(57)【要約】  本発明は、基板の両面にガイド溝を設けた後に記録層等を形成する際に、ガイド溝の汚れや傷つきを抑制することができる光情報記録媒体の製造方法を提供する。光情報記録媒体の製造方法は、片面に第１ガイド溝１５Ａが形成された基板素材１０Ａを用意し、基板素材１０Ａの第１ガイド溝１５Ａが形成されていない面とスタンパ５０との間にエネルギー硬化樹脂材料を配置し、エネルギー硬化樹脂材料を硬化させて第２ガイド溝１５Ｂを形成する。そして、スタンパ５０を第２ガイド溝１５Ｂの保護部材として残したままスタンパ５０が付いた基板１０を保持して、第１ガイド溝１５Ａ側に少なくとも１層の記録層２１とカバー層とを設ける。さらに、スタンパ５０を剥離して第２ガイド溝１５Ｂを露出させ、第２ガイド溝１５Ｂ側に少なくとも１層の記録層２１とカバー層とを設ける。
2014132705.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
両面にトラッキング用のガイド溝が形成された基板と、当該基板の両側にそれぞれ少なくとも１層ずつ設けられる記録層と、前記記録層よりも外側に設けられるカバー層とを備えた光情報記録媒体の製造方法であって、
片面に第１ガイド溝が形成された基板素材を用意する第１工程と、
前記基板素材の前記第１ガイド溝が形成されていない面と、第２ガイド溝に対応するパターンが形成されたスタンパとの間にエネルギー硬化樹脂材料を配置し、前記エネルギー硬化樹脂材料を硬化させて第２ガイド溝を形成する第２工程と、
前記スタンパを前記第２ガイド溝の保護部材として残したまま前記スタンパ付の基板を保持して、前記第１ガイド溝側に少なくとも１層の前記記録層と前記カバー層とを設ける第３工程と、
前記スタンパを剥離して前記第２ガイド溝を露出させる第４工程と、
前記第２ガイド溝側に少なくとも１層の前記記録層と前記カバー層とを設ける第５工程とを備えることを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
【請求項２】
前記第１工程は、射出成形により、片面に第１ガイド溝が形成された前記基板素材を作成することを特徴とする請求項１に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項３】
前記第３工程および前記第５工程において、前記記録層を前記基板の両側にそれぞれ複数層設けることを特徴とする請求項１に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項４】
前記第３工程および前記第５工程において、前記記録層を前記基板の両側にそれぞれ複数層設けることを特徴とする請求項２に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項５】
前記第３工程および前記第５工程において、記録層、中間層、記録層および粘着性を有する中間層をこの順に備える多層構造シートを貼ることで複数の前記記録層を設けることを特徴とする請求項３に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項６】
前記第３工程および前記第５工程において、記録層、中間層、記録層および粘着性を有する中間層をこの順に備える多層構造シートを貼ることで複数の前記記録層を設けることを特徴とする請求項４に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、両面にトラッキング用のガイド溝が形成された基板と、当該基板の両側にそれぞれ少なくとも１層ずつ設けられる記録層とを備えた光情報記録媒体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、基板の両側に記録層が設けられた光情報記録媒体において、記録時および再生時のトラッキングを良好に行うために基板の両面にトラッキング用のガイド溝を設けることがある。例えば、特開２００４−２２０６３４号公報および特開平４−３７２７４１号公報参照。
【発明の概要】
【０００３】
ところで、これらの文献に記載のように基板の両面にガイド溝を設けた後に、その基板の一方の面側に記録層等を形成するとき、他方の面のガイド溝が汚れたり、傷つくおそれがある。このような汚れや傷ができると、記録層や中間層など、他の層に欠陥や歪みが生じる原因となる。
【０００４】
そこで、本発明は、基板の両面にガイド溝を設けた後に記録層等を形成する際に、ガイド溝の汚れや傷つきを抑制し、光情報記録媒体の品質を向上することを目的とする。
【０００５】
前記した課題を解決するための本発明は、両面にトラッキング用のガイド溝が形成された基板と、当該基板の両側にそれぞれ少なくとも１層ずつ設けられる記録層と、記録層よりも外側に設けられるカバー層とを備えた光情報記録媒体の製造方法である。この製造方法は、片面に第１ガイド溝が形成された基板素材を用意する第１工程と、基板素材の第１ガイド溝が形成されていない面と、第２ガイド溝に対応するパターンが形成されたスタンパとの間にエネルギー硬化樹脂材料を配置し、エネルギー硬化樹脂材料を硬化させて第２ガイド溝を形成する第２工程と、スタンパを第２ガイド溝の保護部材として残したままスタンパ付の基板を保持して、第１ガイド溝側に少なくとも１層の記録層とカバー層とを設ける第３工程と、スタンパを剥離して第２ガイド溝を露出させる第４工程と、第２ガイド溝側に少なくとも１層の記録層とカバー層とを設ける第５工程とを備える。
【０００６】
このような製造方法によれば、第３工程において、第２ガイド溝が、保護部材としても機能するスタンパにより覆われて保護されているので、スタンパ付の基板を保持しながら第１ガイド溝側に少なくとも１層の記録層とカバー層とを設ける作業を行っても、第２ガイド溝に汚れが付着したり傷ついたりするおそれがない。これにより、第２ガイド溝の汚れや傷つきを抑制し、光情報記録媒体の品質を向上することができる。
本発明によれば、基板の両面にガイド溝を設けた後に記録層等を形成する際に、ガイド溝の汚れや傷つきを抑制し、光情報記録媒体の品質を向上することができる。
【０００７】
前記した製造方法において、第１工程は、射出成形により、片面に第１ガイド溝が形成された基板素材を作成することが望ましい。
【０００８】
このような製造方法によれば、基板素材自体と第１ガイド溝を同時に製造することができ、第１ガイド溝の形成を別途の工程で行う場合に比較して工程を少なくして生産効率を高くすることができる。
【０００９】
前記した製造方法では、第３工程および第５工程において、記録層を基板の両側にそれぞれ複数層設けることができる。
【００１０】
この場合、第３工程および前記第５工程において、記録層、中間層、記録層および粘着性を有する中間層をこの順に備える多層構造シートを貼ることで複数の前記記録層を設けることができる。
【００１１】
このように、多層構造シートを貼ることで記録層を設けると、効率良く光情報記録媒体を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の製造方法で製造される光情報記録媒体の一例を示す断面図である。
【図２】多層構造シートの製造方法を説明する断面図（ａ）〜（ｄ）である。
【図３】一実施形態の製造方法を説明する図であり、スタンパ付の基板を製造するまでの工程を示す断面図（ａ）〜（ｄ）である。
【図４】一実施形態の製造方法を説明する図であり、おもて面に複数の記録層を設けるまでの工程を示す断面図（ａ）〜（ｃ）である。
【図５】一実施形態の製造方法を説明する図であり、おもて面にカバー層を設ける工程の断面図（ａ）と、おもて面にハードコート層を設ける工程の断面図（ｂ）である。
【図６】一実施形態の製造方法を説明する図であり、スタンパを剥離した状態の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
次に、本発明に係る光情報記録媒体の製造方法の一実施形態について、図面を参照しながら説明する。以下の説明においては、まず、本発明の製造方法で製造される光情報記録媒体の一例について説明し、その後、その製造方法について説明する。
【００１４】
図１に示すように、光情報記録媒体１は、基板１０の両面にトラッキング用のガイド溝として第１ガイド溝１５Ａおよび第２ガイド溝１５Ｂが形成され、この基板１０の両側にそれぞれ複数の記録層２１が設けられるとともに複数の記録層２１の外側に、保護層としてのカバー層３０Ａ，３０Ｂが設けられている。具体的に、基板１０の両面には、それぞれ、反射層１１Ａ，１１Ｂとスペーサ層１２Ａ，１２Ｂが設けられ、スペーサ層１２Ａ，１２Ｂの外側に複数の記録層２１およびこれらの記録層２１の間に設けられた中間層２２（感圧粘着剤層２２Ａ、紫外線硬化樹脂層２２Ｂ）が設けられている。そして、複数の記録層２１の外側には、感圧粘着剤層３３を介してカバー層３０Ａ，３０Ｂが設けられ、カバー層３０Ａ，３０Ｂの外側には、カバー層３０Ａ，３０Ｂの傷つき防止のためにハードコート層３２Ａ，３２Ｂが設けられている。
【００１５】
＜基板＞
基板１０は、基板素材１０Ａと、この基板素材１０Ａの図１における下側に設けられたガイド層１０Ｂとからなる。
基板素材１０Ａは、記録層２１や中間層２２を支持するための支持体であり、形状、材質、厚さなどは特に限定されない。基板素材１０Ａは、一例としてポリカーボネートのディスクなどからなる。基板素材１０Ａは、図１における上側の面に第１ガイド溝１５Ａを有している。第１ガイド溝１５Ａは、例えば、螺旋状に設けられ、図１における上側にある記録層２１に情報を記録し、または、記録層２１から情報を読み出す際に光ピックアップ装置がトラッキングをするのに用いられる。なお、以下の説明において、第１ガイド溝１５Ａが設けられた図１の上側を「おもて側」といい、第２ガイド溝１５Ｂが設けられた下側を「裏側」という。
【００１６】
ガイド層１０Ｂは、エネルギー硬化樹脂の一例としての紫外線硬化樹脂からなり、基板素材１０Ａとは反対側の面に第２ガイド溝１５Ｂが形成されている。第２ガイド溝１５Ｂは、裏側にある記録層２１に情報を記録し、または、記録層２１から情報を読み出す際に光ピックアップ装置がトラッキングをするのに用いられる。なお、第１ガイド溝１５Ａおよび第２ガイド溝１５Ｂの溝の幅や深さは特に限定されない。
【００１７】
＜反射層＞
反射層１１Ａ，１１Ｂは、それぞれ、第１ガイド溝１５Ａおよび第２ガイド溝１５Ｂの表面に設けられている。反射層１１Ａ，１１Ｂは、例えば、銀やアルミニウムなどの金属などからなる。反射層１１Ａ，１１Ｂの厚さは、第１ガイド溝１５Ａおよび第２ガイド溝１５Ｂの形状を害さない限り特に限定されない。なお、反射層１１Ａ，１１Ｂの有無は任意である。
【００１８】
＜スペーサ層＞
スペーサ層１２Ａ，１２Ｂは、それぞれ、反射層１１Ａ，１１Ｂの外側の表面に設けられている。スペーサ層１２Ａ，１２Ｂは、記録界面からの反射光に対する、反射層１１Ａ，１１Ｂからの反射光による干渉を低減するよう、記録層２１との間隔をとるための層であり、本実施形態では、一例として、紫外線硬化樹脂からなる。スペーサ層１２Ａ，１２Ｂの有無は任意であり、例えば、反射層１１Ａ，１１Ｂの上に、直接、記録層２１が設けられていても構わない。
【００１９】
＜記録層＞
記録層２１は、互いの間に中間層２２を介して複数、本実施形態では、一例として基板１０のおもて側と裏側にそれぞれ１０層ずつ設けられている。
記録層２１は、情報が光学的に記録される感光材料からなる層であり、本発明においてその記録原理をはじめ、材料、厚さ、層構成などは特に限定されない。例えば、記録層２１は、記録光を照射することにより、屈折率、光吸収率または形状などが変化することでドット状の記録マークが形成されるものである。本実施形態においては、記録層２１は、一例として記録光の照射により形状が変化する構成となっている。そのため、記録層２１は、高分子バインダーと、高分子バインダーに分散された色素とを有してなる。記録層２１は、記録光を照射すると、色素が記録光を吸収して発生する熱により高分子バインダーが変形し、感圧粘着剤層２２Ａとの界面に感圧粘着剤層２２Ａに向かう凸形状が形成されることで記録マーク（情報）が記録される。より詳しくは、記録マークは、中央が記録層２１から感圧粘着剤層２２Ａに向かうように凸形状となり、この凸形状の周囲が、感圧粘着剤層２２Ａから記録層２１に向かうように凹形状（記録層２１を基準に見て）となる。なお、本明細書において、記録時に形状が変化して記録マークが形成される界面を「記録界面」という。
【００２０】
記録層２１は、比較的厚く形成されており、一層の記録層２１は、５０ｎｍ〜５μｍ、望ましくは１００ｎｍ〜３μｍ、より望ましくは２００ｎｍ〜２μｍで形成されている。記録層２１の厚さの上限は特に限定されないが、記録層２１の層数をできるだけ多くするため、記録層２１の厚さは５μｍ以下であるのが望ましい。なお、本実施形態において、記録層２１は、一例として１μｍの厚さであるとする。
【００２１】
記録層２１は、おもて側および裏側について、それぞれ、１〜１００層程度設けられる。光情報記録媒体１の記憶容量を大きくするため、記録層２１は多い方が望ましく、例えば１０層以上であるのが望ましい。また、本実施形態の記録原理を採用する場合、記録層２１は、記録界面を変形させる記録の前後において、屈折率が実質的に変化しないような材料を用いるとよい。
【００２２】
記録層２１は、記録光に対する吸収率（一光子吸収率）が１層当たり１０％以下であるのが望ましい。また、この吸収率は２％以下であるのがより望ましく、１％以下であるのがさらに好ましい。例えば、最も奥側の記録層２１に到達する記録光の強度が照射した記録光の強度の５０％以上であることを条件とすると、１０層の記録層を実現するためには、記録層１層当たりの吸収率が７％以下である必要があり、１５層の記録層を実現するためには、記録層１層当たりの吸収率が４％以下である必要があり、２５層の記録層を実現するためには、記録層１層当たりの吸収率が２％以下である必要があるからである。
【００２３】
記録層２１の形成方法は、特に限定されないが、色素材料と高分子バインダーを溶媒に溶解させた液を用いてスピンコートやブレードコートなどにより形成することができる。このときの溶媒としては、ジクロロメタン、クロロホルム、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、アセトン、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、トルエン、ヘキサンなどを用いることができる。
【００２４】
記録層２１に用いる高分子バインダーとしては、ポリ酢酸ビニル（ＰＶＡｃ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリエチルメタクリレート、ポリブチルメタクリレート、ポリベンジルメタクリレート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリ安息香酸ビニル、ポリピバル酸ビニル、ポリエチルアクリレート、ポリブチルアクリレートなどを用いることができる
【００２５】
記録層２１に用いる、上記記録光を吸収する色素としては、例えば、ヒートモード型記録材料として従来用いられていた色素（１光子吸収色素）を用いることができる。例えば、フタロシアニン系化合物、アゾ化合物、アゾ金属錯体化合物、メチン色素（シアニン系化合物、オキソノール系化合物、スチリル色素、メロシアニン色素）を用いることができる。また、多層の記録層を有する記録媒体において記録再生時における隣接記録層への影響を最小限にするためには、前記記録光を吸収する色素として、多光子吸収色素を含むことが望ましく、多光子吸収色素は、例えば、読出光の波長に線形吸収帯を持たない２光子吸収化合物であることが好ましい。これら色素は記録層中に１〜８０質量％含まれることが望ましい。より好ましくは５〜６０質量％、さらに好ましくは１０〜４０質量％が望ましい。
【００２６】
２光子吸収化合物としては、読出光の波長に線形吸収帯を持たないものであれば、特に限定されないが、例えば、下記一般式（１）で表される構造を有する化合物が挙げられる。
【００２７】
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【００２８】
（一般式（１）中、ＸおよびＹはハメットのシグマパラ値（σｐ値）が共にゼロ以上の値を有する置換基を表し、同一でもそれぞれ異なってもよく、ｎは１〜４の整数を表し、Ｒは置換基を表し、同一でもそれぞれ異なってもよく、ｍは０〜４の整数を表す。）
【００２９】
一般式（１）中、ＸおよびＹはハメット式におけるσｐ値が正の値を取るもの、所謂電子吸引性の基を指し、好ましくは例えばトリフルオロメチル基、ヘテロ環基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、カルバモイル基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基などが挙げられ、より好ましくはトリフルオロメチル基、シアノ基、アシル基、アシルオキシ基、またはアルコキシカルボニル基であり、最も好ましくはシアノ基、ベンゾイル基である。これらの置換基のうち、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、カルバモイル基、アシル基、アシルオキシ基、およびアルコキシカルボニル基は、溶媒への溶解性の付与等の他、様々な目的で、更に置換基を有してもよく、置換基としては、好ましくは、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アリールオキシ基などが挙げられる。
【００３０】
ｎは好ましくは２または３であり、最も好ましくは２である。ｎが５以上になるほど、線形吸収が長波長側に出てくるようになり、７００ｎｍよりも短波長の領域の記録光を用いての非共鳴２光子吸収記録ができなくなる。
Ｒは置換基を表し、置換基としては、特に限定されず、具体的には、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アリールオキシ基などが挙げられる。
【００３１】
一般式（１）で表される構造を有する化合物の具体例としては、特に限定されないが、下記の化学構造式Ｄ−１〜Ｄ−２１の化合物を使用することができる。
【００３２】
2014132705.tif 000004
【００３３】
＜中間層＞
中間層２２は、複数の記録層２１の間に配置されている。言い換えると、中間層２２と記録層２１とは交互に配置されている。中間層２２は、複数の記録層２１の間で層間クロストーク（隣接する記録層２１間の信号の混じり合い）が生じないように、記録層２１同士の間隔を所定量空けるために設けられている。このため、中間層２２の厚さは、２μｍ以上である。中間層２２は、層間クロストークが防止できる限り薄い方がよく、例えば、２０μｍ以下が望ましい。一例として、本実施形態では、感圧粘着剤層２２Ａと紫外線硬化樹脂層２２Ｂの厚さは、それぞれ１０μｍである。すなわち、本実施形態において感圧粘着剤層２２Ａと紫外線硬化樹脂層２２Ｂは、同じ厚さである。このように、感圧粘着剤層２２Ａと紫外線硬化樹脂層２２Ｂが同じ厚さであることで、記録界面のピッチが、１２μｍ、１０μｍ、１２μｍ、１０μｍ・・・と一定ピッチではなくなる。これにより、再生中の記録界面からの反射光である再生光と、再生中の記録界面に隣接する記録界面における読出光の反射光との干渉が、再生光に与える影響を小さくすることができる。
【００３４】
隣接する２つの記録層２１の間には、感圧粘着剤層２２Ａおよび紫外線硬化樹脂層２２Ｂの一方が設けられている。そして、感圧粘着剤層２２Ａと紫外線硬化樹脂層２２Ｂは、記録層２１を挟んで交互に配置されている。すなわち、図１に示すように、基板１０から順に、感圧粘着剤層２２Ａ、記録層２１、紫外線硬化樹脂層２２Ｂ、記録層２１の順序で、これらの層が繰り返し配置されている。なお、記録層２１、紫外線硬化樹脂層２２Ｂ、記録層２１および感圧粘着剤層２２Ａの一連の４層は、製造時に多層構造シート２０として用意されるものである。
【００３５】
本実施形態の記録原理を採用する場合、感圧粘着剤層２２Ａおよび紫外線硬化樹脂層２２Ｂは、記録時および再生時のレーザ光の照射により変化しない材料が用いられる。また、感圧粘着剤層２２Ａおよび紫外線硬化樹脂層２２Ｂは、記録光や読出光、再生光の損失を最小限にするため、記録光や読出光、再生光を実質的に吸収しない、つまり、透明な材料からなることが望ましい。ここでの透明とは、吸収率が１％以下であることをいう。
なお、感圧粘着剤層２２Ａおよび紫外線硬化樹脂層２２Ｂは、それぞれ、屈折率分布が略均一な層である。
【００３６】
感圧粘着剤層２２Ａと紫外線硬化樹脂層２２Ｂとは、互いに異なる屈折率を有する。そして、紫外線硬化樹脂層２２Ｂは、記録層２１と実質的に同じ屈折率を有する。具体的には、記録層２１と紫外線硬化樹脂層２２Ｂとは、記録層２１の屈折率をｎ１、紫外線硬化樹脂層２２Ｂの屈折率をｎ３として、
（（ｎ３−ｎ１）／（ｎ３＋ｎ１））２≦０．０００３
を満たす程度、つまり、紫外線硬化樹脂層２２Ｂと記録層２１の界面（非記録界面）での反射率が０．０００３（０．０３％）以下である程度に、同等の屈折率を有するのが望ましい。
記録層２１と紫外線硬化樹脂層２２Ｂの屈折率は、非記録界面での反射を無くすため、近ければ近いほど良く、記録層２１と紫外線硬化樹脂層２２Ｂの屈折率の差は、好ましくは０．０５以下、より好ましくは０．０３以下、さらに好ましくは０．０１以下、最も好ましくは０である。一例としては、記録層２１の屈折率ｎ１は、１．５６５であり、紫外線硬化樹脂層２２Ｂの屈折率ｎ３は、１．５６４である。このとき、（（ｎ３−ｎ１）／（ｎ３＋ｎ１））２は、ほぼ０である。
【００３７】
一方、感圧粘着剤層２２Ａと記録層２１とは、異なる屈折率を有している。具体的に、感圧粘着剤層２２Ａの屈折率と記録層２１の屈折率の差は、記録層２１と紫外線硬化樹脂層２２Ｂの屈折率の差よりも大きく、かつ、０．１１以下であるのが好ましい。より具体的には、記録層２１と感圧粘着剤層２２Ａとは、感圧粘着剤層２２Ａの屈折率をｎ２として、
０．０００５≦（（ｎ２−ｎ１）／（ｎ２＋ｎ１））２≦０．０４
を満たす程度に異なるのが望ましい。
【００３８】
反射率が０．０００５以上であることで、記録界面での読出光の反射光量を大きくして、情報の再生時に、Ｓ／Ｎ比を大きくすることができる。また、記録界面の反射率が０．０４以下であることで、記録界面での読出光の反射光量を適度な大きさに抑えて、記録時および再生時において記録光または読出光が大きな減衰を受けることなく深い記録層２１に到達するのを可能にする。これにより、記録層２１を多数設けて高容量化を図ることが可能となる。
【００３９】
一例としては、記録層２１の屈折率ｎ１は、１．５６５であり、感圧粘着剤層２２Ａの屈折率ｎ２は、１．４７７である。このとき、（（ｎ２−ｎ１）／（ｎ２＋ｎ１））２は０．０００８（０．０８％）である。
【００４０】
本実施形態において、感圧粘着剤層２２Ａは、他の面への貼り付けを可能にする粘着性を有し、記録層２１よりも軟らかくなっている。具体的には、例えば、感圧粘着剤層２２Ａは、ガラス転位温度が記録層２１のガラス転位温度よりも低くなっている。このような構成は、記録層２１の材料として用いることができる高分子バインダー（樹脂）や、感圧粘着剤層２２Ａの材料として用いることができる樹脂を適切に選択することにより実現することができる。
このように、感圧粘着剤層２２Ａを記録層２１よりも軟らかい構成とすることで、記録層２１を記録光により加熱して膨脹させたときに、感圧粘着剤層２２Ａが変形しやすく、記録界面の変形を容易に起こさせることができる。
【００４１】
紫外線硬化樹脂層２２Ｂの材料としては、感圧粘着剤層２２Ａよりも硬い、つまり、ガラス転移温度が高い熱可塑性樹脂やエネルギー硬化型樹脂が好ましい。エネルギー硬化樹脂を用いる場合、材料を適度な厚さに塗布しやすく、また、すぐに固めることができるので、多層構造シート２０の製造を容易にすることができる。また、エネルギー硬化樹脂を用いる場合には、紫外線硬化樹脂を採用するのが望ましい。このように、紫外線硬化樹脂層２２Ｂを紫外線硬化樹脂で形成することによって、扱いが容易な紫外線を当てることで、簡単に紫外線硬化樹脂層２２Ｂを作製することができるので、大面積の多層構造シート２０を製造するのに有利となる。
【００４２】
本実施形態において、紫外線硬化樹脂層２２Ｂは、記録層２１と同等の硬さ、または、記録層２１よりも硬い構成とすることができる。具体的には、例えば、紫外線硬化樹脂層２２Ｂは、ガラス転位温度が記録層２１のガラス転位温度以上のものとすることができる。このような構成は、記録層２１の材料として用いることができる樹脂や、紫外線硬化樹脂層２２Ｂの材料として用いることができる樹脂を適切に選択することにより実現することができる。
【００４３】
記録層２１の屈折率ｎ１と紫外線硬化樹脂層２２Ｂの屈折率ｎ３との差を小さくし、望ましくは０にするためには、記録層２１および紫外線硬化樹脂層２２Ｂに用いる材料の配合を調整するとよい。具体的には、記録層２１の材料には、２光子吸収化合物などの色素が高分子バインダーに分散されているので、色素または高分子バインダーの屈折率を適切に選択し、それぞれの配合比率を変更することによって屈折率ｎ１を任意に調整することができる。また、高分子バインダーは、類似の基本構造を有していても重合度が異なると屈折率も変化するため、重合度が異なる高分子バインダーを用いたり、高分子バインダーの重合度を調整したりすることでも屈折率ｎ１の調整が可能である。さらに、複数の高分子バインダーを配合することで調整することも可能である。また、屈折率調整剤（無機微粒子等）を添加して屈折率ｎ１を調整することも可能である。
【００４４】
紫外線硬化樹脂層２２Ｂの屈折率ｎ３を調整する場合、紫外線硬化樹脂層２２Ｂの材料として用いることができる樹脂などのポリマー材料の重合度を調整することで、屈折率ｎ３を調整することができる。また、中間層２２として使用可能な材料を任意に配合して屈折率ｎ３を調整したり、屈折率調整剤（無機微粒子等）を添加して調整したりすることも可能である。
【００４５】
＜カバー層＞
カバー層３０Ａ，３０Ｂは、記録層２１および中間層２２（感圧粘着剤層２２Ａおよび紫外線硬化樹脂層２２Ｂ）を保護するために設けられる層であり、記録再生光が透過可能な材料、例えば、ポリカーボネートからなる。カバー層３０Ａ，３０Ｂは、数十μｍ〜数ｍｍの適宜な厚さで設けられる。
【００４６】
以上に本実施形態に係る光情報記録媒体１について説明したが、光情報記録媒体は、前記した実施形態に限定されない。例えば、前記実施形態では、記録層２１の厚さを５０ｎｍ以上としたが、５０ｎｍ未満であっても構わない。また、前記実施形態においては、色素として１光子吸収色素と多光子吸収色素の両方を用いることができることを例示したが、１光子吸収色素のみを用いてもよいし、多光子（２光子）吸収色素のみを用いてもよい。
【００４７】
また、前記実施形態では、記録層２１は、高分子バインダーと、高分子バインダーに分散された色素とを有していたが、本発明はこれに限定されず、記録層２１は、色素が結合された高分子を有してもよい。
【００４８】
具体的には、記録層２１は、下記の一般式（２）で示す構造を有した高分子を含有していてもよい。
【００４９】
2014132705.tif 000005
【００５０】
（一般式（２）中、Ｙはハメットのシグマパラ値（σp値）が共にゼロ以上の値を有する置換基を表し、Ｘも同種の置換基を表す。ＸおよびＹは同一種でもそれぞれ異なってもよく、ｎは１〜４の整数を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は置換基を表し、同一種でもそれぞれ異なってもよく、lは１以上、ｍは０〜４の整数を表す。）
【００５１】
＜製造方法＞
以上のような光情報記録媒体１の製造方法について説明する。
［多層構造シートの製造方法］
まず、多層構造シート２０の製造方法について説明する。
図２（ａ）に示すように、剥離シート６１の上に紫外線硬化樹脂をブレードコートなどにより塗布し、紫外線ランプ６９で紫外線を照射して硬化させ、紫外線硬化樹脂層２２Ｂを形成する。そして、図２（ｂ）に示すように、紫外線硬化樹脂層２２Ｂの上に記録材料をブレードコートなどにより塗布し、乾燥させ、記録層２１を形成する。次に、図２（ｃ）に示すように、剥離シート６２に感圧粘着剤層２２Ａが塗布されたシートを用意し、感圧粘着剤層２２Ａを記録層２１に貼り合わせる。さらに、図２（ｄ）に示すように、剥離シート６１を剥がした後、紫外線硬化樹脂層２２Ｂの上にブレードコートなどにより記録材料を塗布し、乾燥させ、もう一つの記録層２１を形成する。これにより、剥離シート６２に支持された多層構造シート２０が製造される。
【００５２】
［光情報記録媒体の製造方法］
次に、多層構造シート２０を利用して光情報記録媒体１を製造する方法について説明する。
まず、図３（ａ）に示すように、射出成形などにより、おもて面に第１ガイド溝１５Ａを有する基板素材１０Ａを成形する（第１工程）。基板素材１０Ａは、例えば、中心に円形の孔が空いたディスク形状に成形しておく。
【００５３】
一方、図３（ｂ）に示すように、一方の面に第２ガイド溝１５Ｂを反転させた凹凸形状５１を有するスタンパ５０を用意する。このスタンパ５０は、例えば、剥離性に優れた樹脂を用いて射出成形などにより成形するとよい。
【００５４】
次に、図３（ｃ）に示すように、スタンパ５０の凹凸形状５１がある面に紫外線硬化樹脂材料７１を滴下する。そして、図３（ｄ）に示すように、基板素材１０Ａの裏側の平坦面１６を紫外線硬化樹脂材料７１に合わせ、回転させることで、基板素材１０Ａとスタンパ５０との間に紫外線硬化樹脂材料７１の薄い層を形成する。すなわち、基板素材１０Ａの第１ガイド溝１５Ａが形成されていない平坦面１６とスタンパ５０との間に紫外線硬化樹脂材料７１を配置する。そして、紫外線ランプ６９で紫外線を照射して紫外線硬化樹脂材料７１を硬化させてガイド層１０Ｂを形成する。ガイド層１０Ｂの裏側の面には、第２ガイド溝１５Ｂが形成される（第２工程）。なお、基板素材１０Ａおよびスタンパ５０の少なくとも一方を紫外線（エネルギー線）に対して透明な材料から構成することで硬化が紫外線硬化樹脂材料７１に紫外線を照射することができる。
【００５５】
次に、図４および図５に示すように、スタンパ５０を第２ガイド溝１５Ｂの保護部材として残したままスタンパ５０が付いた基板１０を保持して、第１ガイド溝１５Ａ側に複数の記録層２１とカバー層３０Ａを設ける（第３工程）。スタンパ５０が付いた基板１０の保持は、例えば、スタンパ５０の裏側の面を真空吸着することで行うことができるが、これに限定されず、例えば、基板１０の外周や、内周を保持してもよい。
【００５６】
第３工程について具体的に説明すると、まず、図４（ａ）に示すように、基板１０の第１ガイド溝１５Ａに、スパッタリングなどにより、反射層１１Ａを形成する。そして、図４（ｂ）に示すように、反射層１１Ａの上に紫外線硬化樹脂材料をスピンコートなどにより塗布し、紫外線ランプ６９で紫外線を照射して硬化させ、スペーサ層１２Ａを形成する。
【００５７】
そして、予め用意しておいた多層構造シート２０の剥離シート６２を剥がして、図４（ｃ）に示すように、感圧粘着剤層２２Ａをスペーサ層１２Ａの上に合わせて貼り付ける。さらに、既に貼り付けた多層構造シート２０の上、つまり、一番外側の記録層２１の上に、感圧粘着剤層２２Ａを合わせるようにして多層構造シート２０を貼る工程を４回繰り返す。これにより、計１０層の記録層２１が形成される。
【００５８】
次に、図５（ａ）に示すように、感圧粘着剤層３３が設けられたカバー層３０Ａを用意し、感圧粘着剤層３３を最外層の記録層２１に合わせてカバー層３０Ａを貼り付ける。そして、図５（ｂ）に示すように、カバー層３０Ａの上にスピンコートなどによりハードコート層３２Ａを形成する。
【００５９】
次に、図６に示すように、スタンパ５０を剥離して、第２ガイド溝１５Ｂを露出させる（第４工程）。そして、ハードコート層３２Ａを真空吸着するなどしてワークを保持し、おもて側と同様にして、基板１０の第２ガイド溝１５Ｂが設けられた裏側に、反射層１１Ｂ、スペーサ層１２Ｂ、複数の記録層２１および中間層２２、カバー層３０Ｂ、ハードコート層３２Ｂを形成する（第５工程）。
【００６０】
以上のようにして、本実施形態の製造方法によれば、光情報記録媒体１を製造することができる。この製造方法によると、第３工程において、第２ガイド溝１５Ｂが、保護部材としても機能するスタンパ５０により覆われて保護されているので、スタンパ５０が付いた基板１０を保持しながら第１ガイド溝１５Ａ側に記録層２１やカバー層３０Ａを形成しても、第２ガイド溝１５Ｂに汚れが付着したり傷ついたりするおそれがない。このため、第２ガイド溝１５Ｂの汚れや傷つきを抑制し、このような汚れや傷つきに起因する欠陥の発生を抑制することができる。すなわち、光情報記録媒体１の品質を向上することができる。
【００６１】
また、この製造方法によれば、基板素材１０Ａは、射出成形により、ディスク形状を成形するのと同時に第１ガイド溝１５Ａが形成されるので、工程を少なくして生産効率を高くすることができる。
【００６２】
さらに、この製造方法では、複数の記録層２１を、多層構造シート２０を貼り重ねることにより形成するので効率良く光情報記録媒体１を製造することができる。特に、本実施形態のように、記録層２１と中間層２２の間の記録界面を変形させる構成の光情報記録媒体１では、中間層２２の一部を軟らかい感圧粘着剤層２２Ａにすることで、変形を容易にして記録を行いやすくすることができる。
【００６３】
以上に本発明の実施形態に係る光情報記録媒体１の製造方法を説明したが、本発明の製造方法は前記した実施形態に限定されることなく、適宜変形して実施することができる。
例えば、記録層２１は、基板１０の両側にそれぞれ複数設けるのではなく、１層ずつ、計２層を設ける構成でも構わない。この場合、中間層２２は設ける必要が無い。
【００６４】
また、前記実施形態においては、裏側の複数の記録層２１およびカバー層３０Ｂを設けるときに、ハードコート層３２Ａを真空吸着することとしたが、ハードコート層３２Ａの上に、保護層をさらに設け保護層を保持して裏側の記録層２１およびカバー層３０Ｂを設けるようにしてもよい。この場合、裏側の製造が終わった後に、保護層を剥がして完成品とすることができる。
【００６５】
＜実施例＞
次に、本発明の光情報記録媒体の製造方法の実施例について説明する。この実施例においては、前記実施形態で説明した製造方法と略同様の方法で光情報記録ディスクを作成した。
【００６６】
［スタンパの作成］
実施例においては、射出成形により、片面に第２ガイド溝を反転させた凹凸面を有するスタンパをポリカーボネートにより作成した。凹凸面の剥離性を向上させるため、凹凸面にスパッタ装置により銀合金ＧＤ０２（コベルコ科研製）を１０ｎｍ積層した。スタンパの形状は、厚さ０．８ｍｍ、直径１２０ｍｍの円板である。
【００６７】
［紫外線硬化樹脂材料の作成］
下記の材料を５時間、撹拌して混合し、紫外線硬化樹脂材料を作成した。
アクリル樹脂ＥＡ−Ｆ５００３（大阪ガスケミカル株式会社製）７９質量部
アクリル樹脂Ｍ−３１０（東亞合成株式会社製）              ２１質量部
光重合開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４（Ｃｉｂａ  ＡＧ製）      ３質量部
【００６８】
［多層構造シートの作成］
紫外線硬化樹脂材料を剥離フィルムＨＹ−ＮＳ８０（東山フィルム株式会社製）上にブレード塗布し、高圧ＵＶランプＵＭ−１０２（ウシオ電機株式会社製）で紫外線を照射し、中間層としての紫外線硬化樹脂層を形成した。触針式表面形状測定器ＤｅｋｔａｋＸＴ（株式会社アルバック製）で測定した紫外線硬化樹脂層の厚さは１０μｍであった。
【００６９】
下記の材料を混合し、２０時間撹拌して混合し、記録層塗布液を調整した。
ポリマーバインダ：ポリメタクリル酸メチル（シグマアルドリッチジャパン株式会社製）                                            ６３質量部
光吸収材料：２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン（シグマアルドリッチジャパン株式会社製）                      ３７質量部
溶媒：２−ブタノン（和光純薬工業株式会社製）        ２２００質量部
【００７０】
得られた記録層塗布液を紫外線硬化樹脂層の上にブレード塗布し、１００℃のオーブン中で３分間乾燥した。記録層膜厚は０．４μｍであった。
【００７１】
厚さ１０μｍの粘着シートＤＡ−３０１０（日立化成製）の軽剥離フィルムを剥離し、上記記録層にラミネーターＲＳＬ−３８２Ｓ（日本オフィスラミネーター株式会社製）を用いて貼り合せた。紫外線硬化樹脂層に接している剥離フィルムを剥離し、記録層塗布液を紫外線硬化樹脂層上にブレード塗布し、１００℃のオーブン中で３分間乾燥した。記録層膜厚は０．４μｍであった。得られた多層構造シート（図２（ｄ））をディスク形状に切り抜いた。
【００７２】
［カバーシートの作成］
ポリカーボネートフィルム（帝人化成製）と粘着シートＤＡ−３０１０をラミネーターＲＳＬ−３８２Ｓ（日本オフィスラミネーター製）で貼り合せ、ディスク形状に切り抜き、カバー層となるカバーシートを作成した。
【００７３】
［光情報記録ディスクの作成］
片面に第１ガイド溝となるガイド溝を設けた厚さ０．８ｍｍ、直径１２０ｍｍのポリカーボネート製基板を射出成形により作成した。スタンパをスピンコーターに凹凸面を上にして置き、紫外線硬化樹脂材料１ｇを滴下し（図３（ｃ））、その上に基板の第１ガイド溝の無い側を下にして重ねた（図３（ｄ））。これを、５０００ｒｐｍで３０秒間回転させて紫外線硬化樹脂材料をスピンコートし、キセノンフラッシュランプを１秒間照射し紫外線硬化樹脂材料を硬化させた。
【００７４】
次に、基板の第１ガイド溝側に、スパッタ装置で銀合金ＧＤ０２を１０ｎｍ積層し、反射層を形成した。この反射層の上に紫外線硬化樹脂材料１ｇを滴下し、２０００ｒｐｍで２０秒間の条件でスピンコートした後、キセノンフラッシュランプを１秒間照射してスペーサ層を形成した（図４（ｂ））。
【００７５】
次に、多層構造シートの感圧粘着剤層側の重剥離フィルムを剥離し、スペーサ上に貼り合せた。これを５回繰り返した（図４（ｃ））。その上に、カバーシートの粘着シートの重剥離フィルムを剥離し、貼り合せた（図５（ａ））。カバー層の上にハードコート材料ＳＫ１１００（デクセリアルズ株式会社製）１ｇを滴下し、３０００ｒｐｍ、１０秒の条件でスピンコートした後、キセノンフラッシュランプを１秒間照射しハードコート層を形成した（図５（ｂ））。
【００７６】
スタンパを剥離し（図６）、ガイド層上に、上記と同じ方法で反射層、記録層および中間層、カバー層、ハードコート層を形成し、光情報記録ディスクを作成した（図１）。
完成した光情報記録ディスクを光学顕微鏡で観察したところ、長さが１００μｍ以上の欠陥は０個であった。
【００７７】
＜比較例＞
［光情報記録ディスクの作成］
片面に第１ガイド溝となるガイド溝を設けた厚さ０．８ｍｍ、直径１２０ｍｍのポリカーボネート製基板を射出成形により作成した。スタンパをスピンコーターに凹凸面を上にして置き、紫外線硬化樹脂材料１ｇを滴下し（図３（ｃ））、その上に基板の第１ガイド溝の無い側を下にして重ねた（図３（ｄ））。これを、５０００ｒｐｍで３０秒間回転させて紫外線硬化樹脂材料をスピンコートし、キセノンフラッシュランプを１秒間照射し紫外線硬化樹脂材料を硬化させた。そして、スタンパを剥離して第２ガイド溝を露出させた。
【００７８】
その後、実施例と同様にして、基板の第１ガイド溝側に、反射層、スペーサ層、記録層および中間層、カバー層、ハードコート層を形成し、さらに、第２ガイド溝側に、反射層、スペーサ層、記録層および中間層、カバー層、ハードコート層を形成した。
完成した光情報記録ディスクを光学顕微鏡で観察したところ、長さが１００μｍ以上の欠陥は５個であった。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【国際調査報告】
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