(57)【要約】  基体を有する積層体であって、前記基体は、相互に対向する第１の表面および第２の表面を有し、当該積層体は、前記基体の前記第１の表面側に金属膜を有し、前記基体と前記金属膜の間には、可視光領域の光に対して光学的な影響を及ぼす空隙が分散されており、当該積層体の前記基体の第２の表面側から測定したとき、可視光に対する吸収率（波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲の平均値）が５０％以上であり、反射率（波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲の平均値）が４０％以下であり、Ｄ６５光源の視野１０゜における明度Ｌ＊が７０以下であることを特徴とする積層体。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基体を有する積層体であって、
前記基体は、相互に対向する第１の表面および第２の表面を有し、
当該積層体は、前記基体の前記第１の表面側に金属膜を有し、
前記基体と前記金属膜の間には、可視光領域の光に対して光学的な影響を及ぼす空隙が分散されており、
当該積層体の前記基体の第２の表面側から測定したとき、可視光に対する吸収率（波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲の平均値）が５０％以上であり、反射率（波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲の平均値）が４０％以下であり、Ｄ６５光源の視野１０゜における明度Ｌ＊が７０以下であることを特徴とする積層体。
【請求項２】
前記基体は、ガラスで構成される、請求項１に記載の積層体。
【請求項３】
前記空隙は、前記基体の前記第１の表面をエッチング処理することにより形成される、請求項１または２に記載の積層体。
【請求項４】
前記金属膜は、Ｔａ、Ａｌ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ａｕ、Ａｇ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｚｒ、Ｍｏ、Ｐｄ、Ｉｎ、Ｗ、ＰｔおよびＮｂからなる群から選定された少なくとも一つの金属または合金を含む、請求項１乃至３のいずれか一つに記載の積層体。
【請求項５】
当該積層体は、前記基体の前記第２の表面側から見たとき、Ｌ＊≦５０の黒色に見える、請求項１乃至４のいずれか一つに記載の積層体。
【請求項６】
当該積層体は、さらに、前記金属膜の上部に第２の層を有する、請求項１乃至５のいずれか一つに記載の積層体。
【請求項７】
前記第２の層は、金属酸化物、金属窒化物、または金属で構成される、請求項６に記載の積層体。
【請求項８】
前記金属膜は、単層膜である、請求項１乃至７のいずれか一つに記載の積層体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基体および金属膜を有する積層体に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、各種分野において、積層体を有する製品に適用される装飾技術が注目されている。例えば、同一機能を有する製品であっても、積層体の色彩などを変化させることにより、製品の高級感や見栄えなどの印象に差異が生じ、これにより、消費者の購買意欲を高めることができる。【０００３】
例えば、特許文献１には、一視野角から視認した際に、可視光の反射および透過により、虹彩色のような干渉色が生じ、これにより積層体の装飾性を高めることができる技術が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１０−２０１６５２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１では、積層体の装飾性を高めるため、濁り板の表面に多数の薄膜を積層することにより、干渉色を発生させる。【０００６】
一方、これとは対照的に、積層体の装飾用途によっては、いずれの角度方向から視認しても、色彩に大きな変化が生じず、積層体が常に同様の色彩を呈することが要求される場合も存在し得る。【０００７】
しかしながら、特許文献１の技術では、積層体の色彩の角度依存性を抑制することは難しい。【０００８】
また、特許文献１の技術では、所望の干渉色を発現させるため、多層膜を構成する各層の膜厚を高精度に制御する必要があり、このため製造プロセスは極めて煩雑である。【０００９】
本発明は、このような背景に鑑みなされたものであり、本発明では、比較的簡単な方法で製造できる上、色彩に対する角度依存性を有意に抑制することが可能な積層体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明では、基体を有する積層体であって、
前記基体は、相互に対向する第１の表面および第２の表面を有し、
当該積層体は、前記基体の前記第１の表面側に金属膜を有し、
前記基体と前記金属膜の間には、可視光領域の光に対して光学的な影響を及ぼす空隙が分散されており、
当該積層体の前記基体の第２の表面側から測定したとき、可視光に対する吸収率（波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲の平均値）が５０％以上であり、反射率（波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲の平均値）が４０％以下であり、Ｄ６５光源の視野１０゜における明度Ｌ＊が７０以下であることを特徴とする積層体が提供される。
【発明の効果】
【００１１】
本発明では、比較的簡単な方法で製造できる上、色彩に対する角度依存性を有意に抑制することが可能な積層体を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の一実施形態による積層体の断面を模式的に示した図である。
【図２】本発明の一実施形態による積層体の上面の一例を示した図（ＳＥＭ写真）である。
【図３】本発明の一実施形態による別の積層体の断面を模式的に示した図である。
【図４】本発明の一実施形態による積層体の製造方法のフローを概略的に示した図である。
【図５】ガラス基板を搬送させた状態で、ガラス基板のエッチング処理を実施するための処理装置の一構成例を示した図である。
【図６】例４に係る積層体の断面ＳＥＭ写真である。
【図７】例２１に係る積層体において測定された、反射率Ｒの波長依存性を示したグラフである。
【図８】例２９に係る積層体において測定された、反射率Ｒの波長依存性を示したグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明について詳しく説明する。
【００１４】
前述のように、積層体の装飾用途によっては、積層体をいずれの角度方向から視認しても、色彩に大きな変化が生じず、常に同様の色彩を呈することが要求される場合がある。
【００１５】
しかしながら、特許文献１の技術では、積層体の色彩の角度依存性を抑制することは難しい。また、特許文献１の技術では、多層膜を構成する各層の膜厚を高精度に制御する必要があり、製造プロセスは極めて煩雑である。
【００１６】
これに対して、本発明では、基体を有する積層体であって、
前記基体は、相互に対向する第１の表面および第２の表面を有し、
当該積層体は、前記基体の前記第１の表面側に金属膜を有し、
前記基体と前記金属膜の間には、可視光領域の光に対して光学的な影響を及ぼす空隙が分散されており、
当該積層体の前記基体の第２の表面側から測定したとき、可視光に対する吸収率（波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲の平均値）が５０％以上であり、反射率（波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲の平均値）が４０％以下であり、Ｄ６５光源の視野１０゜における明度Ｌ＊が７０以下であることを特徴とする積層体が提供される。
【００１７】
このような積層体では、基体と金属膜の間に分散された空隙の影響により、基体の側から積層体を視認した際に得られる色彩の角度依存性を有意に抑制できる。
【００１８】
また、この積層体では、単層の金属膜により、各色彩を発色させることができる。従って、特許文献１のような、各層の厚さが高精度に制御された多層膜を形成する必要がなく、比較的簡単なプロセスで、装飾用の積層体を製造することが可能となる。
【００１９】
基体と金属膜の間に分散される空隙は、例えば、基体の第１の表面をエッチング処理することにより、形成されても良い。例えば、基体がガラス基板の場合、第１の表面は、フッ酸によりエッチングされても良い。
【００２０】
ここで、本願において、色彩は、ＪＩＳ  Ｚ８７２９の色座標Ｌ＊ａ＊ｂ＊表示系に準拠して表記するものとする。ここで、Ｌ＊は明度であり、ａ＊およびｂ＊は、それぞれ、色度である。
【００２１】
また、本願では、色度ａ＊およびｂ＊を用いて彩度Ｃを規定する。すなわち、彩度Ｃは
【００２２】
【数１】
2015194485.tif 000003
で表される。
【００２３】
本発明の積層体において、Ｄ６５光源の視野１０゜における色度ａ＊およびｂ＊は、それぞれ、絶対値が４０以下であることが好ましく、絶対値が３０以下であることがより好ましい。
【００２４】
本発明の積層体において、このような小さな色度ａ＊およびｂ＊を選択した場合、積層体は第２の表面側のいずれの角度から視認しても金属光沢をもたない特定の吸収色、例えば黒色、茶色、または灰色などに見える。従って、そのような積層体は、例えば黒く見える金属を用いれば、黒色系、例えばＬ＊≦５０の黒色が好まれるディスプレイの外周部分の加飾等への適用に有意である。なお、Ｌ＊が小さいほど暗い色となり、周囲のものに対して黒色と認識しやすくなる。
【００２５】
（本発明の一実施形態による積層体について）
次に、図１および図２を参照して、本発明の一実施形態による積層体について説明する。
【００２６】
図１には、本発明の一実施形態による積層体（以下、「第１の積層体」と称する）の断面を概略的に示す。また、図２には、第１の積層体の上面図（ＳＥＭ写真）の一例を示す。
【００２７】
図１に示すように、第１の積層体１００は、基体１１０と、金属膜１３０とを有する。
【００２８】
基体１１０は、第１の表面１１２および第２の表面１１４を有し、金属膜１３０は、基体１１０の第１の表面１１２の側に配置される。金属膜１３０は、比較的薄い厚さを有する。例えば、図１において、金属膜１３０の厚さ部分は、例えば１ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲である。
【００２９】
基体１１０の第１の表面１１２は、微細な多数の凹凸部１２０を有する粗面である。基体１１０と金属膜１３０との間には、基体１１０の面内方向にわたって、空隙１４０が分散されている。
【００３０】
図２に示すように、金属膜１３０の上面は、「ブロッコリー状」の区画１３２が相互に隣接して配置された形態を有し、各「ブロッコリー状」の区画１３２同士の間には、隙間１５０が認められる。
【００３１】
なお、区画１３２の形状は、微細な凹凸部１２０の形状や分布に依存して見掛け上少し異なる場合もありえるが、その場合にも多数の区画１３２が隙間１５０をはさんで相互に隣接するという観点で共通しているので、本願では、それらをまとめて「ブロッコリー状」という。
【００３２】
隙間１５０は、金属膜１３０が比較的薄いときには図２のように顕著に認められ、積層体１００としての高い透過率に寄与する。一方、金属膜１３０が例えば２００ｎｍ以上と厚い場合、隙間１５０は認められにくくなり、それによって積層体１００としての透過率は低くなる。このように、金属膜１３０の膜厚によって、積層体１００としての透過率をある程度コントロール可能である。
【００３３】
なお、図１に示した積層体１００の例では、基体１１０の第１の表面１１２の直上にも、比較的薄い金属部１３５が存在している。
【００３４】
この薄い金属部１３５は、微細な多数の凹凸部１２０を有する粗面である第１の表面１１２上に金属膜１３０を成膜する際に、第１の表面１１２の凸部上のみならず凹部の部分にも回り込んで成膜されたものであり、基体１１０の第１の表面をある程度トレースして、微細な凹凸形状となっている。さらに、少なくとも一部において金属膜１３０と薄い金属部１３５とは連続している。その意味で、金属膜１３０と薄い金属部１３５とをまとめたものは、単層の金属膜であるといえる。
【００３５】
ここで、基体１１０と金属膜１３０との間に分散された空隙１４０は、可視光領域の光に対して光学的な影響を及ぼす。例えば、空隙１４０の存在により、空隙を含む基体の屈折率は、基体のそれと異なる。また、基体１１０の第２の表面１１４側から薄い金属部１３５を透過した可視光は、空隙内で金属膜１３０と薄い金属部１３５との間で光学干渉をおこすので、積層体１００は、第２の表面１１４から見たとき、吸収色に見える効果がある。
【００３６】
空隙１４０の上記のような作用により、第１の積層体１００では、基体１１０の第２の表面１１４の側から視認した際に生じる色彩の角度依存性を、有意に抑制できる。
【００３７】
また、第１の積層体１００では、前述の効果を発現させるためには、基体１１０の粗面化された第１の表面１１２上に、単層の金属膜が配置されれば良い。なお、ここでいう単層の金属膜とは、前記した金属膜１３０と薄い金属部１３５とをまとめたものを指す。このため、第１の積層体１００では、製造プロセスを有意に簡略化可能である。
【００３８】
また、第１の積層体１００は、基体１１０の第２の表面１１４の側から測定したとき、可視光に対する吸収率（波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲の平均値）が５０％以上となり、反射率（波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲の平均値）が４０％以下となり、Ｄ６５光源の視野１０゜における明度Ｌ＊が７０以下となるという特徴を有する。
【００３９】
（本発明の一実施形態による積層体を構成する構成部材について）
次に、第１の積層体１００を構成する各構成部材について、より詳しく説明する。なお、以下の説明では、明確化のため、各部材を参照する際に、図１に示した参照符号を使用する。
【００４０】
（基体１１０）
基体１１０は、いかなる材料で構成されても良く、第１の積層体１００としての透過率がある程度必要であれば透明または半透明なもの、第１の積層体１００としての透過率が必要でなければ不透明なものを適宜選択できる。例えば、基体１１０は、ガラスまたは樹脂で構成されても良い。
【００４１】
基体１１０がガラスで構成される場合、ガラスの組成は、特に限られない。基体１１０は、例えば、ソーダライムシリケートガラス、アルミノシリケートガラス、および無アルカリガラス等で構成されても良い。
【００４２】
一方、基体１１０が樹脂で構成される場合、樹脂は、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂もしくはポリカーボネート系樹脂、またはそれらのうち任意の２以上の混合物であっても良い。
【００４３】
基体１１０（さらには積層体１００）の寸法および形状は、特に限られない。基体１１０は、例えば、０．１ｍｍ〜１０．０ｍｍの厚さを有しても良い。また、基体１１０の形状は、略矩形状の他、略円形、および略楕円形等であっても良い。
【００４４】
（粗面化について）
基体１１０の第１の表面１１２の少なくとも一部は、粗面化されている。この粗面化の状態は、基体１１０と金属膜１３０の間に、前述のような効果を有する空隙１４０を形成できる限り、特に限られない。粗面化する方法としては、例えば、ウェットエッチング、ＲＩＥなどのドライエッチング、ゾルゲル法、化学蒸着などのコーティング、レーザー加工、ナノインプリント、フォトリソグラフィーなどの微細加工技術を利用できる。
【００４５】
例えば、基体１１０の第１の表面１１２には、図１に示したような微細な凹凸部１２０が形成されても良い。基体１１０がガラスで構成される場合、そのような微細な凹凸部１２０は、例えば、ガラスの表面をフッ酸でエッチング処理することにより形成できる。微細な凹凸部１２０は、基体１１０の第２の表面側に向かってえぐれたような形状（オーバーハング）の凹部を含んでいればよい。このような形状の凹部が存在することで、基体１１０と金属膜１３０との間に空隙を分散させることができる。
【００４６】
基体１１０の第１の表面１１２は、算術平均粗さＲａが０．２ｎｍ〜１００ｎｍの範囲であり、１０点平均粗さＲｚが２ｎｍ〜５０μｍの範囲であっても良い。算術平均粗さＲａは、例えば、０．５ｎｍ〜６０ｎｍの範囲であり、例えば、０．８ｎｍ〜５０ｎｍの範囲である。１０点平均粗さＲｚは、例えば、３ｎｍ〜２０μｍの範囲である。
【００４７】
（化学強化処理）
基体１１０がガラスで構成される場合、そのようなガラスは、化学強化処理されていても良い。これにより、基体１１０の強度を高めることができる。
【００４８】
（金属膜１３０）
金属膜１３０の種類は、特に限られない。金属膜１３０は、例えば、Ｔａ（タンタル）、Ａｌ（アルミニウム）、Ｎｉ（ニッケル）、Ａｇ（銀）、Ｓｉ（シリコン）、Ｃｕ（銅）、Ｔｉ（チタン）、Ｃｒ（クロム）、Ｍｎ（マンガン）、Ｆｅ（鉄）、Ｃｏ（コバルト）、Ｚｎ（亜鉛）、Ｇａ（ガリウム）、Ｇｅ（ゲルマニウム）、Ｚｒ（ジルコニウム）、Ｎｂ（ニオブ）、Ｍｏ（モリブデン）、Ｐｄ（パラジウム）、Ｉｎ（インジウム）、Ｗ（タングステン），Ｐｔ（白金）、またはＡｕ（金）等の金属で構成されても良い。あるいは、金属膜は、例えば、ＮｉＣｒまたはＡｇＡｕのような合金で構成されても良い。金属膜１３０の種類、具体的には金属の屈折率と吸収率とによって積層体１００を第２の表面１１４側からみたときの色が決まる。すなわち、同程度の屈折率および吸収率を持つ金属膜であれば同系統の色を発色することが予想できる。
【００４９】
なお、通常材料学的には、Ｓｉは、「半金属」の範疇に属するが、本願では、記載が煩雑になることを避けるため、Ｓｉを「金属」に含むものとする。従って、金属膜１３０はＳｉまたはその合金で構成されても良い。
【００５０】
（第１の積層体１００のその他の特徴について）
基体１１０は、第１の表面１１２側全面が粗面化され、かつ金属膜が配置されてもよい。また、マスキング技術を利用して選択的・部分的に基体の第１の表面の粗面化および／または金属膜の成膜をしてもよい。基体の第１の表面が粗面化されずに金属膜が配置された部分は、鏡のようにみえる。また、金属膜が配置されない部分は基体の色、すなわち透明または不透明にみえる。これらの組み合わせにより、たとえば、基体の同一表面上に黒、透明、銀色（ミラー）の３種類のパターンを描くことが可能である。
【００５１】
（本発明の一実施形態による別の積層体について）
次に、図３を参照して、本発明の一実施形態による別の積層体（以下、「第２の積層体」と称する）の構成について説明する。
【００５２】
図３には、第２の積層体の断面を模式的に示す。
【００５３】
図３に示すように、第２の積層体２００は、基本的に前述の第１の積層体１００と同様の構成を有する。ただし、第２の積層体２００は、金属膜上に、第２の層を有する点で、第２の積層体１００とは異なっている。すなわち、第２の積層体２００は、第１の表面２１２および第２の表面２１４を有する基体２１０と、基体２１０の第１の表面２１２の側に配置された金属膜２３０と、該金属膜２３０の上に配置された第２の層２６０とを有する。
【００５４】
第２の積層体２００においても、基体２１０と金属膜２３０の間には、基体２１０の面内方向にわたって空隙２４０が分散されている。このため、第２の積層体２００の場合も、第１の積層体１００と同様の特性および効果が得られる。
【００５５】
また、基体２１０の第２の表面２１４の側から測定したとき、第２の積層体２００は、可視光に対する吸収率（波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲の平均値）が５０％以上となり、反射率（波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲の平均値）が４０％以下となり、Ｄ６５光源の視野１０゜における明度Ｌ＊が７０以下となる。
【００５６】
このような構成の第２の積層体２００では、第１の積層体１００と同様、基体２１０の第２の表面２１４の側から視認した際に生じる色彩の角度依存性を、有意に抑制できる。
【００５７】
さらに、第２の積層体２００の場合も、前述の効果を発現させるためには、基体２１０の粗面上に、単層の金属膜２３０が配置されれば良い。なお、ここでいう単層の金属膜とは、前記した金属膜２３０と薄い金属部２３５とをまとめたものを指す。このため、製造プロセスを有意に簡略化可能である。
【００５８】
ここで、第２の層２６０は、金属膜２３０とは異なる材料で構成される。第２の層２６０は、第２の積層体２００に対して、少なくとも一つの機能を付与するために設置される。例えば、第２の層２６０を配置することにより、金属膜２３０の保護機能（耐湿性、耐水性、耐光性、および／または耐紫外線性など）、反射防止機能、ハードコート機能、透過率（光濃度）調整機能、色味調整機能、ならびに熱線反射機能などを得ることができる。
【００５９】
例えば、金属膜２３０の耐食性および耐水性などの耐環境性があまり良好ではない場合、耐食性および耐水性などの耐環境性の良好な第２の層２６０を配置することにより、金属膜２３０の腐食、変質および／または劣化等を抑制できる。
【００６０】
第２の層２６０は、例えば、無機材料（誘電体材料および／または金属材料）、有機材料、ならびにその組み合わせを有しても良い。
【００６１】
第２の層２６０が誘電体で構成される場合、第２の層２６０は、例えば、窒化ケイ素、酸化ケイ素、酸化亜鉛、酸化タンタル、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ニオブ、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）、窒化チタン、窒化アルミニウム、または窒化ガリウム等であっても良い。
【００６２】
また、第２の層２６０が金属で構成される場合、第２の層は、Ｔａ、Ｎｉ、Ｓｉ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｐｄ、Ｉｎ、Ｗ，Ｐｔ、Ａｕ、またはＮｉＣｒ等であっても良い。
【００６３】
一方、第２の層２６０が有機材料で構成される場合、第２の層は、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、または無機物と有機物を含んだハイブリット材料であっても良い。
【００６４】
第２の層２６０の成膜方法は、特に限られない。また、第２の層２６０の膜厚は、発現させる機能に応じて適宜選定される。
【００６５】
（本発明の一実施形態による積層体の製造方法）
次に、図４を参照して、前述のような特徴を有する本発明の一実施形態による積層体の製造方法について説明する。
【００６６】
なお、ここでは特に、基体として、ガラス基板を使用する場合を例に、本発明の一実施形態による積層体の製造方法の一例について説明する。ただし、以下の製造方法が、そのまままたは一部を修正することにより、ガラス基板以外の他の基体を使用する場合にも適用し得ることは、当業者には明らかである。
【００６７】
図４には、本発明の一実施形態による積層体の製造方法（以下、「第１の製造方法」と称する）の概略的なフローを示す。図４に示すように、この第１の製造方法は、
（ａ）ガラス基板の第１の表面に、フッ化水素（ＨＦ）ガスを含む処理ガスを接触させる工程（ステップＳ１１０）と、
（ｂ）前記ガラス基板を化学強化処理する工程（ステップＳ１２０）と、
（ｃ）前記ガラス基板の前記第１の表面に、金属膜を成膜する工程（ステップＳ１３０）と、
（ｄ）前記金属膜の上に、第２の層を成膜する工程（ステップＳ１４０）と、
を有する。
【００６８】
ただし、ステップＳ１２０およびステップＳ１４０は、任意に実施されるステップであり、少なくとも一方は省略されても良い。
【００６９】
以下、各工程について説明する。
【００７０】
（ステップＳ１１０）
まず、透明または半透明なガラス基板が準備される。
【００７１】
ガラス基板の種類は、特に限られない。例えば、ガラス基板は、ソーダライムシリケートガラス、アルミノシリケートガラス、または無アルカリガラスであっても良い。ただし、次工程（ステップＳ１２０）において化学強化処理を実施する場合、ガラス基板は、アルカリ金属元素を含む必要がある。
【００７２】
ガラス基板の製造方法は、特に限られない。ガラス基板は、例えばフロート法で製造しても良い。
【００７３】
ガラス基板の厚さは、１０ｍｍ以下であることが好ましく、例えば、０．３ｍｍ〜３ｍｍの範囲であっても良い。ガラス基板の厚さが１０ｍｍ以上の場合、重量が上昇して軽量化が難しくなり、また原材料コストが上昇してしまう。
【００７４】
なお、ガラス基板の少なくとも一方の表面（第１の表面）は、ブラスト処理されても良い。その場合、以降の「エッチング処理」工程では、ガラス基板の第１の表面がエッチング処理に供される。ただし、ブラスト処理は、必須の工程ではなく、実施しなくても良い。
【００７５】
次に、準備されたガラス基板がフッ化水素（ＨＦ）ガスを含む処理ガスに晒され、ガラス基板の「エッチング処理」が実施される。
【００７６】
なお、本願において、「エッチング処理」とは、実際のエッチング量にかかわらず、フッ化水素を含む処理ガスを、ガラス基板の表面に接触させる処理を意味する。従って、実際には、エッチング量が極めて少ない処理（例えば、算術平均表面粗さＲａ換算で、０．２ｎｍ〜１００ｎｍオーダの凹凸が形成されるレベルの処理）であっても、そのような処理は、「エッチング処理」に含まれる。
【００７７】
この工程は、ガラス基板の表面に、微細な凹凸を形成するために実施される。これらの微細な凹凸の存在により、以降のステップＳ１３０後に、ガラス基板と金属膜の間に、空隙を分散させることができる。
【００７８】
エッチング処理の温度は、特に限られないが、通常、エッチング処理は、４００℃〜８００℃の範囲で実施される。エッチング処理の温度は、４５０℃〜７００℃の範囲であることが好ましく、４５０℃〜６５０℃の範囲であることがより好ましい。
【００７９】
ここで、処理ガスは、フッ化水素ガスの他、キャリアガスおよび希釈ガスを含んでも良い。キャリアガス、希釈ガスとしては、これに限られるものではないが、例えば、窒素および／またはアルゴン等が使用される。また、水を加えても構わない。
【００８０】
処理ガス中のフッ化水素ガスの濃度は、ガラス基板の表面が適正にエッチング処理される限り、特に限られない。処理ガス中のフッ化水素ガスの濃度は、例えば、０．１ｖｏｌ％〜１０ｖｏｌ％の範囲であり、０．３ｖｏｌ％〜５ｖｏｌ％の範囲であることが好ましく、０．５ｖｏｌ％〜４ｖｏｌ％の範囲であることがより好ましい。このとき、処理ガス中のフッ化水素ガスの濃度（ｖｏｌ％）は、フッ素ガス流量／（フッ素ガス流量＋キャリアガス流量＋希釈ガス流量）より求められる。
【００８１】
ガラス基板のエッチング処理は、反応容器中で実施しても良いが、ガラス基板が大きい場合など、必要な場合、ガラス基板のエッチング処理は、ガラス基板を搬送させた状態で実施しても良い。この場合、反応容器中での処理に比べて、より迅速かつ高効率な処理が可能となる。
【００８２】
エッチング処理後のガラス基板の第１の表面は、算術平均粗さＲａが０．２ｎｍ〜１００ｎｍの範囲であり、１０点平均粗さＲｚが２ｎｍ〜５０μｍの範囲であっても良い。算術平均粗さＲａは、例えば、０．５ｎｍ〜６０ｎｍの範囲であり、例えば、０．８ｎｍ〜５０ｎｍの範囲である。１０点平均粗さＲｚは、例えば、３ｎｍ〜２０μｍの範囲である。
【００８３】
（エッチング処理に使用される装置について）
ここで、ステップＳ１１０におけるエッチング処理に使用され得る装置の一例について簡単に説明する。
【００８４】
図５には、ガラス基板のエッチング処理を実施する際に使用される処理装置の一構成例を示す。図５に示す処理装置は、ガラス基板を搬送させた状態で、ガラス基板のエッチング処理を実施できる。
【００８５】
図５に示すように、この処理装置３００は、インジェクタ３１０と、搬送手段３５０とを備える。
【００８６】
搬送手段３５０は、上部に置載されたガラス基板３８０を、矢印Ｆ３０１に示すように、水平方向（Ｘ方向）に搬送できる。
【００８７】
インジェクタ３１０は、搬送手段３５０およびガラス基板３８０の上方に配置される。
【００８８】
インジェクタ３１０は、処理ガスの流通路となる複数のスリット３１５、３２０、および３２５を有する。すなわち、インジェクタ３１０は、中央部分に鉛直方向（Ｚ方向）に沿って設けられた第１のスリット３１５と、該第１のスリットを取り囲むように、鉛直方向（Ｚ方向）に沿って設けられた第２のスリット３２０と、該第２のスリット３２０を取り囲むように、鉛直方向（Ｚ方向）に沿って設けられた第３のスリット３２５とを備える。
【００８９】
第１のスリット３１５の一端（上部）は、フッ化水素ガス源（図示されていない）とキャリアガス源(図示されていない)とに接続されており、第１のスリット３１５の他端（下部）は、ガラス基板３８０の方に配向される。同様に、第２のスリット３２０の一端（上部）は、希釈ガス源（図示されていない）に接続されており、第２のスリット３２０の他端（下部）は、ガラス基板３８０の方に配向される。第３のスリット３２５の一端（上部）は、排気系（図示されていない）に接続されており、第３のスリット３２５の他端（下部）は、ガラス基板３８０の方に配向される。
【００９０】
このように構成された処理装置３００を使用して、ガラス基板３８０のエッチング処理を実施する場合、まず、フッ化水素ガス源（図示されていない）から、第１のスリット３１５を介して、矢印Ｆ３０５の方向に、フッ化水素ガスが供給される。また、希釈ガス源（図示されていない）から、第２のスリット３２０を介して、矢印Ｆ３１０の方向に、窒素等の希釈ガスが供給される。これらのガスは、排気系により、矢印Ｆ３１５に沿って水平方向（Ｘ方向）に移動した後、第３のスリット３２５を介して、処理装置３００の外部に排出される。
【００９１】
なお、第１のスリット３１５には、フッ化水素ガスに加えて、窒素などのキャリアガスを同時に供給しても良い。
【００９２】
次に、搬送手段３５０が稼働される。これにより、ガラス基板３８０が矢印Ｆ３０１の方向に移動する。
【００９３】
ガラス基板３８０は、インジェクタ３１０の下側を通過する際に、第１のスリット３１５および第２のスリット３２０から供給された処理ガス（フッ化水素ガス＋キャリアガス＋希釈ガス）に接触する。これにより、ガラス基板３８０の表面がエッチング処理される。
【００９４】
なお、ガラス基板３８０の表面に供給された処理ガスは、矢印Ｆ３１５のように移動してエッチング処理に使用された後、矢印Ｆ３２０のように移動して、排気系に接続された第３のスリット３２５を介して、処理装置３００の外部に排出される。
【００９５】
このような処理装置３００を使用することにより、ガラス基板を搬送しながら、処理ガスによる表面のエッチング処理を実施できる。この場合、反応容器を使用してエッチング処理を実施する方法に比べて、処理効率を向上させることができる。また、このような処理装置３００を使用した場合、大型のガラス基板に対してもエッチング処理を実施できる。
【００９６】
ここで、ガラス基板３８０への処理ガスの供給速度は、特に限られない。処理ガスの供給速度は、例えば、５ＳＬＭ〜１０００ＳＬＭの範囲であっても良い。ここで、ＳＬＭとは、Ｓｔａｎｄａｒｄ  Ｌｉｔｔｅｒ  ｐｅｒ  Ｍｉｎｕｔｅ（標準状態における流量）の略である。また、ガラス基板３８０のインジェクタ３１０の通過時間（図５の距離Ｓを通過する時間）は、１秒〜１２０秒の範囲であり、２秒〜６０秒の範囲であることが好ましく、３秒〜３０秒の範囲であることがより好ましい。ガラス基板３８０のインジェクタ３１０の通過時間を３２０秒以下とすることにより、迅速なエッチング処理を実施できる。
【００９７】
このように、処理装置３００を使用することにより、搬送状態のガラス基板に対して、エッチング処理を実施できる。
【００９８】
なお、図５に示した処理装置３００は、単なる一例に過ぎず、その他の装置を使用して、フッ化水素ガスを含む処理ガスによるガラス基板のエッチング処理を実施しても良い。例えば、図５の処理装置３００では、静止しているインジェクタ３１０に対して、ガラス基板３８０が相対的に移動する。しかしながら、これとは逆に、静止しているガラス基板に対して、インジェクタを水平方向に移動させても良い。あるいは、ガラス基板とインジェクタの両者を、相互に反対方向に移動させても良い。
【００９９】
また、図５の処理装置３００では、インジェクタ３１０は、合計３つのスリット３１５、３２０、３２５を有する。しかしながら、スリットの数は、特に限られない。例えば、スリットの数は、２つであっても良い。この場合、一つのスリットが処理ガス（キャリアガスとフッ化水素ガスと希釈ガスとの混合ガス）供給用に利用され、別のスリットが排気用に利用されても良い。また、スリット３２０と排気用スリット３２５との間に１つ以上のスリットを設けて、エッチングガス、キャリアガス、希釈ガスを供給させても良い。
【０１００】
さらに、図５の処理装置３００では、インジェクタ３１０の第２のスリット３２０は、第１のスリット３１５を取り囲むように配置され、第３のスリット３２５は、第１のスリット３１５および第２のスリット３２０を取り囲むように設けられている。しかしながら、この代わりに、第１のスリット、第２のスリット、および第３のスリットを、水平方向（Ｘ方向）に沿って一列に配列しても良い。この場合、処理ガスは、ガラス基板の表面を、一方向に沿って移動し、その後、第３のスリットを介して排気される。
【０１０１】
さらに、複数個のインジェクタ３１０を搬送手段３５０の上に、水平方向（Ｘ方向）に沿って配置させても良い。
【０１０２】
以上の工程により、ガラス基板の第１の表面がエッチングされる。
【０１０３】
（ステップＳ１２０）
次に、必要な場合、エッチング処理されたガラス基板に対して、化学強化処理が実施される。
【０１０４】
ここで、「化学強化処理（法）」とは、アルカリ金属を含む溶融塩中にガラス基板を浸漬させ、ガラス基板の最表面に存在する原子径の小さなアルカリ金属（イオン）を、溶融塩中に存在する原子径の大きなアルカリ金属（イオン）と置換する技術の総称を言う。「化学強化処理（法）」では、処理されたガラス基板の表面には、処理前の元の原子よりも原子径の大きなアルカリ金属（イオン）が配置される。このため、ガラス基板の表面に圧縮応力層を形成することができ、これによりガラス基板の強度が向上する。
【０１０５】
例えば、ガラス基板がナトリウム（Ｎａ）を含む場合、化学強化処理の際、このナトリウムは、溶融塩（例えば硝酸塩）中で、例えばカリウム（Ｋ）と置換される。あるいは、例えば、ガラス基板がリチウム（Ｌｉ）を含む場合、化学強化処理の際、このリチウムは、溶融塩（例えば硝酸塩）中で、例えばナトリウム（Ｎａ）および／またはカリウム（Ｋ）と置換されても良い。
【０１０６】
ガラス基板に対して実施される化学強化処理の条件は、特に限られない。
【０１０７】
溶融塩の種類としては、例えば、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム、硫酸ナトリウム、硫酸カリウム、塩化ナトリウム、および塩化カリウム等の、アルカリ金属硝酸塩、アルカリ金属硫酸塩、およびアルカリ金属塩化物塩などが挙げられる。これらの溶融塩は、単独で用いても、複数種を組み合わせて用いても良い。
【０１０８】
処理温度（溶融塩の温度）は、使用される溶融塩の種類によっても異なるが、例えば、３５０℃〜５５０℃の範囲であっても良い。
【０１０９】
化学強化処理は、例えば、３５０℃〜５５０℃の溶融硝酸カリウム塩中に、ガラス基板を２分〜２０時間程度浸漬することにより、実施しても良い。経済的かつ実用的な観点からは、３５０〜５００℃、２〜１０時間で実施されることが好ましい。
【０１１０】
これにより、表面に圧縮応力層が形成されたガラス基板を得ることができる。
【０１１１】
前述のように、このステップＳ１２０は、必須の工程ではない。しかしながら、ガラス基板に対して化学強化処理を実施することにより、ガラス基板の曲げ強度を高めることができる。
【０１１２】
（ステップＳ１３０）
次に、ガラス基板の第１の表面に、金属膜が成膜され、積層体が形成される。
【０１１３】
金属膜の成膜条件は、特に限られない。金属膜は、例えば、スパッタ法もしくは蒸着法等のような乾式成膜法、または電気めっきのような湿式成膜法により、成膜されても良い。
【０１１４】
金属膜の厚さは、特に限られないが、例えば、１ｎｍ〜１μｍの範囲である。金属膜の厚さは、例えば、５ｎｍ〜５００ｎｍの範囲であっても良い。なお本願では、金属膜の厚さは、図１における金属膜１３０の厚さと薄い金属部１３５の厚さをまとめた膜厚で定義する。ただし、薄い金属部１３５の金属膜厚は、金属膜１３０の膜厚に比べてきわめて薄いため、上記金属膜の厚さは通常、金属膜１３０の膜厚とほぼ等しい。
【０１１５】
金属膜の種類は、特に限られない。金属膜は、例えば、Ｔａ、Ａｌ、Ｎｉ、Ａｇ、Ｓｉ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｐｄ、Ｉｎ、Ｗ，Ｐｔ、またはＡｕ等の金属で構成されても良い。あるいは、金属膜は、例えば、ＮｉＣｒまたはＡｇＡｕのような合金で構成されても良い。
【０１１６】
前述のように、ガラス基板の第１の表面は、エッチング処理によって生じた微細な凹凸を有する。このため、金属膜の成膜後には、ガラス基板の第１の表面と金属膜との間に、分散された空隙が形成される。
【０１１７】
この空隙の存在により、空隙を含む基体の屈折率は、基体のそれと異なる。さらに、ガラス基板の第２の表面（第１の表面とは反対の表面）の側から光が入射した際に、薄い金属部１３５を透過した可視光は、空隙内で金属膜１３０と薄い金属部１３５との間で光学干渉をおこすので、積層体１００を第２の表面１１４から見たとき、吸収色に見える効果がある。
【０１１８】
従って、このような積層体では、ガラス基板の第２の表面の側から視認した際に生じる色彩の角度依存性を、有意に抑制できるようになる。
【０１１９】
なお、この積層体は、ガラス基板の第２の表面の側から測定したとき、可視光に対する吸収率（波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲の平均値）が５０％以上となり、反射率（波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲の平均値）が４０％以下となり、Ｄ６５光源の視野１０゜における明度Ｌ＊が７０以下となるという特徴を有する。
【０１２０】
（ステップＳ１４０）
次に、必要な場合、金属膜の上に、第２の層が成膜される。ここで、第２の層は、第１の層とは異なる材料で構成される。
【０１２１】
前述のように、第２の層は、例えば、金属膜の保護機能（耐湿性、耐水性、耐光性、および／または耐紫外線性など）、抗反射機能、ハードコート機能、ならびに熱線反射機能など、いかなる機能を有しても良い。
【０１２２】
第２の層は、例えば、無機材料（誘電体材料および／または金属材料）、有機材料、ならびにその組み合わせを有しても良い。
【０１２３】
第２の層が誘電体で構成される場合、第２の層は、例えば、窒化ケイ素、酸化ケイ素、酸化亜鉛、酸化タンタル、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ニオブ、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）、窒化チタン、窒化アルミニウム、または窒化ガリウム等であっても良い。
【０１２４】
また、第２の層が金属で構成される場合、第２の層は、Ｔａ、Ｎｉ、Ｓｉ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｐｄ、Ｉｎ、Ｗ，Ｐｔ、Ａｕ、またはＮｉＣｒ等であっても良い。
【０１２５】
一方、第２の層が有機材料で構成される場合、第２の層は、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、または無機物と有機物を含んだハイブリット材料であっても良い。
【０１２６】
第２の層の成膜方法は、特に限られない。また、第２の層の膜厚は、発現させる機能に応じて適宜選定される。
【０１２７】
以上の工程により、例えば前述の図１または図３に示したような、第１の積層体１００または第２の積層体２００を製造可能である。
【実施例】
【０１２８】
次に、本発明の実施例について説明する。【０１２９】
（例１）
以下の方法により積層体を製造し、その積層体の特性を評価した。【０１３０】
（エッチング処理）
まず、フロート法で製造した厚さ０．５ｍｍの無アルカリガラス製の透明基体を準備した。なお透明基体の第１および第２の表面に対しては、ブラスト等の処理は行っていない。【０１３１】
次に、この透明基体に対して、ＨＦガスによるエッチング処理を実施した。エッチング処理には、前述の図５に示した処理装置３００を使用した。【０１３２】
処理装置３００において、第１のスリット３１５には、フッ化水素ガスと窒素ガスを、第２のスリット３２０には窒素ガスを供給し、ＨＦガスの濃度が３．６ｖｏｌ%となるようにした。【０１３３】
第３のスリット３２５からの排気量は、全供給ガス量の２倍とした。【０１３４】
透明基体は、第１の表面（被エッチング処理面）を上側（インジェクタ３１０に近い側：すなわち処理面）とし、５８０℃に加熱した状態で搬送した。なお、透明基体の温度は、熱電対を配置した同種の透明基体を、同様の熱処理条件で搬送しながら測定した値である。ただし、透明基体の表面温度は、直接放射温度計を用いて測定しても良い。【０１３５】
エッチング処理時間（図５において、透明基体が距離Ｓを通過する時間）は、約５秒とした。【０１３６】
この処理により、透明基体の第１の表面がエッチング処理された。【０１３７】
エッチング処理後に、走査型プローブ顕微鏡（ＳＰＩ３８００Ｎ：エスアイアイ・ナノテクノロジー社製）を使用し、ＪＩＳ  Ｂ０６０１（２００１年）に基づいて、透明基体の第１の表面の表面粗さ（Ｒａ、Ｒｚ）を測定した。その結果、算術平均粗さＲａは、約２００ｎｍであった。【０１３８】
次に、透明基体の第１の表面に、金属膜として金属タンタル膜（以下単にＴａ膜ともいう）を成膜した。【０１３９】
Ｔａ膜の成膜には、スパッタリング法を使用した。ターゲットには、タンタルターゲットを使用し、導入ガスをアルゴンガス（１００％）とし、パワー密度０．４Ｗ／ｃｍ２として成膜した。成膜時の真空度は、０．５Ｐａであった。【０１４０】
なお、透明基体への成膜の際には、該透明基体に近接して、膜厚測定用のダミーガラス基板を配置した。このダミーガラス基板は、被成膜表面が平滑である。成膜後に、このダミーガラス基板の表面に形成されたＴａ膜の厚さを測定し、この厚さを、透明基体上のＴａ膜の厚さとして採用した。金属膜の厚さは、Ｄｅｋｔａｋ１５０（Ｖｅｃｃｏ社製）で測定した。その結果、Ｔａ膜の厚さは、約２０ｎｍであった。【０１４１】
以上の方法により、例１に係る積層体を製造した。【０１４２】
（例２〜例１７）
前述の例１の場合と同様の方法により、例２〜例１７に係る積層体を製造した。ただし、これらの例では、例１の場合とはエッチング処理条件、ならびに／または金属膜の種類および膜厚を変化させて、積層体を製造した。【０１４３】
（例１８〜例１９）
前述の例１の場合と同様の方法により、例１８および例１９に係る積層体を製造した。【０１４４】
ただし、これらの例では、Ｔａ膜の厚さは、いずれも２００ｎｍとした。また、Ｔａ膜の成膜後に、該Ｔａ膜上に第２の層を成膜した。【０１４５】
例１８では、スパッタリング法により、第２の層として酸化タンタルを成膜した。前述の方法により把握される第２の層の膜厚は、２０ｎｍであった。【０１４６】
また、例１９では、スパッタリング法により、第２の層としてシリカを成膜した。前述の方法により把握される第２の層の膜厚は、２０ｎｍであった。【０１４７】
（例２０および例２１）
前述の例１の場合と同様の方法により、例２０および例２１に係る積層体を製造した。【０１４８】
ただし、これらの例では、例１の場合とは異なり、透明基体として、厚さ０．５ｍｍのソーダライムガラスを使用した。また、これらの例では、例１とは異なるエッチング処理条件を使用するとともに、Ｔａ膜の膜厚を変化させて、積層体を製造した。【０１４９】
（例２２および例２３）
前述の例１の場合と同様の方法により、例２２および例２３に係る積層体を製造した。【０１５０】
ただし、これらの例では、例１の場合とは異なり、透明基体として、厚さ０．５ｍｍのアルミノシリケートガラスを使用した。また、これらの例では、例１とは異なるエッチング処理条件を使用するとともに、Ｔａ膜の膜厚を変化させて、積層体を製造した。【０１５１】
（例２４および例２５）
前述の例１の場合と同様の方法により、例２４および例２５に係る積層体を製造した。【０１５２】
ただし、これらの例では、例１の場合とは異なり、透明基体として、厚さ０．７ｍｍのソーダライムガラスを使用した。また、これらの例では、エッチング処理前に、ソーダライムガラスの第１の表面に、サンドブラスト処理を施した。さらに、これらの例では、例１とは異なるエッチング処理条件を使用するとともに、Ｔａ膜の膜厚を変化させて、積層体を製造した。【０１５３】
（例２６〜例２８）
前述の例１の場合と同様の方法により、例２６〜例２８に係る積層体を製造した。【０１５４】
ただし、これらの例では、例１の場合とは異なり、ＨＦガスによるエッチング処理は実施しなかった。すなわち、準備した透明基体をそのまま使用して、第１の表面にＴａ膜を成膜した。【０１５５】
例２６では、Ｔａ膜の厚さは４０ｎｍであり、例２７では、Ｔａ膜の厚さは１００ｎｍであり、例２８では、Ｔａ膜の厚さは１０ｎｍであった。【０１５６】
（例２９）
前述の例１の場合と同様の方法により、例２９に係る積層体を製造した。【０１５７】
ただし、この例では、例１の場合とは異なり、ＨＦガスによるエッチング処理は実施しなかった。すなわち、準備した透明基体をそのまま使用して、第１の表面にＴａ膜（厚さ６ｎｍ）を成膜した。また、Ｔａ膜の上に、シリカ膜（厚さ９５ｎｍ）および第２のＴａ膜（厚さ２００ｎｍ）を順次成膜して、光学多層膜を形成した。【０１５８】
以下の表１には、例１〜例２９に係る積層体の構成および製造条件をまとめて示した。【０１５９】
【表１】
2015194485.tif 000004
図６には、一例として、例４に係る積層体の断面ＳＥＭ写真を示した。この図から、例４に係る積層体の場合、透明基体の第１の表面は微細な凹凸を有し（写真のグレーの部分参照）、この第１の表面と金属膜（写真の白い部分）の間には、微細な空隙（写真の黒い部分）が分散されて存在していることがわかる。【０１６０】
例１〜例２５に係る積層体の場合、いずれの積層体においても、このような構造が観察された。これに対して、例２６〜例２９に係る積層体では、透明基体の第１の表面は平滑であり、透明基体と金属膜の間に、空隙は認められなかった。【０１６１】
（評価）
例１〜例２９に係る積層体を用いて、以下の評価を実施した。【０１６２】
（反射率および吸収率の測定）
各例に係る積層体において、透明基体の第２の表面側から光を照射し、反射挙動および吸収挙動を、分光測定装置（ＵＶ−３１００ＰＣ：島津製作所製）を用いて測定した。【０１６３】
得られた結果から、波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの間の平均反射率Ｒ１、および波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの間の平均吸収率Ａ１を求めた。また、波長８５０ｎｍ〜１５００ｎｍの間の平均反射率Ｒ２、および波長８５０ｎｍ〜１５００ｎｍの間の平均吸収率Ａ２を求めた。【０１６４】
（ＯＤ値の測定）
各例に係る積層体において、ＯＤ値を測定した。【０１６５】
ここで、ＯＤ値とは、積層体の光吸収度合を対数で表示したものであり、以下の（２）式で表される：
ＯＤ（λ）（ＯＤ値）= Ｌｏｇ１０｛Ｔ（λ）／ Ｉ（λ）｝
＝Ｌｏｇ１０Ｔ（λ）−Ｌｏｇ１０Ｉ（λ）  （２）式
ここで、（λ）は波長、Ｔ（λ）は波長帯における透過光量、Ｉ（λ）は波長帯における入射光量である。【０１６６】
（２）式から、ＯＤ値が小さいことは、その積層体がより光を透過し易いことを表し、逆にＯＤ値が大きいことは、その積層体が光を透過し難いことを表すと言える。【０１６７】
ＯＤ値は、白黒透過濃度計（ｉｈａｃＴ５：伊原テクニーク社製）により測定した。なお、各積層体において、測定対象面は、透明基体の第２の表面側である。【０１６８】
（目視色の評価）
白色蛍光灯環境下で、各例に係る積層体を透明基体の第２の表面側から視認した際の色を判定した。視認角度は、積層体の法線に対して平行な角度とした。【０１６９】
（色彩の評価）
各例に係る積層体において、透明基体の第２の表面側からの色彩を評価した。【０１７０】
色彩の測定には、色測定装置（ｃｏｌｏｒｉ７：Ｘｒｉｔｅ社製）を使用した。なお、得られた結果は、Ｄ６５光源の視野１０゜における色座標Ｌ＊ａ＊ｂ＊に換算して表記した。【０１７１】
（色彩の角度依存性）
各例に係る積層体において、色彩の角度依存性を評価した。【０１７２】
色彩の角度依存性の評価は、分光測定器（ＡＲＭ−５００Ｎ；日本分光社製）を使用して、以下のように実施した：
（１）各積層体において、透明基体の第２の表面側から、積層体の法線に対して５゜傾斜した角度から光を照射し、５゜正反射光の輝度を測定する；
（２）同様の測定を、傾斜角度４５゜で実施し、４５゜正反射光の輝度を測定する；
（３）得られた５゜正反射光の輝度を、ＪＩＳ  Ｚ８７２９で表される色座標Ｌ＊ａ＊ｂ＊表示系に換算し、色座標Ｌ１＊ａ１＊ｂ１＊を得る。同様の換算を、４５゜正反射光の輝度に対しても実施し、色座標Ｌ２＊ａ２＊ｂ２＊を得る；
（４）以下の（３）式から、彩度差ΔＣを求める：【０１７３】
【数２】
2015194485.tif 000005
この（３）式から、５゜正反射光と４５゜正反射光の色度の差が大きいほど、彩度差ΔＣが大きくなることがわかる。従って、この彩度差ΔＣは、積層体の色彩の角度依存性を表す尺度として使用できる。【０１７４】
なお、各例に係る積層体の角度依存性の評価の際には、彩度差ΔＣが９．５以下の場合を、「角度依存性なし」と判定し、彩度差ΔＣが９．５を超える場合を、「角度依存性あり」と判定した。【０１７５】
（評価結果）
各例に係る積層体において得られた各種評価結果を、まとめて表２に示す。【０１７６】
【表２】
2015194485.tif 000006
この結果から、例１〜例２５に係る積層体は、いずれも波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの間の平均反射率Ｒ１が２０％以下であるとともに、平均吸収率Ａ１が６０％以上であることがわかる。これに対して、例２６〜例２８に係る積層体は、いずれも波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの間の平均反射率Ｒ１が４０％を超えていることがわかる。【０１７７】
また、例１〜例２５に係る積層体は、いずれも、Ｄ６５光源の視野１０゜における明度Ｌ＊が７０以下であるのに対して、例２６〜例２８に係る積層体は、いずれも、Ｄ６５光源の視野１０゜における明度Ｌ＊が７０を超えていることがわかる。例２６〜例２８は、鏡の様な見た目になっているため、反射率Ｒ１、明度Ｌ＊がともに非常に大きく、色は銀色、色彩は角度依存性をもたない。【０１７８】
さらに、例１〜例２５に係る積層体では、例２９に係る積層体に比べて、角度依存性が有意に抑制されていることがわかる。【０１７９】
例２９は、透明基体表面に微細な凹凸を含まない点を除いて、本質的に例１〜例２５に係る積層体を模した構成である。目視色については、本発明と同様の色であった。しかし、たとえば例２１の彩度差ΔＣが０．１に対し、例２９の彩度差ΔＣは９．９と大きく、角度依存性が大きかった。【０１８０】
ここで角度依存性による色変化は、反射率Ｒの値が波長によって変化する場合に顕著になる。本発明の積層体（たとえば例２１）は、反射率に波長依存性がほとんどないため、どこからみても色彩がほとんど変わらない（図７）。それに対して、平坦な基材上に光学多層膜を形成した積層体（たとえば例２９）は、特に短波長側で大きな波長依存性を示す（図８）。このことが、色彩の角度依存性に大きな相違が出る主な原因である。【０１８１】
なお、平坦な基材上において上記したような波長依存性のほとんどない光学多層膜とするには、通常、非常に多くの層、たとえば５層、１０層といった多層にする必要があり、一般的にはコスト上も製造上も現実的ではない。このように、平坦な透明基体上に光学多層膜を配置することによっても、本発明と同等の色を発色すること自体は可能であるが、色彩の角度依存性が大きくなることがわかる。【０１８２】
以上により、透明基体と金属膜の間に微細な空隙が分散された構成を有する積層体では、色彩の角度依存性が有意に抑制されることが確認された。【０１８３】
本願は、２０１４年６月２０日に出願した日本国特許出願２０１４−１２７４５３号に基づく優先権を主張するものであり同日本国出願の全内容を本願に参照により援用する。
【符号の説明】
【０１８４】
１００    第１の積層体
１１０    基体
１１２    第１の表面
１１４    第２の表面
１２０    凹凸部
１３０    金属膜
１３２    ブロッコリー状の区画
１３５    薄い金属部
１４０    空隙
１５０    隙間
２００    第２の積層体
２１０    基体
２１２    第１の表面
２１４    第２の表面
２３０    金属膜
２４０    空隙
２６０    第２の層
３００      処理装置
３１０      インジェクタ
３１５      第１のスリット
３２０      第２のスリット
３２５      第３のスリット
３５０      搬送手段
３８０      ガラス基板
【図４】
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【図５】
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【図７】
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【図８】
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【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図６】
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【国際調査報告】
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