(57)【要約】【課題】大型の被処理対象物の全面を表面処理することができるショット処理装置を得る。【解決手段】被処理対象物Ｗは吊下部によって吊り下げられ、吊下部は直進移動機構によって被処理対象物Ｗの搬送ラインに沿って直進移動させられる。被処理対象物Ｗは、第一ブラスト室１６に搬入されると、遠心式投射機４２Ａ〜４２Ｌの投射によって表面処理される。遠心式投射機４２Ａ〜４２Ｌは、投射方向中心線が、平面視で搬送方向斜め前側、平面視で搬送方向斜め後側、平面視で搬送方向斜め左側、平面視で搬送方向斜め右側、側面視で斜め上側、及び側面視で斜め下側からそれぞれ交わるように複数設置されている。【選択図】図１
2014119136.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理対象物を吊り下げる吊下部と、
前記吊下部を被処理対象物の搬送ラインに沿って直進移動させる直進移動機構と、
羽根車の回転に伴って前記搬送ライン側に向けて投射材を投射すると共に、投射方向中心線が前記搬送ラインに対して、平面視で搬送方向斜め前側、平面視で搬送方向斜め後側、平面視で搬送方向斜め左側、平面視で搬送方向斜め右側、側面視で斜め上側、及び側面視で斜め下側からそれぞれ交わるように複数設置された遠心式投射機と、
を有するショット処理装置。
【請求項２】
前記遠心式投射機として、
投射方向中心線が前記搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め下側から交わるように設置された第一投射機と、
投射方向中心線が前記搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め上側から交わるように設置された第二投射機と、
投射方向中心線が前記搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め下側から交わるように設置された第三投射機と、
投射方向中心線が前記搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め上側から交わるように設置された第四投射機と、
投射方向中心線が前記搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め下側から交わるように設置された第五投射機と、
投射方向中心線が前記搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め上側から交わるように設置された第六投射機と、
投射方向中心線が前記搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め下側から交わるように設置された第七投射機と、
投射方向中心線が前記搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め上側から交わるように設置された第八投射機と、
を備える請求項１記載のショット処理装置。
【請求項３】
前記遠心式投射機として、
投射方向中心線が前記搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ側面視で斜め下側から交わるようになおかつ平面視で搬送ラインに沿いかつ搬送ラインと重なる方向に設置された第一投射機と、
投射方向中心線が前記搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め上側から交わるように設置された第二投射機と、
投射方向中心線が前記搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め上側から交わるように設置された第三投射機と、
投射方向中心線が前記搬送ラインに対して側面視で搬送方向斜め前側かつ側面視で斜め下側から交わるようになおかつ平面視で搬送ラインに沿いかつ搬送ラインと重なる方向に設置された第四投射機と、
投射方向中心線が前記搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め上側から交わるように設置された第五投射機と、
投射方向中心線が前記搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め上側から交わるように設置された第六投射機と、
を備える請求項１記載のショット処理装置。
【請求項４】
前記遠心式投射機として、
投射方向中心線が水平でかつ前記搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め左側から交わるように設置された第一投射機と、
投射方向中心線が水平でかつ前記搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め右側から交わるように設置された第二投射機と、
投射方向中心線が前記搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め上側から交わるように設置された第三投射機と、
投射方向中心線が前記搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め上側から交わるように設置された第四投射機と、
投射方向中心線が前記搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め下側から交わるように設置された第五投射機と、
投射方向中心線が前記搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め下側から交わるように設置された第六投射機と、
投射方向中心線が前記搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め下側から交わるように設置された第七投射機と、
投射方向中心線が前記搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め下側から交わるように設置された第八投射機と、
投射方向中心線が前記搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め上側から交わるように設置された第九投射機と、
投射方向中心線が前記搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め上側から交わるように設置された第十投射機と、
投射方向中心線が水平でかつ前記搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め左側から交わるように設置された第十一投射機と、
投射方向中心線が水平でかつ前記搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め右側から交わるように設置された第十二投射機と、
を備える請求項１記載ショット処理装置。
【請求項５】
前記搬送ラインにおいて複数の前記遠心式投射機の各々によって投射材が投射される投射ゾーンが当該搬送ラインに沿って複数設定され、
複数の前記投射ゾーンに対してそれぞれ搬送方向上流側に設けられて被処理対象物の通過を検出する上流側検出部と、
複数の前記投射ゾーンに対してそれぞれ搬送方向下流側に設けられて被処理対象物の通過を検出する下流側検出部と、
前記遠心式投射機への投射材の供給用とされて前記遠心式投射機に対して投射材の供給及び供給停止が可能な投射材供給部と、
前記上流側検出部による検出結果及び前記下流側検出部による検出結果に基づいて、被処理対象物が前記投射ゾーンのいずれかの範囲内にあると判断した場合にのみ当該投射ゾーンに投射材を投射するように前記投射材供給部を制御する制御部と、
を有する請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載のショット処理装置。
【請求項６】
前記遠心式投射機によって投射材が投射される第一処理室と、
前記第一処理室よりも被処理対象物の搬送方向下流側に設けられ、圧縮空気とともに投射材を噴射する噴射ノズルが設置された第二処理室と、
を有する請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載のショット処理装置。
【請求項７】
閉止状態で前記第一処理室と前記第二処理室との間の流通路を遮断する開閉可能な仕切扉が設けられている、請求項６記載のショット処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被処理対象物に対して投射材を投射するショット処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ショットブラスト装置としては、例えば、金属製の製品のスケール除去等に用いられるクレーン吊下げ式ショットブラスト装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。このような装置では、搬送路の側面に遠心式投射機が配置され、被処理対象物である製品を吊り下げて所定方向に移動させると共に、製品全体を表面処理するために、製品を反転、正転させたり傾動させたりしながら当該製品に対して投射材を投射している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特表２０１０−５３３０７２公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、被処理対象物である製品が大型の場合、製品を吊り下げた状態で所望の反転、正転や傾動をさせるのが難しいため、製品の全面を表面処理するのが難しい。【０００５】
本発明は、上記事実を考慮して、大型の被処理対象物の全面を表面処理することができるショット処理装置を得ることが目的である。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
請求項１に記載する本発明のショット処理装置は、被処理対象物を吊り下げる吊下部と、前記吊下部を被処理対象物の搬送ラインに沿って直進移動させる直進移動機構と、羽根車の回転に伴って前記搬送ライン側に向けて投射材を投射すると共に、投射方向中心線が前記搬送ラインに対して、平面視で搬送方向斜め前側、平面視で搬送方向斜め後側、平面視で搬送方向斜め左側、平面視で搬送方向斜め右側、側面視で斜め上側、及び側面視で斜め下側からそれぞれ交わるように複数設置された遠心式投射機と、を有する。「搬送方向斜め前側」、「搬送方向斜め後側」は、投射方向中心線の、搬送ライン上の被処理対象物との関係について言うものである。(以下の各段落の記載においても同じ)」【０００７】
請求項１に記載する本発明のショット処理装置によれば、吊下部が被処理対象物を吊り下げ、吊下部を直進移動機構が被処理対象物の搬送ラインに沿って直進移動させる。そして、遠心式投射機が羽根車の回転に伴って搬送ライン側に向けて投射材を投射する。ここで、遠心式投射機は、投射方向中心線が被処理対象物の搬送ラインに対して、平面視で搬送方向斜め前側、平面視で搬送方向斜め後側、平面視で搬送方向斜め左側、平面視で搬送方向斜め右側、側面視で（搬送ラインの側方側から見て）斜め上側、及び側面視で（搬送ラインの側方側から見て）斜め下側からそれぞれ交わるように複数設置されている。このため、複数の遠心式投射機が被処理対象物に向けて平面視で搬送方向斜め前側、平面視で搬送方向斜め後側、平面視で搬送方向斜め左側、平面視で搬送方向斜め右側、側面視で斜め上側、及び側面視で斜め下側から投射材を投射する。よって、複数の遠心式投射機は、大型の被処理対象物の全面を表面処理する。【０００８】
請求項２に記載する本発明のショット処理装置は、請求項１記載の構成において、前記遠心式投射機として、投射方向中心線が前記搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め下側から交わるように設置された第一投射機と、投射方向中心線が前記搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め上側から交わるように設置された第二投射機と、投射方向中心線が前記搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め下側から交わるように設置された第三投射機と、投射方向中心線が前記搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め上側から交わるように設置された第四投射機と、投射方向中心線が前記搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め下側から交わるように設置された第五投射機と、投射方向中心線が前記搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め上側から交わるように設置された第六投射機と、投射方向中心線が前記搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め下側から交わるように設置された第七投射機と、投射方向中心線が前記搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め上側から交わるように設置された第八投射機と、を備える。【０００９】
請求項２に記載する本発明のショット処理装置によれば、第一投射機は、投射方向中心線が被処理対象物の搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め下側から交わるように設置されているので、被処理対象物に向けて平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め下側から投射材を投射する。第二投射機は、投射方向中心線が被処理対象物の搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め上側から交わるように設置されているので、被処理対象物に向けて平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め上側から投射材を投射する。【００１０】
第三投射機は、投射方向中心線が被処理対象物の搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め下側から交わるように設置されているので、被処理対象物に向けて平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め下側から投射材を投射する。第四投射機は、投射方向中心線が被処理対象物の搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め上側から交わるように設置されているので、被処理対象物に向けて平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め上側から投射材を投射する。【００１１】
第五投射機は、投射方向中心線が被処理対象物の搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め下側から交わるように設置されているので、被処理対象物に向けて平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め下側から投射材を投射する。第六投射機は、投射方向中心線が被処理対象物の搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め上側から交わるように設置されているので、被処理対象物に向けて平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め上側から投射材を投射する。【００１２】
第七投射機は、投射方向中心線が被処理対象物の搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め下側から交わるように設置されているので、被処理対象物に向けて平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め下側から投射材を投射する。第八投射機は、投射方向中心線が被処理対象物の搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め上側から交わるように設置されているので、被処理対象物に向けて平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め上側から投射材を投射する。【００１３】
請求項３に記載する本発明のショット処理装置は、請求項１記載の構成において、前記遠心式投射機として、投射方向中心線が前記搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ側面視で斜め下側から交わるようになおかつ平面視で搬送ラインに沿いかつ搬送ラインと重なる方向に設置された第一投射機と、投射方向中心線が前記搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め上側から交わるように設置された第二投射機と、投射方向中心線が前記搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め上側から交わるように設置された第三投射機と、投射方向中心線が前記搬送ラインに対して側面視で搬送方向斜め前側かつ側面視で斜め下側から交わるようになおかつ平面視で搬送ラインに沿いかつ搬送ラインと重なる方向に設置された第四投射機と、投射方向中心線が前記搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め上側から交わるように設置された第五投射機と、投射方向中心線が前記搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め上側から交わるように設置された第六投射機と、を備える。【００１４】
請求項３に記載する本発明のショット処理装置によれば、第一投射機は、投射方向中心線が被処理対象物の搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ側面視で斜め下側から交わるようになおかつ平面視で被処理対象物の搬送ラインに沿いかつ搬送ラインと重なる方向に設置されているので、被処理対象物に向けて平面視で搬送方向斜め後側かつ側面視で斜め下側から投射材を投射する。第二投射機は、投射方向中心線が被処理対象物の搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め上側から交わるように設置されているので、被処理対象物に向けて平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め上側から投射材を投射する。第三投射機は、投射方向中心線が被処理対象物の搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め上側から交わるように設置されているので、被処理対象物に向けて平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め上側から投射材を投射する。【００１５】
第四投射機は、投射方向中心線が被処理対象物の搬送ラインに対して側面視で搬送方向斜め前側かつ側面視で斜め下側から交わるようになおかつ平面視で被処理対象物の搬送ラインに沿いかつ搬送ラインと重なる方向に設置されているので、被処理対象物に向けて側面視で搬送方向斜め前側かつ側面視で斜め下側から投射材を投射する。第五投射機は、投射方向中心線が被処理対象物の搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め上側から交わるように設置されているので、被処理対象物に向けて平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め上側から投射材を投射する。第六投射機は、投射方向中心線が被処理対象物の搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め上側から交わるように設置されているので、被処理対象物に向けて平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め上側から投射材を投射する。【００１６】
請求項４に記載する本発明のショット処理装置は、請求項１記載の構成において、前記遠心式投射機として、投射方向中心線が水平でかつ前記搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め左側から交わるように設置された第一投射機と、投射方向中心線が水平でかつ前記搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め右側から交わるように設置された第二投射機と、投射方向中心線が前記搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め上側から交わるように設置された第三投射機と、投射方向中心線が前記搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め上側から交わるように設置された第四投射機と、投射方向中心線が前記搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め下側から交わるように設置された第五投射機と、投射方向中心線が前記搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め下側から交わるように設置された第六投射機と、投射方向中心線が前記搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め下側から交わるように設置された第七投射機と、投射方向中心線が前記搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め下側から交わるように設置された第八投射機と、投射方向中心線が前記搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め上側から交わるように設置された第九投射機と、投射方向中心線が前記搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め上側から交わるように設置された第十投射機と、投射方向中心線が水平でかつ前記搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め左側から交わるように設置された第十一投射機と、投射方向中心線が水平でかつ前記搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め右側から交わるように設置された第十二投射機と、を備える。【００１７】
請求項４に記載する本発明のショット処理装置によれば、第一投射機は、投射方向中心線が水平でかつ被処理対象物の搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め左側から交わるように設置されているので、被処理対象物に向けて平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め左側から水平に投射材を投射する。第二投射機は、投射方向中心線が水平でかつ被処理対象物の搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め右側から交わるように設置されているので、被処理対象物に向けて平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め右側から水平に投射材を投射する。【００１８】
第三投射機は、投射方向中心線が被処理対象物の搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め上側から交わるように設置されているので、被処理対象物に向けて平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め上側から投射材を投射する。第四投射機は、投射方向中心線が被処理対象物の搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め上側から交わるように設置されているので、被処理対象物に向けて平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め上側から投射材を投射する。【００１９】
第五投射機は、投射方向中心線が被処理対象物の搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め下側から交わるように設置されているので、被処理対象物に向けて平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め下側から投射材を投射する。第六投射機は、投射方向中心線が被処理対象物の搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め下側から交わるように設置されているので、被処理対象物に向けて平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め下側から投射材を投射する。【００２０】
第七投射機は、投射方向中心線が被処理対象物の搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め下側から交わるように設置されているので、被処理対象物に向けて平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め下側から投射材を投射する。第八投射機は、投射方向中心線が被処理対象物の搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め下側から交わるように設置されているので、被処理対象物に向けて平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め下側から投射材を投射する。【００２１】
第九投射機は、投射方向中心線が被処理対象物の搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め上側から交わるように設置されているので、被処理対象物に向けて平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め上側から投射材を投射する。第十投射機は、投射方向中心線が被処理対象物の搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め上側から交わるように設置されているので、被処理対象物に向けて平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め上側から投射材を投射する。【００２２】
第十一投射機は、投射方向中心線が水平でかつ被処理対象物の搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め左側から交わるように設置されているので、被処理対象物に向けて平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め左側から投射材を水平に投射する。第十二投射機は、投射方向中心線が水平でかつ被処理対象物の搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め右側から交わるように設置されているので、被処理対象物に向けて平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め右側から投射材を水平に投射する。【００２３】
請求項５に記載する本発明のショット処理装置は、請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の構成において、前記搬送ラインにおいて複数の前記遠心式投射機の各々によって投射材が投射される投射ゾーンが当該搬送ラインに沿って複数設定され、複数の前記投射ゾーンに対してそれぞれ搬送方向上流側に設けられて被処理対象物の通過を検出する上流側検出部と、複数の前記投射ゾーンに対してそれぞれ搬送方向下流側に設けられて被処理対象物の通過を検出する下流側検出部と、前記遠心式投射機への投射材の供給用とされて前記遠心式投射機に対して投射材の供給及び供給停止が可能な投射材供給部と、前記上流側検出部による検出結果及び前記下流側検出部による検出結果に基づいて、被処理対象物が前記投射ゾーンのいずれかの範囲内にあると判断した場合にのみ当該投射ゾーンに投射材を投射するように前記投射材供給部を制御する制御部と、を有する。【００２４】
請求項５に記載する本発明のショット処理装置によれば、被処理対象物の搬送ラインにおいて複数の遠心式投射機の各々によって投射材が投射される投射ゾーンが当該搬送ラインに沿って複数設定されている。なお、投射ゾーン同士は重なっていてもよいし離れていてもよい。複数の投射ゾーンに対してそれぞれ搬送方向上流側には上流側検出部が設けられ、複数の投射ゾーンに対してそれぞれ搬送方向下流側には下流側検出部が設けられており、上流側検出部及び下流側検出部は、被処理対象物の通過を検出する。また、遠心式投射機への投射材の供給用とされた投射材供給部は、遠心式投射機に対して投射材の供給及び供給停止が可能となっている。そして、制御部は、上流側検出部による検出結果及び下流側検出部による検出結果に基づいて、被処理対象物が投射ゾーンのいずれかの範囲内にあると判断した場合にのみ当該投射ゾーンに投射材を投射するように投射材供給部を制御する。よって、遠心式投射機による無駄な投射を抑えることができる。【００２５】
請求項６に記載する本発明のショット処理装置は、請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の構成において、前記遠心式投射機によって投射材が投射される第一処理室と、前記第一処理室よりも被処理対象物の搬送方向下流側に設けられ、圧縮空気とともに投射材を噴射する噴射ノズルが設置された第二処理室と、を有する。【００２６】
請求項６に記載する本発明のショット処理装置によれば、第一処理室では、遠心式投射機によって投射材が投射されることで被処理対象物の表面が処理される。第一処理室で表面処理された被処理対象物は、第一処理室よりも被処理対象物の搬送方向下流側に設けられた第二処理室に搬送される。第二処理室には、圧縮空気とともに投射材を噴射する噴射ノズルが設置されている。よって、噴射ノズルから被処理対象物に向けて圧縮空気とともに投射材が噴射されれば、被処理対象物の表面がさらに処理される。【００２７】
請求項７に記載する本発明のショット処理装置は、請求項６記載の構成において、閉止状態で前記第一処理室と前記第二処理室との間の流通路を遮断する開閉可能な仕切扉が設けられている。【００２８】
請求項７に記載する本発明のショット処理装置によれば、開閉可能な仕切扉は、閉止状態で第一処理室と第二処理室との間の流通路を遮断する。よって、仕切扉が閉止されることで第一処理室と第二処理室とで同時に被処理対象物の表面処理をすることができる。
【発明の効果】
【００２９】
以上説明したように、本発明に係るショット処理装置によれば、大型の被処理対象物の全面を表面処理することができるという優れた効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】本発明の第１の実施形態に係るショットブラスト装置を示す正面図である。
【図２】図１の２−２線矢視図である。
【図３】図１の３−３線矢視図である。
【図４】本発明の第１の実施形態に係るショットブラスト装置を示す平面図である。
【図５】本発明の第１の実施形態に係るショットブラスト装置の出口扉の駆動部を示す図である。図５（Ａ）は正面図であり、図５（Ｂ）は側面図である。
【図６】本発明の第１の実施形態に係るショットブラスト装置における第二ブラスト室の内部を示す拡大平面図である。
【図７】本発明の第１の実施形態に係るショットブラスト装置における遠心式投射機による投射を説明するための模式的な平面図である。
【図８】本発明の第２の実施形態に係るショットブラスト装置において被処理対象物の搬送方向に見た遠心式投射機の配置を示す図である。
【図９】図８の９−９線矢視図である。
【図１０】本発明の第３の実施形態に係るショットブラスト装置において被処理対象物の搬送方向に見た遠心式投射機の配置を示す図である。
【図１１】図１０の１１−１１線矢視図である。
【発明を実施するための形態】
【００３１】
［第１の実施形態］
本発明の第１の実施形態に係るショット処理装置としてのショットブラスト装置について図１〜図７を用いて説明する。なお、これらの図において適宜示される矢印ＦＲは装置正面視の手前側を示しており、矢印ＵＰは装置上方側を示しており、矢印ＬＨは装置正面視の左側を示している。また、矢印Ｘは、被処理対象物Ｗの搬送方向を示している。
【００３２】
図１には、ショット処理装置としてのショットブラスト装置１０が正面図にて示されている。図１では、図中左側から図中右側へ向かう方向が被処理対象物Ｗの搬送方向Ｘとなっている。図２には、図１の２−２線矢視の側面図が示され、図３には、図１の３−３線矢視の側面図が示されている。また、図４には、ショットブラスト装置１０が平面図にて示されている。但し、図１では集塵機は省略されている。
【００３３】
（ショットブラスト装置の装置概要）
まず、ショットブラスト装置１０の装置概要について説明する。なお、本実施形態のショットブラスト装置１０では、大型の金属製品を被処理対象物Ｗとすることが可能なクレーン吊下げ式のショットブラスト装置とされている。図１に示されるように、ショットブラスト装置１０は、被処理対象物Ｗの搬送方向Ｘの上流側から順に、入口側エプロン室１４、第一処理室としての第一ブラスト室１６、出口側エプロン室１８、及び第二処理室としての第二ブラスト室２２を備えている。入口側エプロン室１４への搬入口には、入口扉１２が開閉可能に設けられている。出口側エプロン室１８と第二ブラスト室２２との間には、仕切扉としての中間扉２０が開閉可能に設けられている。中間扉２０は、閉止状態で第一ブラスト室１６と第二ブラスト室２２との間の流通路を遮断する。第二ブラスト室２２の搬出口には、出口扉２４が開閉可能に設けられている。
【００３４】
第一ブラスト室１６では、詳細後述する遠心式投射機４２によって投射材が投射される。すなわち、第一ブラスト室１６は、被処理対象物Ｗへの投射材の投射によって被処理対象物Ｗの表面加工（本実施形態では、スケール除去等の研掃処理、ショットブラスト処理）をなす部屋である。第一ブラスト室１６は、天井部１６Ａによって装置上方側の空間と隔成されると共に、装置背面側の第一側壁部１６Ｂ（図２参照）及び装置正面側の第二側壁部１６Ｃによって、搬送方向Ｘに対する左右両側の外部空間と隔成されている。また、第一ブラスト室１６の下方側に隣接する空間は、ホッパ部１７の内部空間とされている。
【００３５】
これに対して、第二ブラスト室２２は、被処理対象物Ｗへ圧縮空気とともに投射材が噴射されることによって被処理対象物Ｗの表面加工（本実施形態では、研掃処理、ショットブラスト処理）をなす部屋である。第二ブラスト室２２は、天井部２２Ａによって装置上方側の空間と隔成されると共に、装置背面側の第一側壁部２２Ｂ（図４参照）及び装置正面側の第二側壁部２２Ｃによって、搬送方向Ｘに対する左右両側の空間と隔成されている。また、第二ブラスト室２２の床面は底壁部２２Ｄによって構成されている。
【００３６】
入口側エプロン室１４の下方側には、投射材収集用のホッパ２６Ａが設けられ、ホッパ２６Ａの下方側には、投射材回収用の第一ベルトコンベヤ２６Ｃが設けられている。第一ベルトコンベヤ２６Ｃは、水平に配置されて図中左側から図中右側へ向かう方向を搬送方向とし、ホッパ２６Ａの直下範囲を超えて第一ブラスト室１６の搬送方向下流側の下方側まで延びている。
【００３７】
また、出口側エプロン室１８の下方側にはホッパ２８Ａが設けられ、第二ブラスト室２２の下方側にもホッパ２８Ｂが設けられている。ホッパ２８Ａ、２８Ｂは、ともに投射材収集用とされている。ホッパ２８Ａ、２８Ｂの下方側には、投射材回収用の第二ベルトコンベヤ２８Ｃが設けられている。第二ベルトコンベヤ２８Ｃは、水平に配置されて図中右側から図中左側へ向かう方向を搬送方向とし、ホッパ２８Ａの直下範囲及びホッパ２８Ｂの直下範囲を含む範囲に配置されると共に、第二ベルトコンベヤ２８Ｃの最下流側が第一ブラスト室１６の搬送方向下流側の下方側まで延びている。
【００３８】
第一ブラスト室１６の下方側においては、ホッパ部１７の下方側に第二ホッパ３０Ａが設けられている。第二ホッパ３０Ａの上端は、第一ベルトコンベヤ２６Ｃの最下流側（図中右側）に隣接配置されると共に、第二ベルトコンベヤ２８Ｃの最下流側（図中左側）に隣接配置されている。第二ホッパ３０Ａの下方側には、スクリューコンベヤ３０Ｂが配置されている。スクリューコンベヤ３０Ｂは、水平に配置されて装置前後方向（図１の紙面に垂直な方向）を長手方向としており、当該長手方向に沿った所定方向へ向けて投射材を搬送するようになっている。
【００３９】
スクリューコンベヤ３０Ｂの搬送方向下流側には、装置上下方向に延びるバケットエレベータ３２の下端部側が配置されている。バケットエレベータ３２は、スクリューコンベヤ３０Ｂから搬送された投射材を上方側へ向けて搬送するようになっている。バケットエレベータ３２の上部出口に隣接する位置にはセパレータ３４が設けられている。セパレータ３４は、バケットエレベータ３２の上部出口から排出された投射材を受け入れて、使用可能な投射材と使用不能な投射材等とに分級するようになっている。
【００４０】
セパレータ３４の下方側に隣接する位置にはスクリューコンベヤ３６が配置されている。スクリューコンベヤ３６は、セパレータ３４にて使用可能な投射材を排出する排出部に通じている。そして、スクリューコンベヤ３６は、水平に配置されて装置前後方向（図１の紙面に垂直な方向）を長手方向としており、当該長手方向に沿った装置背面側へ向けて投射材を搬送するようになっている。
【００４１】
図２に示されるように、スクリューコンベヤ３６の搬送方向下流側（図２の左側）には、オーバフローパイプ４４の上端部が接続されている。オーバフローパイプ４４の下端部は、投射材タンク４６に接続されている。これにより、余剰の投射材はスクリューコンベヤ３６からオーバフローパイプ４４を通過して投射材タンク４６に貯蔵される。
【００４２】
一方、図１に示されるように、スクリューコンベヤ３６の下方側には、タンクを介して複数の導入管３８が接続されている。これにより、導入管３８の上端開口に投射材が供給されるようになっている。導入管３８の下端部は、投射材供給部としての流量調整装置４０を介して遠心式投射機４２に接続されている。なお、本実施形態では、遠心式投射機４２は計十二台設置されており、これらは、図中では、符号４２Ａ、４２Ｂ、４２Ｃ、４２Ｄ、４２Ｅ、４２Ｆ、４２Ｇ、４２Ｈ、４２Ｉ、４２Ｊ、４２Ｋ、４２Ｌで示されるが、以下において、これらを区別することなく遠心式投射機を説明する場合には、これらの末尾を外した符号４２を用いて説明する。
【００４３】
導入管３８は、遠心式投射機４２への投射材供給用の配管とされている。流量調整装置４０は、遠心式投射機４２への投射材の供給用とされ、公知構造であるため詳細説明は省略するが、開閉及び開閉量の調整が可能な開閉ゲート（図示省略）を備えている。流量調整装置４０は、制御部８４（図中ではブロック化して図示）に接続されており（接続状態は図示省略）、開閉ゲートの作動（開閉及び開閉量の調整）が制御部８４によって制御されている。すなわち、流量調整装置４０は、前記開閉ゲートの作動によって、遠心式投射機４２に対して投射材の供給及び供給停止が可能とされると共に、遠心式投射機４２へ供給する投射材の流量を調整可能となっている。
【００４４】
遠心式投射機４２は、回転可能な羽根車（図示省略）を備え、羽根車の回転により投射材（ショット、本実施形態では一例として鋼球）に遠心力を付与することが可能とされている。そして、遠心式投射機４２は、前記羽根車の回転に伴って、遠心力で加速させた投射材を第一ブラスト室１６の搬送ライン（被処理対象物Ｗが搬送される搬送経路）側に向けて投射するようになっている。また、遠心式投射機４２によって投射された投射材は末広がり状に拡がって（図１、図２等の二点鎖線参照）被処理対象物Ｗに当る。なお、複数の遠心式投射機４２の配置構成については詳細後述する。
【００４５】
また、前述した入口側エプロン室１４、出口側エプロン室１８、及び第二ブラスト室２２の各部屋には、装置正面側及び装置背面側に吸出口４８が形成されている。吸出口４８はダクト５０を介して集塵機５２（図２参照）に接続されている。これにより、入口側エプロン室１４、出口側エプロン室１８、及び第二ブラスト室２２の各室内の粉塵がエアーと共に吸出口４８及びダクト５０を介して集塵機５２（図２参照）に回収されるようになっている。
【００４６】
図２に示されるように、集塵機５２にはダクト６２が設けられ、ダクト６２の先端部にはファン６４の吸気側に接続されている。ファン６４の排気側には、マフラー６６を介して排気ダクト６８が接続されている。ファン６４が作動した状態では、集塵機５２に回収された粉塵（ダスト）が集塵機５２でろ過され、ろ過された空気（清浄空気、クリーンエアー）がダクト６２、ファン６４、マフラー６６、及び排気ダクト６８を通過して排気されるようになっている。
【００４７】
集塵機５２の下部にはホッパ５４が設けられ、ホッパ５４の下方にはスクリューコンベヤ５６が水平に装置前後方向（図２の左右方向）に沿って配置されている。スクリューコンベヤ５６は、粉塵を装置手前側から装置奥側（図２の右側から左側）へ向けて搬送するようになっている。スクリューコンベヤ５６の搬送方向下流側には、ロータリーバルブ５８が設けられ、ロータリーバルブ５８の下方側にダストボックス６０が設置されている。これにより、ホッパ５４に流れた粉塵がスクリューコンベヤ５６でロータリーバルブ５８の側へ搬送されてダストボックス６０に破棄される。
【００４８】
図１〜図４に示されるように、ショットブラスト装置１０の上部には、レール７２が配置されている。レール７２は、装置左右方向を長手方向として水平に配置され（図１及び図４参照）、被処理対象物Ｗが搬送される搬送ラインに沿って当該搬送ラインの上方側に案内経路を形成している。図１及び図３に示されるように、このレール７２は、多数の支持部材によって支持されている。また、図２に示されるように、レール７２は、長手方向に直交する縦断面形状がＩ字形状に形成されている。
【００４９】
図２の部分拡大図に示されるように、レール７２には、走行機構７４が走行可能に搭載されている。走行機構７４は、一台設けられてもよいし、複数台設けられてもよい。走行機構７４は、レール７２の縦壁部の両側に配置される左右一対のローラ７４Ａを備えている。フレーム７４Ｂに固定されたモータ７４Ｍの回転軸の先端にはローラ７４Ａが回転可能に取り付けられており、レール７２上を移動可能にされている。フレーム７４Ｂにはローラ７４Ａを駆動するモータ７４Ｍが固定されている。これにより、走行機構７４は、モータ７４Ｍが作動することで、レール７２の長手方向に沿って（換言すれば、被処理対象物の搬送ラインに沿って）直進移動可能となっている。
【００５０】
この走行機構７４には、ホイスト（小型の巻上装置）７８が吊り下げ状態で取り付けられている。ホイスト７８はチェーン７８Ａを備え、このチェーン７８Ａの下端に被処理対象物Ｗを吊り下げるための吊下部材８０が取り付けられている。吊下部材８０の下端には被処理対象物Ｗの吊り下げ用としてフック部が設けられている。なお、本実施形態では、ホイスト７８及び吊下部材８０が、被処理対象物Ｗを吊り下げる吊下部７６を構成している。また、レール７２及び走行機構７４が、吊下部７６を被処理対象物Ｗの搬送ラインに沿って直進移動させる直進移動機構７０を構成している。
【００５１】
また、レール７２の所定位置には、位置検出用の位置検出センサ８２が設けられている。位置検出センサ８２は、被処理対象物Ｗにおける搬送方向の前側の端部及び搬送方向の後側の端部の通過を検出することが可能となっている。位置検出センサ８２には、公知のセンサが適用されている。位置検出センサ８２は、制御部８４と接続されている。制御部８４は、位置検出センサ８２の検出結果に基づいて、種々制御を行う。
【００５２】
具体的には、まず、制御部８４は、図４に示される入口扉１２、中間扉２０、出口扉２４を被処理対象物Ｗの搬送に合わせて順次開閉するように制御する。ここで、入口扉１２、中間扉２０、出口扉２４の開閉機構について簡単に説明する。
【００５３】
図３に示されるように、出口扉２４は、両開きスライド扉とされている。出口扉２４の上方側には、扉幅方向に延びる左右一対のレール８６が設けられている。図５（Ｂ）に示されるように、出口扉２４は、トロリー８５を介してレール８６に吊り下げ支持されている。図３に示されるように、閉止状態の出口扉２４の上方側となる天井部には、図中の両サイド側に、扉駆動用のモータ８８が取り付けられている。
【００５４】
図５（Ｂ）に示されるように、モータ８８には、天井部に設けられたチェーンホイール９０が接続されており、モータ８８の作動によりチェーンホイール９０が回転駆動される。図５（Ａ）及び図５（Ｂ）に示されるように、チェーンホイール９０には、ローラチェーン９２Ａが噛み合っている。ローラチェーン９２Ａには、アタッチメント９２Ｂが取り付けられており、出口扉２４の上端に取り付けられたローラチェーン９２Ａは、モータ８８及びチェーンホイール９０の回転力を出口扉２４の扉幅方向の直線運動に変換してアタッチメント９２Ｂを介して出口扉２４に伝える。すなわち、モータ８８の正転、逆転によって、出口扉２４が開閉するようになっている。
【００５５】
このモータ８８は、前述した制御部８４に接続されている。制御部８４は、図２に示される位置検出センサ８２の検出結果に基づいて、被処理対象物Ｗが出口扉２４に近付いていると判断した場合に出口扉２４を開くようにモータ８８（図５（Ｂ）参照）を制御し、被処理対象物Ｗが出口扉２４の間を通過したと判断した場合に出口扉２４を閉めるようにモータ８８（図５（Ｂ）参照）を制御する。
【００５６】
なお、図５（Ｂ）に示されるように、出口扉２４を吊り下げ支持して固定する際には、扉駆動用の噛み合わせを好適に設定するために、昇降用のボルト９３Ａによって出口扉２４の高さ位置を調整したうえで吊り下げ用の部材９３Ｂに出口扉２４をボルト９３Ｃで固定する。また、図４に示される入口扉１２及び中間扉２０も出口扉２４と同様の機構により開閉されるようになっている。
【００５７】
図１及び図４に示されるように、第二ブラスト室２２は、第一ブラスト室１６よりも被処理対象物Ｗの搬送方向下流側に設けられている。第二ブラスト室２２には、圧縮空気とともに投射材を噴射する噴射ノズル９４（エアーブラストノズルともいう。）が設置されている。噴射ノズル９４は、公知のエアーブラスト装置の一部を構成しており、配管を介して、投射材を貯蔵した加圧タンク（図示省略）及び圧縮エアを供給するコンプレッサ（図示省略）と接続されている。第二ブラスト室２２では、搬送された被処理対象物Ｗに表面処理の仕上がりの良くない箇所がある場合、作業者Ｐが被処理対象物Ｗの当該箇所へ向けて噴射ノズル９４を保持し、噴射ノズル９４から投射材を噴射させることで、被処理対象物Ｗの表面をさらにブラスト処理している。換言すれば、第二ブラスト室２２は、表面処理の修正用、仕上げ用の処理室として把握することができる。
【００５８】
第二ブラスト室２２には、装置背面側の第一側壁部２２Ｂ及び装置正面側の第二側壁部２２Ｃにそれぞれ作業者の出入り用の出入扉９６が設けられている。図４に示されるように、第二ブラスト室２２の天井部２２Ａには、複数の照明灯９８が配置されている。複数の照明灯９８の照明により第二ブラスト室２２内は明るく照らされ、作業者Ｐの作業環境が良好に確保される。なお、作業者Ｐは、宇宙服のようなブラスト処理作業用の防護服を着用し、防護服内へはフレッシュエアーが供給される。これにより、快適な作業が出来る環境としている。
【００５９】
図６には、第二ブラスト室２２の内部が拡大した平断面図にて示されている。第二ブラスト室２２の底壁部２２Ｄ（床面）には、その全面にグレーチング１００が敷設されている。グレーチング１００が敷設されることで、投射材の堆積が抑えられて作業環境が向上する。なお、図６では、グレーチング１００の下側の構成を図示するために、グレーチング１００の一部が外された状態で示されている。グレーチング１００の下には、グレーチング受け１０２が配置されている。グレーチング受け１０２が配置されることでグレーチング１００が強固に保持されている。
【００６０】
（遠心式投射機の配置）
次に、図１等に示される遠心式投射機４２の配置について説明する。図７には、遠心式投射機４２による投射を説明するための模式的な平面図が示されている。なお、図７では、図を見易くするために、図７にて模式的に示す遠心式投射機４２の丸の中の番号は、投射機ナンバー（例えば、第一投射機の場合は１）と一致させている。
【００６１】
図１及び図７に示されるように、本実施形態のショットブラスト装置１０における遠心式投射機４２は、投射方向中心線が、平面視で搬送方向斜め前側、平面視で搬送方向斜め後側、平面視で搬送方向斜め左側、平面視で搬送方向斜め右側、側面視で（搬送ラインの側方側から見て）斜め上側、及び側面視で（搬送ラインの側方側から見て）斜め下側からそれぞれ交わるように複数設置されている。以下、具体的に説明する。
【００６２】
第一ブラスト室１６における被処理対象物Ｗの搬送方向Ｘの上流側には、装置背面側の第一側壁部１６Ｂに第一投射機４２Ａ、装置正面側の第二側壁部１６Ｃに第二投射機４２Ｂ、装置上側の天井部１６Ａに第三投射機４２Ｃ、第四投射機４２Ｄ、装置下側のホッパ部１７に第五投射機４２Ｅ、第六投射機４２Ｆがそれぞれ設けられている。
【００６３】
装置正面視の図１では、第一投射機４２Ａは、第二投射機４２Ｂと装置前後方向（図１の紙面に垂直な方向）に重なる位置に配置されている。図７に示される第一投射機４２Ａは、投射方向中心線ＣＬ１が水平でかつ被処理対象物Ｗの搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め左側から４５°前後（３５°〜５５°）で交わるように設置されている。これに対して、第二投射機４２Ｂは、投射方向中心線ＣＬ２が水平でかつ被処理対象物Ｗの搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め右側から４５°前後（３５°〜５５°）で交わるように設置されている。
【００６４】
第三投射機４２Ｃは、被処理対象物Ｗの搬送方向に見てレール７２よりも左側に配置され、装置正面視の図１では、第四投射機４２Ｄと装置前後方向（図１の紙面に垂直な方向）に重なる位置に配置されている。図７に示される第三投射機４２Ｃは、投射方向中心線ＣＬ３が被処理対象物Ｗの搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め上側から４５°前後（３５°〜５５°）で交わるように設置されている。第四投射機４２Ｄは、被処理対象物Ｗの搬送方向に見てレール７２よりも右側に配置され、投射方向中心線ＣＬ４が被処理対象物Ｗの搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め上側から４５°前後（３５°〜５５°）で交わるように設置されている。
【００６５】
図７に示されるように、第五投射機４２Ｅは、被処理対象物Ｗの搬送方向に見てレール７２よりも左側に配置され、装置正面視の図１では、第六投射機４２Ｆと装置前後方向（図１の紙面に垂直な方向）に重なる位置に配置されている。図７に示される第五投射機４２Ｅは、投射方向中心線ＣＬ５が被処理対象物Ｗの搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め下側から４５°前後（３５°〜５５°）で交わるように設置されている。第六投射機４２Ｆは、被処理対象物Ｗの搬送方向に見てレール７２よりも右側に配置され、投射方向中心線ＣＬ６が被処理対象物Ｗの搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め下側から４５°前後（３５°〜５５°）で交わるように設置されている。
【００６６】
一方、図１及び図７に示されるように、第一ブラスト室１６における被処理対象物Ｗの搬送方向Ｘの下流側には、装置下側のホッパ部１７に第七投射機４２Ｇ、第八投射機４２Ｈ、装置上側の天井部１６Ａに第九投射機４２Ｉ、第十投射機４２Ｊ、装置背面側の第一側壁部１６Ｂに第十一投射機４２Ｋ、装置正面側の第二側壁部１６Ｃに第十二投射機４２Ｌがそれぞれ設けられている。
【００６７】
図７に示されるように、第七投射機４２Ｇは、被処理対象物Ｗの搬送方向に見てレール７２よりも左側に配置されている。第七投射機４２Ｇは、図２では、第五投射機４２Ｅと装置左右方向（図２の紙面に垂直な方向）に重なる位置に配置されている。また、第七投射機４２Ｇは、装置正面視の図１では、第八投射機４２Ｈと装置前後方向（図１の紙面に垂直な方向）に重なる位置に配置されている。図７に示される第七投射機４２Ｇは、投射方向中心線ＣＬ７が被処理対象物Ｗの搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め下側から４５°前後（３５°〜５５°）で交わるように設置されている。第八投射機４２Ｈは、被処理対象物Ｗの搬送方向に見てレール７２よりも右側に配置されている。第八投射機４２Ｈは、図２では、第六投射機４２Ｆと装置左右方向（図２の紙面に垂直な方向）に重なる位置に配置されている。図７に示される第八投射機４２Ｈは、投射方向中心線ＣＬ８が被処理対象物Ｗの搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め下側から４５°前後（３５°〜５５°）で交わるように設置されている。
【００６８】
第九投射機４２Ｉは、被処理対象物Ｗの搬送方向に見てレール７２よりも左側に配置され、装置正面視の図１では、第十投射機４２Ｊと装置前後方向（図１の紙面に垂直な方向）に重なる位置に配置されている。図７に示される第九投射機４２Ｉは、投射方向中心線ＣＬ９が被処理対象物Ｗの搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め上側から４５°前後（３５°〜５５°）で交わるように設置されている。第十投射機４２Ｊは、被処理対象物Ｗの搬送方向に見てレール７２よりも右側に配置されている。第十投射機４２Ｊは、投射方向中心線ＣＬ１０が被処理対象物Ｗの搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め上側から４５°前後（３５°〜５５°）で交わるように設置されている。
【００６９】
また、第十一投射機４２Ｋは、装置正面視の図１では、第十二投射機４２Ｌと装置前後方向（図１の紙面に垂直な方向）に重なる位置に配置されている。図７に示される第十一投射機４２Ｋは、投射方向中心線ＣＬ１１が水平でかつ被処理対象物Ｗの搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め左側から４５°前後（３５°〜５５°）で交わるように設置されている。また、第十二投射機４２Ｌは、投射方向中心線ＣＬ１２が水平でかつ被処理対象物Ｗの搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め右側から４５°前後（３５°〜５５°）で交わるように設置されている。
【００７０】
以上のように、計十二台の遠心式投射機４２は、被処理対象物Ｗの平面に対し切削力が増す入射角度となるように傾けられて設置されている。
【００７１】
また、本実施形態では、被処理対象物Ｗの搬送ラインにおいて複数の遠心式投射機４２の各々によって投射材が投射される投射ゾーンが当該搬送ラインに沿って複数（計六個）設定されている。
【００７２】
第一の投射ゾーンは、第一投射機４２Ａ及び第二投射機４２Ｂによって投射材が投射されるゾーンであり、搬送ラインにて投射方向中心線ＣＬ１、ＣＬ２を含む範囲に設定されている。第二の投射ゾーンは、第三投射機４２Ｃ及び第四投射機４２Ｄによって投射材が投射されるゾーンであり、搬送ラインにて投射方向中心線ＣＬ３、ＣＬ４を含む範囲に設定されている。第三の投射ゾーンは、第五投射機４２Ｅ及び第六投射機４２Ｆによって投射材が投射されるゾーンであり、搬送ラインにて投射方向中心線ＣＬ５、ＣＬ６を含む範囲に設定されている。
【００７３】
第四の投射ゾーンは、第七投射機４２Ｇ及び第八投射機４２Ｈによって投射材が投射されるゾーンであり、搬送ラインにて投射方向中心線ＣＬ７、ＣＬ８を含む範囲に設定されている。第五の投射ゾーンは、第九投射機４２Ｉ及び第十投射機４２Ｊによって投射材が投射されるゾーンであり、搬送ラインにて投射方向中心線ＣＬ９、ＣＬ１０を含む範囲に設定されている。第六の投射ゾーンは、第十一投射機４２Ｋ及び第十二投射機４２Ｌによって投射材が投射されるゾーンであり、搬送ラインにて投射方向中心線ＣＬ１１、ＣＬ１２を含む範囲に設定されている。
【００７４】
また、第一の投射ゾーンに対しては、搬送方向上流側に上流側検出部Ａ１が設けられると共に、搬送方向下流側に下流側検出部Ａ２が設けられている。第二の投射ゾーンに対しては、搬送方向上流側に上流側検出部Ｂ１が設けられると共に、搬送方向下流側に下流側検出部Ｂ２が設けられている。第三の投射ゾーンに対しては、搬送方向上流側に上流側検出部Ｃ１が設けられると共に、搬送方向下流側に下流側検出部Ｃ２が設けられている。
【００７５】
第四の投射ゾーンに対しては、搬送方向上流側に上流側検出部Ｄ１が設けられると共に、搬送方向下流側に下流側検出部Ｄ２が設けられている。第五の投射ゾーンに対しては、搬送方向上流側に上流側検出部Ｅ１が設けられると共に、搬送方向下流側に下流側検出部Ｅ２が設けられている。第六の投射ゾーンに対しては、搬送方向上流側に上流側検出部Ｆ１が設けられると共に、搬送方向下流側に下流側検出部Ｆ２が設けられている。
【００７６】
上流側検出部Ａ１、Ｂ１、Ｃ１、Ｄ１、Ｅ１、Ｆ１及び下流側検出部Ａ２、Ｂ２、Ｃ２、Ｄ２、Ｅ２、Ｆ２は、前述した位置検出センサ８２（図２参照）で構成されて制御部８４に接続されており（接続状態は図示省略）、被処理対象物Ｗの搬送方向の前側の端部及び搬送方向の後側の端部を検出するようになっている。制御部８４は、上流側検出部Ａ１、Ｂ１、Ｃ１、Ｄ１、Ｅ１、Ｆ１による検出結果及び下流側検出部Ａ２、Ｂ２、Ｃ２、Ｄ２、Ｅ２、Ｆ２による検出結果に基づいて、被処理対象物Ｗが投射ゾーンのいずれかの範囲内にあると判断した場合にのみ当該投射ゾーンに投射材を投射するように流量調整装置４０（図１参照）における開閉ゲートの作動を制御する。
【００７７】
（作用・効果）
次に、上記実施形態の作用及び効果について説明する。
【００７８】
図２に示されるように、本実施形態に係るショットブラスト装置１０では、吊下部７６が被処理対象物Ｗを吊り下げ、吊下部７６を直進移動機構７０が被処理対象物Ｗの搬送ラインに沿って直進移動させる。このとき、被処理対象物Ｗは、図４に示される入口扉１２が開けられることでショットブラスト装置１０の装置本体内に搬入され、入口側エプロン室１４を通って第一ブラスト室１６に搬入される。入口扉１２は、被処理対象物Ｗの搬入後に閉じられる。第一ブラスト室１６には遠心式投射機４２が設けられており、遠心式投射機４２が羽根車の回転に伴って搬送ライン側に向けて投射材を投射することで、被処理対象物Ｗがショットブラスト処理される。
【００７９】
ここで、図７に模式的に示されるように、遠心式投射機４２は、投射方向中心線が被処理対象物Ｗの搬送ラインに対して、水平、平面視で搬送方向斜め前側、平面視で搬送方向斜め後側、平面視で搬送方向斜め左側、平面視で搬送方向斜め右側、側面視で斜め上側、及び側面視で斜め下側からそれぞれ交わるように複数設置されている。このため、複数の遠心式投射機４２が被処理対象物Ｗに向けてその投射方向中心線が水平、平面視で搬送方向斜め前側、平面視で搬送方向斜め後側、平面視で搬送方向斜め左側、平面視で搬送方向斜め右側、側面視で斜め上側、及び側面視で斜め下側から投射材を投射する。よって、本実施形態では、大型の被処理対象物Ｗを旋回、反転、昇降等させなくても、複数の遠心式投射機４２が大型の被処理対象物Ｗの全面を表面処理することができる。以下、遠心式投射機４２による投射について具体的に説明する。
【００８０】
まず、被処理対象物Ｗが第一ブラスト室１６に搬入されると、第一投射機４２Ａ及び第二投射機４２Ｂによる投射材の投射が開始される。第一投射機４２Ａは、投射方向中心線ＣＬ１が水平でかつ被処理対象物Ｗの搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め左側から交わるように設置されているので、被処理対象物Ｗに向けて平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め左側から水平に投射材を投射する。第二投射機４２Ｂは、投射方向中心線ＣＬ２が水平でかつ被処理対象物Ｗの搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め右側から交わるように設置されているので、被処理対象物Ｗに向けて平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め右側から水平に投射材を投射する。
【００８１】
また、第一投射機４２Ａ及び第二投射機４２Ｂによって投射材が投射される第一の投射ゾーンに対して搬送方向上流側には上流側検出部Ａ１が設けられ、前記第一の投射ゾーンに対して搬送方向下流側には下流側検出部Ａ２が設けられている。上流側検出部Ａ１及び下流側検出部Ａ２は、被処理対象物Ｗの通過を検出する。そして、制御部８４は、上流側検出部Ａ１による検出結果及び下流側検出部Ａ２による検出結果に基づいて、被処理対象物Ｗが前記第一の投射ゾーンの範囲内にあると判断した場合に当該第一の投射ゾーンに投射材を投射するように、第一投射機４２Ａ及び第二投射機４２Ｂにそれぞれ接続される流量調整装置４０（図１等参照）の開閉ゲートを開くように制御する。また、制御部８４は、上流側検出部Ａ１による検出結果及び下流側検出部Ａ２による検出結果に基づいて、被処理対象物Ｗが前記第一の投射ゾーンの範囲内には存在しないと判断した場合に、第一投射機４２Ａ及び第二投射機４２Ｂにそれぞれ接続される流量調整装置４０（図１等参照）の開閉ゲートを閉じるように制御する。よって、第一投射機４２Ａ及び第二投射機４２Ｂによる無駄な投射を抑えることができる。
【００８２】
第一投射機４２Ａ及び第二投射機４２Ｂによる投射材の投射が開始された後に、第三投射機４２Ｃ及び第四投射機４２Ｄによる投射材の投射が開始される。第三投射機４２Ｃは、投射方向中心線ＣＬ３が被処理対象物Ｗの搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め上側から交わるように設置されているので、被処理対象物Ｗに向けて平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め上側から投射材を投射する。第四投射機４２Ｄは、投射方向中心線ＣＬ４が被処理対象物Ｗの搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め上側から交わるように設置されているので、被処理対象物Ｗに向けて平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め上側から投射材を投射する。
【００８３】
また、第三投射機４２Ｃ及び第四投射機４２Ｄによって投射材が投射される第二の投射ゾーンに対して搬送方向上流側には上流側検出部Ｂ１が設けられ、前記第二の投射ゾーンに対して搬送方向下流側には下流側検出部Ｂ２が設けられている。上流側検出部Ｂ１及び下流側検出部Ｂ２は、被処理対象物Ｗの通過を検出する。そして、制御部８４は、上流側検出部Ｂ１による検出結果及び下流側検出部Ｂ２による検出結果に基づいて、被処理対象物Ｗが前記第二の投射ゾーンの範囲内にあると判断した場合に当該第二の投射ゾーンに投射材を投射するように、第三投射機４２Ｃ及び第四投射機４２Ｄにそれぞれ接続される流量調整装置４０（図１等参照）の開閉ゲートを開くように制御する。また、制御部８４は、上流側検出部Ｂ１による検出結果及び下流側検出部Ｂ２による検出結果に基づいて、被処理対象物Ｗが前記第二の投射ゾーンの範囲内には存在しないと判断した場合に、第三投射機４２Ｃ及び第四投射機４２Ｄにそれぞれ接続される流量調整装置４０（図１等参照）の開閉ゲートを閉じるように制御する。よって、第三投射機４２Ｃ及び第四投射機４２Ｄによる無駄な投射を抑えることができる。
【００８４】
第三投射機４２Ｃ及び第四投射機４２Ｄによる投射材の投射が開始された後に、第五投射機４２Ｅ及び第六投射機４２Ｆによる投射材の投射が開始される。第五投射機４２Ｅは、投射方向中心線ＣＬ５が被処理対象物Ｗの搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め下側から交わるように設置されているので、被処理対象物Ｗに向けて平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め下側から投射材を投射する。第六投射機４２Ｆは、投射方向中心線ＣＬ６が被処理対象物Ｗの搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め下側から交わるように設置されているので、被処理対象物Ｗに向けて平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め下側から投射材を投射する。
【００８５】
また、第五投射機４２Ｅ及び第六投射機４２Ｆによって投射材が投射される第三の投射ゾーンに対して搬送方向上流側には上流側検出部Ｃ１が設けられ、前記第三の投射ゾーンに対して搬送方向下流側には下流側検出部Ｃ２が設けられている。上流側検出部Ｃ１及び下流側検出部Ｃ２は、被処理対象物Ｗの通過を検出する。そして、制御部８４は、上流側検出部Ｃ１による検出結果及び下流側検出部Ｃ２による検出結果に基づいて、被処理対象物Ｗが前記第三の投射ゾーンの範囲内にあると判断した場合に当該第三の投射ゾーンに投射材を投射するように、第五投射機４２Ｅ及び第六投射機４２Ｆにそれぞれ接続される流量調整装置４０（図１等参照）の開閉ゲートを開くように制御する。また、制御部８４は、上流側検出部Ｃ１による検出結果及び下流側検出部Ｃ２による検出結果に基づいて、被処理対象物Ｗが前記第三の投射ゾーンの範囲内には存在しないと判断した場合に、第五投射機４２Ｅ及び第六投射機４２Ｆにそれぞれ接続される流量調整装置４０（図１等参照）の開閉ゲートを閉じるように制御する。よって、第五投射機４２Ｅ及び第六投射機４２Ｆによる無駄な投射を抑えることができる。
【００８６】
第五投射機４２Ｅ及び第六投射機４２Ｆによる投射材の投射が開始された後に、第七投射機４２Ｇ及び第八投射機４２Ｈによる投射材の投射が開始される。第七投射機４２Ｇは、投射方向中心線ＣＬ７が被処理対象物Ｗの搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め下側から交わるように設置されているので、被処理対象物Ｗに向けて平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め下側から投射材を投射する。第八投射機４２Ｈは、投射方向中心線ＣＬ８が被処理対象物Ｗの搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め下側から交わるように設置されているので、被処理対象物Ｗに向けて平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め下側から投射材を投射する。
【００８７】
また、第七投射機４２Ｇ及び第八投射機４２Ｈによって投射材が投射される第四の投射ゾーンに対して搬送方向上流側には上流側検出部Ｄ１が設けられ、前記第四の投射ゾーンに対して搬送方向下流側には下流側検出部Ｄ２が設けられている。上流側検出部Ｄ１及び下流側検出部Ｄ２は、被処理対象物Ｗの通過を検出する。そして、制御部８４は、上流側検出部Ｄ１による検出結果及び下流側検出部Ｄ２による検出結果に基づいて、被処理対象物Ｗが前記第四の投射ゾーンの範囲内にあると判断した場合に当該第四の投射ゾーンに投射材を投射するように、第七投射機４２Ｇ及び第八投射機４２Ｈにそれぞれ接続される流量調整装置４０（図１等参照）の開閉ゲートを開くように制御する。また、制御部８４は、上流側検出部Ｄ１による検出結果及び下流側検出部Ｄ２による検出結果に基づいて、被処理対象物Ｗが前記第四の投射ゾーンの範囲内には存在しないと判断した場合に、第七投射機４２Ｇ及び第八投射機４２Ｈにそれぞれ接続される流量調整装置４０（図１等参照）の開閉ゲートを閉じるように制御する。よって、第七投射機４２Ｇ及び第八投射機４２Ｈによる無駄な投射を抑えることができる。
【００８８】
第七投射機４２Ｇ及び第八投射機４２Ｈによる投射材の投射が開始された後に、第九投射機４２Ｉ及び第十投射機４２Ｊによる投射材の投射が開始される。第九投射機４２Ｉは、投射方向中心線ＣＬ９が被処理対象物Ｗの搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め上側から交わるように設置されているので、被処理対象物Ｗに向けて平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め上側から投射材を投射する。第十投射機４２Ｊは、投射方向中心線ＣＬ１０が被処理対象物Ｗの搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め上側から交わるように設置されているので、被処理対象物Ｗに向けて平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め上側から投射材を投射する。
【００８９】
また、第九投射機４２Ｉ及び第十投射機４２Ｊによって投射材が投射される第五の投射ゾーンに対して搬送方向上流側には上流側検出部Ｅ１が設けられ、前記第五の投射ゾーンに対して搬送方向下流側には下流側検出部Ｅ２が設けられている。上流側検出部Ｅ１及び下流側検出部Ｅ２は、被処理対象物Ｗの通過を検出する。そして、制御部８４は、上流側検出部Ｅ１による検出結果及び下流側検出部Ｅ２による検出結果に基づいて、被処理対象物Ｗが前記第五の投射ゾーンの範囲内にあると判断した場合に当該第五の投射ゾーンに投射材を投射するように、第九投射機４２Ｉ及び第十投射機４２Ｊにそれぞれ接続される流量調整装置４０（図１等参照）の開閉ゲートを開くように制御する。また、制御部８４は、上流側検出部Ｅ１による検出結果及び下流側検出部Ｅ２による検出結果に基づいて、被処理対象物Ｗが前記第五の投射ゾーンの範囲内には存在しないと判断した場合に、第九投射機４２Ｉ及び第十投射機４２Ｊにそれぞれ接続される流量調整装置４０（図１等参照）の開閉ゲートを閉じるように制御する。よって、第九投射機４２Ｉ及び第十投射機４２Ｊによる無駄な投射を抑えることができる。
【００９０】
第九投射機４２Ｉ及び第十投射機４２Ｊによる投射材の投射が開始された後に、第十一投射機４２Ｋ及び第十二投射機４２Ｌによる投射材の投射が開始される。第十一投射機４２Ｋは、投射方向中心線ＣＬ１１が水平でかつ被処理対象物Ｗの搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め左側から交わるように設置されているので、被処理対象物Ｗに向けて平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め左側から投射材を水平に投射する。第十二投射機４２Ｌは、投射方向中心線ＣＬ１２が水平でかつ被処理対象物Ｗの搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め右側から交わるように設置されているので、被処理対象物Ｗに向けて平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め右側から投射材を水平に投射する。
【００９１】
また、第十一投射機４２Ｋ及び第十二投射機４２Ｌによって投射材が投射される第六の投射ゾーンに対して搬送方向上流側には上流側検出部Ｆ１が設けられ、前記第六の投射ゾーンに対して搬送方向下流側には下流側検出部Ｆ２が設けられている。上流側検出部Ｆ１及び下流側検出部Ｆ２は、被処理対象物Ｗの通過を検出する。そして、制御部８４は、上流側検出部Ｆ１による検出結果及び下流側検出部Ｆ２による検出結果に基づいて、被処理対象物Ｗが前記第六の投射ゾーンの範囲内にあると判断した場合に当該第六の投射ゾーンに投射材を投射するように、第十一投射機４２Ｋ及び第十二投射機４２Ｌにそれぞれ接続される流量調整装置４０（図１等参照）の開閉ゲートを開くように制御する。また、制御部８４は、上流側検出部Ｆ１による検出結果及び下流側検出部Ｆ２による検出結果に基づいて、被処理対象物Ｗが前記第六の投射ゾーンの範囲内には存在しないと判断した場合に、第十一投射機４２Ｋ及び第十二投射機４２Ｌにそれぞれ接続される流量調整装置４０（図１等参照）の開閉ゲートを閉じるように制御する。よって、第十一投射機４２Ｋ及び第十二投射機４２Ｌによる無駄な投射を抑えることができる。
【００９２】
また、本実施形態では、図４に示される第一ブラスト室１６で表面処理された被処理対象物Ｗが中間扉２０の直前まで搬送されると、中間扉２０が開き、被処理対象物Ｗが第二ブラスト室２２に搬送される。第二ブラスト室２２には、圧縮空気とともに投射材を噴射する噴射ノズル９４が設置されている。よって、噴射ノズル９４から被処理対象物Ｗに向けて圧縮空気とともに投射材が噴射されれば、被処理対象物Ｗの表面がさらに処理される。
【００９３】
より具体的には、第二ブラスト室２２では、中間扉２０及び出口扉２４が閉じられた状態で、被処理対象物Ｗが底壁部２２Ｄ（図６参照）に降ろされて接地面以外の部位の要仕上げ箇所（局部）にショットブラスト処理がなされ、その後、被処理対象物Ｗが吊り上げられて先の接地面の要仕上げ箇所（局部）にショットブラスト処理がなされる。第二ブラスト室２２でのショットブラスト処理は、作業者Ｐが被処理対象物Ｗの要仕上げ箇所へ向けて噴射ノズル９４を保持し、噴射ノズル９４から圧縮空気とともに投射材を噴射することでなされる。なお、第二ブラスト室２２で仕上げの処理がなされるのは、例えば、被処理対象物Ｗに穴や突起等がある場合である。
【００９４】
また、第一ブラスト室１６と第二ブラスト室２２との間の流通路は、中間扉２０が閉止されることで遮断されるので、中間扉２０が閉止されることで第一ブラスト室１６と第二ブラスト室２２とで同時に（並行して）被処理対象物Ｗの表面処理をすることができる。すなわち、無駄な待ち時間をなくすことができる。その後、出口扉２４が開けられて被処理対象物が第二ブラスト室２２から搬出された後、出口扉２４が閉じられることで、一連のショットブラスト処置が完了する。
【００９５】
以上説明したように、本発明に係るショットブラスト装置１０によれば、大型の被処理対象物Ｗの全面を表面処理することができる。
【００９６】
ここで、従来構造のショットブラスト装置と比較しながら、補足説明する。例えば、クレーン吊下げ式のショットブラスト装置であって、搬送ラインの側方の側壁に遠心式投射機が固定されかつ被処理対象物を旋回、反転、昇降、傾斜等させながら投射するような従来構造に係る装置では、熟練した作業者でないと被処理対象物の全面を表面処理するのが難しいという問題点がある。すなわち、このような従来構造に係る装置では、例えば、反転機にて被処理対象物を任意に傾斜等させながら昇降ホイストにて昇降させるといったことをするので、被処理対象物のセット（より具体的には、被処理対象物の吊り重心や反転時の安定性等を考慮した吊り下げ）及び反転位置出しが難しい。その結果、熟練した作業者でないと被処理対象物の全面をショットブラスト処理することが難しい。また、このような従来構造に係る装置を用いて被処理対象物の全面をショットブラスト処理すると、無駄投射が非常に多くなってしまう問題点もある。これに対して、本実施形態では、熟練した作業者が操作しなくても、無駄な投射を抑えつつ、大型の被処理対象物Ｗの全面を表面処理することができる。
【００９７】
また、前記の従来構造に係る装置では、天井面の反転用チェーンスリングが反転角度により移動するため、被処理対象物の搬送方向における天井シールとそれに直交する方向の天井シールが必要となり、シール構造が複雑となる。これに対して、本実施形態では、そのようなシール構造の複雑化といった問題も生じない。
【００９８】
［第２の実施形態］
次に、本発明の第２の実施形態に係るショット処理装置としてのショットブラスト装置１１０について、図８及び図９を用いて説明する。図８には、被処理対象物Ｗの搬送方向に見た遠心式投射機４２の配置が示されており、図９には、図８の９−９線矢視図が示されている。なお、第２の実施形態は、遠心式投射機４２として、第一投射機４２Ｍ、第二投射機４２Ｎ、第三投射機４２Ｏ、第四投射機４２Ｐ、第五投射機４２Ｑ、第六投射機４２Ｒ、第七投射機４２Ｓ、及び第八投射機４２Ｔの八台を設置した点が特徴であり、他の構成は、第１の実施形態とほぼ同様の構成となっている。よって、第１の実施形態と実質的に同様の構成部については、同一符号を付して説明を省略する。
【００９９】
図８に示されるように、第一ブラスト室１６において室内空間と装置上方側の空間とを隔成する天井部１６Ｄは、被処理対象物Ｗの搬送ラインと同一平面における搬送方向と直交する部分の幅が被処理対象物Ｗの搬送方向と直交する中央部の幅よりも狭く設定されている。
【０１００】
ショットブラスト装置１１０における遠心式投射機４２は、平面視で搬送方向斜め前側、平面視で搬送方向斜め後側、平面視で搬送方向斜め左側、平面視で搬送方向斜め右側、側面視で（搬送ラインの側方側から見て）斜め上側、及び側面視で（搬送ラインの側方側から見て）斜め下側からそれぞれ交わるように複数設置されている。以下、具体的に説明する。
【０１０１】
図８及び図９に示されるように、第一ブラスト室１６における被処理対象物Ｗの搬送方向Ｘの上流側には、装置下側のホッパ部１７に第一投射機４２Ｍ及び第三投射機４２Ｏが設けられると共に、装置上側の天井部１６Ｄに第二投射機４２Ｎ及び第四投射機４２Ｐが設けられている。
【０１０２】
装置下側の第一投射機４２Ｍは、被処理対象物Ｗの搬送方向に見て搬送幅方向左側に配置され、装置正面視の図９では、第三投射機４２Ｏと装置前後方向（図９の紙面に垂直な方向）に重なる位置に配置されている。図８に示される第一投射機４２Ｍは、投射方向中心線が被処理対象物Ｗの搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め下側から４５°前後（３５°〜５５°）で交わるように設置されている。
【０１０３】
装置上側の第二投射機４２Ｎは、被処理対象物Ｗの搬送方向に見て搬送幅方向左側に配置され、装置正面視の図９では、第四投射機４２Ｐと装置前後方向（図９の紙面に垂直な方向）に重なる位置に配置されている。図８に示される第二投射機４２Ｎは、投射方向中心線が被処理対象物Ｗの搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め上側から４５°前後（３５°〜５５°）で交わるように設置されている。
【０１０４】
装置下側の第三投射機４２Ｏは、被処理対象物Ｗの搬送方向に見て搬送幅方向右側に配置されている。第三投射機４２Ｏは、投射方向中心線が被処理対象物Ｗの搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め下側から４５°前後（３５°〜５５°）で交わるように設置されている。
【０１０５】
装置上側の第四投射機４２Ｐは、被処理対象物Ｗの搬送方向に見て搬送幅方向右側に配置されている。第四投射機４２Ｐは、投射方向中心線が被処理対象物Ｗの搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め上側から４５°前後（３５°〜５５°）で交わるように設置されている。
【０１０６】
図８及び図９に示されるように、第一ブラスト室１６における被処理対象物Ｗの搬送方向Ｘの下流側には、装置下側のホッパ部１７に第五投射機４２Ｑ及び第七投射機４２Ｓが設けられると共に、装置上側の天井部１６Ｄに第六投射機４２Ｒ及び第八投射機４２Ｔが設けられている。
【０１０７】
装置下側の第五投射機４２Ｑは、被処理対象物Ｗの搬送方向に見て搬送幅方向左側に配置されている。第五投射機４２Ｑは、被処理対象物Ｗの搬送方向に見た図８では、第一投射機４２Ｍと装置左右方向（図８の紙面に垂直な方向）に重なる位置に配置され、装置正面視の図９では、第七投射機４２Ｓと装置前後方向（図９の紙面に垂直な方向）に重なる位置に配置されている。第五投射機４２Ｑは、投射方向中心線が被処理対象物Ｗの搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め下側から４５°前後（３５°〜５５°）で交わるように設置されている。
【０１０８】
装置上側の第六投射機４２Ｒは、被処理対象物Ｗの搬送方向に見て搬送幅方向左側に配置されている。第六投射機４２Ｒは、被処理対象物Ｗの搬送方向に見た図８では、第二投射機４２Ｎと装置左右方向（図８の紙面に垂直な方向）に重なる位置に配置され、装置正面視の図９では、第八投射機４２Ｔと装置前後方向（図９の紙面に垂直な方向）に重なる位置に配置されている。第六投射機４２Ｒは、投射方向中心線が被処理対象物Ｗの搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め上側から４５°前後（３５°〜５５°）で交わるように設置されている。
【０１０９】
装置下側の第七投射機４２Ｓは、被処理対象物Ｗの搬送方向に見て搬送幅方向右側に配置されている。第七投射機４２Ｓは、被処理対象物Ｗの搬送方向に見た図８では、第三投射機４２Ｏと装置左右方向（図８の紙面に垂直な方向）に重なる位置に配置されている。第七投射機４２Ｓは、投射方向中心線が被処理対象物Ｗの搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め下側から４５°前後（３５°〜５５°）で交わるように設置されている。
【０１１０】
装置上側の第八投射機４２Ｔは、被処理対象物Ｗの搬送方向に見て搬送幅方向右側に配置されている。第八投射機４２Ｔは、被処理対象物Ｗの搬送方向に見た図８では、第四投射機４２Ｐと装置左右方向（図８の紙面に垂直な方向）に重なる位置に配置されている。第八投射機４２Ｔは、投射方向中心線が被処理対象物Ｗの搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め上側から４５°前後（３５°〜５５°）で交わるように設置されている。
【０１１１】
被処理対象物Ｗの搬送ラインにおいて複数の遠心式投射機４２の各々によって投射材が投射される投射ゾーンが当該搬送ラインに沿って複数（本実施形態では一例として上流側と下流側の計二個）設定されている。また、第１の実施形態と同様に、複数の投射ゾーンに対してそれぞれ搬送方向上流側には、上流側検出部（図示省略）が設けられると共に、複数の投射ゾーンに対してそれぞれ搬送方向下流側には、下流側検出部（図示省略）が設けられている。前記上流側検出部及び前記下流側検出部は、被処理対象物Ｗの通過を検出する。また、第１の実施形態と同様に、制御部８４は、前記上流側検出部による検出結果及び前記下流側検出部による検出結果に基づいて、被処理対象物Ｗが投射ゾーンのいずれかの範囲内にあると判断した場合にのみ当該投射ゾーンに投射材を投射するように流量調整装置４０の開閉ゲートの作動を制御する。
【０１１２】
（作用・効果）
次に、上記実施形態の作用及び効果について説明する。
【０１１３】
第一投射機４２Ｍは、投射方向中心線が被処理対象物Ｗの搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め下側から交わるように設置されているので、被処理対象物Ｗに向けて平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め下側から投射材を投射する。第二投射機４２Ｎは、投射方向中心線が被処理対象物Ｗの搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め上側から交わるように設置されているので、被処理対象物Ｗに向けて平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め上側から投射材を投射する。
【０１１４】
第三投射機４２Ｏは、投射方向中心線が被処理対象物Ｗの搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め下側から交わるように設置されているので、被処理対象物Ｗに向けて平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め下側から投射材を投射する。第四投射機４２Ｐは、投射方向中心線が被処理対象物Ｗの搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め上側から交わるように設置されているので、被処理対象物Ｗに向けて平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め上側から投射材を投射する。
【０１１５】
第五投射機４２Ｑは、投射方向中心線が被処理対象物Ｗの搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め下側から交わるように設置されているので、被処理対象物Ｗに向けて平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め下側から投射材を投射する。第六投射機４２Ｒは、投射方向中心線が被処理対象物Ｗの搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め上側から交わるように設置されているので、被処理対象物Ｗに向けて平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め上側から投射材を投射する。
【０１１６】
第七投射機４２Ｓは、投射方向中心線が被処理対象物Ｗの搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め下側から交わるように設置されているので、被処理対象物Ｗに向けて平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め下側から投射材を投射する。第八投射機４２Ｔは、投射方向中心線が被処理対象物Ｗの搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め上側から交わるように設置されているので、被処理対象物Ｗに向けて平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め上側から投射材を投射する。
【０１１７】
以上説明したように、本実施形態に係るショットブラスト装置１１０によれば、大型の被処理対象物Ｗの全面を表面処理することができる。
【０１１８】
［第３の実施形態］
次に、本発明の第３の実施形態に係るショット処理装置としてのショットブラスト装置１２０について、図１０及び図１１を用いて説明する。図１０には、被処理対象物Ｗの搬送方向に見た遠心式投射機４２の配置が示されており、図１１には、図１０の１１−１１線矢視図が示されている。なお、第３の実施形態は、遠心式投射機４２として第一投射機４２Ｕ、第二投射機４２Ｖ、第三投射機４２Ｗ、第四投射機４２Ｘ、第五投射機４２Ｙ、及び第六投射機４２Ｚの六台設置した点が特徴であり、他の構成は、第１、第２の実施形態とほぼ同様の構成となっている。よって、第１、第２の実施形態と実質的に同様の構成部については、同一符号を付して説明を省略する。
【０１１９】
ショットブラスト装置１２０における遠心式投射機４２は、平面視で搬送方向斜め前側、平面視で搬送方向斜め後側、平面視で搬送方向斜め左側、平面視で搬送方向斜め右側、側面視で（搬送ラインの側方側から見て）斜め上側、及び側面視で（搬送ラインの側方側から見て）斜め下側からそれぞれ交わるように複数設置されている。以下、具体的に説明する。
【０１２０】
図１０及び図１１に示されるように、第一ブラスト室１６における被処理対象物Ｗの搬送方向Ｘの上流側には、装置下側のホッパ部１７に第一投射機４２Ｕが設けられると共に、装置上側の天井部１６Ｄに第二投射機４２Ｖ及び第三投射機４２Ｗが設けられている。
【０１２１】
装置下側の第一投射機４２Ｕは、投射方向中心線が被処理対象物Ｗの搬送ラインに対して側面視で搬送方向斜め後側かつ側面視で斜め下側から４５°前後（３５°〜５５°）で交わるようになおかつ平面視で被処理対象物Ｗの搬送ラインに沿いかつ搬送ラインと重なる方向に設置されている。
【０１２２】
装置上側の第二投射機４２Ｖは、被処理対象物Ｗの搬送方向に見て搬送幅方向左側に配置され、装置正面視の図１１では、第三投射機４２Ｗと装置前後方向（図１１の紙面に垂直な方向）に重なる位置に配置されている。図１０に示される第二投射機４２Ｖは、投射方向中心線が被処理対象物Ｗの搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め上側から４５°前後（３５°〜５５°）で交わるように設置されている。
【０１２３】
装置上側の第三投射機４２Ｗは、被処理対象物Ｗの搬送方向に見て搬送幅方向右側に配置されている。第三投射機４２Ｗは、投射方向中心線が被処理対象物Ｗの搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め上側から４５°前後（３５°〜５５°）で交わるように設置されている。
【０１２４】
図１０及び図１１に示されるように、第一ブラスト室１６における被処理対象物Ｗの搬送方向Ｘの下流側には、装置下側のホッパ部１７に第四投射機４２Ｘが設けられると共に、装置上側の天井部１６Ｄに第五投射機４２Ｙ及び第六投射機４２Ｚが設けられている。
【０１２５】
装置下側の第四投射機４２Ｘは、被処理対象物Ｗの搬送方向に見た図１０では、第一投射機４２Ｕと装置左右方向（図１０の紙面に垂直な方向）に重なる位置に配置されている。図１１に示される第四投射機４２Ｘは、投射方向中心線が被処理対象物Ｗの搬送ラインに対して側面視で搬送方向斜め前側かつ側面視で斜め下側から４５°前後（３５°〜５５°）で交わるようになおかつ平面視で被処理対象物Ｗの搬送ラインに沿いかつ搬送ラインと重なる方向に設置されている。
【０１２６】
図１０及び図１１に示されるように、装置上側の第五投射機４２Ｙは、被処理対象物Ｗの搬送方向に見て搬送幅方向左側に配置され、被処理対象物Ｗの搬送方向に見た図１０では、第二投射機４２Ｖと装置左右方向（図１０の紙面に垂直な方向）に重なる位置に配置され、装置正面視の図１１では、第六投射機４２Ｚと装置前後方向（図１１の紙面に垂直な方向）に重なる位置に配置されている。第五投射機４２Ｙは、投射方向中心線が被処理対象物Ｗの搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め上側から４５°前後（３５°〜５５°）で交わるように設置されている。
【０１２７】
装置上側の第六投射機４２Ｚは、被処理対象物Ｗの搬送方向に見て搬送幅方向右側に配置され、被処理対象物Ｗの搬送方向に見た図１０では、第三投射機４２Ｗと装置左右方向（図１０の紙面に垂直な方向）に重なる位置に配置されている。第六投射機４２Ｚは、投射方向中心線が被処理対象物Ｗの搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め上側から交わるように設置されている。
【０１２８】
被処理対象物Ｗの搬送ラインにおいて複数の遠心式投射機４２の各々によって投射材が投射される投射ゾーンが当該搬送ラインに沿って複数（本実施形態では一例として上流側と下流側の計二個）設定されている。また、第１、第２の実施形態と同様に、複数の投射ゾーンに対してそれぞれ搬送方向上流側には、上流側検出部（図示省略）が設けられると共に、複数の投射ゾーンに対してそれぞれ搬送方向下流側には、下流側検出部（図示省略）が設けられている。前記上流側検出部及び前記下流側検出部は、被処理対象物Ｗの通過を検出する。また、第１、第２の実施形態と同様に、制御部８４は、前記上流側検出部による検出結果及び前記下流側検出部による検出結果に基づいて、被処理対象物Ｗが投射ゾーンのいずれかの範囲内にあると判断した場合にのみ当該投射ゾーンに投射材を投射するように流量調整装置４０の開閉ゲートの作動を制御する。
【０１２９】
（作用・効果）
次に、上記実施形態の作用及び効果について説明する。
【０１３０】
図１０及び図１１に示される第一投射機４２Ｕは、投射方向中心線が被処理対象物Ｗの搬送ラインに対して側面視で搬送方向斜め後側かつ側面視で斜め下側から交わるように、なおかつ平面視で搬送ラインに沿いかつ搬送ラインと重なる方向に設置されているので、被処理対象物Ｗに向けて側面視で搬送方向斜め後側かつ側面視で斜め下側から投射材を投射する。第二投射機４２Ｖは、投射方向中心線が被処理対象物Ｗの搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め上側から交わるように設置されているので、被処理対象物Ｗに向けて平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め上側から投射材を投射する。第三投射機４２Ｗは、投射方向中心線が被処理対象物Ｗの搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め上側から交わるように設置されているので、被処理対象物Ｗに向けて平面視で搬送方向斜め後側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め上側から投射材を投射する。
【０１３１】
第四投射機４２Ｘは、投射方向中心線が被処理対象物Ｗの搬送ラインに対して側面視で搬送方向斜め前側かつ側面視で斜め下側から交わるようになおかつ平面視で被処理対象物Ｗの搬送ラインに沿いかつ搬送ラインと重なる方向に設置されているので、被処理対象物Ｗに向けて側面視で搬送方向斜め前側かつ側面視で斜め下側から投射材を投射する。第五投射機４２Ｙは、投射方向中心線が被処理対象物Ｗの搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め上側から交わるように設置されているので、被処理対象物Ｗに向けて平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め左側かつ側面視で斜め上側から投射材を投射する。第六投射機４２Ｚは、投射方向中心線が被処理対象物Ｗの搬送ラインに対して平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め上側から交わるように設置されているので、被処理対象物Ｗに向けて平面視で搬送方向斜め前側かつ平面視で搬送方向斜め右側かつ側面視で斜め上側から投射材を投射する。
【０１３２】
以上説明したように、本実施形態に係るショットブラスト装置１２０によれば、大型の被処理対象物Ｗの全面を表面処理することができる。
【０１３３】
［実施形態の補足説明］
なお、上記実施形態では、ショット処理装置がショットブラスト装置１０、１１０、１２０とされているが、ショット処理装置は、ショットピーニング装置であってもよいし、ショットブラスト装置兼ショットピーニング装置であってもよい。
【０１３４】
また、上記実施形態の変形例として、下流側検出部を設けない構成とし、制御部は、上流側検出部による検出結果及び吊下部の移動速度に基づいて、被処理対象物が前記投射ゾーンのいずれかの範囲内にあると判断した場合にのみ当該投射ゾーンに投射材を投射するように投射材供給部を制御する構成でもよい。
【０１３５】
また、他の変形例として、下流側検出部を設けず、かつ搬送方向の最上流側に設定された投射ゾーンの搬送方向上流側にのみ検出部（被処理対象物の通過を検出する構成部）を設ける構成とし、制御部は、前記検出部による検出結果及び吊下部の移動速度に基づいて、被処理対象物が前記投射ゾーンのいずれかの範囲内にあると判断した場合にのみ当該投射ゾーンに投射材を投射するように投射材供給部を制御する構成でもよい。
【０１３６】
また、上記実施形態の変形例として、第二ブラスト室２２（第二処理室）を設けない構成も採り得る。
【０１３７】
また、上記実施形態では、図１等に示される中間扉２０（仕切扉）が設けられているが、処理量が少ない場合には、中間扉（仕切扉）を設けない構成も可能である。また、上記実施形態の出口扉２４を設けずに、ショット処理後に被処理対象物の搬送方向を搬入時とは反対の方向にして搬入口の側から被処理対象物を搬出する構成としてもよい。また、入口扉１２、中間扉２０（仕切扉）、出口扉２４の少なくともいずれかに代えて、二重又は三重の所謂ゴム暖簾を配置してもよい。
【０１３８】
また、上記実施形態の変形例として、第一ブラスト室１６に搬入された被処理対象物Ｗの高さ位置を変えて第一ブラスト室１６の中を複数回通過させるような構成を採ってもよい。また、被処理対象物Ｗを任意の位置で停止又は（通常搬送速度よりも低速の）低速移動させ、任意の研掃の仕上がりを選択させるようにしてもよい。さらに、投射の停止を被処理対象物の任意位置で行なうことで、必要でない箇所の投射をなくすような方法を採用してもよい。
【０１３９】
なお、上記実施形態及び上述の複数の変形例は、適宜組み合わされて実施可能である。
【０１４０】
以上、本発明の一例について説明したが、本発明は、上記に限定されるものでなく、上記以外にも、その主旨を逸脱しない範囲内において種々変形して実施可能であることは勿論である。
【０１４１】
この出願は、日本国で２０１３年１月３０日に出願された特願２０１３―０１５６７２号に基づいており、その内容は本出願の内容として、その一部を形成する。
また、本発明は本明細書の詳細な説明により更に完全に理解できるであろう。しかしながら、詳細な説明および特定の実施例は、本発明の望ましい実施の形態であり、説明の目的のためにのみ記載されているものである。この詳細な説明から、種々の変更、改変が、当業者にとって明らかだからである。
出願人は、記載された実施の形態のいずれをも公衆に献上する意図はなく、開示された改変、代替案のうち、特許請求の範囲内に文言上含まれないかもしれないものも、均等論下での発明の一部とする。
本明細書あるいは請求の範囲の記載において、名詞及び同様な指示語の使用は、特に指示されない限り、または文脈によって明瞭に否定されない限り、単数および複数の両方を含むものと解釈すべきである。本明細書中で提供されたいずれの例示または例示的な用語（例えば、「等」）の使用も、単に本発明を説明し易くするという意図であるに過ぎず、特に請求の範囲に記載しない限り本発明の範囲に制限を加えるものではない。
【符号の説明】
【０１４２】
１０    ショットブラスト装置（ショット処理装置）
１６    第一ブラスト室（第一処理室）
２０    中間扉（仕切扉）
２２    第二ブラスト室（第二処理室）
４０    流量調整装置（投射材供給部）
４２Ａ  第一投射機（遠心式投射機）
４２Ｂ  第二投射機（遠心式投射機）
４２Ｃ  第三投射機（遠心式投射機）
４２Ｄ  第四投射機（遠心式投射機）
４２Ｅ  第五投射機（遠心式投射機）
４２Ｆ  第六投射機（遠心式投射機）
４２Ｇ  第七投射機（遠心式投射機）
４２Ｈ  第八投射機（遠心式投射機）
４２Ｉ  第九投射機（遠心式投射機）
４２Ｊ  第十投射機（遠心式投射機）
４２Ｋ  第十一投射機（遠心式投射機）
４２Ｌ  第十二投射機（遠心式投射機）
４２Ｍ  第一投射機（遠心式投射機）
４２Ｎ  第二投射機（遠心式投射機）
４２Ｏ  第三投射機（遠心式投射機）
４２Ｐ  第四投射機（遠心式投射機）
４２Ｑ  第五投射機（遠心式投射機）
４２Ｒ  第六投射機（遠心式投射機）
４２Ｓ  第七投射機（遠心式投射機）
４２Ｔ  第八投射機（遠心式投射機）
４２Ｕ  第一投射機（遠心式投射機）
４２Ｖ  第二投射機（遠心式投射機）
４２Ｗ  第三投射機（遠心式投射機）
４２Ｘ  第四投射機（遠心式投射機）
４２Ｙ  第五投射機（遠心式投射機）
４２Ｚ  第六投射機（遠心式投射機）
７０    直進移動機構
７６    吊下部
８４    制御部
９４    噴射ノズル
１１０  ショットブラスト装置（ショット処理装置）
１２０  ショットブラスト装置（ショット処理装置）
Ａ１、Ｂ１、Ｃ１、Ｄ１、Ｅ１、Ｆ１    上流側検出部
Ａ２、Ｂ２、Ｃ２、Ｄ２、Ｅ２、Ｆ２    下流側検出部
ＣＬ１、ＣＬ２、ＣＬ３、ＣＬ４、ＣＬ５、ＣＬ６、ＣＬ７、ＣＬ８、ＣＬ９、ＣＬ１０、ＣＬ１１、ＣＬ１２    投射方向中心線
Ｗ    被処理対象物
【図１】
2014119136.tif 000003
【図２】
2014119136.tif 000004
【図３】
2014119136.tif 000005
【図４】
2014119136.tif 000006
【図５】
2014119136.tif 000007
【図６】
2014119136.tif 000008
【図７】
2014119136.tif 000009
【図８】
2014119136.tif 000010
【図９】
2014119136.tif 000011
【図１０】
2014119136.tif 000012
【図１１】
2014119136.tif 000013
【国際調査報告】
2014119136.tif 000014
2014119136.tif 000015
2014119136.tif 000016
2014119136.tif 000017