(57)【要約】  本発明は、薄く、自己支持性に優れる光学フィルムを付与できる転写フィルム、および、光学フィルムを提供することを目的とする。本発明の転写フィルムは、剥離性支持体と、剥離性支持体上に剥離可能に積層された光学フィルムとを備える、転写フィルムであって、光学フィルムが、液晶化合物を含有する光学異方性層、および、光学異方性層に隣接する非熱可塑性アクリル樹脂層を備え、非熱可塑性アクリル樹脂層中のアクリル樹脂が、ポリオキシアルキレン鎖を有し、ポリオキシアルキレン鎖の含有量が、非熱可塑性アクリル樹脂層全質量に対して、８〜６０質量％であり、非熱可塑性アクリル樹脂層の厚みが５〜２５μｍであり、光学異方性層の厚みが０．１〜１０μｍであり、非熱可塑性アクリル樹脂層の厚みが、光学異方性層の厚みより厚い。
2014178395.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
剥離性支持体と、前記剥離性支持体上に剥離可能に積層された光学フィルムとを備える、転写フィルムであって、
前記光学フィルムが、液晶化合物を含有する光学異方性層、および、前記光学異方性層に隣接する非熱可塑性アクリル樹脂層を備え、
前記非熱可塑性アクリル樹脂層中のアクリル樹脂が、ポリオキシアルキレン鎖を有し、
前記ポリオキシアルキレン鎖の含有量が、非熱可塑性アクリル樹脂層全質量に対して、８〜６０質量％であり、
前記非熱可塑性アクリル樹脂層の厚みが５〜２５μｍであり、前記光学異方性層の厚みが０．１〜１０μｍであり、前記非熱可塑性アクリル樹脂層の厚みが、前記光学異方性層の厚みより厚い、転写フィルム。
【請求項２】
前記ポリオキシアルキレン鎖の含有量が、非熱可塑性アクリル樹脂層全質量に対して、１２〜６０質量％である、請求項１に記載の転写フィルム。
【請求項３】
剥離性支持体と、前記剥離性支持体上に剥離可能に積層された光学フィルムとを備える、転写フィルムであって、
前記光学フィルムが、液晶化合物を含有する光学異方性層、および、前記光学異方性層に隣接する非熱可塑性アクリル樹脂層を備え、
前記非熱可塑性アクリル樹脂層の厚みが５〜２５μｍであり、前記光学異方性層の厚みが０．１〜１０μｍであり、前記非熱可塑性アクリル樹脂層の厚みが、前記光学異方性層の厚みより厚く、
以下の曲げ試験Ａから求められる前記光学フィルムの曲げ回数が１０回以上である、転写フィルム。
（曲げ試験Ａ：転写フィルムを１０ｃｍ×１０ｃｍにカットし、水平な台上にカットされた転写フィルムを前記剥離性支持体が前記水平な台側を向くように配置し、前記転写フィルム中の前記光学フィルムを一辺側から他辺側までの長さの半分まで前記剥離性支持体から剥離して、前記光学フィルムの剥離部分を前記剥離性支持体に対して水平に戻した後、前記剥離部分の先端部を前記剥離部分が前記剥離性支持体に対して垂直となるまで持ち上げ、さらに前記剥離部分を元の位置に戻す処理を繰り返し、前記光学フィルムにクラックが入る曲げ処理の回数をＮとして、（Ｎ−１）を曲げ回数とする。）
【請求項４】
液晶化合物を含有する光学異方性層、および、前記光学異方性層に隣接する、非熱可塑性アクリル樹脂層を有し、
前記非熱可塑性アクリル樹脂層中のアクリル樹脂が、ポリオキシアルキレン鎖を有し、
前記ポリオキシアルキレン鎖の含有量が、非熱可塑性アクリル樹脂層全質量に対して、８〜６０質量％であり、
前記非熱可塑性アクリル樹脂層の厚みが５〜２５μｍであり、前記光学異方性層の厚みが０．１〜１０μｍであり、前記非熱可塑性アクリル樹脂層の厚みが、前記光学異方性層の厚みより厚い、光学フィルム。
【請求項５】
前記ポリオキシアルキレン鎖の含有量が、非熱可塑性アクリル樹脂層全質量に対して、１２〜６０質量％である、請求項４に記載の光学フィルム。
【請求項６】
液晶化合物を含有する光学異方性層、および、前記光学異方性層に隣接する、非熱可塑性アクリル樹脂層を有し、
前記非熱可塑性アクリル樹脂層の厚みが５〜２５μｍであり、前記光学異方性層の厚みが０．１〜１０μｍであり、前記非熱可塑性アクリル樹脂層の厚みが、前記光学異方性層の厚みより厚く、
以下の曲げ試験Ｂから求められる曲げ回数が１０回以上である、光学フィルム。
（曲げ試験Ｂ：光学フィルムを１０ｃｍ×１０ｃｍにカットし、水平な台上にカットされた前記光学フィルムを配置した後、前記光学フィルムの一辺部側から他辺部側までの長さの半分までが前記台から離れるように、かつ、前記台から剥離した前記光学フィルム部分が台に対して垂直になるまで前記光学フィルムの一辺部を持ち上げ、その後元に戻す曲げ操作を繰り返し、前記光学フィルムにクラックが入る曲げ操作の回数をＮとして、（Ｎ−１）を曲げ回数とする。）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、転写フィルムおよび光学フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
位相差板は、非常に多くの用途を有しており、既に反射型液晶表示装置、半透過型液晶表示装置、輝度向上膜、光ディスク用ピックアップやＰＳ変換素子に使用されている。
このような位相差板としては、ディスコティック液晶化合物（円盤状液晶化合物）や棒状液晶化合物を所定の方向に配向させ固定化した光学異方性層をポリマーフィルム上に形成する位相差板が提案されている（特許文献１）。特許文献１に記載されるように、通常、光学異方性層を形成する際には、セルローストリアセテートフィルムなどの透明支持体上に形成され、透明支持体と一体的に使用される。【０００３】
それに対して、近年、表示装置などの電子機器の薄膜化が求められており、それに伴いこれらの機器に使用される部材の薄膜化が強く求められている。しかしながら、特許文献１に記載されるような透明支持体を使用する場合、透明支持体自体の薄膜化が難しく、昨今の要求に十分に応えることができなかった。
一方、光学異方性層の他の製造方法として、特許文献２に記載される転写法も開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００４−５３８４１号公報
【特許文献２】特開２０１３−７８８７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明者らは、部材の薄膜化のために、特許文献１などで用いられる透明支持体を含まない位相差板の開発を目指して、特許文献２に記載される転写法について検討を行った。より具体的には、仮支持体上に薄膜の光学異方性層を形成して、その取扱い性について検討を行った。
上記検討を行ったところ、特許文献２の実施例で具体的に記載される光学異方性層と添加剤層とを備える積層膜では、膜自体がもろく破断してしまうため、それ自体を位相差板として使用することができないことを知見した。つまり、それ自体のみでは自立性の膜（フィルム）として使用できず、いわゆる自己支持性に劣る光学フィルムしか得られず、転写フィルムとしても使用できなかった。【０００６】
本発明は、上記実情に鑑みて、薄く、自己支持性に優れる光学フィルムを付与できる転写フィルムを提供することを目的とする。
また、本発明は、薄く、自己支持性に優れる光学フィルムを提供することも目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、従来技術の問題点について鋭意検討した結果、ポリオキシアルキレン鎖を所定量含む非熱可塑性アクリル樹脂層を用いることにより、上記課題を解決できることを見出した。
すなわち、以下の構成により上記目的を達成することができることを見出した。【０００８】
（１）  剥離性支持体と、剥離性支持体上に剥離可能に積層された光学フィルムとを備える、転写フィルムであって、
光学フィルムが、液晶化合物を含有する光学異方性層、および、光学異方性層に隣接する非熱可塑性アクリル樹脂層を備え、
非熱可塑性アクリル樹脂層中のアクリル樹脂が、ポリオキシアルキレン鎖を有し、
ポリオキシアルキレン鎖の含有量が、非熱可塑性アクリル樹脂層全質量に対して、８〜６０質量％であり、
非熱可塑性アクリル樹脂層の厚みが５〜２５μｍであり、光学異方性層の厚みが０．１〜１０μｍであり、非熱可塑性アクリル樹脂層の厚みが、光学異方性層の厚みより厚い、転写フィルム。
（２）  ポリオキシアルキレン鎖の含有量が、非熱可塑性アクリル樹脂層全質量に対して、１２〜６０質量％である、（１）に記載の転写フィルム。
（３）  剥離性支持体と、剥離性支持体上に剥離可能に積層された光学フィルムとを備える、転写フィルムであって、
光学フィルムが、液晶化合物を含有する光学異方性層、および、光学異方性層に隣接する非熱可塑性アクリル樹脂層を備え、
非熱可塑性アクリル樹脂層の厚みが５〜２５μｍであり、光学異方性層の厚みが０．１〜１０μｍであり、非熱可塑性アクリル樹脂層の厚みが、光学異方性層の厚みより厚く、
以下の曲げ試験Ａから求められる光学フィルムの曲げ回数が１０回以上である、転写フィルム。
（曲げ試験Ａ：転写フィルムを１０ｃｍ×１０ｃｍにカットし、水平な台上にカットされた転写フィルムを剥離性支持体が水平な台側を向くように配置し、転写フィルム中の光学フィルムを一辺側から他辺側までの長さの半分まで剥離性支持体から剥離して、光学フィルムの剥離部分を剥離性支持体に対して水平に戻した後、剥離部分の先端部を剥離部分が剥離性支持体に対して垂直となるまで持ち上げ、さらに剥離部分を元に位置に戻す処理を繰り返し、光学フィルムにクラックが入る曲げ処理の回数をＮとして、（Ｎ−１）を曲げ回数とする。）
（４）  液晶化合物を含有する光学異方性層、および、光学異方性層に隣接する、非熱可塑性アクリル樹脂層を有し、
非熱可塑性アクリル樹脂層中のアクリル樹脂が、ポリオキシアルキレン鎖を有し、
ポリオキシアルキレン鎖の含有量が、非熱可塑性アクリル樹脂層全質量に対して、８〜６０質量％であり、
非熱可塑性アクリル樹脂層の厚みが５〜２５μｍであり、光学異方性層の厚みが０．１〜１０μｍであり、非熱可塑性アクリル樹脂層の厚みが、光学異方性層の厚みより厚い、光学フィルム。
（５）  ポリオキシアルキレン鎖の含有量が、非熱可塑性アクリル樹脂層全質量に対して、１２〜６０質量％である、（４）に記載の光学フィルム。
（６）  液晶化合物を含有する光学異方性層、および、光学異方性層に隣接する、非熱可塑性アクリル樹脂層を有し、
非熱可塑性アクリル樹脂層の厚みが５〜２５μｍであり、光学異方性層の厚みが０．１〜１０μｍであり、非熱可塑性アクリル樹脂層の厚みが、光学異方性層の厚みより厚く、
以下の曲げ試験Ｂから求められる曲げ回数が１０回以上である、光学フィルム。
（曲げ試験Ｂ：光学フィルムを１０ｃｍ×１０ｃｍにカットし、水平な台上にカットされた光学フィルムを配置した後、光学フィルムの一辺部側から他辺部側までの長さの半分までが台から離れるように、かつ、台から剥離した光学フィルム部分が台に対して垂直になるまで光学フィルムの一辺部を持ち上げ、その後元に戻す曲げ操作を繰り返し、光学フィルムにクラックが入る曲げ操作の回数をＮとして、（Ｎ−１）を曲げ回数とする。）
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、薄く、自己支持性に優れる光学フィルムを付与できる転写フィルムを提供することができる。
また、本発明によれば、薄く、自己支持性に優れる光学フィルムを提供することもできる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の転写フィルムの第１実施態様の断面図である。
【図２】本発明の転写フィルムの第１実施態様の他の態様の断面図である。
【図３】パターン光学異方性層の一例を示す平面図である。
【図４】本発明の転写フィルムから剥離性支持体を剥離する際の概略図である。
【図５】本発明の転写フィルムの第２実施態様の断面図である。
【図６】本発明の転写フィルムの第３実施態様の断面図である。
【図７】曲げ試験Ａの実施方法を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明について詳細に説明する。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。まず、本明細書で用いられる用語について説明する。
なお、本明細書では、「可視光」とは、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍのことをいう。また、本明細書では、測定波長について特に付記がない場合は、測定波長は５５０ｎｍである。
また、本明細書において、角度（例えば「９０°」等の角度）、およびその関係（例えば「垂直」、「直交」、「平行」、「同一方向」、および「４５°で交差」等）については、本発明が属する技術分野において許容される誤差の範囲を含むものとする。この時、許容される誤差としては、例えば、厳密な角度±１０°以下の範囲内であることなどを意味し、具体的に厳密な角度との誤差は、５°以下であることが好ましく、３°以下であることがより好ましい。
【００１２】
まず、本発明の転写フィルムの従来技術に対する特徴点について詳述する。
本発明の転写フィルムでは、剥離性支持体上に配置される光学フィルム中において、光学異方性層と隣接する非熱可塑性アクリル樹脂層を設けた点が挙げられる。上述したように、液晶化合物を含有する光学異方性層は、薄く、しかも、それ自体ではクラックが生じやすく、自己支持性に乏しい。そのため、従来は、厚さ８０μｍ程度の透明支持体（例えば、タックフィルム）などで保護する事が一般的であった。一方、アクリル系モノマーを重合させて得られる非熱可塑性アクリル樹脂層は後述するように３次元架橋構造を有するため、高い硬度が得られ、塗布などにより厚さ１０μｍ前後の膜を形成し、透明支持体などの表面を保護するハードコートとして使用されてきた。しかし、曲げるとクラックが入りやすく、かつ、透明支持体などから容易には剥離することができず、自己支持性のあるフィルムを作る観点では、その使用が適切でないと思われていた。
本発明者は、鋭意検討の結果、薄い光学異方性層に隣接する形で、所定量のポリオキシアルキレン鎖を含む所定の厚みの非熱可塑性アクリル樹脂層（ハードコート層）を設けることにより、上記課題を克服できることを見出している。より具体的には、上記光学異方性層と非熱可塑性アクリル樹脂層とはいずれもそれぞれ単独の層では比較的脆いにもかかわらず、両者を積層した光学フィルムでは柔軟性に富み、繰り返し曲げてもクラックなどが入りにくいことを見出している。このような光学フィルムであれば、仮支持体から容易に剥離することが可能となり、剥離後も反り（カール）の発生が抑制され平面性（平坦性）に優れたフィルムとして取り扱うことができる。
なお、本明細書において、自己支持性に優れるフィルムとは、フィルム自体の機械的強度にも優れ、ひびや裂けなどの発生が抑制され、自立膜として使用できるフィルムを意図し、特に、反り（カール）の発生も抑制された平坦性に優れるフィルムが好ましい。
【００１３】
また、本発明においては、転写フィルムおよび光学フィルムを所定の曲げ試験に供した際に所定の曲げ回数を示す転写フィルムおよび光学フィルムは、上記効果を奏することも見出している。
【００１４】
なお、本発明の転写フィルムの好適態様としては、剥離性支持体の上にまず液晶化合物を含有する光学異方性層を形成し、この上に、アクリル系モノマーを含有する層を塗布などで形成後、露光などにより重合させた非熱可塑性アクリル樹脂層を形成することにより形成される光学フィルムを備える転写フィルムが挙げられる。
【００１５】
＜第１実施態様＞
本発明における転写フィルムの第１実施態様の断面図を図１に示す。
なお、本発明における図は模式図であり、各層の厚みの関係や位置関係などは必ずしも実際のものとは一致しない。以下の図も同様である。
図１に示す転写フィルム１０は、剥離性支持体１２と、光学異方性層１４と、非熱可塑性アクリル樹脂層１６（以後、単に樹脂層とも称する）とをこの順で有する。光学異方性層１４と樹脂層１６とは、光学フィルム１８を構成する。剥離性支持体１２と光学フィルム１８との界面の剥離強度は、光学異方性層１４と樹脂層１６との剥離強度よりも小さい。
なお、図１においては、光学フィルム１８において剥離性支持体１２側に光学異方性層１４が配置されているが積層順番はこの態様に限定されず、図２に示すように、剥離性支持体１２と、樹脂層１６と、光学異方性層１４とをこの順で有する転写フィルム１００であってもよい。
以下では、転写フィルム１０を構成する各部材について詳述する。
【００１６】
［剥離性支持体］
剥離性支持体（仮支持体とも称する）は、後述する光学フィルムを支持する基材であり、光学フィルム表面と剥離可能に密着する。後述するように、転写フィルムが使用される際には、剥離性支持体と光学フィルムとに分離される。
なお、剥離性支持体の「剥離性」とは、転写フィルムに光学フィルムを剥離するための外力を加えた場合、光学異方性層と樹脂層との界面で剥離すること無く、剥離性支持体と光学フィルムとの界面で剥離する性質を意味し、剥離性支持体と接する光学フィルムとの関係で決まる性質である。
【００１７】
剥離性支持体と光学フィルムとの剥離強度の関係を制御する方法は、公知の方法が採用できる。
例えば、光学異方性層を形成する際に、ポリビニルアルコール系配向膜などを用いる場合、および、該配向膜を硬膜させない場合においては、配向膜と光学異方性層との間で容易に剥離が生じる。この態様は後述する第２実施態様に該当し、この場合、配向膜は剥離性支持体の一部として含まれる。
また、上記配向膜を硬膜させている場合は、該配向膜と支持体の間で容易に剥離が生じる。この態様は後述する第３実施態様に該当し、この場合、配向膜は光学フィルムの一部として含まれる。
なお、配向膜は、他の材料との接着の補助に使うこともできるため、配向膜を剥離性支持体および光学フィルムのどちらに含ませるかは、その後の使い方に応じて適宜選択できる。
また、ポリエチレンテレフタレートなどの基材は、配向膜を設けずに、直接ラビングを施した後、光学異方性層を形成することができる。この場合、基材と光学異方性層の間で容易に剥離が生じる。
【００１８】
剥離性支持体を構成する材料としては、例えば、セルロース系ポリマー；ポリメチルメタクリレート、ラクトン環含有重合体等のアクリル酸エステル重合体を有するアクリル系ポリマー；熱可塑性ノルボルネン系ポリマー；ポリカーボネート系ポリマー；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー；ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマー；ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体等のポリオレフィン系ポリマー；塩化ビニル系ポリマー；ナイロン、芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー；イミド系ポリマー；スルホン系ポリマー；ポリエーテルスルホン系ポリマー；ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー；ポリフェニレンスルフィド系ポリマー；塩化ビニリデン系ポリマー；ビニルアルコール系ポリマー；ビニルブチラール系ポリマー；アリレート系ポリマー；ポリオキシメチレン系ポリマー；エポキシ系ポリマー；またはこれらのポリマーを混合したポリマーが挙げられる。
なかでも、剥離性が優れると共に、直接ラビング処理を実施することが可能である点から、ポリエステル系ポリマーが好ましく、ポリエチレンテレフタレートがより好ましい。
【００１９】
剥離性支持体の厚みは特に制限されないが、転写フィルムの取扱い性に優れる点から、１０〜１５０μｍが好ましく、２０〜１００μｍがより好ましい。
なお、剥離性支持体は１層で構成されていても、後述するように、２層以上の積層構造であってもよい。
【００２０】
［光学フィルム］
光学フィルムは、上記剥離性支持体上に剥離可能に積層され、位相差板として機能する。光学フィルムは、互いに隣接する光学異方性層と樹脂層とを少なくとも有する。後述するように、光学フィルムは剥離性支持体から剥離して使用され、表示装置などに貼り合わされて使用される。
以下、光学フィルムに含有される光学異方性層および樹脂層について詳述する。
【００２１】
（光学異方性層）
光学フィルムにおける光学異方性層は、液晶化合物を含む光学異方性層である。
光学フィルムを円偏光板に用いる場合、より正確な円偏光に近づけられるという理由から、光学異方性層は位相差がλ／４程度である位相差領域を有することが好ましく、具体的には、波長５５０ｎｍで測定した面内レタデーション（Ｒｅ（５５０））が、１１０〜１６５ｎｍであることが好ましく、１１５〜１５０ｎｍであることがより好ましく、１２０〜１４５ｎｍであることが特に好ましい。
なお、本明細書において、Ｒｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）は、各々、波長λにおける面内のレタデーション、及び、厚さ方向のレタデーションを表す。Ｒｅ（λ）およびＲｔｈ（λ）はＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ、又はＷＲ（王子計測機器（株）製）において、波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。
【００２２】
光学異方性層は、右回りの円偏光と左回りの円偏光とをそれぞれ作り出せるという理由から、面内遅相軸方向および面内レタデーションの少なくとも一方が互いに異なる第１位相差領域および第２位相差領域を含み、かつ、第１位相差領域および第２位相差領域が、面内において交互に配置されているパターン光学異方性層であることも好ましい。より具体的には、図３に示すように、光学異方性層１４０における第１位相差領域１４０ａおよび第２位相差領域１４０ｂの位相差がそれぞれλ／４程度であり、面内遅相軸１４２ａおよび１４２ｂの方向が９０°異なっている態様が挙げられる。
このような光学異方性層を有する光学フィルムは、３Ｄ画像表示装置の中でもいわゆるＦＰＲ方式（Ｆｉｌｍ Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｒｅｔａｒｄｅｒ方式）に好適に用いられる。
【００２３】
光学異方性層に含まれる液晶化合物の種類は特に制限されないが、液晶化合物の形状から棒状タイプ（棒状液晶化合物）と円盤状タイプ（ディスコティック液晶化合物（円盤状液晶化合物））に分類できる。さらにそれぞれ低分子と高分子タイプがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男 著，２頁，岩波書店，１９９２）。本発明では、いずれの液晶性化合物を用いることもでき、２種以上の棒状液晶化合物、２種以上の円盤状液晶化合物、または棒状液晶化合物と円盤状液晶化合物との混合物を用いてもよい。上述の液晶化合物の固定化のために、光学異方性層は重合性基を有する液晶化合物（棒状液晶化合物または円盤状液晶化合物）を用いて形成されることがより好ましい。液晶化合物が重合性基を有する場合、１分子中に重合性基を２以上有することが好ましい。なお、重合性基の種類は特に制限されず、付加重合反応が可能な官能基が好ましく、重合性エチレン性不飽和基または環重合性基が好ましい。より具体的には、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基などが好ましく挙げられ、（メタ）アクリロイル基がより好ましい。なお、（メタ）アクリロイル基とは、メタアクリロイル基およびアクリロイル基を包含する概念である。
液晶化合物が２種類以上の混合物の場合には、少なくとも１種類の液晶化合物が１分子中に２以上の重合性基を有していることが好ましい。
棒状液晶化合物としては、例えば、特表平１１−５１３０１９号公報の請求項１や特開２００５−２８９９８０号公報の段落［００２６］〜［００９８］に記載のものを好ましく用いることができ、ディスコティック液晶化合物としては、例えば、特開２００７−１０８７３２号公報の段落［００２０］〜［００６７］や特開２０１０−２４４０３８号公報の段落［００１３］〜［０１０８］に記載のものを好ましく用いることができるが、これらに限定されない。
【００２４】
上述した光学異方性層における位相差をλ／４程度とするために、液晶化合物の配向状態を制御することがある。このとき、棒状液晶化合物を用いる場合には、棒状液晶化合物を水平配向した状態で固定化するのが好ましく、ディスコティック液晶化合物を用いる場合には、ディスコティック液晶化合物を垂直配向した状態で固定化するのが好ましい。なお、本発明において、「棒状液晶化合物が水平配向」とは、棒状液晶化合物のダイレクタと層面が平行であることを言い、「ディスコティック液晶化合物が垂直配向」とは、ディスコティック液晶化合物の円盤面と層面が垂直であることを言う。厳密に水平、垂直であることを要求するものではなく、それぞれ正確な角度から±２０°の範囲であることを意味するものとする。±５°以内であることが好ましく、±３°以内であることがより好ましく、±２°以内であることがさらに好ましく、±１°以内であることが最も好ましい。
【００２５】
また、液晶化合物を水平配向、垂直配向状態とするために、水平配向、垂直配向を促進する添加剤（配向制御剤）を使用してもよい。添加剤としては各種公知のものを使用できる。
【００２６】
光学異方性層の厚みは、０．１〜１０μｍであり、薄膜化の点から、０．５〜５μｍであるのが好ましい。
なお、光学異方性層は単層構造であっても、積層構造であってもよい。積層構造の場合、その合計厚みが上記範囲内である。
【００２７】
なお、本発明の光学フィルムを捩れ配向モード液晶表示装置の光学補償フィルムとして用いる場合は、ハイブリッド配向状態に固定された光学異方性層が好ましく、例えば、特開２０１２−３１８３号公報の段落［０１２３］〜［０１２６］に記載のものを好ましく用いることができるが、これらに限定されない。
【００２８】
（非熱可塑性アクリル樹脂層）
非熱可塑性アクリル樹脂層（樹脂層）は、上記光学異方性層に隣接して配置される層であり、光学フィルムの自己支持性の機能を担保するための層である。非熱可塑性アクリル樹脂層は、架橋構造（いわゆる３次元網目構造）を有しているために、層厚が薄くとも優れた機械的強度を有する。
なお、本発明で非熱可塑性であるとは、融点測定器で融点を測定した場合に、２００℃以下で融解挙動を示さないことをいう。つまり、融点が２００℃超であることを意図する。なお、非熱可塑性アクリル樹脂層は、２００℃超に加熱しても明確な融点がなく、軟化するものの融解には至らず、変色したり収縮したりすることがある。
融点測定は、毛細管と二重管温度計で測定する方法や、金属ヒートブロックを昇温し、目視や、光学的に変化を検出する方法などがある。
【００２９】
樹脂層には、アクリル樹脂が含有される。なお、アクリル樹脂は、３次元網目構造を形成するように、架橋されている。つまり、架橋点を有する架橋構造を有する。
アクリル樹脂とは、（メタ）アクリル単量体（（メタ）アクリルモノマー）の重合体である。ここで、「（メタ）アクリル」とは、アクリルおよびメタアクリルを含む概念である。つまり、（メタ）アクリル単量体は、アクリル単量体とメタアクリル単量体とを含む概念である。なお、単量体は、低分子化合物（分子量２０００以下の化合物を意図する）でも高分子化合物（分子量２０００超の化合物を意図する。なかでも、２０００超２００００以下が好ましい）でもよく、塗布性など、取扱い性に優れる点で、低分子化合物（分子量２０００以下）が好ましい。
使用される（メタ）アクリル単量体の種類は特に制限されないが、アクリロイルオキシ基およびメタアクリロイルオキシ基からなる群より選択される官能基を２個以上含む多官能（メタ）アクリル単量体が好ましく使用される。具体的な好適例としては、アルキレンジ（メタ）アクリレート（例えば、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート）、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリ（ブタンジオール）ジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリイソプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート等のジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリトリトールモノヒドロキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリエトキシトリ（メタ）アクリレート等のトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリトリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジ−トリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等のテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトール（モノヒドロキシ）ペンタ（メタ）アクリレート等のペンタ（メタ）アクリレートが挙げられる。なかでも、光学フィルムの自己支持性がより優れる点で、ポリオキシエチレンジ（メタ）アクリレート、ポリオキシプロピレンジ（メタ）アクリレート等のポリオキシアルキレン鎖を含むジ（メタ）アクリル単量体（ポリオキシアルキレンジ（メタ）アクリレート）が好ましい。
多官能（メタ）アクリル単量体は単独で使用しても、二種以上を混合して使用してもよい。
【００３０】
アクリル樹脂を製造する際には、上記多官能（メタ）アクリル単量体以外の単量体が使用されていてもよい。
例えば、アクリロイルオキシ基またはメタアクリロイルオキシ基を一つ有する（メタ）アクリル単量体を使用することもできる。
また、（メタ）アクリル単量体以外の他の単量体を使用してもよい。例えば、スチレン、ｐ−メチルスチレン、エチルスチレン、プロピルスチレン、イソプロピルスチレン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルスチレンなどのスチレン系単量体、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ピバリン酸ビニルなどのビニル系単量体等が挙げられる。
【００３１】
アクリル樹脂を製造する際には、重合開始剤を使用してもよい。使用される重合開始剤の種類は、重合様式に応じて適宜最適な化合物が選択される。例えば、熱重合開始剤および光重合開始剤などが挙げられる。重合開始剤は、樹脂層を形成する際の組成物に含まれていてもよい。
【００３２】
樹脂層には、上述したアクリル樹脂以外の他の成分（例えば、フィラー（微粒子など）、可塑剤、紫外線防止剤など）が含まれていてもよい。
【００３３】
樹脂層中のアクリル樹脂はポリオキシアルキレン鎖を有し、ポリオキシアルキレン鎖の含有量は、樹脂層全質量に対して、８〜６０質量％である。なかでも、光学フィルムの自己支持性がより向上すると共に、光学フィルムの剥離性支持体からの剥離性がより優れる点で、１２〜６０質量％が好ましく、１２〜５０質量％がより好ましく、２０〜４０質量％がさらに好ましい。
上記含有量が８質量％未満の場合、光学フィルムが脆く、自己支持性に劣る。上記含有量が６０質量％超の場合、光学フィルムが反りやすくなり、平坦性が悪化し、結果として自己支持性に劣る。
なお、樹脂層中におけるポリオキシアルキレン鎖の含有量の測定方法は特に制限されず、例えば、仕込み量から計算できる。また、公知の方法・装置により測定できる。
【００３４】
ポリオキシアルキレン鎖（ポリオキシアルキレン基）とは、オキシアルキレン基（−Ｏ−Ｒ−、Ｒ：アルキレン基）を繰り返し単位として有する基である。
オキシアルキレン基としては、炭素原子数が２〜６のオキシアルキレン基が好ましく、オキシエチレン基およびオキシプロピレン基がより好ましい。一つのポリオキシアルキレン鎖中に、種類の異なるオキシアルキレン基を含まれていてもよい。
オキシアルキレン基の繰り返し数は特に制限されないが、光学フィルムの自己支持性がより優れる点で、２〜３０が好ましく、４〜２０がより好ましい。
なお、樹脂層中にポリオキシアルキレン鎖を導入する方法としては、例えば、ポリオキシアルキレン鎖を有する（メタ）アクリル単量体を用いて、樹脂層を形成する方法が挙げられる。
【００３５】
樹脂層の厚みは５〜２５μｍであり、光学フィルムの薄膜化および光学フィルムの自己支持性のバランスの点から、５〜１５μｍが好ましく、５〜１０μｍがより好ましい。
なお、樹脂層の厚みは、上述した光学異方性層の厚みより厚い。樹脂層の厚みが光学異方性層の厚み以下の場合、光学フィルムの自己支持性に劣る。
【００３６】
光学フィルムの好適態様の一つとしては、光学異方性層が、重合性基を有する液晶化合物を含有する組成物Ａに硬化処理を施し形成された層であり、非熱可塑性アクリル樹脂層が、（メタ）アクリル単量体を含有する組成物Ｂに硬化処理を施し形成される層である態様が挙げられる。
また、転写フィルム中の光学フィルムの態様としては、後述する曲げ試験Ａより求められる曲げ回数が１０回以上である態様が挙げられ、曲げ回数が１５回以上であることがより好ましい。上記態様であれば、光学フィルムの屈曲性がより優れ、結果として自己支持性がより優れる。
以下、曲げ試験Ａに関して、図７を用いて詳述する。
まず、上述した剥離性支持体１２と光学フィルム１８とを含む転写フィルム１０を縦：１０ｃｍ×横：１０ｃｍにカット（裁断）し、カットされた転写フィルム１０を水平な台上（図示しない）上に配置する（図７（Ａ））。なお、その際、剥離性支持体１２が台側を向くように、転写フィルム１０を配置する。次に、光学フィルム１８の一辺部１８ａ側から他辺部１８ｂ側までの長さＬの半分の位置（Ｌ／２）まで、光学フィルム１８を剥離性支持体１２から剥離する（図７（Ｂ））。その後、光学フィルム１８の剥離部分１８ｃを、剥離前の剥離性支持体１２に対して水平の状態に戻す（図７（Ｃ））。次に、光学フィルム１８の剥離部分１８ｃの先端部を、剥離部分１８ｃが剥離性支持体１２に対して垂直となるまで持ち上げ（図７（Ｄ））、さらに剥離部分１８ｃを元の位置に戻す（言い換えれば、剥離部分１８ｃを剥離性支持体１２に対して水平になるように戻す）（図７（Ｅ））曲げ処理を繰り返す。上記曲げ処理（図７（Ｃ）から（Ｅ）の処理）は、光学フィルム１８上にクラックが目視にて確認されるまで繰り返す。なお、クラックは特に、光学フィルム１８を一辺部１８ａと他辺部１８ｂとの間の中央部に発生しやすい。所定回数Ｎ後の曲げ処理の際に光学フィルム１８上にクラックが確認された場合、（Ｎ−１）回を上記曲げ回数とする。例えば、１１回目の曲げ処理終了後にクラックが確認された場合は、１０回目を上記曲げ回数とする。
【００３７】
また、上述した光学フィルムの他の態様としては、後述する曲げ試験Ｂより求められる曲げ回数が１０回以上である態様が挙げられ、曲げ回数が１５回以上であることがより好ましい。上記態様であれば、光学フィルムの屈曲性がより優れ、結果として自己支持性がより優れる。
曲げ試験Ｂは、光学フィルムを１０ｃｍ×１０ｃｍにカットし、水平な台上にカットされた光学フィルムを配置した後、光学フィルムの一辺部側から他辺部側までの長さの半分までが台から離れるように、かつ、台から剥離した光学フィルム部分が台に対して垂直になるまで、光学フィルムの一辺部を持ち上げ、元に戻す曲げ操作を繰り返す。なお、曲げ試験Ｂの上記操作は、上記図７（Ｃ）〜（Ｅ）に示す態様のように、光学フィルムの一辺部を持ち上げ、元に戻す曲げ操作を繰り返す。所定回数Ｎ後の曲げ処理の際に光学フィルム上にクラックが確認された場合、（Ｎ−１）回を上記曲げ回数とする。例えば、１１回目の曲げ処理終了後にクラックが確認された場合は、１０回目を上記曲げ回数とする。
【００３８】
転写フィルム１０において、上述したように、剥離性支持体１２と光学フィルム１８との界面の剥離強度は、光学異方性層１４と樹脂層１６との剥離強度よりも小さい。言い換えると、図１では、剥離性支持体１２と光学異方性層１４との界面の剥離強度は、光学異方性層１４と樹脂層１６との剥離強度よりも小さい。
より具体的には、剥離性支持体１２と光学フィルム１８の界面は剥離強度（ｘ）を有し、剥離性支持体１２と光学フィルム１８の界面に剥離強度（ｘ）を越える引き剥がし方向の応力が加えられると、剥離性支持体１２と光学フィルム１８の界面が剥離する。また、光学異方性層１４と樹脂層１６の界面は剥離強度（ｙ）を有し、光学異方性層１４と樹脂層１６の界面に剥離強度（ｙ）を越える引き剥がし方向の応力が加えられると、光学異方性層１４と樹脂層１６の界面が剥離する。
転写フィルム１０においては、上記剥離強度（ｘ）は上記剥離強度（ｙ）よりも小さい。したがって、転写フィルム１０に剥離性支持体１２と光学フィルム１８とを引き剥がす方向の応力が加えられると、剥離性支持体１２と光学フィルム１８の界面で剥離して、剥離性支持体１２と光学フィルム１８に分離する。
【００３９】
上記関係を満たす方法は特に制限されないが、後述する転写フィルムの製造方法で述べるように、剥離性支持体上で重合性基を有する液晶化合物を含有する組成物Ａより光学異方性層を形成し、その後光学異方性層上で（メタ）アクリル単量体を含有する組成物Ｂより樹脂層を形成する方法が挙げられる。この方法によれば、光学異方性層上で（メタ）アクリル単量体の重合を行う際に、光学異方性層表面上に残存している重合性基と（メタ）アクリル単量体中に含まれる重合性基（（メタ）アクリロイルオキシ基）とが反応し、光学異方性層と樹脂層との間で強固な結合が生じ、結果として上記剥離強度（ｘ）は上記剥離強度（ｙ）よりも小さくなる。
剥離強度の関係を調整する方法としては他の方法であってもよく、上記剥離性支持体の説明欄で述べた方法も使用できる。
【００４０】
［転写フィルムの製造方法］
上述した図１に示す転写フィルム１０の製造方法は特に制限されず、公知の方法を用いることができる。なかでも、剥離性支持体と光学フィルムとの剥離性がより優れる点で、以下の工程を備える方法が好ましい。
工程１：剥離性支持体表面にラビング処理を施す工程
工程２：剥離性支持体上に重合性基を有する液晶化合物を含有する組成物Ａを塗布して塗膜を形成し、塗膜に対して硬化処理を施して、光学異方性層を形成する工程
工程３：光学異方性層上に（メタ）アクリル単量体を含有する組成物Ｂを塗布して塗膜を形成し、塗膜に対して硬化処理を施して、樹脂層を形成する工程
以下、上記工程の手順について詳述する。
【００４１】
（工程１）
工程１は、剥離性支持体表面にラビング処理を施す工程である。本工程を実施することにより、剥離性支持体上に形成される光学異方性層中の液晶化合物の配向方向を制御することができる。なお、剥離性支持体表面上がすでに所望の表面状態であれば、工程１は実施しなくてもよい。
ラビング処理の方法は特に制限されず、公知の方法を採用できる。例えば、剥離性支持体の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより、配向を得る方法を用いることができる。一般的には、長さおよび太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。なお、ラビング処理の一般的な方法については、例えば、「液晶便覧」（丸善社発行、平成１２年１０月３０日）に記載されている。
また、ラビング処理の際の条件としては、特許４０５２５５８号の記載を参照することもできる。
【００４２】
（工程２）
工程２は、上記配向処理が施された剥離性支持体上に重合性基を有する液晶化合物を含有する組成物Ａを塗布して塗膜を形成し、塗膜に対して硬化処理を施して、光学異方性層を形成する工程である。
組成物Ａ中で使用される重合性基を有する液晶化合物の定義は、上述の通りである。
組成物Ａには、必要に応じて、液晶化合物以外の成分（例えば、溶媒（水および／または有機溶媒）、重合開始剤、配向制御剤（例えば、垂直配向促進剤）など）が含まれていてもよい。
【００４３】
組成物Ａを剥離性支持体上に塗布する方法は特に制限されず、公知の方法（例えば、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。
剥離性支持体上に形成される塗膜（組成物Ａ塗膜）の厚みは特に制限されず、上述した厚みの光学異方性層が形成されるように調整されることが好ましい。
塗膜に対して施される硬化処理としては、重合性基の重合を進行させることができれば、その手順は特に制限されないが、通常、加熱処理または光照射処理（紫外線照射、電子線照射など）が実施される。
加熱処理が実施される場合は、組成物Ａに熱重合開始剤を適当量含有させて、９０〜１５０℃で１０〜１２０分時間加熱処理を実施することが好ましい。
また、光照射処理が実施される場合は、組成物Ａに光重合開始剤を適当量含有させて、各種光照射を実施することが好ましい。
上記処理を施すことにより、液晶化合物を所定の配向状態で固定化することができる。
【００４４】
なお、光学異方性層として、パターン光学異方性層を形成してもよい。
パターン光学異方性層の形成方法としては、各種公知の方法を用いて形成できる。例えば、液晶化合物の配向を制御する複数の作用を利用し、その後、外部刺激（熱処理等）によりいずれかの作用を消失させて、所定の配向制御作用を支配的にする方法である。例えば、剥離性支持体による配向制御能と、液晶化合物中に添加される配向制御剤の配向制御能との複合作用により、液晶化合物を所定の配向状態とし、それを固定して一方の位相差領域を形成した後、外部刺激（熱処理等）により、いずれかの作用（例えば配向制御剤による作用）を消失させて、他の配向制御作用（剥離性支持体による作用）を支配的にし、それによって他の配向状態を実現し、それを固定して他方の位相差領域を形成する。この方法の詳細については、特開２０１２−００８１７０号公報の段落［００１７］〜［００２９］に記載があり、その内容は本明細書に参照として取り込まれる。
【００４５】
（工程３）
工程３は、上記工程２で形成された光学異方性層上に（メタ）アクリル単量体を含有する組成物Ｂを塗布して塗膜を形成し、塗膜に対して硬化処理を施して、樹脂層を形成する工程である。
組成物Ｂ中で使用される（メタ）アクリル単量体の定義は、上述の通りである。
組成物Ｂには、必要に応じて、（メタ）アクリル単量体以外の成分（例えば、溶媒（水および／または有機溶媒）、重合開始剤など）が含まれていてもよい。
【００４６】
組成物Ｂを光学異方性層上に塗布する方法は特に制限されず、公知の方法（例えば、上述した方法）により実施できる。
剥離性支持体上に形成される塗膜（組成物Ｂ塗膜）の厚みは特に制限されず、上述した厚みの樹脂層が形成されるように調整されることが好ましい。
塗膜に対して施される硬化処理としては、（メタ）アクリル単量体中のアクリロイルオキシ基またはメタアクリロイルオキシ基の重合を進行させることができれば、その手順は特に制限されないが、通常、加熱処理または光照射処理（紫外線照射、電子線照射など）が実施される。加熱処理および光照射処理の好適態様は、上記工程２と同様である。
【００４７】
上記工程１〜工程３を実施することにより、図１に示す転写フィルム１０を製造することができる。上述したように、この製造方法を実施すると、工程３の際に、工程２の後に光学異方性層の表面上に残存する重合性基と、組成物Ｂ中の（メタ）アクリル単量体中のアクリロイルオキシ基またはメタアクリロイルオキシ基とが反応することが可能となり、光学異方性層と樹脂層との間で共有結合が形成され、両者の密着性がより向上する。結果として、光学フィルムの剥離性支持体からの剥離がより容易に実施できる。
なお、上記工程を実施する際、光学異方性層の樹脂層側の表層部に（メタ）アクリル単量体が浸透して、光学異方性層の表層に一部アクリル樹脂が含まれる領域が生じる場合もある。
【００４８】
上記では図１の態様の製造方法について詳述したが、図２の態様の光学フィルムの製造方法としては、上記工程２と３との順序を逆にすることにより、製造することができる。
【００４９】
［転写フィルムの使用方法］
上述した転写フィルムを使用する際には、図４に示すように、剥離性支持体１２と光学フィルム１８との間の界面を剥離面として、両者が分離される。分離の手順は特に制限されないが、剥離性支持体１２と光学フィルム１８との間につめを差し込んで剥離のきっかけを与え、その後剥離性支持体１２を光学フィルム１８から遠ざかるように湾曲変形させながら、両者を分離する方法が挙げられる。
【００５０】
分離された光学フィルムは、偏光膜と貼り合わされて円偏光板として使用することもできる。貼り合せの際には、必要に応じて、公知の粘着剤層を使用することができる。なお、粘着剤層としては、例えば、動的粘弾性測定装置で測定した貯蔵弾性率Ｇ’と損失弾性率Ｇ”との比（ｔａｎδ＝Ｇ”／Ｇ’）が０．００１〜１．５である物質のことを表し、いわゆる、粘着剤やクリープしやすい物質等が含まれる。粘着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール系粘着剤が挙げられるが、これに限定されない。
【００５１】
製造された円偏光板は、表示装置（例えば、ＬＣＤやＯＬＥＤ）の表示面側上に配置され、反射防止機能を付与することができる。
また、透過モードの液晶パネル等、画像表示パネルの視認側に画像表示のための偏光子を有する態様では、その偏光子上に直接上記光学フィルムを貼り合せて使用してもよい。
【００５２】
＜第２実施態様＞
次に、本発明の転写フィルムの第２実施態様について詳述する。
図５に示す転写フィルム２００は、基材２０と、配向膜２２と、光学異方性層１４と、樹脂層１６とをこの順で有する。本態様においては、基材２０と配向膜２２とが剥離性支持体１２０を構成し、光学異方性層１４と樹脂層１６とが光学フィルム１８を構成する。本態様においては、剥離性支持体１２０と光学フィルム１８との界面の剥離強度は、光学異方性層１４と樹脂層１６との界面の剥離強度よりも小さい。つまり、配向膜２２と光学異方性層１４との界面の剥離強度は、光学異方性層１４と樹脂層１６との界面の剥離強度よりも小さい。
本態様においては、配向膜２２を設けることにより、光学異方性層１４中の液晶化合物の配向状態をより厳密に制御することができる。
図５に示すように、転写フィルム２００は、基材２０および配向膜２２の点を除いて、転写フィルム１０と同様の構成を有するものであるので、同一の構成要素には同一の参照符号を付し、その説明を省略し、以下では基材２０および配向膜２２について詳述する。
【００５３】
［基材］
基材は、後述する配向膜を支持するためのものであり、その種類は特に制限されない。
基材を構成する材料としては、上述した剥離性支持体を構成する材料などが挙げられる。
基材の厚みは特に制限されないが、転写フィルムの取扱い性に優れる点から、２０〜１００μｍが好ましく、４０〜８０μｍがより好ましい。
なお、基材は１層で構成されていても、２層以上の積層構造であってもよい。
【００５４】
［配向膜］
配向膜は、上記基材上に配置される層であり、光学異方性層中の液晶化合物の配向方向を制御する層である。配向膜は、基材と共に光学フィルムから分離される。
使用される配向膜の種類は特に制限されず、上述した光学フィルムとの剥離関係を満たすものであればよい。
配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成等の手段で設けることができる。さらには、電場の付与、磁場の付与、或いは光照射により配向機能が生じる配向膜も知られている。配向膜のなかでも、ラビング処理によって、液晶化合物の配向規制能を有するように処理された層（以後、ラビング配向膜とも称する）が好ましい。特に、ラビング配向膜は、ポリマーの膜の表面に、ラビング処理により形成するのが好ましい。ラビング配向膜には、液晶化合物を配向規制する配向軸があり、当該配向軸に従って、液晶化合物は配向する。
なお、ラビング処理の方法は、上記第１実施態様で述べた方法が挙げられる。
【００５５】
配向膜用ポリマーとしては、多数の文献に記載があり、多数の市販品を入手することができる。本発明において利用されるポリマーは、ポリビニルアルコールまたはポリイミド、および、その誘導体が好ましい。特に、変性または未変性のポリビニルアルコールが好ましい。ポリビニルアルコールは、種々の鹸化度のものが存在する。本発明では、鹸化度８５〜９９程度のものを用いるのが好ましい。市販品を用いてもよく、例えば、「ＰＶＡ１０３」、「ＰＶＡ２０３」（クラレ社製）等は、上記鹸化度のＰＶＡである。ラビング配向膜については、ＷＯ０１／８８５７４Ａ１号公報の４３頁２４行〜４９頁８行、特許第３９０７７３５号公報の段落番号［００７１］〜［００９５］に記載の変性ポリビニルアルコールを参照することができる。
【００５６】
配向膜の厚さは、特に制限されないが、薄膜化の観点から、０．０１〜１０μｍであることが好ましく、０．０１〜１μｍであることがより好ましい。
【００５７】
上述したように、本態様においては、剥離性支持体と光学フィルムとの界面の剥離強度は、光学異方性層と樹脂層との界面の剥離強度よりも小さい。つまり、配向膜と光学異方性層との界面の剥離強度は、光学異方性層と樹脂層との界面の剥離強度よりも小さい。
このような剥離強度の関係を満たす方法は特に制限されず、例えば、配向膜の表面を剥離剤で処理する方法や、各層に使用する材料の種類を調整する方法などが挙げられる。また、上述した工程２〜３により光学異方性層および樹脂層を製造することにより、光学異方性層と樹脂層との剥離強度を、配向膜と光学異方性層との剥離強度よりも相対的に高めることもできる。
【００５８】
なお、本態様においては、剥離性支持体と光学フィルムとの界面の剥離強度は、配向膜と基材との剥離強度よりも小さいことが好ましい。上記関係を満たせば、配向膜と基材とを一体的に光学フィルムより分離することができ、作業効率が向上する。
上記態様において、基材と配向膜との組み合わせとしては、基材として鹸化処理が施されたセルロースアシレートフィルムを使用し、配向膜に含まれる材料として重合性基を有しないポリビニルアルコールを使用することが好ましい。基材として、上記セルロースアシレートフィルムを使用することにより、ポリビニルアルコールなどの親水性材料を含む配向膜との密着性がより向上し、基材と配向膜との界面での剥離がより生じにくくなる。結果として、配向膜と光学フィルムとの間の界面で剥離が進行しやすくなる。
【００５９】
本発明の転写フィルムの第２実施態様の製造方法は特に制限されず、公知の方法が採用できる。なかでも、光学フィルムの剥離性がより優れる点で、以下の工程を備える方法が好ましい。
工程１０：基材上に配向膜を形成する工程
工程１１：配向膜上にラビング処理を施す工程
工程１２：ラビング処理が施された配向膜上に重合性基を有する液晶化合物を含有する組成物Ａを塗布して塗膜を形成し、塗膜に対して硬化処理を施して、光学異方性層を形成する工程
工程１３：光学異方性層上に（メタ）アクリル単量体を含有する組成物Ｂを塗布して塗膜を形成し、塗膜に対して硬化処理を施して、樹脂層を形成する工程
上記工程１１〜１３は、それぞれ上記工程１〜３の手順と同じであり、説明を省略する。以下に、工程１０の手順について詳述する。
【００６０】
工程１０は、基材上に配向膜を形成する工程である。
配向膜を形成する方法は特に制限されず、公知の方法を採用できる。例えば、基材上に配向膜を形成する材料を含む組成物（配向膜形成用組成物）を塗布して、必要に応じて、硬化処理を施す方法が挙げられる。
【００６１】
なお、第２実施態様において、光学異方性層としてパターン光学異方性層を形成する際には、配向膜としてパターン配向膜を利用する態様がある。この態様では、互いに異なる配向制御能を有するパターン配向膜を形成し、その上に、液晶化合物を配置し、液晶化合物を配向させる。液晶化合物は、パターン配向膜のそれぞれの配向制御能によって、互いに異なる配向状態を達成する。それぞれの配向状態を固定することで、配向膜のパターンに応じて第１および第２の位相差領域のパターンが形成される。パターン配向膜は、印刷法、ラビング配向膜に対するマスクラビング、光配向膜に対するマスク露光等を利用して形成することができる。大掛かりな設備が不要である点や製造容易な点で、印刷法を利用する方法が好ましい。この方法の詳細については、特開２０１２−０３２６６１号公報の段落［０１６６］〜［０１８１］に記載があり、その内容は本明細書に参照として取り込まれる。
【００６２】
また、他の方法としては、例えば、配向膜中に光酸発生剤を添加する態様である。この例では、配向膜中に光酸発生剤を添加し、パターン露光により、光酸発生剤が分解して酸性化合物が発生した領域と、発生していない領域とを形成する。光未照射部分では光酸発生剤はほぼ未分解のままであり、配向膜材料、液晶化合物、および必要に応じて添加される配向制御剤の相互作用が配向状態を支配し、液晶化合物を、その遅相軸がラビング方向と直交する方向に配向させる。配向膜へ光照射し、酸性化合物が発生すると、その相互作用はもはや支配的ではなくなり、ラビング配向膜のラビング方向が配向状態を支配し、液晶化合物は、その遅相軸をラビング方向と平行にして平行配向する。配向膜に用いられる光酸発生剤としては、水溶性の化合物が好ましく用いられる。使用可能な光酸発生剤の例には、Ｐｒｏｇ． Ｐｏｌｙｍ． Ｓｃｉ．， ２３巻、１４８５頁（１９９８年）に記載の化合物が含まれる。光酸発生剤としては、ピリジニウム塩、ヨードニウム塩およびスルホニウム塩が特に好ましく用いられる。この方法の詳細については、特願２０１０−２８９３６０号明細書に記載があり、その内容は本明細書に参照として取り込まれる。
【００６３】
＜第３実施態様＞
次に、本発明の転写フィルムの第３実施態様について詳述する。
図６に示す転写フィルム３００は、剥離性支持体１２と、配向膜２２と、光学異方性層１４と、樹脂層１６とをこの順で有する。本態様においては、配向膜２２と、光学異方性層１４と、樹脂層１６とが光学フィルム１８０を構成する。本態様においても、剥離性支持体１２と光学フィルム１８０との界面の剥離強度は、光学異方性層１４と樹脂層１６との界面の剥離強度、および、配向膜２２と光学異方性層１４との界面の剥離強度よりも小さい。言い換えれば、剥離性支持体１２と配向膜２２との界面の剥離強度は、光学異方性層１４と樹脂層１６との界面の剥離強度、および、配向膜２２と光学異方性層１４との界面の剥離強度よりも小さい。
本態様においては、配向膜２２を設けることにより、光学異方性層１４中の液晶化合物の配向状態をより厳密に制御することができる。
転写フィルム３００中で使用される各部材は、上述の通りである。
【００６４】
本実施態様において、上述した剥離強度の関係を満たす方法は、特に制限されず、公知の方法を採用できる。例えば、後述するように配向膜を形成する際に、重合性基を有する配向剤を用いて配向膜を形成し、その後上述した工程２〜３を実施する方法が挙げられる。この方法によれば、配向膜上に光学異方性層を形成する際に、配向膜表面上に残存する配向剤の重合性基と、液晶化合物の重合性基とが反応して化学結合が形成され、配向膜と光学異方性層との密着性がより向上する。つまり、配向膜と光学異方性層との界面の剥離強度と、光学異方性層と樹脂層との界面の剥離強度を、剥離性支持体と配向膜との剥離強度に対して相対的に高めることができる。
また、上述したように、剥離性支持体表面を公知の剥離剤で処理して、剥離性支持体と配向膜との剥離強度を低下させる方法もある。
【００６５】
本態様における配向膜は、配向膜と光学異方性層との間の密着性を確保するために、分子内に重合性基を有するポリビニルアルコール（以下、「重合性ＰＶＡ」とも称する）を含有する組成物から形成されるのが好ましい。重合性ＰＶＡを含有する配向膜上で、重合性基を有する液晶化合物を配向させ、重合によりその配向状態を固定して、光学異方性層等を形成すると、光学異方性層と配向膜との界面に化学結合が形成され、密着性が向上する。重合性ＰＶＡとしては、重合性基を有する繰り返し単位を含むＰＶＡ、および重合性基を有する化合物をＰＶＡまたは変性ＰＶＡと反応させて得られるＰＶＡが含まれる。
重合性ＰＶＡが有する重合性基は、液晶化合物に含まれる重合性基の種類に応じて選択するのが好ましい。液晶化合物に含まれる重合性基が不飽和二重結合基である場合、重合性ＰＶＡに含まれる重合性基も不飽和二重結合基であることが好ましい。
重合性ＰＶＡは、平均鹸化度が９５％以下であることが好ましく、９０モル％以下であることがより好ましい。重合性ＰＶＡの平均鹸化度は、７０％程度以上であるのが好ましい。
重合性ＰＶＡの平均重合度は８００以下が好ましく、６００以下がより好ましく、４００以下が特に好ましい。
【００６６】
配向膜が重合性ＰＶＡを含有する組成物から形成される場合、剥離性支持体としては鹸化処理が施されていないセルロースアシレートフィルム（未鹸化セルロースアシレートフィルム）を使用することが好ましい。このセルロールアシレートフィルムを使用することにより、剥離性支持体と配向膜との界面での剥離強度がより低下し、剥離性支持体の分離がより容易となる。
【実施例】
【００６７】
以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。【００６８】
＜実施例１＞
（剥離性支持体の製造）
富士フイルム製ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレートフイルム、厚さ７５μｍ）にラビング処理を施して、剥離性支持体１を作製した。【００６９】
（光学異方性層の製造）
上記剥離性支持体１のラビング処理面上に後述する光学異方性層用塗布液（組成物Ａ１）を、バーコーターを用いて塗布した。次いで、膜面温度６０℃で６０秒間加熱熟成し、空気下にて２０ｍＷ／ｃｍ2の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫外線を照射して、その配向状態を固定化することにより光学異方性層Ａ１を形成した。形成された光学異方性層Ａ１は、ラビング方向に対し遅相軸方向が平行に棒状液晶化合物が水平配向していた。波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍおよび６５０ｎｍで測定した際の光学異方性層Ａ１の面内レタデーション（それぞれ、ＲｅＡ１（４５０）、ＲｅＡ１（５５０）、ＲｅＡ１（６５０）と称する）は、以下の通りであった。なお、光学異方性層Ａ１の厚みは０．９８μｍであった。
ＲｅＡ１（４５０）：１５５．４ｎｍ
ＲｅＡ１（５５０）：１３７．５ｎｍ
ＲｅＡ１（６５０）：１３２ｎｍ
ＲｅＡ１（４５０）／ＲｅＡ１（６５０）：１．１８
──────────────────────────────────
光学異方性層用塗布液の組成（組成物Ａ１）
──────────────────────────────────
棒状液晶性化合物１                                        ８０質量部
棒状液晶性化合物２                                        ２０質量部
光重合開始剤                                            ３．０質量部
（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）        １．０質量部
含フッ素化合物                                          ０．８質量部
メチルエチルケトン                                      ４００質量部
──────────────────────────────────【００７０】
【化１】
2014178395.tif 000003
【００７１】
（樹脂層の製造（その１））
後述する組成物Ｂ１を、上記光学異方性層Ａ１上にワイヤーバーを用いて塗布し、６０℃で１５０秒乾燥の後、さらに窒素パージ下酸素濃度約０．１％で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量３００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させて、厚さ５μｍの樹脂層（非熱可塑性アクリル樹脂層）を形成し、転写フィルムを得た。【００７２】
------------------------------------------------------------------
（組成物Ｂ１）
------------------------------------------------------------------
・ＤＰＨＡ（新中村化学工業社製  Ａ-ＤＰＨ）            ５０質量部
・Ａ−６００（新中村化学工業社製）                     ５０質量部
・ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９  （ＢＡＳＦ社製）               ２質量部
・フッ素系化合物                                   ０．０３質量部【００７３】
【化２】
2014178395.tif 000004
【００７４】
・メチルエチルケトン                             １５９．６質量部
-----------------------------------------------------------------【００７５】
【化３】
2014178395.tif 000005
【００７６】
【化４】
2014178395.tif 000006
【００７７】
＜実施例２＞
組成物Ｂ１中のＤＰＨＡの使用量を５０質量部から７０質量部に変更し、Ａ−６００の使用量を５０質量部から３０質量部に変更し、樹脂層の厚みを５μｍから１０μｍに変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って転写フィルムを製造した。【００７８】
＜実施例３＞
組成物Ｂ１中のＤＰＨＡ（５０質量部）の代わりにＡ−ＤＣＰ（新中村化学工業製、６６質量部）を使用し、Ａ−６００の使用量を５０質量部から３４質量部に変更し、樹脂層の厚みを５μｍから１０μｍに変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って転写フィルムを製造した。【００７９】
【化５】
2014178395.tif 000007
【００８０】
＜実施例４＞
組成物Ｂ１中のＤＰＨＡ（５０質量部）の代わりにＡ−ＤＣＰ（８４質量部）を使用し、Ａ−６００の使用量を５０質量部から１６質量部に変更し、樹脂層の厚みを５μｍから１０μｍに変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って転写フィルムを製造した。【００８１】
＜実施例５＞
組成物Ｂ１中のＤＰＨＡ（５０質量部）の代わりにＡ−ＤＣＰ（８８質量部）を使用し、Ａ−６００の使用量を５０質量部から１２質量部に変更し、樹脂層の厚みを５μｍから１５μｍに変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って転写フィルムを製造した。【００８２】
＜実施例６＞
組成物Ｂ１中のＤＰＨＡ（５０質量部）の代わりにＡ−ＤＣＰ（９０質量部）を使用し、Ａ−６００の使用量を５０質量部から１０質量部に変更し、樹脂層の厚みを５μｍから２０μｍに変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って転写フィルムを製造した。【００８３】
＜実施例７＞
富士フイルム製ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレートフイルム、厚さ７５μｍ）を用いた剥離性支持体の代わりに後述する手順で得られた剥離性支持体２を使用した以外は、実施例１と同様の手順に従って、転写フィルムを製造した。【００８４】
（剥離性支持体２の製造）
＜透明支持体Ａの作製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液Ａを調製した。
──────────────────────────────────
セルロースアシレート溶液Ａの組成
──────────────────────────────────
置換度２．８６のセルロースアセテート                  １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤）                    ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）            ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                        ３００質量部
メタノール（第２溶媒）                                  ５４質量部
１−ブタノール                                          １１質量部
──────────────────────────────────【００８５】
別のミキシングタンクに、下記の組成物を投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、添加剤溶液Ｂを調製した。
──────────────────────────────────
添加剤溶液Ｂの組成
──────────────────────────────────
下記化合物Ｂ１（Ｒｅ低下剤）                            ４０質量部
下記化合物Ｂ２（波長分散制御剤）                          ４質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                          ８０質量部
メタノール（第２溶媒）                                  ２０質量部
──────────────────────────────────【００８６】
【化６】
2014178395.tif 000008
【００８７】
＜セルロースアセテート透明支持体の作製＞
セルロースアシレート溶液Ａを４７７質量部に、添加剤溶液Ｂの４０質量部を添加し、充分に攪拌して、ドープを調製した。ドープを流延口から０℃に冷却したドラム上に流延した。溶媒含有率７０質量％の場外で剥ぎ取り、フィルムの巾方向の両端をピンテンター（特開平４−１００９号の図３に記載のピンテンター）で固定し、溶媒含有率が３〜５質量％の状態で、横方向（機械方向に垂直な方向）の延伸率が３％となる間隔を保ちつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、厚み６０μｍのセルロースアセテート透明支持体Ａを作製した。透明支持体Ａは紫外線吸収剤を含有しておらず、Ｒｅ（５５０）は０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は１２．３ｎｍであった。なお、Ｒｔｈ（５５０）は、波長５５０ｎｍで測定した透明支持体Ａの厚み方向のレタデーションである。【００８８】
＜＜アルカリ鹸化処理＞＞
上記透明支持体Ａを、温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムの片面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ2で塗布し、１１０℃に加熱し、（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、１０秒間搬送した。続いて、同じくバーコーターを用いて、純水を３ｍｌ／ｍ2塗布した。次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理したセルロースアセテート透明支持体Ａを作製した。【００８９】
──────────────────────────────────
アルカリ溶液の組成（質量部）
──────────────────────────────────
水酸化カリウム                                        ４．７質量部
水                                                  １５．８質量部
イソプロパノール                                    ６３．７質量部
界面活性剤
ＳＦ−１：Ｃ14Ｈ29Ｏ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）20Ｈ                １．０質量部
プロピレングリコール                                １４．８質量部
──────────────────────────────────【００９０】
＜配向膜の作製＞
上記透明支持体Ａの鹸化処理を施した面に、下記の組成の配向膜形成用塗布液１を＃８のワイヤーバーで連続的に塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに１００℃の温風で１２０秒乾燥し、配向膜を形成した。作製した配向膜表面に、透明支持体Ａの長手方向に連続的にラビング処理を施し、剥離性支持体２とした。
──────────────────────────────────
配向膜形成用塗布液１の組成
──────────────────────────────────
配向膜用ポリマー材料                                    ４．０質量部
（ＰＶＡ１０３、クラレ（株）製ポリビニルアルコール）
メタノール                                                ３６質量部
水                                                        ６０質量部
──────────────────────────────────【００９１】
＜実施例８＞
剥離性支持体２の代わりに、後述する手順で得られた剥離性支持体３を使用した以外は、実施例７と同様の手順に従って、転写フィルムを製造した。【００９２】
（剥離性支持体３の製造）
透明支持体Ａにアルカリ鹸化処理することなく、配向膜の作製を以下のように実施した以外は、剥離性支持体２の製造と同様の手順に従って、剥離性支持体３を製造した。【００９３】
＜＜配向膜の作製＞＞
上記透明支持体Ａに、下記の組成の配向膜形成用塗布液２を＃１６のワイヤーバーコータで２８ｍＬ／ｍ2塗布した。その後、６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥した。
［配向膜形成用塗布液２］
・下記一般式（ＶＩ）に示す変性ポリビニルアルコール        １０質量部
・水                                                    ３７１質量部
・メタノール                                            １１９質量部
・グルタルアルデヒド（架橋剤）                          ０．５質量部
・クエン酸エステル（三協化学（株）製  ＡＳ３）      ０．１７５質量部
・光重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ２９５９、ＢＡＳＦ製）  ２．０質量部【００９４】
【化７】
2014178395.tif 000009
【００９５】
＜実施例９＞
光学異方性層の製造手順を以下の（光学異方性層の製造（その２））に変更し、樹脂層の厚みを５μｍから１０μｍに変更した以外は、実施例７と同様の手順に従って、転写フィルムを製造した。【００９６】
（光学異方性層の製造（その２））
実施例７の配向膜表面に、透明支持体Ａの長手方向に連続的にラビング処理を施した。ラビング処理面上に下記の光学異方性層用塗布液（組成物Ａ２）を、バーコーターを用いて塗布した。次いで、膜面温度１１５℃で９０秒間加熱熟成した後、８０℃まで冷却し空気下にて２０ｍＷ／ｃｍ2の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫外線を照射量２００ｍＪ／ｃｍ2となるよう照射して、その配向状態を固定化することにより光学異方性層Ａ２を形成した。波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍおよび６５０ｎｍで測定した際の光学異方性層Ａ２の面内レタデーション（それぞれ、ＲｅＡ２（４５０）、ＲｅＡ２（５５０）、ＲｅＡ２（６５０）と称する）は、以下の通りであった。なお、光学異方性層Ａ２の厚みは０．８５μｍであった。
ＲｅＡ２（４５０）：１４９．８ｎｍ
ＲｅＡ２（５５０）：１３７．５ｎｍ
ＲｅＡ２（６５０）：１３２ｎｍ
ＲｅＡ２（４５０）／ＲｅＡ２（６５０）：１．１４【００９７】
──────────────────────────────────
光学異方性層用塗布液の組成（組成物Ａ２）
──────────────────────────────────
ディスコティック液晶Ｅ−１                                ８０質量部
ディスコティック液晶２                                    ２０質量部
配向膜界面配向剤１                                    ０．５５質量部
配向膜界面配向剤２                                    ０．０５質量部
含フッ素化合物                                          ０．１質量部
変性トリメチロールプロパントリアクリレート                １０質量部
光重合開始剤                                            ３．０質量部
（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
メチルエチルケトン                                      ２００質量部
──────────────────────────────────【００９８】
【化８】
2014178395.tif 000010
【００９９】
【化９】
2014178395.tif 000011
【０１００】
＜実施例１０＞
光学異方性層の製造手順を以下の（光学異方性層の製造（その３））に変更し、樹脂層の厚みを５μｍから１０μｍに変更した以外は、実施例７と同様の手順に従って、転写フィルムを製造した。【０１０１】
（光学異方性層の製造（その３））
実施例７の配向膜表面に、透明支持体Ａの長手方向に対し左手４５°の方向に連続的にラビング処理を施した。ラビング処理面上に下記の光学異方性層用塗布液（組成物Ａ３）を、バーコーターを用いて塗布した。次いで、膜面温度１１５℃で９０秒間加熱熟成した後、８０℃まで冷却し空気下にて２０ｍＷ／ｃｍ2の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫外線を照射量２００ｍＪ／ｃｍ2となるよう照射して、その配向状態を固定化することにより光学異方性層Ａ３を形成した。形成された光学異方性層Ａ３は、ラビング方向に対し遅相軸方向が直交にディスコティック液晶が垂直配向していた。波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍおよび６５０ｎｍで測定した際の光学異方性層Ａ３の面内レタデーション（それぞれ、ＲｅＡ３（４５０）、ＲｅＡ３（５５０）、ＲｅＡ３（６５０）と称する）は、以下の通りであった。なお、光学異方性層Ａ３の厚みは２．５μｍであった。
ＲｅＡ３（４５０）：２７３ｎｍ
ＲｅＡ３（５５０）：２５０ｎｍ
ＲｅＡ３（６５０）：２４０ｎｍ
ＲｅＡ３（４５０）／ＲｅＡ３（６５０）：１．１４【０１０２】
──────────────────────────────────
光学異方性層用塗布液の組成（組成物Ａ３）
──────────────────────────────────
ディスコティック液晶Ｅ−１                                ８０質量部
ディスコティック液晶２                                    ２０質量部
配向膜界面配向剤１                                    ０．５５質量部
配向膜界面配向剤２                                    ０．０５質量部
含フッ素化合物                                          ０．１質量部
変性トリメチロールプロパントリアクリレート                １０質量部
光重合開始剤                                            ３．０質量部
（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
層間配向剤                                              ０．６質量部
メチルエチルケトン                                      １８０質量部
シクロヘキサノン                                          ２０質量部
──────────────────────────────────【０１０３】
【化１０】
2014178395.tif 000012
【０１０４】
上記光学異方性層Ａ３の表面を、光学異方性層Ａ３の遅相軸と直交する方向に連続的にラビング処理を施した。ラビング処理面上に下記光学異方性層用塗布液（組成物Ａ４）を、バーコーターを用いて塗布した。次いで、膜面温度６０℃で６０秒間加熱熟成し、空気下にて２０ｍＷ／ｃｍ2の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫外線を照射して、その配向状態を固定化することにより光学異方性層Ａ４を形成した。形成された光学異方性層Ａ４は、ラビング方向に対し遅相軸方向が平行に棒状液晶が水平配向していた。波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍおよび６５０ｎｍで測定した際の光学異方性層Ａ４の面内レタデーション（それぞれ、ＲｅＡ４（４５０）、ＲｅＡ４（５５０）、ＲｅＡ４（６５０）と称する）は、以下の通りであった。なお、光学異方性層Ａ４の厚みは１．０μｍであった。
ＲｅＡ４（４５０）：１４１ｎｍ
ＲｅＡ４（５５０）：１２５ｎｍ
ＲｅＡ４（６５０）：１２０ｎｍ
ＲｅＡ４（４５０）／ＲｅＡ４（６５０）：１．１８
なお、上記光学異方性層Ａ３のＲｅＡ３（５５０）および光学異方性層Ａ４のＲｅＡ４（５５０）は、ＲｅＡ３（５５０）＞ＲｅＡ４（５５０）の関係であった。【０１０５】
──────────────────────────────────
光学異方性層用塗布液の組成（組成物Ａ４）
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棒状液晶性化合物１                                        ９０質量部
棒状液晶性化合物２                                        １０質量部
光重合開始剤                                            ３．０質量部
（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）        １．０質量部
含フッ素化合物                                          ０．５質量部
メチルエチルケトン                                      ４００質量部
──────────────────────────────────【０１０６】
【化１１】
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【０１０７】
＜比較例１＞
配向膜形成用塗布液１を用いて配向膜を作製する代わりに、特許文献２（特開２０１３−７８８７号公報）の段落０１５７に記載の配向膜用塗布液ＡＬ−１を用いて、特許文献２の段落０１６３に記載の方法に従って配向膜（厚さ０．６μｍ）を作製し、光学異方性層用塗布液（組成物Ａ１）を用いて光学異方性層を作製する代わりに、特許文献２の段落０１５８〜０１５９に記載の光学異方性層用塗布液ＬＣ−１を用いて、特許文献２の段落０１６３に記載の方法に従って光学異方性層（厚さ４．５μｍ）を作製し、非熱可塑性アクリル樹脂層を作製する代わりに、特許文献２の段落０１６０〜０１６１に記載の添加剤層用塗布液を用いて、特許文献２の段落０１６３に記載の方法に従って、添加剤層（厚さ０．９μｍ）を形成した以外は、実施例７と同様の手順に従って、転写フィルムを製造した。
なお、上記添加剤層は、本発明の非熱可塑性アクリル樹脂層には該当せず、かつ、添加剤層と光学異方性層との厚みの関係は、本発明の関係を満たしていない。【０１０８】
＜比較例２＞
組成物Ｂ１中のＤＰＨＡの使用量を５０質量部から９５質量部に変更し、Ａ−６００の使用量を５０質量部から５質量部に変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って転写フィルムを製造した。
なお、比較例２で得られる樹脂層中のポリオキシアルキレン鎖の含有量は、４質量％であった。【０１０９】
＜比較例３＞
組成物Ｂ１中のＤＰＨＡの使用量を５０質量部から１０質量部に変更し、Ａ−６００の使用量を５０質量部から９０質量部に変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って転写フィルムを製造した。
なお、比較例３で得られる樹脂層中のポリオキシアルキレン鎖の含有量は、７２質量％であった。【０１１０】
＜剥離性評価＞
上記実施例で得られた転写フィルムに関して、以下の手順に従って、光学フィルムの剥離性について評価した。
転写フィルム（縦：２０ｃｍ×横：１０ｃｍ）中の剥離性支持体の端部を把持し、光学フィルムから遠ざかるように引っ張り、剥離性支持体と光学フィルムとの分離を行った。
剥離性支持体をきれいに剥離できた場合は「ＯＫ」、剥離性支持体を剥離できない、または、剥離性支持体の一部が剥がれなかった場合を「ＮＧ」とする。
後述するように、上記実施例で得られた転写フィルムはすべて「ＯＫ」であった。この結果より、剥離性支持体と光学フィルムとの界面の剥離強度が、光学異方性層と非熱可塑性アクリル樹脂層との剥離強度よりも小さいことが確認された。【０１１１】
＜自己支持性評価＞
上記実施例で得られた転写フィルムに関して、以下の手順に従って、光学フィルムの自己支持性について評価した。
転写フィルム（縦：２０ｃｍ×横：１０ｃｍ）中の剥離性支持体の端部を固定し、セロハンテープを用いて光学フィルムの端部角付近を剥離性支持体より持ち上げ、ここをきっかけとして光学フィルム全体を、剥離性支持体から剥離し、分離した。その後、光学フィルムを平らな台の上に置き、形状を以下の評価基準に従って評価した。実用上、１でないことが好ましい。
１．剥離時に光学フィルムが破断した
２．光学フィルムは破断しないが、カールが大きく、筒状になった
３．光学フィルムは破断しないが、カールが中程度であった（水平な台からの光学フィルムの端部のせりあがりが１ｃｍ超）
４．光学フィルムは破断しないが、カールがやや認められたが、小さかった（水平な台からの光学フィルムの端部のせりあがりが１ｃｍ以下）
５．光学フィルムは破断せず、カールもしなかった【０１１２】
＜曲げ試験ＡおよびＢ＞
上記実施例および比較例にて得られた転写フィルムを用いて、上述した曲げ試験Ａを行った。結果を表１にまとめて示す。
また、上記実施例および比較例にて得られた転写フィルムから光学フィルムを引き剥がして、上述した曲げ試験Ｂを行った。結果を表１にまとめて示す。【０１１３】
なお、表１中の「ポリオキシアルキレン鎖含有量（質量％）」は、非熱可塑性アクリル樹脂層中のポリオキシアルキレン鎖の含有量を示し、使用したモノマーの仕込み量から含有量を計算した。
また、実施例にて得られた樹脂層は、融点が２００℃超であり、非熱可塑性を示した。【０１１４】
【表１】
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【０１１５】
表１に示すように、本発明の転写フィルム中の光学フィルムは、優れた自己支持性を示した。
特に、実施例５と他の実施例との比較から分かるように、ポリオキシアルキレン鎖の含有量が１２〜６０質量％の場合、自己支持性がより優れることが確認された。
一方、特許文献２に記載される態様に該当する比較例１では、光学フィルムの自己支持性が劣っており、転写フィルムとして使用できなかった。また、比較例２および３に示すように、ポリオキシアルキレン鎖の含有量が所定範囲でない場合も、光学フィルムの自己支持性が劣っており、転写フィルムとして使用できなかった。
【符号の説明】
【０１１６】
１０，１００，２００，３００    転写フィルム
１２，１２０    剥離性支持体
１４，１４０    光学異方性層
１６    非熱可塑性アクリル樹脂層
１８，１８０    光学フィルム
２０    基材
２２    配向膜
１４０ａ    第１位相差領域
１４０ｂ    第２位相差領域
１４２ａ，１４２ｂ    面内遅相軸
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【国際調査報告】
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