(57)【要約】  基材表面に優れた撥水撥油性、指紋汚れ除去性、耐摩擦性および潤滑性を付与できる、表面処理剤の提供。  ペルフルオロポリエーテル基含有ホスフェート化合物を含む基材用の表面処理剤、この表面処理剤と液状媒体とを含むコーティング剤、この表面処理剤およびコーティング剤から形成される表面層を有する基材。【特許請求の範囲】
【請求項１】
ペルフルオロポリエーテル基含有ホスフェート化合物を含む、基材用の表面処理剤。
【請求項２】
前記ペルフルオロポリエーテル基含有ホスフェート化合物が下式（１）で表される化合物である、請求項１に記載の表面処理剤。
Ｂ１−（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎ１−Ａ１  ・・・（１）
［式中、
Ａ１は、末端に１個以上のリン酸基を有する一価の有機基であり、
Ｂ１は、ＲＦ１−Ｏ−、Ｄ１−Ｑ１−Ｏ−ＣＨ２−またはＡ２−Ｏ−であり、
ここで、ＲＦ１は、炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基であり、
Ｄ１は、ＣＦ３−またはＣＦ３−Ｏ−であり、
Ｑ１は、水素原子を１個以上含む炭素数１〜２０のフルオロアルキレン基、水素原子を１個以上含み、炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜２０のフルオロアルキレン基、炭素数１〜２０のアルキレン基、または炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜２０のアルキレン基であり、
Ａ２は、末端に１個以上のリン酸基を有する一価の有機基であり、
ｍは１〜６の整数であり、
ｎ１は１〜２００の整数であり、ｎ１が２以上の場合、（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎ１は、ｍの異なる２種以上の（ＣｍＦ２ｍＯ）からなるものであってもよい。］
【請求項３】
前記（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎ１が、下式（２−１）で表される基である、請求項２に記載の表面処理剤。
（ＣｒＦ２ｒＯ）ｎ２（ＣｓＦ２ｓＯ）ｎ３  ・・・（２−１）
［式中、
ｒは１〜３の整数であり、
ｓは３〜６の整数であり、
ただし、ｒおよびｓは同時に３であることはなく、
ｎ２は１以上の整数であり、
ｎ３は１以上の整数であり、
ただし、ｎ２＋ｎ３は２〜２００の整数であり、
（ＣｒＦ２ｒＯ）および（ＣｓＦ２ｓＯ）の結合順序は限定されない。］
【請求項４】
前記（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎ１が、下式（２−２）で表される基である、請求項２に記載の表面処理剤。
（ＣＦ２Ｏ）ｎ７（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ８  ・・・（２−２）
［式中、
ｎ７は１以上の整数であり、
ｎ８は１以上の整数であり、
ただし、ｎ７＋ｎ８は、２〜２００の整数であり、
（ＣＦ２Ｏ）および（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）の結合順序は限定されない。］
【請求項５】
前記Ａ１が、下式（３）で表される基である、請求項２〜４のいずれか１項に記載の表面処理剤。
−ＱＦ１（ＣＸ２）ｗ１−Ｅ１−Ｙ１−Ｏ−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＨ）２  ・・・（３）
［式中、
ＱＦ１は、炭素数１〜２０のペルフルオロアルキレン基であり、
ＣＸ２は、ＣＨ２またはＣＨＦであり、
ｗ１は０または１であり、
Ｅ１は、単結合、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−（ただし、Ｙ１はＮに結合する。）、−ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨ−（ただし、Ｙ１はＮに結合する。）、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−（ただし、Ｙ１はＯに結合する。）、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ−または−ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｏ−（ただし、Ｙ１はＯに結合する）であり、
Ｙ１は、アルキレン基、ポリ（オキシアルキレン）−アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、またはアルキレン基の水素原子の一部が水酸基に置換された基であり、ただし、ｗ１が０の場合、Ｅ１が−Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨ−または−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−ではなく、ｗ１が１であり、ＣＸ２がＣＨ２であり、Ｅ１が単結合であるとき、Ｙ１は、アルキレン基ではない。］
【請求項６】
前記Ｑ１が、下式（４−１）、下式（４−２）または下式（４−３）で表される基である、請求項２〜５のいずれか１項に記載の表面処理剤。
−ＱＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−  ・・・（４−１）
−ＱＦ２−ＣＨＦＣＦ２−  ・・・（４−２）
−ＱＦ２−ＣｚＨ２ｚ−  ・・・（４−３）
［式中、
ＱＦ２は、単結合、炭素数１〜１５のペルフルオロアルキレン基、または炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜１５のペルフルオロアルキレン基であり、
ＱＦ２は、前記Ｄ１に結合し、
ｚは１〜４の整数であり、
ただし、前記Ｄ１が、ＣＦ３−Ｏ−であるとき、式（４−１）および式（４−２）において、ＱＦ２は、単結合ではない。］
【請求項７】
前記式（１）で表される化合物の数平均分子量（Ｍｎ）が２，０００〜１０，０００である、請求項２〜６のいずれか１項に記載の表面処理剤。
【請求項８】
表面処理剤が、前記Ｂ１がＲＦ１−Ｏ−またはＤ１−Ｑ１−Ｏ−ＣＨ２−である前記式（１）で表される化合物を含む、請求項２〜７のいずれか１項に記載の表面処理剤。
【請求項９】
表面処理剤が、前記Ｂ１がＲＦ１−Ｏ−またはＤ１−Ｑ１−Ｏ−ＣＨ２−である前記式（１）で表される化合物と前記Ｂ１がＡ２−Ｏ−である前記式（１）で表される化合物とを含む、請求項２〜８のいずれか１項に記載の表面処理剤。
【請求項１０】
前記Ｂ１がＡ２−Ｏ−である前記式（１）で表される化合物の含有量が、Ｂ１がＲＦ１−Ｏ−またはＤ１−Ｑ１−Ｏ−ＣＨ２−である前記式（１）で表される化合物の合計１００質量部に対して、１０〜６０質量部である、請求項９に記載の表面処理剤。
【請求項１１】
前記基材がサファイア基材である、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の表面処理剤。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか１項に記載の表面処理剤と液状媒体とを含む、コーティング剤。
【請求項１３】
請求項１〜１１のいずれか１項に記載の表面処理剤または請求項１２に記載のコーティング剤から形成される表面層を有する基材。
【請求項１４】
下式（１）で表される化合物。
Ｂ１−（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎ１−Ａ１  ・・・（１）
［式中、
Ａ１は、末端に１個以上のリン酸基を有する一価の有機基であり、
Ｂ１は、ＲＦ１−Ｏ−、Ｄ１−Ｑ１−Ｏ−ＣＨ２−またはＡ２−Ｏ−であり、
ここで、ＲＦ１は、炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基であり、
Ｄ１は、ＣＦ３−またはＣＦ３−Ｏ−であり、
Ｑ１は、水素原子を１個以上含む炭素数１〜２０のフルオロアルキレン基、水素原子を１個以上含み、炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜２０のフルオロアルキレン基、炭素数１〜２０のアルキレン基、または炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜２０のアルキレン基であり、
Ａ２は、末端に１個以上のリン酸基を有する一価の有機基であり、
ｍは１〜６の整数であり、
ｎ１は１〜２００の整数であり、ｎ１が２以上の場合、（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎ１は、ｍの異なる２種以上の（ＣｍＦ２ｍＯ）からなるものであってもよい。］
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ペルフルオロポリエーテル基含有ホスフェート化合物を含む基材用の表面処理剤、および該表面処理剤から形成される表面層を有する基材に関する。
【背景技術】
【０００２】
光学物品、ディスプレイ、光記録媒体等の基材を有する物品に対しては、水や汚れ（指紋、皮脂、汗、化粧品、食品等）が表面に付着しにくく、汚れが表面に付着しても容易に除去できる特性、すなわち撥水撥油性や汚れ除去性を有することが要求される。例えば、メガネレンズの表面に汚れが付着すると、視界を妨げ、見栄えを悪くすることがある。光記録媒体の表面に汚れが付着すると、信号の記録および再生に障害が発生することがある。ディスプレイの表面に汚れが付着すると、視認性が低下し、タッチパネル付きディスプレイにおいては操作性に悪影響を及ぼすことがある。【０００３】
酸化アルミニウム基材表面の改良技術として、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ペルフルオロデシルホスホン酸等のペルフルオロアルキル基を有するホスフェート化合物から表面層を形成する技術が知られている（非特許文献１）。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００４】
【非特許文献１】Ｊ．Ｐｈｙｓ．Ｃｈｅｍ．Ｃ，２００７，１１１，３９５６−３９６２
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、本発明者らの知見によれば、非特許文献１に記載の表面層は撥水撥油性、指紋汚れ除去性および潤滑性が不充分である。また、非特許文献１に記載の表面層を有する基材を繰り返し摩擦した場合に、摩擦による撥水撥油性の低下が大きく、耐摩擦性が不充分である。【０００６】
本発明は、基材表面に、優れた撥水撥油性、指紋汚れ除去性、耐摩擦性および潤滑性を付与できる、表面処理剤の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、下記［１］〜［１４］の構成を有する、基材用の表面処理剤、コーティング剤、表面層を有する基材、および新規なペルフルオロポリエーテル基含有ホスフェート化合物を提供する。
［１］ペルフルオロポリエーテル基含有ホスフェート化合物を含む、基材用の表面処理剤。
［２］前記ペルフルオロポリエーテル基含有ホスフェート化合物が下式（１）で表される化合物である、［１］の表面処理剤。
Ｂ１−（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎ１−Ａ１  ・・・（１）
［式中、
Ａ１は、末端に１個以上のリン酸基を有する一価の有機基であり、
Ｂ１は、ＲＦ１−Ｏ−、Ｄ１−Ｑ１−Ｏ−ＣＨ２−またはＡ２−Ｏ−であり、
ここで、ＲＦ１は、炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基であり、
Ｄ１は、ＣＦ３−またはＣＦ３−Ｏ−であり、
Ｑ１は、水素原子を１個以上含む炭素数１〜２０のフルオロアルキレン基、水素原子を１個以上含み、炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜２０のフルオロアルキレン基、炭素数１〜２０のアルキレン基、または炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜２０のアルキレン基であり、
Ａ２は、末端に１個以上のリン酸基を有する一価の有機基であり、
ｍは１〜６の整数であり、
ｎ１は１〜２００の整数であり、ｎ１が２以上の場合、（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎ１は、ｍの異なる２種以上のＣｍＦ２ｍＯからなるものであってもよい。］【０００８】
［３］前記（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎ１が、下式（２−１）で表される基である、［２］の表面処理剤。
（ＣｒＦ２ｒＯ）ｎ２（ＣｓＦ２ｓＯ）ｎ３  ・・・（２−１）
［式中、
ｒは１〜３の整数であり、
ｓは３〜６の整数であり、
ただし、ｒおよびｓは同時に３であることはなく、
ｎ２は１以上の整数であり、
ｎ３は１以上の整数であり、
ただし、ｎ２＋ｎ３は２〜２００の整数であり、
（ＣｒＦ２ｒＯ）および（ＣｓＦ２ｓＯ）の結合順序は限定されない。］
［４］前記（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎ１が、下式（２−２）で表される基である、［２］の表面処理剤。
（ＣＦ２Ｏ）ｎ７（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ８  ・・・（２−２）
［式中、
ｎ７は１以上の整数であり、
ｎ８は１以上の整数であり、
ただし、ｎ７＋ｎ８は、２〜２００の整数であり、
（ＣＦ２Ｏ）および（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）の結合順序は限定されない。］【０００９】
［５］前記Ａ１が、下式（３）で表される基である、［２］〜［４］のいずれかの表面処理剤。
−ＱＦ１（ＣＸ２）ｗ１−Ｅ１−Ｙ１−Ｏ−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＨ）２  ・・・（３）
［式中、
ＱＦ１は、炭素数１〜２０のペルフルオロアルキレン基であり、
ＣＸ２は、ＣＨ２またはＣＨＦであり、
ｗ１は０または１であり、
Ｅ１は、単結合、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−（ただし、Ｙ１はＮに結合する。）、−ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨ−（ただし、Ｙ１はＮに結合する。）、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−（ただし、Ｙ１はＯに結合する。）、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ−または−ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｏ−（ただし、Ｙ１はＯに結合する）であり、
Ｙ１は、アルキレン基、ポリ（オキシアルキレン）−アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、またはアルキレン基の水素原子の一部が水酸基に置換された基であり、ただし、ｗ１が０の場合、Ｅ１が−Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨ−または−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−ではなく、ｗ１が１であり、ＣＸ２がＣＨ２であり、Ｅ１が単結合であるとき、Ｙ１は、アルキレン基ではない。］
［６］前記Ｑ１が、下式（４−１）、下式（４−２）または下式（４−３）で表される基である、［２］〜［５］のいずれかの表面処理剤。
−ＱＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−  ・・・（４−１）
−ＱＦ２−ＣＨＦＣＦ２−  ・・・（４−２）
−ＱＦ２−ＣｚＨ２ｚ−  ・・・（４−３）
［式中、
ＱＦ２は、単結合、炭素数１〜１５のペルフルオロアルキレン基、または炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜１５のペルフルオロアルキレン基であり、
ＱＦ２は、前記Ｄ１に結合し、
ｚは１〜４の整数であり、
ただし、前記Ｄ１がＣＦ３−Ｏ−であるとき、式（４−１）および式（４−２）において、ＱＦ２は、単結合ではない。］【００１０】
［７］前記式（１）で表される化合物の数平均分子量（Ｍｎ）が２，０００〜１０，０００である、［２］〜［６］のいずれかの表面処理剤。
［８］表面処理剤が、前記Ｂ１がＲＦ１−Ｏ−またはＤ１−Ｑ１−Ｏ−ＣＨ２−である前記式（１）で表される化合物を含む、［２］〜［７］のいずれかの表面処理剤。
［９］表面処理剤が、前記Ｂ１がＲＦ１−Ｏ−またはＤ１−Ｑ１−Ｏ−ＣＨ２−である前記式（１）で表される化合物と前記Ｂ１がＡ２−Ｏ−である前記式（１）で表される化合物とを含む、［２］〜［７］のいずれかの表面処理剤。
［１０］前記Ｂ１がＡ２−Ｏ−である前記式（１）で表される化合物の含有量が、Ｂ１がＲＦ１−Ｏ−またはＤ１−Ｑ１−Ｏ−ＣＨ２−である前記式（１）で表される化合物の合計１００質量部に対して、１０〜６０質量部である、［９］の表面処理剤。【００１１】
［１１］前記基材がサファイア基材である、［１］〜［１０］のいずれかの表面処理剤。
［１２］前記［１］〜［１１］のいずれかの表面処理剤と液状媒体とを含む、コーティング剤。
［１３］前記［１］〜［１１］のいずれかの表面処理剤または前記［１２］のコーティング剤から形成される表面層を有する基材。
［１４］下式（１）で表される化合物。
Ｂ１−（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎ１−Ａ１  ・・・（１）
［式中、
Ａ１は、末端に１個以上のリン酸基を有する一価の有機基であり、
Ｂ１は、ＲＦ１−Ｏ−、Ｄ１−Ｑ１−Ｏ−ＣＨ２−またはＡ２−Ｏ−であり、
ここで、ＲＦ１は、炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基であり、
Ｄ１は、ＣＦ３−またはＣＦ３−Ｏ−であり、
Ｑ１は、水素原子を１個以上含む炭素数１〜２０のフルオロアルキレン基、水素原子を１個以上含み、炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜２０のフルオロアルキレン基、炭素数１〜２０のアルキレン基、または炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜２０のアルキレン基であり、
Ａ２は、末端に１個以上のリン酸基を有する一価の有機基であり、
ｍは１〜６の整数であり、
ｎ１は１〜２００の整数であり、ｎ１が２以上の場合、（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎ１は、ｍの異なる２種以上の（ＣｍＦ２ｍＯ）からなるものであってもよい。］
【発明の効果】
【００１２】
本発明の表面処理剤は、基材表面に、優れた撥水撥油性、指紋汚れ除去性、耐摩擦性および潤滑性を付与できる。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
［用語の定義］
本明細書において、式（１）で表される化合物を化合物（１）とも記す。他の式で表される化合物も同様に記す。
以下の用語の定義は、本明細書および特許請求の範囲にわたって適用される。
「エーテル性酸素原子」とは、炭素−炭素原子間においてエーテル結合（−Ｏ−）を形成する酸素原子を意味する。
「ペルフルオロアルキル基」とは、アルキル基の水素原子の全てがフッ素原子で置換された基を意味する。
「フルオロアルキレン基」とは、アルキレン基の水素原子の一部または全てがフッ素原子で置換された基を意味し、「ペルフルオロアルキレン基」とは、アルキレン基の水素原子の全てがフッ素原子で置換された基を意味する。なお、「フルオロアルキレン基」は、「ペルフルオロアルキレン基」を包含する。
「ペルフルオロポリエーテル基」は、２個以上のオキシペルフルオロアルキレン単位からなる基を意味する。ここで、オキシペルフルオロアルキレンの化学式は、その酸素原子をペルフルオロアルキレン基の右側に配置したものを表す。
「リン酸基」は、−Ｏ−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＨ）２を意味する。
「有機基」は、炭素原子を１個以上有する基を意味する。
「ペルフルオロポリエーテル基含有ホスフェート化合物」は、ペルフルオロポリエーテル基およびリン酸基を有する化合物を意味する。
「表面層」は、本発明の表面処理剤で、基材を表面処理することによって、基材表面に形成される層を意味する。「表面層」は、基材表面に、優れた撥水撥油性、指紋汚れ除去性、耐摩擦性および潤滑性を付与するために存在する。
【００１４】
［ペルフルオロポリエーテル基含有ホスフェート化合物］
本発明の表面処理剤（以下、「本表面処理剤」ともいう。）は、ペルフルオロポリエーテル基含有ホスフェート化合物（以下、「本化合物」ともいう。）を含む。本表面処理剤に、本化合物の単一化合物が含まれていてもよく、本化合物の２種以上が含まれていてもよい。
【００１５】
本化合物は、ペルフルオロポリエーテル基を有しているため、本化合物を含む本表面処理剤を用いることにより、基材表面に優れた撥水撥油性、指紋汚れ除去性および潤滑性を付与できる。また、本化合物を含む本表面処理剤を用いることにより、基材表面に優れた耐摩擦性を付与でき、これにより基材表面が繰り返し摩擦された場合であっても、摩擦による撥水撥油性の低下が少ない。ここで、ペルフルオロポリエーテル基を構成する、２個以上のオキシペルフルオロアルキレン単位は、同じであってもよく、異なっていてもよい。また、各オキシペルフルオロアルキレン単位は、直鎖状であってもよく、分岐状であってもよい。基材表面により優れた撥油性を付与できるため、直鎖状が好ましい。
【００１６】
本化合物としては、ペルフルオロポリエーテル基の一方の末端のみに、１個以上のリン酸基を有する有機基が結合している化合物、およびペルフルオロポリエーテル基の両方の末端に、それぞれ、１個以上のリン酸基を有する有機基が結合している化合物がある。本表面処理剤としては、ペルフルオロポリエーテル基の一方の末端が自由端となって、基材表面に優れた指紋汚れ除去性を付与できるため、ペルフルオロポリエーテル基の一方の末端のみに、１個以上のリン酸基を有する有機基が結合している本化合物を必須の成分として含むことが好ましい。よって、本表面処理剤としては、ペルフルオロポリエーテル基の一方の末端のみに、１個以上のリン酸基を有する有機基が結合している本化合物を含むもの、および、ペルフルオロポリエーテル基の一方の末端のみに、１個以上のリン酸基を有する有機基が結合している本化合物と、ペルフルオロポリエーテル基の両方の末端に、それぞれ、１個以上のリン酸基を有する有機基が結合している本化合物との混合物を含むものが特に好ましい。
【００１７】
（化合物（１））
本化合物としては、具体的には、式（１）で表される化合物が好ましい。
Ｂ１−（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎ１−Ａ１  ・・・（１）
［式中、
Ａ１は、末端に１個以上のリン酸基を有する一価の有機基であり、
Ｂ１は、ＲＦ１−Ｏ−、Ｄ１−Ｑ１−Ｏ−ＣＨ２−またはＡ２−Ｏ−であり、
ここで、ＲＦ１は、炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基であり、
Ｄ１は、ＣＦ３−またはＣＦ３−Ｏ−であり、
Ｑ１は、水素原子を１個以上含む炭素数１〜２０のフルオロアルキレン基、水素原子を１個以上含み、炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜２０のフルオロアルキレン基、炭素数１〜２０のアルキレン基、または炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜２０のアルキレン基であり、
Ａ２は、末端に１個以上のリン酸基を有する一価の有機基であり、
ｍは１〜６の整数であり、
ｎ１は１〜２００の整数であり、ｎ１が２以上の場合、（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎ１は、ｍの異なる２種以上の（ＣｍＦ２ｍＯ）からなるものであってもよい。］
【００１８】
＜（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎ１＞
（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎ１は、ペルフルオロポリエーテル基である。そのため、化合物（１）を用いることにより、基材表面に優れた撥水撥油性、指紋汚れ除去性および潤滑性を付与できる。
【００１９】
ｍは１〜６の整数である。（ＣｍＦ２ｍＯ）は、直鎖状であっても分岐状であってもよい。（ＣｍＦ２ｍＯ）としては、（ＣＦ２Ｏ）、（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）、（ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）、（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）、（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）、（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）、（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）、（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）、（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ３Ｏ）、（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）等が挙げられる。
【００２０】
ｎ１は、基材表面により優れた撥水撥油性、指紋汚れ除去性および潤滑性を付与できる点から、２以上の整数が挙げられ、４以上の整数が好ましく、５以上の整数が特に好ましい。基材表面により優れた耐摩擦性を付与できる点から、また、本表面処理剤に他の成分を配合した場合に、優れた相溶性を発揮できる点から、ｎ１は、１００以下の整数が好ましく、８０以下の整数がより好ましく、６０以下の整数が特に好ましい。本表面処理剤に、化合物（１）の２種以上が含まれる場合、ｎ１は平均値である。この場合、ｎ１は整数でなくてもよい。
【００２１】
ｎ１が２以上の場合、（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎ１は、ｍの異なる２種以上のＣｍＦ２ｍＯからなるものであってもよい。この場合、各ＣｍＦ２ｍＯの結合順序は限定されない。例えば、ＣＦ２Ｏ（ｍが１である）とＣＦ２ＣＦ２Ｏ（ｍが２である）が存在する場合、ＣＦ２ＯとＣＦ２ＣＦ２Ｏがランダムに配置されてもよく、ＣＦ２ＯとＣＦ２ＣＦ２Ｏが交互に配置されてもよく、複数のＣＦ２Ｏからなるブロックと複数のＣＦ２ＣＦ２Ｏからなるブロックが連結していてもよい。
【００２２】
＜＜好ましい第１の（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎ１＞＞
（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎ１は、基材表面により優れた撥水撥油性および耐摩擦性を付与できる点から、下式（２−１）で表される基が好ましい。
（ＣｒＦ２ｒＯ）ｎ２（ＣｓＦ２ｓＯ）ｎ３  ・・・（２−１）
［式中、
ｒは１〜３の整数であり、
ｓは３〜６の整数であり、
ただし、ｒおよびｓは同時に３であることはなく、
ｎ２は１以上の整数であり、
ｎ３は１以上の整数であり、
ただし、ｎ２＋ｎ３は２〜２００の整数であり、
（ＣｒＦ２ｒＯ）および（ＣｓＦ２ｓＯ）の結合順序は限定されない。］
【００２３】
ｎ２は、基材表面により優れた指紋汚れ除去性を付与できる点から、３以上の整数が好ましく、５以上の整数が特に好ましい。ｎ２は、本表面処理剤に他の成分を配合した場合に、優れた相溶性を発揮できる点から、２０以下の整数が好ましく、１０以下の整数が特に好ましい。
ｎ３は、基材表面により優れた撥水撥油性を付与できる点から、３以上の整数が好ましく、５以上の整数が特に好ましい。ｎ３は、本表面処理剤に他の成分を配合した場合に、優れた相溶性を発揮できる点から、２０以下の整数が好ましく、１０以下の整数が特に好ましい。
ｎ２＋ｎ３は、化合物（１）の単位分子量当たりに存在するリン酸基の数が少なくなりすぎないようにして、基材表面により優れた耐摩擦性を付与できる点から、また、本表面処理剤に他の成分を配合した場合に、優れた相溶性を発揮できる点から、２〜１００の整数が好ましく、２〜４０の整数がより好ましく、２〜２０の整数が特に好ましい。
【００２４】
さらに、基材表面に一層優れた撥水撥油性および耐摩擦性を付与できる点から、ｒが２であり、ｓが４である式（２−１）の基が好ましく、下式（２−１−ａ）で表される基がより好ましく、下式（２−１−ｂ）で表される基が特に好ましい。
【００２５】
（Ｃ２Ｆ４Ｏ）ｎ４（Ｃ４Ｆ８Ｏ）ｎ５  ・・・（２−１−ａ）
［式中、
ｎ４は１以上の整数であり、
ｎ５は１以上の整数であり、
ただし、ｎ４＋ｎ５は２〜２００の整数であり、
（Ｃ２Ｆ４Ｏ）および（Ｃ４Ｆ８Ｏ）は交互に配置されている。］
【００２６】
［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ６−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ］  ・・・（２−１−ｂ）
［式中、ｎ６は、１〜９９の整数である。］
ｎ６は、１〜２０の整数が好ましく、１〜１０の整数が特に好ましい。
【００２７】
＜＜好ましい第２の（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎ１＞＞
（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎ１は、基材表面により優れた潤滑性を付与できる点から、下式（２−２）で表される基が好ましい。
（ＣＦ２Ｏ）ｎ７（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ８  ・・・（２−２）
［式中、
ｎ７は１以上の整数であり、
ｎ８は１以上の整数であり、
ただし、ｎ７＋ｎ８は、２〜２００の整数であり、
（ＣＦ２Ｏ）および（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）の結合順序は限定されない。］
【００２８】
（ＣＦ２Ｏ）ｎ７（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ８は、炭素数が少ないオキシペルフルオロアルキレン基であるため、屈曲性に優れる。そのため、基材表面により優れた潤滑性を付与できる。特に（ＣＦ２Ｏ）ｎ７は、炭素数が１で酸素原子を有する基であるため、屈曲性により優れる。
【００２９】
ｎ７は、基材表面により優れた撥水撥油性、指紋汚れ除去性および潤滑性を付与できる点から、２以上の整数が好ましく、３以上の整数が特に好ましい。化合物（１）の単位分子量当たりのリン酸基の数が少なくなりすぎないようにして、基材表面により優れた耐摩擦性を付与できる点から、また、本表面処理剤に他の成分を配合した場合に、優れた相溶性を発揮できる点から、ｎ７は、５０以下の整数が好ましく、４０以下の整数がより好ましく、３０以下の整数が特に好ましい。
ｎ８は、基材表面により優れた撥水撥油性、指紋汚れ除去性および潤滑性を付与できる点から、２以上の整数が好ましい。化合物（１）の単位分子量当たりのリン酸基の数が少なくなりすぎないようにして、基材表面により優れた耐摩擦性を付与できる点から、また、本表面処理剤に他の成分を配合した場合に、優れた相溶性を発揮できる点から、ｎ８は、５０以下の整数が好ましく、４０以下の整数がより好ましく、３０以下の整数が特に好ましい。
ｎ７＋ｎ８は、２〜１００の整数が好ましく、２〜８０の整数がより好ましく、２〜６０の整数が特に好ましい。
また、ｎ７とｎ８との比率は、基材表面により優れた潤滑性を付与できる点から、ｎ７がｎ８の０倍超３倍以下が好ましく、１〜２倍が特に好ましい。
【００３０】
＜Ａ１＞
Ａ１は、末端に１個以上のリン酸基を有する一価の有機基である。Ａ１がリン酸基を有するため、化合物（１）を用いることにより、基材表面に優れた撥水撥油性、指紋汚れ除去性、耐摩擦性を付与できる。
【００３１】
Ａ１が有するリン酸基の数は、１〜３が挙げられ、１または２が好ましく、１が特に好ましい。
【００３２】
リン酸基の数が１であるＡ１としては、下式（３）で表される基が好ましい。
−ＱＦ１（ＣＸ２）ｗ１−Ｅ１−Ｙ１−Ｏ−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＨ）２  ・・・（３）
［式中、
ＱＦ１は、炭素数１〜２０のペルフルオロアルキレン基であり、
ＣＸ２は、ＣＨ２またはＣＨＦであり、
ｗ１は０または１であり、
Ｅ１は、単結合、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−（ただし、Ｙ１はＮに結合する。）、−ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨ−（ただし、Ｙ１はＮに結合する。）、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−（ただし、Ｙ１はＯに結合する。）、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＮＨＣ（＝Ｏ）ＮＨ−または−ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｏ−（ただし、Ｙ１はＯに結合する）であり、
Ｙ１は、アルキレン基、ポリ（オキシアルキレン）−アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、またはアルキレン基の水素原子の一部が水酸基に置換された基であり、ただし、ｗ１が０の場合、Ｅ１が−Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨ−または−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−ではなく、ｗ１が１であり、ＣＸ２がＣＨ２であり、Ｅ１が単結合であるとき、Ｙ１は、アルキレン基ではない。］
【００３３】
ＱＦ１は、炭素数１〜２０のペルフルオロアルキレン基である。ペルフルオロアルキレン基は、直鎖状であってもよく、分岐状であってもよい。ＱＦ１は、基材表面に優れた指紋汚れ除去性を付与できる点から、炭素数１〜６のペルフルオロアルキレン基が好ましく、炭素数１〜３のペルフルオロアルキレン基がより好ましく、下記のペルフルオロアルキレン基が特に好ましい。
−ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＦ（ＣＦ３）−。
【００３４】
Ｙ１は、アルキレン基、ポリ（オキシアルキレン）−アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、またはアルキレン基の水素原子の一部が水酸基に置換された基である。アルキレン基およびポリ（オキシアルキレン）−アルキレン基における「アルキレン」の炭素数は、２〜６が好ましく、２〜４が特に好ましい。Ｙ１としては、化合物（１）の製造が容易な点から、アルキレン基、ポリ（オキシアルキレン）−アルキレン基が好ましい。
【００３５】
Ｙ１としては、下記基が特に好ましい。ここで、ｐ１およびｑ１は、１〜２０の整数であり、１〜１０の整数が好ましく、１〜３の整数が特に好ましい。
−ＣＨ２ＣＨ２−、
−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−、
−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、
−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、
−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｐ１−ＣＨ２ＣＨ２−、
−（ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）Ｏ）ｑ１−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−。
【００３６】
＜＜好ましいＡ１＞＞
Ａ１としては、化合物（１）の製造が容易な点から、下式（３−１）または下式（３−２）で表される基が特に好ましい。ここで、ＱＦ１およびＹ１は、前記の好ましい例が適用される。
−ＱＦ１−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−Ｙ１−Ｏ−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＨ）２  ・・・（３−１）
−ＱＦ１−ＣＸ２−Ｏ−Ｙ１−Ｏ−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＨ）２  ・・・（３−２）
【００３７】
＜Ｂ１＞
Ｂ１は、ＲＦ１−Ｏ−、Ｄ１−Ｑ１−Ｏ−ＣＨ２−またはＡ２−Ｏ−である。
ペルフルオロポリエーテル基の一方の末端のみに、１個以上のリン酸基を有する有機基が結合している本化合物は、Ｂ１がＲＦ１−Ｏ−またはＤ１−Ｑ１−Ｏ−ＣＨ２−である化合物（１）であり、ペルフルオロポリエーテル基の両方の末端に、それぞれ、１個以上のリン酸基を有する有機基が結合している本化合物は、Ｂ１がＡ２−Ｏ−である化合物（１）である。
【００３８】
Ｂ１は、ＲＦ１−Ｏ−またはＤ１−Ｑ１−Ｏ−ＣＨ２−が好ましい。Ｂ１がＲＦ１−Ｏ−またはＤ１−Ｑ１−Ｏ−ＣＨ２−である場合、化合物（１）の一方の末端がＣＦ３−となる。そのため、基材表面にＲＦ１−Ｏ−またはＤ１−Ｑ１−Ｏ−ＣＨ２−を有する化合物（１）を用いることにより、基材表面に優れた指紋汚れ除去性を付与できる。
一方、Ｂ１がＡ２−Ｏ−である場合、化合物（１）の両方の末端に基材と反応できるリン酸基の数が多くなり、基材表面により優れた耐摩擦性を付与できる。
【００３９】
＜＜ＲＦ１＞＞
ＲＦ１は、炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基である。ペルフルオロアルキル基は、直鎖状であってもよく、分岐状であってもよい。ＲＦ１の具体例としては、ＣＦ３−、ＣＦ３ＣＦ２−、ＣＦ３（ＣＦ２）２−、ＣＦ３（ＣＦ２）３−、ＣＦ３（ＣＦ２）４−、ＣＦ３（ＣＦ２）５−、ＣＦ３ＣＦ（ＣＦ３）−等が挙げられる。ＲＦ１としては、基材表面により優れた撥水撥油性および指紋汚れ除去性を付与できる点から、炭素数１〜４の直鎖状ペルフルオロアルキル基（ＣＦ３−、ＣＦ３ＣＦ２−、ＣＦ３（ＣＦ２）２−、ＣＦ３（ＣＦ２）３−）が好ましい。
【００４０】
＜＜Ｑ１＞＞
Ｑ１は、水素原子を１個以上含む炭素数１〜２０のフルオロアルキレン基、水素原子を１個以上含み、炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜２０のフルオロアルキレン基、炭素数１〜２０のアルキレン基、または炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜２０のアルキレン基である。Ｑ１における水素原子の数は、１以上であり、２以上が好ましく、３以上が特に好ましい。
【００４１】
Ｑ１は、Ｂ１がＤ１−Ｑ１−Ｏ−ＣＨ２−である化合物（１）の製造が容易な点から、単結合、下式（４−１）、下式（４−２）または下式（４−３）で表される基が好ましい。
−ＱＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−  ・・・（４−１）
−ＱＦ２−ＣＨＦＣＦ２−  ・・・（４−２）
−ＱＦ２−ＣｚＨ２ｚ−  ・・・（４−３）
［式中、
ＱＦ２は、単結合、炭素数１〜１５のペルフルオロアルキレン基、または炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜１５のペルフルオロアルキレン基であり、
ＱＦ２は前記Ｄ１に結合し、
ｚは１〜４の整数であり、
ただし、前記Ｄ１が、ＣＦ３−Ｏ−であるとき、式（４−１）および式（４−２）において、ＱＦ２は、単結合ではない。］
【００４２】
ＱＦ２は、基材表面に指紋汚れ除去性、潤滑性を充分に付与できる点から、炭素数１〜９のペルフルオロアルキレン基、または炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜１３のペルフルオロアルキレン基が好ましい。ここで、ペルフルオロアルキレン基は、直鎖状でも分岐状でもよい。ｚは、１〜３の整数が好ましく、ｚが３以上の場合、ＣｚＨ２ｚは直鎖状であっても、分岐状であってもよく、直鎖状が好ましい。
【００４３】
Ｑ１が式（４−１）で表される基である場合のＤ１−Ｑ１−基の具体例としては、下記が挙げられる。
ＣＦ３−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−、
ＣＦ３−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−、
ＣＦ３−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−。
【００４４】
Ｑ１が式（４−２）で表される基である場合のＤ１−Ｑ１−基の具体例としては、下記が挙げられる。
ＣＦ３−ＣＨＦＣＦ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２−ＣＨＦＣＦ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨＦＣＦ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨＦＣＦ２−。
【００４５】
Ｑ１が式（４−３）で表される基である場合のＤ１−Ｑ１−基の具体例としては、下記が挙げられる。
ＣＦ３−ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２−ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＨ２ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２−ＣＨ２ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、
ＣＦ３−Ｏ−ＣＦ２−ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＯＣＦ２−ＣＨ２−、
ＣＦ３−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２−ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２−ＣＨ２−、
ＣＦ３−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２−ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２−ＣＨ２−。
【００４６】
Ｑ１は、Ｂ１がＤ１−Ｑ１−Ｏ−ＣＨ２−である化合物（１）の製造が容易である点から、式（４−１）で表される基が好ましく、Ｄ１−Ｑ１−基は、ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−およびＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−が好ましく、ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−が特に好ましい。
【００４７】
＜＜Ａ２＞＞
Ａ２は、末端に１個以上のリン酸基を有する一価の有機基である。Ａ２の例示は、好ましい例も含め、Ａ１に関する記載が適用される。
【００４８】
＜化合物（１）の好ましい態様＞
Ｂ１が、ＲＦ１−Ｏ−である好ましい化合物（１）としては、下記の化合物（１ａ−１）が挙げられる。また、Ｂ１が、Ｄ１−Ｑ１−Ｏ−ＣＨ２−である好ましい化合物（１）としては、下記の化合物（１ａ−２）が挙げられる。
【００４９】
＜化合物（１ａ−１）＞
ＲＦ２−Ｏ−［（Ｃ２Ｆ４Ｏ）ｎ９（Ｃ４Ｆ８Ｏ）ｎ１０］−Ａ３  ・・・（１ａ−１）
［式中、
ｎ９は１以上の整数であり、
ｎ１０は１以上の整数であり、
ただし、ｎ９＋ｎ１０は２〜２００の整数であり、
（Ｃ２Ｆ４Ｏ）と（Ｃ４Ｆ８Ｏ）とは、交互に配置されており、
ＲＦ２は、炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基であり、
Ａ３は、末端に１個以上のリン酸基を有する一価の有機基である。］
【００５０】
本表面処理剤において、化合物（１ａ−１）を用いることにより、基材表面により優れた撥水撥油性を付与できる。
【００５１】
（Ｃ２Ｆ４Ｏ）および（Ｃ４Ｆ８Ｏ）は、基材表面により優れた撥水撥油性を付与できる点から、（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）および（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）が好ましい。
【００５２】
ｎ９は、好ましい例も含め、ｎ２に関する記載が適用される。
ｎ１０は、好ましい例も含め、ｎ３に関する記載が適用される。
【００５３】
［（Ｃ２Ｆ４Ｏ）ｎ９（Ｃ４Ｆ８Ｏ）ｎ１０］は、基材表面により優れた撥水撥油性および耐摩擦性を付与できる点から、上式（２−１−ｂ）で表される基が好ましい。
【００５４】
ＲＦ２の例示は、好ましい例も含め、ＲＦ１に関する記載が適用される。ＲＦ２は、基材表面により優れた指紋汚れ除去性を付与できる点から、ＣＦ３−またはＣＦ３ＣＦ２−が特に好ましい。
【００５５】
Ａ３の例示は、好ましい例も含め、Ａ１に関する記載が適用される。Ａ３は、式（３−１）で表される基が特に好ましい。
【００５６】
化合物（１ａ−１）は、基材表面に特に優れた撥水撥油性および耐摩擦性を付与できる点から、化合物（１ａ−１−１）が好ましい。
ＣＦ３−Ｏ−［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ１１−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ］−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＨ）２  ・・・（１ａ−１−１）
［式中、ｎ１１は、１〜９９の整数である。］
ｎ１１は、好ましい例も含め、ｎ６に関する記載が適用される。
【００５７】
＜化合物（１ａ−２）＞
Ｄ２−Ｑ２−Ｏ−ＣＨ２−（ＣｖＦ２ｖＯ）ｎ１２−Ａ４  ・・・（１ａ−２）
［式中、
Ｄ２は、ＣＦ３−またはＣＦ３−Ｏ−であり、
Ｑ２は、水素原子を１個以上含む炭素数１〜２０のフルオロアルキレン基、水素原子を１個以上含み、炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜２０のフルオロアルキレン基、炭素数１〜２０のアルキレン基、または炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜２０のアルキレン基であり、
ｖは１〜６の整数であり、
ｎ１２は１〜２００の整数であり、ｎ１２が２以上の場合、（ＣｖＦ２ｖＯ）ｎ１２は、ｖの異なる２種以上の（ＣｖＦ２ｖＯ）からなるものであってもよく、
Ａ４は、末端に１個以上のリン酸基を有する一価の有機基である。］
【００５８】
化合物（１ａ−２）は、分子中に原子半径の小さな水素原子を有するＣＨ２基を含むため（ＣＨ２基はＣＦ２基よりも屈曲性がより向上している。）、屈曲性がより向上している。そのため、本表面処理剤において、化合物（１ａ−２）を用いることにより、基材表面により優れた耐摩擦性および潤滑性を付与できる。
【００５９】
（ＣｖＦ２ｖＯ）ｎ１２の例示は、好ましい例も含め、（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎ１に関する記載が適用され、特に好ましくは、好ましい第２の（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎ１である。
【００６０】
Ｑ２の例示は、好ましい例も含め、Ｑ１に関する記載が適用される。ただし、Ｑ２が、式（４−１）、式（４−２）または式（４−３）で表される基である場合、式（４−１）、式（４−２）または式（４−３）におけるＱＦ２がＤ２に結合する。また、Ｄ２がＣＦ３−Ｏ−であるとき、式（４−１）および式（４−２）において、ＱＦ２は、単結合ではない。
【００６１】
Ａ４の例示は、好ましい例も含め、Ａ１に関する記載が適用される。Ａ４は、式（３−２）で表される基が特に好ましい。
【００６２】
化合物（１ａ−２）として、基材表面に特に優れた耐摩擦性および潤滑性を付与できる点から、化合物（１ａ−２−１）が好ましい。
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＦ２Ｏ［（ＣＦ２Ｏ）ｎ１３−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ１４］ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｐ３−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＨ）２  ・・・（１ａ−２−１）
［式中、
ｎ１３は１以上の整数であり、
ｎ１４は１以上の整数であり、
ただし、ｎ１３＋ｎ１４は２〜２００の整数であり、
（ＣＦ２Ｏ）および（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）の結合順序は限定されず、
ｐ３は０または１〜２０の整数である。］
ｐ３は、好ましい例も含め、ｐ２に関する記載が適用される。
【００６３】
本化合物の数平均分子量（Ｍｎ）は、２，０００〜１０，０００が好ましく、２，５００〜８，０００がより好ましく、３，０００〜６，０００が特に好ましい。上記範囲内であれば、基材表面に優れた撥水撥油性、指紋汚れ除去性および潤滑性を付与でき、また、本表面処理剤に他の成分を配合した場合に、他の成分との相溶性に優れる。
本化合物の数平均分子量は、ＮＭＲ分析法を用い、下記の方法で算出される。
１Ｈ−ＮＭＲまたは１９Ｆ−ＮＭＲによって、末端基を基準にしてオキシペルフルオロアルキレン基の数（平均値）を求めることによって算出される。末端基は、例えば式（１）中のＢ１またはＡ１である。
【００６４】
［化合物（１）の製造方法］
化合物（１）の製造方法を、式（１ａ−１−２）および式（１ａ−２−２）で表される化合物を例に説明する。
【００６５】
（化合物（１ａ−１−２）の製造方法）
ＲＦ１−Ｏ−［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ６−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ］−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−Ｙ１−Ｏ−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＨ）２  ・・・（１ａ−１−２）
【００６６】
化合物（１２ａ）を、還元剤（水素化ホウ素ナトリウム、水素化リチウムアルミニウム等）を用いて水素還元することによって、化合物（１１ａ）を得る。
ＣＦ２＝ＣＦＯ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｃ（＝Ｏ）ＯＣＨ３  ・・・（１２ａ）
ＣＦ２＝ＣＦＯ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ  ・・・（１１ａ）
【００６７】
化合物（１１ａ）とアルコール（メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール等。以下、Ｒｆ１−ＯＨと記す。ここで、Ｒｆ１は、炭素数１〜６のフルオロアルキル基または炭素数１〜６のアルキル基である。）とを塩基または４級アンモニウム塩（炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化セシウム、水素化ナトリウム、ｔｅｒｔ−ブトキシカリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、塩化テトラブチルアンモニウム、臭化テトラブチルアンモニウム等）の存在下で反応させて、化合物（１０ａ）を得る。
Ｒｆ１−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦＨＯ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２Ｏ）ｎ６＋１−Ｈ  ・・・（１０ａ）
【００６８】
化合物（１１ａ）に対するＲｆ１−ＯＨの使用量を制御することによって、目的とする数平均分子量を有する化合物（１０ａ）を合成できる。または、Ｒｆ１−ＯＨが化合物（１１ａ）自身であってもよく、反応時間の制御や生成物の分離精製によって、目的とする数平均分子量を有する化合物（１０ａ）を合成できる。
化合物（１１ａ）の合成およびその重付加反応による化合物（１０ａ）の合成は、米国特許第５１３４２１１号明細書に記載の公知の方法にしたがって実施できる。
【００６９】
化合物（１０ａ）とＣｌＣ（＝Ｏ）Ｒ１とのエステル化反応によって、化合物（９ａ）を得る。なお、Ｒ１は、炭素数１〜１１のアルキル基、炭素数１〜１１のフルオロアルキル基、炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜１１のアルキル基または炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜１１のフルオロアルキル基である。該フルオロアルキル基としてはペルフルオロアルキル基が好ましい。
Ｒｆ１−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦＨＯ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２Ｏ）ｎ６＋１−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ１  ・・・（９ａ）
【００７０】
さらに、フッ素ガスを用いて化合物（９ａ）の水素原子をフッ素原子に置換することによって、化合物（７ａ）を得る。なお、ＲＦ４は、Ｒ１が水素原子を有する基である場合はＲ１に含まれる水素原子の全てがフッ素原子に置換された基であり、Ｒ１が水素原子を有しない基である場合はＲ１と同じ基であって、炭素数１〜１１のペルフルオロアルキル基または炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜１１のペルフルオロアルキル基である。ＲＦ１は、Ｒｆ１に含まれる水素原子の全てがフッ素原子に置換された基である。該フッ素化工程は、例えば、国際公開第２０００／５６６９４号に記載の方法等にしたがって実施できる。
ＲＦ１−Ｏ−［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ６−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ］−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）ＲＦ４  ・・・（７ａ）
【００７１】
化合物（７ａ）とアルコール（メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール等。以下、Ｒ２ＯＨと記す。Ｒ２は、アルキル基である。）とを反応させることによって、下式（６ａ）で表される化合物（６ａ）を得る。
ＲＦ１−Ｏ−［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ６−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ］−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ２  ・・・（６ａ）
【００７２】
化合物（６ａ）とＨ２Ｎ−Ｙ１−ＯＨとを反応させることによって、化合物（５ａ）を得る。
ＲＦ１−Ｏ−［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ６−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ］−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−Ｙ１−ＯＨ  ・・・（５ａ）
【００７３】
化合物（５ａ）とオキシ塩化リンまたは五酸化二リンを反応させた後に、加水分解を行うことによって、化合物（１ａ−１−１）を得る。
【００７４】
また、化合物（１ａ−１−１）は、化合物（６ａ）とＮＨ２−Ｙ１−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）２とを反応させることによっても得ることができる。
【００７５】
（化合物（１ａ−２−２）の製造方法）
Ｄ１−ＱＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＦ２Ｏ［（ＣＦ２Ｏ）ｎ４−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ５］−ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｐ２−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＨ）２  ・・・（１ａ−２−２）
［ただし、ｐ２は０または１〜２０の整数である。ｐ２は、０または１〜１０の整数が好ましく、０または１〜３の整数が特に好ましい。］
【００７６】
塩基性化合物の存在下、両末端にＯＨ基を有する化合物（４ａ−２）に、Ｄ１−ＱＦ２−Ｏ−ＣＦ＝ＣＦ２を反応させて、化合物（３ａ−２）、化合物（３ａ−２−２）および未反応の化合物（４ａ−２）の混合物を得る。
ＨＯＣＨ２−ＣＦ２Ｏ［（ＣＦ２Ｏ）ｎ４−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ５］−ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ  ・・・（４ａ−２）
Ｄ１−ＱＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＦ２Ｏ［（ＣＦ２Ｏ）ｎ４−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ５］−ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ  ・・・（３ａ−２）
Ｄ１−ＱＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＦ２Ｏ［（ＣＦ２Ｏ）ｎ４−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ５］−ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＦ２ＣＨＦ−Ｏ−ＱＦ２−Ｄ１  ・・・（３ａ−２−２）  
【００７７】
上記混合物から、片末端にＯＨ基が残存する一官能体の化合物（３ａ−２）を単離し、炭酸セシウム等の塩基性化合物の存在下、化合物（３ａ−２）にエチレンカーボネートを脱炭酸させながら付加させて、化合物（２ａ−２）を得る。
Ｄ１−ＱＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＦ２Ｏ［（ＣＦ２Ｏ）ｎ４−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ５］−ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｐ２−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＨ  ・・・（２ａ−２）
【００７８】
化合物（２ａ−２）とオキシ塩化リンまたは五酸化二リンを反応させた後に、加水分解を行うことによって、化合物（１ａ−２−２）を得る。
Ｄ１−ＱＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＦ２Ｏ［（ＣＦ２Ｏ）ｎ４−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ５］−ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｐ２−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＨ）２  ・・・（１ａ−２−２）
【００７９】
［表面処理剤］
本表面処理剤は、本化合物を含む。本表面処理剤は、本化合物のみからなっていてもよい。ここで、本化合物は、Ｂ１がＲＦ１−Ｏ−またはＤ１−Ｑ１−Ｏ−ＣＨ２−である化合物（１）、および、Ｂ１がＲＦ１−Ｏ−またはＤ１−Ｑ１−Ｏ−ＣＨ２−である化合物（１）とＢ１がＡ２−Ｏ−である化合物（１）との混合物が好ましい。本表面処理剤には、本化合物の製造上、不可避的に混入する化合物（以下、「不純物」ともいう。）が含まれていてもよい。本表面処理剤は、本化合物と不純物以外の他の成分を含んでいてもよい。
【００８０】
（他の成分）
他の成分としては、例えば、リン酸基を有さないペルフルオロポリエーテル化合物（以下、「含フッ素エーテル化合物」ともいう。）および触媒等が挙げられる。
【００８１】
＜含フッ素エーテル化合物＞
含フッ素エーテル化合物としては、化合物（１）の製造過程で副生する化合物および化合物（１）と同様の用途に使用される公知の（特に市販の）化合物等が挙げられる。含フッ素エーテル化合物としては、下記化合物（７）および化合物（８）が好ましい。
【００８２】
＜＜化合物（７）＞＞
化合物（７）は、下式（７）で表される含フッ素エーテル化合物である。
ＲＦ５−Ｏ−（ＣｐＦ２ｐＯ）ｎ１５−ＲＦ６  ・・・（７）
［式中、
ＲＦ５およびＲＦ６は、それぞれ独立に、炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基であり、
ｐは１〜６の整数であり、
ｎ１５は１〜２００の整数であり、ｎ１５が２以上の場合、（ＣｐＦ２ｐＯ）ｑは、ｐの異なる２種以上のＣｐＦ２ｐＯからなるものであってもよい。］
【００８３】
ＲＦ５およびＲＦ６の例示は、好ましい例も含め、ＲＦ１に関する記載が適用される。
（ＣｐＦ２ｐＯ）ｎ１５の例示は、好ましい例も含め、（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎ１に関する記載が適用される。（ＣｐＦ２Ｏ）ｎ１５は、化合物（１）の製造過程で副生する化合物を有効に利用できる点から、式（１）における（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎ１と同じであることが好ましい。例えば、化合物（１）が［（ＣＦ２Ｏ）ｎ４（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ５］を有する化合物である場合は、化合物（７）も［（ＣＦ２Ｏ）ｎ４（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ５］を有する化合物であることが特に好ましい。
【００８４】
化合物（７）は、市販品を用いることができる。市販品としては、ＦＯＭＢＬＩＮ  Ｍ、ＦＯＭＢＬＩＮ  Ｙ、ＦＯＭＢＬＩＮ  Ｚ（以上、ソルベイ・ソレクシス社製）、Ｋｒｙｔｏｘ（デュポン社製）、デムナム（ダイキン工業社製）等が挙げられる。
【００８５】
＜＜化合物（８）＞＞
化合物（８）は、下式（８）で表される含フッ素エーテル化合物である。
Ｄ３−Ｑ３−Ｏ−ＣＨ２−（ＣｑＦ２ｑＯ）ｎ１６−ＣｔＦ２ｔ−ＣＨ２−Ｏ−Ｑ４−Ｄ４  ・・・（８）
［式中、
Ｄ３およびＤ４は、それぞれ独立に、ＣＦ３−またはＣＦ３−Ｏ−であり、
Ｑ３およびＱ４は、それぞれ独立に、水素原子を1個以上含む炭素数１〜２０のフルオロアルキレン基、水素原子を１個以上含み、炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜２０のフルオロアルキレン基、炭素数１〜２０のアルキレン基、または炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜２０のアルキレン基であり、
ｔは１〜５の整数であり、
ｑは１〜６の整数であり、
ｎ１６は１〜２００の整数であり、ｎ１６が２以上の場合、（ＣｑＦ２ｑＯ）ｎ１６は、ｑの異なる２種以上の（ＣｑＦ２ｑＯ）からなるものであってもよい。］
【００８６】
Ｑ３およびＱ４の例示は、好ましい例も含め、Ｑ１に関する記載が適用される。Ｑ３およびＱ４が、式（６−１）、式（６−２）または式（６−３）で表される基の場合、Ｑ３においては、ＱＦ２はＤ３に結合し、Ｑ４においては、ＱＦ２はＤ４に結合する。ただし、Ｄ３がＣＦ３−Ｏ−であるとき、式（６−１）および式（６−２）において、ＱＦ２は、単結合ではない。また、Ｄ４がＣＦ３−Ｏ−であるとき、式（６−１）および式（６−２）において、ＱＦ２は、単結合ではない。
【００８７】
（ＣｑＦ２ｑＯ）ｎ１６の例示は、好ましい例も含め、（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎ１に関する記載が適用される。（ＣｑＦ２ｑＯ）ｎ１６は、化合物（１）の製造過程で副生する化合物（例えば、化合物（３ａ−２−２））を有効に利用できる点から、式（１）における（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎ１と同じであることが好ましい。
【００８８】
化合物（８）の具体例としては、下式で表される化合物が挙げられる。なお、式中の２つのＱＦ２基の種類は同じでも異なっていてもよい。
Ｄ３−ＱＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＦ２Ｏ［（ＣＦ２Ｏ）ｎ４−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ５］−ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＦ２ＣＨＦ−Ｏ−ＱＦ２−Ｄ４、
Ｄ３−ＱＦ２−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＦ２Ｏ［（ＣＦ２Ｏ）ｎ４−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ５］−ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＦ２ＣＨＦ−ＱＦ２−Ｄ４、
Ｄ３−ＱＦ２−ＣｚＨ２ｚ−Ｏ−ＣＨ２−ＣＦ２Ｏ［（ＣＦ２Ｏ）ｎ４−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ５］−ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−ＣｚＨ２ｚ−ＱＦ２−Ｄ４。
【００８９】
＜触媒＞
触媒としては、本化合物のリン酸基が有する水酸基の加水分解と縮合反応を促進する酸触媒や塩基性触媒が挙げられる。酸触媒としては、塩酸、硝酸、酢酸、硫酸、リン酸、スルホン酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等が挙げられる。塩基性触媒としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等が挙げられる。
【００９０】
（組成）
本表面処理剤における本化合物が、Ｂ１がＲＦ１−Ｏ−またはＤ１−Ｑ１−Ｏ−ＣＨ２−である化合物（１）とＢ１がＡ２−Ｏ−である化合物（１）との混合物である場合、Ｂ１がＡ２−Ｏ−である化合物（１）の含有量は、Ｂ１がＲＦ１−Ｏ−またはＤ１−Ｑ１−Ｏ−ＣＨ２−である化合物（１）の合計１００質量部に対して、１０〜６０質量部が好ましく、２０〜５０質量部が特に好ましい。Ｂ１がＡ２−Ｏ−である化合物（１）の含有量が、上記範囲の下限値以上であれば、基材表面に優れた耐摩擦性を付与でき、上記範囲の上限値以下であれば、基材表面に優れた撥水撥油性、指紋汚れ除去性および潤滑性を付与できる。
本表面処理剤における、含フッ素エーテル化合物の含有量は、３０質量％以下が好ましく、２０質量％以下が特に好ましい。
本表面処理剤における、触媒の含有量は、１０質量％以下が好ましく、１質量％以下が特に好ましい。
本表面処理剤における、含フッ素エーテル化合物および触媒以外の他の成分の含有量は、１０質量％以下が好ましく、１質量％以下が特に好ましい。
【００９１】
［コーティング液］
本発明におけるコーティング液（以下、「本コーティング液」ともいう。）は、本表面処理剤と液状媒体とを含む。本コーティング液は、液状であれば特に限定されず、溶液であってもよく、分散液であってもよい。
【００９２】
本コーティング液における固形分濃度は、０．００１〜１０質量％が好ましく、０．０１〜１質量％が特に好ましい。本コーティング液の固形分濃度は、加熱前の本表面処理剤の質量と、１２０℃の対流式乾燥機にて４時間加熱した後の質量とから算出する値である。
本コーティング液における本化合物の濃度は、０．００１〜１０質量％が好ましく、０．１〜１質量％が特に好ましい。
【００９３】
（液状媒体）
液状媒体としては、有機溶媒が好ましい。有機溶媒は、フッ素系有機溶媒であっても、非フッ素系有機溶媒であってもよく、両方の溶媒を併用してもよい。液状媒体の量は、本コーティング液中、９０〜９９．９９９質量％が好ましく、９９〜９９．９質量％が特に好ましい。
【００９４】
フッ素系有機溶媒は、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物、フルオロアルキルエーテル、フッ素化アルキルアミン、フルオロアルコール等が挙げられ、本化合物の溶解性の点から、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物、フルオロアルキルエーテルが好ましく、フルオロアルキルエーテルが特に好ましい。
【００９５】
フッ素化アルカンとしては、炭素数４〜８の化合物が挙げられる。市販品としては、例えばＣ６Ｆ１３Ｈ（ＡＣ−２０００：製品名、旭硝子社製）、Ｃ６Ｆ１３Ｃ２Ｈ５（ＡＣ−６０００：製品名、旭硝子社製）、Ｃ２Ｆ５ＣＨＦＣＨＦＣＦ３（バートレル：製品名、デュポン社製）等が挙げられる。
フッ素化芳香族化合物としては、例えばヘキサフルオロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン、ペルフルオロトルエン、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン等が挙げられる。
フルオロアルキルエーテルとしては、炭素数４〜１２の化合物が挙げられる。市販品としては、例えばＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｈ（ＡＥ−３０００：製品名、旭硝子社製）、Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３（ノベック−７１００：製品名、３Ｍ社製）、Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５（ノベック−７２００：製品名、３Ｍ社製）、Ｃ６Ｆ１３ＯＣＨ３（ノベック−７３００：製品名、３Ｍ社製）等が挙げられる。
フッ素化アルキルアミンとしては、例えばペルフルオロトリプロピルアミン、ペルフルオロトリブチルアミン等が挙げられる。フルオロアルコールとしては、例えば２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール、２，２，２−トリフルオロエタノール、ヘキサフルオロイソプロパノール等が挙げられる。
【００９６】
非フッ素系有機溶媒は、水素原子と炭素原子のみからなる化合物、水素原子と炭素原子と酸素原子のみからなる化合物が挙げられ、炭化水素系有機溶媒、アルコール系有機溶媒、ケトン系有機溶媒、エーテル系有機溶媒、エステル系有機溶媒が好ましく、本化合物の溶解性の点から、ケトン系有機溶媒が特に好ましい。
【００９７】
炭化水素系有機溶媒としては、ヘキサン、へプタン、シクロヘキサン等が好ましい。
アルコール系有機溶媒としては、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール等が好ましい。
ケトン系有機溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等が好ましい。
エーテル系有機溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラエチレングリコールジメチルエーテル等が好ましい。
エステル系有機溶媒としては、酢酸エチル、酢酸ブチル等が好ましい。
【００９８】
液状媒体としては、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物、フルオロアルキルエーテル、水素原子と炭素原子のみからなる化合物、および水素原子と炭素原子と酸素原子のみからなる化合物からなる群より選択される少なくとも１種の有機溶媒が好ましい。特に、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物およびフルオロアルキルエーテルからなる群より選択される少なくとも１種のフッ素系有機溶媒が好ましい。
本化合物の溶解性向上の点から、これらの溶媒の量は、液状媒体全体中、９０質量％以上であることが好ましい。
【００９９】
［基材］
基材の材料としては、無機材料、有機材料、およびこれらの複合材料が挙げられる。
無機材料として、ガラス、単結晶材料、金属、石、およびこれらの複合材料等が挙げられ、ガラス、単結晶材料、およびこれらの複合材料が好ましい。
ガラスとしては、ソーダライムガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、クリスタルガラス、石英ガラスが好ましく、化学強化したソーダライムガラス、化学強化したアルカリアルミノケイ酸塩ガラス、および化学強化したホウ珪酸ガラスが特に好ましい。
単結晶材料としては、酸化亜鉛、酸化チタン、ダイヤモンド、サファイア等が好ましく、サファイアが特に好ましい。サファイアは、コランダム構造を有する、α型アルミナ（六方晶）単結晶材料である。サファイアの結晶方位面は以下が挙げられ、いずれであってもよい。
【数１】
2016043118.tif 000002
高い強度を有することから、サファイアの結晶方位面はａ面が好ましい。なお、サファイア基材自体に所望の高度および光透過性を付与するために、アモルファスアルミナ、透明アルミナ、他のサファイア様材料、多結晶型化合物等を組み合わせてもよい。サファイアの製造方法としては、ベルヌーイ（Verneuil）法、チョクラルスキ（Czochralski）法、ＥＰＧ（Edge-defined film-fed Growth）法が挙げられる。
【０１００】
有機材料として、樹脂等が挙げられる。樹脂としては、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂が好ましい。
基材の材料は、サファイアが好ましい。基材がサファイア基材であれば、本表面処理剤は、サファイア基材表面に、より優れた撥水撥油性、指紋汚れ除去性、耐摩擦性および潤滑性を付与できる。よって、本表面処理剤は、サファイア基材用の表面処理剤が好ましい。
基材は、光透過性を有する基材（以下、「透明基材」ともいう。）が好ましい。「光透過性」とは、ＪＩＳ  Ｒ１３０６に準じた垂直入射型可視光透過率が２５％以上であることを意味し、５０%以上であることが好ましい。
【０１０１】
（表面層）
表面層の厚さは、１〜１００ｎｍが好ましく、１〜５０ｎｍが特に好ましい。表面層の厚さが前記範囲の下限値以上であれば、優れた撥水撥油性、指紋汚れ除去性に優れる。前記範囲の上限値以下であれば、コストを低減でき、かつ表面層を有するサファイア基材の光透過率が高くなる。
なお、表面層の厚さは、例えば薄膜解析用Ｘ線回折計ＡＴＸ−Ｇ（ＲＩＧＡＫＵ社製）を用いて、Ｘ線反射率法によって反射Ｘ線の干渉パターンを得て、該干渉パターンの振動周期から算出できる。
【０１０２】
（製造方法）
表面層を有する基材の製造方法は、本発明の本表面処理剤またはコーティング液を用いて、基材表面を処理する工程を有する。処理の方法としては、ドライコーティング法またはウェットコーティング法が挙げられる。
【０１０３】
＜ドライコーティング法＞
ドライコーティング法による表面層を有する基材の製造方法は、本発明の表面処理剤を基材表面にドライコーティングする工程を含む。
【０１０４】
ドライコーティング法としては、真空蒸着、ＣＶＤ、スパッタリング等の手法が挙げられる。本化合物の分解を抑える点、および装置の簡便な点から、真空蒸着法が好ましい。真空蒸着法は、抵抗加熱法、電子ビーム加熱法、高周波誘導加熱法、反応性蒸着、分子線エピタキシー法、ホットウォール蒸着法、イオンプレーティング法、クラスターイオンビーム法等に細分することができるが、いずれの方法も適用できる。本化合物の分解を抑制する点、および装置の簡便さの点から、抵抗加熱法が好適に利用できる。真空蒸着装置は特に制限なく、公知の装置が利用できる。
【０１０５】
真空蒸着法を用いる場合の成膜条件は、適用する真空蒸着法の種類によって異なるが、抵抗加熱法の場合、蒸着前真空度は１×１０−２Ｐａ以下が好ましく、１×１０−３Ｐａ以下が特に好ましい。蒸着源の加熱温度は、３０〜４００℃が好ましく、５０〜３００℃が特に好ましい。加熱温度が前記範囲の下限値以上であれば、成膜速度に優れる。前記範囲の上限値以下であれば、本化合物の分解が生じることなく、基材表面に撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性を付与できる。真空蒸着時、基材の温度は室温（２０〜２５℃）〜２００℃までの範囲であることが好ましい。基材の温度が２００℃以下であれば、成膜速度に優れる。基材の温度の上限値は１５０℃以下がより好ましく、１００℃以下が特に好ましい。
【０１０６】
＜ウェットコーティング法＞
ウェットコーティング法による表面層を有する基材の製造方法は、本発明の表面処理剤またはコーティング液を基材表面に塗布する工程を含む。コーティング液を使用する場合には、液状媒体を除去する工程をさらに含む。
塗布方法としては、スピンコート法、ワイプコート法、スプレーコート法、スキージーコート法、ディップコート法、ダイコート法、インクジェット法、フローコート法、ロールコート法、キャスト法、ラングミュア・ブロジェット法またはグラビアコート法が好ましい。
液状媒体を除去する方法としては、加熱、真空、加熱および真空が挙げられる。乾燥温度は１０〜３００℃が好ましく、２０〜２００℃が特に好ましい。
【０１０７】
＜後処理＞
基材に表面層を形成した後に、基材表面の耐摩擦性を向上させるために、必要に応じて、本化合物と基材との反応を促進するための操作を行ってもよい。該操作としては、加熱、加湿等が挙げられる。例えば、水分を有する大気中で表面層が形成された基材を加熱して、基材表面に存在する水酸基等とリン酸基が有する水酸基との反応等の反応を促進することができる。表面処理後、表面層中の化合物であって他の化合物や基材と化学結合していない化合物は、必要に応じて除去してもよい。具体的な方法としては、例えば、表面層に溶媒をかけ流す方法や、溶媒をしみ込ませた布でふき取る方法が挙げられる。
【実施例】
【０１０８】
以下、実施例を用いて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。以下において「％」は特に断りのない限り「質量％」である。なお、例１〜７は実施例、例８は比較例である。【０１０９】
［評価方法］
（水接触角およびｎ−ヘキサデカン接触角の測定方法）
基材の表面層の表面に置いた、約２μＬの蒸留水またはｎ−ヘキサデカンの接触角を、接触角測定装置ＤＭ−５００（協和界面科学社製）を用いて測定した。基材の表面層の表面における異なる５箇所で測定を行い、その平均値を算出した。接触角の算出には２θ法を用いた。【０１１０】
（耐摩擦性）
表面層を有する基材について、ＪＩＳ  Ｌ  ０８４９に準拠して往復式トラバース試験機（ケイエヌテー社製）を用い、セルロース製不織布（ベンコットＭ−３：製品名、旭化成社製）を荷重１ｋｇで１，０００回往復させた後、水接触角およびｎ−ヘキサデカン接触角を測定した。
摩擦回数を増大させたときの撥水性（水接触角）および撥油性（ｎ−ヘキサデカン接触角）の低下が小さいほど摩擦による性能の低下が小さく、耐摩擦性に優れる。【０１１１】
（指紋汚れ除去性）
人工指紋液（オレイン酸とスクアレンとからなる液）を、シリコンゴム栓の平坦面に付着させた後、余分な油分を不織布（ベンコットＭ−３：製品名、旭化成社製）にて拭き取ることによって、指紋のスタンプを準備した。該指紋スタンプを、表面層を有する基材の表面層上に乗せ、１ｋｇの荷重にて１０秒間押しつける方法で、指紋を基材の表面層の全面に付着させた。次に、表面層に付着した指紋を、ティッシュペーパを取り付けた、往復式トラバース試験機（ケイエヌテー社製）を用い、荷重５００ｇにて拭き取った。拭き取り一往復毎にヘーズの値を測定し、１０往復拭き取るまでの間に、ヘーズが０．５以下に達したら合格、０．５以下に達しなかったら不合格とした。【０１１２】
＜動摩擦係数＞
表面層を有する基材の人工皮膚（ＰＢＺ１３００１、出光テクノファイン社製）に対する動摩擦係数を、荷重変動型摩擦摩耗試験システムＨＨＳ２０００（新東科学社製）を用い、接触面積３ｃｍ×３ｃｍ、荷重１００ｇの条件で測定した。
動摩擦係数が小さいほど潤滑性に優れる。【０１１３】
［例１：化合物（１ａ−１−１）の製造］
（例１−１）
３００ｍＬの３つ口丸底フラスコに、水素化ホウ素ナトリウム粉末の１４．１ｇを取り入れ、アサヒクリン（商標名）ＡＫ−２２５（ＨＣＦＣ−２２５ｃａの４８モル％と、ＨＣＦＣ−２２５ｃｂの５２モル％の混合物の製品名、旭硝子社製。以下、「ＡＫ−２２５」ともいう。）の３５０ｇを加えた。氷浴で冷却しながら撹拌し、窒素雰囲気下、内温が１０℃を超えないように化合物（１２ａ）の１００ｇ、メタノールの１５．８ｇ、ＡＫ−２２５の２２ｇを混合した溶液を滴下漏斗からゆっくり滴下した。全量滴下した後、さらにメタノールの１０ｇとＡＫ−２２５の１０ｇを混合した溶液を滴下した。その後、氷浴を取り外し、室温までゆっくり昇温しながら撹拌を続けた。室温で１２時間撹拌後、再び氷浴で冷却し、液性が酸性になるまで塩酸水溶液を滴下した。反応終了後、水で１回、飽和食塩水で１回洗浄し、有機相を回収した。回収した有機相を硫酸マグネシウムで乾燥した後、固形分をフィルタによりろ過し、エバポレータで濃縮した。回収した濃縮液を減圧蒸留し、化合物（１１ａ）の８０．６ｇ（収率８８％）を得た。
ＣＦ２＝ＣＦＯ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｃ（＝Ｏ）ＯＣＨ３  ・・・（１２ａ）
ＣＦ２＝ＣＦＯ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ  ・・・（１１ａ）【０１１４】
化合物（１１ａ）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：２．２（１Ｈ）、４．１（２Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−８５．６（２Ｆ）、−１１４．０（１Ｆ）、−１２２．２（１Ｆ）、−１２３．３（２Ｆ）、−１２７．４（２Ｆ）、−１３５．２（１Ｆ）。【０１１５】
（例１−２）
還流冷却器を接続した５０ｍＬのナスフラスコに、例１−１で得た化合物（１１ａ）の５．０１ｇ、メタノールの５．０６ｇを取り入れ、水酸化カリウムのペレットの０．５４ｇを加えた。窒素雰囲気下、２５℃で終夜撹拌した後、塩酸水溶液を加えて、過剰の水酸化カリウムを処理し、水とＡＫ−２２５とを加えて分液処理を行った。３回の水洗後、有機相を回収し、エバポレータで濃縮することで、メタノール付加体の５．１４ｇを得た。再び、還流冷却器を接続した５０ｍＬナスフラスコに、メタノール付加体の１．０ｇ、水酸化カリウムのペレットの０．１３ｇを加え、１００℃に加熱しながら、化合物（１１ａ）の１０．８６ｇを滴下した。１００℃を保ったまま、さらに９時間撹拌した後、塩酸水溶液を加えて、過剰の水酸化カリウムを処理し、水とＡＫ−２２５とを加えて分液処理を行った。３回の水洗後、有機相を回収し、エバポレータで濃縮することによって、高粘度のオリゴマーの１１ｇを得た。再び、ＡＫ−２２５で２倍に希釈し、シリカゲルカラムクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＫ−２２５）に展開して分取した。各フラクションについて、単位数（ｎ＋１）の平均値を１９Ｆ−ＮＭＲの積分値から求めた。下式（１０ａ−１）中、（ｎ６＋１）の平均値が７〜１０のフラクションを合わせた化合物（１０ａ−１）の４．７６ｇを得た。
ＣＨ３−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦＨＯ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２Ｏ）ｎ６＋１−Ｈ  ・・・（１０ａ−１）【０１１６】
化合物（１０ａ−１）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：３．７（３Ｈ）、４．０（２Ｈ）、４．４（１８．４Ｈ）、６．０〜６．２（９．２Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−８４．７〜−８７．０（１８．４Ｆ）、−８９．４〜−９１．６（１８．４Ｆ）、−１２１．５（１６．４Ｆ）、−１２３．４（２Ｆ）、−１２８．０（１８．４Ｆ）、−１４５．３（９．２Ｆ）。
単位数（ｎ６＋１）の平均値：９．２。【０１１７】
（例１−３）
還流冷却器を接続した２００ｍＬのナスフラスコに、例１−２で得た化合物（１０ａ−１）の１００ｇを加え、窒素雰囲気下、室温で撹拌しながら塩化アセチルの２８．６ｇを２０分かけて滴下した。５０℃で４．５時間撹拌した後、１Ｈ−ＮＭＲで原料の消失を確認した。反応溶液をエバポレータで濃縮した。濃縮後の溶液をＡＫ−２２５で希釈し、シリカゲルの２０ｇで処理した後、ろ過で固形物を除去した。エバポレータで再度濃縮することで、下式（９ａ−１）中、単位数（ｎ６＋１）の平均値が９．２である、化合物（９ａ−１）の９８．１ｇ（収率９７％）を得た。
ＣＨ３−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦＨＯ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２Ｏ）ｎ６＋１−Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ３  ・・・（９ａ−１）【０１１８】
化合物（９ａ−１）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム＋Ｒ−１１３（ＣＣｌ２ＦＣＣｌＦ２）、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：２．０（３Ｈ）、３．６（３Ｈ）、４．４〜４．９（１８．４Ｈ）、６．０〜６．２（９．２Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム＋Ｒ−１１３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−８５．５〜−８６．７（１８．４Ｆ）、−９１．５〜−９３．９（１８．４Ｆ）、−１２１．７〜−１２２．８（１８．４Ｆ）、−１２８．４〜−１２９．６（１８．４Ｆ）、−１４５．９（９．２Ｆ）。
単位数（ｎ６＋１）の平均値：９．２。【０１１９】
（例１−４）
オートクレーブ（ニッケル製、内容積１Ｌ）を用意し、オートクレーブのガス出口に、２５℃に保持した冷却器、ＮａＦペレット充填層、および０℃に保持した冷却器を直列に設置した。また、０℃に保持した冷却器から凝集した液をオートクレーブに戻す、液体返送ラインを設置した。
オートクレーブにＲ−４１９（ＣＦ２ＣｌＣＦＣｌＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｃｌ）の７５０ｇを投入し、２５℃に保持しながら撹拌した。オートクレーブに窒素ガスを２５℃で１時間吹き込んだ後、窒素ガスで２０体積％に希釈したフッ素ガス（以下、２０％フッ素ガスとも記す。）を、２５℃、流速５．３Ｌ／時間で１時間吹き込んだ。次いで、２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブに、例１−３で得た化合物（９ａ−１）の７０ｇをＲ−４１９の１３６ｇに溶解した溶液を、７．４時間かけて注入した。
次いで、２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブの内圧を０．１５ＭＰａ（ゲージ圧）まで加圧した。オートクレーブ内に、Ｒ−４１９中に０．００５６ｇ／ｍＬのベンゼンを含むベンゼン溶液の４ｍＬを、２５℃から４０℃にまで加熱しながら注入し、オートクレーブのベンゼン溶液注入口を閉めた。２０分撹拌した後、再びベンゼン溶液の４ｍＬを、４０℃を保持しながら注入し、注入口を閉めた。同様の操作をさらに４回繰り返した。ベンゼンの注入総量は０．１ｇであった。
さらに、２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、１時間撹拌を続けた。次いで、オートクレーブ内の圧力を大気圧にして、窒素ガスを１時間吹き込んだ。オートクレーブの内容物をエバポレータで濃縮し、下式（７ａ−１）中、単位数（ｎ６）の平均値が８．２である、化合物（７ａ−１）の８２．３ｇ（収率９７％）を得た。
ＣＦ３−Ｏ−［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ６−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ］−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）ＣＦ３  ・・・（７ａ−１）【０１２０】
化合物（７ａ−１）のＮＭＲスペクトル；
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム＋Ｒ−１１３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５７．３（３Ｆ）、−７７．５（３Ｆ）、−８５．０（３４．８Ｆ）、−８８．５（２Ｆ）、−９０．５（３４．８Ｆ）、−９２．５（２Ｆ）、−１２７．５（３６．８）。
単位数（ｎ６）の平均値：８．２。【０１２１】
（例１−５）
５００ｍＬのテトラフルオロエチレン−ペルフルオロ（アルコキシビニルエーテル）共重合体（ＰＦＡ）製丸底ナスフラスコに、例１−４で得た化合物（７ａ−１）の８２．３ｇおよびＡＫ−２２５の２５０ｍＬを入れた。窒素雰囲気下、メタノールの３．９ｇを滴下漏斗からゆっくり滴下した。１２時間撹拌した。反応混合物をエバポレータで濃縮し、下式（６ａ−１）中、単位数（ｎ６）の平均値が８．２である、化合物（６ａ−１）の７７．７ｇ（収率１００％）を得た。
ＣＦ３−Ｏ−［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ６−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ］−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｃ（＝Ｏ）ＯＣＨ３  ・・・（６ａ−１）【０１２２】
化合物（６ａ−１）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム＋Ｒ−１１３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：３．８（３Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム＋Ｒ−１１３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５７．３（３Ｆ）、−８４．９（３４．８Ｆ）、−９０．５（３４．８Ｆ）、−９２．５（２Ｆ）、−１２０．２（２Ｆ）、−１２７．３（３２．８Ｆ）、１２８．２（２Ｆ）。
単位数（ｎ６）の平均値：８．２。【０１２３】
（例１−６）
１００ｍＬの丸底ナスフラスコに例１−５で得た化合物（６ａ−１）の３３．５ｇおよびＨ２ＮＣＨ２ＣＨ２ＯＨの０．５９ｇを入れ、室温にて９時間撹拌した。反応物をエバポレータで濃縮し、下式（５ａ−１）中、単位数（ｎ６）の平均値が８．２である、化合物（５ａ−１）の３３．８ｇ（収率１００％）を得た。
ＣＦ３−Ｏ−［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ６−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ］−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｃ（＝Ｏ）ＨＮ−ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ  ・・・（５ａ−１）【０１２４】
化合物（５ａ−１）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム＋Ｒ−１１３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：２．７（２Ｈ）、３．５（２Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム＋Ｒ−１１３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５７．３（３Ｆ）、−８４．９（３４．８Ｆ）、−９０．５（３４．８Ｆ）、−９２．５（２Ｆ）、−１２０．２（２Ｆ）、−１２７．３（３２．８Ｆ）、１２８．２（２Ｆ）。
単位数（ｎ６）の平均値：８．２。【０１２５】
（例１−７）
１００ｍＬの丸底ナスフラスコに例１−６で得た化合物（５ａ−１）の３３．８ｇおよびオキシ塩化リンの１．５１ｇを入れ、室温にて９時間撹拌した。得られた溶液に水の２．０ｇを加えて、室温にて３０分間撹拌した。反応物をエバポレータで濃縮し、下式（１ａ−１）中、単位数（ｎ６）の平均値が８．２である、化合物（１ａ−１−１）の３４．６ｇ（収率１００％）を得た。化合物（１ａ−１−１）の数平均分子量は、３，６００である。
ＣＦ３−Ｏ−［（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ６−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ］−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｃ（＝Ｏ）ＨＮ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＨ）２  ・・・（１ａ−１）【０１２６】
化合物（１ａ−１−１）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム＋Ｒ−１１３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：２．８（２Ｈ）、３．４（２Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：重クロロホルム＋Ｒ−１１３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５７．３（３Ｆ）、−８４．９（３４．８Ｆ）、−９０．５（３４．８Ｆ）、−９２．５（２Ｆ）、−１２０．２（２Ｆ）、−１２７．３（３２．８Ｆ）、１２８．２（２Ｆ）。
単位数（ｎ６）の平均値：８．２。【０１２７】
［例２：化合物（１ａ−２−１）の製造］
（例２−１）
５００ｍＬの３つ口丸底フラスコに、水酸化カリウムの１．０４ｇを取り入れ、ｔｅｒｔ−ブタノールの８３ｇと１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンの１２５ｇを加えた。室温で攪拌して水酸化カリウムを溶解させ、これに化合物（４ａ−２）（ＦＬＵＯＲＯＬＩＮＫ  Ｄ１０／Ｈ：製品名、ソルベイ・ソレクシス社製）の２５０ｇを加えて１時間攪拌した。室温のまま、ペルフルオロ（プロピルビニルエーテル）（ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ＝ＣＦ２）の３８．２ｇを加え、さらに２４時間攪拌した。塩酸を加えて中和し、さらに水を加えて分液処理を行った。３回の水洗後、有機相を回収し、エバポレータで濃縮することによって、反応粗液の２８８．０ｇを得た。再び、ＡＣ−２０００の１４４ｇで希釈し、シリカゲルカラムクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＣ−２０００およびＡＥ−３０００）に展開して分取した。これにより、化合物（３ａ−２）の１３６．２ｇ（収率４７％）を得た。
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＦ２Ｏ［（ＣＦ２Ｏ）ｎ７−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ８］ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ  ・・・（３ａ−２）。【０１２８】
化合物（３ａ−２）のＮＭＲスペクトル； 
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重アセトン＋Ｒ−１１３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：３．９（２Ｈ）、４．６（２Ｈ）、５．１（１Ｈ）、６．３（１Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：溶媒：重アセトン＋Ｒ−１１３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５２．３〜−５４．２（１１．２Ｆ）、−７７．７〜−８８．２（９Ｆ）、−８９．４〜−９１．１（３８．４Ｆ）、−１３０．５（２Ｆ）、−１４５．２（１Ｆ）。
単位数（ｎ７）の平均値：６．６。
単位数（ｎ８）の平均値：９．６。【０１２９】
（例２−２）
５０ｍＬの２つ口丸底フラスコに、炭酸セシウムの３９１ｍｇ、化合物（３ａ−２）の１．５０ｇ、エチレンカーボネートの１０６ｍｇを加え、１６０℃で３６時間加熱撹拌した。得られた溶液にＡＫ−２２５の１５ｇおよび希塩酸の１０ｇを加えた。有機層と水層を分離し、有機層をイオン交換水の３０ｍＬで３回洗浄した後、硫酸ナトリウムで脱水し、減圧下で溶媒を留去することで化合物（２ａ−２）の１．０７ｇ（収率７０％）を得た。
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＦ２Ｏ［（ＣＦ２Ｏ）ｎ７−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ８］ＣＦ２ＣＨ２Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ  ・・・（２ａ−２）。【０１３０】
化合物（２ａ−２）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重アセトン＋Ｒ−１１３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：３．６９（４Ｈ）、４．０４（２Ｈ）、４．６４（２Ｈ）、６．４０〜６．８３（１Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：溶媒：重アセトン＋Ｒ−１１３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５２．３〜−５４．２（１１．２Ｆ）、−７７．７〜−８８．２（９Ｆ）、−８９．４〜−９１．１（３８．４Ｆ）、−１３０．５（２Ｆ）、−１４５．２（１Ｆ）。
単位数（ｎ７）の平均値：６．６。
単位数（ｎ８）の平均値：９．６。【０１３１】
（例２−３）
５０ｍＬの丸底ナスフラスコに例２−２で得た化合物（２ａ−２）の１．０ｇおよびオキシ塩化リンの６５．９ｍｇを入れ、室温にて９時間撹拌した。得られた溶液に水の２．０ｇを加えて、室温にて３０分間撹拌した。反応物をエバポレータで濃縮することで、化合物（１ａ−２−１）の１．０ｇ（収率１００％）を得た。化合物（１ａ−２−１）の数平均分子量は、２，４００である。
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＦ２Ｏ［（ＣＦ２Ｏ）ｎ７−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ８］ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＨ）２  ・・・（１ａ−２−１）【０１３２】
化合物（１ａ−２−１）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重アセトン＋Ｒ−１１３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：３．６９（２Ｈ）、４．０４（２Ｈ）、４．３２（２Ｈ）、４．６４（２Ｈ）、６．４０〜６．８３（１Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：溶媒：重アセトン＋Ｒ−１１３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５２．３〜−５４．２（１１．２Ｆ）、−７７．７〜−８８．２（９Ｆ）、−８９．４〜−９１．１（３８．４Ｆ）、−１３０．５（２Ｆ）、−１４５．２（１Ｆ）。【０１３３】
［例３：化合物（１ａ−３）の製造］
（例３−１）
特開２０１１−１１６９４７号公報の実施例１に記載の方法に従って、化合物（３ａ−３）、（３ａ−３−２）、（４ａ−３）の混合物を得た。
ＣＦ３−Ｏ−［（ＣＦ２Ｏ）ｎ７−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ８］ＣＦ３  ・・・（３ａ−３−２）。
ＣＦ３−Ｏ−［（ＣＦ２Ｏ）ｎ７−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ８］ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ  ・・・（３ａ−３）。
ＨＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ［（ＣＦ２Ｏ）ｎ７−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ８］ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ  ・・・（４ａ−３）。
単位数（ｎ７）の平均値：２４。
単位数（ｎ８）の平均値：２１。【０１３４】
（例３−２）
例（３−１）で得た混合物の２００ｇをＡＣ−２０００の２００ｇで希釈し、シリカゲルカラムクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＣ−２０００およびＡＥ−３０００）に展開して分取した。これにより、化合物（３ａ−３）の９０ｇ（収率４５％）を得た。【０１３５】
化合物（３ａ−３）のＮＭＲスペクトル； 
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重アセトン＋Ｒ−１１３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：３．９（２Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：溶媒：重アセトン＋Ｒ−１１３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５２．３〜−５４．２（４６Ｆ）、−５４．３〜−５６．２（３Ｆ）−７８．８〜−８１．８（２Ｆ）、−８９．４〜−９１．１（８４Ｆ）。【０１３６】
（例３−３）
５０ｍＬの２つ口丸底フラスコに、炭酸セシウムの１．０ｇ、化合物（３ａ−３）の１０ｇ、エチレンカーボネートの１６２ｍｇを加え、１６０℃で３６時間加熱撹拌した。得られた溶液にＡＫ−２２５の５０ｇおよび希塩酸の１０ｇを加えた。有機層と水層を分離し、有機層をイオン交換水の３０ｍＬで３回洗浄した後、硫酸ナトリウムで脱水し、減圧下で溶媒を留去することで化合物（２ａ−３）の６．５８ｇ（収率６５％）を得た。
ＣＦ３−Ｏ−［（ＣＦ２Ｏ）ｎ７−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ８］ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＯＨ  ・・・（２ａ−３）。
単位数（ｎ７）の平均値：２４。
単位数（ｎ８）の平均値：２１。【０１３７】
化合物（２ａ−３）のＮＭＲスペクトル； 
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重アセトン＋Ｒ−１１３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：３．６９（２Ｈ）、４．０４（２Ｈ）、４．６４（２Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：溶媒：重アセトン＋Ｒ−１１３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５２．３〜−５４．２（４６Ｆ）、−５４．３〜−５６．２（３Ｆ）−７８．８〜−８１．８（２Ｆ）、−８９．４〜−９１．１（８４Ｆ）。【０１３８】
（例３−４）
５０ｍＬの丸底ナスフラスコに例３−３で得た化合物（２ａ−３）の１．０ｇおよびオキシ塩化リンの３０ｍｇを入れ、室温にて９時間撹拌した。得られた溶液に水の２．０ｇを加えて、室温にて３０分間撹拌した。反応物をエバポレータで濃縮することで、化合物（１ａ−３）の１．０ｇ（収率１００％）を得た。化合物（１ａ−３）の数平均分子量は、５，６００である。
ＣＦ３−Ｏ−［（ＣＦ２Ｏ）ｎ７−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ８］ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２−Ｏ−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＨ）２  ・・・（１ａ−３）
単位数（ｎ７）の平均値：２４。
単位数（ｎ８）の平均値：２１。【０１３９】
化合物（１ａ−３）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：重アセトン＋Ｒ−１１３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：３．６９（２Ｈ）、３．８４（２Ｈ）、４．６４（２Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：溶媒：重アセトン＋Ｒ−１１３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５２．３〜−５４．２（４６Ｆ）、−５４．３〜−５６．２（３Ｆ）−７８．８〜−８１．８（２Ｆ）、−８９．４〜−９１．１（８４Ｆ）。【０１４０】
［例４〜８：表面層を有する基材の製造および評価］
（例４〜７）
＜コーティング液の調製およびウェットコーティング法＞
例１〜３で得られた化合物と、液状媒体としてのＣ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５（ノベック−７２００：製品名、３Ｍ社製）とを混合して、固形分濃度０．０５％のコーティング液を調製した。基材を該コーティング液にディッピングし（ディップコート法）、３０分間放置後、基材を引き上げた。基材を２００℃で３０分間乾燥させ、含フッ素溶剤であるＡＫ−２２５にて洗浄することにより、表面層を有する基材を得た。表面層の膜厚は１０ｎｍであった。基材としては人工サファイア（結晶方位面ｃ面、信光社製）または化学強化ガラス（アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、旭硝子社製）を用いた。
表面層の水接触角、ｎ−ヘキサデカン接触角、耐摩擦性、指紋汚れ除去性および動摩擦係数の評価結果を表１に示す。【０１４１】
（例８）
＜コーティング液の調製およびウェットコーティング法＞
非特許文献Ｊ．Ｐｈｙｓ．Ｃｈｅｍ．Ｃ，２００７，１１１，３９５６−３９６２に記載の下式（１ａ−４）で表される化合物（１ａ−４）と、液状媒体としてのＣ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５（ノベック−７２００：製品名、３Ｍ社製）とを混合して、固形分濃度０．０５％のコーティング液を調製した。基材を該コーティング液にディッピングし（ディップコート法）、３０分間放置後、基材を引き上げた。基材を２００℃で３０分間乾燥させ、ＡＫ−２２５にて洗浄することにより、表面層を有する基材を得た。表面層の膜厚は１０ｎｍであった。基材としては人工サファイア（結晶方位面ｃ面、信光社製）を用いた。
表面層の水接触角、ｎ−ヘキサデカン接触角、耐摩擦性、指紋汚れ除去性および動摩擦係数の評価結果を表１に示す。
ＣＦ３（ＣＦ２）７ＣＨ２ＣＨ２Ｐ（＝Ｏ）（ＯＨ）２  ・・・（１ａ−４）【０１４２】
【表１】
2016043118.tif 000003
【０１４３】
表１の結果より、本化合物を用いた例４〜７は、撥水撥油性、指紋汚れ除去性および潤滑性に優れていた。また、例４〜７は、表面層を有する基材に対して摩擦を１，０００回繰り返した場合であっても、撥水撥油性の低下がほとんどないか小さく、優れた耐摩擦性を有していた。一方、ペルフルオロポリエーテル基を持たない化合物（１ａ−４）を用いた例８は、撥水撥油性、指紋汚れ除去性および潤滑性に劣っていた。また、例８は、表面層を有する基材に対して摩擦を１，０００回繰り返した場合に、撥水撥油性の低下が大きく、耐摩擦性に劣っていた。
さらに、例４〜６の比較によれば、化合物（１ａ−３）を用いた例６に対して、化合物（１ａ−１−１）を用いた例４は、撥水撥油性および耐摩擦性がより向上した。また、化合物（１ａ−３）を用いた例６に対して、化合物（１ａ−２−１）を用いた例５は、耐摩擦性および潤滑性がより向上した。
【産業上の利用可能性】
【０１４４】
本表面処理剤を用いて形成される表面層を有する基材は、電子材料および光学材料（例えば、内視鏡レンズ、移動通信デバイス、指紋読取装置、自動送金機、ゴーグル、カメラ、赤外線撮像システム、レンズ、タッチパネル、または窓等）、建築材料（例えば、床材、壁材等）等に用いることができる。基材が透明基材であるとき、表面層を有する基材は、電子材料および光学材料に用いられるのが好ましく、タッチパネルを構成する部材に用いられるのが特に好ましい。タッチパネルとは、指等による接触によってその接触位置情報を入力する装置と表示装置とを組み合わせた入力／表示装置（タッチパネル装置）の、入力装置である。タッチパネルは、透明基材と、入力検出方式に応じて、透明導電膜、電極、配線、ＩＣ等とから構成されている。透明基材の表面層を有する面をタッチパネルの入力面とすることによって、優れた指紋汚れ除去性および潤滑性を有するタッチパネルが得られる。潤滑性が優れると、タッチパネルのタッチ感が優れ、操作性が向上する。
なお、２０１４年９月１７日に出願された日本特許出願２０１４−１８８７８９号の明細書、特許請求の範囲および要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。
【国際調査報告】
2016043118.tif 000004
2016043118.tif 000005
2016043118.tif 000006
2016043118.tif 000007
2016043118.tif 000008
2016043118.tif 000009
2016043118.tif 000010