(57)【要約】本発明は、機能性材料を含む細線の形成を不安定化させることなく、該細線の配置間隔設定の自由度を向上できるパターン形成方法、透明導電膜付き基材、デバイス及び電子機器を提供することを課題とし、その課題は、基材1に対して液滴吐出装置4を相対移動させながら、該液滴吐出装置4から基材1上に機能性材料を含む複数の液滴を吐出して、複数の液滴を基材1上で合一させてライン状液体を形成し、形成されたライン状液体を乾燥させる際に、該ライン状液体の縁に機能性材料を堆積させて、該機能性材料を含むパターンを形成するパターン形成方法であって、ライン状液体を形成する際に、液滴吐出装置4のノズル列40に対して平行に配置される画素組に対して複数のノズル41から付与される液滴組を、ノズル列40と交差する方向に複数組付与し、複数組の液滴組を合一させて、ノズル列40と交差する方向に伸びるライン状液体を形成することで解決される。
2016140284.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材に対して液滴吐出装置を相対移動させながら、該液滴吐出装置から基材上に機能性材料を含む複数の液滴を吐出して、複数の前記液滴を基材上で合一させてライン状液体を形成し、形成された前記ライン状液体を乾燥させる際に、該ライン状液体の縁に前記機能性材料を堆積させて、該機能性材料を含むパターンを形成するパターン形成方法であって、
前記ライン状液体を形成する際に、前記液滴吐出装置のノズル列に対して平行に配置される画素組に対して複数のノズルから付与される液滴組を、ノズル列と交差する方向に複数組付与し、複数組の前記液滴組を合一させて、ノズル列と交差する方向に伸びる前記ライン状液体を形成するパターン形成方法。
【請求項２】
前記ライン状液体を、液滴吐出装置の相対移動方向に対して斜めに形成する請求項１記載のパターン形成方法。
【請求項３】
１画素あたりの液滴量を、階調数により調整する請求項１又は２記載のパターン形成方法。
【請求項４】
ライン状液体の形成方向に対する液滴付与量を、２．５［ｐＬ／μｍ］以上１５［ｐＬ／μｍ］以下の範囲に調整する請求項１〜３の何れかに記載のパターン形成方法。
【請求項５】
１画素当たりのドット径重なり率を２０％以上６０％以下に調整する請求項１〜４の何れかに記載のパターン形成方法。
【請求項６】
前記液滴吐出装置から吐出される前記液滴の前記基材上における接触角を、１０［°］以上２５［°］以下の範囲に調整する請求項１〜５の何れかに記載のパターン形成方法。
【請求項７】
前記ライン状液体の乾燥に際して、乾燥を促進させる処理を施す請求項１〜６の何れかに記載のパターン形成方法。
【請求項８】
前記機能性材料の濃度範囲を、０．０１［ｗｔ％］以上１．０［ｗｔ％］以下の範囲に調整する請求項１〜７の何れかに記載のパターン形成方法。
【請求項９】
前記機能性材料は、導電性材料又は導電性材料前駆体である請求項１〜８の何れかに記載のパターン形成方法。
【請求項１０】
前記基材は、パターン形成面に凹凸を有する請求項１〜９の何れかに記載のパターン形成方法。
【請求項１１】
請求項１〜１０の何れかに記載のパターン形成方法により形成されたパターンを含む透明導電膜を基材表面に有する透明導電膜付き基材。
【請求項１２】
請求項１１記載の透明導電膜付き基材を有するデバイス。
【請求項１３】
請求項１２記載のデバイスを備えた電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、機能性材料を含む細線の形成を不安定化させることなく、該細線の配置間隔設定の自由度を向上できるパターン形成方法、透明導電膜付き基材、デバイス及び電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
機能性材料を含む細線パターンを形成する方法として、従来、フォトリソグラフィー技術を利用した方法が広く用いられてきた。【０００３】
しかしながら、フォトリソグラフィー技術は、材料のロスが多く、工程が複雑である。そのため、材料のロスが少なく、工程が簡略な方式が、種々検討されている。【０００４】
例えば、インクジェット法などで、機能性材料を含む液滴を基材に付与して、細線パターンを形成する方式があるが、インクジェット法では、通常は、細線の幅は、吐出された液滴の直径以下にはならないため、数μｍの線幅の細線パターンを形成することは困難であった。【０００５】
一方、あらかじめ基材の全面に撥剤を塗布した後、レーザーなどを用いて撥剤の一部を親水化して親撥パターン（即ち、親水部と撥水部により形成されるパターン）を形成し、そこにインクジェットで液滴を付与して細線を形成する方法がある。しかしながら、この方法は、撥剤を塗布したり、レーザーで親撥パターンを形成したりと工程が複雑になってしまう。【０００６】
これに対して、液滴内部の対流を利用して液滴中の固形分である機能性材料を液滴の周縁部に堆積させて、液滴より微細な幅のパターンを形成する方法が提案されている（特許文献１）。【０００７】
この方法によれば、特別な工程を必要とせずに、液滴直径以下の数μｍ幅の細線を形成することが可能になる。【０００８】
この方法を用いて、導電性微粒子の微細な幅のリングを形成し、これを複数連結して透明導電膜を形成することも提案されている（特許文献２）。【０００９】
しかしながら、この技術では、導電パスをつくるためにリングの交点が多くなり、透明性が損なわれるという課題があった。【００１０】
これに対して、本出願人は、これまでに、基材上にライン状に付与された機能性材料を含む液体を乾燥する際に、液滴内部の対流を利用して、機能性材料をライン状液体の縁部に堆積させて、１対の細線からなる平行線パターンを形成すること、更には、このような平行線パターンにより構成された透明導電膜を開示している（特許文献３）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特開２００５−９５７８７号公報
【特許文献２】ＷＯ２０１１／０５１９５２
【特許文献３】特開２０１４−３８９９２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
しかるに、特許文献３の技術では、透明導電膜の透明性を更に向上させる等の観点で、平行線パターンを構成する細線の配置間隔を大きく設定しようとすると、該細線の形成が不安定化する場合があり、更なる改善の余地が見出された。【００１３】
そこで本発明の課題は、機能性材料を含む細線の形成を不安定化させることなく、該細線の配置間隔設定の自由度を向上できるパターン形成方法、透明導電膜付き基材、デバイス及び電子機器を提供することにある。【００１４】
また本発明の他の課題は、以下の記載によって明らかとなる。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
上記課題は、以下の各発明によって解決される。【００１６】
１．
基材に対して液滴吐出装置を相対移動させながら、該液滴吐出装置から基材上に機能性材料を含む複数の液滴を吐出して、複数の前記液滴を基材上で合一させてライン状液体を形成し、形成された前記ライン状液体を乾燥させる際に、該ライン状液体の縁に前記機能性材料を堆積させて、該機能性材料を含むパターンを形成するパターン形成方法であって、
前記ライン状液体を形成する際に、前記液滴吐出装置のノズル列に対して平行に配置される画素組に対して複数のノズルから付与される液滴組を、ノズル列と交差する方向に複数組付与し、複数組の前記液滴組を合一させて、ノズル列と交差する方向に伸びる前記ライン状液体を形成するパターン形成方法。
２．
前記ライン状液体を、液滴吐出装置の相対移動方向に対して斜めに形成する前記１記載のパターン形成方法。
３．
１画素あたりの液滴量を、階調数により調整する前記１又は２記載のパターン形成方法。
４．
ライン状液体の形成方向に対する液滴付与量を、２．５［ｐＬ／μｍ］以上１５［ｐＬ／μｍ］以下の範囲に調整する前記１〜３の何れかに記載のパターン形成方法。
５．
１画素当たりのドット径重なり率を２０％以上６０％以下に調整する前記１〜４の何れかに記載のパターン形成方法。
６．
前記液滴吐出装置から吐出される前記液滴の前記基材上における接触角を、１０［°］以上２５［°］以下の範囲に調整する前記１〜５の何れかに記載のパターン形成方法。
７．
前記ライン状液体の乾燥に際して、乾燥を促進させる処理を施す前記１〜６の何れかに記載のパターン形成方法。
８．
前記機能性材料の濃度範囲を、０．０１［ｗｔ％］以上１．０［ｗｔ％］以下の範囲に調整する前記１〜７の何れかに記載のパターン形成方法。
９．
前記機能性材料は、導電性材料又は導電性材料前駆体である前記１〜８の何れかに記載のパターン形成方法。
１０．
前記基材は、パターン形成面に凹凸を有する前記１〜９の何れかに記載のパターン形成方法。
１１．
前記１〜１０の何れかに記載のパターン形成方法により形成されたパターンを含む透明導電膜を基材表面に有する透明導電膜付き基材。
１２．
前記１１記載の透明導電膜付き基材を有するデバイス。
１３．
前記１２記載のデバイスを備えた電子機器。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、機能性材料を含む細線の形成を不安定化させることなく、該細線の配置間隔設定の自由度を向上できるパターン形成方法、透明導電膜付き基材、デバイス及び電子機器を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】ライン状液体から平行線パターンが形成される様子を概念的に説明する図
【図２】比較例を説明する図
【図３】他の比較例を説明する図
【図４】本発明のパターン形成方法の一例を概念的に説明する図
【図５】図４の方法により形成されるライン状液体を概念的に説明する図
【図６】図４の方法により形成される平行線パターンを概念的に説明する図
【図７】本発明のパターン形成方法の他の例を概念的に説明する図
【図８】図７の方法により形成されるライン状液体を概念的に説明する図
【図９】図７の方法により形成される平行線パターンを概念的に説明する図
【図１０】ノズル列を説明する図
【図１１】基材上に形成された平行線パターンの一例を示す斜視断面図
【図１２】透明導電膜の例を説明する図
【図１３】実施例で用いた凹凸を有する基材を説明する図
【図１４】細線パターンの光学顕微鏡写真
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下に、図面を参照して本発明を実施するための形態について説明する。
【００２０】
図１は、ライン状液体から平行線パターンが形成される様子を概念的に説明する図である。
【００２１】
図１（ａ）に示すように、基材１上に、機能性材料を含むライン状液体２を付与する。
【００２２】
基材１上へのライン状液体２の付与は、液滴吐出装置を用いて行うことができる。具体的には、液滴吐出装置を基材に対して相対移動させながら、液滴吐出装置から機能性材料を含む液滴を複数吐出し、吐出された液滴が基材上で合一することで、機能性材料を含むライン状液体を形成することができる。液滴吐出装置は、例えば、インクジェット記録装置が備えるインクジェットヘッドにより構成することができる。
【００２３】
図１（ｂ）に示すように、機能性材料を含むライン状液体２を蒸発させ、乾燥させる際に、コーヒーステイン現象を利用して、ライン状液体２の縁に機能性材料を選択的に堆積させる。
【００２４】
コーヒーステイン現象を促進させるように、ライン状液体２を乾燥させる際の条件設定を行うことは好ましいことである。即ち、基材１上に配置されたライン状液体２の乾燥は中央部と比べ縁において速く、ライン状液体２の縁に導電性材料の局所的な堆積が起こる。この堆積した導電性材料によりライン状液体２の縁が固定化された状態となり、それ以降の乾燥に伴うライン状液体２の幅方向の収縮が抑制される。ライン状液体２の液体は、縁で蒸発により失った分の液体を補うように中央部から縁に向かう流動を形成する。この流動によって更なる導電性材料が縁に運ばれて堆積する。この流動は、乾燥に伴うライン状液体２の接触線の固定化とライン状液体２中央部と縁の蒸発量の差に起因する。そのため、この流動を促進させるように、導電性材料濃度、ライン状液体２と基材１の接触角、ライン状液体２の量、基材１の加熱温度、ライン状液体２の配置密度、又は温度、湿度、気圧の環境因子等の条件を設定することが好ましい。
【００２５】
その結果、図１（ｃ）に示すように、基材１上に、機能性材料を含む細線からなる塗膜パターン（以下、平行線パターンという場合がある。）３が形成される。１本のライン状液体２から形成された平行線パターン３は、１組２本の線分（細線）３１、３２により構成されている。図１（ｃ）において、Ｉは細線３１、３２の配置間隔である。
【００２６】
ここで、機能性材料とは、基材に特定の機能を付与するための材料である。特定の機能を付与するとは、例えば、基材に導電性を付与する場合、導電性材料を機能性材料として用いることをいい、また、絶縁性を付与する場合には、絶縁性材料を機能性材料として用いることをいう。
【００２７】
本発明のインクが含有する機能性材料としては、格別限定されるものではないが、導電性微粒子、導電性ポリマー等の導電性材料、絶縁性材料、半導体材料、光学フィルター材料、誘電体材料等を好ましく例示できる。
【００２８】
機能性材料として、上記のように、例えば導電性材料を用いれば、細線３１、３２に導電性を付与することができる。基材１上に、かかる細線３１、３２を、例えばストライプ状あるいはメッシュ状等に配置してなる透明導電膜は、光の透過率に優れるものとなる。以下の説明では、主に、機能性材料として導電性材料を用いる場合について説明する。
【００２９】
上述した細線３１、３２は、十分に細いものになるため、機能性材料自体が透明性を有さないものであっても視認困難になり、透明導電膜に透明性を付与できる。その一方で、導電性については、細線３１、３２が細いほど、抵抗値が高くなり易い。
【００３０】
そのため、上述した特許文献３では、ライン状液体２の形成幅を小さくすることによって、細線３１、３２の配置間隔Ｉを小さくし、細線３１、３２を基材１上に密な状態で並列させることによって、透明導電膜の導電性を確保するようにしていた。具体的には、図２に示すように、１本のライン状液体を形成するために基材１上に付与される複数の液滴２０を、液滴吐出装置４が備える１つのノズル４１を用いて付与していた。このようにして、十分な細さのライン状液体を形成していた。図中、αは基材１に対する液滴吐出装置４の相対移動方向である。
【００３１】
本発明者のその後の研究により、細線３１、３２にメッキを施す等によって、その抵抗値を好適に下げることができ、導電性を好適に改善できることが見出された。これにより、細線３１、３２の配置間隔Ｉを大きくしても、透明導電膜に高い導電性を付与できることがわかった。のみならず、細線３１、３２の配置間隔Ｉを大きくすることは、透明導電膜等の透明機能性膜の透過率を更に向上する観点でも好ましいことである。
【００３２】
ライン状液体２の形成幅を大きくすることによって、細線３１、３２の配置間隔Ｉを大きくすることができる。本発明者は、ライン状液体２の形成幅を大きくするために、液滴付与量を大きくすることを試みた。
【００３３】
ライン状液体２を形成する際に、ノズル４から基材１上に付与する各液滴２０の容量を大きくすることによって、液滴付与量を大きくすることを試みた。しかるに、ノズルから安定に液滴を吐出する観点で、液滴容量を大きくするには限界があった。つまり、細線３１、３２の配置間隔Ｉを大きくすることに限界があった。
【００３４】
また、ライン状液体２を形成する際に、１画素当たりに複数の液滴を着弾させること、即ち階調数（drops per dot）［dpd］を２以上にすることによって、液滴２０の付与量を大きくすることを試みた（図３参照）。これにより、ライン状液体の形成幅を大きくして、細線３１、３２の配置間隔Ｉを大きくすることはできたが、階調数を大きくするほど、生成される細線３１、３２に異形状部分（バルジ）が発生し易くなるという新たな課題が見出された。
【００３５】
これに対して、本発明のパターン形成方法では、ライン状液体２を形成する際に、液滴吐出装置のノズル列に対して平行に配置される画素組に対して複数のノズルから付与される液滴組を、ノズル列と交差する方向に複数組付与し、複数組の前記液滴組を合一させて、ノズル列と交差する方向に伸びる前記ライン状液体を形成する。これにより、特にライン状液体２の形成幅を大きくして、細線３１、３２の配置間隔Ｉを大きくする場合においても、生成される細線３１、３２にバルジが発生することを好適に防止できる。そのため、本発明のパターン形成方法によれば、機能性材料を含む細線の形成を不安定化させることなく、該細線の配置間隔Ｉの設定の自由度を向上できる効果が得られる。特に透明導電膜を形成する場合のように、機能性材料として導電性材料を用いるときには、バルジが防止されることによってパターンの抵抗が下がり、導電性を好適に改善できる効果が得られることもわかった。
【００３６】
また更に、図３の例に示した方法と、本発明に係る方法とで、配置間隔Ｉを同程度に大きく設定する場合について比較すると、本発明に係る方法を用いることにより、バルジ防止性を格段に向上できる。この点については、後に実施例において詳述するように、本発明に係る方法により形成されたパターンを示す図１４（ａ）と、図３の例に示した方法により形成されたパターンを示す図１４（ｄ）の対比からも明らかである。
【００３７】
以下に、本発明について更に詳しく説明する。
【００３８】
図４は、本発明のパターン形成方法の一例を概念的に説明する図であり、基材を平面視した様子を示している。
【００３９】
液滴吐出装置４は、ここでは、方向Ｎに沿って一列に配置された複数のノズル４１ａ〜４１ｊからなるノズル列４０を有している。
【００４０】
基材１表面のパターン形成の対象となる領域は、図中に縦横のマス目で示すように、複数の画素により構成されていると見ることができる。以下の説明において、画素（ｘｙ）という場合、ｘは列を特定し、ｙは行を特定する。例えば画素ｄ４という場合、ｄ列４行の画素を指す。各々の行は、ノズル列４０の方向Ｎに対して平行な方向に並列する複数の画素により構成され、各々の列は、ノズル列４０の方向Ｎに対して直交する方向に並列する複数の画素により構成されている。
【００４１】
基材１に対して液滴吐出装置４を相対移動させながら、液滴吐出装置４から基材１上に、機能性材料を含む液滴２０を吐出する。相対移動方向αは、ノズル列４０の方向Ｎに対して直交する方向に設定されている。
【００４２】
かかる相対移動の過程で、ノズル列４０の方向Ｎに対して平行に配置された複数の画素（ｄ１、ｅ１、ｆ１）からなる画素組に対して、複数のノズル４１ｄ、４１ｅ、４１ｆの各々から液滴２０を付与する。画素組に対して付与されるこれら液滴２０を液滴組という場合がある。画素組を構成する各画素（ｄ１、ｅ１、ｆ１）に対してノズル４１ｄ、４１ｅ、４１ｆを割り当てることにより、各画素（ｄ１、ｅ１、ｆ１）に個別に液滴２０を付与することができる。
【００４３】
次に、液滴吐出装置４を１画素分だけ相対移動方向αに相対移動させたところで、ノズル列４０の方向Ｎに対して平行に配置された複数の画素（ｄ２、ｅ２、ｆ２）からなる次の画素組に対して、複数のノズル４１ｄ、４１ｅ、４１ｆの各々から次の液滴２０、即ち次の液滴組を付与する。これを繰り返すことで、液滴組を、ノズル列４０の方向Ｎと交差する方向に複数組付与することができる。ここでは、液滴組を、ノズル列４０の方向Ｎと直交する方向に複数組付与している。
【００４４】
これら複数の液滴組を構成する液滴２０同士が合一されることによって、図５に示すように、ノズル列４０の方向Ｎと交差する方向に伸びるライン状液体２を形成することができる。
【００４５】
更に、ライン状液体２を乾燥させる際に、ライン状液体２の縁に機能性材料を堆積させることによって、図６に示すように、該機能性材料を含む平行線パターン３を形成することができる。１本のライン状液体２から形成された平行線パターン３は、１組２本の線分（細線）３１、３２により構成されている。
【００４６】
以上の方法によれば、ライン状液体２を形成する際に、ノズル列４０に対して平行に配置された複数の画素からなる画素組に対して、複数のノズルから液滴組を付与することにより、ライン状液体２の形成幅を自在に大きくすることができる。更に、ライン状液体２から生成される細線３１、３２の配置間隔Ｉを大きくする場合においても、バルジが発生することを好適に防止できる。即ち、機能性材料を含む細線３１、３２の形成を不安定化させることなく、該細線３１、３２の配置間隔Ｉの設定の自由度を向上できる。
【００４７】
ライン状液体２の形成に際して、基材１上に付与される液滴２０は、当該液滴２０を含む液滴組内で合一されるだけでなく、ノズル列４０と交差する方向に隣接する液滴組同士で合一されるように付与される。
【００４８】
このような合一を好適に達成するために、液滴２０のドット径は、１画素の大きさに対して十分な大きさを有することが好ましい。具体的には、液滴２０のドット径を、好ましくは１画素の画素長以上、より好ましくは１画素の対角線の長さ以上に設定することが好ましい。液滴２０のドット径と、１画素の大きさとの大小関係は、例えば、画素解像度、１画素当たりの液滴量、液滴の基材に対する接触角等を調整することによって適宜設定できる。なお、上記「１画素の画素長」は、当該画素が正方形であれば１辺の長さとすることができ、当該画素が長方形であれば長辺の長さとすることができる。
【００４９】
上記「液滴２０のドット径」Ｄ［ｍｍ］は、液滴２０の基材との接触角θ［ｒａｄ］、１画素当たりの液滴２０の液滴量Ｖ［ｍｍ３］から、下記式により算出することができる。
【００５０】
【数１】
2016140284.tif 000003
【００５１】
なお、接触角は、静的接触角であり、例えば、協和界面科学株式会社製ＤＭ−５００を用いて、２５℃、５０％ＲＨ環境下で、測定しようとする液滴（５μｌ程度）をシリンジから基材１上に乗せ、液滴端部の接線と基材面がなす角度を測定することで求めることができる。
【００５２】
液滴吐出装置４から吐出される液滴２０の基材１上における接触角は、１０［°］以上２５［°］以下の範囲に調整されることが好ましい。これにより、細線３１、３２の各々の細線幅を更に細くでき、透過率を更に向上できると共に、バルジを更に防止して、パターンの抵抗を更に下げることができる。
【００５３】
１画素当たりの液滴量の調整は、ノズルから吐出する液滴の容量（１液滴当たりの容量）を調整することにより行ってもよいが、１画素に付与する液滴数、即ち階調数［ｄｐｄ］を調整することにより行うことが好ましい。即ち、１画素に付与される液滴２０は、ノズルから吐出された１液滴のみにより構成されてもよいし、ノズルから吐出された２以上の液滴により構成されてもよい。図３の例では、ライン状液体に十分な形成幅を付与するために、階調数を大きく設定する必要があるが、これに対して、本発明では、階調数を、画素組を構成する画素数に反比例するように、比較的小さく設定することができる。
【００５４】
ライン状液体２の形成方向に対する液滴付与量は、２．５［ｐＬ／μｍ］以上１５［ｐＬ／μｍ］以下の範囲に調整されることが好ましい。これにより、細線３１、３２の配置間隔Ｉを更に大きくでき、透過率を更に向上できると共に、バルジを更に防止して、パターンの抵抗を更に下げることができる。
【００５５】
１画素当たりのドット径の重なり率を２０％以上６０％以下に調整することが好ましい。これにより、ライン状液体の形成過程における液滴同士の合一を好適に達成できると共に、バルジを更に防止して、パターンの抵抗を更に下げることができる。ここで、「１画素当たりのドット径の重なり率」［％］は、（［Ｄ−ｄ］／Ｄ）・１００により算出される値であり、「１画素当たりのドット径の重なり率を２０％以上６０％以下に調整すること」とは、２０％≦（［Ｄ−ｄ］／Ｄ）・１００≦６０％の関係を満たすことと言い換えることができる。ここで、Ｄは上述した液滴２０のドット径Ｄ［ｍｍ］であり、ｄはドット間距離［ｍｍ］である。ドット間距離ｄ［ｍｍ］は、液滴吐出装置４のノズル列４０を構成する複数のノズルの配列ピッチに対応する。ドット間距離ｄ［ｍｍ］は、ノズル列４０方向に隣接して付与される液滴２０の中心間距離ということもできる。
【００５６】
本発明の効果をより顕著に発揮する観点で、ライン状液体２の形成方向に対する液滴付与量を２．５［ｐＬ／μｍ］以上１５［ｐＬ／μｍ］以下の範囲に調整すると共に、１画素当たりのドット径の重なり率を２０％以上６０％以下に調整することは特に好ましいことであり、更に、これらの条件を満たした上で、液滴吐出装置４から吐出される液滴２０の基材１上における接触角を１０［°］以上２５［°］以下の範囲に調整することは最も好ましいことである。
【００５７】
本発明によれば、ライン状液体の形成に際して、基材上に付与される液滴の濡れ広がりに要する時間を短縮できる効果も得られる。例えば、図３の例では、１つの画素に付与された液滴がライン状液体の幅方向の所定範囲まで濡れ広がるまでに比較的長い時間を要するが、本発明では、ノズル列に対して平行に配置された複数の画素からなる画素組に対して液滴組を付与することにより、ライン状液体の幅方向の所定範囲に亘って、より直接的に液滴を付与できる。そのため、形成幅の大きいライン状液体であっても、速やかに形成できるようになる。
【００５８】
基材上に付与される液滴の濡れ広がりに要する時間を短縮できる利点を生かし、ライン状液体２を乾燥する際には、乾燥を促進させる処理を好適に施すことができる。平行線パターンを安定に形成する観点では、液滴の濡れ広がりを待つように比較的ゆっくりと乾燥を行うことが好ましいが、本発明によれば、上述したように液滴の濡れ広がりに要する時間を短縮できるため、乾燥を促進させる処理を施す場合においても、平行線パターンを安定に形成することができる。
【００５９】
乾燥を促進させる処理としては、例えば、加熱、送風、エネルギー線の照射などの処理を例示でき、これらの１又は２以上を組み合わせて用いてもよい。
【００６０】
ライン状液体の乾燥を促進させる乾燥装置（乾燥機ともいう）を用いることが好ましい。乾燥装置は、上述した乾燥処理を実行可能に構成されたものであればよく、例えば、ヒーター、送風機、エネルギー線照射装置などを例示でき、これらの１又は２以上を組み合わせて構成してもよい。
【００６１】
また、基材上に付与される液滴の濡れ広がりに要する時間を短縮できる利点により、本発明のパターン形成方法は、凹凸を有する基材にパターン形成する際にも好適に用いることができる。即ち、パターン形成面に、例えば凹曲面や凸曲面などのような凹凸を有する基材に対して、好適にパターン形成できる。上述したように液滴の濡れ広がりに要する時間を短縮できることにより、液滴の付与から乾燥までの時間を短縮することができる。そのため、例えば凹凸における傾斜面上に付与された液滴が重力等により流動する十分な余裕を与えずに、ライン状液体を乾燥させて平行線パターンを形成することができる。凹凸を有する基材にパターン形成する際に、乾燥を促進させる処理を施すことは特に好ましいことである。平行線パターンは、傾斜面上に形成される場合においても、液滴の流動が防止されることにより、パターン精度に優れるものとなる。更に、例えば平坦な基材に対してパターン形成した後に凹凸を付与する曲げ加工を行う場合と比較して、凹凸を有する基材に対してパターン形成する場合の方が、基材に対するパターンの密着性が保持され易い。
【００６２】
更にまた、本発明では、ノズル列に対して平行に配置された複数の画素からなる画素組に対して液滴組を付与することにより、比較的少ない階調数で、ライン状液体に十分な形成幅を付与できる。例えば、図３の例では、ライン状液体に十分な形成幅を付与するために、階調数を大きく設定する必要があるが、これに対して、本発明では、階調数を、画素組を構成する画素数に反比例するように、小さく設定することができる。階調数を小さくできるということは、１ノズルから１画素に付与する液滴数を小さくできるということであり、即ち基材に対する液滴吐出装置の相対移動の速度を速くできるということである。相対移動の速度を速くすることにより、ライン状液体の形成速度を速めることができる。この結果、ライン状液体の長さ方向で乾燥の進行に差が生じることを防止でき、このことも、バルジ発生の防止に好適に寄与する。つまり、バルジ発生を防止する観点で、各々１本のライン状液体は、該ライン状液体全体にわたって同時に乾燥を進行させることが理想であるが、本発明によれば、より理想に近い状態で乾燥を進行させることが可能になる。
【００６３】
以上の説明では、ライン状液体を、液滴吐出装置の相対移動方向に沿って形成する場合について示したが、これに限定されるものではない。ライン状液体を、液滴吐出装置の相対移動方向に対して斜めに形成することも好ましいことである。
【００６４】
図７は、本発明のパターン形成方法の他の例を概念的に説明する図であり、基材を平面視した様子を示している。
【００６５】
図示の例では、以下に説明するように、ライン状液体２を、液滴吐出装置４の相対移動方向αに対して斜めに形成する。
【００６６】
基材１に対して液滴吐出装置４を相対移動させながら、液滴吐出装置４から基材１上に、機能性材料を含む液滴２０を吐出する。相対移動方向αは、ノズル列４０の方向Ｎに対して直交する方向に設定されている。
【００６７】
かかる相対移動の過程で、ノズル列４０の方向Ｎに対して平行に配置された複数の画素（ａ１、ｂ１、ｃ１）からなる画素組に対して、複数のノズル４１ａ、４１ｂ、４１ｃの各々から液滴２０、即ち液滴組を付与する。
【００６８】
次に、液滴吐出装置４を１画素分だけ相対移動方向αに相対移動させたところで、ノズル列４０の方向Ｎに対して平行に配置された複数の画素（ｂ２、ｃ２、ｄ２）からなる次の画素組に対して、複数のノズル４１ｂ、４１ｃ、４１ｄの各々から次の液滴２０、即ち次の液滴組を付与する。これを繰り返すことで、液滴組を、ノズル列４０の方向Ｎに対して斜め方向に複数組付与している。
【００６９】
即ち、図示の例では、液滴２０の付与対象となる画素組を選択する際に、先に選択された画素組を構成する各画素に対して、ノズル列の方向Ｎに所定画素数（図示の例では１画素）ずれるように、次の行を構成する画素の中から、次の画素組を選択している。
【００７０】
これら複数の液滴組を構成する液滴２０同士が合一されることによって、図８に示すように、ノズル列４０の方向Ｎに対して斜め方向、即ち液滴吐出装置４の相対移動方向に対して斜め方向に伸びるライン状液体２を形成することができる。
【００７１】
更に、ライン状液体２を乾燥させる際に、ライン状液体２の縁に機能性材料を堆積させることによって、図９に示すように、該機能性材料を含む平行線パターン３を形成することができる。１本のライン状液体２から形成された平行線パターン３は、１組２本の線分（細線）３１、３２により構成されている。平行線パターン３は、液滴吐出装置４の相対移動方向に対して斜めに形成されている。
【００７２】
以上のように、ライン状液体２を、液滴吐出装置の相対移動方向αに対して斜めに形成する場合においても、ノズル列４０に対して平行に配置された複数の画素からなる画素組に対して、複数のノズルから液滴組を付与することにより、ライン状液体２の形成幅を自在に大きくすることができる。更に、ライン状液体２から生成される細線３１、３２の配置間隔Ｉを大きくする場合においても、バルジが発生することを好適に防止できる。即ち、機能性材料を含む細線３１、３２の形成を不安定化させることなく、該細線３１、３２の配置間隔Ｉの設定の自由度を向上できる。
【００７３】
以上の例では、ライン状液体２を、液滴吐出装置の相対移動方向αに対して４５°傾斜する方向に形成する場合について示したが、傾斜角度はこれに限定されるものではない。
【００７４】
以上の説明では、画素組を構成する画素数を３画素に設定する場合について示したが、これに限定されるものではなく、細線３１、３２が所望の配置間隔Ｉとなるように適宜設定することができる。そのため、配置間隔Ｉの設定の自由度が高い効果が得られる。画素組を構成する画素数は、例えば、２画素〜２０画素の範囲に設定されることが好ましく、２画素〜１０画素の範囲に設定されることが更に好ましい。
【００７５】
以上の説明では、主に、基材を固定し、液滴吐出装置を移動する場合について示したが、これに限定されず、基材及び液滴吐出装置の少なくとも一方を移動することにより、基材に対して液滴吐出装置を相対移動させることができる。例えば、基材を移動し、液滴吐出装置を固定することにより、基材に対して液滴吐出装置を相対移動させることも好ましいことである。相対移動方向αは、基材から見た液滴吐出装置の相対速度ベクトルの方向ということもできる。
【００７６】
以上の説明では、液滴吐出装置が、一列に配置された複数のノズルを有する場合について示したが、必ずしもこれに限定されるものではない。例えば、図１０に示すように、液滴吐出装置４は、複数列に配置された複数のノズルを有するものであってもよい。この場合、ノズル列の方向は、これら複数のノズルの全体的な配列方向Ｎに対応する。
【００７７】
液滴吐出装置から基材に吐出される液体に含有される機能性材料は、格別限定されないが、導電性材料または導電性材料前駆体であることが好ましい。導電性材料前駆体は、適宜処理を施すことによって導電性材料に変化させることができるものを指す。
【００７８】
導電性材料としては、例えば、導電性微粒子、導電性ポリマー等を好ましく例示できる。
【００７９】
導電性微粒子としては、格別限定されないが、Ａｕ、Ｐｔ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｚｎ、Ｃｏ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｗ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｇａ、Ｉｎ等の微粒子を好ましく例示でき、中でも、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕのような金属微粒子を用いると、電気抵抗が低く、かつ腐食に強い回路パターンを形成することができるので、より好ましい。コスト及び安定性の観点から、Ａｇを含む金属微粒子が最も好ましい。これらの金属微粒子の平均粒子径は、好ましくは１〜１００ｎｍの範囲、より好ましくは３〜５０ｎｍの範囲とされる。
【００８０】
また、導電性微粒子として、カーボン微粒子を用いることも好ましい。カーボン微粒子としては、グラファイト微粒子、カーボンナノチューブ、フラーレン等を好ましく例示できる。
【００８１】
導電性ポリマーとしては、格別限定されないが、π共役系導電性高分子を好ましく挙げることができる。
【００８２】
π共役系導電性高分子としては、特に限定されず、ポリチオフェン類、ポリピロール類、ポリインドール類、ポリカルバゾール類、ポリアニリン類、ポリアセチレン類、ポリフラン類、ポリパラフェニレン類、ポリパラフェニレンビニレン類、ポリパラフェニレンサルファイド類、ポリアズレン類、ポリイソチアナフテン類、ポリチアジル類等の鎖状導電性ポリマーを利用することができる。中でも、高い導電性が得られる点で、ポリチオフェン類やポリアニリン類が好ましい。ポリエチレンジオキシチオフェンであることが最も好ましい。
【００８３】
導電性ポリマーは、より好ましくは、上述したπ共役系導電性高分子とポリアニオンとを含んで成ることである。こうした導電性ポリマーは、π共役系導電性高分子を形成する前駆体モノマーを、適切な酸化剤と酸化触媒と、ポリアニオンの存在下で化学酸化重合することによって容易に製造できる。
【００８４】
ポリアニオンは、置換若しくは未置換のポリアルキレン、置換若しくは未置換のポリアルケニレン、置換若しくは未置換のポリイミド、置換若しくは未置換のポリアミド、置換若しくは未置換のポリエステル及びこれらの共重合体であって、アニオン基を有する構成単位とアニオン基を有さない構成単位とからなるものである。
【００８５】
このポリアニオンは、π共役系導電性高分子を溶媒に可溶化させる可溶化高分子である。また、ポリアニオンのアニオン基は、π共役系導電性高分子に対するドーパントとして機能して、π共役系導電性高分子の導電性と耐熱性を向上させる。
【００８６】
ポリアニオンのアニオン基としては、π共役系導電性高分子への化学酸化ドープが起こりうる官能基であればよいが、中でも、製造の容易さ及び安定性の観点からは、一置換硫酸エステル基、一置換リン酸エステル基、リン酸基、カルボキシ基、スルホ基等が好ましい。さらに、官能基のπ共役系導電性高分子へのドープ効果の観点より、スルホ基、一置換硫酸エステル基、カルボキシ基がより好ましい。
【００８７】
ポリアニオンの具体例としては、ポリビニルスルホン酸、ポリスチレンスルホン酸、ポリアリルスルホン酸、ポリアクリル酸エチルスルホン酸、ポリアクリル酸ブチルスルホン酸、ポリ−２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、ポリイソプレンスルホン酸、ポリビニルカルボン酸、ポリスチレンカルボン酸、ポリアリルカルボン酸、ポリアクリルカルボン酸、ポリメタクリルカルボン酸、ポリ−２−アクリルアミド−２−メチルプロパンカルボン酸、ポリイソプレンカルボン酸、ポリアクリル酸等が挙げられる。これらの単独重合体であってもよいし、２種以上の共重合体であってもよい。
【００８８】
また、化合物内にＦ（フッ素原子）を有するポリアニオンであってもよい。具体的には、パーフルオロスルホン酸基を含有するナフィオン（Ｄｕｐｏｎｔ社製）、カルボン酸基を含有するパーフルオロ型ビニルエーテルからなるフレミオン（旭硝子社製）等を挙げることができる。
【００８９】
これらのうち、スルホン酸を有する化合物であると、インクジェット印刷方式を用いた際にインク射出安定性が特に良好であり、かつ高い導電性が得られることから、より好ましい。
【００９０】
さらに、これらの中でも、ポリスチレンスルホン酸、ポリイソプレンスルホン酸、ポリアクリル酸エチルスルホン酸、ポリアクリル酸ブチルスルホン酸が好ましい。これらのポリアニオンは、導電性に優れるという効果を奏する。
【００９１】
ポリアニオンの重合度は、モノマー単位が１０〜１０００００個の範囲であることが好ましく、溶媒溶解性及び導電性の点からは、５０〜１００００個の範囲がより好ましい。
【００９２】
導電性ポリマーは市販の材料も好ましく利用できる。例えば、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸からなる導電性ポリマー（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳと略す）が、Ｈ．Ｃ．Ｓｔａｒｃｋ社からＣＬＥＶＩＯＳシリーズとして、Ａｌｄｒｉｃｈ社からＰＥＤＯＴ−ＰＳＳ４８３０９５、５６０５９８として、Ｎａｇａｓｅ  Ｃｈｅｍｔｅｘ社からＤｅｎａｔｒｏｎシリーズとして市販されている。また、ポリアニリンが、日産化学社からＯＲＭＥＣＯＮシリーズとして市販されている。
【００９３】
ライン状液体を形成する際に用いる、機能性材料を含有させる液体としては、水や、有機溶剤等の１種又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００９４】
有機溶剤は、格別限定されないが、例えば、１，２−ヘキサンジオール、２−メチル−２，４−ペンタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、プロピレングリコールなどのアルコール類、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルなどのエーテル類等を例示できる。
【００９５】
また、機能性材料を含有させる液体には、界面活性剤など種々の添加剤を含有させてもよい。
【００９６】
界面活性剤を用いることで、例えば、インクジェット法などの液滴吐出法を用いてライン状液体を形成するような場合などに、表面張力等を調整して吐出の安定化を図ること等が可能になる。界面活性剤としては、格別限定されないが、シリコン系界面活性剤等を用いることができる。シリコン系界面活性剤とはジメチルポリシロキサンの側鎖または末端をポリエーテル変性したものであり、例えば、信越化学工業製のＫＦ−３５１Ａ、ＫＦ−６４２やビッグケミー製のＢＹＫ３４７、ＢＹＫ３４８などが市販されている。界面活性剤の添加量は、ライン状液体２を形成する液体の全量に対して、１重量％以下であることが好ましい。
【００９７】
液滴吐出装置から基材に吐出される液体における機能性材料の濃度範囲は、０．０１［ｗｔ％］以上１．０［ｗｔ％］以下の範囲に調整されることが好ましい。これにより、細線３１、３２の形成を更に安定化できる。
【００９８】
基材は、格別限定されないが、例えば、ガラス、プラスチック（ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、アクリル、ポリエステル、ポリアミド等）、金属（銅、ニッケル、アルミ、鉄等や、あるいは合金）、セラミックなどを挙げることができ、これらは単独で用いてもよいし、貼り合せた状態で用いてもよい。中でも、プラスチックが好ましく、ポリエチレンテレフタレートや、ポリエチレン、ポリプロピレンのようなポリオレフィンなどが好適である。
【００９９】
更に、上述したように、凹凸を有する基材を用いることも好ましいことである。本発明のパターン形成方法は、凹凸を有する基材にパターン形成する際にも好適に用いることができる。
【０１００】
図１１は、基材上に形成された平行線パターンの一例を示す一部切り欠き斜視図であり、断面は、平行線パターンの形成方向に対して直交する方向で切断した縦断面に対応する。
【０１０１】
１本のライン状液体から生成される平行線パターン３の１組２本の細線（線分）３１、３２は、必ずしも互いに完全に独立した島状である必要はない。図示したように、２本の線分３１、３２は、該線分３１、３２間に亘って、該線分３１、３２の高さよりも低い高さで形成された薄膜部３０によって接続された連続体として形成されることも好ましいことである。
【０１０２】
平行線パターン３の線分３１、３２の線幅Ｗ１、Ｗ２は、各々１０μｍ以下であることが好ましい。１０μｍ以下であれば、通常視認できないレベルとなるので、透明性を向上する観点からより好ましい。各線分３１、３２の安定性も考慮すると、各線分３１、３２の線幅Ｗ１、Ｗ２は、各々２μｍ以上１０μｍ以下の範囲であることが好ましい。
【０１０３】
なお、線分３１、３２の幅Ｗ１、Ｗ２とは、該線分３１、３２間において機能性材料の厚みが最薄となる最薄部分の高さをＺとし、更に該Ｚからの線分３１、３２の突出高さをＹ１、Ｙ２としたときに、Ｙ１、Ｙ２の半分の高さにおける線分３１、３２の幅として定義される。例えば、パターン３が上述した薄膜部３０を有する場合は、該薄膜部３０における最薄部分の高さをＺとすることができる。なお、各線分３１、３２間における機能性材料の最薄部分の高さが０であるときは、線分３１、３２の線幅Ｗ１、Ｗ２は、基材１表面からの線分３１、３２の高さＨ１、Ｈ２の半分の高さにおける線分３１、３２の幅と定義される。
【０１０４】
平行線パターン３を構成する線分３１、３２の線幅Ｗ１、Ｗ２は、上述した通り極めて細いものであるため、断面積を確保して低抵抗化を図る観点で、基材１表面からの線分３１、３２の高さＨ１、Ｈ２は高い方が望ましい。具体的には、線分３１、３２の高さＨ１、Ｈ２は、５０ｎｍ以上５μｍ以下の範囲であることが好ましい。
【０１０５】
更に、平行線パターン３の安定性を向上する観点から、Ｈ１／Ｗ１比、Ｈ２／Ｗ２比は、各々０．０１以上１以下の範囲であることが好ましい。
【０１０６】
また、平行線パターン３の細線化を更に向上する観点から、線分３１、３２間において機能性材料の厚みが最薄となる最薄部分の高さＺ、具体的には薄膜部３０の最薄部分の高さＺが１０ｎｍ以下の範囲であることが好ましい。最も好ましいのは、透明性と安定性のバランスの両立を図るために、０＜Ｚ≦１０ｎｍの範囲で、薄膜部３０を備えることである。
【０１０７】
更に、平行線パターン３の更なる細線化向上のために、Ｈ１／Ｚ比、Ｈ２／Ｚ比は、各々５以上であることが好ましく、１０以上であることがより好ましく、２０以上であることが特に好ましい。
【０１０８】
本発明において、線分３１、３２の配置間隔Ｉの範囲は、格別限定されず、上述したように自由度高く適宜設定することができ、特に配置間隔Ｉを大きくする場合においてもバルジを好適に防止することができる。具体的には、配置間隔Ｉを、例えば、５０μｍ以上、１００μｍ以上、２００μｍ以上、３００μｍ以上、４００μｍ以上、更には５００μｍ以上という大きい値に設定する場合においても、バルジを好適に防止でき、線分３１、３２の形成を安定化できる。本発明よれば、バルジを好適に防止した状態で、配置間隔Ｉを、用途に応じて最適な値に適宜設定できる。透明導電膜等を形成する場合などにおいては、配置間隔Ｉは、例えば、１００μｍ以上〜１０００μｍ以下の範囲とすることが好ましく、１００μｍ以上〜５００μｍ以下の範囲とすることが更に好ましい。
【０１０９】
なお、線分３１、３２の配置間隔Ｉとは、線分３１、３２の各最大突出部間の距離とする。
【０１１０】
更にまた、線分３１と線分３２とに同様の形状（同程度の断面積）を付与することが好ましく、具体的には、線分３１と線分３２の高さＨ１とＨ２とを実質的に等しい値とすることが好ましい。これと同様に、線分３１と線分３２の線幅Ｗ１とＷ２とについても実質的に等しい値とすることが好ましい。
【０１１１】
線分３１、３２は、必ずしも平行である必要性はなく、少なくとも線分方向のある長さＬに亘って、線分３１、３２が結合していなければ良い。好ましくは、少なくとも線分方向のある長さＬに亘って、線分３１、３２が実質的に平行であることである。
【０１１２】
線分３１、３２の線分方向の長さＬは、線分３１、３２の配置間隔Ｉの５倍以上であることが好ましく、１０倍以上であることがより好ましい。長さＬ及び配置間隔Ｉは、パターン（ライン状液体）２の形成長さ及び形成幅に対応して設定することができる。
【０１１３】
ライン状液体の形成始点と終点（線分方向のある長さＬに亘った始点と終点）では、線分３１、３２が接続し、連続体として形成されてもよい。
【０１１４】
また、線分３１、３２は、その線幅Ｗ１、Ｗ２がほぼ等しく、且つ、線幅Ｗ１、Ｗ２が２本線間距離（配置間隔Ｉ）に比して、十分に細いものであることが好ましい。
【０１１５】
更に、１本のライン状液体から生成されるパターン３を構成する線分３１と線分３２とは、同時に形成されたものであることが好ましい。
【０１１６】
平行線パターン３は、各線分３１、３２が、下記（ア）〜（ウ）の条件を全て満たすことが特に好ましい。これにより、パターンが視認されにくくなり、透明性を向上できると共に、線分が安定化され、特に機能性材料が導電性材料である場合には、パターンの抵抗値を低下できる効果に優れる。
【０１１７】
（ア）各線分３１、３２の高さをＨ１、Ｈ２とし、該各線分間における最薄部分の高さをＺとしたときに、５≦Ｈ１／Ｚ、且つ５≦Ｈ２／Ｚであること。
（イ）各線分３１、３２の幅をＷ１、Ｗ２としたときに、Ｗ１≦１０μｍ、且つＷ２≦１０μｍであること。
（ウ）各線分３１、３２の高さをＨ１、Ｈ２としたときに、５０ｎｍ＜Ｈ１＜５μｍ、且つ５０ｎｍ＜Ｈ２＜５μｍであること。
【０１１８】
本発明により形成されたパターンには、必要に応じて焼成やメッキ等の後処理が施されることも好ましいことである。機能性材料として導電性材料を含む場合、後処理は、パターンの導電性を向上する処理であることが好ましい。
【０１１９】
本発明の透明導電膜付き基材は、以上に説明したパターン形成方法により形成されたパターンを含む透明導電膜を基材表面に有する。
【０１２０】
透明導電膜は、含有する機能性材料（導電性材料）自体が透明でない場合であっても、ライン状液体を平行線パターンに変化させて細線化することによって、パターンを視認し難くしたものということもできる。
【０１２１】
図１２は、透明導電膜の例を説明する図である。透明導電膜５は、複数の平行線パターン３の集合体として構成されることが好ましい。透明導電膜５は、例えば、図１２（ａ）及び（ｂ）に示すように、平行線パターン３を１方向に複数並列してなるストライプ状や、図１２（ｃ）及び（ｄ）に示すように、平行線パターン３を１方向に複数並列してなるものと、これと交差する方向に複数並列してなるものとを交差させてなるメッシュ状（格子状ともいう）の形態とすることが好ましい。ここで、図１２（ａ）及び（ｃ）の例は、平行線パターン３を基材１の辺に対して平行に形成した場合を示しており、図１２（ｂ）及び（ｄ）の例は、平行線パターン３を基材１の辺に対して斜めに形成した場合を示している。
【０１２２】
透明導電膜付き基材の用途は、格別限定されず、種々の電子機器が備える種々のデバイスに用いることができる。
【０１２３】
透明導電膜付き基材の好ましい用途は、本発明の効果を顕著に奏する観点で、例えば、液晶、プラズマ、有機エレクトロルミネッセンス、フィールドエミッション等、各種方式のディスプレイ用透明電極として、あるいは、タッチパネルや携帯電話、電子ペーパー、各種太陽電池、各種エレクトロルミネッセンス調光素子等に用いられる透明電極として好適に用いることができる。
【０１２４】
更に、透明導電膜付き基材は、デバイスの透明電極として好適に用いられる。デバイスとしては、格別限定されるものではないが、例えば、タッチパネルセンサー等を好ましく例示できる。また、これらデバイスを備えた電子機器としては、格別限定されるものではないが、例えばスマートフォン、タブレット端末等を好ましく例示できる。
【０１２５】
以上の説明において、一つの態様について説明された構成は、他の態様に適宜適用することができる。
【実施例】
【０１２６】
以下に、本発明の実施例について説明するが、本発明はかかる実施例により限定されない。
１．パターン形成
（実施例１）
＜インクの組成＞
インク（機能性材料を含む液体）として、以下の組成のものを調製した。
・銀ナノ粒子（平均粒子径：２０ｎｍ）：０．０５４ｗｔ％
・界面活性剤（ビッグケミー社製「ＢＹＫ３４８」）：０．０５ｗｔ％
・ジエチレングリコールモノブチルエーテル（略称：ＤＥＧＢＥ）（分散媒）：２０ｗｔ％
・水（分散媒）：残量
＜基材＞
基材として、機能性材料を含む液体の接触角が２０．３°となるように表面処理が施されたＰＥＴ基材１を用意した。表面処理としては、信光電気計装社製「ＰＳ−１Ｍ」を用いてコロナ放電処理を行った。
＜パターンの形成＞
液滴吐出装置（コニカミノルタ社製「ＫＭ１０２４ｉＬＨＥ−３０」（標準液滴容量３０ｐＬ））を基材に対して相対移動させながら該液滴吐出装置からインクを吐出し、相対移動方向αに対して４５°傾斜する方向に沿って、ライン状液体を複数本形成した。
各ライン状液体の塗布間隔は、透過率測定用のサンプルについては２本線幅の倍の値となるように制御し、端子抵抗測定用のサンプルについては１０００μｍとなるように制御した。
ライン状液体を蒸発させ、乾燥させることにより、該ライン状液体の縁に機能性材料を選択的に堆積させて、相対移動方向αに対して４５°傾斜する方向に平行線パターンを形成した。ここでは、７０℃に加熱されたステージ上に配置した基材にパターン形成することにより、ライン状液体の乾燥を促進させている。
以上のパターン形成において、ライン状液体を形成する際の液滴吐出装置によるインク吐出は、以下のように制御された。
・単一液滴量（１液滴あたりの液滴容量）：３０［ｐＬ］
・ノズル列方向の画素組を構成する画素数：７
・階調数：３［ｄｐｄ］
・１つのライン状液体の形成方向に対する液滴付与量：６．３２［ｐＬ／μｍ］
・ドット径の重なり率：４８．３［％］
得られたパターンは、図１２（ｂ）のような傾斜したストライプ状である。【０１２７】
（実施例２）
＜インクの組成＞
インク（機能性材料を含む液体）として、以下の組成のものを調製した。
・銀ナノ粒子（平均粒子径：２０ｎｍ）：０．１９ｗｔ％
・界面活性剤（ビッグケミー社製「ＢＹＫ３４８」）：０．０５ｗｔ％
・ジエチレングリコールモノブチルエーテル（略称：ＤＥＧＢＥ）（分散媒）：２０ｗｔ％
・水（分散媒）：残量
＜基材＞
基材として、実施例１と同様のＰＥＴ基材１を用いた。
＜パターンの形成＞
ライン状液体を形成する際の液滴吐出装置によるインク吐出を以下のように制御したこと以外は、実施例１と同様にした。
・単一液滴量：３０［ｐＬ］
・ノズル列方向の画素組を構成する画素数：２
・階調数：３［ｄｐｄ］
・１つのライン状液体の形成方向に対する液滴付与量：１．８１［ｐＬ／μｍ］
・ドット径の重なり率：４８．３［％］
得られたパターンは、図１２（ｂ）のような傾斜したストライプ状である。【０１２８】
（実施例３）
＜インクの組成＞
インク（機能性材料を含む液体）として、以下の組成のものを調製した。
・銀ナノ粒子（平均粒子径：２０ｎｍ）：０．１３ｗｔ％
・界面活性剤（ビッグケミー社製「ＢＹＫ３４８」）：０．０５ｗｔ％
・ジエチレングリコールモノブチルエーテル（略称：ＤＥＧＢＥ）（分散媒）：２０ｗｔ％
・水（分散媒）：残量
＜基材＞
基材として、実施例１と同様のＰＥＴ基材１を用いた。
＜パターンの形成＞
ライン状液体を形成する際の液滴吐出装置によるインク吐出を以下のように制御したこと以外は、実施例１と同様にした。
・単一液滴量：３０［ｐＬ］
・ノズル列方向の画素組を構成する画素数：３
・階調数：３［ｄｐｄ］
・１つのライン状液体の形成方向に対する液滴付与量：２．７１［ｐＬ／μｍ］
・ドット径の重なり率：４８．３［％］
得られたパターンは、図１２（ｂ）のような傾斜したストライプ状である。【０１２９】
（実施例４）
＜インクの組成＞
インク（機能性材料を含む液体）として、以下の組成のものを調製した。
・銀ナノ粒子（平均粒子径：２０ｎｍ）：０．０３６ｗｔ％
・界面活性剤（ビッグケミー社製「ＢＹＫ３４８」）：０．０５ｗｔ％
・ジエチレングリコールモノブチルエーテル（略称：ＤＥＧＢＥ）（分散媒）：２０ｗｔ％
・水（分散媒）：残量
＜基材＞
基材として、実施例１と同様のＰＥＴ基材１を用いた。
＜パターンの形成＞
ライン状液体を形成する際の液滴吐出装置によるインク吐出を以下のように制御したこと以外は、実施例１と同様にした。
・単一液滴量：３０［ｐＬ］
・ノズル列方向の画素組を構成する画素数：８
・階調数：４［ｄｐｄ］
・１つのライン状液体の形成方向に対する液滴付与量：９．６３［ｐＬ／μｍ］
・ドット径の重なり率：５３．０［％］
得られたパターンは、図１２（ｂ）のような傾斜したストライプ状である。【０１３０】
（実施例５）
＜インクの組成＞
インク（機能性材料を含む液体）として、以下の組成のものを調製した。
・銀ナノ粒子（平均粒子径：２０ｎｍ）：０．０２３ｗｔ％
・界面活性剤（ビッグケミー社製「ＢＹＫ３４８」）：０．０５ｗｔ％
・ジエチレングリコールモノブチルエーテル（略称：ＤＥＧＢＥ）（分散媒）：２０ｗｔ％
・水（分散媒）：残量
＜基材＞
基材として、実施例１と同様のＰＥＴ基材１を用いた。
＜パターンの形成＞
ライン状液体を形成する際の液滴吐出装置によるインク吐出を以下のように制御したこと以外は、実施例１と同様にした。
・単一液滴量：３０［ｐＬ］
・ノズル列方向の画素組を構成する画素数：８
・階調数：６［ｄｐｄ］
・１つのライン状液体の形成方向に対する液滴付与量：１４．４３［ｐＬ／μｍ］
・ドット径の重なり率：５８．９［％］
得られたパターンは、図１２（ｂ）のような傾斜したストライプ状である。【０１３１】
（実施例６）
＜インクの組成＞
インク（機能性材料を含む液体）として、以下の組成のものを調製した。
・銀ナノ粒子（平均粒子径：２０ｎｍ）：０．０２１ｗｔ％
・界面活性剤（ビッグケミー社製「ＢＹＫ３４８」）：０．０５ｗｔ％
・ジエチレングリコールモノブチルエーテル（略称：ＤＥＧＢＥ）（分散媒）：２０ｗｔ％
・水（分散媒）：残量
＜基材＞
基材として、実施例１と同様のＰＥＴ基材１を用いた。
＜パターンの形成＞
ライン状液体を形成する際の液滴吐出装置によるインク吐出を以下のように制御したこと以外は、実施例１と同様にした。
・単一液滴量：３０［ｐＬ］
・ノズル列方向の画素組を構成する画素数：９
・階調数：６［ｄｐｄ］
・１つのライン状液体の形成方向に対する液滴付与量：１６．２５［ｐＬ／μｍ］
・ドット径の重なり率：５８．９［％］
得られたパターンは、図１２（ｂ）のような傾斜したストライプ状である。【０１３２】
（実施例７）
＜インクの組成＞
インク（機能性材料を含む液体）として、以下の組成のものを調製した。
・銀ナノ粒子（平均粒子径：２０ｎｍ）：０．２４ｗｔ％
・界面活性剤（ビッグケミー社製「ＢＹＫ３４８」）：０．０５ｗｔ％
・ジエチレングリコールモノブチルエーテル（略称：ＤＥＧＢＥ）（分散媒）：２０ｗｔ％
・水（分散媒）：残量
＜基材＞
基材として、実施例１と同様のＰＥＴ基材１を用いた。
＜パターンの形成＞
ライン状液体を形成する際に液滴吐出装置(コニカミノルタ社製「ＫＭ１０２４ｉＳＨＥ」（標準液滴量６ｐＬ）を使用し、インク吐出を以下のように制御したこと以外は、実施例１と同様にした。
・単一液滴量：６［ｐＬ］
・ノズル列方向の画素組を構成する画素数：６
・階調数：４［ｄｐｄ］
・１つのライン状液体の形成方向に対する液滴付与量：１．４４［ｐＬ／μｍ］
・ドット径の重なり率：１９．６［％］
得られたパターンは、図１２（ｂ）のような傾斜したストライプ状である。【０１３３】
（実施例８）
＜インクの組成＞
インク（機能性材料を含む液体）として、以下の組成のものを調製した。
・銀ナノ粒子（平均粒子径：２０ｎｍ）：０．１９ｗｔ％
・界面活性剤（ビッグケミー社製「ＢＹＫ３４８」）：０．０５ｗｔ％
・ジエチレングリコールモノブチルエーテル（略称：ＤＥＧＢＥ）（分散媒）：２０ｗｔ％
・水（分散媒）：残量
＜基材＞
基材として、実施例１と同様のＰＥＴ基材１を用いた。
＜パターンの形成＞
ライン状液体を形成する際に液滴吐出装置(コニカミノルタ社製「ＫＭ１０２４ｉＳＨＥ」（標準液滴量６ｐＬ）を使用し、インク吐出を以下のように制御したこと以外は、実施例１と同様にした。
・単一液滴量：６［ｐＬ］
・ノズル列方向の画素組を構成する画素数：６
・階調数：５［ｄｐｄ］
・１つのライン状液体の形成方向に対する液滴付与量：１．８０［ｐＬ／μｍ］
・ドット径の重なり率：２５．３［％］
得られたパターンは、図１２（ｂ）のような傾斜したストライプ状である。【０１３４】
（実施例９）
＜インクの組成＞
インク（機能性材料を含む液体）として、以下の組成のものを調製した。
・銀ナノ粒子（平均粒子径：２０ｎｍ）：０．０６３ｗｔ％
・界面活性剤（ビッグケミー社製「ＢＹＫ３４８」）：０．０５ｗｔ％
・ジエチレングリコールモノブチルエーテル（略称：ＤＥＧＢＥ）（分散媒）：２０ｗｔ％
・水（分散媒）：残量
＜基材＞
基材として、実施例１と同様のＰＥＴ基材１を用いた。
＜パターンの形成＞
ライン状液体を形成する際の液滴吐出装置によるインク吐出を以下のように制御したこと以外は、実施例１と同様にした。
・単一液滴量：３０［ｐＬ］
・ノズル列方向の画素組を構成する画素数：３
・階調数：６［ｄｐｄ］
・１つのライン状液体の形成方向に対する液滴付与量：５．４１［ｐＬ／μｍ］
・ドット径の重なり率：５８．９［％］
得られたパターンは、図１２（ｂ）のような傾斜したストライプ状である。【０１３５】
（実施例１０）
＜インクの組成＞
インクとして、実施例１と同様のインクを用いた。
＜基材＞
基材として、実施例１と同様のＰＥＴ基材１を用いた。
＜パターンの形成＞
ライン状液体を形成する際の液滴吐出装置によるインク吐出を以下のように制御したこと以外は、実施例１と同様にした。
・単一液滴量：３０［ｐＬ］
・ノズル列方向の画素組を構成する画素数：３
・階調数：７［ｄｐｄ］
・１つのライン状液体の形成方向に対する液滴付与量：６．３１［ｐＬ／μｍ］
・ドット径の重なり率：６１．０［％］
得られたパターンは、図１２（ｂ）のような傾斜したストライプ状である。【０１３６】
（実施例１１）
＜インクの組成＞
インクとして、実施例１と同様のインクを用いた。
＜基材＞
基材として、機能性材料を含む液体の接触角が９．６°となるように表面処理が施されたＰＥＴ基材２を用意した。表面処理としては、信光電気計装社製「ＰＳ−１Ｍ」を用いてコロナ放電処理を行った。表面処理の強度を実施例１と異ならせることにより、上記接触角に調整した。
＜パターンの形成＞
ライン状液体を形成する際の液滴吐出装置によるインク吐出を以下のように制御したこと以外は、実施例１と同様にした。
・単一液滴量：３０［ｐＬ］
・ノズル列方向の画素組を構成する画素数：７
・階調数：３［ｄｐｄ］
・１つのライン状液体の形成方向に対する液滴付与量：６．３２［ｐＬ／μｍ］
・ドット径の重なり率：５９．９［％］
得られたパターンは、図１２（ｂ）のような傾斜したストライプ状である。【０１３７】
（実施例１２）
＜インクの組成＞
インクとして、実施例１と同様のインクを用いた。
＜基材＞
基材として、機能性材料を含む液体の接触角が１０．４°となるように表面処理が施されたＰＥＴ基材３を用意した。表面処理としては、信光電気計装社製「ＰＳ−１Ｍ」を用いてコロナ放電処理を行った。表面処理の強度を実施例１と異ならせることにより、上記接触角に調整した。
＜パターンの形成＞
ライン状液体を形成する際の液滴吐出装置によるインク吐出を以下のように制御したこと以外は、実施例１と同様にした。
・単一液滴量：３０［ｐＬ］
・ノズル列方向の画素組を構成する画素数：７
・階調数：３［ｄｐｄ］
・１つのライン状液体の形成方向に対する液滴付与量：６．３２［ｐＬ／μｍ］
・ドット径の重なり率：５８．８［％］
得られたパターンは、図１２（ｂ）のような傾斜したストライプ状である。【０１３８】
（実施例１３）
＜インクの組成＞
インクとして、実施例１と同様のインクを用いた。
＜基材＞
基材として、機能性材料を含む液体の接触角が２４．１°となるように表面処理が施されたＰＥＴ基材４を用意した。表面処理としては、信光電気計装社製「ＰＳ−１Ｍ」を用いてコロナ放電処理を行った。表面処理の強度を実施例１と異ならせることにより、上記接触角に調整した。
＜パターンの形成＞
ライン状液体を形成する際の液滴吐出装置によるインク吐出を以下のように制御したこと以外は、実施例１と同様にした。
・単一液滴量：３０［ｐＬ］
・ノズル列方向の画素組を構成する画素数：７
・階調数：３［ｄｐｄ］
・１つのライン状液体の形成方向に対する液滴付与量：６．３２［ｐＬ／μｍ］
・ドット径の重なり率：４５．１［％］
得られたパターンは、図１２（ｂ）のような傾斜したストライプ状である。【０１３９】
（実施例１４）
＜インクの組成＞
インクとして、実施例１と同様のインクを用いた。
＜基材＞
基材として、機能性材料を含む液体の接触角が２６．７°となるように表面処理が施されたＰＥＴ基材５を用意した。表面処理としては、信光電気計装社製「ＰＳ−１Ｍ」を用いてコロナ放電処理を行った。表面処理の強度を実施例１と異ならせることにより、上記接触角に調整した。
＜パターンの形成＞
ライン状液体を形成する際の液滴吐出装置によるインク吐出を以下のように制御したこと以外は、実施例１と同様にした。
・単一液滴量：３０［ｐＬ］
・ノズル列方向の画素組を構成する画素数：７
・階調数：３［ｄｐｄ］
・１つのライン状液体の形成方向に対する液滴付与量：６．３２［ｐＬ／μｍ］
・ドット径の重なり率：４３．０［％］
得られたパターンは、図１２（ｂ）のような傾斜したストライプ状である。【０１４０】
（実施例１５）
＜インクの組成＞
インク（機能性材料を含む液体）として、以下の組成のものを調製した。
・銀ナノ粒子（平均粒子径：２０ｎｍ）：０．０３９ｗｔ％
・界面活性剤（ビッグケミー社製「ＢＹＫ３４８」）：０．０５ｗｔ％
・ジエチレングリコールモノブチルエーテル（略称：ＤＥＧＢＥ）（分散媒）：２０ｗｔ％
・水（分散媒）：残量
＜基材＞
基材として、実施例１と同様のＰＥＴ基材１を用いた。
＜パターンの形成＞
液滴吐出装置（コニカミノルタ社製「ＫＭ１０２４ｉＬＨＥ−３０」（標準液滴容量３０ｐＬ））を基材に対して相対移動させながら該液滴吐出装置からインクを吐出し、相対移動方向αに沿って、ライン状液体を複数本形成した。
各ライン状液体の塗布間隔は、透過率測定用のサンプルについては２本線幅の倍の値となるように制御し、端子抵抗測定用のサンプルについては１０００μｍとなるように制御した。
ライン状液体を蒸発させ、乾燥させることにより、該ライン状液体の縁に機能性材料を選択的に堆積させて、相対移動方向αに平行線パターンを形成した。ここでは、７０℃に加熱されたステージ上に配置した基材にパターン形成することにより、ライン状液体の乾燥を促進させている。
以上のパターン形成において、ライン状液体を形成する際の液滴吐出装置によるインク吐出は、以下のように制御された。
・単一液滴量（１液滴あたりの液滴容量）：３０［ｐＬ］
・ノズル列方向の画素組を構成する画素数：７
・階調数：３［ｄｐｄ］
・１つのライン状液体の形成方向に対する液滴付与量：８．９４［ｐＬ／μｍ］
・ドット径の重なり率：４８．３［％］
得られたパターンは、図１２（ａ）のようなストライプ状である。【０１４１】
（実施例１６）
＜インクの組成＞
インクとして、実施例１５と同様のインクを用いた。
＜基材＞
基材として、図１３に示す凹面形状のガラスの凹面に、実施例１と同様のＰＥＴ基材１を貼り付けたものを用いた。
＜パターンの形成＞
液滴吐出装置（コニカミノルタ社製「ＫＭ１０２４ｉＬＨＥ−３０」（標準液滴容量３０ｐＬ））を基材に対して相対移動させながら該液滴吐出装置からインクを吐出し、相対移動方向αに沿って、ライン状液体を複数本形成した。
各ライン状液体の塗布間隔は、透過率測定用のサンプルについては２本線幅の倍の値となるように制御し、端子抵抗測定用のサンプルについては１０００μｍとなるように制御した。
ライン状液体を蒸発させ、乾燥させることにより、該ライン状液体の縁に機能性材料を選択的に堆積させて、相対移動方向αに平行線パターンを形成した。ここでは、７０℃に加熱されたステージ上に配置した基材にパターン形成することにより、ライン状液体の乾燥を促進させている。
以上のパターン形成において、ライン状液体を形成する際の液滴吐出装置によるインク吐出は、以下のように制御された。
・単一液滴量（１液滴あたりの液滴容量）：３０［ｐＬ］
・ノズル列方向の画素組を構成する画素数：７
・階調数：３［ｄｐｄ］
・１つのライン状液体の形成方向に対する液滴付与量：８．９４［ｐＬ／μｍ］
・ドット径の重なり率：４８．３［％］
基材の凹面に形成されたパターンは、図１２（ａ）のようなストライプ状である。【０１４２】
（比較例１）
＜インクの組成＞
インクとして、実施例１と同様のインクを用いた。
＜基材＞
基材として、実施例１と同様のＰＥＴ基材１を用いた。
＜パターンの形成＞
ライン状液体を形成する際の液滴吐出装置によるインク吐出を以下のように制御したこと以外は、実施例１と同様にした。
・単一液滴量：３０［ｐＬ］
・ノズル列方向の画素数：１
・階調数：２１［ｄｐｄ］
・１つのライン状液体の形成方向に対する液滴付与量：６．３２［ｐＬ／μｍ］
・ドット径の重なり率：７３．０［％］
得られたパターンは、図１２（ｂ）のような傾斜したストライプ状である。【０１４３】
（比較例２）
＜インクの組成＞
インクとして、実施例１５と同様のインクを用いた。
＜基材＞
基材として、実施例１５と同様のＰＥＴ基材１を用いた。
＜パターンの形成＞
ライン状液体を形成する際の液滴吐出装置によるインク吐出を以下のように制御したこと以外は、実施例１５と同様にした。
・単一液滴量：３０［ｐＬ］
・ノズル列方向の画素数：１
・階調数：２１［ｄｐｄ］
・１つのライン状液体の形成方向に対する液滴付与量：６．３２［ｐＬ／μｍ］
・ドット径の重なり率：７３．０［％］
得られたパターンは、図１２（ａ）のようなストライプ状である。【０１４４】
２．評価方法
各実施例及び比較例で形成されたパターンについて、パターン性状及び物性値を評価した。【０１４５】
（１）パターン性状
パターン性状として、以下の項目（バルジ防止性、２本線幅及び細線幅）について評価した。【０１４６】
・バルジ防止性
表１〜５に示す２本線性状は、光学顕微鏡観察により１組２本の細線を観察し、バルジ防止性を下記評価基準で評価した。
＜評価基準＞
Ａ：バルジが生じなかった
Ｂ：バルジが僅かに生じた
Ｃ：バルジが多く生じた【０１４７】
・２本線幅
２本線幅（μｍ）は、光学顕微鏡観察により１組２本の細線間の間隔を測定したものである。測定値は、上述した配置間隔Ｉに相当する。【０１４８】
・細線幅
細線幅（μｍ）は、光学顕微鏡観察により１組２本の細線の幅を測定したものである。測定値は、上述した幅Ｗ１、Ｗ２に相当する。なお、２本の細線の幅は実質的に同じであったため、一方の細線の測定値をもって細線幅（μｍ）とした。【０１４９】
（２）物性値
物性値として、以下の項目（透過率、シート抵抗及び端子抵抗）について評価した。【０１５０】
・透過率（全光線透過率）
透過率（全光線透過率）（％Ｔ）は、東京電色社製ＡＵＴＯＭＡＴＩＣＨＡＺＥＭＥＴＥＲ（ＭＯＤＥＬ  ＴＣ−ＨＩＩＩＤＰ）を用いて測定した全光線透過率である。なお、パターンのない基材を用いて補正を行い、作成したパターンの全光線透過率として測定した。【０１５１】
・端子抵抗
端子抵抗（Ω）は、パターンが形成された基材を、長辺がパターン形成方向に沿うように１００ｍｍ×１０ｍｍの短冊状に切り出し、端子間（即ち、短冊状領域の長手方向の両端間）の抵抗値を測定した値である。測定の前に、１２０℃で１時間、ホットプレート上で基材を加熱することによって、パターンに加熱焼成処理を施している。【０１５２】
以上の評価結果を表１〜５に示す。【０１５３】
【表１】
2016140284.tif 000004
【０１５４】
【表２】
2016140284.tif 000005
【０１５５】
【表３】
2016140284.tif 000006
【０１５６】
【表４】
2016140284.tif 000007
【０１５７】
【表５】
2016140284.tif 000008
【０１５８】
３．評価
表１〜４に示す実施例１〜１６と比較例１、２とを対比すると、本発明によれば、細線形成方向によらず、特にライン状液体２の形成幅を大きくして、細線３１、３２の配置間隔Ｉを大きくする場合においても、生成される細線３１、３２にバルジが発生することを好適に防止できることがわかる。即ち、本発明によれば、機能性材料を含む細線の形成を不安定化させることなく、該細線の配置間隔Ｉ設定の自由度を向上できる効果が得られることがわかる。【０１５９】
特に実施例２〜６に着目すると、実施例３〜５の結果より、１つのライン状液体の形成方向に対する液滴付与量を２．５［ｐＬ／μｍ］以上１５［ｐＬ／μｍ］以下の範囲とすることにより、２本線幅（配置間隔Ｉに相当）を更に大きくでき、透過率を更に向上できると共に、バルジを更に防止して、抵抗を更に下げることができることが分かる。【０１６０】
特に実施例７〜１０に着目すると、ドット径重なり率を２０％以上６０％以下に調整することにより、バルジを更に防止して、抵抗を更に下げることができることが分かる。【０１６１】
特に実施例１１〜１４に着目すると、実施例１３、１４の結果より、液滴吐出装置から吐出される液滴の基材上における接触角を１０［°］以上２５［°］以下の範囲に調整することにより、細線３１、３２の各々の細線幅を更に細くでき、透過率を更に向上できると共に、バルジを更に防止して、抵抗を更に下げることができることが分かる。【０１６２】
特に実施例１、１５に着目すると、本発明の効果は、ヘッド相対移動方向に対する細線形成角度によらず発揮されることがわかる。【０１６３】
特に実施例１６に着目すると、本発明は、凹凸面を有する基材にパターン形成する際にも好適に用いられることがわかる。【０１６４】
５．光学顕微鏡による観察
図１４（ａ）〜（ｄ）に、４枚の光学顕微鏡写真を示した。これらは、何れも、基材上に付与されたライン状液体を乾燥させる際に、該ライン状液体の縁に機能性材料を堆積させて形成された細線パターンを撮影したものである。図中、暗い部分が基材に対応し、線状の明るい部分が、基材上に形成された細線に対応する。【０１６５】
図１４（ａ）及び（ｂ）は、本発明の実施例であり、各々１本のライン状液体を形成する際に、液滴吐出装置のノズル列に対して平行に配置される３画素からなる画素組に対して複数のノズルから付与される液滴組を、ノズル列と交差する方向に複数組付与し、これらの液滴組を合一させて、ノズル列と交差する方向に伸びるライン状液体を形成したものである。【０１６６】
図１４（ａ）では、階調数を５［ｄｐｄ］に設定することで、画素組を構成する３画素に対して計１５滴の液滴を着弾させている。図１４（ｂ）では、階調数を７［ｄｐｄ］に設定することで、画素組を構成する３画素に対して計２１滴の液滴を着弾させている。このように、着弾液滴数を比較的多く設定して、２本線幅を大きくする場合においても、バルジが防止されていることがわかる。【０１６７】
一方、図１４（ｃ）及び（ｄ）は、比較例であり、１本のライン状液体を形成する際に、画素組ではなく１つの画素に対して付与される液滴を、ノズル列と交差する方向に複数付与し、これらの液滴を合一させて、ノズル列と交差する方向に伸びるライン状液体を形成したものである。【０１６８】
図１４（ｃ）では、階調数を６［ｄｐｄ］に設定することで、１つの画素に対して計６滴の液滴を着弾させている。図１４（ｄ）では、階調数を１４［ｄｐｄ］に設定することで、１つの画素に対して計１４滴の液滴を着弾させている。着弾液滴数を比較的小さくした図１４（ｃ）では、バルジの発生はほとんど見られないが、２本線幅を大きくすることができない。図１４（ｄ）のように着弾液滴数を大きくしていくと、バルジの発生が顕著になることがわかる。そのため、２本線幅を大きくする場合に、バルジを防止できないことがわかる。【０１６９】
特に、実施例の図１４（ａ）と比較例の図１４（ｄ）は、ライン状液体の長さあたりの液滴付与量が同程度であり、即ち配置間隔Ｉを同程度に大きくしているにもかかわらず、本発明を用いた図１４（ａ）では、バルジ防止性が格段に優れることがわかる。本発明では、これよりも更に着弾液滴数を増やして液滴付与量を大きくし、配置間隔Ｉを更に大きくしても、図１４（ｂ）に示すようにバルジ防止性を好適に発揮できる。【０１７０】
以上の結果からも、本発明によれば、機能性材料を含む細線の形成を不安定化させることなく、該細線の配置間隔Ｉ設定の自由度を向上できることがわかる。
【符号の説明】
【０１７１】
１：基材
２：ライン状液体
２０：液滴
３：平行線パターン
３１、３２：細線
４：液滴吐出装置
４０：ノズル列
４１、４１ａ〜４１ｊ：ノズル
【図１】
2016140284.tif 000009
【図２】
2016140284.tif 000010
【図３】
2016140284.tif 000011
【図４】
2016140284.tif 000012
【図５】
2016140284.tif 000013
【図６】
2016140284.tif 000014
【図７】
2016140284.tif 000015
【図８】
2016140284.tif 000016
【図９】
2016140284.tif 000017
【図１０】
2016140284.tif 000018
【図１１】
2016140284.tif 000019
【図１２】
2016140284.tif 000020
【図１３】
2016140284.tif 000021
【図１４】
2016140284.tif 000022
【国際調査報告】
2016140284.tif 000023
2016140284.tif 000024
2016140284.tif 000025
2016140284.tif 000026