(57)【要約】  本発明は処理装置、殺菌装置、殺菌水及び殺菌方法に関する。処理装置（１０Ａ、１０Ｂ）及び殺菌装置（７０）は、被処理液体（１２）を有する液体貯溜部（１４）と、前記被処理液体（１２）の液面（１２ａ）上でプラズマを発生させるプラズマ発生部（１６）と、発生した前記プラズマを内包した気泡（１８）を前記液面（１２ａ）上で生成して前記被処理液体（１２）中に供給する気泡供給部（２０）と、を有する。そして、被処理液体（１２）の液面（１２ａ）上でプラズマを発生させ、発生した前記プラズマを内包した気泡（１８）を生成して前記被処理液体（１２）中に供給する。
2016017456.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理液体（１２）を有する液体貯溜部（１４）と、
前記被処理液体（１２）の液面（１２ａ）上でプラズマを発生させるプラズマ発生部（１６）と、
発生した前記プラズマを内包した気泡（１８）を前記液面（１２ａ）上で生成して前記被処理液体（１２）中に供給する気泡供給部（２０）と、を有する処理装置。
【請求項２】
請求項１記載の処理装置において、
前記被処理液体（１２）は酸性に調整されていることを特徴とする処理装置。
【請求項３】
請求項１又は２記載の処理装置において、
前記気泡供給部（２０）は、前記液体貯溜部（１４）に供給する液体に前記プラズマ発生部（１６）からの前記プラズマを導入することで前記気泡（１８）を生成することを特徴とする処理装置。
【請求項４】
請求項３記載の処理装置において、
前記気泡供給部（２０）は、前記液体を前記液体貯溜部（１４）に供給する流路途中にベンチュリー部（４２）を具備したアスピレータ（４４）を有し、前記プラズマ発生部（１６）からの前記プラズマを前記ベンチュリー部（４２）を介して導入することで、前記気泡（１８）を生成することを特徴とする処理装置。
【請求項５】
請求項３又は４記載の処理装置において、
前記被処理液体（１２）の液面（１２ａ）上にプラズマ発生用ガス（３２）が導入される空間（３４）を有し、
前記プラズマ発生部（１６）及び前記気泡供給部（２０）は前記空間（３４）内に配され、
前記プラズマ発生部（１６）は、前記空間（３４）内への前記プラズマ発生用ガス（３２）の導入に基づいてプラズマを発生させることを特徴とする処理装置。
【請求項６】
請求項３〜５のいずれか１項に記載の処理装置において、
前記液体は、前記液体貯溜部（１４）から循環して供給された前記被処理液体（１２）であることを特徴とする処理装置。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の処理装置において、
１つの前記プラズマ発生部（１６）に対して１つの前記気泡供給部（２０）の組み合わせが少なくとも１以上有することを特徴とする処理装置。
【請求項８】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の処理装置において、
１つの前記プラズマ発生部（１６）に対して複数の前記気泡供給部（２０）の組み合わせが少なくとも１以上有することを特徴とする処理装置。
【請求項９】
請求項８記載の処理装置において、
１つの前記プラズマ発生部（１６）を中心に複数の前記気泡供給部（２０）が円周上（円周状）に配列されていることを特徴とする処理装置。
【請求項１０】
被処理液体（１２）を有する液体貯溜部（１４）と、
前記被処理液体（１２）の液面（１２ａ）上でプラズマを発生させるプラズマ発生部（１６）と、
発生した前記プラズマを内包した気泡（１８）を前記液面（１２ａ）上で生成して前記被処理液体（１２）中に供給する気泡供給部（２０）とを有することを特徴とする殺菌装置。
【請求項１１】
請求項１０記載の殺菌装置において、
前記被処理液体（１２）は酸性に調整されていることを特徴とする殺菌装置。
【請求項１２】
請求項１０又は１１記載の殺菌装置にて製造されたことを特徴とする殺菌水。
【請求項１３】
被処理液体（１２）の液面（１２ａ）上でプラズマを発生させ、
発生した前記プラズマを内包した気泡（１８）を前記液面（１２ａ）上で生成して前記被処理液体（１２）中に供給することを特徴とする殺菌方法。
【請求項１４】
請求項１３記載の殺菌方法において、
前記被処理液体（１２）は酸性に調整されていることを特徴とする殺菌方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマを利用した処理装置、殺菌装置、殺菌水及び殺菌方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
プラズマを利用した液体処理装置及び殺菌方法として、例えば特許第５０９９６１２号公報及び特許第４４０８９５７号公報に記載の装置及び方法が挙げられる。【０００３】
特許第５０９９６１２号公報に記載の液体処理装置は、気体放電部とマイクロバブル発生部を一体的に直結して構成され、液槽を満たした被処理液体の液中に浸漬されている。気体放電部は気体を供給する気体供給部と気体供給管により接続されている。一方、マイクロバブル発生部は、液中に浸漬された循環ポンプと液体供給管により接続されている。【０００４】
そして、気体放電部は、大気圧下での両電極間の気体放電により気体をプラズマ化させて活性化ガスを発生させる。マイクロバブル発生部は、気体放電部から導入した活性化ガスを被処理液体中で直径１〜１００μｍの気泡へとマイクロバブル化して気液混合流体を生成し、該気液混合流体を被処理液体中に供給する。【０００５】
特許第４４０８９５７号公報に記載の殺菌方法は、ｐＨが４．８以下となるように調整された液体に、プラズマにより発生したラジカルを接触させて殺菌を行う。この方法を行う殺菌装置は、液体の中又は表面に存在する菌の殺菌装置であって、液体のｐＨが４．８以下となるように調整するｐＨ調整装置と、液体にプラズマを照射するプラズマ発生装置と、を有する。
【発明の概要】
【０００６】
しかしながら、特許第５０９９６１２号公報に記載の液体処理装置は、気体放電部とマイクロバブル発生部とを一体的に直結して被処理液体の液中に浸漬する必要がある。すなわち、液中に液体処理装置を占有させる分の容積を確保しなければならない。そのため、被処理液体を入れる容器（貯留槽等）の容積が予め決まっている場合、液体処理装置の個数を増やしてマイクロバブルの量（濃度）を高めようとしても、液体処理装置を浸漬する個数に限界がある。つまり、発生できるマイクロバブルの濃度を高めることができず、その結果、例えば殺菌に効果のあるラジカルが液中に多く発生させることができないおそれがある。
【０００７】
特許第４４０８９５７号公報に記載の方法は、プラズマを液体に照射するが、プラズマが液体に難溶解性の気体である場合、水中に溶けないラジカルが多く発生するおそれがある。また、ｐＨが４．８以下となるように調整された液体（酸性水）は、食品等の有機物を殺菌した場合に、ダメージを与えるおそれがある。
【０００８】
本発明はこのような課題を考慮してなされたものであり、装置自体を被処理液体中に浸漬することなく、高濃度のマイクロバブルを被処理液体中に供給することができ、被処理液体が酸性水であっても、被処理物（食品等の有機物等）へのダメージを軽減することができる処理装置を提供することを目的とする。
【０００９】
また、本発明の他の目的は、上述の本発明に係る処理装置を利用することで、殺菌効果のあるラジカルを多く含む殺菌水を製造することができる殺菌装置を提供することにある。
【００１０】
また、本発明の他の目的は、殺菌効果のあるラジカルを多く含む殺菌水を提供することにある。
【００１１】
また、本発明の他の目的は、殺菌効果のあるラジカルを多く含む殺菌水にて被処理物を効率的に殺菌することができる殺菌方法を提供することにある。
【００１２】
［１］  第１の本発明に係る処理装置は、被処理液体を有する液体貯溜部と、前記被処理液体の液面上でプラズマを発生させるプラズマ発生部と、発生した前記プラズマを内包した気泡を前記液面上で生成して前記被処理液体中に供給する気泡供給部と、を有する。
【００１３】
処理装置は、プラズマを被処理液体の液面上で発生させ、発生したプラズマを内包した気泡を液面上で生成して被処理液体中に供給する。「液面上」とは、液面又は液面よりも上方を意味する。これにより、処理装置自体を被処理液体の液中に浸漬することなく、プラズマを内包した気泡を被処理液体中に供給することができる。その結果、被処理液体を入れる容器（貯留槽等）の容積に制約されることなく、処理装置の個数を容易に増加させることが可能となり、液中に供給される気泡の濃度、すなわち、単位容積当たりの気泡の量（個数）を高めることができる。
【００１４】
［２］  第１の本発明において、前記被処理液体は酸性に調整されていてもよい。被処理液体が酸性に調整されていると、通常は、被処理液体中に浸漬された被処理物にダメージを与えることになるが、被処理液体中に供給される気泡の濃度を高めることができるため、被処理物へのダメージを軽減することが可能となる。また、被処理液体が酸性に調整されていることで、被処理液体中に供給された気泡中のガスの溶解速度が向上し、プラズマ活性種あるいは活性種との反応生成物を液中に効率よく溶解させることができる。さらに、被処理液体が酸性に調整されることで、気泡との抵抗（接触抵抗）が下がり、気泡が被処理液体中を動きやすくなる。その結果、例えば殺菌効果のあるラジカルが短時間に広範囲に広まり、被処理液体中のラジカルの濃度を高めることができ、被処理液体を例えば殺菌効果の高い殺菌水とすることができる。
【００１５】
［３］  第１の本発明において、前記気泡供給部は、前記液体貯溜部に供給する液体に前記プラズマ発生部からの前記プラズマを導入することで前記気泡を生成してもよい。
【００１６】
被処理液体を有する液体貯溜部に液体が供給される。その供給途中において、液体中にプラズマを導入することで、液体中に、プラズマを内包した気泡を生成する。生成された気泡は液体と共に被処理液体に供給される。これにより、プラズマを被処理液体の液面上で発生させ、発生したプラズマを内包した気泡を液面上で生成して被処理液体中に供給することが可能となる。
【００１７】
［４］  この場合、前記気泡供給部は、前記液体を前記液体貯溜部に供給する流路途中にベンチュリー部を具備したアスピレータを有し、前記プラズマ発生部からの前記プラズマを前記ベンチュリー部を介して導入することで、前記気泡を生成してもよい。
【００１８】
液体がアスピレータのベンチュリー部を通過すると、該ベンチュリー部にて流速が増すため、ベンチュリー効果によって圧力が低下する。そのため、プラズマ発生部にて発生したプラズマは、圧力が低下したベンチュリー部に流れ込み、液体中にプラズマを内包した気泡が生成される。気泡を含む液体はアスピレータを介して液体貯溜部内の被処理液体中に供給される。ベンチュリー部の径等を適宜調整することで、気泡として、直径が５０μｍ以下のマイクロバブルを生成することが可能となる。
【００１９】
マイクロバブルは、プラズマ活性種あるいはプラズマ活性種との反応生成物と液体との接触面積を増やし、且つ、気泡の微小化に伴う内圧の増大、溶解度の向上により、プラズマ活性種あるいはプラズマ活性種との反応生成物を被処理液体中へ効率よく溶解させることができる。
【００２０】
［５］  さらに、前記被処理液体の液面上にプラズマ発生用ガスが導入される空間を有し、前記プラズマ発生部及び前記気泡供給部は前記空間内に配され、前記プラズマ発生部は、前記空間内への前記プラズマ発生用ガスの導入に基づいてプラズマを発生させてもよい。
【００２１】
空間内に導入されたプラズマ発生用ガスは、それぞれプラズマ発生部に供給される。プラズマ発生部は、プラズマ発生用ガスの供給に基づいてプラズマを発生し、液体貯溜部に供給途中にある液体にプラズマを導入する。これによって、液体中に、プラズマを内包した気泡を生成することができる。
【００２２】
［６］  また、前記液体は、前記液体貯溜部から循環して供給された前記被処理液体であってもよい。
【００２３】
液体貯溜部に供給する液体として、液体貯溜部から循環して供給された被処理液体、すなわち、プラズマを内包した気泡が供給された被処理液体を使用することで、単位容積当たりの気泡の量（個数）を高めることができると共に、被処理液体中に溶解したプラズマ活性種あるいはプラズマ活性種との反応生成物の濃度（単位容積当たりの量）を高めることができる。
【００２４】
［７］  第１の本発明において、１つの前記プラズマ発生部に対して１つの前記気泡供給部の組み合わせが少なくとも１以上有してもよい。
【００２５】
１つのプラズマ発生部にて発生したプラズマのほとんどを、１つの気泡供給部を介して液体中に導入することができ、液体中に多くの気泡を生成することができる。
【００２６】
［８］  第１の本発明において、１つの前記プラズマ発生部に対して複数の前記気泡供給部の組み合わせが少なくとも１以上有してもよい。
【００２７】
１つのプラズマ発生部にて発生したプラズマを、複数の気泡供給部を介して液体中に導入することができることから、被処理液体中に多くの気泡を拡散して供給することが可能となる。
【００２８】
［９］  この場合、１つの前記プラズマ発生部を中心に複数の前記気泡供給部が円周上に配列されていてもよい。
【００２９】
１つのプラズマ発生部にて発生したプラズマを、円周上に配列された複数の気泡供給部にそれぞれ略均等に分配することが可能となる。すなわち、複数の気泡供給部に対するプラズマ発生箇所を１つに集約することができる。これは、プラズマ発生箇所の低減化につながり、処理装置自体の簡素化を図ることができる。また、多量に発生した気泡を被処理液体に効率よく拡散することができ、被処理液体中の例えばラジカル濃度の均一化を迅速に進めることができる。
【００３０】
［１０］  第２の本発明に係る殺菌装置は、被処理液体を有する液体貯溜部と、前記被処理液体の液面上でプラズマを発生させるプラズマ発生部と、発生した前記プラズマを内包した気泡を前記液面上で生成して前記被処理液体中に供給する気泡供給部とを有する。これにより、殺菌効果のあるラジカルを多く含む殺菌水を製造することができる。
【００３１】
［１１］  第２の本発明において、前記被処理液体は酸性に調整されていてもよい。
【００３２】
［１２］  第３の本発明に係る殺菌水は、上述した殺菌装置にて製造されたことを特徴とし、殺菌効果のあるラジカルを多く含む殺菌水である。
【００３３】
［１３］  第４の本発明に係る殺菌方法は、被処理液体の液面上でプラズマを発生させ、発生した前記プラズマを内包した気泡を前記液面上で生成して前記被処理液体中に供給することを特徴とする。これにより、殺菌効果のあるラジカルを多く含む殺菌水にて被処理物を効率的に殺菌することができる。
【００３４】
［１４］  第４の本発明において、前記被処理液体は酸性に調整されていてもよい。
【００３５】
上述のように、本発明に係る処理装置によれば、装置自体を被処理液体中に浸漬することなく、高濃度のマイクロバブルを被処理液体中に供給することができ、被処理液体が酸性水であっても、被処理物（食品等の有機物等）へのダメージを軽減することができる。
【００３６】
本発明に係る殺菌装置によれば、殺菌効果のあるラジカルを多く含む殺菌水を製造することができる。
【００３７】
本発明に係る殺菌水は、殺菌効果のあるラジカルを多く含む殺菌水であり、被処理物を効率的に殺菌することができる。
【００３８】
本発明に係る殺菌方法によれば、殺菌効果のあるラジカルを多く含む殺菌水にて被処理物を効率的に殺菌することができる。
【００３９】
上記の目的、特徴及び利点は、添付した図面を参照して説明される以下の実施の形態の説明から容易に諒解されるであろう。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】図１は、第１の本実施の形態に係る処理装置（第１処理装置）を示す概略構成図である。
【図２】図２は、第１処理装置を上面から見て示す概略構成図である。
【図３】図３は、プラズマ発生部の構成を気泡供給部と共に示す説明図である。
【図４】図４は、放電電極部の第１放電電極及び第２放電電極の構成の一例を示す正面図である。
【図５】図５は、第２の本実施の形態に係る処理装置（第２処理装置）を示す概略構成図である。
【図６】図６は、第２処理装置を上面から見て示す概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００４１】
以下、本発明に係る処理装置、殺菌装置、殺菌水及び殺菌方法の実施の形態例を図１〜図６を参照しながら説明する。
【００４２】
第１の本実施の形態に係る処理装置（以下、第１処理装置１０Ａと記す）は、図１及び図２に示すように、被処理液体１２を有する液体貯溜部１４と、被処理液体１２の液面１２ａ上でプラズマを発生させるプラズマ発生部１６と、発生したプラズマを内包した気泡１８を液面１２ａ上で生成して被処理液体１２中に供給する気泡供給部２０と、を有する。被処理液体１２は、酸性に調整されている。例えばｐＨが４．８以下となるように調整されている。なお、「液面１２ａ上」とは、液面１２ａ又は液面１２ａよりも上方を意味する。
【００４３】
第１処理装置１０Ａは、具体的には、例えば直方体状の筐体２２を有する。筐体２２は、上面２４ａ、下面２４ｂ及び４つの側面（第１側面２６ａ〜第４側面２６ｄ）を有し、例えば第１側面２６ａに設けられた吸気口２８と、第１側面２６ａと対向する第２側面２６ｂに設けられた排気口３０とを有する。筐体２２は、下部に上述した液体貯溜部１４が設けられている。筐体２２のうち、被処理液体１２の液面１２ａ上にはプラズマ発生用ガス３２が導入される空間３４が広がっている。プラズマ発生用ガス３２は吸気口２８を通じて空間３４内に供給され、排気口３０を通じて排出される。
【００４４】
筐体２２における液体貯溜部１４の例えば第２側面２６ｂ側に、被処理液体１２を循環するための循環流路３６が設けられている。
【００４５】
循環流路３６は、筐体２２の上部に設けられた液体分配部３８と、該液体分配部３８と液体貯溜部１４とをつなぐ接続流路４０とを有する。接続流路４０は、筐体２２の第２側面２６ｂの外側を経由して配管されている。液体貯溜部１４内の被処理液体１２を接続流路４０を介して液体分配部３８に汲み上げるには、例えば図示しないポンプが使用される。ポンプは、特別なものではなく、一般に使用されている汲み上げポンプを使用することができる。
【００４６】
従って、ポンプを駆動することによって、液体貯溜部１４内の被処理液体１２が接続流路４０を介して上部の液体分配部３８に汲み上げられ、汲み上げられた被処理液体１２は、再び液体貯溜部１４に供給される。すなわち、被処理液体１２は循環流路３６を介して液体貯溜部１４に循環される。なお、筐体２２を上面から見た場合に、液体分配部３８の面積は液体貯溜部１４の面積と略同じとされている。
【００４７】
一方、気泡供給部２０は、循環流路３６の液体分配部３８から液体貯溜部１４に向かって設けられている。気泡供給部２０として、例えばベンチュリー部４２を具備したアスピレータ４４が好ましく使用される。アスピレータ４４の上端４４ａは液体分配部３８に接続され、下端４４ｂは被処理液体１２の液面１２ａ上に位置されている。すなわち、アスピレータ４４は、液体分配部３８から垂下した状態で設けられている。このアスピレータ４４は複数個設置される。図２の例では、第１側面２６ａから第２側面２６ｂに向かって４個、第３側面２６ｃから第４側面２６ｄに向かって４個、合計１６個設置された例を示している。
【００４８】
プラズマ発生部１６は、各アスピレータ４４のベンチュリー部４２にそれぞれ設けられる。プラズマ発生部１６は、図３に示すように、ベンチュリー部４２に設けられた例えば筒状のケース４６と、ケース４６内に収容された放電電極部４８とを有する。ケース４６内のうち、放電電極部４８が設置された部分がプラズマ発生箇所４９となる。ケース４６は、プラズマ発生用ガス３２を導入するためのガス導入口５０と、ベンチュリー部４２に通じる貫通孔５２とを有する。ケース４６は、この貫通孔５２を通じてアスピレータ４４の内部と連通している。図２の例では、各プラズマ発生部１６におけるケース４６（ガス導入口５０）の向きを全て同じ方向に設定しているが、これに限定する必要はなく、それぞれ別の方向を向けてもよい。
【００４９】
放電電極部４８には、パルス電源５４を通じて高電圧パルスが供給される。パルス電源５４は、プラズマ発生部１６毎に設けてもよいし、複数のプラズマ発生部１６に対して共通とされた１つのパルス電源５４を設けてもよい。なお、図１及び図２では、パルス電源５４の図示を省略している。
【００５０】
放電電極部４８は、図４に示すように、陽極となる第１放電電極５６Ａと、陰極となる第２放電電極５６Ｂとを有する。第１放電電極５６Ａと第２放電電極５６Ｂは、流通方向に沿って第１放電電極５６Ａと第２放電電極５６Ｂとが互いに離間して配列される。これにより、第１放電電極５６Ａ及び第２放電電極５６Ｂ間に発生する電界が最大となる方向に流体が流通することになるため、活性種の発生効率を向上させることができる。また、第１放電電極５６Ａと第２放電電極５６Ｂとの２段構造のほか、３段以上の多段構造にしてもよい。
【００５１】
第１放電電極５６Ａは、第１方向（ｘ方向）に延び、且つ、第１方向と直交する第２方向（ｙ方向）に配列した棒状の複数の第１導体５８Ａと、複数の第１導体５８Ａをつなぐ第１共通導体６０Ａと、少なくとも第１導体５８Ａを被覆する第１セラミック層６２Ａとを有する。
【００５２】
第２放電電極５６Ｂは、第２方向（ｙ方向）に延び、且つ、第１方向（ｘ方向）に配列した棒状の複数の第２導体５８Ｂと、複数の第２導体５８Ｂをつなぐ第２共通導体６０Ｂと、少なくとも第２導体５８Ｂを被覆する第２セラミック層６２Ｂとを有する。
【００５３】
第１導体５８Ａ及び第２導体５８Ｂとしては、銅、鉄、タングステン、ステンレス、白金等を用いることができる。第１セラミック層６２Ａ及び第２セラミック層６２Ｂとしては、アルミナ、シリカ、チタニア、ジルコニア等を用いることができる。
【００５４】
ここで、第１処理装置１０Ａの作用について図１及び図２を参照しながら説明する。例えばポンプを駆動して、被処理液体１２を循環させる。また、パルス電源５４（図３参照）を駆動して各プラズマ発生部１６にてプラズマを発生させる。さらに、プラズマ発生用ガス３２を吸気口２８を通じて筐体２２の空間３４内に供給する。
【００５５】
ポンプの駆動によって上部の液体分配部３８に汲み上げられた被処理液体１２は、各気泡供給部２０のアスピレータ４４を通り、液体貯溜部１４に戻る。この動作が繰り返されることで、被処理液体１２は循環することになる。
【００５６】
各アスピレータ４４のベンチュリー部４２を被処理液体１２が通過すると、ベンチュリー部４２にて流速が増すため、ベンチュリー効果によって圧力が低下する。これにより、空間３４に供給されたプラズマ発生用ガス３２は、プラズマ発生部１６内に引き込まれ、ケース４６内を通じてベンチュリー部４２へ向かう。プラズマ発生部１６にて発生したプラズマは、圧力が低下したベンチュリー部４２にプラズマ発生用ガス３２と共に流れ込み、ベンチュリー部４２を通過する被処理液体１２中にプラズマを内包した気泡１８が生成される。気泡１８を含む被処理液体１２はアスピレータ４４を介して液体貯溜部１４内の被処理液体１２中に戻される。
【００５７】
このように、プラズマを被処理液体１２の液面１２ａ上で発生させ、発生したプラズマを内包した気泡１８を液面１２ａ上で生成して被処理液体１２中に供給するようにしたので、第１処理装置１０Ａ自体を被処理液体１２の液中に浸漬することなく、プラズマを内包した気泡１８を被処理液体１２中に供給することができる。その結果、被処理液体１２を入れる容器（この場合、液体貯溜部１４）の容積に制約されることなく、第１処理装置１０Ａの個数を容易に増加させることが可能となり、被処理液体１２中に供給される気泡１８の濃度、すなわち、単位容積当たりの気泡の量（個数）を高めることができる。
【００５８】
被処理液体１２が酸性に調整されていると、通常は、被処理液体１２中に浸漬された被処理物にダメージを与えることになるが、被処理液体１２中に供給される気泡１８の濃度を高めることができるため、被処理物へのダメージを軽減することが可能となる。また、被処理液体１２が酸性に調整されていることで、被処理液体１２中に供給された気泡１８中のガスの溶解速度が向上し、プラズマ活性種あるいは活性種との反応生成物を液中に効率よく溶解させることができる。さらに、被処理液体１２が酸性に調整されることで、気泡１８との抵抗（接触抵抗）が下がり、気泡１８が被処理液体１２中を動きやすくなる。その結果、プラズマ活性種あるいは活性種との反応生成物が短時間に広範囲に広まり、被処理液体１２中のプラズマ活性種あるいは活性種との反応生成物の濃度を高めることができる。
【００５９】
また、液体貯溜部１４に供給する被処理液体１２として、液体貯溜部１４から循環して供給された被処理液体１２、すなわち、プラズマを内包した気泡１８が供給された被処理液体１２を使用したので、単位容積当たりの気泡１８の量（個数）を高めることができると共に、被処理液体１２中に溶解したプラズマ活性種あるいはプラズマ活性種との反応生成物の濃度（単位容積当たりの量）を高めることができる。
【００６０】
さらに、ベンチュリー部４２の径等を適宜調整することで、気泡１８として、直径が５０μｍ以下のマイクロバブルを生成することが可能となる。
【００６１】
マイクロバブルは、プラズマ活性種あるいはプラズマ活性種との反応生成物と被処理液体１２との接触面積を増やし、且つ、気泡１８の微小化に伴う内圧の増大、溶解度の向上により、プラズマ活性種あるいはプラズマ活性種との反応生成物を被処理液体１２中へ効率よく溶解させることができる。
【００６２】
第１処理装置１０Ａでは、１つのプラズマ発生部１６にて発生したプラズマのほとんどを、１つの気泡供給部２０を介して被処理液体１２中に導入することができることから、被処理液体１２中に多くの気泡１８を生成することができる。
【００６３】
プラズマ発生用ガス３２として、酸素を含むガス、窒素を含むガス、酸素と窒素の混合ガス等を使用することで、プラズマによって殺菌効果の高いラジカルが生成される。その結果、被処理液体１２中に殺菌効果のあるラジカルが短時間に広範囲に広まり、被処理液体１２中のラジカルの濃度を高めることができ、被処理液体１２を例えば殺菌効果の高い殺菌水とすることができる。つまり、第１処理装置１０Ａを、殺菌効果の高い殺菌水を製造する殺菌装置７０として構成することもできる。
【００６４】
次に、第２の本実施の形態に係る処理装置（以下、第２処理装置１０Ｂと記す）について図５及び図６を参照しながら説明する。
【００６５】
第２処理装置１０Ｂは、図５及び図６に示すように、上述した第１処理装置１０Ａと略同様の構成を有するが、１つのプラズマ発生部１６に対して複数の気泡供給部２０の組み合わせが少なくとも１以上有する点で異なる。
【００６６】
具体的には、１つのプラズマ発生部１６を中心に複数の気泡供給部２０が円周上（円周状）に配列されている。図６の例では、１つのプラズマ発生部１６を中心に４つの気泡供給部２０を円周６４（二点鎖線で示す）に沿って配列した場合を示している。図５及び図６に示すように、ケース４６は、ガス導入口５０を有し、且つ、プラズマ発生用ガス３２をプラズマ発生箇所４９に案内するガス案内部６６と、プラズマ発生箇所４９からのプラズマを含むガスを４つの気泡供給部２０の各ベンチュリー部４２に導入する分岐部６８とを有する。
【００６７】
この第２処理装置１０Ｂにおいても、上述した第１処理装置１０Ａと同様の作用及び効果を奏する。
【００６８】
特に、第２処理装置１０Ｂでは、１つのプラズマ発生部１６にて発生したプラズマを、複数の気泡供給部２０を介して被処理液体１２中に導入することができることから、被処理液体１２中に多くの気泡１８を拡散して供給することが可能となる。
【００６９】
また、１つのプラズマ発生部１６にて発生したプラズマを、円周上に配列された複数の気泡供給部２０にそれぞれ略均等に分配することが可能となる。すなわち、複数の気泡供給部２０に対するプラズマ発生箇所４９を１つに集約することができる。これは、プラズマ発生箇所４９の低減化につながり、第２処理装置１０Ｂ自体の簡素化を図ることができる。また、多量に発生した気泡１８を被処理液体１２に効率よく拡散することができ、被処理液体１２中の例えばラジカル濃度の均一化を迅速に進めることができる。
【００７０】
なお、本発明に係る処理装置、殺菌装置、殺菌水及び殺菌方法は、上述の実施の形態に限らず、本発明の要旨を逸脱することなく、種々の構成を採り得ることはもちろんである。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【手続補正書】
【提出日】平成27年12月11日(2015.12.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
筐体（２２）と、
前記筐体（２２）の下部に設けられ、被処理液体（１２）を有する液体貯溜部（１４）と、
前記筐体（２２）の上部に設けられた液体分配部（３８）を有し、前記液体貯溜部（１４）の前記被処理液体（１２）を前記液体分配部（３８）に循環する循環流路（３６）と、
前記液体貯溜部（１４）における前記被処理液体（１２）の液面（１２ａ）上でプラズマを発生させる１以上のプラズマ発生部（１６）と、
前記液体分配部（３８）から前記液体貯溜部（１４）に向かって垂下した状態で設けられ、且つ、前記液体分配部（３８）の前記被処理液体（１２）を前記液体貯溜部（１４）に戻すアスピレータ（４４）を有し、且つ、発生した前記プラズマを内包した気泡（１８）を前記液体貯溜部（１４）における前記液面（１２ａ）上で生成して前記被処理液体（１２）中に供給する複数の気泡供給部（２０）と、を有し、
各前記気泡供給部（２０）は、前記プラズマ発生部（１６）からの前記プラズマを前記アスピレータ（４４）のベンチュリー部（４２）を介して導入することで、前記気泡（１８）を生成することを特徴とする処理装置。
【請求項２】
請求項１記載の処理装置において、
前記被処理液体（１２）は酸性に調整されていることを特徴とする処理装置。
【請求項３】
（削除）
【請求項４】
（削除）
【請求項５】
請求項１又は２記載の処理装置において、
前記被処理液体（１２）の液面（１２ａ）上にプラズマ発生用ガス（３２）が導入される空間（３４）を有し、
前記プラズマ発生部（１６）及び前記気泡供給部（２０）は前記空間（３４）内に配され、
前記プラズマ発生部（１６）は、前記空間（３４）内への前記プラズマ発生用ガス（３２）の導入に基づいてプラズマを発生させることを特徴とする処理装置。
【請求項６】
（削除）
【請求項７】
（削除）
【請求項８】
請求項１、２又は５記載の処理装置において、
１つの前記プラズマ発生部（１６）に対して複数の前記気泡供給部（２０）の組み合わせが少なくとも１以上有することを特徴とする処理装置。
【請求項９】
請求項８記載の処理装置において、
１つの前記プラズマ発生部（１６）を中心に複数の前記気泡供給部（２０）が円周上（円周状）に配列されていることを特徴とする処理装置。
【請求項１０】
筐体（２２）と、
前記筐体（２２）の下部に設けられ、被処理液体（１２）を有する液体貯溜部（１４）と、
前記筐体（２２）の上部に設けられた液体分配部（３８）を有し、前記液体貯溜部（１４）の前記被処理液体（１２）を前記液体分配部（３８）に循環する循環流路（３６）と、
前記液体貯溜部（１４）における前記被処理液体（１２）の液面（１２ａ）上でプラズマを発生させる１以上のプラズマ発生部（１６）と、
前記液体分配部（３８）から前記液体貯溜部（１４）に向かって垂下した状態で設けられ、且つ、前記液体分配部（３８）の前記被処理液体（１２）を前記液体貯溜部（１４）に戻すアスピレータ（４４）を有し、且つ、発生した前記プラズマを内包した気泡（１８）を前記液体貯溜部（１４）における前記液面（１２ａ）上で生成して前記被処理液体（１２）中に供給する複数の気泡供給部（２０）と、を有し、
各前記気泡供給部（２０）は、前記プラズマ発生部（１６）からの前記プラズマを前記アスピレータ（４４）のベンチュリー部（４２）を介して導入することで、前記気泡（１８）を生成することを特徴とする殺菌装置。
【請求項１１】
請求項１０記載の殺菌装置において、
前記被処理液体（１２）は酸性に調整されていることを特徴とする殺菌装置。
【請求項１２】
請求項１０又は１１記載の殺菌装置にて製造されたことを特徴とする殺菌水。
【請求項１３】
被処理液体（１２）を有する液体貯溜部（１４）の前記被処理液体（１２）を、前記液体貯溜部（１４）の上部に設置された液体分配部（３８）に循環する処理と、
前記液体分配部（３８）に循環された前記被処理液体（１２）を、前記液体分配部（３８）から前記液体貯溜部（１４）に向かってそれぞれ垂下した状態で設けられたアスピレータ（４４）を有する複数の気泡供給部（２０）を介して前記液体貯溜部（１４）に戻す処理と、
前記液体貯溜部（１４）における前記被処理液体（１２）の液面（１２ａ）上でプラズマを発生させるプラズマ発生処理と、
前記プラズマ発生処理にて発生した前記プラズマを内包した気泡（１８）を前記液体貯溜部（１４）における前記液面（１２ａ）上で生成して前記被処理液体（１２）中に供給する気泡供給処理と、を有し、
前記気泡供給処理は、前記プラズマ発生処理にて発生した前記プラズマを前記アスピレータ（４４）のベンチュリー部（４２）を介して導入することで、前記気泡（１８）を生成することを特徴とする殺菌方法。
【請求項１４】
請求項１３記載の殺菌方法において、
前記被処理液体（１２）は酸性に調整されていることを特徴とする殺菌方法。
【国際調査報告】
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