(57)【要約】アクティブマトリクス基板の表示領域外に設定された検査用領域内を、データ線に接続される引き出し線（２７ａ〜２７ｆ）は列方向に通過し、検査用制御線（３１）と６本の検査用信号線（３２ａ〜３２ｆ）は行方向に延伸する。検査用ＴＦＴ（５１ａ〜５１ｆ）は、検査用制御線上の信号に従い、引き出し線とこれに対応する検査用信号線との導通状態を制御する。検査用領域内では、６本の検査用信号線のうち３本は検査用制御線の一方の側に配置され、残り３本は検査用制御線の他方の側に配置される。隣接する２本の引き出し線のうち一方は検査用ＴＦＴ（５１ａ、５１ｃ、５１ｅ）を介して前者の検査用信号線に接続され、他方は検査用ＴＦＴ（５１ｂ、５１ｄ、５１ｆ）を介して後者の検査用信号線に接続される。これにより、断線やリーク電流や検査用画面の輝度むらを抑制する。
2015178334.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示領域内に２次元状に配置された複数の画素回路と、  前記表示領域内を第１方向に延伸する複数の走査線と、  前記表示領域内を第２方向に延伸する複数のデータ線と、  前記データ線に接続され、前記表示領域外に設定された回路領域内を前記第２方向に通過する複数の引き出し線と、  前記回路領域内を前記第１方向に延伸する制御線と、  前記回路領域内を前記第１方向に延伸する複数の信号線と、  前記回路領域内に配置され、前記制御線上の信号に従い、前記引き出し線と当該引き出し線に対応する信号線との導通状態を制御する複数のスイッチング素子とを備え、  前記複数の信号線は、前記回路領域内で前記制御線の一方の側に配置された第１信号線と、前記回路領域内で前記制御線の他方の側に配置された第２信号線とを含み、  隣接する２本の引き出し線のうち一方は前記スイッチング素子を介して前記第１信号線に接続され、他方は前記スイッチング素子を介して前記第２信号線に接続されていることを特徴とする、アクティブマトリクス基板。
【請求項２】
前記制御線と前記信号線は前記走査線と同じ配線層に形成され、  前記スイッチング素子を介して前記第２信号線に接続される引き出し線は前記データ線と同じ配線層に形成され、  前記スイッチング素子を介して前記第１信号線に接続される引き出し線は、前記走査線と同じ配線層に形成された部分と前記データ線と同じ配線層に形成された部分とを有し、前記回路領域内では前記データ線と同じ配線層に形成されていることを特徴とする、請求項１に記載のアクティブマトリクス基板。
【請求項３】
前記引き出し線は、前記回路領域を挟んで前記表示領域の反対側に設定されたファンアウト領域では扇状に配置されており、  前記スイッチング素子を介して前記第１信号線に接続される引き出し線は、前記ファンアウト領域内では前記走査線と同じ配線層に形成されていることを特徴とする、請求項２に記載のアクティブマトリクス基板。
【請求項４】
前記引き出し線は、前記表示領域と前記回路領域の間に設定されたファンアウト領域では扇状に配置されており、  前記スイッチング素子を介して前記第１信号線に接続される引き出し線は、前記ファンアウト領域内では前記走査線と同じ配線層に形成されていることを特徴とする、請求項２に記載のアクティブマトリクス基板。
【請求項５】
前記制御線と前記信号線は前記走査線と同じ配線層に形成され、  前記引き出し線は前記データ線と同じ配線層に形成されていることを特徴とする、請求項１に記載のアクティブマトリクス基板。
【請求項６】
前記引き出し線は、前記表示領域と前記回路領域の間に設定されたファンアウト領域では扇状に配置されていることを特徴とする、請求項５に記載のアクティブマトリクス基板。
【請求項７】
前記第１信号線の本数、および、前記第２信号線の本数は、前記画素回路に割り当てられた基本色の数に等しいことを特徴とする、請求項１に記載のアクティブマトリクス基板。
【請求項８】
前記第１信号線は前記回路領域の前記第２方向に延伸する一方の辺と交差し、  前記第２信号線は前記回路領域の前記第２方向に延伸する他方の辺と交差することを特徴とする、請求項１に記載のアクティブマトリクス基板。
【請求項９】
前記スイッチング素子は、前記制御線と重なる位置に形成されていることを特徴とする、請求項１に記載のアクティブマトリクス基板。
【請求項１０】
前記制御線は、前記回路領域内では、前記スイッチング素子と前記スイッチング素子間の隙間とを含む領域に対応した線状形状を有することを特徴とする、請求項９に記載のアクティブマトリクス基板。
【請求項１１】
前記制御線は、前記回路領域内では、前記スイッチング素子を含み、前記スイッチング素子間の隙間を含まない領域に対応した切り欠き付き線状形状を有することを特徴とする、請求項９に記載のアクティブマトリクス基板。
【請求項１２】
前記スイッチング素子は、複数のグループに分類され、グループごとに前記第１方向に並べて配置され、  前記制御線は、前記回路領域内では前記スイッチング素子の各グループに対応した線状形状を有する複数の部分配線を含むことを特徴とする、請求項９に記載のアクティブマトリクス基板。
【請求項１３】
前記スイッチング素子は、当該スイッチング素子に接続される引き出し線の一方の側と他方の側に交互に配置されていることを特徴とする、請求項１に記載のアクティブマトリクス基板。
【請求項１４】
前記回路領域は、対向領域内に設定されていることを特徴とする、請求項１に記載のアクティブマトリクス基板。
【請求項１５】
前記回路領域は対向領域外に設定されており、  前記回路領域を遮光する遮光部材をさらに備えていることを特徴とする、請求項１に記載のアクティブマトリクス基板。
【請求項１６】
請求項１〜１５のいずれかに記載のアクティブマトリクス基板と、  前記アクティブマトリクス基板に対向する対向基板とを備えた、表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】  本発明は、アクティブマトリクス基板、および、これを備えた表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】  液晶表示装置は、薄型、軽量、低消費電力の表示装置として広く利用されている。液晶表示装置に含まれる液晶パネルは、アクティブマトリクス基板と対向基板を貼り合わせ、２枚の基板の間に液晶を封入した構造を有する。アクティブマトリクス基板には、複数の走査線、複数のデータ線、および、複数の画素回路が形成される。また、液晶表示装置のサイズを小さくする方法として、アクティブマトリクス基板に走査線駆動回路を一体に形成する方法や、アクティブマトリクス基板にデータ線駆動回路を実装する方法が知られている。【０００３】  液晶パネルの製造工程では、液晶パネルの検査が行われる。液晶パネルの検査は、例えば、仕掛品や完成品の液晶パネルに外部から検査用信号を供給し、そのときに表示される検査用画面を確認することにより行われる。液晶パネルの検査については、例えば特許文献１に、走査線などの短絡や断線を検出するために、４本の検査配線と複数の検査用スイッチング素子を備えたアクティブマトリクス基板が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】国際公開第２００９／１１３６６９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】  スマートフォンやタブレットＰＣなどに用いられる高精細かつ狭額縁の液晶パネルでは、データ線に接続される引き出し線の一部を２層の配線層に交互に形成する場合がある。この場合、画素回路に割り当てられた基本色の数の２倍の検査用信号線（例えば、ＲＧＢ方式の液晶パネルでは６本の検査用信号線）をアクティブマトリクス基板に形成すれば、液晶パネルの検査を簡単に高い精度で行うことができる。例えば、同じ配線層に形成された引き出し線のうちで隣接する引き出し線間のリーク電流を容易に検出することができる。しかしながら、特段の工夫を行うことなくアクティブマトリクス基板に多数の検査用信号線を形成すると、断線やリーク電流が発生しやすく、検査用画面に輝度むらが発生するという問題が起こる。【０００６】  それ故に、本発明は、断線やリーク電流や検査用画面の輝度むらを抑制したアクティブマトリクス基板、および、これを備えた表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】  本発明の第１の局面は、表示領域内に２次元状に配置された複数の画素回路と、  前記表示領域内を第１方向に延伸する複数の走査線と、  前記表示領域内を第２方向に延伸する複数のデータ線と、  前記データ線に接続され、前記表示領域外に設定された回路領域内を前記第２方向に通過する複数の引き出し線と、  前記回路領域内を前記第１方向に延伸する制御線と、  前記回路領域内を前記第１方向に延伸する複数の信号線と、  前記回路領域内に配置され、前記制御線上の信号に従い、前記引き出し線と当該引き出し線に対応する信号線との導通状態を制御する複数のスイッチング素子とを備え、  前記複数の信号線は、前記回路領域内で前記制御線の一方の側に配置された第１信号線と、前記回路領域内で前記制御線の他方の側に配置された第２信号線とを含み、  隣接する２本の引き出し線のうち一方は前記スイッチング素子を介して前記第１信号線に接続され、他方は前記スイッチング素子を介して前記第２信号線に接続されていることを特徴とする。【０００８】  本発明の第２の局面は、本発明の第１の局面において、  前記制御線と前記信号線は前記走査線と同じ配線層に形成され、  前記スイッチング素子を介して前記第２信号線に接続される引き出し線は前記データ線と同じ配線層に形成され、  前記スイッチング素子を介して前記第１信号線に接続される引き出し線は、前記走査線と同じ配線層に形成された部分と前記データ線と同じ配線層に形成された部分とを有し、前記回路領域内では前記データ線と同じ配線層に形成されていることを特徴とする。【０００９】  本発明の第３の局面は、本発明の第２の局面において、  前記引き出し線は、前記回路領域を挟んで前記表示領域の反対側に設定されたファンアウト領域では扇状に配置されており、  前記スイッチング素子を介して前記第１信号線に接続される引き出し線は、前記ファンアウト領域内では前記走査線と同じ配線層に形成されていることを特徴とする。【００１０】  本発明の第４の局面は、本発明の第２の局面において、  前記引き出し線は、前記表示領域と前記回路領域の間に設定されたファンアウト領域では扇状に配置されており、  前記スイッチング素子を介して前記第１信号線に接続される引き出し線は、前記ファンアウト領域内では前記走査線と同じ配線層に形成されていることを特徴とする。【００１１】  本発明の第５の局面は、本発明の第１の局面において、  前記制御線と前記信号線は前記走査線と同じ配線層に形成され、  前記引き出し線は前記データ線と同じ配線層に形成されていることを特徴とする。【００１２】  本発明の第６の局面は、本発明の第５の局面において、  前記引き出し線は、前記表示領域と前記回路領域の間に設定されたファンアウト領域では扇状に配置されていることを特徴とする。【００１３】  本発明の第７の局面は、本発明の第１の局面において、  前記第１信号線の本数、および、前記第２信号線の本数は、前記画素回路に割り当てられた基本色の数に等しいことを特徴とする。【００１４】  本発明の第８の局面は、本発明の第１の局面において、  前記第１信号線は前記回路領域の前記第２方向に延伸する一方の辺と交差し、  前記第２信号線は前記回路領域の前記第２方向に��伸する他方の辺と交差することを特徴とする。【００１５】  本発明の第９の局面は、本発明の第１の局面において、  前記スイッチング素子は、前記制御線と重なる位置に形成されていることを特徴とする。【００１６】  本発明の第１０の局面は、本発明の第９の局面において、  前記制御線は、前記回路領域内では、前記スイッチング素子と前記スイッチング素子間の隙間とを含む領域に対応した線状形状を有することを特徴とする。【００１７】  本発明の第１１の局面は、本発明の第９の局面において、  前記制御線は、前記回路領域内では、前記スイッチング素子を含み、前記スイッチング素子間の隙間を含まない領域に対応した切り欠き付き線状形状を有することを特徴とする。【００１８】  本発明の第１２の局面は、本発明の第９の局面において、  前記スイッチング素子は、複数のグループに分類され、グループごとに前記第１方向に並べて配置され、  前記制御線は、前記回路領域内では前記スイッチング素子の各グループに対応した線状形状を有する複数の部分配線を含むことを特徴とする。【００１９】  本発明の第１３の局面は、本発明の第１の局面において、  前記スイッチング素子は、当該スイッチング素子に接続される引き出し線の一方の側と他方の側に交互に配置されていることを特徴とする。【００２０】  本発明の第１４の局面は、本発明の第１の局面において、  前記回路領域は、対向領域内に設定されていることを特徴とする。【００２１】  本発明の第１５の局面は、本発明の第１の局面において、  前記回路領域は対向領域外に設定されており、  前記回路領域を遮光する遮光部材をさらに備えていることを特徴とする。【００２２】  本発明の第１６の局面は、本発明の第１〜第１５のいずれかの局面に係るアクティブマトリクス基板と、  前記アクティブマトリクス基板に対向する対向基板とを備えた、表示装置である。
【発明の効果】
【００２３】  本発明の第１の局面によれば、複数の信号線は回路領域内では制御線の一方の側と他方の側に分けて配置され、隣接する２本の引き出し線はそれぞれ制御線の異なる側に配置された２本の信号線にスイッチング素子を介して接続される。したがって、回路領域内で配線の幅を細くしたり、ピッチを狭くしたりすることなく、配線を所定の範囲内にレイアウトし、回路領域内で発生する断線やリーク電流を抑制することができる。また、制御線に最も近い信号線と制御線から最も遠い信号線との間で他の配線との交差回数の差が小さくなり、信号線上の信号が鈍る程度の差が小さくなるので、制御線と信号線を用いて検査を行うときに検査用画面に発生する輝度むらを抑制することができる。【００２４】  本発明の第２の局面によれば、引き出し線の一部を２層の配線層に交互に形成したアクティブマトリクス基板について、第１の局面の効果を奏することができる。【００２５】  本発明の第３の局面によれば、回路領域を挟んで表示領域の反対側にファンアウト領域を有し、ファンアウト領域内では引き出し線を２層の配線層に交互に形成したアクティブマトリクス基板について、第１の局面の効果を奏することができる。【００２６】  本発明の第４の局面によれば、表示領域と回路領域の間にファンアウト領域を有し、ファンアウト領域内では引き出し線を２層の配線層に交互に形成したアクティブマトリクス基板について、第１の局面の効果を奏することができる。また、ファンアウト領域内の引き出し線の断線や短絡を検出できるので、アクティブマトリクス基板の検査精度を高くすることができる。【００２７】  本発明の第５の局面によれば、引き出し線をデータ線と同じ配線層に形成したアクティブマトリクス基板について、第１の局面の効果を奏することができる。【００２８】  本発明の第６の局面によれば、表示領域と回路領域の間にファンアウト領域を有するアクティブマトリクス基板について、第１の局面の効果を奏することができる。また、ファンアウト領域内の引き出し線の断線や短絡を検出できるので、アクティブマトリクス基板の検査精度を高くすることができる。【００２９】  本発明の第７の局面によれば、画素回路に割り当てられた基本色の数の２倍の信号線を有するアクティブマトリクス基板について、第１の局面の効果を奏することができる。【００３０】  本発明の第８の局面によれば、信号線を回路領域の第２方向に延伸する２辺から分けて引き出すことにより、第１信号線に接続される端子と第２信号線に接続される端子とを離れた位置に配置するなど、端子の配置位置を高い自由度で決定することができる。【００３１】  本発明の第９または第１０の局面によれば、信号線を用いてスイッチング素子を遮光し、スイッチング素子の誤動作を防止することができる。【００３２】  本発明の第１１または第１２の局面によれば、制御線と引き出し線との交差部分の面積を小さくし、制御線やデータ線上の信号の鈍りを抑制することができる。【００３３】  本発明の第１３の局面によれば、回路領域内のレイアウトを好適に行うことにより、回路領域内での引き出し線の屈折回数を減らし、引き出し線の断線やリーク電流を抑制することができる。【００３４】  本発明の第１４の局面によれば、対向領域内で表示領域外に回路領域を設定した場合には、対向基板に形成されるブラックマスクを用いてスイッチング素子を遮光し、スイッチング素子の誤動作を防止することができる。【００３５】  本発明の第１５の局面によれば、対向領域外に回路領域を設定した場合には、遮光部材を用いてスイッチング素子を遮光し、スイッチング素子の誤動作を防止することができる。【００３６】  本発明の第１６の局面によれば、断線やリーク電流や検査用画面の輝度むらを抑制したアクティブマトリクス基板を用いて、信頼性の高い表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１】本発明の第１の実施形態に係るアクティブマトリクス基板を備えた液晶表示装置の構成を示すブロック図である。
【図２】本発明の第１の実施形態に係るアクティブマトリクス基板の平面図である。
【図３】図２に示すアクティブマトリクス基板の検査用領域を通過する配線を示す図である。
【図４】図２に示すアクティブマトリクス基板の引き出し線を示す図である。
【図５】図２に示すアクティブマトリクス基板の検査用領域とその近傍のレイアウト図である。
【図６】図５に示す部分の等価回路図である。
【図７】図５のＡ−Ａ’線断面図である。
【図８】図５のＡ−Ａ’線断面図の他の例である。
【図９】比較例に係るアクティブマトリクス基板の検査用領域とその近傍のレイアウト図である。
【図１０】第１の実施形態の第１変形例に係るアクティブマトリクス基板の検査用領域とその近傍のレイアウト図である。
【図１１】第１の実施形態の第２変形例に係るアクティブマトリクス基板の検査用領域とその近傍のレイアウト図である。
【図１２】本発明の第２の実施形態に係るアクティブマトリクス基板の検査用領域とその近傍のレイアウト図である。
【図１３】図１２に示す部分の等価回路図である。
【図１４】本発明の第３の実施形態に係るアクティブマトリクス基板の検査用領域とその近傍のレイアウト図である。
【図１５】図１４に示す部分の等価回路図である。
【図１６】本発明の第４の実施形態に係るアクティブマトリクス基板の平面図である。
【図１７】第４の実施形態の変形例に係るアクティブマトリクス基板の引き出し線を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００３８】  （第１の実施形態）  図１は、本発明の第１の実施形態に係るアクティブマトリクス基板を備えた液晶表示装置の構成を示すブロック図である。図１に示す液晶表示装置１は、液晶パネル２、表示制御回路３、走査線駆動回路４、データ線駆動回路５、および、バックライト６を備えている。以下、ｍおよびｎは２以上の整数、ｉは１以上ｍ以下の整数、ｊは１以上ｎ以下の整数であるとする。
【００３９】  液晶パネル２は、アクティブマトリクス基板１０と対向基板７を貼り合わせ、２枚の基板の間に液晶（図示せず）を挟み込んだ構造を有する。アクティブマトリクス基板１０には、ｍ本の走査線Ｇ１〜Ｇｍ、ｎ本のデータ線Ｓ１〜Ｓｎ、および、（ｍ×ｎ）個の画素回路２１が形成される。アクティブマトリクス基板１０には、走査線駆動回路４が画素回路２１などと共に一体に形成され、データ線駆動回路５として機能する半導体チップが実装される。
【００４０】  以下、走査線が延伸する方向（図面では水平方向）を行方向、行方向に直交する方向を列方向という。走査線Ｇ１〜Ｇｍは、行方向に延伸し、互いに平行に配置される。データ線Ｓ１〜Ｓｎは、列方向に延伸し、互いに平行に配置される。走査線Ｇ１〜Ｇｍとデータ線Ｓ１〜Ｓｎは、（ｍ×ｎ）箇所で交差する。（ｍ×ｎ）個の画素回路２１は、走査線Ｇ１〜Ｇｍとデータ線Ｓ１〜Ｓｎの交差点に対応して２次元状に配置される。
【００４１】  画素回路２１は、Ｎチャネル型の薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor：以下、ＴＦＴという）２２と画素電極２３を含んでいる。ｉ行ｊ列目の画素回路２１に含まれるＴＦＴ２２のゲート端子は走査線Ｇｉに接続され、一方の導通端子はデータ線Ｓｊに接続され、他方の導通端子は画素電極２３に接続される。
【００４２】  対向基板７に対向電極（図示せず）が形成される場合には、画素電極２３と対向電極によって液晶容量が形成される。アクティブマトリクス基板１０に共通電極（図示せず）が形成される場合には、画素電極２３と共通電極によって液晶容量が形成される。バックライト６は、液晶パネル２の背面側に配置され、液晶パネル２の背面に光を照射する。
【００４３】  表示制御回路３は、走査線駆動回路４に対して制御信号Ｃ１を出力し、データ線駆動回路５に対して制御信号Ｃ２とデータ信号Ｄ１を出力する。走査線駆動回路４は、制御信号Ｃ１に基づき走査線Ｇ１〜Ｇｍを駆動する。データ線駆動回路５は、制御信号Ｃ２とデータ信号Ｄ１に基づき、データ線Ｓ１〜Ｓｎを駆動する。より詳細には、走査線駆動回路４は、各水平期間において、走査線Ｇ１〜Ｇｍの中から１本の走査線を選択し、選択した走査線にオン電圧（ＴＦＴ２２がオン状態になる電圧）を印加する。データ線駆動回路５は、各水平期間において、データ線Ｓ１〜Ｓｎに対してデータ信号Ｄ１に応じたｎ個のデータ電圧をそれぞれ印加する。これにより１水平期間内にｎ個の画素回路２１が選択され、選択されたｎ個の画素回路２１にｎ個のデータ電圧がそれぞれ書き込まれる。
【００４４】  画素回路２１には、赤、緑、および、青の３種類の基本色のうちのいずれかが割り当てられる。（ｍ×ｎ）個の画素回路２１は、列ごとに、赤に対応した赤画素回路、緑に対応した緑画素回路、および、青に対応した青画素回路に分類される。これに対応して、データ線Ｓ１〜Ｓｎは、配置順に、赤画素回路に接続される赤データ線、緑画素回路に接続される緑データ線、および、青画素回路に接続される青データ線に分類される。例えば、データ線Ｓ１、Ｓ４、…は赤データ線、データ線Ｓ２、Ｓ５、…は緑データ線、データ線Ｓ３、Ｓ６、…は青データ線に分類される。
【００４５】  図２は、アクティブマトリクス基板１０の平面図である。図２に示すように、アクティブマトリクス基板１０は、対向基板７に対向する対向領域１１と対向基板７に対向しない非対向領域１２とに分けられる。対向領域１１には、画素回路を配置するための表示領域１３が設定される。対向領域１１から表示領域１３を除いた部分を額縁領域１４という。なお、図２では、アクティブマトリクス基板１０に形成される要素のうち、本実施形態の特徴の理解に必要でないものは適宜省略されている。
【００４６】  表示領域１３には、（ｍ×ｎ）個の画素回路（図示せず）、ｍ本の走査線２４、および、ｎ本のデータ線２５が形成される。（ｍ×ｎ）個の画素回路は、表示領域１３内に２次元状に配置される。ｍ本の走査線２４は、表示領域１３内を行方向に延伸する。ｎ本のデータ線２５は、表示領域１３内を列方向に延伸する。
【００４７】  額縁領域１４は、対向基板７に形成されるブラックマスク（図示せず）によって遮光される。額縁領域１４には、表示領域１３を囲む環状配線２６が形成される。環状配線２６は、対向電極、共通電極、あるいは、補助容量配線（図示せず）に接続される。環状配線２６は、対向基板、対向電極、あるいは、補助容量配線に所定の電圧を印加するために設けられる。
【００４８】  走査線駆動回路４は、額縁領域１４に２個の部分に分けて形成される。より詳細には、走査線駆動回路４の一部（以下、第１走査線駆動部４ａという）は表示領域１３の列方向の一辺（図２では左辺）に沿って配置され、走査線駆動回路４の残部（以下、第２走査線駆動部４ｂという）は表示領域１３の列方向の他辺（図２では右辺）に沿って配置される。奇数番目の走査線２４の一端（図２では左端）は第１走査線駆動部４ａに接続され、偶数番目の走査線２４の一端（図２では右端）は第２走査線駆動部４ｂに接続される。表示制御回路３から出力された制御信号Ｃ１に基づき、第１走査線駆動部４ａは奇数番目の走査線２４を駆動し、第２走査線駆動部４ｂは偶数番目の走査線２４を駆動する。
【００４９】  非対向領域１２には、データ線駆動回路５を実装するための実装領域１５が設定される。実装領域１５には、データ線駆動回路５の入力端子に接続される複数の接続端子４１と、データ線駆動回路５の出力端子に接続されるｎ個の接続端子４２とが形成される。非対向領域１２の実装領域１５以外の部分には、外部回路（例えば、フレキシブルプリント基板）に接続するための複数の外部端子４３〜４６と、複数の検査用端子４７、４８とが形成される。外部端子４３〜４６は、それぞれ、走査線駆動回路４、接続端子４１、環状配線２６、および、検査用端子４７に接続される。液晶表示装置１の使用時には、外部端子４６に対して検査用ＴＦＴ（後述）がオフ状態になる電圧が印加される。
【００５０】  ｎ本のデータ線２５とｎ個の接続端子４２を接続するために、非対向領域１２と額縁領域１４にはｎ本の引き出し線２７が形成される。引き出し線２７の第１端（図２では下端）は、対応する接続端子４２に接続される。引き出し線２７の第２端は、対応するデータ線２５に接続される。
【００５１】  額縁領域１４の引き出し線２７が形成される部分には、液晶パネル２の検査時にデータ線２５に検査用信号を印加する回路を形成するための検査用領域１６が設定される。検査用領域１６は、額縁領域１４に表示領域１３の行方向の一辺（図２では下辺）に沿って設定される。また、非対向領域１２と額縁領域１４には、検査用領域１６を通過する検査用制御線３１と６本の検査用信号線３２が形成される。
【００５２】  図３は、検査用領域１６を通過する配線を示す図である。図３に示すように、検査用端子４７は検査用制御線３１に接続され、検査用端子４８ａ〜４８ｆはそれぞれ検査用信号線３２ａ〜３２ｆに接続される。ｎ本の引き出し線２７は、検査用領域１６内を列方向に通過する。検査用制御線３１と６本の検査用信号線３２ａ〜３２ｆは、検査用領域１６内を行方向に延伸し、検査用領域１６内を行方向に通過する。なお、延伸とは、一直線に伸びること、および、副方向に屈折しながら、主方向に直線状に伸びることを意味するものとする。
【００５３】  検査用信号線３２ａ、３２ｃ、３２ｅは、検査用領域１６内では検査用制御線３１の一方の側（図面では下側）に、検査用制御線３１から遠いものから３２ａ、３２ｃ、３２ｅの順に配置される。検査用信号線３２ｂ、３２ｄ、３２ｆは、検査用領域１６内では検査用制御線３１の他方の側（図面では上側）に、検査用制御線３１に近いものから３２ｂ、３２ｄ、３２ｆの順に配置される。検査用端子４８ａ、４８ｃ、４８ｅは、実装領域１５の行方向の一方の側（図３では右側）に、実装領域１５に近いものから４８ａ、４８ｃ、４８ｅの順に配置される。検査用端子４７、４８ｂ、４８ｄ、４８ｆは、実装領域１５の行方向の他方の側（図３では左側）に、実装領域１５に近いものから４７、４８ｂ、４８ｄ、４８ｆの順に配置される。
【００５４】  検査用信号線３２ａ、３２ｃ、３２ｅは、検査用領域１６の列方向に延伸する一方の辺（図面では右辺）と交差する。検査用信号線３２ａ、３２ｃ、３２ｅは、検査用領域１６の右側から引き出され、検査用領域１６の右側部分を通過して、実装領域１５の右側に配置された検査用端子４８ａ、４８ｃ、４８ｅにそれぞれ接続される。検査用制御線３１と検査用信号線３２ｂ、３２ｄ、３２ｆは、検査用領域１６の列方向に延伸する他方の辺（図面では左辺）と交差する。検査用制御線３１と検査用信号線３２ｂ、３２ｄ、３２ｆは、検査用領域１６の左辺から引き出され、検査用領域１６の左側を通過して、実装領域１５の左側に配置された検査用端子４７、４８ｂ、４８ｄ、４８ｆにそれぞれ接続される。
【００５５】  ＥＳＤ（Electrostatic Discharge ）対策のために、検査用信号線３２ａ〜３２ｆはダイオードリングを用いて互いに接続される。より詳細には、検査用信号線３２ａ、３２ｃの間、検査用信号線３２ｃ、３２ｅの間、検査用信号線３２ｂ、３２ｄの間、および、検査用信号線３２ｄ、３２ｅの間には、それぞれ、２個のダイオード５４が逆向きに設けられる。また、検査用信号線３２ｂは検査用領域１６の右側まで延長され、検査用信号線３２ｂの延長部分と検査用信号線３２ｅの間に２個のダイオード５４が逆向きに設けられる。なお、検査用信号線３２ｄ、３２ｆのいずれかを延長し、その延長部分と検査用信号線３２ｅの間に２個のダイオード５４を逆向きに設けてもよい。
【００５６】  図２に示すように、データ線２５のピッチ（配置間隔）は、接続端子４２のピッチよりも広い。引き出し線２７の第２端におけるピッチを第１端におけるピッチよりも広くするために、２個のファンアウト領域１７、１８が設定される。ファンアウト領域１７は実装領域１５と検査用領域１６の間に設定され、ファンアウト領域１８は検査用領域１６と表示領域１３の間に設定される。引き出し線２７は、ファンアウト領域１７、１８内で扇状にレイアウトされる。より詳細には、引き出し線２７は、ファンアウト領域１７、１８内では列方向に延伸するか、主に斜め方向に延伸する。典型的には、中央に近い引き出し線２７は列方向に近い方向（列方向との間でなす角が小さい方向）に延伸し、中央から離れた引き出し線２７は列方向から離れた方向（列方向との間でなす角が大きい方向）に延伸する。
【００５７】  なお、扇状にレイアウトする態様には、引き出し線２７を配置順に２つのグループに分けたときに、第１グループ内の引き出し線のファンアウト領域内で斜め方向に延伸する部分（以下、斜め部分という）は互いに平行であり、斜め部分の一端にある屈折点が並ぶ方向と斜め部分の他端にある屈折点が並ぶ方向とが平行ではなく、かつ、第２グループ内の引き出し線についてもこれと同様である態様が含まれる。
【００５８】  アクティブマトリクス基板１０の配線は、２層の配線層のいずれかに形成される。以下、走査線２４は第１配線層に形成され、データ線２５は第２配線層に形成されるとする。検査用制御線３１と検査用信号線３２は、走査線２４と同じく第１配線層に形成される。引き出し線２７は、データ線２５と同じく第２配線層に形成されたものと、第１配線層に形成された部分および第２配線層に形成された部分を有するものとに分類される。
【００５９】  図４は、引き出し線２７を示す図である。図４において、太破線は第１配線層に形成された配線を表し、太実線は第２配線層に形成された配線を表す。引き出し線２７の屈折点のうち第１端側（接続端子４２側）から数えて２番目のものと検査用領域１６との間に点Ｘ１を設定したとき、引き出し線２７は、第１端から点Ｘ１までの第１部分２８と、点Ｘ１から第２端までの第２部分２９とに分けられる。
【００６０】  引き出し線２７の第２部分２９のピッチは広い。そこで、データ線２５との接続を容易にするために、引き出し線２７の第２部分２９は、データ線２５と同じく第２配線層に形成される。これに対して、引き出し線２７の第１部分２８のピッチは狭い。隣接する配線を同じ配線層に狭いピッチで形成すると、配線の短絡が発生しやすくなる。そこで、引き出し線２７の第１部分２８は、配置順に第１配線層と第２配線層に交互に形成される。例えば、奇数番目の引き出し線２７の第１部分２８は第１配線層に形成され、偶数番目の引き出し線２７の第１部分２８は第２配線層に形成される。引き出し線２７の第１部分２８が第１配線層に形成されている場合、引き出し線２７の点Ｘ１の位置に第１部分２８と第２部分２９を接続するコンタクト５２（図面では白丸で示す）が形成される。引き出し線２７の第１部分２８を２層の配線層に交互に形成することにより、隣接する２本の引き出し線２７の第１部分２８を接近させて、あるいは、一部を重ねて配置することができる。
【００６１】  引き出し線２７は、第１配線層に形成された第１部分を有するものと、第２配線層に形成された第１部分を有するものの２種類に分類される。データ線２５は、赤データ線、緑データ線、および、青データ線の３種類に分類される。両者を組み合わせて、引き出し線２７は、以下の６種類に分類される。  （１）第１配線層に形成された第１部分を有し、青データ線に接続されたもの  （２）第２配線層に形成された第１部分を有し、赤データ線に接続されたもの  （３）第１配線層に形成された第１部分を有し、緑データ線に接続されたもの  （４）第２配線層に形成された第１部分を有し、青データ線に接続されたもの  （５）第１配線層に形成された第１部分を有し、赤データ線に接続されたもの  （６）第２配線層に形成された第１部分を有し、緑データ線に接続されたもの  以下、これら６種類の引き出し線２７を順に第１〜第６引き出し線という。第１〜第６引き出し線は、それぞれ、検査用信号線３２ａ〜３２ｆに対応する。
【００６２】  図５は、検査用領域１６とその近傍のレイアウト図である。図５には、引き出し線２７ａ〜２７ｆ、検査用制御線３１、検査用信号線３２ａ〜３２ｆ、検査用ＴＦＴ５１ａ〜５１ｆ、および、コンタクト５２ａ、５２ｃ、５２ｅ、５３ａ〜５３ｆが記載されている。引き出し線２７ａ〜２７ｆは、それぞれ、上記第１〜第６引き出し線である。引き出し線２７ａ、２７ｃ、２７ｅの第１部分には、参照符号２８ａ、２８ｃ、２８ｅがそれぞれ付されている。図６は、図５に示す部分の等価回路図である。
【００６３】  引き出し線２７ａ〜２７ｆは、検査用領域１６内では第２配線層に形成され、検査用領域１６内を屈折しながら列方向に通過する。検査用制御線３１と検査用信号線３２ａ〜３２ｆは、第１配線層に形成され、検査用領域１６内を行方向に延伸する。検査用信号線３２ａ、３２ｃ、３２ｅは、検査用領域１６内では検査用制御線３１の一方の側（図面では下側）に配置される。検査用信号線３２ｂ、３２ｄ、３２ｆは、検査用領域１６内では検査用制御線３１の他方の側（図面では上側）に配置される。
【００６４】  引き出し線２７ａ〜２７ｆと検査用制御線３１の交点近傍には、それぞれ、検査用ＴＦＴ５１ａ〜５１ｆが形成される。検査用ＴＦＴ５１は、３個のゲート端子、３個の第１導通端子（図５では左側の端子）、および、３個の第２導通端子を有する。第１導通端子と対になる第２導通端子とは、行方向に並べて配置される。
【００６５】  検査用ＴＦＴ５１ａ〜５１ｆのゲート端子は、検査用制御線３１に接続される。検査用ＴＦＴ５１ａ〜５１ｆの第１導通端子は、それぞれ、引き出し線２７ａ〜２７ｆに接続される。検査用ＴＦＴ５１ａ〜５１ｆの第２導通端子は、それぞれ、列方向に延伸する接続配線とコンタクト５３ａ〜５３ｆを介して検査用信号線３２ａ〜３２ｆに接続される。コンタクト５３ａ、５３ｃ、５３ｅは、検査用信号線３２ａ、３２ｃ、３２ｅと共に検査用制御線３１の一方の側に設けられる。コンタクト５３ｂ、５３ｄ、５３ｆは、検査用信号線３２ｂ、３２ｄ、３２ｆと共に検査用制御線３１の他方の側に設けられる。検査用ＴＦＴ５１ａ〜５１ｆは、検査用領域１６内に配置され、検査用制御線３１上の信号に従い、引き出し線２７ａ〜２７ｆと当該引き出し線に対応する検査用信号線３２ａ〜３２ｆとの導通状態を制御するスイッチング素子として機能する。
【００６６】  検査用領域１６内で検査用制御線３１の一方の側に配置された検査用信号線３２ａ、３２ｃ、３２ｅを第１検査用信号線といい、検査用領域１６内で検査用制御線３１の他方の側に配置された検査用信号線３２ｂ、３２ｄ、３２ｆを第２検査用信号線という。アクティブマトリクス基板１０では、隣接する２本の引き出し線２７のうち一方は検査用ＴＦＴ５１を介して第１検査用信号線に接続され、他方は検査用ＴＦＴ５１を介して第２検査用信号線に接続されている。
【００６７】  図５に示すように、検査用制御線３１は、検査用ＴＦＴ５１と重なる位置に形成されている。検査用制御線３１は、検査用領域１６内では、検査用ＴＦＴ５１と検査用ＴＦＴ５１間の隙間とを含む領域に対応した線状形状を有する。検査用ＴＦＴ５１ａ〜５１ｆは、それぞれ、当該検査用ＴＦＴに接続される引き出し線２７ａ〜２７ｆの同じ側（図５では右側）に配置されている。隣接する２本の引き出し線２７の間には、検査用ＴＦＴ５１が１個ずつ配置されている。
【００６８】  図７は、図５のＡ−Ａ’線断面図である。図７に示すように、ガラス基板６１上には検査用制御線６２、ゲート絶縁膜６３、半導体層６４、チャネル保護膜６５、導通電極６６、および、第１〜第３の保護膜６７〜６９が順に形成される。検査用制御線６２は、金属材料を用いて第１配線層に形成される。ゲート絶縁膜６３には、例えば、窒化シリコン（ＳｉＮｘ）や酸化シリコン（ＳｉＯ2 ）やこれらの積層膜などが用いられる。半導体層６４は、例えば、インジウム−ガリウム−亜鉛酸化物であるＩＧＺＯなどの酸化物半導体や、アモルファスシリコンなどを用いて形成される。チャネル保護膜６５は、例えば、窒化シリコンや酸化シリコンを用いて形成される。導通電極６６は、金属材料を用いて第２配線層に形成される。第１の保護膜６７は、例えば、窒化シリコンや酸化シリコンなどを用いて形成される。第２の保護膜６８は、有機高分子化合物を用いて形成された有機膜である。第３の保護膜６９は、例えば、窒化シリコンなどを用いて形成される。なお、チャネル保護膜６５は必ずしも設ける必要はない。
【００６９】  また、図８に示すように、第２の保護膜６８と第３の保護膜６９の間に、透明電極７１と遮光膜７２を設けてもよい。透明電極７１は、例えば、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）などを用いて形成される。遮光膜７２は、銅、モリブデン、アルミニウム、これらの合金、あるいは、これらの積層膜を用いて形成される。なお、図８では透明電極７１の上に遮光膜７２を設けることとしたが、遮光膜７２の上に透明電極７１を設けてもよい。また、透明電極７１は必ずしも設ける必要はない。
【００７０】  アクティブマトリクス基板１０を含む液晶パネル２の検査時には、走査線駆動回路４に対して外部端子４３経由で制御信号Ｃ１を供給することにより、すべての走査線２４にオン電圧が印加され、表示領域１３内のすべての画素回路が選択される。その上で、検査用制御線３１に接続された検査用端子４７にはオン電圧（検査用ＴＦＴ５１がオン状態になる電圧）が印加され、検査用信号線３２ａ〜３２ｆに接続された検査用端子４８ａ〜４８ｆには検査用画面の色に応じた検査用信号が印加される。また、対向電極、共通電極、あるいは、補助容量配線にも、外部端子４５経由で所定の信号を入力する。これにより、表示領域１３内のすべての画素回路に検査用信号が書き込まれ、液晶パネル２に検査用画面が表示される。検査用画面を目視または検査器を用いて確認することにより、液晶パネル２を検査することができる。
【００７１】  また、走査線駆動回路４に対して外部端子４３経由で制御信号Ｃ１を供給することにより、走査線２４に対して１本ずつ順にオン電圧を印加することもできる。また、アクティブマトリクス基板１０は６本の検査用信号線３２ａ〜３２ｆを有するので、隣接する６本のデータ線２５に互いに異なる検査用信号を印加することができる。このため、データ線２５に対して基本色に対応した検査用信号を印加すると共に、隣接するデータ線２５に互いに異なる検査用信号を印加することができる。したがって、ドット反転駆動やカラム反転駆動のように、隣接するデータ線に異なる極性のデータ電圧を印加する駆動に対応して検査用信号を入力し、最終製品の表示により近い状態で検査を行うことができる。
【００７２】  以下、検査用領域内で６本の検査用信号線を検査用制御線の同じ側に配置したアクティブマトリクス基板（以下、比較例に係るアクティブマトリクス基板という）と対比して、本実施形態に係るアクティブマトリクス基板１０の効果を説明する。以下、６本の引き出し線に対応した部分を繰り返し単位という。
【００７３】  図９は、比較例に係るアクティブマトリクス基板の検査用領域とその近傍のレイアウト図である。図９に示すように、比較例に係るアクティブマトリクス基板では、すべての検査用信号線３２ａ〜３２ｆが検査用制御線３１の同じ側に配置されているので、検査用ＴＦＴ５１の第２端子に接続されるすべての接続配線を検査用制御線３１の同じ側（図９では下側）に延伸させる必要がある。このため、検査用制御線３１と検査用信号線３２ｆの間（図９に示すＱ部）には、１個の繰り返し単位あたり６本の引き出し線と６本の接続配線を行方向に並べて配置する必要がある。これらの配線を限られた範囲内にレイアウトするためには、配線の幅を細くしたり、ピッチを狭くしたりする必要が生じる。ところが、配線の幅を細くすると断線が発生しやすくなり、ピッチを狭くするとリーク電流が発生しやすくなる。
【００７４】  また、比較例に係るアクティブマトリクス基板では、検査用制御線３１から最も遠い検査用信号線３２ａは１個の繰り返し単位あたり他の配線と５箇所で交差するのに対して、検査用制御線３１に最も近い検査用信号線３２ｆは１個の繰り返し単位あたり他の配線と１０箇所で交差する。検査用信号線３２ａ、３２ｆの間では、他の配線との交差回数の差が大きいので、他の配線との交差部分に形成される容量の差が大きく、検査用信号が鈍る程度の差も大きい。検査用信号が鈍る程度の差が大きいと、検査用画面に輝度むらが発生し、液晶パネル２の検査精度が低下する。このように比較例に係るアクティブマトリクス基板には、断線やリーク電流が発生しやすく、検査用画面に輝度むらが発生するという問題がある。
【００７５】  これに対して、本実施形態に係るアクティブマトリクス基板１０では、６本の検査用信号線３２ａ〜３２ｆは検査用制御線３１の一方の側と他方の側に分けて配置されているので、検査用ＴＦＴ５１の第２端子に接続される接続配線を検査用制御線３１の一方の側と他方の側（図５では上側と下側）に分けて延伸させればよい。このため、検査用制御線３１と検査用信号線３２ｅの間には（図５に示すＰ部）では、１個の繰り返し単位あたり６本の引き出し線と３本の接続配線を行方向に並べて配置すれば済む。また、隣接する２本の引き出し線２７のうち一方を検査用ＴＦＴ５１を介して検査用信号線３２ａ、３２ｃ、３２ｅのいずれかに接続し、他方を検査用ＴＦＴ５１を介して検査用信号線３２ｂ、３２ｄ、３２ｆのいずれかに接続するためには、検査用ＴＦＴ５１の第２端子に接続される接続配線を検査用制御線３１の一方の側と他方の側に交互に延伸させればよい。したがって、本実施形態に係るアクティブマトリクス基板１０によれば、検査用領域１６内で配線の幅を細くしたり、ピッチを狭くしたりすることなく、配線を所定の範囲内にレイアウトし、検査用領域１６内で発生する断線やリーク電流を抑制することができる。
【００７６】  また、本実施形態に係るアクティブマトリクス基板１０では、検査用制御線３１から最も遠い検査用信号線３２ａは１個の繰り返し単位あたり他の配線と５箇所で交差し、検査用制御線３１に最も近い検査用信号線３２ｅは１個の繰り返し単位あたり他の配線と７箇所で交差する。検査用信号線３２ａ、３２ｅの間では、他の配線との交差回数の差が小さいので、他の配線との交差部分に形成される容量の差が小さく、検査用信号が鈍る程度の差も小さい。したがって、本実施形態に係るアクティブマトリクス基板１０によれば、検査用画面に発生する輝度むらを抑制し、液晶パネル２の検査精度を高くすることができる。
【００７７】  以上に示すように、本実施形態に係るアクティブマトリクス基板１０は、表示領域１３内に２次元状に配置された複数の画素回路２１と、表示領域１３内を第１方向（行方向）に延伸する複数の走査線２４と、表示領域１３内を第２方向（列方向）に延伸する複数のデータ線２５と、データ線２５に接続され、表示領域１３外に設定された回路領域（検査用領域１６）内を第２方向に通過する複数の引き出し線２７と、回路領域内を第１方向に延伸する制御線（検査用制御線３１）と、回路領域内を第１方向に延伸する複数の信号線（６本の検査用信号線３２）と、回路領域内に配置され、制御線上の信号に従い、引き出し線２７と当該引き出し線に対応する信号線との導通状態を制御する複数のスイッチング素子（検査用ＴＦＴ５１）とを備えている。信号線は、回路領域内で制御線の一方の側に配置された第１信号線（検査用信号線３２ａ、３２ｃ、３２ｅ）と、回路領域内で制御線の他方の側に配置された第２信号線（検査用信号線３２ｂ、３２ｄ、３２ｆ）とを含んでいる。隣接する２本の引き出し線２７のうち一方はスイッチング素子を介して第１信号線（検査用信号線３２ａ、３２ｃ、３２ｅのいずれか）に接続され、他方はスイッチング素子を介して第２信号線（検査用信号線３２ｂ、３２ｄ、３２ｆのいずれか）に接続されている。
【００７８】  このように本実施形態に係るアクティブマトリクス基板１０では、複数の信号線は回路領域内では制御線の一方の側と他方の側に分けて配置され、隣接する２本の引き出し線２７はそれぞれ制御線の異なる側に配置された２本の信号線にスイッチング素子を介して接続される。したがって、回路領域内で配線の幅を細くしたり、ピッチを狭くしたりすることなく、配線を所定の範囲内にレイアウトし、回路領域内で発生する断線やリーク電流を抑制することができる。また、制御線に最も近い信号線（検査用信号線３２ｅ）と制御線から最も遠い信号線（検査用信号線３２ａ）との間で他の配線との交差回数の差が小さくなり、信号線上の信号が鈍る程度の差が小さくなるので、制御線と信号線を用いて検査を行うときに検査用画面に発生する輝度むらを抑制することができる。
【００７９】  また、アクティブマトリクス基板１０では、制御線と信号線は走査線２４と同じ配線層に形成され、スイッチング素子を介して第２信号線に接続される引き出し線２７はデータ線２５と同じ配線層に形成される。スイッチング素子を介して第１信号線に接続される引き出し線２７は、走査線２４と同じ配線層に形成された第１部分２８とデータ線２５と同じ配線層に形成された第２部分２９とを有し、回路領域内ではデータ線２５と同じ配線層に形成されている。したがって、引き出し線の一部を２層の配線層に交互に形成したアクティブマトリクス基板について、上記の効果を奏することができる。
【００８０】  また、引き出し線２７は、回路領域を挟んで表示領域１３の反対側に設定されたファンアウト領域１７では扇状に配置されている。スイッチング素子を介して第１信号線に接続される引き出し線２７ａ、２７ｃ、２７ｅは、ファンアウト領域１７内では走査線２４と同じ配線層に形成されている。したがって、回路領域を挟んで表示領域の反対側にファンアウト領域を有し、ファンアウト領域内では引き出し線を２層の配線層に交互に形成したアクティブマトリクス基板について、上記の効果を奏することができる。また、第１信号線の本数、および、第２信号線の本数は、画素回路２１に割り当てられた基本色の数（ここでは３）に等しい。したがって、画素回路に割り当てられた基本色の数の２倍の信号線を有するアクティブマトリクス基板について、上記の効果を奏することができる。
【００８１】  また、第１信号線は回路領域の第２方向に延伸する一方の辺（列方向に延伸する右辺）と交差し、第２信号線は回路領域の第２方向に延伸する他方の辺（列方向に延伸する左辺）と交差する。このように信号線を回路領域の第２方向に延伸する２辺から分けて引き出すことにより、第１信号線に接続される端子（検査用端子４８ａ、４８ｃ、４８ｅ）と第２信号線に接続される端子（検査用端子４８ｂ、４８ｄ、４８ｆ）とを離れた位置に配置するなど、端子（検査用端子４８）の配置位置を高い自由度で決定することができる。
【００８２】  また、スイッチング素子は、制御線と重なる位置に形成されている。制御線は、回路領域内では、スイッチング素子とスイッチング素子間の隙間とを含む領域に対応した線状形状を有する。したがって、制御線を用いてスイッチング素子を遮光し、スイッチング素子の誤動作を防止することができる。また、回路領域は、対向領域１１内で表示領域１３外に設定されている。したがって、対向基板７に形成されるブラックマスクを用いてスイッチング素子を遮光し、スイッチング素子の誤動作を防止することができる。
【００８３】  また、本実施形態に係るアクティブマトリクス基板１０と対向基板７とを備えた液晶表示装置１によれば、断線やリーク電流や検査用画面の輝度むらを抑制したアクティブマトリクス基板を用いて、液晶表示装置の信頼性を高くすることができる。
【００８４】  本実施形態に係るアクティブマトリクス基板１０については、検査用制御線の形状が異なる以下の変形例を構成することができる。第１変形例に係るアクティブマトリクス基板では、図１０に示すように、検査用制御線３３は、検査用領域１６内では、検査用ＴＦＴ５１を含み、検査用ＴＦＴ５１間の隙間を含まない領域に対応した切り欠き付き線状形状を有する。第２変形例に係るアクティブマトリクス基板では、図１１に示すように、検査用ＴＦＴ５１は、２個のグループに分類され、グループごとに行方向に並べて配置される。検査用制御線３４は、検査用領域１６内では検査用ＴＦＴ５１の各グループに対応した線状形状を有する２本の部分配線３４ａ、３４ｂを含む。なお、検査用ＴＦＴ５１を３個以上のグループに分類し、検査用制御線は３本以上の部分配線を含むこととしてもよい。
【００８５】  これら変形例に係るアクティブマトリクス基板によれば、第１の実施形態に係るアクティブマトリクス基板１０と同じ効果を奏することができる。また、検査用制御線３３、３４と引き出し線２７との交差部分の面積を小さくし、検査用制御線３３、３４やデータ線２５上の信号の鈍りを抑制することができる。
【００８６】  （第２の実施形態）  本発明の第２の実施形態に係るアクティブマトリクス基板は、第１の実施形態に係るアクティブマトリクス基板と検査用領域の構成が異なる。図１２は、本実施形態に係るアクティブマトリクス基板の検査用領域とその近傍のレイアウト図である。図１３は、図１２に示す回路の等価回路図である。以下、図１２および図１３を参照して、第１の実施形態との相違点を説明する。
【００８７】  本実施形態に係るアクティブマトリクス基板では、検査用ＴＦＴ５５は１個のゲート端子、１個の第１導通端子（図１２では左側の端子）、および、１個の第２導通端子を有する。第１の導通端子と第２の導通端子は、列方向に並べて配置される。検査用制御線３５は、検査用ＴＦＴ５５を含み、検査用ＴＦＴ５５間の隙間を含まない領域に対応した切り欠き付き線状形状を有する。
【００８８】  このように第１の実施形態とは、検査用ＴＦＴ５５の向き、および、検査用ＴＦＴ５５に含まれるチャネルの個数（ゲート端子の個数）が異なる。検査用ＴＦＴ５５の向き、および、検査用ＴＦＴ５５に含まれるチャネルの個数は、アクティブマトリクス基板のサイズ、額縁領域のサイズ、データ線の本数、データ線の配線負荷、および、検査用ＴＦＴの移動度に応じて決定される検査用ＴＦＴのサイズなどを考慮して任意に決定してよい。例えば、検査用ＴＦＴ５５に含まれるチャネルの個数は、２個でもよく４個以上でもよい。
【００８９】  本実施形態に係るアクティブマトリクス基板によれば、第１の実施形態に係るアクティブマトリクス基板１０と同じ効果を奏することができる。また、検査用制御線３５と引き出し線２７との交差部分の面積を小さくし、検査用制御線３５やデータ線２５上の信号の鈍りを抑制することができる。
【００９０】  （第３の実施形態）  本発明の第３の実施形態に係るアクティブマトリクス基板は、第１および第２の実施形態に係るアクティブマトリクス基板と検査用領域の構成が異なる。図１４は、本実施形態に係るアクティブマトリクス基板の検査用領域とその近傍のレイアウト図である。図１５は、図１４に示す回路の等価回路図である。以下、図１４および図１５を参照して、第１および第２の実施形態との相違点を説明する。
【００９１】  本実施形態に係るアクティブマトリクス基板では、検査用信号線３２ａ、３２ｃ、３２ｅは、検査用領域１６内では検査用制御線３６の一方の側（図１４では上側）に配置される。検査用信号線３２ｂ、３２ｄ、３２ｆは、検査用領域１６内では検査用制御線３６の他方の側（図１４では下側）に配置される。引き出し線２７ａ〜２７ｆと検査用制御線３６の交点近傍には、それぞれ、検査用ＴＦＴ５５ａ〜５５ｆが形成される。
【００９２】  検査用ＴＦＴ５５ａ、５５ｃ、５５ｄは、それぞれ、引き出し線２７ａ、２７ｃ、２７ｅの一方の側（図１４では右側）に配置される。検査用ＴＦＴ５５ｂ、５５ｄ、５５ｆは、それぞれ、引き出し線２７ｂ、２７ｄ、２７ｆの他方の側（図１４では左側）に配置される。このように検査用ＴＦＴ５５ａ〜５５ｆは、当該検査用ＴＦＴに接続される引き出し線２７ａ〜２７ｆの一方の側と他方の側に交互に配置されている。隣接する２本の引き出し線２７の間に２個の検査用ＴＦＴ５５が配置されている場合と、検査用ＴＦＴ５５が１個も配置されていない場合とが交互に現れる。
【００９３】  本実施形態に係るアクティブマトリクス基板によれば、第１の実施形態に係るアクティブマトリクス基板１０と同じ効果を奏することができる。また、検査用制御線３６と引き出し線２７との交差部分の面積を小さくし、検査用制御線３６やデータ線２５上の信号の鈍りを抑制することができる。また、図１４に示すレイアウトでは、図１２に示すレイアウトと比べて、検査用領域１６内での引き出し線２７の屈折回数が減少する。したがって、本実施形態に係るアクティブマトリクス基板によれば、検査用領域１６内のレイアウトを好適に行うことにより、検査用領域１６内での引き出し線２７の屈折回数を減らし、引き出し線２７の断線やリーク電流を抑制することができる。
【００９４】  （第４の実施形態）  図１６は、本発明の第４の実施形態に係るアクティブマトリクス基板の平面図である。以下、図１６を参照して、第１〜第３の実施形態との相違点を説明する。図１６に示すように、本実施形態に係るアクティブマトリクス基板８０では、検査用領域８１は非対向領域１２内に設定される。表示領域１３と検査用領域８１の間にはファンアウト領域８２が設定され、引き出し線２７はファンアウト領域８２内で扇状にレイアウトされる。
【００９５】  検査用制御線３１と検査用信号線３２は、走査線２４と同じく第１配線層に形成される。本実施形態では、引き出し線２７の全体が、データ線２５と同じく第２配線層に形成される。このため、引き出し線２７の点Ｘ１（図４を参照）の位置にコンタクト５２は形成されない。
【００９６】  検査用領域８１は、遮光部材（図示せず）によって遮光される。例えば、アクティブマトリクス基板８０に対して検査用領域８１を覆う追加の金属膜を設けてもよく、アクティブマトリクス基板８０の検査用領域８１を遮光性を有する樹脂やテープなどで覆ってもよい。あるいは、アクティブマトリクス基板８０を備えた液晶表示装置を構成するときに、検査用領域８１をベゼルなどで覆ってもよい。
【００９７】  本実施形態に係るアクティブマトリクス基板８０では、検査用制御線３１と検査用信号線３２は走査線２４と同じ配線層に形成され、引き出し線２７はデータ線２５と同じ配線層に形成されている。したがって、引き出し線２７をデータ線２５と同じ配線層に形成したアクティブマトリクス基板について、第１の実施形態と同じ効果を奏することができる。
【００９８】  また、引き出し線２７は、表示領域１３と検査用領域８１の間に設定されたファンアウト領域８２では扇状に配置されている。したがって、表示領域１３と検査用領域８１の間にファンアウト領域８２を有するアクティブマトリクス基板８０について、第１の実施形態と同じ効果を奏することができる。また、ファンアウト領域８２内の断線や短絡を検出できるので、アクティブマトリクス基板８０の検査精度を高くすることができる。
【００９９】  また、検査用領域８１は対向領域１１外に設定されており、アクティブマトリクス基板８０は検査用領域８１を遮光する遮光部材をさらに備えている。このように対向領域１１外に検査用領域８１を設定した場合には、遮光部材を用いて検査用ＴＦＴ５１を遮光し、検査用ＴＦＴ５１の誤動作を防止することができる。
【０１００】  本実施形態に係るアクティブマトリクス基板８０については、引き出し線２７の一部を配置順に第１配線層と第２配線層に交互に形成した変形例を構成することができる。図１７は、第４の実施形態の変形例に係るアクティブマトリクス基板の引き出し線を示す図である。引き出し線２７の第１端側（接続端子４２側）の屈折点と検査用領域１６との間に点Ｘ２を設定し、引き出し線２７の第２端側の屈折点と表示領域１３との間に点Ｘ３を設定したとき、引き出し線２７は、第１端から点Ｘ２までの第１部分と、点Ｘ２から点Ｘ３までの第２部分と、点Ｘ３から第２端までの第３部分とに分けられる。
【０１０１】  引き出し線２７の第１部分と第３部分は、データ線２５と同じく第２配線層に形成される。引き出し線２７の第２部分は、配置順に第１配線層と第２配線層に交互に形成される。例えば、奇数番目の引き出し線２７の第２部分は第１配線層に形成され、偶数番目の引き出し線２７の第２部分は第２配線層に形成される。引き出し線２７の第２部分が第１配線層に形成されている場合、引き出し線２７の点Ｘ２の位置には第１部分と第２部分を接続するコンタクト５６が形成され、引き出し線２７の点Ｘ３の位置には第２部分と第３部分を接続するコンタクト５７が形成される。
【０１０２】  本変形例に係るアクティブマトリクス基板によれば、表示領域１３と検査用領域８１の間にファンアウト領域８２を有し、ファンアウト領域８２内では引き出し線２７を２層の配線層に交互に形成したアクティブマトリクス基板について、第４の実施形態と同じ効果を奏することができる。
【０１０３】  本発明の第１〜第４の実施形態に係るアクティブマトリクス基板については、各種の変形例を構成することができる。アクティブマトリクス基板は、４色以上の基本色に対応した画素回路を備えていてもよい。例えば、アクティブマトリクス基板は、赤、緑、および、青に対応した３種類の画素回路に加えて、白に対応した白画素回路、または、黄色に対応した画素回路を備えていてもよい（４色構成）。あるいは、アクティブマトリクス基板は、赤、緑、および、青に対応した３種類の画素回路に加えて、黄色に対応した画素回路とシアンに対応した画素回路の両方を備えていてもよい（５色構成）。４色構成のアクティブマトリクス基板には、８本の検査用信号線が設けられる。このうち４本は検査用領域内では検査用制御線の一方の側に配置され、残り４本は検査用領域内では検査用制御線の他方の側に配置される。５色構成のアクティブマトリクス基板には、１０本の検査用信号線が設けられる。このうち５本は検査用領域内では検査用制御線の一方の側に配置され、残り５本は検査用領域内では検査用制御線の他方の側に配置される。
【０１０４】  また、ここまで各データ線に１色の画素回路を接続する場合について説明してきたが、各データ線に複数色の画素回路を接続してもよい。例えば、データ線の右側と左側に交互に画素回路を設ける場合、各データ線に２色の画素回路が接続される。
【０１０５】  また、第２〜第４の実施形態および各実施形態の変形例に係るアクティブマトリクス基板を用いて、第１の実施形態と同様の液晶表示装置を構成することができる。また、各実施形態の特徴をその性質に反しない限りに任意に組み合わせて、複数の実施形態の特徴を有するアクティブマトリクス基板および液晶表示装置を構成することができる。例えば、第４の実施形態に係るアクティブマトリクス基板において、検査用領域１６の構成は、図５、図１０、図１１、図１２、および、図１４のいずれかに示す形態でもよい。
【０１０６】  また、以上に述べた検査用制御線、検査用信号線、検査用ＴＦＴ、および、検査用端子は、検査以外の用途にも用いることができる。これらの要素は、例えば、ＰＳＡ（Polymer Sustained Alignment ）技術を実施する際の信号を供給するための経路や、製造工程において表示領域内の画素電極などに帯電した電荷を抜くための経路としても用いることができる。
【０１０７】  ＰＳＡ技術とは、例えば、負の誘電率異方性を有する液晶をアクティブマトリクス基板と対向基板との間に狭持した垂直配向モードにおいて、電圧無印加時の液晶分子の配向方向を規制するために、電圧無印加時の液晶にプレチルトを与える配向維持層（Alignment Sustaining Layer）を形成する技術である。配向維持層は、液晶セルを形成する際に、液晶材料に予め混合しておいた光重合性モノマーやオリゴマーを典型的には液晶層に電圧を印加した状態で光重合することによって、ポリマー層として垂直配向膜上に形成される。配向維持層によって、電圧無印加時の液晶に、アクティブマトリクス基板の基板面に垂直な方向から若干（例えば２°〜３°）傾いた方向のプレチルト角と配向方位とを維持（記憶）させることができる。これにより、電圧印加時における液晶配向の応答速度を向上させることができる。また、液晶パネルの表面を指で押した際に、配向が乱れた状態から正常な状態に戻る時間を速くすることができる。
【０１０８】  ＰＳＡ技術を実施するときには、液晶パネルの検査時と同様に、対向電極や補助容量配線に所定の電圧を印加し、走査線駆動回路に対して制御信号を供給することにより走査線にオン電圧を印加する。その上で、検査用制御線に接続された検査用端子にオン電圧を印加し、検査用信号線に接続された検査用端子にＰＳＡ技術を実施するための電圧を印加する。
【産業上の利用可能性】
【０１０９】  本発明のアクティブマトリクス基板は、断線やリーク電流や検査用画面の輝度むらを抑制できるという特徴を有するので、液晶表示装置を始めとする各種の表示装置の基板などに利用することができる。本発明の表示装置は、信頼性が高いという特徴を有するので、各種の電子機器の表示部などに利用することができる。
【符号の説明】
【０１１０】  １…液晶表示装置  ２…液晶パネル  ３…表示制御回路  ４…走査線駆動回路  ５…データ線駆動回路  ６…バックライト  ７…対向基板  １０、８０…アクティブマトリクス基板  １１…対向領域  １２…非対向領域  １３…表示領域  １４…額縁領域  １５…実装領域  １６、８１…検査用領域  １７、１８、８２…ファンアウト領域  ２１…画素回路  ２４…走査線  ２５…データ線  ２７…引き出し線  ２８…第１部分  ２９…第２部分  ３１、３３、３４、３５、３６…検査用制御線  ３２…検査用信号線  ４７、４８…検査用端子  ５１、５５…検査用ＴＦＴ  ５２、５３、５６、５７…コンタクト  ５４…ダイオード
【図１】
2015178334.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
2015178334.tif 000018
【図１７】
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【手続補正書】
【提出日】平成28年9月28日(2016.9.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５５】
ＥＳＤ（Electrostatic Discharge ）対策のために、検査用信号線３２ａ〜３２ｆはダイオードリングを用いて互いに接続される。より詳細には、検査用信号線３２ａ、３２ｃの間、検査用信号線３２ｃ、３２ｅの間、検査用信号線３２ｂ、３２ｄの間、および、検査用信号線３２ｄ、３２ｆの間には、それぞれ、２個のダイオード５４が逆向きに設けられる。また、検査用信号線３２ｂは検査用領域１６の右側まで延長され、検査用信号線３２ｂの延長部分と検査用信号線３２ｅの間に２個のダイオード５４が逆向きに設けられる。なお、検査用信号線３２ｄ、３２ｆのいずれかを延長し、その延長部分と検査用信号線３２ｅの間に２個のダイオード５４を逆向きに設けてもよい。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９２】
検査用ＴＦＴ５５ａ、５５ｃ、５５ｅは、それぞれ、引き出し線２７ａ、２７ｃ、２７ｅの一方の側（図１４では右側）に配置される。検査用ＴＦＴ５５ｂ、５５ｄ、５５ｆは、それぞれ、引き出し線２７ｂ、２７ｄ、２７ｆの他方の側（図１４では左側）に配置される。このように検査用ＴＦＴ５５ａ〜５５ｆは、当該検査用ＴＦＴに接続される引き出し線２７ａ〜２７ｆの一方の側と他方の側に交互に配置されている。隣接する２本の引き出し線２７の間に２個の検査用ＴＦＴ５５が配置されている場合と、検査用ＴＦＴ５５が１個も配置されていない場合とが交互に現れる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１００
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１００】
本実施形態に係るアクティブマトリクス基板８０については、引き出し線２７の一部を配置順に第１配線層と第２配線層に交互に形成した変形例を構成することができる。図１７は、第４の実施形態の変形例に係るアクティブマトリクス基板の引き出し線を示す図である。引き出し線２７の第１端側（接続端子４２側）の屈折点と検査用領域８１との間に点Ｘ２を設定し、引き出し線２７の第２端側の屈折点と表示領域１３との間に点Ｘ３を設定したとき、引き出し線２７は、第１端から点Ｘ２までの第１部分と、点Ｘ２から点Ｘ３までの第２部分と、点Ｘ３から第２端までの第３部分とに分けられる。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０５】
また、第２〜第４の実施形態および各実施形態の変形例に係るアクティブマトリクス基板を用いて、第１の実施形態と同様の液晶表示装置を構成することができる。また、各実施形態の特徴をその性質に反しない限りに任意に組み合わせて、複数の実施形態の特徴を有するアクティブマトリクス基板および液晶表示装置を構成することができる。例えば、第４の実施形態に係るアクティブマトリクス基板において、検査用領域８１の構成は、図５、図１０、図１１、図１２、および、図１４のいずれかに示す形態でもよい。
【国際調査報告】
2015178334.tif 000020
2015178334.tif 000021
2015178334.tif 000022
2015178334.tif 000023