(57)【要約】各溝領域に対して塗布するホール輸送層用のインクの単位面積当たりの塗布量は、Ｒ，Ｇ，Ｂの順で小さくなるように設定されている。ここで、各溝領域に対してホール輸送層用のインクを塗布する工程に先立って、ノズルヘッドを走査しながら、各溝領域に溶剤だけを塗布する工程を設ける。このとき、各溝領域に対する単位面積当たりの溶剤塗布量を、Ｒ，Ｇ，Ｂの順で大きくなるように設定する。
2015166647.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下地基板と、当該下地基板の表面に沿った一方向に伸長し互いに並行する複数のバンクとを有するバンク付基板を準備し、前記複数のバンクのうち隣り合うバンク同士の間の各溝領域にインクを塗布し、塗布されたインク層を乾燥させることによって、色の異なる隣り合う複数のサブピクセルからなる画素が複数配置された有機発光デバイスの機能層を形成する形成方法であって、
前記バンク付基板において、それぞれ色の異なるサブピクセルが形成される隣り合う複数の溝領域からなる溝領域群が複数群存在し、
各溝領域群において、一部の溝領域は、残りの溝領域と比べて、単位面積当たりのインク塗布量が少なく設定され、
前記複数の溝領域の各々にインクを塗布する前又は後に、
前記一部の溝領域に前記インクが溶解する溶剤を塗布すると共に、
前記残りの溝領域に対しては、前記インクが溶解する溶剤を塗布しないか、前記一部の溝領域に対する単位面積当たりの塗布量より少ない単位面積当たりの塗布量で前記溶剤を塗布し、
前記インク及び前記溶剤の塗布によって前記複数の溝領域の各々に形成されたインク層を乾燥させることによって前記機能層を形成する、
機能層の形成方法。
【請求項２】
前記複数の溝領域の各々に塗布される前記溶剤の塗布量は、
各溝領域の単位面積あたりに形成されるインク層の表面積が同等となるように設定されている、
請求項１記載の機能層の形成方法。
【請求項３】
前記下地基板上における前記複数の溝領域群のうち隣り合う溝領域群同士の間に、バスバーが配置された間隙が存在し、
前記溶剤を塗布するときに、前記バスバーが配置された間隙にも前記溶剤を塗布する、
請求項１又は２に記載の機能層の形成方法。
【請求項４】
前記複数の溝領域群の中で、前記下地基板の中央部に位置する溝領域群における前記溶剤の単位面積当たりの塗布量の平均よりも、前記下地基板の周辺部に位置する溝領域群における前記溶剤の単位面積当たりの塗布量の平均が大きく設定されている、
請求項１〜３のいずれかに記載の機能層の形成方法。
【請求項５】
前記複数の溝領域の各々に対して前記インクを塗布する前に、前記溶剤の塗布を行う、
請求項１〜４のいずれかに記載の機能層の形成方法。
【請求項６】
前記溶剤には、前記インクに含まれる溶剤と共通の成分が含まれる、
請求項１〜５のいずれかに記載の機能層の形成方法。
【請求項７】
前記下地基板上に前記機能層を形成することによって有機発光デバイスを製造する方法であって、
前記機能層を形成する際に、請求項１〜６のいずれかに記載の機能層の形成方法を用いる、
有機発光デバイスの製造方法。
【請求項８】
下地基板と当該下地基板の表面に沿った一方向に伸長し互いに並行する複数のバンクとを有し、前記複数のバンクのうち隣り合うバンク同士の間には各溝領域が存在し、且つ、それぞれ色の異なるサブピクセルが形成される隣り合う複数の溝領域からなる溝領域群が複数群存在するバンク付基板を備えた有機発光デバイスを製造する装置であって、
インクで構成される第１液滴を吐出する第１インクジェットヘッドと、
前記インクが溶解する溶剤で構成される第２液滴を吐出する第２インクジェットヘッドと、
各溝領域群における一部の溝領域に対して、残りの溝領域と比べて、単位面積当たりのインク塗布量が少なくなるよう、前記第１インクジェットヘッドに前記第１液滴を吐出させるとともに、前記一部の溝領域に対して、前記第２インクジェットヘッドに前記第２液滴を吐出させ、前記残りの溝領域に対して、前記第２インクジェットヘッドに前記第２液滴を吐出させないか、前記一部の溝領域に対する単位面積当たりの塗布量より少ない単位面積当たりの塗布量で前記第２インクジェットヘッドに前記第２液滴を吐出させる制御部と、
を備える有機発光デバイスの製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機発光デバイスにおける機能層を形成する形成方法に関し、特に、バンクで区画された領域にインクを塗布することによって機能層を形成する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、発光型の表示装置として、基板上に複数の有機ＥＬ素子が、縦方向と横方向にマトリックス状に配置された有機ＥＬ装置が実用化されている。この有機ＥＬ装置は、各有機ＥＬ素子が自己発光するので視認性が高く、完全固体素子であるため耐衝撃性に優れる。【０００３】
有機ＥＬ装置において、各有機ＥＬ素子は、陽極と陰極の一対の電極対の間に有機発光材料を含む発光層が配設された基本構造を有し、駆動時には、一対の電極対間に電圧を印加し、陽極から発光層に注入されるホールと、陰極から発光層に注入される電子との再結合に伴って発光する。フルカラー表示の有機ＥＬ装置においては、このような有機ＥＬ素子が、ＲＧＢ各色のサブピクセルを形成し、隣り合うＲＧＢのサブピクセルが合わさって一画素が形成されている。【０００４】
有機ＥＬ装置において、一般に各有機ＥＬ素子の発光層と、隣接する有機ＥＬ素子の発光層とは、絶縁材料からなるバンクで仕切られている。また、陽極と発光層との間には、ホール注入層、ホール輸送層又はホール注入兼輸送層といった有機層が必要に応じて介挿され、陰極と発光層との間にも、必要に応じて電子注入層、電子輸送層または電子注入兼輸送層が介挿されている。これらのホール注入層、ホール輸送層、ホール注入兼輸送層、電子注入層、電子輸送層、電子注入兼輸送層などは、総称して機能層といわれている。【０００５】
このような有機ＥＬ装置を製造する際には、特許文献１に示されるように、基板上に一方向に伸長するバンクを複数形成して、バンクで区画された各溝領域に機能層を形成する工程がある。機能層の形成には、高分子材料や薄膜形成性の良い低分子を含む発光層形成用のインクを、インクジェット法等で凹空間に塗布するウェット方式が多く用いられている。このウェット方式によれば、大型のパネルにおいても発光層を比較的容易に形成することができる。【０００６】
ところで、バンクで区画された複数の溝領域には、赤色用、緑色用、青色用のサブピクセルの機能層を形成するので、溝領域ごとにインクの塗布量が異なる場合もある。【０００７】
例えば、赤色発光素子と、緑色発光素子と、青色発光素子とで、ホール輸送層や発光層設定膜厚が異なる場合は、これらの溝領域へのインク塗布量も異なる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００７−２３４２３２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
上記のように、機能層をウェット方式で形成する工程において、画素を構成する色の異なるサブピクセルが形成される隣り合う溝領域間でインクの塗布量が異なると、乾燥時において各溝領域内における場所ごとの乾燥速度偏りが生じ、その結果、溝領域内に形成される機能層の膜厚分布が偏って形成されることがある。【００１０】
そして、各溝領域内で機能層の膜厚分布が偏って形成されると、有機ＥＬ装置を駆動するときに、溝領域内における膜厚の小さい箇所に流れる電流密度が大きくなり、劣化の原因となる。【００１１】
本発明は、このような課題に鑑み、複数のバンクで区画された溝領域にインクを塗布して機能層を形成する際に、画素を構成する色の異なるサブピクセルが形成される隣り合う溝領域に対するインク塗布量が異なる場合でも、各溝領域内に形成される機能層の膜厚分布を均一的にすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の一態様に係る有機発光デバイスの機能層を形成する形成方法は、下地基板と、当該下地基板の表面に沿った一方向に伸長し互いに並行する複数のバンクとを有するバンク付基板を準備し、複数のバンク同士の間の各溝領域にインクを塗布し、塗布されたインク層を乾燥させることによって、色の異なる隣り合う複数のサブピクセルからなる画素が複数配置された有機発光デバイスの機能層を形成する形成方法であって、バンク付基板において、それぞれ色の異なるサブピクセルが形成される隣り合う複数の溝領域からなる溝領域群が複数群存在し、各溝領域群において、一部の溝領域は、残りの溝領域と比べて、単位面積当たりのインク塗布量が少なく設定され、複数の溝領域の各々にインクを塗布する前又は後に、一部の溝領域にインクが溶解する溶剤を塗布すると共に、残りの溝領域に対しては、インクが溶解する溶剤を塗布しないか、一部の溝領域に対する単位面積当たりの塗布量より少ない単位面積当たりの塗布量で溶剤を塗布し、インク及び溶剤の塗布によって複数の溝領域の各々に形成されたインク層を乾燥させることによって機能層を形成することとした。【００１３】
ここで、上記の「単位面積」は、溝領域における開口の単位面積を指すこととする。
【発明の効果】
【００１４】
上記態様の機能層の形成方法によれば、溝領域群に含まれる複数の溝領域の中で、一部の溝領域は、残りの溝領域に対して、単位面積当たりのインク塗布量が少なく設定されている。そして、この単位面積当たりのインク塗布量が少ない一部の溝領域に対する単位面積当たりの溶剤塗布量は、残りの溝領域に対する単位面積当たりの溶剤塗布量よりも多く設定されている。そのため、一部の溝領域と残りの溝領域との間で、インクと溶剤とを合わせた単位面積当たりの塗布量、並びにインク層の表面積が均一化される。【００１５】
従って、一部の溝領域と残りの溝領域とで単位面積当たりのインク塗布量が異なっているにもかかわらず、各溝領域群を構成する複数の溝領域に塗布されたインク及び溶剤からなるインク層の表面積（溝領域単位面積あたりのインク層の表面積）が均一化される。これにより、乾燥の途中で、これらの溝領域の上方に形成される溶剤蒸気圧の分布にむらが生じるのが抑えられる。また、各溝領域群を構成する複数の溝領域に形成されるインク層が乾燥するのに要する時間も均一化される。【００１６】
よって、各溝領域内に形成される機能層の膜厚分布の偏りをなくすことができる。【００１７】
各発光素子内における機能層の膜厚分布に偏りがなくなると、発光素子内での電流密度の分布も均一的になるので長寿命となる。また、各発光素子の中での輝度むらも生じにくい。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】実施の形態１に係る有機ＥＬ表示装置１の概略構成を示す模式ブロック図である。
【図２】表示パネル１０における発光素子１１ａ，１１ｂ，１１ｃの配置形態を示す模式平面図である。
【図３】図２のＡ−Ａ断面を示す模式断面図である。
【図４】表示パネル１０の製造工程を示す工程図である。
【図５】バンク付基板１５０の概略斜視図である。
【図６】（ａ）〜（ｅ）は、実施の形態１に係るホール輸送層１１６の製造工程を示す図であり、(ａ)は溶剤を塗布する工程を示し、（ｂ）はインクを塗布する工程を示し、（ｃ）はインク層を形成する工程を示し、（ｄ）はインク層を乾燥する工程を示し、（ｅ）はホール輸送層完成後の状態を示す。
【図７】（ａ）〜（ｄ）は、比較例に係るホール輸送層１１６の製法を示す図であり、(ａ)はインク塗布直後の状態を示し、（ｂ）はホール輸送層１１６Ｂ形成直後の状態を示し、（ｃ）はホール輸送層１１６Ｇ形成直後の状態を示し、（ｄ）はホール輸送層１１６Ｒ形成直後の状態を示す。
【図８】バンク１１２間の溝領域に形成されたインク層１１６ａの断面を模式的に示す図である。
【図９】実施の形態２に係る表示パネル２０における発光素子１１ａ，１１ｂ，１１ｃの配置形態を示す模式平面図である。
【図１０】図９のＡ−Ａ断面を示す模式断面図である。
【図１１】（ａ）〜（ｅ）は、実施の形態２に係るホール輸送層１１６の製造工程を示す図であり、(ａ)は溶剤を塗布する工程を示し、（ｂ）はインクを塗布する工程を示し、（ｃ）はインク層を形成する工程を示し、（ｄ）はインク層を乾燥する工程を示し、（ｅ）はホール輸送層完成後の状態を示す。
【図１２】（ａ），（ｂ）は、実施の形態３に係る表示パネル３０の平面図であり、（ａ）は青色の溝領域の開口幅が広い例を示し、（ｂ）はピクセルバンクを用いた例を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
［発明に到る経緯］
本発明者は、下地基板の表面に沿った複数のバンクによって区画された複数の各溝領域にサブピクセルが形成された有機発光デバイスの製造について検討した。この検討の結果、本発明者は、当該有機発光デバイスの製造の際に、各溝領域にインクの塗布を行うことによって機能層を形成するときに、溝領域ごとにインクの塗布量が異なっていると、各溝領域に形成される機能層の膜厚分布に偏りが生じることを見出した。
【００２０】
その原因としては、溝領域間でインク塗布量が異なると、乾燥の過程において、溝領域ごとに溶剤の蒸発速度が異なることが考えられる。蒸発速度が互いに異なる溝領域に挟まれた溝領域のインク層においては、コーヒーステイン現象として知られているように、蒸発速度の小さい溝領域の方にインクの流れが生じると考えられる。
【００２１】
そして、このインクの流れに伴ってインク層内で機能性材料が移動することによって、乾燥後の機能層の形状に偏りが生じると考えられる。
【００２２】
このような知見に基づき、それぞれ色の異なるサブピクセルが形成される隣り合う複数の溝領域からなる溝領域群において、できるだけ溝領域間におけるインク層の乾燥が均一的になされるようにすることによって、各溝領域に形成される機能層の膜厚の偏りをなくす方法を検討した。
【００２３】
ここで複数の溝領域の単位面積当たりに塗布するインクの量を同等に設定することができれば、インク層の乾燥を均一的にすることができる。しかしながら、複数の溝領域に対して共通のインクを塗布し、且つ、溝領域ごとに別個の膜厚に設定する場合には、塗布するインク量も個別に設定する必要があり、同等のインク塗布量にすることはできない。
【００２４】
そこで、複数の溝領域に対して塗布するインク量が異なる場合でも、インク層からの蒸発速度をできるだけ均一化できる方法を検討し、本発明に至った。
【００２５】
［発明の態様］
本発明の一態様に係る有機発光デバイスの機能層を形成する方法は、下地基板と、当該下地基板の表面に沿った一方向に伸長し互いに並行する複数のバンクとを有するバンク付基板を準備し、複数のバンク同士の間の各溝領域にインクを塗布し、塗布されたインク層を乾燥させることによって、色の異なる隣り合う複数のサブピクセルからなる画素が複数配置された有機発光デバイスの機能層を形成する形成方法であって、バンク付基板において、それぞれ色の異なるサブピクセルが形成される隣り合う複数の溝領域からなる溝領域群が複数群存在し、各溝領域群において、一部の溝領域は、残りの溝領域と比べて、単位面積当たりのインク塗布量が少なく設定され、複数の溝領域の各々にインクを塗布する前又は後に、一部の溝領域にインクが溶解する溶剤を塗布すると共に、残りの溝領域に対しては、インクが溶解する溶剤を塗布しないか、一部の溝領域に対する単位面積当たりの塗布量より少ない単位面積当たりの塗布量で溶剤を塗布し、インク及び溶剤の塗布によって複数の溝領域に形成されたインク層を乾燥させることによって機能層を形成することとした。
【００２６】
この機能層の形成方法によれば、各溝領域群を構成する複数の溝領域の中で、一部の溝領域は残りの溝領域に対して単位面積当たりのインク塗布量が少なく設定されている。そして、単位面積当たりのインク塗布量が少ない一部の溝領域に対する単位面積当たりの溶剤塗布量は、残りの溝領域に対する単位面積当たりの溶剤塗布量よりもが多く設定されているので、一部の溝領域と残りの溝領域との間で、インクと溶剤とを合わせた単位面積当たりの塗布量が均一化される。
【００２７】
従って、一部の溝領域と残りの溝領域とで単位面積当たりのインク塗布量が異なっているにもかかわらず、各溝領域群を構成する複数の溝領域に塗布されたインク及び溶剤からなるインク層の塗布量を均一化し、溝領域単位面積あたりのインク層の表面積を均一化できる。従って、乾燥の途中で、これらの溝領域の上方に形成される溶剤蒸気圧の分布にむらが生じるのが抑えられる。また、各溝領域群を構成する複数の溝領域に形成されるインク層が乾燥するのに要する時間も均一化される。
【００２８】
よって、各溝領域内に形成される機能層の膜厚分布の偏りを抑えることができる。
【００２９】
上記態様の機能層の形成方法において、以下のようにしてもよい。
【００３０】
複数の溝領域の各々に塗布される溶剤の塗布量は、溝領域の単位面積あたりに形成されるインク層の表面積が同等となるように設定する。
【００３１】
下地基板上における複数の溝領域群のうち隣り合う溝領域群同士の間に、バスバーが配置された間隙が存在している場合、溶剤を塗布するときに、バスバーが配置された間隙にも溶剤を塗布することが、各溝領域内に形成される機能層の膜厚分布を均一的にする上で好ましい。
【００３２】
複数の溝領域群の中で、下地基板の中央部に位置する溝領域群における溶剤の単位面積当たりの塗布量の平均よりも、下地基板の周辺部に位置する溝領域群における溶剤の単位面積当たりの塗布量の平均を大きく設定してもよい。
【００３３】
下地基板の中央部の溝領域群と比べて周辺部の溝領域群では、溶剤の蒸発速度が大きくなりやすいが、このように周辺部に位置する溝領域群における溶剤の単位面積当たりの塗布量の平均を、中央部に位置する溝領域群における溶剤の単位面積当たりの塗布量の平均よりも大きく設定することによって、中央部と周辺部との間でインク層の乾燥が完了するまでの時間を合わせることができる。このような設定を加えることも、各溝領域内に形成される機能層の膜厚分布を均一内に形成される機能層の膜厚分布を均一化するのに寄与する。
【００３４】
複数の溝領域の各々に対してインクを塗布する前に溶剤の塗布を行うことが好ましい。
【００３５】
各溝領域に対して、先にインクを塗布すると、溶剤が塗布される前にインクの乾燥が進んで溶剤と良好に混合されない可能性もあるが、インクよりも溶剤を先に塗布すれば、そのようなことがなく、溝領域においてインクと溶剤とが良好に混合される。
【００３６】
溝領域に塗付する溶剤には、インクに含まれる溶剤と共通の成分が含まれることが、インクと溶剤の相互の溶解を良好にする上で、また、溝領域間でインク層からの蒸発速度を均一化する上で好ましい。
【００３７】
本発明の一態に係る有機発光デバイスの製造方法は、下地基板上に機能層を形成することによって有機発光デバイスを製造する方法であって、機能層を形成する際に、上記形態の機能層の形成方法を用いる。
【００３８】
本発明の一態に係る有機発光デバイスの製造装置は、下地基板と当該下地基板の表面に沿った一方向に伸長し互いに並行する複数のバンクとを有し、前記複数のバンクのうち隣り合うバンク同士の間には各溝領域が存在し、且つ、それぞれ色の異なるサブピクセルが形成される隣り合う複数の溝領域からなる溝領域群が複数群存在するバンク付基板を備えた有機発光デバイスを製造する装置であって、インクで構成される第１液滴を吐出する第１インクジェットヘッドと、前記インクが溶解する溶剤で構成される第２液滴を吐出する第２インクジェットヘッドと、各溝領域群における一部の溝領域に対して、残りの溝領域と比べて、単位面積当たりのインク塗布量が少なくなるよう、前記第１インクジェットヘッドに前記第１液滴を吐出させるとともに、前記一部の溝領域に対して、前記第２インクジェットヘッドに前記第２液滴を吐出させ、前記残りの溝領域に対して、前記第２インクジェットヘッドに前記第２液滴を吐出させないか、前記一部の溝領域に対する単位面積当たりの塗布量より少ない単位面積当たりの塗布量で前記第２インクジェットヘッドに前記第２液滴を吐出させる制御部と、を備える。
【００３９】
［実施の形態１］
以下、実施の形態に係る有機ＥＬ装置の構成及び製法について説明する。
【００４０】
１．装置の概略構成
図１および図２を参照しながら、有機ＥＬ表示装置１の概略構成を説明する。
【００４１】
図１に示すように、有機ＥＬ表示装置１は表示パネル１０と、これに接続された駆動制御回路部２とを備えている。表示パネル１０は、有機発光デバイスの一種であって、有機材料の電界発光現象を利用した有機ＥＬパネルである。有機ＥＬ表示装置１における駆動制御回路部２は、４つの駆動回路２１〜２４と１つの制御回路２５とから構成されている。
【００４２】
図２は、表示パネル１０の平面図である。表示パネル１０においては、複数の発光素子１１Ｒ，１１Ｇ，１１ＢがＸ方向およびＹ方向に二次元配置されている。この表示パネル１０では、発光素子１１Ｒは赤色光（Ｒ）を出射し、発光素子１１Ｇは緑色光（Ｇ）を出射し、発光素子１１Ｂは青色光（Ｂ）を出射する。
【００４３】
そして、各発光素子１１Ｒ，１１Ｇ，１１Ｂは、赤色サブピクセル、緑色サブピクセル、青色サブピクセルに相当し、Ｘ方向に隣接する３つの発光素子１１Ｒ，１１Ｇ，１１Ｂで１つの画素が構成されている。すなわち、各画素は、Ｘ方向に隣り合う赤色サブピクセル、緑色サブピクセル、青色サブピクセルからなる。各サブピクセルのＹ方向長さは例えば３００μｍである。
【００４４】
２．表示パネル１０の構成
表示パネル１０において、Ｙ方向に延伸する複数のバンク１１２によって区画された溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂが形成されている。溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂは、赤色用、緑色用、青色用の溝領域であって、対応する発光色の発光素子１１Ｒ，１１Ｇ，１１ＢがＹ方向に列設されている。
【００４５】
複数のバンク１１２は、図５に示すように下地基板１１０の上に形成されている。
【００４６】
図２に戻って、各画素を形成する色の異なる赤色サブピクセル、緑色サブピクセル、青色サブピクセルが形成される隣り合う３本の溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂによって１つの溝領域群１２が構成されている。
【００４７】
そして、表示パネル１０全体においては、複数の溝領域群１２がＸ方向に並んで形成されている。
【００４８】
図３は、図２のＡ−Ａ断面を示す模式断面図である。
【００４９】
表示パネル１０は、基板１００上にＴＦＴ層１０１が形成されてなるＴＦＴ基板をベースとしている。ＴＦＴ層１０１は、詳細な図示は省略しているが、ゲート、ソース、ドレインの３電極と、半導体層、パッシベーション膜などで構成されている。
【００５０】
ＴＦＴ基板の上に層間絶縁層１０２が積層されて下地基板１１０が形成されている。層間絶縁層１０２の上面が略平坦に形成され、その上に発光素子１１Ｒ〜１１Ｂが形成されている。
【００５１】
各発光素子１１Ｒ〜１１Ｂは、基本構成は同じであって、層間絶縁層１０２の上に順に積層形成された画素電極１０３、ホール注入層１０４、ホール輸送層１１６、発光層１１７、電子輸送層１１８、及びカソード１１９によって構成されている。
【００５２】
バンク１１２は、層間絶縁層１０２の上において、ホール注入層１０４のＸ方向両縁を覆うように形成されている。
【００５３】
そして、ホール輸送層１１６、発光層１１７、電子輸送層１１８は、バンク１１２同士の間に積層形成されている。
【００５４】
なお、これらホール輸送層１１６、発光層１１７、電子輸送層１１８は、Ｙ方向に連続して形成されている。
【００５５】
ここで、各発光素子１１では、共振器構造を形成するように、ホール輸送層１１６の光学膜厚が設定されている。そのため、赤色発光素子１１Ｒ、緑色発光素子１１Ｇ、青色発光素子１１Ｂでは、各発光色の波長に合わせて、ホール輸送層１１６の膜厚が異なっている。具体的には、赤色用のホール輸送層１１６Ｒ、緑色用のホール輸送層１１６Ｇ、青色用のホール輸送層１１６Ｂの順で、ホール輸送層１１６の膜厚が小さくなっている。
【００５６】
そして、電子輸送層１１８の上及びバンク１１２の側面及び頂面の上を全体的に覆うように、カソード１１９および封止層１２０が順に形成されている。
【００５７】
封止層１２０は、発光層１１７などの有機層が水分に晒されたり、空気に晒されたりすることを抑制する機能を持つ。
【００５８】
封止層１２０の上には、樹脂層１２１を介して、ブラックマトリクス層１２２及びカラーフィルタ層１２３を有する基板１２４が貼り合せられている。
【００５９】
以上の構成を有する表示パネル１０は、トップエミッション型であってＺ方向に光を出射する。
【００６０】
画素電極１０３は、層間絶縁層１０２上において、各発光素子１１Ｒ，１１Ｇ，１１Ｂごとに独立して設けられた電極であって、層間絶縁層１０２に設けられたコンタクトホール（不図示）を介して、ＴＦＴ層１０１の上部電極（ソースまたはドレインに接続された電極）に接続されている。
【００６１】
３．表示パネル１０の各部構成材料
基板１００：
基板１００は、例えば、ガラス基板、石英基板、シリコン基板、硫化モリブデン、銅、亜鉛、アルミニウム、ステンレス、マグネシウム、鉄、ニッケル、金、銀などの金属基板、ガリウム砒素基などの半導体基板、プラスチック基板等を用い形成されている。
【００６２】
プラスチック基板としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂いずれの樹脂を用いてもよい。
【００６３】
例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）等のポリオレフィン、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド、ポリイミド（ＰＩ）、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリ−（４−メチルベンテン−１）、アイオノマー、アクリル系樹脂、ポリメチルメタクリレート、アクリル−スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、ブタジエン−スチレン共重合体、ポリオ共重合体（ＥＶＯＨ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリシクロヘキサンテレフタレート（ＰＣＴ）等のポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルケトン、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリエーテルイミド、ポリアセタール、ポリフェニレンオキシド、変形ポリフェニレンオキシド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル（液晶ポリマー）、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン樹脂、ポリウレタン、あるいは、これらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等が挙げられる。また、これらのうち１種、または２種以上を積層した積層体を用いることもできる。
【００６４】
層間絶縁層１０２：
表示パネル１０の製造工程において、エッチング処理、ベーク処理等が施されることがあるので、層間絶縁層１０２は、それらの処理に対して耐久性を有する材料で形成することが望ましい。層間絶縁層１０２は、例えば、ポリイミド、ポリアミド、アクリル系樹脂などの有機化合物で形成される。
【００６５】
画素電極１０３：
表示パネル１０はトップエミッション型なので、画素電極１０３の表面は高い反射性を有することが好ましい。画素電極１０３は、例えば、銀（Ａｇ）またはアルミニウム（Ａｌ）を含む金属材料で構成される。
【００６６】
画素電極１０３は、金属材料からなる単層構造だけではなく、金属層と透明導電層との積層体とすることもできる。透明導電層の材料としては、例えば、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）が挙げられる。
【００６７】
ホール注入層１０４：
ホール注入層１０４は、例えば、銀（Ａｇ）、モリブデン（Ｍｏ）、クロム（Ｃｒ）、バナジウム（Ｖ）、タングステン（Ｗ）、ニッケル（Ｎｉ）、イリジウム（Ｉｒ）などの酸化物、あるいは、ＰＥＤＯＴ（ポリチオフェンとポリスチレンスルホン酸との混合物）などの導電性ポリマー材料からなる。
【００６８】
バンク１１２：
バンク１１２は、感光性の有機材料で形成する。有機材料の具体例として、例えば、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、シロキサン系樹脂、フェノール系樹脂などが挙げられる。
【００６９】
ホール輸送層１１６や発光層１１７等をウェット法で形成するインクに対する撥液性を有することが好ましいので、フッ素系の樹脂を用いることが好ましい。
【００７０】
バンク１１２の構造は、一層構造だけでなく、二層以上の多層構造を採用することもでき、多層構造の場合には、層毎に上記材料を組み合わせて用いることができる。
【００７１】
ホール輸送層１１６：
ホール輸送層１１６は、例えば、ポリフルオレンやその誘導体、あるいはポリアリールアミンやその誘導体などの高分子化合物を用いて形成することができる。
【００７２】
発光層１１７：
発光層１１７の材料としては、パラフェニレンビニレン（ＰＰＶ）、ポリフルオレン、オキシノイド化合物、ペリレン化合物、クマリン化合物、アザクマリン化合物、オキサゾール化合物、オキサジアゾール化合物、ペリノン化合物、ピロロピロール化合物、ナフタレン化合物、アントラセン化合物、フルオレン化合物、フルオランテン化合物、テトラセン化合物、ピレン化合物、コロネン化合物、キノロン化合物及びアザキノロン化合物、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、ローダミン化合物、クリセン化合物、フェナントレン化合物、シクロペンタジエン化合物、スチルベン化合物、ジフェニルキノン化合物、スチリル化合物、ブタジエン化合物、ジシアノメチレンピラン化合物、ジシアノメチレンチオピラン化合物、フルオレセイン化合物、ピリリウム化合物、チアピリリウム化合物、セレナピリリウム化合物、テルロピリリウム化合物、芳香族アルダジエン化合物、オリゴフェニレン化合物、チオキサンテン化合物、シアニン化合物、アクリジン化合物、８−ヒドロキシキノリン化合物の金属錯体、２−ビピリジン化合物の金属錯体、シッフ塩とIII族金属との錯体、オキシン金属錯体、希土類錯体等の蛍光物質等が挙げられる。
【００７３】
電子輸送層１１８：
電子輸送層１１８は、例えば、オキサジアゾール誘導体（ＯＸＤ）、トリアゾール誘導体（ＴＡＺ）、フェナンスロリン誘導体（ＢＣＰ、Ｂｐｈｅｎ）などで形成される。
【００７４】
カソード１１９：
表示パネル１０はトップエミッション型なので、カソード１１９は光透過性の材料で形成する。具体的な材料は、例えば、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）若しくは酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）などである。
【００７５】
封止層１２０：
封止層１２０は、光透過性の材料で形成される。
【００７６】
封止層１２０の材料は、例えば、窒化シリコン（ＳｉＮ）、酸窒化シリコン（ＳｉＯＮ）などである。また、窒化シリコン（ＳｉＮ）、酸窒化シリコン（ＳｉＯＮ）などの材料を用い形成された層の上に、アクリル樹脂、シリコーン樹脂などの樹脂材料からなる封止樹脂層を設けてもよい。
【００７７】
樹脂層１２１：
樹脂層１２１は、透明樹脂材料、例えば、エポキシ系樹脂材料から形成される。ただし、これ以外にもシリコーン系樹脂などを用いることもできる。
【００７８】
ブラックマトリクス層１２２：
ブラックマトリクス層１２２は、光吸収性および遮光性に優れる黒色顔料を含む紫外線硬化樹脂材料で形成されている。紫外線硬化樹脂としては、アクリル系の紫外線硬化樹脂材料が挙げられる。
【００７９】
カラーフィルタ層１２３：
カラーフィルタ層１２３は、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の各色の波長域の可視光を選択的に透過する材料、例えば公知のアクリル樹脂をベースにした材料で形成される。
【００８０】
基板１２４：
基板１２４は、上記基板１００と同様に、例えば、ガラス基板、石英基板、シリコン基板、硫化モリブデン、銅、亜鉛、アルミニウム、ステンレス、マグネシウム、鉄、ニッケル、金、銀などの金属基板、ガリウム砒素基などの半導体基板、プラスチック基板等を用いることができる。
【００８１】
４．表示パネル１０の製造方法
表示パネル１０の製造方法について、図４の工程図に基づいて説明する。
【００８２】
表示パネル１０の製造においては、先ず、ＴＦＴ基板を準備する（ステップＳ１）。このＴＦＴ基板は、基板１００の上面にＴＦＴ層１０１を形成したものであり、公知の技術で作製される。
【００８３】
次に、ＴＦＴ基板上に有機材料を塗布して層間絶縁層１０２を形成する（ステップＳ２）。
【００８４】
このように作製した下地基板１１０の層間絶縁層１０２上に、画素電極１０３およびホール注入層１０４を順に積層形成する（ステップＳ３、Ｓ４）。画素電極１０３の形成は、例えば、スパッタリング法若しくは真空蒸着法を用いて金属膜を形成した後、フォトリソグラフィ法およびエッチング法でパターニングすることによってなされる。
【００８５】
ホール注入層１０４の形成は、例えば、スパッタリング法を用いて酸化金属（例えば、酸化タングステン）からなる膜を形成した後、フォトグラフィ法およびエッチング法を用いてパターニングすることでなされる。
【００８６】
次に、バンク１１２を形成することによってバンク付基板１５０を作製する（ステップＳ５）。
【００８７】
このバンク１１２は、バンク材料（ネガ型感光性樹脂組成物）を基板上に一様に塗布する。塗布したバンク材料層上に、バンク１１２のパターンに合わせた開口を有するフォトマスクを重ねて、フォトマスクの上から露光する。その後余分なバンク材料をアルカリ現像液で洗い出すことによって、バンク材料をパターニングして、バンク１１２を形成する。
【００８８】
図５に示すように、バンク付基板１５０の上面側に、Ｙ方向に伸長する複数のバンク１１２によって区画された溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂが形成されている。
【００８９】
バンク１１２の高さ（層間絶縁層１０２上複数のバンク１１２は、図５に示すように下地基板１１０の上に形成されている。面からの高さ）は例えば１μｍ、幅は３０μｍである。なお、上述のように、複数のバンク１１２は、下地基板１１０の上に形成されている。ここでいうバンク１１２の高さは、下地基板１１０の上面からバンク１１２の上面までの高さをいう。
【００９０】
図４に戻って、複数のバンク１１２で区画された各溝領域１２５に、ホール輸送層１１６を形成する（ステップＳ６）。ホール輸送層１１６の形成については、後で詳しく説明するが、ウェット法を用い、ホール輸送層１１６の構成用材料を含むインクを隣り合うバンク１１２間の溝領域に塗布した後、乾燥することによってなされる。
【００９１】
同様に、複数のバンク１１２で区画された溝領域１２５に、発光層１１７を積層形成する（ステップＳ７）。発光層１１７の形成についても、各構成材料を含むインクを塗布した後、乾燥することでなされる。
【００９２】
次に、発光層１１７及びバンク１１２の頂面を覆うように、電子輸送層１１８、カソード１１９および封止層１２０を順に積層し形成する（ステップＳ８，Ｓ９，Ｓ１０）。電子輸送層１１８，カソード１１９および封止層１２０は、例えば、スパッタリング法を用いて形成することができる。
【００９３】
その後、基板１２４にカラーフィルタ層１２３およびブラックマトリクス層１２２が形成されたカラーフィルタ基板を貼り合わせることによって、表示パネル１０が完成する（ステップＳ１１）。
【００９４】
５．ホール輸送層１１６の形成工程
図６（ａ）〜（ｅ）は、溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂにホール輸送層を形成する工程を示す断面模式図である。
【００９５】
図６（ｂ）に示すように、バンク付基板１５０における各溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂに対して、ホール輸送層形成用のインクを塗布するが、インクを塗布する工程に先立って、図６（ａ）に示すように溝領域１２５Ｇ，１２５Ｂに溶剤を塗布する工程を設けている。
【００９６】
図５には、塗布装置のノズルヘッド２２１、２２２を示している。ノズルヘッド２２１は溶剤塗付用、ノズルヘッド２２２はインク塗布用であって、各ノズルヘッド２２１、２２２の下面側には、複数のノズル（不図示）がＹ方向に列設されている。
【００９７】
このようなノズルヘッド２２１、２２２をバンク付基板１５０の上を走査させながら、溶剤あるいはインクを吐出することによって、各溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂに溶剤あるいはインクを塗布することができる。
【００９８】
図６（ｂ）のインク塗布時に塗布するインクは、ホール輸送層１１６の材料を所定の溶剤に溶解した溶液である。
【００９９】
インクの溶剤としては、例えば、シクロヘキシルベンゼン（ＣＨＢ）の他に、ジエチルベンゼン、デカハイドロナフタレン、メチルベンゾエート、アセトフェノン、フェニルベンゼン、ベンジルアルコール、テトラハイドロナフタレン、イソフォロン、ｎ−ドデカン、ジシクロヘキシル、ｐ−キシレングリコールジメチルエーテルが挙げられる。
【０１００】
これら溶剤は、単独で用いてもよいし、複数の溶剤を混合したもの、あるいは低沸点溶剤と混合して用いてもよい。
【０１０１】
ただし、上記のように、赤色用のホール輸送層１１６Ｒ、緑色用のホール輸送層１１６Ｇ、青色用のホール輸送層１１６Ｂの設定膜厚はこの順で小さくなるので、各溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂに対して塗布するホール輸送層用のインクの単位面積当たりの塗布量も、この順で小さくなるように設定されることになる（すなわち溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂにおける単位面積当たりの設定塗布量をＩａ，Ｉｂ，Ｉｃとすると、Ｉａ＞Ｉｂ＞Ｉｃの関係がある。）。
【０１０２】
ここで、図３に示すように、各バンク１１２は断面形状が台形状であって、溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂの幅は、底面の幅よりも開口幅が大きい。従って、溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂの面積も底面積よりも開口面積が大きいが、上記の「単位面積」は、開口部の単位面積（すなわち図２に矢印で示す溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂの開口幅に、溝領域のＹ方向長さを掛けた開口部の面積における単位面積）を指すこととする。
【０１０３】
図６（ａ）の溶剤塗布時に、各溝領域に塗布する溶剤の量は、溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂの順で大きくなるように設定する（すなわち溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂの開口面積における単位面積あたりの溶剤塗布量をＳａ，Ｓｂ，Ｓｃとすると、Ｓａ＜Ｓｂ＜Ｓｃの関係がある）。
【０１０４】
さらに、溶剤塗布量Ｓａ，Ｓｂ，Ｓｃの値は、各溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂの単位面積あたりのインク塗布量と溶剤塗布量の和が同程度（すなわちＩａ＋Ｓａ≒Ｉｂ＋Ｓｂ≒Ｉｃ＋Ｓｃ）となるように設定することが好ましい。
【０１０５】
図６（ａ），（ｂ）に示すように、インク塗布量が最も多い溝領域１２５Ｒには溶剤を塗布しなくてもよい（すなわちＳａ＝０に設定してもよい）。
【０１０６】
このようにして、各溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂに塗布された溶剤及びインクは、溝領域内で混ざり合って、図６（ｃ）に示すようにインク層１１６ａが形成される。
【０１０７】
溶剤を塗布する工程において用いる溶剤の組成は、インクに含まれる溶剤と同じ溶剤成分を含むことが、インクと溶剤の相互の溶解を良好にする上で好ましく、また、溝領域間でインク層１１６ａからの蒸発速度を均一化する上で好ましい。
【０１０８】
このようにインク層１１６ａを形成したバンク付基板１５０を乾燥する。このインク層１１６ａの乾燥は、減圧乾燥で行うことが、低温で迅速に乾燥できる点で好ましい。
【０１０９】
乾燥に伴って、図６（ｄ）に示すように各インク層１１６ａの体積は減少し、図６（ｅ）に示すように、乾燥後には図６（ｅ）に示すように、溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂにホール輸送層１１６Ｒ，１１６Ｇ，１１６Ｂが形成される。
【０１１０】
塗布した直後のインク層１１６ａの高さは例えば数十μｍ程度であるが、乾燥後のホール輸送層１１６の膜厚は、数十ｎｍ（例えば２０ｎｍ）である。
【０１１１】
（ホール輸送層１１６の形成工程による効果）
上記ホール輸送層１１６の形成工程によれば、各溝領域群１２を構成する３つの溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂにおいて、単位面積あたりのインク塗布量が多い溝領域１２５Ｒは、残りの溝領域１２５Ｇ、１２５Ｂと比べて単位面積あたりの溶剤塗布量が小さく設定されている。
【０１１２】
また、単位面積あたりのインク塗布量が多い溝領域１２５Ｒ、１２５Ｇは、他の溝領域１２５Ｂと比べて、単位面積あたりの溶剤塗布量が小さく設定されているということもいえる。
【０１１３】
その結果、各溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂに、溶剤及びインクが塗布された時点において、図６（ｃ）に示すように、溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂにおいて形成されるインク層１１６ａは単位面積あたりのインク量のばらつきが少なくなる。
【０１１４】
それによって、以下に説明するように、各溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂに形成されるホール輸送層１１６Ｒ，１１６Ｇ，１１６Ｂの膜厚分布が溝領域内で偏るのを抑えることができる。
【０１１５】
図７は、比較例に係るホール輸送層１１６の製法を示す図である。
【０１１６】
この比較例は、各溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂに溶剤の塗布を行なわない点が上記の実施の形態１に係るホール輸送層１１６を形成方法と異なっている。
【０１１７】
この場合、溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂに塗布される単位面積あたりの塗布量Ｉａ，Ｉｂ，Ｉｃがそのまま、形成されるインク層１１６ａにおける単位面積あたりの塗布量となる。従って、図７（ａ）に示すように、溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂに形成されるインク層１１６ａの単位面積あたりの塗布量Ｉａ，Ｉｂ，Ｉｃは、Ｉａ＞Ｉｂ＞Ｉｃの関係となり、溝領域単位面積あたりのインク層１１６ａの表面積も、この順に小さくなる。
【０１１８】
このようにインクを塗布したバンク付基板１５０を乾燥すると、溝領域単位面積あたりのインク層１１６ａの表面積が大きいほど溝領域単位面積あたりの蒸発量が大きくなるので、図７（ａ）に矢印で示すように、溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂの順で溝領域単位面積あたりの蒸発量が小さくなる。それに伴って、基板上に形成される溶剤蒸気圧も溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂの順で小さくなる。
【０１１９】
従って、各溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂのインク層１１６ａにおいては、溶剤蒸気圧の小さい溝領域の方の蒸発速度が大きくなるので、白抜き矢印で示すように、溶剤蒸気圧の小さい溝領域の方にインクの流れが生じる。そして、このインクの流れに伴ってインク層内で機能性材料が移動するので、ホール輸送層１１６Ｒ、１１６Ｇ，１１６Ｂに、膜厚の偏りが形成される原因となる。
【０１２０】
ここで、単位面積あたりのインク層１１６ａの体積、表面積、蒸発速度の関係についてさらに考察する。
【０１２１】
図８は、バンク１１２間の溝領域に形成されたインク層１１６ａの断面を模式的に示す図である。
【０１２２】
図中ｄは溝領域の開口幅、Θはインク層１１６ａの表面がバンク１１２と接する箇所において水平面に対してなす角度を示している。インク層１１６ａの表面が断面円弧状であると見なし、インク層１１６ａのＹ方向長さをＬとすると、インク層１１６ａの表面積は（ＬｄΘ／ｓｉｎΘ）で表される。また、インク層１１６ａが形成されている溝領域の面積はｄＬで表される。これより、溝領域単位面積当たりのインク層１１６ａの表面積は（Θ／ｓｉｎΘ）で表される。また、インク層１１６ａの体積は、図中斜線でハッチングした断面扇形領域の体積とほぼ等しいので、（Ｌｄ2Θ／４ｓｉｎ2Θ）となる。この場合、溝領域単位面積あたりのインク層１１６ａの表面積Ｓと、溝領域単位面積あたりの体積Ｖとには、比率Ｓ／Ｖ＝４ｓｉｎΘ／ｄの関係がある。
【０１２３】
さらに、溝領域の開口幅ｄが一定であれば、溝領域のインク層１１６ａの体積が大きくなると、インク層１１６ａの表面がバンク１１２と接する箇所において水平面に対してなす角度Θは大きくなり、インク層１１６ａの表面積も大きくなる。そのため、溝領域の開口幅ｄが一定の場合、インク層１１６ａの表面積を大きくするためには、インク層１１６ａの体積を大きくすればよい。
【０１２４】
また、溝領域単位面積あたりのインク層１１６ａの表面積と、溝領域単位面積あたりの蒸発量と、その上方での蒸気密度は、ほぼ比例すると考えられる。そのため、溝領域の蒸発速度を均一化するためには、溝領域単位面積あたりのインク層１１６ａの体積を大きくすることで、溝領域単位面積あたりのインク層１１６ａの表面積を均一化すればよい。
【０１２５】
さらに、比較例の場合、以下に説明するように、溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂ間のインク層１１６ａで乾燥が終了するタイミングが異なることによってもインク層１１６の膜厚偏りが生じる。
【０１２６】
図７（ｂ）に示すように、溝領域１２５Ｂのインク層１１６ａが乾燥してホール輸送層１１６Ｂが形成されると、溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇからは溶剤が蒸発し、溝領域１２５Ｂからは溶剤が蒸発しないので、バンク付基板１５０上方の溶剤蒸気圧の分布は、溝領域１２５Ｂの上で低い蒸気圧となる。それによって、溝領域１２５Ｂに近い箇所では、溝領域１２５Ｒ上のインク層１１６ａ及び溝領域１２５Ｇ上のインク層１１６ａから溶剤が蒸発する速度が大きくなる（図７（ｂ）の矢印参照）。そして、各インク層１１６ａにおいては、図７（ｂ）に白抜矢印で示すように、インクの流れが生じる。
【０１２７】
さらに乾燥が進むと、図７（ｃ）に示すように、溝領域１２５Ｇのインク層１１６ａが乾燥してホール輸送層１１６Ｇが形成される。すると、溝領域１２５Ｒからは溶剤が蒸発し、溝領域１２５Ｇ，１２５Ｂからは溶剤が蒸発しないので、バンク付基板１５０上方の溶剤蒸気圧の分布は、溝領域１２５Ｇ，１２５Ｂの上で低い蒸気圧となる。溝領域１２５Ｂ及び溝領域１２５Ｇに近い箇所では、溝領域１２５Ｒ上のインク層１１６ａから溶剤が蒸発する速度が大きくなる（図７（ｃ）の矢印参照）。そして、各インク層１１６ａにおいては、図７（ｃ）に白抜矢印で示すように、インクの流れが生じる。
【０１２８】
最後に図７（ｄ）に示すように、溝領域１２５Ｒのインク層１１６ａが乾燥してホール輸送層１１６Ｒが形成される。
【０１２９】
このように比較例に係るホール輸送層１１６の製法では、乾燥の途中で、基板上に溶剤蒸気圧の分布が生じてインク層１１６ａにインクの流れが生じ、それによって、各溝領域１２５に形成されるホール輸送層１１６の膜厚分布は例えば図７（ｄ）に示すように偏ったものとなる。
【０１３０】
各発光素子１１内でホール輸送層１１６の膜厚分布に偏りが生じると、共振器構造において発光色の波長に膜厚が合わない場所が生じる。また、各発光素子１１内でホール輸送層１１６の膜厚分布に偏りが生じると、膜厚の小さい箇所で電流密度が大きくなり、発光素子１１が早く劣化する原因となる。
【０１３１】
これに対して、上記実施形態のホール輸送層１１６の形成方法によれば、溶剤を塗布する工程を備えることによって、溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂにおいて形成されるインク層１１６ａは、図６（ｃ）に示すように単位面積あたりのインク量は均一的なものとなり、溝領域単位面積あたりのインク層の表面積も均一的となる。
【０１３２】
従って、乾燥時において、いずれの溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂの上でも蒸気圧が同等となり、乾燥が終了する時期も近くなる。よって、各溝領域１２５に形成されるホール輸送層１１６の膜厚分布に偏りが生じない。
【０１３３】
すなわち、各溝領域１２５内でホール輸送層１１６の膜厚を均一的に形成できるので、各発光素子１１内の全体で発光色の波長に合った共振器構造を形成することができる。
【０１３４】
また、発光素子１１において機能層（ホール輸送層１１６）の膜厚が均一化されることによって、電流密度も均一化されるので、発光素子の寿命が長くなる効果も得られる。
【０１３５】
特に、本実施形態のように、３つの溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂのホール輸送層１１６の設定膜厚が異なり、且つホール輸送層１１６を共通のインクを用いて形成する場合は、３つの溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂに対するインク塗布量は異ならざるを得ないが、上記のように溶剤を塗布することによって、発光素子１１内でのホール輸送層１１６の膜厚分布を均一的にできる点で利用価値が高い。
【０１３６】
（ホール輸送層１１６の形成工程のバリエーション）
上記ホール輸送層１１６の形成工程の説明では、まずノズルヘッド２２１を走査しながら各溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂに溶剤を塗付した後、ノズルヘッド２２２を走査しながら各溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂにインクを塗付したが、ノズルヘッド２２１及びノズルヘッド２２２を走査しながら、一回の走査で、各溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂに溶剤の塗布とインク塗布とを行うこともできる。この場合も同様に、各溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂ内でホール輸送層１１６の膜厚の偏りをなくす効果が得られる。
【０１３７】
また上記の説明では、各溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂにインクを塗布する前に溶剤を塗布したが、順序を入れ替えて、各溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂにインクを塗布した後に溶剤を塗布してもよい。この場合も同様に、各溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂ内でホール輸送層１１６の膜厚の偏りをなくす効果が得られる。
【０１３８】
ただし、各溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂに対して、先にインクを塗布すると、溶剤が塗布される前にインクが乾燥する可能性もあるが、インクよりも溶剤を先に塗布すれば、そのようなことがなく、各溝領域に塗布されたインクと溶剤とが良好に混合される。
【０１３９】
（発光層１１７の形成工程）
バンク付基板１５０におけるホール輸送層１１６が形成された各溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂに対して、発光層形成用のインクを塗布し乾燥することによって発光層１１７を形成する。
【０１４０】
発光層形成用のインクは、発光層１１７の材料を溶剤に溶解した溶液である。
【０１４１】
このインクの塗布も、バンク付基板１５０の表面に沿ってノズルヘッドを走査しながら、各溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ、１２５Ｂに対してノズルヘッドから発光層用のインクを吐出することによって行う。ただし、溝領域１２５Ｒには赤色発光層用のインク、溝領域１２５Ｇには緑色発光層用のインク、溝領域１２５Ｂには青色発光層用のインクを塗布する。
【０１４２】
そして、各溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂに形成されたインク層を乾燥することによって対応する発光色の発光層１１７が形成される。
【０１４３】
なお、この発光層１１７を形成する工程においても、溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂの単位面積あたりに塗布するインク量が互いに異なる場合には、上記ホール輸送層１１６の形成工程と同様に、インクを塗布する前又は後に溶剤を塗布して、溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂの間で単位面積当たりのインクと溶剤の合計塗布量を均一化することにより、溝領域単位面積当たりのインク層の表面積を均一化し、各溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂ内で発光層１１７の膜厚分布を均一化する効果が得られる。
【０１４４】
[実施の形態２]
図９，図１０は、実施の形態２に係る表示パネル２０の構成を示す図である。
【０１４５】
この表示パネル２０は、基本的な構成は上記実施の形態１に係る表示パネル１０と同様であるが、基板１１０上において、隣り合う溝領域群１２同士の間にバスバー領域１２６が確保されていて、Ｙ方向に伸長するバスバー１０５が配設されている点が異なっている。
【０１４６】
バスバー１０５は、層間絶縁層１０２の上面に画素電極１０３と同じ材料で同層に形成されている。このバスバー１０５の上面側は、ホール注入層１０４を介してカソード１１９とＹ方向に連続して接触して電気接続されている。
【０１４７】
このようにカソード１１９は、バスバー１０５とＹ方向に沿って電気接続されているので、Ｙ方向の電気抵抗が低減される。
【０１４８】
表示パネル２０を製造する方法は、上記実施の形態１の表示パネル１０を製造する方法と同様であるが、画素電極１０３を形成する工程において、バスバー１０５も同時に形成する。
【０１４９】
図１１（ａ）〜（ｅ）は、溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂにホール輸送層を形成する工程を示す断面模式図である。
【０１５０】
本実施形態でも、ホール輸送層１１６を形成する工程において、実施の形態１で説明したように、各溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂに対して塗布するホール輸送層用のインクの単位面積当たりの塗布量も、この順で小さくなるように設定され、インク塗布に先立って、溝領域１２５Ｇ，１２５Ｂに対して、溶剤だけが塗布される。そして、図１１（ａ），(ｂ)に示すように、各溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂに対する溶剤の単位面積当たりの塗布量が、この順で大きくなるように設定される点についても、実施の形態１と同様である。
【０１５１】
さらに本実施形態においては、隣り合う溝領域群１２同士の間にバスバー領域１２６を有しているので、溝領域１２５Ｇ，１２５Ｂに対して溶剤を塗布するときに、図１１（ａ），(ｂ)に示すようにバスバー領域１２６にも溶剤を塗布する。
【０１５２】
ここで、バスバー領域１２６に対する溶剤塗布量は、バスバー領域単位面積当たりの溶剤層の表面積が、溝領域単位面積当たりのインク層１１６ａの表面積と等しくなるよう、塗布される溶剤層の表面がバンク１１２と接触する箇所で水平面となす角度と、インク層１１６ａの表面がバンク１１２と接触する箇所で水平面となす角度（図８の角度Θ）とが同等となるように設定することが好ましい。
【０１５３】
このようにして本実施の形態では、図１１（ｂ），（ｃ）に示すように、溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂにインク層１１６ａが形成され、バスバー領域１２６には溶剤層が形成されるので、以下の効果を奏する。
【０１５４】
バスバー領域１２６に溶剤が存在しない状態で溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂのインク層１１６ａを乾燥した場合、バンク付基板１５０上方の溶剤蒸気圧はバスバー領域１２６の上で低くなるので、コーヒーステイン効果により、バスバー領域１２６に近い箇所では、溝領域１２５Ｇ上のインク層１１６ａ及び溝領域１２５Ｒ上のインク層１１６ａから溶剤が蒸発する速度が大きくなり、インクの流れが生じ、形成されるホール輸送層１１６の膜厚分布が不均一になる。
【０１５５】
これに対して本実施の形態では、バスバー領域１２６に溶剤が存在する状態で、溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂのインク層１１６ａが乾燥されるので、バンク付基板１５０上方の溶剤蒸気圧の分布が均一的な状態でインク層１１６ａの乾燥がなされる。
【０１５６】
従って、インク層１１６ａの乾燥時において、場所ごとの溶剤蒸発速度のばらつきが抑えられ、インクの流れが生じにくくなるので、各溝領域１２５に形成されるホール輸送層１１６の膜厚分布が均一的になる。
【０１５７】
[実施の形態３]
図１２（ａ），（ｂ）は、実施の形態３に係る表示パネル３０の平面図である。
【０１５８】
これらの表示パネル３０においては、発光素子１１Ｒ，１１Ｇと比べて、発光素子１１Ｂの幅が広く設定されている。すなわち、赤色の溝領域１２５Ｒ，緑色の溝領域１２５Ｇと比べて、青色の溝領域１２５Ｂの開口幅が広く設定されている。一般的に青色発光素子は、赤色発光素子や緑色発光素子と比べて駆動時に劣化がしやすいが、このように青色発光素子１１Ｂの幅を広くすることによって、発光量を確保しながら、電流密度を小さくできるので劣化速度を抑えることができる。表示パネル３０では、各溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂに対して塗布するホール輸送層用のインクの単位面積当たりの塗布量が、この順で小さくなるように設定されている。また、インク塗布に先立って、溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂに対して、溶剤だけを塗布する（ただし、溝領域１２５Ｒには溶剤は塗布しなくてもよい）。なお、各溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂに対する溶剤の単位面積当たりの塗布量は、この順で大きくなるように設定する。
【０１５９】
このように各溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂに対する溶剤の単位面積当たりの塗布量を設定することによって、溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂ間における溝領域単位面積あたりのインク層１１６ａの体積及び表面積を均一化することができる。また、それによって、各溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂのインク層１１６ａを乾燥する時に、基板１１０上における溶剤蒸気圧の分布を均一化し、各溝領域内でインクの流れが生じにくくなるので、各溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂに形成されるホール輸送層１１６の膜厚分布が均一的になる。
【０１６０】
また、溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂに形成されるインク層１１６ａにおいて、溝領域単位面積あたりの表面積が同等になるように、各溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂに塗布する溶剤量を設定することが好ましい。
【０１６１】
なお、本実施形態においては、溝領域の開口幅に違いがあり、具体的には、上述したように、溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇの開口幅よりも溝領域１２５Ｂの開口幅の方が広い。そして、実施の形態１において図８を用いて導いた「比率Ｓ／Ｖ＝４ｓｉｎΘ／ｄ」の関係に基づくと、溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂにおいて、溝領域単位面積あたりのインク層１１６ａの体積が一定である場合、溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇよりも溝領域１２５Ｂの方が、溝領域単位面積あたりのインク層１１６ａの体積と溝領域単位面積あたりのインク層１１６ａの表面積との比率Ｓ／Ｖが小さくなる。従って、溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂ間において溝領域単位面積あたりの表面積Ｓを同等とするには、溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇよりも溝領域１２５Ｂの方が、溝領域単位面積あたりのインク層１１６ａの体積Ｖが大きくなるように、溶剤塗布量を設定すればよい。
【０１６２】
また、図１２（ｂ）に示す表示パネル３０は、ピクセルバンクを有する例である。
【０１６３】
すなわち、Ｙ方向に伸長する複数のバンク１１２と、Ｘ方向に伸長する複数のバンク１１３とが交差してピクセルバンクが形成されている。そしてバンク１１２及びバンク１１３で囲まれた領域が溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂとなり、発光素子１１Ｒ，１１Ｇ，１１Ｂが形成されている。
【０１６４】
このように溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂの幅が一律でない表示パネル３０を製造する際にも、ホール輸送層１１６を形成する工程において、上記実施の形態１で説明した方法を用いることによって、同様の効果を奏する。また、図１２（ｂ）に示す表示パネル３０を作成する場合のように、ピクセルバンクによって区画された溝領域に機能層を形成する場合も同様に実施し、同様の効果を得ることができる。
【０１６５】
［変形例など］
（１）上記実施の形態では、１つの溝領域群１２が３つの溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ、１２５Ｂで構成され、単位面積当たりのインク塗布量が３つの溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ、１２５Ｂで相互に異なっていて、且つ単位面積当たりの溶剤塗布量も相互に異なっている例を示したが、３つの溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ、１２５Ｂの中の２つはインク塗布量が同じで１つだけインク塗布量が異なっている場合でも、同様に実施できる。
【０１６６】
また、単位面積当たりのインク塗布量が３つの溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ、１２５Ｂで相互に異なっている場合で、３つの溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂの中の２つは溶剤塗布量が同じで１つだけ溶剤塗布量が異なっている場合もあり得る。その場合、３つの溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ、１２５Ｂにおいて、溝領域単位面積当たりのインク層の表面積が同等にはならなくても、ある程度均一化する効果は得られるので、各溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂに形成されるホール輸送層１１６の膜厚の偏りをなくす効果は得られる。
【０１６７】
（２）上記実施の形態では、１画素が３つの発光素子１１Ｒ，１１Ｇ，１１Ｂで構成され、１つの溝領域群１２が３つの溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ、１２５Ｂで構成されていたが、１つの溝領域群が２つの溝領域で構成されている場合でも、同様に実施可能であり、同様に各溝領域に形成されるホール輸送層の膜厚分布が均一的になる。
【０１６８】
（３）また、１画素が４つ以上の発光素子１１Ｒ，１１Ｇ，１１Ｂで構成され、１つの溝領域群１２が４以上の溝領域で構成されている場合でも、同様に実施可能であり、同様の効果を得ることができる。
【０１６９】
（４）上記実施の形態では、表示パネルのホール輸送層１１６及び発光層１１７をウェット方式形成する場合について説明したが、ホール輸送層、発光層以外の機能層をウェット方式で形成する場合、例えば、ホール注入層、電子輸送層、電子注入層をウェット方式で形成する場合にも、同様に実施することができ、同様の効果を得ることができる。
【０１７０】
また、有機ＥＬ表示パネルに限らず、例えば、有機ＥＬ照明における機能層を形成する場合にも適用することができ、同様の効果を得ることができる。
【０１７１】
（５）下地基板の上に存在する複数の溝領域群１２の中で、下地基板の中央部に位置する溝領域群１２における溶剤の単位面積当たりの塗布量の平均よりも、周辺部に位置する溝領域群における溶剤の単位面積当たりの塗布量の平均を大きく設定してもよい。
【０１７２】
下地基板の中央部の溝領域群１２と比べて周辺部の溝領域群１２では、溶剤の蒸発速度が大きくなりやすいが、上記のように周辺部に位置する溝領域群１２における溶剤の単位面積当たりの塗布量の平均を、中央部に位置する溝領域群における溶剤の単位面積当たりの塗布量の平均よりも大きく設定することによって、中央部と周辺部との間でインク層の乾燥が完了するまでの時間を合わせることができる。このような設定を加えることも、各溝領域１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂ内に形成される機能層１１６Ｒ，１１６Ｇ，１１６Ｂの膜厚分布を均一化するのに寄与する。
【０１７３】
（６）上記実施の形態では、トップエミッション型の表示パネルの機能層を形成する場合を例にとって説明したが、ボトムエミッション型の表示パネルの機能層を形成するのに適用することもでき、同様の効果を得ることができる。
【産業上の利用可能性】
【０１７４】
本発明に係る機能層の形成方法は、有機ＥＬ表示装置をはじめとする有機発光デバイスを製造するのに有用である。
【符号の説明】
【０１７５】
１  有機ＥＬ表示装置
１０  表示パネル
１１Ｒ  赤色発光素子
１１Ｇ  緑色発光素子
１１Ｂ  青色発光素子
１２  溝領域群
２０  表示パネル
３０  表示パネル
１００  基板
１０１  ＴＦＴ層
１０２  層間絶縁層
１０３  画素電極
１０４  ホール注入層
１０５  バスバー
１１０  下地基板
１１２  バンク
１１３  バンク
１１６  ホール輸送層
１１６ａ  インク層
１１７  発光層
１１８  電子輸送層
１１９  カソード
１２０  封止層
１２１  樹脂層
１２４  基板
１２５Ｒ，１２５Ｇ，１２５Ｂ  溝領域
１２６  バスバー領域
１５０  バンク付基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【国際調査報告】
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