Blueのいずれかの光を光電変換する。
【００３８】
基本画素１は、以上のような断面構造により形成されている。
【００３９】
＜基本画素の問題＞
図３及び図４を参照して、基本画素１で起こる問題について説明する。
【００４０】
図３は、基本画素１の電荷保持に関する、光電変換部１１、電荷保持部１２、及びリセットトランジスタ１３の部分の動作を、電流（電子）の流れを水流、トランジスタのゲートを水門に例えて示した図である。図３においては、トランジスタのゲートのオンオフは、グレーの水門の上下で表される。グレーの水門が上下することで、ハッチング（斜線）で表される水流（電流）が制御される。図中、縦方向の高さは電圧を表し、グレーの水門やハッチングの高さが低いほど電圧は高い。
【００４１】
図３のAは、光電変換部１１が受光を行う前の状態を示している。
【００４２】
受光前には、リセットトランジスタ１３がオンされることにより、電荷保持部１２の電位がVDDにリセットされる。そして、光電変換部１１の上部電極２９Aは、GND（グラウンド）に接続されているので、光電変換部１１の上部電極２９Aと下部電極２９Bの電位差はVDDとなっている。
【００４３】
受光期間において、光電変換によって信号電荷が生成、蓄積されると、図３のBに示されるように、光電変換信号を保持する電荷保持部１２の電圧が変化し、光電変換部１１に印加される電圧が減少する。その結果、光電変換膜２８には生成した信号を取り出すための十分な電圧が印加されなくなり、光電変換部１１の感度が劣化してしまう。
【００４４】
この感度劣化の問題を改善するには、電荷保持部１２の容量を大きくし、信号電荷に対する電圧変動を小さくする手段が有効である。しかし、電荷保持部１２の容量を大きくすると、電荷保持部１２の信号増幅率が低下する為、固体撮像素子のＳ／Ｎ比が低下してしまう。
【００４５】
そこで、背景技術に記載の特許文献４で開示されているように、固体撮像素子のＳ／Ｎ比の低下に対策する方法として、信号電荷量に応じて電荷保持部１２の容量を制御する方法がある。即ち、高Ｓ／Ｎ比が要求される低照度時は電荷保持部１２の容量を小さくし、大量の信号電荷を保持する必要のある高照度時は電荷保持部１２の容量を大きくするように、電荷保持部１２の容量を制御する方法である。このような容量制御は、例えば電荷保持部１２に容量付加用の素子を付属することで可能となる。しかし、この構成では、高Ｓ／Ｎ比が要求される低照度時に電荷保持部１２の容量を小さくするため、容量付加部を空乏化する必要がある。その結果、電荷保持部１２に空乏領域が接続されてしまい、暗時リーク特性が悪化するという問題がある。
【００４６】
また例えば、背景技術に記載の特許文献５では、FD部とリセットTrの間に容量付加用のトランジスタ（Tr）を配置し、信号増幅率の制御を可能としている。
【００４７】
図４は、特許文献５で開示されている画素の電荷保持部分の構成を、図３と同様の水の流れで模した図である。
【００４８】
特許文献５で開示されている画素の構成では、図４のAに示されるように、光電変換部１１と信号増幅部４１の間に読み出しTr(TG)４２を配置しているため、光電変換部１１と読み出しTr４２の間の部位の容量は制御できない。このため、図４のBに示されるように、光電変換によって信号電荷が生成、蓄積されると、光電変換部１１に印加される電圧が減少する。したがって、特許文献５で開示されている画素の構成では、信号電荷量に応じて光電変換部１１の電圧が変動し、光電変換特性（光電変換効率）が変動してしまう問題の対策にはならない。
【００４９】
そこで、以下では、基本画素１と比較して、光電変換特性（光電変換効率）の劣化を抑制し、画質劣化を抑制するようにした画素構成について説明する。
【００５０】
なお、以下で説明する各実施の形態において、上述した基本画素１の構成と対応する部分については同一の符号を付し、その説明は適宜省略する。
【００５１】
＜２．第１の実施の形態＞
図５乃至図７を参照して、本技術を適用した画素の第１の実施の形態について説明する。
【００５２】
図５は、第１の実施の形態における画素５１Aの等価回路を示している。
【００５３】
図５に示される画素５１Aは、光電変換部１１、電荷保持部１２、リセットトランジスタ１３、増幅トランジスタ１４、選択トランジスタ１５、容量切替トランジスタ６１、及び、付加容量素子６２を有する。
【００５４】
すなわち、画素５１Aは、図１に示した基本画素１の構成に対し、容量切替トランジスタ６１及び付加容量素子６２が新たに設けられている。容量切替トランジスタ６１のソースは電荷保持部１２に接続されており、ドレインは付加容量素子６２の一端と接続されている。接続ノード６３は容量切替トランジスタ６１と付加容量素子６２の接続点を表す。付加容量素子６２の他端は電源電圧VDDに接続されている。
【００５５】
容量切替トランジスタ６１は、ゲートに供給される切替制御信号CapSELに従い、付加容量素子６２を電荷保持部１２に接続したり、電荷保持部１２から切り離したりすることで、電荷保持部１２の容量を切り替える。
【００５６】
図６は、画素５１Aの断面構造を示す図である。
【００５７】
図６に示される画素５１Aの断面構造では、容量切替トランジスタ６１の追加に対応して、容量切替トランジスタ６１のゲート部６１GTとｎ型拡散層７１が、新たに追加されている。また、付加容量素子６２の追加に対応して、付加容量素子６２のゲート部６２GTが、新たに追加されている。付加容量素子６２は、ｎ型拡散層７１とゲート部６２GTとからなるMOSキャパシタで構成されている。
【００５８】
また、図２においてリセットトランジスタ１３のソースとして機能するｎ型拡散層２２が、第１の実施の形態では、容量切替トランジスタ６１のソースも兼用する。ｎ型拡散層７１は、容量切替トランジスタ６１のドレインと、付加容量素子６２の一端とを兼用する。
【００５９】
＜第１の駆動＞
次に、図７を参照して、第１の実施の形態における画素５１Aの駆動（第１の駆動）について説明する。
【００６０】
画素５１Aは、初めに、信号蓄積前の状態の信号レベル（リセット信号レベル）を検出してから、信号電荷を蓄積し、その後、蓄積された信号電荷を読み出し、蓄積前のリセット信号レベルと、蓄積後の信号レベル（蓄積信号レベル）の差分を求めるCDS(Correlated Double Sampling：相関２重サンプリング)処理を行う。CDS処理によれば、画素固有の固定パターンノイズ、例えば、kTCノイズや増幅トランジスタ１４の閾値バラつきを除去することができる。
【００６１】
図７は、画素５１Aが行うCDS処理に対応した、選択トランジスタ１５、リセットトランジスタ１３、および、容量切替トランジスタ６１の各ゲートに供給される信号のタイミングチャートを示している。
【００６２】
図７のAは、信号電荷が多い場合に対応して電荷保持部１２の容量を増大させる場合（以下、高容量選択時という。）の駆動を示し、図７のBは、信号電荷が少ない場合に対応して電荷保持部１２の容量を少なくしてゲインを高める場合（以下、低容量選択時という。）の駆動を示している。画素５１Aは、後述する制御回路４０５や信号処理回路４０６（図２４）などからの制御により、図７のAの高容量設定か、または、図７のBの低容量設定のどちらが選択されて駆動される。
【００６３】
高容量選択時においては、各画素５１Aの駆動が開始される前に、Hi（High）の切替制御信号CapSELが容量切替トランジスタ６１のゲート部６１GTに供給され、容量切替トランジスタ６１がオン状態とされる。高容量選択時は、容量切替トランジスタ６１は常時オン状態に設定される。
【００６４】
そして、選択トランジスタ１５がオフ、リセットトランジスタ１３がオフの状態である時刻ｔ１において、選択信号SELがHiとなり、選択トランジスタ１５がオンされる。
【００６５】
続いて、選択トランジスタ１５がオン期間中の時刻ｔ２に、リセットトランジスタ１３がオンされ、時刻ｔ３にオフされることで、電荷保持部１２の電圧が、初期状態の電源電圧VDDにリセットされる。また、容量切替トランジスタ６１がオン状態とされているので、電荷保持部１２と容量切替トランジスタ６１を介して接続されている付加容量素子６２も、同時にリセットされる。
【００６６】
その後、時刻ｔ４において、選択トランジスタ１５がオフされた後、信号電荷の蓄積が開始される。
【００６７】
信号電荷の蓄積完了後、時刻ｔ５において、選択トランジスタ１５がオンされることで、電荷保持部１２に蓄積された信号電荷が、列信号線１６を介して、AD変換部内のメモリ等に出力される。
【００６８】
蓄積された信号電荷の読み出し終了後、時刻ｔ６において、選択トランジスタ１５がオフされる。
【００６９】
一方、低容量選択時においては、各画素５１Aの駆動が開始される前に、Lo（Low）の切替制御信号CapSELが容量切替トランジスタ６１のゲート部６１GTに供給され、容量切替トランジスタ６１がオフ状態とされる。低容量選択時は、容量切替トランジスタ６１は常時オフ状態に設定される。容量切替トランジスタ６１以外の駆動は、高容量選択時と同じである。
【００７０】
即ち、選択トランジスタ１５がオフ、リセットトランジスタ１３がオフの状態である時刻ｔ１１において、選択信号SELがHiとなり、選択トランジスタ１５がオンされる。
【００７１】
続いて、選択トランジスタ１５がオン期間中の時刻ｔ１２に、リセットトランジスタ１３がオンされ、時刻ｔ１３にオフされることで、電荷保持部１２の電圧が、初期状態にリセットされる。容量切替トランジスタ６１はオフ状態とされているので、付加容量素子６２は、電荷保持部１２から切り離されている。
【００７２】
その後、時刻ｔ１４において、選択トランジスタ１５がオフされた後、信号電荷の蓄積が開始される。
【００７３】
信号電荷の蓄積完了後、時刻ｔ１５において、選択トランジスタ１５がオンされることで、電荷保持部１２に蓄積された信号電荷が、列信号線１６を介して、AD変換部内のメモリ等に出力される。
【００７４】
蓄積された信号電荷の読み出し終了後、時刻ｔ１６において、選択トランジスタ１５がオフされる。
【００７５】
＜第１の実施の形態の効果＞
上述した第１の実施の形態では、光電変換部１１に接続される電荷保持部１２の容量を信号電荷量に応じて制御することで、電荷保持部１２の電圧振幅を制御することができる。すなわち、信号電荷が多い場合には容量切替トランジスタ６１をオンして電荷保持部１２の容量を増やすことで、電荷保持部１２の電圧上昇量が抑制され、光電変換部１１の印加電圧減少量が抑制される。これにより光電変換部１１の光電変換効率の低下を抑制することができる。
【００７６】
また、第１の実施の形態では、付加容量素子６２と電荷保持部１２の間に、スイッチとなる容量切替トランジスタ６１が挿入されている。これにより、電荷保持部１２を低容量で使用する場合に、付加容量素子６２で発生したリーク電流が電荷保持部１２に混入する現象を防ぐことができる。
【００７７】
従って、光電変換特性（光電変換効率）の劣化を抑制し、固体撮像素子の画質劣化を抑制することができる。
【００７８】
＜３．第２の実施の形態＞
次に、図８乃至図１２を参照して、本技術を適用した画素の第２の実施の形態について説明する。
【００７９】
図８は、第２の実施の形態における画素５１Bの等価回路を示し、図９は、第２の実施の形態における画素５１Bの断面構造を示している。
【００８０】
上述した第１の実施の形態では、リセットトランジスタ１３と容量切替トランジスタ６１が並列に接続された構成であった。これに対して、第２の実施の形態は、図８に示されるように、容量切替トランジスタ６１が、リセットトランジスタ１３と電荷保持部１２の間に挿入され、リセットトランジスタ１３と容量切替トランジスタ６１が直列に接続された構成とされている点が第１の実施の形態と異なる。
【００８１】
より詳しくは、容量切替トランジスタ６１のソースが、電荷保持部１２に接続され、ドレインが、リセットトランジスタ１３のソースと付加容量素子６２の一端に接続されている。接続ノード６４は、リセットトランジスタ１３、容量切替トランジスタ６１、及び、付加容量素子６２の接続点である。
【００８２】
図９に示される画素５１Bの断面構造では、リセットトランジスタ１３のソースと容量切替トランジスタ６１のドレインを兼用するｎ型拡散層７２が、新たに追加されている。このｎ型拡散層７２は、付加容量素子６２の一方であるｎ型拡散層７１と、基板内で接続されるか、絶縁層２７内に設けられた金属配線７３で接続されている。これにより、付加容量素子６２のｎ型拡散層７１が、容量切替トランジスタ６１を介して電荷保持部１２と接続される構成とされている。
【００８３】
＜第２の駆動＞
次に、図１０のタイミングチャートを参照して、第２の実施の形態における画素５１Bの駆動（第２の駆動）について説明する。
【００８４】
図１０のAに示される高容量選択時の駆動は、第１の実施の形態における高容量選択時の駆動と同じであるので、その説明は省略する。
【００８５】
一方、低容量選択時においては、リセットトランジスタ１３を常時オン状態とし、その代わりに、容量切替トランジスタ６１がリセットトランジスタ１３としての動作を行う。
【００８６】
具体的には、時刻ｔ３１において、選択トランジスタ１５がオンされた後、容量切替トランジスタ６１が、時刻ｔ３２にオンされ、時刻ｔ３３にオフされる。これにより、電荷保持部１２の電圧が、初期状態にリセットされる。
【００８７】
その後、時刻ｔ３４において、選択トランジスタ１５がオフされた後、信号電荷の蓄積が開始される。
【００８８】
信号電荷の蓄積完了後、時刻ｔ３５において、選択トランジスタ１５がオンされることで、電荷保持部１２に蓄積された信号電荷が、列信号線１６を介して、AD変換部内のメモリ等に出力される。
【００８９】
蓄積された信号電荷の読み出し終了後、時刻ｔ３６において、選択トランジスタ１５がオフされる。
【００９０】
＜第２の実施の形態の効果＞
図１１及び図１２を参照して、第１の実施の形態と第２の実施の形態の違いについて説明する。
【００９１】
第１の実施の形態の画素５１Aでは、低容量選択時に、容量切替トランジスタ６１と付加容量素子６２との接続ノード６３（図５）がフローティングノードとなる。
【００９２】
図１１は、第１の実施の形態の画素５１Aにおける低容量選択時の状態を示している。
【００９３】
通常、この接続ノード６３と電荷保持部１２との間には寄生容量が存在するが、リセット信号レベル読み出し時と信号電荷蓄積後の蓄積信号レベル読み出し時で、接続ノード６３の電位が変動するとカップリングによって電荷保持部１２の電位が変動し、信号電荷のノイズとなることが懸念される。また、この接続ノード６３は、容量切替トランジスタ６１を介して電荷保持部１２と接続されているため、信号電荷蓄積期間中に発生したリーク電流が電荷保持部１２に混入することも懸念される。
【００９４】
これに対して、図１２は、第２の実施の形態の画素５１Bにおける低容量選択時の状態を示している。
【００９５】
画素５１Bでは、上述したように、容量切替トランジスタ６１がリセットトランジスタ１３と電荷保持部１２の間に挿入され、低容量選択時には、リセットトランジスタ１３が常時オンに制御される。これにより、低容量選択時においては、図１２に示されるように、容量切替トランジスタ６１と付加容量素子６２の接続ノード６４（図８）の電位が電源電圧VDDに固定され、カップリングによる電荷保持部１２の電位変動を抑制することができる。また、この接続ノード６４で発生したリーク電流は、リセットトランジスタ１３のドレインへすべて排出される構成となるので、電荷保持部１２へのリーク電流の混入も抑制することができる。
【００９６】
従って、第２の実施の形態の画素５１Bの構造によれば、第１の実施の形態で発生するような、低容量選択時のカップリングによる電荷保持部１２の電位変動や、電荷保持部１２へのリーク電流の混入を抑制することができる。これにより、第２の実施の形態によれば、上述した第１の実施の形態における効果に加えて、固体撮像素子の画質劣化をさらに抑制することができる。
【００９７】
＜４．第３の実施の形態＞
次に、図１３乃至図１６を参照して、本技術を適用した画素の第３の実施の形態について説明する。
【００９８】
図１３は、第３の実施の形態における画素５１Cの等価回路を示し、図１４は、第３の実施の形態における画素５１Cの断面構造を示している。
【００９９】
上述した第１及び第２の実施の形態が信号電荷として電子を用いる構成であったのに対して、第３の実施の形態は、信号電荷として正孔を用いる構成とされている点が第１及び第２の実施の形態と異なる。
【０１００】
信号電荷を正孔としたため、光電変換部１１の一端である上部電極２９A側に電源電圧VDDが印加される。また、リセットトランジスタ１３が、電源電圧VDDではなく、GNDに接続されている。
【０１０１】
第２の実施の形態の図９では、P型半導体基板２１内のｎ型拡散層２３が、リセットトランジスタ１３と増幅トランジスタ１４で共有されていた。しかし、第３の実施の形態では、図１４に示されるように、リセットトランジスタ１３用のｎ型拡散層２３Aと、増幅トランジスタ１４用のｎ型拡散層２３Bが、別々に形成されている。そして、リセットトランジスタ１３用のｎ型拡散層２３AはGNDに接続され、増幅トランジスタ１４用のｎ型拡散層２３Bは電源電圧VDDに接続されている。
【０１０２】
第３の実施の形態におけるその他の構成は、上述した第２の実施の形態と同様であり、画素の駆動方法も、図１０を参照して説明した第２の駆動と同様であるため、それらの説明は省略する。
【０１０３】
＜第３の実施の形態の効果＞
図１５及び図１６を参照して、第２の実施の形態と第３の実施の形態の違いについて説明する。
【０１０４】
図１５は、第２の実施の形態の高容量選択時の状態を示している。
【０１０５】
高容量選択時においては、容量切替トランジスタ６１のゲート部６１GT下の電位は、信号電荷量によって変化する。電荷保持部１２が電源電圧VDDでリセットされた場合、リセット直後は、容量切替トランジスタ６１のゲート部６１GT下は電子が少なく、図１５のAに示されるように弱反転状態となっている。そして、電荷蓄積に伴って、図１５のBに示されるように反転状態へと変化していく。その結果、容量切替トランジスタ６１のゲート部６１GT下の容量が変動し、信号電荷に応じてQV変換効率が変化してしまう。この現象は固体撮像素子のリニアリティ性能を劣化させる。なお、ここでは、第２の実施の形態を用いて説明したが、第１の実施の形態でも同様の現象が発生する。
【０１０６】
図１６は、第３の実施の形態の高容量選択時の状態を示している。
【０１０７】
第３の実施の形態では、電荷保持部１２のリセット電位がGNDとされている。また、信号電荷は正孔である。そのため、第３の実施の形態では、図１６のAに示されるように、容量切替トランジスタ６１のゲート部６１GT下を強反転状態から使用し、図１６のBに示されるように、容量切替トランジスタ６１のゲート部６１GT下は徐々に反転状態へと変化していく。これにより、信号電荷蓄積時の容量切替トランジスタ６１のゲート部６１GTの空乏化を抑制することができ、容量変動によるリニアリティ崩れを抑制することができる。
【０１０８】
また電荷保持部１２を、P型半導体基板（P-Well）２１と同じGND電位でリセットすることで、電荷保持部１２とP型半導体基板２１の暗時電位差が抑制され、暗時ノイズを抑制することができる。
【０１０９】
従って、第３の実施の形態の画素５１Cの構造によれば、上述した第１及び第２の実施の形態における効果に加えて、容量変動によるリニアリティ崩れを抑制することができ、電荷保持部１２の暗時ノイズを抑制することができるので、さらに固体撮像素子の画質劣化を抑制することができる。
【０１１０】
＜５．第４の実施の形態＞
図１７乃至図２０を参照して、本技術を適用した画素の第４の実施の形態について説明する。
【０１１１】
図１７は、第４の実施の形態における画素５１Dの等価回路を示し、図１８は、第４の実施の形態における画素５１Dの断面構造を示している。
【０１１２】
図１７に示される画素５１Dの等価回路は、付加容量素子６２のリセットトランジスタ１３側である接続ノード６４と反対側のノードが、電源電圧VDDではなく、GNDに接続されている点が、上述した第３の実施の形態と異なる。
【０１１３】
図１８に示される画素５１Dの断面構造では、MOSキャパシタである付加容量素子６２のゲート部６２GTが、絶縁層２７内に設けられた金属配線８１により、容量切替トランジスタ６１のｎ型拡散層７２と接続されており、付加容量素子６２のゲート部６２GTは、容量切替トランジスタ６１を介して電荷保持部１２と接続される構成とされている。付加容量素子６２のｎ型拡散層７１はGNDに接続されている。その他の点は、上述した第３の実施の形態と同様である。
【０１１４】
＜第４の実施の形態の効果＞
図１９及び図２０を参照して、第３の実施の形態と第４の実施の形態の違いについて説明する。
【０１１５】
図１９は、第３の実施の形態の高容量選択時の状態を示している。
【０１１６】
電荷保持部１２の飽和電荷量は、高容量選択時の電荷保持部１２の容量と、電荷保持部１２の使用可能な電圧範囲で決定される。飽和電荷量を改善するには、電荷保持部１２に大きな容量を付加する必要がある。
【０１１７】
第３の実施の形態の画素５１Cでは、付加容量素子６２をMOSキャパシタで構成し、図１４に示したように、付加容量素子６２のP型半導体基板２１側ノードであるｎ型拡散層７１が、電荷保持部１２と接続されている。
【０１１８】
付加容量素子６２のP型半導体基板２１側ノードはｐｎ接合を有しており、リーク電流が発生する。したがって、このような構成において、飽和電荷量を増大させるため、付加容量素子６２を大面積化すると、電荷保持部１２に流入するリーク電流が増大する懸念がある。
【０１１９】
なお、リーク電流が増大する懸念は、第３の実施の形態だけでなく、第１及び第２の実施の形態においても同様に存在する。ただし、第３の実施の形態では、上述したリーク電流の増大が高容量選択時の明時のときに発生するのに対して、第１及び第２の実施の形態では、信号電荷が電子であるので、暗時の場合に発生することになる。
【０１２０】
これに対して、図２０は、第４の実施の形態の高容量選択時の状態を示している。
【０１２１】
第４の実施の形態の画素５１Dでは、MOSキャパシタで構成される付加容量素子６２のゲート部６２GT側が、電荷保持部１２と接続されている。従って、仮に、ｐｎ接合となっているMOSキャパシタのｎ型拡散層７１にリーク電流が発生した場合であっても、そのリーク電流はGNDに流れるので、付加容量素子６２を大面積化したときの電荷保持部１２のリーク電流を抑制することができる。
【０１２２】
また、第４の実施の形態の画素５１Dでは、暗時の付加容量素子６２のゲート部６２GTがGND電位となる。そのため、付加容量素子６２のP型半導体基板２１側のｎ型拡散層７１はGND電位とした。これにより、付加容量素子６２のゲート部６２GT下の空乏化が抑制され、付加容量素子６２の容量の低下が抑制される。結果として、信号電荷量に対するQV変換効率の変動を抑制することができる。
【０１２３】
従って、第４の実施の形態の画素５１Dの構造によれば、上述した第１乃至第３の実施の形態における効果に加えて、容量を増大させた際の電荷保持部１２のリーク電流が抑制され、固体撮像素子のダイナミックレンジ拡大とノイズ抑制を両立させることができる。その結果、さらに固体撮像素子の画質劣化を抑制することができる。
【０１２４】
＜６．第５の実施の形態＞
図２１乃至図２２を参照して、本技術を適用した画素の第５の実施の形態について説明する。
【０１２５】
図２１は、第５の実施の形態における画素５１Eの等価回路を示し、図２２は、第５の実施の形態における画素５１Eの断面構造を示している。
【０１２６】
画素５１Eの等価回路は、図２１に示されるように、第１の波長光であるGreen光用の画素回路１０１Gと、第２の波長光であるRed光及び第３の波長光であるBlue光用の画素回路１０１RBとで構成される。
【０１２７】
Green光用の画素回路１０１Gは、図１７に示した第４の実施の形態の画素５１Dと同じ構成を有している。
【０１２８】
すなわち、画素回路１０１Gは、光電変換部１１１G、電荷保持部１１２G、リセットトランジスタ１１３G、増幅トランジスタ１１４G、選択トランジスタ１１５G、容量切替トランジスタ１６１G、及び、付加容量素子１６２Gを有する。
【０１２９】
画素回路１０１Gの光電変換部１１１G、電荷保持部１１２G、リセットトランジスタ１１３G、増幅トランジスタ１１４G、選択トランジスタ１１５G、容量切替トランジスタ１６１G、及び、付加容量素子１６２Gは、それぞれ、図１７に示した画素５１Dの光電変換部１１、電荷保持部１２、リセットトランジスタ１３、増幅トランジスタ１４、選択トランジスタ１５、容量切替トランジスタ６１、及び、付加容量素子６２に対応する。
【０１３０】
一方、Red光及びBlue光用の画素回路１０１RBは、光電変換部と転送トランジスタについては、Red光とBlue光についてそれぞれ有し、それ以外についてはRed光とBlue光で共有する構成となっている。
【０１３１】
より具体的には、画素回路１０１RBは、光電変換部１１１R、光電変換部１１１B、転送トランジスタ１９１R、転送トランジスタ１９１B、電荷保持部１１２RB、リセットトランジスタ１１３RB、増幅トランジスタ１１４RB、選択トランジスタ１１５RB、及び、容量切替トランジスタ１６１RB、及び、付加容量素子１６２RBを有する。
【０１３２】
光電変換部１１１Rは、Red光を受光して光電変換して得られた電荷を蓄積する。光電変換部１１１Bは、Blue光を受光して光電変換して得られた電荷を蓄積する。
【０１３３】
転送トランジスタ１９１Rは、ゲートに供給される転送信号TG(R)によりオンされたとき、光電変換部１１１Rで生成された信号電荷を、FD部である電荷保持部１１２RBに転送する。転送トランジスタ１９１Bは、ゲートに供給される転送信号TG(B)によりオンされたとき、光電変換部１１１Bで生成された信号電荷を、FD部である電荷保持部１１２RBに転送する。
【０１３４】
電荷保持部１１２RBは、光電変換部１１１Rまたは１１１Bから転送された信号電荷を保持する。
【０１３５】
リセットトランジスタ１１３RBは、ゲートに供給されるリセット信号RST(RB)によりオンされたとき、電荷保持部１１２RB及び付加容量素子１６２RBの電位をリセットする。
【０１３６】
増幅トランジスタ１１４RBのゲートは電荷保持部１１２RBと接続され、ドレインは電源電圧VDDに、ソースは選択トランジスタ１１５RBのドレインに接続されている。増幅トランジスタ１１４RBは、電荷保持部１１２RBの電位に応じた画素信号を出力する。
【０１３７】
選択トランジスタ１１５RBのドレインは、増幅トランジスタ１１４RBのソースと接続され、選択トランジスタ１１５RBのソースは、列信号線１６と接続されている。選択トランジスタ１１５RBは、ゲートに供給される選択信号SEL(RB)により画素回路１０１RBが選択されたときオンされ、画素５１Eで受光したRed光またはBlue光に対応する画素信号を、列信号線１６を介してAD変換部に出力する。
【０１３８】
容量切替トランジスタ１６１RBのドレインは、リセットトランジスタ１１３RBのソースと付加容量素子１６２RBの一端に接続され、容量切替トランジスタ１６１RBのソースは、電荷保持部１１２RBと接続されている。付加容量素子１６２RBのリセットトランジスタ１１３RBと接続されていない側の他端には、電源電圧VDDが印加されている。
【０１３９】
図２２は、第５の実施の形態における画素５１Eの断面構造を示している。
【０１４０】
画素５１Eは、P型半導体基板２１の光入射面側に、保護膜（絶縁膜）２０１を介して光電変換部１１１Gが形成されている。光電変換部１１１Gは、光電変換膜２０２を上部電極２０３Aと下部電極２０３Bで挟み込む構造で形成されている。光電変換膜２０２の材料には、Green光を光電変換し、Red光とBlue光を透過する材料が使用される。Greenの波長光で光電変換する有機光電変換膜としては、例えばローダーミン系色素、メラシアニン系色素、キナクリドン等を含む有機光電変換材料を用いることができる。上部電極２０３Aと下部電極２０３Bのそれぞれは、例えば、酸化インジウム錫（ITO）膜、酸化インジウム亜鉛膜等の透明性の電極膜で形成される。
【０１４１】
なお、例えば、光電変換膜２０２を、Redの波長光で光電変換する有機光電変換膜とする場合には、フタロシアニン系色素を含む有機光電変換材料を用いることができる。また例えば、光電変換膜２０２を、Blueの波長光で光電変換する有機光電変換膜とする場合には、クマリン系色素、トリス−８−ヒドリキシキノリンＡｌ（Ａｌｑ３）、メラシアニン系色素等を含む有機光電変換材料を用いることができる。光電変換部１１１Gの上側には、オンチップレンズ３２が形成されている。
【０１４２】
P型半導体基板２１の内部には、２つのｎ型半導体領域２０４及び２０５が深さ方向に積層されて形成されており、２つのPN接合によるフォトダイオードPD１及びPD２が形成されている。光吸収係数の違いにより、フォトダイオードPD１は、Blue光を光電変換し、フォトダイオードPD２は、Red光を光電変換する。２つのｎ型半導体領域２０４及び２０５の一部は、P型半導体基板２１の下側の界面まで到達するように形成されている。
【０１４３】
光電変換部１１１G等が形成された側とは反対側となるP型半導体基板２１の下側の面に、画素５１Eの複数の画素トランジスタが形成されている。
【０１４４】
具体的には、Green光用のリセットトランジスタ１１３Gが、P型半導体基板２１上のゲート部１１３GTと、P型半導体基板２１内のｎ型拡散層２２３Aおよび２７２で構成され、増幅トランジスタ１１４Gが、P型半導体基板２１上のゲート部１１４GTと、P型半導体基板２１内のｎ型拡散層２２３Bおよび２２４で構成されている。
【０１４５】
また、選択トランジスタ１１５Gが、P型半導体基板２１上のゲート部１１５GTと、P型半導体基板２１内のｎ型拡散層２２４および２２５で構成されている。ｎ型拡散層２２４は、増幅トランジスタ１１４Gと選択トランジスタ１１５Gで共有されている。
【０１４６】
容量切替トランジスタ１６１Gが、P型半導体基板２１上のゲート部１６１GTと、P型半導体基板２１内のｎ型拡散層２７２及び２２２で構成されて、MOSキャパシタで構成される付加容量素子１６２Gが、P型半導体基板２１上のゲート部１６２GTと、P型半導体基板２１内のｎ型拡散層２７１で構成されている。
【０１４７】
MOSキャパシタの付加容量素子１６２Gのゲート部１６２GTが、絶縁層２３７内に設けられた金属配線２８１により、容量切替トランジスタ１６１Gのｎ型拡散層２７２と接続されており、付加容量素子６２のｎ型拡散層２７１はGNDに接続されている。
【０１４８】
Green光を受光して生成される信号電荷は正孔とされ、光電変換膜２０２の上部電極２０３Aには電源電圧VDDが印加される。光電変換膜２０２の下部電極２０３Bは、金属の接続導体２２７により、容量切替トランジスタ１６１Gのソース／ドレインの一方であるｎ型拡散層２２２、及び、増幅トランジスタ１１４Gのゲート部１１４GTと接続されており、これら全体が電荷保持部１１２Gとなる。なお、接続導体２２７は、P型半導体基板２１内においては、SiO2若しくはSiN等の絶縁膜２２８で覆われて絶縁されている。
【０１４９】
さらに、Blue光用の転送トランジスタ１９１Bが、P型半導体基板２１上のゲート部１９１BGTと、P型半導体基板２１内のｎ型半導体領域２０４およびｎ型拡散層２３１で構成され、Red光用の転送トランジスタ１９１Rが、P型半導体基板２１上のゲート部１９１RGTと、P型半導体基板２１内のｎ型半導体領域２０５およびｎ型拡散層２３１で構成されている。
【０１５０】
また、リセットトランジスタ１１３RBが、P型半導体基板２１上のゲート部１１３RBGTと、P型半導体基板２１内のｎ型拡散層２３４および２３５で構成され、増幅トランジスタ１１４RBが、P型半導体基板２１上のゲート部１１４RBGTと、P型半導体基板２１内のｎ型拡散層２３５および２３６で構成されている。ｎ型拡散層２３５には電源電圧VDDが印加され、リセットトランジスタ１１３RBと増幅トランジスタ１１４RBで共有されている。
【０１５１】
さらに、選択トランジスタ１１５RBが、P型半導体基板２１上のゲート部１１５RBGTと、P型半導体基板２１内のｎ型拡散層２３６および２２５で構成されている。ｎ型拡散層２２５は、選択トランジスタ１１５Gと選択トランジスタ１１５RBで共有されている。
【０１５２】
容量切替トランジスタ１６１RBが、P型半導体基板２１上のゲート部１６１RBGTと、P型半導体基板２１内のｎ型拡散層２３３及び２３４で構成され、MOSキャパシタで構成される付加容量素子１６２RBが、P型半導体基板２１上のゲート部１６２RBGTと、P型半導体基板２１内のｎ型拡散層２３２で構成されている。
【０１５３】
MOSキャパシタの付加容量素子１６２RBのゲート部１６２RBGTが、絶縁層２３７内に設けられた金属配線２８２により、容量切替トランジスタ１６１RBのｎ型拡散層２３４と接続されており、付加容量素子１６２RBのｎ型拡散層２３２が、電源電圧VDDに接続されている。
【０１５４】
Blue光用の転送トランジスタ１９１BとRed光用の転送トランジスタ１９１Rで共有されるｎ型拡散層２３１は、FD部であり、容量切替トランジスタ１６１RBの一方のｎ型拡散層２３３と増幅トランジスタ１１４RBのゲート部１１４RBGTの両方に接続されており、これら全体が電荷保持部１１２RBとなる。
【０１５５】
P型半導体基板２１の画素トランジスタが形成された面は、絶縁膜２３７で覆われている。
【０１５６】
なお、図２２では、図示の制約上、複数の画素トランジスタのソースまたはドレインとして共有される複数のｎ型拡散層を金属配線で接続して示しているが、勿論、１つのｎ型拡散層で形成してもよい。
【０１５７】
第５の実施の形態の画素５１Eの構造によれば、Green光用の画素回路１０１Gは、図１７に示した第４の実施の形態の画素５１Dと同じ構成であるので、Green光の信号を保持する電荷保持部１１２Gに関しては、上述した第４の実施の形態と同様の効果を有する。
【０１５８】
即ち、光電変換部１１１Gに接続される電荷保持部１１２Gの容量を信号電荷量に応じて制御することで、電荷保持部１１２Gの電圧振幅を制御することができる。すなわち、信号電荷が多い場合には電荷保持部１１２Gの容量を増やすことで、電荷保持部１１２Gの電圧上昇量が抑制され、光電変換部１１１Gの印加電圧減少量が抑制される。これにより光電変換部１１１Gの光電変換効率の低下を抑制することができる。
【０１５９】
また、付加容量素子１６２Gと電荷保持部１１２Gの間に、スイッチとなる容量切替トランジスタ１６１Gが挿入されている。これにより、電荷保持部１１２Gを低容量で使用する場合に、付加容量素子１６２Gで発生したリーク電流が電荷保持部１１２Gに混入する現象を防ぐことができる。
【０１６０】
従って、光電変換特性（光電変換効率）の劣化を抑制し、固体撮像素子の画質劣化を抑制することができる。
【０１６１】
また、図１２を参照して説明したように、低容量選択時には、リセットトランジスタ１３が常時オンに制御されるので、低容量選択時に、カップリングによる電荷保持部１１２Gの電位変動や、電荷保持部１１２Gへのリーク電流の混入を抑制することができる。
【０１６２】
さらに、図１６を参照して説明したように、電荷保持部１１２Gを、P型半導体基板２１と同じGND電位でリセットし、容量切替トランジスタ１６１Gのゲート部１６１GT下を強反転状態から使用することで、容量変動によるリニアリティ崩れを抑制することができ、電荷保持部１１２Gの暗時ノイズを抑制することができる。
【０１６３】
また、付加容量素子１６２Gのｎ型拡散層２７１にリーク電流が発生した場合であっても、そのリーク電流はGNDに流れるので、容量を増大させた際の電荷保持部１１２Gのリーク電流が抑制され、固体撮像素子のダイナミックレンジ拡大とノイズ抑制を両立させることができる。
【０１６４】
以上の効果により、さらに固体撮像素子の画質劣化を抑制することができる。
【０１６５】
また、第５の実施の形態の画素５１Eの構造によれば、Green光用の電荷保持部１１２Gとは別に、Red光及びBlue光を光電変換した信号を保持する電荷保持部１１２RBを有し、容量切替トランジスタ１６１RBと付加容量素子１６２RBとを用いて、Green信号とは独立に電荷保持部１１２RBの容量を制御することができる。
【０１６６】
これにより、被写体の色によって、R,G,Bのゲインを異なるように制御することができる。例えば、緑色の被写体を撮像した場合には、Green光用の電荷保持部１１２Gの容量値を大きくすることでGreen信号の増幅率を抑制し、またRedとBlueの信号を読み出す場合にはRed光及びBlue光用の電荷保持部１１２RBの容量値を小さくすることで信号増幅率を高く設定することが可能である。これにより、様々な被写体に対しても、光電変換部１１１Gの感度劣化を抑制しつつ、撮像信号のＳ／Ｎ比の改善を実現することができる。
【０１６７】
なお、図２２に示した画素構造は、P型半導体基板２１の外側に１色の光を光電変換する光電変換部（光電変換部１１１G）を形成し、P型半導体基板２１内に、２色の光を光電変換する光電変換部（２つのPN接合によるフォトダイオードPD１及びPD２）を形成する構成とされていた。
【０１６８】
しかし、P型半導体基板２１の外側に２色の光を光電変換する光電変換部を形成し、P型半導体基板２１内に、１色の光を光電変換する光電変換部（１つのPN接合によるフォトダイオードPD）を形成する構成とすることも可能である。この場合、例えば、光電変換膜２０２が、Green光を光電変換する光電変換膜と、Blue光を光電変換する光電変換膜の２層となる。あるいはまた、光電変換膜２０２を上部電極２０３Aと下部電極２０３Bで挟み込む構造が積層されて形成される構成としてもよい。
【０１６９】
＜７．固体撮像素子の概略構成例＞
上述した画素５１A乃至画素５１Eは、図２３に示す固体撮像素子の画素として採用することができる。すなわち、図２３は、本技術が適用された固体撮像素子の概略構成を示す図である。
【０１７０】
図２３の固体撮像素子３０１は、半導体として例えばシリコン（Si）を用いた半導体基板３１２に、画素３０２が行列状に２次元配列された画素アレイ部３０３と、その周辺の周辺回路部とを有して構成される。周辺回路部には、垂直駆動回路３０４、カラム信号処理回路３０５、水平駆動回路３０６、出力回路３０７、制御回路３０８などが含まれる。
【０１７１】
画素３０２としては、上述した画素５１A乃至画素５１Eのいずれかの構成が採用される。
【０１７２】
制御回路３０８は、入力クロックと、動作モードなどを指令するデータを受け取り、また固体撮像素子３０１の内部情報などのデータを出力する。すなわち、制御回路３０８は、垂直同期信号、水平同期信号及びマスタクロックに基づいて、垂直駆動回路３０４、カラム信号処理回路３０５及び水平駆動回路３０６などの動作の基準となるクロック信号や制御信号を生成する。そして、制御回路３０８は、生成したクロック信号や制御信号を、垂直駆動回路３０４、カラム信号処理回路３０５及び水平駆動回路３０６等に出力する。
【０１７３】
垂直駆動回路３０４は、例えばシフトレジスタによって構成され、所定の画素駆動配線３１０を選択し、選択された画素駆動配線３１０に画素３０２を駆動するためのパルスを供給し、行単位で画素３０２を駆動する。すなわち、垂直駆動回路３０４は、画素アレイ部３０３の各画素３０２を行単位で順次垂直方向に選択走査し、各画素３０２の光電変換部において受光量に応じて生成された信号電荷に基づく画素信号を、垂直信号線３０９を通してカラム信号処理回路３０５に供給させる。
【０１７４】
上述したリセット信号RST、RST(G)、及びRST(RB)、選択信号SEL、SEL(B)、及びSEL(RB)、切替制御信号CapSEL、CapSEL(G)、及びCapSEL(RB)並びに、転送信号TG(R)及びTG(B)などは、画素駆動配線３１０を介して垂直駆動回路３０４によって制御される。
【０１７５】
カラム信号処理回路３０５は、例えば、画素３０２の列ごとに配置されており、１行分の画素３０２から出力される信号を画素列ごとにノイズ除去などの信号処理を行う。例えば、カラム信号処理回路３０５は、画素固有の固定パターンノイズを除去するためのCDSおよびAD変換等の信号処理を行う。
【０１７６】
水平駆動回路３０６は、例えばシフトレジスタによって構成され、水平走査パルスを順次出力することによって、カラム信号処理回路３０５の各々を順番に選択し、カラム信号処理回路３０５の各々から画素信号を水平信号線３１１に出力させる。
【０１７７】
出力回路３０７は、カラム信号処理回路３０５の各々から水平信号線３１１を通して順次に供給される信号に対し、信号処理を行って出力する。出力回路３０７は、例えば、バファリングだけする場合もあるし、黒レベル調整、列ばらつき補正、各種デジタル信号処理などが行われる場合もある。入出力端子３１３は、外部と信号のやりとりをする。
【０１７８】
以上のように構成される固体撮像素子３０１は、CDS処理とAD変換処理を行うカラム信号処理回路５が画素列ごとに配置されたカラムAD方式と呼ばれるCMOSイメージセンサである。
【０１７９】
固体撮像素子３０１の画素３０２として、上述した画素５１A乃至画素５１Eのいずれかの構成が採用されるので、固体撮像素子３０１は、光電変換特性（光電変換効率）の劣化を抑制し、固体撮像素子の画質劣化を抑制することができる。
【０１８０】
＜８．電子機器への適用例＞
本技術は、固体撮像素子への適用に限られるものではない。即ち、本技術は、デジタルスチルカメラやビデオカメラ等の撮像装置や、撮像機能を有する携帯端末装置や、画像読取部に固体撮像素子を用いる複写機など、画像取込部（光電変換部）に固体撮像素子を用いる電子機器全般に対して適用可能である。固体撮像素子は、ワンチップとして形成された形態であってもよいし、撮像部と信号処理部または光学系とがまとめてパッケージングされた撮像機能を有するモジュール状の形態であってもよい。
【０１８１】
図２４は、本技術が適用された電子機器としての、撮像装置の構成例を示すブロック図である。
【０１８２】
図２４に示される撮像装置４０１は、光学系４０２、シャッタ装置４０３、固体撮像素子４０４、制御回路４０５、信号処理回路４０６、モニタ４０７、およびメモリ４０８を備えて構成され、静止画像および動画像を撮像可能である。
【０１８３】
光学系４０２は、１枚または複数枚のレンズを有して構成され、被写体からの光（入射光）を固体撮像素子４０４に導き、固体撮像素子４０４の受光面に結像させる。
【０１８４】
シャッタ装置４０３は、光学系４０２および固体撮像素子４０４の間に配置され、制御回路４０５の制御に従って、固体撮像素子４０４への光照射期間および遮光期間を制御する。
【０１８５】
固体撮像素子４０４は、上述した固体撮像素子３０１、即ち、光電変換特性の劣化を抑制し、画質劣化を抑制させた固体撮像素子により構成される。固体撮像素子４０４は、光学系４０２およびシャッタ装置４０３を介して受光面に結像される光に応じて、一定期間、信号電荷を蓄積する。固体撮像素子４０４に蓄積された信号電荷は、制御回路４０５から供給される駆動信号（タイミング信号）に従って転送される。固体撮像素子４０４は、それ単体でワンチップとして構成されてもよいし、光学系４０２ないし信号処理回路４０６などと一緒にパッケージングされたカメラモジュールの一部として構成されてもよい。
【０１８６】
制御回路４０５は、例えば、CPU（Central Processing Unit）等により構成され、固体撮像素子４０４の転送動作、および、シャッタ装置４０３のシャッタ動作を制御する駆動信号を出力して、固体撮像素子４０４およびシャッタ装置４０３を駆動する。
【０１８７】
撮像装置４０１では、ユーザ(操作者)が、図示せぬ操作部から指示することにより、高容量設定かまたは低容量設定の動作を選択することができる。制御回路４０５は、ユーザによって指定された設定情報に基づいて、高容量設定または低容量設定のいずれかを固体撮像素子４０４に指示する。
【０１８８】
また、制御回路４０５は、撮像された画像の被写体の明るさを信号処理回路４０６から取得し、取得された明るさに応じて、次フレームの撮像を高容量設定かまたは低容量設定のどちらで行うかを（自動で）選択して、固体撮像素子４０４に指示することもできる。固体撮像素子４０４は、制御回路４０５からの指示に基づいて、各画素３０２（画素５１）の容量切替トランジスタ６１、１６１G、または１６１RBを制御する。
【０１８９】
信号処理回路４０６は、例えば、DSP(Digital Signal Processor)等により構成され、固体撮像素子４０４から出力された画素信号に対して各種の信号処理を施す。信号処理回路４０６が信号処理を施すことにより得られた画像（画像データ）は、モニタ４０７に供給されて表示されたり、メモリ４０８に供給されて記憶（記録）されたりする。
【０１９０】
上述したように、固体撮像素子４０４として、上述した各実施の形態に係る画素５１の構造を有する固体撮像素子を用いることで、光電変換特性の劣化を抑制し、画質劣化を抑制することができる。従って、ビデオカメラやデジタルスチルカメラ、さらには携帯電話機等のモバイル機器向けカメラモジュールなどの撮像装置４０１においても、撮像画像の高画質化を図ることができる。
【０１９１】
本技術の実施の形態は、上述した実施の形態に限定されるものではなく、本技術の要旨を逸脱しない範囲において種々の変更が可能である。
【０１９２】
例えば、半導体基板のP型及びN型の各半導体領域は、逆の導電型の半導体領域で構成することもできる。
【０１９３】
また、本技術は、可視光の入射光量の分布を検知して画像として撮像する固体撮像素子への適用に限らず、赤外線やＸ線、あるいは粒子等の入射量の分布を画像として撮像する固体撮像素子や、広義の意味として、圧力や静電容量など、他の物理量の分布を検知して画像として撮像する指紋検出センサ等の固体撮像素子（物理量分布検知装置）全般に対して適用可能である。
【０１９４】
上述した複数の実施の形態の全てまたは一部を適宜組み合わせた形態を採用することができる。例えば、上述した第５の実施の形態は、Green光用の画素回路１０１Gを、図１７に示した第４の実施の形態の画素５１Dと同じ構成としたが、その代わりに、第１乃至第３の実施の形態の画素５１A乃至５１Cのいずれかの構成とすることも可能である。
【０１９５】
また、本技術は、固体撮像素子に限らず、他の半導体集積回路を有する半導体装置全般に対して適用可能である。
【０１９６】
なお、本明細書に記載された効果はあくまで例示であって限定されるものではなく、本明細書に記載されたもの以外の効果があってもよい。
【０１９７】
なお、本技術は以下のような構成も取ることができる。
（１）
半導体基板の外側に形成された光電変換部と、
前記光電変換部で生成された信号電荷を保持する電荷保持部と、
前記電荷保持部の電位をリセットするリセットトランジスタと、
前記電荷保持部に接続され、前記電荷保持部の容量を切り替える容量切替トランジスタと、
前記容量切替トランジスタに接続された付加容量素子と
を有する画素を備える
固体撮像素子。
（２）
前記容量切替トランジスタが、前記リセットトランジスタと前記電荷保持部の間に接続されている
前記（１）に記載の固体撮像素子。
（３）
前記容量切替トランジスタにより、前記電荷保持部の容量が低容量に切り替えられた場合、前記リセットトランジスタは常時オンするように制御される
前記（２）に記載の固体撮像素子。
（４）
前記リセットトランジスタは、前記電荷保持部の電位を、前記半導体基板と同電位にリセットする
前記（２）に記載の固体撮像素子。
（５）
前記リセットトランジスタは、前記電荷保持部の電位を、GNDにリセットする
前記（４）に記載の固体撮像素子。
（６）
前記付加容量素子は、MOSキャパシタで構成される
前記（１）乃至（５）のいずれかに記載の固体撮像素子。
（７）
前記MOSキャパシタのゲート部が、前記電荷保持部に接続される構成である
前記（６）に記載の固体撮像素子。
（８）
前記MOSキャパシタの前記半導体基板内の拡散層が、前記電荷保持部に接続される構成である
前記（６）に記載の固体撮像素子。
（９）
前記リセットトランジスタは、前記電荷保持部の電位を、電源電圧にリセットする
前記（１）乃至（３）、（６）、または（８）のいずれかに記載の固体撮像素子。
（１０）
前記容量切替トランジスタと前記リセットトランジスタは、直列に接続されている
前記（１）乃至（９）のいずれかに記載の固体撮像素子。
（１１）
前記容量切替トランジスタと前記リセットトランジスタは、並列に接続されている
前記（１）に記載の固体撮像素子。
（１２）
前記光電変換部は、光電変換膜の上下を電極で挟み込む構造により形成されている
前記（１）乃至（１１）のいずれかに記載の固体撮像素子。
（１３）
前記画素は、前記光電変換部の上方または下方に、他の光電変換部をさらに有する
前記（１）乃至（１２）のいずれかに記載の固体撮像素子。
（１４）
前記他の光電変換部は、前記半導体基板に形成されたフォトダイオードである
前記（１３）に記載の固体撮像素子。
（１５）
前記光電変換部で生成された前記信号電荷は、正孔である
前記（１）に記載の固体撮像素子。
（１６）
前記光電変換部で生成された前記信号電荷は、電子である
前記（１）に記載の固体撮像素子。
（１７）
半導体基板の外側に形成された光電変換部と、
前記光電変換部で生成された信号電荷を保持する電荷保持部と、
前記電荷保持部の電位をリセットするリセットトランジスタと、
前記電荷保持部に接続され、前記電荷保持部の容量を切り替える容量切替トランジスタと、
前記容量切替トランジスタに接続された付加容量素子と
を有する画素を備える固体撮像素子
を備える電子機器。
（１８）
前記容量切替トランジスタを制御するための制御信号を出力する制御回路をさらに備える
前記（１７）に記載の電子機器。
（１９）
前記制御回路は、前記固体撮像素子で撮像された画像に基づいて、前記容量切替トランジスタを制御するための制御信号を出力する
前記（１８）に記載の電子機器。
（２０）
前記制御回路は、ユーザによって指定された設定情報に基づいて、前記容量切替トランジスタを制御するための制御信号を出力する
前記（１８）または（１９）に記載の電子機器。
【符号の説明】
【０１９８】
１１  光電変換部，  １２  電荷保持部，  １３  リセットトランジスタ，  ２１  P型半導体基板，  ２８  光電変換膜，  ２９A  上部電極，  ２９B  下部電極，  ５１（５１A乃至５１E）  画素，  ６１  容量切替トランジスタ，  ６２  付加容量素子，  １０１G,１０１RB  画素回路，  １１１B,１１１G,１１１R  光電変換部，  １１２G,１１２RB  電荷保持部，  １１３G,１１３RB  リセットトランジスタ，  １６１G,１６１RB  容量切替トランジスタ，  １６２G,１６２RB  付加容量素子，  ３０１  固体撮像素子，  ３０２  画素，  ４０１  撮像装置，  ４０４  固体撮像素子，  ４０５  制御回路，  ４０６  信号処理回路
【図１】
2016121521.tif 000003
【図２】
2016121521.tif 000004
【図３】
2016121521.tif 000005
【図４】
2016121521.tif 000006
【図５】
2016121521.tif 000007
【図６】
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【図７】
2016121521.tif 000009
【図８】
2016121521.tif 000010
【図９】
2016121521.tif 000011
【図１０】
2016121521.tif 000012
【図１１】
2016121521.tif 000013
【図１２】
2016121521.tif 000014
【図１３】
2016121521.tif 000015
【図１４】
2016121521.tif 000016
【図１５】
2016121521.tif 000017
【図１６】
2016121521.tif 000018
【図１７】
2016121521.tif 000019
【図１８】
2016121521.tif 000020
【図１９】
2016121521.tif 000021
【図２０】
2016121521.tif 000022
【図２１】
2016121521.tif 000023
【図２２】
2016121521.tif 000024
【図２３】
2016121521.tif 000025
【図２４】
2016121521.tif 000026
【国際調査報告】
2016121521.tif 000027
2016121521.tif 000028
2016121521.tif 000029
2016121521.tif 000030