(57)【要約】  本発明の実施態様は、水蒸気透過率が２０ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下の複合フィルムと、前記複合フィルムの一方の表面に配置された銀層と、前記銀層上に設けられ、太陽光が入射するガラス基材と、前記銀層と前記ガラス基材との間に配置された第一接着剤層と、を有する太陽熱発電用反射板を提供する。
2016009755.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水蒸気透過率が２０ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下の複合フィルムと、
前記複合フィルムの一方の表面に配置された銀層と、
前記銀層上に設けられ、太陽光が入射するガラス基材と、
前記銀層と前記ガラス基材との間に配置された第一接着剤層と、を有する太陽熱発電用反射板。
【請求項２】
前記複合フィルムが、前記銀層に近い側から順に、樹脂基材と、樹脂基材上に形成された少なくとも一層の耐候性層を有する請求項１に記載の太陽熱発電用反射板。
【請求項３】
前記複合フィルムが、前記銀層に近い側から順に、ポリエステルフィルムと、シリコーン−アクリル複合樹脂を含む第一耐候性層と、フッ素樹脂を含む第二耐候性層と、を有する請求項１又は請求項２に記載の太陽熱発電用反射板。
【請求項４】
前記複合フィルムが、前記銀層に近い側から順に、ポリエステルフィルムと、第二接着剤層と、アルミニウム層と、を有する請求項１に記載の太陽熱発電用反射板。
【請求項５】
前記ポリエステルフィルムが、厚さ１５０μｍ以上５００μｍ以下の二軸延伸ポリエステルフィルムである請求項３又は請求項４に記載の太陽熱発電用反射板。
【請求項６】
前記複合フィルムが、前記銀層を有する側に、最表層として、銀腐食を防止する腐食防止剤を含有する第一隣接層を有し、前記銀層は第一隣接層の表面に配置されている請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の太陽熱発電用反射板。
【請求項７】
前記銀層と前記第一接着剤層との間に、更に、銀腐食を防止する腐食防止剤を含有する第二隣接層を有する請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載の太陽熱発電用反射板。
【請求項８】
前記ガラス基材の前記第一接着剤層側とは反対側の表面に、更に、表面被覆層を有する請求項１〜請求項７のいずれか１項に記載の太陽熱発電用反射板。
【請求項９】
前記銀層が、少なくとも、下記一般式Ａで表される銀化合物と、下記一般式Ｂで表されるアミン化合物と、水と、を含む溶液の塗布により形成された層である請求項１〜請求項８のいずれか１項に記載の太陽熱発電用反射板。
ＡｇｎＸ                        ・・・一般式Ａ
Ｒ１１−ＣＨＲ１２−ＣＨ２−ＮＨ２  ・・・一般式Ｂ
上記一般式Ａ中、Ｘは、酸素、硫黄、ハロゲン、シアノ、シアネート、カーボネート、ニトレート、ニトライト、サルフェート、ホスフェート、チオシアネート、クロレート、パークロレート、テトラフルオロボレート、アセテート、アセチルアセトネート、カルボキシレート、及びこれらの誘導体から選択される置換基を表し、ｎは、１〜４の整数を表す。
上記一般式Ｂ中、Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立に炭素数１〜１２の炭化水素基を表す。
【請求項１０】
前記銀化合物は、酸化銀、炭酸銀、硝酸銀、及び酢酸銀から選択される少なくとも１種である請求項９に記載の太陽熱発電用反射板。
【請求項１１】
前記溶液は、更に、水以外の極性溶媒を含む請求項９又は請求項１０に記載の太陽熱発電用反射板。
【請求項１２】
前記水以外の極性溶媒が、アルコール系溶媒又はアミン系溶媒である請求項１１に記載の太陽熱発電用反射板。
【請求項１３】
前記溶液は、前記一般式Ａで表される銀化合物の量、及び前記一般式Ａで表される銀化合物及び前記一般式Ｂで表されるアミン化合物とが反応して形成された銀錯体化合物を前記一般式Ａで表される銀化合物に換算した量との合計１モルに対して、前記一般式Ｂで表されるアミン化合物の量と前記銀錯体化合物を一般式Ｂで表されるアミン化合物に換算した量との合計量２モル以上３０モル以下と、水を３モル以上１００モル以下と、前記水以外の極性溶媒を３モル以上１００モル以下と、を含む請求項１１又は請求項１２に記載の太陽熱発電用反射板。
【請求項１４】
前記溶液は、更に、還元剤を含む請求項９〜請求項１３のいずれか１項に記載の太陽熱発電用反射板。
【請求項１５】
前記還元剤が、下記一般式Ｃで表される化合物である請求項１４に記載の太陽熱発電用反射板。
Ｒ−ＣＯＯＨ                  ・・・一般式Ｃ
上記一般式Ｃ中、Ｒは、水素原子、又は１つ以上のアルデヒド基を有する１価の官能基を表す。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、太陽熱発電用反射板に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、石油、石炭、天然ガス等に代表される化石燃料に代わる代替エネルギーの研究がさかんに行なわれている。特に、太陽光、風力、地熱等の自然エネルギーは、資源の枯渇、地球温暖化等の懸念がなく、クリーンなエネルギーとして注目されている。これらの中でも、太陽光エネルギーを利用する太陽熱発電は、電力の安定供給が可能であるので期待されている。【０００３】
その一方で、太陽光エネルギーはエネルギー密度が低いという問題がある。この問題を解決するため、近年では、太陽熱発電用反射板を用いて太陽光エネルギーを集めようという試みがなされている。
太陽熱発電の設備は、日射量の多い場所に設置されることが有利であるため、砂漠地帯等の降雨の少ない地域に設置される。そのため、太陽熱発電用反射板は、太陽光に起因する紫外線や熱のみならず、風雨、砂塵等に晒される過酷な環境下で使用されるため、過酷な環境下での使用に耐えうる、耐候性に優れる太陽熱発電用反射板が要求される。
更に、太陽熱発電用反射板の太陽光が入射する側の表面（以下、単に「太陽熱発電用反射板の表面」ともいう。）が汚染されて、太陽光を反射する能力（以下、「反射性能」ともいう。）が低下することがある。反射性能が低下した太陽熱発電用反射板の表面を、水等により洗浄すれば、太陽熱発電用反射板が本来有する反射能力に回復させることが可能である。上記洗浄は、自動洗浄装置等により行われることが多い。太陽熱発電用反射板の太陽光が入射する側の表面は、自動洗浄装置による洗浄によっても傷等が生じ難いという、耐傷性に優れることが要求される。【０００４】
特開２０１３−２３１７４４号公報には、厚さが１．０μｍ〜２００μｍの範囲内であるガラスフィルム上に、銀反射層を有する太陽熱発電用フィルムミラーが記載されている。
特開２０１２−２５１６９５号公報には、太陽光が入射する側から順に、高分子フィルム層、銀層等の金属反射層、及び金属反射層の腐食を防止する腐食防止剤を含有するポリマー層を有するフィルムミラーが記載されている。特開２０１２−２５１６９５号公報に記載されているフィルムミラーは、形状を維持するための基板に、接着剤層を介して貼り付けられて使用される。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特開２０１３−２３１７４４号公報に記載の太陽光反射ミラーには、自己支持性基材として、中空構造を有する樹脂材料層が使用されている。そのため、特開２０１３−２３１７４４号公報に記載の太陽光反射ミラーは、太陽熱発電用反射板に要求される耐候性、特に太陽熱発電用反射板の裏面からの劣化に対する耐久性が充分ではない。
特開２０１２−２５１６９５号公報に記載のフィルムミラーは、太陽光入射側に高分子フィルム層を有しているため、過酷な環境下での使用に耐え得る耐候性、及び洗浄等に耐え得るメンテナンス性が不十分である。【０００６】
本発明の実施態様は、上記事情に鑑みてなされたものであり、本発明の実施態様の課題は、耐候性、及び洗浄等に耐え得る耐傷性に優れる太陽熱発電用反射板を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を達成するための具体的な手段は、以下の実施態様が含まれる。
＜１＞  水蒸気透過率が２０ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下の複合フィルムと、複合フィルムの一方の表面に配置された銀層と、銀層上に設けられ、太陽光が入射するガラス基材と、銀層とガラス基材との間に配置された第一接着剤層と、を有する太陽熱発電用反射板。【０００８】
＜２＞  複合フィルムが、銀層に近い側から順に、樹脂基材と、樹脂基材上に形成された少なくとも一層の耐候性層を有する＜１＞に記載の太陽熱発電用反射板。
＜３＞  複合フィルムが、銀層に近い側から順に、ポリエステルフィルムと、シリコーン−アクリル複合樹脂を含む第一耐候性層と、フッ素樹脂を含む第二耐候性層と、を有する＜１＞又は＜２＞に記載の太陽熱発電用反射板。
＜４＞  複合フィルムが、銀層に近い側から順に、ポリエステルフィルムと、第二接着剤層と、アルミニウム層と、を有する＜１＞に記載の太陽熱発電用反射板。【０００９】
＜５＞  ポリエステルフィルムが、厚さ１５０μｍ以上５００μｍ以下の二軸延伸ポリエステルフィルムである＜３＞又は＜４＞に記載の太陽熱発電用反射板。
＜６＞  複合フィルムが、銀層を有する側に、最表層として、銀腐食を防止する腐食防止剤を含有する第一隣接層を有し、銀層は第一隣接層の表面に配置されている＜１＞〜＜５＞のいずれか１つに記載の太陽熱発電用反射板。
＜７＞  銀層と第一接着剤層との間に、更に、銀腐食を防止する腐食防止剤を含有する第二隣接層を有する＜１＞〜＜６＞のいずれか１つに記載の太陽熱発電用反射板。
＜８＞  ガラス基材の第一接着剤層側とは反対側の表面に、更に、表面被覆層を有する＜１＞〜＜７＞のいずれか１つに記載の太陽熱発電用反射板。【００１０】
＜９＞  銀層が、少なくとも、下記一般式Ａで表される銀化合物と、下記一般式Ｂで表されるアミン化合物と、水と、を含む溶液の塗布により形成された層である＜１＞〜＜８＞のいずれか１つに記載の太陽熱発電用反射板。
ＡｇｎＸ                        ・・・一般式Ａ
Ｒ１１−ＣＨＲ１２−ＣＨ２−ＮＨ２  ・・・一般式Ｂ
一般式Ａ中、Ｘは、酸素、硫黄、ハロゲン、シアノ、シアネート、カーボネート、ニトレート、ニトライト、サルフェート、ホスフェート、チオシアネート、クロレート、パークロレート、テトラフルオロボレート、アセテート、アセチルアセトネート、カルボキシレート、及びこれらの誘導体から選択される置換基を表す。ｎは、１〜４の整数を表す。
一般式Ｂ中、Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立に炭素数１〜１２の炭化水素基を表す。
＜１０＞  銀化合物は、酸化銀、炭酸銀、硝酸銀、及び酢酸銀から選択される少なくとも１種である＜９＞に記載の太陽熱発電用反射板。
＜１１＞  溶液は、更に、水以外の極性溶媒を含む＜９＞又は＜１０＞に記載の太陽熱発電用反射板。
＜１２＞  水以外の極性溶媒が、アルコール系溶媒又はアミン系溶媒である＜１１＞に記載の太陽熱発電用反射板。
＜１３＞  溶液は、一般式Ａで表される銀化合物の量、及び一般式Ａで表される銀化合物及び一般式Ｂで表されるアミン化合物とが反応して形成された銀錯体化合物を一般式Ａで表される銀化合物に換算した量との合計１モルに対して、一般式Ｂで表されるアミン化合物の量と銀錯体化合物を一般式Ｂで表されるアミン化合物に換算した量との合計量２モル以上３０モル以下と、水を３モル以上１００モル以下と、水以外の極性溶媒を３モル以上１００モル以下と、を含む＜１１＞又は＜１２＞に記載の太陽熱発電用反射板。
＜１４＞  溶液は、更に、還元剤を含む＜９＞〜＜１３＞のいずれか１つに記載の太陽熱発電用反射板。
＜１５＞  還元剤が、下記一般式Ｃで表される化合物である＜１４＞に記載の太陽熱発電用反射板。
Ｒ−ＣＯＯＨ                  ・・・一般式Ｃ
一般式Ｃ中、Ｒは、水素原子、又は１つ以上のアルデヒド基を有する１価の官能基を表す。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の実施態様によれば、耐候性、及び洗浄等に耐え得る耐傷性に優れる太陽熱発電用反射板が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の第１実施形態に係る太陽熱発電用反射板の断面図である。
【図２】本発明の第２実施形態に係る太陽熱発電用反射板の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明の実施態様について詳しく説明する。
本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
【００１４】
（太陽熱発電用反射板）
本発明の一実施態様に係る太陽熱発電用反射板は、水蒸気透過率が２０ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下の複合フィルムと、複合フィルムの一方の表面に配置された銀層と、銀層上に設けられ、太陽光が入射するガラス基材と、銀層とガラス基材との間に配置された第一接着剤層と、を有する。
本発明の一実施態様に係る太陽熱発電用反射板は、銀層の太陽光入射側の表面がガラス基材で覆われており、銀層の太陽光入射側とは反対側の表面が、水蒸気透過率が２０ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下の複合フィルムで覆われている。これにより、本発明の一実施態様に係る太陽熱発電用反射板は、太陽熱発電装置が設置される過酷な環境下においても、自動洗浄機等による洗浄に伴う傷の発生を抑える耐傷性が得られ、耐候性にも優れたものになる。
特開２０１３−２３１７４４号公報に記載されている太陽光反射ミラーにおいては、具体的な自己支持性基材として、中空構造を有する樹脂材料層が使用されており、軽量で柔軟性を有する太陽光反射ミラーが得られると記載されている。しかしながら、中空構造を有する樹脂材料層を含む自己支持性基材を用いた太陽光反射ミラーは、自己支持性基材側からの光の照射、水の浸入、砂等による影響で、太陽光反射ミラー本来の反射性能が劣化してしまう。
これに対して、本発明の一実施態様に係る太陽熱発電用反射板では、銀層における、太陽光入射側とは反対側の表面が、前述の水蒸気透過率が２０ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下の複合フィルムで覆われているため、太陽熱発電用反射板の裏面からの水の浸入等による影響に対して、優れた耐久性を有している。その結果として、耐候性に優れる太陽熱発電用反射板が得られる。
更に、本発明の一実施態様に係る太陽熱発電用反射板は、特開２０１２−２５１６９５号公報に記載のフィルムミラーとは相違して光入射側にガラス基材が配置されているため、自動洗浄機等による洗浄を行っても、表面に傷が生ずる恐れが低く、耐傷性に優れている。
【００１５】
＜複合フィルム＞
本発明の一実施態様に係る複合フィルムは、水蒸気透過率が２０ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下である。複合フィルムを備えることで、光の照射や砂等の影響が抑えられる。更に、複合フィルムの水蒸気透過率が２０ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることにより、太陽熱発電用反射板の裏面からの水の浸入等による影響が低減され、耐候性に優れる太陽熱発電用反射板が得られる。
複合フィルムの水蒸気透過率は、１８ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることが、一段と優れる耐久性を有する太陽熱発電用反射板が得られるので好ましく、１５ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることが、更に好ましい。具体的な水蒸気透過率としては、例えば、４ｇ／ｍ２・ｄａｙ、２ｇ／ｍ２・ｄａｙ、０．５ｇ／ｍ２・ｄａｙ、の値などが挙げられる。
上記水蒸気透過率は、ＪＩＳ  Ｋ７１２９（２００８年）の「プラスチック−フィルム及びシート−水蒸気透過度の求め方（機器測定法）」に準拠した方法によって測定した値である。
【００１６】
本発明の一実施態様に係る水蒸気透過率が２０ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下の複合フィルムは、樹脂基材と、樹脂基材上に形成された少なくとも一層の水蒸気バリア層として機能する耐候性層と、を有することが好ましい。
本発明の一実施態様において、特に好ましい複合フィルムには、
（１）ポリエステルフィルムと、シリコーン−アクリル複合樹脂を含む第一耐候性層と、フッ素樹脂を含む第二耐候性層と、を有する複合フィルムＡ、及び
（２）ポリエステルフィルムと、第二接着剤層と、アルミニウム層と、を有する複合フィルムＢ、
が含まれる。
上記複合フィルムＡにおいては、シリコーン−アクリル複合樹脂を含む第一耐候性層が水蒸気バリア層として機能し、フッ素樹脂を含む第二耐候性層によって、耐加水分解性、及び耐候性が付与されている。
複合フィルムＢにおいては、アルミニウム層が水蒸気バリア層として機能すると共に、耐加水分解性、及び耐候性も付与する機能を有している。
【００１７】
以下、上記複合フィルムＡ、又はＢを備える太陽熱発電用反射板について、適宜図面を参照しながら詳細に説明するが、本発明は、以下の実施形態に何ら限定されず、本発明の実施態様の目的の範囲内において、適宜変更を加えて実施することができる。図中、同一又は対応する機能を有する部材には同じ符号を付して適宜説明を省略する。各部の大きさや形状は、理解を容易にするために適宜誇張して示している。
【００１８】
−複合フィルムＡ−
図１は、複合フィルム２０として、上記複合フィルムＡを用いた本発明の第１実施態様に係る太陽熱発電用反射板の断面図である。
図１において、太陽熱発電用反射板は、複合フィルム２０と、複合フィルム２０の表面に配置された銀層１４と、接着剤層３２と、ガラス基材１２とを含む。
複合フィルム２０は、ポリエステルフィルム２２、シリコーン−アクリル複合樹脂を含む第一耐候性層２４、及びフッ素樹脂を含む第二耐候性層２６を有する複合フィルムＡである。
【００１９】
〈ポリエステルフィルム〉
ポリエステルフィルム２２としては、二軸延伸ポリエステルフィルムが好ましく、更に耐加水分解性二軸延伸ポリエステルフィルムがより好ましい。
耐加水分解性二軸延伸ポリエステルフィルムは、例えば特開２０１１−２０８１２５号公報に記載されているものが挙げられる。
【００２０】
複合フィルム２０に含まれるポリエステルフィルム２２の厚さは、１５０μｍ以上５００μｍ以下の範囲が、耐屈曲性に優れる太陽熱発電用反射板が得られるので好ましい。より好ましい厚みは、１５０μｍ以上３５０μｍ以下であり、更に好ましくは２００μｍ以上３００μｍ以下の範囲である。
【００２１】
ポリエステルフィルム２２の表面には、更に易接着層を有していてもよい。易接着層としては、水分散ラテックスをバインダー成分として含む組成物を用い、例えば塗布及び乾燥することにより形成されたものでもよい。そして、ポリエステルフィルム２２の易接着層の表面に、銀層１４を設けられていることが好ましい。易接着層の表面に銀層が接していることで、銀層の密着性をより向上させることができる。
易接着層の厚みは、密着性の点で、０．０５μｍ〜１０μｍが好ましい。
【００２２】
易接着層を有するポリエステルフィルムは市販されており、例えば、東洋紡社製のコスモシャイン（登録商標）Ａ−４１００（ポリエチレンテレフタレートフィルム）、コスモシャイン（登録商標）Ａ−４３００（ポリエチレンテレフタレートフィルム）などを挙げることができる。
【００２３】
〈第一耐候性層〉
第一耐候性層２４は、シリコーン−アクリル複合樹脂を含む。
［シリコーン−アクリル複合樹脂］
シリコーン−アクリル複合樹脂は、ポリマー鎖中に、シロキサン結合で構成される繰り返し単位（以下、「ポリシロキサン構造」ともいう。）と、アクリルモノマーを重合させて得られる繰り返し単位（以下、「アクリルポリマー構造」ともいう。）と、を含む樹脂である。ここで、上記「アクリルモノマー」には、メタクリルモノマーも含む。
上記シロキサン結合は、下記の一般式１で表されるものであることが好ましい。
−Ｓｉ（Ｒ１）（Ｒ２）−Ｏ−          ・・・一般式１
一般式１中、Ｒ１及びＲ２は、独立して、Ｓｉ原子と共有結合可能な１価の有機基を表す。
【００２４】
Ｒ１及びＲ２で表される「Ｓｉ原子と共有結合可能な１価の有機基」としては、例えば、置換又は無置換のアルキル基（例：メチル基、エチル基など）、置換又は無置換のアリール基（例：フェニル基など）、置換又は無置換のアラルキル基（例：ベンジル基、フェニルエチルなど）、置換又は無置換のアルコキシ基（例：メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基など）、置換又は無置換のアリールオキシ基（例：フェノキシ基など）、置換又は無置換のアミノ基（例：アミノ基、ジエチルアミノ基など）、メルカプト基、アミド基、水素原子、ハロゲン原子（例：塩素原子など）等が挙げられる。
Ｒ１及びＲ２は、独立して、無置換の又は置換された炭素数１〜４のアルキル基（特にメチル基、エチル基）、無置換の又は置換されたフェニル基、メルカプト基、無置換のアミノ基、アミド基であることが好ましい。
【００２５】
ポリシロキサン構造の具体例としては、ジメチルジメトキシシラン；ジメチルジメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシトリメトキシシランの混合物；ジメチルジメトキシシラン及びビニルトリメトキシシランの混合物；ジメチルジメトキシシラン及び２−ヒドロキシエチルトリメトキシシランの混合物；ジメチルジメトキシシラン及び３−グリシドキシプロピルトリエトキシシランの混合物；ジメチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン及びγ−メタクリロイルオキシトリメトキシシランの混合物等を加水分解及び縮合することによって得られる構造が挙げられる。
【００２６】
シリコーン−アクリル複合樹脂における、ポリシロキサン構造は、線状構造であってもよいし、分岐構造でもよい。さらにポリシロキサン構造の一部が環を形成してもよい。
シリコーン−アクリル複合樹脂における、上記シロキサン構造の含有比率は、シリコーン−アクリル複合樹脂の全質量に対して１５質量％以上８５質量％以下の範囲が好ましく、その中でも２０質量％以上８０質量％以下の範囲が特に好ましい。
ポリシロキサン構造の含有比率が１５質量％以上であることにより、優れた耐候性、特にポリエステルフィルム２２との接着力の低下が少ない、太陽熱発電用反射板が得られる。他方、ポリシロキサン構造の含有比率が８５質量％以下であることにより、太陽熱発電用反射板の製造が容易となる。
シリコーン−アクリル複合樹脂におけるポリシロキサン構造の分子量はポリスチレン換算重量平均分子量で３００００〜１００００００程度であるが、５００００〜３０００００程度がより好ましい。
【００２７】
シリコーン−アクリル複合樹脂は、ポリシロキサン構造と、アクリルモノマーを重合して得られる繰り返し単位であるアクリルポリマー構造とを含む。
アクリルモノマーとしては、アクリル酸のエステル（例：エチルアクリレート、ブチルアクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート等）、メタクリル酸のエステル（例：メチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレート等）、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸などの不飽和カルボン酸、アクリルアミド等が挙げられる。
アクリルポリマー構造は、上記アクリルモノマーの少なくとも１種を重合することによって得られることが好ましい。
二種以上のアクリルモノマーを重合させる場合のモノマーの組合せの具体例としては、メチルメタクリレート、エチルアクリレート及びアクリル酸の組合せ；メチルメタクリレート、エチルアクリレート、２−ビドロキシエチルメタアクリレート及びメタクリル酸の組合せ；メチルメタクリレート、ブチルアクリレート、２−ビドロキシエチルメタアクリレート、メタクリル酸及びγ−メタクリロイルオキシトリメトキシシランの組合せ；メチルメタクリレート、エチルアクリレート、グリシジルメタクリレート及びアクリル酸の組合せ等が挙げられる。
【００２８】
シリコーン−アクリル複合樹脂におけるアクリルポリマー構造の分子量は、ポリスチレン換算重量平均分子量で３０００以上１００００００以下の範囲が好ましく、特に５０００以上３０００００以下の範囲がより好ましい。
【００２９】
シリコーン−アクリル複合樹脂は、公知の合成方法を用いて合成することができる。
例えば、以下の合成方法１〜３が挙げられる。
合成方法１：  予めポリシロキサン構造を構成するポリマーと、アクリルポリマー構造を構成するポリマーとを別々に合成しておき、両者のポリマーを化学結合させる合成方法。
合成方法２：  ポリシロキサン構造を構成するポリマーを予め合成し、合成されたポリシロキサン構造を構成するポリマーに、アクリルポリマー構造を構成する繰り返し単位をグラフト重合させる合成方法。
合成方法３：  アクリルポリマー構造を構成するポリマーを予め重合しておき、合成されたアクリルポリマー構造を構成するポリマーに、ポリシロキサン構造を構成するポリマーをグラフト重合させる合成方法。
上記合成方法２及び３が、合成方法として容易であるので、好ましい。
【００３０】
上記合成方法２の具体例として、例えば、γ−メタクリロイルオキシトリメチルシラン等を加水分解及び縮合させて、ポリシロキサン構造を有するポリマーを合成する。合成されたポリシロキサン構造を有するポリマーのメタクリロイル基と、アクリルポリマー構造を構成するアクリルモノマーとをラジカル重合して、シリコーン−アクリル複合樹脂を合成する方法が挙げられる。
また、アクリルポリマー構造を構成するアクリルポリマーにポリシロキサンを共重合させる別の合成方法として、γ−メタクリロイルオキシトリメチルシランを含む上記アクリルポリマーの水分散物にアルコキシシラン化合物を加えて加水分解と縮重合を起こさせて、シリコーン−アクリル複合樹脂を合成する方法が挙げられる。
【００３１】
ポリシロキサン部分と共重合するアクリルポリマー構造は、乳化重合、塊状重合などの公知の重合方法を用いることができるが、合成のしやすさや水系のポリマー分散物が得られる点から乳化重合は特に好ましい。
また、グラフト重合に用いる重合開始剤には特に制限はなく、過硫酸カリ、過硫酸アンモニウム、アゾビスイソブチロニトリルなどの公知の重合開始剤を用いることができる。
【００３２】
シリコーン−アクリル複合樹脂は、水系のポリマー分散物（いわゆるラテックス）の形態で用いられるのが好ましい。シリコーン−アクリル複合樹脂のラテックスの好ましい平均粒径（直径）は、５０ｎｍ〜５００ｎｍであり、ラテックスの総質量に対する好ましい濃度は１５質量％〜５０質量％である。ラテックスの平均粒径は、市販の粒径測定装置により求められる。
【００３３】
シリコーン−アクリル複合樹脂は水系のポリマーをラテックスの形態とする場合、カルボキシル基、スルホン酸基、水酸基、アミド基などの水親和性の官能基を持つものであることが好ましい。シリコーン−アクリル複合樹脂がカルボキシル基を持つ場合、カルボキシル基はナトリウム、アンモニウム、アミンなどで中和されていてもよい。
また、ラテックスの形態で使用する場合、安定性を向上させるために界面活性剤（例：アニオン系やノニオン系界面活性剤）、ポリマー（例：ポリビニルアルコール)等の乳化安定剤を含有させてもよい。さらに、必要に応じてｐＨ調整剤(例：アンモニア、トリエチルアミン、炭酸水素ナトリウム等）、防腐剤（例：１、３、５−ヘキサヒドロ−（２−ヒドロキシエチル）−s−トリアジン、２−（４−チアゾリル）ベンズイミダゾール等）、増粘剤（例：ポリアクリル酸ナトリウム、メチルセルロース等）、造膜助剤（例：ブチルカルビトールアセテート等）等のラテックスの添加剤として公知の化合物を添加してもよい。
【００３４】
シリコーン−アクリル複合樹脂は市販されているものもある。市販品の具体例としては例えば、セラネート（登録商標）ＷＳＡ１０６０、１０７０（以上ＤＩＣ（株）製）、ポリデュレックス（登録商標）Ｈ７６２０、Ｈ７６３０、Ｈ７６５０（以上、旭化成ケミカルズ（株）製）等がある。
【００３５】
第一耐候性層２４に含まれるシリコーン−アクリル複合樹脂は、架橋剤によって架橋させておくことが、耐候性に優れる太陽熱発電用反射板が得られるので好ましい。
［架橋剤］
架橋剤としては、エポキシ系、イソシアネート系、メラミン系、カルボジイミド系、オキサゾリン系等の架橋剤を挙げることができる。ポリエステルフィルム２２との湿熱経時後の密着性を確保する観点から、カルボジイミド系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、イソシアネート系架橋剤、及びエポキシ系架橋剤から選ばれる架橋剤が好ましく、特にオキサゾリン系架橋剤（オキサゾリン基をもつ化合物）が好ましい。
【００３６】
オキサゾリン系架橋剤としては、分子中に２個以上のオキサゾリン基を有するものであり低分子化合物であっても重合体であってもよいが、重合体の方が、接着性が良好であるため好ましい。
オキサゾリン系架橋剤の具体例としては、低分子化合物のオキサゾリン系架橋剤としては、例えば、２−ビニル−２−オキサゾリン、２−ビニル−４−メチル−２−オキサゾリン、２−ビニル−５−メチル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−４−メチル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−５−エチル−２−オキサゾリン、２，２’−ビス（２−オキサゾリン）、２，２’−メチレン−ビス（２−オキサゾリン）、２，２’−エチレン−ビス（２−オキサゾリン）、２，２’−トリメチレン−ビス（２−オキサゾリン）、２，２’−テトラメチレン−ビス（２−オキサゾリン）、２、２’−ヘキサメチレン−ビス（２−オキサゾリン）、２，２’−オクタメチレン−ビス（２−オキサゾリン）、２，２’−エチレンビス（４，４’−ジメチル−２−オキサゾリン）、２，２’−ｐ−フェニレン−ビス（２−オキサゾリン）、２，２’−ｍ−フェニレン−ビス（２−オキサゾリン）、２，２’−ｍ−フェニレン−ビス（４，４’−ジメチル−２−オキサゾリン）、２，２′（１，３−フェニレン）−ビス（２−オキサゾリン）、ビス（２−オキサゾリニルシクロヘキサン）スルフィド、ビス（２−オキサゾリニルノルボルナン）スルフィド等がある。さらに、これらの化合物の（共）重合体も好ましく利用することができる。
これらは単独でも２種類以上を併用してもよい。
【００３７】
重合体のオキサゾリン系架橋剤は、付加重合性オキサゾリンを付加重合させることにより形成される繰り返し単位を含む。重合体のオキサゾリン系架橋剤は、付加重合性オキサゾリンと、付加重合性オキサゾリンと共重合可能な単量体とを重合させた共重合体も含まれる。
付加重合性オキサゾリンとしては、２−ビニル−２−オキサゾリン、２−ビニル−４メチル−２−オキサゾリン、２−ビニル−５−メチル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−４−メチル−２−オキサゾリン、２イソプロペニル−５−メチル−２−オキサゾリン及び２−イソプロペニル−５−エチル−２−オキサゾリンなどが好ましく挙げられ、これらは単独でも２種類以上を併用して使用してもよい。これらの中でも、２−イソプロペニル−２−オキサゾリンが入手の容易さや接着性を良好にするために好ましい。これら付加重合性オキサゾリンの使用量は、特に限定されないが、モノマー成分中５質量％以上とすることが好ましく、５質量％〜９０質量％がより好ましく、１０質量％〜６０質量％がさらに好ましく、３０質量％〜６０質量％が特に好ましい。
付加重合性オキサゾリンと共重合可能な単量体としては、オキサゾリン基と反応しないものから選ぶことが好ましく、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸−２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸メトキシポリエチレングリコール、（メタ）アクリル酸ラウリル、（メタ）アクリル酸ステアリル、（メタ）アクリル酸−２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸−２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸とポリエチレングリコールとのモノエステル化物、（メタ）アクリル酸−２−アミノエチル及びその塩、（メタ）アクリル酸のカプロラクトン変性物、（メタ）アクリル酸−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン及び（メタ）アクリル酸−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン等の（メタ）アクリル酸エステル；（メタ）アクリル酸ナトリウム、（メタ）アクリル酸カリウム及び（メタ）アクリル酸アンモニウム等の（メタ）アクリル酸塩；アクリロニトリル及びメタクリロニトリル等の不飽和ニトリル；（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド及びＮ−（２−ヒドロキシエチル）（メタ）アクリルアミド等の不飽和アミド；酢酸ビニル及びプロピオン酸ビニル等のビニルエステル；メチルビニルエーテル及びエチルビニルエーテル等のビニルエーテル；エチレン及びプロピレン等のα−オレフィン；塩化ビニル、塩化ビニリデン及びフッ化ビニル等のハロゲンを含有したα，β−不飽和脂肪族炭化水素；スチレン、α−メチルスチレン及びスチレンスルホン酸ナトリウム等のα，β−不飽和芳香族炭化水素などが挙げられ、これらは単独でも２種類以上を併用して使用してもよい。
オキサゾリン系架橋剤、すなわち、オキサゾリン基をもつ化合物が（メタ）アクリル酸エステルを重合させることにより形成される繰り返し単位を含む共重合体であることが好ましい。
【００３８】
オキサゾリン系架橋剤は、水溶性又は水分散性であることが、酸変性ポリオレフィン樹脂の水性分散体との混合安定性が優れる点から好ましく、水溶性であることがより好ましい。ここで「水溶性」とは、水に一定濃度以上（具体的には、少なくとも５０質量％）溶解できることをいう。
重合体のオキサゾリン系架橋剤を調製するための重合方法は特に限定されず、公知の方法を採用することができる。例えば水性媒体中で溶液重合、乳化重合、懸濁重合又は塊状重合させる方法などが挙げられ、これらの方法などで水溶液又は水分散体などを得ることができる。重合体のオキサゾリン系架橋剤は、接着性や耐候性を良好にするために、例えば乳化剤、保護コロイド作用を有する化合物、変性ワックス類、高酸価の酸変性化合物のような不揮発性水性化助剤を実質的に含有していないことが好ましい。
【００３９】
重合体のオキサゾリン系架橋剤の分子量は、数平均分子量で１０００〜８００００であることが好ましく、３０００〜６００００がより好ましく、５０００〜４００００がさらに好ましく、８０００〜３００００が特に好ましく、１００００〜２００００が最も好ましい。数平均分子量が１０００未満の場合は、接着性や耐候性が低下する傾向にあり、８００００を超えた場合は、重合体の製造が困難となる。
【００４０】
また、オキサゾリン系架橋剤は、市販品を用いてもよく、例えば、水性分散体タイプのエポクロス（登録商標）「Ｋ−１０１０Ｅ」、「Ｋ−１０２０Ｅ」、「Ｋ−１０３０Ｅ」、Ｋ２０１０Ｅ、Ｋ２０２０Ｅ、Ｋ２０３０Ｅ、水溶液タイプのＷＳ５００、ＷＳ７００〔いずれも（株）日本触媒製エポクロス（登録商標）シリーズ〕等を用いることができる。
【００４１】
第一耐候性層２４を形成するための組成物の総質量に対する架橋剤の含有量は、１０質量％〜７５質量％であることが好ましく、１５質量％〜６０質量％であることがより好ましく、２０質量％〜５０質量％の範囲であることが特に好ましい。架橋剤含有量が１０質量％以上であることで、充分な架橋効果が得られ、ポリマー層の強度低下や接着不良を抑制することができる。一方、７５質量％以下であることで、上記の組成物のポットライフ低下を防止することができる。
【００４２】
［架橋剤の触媒］
架橋剤による架橋反応を促進させるため、架橋剤と共に、架橋剤の触媒の少なくとも一種を含有させることが好ましい。架橋剤の触媒を併用することで、シリコーン−アクリル複合樹脂との架橋反応が促進され、耐候性が向上し、ポリエステルフィルム２２との密着性も向上する。
特に、架橋剤としてオキサゾリン系架橋剤を含む場合、架橋剤の触媒をさらに含有することが好ましい。
【００４３】
架橋剤の触媒としては、オニウム化合物を挙げることができる。
オニウム化合物としては、アンモニウム塩、スルホニウム塩、オキソニウム塩、ヨードニウム塩、ホスホニウム塩、ニトロニウム塩、ニトロソニウム塩、ジアゾニウム塩等が好適に挙げられる。
【００４４】
アンモニウム塩の具体例としては、リン酸一アンモニウム、リン酸二アンモニウム、塩化アンモニウム、硫酸アンモニウム、硝酸アンモニウム、ｐ−トルエンスルホン酸アンモニウム、スルファミン酸アンモニウム、イミドジスルホン酸アンモニウム、塩化テトラブチルアンモニウム、塩化ベンジルトリメチルアンモニウム、塩化トリエチルベンジルアンモニウム、四フッ化ホウ素テトラブチルアンモニウム、六フッ化燐テトラブチルアンモニウム、過塩素酸テトラブチルアンモニウム、硫酸テトラブチルアンモニウム等が挙げられる。
スルホニウム塩の具体例としては、ヨウ化トリメチルスルホニウム、四フッ化ホウ素トリメチルスルホニウム、四フッ化ホウ素ジフェニルメチルスルホニウム、四フッ化ホウ素ベンジルテトラメチレンスルホニウム、六フッ化アンチモン２−ブテニルテトラメチレンスルホニウム、六フッ化アンチモン３−メチル−２−ブテニルテトラメチレンスルホニウム等が挙げられる。
オキソニウム塩の具体例としては、四フッ化ホウ素トリメチルオキソニウム等のオキソニウム塩等が挙げられる。
ヨードニウム塩の具体例としては、塩化ジフェニルヨードニウム、四フッ化ホウ素ジフェニルヨードニウム等が挙げられる。
ホスホニウム塩の具体例としては、六フッ化アンチモンシアノメチルトリブチルホスホニウム、四フッ化ホウ素エトキシカルボニルメチルトリブチルホスホニウム等が挙げられる。
ニトロニウム塩の具体例としては、四フッ化ホウ素ニトロニウム等が挙げられる。
ニトロソニウム塩の具体例としては、四フッ化ホウ素ニトロソニウム等が挙げられる。
ジアゾニウム塩の具体例としては、塩化４−メトキシベンゼンジアゾニウム等が挙げられる。
【００４５】
上記のオニウム化合物のうち、硬化時間の短縮の点で、アンモニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、ホスホニウム塩がより好ましく、これらの中ではアンモニウム塩が更に好ましく、安全性、ｐＨ、及びコストの観点からは、リン酸系、塩化ベンジル系のものが好ましい。オニウム化合物が第二リン酸アンモニウムであることがより特に好ましい。
【００４６】
架橋剤の触媒は、１種のみであってもよいし、２種以上を併用してもよい。
架橋剤の触媒の含有量は、架橋剤の質量に対して、０．１質量％以上１５質量％以下の範囲が好ましく、０．５質量％以上１２質量％以下の範囲がより好ましく、１質量％以上１０質量％以下の範囲が特に好ましく、２質量％以上７質量％以下がより特に好ましい。架橋剤に対する、架橋剤の触媒の含有量が０．１質量％以上であることは、架橋剤の触媒を積極的に含有していることを意味し、架橋剤の触媒の含有によりポリマーと架橋剤の間の架橋反応がより良好に進行し、より優れた耐溶剤性が得られる。また、架橋剤の触媒の含有量が１５質量％以下であることで、溶解性、ろ過性、密着の点で有利である。
【００４７】
第一耐候性層２４の厚さは、０．５μｍ以上１５μｍ以下であることが好ましく、３μｍ〜１０μｍであることがより好ましい。厚さを０．５μｍ以上とすることで、耐候性、及び耐屈曲性に優れる太陽熱発電用反射板が得られる。
【００４８】
〈第二耐候性層〉
第二耐候性層２６は、フッ素樹脂を含む。
［フッ素樹脂］
第二耐候性層２６に含まれるフッ素樹脂としては、下記一般式２で表される繰り返し単位を有するポリマーが好ましい。
−（ＣＦＸ１−ＣＸ２Ｘ３）−          ・・・一般式２
一般式２中、Ｘ１、Ｘ２、及びＸ３は、各々独立に、水素原子、フッ素原子、塩素原子又は炭素数１から３のパーフルオロアルキル基を示す。
フッ素樹脂の具体例としては、ポリテトラフルオロエチレン（以降、ＰＴＦＥと表す場合がある）、ポリフッ化ビニル（以降、ＰＶＦと表す場合がある）、ポリフッ化ビニリデン（以降、ＰＶＤＦと表す場合がある）、ポリ塩化３フッ化エチレン（以降、ＰＣＴＦＥと表す場合がある）、ポリテトラフルオロプロピレン（以降、ＨＦＰと表す場合がある）などがある。
【００４９】
フッ素樹脂は、単独のモノマーを重合したホモポリマーでもよいし、２種類以上を共重合したコポリマーでもよい。コポリマーの具体例として、テトラフルオロエチレンとテトラフルオロプロピレンを共重合したコポリマー（Ｐ（ＴＦＥ／ＨＦＰ）と略記）、テトラフルオロエチレンとフッ化ビニリデンを共重合したコポリマー（Ｐ（ＴＦＥ／ＶＤＦ）と略記）等を挙げることができる。
更に、フッ素樹脂としては、上記一般式２で表される繰り返し単位で構成されるフッ素系構造単位と、それ以外の繰り返し単位で構成される構造単位とを含むポリマーでもよい。具体的には、テトラフルオロエチレンとエチレンの共重合体（以下、Ｐ（ＴＦＥ／Ｅ）と略記）、テトラフルオロエチレンとプロピレンの共重合体（Ｐ（ＴＦＥ／Ｐ）と略記）、テトラフルオロエチレンとビニルエーテルの共重合体（Ｐ（ＴＦＥ／ＶＥ）と略記）、テトラフルオロエチレンとパーフロロビニルエーテルの共重合体（Ｐ（ＴＦＥ／ＦＶＥ）と略記）、クロロトリフルオロエチレンとビニルエーテルの共重合体（Ｐ（ＣＴＦＥ／ＶＥ）と略記）、クロロトリフルオロエチレンとパーフロロビニルエーテルの共重合体（Ｐ（ＣＴＦＥ／ＦＶＥ）と略記）等が挙げられる。
中でも、第二耐候性層２６に含まれるフッ素樹脂は、製造上の容易性、及び耐候性に優れるという観点から、クロロトリフルオロエチレンを重合して形成される繰り返し単位を含むフッ素樹脂が特に好ましい。
【００５０】
第二耐候性層２６に含まれるフッ素樹脂は、有機溶剤に溶解して用いるものでも、水に微粒子状に分散された水分散物として用いるものでもよい。環境負荷が小さい点から後者が好ましい。フッ素樹脂の水分散物については例えば特開２００３−２３１７２２号公報、特開２００２−２０４０９号公報、特開平９−１９４５３８号公報等に記載されている。
フッ素樹脂として、市販品を使用することもできる。例えば、オブリガート（登録商標）ＳＷ００１１Ｆ〔ＡＧＣコーテック（株）製〕、ルミフロン（登録商標）ＬＦ２００（旭硝子（株）製）、ゼッフル（登録商標）ＧＫ５７０（ダイキン工業（株）製、ＳＩＦＣＬＥＡＲ  Ｆ１０１、Ｆ１０２(ＪＳＲ（株）製)）等が挙げられる。
【００５１】
第二耐候性層２６は、既述のフッ素樹脂を含む。第二耐候性層２６は１種類のフッ素樹脂を単独で含んでいてもよいし、２種類以上併用してもよい。第二耐候性層２６には、フッ素樹脂の質量に対して５０質量％を超えない範囲でアクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリオレフィン樹脂、シリコーン樹脂などのフッ素樹脂以外の樹脂を含んでいてもよい。
第二耐候性層２６は、フッ素樹脂を架橋剤によって架橋させておくことが、耐候性に優れる太陽熱発電用反射板が得られるので好ましい。架橋剤によって架橋させる場合には、架橋剤の触媒を併用することが好ましい。第二耐候性層２６に使用される架橋剤、及び架橋剤の触媒は、第一耐候性層に使用される架橋剤、及び架橋剤の触媒を使用することができる。更に、第二耐候性層２６に使用される架橋剤、及び架橋剤の触媒の量についても、第一耐候性層の場合と同様である。
【００５２】
第二耐候性層２６には、滑剤を含有させておくことが好ましい。
［滑剤］
第二耐候性層２６は、フッ素樹脂を含むために生じやすい滑り性の低下（すなわち動摩擦係数の上昇）を抑えるため、滑剤を含有させておくことが好ましい。
好ましい滑剤としては、環球軟化点が１２０℃以上２００℃以下であるオレフィン系滑剤（高軟化点オレフィン系滑剤）が好ましい。ここで、環球軟化点とは、ＪＩＳ Ｋ２２０７に準拠した環球法で測定した値であり、具体的には、（株）メイテック製、環球式自動軟化点試験器ＡＳＰ−ＭＧ２によって測定される値である。
【００５３】
第二耐候性層２６が最外層である場合、引っ掻き、擦過、小石などの衝突等の外力で生じる傷付きやすさが飛躍的に緩和される。また、フッ素樹脂を用いた場合に生じやすい塗布層にピンホール状の欠陥が発生ことを防止することができ、面状が良好な第二耐候性層２６を形成することができる。
【００５４】
高軟化点オレフィン系滑剤は、エチレンユニット及びプロピレンユニットの少なくとも一方を含むことが好ましい。環球軟化点が１２０℃以上２００℃以下のポリエチレンワックス、ポリプロピレンワックス等のポリオレフィン系ワックスが挙げられる。
【００５５】
また、高軟化点オレフィン系滑剤は、オレフィン樹脂として、酸変性オレフィン樹脂を含むことが好ましい。酸変性オレフィン樹脂を含む高軟化点オレフィン系滑剤としては、例えば、三井化学（株）製ケミパール（登録商標）シリーズ（例えば、ケミパール（登録商標）Ｗ３００、Ｗ７００、Ｗ９００、ＷＰ１００等）、ハイワックス（登録商標）シリーズ（例えばハイワックス（登録商標）ＮＰ５０６０５Ａ、ＮＰ０５５５Ａ）などが挙げられる。
【００５６】
高軟化点オレフィン系滑剤の大きさは、耐傷性の観点から、メジアン径が２μｍ以下であることが好ましく、１μｍ以下であることがより好ましい。なお、高軟化点オレフィン系滑剤のメジアン径はレーザー解析／散乱式粒子径分布測定装置ＭＴ３３００ＥＸ２〔日機装（株）製〕により測定される値である。
【００５７】
第二耐候性層２６に含まれる高軟化点オレフィン系滑剤の環球軟化点は、乾燥工程における溶融を防ぐ観点から、１３０℃以上であることが好ましい。
【００５８】
高軟化点オレフィン系滑剤に含まれるオレフィン樹脂の数平均分子量（Ｍｎ）は耐傷性の観点から、３０００以上１００００以下であることが好ましく、３０００以上８０００以下であることがより好ましい。高軟化点オレフィン系滑剤に含まれるオレフィン樹脂の数平均分子量（Ｍｎ）はゲル浸透クロマトグラフィーにより測定したポリスチレン換算の数平均分子量であり、島津製作所（株）製分子量分布測定システムなどによって測定される値である。
【００５９】
高軟化点オレフィン系滑剤は市販品を使用してもよい。三井化学（株）製のケミパール（登録商標）シリーズ（例えば、ケミパール（登録商標）Ｗ３００、Ｗ７００、Ｗ９００、ＷＰ１００等）、ハイワックス（登録商標）シリーズ（例えばハイワックス（登録商標）ＮＰ５０６０５Ａ、ＮＰ０５５５Ａ）、中京油脂（株）製のポリロンＰ−５０２、ハイドリンＬ−５３６（全て商品名）などが挙げられる。
【００６０】
第二耐候性層２６中の高軟化点オレフィン系滑剤の含有量は、フッ素樹脂１００質量部に対し、高軟化点オレフィン系滑剤を４質量部以上３０質量部以下含有することが好ましく、６質量部以上１５質量部以下含むことがより好ましい。フッ素樹脂１００質量部に対し、高軟化点オレフィン系滑剤を４質量部以上含めば滑剤を含有することによる動摩擦係数の低減効果が確実に得られ、３０質量部以下であればポリマー層を塗布形成する際に、塗布ムラや凝集物が発生したり、ピンホール状にポリマー層が形成されていない部分が発生したりすることが少なくなる。
【００６１】
第二耐候性層２６に含まれる成分の総質量に対するフッ素樹脂の含有量は、耐候性と膜強度の観点から、４０質量％以上９０質量％以下であることが好ましく、５０質量％以上８０質量％以下であることがより好ましい。
【００６２】
第二耐候性層２６の厚さは、耐候性と膜強度の観点から０．１μｍ以上５μｍ以下の範囲であることが好ましく、更に、０．５μｍ以上３μｍ以下がより好ましく、０．８μｍ以上３μｍ以下であることがより更に好ましい。
【００６３】
［無機粒子］
第一耐候性層２４、及び第二耐候性層２６の少なくとも一方には、無機粒子を含有させておいてもよい。第一耐候性層２４に無機粒子含有させる態様がより好ましい。
無機粒子としては、光反射性を有する酸化チタン、硫酸バリウム、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、コロイタルシリカ等の無機粒子、カーボンブラック、チタンブラック、及び黒色の複合金属酸化物等が挙げられる。
ここで、黒色の複合金属酸化物としては、鉄、マンガン、コバルト、クロム、銅、ニッケルのうち少なくとも１種を含む複合金属酸化物が好ましく、コバルト、クロム、鉄、マンガン及び銅、ニッケルのうち２種以上を含むことがより好ましく、カラーインデックスがＰＢｋ２６、ＰＢｋ２７及びＰＢｋ２８、ＰＢｒ３４から選ばれる少なくとも１つ以上の顔料がより特に好ましい。
なお、ＰＢｋ２６の顔料は、鉄、マンガン、銅の複合酸化物であり、ＰＢｋ−２７の顔料は鉄、コバルト、クロムの複合酸化物であり、ＰＢｋ−２８は銅、クロム、マンガンの複合酸化物であり、ＰＢｒ３４はニッケル、鉄の複合酸化物である。
【００６４】
無機粒子の体積平均粒径としては０．０３μｍ〜０．９μｍが好ましく、より好ましくは０．２μｍ〜０．７μｍである。無機粒子の体積平均粒径を上記の範囲とすることで、光の反射効率低下を抑制することができる。
無機粒子の体積平均粒径は、日機装（株）製、マイクロトラックＭＴ３３００ＥＸ２により測定される値（溶媒：水、粒子形状：非球形、粒子屈折率：２．７、超音波処理：無）である。
【００６５】
第一耐候性層２４に、太陽光を反射する性能に優れる光反射性を有する無機粒子を含有する太陽熱発電用反射板は、太陽光エネルギーを効率よく利用することができるので好ましい。太陽熱発電の設備においては、多数枚の太陽熱発電用反射板を地面に並べて設置される。太陽に対して、前後に設置された二枚の太陽熱発電用反射板に着目した場合、太陽に対して後に設置された太陽熱発電用反射板で反射された太陽光が、前に設置された太陽熱発電用反射板の第一耐候性層２４により再度反射される。第一耐候性層２４により再度反射された太陽光は、背後に設置された太陽熱発電用反射板の鏡面で再度反射されて、集熱装置に集められるため、太陽光エネルギーの利用効率が向上するためである。
【００６６】
光反射性を有する無機粒子の具体例は、既述のとおりである。中でも酸化チタンが好ましい。
酸化チタンの結晶系にはルチル型、アナターゼ型、ブルカイト型があるが、ルチル型が好ましい。酸化チタンは必要に応じて酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、二酸化珪素（ＳｉＯ２）、アルカノールアミン化合物、ケイ素化合物などで表面処理をしてもよい。
特に、嵩比重が０．５０ｇ／ｃｍ３以上０．８５ｇ／ｃｍ３以下である酸化チタンを用いることで酸化チタンが密に詰まり、第一耐候性層２４が強靭になる。一方、嵩比重が０．８５ｇ／ｃｍ３を超える酸化チタンを用いると、酸化チタンの分散性が悪化して塗布層の面状が悪くなる。嵩比重を０．５０ｇ／ｃｍ３以上０．８５ｇ／ｃｍ３以下にすることで、酸化チタンが密に詰まり、塗膜が強靭になることで、酸化チタンの質量割合を高く設定しても密着性を高く維持できる。第一耐候性層２４に用いる酸化チタンの嵩比重としては、特に、０．６０ｇ／ｃｍ３以上０．８０ｇ／ｃｍ３以下が好ましい。
【００６７】
本明細書中における嵩比重は、下記の方法によって測定される値である。
（１）顔料を目開き１．０ｍｍのふるいを通す。
（２）上記の顔料について、約１００ｇの顔料を秤量し（ｍ）、２５０ｍＬメスシリンダーに静かに入れる。必要に応じて、顔料層の上面を圧密せずに注意深くならし、体積（Ｖ）を測定する。
（３）下記の式に従って、嵩比重を求める。
嵩比重＝ｍ／Ｖ  （単位：ｇ／ｃｍ３）
【００６８】
第一耐候性層２４に光反射性の無機粒子を含む太陽熱発電用反射板は、銀層１４に対して複合フィルム２０側から入射させて測定した写像性が、以下の条件１及び条件２を満たすことが、太陽光エネルギーの利用効率に優れるので好ましい。
条件１：入射角４５度、及び光学くし幅２ｍｍの場合の写像性が１５％以上である。
条件２：入射角６０度、及び光学くし幅２ｍｍの場合の写像性が２０％以上である。
ここで、「写像性」とは、光透過部分と光不透過部分の幅（くし幅）が等しい光学くしを通過した光における最大光量をＭ、最小光量をｍとした場合、両者の和（Ｍ＋ｍ）に対する両者の差（Ｍ−ｍ）の比率を百分率で表した値である。
【００６９】
第一耐候性層２４、及び第二耐候性層２６には、その他の成分として、界面活性剤、コロイダルシリカのようなマット剤、密着性を向上させるシランカップリング剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤等を含有させてもよい。
【００７０】
−複合フィルムＢ−
図２は、複合フィルム２０として、前述の複合フィルムＢを用いた本発明の第２実施態様に係る太陽熱発電用反射板の断面図である。
図２において、複合フィルム２０として、複合フィルムＢを有する点を除いて、本発明の第１実施態様に係る太陽熱発電用反射板と同じ構成を有する。即ち、図２において、複合フィルム２０は、ポリエステルフィルム２２と、第二接着剤層３４と、アルミニウム層２８を有する複合フィルムＢである。
【００７１】
複合フィルムＢにおけるポリエステルフィルム２２としては、既述の複合フィルムＡのポリエステルフィルムと同じものが使用でき、二軸延伸ポリエステルフィルムが好ましく、耐加水分解性二軸延伸ポリエステルフィルムが更に好ましい。
【００７２】
複合フィルムＢにおける第二接着剤層３４は、ポリエステルフィルム２２とアルミニウム層２８とを接合する機能を有し、架橋剤とバインダー樹脂とを含む組成物であることが好ましい。
架橋剤としては、ジビニルベンゼン等が挙げられる。
バインダー樹脂としては、接着性の観点から、ポリオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、及びポリウレタン樹脂が好ましい。
【００７３】
ポリオレフィン樹脂としては、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、エチレン−プロピレン共重合樹脂のほか、ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等のジエンモノマーの少なくとも１種を重合させて得られる樹脂、上記ジエンモノマーとスチレンなどの共重合可能なコモノマーとを共重合させて得られる樹脂などのポリエン構造を含む樹脂が挙げられる。
【００７４】
〈アルミニウム層〉
複合フィルムＢにおけるアルミニウム層２８としては、アルミニウムを蒸着又はスパッタリングにより真空製膜したアルミニウム薄膜、及びアルミニウム箔が含まれる。
アルミニウムを真空製膜したアルミニウム薄膜の厚さは、１０ｎｍ以上３００ｎｍ以下であることが、水蒸気透過率の低い複合フィルムが得られるので好ましい。
アルミニウム箔の厚さは、１μｍ以上３０μｍ以下であることが、水蒸気透過率の低い複合フィルムが得られるので好ましい。
【００７５】
複合フィルム２０は、その他に、厚さが１００μｍ以上５００μｍ以下のポリエステルフィルム上に、接着剤層を介して、耐加水分解性ポリエステルフィルムで構成された、例えば厚さが５０μｍの耐候性層を貼り合わせたものであってもよい。
【００７６】
以下、図１及び図２に示す太陽熱発電用反射板の好ましい態様について、説明する。
−第一隣接層−
複合フィルム２０は、銀層１４を有する側に、最表層として、塗布により形成された第一隣接層（図示せず）を有していてもよい。第一隣接層を設けることで、基材と特定銀層との間の密着性がより向上する。
更に、第一隣接層に、銀腐食を防止する腐食防止剤を含有させておくことが、耐候性により優れる太陽熱発電用反射板が得られるので好ましい。
【００７７】
（銀腐食を防止する腐食防止剤）
銀腐食を防止する腐食防止剤は、銀層の変色を防止する機能を有し、例えばチオエーテル化合物、チオール化合物、Ｎｉ有機化合物、ベンゾトリアゾール化合物、イミダゾール化合物、オキサゾール化合物、テトラザインデン化合物、ピリミジン化合物、チアジアゾール化合物等が挙げられる。
第一隣接層に上記の腐食防止剤を含有させる場合の含有量は、第一隣接層の総質量に対して、０．００１質量％以上２０質量％以下の範囲が、銀層の腐食を防止する効果に優れるので好ましい。
【００７８】
第一隣接層は、複合フィルムが既述の複合フィルムＡ又は複合フィルムＢで構成される場合、例えば、ポリエステルフィルム２２の下塗層として設けられてもよい。第一隣接層は、単層構成であっても２層以上の複数層であってもよい。第一隣接層が２層以上の複数層である場合には、銀腐食を防止する腐食防止剤は、銀層１４に近い最表層に含有させることが好ましい。
【００７９】
第一隣接層は、層内での架橋を進めるため、重合性二重結合を有する化合物（例えば、アクリレート化合物、メタクリレート化合物）を用いて形成してもよい。特に、多官能の化合物を用いることが好ましい。また、重合性二重結合を有する化合物の例として、熱硬化性樹脂又は熱可塑性樹脂も挙げられ、具体的な例として、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、フッ素樹脂等に対し、その一部をメタクリル酸やアクリル酸等を用いて（メタ）アクリル化させた樹脂を用いてもよい。
【００８０】
第一隣接層には、必要に応じて、接着性付与剤、シランカップリング剤、酸化防止剤、界面活性剤、紫外線吸収剤等の各種添加剤を１種又は２種以上添加してもよい。
【００８１】
第一隣接層の厚みは、一般に０．０５μｍ〜１０μｍの範囲が好ましく、密着性の点で、０．１μｍ〜５μｍの範囲がより好ましい。
【００８２】
＜銀層＞
銀層１４は、複合フィルム２０の表面に配置される。
銀層１４は、太陽光を反射する機能を有し、銀、又は銀を含む合金で構成されている銀層であることが好ましい。
銀合金としては、銀層の耐久性が向上する点において、銀と、金、パラジウム、スズ、ガリウム、インジウム、銅、チタン、及びビスマスからなる群の金属から選ばれる１種以上の金属とからなる合金が好ましい。銀合金としては、銀と金との合金が、耐湿熱性、反射率等の観点から特に好ましい。
【００８３】
銀層１４における銀の含有量は、銀層１４に含まれる金属（１００原子％）中、９０原子％〜９９．８原子％であることが好ましい。また、他の金属の含有量は、耐久性の点から０．２原子％〜１０原子％であることが好ましい。銀量の含有量は、銀量計により求められる。
【００８４】
銀層１４の厚みは、高い反射率が得られ、かつ耐久性に優れるという点から、０．５ｇ／ｍ２以上２．０ｇ／ｍ２以下の範囲が好ましく、特に０．７ｇ／ｍ２以上１．２ｇ／ｍ２以下の範囲が更に好ましい。
【００８５】
銀層の太陽光入射側の表面粗さ（Ｒａ）は、２０ｎｍ以下であることが好ましく、１０ｎｍ以下であることがより好ましく、５ｎｍ以下であることが更に好ましい。銀層の表面粗さ（Ｒａ）を、上記範囲内とすると、太陽熱発電用反射板としての反射率が向上するので、太陽光を効率良く集光することが可能となる。ここで、表面粗さ（Ｒａ)は、ＪＩＳ  Ｂ０６０１（１９９４）に準拠して求められる算術平均粗さである。
【００８６】
〔銀層の形成方法〕
銀層１４は、湿式法又は乾式法のいずれの方法でも形成することができる。湿式法としては、例えば、電気めっき法、無電解めっき法、銀錯体塗布焼成法等が挙げられる。乾式法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等が挙げられる。
【００８７】
銀層１４は、下記一般式Ａで表される銀化合物と、下記一般式Ｂで表されるアミン化合物と、水と、を含む溶液（以下、「特定銀層形成用塗布液」ともいう。）の塗布により形成された銀層（以下、「特定銀層」ともいう。）であることが、製造上の負担が少なく、かつ太陽熱発電用反射板としての反射性能に優れるので、好ましい。
ＡｇｎＸ  ・・・一般式Ａ
一般式Ａにおいて、Ｘは、酸素、硫黄、ハロゲン、シアノ、シアネート、カーボネート、ニトレート、ニトライト、サルフェート、ホスフェート、チオシアネート、クロレート、パークロレート、テトラフルオロボレート、アセテート、アセチルアセトネート、カルボキシレート、及びこれらの誘導体から選択される置換基を表す。
ｎは、１〜４の整数を表す。
Ｒ１１−ＣＨＲ１２−ＣＨ２−ＮＨ２  ・・・一般式Ｂ
一般式Ｂにおいて、Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立に、炭素数１〜１２の炭化水素基を表す。
特定銀層は、特定銀層形成用塗布液を含む溶液を塗布し、乾燥及び加熱することで還元されて形成され、光反射率に優れる太陽光反射層として機能する。以下、詳しく説明する。
【００８８】
特定銀層形成用塗布液は、上記一般式Ａで表される銀化合物（以下、「銀化合物」ともいう。）と、上記一般式Ｂで表されるアミン化合物（以下、「特定アミン化合物」ともいう。）と、水と、必要に応じて銀還元剤や各種添加剤などと、を混合して調製される。特定銀層形成用塗布液においては、銀化合物の少なくとも一部と、特定アミン化合物の少なくとも一部とが反応して形成された銀錯体化合物を含有している。
【００８９】
（銀化合物）
特定銀層形成用塗布液は、下記一般式Ａで表される銀化合物の少なくとも一種を含有する。銀化合物は、上記のとおり、銀錯体化合物として含まれていてもよい。
ＡｇｎＸ  ・・・一般式Ａ
一般式Ａにおいて、Ｘは、酸素、硫黄、ハロゲン、シアノ、シアネート、カーボネート、ニトレート、ニトライト、サルフェート、ホスフェート、チオシアネート、クロレート、パークロレート、テトラフルオロボレート、アセテート、アセチルアセトネート、カルボキシレート、及びこれらの誘導体から選択される置換基を表す。ｎは、１〜４の整数を表す。
【００９０】
一般式Ａで表される銀化合物の具体例としては、酸化銀、チオシアネート化銀、硫化銀、塩化銀、シアン化銀、シアネート化銀、炭酸銀、硝酸銀、亜硝酸銀、硫酸銀、燐酸銀、過塩素酸銀、四フッ素ボレート化銀、アセチルアセトネート化銀、酢酸銀、乳酸銀、シュウ酸銀及びその誘導体などが挙げられる。但し、これらに限定されるものではない。
中でも、反射率がより優れたものとなる点で、酸化銀、炭酸銀、硝酸銀、及び酢酸銀が好ましく、更には炭酸銀、酸化銀が好ましい。
【００９１】
特定銀層形成用塗布液中における一般式Ａで表される銀化合物換算量の濃度としては、溶液の全質量に対して、３質量％〜５０質量％が好ましく、５質量％〜３０質量％がより好ましい。ここで、銀化合物換算量の含有量とは、特定銀層形成用塗布液中に含まれる一般式Ａで表される銀化合物そのものの含有量と、一般式Ａで表される銀化合物と、銀化合物及び特定アミン化合物が反応して形成された銀錯体化合物の含有量を銀化合物に換算した量との合計を意味する。一般式Ａで表される銀化合物換算量が３質量％以上であると、優れた光反射率を有する特定銀層が得られる。また、一般式Ａで表される銀化合物換算量の含有量が５０質量％以下であると、割れの少ない特定銀層が得られるので有利である。
【００９２】
（特定アミン化合物）
特定銀層形成用塗布液は、下記一般式Ｂで表されるアミン化合物（特定アミン化合物）の少なくとも一種を含有する。特定アミン化合物は、β位が分岐した一級アミン化合物である。アミン化合物は、前述のとおり、特定アミン化合物は、銀化合物と反応して形成された銀錯体化合物として含まれていてもよい。
Ｒ１１−ＣＨＲ１２−ＣＨ２−ＮＨ２  ・・・一般式Ｂ
一般式Ｂにおいて、Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立に、炭素数１〜１２の炭化水素基を表す。
【００９３】
Ｒ１１及びＲ１２で表される炭素数１〜１２の炭化水素基としては、無置換アルキル基、置換アルキル基のいずれでもよい。
無置換アルキル基としては、炭素数１〜８のアルキル基が好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられる。
置換アルキル基の置換基としては、アリール基（例：フェニル基、ナフチル基）、アルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基等、好ましくは炭素数１〜４）、ハロゲン原子（例：塩素原子、臭素原子等）、シアノ基、アミノ基、ヘテロ環基（例：ピロリジン環、ピロール環、イミダゾール環等の含窒素ヘテロ環基や、フラン環、テトラヒドロフラン環等の含酸素ヘテロ環基などの環状基）などが挙げられる。
置換アルキル基の例としては、アリールアルキル基（アルキル部位の炭素数１〜４）、シアノアルキル基（アルキル部位の炭素数１〜４）、ハロゲン化アルキル基（アルキル部位の炭素数１〜４）、シクロオレフィン結合アルキルが好適である。
上記のうち、Ｒ１及びＲ２の少なくとも一方は、エチル基であることが好ましい。この点の理由については必ずしも明確でなく推測であるが、エチル基の２つの炭素原子とアミノ基の窒素原子及び水素原子とが６員環を形成することで、ＨＯＭＯ（最高被占軌道、Ｈｉｇｈｅｓｔ  Ｏｃｃｕｐｉｅｄ  Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ  Ｏｒｂｉｔａｌ）が窒素原子からエチル基まで広がるために錯体形成が安定化されると考えられる。
更には、Ｒ１１が、ブチル基であり、Ｒ１２がエチル基である場合がより好ましい。
【００９４】
特定アミン化合物の例としては、下記の化合物が挙げられる。
中でも、イソブチルアミン、２−エチルブチルアミン、２−エチルヘキシルアミンが好ましく、２−エチルブチルアミン、２−エチルヘキシルアミンがより好ましい。
【００９５】
【化１】
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【００９６】
特定アミン化合物の分子量としては、７０〜４００の範囲が好ましく、８０〜３００の範囲がより好ましく、９０〜２００の範囲が特に好ましい。分子量が７０以上であると、塗布時の濡れ性の点で有利であり、分子量が４００以下であると、極性溶媒への溶解性の点で有利である。
【００９７】
特定銀層形成用塗布液中における一般式Ｂで表されるアミン化合物換算量の濃度としては、特定銀層形成用塗布液中に含まれる銀化合物換算量１モルに対して、２モル〜３０モルが好ましく、３モル〜２５モルがより好ましく、３モル〜２０モルが更に好ましい。ここで、アミン化合物換算量とは、特定銀層形成用塗布液中に含まれる一般式Ｂで表されるアミン化合物そのものの含有量と、一般式Ｂで表されるアミン化合物と、銀化合物とが反応して形成された銀錯体化合物の含有量を特定アミン化合物に換算した量との合計を意味する。一般式Ｂで表されるアミン化合物換算量が銀化合物換算量１モルに対して２モル以上であると、銀化合物の溶解がより良好になる。また、一般式Ｂで表されるアミン化合物の換算量が銀化合物換算量１モルに対して３０モル以下であると、優れた光反射率を有する特定銀層が得られる。
【００９８】
（水）
特定銀層形成用塗布液は、水を含有する。水を含むので、溶液は水性塗布液として用いられる。
特定銀層形成用塗布液中における水の含有量としては、特定銀層形成用塗布液中の銀化合物換算量１モルに対して、３モル〜１００モルが好ましく、５モル〜５０モルがより好ましく、５モル〜３０モルが更に好ましい。水の含有量が上記３モル以上であると、銀化合物の溶解がより良好になる。また、水の含有量が１００モル以下であると、優れた光反射率を有する特定銀層が得られる。
【００９９】
（水以外の溶媒）
特定銀層形成用塗布液は、水の他に、極性溶媒を含有していることが好ましい。
水以外の極性溶媒としては、例えば特開２０１２−１８１３０１号公報の段落番号［００４０］に記載の極性溶媒を本発明の効果を損なわない範囲で用いることができる。極性溶媒は銀化合物などに応じて適宜選択することができる。
【０１００】
水以外の極性溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコール、グリセリン、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのアルコール系溶媒、例えば、蟻酸、酢酸などの酸、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶媒、例えば、ホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミド系溶媒、例えば、アセトニトリル、プロピオニトリルなどのニトリル系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチルなどのエステル系溶媒、例えば、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネートなどのカーボネート系溶媒、アンモニア、例えば、プ口ピルアミン、イソプロピルアミン、ブチルアミン、モノエタノールアミン、２−メチルアミノエタノール、ジエタノールアミン、ブトキシプロピルアミン、ジエチルメチルアミン、２−ジメチルアミノエタノール、メチルジエタノールアミンなどのアミン系溶媒、チオール系溶媒、スルホキシド系溶媒、ハロゲン系溶媒などが挙げられる。
中でも、アルコール系溶媒、アミド系溶媒、ケトン系溶媒、ニトリル系溶媒、スルホキシド系溶媒、アミン系溶媒が好ましく、アルコール系溶媒、アミン系溶媒がより好ましい。
具体的には、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、１−メトキシ−２−プロパノール、アセトン、ジメチルアセトアミド、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、アセトニトリル、プロピオニトリル、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、アンモニア、プロピルアミン、イソプロピルアミン、ブチルアミン、モノエタノールアミン、２−メチルアミノエタノール、ジエタノールアミン、ブトキシプロピルアミン、ジエチルメチルアミン、２−ジメチルアミノエタノール、メチルジエタノールアミンがより好ましい。更には、メタノール、エタノール、イソプロパノール、１−メトキシ−２−プロパノール、アセトン、ジメチルアセトアミド、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトニトリル、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、アンモニア、イソプロピルアミン、ブチルアミン、モノエタノールアミンが好ましく、メタノール、エタノール、イソプロパノール、１−メトキシ−２−プロパノール、アセトン、メチルエチルケトン、イソプロピルアミンがさらに好ましい。
【０１０１】
銀化合物として炭酸銀、硝酸銀、酢酸銀を用いる場合、水以外の極性溶媒としては、アルコール系溶媒（好ましくはメタノール、エタノール、イソプロパノール、１−メトキシ−２−プロパノール）、酸（好ましくは蟻酸、酢酸）、又はこれらの混合溶媒が好ましい。
銀化合物として酸化銀を用いる場合、水以外の極性溶媒としては、アミン系溶媒（好ましくはイソプロピルアミン、ブチルアミン、モノエタノールアミン）が好ましい。
【０１０２】
特定銀層形成用塗布液中における、水以外の極性溶媒の含有量としては、溶液中の銀化合物換算量１モルに対して、３モル〜１００モルが好ましく、５モル〜６０モルがより好ましく、１０モル〜４０モルが更に好ましい。水以外の極性溶媒の含有量が、上記３モル以上（特に１０モル以上）であると、銀化合物が特定銀層形成用塗布液に溶解する溶解速度が向上し、優れた光反射率を有する特定銀層が得られる。水以外の極性溶媒の含有量が、上記１００モル以下であると、液安定性の点で有利である。
【０１０３】
（還元剤）
特定銀層形成用塗布液は、銀化合物及び銀錯体化合物を金属銀に還元するための還元剤を含有することが好ましい。還元剤を含有することで、上記の還元反応が促進され、光反射率の高い特定銀層の形成がより容易となる。
還元剤としては、ヒドラジン、アセティックヒドラジド、クエン酸三ナトリウム、メチルジエタノールアミン、ジメチルアミンボラン等のアミン化合物、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド等のアルデヒド化合物、グルコース、アスコルビン酸、サリチル酸、タンニン酸、ピロガロール、ヒドロキノンなどの有機化合物、ナトリウム、水酸化ホウ素カリウム、塩化第一鉄、硫酸鉄等の金属塩、ヨウ化水素、一酸化炭素などの無機化合物が挙げられる。
【０１０４】
還元剤としては、下記一般式Ｃで表される化合物が好ましい。
特定銀層形成用塗布液に含まれる銀化合物及び銀錯体化合物は、特定銀層と隣接する層との界面に還元されずに存在する場合がある。
しかし、一般式Ｃで表される化合物は、蟻酸であるか、あるいは分子中にカルボキシル基とアルデヒド基との両方を有していることで、上記特定銀層の界面に存在する銀化合物及び銀錯体化合物による悪影響（例えば、特定銀層の光反射率の低下）を効果的に抑えることが可能となる。
Ｒ−ＣＯＯＨ  ・・・一般式Ｃ
【０１０５】
一般式Ｃ中、Ｒは、水素原子、又は１つ以上のアルデヒド基を有する１価の官能基を表す。Ｒで表される「１つ以上のアルデヒド基を有する１価の官能基」としては、例えば、アルデヒド基、１つ以上のアルデヒド基を有する炭素数１〜２０のアルキル基、１つ以上のアルデヒド基を有する炭素数５〜２０のアリール基、１つ以上のアルデヒド基を有するアミノ基、１つ以上のアルデヒド基を有する炭素数５〜２０のヘテロ環基等が挙げられる。好ましくは、アルデヒド基、１つ以上のアルデヒド基を有するメチル基、１つ以上のアルデヒド基を有するエチル基、１つ以上のアルデヒド基を有するベンゼン環、等である。
【０１０６】
一般式Ｃで表される化合物の例としては、蟻酸、２−メチル−３−オキソプロパン酸、３−オキソプロパン酸、フタルアルデヒド酸、イソフタルアルデヒド酸、テレフタルアルデヒド酸等が挙げられる。中でも、光反射率がより優れたものとなる点で、蟻酸が好ましい。
なお、一般式Ｃで表される化合物は、一種単独で用いるほか、二種以上を併用してもよい。
【０１０７】
特定銀層形成用塗布液中における一般式Ｃで表される化合物の含有量は、下記の範囲が好ましい。
特定銀層形成用塗布液が一般式Ｃで表される化合物を含有する場合、溶液中における一般式Ｃで表される化合物の含有量としては、特定銀層形成用塗布液の全質量に対して、０．０１質量％〜２０質量％が好ましく、０．１質量％〜１０質量％がより好ましい。一般式Ｃで表される化合物の含有量が０．０１質量％以上であると、還元性を示し、光反射率の向上効果が高い。一般式Ｃで表される化合物の含有量が２０質量％以下であると、特定銀層形成用塗布液の保存時の液安定性の点で有利である。
【０１０８】
特定銀層形成用塗布液は、既述の銀化合物、特定アミン化合物、及び水のほか、必要に応じて、安定剤、レベリング剤、薄膜補助剤、熱分解反応促進剤等の添加剤を含んでもよい。
上記の添加剤の詳細については、特開２０１２−１８１３０１号公報の段落番号［００３７］〜［００４０］の記載を参照することができる。
【０１０９】
銀層１４は、ポリエステルフィルム２２の表面に配置されるが、ポリエステルフィルム２２の表面に、銀層１４とポリエステルフィルム２２との密着性を向上させる下塗層、及び既述の第一隣接層の少なくとも一層を形成することが好ましい。
【０１１０】
ポリエステルフィルム２２の表面は、下塗層、又は第一隣接層を形成しやすくするために、あらかじめ表面処理を施してもよい。
表面処理としては、ＵＶ照射、オゾン処理、プラズマ処理、コロナ処理、火炎処理などの表面を分解活性化させる処理、ヒドラジン、Ｎ−メチルピロリドン、水酸化ナトリウム溶液、水酸化カリウム溶液のようなアルカリ性溶液での処理、硫酸、塩酸、硝酸のような酸性溶液での処理などが挙げられる。また、ポリエステルフィルム２２の表面の汚れを落として清浄にする処理としては、メタノール、エタノール、トルエン、酢酸エチル、アセトン等の有機溶剤による処理、付着したゴミを落とすための水洗等が挙げられる。これらの表面処理は複数種を組み合わせて行ってもよい。
【０１１１】
−下塗層−
下塗層は、隣接するポリエステルフィルム２２との密着性の観点から、ポリエステルフィルム２２を構成する樹脂と同じ樹脂、あるいはポリエステルフィルム２２を構成する樹脂と親和性を有する樹脂を含むことが好ましい。
下塗層に含まれる樹脂は、例えば、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂が挙げられ、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂はそれぞれを単独で用いてもよいし、混合して用いてもよい。
熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ビスマレイミド樹脂、メラミン樹脂、イソシアネート系樹脂等が挙げられる。熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリオレフィン樹脂、フェノキシ樹脂、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリフェニレンスルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニルエーテル、ポリエーテルイミド等が挙げられる。
上記下塗層、及び既述の第一隣接層の少なくとも一方を有する場合には、下塗層又は第一隣接層に、既述の一般式Ｃで表される化合物を含めておくと、特定銀層の光反射率をより向上させることができるので好ましい。
【０１１２】
＜特定銀層の形成方法＞
複合フィルムの表面に特定銀層を形成する方法は、既述の特定銀層形成用塗布液を複合フィルムの表面に塗布する塗布工程、複合フィルムの表面に塗布された溶液を乾燥する乾燥工程、及び加熱する加熱工程を含むことが好ましい。
塗布工程に使用される特定銀層形成用塗布液の詳細は、既述のとおりである。
特定銀層形成用塗布液を複合フィルムの表面に塗布する塗布量は、特定銀層の厚さに応じて決定される。
【０１１３】
塗布は、グラビアコーター、リバースコーター、ダイコーター、ブレードコーター、ロールコーター、エアナイフコーター、スクリーンコーター、バーコーター、カーテンコーター等の従来公知の塗布装置を用いた塗布法により行うことができる。
【０１１４】
特定銀層の形成方法の一実施態様においては、上記塗布工程と、乾燥工程と、加熱工程とが連続して行なわれる。
乾燥工程と加熱工程は、一つの工程（以下、「乾燥加熱工程」ともいう。）として行うことが可能である。乾燥工程と加熱工程との両工程、又は加熱乾燥工程により、上記銀化合物の還元反応が進行し、銀層が形成される。
加熱方法は、加熱が行える方法ならばいずれの方法でもよく、例えば、温風や熱風を膜に吹きつけて加熱させる方法、輻射熱を膜にあてて膜温度を上昇させて加熱させる方法、基材を加熱して膜を加熱させる方法、又は上記の方法を組み合わせた方法、等を適宜選択して行うことができる。
【０１１５】
また、銀錯体化合物を含む溶液の塗布、乾燥により形成された特定銀層は、後述の第２隣接層形成工程が終了した後に、加熱処理が施されてもよい。
乾燥条件は、特に制限はなく、溶剤が乾燥すればいずれの条件でもよい。
加熱処理の条件は、８０℃〜１２０℃の温度域で１５分間以上２時間以下、又は１２１℃〜１５０℃の温度域で５分間以上１時間以下、又は１５１℃〜２００℃の温度域で１分間以上３０分間以下が好ましく、１６５℃〜２００℃の温度域で１分３０秒間以上１５分間以下がさらに好ましい。
【０１１６】
＜第二隣接層＞
本発明に含まれる実施態様の太陽熱発電用反射板においては、銀層と、後述する第一接着剤層との間に、銀腐食を防止する腐食防止剤を含有する第二隣接層を有していてもよい。
第二隣接層は、銀腐食を防止する腐食防止剤とバインダー樹脂とを含むことが好ましい。
バインダー樹脂としては、例えば、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂が挙げられ、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂は単独で用いてもよいし、混合して用いてもよい。
熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ビスマレイミド樹脂、メラミン樹脂、イソシアネート系樹脂等が挙げられる。熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリオレフィン樹脂、フェノキシ樹脂、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリフェニレンスルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニルエーテル、ポリエーテルイミド等が挙げられる。
【０１１７】
（銀腐食を防止する腐食防止剤）
銀腐食を防止する腐食防止剤は、銀層の変色を防止する機能を有し、例えばチオエーテル化合物、チオール化合物、Ｎｉ有機化合物、ベンゾトリアゾール化合物、イミダゾール化合物、オキサゾール化合物、テトラザインデン化合物、ピリミジン化合物、チアジアゾール化合物等が挙げられる。第二隣接層に含まれる銀腐食を防止する腐食防止剤の含有量は、第二隣接層の総質量に対して、０．００１質量％以上２０質量％以下が好ましい。
【０１１８】
本発明に含まれる実施態様の太陽熱発電用反射板は、図１及び図２に示されるように、複合フィルム上に形成された銀層１４と、ガラス基材１２とを第一接着剤層３２を介して積層した構成を有する。
【０１１９】
＜ガラス基材＞
ガラス基材１２は、太陽熱発電の設備が設置される場所における気象条件下における耐久性を保持するという点から、厚さが０．９ｍｍ以上５．０ｍｍ以下の範囲のものが好ましい。ガラス基材１２として、市販のガラス板を使用してもよい。特にソーラーガラス用として市販されているものが好ましい。例えば、ピルキントン社（Ｐｉｌｋｉｎｇｔｏｎ  Ｇｒｏｕｐ  Ｌｉｍｉｔｅｄ）から販売されている「オプティホワイト」（Ｏｐｔｉｗｈｉｔｅ、登録商標）、及び「マイクロホワイト」（Ｍｉｃｒｏｗｈｉｔｅ、登録商標）が好ましいものとして挙げられる。ガラス基材１２の厚さは、耐屈曲性に優れるという点で０．９ｍｍ以上４．５ｍｍ以下の範囲が更に好ましく、特に０．９ｍｍ以上４．０ｍｍ以下の範囲がより更に好ましい。
【０１２０】
＜第一接着剤層＞
第一接着剤層３２は、公知の接着剤組成物を用いて形成すればよく、例えば、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ニトリルゴム等から選ばれた樹脂を含む接着剤組成物が挙げられる。耐候性、及び接着性の観点から、アクリル樹脂又はウレタン樹脂を含む接着剤組成物が特に好ましい。
アクリル樹脂を含む接着剤組成物は、特に、耐候性に優れている。また、ウレタン樹脂を含む接着剤組成物は、ポリイソシアネートとポリオールとを２液に分割し、使用時にこれらの２液を混合する２液混合型の接着剤組成物が、強固な接着強度を得ることが可能となるので好ましい。
本発明の実施態様の太陽熱発電用反射板を製造するに際して、第一接着剤層３２は、ガラス基材１２の表面にも設けてもよいし、複合フィルム２０の表面に配置された銀層１４の複合フィルム２０を有する側とは反対側の表面に設けてもよいし、上記の両者であってもよい。
【０１２１】
接着剤層３２の膜厚は、接着性、形成容易性等の観点から、１μｍ〜２０μｍの範囲であることが好ましく、３μｍ〜１８μｍの範囲であることがより好ましく、特に５μｍ〜１５μｍの範囲であることがより更に好ましい。
【０１２２】
＜所望により形成されるその他の層＞
本発明の実施態様の太陽熱発電用反射板は、ガラス基材１２の銀層１４が設けられた側とは反対側の表面に、表面被覆層（図示せず）を形成してもよい。
更に、複合フィルム２０におけるポリエステルフィルム２２と第一耐候性層２４の間に、接着剤層（図示せず）を設けてもよい。
表面被覆層としては、例えば、フッ素樹脂、シロキサンポリマー等の撥水性樹脂を含む撥水性層、光照射によりラジカルを発生する光触媒活性を有する酸化チタンを含む超親水性層等が挙げられる。
【０１２３】
（保持部材）
本発明の実施態様の太陽熱発電用反射板は、タワー型太陽熱発電設備、パラボリックトラフ型太陽熱発電設備、リニアフレネル型太陽熱発電設備及びディッシュ型太陽熱発電設備のいずれの設備の太陽熱発電用反射板にも使用することかできる。特に高い反射率が求められるタワー型太陽熱発電設備に使用される太陽熱発電用反射板として有用である。また、厚みの薄い太陽熱発電用反射板を曲げて用いるリニアフレネル型太陽熱発電設備用に使用される太陽熱発電用反射板として有用である。
太陽熱発電用反射板は、太陽光が集熱部材に反射されるように、太陽を追尾可能な保持部材に保持される。保持部材としては、特に制限はなく、太陽熱発電用反射板が所望の形状を維持しつつ保持できるように、太陽熱発電用反射板の複数個所を棒状の保持部材により支持する形態が好ましい。
本発明の実施態様の太陽熱発電用反射板は、耐候性に優れると共に、耐屈曲性にも優れる。そのため、太陽光の反射面である銀層の曲がり具合を、太陽の位置に応じて変化させる保持部材、例えば国際特許公開第２０１１／０８６８２５号に記載されているような保持部材に、本発明の実施態様の太陽熱発電用反射板を保持させることも可能である。
【実施例】
【０１２４】
以下、本発明の実施態様を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。【０１２５】
［実施例１］
＜複合フィルムの調製＞
〈複合フィルム用基材の作製〉
−ポリエステルの合成−
高純度テレフタル酸（三井化学（株）製）１００ｋｇと、エチレングリコール（日本触媒（株）製）４５ｋｇのスラリーを、予めビス（ヒドロキシエチル）テレフタレート約１２３ｋｇが仕込まれ、温度２５０℃、圧力１．２×１０５Ｐａに保持されたエステル化反応槽に、４時間かけて順次供給し、供給終了後も更に１時間かけてエステル化反応を行なった。その後、得られたエステル化反応生成物１２３ｋｇを重縮合反応槽に移送した。
引き続いて、エステル化反応生成物が移送された重縮合反応槽に、エチレングリコールを、得られるポリマーに対して０．３質量％添加した。５分間撹拌した後、酢酸コバルト及び酢酸マンガンのエチレングリコール溶液を、得られるポリマーに対してそれぞれ３０ｐｐｍ及び１５ｐｐｍとなるように加えた。更に５分間撹拌した後、チタンアルコキシド化合物の２質量％エチレングリコール溶液を、得られるポリマーに対して５ｐｐｍとなるように添加した。その５分後、ジエチルホスホノ酢酸エチルの１０質量％エチレングリコール溶液を、得られるポリマーに対して５ｐｐｍとなるように添加した。その後、低重合体を３０ｒｐｍで攪拌しながら、反応系を２５０℃から２８５℃まで徐々に昇温するとともに、圧力を４０Ｐａまで下げた。最終温度、最終圧力到達までの時間はともに６０分とした。所定の攪拌トルクとなった時点で反応系を窒素パージし、常圧に戻し、重縮合反応を停止した。そして、冷水にストランド状に吐出し、直ちにカッティングしてポリマーのペレット（直径約３ｍｍ、長さ約７ｍｍ）を作製した。なお、減圧開始から所定の撹拌トルク到達までの時間は３時間であった。
なお、上記チタンアルコキシド化合物は、特開２００５−３４０６１６号公報の段落００８３の実施例１で合成しているチタンアルコキシド化合物（Ｔｉ含有量＝４．４４質量％）を用いた。【０１２６】
−固相重合−
上記で得られたペレットを、４０Ｐａに保たれた真空容器中、２２０℃の温度で３０時間保持して、固相重合を行った。
−ベース形成−
以上のように固相重合を経た後のペレットを、２８０℃で溶融して金属ドラムの上にキャストし、厚さ３ｍｍの未延伸ベースを作製した。その後、９０℃で縦方向（以下、「ＭＤ」ともいう。）に３．４倍に延伸し、次いで、下記の下塗層形成用塗布液をポリエチレンテレフタレート支持体の一方の面に、塗布量が５．１ｍｌ／ｍ２となるように、ＭＤ延伸後、ＭＤに直交する方向（以下、「ＴＤ」ともいう。）に延伸する前に、インラインコート法にて塗布を行い、厚み０．１μｍの下塗層を形成した。なお、ＴＤ延伸温度は、１０５℃で、ＴＤ方向に４．５倍に延伸し、膜面２００℃で１５秒間の熱処理を行い、１９０℃でＭＤ緩和率５％、ＴＤ緩和率１１％で、ＭＤ及びＴＤに熱緩和を行い、厚み２５０μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（以下、「ＰＥＴ基材フィルム１」と称する。）を得た。【０１２７】
−下塗層形成用塗布液の調製−
下記の各成分を混合し、下塗層形成用塗布液を調製した。
〈下塗層形成用塗布液の組成〉
・  ポリオレフィン樹脂水性分散体（アローベース（登録商標）ＳＥ−１０１３Ｎ、ユニチカ（株）製、固形分濃度２０質量％）・・・  １２０質量部
・  オキサゾリン系架橋剤（エポクロス（登録商標）ＷＳ−７００、日本触媒（株）製、固形分濃度２５質量％）・・・  ３９質量部
・  アクリル樹脂水分散液（ＡＳ−５６３Ａ、ダイセルファインケム（株）製、固形分濃度２８質量％のラテックス）・・・  ８７質量部
・  フッ素系界面活性剤（ナトリウム−ビス（３、３、４、４、５、５、６、６−ノナフルオロ）−２−スルホナイトオキシスクシナート、三協化学（株）製、濃度１質量％）・・・  ０．９質量部
・  蒸留水・・・  ７５３質量部【０１２８】
−白色無機微粒子分散物の調製−
下記組成中の成分を混合し、その混合物をダイノミル型分散機により分散処理し、体積平均粒径０．５５μｍの白色無機微粒子分散物を得た。
〈白色無機微粒子分散物の組成〉
・  酸化チタン（タイペーク（登録商標）ＣＲ−９５、石原産業（株）製、固形分濃度１００質量％；白色顔料）・・・  １０００質量部
・  ポリビニルアルコール（ＰＶＡ−１０５、（株）クラレ製、固形分濃度１００質量％）の１０質量％水溶液・・・  ５００質量部
・  界面活性剤（デモール（登録商標）ＥＰ、花王（株）製、固形分濃度２５質量％）・・・  １２質量部
・  蒸留水・・・６３１  質量部
・  防腐剤（ＡＦ３３７、大東化学（株）製、固形分濃度３．５質量％）・・・  ６．５質量部【０１２９】
〈耐候性層の形成〉
−第一耐候性層形成用塗布液の調製−
下記第一耐候性層形成用塗布液の組成に示す各成分を混合し、第一耐候性層形成用塗布液を調製した。
〈第一耐候性層形成用塗布液の組成〉
・  シリコーン−アクリル複合樹脂（セラネート（登録商標）ＷＳＡ−１０７０、ＤＩＣ（株）社製、固形分濃度４０質量％）・・・  １８８質量部
・  オキサゾリン系架橋剤（エポクロス（登録商標）ＷＳ−７００、日本触媒（株）製、固形分濃度２５質量％）・・・  ５８質量部
・  フッ素系界面活性剤（ナトリウム−ビス（３、３、４、４、５、５、６、６−ノナフルオロ）−２−スルホナイトオキシスクシナート、三協化学（株）製、濃度１質量％）・・・  ９．４質量部
・  上記白色無機微粒子分散物・・・  ２５４質量部
・  第２リン酸アンモニウム（食添用第２リン酸アンモニウム、日本化学工業（株）製、濃度３５質量％水溶液）・・・  ６．２質量部
−第一耐候性層の形成−
上記下塗層を有するＰＥＴ基材フィルム１を搬送速度８０ｍ／分で搬送しつつ、下塗層が形成された面とは反対面に、７３０Ｊ／ｍ２の条件でコロナ放電処理を行った。引き続いて、コロナ放電処理を行った表面に、上記第一耐候性層形成用塗布液を、酸化チタンの量が塗布質量で１０．５ｇ／ｍ２になるように塗布し、１７０℃で２分間乾燥させて、乾燥厚み８μｍの第一耐候性層を形成した。【０１３０】
−第二耐候性層形成用塗布液の調製−
下記第二耐候性層形成用塗布液の組成に示す各成分を混合し、第二耐候性層形成用塗布液を調製した。
〈第二耐候性層形成用塗布液の組成〉
・  フッ素樹脂（オブリガート（登録商標）ＳＷ００１１Ｆ、ＡＧＣコーテック社製、固形分濃度が３６質量％になるように水で希釈した溶液）・・・  ４３質量部
・  オキサゾリン系架橋剤（エポクロス（登録商標）ＷＳ−７００、日本触媒（株）製、固形分濃度２５質量％）・・・  １２質量部
・  ノニオン系界面活性剤（ナロアクティー（登録商標）ＣＬ９５、三洋化成工業（株）、固形分濃度１％水溶液）・・・  １．５質量部
・  第２リン酸アンモニウム（食添用第２リン酸アンモニウム、日本化学工業（株）製、濃度３５質量％水溶液）・・・  １．３質量部
・  滑剤（ケミパール（登録商標）Ｗ９５０、三井化学(株)製、固形分濃度が５質量％となるよう水で希釈した溶液）・・・  ２５．７質量部
・  マット剤（スノーテックス（登録商標）ＵＰ、日産化学（株）、固形分濃度が２質量％となるように水で希釈した溶液）・・・  ５質量部
〔スノーテックス（登録商標）ＵＰ、日産化学（株）、固形分２％水希釈〕
・  シランカップリング剤（ＴＳＬ８３４０、モメンティブパフォーマンスジャパン、固形分濃度２質量％の加水分解液）・・・  ５質量部
・  蒸留水・・・  １１４質量部
−第二耐候性層の形成−
得られた第二耐候性層形成用塗布液を、第一耐候性層の上に、フッ素樹脂の塗布重量が１．５ｇ／ｍ２になるように塗布し、１７０℃で２分間乾燥させて、乾燥厚み１．５μｍの第二耐候性層を形成した。
以上により、一方の表面に下塗層を有するＰＥＴ基材フィルム１の、下塗層を有する面の反対の面に第一耐候性層及び第二耐候性層を設けた複合フィルム１（本発明の一実施態様に係る複合フィルム）を作製した。【０１３１】
以上のようにして作製された複合フィルム１の水蒸気透過率を、下記の測定方法で測定し、結果を後述の表１に記載した。
〈水蒸気透過率の測定方法〉
ＪＩＳ  Ｋ７１２９（２００８年）に準じ、上記複合フィルム１をＭＯＣＯＮ社製  水蒸気透過試験機  ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ  Ｗ３／３３にて、温度４０℃、相対湿度９０％の環境下で水蒸気透過率の測定を行った。【０１３２】
−銀層の形成−
複合フィルム１の下塗層の表面に、下記の方法により調製した銀層形成用塗布液を、バーコート法により塗布し、１６５℃で２分間乾燥して、厚さ０．１μｍの銀層を形成した。
〈銀層形成用塗布液の調製〉
銀の錯化剤として２−エチルヘキシルアミン（２ＥＨＡ）１２．９質量部、炭酸銀２.７質量部、及び水１．８質量部を混合し、更にメタノールを９．６質量部を加えて攪拌することにより、銀層形成用塗布液を調製した。
以上により、複合フィルム１の表面に銀層を有するフィルムミラー１を作製した。【０１３３】
−接着剤転写テープを用いたガラス基材との貼り合せ−【０１３４】
充分に洗浄されたガラス基材（ｐｉｌｋｉｎｇｔｏｎ社製  ｍｉｃｒｏｗｈｉｔｅ、厚さ１ｍｍ）の片面とフィルムミラー１の銀層とを高透明接着剤転写テープ（住友スリーエム株式会社、型番：８１４６−１）を用いて貼り合せることで、太陽熱発電用反射板（縦１００ｃｍ、横５０ｃｍの矩形状）を得た。
−端面封止−
調製された太陽熱発電用反射板の四周の端面を下記のようにして封止し、実施例１に係る太陽熱発電用反射板１を得た。
四隅の端面封止については、アルミニウムテープを用いて行った。【０１３５】
［実施例２］
厚さ３ｍｍの未延伸ベースに代えて、厚さ０．７５ｍｍの未延伸ベースを作製した以外は、実施例１におけるＰＥＴ基材フィルム１と同様にして、厚さが１８８μｍのＰＥＴ基材フィルム２を作製した。このＰＥＴ基材フィルム２を使用して、実施例１と同様の手順で複合フィルム２を作製した以外は、実施例１と同様にして、実施例２に係る太陽熱発電用反射板２を得た。
なお、太陽熱発電用反射板２における複合フィルム２の水蒸気透過率を前述の方法で測定し、結果を後述の表１に記載した。【０１３６】
［比較例１］
厚さ３ｍｍの未延伸ベースに代えて、厚さ０．６ｍｍの未延伸ベースを作製した以外は、実施例１におけるＰＥＴ基材フィルム１と同様にして、厚さが１２５μｍのＰＥＴ基材フィルムＣ１を作製した。ＰＥＴ基材フィルムＣ１を使用して、実施例１と同様の手順で複合フィルムＣ１作製した以外は、実施例１と同様にして、比較例１に係る太陽熱発電用反射板Ｃ１を得た。
なお、太陽熱発電用反射板２における複合フィルムＣ１の水蒸気透過率を前述の方法で測定し、結果を後述の表１に記載した。【０１３７】
［実施例３］
第一耐候性層及び第二耐候性層を形成しなかった以外は実施例１と同様にして、実施例３に係る太陽熱発電用反射板３を作製した。なお、第一耐候性層及び第二耐候性層を有さない、太陽熱発電用反射板３に使用した複合フィルムの水蒸気透過率を前述の方法で測定し、結果を後述の表１に記載した。【０１３８】
［比較例２］
ガラス基材に代えて、ハードコート層を有するポリエチレンテレフタレートフィルムであるＫＢフィルム  Ｇ０１（（株）きもと製  厚さ１８８μｍ、ハードコート層表面の鉛筆硬度２〜３Ｈ）を使用し、ハードコート層を有する側とは反対側の表面と、複合フィルムの下塗層の表面とが接するように貼り合せた以外は実施例１と同様にして、比較例２に係る太陽熱発電用反射板Ｃ２を作製した。【０１３９】
［比較例３］
ガラス基材に代えて、ポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡（株）製コスモシャイン（登録商標）Ａ４１００、厚さ１８８μｍ）を使用し、ポリエチレンテレフタレートフィルム表面コート層を有する側とは反対側の表面に、実施例１と同様にして下塗層を設けた。その後は、ポリエチレンテレフタレートフィルムの下塗層の表面と、実施例１で作製したフィルムミラー１の銀層とが接するように貼り合せた以外は実施例１と同様にして、比較例３に係る太陽熱発電用反射板Ｃ３を作製した。【０１４０】
［実施例４］
実施例１と同様にして作製したＰＥＴ基材フィルム１の下塗層を有する側とは反対側の表面に、高透明接着剤転写テープ（住友スリーエム株式会社製、型番：８１４６−１）を用いることで、厚さ１００μｍのアルミニウム箔を貼り付けて、複合フィルム４を得た。得られた複合フィルム４の水蒸気透過率を、前述の測定方法で測定し、結果を後述の表１に記載した。
以上のようにして作製された複合フィルム４を、複合フィルム１の代わりに使用した以外は、実施例１と同様にして、実施例４に係る太陽熱発電用反射板４を作製した。【０１４１】
［実施例５］
下塗層に代えて、下記の第一隣接層形成用塗布液を塗布し、乾燥して、厚み１０μｍの第一隣接層を形成した点を除いて、実施例１におけるＰＥＴ基材フィルム１の作製と同様にして、ＰＥＴ基材フィルム５を作製した。
−第一隣接層形成用塗布液の調製−
下記の各成分を混合し、第一隣接層形成用塗布液を調製した。
〈第一隣接層形成用塗布液の組成〉
ディフェンサ  ＦＨ−７００（ＤＩＣ（株）製）・・・  ４５．００質量部
イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）分散シリカ  ＩＰＡ−ＳＴ、日産化学（株）製）・・・  １６．６７質量部
イソプロピルアルコール・・・  ３８．３３質量部
ベンゾイミダゾール・・・  １．２３質量部
【０１４２】
作製されたＰＥＴ基材フィルム３をＰＥＴ基材フィルム１に代えて使用した以外は、実施例１と同様にして、実施例５に係る太陽熱発電用反射板５を作製した。【０１４３】
［実施例６］
下塗層を形成しなかった点を除いて、実施例１におけるＰＥＴ基材フィルム１の作製と同様にして、ＰＥＴ基材フィルム６を作製した。
ＰＥＴ基材フィルム６の第一耐候性層を形成した側とは反対側の表面に、実施例１と同様にして銀層を形成した。
上記銀層の表面に、下記の第二隣接層形成用塗布液を塗布し、乾燥して、厚み１０μｍの第二隣接層を形成した
−第二隣接層形成用塗布液の調製−
下記の各成分を混合し、第二隣接層形成用塗布液を調製した。
〈第二隣接層形成用塗布液の組成〉
ディフェンサ  ＦＨ−７００（ＤＩＣ（株）製）       ４５．００質量部
イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）分散シリカ  ＩＰＡ−ＳＴ、日産化学（株）製）
・・・  １６．６７質量部
イソプロピルアルコール・・・  ３８．３３質量部
ベンゾイミダゾール・・・  １．２３質量部
上記第二隣接層の表面とガラス基材とを、実施例１と同様にして、高透明接着剤転写テープ（住友スリーエム株式会社製、型番：８１４６−１）を用いて貼り合せることで、実施例６に係る太陽熱発電用反射板６を得た。【０１４４】
［実施例７］
ガラス基材のフィルムミラー１側とは反対側の表面に、下記のようにして表面被覆層を形成した点を除いて、実施例１と同様にして、実施例７に係る太陽熱発電用反射板７を得た。
〈表面被覆層の形成〉
−シリケートオリゴマー液Ａ１の調製−
シリケートＭＳ−５１（三菱化学（株）製）１．５４質量部、エタノール４０．７４質量部、純水５１．９４質量部、及び、非イオン界面活性剤であるポリオキシエチレンラウリルエーテル：エマレックス（登録商標）７１５（日本エマルジョン社製、０．５％純水希釈）５．７８質量部を混合して、室温（２５℃）にて２４時間撹拌することで、シリケートオリゴマー液Ａ１を作製した。
シリケートＭＳ−５１は下記構造式で表されるシロキサンオリゴマーであって、Ｒ１〜Ｒ４が全てメチル基であり、ｎの平均が５の化合物である。【０１４５】
【化２】
2016009755.tif 000004
【０１４６】
−水性コート剤Ｂ１の調製−
得られたシリケートオリゴマー液Ａ１  ４１．２８質量部、純水２９．３１質量部、エタノール１７．１１質量部、エマレックス（登録商標）７１５（日本エマルジョン社製、０．５％純水希釈）２．１６質量部、小粒子径シリカ：スノーテックス（登録商標）Ｏ−３３（商品名：日産化学工業社製、平均一次粒子径：１０−２０ｎｍ）１．５３質量部、中空シリカ粒子：スルーリア（登録商標）１１１０（商品名、日揮触媒化成社、平均一次粒子径５０ｎｍ）３．０１質量部を混合することで、水性コート剤Ｂ１を作製した。
得られた水性コート剤Ｂ１を、ガラス基材表面に、乾燥膜厚１５０ｎｍとなる塗布量で塗布を行って塗膜を形成した。塗膜を、常温（２５℃）で３０分乾燥して、ガラス基材上に表面被覆層を形成した。【０１４７】
［実施例８］
下記のようにして調製された銀層形成用塗布液を使用した点を除いて、実施例１と同様にして、実施例８に係る太陽熱発電用反射板８を得た。
〈銀層形成用塗布液の調製〉
２−エチルヘキシルアンモニウム２−エチルカルバメート３２．５質量部、イソプロパノール４８．５質量部、イソプロピルアミン５．０質量部、ジメチルアミノエタノール２．０質量部、および、酸化銀１１．０質量部を混合して、１時間常温で撹拌することで、銀層形成用塗布液を調製した。【０１４８】
以上のようにして作製された各太陽熱発電用反射板について、以下の評価を行った。
太陽熱発電用反射板の耐候性の評価は、下記の耐熱性試験によわる評価、及び耐光性試験による評価に基いて行った。
結果を後述の表１に示す。【０１４９】
＜太陽光反射率の測定＞
島津製作所社製の分光光度計（型式ＵＶ−３１００）に、積分球反射付属装置を取り付けたものを改造し、反射面の法線に対して、入射光の入射角が５°となるように調整し、反射角５°の正反射率を測定した。測定された各波長毎の正反射率に、それぞれ２８０ｎｍ〜２５００ｎｍまで１ｎｍ毎のＡＳＴＭ  Ｇ１７３−０３に記載の地表での太陽光の照射エネルギーを乗じた波長毎の総和エネルギーを、全太陽光の照射エネルギーで割った値を太陽光反射率とした。【０１５０】
＜耐湿熱試験＞
各太陽熱発電用反射板を、温度８５℃、相対湿度８５％の条件で１０００時間放置する強制劣化を行い、上記と同様の方法により太陽光反射率を測定した。強制劣化を行う前の太陽熱発電用反射板の太陽光反射率に対する、強制劣化を行った後の太陽熱発電用反射板の太陽光反射率の百分率から、太陽光反射率の低下率を算出し、さらに目視での変化を評価した。以下に耐湿熱試験における太陽光反射率の低下率による評価の評価基準を記す。後述の表１においては、耐湿熱試験における太陽光反射率の低下率による評価を「耐湿熱性試験」の「反射率」の欄に記載し、目視での変化を評価を「目視」の欄に記載した。目視の欄の「−」は、目視による異常がなかったことを意味する。
５：太陽光反射率の低下率が５％未満である。
４：太陽光反射率の低下率が５％以上１０％未満である。
３：太陽光反射率の低下率が１０％以上１５％未満である。
２：太陽光反射率の低下率が１５％以上２０％未満である。
１：太陽光反射率の低下率が２０％以上である。【０１５１】
＜太陽光反射率の耐光性試験＞
各太陽熱発電用反射板を、岩崎電気（株）製アイスーパーＵＶテスターを用いて、９０ｍＷ／ｃｍ２の照度下、温度６０℃、相対湿度５０％の環境下で１００時間の紫外線照射を行ったのち、上記方法により太陽光反射率を測定し、紫外線照射前後における太陽光反射率の低下率を同様に算出し、さらに目視での変化を評価した。以下に耐光性試験における太陽光反射率の低下率による評価の評価基準を記す。後述の表１においては、耐光性試験における太陽光反射率の低下率による評価を「耐光性試験」の「反射率」の欄に記載し、目視での変化を評価を「目視」の欄に記載した。目視の欄の「−」は、目視による異常がなかったことを意味する。
５：太陽光反射率の低下率が５％未満である。
４：太陽光反射率の低下率が５％以上１０％未満である。
３：太陽光反射率の低下率が１０％以上１５％未満である。
２：太陽光反射率の低下率が１５％以上２０％未満である。
１：太陽光反射率の低下率が２０％以上である。【０１５２】
＜洗浄性試験＞
各太陽熱発電用反射板の光入射側表面を、フリマントルサンド（三菱商事建材（株）製）を５重量％で懸濁させた水をかけながら、１０ｇ／ｃｍ２の荷重をかけスポンジで５分間こすった。その後、目視評価及び洗浄前後の上記太陽光反射率の低下率を算出し、以下の評価基準で評価した。評価結果は、表１の「洗浄性」の欄に記載した。
５：目視で傷がなく、太陽光反射率の低下率が１％未満である。
４：目視でわずかに傷があり、太陽光反射率の低下率が１％以上５％未満である。
３：目視で傷あり、太陽光反射率の低下率が５％以上１０％未満である。
２：目視で傷あり、太陽光反射率の低下率が１０％以上１５％未満である。
１：目視で傷あり、太陽光反射率の低下率が１５％以上である。【０１５３】
【表１】
2016009755.tif 000005
【０１５４】
表１に示された結果から、本発明の実施態様に係る太陽熱発電用反射板は、耐候性、及び洗浄性に優れていることが分かる。【０１５５】
２０１４年７月１４日に出願された日本国特許出願２０１４−１４４３０３号の開示は、その全体が参照により本明細書に取り込まれる。
本明細書に記載された全ての文献、特許出願、および技術規格は、個々の文献、特許出願、および技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に参照により取り込まれる。
【図１】
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【図２】
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【国際調査報告】
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