(57)【要約】  （Ａ）重量平均分子量が５,０００〜２００,０００である(メタ)アクリレートポリマー（ただし、側鎖にシラン構造を有するものを除く。）、（Ｂ）ベンゾトリアゾール化合物からなるマイグレーション抑制剤兼イオントラップ剤、及び（Ｃ）溶剤を含有する硬化膜形成用樹脂組成物を提供する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）重量平均分子量が５,０００〜２００,０００である(メタ)アクリレートポリマー（ただし、側鎖にシラン構造を有するものを除く。）、
（Ｂ）ベンゾトリアゾール化合物からなるマイグレーション抑制剤兼イオントラップ剤、及び
（Ｃ）溶剤
を含有することを特徴とする硬化膜形成用樹脂組成物。
【請求項２】
更に、（Ｄ）シランカップリング剤を含有する請求項１記載の硬化膜形成用樹脂組成物。
【請求項３】
更に、（Ｅ）多官能(メタ)アクリレート化合物を含有する請求項１又は２記載の硬化膜形成用樹脂組成物。
【請求項４】
更に、（Ｆ）ラジカル重合開始剤を含有する請求項３記載の硬化膜形成用樹脂組成物。
【請求項５】
（Ｂ）ベンゾトリアゾール化合物が、（Ａ）成分１００質量部に対して０.１〜５０質量部含まれる請求項１〜４のいずれか１項記載の硬化膜形成用樹脂組成物。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項記載の硬化膜形成用樹脂組成物を用いて形成された硬化膜。
【請求項７】
電極及び／又は配線が形成された基材と、この基材上に前記電極及び／又は配線と接するように形成された請求項６記載の硬化膜とを備える導電性部材。
【請求項８】
電極及び／又は配線が形成された基材上に硬化膜形成用樹脂組成物から形成された硬化膜を有する構造体の前記電極及び／又は配線からのマイグレーションを抑制する方法であって、
前記硬化膜形成用樹脂組成物として、請求項１〜５のいずれか１項記載の硬化膜形成用樹脂組成物を用いることを特徴とする方法。
【請求項９】
電極及び／又は配線が形成された基材上に、(メタ)アクリレートポリマー及び溶剤を含有する樹脂組成物から形成された硬化膜を有する構造体の前記電極及び／又は配線からのマイグレーションを抑制する方法であって、
前記組成物中に、ベンゾトリアゾール化合物を添加することを特徴とする方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、硬化膜形成用樹脂組成物、硬化膜、導電性部材、及びマイグレーションの抑制方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、タッチパネル等に必要な保護膜、絶縁膜等は、感光性樹脂組成物を用いたフォトリソグラフィー法によるパターン加工によって必要とする部位に形成されてきた（特許文献１）。【０００３】
しかし、フォトリソグラフィー法によるパターン加工は、工程が複雑であるだけでなく、コストもかかるという問題があった。そのため、より簡便な方法で、かつ低コストで、必要な部位に保護膜、絶縁膜等を形成できる組成物が望まれていた。【０００４】
また、運搬や保存上の要請から、ガラス基板に代わってフィルム基板の利用が増えてきている。フィルム基板は、保存時にロール状等にして保存されるが、その際、基板が湾曲するために、フィルム基板上に塗布する材料にもフィルム同様の柔軟性が求められている。【０００５】
更に、ＩＴＯの代替として金属ナノワイヤを用いるタッチパネルに関する開発が種々なされているが（特許文献２等）、このようなタッチパネルにおいては、金属のマイグレーションが生じ、それがショートの原因となるという問題があることから、マイグレーションを抑制できる、電極、配線等を保護するオーバーコート材料が求められている。【０００６】
一方、従来のオーバーコート材料は、ガラス基板上への塗布を目的とするものであり、硬度を上げるために無機微粒子を含有していた（特許文献３）。しかし、無機微粒子を含有させる等の従来の方法では、硬度は改善されるものの、柔軟性がなく、例えば、折り曲げた場合にクラックが入る等の不都合が生じるため、フィルム基板への塗布には適用できない状況であった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０１３−０６４９７３号公報
【特許文献２】特開２０１３−２２５２９６号公報
【特許文献３】特開２０１２−１１６９７５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、前記問題に鑑みなされたものであり、印刷法等による簡便な方法で必要な部位に膜を形成することができ、しかも高光透過率、高密着性、高硬度及び高柔軟性を有し、更にマイグレーション抑制能をも有する硬化膜を形成可能な組成物、当該組成物から形成された硬化膜、当該硬化膜を有する導電性部材、及びマイグレーション抑制方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは、前記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、重量平均分子量が５,０００〜２００,０００である(メタ)アクリレートポリマー、ベンゾトリアゾール化合物からなるマイグレーション抑制剤兼イオントラップ剤、及び溶剤を含有する組成物によって、前記課題を解決し得ることを見出し、本発明を完成させた。【００１０】
すなわち、本発明は、下記硬化膜形成用樹脂組成物、硬化膜、導電性部材、及びマイグレーションの抑制方法を提供する。
１．（Ａ）重量平均分子量が５,０００〜２００,０００である(メタ)アクリレートポリマー（ただし、側鎖にシラン構造を有するものを除く。）、
（Ｂ）ベンゾトリアゾール化合物からなるマイグレーション抑制剤兼イオントラップ剤、及び
（Ｃ）溶剤
を含有することを特徴とする硬化膜形成用樹脂組成物。
２．更に、（Ｄ）シランカップリング剤を含有する１の硬化膜形成用樹脂組成物。
３．更に、（Ｅ）多官能(メタ)アクリレート化合物を含有する１又は２の硬化膜形成用樹脂組成物。
４．更に、（Ｆ）ラジカル重合開始剤を含有する３の硬化膜形成用樹脂組成物。
５．（Ｂ）ベンゾトリアゾール化合物が、（Ａ）成分１００質量部に対して０.１〜５０質量部含まれる１〜４のいずれかの硬化膜形成用樹脂組成物。
６．１〜５のいずれかの硬化膜形成用樹脂組成物を用いて形成された硬化膜。
７．電極及び／又は配線が形成された基材と、この基材上に前記電極及び／又は配線と接するように形成された６の硬化膜とを備える導電性部材。
８．電極及び／又は配線が形成された基材上に硬化膜形成用樹脂組成物から形成された硬化膜を有する構造体の前記電極及び／又は配線からのマイグレーションを抑制する方法であって、
前記硬化膜形成用樹脂組成物として、１〜５のいずれかの硬化膜形成用樹脂組成物を用いることを特徴とする方法。
９．電極及び／又は配線が形成された基材上に、(メタ)アクリレートポリマー及び溶剤を含有する樹脂組成物から形成された硬化膜を有する構造体の前記電極及び／又は配線からのマイグレーションを抑制する方法であって、
前記組成物中に、ベンゾトリアゾール化合物を添加することを特徴とする方法。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の硬化膜形成用樹脂組成物を用いて得られる硬化膜は、光透過率、密着性、硬度に優れ、更に金属のマイグレーション抑制能をも有する。そのため、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子等の各種ディスプレイにおける保護膜、平坦化膜、絶縁膜等、タッチパネルにおける保護膜、絶縁膜等の硬化膜を形成する材料として有用である。また、柔軟性にも優れることから、ＩＴＯフィルム用のオーバーコート材としても好適である。【００１２】
また、本発明の導電性部材は、電極及び／又は配線と、それと接するように形成された前記硬化膜とを備える。前記硬化膜は、有機ＥＬ素子等の各種ディスプレイに用いられる硬化膜に求められる高光透過率、高密着性及び高硬度という特性を有するだけでなく、マイグレーション抑制能をも有するため、本発明の導電性部材は、金属のマイグレーションが抑制され、耐久性に優れるものとなる。また、前記硬化膜は柔軟性にも優れることから、本発明の導電性部材は、ＩＴＯフィルムを有するディスプレイにも好適に採用できる。【００１３】
本発明のマイグレーション抑制方法によれば、ベンゾトリアゾール化合物を使用することで、硬化膜の光透過率、密着性及び硬度を維持しつつ、金属のマイグレーションを抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】実施例及び比較例で用いた耐マイグレーション評価用サンプルの平面図である。
【図２】実施例及び比較例で用いた耐マイグレーション評価用サンプルの断面図である。
【図３】耐マイグレーション評価の試験前の銀パターンを示す図である。
【図４】実施例１に関する耐マイグレーション評価の試験後の銀パターンを示す図である。
【図５】比較例１に関する耐マイグレーション評価の試験後の銀パターンを示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
［硬化膜形成用樹脂組成物］
本発明の硬化膜形成用樹脂組成物は、（Ａ）重量平均分子量が５,０００〜２００,０００である(メタ)アクリレートポリマー、（Ｂ）ベンゾトリアゾール化合物からなるマイグレーション抑制剤兼イオントラップ剤、及び（Ｃ）溶剤を含有する。
【００１６】
［（Ａ）(メタ)アクリレートポリマー］
本発明の組成物に含まれる（Ａ）成分は、重量平均分子量が５,０００〜２００,０００である(メタ)アクリレートポリマーである。(メタ)アクリレートポリマーとは、アクリレート化合物及びメタクリレート化合物から選ばれる少なくとも１種のモノマーから誘導されるモノマー単位を有する重合体である。ただし、本発明における(メタ)アクリレートポリマーは、保存安定性の観点から、側鎖にシラン構造を含むものではない。
【００１７】
本発明において、好適な(メタ)アクリレート化合物としては、式（１）で表されるものが挙げられる。
【００１８】
【化１】
2016013543.tif 000002
【００１９】
式（１）中、Ｒ1は、水素原子又はメチル基を表す。Ｒ2は、水素原子、又はヒドロキシ基、エポキシ基、アクリロイル基、メタクリロイル基若しくはイソシアネート基で置換されてもよい炭素数１〜２０のアルキル基を表す。
【００２０】
炭素数１〜２０のアルキル基としては、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよく、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基等の炭素数１〜２０の直鎖状又は分岐状アルキル基；シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、ビシクロブチル基、ビシクロペンチル基、ビシクロヘキシル基、ビシクロヘプチル基、ビシクロオクチル基、ビシクロノニル基、ビシクロデシル基等の炭素数３〜２０の環状アルキル基等が挙げられる。
【００２１】
(メタ)アクリレート化合物としては、アクリル酸、メタクリル酸、メチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、ｎ−プロピルメタクリレート、イソプロピルアクリレート、イソプロピルメタクリレート、２,２,２−トリフルオロエチルアクリレート、２,２,２−トリフルオロエチルメタクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、ｔ−ブチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２,３−ジヒドロキシプロピルアクリレート、２,３−ジヒドロキシプロピルメタクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、４−ヒドロキシブチルメタクリレート等が挙げられる。中でも、高光透過率、高密着性及び高硬度のバランスを考慮すると、好ましくは、モノマーは、メチルメタクリレート及びエチルメタクリレートから選ばれる１種を含む。
【００２２】
本発明において、(メタ)アクリレートポリマーは、アクリレート及びメタクリレートから誘導されるモノマー単位以外のその他のモノマー単位を含んでいてもよい。その他のモノマー単位を与えるモノマーとしては、典型的には、スチレン化合物、ビニル化合物、マレイミド化合物、アクリロニトリル、マレイン酸無水物が挙げられる。
【００２３】
スチレン化合物としては、スチレン、メチルスチレン、クロロスチレン、ブロモスチレン、４−ｔ−ブチルスチレン等が挙げられる。
【００２４】
ビニル化合物としては、メチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、ビニルナフタレン、ビニルアントラセン、ビニルビフェニル、ビニルカルバゾール、２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル等が挙げられる。
【００２５】
マレイミド化合物としては、例えば、マレイミド、Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド等が挙げられる。
【００２６】
これらの中でも、得られる薄膜の疎水性（低吸水性）の観点から、スチレン化合物が好ましく、スチレンがより好ましい。
【００２７】
本発明において、高光透過率、高密着性及び高硬度のバランスを考慮すると、(メタ)アクリレートポリマー中の(メタ)アクリレート化合物から誘導されるモノマー単位の含有量は、好ましくは５０モル％以上、より好ましくは６０モル％以上、より一層好ましくは７０モル％以上、更に好ましくは８０モル％以上である。
【００２８】
(メタ)アクリレートポリマーは、市販品を用いてもよいが、前述したモノマーを重合することで製造したポリマーを用いてもよい。
【００２９】
重合方法としては、ラジカル重合、アニオン重合、カチオン重合等を採用し得るが、本発明で必要な重量平均分子量を有する(メタ)アクリレートポリマーを比較的簡便に製造できることから、ラジカル重合が好ましい。
【００３０】
開始剤としては、過酸化ベンゾイル、クメンヒドロペルオキシド、ｔ−ブチルヒドロペルオキシド等の過酸化物；過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム等の過硫酸塩；アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスメチルブチロニトリル、アゾビスイソバレロニトリル、２,２'−アゾビス(イソ酪酸)ジメチル等のアゾ系化合物等が挙げられる。このような開始剤の使用量は、モノマーの種類や量、反応温度によって異なるため一概に規定できないが、通常、モノマー１モルに対して、０.００５〜０.０５モル程度である。重合時の反応温度は、０℃から使用する溶剤の沸点までで適宜設定すればよいが、通常２０〜１００℃程度である。また、反応時間は、０.１〜３０時間程度である。
【００３１】
重合は、溶媒中で行うことが好ましく、重合反応に用いる溶媒は、この種の反応で一般的に使用される溶媒を使用することができる。具体的には、水；メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、ｉ−ブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、１−ペンタノール、２−ペンタノール、３−ペンタノール、ｉ−ペンチルアルコール、ｔ−ペンチルアルコール、１−ヘキサノール、１−ヘプタノール、２−ヘプタノール、３−ヘプタノール、２−オクタノール、２−エチル−１−ヘキサノール、ベンジルアルコール、シクロヘキサノール等のアルコール；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、１,４−ジオキサン等のエーテル；クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、イソプロピルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のエーテルアルコール；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン；酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピオン酸エチル、セロソルブアセテート等のエステル；ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、ｎ−オクタン、ｎ−ノナン、ｎ−デカン、シクロペンタン、メチルシクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、アニソール等の脂肪族又は芳香族炭化水素；メチラール、ジエチルアセタール等のアセタール；ギ酸、酢酸、プロピオン酸等の脂肪酸；ニトロプロパン、ニトロベンゼン、ジメチルアミン、モノエタノールアミン、ピリジン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル等が挙げられる。これらから、モノマーや開始剤の種類や量、反応温度等を考慮して、使用する溶媒が適宜選択される。
【００３２】
本発明においては、(メタ)アクリレートポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）は、ポリマーの溶解性を確保し、好適な硬化膜を与える組成物を調製する観点から、５,０００〜２００,０００であるが、組成物の粘度の過度な増加を抑制することを考慮すると、その上限値は、好ましくは１８０,０００、より好ましくは１５０,０００、より一層好ましくは１００,０００、更に好ましくは８０,０００であり、組成物の粘度の過度な減少を抑制することを考慮すると、その下限値は、好ましくは１０,０００、より好ましくは１５,０００、より一層好ましくは３０,０００、更に好ましくは４０,０００である。なお、Ｍｗは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算測定値である。
【００３３】
(メタ)アクリレートポリマーが２種以上のモノマーを用いて製造される場合、(メタ)アクリレートポリマーは、ランダム共重合体、交互共重合体、ブロック共重合体のいずれでもよい。
【００３４】
［（Ｂ）マイグレーション抑制剤兼イオントラップ剤］
本発明の組成物に含まれる（Ｂ）成分は、ベンゾトリアゾール化合物からなるマイグレーション抑制剤兼イオントラップ剤である。このようなベンゾトリアゾール化合物としては、ベンゾトリアゾール、４−メチルベンゾトリアゾール、５−メチルベンゾトリアゾール等の炭素数１〜３のアルキル基置換ベンゾトリアゾール誘導体が挙げられるが、中でも、５−メチルベンゾトリアゾールが好ましい。
【００３５】
（Ｂ）成分の含有量は、（Ａ）成分１００質量部に対して、好ましくは０.１〜５０質量部程度であるが、高光透過率、高密着性及び高硬度を維持しつつ、マイグレーション抑制能により優れる硬化膜を再現性よく得る観点から、より好ましくは１〜３０質量部であり、より一層好ましくは２〜２５質量部である。
【００３６】
本発明の組成物はベンゾトリアゾール化合物を含有することから、硬化膜の高透明性、高密着性及び高硬度を損なうことなく、優れたマイグレーション抑制を実現することが可能となる。
【００３７】
［（Ｃ）溶剤］
本発明の組成物は、溶剤に溶解した溶液状態で用いられる。その際に使用する溶剤は、前記（Ａ）及び（Ｂ）成分を溶解でき、更に後述の（Ｄ）〜（Ｈ）成分及びその他の添加剤を含有する場合はこれらも溶解できるものであれば、特に限定されない。
【００３８】
溶剤の具体例としては、エチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノベンジルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコールモノアセテート、エチレングリコールジアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノベンジルエーテル、ジエチレングリコールモノフェニルエーテル、ジエチレングリコールアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリメチレングリコール、ヘキシレングリコール、オクチレングリコール、メトキシメトキシエタノール、１−ブトキシエトキシプロパノール、酢酸イソブチル、酢酸メトキシブチル、酢酸２−エチルへキシル、酢酸シクロヘキシル、酢酸メチルシクロヘキシル、酢酸ベンジル、酢酸イソアミル、プロピオン酸ｎ−ブチル、乳酸イソブチル、乳酸ｎ−ブチル、乳酸ｎ−アミル、乳酸イソアミル、イソ吉草酸イソアミル、アセト酪酸エチル、ステアリン酸ブチル、シュウ酸ジブチル、マロン酸ジエチル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、安息香酸プロピル、サリチル酸メチル、メチルフェニルエーテル、エチルベンジルエーテル、エチルフェニルエーテル、ジクロロエチルエーテル、ジイソアミルエーテル、ｎ−ヘキシルエーテル、１,４−ジオキサン、ジエチルアセタール、シネオール、メチルエチルケトン、メチルプロピルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジエチルケトン、エチルｎ−ブチルケトン、ジ−ｎ−プロピルケトン、アセトニルアセトン、ホロン、イソホロン、アセトフェノン、グリセリン、ブタノール、２−ブタノール、１,３−ブタンジオール、２,３−ブタンジオール、イソアミルアルコール、１,５−ペンタンジオール、２−メチルシクロヘキサノール、２−エチルヘキサノール、３,５,５−トリメチルヘキサノール、１−オクタノール、２−オクタノール、ノナノール、ｎ−デカノール、トリメチルノニルアルコール、ベンジルアルコール、α−テルピネオール、テトラヒドロフルフリルアルコール、フルフリルアルコール、アビエチノール、トリグリコールジクロリド、トリクロロ酢酸、乳酸、吉草酸、イソ吉草酸、カプロン酸、２−エチルへキサン酸、カプリル酸、無水酪酸、デカン、ジペンテン、ｐ−メンタン、ドデカン、１,１,２−トリクロロエタン、１,１,１,２−テトラクロロエタン、１,１,２,２−テトラクロロエタン、ヘキサクロロエタン、トルエン、キシレン、ｏ−ジクロロベンゼン、ｍ−ジクロロベンゼン、ｐ−ジクロロベンゼン、１,２,４−トリクロロベンゼン、ｏ−ジブロモベンゼン、ベンゾニトリル、ニトロベンゼン、α−トルニトリル（フェニルアセトニトリル）、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、２−ピロリドン等が挙げられる。
【００３９】
前記溶剤は、１種単独で又は２種以上を混合して使用することができる。また、（Ａ）成分を重合する際に用いた溶剤をそのまま用いることもできる。
【００４０】
前記溶剤は、印刷性の観点からは、沸点が１５０℃以上であることが好ましく、１８０℃以上であることがより好ましく、２００℃以上であることがより一層好ましい。このような溶剤としては、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコールモノベンジルエーテル、ジエチレングリコールモノベンジルエーテル等が特に好ましい。
【００４１】
溶剤を２種以上混合して使用する場合は、少なくとも１種の沸点が１５０℃以上であることが好ましく、１８０℃以上であることがより好ましく、２００℃以上であることがより一層好ましい。
【００４２】
前記溶剤の量は、本発明の組成物中の固形分濃度が１〜９５質量％となるような量が好ましく、固形分濃度が５〜９０質量％となるような量がより好ましく、固形分濃度が１０〜８５質量％となるような量がより一層好ましい。ここで、固形分とは、本発明の組成物の全成分から（Ｃ）溶剤を除いたものである。
【００４３】
本発明の組成物は、前記（Ａ）〜（Ｃ）成分を含有するが、オーバーコート機能を向上させる観点等から、更に
（Ｄ）シランカップリング剤、
（Ｅ）多官能(メタ)アクリレート化合物、
（Ｆ）ラジカル重合開始剤、
（Ｇ）重合禁止剤、
（Ｈ）ベンゾトリアゾール化合物以外のイオントラップ剤
等を含有してもよい。
【００４４】
［（Ｄ）シランカップリング剤］
本発明の組成物は、密着性を向上させる観点から、好ましくは、（Ｄ）成分としてシランカップリング剤を含有する。シランカップリング剤の好ましい一例としては、式（２）で表されるシラン化合物が挙げられる。
【００４５】
【化２】
2016013543.tif 000003
【００４６】
式（２）中、Ｒ3は、メチル基又はエチル基を表す。Ｘは、加水分解性基を表す。Ｙは、反応性官能基を表す。ｍは、０〜３の整数である。ｎは、０〜３の整数であり、０〜２の整数が好ましい。
【００４７】
Ｘで表される加水分解性基としては、ハロゲン原子、炭素数１〜３のアルコキシ基、炭素数２〜４のアルコキシアルコキシ基等が挙げられる。前記ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子等が挙げられる。炭素数１〜３のアルコキシ基としては、直鎖状又は分岐状のものが好ましく、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基及びｉ−プロポキシ基である。また、炭素数２〜４のアルコキシアルコキシ基として具体的には、メトキシメトキシ基、２−メトキシエトキシ基、エトキシメトキシ基及び２−エトキシエトキシ基である。
【００４８】
Ｙで表される反応性官能基としては、アミノ基、ウレイド基、(メタ)アクリロキシ基、ビニル基、エポキシ基、メルカプト基等が挙げられ、アミノ基、ウレイド基、(メタ)アクリロキシ基等が好ましい。特に好ましくは、アミノ基又はウレイド基である。
【００４９】
前記シランカップリング剤として具体的には、３−アミノプロピルトリクロロシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、アリルトリクロロシラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン等が挙げられる。
【００５０】
これらのうち、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン等が特に好ましい。
前記シランカップリング剤としては、市販品を使用し得る。
【００５１】
本発明の組成物が（Ｄ）成分を含有する場合、その含有量は、（Ａ）成分１００質量部に対して０.００１〜１０質量部が好ましく、０.０１〜５質量部がより好ましく、０.０５〜１質量部がより一層好ましい。含有量が０.００１質量部未満だと密着性の向上効果が得られないことがあり、１０質量部を超えると硬度が低下することがある。
【００５２】
［（Ｅ）多官能(メタ)アクリレート化合物］
本発明の組成物は、硬度を改善する観点から、好ましくは、（Ｅ）成分として多官能(メタ)アクリレート化合物を含有する。多官能(メタ)アクリレート化合物とは、分子中に少なくとも３つの(メタ)アクリロキシ基を有する化合物のことであり、具体的には、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステルが挙げられる。また、１分子中の(メタ)アクリロキシ基の数は３〜６であり、好ましくは３又は４である。
【００５３】
前記多価アルコールとしては、グリセロール、エリスリトール、ペンタエリスリトール、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ジペンタエリスリトール、ジトリメチロールプロパン等が挙げられる。
【００５４】
前記多官能(メタ)アクリレート化合物の具体例としては、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラメタクリレート等が挙げられる。
【００５５】
前記多官能(メタ)アクリレート化合物は、市販品として容易に入手が可能であり、その具体例としては、例えば、日本化薬(株)製KAYARAD（登録商標）T-1420、DPHA、DPHA-2C、D-310、D-330、DPCA-20、DPCA-30、DPCA-60、DPCA-120、DN-0075、DN-2475、R-526、NPGDA、PEG400DA、MANDA、R-167、HX-220、HX620、R-551、R-712、R-604、R-684、GPO-303、TMPTA、THE-330、TPA-320、TPA-330、PET-30、RP-1040；東亞合成(株)製アロニックス（登録商標）M-210、M-240、M-6200、M-309、M-400、M-402、M-405、M-450、M-7100、M-8030、M-8060、M-1310、M-1600、M-1960、M-8100、M-8530、M-8560、M-9050；大阪有機化学工業(株)製ビスコート295、300、360、GPT、3PA、400、260、312、335HP；新中村化学工業(株)製NKエステルA-9300、A-9300-1CL、A-GLY-9E、A-GLY-20E、A-TMM-3、A-TMM-3L、A-TMM-3LM-N、A-TMPT、AD-TMP、ATM-35E、A-TMMT、A-9550、A-DPH、TMPT等が挙げられる。
【００５６】
本発明の組成物が（Ｅ）成分を含有する場合、その含有量は、（Ａ）成分１００質量部に対して１０〜３００質量部であることが好ましく、２０〜２００質量部がより好ましく、５０〜１５０質量部がより一層好ましい。含有量が１０質量部未満である場合には、硬化膜の硬度改善効果が得られないことがあり、３００質量部を超える場合には、密着性と柔軟性の特性が低下し、クラックが発生し易くなることがある。多官能(メタ)アクリレート化合物は、１種又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００５７】
［（Ｆ）ラジカル重合開始剤］
本発明の組成物は、（Ｅ）成分の重合の開始又は促進の観点から、好ましくは、（Ｆ）成分としてラジカル重合開始剤を含有する。（Ｅ）成分は、高温で処理することによって自発的に重合するが、基板が変性する等高温硬化処理ができない場合、（Ｆ）成分を添加することによって低温硬化処理又は光硬化処理が可能となる。
【００５８】
ラジカル重合開始剤は、光照射及び／又は加熱によりラジカル重合を開始させる物質を放出することが可能であればよい。例えば、光ラジカル重合開始剤としては、ベンゾフェノン誘導体、イミダゾール誘導体、ビスイミダゾール誘導体、Ｎ−アリールグリシン誘導体、有機アジド化合物、チタノセン化合物、アルミナート錯体、有機過酸化物、Ｎ−アルコキシピリジニウム塩、チオキサントン誘導体等が挙げられる。更に具体的には、ベンゾフェノン、１,３−ジ(ｔ−ブチルジオキシカルボニル)ベンゾフェノン、３,３',４,４'−テトラキス(ｔ−ブチルジオキシカルボニル)ベンゾフェノン、３−フェニル−５−イソオキサゾロン、２−メルカプトベンズイミダゾール、ビス(２,４,５−トリフェニル)イミダゾール、２,２−ジメトキシ−１,２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−(４−モルホリノフェニル)ブタン−１−オン、ビス(η5−２,４−シクロペンタジエン−１−イル)ビス(２,６−ジフルオロ−３−(１Ｈ−ピロール−１−イル)フェニル)チタニウム等が挙げられるが、これらに限定されない。
【００５９】
前記光ラジカル重合開始剤としては市販品を利用することもでき、例えば、BASF社製のIRGACURE（登録商標）651、184、369、784等が挙げられる。また、前記以外の市販品も使用でき、具体的には、BASF社製IRGACURE（登録商標）500、907、379、819、127、500、754、250、1800、1870、OXE01、TPO、DAROCUR（登録商標）1173；Lambson社製Speedcure（登録商標）MBB、PBZ、ITX、CTX、EDB；Lamberti社製Esacure（登録商標）ONE、KIP150、KTO46；日本化薬(株)製KAYACURE（登録商標）DETX-S、CTX、BMS、DMBI等が挙げられる。
【００６０】
また、熱ラジカル重合開始剤としては、例えば、アセチルペルオキシド、ベンゾイルペルオキシド、メチルエチルケトンペルオキシド、シクロヘキサノンペルオキシド、過酸化水素、ｔ−ブチルヒドロペルオキシド、クメンヒドロペルオキシド、ジ−ｔ−ブチルペルオキシド、ジクミルペルオキシド、ジラウロイルペルオキシド、ｔ−ブチルペルオキシアセテート、ｔ−ブチルペルオキシピバレート、ｔ−ブチルペルオキシ−２−エチルヘキサノエート（ｔ−ブチル２−エチルヘキサンペルオキソエート）等の過酸化物；２,２'−アゾビスイソブチロニトリル、２,２'−アゾビス(２,４−ジメチルバレロニトリル)、(１−フェニルエチル)アゾジフェニルメタン、２,２'−アゾビス(４−メトキシ−２,４−ジメチルバレロニトリル)、ジメチル２,２'−アゾビスイソブチレート、２,２'−アゾビス(２−メチルブチロニトリル)、１,１'−アゾビス(１−シクロヘキサンカルボニトリル)、２−(カルバモイルアゾ)イソブチロニトリル、２,２'−アゾビス(２,４,４−トリメチルペンタン)、２−フェニルアゾ−２,４−ジメチル−４−メトキシバレロニトリル、２,２'−アゾビス(２−メチルプロパン)等のアゾ系化合物；過硫酸アンモニウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウム等の過硫酸塩等が挙げられるが、これらに限定されない。
【００６１】
市販の熱ラジカル重合開始剤としては、例えば、日油(株)製パーロイル（登録商標）IB、NPP、IPP、SBP、TCP、OPP、SA、355、L、パーブチル（登録商標）ND、NHP、MA、PV、355、A、C、D、E、L、I、O、P、Z、パーヘキシル（登録商標）ND、PV、D、I、O、Z、パーオクタ（登録商標）ND、ナイパー（登録商標）PMB、BMT、BW、パーテトラ（登録商標）A、パーヘキサ（登録商標）MC、TMH、HC、250、25B、C、25Z、22、V、パーオクタ（登録商標）O、パークミル（登録商標）ND、D、パーメンタ（登録商標）H、ノフマー（登録商標）BC；和光純薬工業(株)製V-70、V-65、V-59、V-40、V-30、VA-044、VA-046B、VA-061、V-50、VA-057、VA-086、VF-096、VAm-110、V-601、V-501；BASF社製IRGACURE（登録商標）184、369、651、500、819、907、784、2959、CGI1700、CGI1750、CGI1850、CG24-61、TPO、DAROCUR（登録商標）1116、1173；サイテックサーフェイススペシャルティーズ社製UVECRYL（登録商標）P36；Lamberti社製Esacure（登録商標）KIP150、KIP65LT、KIP100F、KT37、KT55、KTO46、KIP75/B等が挙げられるが、これらに限定されない。
【００６２】
本発明の組成物が（Ｆ）成分を含有する場合、その含有量は、（Ａ）成分１００質量部に対して１〜２０質量部が好ましく、１〜１５質量部がより好ましい。
【００６３】
［（Ｇ）重合禁止剤］
本発明の組成物は、必要に応じて、（Ｇ）成分として重合禁止剤を含有することができる。前記重合禁止剤としては、例えば２,６−ジイソブチルフェノール、３,５−ジ−ｔ−ブチルフェノール、３,５−ジ−ｔ−ブチルクレゾール、ヒドロキノン、ヒドロキノンモノメチルエーテル、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、４−メトキシ−１−ナフトール等が挙げられる。
【００６４】
本発明の組成物が（Ｇ）成分を含有する場合、その含有量は、全固形分中１質量％以下が好ましく、０.５質量％以下がより好ましい。含有率が１質量％を超えると、硬化不良を起こし、反応が不十分となることがある。
【００６５】
[（Ｈ）ベンゾトリアゾール化合物以外のイオントラップ剤]
本発明の組成物は、（Ｈ）成分としてベンゾトリアゾール化合物以外のイオントラップ剤を含有することができる。このようなイオントラップ剤としては、例えば、Ｎ,Ｎ'−ビス[３−(３,５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル)プロピオニル]ヒドラジン（Irganox（登録商標）MD1024、BASF社製）、シュウ酸ビス(ベンジリデンヒドラジド)（Eastman Inhibitor OABH、イーストマンケミカル社製）等が挙げられる。
【００６６】
本発明の組成物が（Ｈ）成分を含有する場合、その含有量は、（Ａ）成分１００質量部に対して０.０００１〜２０質量部程度であるが、前述のとおり、ベンゾトリアゾール化合物がイオントラップ剤としても機能し得ることから、その他のイオントラップ剤を含まない方が好ましい。
【００６７】
［その他の添加剤］
本発明の組成物は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、必要に応じて、更に界面活性剤、架橋剤、消泡剤、レオロジー調整剤、顔料、染料、保存安定剤、多価フェノールや多価カルボン酸等の溶解促進剤等を含有することができる。
【００６８】
界面活性剤としては、特に限定されないが、例えば、フッ素系界面活性剤、シリコン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤等が挙げられる。この種の界面活性剤としては、例えば、三菱マテリアル電子化成(株)製エフトップ（登録商標）EF301、EF303、EF352；ＤＩＣ(株)製メガファック（登録商標）F171、F173；スリーエム社製FLUORAD（登録商標）FC430、FC431；旭硝子(株)製アサヒガード（登録商標）AG710、ＡＧＣセイミケミカル(株)製サーフロン（登録商標）S-382、SC101、SC102、SC103、SC104、SC105、SC106等が挙げられる。
【００６９】
架橋剤としては、多官能エポキシ化合物、多官能イソシアネート化合物、多官能チオール化合物、メラミン系架橋剤等が挙げられるが、（Ｅ）成分を含有する場合は３官能以上のチオール化合物が好ましい。多官能チオール化合物は、多価アルコールと、単官能及び／又は多官能チオール化合物との付加反応物として得ることができる。具体的な化合物としては、１,３,５−トリス(３−メルカプトプロピオニルオキシエチル)イソシアヌレート、１,３,５−トリス(３−メルカプトブチリルオキシエチル)イソシアヌレート（昭和電工(株)製、カレンズMT（登録商標）NR1）、トリメチロールプロパントリス(３−メルカプトプロピオネート)等の３官能チオール化合物；ペンタエリスリトールテトラキス(３−メルカプトプロピオネート)、ペンタエリスリトールテトラキス(３−メルカプトブチレート)（昭和電工(株)製、カレンズMT（登録商標）PEI）等の４官能チオール化合物；ジペンタエリスリトールヘキサキス(３−プロピオネート)等の６官能チオール化合物等が挙げられる。
【００７０】
消泡剤としては、アセチレングリコール、シリコーン流体及び乳剤、エトキシ化又はプロポキシ化シリコーン、炭化水素、脂肪酸エステル誘導体、アセチル化ポリアミド、ポリ(アルキレンオキシド)ポリマー及びコポリマー等が挙げられるが、これらに限定されない。スクリーン印刷を行う場合は、本発明の組成物は消泡剤を含有することが好ましい。
【００７１】
本発明の組成物の２５℃における粘度は、塗布性の観点から、好ましくは１〜１０,０００ｍＰａ・ｓ、より好ましくは１〜５,０００ｍＰａ・ｓ、より一層好ましくは１〜１,０００ｍＰａ・ｓである。粘度が低すぎると、目的の膜厚が得られないことがあり、粘度が高すぎると、塗布性が低下することがある。
【００７２】
また、本発明の組成物の２５℃における粘度は、印刷性の観点から、好ましくは１０〜１００,０００ｍＰａ・ｓ、より好ましくは５００〜１００,０００ｍＰａ・ｓ、より一層好ましくは１,０００〜１００,０００ｍＰａ・ｓである。粘度が低すぎると、塗布後に組成物が拡散してしまい、所望のパターンが形成されないことがあり、粘度が高すぎると、吐出性が低くなる等工程への負荷が生じたり、組成物の基板への転写性が低下したりすることがある。
【００７３】
タッチパネルにおけるＸ軸電極及びＹ軸電極が直交する部分にブリッジ構造を構成するための絶縁膜のように微細な構造をスクリーン印刷、グラビアオフセット印刷等の印刷法によって形成する場合には、本発明の組成物の２５℃における粘度は、好ましくは１０〜１００,０００ｍＰａ・ｓ、より好ましくは５,０００〜１００,０００ｍＰａ・ｓ、より一層好ましくは２０,０００〜１００,０００ｍＰａ・ｓである。粘度が低すぎると、塗布後に組成物が拡散してしまい、所望のパターンが形成されないことがあり、粘度が高すぎると、吐出性が低くなる等工程への負荷が生じたり、組成物の基板への転写性が低下したりすることがある。
【００７４】
なお、本発明において、粘度は、Ｅ型粘度計による測定値である。
【００７５】
［組成物の調製方法］
本発明の組成物の調製方法は、特に限定されない。一例としては、（Ａ）成分を（Ｃ）溶剤に溶解し、この溶液に（Ｂ）成分を所定の割合で混合し、均一な溶液とする方法が挙げられる。また、この調製方法の適当な段階において、必要に応じて（Ｄ）〜（Ｈ）成分やその他の成分を更に添加して混合する調製方法が挙げられる。
【００７６】
本発明の組成物の調製にあたっては、溶剤中における重合反応によって得られた（Ａ）成分の溶液をそのまま使用することができる。この場合、この（Ａ）成分の溶液に、前述したように、（Ｂ）成分等を入れて均一な溶液とする。また、濃度調整を目的として更に（Ｃ）溶剤を加えてもよい。
【００７７】
こうして調製された溶液状態の組成物は、孔径が０.２μｍ程度のフィルタ等を用いて濾過した後に使用することが好ましい。
【００７８】
［塗膜及び硬化膜］
本発明の組成物を、電極及び／又は配線を有する基板（例えば、シリコン／二酸化シリコン被覆基板；シリコンナイトライド基板；アルミニウム、モリブデン、クロム、銅、銀等の金属、銀ナノワイヤ等の金属ナノワイヤ、銀ナノ粒子、銅ナノ粒子等の金属ナノ粒子、ポリ(３,４−エチレンジオキシチオフェン)／ポリ(スチレンスルホン酸塩)（PEDOT/PSS）、グラフェン、カーボンナノチューブ等の導電性ポリマーが被覆された基板；ガラス基板；石英基板；ＩＴＯ基板；ＩＴＯフィルム基板；ＴＡＣフィルム、ポリエステルフィルム、アクリルフィルム、シクロオレフィン（ＣＯＰ）フィルム等の樹脂フィルム基板）等の上に、回転塗布、流し塗布、ロール塗布、スリット塗布、スリットに続いた回転塗布、インクジェット塗布、スクリーン印刷、フレキソ印刷、グラビア印刷、オフセット印刷、グラビアオフセット印刷等の印刷法等によって塗布し、その後、ホットプレート又はオーブン等で予備乾燥（プリベーク）することにより、塗膜を形成することができる。本発明の組成物は、特にインクジェット塗布、スクリーン印刷、フレキソ印刷、グラビアオフセット印刷等の印刷法に適している。
【００７９】
プリベークは、一般に、好ましくは６０℃〜１５０℃、より好ましくは８０℃〜１２０℃で、ホットプレートを用いる場合には０.５〜３０分間、オーブンを用いる場合には０.５〜９０分間処理するという方法が採られる。
【００８０】
次いで、熱硬化のためのポストベークを行う。具体的には、ホットプレート、オーブン等を用いて加熱する。ポストベークは、一般に、好ましくは１５０℃〜３００℃、より好ましくは２００℃〜２５０℃で、ホットプレートを用いる場合には１〜３０分間、オーブンを用いる場合には１〜９０分間処理するという方法が採られる。
【００８１】
本発明の組成物が熱ラジカル重合開始剤を含有する場合には、低温での硬化が可能である。この場合、プリベーク条件は前記と同様であるが、ポストベーク温度は、好ましくは６０℃〜２００℃、より好ましくは８０℃〜１５０℃である。その他の条件は前記と同様である。
【００８２】
また、本発明の組成物が光ラジカル重合開始剤を含有する場合には、プリベーク後、前記塗膜に紫外線を照射することによって、光硬化を行うことができる。紫外線は、波長２００〜５００ｎｍの範囲で、その露光量は１００〜５,０００ｍＪ／ｃｍ2であることが好ましい。
【００８３】
光硬化後は、熱硬化のためのポストベークを行う。具体的には、ホットプレート、オーブン等を用いて加熱する。ポストベークは、一般に、好ましくは６０℃〜１５０℃、より好ましくは８０℃〜１２０℃で、ホットプレートを用いる場合には１〜３０分間、オーブンを用いる場合には１〜９０分間処理するという方法が採られる。
【００８４】
前記のような条件のもとで本発明の組成物を硬化させることにより、基板の段差を充分に平坦化でき、高透明性を有する硬化膜を形成することができる。
【００８５】
本発明の硬化膜は、少なくとも必要な水準の平坦化性、硬度及び密着性を有するため、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）型液晶表示素子、有機ＥＬ素子等の各種ディスプレイにおける保護膜、平坦化膜、絶縁膜等、タッチパネルにおける保護膜、絶縁膜等の硬化膜を形成する材料としても有用である。また、柔軟性にも優れるため、ＩＴＯフィルム用のオーバーコート材としても好適である。
【００８６】
電極及び／又は配線が形成された基材上に前記電極及び／又は配線と接するように形成された本発明の硬化膜を備える導電性部材は、マイグレーションが抑制されるため、電極や配線間のショートを起こしにくく、耐久性に優れるものとなる。
【００８７】
本発明のマイグレーション抑制方法によれば、組成物中にベンゾトリアゾール化合物が含まれるため、硬化膜の透明性、密着性及び硬度を損なうことなく、優れたマイグレーション抑制を実現することが可能となる。本発明の方法は、銀、銅、金、アルミニウム、ニッケル、スズ、鉛、パラジウム等のマイグレーションの抑制に効果的であり、特に、銀のマイグレーション抑制に効果的である。
【実施例】
【００８８】
以下、合成例、実施例及び比較例を挙げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明は、下記実施例に限定されない。なお、合成例において得られた共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は、昭和電工(株)製ＧＰＣ装置（Shodex GPC-101）（カラム：Shodex（登録商標）KF803l及びKF804l（昭和電工(株)製））を用いて、溶出溶剤テトラヒドロフランを流量１ｍＬ／分でカラム中（カラム温度４０℃）に流して溶離させるという条件で測定した。なお、Ｍｗはポリスチレン換算値にて表した。【００８９】
また、下記合成例、実施例、比較例で用いた試薬及び装置は、次のとおりである。
・ＤＥＧＭＥＡ（ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート）、ＭＭＡ（メタクリル酸メチル）、ＭＡＡ（メタクリル酸）、ＳＴ（スチレン）：東京化成工業(株)製
・ＭＡＩＢ：２,２'−アゾビス(イソ酪酸)ジメチル、東京化成工業(株)製
・ＰＥＴ−３０：ペンタエリスリトール(トリ／テトラ)アクリレート、日本化薬(株)製
・５−ＭＢＴ：５−メチルベンゾトリアゾール、東京化成工業(株)製
・ＩＲＧ１８４：光重合開始剤、BASF社製IRGACURE（登録商標）184
・ＡＰＳ：３−アミノプロピルトリエトキシシラン、信越化学工業(株)製LS-3150
・ＡＧＩＴＡＮ７７１：消泡剤、MUNZING社製
・攪拌装置：(株)シンキー製あわとり練太郎ARE-310【００９０】
［１］樹脂の合成
［合成例１］
１,０００ｍＬの四つ口フラスコに、ＤＥＧＭＥＡ５３２.０ｇを入れ、窒素雰囲気下、７０℃（内温）で攪拌しながら、そこにＭＭＡ２８０.０g、ＭＡＡ３０.１ｇ、ＳＴ３６.５ｇ及びＭＡＩＢ８.１ｇの混合液を２時間かけてゆっくり滴下した。滴下後、更に７０℃で２０時間反応させ、樹脂溶液Ｐ１を得た。なお、この樹脂溶液に含まれる樹脂（(メタ)アクリレートポリマー）中のモノマー単位のモル比は、ＭＭＡ単位：ＭＡＡ単位：ＳＴ単位＝８０：１０：１０であって、そのＭｗは、約５万であった。【００９１】
［２］硬化膜形成用樹脂組成物の作製、硬化膜の作製及びその評価
［実施例１］
２００ｍＬのプラスチック容器に、合成例１で得られた樹脂溶液Ｐ１を５５.１ｇ、ＰＥＴ−３０を２４.３ｇ、ＩＲＧ１８４を１.３ｇ、５−ＭＢＴを１.３ｇ、ＡＰＳを０.０２ｇ、ＡＧＩＴＡＮ７７１を０.０３ｇ、ＤＥＧＭＥＡを１７.９ｇ入れ、これを攪拌装置に入れ、１０分間、２,０００ｒｐｍで攪拌し、ワニスを作製した。【００９２】
［実施例２］
２００ｍＬのプラスチック容器に、合成例１で得られた樹脂溶液Ｐ１を５０.２ｇ、ＰＥＴ−３０を２５.１ｇ、ＩＲＧ１８４を１.４ｇ、５−ＭＢＴを０.６８ｇ、ＡＰＳを０.０３ｇ、ＡＧＩＴＡＮ７７１を０.０３ｇ、ＤＥＧＭＥＡを２２.６ｇ入れ、これを攪拌装置に入れ、１０分間、２,０００ｒｐｍで攪拌し、ワニスを作製した。【００９３】
［実施例３］
２００ｍＬのプラスチック容器に、合成例１で得られた樹脂溶液Ｐ１を４８.３ｇ、ＰＥＴ−３０を２４.１ｇ、ＩＲＧ１８４を１.３ｇ、５−ＭＢＴを２.６２ｇ、ＡＰＳを０.０２ｇ、ＡＧＩＴＡＮ７７１を０.０３ｇ、ＤＥＧＭＥＡを２３.７ｇ入れ、これを攪拌装置に入れ、１０分間、２,０００ｒｐｍで攪拌し、ワニスを作製した。【００９４】
［実施例４］
２００ｍＬのプラスチック容器に、合成例１で得られた樹脂溶液Ｐ１を４５.９ｇ、ＰＥＴ−３０を２２.９ｇ、ＩＲＧ１８４を１.２ｇ、５−ＭＢＴを５.００ｇ、ＡＰＳを０.０２ｇ、ＡＧＩＴＡＮ７７１を０.０３ｇ、ＤＥＧＭＥＡを２５.０ｇ入れ、これを攪拌装置に入れ、１０分間、２,０００ｒｐｍで攪拌し、ワニスを作製した。【００９５】
［比較例１］
２００ｍＬのプラスチック容器に、合成例１で得られた樹脂溶液Ｐ１を５６.７ｇ、ＰＥＴ−３０を２４.９ｇ、ＩＲＧ１８４を１.４ｇ、ＡＰＳを０.０２ｇ、ＡＧＩＴＡＮ７７１を０.０３ｇ、ＤＥＧＭＥＡを１７.０ｇ入れ、これを攪拌装置に入れ、１０分間、２,０００ｒｐｍで攪拌し、ワニスを作製した。【００９６】
実施例１〜４及び比較例１で作製したワニスの組成をまとめて表１に示す。【００９７】
【表１】
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【００９８】
［３］硬化膜の作製及びその評価
［光透過率測定用硬化膜の作製］
実施例１〜４及び比較例１のワニスを、それぞれガラス基板上にスピンコートにより塗布し、まず１１０℃で２分間プリベークを行った。次いでＵＶ照射（８００ｍＪ／ｃｍ2）を行い、その後１１０℃で３０分間ポストベークを行い、厚さ約５μｍの硬化膜を作製した。得られた硬化膜について、下記方法によって鉛筆硬度、密着性、透明性の評価を行った。結果を表２に示す。【００９９】
［光透過率の測定］
硬化膜の紫外可視吸収スペクトルを(株)島津製作所製UV-3100PCを用いて測定し、波長４００ｎｍにおける透過率を評価した。【０１００】
［鉛筆硬度の評価］
ＪＩＳ Ｋ ５４００に準拠し、１,０００ｇ荷重で測定した。【０１０１】
［密着性の評価］
クロスカット試験方法により評価した。まず、カッターガイドを用いて、硬化膜に１００個の碁盤目を作成した。次に、当該碁盤目上にニチバン(株)製のセロハンテープを接着し、上から消しゴムで強く擦り、充分に密着させた。そして、次にセロハンテープをはがし、その際に、１００個の碁盤目のうち、何個が剥離したかで評価を行った。
０Ｂ：６６個以上が剥離
１Ｂ：３６〜６５個が剥離
２Ｂ：１６〜３５個が剥離
３Ｂ：６〜１５個が剥離
４Ｂ：１〜５個が剥離
５Ｂ：剥離なし【０１０２】
［耐マイグレーション評価用サンプルの作製］
図１のような銀パターン２をスパッタ蒸着によりガラス基板１上に作製した。実施例１〜４及び比較例１のワニスを、それぞれ当該銀パターン付きガラス基板上にスクリーン印刷法により塗布し、まず１１０℃で２分間プリベークを行った。次いで１１０℃で３０分間ポストベークを行い、厚さ約５μｍの硬化膜３を作製し、評価用サンプルを得た。硬化膜を形成した銀パターン基板の断面図を図２に示す。得られたサンプルについて、下記方法によって、耐マイグレーション評価を行なった。【０１０３】
［耐マイグレーション評価］
評価用サンプルを温度６０℃、相対湿度９０％ＲＨの条件下に置き、銀パターン両端部に陽極と陰極をつなぎパターン先端部に電界集中が起こるように５Ｖの電圧を１５時間印加するという試験を行い、この試験によるマイグレーションの発生の有無を確認した。なお、マイグレーションが発生したか否かは、試験前後のパターンを顕微鏡で観察することで確認した。試験前後のパターンを図３〜５に示す。【０１０４】
【表２】
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【０１０５】
表２に示す結果から明らかなように、実施例のワニス（硬化膜形成用樹脂組成物）から得られた硬化膜は、鉛筆硬度がＨ以上と高く、密着性も４Ｂ以上と高く、透明性にも優れるものであった。また、これらの硬化膜を用いた場合、マイグレーションの発生は認められなかった（図４）。一方、比較例のワニスから得られた硬化膜を用いた場合、マイグレーションの発生が認められた（図５）。
【符号の説明】
【０１０６】
１  基板
２  銀パターン
３  硬化膜
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【国際調査報告】
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