(57)【要約】  長期間に亘って、蛍光体が剥離することなく、さらに出射光の変色等が少ない、投射型表示装置用カラーホイールを提供することを課題とする。  上記課題を解決するため、基板（１）と、前記基板（１）上に形成され、セラミック前駆体の反応物からなるセラミックバインダ、並びに、蛍光体及び拡散材料のうち少なくとも一方を含む光調整層（２）と、を有する、投射型表示装置用カラーホイールとする。
2016121855.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、  前記基板上に形成され、セラミック前駆体の反応物からなるセラミックバインダ、並びに、蛍光体及び拡散材料のうち少なくとも一方を含む光調整層と、  を有する、投射型表示装置用カラーホイール。
【請求項２】
前記セラミック前駆体が、ポリシラザン、アルコキシシランモノマー、及びアルコキシシランオリゴマーからなる群から選ばれる一種以上のポリシロキサン前駆体である、請求項１に記載の投射型表示装置用カラーホイール。
【請求項３】
前記セラミックバインダが、ポリシロキサンを含み、かつ  前記ポリシロキサンの全構成単位中に、２官能アルコキシシラン由来の構成単位を５〜５０モル％含む、請求項１または２に記載の投射型表示装置用カラーホイール。
【請求項４】
前記拡散材料が、酸化チタン、酸化ケイ素、硫酸バリウム、チタン酸バリウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、及び酸化アルミニウムからなる群から選ばれる一種以上の無機化合物からなり、かつ平均一次粒径が１００ｎｍ〜１０μｍの粒子である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の投射型表示装置用カラーホイール。
【請求項５】
前記光調整層が、前記拡散材料及び前記蛍光体を含み、かつ  前記蛍光体及び前記拡散材料の総量に対して、前記拡散材料を３４質量％以上７０質量％未満含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の投射型表示装置用カラーホイール。
【請求項６】
前記基板が、少なくとも、前記光調整層と隣接する面に金属からなる金属反射面を有し、  前記光調整層が、メルカプト基含有カップリング剤由来の構造を含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載の投射型表示装置用カラーホイール。
【請求項７】
前記光調整層は、端部の厚みが中心部の厚みより薄く、  前記中心部の厚みに対する、前記端部の厚みが５０〜７０％である、請求項１〜６のいずれか一項に記載の投射型表示装置用カラーホイール。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の投射型表示装置用カラーホイールの製造方法であって、  前記蛍光体及び前記拡散材料のうち少なくとも一方と、溶媒と、を含む粒子含有溶液を前記基板上に塗布し、乾燥させて粒子含有膜を得る工程と、  前記セラミック前駆体を含むセラミック前駆体含有組成物を、前記粒子含有膜上に塗布し、加熱硬化させ前記光調整層を形成する工程と、  を含む投射型表示装置用カラーホイールの製造方法。
【請求項９】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の投射型表示装置用カラーホイールの製造方法であって、  前記蛍光体及び前記拡散材料のうち少なくとも一方と、前記セラミック前駆体と、を含む光調整層形成用組成物を前記基板上に塗布し、加熱硬化させ前記光調整層を形成する工程を含む投射型表示装置用カラーホイールの製造方法。
【請求項１０】
前記セラミック前駆体含有組成物、または前記光調整層形成用組成物を、スプレーまたはディスペンサーで塗布する、請求項８または９に記載の投射型表示装置用カラーホイールの製造方法。
【請求項１１】
前記基板を回転させながら、前記セラミック前駆体含有組成物または前記光調整層形成用組成物を、スプレーで塗布する、請求項８または９に記載の投射型表示装置用カラーホイールの製造方法。
【請求項１２】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の投射型表示装置用カラーホイールを含む、投射型表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】  本発明は、投射型表示装置用カラーホイール及びその製造方法、並びにこれを含む投射型表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】  近年、パーソナルコンピューターの画面や、各種画像再生装置からの再生動画等を、スクリーン等に拡大投射する、投射型表示装置（プロジェクタ）が開発されている。従来、このような投射型表示装置では、高輝度の放電ランプを光源とするものが主流であった。【０００３】  これに対し、近年、発光ダイオードやレーザー等を用いた投射型表示装置が提案されている。例えば、赤色、緑色、及び青色の３種の光源を配置し、これらの光を組み合わせることでカラー表示を行う投射型表示装置が提案されている（例えば特許文献１）。【０００４】  また、紫外光を出射する光源と、紫外光照射によって、赤色、緑色、及び青色の励起光を発する３種の蛍光体含有層を含むカラーホイールと、を有する投射型表示装置も提案されている（例えば、特許文献２及び３）。当該表示装置では、カラーホイールから出射する各色の光を組み合わせて、カラー表示が行われる。カラーホイールは通常、円板状の基板と、当該基板上に形成された蛍光体層からなり、蛍光体層には、蛍光体とバインダ樹脂とが含まれる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平１１−０８４２７１号公報
【特許文献２】特開２０１２−２４７６２４号公報
【特許文献３】特開２０１２−６８４６５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】  近年、投射型表示装置には、小型化や省電力化等が求められているが、特許文献１のように、３種の光源を有すると、光源が発する熱を冷却するための機構が必要となり、小型化や省電力化が難しいとの課題があった。【０００７】  一方、特許文献２及び３のように、カラーホイールを有する投射型表示装置では、光源が一つであっても、カラー表示が可能である。そのため、装置の小型化が可能であるとの利点がある。しかしながら、カラーホイールの蛍光体層中の樹脂バインダが、光源からの光や熱により劣化して、蛍光体が剥離したり、樹脂自体が着色して、蛍光体層が変色する等の問題があった。また基板が無機材料からなる場合には、冷熱衝撃によって、基板と蛍光体層との間で剥離が生じやすい等の問題もあった。【０００８】  本発明は、上記課題を鑑みてなされたものであり、長期間に亘って、蛍光体や拡散材料が剥離せず、さらに出射光の変色等が少ない、投射型表示装置用カラーホイール、及びその製造方法、並びにこれを含む投射型表示装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００９】  本発明の第一は、以下に示す投射型表示装置用カラーホイールに関する。  ［１］基板と、前記基板上に形成され、セラミック前駆体の反応物からなるセラミックバインダ、並びに、蛍光体及び拡散材料のうち少なくとも一方を含む光調整層と、を有する、投射型表示装置用カラーホイール。  ［２］前記セラミック前駆体が、ポリシラザン、アルコキシシランモノマー、及びアルコキシシランオリゴマーからなる群から選ばれる一種以上のポリシロキサン前駆体である、［１］に記載の投射型表示装置用カラーホイール。  ［３］前記セラミックバインダが、ポリシロキサンを含み、かつ前記ポリシロキサンの全構成単位中に、２官能アルコキシシラン由来の構成単位を５〜５０モル％含む、［１］または［２］に記載の投射型表示装置用カラーホイール。【００１０】  ［４］前記拡散材料が、酸化チタン、酸化ケイ素、硫酸バリウム、チタン酸バリウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、及び酸化アルミニウムからなる群から選ばれる一種以上の無機化合物からなり、かつ平均一次粒径が１００ｎｍ〜１０μｍの粒子である、［１］〜［３］のいずれかに記載の投射型表示装置用カラーホイール。  ［５］前記光調整層が、前記拡散材料及び前記蛍光体を含み、かつ前記蛍光体及び前記拡散材料の総量に対して、前記拡散材料を３４質量％以上７０質量％未満含む、［１］〜［４］のいずれかに記載の投射型表示装置用カラーホイール。  ［６］前記基板が、少なくとも、前記光調整層と隣接する面に金属からなる反射面を有し、前記光調整層が、メルカプト基含有カップリング剤由来の構造を含む、［１］〜［５］のいずれかに記載の投射型表示装置用カラーホイール。  ［７］前記光調整層は、端部の厚みが中心部の厚みより薄く、前記中心部の厚みに対する、前記端部の厚みが５０〜７０％である、［１］〜［６］のいずれかに記載の投射型表示装置用カラーホイール。【００１１】  本発明の第二は、以下に示す投射型表示装置用カラーホイールの製造方法に関する。  ［８］前記［１］〜［７］のいずれかに記載の投射型表示装置用カラーホイールの製造方法であって、前記蛍光体及び前記拡散材料のうち少なくとも一方と、溶媒と、を含む粒子含有溶液を前記基板上に塗布し、乾燥させて粒子含有膜を得る工程と、前記セラミック前駆体を含むセラミック前駆体含有組成物を、前記粒子含有膜上に塗布し、加熱硬化させ前記光調整層を形成する工程と、を含む投射型表示装置用カラーホイールの製造方法。  ［９］前記［１］〜［７］のいずれかに記載の投射型表示装置用カラーホイールの製造方法であって、前記蛍光体及び前記拡散材料のうち少なくとも一方と、前記セラミック前駆体と、を含む光調整層形成用組成物を前記基板上に塗布し、加熱硬化させて、前記光調整層を形成する工程、を含む投射型表示装置用カラーホイールの製造方法。  ［１０］前記セラミック前駆体含有組成物または前記光調整層形成用組成物を、スプレーまたはディスペンサーで塗布する、［８］または［９］に記載の投射型表示装置用カラーホイールの製造方法。  ［１１］前記基板を回転させながら、前記セラミック前駆体含有組成物または前記光調整層形成用組成物を、スプレーで塗布する、［８］または［９］に記載の投射��表示装置用カラーホイールの製造方法。【００１２】  本発明の第三は、以下に示す投射型表示装置に関する。  ［１２］前記［１］〜［７］のいずれかに記載の投射型表示装置用カラーホイールを含む、投射型表示装置。
【発明の効果】
【００１３】  本発明の投射型表示装置用カラーホイールによれば、長期間に亘って、蛍光体や拡散材料が剥離せず、さらにカラーホイールから出射する光の変色等が少ない、投射型表示装置が得られる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の投射表示装置用カラーホイールの一例を示す上面図である。
【図２】本発明の投射表示装置用カラーホイールの他の例を示す上面図である。
【図３】図１の投射表示装置用カラーホイールのＡ−Ａ’断面図である。
【図４】光調整層形成用組成物を塗布するためのスプレー装置を説明するための図である。
【図５】本発明の投射型表示装置の模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】  以下、本発明を詳細に説明するが、本発明は以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内であれば種々に変更して実施することができる。
【００１６】  １．投射型表示装置用カラーホイール  本発明の投射型表示装置用カラーホイール（以下、「カラーホイール」とも称する）は、基板と、拡散材料または蛍光体を含む光調整層とが積層された構造を有する。当該カラーホイールは、投射型表示装置において光源と投射光学系との間に設置され、光源からの光を拡散させたり、光源からの光を別の特定の波長の光に変換する機能を果たす。
【００１７】  図１に示されるように、本発明のカラーホイールには、１つの基板１に一種のみ、光調整層２が形成されていてもよい。一方で、図２に示されるように、一つの基板１の異なる領域に、異なる種類の光調整層２ａ〜２ｃが形成されていてもよい。例えば、投射型表示装置の光源からの光が青色光である場合等には、青色光を受けて緑色を出射する蛍光体を含む光調整層２ａと、青色光を受けて赤色を出射する蛍光体を含む光調整層２ｂと、青色光を拡散させるための拡散材料を含む光調整層２ｃと、を含むカラーホイール１００とすることができる。また、投射型表示装置の光源からの光が紫外光である場合等には、紫外光を受けて緑色を出射する蛍光体を含む光調整層２ａと、紫外光を受けて赤色を出射する蛍光体を含む光調整層２ｂと、紫外光を受けて青色を出射する蛍光体を含む光調整層２ｃと、を含むカラーホイール１００とすることができる。このように、光調整層２を複数組み合わせることで、光源が一種のみであっても、光の三原色を再現することができる。なお、カラーホイール１００に含まれる光調整層の種類や光調整層が形成される領域等については、投射型表示装置の種類や、光源からの光の波長、光学系の構造等に合わせて適宜選択される。
【００１８】  また、本発明のカラーホイールは、図５に示されるように、カラーホイール１００の一方の面から入射した光を、他方の面側に透過させる透過型のカラーホイール（以下、「透過型カラーホイール」とも称する）であってもよい。さらに、カラーホイール１００に入射した光を所定の方向に反射させる反射型のカラーホイール（以下、「反射型カラーホイール」とも称する）であってもよい。いずれのカラーホイールにおいても、光調整層に入射した光が、拡散材料や蛍光体によって、拡散及び／または波長変換される。
【００１９】  ここで、投射型表示装置用のカラーホイールでは、光源から強い光が照射されるだけでなく、光源からの熱も受ける。そのため、従来のバインダ樹脂を含むカラーホイールでは、バインダ樹脂の劣化によって蛍光体や拡散粒子が脱落したり、バインダ樹脂の着色によって、光調整層から出射する光が変色する等の問題があった。また、基板が金属材料やガラス基板等、無機材料であると、基板と光調整層との線膨張係数が大きく相違し、冷熱衝撃によって、光調整層が剥離しやすい等の問題もあった。
【００２０】  これに対し、本発明の投射型表示装置用カラーホイールでは、バインダが、セラミック前駆体の反応物からなる。そのため、光源から熱や光を受けたとしても蛍光体や拡散粒子が脱落し難く、さらに変色が少ない。その結果、長期間に亘って、光調整層により、安定して光の拡散や波長変換を行うことができる。また、冷熱衝撃を受けても、光調整層と基板との界面での剥離が生じ難い。
【００２１】  １−１．基板  本発明の投射型表示装置用カラーホイールの基板は、光調整層を保持するための部材である。基板の形状は特に制限されず、カラーホイールの用途等に合わせて適宜選択され、一般的な投射型表示装置用の基板と同様とすることができる。
【００２２】  ここで、カラーホイールが透過型カラーホイールである場合、光源からの光がカラーホイールの光調整層に入射し、光が拡散及び／または波長変換される。その後、当該光が、基板を通過して、所定の経路を経て投射光学系まで導かれる。つまり、基板に光透過性が求められる。このような光透過性を有する基板としては、耐熱性透明樹脂からなる基板や、透光性セラミック等からなる基板が挙げられるが、基板の耐熱性や耐変色性等の観点から、透光性のセラミックからなる基板であることが好ましい。特に好ましくはガラス基板である。
【００２３】  一方、カラーホイールが反射型カラーホイールである場合、光源からの光が光調整層に入射し、光が拡散及び／または波長変換される。その後、当該光が、基板と光調整層との界面等で反射されて、所定の経路を経て投射光学系まで導かれる。つまり、基板に光反射性が求められる。このような光反射性を有する基板としては、金属からなる反射面を有する基板が例として挙げられる。具体的には、金属からなる基板や、樹脂、セラミック、金属等からなるベース部材表面に、銀等の反射率の高い金属からなる層が積層された基板等とすることができる。金属層が積層されている基板では、基板と光調整層との密着性を高めるとの観点から、通常、光調整層側に金属反射面が配置される。
【００２４】  １−２．光調整層  光調整層は、カラーホイールにおいて、光を拡散及び／または波長変換させる機能を有する。光調整層には、拡散材料及び蛍光体のうち少なくとも一方と、セラミックバインダと、が含まれ、拡散材料や蛍光体が、セラミックバインダによって結着されている。
【００２５】  光調整層の厚みは、１〜１０００μｍであることが好ましく、より好ましくは３０〜５００μｍである。光調整層の厚みが１μｍ以上であると、光調整層による光拡散性や波長変換性が高まりやすい。一方、光調整層の厚みが１０００μｍ以下であれば、投射型表示装置を小型化することができる。ここで、上記光調整層の厚みとは、図３に示すように、光調整層の幅をＷとしたとき、当該幅方向の中心を含む、幅（Ｗ）に対して１０％の領域（Ｗ１）の光調整層の厚みの平均値とする。当該厚みは、触針式表面形状測定器等で測定される。
【００２６】  ここで、光調整層の厚みは、全領域で均一であってもよいが、図３の概略断面図（図１のＡ−Ａ’断面図）に示されるように、光調整層２の中心部より端部の厚みが薄いことが好ましい。光調整層２の端部の厚みがある程度薄いと、光調整層の成膜時にクラックが生じ難く、さらに光調整層の冷熱衝撃耐性も高まりやすい。端部の厚みとは、図３に示されるように、光調整層２の端部から、光調整層２の幅（Ｗ）に対して１０％までの領域（Ｗ２及びＷ２’）の厚みの平均値とする。そして、光調整層２の端部の厚みは、光調整層の中心部の厚みに対して５０〜７０％であることが好ましく、より好ましくは５０〜６５％であり、さらに好ましくは５０〜６０％である。光調整層の端部の厚みが上記範囲であると、光調整層の強度が高まりやすい。光調整層の端部の形状は、後述するように、光調整層を形成するための組成物の塗布方法により調整することができる。
【００２７】  ここで、光調整層に光拡散性のみが求められる場合、光調整層にはセラミックバインダと拡散材料とが含まれる。この場合、光調整層には、セラミックバインダが、光調整層の質量に対して、５〜５０質量％含まれることが好ましく、より好ましくは５〜４０質量％であり、さらに好ましくは５〜３０質量％である。セラミックバインダの量が５質量％以上であると、拡散材料が十分に結着されて、拡散材料の脱落が生じ難い。一方で、バインダの量が５０質量％以下であると、相対的に拡散材料の量が十分となる。
【００２８】  また調整層に光拡散性のみが求められる場合、拡散材料は光調整層の質量に対して５０〜９５質量％含まれることが好ましく、より好ましくは６０〜９５質量％であり、さらに好ましくは７０〜９５質量％である。拡散材料の量が５０質量％以上であると、光調整層を経た光が拡散されやすい。ただし、拡散材料の量が過剰であると、光調整層に光が十分に入射できず、十分な光拡散性が得られ難い。これに対し、拡散材料の量が９５質量％以下であれば、光源からの光が光調整層によって十分に拡散される。
【００２９】  また、光調整層に光の波長変換性も求められる場合、光調整層には、少なくともセラミックバインダと蛍光体とが含まれ、さらに拡散材料が含まれることが好ましい。蛍光体と共に拡散材料が含まれると、蛍光体により波長変換された光がより拡散されやすくなる。さらに、光調整層に入射した光源からの光が拡散されることで、光が蛍光体に吸収されやすくなる。つまり、光調整層による光の波長変換性が高まりやすい。さらに、拡散が不十分であると、入射した光が、そのまま光調整層から取り出されてしまい、所望の波長の光のみ取り出すことが困難となりやすいとの観点からも、光調整層に拡散粒子が含まれることが好ましい。
【００３０】  光調整層に光の波長変換性が求められる場合、光調整層に含まれるセラミックバインダの量は、光調整層の質量に対して５〜５０質量％であることが好ましく、より好ましくは５〜４０質量％であり、さらに好ましくは５〜３０質量％である。セラミックバインダの量が５質量％以上であると、拡散材料や蛍光体が十分に結着されて、拡散材料等の脱落が生じ難い。一方で、バインダの量が５０質量％以下であると、相対的に拡散材料や蛍光体の量が十分となり、光調整層の光拡散性や波長変換性が高まりやすい。
【００３１】  一方、このような光調整層に含まれる蛍光体の量は、光調整層の質量に対して５０〜９５質量％であることが好ましく、より好ましくは６０〜９５質量％であり、さらに好ましくは７０〜９５質量％である。蛍光体の量が上記範囲であると、光調整層の波長変換性が高まりやすい。
【００３２】  また、光調整層に含まれる拡散粒子の量は、蛍光体と拡散粒子との総量に対して、３４質量％以上７０質量％未満であることが好ましく、より好ましくは３４〜６０質量％であり、さらに好ましくは３４〜５０質量％である。光調整層に含まれる拡散粒子の量が上記範囲であると、光調整層の波長変換性が高まりやすい。なお、拡散粒子による光拡散性が不十分である、つまり拡散粒子の量が少なすぎると、前述のように、光調整層に入射した波長の光が、そのまま光調整層から出射してしまい、所望の波長の光を取り出すことが難しくなる。一方で、光調整層に含まれる拡散粒子の量が過剰であると、必要な光の取り出し効率が低下することがある。これに対し、光拡散粒子の量が、上記範囲であると、光の拡散性と光の取り出し性とのバランスが良好になる。
【００３３】  ・拡散粒子  光調整層に含まれる拡散粒子は、光拡散性の高い粒子であれば、特に制限されず、平均一次粒径が１００ｎｍ〜１０μｍである無機粒子でありうる。拡散粒子の平均一次粒径は、より好ましくは１００ｎｍ〜５μｍであり、さらに好ましくは２００ｎｍ〜２．５μｍである。拡散粒子の平均一次粒径が上記範囲内であると、光調整層内で、十分に光が拡散しやすくなる。本発明における平均一次粒径とは、レーザー回折式粒度分布計で測定されるＤ５０の値をいう。レーザー回折式粒度分布測定装置の例には、島津製作所製のレーザー回折式粒度分布測定装置等がある。
【００３４】  また、拡散粒子の全反射率は８０％以上であることが好ましく、さらに好ましくは９０％以上である。拡散粒子の全反射率は日立ハイテク社製、日立分光光度計Ｕ４１００により測定できる。
【００３５】  拡散粒子の具体的な例には、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、チタン酸バリウム（ＢａＴｉＯ３）、硫酸バリウム（ＢａＳＯ４）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、窒化ホウ素（ＢｒＮ）、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、炭酸カルシウム（ＣａＣＯ３）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、硫酸バリウム（ＢａＯ）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）等が含まれる。光拡散性、及び取り扱い性等の観点から、拡散粒子は酸化チタン、酸化ケイ素、硫酸バリウム、チタン酸バリウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、及び酸化アルミニウムであることがより好ましい。光調整層には、拡散粒子が１種のみ含まれてもよく、２種以上含まれてもよい。
【００３６】  ・蛍光体  また、光調整層に含まれる蛍光体は、平均一次粒径は、１〜３０μｍであることが好ましく、より好ましくは５〜３０μｍであり、さらに好ましくは１０〜３０μｍである。蛍光体粒子の平均一次粒径が大きいほど発光効率（波長変換効率）が高くなる。一方、蛍光体の粒径が大きすぎると、蛍光体どうしの間に生じる隙間が大きくなり、光源からの光が光調整層をそのまま通過しやすくなり、所望の波長変換性が得られないことがある。蛍光体の平均一次粒径は、前述の拡散材料と同様の方法で測定される。
【００３７】  蛍光体は、特定の波長（励起波長）により励起されて、励起光の波長と異なる波長の蛍光を出射するものであれば特に制限されない。例えば、紫外から近紫外光や青色の波長の励起光を緑、赤色等に変換する蛍光体等が挙げられる。
【００３８】  緑色発光用蛍光体の例には、サルファイド系ＺｎＳ：Ｃｕ，Ａｌ、オキシナイトライド系（Ｓｉ，Ａｌ）６（Ｏ，Ｎ）８：Ｅｕ、シリケート系Ｚｎ２ＳｉＯ４：Ｍｎ、Ｚｎ２ＳｉＯ４：Ｍｎ、（Ｂａ，Ｓｒ）２ＳｉＯ４：Ｅｕ、アルミネート系ＢａＡｌ１２Ｏ１９：Ｍｎ、ＢａＭｇＡｌ１４Ｏ２３：Ｍｎ、ＳｒＡｌ１２Ｏ１９：Ｍｎ、ＺｎＡｌ１２Ｏ１９：Ｍｎ、ＣａＡｌ１２Ｏ１９：Ｍｎ等が含まれる。
【００３９】  一方、赤色発光用蛍光体の例には、サルファイト系（Ｃａ，Ｓｒ）Ｓ：Ｅｕ、ナイトライド系（Ｃａ，Ｓｒ）２Ｓｉ５Ｎ８：Ｅｕ、（Ｃａ，Ｓｒ）ＡｌＳｉＮ３：Ｅｕ、Ｃａ，ＳｉＮ２：Ｅｕ、シリケート系Ｙ２ＳｉＯ５：Ｅｕ、アルミネート系，Ｙ３Ａｌ５Ｏ１２：Ｅｕ、アパタイト系Ｚｎ３（Ｐ０４）２：Ｍｎ、その他Ｙ２Ｏ３：Ｅｕ、ＹＢＯ３：Ｅｕ、（Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ３：Ｅｕ、ＧｄＢＯ３：Ｅｕ、ＳｃＢＯ３：Ｅｕ、ＬｕＢＯ３：Ｅｕ等が含まれる。
【００４０】  ・セラミックバインダ  また、セラミックバインダは、セラミック前駆体を反応させて得られるものであり、セラミック前駆体を化学反応させることにより得られる重合体でありうる。
【００４１】  セラミック前駆体は、反応によってセラミックが得られるものであれば特に制限されず、その例には、加水分解、重縮合によりセラミックが得られる各種金属のアルコキシドや、脱アンモニア法によりセラミックが得られるポリシラザン等が含まれる。セラミック前駆体は、セラミックバインダの調製の容易さ等の観点から、ポリシロキサン前駆体であることが好ましく、ポリシラザン、アルコキシシランモノマー、及びアルコキシシランオリゴマーからなる群から選ばれる一種以上の化合物であることがより好ましい。またセラミック前駆体がアルコキシシランオリゴマーであることが特に好ましい。セラミック前駆体がポリシロキサン前駆体であると、基板表面に存在する水酸基と、ポリシロキサン中のケイ素とがシロキサン結合しやすく、基板と光調整層との密着性が高まりやすい。
【００４２】  ここで、ポリシラザンは、一般式（Ｉ）：（Ｒ１Ｒ２ＳｉＮＲ３）ｎで表される化合物である。一般式（Ｉ）中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立して水素原子またはアルキル基、アリール基、ビニル基、またはシクロアルキル基を表すが、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３のうち少なくとも１つは水素原子であり、好ましくはすべてが水素原子である。ｎは１〜６０の整数を表す。ポリシラザンの分子形状はいかなる形状であってもよく、例えば、直鎖状または環状であってもよい。
【００４３】  ポリシラザンは、加水分解及び脱アンモニアにより、ポリシロキサンとなる。具体的には、上記式（Ｉ）で表されるポリシラザンを、必要に応じて反応促進剤、及び溶媒の存在下、加熱、エキシマ光処理、ＵＶ光処理すること等でポリシロキサンが得られる。
【００４４】  また、アルコキシシランのモノマーまたはオリゴマーは、２官能アルコキシシラン化合物、３官能アルコキシシラン化合物、または４官能アルコキシシラン化合物のモノマーまたはそのオリゴマーでありうる。バインダがポリシロキサンを含む場合、当該ポリシロキサンには、２官能アルコキシシラン由来の構造が含まれることが好ましい。ポリシロキサン中に、２官能アルコキシシラン由来の構造が含まれると、得られるポリシロキサンの柔軟性が高まり、ポリシロキサンの耐冷熱衝撃性が高まりやすい。また、光調整層の形成時に、クラック等が生じ難い。一方で、２官能アルコキシシラン由来の構造が過剰であると、光調整層の光や熱に対する耐性が低くなる傾向がある。そこで、ポリシロキサン中に含まれる２官能アルコキシシラン由来の構造の量は、ポリシロキサンの全構成単位に対して５〜５０モル％であることが好ましく、より好ましくは１０〜３０モル％である。ポリシロキサンに含まれる２官能アルコキシシラン化合物由来の構成単位の量や、他のアルコキシシラン（３官能または４官能アルコキシシラン化合物）由来の構成単位の量は、２９Ｓｉ−ＮＭＲ（例えば、日本電子株式会社製  ＬＡ４００）により測定することが可能である。
【００４５】  ここで、４官能アルコキシシラン化合物の例には、下記一般式（II）で表される化合物が含まれる。    Ｓｉ（ＯＲ４）４      …（II）  上記一般式（II）中、Ｒ４はそれぞれ独立にアルキル基またはフェニル基を表し、好ましくは炭素数１〜５のアルキル基、またはフェニル基を表す。
【００４６】  ４官能シラン化合物の具体例には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシランテトラブトキシシラン、テトラペンチルオキシシラン、テトラフェニルオキシシラン、トリメトキシモノエトキシシラン、ジメトキシジエトキシシラン、トリエトキシモノメトキシシラン、トリメトキシモノプロポキシシラン、モノメトキシトリブトキシシラン、モノメトキシトリペンチルオキシシラン、モノメトキシトリフェニルオキシシラン、ジメトキシジプロポキシシラン、トリプロポキシモノメトキシシラン、トリメトキシモノブトキシシラン、ジメトキシジブトキシシラン、トリエトキシモノプロポキシシラン、ジエトキシジプロポキシシラン、トリブトキシモノプロポキシシラン、ジメトキシモノエトキシモノブトキシシラン、ジエトキシモノメトキシモノブトキシシラン、ジエトキシモノプロポキシモノブトキシシラン、ジプロポキシモノメトキシモノエトキシシラン、ジプロポキシモノメトキシモノブトキシシラン、ジプロポキシモノエトキシモノブトキシシラン、ジブトキシモノメトキシモノエトキシシラン、ジブトキシモノエトキシモノプロポキシシラン、モノメトキシモノエトキシモノプロポキシモノブトキシシランなどのアルコキシシラン、またはアリールオキシシラン等が含まれる。これらの中でもテトラメトキシシラン、テトラエトキシシランが好ましい。
【００４７】  ３官能シラン化合物の例には、下記一般式（III）で表される化合物が含まれる。    Ｒ５Ｓｉ（ＯＲ６）３      …（III）  上記一般式（III）中、Ｒ６は、それぞれ独立にアルキル基またはフェニル基を表し、好ましくは炭素数１〜５のアルキル基、またはフェニル基を表す。また、Ｒ５は、水素原子またはアルキル基を表す。
【００４８】  ３官能シラン化合物の具体例には、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、トリプロポキシシラン、トリペンチルオキシシラン、トリフェニルオキシシラン、ジメトキシモノエトキシシラン、ジエトキシモノメトキシシラン、ジプロポキシモノメトキシシラン、ジプロポキシモノエトキシシラン、ジペンチルオキシルモノメトキシシラン、ジペンチルオキシモノエトキシシラン、ジペンチルオキシモノプロポキシシラン、ジフェニルオキシルモノメトキシシラン、ジフェニルオキシモノエトキシシラン、ジフェニルオキシモノプロポキシシラン、メトキシエトキシプロポキシシラン、モノプロポキシジメトキシシラン、モノプロポキシジエトキシシラン、モノブトキシジメトキシシラン、モノペンチルオキシジエトキシシラン、モノフェニルオキシジエトキシシラン等のモノヒドロシラン化合物；メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリペンチルオキシシラン、メチルモノメトキシジエトキシシラン、メチルモノメトキシジプロポキシシラン、メチルモノメトキシジペンチルオキシシラン、メチルモノメトキシジフェニルオキシシラン、メチルメトキシエトキシプロポキシシラン、メチルモノメトキシモノエトキシモノブトキシシラン等のモノメチルシラン化合物；エチルトリメトキシシラン、エチルトリプロポキシシラン、エチルトリペンチルオキシシラン、エチルトリフェニルオキシシラン、エチルモノメトキシジエトキシシラン、エチルモノメトキシジプロポキシシラン、エチルモノメトキシジペンチルオキシシラン、エチルモノメトキシジフェニルオキシシラン、エチルモノメトキシモノエトキシモノブトキシシラン等のモノエチルシラン化合物；プロピルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、プロピルトリペンチルオキシシラン、プロピルトリフェニルオキシシラン、プロピルモノメトキシジエトキシシラン、プロピルモノメトキシジプロポキシシラン、プロピルモノメトキシジペンチルオキシシラン、プロピルモノメトキシジフェニルオキシシラン、プロピルメトキシエトキシプロポキシシラン、プロピルモノメトキシモノエトキシモノブトキシシラン等のモノプロピルシラン化合物；ブチルトリメトキシシラン、ブチルトリエトキシシラン、ブチルトリプロポキシシラン、ブチルトリペンチルオキシシラン、ブチルトリフェニルオキシシラン、ブチルモノメトキシジエトキシシラン、ブチルモノメトキシジプロポキシシラン、ブチルモノメトキシジペンチルオキシシラン、ブチルモノメトキシジフェニルオキシシラン、ブチルメトキシエトキシプロポキシシラン、ブチルモノメトキシモノエトキシモノブトキシシラン等のモノブチルシラン化合物が含まれる。
【００４９】  これらの３官能シラン化合物の中でも、一般式（III）で表されるＲ５がメチル基である化合物が、反応性等の観点から好ましい。一般式（III）で表されるＲ５がメチル基である３官能シラン化合物の例には、メチルトリメトキシシラン、及びメチルトリエトキシシランが含まれ、メチルトリメトキシシランであることが特に好ましい。
【００５０】  ２官能シラン化合物の例には、下記一般式（ＩＶ）で表される化合物が含まれる。    Ｒ７Ｒ８Ｓｉ（ＯＲ９）２      …（ＩＶ）  上記一般式（ＩＶ）中、Ｒ９は、それぞれ独立にアルキル基またはフェニル基を表し、好ましくは炭素数１〜５のアルキル基、またはフェニル基を表す。またＲ７、Ｒ８は、水素原子またはアルキル基を表す。
【００５１】  ２官能のアルコキシシラン化合物の例には、ジメトキシシラン、ジエトキシシラン、ジプロポキシシラン、ジペンチルオキシシラン、ジフェニルオキシシラン、メトキシエトキシシラン、メトキシプロポキシシラン、メトキシペンチルオキシシラン、メトキシフェニルオキシシラン、エトキシプロポキシシラン、エトキシペンチルオキシシラン、エトキシフェニルオキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルメトキシエトキシシラン、メチルジエトキシシラン、メチルメトキシプロポキシシラン、メチルメトキシペンチルオキシシラン、メチルメトキシフェニルオキシシラン、エチルジプロポキシシラン、エチルメトキシプロポキシシラン、エチルジペンチルオキシシラン、エチルジフェニルオキシシラン、プロピルジメトキシシラン、プロピルメトキシエトキシシラン、プロピルエトキシプロポキシシラン、プロピルジエトキシシラン、プロピルジペンチルオキシシラン、プロピルジフェニルオキシシラン、ブチルジメトキシシラン、ブチルメトキシエトキシシラン、ブチルジエトキシシラン、ブチルエトキシプロポキシシシラン、ブチルジプロポキシシラン、ブチルメチルジペンチルオキシシラン、ブチルメチルジフェニルオキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルメトキシエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジペンチルオキシシラン、ジメチルジフェニルオキシシラン、ジメチルエトキシプロポキシシラン、ジメチルジプロポキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルメトキシプロポキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジエチルエトキシプロポキシシラン、ジプロピルジメトキシシラン、ジプロピルジエトキシシラン、ジプロピルジペンチルオキシシラン、ジプロピルジフェニルオキシシラン、ジブチルジメトキシシラン、ジブチルジエトキシシラン、ジブチルジプロポキシシラン、ジブチルメトキシペンチルオキシシラン、ジブチルメトキシフェニルオキシシラン、メチルエチルジメトキシシラン、メチルエチルジエトキシシラン、メチルエチルジプロポキシシラン、メチルエチルジペンチルオキシシラン、メチルエチルジフェニルオキシシラン、メチルプロピルジメトキシシラン、メチルプロピルジエトキシシラン、メチルブチルジメトキシシラン、メチルブチルジエトキシシラン、メチルブチルジプロポキシシラン、メチルエチルエトキシプロポキシシラン、エチルプロピルジメトキシシラン、エチルプロピルメトキシエトキシシラン、ジプロピルジメトキシシラン、ジプロピルメトキシエトキシシラン、プロピルブチルジメトキシシラン、プロピルブチルジエトキシシラン、ジブチルメトキシエトキシシラン、ジブチルメトキシプロポキシシラン、ジブチルエトキシプロポキシシラン等が含まれる。中でもジメトキシシラン、ジエトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシランが好ましい。
【００５２】  ポリシロキサンは、上記シラン化合物のモノマーまたはそのオリゴマーを、必要に応じて酸触媒、水、及び溶媒の存在下、加熱処理すること等で得られる。
【００５３】  ・メルカプト基含有カップリング剤  また、光調整層には、メルカプト基含有シランカップリング剤由来の構造が含まれてもよい。つまり、光調整層を形成するための組成物にメルカプト基含有カップリング剤が含まれてもよい。通常、メルカプト基含有カップリング剤は、メルカプト基がポリシロキサンに含まれる有機基と反応し、カップリング剤中の金属原子等がセラミック前駆体や基板表面に存在するＯＨ基等と反応する。そのため、前記組成物にメルカプト基含有カップリング剤が含まれると、基板と光調整層との密着性が高まりやすくなる。また特に、基板表面に金属からなる層、つまり金属反射面が存在する場合には、基板と光調整層との密着性が高まりやすい。
【００５４】  カップリング剤の種類は、特に制限されないが、シランカップリング剤であることが好ましい。具体的には、３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン等でありうる。光調整層には、これらのうち、一種の化合物由来の構造が含まれてもよく、２種以上の化合物由来の構造が含まれてもよい。
【００５５】  光調整層の調製時に添加するメルカプト基含有カップリング剤由来の構造の量は、前述のセラミック前駆体の量１００質量部に対して０．１〜５質量部であることが好ましく、より好ましくは１〜５質量部である。
【００５６】  ・無機酸化物微粒子  また、光調整層には、粒子系が１００ｎｍ未満である無機酸化物微粒子等が含まれてもよい。無機酸化物微粒子の平均一次粒径は、５ｎｍ以上１００ｎｍ未満であることが好ましく、より好ましくは５〜８０ｎｍ、さらに好ましくは５〜５０ｎｍである。無機酸化物微粒子の平均一次粒径が、このような範囲であると、光調整層の強度が高まりやすく、さらに光調整層形成時のクラック等が抑制される。
【００５７】  無機酸化物微粒子の例には、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム等が含まれる。無機酸化物微粒子の表面は、シランカップリング剤やチタンカップリング剤で処理されていてもよい。
【００５８】  無機酸化物微粒子は、多孔質状の粒子であってもよい。無機酸化物微粒子が多孔質の粒子である場合、その比表面積は２００ｍ２／ｇ以上であることが好ましい。無機酸化物微粒子が多孔質であると、光調整層の成膜時に、光調整層を形成するための組成物に含まれる溶媒が、無機酸化物微粒子の多孔質の空隙部に入り込み、当該組成物の粘度が高まり、塗布しやすくなる。
【００５９】  無機酸化物微粒子の量は、光調整層の質量に対して０．１〜２０質量％であることが好ましく、より好ましくは０．１〜１０質量％であり、さらに好ましくは０．１〜５質量％である。無機酸化物微粒子の量が１質量％以上であると、光調整層の強度が高まりやすい。一方で、無機酸化物微粒子の量が過剰であると、相対的に拡散材料や蛍光体、バインダ等の量が少なくなり、光調整層による光拡散性や波長変換性が不十分になったり、層の強度が低くなることがある。
【００６０】  また、光調整層には粘土化合物が含まれてもよい。粘土化合物が含まれると、光調整層を形成するための組成物の粘度が高まりやすく、蛍光体や拡散材料が均一に分散されやすくなる。つまり、当該組成物中で蛍光体や拡散材料が沈降し難くなり、得られる光調整層において、拡散材料や蛍光体が均一に分散されやすい。また、光調整層に粘土化合物が含まれると、光調整層の強度も高まりやすくなる。
【００６１】  粘土化合物の例には、層状ケイ酸塩鉱物、イモゴライト、アロフェン等が含まれる。層状ケイ酸塩鉱物は、雲母構造、カオリナイト構造、またはスメクタイト構造を有する粘土鉱物が好ましい。
【００６２】  層状ケイ酸塩鉱物の例には、天然または合成の、ヘクトライト、サポナイト、スチブンサイト、ハイデライト、モンモリロナイト、ノントライト、ベントナイト、ラポナイト等のスメクタイト属粘土鉱物や、Ｎａ型テトラシリシックフッ素雲母、Ｌｉ型テトラシリシックフッ素雲母、Ｎａ型フッ素テニオライト、Ｌｉ型フッ素テニオライト等の膨潤性雲母属粘土鉱物、白雲母、金雲母、フッ素金雲母、絹雲母、カリウム四ケイ素雲母等の非膨潤性雲母属粘土鉱物、およびバーミキュラライトやカオリナイト、またはこれらの混合物が含まれる。
【００６３】  粘土化合物の市販品の例には、ラポナイトＸＬＧ（英国、ラポート社製合成ヘクトライト類似物質）、ラポナイトＲＤ（英国、ラポート社製合成ヘクトライト類似物質）、サーマビス（独国、ヘンケル社製合成ヘクトライト類似物質）、スメクトンＳＡ−１（クニミネ工業（株）製サポナイト類似物質）、ベンゲル（ホージュン（株）販売の天然ベントナイト）、クニビアＦ（クニミネ工業（株）販売の天然モンモリロナイト）、ビーガム（米国、バンダービルト社製の天然ヘクトライト）、ダイモナイト（トピー工業（株）製の合成膨潤性雲母）、ミクロマイカ（コープケミカル（株）製の合成非膨潤性雲母）、ソマシフ（コープケミカル（株）製の合成膨潤性雲母）、ＳＷＮ（コープケミカル（株）製の合成スメクタイト）、ＳＷＦ（コープケミカル（株）製の合成スメクタイト）、Ｍ−ＸＦ（（株）レプコ製の白雲母）、Ｓ−ＸＦ（（株）レプコ製の金雲母）、ＰＤＭ−８００（トピー工業（株）製のフッ素金雲母）、セリサイトＯＣ−１００Ｒ（オーケム通商（株）製の絹雲母）、ＰＤＭ−Ｋ（Ｇ）３２５（トピー工業（株）製のカリウム四ケイ素雲母）等が含まれる。
【００６４】  粘土化合物の含有量は、光調整層の質量に対して０．１〜５質量％であることが好ましく、０．２〜２質量％であることがより好ましい。粘土化合物の含有量が０．１質量％以上であると、光調整層を形成するための組成物の粘度が十分に高まる。一方で、粘土化合物の量が２質量％以下であると、光調整層を形成するための塗布性が優れる。
【００６５】  粘土化合物の表面は、他の成分等との相溶性を考慮して、アンモニウム塩等で修飾（表面処理）されていてもよい。
【００６６】  ・金属アルコキシドまたは金属キレート  光調整層には、金属アルコキシドまたは金属キレート由来の構造が含まれてもよい。つまり、光調整層を形成するための組成物には、金属アルコキシドまたは金属キレートが含まれてもよい。これらの金属アルコキシドまたは金属キレートは、前述のセラミック前駆体等とメタロキサン結合を形成し、強固な結合を形成する。したがって、基板と光調整層との密着性等が高まりやすい。
【００６７】  金属アルコキシドまたは金属キレートに含まれる金属元素の種類は、２価以上の金属元素（Ｓｉを除く）であれば特に制限されないが、４族または１３族の元素であることが好ましい。すなわち、金属アルコキシドまたは金属キレートは、具体的には、下記の一般式（Ｖ）で表される化合物であることが好ましい。    Ｍｍ＋ＸｎＹｍ−ｎ      （Ｖ）  一般式（Ｖ）中、Ｍは４族または１３族の金属元素を表し、ｍはＭの価数（３または４）を表す。Ｘは加水分解性基を表し、ｎはＸ基の数（２以上４以下の整数）を表す。ただし、ｍ≧ｎである。Ｙは１価の有機基を表す。
【００６８】  一般式（Ｖ）において、Ｍで表される４族または１３族の金属元素は、アルミニウム、ジルコニウム、チタンであることが好ましく、ジルコニウムであることが特に好ましい。ジルコニウム元素を含むアルコキシドまたはキレートの硬化物は、一般的な投射型表示装置の光源の発光波長域に吸収波長を有さない。そのためジルコニウムのアルコキシドまたはキレートの硬化物には、投射型表示装置の光源からの光等が吸収され難い。
【００６９】  一般式（Ｖ）において、Ｘで表される加水分解性基は、水で加水分解され、水酸基を生成する基でありうる。加水分解性基の好ましい例には、炭素数が１〜５の低級アルコキシ基、アセトキシ基、ブタノキシム基、クロル基等が含まれる。一般式（Ｖ）において、Ｘで表される基は、全て同一の基であってもよく、異なる基であってもよい。
【００７０】  Ｘで表される加水分解性基は、前述のように、金属元素が基板の表面の水酸基等とメタロキサン結合を形成する際に、加水分解される。そのため加水分解後に生成される化合物は、中性かつ軽沸であることが好ましい。そこで、Ｘで表される基は、炭素数１〜５の低級アルコキシ基であることが好ましく、より好ましくはメトキシ基、またはエトキシ基である。
【００７１】  一般式（Ｖ）において、Ｙで表される１価の有機基は、一般的なシランカップリング剤に含まれる１価の有機基でありうる。具体的には、炭素数が１〜１０００、好ましくは５００以下、より好ましくは１００以下、さらに好ましくは４０以下、特に好ましくは６以下である脂肪族基、脂環族基、芳香族基、脂環芳香族基でありうる。Ｙで表される有機基は、脂肪族基、脂環族基、芳香族基、及び脂環芳香族基が連結基を介して結合した基であってもよい。連結基は、Ｏ、Ｎ、Ｓ等の原子またはこれらを含む原子団であってもよい。
【００７２】  Ｙで表される有機基は、置換基を有してもよい。置換基の例には、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ等のハロゲン原子；ビニル基、メタクリロキシ基、アクリロキシ基、スチリル基、メルカプト基、エポキシ基、エポキシシクロヘキシル基、グリシドキシ基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基、スルホン酸基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アシル基、アルコキシ基、イミノ基、フェニル基等の有機基が含まれる。
【００７３】  一般式（Ｖ）で表される、アルミニウム元素を含む金属アルコキシドまたは金属キレートの具体例には、アルミニウムトリイソプロポキシド、アルミニウムトリｎ−ブトキシド、アルミニウムトリｔ−ブトシキド、アルミニウムトリエトキシド等が含まれる。
【００７４】  一般式（Ｖ）で表される、ジルコニウム元素を含む金属アルコキシドまたは金属キレートの具体例には、ジルコニウムテトラメトキシド、ジルコニウムテトラエトキシド、ジルコニウムテトラｎ−プロポキシド、ジルコニウムテトラｉ−プロポキシド、ジルコニウムテトラｎ−ブトキシド、ジルコニウムテトラｉ−ブトキシド、ジルコニウムテトラｔ−ブトキシド、ジルコニウムジメタクリレートジブトキシド、ジブトキシジルコニウムビス（エチルアセトアセテート）等が含まれる。
【００７５】  一般式（Ｖ）で表されるチタン元素を含む金属アルコキシドまたは金属キレートの具体例には、チタンテトライソプロポキシド、チタンテトラｎ−ブトキシド、チタンテトラｉ−ブトキシド、チタンメタクリレートトリイソプロポキシド、チタンテトラメトキシプロポキシド、チタンテトラｎ−プロポキシド、チタンテトラエトキシド、チタンラクテート、チタニウムビス（エチルヘキソキシ）ビス（２−エチル−３−ヒドロキシヘキソキシド）、チタンアセチルアセトネート等が含まれる。
【００７６】  ただし、上記で例示した金属アルコキシドまたは金属キレートは、入手容易な市販の有機金属アルコキシドまたは金属キレートの一部である。科学技術総合研究所発行の「カップリング剤最適利用技術」９章のカップリング剤及び関連製品一覧表に示される金属アルコキシドまたは金属キレートも、光調整層を形成するための組成物に適用される。
【００７７】  光調整層に含まれる、金属アルコキシドまたは金属キレート由来の金属元素（Ｓｉ元素を除く）の量は、光調整層に含まれるＳｉ元素の総モル数に対して、０．５〜２０モル％であることが好ましく、より好ましくは１〜１０モル％である。金属元素の量が、０．５モル％以上であると、光調整層と基板との密着性が高まりやすい。一方、金属アルコキシドまたは金属キレートの量が１０モル％以下であれば、拡散粒子や蛍光体の量が相対的に多くなり、光調整層による光拡散性や波長変換性が高まりやすい。金属元素の量、及びＳｉ元素の量は、エネルギー分散型Ｘ線分光法（ＥＤＸ）で算出できる。
【００７８】  ・光調整層の成膜方法  上記光調整層は、前述のセラミック前駆体、拡散材料、及び蛍光体等を基板上に塗布し、硬化させることで形成することができる。具体的には、以下の２つの方法が挙げられる。  （ｉ）前述の蛍光体や拡散粒子、セラミック前駆体等を含む光調整層形成用組成物を基板上に塗布し、これを加熱硬化させて、光調整層を得る方法（第一の方法）  （ii）蛍光体や拡散粒子等の粒子状の成分と、溶媒とを含む粒子含有溶液を塗布・固化させて粒子含有膜を形成するステップと、当該粒子含有膜上に、セラミック前駆体を含むセラミック前駆体含有組成物を塗布し、加熱硬化させるステップと、を行って光調整層を得る方法（第二の方法）
【００７９】  （第一の方法）  第一の方法では、前述の蛍光体や拡散粒子、セラミック前駆体と、必要に応じてメルカプト基含有カップリング剤、無機微粒子等とを混合し、光調整層形成用組成物を調製する。当該光調整層形成用組成物には、溶媒が含まれてもよい。溶媒は、セラミック前駆体等との相溶性が良好であれば特に制限されず、例えば水；メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のモノアルコール；エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン、１,３-ブタンジオール、１,４-ブタンジオール等でありうる。光調整層形成用組成物には、溶媒が一種のみ含まれてもよく、二種以上含まれてもよい。ここで、溶媒の沸点は２５０℃以下であることが、光調整層の形成効率等の観点から好ましい。
【００８０】  光調整層形成用組成物の塗布方法は特に制限されず、バーコート法、スピンコート法、スプレーコート法、ディスペンス法、ジェットディスペンス法、インクジェット法、スクリーン印刷法等、従来公知の方法でありうる。特に、スプレーコート法によれば、被塗布領域以外の領域をマスクしながら塗布することにより、光調整層形成用組成物を所望の領域にのみ塗布することができる。また、ディスペンス法によれば、所望の領域にのみ、光調整層形成用組成物を塗布することができる。したがって、これらの方法によれば、基板上に複数の種類の光調整層を形成することができる。
【００８１】  また、基板が円板である場合には、基板を回転させながら、光調整層形成用組成物をスプレーすることで、均一な厚みで光調整層形成用組成物を塗布することができる。
【００８２】  また、スプレー法によれば、中心部と端部とで厚みの異なる光調整層を形成することができる。具体的には、基板と、スプレー装置のノズルとの位置を調整することで、光調整層の形状を制御できる。例えば、基板とノズルとの位置が十分に遠い場合には、光調整層形成用組成物が均一に塗布されるため、得られる光調整層の厚みが均一になる。一方で、基板とノズルとの距離が近いと、ノズルに近い領域（中央部）の厚みが厚くなり、ノズルから遠い領域（つまり端部）の厚みが薄くなる。
【００８３】  ここで、上記方法により光調整層形成用組成物を塗布した後、光調整層形成用組成物を乾燥・硬化させる。このとき、光調整層形成用組成物に含まれるセラミック前駆体が反応してセラミックとなり、拡散材料や蛍光体がバインダによって結着される。光調整層形成用組成物を乾燥・硬化させる際の温度は、１００℃以上であることが好ましく、より好ましくは１５０〜３００℃である。加熱温度が１００℃未満であると、セラミック前駆体の脱水縮合時に生じる水や、光調整層形成用組成物に含まれる溶媒を十分に除去できず、光調整層の耐光性等が低下する可能性がある。
【００８４】  なお、セラミック前駆体がポリシラザンである場合には、波長１７０〜２３０ｎｍの範囲のＵＶＵ放射線（例えばエキシマ光）を塗膜に照射して硬化させた後に、さらに加熱硬化を行うことで、より緻密な膜が形成される。
【００８５】  （スプレー塗布装置）  前述のように、光調整層形成用組成物を塗布するスプレー塗布装置としては、例えば、図４に示されるような構成とすることができる。塗布装置２００において、光調整層形成用組成物２２０は、塗布液タンク２１０に供給される。この塗布液タンク２１０内の光調整層形成用組成物２２０は、圧力をかけられて、連結管２３０を通じてヘッド２４０に供給される。ヘッド２４０に供給された光調整層形成用組成物２２０は、ノズル２５０から吐出されて、基板１上に塗布される。ノズル２５０からの光調整層形成用組成物２２０の吐出は、風圧によって行われる。ノズル２５０の先端に開閉自在な開口部を設けて、この開口部を開閉操作して、吐出作業のオン・オフを制御する構成としてもよい。
【００８６】  上記スプレー装置による光調整層形成用組成物２２０の塗布時には、下記（１）〜（６）の操作や条件設定などを行うことが好ましい。  （１）ノズル２５０の先端部を基板１の直上に配置して光調整層形成用組成物２２０を基板１の真上から噴射する。組成物の噴射は、基板１とノズル２５０とを相対的に移動させながら行ってもよい。また、基板１が円形の場合は、基板１を回転させながら塗布を行っても良い。
【００８７】  （２）光調整層形成用組成物２２０の噴射量を、組成物の粘度や、光調整層の厚みに応じて制御する。同一の条件で塗布をする限り、噴射量を一定とし、単位面積当たりの塗布量を一定とする。光調整層形成用組成物２２０の噴射量の経時的なバラツキは１０％以内とし、好ましくは１％以内とする。光調整層形成用組成物２２０の噴射量は、基板１に対するノズル２５０の相対移動速度と、ノズル２５０からの噴射圧力などで調整する。一般的には光調整層形成用組成物２２０の粘度が高い場合に、ノズル２５０の相対移動速度を遅くして、かつ噴射圧力を高く設定する。ノズルの相対移動速度は通常は約３０ｍｍ/ｓ〜２００ｍｍ/ｓであり；噴射圧力は通常は約０．０１ＭＰａ〜０．２ＭＰａである。
【００８８】  （３）必要に応じて、ノズル２５０の温度を調整し、光調整層形成用組成物２２０の噴射時の粘度を調整する。  （４）また、必要に応じて、基板１の温度調整をする。基板１の温度調整機構は、基板１を載置する移動台（図示せず）に設置することができる。基板１の温度を３０〜１００℃とすると、光調整層形成用組成物２２０中の溶媒を早く揮発させることができ、光調整層形成用組成物２２０が基板１から液だれすることを抑制できる。
【００８９】  （５）塗布装置２００の環境雰囲気（温度・湿度）は一定とし、光調整層形成用組成物２２０の噴射を安定させる。特に、光調整層形成用組成物２２０が、ポリシラザンを含む場合、ポリシラザンが吸湿して光調整層形成用組成物２２０自体が固化するおそれがある。そのため、光調整層形成用組成物２２０を噴射する際の湿度を低くすることが好ましい。
【００９０】  光調整層形成用組成物２２０の噴射・塗布作業中に、ノズル２５０をクリーニングしてもよい。この場合、塗布装置２００の近傍に、洗浄液を貯留したクリーニングタンクを設置する。光調整層形成用組成物２２０の噴射の休止中等に、ノズル２５０の先端部をクリーニングタンク中に浸漬させ、ノズル２５０の先端部の乾燥を防ぐ。また、噴射・塗布作業の休止中には、光調整層形成用組成物２２０が硬化してノズル２５０の噴射孔がつまる恐れがある。そのため、ノズル２５０をクリーニングタンク中に浸漬させるか、噴射・塗布作業の開始時にノズル２５０をクリーニングすることが好ましい。
【００９１】  （第二の方法）  第二の方法では、拡散粒子や蛍光体粒子、無機酸化物微粒子、粘度化合物等、粒子状の成分と溶媒とを含む粒子含有溶液を調製し、これを塗布する。粒子含有溶液に含まれる溶媒は、前述の光調整層形成用組成物に含まれる溶媒と同様でありうる。
【００９２】  粒子含有溶液の塗布方法は、特に制限されず、バーコート法、スピンコート法、スプレーコート法、ディスペンス法、ジェットディスペンス法、インクジェット法、スクリーン印刷法等、従来公知の方法でありうる。特に、スプレーコート法やディスペンス法が、前述のように、粒子含有溶液の塗り分けが容易であること等から好ましい。粒子含有溶液の塗布に用いられるスプレー塗布装置は、前述の光調整層形成用組成物の塗布装置と同様でありうる。
【００９３】  粒子含有溶液の塗布後、塗膜中に含まれる溶媒を乾燥させて、塗膜を固化させる。溶媒を乾燥させる際の温度は、通常２０〜２００℃であり、好ましくは２５〜１５０℃である。溶媒乾燥時の温度が２０℃未満であると、塗膜が十分に乾燥しないおそれがある。一方、乾燥温度が２００℃を超えると、基板等に影響を及ぼす可能性がある。
【００９４】  続いて、セラミック前駆体を含むセラミック前駆体含有組成物を、粒子含有膜上に塗布し、加熱硬化させる。粒子含有膜上に、セラミック前駆体含有組成物を塗布すると、セラミック前駆体が、蛍光体や拡散材料、無機酸化物微粒子、粘土化合物等の間に入り込む。その結果、得られる光調整層において、蛍光体や拡散材料等がセラミックバインダによって結着される。
【００９５】  セラミック前駆体含有組成物には、必要に応じて、溶媒が含まれてもよい。セラミック前駆体含有組成物に含まれ得る溶媒は、前述の光調整層形成用組成物に含まれる溶媒と同様である。
【００９６】  セラミック前駆体含有組成物の塗布方法は特に制限されないが、バーコート法、スピンコート法、スプレーコート法、ディスペンス法、ジェットディスペンス法、インクジェット法等、従来公知の方法でありうる。前述のように、光調整層の端部の厚みを調整する場合には、セラミック前駆体含有組成物をスプレーコート法で塗布することが好ましい。セラミック前駆体含有組成物の塗布に用いられるスプレー塗布装置は、前述の光調整層形成用組成物の塗布装置と同様でありうる。
【００９７】  その後、セラミック前駆体含有組成物の塗布後、塗膜を１００℃以上、好ましくは１５０〜３００℃に加熱し、塗膜を乾燥・硬化させる。加熱温度が１００℃未満であると、セラミック前駆体の脱水縮合時に生じる水を十分に除去できず、得られる光調整層の耐光性等が低下する可能性がある。
【００９８】  ２．投射型表示装置について  本発明の投射型表示装置は、前述の投射型表示装置用カラーホイールを含む。本発明の投射型表示装置３００の模式図を図５に示す。なお図５は、カラーホイールが透過型カラーホイールである場合の模式図である。本発明の投射型表示装置３００は、光源１１０と、カラーホイール１００と、投射光学系１１４とを少なくとも含む。光源１００から出射された光がレンズ１１１等により集光されて、前述のカラーホイール１００に照射される。このとき、カラーホイール１００の光調整層（図示せず）により、光源からの光が拡散及び／または波長変換される。そして、当該カラーホイール１００を透過した光が、レンズ１１２やミラー１１３等を介して投射光学系１１４に集光されて、スクリーンに画像が表示される。
【００９９】  光源１１０から出射する光の波長は特に制限されず、カラーホイール１００の光調整層に含まれる蛍光体を励起可能な波長の光とされる。光源は、例えば、紫外から近紫外光や青色の波長の光を照射可能なＬＥＤ素子等でありうる。また、投射光学系１１４やレンズ１１１、１１２やミラー１１３等は、一般的な投射型表示装置に含まれるものと同様でありうる。
【０１００】  本発明の投射型表示装置では、カラーホイール１００に含まれる光調整層が着色したり、拡散材料や蛍光体が脱落すること等が少ない。したがって、長期間に亘って、高品質な画像表示が可能である。
【実施例】
【０１０１】  以下、本発明を実施例により更に詳細に説明する。しかしながら、本発明の範囲はこれによって何ら制限を受けない。なお、各層の厚みは、触針式表面形状測定器  Ｄｅｋｔａｋ１５０を用いて測定した。【０１０２】  ［比較例１］  シリコーン樹脂（東レダウコーニング社製  ＯＥ６３３６）１００ｇに、緑色蛍光体（Ｉｎｔｅｍａｔｉｘ社製  ＧＡＬ５４５）を５０ｇ混合し、光調整層形成用組成物を得た。当該組成物を、円形のガラス基板（外径５０ｍｍ、内径１０ｍｍ、厚み１ｍｍ）にバーコート塗布した。その後、１５０℃で３時間加熱し、前記シリコーン樹脂を硬化させて光調整層を得た。光調整層の厚みは１００μｍとした。【０１０３】  ［比較例２］  シリコーン樹脂（東レダウコーニング社製  ＯＥ６３３６）１００ｇに、酸化チタン（ＴＡ−１００、富士チタン工業製、粒径６００ｎｍ）を５０ｇ混合し、光調整層形成用組成物を得た。当該組成物を、円形のガラス基板（外径５０ｍｍ、内径１０ｍｍ、厚み１ｍｍ）にバーコート塗布した。その後、１５０℃で３時間加熱し、前記シリコーン樹脂を硬化させて光調整層を得た。光調整層の厚みは１００μｍとした。【０１０４】  ［実施例１］  （粒子含有溶液の調製）  酸化ケイ素（ＲＸ３００、日本アエロジル株式会社製、粒径７ｎｍ）４ｇ、スメクタイト（ルーセンタイトＳＷＮ、コープケミカル社製）４ｇ、及び緑色蛍光体（ＧＡＬ５４５、Ｉｎｔｅｍａｔｉｘ社製）７７ｇをプロピレングリコール１００ｇ中に混合し、粒子含有溶液を調製した。【０１０５】  (セラミック前駆体含有組成物の調整)  メチルトリメトキシシラン１００ｇ、テトラメトキシシラン３００ｇ、メタノール４００ｇ、及びアセトン４００ｇを混合し、これを撹拌した。当該混合液にさらに、水５４６ｇ、及び６０％硝酸４７０μＬを加えて３時間撹拌し、セラミック前駆体含有組成物を得た。【０１０６】  (光調整層溶液の作製)  比較例１と同様のガラス基板上にマスクを配置し、前述の粒子含有溶液をスプレー塗布した。当該粒子含有溶液を１５０℃で１時間乾燥させて、粒子含有膜を形成した。このとき、スプレーのノズルと、基板との距離は１００ｍｍとし、さらに塗布速度（基板とスプレー装置との相対速度）を５０ｍｍ／ｓとした。また、スプレー塗布時には、マスクにて基板の一部を覆い、幅１８ｍｍのリング状に光調整層形成用塗布液を塗布した。  その後、当該粒子含有膜上に、前述のセラミック前駆体含有組成物を粒子含有溶液と同様の条件で塗布し、１５０℃で１時間焼成した。これにより、蛍光体粒子等がセラミックバインダで結着された光調整層を得た。光調整層の厚みを１００μｍ、端部の厚みも、１００μｍとした。中心部の厚みとは、幅１８ｍｍのリング状の光調整層の中心を含む１．８ｍｍ（幅に対して１０％）の領域の平均厚みとする。一方、端部の厚みとは、当該光調整層の端部から１．８ｍｍ（幅に対して１０％）の領域の平均厚み（両端部の平均値）とする。【０１０７】  ［実施例２］  実施例１のセラミック前駆体含有組成物を、ポリシラザン含有溶液（ＮＮ１２０、ＡＺエレクトロニックマテリアルズ社製、ポリシラザン２０質量％、ジブチルエーテル８０質量％）に変更した以外は、実施例１と同様に光調整層を得��。光調整層の厚みは、中心部及び端部ともに１００μｍとした。【０１０８】  ［実施例３］  実施例１の粒子含有溶液における蛍光体を、酸化チタン（ＴＡ−１００、富士チタン工業社製、粒径６００ｎｍ）に変えた以外は、実施例１と同様に光調整層を得た。光調整層の厚みは、中心部及び端部ともに１００μｍとした。【０１０９】  ［実施例４］  以下のセラミック前駆体含有液を用いた以外は、実施例１と同様に光調整層を作製した。光調整層の厚みは、中心部及び端部ともに１００μｍとした。また、光調整層に含まれるポリシロキサンの構成単位中の２官能アルコキシシラン由来の構成単位の量を２９Ｓｉ−ＮＭＲで測定したところ、５モル％であった。【０１１０】  (セラミック前駆体含有組成物の調整)  ジメチルジメトキシシラン１５ｇ、メチルトリメトキシシラン１００ｇ、テトラメトキシシラン３００ｇ、メタノール４００ｇ、及びアセトン４００ｇを混合し、これを撹拌した。さらに、水５４６ｇ、及び６０％硝酸４７０μＬを加えて３時間撹拌し、セラミック前駆体含有組成物を得た。【０１１１】  ［実施例５］  以下のセラミック前駆体含有液を用いた以外は、実施例１と同様に光調整層を作製した。光調整層の厚みは、中心部及び端部ともに１００μｍとした。また、光調整層に含まれるポリシロキサンの構成単位中の２官能アルコキシシラン由来の構成単位の量を２９Ｓｉ−ＮＭＲで測定したところ、５０モル％であった。【０１１２】  (セラミック前駆体含有組成物の調整)  ジメチルジメトキシシラン２００ｇ、メチルトリメトキシシラン５０ｇ、テトラメトキシシラン２５０ｇ、メタノール４００ｇ、及びアセトン４００ｇを混合し、これを撹拌した。さらに、水５４６ｇ及び６０％硝酸４７０μＬを加えて３時間撹拌し、セラミック前駆体含有組成物を得た。【０１１３】  ［実施例６］  以下のセラミック前駆体含有液を用いた以外は、実施例１と同様に光調整層を作製した。光調整層の厚みは、中心部及び端部ともに１００μｍとした。また、光調整層に含まれるポリシロキサンの構成単位中の２官能アルコキシシラン由来の構成単位の量を２９Ｓｉ−ＮＭＲで測定したところ、６０モル％であった。【０１１４】  (セラミック前駆体含有組成物の調整)  ジメチルジメトキシシラン３００ｇ、メチルトリメトキシシラン５０ｇ、テトラメトキシシラン２５０ｇ、メタノール４００ｇ、及びアセトン４００ｇを混合し、これを撹拌した。さらに、水５４６ｇ及び６０％硝酸４７０μＬを加えて３時間撹拌し、セラミック前駆体含有組成物を得た。【０１１５】  ［実施例７］  以下のセラミック前駆体含有液を用いた以外は、実施例１と同様に光調整層を作製した。光調整層の厚みは、中心部及び端部ともに１００μｍとした。また、光調整層に含まれるポリシロキサンの構成単位中の２官能アルコキシシラン由来の構成単位の量を２９Ｓｉ−ＮＭＲで測定したところ、３モル％であった。【０１１６】  (セラミック前駆体含有組成物の調整)  ジメチルジメトキシシラン１０ｇ、メチルトリメトキシシラン１５０ｇ、テトラメトキシシラン３５０ｇ、メタノール４００ｇ、及びアセトン４００ｇを混合し、これを撹拌した。さらに、水５４６ｇ及び６０％硝酸４７０μＬを加えて３時間撹拌し、セラミ���ク前駆体含有組成物を得た。【０１１７】  ［実施例８］  以下のセラミック前駆体含有液を用いた以外は、実施例１と同様に光調整層を作製した。光調整層の厚みは、中心部及び端部ともに１００μｍとした。また、光調整層に含まれるポリシロキサンの構成単位中の２官能アルコキシシラン由来の構成単位の量を２９Ｓｉ−ＮＭＲで測定したところ、３０モル％であった。【０１１８】  (セラミック前駆体含有組成物の調整)  ジメチルジメトキシシラン１１５ｇ、メチルトリメトキシシラン９５ｇ、テトラメトキシシラン３００ｇ、メタノール４００ｇ、及びアセトン４００ｇを混合し、これを撹拌した。さらに、水５４６ｇ及び６０％硝酸４７０μＬを加えて３時間撹拌し、セラミック前駆体含有組成物を得た。【０１１９】  ［実施例９］  以下の粒子含有溶液を用いた以外は、実施例１と同様に光調整層を作製した。光調整層の厚みは、中心部及び端部ともに１００μｍとした。また、光調整層に含まれるポリシロキサンの構成単位中の２官能アルコキシシラン由来の構成単位の量を２９Ｓｉ−ＮＭＲで測定したところ、当該構成単位は含まれなかった。【０１２０】  （粒子含有溶液の調製）  緑色蛍光体（ＧＡＬ５４５、Ｉｎｔｅｍａｔｉｘ社製）７７ｇをプロピレングリコール１００ｇ中に混合して、これを粒子含有溶液とした。【０１２１】  ［実施例１０］  実施例１の粒子含有溶液及び実施例８のセラミック前駆体含有溶液を混合して、光調整層形成用組成物とした。当該光調整層形成用組成物を塗布し、光調整層を形成した。塗布条件は、実施例１の粒子含有溶液の塗布方法と同様とした。光調整層形成用組成物の塗布後、１００℃で１時間乾燥させた。その後、１５０℃で１時間乾燥させて、光調整層を得た。  光調整層の厚みは、中心部及び端部ともに１００μｍとした。また、光調整層に含まれるポリシロキサンの構成単位中の２官能アルコキシシラン由来の構成単位の量を２９Ｓｉ−ＮＭＲで測定したところ、３０モル％であった。【０１２２】  ［実施例１１］  以下の粒子含有溶液を用いた以外は、実施例９と同様に光調整層を作製した。光調整層の厚みは、中心部及び端部ともに１００μｍとした。また、光調整層に含まれるポリシロキサンの構成単位中の２官能アルコキシシラン由来の構成単位の量を２９Ｓｉ−ＮＭＲで測定したところ、当該構成単位は含まれなかった。【０１２３】  （粒子含有溶液の調製）  酸化チタン（ＴＡ−１００、富士チタン工業社製、粒径６００ｎｍ）７７ｇをプロピレングリコール１００ｇ中に混合して、これを粒子含有溶液とした。【０１２４】［評価］  比較例１、２、及び実施例１〜１１で作製した投射型表示装置用カラーホイールについて、以下の方法により耐久性及びクラック耐性を評価した。結果を表１に示す。【０１２５】  （耐久性評価）  カラーホイールの光調整層側の正面から１ｗの青色レーザー（波長４０５ｎｍ）を１０００時間照射し、ガラス基板側から出射する光の輝度を測定した。レーザー照射開始時の輝度と、１０００時間照射後の変化率（照射後の輝度／照射前の輝度×１００）を示した。輝度の測定は、コニカミノルタセンシング社製、分光放射輝度計ＣＳ−１０００Ａを用いた。耐久性は、以下の基準で評価した。  ◎：変化率が９０％以上である  〇：変化率が８０％以上９０％未満である  △：変化率が７０％以上８０％未満である  ×：変化率が７０％未満である【０１２６】  （クラック耐性評価Ａ）  ヒートショック試験機を用いて、光調整層のクラック耐性を測定した。具体的には、−４０℃で３０分間、１００℃で３０分間を１サイクルとし、１０００サイクル行った。当該サイクルを行ったときのクラック発生状況を、顕微鏡にて目視観察した。そして、以下の基準で評価した。  ◎：クラック無し  〇：目視で確認できない程度のわずかなクラックが発生  △：目視で確認できる程度のクラックが発生しているが、実用上問題なし  ×：目視で確認できる程度のクラックが発生しており、実用上問題あり【０１２７】
【表１】
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【０１２８】  上記表１に示されるように、蛍光体または拡散材料を含み、かつセラミック前駆体を反応させて得られるセラミックバインダを含む光調整層では、耐久性が高く、かつ冷熱サイクルによっても、クラックが生じ難かった（実施例１〜１１）。また特に、セラミックバインダがポリシロキサンである場合に、２官能アルコキシシラン由来の構造が５モル％以上含まれると、光調整層のクラック耐性が高まりやすかった（実施例５、６、８、及び１０）。光調整層の柔軟性が高まったため、クラックが生じ難くなったと推察される。ただし、２官能アルコキシシラン由来の構造が５０モル％超含まれると、耐久性が若干低下した（実施例６）。２官能アルコキシシラン由来の構造に含まれる有機基の量が増えることで、膜が劣化しやすくなり、耐久性が低下したと推察される。【０１２９】  また、実施例１及び３の比較から、光調整層に含まれる粒子が、蛍光体である場合、及び拡散材料である場合の、いずれにおいても、同様の結果が得られることが示された。また、実施例８及び１０の比較から、蛍光体及びアルコキシシランオリゴマーを分けて塗布した場合、及び一液で塗布した場合のいずれにおいても、同様の結果が得られることが示された。なお、蛍光体や拡散材料と共に、無機酸化物微粒子が含まれない場合には、クラック耐性が若干低下した（実施例９）。【０１３０】  一方、光調整層のバインダがシリコーン樹脂である場合には、耐久性が低く、クラック耐性も低かった（比較例１及び比較例２）。冷熱衝撃によってバインダにクラックが生じやすく、さらにレーザー光によってもバインダが劣化したと推察される。【０１３１】  ［実施例１２］  以下の粒子含有溶液を用いた以外は、実施例８と同様に光調整層を作製した。光調整層の厚みは、中心部及び端部ともに１００μｍとした。また、光調整層に含まれるポリシロキサンの構成単位中の２官能アルコキシシラン由来の構成単位の量を２９Ｓｉ−ＮＭＲで測定したところ、３０モル％であった。【０１３２】  （粒子含有溶液の調製）  酸化ケイ素（ＲＸ３００、日本アエロジル株式会社製、粒径７ｎｍ）４ｇ、スメクタイト（ルーセンタイトＳＷＮ、コープケミカル社製）４ｇ、及び緑色蛍光体（ＧＡＬ５４５、Ｉｎｔｅｍａｔｉｘ社製）７７ｇ、をプロピレングリコール１００ｇ中に混合した。当該混合液にさらに酸化チタン（ＴＡ−１００、富士チタン工業社製、粒径６００ｎｍ）３３ｇを混合した。【０１３３】  ［実施例１３］  粒子含有溶液中の酸化チタンの量を４０ｇに変更した以外は、実施例１２と同様に光調整層を得た。【０１３４】  ［実施例１４］  粒子含有溶液中の酸化チタンの量を６３ｇに変更した以外は、実施例１２と同様に光調整層を得た。【０１３５】  ［実施例１５］  粒子含有溶液中の酸化チタンの量を１８０ｇに変更した以外は、実施例１２と同様に光調整層を得た。【０１３６】  ［実施例１６］  粒子含有溶液中の酸化チタンの量を２３０ｇに変更した以外は、実施例１２と同様に光調整層を得た。【０１３７】  ［実施例１７］  以下の粒子含有溶液を用いた以外は、実施例１４と同様に光調整層を得た。【０１３８】（粒子含有溶液の調製）  緑色蛍光体（ＧＡＬ５４５、Ｉｎｔｅｍａｔｉｘ社製）７７���、酸化チタン（ＴＡ−１００、富士チタン工業社製、粒径６００ｎｍ）６３ｇをプロピレングリコール１００ｇに混合した。【０１３９】［評価］  比較例１及び実施例８、１２〜１７で作製した投射型表示装置用カラーホイールについて、以下の方法により、励起光の透過抑制性を評価した。結果を表２に示す。【０１４０】  （励起光の透過抑制性評価）  各カラーホイールの光調整層の正面から、青色ＬＥＤにより光を照射した。そして、基板（ガラス基板）側から出射する青色光（波長４６０ｎｍの光）の強度を測定した。測定装置は、コニカミノルタセンシング社製分光放射輝度計ＣＳ−１０００Ａとした。また、リファレンスとして、ガラス基板の一方の面の正面から青色ＬＥＤにより光を照射し、他方の面から出射する青色光（波長４６０ｎｍの光）の強度を測定した。【０１４１】  各カラーホイールの光調整層には、青色光を受けて緑色光を出射する蛍光体が含まれている。つまり、当該カラーホイールは、緑色光を出射することが求められている。これに対し、光源からの光である青色光が光調整層を透過、つまり上記測定において基板側で青色光が観測されると、光調整層から出射する光に、緑色光だけでなく青色光も含まれてしまう。その結果、所望の緑色光が出射されないこととなる。  そこで、以下式で算出される強度比に基づき、励起光である青色光の透過度合いを評価した。評価は以下の基準とした。  強度比：各カラーホイールの基板側で測定される青色光の強度／リファレンスの青色光の強度×１００  ◎：上記強度比が３％未満  〇：上記強度比が３％以上５％未満  △：上記強度比が５％以上１０％未満  ×：上記強度比が１０％以上【０１４２】
【表２】
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【０１４３】  上記表２に示されるように、光調整層に拡散材料（酸化チタン）が含まれる場合には、励起光である青色光が光調整層を透過し難かった（実施例１２〜１７）。ただし、拡散材料の量が過剰であると、光調整層から出射する光量が非常に小さくなった（実施例１６）。拡散材料によって、蛍光体の励起光も遮蔽されてしまい、光量が小さくなったと推察される。【０１４４】  ［比較例１ｂ］  ガラス基板に、銀を厚み２００ｎｍ蒸着し、当該基板上に光調整層を作製した以外は、比較例１と同様に投射型表示装置用カラーホイールを作製した。【０１４５】  ［実施例１４ｂ］  粒子含有溶液に酸化ケイ素、スメクタイト、及び酸化チタン（拡散材料）を添加せず、ガラス基板に、銀を厚み２００ｎｍ蒸着し、当該基板上に光調整層を作製した以外は、実施例１４と同様に投射型表示装置用カラーホイールを作製した。【０１４６】  ［実施例１８］  セラミック前駆体含有組成物に、３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン１２．７ｇを混合した以外は実施例１４ｂと同様に、投射型表示装置用カラーホイールを作製した。【０１４７】  ［評価］  比較例１ｂ、実施例１４ｂ、及び実施例１８で作製した投射型表示装置用カラーホイールについて、以下の方法により、密着性を評価した。結果を表３に示す。【０１４８】  （密着性評価）  各ホイールを、温度６０℃、湿度９０％Ｒｈの環境下に１０００時間静置した。その後、カラーホイールの光調整層側の正面から５０ｗの青色レーザーを１０００ｈ照射し、ガラス基板側から出射する光の輝度を測定した。その後、光調整層の表面を顕微鏡にて目視観察し、基板と光調整層との間に剥がれがあるか、確認した。  ◎：全く剥がれ無し  〇：殆ど剥がれ無し  ×：剥がれ有り【０１４９】
【表３】
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【０１５０】  表３に示されるように、光調整層のバインダがポリシロキサンである場合（実施例１４ｂ及び１８）には、基板と光調整層との密着性が高まった。ポリシロキサン中のＳｉと、基板表面のＯＨ基等とがＳｉ−Ｏ結合を形成するため、基板と光調整層との密着性が高まったと推察される。またさらに、光調整層形成時に、メルカプト基含有シランカップリング剤が添加されると、基板と光調整層との密着性が高まり、光調整層が非常に剥離し難かった。【０１５１】  ［実施例１９］  スプレー装置のノズルと基板との距離を３０ｍｍとし、さらに塗布速度（基板とスプレー装置との相対速度）を１００ｍｍ／ｓとした以外は、実施例１４と同様に光調整層を形成した。得られた光調整層の端部の厚みは、中心部の厚み（１００μｍ）に対して、５０％（５０μｍ）であった。【０１５２】  ［実施例２０］  スプレー装置のノズルと基板との距離を７０ｍｍとし、さらに塗布速度（基板とスプレー装置との相対速度）を７０ｍｍ／ｓとした以外は、実施例１４と同様に光調整層を形成した。得られた光調整層の端部の厚みは、中心部の厚み（１００μｍ）に対して、７０％（７０μｍ）であった。【０１５３】  ［実施例２１］  スプレー装置のノズルと基板との距離を５０ｍｍとし、さらに塗布速度（基板とスプレー装置との相対速度）を８５ｍｍ／ｓとした以外は、実施例１４と同様に光調整層を形成した。得られた光調整層の端部の厚みは、中心部の厚み（１００μｍ）に対して、６０％（６０μｍ）であった。【０１５４】［評価］  実施例１４、及び１９〜２１で作製した投射型表示装置用カラーホイールについて、以下の方法によりクラック耐性を評価した。結果を表４に示す。【０１５５】  （クラック耐性評価Ｂ）  ヒートショック試験機を用いて、光調整層のクラック耐性を調整した。具体的には、−４０℃で３０分間、１２５℃で３０分間を１サイクルとし、１０００サイクル行った。当該サイクルを行ったときのクラック発生状況を、顕微鏡にて目視観察した。そして、以下の基準で評価した。  ◎：クラック無し  〇：目視で確認できない程度のわずかなクラックが発生  △：目視で確認できる程度のクラックが発生しているが、実用上問題なし  ×：目視で確認できる程度のクラックが発生しており、実用上問題あり【０１５６】
【表４】
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【０１５７】  表４に示されるように、平坦な形状の光調整層を有する実施例１４より、中心部の厚みに対して端部の厚みが薄い光調整層を有する実施例１９〜２１では、クラック耐性が高まりやすかった。光調整層の厚みが端部で薄くなると、光調整層の成膜時に生じる歪みが緩和されやすく、さらに冷熱サイクル時にかかる応力も緩和されやすくなると推察される。【０１５８】  本出願は、２０１５年１月３０日出願の特願２０１５−０１７３４３号に基づく優先権を主張する。当該出願明細書および図面に記載された内容は、すべて本願明細書に援用される。
【産業上の利用可能性】
【０１５９】  本発明の投射型表示装置用カラーホイールは、長期間使用しても、光調整層が着色し難く、さらに蛍光体や拡散材料の脱落も少ない。したがって、各種投射型表示装置に適用可能である。
【符号の説明】
【０１６０】  １  基板  ２  光調整層  １００  投射型表示装置用カラーホイール
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【国際調査報告】
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