(57)【要約】  本発明の目的は、透湿性が低く、かつ偏光子の厚みが薄くても偏光子の劣化が少ない偏光板を提供することである。本発明の偏光板は、厚み２５μｍ未満の偏光子と、透明基材層と、厚み１〜１０μｍの被覆層とを含む保護フィルムとを含み、前記透明基材層は、前記偏光子上に設けられており、セルロースエステルと、ジカルボン酸とジオールの縮合物由来の繰り返し単位を有するポリエステル化合物または糖エステル化合物とを含み、前記保護フィルムの、４０℃９０％ＲＨにおける透湿度が１００ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下である。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
厚み２５μｍ未満の偏光子と、
透明基材層と、厚み１〜１０μｍの被覆層とを含む保護フィルムとを含み、
前記透明基材層は、セルロースエステルと、ジカルボン酸とジオールの縮合物由来の繰り返し単位を有するポリエステル化合物または糖エステル化合物とを含み、
前記保護フィルムの、４０℃９０％ＲＨにおける透湿度が１００ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下である、偏光板。
【請求項２】
前記保護フィルムの前記透明基材層が、前記偏光子と対向している、請求項１に記載の偏光板。
【請求項３】
前記偏光子の厚みが２〜１５μｍである、請求項１に記載の偏光板。
【請求項４】
前記透明基材層が、リン酸エステル化合物を実質的に含まない、請求項１に記載の偏光板。
【請求項５】
前記糖エステル化合物は、水酸基の少なくとも一つが、ベンゾイル基を含むアシル基で置換されたピラノース構造単位とフラノース構造単位の一方または両方を１〜３個有する化合物である、請求項１に記載の偏光板。
【請求項６】
前記透明基材層の厚みが、１０〜７０μｍである、請求項１に記載の偏光板。
【請求項７】
前記被覆層の、厚み５μｍにおける４０℃９０％ＲＨにおける透湿度が１０〜２００ｇ／ｍ２・ｄａｙである、請求項１に記載の偏光板。
【請求項８】
前記被覆層が、塩化ビニル樹脂を含む層である、請求項１に記載の偏光板。
【請求項９】
前記偏光子と前記透明基材層とは、活性エネルギー線硬化型接着剤の硬化物層を介して接着されている、請求項１に記載の偏光板。
【請求項１０】
前記被覆層上に配置されたハードコート層をさらに含む、請求項２に記載の偏光板。
【請求項１１】
請求項１に記載の偏光板を含む、液晶表示装置。
【請求項１２】
第一の偏光板と、液晶セルと、第二の偏光板と、バックライトとをこの順に含む液晶表示装置であって、
前記第一の偏光板は、第一の偏光子と、前記第一の偏光子の視認側の面に配置された保護フィルムＦ１とを含み、
前記第二の偏光板は、第二の偏光子と、前記第二の偏光子の前記バックライト側の面に配置された保護フィルムＦ４とを含み、
前記第一の偏光子の厚みが２５μｍ未満であり、かつ
前記保護フィルムＦ１が、セルロースエステルと、ジカルボン酸とジオールの縮合物由来の繰り返し単位を有するポリエステル化合物または糖エステル化合物とを含む透明基材層と、厚み１〜１０μｍの被覆層とを含み、４０℃９０％ＲＨにおける透湿度が１００ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であるか、または
前記第二の偏光子の厚みが２５μｍ未満であり、かつ
前記保護フィルムＦ４が、セルロースエステルと、ジカルボン酸とジオールの縮合物由来の繰り返し単位を有するポリエステル化合物または糖エステル化合物とを含む透明基材層と、厚み１〜１０μｍの被覆層とを含み、４０℃９０％ＲＨにおける透湿度が１００ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下である、液晶表示装置。
【請求項１３】
前記第一の偏光子の厚みが２５μｍ未満であり、
前記保護フィルムＦ１が、セルロースエステルと、ジカルボン酸とジオールの縮合物由来の繰り返し単位を有するポリエステル化合物または糖エステル化合物とを含む透明基材層と、厚み１〜１０μｍの被覆層とを含み、４０℃９０％ＲＨにおける透湿度が１００ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であり、かつ
前記第二の偏光子の厚みが２５μｍ未満であり、
前記保護フィルムＦ４が、セルロースエステルと、ジカルボン酸とジオールの縮合物由来の繰り返し単位を有するポリエステル化合物または糖エステル化合物とを含む透明基材層と、厚み１〜１０μｍの被覆層とを含み、４０℃９０％ＲＨにおける透湿度が１００ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下である、請求項１２に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偏光板および液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、スマートホンやタブレットなどの携帯型の液晶表示装置が広く普及している。これらの携帯型の液晶表示装置には、薄型化が求められている。【０００３】
液晶表示装置は、液晶セルと、それを挟持する一対の偏光板とを有する。偏光板は、偏光子と、その液晶セル側に配置される位相差フィルム（Ｆ２またはＦ３）と、液晶セルとは反対側に配置される保護フィルム（Ｆ１またはＦ４）とを有しうる。【０００４】
保護フィルム（Ｆ１またはＦ４）は、透明で複屈折性が小さく、鹸化処理により偏光子と接着させやすいことなどから、セルローストリアセテートフィルム（ＴＡＣ）であることが望まれる。しかしながら、セルローストリアセテートフィルムは透湿度が高いことから、それを含む偏光板は、高温高湿下に曝された際に、該フィルムを透過した水分によって偏光子の寸法変化を生じやすかった。偏光子の寸法変化は、液晶表示装置の表示ムラの原因となりやすい。【０００５】
透湿度が低い保護フィルムとして、例えば疎水性の高いノルボルネン系樹脂からなるフィルムが提案されている（特許文献１参照）。ノルボルネン系樹脂からなるフィルムは、透湿度が低く、湿度の変化は受けにくいものの；偏光子との接着性が不十分であったり、ハードコート層や防眩層などを積層した後にフィルム表面にクラックが入ったりするという不具合があった。【０００６】
また、セルローストリアセテートを主成分とする透明基材フィルムと、低透湿層として塩化ビニリデン系重合体を含有する層または層状無機化合物を含有する層とを含む保護フィルムなどが提案されている（特許文献２および３参照）。これらの保護フィルムはいずれも透湿度が低いことから、透過水分による偏光子の寸法変化と、それによる表示ムラ（パネルベンドによるムラ）を抑制できるとされている。 
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開平１０−１０１９０７号公報
【特許文献２】特開２００８−２４９９０２号公報
【特許文献３】特開２００８−１５８４８３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、特許文献２および３に示されるような低透湿層を有するセルローストリアセテートフィルムは、偏光度が低下しやすい（偏光子が劣化しやすい）という問題があった。その理由は必ずしも明らかではないものの、以下のように推測される。【０００９】
即ち、低透湿層が設けられたセルロースエステルフィルムでは、既にフィルムに含まれる水分が抜けにくく、滞留しやすい。このとき、セルロースエステルフィルムに、例えば可塑剤としてリン酸エステル化合物が含まれていると、滞留した水分によってセルロースエステルが加水分解しやすく、酸を生成しやすい。生成した酸は、偏光子内のヨウ素の配向乱れを生じやすく、偏光子の偏光度を低下させやすい。【００１０】
特に、偏光子の厚みが薄いものほど、偏光子の厚み全体がヨウ素で染色されており、かつ酸が偏光子の厚み全体に浸透しやすいため、ヨウ素の配向乱れが生じやすく、偏光度の低下が顕著になりやすい。また、偏光子の厚みが薄いものほど、偏光子原反の厚みも薄くする傾向がある。厚みの薄い偏光子原反は、延伸により破断を生じやすく、延伸倍率を高くすることができないことから、ヨウ素の配向が乱れやすく、偏光度の低下が顕著になりやすい。【００１１】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、透湿性が低く、かつ偏光子の厚みが薄くても偏光子の劣化が少ない偏光板を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
［１］  厚み２５μｍ未満の偏光子と、透明基材層と、厚み１〜１０μｍの被覆層とを含む保護フィルムとを含み、前記透明基材層は、セルロースエステルと、ジカルボン酸とジオールの縮合物由来の繰り返し単位を有するポリエステル化合物または糖エステル化合物とを含み、前記保護フィルムの、４０℃９０％ＲＨにおける透湿度が１００ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下である、偏光板。
［２］  前記保護フィルムの前記透明基材層が、前記偏光子と対向している、［１］に記載の偏光板。
［３］  前記偏光子の厚みが２〜１５μｍである、［１］または［２］に記載の偏光板。
［４］  前記透明基材層が、リン酸エステル化合物を実質的に含まない、［１］〜［３］のいずれかに記載の偏光板。
［５］  前記糖エステル化合物は、水酸基の少なくとも一つが、ベンゾイル基を含むアシル基で置換されたピラノース構造単位とフラノース構造単位の一方または両方を１〜３個有する化合物である、［１］〜［４］のいずれかに記載の偏光板。
［６］  前記透明基材層の厚みが、１０〜７０μｍである、［１］〜［５］のいずれかに記載の偏光板。
［７］  前記被覆層の、厚み５μｍにおける４０℃９０％ＲＨにおける透湿度が１０〜２００ｇ／ｍ２・ｄａｙである、［１］〜［６］のいずれかに記載の偏光板。
［８］  前記被覆層が、塩化ビニル樹脂を含む層である、［１］〜［７］のいずれかに記載の偏光板。
［９］  前記偏光子と前記透明基材層とは、活性エネルギー線硬化型接着剤の硬化物層を介して接着されている、［１］〜［８］のいずれかに記載の偏光板。
［１０］  前記被覆層上に配置されたハードコート層をさらに含む、［２］に記載の偏光板。【００１３】
［１１］  ［１］〜［１０］のいずれかに記載の偏光板を含む、液晶表示装置。
［１２］  第一の偏光板と、液晶セルと、第二の偏光板と、バックライトとをこの順に含む液晶表示装置であって、前記第一の偏光板は、第一の偏光子と、前記第一の偏光子の視認側の面に配置された保護フィルムＦ１とを含み、前記第二の偏光板は、第二の偏光子と、前記第二の偏光子の前記バックライト側の面に配置された保護フィルムＦ４とを含み；前記第一の偏光子の厚みが２５μｍ未満であり、かつ前記保護フィルムＦ１が、セルロースエステルと、ジカルボン酸とジオールの縮合物由来の繰り返し単位を有するポリエステル化合物または糖エステル化合物とを含む透明基材層と、厚み１〜１０μｍの被覆層とを含み、４０℃９０％ＲＨにおける透湿度が１００ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であるか、または前記第二の偏光子の厚みが２５μｍ未満であり、かつ前記保護フィルムＦ４が、セルロースエステルと、ジカルボン酸とジオールの縮合物由来の繰り返し単位を有するポリエステル化合物または糖エステル化合物とを含む透明基材層と、厚み１〜１０μｍの被覆層とを含み、４０℃９０％ＲＨにおける透湿度が１００ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下である、液晶表示装置。
［１３］  前記第一の偏光子の厚みが２５μｍ未満であり、前記保護フィルムＦ１が、セルロースエステルと、ジカルボン酸とジオールの縮合物由来の繰り返し単位を有するポリエステル化合物または糖エステル化合物とを含む透明基材層と、厚み１〜１０μｍの被覆層とを含み、４０℃９０％ＲＨにおける透湿度が１００ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であり；かつ前記第二の偏光子の厚みが２５μｍ未満であり、前記保護フィルムＦ４が、セルロースエステルと、ジカルボン酸とジオールの縮合物由来の繰り返し単位を有するポリエステル化合物または糖エステル化合物とを含む透明基材層と、厚み１〜１０μｍの被覆層とを含み、４０℃９０％ＲＨにおける透湿度が１００ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下である、［１２］に記載の液晶表示装置。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、透湿性が低く、かつ偏光子の厚みが薄くても偏光子の劣化が少ない偏光板を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】保護フィルムの層構成の一例を示す模式図である。
【図２】液晶表示装置の基本的な構成の一例を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
１．偏光板
本発明の偏光板は、偏光子と、その少なくとも一方の面に配置された保護フィルムとを含む。
【００１７】
（１）偏光子について
偏光子は、ヨウ素系偏光膜、または二色染料を用いた染料系偏光膜でありうる。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般的には、ポリビニルアルコール系フィルムを一軸延伸した後、ヨウ素または二色性染料で染色して得られたフィルムであってもよいし；ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素または二色性染料で染色した後、一軸延伸したフィルム（好ましくは、さらにホウ素化合物で耐久性処理を施したフィルム）であってもよい。偏光子の吸収軸は、フィルムの延伸方向と平行である。
【００１８】
ポリビニルアルコール系フィルムは、ポリビニルアルコール水溶液を製膜したものであってもよい。
【００１９】
二色性染料の例には、アゾ系色素、スチルベン系色素、ピラゾロン系色素、トリフェニルメタン系色素、キノリン系色素、オキサジン系色素、チアジン系色素およびアントラキノン系色素等が含まれる。
【００２０】
偏光子の厚さは、２５μｍ未満であることが好ましく、２〜１５μｍの範囲であることがより好ましく、２〜１０μｍの範囲であることがさらに好ましい。熱や湿度の影響による偏光子の寸法変化を低減し、表示装置のパネルベンドによる表示ムラを低減するためである。
【００２１】
前述のように、環境湿度の変化により生じる偏光子の寸法変化を抑制するためには、保護フィルムであるセルロースエステルフィルムの透湿性を下げること；例えばセルロースエステルフィルム上に低透湿層を設けることが有効と考えられる。
【００２２】
しかしながら、低透湿層を有するセルロースエステルフィルムは、偏光度が低下しやすい（偏光子が劣化しやすい）という問題があった。その理由は必ずしも明らかではないものの以下のように推測される。
【００２３】
即ち、低透湿層が設けられたセルロースエステルフィルムでは、既に取り込まれた水分が抜けにくく、フィルム内に水分が滞留しやすい。このとき、セルロースエステルフィルムに例えば可塑剤としてリン酸エステル化合物が含まれていると、滞留した水分によるセルロースエステルの加水分解が生じやすく、酸を生成しやすい。生成した酸は、偏光子におけるヨウ素の配向乱れを生じやすく、偏光子の偏光度を低下させやすい。ヨウ素の配向乱れは、例えばポリビニルアルコールとヨウ素のホウ酸架橋が酸によってかい離することによって生じうる。
【００２４】
ホウ酸架橋のかい離による偏光度の低下は、偏光子の厚みが薄いものほど、偏光子の厚み全体がヨウ素で染色され、かつ酸が偏光子の厚み全体に浸透しやすいため、顕著になりやすい。また、偏光子の厚みが薄いものほど、偏光子原反を薄くする必要がある。厚みの薄い偏光子原反は破断を生じやすく、延伸倍率を高くすることができないため、ヨウ素の配向が乱れやすく、偏光度の低下が顕著になりやすい。
【００２５】
そこで本発明では、セルロースエステルフィルム（透明基材層）に含まれる可塑剤が、フィルム内に滞留する水分によってセルロースエステルの加水分解を生じさせないようなものであることが好ましい。具体的には、糖エステル化合物またはポリエステル化合物を含むことが好ましい。
【００２６】
即ち、本発明の偏光板を構成する保護フィルム（Ｆ１、Ｆ４）は、セルロースエステルを主成分とする透明基材層と、被覆層とを含む。そして、透明基材層が、可塑剤として糖エステル化合物またはポリエステル化合物を含むことが好ましく、リン酸エステル化合物を含まないことが好ましい。
【００２７】
（２）保護フィルム（Ｆ１、Ｆ４）について
前述の通り、保護フィルムは、透明基材層と、被覆層とを含む。この保護フィルムは、液晶表示装置において最も視認側の保護フィルム（Ｆ１）または最もバックライト側の保護フィルム（Ｆ４）として好ましく用いられる。
【００２８】
２−１）透明基材層
透明基材層は、セルロースエステルを主成分として含み、糖エステル化合物またはポリエステル化合物、好ましくは糖エステル化合物をさらに含む。前述の通り、透明基材層は、リン酸エステル化合物を実質的に含まないことが好ましい。「リン酸エステル化合物を実質的に含まない」とは、リン酸エステル化合物の含有量が透明基材層全体に対して例えば２質量％以下、好ましくは１質量％以下であり、特に好ましくは０質量％であることを意味する。
【００２９】
（セルロースエステル）
セルロースエステルは、セルロースと、炭素原子数２〜２２の脂肪族カルボン酸および芳香族カルボン酸の少なくとも一方とをエステル化反応させて得られる化合物である。
【００３０】
セルロースエステルの例には、セルロース（ジ、トリ）アセテート、セルロースプロピオート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートなどが含まれる。なかでも、位相差発現性の低いものが好ましく、セルローストリアセテートが好ましい。
【００３１】
セルロースエステルのアシル基の総置換度は、２．０〜３．０程度であり、好ましくは２．５〜２．９５、より好ましくは２．６〜２．９、さらに好ましくは２．８〜２．９１である。位相差発現性を低くするためには、アシル基の総置換度は高くすることが好ましい。
【００３２】
セルロースエステルに含まれるアシル基の炭素原子数は、２〜７であることが好ましく、２〜４であることがより好ましい。良好な耐熱性を得るためなどから、セルロースエステルに含まれるアシル基は、アセチル基を含むことが好ましい。炭素原子数３以上のアシル基の置換度は、例えば０．９以下とすることができ、０であることがより好ましい。
【００３３】
セルロースエステルのアシル基の置換度は、ＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に規定の方法で測定することができる。
【００３４】
セルロースエステルの重量平均分子量は、一定以上の機械的強度を得るためには、５．０×１０４〜５．０×１０５であることが好ましく、１．０×１０５〜３．０×１０５であることがより好ましく、１．５×１０５〜２．８×１０５であることがさらに好ましい。
【００３５】
セルロースエステルの分子量分布（重量平均分子量Ｍｗ／数平均分子量Ｍｎ）は、１．０〜４．５であることが好ましい。
【００３６】
セルロースエステルの重量平均分子量および分子量分布は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定されうる。測定条件は、以下の通りである。
溶媒：メチレンクロライド
カラム：Ｓｈｏｄｅｘ  Ｋ８０６、Ｋ８０５、Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製）を３本接続して使用する。
カラム温度：２５℃
試料濃度：０．１質量％
検出器：ＲＩ  Ｍｏｄｅｌ  ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ：Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量：１．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線：標準ポリスチレンＳＴＫ  ｓｔａｎｄａｒｄポリスチレン（東ソー（株）製）Ｍｗ＝１．０×１０６〜５．０×１０２までの１３サンプルによる校正曲線を使用する。１３サンプルは、ほぼ等間隔に選択することが好ましい。
【００３７】
（糖エステル化合物）
糖エステル化合物は、糖に含まれる水酸基とモノカルボン酸とを反応させて得られる化合物である。即ち、糖エステル化合物は、糖由来の構造と、（糖に含まれる）水酸基とモノカルボン酸との反応物由来のアシル基とを含む。
【００３８】
糖エステル化合物に含まれる糖由来の構造は、フラノース構造とピラノース構造の一方または両方が１〜１２個結合した構造であることが好ましく；フラノース構造とピラノース構造の一方または両方が１〜３個、好ましくは２個結合した構造であることが好ましい。なかでも、ピラノース構造とフラノース構造の両方を含むものが好ましい。
【００３９】
糖由来の構造の例には、グルコース、ガラクトース、マンノース、フルクトース、キシロースおよびアラビノースなどの単糖；ラクトース、スクロース、マルチトール、セロビオース、マルトースなどの二糖；セロトリオース、ラフィノースなどの三糖などに由来する構造が含まれる。
【００４０】
糖エステル化合物に含まれるアシル基は、脂肪族アシル基であっても、芳香族基アシル基であってもよい。
【００４１】
脂肪族アシル基の炭素原子数は１〜２２、より好ましくは２〜１２、特に好ましくは２〜８でありうる。脂肪族アシル基の例には、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、オクタノイル基などが含まれる。芳香族アシル基の例には、ベンゾイル基、トルイル基、フタリル基が含まれる。
【００４２】
中でも、糖エステル化合物に含まれるアシル基は、透明基材層の疎水性を高めたり、硬度を高めたり、セルロースエステルとの相溶性を高めるためなどから少なくともベンゾイル基を含むことが好ましい。糖エステル化合物に含まれる複数のアシル基は、互いに同じであっても異なっていてもよい。
【００４３】
糖エステル化合物において、アシル基で置換されていない未反応の水酸基は、通常、そのまま水酸基として残っていてもよい。
【００４４】
糖エステル化合物は、アシル基の種類が同一で、かつ置換度が異なる複数の糖エステル化合物の混合物でありうる。そのような混合物は、無置換体が含まれていてもよい。上記混合物における平均エステル置換率は、６２〜９４％であることが好ましい。上記混合物における平均エステル置換率は、下記式で定義されうる。
平均エステル置換率＝１００％×（混合物中の各糖エステル化合物の含有率）×（混合物中の各糖エステル化合物一分子中のエステル化されたＯＨの数）／（無置換糖の一分子中のＯＨの総数）
【００４５】
糖エステル化合物の具体例には、以下のものが含まれる。
【化１】
2014178178.tif 000003
【化２】
2014178178.tif 000004
【化３】
2014178178.tif 000005
【００４６】
糖エステル化合物の数平均分子量は、好ましくは２００〜３５００、より好ましくは２００〜３０００、特に好ましくは２５０〜２０００としうる。
【００４７】
透明基材層における糖エステル化合物の含有量は、セルロースエステルに対して２〜２５質量％程度とすることができ、好ましくは５〜２０質量％、さらに好ましくは５〜１５質量％程度としうる。
【００４８】
（ポリエステル化合物）
ポリエステル化合物は、ジカルボン酸とジオールとの縮合物に由来する繰り返し単位を含む。
【００４９】
ジカルボン酸は、脂肪族ジカルボン酸、脂環式ジカルボン酸または芳香族ジカルボン酸でありうる。脂肪族ジカルボン酸の炭素原子数は、好ましくは４〜２０であり、より好ましくは４〜１２である。脂肪族ジカルボン酸の例には、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ウンデカンジカルボン酸、ドデカンジカルボン酸等が含まれる。
【００５０】
芳香族ジカルボン酸の炭素原子数は、好ましくは８〜２０であり、より好ましくは８〜１２である。芳香族ジカルボン酸の例には、１，２−ベンゼンジカルボン酸（フタル酸）、１，３−ベンゼンジカルボン酸（イソフタル酸）、１，４−ベンゼンジカルボン酸（テレフタル酸）、１，５−ナフタレンジカルボン酸、１，４−キシリデンジカルボン酸等が含まれる。
【００５１】
脂環式ジカルボン酸の炭素原子数は、好ましくは６〜２０であり、より好ましくは６〜１２である。脂環式ジカルボン酸の例には、１，３−シクロブタンジカルボン酸、１，３−シクロペンタンジカルボン酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、１，４−シクロヘキサンジ酢酸等が含まれる。
【００５２】
ポリエステル化合物を得るためのジカルボン酸は、一種類であっても、二種類以上あってもよい。ポリエステル化合物を得るためのジカルボン酸は、透明基材層の疎水性を高めたり、セルロースエステルとの相溶性を高めたりするためなどから、芳香族ジカルボン酸を含むことが好ましく、芳香族ジカルボン酸と脂肪族ジカルボン酸の両方を含むことがより好ましい。芳香族ジカルボン酸は、１，４−ベンゼンジカルボン酸（テレフタル酸）が特に好ましい。
【００５３】
ジオールは、脂肪族ジオール、アルキルエーテルジオール、脂環式ジオールまたは芳香族ジオールでありうる。
【００５４】
脂肪族ジオールの炭素数は、好ましくは２〜２０であり、より好ましくは２〜１２である。脂肪族ジオールの例には、エチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，２−プロパンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロールペンタン）、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロールヘプタン）、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、２−メチル−１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、および１，１２−オクタデカンジオールなどが含まれる。アルキルエーテルジオールの炭素原子数は、好ましくは４〜２０であり、より好ましくは４〜１２である。アルキルエーテルジオールの例には、ポリテトラメチレンエーテルグリコール、ポリエチレンエーテルグリコールおよびポリプロピレンエーテルグリコールなどが含まれる。
【００５５】
脂環式ジオールの炭素原子数は、好ましくは４〜２０であり、より好ましくは４〜１２である。脂環式ジオールの例には、１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノールなどが含まれる。
【００５６】
芳香族ジオールの炭素原子数は、好ましくは６〜２０であり、より好ましくは６〜１２である。芳香族ジオールの例には、１，２−ジヒドロキシベンゼン（カテコール）、１，３−ジヒドロキシベンゼン（レゾルシノール）、１，４−ジヒドロキシベンゼン（ヒドロキノン）などが含まれる。
【００５７】
ポリエステル化合物を得るためのジオールは、一種類であっても、二種類以上あってもよい。ポリエステル化合物を得るためのジオールは、脂肪族ジオールを含むことが好ましい。
【００５８】
なかでも、芳香族ジカルボン酸と脂肪族ジカルボン酸とを含むジカルボン酸と、脂肪族ジオールとの縮合物に由来する繰り返し単位を含むポリエステル化合物が、それを含むフィルムの透明性が良好である点から、好ましい。
【００５９】
ポリエステル化合物の分子末端は、未封止であってもよいが、必要に応じてモノカルボン酸またはモノアルコールで封止されていてもよい。
【００６０】
モノカルボン酸は、脂肪族モノカルボン酸、脂環式モノカルボン酸または芳香族モノカルボン酸でありうる。脂肪族モノカルボン酸の炭素原子数は、好ましくは２〜３０、より好ましくは２〜４でありうる。脂肪族カルボン酸の例には、酢酸、プロピオン酸などが含まれる。脂環式モノカルボン酸の例には、シクロヘキシルモノカルボン酸などが含まれる。芳香族モノカルボン酸の例には、安息香酸、パラターシャリブチル安息香酸、オルソトルイル酸、メタトルイル酸、パラトルイル酸、ジメチル安息香酸、エチル安息香酸、ノルマルプロピル安息香酸、アミノ安息香酸、アセトキシ安息香酸、フェニル酢酸、３−フェニルプロピオン酸などが含まれる。
【００６１】
モノアルコールは、脂肪族モノアルコール、脂環式モノアルコールまたは芳香族モノアルコールでありうる。脂肪族モノアルコールの炭素原子数は１〜３０であり、好ましくは１〜３でありうる。脂肪族モノアルコールの例には、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノールなどが含まれる。脂環式モノアルコールの例には、シクロヘキシルアルコールなどが含まれる。芳香族モノアルコールの例には、ベンジルアルコール、３−フェニルプロパノールなどが含まれる。
【００６２】
ポリエステル化合物の具体例には、以下のものが含まれる。表１において、ＴＰＡ：テレフタル酸、ＰＡ：フタル酸、ＳＡ：コハク酸、ＡＡ：アジピン酸を示す。
【表１】
2014178178.tif 000006
【００６３】
ポリエステル化合物の数平均分子量は、３００〜２０００であることが好ましく、４００〜１５００であることがより好ましい。数平均分子量が３００未満であるポリエステル化合物はブリードアウトが生じるおそれがある。
【００６４】
ポリエステル化合物の水酸基価は、セルロースエステルとの相溶性を高める観点などから、２５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、１５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることがより好ましい。ポリエステル化合物の水酸基価は、試料１ｇを無水酢酸と反応させてアセチル化させたとき、未反応の酢酸を中和するために必要な水酸化カリウムのミリグラム数として定義される。ポリエステル系可塑剤の水酸基価は、ＪＩＳ  Ｋ  ００７０（１９９２）に準拠して測定されうる。
【００６５】
ポリエステル化合物の含有量は、セルロースエステルに対して５〜３０質量％であることが好ましく、５〜２０質量％であることがより好ましい。ポリエステル化合物の含有量が５質量％未満であると、十分な可塑化効果が得られない可能性がある。一方、ポリエステル化合物の含有量が３０質量％超であると、フィルムからブリードアウトしやすくなる。
【００６６】
これらの糖エステル化合物およびポリエステル化合物は、透明基材層に滞留する水分により、セルロースエステルを加水分解させにくい。また、これら化合物；特に糖エステル化合物は、セルロースエステルとの高い相溶性を有する。そのため、透明基材層に水分が溜まっても、それによりセルロースエステルとこれらの化合物との相溶性が低下しにくく、透明基材層の鉛筆硬度が低下しにくい。
【００６７】
透明基材層は、必要に応じて他の成分（但し、リン酸エステル化合物を除く）をさらに含んでもよい。他の成分の例には、他の可塑剤、紫外線吸収剤などの添加剤や；マット剤などが含まれる。
【００６８】
（紫外線吸収剤）
紫外線吸収剤は、ベンゾトリアゾール系化合物、２−ヒドロキシベンゾフェノン系化合物、サリチル酸フェニルエステル系化合物などであり、好ましくはベンゾトリアゾール系化合物でありうる。
【００６９】
ベンゾトリアゾール系化合物の好ましい例には、式（１）で表される化合物が含まれる。
【化４】
2014178178.tif 000007
【００７０】
式（１）のＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５は、それぞれ独立して水素原子または一価の有機基を表す。Ｒ１、Ｒ２およびＲ３の少なくとも１つは、総炭素原子数４〜２０の無置換の分岐または直鎖のアルキル基であることが好ましく；Ｒ１、Ｒ２、およびＲ３はそれぞれ互いに異なってもよい。
【００７１】
Ｒ１およびＲ３は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であることが好ましく；水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であることがより好ましく；水素原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基であることがさらに好ましく；炭素原子数１〜１２のアルキル基（好ましくは炭素数４〜１２）であることが特に好ましい。
【００７２】
Ｒ２は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換、又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であることが好ましく；水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であることがより好ましく；水素原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基であることがより好ましく；水素原子、メチル基であることが特に好ましく；水素原子であることが最も好ましい。
【００７３】
Ｒ４およびＲ５は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であることが好ましく；水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であることがより好ましく；水素原子、ハロゲン原子であることがさらに好ましく；水素原子、塩素原子であることが特に好ましい。
【００７４】
式（１）で表される化合物の好ましい例を、以下に示す。
【化５】
2014178178.tif 000008
【００７５】
紫外線吸収剤の分子量は、２５０〜１０００であることが好ましく、３００〜８００であることがより好ましい。
【００７６】
紫外線防止剤の含有量は、透明基材層中に質量割合で１ｐｐｍ〜１０００ｐｐｍであることが好ましく、１０〜１０００ｐｐｍであることがさらに好ましい。
【００７７】
（マット剤）
透明基材層は、滑り性を付与するためにマット剤をさらに含有してもよい。マット剤は、無機微粒子または有機微粒子でありうる。
【００７８】
無機微粒子を構成する無機化合物の例には、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム等が含まれる。なかでも、セルロースエステルと屈折率が近く、フィルムの透明性（ヘイズ）に優れる二酸化珪素が好ましい。
【００７９】
二酸化珪素の例には、アエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖ、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７４、Ｒ８１２、Ｒ２０２（以上日本アエロジル（株）製）、シーホスターＫＥＰ−１０、ＫＥＰ−３０、ＫＥＰ−５０（以上、株式会社日本触媒製）などが含まれる。
【００８０】
粒子の形状は、特に制限されず、不定形、針状、扁平、球状等でありうる。なかでも、得られる透明基材層の透明性が良好であることから、球状の粒子が好ましい。
【００８１】
粒子の大きさは、可視光の波長に近いと光が散乱し、透明性が低下するため、可視光の波長より小さいことが好ましく、さらに可視光の波長の１／２以下であることが好ましい。粒子の大きさが小さすぎると、滑り性が改善されない場合があるので、８０ｎｍから１８０ｎｍの範囲であることが好ましい。粒子の大きさとは、粒子が１次粒子の凝集体の場合は、凝集体の大きさを意味する。また、粒子が球状でない場合は、その投影面積に相当する円の直径を意味する。
【００８２】
マット剤の含有量は、セルロースエステルに対して０．０５〜１．０質量％程度とすることができ、好ましくは０．１〜０．８質量％としうる。
【００８３】
透明基材層の厚みは、湿度や熱による偏光板の寸法変化を低減し、表示装置のパネルベンドによるムラを抑制するためなどから、薄いことが好ましく、１０〜８０μｍであることがより好ましく、１０〜７０μｍであることがさらに好ましく、１０〜６０μｍであることが特に好ましい。
【００８４】
透明基材層は、任意の製造方法で得ることができ、溶融流延製膜法または溶液流延製膜法、好ましくは溶液流延製膜法で得ることができる。
【００８５】
２−２）被覆層
被覆層は、保護フィルムの透湿度を低下させるために、透明基材層上に直接または下塗り層などを介して設けられうる。被覆層は、塩化ビニル樹脂を含む層、層状無機化合物を含む層、または無機薄膜であり；透湿度を低減する効果が高いことから、好ましくは塩化ビニル樹脂を含む層である。
【００８６】
（塩化ビニル樹脂を含む層）
塩化ビニル樹脂は、塩素含有ビニル単量体由来の繰り返し単位を含む重合体であり；塩素含有ビニル単量体の単独重合体、または塩素含有ビニル単量体とそれと共重合可能な他の単量体との共重合体でありうる。塩素含有ビニル単量体の例には、塩化ビニル、塩化ビニリデンなどが含まれる。
【００８７】
共重合可能な他の単量体の例には、オレフィン類、スチレン類、（メタ）アクリル酸エステル類、（メタ）アクリルアミド類、イタコン酸ジエステル類、マレイン酸エステル類、フマル酸ジエステル類、Ｎ−アルキルマレイミド類、無水マレイン酸、アクリロニトリル、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、ビニルケトン類、グリシジルエステル類、不飽和ニトリル類、不飽和カルボン酸類等から選ばれる単量体が挙げられる。
【００８８】
オレフィン類の例には、ジシクロペンタジエン、エチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、イソプレン、クロロプレン等が挙げられる。スチレン類の例には、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレンなどが含まれる。（メタ）アクリル酸エステルの例には、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレートなどが含まれる。（メタ）アクリルアミド類の例には、（メタ）アクリルアミド、メチル（メタ）アクリルアミド、エチル（メタ）アクリルアミドなどが含まれる。
【００８９】
ビニルエーテル類の例には、メチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテルなどが含まれる。ビニルエステルの例には、ビニルアセテート、ビニルプロピオネート、ビニルブチレートなどが含まれる。ビニルケトン類の例には、メチルビニルケトン、フェニルビニルケトンなどが含まれる。
【００９０】
イタコン酸ジエステル類の例には、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチルなどが含まれ；マレイン酸ジエステル類の例には、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジメチルなどが含まれ、フマル酸ジエステル類の例には、フマル酸ジエチル、フマル酸ジメチルなどが含まれる。グリシジルエステル類の例には、グリシジル（メタ）アクリレートなどが含まれる。不飽和ニトリル類の例には、アクリロニトリルなどが含まれる。不飽和カルボン酸の例には、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸などが含まれる。
【００９１】
塩化ビニル樹脂における、塩素含有ビニル単量体由来の繰り返し単位の含有割合は、５０〜９９質量％であることが好ましく、６０〜９８質量％であることがより好ましく、７０〜９７質量％であることがさらに好ましい。塩素含有ビニル単量体由来の繰り返し単位の含有割合が５０質量％以上であれば、被覆層の透湿度を十分に下げやすい。塩素含有ビニル単量体由来の繰り返し単位の含有割合が９９質量％以下であれば、溶剤への溶解性が得られやすい。
【００９２】
塩化ビニル樹脂は、旭化成ケミカルズ（株）、呉羽化学（株）の市販品であってもよい。旭化成ケミカルズ（株）の市販品の例には、「サランレジンＲ２４１Ｃ」、「サランレジンＦ２１６」、「サランレジンＲ２０４」、「サランラテックスＬ５０２」、「サランラテックスＬ５２９Ｂ」、「サランラテックスＬ５３６Ｂ」、「サランラテックスＬ５４４Ｄ」、「サランラテックスＬ５４９Ｂ」、「サランラテックスＬ５５１Ｂ」、「サランラテックスＬ５５７」、「サランラテックスＬ５６１Ａ」、「サランラテックスＬ１１６Ａ」、「サランラテックスＬ４１１Ａ」、「サランラテックスＬ１２０」、「サランラテックスＬ１２３Ｄ」、「サランラテックスＬ１０６Ｃ」、「サランラテックスＬ１３１Ａ」、「サランラテックスＬ１１１」、「サランラテックスＬ２３２Ａ」、「サランラテックスＬ３２１Ｂ」などが含まれる。ケトン類溶媒（メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなど）に可溶である点では、サランレジンＦ２１６が好ましい。結晶性が高く、被覆層の透湿度を十分に下げやすい点では、サランレジンＲ２０４が好ましい。
【００９３】
塩化ビニル樹脂の含有量は、塩化ビニル樹脂を含む層全体に対して、５質量％以上であることが好ましく、１０質量％以上であることがより好ましい。
【００９４】
塩化ビニル樹脂を含む層は、必要に応じて劣化防止剤や、ブロッキングを抑制するための有機または無機微粒子をさらに含んでもよい。
【００９５】
例えば、塩化ビニル樹脂は、熱、光、紫外線によって分解され、着色しやすいことから、塩化ビニル樹脂を含む層は、劣化防止剤をさらに含むことが好ましい。劣化防止剤の例には、酸化防止剤、紫外線吸収剤などが含まれる。酸化防止剤の例には、クマロン系化合物、クマラン系化合物、フェノール系化合物（例えばヒンダードフェノール類）、ハイドロキノン誘導体、ヒンダードアミン誘導体、スピロインダン系化合物が含まれる。紫外線吸収剤の例には、前述と同様のものが含まれる。
【００９６】
無機微粒子は、前述のマット剤と同様のものを用いることができる。有機粒子は、プラスチックビーズが好適であり、特に透明度が高く、組み合わされる樹脂との屈折率差が０．００１以上０．３以下になるものが好ましい。有機粒子の例には、架橋ポリメチルメタクリレート粒子（屈折率１．４９）、架橋ポリ（アクリル−スチレン）共重合体粒子（屈折率１．５４）、ポリスチレン粒子（屈折率１．６０）、架橋ポリスチレン粒子（屈折率１．６１）、ポリ塩化ビニル粒子（屈折率１．６０）などが含まれる。
【００９７】
（層状無機化合物を含む層）
層状無機化合物を含む層は、層状無機化合物と、それを保持するためのバインダ樹脂とを含む。
【００９８】
層状無機化合物は、原子が共有結合等によって強く結合して密に配列したシートが、ファンデルワールス力、静電気力などによってほぼ平行に積み重なった構造を有し；層間に溶媒を配位または吸収して、膨潤またはへき開する性質を示す無機化合物をいう。
【００９９】
層状無機化合物としては、膨潤性の含水ケイ酸塩、例えばスメクタイト群粘土鉱物（モンモリロナイト、バイデライト、ノントロナイト、サポナイト、ヘクトライト、ソーコナイト、スチブンサイトなど）、バーミキュライト群粘土鉱物（バーミキュライトなど）、カオリン型鉱物（ハロイサイト、カオリナイト、エンデライト、ディッカイトなど）、フィロケイ酸塩（タルク、パイロフィライト、マイカ、マーガライト、白雲母、金雲母、テトラシリリックマイカ、テニオライトなど）、ジャモン石群鉱物（アンチゴライトなど）、緑泥石群鉱物（クロライト、クックアイト、ナンタイトなど）などが含まれる。これらの膨潤性層状無機化合物は、天然物でも合成物でもよい。
【０１００】
層状無機化合物は、有機化処理がさらに施されたものであってもよい。有機化処理は、有機オニウムイオン（例えばモノアルキルの１級〜４級のアンモニウムイオン）からなる有機化剤を、層状無機化合物に添加して行うことができる。
【０１０１】
層状無機化合物は、透明基材層との密着性を高める観点などから、微粒子化処理が施されていてもよい。微粒子化処理された層状無機化合物は、通常、板状または扁平状であり、無定形状などであってもよい。
【０１０２】
層状無機化合物の平面形状の平均粒子径は、０．１〜１０μｍが好ましく、０．５〜８μｍがより好ましく、０．８〜６μｍが更に好ましい。粒径が０．１μｍより小さいと、透湿度の低減効果が充分でなく；粒径が１０μｍより大きいと、ヘイズや表面粗さなどが増大するおそれがある。
【０１０３】
平面形状の平均粒子半径とは、一般的な粒度分布計、例えば、光散乱方式の粒度分布計（日機装社製「マイクロトラックＵＰＡ」）で測定される粒子半径分布値のうち、その値を有する粒子数が最も多くなる粒子半径である。
【０１０４】
バインダ樹脂は、透湿性が比較的低い樹脂であればよく、好ましくはポリビニルアルコール系重合体でありうる。ビニルアルコール系重合体の例には、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）などの単独重合体や、エチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）などが含まれる。これらのビニルアルコール系重合体は、その一部がカルボニル変性、シラノール変性、エポキシ変性、アセトアセチル変性、アミノ変性またはアンモニウム変性されていてもよい。
【０１０５】
ビニルアルコール系重合体の鹸化度は、８０モル％以上であることが好ましく、９５モル％以上であることがさらに好ましい。ビニルアルコール系重合体の重合度は、透湿度、塗布性の点から、１００〜５０００が好ましく、２００〜４０００がより好ましく、２００〜３０００程度がさらに好ましい。
【０１０６】
ビニルアルコール系重合体は、必要に応じてチタン化合物などの架橋剤で架橋されていてもよい。
【０１０７】
層状無機化合物を含む層は、前述と同様に、必要に応じて劣化防止剤や、有機または無機微粒子などをさらに含んでもよい。
【０１０８】
層状無機化合物の含有量は、バインダ樹脂（好ましくはビニルアルコール系重合体）に対して、２〜２０質量％が好ましく、３〜１０質量％がより好ましい。層状無機化合物の濃度が２質量％未満であると、透湿度の低減効果が充分でなく；層状無機化合物の濃度が２０質量％超であると、ヘイズが増加したり、脆性が高くなったりすることがある。
【０１０９】
塩化ビニル樹脂を含む層および層状無機化合物を含む層の厚みは、１〜１０μｍであることが好ましく、１〜７μｍであることがより好ましく、１〜５μｍであることがさらに好ましい。塩化ビニル樹脂を含む層の厚みが大きすぎると、得られる保護フィルムにカールが生じることがある。一方、塩化ビニル樹脂を含む層の厚みが小さすぎると、保護フィルムの透湿度を十分には下げられないことがある。被覆層は、一層のみであってもよいし、二層以上であってもよい。
【０１１０】
塩化ビニル樹脂を含む層および層状無機化合物を含む層は、前述した各成分と溶媒とを含む塗布液（被覆層用塗布液）を、透明基材層上に塗布した後、乾燥させて得ることができる。
【０１１１】
透明基材層と被覆層との接着性を高めるために、透明基材層は、易接着処理されていてもよい。易接着処理の例には、アルカリ鹸化処理、コロナ処理などが含まれ、好ましくはアルカリ鹸化処理である。また、透明基材層上に、接着性を高めるための後述の下塗り層が形成されてもよい。
【０１１２】
塗布液に含まれる溶媒は、特に制限されないが、透明基材層（好ましくはセルローストリアセテート）を溶解または膨潤させうる溶剤、透明基材層を溶解しない溶剤、水、またはそれらの混合溶媒でありうる。
【０１１３】
透明基材層（好ましくはトリアセチルセルロース）を溶解または膨潤させうる溶媒の例には、
ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１，３，５−トリオキサン、テトラヒドロフランなどの炭素原子数３〜１２のエーテル類；
アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、及びメチルシクロヘキサノンなどの炭素原子数が３〜１２のケトン類；
蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン醸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、及びγ−ブチロラクトン等の炭素数が３〜１２のエステル類などが含まれる。
【０１１４】
透明基材層（好ましくはトリアセチルセルロース）を溶解しない溶媒の例には、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノールなどのアルコール系溶剤が含まれる。
【０１１５】
ラテックスではない塩化ビニル樹脂を含む層を得るためには、例えばテトラヒドロフランもしくは、メチルエチルケトンやシクロヘキサノンなどのケトン系溶剤を用いることが好ましく；塩化ビニル樹脂ラテックスを含む層を得るためには、水を用いることが好ましい。層状無機化合物と、ポリビニルアルコール系重合体とを含む被覆層を得るためには、例えば水とアルコール系溶剤の混合溶媒を用いることが好ましい。
【０１１６】
（無機薄膜）
無機薄膜を構成する無機化合物の例には、珪素、アルミニウム、マグネシウム、亜鉛、錫、ニッケル、チタン、炭化水素等、あるいはこれらの酸化物、炭化物、窒化物またはそれらの混合物が含まれる。なかでも、珪素酸化物、珪素窒化物、アルミニウム酸化物、アルミニウム窒化物が好ましく、アルミニウム窒化物がより好ましい。
【０１１７】
無機薄膜は、真空蒸着、イオンプレーティング、スパッタリング等のＰＶＤ（物理的気相蒸着法）、ＣＶＤ（化学的気相蒸着法）等などにより形成されうる。無機薄膜の厚さは、一般に０．１〜５００ｎｍであるが、好ましくは０．５〜４０ｎｍである。上記範囲内であれば、十分なガスバリア性が得られ、また、無機薄膜に亀裂や剥離を発生させることなく、透明性にも優れている。
【０１１８】
被覆層は、保護フィルムに低透湿性を付与する観点から、透湿度は一定以下であることが好ましい。具体的には、厚み５μｍの被覆層の４０℃９０％ＲＨにおける透湿度は１０〜２００ｇ／ｍ２・ｄａｙであることが好ましく、１０〜１５０ｇ／ｍ２・ｄａｙであることがより好ましい。
【０１１９】
厚み５μｍの被覆層の透湿度は、以下の方法で測定されうる。即ち、ポリフッ化ビニリデン基板上に、被覆層用塗布液を押し出して塗布した後、６０〜１１０℃で３〜１０分乾燥させて膜厚５μｍの被覆膜を形成する。得られた被覆膜を基板から剥離した後、４０℃９０％ＲＨにおける透湿度を、ＪＩＳ Ｚ ０２０８に記載の方法により測定する。そして、面積１ｍ２当たり２４時間で蒸発する水分量（ｇ）を求める。
【０１２０】
保護フィルムに含まれる被覆層の、４０℃９０％ＲＨにおける透湿度は、１０〜１００ｇ／ｍ２・ｄａｙであることが好ましく、１０〜７５ｇ／ｍ２・ｄａｙであることがより好ましい。保護フィルムに含まれる被覆層の透湿度は、保護フィルムから被覆層部分を剥離した後；得られる膜の透湿度を、前述と同様にしてＪＩＳ Ｚ ０２０８に記載の方法で測定すればよい。
【０１２１】
被覆層のヘイズは、得られる保護フィルムの透明性を確保するためなどから、５％以下であることが好ましく、３％以下であることがより好ましく、１％以下であることがさらに好ましい。
【０１２２】
２−３）他の層
保護フィルムは、必要に応じてハードコート層や下塗り層などの他の層をさらに含んでもよい。
【０１２３】
（ハードコート層について）
ハードコート層は、被覆層上または透明基材層上（基材層の被覆層が配置された面とは反対側の面）に設けられうる。ハードコート層は、硬化性化合物の硬化物（架橋物）を主成分として含む。硬化性化合物は、紫外線または電子線などの活性線により硬化する化合物であり、エチレン性不飽和二重結合を有する化合物などでありうる。エチレン性不飽和二重結合を有する化合物の例には、（メタ）アクリロリル基、ビニル基、スチリル基、アリル基などを有する化合物が含まれ、好ましくは（メタ）アクリロリル基を有する化合物である。
【０１２４】
（メタ）アクリロリル基を有する化合物の例には、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートなどが含まれる。
【０１２５】
ハードコート層は、必要に応じて、内部散乱性を付与するためなどから、無機微粒子または有機樹脂微粒子などをさらに含みうる。
【０１２６】
ハードコート層の厚さは、保護フィルムに充分な耐久性、耐衝撃性を付与するためなどから、０．５μｍ〜５０μｍ程度が好ましく、１〜２０μｍがより好ましく、２〜１５μｍが更に好ましく、３〜１２μｍが特に好ましい。
【０１２７】
ハードコート層の強度は、鉛筆硬度試験で２Ｈ以上であることが好ましく、３Ｈ以上であることがより好ましく、４Ｈ以上であることがさらに好ましい。鉛筆硬度試験は、ＪＩＳ―Ｋ５４００に記載の鉛筆硬度試験によって測定されうる。
【０１２８】
ハードコート層は、前述の硬化性化合物などの各成分と光反応開始剤とを含む塗布液を、被覆層またはその上に設けられた下塗り層上に塗布した後；乾燥および硬化させて得ることができる。硬化は、光照射による光硬化でありうる。
【０１２９】
塗布液に含まれる光反応開始剤の例には、ベンゾイン、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノンおよびそれらの誘導体が含まれる。光反応開始剤は、必要に応じて光増感剤と共に用いられてもよい。光反応開始剤および光増感剤の含有量は、前述の塗布液１００質量部に対して０．１〜１５質量部程度とすることができ、好ましくは１〜１０質量部である。塗布液は、必要に応じて水系溶媒または有機溶媒などの溶媒をさらに含んでもよい。
【０１３０】
（下塗り層について）
下塗り層は、隣り合う層同士の接着性を高めるために設けられうる。下塗り層は、シランカップリング剤を含有することが好ましく、（メタ）アクリル基を有するシランカップリング剤を含有することがより好ましく、シランカップリング剤と多官能の（メタ）アクリレート化合物とを含有することがより好ましい。
【０１３１】
下塗り層に含まれるシランカップリング剤は、シランカップリング剤の加水分解物、該加水分解物の部分縮合物であることが好ましい。下塗り層の膜厚は、０．０５〜２μｍ程度としうる。
【０１３２】
保護フィルムは、透明基材層と被覆層とを含む限り、任意に構成されうる。保護フィルムの層構成の例には、透明基材層／下塗り層／被覆層／下塗り層／ハードコート層をこの順に積層した構造や；被覆層／下塗り層／透明基材層／下塗り層／ハードコート層をこの順に積層した構造などが含まれ、好ましくは透明基材層／下塗り層／被覆層／下塗り層／ハードコート層をこの順に積層した構造でありうる。
【０１３３】
図１は、保護フィルムの層構成の一例を示す模式図である。図１に示されるように、保護フィルム１０は、透明基材層１１、下塗り層１３Ａ、被覆層１５、下塗り層１３Ｂおよびハードコート層１７をこの順に積層したものでありうる。偏光板では、保護フィルムの透明基材層１１が偏光子側となるように配置される。
【０１３４】
保護フィルムは、必要に応じて反射防止層（低屈折率層、高屈折率層、中屈折率層）、防眩層、帯電防止層、バックコート層などの他の機能層をさらに含んでもよい。
【０１３５】
２−４）保護フィルムの物性
（透湿度）
保護フィルムの４０℃９０％ＲＨにおける透湿度は、１００ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることが好ましく、５０ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることがより好ましい。高温高湿環境下において、透過した水分による偏光子の寸法変化を抑制するためである。
【０１３６】
保護フィルムの透湿度は、主に被覆層の厚みや種類によって調整されうる。
【０１３７】
（鉛筆硬度）
保護フィルムは、後述のように表示装置の最も視認側の保護フィルム（Ｆ１）として好ましく用いられることから、保護フィルムは一定以上の表面硬度を有することが好ましい。具体的には、保護フィルムの、ＪＩＳ―Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験によって測定される鉛筆硬度は、３Ｈ以上であることが好ましく、３．５Ｈ以上であることがより好ましい。鉛筆硬度の測定は、保護フィルムの、偏光子と接しない方の面を測定面として行う。
【０１３８】
保護フィルムの鉛筆硬度は、主にハードコート層の有無や；透明基材層に含まれる可塑剤の選択によって調整されうる。鉛筆硬度の低下を抑制するためには、例えば可塑剤としてポリエステル化合物や糖エステル化合物を選択することが好ましい。
【０１３９】
（ヘイズ）
保護フィルムのヘイズ値は、１．０％以下であることが好ましく、０．５％以下であることがさらに好ましい。保護フィルムのヘイズは、ＪＩＳ  Ｋ−７１３６に準拠して、ヘイズメーター（濁度計）（型式：ＮＤＨ  ２０００、日本電色（株）製）にて測定されうる。
【０１４０】
（レターデーション）
保護フィルムの、測定波長５９０ｎｍ、２３℃５５％ＲＨの条件下で測定される面内方向のレターデーションＲ０は、０≦Ｒ０≦２０ｎｍを満たすことが好ましく、０ｎｍ≦Ｒ０≦１０ｎｍを満たすことがより好ましい。保護フィルムの、測定波長５９０ｎｍ、２３℃５５％ＲＨの条件下で測定される厚み方向のレターデーションＲｔｈは、０ｎｍ≦Ｒｔｈ≦８０ｎｍを満たすことが好ましく、０ｎｍ≦Ｒｔｈ≦５０ｎｍを満たすことがより好ましい。このようなレターデーション値を有する保護フィルムは、後述するように、液晶表示装置の保護フィルム（Ｆ１またはＦ４）として好ましく用いられる。
【０１４１】
Ｒ０およびＲｔｈは、セルロースエステルのアシル基の総置換度や延伸条件などによって調整することができる。Ｒ０を小さくするためには、例えばセルロースエステルのアシル基の総置換度を高くしたり、ＴＤ／ＭＤ方向の延伸倍率の差を小さくしたりすればよい。
【０１４２】
レターデーションＲ０およびＲｔｈは、それぞれ以下の式で定義される。
式（Ｉ）：Ｒ０＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ（ｎｍ）
式（II）：Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ（ｎｍ）
（式（Ｉ）および（II）において、
ｎｘは、保護フィルムの面内方向において屈折率が最大になる遅相軸方向ｘにおける屈折率を表し；
ｎｙは、保護フィルムの面内方向において前記遅相軸方向ｘと直交する方向ｙにおける屈折率を表し；
ｎｚは、保護フィルムの厚み方向ｚにおける屈折率を表し；
ｄ（ｎｍ）は、保護フィルムの厚みを表す）
【０１４３】
レターデーションＲ０およびＲｔｈは、例えば以下の方法によって求めることができる。
１）保護フィルムを、２３℃５５％ＲＨで調湿する。調湿後の光学補償フィルムの平均屈折率をアッベ屈折計などで測定する。
２）調湿後の保護フィルムに、当該フィルム表面の法線に平行に測定波長５９０ｎｍの光を入射させたときのＲ０を、ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株））にて測定する。
３）ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨにより、保護フィルムの面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）として、保護フィルムの表面の法線に対してθの角度（入射角（θ））から測定波長５９０ｎｍの光を入射させたときのレターデーション値Ｒ（θ）を測定する。レターデーション値Ｒ（θ）の測定は、θが０°〜５０°の範囲で、１０°毎に６点行うことができる。保護フィルムの面内の遅相軸は、ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨにより確認することができる。
４）測定されたＲ０およびＲ（θ）と、前述の平均屈折率と膜厚とから、ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨにより、ｎｘ、ｎｙおよびｎｚを算出して、測定波長５９０ｎｍでのＲｔｈを算出する。レターデーションの測定は、２３℃５５％ＲＨ条件下で行うことができる。
【０１４４】
保護フィルムの面内遅相軸とフィルムの幅方向とのなす角θ１（配向角）は、好ましくは−１°〜＋１°であり、さらに好ましくは−０．５°〜＋０．５°である。保護フィルムの配向角θ１の測定は、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−ＷＲ（王子計測機器（株））を用いて測定することができる。
【０１４５】
保護フィルムは、全光線透過率が好ましくは９０％以上であり、より好ましくは９３％以上である。
【０１４６】
（３）位相差フィルム（Ｆ２またはＦ３）について
偏光子の、前述の保護フィルムが配置された面とは反対側の面には、さらに前述の保護フィルムが配置されてもよいし；位相差フィルムが配置されてもよい。
【０１４７】
位相差フィルムは、特に制限されず、例えばセルロースエステルフィルムでありうる。セルロースエステルフィルムに含まれるセルロースエステルの例には、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートプロピオネートブチレートなどが含まれる。
【０１４８】
セルロースエステルは、総アシル基置換度が１．５以上２．５以下であることが好ましく、下記式（ａ）と（ｂ）とを同時に満たすことがより好ましい。
式（ａ）    ２．０≦Ｘ＋Ｙ≦２．５
式（ｂ）          ０≦Ｙ≦１．５
（式中、Ｘはアセチル基の置換度を示し、Ｙはプロピオニル基またはブチリル基、もしくはそれらの混合物の置換度を示す）
【０１４９】
セルロースエステルフィルムは、低置換度のセルロースエステルを主成分とするコア層と、その両面に配置され、高置換度のセルロースエステルを主成分とするスキン層との積層物であってもよい。低置換度のセルロースエステルは、上記式（ａ）と（ｂ）を満たすことが好ましく、高置換度のセルロースエステルは、前述の保護フィルムにおける置換度を満たすことが好ましい。
【０１５０】
位相差フィルムのレターデーションは、組み合わされる液晶セルの種類に応じて設定されうる。例えば、位相差フィルムの、２３℃ＲＨ５５％下、波長５９０ｎｍで測定される面内レターデーションＲｏ（５９０）は３０〜１５０ｎｍの範囲であることが好ましく、厚さ方向のレターデーションＲｔｈ（５９０）は７０〜３００ｎｍの範囲であることが好ましい。レターデーションが上記範囲である位相差フィルムは、例えばＶＡ型液晶セルなどの位相差フィルムとして好ましく用いることができる。
【０１５１】
このように、本発明の偏光板を構成する保護フィルムは、透湿性が低減されている。そのため、偏光板が熱や湿度に曝されても、偏光子に透過する水分を少なくでき、偏光子の寸法変化を低減できる。
【０１５２】
また、本発明の偏光板を構成する保護フィルムは、可塑剤として糖エステル化合物またはポリエステル化合物を含み；セルロースエステルの加水分解を促進するような化合物（リン酸エステル化合物）を実質的に含まないことが好ましい。それにより、フィルム内に水分が滞留しても、セルロースエステルの加水分解による酸の発生を抑制でき；それによる偏光子におけるヨウ素の配向乱れ（具体的には、ポリビニルアルコールとヨウ素のホウ酸架橋のかい離に伴うヨウ素の配向乱れ）を抑制できる。それにより、偏光子の厚みが薄い場合に顕著となる、偏光度の低下（偏光子の劣化）を抑制できる。
【０１５３】
さらに、本発明の偏光板を構成する保護フィルムは、可塑剤としてセルロースエステルとの相溶性が高い糖エステル化合物またはポリエステル化合物を含む。そのため、フィルム内に水分が滞留しても、セルロースエステルと糖エステル化合物やポリエステル化合物との相溶性が低下しにくく、保護フィルムの表面の鉛筆硬度を低下させにくい。
【０１５４】
２．偏光板の製造方法
保護フィルムと偏光子との貼り合わせは、特に限定はないが、完全鹸化型のポリビニルアルコ−ル系接着剤、アセトアセチル基変性ポリビニルアルコール系接着剤や、活性エネルギー線硬化性接着剤などを用いて行うことができる。得られる接着剤層の弾性率が高く、偏光板の寸法変化を抑制しやすいことなどから、活性エネルギー線硬化性接着剤を用いることが好ましい。即ち、保護フィルムと偏光子とは、活性エネルギー線硬化性接着剤の硬化物層を介して接着されていることが好ましい。
【０１５５】
活性エネルギー線硬化性接着剤の好ましい例としては、特開２０１１−０２８２３４号公報に開示されているような、（α）カチオン重合性化合物、（β）光カチオン重合開始剤、（γ）３８０ｎｍより長い波長の光に極大吸収を示す光増感剤、および（δ）ナフタレン系光増感助剤の各成分を含有する活性エネルギー線硬化性接着剤組成物が挙げられる。ただし、これ以外の活性エネルギー線硬化性接着剤が用いられてもよい。
【０１５６】
以下、活性エネルギー線硬化性接着剤を用いた偏光板の製造方法の一例を説明する。偏光板は、１）保護フィルムの偏光子を接着する面を易接着処理する前処理工程、２）偏光子と保護フィルムとの接着面のうち少なくとも一方に、下記の活性エネルギー線硬化性接着剤を塗布する接着剤塗布工程、３）得られた接着剤層を介して偏光子と保護フィルムとを貼り合せる貼合工程、および４）接着剤層を介して偏光子と保護フィルムとが貼り合わされた状態で接着剤層を硬化させる硬化工程、を含む製造方法によって製造することができる。１）の前処理工程は、必要に応じて実施すればよい。
【０１５７】
（前処理工程）
前処理工程では、保護フィルムの、偏光子との接着面に易接着処理を行う。偏光子の両面にそれぞれ保護フィルムを接着させる場合は、それぞれの保護フィルムの、偏光子との接着面に易接着処理を行う。易接着処理としては、コロナ処理、プラズマ処理等が挙げられる。
【０１５８】
（接着剤塗布工程）
接着剤塗布工程では、偏光子と保護フィルムとの接着面のうち少なくとも一方に、上記活性エネルギー線硬化性接着剤を塗布する。偏光子または保護フィルムの表面に直接活性エネルギー線硬化性接着剤を塗布する場合、その塗布方法に特別な限定はない。例えば、ドクターブレード、ワイヤーバー、ダイコーター、カンマコーター、グラビアコーター等、種々の塗工方式が利用できる。また、偏光子と保護フィルムの間に、活性エネルギー線硬化性接着剤を流延させた後、ロール等で加圧して均一に押し広げる方法も利用できる。
【０１５９】
（貼合工程）
こうして活性エネルギー線硬化性接着剤を塗布した後、貼合工程に供される。この貼合工程では、例えば、先の塗布工程で偏光子の表面に活性エネルギー線硬化性接着剤を塗布した場合、そこに保護フィルムが重ね合わされる。先の塗布工程で保護フィルムの表面に活性エネルギー線硬化性接着剤を塗布した場合は、そこに偏光子が重ね合わされる。また、偏光子と保護フィルムの間に活性エネルギー線硬化性接着剤を流延させた場合は、その状態で偏光子と保護フィルムとが重ね合わされる。偏光子の両面に保護フィルムを接着する場合であって、両面とも活性エネルギー線硬化性接着剤を用いる場合は、偏光子の両面にそれぞれ、活性エネルギー線硬化性接着剤を介して保護フィルムが重ね合わされる。そして通常は、この状態で両面（偏光子の片面に保護フィルムを重ね合わせた場合は、偏光子側と保護フィルム側、また偏光子の両面に保護フィルムを重ね合わせた場合は、その両面の保護フィルム側）からロール等で挟んで加圧することになる。ロールの材質は、金属やゴム等を用いることが可能である。両面に配置されるロールは、同じ材質であってもよいし、異なる材質であってもよい。
【０１６０】
（硬化工程）
硬化工程では、未硬化の活性エネルギー線硬化性接着剤に活性エネルギー線を照射して、エポキシ化合物やオキセタン化合物を含む接着剤層を硬化させる。それにより、活性エネルギー線硬化性接着剤を介して重ね合わせた偏光子と保護フィルムとを接着させる。偏光子の片面に保護フィルムを貼合する場合、活性エネルギー線は、偏光子側または保護フィルム側のいずれから照射してもよい。また、偏光子の両面に保護フィルムを貼合する場合、偏光子の両面にそれぞれ活性エネルギー線硬化性接着剤を介して保護フィルムを重ね合わせた状態で、いずれか一方の保護フィルム側から活性エネルギー線を照射し、両面の活性エネルギー線硬化性接着剤を同時に硬化させるのが有利である。
【０１６１】
活性エネルギー線としては、可視光線、紫外線、Ｘ線、電子線等を用いることができ、取扱いが容易で硬化速度も十分であることから、一般的には、電子線または紫外線が好ましく用いられる。
【０１６２】
電子線の照射条件は、接着剤を硬化しうる条件であれば、任意の適切な条件を採用できる。例えば、電子線照射は、加速電圧が好ましくは５〜３００ｋＶであり、さらに好ましくは１０〜２５０ｋＶである。加速電圧が５ｋＶ未満の場合、電子線が接着剤まで届かず硬化不足となるおそれがあり、加速電圧が３００ｋＶを超えると、試料を通る浸透力が強すぎて電子線が跳ね返り、保護フィルムや偏光子にダメージを与えるおそれがある。照射線量は、５〜１００ｋＧｙの範囲内、さらに好ましくは１０〜７５ｋＧｙの範囲内である。照射線量が５ｋＧｙ未満の場合は、接着剤が硬化不足となり、１００ｋＧｙを超えると、保護フィルムや偏光子にダメージを与え、機械的強度の低下や黄変を生じやすい。
【０１６３】
紫外線の照射条件は、前記接着剤を硬化しうる条件であれば、任意の適切な条件を採用できる。紫外線の照射量は積算光量で５０〜１５００ｍＪ／ｃｍ２であることが好ましく、１００〜５００ｍＪ／ｃｍ２であることがさらに好ましい。
【０１６４】
以上のようにして得られた偏光板において、活性エネルギー線硬化性接着剤の硬化物層の厚さは、特に限定されないが、通常０．０１〜１０μｍの範囲内であり、好ましくは０．５〜５μｍの範囲内である。
【０１６５】
本発明の偏光板は、液晶表示装置の偏光板として好ましく用いられる。
【０１６６】
３．液晶表示装置
本発明の液晶表示装置は、液晶セルと、それを挟持する一対の偏光板とを含む。そして、一対の偏光板の少なくとも一方を本発明の偏光板としうる。
【０１６７】
図２は、液晶表示装置の基本的な構成の一例を示す模式図である。図２に示されるように、本発明の液晶表示装置２０は、液晶セル３０と、それを挟持する第一の偏光板４０および第二の偏光板５０と、バックライト６０とを含む。
【０１６８】
液晶セル３０は、例えばＳＴＮ、ＴＮ、ＯＣＢ、ＨＡＮ、ＶＡ（ＭＶＡ、ＰＶＡ）、ＩＰＳ等の種々の表示モードのものが提案されている。高いコントラストを得るためには、ＶＡ（ＭＶＡ、ＰＶＡ）モードが好ましい。
【０１６９】
ＶＡ方式の液晶セルは、一対の透明基板と、それらの間に挟持された液晶層とを有する。
【０１７０】
一対の透明基板のうち、一方の透明基板には、液晶分子に電圧を印加するための画素電極が配置される。対向電極は、（画素電極が配置された）前記一方の透明基板に配置されてもよいし、他方の透明基板に配置されてもよく、開口率を高めるためには、（画素電極が配置された）前記一方の透明基板に配置されることが好ましい。
【０１７１】
液晶層は、負または正の誘電率異方性を有する液晶分子を含む。一方の透明基板に画素電極が配置され、他方の透明基板に対向電極が配置される場合、負の誘電率異方性を有する液晶分子を用いることが好ましい。一方の透明基板に、画素電極と対向電極の両方が配置される場合、正の誘電率異方性を有する液晶分子であることが好ましい。液晶分子は、透明基板の液晶層側の面に設けられた配向膜の配向規制力により、電圧無印加時（画素電極と対向電極との間に電界が生じていない時）には、液晶分子の長軸が、透明基板の表面に対して略垂直となるように配向している。
【０１７２】
このように構成された液晶セルでは、画素電極に画像信号（電圧）を印加することで、画素電極と対向電極との間に電界を生じさせる。これにより、透明基板の表面に対して垂直に初期配向している液晶分子を、その長軸が基板面に対して水平方向となるように配向させる。このように、液晶層を駆動し、各副画素の透過率および反射率を変化させて画像表示を行う。
【０１７３】
第一の偏光板４０は、第一の偏光子４１と、第一の偏光子４１の視認側の面に配置された保護フィルム４３（Ｆ１）と、第一の偏光子４１の液晶セル側の面に配置された保護フィルム４５（Ｆ２）とを含む。第二の偏光板５０は、第二の偏光子５１と、第二の偏光子５１の液晶セル側の面に配置された保護フィルム５３（Ｆ３）と、第二の偏光子５１のバックライト側の面に配置された保護フィルム５５（Ｆ４）とを含む。
【０１７４】
そして、第一の偏光板４０と第二の偏光板５０の少なくとも一方または両方を、本発明の偏光板とする。即ち、保護フィルム４３（Ｆ１）と保護フィルム５５（Ｆ４）の少なくとも一方を前述の保護フィルムとしうる。保護フィルム４３（Ｆ１）と保護フィルム５５（Ｆ４）の両方を前述の保護フィルムとする場合、これらの保護フィルムの層構成は、互いに同じであっても異なってもよい。例えば、保護フィルム４３（Ｆ１）はハードコート層を有することが好ましいが；保護フィルム５５（Ｆ４）は、必ずしもハードコート層を有しなくてもよい。
【０１７５】
前述の通り、本発明の偏光板は、低透湿性の保護フィルムを含むことから、高温高湿下に曝された際の偏光子の寸法変化を抑制できる。また、本発明の偏光板の厚みも薄くされている。それにより、表示装置における、熱や湿度による偏光板の寸法変化（パネルベンド）を低減でき；それによる表示ムラ（パネルベンドムラ）を抑制できる。
【０１７６】
また、本発明の偏光板は、セルロースエステルの加水分解を促進するような化合物を含まないことから、それによる偏光子内のヨウ素の配向乱れ（具体的には、酸によってホウ酸架橋がかい離することによるヨウ素の配向乱れ）を抑制でき、偏光度の低下を抑制できる。それにより、表示装置の正面コントラストのムラを低減できる。
【実施例】
【０１７７】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。【０１７８】
１．透明基材フィルムの作製
１）材料
（セルロースエステル）
ＴＡＣ：セルローストリアセテート（アシル基総置換度２．８６、アセチル基置換度２．８６、重量平均分子量２８万）【０１７９】
（糖エステル化合物）
糖エステル化合物１（平均置換度：５．６８、分子量９３４）
【化６】
2014178178.tif 000009
糖エステル化合物２（平均置換度：８、分子量８４７）
【化７】
2014178178.tif 000010
糖エステル化合物３（平均置換度：７．５２、分子量１１２５）
【化８】
2014178178.tif 000011
【０１８０】
（ポリエステル化合物）
ポリエステル化合物１：エタンジオール／アジピン酸（１／１モル比）との縮合物の両末端の酢酸エステル体、数平均分子量１０００、水酸基価０ｍｇＫＯＨ／ｇ
ポリエステル化合物２：エタンジオール／テレフタル酸／コハク酸（１／０．５／０．９５モル比）との縮合物の両末端の酢酸エステル体、数平均分子量１０００【０１８１】
（比較用添加剤）
ＴＰＰ：トリフェニルホスフェート
ＢＤＰ：ビフェニルジフェニルホスフェート【０１８２】
（ＵＶ吸収剤）
紫外線吸収剤Ｃ
【化９】
2014178178.tif 000012
【０１８３】
２）透明基材フィルムの作製
［透明基材フィルム１］
下記成分を、攪拌および加熱しながら十分に溶解させて、ドープを調製した。
（ドープの組成）
セルローストリアセテート（ＴＡＣ）（アシル基総置換度２．８６、アセチル基置換度２．８６、重量平均分子量２８万）：１００質量部
糖エステル化合物１：９質量部
糖エステル化合物２：３質量部
紫外線吸収剤Ｃ：２質量部
マット剤：Ｒ９７２Ｖ（日本アエロジル社製、シリカ粒子、平均粒径＝１６ｎｍ）：０．３０質量部
メチレンクロライド：３８４質量部
メタノール：６９質量部
ブタノール ： ９質量部【０１８４】
得られたドープを、ベルト流延装置を用いて、温度３０℃、２ｍ幅でステンレスバンド支持体に均一に流延した。ステンレスバンド支持体上で、残留溶剤量が７０％になるまでドープ中の溶媒を蒸発させた。そして、得られた膜状物をステンレスバンド支持体上から剥離した。【０１８５】
次いで、剥離した膜状物を４５℃でさらに乾燥させた後、得られたフィルムを１１０℃、１４０℃の乾燥ゾーンを多数のローラで搬送させながら乾燥させた。得られたフィルムを１．５ｍ幅にスリットし、フィルムの幅方向両端に幅１０ｍｍ、高さ５μｍのナーリング加工を施して巻き取った。それにより、膜厚１０μｍの透明基材フィルム１を得た。【０１８６】
［透明基材フィルム２〜１１］
膜厚または可塑剤の組成（糖エステル１／糖エステル２）を、表２に示されるように変更した以外は前述と同様にして透明基材フィルム２〜１１を得た。【０１８７】
［透明基材フィルム１２］
１）コア層用ドープの調製
下記成分を、攪拌および加熱しながら十分に溶解させて、コア層用ドープを調製した。
（コア層用ドープの組成）
セルローストリアセテート（ＴＡＣ）（アシル基総置換度２．８６、アセチル基置換度２．８６、重量平均分子量２８万）：１００質量部
トリフェニルホスフェート（ＴＰＰ）：８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（ＢＤＰ）：４質量部
紫外線吸収剤Ｃ：２質量部
メチレンクロライド：３８４質量部
メタノール：６９質量部
ブタノール ： ９質量部【０１８８】
２）スキン層用ドープの調製
下記成分を、攪拌および加熱しながら十分に溶解させて、スキン層用ドープを調製した。
（スキン層用ドープの組成）
セルローストリアセテート（ＴＡＣ）（アシル基総置換度２．８６、アセチル基置換度２．８６、重量平均分子量２８万）：１００質量部
トリフェニルホスフェート（ＴＰＰ）：８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（ＢＤＰ）：４質量部
マット剤：Ｒ９７２Ｖ（日本アエロジル社製、シリカ粒子、平均粒径＝１６ｎｍ）：０．３０質量部
メチレンクロライド：３８４質量部
メタノール：６９質量部
ブタノール ： ９質量部【０１８９】
得られたコア層用ドープおよびスキン層用ドープを、ベルト流延装置を用いて、温度３０℃、２ｍ幅でステンレスバンド支持体に均一に共流延した以外は透明基材フィルム１と同様にして、スキン層／コア層／スキン層の３層構造を有する膜厚３０μｍの透明基材フィルム１２を得た。各層の厚みは、スキン層／コア層／スキン層＝２／３６／２μｍとした。【０１９０】
［透明基材フィルム１３］
透明基材フィルム１２の作製において、コア層用ドープ、スキン層用ドープに含まれるＴＰＰ：８質量部とＢＤＰ：４質量部を、糖エステル化合物１：９質量部と糖エステル化合物２：３質量部にそれぞれ変更した以外は同様にして透明基材フィルム１３を作製した。【０１９１】
得られた透明基材フィルムを、表２にまとめた。
【表２】
2014178178.tif 000013
【０１９２】
２．被覆層用塗布液の調製
［被覆層用塗布液１］
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、被覆層用塗布液１を調製した。
（被覆層用塗布液１の組成） 
塩素含有重合体（旭化成ライフ＆リビング（株）製サランレジンＲ２０４）：１２質量部
テトラヒドロフラン：６３質量部【０１９３】
［被覆層用塗布液２］
下記の組成物を、被覆層用塗布液２とした。
（被覆層用塗布液２の組成）
サランラテックス（旭化成ライフ＆リビング（株）製サランラテックスＬ５４９Ｂ）（樹脂成分４８質量％）：１００質量部【０１９４】
［被覆層用塗布液３］
水とＭＥＢ−３を混合し、ＨＲ−３０１０を添加後９５℃で２時間攪拌した。その後、得られた溶液を、孔径１００μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、被覆層用塗布液３を得た。
（被覆層用塗布液３の組成） 
ビニルアルコール系重合体ＨＲ−３０１０（（株）クラレ製）：５質量部
水中高圧分散済マイカＭＥＢ−３（固形分比８質量％、コープケミカル製）：３．１質量部
水：７０質量部【０１９５】
［被覆層用塗布液４］
下記の層状無機化合物を水に添加した後、高圧分散機を用いて３０Ｍｐａで３回高圧分散処理を行い、水中に分散させた。その後、下記の方法で合成したポリマー１を９０℃の水で２時間攪拌して溶解させた後、室温に冷却した。これに、メタノール、アセトンを加えた後、下記の方法で合成した架橋剤Ａ１とリンゴ酸を加えて塗布液を得た後、孔径１００μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して被覆層用塗布液４を得た。
（被覆層用塗布液４の組成）
ポリマー１：７質量部
層状無機化合物ＭＥＢ−３（コープケミカル（株）製）
合成マイカ 固形分８％水分散液：４．４質量部
架橋剤Ａ１：７．７質量部
リンゴ酸：０．７質量部
水：８０質量部
メタノール：１０質量部
アセトン：１０質量部【０１９６】
（ポリマー１）
攪拌器を装着した３００ｍＬ三つ口フラスコに、ポリビニルアルコール（商品名：ＰＶＡ−１０３；（株）クラレ製；鹸化度９８〜９９モル％）１４．７ｇおよびモレキュラーシーブ４Ａを用いて予め脱水したジメチルスルホキシド１００ｍＬを加えて、室温下撹拌しながら溶解した。その後、７０℃に昇温し、メタクリロイルオキシエチルイソシアネート０．７７６ｇのジメチルスルホキシド１５ｍＬ溶液を滴下した。そのまま２時間、撹拌を続けた後、ペーパータオルを用いて濾過し、ゴミ等の不純物を除去した後、酢酸エチル１．２５リットルに撹拌しながら滴下して、ポリマーを沈澱させた。沈澱物（ポリマー）を濾取し、メタノール６００ｍＬに浸して撹拌洗浄したのち、再び濾取し、乾燥して、塊状のポリマー１を１４．０ｇ（収率９１％）得た。【０１９７】
（架橋剤Ａ１）
２００ｍＬのフラスコに、テトライソプロピルチタネートを２８．４ｇ（０．１モル）仕込み、トリエタノールアミン２９．８ｇ（０．２モル）を攪拌しながら４０分かけて加えた。添加終了後、８５℃にて３０分間還流し、さらに、１，２−プロパンジオール３０．４ｇ（０．４モル）と水とを加え、１．５％のチタン含有量とした架橋剤Ａ１を調製した。【０１９８】
［被覆層用塗布液５］
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、被覆層用塗布液５を調製した。
（被覆層用塗布液５の組成）
ポリビニルアルコール樹脂（ＰＶＡ）：７質量部
膨潤性雲母（アスペクト比：３０００）：３質量部
水：１００質量部【０１９９】
得られた被覆層用塗布液１〜５から得られる被覆層の透湿度を以下の方法で測定した。【０２００】
（厚み５μｍの被覆層の透湿度）
ポリフッ化ビニリデン基板上に、被覆層用塗布液を塗布した後、６０℃で５分乾燥させて膜厚５μｍの被覆層用塗膜を形成した。得られた被覆用塗膜を基板から剥離し、４０℃９０％ＲＨにおける透湿度を、ＪＩＳ Ｚ ０２０８に記載の方法により測定した。そして、面積１ｍ２当たり２４時間で蒸発する水分量（ｇ）を求めた。【０２０１】
（被覆層の透湿度）
乾燥後の被覆層用塗膜の膜厚を、実際の保護フィルムにおける被覆層の膜厚と同じになるようにした以外は前述と同様にして被覆層用塗膜を得た後、ＪＩＳ Ｚ ０２０８に記載の方法により４０℃９０％ＲＨにおける透湿度を測定した。【０２０２】
３．ハードコート層用塗布液の調製
ゾル液ａの調製
温度計、窒素導入管、滴下ロートを備えた１，０００ｍｌの反応容器に、アクリロキシプロピルトリメトキシシラン１８７ｇ（０．８０ｍｏｌ）、メチルトリメトキシシラン２７．２ｇ（０．２０ｍｏｌ）、メタノール３２０ｇ（１０ｍｏｌ）とＫＦ０．０６ｇ（０．００１ｍｏｌ）を仕込み、攪拌下室温で水１５．１ｇ（０．８６ｍｏｌ）をゆっくり滴下した。滴下終了後、室温で３時間攪拌した後、メタノール還溜下２時間加熱攪拌した。その後、低沸分を減圧留去し、さらにろ過してゾル液ａを１２０ｇ得た。得られたゾルは、下記式で表されるものであり；ＧＰＣ測定した結果、質量平均分子量は１５００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１０００〜２００００の成分は３０％であった。
【化１０】
2014178178.tif 000014
【０２０３】
ハードコート層用塗布液１の調製
下記成分を混合して得られる溶液を、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、ハードコート層用塗布液１を得た。
（ハードコート層用塗布液１の組成） 
ＰＥＴ−３０（ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物［日本化薬（株）製］）：４０．０ｇ
ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物［日本化薬（株）製］）：１０．０ｇ
イルガキュア１８４：２．０ｇ
ＳＸ−３５０（架橋ポリスチレン粒子、平均粒径３．５μｍ、屈折率１．６０、綜研化学（株）製、３０％トルエン分散液）：２．０ｇ
架橋アクリルースチレン粒子（平均粒径３．５μｍ、屈折率１．５５、綜研化学（株）製、３０％トルエン分散液）：１３．０ｇ
ＦＰ−１３（下記式のフッ素系表面改質剤）：０．０６ｇ
ゾル液ａ：１１．０ｇ
トルエン：３８．５ｇ 
【化１１】
2014178178.tif 000015
【０２０４】
４．下塗り層用塗布液の調製
下記成分を混合して、下塗り層用塗布液１とした。
（下塗り層用塗布液１の組成）
スチレンブタジエンラテックス（固形分４３％）：３００ｇ
２，４−ジクロロ−６−ヒドロキシ−ｓ−トリアジンナトリウム塩（８％）：４９ｇ
蒸留水：１６００ｇ【０２０５】
５．保護フィルム（Ｆ１、Ｆ４）の作製
（製造例１）
透明基材層の前処理
上記作製したロール体から長尺状の透明基材フィルム１を、５０℃、１ｍｏｌ／Ｌのアルカリ溶液で鹸化処理した。【０２０６】
下塗り層１の形成
鹸化処理した透明基材フィルム１上に、下塗り層用塗布液１を塗布した後、乾燥させて膜厚９０ｎｍの下塗り層１を形成した。【０２０７】
被覆層の形成
形成された下塗り層１上に、スロットルダイを有するコーターを用いて、被覆層用塗布液１を直接押し出して塗布した後、６０℃で５分乾燥させて、膜厚４．５μｍの被覆層を形成した。フィルムの搬送速度は３０ｍ／分とした。【０２０８】
下塗り層２の形成
形成された被覆層上に、下塗り層用塗布液１を塗布した後、乾燥させて膜厚９０ｎｍの下塗り層２を形成した。【０２０９】
ハードコート層の形成
形成された下塗り層２上に、スロットルダイを有するコーターを用いて、ハードコート層用塗布液１を直接押し出して塗布した。フィルムの搬送速度は３０ｍ／分とした。その後、塗膜を、３０℃で１５秒間、９０℃で２０秒間乾燥させた後、さらに窒素パージ下で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照射量９０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗膜を硬化させた。それにより、厚さ６．０μｍのハードコート層を形成し、膜厚４０μｍの保護フィルム１０１を得た。【０２１０】
（製造例２〜４、１６）
透明基材層を、膜厚が異なる透明基材フィルム２〜５に変更した以外は製造例１と同様にして保護フィルム１０２〜１０４および１１６を得た。【０２１１】
（製造例５〜８）
透明基材層を、膜厚が異なる透明基材フィルム５とし、かつ被覆層の種類または厚みを表３に示されるように変更した以外は製造例１と同様にして保護フィルム１０５〜１０８を得た。【０２１２】
（製造例９〜１５）
透明基材層を、添加剤の組成が異なる透明基材フィルム６〜１２に変更した以外は製造例１と同様にして保護フィルム１０９〜１１５を得た。【０２１３】
（製造例１７）
下塗り層とハードコート層をいずれも設けなかった以外は製造例１６と同様にして保護フィルム１１７を得た。【０２１４】
（製造例１８〜２１）
被覆層の組成を表３に示されるように変更した以外は製造例１６と同様にして保護フィルム１１８〜１２１を得た。【０２１５】
（製造例２２）
ハードコート層を、透明基材層の、被覆層が形成される面とは反対側の面に形成した以外は製造例１６と同様にして保護フィルム１２２を得た。【０２１６】
（製造例２３）
透明基材層を、積層構造を有する透明基材フィルム１３に変更した以外は製造例１６と同様にして保護フィルム１２３を得た。【０２１７】
（製造例２４〜２５）
下塗り層１を塗布する前の透明基材フィルム５の前処理（鹸化処理）を、表３に示される前処理に変更するか、あるいは前処理を行わなかった以外は製造例１６と同様にして保護フィルム１２４〜１２５を得た。【０２１８】
得られた保護フィルムの透湿度および鉛筆硬度を、以下の方法で測定した。【０２１９】
（透湿度）
得られた保護フィルムの４０℃９０％ＲＨにおける透湿度を、ＪＩＳ Ｚ ０２０８に記載の方法により測定した。そして、面積１ｍ２当たり２４時間で蒸発する水分量（ｇ）を求めた。【０２２０】
（鉛筆硬度）
得られた保護フィルムの鉛筆硬度を、ＪＩＳ―Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験によって測定した。次いで、保護フィルムを６０℃９０％ＲＨ下で１０００時間保存した後、前述と同様にして鉛筆硬度を測定した。鉛筆硬度の測定は、保護フィルムのハードコート層を測定面として行った。【０２２１】
製造例１〜２５で得られた保護フィルムの構成を表３に示し；評価結果を表４に示す。
【表３】
2014178178.tif 000016
【表４】
2014178178.tif 000017
【０２２２】
６．位相差フィルム（Ｆ２、Ｆ３）の作製
位相差フィルムＡ
下記組成のコア層用ドープ、スキンＢ層用ドープおよびスキンＡ層用ドープを、それぞれ調製した。【０２２３】
（コア層用ドープの組成）
セルロースアセテート（総置換度２．４５、アセチル基置換度２．４５）：１００質量部
化合物Ａ（Ｒｏ発現剤）：３質量部
【化１２】
2014178178.tif 000018
化合物Ｆ（コハク酸／アジピン酸／エチレングリコール共重合体（共重合比＝３：２：５、分子量２０００）、Ｒｔｈ低減剤）：１０質量部
ジクロロメタン：４０６質量部
メタノール：６１質量部【０２２４】
（スキンＢ層用ドープの組成）
セルロースアセテート（総置換度２．９３、アセチル基置換度２．９３）：１００質量部
化合物Ｃ（テレフタル酸／コハク酸／エチレングリコール共重合体（５０／５０／１００モル比）、分子量２０００、Ｒｏ発現剤）：４質量部
アエロジルＲ９７２（日本エアロジル（株）社製、二酸化ケイ素微粒子（平均粒径１５ｎｍ）、マット剤）：０．１２重量部
クエン酸の部分エチルエステル化合物（剥離促進剤）：０.０５質量部
ジクロロメタン：４０６質量部
メタノール：６１質量部【０２２５】
（スキンＡ層用ドープの組成）
クエン酸の部分エチルエステル化合物（剥離促進剤）を含有させなかった以外はスキンＢ層用ドープの調製と同様にしてスキンＡ層用ドープを得た。【０２２６】
これらの各ドープを、ミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解させた後、平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過し、ドープを調製した。【０２２７】
得られたコア層用ドープ、スキンＡ層用ドープ、スキンＢ層用ドープを、走行する流延バンドの上に流延ダイから共流延（同時多層流延）した。共流延は、スキンＢ層用ドープが流延バンドに接するように行った。この流延膜を、流延バンドから剥ぎ取った後、湿潤フィルムとした後、テンターで乾燥させてウエブを得た。ドープを剥ぎ取った直後の残留溶剤量は約３０質量％であった。ウエブを、テンターにて延伸率３０％まで延伸した後、１４０℃で６０秒間緩和させて、スキンＢ層／コア層／スキンＡ層の３層構造を有する、膜厚４０μｍの位相差フィルムＡを得た。【０２２８】
位相差フィルムＢ
コア層用ドープに含まれる化合物Ａを、下記化合物Ｎ−４に変更し、化合物Ｆを下記化合物Ｊ−３８に変更した以外は、前述の位相差フィルムＡの作製と同様にしてコア層用ドープを調製した。
【化１３】
2014178178.tif 000019
化合物Ｊ−３８
テレフタル酸／コハク酸／エタンジオール／プロパンジオール（８０／２０／５０／５０モル比）の縮合物の両末端をアセチルエステル基で封止したもの【０２２９】
得られたコア層用ドープと、前述のスキンＡ層用ドープ、スキンＢ層用ドープを用いた以外は位相差フィルムＡの作製と同様にして、スキンＢ層／コア層／スキンＡ層の３層構造を有する、膜厚４０μｍの位相差フィルムＢを得た。【０２３０】
位相差フィルムＣ
下記成分を加熱しながら十分に攪拌および溶解させて、ドープを調製した。
（ドープの組成）
セルロースエステル（アセチル基置換度２．３、重量平均分子量（Ｍｗ）１８．５万のジアセチルセルロース）：１００質量部
化合物１（レターデーション上昇剤）：４質量部
【化１４】
2014178178.tif 000020
糖エステル化合物１：１０質量部
化合物２（フタル酸／アジピン酸／１，２−プロパンジオール＝５０／５０／１００モル比の縮合物の両末端を安息香酸エステル基で封止したもの、分子量４４０）：２質量部
マット剤：Ｒ９７２Ｖ（日本アエロジル社製、シリカ粒子、平均粒径＝１６ｎｍ）：０．２０質量部
メチレンクロライド：３００質量部
エタノール：４０質量部【０２３１】
得られたドープを、ベルト流延装置を用い、温度２２℃、２ｍ幅でステンレスバンド支持体に均一に流延した。ステンレスバンド支持体で、残留溶剤量が１００％になるまで溶媒を蒸発させ、剥離張力１６２Ｎ／ｍでステンレスバンド支持体上から剥離した。次いで、剥離したドープのウェブを３５℃で溶媒を蒸発させ、１ｍ幅にスリットし、その後、ゾーン延伸で搬送方向（ＭＤ方向）に１．１倍、テンター延伸で幅手方向（ＴＤ方向）に１．５倍延伸しながら、１３５℃の乾燥温度で乾燥させた。テンターによる延伸を開始したときの残留溶媒量は８％であった。【０２３２】
テンターで延伸した後、１３０℃で５分間の緩和処理を施した後、１２０℃、１４０℃の乾燥ゾーンを多数のローラで搬送させながら乾燥を終了させ、１．５ｍ幅にスリットし、フィルム両端に幅１０ｍｍ、高さ５μｍのナーリング加工を施した後、コアに巻き取り、膜厚３０μｍの位相差フィルムＣを得た。【０２３３】
位相差フィルムＤ
位相差フィルムＤとして、シクロオレフィン樹脂フィルム（特開２００６−２３５０８５号公報の実施例１に記載のフィルム）を準備した。【０２３４】
位相差フィルムＥ
位相差フィルムＥとして、コニカミノルタアドバンストレイヤー社製セルロースアシレートフィルム  ４ＤＲ（膜厚４０μｍ）を準備した。【０２３５】
７．偏光板の作製
（実施例１）
１）偏光子の調製
厚さ３０μｍのポリビニルアルコールフィルムを、３５℃の水で膨潤させた。得られたフィルムを、ヨウ素０．０７５ｇ、ヨウ化カリウム５ｇおよび水１００ｇからなる水溶液に６０秒間浸漬し、さらにヨウ化カリウム３ｇ、ホウ酸７．５ｇおよび水１００ｇからなる４５℃の水溶液に浸漬した。得られたフィルムを、延伸温度５５℃、延伸倍率４倍の条件で一軸延伸した。この一軸延伸フィルムを、水洗した後、乾燥させて、厚さ１０μｍの偏光子を得た。【０２３６】
厚さ７５μｍのポリビニルアルコールフィルムを用いて延伸倍率を５倍に変更した以外は前述と同様にして厚み２５μｍの偏光子を得た。厚さ６０μｍのポリビニルアルコールフィルムを用いて延伸倍率を５倍に変更した以外は前述と同様にして厚み２０μｍの偏光子を得た。厚さ４０μｍのポリビニルアルコールフィルムを用いて延伸倍率を５倍に変更した以外は前述と同様にして厚み１５μｍの偏光子を得た。厚さ２５μｍのポリビニルアルコールフィルムを用いて延伸倍率を４倍に変更した以外は前述と同様にして厚み５μｍの偏光子を得た。【０２３７】
２）活性エネルギー線硬化性接着剤の調製
下記成分を混合した後、脱泡して、活性エネルギー線硬化性接着剤を調製した。なお、トリアリールスルホニウムヘキサフルオロホスフェートは、５０％プロピレンカーボネート溶液として配合し、下記にはトリアリールスルホニウムヘキサフルオロホスフェートの固形分量を表示した。
（活性エネルギー線硬化性接着剤の組成）
３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート：４５質量部
エポリードＧＴ−３０１（ダイセル化学社製の脂環式エポキシ樹脂）：４０質量部
１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル：１５質量部
トリアリールスルホニウムヘキサフルオロホスフェート：２．３質量部
９，１０−ジブトキシアントラセン：０．１質量部
１，４−ジエトキシナフタレン：２．０質量部【０２３８】
偏光板の作製
作製した保護フィルム１０１上に、上記調製した活性エネルギー線硬化性接着剤を、マイクログラビアコーターを用いて乾燥厚みが５μｍになるように塗布して、活性エネルギー線硬化性接着剤層を形成した。塗布は、グラビアローラ＃３００、回転速度１４０％／ライン速の条件で行った。【０２３９】
同様に、位相差フィルムＡ上に、上記調製した活性エネルギー線硬化性接着剤を、乾燥厚み５μｍとなるように塗布して活性エネルギー線硬化性接着剤層を形成した。【０２４０】
上記作製した膜厚１０μｍの偏光子の一方の面に、活性エネルギー線硬化性接着剤層が形成された保護フィルム１０１を配置し、他方の面に、活性エネルギー線硬化性接着剤層が形成された位相差フィルムＡを配置して、保護フィルム１０１／活性エネルギー線硬化性接着剤層／偏光子／活性エネルギー線硬化性接着剤層／位相差フィルムＡの積層物を得た。得られた積層物を、ローラ機で貼り合わせた。貼り合わせは、位相差フィルムＡの遅相軸と偏光子の吸収軸とが互いに直交になるように行った。【０２４１】
貼り合わせた積層物の両面側から、電子線を照射して、活性エネルギー線硬化性接着剤層を硬化させて偏光板２０１を得た。ライン速度は２０ｍ／ｍｉｎ、加速電圧は２５０ｋＶ、照射線量は２０ｋＧｙとした。【０２４２】
（実施例２〜４、６〜１１、１７〜２６、２８、２９、比較例１〜４）
保護フィルムと位相差フィルムの一方または両方の種類を、表５に示されるように変更した以外は実施例１と同様にして偏光板２０２〜２０５、２０７〜２１５、２１８〜２３１、２３３および２３４を作製した。【０２４３】
（実施例５、１２、１３および２７）
保護フィルムの種類を表５に示されるように変更し、かつ偏光子と保護フィルムまたは位相差フィルムとの接着を水糊で行った以外は実施例１と同様にして偏光板２０６、２１６、２１７および２３２を作製した。【０２４４】
（実施例１４〜１６、比較例５）
保護フィルムの種類を表５に示されるように変更し、かつ偏光子の膜厚を表５に示されるように変更した以外は実施例１と同様にして偏光板を作製した。【０２４５】
得られた偏光板の偏光度を、以下の方法で測定した。【０２４６】
（偏光度）
得られた偏光板を、６０℃９５％ＲＨの環境下１０００時間放置、２３℃５５％ＲＨの環境下で２４時間放置した後、波長５５０ｎｍの光の平行透過率と直交透過率を、自動偏光フィルム測定装置（ＶＡＰ-７０７０、日本分光株式会社製）を用いて測定した。それにより、下記式に基づいて偏光度を求めた。そして、偏光子の劣化を、下記基準に基づいて評価した。
【数１】
2014178178.tif 000021
【０２４７】
◎：偏光度９９％以上で問題ない。
○：偏光度９８．５％以上９９％未満で問題ない。
△：偏光度９８％以上９８．５％未満で実用上問題ない。
×：偏光度９８％未満であり、問題である。【０２４８】
実施例１〜２９、比較例１〜５の評価結果を表５に示す。
【表５】
2014178178.tif 000022
【０２４９】
表５に示されるように、実施例１〜２９の偏光板は、偏光子の厚みが小さいにも係わらず、比較例１、３および４の偏光板よりも偏光度の劣化が極めて少ないことがわかる。【０２５０】
比較例１の偏光板は、被覆層を含まないため、透湿度が高く、偏光子内のホウ酸架橋がかい離したものと推測される。比較例３および４の偏光板における、透明基材層がＴＰＰやＢＤＰを含むため、透明基材層に滞留する水による加水分解が生じ、それにより生成した酸が偏光子内のホウ酸架橋をかい離させたと考えられる。【０２５１】
さらに、実施例７で使用した保護フィルム１０９の透明基材層の「糖エステル１」を「化合物１０４、１１４、１２０、３０１、３０４、４０１、４０４、Ｐ４、Ｐ６、Ｐ７」に換えた以外は実施例７と同様にして偏光板を作製し、同様の評価を行った。その結果、これらの偏光板についても、実施例７と同様に偏光子劣化が少なく、好ましい結果が得られた。【０２５２】
８．液晶表示装置の作製
（実施例３０）
ＳＯＮＹ製４０型ディスプレイＢＲＡＶＩＡ  ＫＬＶ-４０Ｊ３０００（ＶＡ方式）を準備した。この装置の、予め液晶セルの両側に貼合されていた２枚の偏光板を剥がして、作製した偏光板２０１をそれぞれ貼り合わせた。貼り合わせは、偏光板２０１の位相差フィルムＡが液晶セルと接するように配置した。また、位相差フィルムＡの遅相軸と、予め貼られていた偏光板の遅相軸とが平行となるようにした。それにより、液晶表示装置３０１を得た。【０２５３】
（実施例３１〜５８、比較例６〜１０）
偏光板の種類を表６に示されるように変更した以外は実施例３０と同様にして液晶表示装置３０２〜３３４を得た。【０２５４】
得られた液晶表示装置の、正面コントラストのムラおよびベンドムラを、以下の方法で測定した。【０２５５】
（正面コントラストのムラ）
６０℃８０％ＲＨの環境で、液晶表示装置のバックライトを１週間連続点灯させた後、２３℃５５％ＲＨの室内で２時間放置した。得られた液晶表示装置の白表示時の表示画面の法線方向からの輝度と、黒表示時の表示画面の法線方向からの輝度とを、それぞれＥＬＤＩＭ社製ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ１６０Ｄを用いて測定した。得られた値を、下記式に当てはめて正面コントラストとして算出した。輝度の測定は、２３℃５５％ＲＨの環境下で行った。
正面コントラスト＝（表示装置の法線方向から測定した白表示の輝度）／（表示装置の法線方向から測定した黒表示の輝度）【０２５６】
同様にして、表示装置の任意の１０点の正面コントラストを測定した。そして、得られた１０点の正面コントラストの平均値を求めた。さらに、得られた１０点の正面コントラストのうち、平均値との差の絶対値が最大となる、正面コントラストの最大値もしくは最小値を求めた。これらの値を下記式に当てはめて、正面コントラストのばらつき（％）を求めた。
正面コントラストのばらつき（％）＝｜（正面コントラストの最大値もしくは最小値）−（正面コントラストの平均値）｜／（正面コントラストの平均値）×１００【０２５７】
正面コントラストのムラは、以下の基準に基づいて評価した。
◎：正面コントラストのばらつきがなく、ムラもない
○：正面コントラストのばらつきが１〜５％未満のばらつきであり、ムラが小さい
△：正面コントラストが５〜１０％未満のばらつきであり、ムラがややある
×：正面コントラストが１０％以上のばらつきであり、ムラが大きい【０２５８】
（ベンドムラ）
上記作製した液晶表示装置を、４０℃９５％ＲＨの環境下で２４時間放置した。次いで、４０℃ドライの環境下で液晶表示装置を黒表示させた状態で、表示画面の４頂点付近の輝度と表示画面中央部付近の輝度との差（中心部と周辺部との画像ムラ）を目視観察し、下記の基準に従ってベンドムラの評価を行った。【０２５９】
◎：ベンドムラの発生が、全く認められない
○：わずかにベンドムラが認められる
△：弱いベンドムラが認められるが、実用上は許容される品質である
×：明らかなベンドムラの発生が認められる【０２６０】
実施例３０〜５８、比較例６〜１０の評価結果を表６に示す。
【表６】
2014178178.tif 000023
【０２６１】
表６に示されるように、実施例３０〜５８の表示装置は、比較例６〜１０の表示装置よりもコントラストのムラやパネルベンドムラが低減されたことがわかる。特に偏光子の膜厚が１５μｍ以下であってもコントラストのムラが低減されることがわかる。【０２６２】
比較例７および１０の表示装置に用いられる偏光板は、被覆層または偏光子の厚みが大きいため、偏光板全体の厚みも大きい。そのため、バックライトの熱による偏光板の寸法変化が大きくなり、パネルベンドムラが生じたと考えられる。【０２６３】
本出願は、２０１３年４月３０日出願の特願２０１３−０９５３０４に基づく優先権を主張する。当該出願明細書および図面に記載された内容は、すべて本願明細書に援用される。
【産業上の利用可能性】
【０２６４】
本発明によれば、偏光子の厚みが薄くても、透湿した水分による偏光子の劣化が少ない偏光板を提供することができる。
【符号の説明】
【０２６５】
１０  保護フィルム
１１  透明基材層
１３Ａ、１３Ｂ  下塗り層
１５  被覆層
１７  ハードコート層
２０  液晶表示装置
３０  液晶セル
４０  第一の偏光板
４１  第一の偏光子
４３  保護フィルム（Ｆ１）
４５  保護フィルム（Ｆ２）
５０  第二の偏光板
５１  第二の偏光子
５３  保護フィルム（Ｆ３）
５５  保護フィルム（Ｆ４）
６０  バックライト
【図１】
2014178178.tif 000024
【図２】
2014178178.tif 000025
【国際調査報告】
2014178178.tif 000026
2014178178.tif 000027
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