(57)【要約】このレーザビーム制御装置は、ガイドレーザ装置と、ガイドレーザ装置から出力されたガイドレーザビームの光路に配置されたガイドレーザビーム波面調節器と、レーザシステムから出力されたレーザビーム及びガイドレーザビーム波面調節器から出力されたガイドレーザビームの進行方向を互いに実質的に一致させるように構成されたビーム結合器と、ビーム結合器から出力されたレーザビーム及びガイドレーザビームの両方の光路に配置された両ビーム波面調節器と、両ビーム波面調節器から出力されたレーザビーム及びガイドレーザビームの両方の光路に配置されたビームモニタと、レーザビーム及びガイドレーザビームの両方についてのビームモニタによる検出結果に基づいてガイドレーザビーム波面調節器及び両ビーム波面調節器を制御するように構成されたコントローラと、を備えてもよい。
2014097811.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガイドレーザビームを出力するガイドレーザ装置と、
前記ガイドレーザ装置から出力されたガイドレーザビームの光路に配置されたガイドレーザビーム波面調節器と、
レーザシステムから出力されたレーザビームの進行方向及び前記ガイドレーザビーム波面調節器から出力されたガイドレーザビームの進行方向を互いに実質的に一致させるように構成されたビーム結合器と、
前記ビーム結合器から出力されたレーザビーム及び前記ビーム結合器から出力されたガイドレーザビームの両方の光路に配置された両ビーム波面調節器と、
前記両ビーム波面調節器から出力されたレーザビーム及び前記両ビーム波面調節器から出力されたガイドレーザビームの両方の光路に配置されたビームモニタと、
前記両ビーム波面調節器から出力されたレーザビーム及び前記両ビーム波面調節器から出力されたガイドレーザビームの両方についての前記ビームモニタによる検出結果に基づいて前記ガイドレーザビーム波面調節器及び前記両ビーム波面調節器を制御するように構成されたコントローラと、
を備えるレーザビーム制御装置。
【請求項２】
前記コントローラは、前記両ビーム波面調節器から出力されたレーザビーム及び前記両ビーム波面調節器から出力されたガイドレーザビームの両方についての前記ビームモニタによる検出結果に基づいて前記ガイドレーザビーム波面調節器を制御し、前記両ビーム波面調節器から出力されたガイドレーザビームについての前記ビームモニタによる検出結果に基づいて前記両ビーム波面調節器を制御するように構成された、請求項１記載のレーザビーム制御装置。
【請求項３】
前記コントローラは、前記両ビーム波面調節器から出力されたレーザビーム及び前記両ビーム波面調節器から出力されたガイドレーザビームの両方についての前記ビームモニタによる波面の検出結果がほぼ一致するように前記ガイドレーザビーム波面調節器を制御し、その後、前記両ビーム波面調節器から出力されたガイドレーザビームについての前記ビームモニタによる波面の検出結果が所望の結果となるように前記両ビーム波面調節器を制御するように構成された、請求項１記載のレーザビーム制御装置。
【請求項４】
ガイドレーザビームを出力するガイドレーザ装置と、
レーザシステムから出力されたレーザビームの光路に配置されたレーザビーム波面調節器と、
前記レーザビーム波面調節器から出力されたレーザビームの進行方向及び前記ガイドレーザ装置から出力されたガイドレーザビームの進行方向を互いに実質的に一致させるように構成されたビーム結合器と、
前記ビーム結合器から出力されたレーザビーム及び前記ビーム結合器から出力されたガイドレーザビームの両方の光路に配置された両ビーム波面調節器と、
前記両ビーム波面調節器から出力されたレーザビーム及び前記両ビーム波面調節器から出力されたガイドレーザビームの両方の光路に配置されたビームモニタと、
前記両ビーム波面調節器から出力されたレーザビーム及び前記両ビーム波面調節器から出力されたガイドレーザビームの両方についての前記ビームモニタによる検出結果に基づいて前記レーザビーム波面調節器及び前記両ビーム波面調節器を制御するように構成されたコントローラと、
を備えるレーザビーム制御装置。
【請求項５】
前記コントローラは、前記両ビーム波面調節器から出力されたレーザビーム及び前記両ビーム波面調節器から出力されたガイドレーザビームの両方についての前記ビームモニタによる検出結果に基づいて前記レーザビーム波面調節器を制御し、前記両ビーム波面調節器から出力されたガイドレーザビームについての前記ビームモニタによる検出結果に基づいて前記両ビーム波面調節器を制御するように構成された、請求項４記載のレーザビーム制御装置。
【請求項６】
前記コントローラは、前記両ビーム波面調節器から出力されたレーザビーム及び前記両ビーム波面調節器から出力されたガイドレーザビームの両方についての前記ビームモニタによる波面の検出結果がほぼ一致するように前記レーザビーム波面調節器を制御し、その後、前記両ビーム波面調節器から出力されたガイドレーザビームについての前記ビームモニタによる波面の検出結果が所望の結果となるように前記両ビーム波面調節器を制御するように構成された、請求項４記載のレーザビーム制御装置。
【請求項７】
ガイドレーザビームを出力するガイドレーザ装置と、
前記ガイドレーザ装置から出力されたガイドレーザビームの光路に配置されたガイドレーザビーム波面調節器と、
レーザシステムから出力されたレーザビームの光路に配置されたレーザビーム波面調節器と、
前記レーザビーム波面調節器から出力されたレーザビームの進行方向及び前記ガイドレーザビーム波面調節器から出力されたガイドレーザビームの進行方向を互いに実質的に一致させるように構成されたビーム結合器と、
前記ビーム結合器から出力されたレーザビーム及び前記ビーム結合器から出力されたガイドレーザビームの両方の光路に配置されたビームモニタと、
前記ビーム結合器から出力されたレーザビーム及び前記ビーム結合器から出力されたガイドレーザビームの両方についての前記ビームモニタによる検出結果に基づいて前記ガイドレーザビーム波面調節器及び前記レーザビーム波面調節器を制御するように構成されたコントローラと、
を備えるレーザビーム制御装置。
【請求項８】
前記コントローラは、前記ビーム結合器から出力されたレーザビーム及び前記ビーム結合器から出力されたガイドレーザビームの両方についての前記ビームモニタによる検出結果に基づいて前記ガイドレーザビーム波面調節器及び前記レーザビーム波面調節器の少なくともいずれかを制御し、前記ビーム結合器から出力されたガイドレーザビームについての前記ビームモニタによる検出結果に基づいて前記ガイドレーザビーム波面調節器及び前記レーザビーム波面調節器を制御するように構成された、請求項７記載のレーザビーム制御装置。
【請求項９】
前記コントローラは、前記ビーム結合器から出力されたレーザビーム及び前記ビーム結合器から出力されたガイドレーザビームの両方についての前記ビームモニタによる波面の検出結果がほぼ一致するように前記ガイドレーザビーム波面調節器及び前記レーザビーム波面調節器の少なくともいずれかを制御し、その後、前記ビーム結合器から出力されたガイドレーザビームについての前記ビームモニタによる波面の検出結果が所望の結果となるように前記ガイドレーザビーム波面調節器のオプティカルパワーを所定量制御し、且つ、前記レーザビーム波面調節器のオプティカルパワーを前記所定量制御するように構成された、請求項７記載のレーザビーム制御装置。
【請求項１０】
ガイドレーザビームを出力するガイドレーザ装置と、
前記ガイドレーザ装置から出力されたガイドレーザビームの光路に配置されたガイドレーザビーム波面調節器と、
レーザシステムから出力されたレーザビームの進行方向及び前記ガイドレーザビーム波面調節器から出力されたガイドレーザビームの進行方向を互いに実質的に一致させるように構成されたビーム結合器と、
前記ビーム結合器から出力されたレーザビーム及び前記ビーム結合器から出力されたガイドレーザビームの両方の光路に配置された両ビーム波面調節器と、
前記両ビーム波面調節器から出力されたレーザビーム及び前記両ビーム波面調節器から出力されたガイドレーザビームの両方の光路に配置されたビームモニタと、
前記両ビーム波面調節器から出力されたレーザビーム及び前記両ビーム波面調節器から出力されたガイドレーザビームの両方についての前記ビームモニタによる検出結果に基づいて前記ガイドレーザビーム波面調節器及び前記両ビーム波面調節器を制御するように構成されたコントローラと
を備えるレーザビーム制御装置と、
前記レーザビーム制御装置から出力されるレーザビームを内部に通過させる入射口が設けられたチャンバと、
前記チャンバ内にターゲットを出力するターゲット生成部と、
前記レーザビームを前記チャンバ内で集光させるレーザ集光光学系と、
を備える極端紫外光生成装置。
【請求項１１】
ガイドレーザビームを出力するガイドレーザ装置と、
レーザシステムから出力されたレーザビームの光路に配置されたレーザビーム波面調節器と、
前記レーザビーム波面調節器から出力されたレーザビームの進行方向及び前記ガイドレーザ装置から出力されたガイドレーザビームの進行方向を互いに実質的に一致させるように構成されたビーム結合器と、
前記ビーム結合器から出力されたレーザビーム及び前記ビーム結合器から出力されたガイドレーザビームの両方の光路に配置された両ビーム波面調節器と、
前記両ビーム波面調節器から出力されたレーザビーム及び前記両ビーム波面調節器から出力されたガイドレーザビームの両方の光路に配置されたビームモニタと、
前記両ビーム波面調節器から出力されたレーザビーム及び前記両ビーム波面調節器から出力されたガイドレーザビームの両方についての前記ビームモニタによる検出結果に基づいて前記レーザビーム波面調節器及び前記両ビーム波面調節器を制御するように構成されたコントローラと、
を備えるレーザビーム制御装置と、
前記レーザビーム制御装置から出力されるレーザビームを内部に通過させる入射口が設けられたチャンバと、
前記チャンバ内にターゲットを出力するターゲット生成部と、
前記レーザビームを前記チャンバ内で集光させるレーザ集光光学系と、
を備える極端紫外光生成装置。
【請求項１２】
ガイドレーザビームを出力するガイドレーザ装置と、
前記ガイドレーザ装置から出力されたガイドレーザビームの光路に配置されたガイドレーザビーム波面調節器と、
レーザシステムから出力されたレーザビームの光路に配置されたレーザビーム波面調節器と、
前記レーザビーム波面調節器から出力されたレーザビームの進行方向及び前記ガイドレーザビーム波面調節器から出力されたガイドレーザビームの進行方向を互いに実質的に一致させるように構成されたビーム結合器と、
前記ビーム結合器から出力されたレーザビーム及び前記ビーム結合器から出力されたガイドレーザビームの両方の光路に配置されたビームモニタと、
前記ビーム結合器から出力されたレーザビーム及び前記ビーム結合器から出力されたガイドレーザビームの両方についての前記ビームモニタによる検出結果に基づいて前記ガイドレーザビーム波面調節器及び前記レーザビーム波面調節器を制御するように構成されたコントローラと、
を備えるレーザビーム制御装置と、
前記レーザビーム制御装置から出力されるレーザビームを内部に通過させる入射口が設けられたチャンバと、
前記チャンバ内にターゲットを出力するターゲット生成部と、
前記レーザビームを前記チャンバ内で集光させるレーザ集光光学系と、
を備える極端紫外光生成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、レーザビーム制御装置及び極端紫外光生成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、半導体プロセスの微細化に伴って、半導体プロセスの光リソグラフィにおける転写パターンの微細化が急速に進展している。次世代においては、７０ｎｍ〜４５ｎｍの微細加工、さらには３２ｎｍ以下の微細加工が要求されるようになる。このため、例えば３２ｎｍ以下の微細加工の要求に応えるべく、波長１３ｎｍ程度の極端紫外（ＥＵＶ：Extreme Ultra Violet）光を生成するための極端紫外光生成装置と縮小投影反射光学系（reduced projection reflective optics）とを組み合わせた露光装置の開発が期待されている。【０００３】
極端紫外光生成装置としては、ターゲット物質にレーザビームを照射することによって生成されるプラズマが用いられるＬＰＰ（Laser Produced Plasma：レーザ励起プラズマ）式の装置と、放電によって生成されるプラズマが用いられるＤＰＰ（Discharge Produced Plasma）式の装置と、シンクロトロン放射光が用いられるＳＲ（Synchrotron Radiation）式の装置との３種類の装置が提案されている。
【概要】
【０００４】
本開示の１つの観点に係るレーザビーム制御装置は、ガイドレーザビームを出力するガイドレーザ装置と、ガイドレーザ装置から出力されたガイドレーザビームの光路に配置されたガイドレーザビーム波面調節器と、レーザシステムから出力されたレーザビームの進行方向及びガイドレーザビーム波面調節器から出力されたガイドレーザビームの進行方向を互いに実質的に一致させるように構成されたビーム結合器と、ビーム結合器から出力されたレーザビーム及びビーム結合器から出力されたガイドレーザビームの両方の光路に配置された両ビーム波面調節器と、両ビーム波面調節器から出力されたレーザビーム及び両ビーム波面調節器から出力されたガイドレーザビームの両方の光路に配置されたビームモニタと、両ビーム波面調節器から出力されたレーザビーム及び両ビーム波面調節器から出力されたガイドレーザビームの両方についてのビームモニタによる検出結果に基づいてガイドレーザビーム波面調節器及び両ビーム波面調節器を制御するように構成されたコントローラと、を備えてもよい。
【０００５】
本開示の他の１つの観点に係るレーザビーム制御装置は、ガイドレーザビームを出力するガイドレーザ装置と、レーザシステムから出力されたレーザビームの光路に配置されたレーザビーム波面調節器と、レーザビーム波面調節器から出力されたレーザビームの進行方向及びガイドレーザ装置から出力されたガイドレーザビームの進行方向を互いに実質的に一致させるように構成されたビーム結合器と、ビーム結合器から出力されたレーザビーム及びビーム結合器から出力されたガイドレーザビームの両方の光路に配置された両ビーム波面調節器と、両ビーム波面調節器から出力されたレーザビーム及び両ビーム波面調節器から出力されたガイドレーザビームの両方の光路に配置されたビームモニタと、両ビーム波面調節器から出力されたレーザビーム及び両ビーム波面調節器から出力されたガイドレーザビームの両方についてのビームモニタによる検出結果に基づいてレーザビーム波面調節器及び両ビーム波面調節器を制御するように構成されたコントローラと、を備えてもよい。
【０００６】
本開示の他の１つの観点に係るレーザビーム制御装置は、ガイドレーザビームを出力するガイドレーザ装置と、ガイドレーザ装置から出力されたガイドレーザビームの光路に配置されたガイドレーザビーム波面調節器と、レーザシステムから出力されたレーザビームの光路に配置されたレーザビーム波面調節器と、レーザビーム波面調節器から出力されたレーザビームの進行方向及びガイドレーザビーム波面調節器から出力されたガイドレーザビームの進行方向を互いに実質的に一致させるように構成されたビーム結合器と、ビーム結合器から出力されたレーザビーム及びビーム結合器から出力されたガイドレーザビームの両方の光路に配置されたビームモニタと、ビーム結合器から出力されたレーザビーム及びビーム結合器から出力されたガイドレーザビームの両方についてのビームモニタによる検出結果に基づいてガイドレーザビーム波面調節器及びレーザビーム波面調節器を制御するように構成されたコントローラと、を備えてもよい。
【０００７】
本開示の１つの観点に係る極端紫外光生成装置は、ガイドレーザビームを出力するガイドレーザ装置と、ガイドレーザ装置から出力されたガイドレーザビームの光路に配置されたガイドレーザビーム波面調節器と、レーザシステムから出力されたレーザビームの進行方向及びガイドレーザビーム波面調節器から出力されたガイドレーザビームの進行方向を互いに実質的に一致させるように構成されたビーム結合器と、ビーム結合器から出力されたレーザビーム及びビーム結合器から出力されたガイドレーザビームの両方の光路に配置された両ビーム波面調節器と、両ビーム波面調節器から出力されたレーザビーム及び両ビーム波面調節器から出力されたガイドレーザビームの両方の光路に配置されたビームモニタと、両ビーム波面調節器から出力されたレーザビーム及び両ビーム波面調節器から出力されたガイドレーザビームの両方についてのビームモニタによる検出結果に基づいてガイドレーザビーム波面調節器及び両ビーム波面調節器を制御するように構成されたコントローラとを備えるレーザビーム制御装置と、
レーザビーム制御装置から出力されるレーザビームを内部に通過させる入射口が設けられたチャンバと、チャンバ内にターゲットを出力するターゲット生成部と、レーザビームをチャンバ内で集光させるレーザ集光光学系と、を備えてもよい。
【０００８】
本開示の他の１つの観点に係る極端紫外光生成装置は、ガイドレーザビームを出力するガイドレーザ装置と、レーザシステムから出力されたレーザビームの光路に配置されたレーザビーム波面調節器と、レーザビーム波面調節器から出力されたレーザビームの進行方向及びガイドレーザ装置から出力されたガイドレーザビームの進行方向を互いに実質的に一致させるように構成されたビーム結合器と、ビーム結合器から出力されたレーザビーム及びビーム結合器から出力されたガイドレーザビームの両方の光路に配置された両ビーム波面調節器と、両ビーム波面調節器から出力されたレーザビーム及び両ビーム波面調節器から出力されたガイドレーザビームの両方の光路に配置されたビームモニタと、両ビーム波面調節器から出力されたレーザビーム及び両ビーム波面調節器から出力されたガイドレーザビームの両方についてのビームモニタによる検出結果に基づいてレーザビーム波面調節器及び両ビーム波面調節器を制御するように構成されたコントローラとを備えるレーザビーム制御装置と、
レーザビーム制御装置から出力されるレーザビームを内部に通過させる入射口が設けられたチャンバと、チャンバ内にターゲットを出力するターゲット生成部と、レーザビームをチャンバ内で集光させるレーザ集光光学系と、を備えてもよい。
【０００９】
本開示の他の１つの観点に係る極端紫外光生成装置は、ガイドレーザビームを出力するガイドレーザ装置と、ガイドレーザ装置から出力されたガイドレーザビームの光路に配置されたガイドレーザビーム波面調節器と、レーザシステムから出力されたレーザビームの光路に配置されたレーザビーム波面調節器と、レーザビーム波面調節器から出力されたレーザビームの進行方向及びガイドレーザビーム波面調節器から出力されたガイドレーザビームの進行方向を互いに実質的に一致させるように構成されたビーム結合器と、ビーム結合器から出力されたレーザビーム及びビーム結合器から出力されたガイドレーザビームの両方の光路に配置されたビームモニタと、ビーム結合器から出力されたレーザビーム及びビーム結合器から出力されたガイドレーザビームの両方についてのビームモニタによる検出結果に基づいてガイドレーザビーム波面調節器及びレーザビーム波面調節器を制御するように構成されたコントローラとを備えるレーザビーム制御装置と、
レーザビーム制御装置から出力されるレーザビームを内部に通過させる入射口が設けられたチャンバと、チャンバ内にターゲットを出力するターゲット生成部と、レーザビームをチャンバ内で集光させるレーザ集光光学系と、を備えてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
本開示のいくつかの実施形態を、単なる例として、添付の図面を参照して以下に説明する。
【図１】図１は、例示的なＬＰＰ式のＥＵＶ光生成システムの構成を概略的に示す。
【図２】図２は、本開示の第１の実施形態に係るＥＵＶ光生成システムの例示的な構成を示す一部断面図である。
【図３Ａ】図３Ａは、波面調節器の機能を説明するための図である。
【図３Ｂ】図３Ｂは、波面調節器の機能を説明するための図である。
【図４Ａ】図４Ａは、ガイドレーザビーム波面調節器及び両ビーム波面調節器による波面調節の原理を説明するための図である。
【図４Ｂ】図４Ｂは、ガイドレーザビーム波面調節器及び両ビーム波面調節器による波面調節の原理を説明するための図である。
【図４Ｃ】図４Ｃは、ガイドレーザビーム波面調節器及び両ビーム波面調節器による波面調節の原理を説明するための図である。
【図５】図５は、第１の実施形態におけるコントローラの例示的な動作を示すフローチャートである。
【図６Ａ】図６Ａは、図５に示された初期設定の処理を示すフローチャートである。
【図６Ｂ】図６Ｂは、図５に示されたレーザビームの波面に関するパラメータの算出処理を示すフローチャートである。
【図６Ｃ】図６Ｃは、図５に示されたガイドレーザビームの波面に関するパラメータの算出処理を示すフローチャートである。
【図６Ｄ】図６Ｄは、図５に示されたガイドレーザビーム波面調節器を制御する処理を示すフローチャートである。
【図６Ｅ】図６Ｅは、図５に示された両ビーム波面調節器を制御する処理を示すフローチャートである。
【図７Ａ】図７Ａは、第１の実施形態に係るＥＵＶ光生成システムにおけるビームモニタの第１の例を概略的に示す。
【図７Ｂ】図７Ｂは、ビームモニタの第１の例を適用する場合の波面の検出原理を説明するための図である。
【図８】図８は、第１の実施形態に係るＥＵＶ光生成システムにおけるビームモニタの第２の例を概略的に示す。
【図９】図９は、第１の実施形態に係るＥＵＶ光生成システムにおけるビームモニタの第３の例を概略的に示す。
【図１０】図１０は、第１の実施形態に係るＥＵＶ光生成システムにおけるビームモニタの第４の例を概略的に示す。
【図１１Ａ】図１１Ａは、第１の実施形態に係るＥＵＶ光生成システムにおける波面調節器の第１の例を概略的に示す。
【図１１Ｂ】図１１Ｂは、第１の実施形態に係るＥＵＶ光生成システムにおける波面調節器の第１の例を概略的に示す。
【図１１Ｃ】図１１Ｃは、第１の実施形態に係るＥＵＶ光生成システムにおける波面調節器の第１の例を概略的に示す。
【図１２Ａ】図１２Ａは、第１の実施形態に係るＥＵＶ光生成システムにおける波面調節器の第２の例を概略的に示す。
【図１２Ｂ】図１２Ｂは、第１の実施形態に係るＥＵＶ光生成システムにおける波面調節器の第２の例を概略的に示す。
【図１２Ｃ】図１２Ｃは、第１の実施形態に係るＥＵＶ光生成システムにおける波面調節器の第２の例を概略的に示す。
【図１２Ｄ】図１２Ｄは、波面調節器の第２の例におけるＶＲＭの構成を示す一部断面図である。
【図１３Ａ】図１３Ａは、第１の実施形態に係るＥＵＶ光生成システムにおける波面調節器の第３の例を概略的に示す。
【図１３Ｂ】図１３Ｂは、波面調節器の第３の例におけるデフォーマブルミラーの構成を示す平面図である。
【図１３Ｃ】図１３Ｃは、図１３Ｂに示されるデフォーマブルミラーの一部断面図である。
【図１４】図１４は、第１の実施形態に係るＥＵＶ光生成システムにおける波面調節器の第４の例を概略的に示す。
【図１５】図１５は、本開示の第２の実施形態に係るＥＵＶ光生成システムの例示的な構成を示す一部断面図である。
【図１６】図１６は、本開示の第３の実施形態に係るＥＵＶ光生成システムの例示的な構成を示す一部断面図である。
【図１７】図１７は、本開示の第４の実施形態に係るＥＵＶ光生成システムの例示的な構成を示す一部断面図である。
【図１８Ａ】図１８Ａは、ガイドレーザビーム波面調節器、両ビーム波面調節器及び第２の両ビーム波面調節器による波面及びビーム幅の調節原理を説明するための図である。
【図１８Ｂ】図１８Ｂは、ガイドレーザビーム波面調節器、両ビーム波面調節器及び第２の両ビーム波面調節器による波面及びビーム幅の調節原理を説明するための図である。
【図１９】図１９は、第４の実施形態におけるコントローラの例示的な動作を示すフローチャートである。
【図２０Ａ】図２０Ａは、図１９に示された初期設定の処理を示すフローチャートである。
【図２０Ｂ】図２０Ｂは、図１９に示されたガイドレーザビームのビーム幅の算出処理を示すフローチャートである。
【図２０Ｃ】図２０Ｃは、図１９に示された両ビーム波面調節器を制御する処理を示すフローチャートである。
【図２０Ｄ】図２０Ｄは、図１９に示された第２の両ビーム波面調節器を制御する処理を示すフローチャートである。
【図２１】図２１は、本開示の第５の実施形態のＥＵＶ光生成システムに含まれるレーザシステムの例示的な構成を概略的に示す。
【図２２】図２２は、コントローラの概略構成を示すブロック図である。
【実施形態】
【００１１】
以下、本開示のいくつかの実施形態について、図面を参照しながら詳しく説明する。以下に説明される実施形態は、本開示のいくつかの例を示すものであって、本開示の内容を限定するものではない。また、各実施形態で説明される構成及び動作の全てが本開示の構成及び動作として必須であるとは限らない。なお、同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。
【００１２】
＜内容＞
１．概要
２．極端紫外光生成システムの全体説明
２．１  構成
２．２  動作
３．波面調節器を含むＥＵＶ光生成システム（第１の実施形態）
３．１  構成
３．２  原理
３．３  動作
３．３．１  メインフロー
３．３．２  初期設定（Ｓ２１００の詳細）
３．３．３  Ｗｄの算出（Ｓ２２００の詳細）
３．３．４  Ｗｇの算出（Ｓ２３００の詳細）
３．３．５  ガイドレーザビーム波面調節器の制御（Ｓ２６００の詳細）
３．３．６  両ビーム波面調節器の制御（Ｓ３４００の詳細）
３．４  ビームモニタの例
３．４．１  ２つの異なる位置におけるビーム幅の検出
３．４．２  ビーム幅とスポット幅の検出
３．４．３  シャックハルトマン波面センサ
３．４．４  シャックハルトマン波面センサとビームプロファイラとの組合せ
３．５  波面調節器の例
３．５．１  凹レンズと凸レンズとの組合せ
３．５．２  ＶＲＭの利用
３．５．３  デフォーマブルミラーの利用
３．５．４  軸外放物面凸面ミラーと軸外放物面凹面ミラーとの組合せ
４．レーザビームの波面をガイドレーザビームの波面に一致させるＥＵＶ光生成システム（第２の実施形態）
５．レーザビームの波面とガイドレーザビームの波面とを調節するＥＵＶ光生成システム（第３の実施形態）
６．波面とビーム幅とを調節するＥＵＶ光生成システム（第４の実施形態）
６．１  構成
６．２  動作
６．２．１  メインフロー
６．２．２  初期設定（Ｓ２１５０の詳細）
６．２．３  Ｄｇの算出（Ｓ２７００の詳細）
６．２．４  両ビーム波面調節器の制御（Ｓ３０００の詳細）
６．２．５  第２の両ビーム波面調節器の制御（Ｓ３４５０の詳細）
７．レーザシステム（第５の実施形態）
８．コントローラの構成
【００１３】
１．概要
ＬＰＰ式のＥＵＶ光生成装置では、チャンバ内に出力されたターゲット物質に、レーザシステムから出力されるレーザビームを集光して照射することにより、ターゲット物質をプラズマ化してもよい。プラズマからは、ＥＵＶ光を含む光が放射されてもよい。放射されたＥＵＶ光は、チャンバ内に配置されたＥＵＶ集光ミラーによって集光され、露光装置等の外部装置に出力されてもよい。
【００１４】
レーザシステムからチャンバに至るレーザビームの光路に配置された光学素子は、レーザビームのエネルギーを吸収することによって、加熱される場合がある。その結果、光学素子が変形し、レーザビームの波面が変形する場合がある。レーザビームの波面が変形すると、レーザビームの集光位置も変動し、露光装置へのＥＵＶ光の出力が不安定となる場合がある。
【００１５】
そこで、レーザビームの光路に波面調節器を配置し、波面調節器を制御することにより、レーザビームの波面を調節することが考えられる。さらに、この波面調節器にガイドレーザビームを入射させ、波面調節器から出力されたガイドレーザビームの波面を光学素子の下流側で検出し、この検出結果に基づいて波面調節器を制御することが考えられる。これにより、レーザビームの出力休止中においても波面調節器を制御し得る。
【００１６】
しかしながら、レーザビームとガイドレーザビームとを分光するために、あるいは、増幅器においてレーザビームとガイドレーザビームとに異なるゲインを与えるために、レーザビームとガイドレーザビームとは異なる波長成分を含む場合がある。その場合には、仮に光学素子の上流側でレーザビームとガイドレーザビームとの波面を一致させたとしても、光の回折の影響により、光学素子の下流側ではレーザビームとガイドレーザビームとの波面が一致しなくなる場合があり得る。従って、レーザビームの出力休止中においてガイドレーザビームの波面に基づいて波面調節器を制御しても、レーザビームを出力開始したときのレーザビームの波面が所望の値とならない場合があり得る。
【００１７】
本開示の１つの観点によれば、ガイドレーザ装置から出力されたガイドレーザビームの光路にガイドレーザビーム波面調節器を配置してもよい。また、レーザシステムから出力されたレーザビームとガイドレーザビーム波面調節器から出力されたガイドレーザビームとをビーム結合器によって結合させてもよい。また、ビーム結合器から出力されたレーザビームとビーム結合器から出力されたガイドレーザビームとの光路に両ビーム波面調節器を配置してもよい。そして、両ビーム波面調節器から出力されたレーザビーム及びガイドレーザビームを光学素子に入射させ、光学素子から出力されたこれらのビームの波面を検出してもよい。
【００１８】
この構成において、レーザビームとガイドレーザビームとの波面が光学素子の下流側で一致するようにガイドレーザビーム波面調節器が制御されてもよい。その後、レーザビームの出力休止中であってもガイドレーザビームの波面に基づいて両ビーム波面調節器が制御され得る。これにより、レーザビームの波面が所望の値となるような調節が可能となる。
【００１９】
２．極端紫外光生成システムの全体説明
２．１  構成
図１に、例示的なＬＰＰ式のＥＵＶ光生成システムの構成を概略的に示す。ＥＵＶ光生成装置１は、少なくとも１つのレーザシステム３と共に用いられてもよい。本願においては、ＥＵＶ光生成装置１及びレーザシステム３を含むシステムを、ＥＵＶ光生成システム１１と称する。図１に示し、かつ、以下に詳細に説明するように、ＥＵＶ光生成装置１は、チャンバ２、ターゲット生成部２６を含んでもよい。チャンバ２は、密閉可能であってもよい。ターゲット生成部２６は、例えば、チャンバ２の壁を貫通するように取り付けられてもよい。ターゲット生成部２６から出力されるターゲット物質の材料は、スズ、テルビウム、ガドリニウム、リチウム、キセノン、又は、それらの内のいずれか２つ以上の組合せを含んでもよいが、これらに限定されない。
【００２０】
チャンバ２の壁には、少なくとも１つの貫通孔が設けられていてもよい。その貫通孔には、ウインドウ２１が設けられてもよく、ウインドウ２１をレーザシステム３から出力されるパルスレーザ光３２が透過してもよい。チャンバ２の内部には、例えば、回転楕円面形状の反射面を有するＥＵＶ集光ミラー２３が配置されてもよい。ＥＵＶ集光ミラー２３は、第１及び第２の焦点を有し得る。ＥＵＶ集光ミラー２３の表面には、例えば、モリブデンとシリコンとが交互に積層された多層反射膜が形成されていてもよい。ＥＵＶ集光ミラー２３は、例えば、その第１の焦点がプラズマ生成領域２５に位置し、その第２の焦点が中間集光点（ＩＦ）２９２に位置するように配置されるのが好ましい。必要な場合には、ＥＵＶ集光ミラー２３の中央部には貫通孔２４が設けられていてもよく、貫通孔２４をパルスレーザ光３３が通過してもよい。
【００２１】
ＥＵＶ光生成装置１は、ＥＵＶ光生成制御部５、ターゲットセンサ４等を含んでもよい。ターゲットセンサ４は、撮像機能を有してもよく、ターゲット２７の存在、軌跡、位置、速度等を検出するよう構成されてもよい。
【００２２】
また、ＥＵＶ光生成装置１は、チャンバ２の内部と露光装置６の内部とを連通させる接続部２９を含んでもよい。接続部２９内部には、アパーチャが形成された壁２９１が設けられてもよい。壁２９１は、そのアパーチャがＥＵＶ集光ミラー２３の第２の焦点位置に位置するように配置されてもよい。
【００２３】
さらに、ＥＵＶ光生成装置１は、レーザ光進行方向制御部３４、レーザ光集光ミラー２２、ターゲット２７を回収するためのターゲット回収部２８等を含んでもよい。レーザ光進行方向制御部３４は、レーザ光の進行方向を規定するための光学素子と、この光学素子の位置、姿勢等を調整するためのアクチュエータとを備えてもよい。
【００２４】
２．２  動作
図１を参照に、レーザシステム３から出力されたパルスレーザ光３１は、レーザ光進行方向制御部３４を経て、パルスレーザ光３２としてウインドウ２１を透過してチャンバ２内に入射してもよい。パルスレーザ光３２は、少なくとも１つのレーザ光経路に沿ってチャンバ２内を進み、レーザ光集光ミラー２２で反射されて、パルスレーザ光３３として少なくとも１つのターゲット２７に照射されてもよい。
【００２５】
ターゲット生成部２６は、ターゲット２７をチャンバ２内部のプラズマ生成領域２５に向けて出力するよう構成されてもよい。ターゲット２７には、パルスレーザ光３３に含まれる少なくとも１つのパルスが照射されてもよい。パルスレーザ光が照射されたターゲット２７はプラズマ化し、そのプラズマから放射光２５１が放射され得る。ＥＵＶ集光ミラー２３は、放射光２５１に含まれるＥＵＶ光を、他の波長域の光に比べて高い反射率で反射してもよい。ＥＵＶ集光ミラー２３によって反射されたＥＵＶ光を含む反射光２５２は、中間集光点２９２で集光され、露光装置６に出力されてもよい。なお、１つのターゲット２７に、パルスレーザ光３３に含まれる複数のパルスが照射されてもよい。
【００２６】
ＥＵＶ光生成制御部５は、ＥＵＶ光生成システム１１全体の制御を統括するよう構成されてもよい。ＥＵＶ光生成制御部５は、ターゲットセンサ４によって撮像されたターゲット２７のイメージデータ等を処理するよう構成されてもよい。また、ＥＵＶ光生成制御部５は、例えば、ターゲット２７が出力されるタイミング、ターゲット２７の出力方向等を制御するよう構成されてもよい。さらに、ＥＵＶ光生成制御部５は、例えば、レーザシステム３の発振タイミング、パルスレーザ光３２の進行方向、パルスレーザ光３３の集光位置等を制御するよう構成されてもよい。上述の様々な制御は単なる例示に過ぎず、必要に応じて他の制御が追加されてもよい。
【００２７】
３．波面調節器を含むＥＵＶ光生成システム（第１の実施形態）
３．１  構成
図２は、本開示の第１の実施形態に係るＥＵＶ光生成システムの例示的な構成を示す一部断面図である。第１の実施形態においては、チャンバ２がクリーンルームフロアに配置され、レーザシステム３がサブファブフロアに配置されてもよい。サブファブフロアはクリーンルームフロアの階下に位置してもよい。レーザシステム３からチャンバ２内に出力されるレーザビームの進行方向を制御するためのレーザ光進行方向制御部３４は、クリーンルームフロアとサブファブフロアとにまたがって配置されてもよい。レーザ光進行方向制御部３４は、本開示に係るレーザビーム制御装置に相当し得る。レーザシステム３は、図示しない固定装置により筐体３１０内部に固定されていてもよい。筐体３１０は複数のエアサスペンション３２０によってサブファブフロアの床上に設置されていてもよい。
【００２８】
サブファブフロアに位置する筐体３１０内部において、レーザ光進行方向制御部３４は、ガイドレーザ装置４０と、ガイドレーザビーム波面調節器８４と、ビーム結合器４４とを含んでもよい。ガイドレーザ装置４０は、そのガイドレーザ装置４０から出力されるガイドレーザビームがガイドレーザビーム波面調節器８４に入射するように配置されてもよい。
【００２９】
ガイドレーザ装置４０は、連続発振（ＣＷ発振）するレーザ装置でも、所定の繰り返し周波数でパルス発振するレーザ装置でもよい。ガイドレーザビームの平均出力光エネルギーは、レーザシステム３から出力されるレーザビームの平均出力光エネルギーよりも低くてもよい。さらに、ガイドレーザビームは、レーザシステム３から出力されるレーザビームとは異なる波長成分を含んでもよい。
【００３０】
ガイドレーザビーム波面調節器８４は、ガイドレーザ装置４０から出力されたガイドレーザビームの光路に配置されていてもよい。ガイドレーザビーム波面調節器８４は、複数のミラー又は複数のレンズを含んでもよい。あるいは、少なくとも１つのミラーと少なくとも１つのレンズとの組合せを含んでもよい。ガイドレーザビーム波面調節器８４の具体的構成の例については後述する。なお、本願において、ガイドレーザビーム波面調節器８４が少なくとも１つのミラーを含む場合に、ガイドレーザビーム波面調節器８４から出力されたガイドレーザビームとは、ガイドレーザビーム波面調節器８４によって反射されたガイドレーザビームを意味してもよい。ガイドレーザビーム波面調節器８４が複数のレンズを含む場合に、ガイドレーザビーム波面調節器８４から出力されたガイドレーザビームとは、ガイドレーザビーム波面調節器８４を透過したガイドレーザビームを意味してもよい。
【００３１】
ビーム結合器４４は、ダイクロイックミラーを含んでもよい。ビーム結合器４４の第１の面（図中左側の面）には、レーザシステム３から出力されたレーザビームが入射してもよい。ビーム結合器４４の第２の面（図中右側の面）には、ガイドレーザビーム波面調節器８４から出力されたガイドレーザビームが入射してもよい。ビーム結合器４４は、第１の面に入射したレーザビームを高い透過率で透過させ、第２の面に入射したガイドレーザビームを高い反射率で反射してもよい。ビーム結合器４４は、レーザビームの進行方向とガイドレーザビームの進行方向とを実質的に一致させるように、上記各ビームの光路に対して所定の設置角度で設置されてもよい。なお、本願において、ビーム結合器４４から出力されたレーザビーム及びガイドレーザビームとは、ビーム結合器４４を透過したレーザビーム及びビーム結合器によって反射されたガイドレーザビームを意味してもよい。
また、ビーム結合器４４は、レーザビームを高い反射率で反射し、ガイドレーザビームを高い透過率で透過させる構成を有してもよい。その場合には、ビーム結合器４４から出力されたレーザビーム及びガイドレーザビームとは、ビーム結合器４４によって反射されたレーザビーム及びビーム結合器を透過したガイドレーザビームを意味してもよい。
【００３２】
サブファブフロアにおいて、レーザ光進行方向制御部３４は、両ビーム波面調節器８１を含んでもよい。両ビーム波面調節器８１は、ビーム結合器４４から出力されたレーザビーム及びガイドレーザビームの光路に配置されていてもよい。両ビーム波面調節器８１は、複数のミラー又は複数のレンズを含んでもよい。あるいは、少なくとも１つのミラーと少なくとも１つのレンズとの組合せを含んでもよい。両ビーム波面調節器８１の具体的構成の例については後述する。なお、本願において、両ビーム波面調節器８１から出力されたレーザビーム又はガイドレーザビームとは、両ビーム波面調節器８１によって反射されたレーザビーム又はガイドレーザビームを意味してもよい。両ビーム波面調節器８１から出力されたレーザビーム又はガイドレーザビームとは、両ビーム波面調節器８１を透過したレーザビーム又はガイドレーザビームを意味してもよい。
【００３３】
サブファブフロアとクリーンルームフロアとにまたがる領域において、レーザ光進行方向制御部３４は、ビーム伝送器５０を含んでもよい。ビーム伝送器５０は、中空の光路管５００を含んでもよい。光路管５００内は真空でもよく、光路管５００内には乾燥空気又は不活性ガス等が導入されてもよい。ビーム伝送器５０は、複数の高反射ミラー５１を含んでもよい。複数の高反射ミラー５１は、両ビーム波面調節器８１から出力されたレーザビーム及びガイドレーザビームが、クリーンルームフロアに導かれるように配置されてもよい。複数の高反射ミラー５１は、複数のミラーホルダ５１１にそれぞれ支持されてもよい。
【００３４】
クリーンルームフロアにおいて、チャンバ２は、チャンバ基準部材１０上に固定されてもよい。チャンバ基準部材１０は、設置機構９によってクリーンルームフロアの床上に固定されてもよい。チャンバ基準部材１０は、レーザ光進行方向制御部３４の一部を構成する光学素子群を収容してもよい。
【００３５】
クリーンルームフロアにおいて、レーザ光進行方向制御部３４は、光検出部５５と、コントローラ５８と、高反射ミラー５９及び６９とを含んでもよい。光検出部５５と高反射ミラー５９及び６９とは、チャンバ基準部材１０内に配置されてもよい。
【００３６】
高反射ミラー５９は、ビーム伝送器５０によってクリーンルームフロアに伝播されたレーザビーム及びガイドレーザビームを、光検出部５５に向けて反射するように配置されてもよい。
【００３７】
光検出部５５は、ビームスプリッタ５６と、ビームモニタ５７とを含んでもよい。ビームスプリッタ５６は、高反射ミラー５９で反射されたレーザビームを高い透過率で高反射ミラー６９に向けて透過させてもよい。さらに、ビームスプリッタ５６は、高反射ミラー５９で反射されたレーザビームの一部及びガイドレーザビームを、サンプル光としてビームモニタ５７に向けて反射するように構成されてもよい。ビームモニタ５７は、ビームモニタ５７に入射したサンプル光の波面に関するパラメータを算出するためのビームプロファイルを検出し、検出結果をコントローラ５８へ出力するよう構成されてもよい。
【００３８】
コントローラ５８は、ガイドレーザ装置４０に制御信号を送信し、所望のタイミングでガイドレーザビームを出力又は停止させる機能を有してもよい。また、コントローラ５８は、ビームモニタ５７から出力される検出結果に基づいて、サンプル光の波面に関するパラメータを算出してもよい。その後、コントローラ５８は、算出結果を利用して、ガイドレーザビーム波面調節器８４及び両ビーム波面調節器８１をフィードバック制御してもよい。制御の具体例は図３Ａ〜図６Ｅを用いて後述する。
【００３９】
高反射ミラー６９は、ビームスプリッタ５６を透過したレーザビームを、ミラー収納容器７０内に向けて反射するように配置されてもよい。ミラー収納容器７０には、ウインドウ２１ａが設けられてもよく、高反射ミラー６９において反射されたレーザビームがウインドウ２１ａを高い透過率で透過してもよい。ウインドウ２１ａを透過したレーザビームは、平面ミラー７６において高い反射率で反射され、レーザ光集光ミラー２２０において高い反射率で反射されて、プラズマ生成領域２５に供給されるターゲットに集光されてもよい。
【００４０】
３．２  原理
図３Ａ及び図３Ｂは、波面調節器の機能を説明するための図である。ここではガイドレーザビームの波面を調節するガイドレーザビーム波面調節器８４について説明するが、レーザビームの波面及びガイドレーザビームの波面を調節する両ビーム波面調節器８１についても同様でよい。図３Ａにおいては、ガイドレーザビーム波面調節器８４が、平面状の波面を有するガイドレーザビーム（平面波）を、凹面状の波面を有するガイドレーザビームに変化させている。図３Ｂにおいては、ガイドレーザビーム波面調節器８４が、平面状の波面を有するガイドレーザビーム（平面波）を、凸面状の波面を有するガイドレーザビームに変化させている。
【００４１】
すなわち、ガイドレーザビーム波面調節器８４は、ガイドレーザビームの波面を、図３Ａに示されるように変化させることも、図３Ｂに示されるように変化させることも可能な光学素子であってもよい。また、ガイドレーザビーム波面調節器８４は、所定範囲における任意の曲率を有する波面を、所定範囲における他の任意の曲率を有する波面に変化させることが可能であってもよい。
【００４２】
ガイドレーザビーム波面調節器８４が焦点距離Ｆを有する場合において、ガイドレーザビーム波面調節器８４のオプティカルパワーＰは、以下の式で表され得る。
Ｐ＝１／Ｆ
Ｆが正の値を有する場合は、平面波が、ガイドレーザビーム波面調節器８４の主点（principal point）から前方への距離が焦点距離Ｆである位置において集光されるような凹面状の波面を有するガイドレーザビームに変換され得る（図３Ａ参照）。
Ｆが負の値を有する場合は、平面波が、ガイドレーザビーム波面調節器８４の主点から後方への距離が焦点距離Ｆである位置にある仮想の点光源から生成された光の波面と同等の凸面状の波面を有するガイドレーザビームに変換され得る（図３Ｂ参照）。
【００４３】
図４Ａ〜図４Ｃは、ガイドレーザビーム波面調節器８４及び両ビーム波面調節器８１による波面調節の原理を説明するための図である。レーザシステム３から出力されたレーザビームは、ビーム伝送器５０を通ってチャンバ２内に入射してもよい。ビーム伝送器５０の入力端から出力端までの光路の長さは数十メートルに達してもよく、ビーム伝送器５０は複数の高反射ミラー５１を含んでもよい。ガイドレーザ装置４０から出力されたガイドレーザビームも、ビーム伝送器５０を通ってよい。レーザビーム及びガイドレーザビームは、ビーム伝送器５０とチャンバ２との間に配置された光検出部５５に入射してもよい。レーザビームの一部及びガイドレーザビームは、光検出部５５に含まれるビームモニタ５７に入射してもよい。
【００４４】
ビーム伝送器５０の高反射ミラー５１がレーザビームのエネルギーによって加熱されて変形すると、ビーム伝送器５０の入力端から出力端までの光路において波面の歪みが蓄積される場合がある。例えば、高反射ミラー５１が加熱されて変形すると、レーザビーム及びガイドレーザビームが、図４Ａに示される波面を有するようになる場合がある。このように、波面が変化するとレーザビーム及びガイドレーザビームの進行に伴ってそれぞれのビーム幅も変化し得る。このとき、レーザビームとガイドレーザビームとでは波長が異なるため、光の回折の影響が異なる場合がある。例えば、ガイドレーザビームは図４Ａに破線で示されるように僅かに波面が変形するのに対し、ガイドレーザビームに含まれる波長成分よりも長い波長成分を有するレーザビームは、図４Ａに一点鎖線で示されるように大幅に波面が変形し得る。なお、図４Ａにおいて、ビーム伝送器５０の上流側において、レーザビームの波面及びガイドレーザビームの波面はほぼ同一であるとする。
【００４５】
そこで、図４Ｂに示されるように、レーザビームの波面及びガイドレーザビームの波面の検出結果に基づいて、ガイドレーザビーム波面調節器８４を制御してもよい。これにより、ビームモニタ５７においてレーザビームの波面及びガイドレーザビームの波面がほぼ一致するように、ガイドレーザビームの波面が調節されてもよい。このとき、ビーム伝送器５０の上流側において、レーザビームの波面及びガイドレーザビームの波面は互いに異なっていてもよい。
【００４６】
さらに、図４Ｃに示されるように、ガイドレーザビームの波面の検出結果に基づいて、両ビーム波面調節器８１を制御してもよい。これにより、ビームモニタ５７におけるガイドレーザビームの波面が所望の値となるように調節されてもよい。このとき、図４Ｂを参照しながら説明したように、ガイドレーザビーム波面調節器８４が、レーザビーム及びガイドレーザビームの波面における光の回折の影響の違いを補償するように制御されている。従って、ビームモニタ５７において、レーザビームの波面はガイドレーザビームの波面にほぼ一致し得る。
【００４７】
このようにして、ビームモニタ５７におけるレーザビームの波面が所望の値に調節されてもよい。これによれば、ビーム伝送器５０において生じた波面の歪みだけでなく、ビーム伝送器５０より上流側の光路において生じた波面の歪みも調節し得る。
【００４８】
３．３  動作
３．３．１  メインフロー
図５は、第１の実施形態におけるコントローラ５８の例示的な動作を示すフローチャートである。コントローラ５８は、ガイドレーザビームを用いてレーザビームの波面が所望の値となるように、以下のようにガイドレーザビーム波面調節器８４及び両ビーム波面調節器８１を制御してもよい。
まず、コントローラ５８は、ガイドレーザビーム波面調節器８４及び両ビーム波面調節器８１を制御するための初期設定を行ってもよい（Ｓ２１００）。
【００４９】
次に、コントローラ５８は、ビームモニタ５７を制御し、ビームモニタ５７から検出結果を受信して、レーザビームの波面に関するパラメータＷｄを算出してもよい（Ｓ２２００）。
次に、コントローラ５８は、ビームモニタ５７を制御し、ビームモニタ５７から検出結果を受信して、ガイドレーザビームの波面に関するパラメータＷｇを算出してもよい（Ｓ２３００）。
【００５０】
次に、コントローラ５８は、レーザビームの波面に関するパラメータＷｄとガイドレーザビームの波面に関するパラメータＷｇとの差ΔＷｄｇを、以下の式によって算出してもよい（Ｓ２４００）。
ΔＷｄｇ＝Ｗｄ−Ｗｇ
【００５１】
次に、コントローラ５８は、Ｓ２４００で算出された差ΔＷｄｇの絶対値が所定の閾値ΔＷｄｇｒ以下であるか否かを判定してもよい（Ｓ２５００）。所定の閾値ΔＷｄｇｒは、正の値でもよい。
【００５２】
差ΔＷｄｇの絶対値が所定の閾値ΔＷｄｇｒ以下ではない場合（Ｓ２５００；ＮＯ）、コントローラ５８は、差ΔＷｄｇが０に近づくように、ガイドレーザビーム波面調節器８４を制御してもよい（Ｓ２６００）。そして、コントローラ５８は、処理を上述のＳ２３００に戻してその後の処理を繰り返してもよい。
差ΔＷｄｇの絶対値が所定の閾値ΔＷｄｇｒ以下である場合（Ｓ２５００；ＹＥＳ）、コントローラ５８は、処理をＳ３２００に進めてもよい。
【００５３】
Ｓ３２００において、コントローラ５８は、ガイドレーザビームの波面に関するパラメータＷｇと所定値Ｗｔとの差ΔＷｇｔを、以下の式によって算出してもよい。
ΔＷｇｔ＝Ｗｇ−Ｗｔ
所定値Ｗｔは、例えば、レーザビームをプラズマ生成領域２５に集光するために望ましいレーザビームの波面に相当する値であってもよい。
【００５４】
次に、コントローラ５８は、Ｓ３２００で算出された差ΔＷｇｔの絶対値が所定の閾値ΔＷｇｔｒ以下であるか否かを判定してもよい（Ｓ３３００）。所定の閾値ΔＷｇｔｒは、正の値でもよい。
【００５５】
差ΔＷｇｔの絶対値が所定の閾値ΔＷｇｔｒ以下ではない場合（Ｓ３３００；ＮＯ）、コントローラ５８は、差ΔＷｇｔが０に近づくように、両ビーム波面調節器８１を制御してもよい（Ｓ３４００）。次に、コントローラ５８は、Ｓ２３００と同様に、ガイドレーザビームの波面に関するパラメータＷｇを算出してもよい（Ｓ３５００）。そして、コントローラ５８は、処理を上述のＳ３２００に戻してその後の処理を繰り返してもよい。
差ΔＷｇｔの絶対値が所定の閾値ΔＷｇｔｒ以下である場合（Ｓ３３００；ＹＥＳ）、コントローラ５８は、処理をＳ３６００に進めてもよい。
【００５６】
Ｓ３６００において、コントローラ５８は、波面の制御が完了したこと（波面ＯＫ）を示す信号を、ＥＵＶ光生成制御部５に出力してもよい。Ｓ２１００の処理が終了してからＳ３６００の処理が終了するまでの間は、ターゲット生成部２６からターゲット２７が出力されなくてもよい。また、Ｓ２１００の処理が終了してからＳ３６００の処理が終了するまでの間は、Ｓ２２００でレーザビームの波面に関するパラメータＷｄを算出する場合を除いて、レーザシステム３からレーザビームが出力されなくてもよい。Ｓ３６００の処理が行われた後、ＥＵＶ光生成制御部５による制御によって、ターゲット生成部２６からターゲット２７が出力され、レーザシステム３からレーザビームが出力されてもよい。
【００５７】
その後、コントローラ５８は、ＥＵＶ光生成制御部５から信号を受信することにより、ガイドレーザビームを用いた波面制御を中止するか否かを判定してもよい（Ｓ３７００）。ＥＵＶ光生成制御部５から制御中止を示す信号を受信した場合（Ｓ３７００：ＹＥＳ）、コントローラ５８は、制御を中止し、本フローチャートによる処理を終了してもよい。制御中止を示す信号を受信していない場合（Ｓ３７００：ＮＯ）、上述のＳ３５００に戻ってその後の処理を繰り返してもよい。Ｓ３７００からＳ３５００に戻った場合に、その後Ｓ３５００からＳ３７００までの処理が行われている間は、ターゲット２７及びレーザビームの出力が行われてもよい。
【００５８】
３．３．２  初期設定（Ｓ２１００の詳細）
図６Ａは、図５に示された初期設定の処理を示すフローチャートである。図６Ａに示される処理は、図５に示されたＳ２１００のサブルーチンとして、コントローラ５８によって行われてもよい。
【００５９】
まず、コントローラ５８は、波面の制御が完了していないこと（波面ＮＧ）を示す信号を、ＥＵＶ光生成制御部５に出力してもよい（Ｓ２１０１）。これにより、ＥＵＶ光生成制御部５が、ターゲット生成部２６からのターゲット２７の出力を停止させ、レーザシステム３からのレーザビームの出力を停止させてもよい。
【００６０】
次に、コントローラ５８は、初期値の設定を行ってもよい（Ｓ２１０２）。具体的には、ガイドレーザビーム波面調節器８４のオプティカルパワーの現在値Ｐ＃１と、両ビーム波面調節器８１のオプティカルパワーの現在値Ｐ＃２とを、０に設定してもよい。
Ｓ２１０２の後、コントローラ５８は、本フローチャートによる処理を終了してもよい。
【００６１】
３．３．３  Ｗｄの算出（Ｓ２２００の詳細）
図６Ｂは、図５に示されたレーザビームの波面に関するパラメータＷｄの算出処理を示すフローチャートである。図６Ｂに示される処理は、図５に示されたＳ２２００のサブルーチンとして、コントローラ５８によって行われてもよい。
【００６２】
まず、コントローラ５８は、ビームモニタ５７を制御して、ビームモニタ５７に含まれる第１のバンドパスフィルタをセットしてもよい（Ｓ２２０１）。第１のバンドパスフィルタは、レーザビームに含まれる波長成分を高い透過率で透過させ、ガイドレーザビームに含まれる波長成分を減衰させる又は遮断する光学フィルタであってもよい。ビームモニタ５７及びこれに含まれる第１のバンドパスフィルタの具体例については、後述する。
【００６３】
次に、コントローラ５８は、ＥＵＶ光生成制御部５から出力される信号を受信し、レーザシステム３からレーザビームが出力されたか否かを判定してもよい（Ｓ２２０２）。レーザビームが出力されていない場合（Ｓ２２０２：ＮＯ）、コントローラ５８はレーザシステム３からレーザビームが出力されるまで待機してもよい。レーザビームが出力された場合（Ｓ２２０２：ＹＥＳ）、コントローラ５８は処理をＳ２２０３に進めてもよい。
【００６４】
Ｓ２２０３において、コントローラ５８は、ビームモニタ５７から出力された検出結果に基づいて、波面に関するパラメータＸｄを算出してもよい。
次に、コントローラ５８は、算出された波面に関するパラメータＸｄを、レーザビームの波面に関するパラメータＷｄとして、メモリ１００２（後述）に記憶させ（Ｓ２２０４）、本フローチャートによる処理を終了してもよい。
【００６５】
３．３．４  Ｗｇの算出（Ｓ２３００の詳細）
図６Ｃは、図５に示されたガイドレーザビームの波面に関するパラメータＷｇの算出処理を示すフローチャートである。図６Ｃに示される処理は、図５に示されたＳ２３００又はＳ３５００のサブルーチンとして、コントローラ５８によって行われてもよい。
【００６６】
まず、コントローラ５８は、ビームモニタ５７を制御して、ビームモニタ５７に含まれる第２のバンドパスフィルタをセットしてもよい（Ｓ２３０１）。第２のバンドパスフィルタは、ガイドレーザビームに含まれる波長成分を高い透過率で透過させ、レーザビームに含まれる波長成分を減衰させる又は遮断する光学フィルタであってもよい。ビームモニタ５７及びこれに含まれる第２のバンドパスフィルタの具体例については、後述する。
【００６７】
次に、コントローラ５８は、ガイドレーザ装置４０からガイドレーザビームが出力されたか否かを判定してもよい（Ｓ２３０２）。ガイドレーザビームが出力されていない場合（Ｓ２３０２：ＮＯ）、コントローラ５８はガイドレーザ装置４０からガイドレーザビームが出力されるまで待機してもよい。ガイドレーザビームが出力された場合（Ｓ２３０２：ＹＥＳ）、コントローラ５８は処理をＳ２３０３に進めてもよい。
【００６８】
Ｓ２３０３において、コントローラ５８は、ビームモニタ５７から出力された検出結果に基づいて、波面に関するパラメータＸｇを算出してもよい。
次に、コントローラ５８は、算出された波面に関するパラメータＸｇを、ガイドレーザビームの波面に関するパラメータＷｇとして、メモリ１００２（後述）に記憶させ（Ｓ２３０４）、本フローチャートによる処理を終了してもよい。
【００６９】
３．３．５  ガイドレーザビーム波面調節器の制御（Ｓ２６００の詳細）
図６Ｄは、図５に示されたガイドレーザビーム波面調節器８４を制御する処理を示すフローチャートである。図６Ｄに示される処理は、図５に示されたＳ２６００のサブルーチンとして、コントローラ５８によって行われてもよい。まず、コントローラ５８は、上述の差ΔＷｄｇと０とを比較してもよい（Ｓ２６０２）。
【００７０】
Ｓ２６０２において、差ΔＷｄｇが０より小さい場合（ΔＷｄｇ＜０）、コントローラ５８は処理をＳ２６０４に進めてもよい。Ｓ２６０４において、ガイドレーザビーム波面調節器８４のオプティカルパワーの現在値Ｐ＃１から所定の定数ΔＰ＃１を減算した値を、目標オプティカルパワーＰ１として設定してもよい。
【００７１】
Ｓ２６０２において、差ΔＷｄｇが０より大きい場合（ΔＷｄｇ＞０）、コントローラ５８は処理をＳ２６０５に進めてもよい。Ｓ２６０５において、ガイドレーザビーム波面調節器８４のオプティカルパワーの現在値Ｐ＃１に所定の定数ΔＰ＃１を加算した値を、目標オプティカルパワーＰ１として設定してもよい。所定の定数ΔＰ＃１は、正の値でもよい。
【００７２】
次に、コントローラ５８は、ガイドレーザビーム波面調節器８４のオプティカルパワーが目標オプティカルパワーＰ１に近づくようにガイドレーザビーム波面調節器８４に制御信号を出力してもよい（Ｓ２６０６）。
次に、コントローラ５８は、上述のＰ１を、ガイドレーザビーム波面調節器８４のオプティカルパワーの現在値Ｐ＃１としてメモリ１００２（後述）に記憶させ（Ｓ２６０７）、本フローチャートによる処理を終了してもよい。
【００７３】
３．３．６  両ビーム波面調節器の制御（Ｓ３４００の詳細）
図６Ｅは、図５に示された両ビーム波面調節器８１を制御する処理を示すフローチャートである。図６Ｅに示される処理は、図５に示されたＳ３４００のサブルーチンとして、コントローラ５８によって行われてもよい。まず、コントローラ５８は、上述の差ΔＷｇｔと０とを比較してもよい（Ｓ３４０２）。
【００７４】
Ｓ３４０２において、差ΔＷｇｔが０より小さい場合（ΔＷｇｔ＜０）、コントローラ５８は処理をＳ３４０４に進めてもよい。Ｓ３４０４において、両ビーム波面調節器８１のオプティカルパワーの現在値Ｐ＃２から所定の定数ΔＰ＃２を減算した値を、目標オプティカルパワーＰ２として設定してもよい。
【００７５】
Ｓ３４０２において、差ΔＷｇｔが０より大きい場合（ΔＷｇｔ＞０）、コントローラ５８は処理をＳ３４０５に進めてもよい。Ｓ３４０５において、両ビーム波面調節器８１のオプティカルパワーの現在値Ｐ＃２に所定の定数ΔＰ＃２を加算した値を、目標オプティカルパワーＰ２として設定してもよい。所定の定数ΔＰ＃２は、正の値でもよい。
【００７６】
次に、コントローラ５８は、両ビーム波面調節器８１のオプティカルパワーが目標オプティカルパワーＰ２に近づくように両ビーム波面調節器８１に制御信号を出力してもよい（Ｓ３４０６）。
次に、コントローラ５８は、上述のＰ２を、両ビーム波面調節器８１のオプティカルパワーの現在値Ｐ＃２としてメモリ１００２（後述）に記憶させ（Ｓ３４０７）、本フローチャートによる処理を終了してもよい。
【００７７】
第１の実施形態によれば、レーザシステム３からレーザビームが出力されていないときにも、コントローラ５８は、ガイドレーザビームの波面に関するパラメータに基づいて、ガイドレーザビーム波面調節器８４及び両ビーム波面調節器８１を制御し得る。これにより、レーザシステム３から出力されるレーザビームの出力初期においても、レーザビームの波面を予め定めた範囲内へ制御でき、チャンバ内でターゲット物質に照射されるレーザビームの集光位置を安定化し得る。
【００７８】
３．４  ビームモニタの例
３．４．１  ２つの異なる位置におけるビーム幅の検出
図７Ａは、第１の実施形態に係るＥＵＶ光生成システムにおけるビームモニタ５７の第１の例を概略的に示す。図７Ｂは、ビームモニタの第１の例を適用する場合の波面の検出原理を説明するための図である。第１の例において、ビームモニタ５７は、サンプル光の進行方向における２つの異なる位置におけるビームプロファイルを検出してもよい。なお、サンプル光とは、ビームスプリッタ５６によって反射されてビームモニタ５７に入射するレーザビームの一部及びガイドレーザビームでもよい。ビームプロファイルは、例えばレーザビーム又はガイドレーザビームのビーム断面における光強度分布であってもよい。
【００７９】
図７Ａに示されるように、ビームモニタ５７は、第１のバンドパスフィルタ７１及び第２のバンドパスフィルタ７２と、ビームスプリッタ７３と、高反射ミラー７７と、転写光学系７５及び７９と、ビームプロファイラ５７０及び５９０と、を含んでもよい。ビームプロファイラ５７０及び５９０の各々は、例えばラインセンサまたはＣＣＤカメラであってもよい。
【００８０】
第１のバンドパスフィルタ７１及び第２のバンドパスフィルタ７２は、駆動部７８によって移動可能に構成されてもよい。駆動部７８は、コントローラ５８によって制御されてもよい。第１のバンドパスフィルタ７１は、レーザビームを高い透過率で透過させ、他の波長の光を減衰させる又は遮断する光学フィルタでもよい。第２のバンドパスフィルタ７２は、ガイドレーザビームを高い透過率で透過させ、他の波長の光を減衰させる又は遮断する光学フィルタでもよい。
【００８１】
ビームスプリッタ７３は、サンプル光の一部を転写光学系７５に向けて透過させ、当該サンプル光の他の一部を高反射ミラー７７に向けて反射するように構成及び配置されてもよい。高反射ミラー７７は、ビームスプリッタ７３によって反射された光を高い反射率で転写光学系７９に向けて反射するように配置されてもよい。
【００８２】
転写光学系７５は、サンプル光の光路上の任意の位置Ａ１におけるビームプロファイルをビームプロファイラ５７０の受光面に転写してもよい。転写光学系７９は、サンプル光の光路上の別の任意の位置Ａ２におけるビームプロファイルをビームプロファイラ５９０の受光面に転写してもよい。位置Ａ１とビームプロファイラ５７０の受光面との間のサンプル光の光路に沿った距離は、位置Ａ２とビームプロファイラ５９０の受光面との間のサンプル光の光路に沿った距離に等しくてもよい。ビームプロファイラ５７０及び５９０は、受光面に転写されたビームプロファイルのデータをコントローラ５８に出力してもよい。
【００８３】
コントローラ５８は、ビームプロファイラ５７０からの出力データに基づいて、位置Ａ１におけるサンプル光のビーム幅Ｄａ１を算出してもよい。「ビーム幅」は、光強度分布内のピーク強度に対して１／ｅ２以上の強度を有する部分の幅であってもよい。
【００８４】
さらに、コントローラ５８は、ビームプロファイラ５７０及び５９０からの出力データに基づいて、サンプル光の波面に関するパラメータとして波面の曲率を算出してもよい。例えば、コントローラ５８はビームプロファイラ５９０からの出力に基づいて、位置Ａ２におけるサンプル光のビーム幅Ｄａ２を算出してもよい。そして、コントローラ５８は、サンプル光のビーム幅Ｄａ１及びＤａ２の差から、サンプル光の波面の曲率を算出してもよい。サンプル光の波面の曲率を算出するために、ビームダイバージェンスθを下式によって算出してもよい。
θ＝ｔａｎ−１｛（Ｄａ２−Ｄａ１）／２Ｌ｝
ここで、Ｌは、サンプル光の光路に沿った位置Ａ１と位置Ａ２との間の距離でもよい。
【００８５】
図７Ａに示されるように、駆動部７８がサンプル光の光路上に第１のバンドパスフィルタ７１を移動させた場合、ビームスプリッタ７３には、サンプル光のうちのレーザビームの波長成分が到達し得る。従って、コントローラ５８により、レーザビームのビーム幅及び波面に関するパラメータが算出され得る。
【００８６】
駆動部７８がサンプル光の光路上に第２のバンドパスフィルタ７２を移動させた場合、ビームスプリッタ７３には、サンプル光のうちのガイドレーザビームの波長成分が到達し得る。従って、コントローラ５８により、ガイドレーザビームのビーム幅及び波面に関するパラメータが算出され得る。
【００８７】
なお、転写光学系７５及び７９は、レーザビーム及びガイドレーザビームの波長に対して色収差を補正する機能を有するのが好ましい。例えば、転写光学系７５及び７９の各々は、色消しレンズやその組合せであるのが好ましい。さらに、転写光学系７５及び７９は、原理的に色収差が少ない構成であることが好ましい。
【００８８】
第１の例によれば、レーザビームとガイドレーザビームとを検出するために、ビームプロファイラ５７０が共通に用いられ、あるいは、レーザビームとガイドレーザビームとを検出するために、ビームプロファイラ５９０が共通に用いられるので、高精度にレーザビームの波面とガイドレーザビームの波面とのずれが検出され得る。
【００８９】
以上の算出結果に基づいて、コントローラ５８は、ガイドレーザビーム波面調節器８４及び両ビーム波面調節器８１を制御してもよい。コントローラ５８は、図５〜図６Ｅのフローチャートに示された動作と同様に動作してもよい。
【００９０】
３．４．２  ビーム幅とスポット幅の検出
図８は、第１の実施形態に係るＥＵＶ光生成システムにおけるビームモニタ５７の第２の例を概略的に示す。第２の例において、ビームモニタ５７は、サンプル光のビームプロファイルと、集光されたサンプル光のスポット幅とを検出するために、ビームスプリッタ７３によってサンプル光を分岐させてもよい。
【００９１】
図８に示されるように、ビームモニタ５７は、第１のバンドパスフィルタ７１及び第２のバンドパスフィルタ７２と、ビームスプリッタ７３と、集光光学系７４と、転写光学系７５と、ビームプロファイラ５４０及び５７０と、を含んでもよい。
【００９２】
第１のバンドパスフィルタ７１及び第２のバンドパスフィルタ７２は、駆動部７８によって移動可能に構成されてもよい。駆動部７８は、コントローラ５８によって制御されてもよい。第１のバンドパスフィルタ７１は、レーザビームを高い透過率で透過させ、他の波長の光を減衰させる又は遮断する光学フィルタでもよい。第２のバンドパスフィルタ７２は、ガイドレーザビームを高い透過率で透過させ、他の波長の光を減衰させる又は遮断する光学フィルタでもよい。
ビームスプリッタ７３は、サンプル光の一部を転写光学系７５に向けて透過させ、他の一部を集光光学系７４に向けて反射するように構成及び配置されてもよい。
【００９３】
転写光学系７５は、サンプル光の光路上の位置Ａ１におけるビームプロファイルをビームプロファイラ５７０の受光面に転写するように配置されてもよい。集光光学系７４は、ビームスプリッタ７３から分岐されたサンプル光の一部を、ビームプロファイラ５４０の受光面に集光するように配置されてもよい。ビームプロファイラ５４０は、上記受光面が集光光学系７４の主点から所定距離Ｘ離れて位置するように、配置されてもよい。
【００９４】
所定距離Ｘは、要求された波面を有するレーザビームが集光光学系７４によって焦点を結ぶ距離であってもよい。要求された波面とは、レーザビームがレーザ光集光ミラー２２０によって集光された場合に、プラズマ生成領域２５において所定の集光性能を実現できるよう設定された波面であってよい。要求された波面が平面波である場合には、所定距離Ｘは集光光学系７４の焦点距離でよい。要求された波面が凸面状の波面である場合には、所定距離Ｘは集光光学系７４の焦点距離よりも長い距離でよい。要求された波面が凹面状の波面である場合には、所定距離Ｘは集光光学系７４の焦点距離よりも短い距離でよい。ビームプロファイラ５７０は、その受光面に転写されたビーム断面における光強度分布のデータをコントローラ５８に出力してもよい。ビームプロファイラ５４０は、その受光面に集光された集光スポットにおける光強度分布のデータをコントローラ５８に出力してもよい。
【００９５】
コントローラ５８は、ビームプロファイラ５７０からのデータに基づいて、位置Ａ１におけるサンプル光のビーム幅Ｄａ１を算出してもよい。さらに、コントローラ５８は、ビームプロファイラ５４０からのデータに基づいて、集光されたサンプル光のスポット幅Ｓｄを算出してもよい。そして、コントローラ５８は、サンプル光の波面の曲率を算出してもよい。サンプル光の波面の曲率を算出するために、ビームダイバージェンスθを下式によって算出してもよい。
θ＝Ｓｐ／Ｘ
【００９６】
駆動部７８がサンプル光の光路上に第１のバンドパスフィルタ７１を移動させた場合、ビームスプリッタ７３には、サンプル光のうちのレーザビームの波長成分が到達し得る。従って、コントローラ５８により、レーザビームのビーム幅及び波面に関するパラメータが算出され得る。
【００９７】
駆動部７８がサンプル光の光路上に第２のバンドパスフィルタ７２を移動させた場合、ビームスプリッタ７３には、サンプル光のうちのガイドレーザビームの波長成分が到達し得る。従って、コントローラ５８により、ガイドレーザビームのビーム幅及び波面に関するパラメータが算出され得る。
【００９８】
なお、集光光学系７４及び転写光学系７５は、レーザビーム及びガイドレーザビームの波長に対して色収差を補正する機能を有するのが好ましい。例えば、集光光学系７４及び転写光学系７５の各々は、色消しレンズやその組合せであるのが好ましい。さらに、集光光学系７４及び転写光学系７５は原理的に色収差が少ない構成であることが好ましい。
【００９９】
第２の例によれば、レーザビームとガイドレーザビームとを検出するために、ビームプロファイラ５４０が共通に用いられ、あるいは、レーザビームとガイドレーザビームとを検出するために、ビームプロファイラ５７０が共通に用いられるので、高精度にレーザビームの波面とガイドレーザビームの波面とのずれが検出され得る。
【０１００】
以上の算出結果に基づいて、コントローラ５８は、ガイドレーザビーム波面調節器８４及び両ビーム波面調節器８１を制御してもよい。コントローラ５８は、図５〜図６Ｅのフローチャートに示された動作と同様に動作してもよい。
【０１０１】
３．４．３  シャックハルトマン波面センサ
図９は、第１の実施形態に係るＥＵＶ光生成システムにおけるビームモニタ５７の第３の例を概略的に示す。第３の例においては、サンプル光の波面に関するパラメータとして波面の曲率を計測するために、シャックハルトマン波面センサ９０が用いられてもよい。
【０１０２】
図９に示されるように、ビームモニタ５７は、第１のバンドパスフィルタ７１及び第２のバンドパスフィルタ７２と、シャックハルトマン波面センサ９０とを含んでもよい。シャックハルトマン波面センサ９０は、スクリーン９２と、ＣＣＤカメラ９３とを含んでもよい。スクリーン９２の代わりに、マイクロレンズアレイ（図示せず）が用いられてもよい。
【０１０３】
第１のバンドパスフィルタ７１及び第２のバンドパスフィルタ７２は、駆動部７８によって移動可能に構成されてもよい。駆動部７８は、コントローラ５８によって制御されてもよい。第１のバンドパスフィルタ７１は、レーザビームを高い透過率で透過させ、他の波長の光を減衰させる又は遮断する光学フィルタでもよい。第２のバンドパスフィルタ７２は、ガイドレーザビームを高い透過率で透過させ、他の波長の光を減衰させる又は遮断する光学フィルタでもよい。
【０１０４】
スクリーン９２は、多数のピンホールが二次元配置された光学素子でもよい。ＣＣＤカメラ９３は、スクリーン９２によって形成される干渉縞を撮像するための素子でもよい。
【０１０５】
コントローラ５８は、ＣＣＤカメラ９３からの出力に基づいて、サンプル光の波面に関するパラメータとして波面の曲率を算出してもよい。スクリーン９２によって形成される干渉縞の形状（例えば、干渉縞における光強度のピーク間の間隔）は、サンプル光の波長と波面の曲率とに依存し得る。従って、サンプル光の波長が既知であれば、干渉縞の形状からサンプル光の波面の曲率が算出され得る。
【０１０６】
駆動部７８がサンプル光の光路上に第１のバンドパスフィルタ７１を移動させた場合、シャックハルトマン波面センサ９０には、サンプル光のうちのレーザビームの波長成分が到達し得る。従って、コントローラ５８により、レーザビームの波面の曲率が算出され得る。
【０１０７】
駆動部７８がサンプル光の光路上に第２のバンドパスフィルタ７２を移動させた場合、シャックハルトマン波面センサ９０には、サンプル光のうちのガイドレーザビームの波長成分が到達し得る。従って、コントローラ５８により、ガイドレーザビームの波面の曲率が算出され得る。
【０１０８】
第３の例によれば、レーザビームとガイドレーザビームとを検出するために、シャックハルトマン波面センサ９０が共通に用いられるので、高精度にレーザビームの波面とガイドレーザビームの波面とのずれが検出され得る。
【０１０９】
以上の算出結果に基づいて、コントローラ５８は、ガイドレーザビーム波面調節器８４及び両ビーム波面調節器８１を制御してもよい。コントローラ５８は、図５〜図６Ｅのフローチャートに示された動作と同様に動作してもよい。
【０１１０】
３．４．４  シャックハルトマン波面センサとビームプロファイラとの組合せ
図１０は、第１の実施形態に係るＥＵＶ光生成システムにおけるビームモニタ５７の第４の例を概略的に示す。第４の例においては、シャックハルトマン波面センサ９０が用いられる他、サンプル光のビーム幅を計測するために、ビームスプリッタ７３と、高反射ミラー７７と、転写光学系７９と、ビームプロファイラ５９０と、を含んでもよい。
コントローラ５８は、ビームプロファイラ５９０からの出力データに基づいて、位置Ａ２におけるサンプル光のビーム幅を算出してもよい。
他の点については、第３の例と同様でよい。
【０１１１】
３．５  波面調節器の例
３．５．１  凹レンズと凸レンズとの組合せ
図１１Ａ〜図１１Ｃは、第１の実施形態に係るＥＵＶ光生成システムにおける波面調節器の第１の例を概略的に示す。波面調節器の第１の例は、例えば、ガイドレーザビーム波面調節器８４として用いられてもよい。第１の例においては、波面調節器は、凹レンズ８９１と、凸レンズ８９２と、を含んでもよい。
【０１１２】
凹レンズ８９１は、ガイドレーザ装置４０（図２参照）から出力されたガイドレーザビームが入射する位置に、ミラーホルダ８９３によって固定されていてもよい。ミラーホルダ８９３は、固定プレート８９６に固定されていてもよい。凹レンズ８９１は、ガイドレーザビームを透過させてもよい。
【０１１３】
凸レンズ８９２は、凹レンズ８９１を透過したガイドレーザビームが入射する位置に、ミラーホルダ８９４によって支持されていてもよい。ミラーホルダ８９４は、リニアステージ８９５を介して固定プレート８９６に支持されていてもよい。リニアステージ８９５は、ミラーホルダ８９４によって支持された凸レンズ８９２が、ガイドレーザビームの光路軸に沿って固定プレート８９６に対して往復動できるように、ミラーホルダ８９４を支持してもよい。凸レンズ８９２は、ガイドレーザビームを、ビーム結合器４４（図２参照）に向けて透過させてもよい。
【０１１４】
凹レンズ８９１は、凹レンズ８９１の主点からガイドレーザビームの上流側に焦点距離Ｆ１離れた位置に前方焦点Ｘ１を有してもよい。凸レンズ８９２は、凸レンズ８９２の主点からガイドレーザビームの上流側に焦点距離Ｆ２離れた位置に前方焦点Ｘ２を有してもよい。図１１Ａに示されるように、凹レンズ８９１の前方焦点Ｘ１と凸レンズ８９２の前方焦点Ｘ２とが一致するとき、この波面調節器のオプティカルパワーはほぼ０でもよい。
【０１１５】
図１１Ｂに示されるように、リニアステージ８９５が凸レンズ８９２をガイドレーザビームの下流側に移動させることにより、凹レンズ８９１の前方焦点Ｘ１よりも凸レンズ８９２の前方焦点Ｘ２がガイドレーザビームの下流側に移動させられてもよい。このとき、波面調節器のオプティカルパワーは正の値を有してもよい。
【０１１６】
図１１Ｃに示されるように、リニアステージ８９５が凸レンズ８９２をガイドレーザビームの上流側に移動させることにより、凹レンズ８９１の前方焦点Ｘ１よりも凸レンズ８９２の前方焦点Ｘ２がガイドレーザビームの上流側に移動させられてもよい。このとき、波面調節器のオプティカルパワーは負の値を有してもよい。
これにより、波面調節器は、ガイドレーザビームの波面を調節し得る。
【０１１７】
第１の例においては、波面調節器が、凹レンズ８９１と凸レンズ８９２との組合せを含むものとしたが、図２に例示されたガイドレーザビーム波面調節器８４及び両ビーム波面調節器８１のように、凹面ミラーと凸面ミラーとの組合せを含むものとしてもよい。
【０１１８】
３．５．２  ＶＲＭの利用
図１２Ａ〜図１２Ｃは、第１の実施形態に係るＥＵＶ光生成システムにおける波面調節器の第２の例を概略的に示す。波面調節器の第２の例は、ガイドレーザビーム波面調節器８４又は両ビーム波面調節器８１として用いられてもよい。第２の例においては、波面調節器は、ＶＲＭ（Variable Radius Mirror：曲率可変ミラー）８５を含んでもよい。
【０１１９】
ＶＲＭ８５は、両ビーム波面調節器８１として用いられる場合には、ビーム結合器４４（図２参照）から出力されたレーザビーム及びガイドレーザビームの光路に、ミラーホルダ（図示せず）によって支持されていてもよい。
【０１２０】
ＶＲＭ８５は、反射面の曲率を変更できるミラーであってもよい。ＶＲＭ８５は、図１２Ａに示されるような平面ミラーに変形することができてもよい。このとき、ＶＲＭ８５のオプティカルパワーはほぼ０でもよい。ＶＲＭ８５は、図１２Ｂに示されるように焦点距離が＋Ｆである凹面ミラーに変形することができてもよい。このとき、ＶＲＭ８５のオプティカルパワーは正の値を有してもよい。ＶＲＭ８５は、図１２Ｃに示されるように焦点距離が−Ｆである凸面ミラーに変形することができてもよい。このとき、ＶＲＭ８５のオプティカルパワーは負の値を有してもよい。これにより、ＶＲＭ８５は、レーザビームの波面を調節し得る。
【０１２１】
図１２Ｄは、波面調節器の第２の例におけるＶＲＭの構成を示す一部断面図である。ＶＲＭ８５は、圧力容器８５１と、反射板８５２と、供給配管８５３と、排出配管８５４と、圧力調節器８５５と、を含んでもよい。
【０１２２】
圧力容器８５１は、水などの液体を収容する剛性の容器であってもよい。反射板８５２は、圧力容器８５１の開口部に嵌め込まれた弾性を有する板であってもよい。反射板８５２の１つの面は、レーザビーム及びガイドレーザビームを高い反射率で反射し得る反射層を備え、この反射層の表面が圧力容器８５１の外部に露出していてもよい。
【０１２３】
供給配管８５３及び排出配管８５４のそれぞれの一端は、圧力容器８５１に接続されていてもよい。供給配管８５３及び排出配管８５４のそれぞれの他端は、圧力調節器８５５に接続されていてもよい。
【０１２４】
圧力調節器８５５は、コントローラ５８から出力される制御信号に基づいて、供給配管８５３から圧力容器８５１内に液体を供給して圧力容器８５１内の圧力を増加させてもよい。圧力調節器８５５は、コントローラ５８から出力される制御信号に基づいて、排出配管８５４から圧力容器８５１内の液体を排出させて圧力容器８５１内の圧力を減少させてもよい。
【０１２５】
圧力容器８５１内の圧力を増減させることで、反射板８５２の反射層の曲率を調節できてもよい。これにより、反射板８５２の反射層によって反射されるレーザビーム及びガイドレーザビームの波面が調節されてもよい。
【０１２６】
３．５．３  デフォーマブルミラーの利用
図１３Ａは、第１の実施形態に係るＥＵＶ光生成システムにおける波面調節器の第３の例を概略的に示す。波面調節器の第３の例は、ガイドレーザビーム波面調節器８４又は両ビーム波面調節器８１として用いられてもよい。第３の例においては、波面調節器は、デフォーマブルミラー８７を含んでもよい。
【０１２７】
デフォーマブルミラー８７は、両ビーム波面調節器８１として用いられる場合には、ビーム結合器４４（図２参照）から出力されたレーザビーム及びガイドレーザビームの光路に、ミラーホルダ（図示せず）によってその位置を固定されていてもよい。デフォーマブルミラー８７は、球面と異なる形状の波面を有するレーザビーム及びガイドレーザビームであっても、反射面の形状を制御することによって高精度に波面を補正し得る。
【０１２８】
波面調節器は、平面ミラー８８をさらに含んでもよい。デフォーマブルミラー８７は、レーザビーム及びガイドレーザビームを平面ミラー８８に向けて反射してもよい。平面ミラー８８は、デフォーマブルミラー８７によって反射されたレーザビーム及びガイドレーザビームの光路に、ミラーホルダ（図示せず）によって固定されていてもよい。平面ミラー８８は、レーザビーム及びガイドレーザビームを、ビーム伝送器５０（図２参照）に向けて反射してもよい。
【０１２９】
図１３Ｂは、波面調節器の第３の例におけるデフォーマブルミラーの構成を示す平面図である。図１３Ｃは、図１３Ｂに示されるデフォーマブルミラーの一部断面図である。デフォーマブルミラー８７は、基板８７１と、絶縁層８７２と、複数の下電極８７３と、複数の圧電性部材８７４と、上電極８７５と、反射層８７６と、を含んでもよい。
【０１３０】
基板８７１は、デフォーマブルミラー８７のベースとなる基板であってもよい。絶縁層８７２は、基板８７１の上面側に形成されていてもよい。複数の下電極８７３は、絶縁層８７２の上面側に、互いに離れた位置に形成されていてもよい。複数の圧電性部材８７４は、複数の下電極８７３の上面側にそれぞれ形成されていてもよい。上電極８７５は、複数の圧電性部材８７４の上面側にまたがって、共通の電極として形成されていてもよい。反射層８７６は、上電極８７５の上面側に形成され、レーザビーム及びガイドレーザビームを高い反射率で反射できるようになっていてもよい。
【０１３１】
以上の構成において、図示しない電圧制御回路により、上電極８７５に共通の電位Ｖ０を印加するとともに、複数の下電極８７３に電位Ｖ１〜Ｖ７をそれぞれ印加してもよい。これにより、複数の圧電性部材８７４をそれぞれ変形させて、反射層８７６の表面形状を変更させてもよい。
【０１３２】
３．５．４  軸外放物面凸面ミラーと軸外放物面凹面ミラーとの組合せ
図１４は、第１の実施形態に係るＥＵＶ光生成システムにおける波面調節器の第４の例を概略的に示す。波面調節器の第４の例は、ガイドレーザビーム波面調節器８４又は両ビーム波面調節器８１として用いられてもよい。第４の例においては、波面調節器は、軸外放物面凸面ミラー８２１と、軸外放物面凹面ミラー８２２と、平面ミラー８２３及び８２４と、ミラー固定プレート８２５と、駆動機構（図示せず）と、を含んでもよい。
【０１３３】
波面調節器の第４の例が両ビーム波面調節器８１として用いられる場合に、軸外放物面凸面ミラー８２１は、ビーム結合器４４（図２参照）から出力されたレーザビーム及びガイドレーザビームの光路に、ミラーホルダ（図示せず）によって固定されていてもよい。軸外放物面凸面ミラー８２１は、レーザビーム及びガイドレーザビームを軸外放物面凹面ミラー８２２に向けて反射してもよい。
【０１３４】
軸外放物面凹面ミラー８２２は、ミラーホルダ（図示せず）によってミラー固定プレート８２５に固定されていてもよい。軸外放物面凹面ミラー８２２は、軸外放物面凸面ミラー８２１によって反射されたレーザビーム及びガイドレーザビームを平面ミラー８２３に向けて反射してもよい。
【０１３５】
平面ミラー８２３は、別のミラーホルダ（図示せず）によってミラー固定プレート８２５に固定されていてもよい。平面ミラー８２３は、軸外放物面凹面ミラー８２２によって反射されたレーザビーム及びガイドレーザビームを、平面ミラー８２４に向けて反射してもよい。
【０１３６】
平面ミラー８２４は、平面ミラー８２３によって反射されたレーザビーム及びガイドレーザビームの光路に、ミラーホルダ（図示せず）によって固定されていてもよい。平面ミラー８２４は、レーザビーム及びガイドレーザビームを、ビーム伝送器５０（図２参照）に向けて反射してもよい。
【０１３７】
ミラー固定プレート８２５は、駆動機構によって矢印Ｙ方向に移動させられてもよい。ミラー固定プレート８２５と軸外放物面凸面ミラー８２１及び平面ミラー８２４との間隔を伸縮させることにより、レーザビーム及びガイドレーザビームの波面が調節され得る。軸外放物面凹面ミラー８２２から平面波を出力しようとする場合には、軸外放物面凸面ミラー８２１からの反射光が、軸外放物面凹面ミラー８２２の焦点の位置から放射した仮想の光と同等の波面を有する光とみなせるように調節されてもよい。ビーム結合器４４から出力されたレーザビーム及びガイドレーザビームが平面波である場合に、軸外放物面凸面ミラー８２１の焦点の位置と軸外放物面凹面ミラー８２２の焦点の位置とは同じであってもよい。
【０１３８】
４．レーザビームの波面をガイドレーザビームの波面に一致させるＥＵＶ光生成システム（第２の実施形態）
図１５は、本開示の第２の実施形態に係るＥＵＶ光生成システムの例示的な構成を示す一部断面図である。第２の実施形態に係るＥＵＶ光生成システムは、サブファブフロアにおいて、レーザシステム３とビーム結合器４４との間の光路に、レーザビーム波面調節器８３を含んでもよい。レーザビーム波面調節器８３の構成は、両ビーム波面調節器８１の構成と同様でよい。第２の実施形態に係るＥＵＶ光生成システムは、ガイドレーザビーム波面調節器８４（図２参照）を含まなくてもよい。
【０１３９】
第２の実施形態において、コントローラ５８は、レーザビームの波面とガイドレーザビームの波面との差があれば、この差が小さくなるように、レーザビーム波面調節器８３を制御してもよい。コントローラ５８は、レーザビームの波面とガイドレーザビームの波面とをほぼ一致させた後、第１の実施形態と同様に、ガイドレーザビームの波面の検出結果に基づいて両ビーム波面調節器８１を制御することにより、レーザビームの波面を調節してもよい。なお、本願において、レーザビーム波面調節器８３から出力されたレーザビーム又はガイドレーザビームとは、レーザビーム波面調節器８３によって反射されたレーザビーム又はガイドレーザビームを意味してもよい。レーザビーム波面調節器８３から出力されたレーザビーム又はガイドレーザビームとは、レーザビーム波面調節器８３を透過したレーザビーム又はガイドレーザビームを意味してもよい。
他の点については、第１の実施形態と同様でよい。
【０１４０】
５．レーザビームの波面とガイドレーザビームの波面とを調節するＥＵＶ光生成システム（第３の実施形態）
図１６は、本開示の第３の実施形態に係るＥＵＶ光生成システムの例示的な構成を示す一部断面図である。第３の実施形態に係るＥＵＶ光生成システムは、サブファブフロアにおいて、ガイドレーザ装置４０とビーム結合器４４との間の光路に、ガイドレーザビーム波面調節器８４を含んでもよい。第３の実施形態に係るＥＵＶ光生成システムは、両ビーム波面調節器８１（図１５参照）を含まなくてもよい。
【０１４１】
第３の実施形態において、コントローラ５８は、レーザビームの波面とガイドレーザビームの波面との差があれば、この差が小さくなるように、ガイドレーザビーム波面調節器８４又はレーザビーム波面調節器８３を制御してもよい。コントローラ５８は、レーザビームの波面とガイドレーザビームの波面とをほぼ一致させた後、ガイドレーザビームの波面の検出結果に基づいて、ガイドレーザビーム波面調節器８４及びレーザビーム波面調節器８３の両方を同じ制御量で制御してもよい。同じ制御量で制御するとは、ガイドレーザビーム波面調節器８４のオプティカルパワーの変化量とレーザビーム波面調節器８３のオプティカルパワーの変化量とがほぼ同じになるように両方を制御することを意味し得る。
他の点については、第２の実施形態と同様でよい。
【０１４２】
６．波面とビーム幅とを調節するＥＵＶ光生成システム（第４の実施形態）
６．１  構成
図１７は、本開示の第４の実施形態に係るＥＵＶ光生成システムの例示的な構成を示す一部断面図である。第４の実施形態に係るＥＵＶ光生成システムは、第１の実施形態の構成に加えて、クリーンルームフロアにおいて、ビーム伝送器５０と光検出部５５との間の光路に、第２の両ビーム波面調節器８２を含んでもよい。第２の両ビーム波面調節器８２の構成は、両ビーム波面調節器８１の構成と同様でよい。他の点については、第１の実施形態と同様の構成を有してもよい。
また、第２の実施形態又は第３の実施形態の構成に、第２の両ビーム波面調節器８２が加えられてもよい（図示せず）。
【０１４３】
図１８Ａ及び図１８Ｂは、ガイドレーザビーム波面調節器８４、両ビーム波面調節器８１及び第２の両ビーム波面調節器８２による波面及びビーム幅の調節原理を説明するための図である。上述の図４Ｃに示されるように、ガイドレーザビーム波面調節器８４によってレーザビームとガイドレーザビームの波面を一致させ、両ビーム波面調節器８１によって波面を調節しても、所望のビーム幅とならない場合があり得る。
【０１４４】
そこで、図１８Ａに示されるように、両ビーム波面調節器８１は、ビームモニタ５７におけるガイドレーザビームのビーム幅が所定の値となるように制御されてもよい。すなわち、両ビーム波面調節器８１は、ビームモニタ５７における波面の検出結果に基づいて制御されるのではなく、ビームモニタ５７におけるビーム幅の検出結果に基づいて制御されてもよい。
【０１４５】
さらに、図１８Ｂに示されるように、第２の両ビーム波面調節器８２は、ビームモニタ５７におけるガイドレーザビームの波面に関するパラメータが所定の値となるように制御されてもよい。すなわち、第２の両ビーム波面調節器８２は、ビームモニタ５７における波面の検出結果に基づいて制御されてもよい。
【０１４６】
このようにして、ビームモニタ５７におけるビーム幅と波面とが所望の値に調節されてもよい。なお、ビーム伝送器５０と第２の両ビーム波面調節器８２との間の光路に、ビーム伝送器５０からのレーザビーム及びガイドレーザビームのビーム幅を検出するための第２のビームモニタ（図示せず）を配置してもよい。すなわち、ビームモニタ５７の検出結果に基づいて波面に関するパラメータを算出し、第２のビームモニタの検出結果に基づいてビーム幅を算出してもよい。
【０１４７】
６．２  動作
６．２．１  メインフロー
図１９は、第４の実施形態におけるコントローラ５８の例示的な動作を示すフローチャートである。コントローラ５８は、ガイドレーザビームを用いてレーザビームの波面及びビーム幅が所望の値となるように、以下のようにガイドレーザビーム波面調節器８４、両ビーム波面調節器８１及び第２の両ビーム波面調節器８２を制御してもよい。
【０１４８】
まず、コントローラ５８は、ガイドレーザビーム波面調節器８４、両ビーム波面調節器８１及び第２の両ビーム波面調節器８２を制御するための初期設定を行ってもよい（Ｓ２１５０）。その後、コントローラ５８は、処理をＳ２２００に進めてもよい。Ｓ２２００からＳ２６００までの処理は、第１の実施形態と同様でよい。
Ｓ２５００において、上述の差ΔＷｄｇの絶対値が所定の閾値ΔＷｄｇｒ以下である場合（Ｓ２５００；ＹＥＳ）、コントローラ５８は、処理をＳ２７００に進めてもよい。
【０１４９】
Ｓ２７００において、コントローラ５８は、ビームモニタ５７を制御し、ビームモニタ５７から検出結果を受信して、ガイドレーザビームのビーム幅Ｄｇを算出してもよい。
【０１５０】
次に、コントローラ５８は、ガイドレーザビームのビーム幅Ｄｇと所定値Ｄｔとの差ΔＤｇｔを、以下の式によって算出してもよい（Ｓ２８００）。
ΔＤｇｔ＝Ｄｇ−Ｄｔ
所定値Ｄｔは、例えば、レーザビームの集光スポット幅が望ましい値となるようにするためのガイドレーザビームのビーム幅であってもよい。ガイドレーザビームのビーム幅は、ガイドレーザビーム波面調節器８４による波面の制御によってレーザビームのビーム幅とは別個に変動し得る。しかし、ガイドレーザビーム波面調節器８４のオプティカルパワーが決定された条件のもとでは、ガイドレーザビームのビーム幅とレーザビームのビーム幅とはほぼ１対１に対応し得る。レーザビームのビーム幅が決定されれば、レーザビームの集光スポット幅が決定され得る。そこで、レーザビームの集光スポット幅が望ましい値となるようにするためのガイドレーザビームのビーム幅を、ガイドレーザビーム波面調節器８４のオプティカルパワーに対応付けて、ストレージメモリ１００５（後述）に記憶させておいてもよい。このデータと、ガイドレーザビーム波面調節器８４のオプティカルパワーとに基づいて、所定値Ｄｔが決定されてもよい。
【０１５１】
次に、コントローラ５８は、Ｓ２８００で算出された差ΔＤｇｔの絶対値が所定の閾値ΔＤｇｔｒ以下であるか否かを判定してもよい（Ｓ２９００）。所定の閾値ΔＤｇｔｒは、正の値でもよい。
【０１５２】
差ΔＤｇｔの絶対値が所定の閾値ΔＤｇｔｒ以下ではない場合（Ｓ２９００；ＮＯ）、コントローラ５８は、差ΔＤｇｔが０に近づくように、両ビーム波面調節器８１を制御してもよい（Ｓ３０００）。そして、コントローラ５８は、処理を上述のＳ２７００に戻してその後の処理を繰り返してもよい。
【０１５３】
差ΔＤｇｔの絶対値が所定の閾値ΔＤｇｔｒ以下である場合（Ｓ２９００；ＹＥＳ）、コントローラ５８は、処理をＳ３１００に進めてもよい。Ｓ３１００において、コントローラ５８は、Ｓ２３００と同様に、ガイドレーザビームの波面に関するパラメータＷｇを算出してもよい。その後、コントローラ５８は、処理をＳ３２００に進めてもよい。Ｓ３２００及びその次のＳ３３００の処理は、第１の実施形態と同様でよい。
【０１５４】
Ｓ３３００において、上述の差ΔＷｇｔの絶対値が所定の閾値ΔＷｇｔｒ以下ではない場合（Ｓ３３００；ＮＯ）、コントローラ５８は、差ΔＷｇｔが０に近づくように、第２の両ビーム波面調節器８２を制御してもよい（Ｓ３４５０）。そして、コントローラ５８は、処理を上述のＳ３１００に戻してその後の処理を繰り返してもよい。
差ΔＷｇｔの絶対値が所定の閾値ΔＷｇｔｒ以下である場合（Ｓ３３００；ＹＥＳ）、コントローラ５８は、処理をＳ３６００に進めてもよい。Ｓ３６００及びその次のＳ３７００の処理は、第１の実施形態と同様でよい。
【０１５５】
Ｓ２１５０の処理が終了してからＳ３６００の処理が終了するまでの間は、ターゲット生成部２６からターゲット２７が出力されなくてもよい。また、Ｓ２１５０の処理が終了してからＳ３６００の処理が終了するまでの間は、Ｓ２２００でレーザビームの波面に関するパラメータＷｄを算出する場合を除いて、レーザシステム３からレーザビームが出力されなくてもよい。Ｓ３６００の処理が行われた後、ＥＵＶ光生成制御部５による制御によって、ターゲット生成部２６からターゲット２７が出力され、レーザシステム３からレーザビームが出力されてもよい。
【０１５６】
Ｓ３７００において、ＥＵＶ光生成制御部５から制御中止を示す信号を受信した場合（Ｓ３７００：ＹＥＳ）、コントローラ５８は、制御を中止し、本フローチャートによる処理を終了してもよい。制御中止を示す信号を受信していない場合（Ｓ３７００：ＮＯ）、上述のＳ２７００に戻ってその後の処理を繰り返してもよい。Ｓ３７００からＳ２７００に戻った場合に、その後Ｓ２７００からＳ３７００までの処理が行われている間は、ターゲット２７及びレーザビームの出力が行われてもよい。
【０１５７】
６．２．２  初期設定（Ｓ２１５０の詳細）
図２０Ａは、図１９に示された初期設定の処理を示すフローチャートである。図２０Ａに示される処理は、図１９に示されたＳ２１５０のサブルーチンとして、コントローラ５８によって行われてもよい。
【０１５８】
まず、コントローラ５８は、波面の制御が完了していないこと（波面ＮＧ）を示す信号を、ＥＵＶ光生成制御部５に出力してもよい（Ｓ２１５１）。これにより、ＥＵＶ光生成制御部５が、ターゲット生成部２６からのターゲット２７の出力を停止させ、レーザシステム３からのレーザビームの出力を停止させてもよい。
【０１５９】
次に、コントローラ５８は、初期値の設定を行ってもよい（Ｓ２１５２）。具体的には、上述のオプティカルパワーの現在値Ｐ＃１、Ｐ＃２、及び第２の両ビーム波面調節器８２のオプティカルパワーの現在値Ｐ＃３を、０に設定してもよい。
Ｓ２１５２の後、コントローラ５８は、本フローチャートによる処理を終了してもよい。
【０１６０】
６．２．３  Ｄｇの算出（Ｓ２７００の詳細）
図２０Ｂは、図１９に示されたガイドレーザビームのビーム幅Ｄｇの算出処理を示すフローチャートである。図２０Ｂに示される処理は、図１９に示されたＳ２７００のサブルーチンとして、コントローラ５８によって行われてもよい。
【０１６１】
まず、コントローラ５８は、ビームモニタ５７を制御して、ビームモニタ５７に含まれる上述の第２のバンドパスフィルタをセットしてもよい（Ｓ２７０１）。
【０１６２】
次に、コントローラ５８は、ガイドレーザ装置４０からガイドレーザビームが出力されたか否かを判定してもよい（Ｓ２７０２）。ガイドレーザビームが出力されていない場合（Ｓ２７０２：ＮＯ）、コントローラ５８はガイドレーザ装置４０からガイドレーザビームが出力されるまで待機してもよい。ガイドレーザビームが出力された場合（Ｓ２７０２：ＹＥＳ）、コントローラ５８は処理をＳ２７０３に進めてもよい。
【０１６３】
Ｓ２７０３において、コントローラ５８は、ビームモニタ５７により、ガイドレーザビームのビームプロファイルを取得してもよい。
次に、コントローラ５８は、Ｓ２７０３において取得したビームプロファイルから、ガイドレーザビームのビーム幅Ｄｇを算出し（Ｓ２７０４）、本フローチャートによる処理を終了してもよい。
【０１６４】
６．２．４  両ビーム波面調節器の制御（Ｓ３０００の詳細）
図２０Ｃは、図１９に示された両ビーム波面調節器８１を制御する処理を示すフローチャートである。図２０Ｃに示される処理は、図１９に示されたＳ３０００のサブルーチンとして、コントローラ５８によって行われてもよい。まず、コントローラ５８は、上述の差ΔＤｇｔと０とを比較してもよい（Ｓ３００２）。
【０１６５】
Ｓ３００２において、差ΔＤｇｔが０より小さい場合（ΔＤｇｔ＜０）、コントローラ５８は処理をＳ３００４に進めてもよい。Ｓ３００４において、両ビーム波面調節器８１のオプティカルパワーの現在値Ｐ＃２から所定の定数ΔＰ＃２を減算した値を、目標オプティカルパワーＰ２として設定してもよい。
【０１６６】
Ｓ３００２において、差ΔＤｇｔが０より大きい場合（ΔＤｇｔ＞０）、コントローラ５８は処理をＳ３００５に進めてもよい。Ｓ３００５において、両ビーム波面調節器８１のオプティカルパワーの現在値Ｐ＃２に所定の定数ΔＰ＃２を加算した値を、目標オプティカルパワーＰ２として設定してもよい。所定の定数ΔＰ＃２は、正の値でもよい。
【０１６７】
次に、コントローラ５８は、両ビーム波面調節器８１のオプティカルパワーが目標オプティカルパワーＰ２に近づくように両ビーム波面調節器８１に制御信号を出力してもよい（Ｓ３００６）。
次に、コントローラ５８は、上述のＰ２を、両ビーム波面調節器８１のオプティカルパワーの現在値Ｐ＃２としてメモリ１００２（後述）に記憶させ（Ｓ３００７）、本フローチャートによる処理を終了してもよい。
【０１６８】
６．２．５  第２の両ビーム波面調節器の制御（Ｓ３４５０の詳細）
図２０Ｄは、図１９に示された第２の両ビーム波面調節器８２を制御する処理を示すフローチャートである。図２０Ｄに示される処理は、図１９に示されたＳ３４５０のサブルーチンとして、コントローラ５８によって行われてもよい。まず、コントローラ５８は、上述の差ΔＷｇｔと０とを比較してもよい（Ｓ３４５２）。
【０１６９】
Ｓ３４５２において、差ΔＷｇｔが０より小さい場合（ΔＷｇｔ＜０）、コントローラ５８は処理をＳ３４５４に進めてもよい。Ｓ３４５４において、第２の両ビーム波面調節器８２のオプティカルパワーの現在値Ｐ＃３から所定の定数ΔＰ＃３を減算した値を、目標オプティカルパワーＰ３として設定してもよい。
【０１７０】
Ｓ３４５２において、差ΔＷｇｔが０より大きい場合（ΔＷｇｔ＞０）、コントローラ５８は処理をＳ３４５５に進めてもよい。Ｓ３４５５において、第２の両ビーム波面調節器８２のオプティカルパワーの現在値Ｐ＃３に所定の定数ΔＰ＃３を加算した値を、目標オプティカルパワーＰ３として設定してもよい。所定の定数ΔＰ＃３は、正の値でもよい。
【０１７１】
次に、コントローラ５８は、第２の両ビーム波面調節器８２のオプティカルパワーが目標オプティカルパワーＰ３に近づくように第２の両ビーム波面調節器８２に制御信号を出力してもよい（Ｓ３４５６）。
次に、コントローラ５８は、上述のＰ３を、第２の両ビーム波面調節器８２のオプティカルパワーの現在値Ｐ＃３としてメモリ１００２（後述）に記憶させ（Ｓ３４５７）、本フローチャートによる処理を終了してもよい。
【０１７２】
７．レーザシステム（第５の実施形態）
図２１は、本開示の第５の実施形態のＥＵＶ光生成システムに含まれるレーザシステムの例示的な構成を概略的に示す。図２１において、ＥＵＶ光生成装置の図示は省略されている。第５の実施形態において、レーザシステム３は、マスターオシレータ３００と、複数の増幅器３０１〜３０３とを含んでもよい。
【０１７３】
さらに、レーザシステム３は、ガイドレーザ装置３４０と、ガイドレーザビーム波面調節器３８４と、ビーム結合器３４４と、両ビーム波面調節器３８１とを含んでもよい。さらに、レーザシステム３は、第２の両ビーム波面調節器３８２と、ビームスプリッタ３５６と、ビームモニタ３５７と、コントローラ３５８とを含んでもよい。
【０１７４】
ガイドレーザ装置３４０は、そのガイドレーザ装置３４０から出力されるガイドレーザビームがガイドレーザビーム波面調節器３８４に入射するように配置されてもよい。ガイドレーザビーム波面調節器３８４は、ガイドレーザ装置３４０から出力されたガイドレーザビームの光路に配置されていてもよい。
【０１７５】
マスターオシレータ３００は、レーザビームの種光を出力するよう構成されてもよい。増幅器３０１は、マスターオシレータ３００から出力された種光を増幅し、増幅器３０２は、増幅器３０１において増幅されて増幅器３０１から出力されたレーザビームを、さらに増幅してもよい。
【０１７６】
ビーム結合器３４４は、ダイクロイックミラーを含んでもよい。ビーム結合器３４４の第１の面（図中右側の面）には、増幅器３０２から出力されたレーザビームが入射してもよい。ビーム結合器３４４の第２の面（図中左側の面）には、ガイドレーザビーム波面調節器３８４から出力されたガイドレーザビームが入射してもよい。ビーム結合器３４４は、第１の面に入射したレーザビームを高い透過率で透過させ、第２の面に入射したガイドレーザビームを高い反射率で反射してもよい。ビーム結合器３４４は、レーザビームの進行方向とガイドレーザビームの進行方向とを実質的に一致させるように、上記各ビームの光路に対して所定の設置角度で設置されてもよい。
【０１７７】
両ビーム波面調節器３８１は、ビーム結合器３４４から出力されたレーザビーム及びガイドレーザビームの光路に配置されていてもよい。
【０１７８】
増幅器３０３は、両ビーム波面調節器３８１から出力されたレーザビーム及びガイドレーザビームを通過させてもよい。このとき、増幅器３０３は、少なくともレーザビームを増幅して通過させてもよい。
【０１７９】
第２の両ビーム波面調節器３８２は、増幅器３０３を通過したレーザビーム及びガイドレーザビームの光路に配置されてもよい。
ビームスプリッタ３５６は、第２の両ビーム波面調節器３８２から出力されたレーザビーム及びガイドレーザビームの光路に配置されてもよい。ビームスプリッタ３５６は、少なくともレーザビームを高い透過率でビーム伝送器５０（図２）に向けて透過させるとともに、レーザビームの一部及びガイドレーザビームをサンプル光として反射してもよい。
ビームモニタ３５７は、ビームスプリッタ３５６によって反射されたレーザビーム及びガイドレーザビームを含むサンプル光の光路に配置されてもよい。
【０１８０】
ガイドレーザ装置３４０、ガイドレーザビーム波面調節器３８４、ビーム結合器３４４及び両ビーム波面調節器３８１の構成は、それぞれ、上述のガイドレーザ装置４０、ガイドレーザビーム波面調節器８４、ビーム結合器４４及び両ビーム波面調節器８１の構成と同様でよい。第２の両ビーム波面調節器３８２、ビームスプリッタ３５６及びビームモニタ３５７の構成は、それぞれ、上述の第２の両ビーム波面調節器８２、ビームスプリッタ５６及びビームモニタ５７の構成と同様でよい。
【０１８１】
コントローラ３５８は、ビームモニタ３５７から出力される検出結果に基づいて、ガイドレーザビーム波面調節器３８４、両ビーム波面調節器３８１及び第２の両ビーム波面調節器３８２を制御してもよい。コントローラ３５８の機能は、第４の実施形態において説明したコントローラ５８の機能と同様でよい。
【０１８２】
第５の実施形態においては、第２の両ビーム波面調節器３８２が設けられなくてもよい。その場合には、コントローラ３５８の機能は、第１の実施形態において説明したコントローラ５８の機能と同様でよい。
【０１８３】
第５の実施形態によれば、マスターオシレータ３００からレーザビームが出力されていないときにも、コントローラ３５８は、ガイドレーザビームの波面に関するパラメータに基づいて、ガイドレーザビーム波面調節器３８４、両ビーム波面調節器３８１及び第２の両ビーム波面調節器３８２を制御し得る。これにより、レーザビームの出力初期においても、レーザビームの波面を予め定めた範囲内へ制御できる。
【０１８４】
８．コントローラの構成
図２２は、コントローラ５８の概略構成を示すブロック図である。
上述した実施の形態におけるコントローラ５８は、コンピュータやプログラマブルコントローラ等汎用の制御機器によって構成されてもよい。たとえば、以下のように構成されてもよい。
【０１８５】
（構成）
コントローラは、処理部１０００と、処理部１０００に接続される、ストレージメモリ１００５と、ユーザインターフェイス１０１０と、パラレルＩ／Ｏコントローラ１０２０と、シリアルＩ／Ｏコントローラ１０３０と、Ａ／Ｄ、Ｄ／Ａコンバータ１０４０とによって構成されてもよい。また、処理部１０００は、ＣＰＵ１００１と、ＣＰＵ１００１に接続された、メモリ１００２と、タイマー１００３と、ＧＰＵ１００４とから構成されてもよい。
【０１８６】
（動作）
処理部１０００は、ストレージメモリ１００５に記憶されたプログラムを読み出してもよい。また、処理部１０００は、読み出したプログラムを実行したり、プログラムの実行に従ってストレージメモリ１００５からデータを読み出したり、ストレージメモリ１００５にデータを記憶させたりしてもよい。
【０１８７】
パラレルＩ／Ｏコントローラ１０２０は、パラレルＩ／Ｏポートを介して通信可能な機器１０２１〜１０２ｘに接続されてもよい。パラレルＩ／Ｏコントローラ１０２０は、処理部１０００がプログラムを実行する過程で行うパラレルＩ／Ｏポートを介した、デジタル信号による通信を制御してもよい。
【０１８８】
シリアルＩ／Ｏコントローラ１０３０は、シリアルＩ／Ｏポートを介して通信可能な機器１０３１〜１０３ｘに接続されてもよい。シリアルＩ／Ｏコントローラ１０３０は、処理部１０００がプログラムを実行する過程で行うシリアルＩ／Ｏポートを介した、デジタル信号による通信を制御してもよい。
【０１８９】
Ａ／Ｄ、Ｄ／Ａコンバータ１０４０は、アナログポートを介して通信可能な機器１０４１〜１０４ｘに接続されてもよい。Ａ／Ｄ、Ｄ／Ａコンバータ１０４０は、処理部１０００がプログラムを実行する過程で行うアナログポートを介した、アナログ信号による通信を制御してもよい。
【０１９０】
ユーザインターフェイス１０１０は、オペレータが処理部１０００によるプログラムの実行過程を表示したり、オペレータによるプログラム実行の中止や割り込み処理を処理部１０００に行わせたりするよう構成されてもよい。
【０１９１】
処理部１０００のＣＰＵ１００１はプログラムの演算処理を行ってもよい。メモリ１００２は、ＣＰＵ１００１がプログラムを実行する過程で、プログラムの一時記憶や、演算過程でのデータの一時記憶を行ってもよい。タイマー１００３は、時刻や経過時間を計測し、プログラムの実行に従ってＣＰＵ１００１に時刻や経過時間を出力してもよい。ＧＰＵ１００４は、処理部１０００に画像データが入力された際、プログラムの実行に従って画像データを処理し、その結果をＣＰＵ１００１に出力してもよい。
【０１９２】
パラレルＩ／Ｏコントローラ１０２０に接続される、パラレルＩ／Ｏポートを介して通信可能な機器１０２１〜１０２ｘは、ＥＵＶ光生成制御部５、他のコントローラ等であってもよい。
シリアルＩ／Ｏコントローラ１０３０に接続される、シリアルＩ／Ｏポートを介して通信可能な機器１０３１〜１０３ｘは、ガイドレーザ装置４０、ビームモニタ５７、両ビーム波面調節器８１、第２の両ビーム波面調節器８２、レーザビーム波面調節器８３、ガイドレーザビーム波面調節器８４等であってもよい。
Ａ／Ｄ、Ｄ／Ａコンバータ１０４０に接続される、アナログポートを介して通信可能な機器１０４１〜１０４ｘは、温度センサ、圧力センサ、真空計等の各種センサであってもよい。
以上のように構成されることで、コントローラ５８はフローチャートに示された動作を実現可能であってよい。
【０１９３】
上記の実施形態とそれらの変形例は、本開示を実施するための例示に過ぎず、本開示はこれらの例示に限定されない。この明細書に従って様々な変形を行うことは本開示の範囲内であり、本開示の範囲内で他の様々な変形を行うことが可能である。実施形態の１つにおいて説明された変形例は、他の実施形態（ここに説明された他の実施形態を含む）においても可能である。
【０１９４】
本明細書及び添付の特許請求の範囲全体で使用される用語は、「限定的でない」用語と解釈されるべきである。例えば、「含む」又は「含まれる」という用語は、「含まれるものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。「有する」という用語は、「有するものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。また、修飾句「１つの」は、「少なくとも１つ」又は「１又はそれ以上」を意味すると解釈されるべきである。
【図１】
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【図２】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図４Ｃ】
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【図５】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【図６Ｃ】
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【図６Ｄ】
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【図６Ｅ】
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【図７Ａ】
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【図７Ｂ】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１Ａ】
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【図１１Ｂ】
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【図１１Ｃ】
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【図１２Ａ】
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【図１２Ｂ】
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【図１２Ｃ】
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【図１２Ｄ】
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【図１３Ａ】
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【図１３Ｂ】
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【図１３Ｃ】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８Ａ】
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【図１８Ｂ】
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【図１９】
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【図２０Ａ】
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【図２０Ｂ】
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【図２０Ｃ】
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【図２０Ｄ】
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【図２１】
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【図２２】
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【国際調査報告】
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