(57)【要約】  この発明の溶接缶胴は、ティンフリー鋼板又はティンフリー鋼板に樹脂被膜が被覆された樹脂被覆鋼板からなる材料鋼板を成形し、対応する部位を互いに重ね合せて、重ね合せた部位を抵抗溶接して溶接部とすることで構成され、前記材料鋼板において前記溶接部に予定される溶接予定部（１２）は、前記抵抗溶接の際に電極（Ａ）と接触する側の電極接触面を構成する二つの面と、前記抵抗溶接により前記材料鋼板同士が接合される側の接合面を構成する二つの面と、からなる四つの面のうち少なくとも一つの面に、前記抵抗溶接前にレーザー照射することにより、クロムめっきが除去され鋼板が露出するレーザー照射部が分断配置されたレーザー加工部が形成されている。
2014119493.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ティンフリー鋼板又はティンフリー鋼板に樹脂被膜が被覆された樹脂被覆鋼板からなる材料鋼板を成形し、対応する部位を互いに重ね合せて、重ね合せた部位を抵抗溶接して溶接部とすることで構成される溶接缶胴であって、
前記材料鋼板において前記溶接部に予定される溶接予定部は、前記抵抗溶接の際に電極と接触する側の電極接触面を構成する二つの面と、前記抵抗溶接により前記材料鋼板同士が接合される側の接合面を構成する二つの面と、からなる四つの面のうち少なくとも一つの面に、前記抵抗溶接前にレーザー照射することにより、クロムめっきが除去され鋼板が露出するレーザー照射部が分断配置されたレーザー加工部が形成されている溶接缶胴。
【請求項２】
前記レーザー照射部におけるクロムの付着量が金属クロム換算で５ｍｇ／ｍ２以下である請求項１に記載の溶接缶胴。
【請求項３】
前記レーザー加工部におけるレーザー照射部が占める面積が１０％以上９０％以下である請求項１又は請求項２に記載の溶接缶胴。
【請求項４】
前記溶接部を構成する四つの面のうち、二つの前記電極接触面に前記レーザー加工部が形成されている請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の溶接缶胴。
【請求項５】
請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の溶接缶胴の開口部に、天板と底板のいずれか一方又は双方を取付けて形成する溶接缶。
【請求項６】
クロムめっき鋼板又はクロムめっき鋼板の表面に樹脂被膜が被覆された樹脂被覆鋼板からなる材料鋼板を成形し、
前記成形された材料鋼板において前記溶接缶胴の溶接部を構成する溶接予定部にレーザー照射して、前記抵抗溶接の際に電極と接触する側の電極接触面を構成する二つの面と、前記抵抗溶接により前記材料鋼板同士が接合される側の接合面を構成する二つの面と、からなる四つの面のうち少なくとも一つの面に、クロムめっきが除去され鋼板が露出されたレーザー照射部が分断配置されたレーザー加工部を形成し、
前記成形された材料鋼板の溶接予定部を互いに重ね合せ、
前記重ね合せた部位を抵抗溶接して溶接部とすることで接続して、前記溶接缶胴を形成する溶接缶胴の製造方法。
【請求項７】
前記レーザー照射部におけるクロムの付着量が金属クロム換算で５ｍｇ／ｍ２以下であることを特徴とする請求項６に記載の溶接缶胴の製造方法。
【請求項８】
前記レーザー照射部の面積は、前記溶接部のレーザー加工部において１０％以上９０％以下であることを特徴とする請求項６又は請求項７に記載の溶接缶胴の製造方法。
【請求項９】
前記溶接部を構成する四つの面のうち、二つの前記電極接触面に前記レーザー加工部が形成されている請求項６〜請求項８のいずれか１項に記載の溶接缶胴の製造方法。
【請求項１０】
溶接缶の製造方法であって、
請求項６〜請求項９のいずれか１項に記載の溶接缶胴の製造方法により形成した溶接缶胴の開口部に、天板と底板のいずれか一方又は双方を取付けて溶接缶を形成する溶接缶の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、クロムめっき鋼板、又はクロムめっき鋼板にラミネートをはじめとする樹脂被膜が被覆された樹脂被覆鋼板からなる材料鋼板を抵抗溶接による溶接部により接合して、１８リットル缶や一般缶体等の溶接缶を形成する際に、製缶における生産効率を向上することが可能な溶接缶胴、溶接缶、溶接缶胴の製造方法、及び溶接缶の製造方法に関する。
本願は、２０１３年１月２９日に、日本に出願された特願２０１３−０１４６４４号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
【背景技術】
【０００２】
周知のように、１８リットル缶や一般缶体等の金属缶体は、材料鋼板の溶接予定部を重ね合せて、シーム溶接法等の抵抗溶接法により溶接して缶胴部を形成し、この缶胴部に天板（底板）を取付けて製造される。【０００３】
このような溶接缶を形成する材料鋼板としては、例えば、ぶりき板、クロムめっき鋼板（以下、ティンフリー鋼板という。）や、ティンフリー鋼板に樹脂被膜が被覆された樹脂被覆鋼板等が用いられる。【０００４】
ティンフリー鋼板は、通常、金属クロムの表面にクロム水和酸化物が形成されていることから、電気抵抗が高く、そのままでは、電極を接触させて通電する抵抗溶接による接合は困難である。
そこで、電気抵抗を低くして溶接しやすくすることを目的として、溶接前処理として、溶接部を物理研磨することによるクロムめっき被膜の除去や、ティンフリー鋼板のクロムめっき被膜の改良等が行われている。【０００５】
しかしながら、溶接部を物理研磨する場合には、缶体に研磨屑等が付着して缶体内に残留する可能性があることから、残留した研磨屑等が、缶体内において製品に混入するのを防止する必要が生じる。缶体内に充填する内容物が食品等である場合には、特に注意が必要とされる。【０００６】
また、溶接部を物理研磨する場合には、クロムめっき被膜が完全に除去されるので、溶接部に補修塗装や補修ラミネート等により樹脂被膜を形成する際に、補修塗装膜や補修ラミネート等の樹脂被膜との密着性が低下する。
その結果、内容物が溶接部に浸透しやすくなり、しかも、溶接部にクロムめっき被膜が形成されていないので、内容物が溶接部に浸透した場合の耐食性が低く、腐食の要因となるという問題がある。【０００７】
そこで、上記課題を解決するために、例えば、ティンフリー鋼板のクロムめっき被膜の電気抵抗を低く形成する技術が開示されている（例えば、特許文献１参照。）。
特許文献１に記載の技術によれば、ティンフリー鋼板の電気抵抗が低いので、良好な溶接性が確保され、その結果、一般にも広く普及している。【０００８】
また、上記課題を解決するために、例えば、ティンフリー鋼板の溶接予定部のクロムめっき被膜を、溶接前処理としてレーザー光を照射して完全に除去するレーザーによる研磨方法が開示されている（例えば、特許文献２参照。）。【０００９】
特許文献２に記載のレーザーによる研磨方法によれば、従来の物理研磨では、クロムめっき被膜を完全に除去することが困難であっためっき層を、レーザー照射により完全に除去することが可能とされ、良好な溶接性を得ることができる。  さらに、クロムめっき被膜の除去に際してチリや屑がほとんど発生しないので、缶体内の製品にチリや屑等が混入するのを抑制することが可能である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】日本国特公平６−３７７１２号公報
【特許文献２】日本国特開昭６２−３４６８２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかしながら、特許文献１に開示された技術によれば、水和クロム酸化物の量が少なく、電気抵抗が低下して溶接性は向上するものの、一般的なティンフリー鋼板に比較すると、耐食性が低下することから、充分な耐食性が要求される用途では、溶接缶として安定した効果を得ることが困難である。【００１２】
また、特許文献２に開示された技術によれば、溶接前処理工程でクロムめっきを完全に除去することから、抵抗溶接により溶接部を効率的かつ安定して接合可能である点では効果が大きい。
しかしながら、溶接部のめっき被膜を完全に除去するためには、溶接部全面にレーザーを高出力で照射する必要があり、１缶あたりの処理時間が長くなるうえに、レーザー研磨工程を製缶ラインに組み込むとライン速度の低下を招き生産性を阻害する。
このことが、レーザー研磨技術を実用化する上で大きなデメリットとなり、普及に至らない要因となっている。【００１３】
また、溶接部の耐食性が保てない（めっきを完全に除去する為、補修塗料や補修フィルムとの密着性が劣る為）ことも、レーザーによる研磨が普及に至らない理由となっている。【００１４】
この発明は、このような事情を考慮してなされたものであり、ティンフリー鋼板、又はラミネートをはじめとする樹脂被膜が被覆された樹脂被覆鋼板からなる材料鋼板を抵抗溶接により接合して、１８リットル缶や一般缶体等の溶接缶を製造する際に、（１）材料鋼板となるティンフリー鋼板の溶接予定部の抵抗溶接における溶接性を向上すること、（２）材料鋼板となるティンフリー鋼板の溶接予定部の溶接前処理としてのレーザー加工処理の処理速度を向上させること、（３）材料鋼板となるティンフリー鋼板の溶接予定部の溶接前処理におけるチリや屑等の付着、残留を抑制すること、（４）材料鋼板となるティンフリー鋼板を溶接缶として形成した場合に溶接部における密着性を向上することが可能であること、の少なくとも一つを解決することが可能な溶接缶胴、溶接缶、溶接缶胴の製造方法、溶接缶の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明の各態様は、以下の通りである。
本発明の第１の態様は、ティンフリー鋼板又はティンフリー鋼板に樹脂被膜が被覆された樹脂被覆鋼板からなる材料鋼板を成形し、対応する部位を互いに重ね合せて、重ね合せた部位を抵抗溶接して溶接部とすることで構成される溶接缶胴であって、前記材料鋼板において前記溶接部に予定される溶接予定部は、前記抵抗溶接の際に電極と接触する側の電極接触面を構成する二つの面と、前記抵抗溶接により前記材料鋼板同士が接合される側の接合面を構成する二つの面と、からなる四つの面のうち少なくとも一つの面に、前記抵抗溶接前にレーザー照射することにより、クロムめっきが除去され鋼板が露出するレーザー照射部が分断配置されたレーザー加工部が形成されている。【００１６】
本発明の第２の態様は、溶接缶胴の製造方法であって、クロムめっき鋼板又はクロムめっき鋼板に樹脂被膜が被覆された樹脂被覆鋼板からなる材料鋼板を成形し、前記成形された材料鋼板において前記溶接缶胴の溶接部を構成する溶接予定部にレーザー照射して、前記抵抗溶接の際に電極と接触する側の電極接触面を構成する二つの面と、前記抵抗溶接により前記材料鋼板同士が接合される側の接合面を構成する二つの面と、からなる四つの面のうち少なくとも一つの面に、クロムめっきが除去され鋼板が露出されたレーザー照射部が分断配置されたレーザー加工部を形成し、前記成形された材料鋼板の溶接予定部を互いに重ね合せ、前記重ね合せた部位を抵抗溶接して溶接部とすることで接続して、前記溶接缶胴を形成する。【００１７】
本発明の第３の態様は、本発明の第１の態様の溶接缶胴の開口部に、天板と底板のいずれか一方又は双方を取付けて形成した溶接缶である。【００１８】
本発明の第４の態様は、本発明の第２の態様の溶接缶胴の製造方法において、溶接缶胴の開口部に、天板と底板のいずれか一方又は双方を取付けて形成する溶接缶の製造方法である。【００１９】
この発明に係る溶接缶胴、溶接缶、溶接缶胴の製造方法及び溶接缶の製造方法によれば、ティンフリー鋼板又は樹脂被覆鋼板からなる材料鋼板の溶接予定部は、抵抗溶接の際に電極と接触する側の電極接触面を構成する二つの面と、抵抗溶接により材料鋼板同士が接合される側の接合面を構成する二つの面と、からなる四つの面のうち少なくとも一つの面に、レーザー照射によって、クロムめっきが除去されて鋼板が露出するレーザー照射部が分断して配置されたレーザー加工部が形成されている。その結果、溶接予定部を抵抗溶接する際の溶接性を向上することができる。
また、溶接予定部におけるレーザー照射部を分断することにより、レーザー加工部を高速で加工することができる。【００２０】
この明細書において、樹脂被覆鋼板とは、ティンフリー鋼板の片側又は両側の面に樹脂被膜が形成された鋼板をいい、樹脂被膜とは、例えば、塗装（塗布、スプレー等）、印刷、蒸着等の被膜形成手段によってティンフリー鋼板の表面に形成された樹脂被膜や、ラミネートフィルム等ティンフリー鋼板とは別個に形成された樹脂被膜をティンフリー鋼板の表面に一体化させたものを含む。
また、樹脂としては、ポリプロピレン樹脂（ＰＰ）、ポリエチレン樹脂（ＰＥ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等のポリエステル樹脂、エポキシ樹脂等、樹脂被膜として形成可能な材質を含む。【００２１】
この明細書において、レーザー照射部とは、材料鋼板をなすティンフリー鋼板（樹脂被覆鋼板を含む）に被覆されたクロムめっきが、レーザーを照射することにより除去された部分をいう。また、レーザー加工部とは、レーザー照射部と非照射部が混在する溶接予定部をいう。【００２２】
また、この明細書において、レーザー照射部が分断して配置されているとは、レーザー照射部が材料鋼板の面上の少なくともいずれかの方向に延在する直線上において、分断配置されていることをいう。例えば、直線の集合（平行配置される直線の集合、互いに交差して配置される集合（この場合、交差する直線に囲まれる領域が孤立されていてもよい）を含む）により構成された直線と直線の間に間隙が形成された形態でもよく、すべての方向に分断されたドットの集合として構成されることを要しない。【００２３】
本発明の第１の態様又は第２の態様では、前記レーザー照射部におけるクロムの付着量を金属クロム換算で５ｍｇ／ｍ２以下とすることが好適である。【００２４】
この発明に係る溶接缶胴、溶接缶胴の製造方法によれば、レーザー照射により、クロムめっきを除去させて、レーザー照射部におけるクロムの付着量を金属クロム換算で５ｍｇ／ｍ２以下とすることで、接触部における電気抵抗を下げ、溶接安定性を向上させることができる。【００２５】
本発明の第１の態様又は第２の態様では、前記レーザー加工部におけるレーザー照射部が占める面積を１０％以上９０％以下とすることが好適である。【００２６】
この発明に係る溶接缶胴、溶接缶胴の製造方法によれば、レーザー照射部の面積が、前記溶接部のレーザー加工部において１０％以上９０％以下とされているので、溶接性が向上するとともに、溶接部に補修塗装や補修ラミネート等により樹脂被膜を形成する際に、補修塗装膜や補修ラミネート等の樹脂被膜の密着性が向上し、ひいては耐食性を向上することができる。【００２７】
本発明の第１の態様又は第２の態様では、前記溶接部を構成する四つの面のうち、二つの前記電極接触面に前記レーザー加工部が形成されていることが好適である。【００２８】
この発明に係る溶接缶胴、溶接缶胴の製造方法によれば、二つの電極接触面がレーザー加工部とされているので、溶接部を構成するすべての面（四つの面）にレーザー加工部を形成するのに比較して、コストを削減することができる。
また、レーザー加工部を、材料鋼板同士が接合される二つの接合面に形成する場合と比較して、抵抗溶接における溶接可能範囲（以下、ＡＣＲという）を広く確保することができ、溶接性が良好である。
【発明の効果】
【００２９】
本発明に係る溶接缶胴、溶接缶、溶接缶胴の製造方法及び溶接缶の製造方法によれば、材料鋼板において溶接部を構成する四つの面のうち少なくとも一つの面に、レーザー照射により形成され、クロムめっきが除去されて鋼板が露出するレーザー照射部が分断配置されたレーザー加工部が形成されているので、全体としての抵抗が下がり、抵抗溶接する際の溶接性を向上することができる。
また、溶接予定部におけるレーザー照射部を分断することにより、溶接前処理としてのレーザー処理を高速で実施することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る角形状缶の概略構成の一例を示す図である。
【図２Ａ】第１の実施形態に係る角形状缶の製造工程の概略の一例を示す斜視図であり、レーザー照射装置からレーザー光を照射して、材料鋼板にレーザー加工部を形成する状態を示す図である。
【図２Ｂ】第１の実施形態に係る角形状缶の製造工程の概略の一例を示す斜視図であり、缶胴中間品をシーム溶接することにより溶接予定部を接合する状態を示す図である。
【図２Ｃ】第１の実施形態に係る角形状缶の製造工程の概略の一例を示す斜視図であり、製造された缶胴を示す図である。
【図３】第１の実施形態に係る材料鋼板を構成するティンフリー鋼板の概略構成の一例を示す断面図である。
【図４】第１の実施形態に係る溶接缶の製造工程において、レーザー照射により材料鋼板にレーザー加工部を形成する工程の一例を示す概略図である。
【図５】第１の実施形態に係るティンフリー鋼板に形成されたレーザー照射部の概略構成の一例を説明する断面図である。
【図６Ａ】第１の実施形態に係る溶接缶胴に用いる材料鋼板におけるレーザー加工部の配置の一例を示す概略図である。
【図６Ｂ】第１の実施形態に係る溶接缶胴に用いる材料鋼板に形成されたレーザー加工部におけるレーザー照射部の配置の概略構成の一例を示す図である。
【図７Ａ】第１の実施形態に係る溶接缶の製造工程において、溶接予定部を抵抗溶接する状態の一例を示す図であり、溶接缶胴の溶接予定部を電極ローラによりシーム溶接する状態の概略を示す図である。
【図７Ｂ】第１の実施形態に係る溶接缶の製造工程において、抵抗溶接した溶接予定部におけるレーザー加工部の断面の配置の一例を示す図である。
【図８Ａ】第１の実施形態に係る溶接缶胴に用いる材料鋼板のレーザー加工部におけるレーザー照射部の配置を変形した第１変形例の概略構成を説明する図である。
【図８Ｂ】第１の実施形態に係る溶接缶胴に用いる材料鋼板のレーザー加工部におけるレーザー照射部の構成を変形した第２変形例の概略構成を説明する図である。
【図９Ａ】本発明の第２の実施形態に係る溶接缶胴に用いる材料鋼板のレーザー加工部におけるレーザー照射部の概略構成の一例を説明する図である。
【図９Ｂ】本発明の第２の実施形態に係る溶接缶胴に用いる材料鋼板のレーザー加工部におけるレーザー照射部の配置を変形した第１変形例の概略構成を説明する図である。
【図９Ｃ】本発明の第２の実施形態に係る溶接缶胴に用いる材料鋼板のレーザー加工部におけるレーザー照射部の配置を変形した第２変形例の概略構成を説明する図である。
【図９Ｄ】本発明の第２の実施形態に係る溶接缶胴に用いる材料鋼板のレーザー加工部におけるレーザー照射部の配置を変形した第３変形例の概略構成を説明する図である。
【図１０】本発明の第３の実施形態に係る溶接缶胴の製造工程において、溶接予定部を抵抗溶接する場合における、材料鋼板におけるレーザー加工部の配置の概略構成の一例を説明する図である。
【図１１】本発明の第４の実施形態に係る溶接缶胴に用いるラミネート鋼板の概略構成の一例を示す断面図である。
【図１２】本発明の第５の実施形態に係る円筒形状缶の概略構成の一例を示す図である。
【図１３Ａ】第５の実施形態に係る円形形状缶の製造工程の概略の一例を示す斜視図であり、レーザー照射装置からレーザー光を照射して、材料鋼板にレーザー加工部を形成する状態を示す図である。
【図１３Ｂ】第５の実施形態に係る円形形状缶の製造工程の概略の一例を示す斜視図であり、缶胴中間品をシーム溶接することにより溶接予定部を接合する状態を示す図である。
【図１３Ｃ】第５の実施形態に係る円形形状缶の製造工程の概略の一例を示す斜視図であり、製造された缶胴を示す図である。
【図１４】本発明の実施例を説明するための溶接部におけるレーザー加工部の概略構成の一例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００３１】
そこで、発明者らは、ティンフリー鋼板、又はラミネートをはじめとする樹脂被膜が被覆された樹脂被覆鋼板からなる材料鋼板の溶接予定部の抵抗溶接における溶接性の向上を鋭意研究した結果、クロムめっきからなる絶縁被膜をあえて部分的に残すことで、レーザー照射によるクロムめっき被膜の除去の高速化と、溶接補修部又はラミネート補修部における密着性、ひいては溶接部の耐食性を向上することが可能であるとの知見を得て、本発明を完成させた。以下に、本発明の各実施形態について詳述する。
【００３２】
＜第１の実施形態＞
以下、図１から図８Ｂを参照して、この発明の第１の実施形態について説明する。
図１は、本発明の第１の実施形態に係る缶体の概略構成を示す図であり、符号Ｗ０は例えば、１８Ｌ角缶（Ｓｑｕａｒｅ  Ｃａｎ）（溶接缶）などの角形状缶を、符号Ｗ１は溶接缶胴を、符号１１は溶接缶胴の溶接部を示している。
【００３３】
角形状缶Ｗ０は、図１に示すように、例えば、筒状に形成された缶胴Ｗ１と天板Ｗ１１と、底板Ｗ１２とを備えており、天板Ｗ１１及び底板Ｗ１２は、溶接缶胴Ｗ１の両端の開口部に取付けられている。
天板Ｗ１１には、角形状缶Ｗ０の内部に内容物を充填し又は内容物を外部に流出させるための孔Ｈ１が形成されている。
また、缶胴Ｗ１は、例えば、成形した材料鋼板を湾曲して対応する辺の縁部同士を重ねて、重ね合せた部分を、抵抗溶接して溶接部１１を形成して接合されている。
【００３４】
次に、図２Ａ〜図２Ｃを参照して、第１の実施形態に係る缶体Ｗの製造方法の概略について説明する。図２Ａ〜図２Ｃは、第１の実施形態に係る缶胴Ｗ１までの製造工程の概略を示す斜視図である。
【００３５】
まず、図２Ａに示すように、材料鋼板Ｍを矢印Ｔ１方向に流しながら、レーザー照射装置Ｌ１、Ｌ３から、例えば、パルス状のレーザー光を材料鋼板Ｍに照射して、レーザー加工部を形成する。
ここで、図２Ａには、４基のレーザー照射装置Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４が設けられているが、この実施形態では、レーザー光を破線の円錐部で示したレーザー照射装置Ｌ２、Ｌ４は用いずに、レーザー光を実線の円錐部で示したレーザー照射装置Ｌ１、Ｌ３を用いている。
また、レーザー照射装置Ｌ１は、図において表面側に形成されるレーザー加工部Ｇ１を形成し、レーザー照射装置Ｌ３は、図において裏面側に形成されるレーザー加工部Ｇ３を形成する。
【００３６】
次に、図２Ｂに示すように、レーザー加工部Ｇ１及びレーザー加工部Ｇ３が互いに対面するように材料鋼板Ｍを湾曲して、成形された材料鋼板Ｍの接合されるべき縁部（対応する部位）同士を重ね合せ、溶接部１１を構成する溶接予定部１２を溶接可能な状態の缶胴中間品Ｗ２を形成する。なお、この実施形態では、レーザー加工部Ｇが、材料鋼板Ｍの端面まで形成されている。
そして、形成した缶胴中間品Ｗ２を、矢印Ｔ２方向に移動させながら、溶接予定部１２を電極ローラＡ（Ａ１、Ａ２）で挟み、通電して溶接予定部１２をシーム溶接（抵抗溶接）することで溶接部１１を形成して、溶接予定部１２を接合する。
【００３７】
図２Ａ、図２Ｂを経て、図２Ｃに示すような缶胴Ｗ１が製造される。
その後、缶胴Ｗ１に、天板Ｗ１１及び底板Ｗ１２を巻き締めて取付けることにより、角形状缶Ｗ０が製造される。
【００３８】
次に、図３を参照して、第１の実施形態に係る缶体Ｗに用いる材料鋼板Ｍの概略構成について説明する。図３は、第１の実施形態に係る材料鋼板Ｍの概略構成を示す断面図であり、この実施形態において、材料鋼板Ｍは、缶用材料として一般的に用いられるティンフリー鋼板である。
【００３９】
材料鋼板Ｍを構成するティンフリー鋼板は、鋼板Ｍ１と、鋼板Ｍ１の両側表面に施されたクロムめっき層Ｍ２と、クロムめっき層Ｍ２の両側表面に形成されたクロム水和酸化物の層Ｍ３とを備えて構成されている。
かかる構成により、ティンフリー鋼板は、クロムめっきの被膜の電気抵抗が高いので、抵抗溶接の前処理として、物理研磨が行われるが、通常の物理研磨では、研磨粉や屑が付着する可能性がある。
【００４０】
次に、図４を参照して、第１の実施形態に係る缶体Ｗの製造工程における、レーザー照射工程の概略について説明する。図４は、第１の実施形態に係る缶体Ｗの製造工程における、レーザー照射工程の概略を示す図である。
【００４１】
レーザー照射工程では、例えば、上述の図２Ａ及び図４に示すように、４基のレーザー照射装置Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４を用いる。ここで、レーザー照射装置Ｌ１及びレーザー照射装置Ｌ４、レーザー照射装置Ｌ２及びレーザー照射装置Ｌ３が、それぞれ対向配置されている。
【００４２】
レーザー照射装置Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４は、溶接部１１を構成する材料鋼板Ｍの縁部に位置された溶接予定部１２に、例えば、パルス状のレーザー光を照射して、材料鋼板Ｍのクロムめっきを除去する。
【００４３】
材料鋼板Ｍのクロムめっきを除去することにより、鋼板Ｍ１が露出するレーザー照射部が分布するレーザー加工部Ｇを形成する。
なお、図４に示したレーザー加工部Ｇは、レーザー加工部Ｇの位置を概念的に示すものであり、見やすくするために、厚さ方向を強調して表現している。
【００４４】
この実施形態では、上述のように、レーザー光を破線の円錐部で示したレーザー照射装置Ｌ２、Ｌ４は用いずに、レーザー光を実線の円錐部で示したレーザー照射装置Ｌ１、Ｌ３を用いる。
【００４５】
レーザー照射装置Ｌ１、Ｌ３を用いることにより、材料鋼板Ｍにおいて互いに反対側の面に位置されるとともに、重ね合せによって対応する縁部に、レーザー加工部Ｇ１、Ｇ３を形成する。
【００４６】
次に、図５を参照して、第１の実施形態に係る材料鋼板Ｍに形成されたレーザー照射部の概略構成を説明する。図５は、第１の実施形態に係る材料鋼板Ｍに形成されたレーザー照射部の概略構成を示す断面図である。なお、図５において、レーザー照射部は、一面のみに形成されている。
【００４７】
レーザー照射部１３は、図５に示すように、材料鋼板Ｍの表面からクロムめっきの層Ｍ２及びクロム水和酸化物の層Ｍ３を貫通して、鋼板Ｍ１に到達するまで形成されている。
また、レーザー照射部１３におけるクロムの付着量は、例えば、５ｍｇ／ｍ２以下であることが好適である。
【００４８】
また、レーザー照射部１３の面積は、溶接部のエリア内において、１０％以上９０％以下であることが好適である。更に、２０%以上５０%以下であれば、さらに好適となる。
なお、溶接部１１（溶接予定部１２）のエリア内におけるレーザー照射部１３の面積を測定する場合、例えば、レーザー加工部Ｇ内の任意の１ｍｍ×１ｍｍのエリアにおけるレーザー照射部１３の面積率をみる等の方法が有効である。
【００４９】
このように、材料鋼板Ｍの一部において鋼板Ｍ１が露出し、残りの部分がクロム水和酸化物の層Ｍ３とされることにより、鋼板Ｍ１が露出するレーザー照射部１３では、電気抵抗が低下して通電が容易になるため溶接性が向上する。
【００５０】
その結果、クロム水和酸化物の層Ｍ３が形成されている部分では、補修塗装等における塗膜等の密着性及び耐食性が良好に確保されて、溶接部における補修塗装膜や補修ラミネート等の樹脂被膜の密着性が向上する。
【００５１】
また、レーザーによる全面剥離に比較すると、必要とされるレーザーのエネルギー量は大幅に減少するので、レーザー加工部を高速で形成することが可能となり、通常の製缶速度に追随できるため、実用化が容易となる。
【００５２】
また、レーザー照射部１３の配置を制御することにより、物理研磨においてクロムめっき被膜が残存するのと異なり、溶接部の電気抵抗を均一に低下させて、安定した溶接性を確保することができる。
【００５３】
次に、図６Ａ、図６Ｂを参照して、第１の実施形態に係る缶胴Ｗ１に用いる材料鋼板におけるレーザー加工部Ｇの配置等について説明する。
図６Ａは、第１の実施形態に係る缶胴Ｗ１に用いる材料鋼板Ｍにおけるレーザー加工部Ｇ（Ｇ１、Ｇ３）の配置の一例を示す概略図であり、図６Ｂはレーザー加工部Ｇにおけるレーザー照射部１３の概略構成の一例を示す図である。
【００５４】
材料鋼板Ｍにおけるレーザー加工部Ｇの配置は、図６Ａに示すように、例えば、材料鋼板Ｍの一方側の面にレーザー加工部Ｇ１が形成され、材料鋼板Ｍの他方側の面にレーザー加工部Ｇ３が形成されている。
レーザー加工部Ｇ１と、レーザー加工部Ｇ３は、ともに溶接部１１を構成する部位に位置し、溶接予定部１２を形成する。
【００５５】
また、レーザー加工部Ｇにおけるレーザー照射部１３の配置構成は、図６Ｂに示すように、例えば、レーザー加工部Ｇの幅方向に沿って形成される複数のレーザー照射部１３の集合１３Ｘと、レーザー照射部１３の集合１３Ｘと直交する長手方向に形成される複数のレーザー照射部１３の集合１３Ｙとから構成されている。
かかる構成により、レーザー加工部Ｇ内の溶接部１１の所定エリアに、レーザー照射部１３を均等に配置することができる。また、照射部１３以外の部分についても、均等に配置することが可能である。
【００５６】
次に、図７Ａ、図７Ｂを参照して、第１の実施形態に係る溶接缶の製造工程における、溶接予定部１２の抵抗溶接の概略について説明する。
図７Ａは、第１の実施形態に係る溶接缶の製造工程において、溶接予定部１２を抵抗溶接する状態を示す図であり、缶胴中間品Ｗ２の溶接予定部１２を電極ローラＡ１、Ａ２によりシーム溶接する状態の概略を示す図である。
また、図７Ｂは、第１の実施形態に係る溶接缶の製造工程において、溶接予定部１２におけるレーザー加工部Ｇの配置の一例を示す図である。
【００５７】
缶胴中間品Ｗ２の溶接予定部１２における抵抗溶接では、例えば、形成した缶胴中間品Ｗ２を溶接予定部１２の長手方向に沿って移動させるとともに、電極ローラＡ１、電極ローラＡ２により挟んで通電することで、溶接部１１を形成して対象部位を接続する。
【００５８】
また、溶接予定部１２をシーム溶接する際の、溶接予定部１２におけるレーザー加工部Ｇの配置は、この実施形態では、例えば、電極ローラＡ１と接触する側の面にレーザー加工部Ｇ１が配置され、電極ローラＡ２と接触する側の面にレーザー加工部Ｇ３が配置されている。
また、材料鋼板Ｍ同士が接触する界面側は、それぞれレーザー加工部Ｇが配置されずにクロムめっきが残存している。
【００５９】
次に、図８Ａ、図８Ｂを参照して、第１の実施形態に係る缶胴Ｗ１に用いる材料鋼板のレーザー加工部Ｇにおけるレーザー照射部１３の構成の変形例を説明する。図８Ａ、図８Ｂは、第１の実施形態に係る缶胴Ｗ１に用いる材料鋼板Ｍのレーザー加工部Ｇにおけるレーザー照射部１３の配置変形例の概略構成を説明する図である。図８Ａ、図８Ｂにおいて、例えば、レーザー加工部Ｇの長手方向をＹで示している。
【００６０】
図８Ａは、第１の実施形態の第１変形例を示す図であり、例えば、レーザー照射部１３は、レーザー加工部Ｇの幅方向（Ｘ方向）に等間隔に配置され、Ｘ方向において等間隔に配置されたレーザー照射部１３のグループが、レーザー加工部Ｇの長手方向（Ｙ方向）に繰り返し配置された構成とされている。なお、レーザー照射部１３同士の間隔は、Ｘ方向、Ｙ方向において、レーザー照射部１３とほぼ同寸法とされている。
【００６１】
図８Ｂは、第１の実施形態の第２変形例を示す図であり、例えば、レーザー照射部１３は、レーザー加工部Ｇの幅方向（Ｘ方向）に等間隔に配置され、Ｘ方向において等間隔に配置されたレーザー照射部１３のグループが、レーザー加工部Ｇの長手方向（Ｙ方向）において、Ｘ方向の位置を半ピッチずらして繰り返し配置された構成とされている。なお、レーザー照射部１３同士の間隔は、Ｘ方向、Ｙ方向において、レーザー照射部１３とほぼ同寸法とされている。
【００６２】
第１の実施形態に係る缶胴Ｗ１、角形状缶Ｗ０によれば、材料鋼板Ｍの溶接予定部１２のうち、電極接触面を構成する二つの面に、レーザー加工部Ｇ１、Ｇ３が形成されていて、接触抵抗を下げることができるので、溶接予定部１２を効率的にシーム溶接することができる。
また、溶接予定部１２におけるレーザー照射部１３を分断配置することにより、レーザー加工部Ｇを高速で形成することができる。
【００６３】
また、第１の実施形態に係る缶胴Ｗ１、角形状缶Ｗ０によれば、レーザー照射部１３におけるクロムの付着量が金属クロム換算で５ｍｇ／ｍ２以下とされているので、溶接予定部１２を安定してシーム溶接することができる。
【００６４】
また、第１の実施形態に係る缶胴Ｗ１、角形状缶Ｗ０によれば、レーザー照射部１３の面積が、例えば、溶接部１１における任意の１ｍｍ×１ｍｍのエリアにおいて、１０％以上９０％以下とされている。
【００６５】
溶接部１１における任意の１ｍｍ×１ｍｍのエリアにおいて、１０％以上９０％以下とされているので、溶接性が向上するとともに、溶接部１１に補修塗装や補修ラミネートする際の補修塗装膜や補修ラミネート等、形成した樹脂被膜の密着性が向上し、ひいては耐食性を向上することができる。
【００６６】
また、面積率が２０〜５０%の場合は、ＡＣＲが広く、かつ、全面研磨（レーザー加工部を全面にわたってのクロム除去）に比較してクロムを除去する面積を十分に小さくすることができる。
その結果、レーザー加工部Ｇの単位面積あたりのレーザー出力を小さくすることが可能となり、単位時間当たりのレーザー出力が同じであっても、レーザー加工部Ｇをより高速に形成することができて、さらに好適となる。
【００６７】
また、第１の実施形態に係る缶胴Ｗ１、角形状缶Ｗ０によれば、二つの電極接触面がレーザー加工部Ｇとされているので、溶接部１１を構成するすべての面（四つの面）にレーザー加工部を形成するのに比較して、コストを削減することができる。
【００６８】
また、レーザー加工部Ｇを、材料鋼板Ｍ同士が接合される二つの接合面に形成する場合と比較して、シーム溶接におけるＡＣＲを広く確保して、溶接性を向上することができる。
【００６９】
一般に、電極と接触する面の接触抵抗と比較して、材料同士の接触抵抗を高くすることで、鋼板同士の界面が十分に溶融し、スプラッシュやチリなどが飛び難くなるため、特にＡＣＲが広くなり良好となる。ここで、スプラッシュとは、材料鋼板Ｍが、溶接部から針状に飛び出して、溶接缶又は溶接缶胴に付着したものをいう。
【００７０】
すなわち、抵抗溶接においては、抵抗の高い部分で発熱が起こるので、電極と材料鋼板の接触部分は、通常、電極により冷却されるが、電極そのものは抵抗が低いので、電極と材料鋼板の接触部（電極−鋼板界面）に比較して、材料鋼板Ｍ同士の接合部（鋼板−鋼板界面）の電気抵抗が大きく、接合面で大きく発熱、溶融して、安定した溶接が行われる。
【００７１】
しかしながら、材料鋼板Ｍ同士の接合部にレーザー加工部を形成すると、全体の電気抵抗が低下して溶接性は向上するが、一方で、電極と材料鋼板Ｍの接触する部分での発熱が接合部の発熱よりも大きくなる場合があり、材料鋼板Ｍの電極側で溶融しやすくなる。
したがって、電極と材料鋼板Ｍの接触部にレーザー加工部を形成して、電極と材料鋼板Ｍの接触部の電気抵抗を低下させることがＡＣＲを広くするうえで効果的であると考えられる。
【００７２】
＜第２の実施形態＞
以下、図９Ａ〜図９Ｄを参照して、この発明の第２の実施形態について説明する。
図９Ａは、第２の実施形態に係る溶接缶胴に用いる材料鋼板のレーザー加工部Ｇにおけるレーザー照射部の構成を示す概略図であり、図９Ｂ〜図９Ｄは第２の実施形態の変形例を説明する概略図である。図９Ａ〜図９Ｄにおいて、例えば、レーザー加工部Ｇの長手方向Ｙ、幅方向をＸで示している。
【００７３】
第２の実施形態に係るレーザー加工部Ｇは、例えば、図９Ａに示すように、Ｙ方向に所定の長さを有するレーザー照射部１３が、Ｘ方向に複数配置され、Ｘ方向において隣接するレーザー照射部１３は、Ｙ方向において、互いに半ピッチずれて複数配置された構成とされている。
なお、レーザー加工部Ｇの形成には、パルスレーザー、連続レーザーのいずれを用いてもよく、レーザー照射部１３の長さは、必要に応じて任意に設定することが可能である。
【００７４】
第２の実施形態の第１変形例に係るレーザー加工部Ｇの構成は、例えば、図９Ｂに示すように、Ｙ方向に所定の長さを有するレーザー照射部１３が、Ｘ方向に複数配置され、同様のものが、Ｙ方向に複数配置された構成とされている。
【００７５】
第２の実施形態の第２変形例に係るレーザー加工部Ｇの構成は、例えば、図９Ｃに示すように、レーザー加工部Ｇの長手方向の端部から端部まで連続して形成されたレーザー照射部１３が、Ｘ方向に所定間隔をあけて複数配置された構成とされている。
【００７６】
第２の実施形態の第３変形例に係るレーザー加工部Ｇの構成は、例えば、図９Ｄに示すように、レーザー加工部ＧのＸ方向の端部から端部まで連続して形成されたレーザー照射部１３が、Ｙ方向に所定間隔をあけて複数配置された構成とされている。
【００７７】
＜第３の実施形態＞
以下、図１０を参照して、この発明の第３の実施形態について説明する。
図１０は、第３の実施形態に係る溶接缶胴の製造工程において、溶接予定部１２をシーム溶接する場合における、材料鋼板Ｍにおけるレーザー加工部Ｇの配置の概略構成を説明する図である。
【００７８】
第３の実施形態が、第１の実施形態と異なるのは、第１の実施形態では、溶接予定部１２のうち、電極接触面を構成する二つの面にレーザー加工部Ｇ１、Ｇ３が形成されていたのに対して、第３の実施形態では、電極接触面を構成する二つの面にレーザー加工部Ｇ１、Ｇ３が形成されている点である。
【００７９】
また、第３の実施形態では、材料鋼板Ｍ同士が接合される界面側の接合面を構成する二つの面にもレーザー加工部Ｇ２、Ｇ４が形成されていて、溶接部１１を構成する四つの面のすべてにレーザー加工部Ｇが形成されている。その他は第１の実施形態と同様であるので、説明を省略する。
【００８０】
＜第４の実施形態＞
以下、図１１を参照して、この発明の第４の実施形態について説明する。
図１１は、第４の実施形態に係るラミネート鋼板（樹脂被覆鋼板）ＭＲからなる材料鋼板の概略構成を示す断面図である。
【００８１】
第４の実施形態が、第１の実施形態と異なるのは、缶胴Ｗ１を構成する材料鋼板として、ラミネート鋼板ＭＲを用いる点である。その他は第１の実施形態と同様であるので、説明を省略する。
ラミネート鋼板ＭＲは、図１１に示すように、鋼板Ｍ１と、鋼板Ｍ１の両側表面に施されたクロムめっき層Ｍ２と、クロムめっき層Ｍ２の両側表面に生成したクロム水和酸化物層Ｍ３と、クロム水和酸化物層Ｍ３の両側表面に形成されたラミネートフィルムＦとを備えている。また、ラミネートフィルムＦは、この実施形態では、溶接予定部１２には被覆されていない。なお、図１１には、ラミネートフィルムFについては詳述していないが、内容物に応じた各種のラミネートフィルムが適用可能であり、また、機能の異なる複数の層を有するラミネートフィルムの場合にも適用可能である。
【００８２】
＜第５の実施形態＞
以下、図１２、図１３Ａ〜図１３Ｃを参照して、この発明の第５の実施形態について説明する。
図１２は、本発明の第５の実施形態に係る缶体の概略構成を示す図であり、符号Ｗ１０は、例えば、ペール缶等の外周が円筒形状に形成された円筒形状缶（溶接缶）を、符号Ｗ１Ａは缶胴（溶接缶胴）を、符号１１Ａは缶胴Ｗ１Ａ及び溶接缶Ｗ１Ａの溶接部を示している。
【００８３】
円筒形状缶Ｗ１０は、図１２に示すように、例えば、円筒形状に形成された缶胴Ｗ１Ａと天板Ｗ１１Ａと底板Ｗ１２Ａとを備えており、天板Ｗ１１Ａ及び底板Ｗ１２Ａは、缶胴Ｗ１Ａの両端の開口部に取付けられている。
天板Ｗ１１Ａには、円筒形状缶Ｗ１０の内部に内容物を充填し又は内容物を外部に流出させるための孔Ｈ１Ａが形成されている。
また、缶胴Ｗ１Ａは、例えば、成形した材料鋼板を湾曲して対応する辺の縁部同士を重ねて、重ね合せた部分を、抵抗溶接して溶接部１１Ａを形成して接合されている。
【００８４】
次に、図１３Ａ〜図１３Ｃを参照して、第５の実施形態に係る缶体Ｗの製造方法の概略について説明する。図１３Ａ〜図１３Ｃは、第５の実施形態に係る缶胴Ｗ１Ａまでの製造工程の概略を示す斜視図である。
【００８５】
まず、図１３Ａに示すように、材料鋼板Ｍを矢印Ｔ１方向に流しながら、レーザー照射装置Ｌ１、Ｌ３から、例えば、パルス状のレーザー光を材料鋼板Ｍに照射して、レーザー加工部を形成する。
ここで、図１３Ａには、４基のレーザー照射装置Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４が設けられているが、この実施形態では、レーザー光を破線の円錐部で示したレーザー照射装置Ｌ２、Ｌ４を用いずに、レーザー光を実線の円錐部で示したレーザー照射装置Ｌ１、Ｌ３を用いている。
また、レーザー照射装置Ｌ１は、図において表面側に形成されるレーザー加工部Ｇ１を形成し、レーザー照射装置Ｌ３は、図において裏面側に形成されるレーザー加工部Ｇ３を形成するようになっている。
【００８６】
次に、図１３Ｂに示すように、レーザー加工部Ｇ１及びレーザー加工部Ｇ３が互いに対面するように材料鋼板Ｍを湾曲して、成形された材料鋼板Ｍの接合されるべき縁部（対応する部位）同士を重ね合せ、溶接部１１Ａを構成する溶接予定部１２Ａを溶接可能な状態の缶胴中間品Ｗ２Ａを形成する。なお、この実施形態では、レーザー加工部Ｇが、材料鋼板Ｍの端面まで形成されている。
そして、形成した缶胴中間品Ｗ２Ａを、矢印Ｔ２方向に流しながら、溶接予定部１２Ａを電極ローラＡ（Ａ１、Ａ２）で挟み、通電して溶接予定部１２Ａをシーム溶接（抵抗溶接）することで溶接部１１Ａを形成して、溶接予定部１２Ａを接合する。
【００８７】
図１３Ａ、図１３Ｂを経て、図１３Ｃに示すような缶胴Ｗ１Ａが製造される。
その後、缶胴Ｗ１Ａに、天板Ｗ１１Ａ及び底板Ｗ１２Ａを巻き締めて取付けることにより、円筒形状缶Ｗ１０が製造される。
【００８８】
なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
【００８９】
例えば、上記実施の形態においては、角形状缶Ｗ０及び円筒形状缶Ｗ１０、及びこれらに対応する缶胴Ｗ１、Ｗ１Ａについて説明したが、例えば、５ガロン缶、ジェリ缶、飲料用を含む３ピース缶等、他の形状の溶接缶やその溶接缶に用いる溶接缶胴に適用してもよい。
【００９０】
また、上記実施の形態においては、ティンフリー鋼板にパルスレーザーを照射してレーザー加工処理する場合について説明したが、例えば、連続的にレーザーを照射してレーザー加工部Ｇを形成する構成としてもよい。
【００９１】
また、上記実施の形態においては、レーザー照射部におけるクロムの付着量が５ｍｇ／ｍ２以下である場合について説明したが、クロムの付着量は、溶接予定部において抵抗溶接が可能とされる範囲内で、任意に設定することができ、溶接性を向上するためには、残存クロムの付着量を低くすることが効果的である。
【００９２】
また、上記実施の形態においては、レーザー照射部の面積率が、例えば、溶接部における１ｍｍ×１ｍｍのエリアにおいて、１０％以上９０％以下である場合について説明したが、溶接部１１におけるレーザー照射部１３の面積率は、溶接予定部１２に抵抗溶接が可能とされる範囲内で、任意に設定してもよい。例えば、溶接性を向上するためには、溶接予定部１２におけるレーザー照射部１３の面積率を高くすることが効果的である。また、溶接部に補修塗装や補修ラミネートする際の密着性を向上して耐食性を向上するためには、レーザー照射部の密度を低下することが効果的である。
【００９３】
また、上記実施の形態においては、材料鋼板がティンフリー鋼板又はラミネート鋼板とされる場合について説明したが、母材となる鋼板の一方側の面にクロムめっきが施され、他方側の面にクロムめっきが施された表面側にラミネートが施された構成としてもよい。また、前述したように、ラミネート層が複数の層を有していてもよい。
【実施例】
【００９４】
以下、表１を参照して、本発明の実施例について説明する。
表１は、この発明に係る実施例１〜実施例１３及び比較例１、２を用いて行った、高速溶接性、塗料密着性、耐食性、溶接性に関する評価結果を示す表である。【００９５】
以下、実施例１〜１３、および比較例１、２は、厚さ０．３２ｍｍ、テンパー度Ｔ４ＣＡの冷延鋼板にクロムめっきを施したティンフリー鋼板を用いて調製した。実施例１〜１３、および比較例１、２の溶接部においてレーザー照射部が占める面積率（％）、溶接部におけるレーザー加工部の配置（Ａ、Ｂ、Ｃ）、レーザー照射部におけるクロムの付着量（ｍｇ／ｍ２）は、表１に示すとおりである。【００９６】
また、高速溶接性、塗料密着性、耐食性、溶接性は、以下に示す方法により評価した。
なお、表１に示した、溶接部におけるレーザー加工部の配置（Ａ、Ｂ、Ｃ）は、図１４に示すとおりであり、図１４は、溶接部を構成する４つの面におけるレーザー加工部の配置（形成の有無）を示している。【００９７】
〔高速溶接性評価〕
溶接性試験において、全面にレーザー照射し、かつレーザー照射部のＣｒ付着量が１ｍｇ／ｍ２以下となる場合を１００％出力として比較した。同面積のレーザー加工部を形成する場合に必要な出力が９０％を超える場合は不可（×）、５０％超え９０％以下の場合は可（○）、５０％以下の場合は優（◎）とした。【００９８】
〔塗料密着性評価〕
レーザー加工部を形成した面にエポキシ系の塗料を塗布し、続いて２２０℃×１０分の焼付けを行い５μｍ厚の塗装を施した。次に、塗装サンプルの塗装面に縦横２ｍｍ間隔の碁盤目状のケガキ線を施した。ケガキ線は十分に地鉄層まで到達する深さのものとした。
次に、塗装面のケガキ部にニチバン（登録商標）製セロハンテープ（ＬＰ２４）を貼った。その際、コイル状のテープからテープを解きながらサンプルに貼り付けた。そして、テープ貼り付け部分に連続して非接着部を設け、これをテープ端とした。また、テープ貼り付け部は、テープとサンプルが十分密着するように上から十分押えた。
上記方法で作製したサンプルを固定し、テープ端を持ち、サンプル平面に対して４５°方向に勢い良く引っ張ることで、テープ剥離を実施した。テープ剥離後、塗装が剥げたものは×、剥げなかったものを○とした。【００９９】
〔耐食性評価〕
レーザー加工部を形成したサンプルの両面にエポキシ系の塗料を塗布し、続いて２２０℃×１０分の焼付けを行い、両面５μｍ厚の塗装を施した。次に、塗装サンプルを７０ｍｍ×７０ｍｍの大きさに剪断し、レーザー加工部を形成した面側に２本の対角線状のケガキ線を施した。ケガキ線は十分に地鉄層まで到達する深さのものとした。
次に腐食液を調製した。腐食液は、塩化ナトリウムとクエン酸の混合水溶液で、塩化ナトリウム１．５ｗｔ％、クエン酸１．５ｗｔ％となるように調製した。
続いて５０ｍｍφの筒状の蓋つきセルを用意した。筒状のセルに蓋を装着し、蓋を底にしてコップ状にし、先に調製した腐食液を充填した。サンプルを上蓋に見立てて、ケガキ面の中央部がセルの中央内側に来るようにして、腐食液を充填したセルに被せ、セルとサンプルをひっくり返しても液が漏れないように個縛した。続いて、サンプルが下側に来るように反転させて、恒温槽に装入し、３８℃×４日間経時させた。
経時後のサンプルを取り出し、腐食状態を観察した。腐食がケガキ部のみのものは○、腐食が塗装被膜下で進行しているものは×とした。【０１００】
〔溶接性評価〕
厚さ０．３２ｍｍ、テンパー度Ｔ４ＣＡの冷延鋼板にクロムめっきを施したティンフリー鋼板を用いて、溶接部に実施例及び比較例のレーザー加工部を形成し、続いて、シーム溶接法で溶接を行った。溶接電流が高すぎるとチリやスプラッシュを発生させ不良となり、一方溶接電流が低すぎると溶接の接合力が弱くなり不良となる。溶接接合力が充分得られ、かつチリやスプラッシュが発生しない範囲を溶接可能電流範囲（ＡＣＲ）と呼ぶが、ＡＣＲが広いほど、溶接の安定性が高くなる。
そこで、溶接電流範囲が１Ａ未満のものを×、１Ａ以上３Ａ未満のものを〇、３Ａ以上のものを◎として、１Ａ以上を合格とした。【０１０１】
【表１】
2014119493.tif 000003
【０１０２】
〔評価結果〕
（１）実施例１〜１３は、高速溶接性、塗料密着性、耐食性、溶接性の全てが良好な結果となる。
（２）実施例２〜７は、溶接性が特に優れた結果(◎)となった。
（３）実施例８、９は、レーザー加工部Ｃｒ付着量が３ｍｇ／ｍ２、５ｍｇ／ｍ２であること以外は、実施例２と同様の条件であるが、残存Ｃｒ付着量が多いことにより溶接性が○となっている。
（４）実施例１０〜１２は、レーザー加工部対象面がＢ(二つの電極接触面のうち、ひとつのみレーザー加工部を形成)であること以外は、実施例３〜５と同条件であるが、レーザー加工部が片面であるので、溶接性が○となっている。
（５）比較例１は、レーザー加工部におけるレーザー照射部の面積率が１００％となっており、溶接部を構成する部分のうち、電極と接する二つの面にレーザー照射部が形成されている。その結果、高速溶接性、塗料密着性、耐食性が劣る結果となっている。
（６）比較例２は、レーザー加工部におけるレーザー照射部の面積率０％であり、溶接部は全てレーザー非照射部となっており、レーザー照射部を持たない為、本特許の請求範囲から外れる。その結果、溶接性が×となっている。【０１０３】
以上のように、従来のレーザー研磨方法（特許文献２参照）において、溶接部の全面にレーザーを照射（研磨面積率１００％(研磨残りが全く無い)）していたのに比較すると、レーザー照射部と非照射部を設けることで、高速溶接性、塗料密着性、耐食性が向上する。【０１０４】
また、レーザーによる全面剥離に比較すると、単位面積あたりに必要とされるレーザーのエネルギー量は減少するので、レーザーの単位時間あたりのエネルギー量（出力）が一定なら、レーザー加工部を高速で形成することが可能となる。【０１０５】
また、レーザー照射部（研磨部）であっても、残存クロム量は金属クロム換算で５ｍｇ／ｍ２以下となっており、安定した溶接性が確保される。
【産業上の利用可能性】
【０１０６】
本発明によれば、材料鋼板に抵抗溶接する際の溶接性を向上することができるので、産業上利用可能である。
【符号の説明】
【０１０７】
Ｗ０  角形状缶（溶接缶）
Ｗ１０  円筒形状缶（溶接缶）
Ｗ１、Ｗ１Ａ  缶胴（溶接缶胴）
Ｗ１１、Ｗ１１Ａ  天板
Ｗ１２、Ｗ１２Ａ  底板
Ｍ  材料鋼板
ＭＲ  ラミネート鋼板（材料鋼板、樹脂被覆鋼板）
Ｍ１  鋼板
Ｍ２  クロムめっきの層
Ｍ３  クロム水和酸化物の層  
Ｆ  ラミネートフィルム（樹脂被膜）
Ａ、Ａ１、Ａ２  電極ローラ（電極）
Ｇ、Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３、Ｇ４  レーザー加工部
１１  溶接部
１２  溶接予定部
１３  レーザー照射部
【図１】
2014119493.tif 000004
【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図２Ｃ】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
2014119493.tif 000010
【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
2014119493.tif 000012
【図７Ａ】
2014119493.tif 000013
【図７Ｂ】
2014119493.tif 000014
【図８Ａ】
2014119493.tif 000015
【図８Ｂ】
2014119493.tif 000016
【図９Ａ】
2014119493.tif 000017
【図９Ｂ】
2014119493.tif 000018
【図９Ｃ】
2014119493.tif 000019
【図９Ｄ】
2014119493.tif 000020
【図１０】
2014119493.tif 000021
【図１１】
2014119493.tif 000022
【図１２】
2014119493.tif 000023
【図１３Ａ】
2014119493.tif 000024
【図１３Ｂ】
2014119493.tif 000025
【図１３Ｃ】
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【図１４】
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【国際調査報告】
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2014119493.tif 000029