(57)【要約】  本製造方法は、（ａ）第１のガラス基板と第２のガラス基板とを接合層を介して接合して、組立体を構成するステップと、（ｂ）前記第１のガラス基板の貫通孔を介して、前記組立体の間隙部を減圧処理するステップと、（ｃ）封止材を備える封止プレートを用いて、前記貫通孔を封止するステップであって、前記封止材を加熱することにより該封止材が軟化し、前記封止プレートが前記第１のガラス基板に接合され、前記貫通孔が封止されるステップと、を有し、前記（ｃ）のステップにおいて、前記封止プレートに、直接または伝熱体を介してゲッターを接触させた状態で、前記封止材とともに前記封止プレートが加熱されることで前記ゲッターも加熱され、該ゲッターは、前記（ｃ）のステップの完了までに、前記間隙部に活性化された状態で配置される。【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空複層ガラスの製造方法であって、
（ａ）貫通孔を有する第１のガラス基板と第２のガラス基板との間に間隙部を形成するように、前記第１のガラス基板と前記第２のガラス基板とを接合層を介して接合して、組立体を構成するステップと、
（ｂ）前記第１のガラス基板の前記貫通孔を介して、前記組立体の間隙部を減圧処理するステップと、
（ｃ）封止材を備える封止プレートを用いて、前記貫通孔を封止するステップであって、前記封止材を加熱することにより該封止材が軟化し、前記封止プレートが前記第１のガラス基板に接合され、前記貫通孔が封止されるステップと、
を有し、
前記（ｃ）のステップにおいて、前記封止プレートに、直接または伝熱体を介してゲッターを接触させた状態で、前記封止材とともに前記封止プレートが加熱されることで前記ゲッターも加熱され、該ゲッターは、前記（ｃ）のステップの完了までに、前記間隙部に活性化された状態で配置されることを特徴とする真空複層ガラスの製造方法。
【請求項２】
前記（ｃ）のステップにおいて、前記ゲッターは、前記間隙部内に配置された支持部材によって支持された状態で配置される、請求項１に記載の真空複層ガラスの製造方法。
【請求項３】
前記支持部材は、弾性部材である、請求項２に記載の真空複層ガラスの製造方法。
【請求項４】
前記組立体は、前記第１のガラス基板が下側となり、前記第２のガラス基板が上側となるように配置され、
前記（ｃ）のステップは、前記ゲッターが前記封止プレートの前記第１のガラス基板側である上面に載置された状態で、実施される、請求項１に記載の真空複層ガラスの製造方法。
【請求項５】
前記（ｂ）のステップは、前記組立体の少なくとも一部を加熱した状態で実施される、請求項１乃至４のいずれか一つに記載の真空複層ガラスの製造方法。
【請求項６】
前記伝熱体は、接着部材である、請求項１乃至５のいずれか一つに記載の真空複層ガラスの製造方法。
【請求項７】
前記封止材は、３５０℃から５２０℃の範囲で軟化する、請求項１乃至６のいずれか一つに記載の真空複層ガラスの製造方法。
【請求項８】
第１および第２のガラス基板の間に間隙部を有する真空複層ガラスであって、
前記第１のガラス基板は、前記間隙部により近い第１の表面と第２の表面とを有し、前記第１の表面から前記第２の表面まで貫通する貫通孔を有し、該貫通孔は、前記第１のガラス基板の前記第２の表面に、封止材を介して接合された封止プレートによって封止され、
前記封止プレートには、直接または伝熱体を介して、ゲッターが接触していることを特徴とする真空複層ガラス。
【請求項９】
前記ゲッターは、間隙部内に配置された支持部材により支持される、請求項８に記載の真空複層ガラス。
【請求項１０】
前記支持部材は、弾性部材で構成される、請求項９に記載の真空複層ガラス。
【請求項１１】
前記貫通孔は、前記第１のガラス基板の第１の表面側に第１の開口を有し、前記第１のガラス基板の第２の表面側に第２の開口を有し、
前記第２の開口は、前記第１の開口よりも大きな寸法を有し、
前記ゲッターは、前記貫通孔の前記第２の開口に収容される、請求項８に記載の真空複層ガラス。
【請求項１２】
前記伝熱体は、接着部材である、請求項８乃至１１のいずれか一つに記載の真空複層ガラス。
【請求項１３】
前記封止材は、ガラス固化層であり、軟化温度が３５０℃から５２０℃の範囲にある、請求項８乃至１２のいずれか一つに記載の真空複層ガラス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、真空複層ガラスおよび真空複層ガラスの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一対のガラス基板を間隙部を介して積層し、該間隙部を真空状態に保持して構成される、いわゆる「真空複層ガラス」は、優れた断熱効果を有するため、例えばビルおよび住宅等の建築物用の窓ガラス用途に広く利用されている。【０００３】
真空複層ガラスは、例えば、以下のように製造される。【０００４】
まず、第１のガラス基板と、第２のガラス基板とを準備する。一方のガラス基板の表面には、周囲に沿って、接合層が形成される。次に、第１および第２のガラス基板を、両者が接合層を介して対向するように積層して、組立体を構成する。【０００５】
次に、この組立体を加熱して、接合層を溶融、軟化させ、両ガラス基板を接合する。これにより、両ガラス基板の間に、間隙部が形成される。【０００６】
次に、第１のガラス基板に予め設けられていた貫通孔を利用して、間隙部内が減圧処理される。その後、第１のガラス基板の貫通孔を覆うように封止プレートが設置され、貫通孔が封止され、真空複層ガラスが製造される。【０００７】
前述のように製造される真空複層ガラスにおいて、減圧処理直後には、間隙部に十分な真空度が得られる。ただし、例えばガラス基板および／または接合層等からのガスの放出等の影響により、間隙部の真空性が時間とともに低下する場合がある。このような真空性の低下は、真空複層ガラスの断熱性能の低下につながる。【０００８】
そこで、このような問題を抑制するため、通常、真空複層ガラスの間隙部には、ゲッターが配置されている。間隙部にゲッターを配置することにより、前述のような放出ガスによる真空性の低下を抑制することができる（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】登録実用新案第３１６２８３２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、このゲッターを活性化させるためには、前述の製造プロセスにおいて、第１のガラス基板の開口を封止した後に、例えば誘導加熱法などを用いて、ゲッターを高温に加熱する必要がある。そのため、従来の方法では、真空複層ガラスの製造プロセスが煩雑化し、製造効率の向上が難しいという問題がある。【００１１】
本発明は、このような背景に鑑みなされたものであり、本発明では、製造プロセスを簡略化することが可能な、真空複層ガラスの製造方法を提供することを目的とする。また、本発明では、製造プロセスを簡略化することが可能な構成を有する真空複層ガラスを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明では、真空複層ガラスの製造方法であって、
（ａ）貫通孔を有する第１のガラス基板と第２のガラス基板との間に間隙部を形成するように、前記第１のガラス基板と前記第２のガラス基板とを接合層を介して接合して、組立体を構成するステップと、
（ｂ）前記第１のガラス基板の前記貫通孔を介して、前記組立体の間隙部を減圧処理するステップと、
（ｃ）封止材を備える封止プレートを用いて、前記貫通孔を封止するステップであって、前記封止材を加熱することにより該封止材が軟化し、前記封止プレートが前記第１のガラス基板に接合され、前記貫通孔が封止されるステップと、
を有し、
前記（ｃ）のステップにおいて、前記封止プレートに、直接または伝熱体を介してゲッターを接触させた状態で、前記封止材とともに前記封止プレートが加熱されることで前記ゲッターも加熱され、該ゲッターは、前記（ｃ）のステップの完了までに、前記間隙部に活性化された状態で配置されることを特徴とする真空複層ガラスの製造方法が提供される。【００１３】
また、本発明では、第１および第２のガラス基板の間に間隙部を有する真空複層ガラスであって、
前記第１のガラス基板は、前記間隙部により近い第１の表面と第２の表面とを有し、前記第１の表面から前記第２の表面まで貫通する貫通孔を有し、該貫通孔は、前記第１のガラス基板の前記第２の表面に、封止材を介して接合された封止プレートによって封止され、
前記封止プレートには、直接または伝熱体を介して、ゲッターが接触していることを特徴とする真空複層ガラスが提供される。
【発明の効果】
【００１４】
本発明では、製造プロセスを簡略化することが可能な、真空複層ガラスの製造方法を提供することができる。また、本発明では、製造プロセスを簡略化することが可能な構成を有する真空複層ガラスを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の一実施例による真空複層ガラスの製造方法のフローを概略的に示した図である。
【図２】本発明の一実施例による真空複層ガラスの製造方法において使用され得る第１のガラス基板の構成を概略的に示した図である。
【図３】本発明の一実施例による真空複層ガラスの製造方法において使用され得る組立体の構成を概略的に示した図である。
【図４】第１の製造方法におけるステップＳ１３０〜ステップＳ１４０の工程の一例を模式的に示した図である。
【図５】第２の製造方法におけるステップＳ１３０〜ステップＳ１４０の工程の一例を模式的に示した図である。
【図６】封止プレートによる貫通孔の封止の際に、ゲッターを支持するための方法の一例を、模式的に示した図である。
【図７】封止プレートによる貫通孔の封止の際に、ゲッターを支持するための方法の一例を、模式的に示した図である。
【図８】封止プレートによる貫通孔の封止の際に、ゲッターを支持するための方法の一例を、模式的に示した図である。
【図９】本発明の一実施例による真空複層ガラスの一構成例を概略的に示した図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明の実施形態について説明する。
【００１７】
（本発明の一実施例による真空複層ガラスの製造方法）
以下、図１を参照して、本発明の一実施例による、真空複層ガラスの製造方法（以下、「第１の製造方法」と称する）について説明する。
【００１８】
図１には、第１の製造方法のフローを概略的に示す。
【００１９】
図１に示すように、第１の製造方法は、
（ｉ）貫通孔を有する第１のガラス基板と、第２のガラス基板とを準備し、第１のガラス基板および第２のガラス基板の少なくとも一方の周囲に、接合層を形成するステップ（ステップＳ１１０）と、
（ｉｉ）第１のガラス基板と第２のガラス基板との間に間隙部を形成するように、第１および第２のガラス基板を接合層を介して接合して、組立体を構成するステップ（ステップＳ１２０）と、
（ｉｉｉ）貫通孔を介して、組立体の間隙部を減圧処理するステップ（ステップＳ１３０）と、
（ｉｖ）封止材を備える封止プレートに直接または伝熱体を介してゲッターを接触させた状態で封止プレートを加熱することにより、封止材の軟化とともにゲッターが活性化され、封止材により封止プレートを第１のガラス基板に接合させて貫通孔を封止するステップ（ステップＳ１４０）と、
を有する。
【００２０】
このような真空複層ガラスの製造方法では、ゲッターの活性化に、封止プレートからの伝熱を利用することができる。換言すれば、封止プレートによる貫通孔の封止処理と、ゲッターの活性化処理とを、一度に実施することができる。
【００２１】
従って、本発明による真空複層ガラスの製造方法では、製造プロセスを簡略化することが可能となり、真空複層ガラスの製造効率を高めることが可能になる。
【００２２】
以下、図２〜図４を参照して、各工程について、詳しく説明する。
【００２３】
（ステップＳ１１０）
まず、貫通孔を有する第１のガラス基板と、第２のガラス基板とが準備される。
【００２４】
第１のガラス基板は、第１の表面および第２の表面を有し、貫通孔は、第１の表面における第１の開口から、第２の表面における第２の開口まで延在する。第２のガラス基板は、第３の表面および第４の表面を有する。
【００２５】
第１のガラス基板において、貫通孔の形成位置は、特に限られない。ただし、通常の場合、貫通孔は、意匠性が損なわれることがないよう、第１のガラス基板の目立たない位置、例えばいずれかのコーナー部付近等に形成される。
【００２６】
貫通孔の第１および／または第２の開口の形状は、特に限られない。第１および／または第２の開口は、例えば、円、楕円、三角形、または矩形等であってもよい。また、第１および／または第２の開口の寸法は、特に限られない。第１および／または第２の開口の最大寸法（例えば、円の場合は直径。矩形の場合は、対角線の長さ）は、例えば、１ｍｍ〜１５ｍｍの範囲であってもよい。
【００２７】
また、貫通孔は、第１の開口と第２の開口の間で、形状および／または最大寸法が異なっていてもよい。
【００２８】
次に、第１のガラス基板の第１の表面に、接合層が形成される。
【００２９】
図２には、そのような第１のガラス基板を模式的に示す。
【００３０】
図２に示すように、第１のガラス基板１１０は、第１の表面１１２および第２の表面１１４を有する。また、第１のガラス基板１１０は、貫通孔１２０を有し、該貫通孔１２０は、第１の表面１１２に第１の開口１２２を有し、第２の表面１１４に第２の開口１２４（図２からは視認できない）を有する。
【００３１】
第１のガラス基板１１０の第１の表面１１２の周囲には、接合層１３０が形成される。接合層１３０は、貫通孔１２０よりも外側に、環状に形成される。
【００３２】
接合層１３０は、後に第１のガラス基板と第２のガラス基板を積層した際に形成される間隙部を適正にシールすることができる限り、その形態は、特に限られない。
【００３３】
例えば、接合層１３０は、ガラス固化層で構成されてもよい。そのようなガラス固化層は、例えば、ガラスフリットを含むペーストを焼成することにより形成することができる。ペースト中に含まれるガラスフリットの量および組成を変化させることにより、ガラス固化層の焼成温度（さらには溶融温度および／または軟化温度）を調整することができる。
【００３４】
なお、第２のガラス基板の一方の表面（第３の表面）にも、接合層を配置してもよい。あるいは、第１のガラス基板１１０の代わりに、第２のガラス基板の一方の表面（第３の表面）にのみ、接合層を設置してもよい。
【００３５】
（ステップＳ１２０）
次に、ステップＳ１１０で準備された第１および第２のガラス基板を用いて、組立体が構成される。
【００３６】
図３には、そのような組立体の構成例を概略的に示す。
【００３７】
図３に示すように、組立体１５０は、第１のガラス基板１１０と第２のガラス基板１４０を、接合層１３０を介して相互に対向するように配置することにより形成される。すなわち、第１のガラス基板１１０は、第１の表面１１２の側が内側となるようにして、第２のガラス基板１４０と積層される。同様に、第２のガラス基板１４０は、第３の表面１４２の側が内側となり、第４の表面１４４が外側となるようにして、第１のガラス基板１１０と積層される。
【００３８】
これにより、両ガラス基板１１０、１４０の間に、間隙部１５２が形成される。
【００３９】
その後、組立体１５０は、接合層１３０の軟化温度以上の温度に加熱され、これにより、両ガラス基板１１０、１４０が接合層１３０を介して接合される。
【００４０】
加熱温度は、接合層１３０の種類によって異なるが、例えば、２５０℃〜５２０℃の範囲である。
【００４１】
（ステップＳ１３０〜ステップＳ１４０）
次に、組立体１５０の間隙部１５２が真空吸引され、減圧処理される。また、第１のガラス基板１１０の貫通孔１２０が封止される。
【００４２】
以下、図４を参照して、このステップＳ１３０〜ステップＳ１４０の工程の一例について説明する。
【００４３】
図４には、ステップＳ１３０〜ステップＳ１４０の工程の一例を模式的に示す。
【００４４】
この工程では、まず、第１のガラス基板１１０が上側となり、第２のガラス基板１４０が下側となるようにして、組立体１５０が配置される。
【００４５】
次に、図４（ａ）に示すように、組立体１５０の上部に、封止装置１６０が配置される。封止装置１６０は、第１のガラス基板１１０の貫通孔１２０を取り囲むようにして、第１のガラス基板１１０の第２の表面１１４側に配置される。
【００４６】
封止装置１６０は、排気管１６２を有し、該排気管１６２は、真空処理手段（図示されていない）に接続される。
【００４７】
また、封止装置１６０は、内部が空間となっており、この内部空間には、ヒータ１６５と、封止プレート１７０とが収容されている。ヒータ１６５および封止プレート１７０は、最初の段階では、封止装置１６０の内部空間の上方に配置されており、第１のガラス基板１１０の第２の表面１１４とは接触していない。
【００４８】
封止プレート１７０は、下面１７１の周囲に、環状の封止材１７５を有する。封止材１７５は、封止装置１６０を上部から見たとき、組立体１５０の第１のガラス基板１１０の第１の開口１２２を取り囲むようにして、封止プレート１７０の下面１７１に配置される。
【００４９】
封止材１７５は、ろう材、半田またはガラスフリットなどを含む、例えば、約２５０℃〜５２０℃の範囲に軟化点を有する材料で構成されてもよい。また、封止材１７５は、ゲッター１５５を短時間で活性化させるために、例えば、ガラスフリットを含むガラス固化層のような軟化点が約３５０℃〜５２０℃である材料で構成されてもよい。封止材１７５は、製造効率の向上の観点から、軟化点が４００℃〜５２０℃である材料であることが好ましい。
【００５０】
なお、図４（ａ）に示すように、組立体１５０の上部に封止装置１６０が配置される前に、組立体１５０の貫通孔１２０内には、ゲッター１５５が配置される。
【００５１】
ゲッター１５５は、貫通孔１２０が封止された後、間隙部１５２内で生じるガスを除去する役割を有する。ゲッター１５５は、第２のガラス基板１４０の第３の表面１４２上に配置された支持部材１５７上に配置される。支持部材１５７は、例えば、弾性部材で構成される。
【００５２】
ステップＳ１３０〜ステップＳ１４０を実施する場合、まず、組立体１５０上に、封止装置１６０が設置される。次に、封止装置１６０の排気管１６２に接続された真空処理手段が作動し、これにより、封止装置１６０の内部空間、さらには組立体１５０の間隙部１５２が減圧処理される。
【００５３】
また、減圧処理を継続したまま、組立体１５０の少なくとも一部、好ましくは全体を、例えば２００℃〜４００℃に加熱することにより、組立体１５０の間隙部１５２に含まれるガスを効率的に排気することができる。
【００５４】
組立体１５０の間隙部１５２が十分に減圧状態となった後、図４（ｂ）に示すように、封止装置１６０の上方に収容されていた封止プレート１７０が、組立体１５０の方に押し付けられる。この動作には、例えば、封止装置１６０に備わるエアシリンダ機構１６７のような機構が使用されてもよい。
【００５５】
なお、この際には、必要に応じて、ヒータ１６５の温度をより高い温度、例えば２５０℃〜５２０℃まで、上昇させてもよい。これにより、封止プレート１７０に設置されている封止材１７５が軟化する。このとき組立体１５０も予備加熱しておくと、封止材を有する封止プレート１７０を接触させたときに割れにくくなる。
【００５６】
図４（ｂ）に示すように、封止プレート１７０が組立体１５０の方に押し付けられると、軟化した封止材１７５により、封止プレート１７０は、組立体１５０を構成する第１のガラス基板１１０と、第２の表面１１４で接合される。従って、封止プレート１７０によって、第１のガラス基板１１０に設けられた貫通孔１２０を封止することができる。
【００５７】
また、封止プレート１７０が組立体１５０の方に押し付けられると、封止プレート１７０の下面１７１からの押し付けにより、支持体１５７で支持されたゲッター１５５は、支持体１５７の弾性変形により、組立体１５０の下方に移動する。従って、封止プレート１７０が第１のガラス基板１１０と接合された後には、ゲッター１５５を間隙部１５２内に収容することができる。
【００５８】
その後、封止装置１６０が除去されると、図４（ｃ）に示すように、ゲッター１５５が間隙部１５２（より正確には、第１のガラス基板１１０と第２のガラス基板１４０の間）に封入された真空複層ガラス１００が得られる。
【００５９】
ここで、図４（ｂ）に示すように、第１の製造方法では、封止プレート１７０が組立体１５０の方に押し付けられた際に、封止プレート１７０の下面１７１は、支持体１５７で支持されたゲッター１５５と接触する。また、封止プレート１７０は、封止材１７５を軟化させるため、ヒータ１６５によって高温に加熱されている。このため、ゲッター１５５は、封止プレート１７０からの伝熱により活性化される。
【００６０】
従って、第１の製造方法では、第１のガラス基板１１０の貫通孔１２０の封止処理と、ゲッター１５５の活性化処理とを一度に実施することが可能となり、真空複層ガラスの製造プロセスを簡略化することができる。また、これにより、真空複層ガラス１００の製造効率を高めることができる。
【００６１】
（本発明の一実施例による真空複層ガラスの別の製造方法）
次に、図５を参照して、本発明の一実施例による、真空複層ガラスの別の製造方法（以下、「第２の製造方法」と称する）について説明する。
【００６２】
なお、第２の製造方法においても、前述の図１に示した第１の製造方法のフローが等しく適用できる。ただし、第２の製造方法では、ステップＳ１３０〜ステップＳ１４０の工程が、前述の第１の製造方法とは異なっている。
【００６３】
従って、ここでは、第２の製造方法におけるステップＳ１３０〜ステップＳ１４０の工程について、詳しく説明する。なお、以下の説明において、各部材を表す際は、図４で使用した参照符号と同じ参照符号を使用するものとする。
【００６４】
図５には、第２の製造方法におけるステップＳ１３０〜ステップＳ１４０の工程の一例を模式的に示す。
【００６５】
図５（ａ）に示すように、第２の製造方法においても、第１のガラス基板１１０と第２のガラス基板１４０とが、接合層１３０を介して相互に接合された組立体１５０が使用される。
【００６６】
ただし、第２の製造方法では、組立体１５０は、第１のガラス基板１１０が下側となるように配置される。従って、封止装置１６０は、組立体１５０の下側に配置される。より具体的には、封止装置１６０は、第１のガラス基板１１０の貫通孔１２０を取り囲むようにして、第１のガラス基板１１０の第２の表面１１４側に配置される。
【００６７】
また、第２の製造方法では、図５（ａ）に示すように、ゲッター１５５は、封止プレート１７０上に設置される。従って、図４に示したような支持部材１５７は、使用されない。
【００６８】
ステップＳ１３０〜ステップＳ１４０を実施する際には、まず、組立体１５０の下方に、封止装置１６０が設置される。次に、封止装置１６０の排気管１６２に接続された真空処理手段が作動し、これにより、封止装置１６０の内部空間、さらには組立体１５０の間隙部１５２が減圧処理される。
【００６９】
また、減圧処理を継続したまま、組立体１５０の少なくとも一部、好ましくは全体を、例えば２００℃〜４００℃に加熱することにより、組立体１５０の間隙部１５２に含まれるガスを効率的に排気することができる。
【００７０】
組立体１５０の間隙部１５２が十分に減圧状態となった後、図５（ｂ）に示すように、封止装置１６０の底部に収容されていた封止プレート１７０が、組立体１５０の方に押し付けられる。この動作には、例えば、封止装置１６０に備わるエアシリンダ機構１６７のような機構が使用されてもよい。
【００７１】
なお、この際には、必要に応じて、ヒータ１６５の温度を、２５０℃〜５２０℃まで、上昇させてもよい。これにより、封止プレート１７０に設置されている封止材１７５が軟化する。このとき組立体１５０も予備加熱しておくと、封止材を有する封止プレート１７０を接触させたときに割れにくくなる。
【００７２】
封止プレート１７０が組立体１５０の方に押し付けられると、軟化した封止材１７５により、封止プレート１７０は、組立体１５０を構成する第１のガラス基板１１０と、第２の表面１１４で接合される。従って、封止プレート１７０によって、第１のガラス基板１１０に設けられた貫通孔１２０を封止することができる。
【００７３】
その後、封止装置１６０が除去されると、図５（ｃ）に示すように、ゲッター１５５が間隙部１５２（第１のガラス基板１１０と第２のガラス基板１４０の間）に封入された真空複層ガラス１０１が得られる。
【００７４】
ここで、図５（ｂ）に示すように、第２の製造方法においても、封止プレート１７０によって貫通孔１２０を封止する際には、封止プレート１７０は、封止材１７５を軟化させるため、ヒータ１６５によって高温に加熱されている。このため、ゲッター１５５は、封止プレート１７０からの伝熱により活性化される。
【００７５】
従って、第２の製造方法においても、第１のガラス基板１１０の貫通孔１２０の封止処理と、ゲッター１５５の活性化処理とを一度に実施することが可能となり、真空複層ガラス１０１の製造プロセスを簡略化することができる。また、これにより、真空複層ガラス１０１の製造効率を高めることができる。
【００７６】
以上、図１〜図５を参照して、本発明の一実施例による、真空複層ガラスの製造方法について説明した。しかしながら、本発明における真空複層ガラスの製造方法は、これらの例に限られるものではない。
【００７７】
例えば、前述の第１および第２の製造方法では、いずれの場合も、ゲッター１５５は、封止プレート１７０と直接接触した状態で、活性化される。しかしながら、これは、単なる一例であって、ゲッター１５５は、封止プレート１７０と必ずしも接触している必要はない。すなわち、ゲッター１５５は、封止プレート１７０による貫通孔１２０の封止の際に、封止プレート１７０からの伝熱により活性化される限り、いかなる態様で配置されてもよい。
【００７８】
例えば、ゲッター１５５は、「伝熱体」を介して、封止プレート１７０と熱的に接触していてもよい。ここで、「伝熱体」とは、空気よりも熱伝導率の高い、あらゆる部材を意味する。伝熱体は、金属の他、セラミックスまたはガラス等であってもよい。
【００７９】
例えば、図５に示した例において、ゲッター１５５は、封止プレート１７０上に直接設置される代わりに、伝熱体を介して封止プレート１７０上に配置されてもよい。
【００８０】
また、図４に示した例では、ゲッター１５５は、弾性部材のような支持部材１５７により支持されている。しかしながら、これは単なる一例であって、ゲッター１５５は、その他の方法で支持されてもよい。
【００８１】
図６〜図８には、封止プレート１７０による貫通孔１２０の封止の際に、ゲッター１５５を支持する他の方法の例を示す。
【００８２】
例えば、図６では、第１のガラス基板１１０に設けられる貫通孔１２０は、第２の表面１１４側において、より寸法の大きな拡張部１２５を有し、ゲッター１５５は、この拡張部１２５に収容、配置されている。この場合、図４に示したような支持部材１５７は、省略することができる。なお、このときゲッター１５５には少なくとも一つの貫通孔（図示されていない）が形成されており、その貫通孔を介して間隙部の減圧処理が可能となっている。または、ゲッター１５５で第１のガラス基板１１０の貫通孔１２０を完全に塞がないように配置される。
【００８３】
また、図７に示す例では、封止プレート１７０は、下面１７１に吊り下げ部材１５８を有し、ゲッター１５５は、この吊り下げ部材１５８によって支持されている。この場合も、図４に示したような支持部材１５７は、省略することができる。なお、この例では、吊り下げ部材１５８が伝熱体となり、ゲッター１５５は、吊り下げ部材１５８と接触する。
【００８４】
さらに、図８に示す例では、ゲッター１５５は、封止プレート１７０の下面１７１に設置された接着部材１５９を介して、封止プレート１７０に結合されている。この場合も、図４に示したような支持部材１５７は、省略することができる。なお、この例の場合、接着部材１５９は、封止プレート１７０による貫通孔１２０の封止処理の際の温度に耐え得る材料で構成されることに留意する必要がある。
【００８５】
（本発明の一実施例による真空複層ガラス）
次に、図９を参照して、本発明の一実施例による真空複層ガラス（以下、「第１の真空複層ガラス）と称する）の一構成例について説明する。
【００８６】
図９には、第１の真空複層ガラス６００の概略的な断面図を示す。
【００８７】
図９に示すように、第１の真空複層ガラス６００は、第１のガラス基板６１０および第２のガラス基板６４０を有する。第１のガラス基板６１０は、第１の表面６１２および第２の表面６１４を有し、第２のガラス基板６４０は、第３の表面６４２および第４の表面６４４を有する。
【００８８】
第１のガラス基板６１０の第１の表面６１２と、第２のガラス基板６４０の第３の表面６４２の間には、間隙部６５２が形成されており、該間隙部６５２は、シール部材６３２によって取り囲まれ、シール部材６３２によって密閉されている。
【００８９】
シール部材６３２は、図２に示したような接合層１３０で構成されてもよい。あるいは、シール部材６３２は、別の構成を有してもよい。
【００９０】
また、第１のガラス基板６１０は、第１の表面６１２から第２の表面６１４まで貫通する貫通孔６２０を有する。この貫通孔６２０は、第１のガラス基板６１０の第２の表面６１４の側に、封止材６７５を介して接合された封止プレート６７０によって、封止されている。
【００９１】
また、貫通孔６２０の中には、間隙部６５２の内部に配置された支持部材６５７で支持されたゲッター６５５が設置されている。支持部材６５７は、弾性部材であってもよい。
【００９２】
このような構成を有する第１の真空複層ガラス６００は、前述の第１の製造方法のような真空複層ガラスの製造方法を用いて、製造することができる。従って、第１の真空複層ガラス６００は、製造の際のプロセスを簡略化することができる。また、このため、第１の真空複層ガラス６００は、効率的に製造することができる。
【００９３】
なお、図９に示した第１の真空複層ガラス６００において、ゲッター６５５は、封止プレート６７０の下面６７１と接触するように配置されている。また、ゲッター６５５は、支持部材６５７に支持された状態で、間隙部６５２内に収容されている。
【００９４】
しかしながら、ゲッター６５５の配置態様は、これに限られるものではない。例えば、ゲッター６５５は、前述の図６および図７で示した例のように、支持部材６５７の代わりに、第１のガラス基板の拡張部１２５または吊り下げ部材１５８等により、支持されてもよい。
【００９５】
また、第１の真空複層ガラス６００の封止プレート６７０およびゲッター６５５は、前述の図８に示したような構成を有してもよい。
【００９６】
さらに、第１の真空複層ガラス６００において、ゲッター６５５と封止プレート６７０の間には、その他の「伝熱体」が介在されてもよい。
【００９７】
（真空複層ガラスの各構成部材について）
次に、本発明の一実施例による真空複層ガラス６００を構成する各構成部材について説明する。なお、ここでは、各部材を説明する際に、図９に示した参照符号を使用する。
【００９８】
（ガラス基板６１０、６４０）
ガラス基板６１０、６４０の寸法および組成は、特に限られない。ガラス基板６１０、６４０には、従来の真空複層ガラスに使用されているいかなるガラス基板を使用してもよい。
【００９９】
なお、第１のガラス基板６１０と第２のガラス基板６４０は、異なる組成を有してもよい。また、第１のガラス基板６１０および／または第２のガラス基板６４０には、各種機能膜が設置されてもよい。
【０１００】
（間隙部６５２）
間隙部６５２は、必要に応じて、複数のスペーサが設置されてもよい。スペーサを設けることにより、間隙部６５２の高さ（第１のガラス基板６１０の第１の表面６１２と第２のガラス基板６４０の第３の表面６４２の間の距離）を所望の値に維持することが容易となる。ただし、スペーサの設置は任意である。
【０１０１】
（シール部材６３２）
間隙部６５２の周囲に配置されるシール部材６３２には、従来から使用されているシール部材を適用することができる。シール部材６３２は、例えば、図２に示したような接合層１３０で構成されてもよい。
【０１０２】
この場合、接合層１３０は、ガラス固化層で構成されてもよい。
【０１０３】
（封止プレート６７０）
封止プレート６７０は、例えば、金属、セラミック、またはガラス等で構成されてもよい。封止プレートは、例えばアルミニウムのような金属であることが好ましい。
【０１０４】
封止プレート６７０の厚さは、これに限られるものではないが、例えば、０．０３ｍｍ〜３ｍｍの範囲であってもよい。
【０１０５】
（封止材６７５）
封止材６７５は、例えば、ガラス固化層で構成されてもよい。その場合、ガラス固化層は、以下の表１に示すような組成を有してもよい。
【０１０６】
【表１】
2016009949.tif 000002
なお、このガラス固化層の軟化温度は、約３５０℃〜５２０℃であってよい。
【０１０７】
（ゲッター６５５）
ゲッター６５５には、従来の真空複層ガラスに使用されているいかなる材料を使用してもよい。ゲッター６５５は、例えば、Ｚｅ−Ｖ系の多孔質焼結体などの非蒸発型ゲッター材であってもよい。
【０１０８】
（支持部材６５７）
支持部材６５７の材質は、第１のガラス基板６１０の貫通孔６２０の封止処理の間、耐熱性を有する材料である限り、特に限られない。支持部材６５７は、例えば、アルミニウムまたはステンレス鋼のような金属であってもよい。
【０１０９】
支持部材６５７は、弾性部材（例えばバネ形状）であってもよい。あるいは、支持部材６５７は、ウール状部材であってもよい。
【産業上の利用可能性】
【０１１０】
本発明は、建築物の窓ガラス等に使用される真空複層ガラス等に利用することができる。【０１１１】
本願は、２０１４年７月１８日に出願した日本国特許出願２０１４−１４７９０９号に基づく優先権を主張するものであり同日本国出願の全内容を本願に参照により援用する。
【符号の説明】
【０１１２】
１００、１０１、６００      真空複層ガラス
１１０、６１０      第１のガラス基板
１１２、６１２      第１の表面
１１４、６１４      第２の表面
１２０、６２０      貫通孔
１２２      第１の開口
１２４      第２の開口
１２５      拡張部
１３０      接合層
１４０、６４０      第２のガラス基板
１４２、６４２      第３の表面
１４４、６４４      第４の表面
１５０      組立体
１５２、６５２      間隙部
１５５、６５５      ゲッター
１５７、６５７      支持部材
１５８      吊り下げ部材
１５９      接着部材
１６０      封止装置
１６２      排気管
１６５      ヒータ
１６７      エアシリンダ機構
１７０、６７０      封止プレート
１７１、６７１      下面
１７５、６７５      封止材
６３２      シール部材
【図１】
2016009949.tif 000003
【図２】
2016009949.tif 000004
【図３】
2016009949.tif 000005
【図４】
2016009949.tif 000006
【図５】
2016009949.tif 000007
【図６】
2016009949.tif 000008
【図７】
2016009949.tif 000009
【図８】
2016009949.tif 000010
【図９】
2016009949.tif 000011
【国際調査報告】
2016009949.tif 000012
2016009949.tif 000013