(57)【要約】  直描型露光装置（１００）は、基材（Ｂ）に保持された膜状の感光性樹脂（ＰＰ）に、露光光線（１ｂ）を直接照射することによりパターン露光を行なうものであって、露光光線（１ｂ）を出力する光源（１）と、基台（２）と、基材（Ｂ）の下面周縁領域を支持可能であり、かつ露光光線（１ｂ）の光軸方向において基材（Ｂ）を変位させるように動作する変位機構（４ａ〜４ｄ）と、基材（Ｂ）の下面中央領域を支持可能な支持部材（７）とを備える。支持部材（７）は、変位機構（４ａ〜４ｄ）により基材（Ｂ）を変位させて、支持部材（７）の上面と基材（Ｂ）の下面中央領域とを当接させた状態において、露光光線（１ｂ）の光軸と支持部材（７）の上面とが直交するように、基台（２）の上方に配設される。
2016017414.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
板状の基材に保持された膜状の感光性樹脂に、露光光線を所定のパターンで直接照射することによりパターン露光を行なう直描型露光装置であって、
露光光線を出力する光源と、
基台と、
駆動部および駆動軸を含み、前記基材の下面周縁領域を支持可能であり、かつ前記露光光線の光軸方向において前記基材を変位させるように動作する複数の変位機構と、
前記基材の下面中央領域を支持可能な支持部材と、を備え、
前記支持部材は、前記複数の変位機構により前記基材を変位させて、前記支持部材の上面と前記基材の下面中央領域とを当接させた状態において、前記露光光線の光軸と前記支持部材の上面とが直交するように、前記基台の上方に配設されている、直描型露光装置。
【請求項２】
前記駆動軸は、軸方向の応力に対して弾性変形する弾性変形部を有する、請求項１に記載の直描型露光装置。
【請求項３】
前記駆動軸に接続され、前記駆動軸の軸方向にかかる荷重を検知する荷重検知部と、
制御装置と、をさらに備え、
前記制御装置は、前記荷重検知部が検知する荷重が、所定の値まで減少したことを伝える情報に基づいて、前記駆動部に動作を停止する動作指令を与えるように制御する、請求項１または２に記載の直描型露光装置。
【請求項４】
前記基材の下面周縁領域の前記駆動軸により支持されている箇所に対応する、前記基材の上面までの距離を検出する距離検知部と、
制御装置と、をさらに備え、
前記制御装置は、前記距離検知部からの、前記距離検知部と前記基材の上面との間の距離が所定の値まで増加したことを伝える情報に基づいて、前記駆動部に動作を停止する動作指令を与えるように制御する、請求項１または２に記載の直描型露光装置。
【請求項５】
傾斜検知機構と、
傾斜調整機構と、をさらに備え、
前記制御装置は、前記傾斜検知機構による情報に基づいて、前記基台の傾斜角を調整する動作指令を、前記傾斜調整機構に与えるように制御する、請求項３または４に記載の直描型露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、紫外線領域の波長を有する光線を、マスクを介さず感光性樹脂に直接照射して、所定のパターンを描画することにより、感光性樹脂をパターン露光する直描型露光装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
電子部品の製造における配線パターンおよび電極パターンの形成には、スクリーン印刷が利用されることが多い。【０００３】
スクリーン印刷は、所定の開口パターンを有するように製版された紗と呼ばれる網目の布が枠体に張られてなるスクリーン印刷版を通して、印刷対象物にインクを印刷する技術である。【０００４】
スクリーン印刷版の製版は、紗に感光性樹脂を塗布し、マスク（原版）を介して紫外線などを照射して露光した後、不要な部分を洗浄除去（現像）して、所定の開口パターンを得ることにより行なわれている。【０００５】
ところで、近年、紫外線領域の波長を有する露光光線を、マスクを介さず感光性樹脂に直接照射して、所定のパターンを描画することにより、感光性樹脂をパターン露光する直描型露光装置が普及し始めている。【０００６】
そのような直描型露光装置の一例として、例えば特開平１１−３２０９６８号公報（特許文献１）では、デジタル・マイクロミラー・デバイス（以下、ＤＭＤと呼称）を用いてパターン露光を行なう直描型露光装置が提案されている。【０００７】
図９は、上記公報に記載されている直描型露光装置２００の説明図である。図９（Ａ）は、直描型露光装置２００の概略構成図である。図９（Ｂ）は、直描型露光装置２００に用いられているＤＭＤ２０５のミラー構成を示す模式図である。図９（Ｃ）は、図９（Ｂ）の部分拡大図である。【０００８】
図９（Ｂ）に示すように、ＤＭＤ２０５は、正方形の微小ミラーＭが横方向（図９（Ｂ）の左右方向であって、微小ミラーＭが列をなす方向）にｍ個、縦方向（図９（Ｂ）の上下方向であって、微小ミラーＭの列が並ぶ方向）に６列配置されてなる。横方向において、互いに隣接する微小ミラーＭの間には、隙間ｇが設けられている。各列（Ｍ１１〜Ｍ１６）の微小ミラーＭは、隣接する上下の列における微小ミラーＭとそれぞれ所定の距離だけずらせて配置されている。【０００９】
図９（Ａ）に示すように、露光対象物である感光性樹脂ＰＰは、膜状であって、例えば樹脂単体のドライフィルムの状態で、または液状の樹脂を不図示の基材上に塗布後、乾燥させた状態で、テーブル２０３に載置される。テーブル２０３は、ベース２０２上をＹ方向に移動自在である。【００１０】
そして、図９（Ｃ）に示すように、各微小ミラーＭは、一対の端部Ｍａを結ぶ対角線を回転軸として、端部Ｍｂが回転可能となるように構成されている。ＤＭＤ制御装置２０６は、ＤＭＤ２０５の各微小ミラーＭの回転を個別に制御する。【００１１】
光源２０１から出力された紫外線領域の波長を有する光は、コリメーターレンズ２０４により平行光２０１ａに変換されてＤＭＤ２０５に入射する。そして、平行光２０１ａは、入射した各微小ミラーＭがどのように回転されているかにより、各ミラーＭによる反射光の方向が決められる。【００１２】
幾つかの微小ミラーＭによる反射光は、マイクロレンズ２０７により集光されることにより、露光光線２０１ｂとなって感光性樹脂ＰＰの露光面に照射され、露光に寄与する。一方、別の微小ミラーＭによる反射光は、感光性樹脂ＰＰから離れた位置に照射され、露光に寄与しない。【００１３】
すなわち、直描型露光装置２００では、ＤＭＤ２０５の微小ミラーＭの個別の回転角を制御することにより、感光性樹脂ＰＰをパターン露光することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１４】
【特許文献１】特開平１１−３２０９６８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
ここで、図１０（Ａ）に示すように、液状の感光性樹脂ＰＰを枠体Ｆに張られた紗Ｓ上に塗布後、乾燥させたスクリーン印刷版を、直描型露光装置２００によりパターン露光することを考える。【００１６】
上記のスクリーン印刷版において、液状の感光性樹脂ＰＰの紗Ｓ上への塗布は、均一な膜厚で、図上での上面ＰＰｕと下面ＰＰｌとが平行となるように行なわれているが、枠体Ｆの厚みが均一ではなかったとする。【００１７】
このようなスクリーン印刷版を、上面ＰＰｕを露光面としてテーブル２０３に載置すると、枠体Ｆに張られた紗Ｓは、テーブル２０３の上面に対してわずかに傾斜する。その傾斜角をθとすると、露光光線２０１ｂの光軸２０１ｃと上面ＰＰｕとは直交せず、露光光線２０１ｂの光軸２０１ｃに対して、上面ＰＰｕの法線方向ＰＰｎが角度θだけ傾くことになる。【００１８】
その状態で露光した後、現像すると、図１０（Ｂ）に示すように、上面ＰＰｕの法線方向ＰＰｎに対して角度θだけ傾き、上面ＰＰｕ側の開口位置Ａｕと下面ＰＰｌ側の開口位置Ａｌとがずれた開口パターンが形成されてしまう。【００１９】
スクリーン印刷は、図１０（Ａ）における感光性樹脂の上面ＰＰｕが印刷対象物に接するようにして行なわれる。一方、印刷対象物との位置合わせは下面ＰＰｌ側から行なう。上面ＰＰｕ側と下面ＰＰｌ側とで開口位置がずれていると、下面ＰＰｌ側の開口位置で位置合わせを行なっても、実際に印刷対象物にインクが印刷されるのは上面ＰＰｕ側の開口位置となり、印刷ずれが生じることになる。【００２０】
また、露光光線２０１ｂの光軸２０１ｃと上面ＰＰｕとが直交していない場合、露光光線２０１ｂの上面ＰＰｕ上における投影像は、直交からのずれに応じて歪むことになる。例えば、露光光線２０１ｂの光軸２０１ｃに直交する断面が円形であったとすると、上面ＰＰｕ上では、楕円形に歪んでしまう。露光光線２０１ｂの上面ＰＰｕ上における投影像が歪みを有すると、開口パターンとしても歪みが生じることになる。【００２１】
そこで、この発明の目的は、感光性樹脂を支持する基材の厚みが不均一であったとしても、露光光線の光軸が感光性樹脂の露光面に対して常に直交する状態でパターン露光ができる直描型露光装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００２２】
この発明では、露光光線の光軸が感光性樹脂の露光面に対して直交する状態でパターン露光を行なうことができるようにするため、露光時における感光性樹脂を支持する基材の高さ位置を決める機構についての改良が図られる。【００２３】
この発明に係る直描型露光装置は、下記の構成により、板状の基材に保持された膜状の感光性樹脂に、露光光線を所定のパターンで直接照射することによりパターン露光を行なう。【００２４】
この発明に係る直描型露光装置は、露光光線を出力する光源と、基台と、駆動部および駆動軸を含む複数の変位機構と、基材の下面中央領域を支持可能な支持部材と、を備える。【００２５】
複数の変位機構は、基材の下面周縁領域を支持可能であり、かつ露光光線の光軸方向において基材を変位させるように動作する。支持部材は、複数の変位機構により基材を変位させて、支持部材の上面と基材の下面中央領域とを当接させた状態において、露光光線の光軸と支持部材の上面とが直交するように、基台の上方に配設されている。【００２６】
上記の直描型露光装置では、複数の変位機構が基材を変位させ、支持部材の上面と基材の下面中央領域とを当接させた状態において、露光光線の光軸と基材の上面とが直交している。【００２７】
そのため、露光光線の光軸が、基材の上面に設けられている感光性樹脂の上面（露光面）に対して、許容できる誤差範囲内において常に直交する状態で、パターン露光を行なうことができる。【００２８】
すなわち、感光性樹脂の上面側と下面（位置合わせ面）側とで、開口パターンの開口位置がずれることがない。また、開口パターンの歪みも生じることがない。【００２９】
したがって、感光性樹脂をスクリーン印刷版などの印刷版に用いた場合、高精度の開口パターンを得ることができるため、位置合わせを行なった所望の箇所に、高精度でインクを印刷することができる。【００３０】
この発明に係る直描型露光装置における第１の好ましい実施形態は、駆動軸が軸方向の応力に対して弾性変形する弾性変形部を有する。【００３１】
基材は初期位置においてその重量により弾性変形部を変形させた状態で、変位機構の駆動軸により支持されている。【００３２】
上記の直描型露光装置では、支持部材の上面と基材の下面中央領域とが当接することにより、基材の重量の少なくとも一部を支持部材が受けるようになる。その結果、駆動軸の弾性変形部は、軸方向にかかる荷重が低減する分、元の形状に戻るように逆変形する。【００３３】
そのため、支持部材の上面と基材の下面中央領域とが当接した後に、変位機構がさらに少し基材を変位させたとしても、弾性変形部が少し逆変形するだけで、変位機構は基材を支持し続ける。すなわち、基材が急に支持部材のみによって支持されるようになることが避けられる。【００３４】
例えば、基材として、前述のように紗と呼ばれる網目の布が枠体に張られてなるものが用いられ、枠体が駆動軸によって支持されておらず、紗の下面中央領域が支持部材によって支持されている状態を考える。この状態では、紗は枠体の重量によって引っ張られ、弾性変形する可能性がある。【００３５】
紗の弾性変形が無視できない場合、弾性変形した状態で露光したとすると、弾性変形が解除されることにより露光パターンは変形し、所望の開口パターンとは異なるものとなってしまう。【００３６】
一方、上記のように弾性変形部が元の形状に戻るまで、枠体が引き続き駆動軸によって支持されている状態を考える。この状態では、紗にはごくわずかしか枠体の重量がかからないため、紗はほとんど引っ張られない。すなわち、紗に無視できない弾性変形が発生することがない。その結果、露光パターンと現像後の開口パターンとを、高精度で一致させることができる。【００３７】
したがって、その状態で感光性樹脂を露光することにより、さらに高精度な開口パターンを得ることができる。【００３８】
この発明に係る直描型露光装置における第２の好ましい実施形態は、駆動軸に接続され、駆動軸の軸方向にかかる荷重を検知する荷重検知部と、制御装置とをさらに備える。【００３９】
制御装置は、荷重検知部が検知する荷重が、所定の値まで減少したことを伝える情報に基づいて、駆動部に動作を停止する動作指令を与えるように制御する。【００４０】
上記の直描型露光装置では、基材が支持部材に当接することにより、基材の重量の少なくとも一部を支持部材が受けるようになった結果、駆動軸にかかる荷重が、所定の値まで減少したことを荷重検知部で検知する。その情報は制御装置に送信され、制御装置はその情報に基づいて、駆動部に動作を停止する動作指令を与える。【００４１】
言い換えると、変位機構は、駆動軸にかかる荷重が所定の値まで減少したことを荷重検知部が検知するまで、基材を確実に変位させる。したがって、支持部材の上面と基材の下面中央領域とを確実に当接させ、露光光線の光軸と支持部材の上面とを確実に直交させることができる。【００４２】
なお、基材が支持部材に当接すると、当接箇所の近傍にある荷重検知部が検知する荷重は急激に減少する。そして、基材が当接箇所の近くにある駆動軸から離れると、その駆動軸にかかる荷重は検知されなくなる。したがって、上記の所定の値は、基材が支持部材に当接する前に荷重検知部が検知していた荷重値の８０〜９９％程度の荷重値であることが好ましい。【００４３】
また、上記の直描型露光装置では、駆動軸にかかる荷重の減少が始まったことを荷重検知部が検知した時点で、制御装置が駆動部に動作を停止する動作指令を与えるように制御することにより、駆動部が駆動軸を変位させ過ぎずに済む。すなわち、第１の好ましい実施形態と同様に、基材が支持部材のみによって支持されることを避けることができる。【００４４】
例えば、基材として、前述のように紗が枠体に張られてなるものが用いられ、初期位置では枠体が変位機構の駆動軸によって支持されている状態を考える。そして、駆動軸にかかる荷重の減少開始を荷重検知部が検知した時点で、制御装置が駆動部に動作を停止させ、枠体が引き続き駆動軸によって支持されるようにする。この状態では、第１の好ましい実施形態のように紗はほとんど引っ張られない。すなわち、紗に無視できない弾性変形が発生することがない。【００４５】
また、全ての荷重検知部において荷重の減少を検知し、全ての駆動部が動作を停止した状態では、支持部材の上面と紗の下面中央領域とが当接し、露光光線の光軸と紗の上面とは直交している。この状態では、紗の上面に塗布されている感光性樹脂の露光面は、露光光線の光軸に対して傾いていない。その結果、露光パターンと現像後の開口パターンとを、高精度で一致させることができる。【００４６】
したがって、第１の好ましい実施形態と同様に、さらに高精度な開口パターンを得ることができる。【００４７】
この発明に係る直描型露光装置における第３の好ましい実施形態は、基材の下面周縁領域の駆動軸により支持されている箇所に対応する、基材の上面までの距離を検出する距離検知部と、制御装置とをさらに備える。【００４８】
制御装置は、距離検知部からの、距離検知部と基材の上面との間の距離が所定の値まで増加したことを伝える情報に基づいて、駆動部に動作を停止する動作指令を与えるように制御する。【００４９】
上記の直描型露光装置では、複数の変位機構が基材を変位させた結果、距離検知部と基材の上面との間の距離が所定の値まで増加したことを距離検出部で検知する。その情報は制御装置に送信され、制御装置はその情報に基づいて、駆動部に動作を停止する動作指令を与える。【００５０】
言い換えると、変位機構は、距離検知部と基材の上面との間の距離が所定の値まで増加したことを距離検知部が検知するまで、基材を確実に変位させる。したがって、支持部材の上面と基材の下面中央領域との当接、および基材の下面周縁領域と駆動軸との当接を両立させ、露光光線の光軸と支持部材の上面とを確実に直交させることができる。【００５１】
また、上記の所定の値は、支持部材の上面と基材の下面中央領域とが当接した時点での、距離検知部と基材の上面との間の距離であることが好ましい。上記の直描型露光装置では、距離検知部が検知する距離がその値となった時点で、制御装置が駆動部に動作を停止する動作指令を与えるように制御することにより、駆動部が駆動軸を変位させ過ぎずに済む。すなわち、第１および第２の好ましい実施形態と同様に、基材が支持部材のみによって支持されることを避けることができる。【００５２】
例えば、前述したように、基材として、紗が枠体に張られてなるものが用いられ、初期位置では枠体が変位機構の駆動軸によって支持されている状態を考える。そして、駆動軸を駆動部により変位させ、距離検知部が検知する距離が上記の所定の値となった時点で制御装置が駆動部に動作を停止させ、枠体が引き続き駆動軸によって支持されるようにする。この状態では、第１の好ましい実施形態のように紗はほとんど引っ張られない。すなわち、紗に無視できない弾性変形が発生することがない。【００５３】
また、全ての距離検知部の検知する距離が所定の距離となり、全ての駆動部が動作を停止した状態では、支持部材の上面と紗の下面中央領域とが当接し、露光光線の光軸と紗の上面とは直交している。この状態では、紗の上面に塗布されている感光性樹脂の露光面は、露光光線の光軸に対して傾いていない。その結果、露光パターンと現像後の開口パターンとを、高精度で一致させることができる。【００５４】
したがって、第１および第２の好ましい実施形態と同様に、さらに高精度な開口パターンを得ることができる。【００５５】
この発明に係る直描型露光装置における第４の好ましい実施形態では、傾斜検知機構と、傾斜調整機構とをさらに備える。制御装置は、傾斜検知機構による情報に基づいて、基台の傾斜角を調整する動作指令を、傾斜調整機構に与えるように制御する。【００５６】
上記の直描型露光装置では、制御装置は、傾斜検知機構による情報に基づいて傾斜調整機構を動作させることにより、基台の傾斜角を調整している。【００５７】
支持部材は基台上に設置されているので、その傾斜角は、基台の傾斜角を調整することで調整することができる。【００５８】
したがって、基台の傾斜角を調整することにより、支持部材の上面と基材の下面中央領域とを当接させた状態において、露光光線の光軸と基材の上面との角度が直交となるように調整することができる。すなわち、その状態で露光することにより、さらに高精度な開口パターンを得ることができる。
【発明の効果】
【００５９】
この発明に係る直描型露光装置では、支持部材の上面と基材の下面中央領域とを当接させた状態において、露光光線の光軸と基材の上面とが直交している。【００６０】
そのため、露光光線の光軸が、基材の上面に設けられている感光性樹脂の上面（露光面）に対して、許容できる誤差範囲内において常に直交する状態で、パターン露光を行なうことができる。【００６１】
すなわち、感光性樹脂の上面側と下面（位置合わせ面）側とで、開口パターンの開口位置がずれることがない。また、開口パターンの歪みも生じることがない。【００６２】
したがって、感光性樹脂をスクリーン印刷版などの印刷版に用いた場合、高精度の開口パターンを得ることができるため、位置合わせを行なった所望の箇所に、高精度でインクを印刷することができる。
【図面の簡単な説明】
【００６３】
【図１】この発明に係る直描型露光装置１００の断面図（図２のＹ１−Ｙ１線を含む面の矢視断面図）である。
【図２】この発明に係る直描型露光装置１００の要部の上面図である。
【図３】この発明に係る直描型露光装置１００における、支持部材７による基材Ｂの高さ位置の位置決めを模式的に説明するための、図１に相当する断面図であり、（Ａ）は、基材Ｂが初期位置（変位機構４ａおよび４ｂが動作する前の位置）にある状態の断面図、（Ｂ）は、紗Ｓの駆動軸６ｂに近い部分Ｓｂが、支持部材７の上面に当接した状態の断面図、（Ｃ）は、紗Ｓの駆動軸６ａに近い部分Ｓａも支持部材７の上面に当接し、その結果、支持部材７の上面と紗Ｓの下面中央領域とが密着して当接した状態の断面図である。
【図４】この発明に係る直描型露光装置における第１の変形例１００Ａの、図１に相当する断面図である。
【図５】この発明に係る直描型露光装置における第２の変形例１００Ｂの、図１に相当する断面図である。
【図６】この発明に係る直描型露光装置における第３の変形例１００Ｃの、図１に相当する断面図である。
【図７】この発明に係る直描型露光装置における第４の変形例１００Ｄの部分透視斜視図である。
【図８】この発明に係る直描型露光装置における第４の変形例１００Ｄの要部の上面図である。
【図９】背景技術の直描型露光装置２００の説明図であり、（Ａ）は、直描型露光装置２００の概略構成図、（Ｂ）は、直描型露光装置２００に用いられているＤＭＤ２０５のミラー構成を示す模式図、（Ｃ）は、（Ｂ）の部分拡大図である。
【図１０】この発明が解決しようとする課題を説明するための説明図であり、（Ａ）は、均一ではない厚みを有する枠体Ｆに張られた紗Ｓ上の感光性樹脂ＰＰを、図９に示した背景技術の直描型露光装置２００を用いてパターン露光する場合の、直描型露光装置２００の要部を模式的に示す断面図、（Ｂ）は、（Ａ）の部分拡大図である。
【発明を実施するための形態】
【００６４】
以下にこの発明の実施形態を示して、本発明の特徴とするところをさらに詳しく説明する。
【００６５】
＜この発明に係る直描型露光装置の実施形態＞
この発明に係る直描型露光装置の実施形態について、図１および図２を用いて説明する。
【００６６】
図１は、この実施形態に係る直描型露光装置１００の断面図である。図２は、この実施形態に係る直描型露光装置１００の要部の上面図である。図１は、図２のＹ１−Ｙ１線を含む面の矢視断面図となっている。
【００６７】
図１および図２を参照して、この実施形態に係る直描型露光装置１００は、下記の構成により、板状の基材Ｂの上面に保持された膜状の感光性樹脂ＰＰに、露光光線１ｂを所定のパターンで直接照射することによりパターン露光を行なう。
【００６８】
図１では、基材Ｂとして、前述のように紗Ｓと呼ばれる網目の布が枠体Ｆに張られてなるものが用いられている。基材Ｂには、任意の材質の板状部材など、所望のものを用いることができる。感光性樹脂ＰＰも、前述のように、膜状であって、例えば樹脂単体のドライフィルムの状態のものや、液状の樹脂を紗Ｓ上に塗布後、乾燥させた状態のものなど、所望のものを用いることができる。
【００６９】
なお、感光性樹脂ＰＰの厚みの不均一は無視できるものとし、上面ＰＰｕ（露光面）は、基材Ｂ（紗Ｓ）の上面と実質的に平行となっているとする。
【００７０】
直描型露光装置１００は、光源１と、基台２と、変位機構４ａ〜４ｄと、支持部材７とを含む。
【００７１】
光源１は、露光光線１ｂを出力する。露光光線１ｂは、感光性樹脂ＰＰに化学変化を生じさせる波長を有する光線である。そのための光源１の発光体としては、例えば紫外線レーザー、超高圧水銀ランプ、またはＬＥＤなど、紫外線領域の波長を有する光を発するものを用いることができる。光源１は、コリメーターレンズや集光レンズなどのレンズ系をさらに含んでもよい。
【００７２】
図１では、光源１は、水平移動機構１ｈと上下移動機構１ｖにより、水平方向および上下方向に移動可能となっている。すなわち、図１では、基台２を動かさず、水平移動機構１ｈにより光源１を水平移動させてパターン露光を行なう。また、上下移動機構１ｖにより光源１を上下移動させて焦点位置の調節を行なう。
【００７３】
なお、パターン露光を行なうためには、光源１を移動させずに、上記特開平１１−３２０９６８号公報に記載のＤＭＤや、ガルバノミラーなどの反射鏡を用いることにより、露光光線の照射位置を変えるようにしてもよい。また、別途設けた水平移動機構および上下移動機構の少なくとも一方により、基台２を水平方向および垂直方向の少なくとも一方に移動させてパターン露光を行なうようにしてもよい。
【００７４】
基台２は、特に形状の限定はなく、平板状のものであっても、底部と側壁とにより形成される凹部を備えるものであってもよい。この実施形態に係る直描型露光装置１００では、後述の変位機構４ａ〜４ｄをそれぞれ駆動させる駆動部５ａ〜５ｄは、基台２の上面に設けられた凹部３ａ〜３ｄ内にそれぞれ設置される。例えば、駆動部５ａは凹部３ａ内に設置される。駆動部５ｂ〜５ｄも、駆動部５ａと同様に、それぞれ対応する凹部３ｂ〜３ｄ内に設置される。なお、駆動部５ａ〜５ｄは、凹部３ａ〜３ｄの設けられていない平板状の基台２の上面に設置されるようにしてもよい。
【００７５】
変位機構４ａ〜４ｄは、駆動部と、駆動部により変位する駆動軸とを備える。例えば、変位機構４ａは、駆動部５ａと、駆動部５ａにより変位する駆動軸６ａとを備える。変位機構４ｂ〜４ｄも、変位機構４ａと同様の構成であり、それぞれ駆動部５ｂおよび駆動軸６ｂ、駆動部５ｃおよび駆動軸６ｃ、駆動軸５ｄおよび駆動軸６ｄを備える。駆動部５ａ〜５ｄは、前述のように、基台２の上面に設けられた、対応する凹部３ａ〜３ｄ内にそれぞれ設置されている。
【００７６】
駆動部５ａ〜５ｄとしては、例えば空圧または油圧によるシリンダーストローク調整機構、サーボモータに接続されたボールねじによる直動機構、およびリードスクリュー付きのステッピングモータなどを好ましく用いることができる。また、駆動部と駆動軸との位置関係は、図１に示したものに限らず、例えば駆動軸が基台２の上面に設置され、その駆動軸上を駆動部が移動するリニアモータのようなものでもよい。
【００７７】
変位機構４ａ〜４ｄは、それぞれが備える駆動軸により、基材Ｂの下面周縁領域を支持することができる。さらに、変位機構４ａ〜４ｄは、駆動軸を、それぞれが接続される駆動部により駆動させることにより、基材Ｂを露光光線１ｂの光軸方向において変位させる。
【００７８】
すなわち、変位機構４ａ〜４ｄを動作させて基材Ｂを変位させることにより、後述の支持部材７の上面と基材Ｂの下面中央領域とを当接させた状態とすることができる。
【００７９】
この実施形態に係る直描型露光装置１００においては、変位機構４ａ〜４ｄは、それぞれが独立して動作することができるように構成されている。なお、駆動部５ａ〜５ｄは、所定の位置で、接続されている駆動軸の駆動を停止し、その状態を維持できるように（ホールド状態となるように）設定されている。
【００８０】
支持部材７は、支持部材７の上面と基材Ｂの下面中央領域とを当接させた状態において、露光光線１ｂの光軸と支持部材７の上面とが、許容できる誤差範囲内において直交するように、ステム８により基台２の上方の所定の高さに配設されている。また、ステム８の内部には、空気通路８Ａが設けられている。
【００８１】
また、支持部材７は、その上面に開口する空気通路７Ａをその内部に有している。この空気通路７Ａは、ステム８の鍔部８Ｇと支持部材７の下面に設けられた凹部とにより形成される空気室７Ｒおよび空気通路８Ａを通じて不図示の減圧機構に連通している。このような構成により、支持部材７の上面は、基材Ｂの下面中央領域を減圧吸着可能となっている。
【００８２】
この実施形態に係る直描型露光装置１００では、上記の構成を有するため、支持部材７の上面と基材Ｂの下面中央領域とが密着した状態で、基材Ｂの下面中央領域が、支持部材７により吸着固定される。
【００８３】
したがって、この状態では、支持部材７の上面と基材Ｂの上面に保持された感光性樹脂ＰＰの上面ＰＰｕ（露光面）とが平行となっている。
【００８４】
次に、変位機構４ａ〜４ｄおよび支持部材７による、露光時における基材Ｂの高さ位置の位置決めについて、図３を用いて説明する。
【００８５】
具体例として、基材Ｂが枠体Ｆとそれに張られた紗Ｓを含むスクリーン印刷版であって、枠体Ｆの厚みが不均一な場合を考える。説明を簡略化するため、変位機構４ａおよび４ｂにより、基材Ｂを露光光線１ｂの光軸方向において変位させるものとする。実際には、変位機構４ｃおよび４ｄも含めて、基材Ｂを露光光線１ｂの光軸方向において変位させ、露光時における基材Ｂの高さ位置の位置決めを行なう。
【００８６】
ここで、枠体Ｆの、変位機構４ａで変位させられる箇所の厚み（Ｆａ）が、変位機構４ｂで変位させられる箇所の厚み（Ｆｂ）より厚いとする（図９（Ａ）も参照）。
【００８７】
また、支持部材７は、前述のように、支持部材７の上面と基材Ｂの下面中央領域とを当接させた状態において、露光光線１ｂの光軸と支持部材７の上面とが、許容できる誤差範囲内において直交するように、ステム８により基台２の上方の所定の高さに配設されている。
【００８８】
図３（Ａ）は、そのような基材Ｂの下面周縁領域を支持している変位機構の４ａおよび４ｂのそれぞれの駆動軸６ａおよび６ｂが、初期位置（変位機構４ａおよび４ｂが動作する前の位置）にある状態を表わす断面図である。なお、初期位置において、駆動軸６ａおよび６ｂの枠体Ｆに当接している端部の、基台２の上面からの高さ位置Ｈは同一である。
【００８９】
したがって、枠体Ｆに張られた紗Ｓの、駆動軸６ｂに近い部分Ｓｂの高さ位置は、駆動軸６ａに近い部分Ｓａの高さ位置より低くなっている。すなわち、紗Ｓの駆動軸６ｂに近い部分Ｓｂは、駆動軸６ａに近い部分Ｓａより、支持部材７に近くなっている。したがって、露光光線１ｂの光軸１ｃに対して、感光性樹脂ＰＰの上面ＰＰｕの法線方向ＰＰｎは角度θだけ傾いている。
【００９０】
図３（Ｂ）は、変位機構４ａおよび４ｂが動作して、枠体Ｆが変位することにより、紗Ｓの駆動軸６ｂに近い部分Ｓｂが、支持部材７の上面に当接した状態を表わす断面図である。
【００９１】
図３（Ａ）の状態から駆動軸６ａおよび６ｂが変位すると、紗Ｓの駆動軸６ｂに近い部分Ｓｂが、支持部材７の上面に、ＦａとＦｂとの厚みの差の分だけ先に当接する。この時点で変位機構４ｂの駆動部５ｂの動作を停止させ、変位機構４ｂをホールド状態とする。したがって、枠体Ｆは、引き続き駆動軸６ｂによっても支持されている。
【００９２】
一方、この時点では、紗Ｓの駆動軸６ａに近い部分Ｓａは、支持部材７の上面にまだ当接していない。変位機構４ａおよび４ｂは独立して動作することができるように構成されているため、変位機構４ｂがホールド状態になっても、変位機構４ａは枠体Ｆを変位させる動作を続けている。
【００９３】
図３（Ｃ）は、変位機構４ａが引き続き動作し、駆動軸６ａがさらに変位することにより、紗Ｓの駆動軸６ａに近い部分Ｓａも支持部材７の上面に当接した状態を表わす断面図である。その結果、支持部材７の上面と紗Ｓの下面中央領域とが密着して当接する。
【００９４】
図３（Ｂ）の状態から枠体Ｆの駆動軸６ａによって支持されている箇所が変位すると、紗Ｓの駆動軸６ａに近い部分Ｓａも、支持部材７の上面にやがて当接する。この時点で変位機構４ａの駆動部５ａの動作を停止させ、変位機構４ａをホールド状態とする。したがって、枠体Ｆは、引き続き駆動軸６ａによっても支持されている。
【００９５】
以上の段階を経ることにより、この実施形態に係る直描型露光装置１００では、支持部材７の上面と紗Ｓの下面中央領域とが密着して当接するように、基材Ｂの高さ位置が位置決めされる。この状態では、支持部材７の上面と紗Ｓの上面に保持された感光性樹脂ＰＰの上面ＰＰｕ（露光面）とが平行となっている。したがって、上記の状態では、感光性樹脂ＰＰの上面ＰＰｕ（露光面）は、露光光線１ｂの光軸と、許容できる誤差範囲内において直交する高さ位置となっている。
【００９６】
さらに、基材Ｂの高さ位置が位置決めされた後も、枠体Ｆは駆動軸６ａおよび６ｂによって引き続き支持されている。この状態では、紗にはごくわずかしか枠体の重量がかからないため、紗はほとんど引っ張られない。
【００９７】
なお、上記の説明では、紗Ｓの弾性変形を考慮して、変位機構４ａおよび４ｂは独立して動作し、基材Ｂの高さ位置が位置決めされた後も、枠体Ｆは駆動軸６ａおよび６ｂによって支持され続けるとした。一方、例えば枠体Ｆの重量が軽く、枠体Ｆの重量による紗Ｓの弾性変形が無視できるような場合は、駆動軸６ａおよび６ｂが枠体Ｆの下面から離れるまで変位し、基材Ｂが支持部材７のみによって支持されるようにしてもよい。この場合、変位機構４ａおよび４ｂは、それぞれが連動して動作することができるように構成することができる。
【００９８】
なお、このことは、基材Ｂが例えば剛性の高い板状部材などからなり、仮に枠体Ｆの重量がかかっても、本質的に弾性変形し難いものである場合についても同様である。
【００９９】
上記の具体例から分かるように、この実施形態に係る直描型露光装置１００では、基材Ｂの厚みが不均一であっても、上記の基材Ｂの下面中央領域と支持部材７の上面とを当接させた状態において、露光光線１ｂの光軸と基材Ｂの上面とは、確実に直交することになる。そのため、露光光線１ｂの光軸が感光性樹脂ＰＰの上面ＰＰｕ（露光面）に対して直交する状態で、パターン露光を行なうことができる。
【０１００】
また、基材Ｂの重量を駆動軸６ａ〜６ｄが十分支えることにより、紗Ｓに無視できない弾性変形が発生することがないため、その上面に保持されている感光性樹脂ＰＰも、弾性変形のない状態となる。その結果、露光パターンと現像後の開口パターンとを、高精度で一致させることができる。
【０１０１】
したがって、この実施形態に係る直描型露光装置１００では、感光性樹脂ＰＰの上面ＰＰｕ側と下面ＰＰｌ側とで、開口パターンの開口位置がずれることがない。また、開口パターンの歪みも生じることがないため、高精度な開口パターンを得ることができる。すなわち、感光性樹脂ＰＰをスクリーン印刷版などの印刷版に用いた場合、位置合わせを行なった所望の箇所に、高精度でインクを印刷することができる。また、印刷パターンの寸法ばらつきを小さくすることができる。
【０１０２】
＜この発明に係る直描型露光装置の実施形態の第１の変形例＞
上記の実施形態の第１の変形例に係る直描型露光装置１００Ａについて、図４を用いて説明する。
【０１０３】
図４は、第１の変形例に係る直描型露光装置１００Ａの断面図である。第１の変形例は、支持部材７上面と基材Ｂの下面中央領域とが当接した後に、基材Ｂが急に支持部材７のみによって支持されることを防止する構成を、駆動軸６ａ〜６ｄに付加したものである。したがって、その他の部分については、前述のこの発明に係る直描型露光装置１００と同様であるため、説明を省略する。
【０１０４】
第１の変形例に係る直描型露光装置１００Ａは、駆動軸６ａ〜６ｄ（駆動軸６ｃおよび６ｄは不図示）がそれぞれ剛体部と弾性変形部とを備える。例えば、変位機構６ａは、剛体部６ａｓと、剛体部６ａｓの端部に接続された弾性変形部６ａｅとを備える。駆動軸６ｂ〜６ｄも、駆動軸６ａと同様の構成であり、それぞれ剛体部６ｂｓおよび弾性変形部６ｂｅ、剛体部６ｃｓおよび弾性変形部６ｃｅ、剛体部６ｄｓおよび弾性変形部６ｄｅを備える。
【０１０５】
弾性変形部６ａｅ〜６ｄｅとしては、例えばゴムおよびばねなどを好ましく用いることができる。また、駆動軸６ａ〜６ｄにおける剛体部と弾性変形部との位置関係は、図４に示したものに限らず、例えば駆動軸が２本の剛体部を弾性変形部で接続したようなものでもよい。
【０１０６】
前述のように、支持部材７の上面と基材Ｂの下面中央領域とが当接することにより、基材Ｂの重量の少なくとも一部を支持部材７が受けるようになる。
【０１０７】
その結果、第１の変形例では、支持部材７の上面と基材Ｂの下面中央領域とが当接し、駆動軸６ａ〜６ｄの軸方向にかかる荷重が低減する分、弾性変形部６ａｅ〜６ｄｅが元の形状に戻るように逆変形する。
【０１０８】
そのため、支持部材７の上面と基材Ｂの下面中央領域とが当接した後に、変位機構４ａ〜４ｄがさらに少し基材Ｂを変位させたとしても、弾性変形部６ａｅ〜６ｄｅが少し逆変形するだけで、変位機構４ａ〜４ｄは基材Ｂを支持し続ける。すなわち、基材Ｂが急に支持部材７のみによって支持されるようになることが避けられる。
【０１０９】
上記の構成においては、基材Ｂの高さ位置が位置決めされた後も、枠体Ｆは駆動軸６ａ〜６ｄによって確実に支持され続ける。前述のように、紗Ｓが枠体Ｆの重量によって引っ張られると弾性変形する可能性がある場合であっても、上記の構成では、紗Ｓにはごくわずかしか枠体Ｆの重量がかからないため、紗Ｓはほとんど引っ張られない。
【０１１０】
すなわち、紗Ｓに無視できない弾性変形が発生することがない。その結果、露光パターンと現像後の開口パターンとを、高精度で一致させることができる。
【０１１１】
したがって、その状態で感光性樹脂ＰＰを露光することにより、さらに高精度な開口パターンを得ることができる。
【０１１２】
＜この発明に係る直描型露光装置の実施形態の第２の変形例＞
上記の実施形態の第２の変形例に係る直描型露光装置１００Ｂについて、図５を用いて説明する。
【０１１３】
図５は、第２の変形例に係る直描型露光装置１００Ｂの断面図である。第２の変形例は、前述のこの発明に係る直描型露光装置１００の実施形態で説明した、支持部材７の上面と紗Ｓの下面中央領域とが密着して当接している状態を、確実に検知するための構成を付加したものである。したがって、その他の部分については、前述のこの発明に係る直描型露光装置１００と同様であるため、説明を省略する。
【０１１４】
第２の変形例に係る直描型露光装置１００Ｂは、駆動軸６ａ〜６ｄ（駆動軸６ｃおよび６ｄは不図示）のそれぞれに接続され、駆動軸６ａ〜６ｄのそれぞれにおける軸方向にかかる荷重を検知する荷重検知部と、荷重検知部および駆動部が接続される制御装置１１とをさらに備える。
【０１１５】
例えば、荷重検知部９ａは、駆動軸６ａの枠体Ｆに当接する端部に取り付けられており、かつ制御装置１１と接続されている。図５では、その接続状態を点線で表わしている。また、制御装置１１は、荷重検知部９ａからの情報に基づいて、駆動部５ａに動作指令を与えることができるように、駆動部５ａと接続されている。
【０１１６】
荷重検知部９ｂ〜９ｄ（荷重検知部９ｃおよび９ｄは不図示）も、荷重検知部９ａと同様に、それぞれ対応する駆動軸の端部に取り付けられており、かつそれぞれ制御装置１１と接続されている。また、制御装置１１は、上記と同様に、駆動部５ｂ〜５ｄのそれぞれと接続されている。
【０１１７】
制御装置１１は、荷重検知部９ａ〜９ｄが検知する荷重が、所定の値まで減少したことを伝える情報に基づいて、それぞれの荷重検知部と対応する駆動部に、動作を停止する動作指令を与えるように制御する。
【０１１８】
荷重検知部９ａ〜９ｄとしては、例えば圧力センサおよびロードセルなどを好ましく用いることができる。また、駆動軸６ａ〜６ｄにおける荷重検知部の取り付け位置は、図５に示したものに限らず、例えば２本の剛体部を荷重検知部で接続したようなものでもよい。
【０１１９】
第２の変形例に係る直描型露光装置１００Ｂでは、基材Ｂが支持部材７に当接することにより、基材Ｂの重量の少なくとも一部を支持部材７が受けるようになった結果、駆動軸６ａ〜６ｄのそれぞれにかかる荷重が、所定の値まで減少したことを、駆動軸６ａ〜６ｄにそれぞれ取り付けられている荷重検知部で検知する。
【０１２０】
その情報は制御装置１１に送信され、制御装置１１は、情報を送信した荷重検知部に対応する駆動部に、動作を停止する動作指令を与える。この場合、変位機構４ａ〜４ｄは、それぞれが独立して動作することができるように構成されているようにすることが好ましい。
【０１２１】
なお、上記の所定の値は、基材が支持部材に当接する前に荷重検知部が検知していた荷重値の８０〜９９％程度の荷重値であることが好ましい。
【０１２２】
上記の構成では、駆動軸６ａ〜６ｄにかかる荷重の減少が始まったことを、駆動軸６ａ〜６ｄにそれぞれ取り付けられている荷重検知部が検知した時点で、制御装置１２が、対応する駆動部に動作を停止する動作指令を与えるように制御する。
【０１２３】
言い換えると、上記の構成により、前述の基材Ｂの高さ位置の位置決めの説明（図３参照）における、紗Ｓと支持部材７との当接の確認と、それに基づく変位機構４ａ〜４ｄのそれぞれの駆動部の動作停止とが、自動的に行なわれる。
【０１２４】
それにより、駆動部５ａ〜５ｄが、それぞれに接続されている駆動軸を変位させ過ぎずに済む。すなわち、基材Ｂが支持部材７のみによって支持されることを避けることができる。
【０１２５】
上記の構成においては、基材Ｂの高さ位置が位置決めされた後も、枠体Ｆは駆動軸６ａ〜６ｄによって確実に支持され続ける。前述のように、紗Ｓが枠体Ｆの重量によって引っ張られると弾性変形する可能性がある場合であっても、上記の構成では、紗Ｓにはごくわずかしか枠体Ｆの重量がかからないため、紗Ｓはほとんど引っ張られない。
【０１２６】
すなわち、紗Ｓに無視できない弾性変形が発生することがない。その結果、露光パターンと現像後の開口パターンとを、高精度で一致させることができる。
【０１２７】
したがって、その状態で感光性樹脂ＰＰを露光することにより、さらに高精度な開口パターンを得ることができる。
【０１２８】
なお、この発明に係る直描型露光装置の実施形態の第２の変形例１００Ｂは、駆動軸６ａ〜６ｄがそれぞれ剛体部と弾性変形部とを備えるようにしてもよい（前述の第１の変形例に係る直描型露光装置１００Ａ参照）。
【０１２９】
この場合、駆動軸６ａ〜６ｄの変位により、基材Ｂが急に支持部材７のみによって支持されるようになることが避けられる。その結果、露光パターンと現像後の開口パターンとを、高精度で一致させることができる。
【０１３０】
＜この発明に係る直描型露光装置の実施形態の第３の変形例＞
上記の実施形態の第３の変形例に係る直描型露光装置１００Ｃについて、図６を用いて説明する。
【０１３１】
図６は、第３の変形例に係る直描型露光装置１００Ｃの断面図である。第３の変形例も、第２の変形例と同様に、前述のこの発明に係る直描型露光装置１００の実施形態で説明した、支持部材７の上面と紗Ｓの下面中央領域とが密着して当接している状態を、確実に検知するための構成を付加したものである。したがって、その他の部分については、前述のこの発明に係る直描型露光装置１００と同様であるため、説明を省略する。
【０１３２】
第３の変形例に係る直描型露光装置１００Ｃは、基材Ｂの下面の駆動軸６ａ〜６ｄ（駆動軸６ｃおよび６ｄは不図示）によりそれぞれ支持されている箇所に対応する、基材Ｂの上面までの距離をそれぞれ検出する距離検知部と、制御装置１１とをさらに備える。
【０１３３】
例えば、距離検知部１０ａは、基材Ｂの下面の駆動軸６ａにより支持されている箇所に対応する、基材Ｂの上面までの距離を検知することができるような位置に設けられており、かつ制御装置１１と接続されている。図６では、その接続状態を点線で表わしている。なお、図６では、距離検知部１０ａは、その検知軸（一点鎖線）と、駆動軸６ａの中心軸とが同一となるように設けられている。また、制御装置１１は、距離検知部１０ａからの情報に基づいて、駆動部５ａに動作指令を与えることができるように、駆動部５ａと接続されている。
【０１３４】
距離検知部１０ｂ〜１０ｄ（距離検知部１０ｃおよび１０ｄは不図示）も、距離検知部１０ａと同様に、それぞれ駆動軸６ｂ〜６ｄに対応する位置に設けられており、かつそれぞれ制御装置１１と接続されている。また、距離検知部１０ｂ〜１０ｄは、その検知軸（一点鎖線）と、それぞれ対応する駆動軸６ｂ〜６ｄの中心軸とが同一となるように設けられている。さらに、制御装置１１は、上記と同様に、駆動部５ｂ〜５ｄのそれぞれと接続されている。
【０１３５】
制御装置１１は、距離検知部１０ａ〜１０ｄからの、それぞれの距離検知部と基材Ｂの上面との間の距離が所定の値まで増加したことを伝える情報に基づいて、それぞれの距離検知部と対応する駆動部に、動作を停止する動作指令を与えるように制御する。
【０１３６】
距離検知部１０ａ〜１０ｄとしては、例えばレーザー変位計などを好ましく用いることができる。
【０１３７】
第３の変形例に係る直描型露光装置１００Ｃでは、変位機構４ａ〜４ｄが基材Ｂを変位させた結果、距離検知部１０ａ〜１０ｄと基材Ｂの上面との間の距離が所定の値まで増加したことを、距離検知部１０ａ〜１０ｄで検知する。
【０１３８】
その情報は制御装置１１に送信され、制御装置１１は、情報を送信した距離検知部に対応する駆動部に動作を停止する動作指令を与える。この場合、変位機構４ａ〜４ｄは、それぞれが独立して動作することができるように構成されているようにすることが好ましい。
【０１３９】
また、上記の所定の値は、支持部材７の上面と基材Ｂの下面中央領域とが当接した時点での、距離検知部１０ａ〜１０ｄのそれぞれと基材Ｂの上面との間の距離であることが好ましい。
【０１４０】
上記の構成においては、距離検知部１０ａ〜１０ｄが検知する距離がその値となった時点で、制御装置１１が、対応する駆動部に動作を停止する動作指令を与えるように制御する。
【０１４１】
言い換えると、上記の構成により、前述の第２の変形例に係る直描型露光装置１００Ｂと同様に、紗Ｓと支持部材７との当接の確認と、それに基づく変位機構４ａ〜４ｄのそれぞれの駆動部の動作停止とが、自動的に行なわれる。
【０１４２】
したがって、第２の変形例に係る直描型露光装置１００Ｂと同様の効果が得られ、基材Ｂが引き続き駆動軸６ａ〜６ｄによって支持されるようにした状態で露光することにより、さらに高精度な開口パターンを得ることができる。
【０１４３】
なお、この発明に係る直描型露光装置の実施形態の第３の変形例１００Ｃは、駆動軸６ａ〜６ｄがそれぞれ剛体部と弾性変形部とを備えるようにしてもよい（前述の第１の変形例に係る直描型露光装置１００Ａ参照）。
【０１４４】
この場合、駆動軸６ａ〜６ｄの変位により、基材Ｂが急に支持部材７のみによって支持されるようになることが避けられる。その結果、露光パターンと現像後の開口パターンとを、高精度で一致させることができる。
【０１４５】
＜この発明に係る直描型露光装置の実施形態の第４の変形例＞
上記の実施形態の第４の変形例に係る直描型露光装置１００Ｄについて、図７および図８を用いて説明する。
【０１４６】
図７は、第４の変形例に係る直描型露光装置１００Ｄにおいて、図示を簡略化した基台２を透視した透視斜視図である。図８は、第３変形例に係る直描型露光装置１００Ｄにおける要部の上面図である。第４の変形例は、基台２について、何らかの理由で発生した傾斜を調整する機構を追加したものである。したがって、その他の部分については、前述のこの発明に係る直描型露光装置１００と同様であるため、説明を省略する。例えば、図７では、図１で図示した凹部３ａ〜３ｄ、対応する凹部内に設置された駆動部５ａ〜５ｄ、およびステム８などの図示も省略している。
【０１４７】
第４の変形例では、直描型露光装置１００Ｄは、傾斜調整機構１４ａ〜１４ｃと、傾斜検知機構１７ａ〜１７ｃと、制御装置１１とをさらに備える。
【０１４８】
傾斜調整機構１４ａ〜１４ｃは、台座１３の上面に設置されており、駆動部と、駆動部により変位する駆動軸とを備える。例えば、傾斜調整機構１４ａは、駆動部１５ａと、駆動部１５ａにより変位する駆動軸１６ａとを備える。傾斜調整機構１４ｂおよび１４ｃも、傾斜調整機構１４ａと同様の構成であり、それぞれ駆動部１５ｂおよび駆動軸１６ｂ、駆動部１５ｃおよび駆動軸１６ｃを備える。
【０１４９】
なお、傾斜調整機構１４ａ〜１４ｃとしては、上記の機構に限らず、任意の角度に傾斜を調整できるものであればよい。例えば、２軸傾斜ステージや傾斜ユニットを用いることができる。
【０１５０】
駆動軸１６ａ〜１６ｃは、それぞれ基台２の下面に設けられた凹部１２ａ〜１２ｃに挿入され、凹部１２ａ〜１２ｃ内の天面に当接することにより、基台２を支持している。なお、図８においては、駆動部１５ａ〜１５ｃの図示を省略している。駆動部１５ａ〜１５ｃとしては、例えば空圧または油圧によるシリンダーストローク調整機構、サーボモータに接続されたボールねじによる直動機構、およびリードスクリュー付きのステッピングモータなどを好ましく用いることができる。
【０１５１】
傾斜検知機構１７ａ〜１７ｃとしては、例えばレーザー変位計などを好ましく用いることができる。傾斜検知機構１７ａ〜１７ｃのそれぞれは、基材２上の所定の検知スポット１８ａ〜１８ｃにレーザー光を照射して、基台２と傾斜検知機構１７ａ〜１７ｃとの間の距離を測定する。
【０１５２】
制御装置１１は、傾斜検知機構１７ａ〜１７ｃにより得られた３点の距離を相互に比較することによって基台２の傾きを検知する。そして、基台２の傾斜角を調整する動作指令を、傾斜調整機構１４ａ〜１４ｃに与えるように制御する。
【０１５３】
図７では、基台２を透視して傾斜調整機構１４ａ〜１４ｃを示し、傾斜調整機構１４ａ〜１４ｃと傾斜検知機構１７ａ〜１７ｃとの位置関係を示している。例えば、傾斜検知機構１７ａと検知スポット１８ａと傾斜調整機構１４ａとは、同一の軸線上にあるように構成されている。
【０１５４】
その他の位置における傾斜検知機構と検知スポットと傾斜調整機構の配置関係も同様である。すなわち、傾斜検知機構１７ｂと検知スポット１８ｂと傾斜調整機構１４ｂとが同一軸線上にあり、傾斜検知機構１７ｃと検知スポット１８ｃと傾斜調整機構１４ｃとが同一軸線上にある。なお、傾斜検知機構および検知スポットと、対応する傾斜調整機構とは、同一軸線上に存在していなくてもよい。
【０１５５】
また、図７および図８では、傾斜検知機構を３箇所に配置して基台２の傾きを検知し、対応する３つの傾斜調整機構により、基台２の傾斜角を調整しているが、傾斜検知機構および傾斜調整機構は、それぞれ３つ以上であればよい。さらに、傾斜検知機構および傾斜調整機構の数が異なっていてもよい。
【０１５６】
制御装置１１は、傾斜検知機構１７ａ〜１７ｃによる情報に基づいて、傾斜調整機構１４ａ〜１４ｃを動作させることにより、基台２の傾斜角を調整している。
【０１５７】
支持部材７は、変位機構４ａ〜４ｄにより基台２の上方に支持されているので、その傾斜角は、基台２の傾斜角を調整することで調整することができる。
【０１５８】
したがって、第４の変形例では、基台２の傾斜角を調整することにより、支持部材７の上面と基材Ｂの下面中央領域とを当接させた状態において、露光光線１ｂの光軸と基材Ｂの上面との角度が直交となるように調整することができる。すなわち、その状態で露光することにより、さらに高精度な開口パターンを得ることができる。
【０１５９】
なお、この発明は上記の実施形態に限定されるものではなく、この発明の範囲内において、種々の応用、変形を加えることが可能である。本発明の技術的範囲は請求の範囲によって画定され、また請求の範囲の記載と均等の意味および範囲内でのすべての変更を含むものである。
【符号の説明】
【０１６０】
１００，１００Ａ〜１００Ｄ  直描型露光装置、１  光源、１ｂ  露光光線、２  基台、４ａ〜４ｄ  変位機構、５ａ〜５ｄ  駆動部、６ａ〜６ｄ  駆動軸、６ａｅ〜６ｄｅ  弾性変形部、７  支持部材、９ａ〜９ｄ  荷重検知部、１０ａ〜１０ｄ  距離検知部、１１  制御装置、Ｂ  基材、ＰＰ  感光性樹脂。
【図１】
2016017414.tif 000003
【図２】
2016017414.tif 000004
【図３】
2016017414.tif 000005
【図４】
2016017414.tif 000006
【図５】
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【図６】
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【図７】
2016017414.tif 000009
【図８】
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【図９】
2016017414.tif 000011
【図１０】
2016017414.tif 000012
【国際調査報告】
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