(57)【要約】  外表面の少なくとも一部に親水加工部が設けられた機器であって、親水加工部は親水性ポリマ、及び銀を含む抗菌剤を含有し、親水加工部の表面の水接触角が８０°以下であることにより、親水性及び抗菌性に優れる機器を提供する。
2015178166.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
外表面の少なくとも一部に親水加工部が設けられた機器であって、
前記親水加工部は、親水性ポリマ、及び、銀を含む抗菌剤を含有し、前記親水加工部の表面の水接触角が８０°以下であることを特徴とする機器。
【請求項２】
前記親水加工部の表面の水接触角が６０°以下であり、かつ、前記親水加工部の水の吸収率が１０ｗｔ%より低い請求項１に記載の機器。
【請求項３】
以下の抽出試験で測定される、前記親水加工部の単位面積当たりの銀イオン量が１５ｎｇ／ｃｍ２以上である請求項１又は２に記載の機器。
抽出条件  ＪＩＳ Ｚ ２８０１：２０１０に規定された１／５００普通ブイヨン培地を抽出液として用い、該抽出液の温度を３５±１℃に制御して、前記親水加工部の表面と前記抽出液とを１時間接触させ、前記抽出液に抽出された銀イオン量を測定し、得られた値を前記親水加工部の表面と前記抽出液との接触面積で除して、単位面積当たりの銀イオン量を得る。前記銀イオン量の単位はｎｇであり、前記接触面積の単位はｃｍ２であり、前記単位面積当たりの銀イオン量の単位はｎｇ／ｃｍ２である。
【請求項４】
前記親水加工部の表面の水接触角が、３０°以下である請求項１〜３のいずれか１項に記載の機器。
【請求項５】
前記親水加工部が、少なくとも親水性基及び２個以上の（メタ）アクリル基を有する重合性化合物と、架橋剤と、重合開始剤と、前記抗菌剤とを含有するコーティング剤を用いて形成される、請求項１〜４のいずれか１項に記載の機器。
【請求項６】
前記親水性基が、ポリオキシエチレン基である請求項５に記載の機器。
【請求項７】
前記親水加工部の平均厚みが、１〜１０μｍである請求項１〜６のいずれか１項に記載の機器。
【請求項８】
前記抗菌剤の含有量が、前記親水加工部全質量に対して、０．００１〜１０ｗｔ％である請求項１〜７のいずれか１項に記載の機器。
【請求項９】
前記抗菌剤が、少なくとも銀を担持したセラミックス粒子もしくは銀粒子、又は、この両方を含む請求項１〜８のいずれか１項に記載の機器。
【請求項１０】
前記親水加工部が、さらに、金属酸化物を含む光触媒性材料を少なくとも１種含む、請求項１〜９のいずれか１項に記載の機器。
【請求項１１】
前記金属酸化物が、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｗ、Ｃｕ、Ｓｎ、Ｆｅ、Ｓｒ、及びＢｉからなる群から選択される少なくとも１種の金属原子を含む、請求項１０に記載の機器。
【請求項１２】
前記光触媒性材料の平均粒径Ｄａに対する、前記親水加工部の平均厚みＴの比が３００以下である、請求項１０又は１１に記載の機器。なお、上記比はＴ／Ｄａを表し、複数種の前記光触媒性材料が含まれる場合、前記Ｄａはその平均粒径が一番小さいものの平均粒径を意図する。
【請求項１３】
前記光触媒性材料の質量に対する、銀を含む抗菌剤の質量の質量比が０．３〜３．０である、請求項１０〜１２のいずれか１項に記載の機器。なお、前記質量比は、銀を含む抗菌剤の質量／光触媒性材料の質量を表す。
【請求項１４】
前記親水加工部の表面の水接触角が、１５°以下である請求項１〜１３のいずれか１項に記載の機器。
【請求項１５】
前記機器が、タッチパネルであり、前記親水加工部が、利用者によって接触される前記外表面に設けられている請求項１〜１４のいずれか１項に記載の機器。
【請求項１６】
外表面の少なくとも一部に親水加工部が設けられた保護シートであって、
前記親水加工部は、親水性ポリマ、及び銀を含む抗菌剤を含有し、前記親水加工部の表面の水接触角が８０°以下であることを特徴とする保護シート。
【請求項１７】
前記親水加工部の表面の水接触角が６０°以下であり、かつ前記親水加工部の水の吸収率が１０ｗｔ%より低い請求項１６に記載の保護シート。
【請求項１８】
以下の抽出試験で測定される、前記親水加工部の単位面積当たりの銀イオン量が１５ｎｇ／ｃｍ２以上である請求項１６又は１７に記載の保護シート。
抽出条件  ＪＩＳ Ｚ ２８０１：２０１０に規定された１／５００普通ブイヨン培地を抽出液として用い、該抽出液の温度を３５±１℃に制御して、前記親水加工部の表面と前記抽出液とを１時間接触させ、前記抽出液に抽出された銀イオン量を測定し、得られた値を前記親水加工部の表面と前記抽出液との接触面積で除して、単位面積当たりの銀イオン量を得る。前記銀イオン量の単位はｎｇであり、前記接触面積の単位はｃｍ２であり、前記単位面積当たりの銀イオン量の単位はｎｇ／ｃｍ２である。
【請求項１９】
前記親水加工部の表面の水接触角が、３０°以下である請求項１６〜１８のいずれか１項に記載の保護シート。
【請求項２０】
前記親水加工部が、少なくとも親水性基及び２個以上の（メタ）アクリル基を有する重合性化合物と、架橋剤と、重合開始剤と、前記抗菌剤とを含有するコーティング剤を用いて形成される請求項１６〜１９のいずれか１項に記載の保護シート。
【請求項２１】
前記親水性基が、ポリオキシエチレン基である請求項２０に記載の保護シート。
【請求項２２】
前記親水加工部の平均厚みが、１〜１０μｍである請求項１６〜２１のいずれか１項に記載の保護シート。
【請求項２３】
前記抗菌剤の含有量が、前記親水加工部全質量に対して、０．００１〜１０ｗｔ％である、請求項１６〜２２のいずれか１項に記載の保護シート。
【請求項２４】
前記抗菌剤が、少なくとも銀を担持したセラミックス粒子もしくは銀粒子、又は、この両方を含む請求項１６〜２３のいずれか１項に記載の保護シート。
【請求項２５】
前記親水加工部が、さらに、金属酸化物を含む光触媒性材料を少なくとも１種含む、請求項１６〜２４のいずれか１項に記載の保護シート。
【請求項２６】
前記金属酸化物が、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｗ、Ｃｕ、Ｓｎ、Ｆｅ、Ｓｒ、及びＢｉからなる群から選択される少なくとも１種の金属原子を含む、請求項２５に記載の保護シート。
【請求項２７】
前記光触媒性材料の平均粒径Ｄａに対する、前記親水加工部の平均厚みＴの比が３００以下である、請求項２５又は２６に記載の保護シート。なお、上記比はＴ／Ｄａを表し、複数種の前記光触媒性材料が含まれる場合、前記Ｄａはその平均粒径が一番小さいものの平均粒径を意図する。
【請求項２８】
前記光触媒性材料の質量に対する、銀を含む抗菌剤の質量の質量比が０．３〜３．０である、請求項２５〜２７のいずれか１項に記載の保護シート。なお、前記質量比は、銀を含む抗菌剤の質量／光触媒性材料の質量を表す。
【請求項２９】
前記親水加工部の表面の水接触角が、１５°以下である請求項１６〜２８のいずれか１項に記載の保護シート。
【請求項３０】
さらに、前記シートの、前記外表面とは反対側の表面に粘着層を有する請求項１６〜２９のいずれか１項に記載の保護シート。
【請求項３１】
少なくとも一部が親水性である抗菌膜であって、
前記親水性を示す親水性部は、親水性ポリマ、及び銀を含む抗菌剤を含有し、前記親水性部の表面の水接触角が８０°以下であることを特徴とする抗菌膜。
【請求項３２】
前記親水性部の表面の水接触角が６０°以下であり、かつ前記親水性部の水の吸収率が１０ｗｔ%より低い請求項３１に記載の抗菌膜。
【請求項３３】
以下の抽出試験で測定される、前記親水性部の単位面積当たりの銀イオン量が１５ｎｇ／ｃｍ２以上である請求項３１又は３２に記載の抗菌膜。
抽出条件  ＪＩＳ Ｚ ２８０１：２０１０に規定された１／５００普通ブイヨン培地を抽出液として用い、該抽出液の温度を３５±１℃に制御して、前記親水性部の前記表面と前記抽出液とを１時間接触させ、前記抽出液に抽出された銀イオン量を測定し、得られた値を前記表面と前記抽出液との接触面積で除して、単位面積当たりの銀イオン量を得る。前記銀イオン量の単位はｎｇであり、前記接触面積の単位はｃｍ２であり、前記単位面積当たりの銀イオン量の単位はｎｇ／ｃｍ２である。
【請求項３４】
前記親水性部の表面の水接触角が、３０°以下である請求項３１〜３３のいずれか1項に記載の抗菌膜。
【請求項３５】
前記親水性部が、少なくとも親水性基及び２個以上の（メタ）アクリル基を有する重合性化合物と、架橋剤と、重合開始剤と、前記抗菌剤とを含有するコーティング剤を用いて形成される請求項３１〜３４のいずれか1項に記載の抗菌膜。
【請求項３６】
前記親水性基が、ポリオキシエチレン基である請求項３５に記載の抗菌膜。
【請求項３７】
前記親水性部の平均厚みが、１〜１０μｍである請求項３１〜３６のいずれか１項に記載の抗菌膜。
【請求項３８】
前記抗菌剤の含有量が、前記親水性部全質量に対して、０．００１〜１０ｗｔ％である、請求項３１〜３７のいずれか１項に記載の抗菌膜。
【請求項３９】
前記抗菌剤が、少なくとも銀を担持したセラミックス粒子もしくは銀粒子、又は、この両方を含む請求項３１〜３８のいずれか１項に記載の抗菌膜。
【請求項４０】
前記親水性部が、さらに、金属酸化物を含む光触媒性材料を少なくとも１種含む、請求項３１〜３９のいずれか１項に記載の抗菌膜。
【請求項４１】
前記金属酸化物が、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｗ、Ｃｕ、Ｓｎ、Ｆｅ、Ｓｒ、及びＢｉからなる群から選択される少なくとも１種の金属原子を含む、請求項４０に記載の抗菌膜。
【請求項４２】
前記光触媒性材料の平均粒径Ｄａに対する、前記親水性部の平均厚みＴの比が３００以下である、請求項４０又は４１に記載の抗菌膜。なお、上記比はＴ／Ｄａを表し、複数種の前記光触媒性材料が含まれる場合、前記Ｄａはその平均粒径が一番小さいものの平均粒径を意図する。
【請求項４３】
前記光触媒性材料の質量に対する、銀を含む抗菌剤の質量の質量比が０．３〜３．０である、請求項４０〜４２のいずれか１項に記載の抗菌膜。なお、前記質量比は、銀を含む抗菌剤の質量／光触媒性材料の質量を表す。
【請求項４４】
前記親水性部の表面の水接触角が、１５°以下である請求項３１〜４３のいずれか１項に記載の抗菌膜。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、機器、保護シート、及び抗菌膜に係り、外表面の少なくとも一部に親水加工部が設けられた機器、保護シート、並びに少なくとも一部が親水性である抗菌膜に関する。
【背景技術】
【０００２】
放射線撮影装置、特に、可搬型放射線撮影装置（電子カセッテ）やＣＲ（Computed Radiography：コンピューティッド・ラジオグラフィ）カセッテ、マンモグラフィ装置等の、複数の患者や医療従事者が接触する医療装置は、装置表面に汚染物質が付着し、そのまま放置しておくと、細菌が繁殖する懸念がある。細菌の繁殖を抑制するために、エタノール水溶液や次亜塩素酸ナトリウム水溶液の消毒薬を用いて適宜消毒されるが、汚染物質が表面に固着している場合等、洗浄消毒が不十分になることがある。このため、汚染物質が容易に拭取れることが望まれている。【０００３】
例えば、特許文献１には、医療機器や装置の外表面に防水加工が施された緩衝材が取り付けられた技術が開示されている。この技術によれば、汚染物質が付着し難くなるという利点がある。
しかしながら、消毒液の消毒効果は、一定時間消毒液が滞留することによって得られるものであるので、特許文献１に開示の技術のように、消毒液をはじく表面では十分な消毒効果が得られない可能性がある。【０００４】
これらの課題に対する解決手段として、特許文献２においては、体内に入れるデバイスの場合には、親水性かつ抗菌性を有するコーティングが提案されている。
特許文献２には、親水性ポリマ、光開始剤、金属銀（Ａｇ）を含む粒子、及びキャリヤ液を含む配合物を硬化させて得られるコーティングを開示している。そして、特許文献１に開示の配合物によるコーティングは、潤滑性と抗菌活性の両方が与えられている。特許文献２では、カテーテル等の医療器具の外表面上のコーティングは、湿潤した状態で平滑である、即ち濡れている時に、損傷をもたらすことなく、許容できないレベルの痛みを被験者に引き起こすことなく、目的とする身体部分内に挿入できる場合に滑らかであるとしている。そして、特許文献２では、「濡れている」とは、「滑らかになるように（コーティングの乾燥重量に対して）１０ｗｔ％以上の水を含んでいる」必要があるとしている。なお、ｗｔ％とは質量％のことであり、質量基準で占める割合のことを示している。【０００５】
一方、最近の医療装置は使いやすさの点からタッチパネルを有するものが増えている。これらは医療従事者のみが操作するものであるが、ＩＣＵ（Intensive Care Unit；集中治療室）等で使われる生体モニタ等はヒトが多く触れるものであり、汚染物質が付着しやすい。不特定多数のヒトが接触する装置として、病院内に再来受付機のようなタッチパネルを有するＫＩＯＳＫ端末（設置型情報端末）が普及してきている。
この他、携帯電話、携帯端末や自動車のカーナビゲーションシステムなどの多くの電子機器においても、タッチパネルを有する機器が普及している。
これらのタッチパネルでは、衛生面での要求に加えて、本来の性能である長期に渡って見やすいことも同時に求められる。つまり、指紋等によって視認性が低下しにくく、またキズつき等による視認性の低下が起こりにくいものが求められている。【０００６】
これらの課題に対する解決手段として、特許文献３には、抗菌性のみならず透明性にも優れた抗菌膜が形成された透明物品及び抗菌膜を形成するための抗菌膜形成溶液が提案されている。
特許文献３には、ガラス基板上にケイ素酸化物を主成分とし、銀微粒子及び／または銀イオンを含み、さらに親水性ポリマを含んでいてもよく、かつ透明性を有する銀含有抗菌膜が形成された抗菌膜付き透明物品を開示している。そして、特許文献３に開示の抗菌膜付き透明物品は、透明性、耐摩耗性、抗菌性に優れた特徴を有する。また、特許文献３に開示の抗菌膜形成溶液は、上述の特徴を有する抗菌膜付き透明物品を得ることができるとしている。特許文献３に開示の抗菌膜付き透明物品は、携帯電話等の電子機器の表示部や、そのタッチパネル等に用いることができるとしている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０１２−１３２７０３号公報
【特許文献２】特表２０１０−５０３７３７号公報
【特許文献３】特開２００８−２１３２０６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところで、特許文献１に記載された技術は、消毒という側面から見た場合、医療装置表面の消毒液に対する濡れ性が低くなる。すなわち、消毒液が弾かれるようになるので、医療装置の外表面に消毒液が長時間留まることが容易ではなくなり、細菌類に対する消毒効果が十分に得られない可能性が高い。
逆に、特許文献２に記載された技術は、体内に入れる医療器具を対象としていることから、湿潤時の平滑性を維持するために水分を１０ｗｔ％以上含有できるようなヒドロゲルに近い特性を必要としており、人間が通常に接触・操作する面としては適さない。
また、特許文献３に記載された技術は、基本的に、透明ガラス基板上にゾルゲル法でケイ素酸化物を主成分とする銀含有抗菌無機膜を形成するものであり、親水性ポリマを加えても良いとの開示はあるが、銀含有抗菌有機膜を形成するものではないので、医療装置表面に適用できない。【０００９】
なお、病院環境や公共の場におかれた装置のように、不特定多数の人間が接触する表面を抗菌加工することは知られているが、次々に人間が入れ替わって接触する場合、抗菌効果が低ければ、保菌者の後に接触する人間に細菌が付着してしまい、抗菌加工の意図した効果が得られない可能性がある。しかしながら、単純に抗菌効果を追求するだけなら、消毒薬等を高濃度で表面に存在させておけばよいが、強い消毒薬は一方で接触する人間に対してかぶれ・炎症等の害を及ぼす懸念がある。このため、生体に対して安全でかつより効果の高い抗菌効果が求められている。【００１０】
本発明は、上記課題を解決するためになされたもので、親水性及び抗菌性に優れる機器、保護シート、及び抗菌膜を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記目的を達成するために、本発明の第１の態様の機器は、外表面の少なくとも一部に親水加工部が設けられた機器であって、親水加工部は親水性ポリマ、及び銀を含む抗菌剤を含有し、親水加工部の表面の水接触角が８０°以下であることを特徴とする。
ここで、機器が、タッチパネルであり、親水加工部が、利用者によって接触される外表面に設けられていることが好ましい。このとき、人間の指等の接触による指紋等が目立ちにくく、視認性を阻害しないことが期待できる。【００１２】
また、上記目的を達成するために、本発明の第２の態様の保護シートは、外表面の少なくとも一部に親水加工部が設けられた保護シートであって、親水加工部は親水性ポリマ、及び銀を含む抗菌剤を含有し、親水加工部の表面の水接触角が８０°以下であることを特徴とする。
ここで、さらに、シートの外表面とは反対側の表面に粘着層を有することが好ましい。【００１３】
また、上記目的を達成するために、本発明の第３の態様の抗菌膜は、少なくとも一部が親水性である抗菌膜であって、親水性を示す親水性部は、親水性ポリマ、及び銀を含む抗菌剤を含有し、親水性部の表面の水接触角が８０°以下であることを特徴とする。【００１４】
本発明の第１、第２、及び第３の態様において、親水加工部、又は親水性部の表面の水接触角が６０°以下であり、かつ親水加工部、又は親水性部の水の吸収率が１０ｗｔ%より低いことが好ましい。
また、以下の抽出試験で測定される、親水加工部、又は親水性部の単位面積当たりの銀イオン量が１５ｎｇ／ｃｍ２以上であることが好ましい。
抽出条件  ＪＩＳ Ｚ ２８０１：２０１０に規定された１／５００普通ブイヨン培地を抽出液として用い、抽出液の温度を３５±１℃に制御して、親水加工部（または親水性部）の表面と抽出液とを１時間接触させ、抽出液に抽出された銀イオン量を測定し、得られた値を親水加工部（または親水性部）の表面と抽出液との接触面積で除して、単位面積当たりの銀イオン量を得る。銀イオン量の単位はｎｇであり、接触面積の単位はｃｍ２であり、単位面積当たりの銀イオン量の単位はｎｇ／ｃｍ２である。
また、親水加工部、または親水性部の表面の水接触角が、３０°以下であるのが好ましい。
本発明の第１、第２、及び第３の態様においては、洗浄消毒が必要な機器、例えば医療装置の表面の少なくとも一部を親水加工し、または電子機器等の表示部のタッチパネル等に表面に取り付けられる、もしくは貼り付けられる保護シートの表面の少なくとも一部を親水加工し、または抗菌膜の少なくとも一部を親水性とすることにより、水との接触角を十分に低く、８０°以下、好ましくは６０°以下、より好ましくは、３０°以下にすることにより、親水性の効果として、通常、エタノール水溶液等の消毒液を含ませた湿布や消毒液を浸漬したワイパや流水で表面を洗浄する際に、消毒液や水分が汚染物質と親水加工表面、または親水性がある面との間に入り込むことで、非親水加工面または非親水性面と比較した場合に汚染物質の除去が格段に容易になり、汚染物質の残留リスクを格段に低下させることができる。また、洗浄後に、エタノール水溶液、次亜塩素酸ナトリウム水溶液等の消毒液で消毒を行う際にも、表面の濡れ性が高いため、消毒液が十分に濡れ、表面に残留する細菌に対して、消毒液が長時間作用することで、十分な消毒効果を確保することが期待できる。【００１５】
また、本発明の第１、第２、及び第３の態様においては、親水性と抗菌性とを両具することにより、洗浄消毒後でも微量に生存する細菌等に対して、抗菌剤が作用することで細菌の繁殖を抑制することが期待できる。【００１６】
さらに、本発明の第１、第２、及び第３の態様においては、親水性バインダを少なくとも多官能のアクリルモノマと架橋剤、重合開始剤、及び銀粒子抗菌剤を含む液状コーティング剤から作製することによって、さらに構造を多官能化することによって、鉛筆硬度でＨＢ（３Ｈ、２Ｈ、Ｈ、Ｆ、ＨＢ）、好ましくは、Ｆ（３Ｈ、２Ｈ、Ｈ、Ｆ）以上の親水加工部、又は親水性部（コーティング）としながら、高い親水性と抗菌性を両立するコーティングを作ることができる。製作したコーティングは親水性が高いことによる効果により、指紋を構成する成分が表面に濡れ広がることで、視認性を阻害しにくい効果がある。その結果、本発明のコーティングは、ハードコート性、耐指紋性に優れていることが分かる。【００１７】
即ち、上記第１、第２、及び第３の態様において、親水加工部、または親水性部が、少なくとも親水性基、及び２個以上の（メタ）アクリル基を有する重合性化合物と、架橋剤と、重合開始剤と、抗菌剤とを含有するコーティング剤から形成されることが好ましく、また、親水性基が、ポリオキシエチレン基であることが好ましい。
また、親水加工部、または親水性部の平均厚みが、１〜１０μｍであることが好ましい。【００１８】
また、抗菌剤の含有量が、親水加工部全質量、または親水性部全質量に対して、０．００１〜１０ｗｔ％であることが好ましく、０．００１〜５ｗｔ％であることがより好ましい。
また、抗菌剤が、少なくとも銀を担持したセラミックス粒子、もしくは銀粒子を含むことが好ましい。
また、親水加工部、または親水性部の表面の水接触角が、１５°以下であることが好ましい。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、親水性、抗菌性に優れ、洗浄・消毒効果が高く、かつ高い消毒効果を長時間維持することができ、洗浄・消毒後の抗菌効果が高く、細菌の繁殖を抑制することができ、人間の指等の接触による指紋等が目立ちにくく、視認性を阻害することなく確保できる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の一実施の形態に係る機器である可搬型放射線撮影装置の一部断面斜視図である。
【図２】図１に示す可搬型放射線撮影装置の概略縦断面図である。
【図３】本発明の別の実施の形態に係る機器である別の可搬型放射線撮影装置の全体概略斜視図である。
【図４】本発明の別の実施の形態に係る機器であるマンモグラフィ装置の要部概略斜視図である。
【図５】本発明のまた別の実施の形態に係る機器である立位撮影用の放射線撮影装置の要部概略斜視図である。
【図６】本発明のまた別の実施の形態に係る機器であるタッチパネルを用いる表示装置の模式的断面図である。
【図７】（Ａ）及び（Ｂ）は、それぞれ本発明のまた別の実施の形態に係る保護シートの模式的断面図である。
【図８】（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）は、それぞれ本発明のまた別の実施の形態に係る抗菌膜が付いた抗菌基材の模式的断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本発明に係る機器、保護シート、及び抗菌膜について好適な実施の形態を挙げ、添付の図面を参照して詳細に説明する。
なお、以下、機器として医療用の機器を例に説明するが、本発明は医療用の機器に限定されるものではなく、医療用途以外の機器にも適用可能である。
なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。また、図面は、構成要素を明確に示すことができるように記載されているので、実際のサイズと異なることがあるが、本発明の趣旨を変更するものでないことはもちろんである。
【００２２】
（実施の形態１）
（可搬型放射線撮影装置）
まず、本発明に係る実施の形態１の医療用の機器である可搬型放射線撮影装置について以下に説明する。
図１は、実施の形態１に係る可搬型放射線撮影装置（いわゆる電子カセッテ）１０の一部断面斜視図である。可搬型放射線撮影装置１０は、放射線撮影装置の１種である。図２は、可搬型放射線撮影装置１０の概略縦断面図であり、図１のＸ-Ｘ線での断面を表すものである。この可搬型放射線撮影装置１０においては、筐体１８の外側面が本発明における外表面を形成しており、筐体１８の内部に、放射線Ｒａｙが照射される照射面１９側から、図示しない患者を透過した放射線Ｒａｙを検出する放射線検出器１２、及び後述する制御基板１３が順に設けられている。照射面１９において、放射線検出器１２により放射線画像が撮影される領域が撮影領域である。
【００２３】
放射線検出器１２は、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）アクティブマトリクス基板（以下、ＴＦＴ基板という）３０の表面にガドリニウム硫酸化物（ＧＯＳ）又はヨウ化セシウム（ＣｓＩ）等からなるシンチレータ２９が貼付されて構成される。シンチレータ２９により発生した光の外部への漏れ出しを防止するため、ＴＦＴ基板３０は、シンチレータ２９が貼り付けられた面と反対側の面に、発生した光を遮光する遮光体３１を有していてもよい。
【００２４】
放射線検出器１２では、図示しない放射線源から照射されたＸ線等の放射線Ｒａｙがシンチレータ２９で光に変換される。発生した光は、ＴＦＴ基板３０に設けられたセンサ部に入射する。このセンサ部は、シンチレータ２９から発生した光を受光して電荷を蓄積する。センサ部毎にＴＦＴスイッチが設けられており、このＴＦＴスイッチがＯＮされたときには、センサ部に蓄積された電荷量に応じて、放射線画像を示す電気信号（画像信号）が信号線に流れる。
【００２５】
また、放射線検出器１２の信号配線方向の一端側には、結線用のコネクタ３２が複数個並んで設けられ、走査配線方向の一端側には、コネクタ３７が複数個並んで設けられている。コネクタ３２には信号配線が接続され、コネクタ３７には走査配線が接続されている。
【００２６】
制御基板１３は、スキャン信号制御回路４０と、信号検出回路４２とを備える。スキャン信号制御回路４０にはコネクタ４８が設けられており、このコネクタ４８には、フレキシブルケーブル５２の一端が電気的に接続されている。さらに、このフレキシブルケーブル５２の他端はコネクタ３７に電気的に接続されている。この構成により、スキャン信号制御回路４０は各走査配線にＴＦＴスイッチをＯＮ／ＯＦＦするための制御信号を出力することができる。
【００２７】
信号検出回路４２には複数個のコネクタ４６が設けられており、このコネクタ４６には、フレキシブルケーブル４４の一端が電気的に接続されている。さらに、このフレキシブルケーブル４４の他端は、コネクタ３２に電気的に接続されている。信号検出回路４２は、信号配線毎に、入力される電気信号を増幅する増幅回路を内蔵している。各センサ部に蓄積された電荷は各信号配線に入力され、信号検出回路４２により各信号配線からの電気信号を増幅回路により増幅し、画像を構成する各画素の情報とする。
【００２８】
筐体１８は、矩形平板状に形成されるとともに、図２に示すように、放射線検出器１２の撮影動作や外部装置との通信の制御等各種の制御を行う制御基板１３が放射線検出器１２と重なるように内蔵されている。なお、本実施の形態では、ＴＦＴ基板３０が照射面１９側の筐体１８内面に接触するように放射線検出器１２を配置している。
【００２９】
筐体１８は、放射線Ｒａｙが照射される正面側、換言すれば被写体と接する側に配置されるフロントパネル６０と、反被写体側に配置されるバックパネル６２（背面部）とが対向して設けられている。フロントパネル６０は、天板６４と、天板６４を保持する保持部６６により構成されている。天板６４のバックパネル６２側の面には放射線検出器１２が設けられている。保持部６６は、図２中の左右方向両端部において、バックパネル６２側に湾曲して側面部の一部を形成している。また、バックパネル６２は、図２中の左右方向両端部において、フロントパネル６０側に湾曲して側面部の一部を形成している。すなわち、筐体１８の背面部と側面部の一部とは、一体で形成されている。なお、必ずしも背面部と側面部の一部のみとを一体で形成する必要はなく、側面部全てを背面部と一体で形成しても良い。このとき、筐体の継ぎ目を少なくすることができ、拭取り性が向上する。
【００３０】
本実施の形態では、天板６４をカーボンで形成している。これにより、放射線Ｒａｙの吸収を抑えつつ強度を確保している。また、保持部６６及びバックパネル６２はＡＢＳ樹脂により形成している。
【００３１】
以上の構成において、少なくとも、筐体１８の外表面のうち、撮影時に患者である被写体（図示せず）が接触する照射面１９、即ち少なくとも天板６４の外表面、さらには保持部６６の放射線源側の一部を含んでも良いが、フロントパネル６０の外表面には親水加工部２０が設けられている。
【００３２】
また、例えば、照射面１９側のフロントパネル６０の表面には親水処理を施して、照射面１９に親水加工部２０を設け、照射面１９の反対側（反被写体側）のバックパネル６２の外表面、特に、バックパネル６２の外周側外表面部分（参照符号Ａで示される部分）、即ち、バックパネル６２と筐体１８の側面部の一部を構成するフロントパネル６０の保持部６６との継ぎ目から、筐体１８の背面部の一部を構成するバックパネル６２の端部の領域に至る外周側外表面の部分Ａに撥水処理を施して、撥水加工部を設けるのが好ましい。
このように、バックパネル６２の外周側表面（両側の部分Ａ）に撥水加工部を設けることにより、外周側外表面の摩擦係数を下げ、患者等の被写体の下に可搬型放射線撮影装置（電子カセッテ）１０を挿入しやすくなる。
【００３３】
なお、図２に示す可搬型放射線撮影装置（電子カセッテ）１０の筐体１８の保持部６６のように、電子カセッテの角部が傾斜（湾曲）しているような構造の場合には、汚染物質が垂れて、電子カセッテ周辺が汚染されてしまう恐れがある。しかしながら、本発明においては、照射面１９側のフロントパネル６０の外表面に親水加工部２０を設けることにより、フロントパネル６０の表面の濡れ性を高くして、フロントパネル６０の保持部６６から汚染物質が垂れるのを防止し、汚染物質の拡散を防止することができる。
【００３４】
また、筐体１８の背面部を構成するバックパネル６２の外表面の中央部分Ｂに、エンボス加工を施しても良い。中央部分Ｂをエンボス構造にすることにより、患者等の被写体下に電子カセッテ１０を挿入しやすくさせることができる。
【００３５】
（親水加工部）
親水加工部２０は、親水性ポリマ及び銀を含む抗菌剤を少なくとも含む。
以下では、親水加工部２０に含まれる材料について詳述する。
【００３６】
（親水性ポリマ）
親水性ポリマとは、親水性基を有するポリマである。
親水性基の種類は、特に制限されず、例えば、ポリオキシアルキレン基（例えば、ポリオキシエチレン基、ポリオキシプロピレン基、オキシエチレン基とオキシプロピレン基がブロック又はランダム結合したポリオキシアルキレン基)、アミノ基、カルボキシル基、カルボキシル基のアルカリ金属塩、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アミド基、カルバモイル基、スルホンアミド基、スルファモイル基、スルホン酸基、スルホン酸基のアルカリ金属塩などが挙げられる。なかでも、ポリオキシエチレン基が好ましい。
親水性ポリマの主鎖の構造は特に制限されず、例えば、ポリウレタン、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、ポリスチレン、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリウレアなどが挙げられる。
なお、ポリ（メタ）アクリル酸エステルとは、ポリアクリル酸エステル及びポリメタアクリル酸エステルの両方を含む概念である。
【００３７】
親水性ポリマの好適態様の一つとしては、上記親水性基を有するモノマを重合させて得られるポリマが挙げられる。
親水性基を有するモノマとは、上記親水性基と重合性基とを有する重合性化合物である。親水性基の定義は上述の通りである。
親水性基を有するモノマ中における親水性基の数は特に制限されないが、親水加工部がより親水性を示す点より、２個以上が好ましく、２〜６個がより好ましく、２〜３個がさらに好ましい。
【００３８】
重合性基の種類は、特に制限されず、例えば、ラジカル重合性基、カチオン重合性基、アニオン重合性基などが挙げられる。ラジカル重合性基としては、（メタ）アクリル基、アクリルアミド基、ビニル基、スチリル基、アリル基などが挙げられる。カチオン重合性基としては、ビニルエーテル基、オキシラニル基、オキセタニル基などが挙げられる。なかでも、（メタ）アクリル基が好ましい。
なお、（メタ）アクリル基とは、アクリル基（アクリロイル基）及びメタアクリル基（メタアクリロイル基）の両方を含む概念である。
親水性基を有するモノマ中における重合性基の数は特に制限されないが、得られる親水加工部の機械的強度、ハードコート性がより優れる点で、２個以上が好ましく、２〜６個がより好ましく、２〜３個がさらに好ましい。
即ち、本発明においては、重合性基として、ハードコート性の点から２個以上の（メタ）アクリル基を有するのが好ましい。
【００３９】
親水性基を有するモノマの好適態様の一つとしては、以下の式（１）で表される化合物が挙げられる。
【００４０】
【化１】
2015178166.tif 000003
【００４１】
式（１）中、Ｒ１は、置換基を表す。置換基の種類は特に制限されず、公知の置換基が挙げられ、例えば、ヘテロ原子を有していてもよい炭化水素基（例えば、アルキル基、アリール基）、上記親水性基などが挙げられる。
Ｒ２は、重合性基を表す。重合性基の定義は上述の通りである。
Ｌ１は、単結合又は２価の連結基を表す。２価の連結基の種類は特に制限されず、例えば、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＣＯＯ−、−Ｏ−ＣＯＯ−、アルキレン基、アリーレン基、ヘテロアリール基、及び、それらの組み合わせが挙げられる。
Ｌ２は、ポリオキシアルキレン基を表す。ポリオキシアルキレン基とは、以下の式（２）で表される基を意図する。
式（２）      ＊−（ＯＲ３）ｍ−＊
式（２）中、Ｒ３は、アルキレン基（例えば、エチレン基、プロピレン基）を表す。ｍは、２以上の整数を表し、２〜１０が好ましく、２〜６がより好ましい。なお、＊は、結合位置を表す。
ｎは、１〜４の整数を表す。
【００４２】
親水性ポリマを得る際には、上記親水性基を有するモノマと他のモノマ、特に多官能のモノマを含むモノマとを併用することが好ましい。つまり、親水性基を有するモノマと、他のモノマ（親水性基を有するモノマ以外の多官能モノマを含むモノマ）とを共重合させて得られる親水性ポリマを使用するのが好ましい。
他のモノマの種類は、多官能のモノマを含むものであれば特に制限されず、重合性基を有する公知のモノマであれば適宜使用できる。重合性基の定義は、上述の通りである。
なかでも、親水加工部の機械的強度、即ち、ハードコート性がより優れる点で、重合性基を２以上有する多官能モノマが好ましい。多官能モノマは、いわゆる架橋剤として作用する。
【００４３】
多官能モノマ中に含まれる重合性基の数は特に制限されず、親水加工部の機械的強度、ハードコート性が、より優れる点、及び、取扱い性の点から、２〜１０個が好ましく、２〜６個がより好ましい。
多官能モノマとしては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートが挙げられる。
【００４４】
親水性モノマと他のモノマ（特に、多官能モノマ）との混合比（親水性モノマの質量／他のモノマの質量）は特に制限されないが、親水加工部の親水性の制御がしやすく、ハードコート性を確保する必要がある点から、０．０１〜１５が好ましく、０．１〜１５がより好ましい。
【００４５】
なお、親水加工部には、上記親水性ポリマが主成分として含まれていることが好ましい。ここで、主成分とは、親水加工部全質量に対して、親水性ポリマの含有量が５０ｗｔ％以上であることを意図し、７０ｗｔ％以上が好ましく、９０ｗｔ％以上がより好ましい。
【００４６】
（抗菌剤）
親水加工部は、銀を含む抗菌剤を少なくとも１種含む。親水加工部に含まれる抗菌剤の種類は、銀を含む抗菌剤であれば、特に制限されず、公知の抗菌剤が使用できる。なお、抗菌剤としては、黄色ブドウ球菌や大腸菌に代表される病原性細菌類に対して殺菌効果を発揮するものが好適に用いられる。
【００４７】
銀を含む抗菌剤（以後、銀系抗菌剤とも称する）としては、銀（銀原子）が含まれていればよく、その種類は特に制限されない。また、銀の形態も特に制限されず、例えば、金属銀、銀イオン、銀塩（銀錯体を含む）など形態で含まれる。例えば、銀系抗菌剤としては、銀イオンを徐放する銀粒子や、銀を含む無機系抗菌剤、例えば、銀や、銀イオンを担体に担持させたものが好ましく挙げられる。なお、本明細書では、銀錯体は銀塩の範囲に含まれる。
【００４８】
なお、銀塩としては、例えば、酢酸銀、アセチルアセトン酸銀、アジ化銀、銀アセチリド、ヒ酸銀、安息香酸銀、フッ化水素銀、臭素酸銀、臭化銀、炭酸銀、塩化銀、塩素酸銀、クロム酸銀、クエン酸銀、シアン酸銀、シアン化銀、（ｃｉｓ，ｃｉｓ−１，５−シクロオクタジエン）−１，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロアセチルアセトン酸銀、ジエチルジチオカルバミン酸銀、フッ化銀（Ｉ）、フッ化銀（ＩＩ）、７，７−ジメチル−１，１，１，２，２，３，３−ヘプタフルオロ−４，６−オクタンジオン酸銀、ヘキサフルオロアンチモン酸銀、ヘキサフルオロヒ酸銀、ヘキサフルオロリン酸銀、ヨウ素酸銀、ヨウ化銀、イソチオシアン酸銀、シアン化銀カリウム、乳酸銀、モリブデン酸銀、硝酸銀、亜硝酸銀、酸化銀（Ｉ）、酸化銀（ＩＩ）、シュウ酸銀、過塩素酸銀、ペルフルオロ酪酸銀、ペルフルオロプロピオン酸銀、過マンガン酸銀、過レニウム酸銀、リン酸銀、ピクリン酸銀一水和物、プロピオン酸銀、セレン酸銀、セレン化銀、亜セレン酸銀、スルファジアジン銀、硫酸銀、硫化銀、亜硫酸銀、テルル化銀、テトラフルオロ硼酸銀、テトラヨードムキュリウム酸銀、テトラタングステン酸銀、チオシアン酸銀、ｐ−トルエンスルホン酸銀、トリフルオロメタンスルホン酸銀、トリフルオロ酢酸銀及びバナジン酸銀等が挙げられる。
また、銀錯体の一例としては、ヒスチジン銀錯体、メチオニン銀錯体、システイン銀錯体、アスパラギン酸銀錯体、ピロリドンカルボン酸銀錯体、オキソテトラヒドロフランカルボン酸銀錯体またはイミダゾール銀錯体などが挙げられる。
【００４９】
銀系抗菌剤としては、例えば、上記銀塩（銀錯体）などの有機系の銀系抗菌剤と、後述する担体を含む無機系の銀系抗菌剤が挙げられるが、その種類は特に制限されない。
銀系抗菌剤のなかでも、親水加工部の耐光性がより優れる、及び／または、抗菌性がより優れる点（以後、単に「本発明の効果がより優れる点」とも称する）で、担体と、担体上に担持された銀とを含む銀担持担体が好ましい。
【００５０】
なお、担体としては、その種類は特に制限されず、ケイ酸塩系担体、リン酸塩系担体、酸化物（例えば、ガラス）、チタン酸カリウム、又は、アミノ酸が挙げられる。
担体としては、例えば、ゼオライト系抗菌剤担体、ケイ酸カルシウム系抗菌剤担体、リン酸ジルコニウム系抗菌剤担体、リン酸カルシウム抗菌剤担体、酸化亜鉛系抗菌剤担体、溶解性ガラス系抗菌剤担体、シリカゲル系抗菌剤担体、活性炭系抗菌剤担体、酸化チタン系抗菌剤担体、チタニア系抗菌剤担体、有機金属系抗菌剤担体、イオン交換体セラミックス系抗菌剤担体、層状リン酸塩−四級アンモニウム塩系抗菌剤担体、又は抗菌ステンレス担体等が挙げられるが、これらに制限されるものではない。
【００５１】
担体として、より具体的には、リン酸亜鉛カルシウム、リン酸カルシウム、リン酸ジルコニウム、リン酸アルミニウム、ケイ酸カルシウム、活性炭、活性アルミナ、シリカゲル、ゼオライト、ヒドロキシアパタイト、リン酸ジルコニウム、リン酸チタン、チタン酸カリウム、含水酸化ビスマス、含水酸化ジルコニウム、ハイドロタルサイトなどが挙げられる。なお、ゼオライトとしては、例えば、チャバサイト、モルデナイト、エリオナイト、クリノプチロライト等の天然ゼオライト、Ａ型ゼオライト、Ｘ型ゼオライト、Ｙ型ゼオライト等の合成ゼオライトが挙げられる。
また、本発明の効果がより優れる点で、担体としては、所謂セラミックスが好ましい。
【００５２】
上記銀担持担体の平均粒径は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、０．１〜１０μｍが好ましく、０．１〜２μｍがより好ましい。なお、上記平均粒径は、顕微鏡により少なくとも１０個の任意の銀担持担体の直径を測定し、それらを算術平均した値である。
銀系抗菌剤中における銀の含有量は特に制限されないが、例えば、上記銀担持担体の場合、銀の含有量は、銀担持担体全質量に対して、０．１〜１０ｗｔ％が好ましく、０．３〜５ｗｔ％がより好ましい。
【００５３】
上記抗菌剤の中では、抗菌効果が大きいことから、銀粒子や、銀を担持したセラミックス粒子（銀セラミックス粒子）が好ましい。より具体的には、ケイ酸塩系担体であるゼオライトに銀を担持させた銀ゼオライトや、シリカゲルに銀を担持させた抗菌剤が挙げられる。
【００５４】
特に好ましい市販の銀ゼオライト系抗菌剤としては、シナネンゼオミックの「ゼオミック」や富士シリシア化学の「シルウェル」や日本電子材料の「バクテノン」等がある。その他、銀を無機イオン交換体セラミックスに担持させた東亜合成の「ノバロン」や触媒化成工業の「アトミーボール」やトリアジン系抗菌剤の「サンアイバックＰ」も好ましい。銀粒子としては、日本イオンの「ナノシルバー」を選定することができる。また、セラミックスに対して銀を化学的に結合させた銀セラミックス粒子からなる富士ケミカルの「バクテキラー」、「バクテライト」を選定することもできる。
【００５５】
なお、本発明においては、銀を含む抗菌剤に加え、他の公知の抗菌剤を併用してもよい。他の公知の抗菌剤としては、例えば、銀を含まない無機系抗菌剤、又は、有機系抗菌剤（好ましくは、水溶性の有機系抗菌剤）が挙げられる。
【００５６】
有機系抗菌剤としては、例えば、フェノールエーテル誘導体、イミダゾール誘導体、スルホン誘導体、Ｎ−ハロアルキルチオ化合物、アニリド誘導体、ピロール誘導体、第４アンモニウム塩、ピリジン系化合物、トリアジン系化合物、ベンゾイソチアゾリン系化合物、又はイソチアゾリン系化合物等が挙げられる。
【００５７】
より具体的には、１，２−ベンズイソチアゾリン−３−オン、Ｎ−フルオルジクロロメチルチオ−フタルイミド、２，３，５，６−テトラクロロイソフタロニトリル、Ｎ−トリクロロメチルチオ−４−シクロヘキセン−１，２−ジカルボキシイミド、８−キノリン酸銅、ビス（トリブチル錫）オキシド、２−（４−チアゾリル）ベンズイミダゾール〈以後、ＴＢＺと表示〉、２−ベンズイミダゾールカルバミン酸メチル〈以後、ＢＣＭと表示〉、１０,１０'−オキシビスフェノキシアルシン〈以後、ＯＢＰＡと表示〉、２，３，５，６−テトラクロロ−４−（メチルスルフォン）ピリジン、ビス（２−ピリジルチオ−１−オキシド）亜鉛〈以後、ＺＰＴと表示〉、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ'−（フルオロジクロロメチルチオ）−Ｎ’−フェニルスルファミド〈ジクロルフルアニド〉、ポリ−（ヘキサメチレンビグアニド）ハイドロクロライド、ジチオ−２−２'−ビス（ベンズメチルアミド）、２−メチル−４，５−トリメチレン−４−イソチアゾリン−３−オン、２−ブロモ−２−ニトロ−１，３−プロパンジオール、ヘキサヒドロ−１，３−トリス−（２−ヒドロキシエチル）−Ｓ−トリアジン、ｐ−クロロ−ｍ−キシレノール、１，２−ベンズイソチアゾリン−３−オン等が挙げられるが、これらに制限されるものではない。
【００５８】
これら有機系抗菌剤は、親水性、耐水性、昇華性、安全性等を考慮し、適宜選択して使用することができる。これら有機系抗菌剤の中では、親水性、抗菌効果、コストの点から、２−ブロモ−２−ニトロ−１，３−プロパンジオール、ＴＢＺ、ＢＣＭ、ＯＢＰＡ、又はＺＰＴが好ましい。
【００５９】
なお、有機系抗菌剤としては、天然系抗菌剤も含まれる。天然系抗菌剤としては、カニやエビの甲殻等に含まれるキチンを加水分解して得られる塩基性多糖類のキトサンがある。
【００６０】
無機系抗菌剤としては、殺菌作用の高い順に、水銀、銅、亜鉛、鉄、鉛、ビスマス等が挙げられる。例えば、銅、亜鉛、ニッケル等の金属や金属イオンを担体に担持させたものが挙げられる。なお、担体としては、上述したものを用いることができる。
【００６１】
上記抗菌剤の中では、抗菌効果が大きいことから、金属粒子（特に、銅粒子が好ましい）や、有機系抗菌剤が好ましい。なお、有機系抗菌剤としては、２−ブロモ−２−ニトロ−１，３−プロパンジオール、ＴＰＮ、ＴＢＺ、ＢＣＭ、ＯＢＰＡ、又はＺＰＴが好ましい。
銀を含む無機系抗菌剤と併用する無機系抗菌剤の最も好ましい形態としては、銅イオンを徐放する銅粒子、銅セラミックス粒子が好ましい。
【００６２】
親水加工部内における抗菌剤の含有量は、特に制限されないが、汚染物質の除去性及び抗菌性のバランスの点から、親水加工部全質量に対して、０．００１〜１５ｗｔ％が好ましく、０．００１〜１０ｗｔ％がより好ましく、０．００１〜５ｗｔ％がさらに好ましい。
なお、抗菌剤として、銀を含む抗菌剤に加え、他の抗菌剤を用いる場合の抗菌剤全体としての含有量は、上記範囲を満足すればよいが、他の抗菌剤は、抗菌剤全体（又は銀を含む無機系抗菌剤）に対して５０ｗｔ％以下、好ましくは、２０ｗｔ％以下であるのが良い。
【００６３】
抗菌剤として銀粒子を用いる場合、親水加工部内の抗菌剤の含有量は、親水加工部全質量に対して、０．００１〜５ｗｔ％が好ましく、０．００１〜２ｗｔ％がより好ましく、０．００１〜１ｗｔ％がさらに好ましく、０．００１〜０．１ｗｔ％が特に好ましい。含有量が０.００１ｗｔ％以上であればより抗菌効果を向上させることができる。また、含有量が５ｗｔ％以下であれば親水性も低下せず、且つ経時性も悪化せず、防汚性に悪影響を及ぼさない。
また、銀粒子の平均粒径は１ｎｍ〜１００ｎｍが好ましく、１ｎｍ〜２０ｎｍがより好ましい。銀粒子は、粒径が小さいほど、表面積／体積比が大きくなり、より微量で抗菌性を発現させることができる。
なお、平均粒径は、レーザー回折・散乱法によって求めた粒度分布における積算値５０％での粒径を意味する。
【００６４】
親水加工部内における上記銀系抗菌剤の含有量は、上記範囲を満足すればよいが、本発明の効果がより優れる点で、親水加工部全質量に対する銀の含有量が０．００１〜２０ｗｔ％（より好ましくは、０．００１〜１０ｗｔ％、さらに好ましくは、０．００１〜５ｗｔ％）となるように銀系抗菌剤を親水加工部内に含有させることが好ましい。
また、銀系抗菌剤として有機系の銀系抗菌剤を用いる場合にも、抗菌剤の含有量は、上記範囲を満足すればよいが、親水加工部の機械的強度がより優れ、本発明の効果がより優れる点で、親水加工部全質量に対して、１〜５ｗｔ％がより好ましい。
さらに、銀系抗菌剤として無機系の銀系抗菌剤を用いる場合にも、抗菌剤の含有量は、上記範囲を満足すればよいが、親水加工部の機械的強度がより優れ、本発明の効果がより優れる点で、親水加工部全質量に対して、０．００１〜１０ｗｔ％が好ましく、０．０１〜５ｗｔ％がより好ましい。
【００６５】
銀セラミックス粒子を用いる場合、親水加工部全質量に対して、含有量が０．１ｗｔ％以上であればより抗菌効果を向上させることができる。また、含有量が１０ｗｔ％以下であれば、親水性も低下せず、且つ経時性も悪化せず、防汚性に悪影響を及ぼさない。
銀セラミックス粒子の平均粒径は、０．１μｍ〜１０μｍが好ましく、０．１μｍ〜２μｍがより好ましい。
【００６６】
なお、抗菌剤として、銀を含む抗菌剤に加え、有機系抗菌剤を使用する場合、親水加工部全質量に対する有機系抗菌剤の含有量としては、汚染物質の除去性及び抗菌性のバランスの点から、０．０００５〜２．５ｗｔ％が好ましい。
【００６７】
なお、本発明においては、抗菌剤が、親水加工部の表面に露出していなくてもよい。
また、親水加工部中には、上記親水性ポリマ及び抗菌剤以外の他の成分が含まれていてもよい。
【００６８】
本発明においては、銀を含む抗菌剤に加え、親水加工部には、金属酸化物を含む光触媒性材料が含まれていていてもよい。光触媒性材料は、上記銀を含む抗菌剤と同様に、抗菌作用を有する。
光触媒性材料に含まれる金属酸化物の種類は特に制限されないが、例えば、ＴｉＯ２、ＺｎＯ、ＳｒＴｉＯ３、ＣｄＳ、ＧａＰ、ＩｎＰ、ＧａＡｓ、ＢａＴｉＯ３、ＢａＴｉＯ４、ＢａＴｉ４Ｏ９、Ｋ２ＮｂＯ３、Ｎｂ２Ｏ５、Ｆｅ２Ｏ３、Ｔａ２Ｏ５、Ｋ３Ｔａ３Ｓｉ２Ｏ３、ＷＯ３、ＳｎＯ２、Ｂｉ２Ｏ３、ＢｉＶＯ４、ＮｉＯ、Ｃｕ２Ｏ、ＳｉＣ、ＭｏＳ２、ＩｎＰｂ、ＲｕＯ２、ＣｅＯ２、Ｔａ３Ｎ５等、さらにはＴｉ、Ｎｂ、Ｔａ、及び、Ｖから選ばれた少なくとも１種の元素を有する層状酸化物を挙げることができる。なかでも、本発明の効果がより優れる点で、金属酸化物は、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｗ、Ｃｕ、Ｓｎ、Ｆｅ、Ｓｒ、及びＢｉからなる群から選択される少なくとも１種の金属原子を含むことが好ましい。
さらに、本発明の効果がより優れる点で、光触媒性材料に含まれる金属酸化物としては、ＴｉＯ２またはＷＯ３が好ましい。
光触媒性材料の平均粒径は特に制限されないが、１ｎｍ〜２μｍが好ましく、１０ｎｍ〜１．５μｍがより好ましく、２０ｎｍ〜１μｍがさらに好ましい。なお、上記平均粒径は、顕微鏡により少なくとも１０個の任意の光触媒性材料の直径を測定し、それらを算術平均した値である。光触媒性材料が真円状でない場合、長径を直径とする。
親水加工部の平均厚みＴに対して、親水加工部に含まれる光触媒性材料の平均粒径をＤａとしたとき、平均厚みＴと平均粒径Ｄａとの比（Ｔ／Ｄａ）は、Ｔ／Ｄａ≦１００００が好ましく、Ｔ／Ｄａ≦１０００がより好ましく、Ｔ／Ｄａ≦３００がさらに好ましい。なお、親水加工部に含まれる光触媒性材料が２種以上ある場合、その中で平均粒径が一番小さい種類の光触媒性材料の平均粒径を上記Ｄａとする。
光触媒性材料の質量に対する、銀を含む抗菌剤の質量の質量比（銀を含む抗菌剤の質量／光触媒性材料の質量）は、０．０１〜２０が好ましく、０．１〜１０がより好ましく、０．３〜３がさらに好ましい。
【００６９】
（水接触角）
親水加工部の表面の水接触角は抗菌効果を高めるために８０°以下を示す必要があるが、汚染物質の除去性がより優れる点で、好ましくは６０°以下、より好ましくは３０°以下、更に好ましくは１５°以下がよい。
この親水性及び抗菌性の効果、並びに抗菌効果の向上は、バインダの親水性が銀イオンの徐放性に寄与していることが一因としてあるが、それ以外にも表面の親水性が上がることで、細菌と表面の相互作用等で、銀イオンが菌に捕食されやすくなる等の付加効果があるためと推定される。
なお、下限は特に制限されないが、使用される材料特性の点から、５°以上の場合が多い。
なお、本明細書において、水接触角は、ＪＩＳ  Ｒ ３２５７：１９９９の静滴法に基づいて測定を行う。測定には、株式会社ニック製ＬＳＥ-ＭＥ１（ソフトウェア２ｗｉｎ ｍｉｎｉ）を用いる。より具体的には、純水を用いて室温２０℃で、水平を保った親水性加工部表面上に液滴２μｌを滴下し、滴下後２０秒時点での接触角を測定する。
【００７０】
（銀イオン量）
上記で述べた医療用の機器である電子カセッテ１０において、その筐体１８の外表面、例えば、フロントパネル６０の天板６４及び保持部６６の外表面に親水加工部２０が設けられており、天板６４または保持部６６を親水加工部２０が設けられる基材とする時、基材と親水加工部２０とを備える親水加工部付き基材は、後述する抽出試験で測定される単位面積当たりの銀イオン量が１５ｎｇ／ｃｍ２以上であることが好ましく、望ましくは、１００ｎｇ／ｃｍ２以下であるのが良く、本発明の効果がより優れる点で、１５〜７５ｎｇ／ｃｍ２であることがより好ましく、１５〜５０ｎｇ／ｃｍ２であることがさらに好ましい。
上記銀イオン量の好適範囲の限定理由は、銀イオン量が１５ｎｇ／ｃｍ２未満の場合、抗菌性に劣ることがあるからであり、銀イオン量が１００ｎｇ／ｃｍ２超の場合、耐光性に劣ることがあるからである。
【００７１】
以下、抽出試験の方法について詳述する。
抽出試験では、ＪＩＳ Ｚ ２８０１：２０１０に規定された１／５００普通ブイヨン培地を抽出液として用いる。この抽出液の温度を３５±１℃に制御して、親水加工部付き基材中の親水加工部（親水加工部の面積：４ｃｍ２（２ｃｍ×２ｃｍ））と抽出液（液量：９ｍＬ）とを１時間接触させる。なお、親水加工部と抽出液とを接触させる方法としては、抽出液中に親水加工部付き基材を浸漬する方法が実施される。
次に、１時間終了後、抽出液から親水加工部付き基材を回収して、抽出液に抽出された銀イオン量（ｎｇ）を測定する。抽出液中の銀イオン量の測定は、原子吸光分析（イエナ製ｃｏｎｔｒＡＡ７００）を用いて実施し、あらかじめ作成した検量線より銀イオン量を求める。
なお、銀イオン量を測定する際には、必要に応じて、測定の安定性を高めるため、抽出液に硝酸（約１ｍＬ）を加えることが好ましい。
【００７２】
次に、得られた銀イオン量を、親水加工部の抽出液との接触面積（４ｃｍ２）で除して、単位面積当たりの銀イオン量（ｎｇ／ｃｍ２）を算出する。親水加工部の抽出液との接触面積とは、親水加工部と抽出液とを接触させた際に親水加工部表面の抽出液と接触していた面積を意図し、例えば、図２においては親水加工部２０の基材である天板６４または保持部６６の側とは反対側の主面の面積を意図する。
こうして得られた銀イオン量は、親水加工部からの銀イオンの溶出（抽出）の程度を表している。
【００７３】
（ビッカース硬度）
ビッカース硬度（ＨＶ）は、ハードコート性の評価に置いて、鉛筆硬度で評価可能な引掻き傷つきではなく、表面を鋭利な物で押込んだときの傷つきやすさの指標として有効である。
以下の条件で押し込んだときの親水加工部のビッカース硬度が、１．３３以上あれば良く、１．３５以上あればなお良く、望ましくは５以上、さらに望ましくは１０以上である。ビッカース硬度の上限は９０程度となる。
測定条件：ビッカース硬度計（（株）フィッシャー・インストルメンツ製））を用いて、荷重２０ｍＮ／２０ｓ、荷重時間５ｓにて測定した際の値のｎ１０の平均値を求める。
【００７４】
（親水加工部の平均厚み）
親水加工部の平均厚みは特に制限されないが、汚染物質の除去性及び抗菌性の点からは、０．５μｍ〜２０μｍが好ましく、１μｍ〜１０μｍがより好ましい。
なお、親水加工部の平均厚みの測定方法の一例としては、親水加工部を含むサンプル片を樹脂に包埋して、ミクロトームで断面を削り出し、削り出した断面を走査電子顕微鏡で観察し測定する。親水加工部の任意の１０点の位置における厚みを測定し、それらを算術平均する。
親水加工部の表面は、特別な表面処理を行う必要はなく、後述する作成方法で作製されたままの平坦面であれば良い。
【００７５】
（水の吸収率）
親水加工部の水の吸収率は、１０ｗｔ％より低いことが好ましく、２ｗｔ％以下であることが好ましい。
水の吸収率が、１０ｗｔ％以上の場合、親水加工部の水分量が多すぎてヒドロゲルに近い状態となり人間が通常に接触・操作する面としては適さない。なお、親水加工部に水分として多量の消毒液が残っていると、接触する人間に対してかぶれ・炎症等の害を及ぼす懸念もある。
【００７６】
なお、本明細書において、親水加工部の水の吸収率は、親水加工部の乾燥重量に対するものをいう。親水加工部の水の吸収率は、以下のようにして測定する。
所定寸法（１０ｃｍ×１０ｃｍ角）のフイルムに親水加工部を形成した親水加工部付きのサンプル（以下、親水加工サンプルという）と親水加工部なしのサンプル（以下、親水無加工サンプルという）の２つをそれぞれ１００枚準備して使用する。
まず、親水加工部の重量を測定する。親水加工サンプルと親水無加工サンプルの２つの重量の差分を測定する。ここでは、それぞれのサンプル１００枚を使用して平均値を求める。
次に、親水加工サンプルを２３℃の水に２４時間浸漬する。膜中に含有している水分以外の水滴を拭き取る。親水加工サンプルの重量を測定する。続いて８０℃のオーブンに２４時間入れて乾燥させた後に重量を測定する。親水加工サンプルの乾燥前後の重量差が吸水量である。吸水量と上で求めた親水加工部の重量の比(百分率)が親水加工部の吸水率となる。
【００７７】
なお、親水加工部を除いたフイルムの吸水量が無視出来ない場合は、これを測定して吸水量を補正してもよい。親水無加工サンプルを２３℃の水に２４時間浸漬する。膜中に含有している水分以外の水滴を拭き取る。親水無加工サンプルの重量を測定する。続いて８０℃のオーブンに２４時間入れて乾燥させた後に重量を測定する。乾燥前後の重量差がフイルムの吸水量である。親水加工サンプルの乾燥前後の重量差である吸水量からフイルムの吸水量を差し引いた差分が、補正された親水加工部の吸水量である。この補正された吸水量と親水加工部の重量の比(百分率)が、補正された親水加工部の吸水率である。
【００７８】
（親水加工部の作製）
上記親水加工部の作製方法は特に制限されず、公知の方法を採用できる。例えば、上述した親水性ポリマ及び抗菌剤を含む組成物を塗布して親水加工部を形成する方法や、別途作製した親水性ポリマ及び抗菌剤を含むポリマフイルムを所定の位置に貼り付ける方法などが挙げられる。
なかでも、親水加工部の厚みの調整がより容易である点から、上述した、親水性基を有するモノマ及び抗菌剤を含む親水加工部形成用組成物（以後、単に「組成物」とも称する）を所定の位置に塗布して塗膜を形成し、塗膜に硬化処理を施すことにより親水加工部を形成する方法（塗布法）が好ましい。
【００７９】
組成物には、上述した親水性基を有するモノマ及び抗菌剤が含まれるが、他の成分（上記他のモノマ、溶媒（水又は有機溶媒））が含まれていてもよい。
なお、組成物には、重合開始剤が含まれていてもよい。重合開始剤が含まれることにより、塗膜中での重合がより効率よく進行し、機械的強度に優れる親水加工部が形成される。重合開始剤の種類は特に制限されず、硬化処理の方法により最適な種類が選択されるが、例えば、熱重合開始剤、光重合開始剤が選択される。より具体的には、ベンゾフェノン、フェニルフォスフィンオキシドなどの芳香族ケトン類、α‐ヒドロキシアルキルフェノン系化合物（ＢＡＳＦ ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４、１２７、２９５９、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３など)、フェニルフォスフィンオキシド系化合物（ＭＡＰＯ：ＢＡＳＦ ＬＵＣＩＲＩＮ ＴＰＯ、ＢＡＰＯ：ＢＡＳＦ ＩＲＧＡＣＵＲＥ ８１９）などが挙げられる。
組成物中に含まれる重合開始剤の含有量は特に制限されないが、親水性基を有するモノマ及び他のモノマの合計質量に対して、０．１〜１５ｗｔ％が好ましく、１〜６ｗｔ％がより好ましい。
【００８０】
組成物を塗布する方法は特に制限されず、公知の塗布方法が採用される。
また、硬化処理の方法は特に制限されず、加熱処理又は光照射処理が挙げられる。
【００８１】
本実施の形態に係る可搬型放射線撮影装置１０は、基本的には以上のように構成されるものであり、次にその作用効果について説明する。
【００８２】
被写体の放射線画像を取得するためには、先ず、可搬型放射線撮影装置１０の少なくとも照射面１９側の外表面２０、好適には筐体１８の全外表面を清浄化する。すなわち、消毒液を含ませたワイパで筐体１８を拭き取る。消毒液としては、エタノール水溶液や次亜塩素酸ナトリウム水溶液が好適に用いられる。
【００８３】
可搬型放射線撮影装置１０の筐体１８の外表面には、上記したように親水加工部が設けられている。しかも、この親水加工部では、光が照射されない暗所であっても、水接触角が８０°以下である。このため、可搬型放射線撮影装置１０が暗所で保管されていたとしても、筐体１８の外表面に十分な親水性が発現する。
【００８４】
この親水性により、筐体１８の外表面が消毒液で十分に濡らされる。換言すれば、消毒液が筐体１８の外表面に十分に濡れ広がる。従って、この時点で筐体１８の外表面に細菌が万一残留していたとしても、この細菌に対して消毒液が長時間接触する。また、筐体１８の外表面の親水加工部内には、抗菌剤が含まれているので、細菌に対して抗菌剤が作用する。従って、従来よりも殺菌能力を向上させることができ、細菌の繁殖を抑制できる。
【００８５】
すなわち、可搬型放射線撮影装置１０を暗所で保管していた場合であっても、取り出した直後に消毒を行うことができる。
【００８６】
このようにして清浄化された可搬型放射線撮影装置１０の筐体１８の照射面１９を被写体に接触させた状態で、医師又は放射線技師（撮影者）が放射線源から放射線Ｒａｙを被写体の撮影部位に照射する。放射線Ｒａｙは、被写体の撮影部位を透過して可搬型放射線撮影装置１０の照射面１９を通過し、放射線検出器１２のシンチレータ２９に到達する。
【００８７】
シンチレータ２９は、放射線Ｒａｙの透過量に応じた量の蛍光（可視光）を発光する。一方、ＴＦＴ基板３０に設けられたセンサ部には、この蛍光の量（発光量）に応じた量の電荷が生成・蓄積される。この電荷に関する情報が制御部から読み出されることにより、被写体の撮影部位の放射線画像が得られる。
【００８８】
可搬型放射線撮影装置１０は、手術室や救急救命室等で使用されることもある。この場合、患者（被写体）の血液や体液が筐体１８に付着する可能性がある。この種の汚染物質を除去するべく流水で洗浄することが考えられるが、この際にバッテリ装着部やコネクタ接続部が水に濡れ、故障が発生する懸念がある。
【００８９】
そこで、撮影が終了した後、エタノール水溶液や次亜塩素酸ナトリウム水溶液等の消毒液を含ませたワイパで筐体１８を拭き取る。この場合においても上記と同様に、筐体１８の外表面に親水加工部２０が設けられているので、筐体１８の外表面に消毒液が濡れ広がり、消毒液で十分に濡らされる。
【００９０】
従って、筐体１８に汚染物質が付着している場合、親水加工部と汚染物質の間に水や消毒液が進入する。その結果、汚染物質が筐体１８から脱落し易くなる。すなわち、汚染物質を容易に除去することができる。
即ち、筐体１８の外表面を親水加工し、親水加工部の接触角を十分に低くしているので、消毒液を含ませた湿布やエタノール水溶液等の消毒液を浸漬したワイパや流水で表面を洗浄する際に、水分が汚染物質と親水加工部の表面の間に入り込むことで、非親水加工面と比較した場合に汚染物質の除去が格段に容易になり、汚染物質の残留リスクを格段に低下させることができる。
【００９１】
しかも、表面の濡れ性が高いため、消毒液が十分に濡れ、消毒液が筐体１８の外表面上に留まる時間が長くなるので、汚染物質からの細菌が外表面に残留していたとしても、この細菌に対して消毒液が長時間接触することで、十分な消毒効果を確保することができる。また、筐体１８の外表面の親水加工部内には、抗菌剤が含まれているので、親水性と抗菌性とを両立させることができ、洗浄消毒後でも微量に生存する細菌等に対して、抗菌剤が作用する。従って、従来よりも殺菌能力を向上させることができ、細菌の繁殖を抑制できる。
【００９２】
このように、筐体１８の外表面に親水加工部を設けることにより、従来は流水による洗浄を行うことが困難であった可搬型放射線撮影装置から、汚染物質を除去し、且つ消毒液による消毒を行った場合には殺菌能力を向上させた消毒を容易に行うことが可能となる。
【００９３】
本実施の形態によれば、撮影後の可搬型放射線撮影装置１０の筐体１８を容易に清浄化することができる。また、筐体１８の外表面の親水加工部には、抗菌剤が含有されているので、細菌の繁殖が抑制され、清浄化された状態が長時間にわたって継続するという利点が得られる。
【００９４】
（実施の形態２）
（可搬型放射線撮影装置）
次に、本発明に係る実施の形態２の機器である可搬型放射線撮影装置について以下に説明する。本実施の形態は実施の形態１と比較して、いわゆるモノコック型の筐体を有することを特徴とする。
図３は、実施の形態２に係る可搬型放射線撮影装置７０の全体概略斜視図である。この可搬型放射線撮影装置７０は、筐体７２の外側面が外表面を形成しており、筐体７２の内部に放射線検出器７４が収容されて構成される。
【００９５】
この放射線検出器７４は、図示しないシンチレータ、センサ部等を備える。また、放射線検出器７４には、チャージアンプＩＣ、通信部（いずれも図示せず）等が設けられる。
【００９６】
筐体７２は、長手方向両端が開口した開口端部である本体部材７６と、開口端部を閉塞する第１蓋部材７８及び第２蓋部材８０とからなる。本体部材７６は、内部に空洞を有し、いわゆる筒型の形状である。これら本体部材７６、第１蓋部材７８及び第２蓋部材８０は、いずれも、放射線を透過可能な樹脂材から構成されてもよい。
【００９７】
第１蓋部材７８には、バッテリ装着部８２やコネクタ接続部８４等の外部機器接続部が設けられる。バッテリ装着部８２に装着されるバッテリ（図示せず）によって駆動電流が供給されるとともに、コネクタ接続部８４に装着されるコネクタ（図示せず）を介して、可搬型放射線撮影装置７０と外部機器との間で有線通信が行われる。なお、有線通信に代替して無線通信を行うようにしてもよいことは勿論である。
さらに、図３に示すように、第１蓋部材７８には、表示部８８等が設けられていても良い。表示部８８は、ＬＥＤランプ等で構成され、電子カセッテ７０の駆動状態等を表示するのに用いられる。
【００９８】
筐体７２を構成する本体部材７６、第１蓋部材７８及び第２蓋部材８０の一端面（放射線源側の面）は、放射線が照射される照射面８６であり、患者である被写体（図示せず）に接触する。これら本体部材７６、第１蓋部材７８及び第２蓋部材８０の少なくとも被写体と接触する部分（すなわち放射線が照射される面）には、上記の可搬型放射線撮影装置１０と同様に、親水性層からなる親水加工部８７が設けられている。なお、本体部材７６、第１蓋部材７８及び第２蓋部材８０の被写体と接触する部分だけでなく、撮影者が接触し得る全外表面に親水加工部を設けてもよい。
【００９９】
この場合、内部に放射線検出器７４を収容した本体部材７６の開口端部が第１蓋部材７８及び第２蓋部材８０によって閉塞されることで、いわゆるモノコック型の筐体７２が形成されるとともに、可搬型放射線撮影装置７０が構成される。なお、本体部材７６は、内部に放射線検出器７４を収容できればよく、必ずしも両端部が開口端部である必要は無い。例えば、一端部のみが開口端部であり、その開口端部を蓋部材によって閉塞してもよい。
【０１００】
この可搬型放射線撮影装置７０においても、実施の形態１に係る可搬型放射線撮影装置１０と同様の効果が得られる。なお、例えば、被写体に接触する部分がコネクタ接続部８４等の外部機器接続部から大きく離間している場合等、被写体に接触する部分を流水で洗浄しても外部機器接続部が水で濡れる懸念のない放射線撮影装置である場合には、被写体に接触する部分に対し、流水による洗浄を行うようにしてもよい。この場合においても、親水加工部が存在するために水が汚染物質と外表面の間に進入するので、汚染物質を容易に除去することができ、細菌の繁殖を抑制できる。
【０１０１】
なお、図３に示す可搬型放射線撮影装置７０において、本体部材７６に対して、第２蓋部材８０は、嵌合もしくは接着・溶着することができる。接着又は溶着し、第１蓋部材７８を再剥離可能に取り付ける構造とした場合は、第１蓋部材７８以外の部分を洗浄液に浸漬することが可能となる。この時、誤って、水に濡れることが無いように、バッテリ装着部８２及びコネクタ接続部８４は、図示しないが、エラストマで蓋をしておくのがよい。また、第１蓋部材７８は、図示しないが、Ｏリング等で防水しておくのがよい。
この場合においても、筐体７２には親水加工部が設けられているので、汚染物質を容易に除去することができ、細菌の繁殖を抑制できる。
この実施形態においては、図示しないが、第１蓋部材７８に着脱取っ手又は収納取っ手が設けられていてもよい。さらに、このような図３に示す可搬型放射線撮影装置７０のように、モノコック構造の筐体７２においては、貼り易いので、抗菌加工された親水加工部を設けた自己粘着性のシートを貼るようにしてもよい。
【０１０２】
（実施の形態３）
（マンモグラフィ装置）
次に、本発明に係る実施の形態３の機器であるマンモグラフィ装置について以下に説明する。
本発明の機器は、図４に示すようなマンモグラフィ装置９０であってもよい。この場合、被写体と接する部分が外表面であり、外表面は抗菌剤を含有し、抗菌加工された親水加工部が設けられる。親水加工部は、例えば、フェースガード９２、乳房台９４又は乳房圧迫板９６に好適に設けることができる。
【０１０３】
フェースガード９２には患者の口紅や皮脂が付着する場合があり、乳房台９４及び乳房圧迫板９６には、漏出母乳やバイオプシ（マンモトーム生検）の際の出血による血液、皮脂が付着する場合がある。フェースガード９２、乳房台９４、又は乳房圧迫板９６に親水加工部を設けることにより、口紅、母乳、血液、皮脂を清拭によって簡便に除去できるとともに、消毒の際に消毒液の濡れ性が高いことから従来よりも殺菌能力を向上させることができる。
【０１０４】
さらに、抗菌加工された親水加工部を設けることによって、清拭後に残留している菌に対しても繁殖を抑え、又は殺菌することができる。
【０１０５】
（実施の形態４）
（立位撮影用の放射線撮影装置）
次に、本発明に係る実施の形態４の機器である立位撮影用の放射線撮影装置について以下に説明する。
本発明の機器は、図５に示すような立位撮影用の放射線画像診断装置１００であってもよい。この場合、撮影時に被写体が接触する撮影台１０２の外表面や、撮影時に被写体が把持するグリップ１０４、１０６の外表面に抗菌剤を含有し、抗菌加工された親水加工部を設けることが好適である。さらに、撮影者が触れるオペレーションパネル部を含む他の部分の外表面にも、好適に抗菌加工された親水加工部を設けることができる。
【０１０６】
（ＣＲカセッテ）
また、コンピューティッド・ラジオグラフィ（ＣＲ）で用いられるイメージングプレートを撮影する際に格納するＣＲカセッテの外表面にも抗菌剤を含有し、抗菌加工された親水加工部を好適に設けることができる。この場合、可搬型放射線撮影装置と同様に被写体が接触する撮影面の表面や、撮影者が触れ得る全外表面にこのような親水加工部を設けることが好適である。
【０１０７】
（グリッド）
さらに、可搬型放射線撮影装置やＣＲカセッテでの撮影時に、散乱線を除去するとともにコントラストを改善するために用いられるグリッドの外表面にも抗菌剤を含有し、抗菌加工された親水加工部を設けることが好適である。
【０１０８】
上記例に限らず、被写体と接触し、汚染物質が付着し得る放射線撮影装置の外表面に抗菌剤を含有し、抗菌加工された親水加工部を設けることができる。
（実施の形態５）
（タッチパネル）
次に、本発明に係る実施の形態５の機器であるタッチパネルについて以下に説明する。
本発明の機器は、図６に示すような表示装置１１０に組み込まれたタッチパネル１１２であってもよい。この場合には、医療従事者や患者等の操作者（ユーザ）の指等が接触するタッチパネルのカバー部材１２０に、抗菌剤を含有し、抗菌加工された親水加工部１３０を設けることが好適である。さらに、操作者が触れる他の部分にも、抗菌加工された親水加工部を設けてもよい。なお、親水加工部１３０は、上述した実施の形態１において説明した親水加工部と同一であるのでその説明は省略する。
【０１０９】
図６に示すように、表示装置１１０は、入力面１１２ａ（矢印Ｚ１方向側）からの接触位置を検出する静電容量式タッチパネル１１２と、カラー画像及び／又はモノクロ画像を表示可能な表示ユニット１１４と、タッチパネル１１２及び表示ユニット１１４を収容する筐体１１６とを有する。筐体１１６の一面（矢印Ｚ１方向側）に設けられた大きな開口部を介して、ユーザは、タッチパネル１１２にアクセス可能である。
【０１１０】
タッチパネル１１２は、メッシュ状の配線層を持つ導電性フイルム１１８と、導電性フイルム１１８の一方の面（矢印Ｚ１方向側）に積層されたカバー部材１２０と、ケーブル１２２を介して導電性フイルム１１８に電気的に接続されたフレキシブル基板１２４と、フレキシブル基板１２４上に配置された検出制御部１２６とを備える。
表示ユニット１１４の一面（矢印Ｚ１方向側）には、接着層１２８を介して、導電性フイルム１１８が接着されている。導電性フイルム１１８は、他方の面側（矢印Ｚ２方向側）を表示ユニット１１４に対向させて、表示画面上に配置されている。
【０１１１】
カバー部材１２０は、導電性フイルム１１８の一面を被覆することで、入力面１１２ａとしての機能を発揮する。また、接触体１３２（例えば、指やスタイラスペン）による直接的な接触を防止することで、擦り傷の発生や、塵埃の付着等を抑止可能であり、導電性フイルム１１８の導電性を安定させることができる。
カバー部材１２０の材質は、例えば、ガラス、樹脂フイルムであってもよい。カバー部材１２０の一面（矢印Ｚ２方向側）を酸化珪素等でコートした状態で、導電性フイルム１１８の一面（矢印Ｚ１方向側）に密着させてもよい。また、擦れ等による損傷を防止するため、導電性フイルム１１８及びカバー部材１２０を貼り合わせて構成してもよい。
【０１１２】
フレキシブル基板１２４は、可撓性を備える電子基板である。本図示例では、筐体１１６の側面内壁に固定されているが、配設位置は種々変更してもよい。検出制御部１２６は、導体である接触体１３２を入力面１１２ａに接触する（又は近づける）際、接触体１３２と導電性フイルム１１８との間での静電容量の変化を捉えて、その接触位置（又は近接位置）を検出する電子回路を構成する。
【０１１３】
タッチパネル１１２の入力面１１２ａとなるカバー部材１２０の表面（矢印Ｚ１方向側）には、親水加工部１３０が形成されている。親水加工部１３０は、入力面１１２ａとなるカバー部材１２０の表面の全面に形成されていてもよいし、その一部に形成されていてもよいが、接触体１３２と接触する領域の全域に形成されることが好ましい。タッチパネル１１２の入力面１１２ａは、ユーザの指などの接触体１３２が接触するので、汚染物質が付着しやすいが、接触体１３２と入力面１１２ａとなるカバー部材１２０の表面との間には、親水加工部１３０が存在するために、水が汚染物質と外表面の間に進入するので、汚染物質を容易に除去することができ、細菌の繁殖を抑制できるし、ユーザの指など指紋も付き難く、表示ユニット１１４の表示画面の視認性を阻害したり、低下させたりすることが無い。
【０１１４】
（実施の形態６）
（保護シート）
次に、本発明に係る実施の形態６の保護シートについて以下に説明する。
本発明の保護シート１４０は、図７（Ａ）に示すように、シート本体１４２と、シート本体１４２の一方の外側面に形成される親水加工部１４４と、シート本体１４２の、一方の外側面と反対側の他方の表面に形成される粘着層１４６と、シート本体１４２と反対側の、粘着層１４６の表面に積層される剥離シート１４８とを有する。
なお、本発明の保護シートは、図７（Ａ）に示す保護シート１４０ように、親水加工部１４４が、シート本体１４２の一方の外表面の全面に形成されるものに限定されず、図７（Ｂ）に示す保護シート１４１のように、シート本体１４２の一方の外表面の一部に形成されるものであってもよい。
本発明の保護シート１４０及び１４１は、親水加工部１４４とシート本体１４２との積層体を、上述した本発明に用いられる種々の機器、例えば、実施の形態１〜５の親水加工部形成面に親水加工部１４４を形成するためのものである。
【０１１５】
図７（Ａ）及び（Ｂ）に示す例では、保護シート１４０及び１４１は、粘着層１４６を有しているので、剥離シート１４８を粘着層１４６から剥離して、粘着層１４６を、上述した種々の機器の親水加工部形成面、例えば図１に示す可搬型放射線撮影装置１０の照射面１９等、図３に示す可搬型放射線撮影装置７０の照射面８６等、図４に示すマンモグラフィ装置９０のフェースガード９２、乳房台９４又は乳房圧迫板９６等、図５に示す立位撮影用の放射線画像診断装置１００の撮影台１０２、グリップ１０４、１０６等、図６に示すタッチパネル１１２の入力面１１２ａ（カバー部材１２０の表面）等に接着させることにより、親水加工部１４４とシート本体１４２との積層体を粘着層１４６によって親水加工部形成面に貼り付けて取り付けることができる。
【０１１６】
なお、図７（Ａ）及び（Ｂ）に示す例では、保護シート１４０及び１４１は、親水加工部１４４とシート本体１４２との積層体に加え、粘着層１４６を有しているが、本発明はこれに限定されず、親水加工部１４４とシート本体１４２との積層体のみで構成されるものであっても良い。保護シート１４０及び１４１が、親水加工部１４４とシート本体１４２との積層体のみで構成されている場合には、別途、親水加工部形成面、又はシート本体１４２の表面に、接着剤等を塗布して接着剤層等を形成し、親水加工部形成面に親水加工部１４４とシート本体１４２との積層体を貼り付けて、親水加工部１４４を形成することができる。
【０１１７】
なお、親水加工部１４４は、上述した実施の形態１において説明した親水加工部と同一であるのでその説明は省略する。
シート本体１４２は、その一方の外表面の全面又はその一部の領域に形成された親水加工部１４４を支持するものである。なお、親水加工部１４４は、シート本体１４２の一方の外表面の全面に形成されていても良いし、その一部に形成されていてもよいが、前面に形成されることが好ましい。
【０１１８】
シート本体１４２としては、親水加工部１４４を支持できれば、特に制限的ではないが、どのようなものでも良く、公知のシートを用いることができる。例えば、ポリエチレンテレフタレートフイルム、ポリブチレンテレフタレートフイルム（ＰＢＴ）、ポリイミドフイルム、トリアセチルセルロースフイルム等を使用することができる。ＰＥＴとしては例えば、東レ製ルミラーＵ３４、東洋紡製コスモシャインＡ４３００、帝人製Ｏ３９１６Ｗ等を用いることができる。また表面に易接着層が設けられていてもよい。
また、シート本体１４２の厚みも、特に制限的ではないが、１０μｍ〜２００μｍが好ましく用いることができる。貼り付け対象が、抵抗膜方式のタッチパネルの場合、柔軟な表面に追随する必要があり、１０μｍ〜１００μｍ、さらには、１０μｍ〜５０μｍが好ましい。また静電容量方式のタッチパネルの場合、貼りやすさの点から、５０μｍ〜１００μｍを好ましく用いることができる。
【０１１９】
粘着層１４６は、親水加工部１４４とシート本体１４２との積層体を、上述した種々の機器の親水加工部形成面に接着するためのものである。粘着層１４６は、親水加工部１４４とシート本体１４２との積層体を種々の親水加工部形成面に接着できればどのようなものでもよく、公知の粘着剤を用いて形成されたものであってもよい。なお、粘着層１４６に使用可能な粘着剤としては、特に限定的ではなく、例えば、（メタ）アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリエステル系粘着剤等が挙げられる。タッチパネルの表面に用いる場合は、貼り付け・剥離を繰り返すこと、気泡を入れずに貼り付けることを考慮して、自己粘着性の粘着剤も好ましく用いることができる。ここで、（メタ）アクリル系粘着剤とは、アクリル系粘着剤及び／またはメタアクリル系粘着剤（メタクリル系粘着剤）を言う。この（メタ）アクリル系粘着剤としては、後述する粘着シートに用いられる（メタ）アクリル系粘着剤を用いることができる。
粘着層の形成方法としては、特に制限はなく、例えば、塗布方式や印刷方式、貼り合わせ方式などを挙げることができ、その中でも塗布により設置する方法と粘着シートを貼り付けて形成する方法を好ましく用いることができ、粘着シートを貼り付けて形成する方法がより好ましい。
【０１２０】
また、粘着層１４６の厚みも、特に制限的ではないが、１μｍ〜３０μｍであることが好ましい。粘着層の厚さが１μｍ以上であると、共押出による安定製膜が安定的となり、３０μｍ以下であると、材料コストが安価となる。このとき、粘着力を大きくする場合は、その粘性を考慮し、粘着層の厚みを大きくするのが好ましい。粘着層の厚みを大きくすることにより、被覆体との接触面積が大きくなりやすくなるためである。粘着層の厚さは、２μｍ〜２０μｍであることが好ましく、さらに３μｍ〜１５μｍがより好ましい。
また、粘着層１４６の粘着力も、特に制限的ではないが、２ｃＮ／２５ｍｍ〜２０ｃＮ／２５ｍｍの範囲であることが、使用上好ましい。粘着力が２ｃＮ／２５ｍｍ以上であるとタッチパネル等の表面に貼り付けて使用する際にめくれ等が生じにくい。一方、粘着力が２０ｃＮ／２５ｍｍ以下であれば、フイルムを剥離する際にスムーズに剥離することができる。
【０１２１】
剥離シート１４８は、保護シート１４０の使用時まで、粘着層１４６を保護するために粘着層１４６に接着されているものである。剥離シート１４８は、粘着層１４６を保護できればどのようなものでも良く、公知の剥離シート１４８を用いることができる。例えば、シリコーン系化合物や長鎖アルキル系化合物、ポリビニルアルコール・カルバメート等の離型剤を用いることができる。
また、剥離シート１４８の厚みも、特に制限的ではないが、１μｍ〜３０μｍであることが好ましい。離型層の厚さが１μｍ以上であれば、共押出による安定製膜が安定的となり、３０μｍ以下であることが、材料コストが安価となる。離型層の厚さは、２μｍ〜２０μｍであることが好ましく、さらに３μｍ〜１５μｍが好ましい。
【０１２２】
（実施の形態７）
（抗菌膜）
次に、本発明に係る実施の形態７の抗菌膜が形成された抗菌膜付き基材について以下に説明する。
図８（Ａ）に示す抗菌膜付き基材１５０は、基材１５２と、基材１５２の一方の外側面（図示例では上側面）に形成される親水性部１５４とを有し、親水性部１５４は、本発明の抗菌膜１５６を構成する。
なお、本発明の抗菌膜１５６は、図８（Ａ）に示すように、基材１５２の一方の外表面の全面に形成された親水性部１５４から構成されるものに限定されず、図８（Ｂ）に示す抗菌膜付き基材１５０Ａのように、基材１５２の一方の外表面の一部に形成された親水性部１５４を含むように、基材１５２の一方の外表面の全面に形成されるものであってもよいし、図８（Ｃ）に示す抗菌膜付き基材１５０Ｂのように、基材１５２の一方の外表面の一部に形成された親水性部１５４から構成されるものであってもよい。
【０１２３】
図８（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）に示す抗菌膜付き基材１５０、１５０Ａ及び１５０Ｂの基材１５２としては、上述した種々の機器の親水加工部形成面を構成する部材、例えば図１及び２に示す可搬型放射線撮影装置１０の照射面１９を構成する天板６４及び保持部６６等、図３に示す可搬型放射線撮影装置７０の照射面８６を構成する本体部材７６等、図４に示すマンモグラフィ装置９０のフェースガード９２、乳房台９４又は乳房圧迫板９６等、図５に示す立位撮影用の放射線画像診断装置１００の撮影台１０２、グリップ１０４、１０６等の医療用機器の部材、図６に示すタッチパネル１１２の入力面１１２ａを構成するカバー部材１２０等を挙げることができ、また、これらの機器の親水加工部形成面を構成する部材に張り付けるための保護シート、例えば図７（Ａ）及び（Ｂ）に示す保護シート１４０及び１４１のシート本体１４２等を挙げることができる。
しかしながら、本発明においては、基材１５２としては、これに限定されず、人が触れる機会が多いために、抗菌性が必要な外面を持つ部材、例えば、便器・便座などの衛生陶器や、各種部材（金属・樹脂）の手すり、住宅の壁、ドア（戸）、窓ガラスなどや、机や食卓などの家具や、冷蔵庫、調理器具、掃除機、洗濯機、オーディオ機器、ＴＶ等の家電製品等、にも適用可能なことは勿論である。
【０１２４】
図８（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）に示す抗菌膜付き基材１５０、１５０Ａ及び１５０Ｂの親水性部１５４は、基材１５２の表面の少なくとも一部に配置される。具体的には、親水性部１５４は、図８（Ａ）に示す抗菌膜付き基材１５０のように、基材１５２の一方の側の表面の全面に配置されていてもよいし、図８（Ｂ）及び（Ｃ）に示す抗菌膜付き基材１５０Ａ及び１５０Ｂのように、基材１５２の表面の一部のみに配置されていてもよい。また、基材１５２は、図８（Ａ）及び（Ｃ）に示す抗菌膜付き基材１５０及び１５０Ｂのように、抗菌膜１５６の全体を構成するものであってもよいし、図８（Ｂ）に示す抗菌膜付き基材１５０Ａのように、抗菌膜１５６の一部のみを構成するものであってもよい。
【０１２５】
親水性部１５４としては、本発明の親水加工部、具体的には、上述した部材やシート本体の外表面に形成される親水加工部、例えば図１及び２に示す可搬型放射線撮影装置１０の照射面１９に形成される親水加工部２０、図３に示す可搬型放射線撮影装置７０の照射面８６に形成される親水加工部８７等の医療用機器の部材、図６に示すタッチパネル１１２の入力面１１２ａに形成される親水加工部１３０等を挙げることができ、また、例えば図７（Ａ）及び（Ｂ）に示す保護シート１４０及び１４１の親水加工部１４４等と全く同様の構成を有するものであるということができる。
すなわち、本発明の親水性部は、上述した本発明の親水加工部と全く同様の構成を有するものであるので、ここでは、説明を省略する。
【０１２６】
図８（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）に示す抗菌膜付き基材１５０、１５０Ａ及び１５０Ｂの抗菌膜１５６は、基材１５２の表面の少なくとも一部に配置され、抗菌作用を有する膜であり、少なくとも一部が親水性である。即ち、抗菌膜１５６は、その少なくとも一部が親水性部１５４によって構成される。
具体的には、抗菌膜１５６は、図８（Ａ）及び（Ｂ）に示す抗菌膜付き基材１５０及び１５０Ａのように、基材１５２の一方の側の表面の全面に配置されていてもよいし、図８（Ｃ）に示す抗菌膜付き基材１５０Ｂのように、基材１５２の表面の一部のみに配置されていてもよい。また、抗菌膜１５６は、図８（Ａ）及び（Ｃ）に示す抗菌膜付き基材１５０及び１５０Ｂのように、抗菌膜１５６の全部が、親水性部１５４から構成されるものであってもよいし、図８（Ｂ）に示す抗菌膜付き基材１５０Ａのように、抗菌膜１５６の一部のみが親水性部１５４から構成されるものであってもよい。
【０１２７】
抗菌膜は、銀を含む抗菌剤を少なくとも１種含む。ここで、銀を含む抗菌剤（銀系抗菌剤）は、上述した銀系抗菌剤と同様であるので、その説明は省略する。
なお、本発明においては、親水加工部中の場合と同様に、抗菌膜中における上記銀系抗菌剤の含有量は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、抗菌膜全質量に対する銀の含有量が０．００１〜２０ｗｔ％（好ましくは０．００１〜１０ｗｔ％、より好ましくは０．００１〜５ｗｔ％）となるように銀系抗菌剤を抗菌膜に含有させることが好ましい。
また、銀系抗菌剤として有機系の抗菌剤を用いる場合は、抗菌剤の含有量は特に制限されないが、抗菌膜の機械的強度がより優れ、本発明の効果がより優れる点で、抗菌膜全質量に対して、１〜４質量％が好ましい。
さらに、銀系抗菌剤として無機系の抗菌剤を用いる場合は、抗菌剤の含有量は特に制限されないが、抗菌膜の機械的強度がより優れ、本発明の効果がより優れる点で、抗菌膜全質量に対して、０．００１〜１０ｗｔ％が好ましく、０．０１〜５ｗｔ％がより好ましい。
【０１２８】
（抗菌膜付き基材）
上記で述べた基材と抗菌膜とを備える抗菌膜付き基材は、親水性部付き基材ということができ、上述した親水加工部付き基材の場合と同様に、上述の抽出試験で測定される単位面積当たりの銀イオン量が１５ｎｇ／ｃｍ２以上であることが好ましく、１５〜１００ｎｇ／ｃｍ２であることがより好ましく、１５〜７５ｎｇ／ｃｍ２がさらに好ましく、１５〜５０ｎｇ／ｃｍ２が特に好ましい。その理由も、上述した通りである。
上述した例では、抗菌膜は基材に形成されて用いられるものであるが、本発明はこれに限定されず、抗菌膜単独で用いることもできることは勿論である。
【０１２９】
（抗菌膜の製造方法）
抗菌層膜の製造方法は特に制限されず、公知の方法が採用できる。例えば、スクリーン印刷法、ディップコーティング法、スプレー塗布法、スピンコーティング法、インクジェット法、バー塗布法などの塗布法が挙げられる。
【実施例】
【０１３０】
［実施例１］
図７に示す保護シート１４０において、シート本体１４２となる表面に易接着層を有するＰＥＴベース（コスモシャインＡ４３００（東洋紡社製）、厚み５０μｍ）上に、後述する抗菌剤を含有する親水加工部形成用組成物（以下、抗菌コート膜形成用組成物という）を含むコーティング剤を塗布及び硬化（紫外線照射処理）して、親水加工部１４４となる抗菌コート膜を設けた。抗菌コート膜の平均厚みは約２μｍであった。
裏面に、マウントタイプのゲルポリシート(ＰＡＮＡＣ社製)の強粘着側をＰＥＴベースの裏面に貼付けて、粘着層付きフイルムとして実施例１の保護シートを作製した。なお、ゲルポリシートは、ガラス等の表面に貼付ける際にも気泡が入り難い仕様になっており、このゲルポリシートシートは、保護シートをタッチパネル等の表面に貼付けるのに好適であった。【０１３１】
（抗菌コート膜形成用組成物）
組成物には、以下の成分が含まれていた。
親水性基を有するモノマ：
ＭｉｒａｍｅｒＭ４００４（東洋ケミカルズ社製）      ３７質量部
親水性基を有するモノマ：
ＭｉｒｍａｅｒＭ３１５０（東洋ケミカルズ社製）      ３７質量部
抗菌剤：銀セラミックス粒子分散液
（富士ケミカル社製、平均粒径０．８μｍ、抗菌剤濃度５０ｗｔ％）
１質量部
架橋剤：Ａ-ＤＰＨ（新中村化学工業株式会社製）
２２質量部
重合開始剤：ＩＲＧＡＣＵＲＥ  １８４（ＢＡＳＦ社製）    ３質量部
溶剤：メトキシプロパノール                          １５０質量部
溶剤は揮発するため、それ以外の成分が親水加工部の質量である。以下の実施例においても同様である。【０１３２】
［実施例２］
実施例1において、抗菌コート膜形成用組成物の成分の親水性基を有するモノマを以下のように変えたこと以外は、実施例1と同様にして、実施例２の保護シートを作製した。
なお、モノマ  Ｍｉｒａｍｅｒ  Ｍ４２０には、親水性基が含まれていない。
親水性基を有するモノマ：
ＭｉｒａｍｅｒＭ４００４（東洋ケミカルズ社製）      ３４質量部
親水性基を有するモノマ：
ＭｉｒｍａｅｒＭ３１５０（東洋ケミカルズ社製）      ３４質量部
モノマ：
Ｍｉｒａｍｅｒ  Ｍ４２０（東洋ケミカルズ社製）        ６質量部【０１３３】
［実施例３］
実施例２において、抗菌コート膜形成用組成物の成分の親水性基を有するモノマとモノマとの配合量をそれぞれ以下のように変えたこと以外は、実施例２と同様にして、実施例３の保護シートを作製した。
親水性基を有するモノマ：
ＭｉｒａｍｅｒＭ４００４（東洋ケミカルズ社製）      ３２質量部
親水性基を有するモノマ：
ＭｉｒｍａｅｒＭ３１５０（東洋ケミカルズ社製）      ３２質量部
モノマ：
Ｍｉｒａｍｅｒ  Ｍ４２０（東洋ケミカルズ社製）      １０質量部【０１３４】
［実施例４］
実施例２において、抗菌コート膜形成用組成物の成分の親水性基を有するモノマとモノマとの配合量をそれぞれ以下のように変えたこと以外は、実施例２と同様にして、実施例４の保護シートを作製した。
親水性基を有するモノマ：
ＭｉｒａｍｅｒＭ４００４（東洋ケミカルズ社製）      ３０質量部
親水性基を有するモノマ：
ＭｉｒｍａｅｒＭ３１５０（東洋ケミカルズ社製）      ３０質量部
モノマ：
Ｍｉｒａｍｅｒ  Ｍ４２０（東洋ケミカルズ社製）      １４質量部【０１３５】
［実施例５］
実施例４において、モノマと抗菌剤の配合量をそれぞれ以下のように変えたこと以外は、実施例４と同様にして、実施例５の保護シートを作製した。
モノマ：
Ｍｉｒａｍｅｒ  Ｍ４２０（東洋ケミカルズ社製）      １３質量部
抗菌剤：銀セラミックス粒子分散液
（富士ケミカル社製、平均粒径０．８μｍ、抗菌剤濃度５０ｗｔ％）
２質量部【０１３６】
［実施例６］
実施例４において、モノマと抗菌剤の配合量をそれぞれ以下のように変えたこと以外は、実施例４と同様にして、実施例６の保護シートを作製した。
モノマ：
Ｍｉｒａｍｅｒ  Ｍ４２０（東洋ケミカルズ社製）      １２質量部
抗菌剤：銀セラミックス粒子分散液
（富士ケミカル社製、平均粒径０．８μｍ、抗菌剤濃度５０ｗｔ％）
３質量部【０１３７】
［実施例７］
実施例４において、モノマと抗菌剤の配合量をそれぞれ以下のように変えたこと以外は、実施例４と同様にして、実施例７の保護シートを作製した。
モノマ：
Ｍｉｒａｍｅｒ  Ｍ４２０（東洋ケミカルズ社製）      １０質量部
抗菌剤：銀セラミックス粒子分散液
（富士ケミカル社製、平均粒径０．８μｍ、抗菌剤濃度５０ｗｔ％）
５質量部【０１３８】
［実施例８］
実施例７において、抗菌コート膜形成用組成物の成分の親水性基を有するモノマとモノマとの配合量をそれぞれ以下のように変えたこと以外は、実施例７と同様にして、実施例８の保護シートを作製した。
親水性基を有するモノマ：
ＭｉｒａｍｅｒＭ４００４（東洋ケミカルズ社製）      ２５質量部
親水性基を有するモノマ：
ＭｉｒｍａｅｒＭ３１５０（東洋ケミカルズ社製）      ２５質量部
モノマ：
Ｍｉｒａｍｅｒ  Ｍ４２０（東洋ケミカルズ社製）      ２４質量部【０１３９】
［実施例９］
実施例１において、抗菌コート膜形成用組成物の成分の親水性基を有するモノマを以下のように変えたこと以外は、実施例1と同様にして、実施例９の保護シートを作製した。
親水性基を有するモノマ：
ＭｉｒａｍｅｒＭ４００４（東洋ケミカルズ社製）      ３４質量部
親水性基を有するモノマ：
ＭｉｒｍａｅｒＭ３１５０（東洋ケミカルズ社製）      ３４質量部
モノマ：
Ｍｉｒａｍｅｒ  Ｍ４２０（東洋ケミカルズ社製）        ２質量部
親水性ポリマ：ＰＥＧ２００（関東科学製）                ４質量部【０１４０】
［実施例１０］
実施例９において、各種材料の配合量をそれぞれ以下のように変えたこと以外は、実施例９と同様にして、実施例１０の保護シートを作製した。
親水性基を有するモノマ：
ＭｉｒａｍｅｒＭ４００４（東洋ケミカルズ社製）      ３２質量部
親水性基を有するモノマ：
ＭｉｒｍａｅｒＭ３１５０（東洋ケミカルズ社製）      ３２質量部
モノマ：
Ｍｉｒａｍｅｒ  Ｍ４２０（東洋ケミカルズ社製）        ２質量部
親水性ポリマ：ＰＥＧ２００（関東科学製）                ８質量部【０１４１】
［実施例１１］
実施例１において、抗菌コート膜形成用組成物に更に以下の銀粒子分散液を追加したこと以外は、実施例１と同様にして、実施例１１の保護シートを作製した。
抗菌剤：銀粒子分散液
（日本イオン社製、粒子径約７〜１０ｎｍ、銀粒子濃度１ｗｔ％）
１質量部【０１４２】
［実施例１２］
実施例１０において、抗菌コート膜形成用組成物に更に以下の銀粒子分散液を追加したこと以外は、実施例１０と同様にして、実施例１２の保護シートを作製した。
抗菌剤：銀粒子分散液
（日本イオン社製、粒子径約７〜１０ｎｍ、銀粒子濃度１ｗｔ％）
１質量部
［実施例１３］
実施例２において、各種材料の配合量をそれぞれ以下のように変えたこと以外は、実施例２と同様にして、実施例１３の保護シートを作製した。
親水性基を有するモノマ：
ＭｉｒａｍｅｒＭ４００４（東洋ケミカルズ社製）      １０質量部
親水性基を有するモノマ：
ＭｉｒｍａｅｒＭ３１５０（東洋ケミカルズ社製）      １０質量部
モノマ：
Ｍｉｒａｍｅｒ  Ｍ４２０（東洋ケミカルズ社製）      ５４質量部【０１４３】
［実施例１４］
実施例９において、各種材料の配合量をそれぞれ以下のように変えたこと以外は、実施例９と同様にして、実施例１４の保護シートを作製した。
親水性基を有するモノマ：
ＭｉｒａｍｅｒＭ４００４（東洋ケミカルズ社製）      ３０質量部
親水性基を有するモノマ：
ＭｉｒｍａｅｒＭ３１５０（東洋ケミカルズ社製）      ３０質量部
親水性ポリマ：ＰＥＧ２００（関東科学製）              １４質量部【０１４４】
［実施例１５］
実施例１において、抗菌コート膜形成用組成物の成分の親水性基を有するモノマとモノマとの配合量および抗菌剤成分を以下のように変えたこと以外は、実施例１と同様にして、実施例１５の保護シートを作製した。Ｔ/Ｄａ＝１００になった。
親水性基を有するモノマ：
ＭｉｒａｍｅｒＭ４００４（東洋ケミカルズ社製）      ２８質量部
親水性基を有するモノマ：
ＭｉｒｍａｅｒＭ３１５０（東洋ケミカルズ社製）      ２８質量部
モノマ：
Ｍｉｒａｍｅｒ  Ｍ４２０（東洋ケミカルズ社製）      １７質量部
抗菌剤：銀セラミックス粒子と酸化チタン粒子との混合分散液（銀セラミックス粒子分散液（富士ケミカル社製、平均粒径０．８μｍ、抗菌剤濃度５０ｗｔ％）０．９質量部に酸化チタン粒子（日本アエロジル社製、平均粒径２０ｎｍ）０．５５質量部を添加し、混合した。）    １．４５質量部【０１４５】
［実施例１６］
実施例１５において、抗菌剤成分の配合量を変えたこと以外は、実施例１５と同様にして、実施例１６の保護シートを作製した。
抗菌剤：銀セラミックス粒子と酸化チタン粒子との混合分散液（銀セラミックス粒子分散液（富士ケミカル社製、平均粒径０．８μｍ、抗菌剤濃度５０ｗｔ％）１．２質量部に酸化チタン粒子（日本アエロジル社製、平均粒径２０ｎｍ）０．４質量部を添加し、混合した。）    １．６質量部【０１４６】
［実施例１７］
実施例１５において、抗菌剤成分の配合量を変えたこと以外は、実施例１５と同様にして、実施例１７の保護シートを作製した。
抗菌剤：銀セラミックス粒子と酸化チタン粒子との混合分散液（銀セラミックス粒子分散液（富士ケミカル社製、平均粒径０．８μｍ、抗菌剤濃度５０ｗｔ％）０．６質量部に酸化チタン粒子（日本アエロジル社製、平均粒径２０ｎｍ）０．７質量部を添加し、混合した。）    １．３質量部【０１４７】
［実施例１８］
実施例１５において、抗菌剤成分の配合量を変えたこと以外は、実施例１５と同様にして、実施例１８の保護シートを作製した。
抗菌剤：銀セラミックス粒子と酸化チタン粒子との混合分散液（銀セラミックス粒子分散液（富士ケミカル社製、平均粒径０．８μｍ、抗菌剤濃度５０ｗｔ％）２．５質量部に酸化チタン粒子（日本アエロジル社製、平均粒径２０ｎｍ）１．２５質量部を添加し、混合した。）    ３．７５質量部【０１４８】
［実施例１９］
実施例１５において、抗菌剤成分の配合量を変えたこと以外は、実施例１５と同様にして、実施例１９の保護シートを作製した。
抗菌剤：銀セラミックス粒子と酸化チタン粒子との混合分散液（銀セラミックス粒子分散液（富士ケミカル社製、平均粒径０．８μｍ、抗菌剤濃度５０ｗｔ％）１．５質量部に酸化チタン粒子（日本アエロジル社製、平均粒径２０ｎｍ）０．２５質量部を添加し、混合した。）    １．７５質量部【０１４９】
［実施例２０］
実施例１５において、抗菌剤成分の配合量を変えたこと以外は、実施例１５と同様にして、実施例２０の保護シートを作製した。
抗菌剤：銀セラミックス粒子と酸化チタン粒子との混合分散液（銀セラミックス粒子分散液（富士ケミカル社製、平均粒径０．８μｍ、抗菌剤濃度５０ｗｔ％）０．１２質量部に酸化チタン粒子（日本アエロジル社製、平均粒径２０ｎｍ）０．１９質量部を添加し、混合した。）    ０．３１質量部【０１５０】
［実施例２１］
実施例１５において、抗菌剤成分の配合量を変えたこと以外は、実施例１５と同様にして、実施例２１の保護シートを作製した。
抗菌剤：銀セラミックス粒子と酸化チタン粒子との混合分散液（銀セラミックス粒子分散液（富士ケミカル社製、平均粒径０．８μｍ、抗菌剤濃度５０ｗｔ％）０．７５質量部に酸化チタン粒子（日本アエロジル社製、平均粒径２０ｎｍ）０．３７５質量部を添加し、混合した。）  １．１２５質量部【０１５１】
［実施例２２］
実施例１５において、抗菌剤成分と配合量を変えたこと以外は、実施例１５と同様にして、実施例２２の保護シートを作製した。Ｔ/Ｄａ＝２．８６になった。
抗菌剤：銀セラミックス粒子と酸化タングステン粒子との混合分散液（銀セラミックス粒子分散液（富士ケミカル社製、平均粒径０．８μｍ、抗菌剤濃度５０ｗｔ％）２．３質量部に酸化タングステン粒子（アライドマテリアル社製、平均粒径０．７μｍ）０．３５５質量部を添加し、混合した。）
２．６５質量部      【０１５２】
［実施例２３］
実施例２２において、抗菌剤成分の配合量を変えたこと以外は、実施例２２と同様にして、実施例２３の保護シートを作製した。
抗菌剤：銀セラミックス粒子と酸化タングステン粒子との混合分散液（銀セラミックス粒子分散液（富士ケミカル社製、平均粒径０．８μｍ、抗菌剤濃度５０ｗｔ％）０．６４質量部に酸化タングステン粒子（アライドマテリアル社製、平均粒径０．７μｍ）０．１８質量部を添加し、混合した。）
０．８２質量部【０１５３】
［実施例２４］
実施例１５において、抗菌剤成分の配合量を変えたこと以外は、実施例１５と同様にして、実施例２４の保護シートを作製した。
抗菌剤：銀セラミックス粒子と酸化チタン粒子との混合分散液（銀セラミックス粒子分散液（富士ケミカル社製、平均粒径０．８μｍ、抗菌剤濃度５０ｗｔ％）１．５６質量部に酸化チタン粒子（日本アエロジル社製、平均粒径２０ｎｍ）０．２２質量部を添加し、混合した。）    １．７８質量部【０１５４】
［実施例２５］
実施例１５において、抗菌剤成分の配合量を変えたこと以外は、実施例１５と同様にして、実施例２５の保護シートを作製した。
抗菌剤：銀セラミックス粒子と酸化チタン粒子との混合分散液（銀セラミックス粒子分散液（富士ケミカル社製、平均粒径０．８μｍ、抗菌剤濃度５０ｗｔ％）０．３３質量部に酸化チタン粒子（日本アエロジル社製、平均粒径２０ｎｍ）０．８３５質量部を添加し、混合した。）  １．１６５質量部【０１５５】
［実施例２６］
実施例１５において、抗菌剤成分と配合量を変えたこと以外は、実施例１５と同様にして、実施例２６の保護シートを作成した。Ｔ/Ｄａ＝２００になった。
抗菌剤：銀粒子と酸化チタン粒子との混合分散液（銀粒子分散液（日本イオン社製、粒子径約７〜１０ｎｍ、銀粒子濃度１ｗｔ％）０．３３質量部に酸化チタン粒子（日本アエロジル社製、平均粒径２０ｎｍ）０．０１７質量部を添加し、混合した。）    ０．３４７質量部【０１５６】
［実施例２７］
実施例２６において、抗菌剤成分の配合量を変えたこと以外は、実施例２６と同様にして、実施例２７の保護シートを作製した。
抗菌剤：銀粒子と酸化チタン粒子との混合分散液（銀粒子分散液（日本イオン社製、粒子径約７〜１０ｎｍ、銀粒子濃度１ｗｔ％）０．６７質量部に酸化チタン粒子（日本アエロジル社製、平均粒径２０ｎｍ）０．００３質量部を添加し、混合した。）    ０．６７３質量部【０１５７】
［実施例２８］
実施例１５において、抗菌剤成分と配合量を変えたこと以外は、実施例１５と同様にして、実施例２８の保護シートを作製した。Ｔ/Ｄａ＝２．８６になった。
抗菌剤：銀粒子と酸化タングステン粒子との混合分散液（銀粒子分散液（日本イオン社製、粒子径約７〜１０ｎｍ、銀粒子濃度１ｗｔ％）０．６７質量部に酸化タングステン粒子（アライドマテリアル社製、平均粒径０．７μｍ）０．００３質量部を添加し、混合した。）    ０．６７３質量部【０１５８】
［比較例１］
実施例１において、抗菌コート膜形成用組成物の成分の親水性基を有するモノマの代わりに、親水性基が含まれていないモノマ  Ｍｉｒａｍｅｒ  Ｍ４２０を用いた以外は、実施例１と同様の手順に従って、親水加工部を設け、比較例１の保護シートを作製した。【０１５９】
［比較例２］
特許文献３の実施例１に従って以下のようにして、比較例２の抗菌コート膜（抗菌膜）付きガラス板を作製した。
下記の各成分（銀粒子分散液を除く）を混合し、２０℃で４時間撹拌した。続いて、これに、銀粒子分散液（銀を２２．５ｗｔ％含む水溶液、住友電工製）０．００４ｇを添加し、２０℃で３０分間撹拌して、形成溶液を調製した。
・エチルアルコール（片山化学製）                        ５．７４ｇ
・テトラエトキシシラン（信越化学製）                    １．９１ｇ
・純水                                                  ２．１２ｇ
・パラトルエンスルホン酸一水和物（片山化学製）        ０．００３ｇ
・イソブチルアルコール（関東化学製）                    ０．１１ｇ
・ポリエーテルリン酸エステル系界面活性剤
（日本ルーブリゾール製ソルスパース４１０００）            ０．１ｇ
・ポリエチレングリコール２００（ＰＥＧ２００）（関東化学製）
０．０１４ｇ
・銀分散液：銀粒子を２２．５ｗｔ％含む水溶液（住友電工製）
０．００４ｇ【０１６０】
次に、洗浄したソーダ石灰珪酸塩ガラス基板（１００×１００ｍｍ、厚さ：３．１ｍｍ、以下「ガラス板」と呼ぶ）上に、相対湿度３０％の室温下で、形成溶液をフローコート法にて塗布した。塗布した形成溶液を室温で約１５分間風乾し、続いて予め２００℃に昇温したオーブンに投入することにより２０分間加熱し、その後冷却することにより、比較例２の抗菌コート膜付きガラス板を作製した。【０１６１】
以上のようにしてそれぞれ作成された実施例１〜２８、比較例１の保護シート及び比較例２の抗菌コート膜付きガラス板の抗菌コート膜の接触角、銀イオン量、ビッカース硬度、吸水率、及び鉛筆硬度を測定し、抗菌性及びハードコート性を評価した。その結果をまとめて表１に示す。なお、表１には、実施例１〜２８、及び比較例１の保護シートの抗菌コート膜形成用組成物の組成も合わせて示す。【０１６２】
＜各種測定＞
（接触角）
ＬＳＥ-ＭＥ１（ソフトウェア２ｗｉｎ ｍｉｎｉ）（株式会社ニック製）を用い、ＪＩＳ  Ｒ ３２５７：１９９９の静滴法に基づいて、純水を用いて室温２０℃で、水平を保った実施例１〜２８及び比較例１〜２の抗菌コート膜表面上に液滴２μｌを滴下し、滴下後２０秒時点での接触角を測定した。
（銀（Ａｇ）イオン量）
実施例１〜２８及び比較例１〜２の抗菌コート膜（親水加工部）の単位面積当たりの銀イオン量（抽出量）は、各抗菌コート膜（親水加工部）に対して、上述した抽出試験と同様な抽出試験を実施し、上述の算出方法と同様な算出方法で親水加工部の単位面積当たりの銀イオン量を算出した。
（ビッカース硬度）
実施例１〜２８及び比較例１〜２の抗菌コート膜（親水加工部）のビッカース硬度は、上述したように、ビッカース硬度計（（株）フィッシャー・インストルメンツ製））を用いて、荷重２０ｍＮ／２０ｓ、荷重時間５ｓにて測定した。
（吸水率）
実施例１〜２８及び比較例１〜２の抗菌コート膜（親水加工部）の吸水率は、上述した親水加工部の水の吸収率の測定と同様な測定方法で測定した。【０１６３】
＜各種評価＞
（抗菌性）
菌種として、大腸菌を用い、ＪＩＳ Ｚ ２８０１に準拠して、菌接触時間が２４時間以内の各時間について試験し、生菌数が検出限界以下になるまでの時間を測定した。
このようにして測定された生菌数が検出限界以下になるまでの時間で、抗菌性を評価した。
抗菌性は、生菌数が検出限界以下になるまでの時間が３０分以下では、Ａ「抗菌性が非常に良い」、３０分超６０分以下では、Ｂ「抗菌性が良い」、６０分超２時間以下では、Ｃ「抗菌性が少し良い」、２時間超３時間以下では、Ｄ「抗菌性が悪い」、３時間超では、Ｅ「抗菌性が非常に悪い」と評価した。
抗菌性の評価結果を表１に合わせて示す。【０１６４】
（ハードコート性）
ＪＩＳ  Ｋ ５６００−５−４の鉛筆硬度試験法に従って、鉛筆硬度試験を行い、実施例１〜２８及び比較例１〜２の抗菌コート膜の表面の引っ掻き硬度を測定した。
こうして測定された鉛筆硬度で、ハードコート性を評価した。
ハードコート性は、鉛筆硬度が２Ｈ以上硬ければ、Ａ「ハードコート性が良い」、鉛筆硬度がＨもしくはＦならば、Ｂ「ハードコート性がやや良い」、鉛筆硬度がＦより柔らかければ、Ｃ「ハードコート性が悪い」と評価した。
ハードコート性の評価結果を表１に合わせて示す。【０１６５】
以下、表１中、「抗菌剤」欄の「添加量」欄は、各実施例および比較例１にて使用した分散液の添加量（質量部）を表す。ただし、比較例２の「抗菌剤」欄の「添加量」欄においては、抗菌剤（Ａｇ粒子）の含有量が、親水加工部１００質量部に対して、０．２質量部であることを示す。【０１６６】
【表１】
2015178166.tif 000004
【０１６７】
【表２】
2015178166.tif 000005
【０１６８】
表１から明らかなように、実施例１〜１４では、接触角が８０°以下であり、接触角が８０°超の比較例１に比べ、生菌数が検出限界以下になるまでの時間が急激に短縮されており、抗菌性の評価は、Ａ、Ｂ又はＣであった。また、実施例１〜１２及び１４では、接触角が６０°以下であり、銀（Ａｇ）イオン量が１５ｎｇ／ｃｍ２以上であり、接触角が６０°以下であるが、銀（Ａｇ）イオン量が１５ｎｇ／ｃｍ２未満の比較例２に比べ、生菌数が検出限界以下になるまでの時間が急激に短縮されており、抗菌性の評価は、Ａ又はＢであった。
また、表１から明らかなように、吸水率が１０ｗｔ％より小さい実施例１〜１３及び実施例１５〜２８、比較例１では、吸水率が１０ｗｔ％以上の比較例２に比べ、鉛筆硬度が３Ｈ、２Ｈ、Ｈ、又はＦであり、かつビッカース硬度（ＨＶ）が１．３５以上であり、ハードコート性の評価は、Ａ又はＢであった。
また、表１から明らかなように、実施例１１及び１２では、抗菌剤として、銀セラミックス粒子とともに銀粒子を使用すると、銀セラミック単独と同等以上の抗菌性能を得た。
なお、実施例９、１０、１２及び１４から、ＵＶ硬化架橋するポリマに代えて、特許文献２及び３のように親水性ポリマ（ＰＥＧ２００）を加えると、接触角は上がって、抗菌性は悪くはないが、吸水率が上がって、ハードコート性が落ちることが分かり、実施例１４のように、親水性ポリマを多くなるとハードコート性の評価がＣになり、ハードコート性が悪くなるが、ハードコード性の評価が同じＣである比較例２のビッカース硬度（ＨＶ）が１．３０であるのに比べて、ビッカース硬度（ＨＶ）が１．３３であり、押し込み傷に対して耐性があることが分かる。
また、実施例１５〜２８に示すよう、接触角が８０°以下であり、Ｔ／Ｄａ≦３００では、生菌数の検出限界以下になるまでの時間が短縮されており、抗菌性の評価はＡまたはＢであった。さらに、実施例１５〜２８の比較より、抗菌剤／光触媒性材料の質量比が０．３〜３．０の場合、より優れた効果が得られた。
以上の結果から、本発明の効果は明らかである。
また、マンモグラフィ装置の外表面上に、実施例１〜２８と同様に抗菌剤を含有する親水加工部形成用組成物を含むコーティング剤を塗布及び硬化し、抗菌層付き機器を作製し、表１および表２と同様の結果を得られることを確認した。【０１６９】
以上に、本発明に係る機器、保護シート、及び抗菌膜について種々の実施形態及び実施例を挙げて説明したが、本発明は、上述の実施形態及び実施例に限定されず、本発明の要旨を逸脱しないかぎり、種々の改良や設計の変更を行っても良いことはもちろんである。
【符号の説明】
【０１７０】
１０、７０…可搬型放射線撮影装置        １８、７２…筐体
１２、７４…放射線検出器                １３…制御基板
１９、８６…照射面                      ２０、８７…親水加工部
２９…シンチレータ                      ３０…ＴＦＴ基板
６０…フロントパネル                    ６２…バックパネル
６４…天板                              ６６…保持部
７６…本体部材                          ７８、８０…蓋部材
８２…バッテリ装着部                    ８４…コネクタ接続部
９０…マンモグラフィ装置                ９２…フェースガード
９４…乳房台                            ９６…乳房圧迫板
１００…放射線画像診断装置              １０２…撮影台
１０４、１０６…グリップ                １１０…表示装置
１１２…タッチパネル                    １１２ａ…入力面
１１４…表示ユニット                    １１６…筐体
１１８…導電性フイルム                  １２０…カバー部材
１２２…ケーブル                        １２４…フレキシブル基板
１２６…検出制御部                      １２８…接着層
１３０、１４４…親水加工部              １３２…接触体
１４０、１４１…保護シート              １４２…シート本体
１４６…粘着層                          １４８…剥離シート
１５０、１５０Ａ、１５０Ｂ…抗菌基材    １５２…基材
１５４…親水性部                        １５６…抗菌膜
【図１】
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【図２】
2015178166.tif 000007
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
2015178166.tif 000013
【国際調査報告】
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