(57)【要約】  行列状に配置された複数の画素を有する画素領域と、前記画素領域の外側の周辺領域とを有し、前記画素領域は、前記複数の画素の列間領域に第１撥液領域を有し、前記周辺領域は、前記第１撥液領域に連続した第２撥液領域を有する表示装置。
2015041040.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
行列状に配置された複数の画素を有する画素領域と、前記画素領域の外側の周辺領域とを有し、
前記画素領域は、前記複数の画素の列間領域に第１撥液領域を有し、
前記周辺領域は、前記第１撥液領域に連続した第２撥液領域を有する
表示装置。
【請求項２】
前記第１撥液領域および前記第２撥液領域は、前記複数の画素の一列または複数列を囲む閉じられた枠状をなしている
請求項１記載の表示装置。
【請求項３】
前記画素領域は、前記複数の画素の行間領域および前記列間領域に、前記第１撥液領域に囲まれた第１親液領域を有し、
前記周辺領域は、前記第２撥液領域に囲まれると共に前記第１親液領域に連続した第２親液領域を有する
請求項１記載の表示装置。
【請求項４】
前記第２親液領域は、凹部を有し、前記凹部の底面は、前記第１親液領域の上面よりも低い
請求項３記載の表示装置。
【請求項５】
前記第２親液領域は、前記第２撥液領域の間隔が前記第１撥液領域の間隔よりも広い拡幅部を有する
請求項３記載の表示装置。
【請求項６】
前記拡幅部は、前記第１撥液領域の長手方向において前記第１撥液領域から遠ざかるにつれて前記第２撥液領域の間隔が次第に広くなっている
請求項５記載の表示装置。
【請求項７】
前記複数の画素は、第１色の画素列と、第２色の画素列とを含み、
前記第１色の画素列を囲む前記第１撥液領域および前記第２撥液領域における前記拡幅部と、前記第２色の画素列を囲む前記第１撥液領域および前記第２撥液領域における前記拡幅部とが、前記画素領域の同じ辺に沿って設けられている
請求項５記載の表示装置。
【請求項８】
前記複数の画素は、第１色の画素列と、第２色の画素列とを含み、
前記第１色の画素列を囲む前記第１撥液領域および前記第２撥液領域における前記拡幅部は、前記画素領域の対向する二辺の一方に沿って設けられ、
前記第２色の画素列を囲む前記第１撥液領域および前記第２撥液領域における前記拡幅部は、前記画素領域の対向する二辺の他方に沿って設けられている
請求項５記載の表示装置。
【請求項９】
前記周辺領域は、前記複数の画素の行方向の端に位置する画素列の外側に、第３撥液領域を有する
請求項１記載の表示装置。
【請求項１０】
周辺領域は、前記第２撥液領域および前記第３撥液領域を囲む溝部を有する
請求項９記載の表示装置。
【請求項１１】
前記周辺領域は、封止部を有し、
前記溝部は、前記封止部と前記画素領域との間の領域に設けられている
請求項１０記載の表示装置。
【請求項１２】
行列状に配置された複数の画素を有する画素領域と、前記画素領域の外側の周辺領域とを有し、
前記周辺領域は、前記複数の画素の行方向の端に位置する画素列の外側に、第３撥液領域を有する
表示装置。
【請求項１３】
行列状に配置された複数の画素を有する画素領域と、前記画素領域の外側の周辺領域とを有し、
前記画素領域は、前記複数の画素の列間領域に第１撥液領域を有し、
前記周辺領域は、
前記第１撥液領域に連続した第２撥液領域と、
前記複数の画素の行方向の端に位置する画素列の外側に設けられた第３撥液領域と、
前記第２撥液領域および前記第３撥液領域を囲む溝部と
を有する表示装置。
【請求項１４】
前記周辺領域は、封止部を有し、
前記溝部は、前記封止部と前記画素領域との間の領域に設けられている
請求項１３記載の表示装置。
【請求項１５】
表示装置を有し、
前記表示装置は、
行列状に配置された複数の画素を有する画素領域と、前記画素領域の外側の周辺領域とを有し、
前記画素領域は、前記複数の画素の列間領域に第１撥液領域を有し、
前記周辺領域は、前記第１撥液領域に連続した第２撥液領域を有する
電子機器。
【請求項１６】
表示装置を有し、
前記表示装置は、
行列状に配置された複数の画素を有する画素領域と、前記画素領域の外側の周辺領域とを有し、
前記周辺領域は、前記複数の画素の行方向の端に位置する画素列の外側に、第３撥液領域を有する
電子機器。
【請求項１７】
表示装置を有し、
前記表示装置は、
行列状に配置された複数の画素を有する画素領域と、前記画素領域の外側の周辺領域とを有し、
前記画素領域は、前記複数の画素の列間領域に第１撥液領域を有し、
前記周辺領域は、
前記第１撥液領域に連続した第２撥液領域と、
前記複数の画素の行方向の端に位置する画素列の外側に設けられた第３撥液領域と、
前記第２撥液領域および前記第３撥液領域を囲む溝部と
を有する電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、有機エレクトロルミネセンス（ＥＬ；Electroluminescence）表示装置などに好適な表示装置およびこれを備えた電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示装置は、配線、電極、発光層、層間絶縁膜など多数の層を積層して構成されている。これらの層の材料は、無機膜または有機膜などさまざまである。また、基板上のほぼ全面に形成される層もあるし、基板上に所望のパターンで形成される層もある。【０００３】
基板上のほぼ全面に層を形成する方法の一つとして、真空蒸着法がある。真空蒸着法は、とくに有機ＥＬ素子の発光層など有機材料の成膜に用いられる。具体的には、基板のほぼ全体に対向する開口を持ったマスクを蒸着源と基板との間に挟むことによって開口内に層を形成する。【０００４】
一方、真空蒸着法により有機材料をパターン成膜する場合には、パターンに合わせた開口を有するマスクを用いる。そのため、アライメントの難しさ、材料の利用効率の低さなどの問題があり、転写法や塗布法など他の成膜方法が模索されている。【０００５】
例えば塗布法でストライプ状のパターンを作りたい場合には、一つのヘッドにストライプパターンのピッチに合わせて複数の開口部を設け、ヘッドを移動させる。これにより、一度のスキャンで複数列のストライプ状の層を形成することが可能である。このようなストライプ状の塗布法は、例えば、有機ＥＬ素子の色別の発光層を成膜する場合に適用されている（例えば、特許文献１参照。）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１２−２５６５８７号公報
【発明の概要】
【０００７】
しかしながら、真空蒸着法または塗布法などの既存の成膜方法では、成膜材料の濡れ広がり等に起因して、所望領域よりも広い領域に層が形成されてしまうおそれがあり、パターン精度向上の点で未だ改善の余地があった。
【０００８】
従って、高精度なパターニングが可能な表示装置およびこれを備えた電子機器を提供することが望ましい。
【０００９】
本開示の一実施の形態に係る第１の表示装置は、行列状に配置された複数の画素を有する画素領域と、画素領域の外側の周辺領域とを有し、画素領域は、複数の画素の列間領域に第１撥液領域を有し、周辺領域は、第１撥液領域に連続した第２撥液領域を有するものである。
【００１０】
本開示の一実施の形態の第１の表示装置では、画素領域には、複数の画素の列間領域に第１撥液領域が設けられ、周辺領域には、第１撥液領域に連続した第２撥液領域が設けられている。よって、画素領域では第１撥液領域により、周辺領域では第２撥液領域により、成膜材料の濡れ広がり等が抑えられ、パターンが精度良く規定される。
【００１１】
本開示の一実施の形態に係る第２の表示装置は、行列状に配置された複数の画素を有する画素領域と、画素領域の外側の周辺領域とを有し、周辺領域は、複数の画素の行方向の端に位置する画素列の外側に、第３撥液領域を有するものである。
【００１２】
本開示の一実施の形態の第２の表示装置では、周辺領域に、複数の画素の行方向の端に位置する画素列の外側に、第３撥液領域が設けられている。よって、第３撥液領域により成膜材料の濡れ広がり等が抑えられ、パターンが精度よく規定される。
【００１３】
本開示の一実施の形態に係る第３の表示装置は、行列状に配置された複数の画素を有する画素領域と、画素領域の外側の周辺領域とを有し、画素領域は、複数の画素の列間領域に第１撥液領域を有し、周辺領域は、第１撥液領域に連続した第２撥液領域と、複数の画素の行方向の端に位置する画素列の外側に設けられた第３撥液領域と、第２撥液領域および第３撥液領域を囲む溝部とを有するものである。
【００１４】
本開示の一実施の形態の第３の表示装置では、周辺領域に、第２撥液領域および第３撥液領域を囲む溝部が設けられている。よって、溝部により成膜材料の濡れ広がり等が抑えられ、パターンが精度よく規定される。
【００１５】
本開示の一実施の形態に係る第１の電子機器は、表示装置を有し、表示装置は、行列状に配置された複数の画素を有する画素領域と、画素領域の外側の周辺領域とを有し、画素領域は、複数の画素の列間領域に第１撥液領域を有し、周辺領域は、第１撥液領域に連続した第２撥液領域を有するものである。
【００１６】
本開示の一実施の形態に係る第２の電子機器は、表示装置を有し、表示装置は、行列状に配置された複数の画素を有する画素領域と、画素領域の外側の周辺領域とを有し、周辺領域は、複数の画素の行方向の端に位置する画素列の外側に、第３撥液領域を有するものである。
【００１７】
本開示の一実施の形態に係る第３の電子機器は、表示装置を有し、表示装置は、行列状に配置された複数の画素を有する画素領域と、画素領域の外側の周辺領域とを有し、画素領域は、複数の画素の列間領域に第１撥液領域を有し、周辺領域は、第１撥液領域に連続した第２撥液領域と、複数の画素の行方向の端に位置する画素列の外側に設けられた第３撥液領域と、第２撥液領域および第３撥液領域を囲む溝部とを有するものである。
【００１８】
本開示の一実施の形態の第１ないし第３の電子機器では、表示装置により画像表示が行われる。
【００１９】
本開示の一実施の形態の第１の表示装置、または本開示の一実施の形態の第１の電子機器によれば、画素領域には、複数の画素の列間領域に第１撥液領域を設け、周辺領域には、第１撥液領域に連続した第２撥液領域を設けるようにしている。よって、画素領域では第１撥液領域により、周辺領域では第２撥液領域により、成膜材料の濡れ広がり等を抑え、高精度なパターニングが可能となる。
【００２０】
本開示の一実施の形態の第２の表示装置、または本開示の一実施の形態の第２の電子機器によれば、周辺領域に、複数の画素の行方向の端に位置する画素列の外側に、第３撥液領域を設けるようにしている。よって、第３撥液領域により成膜材料の濡れ広がり等を抑え、高精度なパターニングが可能となる。
【００２１】
本開示の一実施の形態の第３の表示装置、または本開示の一実施の形態の第３の電子機器によれば、周辺領域に、第２撥液領域および第３撥液領域を囲む溝部を設けるようにしている。よって、溝部により成膜材料の濡れ広がり等を抑え、高精度なパターニングが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本開示の第１の実施の形態に係る表示装置の構成を表す平面図である。
【図２】図１に示した一つの画素の一例を表す断面図である。
【図３】図２に示した有機層の一例を表す断面図である。
【図４】図２に示した有機層の他の例を表す断面図である。
【図５】図３に示した発光層の形成方法を説明する模式図である。
【図６】図５に続く工程を表す模式図である。
【図７】図６を他の方向から見た状態を表す模式図である。
【図８】本開示の第２の実施の形態に係る表示装置の構成を表す平面図である。
【図９】図８に示した表示装置の変形例を表す平面図である。
【図１０】図８に示した表示装置の他の変形例を表す平面図である。
【図１１】図８に示した表示装置の更に他の変形例を表す平面図である。
【図１２】本開示の第３の実施の形態に係る表示装置の構成を表す平面図である。
【図１３】図１２に示した凹部の一例を表す断面図である。
【図１４】図１２に示した凹部の他の例を表す断面図である。
【図１５】本開示の第４の実施の形態に係る表示装置の構成を表す平面図である。
【図１６】図１５に示した表示装置において、画素領域内での距離と、膜厚との関係を調べた結果を表す図である。
【図１７】本開示の第５の実施の形態に係る表示装置の構成を表す平面図である。
【図１８】図１７に示した周辺領域を拡大して表す平面図である。
【図１９】図１に示した表示装置の全体構成を表す概略図である。
【図２０】図１９に示した表示装置の画素駆動回路の一例を表す図である。
【図２１】上記実施の形態の表示装置を含むモジュールの概略構成を表す平面図である。
【図２２】適用例１の外観を表す斜視図である。
【図２３】適用例１の外観を表す他の斜視図である。
【図２４】適用例２の表側から見た外観を表す斜視図である。
【図２５】適用例２の裏側から見た外観を表す斜視図である。
【図２６】適用例３の外観を表す斜視図である。
【図２７】適用例４の外観を表す斜視図である。
【図２８】適用例５の表側から見た外観を表す斜視図である
【図２９】適用例５の裏側から見た外観を表す斜視図である。
【図３０】適用例６の外観を表す斜視図である。
【図３１】適用例７の外観を表す斜視図である。
【図３２】適用例８の開いた状態を表す斜視図である。
【図３３】適用例８の閉じた状態を表す斜視図である。
【図３４】適用例９の閉じた状態を表す図である。
【図３５】適用例９の開いた状態を表す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、本開示の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、説明は以下の順序で行う。
１．第１の実施の形態（画素領域に第１親液領域および第１撥液領域を有し、周辺領域に第２親液領域、第２撥液領域および第３撥液領域を有する例）
２．第２の実施の形態（第２親液領域に拡幅部を有する例）
３．第３の実施の形態（第２親液領域に凹部を設けた例）
４．第４の実施の形態（第２親液領域に拡幅部および凹部の両方を設けた例）
５．第５の実施の形態（周辺領域に溝部を設けた例）
６．表示装置の全体構成
７．適用例（電子機器）
【００２４】
（第１の実施の形態）
図１は本開示の第１の実施の形態に係る表示装置１の平面構成を表したものである。この表示装置１は、テレビジョン装置やモニター装置などとして用いられる有機ＥＬ表示装置であり、基板２の中央部の画素領域３と、この画素領域３の外側の周辺領域４とを有している。
【００２５】
画素領域３は、複数の画素５が行列状（マトリクス状）に配置された矩形状の領域である。複数の画素５は、例えば赤色画素５Ｒ，緑色画素５Ｇ，青色画素５Ｂである。これら各画素５（５Ｒ，５Ｇ，５Ｂ）には、例えば、それぞれ対応する色の後述する有機ＥＬ素子１０（１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ）が設けられている。赤色画素５Ｒ，緑色画素５Ｇおよび青色画素５Ｂの配列は特に限定されないが、例えばテレビジョン用途においては、同色の画素５（５Ｒ，５Ｇ，５Ｂ）を列方向に並べた画素列５Ａ（５ＡＲ，５ＡＧ，５ＡＢ）が行方向に配列されている。これらの画素列５Ａ（５ＡＲ，５ＡＧ，５ＡＢ）が、全体として横長の矩形状の画素領域３を構成している。赤色画素５Ｒ，緑色画素５Ｇおよび青色画素５Ｂの各々はサブピクセルを構成し、隣り合う赤色画素５Ｒ，緑色画素５Ｇおよび青色画素５Ｂの組み合わせが一つの表示画素（ピクセル）を構成している。なお、ここにいう画素領域３は、実際に画像が表示されるいわゆる有効エリアと、その外側のダミー画素とを含む。
【００２６】
周辺領域４は、画素領域３を囲む矩形枠状の領域であり、外部接続端子、封止部など（後述）が設けられている。また、周辺領域４は、画素領域３の対向する二辺、すなわち上辺および下辺に沿って、ビード形成領域６を有している。ビード形成領域６は、有機ＥＬ素子の発光層１５Ｃ（後述）を塗布法によって形成する際に、周辺領域４内の塗布開始位置にインクを吐出して液柱（ビード）を形成する領域である。
【００２７】
画素領域３は、複数の画素５の列間領域に、第１撥液領域３Ａを有している。周辺領域４は、第１撥液領域３Ａに連続した第２撥液領域４Ａを有している。これにより、この表示装置１では、高精度なパターニングが可能となっている。
【００２８】
第１撥液領域３Ａは、有機ＥＬ素子１０の発光層１５Ｃ（後述）を色別に塗布法によって形成する際のインクのバンク（土手）としての機能を有している。第１撥液領域３Ａは、画素列５Ａ上に吐出されたインクの過剰な濡れ広がり、具体的には、隣接する画素列５Ａへの浸入を抑えるものであり、画素列５Ａを区画ないし分割するライン状に設けられている。
【００２９】
第１撥液領域３Ａの材料としては、有機材料、例えばポリイミドまたはノボラック等が挙げられ、これらの材料にプラズマ処理を行うことで撥液性が付与されている。
【００３０】
第２撥液領域４Ａは、塗布開始時に周辺領域４に吐出されたインクの濡れ広がりを抑えるものであり、第１撥液領域３Ａに繋がるライン状に設けられている。第２撥液領域４Ａの材料は、第１撥液領域３Ａと同じであり、これらの材料にプラズマ処理を行うことで撥液性が付加されている。
【００３１】
第１撥液領域３Ａおよび第２撥液領域４Ａは、複数の画素５の一列または複数列を囲む閉じられた枠状をなしていることが好ましい。発光層１５Ｃを形成するための有機材料を溶解したインクの粘度は低く、低接触角で濡れ性が高い。第１撥液領域３Ａおよび第２撥液領域４Ａにより画素列５Ａを閉じられた枠状に囲むことにより、インクの濡れ広がり等を抑え、精度良く発光層１５Ｃを形成することが可能となる。
【００３２】
画素領域３は、複数の画素５の行間領域および列間領域に、第１撥液領域３Ａに囲まれた第１親液領域３Ｂを有していることが好ましい。周辺領域４は、第２撥液領域４Ａに囲まれると共に第１親液領域３Ｂに連続した第２親液領域４Ｂを有していることが好ましい。
【００３３】
第１親液領域３Ｂは、インクの濡れ性を向上させるためのものであり、画素領域３の全体を被覆すると共に各画素５（５Ｒ，５Ｇ，５Ｂ）に対向して開口を有している。また、第１親液領域３Ｂは、第１撥液領域３Ａによって列ごとに区画ないし分割されているので、色別の発光層１５Ｃを精度良く形成することが可能となり、より高精度なパターニングが可能となる。
【００３４】
第１親液領域３Ｂの材料としては、無機材料、例えば二酸化ケイ素（ＳｉＯ２），炭化ケイ素（ＳｉＣ），窒化ケイ素（Ｓｉ３Ｎ４），インジウム錫酸化物（ＩＴＯ），インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ），アルミニウム（Ａｌ），チタン（Ｔｉ）またはモリブデン（Ｍｏ）等が用いられ、真空蒸着法，ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition ；化学気相成長）法またはＰＶＤ（Physical Vapor Deposition ；物理気相成長）法等によって形成される。
【００３５】
第２親液領域４Ｂは、ビード形成領域６の濡れ性を向上させ、ビードを形成しやすくするものである。すなわち、第１親液領域３Ｂにインクを塗布して発光層１５Ｃを形成する際の準備段階としてのビードの形成において、第２親液領域４Ｂに十分な液溜まり（ビード）を形成することが可能となる。これにより、第１親液領域３Ｂへの安定的なインクの塗布が可能となり、発光層１５Ｃを精度良く形成することが可能となる。すなわち、インクの濃度（粘度）に関係なく、簡易な方法で発光層１５Ｃの正確なパターニングが可能になり、素子特性が向上する。これにより、簡易な方法で、特性の安定したフルカラーの表示装置１を提供することが可能となる。
【００３６】
第２親液領域４Ｂおよびビード形成領域６は、図１に示したように、画素領域３の対向する二辺（上辺および下辺）、つまり画素列５Ａの長手方向両端に、対称的パターンで設けられていることが好ましい。なお、第２親液領域４Ｂおよびビード形成領域６は、画素列５Ａの長手方向一端に設けられていてもよい。第２親液領域４Ｂは、第１親液領域３Ｂと同じ材料および方法によって形成される。
【００３７】
第１親液領域３Ｂと第２親液領域４Ｂとは連続しており、両者の間に撥液領域が設けられていないことが好ましい。第１親液領域３Ｂと第２親液領域４Ｂとの間に撥液領域が設けられていると、そこでインクが途切れてしまうからである。
【００３８】
更に、周辺領域４は、複数の画素５の行方向の端に位置する画素列５Ａの外側に、第３撥液領域４Ｃを有していることが好ましい。第３撥液領域４Ｃは、スキャン方向と垂直な方向において、周辺領域４に設けられた配線部などへの有機成膜材料の液流れを抑えることにより、高精度なパターニングを可能とするものである。第３撥液領域４Ｃは、第１撥液領域３Ａおよび第２撥液領域４Ａと同じ材料により構成することが可能である。また、第３撥液領域４Ｃは、図１に示したように一本設けてもよいし、複数本設けてもよい。
【００３９】
第１撥液領域３Ａと第３撥液領域４Ｃとの間の距離、または第２撥液領域４Ａと第３撥液領域４Ｃとの距離は、装置のアライメント精度Ｘμｍとすると、２Ｘμｍ以上であることが好ましい。高精度なアライメント機構を有しない装置を用いる場合でも、それに合わせた寸法で第３撥液領域４Ｃを配置することにより、簡易な装置構成で高精度なパターニングが可能となる。よって、特性の安定した表示装置１を形成することが可能となる。
【００４０】
図２は、一つの画素５の断面構成の一例を表したものである。各画素５は、基板２上に、ＴＦＴ２０と、有機ＥＬ素子１０とを有している。有機ＥＬ素子１０は、例えば、赤色の光を発生する赤色有機ＥＬ素子１０Ｒと、緑色の光を発生する緑色有機ＥＬ素子１０Ｇと、青色の光を発生する青色有機ＥＬ素子１０Ｂとのうちのいずれか一つである。
【００４１】
ＴＦＴ２０は、有機ＥＬ素子１０を例えばアクティブマトリックス方式により駆動する駆動素子である。具体的には、ＴＦＴ２０は、いわゆるボトムゲート型のＴＦＴであり、チャネル（活性層）に、例えば酸化物半導体を用いたものである。このＴＦＴ２０では、ガラス等よりなる基板２上に、ゲート電極２１、ゲート絶縁膜（第１ゲート絶縁膜２２，第２ゲート絶縁膜２３）、酸化物半導体層２４、チャネル保護膜２５およびソース・ドレイン電極２６Ａ，２６Ｂがこの順に形成されている。ソース・ドレイン電極２６Ａ，２６Ｂ上には、基板２の全面に渡ってＴＦＴ２０の凹凸を平坦化させるための平坦化層２７が形成されている。
【００４２】
ゲート電極２１は、ＴＦＴ２０に印加されるゲート電圧によって酸化物半導体層２４中のキャリア密度（ここでは、電子密度）を制御する役割を果たすものである。このゲート電極２１は、例えばＭｏ，Ａｌおよびアルミニウム合金等のうちの１種よりなる単層膜、または２種以上よりなる積層膜により構成されている。なお、アルミニウム合金としては、例えばアルミニウム−ネオジム合金が挙げられる。
【００４３】
第１ゲート絶縁膜２２，第２ゲート絶縁膜２３は、ＳｉＯ２、Ｓｉ３Ｎ４、シリコン窒化酸化物（ＳｉＯＮ）および酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）等のうちの１種よりなる単層膜、またはこれらのうちの２種以上よりなる積層膜である。ここでは、第１ゲート絶縁膜２２，第２ゲート絶縁膜２３は２層構造を有し、絶縁膜２２が例えばＳｉＯ２膜、絶縁膜２３は例えばＳｉ３Ｎ４膜によりそれぞれ構成されている。ゲート絶縁膜２２，２３の総膜厚は、例えば２００ｎｍ〜３００ｎｍである。
【００４４】
酸化物半導体層２４は、例えばインジウム（Ｉｎ），ガリウム（Ｇａ），亜鉛（Ｚｎ），スズ（Ｓｎ），Ａｌ，Ｔｉのうちの少なくとも１種の酸化物を主成分として含んでいる。この酸化物半導体層２４は、ゲート電圧の印加によりソース・ドレイン電極２６Ａ，２６Ｂ間にチャネルを形成するものである。この酸化物半導体層２４の膜厚は後述の負の電荷の影響がチャネルへ及ぶように、薄膜トランジスタのオン電流の悪化を引き起こさない程度であることが望ましく、具体的には５ｎｍ〜１００ｎｍであることが望ましい。
【００４５】
チャネル保護膜２５は、酸化物半導体層２４上に形成され、ソース・ドレイン電極２６Ａ，２６Ｂ形成時におけるチャネルの損傷を防止するものである。チャネル保護膜２５の厚みは、例えば１０ｎｍ〜３００ｎｍである。
【００４６】
ソース・ドレイン電極２６Ａ，２６Ｂは、例えばＭｏ，Ａｌ，銅（Ｃｕ），Ｔｉ，ＩＴＯおよびＴｉＯ等のうち１種よりなる単層膜またはこれらのうちの２種以上よりなる積層膜である。例えば、Ｍｏ，Ａｌ，Ｍｏの順に、５０ｎｍ，５００ｎｍ，５０ｎｍの膜厚で積層した３層膜や、ＩＴＯおよび酸化チタン等の酸素を含む金属化合物のような酸素との結びつきの弱い金属または金属化合物を用いることが望ましい。これにより、酸化物半導体の電気特性を安定して保持することができる。
【００４７】
平坦化層２７は、例えばポリイミド、ノボラック等の有機材料が用いられる。この平坦化層２７の厚みは、例えば５００ｎｍ〜４０００ｎｍであり、好ましくは２０００ｎｍ以下である。平坦化層２７上には、有機ＥＬ素子１０のアノード電極１２が形成されている。
【００４８】
有機ＥＬ素子１０は、例えば、平坦化層２７上に、アノード電極１２（第１電極），親液層１３、撥液層（隔壁）１４，有機層１５およびカソード電極１６（第２電極）がこの順に積層された構成を有している。有機ＥＬ素子１０は、上面発光型（トップエミッション型）の表示素子であり、アノード電極１２から注入された正孔とカソード電極１６から注入された電子が発光層１５Ｃ（後述）内で再結合する際に生じた発光光が、基板２と反対側（カソード電極１６側）から取り出される。上面発光型の有機ＥＬ素子１０を用いることにより、表示装置１の発光部の開口率が向上する。なお、有機ＥＬ素子１０は、上面発光型に限定されることはなく、例えば基板２側から光を取り出す透過型、即ち下面発光型（ボトムエミッション型）の表示素子としてもよい。
【００４９】
アノード電極１２は、例えば表示装置１が上面発光型である場合には、高反射性材料、例えば、Ａｌ，Ｔｉ，Ｃｒ等からなる。また、表示装置１が透過型である場合には、アノード電極１２は、透明材料、例えばＩＴＯ，ＩＺＯ，ＩＧＺＯ等が用いられる。
【００５０】
親液層１３は、図１に示した第１親液領域３Ｂおよび第２親液領域４Ｂを構成するものであり、上述したようにＳｉＯ２，Ｓｉ３Ｎ４等により構成されている。親液層１３は、平坦化層２７の上面と、アノード電極１２の上面端部および側面を被覆している。親液層１３は、アノード電極１２に対向して開口１３Ａを有し、この開口１３Ａが有機ＥＬ素子１０の発光領域となっている。
【００５１】
撥液層１４は、図１に示した第１撥液領域３Ａ、第２撥液領域４Ａおよび第３撥液領域４Ｃを構成するものであり、上述したようにポリイミドまたはノボラック等の有機材料により構成され、例えばプラズマ処理により撥液性が付与されている。また、撥液層１４は、アノード電極１２とカソード電極１６との絶縁性を確保する役割も有し、一般的に隔壁として機能するものである。撥液層１４は、親液層１３の一部領域に設けられている。具体的には、撥液層１４は、親液層１３の開口１３Ａすなわち発光領域の両側に設けられている。また、撥液層１４は、ＴＦＴ２０のソース・ドレイン電極２６とアノード電極１２との接続部上に設けられている。
【００５２】
有機層１５は、例えば図３に示したように、アノード電極１２側から順に、正孔注入層１５Ａ，正孔輸送層１５Ｂ，発光層１５Ｃ（赤色発光層１５ＣＲ，緑色発光層１５ＣＧ，青色発光層１５ＣＢ），電子輸送層１５Ｄおよび電子注入層１５Ｅを積層した構成を有する。有機層１５の上面はカソード電極１６によって被覆されている。赤色発光層１５ＣＲは、赤色光ＬＲを発生する。緑色発光層１５ＣＧは、緑色光ＬＧを発生する。青色発光層１５ＣＢは、青色光ＬＢを発生する。
【００５３】
あるいは、有機層１５は、例えば図４に示したように、アノード電極１２側から順に、正孔注入層１５Ａ，正孔輸送層１５Ｂ，発光層１５Ｃ（黄色発光層１５ＣＹ，青色発光層１５ＣＢ），電子輸送層１５Ｄおよび電子注入層１５Ｅを積層した構成を有している。この場合には、黄色発光層１５ＣＹは、黄色光ＬＹを発生する。黄色光ＬＹは、カラーフィルタＣＦ（赤フィルタＣＦＲ，緑フィルタＣＦＧ）により赤色光ＬＲおよび緑色光ＬＧに色分離される。
【００５４】
有機層１５のうち、正孔注入層１５Ａ，正孔輸送層１５Ｂ，電子輸送層１５Ｄおよび電子注入層１５Ｅは、例えば真空蒸着法により、画素領域３の全面に共通層として形成される。一方、赤色発光層１５ＣＲ、緑色発光層１５ＣＧ、および黄色発光層１５ＣＹは、例えば塗布法により色別に形成される。青色発光層１５ＣＢは、例えば真空蒸着法により、画素領域３の全面に共通層として形成されていてもよいし、例えば塗布法により色別に形成されていてもよい。
【００５５】
有機層１５を構成する各層の膜厚および構成材料等は特に限定されないが、一例を以下に示す。
【００５６】
正孔注入層１５Ａは、発光層１５Ｃへの正孔注入効率を高めると共に、リークを防止するためのバッファ層である。正孔注入層１５Ａの厚みは例えば５ｎｍ〜２００ｎｍであることが好ましく、さらに好ましくは８ｎｍ〜１５０ｎｍである。正孔注入層１５Ａの構成材料は、電極や隣接する層の材料との関係で適宜選択すればよく、例えばポリアニリン，ポリチオフェン，ポリピロール，ポリフェニレンビニレン，ポリチエニレンビニレン，ポリキノリン，ポリキノキサリンおよびそれらの誘導体、芳香族アミン構造を主鎖又は側鎖に含む重合体などの導電性高分子，金属フタロシアニン（銅フタロシアニン等），カーボンなどが挙げられる。導電性高分子の具体例としてはオリゴアニリンおよびポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）（ＰＥＤＯＴ）などのポリジオキシチオフェンが挙げられる。
【００５７】
正孔輸送層１５Ｂは、発光層１５Ｃへの正孔輸送効率を高めるためのものである。正孔輸送層１５Ｂの厚みは、素子の全体構成にもよるが、例えば５ｎｍ〜２００ｎｍであることが好ましく、さらに好ましくは８ｎｍ〜１５０ｎｍである。正孔輸送層１５Ｂを構成する材料としては、有機溶媒に可溶な発光材料、例えば、ポリビニルカルバゾール，ポリフルオレン，ポリアニリン，ポリシランまたはそれらの誘導体、側鎖または主鎖に芳香族アミンを有するポリシロキサン誘導体，ポリチオフェンおよびその誘導体，ポリピロールまたはＡｌｑ3 などを用いることができる。
【００５８】
発光層１５Ｃでは、電界がかかると電子と正孔との再結合が起こり発光する。発光層１５Ｃの厚みは、素子の全体構成にもよるが、例えば１０ｎｍ〜２００ｎｍであることが好ましく、さらに好ましくは２０ｎｍ〜１５０ｎｍである。発光層１５Ｃは、それぞれ単層あるいは積層構造であってもよい。
【００５９】
発光層１５Ｃを構成する材料は、それぞれの発光色に応じた材料を用いればよく、例えばポリフルオレン系高分子誘導体や、（ポリ）パラフェニレンビニレン誘導体，ポリフェニレン誘導体，ポリビニルカルバゾール誘導体，ポリチオフェン誘導体，ペリレン系色素，クマリン系色素，ローダミン系色素，あるいは上記高分子に有機ＥＬ材料をドープしたものが挙げられる。ドープ材料としては、例えばルブレン，ペリレン，９，１０−ジフェニルアントラセン，テトラフェニルブタジエン，ナイルレッド，クマリン６等を用いることができる。なお、発光層１５Ｃを構成する材料は、上記材料を２種類以上混合して用いてもよい。また、上記高分子量の材料に限らず、低分子量の材料を組み合わせて用いてもよい。低分子材料の例としては、ベンジン，スチリルアミン，トリフェニルアミン，ポルフィリン，トリフェニレン，アザトリフェニレン，テトラシアノキノジメタン，トリアゾール，イミダゾール，オキサジアゾール，ポリアリールアルカン，フェニレンジアミン，アリールアミン，オキザゾール，アントラセン，フルオレノン，ヒドラゾン，スチルベンあるいはこれらの誘導体、または、ポリシラン系化合物，ビニルカルバゾール系化合物，チオフェン系化合物あるいはアニリン系化合物等の複素環式共役系のモノマーあるいはオリゴマーが挙げられる。
【００６０】
発光層１５Ｃを構成する材料としては、上記材料の他に発光性ゲスト材料として、発光効率が高い材料、例えば、低分子蛍光材料、りん光色素あるいは金属錯体等の有機発光材料を用いることができる。
【００６１】
なお、発光層１５Ｃは、例えば上述した正孔輸送層１５Ｂを兼ねた正孔輸送性の発光層としてもよく、また、後述する電子輸送層１５Ｄを兼ねた電子輸送性の発光層としてもよい。
【００６２】
電子輸送層１５Ｄおよび電子注入層１５Ｅは、発光層１５Ｃへの電子輸送効率を高めるためのものである。電子輸送層１５Ｄおよび電子注入層１５Ｅの総膜厚は素子の全体構成にもよるが、例えば５ｎｍ〜２００ｎｍであることが好ましく、より好ましくは１０ｎｍ〜１８０ｎｍである。
【００６３】
電子輸送層１５Ｄの材料としては、優れた電子輸送能を有する有機材料を用いることが好ましい。発光層１５Ｃの輸送効率を高めることにより、電界強度による発光色の変化が抑制される。具体的には、例えばアリールピリジン誘導体およびベンゾイミダゾール誘導体などを用いることが好ましい。これにより、低い駆動電圧でも高い電子の供給効率が維持されるからである。電子注入層１５Ｅの材料としては、アルカリ金属，アルカリ土類金属，希土類金属およびその酸化物，複合酸化物，フッ化物，炭酸塩等が挙げられる。
【００６４】
カソード電極１６は、例えば、厚みが１０ｎｍ程度であり、光透過性が良好で仕事関数が小さい材料により構成されている。また、酸化物を用いて透明導電膜を形成することによっても光取り出しを担保することが可能である。この場合には、ＺｎＯ，ＩＴＯ，ＩＺｎＯ，ＩｎＳｎＺｎＯ等を用いることが可能である。更に、カソード電極１６は単層でもよいが、ここでは例えばアノード電極１２側から順に第１層１６Ａ、第２層１６Ｂ、第３層１６Ｃを積層した構造となっている。
【００６５】
第１層１６Ａは、仕事関数が小さく、且つ、光透過性の良好な材料により形成されることが好ましい。具体的には、例えばカルシウム（Ｃａ），バリウム（Ｂａ）等のアルカリ土類金属、リチウム（Ｌｉ），セシウム（Ｃｓ）等のアルカリ金属、インジウム（Ｉｎ），マグネシウム（Ｍｇ），銀（Ａｇ）が挙げられる。更に、Ｌｉ２Ｏ，Ｃｓ２Ｃｏ３，Ｃｓ２ＳＯ４，ＭｇＦ，ＬｉＦやＣａＦ２等のアルカリ金属酸化物，アルカリ金属フッ化物，アルカリ土類金属酸化物，アルカリ土類フッ化物が挙げられる。
【００６６】
第２層１６Ｂは、薄膜のＭｇＡｇ電極やＣａ電極などの光透過性を有し、且つ、導電性が良好な材料で構成されている。第３層１６Ｃは、電極の劣化を抑制するために透明なランタノイド系酸化物を用いることが好ましい。これにより、上面から光を取り出すことが可能な封止電極として用いることが可能となる。また、ボトムエミッション型の場合には、第３層１５Ｃの材料として金（Ａｕ），白金（Ｐｔ）またはＡｕＧｅ等が用いられる。
【００６７】
なお、第１層１６Ａ、第２層１６Ｂおよび第３層１６Ｃは、真空蒸着法、スパッタリング法、あるいはプラズマＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition ；化学気相成長）法などの手法によって形成される。また、この有機ＥＬ素子１０を用いて構成される表示装置１の駆動方式がアクティブマトリックス方式である場合、カソード電極１６は、撥液層１４（隔壁）および有機層１５によってアノード電極１２に対して絶縁された状態で、基板２上にベタ膜状で形成され、有機ＥＬ素子１０の共通電極とされていてもよい。
【００６８】
また、カソード電極１６には、アルミキノリン錯体，スチリルアミン誘導体，フタロシアニン誘導体等の有機発光材料を含有した混合層でもよい。この場合には、さらに第３層１６Ｃ（図示なし）としてＭｇＡｇのような光透過性を有する層を別途有していてもよい。また、カソード電極１６は上記のような積層構造に限定されることはなく、作製されるデバイスの構造に応じて最適な組み合わせ、積層構造を取ればよいことは言うまでもない。例えば、上記本実施の形態のカソード電極１６の構成は、電極各層の機能分離、即ち有機層１５への電子注入を促進させる無機層（第１層１６Ａ）と、電極を司る無機層（第２層１６Ｂ）と、電極を保護する無機層（第３層１６Ｃ）とを分離した積層構造である。しかしながら、有機層１５への電子注入を促進させる無機層が、電極を司る無機層を兼ねてもよく、これらの層を単層構造としてもよい。
【００６９】
更に、この有機ＥＬ素子１０が、キャビティ構造となっている場合には、カソード電極１６が半透過半反射材料を用いて構成されることが好ましい。これにより、アノード電極１２側の光反射面と、カソード電極１６側の光反射面との間で多重干渉させた発光光がカソード電極１６側から取り出される。この場合、アノード電極１２側の光反射面とカソード電極１６側の光反射面との間の光学的距離は、取り出したい光の波長によって規定され、この光学的距離を満たすように各層の膜厚が設定されていることとする。このような上面発光型の表示素子においては、このキャビティ構造を積極的に用いることにより、外部への光取り出し効率の改善や発光スペクトルの制御を行うことが可能となる。
【００７０】
保護層１７は、有機層１５への水分の浸入を防止するためのものであり、透過性および透水性の低い材料を用いて、例えば厚さ２〜３μｍで形成される。保護層１７の材料としては、絶縁性材料または導電性材料のいずれにより構成されていてもよい。絶縁性材料としては、無機アモルファス性の絶縁性材料、例えばアモルファスシリコン（α−Ｓｉ）, アモルファス炭化シリコン（α−ＳｉＣ）, アモルファス窒化シリコン（α−Ｓｉ１−ｘＮｘ），アモルファスカーボン（α−Ｃ）などが好ましい。このような無機アモルファス性の絶縁性材料は、グレインを構成しないため透水性が低く、良好な保護膜となる。
【００７１】
封止基板１８は、有機ＥＬ素子１０のカソード電極１６の側に位置しており、接着層（図示せず）と共に有機ＥＬ素子１０を封止するものである。封止基板１８は、有機ＥＬ素子１０で発生した光に対して透明なガラスなどの材料により構成されている。封止基板１８には、例えば、カラーフィルタおよびブラックマトリクスとしての遮光膜（いずれも図示せず）が設けられており、有機ＥＬ素子１０で発生した光を取り出すと共に、各有機ＥＬ素子１０間の配線において反射された外光を吸収し、コントラストを改善するようになっている。
【００７２】
封止基板１８上には、例えばカラーフィルタおよび遮光膜（いずれも図示せず）が設けられていてもよい。カラーフィルタは、赤色フィルタ，緑色フィルタおよび青色フィルタ（いずれも図示せず）を有しており、順に配置されている。赤色フィルタ，緑色フィルタおよび青色フィルタは、それぞれ例えば矩形形状で隙間なく形成されている。これら赤色フィルタ，緑色フィルタおよび青色フィルタは、顔料を混入した樹脂によりそれぞれ構成されており、顔料を選択することにより、目的とする赤，緑あるいは青の波長域における光透過率が高く、他の波長域における光透過率が低くなるように調整されている。
【００７３】
遮光膜は、例えば黒色の着色剤を混入した光学濃度が１以上の黒色の樹脂膜、または薄膜の干渉を利用した薄膜フィルタにより構成されている。このうち黒色の樹脂膜により構成するようにすれば、安価で容易に形成することができるので好ましい。薄膜フィルタは、例えば、金属，金属窒化物あるいは金属酸化物よりなる薄膜を１層以上積層し、薄膜の干渉を利用して光を減衰させるものである。薄膜フィルタとしては、具体的には、Ｃｒと酸化クロム（ＩＩＩ）（Ｃｒ２Ｏ３）とを交互に積層したものが挙げられる。
【００７４】
この表示装置１は、例えば、次のようにして製造することができる。なお、以下では、図３に示したように、発光層１５Ｃとして赤色発光層１５ＣＲ、緑色発光層１５ＣＧ、青色発光層１５ＣＢを形成する場合について説明する。
【００７５】
まず、基板２に、ＴＦＴ２０と、平坦化層２６と、アノード電極１２とを順に形成する。
【００７６】
次いで、親液層１３を形成することにより、第１親液領域３Ｂおよび第２親液領域４Ｂを形成する。
【００７７】
続いて、撥液層（隔壁）１４を形成することにより、第１撥液領域３Ａおよび第２撥液領域４Ａを形成する。
【００７８】
そののち、例えば真空蒸着法により、有機層１５の正孔注入層１５Ａおよび正孔輸送層１５Ｂを、画素領域３の全面にわたって形成する。
【００７９】
正孔輸送層１５Ｂを形成したのち、赤色発光層１５ＣＲおよび緑色発光層１５ＣＧを、液滴吐出法等の塗布法により色別に形成する。
【００８０】
まず、赤色発光層１５ＣＲを構成する有機材料を有機溶媒に溶解させてインクを調製する。このインクを、スリットコーター（またはストライプコーター）のヘッドに設けられた複数の吐出口から吐出し、画素５Ｒを含む画素列５ＡＲ上に配する。この後、加熱することにより溶媒を除去して赤色発光層１５ＣＲを形成する。
【００８１】
具体的には、赤色発光層１５ＣＲは、以下のようにして形成することができる。
【００８２】
まず、図５に示したように、周辺領域４のビード形成領域６の上方に、スリットコーターのヘッドＨを設置する。ヘッドＨには、同じ色の画素５、ここでは赤色画素５Ｒのピッチに合わせて複数の吐出口（図示せず）が設けられている。ヘッドＨの吐出口からインクを吐出し、ヘッドＨがインクを介して基板２と接するようにビードＢを形成する。これにより、ヘッドＨ表面の濡れ性を均一にすることが可能となる。
【００８３】
次いで、図６に示したように、画素列５ＡＲに沿ってスキャンし、画素列５ＡＲ内の赤色画素５Ｒ上にインクＩを吐出していく。この際、ヘッドＨは、図７に示したように、インクＩを介して基板２と接した状態を維持したままスキャン方向Ｓに移動する。
【００８４】
ここでは、画素領域３には、複数の画素５の列間領域に第１撥液領域３Ａが設けられ、周辺領域４には、第１撥液領域３Ａに連続した第２撥液領域４Ａが設けられている。よって、画素領域３では第１撥液領域３Ａにより、周辺領域４では第２撥液領域４Ａにより、インクＩの濡れ広がりが抑えられ、赤色発光層１５ＣＲのパターンが精度良く規定される。
【００８５】
また、第１撥液領域３Ａおよび第２撥液領域４Ａが、複数の画素５の一列または複数列を囲む閉じられた枠状をなしているので、低粘度・低接触角で濡れ性の高いインクＩを用いる場合にも、インクＩの濡れ広がり等が抑えられ、赤色発光層１５ＣＲが精度良く形成される。
【００８６】
更に、周辺領域４には、第２撥液領域４Ａに囲まれると共に第１親液領域３Ｂに連続した第２親液領域４Ｂが設けられている。上述のような塗布法による有機層１５の形成では、ビードＢの形成によりインクＩと基板２との接続を維持することが重要である。周辺領域４に第２親液領域４Ｂを設けることにより、インクＩの表面張力あるいは基板２の撥液性等によるインクＩと基板２との切断が抑制され、インクＩと基板２との接続を維持しやすくなる。よって、赤色発光層１５ＣＲが精度よく塗布形成される。
【００８７】
赤色発光層１５ＣＲを形成したのち、赤色発光層１５ＣＲと同様にして、緑色発光層１５ＣＧを塗布法により形成する。
【００８８】
なお、図４に示したように黄色発光層１５ＣＹを用いてカラーフィルタＣＦで色分離する方式では、塗布工程は黄色発光層１５ＣＹのみで完了する。よって、コスト的に有利である。
【００８９】
緑色発光層１５Ｇを形成したのち、例えば真空蒸着法により、有機層１５の電子輸送層１５Ｄおよび電子注入層１５Ｅと、カソード電極１６と、保護膜１７とを、画素領域３の全面にわたって形成する。そののち、封止基板１８を接着層（図示せず）により貼り合わせる。以上により、図１ないし図４に示した表示装置１が完成する。
【００９０】
このように本実施の形態では、画素領域３には、複数の画素５の列間領域に第１撥液領域３Ａを設け、周辺領域４には、第１撥液領域３Ａに連続した第２撥液領域４Ａを設けるようにしている。よって、画素領域３では第１撥液領域３Ａにより、周辺領域４では第２撥液領域４Ａにより、成膜材料の濡れ広がりを抑え、有機層１５の高精度なパターニングが可能となる。従って、簡易な構成で特定の安定したフルカラー表示装置を実現可能となる。
【００９１】
また、第１撥液領域３Ａおよび第２撥液領域４Ａを、複数の画素５の一列または複数列を囲む閉じられた枠状とするようにしている。よって、低粘度・低接触角で濡れ性の高いインクＩを用いる場合にも、インクＩの濡れ広がり等を抑え、有機層１５を精度良く形成することが可能となる。
【００９２】
更に、周辺領域４には、第２撥液領域４Ａに囲まれると共に第１親液領域３Ｂに連続した第２親液領域４Ｂを設けるようにしたので、ビード形成領域６の濡れ性を向上させ、ビードを形成しやすくすることが可能となる。よって、インクＩの表面張力あるいは基板２の撥液性等によるインクＩと基板２との切断を抑制し、インクＩと基板２との接続を維持しやすくすることが可能となる。これにより、第１親液領域３Ｂへの安定的なインクの塗布を可能とし、有機層１５を精度よく塗布形成することが可能となる。
【００９３】
（第２の実施の形態）
図８は、本開示の第２の実施の形態に係る表示装置１Ａの平面構成を表したものである。本実施の形態は、第２親液領域４Ｂに拡幅部７を設けることにより、塗布始めの有機層１５の膜厚均一性を向上させるようにしたものである。このことを除いては、この表示装置１Ａは、上記第１の実施の形態の表示装置１と同様の構成、作用および効果を有し、上記第１の実施の形態と同様にして製造することができる。よって、対応する構成要素には同一の符号を付して説明する。
【００９４】
拡幅部７は、第２撥液領域４Ａの間隔Ｄ１が、第１撥液領域３Ａの間隔Ｄ２よりも広くなっていることにより、ビードＢの形成時の液溜まりを分散させ、塗布始めの発光層１５Ｃの膜厚均一性を高めるものである。
【００９５】
すなわち、図５ないし図７で説明したようにヘッドＨからインクＩを吐出して発光層１５Ｃを塗布する場合には、ヘッドＨがインクＩを介して基板２と接するようにビードＢを形成する。ビードＢの形成時には、スキャン時よりも多量のインクＩを吐出する。従って、ビードＢの形成時の液溜まりがスキャンの進行に伴ってヘッドＨに引っ張られていく。これにより、塗布始め部分の発光層１５Ｃの膜厚が厚くなり、スキャン方向に膜厚の分布が生じる。膜厚の分布が生じると、素子特性のばらつきが発生し、発光時の輝度むらなどの原因となるおそれがある。
【００９６】
本実施の形態では、第２親液領域４Ｂに拡幅部７を設けることにより、ビードＢの形成時の液溜まりを平面方向に分散させ、塗布始めの発光層１５Ｃの厚膜化を抑えることが可能となる。厚膜化した部分を周辺領域４に配置することにより画素領域３内への影響を抑えることも考えられるが、その場合には周辺領域４の寸法が広くなる。第２親液領域４Ｂに拡幅部７を設けることにより、厚膜化した部分のスキャン方向の長さが短くなるので、周辺領域４の寸法を狭くすることが可能となる。よって、表示装置１Ａのデザイン面のメリットもあり、商品力の向上を図ることが可能となる。
【００９７】
拡幅部７の平面形状は特に限定されないが、例えば図８に示したように、第１撥液領域３Ａの長手方向において第１撥液領域３Ａから遠ざかるにつれて第２撥液領域４Ａの幅Ｄ１が次第に広くなっていることが好ましい。第１撥液領域３Ａから遠ざかるにつれて液量が多くなっているからである。
【００９８】
図８および図９に示した例は、第１の実施の形態において図３を参照して説明したように、発光層１５Ｃが赤色発光層１５ＣＲ、緑色発光層１５ＣＧおよび青色発光層１５Ｂを含んでいる場合である。赤色発光層１５ＣＲおよび緑色発光層１５ＣＧは、図５ないし図７に示した塗布法により色別に形成される。青色発光層１５ＣＢは蒸着法により画素領域３の全面に形成される。
【００９９】
図８の例では、赤色画素列５ＡＲの拡幅部７と、緑色画素列５ＡＧの拡幅部７とが、画素領域３の同じ辺、例えば上辺に沿って設けられている。この場合には、赤色発光層１５ＣＲと、緑色発光層１５ＣＧとは、いずれも上から下へ塗布していく。青色画素列５ＡＢでは、第２親液領域４Ｂの幅が狭くなっている。
【０１００】
図９の例では、赤色画素５Ｒの画素列５ＡＲの拡幅部７は、画素領域３の対向する二辺の一方、例えば上辺に沿って設けられている。緑色画素５Ｇの画素列５ＡＧの拡幅部７は、画素領域３の対向する二辺の他方、例えば下辺に沿って設けられている。この場合には、赤色発光層１５ＣＲは上から下へ塗布し、緑色発光層１５ＣＧは下から上へ塗布していく。青色画素５Ｂの画素列５ＡＢでは、第２親液領域４Ｂの幅が狭くなっている。
【０１０１】
図１０および図１１に示した例は、第１の実施の形態において図４を参照して説明したように、黄色発光層１５ＣＹからの黄色光ＬＹを、カラーフィルタＣＦにより赤色光ＬＲと緑色光ＬＧとに色分離する場合を表している。青色発光層１５ＣＢは蒸着法により画素領域３の全面に形成される。
【０１０２】
この例では、図１０に示したように、第１撥液領域３Ａおよび第２撥液領域４Ａが一本の画素列５Ａ（赤・緑画素列５ＡＲＧ）を囲んでおり、この赤・緑画素列５ＡＲＧ内に赤色画素５Ｒおよび緑色画素５Ｇが交互に一列に並んでいてもよい。赤・緑画素列５ＡＲＧには黄色発光層１５ＣＹが設けられる。黄色発光層１５ＣＹは、上から下へ塗布していく。
【０１０３】
あるいは、図１１に示したように、第１撥液領域３Ａおよび第２撥液領域４Ａが二本の画素列５Ａ、すなわち赤色画素列５ＡＲと緑色画素列５ＡＧとを囲んでいてもよい。赤色画素列５ＡＲおよび緑色画素列５ＡＧには黄色発光層１５ＣＹが設けられる。黄色発光層１５ＣＹは、上から下へ塗布していく。
【０１０４】
このように本実施の形態では、第２親液領域４Ｂに拡幅部７を設けることにより、塗布始めの有機層１５の膜厚均一性を向上させ、輝度むらなどを抑えて表示品質を向上させることが可能となる。従って、簡易な構成で特定の安定した、狭額縁のフルカラー表示装置を実現可能となる。
【０１０５】
（第３の実施の形態）
図１２は、本開示の第３の実施の形態に係る表示装置１Ｂの平面構成を表したものである。本実施の形態は、第２親液領域４Ｂに凹部８を設けることにより、塗布始めの有機層１５の膜厚均一性を向上させるようにしたものである。このことを除いては、この表示装置１Ｂは、上記第１の実施の形態の表示装置１と同様の構成、作用および効果を有し、上記第１の実施の形態と同様にして製造することができる。よって、対応する構成要素には同一の符号を付して説明する。
【０１０６】
凹部８は、図１３に示したように、底面８Ａが第１親液領域３Ｂの上面よりも低くなっていることにより、ビードＢの形成時の液溜まりを分散させ、塗布始めの発光層１５Ｃの膜厚均一性を高めるものである。すなわち、第２親液領域４Ｂに凹部８を設けることにより、ビードＢの形成時の液溜まりを深さ方向に分散させ、塗布始めの発光層１５Ｃの厚膜化を抑えることが可能となる。
【０１０７】
なお、このような凹部８は、図２に示した平坦化層２７に凹部を設けることにより形成可能である。あるいは、図１４に示したように、第２親液領域４Ｂに、図２に示したアノード電極１２または親液層１３と同じ材料よりなる膜８Ｂを、アノード電極１２または親液層１３よりも薄い厚みで設けるようにしてもよい。製造工程の観点では前者のほうが容易である。
【０１０８】
凹部８の深さは特に限定されない。例えば図１３に示したように凹部８の全体にわたって同じ深さであってもよいし、部分的に深さが変化していてもよい。
【０１０９】
このように本実施の形態では、第２親液領域４Ｂに凹部８を設けることにより、塗布始めの有機層１５の膜厚均一性を向上させ、輝度むらなどを抑えて表示品質を向上させることが可能となる。従って、簡易な構成で特定の安定した、狭額縁のフルカラー表示装置を実現可能となる。
【０１１０】
（第４の実施の形態）
図１５は、本開示の第４の実施の形態に係る表示装置１Ｃの平面構成を表したものである。本実施の形態は、第２親液領域４Ｂに拡幅部７および凹部８を設けることにより、塗布始めの有機層１５の膜厚均一性を向上させるようにしたものである。このことを除いては、この表示装置１Ｃは、上記第１ないし第３の実施の形態の表示装置１，１Ａ，１Ｂと同様の構成、作用および効果を有し、上記第１の実施の形態と同様にして製造することができる。よって、対応する構成要素には同一の符号を付して説明する。
【０１１１】
図１６は、図１５に示した表示装置１Ｃを実際に作製し、スキャン方向Ｓにおける膜厚分布を調べた実験結果を表したものである。なお、図１６には、図１に示した表示装置１における同様の実験結果を参照例として示している。横軸の０の位置は、ビード形成領域６と画素領域３との境界線に対応する。
【０１１２】
図１６から分かるように、第２親液領域４Ｂに拡幅部７および凹部８を設けた本実施の形態（図１５）では、塗布始めの部分で、塗布中膜厚の１０％以上の領域が、ビード形成領域６と画素領域３との境界線から約２ｍｍとなった。これに対して、参照例（第１の実施の形態、図１）では、塗布始めの部分で、塗布中膜厚の１０％以上の領域が、ビード形成領域６と画素領域３との境界線から約１２ｍｍであった。これは、参照例（第１の実施の形態、図１）では第２親液領域４Ｂに拡幅部７および凹部８を設けていないためであると考えられる。すなわち、第２親液領域４Ｂに拡幅部７および凹部８を設けることにより、塗布始めの有機層１５の膜厚均一性をより向上させることができることが分かった。
【０１１３】
（第５の実施の形態）
図１７は、本開示の第５の実施の形態に係る表示装置１Ｄの平面構成を表したものである。本実施の形態は、周辺領域４に、第２撥液領域４Ａおよび第３撥液領域４Ｃを囲む溝部４Ｄを設けることにより、高精度なパターニングを可能とするようにしたものである。このことを除いては、この表示装置１Ｄは、上記第１の実施の形態の表示装置１と同様の構成、作用および効果を有し、上記第１の実施の形態と同様にして製造することができる。よって、対応する構成要素には同一の符号を付して説明する。
【０１１４】
溝部４Ｄは、周辺領域４に設けられた配線部などへの有機層１５の成膜を抑えるものであり、画素領域３を囲む矩形枠状に設けられている。溝部４Ｄを設けることにより、成膜材料が第２撥液領域４Ａおよび第３撥液領域４Ｃを超えて外側へ広がるのを抑え、スキャン方向Ｓまたはスキャン方向Ｓと垂直な方向において、周辺領域４に設けられた配線部などへの有機成膜材料の液流れを抑えることが可能となる。溝部４Ｄは、例えば平坦化層２７に設けられた溝部により構成することが可能である。
【０１１５】
図１８は、周辺領域４の一部を拡大して表したものである。周辺領域４には、封止部４Ｅが設けられている。封止部４Ｅは、画素領域３を囲む矩形枠状に設けられている。封止部４Ｅの外側には、画素領域３から延長された外部接続用の端子４Ｆが設けられている。溝部４Ｄは、封止部４Ｅと画素領域３との間の領域４Ｇに設けられている。更に、溝部４Ｄは、封止部４Ｅと、第２撥液領域４Ａおよび第３撥液領域４Ｃとの間に設けられていれば、より好ましい。
【０１１６】
本実施の形態の溝部４Ｄは、赤色発光層１５ＣＲ、緑色発光層１５ＣＧ、および黄色発光層１５ＣＹを塗布法により色別に塗布する場合に限らず、正孔注入層１５Ａ，正孔輸送層１５Ｂ，電子輸送層１５Ｄおよび電子注入層１５Ｅを画素領域３の全面に形成する場合にも有効である。
【０１１７】
（表示装置の全体構成）
図１９は、上記実施の形態で説明した表示装置１，１Ａ〜１Ｄ（以下、表示装置１と総称する。）の全体構成を概略的に表したものである。この表示装置１では、基板２に、上述した画素領域３および周辺領域４が配置されている。周辺領域４には、例えば、映像表示用のドライバである信号線駆動回路１２０および走査線駆動回路１３０が設けられている。画素領域３内には画素駆動回路１４０が設けられている。
【０１１８】
図２０は、画素駆動回路１４０の一例を表したものである。画素駆動回路１４０は、アノード電極１２（第１電極）の下層に形成されたアクティブ型の駆動回路である。すなわち、この画素駆動回路１４０は、駆動トランジスタＴｒ１および書き込みトランジスタＴｒ２と、これらトランジスタＴｒ１，Ｔｒ２の間のキャパシタ（保持容量）Ｃｓと、第１の電源ライン（Ｖｃｃ）および第２の電源ライン（ＧＮＤ）の間において駆動トランジスタＴｒ１に直列に接続された赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ（または緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂ）とを有する。駆動トランジスタＴｒ１および書き込みトランジスタＴｒ２は、一般的な薄膜トランジスタ（ＴＦＴ；Thin Film Transistor）により構成され、その構成は、例えば逆スタガ構造（いわゆるボトムゲート型）でもよいしスタガ構造（トップゲート型）でもよく特に限定されない。
【０１１９】
画素駆動回路１４０において、列方向には信号線１２０Ａが複数配置され、行方向には走査線１３０Ａが複数配置されている。各信号線１２０Ａと各走査線１３０Ａとの交差点が、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂのいずれか一つに対応している。各信号線１２０Ａは、信号線駆動回路１２０に接続され、この信号線駆動回路１２０から信号線１２０Ａを介して書き込みトランジスタＴｒ２のソース電極に画像信号が供給されるようになっている。各走査線１３０Ａは走査線駆動回路１３０に接続され、この走査線駆動回路１３０から走査線１３０Ａを介して書き込みトランジスタＴｒ２のゲート電極に走査信号が順次供給されるようになっている。
【０１２０】
この表示装置１では、各有機ＥＬ素子１０に対して走査線駆動回路１３０から書き込みトランジスタＴｒ２のゲート電極を介して走査信号が供給されると共に、信号線駆動回路１２０から画像信号が書き込みトランジスタＴｒ２を介して保持容量Ｃｓに保持される。すなわち、この保持容量Ｃｓに保持された信号に応じて駆動トランジスタＴｒ１がオンオフ制御され、これにより、有機ＥＬ素子１０に駆動電流Ｉｄが注入され、正孔と電子とが再結合して発光が起こる。この光は、下面発光（ボトムエミッション）の場合にはアノード電極１２および基板２を透過して、上面発光（トップエミッション）の場合にはカソード電極１６，カラーフィルタ（図示せず）および封止基板１８を透過して取り出される。
【０１２１】
（適用例）
続いて、図２１ないし図３４を参照して、上記実施の形態に係る表示装置の適用例について説明する。上記実施の形態の表示装置は、テレビジョン装置，デジタルカメラ，ノート型パーソナルコンピュータ、携帯電話やスマートフォン等の携帯端末装置あるいはビデオカメラなどのあらゆる分野の電子機器に適用することが可能である。言い換えると、この表示装置は、外部から入力された映像信号あるいは内部で生成した映像信号を、画像あるいは映像として表示するあらゆる分野の電子機器に適用することが可能である。
【０１２２】
（モジュール）
上記実施の形態の表示装置は、例えば、図２１に示したようなモジュールとして、後述する適用例１〜９などの種々の電子機器に組み込まれる。このモジュールは、例えば、基板２の画素領域３の周囲の周辺領域４に、配線を延長して外部接続端子（図示せず）を形成したものである。外部接続端子には、信号の入出力のためのフレキシブルプリント配線基板（ＦＰＣ；Flexible Printed Circuit）９が設けられていてもよい。
【０１２３】
（適用例１）
図２２および図２３は、電子ブック２１０の外観構成を表している。この電子ブック２１０は、例えば、表示部２１１および非表示部２１２と、操作部２１３とを備えている。なお、操作部２１３は、図２２に示したように非表示部２１２の前面に設けられていてもよいし、図２３に示したように非表示部２１２の上面に設けられていてもよい。表示部２１１が電子デバイス（表示装置）２により構成される。なお、電子デバイス（表示装置）２は、図２２および図２３に示した電子ブックと同様の構成を有するＰＤＡ（Personal Digital Assistants ）などに搭載されてもよい。
【０１２４】
（適用例２）
図２４および図２５は、スマートフォン２２０の外観を表したものである。このスマートフォン２２０は、例えば、表側に表示部２２１および操作部２２２を有し、裏側にカメラ２２３を有しており、この表示部２２１が電子デバイス（表示装置）２により構成されている。
【０１２５】
（適用例３）
図２６は、上記実施の形態の表示装置が適用されるテレビジョン装置２３０の外観を表したものである。このテレビジョン装置２３０は、例えば、フロントパネル２３１およびフィルターガラス２３２を含む映像表示画面部２３３を有している。映像表示画面部２３３が電子デバイス（表示装置）２により構成されている。
【０１２６】
（適用例４）
図２７は、タブレットパーソナルコンピュータ２４０の外観を表したものである。このタブレットパーソナルコンピュータ２４０は、例えば、タッチパネル部２４１および筐体２４２を有しており、タッチパネル部２４１が電子デバイス（表示装置）２により構成されている。
【０１２７】
（適用例５）
図２８および図２９は、デジタルスチルカメラ２５０の外観を表したものである。このデジタルスチルカメラ２５０は、例えば、フラッシュ用の発光部２５１、表示部２５２、メニュースイッチ２５３およびシャッターボタン２５４を有しており、表示部２５２が電子デバイス（表示装置）２により構成されている。
【０１２８】
（適用例６）
図３０は、ノートブック型パーソナルコンピュータ２６０の外観を表したものである。このノートブック型パーソナルコンピュータ２６０は、例えば、本体２６１，文字等の入力操作のためのキーボード２６２および画像を表示する表示部２６３を有しており、表示部２６３が電子デバイス（表示装置）２により構成されている。
【０１２９】
（適用例７）
図３１は、ビデオカメラ２７０の外観を表したものである。このビデオカメラ２７０は、例えば、本体部２７１，この本体部２７１の前方側面に設けられた被写体撮影用のレンズ２７２，撮影時のスタート／ストップスイッチ２７３および表示部２７４を有している。表示部２７４が電子デバイス（表示装置）２により構成されている。
【０１３０】
（適用例８）
図３２および図３３は、他の電子ブック２８０の外観を表したものである。電子ブック２８０は、柔らかい素材をコンポーネント化して形成された薄型のフレキシブルディスプレイである。この電子ブック２８０では、複数枚の紙（頁）を綴じて作られる実際の本のように、装置全体を閉じたり（折り畳んだり）、あるいは開いたりすることができるようになっている。ユーザは実際に本を読んでいるかのような感覚で、電子ブック３に表示された内容（例えば書籍の頁等）を閲覧することが可能である。
【０１３１】
電子ブック２８０は、支持基板２８１上に、表示部２８２を備えたものであり、本における「背」の部分（背２８３Ａ）には、ヒンジ部２８３を有している。この電子ブック２８０の下面（閉じたときに外側になる面）側には軟らかい樹脂フィルムよりなるカバー２８４が設けられ、上面（閉じたときに内側になる面）側は、柔らかく、かつ表示光に対して透明性を有する樹脂フィルムよりなる保護シート２８５により覆われている。表示部２８２が電子デバイス（表示装置）２により構成されている。
【０１３２】
（適用例９）
図３４および図３５は、携帯電話機２９０の外観を表したものである。この携帯電話機２９０は、例えば、上側筐体２９１と下側筐体２９２とを連結部（ヒンジ部）２９３で連結したものであり、ディスプレイ２９４，サブディスプレイ２９５，ピクチャーライト２９６およびカメラ２９７を有している。ディスプレイ２９４またはサブディスプレイ２９５が電子デバイス（表示装置）２により構成されている。
【０１３３】
以上、実施の形態を挙げて本技術を説明したが、本技術はこれら実施の形態に限定されるものではなく、種々変形が可能である。
【０１３４】
例えば、上記実施の形態では、表示装置１，１Ａ〜１Ｄの構成を具体的に挙げて説明したが、表示装置１，１Ａ〜１Ｄは、図示した構成要素を全て備えるものに限定されるものではない。また、一部の構成要素を他の構成要素に置換することもできる。
【０１３５】
また、上記実施の形態において説明した各層の材料および厚み、または成膜方法および成膜条件等は限定されるものではなく、他の材料および厚みとしてもよく、または他の成膜方法および成膜条件としてもよい。例えば、上記実施の形態では、ＴＦＴ２０におけるチャネルとして酸化物半導体を用いたが、これに限らず、シリコンまたは有機半導体等を用いてもよい。また、上記実施の形態では、撥液層１４（隔壁）を兼ねた第１撥液領域３Ａおよび第２撥液領域４Ａをポリイミドまたはノボラック等の有機材料を用いて形成しているが、これに限らず、フッ素含有材料で形成してもよい。
【０１３６】
更に、有機層１５は、真空蒸着法または吐出コート法などの塗布法の他に、ディッピング法，ドクターブレード法，スピンコート法，スプレーコート法などの他の塗布法、インクジェット法，オフセット印刷法，凸版印刷法，凹版印刷法，スクリーン印刷法，マイクログラビアコート法などの印刷法などによる形成も可能であり、有機層１５の各層や各部材の性質に応じて、ドライプロセスとウエットプロセスを併用してもよい。
【０１３７】
加えて、上記実施の形態では、図３に示したように、赤色発光層１５ＣＲ、緑色発光層１５ＣＧ、および青色発光層１５ＣＢを、例えば塗布法により色別に形成し、赤色光ＬＲ、緑色光ＬＧ、および青色光ＬＢを得る場合について説明した。または、図４に示したように、黄色発光層１５ＣＹおよび青色発光層１５ＣＢを、例えば塗布法により色別に形成し、カラーフィルタＣＦを用いて赤色光ＬＲ、緑色光ＬＧ、および青色光ＬＢを得る場合について説明した。しかしながら、本開示は、白色発光の有機ＥＬ素子１０にも適用可能である。例えば、赤色発光材料、緑色発光材料および青色発光材料をホスト材料に混合させた混合液をベタ塗布して塗膜を形成し、自発的多層化により赤色発光層１５ＣＲ、青色発光層１５ＣＢ、および緑色発光層１５ＣＧの積層構造をもつ白色発光層を形成するようにしてもよい。
【０１３８】
本開示は、上記実施の形態で説明した有機ＥＬ表示装置の発光層１５Ｃの形成のほか、配線パターンの形成などにも適用可能である。
【０１３９】
なお、本技術は以下のような構成もとることができる。
（１）
行列状に配置された複数の画素を有する画素領域と、前記画素領域の外側の周辺領域とを有し、
前記画素領域は、前記複数の画素の列間領域に第１撥液領域を有し、
前記周辺領域は、前記第１撥液領域に連続した第２撥液領域を有する
表示装置。
（２）
前記第１撥液領域および前記第２撥液領域は、前記複数の画素の一列または複数列を囲む閉じられた枠状をなしている
前記（１）記載の表示装置。
（３）
前記画素領域は、前記複数の画素の行間領域および前記列間領域に、前記第１撥液領域に囲まれた第１親液領域を有し、
前記周辺領域は、前記第２撥液領域に囲まれると共に前記第１親液領域に連続した第２親液領域を有する
前記（１）または（２）記載の表示装置。
（４）
前記第２親液領域は、凹部を有し、前記凹部の底面は、前記第１親液領域の上面よりも低い
前記（３）記載の表示装置。
（５）
前記第２親液領域は、前記第２撥液領域の間隔が前記第１撥液領域の間隔よりも広い拡幅部を有する
前記（３）または（４）記載の表示装置。
（６）
前記拡幅部は、前記第１撥液領域の長手方向において前記第１撥液領域から遠ざかるにつれて前記第２撥液領域の間隔が次第に広くなっている
前記（５）記載の表示装置。
（７）
前記複数の画素は、第１色の画素列と、第２色の画素列とを含み、
前記第１色の画素列を囲む前記第１撥液領域および前記第２撥液領域における前記拡幅
部と、前記第２色の画素列を囲む前記第１撥液領域および前記第２撥液領域における前記拡幅部とが、前記画素領域の同じ辺に沿って設けられている
前記（５）または（６）記載の表示装置。
（８）
前記複数の画素は、第１色の画素列と、第２色の画素列とを含み、
前記第１色の画素列を囲む前記第１撥液領域および前記第２撥液領域における前記拡幅部は、前記画素領域の対向する二辺の一方に沿って設けられ、
前記第２色の画素列を囲む前記第１撥液領域および前記第２撥液領域における前記拡幅部は、前記画素領域の対向する二辺の他方に沿って設けられている
前記（５）または（６）記載の表示装置。
（９）
前記周辺領域は、前記複数の画素の行方向の端に位置する画素列の外側に、第３撥液領域を有する
前記（１）ないし（８）のいずれかに記載の表示装置。
（１０）
周辺領域は、前記第２撥液領域および前記第３撥液領域を囲む溝部を有する
前記（９）記載の表示装置。
（１１）
前記周辺領域は、封止部を有し、
前記溝部は、前記封止部と前記画素領域との間の領域に設けられている
前記（１０）記載の表示装置。
（１２）
行列状に配置された複数の画素を有する画素領域と、前記画素領域の外側の周辺領域とを有し、
前記周辺領域は、前記複数の画素の行方向の端に位置する画素列の外側に、第３撥液領域を有する
表示装置。
（１３）
行列状に配置された複数の画素を有する画素領域と、前記画素領域の外側の周辺領域とを有し、
前記画素領域は、前記複数の画素の列間領域に第１撥液領域を有し、
前記周辺領域は、
前記第１撥液領域に連続した第２撥液領域と、
前記複数の画素の行方向の端に位置する画素列の外側に設けられた第３撥液領域と、
前記第２撥液領域および前記第３撥液領域を囲む溝部と
を有する表示装置。
（１４）
前記周辺領域は、封止部を有し、
前記溝部は、前記封止部と前記画素領域との間の領域に設けられている
前記（１３）記載の表示装置。
（１５）
表示装置を有し、
前記表示装置は、
行列状に配置された複数の画素を有する画素領域と、前記画素領域の外側の周辺領域とを有し、
前記画素領域は、前記複数の画素の列間領域に第１撥液領域を有し、
前記周辺領域は、前記第１撥液領域に連続した第２撥液領域を有する
電子機器。
（１６）
表示装置を有し、
前記表示装置は、
行列状に配置された複数の画素を有する画素領域と、前記画素領域の外側の周辺領域とを有し、
前記周辺領域は、前記複数の画素の行方向の端に位置する画素列の外側に、第３撥液領域を有する
電子機器。
（１７）
表示装置を有し、
前記表示装置は、
行列状に配置された複数の画素を有する画素領域と、前記画素領域の外側の周辺領域とを有し、
前記画素領域は、前記複数の画素の列間領域に第１撥液領域を有し、
前記周辺領域は、
前記第１撥液領域に連続した第２撥液領域と、
前記複数の画素の行方向の端に位置する画素列の外側に設けられた第３撥液領域と、
前記第２撥液領域および前記第３撥液領域を囲む溝部と
を有する電子機器。
【０１４０】
本出願は、日本国特許庁において２０１３年９月２０日に出願された日本特許出願番号２０１３−１９５７６９号を基礎として優先権を主張するものであり、この出願のすべての内容を参照によって本出願に援用する。
【０１４１】
当業者であれば、設計上の要件や他の要因に応じて、種々の修正、コンビネーション、サブコンビネーション、および変更を想到し得るが、それらは添付の請求の範囲やその均等物の範囲に含まれるものであることが理解される。
【図１】
2015041040.tif 000003
【図２】
2015041040.tif 000004
【図３】
2015041040.tif 000005
【図４】
2015041040.tif 000006
【図５】
2015041040.tif 000007
【図６】
2015041040.tif 000008
【図７】
2015041040.tif 000009
【図８】
2015041040.tif 000010
【図９】
2015041040.tif 000011
【図１０】
2015041040.tif 000012
【図１１】
2015041040.tif 000013
【図１２】
2015041040.tif 000014
【図１３】
2015041040.tif 000015
【図１４】
2015041040.tif 000016
【図１５】
2015041040.tif 000017
【図１６】
2015041040.tif 000018
【図１７】
2015041040.tif 000019
【図１８】
2015041040.tif 000020
【図１９】
2015041040.tif 000021
【図２０】
2015041040.tif 000022
【図２１】
2015041040.tif 000023
【図２２】
2015041040.tif 000024
【図２３】
2015041040.tif 000025
【図２４】
2015041040.tif 000026
【図２５】
2015041040.tif 000027
【図２６】
2015041040.tif 000028
【図２７】
2015041040.tif 000029
【図２８】
2015041040.tif 000030
【図２９】
2015041040.tif 000031
【図３０】
2015041040.tif 000032
【図３１】
2015041040.tif 000033
【図３２】
2015041040.tif 000034
【図３３】
2015041040.tif 000035
【図３４】
2015041040.tif 000036
【図３５】
2015041040.tif 000037
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月12日(2016.2.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
行列状に配置された複数の画素を有する画素領域と、前記画素領域の外側の周辺領域とを有し、
前記画素領域は、前記複数の画素の列間領域に第１撥液領域を有し、
前記周辺領域は、前記第１撥液領域に連続した第２撥液領域を有する
表示装置。
【請求項２】
前記第１撥液領域および前記第２撥液領域は、前記複数の画素の一列または複数列を囲む閉じられた枠状をなしている
請求項１記載の表示装置。
【請求項３】
前記画素領域は、前記複数の画素の行間領域および前記列間領域に、前記第１撥液領域に囲まれた第１親液領域を有し、
前記周辺領域は、前記第２撥液領域に囲まれると共に前記第１親液領域に連続した第２親液領域を有する
請求項１記載の表示装置。
【請求項４】
前記第２親液領域は、凹部を有し、前記凹部の底面は、前記第１親液領域の上面よりも低い
請求項３記載の表示装置。
【請求項５】
前記第２親液領域は、前記第２撥液領域の間隔が前記第１撥液領域の間隔よりも広い拡幅部を有する
請求項３記載の表示装置。
【請求項６】
前記拡幅部は、前記第１撥液領域の長手方向において前記第１撥液領域から遠ざかるにつれて前記第２撥液領域の間隔が次第に広くなっている
請求項５記載の表示装置。
【請求項７】
前記複数の画素は、第１色の画素列と、第２色の画素列とを含み、
前記第１色の画素列を囲む前記第１撥液領域および前記第２撥液領域における前記拡幅部と、前記第２色の画素列を囲む前記第１撥液領域および前記第２撥液領域における前記拡幅部とが、前記画素領域の同じ辺に沿って設けられている
請求項５記載の表示装置。
【請求項８】
前記複数の画素は、第１色の画素列と、第２色の画素列とを含み、
前記第１色の画素列を囲む前記第１撥液領域および前記第２撥液領域における前記拡幅部は、前記画素領域の対向する二辺の一方に沿って設けられ、
前記第２色の画素列を囲む前記第１撥液領域および前記第２撥液領域における前記拡幅部は、前記画素領域の対向する二辺の他方に沿って設けられている
請求項５記載の表示装置。
【請求項９】
前記周辺領域は、前記複数の画素の行方向の端に位置する画素列の外側に、第３撥液領域を有する
請求項１記載の表示装置。
【請求項１０】
前記周辺領域は、前記第２撥液領域および前記第３撥液領域を囲む溝部を有する
請求項９記載の表示装置。
【請求項１１】
前記周辺領域は、封止部を有し、
前記溝部は、前記封止部と前記画素領域との間の領域に設けられている
請求項１０記載の表示装置。
【請求項１２】
行列状に配置された複数の画素を有する画素領域と、前記画素領域の外側の周辺領域とを有し、
前記周辺領域は、前記複数の画素の行方向の端に位置する画素列の外側に、第３撥液領域を有する
表示装置。
【請求項１３】
行列状に配置された複数の画素を有する画素領域と、前記画素領域の外側の周辺領域とを有し、
前記画素領域は、前記複数の画素の列間領域に第１撥液領域を有し、
前記周辺領域は、
前記第１撥液領域に連続した第２撥液領域と、
前記複数の画素の行方向の端に位置する画素列の外側に設けられた第３撥液領域と、
前記第２撥液領域および前記第３撥液領域を囲む溝部と
を有する表示装置。
【請求項１４】
前記周辺領域は、封止部を有し、
前記溝部は、前記封止部と前記画素領域との間の領域に設けられている
請求項１３記載の表示装置。
【請求項１５】
表示装置を有し、
前記表示装置は、
行列状に配置された複数の画素を有する画素領域と、前記画素領域の外側の周辺領域とを有し、
前記画素領域は、前記複数の画素の列間領域に第１撥液領域を有し、
前記周辺領域は、前記第１撥液領域に連続した第２撥液領域を有する
電子機器。
【請求項１６】
表示装置を有し、
前記表示装置は、
行列状に配置された複数の画素を有する画素領域と、前記画素領域の外側の周辺領域とを有し、
前記周辺領域は、前記複数の画素の行方向の端に位置する画素列の外側に、第３撥液領域を有する
電子機器。
【請求項１７】
表示装置を有し、
前記表示装置は、
行列状に配置された複数の画素を有する画素領域と、前記画素領域の外側の周辺領域とを有し、
前記画素領域は、前記複数の画素の列間領域に第１撥液領域を有し、
前記周辺領域は、
前記第１撥液領域に連続した第２撥液領域と、
前記複数の画素の行方向の端に位置する画素列の外側に設けられた第３撥液領域と、
前記第２撥液領域および前記第３撥液領域を囲む溝部と
を有する電子機器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
周辺領域４は、画素領域３を囲む矩形枠状の領域であり、外部接続端子、封止部など（後述）が設けられている。また、周辺領域４は、画素領域３の対向する二辺、すなわち上辺および下辺に沿って、ビード形成領域６を有している。ビード形成領域６は、有機ＥＬ素子１０の発光層１５Ｃ（後述）を塗布法によって形成する際に、周辺領域４内の塗布開始位置にインクを吐出して液柱（ビード）を形成する領域である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５１】
撥液層１４は、図１に示した第１撥液領域３Ａ、第２撥液領域４Ａおよび第３撥液領域４Ｃを構成するものであり、上述したようにポリイミドまたはノボラック等の有機材料により構成され、例えばプラズマ処理により撥液性が付与されている。また、撥液層１４は、アノード電極１２とカソード電極１６との絶縁性を確保する役割も有し、一般的に隔壁として機能するものである。撥液層１４は、親液層１３の一部領域に設けられている。具体的には、撥液層１４は、親液層１３の開口１３Ａすなわち発光領域の両側に設けられている。また、撥液層１４は、ＴＦＴ２０のソース・ドレイン電極２６Ａ，２６Ｂとアノード電極１２との接続部上に設けられている。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
第１層１６Ａは、仕事関数が小さく、且つ、光透過性の良好な材料により形成されることが好ましい。具体的には、例えばカルシウム（Ｃａ），バリウム（Ｂａ）等のアルカリ土類金属、リチウム（Ｌｉ），セシウム（Ｃｓ）等のアルカリ金属、インジウム（Ｉｎ），マグネシウム（Ｍｇ），銀（Ａｇ）が挙げられる。更に、Ｌｉ2Ｏ，Ｃｓ2ＣＯ3，Ｃｓ2ＳＯ4，ＭｇＦ，ＬｉＦやＣａＦ2等のアルカリ金属酸化物，アルカリ金属フッ化物，アルカリ土類金属酸化物，アルカリ土類フッ化物が挙げられる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６６】
第２層１６Ｂは、薄膜のＭｇＡｇ電極やＣａ電極などの光透過性を有し、且つ、導電性が良好な材料で構成されている。第３層１６Ｃは、電極の劣化を抑制するために透明なランタノイド系酸化物を用いることが好ましい。これにより、上面から光を取り出すことが可能な封止電極として用いることが可能となる。また、ボトムエミッション型の場合には、第３層１６Ｃの材料として金（Ａｕ），白金（Ｐｔ）またはＡｕＧｅ等が用いられる。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７５】
まず、基板２に、ＴＦＴ２０と、平坦化層２７と、アノード電極１２とを順に形成する。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８９】
緑色発光層１５ＣＧを形成したのち、例えば真空蒸着法により、有機層１５の電子輸送層１５Ｄおよび電子注入層１５Ｅと、カソード電極１６と、保護膜１７とを、画素領域３の全面にわたって形成する。そののち、封止基板１８を接着層（図示せず）により貼り合わせる。以上により、図１ないし図４に示した表示装置１が完成する。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９０】
このように本実施の形態では、画素領域３には、複数の画素５の列間領域に第１撥液領域３Ａを設け、周辺領域４には、第１撥液領域３Ａに連続した第２撥液領域４Ａを設けるようにしている。よって、画素領域３では第１撥液領域３Ａにより、周辺領域４では第２撥液領域４Ａにより、成膜材料の濡れ広がりを抑え、有機層１５の高精度なパターニングが可能となる。従って、簡易な構成で特性の安定したフルカラー表示装置を実現可能となる。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９７】
拡幅部７の平面形状は特に限定されないが、例えば図８に示したように、第１撥液領域３Ａの長手方向において第１撥液領域３Ａから遠ざかるにつれて第２撥液領域４Ａの間隔Ｄ１が次第に広くなっていることが好ましい。第１撥液領域３Ａから遠ざかるにつれて液量が多くなっているからである。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９８】
図８および図９に示した例は、第１の実施の形態において図３を参照して説明したように、発光層１５Ｃが赤色発光層１５ＣＲ、緑色発光層１５ＣＧおよび青色発光層１５ＣＢを含んでいる場合である。赤色発光層１５ＣＲおよび緑色発光層１５ＣＧは、図５ないし図７に示した塗布法により色別に形成される。青色発光層１５ＣＢは蒸着法により画素領域３の全面に形成される。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０４】
このように本実施の形態では、第２親液領域４Ｂに拡幅部７を設けることにより、塗布始めの有機層１５の膜厚均一性を向上させ、輝度むらなどを抑えて表示品質を向上させることが可能となる。従って、簡易な構成で特性の安定した、狭額縁のフルカラー表示装置を実現可能となる。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０９】
このように本実施の形態では、第２親液領域４Ｂに凹部８を設けることにより、塗布始めの有機層１５の膜厚均一性を向上させ、輝度むらなどを抑えて表示品質を向上させることが可能となる。従って、簡易な構成で特性の安定した、狭額縁のフルカラー表示装置を実現可能となる。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３０】
（適用例８）
図３２および図３３は、他の電子ブック２８０の外観を表したものである。電子ブック２８０は、柔らかい素材をコンポーネント化して形成された薄型のフレキシブルディスプレイである。この電子ブック２８０では、複数枚の紙（頁）を綴じて作られる実際の本のように、装置全体を閉じたり（折り畳んだり）、あるいは開いたりすることができるようになっている。ユーザは実際に本を読んでいるかのような感覚で、電子ブック２８０に表示された内容（例えば書籍の頁等）を閲覧することが可能である。
【国際調査報告】
2015041040.tif 000038
2015041040.tif 000039
2015041040.tif 000040
2015041040.tif 000041
2015041040.tif 000042
2015041040.tif 000043
2015041040.tif 000044
2015041040.tif 000045