(57)【要約】  一般式（Ｉ）：2016098793.tif 000335（式中、Ｚは−ＣＲ１Ｒ２−であり、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、ヒドロキシ等であるか、隣接する原子と一緒になって、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環または置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成する等であり；Ｇは置換もしくは非置換の炭素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基等であり；ｎは１〜５の整数である。）でされる化合物またはその製薬上許容される塩は、抗真菌剤として有用である。
2016098793.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）：
【化１】
2016098793.tif 000326
（式中、Ｚは−ＣＲ１Ｒ２−であり、
Ｒ１はそれぞれ独立して、
水素原子、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アシル、アシルオキシ、スルファニル、スルホ、ペンタハロゲノチオ、シアノ、ニトロ、ウレイド、アミジノ、グアニジノ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換のカルバモイル、置換もしくは非置換のスルファモイル、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキルスルホニル、置換もしくは非置換のアルケニルスルホニル、置換もしくは非置換のアルキニルスルホニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルケニルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルキニルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルキルスルファニル、置換もしくは非置換のアルケニルスルファニル、置換もしくは非置換のアルキニルスルファニル、置換もしくは非置換のアルキルスルフィニル、置換もしくは非置換のアルケニルスルフィニル、置換もしくは非置換のアルキニルスルフィニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルホニル、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルホニルであり、
隣接しない炭素原子に結合する２つのＲ１が一緒になって、置換もしくは非置換のアルキレン、置換もしくは非置換のアルケニレン、または置換もしくは非置換のアルキニレンを形成するか、
Ｒ２はそれぞれ独立して、
水素原子、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アシル、アシルオキシ、スルファニル、スルホ、ペンタハロゲノチオ、シアノ、ニトロ、ウレイド、アミジノ、グアニジノ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換のカルバモイル、置換もしくは非置換のスルファモイル、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキルスルホニル、置換もしくは非置換のアルケニルスルホニル、置換もしくは非置換のアルキニルスルホニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルケニルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルキニルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルキルスルファニル、置換もしくは非置換のアルケニルスルファニル、置換もしくは非置換のアルキニルスルファニル、置換もしくは非置換のアルキルスルフィニル、置換もしくは非置換のアルケニルスルフィニル、置換もしくは非置換のアルキニルスルフィニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルホニル、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルホニルであるか、
同一炭素原子に結合するＲ１およびＲ２が、該炭素原子と一緒になって、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環または置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成するか、
または、
同一炭素原子に結合するＲ１およびＲ２が一緒になって、オキソ、置換もしくは非置換のアルキルイミノ、置換もしくは非置換のアルケニルイミノ、置換もしくは非置換のアルキニルイミノ、置換もしくは非置換のアルキルカルボニルイミノ、置換もしくは非置換のアルケニルカルボニルイミノ、置換もしくは非置換のアルキニルカルボニルイミノ、置換もしくは非置換のアルキルオキシイミノ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシイミノ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシイミノ、または置換もしくは非置換のメチリデンを形成し、
Ｇは置換もしくは非置換の炭素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基、または式（Ｉ−Ｇ１）：
【化２】
2016098793.tif 000327
（式中、
Ｒ３およびＲ４については、
ａ）Ｒ３およびＲ４が隣接する原子と一緒になって、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成するか、または、
ｂ）Ｒ３およびＲ４が一緒になって、置換もしくは非置換のメチリデン、または置換もしくは非置換のヒドロキシイミノを形成し、
Ｘ’はハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、スルファニル、スルフィノ、スルホ、チオホルミル、チオカルボキシ、ジチオカルボキシ、チオカルバモイル、ペンタハロゲノチオ、シアノ、ニトロ、ニトロソ、ヒドラジノ、ウレイド、アミジノ、グアニジノ、アシル、アシルオキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換のカルバモイル、置換もしくは非置換のスルファモイル、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキルスルホニル、置換もしくは非置換のアルケニルスルホニル、置換もしくは非置換のアルキニルスルホニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルケニルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルキニルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルキルスルファニル、置換もしくは非置換のアルケニルスルファニル、置換もしくは非置換のアルキニルスルファニル、置換もしくは非置換のアルキルスルフィニル、置換もしくは非置換のアルケニルスルフィニル、置換もしくは非置換のアルキニルスルフィニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルファニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環スルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルファニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルホニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルホニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環スルホニル、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルホニルである。）
で示される基であり、
ｎは２〜５の整数である。
ただし、
Ｇの炭素環式基がフェニルの場合、
ｉ）該フェニル基は少なくとも１つ以上の置換もしくは非置換の炭素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基、置換もしくは非置換の炭素環アルキルまたは置換もしくは非置換の複素環アルキルで置換されており、該フェニルはさらに置換されていてもよく、および／または
ｉｉ）該フェニル基の少なくとも１つのメタ位が置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシ、または置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシで置換されており、該フェニル基はさらに置換されていてもよく、かつ、
以下の化合物（Ａ−１）〜（Ａ−３４）を除く。
【化３】
2016098793.tif 000328
【化４】
2016098793.tif 000329
【化５】
2016098793.tif 000330
）で示される化合物またはその製薬上許容される塩。
【請求項２】
Ｇが式（Ｉ−Ｇ１）：
【化６】
2016098793.tif 000331
（式中、各記号は前記と同意義である。）で示される基
または式（Ｉ−Ｇ２）：
【化７】
2016098793.tif 000332
（式中、
Ｙは炭素環または複素環であり、ｍは０〜５であり、
Ｘはそれぞれ独立してハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、スルファニル、スルフィノ、スルホ、チオホルミル、チオカルボキシ、ジチオカルボキシ、チオカルバモイル、ペンタハロゲノチオ、シアノ、ニトロ、ニトロソ、ヒドラジノ、ウレイド、アミジノ、グアニジノ、アシル、アシルオキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換のカルバモイル、置換もしくは非置換のスルファモイル、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルアミノ、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキルスルホニル、置換もしくは非置換のアルケニルスルホニル、置換もしくは非置換のアルキニルスルホニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルケニルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルキニルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルキルスルファニル、置換もしくは非置換のアルケニルスルファニル、置換もしくは非置換のアルキニルスルファニル、置換もしくは非置換のアルキルスルフィニル、置換もしくは非置換のアルケニルスルフィニル、置換もしくは非置換のアルキニルスルフィニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルファニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環スルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルファニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルホニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルホニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環スルホニル、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルホニルである。）で示される基である、請求項１記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【請求項３】
Ｇが式（Ｉ−Ｇ２）で示される基である、請求項１記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【請求項４】
Ｙが複素環である、請求項３記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【請求項５】
ｎが２または３である、請求項１〜４のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【請求項６】
ｎが３である、請求項５記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【請求項７】
式：
【化８】
2016098793.tif 000333
が、式：
【化９】
2016098793.tif 000334
（式中、各定義は前記と同意義である。）
である、請求項５記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【請求項８】
Ｒ１がそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換もしくは非置換のアルキルであるか、隣接しない炭素原子に結合する２つのＲ１が一緒になって、置換もしくは非置換のアルキレンを形成するか、Ｒ２がそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換もしくは非置換のアルキルであるか、同一炭素原子に結合するＲ１およびＲ２が隣接する原子と一緒になって置換もしくは非置換のシクロアルカンを形成するか、
または、同一炭素原子に結合するＲ１およびＲ２が一緒になって、オキソまたは置換もしくは非置換のメチリデンである、請求項１〜７のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【請求項９】
Ｘがそれぞれ独立して、ハロゲン、シアノ、アシル、アシルオキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換のカルバモイル、置換もしくは非置換のスルファモイル、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキルアミノ、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換のもしくは非置換の芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシ、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシである、請求項２〜８のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【請求項１０】
Ｘがそれぞれ独立して、ハロゲン、シアノ、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルキルアミノ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換のもしくは非置換の芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシ、または置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシであり、ｍが１または２である、請求項２〜８のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【請求項１１】
Ｙが芳香族炭素環であり、ｍが２であり、Ｘがそれぞれ独立して、ハロゲン、シアノ、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換の炭素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基、置換もしくは非置換の炭素環アルキル、置換もしくは非置換の複素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシ、または置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシである、請求項２、３、および５〜１０のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【請求項１２】
化合物Ｉ−０００４、Ｉ−００３４、Ｉ−００８４、Ｉ−０１５９、Ｉ−０１８３、Ｉ−０２５１、Ｉ−０３３２、Ｉ−０３５５、Ｉ−０３７６、Ｉ−０３８２、Ｉ−０４７４、Ｉ−０４７８、Ｉ−０６０９、Ｉ−０６１６、Ｉ−０６５０、Ｉ−０８２９、Ｉ−０８３０、Ｉ−０８４２、Ｉ−０８４５、Ｉ−０８５６、Ｉ−０８７４、Ｉ−０８９４、Ｉ−０９１１、Ｉ−０９３２、Ｉ−０９３７、Ｉ−０９５８、およびＩ−１０５２から選択される、請求項１記載の化合物、またはその製薬上許容される塩。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩を含有する医薬組成物。
【請求項１４】
抗真菌作用を有する、請求項１３記載の医薬組成物。
【請求項１５】
請求項１〜１２のいずれかに記載の化合物、またはその製薬上許容される塩を投与することを特徴とする、真菌感染に関連する疾患の治療またはその予防方法。
【請求項１６】
真菌感染に関連する疾患を治療または予防するための、請求項１〜１２のいずれかに記載の化合物、またはその製薬上許容される塩。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、抗真菌活性を有する新規な環状グアニジル基を有するチアゾール誘導体またはその塩、およびそれらを含有する抗真菌剤に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、致死率の高い難治性深在性真菌症が大きな問題となっている。深在性真菌症の増加背景の１つとして、医療の高度化にともなう易感染性患者の増加が挙げられる。高度救命医療や臓器移植などに用いられる抗菌薬、抗腫瘍薬及び免疫抑制薬の頻用に伴って、これら高度医療適用患者は免疫力が低下している場合が多く、その為、健常人においては感染・発症することのない内因性または外因性の日和見感染菌であるカンジダ属菌やアスペルギルス属菌などの真菌が起因菌となって重篤な感染症を発症することがある。例えば、AIDS（後天性免疫不全症候群）患者では口腔・食道カンジダ症、クリプトコッカス髄膜炎などの併発や、臓器移植や抗癌化学療法を受けている患者では、播種性カンジダ症、侵襲性アスペルギルス症などの発症頻度が高い（非特許文献１，２）。欧米先進国やわが国において重度の免疫不全の患者は、今後益々増加することが予想され、深在性真菌症の対策を講じることが重要である。
深在性真菌症の治療には、抗真菌化学療法が適用されている。アムホテリシンBはカンジダ属菌、アスペルギルス属菌に対して強い殺真菌効果を示すが、腎毒性の軽減のため現在では主にリポソーム製剤が使用されており、薬効の減少により有効な治療が実現できていない問題がある（非特許文献３）。カスポファンギンおよびミカファンギンは、カンジダ属菌に対して殺真菌活性を示して比較的安全性が高いことから、カンジダ症に対して多用されて良好な臨床効果を示している。しかしながら、これらの薬剤に対する低感受性菌種や耐性菌の増加が懸念されている（非特許文献４）。イトラコナゾールおよびボリコナゾールは，アスペルギルス属菌に対して殺真菌活性を示してアムホテリシンBより安全性が高いことから、アスペルギルス症に対して多用されて致死率の改善に大きく貢献している。しかしながら，薬物相互作用や肝毒性などの副作用により十分量の投与ができていない問題や（非特許文献５）、長期投与によるアゾール耐性菌の増加の問題がある（非特許文献６，７，８）。 
そのため，これらの抗真菌剤以上の抗真菌活性を持ちながら、安全性および薬物相互作用が改善され、その結果として臨床治癒率や再発率が向上し、さらには既存薬の耐性菌に対しても効果を有する新系統の抗真菌剤が強く望まれている。【０００３】
特許文献１〜４には環状または非環状のグアニジル基を有するチアゾール誘導体が開示されているが、抗真菌作用に関する記載や示唆はない。また、特許文献５〜９および非特許文献９、１０には抗真菌作用を有する環状グアニジル基を有するチアゾール誘導体が開示されているが、本発明の化合物またはその塩、およびそれらを含有する抗真菌剤は記載されていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平０３−１４１２７０号公報
【特許文献２】国際公開第９６／０５１８７号
【特許文献３】特開平０２−７２１７７号公報
【特許文献４】特開平０５−７８３５３号公報
【特許文献５】特開昭５８−２１６１８６号公報
【特許文献６】特開平０２−２７０８７０号公報
【特許文献７】独国特許出願公開第３８３６１６０号明細書
【特許文献８】特開平０２−１６４８７９号公報
【特許文献９】独国特許出願公開第３８３６１６１号明細書
【非特許文献】
【０００５】
【非特許文献１】Drugs (2007), 67(11), 1567-1601
【非特許文献２】Clinical Infectious Diseases (2003), 37(5), 634-643
【非特許文献３】Clinical Infectious Diseases (2007), 44(10), 1289-1297
【非特許文献４】Journal of Clinical Microbiology (2013), 51(8), 2571-2581
【非特許文献５】Clinical Infectious Diseases (2012), 55(8), 1080-1087
【非特許文献６】Journal of Antimicrobial Chemotherapy (2010), 65, 2116-2118
【非特許文献７】Antimicrobial Agents and Chemotherapy (2012), 56(9):4870-4875
【非特許文献８】Antimicrobial Agents and Chemotherapy (2013), 57(8), 3513-3517
【非特許文献９】Indian Journal of Chemistry, Section B: Organic Chemistry Including Medicinal Chemistry (1989), 28B(9), 786-789
【非特許文献１０】Chemotherapy (2008), 54(4), 245-259
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の課題は、カンジダ属菌、アスペルギルス属菌をはじめとする病原性真菌や種々の耐性菌に対して優れた抗真菌活性を示し、医薬品として有用な新規化合物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、少なくとも環状グアニジル基有するチアゾール誘導体を合成することにより、上記課題を解決し、以下の発明を提供する。【０００８】
（項目１）式（Ｉ）：
【化１】
2016098793.tif 000003
（式中、Ｚは−ＣＲ１Ｒ２−であり、
Ｒ１はそれぞれ独立して、
水素原子、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アシル、アシルオキシ、スルファニル、スルホ、ペンタハロゲノチオ、シアノ、ニトロ、ウレイド、アミジノ、グアニジノ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換のカルバモイル、置換もしくは非置換のスルファモイル、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキルスルホニル、置換もしくは非置換のアルケニルスルホニル、置換もしくは非置換のアルキニルスルホニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルケニルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルキニルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルキルスルファニル、置換もしくは非置換のアルケニルスルファニル、置換もしくは非置換のアルキニルスルファニル、置換もしくは非置換のアルキルスルフィニル、置換もしくは非置換のアルケニルスルフィニル、置換もしくは非置換のアルキニルスルフィニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルホニル、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルホニルであり、
隣接しない炭素原子に結合する２つのＲ１が一緒になって、置換もしくは非置換のアルキレン、置換もしくは非置換のアルケニレン、または置換もしくは非置換のアルキニレンを形成するか、
Ｒ２はそれぞれ独立して、
水素原子、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アシル、アシルオキシ、スルファニル、スルホ、ペンタハロゲノチオ、シアノ、ニトロ、ウレイド、アミジノ、グアニジノ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換のカルバモイル、置換もしくは非置換のスルファモイル、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキルスルホニル、置換もしくは非置換のアルケニルスルホニル、置換もしくは非置換のアルキニルスルホニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルケニルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルキニルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルキルスルファニル、置換もしくは非置換のアルケニルスルファニル、置換もしくは非置換のアルキニルスルファニル、置換もしくは非置換のアルキルスルフィニル、置換もしくは非置換のアルケニルスルフィニル、置換もしくは非置換のアルキニルスルフィニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルホニル、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルホニルであるか、
同一炭素原子に結合するＲ１およびＲ２が、該炭素原子と一緒になって、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環または置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成するか、
または、
同一炭素原子に結合するＲ１およびＲ２が一緒になって、オキソ、置換もしくは非置換のアルキルイミノ、置換もしくは非置換のアルケニルイミノ、置換もしくは非置換のアルキニルイミノ、置換もしくは非置換のアルキルカルボニルイミノ、置換もしくは非置換のアルケニルカルボニルイミノ、置換もしくは非置換のアルキニルカルボニルイミノ、置換もしくは非置換のアルキルオキシイミノ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシイミノ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシイミノ、または置換もしくは非置換のメチリデンを形成し、
Ｇは置換もしくは非置換の炭素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基、または式（Ｉ−Ｇ１）：
【化２】
2016098793.tif 000004
（式中、
Ｒ３およびＲ４については、
ａ）Ｒ３およびＲ４が隣接する原子と一緒になって、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成するか、または、
ｂ）Ｒ３およびＲ４が一緒になって、置換もしくは非置換のメチリデン、または置換もしくは非置換のヒドロキシイミノを形成し、
Ｘ’はハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、スルファニル、スルフィノ、スルホ、チオホルミル、チオカルボキシ、ジチオカルボキシ、チオカルバモイル、ペンタハロゲノチオ、シアノ、ニトロ、ニトロソ、ヒドラジノ、ウレイド、アミジノ、グアニジノ、アシル、アシルオキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換のカルバモイル、置換もしくは非置換のスルファモイル、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキルスルホニル、置換もしくは非置換のアルケニルスルホニル、置換もしくは非置換のアルキニルスルホニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルケニルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルキニルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルキルスルファニル、置換もしくは非置換のアルケニルスルファニル、置換もしくは非置換のアルキニルスルファニル、置換もしくは非置換のアルキルスルフィニル、置換もしくは非置換のアルケニルスルフィニル、置換もしくは非置換のアルキニルスルフィニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルファニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環スルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルファニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルホニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルホニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環スルホニル、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルホニルである。）
で示される基であり、
ｎは２〜５の整数である。
ただし、
Ｇの炭素環式基がフェニルの場合、
ｉ）該フェニル基は少なくとも１つ以上の置換もしくは非置換の炭素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基、置換もしくは非置換の炭素環アルキルまたは置換もしくは非置換の複素環アルキルで置換されており、該フェニルはさらに置換されていてもよく、および／または
ｉｉ）該フェニル基の少なくとも１つのメタ位が置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシ、または置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシで置換されており、該フェニル基はさらに置換されていてもよく、かつ、
以下の化合物（Ａ−１）〜（Ａ−３４）を除く。
【化３】
2016098793.tif 000005
【化４】
2016098793.tif 000006
【化５】
2016098793.tif 000007
）で示される化合物またはその製薬上許容される塩。【０００９】
（項目２）Ｇが式（Ｉ−Ｇ１）：
【化６】
2016098793.tif 000008
（式中、各記号は前記と同意義である。）で示される基
または式（Ｉ−Ｇ２）：
【化７】
2016098793.tif 000009
（式中、
Ｙは炭素環または複素環であり、ｍは０〜５であり、
Ｘはそれぞれ独立してハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、スルファニル、スルフィノ、スルホ、チオホルミル、チオカルボキシ、ジチオカルボキシ、チオカルバモイル、ペンタハロゲノチオ、シアノ、ニトロ、ニトロソ、ヒドラジノ、ウレイド、アミジノ、グアニジノ、アシル、アシルオキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換のカルバモイル、置換もしくは非置換のスルファモイル、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルアミノ、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキルスルホニル、置換もしくは非置換のアルケニルスルホニル、置換もしくは非置換のアルキニルスルホニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルケニルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルキニルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルキルスルファニル、置換もしくは非置換のアルケニルスルファニル、置換もしくは非置換のアルキニルスルファニル、置換もしくは非置換のアルキルスルフィニル、置換もしくは非置換のアルケニルスルフィニル、置換もしくは非置換のアルキニルスルフィニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルファニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環スルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルファニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルホニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルホニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環スルホニル、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルホニルである。）で示される基である、項目１記載の化合物またはその製薬上許容される塩。【００１０】
（項目３）Ｇが式（Ｉ−Ｇ２）で示される基である、項目１記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
（項目４）Ｙが複素環である、項目３記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
（項目５）ｎが２または３である、項目１〜４のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
（項目６）ｎが３である、項目５記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
（項目７）式：
【化８】
2016098793.tif 000010
が、式：
【化９】
2016098793.tif 000011
（式中、各定義は前記と同意義である。）
である、項目５記載の化合物またはその製薬上許容される塩。【００１１】
（項目８）Ｒ１がそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換もしくは非置換のアルキルであるか、隣接しない炭素原子に結合する２つのＲ１が一緒になって、置換もしくは非置換のアルキレンを形成するか、Ｒ２がそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換もしくは非置換のアルキルであるか、同一炭素原子に結合するＲ１およびＲ２が隣接する原子と一緒になって置換もしくは非置換のシクロアルカンを形成するか、
または、同一炭素原子に結合するＲ１およびＲ２が一緒になって、オキソまたは置換もしくは非置換のメチリデンである、項目１〜７のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。【００１２】
（項目９）Ｘがそれぞれ独立して、ハロゲン、シアノ、アシル、アシルオキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換のカルバモイル、置換もしくは非置換のスルファモイル、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキルアミノ、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換のもしくは非置換の芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシ、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシである、項目２〜８のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。【００１３】
（項目１０）Ｘがそれぞれ独立して、ハロゲン、シアノ、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルキルアミノ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換のもしくは非置換の芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシ、または置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシであり、ｍが１または２である、項目２〜８のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。【００１４】
（項目１１）Ｙが芳香族炭素環であり、ｍが２であり、Ｘがそれぞれ独立して、ハロゲン、シアノ、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換の炭素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基、置換もしくは非置換の炭素環アルキル、置換もしくは非置換の複素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシ、または置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシである、項目２、３、および５〜１０のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
（項目１２）
化合物Ｉ−０００４、Ｉ−００３４、Ｉ−００８４、Ｉ−０１５９、Ｉ−０１８３、Ｉ−０２５１、Ｉ−０３３２、Ｉ−０３５５、Ｉ−０３７６、Ｉ−０３８２、Ｉ−０４７４、Ｉ−０４７８、Ｉ−０６０９、Ｉ−０６１６、Ｉ−０６５０、Ｉ−０８２９、Ｉ−０８３０、Ｉ−０８４２、Ｉ−０８４５、Ｉ−０８５６、Ｉ−０８７４、Ｉ−０８９４、Ｉ−０９１１、Ｉ−０９３２、Ｉ−０９３７、Ｉ−０９５８、およびＩ−１０５２から選択される、項目１記載の化合物、またはその製薬上許容される塩。【００１５】
（項目１３）
項目１〜１２のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩を含有する医薬組成物。
（項目１４）
抗真菌作用を有する、項目１３記載の医薬組成物。
（項目１５）
項目１〜１２のいずれかに記載の化合物、またはその製薬上許容される塩を投与することを特徴とする、真菌感染に関連する疾患の治療またはその予防方法。
（項目１６）
真菌感染に関連する疾患を治療または予防するための、項目１〜１２のいずれかに記載の化合物、またはその製薬上許容される塩。【００１６】
（項目１０１）項目１〜１０のいずれかに記載の化合物、またはその製薬上許容される塩を含有する、経口投与のための医薬組成物。
（項目１０２）錠剤、散剤、顆粒剤、カプセル剤、丸剤、フィルム剤、懸濁剤、乳剤、エリキシル剤、シロップ剤、リモナーデ剤、酒精剤、芳香水剤、エキス剤、煎剤またはチンキ剤である、（項目１０１）記載の医薬組成物。
（項目１０３）糖衣錠、フィルムコーティング錠、腸溶性コーティング錠、徐放錠、トローチ錠、舌下錠、バッカル錠、チュアブル錠、口腔内崩壊錠、ドライシロップ、ソフトカプセル剤、マイクロカプセル剤または徐放性カプセル剤である、（項目１０２）記載の医薬組成物。
（項目１０４）項目１〜１０のいずれかに記載の化合物、またはその製薬上許容される塩を含有する、非経口投与のための医薬組成物。
（項目１０５）経皮、皮下、静脈内、動脈内、筋肉内、腹腔内、経粘膜、吸入、経鼻、点眼、点耳または膣内投与のための、（項目１０４）記載の医薬組成物。
（項目１０６）注射剤、点滴剤、点眼剤、点鼻剤、点耳剤、エアゾール剤、吸入剤、ローション剤、注入剤、塗布剤、含嗽剤、浣腸剤、軟膏剤、硬膏剤、ゼリー剤、クリーム剤、貼付剤、パップ剤、外用散剤または坐剤である、（項目１０４）または（項目１０５）記載の医薬組成物。
（項目１０７）項目１〜１０のいずれかに記載の化合物、またはその製薬上許容される塩を含有する、小児用または高齢者用の医薬組成物。
（項目１０８）項目１〜１０のいずれかに記載の化合物、またはその製薬上許容される塩と、ポリエン系化合物、ファンギン系化合物およびアゾール系化合物から選択される1つ以上の化合物との組み合わせからなる医薬組成物。
（項目１０９）項目１〜１０のいずれかに記載の化合物、またはその製薬上許容される塩を含有する、ポリエン系化合物、１，３−βグルカンシンテース阻害剤またはエルゴステロール生合成阻害剤との併用療法のための医薬組成物。
【発明の効果】
【００１７】
式（Ｉ）で示される化合物またはその製薬上許容される塩は、カンジダ属菌、アスペルギルス属菌または白癬属菌等に対して優れた抗真菌活性を有し、抗真菌剤として有用である。また、別の態様では、式（Ｉ）で示される化合物または製薬上許容される塩は、安全性、体内動態、溶解度、安定性等にも優れており医薬品として有用である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明の実施の形態を説明する。本明細書の全体にわたり、単数形の表現（例えば、英語の場合は、「ａ」、「ａｎ」、「ｔｈｅ」など、他の言語において対応する冠詞、形容詞など）は、特に言及しない限り、その複数形の概念をも含むことが理解されるべきである。また、本明細書において使用される用語は、特に言及しない限り、当該分野で通常用いられる意味で用いられることが理解されるべきである。したがって、他に定義されない限り、本明細書中で使用されるすべての専門用語および化学技術用語は、本発明の属する分野の当業者によって一般的に理解されるのと同じ意味を有する。矛盾する場合、本明細書（定義を含めて）が優先する。以下に、本明細書において具体的に使用される用語について具体的な定義を記載する。
「からなる」という用語は、構成要件のみを有することを意味する。
「含む」という用語は、構成要件に限定されず、記載されていない要素を排除しないことを意味する。
【００１９】
本明細書における各用語は、特に断りのない限り、単独または他の用語を組み合わされて、以下の通り定義される。
【００２０】
「ハロゲン」とは、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素を意味する。好ましくは、フッ素または塩素である。
【００２１】
「アルキル」とは、炭素数１〜１５、好ましくは炭素数１〜１０、より好ましくは炭素数１〜６、さらに好ましくは炭素数１〜４の直鎖又は分枝状の炭素水素来を包含する。例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｎ−ヘキシル、イソヘキシル、ｎ−ヘプチル、イソヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デニル等が挙げられる。
【００２２】
「アルキル」の好ましい態様として、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチルが挙げられる。さらに好ましい態様として、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｔｅｒｔ−ブチルが挙げられる。
【００２３】
「アルケニル」とは、任意の位置に１以上の二重結合を有する、炭素数２〜１５、好ましくは炭素数２〜１０、より好ましくは炭素数２〜６、さらに好ましくは炭素数２〜４の直鎖または分枝状の炭化水素来を包含する。例えば、ビニル、アリル、プロペニル、イソプロペニル、ブテニル、イソブテニル、プレニル、ブタジエニル、ペンテニル、イソペンテニル、ペンタジエニル、ヘキセニル、イソヘキセニル、ヘキサジエニル、ヘプテニル、オクテニル、ノネニル、デセニル、ウンデセニル、ドデセニル、トリデセニル、テトラデセニル、ペンタデセニル等が挙げられる。
「アルケニル」の好ましい態様として、ビニル、アリル、プロペニル、イソプロペニル、ブテニルが挙げられる。
【００２４】
「アルキニル」とは、任意の位置に１以上の三重結合を有する、炭素数２〜１０、好ましくは炭素数２〜８、さらに好ましくは炭素数２〜６、さらに好ましくは炭素数２〜４の直鎖又は分枝状の炭化水素基を包含する。さらに任意の位置に二重結合を有していてもよい。例えば、エチニル、プロピニル、ブチニル、ペンチニル、ヘキシニル、ヘプチニル、オクチニル、ノニニル、デシニル等を包含する。
「アルキニル」の好ましい態様として、エチニル、プロピニル、ブチニル、ペンチニルが挙げられる。
【００２５】
「アルキレン」とは、炭素数１〜１５、好ましくは炭素数１〜１０、より好ましくは炭素数１〜６、さらに好ましくは炭素数１〜４の直鎖又は分枝状の２価の炭化水素基を包含する。例えば、メチレン、エチレン、トリメチレン、プロピレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン等が挙げられる。
【００２６】
「アルケニレン」とは、任意の位置に１以上の二重結合を有する、炭素数２〜１５、好ましくは炭素数２〜１０、より好ましくは炭素数２〜６、さらに好ましくは炭素数２〜４の直鎖又は分枝状の２価の炭化水素基を包含する。例えば、ビニレン、プロペニレン、ブテニレン、ペンテニレン等が挙げられる。
【００２７】
「アルキニレン」とは、任意の位置に１以上の三重結合を有する、炭素数２〜１５、好ましくは炭素数２〜１０、より好ましくは炭素数２〜６、さらに好ましくは炭素数２〜４の直鎖又は分枝状の２価の炭化水素基を包含する。さらに任意の位置に二重結合を有していてもよい。例えば、エチニレン、プロピニレン、ブチニレン、ペンチニレン、ヘキシニレン等が挙げられる。
【００２８】
「芳香族炭素環式基」とは、単環または２環以上の環状芳香族炭化水素基を意味する。例えば、フェニル、ナフチル、アントリル、フェナントリル等が挙げられる。
「芳香族炭素環式基」の好ましい態様として、フェニルが挙げられる。
【００２９】
「非芳香族炭素環式基」とは、単環または２環以上の、環状飽和炭化水素基または環状非芳香族不飽和炭化水素基を意味する。２環以上の「非芳香族炭素環式基」は、単環または２環以上の非芳香族炭素環式基に、上記「芳香族炭素環式基」における環が縮合したものも包含する。
さらに、「非芳香族炭素環式基」は、以下のように架橋している基、またはスピロ環を形成する基も包含する。
【化１０】
2016098793.tif 000012
単環の非芳香族炭素環式基としては、炭素数３〜１６が好ましく、より好ましくは、炭素数３〜１２、さらに好ましくは炭素数３〜８である。例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル、シクロプロペニル、シクロブテニル、シクロペンテニル、シクロヘキセニル、シクロヘプテニル、シクロヘキサジエニル等が挙げられる。
２環以上の非芳香族炭素環式基としては、例えば、インダニル、インデニル、アセナフチル、テトラヒドロナフチル、フルオレニル等が挙げられる。
【００３０】
「非芳香族炭素環」とは、上記「非芳香族炭素環式基」から導かれる環を意味する。
【００３１】
「シクロアルキル」とは、環状飽和炭化水素基を意味し、炭素数３〜１６が好ましく、より好ましくは、炭素数３〜１２、さらにこの好ましくは炭素数３〜８である。例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル等が挙げられる。
「シクロアルキル」の好ましい態様としては、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチルが挙げられる。
【００３２】
「シクロアルカン」とは、上記「シクロアルキル」から導かれる環を意味する。
【００３３】
「炭素環式基」とは、上記「芳香族炭素環式基」および「非芳香族炭素環式基」を包含する。
「炭素環」とは、上記「炭素環式基」から導かれる環を意味する。
【００３４】
「芳香族複素環式基」とは、Ｏ、ＳおよびＮから任意に選択される同一または異なるヘテロ原子を環内に１以上有する、単環または２環以上の、芳香族環式基を意味する。２環以上の芳香族複素環式基は、単環または２環以上の芳香族複素環式基に、上記「芳香族炭素環式基」における環が縮合したものも包含する。
単環の芳香族複素環式基としては、５〜８員が好ましく、より好ましくは５員または６員である。例えば、５員の単環の芳香族複素環式基としては、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、フリル、チエニル、イソオキサゾリル、オキサゾリル、オキサジアゾリル、イソチアゾリル、チアゾリル、チアジアゾリル等が挙げられ、６員の単環の芳香族複素環式基としては、ピリジル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニル、トリアゾリル、トリアジニル、テトラゾリル等が挙げられる。
２環の芳香族複素環式基としては、例えば、インドリル、イソインドリル、インダゾリル、インドリジニル、キノリニル、イソキノリニル、シンノリニル、フタラジニル、キナゾリニル、ナフチリジニル、キノキサリニル、プリニル、プテリジニル、ベンズイミダゾリル、ベンズイソオキサゾリル、ベンズオキサゾリル、ベンズオキサジアゾリル、ベンズイソチアゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾチアジアゾリル、ベンゾフリル、イソベンゾフリル、ベンゾチエニル、ベンゾトリアゾリル、イミダゾピリジル、トリアゾロピリジル、イミダゾチアゾリル、ピラジノピリダジニル、オキサゾロピリジル、チアゾロピリジル等が挙げられる。
３環以上の芳香族複素環式基としては、例えば、カルバゾリル、アクリジニル、キサンテニル、フェノチアジニル、フェノキサチイニル、フェノキサジニル、ジベンゾフリル等が挙げられる。
【００３５】
「芳香族複素環」とは、上記「芳香族複素環式基」から導かれる環を意味する。
【００３６】
「非芳香族複素環式基」とは、Ｏ、ＳおよびＮから任意に選択される同一または異なるヘテロ原子を環内に１以上有する、単環または２環以上の、環状非芳香族環式基を意味する。２環以上の非芳香族複素環式基は、単環または２環以上の非芳香族複素環式基に、上記「芳香族炭素環式基」、「非芳香族炭素環式基」、および／または「芳香族複素環式基」におけるそれぞれの環が縮合したものも包含する。
さらに、「非芳香族複素環式基」は、以下のように架橋している基、またはスピロ環を形成する基も包含する。
【化１１】
2016098793.tif 000013
単環の非芳香族複素環式基としては、３〜８員が好ましく、より好ましくは５員または６員である。例えば、ジオキサニル、チイラニル、オキシラニル、オキセタニル、オキサチオラニル、アゼチジニル、チアニル、チアゾリジニル、ピロリジニル、ピロリニル、イミダゾリジニル、イミダゾリニル、ピラゾリジニル、ピラゾリニル、ピペリジニル、ピペラジニル、テトラヒドロピリジル、テトラヒドロフリル、テトラヒドロピラニル、ジヒドロチアゾリル、テトラヒドロチアゾリル、テトラヒドロイソチアゾリル、ジヒドロオキサジニル、ヘキサヒドロアゼピニル、テトラヒドロジアゼピニル、テトラヒドロピリダジニル、ヘキサヒドロピリミジニル、ジオキソラニル、ジオキサジニル、アジリジニル、ジオキソリニル、オキセパニル、チオラニル、チイニル、チアジニル、アゼパン-1-イル等が挙げられる。
２環以上の非芳香族複素環式基としては、例えば、インドリニル、イソインドリニル、クロマニル、イソクロマニル、オクタヒドロ−7H-ピラノ[2,3−c]ピリジン−7−イル、ヘキサヒドロ−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジン-6(5H)-イル、7,8-ジヒドロピリド[4,3−d]ピリミジン-6(5H)−イル等が挙げられる。
【００３７】
「非芳香族複素環」とは、上記「非芳香族複素環式基」から導かれる環を意味する。
【００３８】
「複素環式基」とは、上記「芳香族複素環式基」および「非芳香族複素環式基」を包含する。
【００３９】
「複素環」とは、上記「複素環式基」から導かれる環を意味する。
【００４０】
「アシル」とは、ホルミルおよび置換基を有するカルボニルを意味する。
「置換基を有するカルボニル」とは、置換もしくは非置換のアルキルカルボニル、置換もしくは非置換のアルケニルカルボニル、置換もしくは非置換のアルキニルカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環カルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環カルボニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環カルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環カルボニル等が挙げられる。
【００４１】
「アルキルカルボニル」とは、上記「アルキル」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、メチルカルボニル、エチルカルボニル、プロピルカルボニル、イソプロピルカルボニル、ｔｅｒｔ−ブチルカルボニル、イソブチルカルボニル、ｓｅｃ−ブチルカルボニル、ペンチルカルボニル、イソペンチルカルボニル、へキシルカルボニル等が挙げられる。
【００４２】
「アルキルカルボニル」の好ましい態様として、メチルカルボニル、エチルカルボニル、ｎ−プロピルカルボニルが挙げられる。
【００４３】
「アルケニルカルボニル」とは、上記「アルケニル」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、エチレニルカルボニル、プロペニルカルボニル等が挙げられる。
【００４４】
「アルキニルカルボニル」とは、上記「アルキニル」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、エチニルカルボニル、プロピニルカルボニル等が挙げられる。
【００４５】
「ヒドロキシアルキル」とは、１以上のヒドロキシ基が、上記「アルキル」の炭素原子に結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、ヒドロキシメチル、１−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシエチル、１−ヒドロキシプロピル、２−ヒドロキシプロピル、１，２−ヒドロキシエチル等が挙げられる。
「ヒドロキシアルキル」の好ましい態様として、ヒドロキシメチルが挙げられる。
【００４６】
「アルキルオキシ」とは、上記「アルキル」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ｎ−ブチルオキシ、ｔｅｒｔ−ブチルオキシ、イソブチルオキシ、ｓｅｃ−ブチルオキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ヘキシルオキシ等が挙げられる。
「アルキルオキシ」の好ましい態様として、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ヘキシルオキシ等が挙げられる。
【００４７】
「アルケニルオキシ」とは、上記「アルケニル」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、ビニルオキシ、アリルオキシ、１−プロペニルオキシ、２−ブテニルオキシ、２−ペンテニルオキシ、２−ヘキセニルオキシ、２−ヘプテニルオキシ、２−オクテニルオキシ等が挙げられる。
【００４８】
「アルキニルオキシ」とは、上記「アルキニル」が酸素原子に結合した基を意味する。
例えば、エチニルオキシ、１−プロピニルオキシ、２−プロピニルオキシ、２−ブチニルオキシ、２−ペンチニルオキシ、２−ヘキシニルオキシ、２−ヘプチニルオキシ、２−オクチニルオキシ等が挙げられる。
【００４９】
「ハロアルキル」とは、１以上の上記「ハロゲン」が上記「アルキル」に結合した基を意味する。例えば、モノフルオロメチル、モノフルオロエチル、モノフルオロプロピル、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル、モノクロロメチル、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、２，２，２−トリフルオロエチル、２，２，２−トリクロロエチル、１，２−ジブロモエチル、１，１，１−トリフルオロプロパン−２−イル等が挙げられる。
「ハロアルキル」の好ましい態様として、トリフルオロメチル、トリクロロメチルが挙げられる。
【００５０】
「ハロアルキルオキシ」とは、上記「ハロアルキル」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、モノフルオロメトキシ、モノフルオロエトキシ、トリフルオロメトキシ、トリクロロメトキシ、トリフルオロエトキシ、トリクロロエトキシ等が挙げられる。
「ハロアルキルオキシ」の好ましい態様として、トリフルオロメトキシ、トリクロロメトキシ等が挙げられる。
【００５１】
「アシルオキシ」とは、ホルミルオキシおよび置換基を有するカルボニルオキシを意味する。「置換基を有するカルボニルオキシ」とは、上記「置換基を有するカルボニル」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、置換もしくは非置換のアルキルカルボニルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルカルボニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルカルボニルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環カルボニルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環カルボニルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環カルボニルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環カルボニルオキシ等が挙げられる。
【００５２】
「アルキルカルボニルオキシ」とは、上記「アルキルカルボニル」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、メチルカルボニルオキシ、エチルカルボニルオキシ、プロピルカルボニルオキシ、イソプロピルカルボニルオキシ、ｔｅｒｔ−ブチルカルボニルオキシ、イソブチルカルボニルオキシ、ｓｅｃ−ブチルカルボニルオキシ等が挙げられる。
「アルキルカルボニルオキシ」の好ましい態様としては、メチルカルボニルオキシ、エチルカルボニルオキシが挙げられる。
【００５３】
「アルケニルカルボニルオキシ」とは、上記「アルケニルカルボニル」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、エチレニルカルボニルオキシ、プロペニルカルボニルオキシ等が挙げられる。
【００５４】
「アルキニルカルボニルオキシ」とは、上記「アルキニルカルボニル」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、エチニルカルボニルオキシ、プロピニルカルボニルオキシ等が挙げられる。
【００５５】
「アルキルオキシアルキル」とは、上記「アルキルオキシ」が上記「アルキル」に結合した基を意味する。例えば、メトキシメチル、メトキシエチル、エトキシメチル等が挙げられる。
【００５６】
「アルキルオキシアルキルオキシ」とは、上記「アルキルオキシ」が上記「アルキルオキシ」に結合した基を意味する。例えば、メトキシメトキシ、メトキシエトキシ、エトキシメトキシ、エトキシエトキシ等が挙げられる。
【００５７】
「アルキルスルホニル」とは、上記「アルキル」がスルホニル基に結合した基を意味する。例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、イソプロピルスルホニル、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニル、イソブチルスルホニル、ｓｅｃ−ブチルスルホニル等が挙げられる。
「アルキルスルホニル」の好ましい態様として、メチルスルホニル、エチルスルホニル等が挙げられる。
【００５８】
「アルケニルスルホニル」とは、上記「アルケニル」がスルホニル基に結合した基を意味する。例えば、エチレニルスルホニル、プロペニルスルホニル等が挙げられる。
【００５９】
「アルキニルスルホニル」とは、上記「アルキニル」がスルホニル基に結合した基を意味する。例えば、エチニルスルホニル、プロピニルスルホニル等が挙げられる。
【００６０】
「モノアルキルカルボニルアミノ」とは、上記「アルキルカルボニル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子１個と置き換わった基を意味する。例えば、メチルカルボニルアミノ、エチルカルボニルアミノ、プロピルカルボニルアミノ、イソプロピルカルボニルアミノ、ｔｅｒｔ−ブチルカルボニルアミノ、イソブチルカルボニルアミノ、ｓｅｃ−ブチルカルボニルアミノ等が挙げられる。
【００６１】
「モノアルキルカルボニルアミノ」の好ましい態様としては、メチルカルボニルアミノ、エチルカルボニルアミノが挙げられる。
【００６２】
「ジアルキルカルボニルアミノ」とは、上記「アルキルカルボニル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子２個と置き換わった基を意味する。２個のアルキルカルボニル基は、同一でも異なっていてもよい。例えば、ジメチルカルボニルアミノ、ジエチルカルボニルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルカルボニルアミノ等が挙げられる。
【００６３】
「ジアルキルカルボニルアミノ」の好ましい態様として、ジメチルカルボニルアミノ、ジエチルカルボニルアミノが挙げられる。
【００６４】
「モノアルキルスルホニルアミノ」とは、上記「アルキルスルホニル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子１個と置き換わった基を意味する。例えば、メチルスルホニルアミノ、エチルスルホニルアミノ、プロピルスルホニルアミノ、イソプロピルスルホニルアミノ、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニルアミノ、イソブチルスルホニルアミノ、ｓｅｃ−ブチルスルホニルアミノ等が挙げられる。
【００６５】
「モノアルキルスルホニルアミノ」の好ましい態様としては、メチルスルホニルアミノ、エチルスルホニルアミノが挙げられる。
【００６６】
「ジアルキルスルホニルアミノ」とは、上記「アルキルスルホニル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子２個と置き換わった基を意味する。２個のアルキルスルホニル基は、同一でも異なっていてもよい。例えば、ジメチルスルホニルアミノ、ジエチルスルホニルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルスルホニルアミノ等が挙げられる。
【００６７】
「ジアルキルカルボニルアミノ」の好ましい態様として、ジメチルスルホニルアミノ、ジエチルスルホニルアミノが挙げられる。
【００６８】
「アルキルイミノ」とは、上記「アルキル」がイミノ基の窒素原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、メチルイミノ、エチルイミノ、ｎ−プロピルイミノ、イソプロピルイミノ等が挙げられる。
【００６９】
「アルケニルイミノ」とは、上記「アルケニル」がイミノ基の窒素原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、エチレニルイミノ、プロペニルイミノ等が挙げられる。
【００７０】
「アルキニルイミノ」とは、上記「アルキニル」がイミノ基の窒素原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、エチニルイミノ、プロピニルイミノ等が挙げられる。
【００７１】
「アルキルカルボニルイミノ」とは、上記「アルキルカルボニル」がイミノ基の窒素原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えばメチルカルボニルイミノ、エチルカルボニルイミノ、ｎ−プロピルカルボニルイミノ、イソプロピルカルボニルイミノ等が挙げられる。
【００７２】
「アルケニルカルボニルイミノ」とは、上記「アルケニルカルボニル」がイミノ基の窒素原子と結合している水素原子を置き換わった基を意味する。例えば、エチレニルカルボニルイミノ、プロペニルカルボニルイミノ等が挙げられる。
【００７３】
「アルキニルカルボニルイミノ」とは、上記「アルキニルカルボニル」がイミノ基の窒素原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、エチニルカルボニルイミノ、プロピニルカルボニルイミノ等が挙げられる。
【００７４】
「アルキルオキシイミノ」とは、上記「アルキルオキシ」がイミノ基の窒素原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、メチルオキシイミノ、エチルオキシイミノ、ｎ−プロピルオキシイミノ、イソプロピルオキシイミノ等が挙げられる。
【００７５】
「アルケニルオキシイミノ」とは、上記「アルケニルオキシ」がイミノ基の窒素原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、エチレニルオキシイミノ、プロペニルオキシイミノ等が挙げられる。
【００７６】
「アルキニルオキシイミノ」とは、上記「アルキニルオキシ」がイミノ基の窒素原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、エチニルオキシイミノ、プロピニルオキシイミノ等が挙げられる。
【００７７】
「アルキルオキシカルボニル」とは、上記「アルキルオキシ」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、メチルオキシカルボニル、エチルオキシカルボニル、プロピルオキシカルボニル、イソプロピルオキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル、イソブチルオキシカルボニル、ｓｅｃ−ブチルオキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、イソペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル等が挙げられる。
「アルキルオキシカルボニル」の好ましい態様としては、メチルオキシカルボニル、エチルオキシカルボニル、プロピルオキシカルボニルが挙げられる。
【００７８】
「アルケニルオキシカルボニル」とは、上記「アルケニルオキシ」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、エチレニルオキシカルボニル、プロペニルオキシカルボニル等が挙げられる。
【００７９】
「アルキニルオキシカルボニル」とは、上記「アルキニルオキシ」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、エチニルオキシカルボニル、プロピニルオキシカルボニル等が挙げられる。
【００８０】
「アルキルスルファニル」とは、上記「アルキル」がスルファニル基の硫黄原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、メチルスルファニル、エチルスルファニル、ｎ−プロピルスルファニル、イソプロピルスルファニル等が挙げられる。「アルキルスルファニル」の好ましい態様として、メチルスルファニル、エチルスルファニル、ｎ−プロピルスルファニル、イソプロピルスルファニル、ヘキシルスルファニル等が挙げられる。
【００８１】
「アルケニルスルファニル」とは、上記「アルケニル」がスルファニル基の硫黄原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、エチレニルスルファニル、プロペニルスルファニル等が挙げられる。
【００８２】
「アルキニルスルファニル」とは、上記「アルキニル」がスルファニル基の硫黄原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、エチニルスルファニル、プロピニルスルファニル等が挙げられる。
【００８３】
「ハロアルキルスルファニル」とは、上記「ハロアルキル」がスルファニル基の硫黄原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、モノフルオロメチルスルファニル、モノフルオロエチルスルファニル、トリフルオロメチルスルファニル、トリクロロメチルスルファニル、トリフルオロエチルスルファニル、トリクロロエチルスルファニル等が挙げられる。
「ハロアルキルスルファニル」の好ましい態様として、トリフルオロメチルスルファニル、トリクロロメチルスルファニル等が挙げられる。
【００８４】
「アルキルスルフィニル」とは、上記「アルキル」がスルフィニル気に結合した基を意味する。例えば、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、ｎ−プロピルスルフィニル、イソプロピルスルフィニル等が挙げられる。
【００８５】
「アルケニルスルフィニル」とは、上記「アルケニル」がスルフィニル基に結合した基を意味する。例えば、エチレニルスルフィニル、プロペニルスルフィニル等が挙げられる。
【００８６】
「アルキニルスルフィニル」とは、上記「アルキニル」がスルフィニル基に結合した基を意味する。例えば、エチニルスルフィニル、プロピニルスルフィニル等が挙げられる。
【００８７】
「モノアルキルカルバモイル」とは、上記「アルキル」がカルバモイル基の窒素原子と結合している水素原子の1個と置き換わった基を意味する。例えば、メチルカルバモイル、エチルカルバモイル等が挙げられる。
【００８８】
「ジアルキルカルバモイル」とは、上記「アルキル」がカルバモイル基の窒素原子と結合している水素原子の2個と置き換わった基を意味する。2個のアルキル基は、同一でも異なっていても良い。例えば、ジメチルカルバモイル、エチルメチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル等が挙げられる。
【００８９】
「モノアルキルスルファモイル」とは、上記「アルキル」がスルファモイル基の窒素原子と結合している水素原子1個と置き換わった基を意味する。例えば、メチルスルファモイル、エチルスルファモイル等が挙げられる。
【００９０】
「ジアルキルスルファモイル」とは、上記「アルキル」がスルファモイル基の窒素原子と結合している水素原子2個と置き換わった基を意味する。2個のアルキル基は、同一でも異なっていてもよい。例えば、ジメチルスルファモイル、ジエチルスルファモイル等が挙げられる。
【００９１】
「トリアルキルシリル」とは、上記「アルキル」3個がケイ素原子に結合している基を意味する。3個のアルキル基は同一でも異なっていてもよい。例えば、トリメチルシリル、トリエチルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル等が挙げれれる。
【００９２】
「ペンタハロゲノチオ」とは、上記「ハロゲン」５個が硫黄原子の結合している基を意味する。５個のハロゲンは同一でも異なっていても良い。該ハロゲンはフッ素または塩素が好ましい。例えば、ペンタフルオロチオ（−ＳＦ５）、モノクロロテトラフルオロチオ（−ＳＣｌＦ４）等が挙げられる。
【００９３】
「炭素環アルキル」、「芳香族炭素環アルキル」、「非芳香族炭素環アルキル」、「複素環アルキル」、「芳香族複素環アルキル」、「非芳香族複素環アルキル」、「炭素環アルキルオキシ」、「芳香族炭素環アルキルオキシ」、「非芳香族炭素環アルキルオキシ」、「複素環アルキルオキシ」、「芳香族複素環アルキルオキシ」、「非芳香族複素環アルキルオキシ」、「炭素環アルキルオキシカルボニル」、「芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル」、「非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル」、「複素環アルキルオキシカルボニル」、「芳香族複素環オキシカルボニル」、「非芳香族複素環オキシカルボニル」、「炭素環アルキルオキシアルキル」、「芳香族炭素環アルキルオキシアルキル」、「非芳香族炭素環アルキルオキシアルキル」、「複素環アルキルオキシアルキル」、「芳香族複素環アルキルオキシアルキル」、「非芳香族複素環アルキルオキシアルキル」、「炭素環アルキルアミノ」、「芳香族炭素環アルキルアミノ」、「非芳香族炭素環アルキルアミノ」、「複素環アルキルアミノ」、「芳香族複素環アルキルアミノ」、および「非芳香族複素環アルキルアミノ」のアルキル部分も、上記「アルキル」と同様である。
【００９４】
「芳香族炭素環アルキル」とは、１以上の上記「芳香族炭素環式基」で置換されているアルキルを意味する。例えば、ベンジル、フェネチル、フェニルプロピル、ベンズヒドリル、トリチル、ナフチルメチル、以下に示される基：
【化１２】
2016098793.tif 000014
等が挙げられる。
「芳香族炭素環アルキル」の好ましい態様としては、ベンジル、フェネチル、ベンズヒドリル等が挙げられる。
【００９５】
「非芳香族炭素環アルキル」とは、１以上の上記「非芳香族炭素環式基」で置換されているアルキルを意味する。また、「非芳香族炭素環アルキル」は、アルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」で置換されている「非芳香族炭素環アルキル」も包含する。例えば、シクロプロピルメチル、シクロブチルメチル、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、以下に示される基：
【化１３】
2016098793.tif 000015
等が挙げられる。
【００９６】
「炭素環アルキル」とは、「芳香族炭素環アルキル」および「非芳香族炭素環アルキル」を包含する。「炭素環アルキル」の好ましい態様としては、ベンジル、フェネチル、ベンズヒドリル、シクロプロピルメチル、シクロブチルメチル、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、以下に示される基：
【化１４】
2016098793.tif 000016
等が挙げられる。
【００９７】
「芳香族複素環アルキル」とは、１以上の上記「芳香族複素環式基」で置換されているアルキルを意味する。また、「芳香族複素環アルキル」は、アルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」および／または「非芳香族炭素環式基」で置換されている「芳香族複素環アルキル」も包含する。例えば、ピリジルメチル、フラニルメチル、イミダゾリルメチル、インドリルメチル、ベンゾチオフェニルメチル、オキサゾリルメチル、イソキサゾリルメチル、チアゾリルメチル、イソチアゾリルメチル、ピラゾリルメチル、イソピラゾリルメチル、ピロリジニルメチル、ベンズオキサゾリルメチル、以下に示される基
【化１５】
2016098793.tif 000017
等が挙げられる。
【００９８】
「非芳香族複素環アルキル」とは、１以上の上記「非芳香族複素環式基」で置換されているアルキルを意味する。また、「非芳香族複素環アルキル」は、アルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」、「非芳香族炭素環式基」および／または「芳香族複素環式基」で置換されている「非芳香族複素環アルキル」も包含する。例えば、テトラヒドロピラニルメチル、モルホリニルエチル、ピペリジニルメチル、ピペラジニルメチル、以下に示される基
【化１６】
2016098793.tif 000018
等が挙げられる。
【００９９】
「複素環アルキル」とは、「芳香族複素環アルキル」および「非芳香族複素環アルキル」を包含する。「複素環アルキル」の好ましい態様としては、ピリジルメチル、フラニルメチル、イミダゾリルメチル、インドリルメチル、ベンゾチオフェニルメチル、オキサゾリルメチル、イソキサゾリルメチル、チアゾリルメチル、イソチアゾリルメチル、ピラゾリルメチル、イソピラゾリルメチル、ピロリジニルメチル、ベンズオキサゾリルメチル、テトラヒドロピラニルメチル、モルホリニルエチル、ピペリジニルメチル、ピペラジニルメチル、以下に示される基：
【化１７】
2016098793.tif 000019
等が挙げられる。
【０１００】
「芳香族炭素環アルキルオキシ」とは、１以上の上記「芳香族炭素環式基」で置換されているアルキルオキシを意味する。例えば、ベンジルオキシ、フェネチルオキシ、フェニルプロピルオキシ、ベンズヒドリルオキシ、トリチルオキシ、ナフチルメチルオキシ、以下に示される基：
【化１８】
2016098793.tif 000020
等が挙げられる。
【０１０１】
「非芳香族炭素環アルキルオキシ」とは、１以上の上記「非芳香族炭素環式基」で置換されているアルキルオキシを意味する。また、「非芳香族炭素環アルキルオキシ」は、アルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」で置換されている「非芳香族炭素環アルキルオキシ」も包含する。例えば、シクロプロピルメチルオキシ、シクロブチルメチルオキシ、シクロペンチルメチルオキシ、シクロヘキシルメチルオキシ、以下に示される基：
【化１９】
2016098793.tif 000021
等が挙げられる。
【０１０２】
「芳香族複素環アルキルオキシ」とは、１以上の上記「芳香族複素環式基」で置換されているアルキルオキシを意味する。また、「芳香族複素環アルキルオキシ」は、アルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」および／または「非芳香族炭素環式基」で置換されている「芳香族複素環アルキルオキシ」も包含する。例えば、ピリジルメチルオキシ、不らニルメチルオキシ、イミダゾリルメチルオキシ、インドリルメチルオキシ、ベンゾチオフェニルメチルオキシ、イソチアゾリルメチルオキシ、ピラゾリルメチルオキシ、イソピラゾリルメチルオキシ、ピロリジニルメチルオキシ、ベンズオキサゾリルメチルオキシ、以下に示される基：
【化２０】
2016098793.tif 000022
等が挙げられる。
【０１０３】
「非芳香族複素環アルキルオキシ」とは、１以上の上記「非芳香族複素環式基」で置換されているアルキルオキシを意味する。また、「非芳香族複素環アルキルオキシ」は、アルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」、「非芳香族炭素環式基」および／または「芳香族複素環式基」で置換されている「非芳香族複素環アルキルオキシ」も包含する。例えば、テトラヒドロピラニルメチルオキシ、モルホリニルエチルオキシ、ピペリジニルメチルオキシ、ピペラジニルメチルオキシ、以下に示される基：
【化２１】
2016098793.tif 000023
等が挙げられる。
【０１０４】
「芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル」とは、１以上の上記「芳香族炭素環式基」で置換されているアルキルオキシカルボニルを意味する。例えば、ベンジルオキシカルボニル、フェネチルオキシカルボニル、フェニルプロピルオキシカルボニル、ベンズヒドリルオキシカルボニル、トリチルオキシカルボニル、ナフチルメチルオキシカルボニル、以下に示される基：
【化２２】
2016098793.tif 000024
等が挙げられる。
【０１０５】
「非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル」とは、１以上の上記「非芳香族炭素環式基」で置換されているアルキルオキシカルボニルを意味する。また、「非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル」は、アルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」で置換されている「非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル」も包含する。例えば、シクロプロピルメチルオキシカルボニル、シクロブチルメチルオキシカルボニル、シクロペンチルメチルオキシカルボニル、シクロヘキシルメチルオキシカルボニル、以下に示される基：
【化２３】
2016098793.tif 000025
等が挙げられる。
【０１０６】
「芳香族複素環アルキルオキシカルボニル」とは、１以上の上記「芳香族複素環式基」で置換されているアルキルオキシカルボニルを意味する。また、「芳香族複素環アルキルオキシカルボニル」は、アルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」および／または「非芳香族炭素環式基」で置換されている「芳香族複素環アルキルオキシカルボニル」も包含する。例えば、ピリジルメチルオキシカルボニル、フラニルメチルオキシカルボニル、イミダゾリルメチルオキシカルボニル、インドリルメチルオキシカルボニル、ベンゾチオフェニルメチルオキシカルボニル、オキサゾリルメチルオキシカルボニル、イソキサゾリルメチルオキシカルボニル、チアゾリルメチルオキシカルボニル、イソチアゾリルメチルオキシカルボニル、ピラゾリルメチルオキシカルボニル、イソピラゾリルメチルオキシカルボニル、ピロリジニルメチルオキシカルボニル、ベンズオキサゾリルメチルオキシカルボニル、以下に示される基
【化２４】
2016098793.tif 000026
等が挙げられる。
【０１０７】
「非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル」とは、１以上の上記「非芳香族複素環式基」で置換されているアルキルオキシカルボニルを意味する。また、「非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル」は、アルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」、「非芳香族炭素環式基」および／または「芳香族複素環式基」で置換されている「非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル」も包含する。例えば、テトラヒドロピラニルメチルオキシ、モルホリニルエチルオキシ、ピペリジニルメチルオキシ、ピペラジニルメチルオキシ、以下に示される基
【化２５】
2016098793.tif 000027
等が挙げられる。
【０１０８】
「芳香族炭素環アルキルオキシアルキル」とは、１以上の上記「芳香族炭素環式基」で置換されているアルキルオキシアルキルを意味する。例えば、ベンジルオキシメチル、フェネチルオキシメチル、フェニルプロピルオキシメチル、ベンズヒドリルオキシメチル、トリチルオキシメチル、ナフチルメチルオキシメチル、以下に示される基
【化２６】
2016098793.tif 000028
等が挙げられる。
【０１０９】
「非芳香族炭素環アルキルオキシアルキル」とは、１以上の上記「非芳香族炭素環式基」で置換されているアルキルオキシアルキルを意味する。また、「非芳香族炭素環アルキルオキシアルキル」は、非芳香族炭素環が結合しているアルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」で置換されている「非芳香族炭素環アルキルオキシアルキル」も包含する。例えば、シクロプロピルメチルオキシメチル、シクロブチルメチルオキシメチル、シクロペンチルメチルオキシメチル、シクロへキシルメチルオキシメチル、以下に示される基
【化２７】
2016098793.tif 000029
等が挙げられる。
【０１１０】
「芳香族複素環アルキルオキシアルキル」とは、１以上の上記「芳香族複素環式基」で置換されているアルキルオキシアルキルを意味する。また、「芳香族複素環アルキルオキシアルキル」は、芳香族複素環が結合しているアルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」および／または「非芳香族炭素環式基」で置換されている「芳香族複素環アルキルオキシアルキル」も包含する。例えば、ピリジルメチルオキシメチル、フラニルメチルオキシメチル、イミダゾリルメチルオキシメチル、インドリルメチルオキシメチル、ベンゾチオフェニルメチルオキシメチル、オキサゾリルメチルオキシメチル、イソキサゾリルメチルオキシメチル、チアゾリルメチルオキシメチル、イソチアゾリルメチルオキシメチル、ピラゾリルメチルオキシメチル、イソピラゾリルメチルオキシメチル、ピロリジニルメチルオキシメチル、ベンズオキサゾリルメチルオキシメチル、以下に示される基
【化２８】
2016098793.tif 000030
等が挙げられる。
【０１１１】
「非芳香族複素環アルキルオキシアルキル」とは、１以上の上記「非芳香族複素環式基」で置換されているアルキルオキシアルキルを意味する。また、「非芳香族複素環アルキルオキシアルキル」は、非芳香族複素環が結合しているアルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」、「非芳香族炭素環式基」および／または「芳香族複素環式基」で置換されている「非芳香族複素環アルキルオキシアルキル」も包含する。例えば、テトラヒドロピラニルメチルオキシメチル、モルホリニルエチルオキシメチル、ピペリジニルメチルオキシメチル、ピペラジニルメチルオキシメチル、以下に示される基
【化２９】
2016098793.tif 000031
等が挙げられる。
【０１１２】
「芳香族炭素環アルキルアミノ」とは、上記「芳香族炭素環アルキル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子１個または２個と置き換わった基を意味する。例えば、ベンジルアミノ、フェネチルアミノ、フェニルプロピルアミノ、ベンズヒドリルアミノ、トリチルアミノ、ナフチルメチルアミノ、ジベンジルアミノ等が挙げられる。
【０１１３】
「非芳香族炭素環アルキルアミノ」とは、上記「非芳香族炭素環アルキル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子１個または２個と置き換わった基を意味する。例えば、シクロプロピルメチルアミノ、シクロブチルメチルアミノ、シクロペンチルメチルアミノ、シクロヘキシルメチルアミノ等が挙げられる。
【０１１４】
「芳香族複素環アルキルアミノ」とは、上記「芳香族複素環アルキル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子１個または２個と置き換わった基を意味する。例えば、ピリジルメチルアミノ、フラニルメチルアミノ、イミダゾリルメチルアミノ、イソオキサゾリルメチルアミノ、チアゾリルメチルアミノ、イソチアゾリルメチルアミノ、ピラゾリルメチルアミノ、イソピラゾリルメチルアミノ、ピロリジニルメチルアミノ、ベンズオキサゾリルメチルアミノ等が挙げられる。
【０１１５】
「非芳香族複素環アルキルアミノ」とは、上記「非芳香族複素環アルキル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子1個または2個と置き換わった基を意味する。例えば、テトラヒドロピラニルメチル、モルホリニルエチルアミノ、ピペリジニルメチルアミノ、ピペラジニルメチルアミノ等が挙げられる。
【０１１６】
「芳香族炭素環オキシ」「芳香族炭素環カルボニル」、「芳香族炭素環オキシカルボニル」、「芳香族炭素環スルファニル」、「芳香族炭素環スルフィニル」および「芳香族炭素環スルホニル」の「芳香族炭素環」部分も、上記「芳香族炭素環式基」と同様である。
【０１１７】
「芳香族炭素環オキシ」とは、上記「芳香族炭素環」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、フェニルオキシ、ナフチルオキシ等が挙げられる。
【０１１８】
「芳香族炭素環カルボニル」とは、上記「芳香族炭素環」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、ベンゾイル、ナフチルカルボニル等が挙げられる。
【０１１９】
「芳香族炭素環オキシカルボニル」とは、「芳香族炭素環オキシ」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、フェニルオキシカルボニル、ナフチルオキシカルボニル等が挙げられる。
【０１２０】
「芳香族炭素環スルファニル」とは、「芳香族炭素環」がスルファニル基の硫黄原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、フェニルスルファニル、ナフチルスルファニル等が挙げられる。
【０１２１】
「芳香族炭素環スルフィニル」とは、「芳香族炭素環」がスルフィニル基に結合した基を意味する。例えば、フェニルスルフィニル、ナフチルスルフィニル等が挙げられる。
【０１２２】
「芳香族炭素環スルホニル」とは、「芳香族炭素環」がスルホニル基に結合した基を意味する。例えば、フェニルスルホニル、ナフチルスルホニル等が挙げられる。
【０１２３】
「非芳香族炭素環オキシ」、「非芳香族炭素環カルボニル」、「非芳香族炭素環オキシカルボニル」、「非芳香族炭素環スルファニル」、「非芳香族炭素環スルフィニル」、および「非芳香族炭素環スルホニル」の「非芳香族炭素環」部分も、上記「非芳香族炭素環式基」と同様である。
【０１２４】
「非芳香族炭素環オキシ」とは、上記「非芳香族炭素環」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、シクロプロピルオキシ、シクロブチルオキシ、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシ、シクロヘプチルオキシ、シクロオクチルオキシ、シクロプロペニルオキシ、シクロブテニルオキシ、シクロペンテニルオキシ、シクロヘキセニルオキシ、シクロヘプテニルオキシ、シクロヘキサジエニルオキシ、インダニルオキシ、テトラヒドロナフチルオキシ、フルオレニルオキシ、アダマンチルオキシ等が挙げられる。
【０１２５】
「非芳香族炭素環カルボニル」とは、上記「非芳香族炭素環」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、シクロプロピルカルボニル、シクロヘキシルカルボニル、シクロプロペニルカルボニル、インダニルカルボニル等が挙げられる。
【０１２６】
「非芳香族炭素環オキシカルボニル」とは、「非芳香族炭素環」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、シクロプロピルカルボニル、シクロヘキシルカルボニル、シクロヘキセニルカルボニル等が挙げられる。
【０１２７】
「非芳香族炭素環オキシカルボニル」とは、上記「非芳香族炭素環オキシ」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、シクロプロピルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、シクロヘキセニルオキシカルボニル等が挙げられる。
【０１２８】
「非芳香族炭素環スルファニル」とは、上記「非芳香族炭素環」がスルファニル基の硫黄原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、シクロプロピルスルファニル、シクロブチルスルファニル、シクロペンチルスルファニル、シクロヘキシルスルファニル、シクロヘプチルスルファニル、シクロオクチルスルファニル、シクロプロペニルスルファニル、シクロブテニルスルファニル、シクロペンテニルスルファニル、シクロヘキセニルスルファニル、シクロヘプテニルスルファニル、シクロヘキサジエニルスルファニル、インダニルスルファニル、テトラヒドロナフチルスルファニル、フルオレニルスルファニル、アダマンチルスルファニル等が挙げられる。
【０１２９】
「非芳香族炭素環スルフィニル」とは、上記「非芳香族炭素環」がスルフィニル基に結合した基を意味する。例えば、シクロプロピルスルフィニル、シクロブチルスルフィニル、シクロペンチルスルフィニル、シクロヘキシルスルフィニル、シクロヘプチルスルフィニル、シクロヘキセニルスルフィニル、テトラヒドロナフチルスルフィニル、アダマンチルスルフィニル等が挙げられる。
【０１３０】
「非芳香族炭素環スルホニル」とは、上記「非芳香族炭素環」がスルホニル基に結合した基を意味する。例えば、シクロプロピルスルホニル、シクロヘキシルスルホニル、シクロヘキセニルスルホニル等が挙げられる。
【０１３１】
「芳香族複素環オキシ」、「芳香族複素環カルボニル」、「芳香族複素環オキシカルボニル」、「芳香族複素環スルファニル」、「芳香族複素環スルフィニル」、および「芳香族複素環スルホニル」の「芳香族複素環」部分も、上記「芳香族複素環式基」と同様である。
【０１３２】
「芳香族複素環オキシ」とは、上記「芳香族複素環」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、ピリジルオキシ、オキサゾリルオキシ等が挙げられる。
【０１３３】
「芳香族複素環カルボニル」とは、上記「芳香族複素環」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、ピロリルカルボニル、ピラゾリルカルボニル、ピリジルカルボニル、オキサゾリルカルボニル、インドリルカルボニル等が挙げられる。
【０１３４】
「芳香族複素環オキシカルボニル」とは、上記「芳香族複素環オキシ」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、ピリジルオキシカルボニル、オキサゾリルオキシカルボニル等が挙げられる。
【０１３５】
「芳香族複素環スルファニル」とは、上記「芳香族複素環」がスルファニル基の硫黄原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、ピリジルスルファニル、オキサゾリルスルファニル等が挙げられる。
【０１３６】
「芳香族複素環スルフィニル」とは、上記「芳香族複素環」がスルフィニル基に結合した基を意味する。例えば、ピリジルスルフィニル、オキサゾリルスルフィニル等が挙げられる。
【０１３７】
「芳香族複素環スルホニル」とは、上記「芳香族複素環」がスルホニル基に結合した基を意味する。例えば、ピリジルスルホニル、オキサゾリルスルホニル等が挙げられる。
【０１３８】
「非芳香族複素環オキシ」、「非芳香族複素環カルボニル」、「非芳香族複素環オキシカルボニル」、「非芳香族複素環スルファニル」、「非芳香族複素環スルフィニル」、および「非芳香族複素環スルホニル」の「非芳香族複素環」部分も、上記「非芳香族複素環式基」と同様である。
【０１３９】
「非芳香族複素環オキシ」とは、上記「非芳香族複素環」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、ジオキサニルオキシ、チイラニルオキシ、オキシラニルオキシ、オキセタニルオキシ、オキサチオラニルオキシ、アゼチジニルオキシ、チアニルオキシ、チアゾリジニルオキシ、ピロリジニルオキシ、ピロリニルオキシ、イミダゾリジニルオキシ、イミダゾリニルオキシ、ピラゾリジニルオキシ、ピラゾリニルオキシ、ピペリジルオキシ、ピペラジニルオキシ、モルホリニルオキシ、インドリニルオキシ、クロマニルオキシ等が挙げられる。
【０１４０】
「非芳香族複素環カルボニル」とは、上記「非芳香族複素環」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、ジオキサニルカルボニル、オキセタニルカルボニル、ピラゾリニルカルボニル、モルホリノカルボニル、モルホリニルカルボニル、インドリニルカルボニル等が挙げられる。
【０１４１】
「非芳香族複素環オキシカルボニル」とは、上記「非芳香族複素環オキシ」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、ピペリジニルオキシカルボニル、テトラヒドロフリルオキシカルボニル等が挙げられる。
【０１４２】
「非芳香族複素環スルファニル」とは、上記「非芳香族複素環」がスルファニル基の硫黄原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、ジオキサニルスルファニル、チイラニルスルファニル、オキシラニルスルファニル、オキセタニルスルファニル、オキサチオラニルスルファニル、アゼチジニルスルファニル、チアニルスルファニル、チアゾリジニルスルファニル、ピロリジニルスルファニル、ピロリニルスルファニル、イミダゾリジニルスルファニル、イミダゾリニルスルファニル、ピラゾリジニルスルファニル、ピラゾリニルスルファニル、ピペリジルスルファニル、ピペラジニルスルファニル、モルホリニルスルファニル、インドリニルスルファニル、クロマニルスルファニル等が挙げられる。
【０１４３】
「非芳香族複素環スルフィニル」とは、上記「非芳香族複素環」がスルフィニル基に結合した基を意味する。例えば、ピペリジニルスルフィニル、テトラヒドロフリルスルフィニル等が挙げられる。
【０１４４】
「非芳香族複素環スルホニル」とは、上記「非芳香族複素環」がスルホニル基に結合した基を意味する。例えば、ピペリジニルスルホニル、テトラヒドロフリルスルホニル等が挙げられる。
【０１４５】
「炭素環オキシ」とは、上記「炭素環」が酸素原子に結合した基を意味する。すなわち、非芳香族炭素環オキシおよび芳香族炭素環オキシを包含する。
【０１４６】
「複素環オキシ」とは、上記「複素環」が酸素原子に結合した基を意味する。すなわち、非芳香族複素環オキシおよび芳香族複素環オキシを包含する。
【０１４７】
「置換もしくは非置換のアルキル」、「置換もしくは非置換のアルケニル」、「置換もしくは非置換のアルキニル」、「置換もしくは非置換のアルキルオキシ」、「置換もしくは非置換のアルケニルオキシ」、「置換もしくは非置換のアルキニルオキシ」、「置換もしくは非置換のアルキルカルボニル」、「置換もしくは非置換のアルケニルカルボニル」、「置換もしくは非置換のアルキニルカルボニル」、「置換もしくは非置換のアルキルスルホニル」、「置換もしくは非置換のアルケニルスルホニル」、「置換もしくは非置換のアルキニルスルホニル」、「置換もしくは非置換のアルキルイミノ」、「置換もしくは非置換のアルケニルイミノ」、「置換もしくは非置換のアルキニルイミノ」、「置換もしくは非置換のアルキルカルボニルイミノ」、「置換もしくは非置換のアルケニルカルボニルイミノ」、「置換もしくは非置換のアルキニルカルボニルイミノ」、「置換もしくは非置換のアルキルオキシイミノ」、「置換もしくは非置換のアルケニルオキシイミノ」、「置換もしくは非置換のアルキニルオキシイミノ」、「置換もしくは非置換のアルキルカルボニルオキシ」、「置換もしくは非置換のアルケニルカルボニルオキシ」、「置換もしくは非置換のアルキニルカルボニルオキシ」、「置換もしくは非置換のアルキルオキシカルボニル」、「置換もしくは非置換のアルケニルオキシカルボニル」、「置換もしくは非置換のアルキニルオキシカルボニル」、「置換もしくは非置換のアルキルスルファニル」、「置換もしくは非置換のアルケニルスルファニル」、「置換もしくは非置換のアルキニルスルファニル」、「置換もしくは非置換のアルキルスルフィニル」、「置換もしくは非置換のアルケニルスルフィニル」、「置換もしくは非置換のアルキニルスルフィニル」、「置換もしくは非置換のアルキレン」、「置換もしくは非置換のアルケニレン」、および「置換もしくは非置換のアルキニレン」の置換基としては、次の置換基群Ａが挙げられる。任意の位置の炭素原子が次の置換基群Ａから選択される１以上の基と結合していてもよい。好ましい置換基としては、置換基群Ｇが挙げられる。より好ましくは、置換基群Ｋが挙げられる。
【０１４８】
置換基群Ａ：ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、イミノ、ヒドロキシアミノ、ホルミル、ホルミルオキシ、スルファニル、スルフィノ、スルホ、チオホルミル、チオカルボキシ、ジチオカルボキシ、チオカルバモイル、ペンタハロゲノチオ、シアノ、ニトロ、ニトロソ、アジド、ヒドラジノ、ウレイド、アミジノ、グアニジノ、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される1以上の基で置換されたアルキルシリル、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される1以上の基で置換されたアルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される1以上の基で置換されたアルケニルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される1以上の基で置換されたアルキニルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される1以上の基で置換されたアルキルカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される1以上の基で置換されたアルケニルカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される1以上の基で置換されたアルキニルカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される1以上の基で置換されたアルキルスルホニル、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される1以上の基で置換されたアルケニルスルホニル、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される1以上の基で置換されたアルキニルスルホニル、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される1以上の基で置換されたアルキルイミノ、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される1以上の基で置換されたアルケニルイミノ、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される1以上の基で置換されたアルキニルイミノ、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される1以上の基で置換されたアルキルカルボニルイミノ、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される1以上の基で置換されたアルケニルカルボニルイミノ、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される1以上の基で置換されたアルキニルカルボニルイミノ、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される1以上の基で置換されたアルキルオキシイミノ、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される1以上の基で置換されたアルケニルオキシイミノ、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される1以上の基で置換されたアルキニルオキシイミノ、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される1以上の基で置換されたアルキルカルボニルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される1以上の基で置換されたアルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される1以上の基で置換されたアルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される1以上の基で置換されたアルケニルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される1以上の基で置換されたアルキニルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される1以上の基で置換されたアルキルスルファニル、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される1以上の基で置換されたアルケニルスルファニル、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される1以上の基で置換されたアルキニルスルファニル、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される1以上の基で置換されたアルキルスルフィニル、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される1以上の基で置換されたアルケニルスルフィニル、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される1以上の基で置換されたアルキニルスルフィニル、非置換もしくは置換基群Ｃから選択される１または２つの基で置換されたアミノ、非置換もしくは置換基群Ｃから選択される１または２つの基で置換されたカルバモイル、非置換もしくは置換基群Ｃから選択される１または２つの基で置換されたスルファモイル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環式基、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環式基、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環式基、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環式基、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシ、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環オキシ、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環オキシ、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環オキシ、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環オキシカルボニル、芳香族複素環オキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環オキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環スルファニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環スルファニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環スルファニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環スルファニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環スルホニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選��される1以上の基で置換された芳香族炭素環スルホニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環スルホニル、および非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環スルホニル。
【０１４９】
「置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環式基」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基」、「置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシ」、「置換もしくは非置換の芳香族炭素環カルボニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環カルボニル」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環カルボニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環カルボニル」、「置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシカルボニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシカルボニル」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシカルボニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシカルボニル」、「置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルファニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルファニル」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環スルファニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルファニル」、「置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルフィニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルフィニル」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環スルフィニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルフィニル」、「置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルホニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルホニル」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環スルホニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルホニル」、「置換もしくは非置換の炭素環式基」、「置換もしくは非置換の複素環式基」、「置換もしくは非置換の炭素環アルキル」、「置換もしくは非置換の複素環アルキル」、「置換もしくは非置換の炭素環アルキルオキシ」、「置換もしくは非置換の複素環アルキルオキシ」、「置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキル」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキル」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキル」、「置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシ」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシ」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシ」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシ」、「置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシカルボニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル」、「置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシアルキル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシアルキル」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシアルキル」、および「置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシアルキル」における「炭素環」、「複素環」、「芳香族炭素環」、「非芳香族炭素環」、「芳香族複素環」、および「非芳香族複素環」の環上の置換基としては、次の置換基群Ｂが挙げられる。環上の任意の位置の原子が次の置換基群Ｂから選択される１以上の基と結合していてもよい。好ましい置換基としては、置換基群Ｅが挙げられる。より好ましくは、置換基群Ｆが挙げられる。さらに好ましくは置換基群Ｆが挙げられる。別の好ましい態様としては、置換基群Ｉが挙げられる。
【０１５０】
置換基群Ｂ：オキソ、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、イミノ、ヒドロキシイミノ、ホルミル、ホルミルオキシ、スルファニル、スルフィノ、スルホ、チオホルミル、チオカルボキシ、ジチオカルボキシ、チオカルバモイル、ペンタハロゲノチオ、シアノ、ニトロ、ニトロソ、アジド、ヒドラジノ、ウレイド、アミジノ、グアニジノ、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される1以上の基で置換されたアルキルシリル、非置換もしくは置換基群Ａから選択される1以上の基で置換されたアルキル、非置換もしくは置換基群Ａから選択される1以上の基で置換されたアルケニル、非置換もしくは置換基群Ａから選択される1以上の基で置換されたアルキニル、非置換もしくは置換基群Ａから選択される1以上の基で置換されたアルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ａから選択される1以上の基で置換されたアルケニルオキシ、非置換もしくは置換基群Ａから選択される1以上の基で置換されたアルキニルオキシ、非置換もしくは置換基群Ａから選択される1以上の基で置換されたアルキルカルボニル、非置換もしくは置換基群Ａから選択される1以上の基で置換されたアルケニルカルボニル、非置換もしくは置換基群Ａから選択される1以上の基で置換されたアルキニルカルボニル、非置換もしくは置換基群Ａから選択される1以上の基で置換されたアルキルスルホニル、非置換もしくは置換基群Ａから選択される1以上の基で置換されたアルケニルスルホニル、非置換もしくは置換基群Ａから選択される1以上の基で置換されたアルキニルスルホニル、非置換もしくは置換基群Ａから選択される1以上の基で置換されたアルキルイミノ、非置換もしくは置換基群Ａから選択される1以上の基で置換されたアルケニルイミノ、非置換もしくは置換基群Ａから選択される1以上の基で置換されたアルキニルイミノ、非置換もしくは置換基群Ａから選択される1以上の基で置換されたアルキルカルボニルイミノ、非置換もしくは置換基群Ａから選択される1以上の基で置換されたアルケニルカルボニルイミノ、非置換もしくは置換基群Ａから選択される1以上の基で置換されたアルキニルカルボニルイミノ、非置換もしくは置換基群Ａから選択される1以上の基で置換されたアルキルオキシイミノ、非置換もしくは置換基群Ａから選択される1以上の基で置換されたアルケニルオキシイミノ、非置換もしくは置換基群Ａから選択される1以上の基で置換されたアルキニルオキシイミノ、非置換もしくは置換基群Ａから選択される1以上の基で置換されたアルキルオキシアルキルオキシイミノ、非置換もしくは置換基群Ａから選択される1以上の基で置換されたメチリデン、非置換もしくは置換基群Ａから選択される1以上の基で置換されたアルキルカルボニルオキシ、非置換もしくは置換基群Ａから選択される1以上の基で置換されたアルケニルカルボニルオキシ、非置換もしくは置換基群Ａから選択される1以上の基で置換されたアルキニルカルボニルオキシ、非置換もしくは置換基群Ａから選択される1以上の基で置換されたアルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ａから選択される1以上の基で置換されたアルケニルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ａから選択される1以上の基で置換されたアルキニルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ａから選択される1以上の基で置換されたアルキルスルファニル、非置換もしくは置換基群Ａから選択される1以上の基で置換されたアルケニルスルファニル、非置換もしくは置換基群Ａから選択される1以上の基で置換されたアルキニルスルファニル、非置換もしくは置換基群Ａから選択される1以上の基で置換されたアルキルスルフィニル、非置換もしくは置換基群Ａから選択される1以上の基で置換されたアルケニルスルフィニル、非置換もしくは置換基群Ａから選択される1以上の基で置換されたアルキニルスルフィニル、非置換もしくは置換基群Ｃから選択される1または２つの基で置換されたアミノ、非置換もしくは置換基群Ｃから選択される１または２つの基で置換されたカルバモイル、非置換または置換基群Ｃから選択される１または２つの基で置換されたスルファモイル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環式基、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環式基、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環式基、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環式基、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシ、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環オキシ、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環オキシ、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環オキシ、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環オキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環オキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環オキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環アルキル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環アルキル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルケニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルケニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｅから選択��れる1以上の基で置換された芳香族複素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシアルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシアルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシアルキル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環オキシアルキル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環オキシアルキル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環オキシアルキル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシアルキル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキルオキシアルキル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環アルキルオキシアルキル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環アルキルオキシアルキル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシイミノ、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環オキシイミノ、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環スルファニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環スルファニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環スルファニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環スルファニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環スルホニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環スルホニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環スルホニル、および非置換もしくは置換基群Ｅから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環スルホニル。
【０１５１】
「置換もしくは非置換の炭素環式基」、「置換もしくは非置換の複素環式基」、「置換もしくは非置換の炭素環アルキル」および「置換もしくは非置換の複素環アルキル」の「炭素環」および「複素環」の環上の置換基としても、置換基群Ｂが挙げられる。環上の任意の位置の原子が置換基群Ｂから選択される１以上の基と結合していてもよい。該置換基が２つ以上存在する場合は同一でも異なっていても良い。好ましい置換基としては、置換基群Ｅが挙げられる。より好ましくは、置換基群Ｆが挙げられる。さらに好ましくは置換基群Ｆが挙げられる。別の好ましい態様としては、置換基群Ｉが挙げられる。
【０１５２】
「置換もしくは非置換のアルキルアミノ」、「置換もしくは非置換のモノアルキルアミノ」、「置換もしくは非置換のジアルキルアミノ」、「置換もしくは非置換のモノアルキルアミノカルボニル」、「置換もしくは非置換のジアルキルアミノカルボニル」、「置換もしくは非置換のモノアルキルアミノスルホニル」、「置換もしくは非置換のジアルキルアミノスルホニル」、「置換もしくは非置換のモノアルキルカルバモイル」、「置換もしくは非置換のジアルキルカルバモイル」、「置換もしくは非置換のモノアルキルスルファモイル」、「置換もしくは非置換のジアルキルスルファモイル」、「置換もしくは非置換の炭素環アルキル」、「置換もしくは非置換の複素環アルキル」、「置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキル」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキル」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキル」、「置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシ」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシ」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシ」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシ」、「置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシカルボニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル」、「置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシアルキル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシアルキル」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシアルキル」、および「置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシアルキル」の「アルキル」上の置換基としても、置換基群Ａが挙げられる。アルキル上の任意の位置に置換基群Ａから選択される１以上の基と結合していてもよい。該置換基が２つ以上存在する場合は同一でも異なっていても良い。好ましい置換基としては、置換基群Ｇが挙げられる。より好ましくは、置換基群Ｋが挙げられる。
【０１５３】
「置換もしくは非置換のアミノ」、「置換もしくは非置換のカルバモイル」、「置換もしくは非置換のスルファモイル」、「置換もしくは非置換のアルキルアミノ」、「置換もしくは非置換のモノアルキルアミノ」、「置換もしくは非置換のジアルキルアミノ」、「置換もしくは非置換のモノアルキルアミノカルボニル」、「置換もしくは非置換のジアルキルアミノカルボニル」、「置換もしくは非置換のモノアルキルアミノスルホニル」、「置換もしくは非置換のジアルキルアミノスルホニル」、「置換もしくは非置換のモノアルキルカルバモイル」、「置換もしくは非置換のジアルキルカルバモイル」、「置換もしくは非置換のモノアルキルスルファモイル」、および「置換もしくは非置換のジアルキルスルファモイル」における「アミノ」上の置換基としては、次の置換基群Ｃが挙げられる。該置換基が２つ存在する場合は同一でも異なっていてもよい。好ましい置換基としては、置換基群Ｈが挙げられる。より好ましくは、置換基群Ｊが挙げられる。
【０１５４】
置換基群Ｃ：ヒドロキシ、アミノ、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される1以上の基で置換されたアルキルシリル、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される1以上の基で置換されたアルキル、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される1以上の基で置換されたアルケニル、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される1以上の基で置換されたアルキニル、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される1以上の基で置換されたアルキルカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される1以上の基で置換されたアルケニルカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される1以上の基で置換されたアルキニルカルボニル、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される1以上の基で置換されたアルキルスルホニル、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される1以上の基で置換されたアルケニルスルホニル、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される1以上の基で置換されたアルキニルスルホニル、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される1以上の基で置換されたアルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される1以上の基で置換されたアルケニルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される1以上の基で置換されたアルキニルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された芳香族炭素環式基、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された非芳香族炭素環式基、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された芳香族複素環式基、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された非芳香族複素環式基、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された芳香族炭素環オキシ、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された非芳香族炭素環オキシ、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された芳香族複素環オキシ、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された非芳香族複素環オキシ、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された芳香族炭素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された非芳香族炭素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された芳香族複素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された非芳香族複素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された芳香族炭素環オキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された非芳香族炭素環オキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された芳香族複素環オキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された非芳香族複素環オキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された芳香族炭素環アルキル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された芳香族複素環アルキル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上��基で置換された非芳香族複素環アルキル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された芳香族複素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された非芳香族複素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシアルキル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキルオキシアルキル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された芳香族複素環アルキルオキシアルキル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された非芳香族複素環アルキルオキシアルキル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された非芳香族炭素環スルホニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された芳香族炭素環スルホニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された芳香族複素環スルホニル、および非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された非芳香族複素環スルホニル。
【０１５５】
「置換もしくは非置換のメチリデン」および「置換もしくは非置換のヒドロキシイミノ」の置換基としては、置換基群Ｃが挙げられる。好ましくは、置換基群Ｈである。
【０１５６】
「置換基を有するカルボニル」および「置換基を有するカルボニルオキシ」の置換基としては、次の置換基群Ｄが挙げられる。
置換基群Ｄ：置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキルカルボニルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルカルボニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルカルボニルオキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換のカルバモイル、置換もしくは非置換のスルファモイル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルケニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルケニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシアルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシアルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシアルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシアルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシアルキル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシアルキル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシアルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシアルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシアルキル、および置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシアルキル。
【０１５７】
置換基群Ｅ：オキソ、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、イミノ、ヒドロキシイミノ、ホルミル、ホルミルオキシ、スルファニル、スルフィノ、スルホ、チオホルミル、チオカルボキシ、ジチオカルボキシ、チオカルバモイル、ペンタハロゲノチオ、シアノ、ニトロ、ニトロソ、アジド、ヒドラジノ、ウレイド、アミジノ、グアニジノ、トリアルキルシリル、非置換もしくは置換基群Ｋから選択される1以上の基で置換されたアルキル、非置換もしくは置換基群Ｋから選択される1以上の基で置換されたアルケニル、アルキニル、ハロアルキル、非置換もしくは置換基群Ｋから選択される1以上の基で置換されたアルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｋから選択される1以上の基で置換されたアルケニルオキシ、アルキニルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｋから選択される1以上の基で置換されたハロアルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｋから選択される1以上の基で置換されたアルキルオキシアルキル、非置換もしくは置換基群Ｋから選択される1以上の基で置換されたアルキルオキシアルキルオキシ、ヒドロキシアルキニル、アルキルオキシアルキルオキシアルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｋから選択される1以上の基で置換されたアルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｋから選択される1以上の基で置換されたアルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、アルキルイミノ、アルケニルイミノ、アルキニルイミノ、アルキルカルボニルイミノ、アルケニルカルボニルイミノ、アルキニルカルボニルイミノ、アルキルオキシイミノ、ハロアルキルオキシイミノ、アルケニルオキシイミノ、アルキニルオキシイミノ、アルキルオキシアルキルオキシイミノ、メチリデン、アルキルメチリデン、アルキルオキシカルボニルメチリデン、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルスルファニル、アルケニルスルファニル、アルキニルスルファニル、アルキルスルフィニル、アルケニルスルフィニル、アルキニルスルフィニル、非置換もしくは置換基群Ｋから選択される1以上の基で置換されたアルキルオキシアルキルオキシアルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｊから選択される１または２つの基で置換されたカルバモイルアルキルオキシ、アルキルスルホニルアミノアルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｊから選択される１または２つの基で置換されたスルファモイルアルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｊから選択される１または２つの基で置換されたアミノアルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｈから選択される1または２つの基で置換されたアミノ、非置換もしくは置換基群Ｈから選択される１または２つの基で置換されたカルバモイル、非置換または置換基群Ｈから選択される１または２つの基で置換されたスルファモイル、非置換もしくは置換基群Ｆから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環式基、非置換もしくは置換基群Ｆから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環式基、非置換もしくは置換基群Ｆから選択される1以上の基で置換された芳香���複素環式基、非置換もしくは置換基群Ｆから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環式基、非置換もしくは置換基群Ｆから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシ、非置換もしくは置換基群Ｆから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環オキシ、非置換もしくは置換基群Ｆから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環オキシ、非置換もしくは置換基群Ｆから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環オキシ、非置換もしくは置換基群Ｆから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Ｆから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Ｆから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Ｆから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Ｆから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｆから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環オキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｆから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環オキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｆから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環オキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｆから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキル、非置換もしくは置換基群Ｆから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキル、非置換もしくは置換基群Ｆから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環アルキル、非置換もしくは置換基群Ｆから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環アルキル、非置換もしくは置換基群Ｆから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルケニル、非置換もしくは置換基群Ｆから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルケニル、非置換もしくは置換基群Ｆから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｆから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｆから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｆから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｆから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシアルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｆから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシアルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｆから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｆから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｆから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｆから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｆから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシアルキル、非置換もしくは置換基群Ｆから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環オキシアルキル、非置換もしくは置換基群Ｆから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環オキシアルキル、非置換もしくは置換基群Ｆから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環オキシアルキル、非置換もしくは置換基群Ｆから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシアルキル、非置換もしくは置換基群Ｆから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキルオキシアルキル、非置換もしくは置換基群Ｆから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環アルキルオキシアルキル、非置換もしくは置換基群Ｆから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環アルキルオキシアルキル、非置換もしくは置換基群Ｆから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシイミノ、非置換もしくは置換基群Ｆから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環オキシイミノ、非置換もしくは置換基群Ｆから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環スルファニル、非置換もしくは置換基群Ｆから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環スルファニル、非置換もしくは置換基群Ｆから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環スルファニル、非置換もしくは置換基群Ｆから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環スルファニル、非置換もしくは置換基群Ｆから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環スルホニル、非置換もしくは置換基群Ｆから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環スルホニル、非置換もしくは置換基群Ｆから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環スルホニル、および非置換もしくは置換基群Ｆから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環スルホニル。
【０１５８】
置換基群Ｆ：オキソ、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アミノ、イミノ、ヒドロキシアミノ、ヒドロキシイミノ、ホルミル、ホルミルオキシ、カルバモイル、スルファモイル、スルファニル、スルフィノ、スルホ、チオホルミル、チオカルボキシ、ジチオカルボキシ、チオカルバモイル、ペンタハロゲノチオ、シアノ、シアノアルキル、ニトロ、ニトロソ、アジド、ヒドラジノ、ウレイド、アミジノ、グアニジノ、トリアルキルシリル、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、ハロアルキルオキシ、ハロアルケニルオキシ、ヒドロキシアルキルオキシ、カルボキシアルキルオキシ、アルキルオキシアルキル、アルキルオキシアルキルオキシ、ヒドロキシアルキル、ヒドロキシアルケニル、ヒドロキシアルキニル、アルキルオキシアルキル、アルキルオキシアルキルオキシアルキルオキシ、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、モノアルキルカルボニルアミノ、ジアルキルカルボニルアミノ、モノアルキルスルホニルアミノ、ジアルキルスルホニルアミノ、アルキルイミノ、アルケニルイミノ、アルキニルイミノ、アルキルカルボニルイミノ、アルケニルカルボニルイミノ、アルキニルカルボニルイミノ、アルキルオキシイミノ、ハロアルキルオキシイミノ、アルケニルオキシイミノ、アルキニルオキシイミノ、アルキルオキシアルキルオキシイミノ、メチリデン、アルキルメチリデン、アルキルオキシカルボニルメチリデン、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルオキシカルボニルアルキルオキシ、アルキルオキシカルボニルアルキル、アルキルスルファニル、アルケニルスルファニル、アルキニルスルファニル、アルキルスルフィニル、アルケニルスルフィニル、アルキニルスルフィニル、モノアルキルカルバモイル、ジアルキルカルバモイル、モノアルキルスルファモイル、ジアルキルスルファモイル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環式基、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環式基、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環式基、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環式基、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシ、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環オキシ、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環オキシ、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環オキシ、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された���香族複素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環オキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環オキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環オキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環アルキル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環アルキル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルケニル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルケニル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシアルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシアルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシアルキル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環オキシアルキル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環オキシアルキル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環オキシアルキル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシアルキル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキルオキシアルキル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環アルキルオキシアルキル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環アルキルオキシアルキル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシイミノ、非置換もしくは置���基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環オキシイミノ、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された香族炭素環スルファモイル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環スルファモイル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環スルファモイル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環スルファモイル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルスルファモイル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルアミノ、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキルアミノ、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環アルキルアミノ、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環アルキルアミノ、芳香族炭素環スルファニル、非芳香族炭素環スルファニル、芳香族複素環スルファニル、非芳香族複素環スルファニル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環スルホニル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環スルホニル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環スルホニル、および非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環スルホニル。
【０１５９】
置換基群Ｇ：ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、イミノ、ヒドロキシアミノ、ヒドロキシイミノ、ホルミル、ホルミルオキシ、カルバモイル、スルファモイル、スルファニル、スルフィノ、スルホ、チオホルミル、ペンタハロゲノチオ、チオカルボキシ、ジチオカルボキシ、チオカルバモイル、シアノ、ニトロ、ニトロソ、アジド、ヒドラジノ、ウレイド、アミジノ、グアニジノ、トリアルキルシリル、非置換もしくは置換基群Ｋから選択される1以上の基で置換されたアルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｋから選択される1以上の基で置換されたアルケニルオキシ、アルキニルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｋから選択される1以上の基で置換されたアルキルカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｋから選択される1以上の基で置換されたアルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｊから選択される1または２つの基で置換されたアミノ、非置換もしくは置換基群Ｊから選択される1または２つのの基で置換されたカルバモイル、非置換もしくは置換基群Ｊから選択される1または２つの基で置換されたスルファモイル、非置換もしくは置換基群Ｋから選択される1以上の基で置換されたアルキルスルホニル、非置換もしくは置換基群Ｋから選択される1以上の基で置換されたアルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、モノアルキルアミノカルボニル、ジアルキルアミノカルボニル、モノアルキルアミノスルホニル、ジアルキルアミノスルホニル、アルキルイミノ、アルケニルイミノ、アルキニルイミノ、アルキルカルボニルイミノ、アルケニルカルボニルイミノ、アルキニルカルボニルイミノ、アルキルオキシイミノ、アルケニルオキシイミノ、アルキニルオキシイミノ、非置換もしくは置換基群Ｋから選択される1以上の基で置換されたアルキルカルボニルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｋから選択される1以上の基で置換されたアルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｋから選択される1以上の基で置換されたアルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｋから選択される1以上の基で置換されたアルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルスルファニル、アルケニルスルファニル、アルキニルスルファニル、アルキルスルフィニル、アルケニルスルフィニル、アルキニルスルフィニル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環式基、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環式基、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環式基、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環式基、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシ、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環オキシ、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環オキシ、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環オキシ、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Ｉから��択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環オキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環オキシカルボニル、非芳香族複素環オキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルアミノ、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキルアミノ、芳香族複素環アルキルアミノ、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環アルキルアミノ、芳香族炭素環スルファニル、非芳香族炭素環スルファニル、芳香族複素環スルファニル、非芳香族複素環スルファニル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環スルホニル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環スルホニル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環スルホニル、および非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環スルホニル。
【０１６０】
置換基群Ｈ：ヒドロキシ、アミノ、トリアルキルシリル、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル、アルキルオキシアルキル、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環式基、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環式基、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環式基、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環式基、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシ、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環オキシ、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環オキシ、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環オキシ、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環オキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環オキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環オキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環アルキル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環アルキル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキルオキシ、芳香族複素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシアルキル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキルオキシアルキル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環アルキルオキシアルキル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環アルキルオキシアルキル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環スルホニル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環スルホニル、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環スルホニル、および非置換もしくは置換基群Ｉから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環スルホニル。
【０１６１】
置換基群Ｉ：オキソ、ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、ヒドロキシ、アルキルオキシ、ハロアルキルオキシ、アルキルオキシアルキル、ヒドロキシアルキル、非置換もしくは置換基群Ｊから選択される1または２つの基で置換されたアミノ、非置換もしくは置換基群Ｊから選択される1または２つの基で置換されたカルバモイル、および非置換もしくは置換基群Ｊから選択される1または２つの基で置換されたスルファモイル。
【０１６２】
置換基群Ｊ：アルキル、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル、カルボキシアルキル、カルバモイル、アルキルカルボニル、ハロアルキルカルボニル、アルキルスルホニル、およびハロアルキルスルホニル。
【０１６３】
置換基群Ｋ：シアノ、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキルオキシ、ハロアルキルオキシ、アルケニルオキシ、ハロアルケニルオキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、スルファモイル、モノアルキルスルファモイル、ジアルキルスルファモイル、アルキルカルボニル、ハロアルキルカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニルアミノ、アルキルスルホニル、およびアルキルスルホニルアミノ。
【０１６４】
また、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基」および「置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基」は「オキソ」で置換されていてもよい。この場合、以下のように炭素原子上の2個の水素原子が置換もしくは非置換のされている基を意味する。
【化３０】
2016098793.tif 000032
上記、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシ」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環カルボニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環カルボニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシカルボニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシカルボニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルファニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルファニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルフィニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルフィニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルホニル」、および「置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルホニル」の非芳香族炭素環、および非芳香族複素環部分も上記と同様に「オキソ」で置換されていてもよい。
【０１６５】
「置換もしくは非置換のメチリデン」および「置換もしくは非置換のヒドロキシイミノ」の置換基としては、水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換の炭素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基等が挙げられる。複数の置換基で置換される場合は、置換基は同一でも異なっていても良い。
【０１６６】
「脱離基」としては、たとえば、ハロゲン、Ｃ１−６アルキルスルホニルオキシまたはアリールスルホニルオキシが挙げられる。
【０１６７】
式（Ｉ）で示される化合物における、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４、Ｘ，Ｘ’，Ｚ，Ｇ，Ｙ，ｍ，およびｎの好ましい態様を以下に示す。 下記の可能な組み合わせの化合物が好ましい。
【０１６８】
Ｒ１およびＲ２は、好ましくは、
それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、ヒドロキシ、アシル、アシルオキシ、スルファニル、シアノ、ニトロ、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキルスルファニル、置換もしくは非置換のアルケニルスルファニル、置換もしくは非置換のアルキニルスルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルファニル、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルファニルであるか、
隣接しない炭素原子に結合する２つのＲ１が一緒になって、置換もしくは非置換のアルキレンを形成するか、
同一炭素原子に結合するＲ１およびＲ２が隣接する原子と一緒になって置換もしくは非置換の非芳香族炭素環を形成するか、
または同一炭素原子に結合するＲ１およびＲ２が一緒になって、オキソまたは置換もしくは非置換のメチリデンを形成する。
Ｒ１およびＲ２は、より好ましくは、
それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルキルスルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基であるか、
隣接しない炭素原子に結合する２つのＲ１が一緒になって、置換もしくは非置換のアルキレンを形成するか、
同一炭素原子に結合するＲ１およびＲ２が隣接する原子と一緒になって置換もしくは非置換のシクロアルカンを形成するか、
または同一炭素原子に結合するＲ１およびＲ２が一緒になって、オキソまたは置換もしくは非置換のメチリデンである。
Ｒ１およびＲ２は、さらに好ましくは、
Ｒ１が、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルケニル、アルキニル、アルキルオキシ、ハロアルキルオキシ、アルキルスルファニル、または、シクロアルキルであり、かつ、Ｒ２が、水素原子、ハロゲン、またはアルキルであるか、
隣接しない炭素原子に結合する２つのＲ１が一緒になって、アルキレンを形成し、かつＲ２が水素原子であるか、
同一炭素原子に結合するＲ１およびＲ２が、隣接する原子と一緒になって非置換またはハロゲンで置換されたシクロアルカンを形成するか、
または、同一炭素原子に結合するＲ１およびＲ２が一緒になって、オキソまたはメチリデンである。
Ｒ１およびＲ２が、それぞれ独立した基である場合、特に好ましい態様としては、（Ｒ１，Ｒ２）が、それぞれ独立して、（水素原子、水素原子）、（水素原子、メチル）、（メチル、水素原子）、（メチル、メチル）、（水素原子、ハロゲン）、（ハロゲン、水素原子）または（ハロゲン、ハロゲン）である。さらに好ましい態様としては、（Ｒ１，Ｒ２）が、それぞれ独立して、（水素原子、水素原子）、（水素原子、メチル）、（メチル、水素原子）、（メチル、メチル）、（水素原子、フッ素原子）、（フッ素原子、水素原子）または（フッ素原子）である。
【０１６９】
Ｒ１および／またはＲ２が置換基を有する場合、Ｒ１またはＲ２の好ましい置換基は、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アミノ、カルバモイル、スルファモイル、スルファニル、スルフィノ、シアノ、ニトロ、トリアルキルシリル、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、ハロアルキルオキシ、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、アルキルスルファニル、アルケニルスルファニルおよびアルキニルスルファニルから選択される１以上の基である。より好ましい置換基は、ハロゲン、シアノ、ニトロ、アルキルオキシ、ハロアルキルオキシ、ジアルキルアミノおよびアルキルスルホニルから選択される１以上の基である。
【０１７０】
「隣接しない炭素原子に結合する２つのＲ１が一緒になって、置換もしくは非置換のアルキレン、置換もしくは非置換のアルケニレン、または置換もしくは非置換のアルキニレンを形成する」としては、例えば以下のような基：
【化３１】
2016098793.tif 000033
（式中、Ｒ５は置換もしくは非置換のアルキニレン、置換もしくは非置換のアルケニレン、または置換もしくは非置換のアルキニレンであり、その他の各定義は上記を同意義である。）
等を含有する。
【０１７１】
Ｒ５は、好ましくは置換もしくは非置換のアルキニレンであり、より好ましくは非置換もしくはハロゲンで置換されたアルキニレンである。該アルキニレンの炭素数は、好ましくは１〜４、より好ましくは１〜３である。
【０１７２】
「同一炭素原子に結合するＲ１およびＲ２が一緒になって、置換もしくは非置換のメチリデンを形成する」および「Ｒ３およびＲ４が一緒になって、置換もしくは非置換のメチリデンを形成する」とは、式：
【化３２】
2016098793.tif 000034
（Ｒ６およびＲ７は、それぞれ独立して上記の「置換もしくは非置換のメチリデン」の置換基と同意義である。）
で示される基を意味する。
Ｒ６およびＲ７は、好ましくは、それぞれ独立して、水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換の炭素環式基または置換もしくは非置換の複素環式基である。より好ましくは、水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基である。さらに好ましくは、水素原子、非置換またはハロゲンで置換されたアルキル、または非置換またはハロゲンで置換されたシクロアルキルである。特に好ましくは、水素原子である。
【０１７３】
ｎは、好ましくは２〜４、より好ましくは２または３、特に好ましくは３である。
【０１７４】
式：
【化３３】
2016098793.tif 000035
の好ましい態様としては、式：
【化３４】
2016098793.tif 000036
（式中、各定義は前記と同意義である。）
が挙げられる。
より好ましい態様としては、式：
【化３５】
2016098793.tif 000037
（式中、各定義は前記と同意義である。）
が挙げられる。
【０１７５】
Ｇは、好ましくは、置換されたフェニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基、または式（Ｉ−Ｇ１）：
【化３６】
2016098793.tif 000038
（式中、各定義は前記と同意義である。）
で示される基ある。
好ましくは、置換もしくは非置換の２環の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基、または式（Ｉ−Ｇ１）で示される基である。
より好ましくは、置換もしくは非置換の複素環式基、または式（Ｉ−Ｇ１）で示される基である。
さらに好ましくは、置換もしくは非置換の単環の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の単環または２環の非芳香族複素環式基、または式（Ｉ−Ｇ１）で示される基である。
Ｇが置換基を有する場合、該置換基の好ましい態様は、置換基群Ｂから選択される１以上の基である。より好ましい態様としては、置換基群Ｅから選択される1以上の基である。該置換基が複数存在する場合は、同一でも異なっていても良い。
別の好ましい置換基の態様としては、オキソ、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、シアノ、シアノアルキル、アルキル、アルケニル、ハロアルキル、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、ハロアルキルオキシ、ヒドロキシアルキルオキシ、アルキルオキシアルキルオキシ、ヒドロキシアルキル、ヒドロキシアルキニル、シアノアルキル、アルキルオキシアルキル、アルキルオキシアルキルオキシ、アルキルオキシアルキルオキシアルキルオキシ、アルキルカルボニル、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルキルスルホニル、モノアルキルスルホニルアミノ、アルキルオキシイミノ、ハロアルキルオキシイミノ、アルキルオキシアルキルオキシイミノ、メチリデン、アルキルメチリデン、アルキルオキシカルボニルメチリデン、アルキルオキシカルボニル、アルキルオキシカルボニルアルキルオキシ、アルキルオキシカルボニルアルキル、アルキルスルファニル、アルキルスルフィニル、モノアルキルスルファモイル、ジアルキルスルファモイル、非置換または置換基群Ｂから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環式基、非置換または置換基群Ｂから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環式基、非置換または置換基群Ｂから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環式基、非置換または置換基群Ｂから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環式基、非置換または置換基群Ｂから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシ、非置換または置換基群Ｂから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環オキシ、非置換または置換基群Ｂから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環オキシ、非置換または置換基群Ｂから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環オキシ、非置換または置換基群Ｂから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環カルボニル、非置換または置換基群Ｂから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキル、非置換または置換基群Ｂから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキル、非置換置換基群Ｂから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環アルキル、非置換または置換基群Ｂから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環アルキル、非置換または置換基群Ｂから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシ、非置換または置換基群Ｂから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキルオキシ、非置換または置換基群Ｂから選択される1以上の基で置換された芳香族複素環アルキルオキシ、非置換または置換基群Ｂから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環アルキルオキシ、非置換または置換基群Ｂから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、非置換または置換基群Ｂから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシアルキルオキシ、非置換または置換基群Ｂから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシアルキルオキシ、非置換または置換基群Ｂから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシアルキル、置換基群Ｂから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環オキシアルキル、非置換または置換基群Ｂから選択される1以上の基で置換された非芳香���炭素環オキシイミノ、非置換または置換基群Ｂから選択される1以上の基で置換されたアルキルオキシ芳香族炭素環アルキルオキシ、非置換または置換基群Ｂから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環スルファモイル、非置換または置換基群Ｂから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルスルファモイル、非置換または置換基群Ｂから選択される1以上の基で置換された芳香族炭素環スルファニル、非置換または置換基群Ｂから選択される1以上の基で置換された非芳香族炭素環スルホニル、および非置換または置換基群Ｂから選択される1以上の基で置換された非芳香族複素環スルホニルから選択される１以上の基である。該置換基が複数存在する場合は、同一でも異なっていても良い。好ましい置換基の数としては、０〜８であり、より好ましくは０〜５、さらに好ましくは０〜３である。
Ｇの非芳香族炭素環式基としては、シクロプロピル、インダニル（特に好ましくは、インダン−４−イル）等が挙げられる。
Ｇの複素環式基としては、チエニル（特に好ましくは、チオフェン−２−イルまたはチオフェン−３−イル）、フリル（特に好ましくは、フラン−３−イル）、チアゾール（特に好ましくは、チアゾール−４−イル）、ピロリル（特に好ましくは、ピロール−２−イル）、イミダゾリル（特に好ましくは、イミダゾール−２−イル）、ピリジル（特に好ましくは、ピリジン−２−イル、ピリジン−３−イル、ピリジン−４−イル）、ピリミジニル（特に好ましくは、ピリミジン−２−イル、ピリミジン−４−イル、ピリミジン−５−イル）、ピラジニル（特に好ましくは、ピラジン−２−イル）、ピペリジニル（特に好ましくは、ピペリジン−３−イル、ピペリジン−４−イル）、ピペラジニル（特に好ましくは、ピペラジン−１―イル）、チオモルホリニル（特に好ましくは、チオモルホリン−２−イル）、アゼパン-1-イル、オクタヒドロ−7H-ピラノ[2,3−c]ピリジン−7−イル、ヘキサヒドロ−2H−ピラノ[3,2−c]ピリジン-6(5H)-イル、7,8-ジヒドロピリド[4,3−d]ピリミジン-6(5H)−イル、インドリル（特に好ましくは、１−インドリル、インドール−２−イル、インドール−４−イル、インドール−３−イル）、ベンゾフリル（特に好ましくは、ベンゾフリル−３−イル、ベンゾフリル−７−イル、ベンゾフリル−４−イル）、ベンゾチエニル（特に好ましくは、ベンゾチオフェン−３−イル、ベンゾチオフェン−４−イル）、キノリル（特に好ましくは、キノリン−５−イル）、イソキノリル（特に好ましくは、イソキノリン）、ベンズチアゾリル（特に好ましくは、ベンズチアゾール−４−イル、ベンズチアゾール−５−イル）、テトラヒドロイソキノリル（特に好ましくは、１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリン−５−イル）、ジベンゾフリル（特に好ましくは、ジベンゾ［ｂ、ｄ］フラン−４−イル）等が挙げられる。
【０１７６】
「Ｇの炭素環式基がフェニルの場合、ｉ）該フェニル基は少なくとも１つ以上の置換もしくは非置換の炭素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基、置換もしくは非置換の炭素環アルキルまたは置換もしくは非置換の複素環アルキルで置換されており、該フェニルはさらに置換されていてもよく」の該フェニルにさらに置換される置換基としては、置換基群Ｂから選択される基が挙げられる。好ましくは、置換基群Ｉから選択される基が挙げられる。より好ましくは、ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルキルオキシ、ハロアルキルオキシ等が挙げられる。置換基が複数存在する場合は、該置換基は同一でも異なっていても良い。該フェニルにさらに置換される置換基の数としては、０〜４であり、好ましくは０〜２、より好ましくは０または１である。「置換もしくは非置換の炭素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基、置換もしくは非置換の炭素環アルキルまたは置換もしくは非置換の複素環アルキル」の好ましい置換位置としては、オルト位またはメタ位であり、より好ましくはメタ位である。該フェニルにさらに置換される置換基の好ましい置換位置としては、オルト位またはメタ位であり、より好ましくは、オルト位である。好ましい態様としては、Ｇが下式：
【化３７】
2016098793.tif 000039
（式中、Ｒ１１は置換もしくは非置換の炭素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基、置換もしくは非置換の炭素環アルキルまたは置換もしくは非置換の複素環アルキルであり、Ｒ１２は水素原子または置換基群Ｂから選択される基が挙げられる）
で示される基である。
Ｒ１１は、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基または置換もしくは非置換の芳香族複素環式基が好ましく、より好ましくは、置換もしくは非置換の単環または二環の芳香族炭素環式基または置換もしくは非置換の単環または二環の芳香族複素環式基である。Ｒ１１の置換基としては、置換基群Ｂから選択される1以上の基が挙げられる。好ましくは、置換基群Ｉから選択される基が挙げられる。より好ましくは、ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルキルオキシ、ハロアルキルオキシ等が挙げられる。置換基が複数存在する場合は、同一でも異なっていても良い。該置換基の数は、０〜５であり、好ましくは０〜３、より好ましくは０〜２である。該置換基は、少なくとも１つのオルト位に置換されているのが好ましい。
Ｒ１２は、好ましくは水素原子または置換基群Ｉから選択される基であり、より好ましくはハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルキルオキシ、ハロアルキルオキシ等が挙げられる。
【０１７７】
「Ｇの炭素環式基がフェニルの場合、ｉｉ）該フェニル基の少なくとも１つのメタ位が置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシ、または置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシで置換されており、該フェニル基はさらに置換されていてもよく、」の該フェニルにさらに置換される置換基としては、置換基群Ｂから選択される基が挙げられる。好ましくは、置換基群Ｉから選択される基が挙げられる。より好ましくは、ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルキルオキシ、ハロアルキルオキシ等が挙げられる。置換基が複数存在する場合は、該置換基は同一でも異なっていても良い。該置換基の置換位置としては、オルト位またはパラ位が好ましく、オルト位がより好ましい。該フェニルにさらに置換される置換基の数としては、０〜４であり、好ましくは０〜２、より好ましくは０または１である。好ましい態様としては、Ｇが下式：
【化３８】
2016098793.tif 000040
（式中、Ｒ１３は置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシ、または置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシであり、Ｒ１４は水素原子または置換基群Ｂから選択される基である）
で示される基である。
Ｒ１３は、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシ、または置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシが好ましく、より好ましくは、置換もしくは非置換の単環の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の単環の芳香族複素環オキシ、または置換もしくは非置換の単環の芳香族炭素環アルキルオキシである。Ｒ１３の置換基としては、置換基群Ｂから選択される1以上の基が挙げられる。好ましくは、置換基群Ｉから選択される基が挙げられる。より好ましくは、ハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルキルオキシ、ハロアルキルオキシ等が挙げられる。置換基が複数存在する場合は、同一でも異なっていても良い。該置換基の数は、０〜５であり、好ましくは０〜３、より好ましくは０〜２である。該置換基は、少なくとも１つのオルト位に置換されているのが好ましい。
Ｒ１３は、好ましくは水素原子または置換基群Ｉから選択される基であり、より好ましくはハロゲン、シアノ、アルキル、ハロアルキル、アルキルオキシ、ハロアルキルオキシ等が挙げられる。
【０１７８】
Ｒ３およびＲ４が「ａ）Ｒ３およびＲ４が隣接する原子と一緒になって、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成する」場合、好ましくは、置換もしくは非置換の単環の非芳香族炭素環、置換もしくは非置換の架橋構造もしくはスピロ構造を有する非芳香族炭素環、置換もしくは非置換の単環の非芳香族複素環または置換もしくは非置換の架橋構造もしくはスピロ構造を有する非芳香族複素環である。該環は、好ましくは３〜８員の環であり、より好ましくは３〜５員の環である。
【０１７９】
Ｒ３およびＲ４が「一緒になって、置換もしくは非置換のヒドロキシイミノを形成する」とは、式：
【化３９】
2016098793.tif 000041
（式中、Ｒ８は上記「置換もしくは非置換のヒドロキシイミノ」の置換基と同意義である。ここで、窒素原子と酸素原子との間の波線は、シス結合、トランス結合またはその混合であることを意味する。）
で示される基である。
Ｒ８は好ましくは、水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換の炭素環式基または置換もしくは非置換の複素環式基である。より好ましくは、水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基である。さらに好ましくは、非置換またはハロゲンで置換されたアルキル、または非置換またはハロゲンで置換されたシクロアルキルである。
【０１８０】
Ｒ３およびＲ４が「一緒になって、置換もしくは非置換のメチリデンを形成する」とは、式：
【化４０】
2016098793.tif 000042
（式中、Ｒ９およびＲ１０は上記「置換もしくは非置換のメチリデン」の置換基と同意義である。）
で示される基である。
Ｒ９およびＲ１０は好ましくは、それぞれ独立して、水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換の炭素環式基または置換もしくは非置換の複素環式基である。より好ましくは、水素原子または置換もしくは非置換のアルキルである。さらに好ましくは、ともに水素原子である。
【０１８１】
Ｘ’は、好ましくは、ハロゲン、シアノ、アシル、置換もしくは非置換のカルバモイル、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換の炭素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基、置換もしくは非置換の炭素環オキシ、置換もしくは非置換の複素環オキシ、置換もしくは非置換の炭素環アルキルオキシ、または置換もしくは非置換の複素環アルキルオキシである。より好ましくは、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシ、または置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシである。さらに好ましくは、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシ、または置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシである。
Ｘ’の置換基としては、置換基群Ｆから選択される基が挙げられる。好ましくは、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される１以上の基で置換された芳香族炭素環式基、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される１以上の基で置換された芳香族複素環式基、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される１以上の基で置換された非芳香族炭素環式基、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される１以上の基で置換された非芳香族複素環式基、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される１以上の基で置換された芳香族炭素環オキシ、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される１以上の基で置換された芳香族複素環オキシ、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される１以上の基で置換された非芳香族炭素環オキシ、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される１以上の基で置換された非芳香族複素環オキシ、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される１以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｉから選択される１以上の基で置換された芳香族複素環アルキルオキシ、および置換基群Ｉから選択される基等が挙げられる。より好ましくは、ハロゲン、シアノ、非置換もしくは置換基群Ｋから選択される１以上の基で置換された芳香族炭素環式基、および非置換もしくは置換基群Ｋから選択される１以上の基で置換された芳香族複素環式基等が挙げられる。
【０１８２】
Ｙは、好ましくは、ベンゼンまたは複素環である。より好ましくは、ベンゼン、単環の芳香族複素環もしくは非芳香族複素環、または２環もしくは３環の非芳香族複素環である。２環もしくは３環の非芳香族複素環は架橋構造および／またはスピロ構造を有していてもよい。特に好ましくは、５〜６員の芳香族複素環または９〜１０員の非芳香族複素環である。
【０１８３】
Ｘは、好ましくは、それぞれ独立して、ハロゲン、シアノ、アシル、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換のカルバモイル、置換もしくは非置換のスルファモイル、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシ、または置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルホニルである。
より好ましくは、それぞれ独立して、ハロゲン、シアノ、アシル、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換のカルバモイル、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、または置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルホニルである。
Ｘの別の好ましい態様としては、それぞれ独立して、ハロゲン、シアノ、置換もしくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換のカルバモイル、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシアルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシアルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシアルキル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシアルキル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシアルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシアルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシアルキル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシアルキル、置換もしくは非置換の芳香族炭素カルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環カルボニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環カルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環カルボニル、または置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルホニルである。
Ｘのより好ましい態様としては、それぞれ独立して、ハロゲン、シアノ、置換もしくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換のカルバモイル、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシアルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシアルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環カルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環カルボニル、または置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルホニルである。
【０１８４】
Ｘが環式基を有する場合、該環の好ましい態様としては、単環の置換もしくは非置換の芳香族炭素環、単環もしくは２環の置換もしくは非置換の芳香族複素環、または単環もしくは２環の置換もしくは非置換の非芳香族複素環である。より好ましい態様としては、６員の置換もしくは非置換の芳香族炭素環、５〜６員の単環もしくは９〜１０員の２環の置換もしくは非置換の芳香族複素環、または５〜６員の単環もしくは９〜１０員の２環の置換もしくは非置換の非芳香族複素環である。
Ｘの芳香族炭素環式基としては、ベンジル、ナフチル（特に好ましくは、ナフタレン−２−イル）等が挙げられる。
Ｘの非芳香族炭素環式基としては、下式：
【化４１】
2016098793.tif 000043
で示される基等が挙げられる。特に好ましくは、下式：
【化４２】
2016098793.tif 000044
で示される基等が挙げられる。
Ｘの芳香族複素環式基としては、ピラゾリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、フリル、イミダゾリル、チエニル、チアゾリル、ピロリル、ピリジル、ピリミジル、ピリダジニル、インドリル、キノリル、イソキノリル、ベンゾフリル、ベンゾチエニル、キナゾリル等が挙げられる。特に好ましくは、下式：
【化４３】
2016098793.tif 000045
で示される基が挙げられる。
【０１８５】
Ｘの非芳香族複素環式基としては、下式：
【化４４】
2016098793.tif 000046
【化４５】
2016098793.tif 000047
で示される基等が挙げられる。特に好ましくは、下式：
【化４６】
2016098793.tif 000048
【化４７】
2016098793.tif 000049
で示される基等が挙げられる。
【０１８６】
Ｘの別の好ましい態様としては、下式：
【化４８】
2016098793.tif 000050
（式中、環上にさらに１以上の置換基を有していても良い。該置換基としては、下記の置換基等が挙げられる）
で示される基等が挙げられる。
【０１８７】
Ｘが置換基を有する場合、該置換基は置換基群Ａ、置換基群Ｂ、置換基群Ｃ、または置換基群Ｄ等が挙げられる。好ましくは、置換基群Ｇ、置換基群Ｅまたは置換基群Ｈ等が挙げられ、より好ましくは、置換基群Ｋ、置換基群Ｆ、または置換基群Ｊ等が挙げられる。該置換基の好ましい態様としては、オキソ、ハロゲン、ヒドロキシ、非置換もしくは置換基群Ｃから選択される１以上の基で置換されたアミノ、非置換もしくは置換基群Ｃから選択される１以上の基で置換されたカルバモイル、シアノ、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される１以上の基で置換されたアルキル、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される１以上の基で置換されたアルケニル、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される１以上の基で置換されたアルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される１以上の基で置換されたアルケニルオキシ、アルキニルオキシ、ヒドロキシアルキニル、シアノアルキル、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される１以上の基で置換されたアルキルオキシアルキルオキシアルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される１以上の基で置換されたアルキルカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される１以上の基で置換されたアルキルスルホニル、ハロアルキルオキシイミノ、アルキルオキシアルキルオキシイミノ、メチリデン、アルキルメチリデン、アルキルオキシカルボニルメチリデン、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される１以上の基で置換されたアルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される１以上の基で置換されたアルキルオキシカルボニルアルキル、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される１以上の基で置換されたアルキルスルファニル、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される１以上の基で置換されたアルキルスルフィニル、非置換もしくは置換基群Ｃから選択される１以上の基で置換されたスルファモイル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された芳香族炭素環式基、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された非芳香族炭素環式基、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された芳香族複素環式基、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された非芳香族複素環式基、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された芳香族炭素環オキシ、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された非芳香族炭素環オキシ、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された芳香族複素環オキシ、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された非芳香族複素環オキシ、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された非芳香族複素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された芳香族炭素環アルキル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された芳香族複素環アルキル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された非芳香族複素環アルキル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された非芳香族複素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシアルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された芳香族炭素環オキシアルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された芳香族炭素環オキシアルキル、非芳香族炭素環オキシイミノ、アルキルオキシ芳香族炭素環アルキルオキシ、非芳香族炭素環スルファモイル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルスルファモイル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された芳香族炭素環スルファニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された非芳香族炭素環スルホニル、および非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された非芳香族複素環スルホニルから選択される１以上の基である。該置換基が複数存在する場合は、同一でも異なっていても良い。
より好ましくは、オキソ、ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される１以上の基で置換されたアルキル、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される１以上の基で置換されたアルケニル、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される１以上の基で置換されたアルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される１以上の基で置換されたアルケニルオキシ、アルキニルオキシ、ヒドロキシアルキル、シアノアルキル、アルキルオキシアルキル、アルキルオキシアルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される１以上の基で置換されたアルキルオキシアルキルオキシアルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される１以上の基で置換されたアルキルカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｈから選択される１以上の基で置換されたアミノ、非置換もしくは置換基群Ｈから選択される１以上の基で置換されたカルバモイル、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される１以上の基で置換されたスルファモイル、非置換もしくは置換基群Ｇから選択される１以上の基で置換されたアルキルスルホニル、アルキルオキシカルボニルメチリデン、非置換もしくは置換基群Ｆから選択される１以上の基で置換されたアルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された芳香族炭素環式基、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された非芳香族炭素環式基、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された芳香族複素環式基、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された芳香族炭素環オキシ、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された非芳香族炭素環オキシ、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された芳香族複素環オキシ、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された非芳香族複素環カルボニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された芳香族炭素環アルキル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された非芳香族複素環アルキル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された非芳香族炭素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された非芳香族複素環アルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された芳香族炭素環オキシアルキルオキシ、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された芳香族炭素環オキシアルキル、非芳香族炭素環オキシイミノ、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された非芳香族炭素環スルファモイル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された芳香族炭素環アルキルスルファモイル、非置換もしくは置換基群Ｅから選択される１以上の基で置換された芳香族炭素環スルファニル、および非芳香族複素環スルホニルである。
【０１８８】
ｍは、好ましくは、０〜３であり、より好ましくは０〜２である。
【０１８９】
式（Ｉ）：
2016098793.tif 000051
の好ましい態様は、式（Ｉ−Ａ）：
【化４９】
2016098793.tif 000052
（式中、Ｕは、単結合、−Ｏ−、−ＮＲ１５−、置換もしくは非置換のアルキレン、置換もしくは非置換のアルケニレン、または任意の位置で１以上の酸素原子および／または窒素原子を介在している置換もしくは非置換のアルキレンであり、Ｒ１５は水素原子または置換もしくは非置換のアルキルであり、Ｗは置換もしくは非置換の炭素環または置換もしくは非置換の複素環であり、Ｘ１Ａは、それぞれ独立してハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、スルファニル、スルフィノ、スルホ、チオホルミル、チオカルボキシ、ジチオカルボキシ、チオカルバモイル、ペンタハロゲノチオ、シアノ、ニトロ、ニトロソ、ヒドラジノ、ウレイド、アミジノ、グアニジノ、アシル、アシルオキシ、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換のカルバモイル、置換もしくは非置換のスルファモイル、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルアミノ、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキルスルホニル、置換もしくは非置換のアルケニルスルホニル、置換もしくは非置換のアルキニルスルホニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルケニルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルキニルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアルキルスルファニル、置換もしくは非置換のアルケニルスルファニル、置換もしくは非置換のアルキニルスルファニル、置換もしくは非置換のアルキルスルフィニル、置換もしくは非置換のアルケニルスルフィニル、置換もしくは非置換のアルキニルスルフィニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルファニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環スルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルファニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルホニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルホニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環スルホニル、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルホニルであり、ｋは０〜５であり、その他の定義は上記と同意義である）
で示される化合物、または、式（Ｉ−Ｂ）：
【化５０】
2016098793.tif 000053
（式中、各記号は前記と同意義である）
で示される化合物が挙げられる。各定義の好ましい態様は上記の通りである。
Ｕは、好ましくは、単結合、−Ｏ−、−ＮＲ１５−、置換もしくは非置換のアルキレン、置換もしくは非置換のアルケニレン、−Ｏ−（ＣＲ１６Ｒ１７）ｅ−、−Ｏ−（ＣＲ１６Ｒ１７）ｅ−Ｏ−、−（ＣＲ１６Ｒ１７）ｅ−Ｏ−、−（ＣＲ１６Ｒ１７）ｅ−Ｏ−（ＣＲ１６Ｒ１７）ｅ−、−ＮＲ１５−（ＣＲ１６Ｒ１７）ｅ−、−（ＣＲ１６Ｒ１７）ｅ−ＮＲ１５−、−ＮＲ１５−（ＣＲ１６Ｒ１７）ｅ−Ｏ−、−Ｏ−（ＣＲ１６Ｒ１７）ｅ−ＮＲ１５−、または−（ＣＲ１６Ｒ１７）ｅ−ＮＲ１５−（ＣＲ１６Ｒ１７）ｅ−、である。ここで、Ｒ１６およびＲ１７は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のシクロアルキルであるか、Ｒ１６およびＲ１７が一緒になってオキソを形成していてもよい。ｅは１〜４である。
Ｗは、好ましくは、芳香族炭素環、非芳香族炭素環、芳香族複素環、または非芳香族複素環である。より好ましくは、ベンゼン、ナフタレン、単環または多環の非芳香族炭素環
、単環の芳香族複素環もしくは非芳香族複素環、または２環もしくは３環の非芳香族複素環である。多環の非芳香族炭素環および２環もしくは３環の非芳香族複素環は、架橋構造および／またはスピロ構造を有していてもよい。
Ｘ１Ａは、好ましくは、それぞれ独立して、ハロゲン、シアノ、アシル、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換のカルバモイル、置換もしくは非置換のスルファモイル、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシ、または置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルホニルである。
より好ましくは、それぞれ独立して、ハロゲン、シアノ、アシル、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換のカルバモイル、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、または置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルホニルである。
Ｘ１Ａの別の好ましい態様としては、それぞれ独立して、ハロゲン、シアノ、置換もしくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換のカルバモイル、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシアルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシアルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシアルキル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシアルキル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシアルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシアルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシアルキル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシアルキル、置換もしくは非置換の芳香族炭素カルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環カルボニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環カルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環カルボニル、または置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルホニルである。
Ｘ１Ａのより好ましい態様としては、それぞれ独立して、ハロゲン、シアノ、置換もしくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換のカルバモイル、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシアルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシアルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環カルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環カルボニル、または置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルホニルである。
【０１９０】
抗真菌剤とは、病原性真菌に作用して、その生育を抑制または殺菌する能力を持つ物質を意味する。真菌の繁殖を抑えたり、一部の真菌を殺してその数を減少させたりするようなものでもよい。 
【０１９１】
病原性真菌とは、例えば酵母様真菌、糸状真菌、接合菌などを挙げることができる。酵母様真菌として、例えば、カンジダ属（カンジダ・アルビカンス、カンジダ・グラブラータ、カンジダ・ギリエルモンディ、カンジダ・クルセイ、カンジダ・パラプシローシス、カンジダ・トロピカリスなど）、クリプトコッカス属（クリプトコッカス・ネオフォルマンスなど）、マラセチア属（マラセチア・フルフルなど）、トリコスポロン属（トリコスポロン・アサヒなど）が挙げられる。糸状真菌として、例えば、アスペルギルス属（アスペルギルス・フミガーツス、アスペルギルス・テレウス、アスペルギルス・ニゲール、アスペルギルス・フラバスなど）、白癬菌属（トリコフィトン・ルブルム、トリコフィトン・メンタグロファィテス、トリコフィトン・トンズランスなど）、フサリウム属（フサリウム・ソラニなど）、セドスポリウム属（セドスポリウム・アピオスペルマムなど）、小胞子菌（ミクロスポルム・カニスなど）が挙げられる。接合菌として、例えば、ムコール属（ムコール・プルムベウスなど）、リゾプス属（リゾプス・オリゼなど）、アブシディア属（アブシディア・コリンビフェラなど）が挙げられる。
本発明の抗真菌剤は、カンジダ属菌、アスペルギルス属菌およびクリプトコッカス属菌などの菌種に対して優れた抗真菌作用を示し、アスペルギルス属菌に対してより優れた抗真菌作用を示す。
また、別の態様では、本発明の抗真菌剤は、カンジダ・アルビカンス、アスペルギルス・フミガーツス、アスペルギルス・フラバスおよびクリプトコッカス・ネオフォルマンスなどの菌種に対して優れた抗真菌作用を示す。
また、別の態様では、本発明の抗真菌剤は、種々の耐性菌に対して優れた抗真菌作用を示す。 
【０１９２】
式（Ｉ）で表される化合物またはその製薬上許容される塩は、優れた安全性を示す。安全性は、種々の試験によって評価されるが、たとえば、細胞毒性試験、ｈＥＲＧ試験、反復投与毒性試験、シトクロムＰ４５０（ＣＹＰ）活性阻害試験、代謝依存性阻害試験、インビボ（in vivo）マウス小核試験およびインビボ（in vivo）ラット肝ＵＤＳ試験などから選ばれる各種安全性試験などで評価することができる。 
【０１９３】
式（Ｉ）の化合物の製薬上許容される塩としては、通常知られているアミノ基などの塩基性基またはヒドロキシもしくはカルボキシ基などの酸性基における塩を挙げることができる。 
【０１９４】
塩基性基における塩としては、たとえば、塩酸、臭化水素酸、硝酸および硫酸などの鉱酸との塩；ギ酸、酢酸、クエン酸、シュウ酸、フマル酸、マレイン酸、コハク酸、リンゴ酸、酒石酸、アスパラギン酸、トリクロロ酢酸およびトリフルオロ酢酸などの有機カルボン酸との塩；ならびにメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メシチレンスルホン酸およびナフタレンスルホン酸などのスルホン酸との塩が挙げられる。 
【０１９５】
酸性基における塩としては、たとえば、ナトリウムおよびカリウムなどのアルカリ金属との塩；カルシウムおよびマグネシウムなどのアルカリ土類金属との塩；アンモニウム塩；ならびにトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ−メチルモルホリン、ジエチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、プロカイン、ジベンジルアミン、Ｎ−ベンジル−β−フェネチルアミン、１−エフェナミンおよびＮ、Ｎ'−ジベンジルエチレンジアミンなどの含窒素有機塩基との塩などが挙げられる。 
好ましい塩としては、薬理学的に許容される塩が挙げられる。 
【０１９６】
式（Ｉ）で示される化合物の製薬上許容される塩としては、例えば、式（Ｉ）で示される化合物と、アルカリ金属（例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム等）、アルカリ土類金属（例えば、カルシウム、バリウム等）、マグネシウム、遷移金属（例えば、亜鉛、鉄等）、アンモニア、有機塩基（例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、メグルミン、ジエタノールアミン、エチレンジアミン、ピリジン、ピコリン、キノリン等）およびアミノ酸との塩、または無機酸（例えば、塩酸、硫酸、硝酸、炭酸、臭化水素酸、リン酸、ヨウ化水素酸等）、および有機酸（例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸、クエン酸、乳酸、酒石酸、シュウ酸、マレイン酸、フマル酸、マンデル酸、グルタル酸、リンゴ酸、安息香酸、フタル酸、アスコルビン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸等）との塩が挙げられる。特に塩酸、硫酸、リン酸、酒石酸、メタンスルホン酸との塩等が挙げられる。これらの塩は、通常行われる方法によって形成させることができる。
【０１９７】
式（Ｉ）で示される化合物は、特定の異性体に限定するものではなく、全ての可能な異性体（例えば、ケト−エノール異性体、イミン−エナミン異性体、ジアステレオ異性体、光学異性体、回転異性体等）、ラセミ体またはそれらの混合物を含む。例えば、式（Ｉ）で示される化合物は、以下のような互変異体を包含する。
【化５１】
2016098793.tif 000054
【０１９８】
式（Ｉ）で示される化合物の一つ以上の水素、炭素および／または他の原子は、それぞれ水素、炭素および／または他の原子の同位体で置換され得る。そのような同位体の例としては、それぞれ２Ｈ、３Ｈ、１１Ｃ、１３Ｃ、１４Ｃ、１５Ｎ、１８Ｏ、１７Ｏ、３１Ｐ、３２Ｐ、３５Ｓ、１８Ｆ、123Ｉおよび３６Ｃｌのように、水素、炭素、窒素、酸素、リン、硫黄、フッ素、ヨウ素および塩素が包含される。式（Ｉ）で示される化合物は、そのような同位体で置換された化合物も包含する。該同位体で置換された化合物は、医薬品としても有用であり、式（Ｉ）で示される化合物のすべての放射性標識体を包含する。また該「放射性標識体」を製造するための「放射性標識化方法」も本発明に包含され、該「放射性標識体」は、代謝薬物動態研究、結合アッセイにおける研究および／または診断のツールとして有用である。
【０１９９】
式（Ｉ）で示される化合物の放射性標識体は、当該技術分野で周知の方法で調製できる。例えば、式（Ｉ）で示されるトリチウム標識化合物は、トリチウムを用いた触媒的脱ハロゲン化反応によって、式（Ｉ）で示される特定の化合物にトリチウムを導入することで調製できる。この方法は、適切な触媒、例えばＰｄ／Ｃの存在下、塩基の存在下または非存在下で、式（Ｉ）で示される化合物が適切にハロゲン置換された前駆体とトリチウムガスとを反応させることを包含する。トリチウム標識化合物を調製するための他の適切な方法は、“Ｉｓｏｔｏｐｅｓ  ｉｎ  ｔｈｅ  Ｐｈｙｓｉｃａｌ  ａｎｄ  Ｂｉｏｍｅｄｉｃａｌ  Ｓｃｉｅｎｃｅｓ，Ｖｏｌ．１，Ｌａｂｅｌｅｄ  Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ  （Ｐａｒｔ  Ａ），Ｃｈａｐｔｅｒ  ６  （１９８７年）”を参照することができる。１４Ｃ−標識化合物は、１４Ｃ炭素を有する原料を用いることによって調製できる。
【０２００】
本発明の式（Ｉ）で示される化合物またはその製薬上許容される塩は、溶媒和物（例えば、水和物等）、共結晶、および／または結晶多形を形成する場合があり、本発明はそのような各種の溶媒和物、共結晶および結晶多形も包含する。「溶媒和物」は、式（Ｉ）で示される化合物に対し、任意の数の溶媒分子（例えば、水分子等）と配位していてもよい。式（Ｉ）で示される化合物またはその製薬上許容される塩を、大気中に放置することにより、水分を吸収し、吸着水が付着する場合や、水和物を形成する場合がある。また、式（Ｉ）で示される化合物またはその製薬上許容される塩を、再結晶することで結晶多形を形成する場合がある。「共結晶」は、式（Ｉ）で示される化合物または塩とカウンター分子が同一結晶格子内に存在することを意味し、任意の数のカウンター分子を含んでいても良い。
【０２０１】
本発明の式（Ｉ）で示される化合物またはその製薬上許容される塩は、プロドラッグを形成する場合があり、本発明はそのような各種のプロドラッグも包含する。プロドラッグは、化学的又は代謝的に分解できる基を有する本発明化合物の誘導体であり、加溶媒分解により又は生理学的条件下でインビボにおいて薬学的に活性な本発明化合物となる化合物である。プロドラッグは、生体内における生理条件下で酵素的に酸化、還元、加水分解等を受けて式（Ｉ）で示される化合物に変換される化合物、胃酸等により加水分解されて式（Ｉ）で示される化合物に変換される化合物等を包含する。適当なプロドラッグ誘導体を選択する方法および製造する方法は、例えば “Ｄｅｓｉｇｎ  ｏｆ  Ｐｒｏｄｒｕｇｓ，  Ｅｌｓｅｖｉｅｒ，  Ａｍｓｔｅｒｄａｍ，  １９８５”に記載されている。プロドラッグは、それ自身が活性を有する場合がある。
【０２０２】
式（Ｉ）で示される化合物またはその製薬上許容される塩がヒドロキシル基を有する場合は、例えば、ヒドロキシル基を有する化合物と適当なアシルハライド、適当な酸無水物、適当なスルホニルクロライド、適当なスルホニルアンハイドライド及びミックスドアンハイドライドとを反応させることにより或いは縮合剤を用いて反応させることにより製造されるアシルオキシ誘導体やスルホニルオキシ誘導体のようなプロドラッグが例示される。例えば、ＣＨ３ＣＯＯ−、Ｃ２Ｈ５ＣＯＯ−、ｔｅｒｔ−ＢｕＣＯＯ−、Ｃ１５Ｈ３１ＣＯＯ−、ＰｈＣＯＯ−、（ｍ−ＮａＯＯＣＰｈ）ＣＯＯ−、ＮａＯＯＣＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯ−、ＣＨ３ＣＨ（ＮＨ２）ＣＯＯ−、ＣＨ２Ｎ（ＣＨ３）２ＣＯＯ−、ＣＨ３ＳＯ３−、ＣＨ３ＣＨ２ＳＯ３−、ＣＦ３ＳＯ３−、ＣＨ２ＦＳＯ３−、ＣＦ３ＣＨ２ＳＯ３−、ｐ−ＣＨ３Ｏ−ＰｈＳＯ３−、ＰｈＳＯ３−、ｐ−ＣＨ３ＰｈＳＯ３−が挙げられる。
【０２０３】
本発明の式（Ｉ）の化合物またはその製薬上許容される塩を医薬として用いる場合、通常、製剤化に使用される賦形剤、単体および希釈剤などの製剤補助剤を適宜混合してもよい。これらは、常法にしたがって、錠剤、カプセル剤、散剤、シロップ剤、顆粒剤、丸剤、懸濁剤、乳剤、液剤、紛体製剤、坐剤、点眼剤、点鼻剤、点耳剤、貼付剤、軟膏剤または注射剤などの形態で、経口または非経口で投与することができる。また、投与方法、投与量および投与回数は、患者の年齢、体重および症状に応じて適宜選択することができる。通常、成人に対しては、経口または非経口投与（たとえば、注射、点滴および直腸部位への投与など）により、１日、０．０１〜１０００ｍｇ／ｋｇを１回から数回に分割して投与すればよい。
【０２０４】
本発明化合物は、各種真菌に対する高い抗真菌作用を有するため、抗真菌剤、特に深在性真菌症の治療剤及び／又は予防剤として有用である。さらに、本発明化合物は、血清添加条件下における各種真菌に対しても、優れた抗真菌活性を有するため、医薬品としての有用性を備えている。
【０２０５】
本発明化合物は、抗真菌作用のみならず、以下のいずれか１つ以上の特徴を有している点で医薬品としての有用性を備えている。
ａ）ＣＹＰ酵素（例えば、ＣＹＰ１Ａ２、ＣＹＰ２Ｃ９、ＣＹＰ２Ｃ１９、ＣＹＰ２Ｄ６、ＣＹＰ３Ａ４等）に対する阻害作用が弱い。
ｂ）血中濃度が高い、経口吸収性が高い、効果持続時間が長い、適度なクリアランスを有する、適度なタンパク結合率を有する、適度な組織移行性を有する等の良好な薬物動態を示す。
ｃ）代謝安定性（例えば、ラットおよび／またはヒトの代謝酵素に対する安定性）が高い。
ｄ）ＣＹＰ酵素（例えば、ＣＹＰ３Ａ４）に対し、本明細書に記載する測定条件の濃度範囲内で不可逆的阻害作用を示さない。
ｅ）変異原性を有さない。
ｆ）心血管系のリスクが低い。
ｇ）化合物の安定性および／または水に対する溶解性が高い。
ｈ）薬物相互作用を示さない。
ｉ）肝毒性、腎毒性等の毒性を示さない。
ｊ）生体内への投与後に、発熱や痙攣などの副作用を示さない。
【０２０６】
本発明の医薬組成物は、経口的、非経口的のいずれの方法でも投与することができる。非経口投与の方法としては、経皮、皮下、静脈内、動脈内、筋肉内、腹腔内、経粘膜、吸入、経鼻、点眼、点耳、膣内投与等が挙げられる。
【０２０７】
経口投与の場合は常法に従って、内用固形製剤（例えば、錠剤、散剤、顆粒剤、カプセル剤、丸剤、フィルム剤等）、内用液剤（例えば、懸濁剤、乳剤、エリキシル剤、シロップ剤、リモナーデ剤、酒精剤、芳香水剤、エキス剤、煎剤、チンキ剤等）等の通常用いられるいずれの剤型に調製して投与すればよい。錠剤は、糖衣錠、フィルムコーティング錠、腸溶性コーティング錠、徐放錠、トローチ錠、舌下錠、バッカル錠、チュアブル錠または口腔内崩壊錠であってもよく、散剤および顆粒剤はドライシロップであってもよく、カプセル剤は、ソフトカプセル剤、マイクロカプセル剤または徐放性カプセル剤であってもよい。
【０２０８】
非経口投与の場合は、注射剤、点滴剤、外用剤（例えば、点眼剤、点鼻剤、点耳剤、エアゾール剤、吸入剤、ローション剤、注入剤、塗布剤、含嗽剤、浣腸剤、軟膏剤、硬膏剤、ゼリー剤、クリーム剤、貼付剤、パップ剤、外用散剤、坐剤等）等の通常用いられるいずれの剤型でも好適に投与することができる。注射剤は、Ｏ／Ｗ、Ｗ／Ｏ、Ｏ／Ｗ／Ｏ、Ｗ／Ｏ／Ｗ型等のエマルジョンであってもよい。
【０２０９】
本発明化合物の有効量にその剤型に適した賦形剤、結合剤、崩壊剤、滑沢剤等の各種医薬用添加剤を必要に応じて混合し、医薬組成物とすることができる。さらに、該医薬組成物は、本発明化合物の有効量、剤型および／または各種医薬用添加剤を適宜変更することにより、小児用、高齢者用、重症患者用または手術用の医薬組成物とすることもできる。小児用医薬組成物は、１２歳または１５歳未満の患者に投与するのが好ましい。また、小児用医薬組成物は、出生後２７日未満、出生後２８日〜２３か月、２歳〜１１歳または１２歳〜１６歳もしくは１８歳の患者に投与されうる。高齢者用医薬組成物は、６５歳以上の患者に投与するのが好ましい。
【０２１０】
本発明の医薬組成物の投与量は、患者の年齢、体重、疾病の種類や程度、投与経路等を考慮した上で設定することが望ましいが、経口投与する場合、通常０．０５〜１００ｍｇ／ｋｇ／日であり、好ましくは０．１〜１０ｍｇ／ｋｇ／日の範囲内である。非経口投与の場合には投与経路により大きく異なるが、通常０．００５〜１０ｍｇ／ｋｇ／日であり、好ましくは０．０１〜１ｍｇ／ｋｇ／日の範囲内である。これを１日１回〜数回に分けて投与すれば良い。
【０２１１】
本発明化合物は、該化合物の作用の増強または該化合物の投与量の低減等を目的として、ポリエン系の薬剤、ファンギン系の薬剤、またはアゾール系の薬剤等（以下、併用薬剤と称する）と組み合わせて用いることができる。この際、本発明化合物と併用薬剤の投与時期は限定されず、これらを投与対象に対し、同時に投与してもよいし、時間差をおいて投与してもよい。さらに、本発明化合物と併用薬剤とは、それぞれの活性成分を含む２種類の製剤として投与されてもよいし、両方の活性成分を含む単一の製剤として投与されてもよい。
【０２１２】
併用薬剤の投与量は、臨床上用いられている用量を基準として適宜選択することができる。また、本発明化合物と併用薬剤の配合比は、投与対象、投与ルート、対象疾患、症状、組み合わせ等により適宜選択することができる。例えば、投与対象がヒトである場合、本発明化合物１重量部に対し、併用薬剤を０．０１〜１００重量部用いればよい。
【０２１３】
次に、本発明化合物の製造法について説明する。
本発明化合物は、自体公知の方法を組み合わせることにより製造されるが、たとえば、次に示す製造法にしたがって製造することができる。
【０２１４】
（製法Ａ）
【化５２】
2016098793.tif 000055
（式中、P1はアミノ保護基であり、その他の記号は前記と同意義であり、P1はProtective Groups in Organic Synthesis, Theodora W Green(John Wiley & Sons)等に記載の方法で保護および／または脱保護できる基であればよく、例えばP1はアルキルオキシカルボニルやｔｅｒｔ―ブチル等である。）
工程１：
式［２ａ］で示される化合物とグアニジン塩酸塩を反応させ、式［３ａ］で示される化合物を製造する工程である。
式［２ａ］で示される化合物としては，たとえば，１，３−プロパンジアミン，１，２−エタンジアミン等が挙げられる．
反応温度としては０〜１５０℃で、反応時間としては０．５〜４８時間で反応させればよい。
【０２１５】
工程２：
式［３ａ］で示される化合物と式［４ａ］で示される化合物を反応させ、式［５ａ］で示される化合物を製造する方法である。
反応溶媒としては、上記工程を効率よく進行させるものであれば特に限定されない。例えば、アルコール系溶媒（例：メタノール、エタノール、イソプロパノール等）、アミド系溶媒（例：Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジメチルー２−イミダゾリジノン等）、酢酸エステル系溶媒（例：酢酸エチル、酢酸プロピル等）、炭化水素系溶媒（例：トルエン、ベンゼン、ヘキサン等）、エーテル系溶媒（例：シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、アニソール等）、ニトリル系溶媒（例：アセトニトリル、プロピオニトリル等）、ハロゲン系溶媒（例、ジクロロメタン、クロロホルム等）、ケトン系溶媒（例：アセトン、メチルエチルケトン等）、ジメチルスルホキシド、水等から選ばれる１以上を用いることができる。溶媒は、必要に応じて水との２層溶媒や含水溶媒として用いることができる。好ましくはエーテル系溶媒，ケトン系溶媒である。
反応温度としては０〜１２０℃で、反応時間としては０．５〜２４時間で反応させればよい。
【０２１６】
工程３：
式［５ａ］で示される化合物の脱保護を行い、式［６ａ］で示される化合物を製造する工程である。保護基の脱保護反応は公知であり、例えばProtective Groups in Organic Synthesis, Theodora W Green(John Wiley & Sons)等に記載の方法で実施することができる。反応溶媒としては、工程２記載の溶媒を単独又は混合して用いることができる。好ましくはアルコール系溶媒，水である．
反応温度としては０〜１２０℃で、反応時間としては０．５〜２４時間で反応させればよい。
【０２１７】
工程４：
式［６ａ］で示される化合物と式［７ａ］で示される化合物を反応させ、式［１］で示される化合物を製造する方法である。
反応溶媒としては、製造Ａの工程２記載の溶媒を単独又は混合して用いることができる。好ましくはアルコール系溶媒である．
反応温度としては０〜１２０℃で、反応時間としては０．５〜２４時間反応させればよい。
【０２１８】
（製法Ｂ）
【化５３】
2016098793.tif 000056
（式中、各記号は前記と同意義であり、「Ｈａｌ」はハロゲン、「Ａｌｋ」はアルキル基を意味する。Ａｌｋとしては、メチル基、エチル基等が挙げられる。）
工程１：
式［１ｂ］で示される化合物と二硫化炭素とハロゲン化アルキルを塩基存在下で反応させ、式［２ｂ］で示される化合物を製造する工程である。
ハロゲン化アルキルとしては、ヨウ化メチル，臭化メチル，ヨウ化エチルが挙げられる．
塩基としては、例えば金属水素化物（例、水素化ナトリウムなど）、金属水酸化物（例、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化バリウムなど）、金属炭酸塩（例、炭酸ナトリウム、炭酸カルシウム、炭酸セシウムなど）、金属アルコキシド（例、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシドなど）、炭酸水素ナトリウム、金属ナトリウム、金属アミド、有機アミン（例、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ＤＢＵ、２，６−ルチジンなど）、ピリジン、アルキルリチウム（ｎ−ＢｕＬｉ、ｓｅｃ−ＢｕＬｉ、ｔｅｒｔ−ＢｕＬｉ）等が挙げられる。特に好ましくは、水素化ナトリウムである。
反応溶媒としては、製法Ａの工程２記載の溶媒を単独又は混合して用いることができる。好ましくはエーテル系溶媒（テトラヒドロフラン）、アミド系溶媒である。
反応温度としては０〜１２０℃で、反応時間としては０．５〜２４時間で反応させればよい。
【０２１９】
工程２：
式［２ｂ］で示される化合物と式［２ａ］で示される化合物を反応させ、式［３ｂ］で示される化合物を製造する工程である。
反応溶媒としては、製法Ａの工程２記載の溶媒を単独又は混合して用いることができる。好ましくはエーテル系溶媒（テトラヒドロフラン）、アミド系溶媒である。
反応温度としては０〜１２０℃で、反応時間としては０．５〜２４時間で反応させればよい。  
【０２２０】
工程３：
式［３ｂ］で示される化合物と式［４ｂ］で示される化合物をパラジウム触媒下で反応させ、式［１］で示される化合物を製造する工程である。なお、式：［４ｂ］で示される化合物については、ボロン酸エステルを用いてもよい。
【０２２１】
溶媒としては、製法Ａの工程２記載の溶媒を用いることができる。好ましくは、Ｎ−ジメチルホルムアミド、芳香族炭化水素類（例、トルエン、ベンゼン、キシレンなど）またはエーテル類（例、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジオキサン、１，２−ジメトキシエタンなど）を用いればよい。
【０２２２】
塩基としては、製法Ｂの第１工程記載の塩基を用いることができる。好ましくは、金属炭酸塩（例、炭酸ナトリウム、炭酸カルシウム、炭酸セシウムなど）または有機アミン（例、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、DBU、２，６−ルチジンなど）を用いればよい。
【０２２３】
反応は、パラジウム触媒（例：Ｐｄ（ＰＰｈ３）４、ＰｄＣｌ２、Ｐｄ（ＯＡｃ）２、Ｐｄ（ｄｂａ）２等）とホスフィン配位子（例：ＰＰｈ３、ＢＩＮＡＰ等）の存在下、使用する溶媒が還流する温度で０．５〜１２時間反応させればよい。
【０２２４】
マイクロウェーブを用いて反応を行う際は、８０〜２００℃で５分〜１時間反応させればよい。
【０２２５】
式：Ｒ３−Ｂ（ＯＨ）２で示される化合物としては、たとえば、フェニルボロン酸などが挙げられる。
【０２２６】
（製法Ｃ）
【化５４】
2016098793.tif 000057
（式中、各記号は前記と同意義である。）
工程１：
式［７ａ］示される化合物とチオウレアを反応させ、式［１ｃ］で示される化合物を製造する工程である。
反応溶媒としては、製造Ａの工程２記載の溶媒を単独又は混合して用いることができる。好ましくはアルコール系溶媒である．
反応温度としては０〜１２０℃で、反応時間としては０．５〜２４時間で反応させればよい。
【０２２７】
工程２：
式［１ｃ］示される化合物から式［２ｃ］で示される化合物を製造する工程である。
【０２２８】
上記製造Ｂの第１工程と同様に行えばよい。
【０２２９】
工程３：
式［２ｃ］示される化合物と式［２ａ］で示される化合物を反応させ，式［１］で示される化合物製造する工程である。
【０２３０】
上記製造Ｂの第２工程と同様に行えばよい。
【実施例】
【０２３１】
以下に実施例および参考例、ならびに試験例を挙げて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらにより限定されるものではない。数値（例えば、量、温度など）に関して正確性を保証する努力をしているが、いくらかの誤差および偏差は考慮されるべきである。特に示さなければ、％は成分の重量％および組成物の全重量の重量％であり、当量は成分のモル当量を意味する。圧力は大気圧かまたはそれに近い圧力である。本明細書で使用する他の略語は以下のように定義される。：ｇはグラム、Ｌはリットル、ｍｇはミリグラム、ｍＬはミリリットルを表す。【０２３２】
また、本明細書中で用いる略語は以下の意味を表す。
Ａｃ：アセチル
Ｂｎ：ベンジル
Ｂｏｃ：ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル
Ｂｏｃ２Ｏ：ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジカーボネート
Ｂｕ：ブチル
Ｂｚ：ベンゾイル
ＣＤＩ：カルボニルジイミダゾール
ＤＩＥＡ：Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン
ＤＭＡ：Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド
ＤＭＡＰ：４−ジメチルアミノピリジン
ＤＭＦ：Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
ＤＭＳＯ：ジメチルスルホキシド
ＤＰＰＦ：１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン
Ｅｔ：エチル
Ｆｍｏｃ：９−フルオレニルメチルオキシカルボニル
ＨＡＴＵ：Ｏ−（７−アザベンゾトリアゾール−１−イル）−１，１，３，３−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート
Ｈｅｘ：ヘキシル
ｉ−Ｐｒ：イソプロピル
ＬＤＡ：リチウムジイソプロピルアミド
Ｍｅ：メチル
Ｍｓ：メタンスルホニル
ＮＢＳ：Ｎ−ブロモスクシンイミド
ＮＭＰ：Ｎ−メチルピロリドン
ｎ−Ｂｕ：ｎ−ブチル
ｎ−Ｐｒ：ｎ−プロピル
Ｐｄ（ＯＡｃ）２：酢酸パラジウム
Ｐｄ（ＰＰｈ３）４：テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム
ＰｄＣｌ２（ｄｐｐｆ）：［１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）ジクロリド  ジクロロメタン付加物
ＰｄＣｌ２（ｄｔｂｐｆ）：［１，１’−ビス（ジ‐tert-ブチルホスフィノ）フェロセン］パラジウム（ＩＩ）ジクロリド  
Ｐｈ：フェニル
ｔ−Ｂｕ：ｔｅｒｔ−ブチル
Ｘａｎｔｐｈｏｓ：４，５’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−９，９’−ジメチルキサンテン
ローソン試薬：２，４−ビス（４−メトキシフェニル）−１，３，２，４−ジチアジホスフェタン−２，４−ジスルフィド【０２３３】
実施例で得られたＮＭＲ分析は３００ＭＨｚもしくは４００ＭＨｚで行い、ＤＭＳＯ−Ｄ６、ＣＤＣｌ３等を用いて測定した。【０２３４】
実施例で得られたＬＣＭＳ分析は、以下の条件下で測定した。
（測定条件Ａ）：
カラム：ＡＣＱＵＩＴＹ  ＵＰＬＣ（登録商標）ＢＥＨ  Ｃ１８  （１．７μｍ  ｉ．ｄ．２．１ｘ５０ｍｍ）（Ｗａｔｅｒｓ）
流速：０．８ ｍＬ／分
ＰＤＡ検出波長：２５４ｎｍ
移動相：［Ａ］は０．１％ギ酸含有水溶液、［Ｂ］は０．１％ギ酸含有アセトニトリル溶液
グラジェント：３．５分間で５％−１００％溶媒［Ｂ］のリニアグラジエントを行った後、０．５分間、１００％溶媒［Ｂ］を維持した。
（測定条件Ｂ）：
カラム：ＡＣＱＵＩＴＹ  ＵＰＬＣ（登録商標）ＢＥＨ  Ｃ１８  （１．７μｍ  ｉ．ｄ．２．１ｘ５０ｍｍ）（Ｗａｔｅｒｓ）
流速：０．８ ｍＬ／分
ＰＤＡ検出波長：２５４ｎｍ
移動相：［Ａ］は１０ｍＭ炭酸アンモニウム含有水溶液、［Ｂ］はアセトニトリル溶液
グラジェント：３．５分間で５％−１００％溶媒［Ｂ］のリニアグラジエントを行った後、０．５分間、１００％溶媒［Ｂ］を維持した。
（測定条件Ｃ）：
カラム：Ｌｕｎａ  Ｃ１８（２）（５μｍ、ｉ．ｄ．４．６ｘ５０ｍｍ）（Ｐｈｅｎｏｍｅｎｅｘ）
流速：３．０ ｍＬ／分
ＰＤＡ検出波長：２５４ｎｍ
移動相：［Ａ］は０．１％ギ酸含有水溶液、［Ｂ］は０．１％ギ酸含有アセトニトリル溶液
グラジェント：３分間で１０％−１００％溶媒［Ｂ］のリニアグラジエントを行った後、１分間、１００％溶媒［Ｂ］を維持した。
（測定条件Ｄ）：
カラム：Ｓｈｉｍ−ｐａｃｋ  ＸＲ−ＯＤＳ（２．２μｍ、ｉ．ｄ．５０ｘ３．０ｍｍ）（Ｓｈｉｍａｄｚｕ）
流速：１．５ ｍＬ／分
ＰＤＡ検出波長：２５４ｎｍ
移動相：［Ａ］は０．１％ギ酸含有水溶液、［Ｂ］は０．１％ギ酸含有アセトニトリル溶液
グラジェント：３分間で１０％−１００％溶媒［Ｂ］のリニアグラジエントを行い、０.５分間、１００％溶媒［Ｂ］を維持した。
（測定条件Ｅ）：
カラム：Ｓｈｉｍ−ｐａｃｋ  ＸＲ−ＯＤＳ（２．２μｍ、ｉ．ｄ．５０ｘ３．０ｍｍ）（Ｓｈｉｍａｄｚｕ）
流速：１．６ ｍＬ／分
ＰＤＡ検出波長：２５４ｎｍ
移動相：［Ａ］は０．１％ギ酸含有水溶液、［Ｂ］は０．１％ギ酸含有アセトニトリル溶液
グラジェント：３分間で１０％−１００％溶媒［Ｂ］のリニアグラジエントを行い、０.５分間、１００％溶媒［Ｂ］を維持した。
【実施例１】
【０２３５】
化合物Ｉ−１の合成  
【化５５】
2016098793.tif 000058
工程１：  
化合物１ａ（２ｇ、９．８４ｍｍｏｌ）のトルエン（２０ｍＬ）溶液に、ピリジニウムブロミドペルブロミド（３．１５ｇ、９．８４ｍｍｏｌ）を加えた。１００℃で３時間撹拌した後に、室温まで放冷し、エタノール（３０ｍＬ）、化合物１ｂ（１．５６ｇ、９．８４ｍｍｏｌ）を加えた。６０℃で２時間撹拌した後に、重曹水を加えて中和した。クロロホルムで抽出して、有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧濃縮して得られた残渣にクロロホルムと酢酸エチルを加え、析出している固体をろ取することで、化合物Ｉ−１（２．１７ｍｇ、収率６５％）を得た。
1H-NMR (DMSO-D6)δ: 1.87 (m, 2H), 3.37 (m, 4H), 7.24 (s, 1H), 7.49-7.57 (m, 3H), 7.98-8.03 (m, 2H), 8.15 (s, 1H), 8.41 (brs, 2H).
【実施例２】
【０２３６】
化合物Ｉ−２の合成  
【化５６】
2016098793.tif 000059
工程１：  化合物２ｂの合成
化合物２ａ（１０．０ｇ、５５．９ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（２００ｍＬ）に溶解させ、二硫化炭素（８．４４  ｍＬ、１４０ｍｍｏｌ）、を加えて０℃に冷却、６０％水素化ナトリウム（５．５８ｇ、１４０ｍｍｏｌ）を加え、０℃で４５分間撹拌した。ヨードメタン（８．７３ｍＬ、１４０ｍｍｏｌ）を加えて室温で１８時間撹拌した。残渣を水に加えて、酢酸エチルで抽出した。有機相を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去し、化合物２ｂ（１６．０ｇ、１００％）を得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 2.62 (s, 6H), 6.98 (s, 1H).【０２３７】
工程２：  化合物２ｃの合成
化合物２ｂ（１５．９ｇ、５６．１ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２００ｍＬ）に溶解し、１、３−ジアミノプロパン（４．０１ｍＬ、４７．７ｍｍｏｌ）を加え、７０℃で２時間撹拌した。その後溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製して化合物２ｃ（５．４８ｇ、３７％）を得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 1.92-2.00 (m, 2H), 3.41-3.53 (m, 4H), 6.35 (s, 1H), 7.70 (bs, 1H).【０２３８】
工程３：  化合物Ｉ−２の合成
化合物２ｃ（３０ｍｇ、０．１１５ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（０．３ｍＬ）に溶解し、５−クロロチオフェン−２−ボロン酸（９．４ｍｇ、０．１７２  ｍｍｏｌ）、Ｐｄ（ｄｐｐｆ）（９．４  ｍｇ、０．０１１  ｍｍｏｌ）、２ｍｏｌ／Ｌ炭酸ナトリウム水溶液（０．２３ｍＬ）を加え、１５０℃で１５分間マイクロ波を照射した。残渣にクロロホルム−メタノールの混合溶液（９：１、２ｍｌ）、２ｍｏｌ／Ｌソルビトール水溶液（０．５ｍｌ）、２ｍｏｌ／Ｌ炭酸ナトリウム水溶液（０．５ｍｌ）を順に加え、１時間撹拌後、有機層を減圧濃縮した。得られた残渣を逆相ＨＰＬＣ（アセトニトリル−水）によって精製し、化合物Ｉ−２（７．８ｍｇ、収率２３％）を得た。
ＬＣＭＳ（測定条件Ｂ）、保持時間：２．２０分、［Ｍ＋Ｈ］＋：２９９
1H-NMR (DMSO-D6)δ: 1.82-1.83 (m, 2H), 3.31-3.33 (m, 4H), 6.95 (s, 1H), 7.07 (d, J = 4.0 Hz, 1H), 7.30 (d, J = 4.0 Hz, 1H), 8.17 (s, 2H).
【実施例３】
【０２３９】
化合物Ｉ−３の合成  
【化５７】
2016098793.tif 000060
工程１：化合物３ｂの合成
１，３−ジブロモプロパン−２−オン（４．５７ｇ，２１．２ｍｏＬ）をアセトン（２０ｍＬ）に溶解させ、室温で化合物３ａ（３．３５ｇ，２１．２ｍｏＬ）を加え、室温で８時間撹拌した。得られた固体をろ取し、粗精製物として化合物３ｂを得て、精製せずに次の反応に用いた。ＬＣＭＳ (測定条件Ａ); 保持時間：０．９４ 分、 ［Ｍ＋Ｈ］＋：３４４ 【０２４０】
工程２：化合物Ｉ−３の合成
４−クロロフェノール（２７ｍｇ、０．２１ｍｏｌ）をジメチルアセトアミド（１ｍＬ）に溶解し、工程１で得られた化合物３ｂ（５０ｍｇ、０．１４ｍｏｌ）、炭酸カリウム（９７ｍｇ、０．７０ｍｏｌ）を加え、６５℃で３時間撹拌した。室温まで放冷後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）により精製して化合物Ｉ−３（１１ｍｇ，２７％）を得た。1H-NMR (CDCl3)δ: 1.93-1.99 (m, 2H), 3.37-3.43 (m, 4H), 4.93 (s, 2H), 6.47 (s, 1H), 6.93 (J = 8.8 Hz, d, 2H), 7.23 (J = 8.8 Hz, d, 2H).
【実施例４】
【０２４１】
化合物Ｉ−４の合成  
【化５８】
2016098793.tif 000061
工程１  化合物４ｃの合成
化合物４ａと化合物４ｂを用いて、実施例５の工程２と同様の手法により合成した。
1H-NMR (CDCl3)δ: 1.47 (s, 9H), 1.52-1.65 (m, 2H), 1.72 (d, J = 9.6Hz, 1H), 1.96 (s, 2H), 2.09 (d, J = 10.0Hz, 1H), 2.68 (s, 1H), 2.81-2.87 (m, 2H), 3.43 (s, 4H), 4.00-4.04 (m, 1H), 4.26 (s, 1H), 6.11 (s, 1H).【０２４２】
工程２  化合物４ｄの合成
化合物４ｃ（１．５ｇ、４．１０ｍｍｏｌ）に２ｍｏｌ／Ｌ塩酸−酢酸エチル溶液（３０ｍＬ、６０ｍｍｏｌ）を加えた。室温で２時間撹拌した後、析出している固体をろ取することにより、化合物４ｄ（１．３５ｇ、収率９７％）を得た。
ＬＣＭＳ（測定条件Ｂ）、保持時間：０．８３分、[Ｍ＋Ｈ]＋：２６６【０２４３】
工程３  Ｉ−４の合成
化合物４ｄ（７０ｍｇ、０．２０７ｍｍｏｌ）をＤＭＡ（１．５ｍＬ）に溶解し、化合物４ｅ（３４ｍｇ、０．２０７ｍｍｏｌ）、炭酸セシウム（２７０ｍｇ、０．８２８ｍｍｏｌ）を加えた。１３０℃で４時間撹拌した。水を加え、酢酸エチルで抽出した後、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）で精製することにより、化合物Ｉ−４（２１ｍｇ、収率２５％）を得た。
1H-NMR (DMSO-D6)δ: 1.59 (m, 1H), 1.66-1.85 (m, 4H), 2.06 (m, 1H), 2.70 (m, 1H), 2.89-3.08 (m, 2H), 3.33 (m, 4H), 4.46 (m, 1H), 4.71 (m, 1H), 6.31 (s, 1H), 7.19 (t, J = 7.2Hz, 1H), 7.27 (d, J = 8.8Hz, 1H), 7.39-7.56 (m, 2H), 7.68 (d, J = 8.0Hz, 1H), 8.01 (d, J = 8.8Hz, 1H), 8.25 (s, 2H).
【実施例５】
【０２４４】
化合物Ｉ−５の合成  
【化５９】
2016098793.tif 000062
工程１：化合物５ｃの合成
化合物５ａ（４００ｍｇ、２．３２６ｍｍｏｌ）と化合物５ｂ（７３０ｍｇ、４．６５ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（１２ｍＬ）に溶解し、ピリジン（０．４７ｍＬ、５．８１ｍｍｏｌ）、酢酸銅（４２２ｍｇ、２．３３ｍｍｏｌ）を加えた。室温で激しく５時間撹拌した後、反応液を減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物５ｃ（１２２ｍｇ、収率１９％）を得た。
1H-NMR (DMSO-D6)δ: 1.21 (t, J = 7.2Hz, 3H), 1.59-1.72 (m, 2H), 1.78 (m, 1H), 1.93 (m, 1H), 2.69 (m, 1H), 2.93 (m, 1H), 3.12 (dd, J = 12.4, 9.6Hz, 1H), 3.55 (m, 1H), 3.72 (dd, J = 12.4, 3.2Hz, 1H), 4.11 (q, J = 7.2Hz, 2H), 7.18 (s, 1H), 7.25 (m, 1H), 7.30-7.40 (m, 2H), 7.70-7.77 (m, 3H).【０２４５】
工程２：Ｉ−５の合成
窒素気流下、化合物５ｃ（３００ｍｇ、１．０６ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（３ｍＬ）溶液にクロロヨードメタン（０．３１ｍＬ、４．２３ｍｍｏｌ）を加え、−７８℃に冷却した。０．７５ｍｏｌ／ＬＬＤＡのテトラヒドロフラン溶液（７．１ｍＬ、５．３ｍｍｏｌ）を滴下し、１時間撹拌した。酢酸（０．３ｍＬ、５．２５ｍｍｏｌ）を加え、室温に昇温した。水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。【０２４６】
得られた残渣をエタノール（６ｍＬ）に溶解して化合物５ｄ（１４２ｍｇ、０．９０ｍｍｏｌ）を加え、室温にて６時間撹拌した。酢酸エチルを加え、析出している固体をろ取することで、化合物Ｉ−５（１０２ｍｇ、２３％）を得た。
1H-NMR (DMSO-D6)δ: 1.62-1.93 (m, 5H), 2.08 (m, 1H), 2.81-2.95 (m, 2H), 3.05 (m, 1H), 3.43 (m, 4H), 3.82 (m, 1H), 3.99 (m, 1H), 7.04 (brs, 1H), 7.22 (s, 1H), 7.25 (t, J = 7.6Hz, 1H), 7.35-7.44 (m, 2H), 7.69-7.77 (m, 3H), 8.95 (s, 2H), 11.91 (s, 1H).
【実施例６】
【０２４７】
化合物Ｉ−６の合成  
【化６０】
2016098793.tif 000063
工程１：化合物６ｂの合成
Ｆｍｏｃイソチオシアネート（１６６ｍｇ、０．５９ｍｍｏｌ）と炭酸水素ナトリウム（２４８ｍｇ、２．９６ｍｍｏｌ）をクロロホルム（３ｍＬ）に懸濁した。この溶液に化合物６ａ（２００ｍｇ、０．５９ｍｍｏｌ）を４回に分けて加えた。室温で２時間撹拌した後に、硫酸マグネシウムを加えた。固体をセライトを用いて除去し、ろ液を減圧濃縮することで化合物６ｂ（３４０ｍｇ）を得た。化合物６ｂは粗精製のまま次工程へ用いた。【０２４８】
工程２：化合物Ｉ−６の合成
粗精製の化合物６ｂ（３４ｍｇ、０．０６２ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（０．７ｍＬ）に溶解し、ピペリジン（０．１４ｍＬ、１．４１ｍｍｏｌ）を加えた。室温で１時間撹拌した後に、化合物６ｃ（１７．７ｍｇ、０．０８９ｍｍｏｌ）を加えて、室温で２時間撹拌した。重曹水を加えてクロロホルムで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）により精製することで、化合物Ｉ−６（１９．９ｍｇ、収率７６％）を得た。
1H-NMR (DMSO-D6)δ: 1.66-1.72 (m, 2H), 1.77-1.86 (m, 3H), 2.04 (m, 1H), 2.79 (m, 1H), 3.15 (m, 2H), 3.29 (m, 4H), 3.88 (m, 1H), 4.19 (m, 1H), 6.32 (s, 1H), 7.25 (s, 1H), 7.28 (t, J = 7.6Hz, 1H), 7.38 (t, J = 7.6Hz, 2H), 7.86 (d, J = 7.6Hz, 2H), 8.25 (s, 2H).
【実施例７】
【０２４９】
化合物Ｉ−７の合成  
【化６１】
2016098793.tif 000064
工程１：化合物７ｂの合成
化合物７ａ（２００ｍｇ、０．５９ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（２ｍＬ）溶液に、炭酸セシウム（５７８ｍｇ、１．７７ｍｍｏｌ）と２、４−ジクロロピリミジン（１１４ｍｇ、０．７６９ｍｍｏｌ）を加えた。５０℃で４時間撹拌した後、水を加えた。酢酸エチルで抽出して有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）により精製することで、化合物７ｂと化合物７ｃの混合物（１７１ｍｇ）を得た。【０２５０】
工程２  化合物Ｉ−７の合成
化合物７ｂと化合物７ｃの混合物（５０ｍｇ、０．１３２ｍｍｏｌ）をエタノール（１ｍＬ）に溶解し、フェニルボロン酸（２２．６ｍｇ、０．１８５ｍｍｏｌ）、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム（９．３ｍｇ、０．０１３ｍｍｏｌ）、２．３ｍｏｌ／Ｌ炭酸カリウム水溶液（０．２ｍＬ、０．４６ｍｍｏｌ）を加えた。１２０℃で３時間撹拌した後、重曹水を加えた。クロロホルムで抽出して、有機層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた残渣を逆相ＨＰＬＣ（アセトニトリル−水）により精製して、化合物Ｉ−７（２．６ｍｇ、収率５％）を得た。
1H-NMR (DMSO-D6)δ: 1.55 (m, 1H), 1.68-1.84 (m, 4H), 2.06 (m, 1H), 2.67 (m, 1H), 3.00-3.11 (m, 2H), 3.26 (m, 4H), 4.73 (m, 1H), 4.94 (m, 1H), 6.30 (s, 1H), 7.17 (d, J = 5.2Hz, 1H), 7.48-7.53 (m, 3H), 8.10-8.14 (m, 2H), 8.24 (s, 2H), 8.43 (d, J = 5.2Hz, 1H).
【実施例８】
【０２５１】
化合物Ｉ−８の合成  
【化６２】
2016098793.tif 000065
工程１：化合物８ｂの合成
化合物８ａ（５ｇ、２３．８ｍｍｏｌ）のエタノール溶液にメチルアミン（４０％メタノール溶液、２８ｍＬ）とシアノ水素化ホウ素ナトリウム（２．２３ｇ、３５．８ｍｍｏｌ）を加えた。次いで酢酸（５．５ｍＬ）を滴下した後に４時間加熱還流した。室温に放冷して水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄した後に無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）により精製して化合物８ｂ（２．４ｇ、収率４５％）を得た。
1H-NMR（CDCl3）δ：2.06 (m, 1H), 2.49 (m, 1H), 2.53 (s, 3H), 2.94 (m, 1H), 3.07 (m, 1H), 4.53 (dd, J = 7.6, 5.2Hz, 1H), 5.00 (brs, 1H), 7.13 (t, J = 7.6Hz, 1H), 7.40 (d, J = 7.6Hz, 1H), 7.46 (d, J= 7.6Hz, 1H).【０２５２】
工程２：化合物８ｃ合成
化合物８ｂ（１．５ｇ、６．６３ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１５ｍＬ）に溶解し、Ｂｏｃ２Ｏ（１．７ｍＬ、７．３ｍｍｏｌ）、ＤＭＡＰ（８１ｍｇ、０．６６３ｍｍｏｌ）を加えた。室温で４時間撹拌した後に、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製して化合物８ｃ（１．２６ｇ、収率５８％）を得た。
1H-NMR（CDCl3）δ：1.50 (s, 9H), 1.96 (m, 1H), 2.39 (m, 1H), 2.56 (s, 3H), 2.83 (m, 1H), 3.02 (m, 1H), 5.68 (m, 1H), 5.94 (m, 1H), 7.06-7.10 (m, 2H), 7.38 (m, 1H).【０２５３】
工程３：化合物８ｅの合成
化合物８ｃ（１．２５ｇ、３．８３ｍｍｏｌ）をトルエン（１３ｍＬ）に溶解して１−エトキシトリ−ｎ−ブチルスズ（１．４２ｍＬ、４．２１ｍｍｏｌ）、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム（０．２７ｇ、０．３８３ｍｍｏｌ）を加えて系内を窒素置換した。１００℃で３時間撹拌した後に水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄して無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。
得られた残渣をテトラヒドロフラン（２０ｍＬ）、水（２ｍＬ）に溶解した。氷冷下でＮＢＳ（０．６８ｍｇ、０．３８３ｍｍｏｌ）を加えた。１時間撹拌した後に水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄して無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。
得られた残渣をエタノール（１５ｍＬ）に溶解して化合物８ｄ（０．５５３ｇ、３．４５ｍｍｏｌ）を加えた。室温で３時間撹拌した後に、重曹水を加えて中和し、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄して無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。
得られた残渣に４ｍｏｌ／Ｌ塩酸−酢酸エチル溶液（０．９６ｍＬ、３．８３ｍｍｏｌ）を加えた。室温で２時間撹拌した後に、重曹水を加えて中和し、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄して無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）により精製し、化合物８ｅ（９１０ｍｇ、収率７３％）を得た。
ＬＣＭＳ（測定条件Ｂ）、保持時間：１．３８分、［Ｍ＋Ｈ］＋：３２８【０２５４】
工程４：化合物Ｉ−８の合成
化合物８ｅ（６０ｍｇ、０．１８ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（１．５ｍＬ）に溶解し、トリエチルアミン（０．０７６ｍＬ、０．５５ｍｍｏｌ）と塩化ベンゼンスルホニル（０．０２３ｍＬ、０．１８３ｍｍｏｌ）を加えた。室温で１時間撹拌した後、重曹水を加えて中和した。クロロホルムで中和し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）により精製し、化合物Ｉ−８（４２ｍｇ、収率４９％）を得た。
1H-NMR（DMSO-d6）δ：1.64 (m, 1H), 1.81 (m, 2H), 2.02 (m, 1H), 2.48 (s, 3H), 2,98 (m, 1H), 3.03 (m, 1H), 3.31 (m, 4H), 5.53 (t, J = 8.0Hz, 1H), 6.76 (d, J = 7.2Hz, 1H), 6.81 (s, 1H), 7.22 (t, J = 7.2Hz, 1H), 7.65-7.70 (m, 3H), 7.74 (m, 1H), 7.90-7.94 (m, 2H), 8.26 (brs, 2H).
【実施例９】
【０２５５】
化合物Ｉ−９の合成  
【化６３】
2016098793.tif 000066
工程１：化合物９ｂの合成  
化合物９ａ（５９０ｍｇ、２．２６ｍｍｏｌ）に、テトラヒドロフラン（８ｍＬ）、（２−（ｔｅｒｔ-ブトキシカルボニル）―１、２、３，４−テトラヒドロイソキノリ−５−イル）ボロン酸（８１４ｍｇ、２．９４ｍｍｏｌ）、ＰｄＣｌ２（ｄｐｐｆ）ジクロロメタン錯体(１８５ｍｇ、０．２２６ｍｍｏｌ）および２ｍｏｌ/Lの炭酸ナトリウム水溶液（３．３９ｍＬ、６．７８ｍｍｏｌ）を加え、マイクロウエーブ装置を用い１３０℃で３０分反応した。反応液に水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（クロロホルム―メタノール）により精製し、化合物９ｂ(６６１ｍｇ、７１％)を得た。
1H-NMR(DMSO)δ:1.44(s, 9H), 1.74-1.88(m, 2H), 2.85-2.92(m, 2H), 3.24-3.60(m, 6H), 4.54(s, 2H), 6.66(s, 1H), 7.15(d, J=7.2 Hz, 1H), 7.22(dd, J=7.2Hz,7.2Hz, 1H), 7.37(d, J=7.2Hz, 1H), 8.22-8.24(br, 2H)【０２５６】
工程２：化合物９ｃの合成
化合物９ｂ（５６３ｍｇ、１．３６ｍｍｏｌ）のメタノール（５ｍＬ）溶液に４ｍｏｌ／Ｌの塩酸−ジオキサン溶液（３．４ｍＬ、１３．６ｍｍｏｌ）を加え室温で３時間半撹拌した。反応液に水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。粗生成物のまま次の反応に用いた。【０２５７】
工程３：化合物Ｉ−９ の合成  
化合物９ｃ（５０ｍｇ、０．１６０ｍｍｏｌ）のジメチルアセトアミド（１ｍＬ）溶液に水素化ナトリウム（３８．６ｍｇ、０．３１９ｍｍｏｌ）、４−フルオロベンゾニトリル（３８．６ｍｇ、０．３１９ｍｍｏｌ）を加え８０℃で５時間、１２０℃で１時間撹拌した。得られた残渣を分取用ＨＰＬＣ（１０ｍｍｏｌ／Ｌ 炭酸アンンモニウム水溶液−アセトニトリル溶媒）により精製し、化合物Ｉ−９（９ｍｇ、１４％）を得た。
1H-NMR(DMSO)δ:1.76-1.85(m, 2H), 3.08(t, J=5.2Hz, 2H), 3.25-3.40(m, 4H),  3.57(t, J=6.0Hz, 2H), 4.59(s, 2H), 6.68(s,1H), 7.00-7.10(m, 2H), 7.20-7.30(m, 2H), 7.30-7.40(m, 1H), 7.58-7.70(m, 2H), 8.20-8.23(br, 2H)
【実施例１０】
【０２５８】
化合物Ｉ−１０の合成  
【化６４】
2016098793.tif 000067
工程１：化合物１０ｂの合成
化合物１０ａ（１８９ｇ，１．４ｍｏＬ）を水（７００ｍＬ）に溶解させ、水酸化ナトリウム（５５．８ｇ，１．４ｍｏＬ）を加えた。室温で３０分撹拌した．反応液を減圧下で濃縮した。エタノール（５００ｍＬ）を加え、不溶物を濾去した。濾液を濃縮し、得られた１０ｂ（１２５ｇ）を粗生成物として次の反応に用いた。【０２５９】
工程２：化合物１０ｃの合成
工程１で得られた化合物１０ｂ（１０５ｇ、１．０６ｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（６００ｍＬ）に溶解し、氷冷下、２−イソチオシアネート−２−メチルプロパン（１１５ｇ、０．９８ｍｏｌ）を加えた。室温に昇温し、１６時間撹拌した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ジクロロメタン−メタノール）によって精製し、化合物１０ｃの粗精製物を得た。粗精製物を石油エーテル：酢酸エチル＝９：１で洗浄して、化合物１０ｃ（１２４ｇ，５９％）を得た。
1H-NMR（DMSO-d6）δ：1.29 (s, 9H), 1.78 (m, 2H), 3.25 (m, 4H), 6.28 (s, 1H), 8.99 (s, 2H).【０２６０】
工程３：化合物１０ｄの合成
化合物１０ｃ（１４５ｇ、０．６９ｍｏｌ）を濃塩酸（２２０ｍＬ）に溶解させ、２時間加熱還流した。室温に放冷後、反応液を減圧下で濃縮した。残渣を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でｐＨ＝８とした。得られた固体をろ取し、冷水で洗浄後、減圧乾燥し、化合物１０ｄ（４６ｇ，４３％）を得た。1H-NMR（DMSO-d6）δ：1.79-1.76 (m, 2H), 3.26-3.22 (m, 4H),  6.79 (br, 2H), 8.90 (br, 2H).【０２６１】
工程４：化合物１０ｅの合成
化合物１０ｄ（３７．５ｇ、０．２３ｍｏｌ）にエタノール(４００ｍＬ)を加え、氷冷下で１−ブロモブタン−２，３−ジオン（３６ｇ，０．２３ｍｏＬ）を加えた。室温に昇温し、６時間撹拌した。反応液を減圧下で濃縮し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（４００ｍＬ）を加え、塩化メチレン（３００ｍＬx３）で抽出した。有機層を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ジクロロメタン−メタノール）により精製し、化合物１０ｅを得た。1H-NMR（DMSO-d6）δ：1.79-1.76 (m, 2H), 3.26-3.22 (m, 4H),  6.79 (br, 2H), 8.90 (br, 2H).【０２６２】
工程５：化合物１０ｆの合成
化合物１０ｅ（１３．８ｇ、６１．５ｍｍｏＬ）を酢酸(１００ｍＬ)に懸濁させ，３８％臭化水素の酢酸溶液（１００ｍＬ）を室温で加え，１０分間撹拌した．得られた反応溶液に室温で臭素（３．５ｍＬ）を滴下し，室温で終夜撹拌した．アセトン（１００ｍＬ）を反応溶液に加え，１０分間撹拌した．得られた固体をろ過し，アセトンで洗浄して化合物１０ｆ（１６．５ｇ，５８％）を得た． 1H-NMR（DMSO-d6）δ：3.47 (t, 4H), 5.02 (s, 2H), 8.29 (s, 1H), 8.92 (b, 2H).【０２６３】
工程６：Ｉ−１０の合成
化合物１０ｆ（４５ｍｇ，０．１２ｍｍｏＬ）をエタノール（２ｍＬ）に懸濁させ、ピリダジン−３−カルボチオアミド（１８ｍｇ，０．１３ｍｍｏＬ）を加え、３時間加熱還流した。室温まで放冷後、飽和重曹水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）により精製して化合物Ｉ−９（１１ｍｇ，２７％）を得た。1H-NMR（DMSO-d6）δ: 1.81-1.87 (m, 2H), 3.32-3.38 (m, 4H), 7.14 (s, 1H), 7.91 (J = 8.5, 5.0 Hz, dd, 1H), 8.24-8.28 (m, 3H), 8.40 (J = 8.5, 1.3 Hz, dd, 1H), 9.33 (J = 4.9, 1.4 Hz, dd, 1H).
【実施例１１】
【０２６４】
化合物Ｉ−１２の合成  
【化６５】
2016098793.tif 000068
工程１：Ｉ−１２の合成
２−シクロペンチルエタノール（３０ｍｇ，０．２７ｍｍｏＬ）をジメチルアセトアミド（０．５ｍＬ）に溶解させ、水素化ナトリウム（１１ｍｇ，０．２７ｍｍｏＬ）を加え、１０分間撹拌した。実施例１０と同様の方法で合成した化合物１２ａ（２０ｍｇ，０．０５３ｍｍｏＬ）を加え、１２０℃で終夜撹拌した。室温まで放冷後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）により精製して化合物Ｉ−１２（１２ｍｇ，５０％）を得た。1H-NMR (DMSO-D6) δ: 1.12-1.99 (m, 11H), 3.14-3.47 (m, 2H), 4.35 (J = 6.8 Hz, t, 2H), 6.94 (J = 8.8 Hz, d, 1H), 7.09 (s, 1H), 8.03 (s, 1H), 8.25 (J = 8.7, 2.4 Hz, dd, 3H), 8.77 (J = 2.3 Hz, d, 1H).
【実施例１２】
【０２６５】
化合物Ｉ−１５の合成  
【化６６】
2016098793.tif 000069
工程１：化合物Ｉ−１５の合成
５−ブロモ−２，４−ジメチルピリミジン（６５ｍｇ，０．３５ｍｍｏＬ）を１，４−ジオキサン（１ｍＬ）に溶解し、ビス（ピナコレート）ジボラン（８８ｍｇ，０．３５ｍｍｏＬ）、ＰｄＣｌ２（ｄｐｐｆ）（２８ｍｇ，０．０３５ｍｍｏｌ）、酢酸カリウム（６８ｍｇ，０．７０ｍｍｏｌ）を加え１００℃で２時間撹拌した。室温まで放冷後、反応液にエタノール（１ｍＬ）、２ｍｏｌ/Ｌ炭酸ナトリム水溶液（０．５ｍＬ）、化合物１５ａ（９９ｍｇ，０．２３ｍｍｏＬ）及びＰｄＣｌ２（ｄｐｐｆ）（３８ｍｇ，０．０４７ｍｍｏｌ）を加え、マイクロウェーブ照射下、１３０℃で４５分間加熱した。室温まで放冷後、反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）により精製し、化合物Ｉ−１５（６ｍｇ、収率４．６％）を得た。1H-NMR (DMSO-D6) δ: 1.74-1.90 (m, 2H), 2.65 (s, 3H), 2.79 (s, 3H), 3.33-3.37 (m, 4H), 7.12 (s, 1H), 8.23 (s, 1H), 8.26 (s, 2H), 9.04 (s, 1H).
【実施例１３】
【０２６６】
化合物Ｉ−１６の合成  
【化６７】
2016098793.tif 000070
工程１：化合物Ｉ−１６の合成
Ｎ−（２−メトキシエチル）メチルアミン（２４ｍｇ，０．２７ｍｍｏＬ）をジメチルアセトアミド（０．５ｍＬ）に溶解させ、実施例15と同様の方法で合成した化合物１６ａ（２０ｍｇ，０．０５３ｍｍｏＬ）、炭酸セシウム（５２ｍｇ，０．１６ｍｍｏＬ）加え、１２０℃で終夜撹拌した。室温まで放冷後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）により精製して化合物Ｉ−１６（６ｍｇ，２６％）を得た。1H-NMR (CDCl3) δ: 1.84-2.11 (m, 2H), 3.16 (s, 3H), 3.36 (s, 3H), 3.41-3.54 (m, 4H), 3.62 (J = 5.6 Hz, t, 2H), 3.82 (J = 5.6 Hz, t, 2H), 6.57 (J = 9.3 Hz, d, 1H), 7.16 (s, 1H), 7.34 (s, 1H), 8.08 (J = 9.3 Hz, d, 1H), 8.75 (s, 1H).
【実施例１４】
【０２６７】
化合物Ｉ−１７の合成  
【化６８】
2016098793.tif 000071
工程１：Ｉ−１７の合成
実施例15と同様の方法で合成した化合物１７ａ（３０ｍｇ，０．０８１ｍｍｏＬ）をジメチルアセトアミド（１ｍＬ）に溶解し、１−ブロモブタン（１３ｍｇ，０．０９７ｍｍｏＬ）、炭酸カリウム（２７ｍｇ，０．１９ｍｍｏＬ）加え、１２０℃で６時間撹拌した。室温まで放冷後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）により精製して化合物Ｉ−１７（１４ｍｇ，４１％）を得た。1H-NMR (DMSO-D6) δ: 0.95 (J = 7.4 Hz, t, 3H), 1.42-1.51 (m, 2H), 1.70-1.77 (m, 2H), 1.80-1.87 (m, 2H), 2.72 (s, 3H), 3.28-3.37 (m, 4H), 4.12 (J = 6.4 Hz, t, 2H), 7.11 (s, 1H), 7.72 (J = 2.8 Hz, d, 1H), 8.20 (s, 1H), 8.26 (brs, 2H), 8.29 (J = 2.8 Hz, d, 1H).
【実施例１５】
【０２６８】
化合物Ｉ−１８の合成  
【化６９】
2016098793.tif 000072
工程１：化合物１８ｃの合成
化合物１８ａ（５００ｍｇ、１．３２ｍｍｏｌ）に、エタノール（２ｍＬ）、化合物１８ｂ（３１９ｍｇ、１．３２ｍｍｏｌ）を加え室温で４時間撹拌した。反応液に飽和重曹水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた固体をジイソプロピルエーテルで洗浄し化合物１８ｃ（４２８mｇ、収率７３％）を得た。
1H-NMR(CDCl3)δ:1.49(s, 9H), 1.93-2.20(m, 2H),3.41-3.60(m, 12H), 6.80(s, 1H), 6.95(s, 1H) 【０２６９】
工程２：化合物１８ｄの合成  
化合物１８ｃ（４２０ｍｇ、０．９３ｍｍｏｌ）のメタノール（４ｍＬ）溶解に、４ｍｏｌ／Ｌの塩酸−ジオキサン溶液（１．１７ｍＬ，４．６７ｍｍｏｌ）を加え室温で１時間撹拌した。更に４ｍｏｌ/Lの塩酸（１．１７ｍＬ，４．６７ｍｍｏｌ）ジオキサン溶液を追加し１２時間静置した。溶媒を減圧留去し、得られた固体をジイソプロピルエーテルで洗浄し，粗生成物として化合物１８ｄを得た。【０２７０】
工程３：Ｉ−１８の合成  
化合物１８ｄ（６２ｍｇ、０．１４ｍｍｏｌ）にジメチルホルムアミド（１ｍＬ）、ベンジルブロミド（０．０２２ｍＬ、０．１８３ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（５８，４ｍｇ、０．４２３ｍｍｏｌ）を加え室温で９０分で撹拌した。更に炭酸カリウム（４０ｍｇ、０．２８２ｍｍｏｌ）を加え１時間撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製した。得られた残渣を酢酸エチルで洗浄し、化合物Ｉ−１８（１６mｇ、収率２６％）を得た。
1H-NMR(DMSO)δ:1.74-1.86(m, 2H), 3.25-3.40(m, 8H), 3.42-3.50(m, 4H), 3.54(s, 2H), 6.77(s, 1H), 7.17(s, 1H), 7.25-7.39(m, 5H), 8.19-8.23(br, 2H)
【実施例１６】
【０２７１】
化合物Ｉ−１９の合成  
【化７０】
2016098793.tif 000073
工程１：化合物１９ｂの合成
１−ブロモブタン−２，３−ジオン（４．０１ｇ、２４．３１  ｍｍｏｌ）をエタノール（５０ｍＬ）に溶解させ０℃に冷却し、化合物１９ａを加えて室温で２３時間撹拌した。溶媒を減圧留去した後クロロホルムを加えて、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）により精製して化合物１９ｂ（２．５９ｇ、収率４８％）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.95-2.03 (m, 2H), 2.51-2.51 (m, 3H), 3.44-3.48 (m, 4H), 7.39 (s, 1H).【０２７２】
工程２：化合物１９ｃの合成
化合物１９ｂ（３．８５ｇ、１７．２ｍｍｏｌ）に臭化水素酸（２５％酢酸溶液、７７ｍＬ、３５４ｍｍｏｌ）、臭素（０．８８４ｍＬ、１７．２ｍｏｌ）を加え、室温で２３時間撹拌した。溶媒を減圧留去した後、得られた残渣に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出した。溶媒を減圧留去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）により精製して化合物１９ｃ（２．１５ｇ、収率４２％）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.97-2.04 (m, 2H), 3.45-3.47 (m, 4H), 4.40 (s, 2H), 7.55 (s, 1H).【０２７３】
工程３：化合物１９ｄの合成
化合物１９ｃ（４００ｍｇ、１．３２ｍｍｏｌ）、ｔｅｒｔ−ブチル４−（アミノカルボチオイル）テトラヒドロピリジン−１（２Ｈ）−カルボキシレート（３２２ｍｇ、１．３２ｍｍｏｌ）にエタノール（２ｍＬ）を加え、１２０℃で７分間マイクロ波を照射した。反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に加えて、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄したのち無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、化合物１９ｄ（６３６ｍｇ）を粗生成物として得た。
1H-NMR (DMSO-D6) δ: 1.41 (s, 9H), 1.54-1.58 (m, 2H), 1.80-1.84 (m, 2H), 2.01-2.05 (m, 2H), 2.89-2.92 (m, 2H), 3.27-3.40 (m, 5H), 4.01-4.03 (m, 2H), 6.93 (s, 1H), 7.86 (s, 1H), 8.22 (s, 2H).【０２７４】
工程４：化合物１９ｅの合成
化合物１９ｄ（４１８ｍｇ、０．９３ｍｍｏｌ）をメタノール（４ｍＬ）に溶解させ、４ｍｏｌ／Ｌ塩酸（ジオキサン溶液、４ｍＬ、１６ｍｍｏｌ）を加えて室温で２時間撹拌した。溶媒を減圧留去した後、残渣を水に溶解させ、それを１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液に加えて、クロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をアミノシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）で精製し化合物１９ｅ（２４４ｍｇ、収率７５％）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.69-1.75 (m, 5H), 1.96-2.04 (m, 2H), 2.12-2.16 (m, 2H), 2.75-2.79 (m, 2H), 3.14-3.18 (m, 3H), 3.45-3.47 (m, 4H), 7.03 (s, 1H), 7.34 (s, 1H).【０２７５】
工程５：化合物Ｉ−１９の合成
化合物１９ｅ（５０ｍｇ、０．１４３ｍｍｏｌ）を塩化メチレン（１ｍＬ）に溶解させ、トリエチルアミン（４０μＬ、０．２８７ｍｍｏｌ）、クロロギ酸イソプロピル（１８μＬ、  ０．１５８ｍｍｏｌ）を加えて室温で１８時間撹拌した。トリエチルアミン（４０μＬ、  ０．２８７ｍｍｏｌ）、クロロギ酸イソプロピル（３３μＬ、０．２８６ｍｍｏｌ）を加えて室温で３時間撹拌し、水を加えてクロロホルムで抽出した。有機層を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）で精製し、化合物Ｉ−１９（５６ｍｇ、収率９０％）を得た。.
1H-NMR (DMSO-D6) δ: 1.19 (d, J = 6.3 Hz, 6H), 1.54-1.61 (m, 2H), 1.82-1.83 (m, 2H), 2.03-2.08 (m, 2H), 2.94-3.08 (m, 2H), 3.25-3.35 (m, 5H), 4.00-4.05 (m, 2H), 4.73-4.82 (m, 1H), 6.92 (s, 1H), 7.86 (s, 1H), 8.21 (s, 2H).
【実施例１７】
【０２７６】
化合物Ｉ−２０の合成  
【化７１】
2016098793.tif 000074
工程１：化合物２０ｂの合成
化合物２０ａ（１８５ｍｇ，１ｍｍｏＬ）をエタノール（２ｍＬ）に溶解し、イソブチリミダミド塩酸塩（１２３ｍｇ，１ｍｍｏＬ）、２０％ナトリウムエトキシドのエタノール溶液（０．３８６ｍＬ，１ｍｍｏＬ）を加え、４時間加熱還流した。水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製して化合物２０ｂ（１４０ｍｇ，６７％）を得た。1H-NMR (CDCl3) δ: 1.35 (J = 7.0 Hz, d, 7H), 1.40 (J = 7.2 Hz, t, 3H), 2.80 (s, 3H), 3.21 (m, 1H), 4.40 (J = 7.1 Hz, q, 2H), 9.08 (s, 1H).【０２７７】
工程２：化合物２０ｃの合成
化合物２０ｂ（１４０ｍｇ，０．６７ｍｍｏＬ）をエタノール（２ｍＬ）に溶解させ、２ｍｏＬ/Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（１ｍＬ）を加え、室温で２時間撹拌した。エタノールを減圧下留去し、２ｍｏＬ/Ｌ塩酸でｐＨ＝２とした。得られた固体をろ取し、水で洗浄後、減圧乾燥して化合物２０ｃを得た。1H-NMR (CDCl3) δ: 1.37 (J = 7.0 Hz, d, 6H), 2.85 (s, 5H), 3.22-3.29 (m, 1H), 9.21 (s, 1H).【０２７８】
工程３：化合物２０ｄの合成
化合物２０ｃ（８０ｍｇ，０．４４ｍｍｏＬ）をジメチルホルムアミド（１ｍＬ）に溶解させ、ＣＤＩ（２１６ｍｇ，１．３３ｍｍｏＬ）を加え、室温で１時間撹拌した。２８％アンモニア水溶液（１ｍＬ）を加え、室温で３０分撹拌した。水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製して化合物２０ｄ（６５ｍｇ，８２％）を得た。1H-NMR (CDCl3) δ: 1.34 (J = 6.8 Hz, d, 6H), 2.70 (s, 3H), 3.17-3.24 (m, 1H), 5.81 (s, 2H), 8.71 (s, 1H).【０２７９】
工程４：化合物２０ｅの合成
化合物２０ｄ（６１ｍｇ，０．３４ｍｍｏＬ）をテトラヒドロフラン（１ｍＬ）に溶解させ，ローソン試薬（１３８ｍｇ，０．３４ｍｍｏＬ）を加え、室温で終夜撹拌した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製して化合物２０ｅ（４１ｍｇ，６２％）を得た。1H-NMR (CDCl3) δ: 1.33 (J = 7.0 Hz, d, 6H), 2.65 (s, 3H), 3.14-3.21 (m, 1H), 6.98 (s, 1H), 7.76 (s, 1H), 8.71 (s, 1H).【０２８０】
工程５：化合物Ｉ−２０の合成
化合物２０ｅを用いて、実施例10と同様の方法でＩ−２０を得た．
1H-NMR (DMSO-D6) δ: 1.31 (J = 7.0 Hz, d, 7H), 1.81-1.87 (m, 2H), 2.81 (s, 3H), 3.14-3.20 (m, 1H), 3.34 (s, 4H), 7.11 (s, 1H), 8.22 (s, 1H), 8.26 (s, 2H), 9.07 (s, 1H).
【実施例１８】
【０２８１】
化合物Ｉ−２１の合成  
【化７２】
2016098793.tif 000075
工程１：化合物２１ｂの合成
化合物２１ａ（３００ｍｇ、１．５ｍｍｏｌ）を臭化水素酸（２５％酢酸溶液、２２ｍＬ）に溶解し、ピリジニウムトリブロミド（４８６ｍｇ、１．５ｍｍｏｌ）を加え、室温で２３時間撹拌した。反応液を氷水に加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄したのち、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去して、減圧乾燥して化合物２１ｂの粗生成物（３８０ｍｇ）を得た。【０２８２】
工程２：化合物Ｉ−２１の合成
化合物２１ｂ（３８０ｍｇ）、化合物２１ｃ（２０５ｍｇ、０．６ｍｍｏｌ）をエタノール（２０  ｍＬ）に溶解し、室温で２３時間撹拌した。析出した固体を濾取し、エタノールで洗浄後、減圧乾燥して化合物Ｉ−２１（３９３  ｍｇ、収率６１％）を得た。
1H-NMR (DMSO-D6) δ: 1.96 (t, J = 2.5 Hz, 2H), 3.6 (t, J = 2.5 Hz, 4H), 7.45-7.56(m, 3H), 7.94-8.22 (m, 6H), 8.96 (s, 2H), 12.00 (bs, 1H).
【実施例１９】
【０２８３】
化合物Ｉ−２２の合成  
【化７３】
2016098793.tif 000076
工程１：Ｉ−２２の合成
（３−クロロフェニル）メタノール（４４ｍｇ，０．３１ｍｍｏＬ），実施例２３で合成した化合物２２ａ（３０ｍｇ，０．１０２ｍｍｏＬ）をジメチルスルホキシド（１ｍＬ）に溶解させ、６０％水素化ナトリウム（１３ｍｇ，０．３１ｍｍｏＬ）を加え、室温で４５分間撹拌した。１２０℃に昇温して、１．５時間撹拌した。室温まで放冷後、６０％水素化ナトリウム（４ｍｇ，０．１０ｍｍｏＬ）、（３−クロロフェニル）メタノール（１５ｍｇ，０．１０ｍｍｏＬ）のジメチルスルホキシド（０．３ｍｌ）溶液を加えた後、１２０℃に昇温して１時間撹拌した。室温まで放冷後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）により精製した。得られた固体に酢酸エチルを加え、ろ取することで化合物Ｉ−２２（５．６ｍｇ，１４％）を得た。1H-NMR (DMSO-D6) δ: 1.78-1.90 (2H, m), 3.30-3.37 (4H, m),  5.45 (2H, s), 6.77 (1H, d, J = 8.2 Hz), 7.32 (1H, s), 7.36-7.43 (2H, m), 7.47 (1H, d, J = 7.3 Hz), 7.54 (1H, d, J = 7.3 Hz), 7.57 (1H, s), 7.75 (1H, t, J = 7.8 Hz), 8.24 (2H, br s). 
【実施例２０】
【０２８４】
化合物Ｉ−２３の合成  
【化７４】
2016098793.tif 000077
工程１：化合物２３ｄの合成
化合物２３ａ（８ｇ，５０．８ｍｍｏＬ）をテトラヒドロフラン（５０ｍＬ）に懸濁させ、０℃に冷却した。塩化オキサリル（５．３３ｍＬ，６０．９ｍｍｏＬ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（０．１９７ｍＬ，２．５４ｍｍｏＬ）を加え、０℃で５分間撹拌した。その後昇温し、室温にて１．５時間撹拌した。テトラヒドロフラン（５０ｍＬ）を加えて希釈し、氷冷下で２ｍｏＬ／Ｌトリメチルシリルジアゾメタンのヘキサン溶液（５５．９ｍＬ，１１２ｍｍｏＬ）を滴下し、０℃で１時間撹拌した。反応液を減圧濃縮し、得られた固体に氷冷下で酢酸（６０ｍＬ）を加えた。続いてこの溶液に４７％臭化水素水溶液 （１４．７ｍＬ，１２７ｍｍｏＬ）を一度に加え、０℃で３０分間攪拌した。反応液を水で希釈し、２ｍｏＬ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液を加えてｐＨ５とした。その後、飽和重曹水を加えて中和し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和重曹水、水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、粗生成物として化合物２３ｂ（７．２１ｇ）を得た。化合物２３ｂの組成物（７．２１ｇ）をエタノール（６０ｍＬ）に溶解し、化合物２３ｃ（４．８７ｇ，３０．７ｍｍｏＬ）を加えた。室温にて１時間撹拌した後、終夜静置した。析出した固体を濾取、エタノール、クロロホルムで洗浄し、化合物２３ｄ（８．１８ｇ，７１％）を得た。1H-NMR (DMSO-D6) δ: 1.91-1.97 (2H, m), 3.44-3.54 (4H, m), 7.49 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.90 (1H, s), 7.97 (1H, t, J = 7.8 Hz), 8.20 (1H, d, J = 7.7 Hz), 8.87 (2H, br s), 12.17 (1H, br s).【０２８５】
工程２：化合物Ｉ−２３の合成
２−フェニルモルフォリン（２０９ｍｇ，１．２８ｍｍｏＬ）をＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（２ｍＬ）に溶解させ、化合物２３ｄ（８０ｍｇ，０．２１ｍｍｏＬ）、炭酸セシウム（２７８ｍｇ，０．８５ｍｍｏＬ）を加えた。封管した後、１８０℃に昇温して３日間撹拌した。室温まで放冷後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）、逆相ＨＰＬＣ（アセトニトリル−水）により精製して化合物Ｉ−２３（２２ｍｇ，２５％）を得た。1H-NMR (DMSO-D6) δ: 1.73-1.88 (2H, m), 2.76 (1H, dd, J = 12.5, 10.7 Hz), 2.98 (1H, dt, J = 17.4, 6.2 Hz), 3.28-3.33 (4H, m), 3.76 (1H, td, J = 11.8, 2.3 Hz), 4.12 (1H, dd, J = 11.7, 2.5 Hz), 4.24 (1H, d, J = 13.3 Hz), 4.37 (1H, d, J = 12.7 Hz), 4.58 (1H, dd, J = 10.3, 2.3 Hz), 6.83 (1H, d, J = 8.4 Hz), 7.24 (1H, s), 7.27 (1H, d, J = 7.3 Hz), 7.33 (1H, t, J = 7.3 Hz), 7.39 (2H, t, J = 7.5 Hz), 7.48 (2H, d, J = 7.4 Hz), 7.60 (1H, t, J = 8.0 Hz), 8.32 (2H, br s).
【実施例２１】
【０２８６】
化合物Ｉ−２４の合成  
【化７５】
2016098793.tif 000078
工程１：化合物Ｉ−２４の合成
実施例２３と同様の方法で合成した化合物２４ａ（７０ｍｇ、０．１６７ｍｍｏｌ）のジオキサン（１ｍＬ）溶液に化合物２４ｂ（２４．６ｍｇ、０．１６７ｍｍｏｌ）、Ｐｄ（ＯＡｃ）２（４ｍｇ、０．０１７ｍｍｏｌ）、ｘａｎｔｐｈｏｓ（１４．５ｍｇ、０．０２５ｍｍｏｌ）、炭酸セシウム（１３６ｍｇ、０．４２ｍｍｏｌ）を加えた。系内を窒素置換し、１２０℃の油浴にて３時間撹拌した。重曹水を加えてクロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後に無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）により精製して化合物Ｉ−２４（３４ｍｇ、収率５１ｍｇ）を得た。
1H-NMR（DMSO-d6）δ：1.84 (m, 2H), 3.14 (t, J = 6.4Hz, 2H), 3.35 (m, 4H), 4.31 (t, J = 6.4Hz, 2H), 7.34 (s, 1H), 7.38-7.46 (m, 2H), 7.57 (m, 1H), 7.76 (d, J = 7.2Hz, 1H), 7.81-7.89 (m, 2H), 8.03 (d, J = 7.2Hz, 1H), 8.27 (brs, 2H).
【実施例２２】
【０２８７】
化合物Ｉ−２５の合成  
【化７６】
2016098793.tif 000079
工程１：化合物２５ｂの合成
化合物２５ａ（５．００ｇ，２１．１ｍｍｏＬ）をジメチルアセトアミド（３０ｍＬ）に溶解し，ピペリジン−３−イルメタノール（２．５５ｇ，２２．２ｍｍｏＬ），炭酸セシウム（１５．１ｇ，４６．４ｍｍｏＬ）を加え、１００℃で５時間加熱した。水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製して化合物２５ｂ（４．２８ｇ，７５％）を得た。1H-NMR (CDCl3) δ: 1.33-1.44 (m, 1H), 1.49-1.59 (m, 1H), 1.61-1.75 (m, 1H), 1.81-1.93 (m, 2H), 2.29-2.40 (m, 1H), 3.19-3.27 (m, 1H), 3.32-3.40 (m, 1H), 3.47-3.60 (m, 2H), 3.76-3.86 (m, 2H), 6.53 (J = 8.5 Hz, d, 1H), 6.67 (J = 7.5 Hz, d, 1H), 7.24 (J = 7.8 Hz, t, 1H).【０２８８】
工程２：化合物２５ｃの合成
化合物２５ｂを用いて、実施例26と同様の方法で化合物２５ｃを合成した。1H-NMR (DMSO-D6) δ: 1.15-1.24 (m, 1H), 1.39-1.42 (m, 1H), 1.57-1.89 (m, 5H), 1.80-1.86 (m, 2H), 2.59-2.65 (m, 1H), 2.82-2.89 (m, 1H), 3.25-3.40 (m, 6H),4.22-4.33 (m, 2H), 4.51-4.58 (m, 1H), 6.69 (J = 8.5 Hz, d, 1H), 7.14 (J = 7.3 Hz, d, 1H), 7.19 (s, 1H), 7.53 (J = 7.9 Hz, t, 1H), 8.28 (s, 2H).【０２８９】
工程３  化合物２５ｄの合成
化合物２５ｃ（１．０ｇ，２．６８ｍｍｏＬ）とトリエチルアミン(５９８ｍｇ，２．６８ｍｍｏＬ)をテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）に溶解させ、氷冷下でメタンスルホニルクロライド（３６８ｍｇ，３．２２ｍｍｏＬ）を加えた。室温に昇温して、１時間撹拌した。水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去し化合物２５ｄの粗生成物（１．０９ｇ）を得た。
ＬＣＭＳ（測定条件Ａ）、保持時間：１．４２分、［Ｍ＋Ｈ]＋：４５１【０２９０】
工程４：化合物Ｉ−２５の合成
化合物２５ｃ（２０ｍｇ，０．０４４ｍｍｏＬ）をジメチルアセトアミド（１ｍＬ）に溶解させ、３−シアノフェノール（８ｍｇ，０．０６７ｍｍｏＬ）、炭酸カリウム(１８ｍｇ，０．１３ｍｍｏＬ)を加え、１００℃で５時間撹拌した。水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）により精製して化合物Ｉ−２５（５ｍｇ，２４％）を得た。
1H-NMR (DMSO-D6) δ: 1.13-1.25 (m, 1H), 1.41-1.50 (m, 1H), 1.60-1.86 (m, 5H), 2.56-2.65 (m, 1H), 2.82-2.89 (m, 1H), 3.25-3.40 (m, 6H), 4.22-4.35 (m, 2H), 4.52-4.56 (m, 1H), 6.69 (J = 8.5 Hz, d, 1H), 7.14 (J = 7.3 Hz, d, 1H), 7.19 (s, 1H), 7.58 (s, 1H), 8.30 (s, 2H).
【実施例２３】
【０２９１】
化合物Ｉ−２６の合成  
【化７７】
2016098793.tif 000080
工程1：化合物２６ｂの合成  
化合物２６ａ（３．５ｇ、１４．８ｍｍｏｌ）にジメチルアセトアミド（４０ｍＬ）、３−（メチルアミノ）プロパン−１−オ−ル（１．３８ｇ、１５．５ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（４．４９ｇ、３２．５ｍｍｏｌ）を加え８０℃で７時間撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物２６ｂ（２．０６ｇ、５７％）を得た。
1H-NMR(DMSO-D6)δ:1.73-1.82(m, 2H), 2.95(s, 3H), 3.53(dd, J=6.0Hz, 11.2Hz, 2H), 3.71(t, J=6.0Hz, 2H), 4.11(dd, J=6.0Hz, 11.2Hz, 1H), 6.39(d, J=8Hz, 1H), 6.68(d, J=7.6Hz, 1H), 7.22-7.31(m, 1H)【０２９２】
工程２：化合物２６ｄの合成  
化合物２６ｂ（２．０６ｇ、８．４０ｍｍｏｌ）のトルエン（２０ｍＬ）溶液に、化合物２６ｃ（３．３４ｇ、９．２４ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０．９７１ｇ、０．８４ｍｍｏｌ）を加え３.５時間加熱還流した。その後１２時間静置し、更に３時間加熱還流した。飽和フッ化カリウム水溶液を加え１時間室温で撹拌しろ過した。水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を減圧留去し，化合物２６ｄを粗生成物として得た。【０２９３】
工程３：化合物２６ｇの合成  
化合物２６ｄ（１．９９ｇ、８．４０ｍｍｏｌ）にテトラヒドロフラン（４０ｍＬ）、水（５ｍＬ）を加え０℃に冷却した。Ｎ−ブロモスクシンイミド（１．６５ｇ、９．２４ｍｍｏｌ）を加え０℃で１時間撹拌し、室温で２時間撹拌した。１２時間静置後、Ｎ−ブロモスクシンイミド（１５０ｍｇ、０．８４ｍｍｏｌ）を加え１時間撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。エタノール（４０ｍＬ）に溶解させ化合物２６ｆ（１．０６ｇ、６．７２ｍｍｏｌ）を加え６０℃で２時間加熱した。反応液に飽和重曹水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をアミノシリカカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）により精製し、化合物２６ｇ（１．３０ｇ、４５％）を得た。
1H-NMR(DMSO-D6)δ:1.62-1.78(m,  2H), 1.80-1.90(m,  2H), 3.02(s, 3H), 3.20-3.50(m, 4H), 3.55-3.65(m, 2H), 4.62(t, J=4Hz, 2H), 6.50-6.55(m, 1H), 7.07-7.12(m, 1H), 7.18(s, 1H), 7.49-7.53(m, 1H), 8.24-8.26(br, 2H)【０２９４】
工程４：化合物Ｉ−２６の合成
化合物２６ｇ（３５ｍｇ、０．１０１ｍｍｏｌ）に、テトラヒドロフラン（０．４ｍＬ）、トリフェニルホスフィン（３９．７ｍｇ、０．１５２ｍｍｏｌ）、４−ヒドロキシベンゾニトリル（１４．４ｍｇ、０．１２１ｍｍｏｌ）を加え０℃に冷却した。アゾジカルボン酸ジイソプロピル（０．０２９ｍＬ、０．１５２ｍｍｏｌ）を加え室温で終夜撹拌した。反応溶液を濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）により精製し、化合物Ｉ−２６（４ｍｇ、９％）を得た。
1H-NMR(DMSO-D6)δ:1.78-1.89(m, 2H), 2.00-2.10(m, 2H), 3.03(s, 3H), 3.20-3.55(m, 4H), 3.68-3.80(m, 2H), 4.10-4.20(m, 2H), 6.52(d, J=8.4Hz, 1H), 7.08-7.20(m, 4H), 7.50(dd, J=8.4Hz, 8.8Hz, 1H), 7.74(d, J=8.8Hz, 2H), 8.27-8.31(br, 2H)
【実施例２４】
【０２９５】
化合物Ｉ−２７の合成  
【化７８】
2016098793.tif 000081
工程１：化合物２７aの合成
実施例２５と同様の方法で化合物２７ａを合成した。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.73-1.88 (m, 4H), 2.00-2.05 (m, 2H), 3.41-3.55 (m, 4H), 3.72-3.83 (m, 4H), 4.03 (s, 4H), 6.62 (J = 8.5 Hz, d, 1H), 7.17 (J = 7.5 Hz, d, 1H), 7.31 (s, 1H), 7.53 (J = 7.8 Hz, t, 1H).【０２９６】
工程２：化合物２７ｂの合成
化合物２７ａ（１０００ｍｇ，２．５ｍｍｏＬ）をテトラヒドロフラン（２５ｍL）−２ｍｏＬ塩酸水溶液の混合液に溶解させ、６５℃で６時間撹拌した。減圧下濃縮し、飽和重曹水を加え塩基性として、５％メタノール/クロロホルムで３回抽出した。有機層を合わせ、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）により精製して化合物２７ｂ（８１０ｍｇ，９１％）を得た。1H-NMR (CDCl3)δ: 1.98-2.04 (m, 2H), 2.45-2.61 (m, 4H), 3.38-3.57 (m, 4H), 3.90-4.08 (m, 4H), 6.68 (J = 8.3 Hz, d, 1H), 7.24 (J = 7.5 Hz, d, 1H), 7.30 (s, 1H), 7.58 (J = 7.8 Hz, t, 1H).【０２９７】
工程３：化合物Ｉ−２７の合成
化合物２７ｂ（３０ｍｇ，０．０８４ｍｍｏＬ）をエタノール（１ｍＬ）に溶解させ、トリエチルアミン(１３ｍｇ，０．１３ｍｍｏＬ)とＯ−メチルヒドロキシルアミン(１１ｍｇ，０．１３ｍｍｏＬ)を加え、室温で３時間撹拌した。水を加え、得られた固体をろ取し、水で洗浄後減圧乾燥し、化合物Ｉ−２７（１５ｍｇ，４６％）を得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 1.98-2.03 (m, 2H), 2.42-2.50 (m, 2H), 2.63-2.73 (m, 2H), 3.37-3.53 (m, 4H), 3.73-3.83 (m, 4H), 3.86 (s, 3H), 6.58 (J = 8.5 Hz, d, 1H), 7.17 (J = 7.3 Hz, d, 1H), 7.29 (s, 1H), 7.53 (J = 7.9 Hz, t, 1H).
【実施例２５】
【０２９８】
化合物Ｉ−２８の合成  
【化７９】
2016098793.tif 000082
工程１：Ｉ−２８の合成  
化合物２８ａ（５０ｍｇ，０．１４ｍｍｏＬ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（０．５ｍＬ）に溶解させ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタール（０．０３８ｍＬ，０．２８ｍｍｏＬ）を加え、１３０℃で２時間撹拌した。この溶液にエタノール（０．５ｍＬ）、２−フェニル−アセトアミジン塩酸塩（２９ｍｇ，０．１７ｍｍｏＬ）を加え、８０℃で終夜撹拌した。反応液に飽和重曹水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）により精製して化合物Ｉ−２８（２ｍｇ，３％）を得た．1H-NMR (DMSO-D6)δ: 1.77-1.87 (2H, m), 2.94 (2H, t, J = 5.9 Hz), 3.25-3.35 (4H, m), 3.98 (2H, t, J = 5.9 Hz), 4.14 (2H, s), 4.77 (2H, s), 6.86 (1H, d, J = 8.4 Hz), 7.18-7.31 (7H, m), 7.61 (1H, t, J = 7.7 Hz), 8.26 (2H, br s), 8.62 (1H, s).
【実施例２６】
【０２９９】
化合物Ｉ−３０の合成  
【化８０】
2016098793.tif 000083
工程１：化合物３０ｃの合成
化合物３０ａ（１．８９ｇ、８．７５ｍｍｏｌ）と１−エトキシビニルトリ−ｎ−ブチルスズ（３．５５ｍｌ、１０．５ｍｍｏｌ）をトルエン（２０ｍＬ）に溶解した。Ｐｄ（ＰＰｈ３）４（１．０１ｇ、０．８７５ｍｍｏｌ）を加えて窒素置換し、１１０℃で３時間撹拌した。水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。【０３００】
得られた残渣をテトラヒドロフラン（２０ｍＬ）と水（２ｍＬ）に溶解し、氷冷下でＮＢＳ（１．５６ｇ、８．７５ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後に水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。【０３０１】
得られた残渣をエタノール（２０ｍＬ）に溶解して化合物３０ｂ（１．０４ｇ、６．５６ｍｍｏｌ）を加えた。室温で１時間撹拌した後に、重曹水を加えて中和した。クロロホルムで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。得られた残渣に酢酸エチルを加えて固化し、固体をろ取することで、化合物３０ｃ（１．６５ｇ、収率５９％）を得た。
1H-NMR（DMSO-d6）δ：1.84 (m, 2H), 3.34 (m, 2H), 3.91 (s, 3H), 7.36 (s, 1H), 7.91 (d, J = 8.0Hz, 1H), 8.02 (t, J = 8.0Hz, 1H), 8.20 (d, J = 8.0Hz, 1H), 8.22 (brs, 2H).【０３０２】
工程２：化合物３０ｄの合成
化合物３０ｃ（２００ｍｇ、０．６３０ｍｍｏｌ）をメタノール（４ｍＬ）に懸濁し、１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（１．９ｍＬ、１．９ｍｍｏｌ）を加えた。室温で１３時間撹拌した後に、１０％クエン酸水溶液を加えた。析出した固体をろ取することで、化合物３０ｄ（１８３ｍｇ、収率９６％）を得た。
1H-NMR（DMSO-d6）δ：1.84 (m, 2H), 3.34 (m, 2H), 7.58 (s, 1H), 7.91 (d, J = 8.0Hz, 1H), 8.01 (t, J = 8.0Hz, 1H), 8.18 (d, J = 8.0Hz, 1H), 8.23 (brs, 2H).【０３０３】
工程３：化合物Ｉ−３０の合成
化合物３０ｄ（４０ｍｇ、０．１３２ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（１ｍＬ）溶液にＮ−メチルベンジルアミン（２４ｍｇ、０．１９８ｍｍｏｌ）、ＨＡＴＵ（７５ｍｇ、０．１９８ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（０．０５５ｍＬ、０．３９６ｍｍｏｌ）を加えた。室温で２時間撹拌した後に、水を加えた。クロロホルムで抽出して無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた残渣を逆相ＨＰＬＣ（１０ｍＭ炭酸アンモニウム含有水―アセトニトリル）により精製して、化合物Ｉ−３０（２０．２ｍｇ、収率３８％）を得た。
1H-NMR（DMSO-d6）δ：1.83 (m, 2H), 2.95 (s, 1.8H), 2.97 (s, 1.2H), 3.32 (m, 4H), 4.65 (s, 1.2H), 4.72 (s, 0.8H), 7.24-7.44 (m, 5H), 7.51 (m, 1H), 7.89-8.05 (m, 2H), 8.19 (brs, 1.2H), 8.24 (brs, 0.8H).
【実施例２７】
【０３０４】
化合物Ｉ−３２の合成  
【化８１】
2016098793.tif 000084
工程１：化合物Ｉ−３２の合成
化合物３２ａ（５０ｍｇ、０．１７ｍｍｏｌ）をＤＭＡ（１ｍＬ）に溶解し、ピペリジン（１７μL、０．１７ｍｍｏｌ）を加え、マイクロウエーブ照射下１００℃で３０分撹拌した後、ピペリジン（８５μL、０．８５ｍｍｏｌ）を追加して、マイクロウエーブ照射下１５０℃で３時間撹拌した。水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣を分取用ＨＰＬＣ（０．１％ギ酸含有アセトニトリル−０．１％ギ酸含有水）より精製して化合物Ｉ−３２（３７ｍｇ、収率６４％）を得た。
ＬＣＭＳ（測定条件Ｂ）：保持時間＝１．４１分、[Ｍ＋Ｈ]＋ = ３４３
【実施例２８】
【０３０５】
化合物Ｉ−３３の合成  
【化８２】
2016098793.tif 000085
工程１：化合物３３ｂの合成
化合物３１ａ（１５０ｍｇ、０．９６４ｍｍｏｌ）のジオキサン（２．５ｍＬ）溶液に４−クロロアニリン（１６０ｍｇ、１．２５ｍｍｏｌ）とＰｄ（ＯＡｃ）２（４３ｍｇ、０．１９３ｍｍｏｌ）、Ｘａｎｔｐｈｏｓ（２２３ｍｇ、０．３８６ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（２００ｍｇ、１．４４６ｍｍｏｌ）を加えた。系内を窒素置換し、マイクロ波照射下、１２０℃で１５分反応させた。水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製して、化合物３３ｂ（１５０ｍｇ、収率６３％）を得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 2.64 (s, 3H), 6.76 (dd, J = 4.4, 7.6Hz, 1H), 7.29 (d, J = 8.0Hz, 2H), 7.67 (d, J = 8.0Hz, 2H), 8.11 (d, J = 7.6Hz, 1H), 8.38 (d, J = 4.4Hz, 1H), 11.10 (s, 1H).【０３０６】
工程：化合物Ｉ−３３の合成
窒素気流下、化合物３３ｂ（１５０ｍｇ、０．６０８ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２ｍＬ）に溶解して−７８℃に冷却した。０．５ｍｏｌ／ＬＬＤＡ（２．６８ｍＬ、１．３３８ｍｍｏｌ）を滴下した。２０分後にクロロトリメチルシラン（０．２２ｍＬ、１．７０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分後にＮＢＳ（１１９ｍｇ、０．６６９ｍｍｏｌ）、炭酸水素ナトリウム（２０４ｍｇ、２．４３ｍｍｏｌ）を加えた。室温に昇温して３時間撹拌した後に、水を加えた。酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。【０３０７】
得られた残渣をエタノール（３ｍＬ）に溶解して化合物３１ｃ（９６ｍｇ、０．６０８ｍｍｏｌ）を加え、室温で撹拌した。３時間後に重曹水を加えて中和し、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）により精製して、化合物Ｉ−３３（４１ｍｇ、収率１８％）を得た。
1H-NMR (DMSO-D6)δ: 1.85 (m, 2H), 3.28 (m, 1H), 6.87 (dd, J = 7.2, 4.8Hz, 1H), 7.07 (s, 1H), 7.33 (d, J = 8.4Hz, 2H), 7.72 (d, J = 8.4Hz, 2H), 7.86-7.97 (m, 3H), 8.16 (d, J = 4.8Hz, 1H), 10.09 (s, 1H).
【実施例２９】
【０３０８】
化合物Ｉ−３４の合成  
【化８３】
2016098793.tif 000086
工程１：化合物３４ｂの合成
２ｍｏｌ／Ｌトリメチルシリルジアゾメタンのヘキサン溶液（１２．５ｍＬ、２５ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（４０ｍＬ）に溶解し、氷冷下で化合物３４ａ（２ｇ、１１．３６ｍｍｏｌ）を加えた。１時間撹拌した後に反応液を減圧濃縮した。得られた残渣を酢酸（１６ｍＬ）に溶解し、氷冷下で４７％臭化水素酸（３．２８ｍＬ、２８．４ｍｍｏｌ）を加えた。１時間撹拌した後に水酸化ナトリウムを加えてｐＨ５とし、次いで重曹水を加えて中和した。酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去することで、化合物３４ｂ（２．２０ｇ、収率８３％）を得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 4.56 (s, 2H), 7.39 (dd, J = 7.2, 4.4Hz, 1H), 7.94 (dd, J = 7.2, 1.6Hz, 1H), 8.55 (dd, J = 4.4, 1.6Hz, 1H).【０３０９】
工程２：化合物３４ｄの合成
化合物３４ｂ（１．９６ｇ、８．３４ｍｍｏｌ）と化合物３４ｃ（１．１ｇ、６．９５ｍｍｏｌ）をエタノール（２５ｍＬ）に懸濁した。１００℃で１時間撹拌した後、室温まで放冷して重曹水を加えて中和した。クロロホルムで抽出して有機層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）により精製して、化合物３４ｄ（６０９ｍｇ、収率３０％）を得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 2.02 (m, 2H), 3.46 (m, 4H), 7.08 (s, 1H), 7.29 (dd, J = 7.6, 4.8Hz, 1H), 8.08 (dd, J = 7.6, 1.6Hz, 1H), 8.32 (dd, J = 4.8, 1.6Hz, 1H).【０３１０】
工程３：化合物Ｉ−３４の合成
化合物３４ｄ（３０ｍｇ、０．１０２ｍｍｏｌ）とフェノール（１９ｍｇ、０．２０４ｍｍｏｌ）をＤＭＳＯ（０．６ｍＬ）に溶解した。炭酸セシウム（６６．５ｍｇ、０．２０４ｍｍｏｌ）を加え、１２０℃で１０時間撹拌した。水を加えてクロロホルムで抽出し、有機層を減圧濃縮した。得られた残渣を逆相ＨＰＬＣ（１０ｍＭ炭酸アンモニウム含有水−アセトニトリル）により精製し、化合物Ｉ−３４（９ｍｇ、収率２５％）を得た。
1H-NMR (DMSO-D6)δ: 1.82 (m, 2H), 3.31 (m, 4H), 7.15 (m, 2H), 7.18-7.24 (m, 2H), 7.30 (s, 1H), 7.42 (m, 2H), 8.01 (d, J = 4.8Hz, 1H), 8.23 (s, 2H), 8.45 (d, J = 7.2Hz, 1H).
【実施例３０】
【０３１１】
化合物Ｉ−３５の合成  
【化８４】
2016098793.tif 000087
工程１：化合物Ｉ−３５の合成
化合物３５ｂ（３８ｍｇ、０．９５３ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（１．５ｍＬ）に溶解し、氷冷下で６０％水素化ナトリウム（３８．１ｍｇ、０．９５３ｍｍｏｌ）を加え、撹拌した。１０分後に化合物３５ａ（７０ｍｇ、０．２３８ｍｍｏｌ）を加えて１２０℃で３時間撹拌した。氷冷して塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄して無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧濃縮して得られた残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）により精製し、化合物Ｉ−３５（５６ｍｇ、収率６６％）を得た。
1H-NMR (DMSO-D6)δ: 1.37 (m, 2H), 1.49-1.68 (m, 4H), 1.77-1.87 (m, 4H), 2.42 (m, 1H), 3.33 (m, 4H), 4.28 (d, J = 7.2Hz, 2H), 7.04 (m, 1H), 7.26 (s, 1H), 8.04 (m, 1H), 8.19 (brs, 2H), 8.34 (m, 1H).
【実施例３１】
【０３１２】
化合物Ｉ−３６の合成  
【化８５】
2016098793.tif 000088
工程１：化合物３６ｂの合成
化合物３６ａ（１ｇ、５．７ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）溶液に、氷冷下で塩化オキサリル（０．５５ｍＬ、６．２７ｍｍｏｌ）、ＤＭＦ（０．０２ｍＬ、０．２８５ｍｍｏｌ）を加えた。１０分後に室温に昇温して１時間撹拌した。テトラヒドロフラン（１０ｍＬ）を加えて希釈し、氷冷下で２ｍｏｌ／Ｌトリメチルシリルジアゾメタンのヘキサン溶液（６．２７ｍＬ、１２．５ｍｍｏｌ）を滴下した。氷冷下で１時間撹拌した後、４７％臭化水素酸を加えた。３０分後に水酸化ナトリウム水溶液を加えてｐＨ５とし、さらに重曹水で中和した。酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去することで、化合物３６ｂ（９９０ｍｇ、収率６８％）を得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 4.54 (s, 2H), 7.69 (m, 1H), 8.41 (m, 1H).【０３１３】
工程２：化合物３６ｄの合成
化合物３６ｂ（９９０ｍｇ、３．９２ｍｍｏｌ）をエタノール（１０ｍＬ）に溶解して、化合物３６ｃ（５４１ｍｇ、３．４２ｍｍｏｌ）を加えた。室温で２時間撹拌した後に、重曹水で中和した。クロロホルムで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）により精製して、化合物３６ｄ（３６８ｍｇ、収率３０％）を得た。
1H-NMR (DMSO-D6)δ: 1.80 (m, 2H), 3.28-3.31 (m, 4H), 7.36 (s, 1H), 8.13 (s, 2H), 8.26 (m, 1H), 8.39 (m, 1H).【０３１４】
工程３：化合物Ｉ−３６の合成
化合物３６ｄ（７０ｍｇ、０．２３ｍｍｏｌ）のＤＭＡ（１．５ｍＬ）溶液に、４−クロロフェノール（５７．７ｍｇ、０．４４９ｍｍｏｌ）、ヨウ化銅（８．６ｍｇ、０．０４５ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルグリシン（９．３ｍｇ、０．０９ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（９３ｍｇ、０．６７４ｍｍｏｌ）を加えた。２００℃で２時間撹拌した後に、酢酸エチルと水を加えた。不溶物をセライトでろ去した。有機層と水層を分離し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）に付し、次いでアミノカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製することで、化合物Ｉ−３６（１６ｍｇ、収率１８％）を得た。
1H-NMR (DMSO-D6)δ: 1.82 (m, 2H), 3.31 (m, 4H), 7.20 (d, J = 8.4Hz, 2H), 7.39 (s, 1H), 7.47 (d, J = 8.4Hz, 2H), 8.01 (m, 1H), 8.11 (s, 2H), 8.39 (m, 1H).
【実施例３２】
【０３１５】
化合物Ｉ−３７の合成  
【化８６】
2016098793.tif 000089
工程１：Ｉ−３７の合成    
実施例34と同様の方法で合成した化合物３７ａ（６０ｍｇ、０．２１６ｍｍｏｌ）のＤＭＳＯ（１．２ｍＬ）溶液に、４−クロロフェノール（７０ｍｇ、０．５４ｍｍｏｌ）、炭酸セシウム（２８２ｍｇ、０．８６５ｍｍｏｌ）を加えた。１５０℃で４時間撹拌した後に、水を加えた。酢酸エチルで抽出して、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。得られた残渣をアミノカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）に付し、次いでシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製することで、化合物Ｉ−３７（２９ｍｇ、３５％）を得た。
1H-NMR (DMSO-D6)δ: 1.81 (m, 2H), 3,32 (m, 4H), 7.01 (d, J = 8.8Hz, 2H), 7.27 (s, 1H), 7.42 (d, J = 8.8Hz, 2H), 8.02 (d, J = 4.8Hz, 1H), 8.15 (s, 2H), 8.29 (s, 1H), 8.46 (d, J = 4.8Hz, 1H).
【実施例３３】
【０３１６】
化合物Ｉ−３８の合成  
【化８７】
2016098793.tif 000090
工程１：化合物３８ｂの合成
実施例３４と同様の方法で合成した化合物３８ａ（１ｇ、２．６８ｍｍｏｌ）のＤＭＡ（１５ｍＬ）溶液に、４−クロロフェノール（０．３１８ｍＬ、３．２２ｍｍｏｌ）と炭酸セシウム（２．１９ｇ、６．７１ｍｍｏｌ）を加えた。１２０℃で４時間撹拌した後に、重曹水を加えた。酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）により精製することで、化合物３８ｂ（４７７ｍｇ、収率３８％）を得た。
1H-NMR (DMSO-D6)δ: 2.06 (m, 2H), 3.31 (m, 4H), 7.23 (d, J = 7.2Hz, 2H), 7.38 (s, 1H), 7.48 (d, J = 7.2Hz, 2H), 8.09-8.13 (m, 3H), 8.54 (s, 1H).【０３１７】
工程２：化合物Ｉ−３８の合成
１ｍｏｌ／Ｌジエチル亜鉛ヘキサン溶液（０．６４５ｍＬ、０．６４５ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（０．７５ｍＬ）、ＮＭＰ（０．５ｍＬ）に溶解した。氷冷して化合物３８ｂ（７５ｍｇ、０．１６ｍｍｏｌ）とＰｄ（ＰＰｈ３）４（３７ｍｇ、０．０３ｍｍｏｌ）を同時に加えた。１０分撹拌した後に、８０℃に昇温した。３時間後に、重曹水を加えてクロロホルムで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）に付し、次いでアミノカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）により精製することで、化合物Ｉ−３８（２９ｍｇ、収率４５％）を得た。
1H-NMR (DMSO-D6)δ: 1.82 (m, 2H), 2.32 (s, 3H), 3.30 (m, 4H), 7.15 (m, 2H), 7.23 (s, 1H), 7.44 (m, 2H), 7.85 (d, J = 2.0Hz, 1H), 8.20 (s, 2H), 8.23 (d, J = 2.0Hz, 1H).
【実施例３４】
【０３１８】
化合物Ｉ−３９の合成  
【化８８】
2016098793.tif 000091
工程１：化合物Ｉ−３９の合成
実施例１と同様の方法で合成した化合物３９ａ（７０ｍｇ、０．２４ｍｍｏｌ）のエタノール（１．５ｍＬ）溶液に４−フルオロベンゼンボロン酸（５０ｍｇ、０．３６ｍｍｏｌ）とジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム（１７ｍｇ、０．０２４ｍｍｏｌ）、２ｍｏｌ／Ｌ炭酸カリウム水溶液（０．３６ｍＬ、０．７２ｍｍｏｌ）を加えた。系内を窒素置換し、１００℃で４時間撹拌した後、水を加えてクロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）により精製して、化合物Ｉ−３９（２９ｍｇ、収率３５％）を得た。
1H-NMR (DMSO-D6)δ: 1.85 (m, 2H), 3.35 (m, 4H), 7.33 (m, 2H), 7.65 (s, 1H), 7.78 (dd, J = 5.2, 1.6Hz, 1H), 8.20-8.26 (m, 4H), 8.29 (s, 1H), 8.64 (d, J = 5.2Hz, 1H).
【実施例３５】
【０３１９】
化合物Ｉ−４０の合成  
【化８９】
2016098793.tif 000092
工程１  化合物Ｉ−４０の合成
化合物４０ａ（５０ｍｇ、０．１３３ｍｍｏｌ）をＤＭＡ（０．７ｍＬ）に溶解した。４−シアノフェノール（２０．７ｍｇ、０．１７３ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルグリシン（４．１ｍｇ、０．０４ｍｍｏｌ）、ヨウ化銅（３．８ｍｇ、０．０２ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（５５ｍｇ、０．４０ｍｍｏｌ）を加えた。２００℃で３時間撹拌した後、水を加えた。酢酸エチルで抽出して、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）により精製して、化合物Ｉ−４０（１５ｍｇ、収率３０％）を得た。
1H-NMR (DMSO-D6)δ: 1.82 (m, 2H), 3.31 (m, 4H), 7.34 (d, J = 8.8Hz, 2H), 7.53-7.58 (m, 2H), 7.65 (m, 1H), 7.89 (d, J = 8.8Hz, 2H), 8.14-8.19 (m, 3H).
【実施例３６】
【０３２０】
化合物Ｉ−４１の合成  
【化９０】
2016098793.tif 000093
工程１：  化合物Ｉ−４１の合成
化合物４１ａ（７０ｍｇ、０．１８７ｍｍｏｌ）のジオキサン（１．０ｍＬ）溶解に、４−クロロアニリン（３１ｍｇ、０．２４３ｍｍｏｌ）、Ｘａｎｔｐｈｏｓ（４３ｍｇ、０．０７５ｍｍｏｌ）、Ｐｄ（ＯＡｃ）２（８，４ｍｇ、０．０３７ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（６４．５ｍｇ、０．４７ｍｍｏｌ）を加えた。マイクロ波照射化、１２０℃で１５分反応させた。水を加えてクロロホルムで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）により精製して、化合物Ｉ−４１（２６ｍｇ、収率３６％）を得た。
1H-NMR (DMSO-D6)δ: 1.85 (m, 2H), 3.35 (m, 4H), 7.18 (d, J = 4.8Hz, 1H), 7.21-7.32 (m, 4H), 7.74 (d, J = 7.2Hz, 2H), 8.13 (d, J = 4.8Hz, 1H), 8.27 (s, 2H), 9.14 (s, 1H).
【実施例３７】
【０３２１】
化合物Ｉ−４３の合成  
【化９１】
2016098793.tif 000094
工程１：化合I−４３の合成
実施例３４と同様の方法で合成した化合物４３ａ（２５０ｍｇ、０．５３８ｍｍｏｌ）のエタノール（５ｍＬ）溶液に、トランス−２−シクロプロピルボロン酸ピナコールエステル（１５７ｍｇ、０．８０７ｍｍｏｌ）、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム（３７．８ｍｇ、０．０５４ｍｍｏｌ）、２ｍｏｌ／Ｌ炭酸カリウム水溶液を加えた。１１０℃で３時間撹拌した後に、水を加えた。クロロホルムで抽出して、有機層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）により精製することで、化合物I−４３（１７１ｍｇ、収率７０％）を得た。
1H-NMR (DMSO-D6)δ: 0.54 (m, 2H), 0.82 (m, 2H), 1.66 (m, 1H), 1.83 (m, 2H), 3.33 (m, 4H), 5.92 (dd, J = 15.6, 9.2Hz, 1H), 6.74 (d, J = 15.6Hz, 1H), 7.00 (dd, J = 8.8, 2.8Hz, 1H), 7.21 (dd, J = 7.2, 4.8Hz, 1H), 7.31 (s, 1H), 7.41-7.45 (m, 2H), 8.00 (dd, J = 4.8, 1.6Hz, 1H), 8.23 (s, 2H), 8.45 (dd, J = 7.2, 1.6Hz, 1H).
【実施例３８】
【０３２２】
化合物Ｉ−４４の合成  
【化９２】
2016098793.tif 000095
工程１：化合物４４ｂの合成
化合物４４ａ（６００ｍｇ、２．８５ｍｍｏｌ）のＤＭＡ（３ｍＬ）溶液に、４−クロロフェノール（３６７ｍｇ、２．８５ｍｍｏｌ）と炭酸セシウム（１．１２ｇ、３．４２ｍｍｏｌ）を加えた。６０℃で２時間撹拌した後、水を加えた。酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去することで、化合物４４ｂ（９１６ｍｇ）を粗生成物として得た。得られた化合物４４ｂは精製せずそのまま次の工程に用いた。
1H-NMR (CDCl3)δ: 6.94 (d, J = 8.0Hz, 1H), 7.11 (d, J = 8.8Hz, 2H), 7.37 (d, J = 8.8Hz, 2H), 7.85 (d, J = 8.0Hz, 1H).【０３２３】
工程２：化合物４４ｄの合成
化合物４４ｂ（９５０ｍｇ、２．９８ｍｍｏｌ）をトルエン（１５ｍＬ）に溶解し、１−エトキシビニルトリ−ｎ−ブチルスズ（１．１ｍＬ、３．２８ｍｍｏｌ）、Ｐｄ（ＰＰｈ３）４（２０９ｍｇ、０．２９８ｍｍｏｌ）を加えた。９０℃で２時間撹拌した後に、水を加えた。酢酸エチルで抽出して有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。【０３２４】
得られた残渣をテトラヒドロフラン（９ｍＬ）と水（１ｍＬ）に溶解して氷冷した。ＮＢＳ（５３０ｍｇ、２．９８ｍｍｏｌ）を加え、室温にて１時間撹拌した。水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。【０３２５】
得られた残渣をエタノール（１０ｍＬ）に溶解して化合４４ｃ（４２４ｍｇ、２．６８ｍｍｏｌ）を加えた。室温にて４時間撹拌した後、析出している固体をろ取することで、化合物４４ｄ（８８５ｍｇ、収率６５％）を得た。
1H-NMR (DMSO-D6)δ: 1.93 (m, 2H), 3.46 (m,, 4H), 7.31 (d, J = 8.8Hz, 2H), 7.37 (d, J = 8.0Hz, 1H), 7.54 (d, J = 8.8Hz, 2H), 7.88 (s, 1H), 8.70 (d, J = 8.0Hz, 1H), 8.89 (s, 2H), 12.12 (s, 1H).【０３２６】
工程３  化合物Ｉ−４４の合成
化合物４４ｄ（６３ｍｇ、０．１４ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（１．２ｍＬ）溶液に２８％ナトリウムメトキシド（８０ｍｇ、０．４１ｍｍｏｌ）を加えた。６０℃で２時間撹拌した後、塩化アンモニウム水溶液を加えた。酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた残渣を逆相ＨＰＬＣ（１０ｍＭ炭酸アンモニウム含有水−アセトニトリル）により精製して、化合物Ｉ−４４（７．７ｍｇ、収率１３％）を得た。
1H-NMR (DMSO-D6)δ: 1.82 (m, 2H), 3.30 (m, 4H), 3.61 (s, 3H), 6.65 (d, J = 8.4Hz, 1H), 7.06 (s, 1H), 7.25 (m, 2H), 7.47 (m, 2H), 8.20 (s, 2H), 8.39 (d, J = 8.4Hz, 1H).
【実施例３９】
【０３２７】
化合物Ｉ−４５の合成  
【化９３】
2016098793.tif 000096
工程１：化合物４５ｂの合成
水素化ナトリウム（１０７２ｍｇ，２６．８ｍｍｏＬ）をジメチルホルムアミド（３０ｍＬ）に懸濁させ、４−クロロフェノール（３４４５ｍｇ，２６．８ｍｍｏＬ）を氷冷下で加えた。室温に昇温し、１５分撹拌した。氷冷下でエチル ４−クロロピリミジン−５−カルボキシレート（２５００ｍｇ，１４．８４ｍｍｏＬ）を加え、室温に昇温し、終夜で撹拌した。水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製して化合物４５ｂ（２３７ｍｇ，６％）を得た。1H-NMR (CDCl3)δ: 1.42 (J = 7.0 Hz, t, 3H), 4.45 (J = 7.0 Hz, q, 2H), 7.13 (J = 9.0 Hz, d, 2H), 7.41 (J = 8.8 Hz, d, 2H), 8.80 (s, 1H), 9.13 (s, 1H).【０３２８】
工程２：化合物Ｉ−４５の合成
化合物４５ｂ（１００ｍｇ，０．３６ｍｍｏＬ）をテトラヒドロフラン（５ｍL）に溶解させ，ドライアイス−アセトンでー７８℃に冷却した。これにクロロヨードメタン（２５３ｍｇ，１．４４ｍｍｏＬ）、ＬＤＡの２ｍｏＬ/Ｌのテトラヒドロフラン/ヘプタン/エチルベンゼン溶液（Ａｌｄｒｉｃｈ社製）を加え、‐７８℃で３０分撹拌した。酢酸（０．５ｍＬ）を加えた後、水を加え、室温まで昇温した。酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣にエタノール（２ｍＬ）に溶解させ、化合物４５ｃ（２８ｍｇ，０．１８ｍｍｏＬ）を加え６０℃で２時間撹拌した。反応液を濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノールにより精製して化合物Ｉ−４５（１３ｍｇ，９％）を得た．1H-NMR (CDCl3)δ: 1.42 (J = 7.0 Hz, t, 3H), 4.45 (J = 7.0 Hz, q, 2H), 7.13 (J = 9.0 Hz, d, 2H), 7.41 (J = 8.8 Hz, d, 2H), 8.80 (s, 1H), 9.13 (s, 1H).
【実施例４０】
【０３２９】
化合物Ｉ−４６の合成  
【化９４】
2016098793.tif 000097
工程１：化合物４６ｂの合成
エチル  ３−クロロピラジン−２−カルボキシレート（２．０２ｇ，１０．８３ｍｍｏＬ）をジメチルアセトアミド（２０ｍＬ）に溶解させ，４−クロロフェノール（１．５３ｇ，１１．９１ｍｍｏＬ）と炭酸セシウム（７．７６ｇ，２３．８２ｍｍｏＬ）を加え、１００℃で８時間撹拌した。水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製して化合物４６ｂ（６２４ｍｇ，２１％）を得た。1H-NMR (CDCl3)δ: 1.42 (J = 7.0 Hz, t, 3H), 4.45 (J = 7.0 Hz, q, 2H), 7.13 (J = 9.0 Hz, d, 2H), 7.41 (J = 8.8 Hz, d, 2H), 8.80 (s, 1H), 9.13 (s, 1H).【０３３０】
工程２：化合物Ｉ−４６の合成
化合物４６ｂを用いて実施例４５と同様の方法で，化合物Ｉ−４６を合成した．1H-NMR (CDCl3)δ: 1.42 (J = 7.0 Hz, t, 3H), 4.45 (J = 7.0 Hz, q, 2H), 7.13 (J = 9.0 Hz, d, 2H), 7.41 (J = 8.8 Hz, d, 2H), 8.80 (s, 1H), 9.13 (s, 1H).
【実施例４１】
【０３３１】
化合物Ｉ−４７の合成  
【化９５】
2016098793.tif 000098
工程１  化合物４７ｃの合成
化合物４７ａ（４００ｍｇ、２．５３ｍｍｏｌ）と化合物４７ｂ（６２５ｍｇ、２．６５ｍｍｏｌ）をエタノール（４ｍｌ）に懸濁させ、封管１１０℃で１０分間撹拌した。反応液を０℃まで冷却後、濾過しエタノールで洗浄した後、化合物４７ｃ（５７０ｍｇ、収率６０％）を得た。
1H-NMR（DMSO-d6）δ：1.88-1.98 (m, 2H), 3.43-3.52 (m, 4H), 8.23 (s, 1H), 8.31 (d, J = 8.0Hz, 1H), 8.80-8.90 (m, 3H)【０３３２】
工程２：化合物Ｉ−４７の合成
化合物４７ｃ（５０ｍｇ、０．１３３ｍｍｏｌ）、フェニルボロン酸（２４．３ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）、ＰｄＣｌ２（ｄｔｂｐｆ）（８．６７ｍｇ、０．０１３ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１ｍｌ）に懸濁させ、２モル／Ｌ炭酸ナトリウム水溶液（０．２６６ｍｌ、０．５３２ｍｍｏｌ）を加えて、封管１３０℃で３０分間撹拌した。反応溶液に水を加え、クロロホルム―メタノール（９：１）で抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた残渣を逆相分取ＬＣＭＳ（水―アセトニトリル）により精製し、化合物Ｉ−４７（３．８ｍｇ、収率８．５％）を得た。
1H-NMR（CDCl3）δ：1.99-2.08 (m, 2H), 3.46-3.54 (m, 4H), 7.48-7.52 (m, 3H), 7.58-7.64 (m, 2H), 7.72 (s, 1H), 7.81 (s, 1H), 8.50-8.56 (m, 1H), 8.59 (d, J = 8.0Hz, 1H), 8.82 (d, J = 8.0Hz, 1H)
【実施例４２】
【０３３３】
化合物Ｉ−４８の合成  
【化９６】
2016098793.tif 000099
工程１：化合物Ｉ−４８の合成
化合物４８ａ（５０ｍｇ、０．１３ｍｍｏｌ）のＤＭＡ（０．５ｍＬ）溶液に、化合物４８ｂ（５５ｍｇ、０．２６６ｍｍｏｌ）、炭酸セシウム（２１７ｍｇ、０．６６５ｍｍｏｌ）を加えた。１５０℃で５時間撹拌した後に、重曹水を加えた。クロロホルムで抽出し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）により精製し、化合物Ｉ−４８（１５．６ｍｇ、収率３０％）を得た。
1H-NMR (DMSO-D6)δ: 1.83 (m, 2H), 2.90 (t, J = 6.0Hz, 2H), 3.33 (m, 4H), 4.08 (t, J = 6.0Hz, 2H), 4.97 (s, 2H), 7.18-7.22 (m, 2H), 7.65 (s, 1H), 8.23 (s, 2H), 8.33 (d, J = 4.8Hz, 1H), 8.46 (d, J = 4.8Hz, 1H), 8.49 (s, 1H).
【実施例４３】
【０３３４】
化合物Ｉ−５０の合成  
【化９７】
2016098793.tif 000100
工程１：化合物Ｉ−５０の合成
２，４−ジメチルフェノール（６６ｍｇ，０．５４ｍｍｏＬ），化合物５０ａ（８０ｍｇ，０．２７ｍｍｏＬ）をＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（２．６ｍＬ）に溶解させ、炭酸セシウム（３５４ｍｇ，１．０９ｍｍｏＬ）を加えた。封管した後、マイクロウエーブで２００℃に昇温して、１５分間撹拌した。室温まで放冷後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）により精製して化合物Ｉ−５０（１０ｍｇ，１０％）を得た。1H-NMR (DMSO-D6)δ: 1.78-1.87 (2H, m), 2.05 (3H, s), 2.30 (3H, s), 3.30-3.35 (4H, m), 7.00 (1H, d, J = 8.1 Hz), 7.05 (1H, d, J = 8.3 Hz), 7.12 (1H, s), 7.47 (1H, s), 7.71 (1H, d, J = 5.1 Hz), 8.19 (2H, br s), 8.56 (1H, d, J = 5.1 Hz).
【実施例４４】
【０３３５】
化合物Ｉ−５１の合成  
【化９８】
2016098793.tif 000101
工程１：化合物５１ｂの合成
化合物５１ａ（１．５６ｇ、１０．４７ｍｍｏｌ）を２−プロパノール（１６ｍＬ）に溶解した。ＤＩＥＡ（３．６６ｍＬ、２０．９４ｍｍｏｌ）、テトラヒドロイソキノリン（１。４０ｍＬ、１１．０ｍｍｏｌ）を加え室温で８時間撹拌した。水を加え、酢酸エチルで抽出して無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（ヘキサン‐酢酸エチル）により精製して、化合物５１ｂ（２．０９ｇ、収率８１％）を得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 8.07 (1H, d, J = 6.1 Hz), 7.26-7.19 (4H, m), 6.44 (1H, d, J = 6.1 Hz), 4.74 (2H, s), 3.84 (2H, s), 2.97 (2H, t, J = 5.8 Hz).【０３３６】
工程２：化合物Ｉ−５１の合成
化合物５１ｂ（３６０．３ｍｇ、１．４６６ｍｍｏｌ）と１−エトキシビニルトリ−ｎ−ブチルスズ（５４５μｌ、１．６１３ｍｍｏｌ）をトルエン（４ｍＬ）に溶解した。Ｐｄ（ＰＰｈ３）４（１６９ｍｇ、０．１４７ｍｍｏｌ）を加えて窒素置換し、１６０℃で４時間撹拌した。水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。【０３３７】
得られた残渣をテトラヒドロフラン（４ｍＬ）と水（０．４ｍＬ）に溶解し、氷冷下でＮＢＳ（２８７ｍｇ、１．６１５ｍｍｏｌ）を加えた。１時間後に水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。【０３３８】
得られた残渣をエタノール（５ｍＬ）に溶解して化合物５１ｃ（２０９ｍｇ、１．３２２ｍｍｏｌ）を加えた。室温で１時間撹拌した後に、重曹水を加えて中和した。クロロホルムで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。得られた残渣に酢酸エチルを加えて固化し、固体をろ取することで、化合物Ｉ−５１（２６．７ｍｇ、収率５％）を得た。
1H-NMR (DMSO-D6)δ: 8.60 (2H, br s), 8.26 (1H, d, J = 6.0 Hz), 7.48 (1H, s), 7.28-7.19 (4H, m), 6.74 (1H, d, J = 6.1 Hz), 4.83 (2H, br s), 3.91 (2H, br s), 3.38-3.30 (4H, m), 2.93 (2H, t, J = 5.7 Hz), 1.86 (2H, t, J = 5.3 Hz).
【実施例４５】
【０３３９】
化合物Ｉ−５３の合成  
【化９９】
2016098793.tif 000102
工程１：化合物５３ｄの合成
窒素雰囲気下、化合物５３ａ（５．０ｇ、２４．４ｍｍｏｌ）のジエチルエーテル溶液（５０ｍｌ）を氷水で５℃に冷却し、塩化アルミニウム（０．１６３ｇ、１．２２ｍｍｏｌ）を加えた。さらに臭素（３．９０ｇ、２４．４ｍｍｏｌ）を５〜１０℃で滴下し、１０℃で３時間撹拌した。反応液に飽和重曹水を加えて、酢酸エチルで抽出した後、飽和食塩水で洗浄した。溶媒を硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧留去し、粗生成物として化合物５３ｂ（４．７ｇ、６８％）を得た。粗生成物５３ｂ（４．８７ｇ、１７．２ｍｍｏｌ）と化合物５３ｃ（１．１ｇ、６．８６ｍｍｏｌ）をエタノール（１８ｍｌ）に懸濁させ、封管１１０℃で１０分間撹拌した。反応液に飽和重曹水と酢酸エチルを加えて撹拌後、不溶物を濾過した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシルカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物５３ｄ（６００ｍｇ、２６％）を得た。
1H-NMR（DMSO-d6）δ：1.74-1.86 (m, 2H), 3.30-3.38 (m, 4H), 6.94 (s, 1H), 7.66 (d, J = 4.0Hz, 1H), 7.85 (d, J = 4.0Hz, 1H), 8.15-8.23 (br, 2H)【０３４０】
工程２：化合物Ｉ−５３の合成
化合物５３ｄ（３０ｍｇ、０．０８７ｍｍｏｌ）、フェニルボロン酸（１６ｍｇ、０．１３ｍｍｏｌ）、ＰｄＣｌ２（ｄｔｂｐｆ）（５．７ｍｇ、８．７４μｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（０．６ｍｌ）に懸濁させ、２モル／Ｌ炭酸ナトリウム水溶液（０．１３１ｍｌ、０．２６２ｍｍｏｌ）を加えて、封管１３０℃で３０分間撹拌した。反応溶液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシルカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物Ｉ−５３（５．０ｍｇ、１７％）を得た。
1H-NMR（DMSO-d6）δ：1.78-1.88 (m, 2H), 3.32-3.36 (m, 4H), 6.97 (s, 1H), 7.33 (t, J = 8.0Hz, 1H), 7.44 (t, J = 8.0Hz, 2H), 7.70 (d, J = 8.0Hz, 2H), 7.84 (s, 1H), 7.93 (s, 1H), 8.10-8.30 (br, 2H)
【実施例４６】
【０３４１】
化合物Ｉ−５４の合成  
【化１００】
2016098793.tif 000103
工程１  化合物５４ｄの合成
化合物５４ａ（５１４ｍｇ，２．０９ｍｍｏＬ）をクロロホルム（１０ｍＬ）に溶解させ、０℃に冷却した。臭素（０．１１８ｍＬ，２．３０ｍｍｏＬ）を滴下し、昇温して室温で７時間撹拌した。飽和重曹水で中和した後、クロロホルムで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去し、粗生成物として化合物５４ｂ（６９７ｍｇ）を得た。粗生成物５４ｂ（６９７ｍｇ）をエタノール（８ｍＬ）に溶解し、化合物５４ｃ（３０５ｍｇ，１．９３ｍｍｏＬ）を加えた。室温で１．５時間撹拌した後、飽和重曹水、クロロホルムを加えた。沈殿物を濾取し、化合物５４ｄ（２７８ｍｇ，３４％）を得た。1H-NMR (DMSO-D6)δ: 1.77-1.89 (2H, m), 3.30-3.36 (4H, m), 7.14-7.21 (2H, m), 7.61 (1H, d, J = 7.6 Hz), 7.86 (1H, d, J = 7.8 Hz), 8.14 (1H, s), 8.20 (2H, br s).【０３４２】
工程３：化合物Ｉ−５４の合成
化合物５４ｄ（１００ｍｇ，０．２６ｍｍｏＬ），フェニルボロン酸（３８ｍｇ，０．３１ｍｍｏＬ）、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）ジクロリド（１８ｍｇ，０．０２６ｍｍｏＬ）をエタノール（１．５ｍＬ）に溶解させ、２ｍｏＬ／Ｌ炭酸カリウム水溶液（０．２６ｍＬ，０．５２ｍｍｏＬ）を加えた。封管した後、１００℃に昇温して２時間撹拌した。室温まで放冷後、水を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をアミノシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製した。得られた残渣に酢酸エチルを加え、ろ取することによって化合物Ｉ−５４（２１ｍｇ，２４％）を得た。1H-NMR (DMSO-D6)δ: 1.76-1.91 (2H, m), 3.31-3.37 (4H, m), 7.22 (1H, s), 7.39 (1H, t, J = 7.3 Hz), 7.45-7.52 (3H, m), 7.56 (1H, d, J = 7.8 Hz), 7.73 (2H, d, J = 7.4 Hz), 7.84 (1H, d, J = 7.7 Hz), 8.05 (1H, s), 8.30 (2H, br s).
【実施例４７】
【０３４３】
化合物Ｉ−５５の合成  
【化１０１】
2016098793.tif 000104
工程１：化合物５５ｃの合成
化合物５５ａ（３００ｍｇ、１．２２ｍｍｏｌ）、化合物５５ｂ（２１２ｍｇ、１．２２ｍｍｏｌ）のエタノール（４ｍＬ）溶液にジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウム（８６ｍｇ、０．１２ｍｍｏｌ）、２ｍｏｌ／Ｌ炭酸カリウム水溶液（０．９ｍＬ、１．８ｍｍｏｌ）を加えた。１１０℃で４時間撹拌した後に、クロロホルムで抽出した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物５５ｃ（２９４ｍｇ、収率９７％）を得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 2.65 (s, 3H), 2.79 (t, J = 8.0Hz, 2H), 2.98 (t, J = 8.0Hz, 2H), 6.92 (s, 1H), 7.12-7.24 (m, 4H), 7.47 (t, J = 8.0Hz, 1H), 7.74 (d, J = 8.0Hz, 1H), 7.86 (d, J = 8.0Hz, 1H), 8.13 (s, 1H).【０３４４】
工程２：化合物Ｉ−５５の合成
化合物５５ｃ（１７１ｍｇ、０．６９ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１ｍＬ）溶液を−７８℃に冷却し、２．０ｍｏｌ／ＬＬＤＡ（０．３８ｍＬ、０．７６ｍｍｏｌ）を滴下した。３０分後に塩化トリメチルシラン（０．１１ｍＬ、０．９０ｍｍｏｌ）を加えた。３０分撹拌した後に、ＮＢＳ（１２３ｍｇ、０．７０ｍｍｏｌ）と炭酸水素ナトリウム（１１６ｍｇ、１．３８ｍｍｏｌ）を同時に加えた。室温に昇温して１時間撹拌した後に、塩化アンモニウム水溶液を加えた。酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。【０３４５】
得られた残渣をエタノール（３ｍＬ）に溶解し、化合物５５ｄ（８７ｍｇ、０．５５ｍｍｏｌ）を加えた。室温で２時間撹拌した後に、重曹水を加えて中和した。クロロホルムで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去し、得られた残渣を逆相ＨＰＬＣ（１０ｍＭ炭酸アンモニウム含有水−アセトニトリル）により精製し、化合物Ｉ−５５（５４ｍｇ、収率２０％）を得た。1H-NMR (DMSO-D6)δ: 1.84 (m, 2H), 2.75 (t, J = 8.0Hz, 2H), 2.92 (t, J = 8.0Hz, 2H), 3.34 (m, 4H), 7.06 (s, 1H), 7.12-7.24 (m, 5H), 7.41 (t, J = 7.6Hz, 1H), 7.51 (d, J = 7.6Hz, 1H), 7.77 (d, J = 7.6Hz, 1H), 8.01 (s, 1H), 8.31 (s, 2H).
【実施例４８】
【０３４６】
化合物Ｉ−５６の合成  
【化１０２】
2016098793.tif 000105
工程１：化合物５６ｂの合成
化合物５６ａ（１ｇ、８．２９ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（７ｍＬ）溶液を氷冷し、臭素（０．４３ｍＬ、８．２９ｍｍｏｌ）を滴下した。室温にて昇温して１時間撹拌した後、水を加えた。酢酸エチルで抽出し、有機層を重曹水、水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。【０３４７】
得られた残渣をＤＭＦ（７ｍＬ）に溶解し、炭酸カリウム（３．４４ｇ、２４．９ｍｍｏｌ）と４−クロロフェノール（１．０７ｇ、８．２９ｍｍｏｌ）を加えた。６０℃で３時間撹拌し、その後９０℃に昇温して３時間撹拌した。水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製することで、化合物５６ｂ（８９７ｍｇ、収率５１％）を得た。1H-NMR (CDCl3)δ: 1.26-1.32 (m, 2H), 1.60-1.66 (m, 2H), 2.24 (s, 3H), 6.84 (d, J = 8.8Hz, 2H), 7.25 (d, J = 8.8Hz, 2H).【０３４８】
工程２：化合物５６ｃの合成
化合物５６ｂ（１１０ｍｇ、０．５２ｍｍｏｌ）のエタノール（１ｍＬ）溶液を氷冷し、臭素（０．０２７ｍＬ、０．５２ｍｍｏｌ）のエタノール（１ｍＬ）溶液を滴下した。室温で１時間撹拌した後に、水を加えた。酢酸エチルで抽出し、有機層を重曹水、水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去することで、化合物５６ｃ（１４０ｍｇ）を得た。得られた化合物５６ｃは精製せず、そのまま次工程に用いた。1H-NMR (CDCl3)δ: 1.38-1.43 (m, 2H), 1.71-1.77 (m, 2H), 4.18 (s, 2H), 6.85 (m, 2H), 7.27 (m, 2H).【０３４９】
工程３：化合物Ｉ−５６の合成
化合物５６ｃ（１４０ｍｇ、０．４８ｍｍｏｌ）のエタノール（１．５ｍＬ）溶液に化合物５６ｄ（７０ｍｇ、０．４４ｍｍｏｌ）を加えた。室温で６時間撹拌した後に、重曹水を加えて中和した。クロロホルムで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）により精製し、化合物Ｉ−５６（１１０ｍｇ、収率６１％）を得た。1H-NMR (DMSO-D6)δ: 1.17-1.23 (m, 2H), 1.39-1.45 (m, 2H), 1.77 (m, 2H), 3.23 (m, 4H), 6.15 (s, 1H), 6.97 (d, J = 8.8Hz, 2H), 7.30 (d, J = 8.8z, 2H), 8.03 (s, 2H).
【実施例４９】
【０３５０】
化合物Ｉ−５７の合成  
【化１０３】
2016098793.tif 000106
工程１：化合物５７ｂの合成
化合物５７ａ（４．５ｇ、８．２２．８ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（４０ｍＬ）溶液に、４−クロロフェノール（２．９４ｇ、２２．８ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（９．４７ｇ、６８．５ｍｍｏｌ）を順次加えた。８０℃で３時間撹拌した後、水を加えた。酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製して、化合物５７ｂ（３．８１ｇ、収率７８％）を得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 3.83 (s, 3H), 4.95 (m, 1H), 5.75 (m, 1H), 6.97 (d, J = 6.8Hz, 2H), 7.31 (d, J = 6.8Hz, 2H).【０３５１】
工程２：化合物Ｉ−５７の合成
化合物５７ｂ（１ｇ、４．７ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（３０ｍＬ）溶液にクロロヨードメタン（１．７ｍＬ、２３．５ｍｍｏｌ）を加えて−７８℃に冷却した。０．５ｍｏｌ／ＬＬＤＡ（５６．４ｍＬ、２８．２ｍｍｏｌ）を３０分かけて滴下した後、さらに１時間撹拌した。酢酸（１．７ｍＬ、２９．７ｍｍｏｌ）を加え、室温に昇温した。室温で３０分撹拌した後、水を加えた。酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。【０３５２】
得られた残渣をエタノール（２０ｍＬ）に溶解して化合物５７ｃ（７４４ｍｇ、４．７ｍｍｏｌ）を加えた。４５℃で２時間撹拌した後に、重曹水を加えた。クロロホルムで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）により精製し、化合物Ｉ−５７（７９７ｍｇ、収率５０％）を得た。
1H-NMR (DMSO-D6)δ: 1.92 (m, 2H), 3.45 (m, 4H), 4.66 (s, 1H), 5.73 (s, 1H), 7.13 (d, J = 7.2 Hz, 2H), 7.33 (s, 1H), 7.46 (d, J = 7.1 Hz, 2H), 8.85 (s, 2H).
【実施例５０】
【０３５３】
化合物Ｉ−５８の合成  
【化１０４】
2016098793.tif 000107
工程１：化合物５８ｂの合成
化合物５８ａ（５００ｍｇ、１．９３ｍｍｏＬ）のＤＭＦ（１０ｍＬ）溶液に、氷冷下で二硫化炭素（０．２９１ｍＬ，４．８２ｍｍｏＬ）と水素化ナトリウム（１９３ｍｇ，４．８２ｍｍｏＬ）を加え，氷冷下で10分間撹拌した。反応液に氷冷下でヨードメタン（０．６０ｍＬ、９．６４ｍｍｏｌ）を加え、氷冷下で１時間撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥して溶媒を減圧留去し、粗生成物として化合物５８ｂ（３５５ｍｇ）を得た。【０３５４】
工程２：化合物Ｉ−５８の合成
粗生成物５８ｂ（１００ｍｇ、０．２８ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（３０ｍＬ）溶液にシクロヘキサン−１，３−ジアミン（１５７ｍｇ、１．３８ｍｍｏｌ）を加え85℃で１２時間撹拌した。室温に放冷後，水を加え，酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）により精製し、化合物Ｉ−５８（４８ｍｇ、収率４６％）を得た。
ＬＣＭＳ（測定条件Ａ）：保持時間：１．６１分、［Ｍ＋Ｈ］＋：３８２
【実施例５１】
【０３５５】
化合物Ｉ−８２９の合成  
【化１０５】
2016098793.tif 000108
工程１  化合物８２９ｂの合成
化合物８２９ａ（４.１８ｇ、３０．５ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（８５ｍＬ）に溶解させ、窒素気流下氷冷し、水素化ナトリウム（１．４２ｇ、３６．６ｍｍｏｌ）を加え室温にて１０分攪拌後、２，４−ジブロモチアゾールを加え室温にて一時間攪拌した。反応液を飽和塩化アンモニウム水溶液中に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）により精製し、化合物８２９ｂ(８．３８ｇ、９２％)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 2.54 (s, 3H), 2.59 (s, 3H), 5.44 (s, 2H), 6.62 (s, 1H), 7.02 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 7.59 (d, J = 7.8 Hz, 1H).【０３５６】
工程２  化合物８２９ｃの合成
化合物８２９ｂを用いて実施例２３の工程２および３と同じ方法で化合物８２９ｃ(７．１３ｇ、７５％)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 2.54 (s, 3H), 2.63 (s, 3H), 4.51 (s, 2H), 5.50 (s, 2H), 7.03 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 7.63 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 7.72 (s, 1H).【０３５７】
工程３  化合物Ｉ−８２９の合成
化合物８２９ｃを用いて実施例２３の工程４と同じ方法で化合物１−８２９(７．２７ｇ、８７％)を得た。
1H-NMR (DMSO-D6) δ: 1.79-1.84 (m, 2H), 2.43 (s, 3H), 3.32-3.40 (m, 4H), 5.50 (s, 2H), 6.87 (s, 1H), 7.11 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 7.38 (s, 1H), 7.76 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 8.22 (s, 2H).
【実施例５２】
【０３５８】
化合物Ｉ−８３０の合成  
【化１０６】
2016098793.tif 000109
化合物Ｉ−８３０の合成
化合物８３０ａ（１００ｍｇ、０．２３５ｍｍｏｌ）をＤＭＡ（３ｍＬ）に懸濁させ、３−ヒドロキシ−２−メチルピリジン（３８．５ｍｇ、０．３５３ｍｍｏｌ）、炭酸セシウム(２３０ｍｇ、０．７０６ｍｍｏｌ）を加え、１２０℃にて７時間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（クロロホルム―メタノール）により精製し、化合物Ｉ−８３０(５５．３ｍｇ、６３％)を得た。
1H-NMR (DMSO-D6) δ: 1.79-1.84 (m, 2H), 2.44 (s, 3H), 3.32-3.35 (m, 4H), 6.75 (s, 1H), 7.39 (dd, J = 7.8, 4.0 Hz, 1H), 7.54 (s, 1H), 7.87 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 8.21 (s, 2H), 8.44 (d, J = 4.0 Hz, 1H).
【実施例５３】
【０３５９】
化合物Ｉ−８３１の合成  
【化１０７】
2016098793.tif 000110
化合物Ｉ−８３１の合成
化合物８３１ａ（１００ｍｇ、０．２３５ｍｍｏｌ）をＤＭＡ（３ｍＬ）に懸濁させ、１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリン−７−カルボニトリル（５５．８ｍｇ、０．３５３ｍｍｏｌ）、炭酸セシウム(２３０ｍｇ、０．７０６ｍｍｏｌ）を加え、１２０℃にて１２時間攪拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（クロロホルム―メタノール）により精製し、化合物Ｉ−８３１(４．６ｍｇ、４．６％)を得た。
1H-NMR (DMSO-D6) δ: 1.79-1.84 (m, 2H), 3.05 (t, J = 5.8 Hz, 2H), 3.34-3.36 (m, 4H), 3.78 (t, J = 5.8 Hz, 2H), 4.70 (s, 2H), 6.83 (s, 1H), 7.22 (s, 1H), 7.44 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 7.67 (dd, J = 7.8, 1.6 Hz, 1H), 7.81 (d, J = 1.6 Hz, 1H), 8.23 (s, 2H).
【実施例５４】
【０３６０】
化合物Ｉ−８３２の合成
【化１０８】
2016098793.tif 000111
工程１  化合物８３２ｂの合成
化合物８３２ａ（３ｇ、１４．８５ｍｍｏｌ）に、ＤＭＦ（３０ｍＬ）、Ｎ，Ｏ−ジメチルヒドロキシアミン塩酸塩（１．５９ｇ、１６．３４ｍｍｏｌ）、ＨＡＴＵ（６．７８ｇ、１７．８２ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（５．１５ｍＬ、３７．１ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）により精製し、化合物８３２ｂ(３．３５ｇ、９２％)を得た。
1H-NMR（CDCl3）δ：3.37 (s, 3H), 3.81 (s, 3H), 7.55-7.67 (m, 3H).【０３６１】
工程２  化合物８３２ｃの合成
３−ブロモ−２−メチルピリジン（４９１ｍｇ、２．８６ｍｍｏｌ）をトルエン（５ｍＬ）に溶解して−７０℃に冷却し、１．６ｍｏｌ／Ｌのｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（１．５３ｍＬ、２．４５ｍｍｏｌ）を加えて２０分撹拌した。続いて化合物２（５００ｍｇ、２．０４ｍｍｏｌ）をトルエン（５ｍＬ）に溶解して滴下した、１時間撹拌した。反応液に塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）により精製し、化合物８３２ｃ(３２８ｍｇ、５８％)を得た。
1H-NMR（CDCl3）δ: 2.60 (s, 3H), 7.24 (m, 1H), 7.70 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.79 (t, J = 8.0 Hz, 1H), 7.84 (dd, 8.0, 1.2 Hz, 1H), 8.11 (d, J = 7.2 Hz, 1H), 8.64 (t, J = 4.8, 1.2 Hz, 1H).【０３６２】
工程３  化合物Ｉ−８３２の合成
化合物８３２ｃおよび化合物８ｄを用いて実施例８の工程３と同じ方法で化合物１−８３２(１２６ｍｇ、４４％)を得た。
1H-NMR (DMSO-D6) δ: 1.83 (m, 2H), 2.45 (s, 3H), 3.32 (m, 4H), 6.95 (s, 1H), 7.39 (dd, J = 7.6, 4.8 Hz, 1H), 7.95 (dd, J = 7.6, 2.0 Hz, 1H), 8.01 (d, J = 7.6 Hz, 1H), 8.12 (t, J = 7.6 Hz, 1H), 8.18-8.25 (m, 3H), 8.63 (dd, J = 4.8, 1.6 Hz, 1H).
【実施例５５】
【０３６３】
化合物Ｉ−８３３の合成  
【化１０９】
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工程１  化合物Ｉ−８３３の合成
化合物８３３ａ（３０ｍｇ、０．０７９ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１ｍＬ）に懸濁して、ＴＦＡ（０．５ｍＬ）、亜鉛（２６ｍｇ、０．３９６ｍｍｏｌ）を加え、室温で３時間撹拌した。炭酸水素ナトリウム水溶液を加えてクロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（クロロホルム―メタノール）により精製し、化合物１−８３３(２１ｍｇ、７１％)を得た。
1H- NMR (DMSO-D6) δ: 1.91 (m, 2H), 2.62 (s, 3H), 3.44 (m, 4H), 5.97 (d, J = 4.0 Hz, 1H), 6.27 (d, J = 4.0 Hz, 1H), 7.25 (m, 1H), 7.51 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 7.62 (s, 1H), 7.81-7.92 (m, 2H), 7.99 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 8.33 (d, J = 4.0 Hz, 1H), 8.77 (s, 2H).
(m, 3H), 8.63 (dd, J = 4.8, 1.6 Hz, 1H).
【実施例５６】
【０３６４】
化合物Ｉ−８３４の合成  
【化１１０】
2016098793.tif 000113
工程１  化合物Ｉ−８３４の合成
３−ブロモ−２−メチルピリジン（４５ｍｇ、０．２６ｍｍｏｌ）、ビスピナコラートジボラン（７３ｍｇ、０．２８６ｍｍｏｌ）、ＰｄＣｌ２（ｄｐｐｆ）（１９ｍｇ、０．０２４ｍｍｏｌ）、酢酸カリウム（４７ｍｇ、０．４７７ｍｍｏｌ）、ジオキサン（１ｍＬ）を１３０℃で１時間撹拌した。室温まで放冷して、テトラヒドロフラン（１．５ｍＬ）、化合物８３４ａ（１００ｍｇ、０．２３９ｍｍｏｌ）、ＰｄＣｌ２（ｄｐｐｆ）（１９ｍｇ、０．０２４ｍｍｏｌ）、２ｍｏｌ／Ｌ炭酸カリウム水溶液（０．５ｍＬ、１．０ｍｍｏｌ）を加え、１３０℃で１時間撹拌した。水を加えてクロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（クロロホルム―メタノール）により精製し、化合物１−８３４(２８ｍｇ、３４％)を得た。
1H-NMR (DMSO-D6) δ: 1.86 (s, 2H), 2.60 (s, 3H), 3.36 (m, 4H), 7.36 (dd, J = 8.0, 4.8 Hz, 1H), 7.39 (s, 1H), 7.49 (m, 1H), 7.87 (dd, J = 8.0, 1.2 Hz, 1H), 7.92-7.99 (m, 2H), 8.31 (s, 2H), 8.52 (d, J = 4.0 Hz, 1H).
【実施例５７】
【０３６５】
化合物Ｉ−８３５の合成
【化１１１】
2016098793.tif 000114
工程１  化合物８３５ｃの合成
化合物８３５ａ（５００ｍｇ、４．１３ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）溶液に、亜鉛（３５１ｍｇ、５．３７ｍｍｏｌ）を加えた。次いで化合物８３５ｂ（１ｇ、４．９５ｍｍｏｌ）を滴下した後に３時間加熱還流した。室温に放冷して酢酸エチルと塩化アンモニウム水溶液を加えた。不要物をセライトで除去し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製することで、化合物８３５ｃ（６５２．１ｍｇ、収率６４％）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.34 (3H, t, J = 7.2 Hz), 4.36 (2H, q, J = 7.2 Hz), 5.48 (1H, dd, J = 17.3, 5.2 Hz), 7.21 (1H, dd, J = 7.9, 4.9 Hz), 7.95 (1H, d, J = 7.9 Hz), 8.41 (1H, d, J = 4.5 Hz).【０３６６】
工程２  化合物８３５ｅの合成
化合物８３５ｃ（１００ｍｇ、０．４１ｍｍｏｌ）を１，２−ジクロロエタン（１ｍＬ）に溶解し、ＤＭＡＰ（５．０ｍｇ、０．０４１ｍｍｏｌ）、化合物８３５ｄ（１４５ｍｇ、０．８２ｍｍｏｌ）を加えた。室温で１時間撹拌した後に溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製することで、化合物８３５ｅ（１０８．０ｍｇ、収率７５％）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.29 (3H, t, J = 7.2 Hz), 2.80 (3H, s), 4.36 (2H, t, J = 7.8 Hz), 6.99 (1H, dd, J = 16.9, 5.3 Hz), 7.09 (1H, s), 7.21 (1H, dd, J = 7.6, 4.8 Hz), 7.64 (1H, s), 7.70 (1H, d, J = 7.8 Hz), 8.36 (1H, s), 8.57 (1H, d, J = 4.5 Hz).【０３６７】
工程３  化合物８３５ｆの合成
トリｎ−ブチルスズ（１７７ｍｇ、０．６０８ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（２ｍＬ）を８０℃に加熱し、化合物８３５ｅ（１０８ｍｇ、０．３０４ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（１ｍＬ）を滴下した後に３時間加熱還流した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製することで、化合物８３５ｆ（１５．８ｍｇ、収率２３％）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.30 (3H, t, J = 7.1 Hz), 2.60 (3H, s), 3.42 (2H, t, J = 16.8 Hz), 4.30 (2H, q, J = 7.2 Hz), 7.10-7.12 (1H, m), 7.53 (1H, d, J = 7.6 Hz), 8.45 (1H, d, J = 4.8 Hz).【０３６８】
工程４  化合物８３５ｇの合成
化合物８３５ｆ（１５．８ｍｇ、０．０６９ｍｍｏｌ）を７ｍｏｌ／Ｌのアンモニア−メタノール溶液（２ｍＬ）に溶解した。室温で２時間撹拌した後に溶媒を減圧留去し、化合物８３５ｇ（１４．０ｍｇ）を粗生成物として得た。【０３６９】
工程５  化合物８３５ｈの合成
化合物８３５ｇ（１４．０ｍｇ）のトルエン（２ｍＬ）溶液にローソン試薬（３３．５ｍｇ、０．０８３ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で終夜撹拌した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製して化合物８３５ｈ（９．９ｍｇ，収率６６％）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 2.63 (3H, s), 3.67 (2H, t, J = 16.6 Hz), 7.11 (1H, dd, J = 7.7, 4.7 Hz), 7.43 (2H, br), 7.61 (1H, d, J = 7.7 Hz), 8.46 (1H, d, J = 4.8 Hz).【０３７０】
工程６  化合物Ｉ−８３５の合成
化合物８３５ｈ（９．９ｍｇ、０．０４６ｍｍｏｌ）と化合物８３５ｉ（１９．３ｍｇ、０．０５ｍｍｏｌ）をエタノール（０．２ｍＬ）に懸濁させた。５時間加熱還流した後に室温に放冷した。重曹水を加えてクロロホルムで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）により精製することで、化合物Ｉ−８３５（６．１ｍｇ、収率３２％）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 2.00-2.03 (2H, m), 2.61 (3H, s), 3.46-3.49 (4H, m), 3.82 (2H, t, J = 16.3 Hz), 7.06 (1H, dd, J = 6.3, 3.1 Hz), 7.15 (1H, s), 7.53 (1H, d, J = 8.5 Hz), 7.56 (1H, s), 8.42 (1H, dd, J = 4.8, 2.4 Hz).
【実施例５８】
【０３７１】
化合物Ｉ−８３６の合成
【化１１２】
2016098793.tif 000115
工程１  化合物８３６ｂの合成
化合物８３６ａ（２００ｍｇ、１．６２ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（３ｍＬ）溶液に、氷冷下、水素化ナトリウム（１９５ｍｇ、４．８７ｍｍｏｌ）を加えた。１０分撹拌した後、ブロモ酢酸エチル（３２５ｍｇ、１．９５ｍｍｏｌ）を滴下した。室温に昇温し、終夜撹拌した。水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製して、化合物８３６ｂ（１４５．５ｍｇ、収率４３％）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.30 (3H, t, J = 7.2 Hz), 2.58 (3H, s), 4.16 (2H, s), 4.25 (2H, q, J = 7.2 Hz), 4.64 (2H, s), 7.14 (1H, dd, J = 7.5, 4.9 Hz), 7.68 (1H, dd, J = 7.8, 1.6 Hz), 8.44 (1H, dd, J = 4.9, 1.6 Hz).【０３７２】
工程２  化合物８３６ｃの合成
化合物８３６ｂを用いて、実施例５７の工程４と同様の方法で化合物３を粗生成物として得た。【０３７３】
工程３  化合物８３６ｄの合成
化合物８３６ｃ（１２６．０ｍｇ、０．６９５ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（４ｍＬ）溶液にローソン試薬（３０９ｍｇ、０．７６５ｍｍｏｌ）を加えた。室温で５時間撹拌した後に重曹水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製して化合物８３６ｄ（５８．２ｍｇ，収率４３％）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 2.57 (3H, s), 4.40 (2H, s), 4.62 (2H, s), 7.16 (1H, dd, J = 7.7, 4.9 Hz), 7.58-7.60 (2H, m), 7.94 (1H, brs), 8.49 (1H, d, J = 3.4 Hz).【０３７４】
工程４  化合物Ｉ−８３６の合成
化合物４を用いて、実施例５７の工程６と同様の方法で化合物Ｉ−８３６（２５．１ｍｇ、収率６２％）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 2.01-2.02 (2H, m), 2.57 (3H, s), 3.46-3.48 (4H, m), 4.69 (2H, s), 4.91 (2H, s), 7.05 (1H, s), 7.15 (1H, dd, J = 7.5, 4.9 Hz), 7.48 (1H, s), 7.69 (1H, dd, J = 7.7, 1.4 Hz), 8.45 (1H, dd, J = 5.0, 1.8 Hz).
【実施例５９】
【０３７５】
化合物Ｉ−８３７の合成
【化１１３】
2016098793.tif 000116
工程１  化合物８３７ｃの合成
化合物８３７ａおよび化合物８３７ｂを用いて、実施例５７の工程１と同様の方法で化合物８３７ｃ（８９２．３ｍｇ、収率７０％）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.46 (3H, t, J = 7.2 Hz), 2.00-2.01 (2H, m), 3.46-3.49 (4H, m), 4.50 (2H, q, J = 7.1 Hz), 7.26 (1H, s), 7.73 (1H, s).【０３７６】
工程２  化合物８３７ｄの合成
水素化アルミニウムリチウム（１２４ｍｇ、３．２６ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）に懸濁した。氷冷下、化合物８３７ｃ（５００ｍｇ、１．４８ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１５ｍＬ）溶液を滴下した。室温に昇温し、１時間撹拌した。氷冷下、硫酸ナトリウム十水和物（５ｇ）を加え、２０分撹拌した。不溶物をセライトで除去した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）により精製して、化合物８３７ｄ（１６４．１ｍｇ、収率３８％）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.99-2.01 (2H, m), 3.45-3.47 (4H, m), 4.98 (2H, s), 7.04 (1H, s), 7.45 (1H, s).【０３７７】
工程３  化合物８３７ｅの合成
化合物８３７ｄ（５０ｍｇ、０．１６９ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（２ｍＬ）溶液に、氷冷下でトリエチルアミン（５１．４ｍｇ、０．５０８ｍｍｏｌ）とメタンスルホニルクロライド（２９．１ｍｇ、０．２５４ｍｍｏｌ）を加えた。室温で２時間撹拌した後に水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去することで化合物８３７ｅ（３８ｍｇ）を得た。化合物８３７ｅは精製することなく次工程へ用いた。【０３７８】
工程４  化合物Ｉ−８３７の合成
化合物８３７ｅ（３８ｍｇ）のＤＭＦ（２ｍＬ）溶液に、炭酸カリウム（２３．３ｍｇ、０．１６８ｍｍｏｌ）と２−メチルピリジン−３−オール（１１．０ｍｇ、０．１０１ｍｍｏｌ）を加えた。１００℃で３時間加熱した後に室温に放冷した。重曹水を加えてクロロホルムで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）により精製することで、化合物Ｉ−８３７（８．０ｍｇ、収率２５％）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 2.00-2.02 (2H, m), 2.58 (3H, s), 3.46-3.48 (4H, m), 5.41 (2H, s), 7.09-7.10 (2H, m), 7.19 (1H, d, J = 7.9 Hz), 7.50 (1H, s), 8.14 (1H, d, J = 4.9 Hz).
【実施例６０】
【０３７９】
化合物Ｉ−８３８の合成
【化１１４】
2016098793.tif 000117
工程１  化合物８３８ｃの合成
化合物８３８ａおよび化合物８３８ｂを用いて、実施例５７の工程６と同様の方法で化合物８３８ｃ（８９２．３ｍｇ、収率７０％）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.46 (3H, t, J = 7.2 Hz), 2.00-2.01 (2H, m), 3.46-3.49 (4H, m), 4.50 (2H, q, J = 7.1 Hz), 7.26 (1H, s), 7.73 (1H, s).【０３８０】
工程２  化合物８３８ｄの合成
化合物８３８ｃ（１００ｍｇ、０．２９６ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（３ｍＬ）、エタノール（３ｍL）に溶解した後、２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（５ｍＬ，１０．０ｍｍｏｌ）を加えた。室温で３時間撹拌した後、有機溶媒を減圧留去した。残渣に２ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加え、ｐＨ＝２とした。得られた固体をろ取し、冷水で洗浄後、減圧乾燥し、化合物８３８ｄ（８０ｍｇ、収率８７％）を得た。
1H-NMR (DMSO-D6) δ: 1.92-1.95 (2H, m), 3.45-3.48 (4H, m), 7.62 (1H, s), 8.68 (1H, s), 8.89 (2H, s).【０３８１】
工程３  化合物Ｉ−８３８の合成
化合物８３８ｄ（８．３ｍｇ、０．０２７ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（１ｍＬ）溶液に、トリエチルアミン（２．７ｍｇ、０．０２７ｍｍｏｌ）とＨＡＴＵ（１０．２ｍｇ，０．０２７ｍｍｏｌ）を加えた。室温で２時間撹拌した後に水を加えてクロロホルムで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）により精製して化合物Ｉ−８３８（７．７ｍｇ、収率６７％）を得た。
ＬＣＭＳ (測定条件Ａ); 保持時間：０．８０ 分、 ［Ｍ＋Ｈ］＋：４２８
【実施例６１】
【０３８２】
化合物Ｉ−８３９の合成
【化１１５】
2016098793.tif 000118
工程１  化合物８３９ｂの合成
化合物８３９ａ（１ｇ、８．１２ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２５ｍＬ）溶液に、氷冷下でトリエチルアミン（２．４７ｇ、２４．４ｍｍｏｌ）とメタンスルホニルクロライド（１．４０ｍｇ、１２．２ｍｍｏｌ）を加えた。室温で１時間撹拌した後に水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去することで化合物８３９ｂ（１．６ｇ）を得た。化合物８３９ｂは精製することなく次工程へ用いた。【０３８３】
工程２  化合物８３９ｃの合成
化合物８３９ｂ（１．６ｇ）のエタノール（１０ｍＬ）溶液に、メチルアミン（３３％エタノール溶液、１０ｍＬ）を加え、室温で終夜撹拌した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をアミノシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）により精製することで、化合物８３９ｃ（７３５．８ｍｇ、収率６７％）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 2.50 (3H, s), 2.57 (3H, s), 3.74 (2H, s), 7.10-7.11 (1H, m), 7.60 (1H, d, J = 7.6 Hz), 8.39 (1H, d, J = 4.8 Hz).【０３８４】
工程３  化合物８３９ｄの合成
化合物８３９ｃ（１００ｍｇ、０．７３４ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（５ｍＬ）溶液に、トリエチルアミン（２６０ｍｇ、２．５７ｍｍｏｌ）とブロモアセトアミド（１１１ｍｇ、０．８０８ｍｍｏｌ）を加えた。室温で２時間撹拌した後に溶媒を減圧留去し、得られた残渣を酢酸エチル（３ｍＬ）に懸濁した。不要物をろ去し、ろ液を減圧濃縮することで化合物８３９ｄ（９８．１ｍｇ）を得た。化合物８３９ｄは精製することなく次工程へ用いた。【０３８５】
工程４  化合物８３９ｅの合成
化合物８３９ｄおよび化合物８３９ｆを用いて、実施例５８の工程３と同様の方法で化合物８３９ｅ（１９ｍｇ、収率１８％）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 2.31 (3H, s), 2.60 (3H, s), 3.50 (2H, s), 3.60 (2H, s), 7.13 (1H, dd, J = 7.4, 4.5 Hz), 7.53 (1H, d, J = 7.5 Hz), 7.63 (1H, brs), 7.83 (1H, brs), 8.44-8.46 (2H, m).【０３８６】
工程５  化合物Ｉ−８３９の合成
化合物８３９ｅおよび化合物８３９ｆを用いて、実施例５７の工程６と同様の方法で化合物Ｉ−８３９（１２．２ｍｇ、収率３３％）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.99-2.01 (2H, m), 2.35 (3H, s), 2.62 (3H, s), 3.44-3.47 (4H, m), 3.66 (2H, s), 3.93 (2H, s), 7.04 (1H, s), 7.12 (1H, dd, J = 7.3, 5.1 Hz), 7.42 (1H, s), 7.69 (1H, d, J = 7.6 Hz), 8.41 (1H, d, J = 4.5 Hz).
【実施例６２】
【０３８７】
化合物Ｉ−８４０の合成
【化１１６】
2016098793.tif 000119
工程１  化合物８４０ｂの合成
化合物８４０ａ（１８ｇ、１１４ｍｍｏｌ）に、ジメチルアセタミド（１８０ｍＬ）、フェノール（１２．９ｇ、１３７ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム(３１．６ｇ、２２８ｍｍｏｌ）およびヨウ化銅（Ｉ）（１．７４ｇ、９．１４ｍｍｏｌ）を加え、１７０度で３時間加熱撹拌した。室温に冷却後、反応液に水（９０ｍｌ）、４ｍｏｌ／Ｌ塩酸水溶液（９０ｍｌ）を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）により精製し、化合物８４０ｂ(１７ｇ、６９％)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 7.15-7.22 (m, 3H), 7.31 (t, J = 7.3 Hz, 1H), 7.44-7.50 (m, 2H), 8.32 (dd, J = 4.8, 1.9 Hz, 1H), 8.53 (d, J = 7.5 Hz, 1H).【０３８８】
工程２  化合物８４０ｃの合成
化合物８４０ｂ（２７ｇ、１２５ｍｍｏｌ）に、塩化チオニル（２９．８ｇ、２５１ｍｍｏｌ）およびＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（０．５ｍｌ）を加え９０度で２時間撹拌した。室温に放冷後、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をテトラヒドロフラン（２００ｍｌ）に溶解させ、氷冷下で２ｍｏｌ／Ｌトリメチルシリルジアゾメタンのヘキサン溶液（１３８ｍｌ、２７６ｍｍｏｌ）を滴下し、０度で５０分撹拌した。４７％臭化水素水溶液（３６．２ｍｌ）を０度で滴下し、０度でさらに５０分撹拌した。水（３００ｍｌ）を加えた後、２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液によってｐＨを７に調整した。酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をエタノール（２００ｍｌ）に溶解させ、チオウレア（９．５５ｇ、１２５ｍｍｏｌ）加え、室温で３時間撹拌した。重曹水を加えてクロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（クロロホルム―メタノール）により精製し、化合物８４０ｃ(１９．３ｇ、５７％)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 4.95 (s, 2H), 7.07 (dd, J = 7.5, 4.9 Hz, 1H), 7.16-7.23 (m, 3H), 7.39-45 (m, 3H), 8.04 (dd, J = 4.7, 1.7 Hz, 1H), 8.49 (dd, J = 7.6, 1.6 Hz, 1H).【０３８９】
工程３  化合物８４０ｄの合成
化合物８４０ｃ（５００ｍｇ、１．８６ｍｍｏｌ）をＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（１０ｍｌ）に溶解させ、窒素雰囲気下、二硫化炭素（０．２８ｍｌ、４．６５ｍｍｏｌ）および水素化ナトリウム（１９０ｍｇ、４．６５ｍｍｏｌ）を０度で加え、０度で２０分間撹拌した。ヨウ化メチル（０．５８ｍｌ、９．３ｍｍｏｌ）を０度で加え、さらに０度で１時間撹拌した。水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）により精製し、化合物８４０ｄ(３００ｍｇ、４３％)を得た。
1H NMR (DMSO-d6): δ2.63 (s, 6H), 7.21−7.28 (m, 4H), 7.45(t, 2 H, J=7.8 Hz), 8.06−8.08(m, 2H), 8.53−8.55(m, 1H).【０３９０】
工程４  化合物Ｉ−８４０の合成
化合物８４０ｄ（１０１ｍｇ、０．２７ｍｍｏｌ）をＮ、Ｎ−ジメチルアセトアミド（１ｍｌ）に溶解させ、１−（アミノメチル）シクロブタンアミン二塩酸塩（２３０ｍｇ、１．３３ｍｍｏｌ）およびトリエチルアミン（０．７５ｍｌ、５．４２ｍｍｏｌ）を加え１００度で６時間撹拌した。室温に放冷後、水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（クロロホルム―メタノール）により精製し、化合物Ｉ−８４０(７４ｍｇ、７３％)を得た。
1H-NMR (DMSO-D6) δ: 1.62-1.68 (m, 2H), 2.07-2.16 (m, 2H), 2.20-2.31 (m, 2H), 3.68 (s, 2H), 7.24-7.45 (m, 4H), 7.39-7.46 (m, 3H), 7.82 (s, 1H), 7.93 (s, 1H), 8.00-8.04 (m, 1H), 8.61 (d, J = 7.5 Hz, 1H).
【実施例６３】
【０３９１】
化合物Ｉ−８４１の合成
【化１１７】
2016098793.tif 000120
工程１：  
化合物８４１ａ（１ｇ、２．３５ｍｍｏｌ）にテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）、Ｂｏｃ２Ｏ（２．０５ｇ、９．４１ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（９５２ｍｇ、９．４１ｍｍｏｌ）およびＤＭＡＰ（２８７ｍｇ、２．３５ｍｍｏｌ）を加え、室温で終夜撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）により精製し、化合物８４１ｂ(１１９３ｍｇ、９３％)を得た。ＬＣＭＳ (測定条件Ａ); 保持時間：２．７９ 分、 ［Ｍ＋Ｈ］＋：５４４【０３９２】
工程２：  
化合物８４１ｂ（３２７ｍｇ、０．６ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）に溶解させ、イソプロピルマグネシウムクロリド−塩化リチウム錯体のテトラヒドロフラン溶液（０．６９ｍｌ、０．９ｍｍｏｌ）を−３０度で加え、−３０度で１時間撹拌した。２−メチル−３−ホルミルピリジン（１６０ｍｇ、１．３２ｍｍｏｌ）を−３０度で加え、室温まで昇温し、１時間撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）により精製し、化合物８４１ｃ(９５ｍｇ、２７％)を得た。ＬＣＭＳ (測定条件Ａ); 保持時間：１．７１ 分、 ［Ｍ＋Ｈ］＋：５８７【０３９３】
工程３：  
化合物８４１ｃ（９０ｍｇ、０．１５ｍｍｏｌ）をトリフルオロ酢酸（５ｍＬ）に溶解させ、室温で２時間撹拌した。溶媒を減圧留去し、重曹水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（クロロホルム―メタノール）により精製し、化合物８４１ｄ(４８ｍｇ、８１％)を得た。ＬＣＭＳ (測定条件Ａ); 保持時間：０．６５ 分、 ［Ｍ＋Ｈ］＋：３８７【０３９４】
工程４：  
化合物８４１ｄ（３６ｍｇ、０．０９３ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（５ｍＬ）に溶解させ、二酸化マンガン（８１ｍｇ、０．９３ｍｍｏｌ）を加え、６５度で６時間撹拌した。不溶物をセライトろ過によって除去し、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（クロロホルム―メタノール）により精製し、化合物Ｉ−８４１(１２ｍｇ、３４％)を得た。
1H-NMR (DMSO-D6) δ: 1.76-1.78 (m, 2H), 2.58 (s, 3H), 3.28-3.35 (m, 4H), 6.95 (s, 1H), 7.44 (dd, J = 7.7, 4.9 Hz, 1H), 8.23 (s, 2H), 8.31-8.36 (m, 1H), 8.60 (s, 1H), 8.67 (d, J = 4.8 Hz, 1H).
【実施例６４】
【０３９５】
化合物Ｉ−８４２の合成
【化１１８】
2016098793.tif 000121
工程１：化合物８４２ｂの合成  
化合物８４２ａ（１００ｍｇ、０．６４ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（１ｍＬ）溶液に、１−ブロモ−２−メトキシエタン（１０７ｍｇ、０．７７ｍｍｏｌ）および炭酸カリウム（２１２ｍｇ、１．５４ｍｍｏｌ）を加え、６５℃で６時間撹拌した。室温まで放冷し、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）により精製し、化合物８４２ｂ(１１６ｍｇ、８５％)を得た。ＬＣＭＳ (測定条件Ａ); 保持時間：１．３０ 分、 ［Ｍ＋Ｈ］＋：２１５ 【０３９６】
工程２：化合物８４２ｃの合成  
化合物８４２ｂ（１１６ｍｇ、０．５４ｍｍｏｌ）のエタノール（３ｍＬ）溶液に、２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（３ｍＬ）を加え、６時間加熱還流した。水を加え、２ｍｏｌ／Ｌ塩酸水溶液でｐＨを２に調整し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をＤＭＦ（１ｍＬ）に溶解させ、ＣＤＩ（１３８ｍｇ、０．３８ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分撹拌した。２８％アンモニア水溶液（１ｍｌ）加え、さらに室温で３０分撹拌した。水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（クロロホルム―メタノール）により精製し、化合物８４２ｃ(７５ｍｇ、８８％)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 3.43 (s, 3H), 3.71-3.73 (m, 2H), 4.02 (s, 3H), 4.30-4.33 (m, 2H), 5.93 (s, 1H).【０３９７】
工程３：化合物８４２ｄの合成  
化合物８４２ｃ（７４ｍｇ、０．３７ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（５ｍＬ）溶液に、ローソン試薬（１８０ｍｇ、０．４５ｍｍｏｌ）を加え、室温で終夜撹拌した。水（５ｍｌ）および重曹水（５ｍｌ）を加え、室温で３０分撹拌した。酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）により精製し、化合物８４２ｄ(４０ｍｇ、５０％)を得た。
1H-NMR (DMSO-D6) δ: 3.28 (s, 3H), 3.59-3.61 (m, 2H), 3.89 (s, 3H), 4.14-4.17 (m, 2H), 5.99 (s, 1H), 9.43 (s, 1H), 9.93 (s, 1H).【０３９８】
工程４：化合物Ｉ−８４２の合成  
化合物８４２ｄおよび化合物１０ｆを用いて、実施例１０の工程６と同様の方法で化合物Ｉ−８４２(３５ｍｇ、４５％)を得た。
1H-NMR (DMSO-D6) δ: 1.80-1.87 (m, 2H), 3.29-3.42 (m, 7H), 3.62-3.65 (m, 2H), 4.09 (s, 3H), 4.20-4.22 (m, 2H), 6.31 (s, 1H), 7.10 (s, 1H), 8.13 (s, 1H), 8.25 (s, 2H).
【実施例６５】
【０３９９】
化合物Ｉ−８４３の合成
【化１１９】
2016098793.tif 000122
工程１：  
実施例１０と同様の方法で合成した化合物８４３ａ（２０ｍｇ、０．０５６ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（０．５ｍＬ）に懸濁させ、水素化ナトリウム（４．９ｍｇ、０．１２２ｍｍｏｌ）を加え８０度で１０分間撹拌した。１−クロロ−２−メトキシエタン（６．８ｍｇ、０．０７２ｍｍｏｌ）を加え１００度で２時間撹拌した。放冷後、重曹水を加え、１０％メタノール／クロロホルム溶液で抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（クロロホルム―メタノール）により精製し、化合物Ｉ−８４３(１４ｍｇ、６２％)を得た。ＬＣＭＳ (測定条件Ａ); 保持時間：１．７９ 分、 ［Ｍ＋Ｈ］＋：４１８
【実施例６６】
【０４００】
化合物Ｉ−８４４の合成
【化１２０】
2016098793.tif 000123
工程１  化合物８４４ｂの合成
化合物８４４ａ（３００ｍｇ、１．３７ｍｍｏｌ）に、エタノール（８ｍＬ）、（２、４−ジメチルフェニルボロン酸（２４７ｍｇ、１．６４ｍｍｏｌ）、ＰｄＣｌ２（ｄｐｐｆ）ジクロロメタン錯体(５６ｍｇ、０．０６８ｍｍｏｌ）および２ｍｏｌ/Lの炭酸ナトリウム水溶液（２．７４ｍＬ、５．４８ｍｍｏｌ）を加え、１２時間加熱還流した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）により精製し、化合物８４４ｂ(６８ｍｇ、１９％)を得た。ＬＣＭＳ (測定条件Ａ); 保持時間：２．１２ 分、 ［Ｍ＋Ｈ］＋：２５９【０４０１】
工程２  化合物Ｉ−８４４の合成
化合物８４４ｂおよび化合物４５ｃを用いて、実施例３９の工程２と同じ方法で化合物Ｉ−８４４(５１ｍｇ、５３％)を得た。
1H-NMR (DMSO-D6) δ: 1.76-1.84 (m, 2H), 2.16 (s, 3H), 2.34 (s, 3H), 3.27-3.35 (m, 4H), 3.53 (s, 3H), 6.77 (s, 1H), 7.11 (d, J = 7.6 Hz, 1H), 7.18 (s, 1H), 7.23 (d, J = 7.6 Hz, 1H), 7.29 (s, 1H), 8.21 (s, 2H).
【実施例６７】
【０４０２】
化合物Ｉ−８４５の合成
【化１２１】
2016098793.tif 000124
工程１：  
実施例５６の工程１と同様の方法で合成した化合物８４５ａ（２９ｍｇ、０．１１ｍｍｏｌ）と化合物４５ｃから実施例３９の工程２と同じ方法によって化合物Ｉ−８４５（１６ｍｇ、４０％）を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.93-1.99 (m, 2H), 2.11 (s, 3H), 2.31 (s, 3H), 2.59 (s, 3H), 3.38-3.44 (m, 4H), 6.49 (s, 1H), 7.06 (t, J = 8.6 Hz, 2H), 7.35 (d, J = 7.7 Hz, 1H), 7.51 (d, J = 6.5 Hz, 1H).
【実施例６８】
【０４０３】
化合物Ｉ−８４６の合成
【化１２２】
2016098793.tif 000125
工程１  化合物８４６ｂの合成
化合物８４６ａ（４６５ｍｇ、１．８５ｍｍｏｌ）に、エタノール（１０ｍＬ）、３−ブロモ−２、６−ジメチルピリジン（３７９ｍｇ、２．０４ｍｍｏｌ）、ＰｄＣｌ２（ｄｐｐｆ）ジクロロメタン錯体(７６ｍｇ、０．０９３ｍｍｏｌ）および２ｍｏｌ/Lの炭酸ナトリウム水溶液（２ｍＬ）を加え、６時間加熱還流した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（クロロホルム―メタノール）により精製し、化合物８４６ｂ(１５０ｍｇ、３５％)を得た。ＬＣＭＳ (測定条件Ａ); 保持時間：２．６１ 分、 ［Ｍ＋Ｈ］＋：２３０【０４０４】
工程２  化合物８４６ｃの合成
化合物８４６ｂ（１０４ｍｇ、０．４５ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（３ｍＬ）に溶解し、水素化ナトリウム（２２ｍｇ、０．５４ｍｍｏｌ）およびヨウ化メチル（０．０３４ｍＬ、０．５４ｍｍｏｌ）を加え、１００度で５時間撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）により精製し、化合物８４６ｃ(３１ｍｇ、２８％)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 2.11 (s, 3H), 2.37 (s, 3H), 3.65 (s, 3H), 3.84 (s, 3H), 6.05 (d, J = 3.0 Hz, 1H), 7.02-7.14 (m, 3H), 7.28 (s, 1H).【０４０５】
工程３  化合物Ｉ−８４６の合成
化合物８４６ｃおよび化合物４５ｃを用いて実施例３９の工程２と同じ方法で化合物Ｉ−８４６(１８ｍｇ、３９％)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ：1.94-2.02 (m, 2H), 2.21 (s, 3H), 2.37 (s, 3H), 3.40-3.46 (m, 4H), 3.49 (s, 3H), 6.07 (d, J = 3.8 Hz, 1H), 6.47 (d, J = 3.5 Hz, 1H), 6.50 (s, 1H), 7.05 (d, J = 7.6 Hz, 1H), 7.11 (s, 1H), 7.17 (d, J = 7.6 Hz, 1H).
【実施例６９】
【０４０６】
化合物Ｉ−８４７の合成
【化１２３】
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工程１：  
化合物８４７ａ（８４２ｍｇ、２．５９ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）に懸濁させ、０度でトリエチルアミン（１．０８ｍｌ、７．７６ｍｍｏｌ）およびメタンスルホニルクロライド（３５６ｍｇ、０．２４ｍｍｏｌ）を加えた。室温まで昇温し、２時間撹拌した。反応液に水を加え、得られた沈殿物をろ取し、粗精製物として化合物８４７ｂ（９２０ｍｇ、８８％）を得た。ＬＣＭＳ (測定条件Ａ); 保持時間：１．２５ 分、 ［Ｍ＋Ｈ］＋：４０４【０４０７】
工程２：  
化合物８４７ｂ（３１ｍｇ、０．０７７ｍｍｏｌ）をＤＭＡ（１ｍＬ）に溶解させ、２、６−ジメチルピリジン（１９ｍｇ、０．１５４ｍｍｏｌ）および炭酸カリウム（５３ｍｇ、０．３９ｍｍｏｌ）を加え、１００度で２時間撹拌した。放冷後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（クロロホルム―メタノール）により精製し、化合物Ｉ−８４７(８ｍｇ、２４％)を得た。
1H-NMR (CDCl3) δ: 1.96-2.04 (m, 2H), 2.45 (s, 3H), 2.46 (s, 3H), 3.43-3.49 (m, 4H), 4.33 (t, J = 4.7 Hz, 2H), 4.84 (t, J = 4.7 Hz, 2H), 6.88-6.94 (m, 3H), 7.05 (d, J = 8.3 Hz, 1H).【０４０８】
上記実施例に従い、以下の化合物を合成した。
【表１】
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【０４０９】
【表２】
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【０４１０】
【表３】
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【０４１１】
【表４】
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【０４１２】
【表５】
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【０４１３】
【表６】
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【０４１４】
【表７】
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【０４１５】
【表８】
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【０４１６】
【表９】
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【０４１７】
【表１０】
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【０４１８】
【表１１】
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【０４１９】
【表１２】
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【０４２０】
【表１３】
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【０４２１】
【表１４】
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【０４２２】
【表１５】
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【０４２３】
【表１６】
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【０４２４】
【表１７】
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【０４２５】
【表１８】
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【０４２６】
【表１９】
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【０４２７】
【表２０】
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【０４２８】
【表２１】
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【０４２９】
【表２２】
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【０４３０】
【表２３】
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【０４３１】
【表２４】
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【０４３２】
【表２５】
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【０４３３】
【表２６】
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【０４３４】
【表２７】
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【０４３５】
【表２８】
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【０４３６】
【表２９】
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【０４３７】
【表３０】
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【０４３８】
【表３１】
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【０４３９】
【表３２】
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【０４４０】
【表３３】
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【０４４１】
【表３４】
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【０４４２】
【表３５】
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【０４４３】
【表３６】
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【０４４４】
【表３７】
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【０４４５】
【表３８】
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【０４４６】
【表３９】
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【０４４７】
【表４０】
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【０４４８】
【表４１】
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【０４４９】
【表４２】
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【０４５０】
【表４３】
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【０４５１】
【表４４】
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【０４５２】
【表４５】
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【０４５３】
【表４６】
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【０４５４】
【表４７】
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【０４５５】
【表４８】
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【０４５６】
【表４９】
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【０４５７】
【表５０】
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【０４５８】
【表５１】
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【０４５９】
【表５２】
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【０４６０】
【表５３】
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【０４６１】
【表５４】
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【０４６２】
【表５５】
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【０４６３】
【表５６】
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【０４６４】
【表５７】
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【０４６５】
【表５８】
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【０４６６】
【表５９】
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【０４６７】
【表６０】
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【０４６８】
【表６１】
2016098793.tif 000187
【０４６９】
【表６２】
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【０４７０】
【表６３】
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【０４７１】
【表６４】
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【０４７２】
【表６５】
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【０４７３】
【表６６】
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【０４７４】
【表６７】
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【０４７５】
【表６８】
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【０４７６】
【表６９】
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【０４７７】
【表７０】
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【０４７８】
【表７１】
2016098793.tif 000197
【０４７９】
【表７２】
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【０４８０】
【表７３】
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【０４８１】
【表７４】
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【０４８２】
【表７５】
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【０４８３】
【表７６】
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【０４８４】
【表７７】
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【０４８５】
【表７８】
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【０４８６】
【表７９】
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【０４８７】
【表８０】
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【０４８８】
【表８１】
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【０４８９】
【表８２】
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【０４９０】
【表８３】
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【０４９１】
【表８４】
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【０４９２】
【表８５】
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【０４９３】
【表８６】
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【０４９４】
【表８７】
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【０４９５】
【表８８】
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【０４９６】
【表８９】
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【０４９７】
【表９０】
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【０４９８】
【表９１】
2016098793.tif 000217
【０４９９】
【表９２】
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【０５００】
【表９３】
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【０５０１】
【表９４】
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【０５０２】
【表９５】
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【０５０３】
【表９６】
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【０５０４】
【表９７】
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【０５０５】
【表９８】
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【０５０６】
【表９９】
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【０５０７】
【表１００】
2016098793.tif 000226
【０５０８】
【表１０１】
2016098793.tif 000227
【０５０９】
【表１０２】
2016098793.tif 000228
【０５１０】
【表１０３】
2016098793.tif 000229
【０５１１】
【表１０４】
2016098793.tif 000230
【０５１２】
【表１０５】
2016098793.tif 000231
【０５１３】
【表１０６】
2016098793.tif 000232
【０５１４】
【表１０７】
2016098793.tif 000233
【０５１５】
【表１０８】
2016098793.tif 000234
【０５１６】
【表１０９】
2016098793.tif 000235
【０５１７】
【表１１０】
2016098793.tif 000236
【０５１８】
【表１１１】
2016098793.tif 000237
【０５１９】
【表１１２】
2016098793.tif 000238
【０５２０】
【表１１３】
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【０５２１】
【表１１４】
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【０５２２】
【表１１５】
2016098793.tif 000241
【０５２３】
【表１１６】
2016098793.tif 000242
【０５２４】
【表１１７】
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【０５２５】
【表１１８】
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【０５２６】
【表１１９】
2016098793.tif 000245
【０５２７】
【表１２０】
2016098793.tif 000246
【０５２８】
【表１２１】
2016098793.tif 000247
【０５２９】
【表１２２】
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【０５３０】
【表１２３】
2016098793.tif 000249
【０５３１】
【表１２４】
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【０５３２】
【表１２５】
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【０５３３】
【表１２６】
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【０５３４】
【表１２７】
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【０５３５】
【表１２８】
2016098793.tif 000254
【０５３６】
【表１２９】
2016098793.tif 000255
【０５３７】
【表１３０】
2016098793.tif 000256
【０５３８】
【表１３１】
2016098793.tif 000257
【０５３９】
【表１３２】
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【０５４０】
【表１３３】
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【０５４１】
【表１３４】
2016098793.tif 000260
【０５４２】
【表１３５】
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【０５４３】
【表１３６】
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【０５４４】
【表１３７】
2016098793.tif 000263
【０５４５】
【表１３８】
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【０５４６】
【表１３９】
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【０５４７】
【表１４０】
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【０５４８】
【表１４１】
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【０５４９】
【表１４２】
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【０５５０】
【表１４３】
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【０５５１】
【表１４４】
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【０５５２】
【表１４５】
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【０５５３】
【表１４６】
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【０５５４】
【表１４７】
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【０５５５】
【表１４８】
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【０５５６】
【表１４９】
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【０５５７】
【表１５０】
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【０５５８】
【表１５１】
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【０５５９】
【表１５２】
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【０５６０】
【表１５３】
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【０５６１】
【表１５４】
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【０５６２】
【表１５５】
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【０５６３】
【表１５６】
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【０５６４】
【表１５７】
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【０５６５】
【表１５８】
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【０５６６】
【表１５９】
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【０５６７】
【表１６０】
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【０５６８】
【表１６１】
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【０５６９】
【表１６２】
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【０５７０】
【表１６３】
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【０５７１】
【表１６４】
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【０５７２】
【表１６５】
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【０５７３】
【表１６６】
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【０５７４】
【表１６７】
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【０５７５】
【表１６８】
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【０５７６】
【表１６９】
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【表１７０】
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【表１７１】
2016098793.tif 000297
【表１７２】
2016098793.tif 000298
【０５７７】
上記実施例に従い、下記の参考例を合成した。
【表１７３】
2016098793.tif 000299
【０５７８】
以下に各化合物の１Ｈ−ＮＭＲ分析結果を示す。
化合物Ｉ−９３：1H-NMR（DMSO-D6）δ：1.79-1.84 (2H, m), 3.26-3.40 (4H, m), 6.94 (1H, s), 7.66 (d, J = 1.6 Hz, 1H), 7.85 (d, J = 1.5 Hz, 1H), 8.19 (br, 2H).
化合物Ｉ−７０６：1H-NMR（DMSO-D6）δ 1.08-1.19(m, 4H), 1.84(s, 2H), 2.93-2.95(m, 1H), 3.34(s, 4H), 7.15(s, 1H), 8.04(d, 2H, J=8.0Hz) 8.24(d, 2H, J=7.2Hz), 8.27(br, 3H).
化合物Ｉ−７４０：1H-NMR（DMSO-D6）δ：1.84(s, 2H), 3.34(s, 4H), 3.40(s, 3H), 7.18(s, 1H), 8.00(t, 1H, J=7.8Hz), 8.07(d, 1H, J=8.4Hz), 8.13(d, 1H, J=11.2 Hz), 8.28(br, 3H).
化合物Ｉ−７６３：1H-NMR（DMSO-D6）δ：1.84(s, 2H), 3.34(s, 4H), 3.44(s, 3H), 7.20(s, 1H), 8.20(q, 2H, J=8.4Hz), 8.26(br, 2H), 8.28(s, 1H), 8.31(s,1H).【０５７９】
次に、本発明の代表的化合物の有用性を以下の試験例で説明する。
試験例１：ＭＩＣ試験方法
被験物質の抗真菌活性評価は、Ｃｌｉｎｉｃａｌ ａｎｄ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｙ Ｓｔａｎｄａｒｄｓ Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅ（ＣＬＳＩ）が推奨する微量液体希釈法を用いて測定した。測定用培地は酵母培養用の最小合成培地（２％グルコース、０．６７ ％ yeast nitrogen base w/o amino acid、０．２ ％アミノ酸・ヌクレオチドミックス）にモルホリンプロパンスルホン酸（ＭＯＰＳ，終濃度５０ ｍＭ）を加えて緩衝液とし、１ Ｍ水酸化ナトリウムを添加してｐＨ ７．０ に調整したものを用いた（ＹＮＢ／ＭＯＰＳ）。被験薬剤はＤＭＳＯを用いて２倍段階希釈し、９６ウェルマイクロプレートの各ウェルに２μＬ分注した。サブロ一寒天培地にて３５℃で一晩培養したCandida albicans ATCC MYA-574（ｆｌｕｃｏｎａｚｏｌｅ耐性株）を滅菌生理食塩液に懸濁後、分光光度計で濁度を測定し、菌懸濁液をＹＮＢ／ＭＯＰＳで希釈して接種菌液（約２．５ × １０３ ＣＦＵ／ｍＬ）を調製した。−８０℃に保存されているAspergillus fumigatus ATCC204305、Aspergillus flavus IFM50915およびAspergillus terreus IFM46871をＹＮＢ／ＭＯＰＳで希釈し、接種菌液（１×１０４ ＣＦＵ／ｍＬ）を調製した。接種菌液１９８μＬを各ウェルに分注し、所定濃度の被験物質、培地および菌体が含まれるマイクロプレー卜を作製した。Candida albicans は３５℃ で１日間培養、Aspergillus fumigatus、Aspergillus flavusおよびAspergillus terreus は３５℃ で２日間培養した後、ＭＩＣ判定を行った。Candida albicansのＭＩＣは被験物質無添加の対照にくらべ、濁度で５０％以上発育阻害する最小濃度とした。Aspergillus fumigatus とAspergillus terreusのＭＩＣは目視で１００％、Aspergillus flavusのＭＩＣは目視で５０％発育阻害する最小濃度とした。Aspergillus  fumigatusについては、ＹＮＢ／ＭＯＰＳ培地に５０％ ｂｏｖｉｎｅ ｓｅｒｕｍ（ＢＳ）を添加した条件でのＭＩＣ測定も行った。
用いた菌株および条件を表１７４に示す。
【表１７４】
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【０５８０】
比較化合物は、下式の化合物を用いた。
【化１２４】
2016098793.tif 000301
菌・株番号１のＭＩＣ測定結果を表１７５〜１８２に示す。
【表１７５】
2016098793.tif 000302
【表１７６】
2016098793.tif 000303
【表１７７】
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【表１７８】
2016098793.tif 000305
【表１７９】
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【表１８０】
2016098793.tif 000307
【表１８１】
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【表１８２】
2016098793.tif 000309
【０５８１】
菌・株番号２のＭＩＣ測定結果を表１８３〜１８９に示す。
【表１８３】
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【表１８４】
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【表１８５】
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【表１８６】
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【表１８７】
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【表１８８】
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【表１８９】
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【０５８２】
菌・株番号３のＭＩＣ測定結果を表１９０〜１９４に示す。
【表１９０】
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【表１９１】
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【表１９２】
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【表１９３】
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【表１９４】
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【０５８３】
菌・株番号４のＭＩＣ測定結果を表１９５および表１９６に示す。
【表１９５】
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【表１９６】
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【０５８４】
菌・株番号５のＭＩＣ測定結果を表１９７および表１９８に示す。
【表１９７】
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【表１９８】
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【０５８５】
試験例２：ＣＹＰ阻害試験
市販のプールドヒト肝ミクロソームを用いて、ヒト主要ＣＹＰ５分子種（ＣＹＰ１Ａ２、２Ｃ９、２Ｃ１９、２Ｄ６、３Ａ４）の典型的基質代謝反応として７−エトキシレゾルフィンのＯ−脱エチル化（ＣＹＰ１Ａ２）、トルブタミドのメチル−水酸化（ＣＹＰ２Ｃ９）、メフェニトインの４’−水酸化（ＣＹＰ２Ｃ１９）、デキストロメトルファンのＯ脱メチル化（ＣＹＰ２Ｄ６）、テルフェナジンの水酸化（ＣＹＰ３Ａ４）を指標とし、それぞれの代謝物生成量が本発明化合物によって阻害される程度を評価した。【０５８６】
反応条件は以下のとおり：基質、０．５μｍｏｌ／Ｌ  エトキシレゾルフィン（ＣＹＰ１Ａ２）、１００μｍｏｌ／Ｌ  トルブタミド（ＣＹＰ２Ｃ９）、５０μｍｏｌ／Ｌ  Ｓ−メフェニトイン（ＣＹＰ２Ｃ１９）、５μｍｏｌ／Ｌ  デキストロメトルファン（ＣＹＰ２Ｄ６）、１μｍｏｌ／Ｌ  テルフェナジン（ＣＹＰ３Ａ４）；反応時間、１５分；反応温度、３７℃；酵素、プールドヒト肝ミクロソーム０．２ｍｇ  タンパク質／ｍＬ；本発明化合物濃度、１、５、１０、２０μｍｏｌ／Ｌ（４点）。【０５８７】
９６穴プレートに反応溶液として、５０ｍｍｏｌ／Ｌ  Ｈｅｐｅｓ緩衝液中に各５種の基質、ヒト肝ミクロソーム、本発明化合物を上記組成で加え、補酵素であるＮＡＤＰＨを添加して、指標とする代謝反応を開始した。３７℃、１５分間反応した後、メタノール／アセトニトリル＝１／１（Ｖ／Ｖ）溶液を添加することで反応を停止した。３０００ｒｐｍ、１５分間の遠心後、遠心上清中のレゾルフィン（ＣＹＰ１Ａ２代謝物）を蛍光マルチラベルカウンタで定量し、トルブタミド水酸化体（ＣＹＰ２Ｃ９代謝物）、メフェニトイン４’水酸化体（ＣＹＰ２Ｃ１９代謝物）、デキストロルファン（ＣＹＰ２Ｄ６代謝物）、テルフェナジンアルコール体（ＣＹＰ３Ａ４代謝物）をＬＣ／ＭＳ／ＭＳで定量した。【０５８８】
本発明化合物を溶解した溶媒であるＤＭＳＯのみを反応系に添加したものをコントロール（１００％）とし、溶媒に加えた本発明化合物の各濃度における残存活性（％）を算出し、濃度と抑制率を用いて、ロジスティックモデルによる逆推定によりＩＣ５０を算出した。【０５８９】
試験例３：ＢＡ試験
経口吸収性の検討実験材料と方法
（１）使用動物：マウスあるいはＳＤラットを使用した。
（２）飼育条件：マウスあるいはＳＤラットは、固形飼料および滅菌水道水を自由摂取させた。
（３）投与量、群分けの設定：経口投与、静脈内投与を所定の投与量により投与した。以下のように群を設定した。（化合物ごとで投与量は変更有）
経口投与  １〜３０ｍｇ／ｋｇ（ｎ＝２〜３）
静脈内投与  ０．５〜１０ｍｇ／ｋｇ（ｎ＝２〜３）
（４）投与液の調製：経口投与は溶液または懸濁液として投与した。静脈内投与は可溶化して投与した。
（５）投与方法：経口投与は、経口ゾンデにより強制的に胃内に投与した。静脈内投与は、注射針を付けたシリンジにより尾静脈から投与した。
（６）評価項目：経時的に採血し、血漿中本発明化合物濃度をＬＣ／ＭＳ／ＭＳを用いて測定した。
（７）統計解析：血漿中本発明化合物濃度推移について、非線形最小二乗法プログラムＷｉｎＮｏｎｌｉｎ（登録商標）を用いて血漿中濃度‐時間曲線下面積（ＡＵＣ）を算出し、経口投与群と静脈内投与群のＡＵＣから本発明化合物のバイオアベイラビリティ（ＢＡ）を算出した。【０５９０】
試験例４：代謝安定性試験
市販のプールドヒト肝ミクロソームと本発明化合物を一定時間反応させ、反応サンプルと未反応サンプルの比較により残存率を算出し、本発明化合物が肝で代謝される程度を評価した。【０５９１】
ヒト肝ミクロソーム０．５ｍｇタンパク質／ｍＬを含む０．２ｍＬの緩衝液（５０ｍｍｏｌ／Ｌ  Ｔｒｉｓ−ＨＣｌ  ｐＨ７．４、１５０ｍｍｏｌ／Ｌ  塩化カリウム、１０ｍｍｏｌ／Ｌ  塩化マグネシウム）中で、１ｍｍｏｌ／Ｌ  ＮＡＤＰＨ存在下で３７℃、０分あるいは３０分間反応させた（酸化的反応）。反応後、メタノール／アセトニトリル＝１／１（ｖ／ｖ）溶液の１００μＬに反応液５０μＬを添加、混合し、３０００ｒｐｍで１５分間遠心した。その遠心上清中の本発明化合物をＬＣ／ＭＳ／ＭＳにて定量し、反応後の本発明化合物の残存量を０分反応時の化合物量を１００％として計算した。なお、加水分解反応はＮＡＤＰＨ非存在下で、グルクロン酸抱合反応はＮＡＤＰＨに換えて５ｍｍｏｌ／Ｌ  ＵＤＰ−グルクロン酸の存在下で反応を行い、以後同じ操作を実施することができる。【０５９２】
試験例５：ＣＹＰ３Ａ４蛍光ＭＢＩ試験
ＣＹＰ３Ａ４蛍光ＭＢＩ試験は、代謝反応による本発明化合物のＣＹＰ３Ａ４阻害の増強を調べる試験である。ＣＹＰ３Ａ４酵素（大腸菌発現酵素）により７−ベンジルオキシトリフルオロメチルクマリン（７−ＢＦＣ）が脱ベンジル化されて、蛍光を発する代謝物７−ハイドロキシトリフルオロメチルクマリン（７−ＨＦＣ）が生じる。７−ＨＦＣ生成反応を指標としてＣＹＰ３Ａ４阻害を評価した。【０５９３】
反応条件は以下のとおり：基質、５．６μｍｏｌ／Ｌ  ７−ＢＦＣ；プレ反応時間、０または３０分；反応時間、１５分；反応温度、２５℃（室温）；ＣＹＰ３Ａ４含量（大腸菌発現酵素）、プレ反応時６２．５ｐｍｏｌ／ｍＬ、反応時６．２５ｐｍｏｌ／ｍＬ（１０倍希釈時）；本発明化合物濃度、０．６２５、１．２５、２．５、５、１０、２０μｍｏｌ／Ｌ（６点）。【０５９４】
９６穴プレートにプレ反応液としてＫ−Ｐｉ緩衝液（ｐＨ７．４）中に酵素、本発明化合物溶液を上記のプレ反応の組成で加え、別の９６穴プレートに基質とＫ−Ｐｉ緩衝液で１／１０希釈されるようにその一部を移行し、補酵素であるＮＡＤＰＨを添加して指標とする反応を開始し（プレ反応無）、所定の時間反応後、アセトニトリル／０．５ｍｏｌ／Ｌ  Ｔｒｉｓ（トリスヒドロキシアミノメタン）＝４／１（Ｖ／Ｖ）を加えることによって反応を停止した。また残りのプレ反応液にもＮＡＤＰＨを添加しプレ反応を開始し（プレ反応有）、所定時間プレ反応後、別のプレートに基質とＫ−Ｐｉ緩衝液で１／１０希釈されるように一部を移行し指標とする反応を開始した。所定の時間反応後、アセトニトリル／０．５ｍｏｌ／Ｌ  Ｔｒｉｓ（トリスヒドロキシアミノメタン）＝４／１（Ｖ／Ｖ）を加えることによって反応を停止した。それぞれの指標反応を行ったプレートを蛍光プレートリーダーで代謝物である７−ＨＦＣの蛍光値を測定した。（Ｅｘ＝４２０ｎｍ、Ｅｍ＝５３５ｎｍ）【０５９５】
本発明化合物を溶解した溶媒であるＤＭＳＯのみを反応系に添加したものをコントロール（１００％）とし、本発明化合物をそれぞれの濃度添加したときの残存活性（％）を算出し、濃度と抑制率を用いて、ロジスティックモデルによる逆推定によりＩＣ５０を算出した。ＩＣ５０値の差が５μｍｏｌ／Ｌ以上の場合を（＋）とし、３μｍｏｌ／Ｌ以下の場合を（−）とした。【０５９６】
試験例６：Ｆｌｕｃｔｕａｔｉｏｎ  Ａｍｅｓ  Ｔｅｓｔ
本発明化合物の変異原性を評価した。【０５９７】
凍結保存しているネズミチフス菌（Ｓａｌｍｏｎｅｌｌａ  ｔｙｐｈｉｍｕｒｉｕｍ  ＴＡ９８株、ＴＡ１００株）２０μＬを１０ｍＬ液体栄養培地（２．５％  Ｏｘｏｉｄ  ｎｕｔｒｉｅｎｔ  ｂｒｏｔｈ  Ｎｏ．２）に接種し３７℃にて１０時間、振盪前培養した。ＴＡ９８株は９ｍＬの菌液を遠心（２０００×ｇ、１０分間）して培養液を除去した。９ｍＬのＭｉｃｒｏ  Ｆ緩衝液（Ｋ２ＨＰＯ４：３．５ｇ／Ｌ、ＫＨ２ＰＯ４：１ｇ／Ｌ、（ＮＨ４）２ＳＯ４：１ｇ／Ｌ、クエン酸三ナトリウム二水和物：０．２５ｇ／Ｌ、ＭｇＳＯ４・７Ｈ２０：０．１ｇ／Ｌ）に菌を懸濁し、１１０ｍＬのＥｘｐｏｓｕｒｅ培地（ビオチン：８μｇ／ｍＬ、ヒスチジン：０．２μｇ／ｍＬ、グルコース：８ｍｇ／ｍＬを含むＭｉｃｒｏＦ緩衝液）に添加した。ＴＡ１００株は３．１６ｍＬ菌液に対しＥｘｐｏｓｕｒｅ培地１２０ｍＬに添加し試験菌液を調製した。本発明化合物ＤＭＳＯ溶液（最高用量５０ｍｇ／ｍＬから２〜３倍公比で数段階希釈）、陰性対照としてＤＭＳＯ、陽性対照として非代謝活性化条件ではＴＡ９８株に対しては５０μｇ／ｍＬの４−ニトロキノリン−１−オキシドＤＭＳＯ溶液、ＴＡ１００株に対しては０．２５μｇ／ｍＬの２−（２−フリル）−３−（５−ニトロ−２−フリル）アクリルアミドＤＭＳＯ溶液、代謝活性化条件ではＴＡ９８株に対して４０μｇ／ｍＬの２−アミノアントラセンＤＭＳＯ溶液、ＴＡ１００株に対しては２０μｇ／ｍＬの２−アミノアントラセンＤＭＳＯ溶液それぞれ１２μＬと試験菌液５８８μＬ（代謝活性化条件では試験菌液４９８μＬとＳ９  ｍｉｘ  ９０μＬの混合液）を混和し、３７℃にて９０分間、振盪培養した。本発明化合物を暴露した菌液４６０μＬを、Ｉｎｄｉｃａｔｏｒ培地（ビオチン：８μｇ／ｍＬ、ヒスチジン：０．２μｇ／ｍＬ、グルコース：８ｍｇ／ｍＬ、ブロモクレゾールパープル：３７．５μｇ／ｍＬを含むＭｉｃｒｏＦ緩衝液）２３００μＬに混和し５０μＬずつマイクロプレート４８ウェル／用量に分注し、３７℃にて３日間、静置培養した。アミノ酸（ヒスチジン）合成酵素遺伝子の突然変異によって増殖能を獲得した菌を含むウェルは、ｐＨ変化により紫色から黄色に変色するため、１用量あたり４８ウェル中の黄色に変色した菌増殖ウェルを計数し、陰性対照群と比較して評価した。変異原性が陰性のものを（−）、陽性のものを（＋）として示す。【０５９８】
試験例７：ｈＥＲＧ試験
本発明化合物の心電図ＱＴ間隔延長リスク評価を目的として、ｈｕｍａｎ  ｅｔｈｅｒ−ａ−ｇｏ−ｇｏ  ｒｅｌａｔｅｄ  ｇｅｎｅ  （ｈＥＲＧ）チャンネルを発現させたＨＥＫ２９３細胞を用いて、心室再分極過程に重要な役割を果たす遅延整流Ｋ＋電流（ＩＫｒ）への本発明化合物の作用を検討した。【０５９９】
全自動パッチクランプシステム（ＰａｔｃｈＸｐｒｅｓｓ  ７０００Ａ、ＡｘｏｎＩｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ  Ｉｎｃ．）を用い、ホールセルパッチクランプ法により、細胞を−８０ｍＶの膜電位に保持した後、＋４０ｍＶの脱分極刺激を２秒間、さらに−５０ｍＶの再分極刺激を２秒間与えた際に誘発されるＩＫｒを記録した。発生する電流が安定した後、本発明化合物を目的の濃度で溶解させた細胞外液（ＮａＣｌ：１３５  ｍｍｏｌ／Ｌ、ＫＣｌ：５．４  ｍｍｏｌ／Ｌ、ＮａＨ２ＰＯ４：０．３ｍｍｏｌ／Ｌ、ＣａＣｌ２・２Ｈ２Ｏ：１．８ｍｍｏｌ／Ｌ、ＭｇＣｌ２・６Ｈ２Ｏ：１ｍｍｏｌ／Ｌ、グルコース：１０ｍｍｏｌ／Ｌ、ＨＥＰＥＳ（４−（２−ヒドロキシエチル）−１−ピペラジンエタンスルホン酸）：１０ｍｍｏｌ／Ｌ、ｐＨ＝７．４）を室温で、１０分間細胞に適用させた。得られたＩＫｒから、解析ソフト（ＤａｔａＸｐｒｅｓｓ  ｖｅｒ．１、Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ  Ｄｅｖｉｃｅｓ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）を使用して、保持膜電位における電流値を基準に最大テール電流の絶対値を計測した。さらに、本発明化合物適用前の最大テール電流に対する阻害率を算出し、媒体適用群（０．１％ジメチルスルホキシド溶液）と比較して、本発明化合物のＩＫｒへの影響を評価した。【０６００】
試験例８：溶解性試験
本発明化合物の溶解度は、１％ＤＭＳＯ添加条件下で決定した。ＤＭＳＯにて１０ｍｍｏｌ／Ｌ化合物溶液を調製し、本発明化合物溶液６  μＬをｐＨ６．８人工腸液（０．２ｍｏｌ／Ｌ  リン酸二水素カリウム試液  ２５０ｍＬに０．２ｍｏｌ／Ｌ  ＮａＯＨ試液１１８ｍＬ、水を加えて１０００ｍＬとした）５９４μＬに添加した。２５℃で１６時間静置させた後、混液を吸引濾過した。濾液をメタノール／水＝１／１（Ｖ／Ｖ）にて２倍希釈し、絶対検量線法によりＨＰＬＣまたはＬＣ／ＭＳ／ＭＳを用いて濾液中濃度を測定した。【０６０１】
試験例９：粉末溶解度試験
適当な容器に本発明化合物を適量入れ、各容器にＪＰ−１液（塩化ナトリウム２．０ｇ、塩酸７．０ｍＬに水を加えて１０００ｍＬとする）、ＪＰ−２液（ｐＨ６．８のリン酸塩緩衝液５００ｍＬに水５００ｍＬを加える）、２０ｍｍｏｌ／Ｌ  タウロコール酸ナトリウム（ＴＣＡ）／ＪＰ−２液（ＴＣＡ１．０８ｇにＪＰ−２液を加え１００ｍＬとする）を２００μＬずつ添加する。試験液添加後に全量溶解した場合には、適宜、本発明化合物を追加する。密閉して３７℃で１時間振とう後に濾過し、各濾液１００μＬにメタノール１００μＬを添加して２倍希釈を行う。希釈倍率は、必要に応じて変更する。気泡および析出物がないことを確認し、密閉して振とうする。絶対検量線法によりＨＰＬＣを用いて本発明化合物を定量する。【０６０２】
試験例１０：目視溶解性試験
化合物約5mg微量試験管3本に秤量し、各媒体(注射用水、生食注、0.5%ブドウ糖液)を化合物濃度20%になるように添加する。ボルテックスにて撹拌後、目視にて溶解の有無を確認する。溶解していればその媒体での溶解度を>20%とする。それら試験液に各媒体(注射用水、生食注、ブドウ糖液)を更に加えて化合物濃度10%の試験液を調製し、ボルテックスにて撹拌後、目視にて溶解の有無を確認する。溶解していればその媒体での溶解度を20%〜10%とする。同様に5%濃度、2.5%濃度、1%濃度まで試験をし、1%濃度で溶解しない場合はその媒体での溶解度を<1%とする。1%濃度の試験液でのpHを測定し、記録する。  【０６０３】
試験例１１：ｐＫａ測定（キャピラリー電気泳動法 (capillary electrophoresis法，CE法)の測定方法）
キャピラリーゾーン電気泳動技術を用いた手法で，電解質を含む緩衝液中での各試料成分の自由泳動を利用した分離方法である。
pH2.5〜11.5に調製した緩衝液が充填されたフューズドシリカキャピラリーに、化合物溶液を注入した後、キャピラリーに高電圧 (Inlet側＋，Outlet側−) をかけると、化合物は緩衝液ｐＨにおけるイオン化状態を反映した速度 (＋チャージした化合物は速く、−チャージした化合物は遅く) で移動する。この化合物の移動時間と中性分子 (DMSO) の移動時間との差をpHに対してプロットし、フィッティングをかけてpKaを算出した。測定条件を以下に示す。
使用装置：Beckman P/ACEシステムMDQ  PDA
泳動液：pH2.5〜11.5  Buffer (10vol%  MeOH含有)
サンプル溶液：        Blank DMSO 10μL+注用水90μL混合
Sample  10mM DMSO stock solution 4uL + DMSO 6uL + 注用水 90uL
（メソッド）
キャピラリー        ：Fused silica capillary (BECKMAN COULTER，内径50 μm，全長30.2 cm，有効長20.0 cm)
印加電圧          ：10kV  (331 V/cm)
印加空気圧        ：0.7 psi
キャピラリー温度      ：25°C
電気浸透流マーカー    ：DMSO
検出            ：紫外部多波長吸光検出 (測定波長；215 nm，238 nm)
試料注入          ：加圧法 (0.5 psi，5 sec)【０６０４】
製剤例
以下に示す製剤例は例示にすぎないものであり、発明の範囲を何ら限定することを意図するものではない。
製剤例１：  錠剤
本発明化合物、乳糖およびステアリン酸カルシウムを混合し、破砕造粒して乾燥し、適当な大きさの顆粒剤とする。次にステアリン酸カルシウムを添加して圧縮成形して錠剤とする。【０６０５】
製剤例２：  カプセル剤
本発明化合物、乳糖およびステアリン酸カルシウムを均一に混合して粉末または細粒状として散剤をつくる。それをカプセル容器に充填してカプセル剤とする。【０６０６】
製剤例３：  顆粒剤
本発明化合物、乳糖およびステアリン酸カルシウムを均一に混合し、圧縮成型した後、粉砕、整粒し、篩別して適当な大きさの顆粒剤とする。【０６０７】
製剤例４：  口腔内崩壊錠
本発明化合物および結晶セルロースを混合し、造粒後打錠して口腔内崩壊錠とする。【０６０８】
製剤例５：  ドライシロップ
本発明化合物および乳糖を混合し、粉砕、整粒、篩別して適当な大きさのドライシロップとする。【０６０９】
製剤例６：  注射剤
本発明化合物およびリン酸緩衝液を混合し、注射剤とする。【０６１０】
製剤例７：  点滴剤
本発明化合物およびリン酸緩衝液を混合し、点滴剤とする。【０６１１】
製剤例８：  吸入剤
本発明化合物および乳糖を混合し細かく粉砕することにより、吸入剤とする。【０６１２】
製剤例９：  軟膏剤
本発明化合物およびワセリンを混合し、軟膏剤とする。【０６１３】
製剤例１０： 貼付剤
本発明化合物および粘着プラスターなどの基剤を混合し、貼付剤とする。
【産業上の利用可能性】
【０６１４】
式（Ｉ）で示される化合物またはその製薬上許容される塩は、優れた抗真菌活性を有し、抗真菌剤として有用である。また、別の態様では、式（Ｉ）で示される化合物またはその製薬上許容される塩は、安全性にも優れ、カンジダ属菌およびアルペルギルス属菌に対する抗真菌剤として有用である。
【国際調査報告】
2016098793.tif 000336
2016098793.tif 000337
2016098793.tif 000338
2016098793.tif 000339
2016098793.tif 000340
2016098793.tif 000341