(57)【要約】  透湿度を低減した光学フィルム及びその製造方法を提供する。高温高湿環境経時後の光漏れ発生が抑えられた液晶表示装置を提供する。  基材フィルム上に、硬化性組成物の全固形分を１００質量％としたときに、全固形分に対して下記（Ａ）を５０〜９９質量％及び下記（Ｂ）を１〜５０質量％含有する硬化性組成物を硬化して形成される層を有する光学フィルム。  （Ａ）環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物及びフルオレン環とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物の少なくともいずれか  （Ｂ）ロジン化合物【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材フィルム上に、硬化性組成物の全固形分を１００質量％としたときに、全固形分に対して下記（Ａ）を５０〜９９質量％及び下記（Ｂ）を１〜５０質量％含有する硬化性組成物を硬化して形成される層を有する光学フィルム。
（Ａ）環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物及びフルオレン環とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物の少なくともいずれか
（Ｂ）ロジン化合物
【請求項２】
上記環状脂肪族炭化水素基が下記一般式（Ｉ）で表される基である請求項１に記載の光学フィルム。
【化１】
2014119487.tif 000026
一般式（Ｉ）中、Ｌ、及びＬ’は各々独立に二価以上の連結基を表し、ｎは１〜３の整数を表す。
【請求項３】
前記ロジン化合物が、ロジン、水添ロジン、酸変性ロジン及びエステル化ロジンから選ばれる１種以上のロジン化合物である、請求項１又は２に記載の光学フィルム。
【請求項４】
前記ロジン化合物が酸変性ロジンである、請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項５】
前記光学フィルムの透湿度が５．０〜１００ｇ／ｍ２／ｄａｙである、請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学フィルム。
（ここで、光学フィルムの透湿度は、ＪＩＳ  Ｚ−０２０８の手法で、４０℃、相対湿度９０％で２４時間経過後の値である。）
【請求項６】
前記（Ａ）及び（Ｂ）を含有する層の透湿度が５．０〜１００ｇ／ｍ２／ｄａｙである、請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学フィルム。
（ここで、透湿度は、ＪＩＳ  Ｚ−０２０８の手法で、４０℃、相対湿度９０％で２４時間経過後の値である。前記（Ａ）及び（Ｂ）を含有する層の透湿度以下の式（１）によって算出される。
１／Ｊｆ＝１／Ｊｓ＋１／Ｊｂ    ・・・・・        式（１）
上記式（１）中、Ｊｂは光学フィルムを基材フィルムと、前記（Ａ）及び（Ｂ）を含有する層とに分離したときの前記層の透湿度を表し、光学フィルムの透湿度をＪｆ、基材フィルムの透湿度をＪｓとする。）
【請求項７】
前記（Ａ）及び（Ｂ）を含有する層の膜厚１０μｍであるときの前記（Ａ）及び（Ｂ）を含有する層の換算透湿度が、５．０〜１００ｇ／ｍ２／ｄａｙである、請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学フィルム。
（ここで、透湿度は、ＪＩＳ  Ｚ−０２０８の手法で、４０℃、相対湿度９０％で２４時間経過後の値である。膜厚１０μｍの前記（Ａ）及び（Ｂ）を含有する層の透湿度以下の式（２）によって算出される。
Ｊｂ×ｄｂ／１０    ・・・・・        式（２）
上記式（２）中、Ｊｂは光学フィルムを基材フィルムと、前記（Ａ）及び（Ｂ）を含有する層とに分離したときの前記層の透湿度を表し、ｄｂ［μｍ］は低透湿層の膜厚を表す。）
【請求項８】
前記基材フィルムがセルロースアシレートフィルムである請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項９】
前記基材フィルムが主鎖にラクトン環構造、無水グルタル酸環構造、及びグルタルイミド環構造のいずれか少なくとも１種を有する（メタ）アクリル系重合体である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項１０】
前記光学フィルムが前記（Ａ）及び（Ｂ）を含有する層上にハードコート層を更に有する、請求項１〜９のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項１１】
基材フィルム上に下記（Ａ）及び（Ｂ）を含有する硬化性組成物を硬化して層を形成する工程を有する光学フィルムの製造方法。
（Ａ）環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物及びフルオレン環とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物の少なくともいずれかを前記硬化性組成物の全固形分を１００質量％としたときに、全固形分に対し５０〜９９質量％
（Ｂ）ロジン化合物を前記硬化性組成物の全固形分に対し１〜５０質量％
【請求項１２】
偏光子と、
該偏光子の保護フィルムとして請求項１〜１０のいずれか１項に記載の光学フィルムとを少なくとも１枚含む偏光板。
【請求項１３】
液晶セルと、
該液晶セルの少なくとも一方に配置された請求項１２に記載の偏光板とを含み、
前記光学フィルムが最表層となるように配置された液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学フィルム及びその製造方法、偏光板並びに液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶表示装置は、液晶テレビや、パソコン、携帯電話、デジタルカメラなどの液晶パネル等の用途で広く用いられている。通常、液晶表示装置は、液晶セルの両側に偏光板を設けた液晶パネル部材を有し、バックライト部材からの光を液晶パネル部材で制御することにより表示が行われている。ここで、偏光板は偏光子とその両側の保護フィルムとからなり、一般的な偏光子は延伸されたポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系フィルムをヨウ素又は二色性色素で染色することにより得られ、保護フィルムとしてはセルロースエステルフィルムなどが用いられている。【０００３】
最近の液晶表示装置は、高品質化とともに、用途も多様化し、耐久性への要求が厳しくなってきている。例えば、屋外用途での使用においては環境変化に対する安定性が求められ、液晶表示装置に用いられる上記の偏光板用保護フィルムや光学補償フィルムなどの光学フィルムについても温度や湿度変化に対する寸法や光学特性の変化を抑えることが求められる。【０００４】
液晶表示装置は従来の室内用途だけでなく、屋外などより過酷な環境で使用されるようになっており、液晶表示装置の最表面の光学フィルムは、水分を透過させない性能が重要になっている。この問題は近年大型化が進むＴＶ用途では、液晶セルのガラスが薄手化する傾向の影響もあり、反りが大きくなりやすく、高温高湿環境経時後の光漏れへの影響が懸念されている。【０００５】
特許文献１には、透明性が高く、低吸湿性、高耐熱性、力学的強度の高い光学フィルムの提供を目的として、セルロースエステルにポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）などのアクリル樹脂を多量添加した光学フィルムが開示されている。
一方、基材フィルム上に、塗布層を設けたフィルムも知られている。例えば、特許文献２には、膜厚８０μｍのセルロースアシレートである基材フィルム上に、分子内に環状脂肪族炭化水素基と２個以上のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を含有する組成物から形成されてなる塗布層を設けたフィルムが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】国際公開第２００９／０４７９２４号
【特許文献２】日本国特開２００６−８３２２５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
近年急速に広まっているタブレットＰＣやモバイル用途など中小型では薄型化・液晶表示装置内の省スペース要求が高いため、高温高湿環境経時後の光漏れの問題解決が強く望まれている。液晶表示装置の液晶セルの反りや光漏れの発生は、偏光板及びそれを構成する光学フィルム、特に偏光子が水分を吸収及び放出することにより、液晶表示装置の液晶セルの前面及び背面の偏光板に収縮差が生じてバランスが崩れ液晶セルが反り、液晶セルの四隅や四辺が筐体や背面側の部材と接触して光漏れが生じることが原因と考えられている。このため、偏光板の保護フィルムに対しては、湿度依存性や湿熱耐久性の改善が求められてきたが、抜本的な改良のためには、環境変化で水分の吸収及び放出を抑制する必要があり、特に偏光板の最表面の光学フィルムには更なる透湿度の低減が求められる。【０００８】
上記のような状況に鑑みて、本発明の目的、すなわち本発明が解決しようとする課題は、透湿度を低減した光学フィルム及びその製造方法を提供することである。
本発明の別の目的は、上記光学フィルムを用いた偏光板を提供することである。本発明の更に別の目的は、高温高湿環境経時後の光漏れが改善された液晶表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らが鋭意検討した結果、透湿度を低減した光学フィルムを提供でき、更にそのような光学フィルムを偏光板の保護フィルムとして用いることで高温高湿環境経時後の光漏れが改善された液晶表示装置を提供できることを見出し、本発明に至った。
本発明が解決しようとする課題は、下記の手段である本発明により解決することができる。【００１０】
〔１〕
基材フィルム上に、硬化性組成物の全固形分を１００質量％としたときに、全固形分に対して下記（Ａ）を５０〜９９質量％及び下記（Ｂ）を１〜５０質量％含有する硬化性組成物を硬化して形成される層を有する光学フィルム。
（Ａ）環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物及びフルオレン環とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物の少なくともいずれか
（Ｂ）ロジン化合物
〔２〕
上記環状脂肪族炭化水素基が下記一般式（Ｉ）で表される基である〔１〕に記載の光学フィルム。【００１１】
【化１】
2014119487.tif 000002
【００１２】
一般式（Ｉ）中、Ｌ、及びＬ’は各々独立に二価以上の連結基を表し、ｎは１〜３の整数を表す。
〔３〕
上記ロジン化合物が、ロジン、水添ロジン、酸変性ロジン及びエステル化ロジンから選ばれる１種以上のロジン化合物である、〔１〕又は〔２〕に記載の光学フィルム。
〔４〕
上記ロジン化合物が酸変性ロジンである、〔１〕〜〔３〕のいずれかに記載の光学フィルム。
〔５〕
上記光学フィルムの透湿度が５．０〜１００ｇ／ｍ２／ｄａｙである、〔１〕〜〔４〕のいずれかに記載の光学フィルム。
（ここで、光学フィルムの透湿度は、ＪＩＳ  Ｚ−０２０８の手法で、４０℃、相対湿度９０％で２４時間経過後の値である。）
〔６〕
（Ａ）及び（Ｂ）を含有する層の透湿度が５．０〜１００ｇ／ｍ２／ｄａｙである、〔１〕〜〔５〕のいずれかに記載の光学フィルム。
（ここで、透湿度は、ＪＩＳ  Ｚ−０２０８の手法で、４０℃、相対湿度９０％で２４時間経過後の値である。上記（Ａ）及び（Ｂ）を含有する層の透湿度以下の式（１）によって算出される。
１／Ｊｆ＝１／Ｊｓ＋１／Ｊｂ    ・・・・・        式（１）
上記式（１）中、Ｊｂは光学フィルムを基材フィルムと、上記（Ａ）及び（Ｂ）を含有する層とに分離したときの上記層の透湿度を表し、光学フィルムの透湿度をＪｆ、基材フィルムの透湿度をＪｓとする。）
〔７〕
上記（Ａ）及び（Ｂ）を含有する層の膜厚１０μｍであるときの上記（Ａ）及び（Ｂ）を含有する層の換算透湿度が、５．０〜１００ｇ／ｍ２／ｄａｙである、〔１〕〜〔６〕のいずれかに記載の光学フィルム。
（ここで、透湿度は、ＪＩＳ  Ｚ−０２０８の手法で、４０℃、相対湿度９０％で２４時間経過後の値である。膜厚１０μｍの上記（Ａ）及び（Ｂ）を含有する層の透湿度以下の式（２）によって算出される。
Ｊｂ×ｄｂ／１０    ・・・・・        式（２）
上記式（２）中、Ｊｂは光学フィルムを基材フィルムと、上記（Ａ）及び（Ｂ）を含有する層とに分離したときの上記層の透湿度を表し、ｄｂ［μｍ］は低透湿層の膜厚を表す。）
〔８〕
上記基材フィルムがセルロースアシレートフィルムである〔１〕〜〔７〕のいずれかに記載の光学フィルム。
〔９〕
上記基材フィルムが主鎖にラクトン環構造、無水グルタル酸環構造、及びグルタルイミド環構造のいずれか少なくとも１種を有する（メタ）アクリル系重合体である、〔１〕〜〔７〕のいずれかに記載の光学フィルム。
〔１０〕
上記光学フィルムが上記（Ａ）及び（Ｂ）を含有する層上にハードコート層を更に有する、〔１〕〜〔９〕のいずれかに記載の光学フィルム。
〔１１〕
基材フィルム上に下記（Ａ）及び（Ｂ）を含有する硬化性組成物を硬化して層を形成する工程を有する光学フィルムの製造方法。
（Ａ）環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物及びフルオレン環とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物の少なくともいずれかを上記硬化性組成物の全固形分を１００質量％としたときに、全固形分に対し５０〜９９質量％
（Ｂ）ロジン化合物を上記硬化性組成物の全固形分に対し１〜５０質量％
〔１２〕
偏光子と、
該偏光子の保護フィルムとして〔１〕〜〔１０〕のいずれかに記載の光学フィルムとを少なくとも１枚含む偏光板。
〔１３〕
液晶セルと、
該液晶セルの少なくとも一方に配置された〔１２〕に記載の偏光板とを含み、
上記光学フィルムが最表層となるように配置された液晶表示装置。
【発明の効果】
【００１３】
本発明により、透湿度を低減した光学フィルム及びその製造方法を提供することができる。本発明の光学フィルムを用いることで、高温高湿環境経時後の光漏れ発生が抑えられた液晶表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下において、本発明の光学フィルムやその製造方法、それに用いる添加剤などについて詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
「アクリル樹脂」とはメタクリル酸又はアクリル酸の誘導体を重合して得られる樹脂、及びその誘導体を含有する樹脂を意味するものとする。また、特に限定しない場合には、「（メタ）アクリレート」はアクリレート及びメタクリレートを表し、「（メタ）アクリル」はアクリル及びメタクリルを表す。
更に、フィルムの「遅相軸方向」とはフィルム面内で屈折率が最大となる方向で、「進相軸方向」とはフィルム面内で遅相軸と直交する方向を意味するものとする。
【００１５】
［光学フィルム及び光学フィルムの製造方法］
本発明の光学フィルムは、基材フィルム上に、硬化性組成物の全固形分を１００質量％としたときに、全固形分に対して下記（Ａ）を５０〜９９質量％及び（Ｂ）を１〜５０質量％含有する硬化性組成物を硬化して形成される層（以下、単に「低透湿層」ともいう。）を有する。
ここで、硬化性組成物の全固形分とは、硬化性組成物から溶剤を除いた全成分のことをいう。
（Ａ）環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物及びフルオレン環とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物の少なくともいずれか
（Ｂ）ロジン化合物
本発明において、低透湿層とは、硬化性組成物の全固形分を１００質量％としたときに、固形分に対して（Ａ）を５０〜９９質量％及び（Ｂ）を１〜５０質量％含有する硬化性組成物を硬化して形成される層をいう。
低透湿層の透湿度は、膜厚１０μｍあたりの透湿度として５．０〜２５０ｇ／ｍ２／ｄａｙであることが好ましく、５．０〜１００ｇ／ｍ２／ｄａｙであることが更に好ましく、５．０〜１００ｇ／ｍ２／ｄａｙであることが特に好ましい。
本発明は、上記光学フィルムの製造方法に関するものでもある。
本発明の光学フィルムの製造方法は、基材フィルム上に上記（Ａ）を硬化性組成物の全固形分を１００質量％としたときに、全固形分に対し５０〜９９質量％及び上記（Ｂ）を硬化性組成物の全固形分に対し１〜５０質量％含有する硬化性組成物を硬化して低透湿層を形成する工程を有する。
【００１６】
（光学フィルムの透湿度）
本発明の光学フィルムは、上記（Ａ）と（Ｂ）とを上記含有量で低透湿層に含有することにより、上記（Ａ）と（Ｂ）の相乗効果により顕著に透湿度低減を達成することができ、耐久性に優れ、透湿度を低減することが出来る。
本発明の光学フィルムは、透湿度が５．０〜１００ｇ／ｍ２／ｄａｙであることが好ましい。（ここで、透湿度は、ＪＩＳ  Ｚ−０２０８の手法で、４０℃、相対湿度９０％で２４時間経過後の値である。）
本発明の光学フィルムの透湿度は、９０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であることが好ましく、８０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であることがより好ましく、７０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であることが更に好ましく、６０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であることが特に好ましい。透湿度が１００ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であれば、液晶表示装置の常温、高湿及び高温高湿環境経時後の液晶セルの反りに伴う光漏れを抑制できる。
【００１７】
｛低透湿層｝
本発明の光学フィルムにおける低透湿層は、（Ａ）環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物及びフルオレン環とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物の少なくともいずれかを５０〜９９質量％含有し、かつ
（Ｂ）ロジン化合物を１〜５０質量％含有する。必要に応じて更に、重合開始剤、透光性粒子、含フッ素又はシリコーン系化合物、溶剤を含有した硬化性組成物を、基材フィルム上に直接又は他の層を介して塗布・乾燥・硬化することにより形成することができる。
以下各成分について説明する。
【００１８】
〔環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物〕
環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物は、バインダーとして機能し得る。
環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物を用いることによって、低透湿性を実現でき、基材フィルムや他の層と、低透湿層との密着性に優れ、更に偏光板の光漏れを防止できる。詳細は明らかではないが、分子内に環状脂肪族炭化水素基を有する化合物を用いることで、低透湿層に疎水的な環状脂肪族炭化水素基を導入し、疎水化することで、外部から分子の取り込みを防止し、透湿度を低下させ得る。また、分子内にエチレン性不飽和二重結合を有することで、架橋点密度を上げ、低透湿層中の水分子の拡散経路を制限する。架橋点密度を上げることは、環状脂肪族炭化水素基の密度を相対的に上昇させる効果も有り、低透湿層内をより疎水的にし、水分子の吸着を防止し、透湿度を低下させると考えられる。
架橋点密度を上げるために分子内に有するエチレン性不飽和二重結合の数は２以上であることがより好ましい。
【００１９】
環状脂肪族炭化水素基としては、好ましくは炭素数７以上の脂環式化合物から誘導される基であり、より好ましくは炭素数１０以上の脂環式化合物から誘導される基であり、更に好ましくは炭素数１２以上の脂環式化合物から誘導される基である。
環状脂肪族炭化水素基としては、特に好ましくは、二環式、三環式等の、多環式化合物から誘導される基である。
より好ましくは、特開２００６−２１５０９６号公報の特許請求の範囲記載の化合物の中心骨格、特開２００１−１０９９９号公報記載の化合物の中心骨格、あるいは、アダマンタン誘導体の骨格等が挙げられる。
【００２０】
環状脂肪族炭化水素基としては具体的には、ノルボルナン基、トリシクロデカン基、テトラシクロドデカン基、ペンタシクロペンタデカン基、アダマンタン基、ジアマンタン基等が挙げられる。
【００２１】
環状脂肪族炭化水素基（連結基含む）としては、下記一般式（Ｉ）〜（Ｖ）のいずれかで表される基が好ましく、下記一般式（Ｉ）、（ＩＩ）、又は（ＩＶ）で表される基がより好ましく、下記一般式（Ｉ）で表される基が更に好ましい。
【００２２】
【化２】
2014119487.tif 000003
【００２３】
一般式（Ｉ）中、Ｌ、及びＬ’は各々独立に単結合又は２価以上の連結基を表す。ｎは１〜３の整数を表す。
【００２４】
【化３】
2014119487.tif 000004
【００２５】
一般式（ＩＩ）中、Ｌ、及びＬ’は各々独立に単結合又は２価以上の連結基を表す。ｎは１〜２の整数を表す。
【００２６】
【化４】
2014119487.tif 000005
【００２７】
一般式（ＩＩＩ）中、Ｌ、及びＬ’は各々独立に単結合又は２価以上の連結基を表す。ｎは１〜２の整数を表す。
【００２８】
【化５】
2014119487.tif 000006
【００２９】
一般式（ＩＶ）中、Ｌ、及びＬ’は各々独立に単結合又は２価以上の連結基を表し、Ｌ’’は水素原子、単結合又は２価以上の連結基を表す。
【００３０】
【化６】
2014119487.tif 000007
【００３１】
一般式（Ｖ）中、Ｌ、及びＬ’は各々独立に単結合又は２価以上の連結基を表す。
Ｌ、Ｌ’及びＬ’’についての２価以上の連結基としては、炭素数１〜６の置換されていてもよいアルキレン基、Ｎ位が置換されていてもよいアミド結合、Ｎ位が置換されていてもよいウレタン結合、エステル結合、オキシカルボニル基、エーテル結合等、及びこれらの２以上を組み合わせて得られる基が挙げられる。
【００３２】
エチレン性不飽和二重結合としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の重合性官能基が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基及び−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ２が好ましい。より好ましくは下記Ｍ−１からＭ−４で例示するような、１分子内に２つ以上の（メタ）アクリロイル基を含有する化合物を用いることができる。
【００３３】
環状脂肪族炭化水素基を有し、かつ分子内に２個以上のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物は、上記の環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合を有する基が連結基を介して結合することにより構成される。
【００３４】
これらの化合物は、例えば、上記環状脂肪族炭化水素基を有するジオール、トリオール等のポリオールと、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等を有する化合物のカルボン酸、カルボン酸誘導体、エポキシ誘導体、イソシアナート誘導体等との一段あるいは二段階の反応により容易に合成することができる。
好ましくは、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリロイルクロリド、（メタ）アクリル酸無水物、（メタ）アクリル酸グリシジルなどの化合物や、ＷＯ２０１２／００３１６Ａ号記載の化合物（例、１、１―ビス（アクリロキシメチル）エチルイソシアナート）を用いて、上記環状脂肪族炭化水素基を有するポリオールとの反応させることにより合成することができる。
【００３５】
以下、環状脂肪族炭化水素基を有しエチレン性不飽和二重結合を有する化合物の好ましい具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００３６】
【化７】
2014119487.tif 000008
【００３７】
【化８】
2014119487.tif 000009
【００３８】
［フルオレン環とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物］
低透湿層に含有し得る、フルオレン環とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物はバインダーとして機能し得る。また、フルオレン環とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物は、硬化剤として機能することができ、塗膜の強度や耐擦傷性を向上させることが可能となると同時に低透湿性を付与することができる。
架橋点密度を上げるために分子内に有するエチレン性不飽和二重結合の数は２以上であることがより好ましい。
【００３９】
フルオレン環とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物は下記一般式（ＶＩ）で表されることが好ましい。
【００４０】
【化９】
2014119487.tif 000010
【００４１】
（式（ＶＩ）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立に、一価の置換基を表し、ｍ、ｎ、ｐ及びｑはそれぞれ独立に、０〜４の整数を表し、Ｒ１及びＲ２の少なくとも一方は、エチレン性不飽和二重結合を有する一価の有機基を表す。）
【００４２】
分子内にフルオレン骨格とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物として上記一般式（ＶＩ）の好ましい態様は下記一般式（ＶＩＩ）で表される。
【００４３】
【化１０】
2014119487.tif 000011
【００４４】
（式中、Ｒ７、Ｒ８は水素又はメチル基を、ｒ、ｓは０〜５の整数を示す）
（Ａ）環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物及びフルオレン環とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物の少なくともいずれかの含有量は、上記低透湿層形成用の硬化性組成物の全固形分を１００質量％としたときに、全固形分に対し５０〜９９質量％であり、上記（Ａ）と（Ｂ）との相乗効果による透湿度低減の顕著性の観点から、５０質量％より多く９９質量％以下であることが好ましく、５５〜９５質量％であることがより好ましく、６０〜９０質量％であることが更に好ましい。
【００４５】
［環状脂肪族炭化水素基及びフルオレン環を有さないエチレン性不飽和二重結合を有する化合物］
本発明に用いる低透湿層形成用組成物中、分子内に環状脂肪族炭化水素基及びフルオレン環を有さないエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を本発明の効果を損なわない範囲において併用できる。
【００４６】
環状脂肪族炭化水素基及びフルオレン環を有さないエチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、環状脂肪族炭化水素基及びフルオレン環を有さない（メタ）アクリレート化合物であることが好ましく、アルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、ポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、エチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類、エポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ）アクリレート類、ポリエステル（メタ）アクリレート類等を挙げることができる。
【００４７】
中でも、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル類が好ましい。例えば、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられる。
【００４８】
（メタ）アクリロイル基を有する多官能アクリレート系化合物類は市販されているものを用いることもでき、新中村化学工業（株）社製ＮＫエステル  Ａ−ＴＭＭＴ、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ等を挙げることができる。多官能モノマーについては、特開２００９−９８６５８号公報の段落［０１１４］〜［０１２２］に記載されており、本発明においても同様のものを用いることができる。
【００４９】
環状脂肪族炭化水素基を有さないエチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、水素結合性の置換基を有する化合物であることが、支持体との密着性、低カール、後述する含フッ素又はシリコーン系化合物の固定性の点から好ましい。水素結合性の置換基とは、窒素、酸素、硫黄、ハロゲンなどの原子と水素結合とが共有結合で結びついた置換基を指し、具体的には−ＯＨ、−ＳＨ、−ＮＨ−、−ＣＨＯ、−ＣＯＮＨ−、−ＯＣＯＮＨ−などが挙げられ、ウレタン（メタ）アクリレート類や水酸基を有する（メタ）アクリレート類が好ましい。市販されている（メタ）アクリロイル基を有する多官能アクリレートを用いることもでき、新中村化学工業（株）社製ＮＫオリゴ  Ｕ４ＨＡ、同ＮＫエステルＡ−ＴＭＭ−３、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ  ＰＥＴ−３０等を挙げることができる。
環状脂肪族炭化水素基及びフルオレン環を有さないエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を含有する場合の含有量は、上記低透湿層形成用の硬化性組成物の全固形分を１００質量％としたときに、全固形分に対し１〜３０質量％であることが好ましく、２〜２０質量％がより好ましく、３〜１５質量％が更に好ましい。
【００５０】
〔（Ｂ）ロジン化合物〕
低透湿層形成用硬化性組成物におけるロジン化合物（Ｂ）としては、ロジン、水添ロジン（水素化ロジンとも称する）、酸変性ロジン及びエステル化ロジン（ロジンエステルとも称する）から選ばれる１種類以上であることが好ましい。
ロジンとしては、アビエチン酸、レボピマール酸、パルストリン酸、ネオアビエチン酸、デヒドロアビエチン酸、或いはジヒドロアビエチン酸など樹脂酸を主成分とするトール油ロジン、ガムロジン、ウッドロジンなどの未変性ロジンが挙げられる。
水添ロジンとは、上記ロジンを水素化したものをいう。テトラヒドロアビエチン酸等のテトラヒドロ体を高含量（例えば５０質量％以上）含むもの等が挙げられる。酸変性ロジンとしては、ディールズ・アルダー付加反応によりマレイン酸、フマル酸やアクリル酸などの不飽和酸を付加した不飽和酸変性ロジンが挙げられ、より具体的にはロジンにマレイン酸を付加したマレオピマール酸、フマル酸を付加したフマロピマール酸、アクリル酸を付加したアクリロピマール酸等が挙げられる。エステル化ロジンとしては、ロジンのアルキルエステル、ロジンとグリセリンとをエステル化反応させて得られるグリセリンエステル、ロジンとペンタエリスリトールとをエステル化して得られるペンタエリスリトールエステル等が挙げられる。
【００５１】
上記ロジンエステルとしては、スーパーエステルＥ−７２０、スーパーエステルＥ−７３０−５５、スーパーエステルＥ−６５０、スーパーエステルＥ−７８６−６０、タマノルＥ−１００、エマルジョンＡＭ−１００２、エマルジョンＳＥ−５０（以上全て商品名、特殊ロジンエステルエマルジョン、荒川化学工業（株）製）、スーパーエステルＬ、スーパーエステルＡ−１８、スーパーエステルＡ−７５、スーパーエステルＡ−１００、スーパーエステルＡ−１１５、スーパーエステルＡ−１２５、スーパーエステルＴ−１２５（以上全て商品名、特殊ロジンエステル、荒川化学工業（株）製）等が挙げられる。
また、ロジンエステルとして、エステルガムＡＡＧ、エステルガムＡＡＬ、エステルガムＡ、エステルガムＡＡＶ、エステルガム１０５、エステルガムＨＳ、エステルガムＡＴ、エステルガムＨ、エステルガムＨＰ、エステルガムＨＤ、ペンセルＡ、ペンセルＡＤ、ペンセルＡＺ、ペンセルＣ、ペンセルＤ−１２５、ペンセルＤ−１３５、ペンセルＤ−１６０、ペンセルＫＫ（以上全て商品名、ロジンエステル系樹脂、荒川化学工業（株）製）、が挙げられる。
【００５２】
更に、その他のロジンとしては、ロンヂスＲ、ロンヂスＫ−２５、ロンヂスＫ−８０、ロンヂスＫ−１８（以上全て商品名、ロジン誘導体、荒川化学工業（株）製）パインクリスタルＫＲ−８５、パインクリスタルＫＲ−１２０、パインクリスタルＫＲ−６１２、パインクリスタルＫＲ−６１４、パインクリスタルＫＥ−１００、パインクリスタルＫＥ−３１１、パインクリスタルＫＥ−３５９、パインクリスタルＫＥ−６０４、パインクリスタル３０ＰＸ、パインクリスタルＤ−６０１１、パインクリスタルＤ−６１５４、パインクリスタルＤ−６２４０、パインクリスタルＫＭ−１５００、パインクリスタルＫＭ−１５５０（以上全て商品名、超淡色系ロジン誘導体、荒川化学工業（株）製）、アラダイムＲ−１４０、アラダイムＲ−９５（以上全て商品名、重合ロジン、荒川化学工業（株）製）、ハイペールＣＨ（以上全て商品名、水素化ロジン、荒川化学工業（株）製）、ビームセット１０１（以上全て商品名、ロジンアクリレート、荒川化学工業（株）製）等が挙げられる。
【００５３】
ロジン化合物の酸価は、１５０〜４００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、２００〜４００ｍｇＫＯＨ／ｇであることがより好ましく、２８０〜４００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが特に好ましい。基材フィルムがセルロースアシレートフィルムの場合、ロジン化合物の酸価をこの範囲に制御することで硬化層の透湿度低減効果を維持しながら極めて良好な密着効果が得られる。
酸価が上記範囲のロジン化合物としては、前出の酸変性ロジンが挙げられ、特にマレイン酸やフマル酸をディールズ・アルダー反応で付加したロジン化合物が本発明では好ましく用いられる。
また、本発明においてロジン化合物は酸変性した後に水添処理をしたものを用いるのが好ましい。水添処理を施すことでロジン化合物の残存二重結合が低透湿層内で酸化されフィルムが着色することを防止することが出来る。
ロジン化合物の軟化点は、７０〜１７０℃が好ましい。ロジン化合物の軟化点が７０℃以上のであると、硬化層が柔らかくならずブロッキング性に優れる。軟化点が１７０℃未満であると溶剤に対する溶解性を保つことができ、硬化層のヘイズが上昇しづらい利点がある。
本発明においてロジン化合物の軟化点は、ＪＩＳ  Ｋ−２５３１の環球法により測定することができる。
（Ｂ）ロジン化合物の含有量は、上記低透湿層形成用の硬化性組成物の全固形分を１００質量％としたときに、全固形分に対し１〜５０質量％であり、上記（Ａ）と（Ｂ）との相乗効果による透湿度低減の顕著性の観点から、１０〜４０質量％であることが好ましく、２０〜３０質量％であることがより好ましい。
【００５４】
［無機層状化合物］
本発明の低透湿層の透湿度を更に低減するためには、上述の低透湿層に用いることが可能なバインダー中に無機層状化合物を分散することも好ましい。無機層状化合物は親水性の表面を有するため、有機化処理することが好ましい。
【００５５】
無機層状化合物とは、単位結晶層が積層した構造を有し、層間に溶剤を配位又は吸収することにより膨潤又はヘキ開する性質を示す無機化合物である。このような無機化合物としては、膨潤性の含水ケイ酸塩、例えば、スメクタイト群粘土鉱物（モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライト等）、パームキュライト群粘土鉱物、カオリナイト群粘土鉱物、フィロケイ酸塩（マイカ等）などが例示できる。また、合成無機層状化合物も好ましく用いられ、合成無機層状化合物としては、合成スメクタイト（ヘクトライト、サポナイト、スティブンサイトなど）、合成マイカなどが挙げられ、スメクタイト、モンモリロナイト、マイカが好ましく、モンモリロナイト、マイカがより好ましい。市販品として使用できる無機層状化合物としては、ＭＥＢ−３（コープケミカル（株）製合成マイカ水分散液）、ＭＥ−１００（コープケミカル（株）製合成マイカ）、Ｓ１ＭＥ（コープケミカル（株）製合成マイカ）、ＳＷＮ（コープケミカル（株）製合成スメクタイト）、ＳＷＦ（コープケミカル（株）製合成スメクタイト）、クニピアＦ（クニミネ化学工業（株）製精製ベントナイト）、ベンゲル（ホージュン（株）製精製ベントナイト）、ベンゲルＨＶ（ホージュン（株）製精製ベントナイト）、ベンゲルＦＷ（ホージュン（株）製精製ベントナイト）、ベンゲル  ブライト１１（ホージュン（株）製精製ベントナイト）、ベンゲル  ブライト２３（ホージュン（株）製精製ベントナイト）、ベンゲル  ブライト２５（ホージュン（株）製精製ベントナイト）、ベンゲル  Ａ（ホージュン（株）製精製ベントナイト）、ベンゲル  ２Ｍ（ホージュン（株）製精製ベントナイト）等を用いることができる。
また、かかる無機層状化合物は、これら無機層状化合物に有機化処理を施したものであることが好ましい。
上記有機化処理された無機層状化合物としては、特開２０１２−２３４０９４号公報段落００３８〜００４４に記載の有機化処理された無機層状化合物が挙げられる。
【００５６】
膨潤性層状無機化合物は、低透湿性と基材フィルム−低透湿層間の密着性とを両立させる点から、微粒子化処理されているのが好ましい。微粒子化処理された膨潤性層状無機化合物は、通常、板状又は扁平状であり、平面形状は特に制限されず、無定形状などであってもよい。微粒子化処理された膨潤性層状無機化合物の平均粒子径（平面形状の平均粒子径）は、例えば、０．１〜１０μｍが好ましく、０．１〜８μｍがより好ましく、０．１〜６μｍ特に好ましい。
【００５７】
〔重合開始剤〕
分子内に環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合を有する化合物及び／又は分子内にフルオレン骨格とエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を含有する組成物には、重合開始剤を含むことが好ましい。重合開始剤としては光重合開始剤が好ましい。
光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。光重合開始剤の具体例、及び好ましい態様、市販品などは、特開２００９−０９８６５８号公報の段落［０１３３］〜［０１５１］に記載されており、本発明においても同様に好適に用いることができる。
【００５８】
「最新ＵＶ硬化技術」｛（株）技術情報協会｝（１９９１年）、ｐ．１５９、及び、「紫外線硬化システム」加藤清視著（平成元年、総合技術センター発行）、ｐ．６５〜１４８にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
【００５９】
市販の光開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、ＢＡＳＦ社製（旧チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）の「イルガキュア６５１」、「イルガキュア１８４」、「イルガキュア８１９」、「イルガキュア９０７」、「イルガキュア１８７０」（ＣＧＩ−４０３／イルガキュア１８４＝７／３混合開始剤）、「イルガキュア５００」、「イルガキュア３６９」、「イルガキュア１１７３」、「イルガキュア２９５９」、「イルガキュア４２６５」、「イルガキュア４２６３」、「イルガキュア１２７」、“ＯＸＥ０１”等；日本化薬（株）製の「カヤキュアーＤＥＴＸ−Ｓ」、「カヤキュアーＢＰ−１００」、「カヤキュアーＢＤＭＫ」、「カヤキュアーＣＴＸ」、「カヤキュアーＢＭＳ」、「カヤキュアー２−ＥＡＱ」、「カヤキュアーＡＢＱ」、「カヤキュアーＣＰＴＸ」、「カヤキュアーＥＰＤ」、「カヤキュアーＩＴＸ」、「カヤキュアーＱＴＸ」、「カヤキュアーＢＴＣ」、「カヤキュアーＭＣＡ」など；サートマー社製の“Ｅｓａｃｕｒｅ（ＫＩＰ１００Ｆ，ＫＢ１，ＥＢ３，ＢＰ，Ｘ３３，ＫＴＯ４６，ＫＴ３７，ＫＩＰ１５０，ＴＺＴ）”等、及びそれらの組み合わせが好ましい例として挙げられる。
【００６０】
本発明に用いられる分子内に環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合を有する化合物及び／又は分子内にフルオレン骨格とエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を含有する組成物中の光重合開始剤の含有量は、上記組成物に含まれる重合可能な化合物を重合させ、かつ開始点が増えすぎないように設定するという理由から、組成物中の全固形分に対して、０．５〜８質量％が好ましく、１〜５質量％がより好ましい。
【００６１】
〔紫外線吸収剤〕
低透湿層を含む本発明の光学フィルムは、偏光板又は液晶表示装置部材に使用されるが、偏光板又は液晶等の劣化防止の観点から、低透湿層に紫外線吸収剤を含有することで、光学フィルムに紫外線吸収性を付与することもできる。
紫外線吸収剤としては、公知のものを用いることができる。例えば、特開２００１−７２７８２号公報や特表２００２−５４３２６５号公報に記載の紫外線吸収剤が挙げられる。紫外線吸収剤の具体例、及び好ましい例としては、｛基材フィルム｝＜紫外線吸収剤＞の項において後述する紫外線吸収剤の具体例、及び好ましい例と同様のものが挙げられる。
【００６２】
〔溶剤〕
低透湿層形成用の硬化性組成物は、溶剤を含有することができる。溶剤としては、モノマーの溶解性、塗工時の乾燥性、透光性粒子の分散性等を考慮し、各種溶剤を用いることができる。係る有機溶剤としては、例えばジブチルエーテル、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１，３，５−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、フェネトール、炭酸ジメチル、炭酸メチルエチル、炭酸ジエチル、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、γ−プチロラクトン、２−メトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸エチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシエタノール、２−プロポキシエタノール、２−ブトキシエタノール、１，２−ジアセトキシアセトン、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル等メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、シクロヘキシルアルコール、酢酸イソブチル、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、２−オクタノン、２−ペンタノン、２−ヘキサノン、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールイソプロピルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００６３】
上記の溶剤のうち、炭酸ジメチル、酢酸メチル、酢酸エチル、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、アセトンのうち少なくとも１種類を用いることが好ましく、炭酸ジメチル、酢酸メチルの何れかを用いることがより好ましく、酢酸メチルを用いることが特に好ましい。
【００６４】
低透湿層形成用の硬化性組成物の固形分の濃度は２０〜８０質量％の範囲となるように溶剤を用いるのが好ましく、より好ましくは３０〜７５質量％であり、更に好ましくは４０〜７０質量％である。
【００６５】
（低透湿層の構成、製造方法）
本発明の低透湿層は、１層であってもよいし、複数層設けてもよい。上記低透湿層の積層方法は特に限定されないが、上記低透湿層を基材フィルムとの共流延として作製すること、又は、上記低透湿層を上記基材フィルム上に塗布にて設けることが好ましく、上記低透湿層を上記基材フィルム上に塗布にて設けることがより好ましい。
【００６６】
（低透湿層の膜厚）
本発明の低透湿層の膜厚は、０．５〜２５μｍであることが好ましく、１〜２０μｍであることがより好ましく、２〜１８μｍであることが更に好ましく、３〜１７μｍであることが特に好ましい。
【００６７】
（低透湿層の透湿度）
複合フィルムの気体透過式より（例えば、「包装材料のバリア性の科学（包装学基礎講座５）」ｐ６８〜７２  仲川勤著  日本包装学会）、定常状態の光学フィルムの透湿度をＪｆ、基材フィルムの透湿度をＪｓ、光学フィルムを基材フィルムと低透湿層に分離したときの低透湿層の透湿度をＪｂとしたときに、以下の式が成り立つ。
１／Ｊｆ＝１／Ｊｓ＋１／Ｊｂ    ・・・・・式（１）
光学フィルムの透湿度Ｊｆと基材フィルムの透湿度Ｊｓは直接測定することができ、それらの測定値を基に、低透湿層の透湿度Ｊｂを計算で求めることができる。
本発明において、低透湿層の透湿度が５．０〜１００ｇ／ｍ２／ｄａｙであることが好ましい。
【００６８】
（低透湿層の単位膜厚当たりの透湿度）
一般に定常状態に於ける透湿度は膜厚に反比例することが知られている。従って、上記膜厚の範囲で低透湿層が到達できる透湿度は材料の特性値である単位膜厚当たりの透湿度で決まり、その値が小さいほどより低透湿度に到達することができる。一方、上記の関係を基に低透湿層の膜厚調整で透湿度の調整をすることができるが、単位膜厚当たりの透湿度が低過ぎると光学フィルムの透湿度の制御が難しくなる。
両者を考慮して、低透湿層の膜厚１０μｍあたりの透湿度は５．０〜１００ｇ／ｍ２／ｄａｙが好ましく、１０〜１００ｇ／ｍ２／ｄａｙがより好ましく、２０〜９０ｇ／ｍ２／ｄａｙがより好ましく、３０〜８０ｇ／ｍ２／ｄａｙが特に好ましい。
（透湿度は、ＪＩＳ  Ｚ−０２０８の手法で、４０℃、相対湿度９０％で２４時間経過後の値である。）
なお、低透湿層の膜厚１０μｍにあたりの透湿度は基材フィルムと光学フィルムの透湿度、低透湿層の膜厚から以下のように見積もられる。
【００６９】
低透湿層の膜厚１０μｍに対する透湿度Ｃｂ（１０μｍ）は上記で算出したＪｂを基に以下の式で表すことができる。
Ｃｂ（１０μｍ）＝Ｊｂ×ｄｂ／１０  ［ｇ／ｍ２／ｄａｙ］・・・・・式（２）
（ここで、ｄｂ［μｍ］は低透湿層の膜厚であり、上記の通り、低透湿層積層前後の膜厚差から求めることができる。）
【００７０】
本発明の光学フィルムの低透湿層は透湿度ハードコート層機能、反射防止機能、防汚機能などを併せて持たせることも好ましい。
【００７１】
｛基材フィルム｝
［基材フィルムの材質］
基材フィルムを形成する材料としては、光学性能透明性、機械的強度、熱安定性、等方性などに優れるポリマーが好ましい。本発明でいう透明とは、可視光の透過率が６０％以上であることを示し、好ましくは８０％以上であり、特に好ましくは９０％以上である。例えば、ポリカーボネート系ポリマー、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等の（メタ）アクリル系ポリマー、ポリスチレンやアクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマーなどがあげられる。また、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体の如きポリオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、又は上記ポリマーを混合したポリマーも例としてあげられる。また本発明の高分子フィルムは、アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の紫外線硬化型、熱硬化型の樹脂の硬化層として形成することもできる。
【００７２】
また、基材フィルムを形成する材料としては、従来偏光板の透明保護フィルムとして用いられてきた、トリアセチルセルロースに代表される、セルロース系ポリマー（特に好ましくは、セルロースアシレート）も好ましく用いることができる。また、近年偏光板保護フィルムとして導入が提案されているアクリル系フィルムにも好ましく用いることができる。以下に、本発明の基材フィルムの例として、主にセルロースアシレートと（メタ）アクリル系ポリマーについて詳細を説明するが、その技術的事項は、他の高分子フィルムについても同様に適用できる。
【００７３】
［セルロースアシレート置換度］
次に上述のセルロースを原料に製造される本発明のセルロースアシレートについて記載する。セルロースアシレートはセルロースの水酸基がアシル化されたもので、その置換基はアシル基の炭素原子数が２のアセチル基から炭素原子数が２２のものまでいずれも用いることができる。本発明のセルロースアシレートにおいて、セルロースの水酸基へのアシル基の置換度は特に限定されないが、セルロースの水酸基をアシル化する酢酸及び／又は炭素原子数３〜２２のカルボン酸の結合度を測定し、計算によって置換度を得ることができる。測定方法としては、ＡＳＴＭのＤ−８１７−９１に準じて実施することが出来る。
【００７４】
セルロースの水酸基へのアシル基の置換度は特に限定されないが、２．５０〜３．００であることが好ましく、２．７５〜３．００であることがより好ましく、２．８５〜３．００であることが更に好ましい。
【００７５】
セルロースの水酸基をアシル化する酢酸及び／又は炭素原子数３〜２２のカルボン酸としては、脂肪族カルボン酸でも芳香族カルボン酸でもよく、単一でも２種類以上の混合物でもよい。これらによりアシル化されたセルロースエステルとしては、例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステルあるいは芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、それぞれ更に置換された基を有していてもよい。好ましいアシル基としては、アセチル基、プロピオニル基、ｎ−ブタノイル基、へプタノイル基、ヘキサノイル基、オクタノイル基、デカノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイル基、テトラデカノイル基、ヘキサデカノイル基、オクタデカノイル基、ｉｓｏ−ブタノイル基、シクロヘキサンカルボニル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などを挙げることが出来る。これらの中でも、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ドデカノイル基、オクタデカノイル基、ｔ−ブタノイル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などが好ましく、アセチル基、プロピオニル基、ｎ−ブタノイル基がより好ましい。
【００７６】
＜セルロースアシレート系基材フィルム＞
［セルロースアシレートの重合度］
本発明で好ましく用いられるセルロースアシレートの重合度は、粘度平均重合度で１８０〜７００であり、セルロースアセテートにおいては、１８０〜５５０がより好ましく、１８０〜４００が更に好ましく、１８０〜３５０が特に好ましい。
【００７７】
上記基材フィルムは、（メタ）アクリル系重合体であることも好ましく、主鎖にラクトン環構造、無水グルタル酸環構造、及びグルタルイミド環構造のいずれか少なくとも１種を有する（メタ）アクリル系重合体であることがより好ましい。
【００７８】
なお、（メタ）アクリル系重合体は、メタクリル系重合体とアクリル系重合体の両方を含む概念である。また、（メタ）アクリル系重合体には、アクリレート／メタクリレートの誘導体、特にアクリレートエステル／メタクリレートエステルの（共）重合体も含まれる。
【００７９】
（（メタ）アクリル系重合体）
上記（メタ）アクリル系重合体は、繰り返し構造単位として（メタ）アクリル酸エステル単量体由来の繰り返し構造単位を有することが好ましい。
【００８０】
上記（メタ）アクリル系重合体は、繰り返し構造単位として、更に、水酸基含有単量体、不飽和カルボン酸及び下記一般式（２０１）で表される単量体から選ばれる少なくとも１種を重合して構築される繰り返し構造単位を含んでいてもよい。
【００８１】
一般式（２０１）
ＣＨ２＝Ｃ（Ｘ）Ｒ２０１
【００８２】
（式中、Ｒ２０１は水素原子又はメチル基を表し、Ｘは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、アリール基、−ＣＮ基、−ＣＯ−Ｒ２０２基、又は−Ｏ−ＣＯ−Ｒ２０３基を表し、Ｒ２０２及びＲ２０３は水素原子又は炭素数１〜２０の有機残基を表す。）
【００８３】
上記（メタ）アクリル酸エステルとしては、特に限定されないが、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸ｔ−ブチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸ベンジルなどのアクリル酸エステル；メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸ｔ−ブチル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジルなどのメタクリル酸エステル；などが挙げられ、これらは１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも特に、耐熱性、透明性が優れる点から、メタクリル酸メチルが好ましい。
上記（メタ）アクリル酸エステルを用いる場合、重合工程に供する単量体成分中のその含有割合は、本発明の効果を十分に発揮させる上で、好ましくは１０〜１００質量％、より好ましくは１０〜１００質量％、更に好ましくは４０〜１００質量％、特に好ましくは５０〜１００質量％である。
【００８４】
上記水酸基含有単量体としては、α−ヒドロキシメチルスチレン、α−ヒドロキシエチルスチレン、２−（ヒドロキシエチル）アクリル酸メチルなどの２−（ヒドロキシアルキル）アクリル酸エステル；２−（ヒドロキシエチル）アクリル酸などの２−（ヒドロキシアルキル）アクリル酸；などが挙げられ、これらは１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
上記水酸基含有単量体を用いる場合、重合工程に供する単量体成分中のその含有割合は、本発明の効果を十分に発揮させる上で、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、更に好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。
【００８５】
上記不飽和カルボン酸としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、α−置換アクリル酸、α−置換メタクリル酸などが挙げられ、これらは１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも特に、本発明の効果を十分に発揮させる点で、アクリル酸、メタクリル酸が好ましい。
上記不飽和カルボン酸を用いる場合、重合工程に供する単量体成分中のその含有割合は、本発明の効果を十分に発揮させる上で、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、更に好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。
【００８６】
上記一般式（２０１）で表される単量体としては、例えば、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン、アクリロニトリル、メチルビニルケトン、エチレン、プロピレン、酢酸ビニルなどが挙げられ、これらは１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも特に、本発明の効果を十分に発揮させる点で、スチレン、α−メチルスチレンが好ましい。
上記一般式（２０１）で表される単量体を用いる場合、重合工程に供する単量体成分中のその含有割合は、本発明の効果を十分に発揮させる上で、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、更に好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。
【００８７】
［主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル系重合体］
（メタ）アクリル系重合体の中でも主鎖に環構造を有するものが好ましい。主鎖に環構造を導入することで、主鎖の剛直性を高め、耐熱性を向上することができる。
本発明では主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル系重合体の中でも主鎖にラクトン環構造を含有する重合体、主鎖に無水グルタル酸環構造を有する重合体、主鎖にグルタルイミド環構造を有する重合体のいずれかであることが好ましい。中でも主鎖にラクトン環構造を形成する重合体であることがより好ましい。
以下のこれらの主鎖に環構造を有する重合体について順に説明する。
【００８８】
（主鎖にラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系重合体）
主鎖にラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系重合体（以降ラクトン環含有重合体とも称す）は、主鎖にラクトン環を有する（メタ）アクリル系重合体であれば特に限定されないが、好ましくは下記一般式（４０１）で示されるラクトン環構造を有する。
【００８９】
一般式（４０１）：
【００９０】
【化１１】
2014119487.tif 000012
【００９１】
一般式（４０１）中、Ｒ４０１、Ｒ４０２及びＲ４０３は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素原子数１〜２０の有機残基を表し、有機残基は酸素原子を含有していてもよい。ここで、炭素原子数１〜２０の有機残基としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基などが好ましい。
【００９２】
ラクトン環含有重合体の構造中における上記一般式（４０１）で示されるラクトン環構造の含有割合は、好ましくは５〜９０質量％、より好ましくは１０〜７０質量％、更に好ましくは１０〜６０質量％、特に好ましくは１０〜５０質量％である。ラクトン環構造の含有割合を５質量％以上とすることにより、得られた重合体の耐熱性、及び表面硬度が向上する傾向にあり、ラクトン環構造の含有割合を９０質量％以下とすることにより、得られた重合体の成形加工性が向上する傾向にある。
【００９３】
ラクトン環含有重合体の製造方法については、特に限定はされないが、好ましくは、重合工程によって分子鎖中に水酸基とエステル基とを有する重合体（ｐ）を得た後に、得られた重合体（ｐ）を加熱処理することによりラクトン環構造を重合体に導入するラクトン環化縮合工程を行うことによって得られる。
【００９４】
ラクトン環含有重合体の質量平均分子量は、好ましくは１，０００〜２，０００，０００、より好ましくは５，０００〜１，０００，０００、更に好ましくは１０，０００〜５００，０００、特に好ましくは５０，０００〜５００，０００である。
【００９５】
ラクトン環含有重合体は、ダイナミックＴＧ測定における１５０〜３００℃の範囲内での質量減少率が、好ましくは１％以下、より好ましくは０．５％以下、更に好ましくは０．３％以下であるのがよい。ダイナミックＴＧの測定方法については、特開２００２−１３８１０６号公報に記載の方法を用いることができる。
【００９６】
ラクトン環含有重合体は、環化縮合反応率が高いので、成型品の製造過程で脱アルコール反応が少なく、該アルコールを原因とした成形後の成形品中に泡や銀条（シルバーストリーク）が入るという欠点が回避できる。更に、高い環化縮合反応率によって、ラクトン環構造が重合体に充分に導入されるので、得られたラクトン環含有重合体は高い耐熱性を有する。
【００９７】
ラクトン環含有重合体は、濃度１５質量％のクロロホルム溶液にした場合、その着色度（ＹＩ）が、好ましくは６以下、より好ましくは３以下、更に好ましくは２以下、特に好ましくは１以下である。着色度（ＹＩ）が６以下であれば、着色により透明性が損なわれるなどの不具合が生じにくいので、本発明において好ましく使用することができる。
【００９８】
ラクトン環含有重合体は、熱質量分析（ＴＧ）における５％質量減少温度が、好ましくは３３０℃以上、より好ましくは３５０℃以上、更に好ましくは３６０℃以上である。熱質量分析（ＴＧ）における５％質量減少温度は、熱安定性の指標であり、これを３３０℃以上とすることにより、充分な熱安定性が発揮されやすい傾向にある。熱質量分析は、上記ダイナミックＴＧの測定の装置を使用することができる。
【００９９】
ラクトン環含有重合体は、ガラス転移温度（Ｔｇ）が、好ましくは１１５℃以上、より好ましくは１２５℃以上、更に好ましくは１３０℃以上、特に好ましくは１３５℃以上、最も好ましくは１４０℃以上である。
【０１００】
ラクトン環含有重合体は、それに含まれる残存揮発分の総量が、好ましくは５，０００ｐｐｍ以下、より好ましくは２，０００ｐｐｍ以下、更に好ましくは１，５００ｐｐｍ、特に好ましくは１，０００ｐｐｍである。残存揮発分の総量が５，０００ｐｐｍ以下であれば、成形時の変質などによって着色したり、発泡したり、シルバーストリークなどの成形不良が起こりにくくなるので好ましい。
【０１０１】
ラクトン環含有重合体は、射出成形により得られる成形品に対するＡＳＴＭ−Ｄ−１００３に準拠した方法で測定された全光線透過率が、好ましくは８５％以上、より好ましくは８８％以上、更に好ましくは９０％以上である。全光線透過率は、透明性の指標であり、これを８５％以上とすると、透明性が向上する傾向にある。
【０１０２】
溶剤を用いた重合形態の場合、重合溶剤は特に限定されず、例えば、トルエン、キシレン、エチルベンゼンなどの芳香族炭化水素系溶剤；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶剤；テトラヒドロフランなどのエーテル系溶剤；などが挙げられ、これらの１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
また、本発明の製造方法の第一の態様では、（メタ）アクリル系樹脂を溶剤に溶解させて溶液流延を行って形成するため、（メタ）アクリル系樹脂の合成時における溶剤は、溶融製膜を行う場合よりも限定されず、沸点が高い溶剤を用いて合成してもよい。
【０１０３】
重合反応時には、必要に応じて、重合開始剤を添加してもよい。重合開始剤としては特に限定されないが、例えば、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート、ｔ−アミルパーオキシ−２−エチルヘキサノエートなどの有機過酸化物；２，２´−アゾビス（イソブチロニトリル）、１，１´−アゾビス（シクロヘキサンカルボニトリル）、２，２´−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）などのアゾ化合物；などが挙げられ、これらは１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。重合開始剤の使用量は、用いる単量体の組み合わせや反応条件などに応じて適宜設定すればよく、特に限定されない。
重合開始剤の量の調整により、重合体の重量平均分子量を調整することができる。
【０１０４】
重合を行う際には、反応液のゲル化を抑止するために、重合反応混合物中の生成した重合体の濃度が５０質量％以下となるように制御することが好ましい。具体的には、重合反応混合物中の生成した重合体の濃度が５０質量％を超える場合には、重合溶剤を重合反応混合物に適宜添加して５０質量％以下となるように制御することが好ましい。重合反応混合物中の生成した重合体の濃度は、より好ましくは４５質量％以下、更に好ましくは４０質量％以下である。
【０１０５】
重合溶剤を重合反応混合物に適宜添加する形態としては、特に限定されず、連続的に重合溶剤を添加してもよいし、間欠的に重合溶剤を添加してもよい。このように重合反応混合物中の生成した重合体の濃度を制御することによって、反応液のゲル化をより十分に抑止することができる。添加する重合溶剤としては、重合反応の初期仕込み時に用いた溶剤と同じ種類の溶剤であってもよいし、異なる種類の溶剤であってもよいが、重合反応の初期仕込み時に用いた溶剤と同じ種類の溶剤を用いることが好ましい。また、添加する重合溶剤は、１種のみの溶剤であってもよいし、２種以上の混合溶剤であってもよい。
【０１０６】
（主鎖に無水グルタル酸環構造を有する重合体）
主鎖に無水グルタル酸環構造を有する重合体とは、グルタル酸無水物単位を有する重合体である。
【０１０７】
グルタル酸無水物単位を有する重合体は、下記一般式（１０１）で表されるグルタル酸無水物単位（以下、グルタル酸無水物単位と呼ぶ）を有することが好ましい。
【０１０８】
一般式（１０１）：
【０１０９】
【化１２】
2014119487.tif 000013
【０１１０】
一般式（１０１）中、Ｒ３１、Ｒ３２は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜２０の有機残基を表す。Ｒ３１、Ｒ３２は、特に好ましくは、同一又は相異なる、水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を表す。
【０１１１】
グルタル酸無水物単位を有する重合体は、グルタル酸無水物単位を含有する（メタ）アクリル系重合体であることが好ましい。（メタ）アクリル系重合体としては、耐熱性の点から１２０℃以上のガラス転移温度（Ｔｇ）を有することが好ましい。
【０１１２】
（メタ）アクリル系重合体に対するグルタル酸無水物単位の含有量としては、５〜５０質量％が好ましく、より好ましくは１０〜４５質量％である。５質量％以上、より好ましくは１０質量％以上とすることにより、耐熱性向上の効果を得ることができ、更には耐候性向上の効果を得ることもできる。
【０１１３】
また、上記の（メタ）アクリル系共重合体は、更に不飽和カルボン酸アルキルエステルに基づく繰り返し単位を含むことが好ましい。不飽和カルボン酸アルキルエステルに基づく繰り返し単位として、例えば、下記一般式（１０２）で表されるものが好ましい。
一般式（１０２）：−［ＣＨ２−Ｃ（Ｒ４１）ＣＯＯＲ４２］−
【０１１４】
一般式（１０２）中、Ｒ４１は水素又は炭素数１〜５のアルキル基を表し、Ｒ４２は炭素数１〜６の脂肪族若しくは脂環式炭化水素基、又は１個以上炭素数以下の数の水酸基若しくはハロゲンで置換された炭素数１〜６の脂肪族若しくは脂環式炭化水素基を表す。
【０１１５】
一般式（１０２）で表される繰り返し単位に対応する単量体は下記一般式（１０３）で表される。
一般式（１０３）：ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ４１）ＣＯＯＲ４２
【０１１６】
このような単量体の好ましい具体例としては、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｎ−へキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸クロロメチル、（メタ）アクリル酸２−クロロエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸２，３，４，５，６−ペンタヒドロキシヘキシル及び（メタ）アクリル酸２，３，４，５−テトラヒドロキシペンチルなどが挙げられ、中でもメタクリル酸メチルが最も好ましく用いられる。これらはその１種を単独で用いてもよいし、又は２種以上を併用してもよい。
【０１１７】
上記の（メタ）アクリル系重合体に対する不飽和カルボン酸アルキルエステル単位の含有量は、５０〜９５質量％が好ましく、より好ましくは５５〜９０質量％である。グルタル酸無水物単位と不飽和カルボン酸アルキルエステル系単位とを有する（メタ）アクリル系重合体は、例えば、不飽和カルボン酸アルキルエステル系単位と不飽和カルボン酸単位とを有する共重合体を重合環化させることにより得ることができる。
【０１１８】
不飽和カルボン酸単位としては、例えば、下記一般式（１０４）で表されるものが好ましい。
一般式（１０４）：−［ＣＨ２―Ｃ（Ｒ５１）ＣＯＯＨ］−
ここでＲ５１は水素又は炭素数１〜５のアルキル基を表す。
【０１１９】
不飽和カルボン酸単位を誘導する単量体の好ましい具体例としては、一般式（１０４）で表される繰り返し単位に対応する単量体である下記一般式（１０５）で表される化合物、並びにマレイン酸、及び更には無水マレイン酸の加水分解物などが挙げられるが、熱安定性が優れる点でアクリル酸、メタクリル酸が好ましく、より好ましくはメタクリル酸である。
一般式（１０５）：ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ５１）ＣＯＯＨ
【０１２０】
これらはその１種を単独で用いてもよいし、又は２種以上を併用してもよい。上記のように、グルタル酸無水物単位と不飽和カルボン酸アルキルエステル系単位とを有するアクリル系熱可塑性共重合体は、例えば不飽和カルボン酸アルキルエステル系単位と不飽和カルボン酸単位とを有する共重合体を重合環化させることにより得ることができるものであるから、その構成単位中に不飽和カルボン酸単位を残して有していてもよい。
【０１２１】
上記の（メタ）アクリル系重合体に対する不飽和カルボン酸単位の含有量としては１０質量％以下が好ましく、より好ましくは５質量％以下である。１０質量％以下とすることで、無色透明性、滞留安定性の低下を防ぐことができる。
【０１２２】
また、上記（メタ）アクリル系重合体には、本発明の効果を損なわない範囲で、芳香環を含まないその他のビニル系単量体単位を有していてもよい。芳香環を含まないその他のビニル系単量体単位の具体例としては、対応する単量体でいうと、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、エタクリロニトリルなどのシアン化ビニル系単量体；アリルグリシジルエーテル；無水マレイン酸、無水イタコン酸；Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−エチルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチルアクリルアミド、ブトキシメチルアクリルアミド、Ｎ−プロピルメタクリルアミド；アクリル酸アミノエチル、アクリル酸プロピルアミノエチル、メタクリル酸ジメチルアミノエチル、メタクリル酸エチルアミノプロピル、メタクリル酸シクロヘキシルアミノエチル；Ｎ−ビニルジエチルアミン、Ｎ−アセチルビニルアミン、アリルアミン、メタアリルアミン、Ｎ−メチルアリルアミン；２−イソプロペニル−オキサゾリン、２−ビニル−オキサゾリン、２−アクロイル−オキサゾリンなどを挙げることができる。これらはその１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１２３】
上記の（メタ）アクリル系重合体に対する、芳香環を含まないその他のビニル系単量体単位の含有量としては、３５質量％以下が好ましい。
【０１２４】
なお、芳香環を含むビニル系単量体単位（Ｎ−フェニルマレイミド、メタクリル酸フェニルアミノエチル、ｐ−グリシジルスチレン、ｐ−アミノスチレン、２−スチリル−オキサゾリンなど）ついては、耐擦傷性、耐候性を低下させる傾向にあるため、上記の（メタ）アクリル系重合体に対する含有量としては１質量％以下にとどめるのが好ましい。
【０１２５】
（主鎖にグルタルイミド環構造を有する（メタ）アクリル系重合体）
主鎖にグルタルイミド環構造を有する（メタ）アクリル系重合体（以降グルタルイミド系樹脂とも称す）は、主鎖にグルタルイミド環構造を有することによって光学特性や耐熱性などの点で好ましい特性バランスを発現できる。上記主鎖にグルタルイミド環構造を有する（メタ）アクリル系重合体は、少なくとも下記一般式（３０１）：
【０１２６】
一般式（３０１）
【０１２７】
【化１３】
2014119487.tif 000014
【０１２８】
で表されるグルタルイミド単位（但し、式中、Ｒ３０１、Ｒ３０２、Ｒ３０３は独立に水素又は炭素数１〜１２個の非置換の又は置換のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基である。）を２０質量％以上有するグルタルイミド樹脂を含有することが好ましい。
【０１２９】
本発明に用いられるグルタルイミド系樹脂を構成する好ましいグルタルイミド単位としては、Ｒ３０１、Ｒ３０２が水素又はメチル基であり、Ｒ３０３がメチル基又はシクロヘキシル基である。該グルタルイミド単位は、単一の種類でもよく、Ｒ３０１、Ｒ３０２、Ｒ３０３が異なる複数の種類を含んでいてもよい。
【０１３０】
本発明に用いられる、グルタルイミド系樹脂を構成する好ましい第二の構成単位としては、アクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルからなる単位である。好ましいアクリル酸エステル又はメタクリル酸エステル構成単位としてはアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸メチル等が挙げられる。また、別の好ましいイミド化可能な単位として、Ｎ−メチルメタクリルアミドや、Ｎ−エチルメタクリルアミドのような、Ｎ−アルキルメタクリルアミドが挙げられる。これら第二の構成単位は単独の種類でもよく、複数の種類を含んでいてもよい。
【０１３１】
グルタルイミド系樹脂の、一般式（３０１）で表されるグルタルイミド単位の含有量は、グルタルイミド系樹脂の総繰り返し単位を基準として、２０質量％以上であることが好ましい。グルタルイミド単位の、より好ましい含有量は、２０質量％〜９５質量％であり、更に好ましくは５０〜９０質量％、特に好ましくは、６０〜８０質量％である。グルタルイミド単位が２０質量％以上であることで、得られるフィルムは耐熱性、透明性の性能面で好ましい。また９５質量％以下であることでフィルム化しやすく、得られるフィルムの機械的強度が保て、透明性の面でも優れる。
【０１３２】
グルタルイミド系樹脂は、必要に応じ、更に、第三の構成単位が共重合されていてもかまわない。好ましい第三の構成単位の例としては、スチレン、置換スチレン、α−メチルスチレンなどのスチレン系単量体、ブチルアクリレートなどのアクリル系単量体、アクリロニトリルやメタクリロニトリル等のニトリル系単量体、マレイミド、Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミドなどのマレイミド系単量体を共重合してなる構成単位を用いることができる。これらはグルタルイミド系樹脂中に、該グルタルイミド単位とイミド化可能な単位と直接共重合してあっても良く、また、該グルタルイミド単位とイミド化可能な単位を有する樹脂に対してグラフト共重合してあってもかまわない。第３成分は、これを添加する場合は、グルタルイミド系樹脂中の含有率は、グルタルイミド系樹脂中の総繰り返し単位を基準として５モル％以上、３０モル％以下であることが好ましい。
【０１３３】
グルタルイミド系樹脂は、米国特許３２８４４２５号、米国特許４２４６３７４号、特開平２−１５３９０４号公報等に記載されており、イミド化可能な単位を有する樹脂としてメタクリル酸メチルエステルなどを主原料として得られる樹脂を用い、該イミド化可能な単位を有する樹脂をアンモニア又は置換アミンを用いてイミド化することにより得ることができる。グルタルイミド系樹脂を得る際に、反応副生成物としてアクリル酸やメタクリル酸、あるいはその無水物から構成される単位がグルタルイミド系樹脂中に導入される場合がある。このような構成単位、特に酸無水物の存在は、得られる本発明フィルムの全光線透過率やヘイズを低下させるため、好ましくない。アクリル酸やメタクリル酸含量として、樹脂１ｇ当たり０．５ミリ当量以下、好ましくは０．３ミリ当量以下、より好ましくは０．１ミリ当量以下とすることが望ましい。また、特開平０２−１５３９０４号公報にみられるように、主としてＮ−メチルアクリルアミドとメタクリル酸メチルエステルから成る樹脂を用いてイミド化することにより、グルタルイミド系樹脂を得ることも可能である。
【０１３４】
また、グルタルイミド系樹脂は、１×１０４ないし５×１０５の重量平均分子量を有することが好ましい。
【０１３５】
＜紫外線吸収剤＞
上記基材フィルムに好ましく使用される紫外線吸収剤について説明する。上記基材フィルムを含む本発明の光学フィルムは、偏光板又は液晶表示用部材等に使用されるが、偏光板又は液晶等の劣化防止の観点から、紫外線吸収剤が好ましく用いられる。紫外線吸収剤としては、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられる。紫外線吸収剤は１種のみ用いても良いし、２種以上を併用しても良い。例えば、特開２００１−７２７８２号公報や特表２００２−５４３２６５号公報に記載の紫外線吸収剤が挙げられる。紫外線吸収剤の具体例としては、例えばオキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられる。
【０１３６】
その中でも、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン、ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニルメタン）、（２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２（２’−ヒドロキシ−３’，５‘−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、（２（２’−ヒドロキシ−３’，５‘−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２，２−チオ−ジエチレンビス〔３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナミド）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレイトなどが挙げられる。特に（２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２（２’−ヒドロキシ−３’，５‘−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、（２（２’−ヒドロキシ−３’，５‘−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕が好ましい。また例えば、Ｎ，Ｎ′−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル〕ヒドラジンなどのヒドラジン系の金属不活性剤やトリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フォスファイトなどの燐系加工安定剤を併用してもよい。
【０１３７】
紫外線吸収剤は、紫外線吸収能を有する構成単位として樹脂に導入することもできる。例えば、重合性基を導入したベンゾトリアゾール誘導体、トリアジン誘導体又はベンゾフェノン誘導体である。導入する重合性基は、樹脂が有する構成単位に応じて、適宜選択できる。
【０１３８】
単量体の具体例は、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メタクリロイルオキシ）エチルフェニル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール（大塚化学製、商品名ＲＵＶＡ−９３）、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メタクリロイルオキシ）フェニル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メタクリロイルオキシ）フェニル−２Ｈ−ベンゾトリアゾールである。
【０１３９】
（その他の添加剤）
上記基材フィルムには、マット剤、レターデーション発現剤、可塑剤、紫外線吸収剤、劣化防止剤、剥離剤、赤外線吸収剤、波長分散調整剤などの添加剤を加えることができ、それらは固体でもよく油状物でもよい。すなわち、その融点や沸点において特に限定されるものではない。例えば２０℃以下と２０℃以上の紫外線吸収材料の混合や、同様に可塑剤の混合などであり、例えば特開２００１−１５１９０１号などに記載されている。更にまた、赤外吸収染料としては例えば特開２００１−１９４５２２号に記載されている。またその添加する時期はドープ作製工程において何れで添加しても良いが、ドープ調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。更にまた、各素材の添加量は機能が発現する限りにおいて特に限定されない。また、光学フィルムが多層から形成される場合、各層の添加物の種類や添加量が異なってもよい。例えば特開２００１−１５１９０２号などに記載されているが、これらは従来から知られている技術である。これらの詳細は、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて１６頁〜２２頁に詳細に記載されている素材が好ましく用いられる。
【０１４０】
また上記基材フィルムには、ゴム状粒子を含有しても良い。たとえば、軟質アクリル系樹脂、アクリルゴム、及び、ゴム−アクリル系グラフト型コアシェルポリマーなどアクリル粒子、又はスチレン−エラストマー共重合体があげられる。更に、特公昭６０−１７４０６、特公平３−３９０９５号公報等に記載の、耐衝撃性、耐応力白化性が改善する添加剤も好ましく用いられる。
【０１４１】
上記基材フィルムにおいては、これらの添加剤を添加する場合、添加剤の総量は、基材フィルムに対して５０質量％以下であることが好ましく、３０質量％以下であることが好ましい。
これらの添加剤により、フィルムの脆性が改良され、フィルムの耐折試験（１８０度折り曲げ時の割れ評価など）が大幅に改善する。
また、低ヘイズを達成するためには、上記添加物の屈折率は基材フィルムと略同一の屈折率を持つ事が好ましく、屈折率差は０．５以下が好ましく、０．３以下がより好ましい。
【０１４２】
＜基材フィルムの特性＞
（基材フィルムの厚さ）
上記基材フィルムの膜厚は、５〜１００μｍが好ましく、１０〜８０μｍがより好ましく、１５〜７０μｍが特に好ましく、２０〜６０μｍがより特に好ましい。膜厚を上記の範囲に制御することで低透湿層を積層した後に液晶表示装置の置かれる環境、すなわち温湿度変化に伴うパネルのムラ小さくすることができる。
【０１４３】
（基材フィルムの透湿度）
上記基材フィルムの透湿度は、ＪＩＳ  Ｚ−０２０８をもとに、４０℃、相対湿度９０％の条件において測定される。
上記基材フィルムの透湿度は、３００ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であることが好ましく、２５０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であることがより好ましく、２００ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であることが更に好ましく、１５０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であることが特に好ましい。基材フィルムの透湿度を上記範囲に制御することで、低透湿層を積層した光学フィルム（本発明の光学フィルム）を搭載した液晶表示装置の常温、高湿及び高温高湿環境経時後の、液晶セルの反りや、光漏れを抑制できる。
【０１４４】
（基材フィルムの単位膜厚当たりの透湿度）
低透湿層の（単位膜厚当たりの透湿度）で説明したように、基材フィルム１０μｍの透湿度は以下の式で与えられる。
Ｃｓ（１０μｍ）＝Ｊｓ×ｄｓ／１０  ［ｇ／ｍ２／ｄａｙ］
（ここで、ｄｓ［μｍ］は基材フィルムの膜厚であり、Ｊｓは基材フィルムの透湿度である。）
基材フィルムの膜厚が１０μｍに対する透湿度は５０〜２０００ｇ／ｍ２／ｄａｙが好ましく、８０〜１５００ｇ／ｍ２／ｄａｙがより好ましく、１００〜１０００ｇ／ｍ２／ｄａｙがより好ましく、１５０〜８００ｇ／ｍ２／ｄａｙが特に好ましい。
（透湿度は、ＪＩＳ  Ｚ−０２０８の手法で、４０℃、相対湿度９０％で２４時間経過後の値である。）
また、基材フィルムと低透湿層の膜厚が１０μｍの透湿度Ｃｂ（１０μｍ）／Ｃｓ（１０μｍ）は、１．５〜３０であることが好ましく、２〜２０であることがより好ましく、３〜１０であることが特に好ましい。
下限値以上で充分な低透湿効果が得られ、上限値以下でカールを抑止できる。
【０１４５】
（基材フィルムの酸素透過係数）
透湿度を低減するためには、フィルム中の水の拡散を抑える事が好ましく、すなわちフィルムの自由体積を下げる事が好ましい。一般的にフィルムの自由体積はフィルムの酸素透過係数と相関する。
上記基材フィルムの酸素透過係数は、１００ｃｃ・ｍｍ／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下が好ましく、３０ｃｃ・ｍｍ／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下がより好ましい。
【０１４６】
（基材フィルムの平衡含水率）
上記基材フィルムの含水率（平衡含水率）は、偏光板の保護フィルムとして用いる際、ポリビニルアルコールなどの水溶性熱可塑性との接着性を損なわないために、膜厚のいかんに関わらず、２５℃、相対湿度８０％における含水率が、０〜４質量％であることが好ましい。０〜２．５質量％であることがより好ましく、０〜１．５質量％であることが更に好ましい。平衡含水率が４質量％以下であれば、レターデーションの湿度変化による依存性が大きくなり過ぎず、液晶表示装置の常温、高湿及び高温高湿環境経時後の光漏れを抑止の点からも好ましい。
含水率の測定は、フィルム試料７ｍｍ×３５ｍｍを水分測定器、試料乾燥装置“ＣＡ−０３”及び“ＶＡ−０５”｛共に三菱化学（株）製｝にて、カールフィッシャー法により水分量（ｇ）を求めた後、水分量（ｇ）を試料質量（ｇ）で除して行うことができる。
【０１４７】
（基材フィルムの寸度変化）
上記基材フィルムの寸度安定性は、６０℃、相対湿度９０％の条件下に２４時間静置した場合（高湿）の寸度変化率、及び８０℃、ＤＲＹ環境（相対湿度５％以下）の条件下に２４時間静置した場合（高温）の寸度変化率が、いずれも０．５％以下であることが好ましい。より好ましくは０．３％以下であり、更に好ましくは０．１５％以下である。
【０１４８】
＜基材フィルムの製造方法＞
上記基材フィルムの製造方法は、熱可塑性樹脂及び溶剤を含む高分子溶液を支持体上に流延して高分子膜（上記基材フィルム）を形成する工程、あるいは、熱可塑性樹脂を溶融製膜して基材フィルムを形成する工程を含むことが好ましい。すなわち、上記基材フィルムは、上記熱可塑性樹脂及び溶剤を含む高分子溶液を支持体上に流延して製膜されてなること、あるいは、熱可塑性樹脂を溶融製膜されてなることが好ましく、熱可塑性樹脂を溶融製膜されてなることがより好ましい。
【０１４９】
（表面処理）
基材フィルムは、場合により表面処理を行うことによって、基材フィルムと低透湿層やそれ以外の層（例えば、偏光子、下塗層及びバック層）との接着の向上を達成することができる。例えばグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸又はアルカリ処理を用いることができる。ここでいうグロー放電処理とは、１０−３〜２０Ｔｏｒｒの低圧ガス下でおこる低温プラズマでもよく、更にまた大気圧下でのプラズマ処理も好ましい。プラズマ励起性気体とは上記のような条件においてプラズマ励起される気体をいい、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、テトラフルオロメタンの様なフロン類及びそれらの混合物などがあげられる。これらについては、詳細が発明協会公開技報（公技番号  ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて３０頁〜３２頁に詳細に記載されており、本発明において好ましく用いることができる。
【０１５０】
｛機能層｝
また本発明の光学フィルムは上記低透湿層を有するが、更に、少なくとも一方の表面に、機能層を積層してもよい。この機能層の種類は特に限定されないが、ハードコート層、反射防止層（低屈折率層、中屈折率層、高屈折率層など屈折率を調整した層）、防眩層、帯電防止層、紫外線吸収層、密着層（基材と低透湿層や機能性層の密着性を向上させる層）などが挙げられる。
上記機能層は、１層であってもよいし、複数層設けてもよい。上記機能層の積層方法は特に限定されない。
機能層は基材フィルムの低透湿層を設けた面に積層しても良い。この場合、機能層が低透湿層と接していても接していなくても良い。また、低透湿層を積層していない面に積層しても良い。複数の機能層を積層する場合一つの機能層を低透湿層上に積層し、もう一つの機能層を低透湿層が積層していない面に積層することもできる。なかでも低透湿層を積層後の本発明の光学フィルム上に、更に他の機能層を塗設して設けることが好ましい。
【０１５１】
｛光学フィルムの特性｝
（光学フィルムの膜厚）
本発明の光学フィルムの膜厚（基材フィルムに低透湿層を積層した後の総膜厚）は、５〜１００μｍが好ましく、１０〜８０μｍがより好ましく、１５〜７５μｍが特に好ましい。
【０１５２】
［光学フィルムの層構成］
本発明の光学フィルムは、基材フィルムの一方の面上に低透湿層を有し、偏光板保護フィルムでありかつ、液晶表示装置の表面フィルムであることが好ましい。本発明の光学フィルムが表面フィルムの場合、ハードコート層が積層されていることが好ましい。この場合の好ましい層構成を以下に示す。
【０１５３】
基材フィルム／低透湿層／ハードコート層
基材フィルム／密着層／低透湿層／ハードコート層
基材フィルム／ハードコート層／低透湿層
基材フィルム／密着層／ハードコート層／低透湿層
低透湿層／基材フィルム／ハードコート層
基材フィルム／低透湿層／ハードコート層／反射防止層
基材フィルム／ハードコート層／低透湿層／反射防止層
低透湿層／基材フィルム／ハードコート層／反射防止層
基材フィルム／低透湿層／ハードコート層／反射防止層／防汚層
【０１５４】
［ハードコート層］
本発明の光学フィルムには、機能層としてハードコート層を設けることも好ましい。
本発明において、ハードコート層とは、該層を形成することで透明支持体の鉛筆硬度が上昇する層をいう。実用的には、ハードコート層積層後の鉛筆硬度（ＪＩＳ  Ｋ−５４００）はＨ以上が好ましく、更に好ましくは２Ｈ以上であり、最も好ましくは３Ｈ以上である。
ハードコート層の厚みは、０．４〜３５μｍが好ましく、更に好ましくは１〜３０μｍであり、最も好ましくは１．５〜２０μｍである。
本発明においてハードコート層は１層でも複数でもかまわない。ハードコート層が複数層の場合、全てのハードコート層の膜厚の合計が上位範囲であることが好ましい。
本発明の光学フィルムのハードコート層の表面は平坦であって凹凸があっても構わない。また、必要に応じて、表面凹凸や内部散乱付与のためにハードコート層に透光性粒子を含有させることもできる。
【０１５５】
［ハードコート層形成材料物］
本発明において、ハードコート層は、エチレン性不飽和二重結合を有する化合物、重合開始剤、必要に応じて、透光性粒子、含フッ素又はシリコーン系化合物、溶剤を含有する組成物を、支持体上に直接又は他の層を介して塗布・乾燥・硬化することにより形成することができる。以下各成分について説明する。
【０１５６】
［エチレン性不飽和二重結合を有する化合物］
本発明のハードコート層形成用組成物にはエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を含有することができる。エチレン性不飽和二重結合を有する化合物はバインダーとして機能することができ、重合性不飽和基を２つ以上有する多官能モノマーであることが好ましい。該重合性不飽和基を２つ以上有する多官能モノマーは、硬化剤として機能することができ、塗膜の強度や耐擦傷性を向上させることが可能となる。重合性不飽和基は３つ以上であることがより好ましい。これらモノマーは、１又は２官能のモノマーと３官能以上のモノマーを併用して用いることもできる。
【０１５７】
エチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の重合性官能基を有する化合物が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基及び−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ２が好ましい。特に好ましくは下記の１分子内に３つ以上の（メタ）アクリロイル基を含有する化合物を用いることができる。
【０１５８】
重合性の不飽和結合を有する化合物の具体例としては、アルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、ポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、エチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類、エポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ）アクリレート類、ポリエステル（メタ）アクリレート類等を挙げることができる。
【０１５９】
中でも、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル類が好ましい。例えば、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられる。
【０１６０】
（メタ）アクリロイル基を有する多官能アクリレート系化合物類は市販されているものを用いることもでき、新中村化学工業（株）社製ＮＫエステル  Ａ−ＴＭＭＴ、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ等を挙げることができる。多官能モノマーについては、特開２００９−９８６５８号公報の段落［０１１４］〜［０１２２］に記載されており、本発明においても同様である。
【０１６１】
エチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、水素結合性の置換基を有する化合物であることが、支持体との密着性、低カール、後述する含フッ素又はシリコーン系化合物の固定性の点から好ましい。水素結合性の置換基とは、窒素、酸素、硫黄、ハロゲンなどの電気陰性度が大きな原子と水素結合とが共有結合で結びついた置換基を指し、具体的にはＯＨ−、ＳＨ−、−ＮＨ−、ＣＨＯ−、ＣＨＮ−などが挙げられ、ウレタン（メタ）アクリレート類や水酸基を有する（メタ）アクリレート類が好ましい。市販されている（メタ）アクリロイル基を有する多官能アクリレートを用いることもでき、新中村化学工業（株）社製ＮＫオリゴ  Ｕ４ＨＡ、同ＮＫエステルＡ−ＴＭＭ−３、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ  ＰＥＴ−３０等を挙げることができる。
【０１６２】
本発明のハードコート層形成用組成物中のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物の含有量は、十分な重合率を与えて硬度などを付与するため、ハードコート層形成用組成物中の無機成分を除いた全固形分に対して、５０質量％以上が好ましく、６０〜９９質量％がより好ましく、７０〜９９質量％が更に好ましく、８０〜９９質量％が特に好ましい。
【０１６３】
本発明ではハードコート層形成用組成物に分子内に環状脂肪族炭化水素とエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を用いることも好ましい。このような化合物を用いることで、ハードコート層に低透湿性を付与することができる。ハードコート性を高めるために、分子内に環状脂肪族炭化水素とエチレン性不飽和二重結合を２以上有する化合物を用いることがより好ましい。
ハードコート層形成用組成物が分子内に環状脂肪族炭化水素とエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を含有する場合、分子内に環状脂肪族炭化水素とエチレン性不飽和二重結合を有する化合物はハードコート層形成用組成物中のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物中、１〜９０質量％が好ましく、２〜８０質量％がより好ましく、５〜７０質量％が特に好ましい。
【０１６４】
ハードコート層形成用組成物が分子内に環状脂肪族炭化水素とエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を含有する場合、更に５官能以上の（メタ）アクリレートを含有することが好ましい。
ハードコート層形成用組成物が更に、５官能以上の（メタ）アクリレートを含有する場合、５官能以上の（メタ）アクリレートは、ハードコート層形成用組成物中のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物中、１〜７０質量％が好ましく、２〜６０質量％がより好ましく、５〜５０質量％が特に好ましい。
【０１６５】
［透光性粒子］
本発明のハードコート層に透光性粒子を含有させることで、ハードコート層表面に凹凸形状を付与したり、内部ヘイズを付与することもできる。
【０１６６】
ハードコート層に用いることができる透光性粒子としては、ポリメチルメタクリレート粒子（屈折率１．４９）、架橋ポリ（アクリル−スチレン）共重合体粒子（屈折率１．５４）、メラミン樹脂粒子（屈折率１．５７）、ポリカーボネート粒子（屈折率１．５７）、ポリスチレン粒子（屈折率１．６０）、架橋ポリスチレン粒子（屈折率１．６１）、ポリ塩化ビニル粒子（屈折率１．６０）、ベンゾグアナミン−メラミンホルムアルデヒド粒子（屈折率１．６８）、シリカ粒子（屈折率１．４６）、アルミナ粒子（屈折率１．６３）、ジルコニア粒子、チタニア粒子、又は中空や細孔を有する粒子等が挙げられる。
【０１６７】
なかでも架橋ポリ（（メタ）アクリレート）粒子、架橋ポリ（アクリル−スチレン）粒子が好ましく用いられ、これらの粒子の中から選ばれた各透光性粒子の屈折率にあわせてバインダーの屈折率を調整することにより、本発明の光学フィルムのハードコート層に好適な表面凹凸、表面ヘイズ、内部ヘイズ、全ヘイズを達成することができる。
【０１６８】
バインダー（透光性樹脂）の屈折率は、１．４５〜１．７０であることが好ましく、より好ましくは１．４８〜１．６５である。
また、透光性粒子と、ハードコート層のバインダーとの屈折率の差（「透光性粒子の屈折率」−「該透光性粒子を除くハードコート層の屈折率」）は、絶対値として、好ましくは０．０５未満であり、より好ましくは０．００１〜０．０３０、更に好ましくは０．００１〜０．０２０である。ハードコート層中の透光性粒子とバインダーとの屈折率の差を０．０５未満にすると、透光性粒子による光の屈折角度が小さくなり、散乱光が広角まで広がらず、光学異方性層の透過光の偏光を解消するなどの悪化作用が無く好ましい。
【０１６９】
上記の粒子とバインダーの屈折率差を実現するためには、透光性粒子の屈折率を調節しても、バインダーの屈折率を調節してもよい。
好ましい第１の態様としては、３官能以上の（メタ）アクリレートモノマーを主成分としたバインダー（硬化後の屈折率が１．５０〜１．５３）とアクリル含率５０〜１００質量パーセントである架橋ポリ（メタ）アクリレート／スチレン重合体からなる透光性粒子を組み合わせて用いることが好ましい。低屈折率であるアクリル成分と高屈折率であるスチレン成分の組成比を調節することで、透光性粒子とバインダーとの屈折率差を０．０５未満にすることが容易である。アクリル成分とスチレン成分の比率は質量比で５０／５０〜１００／０が好ましく、更に好ましくは６０／４０〜１００／０であり、最も好ましくは６５／３５〜９０／１０である。架橋ポリ（メタ）アクリレート／スチレン重合体からなる透光性粒子の屈折率としては、１．４９〜１．５５が好ましく、更に好ましくは１．５０〜１．５４であり、最も好ましくは１．５１〜１．５３である。
好ましい第２の態様としては、３官能以上の（メタ）アクリレートモノマーを主成分としたバインダーに対して、１〜１００ｎｍの平均粒子サイズの無機微粒子を併用することで、モノマーと無機微粒子からなるバインダーの屈折率を調節し、既存の透光性粒子との屈折率差を調節するものである。無機粒子としては、珪素、ジルコニウム、チタン、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも一つの金属の酸化物、具体例としては、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＳｎＯ２、Ｓｂ２Ｏ３、ＩＴＯ等が挙げられる。好ましくは、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２、Ａｌ２Ｏ３などが挙げられる。これら無機粒子は、モノマーの総量に対して１〜９０質量％の範囲で混合して用いることができ、好ましくは５〜６５質量％である。
ここで、該透光性粒子を除くハードコート層の屈折率は、アッベ屈折計で直接測定するか、分光反射スペクトルや分光エリプソメトリーを測定するなどして定量評価できる。上記透光性粒子の屈折率は、屈折率の異なる２種類の溶剤の混合比を変化させて屈折率を変化させた溶剤中に透光性粒子を等量分散して濁度を測定し、濁度が極小になった時の溶剤の屈折率をアッベ屈折計で測定することで測定される。
【０１７０】
透光性粒子の平均粒径は、１．０〜１２μｍが好ましく、より好ましくは３．０〜１２μｍ、更に好ましくは４．０〜１０．０μｍ、最も好ましくは４．５〜８μｍである。屈折率差及び粒子サイズを上記範囲に設定することで、光の散乱角度分布が広角にまで広がらず、ディスプレイの文字ボケ、コントラスト低下を引き起こしにくい。添加する層の膜厚を厚くする必要がなく、カールやコスト上昇といった問題が生じにくい点で、１２μｍ以下が好ましい。更に上記範囲内にすることは、塗工時の塗布量を抑えられ、乾燥が速く、乾燥ムラ等の面状欠陥を生じにくい点でも好ましい。
【０１７１】
透光性粒子の平均粒径の測定方法は、粒子の平均粒径を測る測定方法であれば、任意の測定方法が適用できるが、好ましくは透過型電子顕微鏡（倍率５０万〜２００万倍）で粒子の観察を行い、粒子１００個を観察し、その平均値をもって平均粒子径とできる。
【０１７２】
透光性粒子の形状は特に限定されないが、真球状粒子の他に、異形粒子（例えば、非真球状粒子）といった形状の異なる透光性粒子を併用して用いてもよい。特に非真球状粒子の短軸をハードコート層の法線方向にそろえると、真球粒子に比べ、粒子径が小さなものが使用できるようになる。
【０１７３】
上記透光性粒子は、ハードコート層全固形分中に０．１〜４０質量％含有されるように配合されることが好ましい。より好ましくは１〜３０質量％、更に好ましくは１〜２０質量％、である。透光性粒子の配合比を上記範囲にすることで内部ヘイズを好ましい範囲に制御することができる。
【０１７４】
また、透光性粒子の塗布量は、好ましくは１０〜２５００ｍｇ／ｍ２、より好ましくは３０〜２０００ｍｇ／ｍ２、更に好ましくは１００〜１５００ｍｇ／ｍ２である。
【０１７５】
＜透光性粒子調製、分級法＞
透光性粒子の製造法は、懸濁重合法、乳化重合法、ソープフリー乳化重合法、分散重合法、シード重合法等を挙げることができ、いずれの方法で製造されてもよい。これらの製造法は、例えば「高分子合成の実験法」（大津隆行、木下雅悦共著、化学同人社）１３０頁及び１４６頁から１４７頁の記載、「合成高分子」１巻、ｐ．２４６〜２９０、同３巻、ｐ．１〜１０８等に記載の方法、及び特許第２５４３５０３号明細書、同第３５０８３０４号明細書、同第２７４６２７５号明細書、同第３５２１５６０号明細書、同第３５８０３２０号明細書、特開平１０−１５６１号公報、特開平７−２９０８号公報、特開平５−２９７５０６号公報、特開２００２−１４５９１９号公報等に記載の方法を参考にすることができる。
【０１７６】
透光性粒子の粒度分布はヘイズ値と拡散性の制御、塗布面状の均質性から単分散性粒子が好ましい。粒子径の均一さを表すＣＶ値は１５％以下が好ましく、より好ましくは１３％以下、更に好ましくは１０％以下である。更に平均粒子径よりも２０％以上粒子径が大きな粒子を粗大粒子と規定した場合、この粗大粒子の割合は全粒子数の１％以下であることが好ましく、より好ましくは０．１％以下であり、更に好ましくは０．０１％以下である。このような粒度分布を持つ粒子は、調製又は合成反応後に、分級することも有力な手段であり、分級の回数を上げることやその程度を強くすることで、望ましい分布の粒子を得ることができる。
分級には風力分級法、遠心分級法、沈降分級法、濾過分級法、静電分級法等の方法を用いることが好ましい。
【０１７７】
［増粘剤］
【０１７８】
塗布液の粘度を調整するために増粘剤を用いることができる。
ここでいう増粘剤とは、それを添加することにより液の粘度が増大するものを意味する。
【０１７９】
このような増粘剤としては以下のものが挙げられるが、これに限定されない。
ポリ−ε−カプロラクトン
ポリ−ε−カプロラクトンジオール
ポリ−ε−カプロラクトントリオール
ポリビニルアセテート
ポリ（エチレンアジペート）
ポリ（１，４−ブチレンアジペート）
ポリ（１，４−ブチレングルタレート）
ポリ（１，４−ブチレンスクシネート）
ポリ（１，４−ブチレンテレフタレート）
ポリ（エチレンテレフタレート）
ポリ（２−メチル−１，３−プロピレンアジペート）
ポリ（２−メチル−１，３−プロピレングルタレート）
ポリ（ネオペンチルグリコールアジペート）
ポリ（ネオペンチルグリコール  セバケート）
ポリ（１，３−プロピレンアジペート）
ポリ（１，３−プロピレン  グルタレート）
ポリビニルブチラール
ポリビニルホルマール
ポリビニルアセタール
ポリビニルプロパナール
ポリビニルヘキサナール
ポリビニルピロリドン
ポリアクリル酸エステル
ポリメタクリル酸エステル
セルロースアセテート
セルロースプロピオネート
セルロースアセテートブチレート
【０１８０】
この他にも特開平８−３２５４９１号記載のスメクタイト、マイカ、ベントナイト、シリカ、モンモリロナイトなどの層状化合物及びポリアクリル酸ソーダ、特開平１０−２１９１３６エチルセルロース、ポリアクリル酸、有機粘土など、公知の粘度調整剤やチキソトロピー性付与剤を使用することが出来る。チキソトロピー性付与剤としては、０．３μｍ以下の粒径の層状化合物を有機化処理したものが特に好ましい。０．１μｍ以下の粒径のものが更に好ましい。層状化合物の粒径は、長軸の長さで考えることができる。通常、紫外線硬化型樹脂１００質量部に対して、１〜１０質量部程度とするのが好適である。
【０１８１】
［光重合開始剤］
ハードコート層形成用組成物には光重合開始剤を含有させることが好ましい。低透湿層で説明した光重合開始剤をハードコート層形成用組成物でも好ましく用いることができる。
【０１８２】
ハードコート層形成用組成物中の光重合開始剤の含有量は、ハードコート層形成用組成物に含まれる重合可能な化合物を重合させるのに十分多く、かつ開始点が増えすぎないよう十分少ない量に設定するという理由から、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して、０．５〜８質量％が好ましく、１〜５質量％がより好ましい。
【０１８３】
〔紫外線吸収剤〕
本発明の光学フィルムは、偏光板又は液晶表示装置部材に使用されるが、偏光板又は液晶等の劣化防止の観点から、ＵＶ硬化を阻害しない範囲でハードコート層に紫外線吸収剤を含有することで、光学フィルムに紫外線吸収性を付与することもできる。
【０１８４】
［溶剤］
本発明のハードコート層形成用組成物は、溶剤を含有することができる。溶剤としては、モノマーの溶解性、透光性粒子の分散性、塗工時の乾燥性等を考慮し、各種溶剤を用いることができる。係る有機溶剤としては、例えばジブチルエーテル、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１，３，５−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、フェネトール、炭酸ジメチル、炭酸メチルエチル、炭酸ジエチル、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、γ−プチロラクトン、２−メトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸エチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシエタノール、２−プロポキシエタノール、２−ブトキシエタノール、１，２−ジアセトキシアセトン、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル等メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、シクロヘキシルアルコール、酢酸イソブチル、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、２−オクタノン、２−ペンタノン、２−ヘキサノン、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールイソプロピルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０１８５】
本発明のハードコート層形成用組成物の固形分の濃度は２０〜８０質量％の範囲となるように溶剤を用いるのが好ましく、より好ましくは３０〜７５質量％であり、更に好ましくは４０〜７０質量％である。
【０１８６】
［反射防止層］
上記のようにハードコート層上に反射防止層を積層することも本発明の好ましい態様の一つである。本発明では公知の反射防止層を好ましく用いることができる、中でもＵＶ硬化型の反射防止層が好ましい。
反射防止層は１層構成の膜厚λ／４の低反射率層でも多層構成でも良いが、１層構成の膜厚λ／４の低反射率層が特に好ましい。本発明で好ましく使用することが出来る低屈折材料に関し、以下に説明するが本発明は以下に限定されるものではない。
【０１８７】
［低屈折率層の材料］
以下に低屈折率層の材料について説明する。
【０１８８】
［無機微粒子］
低屈折率化、耐擦傷性改良の観点から、低屈折率層に無機微粒子を用いることが好ましい。該無機微粒子は、平均粒子サイズが５〜１２０ｎｍであれば特に制限はないが、低屈折率化の観点からは、無機の低屈折率粒子が好ましい。
【０１８９】
無機微粒子としては、低屈折率であることからフッ化マグネシウムやシリカの微粒子が挙げられる。特に、屈折率、分散安定性、コストの点でシリカ微粒子が好ましい。これら無機粒子のサイズ（１次粒径）は、５〜１２０ｎｍが好ましく、より好ましくは１０〜１００ｎｍ、２０〜１００ｎｍ、最も好ましくは３０〜９０ｎｍである。
【０１９０】
無機微粒子の粒径が小さすぎると、耐擦傷性の改良効果が少なくなり、大きすぎると低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりといった外観、積分反射率が悪化する。また、後述の中空シリカ微粒子を用いた場合は粒径が小さすぎると、空腔部の割合が減り屈折率の充分な低下が見込めない。無機微粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでも良く、また単分散粒子でも、所定の粒径を満たすならば凝集粒子でも構わない。形状は、球径が最も好ましいが、不定形であってもよい。
【０１９１】
無機微粒子の塗設量は、１ｍｇ／ｍ２〜１００ｍｇ／ｍ２が好ましく、より好ましくは５ｍｇ／ｍ２〜８０ｍｇ／ｍ２、更に好ましくは１０ｍｇ／ｍ２〜６０ｍｇ／ｍ２である。少なすぎると、充分な低屈折率化が見込めなかったり、耐擦傷性の改良効果が減ったりし、多すぎると、低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりなどの外観や積分反射率が悪化する。
【０１９２】
（多孔質又は中空の微粒子）
低屈折率化を図るには、多孔質又は中空構造の微粒子を使用することが好ましい。特に中空構造のシリカ粒子を用いることが好ましい。これら粒子の空隙率は、好ましくは１０〜８０％、更に好ましくは２０〜６０％、最も好ましくは３０〜６０％である。中空微粒子の空隙率を上述の範囲にすることが、低屈折率化と粒子の耐久性維持の観点で好ましい。
【０１９３】
多孔質又は中空粒子がシリカの場合には、微粒子の屈折率は、１．１０〜１．４０が好ましく、更に好ましくは１．１５〜１．３５、最も好ましくは１．１５〜１．３０である。ここでの屈折率は粒子全体として屈折率を表し、シリカ粒子を形成している外殻のシリカのみの屈折率を表すものではない。
【０１９４】
また、中空シリカは粒子平均粒子サイズの異なるものを２種以上併用して用いることができる。ここで、中空シリカの平均粒径は電子顕微鏡写真から求めることができる。
【０１９５】
本発明において中空シリカの比表面積は、２０〜３００ｍ２／ｇが好ましく、更に好ましくは３０〜１２０ｍ２／ｇ、最も好ましくは４０〜９０ｍ２／ｇである。表面積は窒素を用いＢＥＴ法で求めることができる。
【０１９６】
本発明においては、中空シリカと併用して空腔のないシリカ粒子を用いることができる。空腔のないシリカの好ましい粒子サイズは、３０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下、更に好ましくは３５ｎｍ以上１００ｎｍ以下、最も好ましくは４０ｎｍ以上８０ｎｍ以下である。
【０１９７】
［無機微粒子の表面処理方法］
また、本発明においては無機微粒子は常法によりシランカップリング剤等により表面処理して用いることができる。
特に、低屈折率層形成用バインダーへの分散性を改良するために、無機微粒子の表面はオルガノシラン化合物の加水分解物及び／又はその部分縮合物により処理がされているのが好ましく、処理の際に、酸触媒及び金属キレート化合物のいずれか、あるいは両者が使用されることが更に好ましい。無機微粒子の表面の処理方法については、特開２００８−２４２３１４号公報の段落番号［００４６］〜［００７６］に記載されており、該文献に記載されたオルガノシラン化合物、シロキサン化合物、表面処理の溶剤、表面処理の触媒、金属キレート化合物などは本発明においても好適に用いることができる。
【０１９８】
低屈折率層には、（ｂ２）重合性不飽和基を有する含フッ素又は非含フッ素モノマーを用いることができる。非含フッ素モノマーについては、ハードコート層で使用できるとして説明したエチレン性不飽和二重結合を有する化合物も用いることが好ましい。含フッ素のモノマーとしては、下記一般式（１）で表され、フッ素を３５質量％以上含有し、全ての架橋間分子量の計算値が５００よりも小さい含フッ素多官能モノマー（ｄ）を用いることが好ましい。
一般式（１）：  Ｒｆ２｛−（Ｌ）ｍ−Ｙ｝ｎ
（一般式（１）中、Ｒｆ２は少なくとも炭素原子及びフッ素原子を含むｎ価の基を表し、ｎは３以上の整数を表す。Ｌは単結合又は二価の連結基を表し、ｍは０又は１を表す。Ｙは重合性不飽和基を表す。）
Ｒｆ２は酸素原子及び水素原子の少なくともいずれかを含んでも良い。また、Ｒｆ２は鎖状（直鎖又は分岐）又は環状である。
【０１９９】
Ｙは、不飽和結合を形成する２つの炭素原子を含む基であることが好ましく、ラジカル重合性の基であることがより好ましく、（メタ）アクリロイル基、アリル基、α−フルオロアクリロイル基、及び−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ２から選ばれるものが特に好ましい。これらの中でも、重合性の観点から、より好ましいのは、ラジカル重合性を有する（メタ）アクリロイル基、アリル基、α−フルオロアクリロイル基、及びＣ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ２である。
【０２００】
Ｌは二価の連結基を表し、詳しくは、炭素数１〜１０のアルキレン基、炭素数６〜１０のアリーレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒ）−、炭素数１〜１０のアルキレン基と−Ｏ−、−Ｓ−又はＮ（Ｒ）−を組み合わせて得られる基、炭素数６〜１０のアリーレン基と−Ｏ−、−Ｓ−又はＮ（Ｒ）−を組み合わせて得られる基を表す。Ｒは水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を表す。Ｌがアルキレン基又はアリーレン基を表す場合、Ｌで表されるアルキレン基及びアリーレン基はハロゲン原子で置換されていることが好ましく、フッ素原子で置換されていることが好ましい。
一般式（１）で表される化合物の具体例は、特開２０１０−１５２３１１号公報［０１２１］〜［０１６３］段落に記載されている。
【０２０１】
［光学異方性層］
本発明の光学フィルムに光学異方性層を設けることもできる。光学異方性層としては、一定の位相差を有する膜が面内均一に形成された光学異方性層であっても良いし、遅相軸の方向や位相差の大きさが互いに異なる、位相差領域が規則的に面内に配置されたパターンを形成した光学異方性層であっても良い。
上記のように本発明の光学フィルムは液晶表示装置のハードコート層が積層された表面フィルムであることが好ましい。本発明の光学フィルムがハードコート層と光学異方性層の両方を有する場合、光学異方性層は基材フィルムを介してハードコート層が積層されていない面に形成されていることが好ましい。
【０２０２】
本発明の光学フィルムがこのような態様を有する場合、低透湿層は、基材フィルムに対してはハードコート層と同じ側に積層されていても良いし、ハードコート層と反対側に設けられても良いし、基材フィルムの両面に積層されていても良い。
低透湿層が基材フィルムに対してハードコート層と同じ側に積層されている場合の好ましい層構成は、上記のハードコート層を積層する場合の好ましい層構成を用いることができる。
一方、低透湿層が基材フィルムに対してハードコート層と光学異方性層と同じ側に積層されている場合、低透湿層は基材フィルムと光学異方性層の間に積層されていても良いし、基材フィルム、光学異方性層、低透湿層の順に積層されていても良い。
【０２０３】
光学異方性層は各種用途に合わせ材料及び製造条件を選択することができるが、本発明では重合性液晶性化合物を用いた光学異方性層が好ましい。その場合、光学異方性層と基材フィルムの間に光学異方性層と接して配向膜が形成されていることも好ましい態様である。
【０２０４】
面内均一に形成された光学異方性層を有する好ましい例として、光学異方性層がλ／４膜である態様が挙げられ、特にアクティブ方式の３Ｄ液晶表示装置の部材として有用である。λ／４膜の光学異方性層とハードコート層が、基材フィルムを介して反対の面に積層した態様として特開２０１２−０９８７２１号公報、特開２０１２−１２７９８２号公報に記載されており、本発明の光学フィルムで、このような態様を好ましく用いることができる。
【０２０５】
一方、パターンを形成した光学異方性層の好ましい例としては、パターン型のλ／４膜が挙げられ、特許４８２５９３４号公報、特許４８８７４６３号公報に記載された態様を、本発明の光学フィルムで好ましく用いることができる。
また、特表２０１２−５１７０２４号公報（ＷＯ２０１０／０９０４２９号公報）に記載された光配向膜とパターン露光を組み合わせた態様も本発明の光学フィルムで好ましく用いることができる。
【０２０６】
［光学異方性層を有する時の光学フィルムの層構成］
本発明の光学フィルムが光学異方性層を有する場合の好ましい層構成を以下に示す。
【０２０７】
光学異方性層／基材フィルム／低透湿層／ハードコート層
光学異方性層／低透湿層／基材フィルム／ハードコート層
低透湿層／光学異方性層／基材フィルム／ハードコート層
光学異方性層／基材フィルム／低透湿層／ハードコート層／反射防止層
光学異方性層／低透湿層／基材フィルム／ハードコート層／反射防止層
低透湿層／光学異方性層／基材フィルム／ハードコート層／反射防止層
【０２０８】
光学異方性層を有する場合、光学異方性が不飽和重合性基等の硬化性基を有する液晶化合物から形成されることが好ましく、液晶層の下層に配向膜が形成されていることが好ましい。本発明では配向膜がラジカル重合性化合物を含む硬化性組成物から形成されることも好ましく、その場合特に以下の層構成が好ましい。
【０２０９】
光学異方性層／低透湿層／基材フィルム／ハードコート層
光学異方性層／低透湿層／基材フィルム／ハードコート層／反射防止層
【０２１０】
［偏光板］
本発明の偏光板は、偏光子と、該偏光子の保護フィルムとして本発明の光学フィルムを少なくとも１枚含むことを特徴とする。
本発明の光学フィルムは、偏光板用保護フィルムとして用いることができる。偏光板用保護フィルムとして用いる場合、偏光板の作製方法は特に限定されず、一般的な方法で作製することができる。得られた光学フィルムをアルカリ処理し、ポリビニルアルコールフィルムを沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の両面に完全ケン化ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせる方法がある。アルカリ処理の代わりに特開平６−９４９１５号、特開平６−１１８２３２号に記載されているような易接着加工を施してもよい。また上記のような表面処理を行ってもよい。光学フィルムの偏光子との貼合面は低透湿層積層した面でも良いし、低透湿層を積層していない面であっても構わない。
保護フィルム処理面と偏光子を貼り合わせるのに使用される接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルコール系接着剤や、ブチルアクリレート等のビニル系ラテックス等が挙げられる。
偏光板は偏光子及びその両面を保護する保護フィルムで構成されており、更に該偏光板の一方の面にプロテクトフィルムを、反対面にセパレートフィルムを貼合して構成される。プロテクトフィルム及びセパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。この場合、プロテクトフィルムは、偏光板の表面を保護する目的で貼合され、偏光板を液晶板へ貼合する面の反対面側に用いられる。又、セパレートフィルムは液晶板へ貼合する接着層をカバーする目的で用いられ、偏光板を液晶板へ貼合する面側に用いられる。
【０２１１】
［液晶表示装置］
本発明の液晶表示装置は、液晶セルと、該液晶セルの少なくとも一方に配置された本発明の偏光板とを含み、上記偏光板中に含まれる本発明の光学フィルムが最表層となるように配置されたことを特徴とする。
【０２１２】
（一般的な液晶表示装置の構成）
液晶表示装置は、二枚の電極基板の間に液晶を担持してなる液晶セル、その両側に配置された二枚の偏光板、及び必要に応じて該液晶セルと該偏光板との間に少なくとも一枚の光学補償フィルムを配置した構成を有している。
液晶セルの液晶層は、通常は、二枚の基板の間にスペーサーを挟み込んで形成した空間に液晶を封入して形成する。透明電極層は、導電性物質を含む透明な膜として基板上に形成する。液晶セルには、更にガスバリアー層、ハードコート層あるいは（透明電極層の接着に用いる）アンダーコート層（下塗り層）を設けてもよい。これらの層は、通常、基板上に設けられる。液晶セルの基板は、一般に５０μｍ〜２ｍｍの厚さを有する。
【０２１３】
液晶表示装置には通常２枚の偏光板の間に液晶セルを含む基板が配置されているが、本発明の光学フィルムを適用した偏光板用保護フィルムは、２枚の偏光板のいずれの保護フィルムとして用いることができるが、各偏光板の２枚の保護フィルムのうち、偏光子に対して液晶セルの外側に配置される保護フィルムとして用いられることが好ましい。
２枚の偏光板のうち、視認側偏光板の、視認側の保護フィルムとして本発明の光学フィルムを配置することが特に好ましい。
また、２枚の偏光板のうち、視認側偏光板の、視認側の保護フィルムとして本発明の光学フィルムを配置した上で、更にバックライト側偏光板のバックライト側保護フィルムにも本発明の光学フィルムを配置し、２枚の偏光板に含まれる偏光子の伸縮を抑止し、パネルの反りを防止することも好ましい態様である。
【０２１４】
（液晶表示装置の種類）
本発明のフィルムは、様々な表示モードの液晶セルに用いることができる。ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＡＦＬＣ（Ａｎｔｉ−ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）、及びＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）のような様々な表示モードが提案されている。また、上記表示モードを配向分割した表示モードも提案されている。本発明の光学フィルムは、いずれの表示モードの液晶表示装置においても有効である。また、透過型、反射型、半透過型のいずれの液晶表示装置においても有効である。
【実施例】
【０２１５】
以下、実施例に基づいて本発明を具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明は以下の実施例に限定され制限されるものではない。【０２１６】
［製造例１］
（精製ロジンＲの製造）
攪拌機、還流冷却管、窒素導入管を備えた密封可能な反応容器に、未精製の中国産ガムロジン（酸価１７１ｍｇＫＯＨ／ｇ、軟化点７４℃、色調６Ｇ）を３０００ｇ仕込み、窒素パージ下に４００Ｐａの減圧下で蒸留し、酸価１７６．３ｍｇＫＯＨ／ｇ、軟化点８０．５℃、色調ガードナー２の主留（収率８６．３％）を精製ガムロジンＲとして得た。樹脂酸価はＪＩＳ  Ｋ−５６０１記載の方法に則って測定した値である。また、軟化点はＪＩＳ  Ｋ−２５３１の環球法により測定した値である。【０２１７】
（不飽和酸変性ロジンＡの製造）
攪拌機、分水器付き還流冷却管及び温度計を備えた反応容器に、上記で作製した精製ガムロジンＲを１,０００質量部仕込み、これを窒素雰囲気下に攪拌しながら１８０℃まで昇温して溶融した。ついで、フマル酸２６７質量部を仕込み、攪拌下に２３０℃まで昇温して１時間保温した後、冷却して不飽和酸変性ロジンＡの固形樹脂を得た。樹脂酸価は３４２．０ｍｇＫＯＨ／ｇ、軟化点は１２５℃であった。【０２１８】
（不飽和酸変性ロジンＢの製造）
特開２００７−１１１７３５号公報の調製例３を参考に、上記の精製ガムロジンＲとマレイン酸を用いて、マレイン酸変性ロジンを合成した。樹脂酸価は３１５ｍｇＫＯＨ／ｇ、軟化点は１５５℃であった。【０２１９】
（不飽和酸変性ロジンＣの製造）
特開２００７−１１１７３５号公報の調製例２を参考に、上記の精製ガムロジンＲとアクリル酸を用いて、アクリル酸変性ロジンを合成した。樹脂酸価は２４１ｍｇＫＯＨ／ｇ、軟化点は１３０℃であった。【０２２０】
（水添ロジンＤの製造）
特開２００１−１８１４００号公報の実施例１を参考に、水添ロジンを合成した。
酸価は１７６ｍｇＫＯＨ／ｇ、軟化点は８０℃であった。【０２２１】
［製造例２］
〔低透湿層形成用組成物の調製〕
下記に示すように調製した。【０２２２】
（低透湿層形成用組成物ＢＬ−１の組成）
Ａ−ＤＣＰ                                      ７７．０質量部
不飽和酸変性ロジンＡ（酸価３４２ｍｇＫＯＨ／ｇ）２０．０質量部
イルガキュア９０７                                ３．０質量部
ＳＰ−１３                                      ０．０４質量部
ＭＥＫ（メチルエチルケトン）                    ４０．９質量部
酢酸メチル                                      ４０．９質量部
低透湿層形成用組成物ＢＬ−１の固形分濃度は５５質量％であった。【０２２３】
（低透湿層形成用組成物ＢＬ−２の組成）
Ａ−ＤＣＰ                                      ７７．０質量部
不飽和酸変性ロジンＢ（酸価３１５ｍｇＫＯＨ／ｇ）２０．０質量部
イルガキュア９０７                                ３．０質量部
ＳＰ−１３                                      ０．０４質量部
ＭＥＫ                                          ４０．９質量部
酢酸メチル                                      ４０．９質量部
低透湿層形成用組成物ＢＬ−２の固形分濃度は５５質量％であった。【０２２４】
（低透湿層形成用組成物ＢＬ−３の組成）
Ａ−ＤＣＰ                                      ７７．０質量部
不飽和酸変性ロジンＣ（酸価２４１ｍｇＫＯＨ／ｇ）２０．０質量部
イルガキュア９０７                                ３．０質量部
ＳＰ−１３                                      ０．０４質量部
ＭＥＫ                                          ４０．９質量部
酢酸メチル                                      ４０．９質量部
低透湿層形成用組成物ＢＬ−３の固形分濃度は５５質量％であった。【０２２５】
（低透湿層形成用組成物ＢＬ−４の組成）
Ａ−ＤＣＰ                                      ７７．０質量部
パインクリスタルＫＥ６０４（酸価２３８ｍｇＫＯＨ／ｇ）
２０．０質量部
イルガキュア９０７                                ３．０質量部
ＳＰ−１３                                      ０．０４質量部
ＭＥＫ                                          ４０．９質量部
酢酸メチル                                      ４０．９質量部
低透湿層形成用組成物ＢＬ−４の固形分濃度は５５質量％であった。【０２２６】
（低透湿層形成用組成物ＢＬ−５の組成）
Ａ−ＤＣＰ                                      ７７．０質量部
パインクリスタルＫＲ６１４（酸価１７５ｍｇＫＯＨ／ｇ）
２０．０質量部
イルガキュア９０７                                ３．０質量部
ＳＰ−１３                                      ０．０４質量部
ＭＥＫ                                          ４０．９質量部
酢酸メチル                                      ４０．９質量部
低透湿層形成用組成物ＢＬ−５の固形分濃度は５５質量％であった。【０２２７】
＜低透湿層形成用組成物ＢＬ−６〜ＢＬ−１７の調製＞
低透湿層形成用組成物ＢＬ−１の調製において、低透湿層形成用組成物を下記表に記載のようにした以外は低透湿層形成用組成物ＢＬ−１と同様にして、低透湿層形成用組成物ＢＬ−６〜ＢＬ−１７を調製した。【０２２８】
使用した材料を以下に示す。
・Ａ−ＤＣＰ：トリシクロデカンジメタノールジアクリレート［新中村化学工業（株）製］
・ＤＣＰ：トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート［新中村化学工業（株）製］
・ＦＡ−５１３ＡＳ：ジシクロペンタニルアクリレート［日立化成工業（株）製］
・ＦＡ−５１３Ｍ：ジシクロペンタニルメタクリレート［日立化成工業（株）製］
・ＡＡ−ＢＰＥＦ：９、９―ビス［４−（２アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン［新中村化学工業（株）製］
・ＰＥＴ３０：ペンタエリスリトールテトラアクリレートとペンタエリスリトールトリアクリレートの混合物［日本化薬（株）製］
・パインクリスタルＫＲ６１４（商品名、超淡色ロジン、荒川化学工業（株）社製）
・パインクリスタルＫＥ６０４（商品名、酸変性超淡色ロジン、荒川化学工業（株）社製）
・イルガキュア９０７：重合開始剤［ＢＡＳＦ社製］
・レベリング剤【０２２９】
・ＳＰ−１３（下記式中、組成比６０：４０はモル比）：【０２３０】
【化１４】
2014119487.tif 000015
【０２３１】
下記表中の数値の単位は質量部を表す。【０２３２】
【表１】
2014119487.tif 000016
【０２３３】
＜光学フィルム１０１の作製＞
基材フィルムとしてフジタックＴＤ６０（富士フイルム（株）製、幅１，３４０ｍｍ、厚さ６０μｍ）をロール形態から巻き出して、上記低透湿層形成用組成物ＢＬ−１を使用し、特開２００６−１２２８８９号公報実施例１記載のスロットダイを用いたダイコート法で、搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布し、６０℃で１５０秒乾燥させた。その後、更に窒素パージ下酸素濃度約０．１％で出力１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量１２０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、巻き取った。低透湿層の膜厚は１０μｍになるよう塗布量を調整した。
得られた光学フィルムを光学フィルム１０１とした。【０２３４】
＜光学フィルム１０２〜１１７の作製＞
光学フィルム１０１の作製において、低透湿層形成用組成物を表１に記載のようにした以外は光学フィルム１０１と同様にして、光学フィルム１０２〜１１７を作製した。【０２３５】
［光学フィルムの評価］
作製した各実施例及び比較例の光学フィルムについて膜厚を測定し、下記の物性測定と評価を行った。結果は下記表２に示す。【０２３６】
（１）透湿度（４０℃９０％相対湿度での透湿度）
各実施例及び比較例の光学フィルム試料７０ｍｍφを４０℃、相対湿度９０％でそれぞれ２４時間調湿し、ＪＩＳ  Ｚ−０２０８記載の方法により測定した。
低透湿層の透湿度は、各光学フィルムの基材フィルムの透湿度を測定し、基材フィルムの透湿度と光学フィルムの透湿度から、明細書中で前述した式（１）を用いて算出した。【０２３７】
（２）密着性評価
光学フィルムの低透湿層を有する側の表面に、カッターナイフで碁盤目状に縦１１本、横１１本の切り込みを入れて合計１００個の１ｃｍ×１ｃｍの大きさの正方形の升目を刻み、日東電工（株）製のポリエステル粘着テープ“ＮＯ．３１Ｂ”を圧着して基材フィルムと塗布層の密着試験を行い、剥がれの有無を目視で観察した。
１００個の升目中に剥がれが２０升未満の場合は、同場所で密着試験を行った。繰り返し試験を最高２回行った。剥がれの有無を目視で観察し、下記の５段階評価を行った。
Ａ：密着試験２回で１００個の升目中に剥がれが全く認められなかったもの
Ｂ：密着試験２回で１００個の升目中に剥がれが１〜５升のもの
Ｃ：密着試験２回で１００個の升目中に剥がれが６〜１９升のもの
Ｄ：密着試験２回で１００個の升目中に剥がれが２０升を超えたもの
Ｅ：密着試験１回で１００個の升目中に剥がれが２０升を超えたもの【０２３８】
［パネルの評価］
＜偏光板の作製＞
１）フィルムの鹸化
市販のセルロースアシレートフィルム（フジタック  ＺＲＤ４０、富士フイルム（株）製）、市販のセルロースアシレートフィルムＴＤ６０（富士フィルム（株）製）と光学フィルム１０１〜１１７を、５５℃に保った１．５ｍｏｌ／ＬのＮａＯＨ水溶液（鹸化液）に２分間浸漬した後、フィルムを水洗し、その後、２５℃の０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸水溶液に３０秒浸漬した後、更に水洗浴を３０秒流水下に通して、フィルムを中性の状態にした。そして、エアナイフによる水切りを３回繰り返し、水を落とした後に７０℃の乾燥ゾーンに１５秒間滞留させて乾燥し、鹸化処理したフィルムを作製した。【０２３９】
２）偏光子の作製
特開２００１−１４１９２６号公報の実施例１に従い、延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて膜厚２０μｍの偏光子を作製した。【０２４０】
３）貼り合わせ
（フロント側偏光板１０１〜１１７の作製）
上記の鹸化後の光学フィルム１０１〜１１７（各光学フィルムの低透湿層を積層していない面を偏光子と接するように配置する）、上記で作製した偏光子、鹸化後のセルロースアシレートフィルムＺＲＤ４０をこの順番で、ＰＶＡ系接着剤で貼合し、熱乾燥して、偏光板１０１〜１１７を作製した。
この際、作製した偏光子のロールの長手方向と光学フィルム１０１〜１１７の長手方向とが平行になるように配置した。また、偏光子のロールの長手方向と上記セルロースアシレートフィルムＺＲＤ４０のロールの長手方向とが、平行になるように配置した。【０２４１】
（フロント側偏光板２０１、２０２、２１５、２１７の作製）
上記で作製した偏光子の片面に対して、アクリル接着剤を用いて、作製した光学フィルム１０１、１０２、１１５、１１７の低透湿層を積層した面を、コロナ処理を施したのち、貼合した。上記で作製した偏光子のもう片側にポリビニルアルコール系接着剤を用いて、上記鹸化した市販のセルロースアシレートフィルムＺＲＤ４０を貼り付け、７０℃で１０分以上乾燥して、偏光板２０１、２０２、２１５、２１７を作製した。
この際、作製した偏光子のロールの長手方向と光学フィルム１０１、１０２、１１５、１１７の長手方向とが平行になるように配置した。また、偏光子のロールの長手方向と上記セルロースアシレートフィルムＺＲＤ４０のロールの長手方向とが、平行になるように配置した。
得られた偏光板をそれぞれの偏光板２０１、２０２、２１５、２１７とした。【０２４２】
（リア側偏光板の作製）
上記の鹸化後セルロースアシレートフィルムＴＤ６０、上記得られた延伸したヨウ素系ＰＶＡ偏光子、鹸化後のセルロースアシレートフィルムＺＲＤ４０をこの順番で、ＰＶＡ系接着剤で貼合し、熱乾燥しリア側偏光板を得た。
この際、作製した偏光子のロールの長手方向とセルロースアシレートフィルムＴＤ６０の長手方向とが平行になるように配置した。また、偏光子のロールの長手方向と上記セルロースアシレートフィルムＺＲＤ４０のロールの長手方向とが、平行になるように配置した。【０２４３】
＜ＩＰＳパネルへの実装＞
ＩＰＳモード液晶セル（ＬＧＤ製  ４２ＬＳ５６００）の上下の偏光板を剥し、フロント側（視認側）に、フロント側偏光板として前述した偏光板１０１〜１１７、２０１、２０２、２１５、２１７を、リア側にリア側偏光板として前述した偏光板を、セルロースアシレートフィルムＺＲＤ４０がそれぞれ液晶セル側となるように、粘着剤を介して、フロント側及びリア側に一枚ずつ貼り付けた。フロント側の偏光板の吸収軸が長手方向（左右方向）に、そして、リア側の偏光板の透過軸が長手方向（左右方向）になるように、クロスニコル配置とした。液晶セルに使用されているガラスの厚さは０．５ｍｍであった。
得られた液晶表示装置を、それぞれ液晶表示装置１０１〜１１７、２０１、２０２、２１５、２１７とした。
なお、ＩＰＳパネルへの実装時における、フロント側偏光板の構成を下記表３に記載した。【０２４４】
以上のようにして作製した液晶表示装置の光モレを評価した。結果は下記表３に示す。【０２４５】
［光漏れ評価（パネルの評価）］
このようにして作製した液晶表示装置１０１〜１１７、２０１、２０２、２１５、２１７について、６０℃相対湿度９０％で４８時間サーモ後、２５℃相対湿度６０％で２時間放置した後で液晶表示装置のバックライトを点灯し、点灯から５時間後と１０時間後にパネルの四隅の光漏れを評価した。
光漏れ評価は、輝度計測用カメラ「ＰｒｏＭｅｔｒｉｃ」（Ｒａｄｉａｎｔ  Ｉｍａｇｉｎｇ社製）で画面正面から黒表示画面を撮影し、全画面の平均輝度と、４角の光漏れが大きい箇所の輝度差をもとにして、７段階評価した。本発明においてＡとＢのレベルが許容内である。
〜評価指標〜
Ａ：５時間後、パネル４角の光漏れが視認されない。
１０時間後、パネル４角の光漏れが視認されない。
Ｂ：５時間後、パネル４角のうち、１〜２角でわずかな光漏れが視認される。
１０時間後、パネル４角の光漏れが視認されない。
Ｃ：５時間後、パネル４角のうち、１〜２角でわずかな光漏れが視認される。
１０時間後、パネル４角のうち、１〜２角でわずかな光漏れが視認される。
Ｄ：５時間後、パネル４角のうち、３〜４角でわずかな光漏れが視認される。
１０時間後、パネル４角のうち、１〜２角でわずかな光漏れが視認される。
Ｅ：５時間後、パネル４角のうち、３〜４角でわずかな光漏れが視認される。
１０時間後、パネル４角のうち、３〜４角でわずかな光漏れが視認される。
Ｆ：５時間後、パネル４角の光漏れが強く、許容できない。
１０時間後、パネル４角のうち、３〜４角でわずかな光漏れが視認される。
Ｇ：５時間後、パネル４角で強い光漏れが視認される。
１０時間後、パネル４角で強い光漏れが視認される。【０２４６】
【表２】
2014119487.tif 000017
【０２４７】
【表３】
2014119487.tif 000018
【０２４８】
表２と表３に示す結果から以下のことが明らかである。
１．光学フィルムの透湿度と高温高湿環境経時後の光漏れには強い相関があり、透湿度が低いほど光漏れを抑制することができる。
２．特定量の（Ａ）環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物及びフルオレン環とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物の少なくともいずれかと、特定量の（Ｂ）ロジン化合物とを低透湿層に用いた実施例１０１〜１１４の光学フィルムは、膜厚が薄膜でありながら、透湿度が低く、好ましい。
３．（Ｂ）ロジン化合物の中でも、特に不飽和酸変性ロジンを用いたものは密着性にも優れており、特に好ましい。
４．本発明の光学フィルムを表示装置に実装した時の評価結果は、低透湿層と反対面を偏光子に貼合したものと、低透湿層を偏光子に貼合したものも同様の結果だった。本発明の光学フィルムは両面共に偏光子に貼合することができる。【０２４９】
次に本発明の光学フィルムにハードコート層を積層した。
［製造例３］
〔ハードコート層形成用組成物の調製〕
下記に示すように調製した。【０２５０】
（ハードコート層形成用組成物ＨＣ−１の組成）
ＰＥＴ３０                                      ９７．０質量部
イルガキュア９０７                                ３．０質量部
ＳＰ−１３                                      ０．０４質量部
ＭＥＫ                                          ８１．８質量部【０２５１】
＜光学フィルム３０１の作製＞
上記で作製したロール状の光学フィルム１０１をロール形態から巻き出して、上記ハードコート層形成用組成物ＨＣ−１を使用し、低透湿層を積層している面に、特開２００６−１２２８８９号公報実施例１記載のスロットダイを用いたダイコート法で、搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布し、６０℃で１５０秒乾燥させた。その後、更に窒素パージ下酸素濃度約０．１％で出力１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、巻き取った。ハードコート層の膜厚は８μｍになるよう塗布量を調整した。
得られたフィルムを実施例の光学フィルム３０１とした。【０２５２】
＜光学フィルム３１７の作製＞
光学フィルム１０１を光学フィルム１１７に変更した以外は光学フィルム３０１と同様にして比較例の光学フィルム３１７を作製した。【０２５３】
＜光学フィルム３２０の作製＞
光学フィルムをフジタックＴＤ６０（富士フイルム（株）製、幅１，３４０ｍｍ、厚さ６０μｍ）に変更した以外は光学フィルム３０１と同様にして比較例の光学フィルム３２０を作製した。【０２５４】
＜光学フィルム４０１の作製＞
上記で作製したロール状の光学フィルム１０１をロール形態から巻き出して、上記ハードコート層形成用組成物ＨＣ−１を使用し、低透湿層を積層していない面に、特開２００６−１２２８８９号公報実施例１記載のスロットダイを用いたダイコート法で、搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布し、６０℃で１５０秒乾燥させた。その後、更に窒素パージ下酸素濃度約０．１％で出力１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、巻き取った。ハードコート層の膜厚は８μｍになるよう塗布量を調整した。
得られたフィルムを実施例の光学フィルム４０１とした。【０２５５】
［光学フィルムの評価］
作製した各実施例及び比較例の光学フィルムについて膜厚を測定し、下記の物性測定と評価を行った。結果は下記表４に示す。
なお光学フィルムのハードコート層の膜厚はハードコート層の積層前後の膜厚を測定し、その差から求めた。また、光学フィルムの低透湿層の膜厚は低透湿層積層前後の膜厚を測定し、その差から求めた。【０２５６】
（透湿度）
光学フィルム１０１と同様に、ＪＩＳ  Ｚ−０２０８記載の方法により測定した。
（鉛筆硬度評価）
耐傷性の指標としてＪＩＳ  Ｋ−５４００に記載の鉛筆硬度評価を行った。光学フィルムを温度２５℃、湿度６０％ＲＨで２時間調湿した後、ＪＩＳ  Ｓ  ６００６に規定する２Ｈ〜５Ｈの試験用鉛筆を用いて、ハードコート層が積層された面を、４．９Ｎの荷重にて、以下のとおりの判定で評価し、ＯＫとなる最も高い硬度を評価値とした。
ＯＫ：ｎ＝５の評価において傷なしが３つ以上
ＮＧ：ｎ＝５の評価において傷なしが２つ以下【０２５７】
［パネルの評価］
＜偏光板の作製＞
１）フィルムの鹸化
市販のセルロースアシレートフィルム（フジタック  ＺＲＤ４０、富士フイルム（株）製）、市販のセルロースアシレートフィルムＴＤ６０（富士フィルム（株）製）と光学フィルム３０１、３１７、３２０を、５５℃に保った１．５ｍｏｌ／ＬのＮａＯＨ水溶液（鹸化液）に２分間浸漬した後、フィルムを水洗し、その後、２５℃の０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸水溶液に３０秒浸漬した後、更に水洗浴を３０秒流水下に通して、フィルムを中性の状態にした。そして、エアナイフによる水切りを３回繰り返し、水を落とした後に７０℃の乾燥ゾーンに１５秒間滞留させて乾燥し、鹸化処理したフィルムを作製した。【０２５８】
２）偏光子の作製
特開２００１−１４１９２６号公報の実施例１に従い、延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて膜厚２０μｍの偏光子を作製した。【０２５９】
３）貼り合わせ
（フロント側偏光板３０１、３１７、３２０の作製）
上記の鹸化後の光学フィルム３０１、３１７、３２０（各光学フィルムの低透湿層を積層していない面を偏光子と接するように配置する）、上記で作製した偏光子、鹸化後のセルロースアシレートフィルムＺＲＤ４０をこの順番で、ＰＶＡ系接着剤で貼合し、熱乾燥して、偏光板３０１、３１７、３２０を作製した。【０２６０】
（フロント側偏光板４０１の作製）
上記で作製した偏光子の片面に対して、アクリル接着剤を用いて、作製した光学フィルム４０１の低透湿層を積層した面を、コロナ処理を施したのち、貼合した。上記で作製した偏光子のもう片側にポリビニルアルコール系接着剤を用いて、上記鹸化した市販のセルロースアシレートフィルムＺＲＤ４０を貼り付け、７０℃で１０分以上乾燥して、偏光板４０１を作製した。【０２６１】
＜ＩＰＳパネルへの実装＞
上記の液晶表示装置１０１に対し、フロント側偏光板を偏光板１０１から偏光板３０１、３１７、３２０、４０１に代えた以外は同様にして液晶表示装置３０１、３１７、３２０、４０１を作製した。【０２６２】
以上のようにして作製した液晶表示装置の光モレを評価した。結果は下記表４に示す。【０２６３】
【表４】
2014119487.tif 000019
【０２６４】
※各光学フィルムの構成は以下の通りである。
光学フィルム３０１、３１７
基材フィルム／低透湿層／ハードコート層
光学フィルム３２０
基材フィルム／ハードコート層
光学フィルム４０１
低透湿層／基材フィルム／ハードコート層
表４に示す結果から以下のことが明らかである。
１．本発明の光学フィルムにハードコート層を積層することで、低透湿性に加えて高鉛筆硬度（３Ｈ）を付与することができる。
２．ハードコート層を低透湿層上に積層したもの（光学フィルム３０１）、ハードコート層と低透湿層を基材フィルムの対向面に配置したもの（光学フィルム４０１）は何れも鉛筆硬度、透湿度が同様に良好である。【０２６５】
［製造例４］
次にパターンを形成した光学異方性層を含む本発明の態様について説明する。
（光学フィルムの片面鹸化処理）
上記作製した光学フィルム３０１を、温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、ハードコート層が形成している面とは反対側の面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、＃６のワイヤーバーで連続的に塗布し、１１０℃に加熱し、ノリタケカンパニーリミテド社製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、１０秒間搬送した。続いて、同じくバーコーターを用いて、純水を３ｍｌ／ｍ２塗布した。次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、光学フィルム３０１の片面をアルカリ鹸化処理した。
─────────────────────────────────
アルカリ溶液の組成
─────────────────────────────────
水酸化カリウム                                    ２．０質量部
水                                                ６．５質量部
イソプロパノール                                ８５．０質量部
界面活性剤ＳＦ−１：Ｃ１４Ｈ２９Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）２０Ｈ
０．０３５質量部
プロピレングリコール                              ６．５質量部
─────────────────────────────────【０２６６】
（露光前配向膜付光学フィルム３０１１の作製）
上記アルカリ鹸化処理した光学フィルム３０１の、鹸化処理を施した面に、下記の組成の配向膜形成用塗布液１を＃１４のワイヤーバーで連続的に塗布した。６０℃の温風で６０秒、更に１００℃の温風で１２０秒乾燥し、露光前配向膜付光学フィルム３０１１を形成した。露光前配向膜の膜厚は、０．４５μｍであり、酸素透過度は１３２ｃｃ／［ｍ２・ｄａｙ・ａｔｏｍ］であった。
─────────────────────────────────
配向膜形成用塗布液１の組成
─────────────────────────────────
下記配向膜用ポリマー材料（Ｐ−１）                  ２．４質量部
（重量平均分子量（Ｍｗ）：２０，０００；下記式中の繰り返し単位の組成比は質量比である。）
下記光酸発生剤（Ｓ−１）                          ０．１７質量部
ラジカル重合開始剤（イルガキュア２９５９、ＢＡＳＦ社製）
０．１８質量部
メタノール                                        １６．５質量部
ＩＰＡ（イソプロパノール）                          ７．２質量部
水                                              ７３．５５質量部
─────────────────────────────────【０２６７】
【化１５】
2014119487.tif 000020
【０２６８】
（紫外線露光）
次に、透過部の横ストライプ幅３６３μｍ、遮蔽部の横ストライプ幅３６３μｍのストライプマスクを上記作製した露光前配向膜付光学フィルム３０１１上に配置し、室温（２５℃）空気下にて、２００ｎｍ〜４００ｎｍの波長領域における照度５００ｍＷ／ｃｍ２の紫外線照射装置（Ｌｉｇｈｔ  Ｈａｍｍｅｒ  １０、２４０Ｗ／ｃｍ、Ｆｕｓｉｏｎ  ＵＶ  Ｓｙｓｔｅｍｓ社製）を光源ユニットとして用いて紫外線を０．０６秒間（３０ｍＪ／ｃｍ２）照射しパターン配向膜を形成した。【０２６９】
（パターン光学異方性層の形成）
上記紫外線露光後のパターン配向膜に、ストライプマスクのストライプに対して４５°の角度を保持して５００ｒｐｍで一方向に１往復、ラビング処理を行った。次いで、下記の光学異方性層用塗布液を、ワイヤーバーで硬化後の膜厚が１．２μｍになるように調整して塗布した。更に、膜面温度１１０℃で２分間加熱熟成した後、８０℃まで冷却し空気下にて２０ｍＷ／ｃｍ２の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス社製）を用いて紫外線を２０秒間照射して、その配向状態を固定化することによりパターン光学異方性層を形成した。マスク露光部分（第１位相差領域）は、ラビング方向に対し遅相軸方向が平行にディスコティック液晶化合物が垂直配向しており、未露光部分（第２位相差領域）は直交に垂直配向していた。【０２７０】
─────────────────────────────────
光学異方性層用塗布液の組成
─────────────────────────────────
ディスコティック液晶化合物Ｅ−２                    １００質量部
配向膜界面配向剤（ＩＩ−１）                        １．０質量部
空気界面配向剤（Ｐ−２）                            ０．４質量部
光重合開始剤                                        ３．０質量部
（イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ社製）
増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）    １．０質量部
メチルエチルケトン                                  ４００質量部
─────────────────────────────────【０２７１】
【化１６】
2014119487.tif 000021
【０２７２】
上記空気界面配向剤（Ｐ−２）の式中の４０：６０はモル比を表す。
（光学フィルム５０１の作製）
以上のようにして、基材フィルムの両面にそれぞれハードコート層とパターン光学異方性層が形成された、本発明の光学フィルム５０１を作製した。【０２７３】
（比較例サンプルの作製）
光学フィルム３０１を本発明の低透湿層を積層していない光学フィルム３２０に代えた以外は光学フィルム５０１と同様にして支持体の両面にそれぞれハードコート層とパターン光学異方性層が形成された、比較例の光学フィルム５０２を作製した。【０２７４】
（フロント側偏光板５０１の作製）
フロント側偏光板４０１と同様に偏光子と鹸化後のセルロースアシレートフィルムＺＲＤ４０をＰＶＡ系接着剤で貼合した、偏光子の片面に、光学フィルム５０１のパターン光学異方性層を形成した面をアクリル系粘着剤で貼合し、フロント側偏光板５０１を作製した。【０２７５】
（フロント側偏光板５０２の作製）
光学フィルム５０１を光学フィルム５０２に代えた以外は同様にして、フロント側偏光版５０２を作製した。【０２７６】
＜ＩＰＳパネルへの実装＞
上記の液晶表示装置１０１に対し、フロント側偏光板を偏光板１０１から、偏光板５０１、５０２に代えた以外は同様にして液晶表示装置５０１、５０２を作製した。【０２７７】
以上のように作製した液晶表示装置の光漏れを上記の液晶表示装置１０１の評価と同様の方法を用いて評価した。
液晶表示装置５０１はＡ、液晶表示装置５０２はＧであった。これにより、パターンを形成した光学異方性層を含む態様においても光漏れを防止することができ、好ましいことが分かった。【０２７８】
［製造例５］
次に光ラジカル硬化系配向膜を有するパターンを形成した光学異方性層を含む本発明の態様について説明する。
特表２０１２−５１７０２４号公報（ＷＯ２０１０／０９０４２９号公報）の実施例を参考した。光学フィルム３０１のハードコート層積層していない面に、乾燥厚さが１０００Å（オングストローム）であるポリノルボルネン含有配向膜を形成した。【０２７９】
ＵＳ２０１２／００７６９５４Ａ１の［０１９３］を参考に５−ノルボルネン−２−メチル−（４−メトキシシンナメート）の重合反応を行って、下記化学式１のシンナメート基を有するポリノルボルネン（重量平均分子量、Ｍｗ＝１５０，０００）を得た。【０２８０】
【化１７】
2014119487.tif 000022
【０２８１】
（ポリノルボルネン含有配向膜組成物の組成）
化学式１のシンナメート基を有するポリノルボルネン  ２０．０質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート              １０．０質量部
イルガキュア９０７                                  ５．０質量部
シクロヘキサノン                                ９８０．０質量部【０２８２】
上記ポリノルボルネン含有配向膜組成物を用いて特表２０１２−５１７０２４号公報（ＷＯ２０１０／０９０４２９号公報）の実施例を参考し、上記で作製したフィルムのハードコート層積層していない面に、乾燥厚さが１０００Å（オングストローム）であるポリノルボルネン含有配向膜を形成した。【０２８３】
その後、ポリノルボルネン含有膜の上部に、光透過領域の幅が５００μｍの光透過領域及び光遮断領域パターンが上下及び左右に互い違いに交互に配置されたパターンマスク（１００ｍｍｘ１００ｍｍ）を位置させた。【０２８４】
その後、上記パターンマスクの上部に各々異なる偏光を透過させる２つの領域を有するＵＶ偏光板をフィルム進行方向に対して並列に位置させた。その後、上記ＵＶ偏光板の上部から強さが３００ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を３０秒間、基板を３ｍ／分の速度でフィルム進行方向に移動させながら連続的に照射し、ポリノルボルネン含有配向膜の所定領域によって高分子が異なる方向に配向された第１配向領域と第２配向領域が高分子膜の長さ方向に沿って交互に配置された配向膜を得た。【０２８５】
上記配向膜上に、液晶物質としてＢＡＳＦ社のＬＣ２４２ＴＭを約１μｍの乾燥厚さとなるように塗布し、強さが３００ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を１０秒間照射し、液晶を硬化させて位相遅延層を形成した。液晶物質としてマーク社のＲＭ（Ｒｅａｃｔｉｖｅ  Ｍｅｓｏｇｅｎ）系の物質を使用してもよい。上記位相遅延層は、微小領域によって異なる配向方向に高分子が配向された配向膜上に形成されるので、微小領域において光学的異方性物質の光軸が微小領域別に異なるように配向され、これにより、立体映像表示装置用光学フィルタ（光学フィルム５１１）が得られた。【０２８６】
（光学フィルム５１２の作製）
光学フィルム５１１に対して、光学フィルム３０１を光学フィルム４０１に代えて、配向膜を低透湿層上に積層した以外は光学フィルム５１１と同様にして光学フィルム５１２を作製した。【０２８７】
（光学フィルム５１３の作製）
光学フィルム５１１に対して、光学フィルム３０１を光学フィルム３２０に代えた以外は同様にして、光学フィルム５１３を作製した。【０２８８】
この方法で製造された光学フィルム５１１、５１２、５１３は液晶の光軸が微小領域別に異なるように配向及び固定された光学フィルタ（光学フィルム）を通過した光は、光学フィルタ通過領域によって光の偏光方向が異なるように調節される。したがって、このような偏光フィルタを通じて放出される異なる偏光特性を有する左眼画像及び右眼画像が偏光めがねを通じて透視されることによって、偏光めがね方式で立体感を認識するようになる。【０２８９】
（フロント側偏光板５１１、５１２、５１３の作製）
光学フィルムを５１１、５１２、５１３に代えた以外はフロント側偏光板５０１と同様にして、フロント側偏光板５１１、５１２、５１３を作製した。【０２９０】
＜ＩＰＳパネルへの実装＞
上記の液晶表示装置１０１に対し、フロント側偏光板を偏光板１０１から、偏光板５１１、５１２、５１３に代えた以外は同様にして液晶表示装置５１１、５１２、５１３を作製した。【０２９１】
以上のように作製した液晶表示装置の光漏れを上記の液晶表示装置１０１の評価と同様の方法を用いて評価した。
液晶表示装置５１１と液晶表示装置５１２はＡ、液晶表示装置５１３はＧであった。これにより、パターンを形成した光学異方性層を含む態様においても本発明の低透湿層を積層した光学フィルムは光漏れを防止することができ、好ましいことが分かった。【０２９２】
［製造例６］
次に、基材フィルムとしてアクリル系フィルムを用いた実施例を示す。
＜基材フィルム（Ａ−１）の作製＞
攪拌装置、温度センサー、冷却管及び窒素導入管を備えた内容積３０Ｌの反応釜に、メタクリル酸メチル（ＭＭＡ）８０００ｇ、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル（ＭＨＭＡ）２０００ｇ及び重合のための溶剤としてトルエン１００００ｇを仕込み、これに窒素を通じつつ、１０５℃まで昇温させた。昇温に伴う環流が始まったところで、重合開始剤としてｔ−アミルパーオキシイソノナノエート１０．０ｇを添加するとともに、ｔ−アミルパーオキシイソノナノエート２０．０ｇとトルエン１００ｇとからなる溶液を２時間かけて滴下しながら、約１０５〜１１０℃の環流下で溶液重合を進行させ、更に４時間の熟成を行った。重合反応率は９６．６％、得られた重合体におけるＭＨＭＡの含有率（重量比）は２０．０％であった。【０２９３】
次に、得られた重合溶液に、環化触媒として１０ｇのリン酸ステアリル／リン酸ジステアリル混合物（堺化学工業製、Ｐｈｏｓｌｅｘ  Ａ−１８）を加え、約８０〜１００℃の環流下において５時間、環化縮合反応を進行させた。【０２９４】
次に、得られた重合溶液を、バレル温度２６０℃、回転速度１００ｒｐｍ、減圧度１３．３〜４００ｈＰａ（１０〜３００ｍｍＨｇ）、リアベント数１個及びフォアベント数４個のベントタイプスクリュー二軸押出機（φ＝２９．７５ｍｍ、Ｌ／Ｄ＝３０）に、樹脂量換算で２．０ｋｇ／時の処理速度で導入し、押出機内で環化縮合反応及び脱揮を行った。次に、脱揮完了後、押出機内に残された熱溶融状態にある樹脂を押出機の先端から排出し、ペレタイザーによりペレット化して、主鎖にラクトン環構造を有するアクリル樹脂からなる透明なペレットを得た。この樹脂の重量平均分子量は１４８０００、メルトフローレート（ＪＩＳ  Ｋ７１２０に準拠し、試験温度を２４０℃、荷重を１０ｋｇとして求めた。以降の製造例においても同じ）は１１．０ｇ／１０分、ガラス転移温度は１３０℃であった。【０２９５】
次に、得られたペレットとＡＳ樹脂（東洋スチレン製、商品名：トーヨーＡＳ  ＡＳ２０）を、ペレット／ＡＳ樹脂＝９０／１０の重量比で単軸押出機（φ＝３０ｍｍ）を用いて混錬することにより、ガラス転移温度が１２７℃の透明なペレットを得た。【０２９６】
上記で作製した樹脂組成物のペレットを、二軸押出機を用いて、コートハンガー型Ｔダイから溶融押出し、厚さ約１６０μｍの樹脂フィルムを作製した。【０２９７】
次に、得られた未延伸の樹脂フィルムを、縦方向に２．０倍、横方向に２．０倍に同時二軸延伸することにより、透明プラスチックフィルム基材（基材フィルム（Ａ−１））を作製した。このようにして得た二軸延伸性フィルムの厚さは４０μｍ、全光線透過率は９２％、ヘイズは０．３％、ガラス転移温度は１２７℃であった。【０２９８】
＜基材フィルム（Ａ−２）の作製＞
攪拌装置、温度センサー、冷却管及び窒素導入管を備えた内容積３０Ｌの反応釜に、４１．５質量部のメタクリル酸メチル（ＭＭＡ）、６質量部の２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル（ＭＨＭＡ）、２．５質量部の２−〔２’−ヒドロキシ−５’−メタクリロイルオキシ〕エチルフェニル〕−２Ｈ−ベンゾトリアゾール（大塚化学製、商品名：ＲＵＶＡ−９３）、重合のための溶剤として５０質量部のトルエン、０．０２５質量部の酸化防止剤（旭電化工業製、アデカスタブ２１１２）、及び連鎖移動剤として０．０２５質量部のｎ−ドデシルメルカプタンを仕込み、これに窒素を通じつつ、１０５℃まで昇温させた。昇温に伴う還流が始まったところで、重合開始剤として０．０５質量部のｔ−アミルパーオキシイソノナノエート（アルケマ吉富製、商品名：ルペロックス５７０）を添加するとともに、０．１０質量部のｔ−アミルパーオキシイソノナノエートを３時間かけて滴下しながら、約１０５〜１１０℃の還流下で溶液重合を進行させ、更に４時間の熟成を行った。【０２９９】
次に、得られた重合溶液に、環化縮合反応の触媒（環化触媒）として０．０５質量部のリン酸２−エチルヘキシル（堺化学工業製、Ｐｈｏｓｌｅｘ  Ａ−８）を加え、約９０〜１１０℃の還流下において２時間、環化縮合反応を進行させた後、２４０℃のオートクレーブにより重合溶液を３０分間加熱し、環化縮合反応を更に進行させた。次に、反応進行後の重合溶液に、紫外線吸収剤としてＣＧＬ７７７ＭＰＡ（チバスペシャリティケミカルズ製を０．９４質量部混合した。【０３００】
次に、得られた重合溶液を、バレル温度２４０℃、回転速度１００ｒｐｍ、減圧度１３．３〜４００ｈＰａ（１０〜３００ｍｍＨｇ）、リアベント数１個及びフォアベント数４個（上流側から第１、第２、第３、第４ベントと称する）、先端部にリーフディスク型のポリマーフィルタ（濾過精度５μｍ、濾過面積１．５ｍ２）を配置したベントタイプスクリュー二軸押出機（Φ＝５０．０ｍｍ、Ｌ／Ｄ＝３０）に、樹脂量換算で４５ｋｇ／時の処理速度で導入し、脱気を行った。その際、別途準備しておいた酸化防止剤／環化触媒失活剤の混合溶液を０．６８ｋｇ／時の投入速度で第１ベントの後ろから、イオン交換水を０．２２ｋｇ／時の投入速度で第３ベントの後ろから、それぞれ投入した。【０３０１】
酸化防止剤／環化触媒失活剤の混合溶液には、５０質量部の酸化防止剤（住友化学製スミライザーＧＳ）と、失活剤として３５質量部のオクチル酸亜鉛（日本化学産業製、ニッカオクチクス亜鉛３．６％）とを、トルエン２００質量部に溶解させた溶液を用いた。【０３０２】
次に、脱気完了後、押出機内に残された熱溶融状態にある樹脂を押出機の先端からポリマーフィルタによる濾過を伴いながら排出し、ペレタイザーによりペレット化して、主鎖にラクトン環構造を有するアクリル樹脂と紫外線吸収剤とを含む透明な樹脂組成物のペレットを得た。樹脂の重量平均分子量は１４５０００、樹脂及び樹脂組成物のガラス転移温度（Ｔｇ）は１２２℃であった。【０３０３】
上記で作製した樹脂組成物のペレットを、二軸押出機を用いて、コートハンガー型Ｔダイから溶融押出し、厚さ約１６０μｍの樹脂フィルムを作製した。【０３０４】
次に、得られた未延伸の樹脂フィルムを、縦方向に２．０倍、横方向に２．０倍に同時二軸延伸することにより、透明プラスチックフィルム基材（基材フィルム（Ａ−２））を作製した。
このようにして得た二軸延伸性の樹脂フィルムの物性を測定したところ、厚さは４０μｍ、ヘイズ（濁度）は０．３％、ガラス転移温度は１２８℃、３８０ｎｍの光に対する透過率は５．８％、５００ｎｍの光に対する透過率は９２．２％であった。【０３０５】
（低透湿層形成用組成物ＢＬ−２１の組成）
Ａ−ＤＣＰ                                      ７７．０質量部
不飽和酸変性ロジンＡ（酸価３４２ｍｇＫＯＨ／ｇ）２０．０質量部
イルガキュア９０７                                ３．０質量部
ＳＰ−１３                                      ０．０４質量部
ＭＥＫ                                          ８２．０質量部
低透湿層形成用組成物ＢＬ−２１の固形分濃度は５５質量％であった。【０３０６】
（低透湿層形成用組成物ＢＬ−２２の組成）
Ａ−ＤＣＰ                                      ９７．０質量部
イルガキュア９０７                                ３．０質量部
ＳＰ−１３                                      ０．０４質量部
ＭＥＫ                                          ８２．０質量部
低透湿層形成用組成物ＢＬ−２２の固形分濃度は５５質量％であった。【０３０７】
＜光学フィルム６０１の作製＞
基材フィルム（Ａ−１）をロール形態から巻き出して、上記低透湿層形成用組成物ＢＬ−２１を使用し、特開２００６−１２２８８９号公報実施例１記載のスロットダイを用いたダイコート法で、搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布し、６０℃で１５０秒乾燥させた。その後、更に窒素パージ下酸素濃度約０．１％で出力１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量１２０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、巻き取った。低透湿層の膜厚は１０μｍになるよう塗布量を調整した。
得られた光学フィルムを光学フィルム６０１とした。【０３０８】
＜光学フィルム６０２〜６０４の作製＞
光学フィルム６０１の作製において、基材フィルムと低透湿層形成用組成物を下記表に記載のようにした以外は光学フィルム６０１と同様にして、光学フィルム６０２〜６０４を作製した。【０３０９】
上記で作製した光学フィルム６０１〜６０４の透湿度を光学フィルム１０１と同様の方法で評価した。結果を表に示す。【０３１０】
【表５】
2014119487.tif 000023
【０３１１】
表５に示す結果から以下のことが明らかである。
基材フィルムをアクリル系フィルムにした場合もセルロースアシレートを基材フィルムとした場合と同様に特定量の（Ａ）環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物及びフルオレン環とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物の少なくともいずれかと、特定量の（Ｂ）ロジン化合物とを含有する低透湿層を有する光学フィルムは、それを有しない光学フィルムに対し、透湿度が低く、好ましい態様の一つである。【０３１２】
［製造例７］
次に、基材フィルムとしてセルロースアシレートフィルム上に密着層を積層したものを用いた実施例を示す。【０３１３】
＜基材フィルム（Ｂ−１）：密着層付きセルロースシレートフィルムの作製＞
（密着層形成用塗布液ＡＬ−１の組成）
Ａ−ＴＭＭＴ                                        ３．３９質量部
イルガキュア９０７                                  ０．１１質量部
ＳＰ−１３                                      ０．０００７質量部
ＭＥＫ                                            １８．１７質量部
ＭＩＢＫ                                          ７７．２０質量部【０３１４】
使用した材料を以下に示す。（上記で使用のものは省略する。）
・Ａ−ＴＭＭＴ：ペンタエリスリトールテトラアクリレート［新中村化学工業（株）製］【０３１５】
フジタックＴＤ６０（富士フイルム（株）製、幅１，３４０ｍｍ、厚さ６０μｍ）をロール形態から巻き出して、上記密着層形成用組成物ＡＬ−１を使用し、特開２００６−１２２８８９号公報実施例１記載のスロットダイを用いたダイコート法で、搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布し、６０℃で１５０秒乾燥させた。その後、更に窒素パージ下酸素濃度約０．１％で出力１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量６０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、巻き取った。密着層の膜厚は０．３μｍになるよう塗布量を調整した。
得られた光学フィルムを基材フィルム（Ｂ−１）とした。【０３１６】
（低透湿層形成用組成物ＢＬ−２３の組成）
Ａ−ＤＣＰ                                          ３８．５質量部
ＤＣＰ                                              ３８．５質量部
不飽和酸変性ロジンＡ（酸価３４２ｍｇＫＯＨ／ｇ）    ２０．０質量部
イルガキュア９０７                                    ３．０質量部
ＳＰ−１３                                          ０．０４質量部
ＭＥＫ                                              ８２．０質量部
低透湿層形成用組成物ＢＬ−２３の固形分濃度は５５質量％であった。【０３１７】
（低透湿層形成用組成物ＢＬ−２４の組成）
Ａ−ＤＣＰ                                          ４３．５質量部
ＤＣＰ                                              ４３．５質量部
水添ロジンＤ（酸価１７６ｍｇＫＯＨ／ｇ）            １０．０質量部
イルガキュア９０７                                    ３．０質量部
ＳＰ−１３                                          ０．０４質量部
ＭＥＫ                                              ８２．０質量部
低透湿層形成用組成物ＢＬ−２４の固形分濃度は５５質量％であった。【０３１８】
（低透湿層形成用組成物ＢＬ−２５の組成）
Ａ−ＤＣＰ                                          ４６．０質量部
ＤＣＰ                                              ４６．０質量部
パインクリスタルＫＲ６１４                          １５．０質量部
イルガキュア９０７                                    ３．０質量部
ＳＰ−１３                                          ０．０４質量部
ＭＥＫ                                              ８２．０質量部
低透湿層形成用組成物ＢＬ−２５の固形分濃度は５５質量％であった。【０３１９】
＜光学フィルム７０１の作製＞
基材フィルム（Ｂ−１）をロール形態から巻き出して、上記低透湿層形成用組成物ＢＬ−２１を使用し、密着層を積層した面に、特開２００６−１２２８８９号公報実施例１記載のスロットダイを用いたダイコート法で、搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布し、６０℃で１５０秒乾燥させた。その後、更に窒素パージ下酸素濃度約０．１％で出力１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量１２０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、巻き取った。低透湿層の膜厚は９μｍになるよう塗布量を調整した。
得られた光学フィルムを光学フィルム７０１とした。【０３２０】
＜光学フィルム７０２〜７０５の作製＞
光学フィルム７０１の作製において、低透湿層形成用組成物ＢＬ−２１をＢＬ−２２〜ＢＬ−２５に変えた以外は光学フィルム７０１と同様にして、光学フィルム７０２〜７０５を作製した。【０３２１】
上記で作製した光学フィルム７０１〜７０５の透湿度を光学フィルム１０１と同様の方法で評価した。結果を表に示す。【０３２２】
【表６】
2014119487.tif 000024
【０３２３】
表６に示す結果から以下のことが明らかである。
基材フィルムをセルロースアシレートフィルム上に密着層を積層したものにした場合も密着層のないセルロースアシレートを基材フィルムとした場合と同様に特定量の（Ａ）環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物及びフルオレン環とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物の少なくともいずれかと、特定量の（Ｂ）ロジン化合物とを含有する低透湿層を有する光学フィルムは、それを有しない光学フィルムに対し、透湿度が低く、好ましい態様の一つである。【０３２４】
［製造例８］
次に、製造例７で示した本発明の光学フィルムに防眩層を積層したものを示す。【０３２５】
〔防眩層形成用組成物の調製〕
下記に示すように調製した。【０３２６】
（防眩性ハードコート層形成用組成物ＡＧＬ−１の組成）      
スメクタイト                                    １．００質量部
（ルーセンタイトＳＴＮ、コープケミカル社製）
架橋アクリル−スチレン粒子                      ８．００質量部
（平均粒径２．５μｍ  屈折率１．５２）
アクリレートモノマー                          ８７．８５質量部
（ＮＫエステルＡ９５５０、新中村化学工業社製）
イルガキュア９０７                              ３．００質量部
レベリング剤（ＳＰ−１３）                      ０．１５質量部
ＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン）          １３３．５０質量部
ＭＥＫ（メチルエチルケトン）                  １６．５０質量部【０３２７】
上記防眩性ハードコート層用形成用組成物ＡＧＬ−１の固形分濃度は４０質量％である。なお、樹脂粒子及びスメクタイトは分散状態で添加した。【０３２８】
（防眩ハードコート層の塗設）
上記で作製した光学フィルム７０１をロール形態で巻き出して、上記防眩性ハードコート層用組成物（ＡＧＬ−１）を使用し、低屈折率層を積層した面に、特開２００６−１２２８８９号公報実施例１記載のスロットダイを用いたダイコート法で、搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布し、６０℃で１５０秒乾燥させた。その後、更に窒素パージ下酸素濃度約０．１％で出力１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量１８０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、巻き取った。防眩層の膜厚は６μｍになるよう塗布量を調整した。
得られた光学フィルムを光学フィルム８０１とした。【０３２９】
＜光学フィルム８０２〜８０５の作製＞
光学フィルム８０１の作製において、光学フィルム７０１を７０２〜７０５に変えた以外は光学フィルム７０１と同様にして、光学フィルム８０２〜８０５を作製した。【０３３０】
上記で作製した光学フィルム８０１〜８０５の透湿度を光学フィルム１０１と同様の方法で評価した。結果を表に示す。【０３３１】
【表７】
2014119487.tif 000025
【０３３２】
表７に示す結果から以下のことが明らかである。
低透湿層上に防眩性ハードコート層を積層した場合も防眩性ハードコート層を積層していないものと同様、特定量の（Ａ）環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物及びフルオレン環とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物の少なくともいずれかと、特定量の（Ｂ）ロジン化合物とを含有する低透湿層を有する光学フィルムは、それを有しない光学フィルムに対し、透湿度が低く、好ましい態様の一つである。
また、低透湿層上に防眩性ハードコート層を積層したものは、防眩性ハードコート層を積層していないものに対し、防眩性が付与される。
【産業上の利用可能性】
【０３３３】
本発明により、透湿度を低減した光学フィルム及びその製造方法を提供することができる。本発明の光学フィルムを用いることで、高温高湿環境経時後の光漏れ発生が抑えられた液晶表示装置を提供することができる。【０３３４】
本発明を詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは当業者にとって明らかである。
本出願は、２０１３年２月１日出願の日本特許出願（特願２０１３−０１９００６）、２０１３年２月２８日出願の日本特許出願（特願２０１３−０３９６８８）及び２０１３年４月２４日出願の日本特許出願（特願２０１３−０９１８１２）に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。
【国際調査報告】
2014119487.tif 000027
2014119487.tif 000028
2014119487.tif 000029
2014119487.tif 000030