(57)【要約】  本発明は、（Ａ）不飽和炭化水素基を有する変性ノボラック型フェノール樹脂、（Ｂ）メタクレゾール及びパラクレゾールから得られるノボラック型フェノール樹脂、（Ｃ）オルトクレゾールから得られるノボラック型フェノール樹脂、（Ｄ）光により酸を発生する化合物及び（Ｅ）多塩基酸又は多塩基酸無水物を含有し、（Ｅ）成分の含有量が、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分及び（Ｄ）成分の総量１００質量部に対して、４０質量部未満である、ポジ型感光性樹脂組成物に関する。
2014091997.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）不飽和炭化水素基を有する変性ノボラック型フェノール樹脂、
（Ｂ）メタクレゾール及びパラクレゾールから得られるノボラック型フェノール樹脂、
（Ｃ）オルトクレゾールから得られるノボラック型フェノール樹脂、
（Ｄ）光により酸を発生する化合物、及び、
（Ｅ）多塩基酸又は多塩基酸無水物
を含有し、
前記（Ｅ）成分の含有量が、前記（Ａ）成分、前記（Ｂ）成分、前記（Ｃ）成分及び前記（Ｄ）成分の総量１００質量部に対して、４０質量部未満である、ポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項２】
前記（Ａ）成分の重量平均分子量が、１０００〜１５０００である、請求項１に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項３】
前記（Ｂ）成分の重量平均分子量が、８００〜５００００である、請求項１又は２に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項４】
前記（Ｃ）成分の重量平均分子量が、８００〜５０００である、請求項１〜３のいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項５】
前記（Ｃ）成分の含有量が、前記（Ａ）成分、前記（Ｂ）成分、前記（Ｃ）成分及び前記（Ｄ）成分の総量１００質量部に対して２０〜６０質量部である、請求項１〜４のいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項６】
前記不飽和炭化水素基の炭素数が４〜１００である、請求項１〜５のいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項７】
（Ｆ）フッ素系界面活性剤を更に含有する、請求項１〜６のいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項８】
（Ｇ）密着性付与剤を更に含有する、請求項１〜７のいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項９】
少なくとも一方の面が離型処理された支持体フィルムと、前記支持体フィルムの離型処理面上に設けられた感光層と、を備える感光性フィルムであって、
前記感光層が、請求項１〜８のいずれか一項に記載のポジ型感光性樹脂組成物から形成された層である、感光性フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感光性樹脂組成物、及びこれを用いた感光性フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体集積回路、液晶表示素子、プリント配線板等の電子部品のパターニング等に利用される画像形成方法として、ノボラック型フェノール樹脂と１，２−キノンジアジド化合物とを含有するポジ型感光性樹脂組成物を原料としたポジ型フォトレジストを利用する方法が知られている（例えば、特許文献１〜６）。【０００３】
ポジ型感光性樹脂組成物を基板等に塗布して感光層を形成する場合、その膜厚は０．５〜数μｍが一般的である。このようなポジ型感光性樹脂組成物を用いると、広い寸法範囲に亘る画像パターンの形成が可能である。その寸法範囲は、例えば、０．３μｍ程度のサブハーフミクロン領域から数百μｍ程度のかなり大きな寸法幅のものまで、広範に亘る。これにより、多種多様な基板表面の微細加工を可能にしている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平６−２７６５７号公報
【特許文献２】特開２０００−１０５４６６号公報
【特許文献３】特開２００７−３１６５７７号公報
【特許文献４】国際公開第０７／０２６４７５号
【特許文献５】特開２００８−１１２１３４号公報
【特許文献６】特開２０１０−３９２１４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ポジ型感光性樹脂組成物は、光を照射した部分（露光部）がアルカリ水溶液で除去でき、光が照射していない部分（未露光部）は膜として残るという特性を有するため、残った膜に再度光照射することよりパターンを形成することができる。そこで、ポジ型感光性樹脂組成物を用いて、２層以上の金属層を備える基板に対して、感光層を露光し現像した後に金属層をエッチングする工程を繰り返し行い、基板上に金属層のパターンを形成することが検討されている。【０００６】
しかしながら、従来のポジ型感光性樹脂組成物では、繰り返し現像による未露光部の耐現像液性と、露光部の現像性とを両立できる感光層を形成することは難しい。【０００７】
また、特にタッチパネルセンサのパターニング等に利用される画像形成用途では、配線の微細化、小型化、低コスト化、レアメタルからの脱却によるリスク回避、及び、省エネルギー化に伴い、用いられる金属層が多様化している。【０００８】
そこで、本発明は、各種金属への密着力に優れると共に、露光部の現像性及び未露光部の耐現像液性に十分に優れ、弱アルカリ性現像液で繰り返し現像が可能な感光層を形成するポジ型感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性フィルムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、（Ａ）不飽和炭化水素基を有する変性ノボラック型フェノール樹脂、（Ｂ）メタクレゾール及びパラクレゾールから得られるノボラック型フェノール樹脂、（Ｃ）オルトクレゾールから得られるノボラック型フェノール樹脂、（Ｄ）光により酸を発生する化合物及び（Ｅ）多塩基酸又は多塩基酸無水物を含有し、（Ｅ）成分の含有量が、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分及び（Ｄ）成分の総量１００質量部に対して、４０質量部未満である、ポジ型感光性樹脂組成物を提供する。【００１０】
上記（Ａ）成分の重量平均分子量は、１０００〜１５０００であるとよい。また、上記（Ｂ）成分の重量平均分子量は、８００〜５００００であるとよい。さらに、上記（Ｃ）成分の重量平均分子量は、８００〜５０００であるとよい。【００１１】
上記（Ｃ）成分の含有量は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分及び（Ｄ）成分の総量１００質量部に対して２０〜６０質量部であるとよい。【００１２】
上記（Ａ）成分が有する不飽和炭化水素基の炭素数は、４〜１００であるとよい。【００１３】
また、上記感光性樹脂組成物は、（Ｆ）フッ素系界面活性剤を更に含有することができる。さらに、上記感光性樹脂組成物は、（Ｇ）密着性付与剤を更に含有することができる。【００１４】
本発明はまた、少なくとも一方の面が離型処理された支持体フィルムと、該支持体フィルムの離型処理面上に設けられた感光層と、を備える感光性フィルムであって、該感光層が、上記本発明のポジ型感光性樹脂組成物から形成された層である感光性フィルムを提供する。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、各種金属への密着力に優れると共に、露光部の現像性及び未露光部の耐現像液性に十分に優れ、弱アルカリ性現像液で繰り返し現像が可能な感光層を形成するポジ型感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性フィルムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の感光性フィルムの一実施形態を示す模式断面図である。
【図２】ネガ型感光性樹脂組成物を用いたタッチパネルの製造方法を示す摸式断面図である。
【図３】ポジ型感光性樹脂組成物を用いたタッチパネルの製造方法の一態様を示す摸式断面図である。
【図４】本発明を利用して得られるタッチパネルの一態様を示す上面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、必要に応じて図面を参照しつつ、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、図面中、同一要素には同一符号を付すこととし、重複する説明は省略する。また、上下左右等の位置関係は、特に断らない限り、図面に示す位置関係に基づくものとする。更に、図面の寸法比率は図示の比率に限られるものではない。
【００１８】
本明細書において、「層」との語は、平面図として観察したときに、全面に形成されている形状の構造に加え、一部に形成されている形状の構造も包含される。本明細書において、「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても、その工程の所期の目的が達成されれば、本用語に含まれる。本明細書において、「〜」を用いて示された数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。
【００１９】
本実施形態のポジ型感光性樹脂組成物は、（Ａ）成分である不飽和炭化水素基を有する変性ノボラック型フェノール樹脂と、（Ｂ）成分であるメタクレゾール及びパラクレゾールから得られるノボラック型フェノール樹脂と、（Ｃ）成分であるオルトクレゾールから得られるノボラック型フェノール樹脂と、（Ｄ）成分である光により酸を発生する化合物と、（Ｅ）成分である多塩基酸又は多塩基酸無水物とを必須成分として含有し、（Ｅ）成分の含有量が、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分及び（Ｄ）成分の総量１００質量部に対して、４０質量部未満であることを特徴とする。
【００２０】
以下、ポジ型感光性樹脂組成物を構成する各成分について詳細に説明する。
【００２１】
＜（Ａ）成分＞
（Ａ）成分は、不飽和炭化水素基を有する変性ノボラック型フェノール樹脂である。ノボラック型フェノール樹脂は、オルトクレゾール、又は、メタクレゾール及びパラクレゾールを主成分として含むフェノール誘導体と、アルデヒド類との重縮合生成物である。重縮合は、酸等の触媒存在下で行われる。不飽和炭化水素基を有する変性フェノール樹脂は、フェノール誘導体と、不飽和炭化水素基を有する化合物（以下、場合により単に「不飽和炭化水素基含有化合物」という。）との反応生成物（以下、「不飽和炭化水素基変性フェノール誘導体」という。）と、アルデヒド類との縮重合生成物であってもよく、フェノール樹脂と不飽和炭化水素基含有化合物との反応生成物であってもよい。
【００２２】
不飽和炭化水素基を有する変性ノボラック型フェノール樹脂は、一般に、上記クレゾール等のフェノール誘導体と、不飽和炭化水素基を有する化合物との反応生成物と、アルデヒド類との縮重合生成物、又は、ノボラック型フェノール樹脂と不飽和炭化水素基含有化合物との反応生成物である。
【００２３】
不飽和炭化水素基を有する変性ノボラック型フェノール樹脂としては、不飽和炭化水素基を有する化合物で変性されたオルトクレゾール、又は、不飽和炭化水素基を有する化合物で変性されたメタクレゾール及びパラクレゾールから得られるノボラック型フェノール樹脂を用いることができる。また、不飽和炭化水素基を有する変性ノボラック型フェノール樹脂として、ノボラック型フェノール樹脂を、不飽和炭化水素基含有化合物で変性した樹脂を用いることもできる。
【００２４】
メタクレゾール及びパラクレゾールを主成分として含むフェノール誘導体を用いる場合、メタクレゾールとパラクレゾールとの質量比は、現像性及び耐現像液性の観点から、メタクレゾール／パラクレゾールが、３０／７０〜７０／３０であることが好ましく、３５／６５〜６５／４５であることがより好ましく、４０／６０〜６０／４０であることが更に好ましい。
【００２５】
（Ａ）成分を得るために用いられるフェノール誘導体として、クレゾール以外のフェノール誘導体を共重合することができる。クレゾール以外のフェノール誘導体としては、例えば、フェノール；２−エチルフェノール、３−エチルフェノール、４−エチルフェノール、２−ブチルフェノール、３−ブチルフェノール、４−ブチルフェノール、２，３−キシレノール、２，４−キシレノール、２，５−キシレノール、２，６−キシレノール、３，４−キシレノール、３，５−キシレノール、２，３，５−トリメチルフェノール、３，４，５−トリメチルフェノール等のアルキルフェノール；メトキシフェノール、２−メトキシ−４−メチルフェノール等のアルコキシフェノール；ビニルフェノール、アリルフェノール等のアルケニルフェノール；ベンジルフェノール等のアラルキルフェノール；メトキシカルボニルフェノール等のアルコキシカルボニルフェノール；ベンゾイルオキシフェノール等のアリールカルボニルフェノール；クロロフェノール等のハロゲン化フェノール；カテコール、レゾルシノール、ピロガロール等のポリヒドロキシベンゼンが挙げられる。これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いられる。これらのフェノール誘導体は本発明が奏する効果を損ねない範囲で添加することができ、その添加量は、（Ａ）成分を得るために用いられるフェノール誘導体の総量を基準として、３０質量％以下であることが好ましい。
【００２６】
アルデヒド類としては、例えば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、アセトン、グリセルアルデヒド及びグリオキシル酸メチルが挙げられる。また、パラホルムアルデヒド、トリオキサン等のホルムアルデヒドの前駆体をフェノール誘導体との反応に用いてもよい。これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いられる。
【００２７】
不飽和炭化水素基含有化合物の不飽和炭化水素基は、レジストパターンの密着性及び感光層の可とう性の観点から、２以上の不飽和基を含むことが好ましい。また、樹脂組成物とした時の相溶性及び感光層を形成した時の可とう性の観点からは、不飽和炭化水素基の炭素数は、４〜１００が好ましく、８〜８０がより好ましく、炭素数１０〜６０が更に好ましい。
【００２８】
不飽和炭化水素基含有化合物としては、例えば、炭素数４〜１００の不飽和炭化水素、カルボキシル基を有するポリブタジエン、エポキシ化ポリブタジエン、リノリルアルコール、オレイルアルコール、不飽和脂肪酸及び不飽和脂肪酸エステルが挙げられる。好適な不飽和脂肪酸としては、クロトン酸、ミリストレイン酸、パルミトレイン酸、オレイン酸、エライジン酸、バクセン酸、ガドレイン酸、エルカ酸、ネルボン酸、リノール酸、α−リノレン酸、エレオステアリン酸、ステアリドン酸、アラキドン酸、エイコサペンタエン酸、イワシ酸及びドコサヘキサエン酸が挙げられる。これらの中でも特に、炭素数８〜３０の不飽和脂肪酸と、炭素数１〜１０の１価から３価のアルコールとのエステルがより好ましく、炭素数８〜３０の不飽和脂肪酸と３価のアルコールであるグリセリンとのエステルが特に好ましい。
【００２９】
炭素数８〜３０の不飽和脂肪酸とグリセリンとのエステルは、植物油として商業的に入手可能である。植物油の主成分はそれぞれ組成を異にする各種不飽和脂肪酸とグリセリンとのエステルの混合物であり、不飽和脂肪酸としては、上記不飽和脂肪酸が挙げられる。植物油として、例えば、ヨウ素価が１００以下の不乾性油、ヨウ素価が１００超１３０未満の半乾性油、及び、ヨウ素価が１３０以上の乾性油が挙げられる。不乾性油として、例えば、オリーブ油、あさがお種子油、カシュウ実油、さざんか油、つばき油、ひまし油及び落花生油が挙げられる。半乾性油として、例えば、コーン油、綿実油及びごま油が挙げられる。乾性油としては、例えば、桐油、亜麻仁油、大豆油、胡桃油、サフラワー油、ひまわり油、荏の油及び芥子油が挙げられる。また、炭素数８〜３０の不飽和脂肪酸とグリセリンとのエステルとして、これらの植物油を加工して得られる加工植物油を用いてもよい。
【００３０】
フェノール誘導体又はノボラック型フェノール樹脂と、植物油との反応において、過度の反応の進行に伴うゲル化を防ぎ、歩留まりが向上する観点から、上記植物油の中でも、不乾性油を用いることが好ましい。一方、レジストパターンの密着性及び機械特性が向上する観点では、乾性油を用いることが好ましい。乾性油の中でも、本発明による効果をより有効かつ確実に発揮できることから、桐油、亜麻仁油、大豆油、胡桃油及びサフラワー油が好ましく、桐油及び亜麻仁油がより好ましい。
【００３１】
これらの不飽和炭化水素基含有化合物は１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いられる。
【００３２】
不飽和炭化水素基を有する変性ノボラック型フェノール樹脂を調製する場合、まず、上記フェノール誘導体と上記不飽和炭化水素基含有化合物とを反応させ、不飽和炭化水素基変性フェノール誘導体を作製することができる。上記反応は、５０〜１３０℃で行うことが好ましい。フェノール誘導体と不飽和炭化水素基含有化合物との反応割合は、ポジ型感光性樹脂組成物から形成される感光層の可とう性を向上させる観点から、フェノール誘導体１００質量部に対し、不飽和炭化水素基含有化合物１〜１００質量部であることが好ましく、５〜５０質量部であることがより好ましい。上記反応においては、必要に応じて、ｐ−トルエンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等を触媒として用いてもよい。
【００３３】
上記反応により生成する不飽和炭化水素基変性フェノール誘導体と、アルデヒド類とを重縮合させることにより、不飽和炭化水素基含有化合物によって変性されたノボラック型フェノール樹脂が生成する。
【００３４】
アルデヒド類と、不飽和炭化水素基変性フェノール誘導体との反応は、重縮合反応であり、従来公知のフェノール樹脂の合成条件を用いることができる。反応は酸又は塩基等の触媒の存在下で行うことが好ましく、酸触媒を用いることがより好ましい。酸触媒としては、例えば、塩酸、硫酸、ぎ酸、酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸及びシュウ酸が挙げられる。これらの酸触媒は、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００３５】
上記重縮合反応は、通常、反応温度１００〜１２０℃で行うことが好ましい。また、反応時間は使用する触媒の種類又は量により異なるが、通常１〜５０時間である。反応終了後、反応生成物を２００℃以下の温度で減圧脱水することで不飽和炭化水素基を有する変性ノボラック型フェノール樹脂が得られる。なお、反応には、トルエン、キシレン、メタノール等の溶媒を用いることができる。
【００３６】
不飽和炭化水素基を有する変性ノボラック型フェノール樹脂は、上述の不飽和炭化水素基変性フェノール誘導体を、ｍ−キシレンのようなフェノール以外の化合物とともにアルデヒド類と重縮合することにより得ることもできる。この場合、フェノール誘導体と不飽和炭化水素基含有化合物とを反応させて得られる化合物に対するフェノール以外の化合物のモル比は、０．５未満であると好ましい。
【００３７】
不飽和炭化水素基を有する変性ノボラック型フェノール樹脂は、ノボラック型フェノール樹脂と、不飽和炭化水素基含有化合物とを反応させて得ることもできる。
【００３８】
ノボラック型フェノール樹脂と不飽和炭化水素基含有化合物との反応は、通常５０〜１３０℃で行うことが好ましい。また、ノボラック型フェノール樹脂と不飽和炭化水素基含有化合物との反応割合は、感光層の可とう性を向上させる観点から、ノボラック型フェノール樹脂１００質量部に対し、不飽和炭化水素基含有化合物１〜１００質量部であることが好ましく、２〜７０質量部であることがより好ましく、１０〜３０質量部であることが更に好ましい。このとき、必要に応じて、ｐ−トルエンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等を触媒として用いてもよい。なお、反応には、トルエン、キシレン、メタノール、テトラヒドロフラン等の溶媒を用いることができる。
【００３９】
また、上述の不飽和炭化水素基を有する変性ノボラック型フェノール樹脂中に残ったフェノール性水酸基に、更に多塩基酸無水物を反応させることにより酸変性したフェノール樹脂を（Ａ）成分として用いることもできる。多塩基酸無水物で酸変性することにより、カルボキシ基が導入され、弱アルカリ水溶液（現像液）でも容易に現像することが可能となる。
【００４０】
多塩基酸無水物は、複数のカルボキシ基を有する多塩基酸のカルボキシ基が脱水縮合して形成された酸無水物基を有していれば、特に限定されない。多塩基酸無水物としては、例えば、無水フタル酸、無水コハク酸、オクテニル無水コハク酸、ペンタドデセニル無水コハク酸、無水マレイン酸、無水イタコン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、無水ナジック酸、３，６−エンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、テトラブロモ無水フタル酸及び無水トリメリット酸等の二塩基酸無水物、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、ブタンテトラカルボン酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、無水ピロメリット酸及びベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物等の芳香族四塩基酸二無水物が挙げられる。これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いてもよい。これらの中でも、多塩基酸無水物は二塩基酸無水物であることが好ましく、テトラヒドロ無水フタル酸、無水コハク酸及びヘキサヒドロ無水フタル酸からなる群より選ばれる１種以上であることがより好ましい。この場合、さらに良好な形状を有するレジストパターンを形成できるという利点がある。
【００４１】
（Ａ）成分の分子量は、アルカリ水溶液に対する溶解性、感光特性（感度、解像度）と機械特性とのバランスを考慮すると、重量平均分子量（Ｍｗ）で、１０００〜３００００であることが好ましく、１０００〜１５０００であることがより好ましく、１２００〜１４０００であることが更に好ましく、１５００〜１２０００であることが特に好ましい。
【００４２】
ここで、本明細書における重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定し、標準ポリスチレン検量線より換算して得た値である。ＧＰＣにおける測定の条件は以下のとおりである。
ポンプ：Ｌ−６２００型（株式会社日立製作所製、商品名）
カラム：ＴＳＫｇｅｌ−Ｇ５０００ＨＸＬ（東ソー株式会社製、商品名）
検出器：Ｌ−３３００ＲＩ型（株式会社日立製作所製、商品名）
溶離液：テトラヒドロフラン
温度：３０℃
流量：１．０ｍＬ／分
【００４３】
また、ポジ型感光性樹脂組成物から形成される感光層の機械的強度と現像性との両立の観点から、感光性樹脂組成物中の上記（Ａ）成分の含有割合は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分及び（Ｄ）成分の総量１００質量部に対して１０〜３５質量部であることが好ましく、１５〜３０質量部であることがより好ましく、１５〜２５質量部であることが更に好ましい。
【００４４】
＜（Ｂ）成分＞
（Ｂ）成分は、メタクレゾール及びパラクレゾールを主成分として含むフェノール誘導体と、アルデヒド類との重縮合生成物である。重縮合は、酸等の触媒存在下で行われる。（Ｂ）成分は、不飽和炭化水素基を有しない未変性のノボラック型フェノール樹脂である。（Ｂ）成分を得るために用いられるフェノール誘導体として、メタクレゾール及びパラクレゾール以外のフェノール誘導体を、本発明が奏する効果を損ねない範囲で共重合することができる。（Ｂ）成分を得るために用いられるフェノール誘導体の総量を基準として、メタクレゾール及びパラクレゾールの総量が８５質量％以上であることが好ましい。
【００４５】
アルデヒド類としては、（Ａ）成分で例示したアルデヒド類と同様ものを例示することができる。
【００４６】
メタクレゾールの含有割合は、メタクレゾールとパラクレゾールの混合体の総量に対して、３０〜７０質量％であることが好ましく、３５〜６５質量％であることがより好ましく、４０〜６０質量％であることが更に好ましい。
【００４７】
（Ｂ）成分の分子量は、アルカリ水溶液に対する溶解性、感光特性（感度、解像度）と機械特性とのバランスを考慮すると、重量平均分子量（Ｍｗ）で、８００〜５００００であることが好ましく、１０００〜２５０００であることがより好ましく、１０００〜１２０００であることが更に好ましい。
【００４８】
感光層の機械的強度と現像性との両立の観点から、感光性樹脂組成物中の上記（Ｂ）成分の含有割合は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分及び（Ｄ）成分の総量１００質量部に対して５〜３０質量部であることが好ましく、１０〜２５質量部であることがより好ましく、１５〜２０質量部であることが更に好ましいい。
【００４９】
＜（Ｃ）成分＞
（Ｃ）成分は、オルトクレゾールを主成分として含むフェノール誘導体と、アルデヒド類との重縮合生成物である。重縮合は、酸等の触媒存在下で行われる。（Ｃ）成分は、不飽和炭化水素基を有しない未変性のノボラック型フェノール樹脂である。
【００５０】
（Ｃ）成分を得るために用いられるフェノール誘導体として、オルトクレゾール以外のフェノール誘導体を共重合することができる。オルトクレゾール以外のフェノール誘導体としては、例えば、フェノール；メタクレゾール、パラクレゾール、２−エチルフェノール、３−エチルフェノール、４−エチルフェノール、２−ブチルフェノール、３−ブチルフェノール、４−ブチルフェノール、２，３−キシレノール、２，４−キシレノール、２，５−キシレノール、２，６−キシレノール、３，４−キシレノール、３，５−キシレノール、２，３，５−トリメチルフェノール、３，４，５−トリメチルフェノール等のアルキルフェノール；メトキシフェノール、２−メトキシ−４−メチルフェノール等のアルコキシフェノール；ビニルフェノール、アリルフェノール等のアルケニルフェノール；ベンジルフェノール等のアラルキルフェノール；メトキシカルボニルフェノール等のアルコキシカルボニルフェノール；ベンゾイルオキシフェノール等のアリールカルボニルフェノール；クロロフェノール等のハロゲン化フェノール；カテコール、レゾルシノール、ピロガロール等のポリヒドロキシベンゼンが挙げられる。これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いられる。これらのフェノール誘導体は本発明が奏する効果を損ねない範囲で添加することができ、その添加量は、（Ｃ）成分を得るために用いられるフェノール誘導体の総量を基準として、１５質量％以下であることが好ましい。
【００５１】
アルデヒド類としては、（Ａ）成分で例示した化合物と同様のものを例示することができる。
【００５２】
（Ｃ）成分の分子量は、感光層における未露光部の耐現像液性と露光部の現像性とをバランス良く向上できる観点から、重量平均分子量で５００〜５０００が好ましく、８００〜４０００がより好ましく、１０００〜３０００が更に好ましい。
【００５３】
感光層の現像性と各種金属に対する密着性との両立の観点から、（Ｃ）成分の含有割合は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分及び（Ｄ）成分の総量１００質量部に対して２０〜６０質量部であることが好ましく、３０〜６０質量部であることがより好ましく、３５〜５０質量部であることが更に好ましい。
【００５４】
＜（Ｄ）成分＞
（Ｄ）成分である光により酸を発生する化合物は、感光剤として用いられる。このような（Ｄ）成分は、光照射により酸を発生させ、光照射した部分のアルカリ水溶液への可溶性を増大させる機能を有する。（Ｄ）成分としては、一般に光酸発生剤と称される化合物を用いることができる。（Ｄ）成分の具体例としては、ｏ−キノンジアジド化合物、アリールジアゾニウム塩、ジアリールヨードニウム塩、トリアリールスルホニウム塩等が挙げられる。これらの中で、感度が高いことから、１，２−キノンジアジド化合物が好ましい。
【００５５】
１，２−キノンジアジド化合物は、１，２−キノンジアミド及び／又はその誘導体である。かかる１，２−キノンジアジド化合物は、水酸基又はアミノ基を有する有機化合物（以下単に「有機化合物」という。）に、スルホ基及び／又はスルホニルクロリド基を有する１，２−キノンジアジド化合物を反応させて得られる化合物である。このとき、有機化合物の水酸基又はアミノ基と、１，２−キノンジアジド化合物のスルホ基又はスルホニルクロリド基とが結合する。なお、この結合は、得られる１，２−キノンジアジド化合物の分子内に少なくとも一つ以上あればよい。
【００５６】
上記スルホ基及び／又はスルホニルクロリド基を有する１，２−キノンジアジド化合物としては、例えば、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホン酸、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸、オルトアントラキノンジアジドスルホン酸、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホニルクロリド、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホニルクロリド及びオルトアントラキノンジアジドスルホニルクロリドが挙げられる。これらの中でも、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホン酸、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホニルクロリド及び１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホニルクロリドからなる群より選ばれる１種以上の化合物が好ましい。これらのスルホ基及び／又はスルホニルクロリド基を有する１，２−キノンジアジド化合物は、溶剤によく溶解することから、有機化合物との反応効率を高めることができる。
【００５７】
上記有機化合物としては、例えば、ポリヒドロキシベンゾフェノン類、ビス［（ポリ）ヒドロキシフェニル］アルカン類、トリス（ヒドロキシフェニル）メタン類又はそのメチル置換体、ビス（シクロヘキシルヒドロキシフェニル）（ヒドロキシフェニル）メタン類又はそのメチル置換体、フェノール、ｐ−メトキシフェノール、ジメチルフェノール、ヒドロキノン、ナフトール、ピロカテコール、ピロガロール、ピロガロールモノメチルエーテル、ピロガロール−１，３−ジメチルエーテル、没食子酸、アニリン、ｐ−アミノジフェニルアミン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、ノボラック、ピロガロール−アセトン樹脂、ｐ−ヒドロキシスチレンのホモポリマー又はこれと共重合し得るモノマーとの共重合体が挙げられる。これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いられる。
【００５８】
ポリヒドロキシベンゾフェノン類としては、例えば、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，４，４’−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，４，６−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，３，６−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４−トリヒドロキシ−２’−メチルベンゾフェノン、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３’，４，４’，６−ペンタヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，３，４，４’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，３，４，５−ペンタヒドロキシベンゾフェノン、２，３’，４，４’，５’，６−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン及び２，３，３’，４，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノンが挙げられる。これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いられる。
【００５９】
ビス［（ポリ）ヒドロキシフェニル］アルカン類としては、例えば、ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）メタン、ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）メタン、２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−（４’−ヒドロキシフェニル）プロパン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−２−（２’，４’−ジヒドロキシフェニル）プロパン、２−（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）−２−（２’，３’，４’−トリヒドロキシフェニル）プロパン、４，４’−｛１−［４−〔２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−プロピル〕フェニル］エチリデン｝ビスフェノール及び３，３’−ジメチル−｛１−［４−〔２−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−プロピル〕フェニル］エチリデン｝ビスフェノールが挙げられる。これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いられる。
【００６０】
トリス（ヒドロキシフェニル）メタン類又はそのメチル置換体としては、例えば、トリス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシ−３、５−ジメチルフェニル）−４−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシ−２，５−ジメチルフェニル）−４−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシ−２，５−ジメチルフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシ−２，５−ジメチルフェニル）−３，４−ジヒドロキシフェニルメタン及びビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−３，４−ジヒドロキシフェニルメタンが挙げられる。これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いられる。
【００６１】
ビス（シクロヘキシルヒドロキシフェニル）（ヒドロキシフェニル）メタン類又はそのメチル置換体としては、例えば、ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）−３−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）−４−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（５−シクロヘキシル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（５−シクロヘキシル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（５−シクロヘキシル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（３−シクロヘキシル−２−ヒドロキシフェニル）−３−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（５−シクロヘキシル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）−４−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（５−シクロヘキシル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）−３−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（５−シクロヘキシル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（３−シクロヘキシル−２−ヒドロキシフェニル）−４−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（３−シクロヘキシル−２−ヒドロキシフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン、ビス（５−シクロヘキシル−２−ヒドロキシ−４−メチルフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン及びビス（５−シクロヘキシル−２−ヒドロキシ−４−メチルフェニル）−４−ヒドロキシフェニルメタンが挙げられる。これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いられる。
【００６２】
これらの中でも、有機化合物は、ポリヒドロキシベンゾフェノン類、ビス［（ポリ）ヒドロキシフェニル］アルカン類、トリス（ヒドロキシフェニル）メタン類、及び／又は、ビス（シクロヘキシルヒドロキシフェニル）（ヒドロキシフェニル）メタン類であることが好ましい。
【００６３】
また、上記有機化合物は、下記一般式（１）〜（３）のいずれかで表される化合物であることがより好ましい。この場合、感光性樹脂組成物への光照射前と光照射後との現像液に対する溶解度差が大きくなるため、画像コントラストにより優れるという利点がある。これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いられる。
【００６４】
【化１】
2014091997.tif 000003
【００６５】
ここで、式（１）〜（３）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立に水素原子、置換若しくは無置換の炭素数１〜５のアルキル基、又は、置換若しくは無置換の炭素数１〜５のアルコキシ基を示し、Ｘは単結合、酸素原子又はフェニレン基を示す。
【００６６】
有機化合物が上記一般式（１）〜（３）のいずれかで表される化合物である場合、スルホ基及び／又はスルホニルクロリド基を有する１，２−キノンジアジド化合物が、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホン酸、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホニルクロリド、又は、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホニルクロリドであることが好ましい。これらのスルホ基及び／又はスルホニルクロリド基を有する１，２−キノンジアジド化合物は、上記一般式（１）〜（３）で表される化合物との相溶性が良好であることから、（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分からなる群から選ばれる少なくとも１種と、（Ｄ）成分とを混合した場合に生じる凝集物の発生量を低減させることができる。また、これらを含む感光性樹脂組成物をポジ型フォトレジストの感光性成分として用いると、感度、画像コントラスト及び耐熱性により優れるものとなる。
【００６７】
また、上記一般式（１）〜（３）で表される化合物は、下記化学式（４）〜（６）のいずれかで表される化合物であることがより好ましい。この場合、光感度により優れるという利点がある。
【００６８】
【化２】
2014091997.tif 000004
【００６９】
上記一般式（４）〜（６）で表される化合物を用いた１，２−キノンジアジド化合物の合成方法としては、下記の方法が挙げられる。すなわち、例えば、上述の一般式（４）〜（６）のいずれかで表される化合物と、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−スルホニルクロリドとを、ジオキサン、ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）のような溶媒中に添加し、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、炭酸アルカリ又は炭酸水素アルカリ等のアルカリ触媒存在下で反応させる方法が挙げられる。このとき、上記一般式（４）〜（６）で表される化合物の水酸基と、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−スルホニルクロリドのスルホニル基とが縮合した１，２−キノンジアジド化合物が合成される。なお、得られる１，２−キノンジアジド化合物の分子内において、一般式（４）〜（６）で表される化合物の水酸基と、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−スルホニルクロリドのスルホニル基との結合は少なくとも一つあればよい。
【００７０】
１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−スルホニルクロリドとしては、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホニルクロリド、又は、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホニルクロリドが好適である。これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００７１】
感光性樹脂組成物中の（Ｄ）成分の含有量は、感光特性及び機械特性の観点から、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分及び（Ｄ）成分の総量１００質量部に対して、３〜３０質量部であることが好ましく、５〜２５質量部であることがより好ましく、１０〜２０質量部であることが特に好ましい。
【００７２】
＜（Ｅ）成分＞
（Ｅ）成分は、多塩基酸又は多塩基酸無水物である。本実施形態のポジ型感光性樹脂組成物において、（Ｅ）成分の含有量は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分及び（Ｄ）成分の総量１００質量部に対して、４０質量部未満である。
【００７３】
多塩基酸又は多塩基酸無水物を添加することにより、カルボキシル基が導入され、金属基板表面との錯形成反応が起こりやすくなり密着性が向上し，更に弱アルカリ水溶液（現像液）でも容易に現像することが可能となる。
【００７４】
感光性樹脂組成物を調製する際に用いる溶媒への溶解性の観点から、（Ｅ）成分として、多塩基酸無水物を用いることが好ましい。多塩基酸無水物は、複数のカルボキシル基を有する多塩基酸のカルボキシル基が脱水縮合して形成された酸無水物基を有していれば、特に限定されない。多塩基酸無水物としては、例えば、無水フタル酸、無水コハク酸、オクテニル無水コハク酸、ペンタドデセニル無水コハク酸、無水マレイン酸、無水イタコン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、無水ナジック酸、３，６−エンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、テトラブロモ無水フタル酸及び無水ピロメリト酸等の二塩基酸無水物、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、ブタンテトラカルボン酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、無水ピロメリット酸及びベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物等の芳香族四塩基酸二無水物が挙げられる。これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いてもよい。これらの中でも、多塩基酸無水物は二塩基酸無水物であることが好ましく、テトラヒドロ無水フタル酸、無水コハク酸及び無水フタル酸からなる群より選ばれる１種以上であることがより好ましい。この場合、さらに良好な形状を有するレジストパターンを形成できるという利点がある。
【００７５】
多塩基酸は、上記多塩基酸無水物を加水分解した複数のカルボキシル基を有する多塩基酸を有していれば、特に限定されない。また、（Ｅ）成分として、無水トリメリット酸又はピロメリット酸一無水物のように、一分子の中に多塩基酸と多塩基酸無水物の両方が含まれている物質を使用してもよい。
【００７６】
感光性樹脂組成物中の（Ｅ）成分の含有量の上限値は、感光特性及び機械特性の観点から、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分及び（Ｄ）成分の総量１００質量部に対して、４０質量部未満であり、３５質量部以下であることが好ましく、３０質量部以下であることがより好ましい。一方、（Ｅ）成分の含有量の下限値は、０質量部超であり、０．１質量部以上であることが好ましく、１質量部以上であることがより好ましく、３質量部以上であることが更に好ましく、５質量部以上であることが特に好ましい。
【００７７】
＜（Ｆ）成分＞
ポジ型感光性樹脂組成物の塗布性、消泡性、レベリング性等を向上させ、かつ、感光性フィルムとした場合の感光層の支持体フィルムからの剥離性を向上する目的で、本実施形態の感光性樹脂組成物は、（Ｆ）成分としてフッ素系界面活性剤を含有してもよい。
【００７８】
フッ素系界面活性剤としては、例えば、ＢＭ−１０００、ＢＭ−１１００（以上、ＢＭ  ＣＨＥＭＩＥ社製、商品名）；メガファックＦ１４２Ｄ、メガファックＦ１７２、メガファックＦ１７３、メガファックＦ１８３、メガファックＲ−０８、メガファックＲ−３０、メガファックＲ−９０ＰＭ−２０、メガファックＢＬ−２０（以上、ＤＩＣ株式会社製、商品名、「メガファック」は登録商標。）；フロラードＦＣ−１３５、フロラードＦＣ−１７０Ｃ、フロラードＦＣ−４３０、フロラードＦＣ−４３１、ノベックＦＣ−４４３０、ノベックＦＣ−４４３２（以上、住友スリーエム株式会社製、商品名）；サーフロンＳ−１１２、サーフロンＳ−１１３、サーフロンＳ−１３１、サーフロンＳ−１４１、サーフロンＳ−１４５（以上、旭硝子株式会社製、商品名、「サーフロン」は登録商標。）等の市販品を用いることができる。これらの中でも特に、露光後のクラック発生性をより向上できる観点からは、パーフルオロブタンスルホン酸骨格を有するフッ素系界面活性剤である、ノベックＦＣ−４４３０、ノベックＦＣ−４４３２が好ましい。これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いられる。
【００７９】
感光性樹脂組成物中に（Ｆ）成分を配合する場合の含有割合は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分及び（Ｄ）成分の総量１００質量部に対して、０．１〜５質量部であることが好ましく、０．２〜２質量部であることが好ましく、０．３〜１質量部であることが更に好ましい。（Ｆ）成分の含有割合が５質量部を超えると、画像コントラストが低下する傾向にある。
【００８０】
＜（Ｇ）成分＞
支持体フィルムへの塗工性、形成した感光層の基材への密着性及び露光後の現像性をより向上する観点から、本実施形態の感光性樹脂組成物は、（Ｇ）成分として密着性付与剤を含有してもよい。
【００８１】
（Ｇ）成分としては、含窒素化合物、シランカップリング剤、アルミキレート剤等の接着助剤、及び、高沸点溶媒等の溶解性調整剤を用いることができる。
【００８２】
含窒素化合物としては、アゾール基、アミノ基、アミド基、イミノ基、イミド基等を有することが好ましく、例えば、イミダゾール、ピラゾール、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、メルカプトトリアゾール等のトリアゾ−ル系化合物、アルキルアミン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、アニリン、エチレンジアミン、カテコールアミン、エチレンジアミン四酢酸、ビピリジン、ターピリジン及びフェナントロリンが挙げられる。
【００８３】
シランカップリング剤としては、カルボキシル基、メタクリロイル基、イソシアネート基、エポキシ基等の反応性置換基を有していることが好ましく、例えば、トリメトキシシリル安息香酸、γ―メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ―グリシドキシプロピルトリメトキシシラン及びβ―（３，４―エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランが挙げられる。
【００８４】
アルミキレート剤としては、例えば、アルミニウムエチルアセトアセテート・ジイソプロピレート、アルミニウムトリスエチルアセトアセテート、アルミニウムビスエチルアセトアセテート・モノアセチルアセトネート及びアルミニウムトリスアセチルアセトネートが挙げられる。
【００８５】
これらの接着助剤の中でも特に、現像性の観点から、含窒素化合物が好ましく、トリアゾ−ル系化合物がより好ましく、メルカプトトリアゾ−ルが更に好ましい。
【００８６】
感光性樹脂組成物中に接着助剤を配合する場合の含有量は、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分及び（Ｄ）成分の総量１００質量部に対して、０．１〜５質量部であることが好ましく、０．１５〜３質量部であることが好ましく、０．２〜２質量部であることが更に好ましい。
【００８７】
高沸点溶媒は、常圧下での沸点が１５０℃以上の溶媒を表し、例えば、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ジヘキシルエーテル、カプロン酸、カプリル酸、１−オクタノール、１−ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、γ−ブチロラクトン及びフェニルセロソルブアセテートが挙げられる。
【００８８】
上記溶解性調整剤の配合量は、用途又は塗布方法に応じて適宜調整することができ、上記感光性樹脂組成物が均一に混合され得る配合量であれば特に限定されないが、感光性樹脂組成物全量に対して、６０質量％以下であることが好ましく、４０質量％以下であることがより好ましい。
【００８９】
＜その他の成分＞
本実施形態の感光性樹脂組成物には、必要に応じて、粘度を調整するために後述する溶剤を含有させてもよく、増感剤、吸光剤（染料）、架橋剤、可塑剤、顔料、充填材、難燃剤、安定剤、剥離促進剤、酸化防止剤、香料、イメージング剤、熱架橋剤等の添加剤を含有させてもよい。これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。これらの添加剤の配合量は、上記感光性樹脂組成物の特性を損なわない範囲であれば特に制限されないが、感光性樹脂組成物全量に対して、５０質量％以下であることが好ましい。
【００９０】
感光性樹脂組成物の調製は、通常の方法で混合、攪拌すればよく、充填材、顔料等を添加する場合にはディゾルバー、ホモジナイザー、３本ロールミル等の分散機を用いて分散、混合させればよい。また、必要に応じて、さらにメッシュ、メンブレンフィルター等を用いてろ過してもよい。
【００９１】
［感光性フィルム］
本実施形態に係る感光性フィルムは、少なくとも一方の面が離型処理された支持体フィルムと、該支持体フィルムの離型処理面上に設けられた上記ポジ型感光性樹脂組成物から形成された感光層とを備える。感光層の支持体フィルムと反対側の面には、必要に応じて、保護フィルムを積層することができる。
【００９２】
図１は、感光性フィルムの一実施形態を示す模式断面図である。図１に示した感光性フィルム１０は、支持体フィルム２上に感光層４が積層され、さらに感光層４の支持体フィルム２と反対側の面に保護フィルム６を積層した構造を有する。感光層４は、本実施形態の感光性樹脂組成物を用いて形成された層である。
【００９３】
＜支持体フィルム＞
本実施形態に係る支持体フィルム２は、少なくとも一方の面が離型処理されている。ここで、離型処理とは、シリコーン系界面活性剤、シリコーン樹脂等のシリコーン系化合物、フッ素系界面活性剤、フッ素樹脂等のフッ素含有化合物、アルキッド樹脂等の離型剤で支持体フィルムの表面を薄く塗布（コート）する化学処理や、支持体フィルムをコロナ処理する等の物理処理を指す。
【００９４】
支持体フィルムに離型剤を塗布する場合は、離型の効果が得られる限度で薄く塗布することが好ましい。離型剤の塗布後は、熱又はＵＶ処理により離型剤を支持体フィルムに定着させてもよい。離型剤を塗布する前に、支持体フィルムに下塗り層を施すことがより好ましい。
【００９５】
感光性樹脂組成物の塗布性及び感光層の剥離性の観点からは、支持体フィルムの離型処理面の２３℃における表面張力（ぬれ張力）が、２０〜４５ｍＮ／ｍであることが好ましく、３０〜４５ｍＮ／ｍであることがより好ましく、３５〜４５ｍＮ／ｍであることが更に好ましい。
【００９６】
また、感光層の剥離性の観点から、支持体フィルムの離型処理面の２３℃における１８０℃剥離強度が、５〜３００ｇｆ／インチ（１．９７〜１１８ｇｆ／ｃｍ又は１９．３〜１１５６．４×１０−３Ｎ／ｃｍ）であることが好ましく、５〜２００ｇｆ／インチ（１．９７〜７８．７ｇｆ／ｃｍ又は１９．３〜７７１．３×１０−３Ｎ／ｃｍ）であることがより好ましく、１００〜２００ｇｆ／インチ（３９．４〜７８．７ｇｆ／ｃｍ又は３８６．１〜７７１．３×１０−３Ｎ／ｃｍ）であることが更に好ましい。上記１８０°剥離強度は、粘着テープ（日東電工株式会社製、商品名：「ＮＩＴＴＯ３１Ｂ」）を用いて、一般的な方法（例えば、ＪＩＳ  Ｋ６８５４−２に準拠する方法等）で測定することができる。
【００９７】
離型処理を施す前の支持体フィルムとしては、表面が平滑であれば特に限定されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリプロピレン、ポリエチレン等のポリオレフィンから形成される重合体フィルムを用いることができ、中でも、ポリエチレンテレフタレートフィルム（以下、「ＰＥＴフィルム」という）が好ましい。
【００９８】
少なくとも一方の面がシリコーン化合物で離型処理されたＰＥＴフィルムとしては、例えば、帝人デュポンフィルム株式会社製の商品名「ピューレックスＡ５３」、「Ａ３１−２５」、「Ａ５１−２５」及び「Ａ５３−３８」を市販品として入手可能である（「ピューレックス」は登録商標。）。
【００９９】
支持体フィルム２の厚さは、１５〜５０μｍであることが好ましく、２５〜４０μｍであることがより好ましい。支持体フィルム２の厚さが１５μｍ未満では、離型処理時のひずみが残留したり、フィルムを巻き取った際に巻きしわの発生が起こる可能性があり、５０μｍを超えると、基材に感光層４をラミネートする際の加熱圧着時に、基材と感光層４との間に気泡が巻き込みやすくなる傾向がある。
【０１００】
＜保護フィルム＞
保護フィルム６としては、例えば、ＰＥＴ等のポリエステル、ポリプロピレン、ポリエチレン等のポリオレフィンから形成される重合体フィルムを用いることができる。また、支持体フィルムと同様に、離型処理を施した重合体フィルムを用いてもよい。感光性フィルムをロール状に巻き取る際の柔軟性の観点からは、保護フィルム６として、ポリエチレンフィルムが特に好ましい。また、保護フィルム６は、感光層表面の凹みを低減できるよう、低フィッシュアイのフィルムであることが好ましい。
【０１０１】
保護フィルム６の厚さは、１０〜１００μｍであることが好ましく、１５〜８０μｍであることが特に好ましい。
【０１０２】
次に、本実施形態の感光性フィルム１０の作製方法について説明する。
【０１０３】
感光層４は、上記感光性樹脂組成物を液状レジストとして支持体フィルム２上に塗布することで形成することができる。感光性樹脂組成物を支持体フィルム２上に塗布する際には、必要に応じて、上記感光性樹脂組成物を所定の溶剤に溶解して固形分２０〜９０質量％の溶液としたものを塗布液として用いてもよい。
【０１０４】
かかる溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、オクタン、デカン、石油エーテル、石油ナフサ、水添石油ナフサ、ソルベントナフサ、アセトン、メチルイソブチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、メチルアミルケトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、トルエン、キシレン、テトラメチルベンゼン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホリルアミド、テトラメチレンスルホン、γ−ブチロラクトン、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、酢酸ベンジル、ｎ−ブチルアセテート、エトキシエチルプロピオナート、３−メチルメトキシプロピオナート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の有機溶剤、又はこれらの混合溶剤が挙げられる。
【０１０５】
塗布の方法としては、例えば、ロールコート、コンマコート、グラビアコート、エアーナイフコート、ダイコート、バーコート、スピンコート等の方法が挙げられる。また、上記溶剤の除去は例えば、加熱により行うことができ、その場合の加熱温度は約７０〜１５０℃であると好ましく、加熱時間は約５〜約３０分間であると好ましい。
【０１０６】
このようにして形成された感光層４中の残存有機溶剤量は、後の工程での有機溶剤の拡散を防止する観点から、２質量％以下であることが好ましい。
【０１０７】
また、感光層４の厚さは、用途により異なるが、溶剤を除去した後の厚さが１〜３０μｍ程度であることが好ましい。また、感光性フィルムをロール状にして使用する場合には、感光層４のクラックを低減できる観点から、感光層４の厚さは１〜５μｍとすることが好ましい。なお、感光層４の厚さを５μｍ〜３０μｍとして厚膜の感光性フィルムを作製する場合には、（Ａ）成分として、不飽和炭化水素基を有する変性フェノール樹脂を用いることにより、感光層４のクラックを抑制できる。
【０１０８】
感光性フィルム１０は、支持体フィルム２と感光層４との間、及び／又は、感光層４と保護フィルム６との間に、クッション層、接着層、光吸収層、ガスバリア層等の中間層又は保護層を更に備えていてもよい。
【０１０９】
感光性フィルム１０は、例えば、円筒状等の巻芯に巻きとり、ロール状の形態で貯蔵することができる。巻芯としては、従来用いられているものであれば特に限定されず、例えば、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ＡＢＳ樹脂（アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体）等のプラスチックなどが挙げられる。貯蔵時には、支持体フィルムが最も外側になるように巻き取られることが好ましい。また、ロール状に巻き取られた感光性フィルム（感光性フィルムロール）の端面には、端面保護の観点から端面セパレータを設置することが好ましく、加えて耐エッジフュージョンの観点から防湿端面セパレータを設置することが好ましい。また、感光性フィルム１０を梱包する際には、透湿性の小さいブラックシートに包んで包装することが好ましい。
【０１１０】
［レジストパターンの形成方法］
次に、レジストパターンの形成方法について説明する。
【０１１１】
レジストパターンの形成方法は、上記ポジ型感光性樹脂組成物を用いて感光層を基材上に形成する工程と、基材上に形成された感光層を露光する工程と、露光後の感光層をアルカリ水溶液により現像してレジストパターンを形成する工程とを備える。本実施形態に係るポジ型感光性樹脂組成物から形成される感光層は、露光工程と現像工程とを繰り返し行うことができる。
【０１１２】
レジストパターンを形成する基材としては、例えば、金属用途のエッチング液に溶解されない素材から構成される基板の上に、２層以上の金属層を備える基材等を用いることができる。上記基板としては、例えば、ガラス、酸化チタン、アルミナ等の金属酸化物、シリコン等の半導体、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエステル、ポリカーボネート等の有機化合物などから構成されるものを用いることができる。金属層としては、例えば、金、銀、銅、アルミニウム、鉄、タングステン、モリブデン、チタン、ニッケル等の金属、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化亜鉛等の金属酸化物からなる層が挙げられる。金属層は、これらの金属又は金属酸化物を、真空蒸着、スパッタリング、電解めっき、無電解めっき、プラズマを用いた化学気相成長により、上記基板の上に積層することで形成できる。
【０１１３】
感光層を形成する方法としては、上記ポジ型感光性樹脂組成物を基材上に塗布し、乾燥して溶剤等を揮発させて塗膜（感光層）を形成する方法、上述の感光性フィルムにおける感光層を基材上に転写する方法等が挙げられる。
【０１１４】
感光性樹脂組成物を基材上に塗布する方法としては、上述した支持体フィルム上に塗布する方法と同様の方法を用いることができる。
【０１１５】
感光性フィルム１０を用いて基材上に感光層を形成する方法を説明する。レジストパターンの形成方法は、基材上に、感光性フィルム１０を、感光層４が密着するようにして積層（ラミネート）した後で、活性光線を画像状に照射して露光部を現像により除去するものである。活性光線が照射されていない部分は、感光剤である（Ｄ）成分が、（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）成分であるフェノール樹脂と相互作用を起こして溶解禁止剤として働いているのでアルカリに溶けにくい。しかしながら、活性光線が照射された部分では、（Ｄ）成分が光分解して、溶解禁止効果を失う。これにより、活性光線が照射された露光部分がアルカリ可溶となる。
【０１１６】
基材上への感光層４の積層方法としては、保護フィルム６を除去した後、感光層４を７０〜１３０℃程度に加熱しながら基材に０．１〜１ＭＰａ程度（１〜１０ｋｇｆ／ｃｍ２程度）の圧力でラミネータ等を用いて圧着する方法が挙げられる。かかる積層工程は減圧下で行ってもよい。
【０１１７】
このようにして基材上に積層された感光層４に対して、ネガ又はポジマスクパターンを通して活性光線を画像状に照射して露光部を形成させる。この際、感光層４上に存在する支持体フィルム２が活性光線に対して透明である場合には、支持体フィルム２を通して活性光線を照射することができ、支持体フィルム２が活性光線に対して遮光性を示す場合には、支持体フィルム２を除去した後に感光層４に活性光線を照射する。
【０１１８】
活性光線の光源としては、従来公知の光源、例えば、カーボンアーク灯、水銀蒸気アーク灯、高圧水銀灯、キセノンランプ等の紫外線、可視光等を有効に放射するものが用いられる。また、レーザー直接描画露光法等を用いてもよい。
【０１１９】
露光部の形成後、露光部の感光層を現像により除去することで、レジストパターンが形成される。かかる露光部の除去方法としては、感光層４上に支持体フィルム２が存在する場合にはオートピーラー等で支持体フィルム２を除去し、アルカリ性水溶液、水系現像液、有機溶剤等の現像液によるウェット現像、あるいはドライ現像等で露光部を除去して現像する方法等が挙げられる。
【０１２０】
ウェット現像に用いるアルカリとしては、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、アンモニア等の弱アルカリ無機化合物；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属化合物；水酸化カルシウム等のアルカリ土類金属化合物；モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノプロピルアミン、ジメチルプロピルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、ジメチルアミノエチルメタクリレート、ポリエチレンイミン等の弱アルカリ有機化合物；テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、テトラエチルアンモニウムハイドロオキサイド等が挙げられる。これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて水溶液として用いてもよい。
アルカリ性水溶液のｐＨは９〜１３の範囲とすると好ましく、環境負荷低減の観点からは、ｐＨは９〜１２の範囲とすると好ましい。その温度は、感光層の現像性に合わせて調整される。また、アルカリ性水溶液中には、界面活性剤、消泡剤、有機溶剤等を混入させてもよい。
【０１２１】
上記現像の方式としては、例えば、ディップ方式、スプレー方式、ブラッシング、スラッピング等が挙げられる。なお、現像後の処理として、必要に応じて６０〜２５０℃程度の加熱等を行うことによりレジストパターンを硬化させて用いてもよい。
【０１２２】
このようにしてレジストパターンが得られる。本発明の感光性フィルム１０を用いることにより、感光層４の基材への転写性に優れるため、支持体フィルム２の剥離又は除去が容易でなり、感光層４が欠陥なく基材へ転写でき、その結果、欠陥の十分に少ないレジストパターンを形成することができる。
【０１２３】
また、感光層４の露光部分は弱アルカリ水溶液で容易に溶解して基材から剥離し、弱アルカリ現像性が極めて良好であるため、コントラストに優れた微細なレジストパターンを形成することが可能となる。
【０１２４】
なお、本実施形態では、ポジ型感光性樹脂組成物を、上記基材上に直接塗布し乾燥して感光層を形成することができる。この場合、上述の基材上に、ポジ型感光性樹脂組成物を、スピンナー等を用いて回転塗布し、塗膜を形成する。この塗膜が形成された基材をホットプレート、オーブン等を用いて乾燥する。これにより、基材上に感光層が形成される。その後の露光工程及び現像工程は、感光性フィルム１０を用いた場合と同様に行うことができる。
【０１２５】
本実施形態では、基材に感光層を形成した状態で上述の露光及び現像を、必要に応じて２回以上繰り返して行うことが可能である。すなわち、本実施形態に係るポジ型感光性樹脂組成物を用いることにより、露光、現像工程を繰り返して２層以上の金属層をエッチングする際に一度形成したレジストパターンを基材から剥離し、再度新しく感光層を基材上に形成する工程を割愛することができる。これにより、レジストパターンを用いて基材の金属層のエッチングする際の工程を短縮することができるため、コスト的、環境的にも有用である。
【０１２６】
＜タッチパネルの製造方法＞
本実施形態のポジ型感光性樹脂組成物は、タッチパネルの製造方法に好適に利用できる。本実施形態に係るタッチパネルの製造方法は、上記レジストパターンの形成方法によりレジストパターンが形成された基材を、エッチング処理する工程を有する。エッチング処理は、形成されたレジストパターンをマスクとして、基材の導体層等に対して行われる。エッチング処理により、引き出し配線と透明電極のパターンとを形成することで、タッチパネルが製造される。以下、ネガ型感光性樹脂組成物を用いた場合と対比しながら、本実施形態のポジ型感光性樹脂組成物を用いたタッチパネルの製造方法について説明する。
【０１２７】
図２は、ネガ型感光性樹脂組成物を用いたタッチパネルの製造方法を示す模式断面図である。この方法は、支持基材２２と、支持基材２２の一面上に設けられた透明導電層２４と、透明導電層２４上に設けられた金属層２６とを備える積層基材の、金属層２６上に、感光性樹脂組成物の硬化物からなるレジストパターン２９を形成する第１の工程と、金属層２６及び透明導電層２４をエッチングして、透明導電層２４の残部及び金属層２６の残部からなる積層パターン（図２（ｄ）における２４＋２６）を形成する第２の工程と、積層パターンの一部から金属層を除去して、透明導電層２４の残部からなる透明電極と金属層の残部からなる金属配線とを形成する第３の工程と、を有する。
【０１２８】
第１の工程では、まず、図２（ａ）に示すように、支持基材２２と、支持基材２２の一面上に設けられた透明導電層２４と、透明導電層２４上に設けられた金属層２６とを備える積層基材の、金属層２６上に、ネガ型の感光性樹脂組成物を用いてネガ型の感光層２８を積層する。感光層２８は、金属層２６と反対側の面上に支持フィルムを備えていてもよい。
【０１２９】
金属層２６としては、銅、銅とニッケルの合金、モリブデン−アルミ−モリブデン積層体、銀とパラジウムと銅の合金等を含む金属層が挙げられる。透明導電層２４は、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）を含有する。
【０１３０】
次いで、感光層２８の一部の領域を活性光線の照射により硬化して、硬化物領域を形成し、感光層の硬化物領域以外の領域を積層基材上から除去する。これにより、図２（ｂ）に示すように、積層基材上にレジストパターン２９が形成される。
【０１３１】
第２の工程では、エッチング処理により、レジストパターン２９でマスクされていない領域の金属層２６及び透明導電層２４を、支持基材２２上から除去する。
【０１３２】
エッチング処理の方法は、除去すべき層に応じて適宜選択される。例えば、金属層を除去するためのエッチング液としては、塩化第二銅溶液、塩化第二鉄溶液、リン酸溶液等が挙げられる。また、透明導電層を除去するためのエッチング液としては、シュウ酸、塩酸、王水等が用いられる。
【０１３３】
図２（ｃ）はエッチング処理後を示す図であり、支持基材２２上に、金属層２６の残部、透明導電層２４の残部及び感光層２８の残部からなる積層体が形成されている。本態様の製造方法においては、この積層体からレジストパターン２９が除去される。
【０１３４】
レジストパターン２９の除去は、例えば、上述の現像工程に用いるアルカリ性水溶液よりもアルカリ性の強い水溶液を用いることができる。この強アルカリ性の水溶液としては、１〜１０質量％水酸化ナトリウム水溶液、１〜１０質量％水酸化カリウム水溶液等が用いられる。中でも１〜１０質量％水酸化ナトリウム水溶液又は水酸化カリウム水溶液を用いることが好ましく、１〜５質量％水酸化ナトリウム水溶液又は水酸化カリウム水溶液を用いることがより好ましい。レジストパターンの剥離方式としては、浸漬方式、スプレー方式等が挙げられ、これらは単独で用いても併用してもよい。
【０１３５】
図２（ｄ）は、レジストパターン２９の剥離後を示す図であり、支持基材２２上に、金属層２６の残部及び透明導電層２４の残部からなる積層パターンが形成されている。
【０１３６】
第３の工程では、この積層パターンから、金属層２６のうち金属配線を成すための一部分以外を除去して、金属層２６の残部からなる金属配線と透明導電層２４の残部からなる透明電極とを形成する。
【０１３７】
ネガ型の感光性樹脂組成物を用いた方法では、多段階エッチングにより透明導電層２４を一部露出させたい場合、感光層を再度形成する必要が生じる。
【０１３８】
すなわち、第３の工程では、まず、第２の工程を経た積層基材上にネガ型の感光性樹脂組成物を用いて感光層３０を形成する（図２（ｅ））。次いで、感光層３０の露光及び現像を経て、感光層３０の硬化物からなるレジストパターン３１を形成する（図２（ｆ））。
【０１３９】
次に、エッチング処理により、積層パターンのうちレジストパターン３１が形成されていない部分から、金属層２６を除去する。このとき、エッチング処理液としては、上述の金属層を除去するためのエッチング液と同様のものを用いることができる。
【０１４０】
図２（ｇ）はエッチング処理後を示す図であり、支持基材２２上に、透明導電層２４の残部からなる透明電極が形成され、また、一部の透明電極上に金属層２６及びレジストパターン３１からなる積層体が形成されている。この積層体から、レジストパターン３１を除去することにより、図２（ｈ）に示すように、支持基材２２上に、透明導電層２４の残部からなる透明電極と金属層２６の残部からなる金属配線とが形成される。
【０１４１】
これに対し、本実施形態のポジ型感光性樹脂組成物を用いた方法では、多段階エッチングにより透明導電層２４を一部露出させたい場合、感光層を再度形成する工程が不要となる。ポジ型の感光性樹脂組成物から形成される感光層の場合、光を照射した部分（露光部）がアルカリ水溶液で除去でき、光が照射していない部分（未露光部）は膜として残るという特性を有するため、残った膜に再度光照射することよりパターンを形成することができる。
【０１４２】
図３は、ポジ型感光性樹脂組成物を用いたタッチパネルの製造方法の一態様を示す模式断面図である。
【０１４３】
第１の工程では、まず、図３（ａ）に示すように、支持基材２２と、支持基材２２の一面上に設けられた透明導電層２４と、透明導電層２４上に設けられた金属層２６とを備える積層基材の、金属層２６上に、ポジ型感光性樹脂組成物を用いてポジ型の感光層４０を積層する。感光層４０は、金属層２６と反対側の面上に支持フィルムを備えていてもよい。
【０１４４】
次いで、感光層４０の一部の領域に活性光線を照射して露光部を形成後、露光部の感光層を現像により積層基材上から除去する。これにより、図３（ｂ）に示すように、積層基材上に未露光部の感光層４０からなるレジストパターン４０ａが形成される。
【０１４５】
第２の工程では、エッチング処理により、レジストパターン４０ａでマスクされていない領域の金属層２６及び透明導電層２４を、支持基材２２上から除去する。
【０１４６】
エッチング処理の方法は、除去すべき層に応じて適宜選択される。例えば、金属層を除去するためのエッチング液としては、過硫酸アンモニウム溶液、過硫酸ナトリウム溶液、塩化第二銅溶液、塩化第二鉄溶液、リン酸溶液等が挙げられる。また、透明導電層を除去するためのエッチング液としては、シュウ酸、塩酸、王水等が用いられる。
【０１４７】
図３（ｃ）はエッチング処理後を示す図であり、支持基材２２上に、金属層２６の残部、透明導電層２４の残部及びレジストパターン４０ａからなる積層体が形成されている。
【０１４８】
次いで、第３の工程では、レジストパターン４０ａの一部の領域に活性光線を照射して露光部を形成後、露光部の感光層を現像によりを積層基材上から除去する。これにより、図３（ｄ）に示すように、積層基材上に未露光部のレジストパターン４０ｂからなるレジストパターンが形成される。
【０１４９】
次に、エッチング処理により、積層パターンのうちレジストパターン４０ｂが形成されていない部分から、金属層２６を除去する。このとき、エッチング処理液としては、上述の金属層を除去するためのエッチング液と同様のものを用いることができる。
【０１５０】
図３（ｅ）はエッチング処理後を示す図であり、支持基材２２上に、透明導電層２４の残部からなる透明電極が形成され、また、一部の透明電極上に金属層２６及びレジストパターン４０ｂからなる積層体が形成されている。この積層体から、レジストパターン４０ｂを除去することにより、図３（ｆ）に示すように、支持基材２２上に、透明導電層２４の残部からなる透明電極と金属層２６の残部からなる金属配線とが形成される。
【０１５１】
このように、本実施形態に係るタッチパネルの製造方法では、図２における（ｄ）及び（ｅ）に相当工程が不要となる。
【０１５２】
なお、透明導電層２４は、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）を含有しているが、本実施形態のポジ型感光性樹脂組成物は、透明導電層２４をＩＴＯから金属メッシュに変更したタッチパネルの製造方法にも好適に用いることができる。
【０１５３】
図４は、本発明を利用して得られるタッチパネル１００の一態様を示す上面図である。タッチパネル１００においては、透明電極であるＸ電極５２及びＹ電極５４が交互に並設されており、長手方向の同列に設けられたＸ電極５２同士が一つの引き出し配線５６によってそれぞれ連結され、また、幅方向の同列に設けられたＹ電極５４同士が一つの引き出し配線５７によってそれぞれ連結されている。
【０１５４】
以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。本発明は、その要旨を逸脱しない範囲で様々な変形が可能である。
【実施例】
【０１５５】
以下、実施例を挙げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。【０１５６】
［（Ａ）成分］
（Ａ）成分として、乾性油変性を行ったクレゾールから得られる不飽和炭化水素基を有する変性ノボラック型フェノール樹脂を合成した。【０１５７】
（合成例Ａ１）
メタクレゾール及びパラクレゾールを質量比４０：６０で混合したクレゾール４５０質量部に、桐油５０質量部を加え撹拌した後、５０質量％パラトルエンスルホン酸メタノール溶液を１．１２質量部加え、１２０℃で２時間反応した。反応後、室温（２５℃、以下同様）まで冷却し、９２％パラホルムアルデヒド７５質量部、メタノール１８質量部及びシュウ酸２質量部を加え、９０℃で３時間撹拌した後、減圧蒸留を行い未反応のクレゾールを除去し、１０％桐油変性ノボラック型フェノール樹脂（Ａ１）を得た。（Ａ１）のＭｗは１２０００であった。【０１５８】
（合成例Ａ２）
使用するクレゾールをオルトクレゾールに変更し、メタノールの添加量を１２８質量部に変更した以外は、合成例Ａ１と同様に操作して、１０％桐油変性ノボラック型フェノール樹脂（Ａ２）を得た。（Ａ２）のＭｗは２０００であった。【０１５９】
［（Ｂ）成分］
（Ｂ）成分として、メタクレゾール及びパラクレゾールから得られるノボラック型フェノール樹脂を合成した。【０１６０】
（合成例Ｂ１）
メタクレゾール及びパラクレゾールを質量比４０：６０で混合したクレゾール５００質量部に、９２％パラホルムアルデヒド８３質量部、メタノール１８質量部及びシュウ酸１質量部を加え、９０℃で３時間撹拌した後、減圧蒸留を行い未反応のクレゾールを除去し、メタクレゾール及びパラクレゾールから得られるノボラック型フェノール樹脂（Ｂ１）を得た。（Ｂ１）のＭｗは１２０００であった。【０１６１】
（合成例Ｂ２）
メタノール添加量を１３０質量部に変更した以外は、Ｂ１と同様に操作して、メタクレゾール及びパラクレゾールから得られるノボラック型フェノール樹脂（Ｂ２）を得た。（Ｂ２）のＭｗは１０００であった。【０１６２】
［（Ｃ）成分］
（Ｃ）成分として、オルトクレゾールから得られるノボラック型フェノール樹脂を合成した。【０１６３】
（合成例Ｃ１）
オルトクレゾール３３６質量部に９２％パラホルムアルデヒド６０質量部及びシュウ酸１．２質量部を加え、１２０℃で４時間撹拌した後、減圧蒸留を行い未反応のオルトクレゾールを除去し、オルトクレゾールから得られるノボラック型フェノール樹脂（Ｃ１）を得た。（Ｃ１）のＭｗは１０００であった。【０１６４】
［（Ｄ）成分］
（Ｄ）成分として、下記式（７）で表される化合物である、ダイトーケミックス株式会社製の商品名「ＰＡ−２８」を準備した。
【化３】
2014091997.tif 000005
【０１６５】
［（Ｅ）成分］
（Ｅ）成分として、コハク酸、無水マレイン酸、無水フタル酸、無水トリメリット酸及び無水ピロメリット酸を準備した。【０１６６】
［（Ｆ）成分］
（Ｆ）成分として、フッ素系界面活性剤である、住友スリーエム株式会社製の商品名「ＦＣ−４４３０」を準備した。【０１６７】
［（Ｇ）成分］
（Ｇ）成分として、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール（以下、「３ＭＴ」と略記する）を準備した。【０１６８】
［溶媒］
溶媒として、メチルエチルケトン（以下、「ＭＥＫ」と略記する）及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（以下、「ＰＧＭＥＡ」と略記する）を準備した。【０１６９】
＜感光性樹脂組成物の調製＞
（実施例１）
（Ａ）成分として（Ａ１）２０質量部、（Ｂ）成分として（Ｂ１）２０質量部、（Ｃ）成分として（Ｃ１）４５質量部、（Ｄ）成分として「ＰＡ−２８」１５質量部、（Ｅ）成分としてコハク酸３０質量部、（Ｆ）成分として「ＦＣ−４４３０」０．５質量部、（Ｇ）成分として、「３ＭＴ」０．３質量部、溶媒として「ＭＥＫ」１４０質量部及び「ＰＧＭＥＡ」９０質量部を混合し、感光性樹脂組成物を調製した。【０１７０】
（実施例２〜１２）
表１に示す組成（単位：質量部）となるように、（Ａ）、（Ｂ）又は（Ｅ）成分を変更した以外は、実施例１と同様にして、感光性樹脂組成物を調製した。【０１７１】
【表１】
2014091997.tif 000006
【０１７２】
［（Ａ）〜（Ｃ）成分以外の樹脂］
ポリヒドロキシスチレンである、丸善石油化学株式会社製の商品名「マルカリンカーＭ」（Ｍｗ１８０００）を準備した。【０１７３】
（比較例１〜４）
表２に示した組成（単位：質量部）に変更した以外は実施例１と同様にして、感光性樹脂組成物を作製した。【０１７４】
【表２】
2014091997.tif 000007
【０１７５】
＜感光性フィルムの作製及び感光層の評価＞
（実施例１〜１２及び比較例１〜４）
上記感光性樹脂組成物を用い、以下の手順に従って感光性フィルムを作製した。まず、スピンコーター（ダイトロンテクノロジー株式会社製）を用いて、３００ｒｐｍで１０秒間、次いで５００ｒｐｍで３０秒間の条件で、片面がシリコーン系化合物で離型処理されたＰＥＴフィルム「ピューレックス  Ａ５３」（帝人デュポンフィルム社製商品名、膜厚２５μｍ、日東電工株式会社製の粘着テープ「ＮＩＴＴＯ３１Ｂ」を用いた２３℃での１８０°剥離強度１００ｇ／インチ、離型処理面の表面張力４４ｍＮ／ｍ）の離型処理面に感光性樹脂組成物を塗布した。次いで、コンベア式乾燥機（ＲＣＰオーブンライン、大日本スクリーン株式会社製）にて、９５℃で５分間乾燥を行い、厚み４．０μｍの感光層を形成した感光性フィルムを作製した。【０１７６】
ロールラミネータ（日立化成テクノプラント株式会社製）を用いて、圧力０．５ＭＰａ、上下ロール温度１２０℃、速度０．５ｍ／分の条件で、上記感光性フィルムの感光層を基板上にラミネートし、ポジ型フォトレジスト積層体を得た。得られたポジ型フォトレジスト積層体を用いて、下記工程１〜３の順に感光層を露光・現像した。【０１７７】
（工程１）
ポジ型フォトレジスト積層体からＰＥＴフィルムを剥がし、ＵＶ露光機（大日本スクリーン株式会社製、商品名「大型マニュアル露光機  ＭＡＰ−１２００」）を用いて１００ｍＪ／ｃｍ２の条件で、感光層を露光した。パターン形成にはガラスマスク（凸版印刷株式会社製、商品名「ＴＯＰＰＡＮ−ＴＥＳＴ−ＣＨＡＲＴ−ＮＯ１−Ｎ  Ｌ７８Ｉ１」）を用いた。次いで、現像液として、０．７質量％のＫＯＨ（水酸化カリウム）水溶液を用い、スプレー式現像装置（大日本スクリーン株式会社製、商品名「ＤＶＷ−９１１」）で、２５℃で所定時間現像を行い、蒸留水で洗浄した後、窒素ブローにて乾燥を行い、レジスト膜１を形成した。【０１７８】
（工程２）
工程１で残存しているレジスト膜１の半分をブラックシートで覆い、工程１と同様に１００ｍＪ／ｃｍ２の条件で露光を行った。０．７質量％のＫＯＨ現像液を用いて、工程１と同様にスプレー現像機にて２５℃で所定の時間現像し、蒸留水で洗浄した後、窒素ブローにて乾燥を行い、レジスト膜２を形成した。【０１７９】
（工程３）
工程２で残存しているレジスト膜２の全面を、工程１と同様に１００ｍＪ／ｃｍ２の条件で露光を行った。０．７質量％のＫＯＨ水溶液を用いて、工程１と同様にスプレー現像機にて２５℃で所定の時間現像し、蒸留水で洗浄した。その後、窒素ブローにて乾燥を行った。【０１８０】
（実施例１３）
実施例１で調製した感光性樹脂組成物をスピンコーター（ダイトロンテクノロジー株式会社製）を用いて、３００ｒｐｍで１０秒間、次いで５００ｒｐｍで３０秒間の条件で、銅基板に直接塗布し、コンベア式乾燥機（ＲＣＰオーブンライン，大日本スクリーン株式会社製）にて、９５℃で５分間乾燥を行い、ポジ型フォトレジスト積層体を得た。得られたポジ型フォトレジスト積層体を用いて、上記工程１〜３の操作を行い、感光層を露光・現像した。【０１８１】
＜感光層の評価＞
支持体フィルム上に形成した感光層の可とう性、密着性と、工程１〜３における感光層の繰り返し現像性とを以下の基準で評価した。結果を表３及び表４に示す。【０１８２】
（可とう性）
支持体フィルム上に形成した感光層の可とう性は、種々の直径を有するコア材に感光性フィルムを巻き取り、クラック、剥離、転写の有無を以下の五段階で評価した。
Ａ：直径１ｃｍコア材に巻き取り可能。
Ｂ：直径３ｃｍコア材に巻き取り可能。
Ｃ：直径５ｃｍコア材に巻き取り可能。
Ｄ：直径１０ｃｍコア材に巻き取り可能。
Ｅ：直径２０ｃｍコア材に巻き取り可能。【０１８３】
（密着性）
銅基板上に、支持体フィルム上に形成した感光層を前述の方法でラミネートし、基板との密着性を以下の五段階で評価した。なお、金、パラジウム、銀、ＩＴＯ及びシリカに対しても、感光層の密着性の傾向は同じであった。
Ａ：露光後に円形のレジスト欠けが発生しない。
Ｂ：露光後に円形のレジスト欠けが発生する面積が、露光部全体の１０％未満。
Ｃ：露光後に円形のレジスト欠けが発生する面積が、露光部全体の１０％以上２５％未満。
Ｄ：露光後に円形のレジスト欠けが発生する面積が、露光部全体の２５％以上５０％未満。
Ｅ：露光後に、露光部の全面に円形のレジスト欠けが発生する。【０１８４】
（現像性）
工程１〜３における感光層の露光部の現像性を評価した。具体的には、パターンエッジ部分の切れ性、ベタ部分の現像残り、剥離片又は糸状の残渣の基板上への付着を以下の基準を用いて五段階で評価した。なお、「エッジ部分」との語は、未露光部のレジストパターンと基板との接着面の端部を示し、「切れ性良好」との語は、フォトマスクに追従した形であり、レジストパターンの断面形状が矩形であることを示し、「切れ性不良」との語は、レジストパターンの断面形状が矩形ではないことを示す。
Ａ：パターンエッジ部のきれ性良好、ベタ部に現像残り無し、剥離片無し、糸状残渣無し。
Ｂ：パターンエッジ部のきれ性不良、ベタ部に現像残り無し、剥離片無し、糸状残渣無し。
Ｃ：パターンエッジ部のきれ性不良、ベタ部に現像残り無し、剥離片無し、糸状残渣あり。
Ｄ：パターンエッジ部のきれ性不良、ベタ部に現像残りあり、剥離片無し、糸状残渣あり。
Ｅ：パターンエッジ部のきれ性不良、ベタ部に現像残りあり、剥離片あり、糸状残渣あり。【０１８５】
（耐現像液性）
工程１及び２において、感光層の未露光部の耐現像液性を以下の基準で評価した。具体的には、クラック、膜減り、表層の剥離を五段階で評価した。
Ａ：クラック無し、膜減り無し、表層の剥離無し。
Ｂ：クラック無し、膜減り無し、表層の剥離あり。
Ｃ：クラックあり、膜減り無し、表層の剥離無し。
Ｄ：クラックあり、膜減りあり、表層の剥離無し。
Ｅ：クラックあり、膜減りあり、表層の剥離あり。【０１８６】
（レジスト外観）
工程１及び２では、感光層の未露光部についてのレジスト外観を以下の基準で評価した。具体的には、表面のざらつき又は凹凸の程度を五段階で評価した。
Ａ：良好。
Ｂ：ざらつきあり。
Ｃ：凹凸あり。
Ｄ：層分離、もしくは白濁あり。
Ｅ：基板表面の露出あり。【０１８７】
【表３】
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【０１８８】
【表４】
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【０１８９】
実施例１〜１３のポジ型感光性樹脂組成物によれば、露光部の現像性及び未露光部の耐現像液性に十分に優れ、弱アルカリ性現像液での繰り返し現像が可能な感光層を形成できることが確認された。
【符号の説明】
【０１９０】
２…支持フィルム、４…感光層、６…保護フィルム、１０…感光性フィルム、２２…支持基材、２４…透明導電層、２６…金属層、２８…感光層、２９…レジストパターン、３０…感光層、３１…レジストパターン、４０…感光層、４０ａ，４０ｂ…レジストパターン、５２…透明電極（Ｘ電極）、５４…透明電極（Ｙ電極）、５６，５７…引き出し配線、１００…タッチパネル。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【国際調査報告】
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