(57)【要約】「要約」  本発明者等は、配向膜の配向規制力の向上について鋭意検討を重ねた結果、当該配向規制力は配向膜の黄色度（ＹＩ）を一定以上に制御することにより容易に解消できることを見出し、以下の本願発明により当該課題を解決することを見出した。  透過する光の位相または速さを制御する液晶性化合物を含む液晶層および前記液晶層と当接して前記液晶性化合物に含まれる液晶分子の配向を制御する光配向層を備える画像表示部を有し、  前記光配向層の黄色度（ＹＩ）が、０．００１＜ＹＩ＜１００であることを特徴とする画像表示装置。「選択図」  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透過する光の位相または速さを制御する液晶性化合物を含む液晶層および前記液晶層と当接して前記液晶性化合物に含まれる液晶分子の配向を制御する光配向層を備える画像表示部を有し、
前記光配向層の黄色度（ＹＩ）が、０．００１＜ＹＩ＜１００であることを特徴とする画像表示装置。
【請求項２】
前記液晶性化合物を含む液晶層は、外場により配向制御可能な液晶媒体、重合可能な液晶化合物を硬化してなる光学異方性分子および相変化可能な高分子液晶からなる群から選択される少なくとも１種である、請求項１に記載の画像表示装置。
【請求項３】
前記画像表示部に設けられた透光性の光学積層体を有する画像表示装置であって、
前記光学積層体は、前記積層体を透過する光の位相または速さを制御する前記光学異方性分子または前記高分子液晶の少なくともいずれかを含む光学異方層と、
前記光学異方層と当接し、前記光学異方性分子を配向させる前記光配向層と、を備え、
前記光学異方層および前記配向層の黄色度（ＹＩ）が、０．００１＜ＹＩ＜１００であることを特徴とする、請求項２に記載の画像表示装置。
【請求項４】
前記光学積層体は偏光板をさらに備える請求項３に記載の画像表示装置。
【請求項５】
前記偏光板と前記画像表示部との間に前記光学積層体を設けられる、請求項４に記載の画像表示装置。
【請求項６】
前記偏光板は、光学積層体より画像表示部側に設けられる、請求項４に記載の画像表示装置。
【請求項７】
第一の光配向層が表面に形成された第一の基板と、
前記第一の光配向層と対向するよう離間して設けられた第二の光配向層が表面に形成された第二の基板と、
前記第一の光配向層および前記第二の光配向層と当接するよう前記第一の基板および第二の基板間に充填され、かつ外場により前記配向制御可能な液晶媒体を含む液晶層と、
前記第一の光配向層と前記第一の基板との間にアクティブ素子および画素電極を含む電極層と、を前記画像表示部に有し、
前記第一の光配向層または第二の光配向層の黄色度（ＹＩ）が、０．００１＜ＹＩ＜１００であることを特徴とする、請求項２に記載の画像表示装置。
【請求項８】
前記画素電極と前記第一基板との間または前記第二の光配向層と前記第二の基板との間にカラーフィルタをさらに有する、請求項７に記載の画像表示装置。
【請求項９】
前記光配向層の平均厚みは、０．０１〜１μｍである、請求項７または８に記載の画像表示装置。
【請求項１０】
前記第一の光配向層と前記第一の基板との間にアクティブ素子、画素電極、共通電極を有し、かつ液晶層はホモジニアス配向する、請求項７〜９に記載の画像表示装置。
【請求項１１】
前記第二の基板と第二の光配向層との間に共通電極を有する、請求項７〜９のいずれか１項に記載の画像表示装置。
【請求項１２】
前記画素電極は櫛歯状であり、前記第一の基板上に、共通電極、絶縁層および画素電極の順に積層されている、請求項７〜１０のいずれか１項に記載の画像表示装置。
【請求項１３】
前記共通電極は櫛歯状であり、前記第一の基板上に、画素電極、絶縁層および共通電極の順に積層されている、請求項７〜１０のいずれか１項に記載の画像表示装置。
【請求項１４】
前記画素電極と前記第一基板との間にカラーフィルタを有する場合、前記第二の配向層の黄色度（ＹＩ）が０．００１＜ＹＩ＜１００であることを特徴とする、請求項８に記載の画像表示装置。
【請求項１５】
前記第二の光配向層と前記第二の基板との間にカラーフィルタを有する場合、前記第一の配向層の黄色度（ＹＩ）が０．００１＜ＹＩ＜１００であることを特徴とする、請求項８に記載の画像表示装置。
【請求項１６】
溶媒成分および光に応答して異性化し偏光軸に対して略垂直または略平行に配向する光配向性成分を含み、黄色度（ＹＩＳ）が０．００１＜ＹＩＳ＜５００である、光応答性液晶配向剤。
【請求項１７】
前記光配向性成分を０．１〜１０．０質量％含有する、請求項１６に記載の光応答性液晶配向剤。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、画像表示装置およびそれに使用する配向材料に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
２次元映像や３次元映像を表示する画像表示装置としては、液晶表示素子や無機または有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）など種々のデバイスが存在する。例えば液晶表示素子やＥＬといった画像表示装置に使用される位相差膜や液晶表示素子に使用される液晶材料などの光学材料の分子を配向させる配向処理は、一般的に大きく分けて、ガラス等の基板表面にポリイミド等の高分子の膜を基板表面に形成し、これを一方向に布等で摩擦するラビング法と、基板上に設けた塗膜に異方性を有する光を照射して液晶配向能を生じさせる光配向法と、に分類される。前者のラビング法では、製造工程において配向膜表面に生じた傷やほこりが原因で配向欠陥が発生する問題や基板のサイズが大型化するに伴い、基板全面に亘って、かつ長期間均一な配向を得るためのラビング装置の設計および管理が困難になるという問題がある。【０００３】
一方、後者の光配向法では、光（例えば偏光紫外線）を配向膜上に照射して、偏光方向に分子を選択的に反応させ、これにより異方性が発生することで分子に対する配向能を発揮する方法であるため、傷やほこりが原因の配向欠陥や基板全面に亘って長期間均一な配向を得るというラビング法の問題点は解決することができる長所があり、現在積極的に開発が進められている。【０００４】
しかしながら、現在多くの光配向膜やラビング配向膜に使用されているポリイミド系の配向膜は、一般的に芳香族系モノマーから構成されており、耐熱性、配向特性などは良好である。しかしながら、例えば特許文献１に示すように、ポリイミドの持つ黄褐色〜茶色という特有の着色の性質により、液晶ディスプレイ自体に黄色の着色を与える問題がある。そのため、前記配向膜を位相差膜やレンチキュラーレンズ等を構成する分子の配向に利用する場合も着色の問題が依然として残る。【０００５】
また、２次元映像だけでなく３次元映像を表示する液晶表示装置では、一般に、高精細な画像が望まれているが、３次元映像を表示す立体表示装置においては左眼映像と右眼映像を表示する必要性から精細度は半減し低下することとなる。そのため精細度を向上させるには２次元の表示装置以上に画素のサイズを小さくしなければならない。例えば、特許文献２には、液晶表示装置の高精細画像を実現するため画素電極上に配向規制構造物を設ける提案がなされている。【０００６】
３次元映像を表示する画像表示装置としては、画像表示装置（例えば、液晶表示素子や有機ＥＬ）の左眼映像と右眼映像に対応した位置に異なる位相状態を与えるパターンリターダを設置し、左眼映像と右眼映像を例えば右円偏光と左円偏光に分離して表示し、これを専用の眼鏡で見ることにより立体画像を認識する、いわゆる専用の眼鏡を用いる方式と、例えば、レンチキュラーレンズ方式や、視差バリア（パララックスバリア）方式などに代表される専用の眼鏡が不要な方式に大別される。これらの方式では、互いに視差がある複数の映像（視点映像）を同時に表示し、表示装置と観察者の視点との相対的な位置関係（角度）によって見える映像が異なるようになっている。【０００７】
例えば前者のパターンリターダに関する技術としては、特許文献３が挙げられる。前記特許文献３によれば、パターンリターダが加熱や加湿等により寸法が変化し、パターンリターダの左右眼パターンと液晶表示素子のパターンとが対応しなくなり、左右の画像のそれぞれが他方の画像に混入するクロストークが発生する問題に対し、特定の保護層及び接着層を設けることによりパターンリターダの寸法変化を抑制する事が提案されている。【０００８】
また、例えば後者の裸眼用のレンチキュラーレンズに関する技術としては、特許文献４が挙げられる。前記特許文献４によれば、屈折率が温度変化することにより集光角度が変化し最適動作状態から乖離する問題があり、これを防ぐためレンチキュラーレンズを液晶高分子で作製する提案がなされている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２０１０−１０１９９９号公報
【特許文献２】国際公開２０１１‐１２９１７７号
【特許文献３】特開２０１２−１２３０４０号
【特許文献４】特表２００４−５３８５２９号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
上記特許文献１で代表されるように、従来はイエローインデックスの小さい配向膜材料を用いて光透過性を大きく、色度変化を小さくすることが提案されてきたが、配向規制力が低く、分子を特定方向に配列できない課題が依然として残る。また、液晶表示素子における配向膜だけでなく、液晶層がバックライトや外部からの光を常に受け、紫外線などにより経時的に劣化し、それによって液晶分子を配向する配向規制力や液晶特性が低下するという新たな問題が生じる。また、上記特許文献２に示すように画素のサイズを小さくすると、１画素の大きさよりラビング法で使用する布の繊維幅が大きく適切にラビングできないという問題が生じる。【００１１】
さらに、位相差膜やレンチキュラーレンズなど重合性液晶化合物を配向させて用いる素子の特性は配向度や配向の均一性に直接依存するため、装置の特性、例えば３次元映像のにじみ、解像度、着色などにも大きく影響する。この点は液晶表示装置でもＥＬ表示装置でも表示装置の種類を問わず同様である。【００１２】
また、３次元映像を表示する画像（液晶、ＥＬ）表示装置においては、観察者にとって専用の眼鏡は煩わしく感じるものであり、専用の眼鏡が不要なものが望まれている。しかし、専用の眼鏡の要否に関わらず、上記特許文献３および４に記載の発明は、光学素子のパターンリターダを組み合わせた装置または液晶表示素子と光学素子のレンチキュラーレンズを組み合わせた装置であり、両素子の精細度を増すことによって立体画像の品質を向上させることができるとの記載がある。しかしながら、これまでに精細度を改善する提案はいくつかなされているものの十分とはいえない。すなわち、３次元映像表示は、互いに視差のある（視点の異なる）左眼映像と右眼映像を表示するものであり、観察者が左右の目でそれぞれを見ることにより奥行きのある立体的な映像として認識することができる。また、互いに視差がある３つ以上の映像を表示することにより、観察者に対してより自然な立体映像を提供することが可能な表示装置も開発されている。その際、自然な立体映像を提供する上で液晶表示素子における液晶の配向乱れが大きな障害となることはもちろん、パターンリターダにおいては配向方向の異なる左眼用と右眼用の円偏光の偏光度の低下、および隣り合うリターダの境界領域での液晶の配向乱れによるクロストーク、などの問題が生じており、レンチキュラーレンズにおいてもレンズ内の配向層近傍の配向度および配向層から遠い領域の液晶の配向乱れが、レンズを透過した光の集光方向にずれを生み、自然な立体映像の画質および映像の精細度を低下させる問題が生じていた。【００１３】
視野角補償に用いられる補償膜やパターンリターダ等の位相差膜は通常０．１〜数μｍ程度の膜厚を有するものが多いが、レンチキュラーレンズの平面から頭頂部までの厚さは、用いられる液晶表示素子の精細度に応じて１〜数百μｍ、現状は１０〜１００μｍのものが多い。レンチキュラーレンズを液晶性材料によって作製する場合、（光）配向層またはそれに代わる型枠などの物理的な形状によって配向方向を規制する。比較的厚いレンチキュラーレンズの膜厚が影響し、配向層など配向方向を規制する面での乱れが膜厚によって拡大する。配向方向の乱れはレンチキュラーレンズの屈折率の乱れを生み、レンズを透過した屈折光の方向を乱すため立体視効果を低減することになる。従って配向状態が高度に均質な裸眼立体視用レンチキュラーレンズを得るためには、配向層での液晶分子の配向方向を精度高く規制する必要があり、そのためには配向層の配向規制力を高めることが重要である。【００１４】
補償膜中の配向欠陥、パターンリターダの境界領域において配向乱れの生じる幅の影響、またはレンチキュラーレンズの厚さによる配向乱れの影響等は、近年の液晶表示装置に求められる高機能化・高精細化に伴って顕在化してきた問題である。【００１５】
液晶表示装置の精細度は画素サイズを小さくすることによっても得られるが、画素サイズに連動してパターンリターダおよびレンチキュラーレンズなどの精細度が十分高くないとコントラストが十分得られず設計した精細度を発揮できない。コントラストは配向乱れ、または欠陥による光漏れなどによって影響される。配向規制力が十分大きい配向層を用いた場合にはコントラストを大きくすることができ、精細度を上げることができる。【００１６】
パターンリターダのコントラストは右目用リターダ部分と左目用リターダ部分の配向乱れに基づく光漏れはもちろん、両部分の境界領域近傍に生ずる配向の乱れた領域からの光漏れなどによって影響され、配向規制力が十分大きい配向層を用いた場合にはコントラストが大きくなり、即ち精細度を上げて用いることができる。【００１７】
レンチキュラーレンズの場合もパターンリターダと同様に配向乱れがレンズの集光角度のズレを生みコントラストに影響を与える。配向規制力が十分大きい配向層を用いた場合には集光角度の分布を低減する結果コントラストが大きくなり、即ち精細度を上げて用いることができる。【００１８】
ここでパターンリターダとは、遅相軸が異なる方向である位相差層の領域が面内で一定の規則性で配置された位相差膜を意味し、通常は液晶またはＥＬ等の表示素子の画素に対応して交互に配置されたストライプ状である。例えば異なる方向に遅相軸を有する２つの領域が、それぞれ、液晶表示素子の画素の奇数番目ラインと偶数番目ラインとに対応し、画素を透過した光が通過する位置に対応して置かれている。奇数番目ラインと偶数番目ラインの位相差層は光軸が異なっており、各々入射光の位相を１／４波長、−１／４波長だけ遅延させたとする。この場合、各々の位相差層を透過した光は偏光層を透過した後、互いに方向が異なる円偏光に変形され、奇数番目ラインに表示される映像の光は左円偏光に変換され、偶数番目ラインに表示される映像の光は右円偏光に変換される。この映像を左円偏光と右円偏光のみを透過する２つのフィルターからなる眼鏡で見ることにより３次元映像表示として視認できる。【００１９】
そこで、本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、高い配向規制力、耐光性、配向欠陥の低減、立体表示の品質を高めるために必要な高精細な画像表示部を備えた画像表示装置を提供するのが目的である。【００２０】
例えば、本発明の一形態では、高い配向規制力、耐光性、配向欠陥の低減、立体表示の品質を高めるために必要な高精細な液晶表示素子を提供する。【００２１】
本発明の他の一形態では、光学積層体である位相差膜、パターンリターダ、レンチキュラーレンズにおいて、光学積層体における光配向層と光学異方層との境界領域近傍の液晶配向の乱れを低減したパターンリターダ等の位相差膜、もしくは配向状態が高度に均質な裸眼立体視用レンチキュラーレンズ等の屈折性素子を提供し、３次元映像表示装置に代表される高精細表示装置を実現することを目的とするものである。また、視野角補償などに用いられる光学補償膜用の位相差膜において配向乱れを低減することにより高精細な画像表示装置を得ることも目的の一つである。【００２２】
さらに別の観点から、これらに必要となる配向規制力が向上した光応答性配向剤の提供を目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００２３】
本発明者等は、上記実情に鑑み、画像表示装置の一例である液晶表示素子の駆動用液晶の液晶分子の配向に使用する配向層の配向規制力の向上について鋭意検討を重ねた結果、前記配向規制力は配向膜の黄色度（ＹＩ）を一定以上に制御することにより容易に解消できることを見出し、以下の本願発明により前記課題を解決することを見出した。【００２４】
本発明者等は上記実情に鑑みて、配向層を視野角補償等に用いられる補償膜やパターンリターダなどの位相差膜、およびレンチキュラーレンズなどの屈折性素子に用いられる場合、３次元映像表示における精細度向上に障害となっているのは、液晶表示素子、パターンリターダなどの位相差膜、またはレンチキュラーレンズなどの屈折性素子等に用いられる配向層の配向規制力が十分大きくないことが原因であることを見出した。【００２５】
すなわち、透過する光の位相または速さを制御する液晶性化合物を含む液晶層および前記液晶層と当接して前記液晶性化合物に含まれる液晶分子の配向を制御する光配向層を備える画像表示部を有し、前記配向層の黄色度（ＹＩ）が、０．００１＜ＹＩ＜１００であることを特徴とする画像表示装置を提供する。【００２６】
また、本発明の画像表示装置においては、前記配向層に用いる光応答性配向剤（光配向成分を溶媒に溶解した状態）の黄色度（ＹＩＳ）が０．００１＜ＹＩＳ＜５００である光応答性配向剤を提供する。
【発明の効果】
【００２７】
本発明の画像表示装置によれば、光学積層体である、位相差膜、パターンリターダ等の位相差膜または裸眼立体視用レンチキュラーレンズ等の屈折性素子の配向層の配向規制力が増大したことにより、位相差膜における異なる配向乱れ、特にパターンリターダのパターンの境界領域近傍の液晶配向の乱れを低減し、後者における配向層から離れた位置における液晶の配向乱れを低減することができる。【００２８】
本発明の画像表示装置によれば、高精細な液晶表示素子、または配向方向の異なる境界領域近傍の液晶配向の乱れを低減することができる。【００２９】
本発明の画像表示装置によれば、経時的な光による劣化を抑制・防止することができる。【００３０】
本発明の画像表示装置によれば、外場により駆動する液晶分子の配向欠陥、配向乱れまたは光漏れを低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】図１は、画像表示装置の一例である有機ＥＬ素子の構成を模式的に示す図である。
【図２】図２は、画像表示装置の一例である有機ＥＬ素子の構成を模式的に示す図である。
【図３】図３は、画像表示装置の一例である有機ＥＬ素子の構成を模式的に示す図である。
【図４】図４は、画像表示装置の一例である液晶表示素子の構成を模式的に示す図である。
【図５】図５は、図４における基板上に形成された薄膜トランジスタを含む電極層のＩＩの領域を拡大した平面図である。
【図６】図６は、図５におけるＩＩＩ−ＩＩＩ線方向に図４に示す液晶表示素子を切断した断面図である。
【図７】図７は、図４における基板上に形成された薄膜トランジスタを含む電極層のＩＩの領域を拡大した他の実施形態の平面図である。
【図８】図８は、図７におけるＩＩＩ−ＩＩＩ線方向に液晶表示素子を切断した他の実施形態の断面図である。
【図９】図９は、画像表示装置の一例である液晶表示素子の構成を模式的に示す図である。
【図１０】図１０は、図９における基板上に形成された薄膜トランジスタを含む電極層のＩＩの領域を拡大した平面図である。
【図１１】図１１は、図１０におけるＩＩＩ−ＩＩＩ線方向に図９に示す液晶表示素子を切断した断面図である。
【図１２】図１２は、画像表示装置の一例である液晶表示素子の構成を模式的に示す図である。
【図１３】図１３は、図１２に示す液晶表示素子を図５と同様に切断した断面図である。
【図１４】図１４は、画像表示装置の一例である液晶表示素子の構成を模式的に示す図である。
【図１５】図１５は、図１４における基板上に形成された薄膜トランジスタを含む電極層のＩＩの領域を拡大した平面図である。
【図１６】図１６は、図１５におけるＩＩＩ−ＩＩＩ線方向に図１４に示す液晶表示素子を切断した断面図である。
【図１７】図１７は、図１４における基板上に形成された薄膜トランジスタを含む電極層のＩＩの領域を拡大した他の実施形態の平面図である。
【図１８】図１８は、図１７におけるＩＩＩ−ＩＩＩ線方向に液晶表示素子を切断した他の実施形態の断面図である。
【図１９】図１９は、本発明に係る他の液晶表示素子の構成を模式的に示す図である。
【図２０】図２０は、図１９における基板上に形成された薄膜トランジスタを含む電極層のＩＩの領域を拡大した平面図である。
【図２１】図２１は、図２０におけるＩＩＩ−ＩＩＩ線方向に図１９に示す液晶表示素子を切断した断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３２】
以下、本発明に係る画像表示装置およびそれに使用する液晶配向剤について詳細に説明する。
【００３３】
なお、本出願は、２０１４年５月２３日に出願された日本国特許出願第２０１４−１０７０９５号および２０１５年２月２日に出願された日本国特許出願第２０１５−０１８４８３号に基づいており、その開示内容は、参照により全体として引用されている。
【００３４】
本発明の第一は、透過する光の位相または速さを制御する液晶性化合物を含む液晶層および前記液晶層と当接して前記液晶性化合物に含まれる液晶分子の配向を制御する光配向層を備える画像表示部を有し、前記配向層の黄色度（ＹＩ）が、０．００１＜ＹＩ＜１００であることを特徴とする画像表示装置である。
【００３５】
本発明において、光配向層の配向規制力が増大したことにより、液晶性化合物における液晶分子の配向乱れ、特に配向層との境界領域近傍の液晶配向の乱れを低減し、配向層から離れた位置における液晶分子の配向乱れを低減することができる。
【００３６】
本発明に係る画像表示装置に用いる画像表示部は、画素表示部分の間隙に光が透過する光透過部が形成されているものであり、印加電圧等により輝度が変化する電気光学素子を画素表示素子として使用されているものであり、液晶表示素子または有機ＥＬ素子が挙げられる。また、画像表示部は、画像情報は表示される領域であり、厚み方向は問わない。
【００３７】
また、本発明に係る画像表示装置は、電子機器の一例であり、パーソナルコンピュータを構成するモニタ装置、ノート型パーソナルコンピュータのモニタ装置、スマートフォンなどの携帯電話、携帯情報端末またはゲーム機器のモニタ装置、テレビジョン受像機として使用することができる。
【００３８】
本発明に係る画像表示装置の好適な実施態様は、画像表示部に設けられた透光性の光学積層体を有する画像表示装置であって、前記光学積層体は、前記積層体を透過する光の位相または速さを制御する前記光学異方性分子または前記高分子液晶の少なくともいずれかを含む光学異方層と、前記光学異方層と当接し、前記光学異方性分子を配向させる前記光配向層と、を備え、前記光学異方層および前記配向層の黄色度（ＹＩ）が、０．００１＜ＹＩ＜１００であることを特徴とする。
【００３９】
前記光学積層体が位相差膜またはパターンリターダ、またレンチキュラーレンズなどの屈折性素子として作用することにより、光学異方層と光配向層との境界領域近傍における光学異方層の配向の乱れを低減した画像表示装置を提供することができる。本発明に係る液晶表示装置は、（光）配向層の配向規制力が高まったことにより光学異方層（例えば、重合性液晶）の配向不良点を減少させ、光漏れを減少しコントラストが向上している。また、本願発明に係る光配向層は特定範囲の黄色度を備えているため、比較的エネルギーの高い青紫や青紫色を吸収し、比較的エネルギーが低い黄色または赤及び緑の混色を透過するため、耐光性に優れた画像表示装置を提供することができる。
【００４０】
また、本発明の画像表示装置においては、光配向層に用いる光応答性配向剤（光配向成分を溶媒に溶解した状態）の黄色度（ＹＩＳ）を０．００１＜ＹＩＳ＜５００とすることによって、配向層の配向規制力を高めることが可能であり、位相差膜およびパターンリターダ、またはレンチキュラーレンズ等の屈折性素子の配向層として形成した後の、基板に配向層が形成された状態における黄色度（基板と配向層との黄色度（ＹＩＬ）から後述する方法により求めた黄色度（ＹＩ））を０．００１＜ＹＩ＜１００とすることによって、素子としての総合的な特性向上を図ることができる。
【００４１】
本明細書における「配向規制力」とは、光配向層と液晶層との界面において、与えた方向に対して配向層が液晶分子を配列させる力を指す。配向規制力が大きいほど、液晶分子を並べる力が強く、液晶分子の熱振動や外力による配向乱れを抑制する効果が大きい。配向規制力のポテンシャルエネルギーはアンカリングエネルギーと呼ばれ、配向規制力の評価値として直接的にはアンカリングエネルギーを用いる。アンカリングエネルギーは更に「方位角アンカリングエネルギー」と「極角アンカリングエネルギー」に分けることができる。「方位角アンカリングエネルギー」は、液晶を基板面内で捩じろうとする力に対してどれだけ対抗できる力を持っているのか、「極角アンカリングエネルギー」は、液晶を基板面から立たせようとする力に対してどれだけ対抗できる力を持っているのかを示すパラメータとなる。
【００４２】
例えば、液晶層が光学異方層の場合の「配向規制力」とは、配向層と光学異方層との界面において、与えた方向に対して配向層が光学異方性分子を配列させる力を指す。配向規制力が大きいほど、光学異方性分子を並べる力が強く、光学異方性分子の熱振動や外力による配向乱れを抑制する効果が大きい。方位角アンカリングエネルギー」は、光学異方性分子を基板面内で捩じろうとする力に対してどれだけ対抗できる力を持っているのか、「極角アンカリングエネルギー」は、光学異方性分子を基板面から立たせようとする力に対してどれだけ対抗できる力を持っているのかを示すパラメータとなる。
【００４３】
以下、本発明に係る画像表示装置の好ましい実施形態について以下説明する。
【００４４】
本発明の画像表示装置の好適な実施形態は、前記画像表示装置における画像表示部に光学積層体が直接または間接的に積層されており、必要により偏光板をさらに備える。前記偏光板と前記画像表示部との間に前記光学積層体を設けられてもよく、前記偏光板は、光学積層体より画像表示部側に設けられてもよい。
【００４５】
本発明の一の実施形態の画像表示装置として有機ＥＬ表示素子を使用した場合の態様について図１〜３を参照して説明する。図１は、有機ＥＬ表示素子の一例を示す概略断面図である。図１に例示するように、有機ＥＬ表示素子１００は、基板１２１および上記基板１２１上に形成され、白色発光層を含む有機ＥＬ素子１２５を有する有機ＥＬ素子側基板１２０と、透明基板１０１、上記透明基板１０１上に形成された開口部を備える遮光部１０２、ならびに上記開口部に形成された赤色着色層１０３Ｒ、緑色着色層１０３Ｇ、および青色着色層１０３Ｂを含む着色層１０３を有する有機ＥＬ表示装置用カラーフィルタ１１０と、上記カラーフィルタ１１０および上記有機ＥＬ素子側基板１２０の周縁部に形成され、上記有機ＥＬ素子１２５を封止するシール剤１２７とを有するものである。ここで、上記有機ＥＬ素子１２５が、背面電極層１２２、白色発光層を含む有機ＥＬ層１２３、および透明電極層１２４を含むものであり、上記有機ＥＬ素子側基板１２０が、上記背面電極層１２２の開口部に形成された絶縁層１２６を有するものである。また、製造工程における欠陥を減少させるために、上記着色層を覆うように、樹脂からなるオーバーコート層１０４を形成してもよい。また、本発明の光学積層体１１２および偏光板１１１は画像表示部の表面である透明基板１０１側に設けられている。より詳細には、画像表示部の表面である透明基板１０１上に直接または間接的に光学積層体１１２を形成する。前記光学積層体１１２は配向層（図示せず）と前記配向層と直接当接した光学異方層（図示ぜす）とを含み、図１では、透明基板１０１の基板１２１側表面に、偏光板１１１、光学異方層１１２の順に積層されている。本発明に係る光学積層体は、光学異方層と、光配向層とを必須として含むものであり、必要により基板を備えてもよく、また前記基板を画像表示部に固定または接着するために公知の粘着剤層や接着剤層を含んでもよい。また、光学積層体１１２における光配向層と光学異方層との積層の順序は問わないため、光配向層を基板１２１側設けても基板１０１側に形成されていてもよい。
【００４６】
図２は、有機ＥＬ表示素子の他の一例を示す概略断面図であり、図２では、図１のように光学積層体１１２および偏光板１１１は画像表示部の表面である透明基板１０１側に設けられている代わりに、透明基板１０１上に直接光学積層体１１２を形成している形態である。その他の構成は、図１と同様なのでここでは省略する。図２において、透明基板１０１と光学積層体１１２の光配向層が接するように形成してもよく、また光学積層体１１２の光学異方層が透明基板１０１と当接するように形成してもよい。さらに、図１以外の間接的に透明基板１０１上に光学積層体１１２を形成する形態としては、本発明の光学積層体を予め基板上に形成しておき、前記光学積層体を形成した基板と透明基板１０１とを接着層や粘着層を介して基板同士接着してもよい。より詳細には透明基板１０１とは異なる基板上に光配向層を形成した後、前記光配向層上に光学異方層を形成し、透明基板１０１に光学異方層側が直接接触するよう転写形成する場合（直接形成）、さらには、前記光学積層体１１２（（別の他の基板）−配向層−光学異方層）を形成した透明基板１０１とは異なる他の別の基板と、透明基板１０１とが直接接触して形成してもよい（他の別の基板を残す間接形成）。また、光学積層体１１２と透明基板１０１との当接または透明基板と他の基板との当接のため、必要により接着層や粘着層を介在させてもよい。
【００４７】
本発明の画像表示装置において、偏光板１１１をさらに設けてもよく、具体的には光学積層体の一部として設けても、別途設けても良い。例えば、図２のように、偏光板を画像表示部から最も外側に設ける場合、換言すると、前記偏光板１１１と前記画像表示部との間に前記光学積層体を設けられる場合、光学積層体は位相差膜としての役割を担う。
【００４８】
また、光学積層体１１２がレンチキュラーレンズまたはパターンリターダの場合には、偏光板１１１（または偏光層とも称する。）を光学積層体１１２より画像表示部側に設ける、換言すると、偏光板を光学積層体と画像表示部との間に設ける。なお、この場合、光学異方層は画像表示部から最も外側に設けられることが好ましい。すなわち、図２においては、透明基板１０１上に偏光板１１１を形成し、その上に光学積層体１１２を形成する形態が好ましい。
【００４９】
図３は、有機ＥＬ表示素子の他の一例を示す概略断面図であり、図３では、図１のように光学積層体１１２および偏光板１１１は画像表示部の表面である透明基板１０１側に設けられている代わりに、透明電極層１２４上に光学積層体１１２および偏光板１１１の順で積層されている形態である。その他の構成は、図１と同様なのでここでは省略する。
【００５０】
本発明に係る基材１０１、１２１は、光出射側に使用する場合には、光透過性の高い透明基材を用いることが好ましい。例えば、ガラス、石英、または各種の樹脂等の光透過性の高い材料からなる透明基材が挙げられる。また、通常、基材の厚さは、０．０１〜１０．０ｍｍである。遮光部は、基材上に形成された開口部を備えるものである。遮光部としては、例えば、同一の形状を有する開口部が等間隔でパターン状に形成されたものが用いられる。遮光部のパターン形状は特に限定されず、例えば、ストライプ状やマトリクス形状等が挙げられる。遮光部の形成方法としては、遮光部をパターニングすることができる方法であれば特に限定されず、公知の方法を用いることができる。例えば、黒色の着色材料を含む黒色分散液と硬化性樹脂組成物とを用いたフォトリソグラフィ法により形成するのがよい。
【００５１】
上記着色層は、上記の遮光部中の開口部に形成されるものである。着色層は、各色の着色層を含んでなり、例えば、青色着色層、緑色着色層、および赤色着色層を含んでなる。本発明においては、青色着色層、緑色着色層、および赤色着色層の少なくともいずれか１つが、染料および／または有機顔料を含んでなり、好ましくは青色着色層が、染料および／または有機顔料を含んでなる。着色層が染料および／または有機顔料を含む。さらに、着色層は、公知の各色の染料および／または有機顔料を含む着色層用樹脂組成物により形成することができる。なお、染料および／または有機顔料の含有量（合計量）は、着色層用樹脂組成物の全量に対して、０．１〜２０質量％であることが好ましい。
【００５２】
また、前記着色層には、トリアリールメタン系染料、メチン系染料、アントラキノン系染料、アゾ系染料、含金属アゾ系染料、およびフタロシアニン系染料からなる群から選択される少なくとも１種の染料を用いることが好ましい。
【００５３】
本発明の有機顔料としては、フタロシアニン系、不溶性アゾ系、アゾレーキ系、アントラキノン系、キナクリドン系、ジオキサジン系、ジケトピロロピロール系、アントラピリミジン系、アンザンスロン系、インダンスロン系、フラバンスロン系、ペリノン系、ペリレン系、チオインジゴ系、トリアリールメタン系、イソインドリノン系、イソインドリン系、金属錯体系、キノフタロン系、染付レーキ系等が挙げられる。
【００５４】
さらに、前記着色層には、トリアリールメタン系染料、メチン系染料、アントラキノン系染料、アゾ系染料、含金属アゾ系染料、およびフタロシアニン系染料からなる群から選択される少なくとも１種の染料をレーキ化した顔料を用いることが好ましい。透過したい波長に合わせて、顔料種は適時選択すればよい。
【００５５】
さらに、着色層上に無機保護膜を必要により形成してもよく、表示装置の製造工程において、着色層から発生する揮発ガス成分（水蒸気等）を外部に漏出させないために設けられるものである。そのため、無機保護膜にはガスバリア性が要求される。無機保護膜は、３０ｇ／（ｍ３・ｄａｙ）以下、好ましくは０〜２５ｇ／（ｍ３・ｄａｙ）、より好ましくは０〜２０ｇ／（ｍ３・ｄａｙ）の水蒸気透過度を有するものである。
【００５６】
有機ＥＬ発光体の製造方法は特に限定されないが、以下に示される好ましい態様に従い行うことができる。すなわち、基板上に、反射型陽極と、正孔注入層と、正孔輸送層と、発光層と、電子輸送層と、電子注入層とをこの順番にパターニングして青色発光層を製膜し、さらに、半透明な陰極と、保護層とをこの順番にベタ製膜して積層し、青色発光する有機ＥＬ発光体を製造することができる。
【００５７】
上記の基板としては、スイッチング素子としてのＴＦＴを有する無アルカリガラス基板を用いることができ、無アルカリガラス基板の厚さは、好ましくは０．５〜１．１ｍｍである。上記の反射型陽極としては、ＩＴＯ／Ａｇ／ＩＴＯの積層構造からなる反射型陽極を用いることができ、好ましくは積層構造の各層の厚さがそれぞれ１０〜１５０ｎｍであり、好ましくは反射型電極の厚さは５０〜３００ｎｍである。上記の正孔注入層としては、ビス（Ｎ−（１−ナフチル−Ｎ−フェニル）ベンジジン）（α−ＮＰＤ）とＭｏＯ３の共蒸着薄膜（ＭｏＯ３の体積濃度：２０％）からなる正孔注入層を用いることができ、好ましくは正孔注入層の厚さは１０〜４００ｎｍである。上記の正孔輸送層としては、α−ＮＰＤからなる正孔輸送層を用いることができ、好ましくは正孔輸送層の厚さは５〜２００ｎｍである。上記の発光層としては、ホスト材料として９，１０−ジ−２−ナフチルアントラセン（ＤＮＡ）、ゲスト材料として１−ｔｅｒｔ−ブチル―ペリレン（ＴＢＰ）を用いてなる発光層を用いることができ、好ましくは、発光層の厚さは２０〜６０ｎｍであり、さらにホスト材料とゲスト材料との配合割合が１０：１〜１００：１になるように調整することが好ましい。上記の電子輸送層としては、トリス（８−キノリノラト）アルミニウム錯体（Ａｌｑ３）からなる電子輸送層を用いることができ、好ましくは電子輸送層の厚さは５〜２００ｎｍである。上記の電子注入層としては、ＬｉＦからなる電子注入層を用いることができ、好ましくは電子注入層の厚さは０．１〜１ｎｍである。上記の半透明な陰極としては、ＭｇＡｇからなる半透明な陰極を用いることができ、好ましくは半透明な陰極の厚さは１〜１００ｎｍである。上記の保護層としては、ＳｉＯＮからなる保護層を用いることができ、好ましくは保護層の厚さは５０〜４００ｎｍである。
【００５８】
本発明に係る画像表示装置は、２Ｄ用位相差膜装置として使用する場合、配向層の紫外線吸収性により表示素子の耐紫外線性が向上する。また、３Ｄ用の装置として使用する場合は、集光角度ズレまたはパターンリターダの境界領域の配向乱れを抑えること等による高い３Ｄ効果を奏する。
【００５９】
本発明の他の実施形態として、画像表示装置を液晶表示素子に使用した場合の形態について図４〜２１を参照して説明する。そのうち、図４〜１３は、透過する光の位相または速さを制御する液晶性化合物を含む液晶層として、透過する光の位相または速さを制御する前記光学異方性分子または前記高分子液晶の少なくともいずれかを含む光学異方層を液晶層として使用した液晶表示素子の一例を示す概略図である。図１４〜図２１は、透過する光の位相または速さを制御する液晶性化合物を含む液晶層として、外場により前記配向制御可能な液晶媒体を使用した液晶表示素子の一例を示す概略図である。
【００６０】
図５〜７において、本発明の液晶表示素子１０は、第一の配向膜４ａが表面に形成された第一の基板２と、前記第一の基板から離間して設けられ、かつ第二の配向膜４ｂが表面に形成された第二の基板７と、前記第一の基板２および第二の基板７間に充填され、かつ前記第一の配向膜４ａおよび第二の配向膜４ｂと当接する（駆動用）液晶層５と、を備え、配向膜４（４ａ，４ｂ）と前記第一の基板２との間にアクティブ素子として薄膜トランジスタ、共通電極２２および画素電極２１を備えた電極層３を有している。さらに本発明の液晶表示素子１０において、前記第二の基板７は、一方の面にはカラーフィルタ６を介して第二の配向膜４ｂが形成されており、他方の面には光学積層体（図４では、一例として配向層３３と、光学異方層３２または補償膜としての位相差膜３１）が形成されている。またさらに、前記光学異方層３２または補償膜としての位相差膜３１上に偏光層（または偏光板）８が形成されている。図４では、前記第二の基板７の他方の面に配向層３３、光学異方層３２（または補償膜としての位相差膜３１）の順序で形成されているが、光学異方層３２（または補償膜としての位相差膜３１）、配向層３３および偏光層８の順序で形成してもよい。さらに、配向層３３と基板７との間に別の透明基板を設けてもよく、同様に偏光層８と。光学異方層３２（または補償膜としての位相差膜３１）との間に別の透明基板を設けてもよい。図４〜図８では、光学異方層３２または光学積層体３５を偏光層８と（駆動用）液晶層５との間に形成した形態であるが、図１２に示すような、光学異方層３２を、パターンリターダまたはレンチキュラーレンズとして使用する場合、１、８は直線偏光板であり、観察者に近いいずれかの偏光板と観察者との間にパターンリターダまたはレンチキュラーレンズを備えることが好ましい。この場合の構成は、前記第二の基板７は、一方の面がカラーフィルタ６を介して第二の配向膜４ｂが形成されており、他方の面に偏光層８が形成されており、前記偏光層８上に配向層３３と、前記配向層３３上にパターンリターダまたはレンチキュラーレンズとしての光学異方層３２を備えることが好ましい。この場合、偏光層８と配向層３３との間に別途基板を設けてもよく、配向層３３と、光学異方層３２との順序を逆にしてもよい。
【００６１】
前記図４は、説明のために便宜上各構成要素を離間して記載している。本発明に係る液晶表示素子１０の構成は、図４に記載するように、対向に配置された第一の透明絶縁基板２と、第二の透明絶縁基板７との間に挟持された液晶組成物（または（駆動用）液晶層５）を有する横電界方式（図では一例としてＩＰＳの一形態であるＦＦＳモード）の液晶表示素子である。第一の透明絶縁基板２は、（駆動用）液晶層５側の面に電極層３が形成されている。また、（駆動用）液晶層５と、第一の透明絶縁基板２及び第二の透明絶縁基板７のそれぞれの間に、（駆動用）液晶層５を構成する液晶組成物と直接当接してホモジニアス配向を誘起する一対の配向膜４（４ａ，４ｂ）を有し、該液晶組成物中の液晶分子は、電圧無印加時に前記基板２，７に対して略平行になるように配向されている。また、図４および図１２に示すように、前記第二の基板７および前記第一の基板２は、一対の偏光板１，８により挟持されてもよい。観察者に近いいずれかの偏光板（８または１、図４、１２では８）と観察者との間にパターンリターダまたはレンチキュラーレンズとして光学異方層３２を備えてもよく、また補償膜としての位相差膜３１を偏光板８と（駆動用）液晶層５との間に設けてもよい。さらに、図４では、前記第二の基板７と配向膜４との間にカラーフィルタ６が設けられている。なお、本発明に係る液晶表示素子の形態としては、いわゆるカラーフィルタオンアレイ（ＣＯＡ）であってもよく、薄膜トランジスタを含む電極層と液晶層との間にカラーフィルタを設けても、または前記薄膜トランジスタを含む電極層と第二の基板との間にカラーフィルタを設けてもよい。
【００６２】
すなわち、本発明に係る液晶表示素子１０は、第一の偏光板１と、第一の基板２と、薄膜トランジスタを含む電極層３と、配向膜４と、液晶組成物を含む（駆動用）液晶層５と、配向膜４と、カラーフィルタ６と、第二の基板７と、第二の偏光板８と、観察者に近いいずれかの偏光板（１または８、図では８）と観察者との間にパターンリターダまたはレンチキュラーレンズとしての光学異方層とが順次積層された構成である。前記構成についての実施形態を図１２および図１３に示す。
【００６３】
他の形態は、図４などで示す通り、第一の偏光板１と、第一の基板２と、薄膜トランジスタを含む電極層３と、配向膜４と、液晶組成物を含む（駆動用）液晶層５と、配向膜４と、カラーフィルタ６と、第二の基板７と、配向層３３と、光学異方層３２または補償層としての位相差膜３１と、第二の偏光板８と、が順次積層された構成である。
【００６４】
第一の基板２と第二の基板７はガラス又はプラスチックの如き柔軟性をもつ透明な材料を用いることができ、一方はシリコン等の不透明な材料でも良い。２枚の基板２、７は、周辺領域に配置されたエポキシ系熱硬化性組成物等のシール材及び封止材によって貼り合わされていて、その間には基板間距離を保持するために、例えば、ガラス粒子、プラスチック粒子、アルミナ粒子等の粒状スペーサーまたはフォトリソグラフィ法により形成された樹脂からなるスペーサー柱が配置されていてもよい。また、本発明に係る画像表示装置（特に液晶表示素子）において使用される配向膜は、公知のラビング配向膜や下記の本発明に係る光配向層と同様のものを使用することができる。以下同様である。
【００６５】
図５は、図４における基板２上に形成された電極層３のＩＩ線で囲まれた領域を拡大した平面図である。図６は、図５におけるＩＩＩ−ＩＩＩ線方向に図４に示す液晶表示素子を切断した断面図である。図５に示すように、第一の基板２の表面に形成されている薄膜トランジスタを含む電極層３は、走査信号を供給するための複数のゲート配線２６と表示信号を供給するための複数のデータ配線２５とが、互いに交差してマトリクス状に配置されている。なお、図５には、一対のゲート配線２６及び一対のデータ配線２５のみが示されている。
【００６６】
複数のゲート配線２６と複数のデータ配線２５とにより囲まれた領域により、液晶表示装置の単位画素が形成され、該単位画素内には、画素電極２１及び共通電極２２が形成されている。ゲート配線２６とデータ配線２５が互いに交差している交差部近傍には、ソース電極２７、ドレイン電極２４およびゲート電極２８を含む薄膜トランジスタが設けられている。この薄膜トランジスタは、画素電極２１に表示信号を供給するスイッチ素子として、画素電極２１と連結している。また、ゲート配線２６と並行して、共通ライン（２９）が設けられる。この共通ラインは、共通電極２２に共通信号を供給するために、共通電極２２と連結している。
【００６７】
薄膜トランジスタの構造の好適な一態様は、例えば、図６で示すように、基板２表面に形成されたゲート電極１１と、前記ゲート電極１１を覆い、且つ前記基板２の略全面を覆うように設けられたゲート絶縁層１２と、前記ゲート電極１１と対向するよう前記ゲート絶縁層１２の表面に形成された半導体層１３と、前記半導体層１３の表面の一部を覆うように設けられた保護膜１４と、前記保護層１４および前記半導体層１３の一方の側端部を覆い、かつ前記基板２表面に形成された前記ゲート絶縁層１２と接触するように設けられたドレイン電極１６と、前記保護膜１４および前記半導体層１３の他方の側端部を覆い、かつ前記基板２表面に形成された前記ゲート絶縁層１２と接触するように設けられたソース電極１７と、前記ドレイン電極１６および前記ソース電極１７を覆うように設けられた絶縁保護層１８と、を有している。ゲート電極１１の表面にゲート電極との段差を無くす等の理由により陽極酸化被膜（図示せず）を形成してもよい。
【００６８】
前記半導体層１３には、アモルファスシリコン、多結晶ポリシリコンなどを用いることができるが、ＺｎＯ、ＩＧＺＯ（Ｉｎ−Ｇａ−Ｚｎ−Ｏ）、ＩＴＯ等の透明半導体膜を用いると、光吸収に起因する光キャリアの弊害を抑制でき、素子の開口率を増大する観点からも好ましい。
【００６９】
さらに、ショットキー障壁の幅や高さを低減する目的で半導体層１３とドレイン電極１６またはソース電極１７との間にオーミック接触層１５を設けても良い。オーミック接触層には、ｎ型アモルファスシリコンやｎ型多結晶ポリシリコン等のリン等の不純物を高濃度に添加した材料を用いることができる。
【００７０】
ゲート配線２６やデータ配線２５、共通ライン２９は金属膜であることが好ましく、Ａｌ、Ｃｕ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｗ、Ｎｉ又はその合金がより好ましく、Ａｌ又はその合金の配線を用いる場合が特に好ましい。また、絶縁保護層１８は、絶縁機能を有する層であり、窒化ケイ素、二酸化ケイ素、ケイ素酸窒化膜等で形成される。
【００７１】
図５及び図６に示す実施の形態では、共通電極２２はゲート絶縁層１２上のほぼ全面に形成された平板状の電極であり、一方、画素電極２１は共通電極２２を覆う絶縁保護層１８上に形成された櫛形の電極である。すなわち、共通電極２２は画素電極２１よりも第一の基板２に近い位置に配置され、これらの電極は絶縁保護層１８を介して互いに重なりあって配置される。画素電極２１と共通電極２２は、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）、ＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）、ＩＺＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）等の透明導電性材料により形成される。画素電極２１と共通電極２２が透明導電性材料により形成されるため、単位画素面積で開口される面積が大きくなり、開口率及び透過率が増加する。
【００７２】
また、図６のような液晶表示素子において、画素電極２１と共通電極２２とは、これらの電極間にフリンジ電界を形成するために、画素電極２１と共通電極２２との間の電極間距離（最小離間距離とも称する）：Ｒが、第一の基板２と第二の基板７との距離：Ｇより小さくなるように形成される。ここで、電極間距離：Ｒは各電極間の基板に水平方向の距離を表す。図６では、平板状の共通電極２２と櫛形の画素電極２１とが重なり合っているため、電極間距離：Ｒ＝０となる例が示されており、最小離間距離：Ｒが第一の基板２と第二の基板７との距離（すなわち、セルギャップ）：Ｇよりも小さくなるため、フリンジの電界Ｅが形成される。したがって、ＦＦＳ型の液晶表示素子は、画素電極２１の櫛形を形成するラインに対して垂直な方向に形成される水平方向の電界と、放物線状の電界を利用することができる。画素電極２１の櫛状部分の電極幅：ｌ、及び、画素電極２１の櫛状部分の間隙の幅：ｍは、発生する電界により（駆動用）液晶層５内の液晶分子が全て駆動され得る程度の幅に形成することが好ましい。また、画素電極と共通電極との最小離間距離Ｒは、ゲート絶縁膜１２の（平均）膜厚として調整することができる。また、本発明に係る液晶表示素子は、図６の構成とは異なり、画素電極２１と共通電極２２との間の電極間距離（最小離間距離とも称する）：Ｒが、第一の基板２と第二の基板７との距離：Ｇより大きくなるように形成されてもよい（ＩＰＳ方式）。この場合、例えば、櫛状の画素電極および櫛状の共通電極が略同一面内に交互になるよう設けられる構成など挙げられる。本発明の画像表示装置において、光学積層体３５は、配向層３３と、光学異方層３２と、必要により基板を含む構成であり、かつ光学積層体３５において、配向層３３と、光学異方層３２と積層順序は問わないため、図６では、配向層３３と、光学異方層３２と、必要により基板を含む構成である光学積層体３５として図示している。この点は、図８、９、１１においても同様である。
【００７３】
また、本発明の画像表示装置が図１２で示される順序で積層される場合の断面図（図５と電極構造が同一である）は、図１３で示すように、光学積層体３５（配向層３３、光学異方層３２）が偏光層８より外側に形成されている。
【００７４】
本発明に係るカラーフィルタ６は、光の漏れを防止する観点で、薄膜トランジスタおよびストレイジキャパシタ２３に対応する部分にブラックマトリックス（図示せず）を形成することが好ましい。また、カラーフィルタ６は、通常Ｒ（赤）Ｇ（緑）Ｂ（青）の３つフィルター画素から映像や画像の１ドットからなり、例えば、これら３つのフィルターはゲート配線の延びる方向に並んでいる。前記カラーフィルタ６は、例えば、顔料分散法、印刷法、電着法又は、染色法等によって作製することができる。顔料分散法によるカラーフィルタの作成方法を一例に説明すると、カラーフィルタ用の硬化性着色組成物を、該透明基板上に塗布し、パターニング処理を施し、そして加熱又は光照射により硬化させる。この工程を、赤、緑、青の３色についてそれぞれ行うことで、カラーフィルタ用の画素部を作製することができる。その他、該基板上に、ＴＦＴ、薄膜ダイオード等の能動素子を設けた画素電極を設置したいわゆるカラーフィルターオンアレイでもよい。
【００７５】
電極層３及びカラーフィルタ６上には、（駆動用）液晶層５を構成する液晶組成物と直接当接してホモジニアス配向を誘起する一対の配向膜４が設けられている。
【００７６】
また、偏光板１及び偏光板８は、各偏光板の偏光軸を調整して視野角やコントラストが良好になるように調整することができ、それらの透過軸がノーマリブラックモードで作動するように、互いに直交する透過軸を有することが好ましい。特に、偏光板１及び偏光板８のうちいずれかは、液晶分子の配向方向と平行な透過軸を有するように配置することが好ましい。また、コントラストが最大になるように液晶の屈折率異方性Δｎとセル厚との積を調整することが好ましい。更に、偏光板１及び偏光板８の間に視野角を広げるための位相差膜３１、光学積層体３５（例えば、補償層）も使用することができる。本位相差膜を作製するための配向層として本発明の配向層を用いることにより、より配向乱れの少ない位相差膜とすることが可能である。
【００７７】
また、他の液晶表示素子の実施形態として、ＩＰＳ方式の場合は、近接する共通電極と画素電極との最短離間距離Ｒが液晶配向膜間の最短離間距離Ｇより長い条件であり、例えば、共通電極と画素電極とが同一基板上に形成され、かつ前記共通電極と前記画素電極とが交互に配置されている構造などが挙げられる。
【００７８】
本発明に係る製造方法において、電極層を有する基板および／または基板表面に被膜を形成した後、前記被膜が内側となるように一対の基板を離間して対向させた後、液晶組成物を基板間に充填することが好ましい。その際、スペーサーを介して、基板の間隔を調整することが好ましい。
【００７９】
前記基板間の距離（得られる液晶層の平均厚さであり、配向層間の離間距離とも称する。）は、１〜１００μｍとなるように調整するのが好ましい。前記被膜間の平均離間距離は、１．５〜１０μｍが更に好ましい。
【００８０】
本発明において、基板間の距離を調整するために使用するスペーサーとしては、例えば、ガラス粒子、プラスチック粒子、アルミナ粒子、フォトレジスト材料などからなる柱状スペーサー等が挙げられる。
【００８１】
図４〜図６を用いて説明したＦＦＳ型の液晶表示素子は一例であって、本発明の技術的思想から逸脱しない限りにおいて、他の様々な形態で実施することが可能である。
【００８２】
本発明に係る液晶表示素子の他の実施形態を図７および図８を用いて以下説明する。
例えば、図７は、図４における基板２上に形成された電極層３のＩＩ線で囲まれた領域を拡大した平面図の他の実施形態である。図７に示すように、画素電極２１がスリットを有する構成としてもよい。また、スリットのパターンを、ゲート配線２６又はデータ配線２５に対して傾斜角を持つようにして形成してもよい。
【００８３】
前記図７に示す画素電極２１は、略長方形の平板体の電極を略矩形枠状の切欠き部でくり抜かれた形状である。また、前記画素電極２１の背面には絶縁層１８（図示せず）を介して櫛歯状の共通電極２２が一面に形成されている。そして、隣接する共通電極と画素電極との最短離間距離Ｒは配向層同士の最短離間距離Ｇより短い場合はＦＦＳ方式になり、長い場合はＩＰＳ方式になる。また、前記画素電極の表面には保護絶縁膜及び配向膜によって被覆されていることが好ましい。なお、上記と同様に、前記複数のゲート配線２６と複数のデータ配線２５とに囲まれた領域にはストレイジキャパシタ２３を設けてもよい。なお、切欠き部の形状は特に制限されるものではなく、図７で示す略矩形だけでなく、楕円、円形、長方形状、菱形、三角形、または平行四辺形など公知の形状の切欠き部を使用できる。また、隣接する共通電極と画素電極との最短離間距離Ｒが配向層同士の最短離間距離Ｇより長い場合はＩＰＳ方式の表示素子になる。
【００８４】
図８は、図６とは別の実施形態であり（共通電極および画素電極の形状が異なる）、図７におけるＩＩＩ−ＩＩＩ線方向に図４に示す液晶表示素子を切断した断面図の他の例である。配向層４および薄膜トランジスタを含む電極層３が表面に形成された第一の基板２と、配向層４が表面に形成された第二の基板８とが所定の間隔Ｇで配向層同士向かい合うよう離間しており、この空間に液晶組成物を含む（駆動用）液晶層５が充填されている。第一の基板２の表面の一部にゲート絶縁膜１２、共通電極２２、絶縁膜１８、画素電極２１および配向層４が図の順で積層されている。また、図７にも示すように、画素電極２１は、平板体の中央部および両端部が三角形状の切欠き部でくり抜かれ、さらに残る領域を長方形状の切欠き部でくり抜かれた形状であり、かつ共通電極２２は前記画素電極２１の略矩形形状の切欠き部と略平行に櫛歯状の共通電極が前記画素電極より第一の基板側に配置されてなる構造である。観察者に近いいずれかの偏光板（８または１）と観察者との間にパターンリターダまたはレンチキュラーレンズとしての光学異方層３２および配向層３３を備えてもよい。また補償膜としての光学積層体３５を図に示すように偏光板１と偏光板８の（駆動用）液晶層５側に設けてもよい。
【００８５】
図８に示す例では、櫛形あるいはスリットを有する共通電極２２を用いており、画素電極２１と共通電極２２との電極間距離はＲ＝αとなる（なお、図８では便宜上電極間距離の水平成分をＲとして記載している）。さらに、図６では共通電極２２がゲート絶縁膜１２上に形成されている例が示されていたが、図８に示されるように、共通電極２２を第一の基板２上に形成して、ゲート絶縁膜１２を介して画素電極２１を設けるようにしてもよい。画素電極２１の電極幅：ｌ、共通電極２２の電極幅：ｎ、及び、電極間距離：Ｒは、発生する電界により（駆動用）液晶層５内の液晶分子が全て駆動され得る程度の幅に適宜調整することが好ましい。隣接する共通電極と画素電極との最短離間距離Ｒは配向層同士の最短離間距離Ｇより短い場合はＦＦＳ方式になり、長い場合はＩＰＳ方式になる。さらに、図８では画素電極２１と共通電極２２の厚み方向の位置が異なるが、両電極の厚み方向における位置を同一にしてもまたは共通電極が（駆動用）液晶層５側に設けてもよい。
【００８６】
本発明の好ましい他の実施形態は、液晶組成物を用いた垂直電界型の液晶表示素子である。すなわち、図４〜８では、水平電界型の液晶表示素子の構成について説明したが、図９〜１１では、垂直電界型の液晶表示素子の構成について説明する。図９は、垂直電界型の液晶表示素子の構成であり、説明のために便宜上各構成要素を離間して記載している。図１０は、前記図９における基板上に形成された薄膜トランジスタを含む電極層３０（または薄膜トランジスタ層３０とも称する。）のＩＩ線で囲まれた領域を拡大した平面図である。図１１は、図１０におけるＩＩＩ−ＩＩＩ線方向に図９に示す液晶表示素子を切断した断面図である。以下、図９〜１１を参照して、本発明に係る垂直電界型の液晶表示素子を説明する。
【００８７】
本発明に係る液晶表示素子１０の構成は、図９に記載するように透明導電性材料からなる透明電極（層）６０（または共通電極６０とも称する。）を具備した第二の基板８０と、透明導電性材料からなる画素電極および各画素に具備した前記画素電極を制御する薄膜トランジスタを形成した薄膜トランジスタ層３０を含む第一の基板２０と、前記第一の基板２０と第二の基板８０との間に挟持された液晶組成物（または（駆動用）液晶層５０）を有し、該液晶組成物中の液晶分子の電圧無印加時の配向が前記基板２０，８０に対して略垂直である液晶表示素子であって、該液晶組成物として前記本発明の液晶組成物を用いたことに特徴を有するものである。図９および図１１に示すように、前記第二の基板８０および前記第一の基板２０は、一対の偏光板１０，９０により挟持されてもよい。補償膜としての光学積層体３５（位相差膜）を偏光板１０、９０の（駆動用）液晶層５０側に設けてもよい。観察者に近いいずれかの偏光板と観察者との間にパターンリターダまたはレンチキュラーレンズとしての光学積層体３５を備えてもよい（図示せず）。さらに、図９では、前記第一の基板８０と共通電極６０との間にカラーフィルタ７０が設けられている。またさらに、本発明に係る（駆動用）液晶層５０と隣接し、かつ前記（駆動用）液晶層５０を構成する液晶組成物と直接当接するよう一対の配向膜４０が透明電極（層）６０，電極層３０表面に形成されている。
【００８８】
すなわち、本発明に係る液晶表示素子１０は、第一偏光板１０と、第一基板２０と、薄膜トランジスタを含む電極層（又は薄膜トランジスタ層とも称する）３０と、配向膜４０と、液晶組成物を含む層５０と、配向膜４０と、共通電極６０と、カラーフィルタ７０と、第二基板８０と、光学積層体３５と、第二偏光板９０と、が順次積層された構成である。
【００８９】
また図１０で示される第一の基板２０の表面に形成されている薄膜トランジスタを含む電極層３０の構成（ストレイジキャパシタ２３、ドレイン電極２４、データ配線２５、ゲート配線２６、ソース電極２７およびゲート電極２８）は、図５や図７と同一の役割であるのでここでは省略する。
【００９０】
以下では、本発明に係る画像表示装置として別の実施形態について説明する。
【００９１】
本発明に係る画像表示装置の別の実施形態は、第一の光配向層が表面に形成された第一の基板と、前記第一の光配向層と対向するよう離間して設けられた第二の光配向層が表面に形成された第二の基板と、前記第一の光配向層および前記第二の光配向層と当接するよう前記第一の基板および第二の基板間に充填され、かつ外場により前記配向制御可能な液晶媒体を含む液晶層と、前記第一の光配向層と前記第一の基板との間にアクティブ素子および画素電極を含む電極層と、を前記画像表示部に有し、前記第一の光配向層または第二の光配向層の黄色度（ＹＩ）が、０．００１＜ＹＩ＜１００であることを特徴とする。
【００９２】
そのため、前記別の実施形態における画像表示装置は、液晶表示素子であることが好ましい。これにより、高精細な液晶表示素子、または位相差膜、パターンリターダ、レンチキュラーレンズ等の境界領域近傍の液晶配向の乱れを低減した液晶表示素子を提供することができる。本発明に係る液晶表示素子は、紫外線による劣化を低減する配向層を備えており、かつ高い液晶配向性能を示し、配向規制力が高まったことにより液晶の配向不良点を減少させ、光漏れを減少しコントラストが向上している。また、本願発明に係る光配向層は特定範囲の黄色度を備えているため、比較的エネルギーの高い青紫や青紫色を吸収し、比較的エネルギーが低い黄色または赤及び緑の混色を透過するため、耐光性に優れた液晶表示素子を提供することができる。特に、本願の液晶表示素子の製造における光硬化型封止材で封口する工程または光熱併用硬化シール材を用いてＯＤＦ工程で封止する工程など、素子自体を露出させてＵＶ照射する工程で有効であると考えられる。
【００９３】
本発明に係る画像表示装置において、図１〜１３では、透過する光の位相または速さを制御する液晶性化合物を含む液晶層として、透過する光の位相または速さを制御する前記光学異方性分子または前記高分子液晶の少なくともいずれかを含む光学異方層を使用した場合の画像表示装置について説明した。図１４〜２１では、図１〜１３とは異なる画像表示装置（液晶表示素子）について以下説明する。より詳細には、透過する光の位相または速さを制御する液晶性化合物を含む液晶層として、外場により配向制御可能な液晶媒体を使用した場合の液晶表示素子について説明する。この場合、本発明に係る画像表示装置は液晶表示素子であることが好ましい。
【００９４】
図１４は本発明の液晶表示素子の一例を示す概略断面図である。本発明の液晶表示素子１０は、第一の光配向層４’が表面に形成された第一の基板２と、前記第一の基板から離間して設けられ、かつ第二の光配向層４’が表面に形成された第二の基板７と、前記第一の基板２および第二の基板７間に充填され、かつ前記第一の光配向層４’および第二の光配向層４’と当接する（駆動用）液晶層５と、を備え、光配向層４’と前記第一の基板２との間にアクティブ素子として薄膜トランジスタ、共通電極２２および画素電極を備えた電極層３を有している。
【００９５】
図１４〜１６と図４〜６との関係は、図１４〜１６で示される液晶表示素子は、配向膜として光配向層４’を使用している。図１４〜１６で示される液晶表示素子は、光配向層３３と、光学異方層３２または位相差膜３１と、からなる光学積層体３５を備えていない点で相違するが、その他の構成については同一であるため以下簡単に説明する。図１４は、液晶表示素子の構成を模式的に示す図である。本発明に係る液晶表示素子１０は、対向に配置された第一の透明絶縁基板２と、第二の透明絶縁基板７との間に挟持された液晶組成物（または液晶層５）を有する横電界方式（図では一例としてＩＰＳの一例であるＦＦＳモード）の液晶表示素子であって、液晶層として外場により配向制御可能な液晶媒体（後述）を用いたことに特徴を有するものである。第一の透明絶縁基板２は、（駆動用）液晶層５側の面に電極層３が形成されている。また、（駆動用）液晶層５と、第一の透明絶縁基板２及び第二の透明絶縁基板７のそれぞれの間に、（駆動用）液晶層５を構成する液晶組成物と直接当接してホモジニアス配向を誘起する一対の光配向層４’を有し、該液晶組成物中の液晶分子は、電圧無印加時に前記基板２，７に対して略平行になるように配向されている。図１４および図１６に示すように、前記第二の基板７および前記第一の基板２は、一対の偏光板１，８により挟持されてもよい。さらに、本発明に係る液晶表示素子の形態として、いわゆるカラーフィルタオンアレイ（ＣＯＡ）であってもよい。
【００９６】
すなわち、本発明に係る液晶表示素子１０は、第一の偏光板１と、第一の基板２と、薄膜トランジスタを含む電極層３と、第一の光配向層４’と、外場により配向制御可能な液晶媒体を含む液晶層５と、第二の光配向層４’と、カラーフィルタ６と、第二の基板７と、第二の偏光板８と、が順次積層された構成である。第一の基板２と第二の基板７の材質などは、図４の説明と同様であるためここでは省略する。
【００９７】
図１５は、図１４における基板２上に形成された電極層３のＩＩ線で囲まれた領域を拡大した平面図である。図１６は、図１５におけるＩＩＩ−ＩＩＩ線方向に図１に示す液晶表示素子を切断した断面図である。図１５に示すように、第一の基板２の表面に形成されている薄膜トランジスタを含む電極層３は、走査信号を供給するための複数のゲート配線２６と表示信号を供給するための複数のデータ配線２５とが、互いに交差してマトリクス状に配置されている。前記図１６における、画素電極２１、共通電極２２、ストレイジキャパシタ２３、ドレイン電極２４、データ配線２５、ゲート配線２６、ソース電極２７およびゲート電極２８の構成などは図５と同様の記載のためここでは省略する。また、薄膜トランジスタの構造、前記半導体層１３、ゲート配線２６、データ配線２５および共通ライン２９の好適な態様は、例えば、図５と同様であるためここでは省略する。
【００９８】
図１４〜図１６に示す液晶表示素子の好適な実施形態では、共通電極２２はゲート絶縁層１２上のほぼ全面に形成された平板状の電極であり、一方、画素電極２１は共通電極２２を覆う絶縁保護層１８上に形成された櫛形の電極である。すなわち、共通電極２２は画素電極２１よりも第一の基板２に近い位置に配置され、これらの電極は絶縁保護層１８を介して互いに重なりあって配置される。画素電極２１と共通電極２２は、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）、ＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）、ＩＺＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）等の透明導電性材料により形成される。画素電極２１と共通電極２２が透明導電性材料により形成されるため、単位画素面積で開口される面積が大きくなり、開口率及び透過率が増加する。
【００９９】
さらに、画素電極２１と共通電極２２とは、これらの電極間にフリンジ電界を形成するために、画素電極２１と共通電極２２との間の電極間距離（最小離間距離とも称する）：Ｒが、第一の基板２と第二の基板７との距離：Ｇより小さくなるように形成される。ここで、電極間距離：Ｒは各電極間の基板に水平方向の距離を表す。図１６では、平板状の共通電極２２と櫛形の画素電極２１とが重なり合っているため、電極間距離：Ｒ＝０となる例が示されており、最小離間距離：Ｒが第一の基板２と第二の基板７との距離（すなわち、セルギャップ）：Ｇよりも小さくなるため、フリンジの電界Ｅが形成される。したがって、ＦＦＳ型の液晶表示素子は、画素電極２１の櫛形を形成するラインに対して垂直な方向に形成される水平方向の電界と、放物線状の電界を利用することができる。画素電極２１の櫛状部分の電極幅：ｌ、及び、画素電極２１の櫛状部分の間隙の幅：ｍは、発生する電界により（駆動用）液晶層５内の液晶分子が全て駆動され得る程度の幅に形成することが好ましい。また、画素電極と共通電極との最小離間距離Ｒは、ゲート絶縁膜１２の（平均）膜厚として調整することができる。また、本発明に係る液晶表示素子は、画素電極２１と共通電極２２との間の電極間距離（最小離間距離とも称する）：Ｒが、第一の基板２と第二の基板７との距離：Ｇより大きくなるように形成されてもよい（ＩＰＳ方式）。この場合、例えば、櫛状の画素電極および櫛状の共通電極が略同一面内に交互になるよう設けられる構成など挙げられる。
【０１００】
本発明に係る画像表示装置において、第一の光配向層と前記第一の基板との間にアクティブ素子、画素電極、共通電極を有し、かつ液晶層はホモジニアス配向する液晶表示素子が好ましい。
【０１０１】
本発明に係る画素電極は櫛歯状であり、前記第一の基板上に、共通電極、絶縁層および画素電極の順に積層されている画像表示装置が好ましい。
【０１０２】
本発明に係る共通電極は櫛歯状であり、前記第一の基板上に、画素電極、絶縁層および共通電極の順に積層されている画像表示装置が好ましい。
【０１０３】
本発明に係る液晶表示素子の好ましい一形態は、フリンジ電界を利用するＦＦＳ方式の液晶表示素子であることが好ましく、共通電極２２と画素電極２１との隣接する最短離間距離Ｒが、光配向層４’同士（基板間距離）の最短離間距離Ｇより短いと、共通電極と画素電極との間にフリンジ電界が形成され、液晶分子の水平方向および垂直方向の配向を効率的に利用することができる。本発明のＦＦＳ方式液晶表示素子の場合、長軸方向が、配向層の配向方向と平行になるように配置している液晶分子に電圧を印加すると、画素電極２１と共通電極２２との間に放物線形の電界の等電位線が画素電極２１と共通電極２２の上部にまで形成され、（駆動用）液晶層５内の液晶分子の長軸が形成された電界に沿って配列する。したがって、低い誘電異方性でも液晶分子を駆動することができる。
【０１０４】
本発明に係るカラーフィルタ６は、光の漏れを防止する観点で、薄膜トランジスタおよびストレイジキャパシタ２３に対応する部分にブラックマトリックス（図示せず）を形成することが好ましい。また、カラーフィルタ６は、通常Ｒ（赤）Ｇ（緑）Ｂ（青）の３つフィルター画素から映像や画像の１ドットからなり、例えば、これら３つのフィルターはゲート配線の延びる方向に並んでいる。前記カラーフィルタ６は、例えば、顔料分散法、印刷法、電着法又は、染色法等によって作製することができる。顔料分散法によるカラーフィルタの作成方法を一例に説明すると、カラーフィルタ用の硬化性着色組成物を、該透明基板上に塗布し、パターニング処理を施し、そして加熱又は光照射により硬化させる。この工程を、赤、緑、青の３色についてそれぞれ行うことで、カラーフィルタ用の画素部を作製することができる。その他、該基板上に、ＴＦＴ、薄膜ダイオード等の能動素子を設けた画素電極を設置したいわゆるカラーフィルターオンアレイでもよい。
【０１０５】
電極層３及びカラーフィルタ６上には、（駆動用）液晶層５を構成する液晶組成物と直接当接してホモジニアス配向を誘起する一対の光配向層４’が設けられている。
【０１０６】
本発明に係る画像表示装置において、前記画素電極と前記第一基板との間または前記第二の光配向層と前記第二の基板との間にカラーフィルタをさらに有することが好ましい。  また、前記画素電極と前記第一基板との間にカラーフィルタを有する場合、前記第二の配向層の黄色度（ＹＩ）が０．００１＜ＹＩ＜１００であることを特徴とすることが好ましい。
【０１０７】
前記第二の光配向層と前記第二の基板との間にカラーフィルタを有する場合、前記第一の配向層の黄色度（ＹＩ）が０．００１＜ＹＩ＜１００であることが好ましい。
【０１０８】
また、偏光板１及び偏光板８は、各偏光板の偏光軸を調整して視野角やコントラストが良好になるように調整することができ、それらの透過軸がノーマリブラックモードで作動するように、互いに直行する透過軸を有することが好ましい。特に、偏光板１及び偏光板８のうちいずれかは、液晶分子の配向方向と平行な透過軸を有するように配置することが好ましい。また、コントラストが最大になるように液晶の屈折率異方性Δｎとセル厚との積を調整することが好ましい。更に、視野角を広げるための位相差フィルムも使用することもできる。
【０１０９】
また、他の液晶表示素子の実施形態として、ＩＰＳ方式の場合は、近接する共通電極と画素電極との最短離間距離Ｒが液晶光配向層間の最短離間距離Ｇより長い条件であり、例えば、共通電極と画素電極とが同一基板上に形成され、かつ前記共通電極と前記画素電極とが交互に配置されている構造などが挙げられる。
【０１１０】
本発明に係る製造方法において、電極層を有する基板および／または基板表面に被膜を形成した後、前記被膜が内側となるように一対の基板を離間して対向させた後、液晶組成物を基板間に充填することが好ましい。その際、スペーサーを介して、基板の間隔を調整することが好ましい。
【０１１１】
本発明に係る画像表示装置において、光配向層の平均厚みは、０．０１〜１μｍであることが好ましい。また、前記基板間の距離（得られる液晶層の平均厚さであり、被膜間の離間距離とも称する。）は、１〜１００μｍとなるように調整するのが好ましい。前記被膜間の平均離間距離は、１．５〜１０μｍが更に好ましい。
【０１１２】
本発明において、基板間の距離を調整するために使用するスペーサーは上記と同様なのでここで省略する。
【０１１３】
図１４〜図１６を用いて説明したＦＦＳ型の液晶表示素子は一例であって、本発明の技術的思想から逸脱しない限りにおいて、他の様々な形態で実施することが可能である。
【０１１４】
本発明に係る液晶表示素子において、液晶層として外場により配向制御可能な液晶媒体（後述）を使用した他の実施形態を図１７および図１８を用いて以下説明する。例えば、図１７は、図１４における基板２上に形成された電極層３のＩＩ線で囲まれた領域を拡大した平面図の他の実施形態である。図１８に示すように、画素電極２１がスリットを有する構成としてもよい。また、スリットのパターンを、ゲート配線２６又はデータ配線２５に対して傾斜角を持つようにして形成してもよい。
【０１１５】
前記図１７に示す画素電極２１は、略長方形の平板体の電極を略矩形枠状の切欠き部でくり抜かれた形状である。また、前記画素電極２１の背面には絶縁層１８（図示せず）を介して櫛歯状の共通電極２２が一面に形成されている。そして、隣接する共通電極と画素電極との最短離間距離Ｒは配向層同士の最短離間距離Ｇより短い場合はＦＦＳ方式になり、長い場合はＩＰＳ方式になる。また、前記画素電極の表面には保護絶縁膜及び光配向層によって被覆されていることが好ましい。なお、上記と同様に、前記複数のゲート配線２６と複数のデータ配線２５とに囲まれた領域にはストレイジキャパシタ２３を設けてもよい。なお、切欠き部の形状は特に制限されるものではなく、図７と同様である。
【０１１６】
図１８は、図１６とは別の実施形態であり、図１５におけるＩＩＩ−ＩＩＩ線方向に図１４に示す液晶表示素子を切断した断面図の他の例である。光配向層４’および薄膜トランジスタを含む電極層３が表面に形成された第一の基板２と、光配向層４’が表面に形成された第二の基板８とが所定の間隔Ｇで配向層同士向かい合うよう離間しており、この空間に液晶組成物を含む（駆動用）液晶層５が充填されている。第一の基板２の表面の一部にゲート絶縁膜１２、共通電極２２、絶縁膜１８、画素電極２１および配向層４の順で積層されている。
【０１１７】
図１８に示す例では、櫛形あるいはスリットを有する共通電極２２を用いており、画素電極２１と共通電極２２との電極間距離はＲ＝αとなる（なお、図１８では便宜上電極間距離の水平成分をＲとして記載している）。さらに、図１６では共通電極２２がゲート絶縁膜１２上に形成されている例が示されていたが、図１８に示されるように、共通電極２２を第一の基板２上に形成して、ゲート絶縁膜１２を介して画素電極２１を設けるようにしてもよい。画素電極２１の電極幅：ｌ、共通電極２２の電極幅：ｎ、及び、電極間距離：Ｒは、発生する電界により（駆動用）液晶層５内の液晶分子が全て駆動され得る程度の幅に適宜調整することが好ましい。隣接する共通電極と画素電極との最短離間距離Ｒは配向層同士の最短離間距離Ｇより短い場合はＦＦＳ方式になり、長い場合はＩＰＳ方式になる。さらに、図１８では画素電極２１と共通電極２２とを結ぶ方向（厚み方向）の位置が異なるが、両電極の厚み方向における位置を同一にしてもまたは共通電極が（駆動用）液晶層５側に設けてもよい。
【０１１８】
本発明の好ましい他の実施形態は、液晶組成物を用いた垂直電界型の液晶表示素子である。図１９は、垂直電界型の液晶表示素子の構成を模式的に示す図である。また、図１９では、説明のために便宜上各構成要素を離間して記載している。図２０は、前記図２０における基板上に形成された薄膜トランジスタを含む電極層３０（または薄膜トランジスタ層３０とも称する。）のＩＩ線で囲まれた領域を拡大した平面図である。図２１は、図２０におけるＩＩＩ−ＩＩＩ線方向に図１９に示す液晶表示素子を切断した断面図である。以下、図１９〜２１を参照して、本発明に係る垂直電界型の液晶表示素子を説明する。
【０１１９】
本発明に係る液晶表示素子１０の構成は、図１９に記載するように透明導電性材料からなる透明電極（層）６０（または共通電極６０とも称する。）を具備した第二の基板８０と、透明導電性材料からなる画素電極および各画素に具備した前記画素電極を制御する薄膜トランジスタを形成した薄膜トランジスタ層３０を含む第一の基板２０と、前記第一の基板２０と第二の基板８０との間に挟持された液晶組成物（または液晶層５０）を有し、該液晶組成物中の液晶分子の電圧無印加時の配向が前記基板２０，８０に対して略垂直である液晶表示素子であって、該液晶層として前記本発明の液晶媒体を用いたことに特徴を有するものである。また図１９および図２１に示すように、前記第二の基板８０および前記第一の基板２０は、一対の偏光板１０，９０により挟持されてもよい。さらに、図１９では、前記第一の基板８０と共通電極６０との間にカラーフィルタ７０が設けられている。またさらに、本発明に係る液晶層５０と隣接し、かつ前記液晶層５０を構成する液晶組成物と直接当接するよう一対の光配向層４０が透明電極（層）６０，電極層３０（特に１４０）表面に形成されている。
【０１２０】
すなわち、本発明に係る液晶表示素子１０は、第二の偏光板１０と、第二の基板２０と、薄膜トランジスタを含む電極層（又は薄膜トランジスタ層とも称する）３０と、光配向層４０と、液晶組成物を含む層５０と、光配向層４０と、共通電極６０と、カラーフィルタ７０と、第一の基板８０と、第一の偏光板９０と、が順次積層された構成である。
したがって、本発明に係る画像表示装置は、第二の基板と第二の光配向層との間に共通電極を有することが好ましい。
【０１２１】
また図２０で示される第一の基板２０の表面に形成されている薄膜トランジスタを含む電極層３０の構成（ストレイジキャパシタ２３、ドレイン電極２４、データ配線２５、ゲート配線２６、ソース電極２７およびゲート電極２８）は、先述と同一であるのでここでは省略する。
【０１２２】
本発明に係る液晶表示素子の製造方法において、２枚の基板間に液晶組成物（必要により重合性化合物を含有する）を導入させる方法は、通常の真空注入法又はＯＤＦ法などを用いることができる。しかし真空注入法においては滴下痕が発生しない代わりに、注入の跡が残るという課題がある。本願発明においては、ＯＤＦ法を用いて製造する表示素子に、より好適に使用することができる。ＯＤＦ法の液晶表示素子製造工程においては、バックプレーンまたはフロントプレーンのどちらか一方の基板にエポキシ系光熱併用硬化性などのシール剤を、ディスペンサーを用いて閉ループ土手状に描画し、その中に脱気下で所定量の液晶組成物を滴下後、フロントプレーンとバックプレーンを接合することによって液晶表示素子を製造することができる。本発明の液晶組成物は、ＯＤＦ工程における液晶組成物の滴下が安定的に行えるため、好適に使用することができる。また、真空注入法の場合は、前記基板を（透明）電極層が内側となるように（液晶配向膜同士が向かい合うように）対向させた後、例えば、エポキシ系熱硬化性組成物等のシール剤を、液晶注入口を設けた形で該基板にスクリーン印刷し、該基板同士を液晶配向膜が向かい合うよう貼り合わせ、加熱しシール剤を熱硬化させることが好ましい。
【０１２３】
上述したように液晶表示素子を製造する過程において、滴下痕の発生は、注入される液晶材料に大きな影響を受けるものであるが、液晶表示素子の構成によってもその影響は避けられない、図７に示すように、薄い配向膜４０や透明電極６０，１４０等だけが液晶組成物と直接当接する部材であるため、例えば配向膜４０に用いられる高分子の化学構造と特定の化学構造を有する液晶化合物との組合せにより滴下痕の発生に影響が生じる。
【０１２４】
本発明に係る液晶表示素子において、光配向層が形成された第一の基板または第二の基板の黄色度（ＹＩＬ）が、０．００１＜ＹＩＬ＜１００であるため、軽度な滴下痕が目立たなくなるだけでなく、バックライトや紫外線による経時的な劣化を抑制・防止することができる。
【０１２５】
以下、本発明に係る画像表示装置の構成要素である液晶層、光配向層および光学積層体について詳説する。
【０１２６】
「液晶層」
本発明に係る液晶性化合物を含む液晶層は、外場により配向制御可能な液晶媒体、重合可能な液晶化合物を硬化してなる光学異方性分子または相変化可能な高分子液晶のいずれかであることが好ましい。それぞれ３つの要素についてそれぞれ以下詳説する。
【０１２７】
（液晶媒体）
本発明に係る液晶媒体は、外場により液晶分子の配向制御可能である組成物が好ましく、ネマチック組成物がより好ましい。ネマチック組成物であると、目的とする動作モードに応じて正の誘電率異方性を有する液晶組成物（ｐ型液晶）あるいは負の誘電率異方性を有する液晶組成物（ｎ型液晶）を用いる事が出来る。前記液晶組成物の物性値は、目的とする液晶表示素子の特性値に応じて適宜調整することができる。液晶組成物の透明点はある程度高いことが好ましく、具体的には６０〜１２０℃の範囲であることが好ましく、７０〜１００℃の範囲であることがより好ましい。また、液晶層の平均屈折率が高すぎる場合、ガラス基板と液晶層の屈折率差により変化する入射光波長が、上下の感光性ポリマー膜に異なる反応率を与えてしまうため、液晶の複屈折率（Δｎ）はある程度低いことが好ましく、具体的には０．０６〜０．２５の範囲が好ましく、０．０７〜０．２０の範囲がより好ましく、０．０８〜０．１５の範囲が特に好ましい。
【０１２８】
本発明において、横電界型液晶表示素子の場合、液晶分子の駆動電圧は櫛型パターン電極の電極間隔に比例するという構造的な限界があることから、低い動作電圧が重視される場合には、高い誘電率異方性を付与し易いｐ型液晶組成物を用いることが好ましい。一方、電極間に発生する電気力線に沿ってｐ型液晶組成物を駆動する場合、ミクロ領域での配向乱れによる光漏れが発生し、結果的に黒輝度上昇あるいは透過率低下を招く場合がある。これを避ける目的で、電気力線分布によるミクロ配向乱れの生じないｎ型液晶組成物を好適に用いることができる。いずれの組成物であっても、それを構成する液晶化合物は、比較的高いＵＶ安定性を有する液晶化合物郡から選ばれることが好ましい。該組成物中において正または負の誘電率異方性を発現させるために極性化合物に導入される電子吸引性基としては、シアノ基、ハロゲン等種々のものが適用できるが、シアノ基が好ましく、ハロゲンまたはハロゲン化アルキルがさらに好ましく、中でもフッ素が特に好ましい。
【０１２９】
本発明に係る液晶層に使用される液晶媒体としては、組成物が好ましく、ネマチック組成物がより好ましい。前記液晶層に含まれる液晶性化合物としては、下記一般式（ＬＣ）で表される化合物を含有することが好ましい。
【０１３０】
【化１】
2015178447.tif 000003
【０１３１】
（一般式（ＬＣ）中、ＲＬＣは炭素原子数１〜１５のアルキル基を表し、該アルキル基中の１つ又は２つ以上のＣＨ２基は、酸素原子が直接隣接しないように、−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−Ｃ≡Ｃ−で置換されてよく、該アルキル基中の１つ又は２つ以上の水素原子は任意にハロゲン原子に置換されていてもよく、
ＡＬＣ１及びＡＬＣ２は、それぞれ独立して、
（ａ）トランス−１，４−シクロヘキシレン基（この基中に存在する１個のＣＨ２基又は隣接していない２個以上のＣＨ２基は酸素原子又は硫黄原子で置換されていてもよい。）、
（ｂ）１，４−フェニレン基（この基中に存在する１個のＣＨ基又は隣接していない２個以上のＣＨ基は窒素原子で置換されていてもよい。）、及び
（ｃ）１，４−ビシクロ（２．２．２）オクチレン基、ナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、又はクロマン−２，６−ジイル基
からなる群より選ばれる基を表すが、上記の基（ａ）、基（ｂ）又は基（ｃ）に含まれる１つ又は２つ以上の水素原子はそれぞれ、Ｆ、Ｃｌ、ＣＦ３又はＯＣＦ３で置換されていてもよく、
ＺＬＣは単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、
ＹＬＣは、水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、及び炭素原子数１〜１５のアルキル基を表し、該アルキル基中の１つ又は２つ以上のＣＨ２基は、酸素原子が直接隣接しないように、−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−で置換されてよく、該アルキル基中の１つ又は２つ以上の水素原子は任意にハロゲン原子によって置換されていてもよく、
ａは１〜４の整数を表すが、ａが２、３又は４を表し、ＡＬＣ１が複数存在する場合、複数存在するＡＬＣ１は、同一であっても異なっていても良く、ＺＬＣが複数存在する場合、複数存在するＺＬＣは、同一であっても異なっていても良い。）
前記一般式（ＬＣ）で表される化合物は、下記一般式（ＬＣ１）及び一般式（ＬＣ２）
【０１３２】
【化２】
2015178447.tif 000004
【０１３３】
（上記般式（ＬＣ１）及び一般式（ＬＣ２）中、ＲＬＣ１１及びＲＬＣ２１はそれぞれ独立して炭素原子数１〜１５のアルキル基を表し、該アルキル基中の１つ又は２つ以上のＣＨ２基は、酸素原子が直接隣接しないように、−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−Ｃ≡Ｃ−で置換されてよく、該アルキル基中の１つ又は２つ以上の水素原子は任意にハロゲン原子によって置換されていてもよく、ＡＬＣ１１、及びＡＬＣ２１はそれぞれ独立して下記の何れかの構造
【０１３４】
【化３】
2015178447.tif 000005
【０１３５】
（該構造中、シクロヘキシレン基中の１つ又は２つ以上のＣＨ２基は酸素原子で置換されていてもよく、１，４−フェニレン基中の１つ又は２つ以上のＣＨ基は窒素原子で置換されていてもよく、また、該構造中の１つ又は２つ以上の水素原子はＦ、Ｃｌ、ＣＦ３又はＯＣＦ３で置換されていてもよい。）を表し、ＸＬＣ１１、ＸＬＣ１２、ＸＬＣ２１〜ＸＬＣ２３はそれぞれ独立して水素原子、Ｃｌ、Ｆ、ＣＦ３又はＯＣＦ３を表し、ＹＬＣ１１及びＹＬＣ２１はそれぞれ独立して水素原子、Ｃｌ、Ｆ、ＣＮ、ＣＦ３、ＯＣＨ２Ｆ、ＯＣＨＦ２又はＯＣＦ３を表し、ＺＬＣ１１及びＺＬＣ２１はそれぞれ独立して単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、ｍＬＣ１１及びｍＬＣ２１はそれぞれ独立して１〜４の整数を表し、ＡＬＣ１１、ＡＬＣ２１、ＺＬＣ１１及びＺＬＣ２１が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良い。）
で表される化合物群から選ばれる１種又は２種以上の化合物であることが好ましい。
【０１３６】
ＲＬＣ１１及びＲＬＣ２１はそれぞれ独立して炭素原子数１〜７のアルキル基、炭素原子数１〜７のアルコキシ基、炭素原子数２〜７のアルケニル基が好ましく、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数１〜５のアルコキシ基、炭素原子数２〜５のアルケニル基がより好ましく、直鎖状であることが更に好ましく、アルケニル基としては下記構造を表すことが最も好ましい。
【０１３７】
【化４】
2015178447.tif 000006
【０１３８】
（式中、環構造へは右端で結合するものとする。）
ＡＬＣ１１及びＡＬＣ２１はそれぞれ独立して下記の構造が好ましい。
【０１３９】
【化５】
2015178447.tif 000007
【０１４０】
ＹＬＣ１１及びＹＬＣ２１はそれぞれ独立してＦ、ＣＮ、ＣＦ３又はＯＣＦ３が好ましく、Ｆ又はＯＣＦ３が好ましく、Ｆが特に好ましい。
【０１４１】
ＺＬＣ１１及びＺＬＣ２１は単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−又は−ＣＦ２Ｏ−が好ましく、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＨ２−、−ＯＣＦ２−又は−ＣＦ２Ｏ−が好ましく、単結合、−ＯＣＨ２−又は−ＣＦ２Ｏ−がより好ましい。
【０１４２】
ｍＬＣ１１及びｍＬＣ２１は１、２又は３が好ましく、低温での保存安定性、応答速度を重視する場合には１又は２が好ましく、ネマチック相上限温度の上限値を改善するには２又は３が好ましい。
【０１４３】
一般式（ＬＣ１）は、下記一般式（ＬＣ１−ａ）から一般式（ＬＣ１−ｃ）
【０１４４】
【化６】
2015178447.tif 000008
【０１４５】
（式中、ＲＬＣ１１、ＹＬＣ１１、ＸＬＣ１１及びＸＬＣ１２はそれぞれ独立して前記一般式（ＬＣ１）におけるＲＬＣ１１、ＹＬＣ１１、ＸＬＣ１１及びＸＬＣ１２と同じ意味を表し、ＡＬＣ１ａ１、ＡＬＣ１ａ２及びＡＬＣ１ｂ１は、トランス−１，４−シクロヘキシレン基、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル基、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表し、ＸＬＣ１ｂ１、ＸＬＣ１ｂ２、ＸＬＣ１ｃ１〜ＸＬＣ１ｃ４はそれぞれ独立して水素原子、Ｃｌ、Ｆ、ＣＦ３又はＯＣＦ３を表す。）で表される化合物からなる群より選ばれる１種又は２種以上の化合物であることが好ましい。
【０１４６】
ＲＬＣ１１はそれぞれ独立して炭素原子数１〜７のアルキル基、炭素原子数１〜７のアルコキシ基、炭素原子数２〜７のアルケニル基が好ましく、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数１〜５のアルコキシ基、炭素原子数２〜５のアルケニル基がより好ましい。
【０１４７】
ＸＬＣ１１〜ＸＬＣ１ｃ４はそれぞれ独立して水素原子又はＦが好ましい。
【０１４８】
ＹＬＣ１１はそれぞれ独立してＦ、ＣＦ３又はＯＣＦ３が好ましい。
【０１４９】
また、一般式（ＬＣ１）は、下記一般式（ＬＣ１−ｄ）から一般式（ＬＣ１−ｍ）
【０１５０】
【化７】
2015178447.tif 000009
【０１５１】
（式中、ＲＬＣ１１、ＹＬＣ１１、ＸＬＣ１１及びＸＬＣ１２はそれぞれ独立して前記一般式（ＬＣ１）におけるＲＬＣ１１、ＹＬＣ１１、ＸＬＣ１１及びＸＬＣ１２と同じ意味を表し、ＡＬＣ１ｄ１、ＡＬＣ１ｆ１、ＡＬＣ１ｇ１、ＡＬＣ１ｊ１、ＡＬＣ１ｋ１、ＡＬＣ１ｋ２、ＡＬＣ１ｍ１〜ＡＬＣ１ｍ３は、１，４−フェニレン基、トランス−１，４−シクロヘキシレン基、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル基、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表し、ＸＬＣ１ｄ１、ＸＬＣ１ｄ２、ＸＬＣ１ｆ１、ＸＬＣ１ｆ２、ＸＬＣ１ｇ１、ＸＬＣ１ｇ２、ＸＬＣ１ｈ１、ＸＬＣ１ｈ２、ＸＬＣ１ｉ１、ＸＬＣ１ｉ２、ＸＬＣ１ｊ１〜ＸＬＣ１ｊ４、ＸＬＣ１ｋ１、ＸＬＣ１ｋ２、ＸＬＣ１ｍ１及びＸＬＣ１ｍ２はそれぞれ独立して水素原子、Ｃｌ、Ｆ、ＣＦ３又はＯＣＦ３を表し、ＺＬＣ１ｄ１、ＺＬＣ１ｅ１、ＺＬＣ１ｊ１、ＺＬＣ１ｋ１、ＺＬＣ１ｍ１はそれぞれ独立して単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表す。）で表される化合物からなる群より選ばれる１種又は２種以上の化合物であるのが好ましい。
【０１５２】
ＲＬＣ１１はそれぞれ独立して炭素原子数１〜７のアルキル基、炭素原子数１〜７のアルコキシ基、炭素原子数２〜７のアルケニル基が好ましく、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数１〜５のアルコキシ基、炭素原子数２〜５のアルケニル基がより好ましい。
【０１５３】
ＸＬＣ１１〜ＸＬＣ１ｍ２はそれぞれ独立して水素原子又はＦが好ましい。
【０１５４】
ＹＬＣ１１はそれぞれ独立してＦ、ＣＦ３又はＯＣＦ３が好ましい。
【０１５５】
ＺＬＣ１ｄ１〜ＺＬＣ１ｍ１はそれぞれ独立して−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−が好ましい。
一般式（ＬＣ２）は、下記一般式（ＬＣ２−ａ）から一般式（ＬＣ２−ｇ）
【０１５６】
【化８】
2015178447.tif 000010
【０１５７】
（式中、ＲＬＣ２１、ＹＬＣ２１、ＸＬＣ２１〜ＸＬＣ２３はそれぞれ独立して前記一般式（ＬＣ２）におけるＲＬＣ２１、ＹＬＣ２１、ＸＬＣ２１〜ＸＬＣ２３と同じ意味を表し、ＸＬＣ２ｄ１〜ＸＬＣ２ｄ４、ＸＬＣ２ｅ１〜ＸＬＣ２ｅ４、ＸＬＣ２ｆ１〜ＸＬＣ２ｆ４及びＸＬＣ２ｇ１〜ＸＬＣ２ｇ４はそれぞれ独立して水素原子、Ｃｌ、Ｆ、ＣＦ３又はＯＣＦ３を表し、ＺＬＣ２ａ１、ＺＬＣ２ｂ１、ＺＬＣ２ｃ１、ＺＬＣ２ｄ１、ＺＬＣ２ｅ１、ＺＬＣ２ｆ１及びＺＬＣ２ｇ１はそれぞれ独立して単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表す。）で表される化合物からなる群より選ばれる１種又は２種以上の化合物であるのが好ましい。
【０１５８】
ＲＬＣ２１はそれぞれ独立して炭素原子数１〜７のアルキル基、炭素原子数１〜７のアルコキシ基、炭素原子数２〜７のアルケニル基が好ましく、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数１〜５のアルコキシ基、炭素原子数２〜５のアルケニル基がより好ましい。
【０１５９】
ＸＬＣ２１〜ＸＬＣ２ｇ４はそれぞれ独立して水素原子又はＦが好ましく、
ＹＬＣ２１はそれぞれ独立してＦ、ＣＦ３又はＯＣＦ３が好ましい。
【０１６０】
ＺＬＣ２ａ１〜ＺＬＣ２ｇ４はそれぞれ独立して−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−が好ましい。また、前記一般式（ＬＣ）で表される化合物は、下記一般式（ＬＣ３）〜一般式（ＬＣ５）
【０１６１】
【化９】
2015178447.tif 000011
【０１６２】
（式中、ＲＬＣ３１、ＲＬＣ３２、ＲＬＣ４１、ＲＬＣ４２、ＲＬＣ５１及びＲＬＣ５２はそれぞれ独立して炭素原子数１〜１５のアルキル基を表し、該アルキル基中の１つ又は２つ以上のＣＨ２基は、酸素原子が直接隣接しないように、−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−Ｃ≡Ｃ−で置換されてよく、該アルキル基中の１つ又は２つ以上の水素原子は任意にハロゲン原子によって置換されていてもよく、ＡＬＣ３１、ＡＬＣ３２、ＡＬＣ４１、ＡＬＣ４２、ＡＬＣ５１及びＡＬＣ５２はそれぞれ独立して下記の何れかの構造
【０１６３】
【化１０】
2015178447.tif 000012
【０１６４】
（該構造中シクロヘキシレン基中の１つ又は２つ以上のＣＨ２基は酸素原子で置換されていてもよく、１，４−フェニレン基中の１つ又は２つ以上のＣＨ基は窒素原子で置換されていてもよく、また、該構造中の１つ又は２つ以上の水素原子はＣｌ、ＣＦ３又はＯＣＦ３で置換されていてもよい。）のいずれかを表し、ＺＬＣ３１、ＺＬＣ３２、ＺＬＣ４１、ＺＬＣ４２、ＺＬＣ５１及びＺＬＣ５１はそれぞれ独立して単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−又は−ＣＦ２Ｏ−を表し、Ｚ５はＣＨ２基又は酸素原子を表し、ＸＬＣ４１は水素原子又はフッ素原子を表し、ｍＬＣ３１、ｍＬＣ３２、ｍＬＣ４１、ｍＬＣ４２、ｍＬＣ５１及びｍＬＣ５２はそれぞれ独立して０〜３を表し、ｍＬＣ３１＋ｍＬＣ３２、ｍＬＣ４１＋ｍＬＣ４２及びｍＬＣ５１＋ｍＬＣ５２は１、２又は３であり、ＡＬＣ３１〜ＡＬＣ５２、ＺＬＣ３１〜ＺＬＣ５２が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良い。）で表される化合物群から選ばれる１種又は２種以上の化合物であることが好ましい。
【０１６５】
ＲＬＣ３１〜ＲＬＣ５２は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜７のアルキル基、炭素原子数１〜７のアルコキシ基、炭素原子数２〜７のアルケニル基が好ましく、アルケニル基としては下記構造を表すことが最も好ましく、
【０１６６】
【化１１】
2015178447.tif 000013
【０１６７】
（式中、環構造へは右端で結合するものとする。）
ＡＬＣ３１〜ＡＬＣ５２はそれぞれ独立して下記の構造が好ましく、
【０１６８】
【化１２】
2015178447.tif 000014
【０１６９】
ＺＬＣ３１〜ＺＬＣ５１はそれぞれ独立して単結合、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−又は−ＯＣＨ２−が好ましい。
【０１７０】
一般式（ＬＣ３）は、下記一般式（ＬＣ３−ａ）及び一般式（ＬＣ３−ｂ）
【０１７１】
【化１３】
2015178447.tif 000015
【０１７２】
（式中、ＲＬＣ３１、ＲＬＣ３２、ＡＬＣ３１及びＺＬＣ３１はそれぞれ独立して前記一般式（ＬＣ３）におけるＲＬＣ３１、ＲＬＣ３２、ＡＬＣ３１及びＺＬＣ３１と同じ意味を表し、ＸＬＣ３ｂ１〜ＸＬＣ３ｂ６は水素原子又はフッ素原子を表すが、ＸＬＣ３ｂ１及びＸＬＣ３ｂ２又はＸＬＣ３ｂ３及びＸＬＣ３ｂ４のうちの少なくとも一方の組み合わせは共にフッ素原子を表し、ｍＬＣ３ａ１は１、２又は３であり、ｍＬＣ３ｂ１は０又は１を表し、ＡＬＣ３１及びＺＬＣ３１が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良い。）で表される化合物群から選ばれる１種又は２種以上の化合物であることが好ましい。
ＲＬＣ３１及びＲＬＣ３２はそれぞれ独立して炭素原子数１〜７のアルキル基、炭素原子数１〜７のアルコキシ基、炭素原子数２〜７のアルケニル基又は炭素原子数２〜７のアルケニルオキシ基を表すことが好ましい。
ＡＬＣ３１は、１，４−フェニレン基、トランス−１，４−シクロヘキシレン基、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル基、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を表すことが好ましく、１，４−フェニレン基、トランス−１，４−シクロヘキシレン基を表すことがより好ましい。
ＺＬＣ３１は単結合、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−を表すことが好ましく、単結合を表すことがより好ましい。
一般式（ＬＣ３−ａ）としては、下記一般式（ＬＣ３−ａ１）〜一般式（ＬＣ３−ａ４）を表すことが好ましい。
【０１７３】
【化１４】
2015178447.tif 000016
【０１７４】
（式中、ＲＬＣ３１及びＲＬＣ３２はそれぞれ独立して前記一般式（ＬＣ３）におけるＲＬＣ３１及びＲＬＣ３２と同じ意味を表す。）
ＲＬＣ３１及びＲＬＣ３２はそれぞれ独立して、炭素原子数１〜７のアルキル基、炭素原子数１〜７のアルコキシ基、炭素原子数２〜７のアルケニル基が好ましく、ＲＬＣ３１が炭素原子数１〜７のアルキル基を表し、ＲＬＣ３２が炭素原子数１〜７のアルコキシ基を表すことがより好ましい。
【０１７５】
一般式（ＬＣ３−ｂ）としては、下記一般式（ＬＣ３−ｂ１）〜一般式（ＬＣ３−ｂ１２）を表すことが好ましく、一般式（ＬＣ３−ｂ１）、一般式（ＬＣ３−ｂ６）、一般式（ＬＣ３−ｂ８）、一般式（ＬＣ３−ｂ１１）を表すことがより好ましく、一般式（ＬＣ３−ｂ１）及び一般式（ＬＣ３−ｂ６）を表すことがさらに好ましく、一般式（ＬＣ３−ｂ１）を表すことが最も好ましい。
【０１７６】
【化１５】
2015178447.tif 000017
【０１７７】
（式中、ＲＬＣ３１及びＲＬＣ３２はそれぞれ独立して前記一般式（ＬＣ３）におけるＲＬＣ３１及びＲＬＣ３２と同じ意味を表す。）
ＲＬＣ３１及びＲＬＣ３２はそれぞれ独立して、炭素原子数１〜７のアルキル基、炭素原子数１〜７のアルコキシ基、炭素原子数２〜７のアルケニル基が好ましく、ＲＬＣ３１が炭素原子数２又は３のアルキル基を表し、ＲＬＣ３２が炭素原子数２のアルキル基を表すことがより好ましい。
【０１７８】
一般式（ＬＣ４）は下記一般式（ＬＣ４−ａ）から一般式（ＬＣ４−ｃ）、一般式（ＬＣ５）は下記一般式（ＬＣ５−ａ）から一般式（ＬＣ５−ｃ）
【０１７９】
【化１６】
2015178447.tif 000018
【０１８０】
（式中、ＲＬＣ４１、ＲＬＣ４２及びＸＬＣ４１はそれぞれ独立して前記一般式（ＬＣ４）におけるＲＬＣ４１、ＲＬＣ４２及びＸＬＣ４１と同じ意味を表し、ＲＬＣ５１及びＲＬＣ５２はそれぞれ独立して前記一般式（ＬＣ５）におけるＲＬＣ５１及びＲＬＣ５２と同じ意味を表し、ＺＬＣ４ａ１、ＺＬＣ４ｂ１、ＺＬＣ４ｃ１、ＺＬＣ５ａ１、ＺＬＣ５ｂ１及びＺＬＣ５ｃ１はそれぞれ独立して単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−又は−ＣＦ２Ｏ−を表す。）で表される化合物からなる群より選ばれる１種又は２種以上の化合物であるのがより好ましい。
【０１８１】
ＲＬＣ４１、ＲＬＣ４２、ＲＬＣ５１及びＲＬＣ５２はそれぞれ独立して炭素原子数１〜７のアルキル基、炭素原子数１〜７のアルコキシ基、炭素原子数２〜７のアルケニル基又は炭素原子数２〜７のアルケニルオキシ基を表すことが好ましい。
【０１８２】
ＺＬＣ４ａ１〜ＺＬＣ５ｃ１はそれぞれ独立して単結合、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−を表すことが好ましく、単結合を表すことがより好ましい。
【０１８３】
前記一般式（ＬＣ）で表される化合物は、下記一般式（ＬＣ６）
【０１８４】
【化１７】
2015178447.tif 000019
【０１８５】
（式中、ＲＬＣ６１及びＲＬＣ６２はそれぞれ独立して炭素原子数１〜１５のアルキル基を表し、該アルキル基中の１つ又は２つ以上のＣＨ２基は、酸素原子が直接隣接しないように、−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−Ｃ≡Ｃ−で置換されてよく、該アルキル基中の１つ又は２つ以上の水素原子は任意にハロゲン置換されていてもよく、ＡＬＣ６１〜ＡＬＣ６３はそれぞれ独立して下記
【０１８６】
【化１８】
2015178447.tif 000020
【０１８７】
（該構造中シクロヘキシレン基中の１つ又は２つ以上のＣＨ２ＣＨ２基は−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−で置換されていてもよく、１，４−フェニレン基中１つ又は２つ以上のＣＨ基は窒素原子で置換されていてもよい。）のいずれかを表し、ＺＬＣ６１及びＺＬＣ６２はそれぞれ独立して単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−又は−ＣＦ２Ｏ−を表し、ｍｉｉｉ１は０〜３を表す。ただし、一般式（ＬＣ１）〜一般式（ＬＣ６）で表される化合物を除く。）で表される化合物を１種又は２種以上含有する液晶組成物が好ましい。
【０１８８】
ＲＬＣ６１及びＲＬＣ６２は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜７のアルキル基、炭素原子数１〜７のアルコキシ基、炭素原子数２〜７のアルケニル基が好ましく、アルケニル基としては下記構造を表すことが最も好ましく、
【０１８９】
【化１９】
2015178447.tif 000021
【０１９０】
（式中、環構造へは右端で結合するものとする。）
ＡＬＣ６１〜ＡＬＣ６３はそれぞれ独立して下記の構造が好ましく、
【０１９１】
【化２０】
2015178447.tif 000022
【０１９２】
ＺＬＣ６１及びＺＬＣ６２はそれぞれ独立して単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−又は−ＣＦ２Ｏ−が好ましい。
【０１９３】
一般式（ＬＣ６）は、以下の一般式（ＬＣ６−ａ）から一般式（ＬＣ６−ｍ）
【０１９４】
【化２１】
2015178447.tif 000023
【０１９５】
（式中、ＲＬＣ６１及びＲＬＣ６２はそれぞれ独立して炭素原子数１〜７のアルキル基、炭素原子数１〜７のアルコキシ基、炭素原子数２〜７のアルケニル基又は炭素原子数２〜７のアルケニルオキシ基を表す。）で表される化合物からなる群より選ばれる１種又は２種以上の化合物であるのがより好ましい。
【０１９６】
本発明に係る液晶層に使用される液晶媒体は、重合性化合物を添加して、高分子安定化液晶組成物とすることもできる。高分子安定化液晶組成物は、ネマチック液晶組成物にポリマー成分の前駆体であるモノマーとして添加することが好ましい。モノマーとしては、下記一般式（ＩＩ−ａ）
【０１９７】
【化２２】
2015178447.tif 000024
【０１９８】
（式（ＩＩ−ａ）中、Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立して水素原子又はメチル基を表し、
Ｃ４及びＣ５はそれぞれ独立して１，４−フェニレン基、１，４−シクロへキシレン基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ピリダジン−３，６−ジイル基、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基、シクロヘキセン−１，４−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、２，６−ナフチレン基又はインダン−２，５−ジイル基（これらの基のうち１，４−フェニレン基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、２，６−ナフチレン基及びインダン−２，５−ジイル基は、非置換であるか又は置換基としてフッ素原子、塩素原子、メチル基、トリフルオロメチル基若しくはトリフルオロメトキシ基を１個若しくは２個以上有することができる。）を表し、
Ｚ３及びＺ５はそれぞれ独立して単結合又は炭素原子数１から１５のアルキレン基（該アルキレン基中に存在する１個又は２個以上のメチレン基は、酸素原子が相互に直接結合しないものとして、それぞれ独立に酸素原子、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で置換されていても良く、該アルキレン基中に存在する１個又は２個以上の水素原子はそれぞれ独立にフッ素原子、メチル基又はエチル基で置換されていても良い。）を表し、
Ｚ４は、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、
ｎ２は、０、１又は２を表す。ただし、ｎ２が２を表す場合、複数あるＣ４及びＺ４は同じであっても異なっていても良い。）、
一般式（ＩＩ−ｂ）
【０１９９】
【化２３】
2015178447.tif 000025
【０２００】
（式（ＩＩ−ｂ）中、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立して水素原子又はメチル基を表し、
Ｃ６は１，４−フェニレン基、１，４−シクロへキシレン基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ピリダジン−３，６−ジイル基、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基、シクロヘキセン−１，４−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、２，６−ナフチレン基又はインダン−２，５−ジイル基（これらの基のうち１，４−フェニレン基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、２，６−ナフチレン基及びインダン−２，５−ジイル基は、非置換であるか又は置換基としてフッ素原子、塩素原子、メチル基、トリフルオロメチル基若しくはトリフルオロメトキシ基を１個若しくは２個以上有することができる。）を表し、
Ｃ７はベンゼン−１，２，４−トリイル基、ベンゼン−１，３，４−トリイル基、ベンゼン−１，３，５−トリイル基、シクロヘキサン−１，２，４−トリイル基、シクロヘキサン−１，３，４−トリイル基又はシクロヘキサン−１，３，５−トリイル基を表し、
Ｚ６及びＺ８はそれぞれ独立して単結合又は炭素原子数１から１５のアルキレン基（該アルキレン基中に存在する１個又は２個以上のメチレン基は、酸素原子が相互に直接結合しないものとして、それぞれ独立に酸素原子、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−で置換されていても良く、該アルキレン基中に存在する１個又は２個以上の水素原子はそれぞれ独立にフッ素原子、メチル基又はエチル基で置換されていても良い。）を表し、
Ｚ７は、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、
ｎ３は、０、１又は２を表す。ただし、ｎ３が２を表す場合、複数あるＣ６及びＺ７は同じであっても異なっていても良い。）、及び一般式（ＩＩ−ｃ）
【０２０１】
【化２４】
2015178447.tif 000026
【０２０２】
（式（ＩＩ−ｃ）中、Ｒ７は水素原子又はメチル基を表し、６員環Ｔ１、Ｔ２及びＴ３はそれぞれ独立的に、
【０２０３】
【化２５】
2015178447.tif 000027
【０２０４】
のいずれか（ただしｍは１から４の整数を表す。）を表し、
ｎ４は０又は１の整数を表し、
Ｙ０、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ独立して単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−（ＣＨ２）４−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ２ＣＨ２−又は−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ−を表し、
Ｙ３は単結合、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、又は−ＯＣＯ−を表し、
Ｒ８は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１から２０のアルキル基、炭素原子数１から２０のアルケニル基、炭素原子数１から２０のアルコキシ基、又は炭素原子数１から２０の炭化水素基を表す。）からなる群より選ばれる少なくとも１種の重合性化合物（ＩＩ）である。
【０２０５】
また、本発明に係る液晶媒体中には、光照射による液晶層への予期しない悪影響を防ぐ目的で、ＨＡＬＳ等の光安定剤、ベンゾトリアゾール系やベンゾフェノン系の光吸収剤、ヒンダードフェノール系の酸化防止剤など種々の添加剤を用いてもよい。
【０２０６】
重合可能な液晶化合物を硬化してなる光学異方性分子または相変化可能な高分子液晶）
（光学異方性分子）
本発明に係る光学異方性分子は、重合可能な液晶化合物を硬化してなり、光学異方性を示す分子を含むことが好ましく、光学異方性を示す高分子を含むことがより好ましい。具体的には、本発明に係る光学異方性分子は、光学異方層を構成する成分として、重合性液晶化合物（または重合可能な液晶化合物とも称する）から得られた高分子であることが好ましく、後述の一般式（ＩＩ）で表される化合物から得られた高分子であることがより好ましい。また、光学異方層は、重合可能な液晶化合物を有する重合性液晶組成物から得られてもよい。
【０２０７】
本発明において用いられる、重合可能な液晶化合物としては、単独または他の化合物との組成物において液晶性を示し、少なくとも１つ以上の重合性官能基を有する化合物であれば、特に限定はなく、公知慣用のものを用いることができる。
【０２０８】
例えば、Ｈａｎｄｂｏｏｋ  ｏｆ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌｓ（Ｄ．Ｄｅｍｕｓ，Ｊ．Ｗ．Ｇｏｏｄｂｙ，Ｇ．Ｗ．Ｇｒａｙ，Ｈ．Ｗ．Ｓｐｉｅｓｓ，Ｖ．Ｖｉｌｌ編集、Ｗｉｌｅｙ−ＶＣＨ社発行，１９９８年）、季刊化学総説Ｎｏ．２２、液晶の化学（日本化学会編，１９９４年）、あるいは、特開平７−２９４７３５号公報、特開平８−３１１１号公報、特開平８−２９６１８号公報、特開平１１−８００９０号公報、特開平１１−１１６５３８号公報、特開平１１−１４８０７９号公報、等に記載されているような、１，４−フェニレン基１，４−シクロヘキレン基等の構造が複数繋がったメソゲンと呼ばれる剛直な部位と、ビニル基、アクリル基、（メタ）アクリル基といった重合性官能基を有する棒状重合性液晶化合物、あるいは特開２００４−２３７３号公報、特開２００４−９９４４６号公報に記載されているようなマレイミド基を有する棒状重合性液晶化合物が挙げられる。中でも、重合性基を有する棒状液晶化合物が、液晶温度範囲として室温前後の低温を含むものを作りやすく好ましい。
【０２０９】
本発明に係る液晶層に含まれる液晶性化合物である重合性液晶化合物は、具体的には以下の一般式（ＩＩ）で表される化合物が好ましい。
【０２１０】
【化２６】
2015178447.tif 000028
【０２１１】
式中、Ｐ２は重合性官能基を表し、Ｓ１は炭素原子数１〜１８のアルキレン基を表し（該アルキレン基中の水素原子は、１つ以上のハロゲン原子、ＣＮ基、又は重合性官能基を有する炭素原子数１〜８のアルキル基により置換されていても良く、この基中に存在する１つのＣＨ２基又は隣接していない２つ以上のＣＨ２基はそれぞれ相互に独立して、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＯＣＯ−Ｏ−により置き換えられていても良い。）、Ｘ１は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＳＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｓ−、−ＳＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ２−、−ＯＣＯ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＯＯ−、−ＣＨ２−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−又は単結合を表し（ただし、Ｐ２−Ｓ１、及びＳ１−Ｘ１は、−Ｏ−Ｏ−、−Ｏ−ＮＨ−、−Ｓ−Ｓ−及び−Ｏ−Ｓ−基を含まない。）、ｑ１は０又は１を表し、ＭＧはメソゲン基を表し、Ｒ２は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、又は炭素原子数１から１２の直鎖又は分岐アルキル基を表し、該アルキル基は直鎖状であっても分岐していてもよく、該アルキル基は１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良く、あるいはＲ２は、一般式（ＩＩ−ａ）
【０２１２】
【化２７】
2015178447.tif 000029
【０２１３】
（式中、Ｐ３は重合性官能基を表し、Ｓ２は、Ｓ１で定義されたものと同一のものを表し、Ｘ２は、Ｘ１で定義されたものと同一のものを表し（ただし、Ｐ３−Ｓ２、及びＳ２−Ｘ２は、−Ｏ−Ｏ−、−Ｏ−ＮＨ−、−Ｓ−Ｓ−及び−Ｏ−Ｓ−基を含まない。）、ｑ２は０又は１を表す。）を表し、
上記ＭＧで表されるメソゲン基は、一般式（ＩＩ−ｂ）
【０２１４】
【化２８】
2015178447.tif 000030
【０２１５】
（式中、Ｂ１、Ｂ２及びＢ３はそれぞれ独立的に、１，４−フェニレン基、１，４−シクロヘキシレン基、１，４−シクロヘキセニル基、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル基、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基、テトラヒドロチオピラン−２，５−ジイル基、１，４−ビシクロ（２，２，２）オクチレン基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ピラジン−２，５−ジイル基、チオフェン−２，５−ジイル基−、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基、２，６−ナフチレン基、フェナントレン−２，７−ジイル基、９，１０−ジヒドロフェナントレン−２，７−ジイル基、１，２，３，４，４ａ，９，１０ａ−オクタヒドロフェナントレン−２，７−ジイル基、１，４−ナフチレン基、ベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ‘］ジチオフェン−２，６−ジイル基、ベンゾ［１，２−ｂ：４，５−ｂ‘］ジセレノフェン−２，６−ジイル基、［１］ベンゾチエノ［３，２−ｂ］チオフェン−２，７−ジイル基、［１］ベンゾセレノフェノ［３，２−ｂ］セレノフェン−２，７−ジイル基、又はフルオレン−２，７−ジイル基を表し、置換基として１個以上のＦ、Ｃｌ、ＣＦ３、ＯＣＦ３、ＣＮ基、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基、炭素原子数１〜８のアルカノイル基、炭素原子数１〜８のアルカノイルオキシ基、炭素原子数１〜８のアルコキシカルボニル基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、炭素原子数２〜８のアルケニルオキシ基、炭素原子数２〜８のアルケノイル基、炭素原子数２〜８のアルケノイルオキシ基、及び／又は一般式（ＩＩ−ｃ）
【０２１６】
【化２９】
2015178447.tif 000031
【０２１７】
（式中、Ｐ４は重合性官能基を表し、
Ｓ３は、Ｓ１で定義されたものと同一のものを表し、Ｘ３は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯＣＨ２ＣＨ２−、又は単結合を表し、ｑ３は０又は１を表し、ｑ４は０又は１を表す。（ただし、Ｐ４−Ｓ３、及びＳ３−Ｘ３は、−Ｏ−Ｏ−、−Ｏ−ＮＨ−、−Ｓ−Ｓ−及び−Ｏ−Ｓ−基を含まない。））を有していても良く、Ｚ１及びＺ２はそれぞれ独立して、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２  ＣＨ２−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨＣＯＯ−、−ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯ−、−ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯ−、−ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＯＣＨ２ＣＨ２−、−Ｃ＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｃ−、−ＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯ−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、ハロゲン原子を有してもよい炭素原子数２〜１０のアルキル基又は単結合を表し、ｒ１は０、１、２又は３を表し、Ｂ１、及びＺ１が複数存在する場合は、それぞれ、同一であっても、異なっていても良い。）で表される。
【０２１８】
Ｐ２、Ｐ３及びＰ４は、それぞれ独立して、下記の式（Ｐ−２−１）から式（Ｐ−２−２０）で表される重合性基から選ばれる置換基を表すのが好ましい。
【０２１９】
【化３０】
2015178447.tif 000032
【０２２０】
これらの重合性官能基のうち、重合性を高める観点から、式（Ｐ−２−１）、（Ｐ−２−２）、（Ｐ−２−７）、（Ｐ−２−１２）、（Ｐ−２−１３）が好ましく、式（Ｐ−２−１）、（Ｐ−２−２）がより好ましい。
【０２２１】
前記一般式（ＩＩ）で表される化合物のうち、分子内に１個の重合性官能基を有する単官能重合性液晶化合物として、下記一般式（ＩＩ−２−１）で表される化合物が好ましい。
【０２２２】
【化３１】
2015178447.tif 000033
【０２２３】
式中、Ｐ２、Ｓ１、Ｘ１、ｑ１及び、ＭＧは、それぞれ、上記一般式（ＩＩ）の定義と同じものを表し、Ｒ２１は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ３）−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い、炭素原子数１から１２の直鎖又は分岐アルキル基、炭素原子数１から１２の直鎖又は分岐アルケニル基を表し、該アルキル基、アルケニル基の有する１個又は２個以上の水素原子は、ハロゲン原子、シアノ基によって置換されても良く、複数置換されている場合それぞれ同一であっても、異なっていても良い。一般式（ＩＩ−２−１）の例として、下記一般式（ＩＩ−２−１−１）〜（ＩＩ−２−１−４）で表される化合物を挙げることができるが、下記の一般式に限定されるわけではない。
【０２２４】
【化３２】
2015178447.tif 000034
【０２２５】
式中、Ｐ２、Ｓ１、Ｘ１、及び、ｑ１は、それぞれ、上記一般式（ＩＩ）の定義と同じものを表し、
Ｂ１１、Ｂ１２、Ｂ１３、Ｂ２、Ｂ３は、上記一般式（ＩＩ−ｂ）のＢ１〜Ｂ３の定義と同じものを表し、それぞれ、同一であっても、異なっていても良く、
Ｚ１１、Ｚ１２、Ｚ１３、Ｚ２は、上記一般式（ＩＩ−ｂ）のＺ１〜Ｚ３の定義と同じものを表し、それぞれ、同一であっても、異なっていても良く、
Ｒ２１は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−が各々独立して−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ３）−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＯＣＯ−、−ＣＯＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−によって置換されても良い、炭素原子数１から１２の直鎖又は分岐アルキル基、炭素原子数１から１２の直鎖又は分岐アルケニル基を表し、該アルキル基、アルケニル基の有する１個又は２個以上の水素原子は、ハロゲン原子、シアノ基によって置換されても良く、複数置換されている場合それぞれ同一であっても、異なっていても良い。
【０２２６】
上記一般式（ＩＩ−２−１−１）〜（ＩＩ−２−１−４）で表される化合物としては、以下の式（ＩＩ−２−１−１−１）〜式（ＩＩ−２−１−１−２６）で表される化合物を例示されるが、これらに限定される訳ではない。
【０２２７】
【化３３】
2015178447.tif 000035
【０２２８】
【化３４】
2015178447.tif 000036
【０２２９】
【化３５】
2015178447.tif 000037
【０２３０】
【化３６】
2015178447.tif 000038
【０２３１】
【化３７】
2015178447.tif 000039
【０２３２】
式中、Ｒｃは水素原子又はメチル基を表し、ｍは０〜１８の整数を表し、ｎは０又は１を表し、Ｒ２１は、上記一般式（ＩＩ−２−１−１）〜（ＩＩ−２−１−４）の定義と同じものを表すが、Ｒ２１は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、１個の−ＣＨ２−が−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、によって置換されても良い、炭素原子数１から６の直鎖アルキル基又は炭素原子数１から６の直鎖アルケニル基を表すことが好ましく、
上記環状基は、置換基として１個以上のＦ、Ｃｌ、ＣＦ３、ＯＣＦ３、ＣＮ基、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基、炭素原子数１〜８のアルカノイル基、炭素原子数１〜８のアルカノイルオキシ基、炭素原子数１〜８のアルコキシカルボニル基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、炭素原子数２〜８のアルケニルオキシ基、炭素原子数２〜８のアルケノイル基、炭素原子数２〜８のアルケノイルオキシ基を有していても良い。
【０２３３】
分子内に１個の重合性官能基を有する単官能重合性液晶化合物の合計含有量は、用いる重合性液晶化合物の合計量のうち、０〜９０質量％含有することが好ましく、５〜８５質量％含有することがより好ましく、１０〜８０質量％含有することが特に好ましい。光学異方体の配向性を重視する場合には下限値を１０質量％以上にすることが好ましく、２０質量％以上にすることがより好ましく、剛直性を重視する場合には上限値を８０質量％以下とすることが好ましく、７０質量％以下とすることがより好ましい。
【０２３４】
前記一般式（ＩＩ）で表される化合物のうち、分子内に２個の重合性官能基を有する２官能重合性液晶化合物として、下記一般式（ＩＩ−２−２）で表される化合物が好ましい。
【０２３５】
【化３８】
2015178447.tif 000040
【０２３６】
式中、Ｐ２、Ｓ１、Ｘ１、ｑ１、ＭＧ、Ｘ２、Ｓ２、ｑ２、Ｐ３は、それぞれ、上記一般式（ＩＩ）の定義と同じものを表す。一般式（ＩＩ−２−２）の例として、下記一般式（ＩＩ−２−２−１）〜（ＩＩ−２−２−４）で表される化合物を挙げることができるが、下記の一般式に限定されるわけではない。
【０２３７】
【化３９】
2015178447.tif 000041
【０２３８】
式中、Ｐ２、Ｓ１、Ｘ１、ｑ１、ＭＧ、Ｘ２、Ｓ２、ｑ２、Ｐ３は、それぞれ、上記一般式（ＩＩ）の定義と同じものを表し、
Ｂ１１、Ｂ１２、Ｂ１３、Ｂ２、Ｂ３は、上記一般式（ＩＩ−ｂ）のＢ１〜Ｂ３の定義と同じものを表し、それぞれ、同一であっても、異なっていても良く、
Ｚ１１、Ｚ１２、Ｚ１３、Ｚ２は、上記一般式（ＩＩ−ｂ）のＺ１〜Ｚ３の定義と同じものを表し、それぞれ、同一であっても、異なっていても良い。
【０２３９】
上記一般式（ＩＩ−２−２−１）〜（ＩＩ−２−２−４）で表される化合物のうち、一般式（ＩＩ−２−２−２）〜（ＩＩ−２−２−４）で表される、化合物中に３つ以上の環構造を有する化合物を用いると、配向性に優れるために好ましく、化合物中に３つの環構造を有する一般式（ＩＩ−２−２−２）で表される化合物を用いることが特に好ましい。
【０２４０】
上記一般式（ＩＩ−２−２−１）〜（ＩＩ−２−２−４）で表される化合物としては、以下の式（ＩＩ−２−２−１−１）〜式（ＩＩ−２−２−１−２１）で表される化合物を例示されるが、これらに限定される訳ではない。
【０２４１】
【化４０】
2015178447.tif 000042
【０２４２】
【化４１】
2015178447.tif 000043
【０２４３】
【化４２】
2015178447.tif 000044
【０２４４】
【化４３】
2015178447.tif 000045
【０２４５】
式中、Ｒｄ及びＲｅは、それぞれ独立して水素原子又はメチル基を表し、
上記環状基は、置換基として１個以上のＦ、Ｃｌ、ＣＦ３、ＯＣＦ３、ＣＮ基、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基、炭素原子数１〜８のアルカノイル基、炭素原子数１〜８のアルカノイルオキシ基、炭素原子数１〜８のアルコキシカルボニル基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、炭素原子数２〜８のアルケニルオキシ基、炭素原子数２〜８のアルケノイル基、炭素原子数２〜８のアルケノイルオキシ基を有していても良い。ｍ１、ｍ２はそれぞれ独立して０〜１８の整数を表し、ｎ１、ｎ２、ｎ３、ｎ４はそれぞれ独立して０又は１を表す。
【０２４６】
２つの重合性官能基を有する液晶化合物は、１種又は２種以上用いることができるが、１種〜５種が好ましく、２種〜５種がより好ましい。
【０２４７】
分子内に２個の重合性官能基を有する２官能重合性液晶化合物の合計含有量は、用いる重合性液晶化合物の合計量のうち、０〜９０質量％含有することが好ましく、１０〜８５質量％含有することがより好ましく、１５〜８０質量％含有することが特に好ましい。剛直性を重視する場合には下限値を３０質量％以上にすることが好ましく、５０質量％以上にすることがより好ましく、光学異方体の配向性を重視する場合には上限値を８０質量％以下とすることが好ましく、７０質量％以下とすることがより好ましい。
【０２４８】
３つ以上の重合性官能基を有する多官能重合性液晶化合物としては、３つの重合性官能基を有する化合物を用いることが好ましい。前記一般式（ＩＩ）で表される化合物のうち、分子内に３個の重合性官能基を有する多官能重合性液晶化合物として、下記一般式（ＩＩ−２−３）で表される化合物が好ましい。
【０２４９】
【化４４】
2015178447.tif 000046
【０２５０】
式中、Ｐ２、Ｓ１、Ｘ１、ｑ１、ＭＧ、Ｘ２、Ｓ２、ｑ２、Ｐ３、Ｘ３、ｑ４、Ｓ３、ｑ３、Ｐ４は、それぞれ、上記一般式（ＩＩ）の定義と同じものを表す。一般式（ＩＩ−２−３）の例として、下記一般式（ＩＩ−２−３−１）〜（ＩＩ−２−３−８）で表される化合物を挙げることができるが、下記の一般式に限定されるわけではない。
【０２５１】
【化４５】
2015178447.tif 000047
【０２５２】
【化４６】
2015178447.tif 000048
【０２５３】
式中、Ｐ２、Ｓ１、Ｘ１、ｑ１、ＭＧ、Ｘ２、Ｓ２、ｑ２、Ｐ３、Ｘ３、ｑ４、Ｓ３、ｑ３、Ｐ４は、それぞれ、上記一般式（ＩＩ）の定義と同じものを表し、
Ｂ１１、Ｂ１２、Ｂ１３、Ｂ２、Ｂ３は、上記一般式（ＩＩ−ｂ）のＢ１〜Ｂ３の定義と同じものを表し、それぞれ、同一であっても、異なっていても良く、
Ｚ１１、Ｚ１２、Ｚ１３、Ｚ２は、上記一般式（ＩＩ−ｂ）のＺ１〜Ｚ３の定義と同じものを表し、それぞれ、同一であっても、異なっていても良い。
【０２５４】
上記一般式（ＩＩ−２−３−１）〜（ＩＩ−２−３−８）で表される化合物としては、以下の式（ＩＩ−２−３−１−１）〜式（ＩＩ−２−３−１−６）で表される化合物を例示されるが、これらに限定される訳ではない。
【０２５５】
【化４７】
2015178447.tif 000049
【０２５６】
【化４８】
2015178447.tif 000050
【０２５７】
式中、Ｒｆ、Ｒｇ及びＲｈは、それぞれ独立して水素原子又はメチル基を表し、Ｒｉ、Ｒｊ及びＲｋはそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、シアノ基を表し、これらの基が炭素数１〜６のアルキル基、あるいは炭素数１〜６のアルコキシ基の場合、全部が未置換であるか、あるいは１つまたは２つ以上のハロゲン原子により置換されていてもよく、上記環状基は、置換基として１個以上のＦ、Ｃｌ、ＣＦ３、ＯＣＦ３、ＣＮ基、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基、炭素原子数１〜８のアルカノイル基、炭素原子数１〜８のアルカノイルオキシ基、炭素原子数１〜８のアルコキシカルボニル基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、炭素原子数２〜８のアルケニルオキシ基、炭素原子数２〜８のアルケノイル基、炭素原子数２〜８のアルケノイルオキシ基を有していても良い。
ｍ４〜ｍ９はそれぞれ独立して０〜１８の整数を表し、ｎ４〜ｎ９はそれぞれ独立して０又は１を表す。
【０２５８】
３個以上の重合性官能基を有する多官能重合性液晶化合物は、１種又は２種以上用いることができる。
【０２５９】
分子内に３個以上の重合性官能基を有する多官能重合性液晶化合物の合計含有量は、用いる重合性液晶化合物の合計量のうち、０〜８０質量％含有することが好ましく、０〜６０質量％含有することがより好ましく、０〜４０質量％含有することが特に好ましい。光学異方体の剛直性を重視する場合には、下限値を１０質量％以上にすることが好ましく、２０質量％以上にすることがより好ましく、３０質量％以上にすることが特に好ましく、一方、低硬化収縮性を重視する場合には上限値を６０質量％以下とすることが好ましく、５０質量％以下とすることがより好ましく、４０質量％以下とすることが特に好ましい。
【０２６０】
本発明の重合性液晶組成物には、上記重合性液晶化合物を複数種混合して用いることが好ましい。上記少なくとも１種以上の単官能重合性液晶化合物と、少なくとも１種以上の２官能重合性液晶化合物及び／又は多官能重合性液晶化合物を併用して用いると、硬化収縮が抑制され密着性が向上するため好ましい。中でも、本発明の重合性液晶組成物を用いて光学異方体とした時に、配向性を向上させたい場合、単官能重合性液晶化合物として、化合物中に３つ以上の環構造を有する上記（ＩＩ−２−１−２）〜（ＩＩ−２−１−４）から選択される化合物を用い、２官能重合性液晶化合物として、化合物中に３つ以上の環構造を有する上記（ＩＩ−２−２−２）〜（ＩＩ−２−２−４）から選択される化合物を用いて重合性液晶化合物の混合物とすることが好ましく、化合物中に３つの環構造を有する上記（ＩＩ−２−１−２）で表される化合物と、上記（ＩＩ−２−２−２）で表される化合物とを、用いる重合性液晶化合物の合計量のうち７０質量％以上となるように併用した混合物とすることがより好ましく、上記（ＩＩ−２−１−２）で表される化合物と、上記（ＩＩ−２−２−２）で表される化合物とを、用いる重合性液晶化合物の合計量のうち７５質量％以上となるように併用した混合物とすることが特に好ましい。
【０２６１】
（高分子液晶）
本発明に係る高分子液晶は、公知の高分子液晶を使用することができる。高分子液晶は、液晶を示す機能を与える部分構造（メソゲン）を有し、前記液晶を示す機能を与える部分構造としては、いかなる構造であってもよい。メソゲンは、高分子主鎖中に導入されていてもよいし、高分子側鎖に導入されていてもよい。また、架橋部位に導入されていてもよい。
【０２６２】
高分子液晶としては、ポリフッ化ビニリデンなどの強誘電性ポリマー、ネマチック液晶性を示す側鎖型液晶ポリマー、主鎖型液晶ポリマーなどが好ましい。前記側鎖型液晶ポリマーとしては、いかなるものであってもよいが、ポリエステル、ポリアミド、ポリイソシアネート、ポリメタクリレート、ポリアクリレート、ポリスチレン、ポリアクリルアミド、ポリシロキサンなどの誘導体が挙げられる。好ましくは、ポリメタクリレート、ポリアクリレート、ポリシロキサンなどの誘導体である。例えば、液晶便覧編集委員会編、液晶便覧、丸善、２０００年  第３章、第８節の「高分子液晶」に記載されているものが挙げられる。
【０２６３】
「光配向層」
本発明に係る光配向層は、黄色度（ＹＩ）が０．００１＜ＹＩ＜１００である。黄色度（ＹＩ）がかかる範囲であると、配向層の配向規制力が増大したことにより、液晶性化合物における液晶分子の配向乱れ、特に配向層の境界領域近傍の液晶配向の乱れを低減し、前記配向層から離れた位置における液晶分子の配向乱れを低減することができる。
【０２６４】
本発明に係る光配向層は、光配向性成分から構成されることがより好ましく、さらに紫外線吸収剤を含むことがさらに好ましい。また、前記光配向成分は、光応答性分子を１種以上含むものであればよい。前記光応答性分子は、光に応答して二量化により架橋構造を形成する光応答性二量化型分子、光に応答して異性化し偏光軸に対して略垂直または平行に配向する光応答性異性化型分子、および光に応答して高分子鎖が切断する光応答性分解型高分子からなる群から選択される少なくとも１種が好ましく、光応答性異性化型分子が感度、配向規制力の点から特に好ましい。
【０２６５】
本発明に係る光応答性異性化型分子としては二色性色素が好ましく、具体的な構造は一般式（ア）表されるアゾ化合物、またはこの重合体が特に好ましい。
（一般式（ア））
【０２６６】
【化４９】
2015178447.tif 000051
【０２６７】
（一般式（ア）中、Ｒ１及びＲ２は各々独立してヒドロキシ基、又は（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリロイルアミノ基、ビニル基、ビニルオキシ基及びマレイミド基からなる群から選ばれる重合性官能基を表し、式中、Ａ１及びＡ２は各々独立して単結合又はアルコキシ基によって置換されていてもよい二価の炭化水素基を表し、Ｂ１及びＢ２は各々独立して単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−又は−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−を表すが、Ｒ１及びＲ２の結合において、−Ｏ−Ｏ−結合を形成することはなく、ｍ及びｎは各々独立して０〜４の整数を表し（但し、ｍ又はｎが２以上のとき、複数あるＡ１、Ｂ１、Ａ２及びＢ２は同じであっても異なっていても良く、二つのＢ１又はＢ２の間に挟まれたＡ１又はＡ２はアルコキシ基によって置換されていてもよい二価の炭化水素基を表す。）、Ｒ３〜Ｒ６は各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、アリルオキシ基、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシ基、カルボキシル基若しくはそのアルカリ金属塩、アルコキシカルボニル基、ハロゲン化メトキシ基、ヒドロキシ基、スルホ基若しくはそのアルカリ金属塩、アミノ基、カルバモイル基、スルファモイル基、−ＯＲ７（ただしＲ７は、炭素原子数１〜６の低級アルキル基、炭素原子数３〜６のシクロアルキル基又は炭素原子数１〜６の低級アルコキシ基で置換された炭素原子数１〜６の低級アルキル基を表す）、炭素原子数１〜４のヒドロキシアルキル基又は−ＣＯＮＲ８Ｒ９（Ｒ８及びＲ９は、各々独立して水素原子又は炭素原子数１〜６の低級アルキル基を表す）、又は（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリロイルアミノ基、ビニル基、ビニルオキシ基及びマレイミド基からなる群から選ばれる重合性官能基を表し、Ｘは、単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＮＲ１０−（但し、Ｒ１０は、水素原子又は炭素数２０以下の炭化水素基を表す）、−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−、−Ｓ−、又は−ＣＨ２−を表し、Ｇ１及びＧ２は各々独立して１，４−フェニレン基の如きフェニレン基；２，６−ナフタレンジイル基の如きアリーレン基を表し、フェニレン基またはアリーレン基中に存在する１個または２個以上の水素原子はそれぞれ独立にヒドロキシ基、ハロゲン基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、スルホ基、スルホ基のアルカリ金属塩、炭素原子１〜７個のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、により置換されてもよい。
一般式（ア）において、Ｒ１またはＲ２の少なくとも一つが重合性官能基であると光や熱に対する安定性が増大し好ましい。重合性官能基の中では、特に（メタ）アクリロイルオキシ基が好ましい。又、マレイミド基は、重合開始剤が不要となるので好ましい。Ｒ１がヒドロキシ基の場合、ｍは０であることが好ましく、Ｒ１が重合性官能基の場合、ｍは１〜３の整数を表すことが好ましく、１又は２がより好ましい。Ｒ２がヒドロキシ基の場合、ｎは０であることが好ましく、Ｒ２が重合性官能基の場合ｎは１〜３の整数を表すことが好ましく、１又は２がより好ましい。
【０２６８】
Ａ１及びＡ２は各々独立して単結合、又はアルコキシ基によって置換されていてもよい二価の炭化水素基を表すが、二価の炭化水素基としては、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、ヘプタメチレン基、オクタメチレン基、ノナメチレン基、デカメチレン基、ウンデカメチレン基、ドデカメチレン基の如き炭素数１〜１８の直鎖状アルキレン基；１−メチルエチレン基、１−メチルトリエチレン基、２−メチルトリエチレン基、１−メチルテトラエチレン基、２−メチルテトラエチレン基、１−メチルペンタメチレン基、２−メチルペンタメチレン基、３−メチルペンタメチレン基の如き炭素数１〜１８の分枝状アルキレン基；ｐ−フェニレン基の如きフェニレン基；２，６−ナフタレンジイル基の如きアリーレン基が挙げられ、アルコキシ基によって置換されている二価の炭化水素基としては、前述の素数１〜１８の直鎖状アルキレン基又は分枝状アルキレン基の炭素原子の一つが酸素原子に置換した置換基、２−メトキシ−１，４−フェニレン基、３−メトキシ−１，４−フェニレン基、２−エトキシ−１，４−フェニレン基、３−エトキシ−１，４−フェニレン基、２，３，５−トリメトキシ−１，４−フェニレン基の如き炭素数１〜１８の直鎖状又は分枝上アルコキシ基を有するフェニレン基が好ましい。
【０２６９】
Ｂ１及びＢ２は各々独立して単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−又は−Ｏ−ＣＯ−が好ましい。
【０２７０】
Ｒ３〜Ｒ６においてハロゲン原子としては、フッ素原子や塩素原子が挙げられる。ハロゲン化アルキル基としては、トリクロロメチル基やトリフルオロメチル基が挙げられる。ハロゲン化メトキシ基としては、クロロメトキシ基やトリフルオロメトキシ基等が挙げられる。アルコキシ基としては、アルキル基部分が、炭素原子数１〜６の低級アルキル基、炭素原子数３〜６のシクロアルキル基又は炭素原子数１〜６の低級アルコキシ基で置換された炭素原子数１〜６の低級アルキル基が挙げられる。また、炭素原子数１〜６の低級アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、１−メチルエチル基等が挙げられる。炭素原子数１〜６の低級アルコキシ基で置換された炭素原子数１〜６の低級アルキル基としては、メトキシメチル基、１−エトキシエチル基、テトラヒドロピラニル基等が挙げられる。ヒドロキシアルキル基としては、炭素原子数１〜４のヒドロキシアルキル基が挙げられ、具体的にはヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシエチル基、１−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシプロピル基、３−ヒドロキシプロピル基、１−ヒドロキシブチル基等が挙げられる。カルバモイル基としては、アルキル基部分が炭素原子数１〜６のものが挙げられ、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、１−メチルエチル基等が挙げられる。これらの中でも、ハロゲン原子、カルボキシ基、ハロゲン化メチル基、ハロゲン化メトキシ基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ヒドロキシメチル基、カルバモイル基、ジメチルカルバモイル基又はシアノ基が好ましく、カルボキシ基、ヒドロキシメチル基又はトリフルオロメチル基は良好な配向性が得られる点で特に好ましい。
【０２７１】
又、Ｒ３及びＲ４は、４，４’−ビス（フェニルアゾ）ビフェニル骨格の両端のフェニレン基のメタ位に置換していると、優れた光配向膜が得られ、Ｒ５及びＲ６は、４，４’−ビス（フェニルアゾ）ビフェニル骨格の２、２’位に置換していると、優れた光配向性が得られ、特に好ましい。
【０２７２】
本発明に係る一般式（ア）で表されるアゾ化合物は、中でも、以下の一般式（イ）が好ましい。
（一般式  イ）
【０２７３】
【化５０】
2015178447.tif 000052
【０２７４】
一般式（イ）において、Ｒ３〜Ｒ６は一般式（ア）のＲ３〜Ｒ６と同じ意味を表す。
【０２７５】
ハロゲン原子としては、フッ素原子や塩素原子が挙げられる。ハロゲン化メチル基としては、トリクロロメチル基やトリフルオロメチル基が挙げられる。ハロゲン化メトキシ基としては、クロロメトキシ基やトリフルオロメトキシ基等が挙げられる。
【０２７６】
Ｒ７の炭素原子数１〜６の低級アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、１−メチルエチル基等が挙げられる。Ｒ７で表される炭素原子数１〜６の低級アルコキシ基で置換された炭素原子数１〜６の低級アルキル基としては、メトキシメチル基、１−エトキシエチル基、テトラヒドロピラニル基等が挙げられる。炭素原子数１〜４のヒドロキシアルキル基としては、ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシエチル基、１−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシプロピル基、３−ヒドロキシプロピル基、１−ヒドロキシブチル基等が挙げられる。
【０２７７】
Ｒ８及びＲ９で表される炭素原子数１〜６のアルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、１−メチルエチル基等が挙げられる。
【０２７８】
これらの中でも、ハロゲン原子、カルボキシル基、ハロゲン化メチル基、ハロゲン化メトキシ基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ヒドロキシメチル基、カルバモイル基、ジメチルカルバモイル基、シアノ基が好ましく、カルボキシル基、ヒドロキシメチル基又はトリフルオロメチル基は良好な配向性が得られる点で特に好ましい。
【０２７９】
また、Ｒ３及びＲ４は、４，４'−ビス（フェニルアゾ）ビフェニル骨格の両端のフェニレン基の、アゾ基からみてメタ位に置換していると、優れた光配向性が得られ、特に好ましい。
【０２８０】
Ｒ５及びＲ６は各々独立して、カルボキシル基、スルホ基、ニトロ基、アミノ基、アルコキシカルボニル基又はヒドロキシ基を表す。但し、カルボキシル基、スルホ基は、リチウム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属と塩を形成していても良い。
【０２８１】
これらＲ５及びＲ６は、４，４’−ビス（フェニルアゾ）ビフェニル骨格の２、２’位に置換していると、優れた光配向性が得られ、特に好ましい。
【０２８２】
一般式（イ）におけるＲ５及びＲ６は、光配向性能やその他の特性に最も影響を与える部位であると推定され、Ｒ５及びＲ６に導入しうる置換基の種類や組合せにより、様々な特性が得られる。前記Ｒ５及びＲ６がカルボキシル基又はその塩、スルホ基又はその塩であると、ガラスやＩＴＯなどの透明電極に対して親和性が高く、基板表面に均一に光配向膜を形成することができるため好ましい。前記一般式（イ）で表される化合物は、単体でも、一般式（イ）で表される化合物の範囲内のＲ３〜Ｒ６が各々異なる化合物を複数混合して使用してもよい。
【０２８３】
前記一般式（ア）や（イ）で表される化合物の例としては、例えば下記構造の化合物が挙げられる。このうち重合体の重量平均分子量は、塗工しやすい溶液の粘度とし、塗工後の乾燥皮膜の耐熱性を保ち、配向規制力を大きくする観点から、５０００〜１００００００が好ましく、１００００〜５０００００が特に好ましい。
【０２８４】
【化５１】
2015178447.tif 000053
【０２８５】
【化５２】
2015178447.tif 000054
【０２８６】
【化５３】
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【０２８７】
【化５４】
2015178447.tif 000056
【０２８８】
【化５５】
2015178447.tif 000057
【０２８９】
【化５６】
2015178447.tif 000058
【０２９０】
【化５７】
2015178447.tif 000059
【０２９１】
本発明に係る一般式（ア）で表されるアゾ化合物は、中でも、以下の一般式（ロ−１）が好ましい。
（一般式  ロ−１）
【０２９２】
【化５８】
2015178447.tif 000060
【０２９３】
一般式（ロ−１）中、Ｒ１１及びＲ１２は各々独立して、ヒドロキシ、又は（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリルアミド基、ビニル基、ビニルオキシ基及びマレイミド基からなる群から選ばれる重合性官能基を表す。Ｘ１１は、Ｒ１１がヒドロキシ基の場合、単結合を表し、Ｒ１１が重合性官能基の場合、−（Ａ１−Ｂ１）ｍ−で表される連結基を表し、Ｘ１２は、Ｒ１２がヒドロキシ基の場合、単結合を表し、Ｒ１２が重合性官能基の場合、−（Ａ２−Ｂ２）ｎ−で表される連結基を表す。ここで、Ａ１はＲ１１に結合するものとし、Ａ２はＲ１２に結合するものとする。Ａ１及びＡ２は各々独立して単結合又は二価の炭化水素基を表し、Ｂ１及びＢ２は各々独立して単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−又は−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−を表す。ｍ及びｎは各々独立して０〜４の整数を表す。但し、ｍ又はｎが２以上のとき、複数あるＡ１、Ｂ１，Ａ２及びＢ２は同じであっても異なっていても良い。但し、二つのＢ１又はＢ２の間に挟まれたＡ１又はＡ２は、単結合ではないものとする。
【０２９４】
Ｒ１３及びＲ１４は各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシル基、ハロゲン化メチル基、ハロゲン化メトキシ基、シアノ基、ニトロ基、−ＯＲ１７（ただしＲ１７は、炭素原子数１〜６の低級アルキル基、炭素原子数３〜６のシクロアルキル基又は炭素原子数１〜６の低級アルコキシ基で置換された炭素原子数１〜６の低級アルキル基を表す）、炭素原子数１〜４のヒドロキシアルキル基又は−ＣＯＮＲ１８Ｒ１９（Ｒ１８及びＲ１９は、各々独立して水素原子又は炭素原子数１〜６の低級アルキル基を表す）又はメトキシカルボニル基を表す。但し、カルボキシル基はアルカリ金属と塩を形成していてもよい。Ｒ１５及びＲ１６は各々独立して、カルバモイル基又はスルファモイル基を表す。
【０２９５】
一般式（ロ−１）の化合物のうち、Ｒ１１及びＲ１２がヒドロキシ基であり、Ｒ１３及びＲ１４が炭素原子数１〜４のヒドロキシアルキル基である化合物が好ましく、Ｒ１１及びＲ１２がヒドロキシ基であり、Ｒ１３及びＲ１４がヒドロキシメチル基である化合物が特に好ましい。
【０２９６】
【化５９】
2015178447.tif 000061
【０２９７】
【化６０】
2015178447.tif 000062
【０２９８】
【化６１】
2015178447.tif 000063
【０２９９】
【化６２】
2015178447.tif 000064
【０３００】
【化６３】
2015178447.tif 000065
【０３０１】
【化６４】
2015178447.tif 000066
【０３０２】
【化６５】
2015178447.tif 000067
【０３０３】
【化６６】
2015178447.tif 000068
【０３０４】
本発明に係る一般式（ア）で表されるアゾ化合物は、中でも、以下の一般式（ロ−２）がより好ましい。
（一般式  ロ−２）
【０３０５】
【化６７】
2015178447.tif 000069
【０３０６】
一般式（２−２）中、Ｒ２１及びＲ２２は各々独立して、水素原子、炭素原子数１〜６のアルキル基あるいは炭素原子数１〜６のアルコキシ基を表し、Ａ１１及びＡ１２は各々独立して、置換基としてアミノ基及びスルホ基を有するナフタレン環、又は置換基としてアミノ基及びスルホ基を有するベンゼン環を表す。但しスルホ基はアルカリ金属と塩を形成していても良い。一般式（ロ−２）で表される化合物としては、Ｒ２１及びＲ２２が各々独立して、水素原子、メチル基、あるいはメトキシ基であるものが好ましい。
【０３０７】
【化６８】
2015178447.tif 000070
【０３０８】
【化６９】
2015178447.tif 000071
【０３０９】
【化７０】
2015178447.tif 000072
【０３１０】
【化７１】
2015178447.tif 000073
【０３１１】
【化７２】
2015178447.tif 000074
【０３１２】
【化７３】
2015178447.tif 000075
【０３１３】
【化７４】
2015178447.tif 000076
【０３１４】
【化７５】
2015178447.tif 000077
【０３１５】
一般式（ア）で表される化合物は、水あるいは極性有機溶媒に高い溶解性を示し、かつガラス等に対して良好な親和性を示す。該化合物を水あるいは極性有機溶媒に溶解してなる溶液を、基材に塗布した後、水あるいは極性有機溶媒を除去するだけで、基材上に一様で、かつ安定な塗膜を形成することができる。
【０３１６】
また、一般式（ア）で表される化合物は、単独で使用することもできるし、２種類以上の化合物を混合して使用することもできる。
【０３１７】
前記一般式（イ）で表される化合物と、一般式（ロ−１）で表される化合物、一般式（ロ−２）で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも１つの化合物（ロ）と併用して使用することで、感度を維持しつつ、耐熱性に優れる光配向膜を得ることができる。
【０３１８】
本発明に係る光応答性分子の具体的な構造は、以下の一般式（１Ａ）、（１Ｂ）および以下の一般式（２）からなる群から選択される少なくとも１種で表される光応答性二量化型高分子が好ましい。また、前記光応答性分子は、一般式（４）および／または一般式（５）で示される化合物を重合してなる光応答性二量化型高分子であることが好ましい。
【０３１９】
本発明に係る光応答性分子は、下記の一般式（１Ａ）または（１Ｂ）：
【０３２０】
【化７６】
2015178447.tif 000078
【０３２１】
（上記一般式（１）中、Ｓｐは、単結合、−（ＣＨ２）ｕ−（式中、ｕは１〜２０を表す。）、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、―ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−および−Ｃ≡Ｃ−からなる群から選択される少なくとも１種の二価の連結基であり、これらの置換基において非隣接のＣＨ２基の一つ以上は独立して、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｓｉ（ＣＨ３）２−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ３）２―、−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−ＮＲ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−又は−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−（式中、Ｒは独立して水素又は炭素原子数１から５のアルキル基を表す。）で置換することができ、
Ａ１、Ａ２はそれぞれ独立して、
（ａ）  トランス−１，４−シクロへキシレン基（この基中に存在する１個のメチレン基又は隣接していない２個以上のメチレン基は−Ｏ−、−ＮＨ−又は−Ｓ−に置き換えられてもよい）、
（ｂ）  １，４−フェニレン基（この基中に存在する１個又は２個以上の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置き換えられてもよい）、及び
（ｃ）  １，４−シクロヘキセニレン基、２，５−チオフェニレン基、２，５−フラニレン基、１，４−ビシクロ（２．２．２）オクチレン基、ナフタレン−１，４−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基及び１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基
からなる群より選ばれる基を表し、上記の基（ａ）、基（ｂ）又は基（ｃ）はそれぞれ無置換であるか又は一個以上の水素原子がフッ素原子、塩素原子、シアノ基、メチル基又はメトキシ基によって置換されていても良く、
Ｚ１、Ｚ２およびＺ３は、それぞれ独立して、単結合、−Ｏ−、−（ＣＨ２）ｕ−（式中、ｕは１〜２０を表す。）、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、―ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−又は−Ｃ≡Ｃ−を表すが、これらの置換基において非隣接のＣＨ２基の一つ以上は独立して、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｓｉ（ＣＨ３）２−Ｏ−Ｓｉ（ＣＨ３）２―、−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ−、−ＮＲ−ＣＯ−ＮＲ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−又は−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−（式中、Ｒは独立して水素又は炭素原子数１から５のアルキル基を表す。）で置換することができ、
Ｘは、−Ｏ−、単結合、−ＮＲ−またはフェニレン基であり、
Ｒｂは、重合性基、アルコキシ基、シアノ基または炭素原子数１〜１２個のフッ化アルキル基であり、
ｍは、０、１、または２であり、
Ｍｂ及びＭｄはそれぞれ独立して同一であっても異なっていても良く、以下の一般式（Ｕ−１）〜（Ｕ−１３）のいずれか１種のモノマー単位を表し、
【０３２２】
【化７７】
2015178447.tif 000079
【０３２３】
（上記一般式（Ｕ−１）〜（Ｕ−１０）中、破線はＳｐへの結合を表し、Ｒａは独立して水素原子、炭素原子数１から５のアルキル基、フェニル基、ハロゲン原子を表し、それぞれの構造中の任意の水素原子はフッ素原子、塩素原子、メチル基、フェニル基、メトキシ基によって置換されていてもよく、
上記一般式（Ｕ−１１）〜（Ｕ−１３）中、破線はＳｐへの結合を表し、Ｒ１は４価の環構造、Ｒ２は３価の有機基、Ｒ３は水素原子、水酸基、炭素原子数１〜１５個のアルキル基、炭素原子数１〜１５個のアルコキシ基を表す。）
ｙ及びｗは、コポリマーのモル分率を表し、０＜ｙ≦１かつ、０≦ｗ＜１であり、ｎは４〜１００，０００を表し、Ｍｂ及びＭｄのモノマー単位は各々独立して１種類でも２種類以上の異なる単位からなっていても良い。）
で表される光応答性二量化型高分子、その加水分解物または加水分解物の縮合物であることが好ましい。
【０３２４】
また、上記本発明に係る一般式（１）で表される光応答性分子の好ましい形態として、Ｚ２が単結合である光応答性二量化型高分子が好ましい。なお、前記３価の有機基は、ベンゼン、ビフェニル、ジフェニルエーテル、ジフェニルエタン、ジフェニルメタン、ジフェニルアミンから選ばれる骨格が好ましい。
【０３２５】
また、４価の環構造としては例えば以下の式（１．１）〜（１．２６）が挙げられる。
【０３２６】
【化７８】
2015178447.tif 000080
【０３２７】
【化７９】
2015178447.tif 000081
【０３２８】
本発明に係る光応答性分子は、下記の一般式（２）：
【０３２９】
【化８０】
2015178447.tif 000082
【０３３０】
（上記一般式（２）中、Ｍ１およびＭ２はそれぞれ互いに独立して、アクリレート、メタクリレート、２−クロロアクリレート、２−フェニルアクリレート、低級アルキル基でＮ−置換されていてもよいアクリルアミド、メタクリルアミド、２−クロロアクリルアミド、２−フェニルアクリルアミド、ビニルエーテル、ビニルエステル、スチレン誘導体およびシロキサン類からなる群から選択される少なくとも１種の繰り返し単位であり、
Ｍ３は、アクリレート、メタクリレート、２−クロロアクリレート、２−フェニルアクリレート、低級アルキルでＮ−置換されていてもよいアクリルアミド、メタクリルアミド、２−クロロアクリルアミド、２−フェニルアクリルアミド、ビニルエーテル、ビニルエステル、アクリル酸またはメタクリル酸の直鎖状−もしくは分岐状アルキルエステル、アクリル酸もしくはメタクリル酸のアリルエステル、アルキルビニルエーテルもしくは−エステル、フェノキシニアルキルアクリレートもしくはフェノキシアルキルメタクリレートもしくはヒドロキシアルキルアクリレートもしくはヒドロキシアルキルメタクリレート、フェニルアルキルアクリレートもしくはフェニルアルキルメタクリレート、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、スチレン、４−メチルスチレンおよびシロキサン類からなる群から選択される少なくとも１種の繰り返し単位であり、
Ａ１、Ｂ１、Ｃ１、Ａ２、Ｂ２およびＣ２はそれぞれ互いに独立して、
（ａ）  トランス−１，４−シクロへキシレン基（この基中に存在する１個のメチレン基又は隣接していない２個以上のメチレン基は−Ｏ−、−ＮＨ−又は−Ｓ−に置き換えられてもよい）、
（ｂ）  １，４−フェニレン基（この基中に存在する１個又は２個以上の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置き換えられてもよい）、及び
（ｃ）  １，４−シクロヘキセニレン基、２，５−チオフェニレン基、２，５−フラニレン基、１，４−ビシクロ（２．２．２）オクチレン基、ナフタレン−１，４−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基及び１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基
からなる群より選ばれる基を表し、上記の基（ａ）、基（ｂ）又は基（ｃ）はそれぞれ無置換であるか又は一個以上の水素原子がフッ素原子、塩素原子、シアノ基、メチル基又はメトキシ基によって置換されていても良く、
Ｓ１およびＳ２はそれぞれ互いに独立して、フッ素原子、塩素原子もしくはシアノ基で１以上置換された直鎖状もしくは分岐状アルキレン基（−（ＣＨ２）ｒ−）または−（ＣＨ２）ｒ−Ｌ−（ＣＨ２）ｓ−（式中、Ｌは、単結合または−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＯＣ−、−ＮＲ１−、−ＮＲ１−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＲ１−、−ＮＲ１−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−ＮＲ１−、−ＮＲ１−ＣＯ−ＮＲ１−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−を意味し、その際にＲ１は水素原子または低級アルキル基を意味し、ｒおよびｓは、ｒ＋ｓ≦２４という条件のもとで１〜２０の整数であり、）であり、
Ｄ１、Ｄ２はそれぞれ互いに独立して、−Ｏ−、−ＮＲ２−、または下記の式（ｄ）〜（ｆ）：
（ｄ）  トランス−１，４−シクロへキシレン基（この基中に存在する１個のメチレン基又は隣接していない２個以上のメチレン基は−Ｏ−、−ＮＨ−又は−Ｓ−に置き換えられてもよい）、
（ｅ）  １，４−フェニレン基（この基中に存在する１個又は２個以上の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置き換えられてもよい）、及び
（ｆ）  １，４−シクロヘキセニレン基、２，５−チオフェニレン基、２，５−フラニレン基、１，４−ビシクロ（２．２．２）オクチレン基、ナフタレン−１，４−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基及び１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基
からなる群より選ばれる基を含み、上記の基（ｄ）、基（ｅ）又は基（ｆ）はそれぞれ無置換であるか又は一個以上の水素原子がフッ素原子、塩素原子、シアノ基、メチル基又はメトキシ基によって置換されていても良い、を意味し、その際にＲ２は水素原子または低級アルキル基であり、
Ｘ１、Ｘ２、Ｙ１およびＹ２はそれぞれ互いに独立して、水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、場合によってはフッ素原子で置換されそしてＣＨ２基または複数の非隣接ＣＨ２基が場合によっては−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＯＣ−および／または−ＣＨ＝ＣＨ−で交換されていてもよい炭素原子数１〜１２のアルキル基を意味し、
Ｚ１ａ、Ｚ１ｂ、Ｚ２ａおよびＺ２ｂはそれぞれ互いに独立して、単結合、−（ＣＨ２）ｔ−、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＯＣ−、−ＮＲ４−、−ＣＯ−ＮＲ４−、−ＮＲ４−ＣＯ−、−（ＣＨ２）ｕ−Ｏ−、−Ｏ−（ＣＨ２）ｕ−、−（ＣＨ２）ｕ−ＮＲ４−または−ＮＲ４−（ＣＨ２）ｕ−であり、その際にＲ４は水素原子または低級アルキル基を意味し；ｔは１〜４の整数を意味し；ｕは１〜３の整数であり、
ｐ１、ｐ２、ｑ１およびｑ２はそれぞれ互いに独立して、０または１であり、
Ｒ１ａおよびＲ２ａはそれぞれ互いに独立して、水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、ニトロ基、または炭素原子数１〜２０の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、アルコキシ基、アルキル−ＣＯＯ−、アルキル−ＣＯ−ＮＲ３またはアルキル−ＯＣＯ基を意味し、その際にＲ３は水素原子または低級アルキル基を意味し、前記アルキル基または前記アルコキシ基の１以上の水素原子は、フッ素原子、塩素原子、シアノ基またはニトロ基で置換されてもよく、前記アルキル基または前記アルコキシ基のＣＨ２基または複数の非隣接ＣＨ２基が−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−に置換されてもよく、
ｎ１、ｎ２およびｎ３は０＜ｎ１≦１、０≦ｎ２＜１および０≦ｎ３≦０．５のコモノマーのモル分率である）
で表される光応答性二量化型高分子であることが好ましい。
【０３３１】
本発明に係る一般式（１）で表される光応答性分子は、以下の一般式（３）：
【０３３２】
【化８１】
2015178447.tif 000083
【０３３３】
（上記一般式（２）中、Ｘは６〜１２であり、Ｙは０〜２であり、Ｒ１〜Ｒ４はそれぞれ独立して、水素原子または炭素原子数１〜５個のアルコキシ基であり、Ｒ３０は、式（２−ａ）または式（２−ｂ）：
【０３３４】
【化８２】
2015178447.tif 000084
【０３３５】
であり、式（２−ａ）中のＲ３１は重合性基、炭素原子数１〜１０個のアルコキシ基、シアノ基または炭素原子数１〜１２個のフッ化アルキル基であり、ｊは０以上６以下の整数である。）で示される光応答性二量化型高分子であることがより好ましい。
【０３３６】
なお、本発明に係るアルキル基およびアルコキシ基はいずれも直鎖状、環状または分岐状が好ましく、いずれも直鎖状または分岐状がより好ましい。さらに、本発明に係る「アルキル基」の例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、３−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基などが挙げられる。なお、本明細書中において、アルキル基の例は共通であり、各々のアルキル基の炭素原子数の数によって適宜上記例示から選択される。
【０３３７】
本発明に係る「アルコキシ基」の例は、前記アルキル基に酸素原子が直接結合した基であることが好ましく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基（ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基）、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、オクチルオキシ基がより好ましい。なお、本明細書中において、アルコキシ基の例は共通であり、各々のアルコキシ基の炭素原子数の数によって適宜上記例示から選択される。
【０３３８】
本発明に係る光応答性分子は、以下の一般式（４）および／または一般式（５）で示される化合物を重合してなる光応答性二量化型高分子であることが好ましい。
【０３３９】
【化８３】
2015178447.tif 000085
【０３４０】
（式中、Ｒ２０１及びＲ２０２は各々独立に炭素原子数１〜３０の直鎖状もしくは分枝状のアルキル基、水素原子又はフッ素原子を含む重合性官能基を表し、該アルキル基の１つ又は２つ以上の−ＣＨ２−基は酸素原子又は硫黄原子が相互に直接結合しないものとして−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ３）−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｏ−ＳＯ２−、−ＳＯ２−Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、シクロプロピレン基又は−Ｓｉ（ＣＨ３）２−で置き換えられてもよく、さらにアルキル基の１つ又はそれ以上の水素原子がフッ素原子、塩素原子、臭素原子あるいはＣＮ基で置き換えられていてもよく、重合性基をもっていてもよく、前記アルキル基が縮合又はスピロ環式系を含むものでもよく、前記アルキル基が１つ又は２つ以上のヘテロ原子を含むことができる１つ又は２つ以上の芳香族又は脂肪族の環を含むものでもよく、またこれらの環はアルキル基、アルコキシ基、ハロゲンで任意に置換されていてもよく、
Ｚ２０１及びＺ２０２は各々独立に−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−Ｎ（Ｒａ）−、−Ｎ（Ｒａ）−ＣＯ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＳＣＨ２−、−ＣＨ２Ｓ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｓ−、−ＳＣＦ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＦ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−又は単結合を表し、−ＣＯ−Ｎ（Ｒａ）−又は−Ｎ（Ｒａ）−ＣＯ−におけるＲａは水素原子又は炭素原子数１〜４の直鎖状又は分枝状のアルキル基を表し、
Ａ２０１及びＡ２０２は各々独立にフェニレン基、シクロヘキシレン基、ジオキソランジイル基、シクロヘキセニレン基、ビシクロ［２．２．２］オクチレン基、ピペリジンジイル基、ナフタレンジイル基、デカヒドロナフタレンジイル基、テトラヒドロナフタレンジイル基、又はインダンジイル基から選択される環式基を表し、前記フェニレン基、ナフタレンジイル基、テトラヒドロナフタレンジイル基、又はインダンジイル基は環内の１つ又は２つ以上の−ＣＨ＝基が窒素原子で置き換えられてもよく、前記シクロヘキシレン基、ジオキソランジイル基、シクロヘキセニレン基、ビシクロ［２．２．２］オクチレン基、ピペリジンジイル基、デカヒドロナフタレンジイル基、テトラヒドロナフタレンジイル基、又はインダンジイル基は環内の１つ又は２つの隣接していない−ＣＨ２−基が、−Ｏ−及び／又は−Ｓ−で置き換えられてもよく、前記環式基の１つ又はそれ以上の水素原子が、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ＣＮ基、ＮＯ２基、あるいは、１つ又は２つ以上の水素原子がフッ素原子又は塩素原子で置き換えられてもよい、炭素原子数１〜７の有するアルキル基、アルコキシ基、アルキルカルボニル基又はアルコキシカルボニル基で置き換えられていてもよく、
ｎ２０１及びｎ２０２は各々独立に１〜３の整数を表し、
Ｐ２０１及びＰ２０２は各々独立に、シンナモイル、クマリン、ベンジリデンフタルジイミド、カルコン、アゾベンゼン、スチルベン等の光配向性基を表し、Ｐ２０１は１価基、Ｐ２０２は２価基である。
【０３４１】
また、本発明において、一般式（４）または一般式（５）で表される化合物において、少なくとも一方の端部が重合性官能基を備えることが好ましく、すなわち、一般式（５）においてはＲ２０１またはＲ２０２の少なくともいずれか一方が重合性官能基であることが好ましい。
【０３４２】
より好ましい化合物として、シンナモイル基を有する一般式（６）、クマリン基を有する一般式（７）、ベンジリデンフタルジイミド基を有する一般式（８）の化合物が挙げられる。
【０３４３】
【化８４】
2015178447.tif 000086
【０３４４】
一般式（６）、（７）、及び（８）中、Ｒ２０１、Ｒ２０２、Ａ２０１、Ａ２０２、Ｚ２０１、Ｚ２０２、ｎ２０１及びｎ２０２の定義は式（４）及び（５）におけるのと同じであり、
Ｒ２０３、Ｒ２０４、Ｒ２０５、Ｒ２０６及びＲ２０７は各々独立にハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、メチル基、メトキシ基、−ＣＦ３、−ＯＣＦ３、カルボキシ基、スルホ基、ニトロ基、アミノ基、又はヒドロキシ基を表し、
ｎ２０３は０〜４の整数を表し、ｎ２０４は０〜３の整数を表し、ｎ２０５は０〜１の整数を表し、ｎ２０６は０〜４の整数を表し、ｎ２０７は０〜５の整数を表す。
【０３４５】
本発明において、光に応答して高分子鎖が切断する光応答性分解型高分子としては、テトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物との縮合により製造することが好ましい。
【０３４６】
前記テトラカルボン酸二無水物としては、以下の式（Ａ−１）〜式（Ａ−４３）：
【０３４７】
【化８５】
2015178447.tif 000087
【０３４８】
【化８６】
2015178447.tif 000088
【０３４９】
【化８７】
2015178447.tif 000089
【０３５０】
【化８８】
2015178447.tif 000090
【０３５１】
【化８９】
2015178447.tif 000091
【０３５２】
【化９０】
2015178447.tif 000092
【０３５３】
【化９１】
2015178447.tif 000093
【０３５４】
が挙げられる。以上のような化合物の中でも、式（Ａ−１４）、式（Ａ−１５）、式（Ａ−１６）、式（Ａ−１７）、式（Ａ−２０）、式（Ａ−２１）、式（Ａ−２８）、式（Ａ−２９）、式（Ａ−３０）、または式（Ａ−３１）が好ましく、式（Ａ−１４）、式（Ａ−２１）が特に好ましい。
【０３５５】
前記ジアミン化合物としては、以下の式（ＩＩＩ−１）〜（ＶＩＩＩ−１７）が挙げられる。
【０３５６】
【化９２】
2015178447.tif 000094
【０３５７】
【化９３】
2015178447.tif 000095
【０３５８】
【化９４】
2015178447.tif 000096
【０３５９】
【化９５】
2015178447.tif 000097
【０３６０】
【化９６】
2015178447.tif 000098
【０３６１】
【化９７】
2015178447.tif 000099
【０３６２】
【化９８】
2015178447.tif 000100
【０３６３】
【化９９】
2015178447.tif 000101
【０３６４】
（上記式（ＶＩＩＩ−１２）中、Ｒ１〜Ｒ１０のうち二つは一級アミノ基、残りは水素原子または一級アミノ基以外の一価の有機基であり、それぞれ同一であっても異なっても良い。）
【０３６５】
【化１００】
2015178447.tif 000102
【０３６６】
で挙げられる化合物を用いることが好ましい。
【０３６７】
また、上記式（１）〜（５）の桂皮酸骨格を備えたジアミン化合物に関しては、光に応答して二量化することも可能であるため、光応答性二量化型高分子としても好ましく使用することができる。
【０３６８】
本発明に係る光応答性分解型高分子の重量平均分子量は、３０００〜３０００００であることが好ましく、５０００〜１０００００であることがより好ましく、１００００〜５００００であることがさらに好ましく、１００００〜３００００であることが特に好ましい。
【０３６９】
前記光応答性分解型高分子において、分子鎖を切断する際に使用される光は、２００〜４００ｎｍであることが好ましく、２００〜２８０ｎｍであることがより好ましく、２４０〜２８０ｎｍであることがさらに好ましい。
【０３７０】
その他の光応答性異性化型分子としては、テトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物との合成により製造されるものであって、かつ前記テトラカルボン酸二無水化合物とジアミンとの少なくとも一方にジアゾ結合を備えている高分子が好ましい。
【０３７１】
ジアゾ結合を備えているテトラカルボン酸二無水物としては、以下の式（１−８）で表される化合物が挙げられる。
【０３７２】
【化１０１】
2015178447.tif 000103
【０３７３】
また、ジアゾ結合を備えているジアミン化合物としては、以下の式（Ｉ−１）〜（Ｉ−７）：
【０３７４】
【化１０２】
2015178447.tif 000104
【０３７５】
で表される化合物が挙げられる。
【０３７６】
したがって、本発明に係る光応答性異性化型高分子の好ましい形態としては、ジアゾ結合を備えているジアミン化合物として式（Ｉ−１）〜（Ｉ−７）を選択する場合は、テトラカルボン酸二無水物として式（１−８）および式（Ａ−１）〜（Ａ−４３）で表される化合物であることが好ましい。一方、本発明に係る光応答性異性化型高分子の好ましい形態としては、ジアゾ結合を備えているテトラカルボン酸二無水物として式（１−８）を選択する場合は、ジアミン化合物として式（Ｉ−１）〜（Ｉ−７）および式（ＩＩＩ−１）〜（ＶＩＩＩ−１１）、（Ｉ）および（１）〜（５）で表される化合物であることが好ましい。
【０３７７】
前記光応答性異性化型高分子において、光に応答して異性化し偏光軸に対して略垂直に配向する際に使用される光は、２００〜５００ｎｍであることが好ましく、３００〜５００ｎｍであることがより好ましく、３００〜４００ｎｍであることがさらに好ましい。
【０３７８】
本発明に係る光応答性異性化型高分子の重量平均分子量は、１００００〜８０００００であることが好ましく、１００００〜４０００００であることがより好ましく、５００００〜４０００００であることがさらに好ましく、５００００〜３０００００であることが特に好ましい。
【０３７９】
前記重量平均分子量（Ｍｗ）は、ＧＰＣ（ゲル浸透クロマトグラフィー，Ｇｅｌ  Ｐｅｒｍｅａｔｉｏｎ  Ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ）測定の結果得られたものである。
【０３８０】
本発明に係る光配向層は、光応答性配向剤から形成されることが好ましい。前記光応答性配向剤は、溶媒成分および光配向性成分を含み、黄色度（ＹＩＳ）が０．００１＜ＹＩＳ＜５００であることが好ましく、０．００５＜ＹＩＳ＜３００であることがより好ましく、０．００８＜ＹＩＳ＜１５０であることがさらに好ましい。そのため、本発明に係る光応答性配向剤は溶液であることが好ましい。また、前記光配向性成分としては、上述した光応答性分子が好ましい。
【０３８１】
これにより、液晶層に対する光配向層の配向規制力を大きな状態とすることができ、液晶表示素子の精細度を高め、液晶層と光配向層との境界領域近傍の液晶配向の乱れを低減し、または液晶分子の配向状態を高度に均質とし、表示の品質を高めることができるからである。また、液晶層の配向乱れを低減し、補償膜中の配向欠陥、パターンリターダの境界領域における配向乱れ、またはレンチキュラーレンズの厚さによる配向乱れを抑制し、画像表示装置の表示品質を高めることができるからである。
【０３８２】
また光学異方層の分子を配向させる光配向層の場合、光応答性配向剤の黄色度（ＹＩＳ）を０．００１＜ＹＩＳ＜５００とすること、または画像表示装置として、光配向層の黄色度（ＹＩ）を特定範囲（例えば、光配向層が形成された基板の黄色度を０．００１＜ＹＩ＜１００）とすることは、光応答性配向剤に含まれる光に応答して光学異方層を構成する分子に対する配向規制力を誘起する光配向性分子のπ電子の共役長を長くすることを意味し、分子全体の剛直性または液晶分子の持つメソゲン構造と類似した構造となるため、光配向性分子すなわち光応答性配向剤と光学異方性を示す分子との親和性を増し、前記分子に対する配向規制力を大きくすることができる。これにより、画像表示装置においては、補償膜中の配向欠陥、パターンリターダの境界領域における配向乱れ、またはレンチキュラーレンズの厚さによる配向乱れを低減し配向の均質性を高めることができる。いずれも配向規制力を大きくすることによって光学異方層の分子の配向乱れを低減し高精細な画像表示装置とすることができる。
【０３８３】
また、液晶媒体の液晶分子を配向させる光配向層の場合、光応答性液晶配向剤の黄色度（ＹＩＳ）を０．００１＜ＹＩＳ＜５００とすること、または液晶表示素子として、光配向層の黄色度（ＹＩ）を特定範囲（例えば、光配向層が形成された基板の黄色度を０．００１＜ＹＩ＜１００）とすることは、光応答性液晶配向剤に含まれる光に応答して液晶に対する配向規制力を誘起する光配向性分子のπ電子の共役長を長くすることを意味し、分子全体の剛直性または液晶分子の持つメソゲン構造と類似した構造となるため、光配向性分子すなわち光応答性液晶配向剤と液晶分子との親和性を増し、液晶分子に対する配向規制力を大きくすることができる。これにより、液晶表示素子においては液晶の配向欠陥を減少させ、液晶性化合物の厚み方向の配向の均質性を高めることができる。いずれも配向規制力を大きくすることによって液晶の配向乱れを低減し高精細な液晶表示素子とすることができる。
【０３８４】
本発明に係る溶媒成分は、光応答性分子を溶解させるものであれば特に制限されることは無く、使用する光応答性分子の性質によって適宜選択できるものであり、例えば、光応答性分子を溶解させる溶媒としては、水、γ−ブチロラクトン等のラクトン系；シクロペンタノン、シクロヘキサノン、ＭＥＫ、ＭＩＢＫ等のケトン系；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセタート等のエステル系、ＮＭＰ（Ｎ−メチル−２−ピロリドン）、が挙げられる。また、基板への塗布性を高める目的である溶媒として、２−メトキシエタノール、２−ブトキシエタノール（ブチルセロソルブ）、カルビトール（ジエチレングリコールモノエチルエーテル）等のアルコールエーテル系；トルエン等のトルエン系を必要により溶媒に加えても良い。
【０３８５】
本発明に係る光応答性配向剤における光応答性分子の濃度は、０．１〜１０質量％であることが好ましく、０．２〜１０質量％であることがより好ましく、０．５〜１０質量％がさらに好ましく、０．５〜７質量％がさらにより好ましい。
【０３８６】
光応答性分子が０．１〜１０質量％の範囲であると、溶解のし易さ、溶液の濾過のし易さ、溶液の安定性、乾燥後の塗膜の表面均質性の観点で好ましい。
【０３８７】
本発明に係る光応答性配向剤をスクリーン印刷により基板へ塗布する場合は、前記光応答性液晶剤の粘度が２０〜５０ｍＰａ・ｓになるように調整することが好ましい。インクジェット法により基板へ成膜する場合は、良好な液滴を形成しさらにノズルヘッドの目詰まりを防止する目的で、溶液の粘度が３〜１５ｍＰａ・ｓになるように調整することが好ましく、表面張力は２０〜５０Ｎ／ｍになるように調整することが好ましく、溶媒の沸点は１５０〜２２０℃の範囲であることが好ましい。
【０３８８】
また、本発明に係る光応答性配向剤は、必要によりさらに３２０ｎｍ以下、好ましくは２８０ｎｍ以下、更に好ましくは２５０ｎｍ以下の紫外線を吸収する紫外線吸収剤を含むことが好ましい。
【０３８９】
本発明に係る光応答性配向剤に紫外線吸収剤を含むと、イエローインデックスの高い材料である光応答性分子は配向のための光吸収帯が可視光領域に偏っているため、配向処理に用いる紫外線処理工程に影響を及ぼすことなく液晶素子を紫外線から保護することができる。
【０３９０】
本発明に係る紫外線吸収剤としては、有機系紫外線吸収剤であっても無機系紫外線吸収剤であっても特に制限されることは無いが、配向層や配向膜の膜厚や透明性の観点から有機系紫外線吸収剤が好ましい。前記紫外線吸収剤としては、ベンゾエート系、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、環状イミノエステル系、ヒンダードアミン系およびそれらの組み合わせが挙げられる。
【０３９１】
本発明において規定する吸光度のより短波長の紫外線を吸収するものであれば特に限定されない。これらの中でもベンゾエート系がより好ましい。
【０３９２】
前記ベンゾエート系、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、アクリロニトリル系紫外線吸収剤としては例えば３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル、２−［２’−ヒドロキシ−５’−（メタクリロイルオキシメチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−５’−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−５’−（メタクリロイルオキシプロピル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−（５−クロロベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（５−クロロ（２Ｈ）−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−メチル−６−（ｔｅｒｔ−ブチル）フェノール、２，２’−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノールなどが挙げられる。環状イミノエステル系紫外線吸収剤としては例えば２，２’−（１，４−フェニレン）ビス（４Ｈ−３，１−ベンズオキサジノン−４−オン）、２−メチル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−ブチル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オン、２−フェニル−３，１−ベンゾオキサジン−４−オンなどが挙げられる。しかし特にこれらに限定されるものではない。
【０３９３】
これらの紫外線吸収剤は、単独で使用しても、２種以上の紫外線吸収剤を併用して使用しても良い。複数種類組み合わせると、別々の波長の紫外線を同時に吸収させることができるので、より紫外線吸収効果を改善することができる。
【０３９４】
本発明に係る紫外線吸収剤は、光応答性配向剤中、０〜５．０質量％含まれていることが好ましく、０．０１〜１．０質量％含まれていることがより好ましく、０．１〜１．０質量％含まれていることがさら好ましい。
【０３９５】
紫外線吸収剤が光応答性配向剤中、０．０１〜５．０質量％含まれていると、光配向層にした場合、紫外線から効率的に液晶表示素子を保護することができる。
【０３９６】
本発明に係る液晶表示素子の製造方法は、基板上に本発明に係る光応答性配向剤を塗布した後、前記塗布面を加熱することにより基板上に塗膜を形成することが好ましい（工程（１））。
【０３９７】
本発明に係る光応答性配向剤は、上述した光応答性分子を含む溶液であることが好ましい。前記光応答性分子は、光異性化型としてアゾ系誘導体、光分解型としてポリイミド系誘導体および２量化型として桂皮酸誘導体からなる群から選択される少なくとも一種の重合体および前記有機溶媒を含有することがより好ましい。
【０３９８】
本発明の光応答性配向剤を、好ましくはオフセット印刷法、スピンコート法、ロールコーター法又はインクジェット印刷法によりそれぞれ塗布する。ここに、基板としては、例えばフロートガラス、ソーダガラスなどのガラス；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリ（脂環式オレフィン）などのプラスチックからなる透明基板を用いることができる。（第一の）基板の一面に設けられる透明導電膜としては、酸化スズ（ＳｎＯ２）からなるＮＥＳＡ膜、酸化インジウム−酸化スズ（Ｉｎ２Ｏ３−ＳｎＯ２）からなるＩＴＯ膜などを用いてもよい。さらに、パターニングされた透明導電膜を得るには、例えばパターンなし透明導電膜を形成した後フォト・エッチングによりパターンを形成する方法や、透明導電膜を形成する際に所望のパターンを有するマスクを用いる方法などに採用することができる。前記光応答性配向剤の塗布に際しては、基板表面及び透明導電膜と塗膜との接着性をさらに良好にするために、基板表面を官能性シラン化合物、官能性チタン化合物などの公知の方法で予め表面処理をしてもよい。
【０３９９】
前記光応答性配向剤を塗布した後、必要によりプレベークを行ってもよく、その場合のプレベーク温度は、好ましくは３０〜２００℃である。また、前記プレベーク時間は、好ましくは０．２５〜１０分である。その後、溶剤を完全に除去し、必要に応じて未反応成分などを除去することを目的として焼成工程を行うことが好ましい。このときの焼成温度は、好ましくは８０〜３００℃である。焼成時間は、好ましくは５〜２００分である。このようにして、形成される膜の膜厚は、好ましくは０．００１〜１μｍである。
【０４００】
また、本発明の光応答性配向剤に含有される重合体が、ポリアミック酸又はイミド環構造とアミック酸構造とを有するイミド化重合体である場合には、塗膜形成後に更に加熱することによって脱水閉環反応を進行させ、よりイミド化された塗膜としてもよい。
【０４０１】
本発明に係る液晶表示素子の製造方法は、前記基板上に形成された光応答性分子（必要により紫外線吸収剤）を含む塗膜に光照射することが好ましい（工程（２））。前記塗膜に対して照射する光としては、１５０〜８００ｎｍの波長の光を含む紫外線または可視光線を用いることができ、２００〜４００ｎｍの波長の光を含む紫外線が好ましい。また、使用する光応答性分子の種類により適宜前記波長を調整する。具体的には、分解型光配向層用光応答性分子の場合は２５４ｎｍ、二量化型光配向層用光応答性分子の場合は３１３ｎｍ、異性化型光配向層用光応答性分子の場合は３６５ｎｍを使用する。
【０４０２】
前記照射光の光源としては、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、重水素ランプ、メタルハライドランプ、アルゴン共鳴ランプ、キセノンランプ、エキシマーレーザーなどを使用することができる。なお、上記好ましい波長領域の紫外線は、光源を、例えばフィルター、回折格子などと併用する手段などにより得ることができる。光の照射量としては、好ましくは１００Ｊ／ｍ２以上１００，０００Ｊ／ｍ２以下である。
【０４０３】
その後、前記塗膜上に重合性液晶を塗布し、必要により溶媒を除去し配向させた後紫外線または加熱などにより重合性液晶を硬化する。また装置の構造によって、補償膜やパターンリターダおよびレンチキュラーレンズなどは液晶表示素子の基板の液晶側の面に形成することも可能であり、その際、パターンリターダおよびレンチキュラーレンズなどは偏光板と観察者の間に配置する必要がある。
【０４０４】
本発明に係る光配向層は当接する液晶層の種類に分けて以下詳説する。
【０４０５】
（液晶媒体の液晶分子を配向させる光配向層）
本発明に係る液晶表示素子において、第一の光配向層または第二の光配向層の黄色度（ＹＩ）が０．００１＜ＹＩ＜１００であり、０．００１＜ＹＩ＜５０であることが好ましく、０．００１＜ＹＩ＜１０であることがより好ましく、０．００５＜ＹＩ＜１０であることがさらに好ましく、０．０１＜ＹＩ＜１０であることが特に好ましい。前記光配向層の黄色度は、第一の光配向層を形成した第一の基板または第二の光配向層を形成した第二の基板の黄色度（ＹＩＬ）から後述する方法により求めることができる。
【０４０６】
本発明に係る画像表示素子（特に液晶表示素子）において、大きい配向規制力や短い配向処理時間を重視する場合は、第一の光配向層または第二の光配向層の黄色度（ＹＩ）が０．０１＜ＹＩ＜１００が好ましく、０．１＜ＹＩ＜１００がより好ましく、０．５＜ＹＩ＜５０がさらに好ましく、２＜ＹＩ＜１０がよりさらに好ましい。この範囲のＹＩでは配向処理に用いられる紫外線の吸収効率が高く処理時間を短くでき、また配向膜中に形成される配向分子の密度が多くなり液晶分子の配向をより促進できるためと考えられる。一方、本発明に係る液晶表示素子において、長期信頼性を重視する場合は、第一の光配向層または第二の光配向層の黄色度（ＹＩ）が０．００１＜ＹＩ＜５０が好ましく、０．００１＜ＹＩ＜１０がより好ましく、０．００１＜ＹＩ＜７がさらに好ましく、０．００２＜ＹＩ＜２がよりさらに好ましい。この範囲のＹＩでは配向規制力を有したままセル化工程やパネルの紫外線暴露などによる配向膜の変化を抑制できるため、長期信頼性を実現できると考えられる。
【０４０７】
光配向膜が形成された基板の黄色度が０．００１〜１００の範囲であると、配向性を極度に高めることができる。これにより、液晶表示素子においては液晶の配向欠陥を減少させ、液晶性化合物の厚み方向の配向の均質性を高めることができる。いずれも配向規制力を大きくすることによって液晶の配向乱れを低減し高精細な液晶表示素子とすることができる。また、イエローインデックスの高い材料は共役長が長くなり分子のメソゲンとしての効果が高まったため配向性が向上したと思われる。イエローインデックスの高い材料は配向のための光吸収帯が可視光領域に偏っているため、液晶素子を紫外線から保護するため配向層に紫外線吸収剤を含有させることができる。高い液晶配向性能を示し、配向規制力が高まったことにより液晶の配向不良点を減少させ、光漏れを減少しコントラストを上げる。
【０４０８】
本発明に係る黄色度は、ＪＩＳ  ７３７３  ２００６年度（旧ＪＩＳ  Ｋ７１０５：測定波長は３８０〜７８０ｎｍで、Ｃ光源ランプを用いて５ｎｍごとに透過率を測定）に従って黄色度を算出している。具体的には、後述の実施例に記載しているように、測定対象物を光路長１ｍｍ、または１０ｍｍの透明セルに入れ、分光光度計（ＪＡＳＣＯ社製  Ｖ−５６０）を用いて測定している。基板に塗布した配向膜の場合はこれを直接分光光度計に装着して測定する。
【０４０９】
また、本明細書では、後述の実施例でも測定方法を記載しているように、光配向層自体の黄色度をＹＩ、カラーフィルタと対向する（共通および／または画素電極）基板と光配向層との黄色度をＹＩＬ、光配向剤（光配向性成分と溶媒とを含む）の黄色度をＹＩＳとして規定している。
【０４１０】
光配向層自体の黄色度（ＹＩ）を規定する場合、実際のパネルの測定値からカラーフィルタの影響を正確に除去することが困難であるという理由から測定が難しいため、下記の実施例で示すように黄色度を測定している。即ち、パネルを構成する二枚の基板のうちカラーフィルタを形成していない側の基板の黄色度（ＹＩＬ）を、配向膜の形成前後で測定し、配向膜の形成前後の差から配向膜の黄色度ＹＩを得ている。この方法を用いれば、基板上に形成した実際の配向膜の状態を測定することができるばかりか、一旦パネルを構成したものであっても、パネルから個々の基板を取り出し、カラーフィルタを形成していない側の基板から付着した液晶を除き、黄色度を測定した後、更に配向膜を除去して黄色度を測定し、その差から配向膜の黄色度ＹＩを推定することができる。
【０４１１】
そのため、本発明に係る液晶表示素子において、前記画素電極と前記第一基板との間にカラーフィルタを有する場合、前記第二の配向層が形成された第二の基板の黄色度（ＹＩＬ）から求めた黄色度（ＹＩ）が０．００１＜ＹＩ＜１００であることが好ましい。一方、前記第二の光配向層と前記第二の基板との間にカラーフィルタを有する場合、前記第一の配向層が形成された第一の基板の黄色度（ＹＩＬ）から求めた黄色度（ＹＩ）が０．００１＜ＹＩ＜１００であることが好ましい。また、第一の配向層および第二の配向層の黄色度（ＹＩ）が０．００１＜ＹＩ＜１００であることがより好ましい。
【０４１２】
本発明に係る光配向層は、光配向膜から構成され、前記光配向層の平均厚みは、１０〜１０００ｎｍであることが好ましく、２０〜５００ｎｍであることがより好ましく、５０〜３００ｎｍであることがさらに好ましい。
【０４１３】
（光学異方層の分子を配向させる光配向層）
視野角補償等に用いられる補償膜やパターンリターダなどの位相差膜、およびレンチキュラーレンズなどの屈折性素子に用いられる配向層の黄色度（ＹＩ）が０．００１＜ＹＩ＜１００であり、０．００１＜ＹＩ＜５０であることが好ましく、０．００１＜ＹＩ＜１０であることがより好ましく、０．００５＜ＹＩ＜１０であることがさらに好ましく、０．０１＜ＹＩ＜１０であることが特に好ましい。
【０４１４】
本発明に係る上記の位相差膜や屈折性素子の好ましいＹＩの範囲において、大きい配向規制力や短い配向処理時間を重視する場合は、光配向層の黄色度（ＹＩ）が０．０１＜ＹＩ＜１００が好ましく、０．１＜ＹＩ＜１００がより好ましく、０．５＜ＹＩ＜５０がさらに好ましく、２＜ＹＩ＜１０がよりさらに好ましい。この範囲のＹＩでは配向処理に用いられる紫外線の吸収効率が高く処理時間を短くでき、また配向膜中に形成される配向分子の密度が多くなり液晶分子の配向をより促進でき、高い配向度や配向の均一性を得ることができるためと考えられる。一方、本発明に係る画像表示装置において、ルミナンスを重視する場合は、配向層の黄色度（ＹＩ）が０．００１＜ＹＩ＜５０が好ましく、０．００１＜ＹＩ＜１０がより好ましく、０．００１＜ＹＩ＜７がさらに好ましく、０．００２＜ＹＩ＜２がよりさらに好ましい。この範囲のＹＩでは配向規制力を有したまま配向層の着色を抑制できるため、高いルミナンスを実現できると考えられる。
【０４１５】
配向層が形成された基板の黄色度が０．００１〜１００の範囲であると、配向性を極度に高めることができる。これにより、本発明に係る上記の位相差膜や屈折性素子においては重合性液晶層（光学異方層とも称する。）の配向欠陥を減少させ、液晶性化合物の厚み方向の配向の均質性を高めることができる。いずれも配向規制力を大きくすることによって液晶の配向乱れを低減し、補償膜中の配向欠陥、配向乱れ、パターンリターダの境界領域における配向乱れ、またはレンチキュラーレンズの厚さによる配向乱れを抑制し、高精細な液晶表示装置とすることができる。また、イエローインデックスの高い材料は共役長が長くなり分子のメソゲンとしての効果が高まったため配向規制力が高まり配向膜上に積層した重合性液晶層の配向性が向上したと思われる。イエローインデックスの高い材料は配向のための光吸収帯が可視光領域に偏っているため、比較的波長の長い紫外線の吸収効率が高く、このような材料を配向層として用いた光学積層体を画像表示素子に用いると画像表示素子を比較的波長の長い紫外線から保護することが可能である。また画像表示素子を短波長の紫外線を含めて全波長域で保護することが必要な場合には配向層に紫外線吸収剤を含有させてもよい。高い液晶配向性能を示し、配向規制力が高まったことにより補償膜、パターンリターダ、レンチキュラーレンズの配向不良点を減少させ、光漏れを減少しコントラストを上げることができる。
【０４１６】
本発明に係る黄色度は、ＪＩＳ  ７３７３  ２００６年度（旧ＪＩＳ  Ｋ７１０５：測定波長は３８０〜７８０ｎｍで、Ｃ光源ランプを用いて５ｎｍごとに透過率を測定）に従って黄色度を算出している。具体的には、後述の実施例に記載しているように、測定対象物を光路長１ｍｍ、または１０ｍｍの透明セルに入れ、分光光度計（ＪＡＳＣＯ社製  Ｖ−５６０）を用いて測定している。基板に塗布した配向層の場合はこれを直接分光光度計に装着して測定する。
【０４１７】
また、本明細書では、後述の実施例でも測定方法を記載しているように、光配向層自体の黄色度をＹＩ、光配向剤（光配向性成分と溶媒とを含む）の黄色度をＹＩＳとして規定している。
【０４１８】
光配向層自体の黄色度（ＹＩ）を規定する場合、黄色度を、配向膜の形成前後で測定し、配向膜の形成前後の差から配向膜の黄色度ＹＩを得ている。
【０４１９】
本発明に係る光配向層は、光配向膜から構成され、前記光配向層の平均厚みは、１０〜１０００ｎｍであることが好ましく、２０〜５００ｎｍであることがより好ましく、５０〜３００ｎｍであることがさらに好ましい。
【０４２０】
尚、上記の「液晶媒体の液晶分子を配向させる光配向層」において、また「光学異方層の分子を配向させる光配向層」においても、ＹＩが１００を超える画像表示素子、またはＹＩＳが５００を超える範囲の光応答性配向剤は橙色に着色しまたコントラストが低下し実用上問題がある。またＹＩが０．００１に満たない画像表示素子、またはＹＩＳが０．００１に満たない光応答性配向剤は液晶の配向規制力が不十分となり、配向乱れや配向欠陥を生じ問題がある。
【０４２１】
「光学積層体」
本発明に係る光学積層体は、光学異方層と、光配向層とを必須として含むものであり、必要により基板を備えてもよく、また前記基板を画像表示部に固定または接着するために公知の粘着剤層や接着剤層を介してもよい。
また、本発明に係る光学積層体における光配向層と光学異方層との積層の順序は問わない。換言すると、本発明に係る液晶層が、透過する光の位相または速さを制御する前記光学異方性分子または前記高分子液晶の少なくともいずれかを含む光学異方層である場合、光配向層と、前記光学異方層とを含む積層構造体を光学積層体と規定している。また、前記基板は、液晶表示素子や有機ＥＬ表示素子で使用した材料と同様の材料を使用できる他、ガラス、セラミックス、プラスチック等を使用することができる。プラスチック基板としてはセルロ−ス、トリアセチルセルロ−ス、ジアセチルセルロ−ス等のセルロ−ス誘導体、ポリシクロオレフィン誘導体、ポリエチレンテレフタレ−ト、ポリエチレンナフタレ−ト等のポリエステル、ポリプロピレン、ポリエチレン等のポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリビニルアルコ−ル、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアミド、ポリイミド、ポリイミドアミド、ポリスチレン、ポリアクリレート、ポリメチルメタクリレ−ト、ポリエーテルサルホン、ポリアリレート、さらにガラス繊維−エポキシ樹脂、ガラス繊維−アクリル樹脂などの無機−有機複合材料などが挙げられる。以下、光学積層体の構成要素である光学異方層と、配向層とを詳説する。
【０４２２】
（光学異方層）
本発明の光学異方層は、光学異方性を示す分子を含むことが好ましく、光学異方性を示す高分子を含むことがより好ましい。具体的には、光学異方層を構成する成分として、上述した重合性液晶化合物から得られた高分子であることが好ましい。また、光学異方層は、重合性液晶化合物を有する重合性液晶組成物から得られてもよい。
【０４２３】
本発明の光学異方層の平均厚みは、目的に応じて必要な位相差異なるため、一概に言えないが、概ね０．１〜１０μｍが好ましく、０．５〜５μｍがより好ましく、０．８〜３μｍがさらにより好ましい。
【０４２４】
（光配向層）
本発明に係る光学積層体に含まれる光配向層は上記の通りであるためここでは省略する。
【０４２５】
「基板」
本発明に係る液晶表示素子において使用される基板（第一の基板および／または第二の基板）は、透明基板であることが好ましく、前記第一の基板と前記第二の基板は同じものを使用しても異なるものを使用してもよい。本明細書では第一または第二を便宜上記載している（他の部材でも同様である）。
【０４２６】
前記基板としては、例えばガラス又はプラスチックの如き柔軟性をもつ透明な材料が挙げられるが、シリコン等の不透明な材料でも良い。透明電極層を有する透明基板は、例えば、ガラス板等の透明基板上にインジウムスズオキシド（ＩＴＯ）をスパッタリングすることにより得ることができる。
【０４２７】
本発明に係る第１の基板または第２基板は、実質的に透明であれば材質に特に限定はなく、前記光応答性分子溶液に用いられる溶媒との関係から、前記溶媒に溶解しない材料であれば特に制限されることはなく、当該基板の材料としては、上記「光学異方層」の欄の基板と同一のものを使用できるためここでは省略する。
【０４２８】
なお上記第１の基板または第２の基板としてプラスチック基板を使用する際には、前記基板表面にバリア膜を設けることが好ましい。バリア膜の機能は、プラスチック基板が有する透湿性を低下させ、液晶表示素子の電気特性の信頼性を向上することにある。バリア膜としては、それぞれ、透明性が高く水蒸気透過性が小さいものであれば特に限定されず、一般的には酸化ケイ素などの無機材料を用いて蒸着やスパッタリング、ケミカルベーパーデポジション法（ＣＶＤ法）によって形成した薄膜を使用する。
【０４２９】
本発明においては、前記第１基板又は前記第２基板として同素材を使用しても異素材を使用してもよく、特に限定はない。ガラス基板を用いれば耐熱性や寸法安定性の優れた液晶表示素子を作製することができるので好ましい。またプラスチック基板であれば、ロールツウロール法による製造方法に適し且つ軽量化あるいはフレキシブル化に適しており好ましい。また、平坦性及び耐熱性付与を目的とするならば、プラスチック基板とガラス基板とを組み合わせると良い結果を得ることができる。
【０４３０】
本発明に係る基板は、一方の面に液晶層と当接する（光）配向層を形成し、他方の面には位相差層を形成してもよい。「位相差層」とは、光の位相差（リタデーション）変化に対して光学補償することができる位相差制御機能を有する層を意味し、具体的には、位相差基板と、前記位相差基板の一方の表面に形成された（光）配向層と、前記（光）配向層の表面に形成された液晶性化合物層とを含むことが好ましい。また前記位相差層は、前記必要により、前記位相差基板の他方の面に接着層および／または保護フィルムを形成しても良く、さらに前記液晶性化合物層の表面に接着層を形成してもよい。また、前記位相差層と第一の基板や第二の基板は、位相差基板を介することなく前記接着層を介して設けられることが好ましい。そのため本発明に係る画像表示装置、特に液晶表示素子は、液晶層が、液晶媒体および光学異方層の両方の形態であっても良い。この場合、（駆動用）液晶層と当接して光配向層を有し、かつ画像表示部の表面に光学積層体を備える液晶表示素子が好ましい。
【実施例】
【０４３１】
以下、実施例を用いて、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲はこれに限定されるものではない。【０４３２】
「測定方法」
（１）「光応答性配向材料溶液の黄色度（ＹＩＳ）の測定方法」
光応答性配向材料を０．２または３．５重量％溶液となるよう溶媒に溶解する。前記溶液は、ＮＭＰ／２−ブトキシエタノール＝１／１を用いる。光応答性配向材料の溶解性が悪く均一な溶液が得がたい場合は最少量の溶解性の高い溶媒を加えてもよい。該溶液を光路長１ｍｍ、または１０ｍｍの透明セルに入れ、分光光度計（ＪＡＳＣＯ社製  Ｖ−５６０）を用い、ＪＩＳ  ７３７３（旧  ＪＩＳ  Ｋ７１０５）に従って黄色度を算出した。得られた測定値が濃度および光路長に比例するとし、光応答性配向材料溶液濃度が０．２重量％、光路長が１ｍｍのセルを用いて測定した場合に換算して黄色度ＹＩＳとした。【０４３３】
（２）「光配向層の黄色度（ＹＩ）の測定方法」
光学積層体を作製する基板自体の黄色度をコントロールとして測定する。次いでこの基板上に、実際の位相差膜または屈折性素子を作製するのと同じ条件にて配向層を形成する。即ち、光応答性配向材料溶液を塗布、乾燥後、紫外線を照射する。その形成条件は目的とする画像表示装置および光応答性配向材料によって異なるが、例えば、基板上にスピンコーターを用いて光応答性配向材料溶液を塗布、１００℃で３分間乾燥し膜厚約９０ｎｍの塗膜層を得た後、超高圧水銀ランプと波長カットフィルター、バンドパスフィルター、および、偏光フィルターを備えた偏光照射装置を用いて、紫外光（光応答性配向材料に応じて、波長２５４ｎｍ、３１３ｎｍ、３６５ｎｍを中心波長とする波長範囲を有する）の直線偏光（照度：２０ｍＷ／ｃｍ２）を、塗膜層が形成された基板に対して鉛直方向から１０秒照射して、２００ｍＪ／ｃｍ２のエネルギーを照射する。ＹＩの評価においては、塗布方法、乾燥条件、紫外光照射装置、紫外光の波長範囲および照射エネルギー（照射強度、照射時間）は実際に液晶表示素子を作製した条件である。前記配向層を形成した基板の黄色度、及び配向層を形成する前の基板の黄色度を、分光光度計（ＪＡＳＣＯ社製  Ｖ−５６０）を用い、ＪＩＳ  ７３７３（旧  ＪＩＳ  Ｋ７１０５）に従って算出した。配向層を形成した基板の黄色度と基板自体の黄色度との差を光配向層の黄色度（ＹＩ）とした。【０４３４】
（３）「基板と光配向層との黄色度（ＹＩＬ）の測定方法」
セルを構成する２枚の基板のうち、カラーフィルタを形成した基板と対向する基板、例えば表面に形成された共通電極および／または画素電極上に上記と同様の方法を用い、セルの特性を考慮した条件で配向層を形成した後(上記（２）「光配向層の黄色度（ＹＩ）の測定方法」に記載)、該基板を、分光光度計（ＪＡＳＣＯ社製  Ｖ−５６０）を用い、ＪＩＳ  ７３７３（旧  ＪＩＳ  Ｋ７１０５）に従って黄色度を算出した。【０４３５】
（４）配向規制力（アンカリングエネルギー）の評価方法
スピンコーターを用いて光応答性配向材料溶液をガラス基板上に塗布し、膜厚約９０ｎｍの配向層を得た。次に、超高圧水銀ランプと波長カットフィルター、バンドパスフィルター、および、偏光フィルターを備えた偏光照射装置を用いて、紫外光（光応答性配向材料に応じて、波長２５４ｎｍ、３１３ｎｍ、３６５ｎｍ）の直線偏光（照度：２０ｍＷ／ｃｍ２）を、配向層が形成されたガラス基板に対して鉛直方向から１０秒照射して、２００ｍＪ／ｃｍ２のエネルギーを照射した。【０４３６】
このようにして形成した光応答性配向層付きガラス基板を２枚用意し、該配向層が対向するようにセルギャップ１０μｍの間隔を持って貼り合せて液晶セルを作製した。この際、２枚の光配向層付きガラス基板は、照射した偏光紫外線の振動方向がお互いに平行になるように配置させた。【０４３７】
この液晶セルを用いてトルクバランス法と呼ばれる方法（日本液晶学会討論会講演予稿集  （２００１年）の２５１から２５２ページに報告された方法）によって、光配向層の方位角アンカリングエネルギーを測定した。【０４３８】
液晶セルに、下記の液晶組成物（１）を注入し、９２℃で２分間加熱後、室温まで冷却した。白色光源、偏光子（入射側偏光板）、検光子（出射側偏光板）、検出器を備えた光学測定装置（ＯＭＳ−ＤＩ４ＲＤ、中央精機株式会社製）の、偏光子−検光子間に、この液晶セルを配置し、偏光子と検光子を回転させながら、検出器にて透過光の光量を検出し、検出した光量が最も小さくなる、偏光子と検光子の回転角を求め、この角度をツイスト角φ１とした。【０４３９】
次にこの液晶セルから液晶組成物（１）を抜き取り、代わりに下記の液晶組成物（２）を注入し、２℃で２分間加熱後、室温まで冷却した。この液晶セルを用いて、上記と同様にして偏光子と検光子の回転角を求めて、この角度をツイスト角φ２とした。【０４４０】
方位角アンカリングエネルギーＡを、数式（１）により求めた。ただし、Ｋ２２は液晶のツイスト弾性係数、ｄはセルギャップ、ｐはカイラル入り液晶のらせんピッチである。【０４４１】
【数１】
2015178447.tif 000105
【０４４２】
（５）コントラストの評価方法
白色光源、偏光子（入射側偏光板）、検光子（出射側偏光板）、検出器を備えた光学測定装置（ＯＭＳ−ＤＩ４ＲＤ、中央精機株式会社製）の、偏光子−検光子間に、被測定素子（以下の実施例に記載された、レンチキュラーランズ付立体画像表示用装置、パターンリターダ付立体画像表示用装置、位相差膜付液晶表示用装置、液晶表示装置等）を配置し、偏光子と検光子を回転させながら、検出器にて透過光の光量を検出し、コントラストは、（コントラスト）＝（パラレルニコル輝度）／（クロスニコル輝度）で定義され、液晶層には電圧を印加しない状態で測定を行った。【０４４３】
（光応答性配向材料溶液の調製例１）
光応答性配向材料塗液として３，３’−［（２，２’−ジスルホ−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジイル）ビス（アゾ）］ビス［６−ヒドロキシ安息香酸］四ナトリウム（慣用名Ｃ．Ｉ．モルダントイエロー２６）を１重量部と、２−ブトキシエタノール４２重量部、カルビトール（ジエチレングリコールモノエチルエーテル）４２重量部、水１５重量部との混合物を室温で１０分間攪拌した均一溶液（光応答性配向材料溶液１）を調製した。尚、黄色度（ＹＩＳ）は、１１０であった。また方位角アンカリングエネルギーを測定したところ、２３０μＪ／ｍ２であった。【０４４４】
（光応答性配向材料溶液の調製例２）
光応答性配向材料塗液として下記構造の桂皮酸系光配向性ポリマーを３．５重量部と、ＮＭＰ４８．３重量部、２−ブトキシエタノール４８．２重量部との混合物を室温で１０分間攪拌した均一溶液（光応答性配向材料溶液２）を調整した。尚、黄色度（ＹＩＳ）は０．０１であった。また方位角アンカリングエネルギーを測定したところ、１００μＪ／ｍ２であった。【０４４５】
【化１０３】
2015178447.tif 000106
【０４４６】
（光応答性配向材料溶液の調製例３）
光応答性配向材料塗液として３，３’−［（２，２’−ジスルホ−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジイル）ビス（アゾ）］ビス［６−ヒドロキシ安息香酸］四ナトリウム（慣用名Ｃ．Ｉ．モルダントイエロー２６）を１×１０−４重量部と、２−ブトキシエタノール４２．５重量部、カルビトール４２．５重量部、水１５重量部との混合物を室温で１０分間攪拌した均一溶液（光応答性配向材料溶液３）を調製した。尚、方位角アンカリングエネルギーを測定したところ、３４μＪ／ｍ２であった。【０４４７】
（光応答性配向材料溶液の調製例４）
光応答性配向材料塗液として光応答性配向材料溶液の調製例２で用いたのと同じ桂皮酸系光配向性ポリマーを０．０４重量部と、ＮＭＰ４９．８重量部、２−ブトキシエタノール４９．８重量部との混合物を室温で１０分間攪拌した均一溶液（光応答性配向材料溶液４）を調整した。尚、方位角アンカリングエネルギーを測定したところ、２３μＪ／ｍ２であった。【０４４８】
（光応答性配向材料溶液の調製例５）
光応答性配向材料塗液として下記構造の桂皮酸系光配向性ポリマーを３．５重量部と、ＮＭＰ４８．３重量部、２−ブトキシエタノール４８．２重量部との混合物を室温で１０分間攪拌した均一溶液（光応答性配向材料溶液５）を調整した。尚、黄色度（ＹＩＳ）は０．０３であった。また方位角アンカリングエネルギーを測定したところ、１８１μＪ／ｍ２であった。【０４４９】
【化１０４】
2015178447.tif 000107
【０４５０】
（光応答性配向材料溶液の調製例６）
光応答性配向材料塗液として、下記構造のポリアミック酸（ポリイミド系光配向性ポリマー）を２．０重量部と、ＮＭＰ９８．０重量部との混合物を室温で１０分間攪拌した均一溶液（光応答性配向材料溶液６）を調整した。尚、黄色度（ＹＩＳ）は９２であった。また方位角アンカリングエネルギーを測定したところ、２０５μＪ／ｍ２であった。【０４５１】
【化１０５】
2015178447.tif 000108
【０４５２】
（光応答性配向材料溶液の調製例７）
光応答性配向材料塗液としてＣ．Ｉ．モルダントイエロー２６を１重量部と、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル（紫外線吸収剤）を２×１０−３重量部、２−ブトキシエタノール４２重量部、カルビトール（ジエチレングリコールモノエチルエーテル）４２重量部、水１５重量部との混合物を室温で１０分間攪拌した均一溶液（光応答性配向材料溶液７）を調製した。尚、黄色度（ＹＩＳ）は、１３０であった。また方位角アンカリングエネルギーを測定したところ、２１０μＪ／ｍ２であった。【０４５３】
（実施例１）レンチキュラーランズ付立体画像表示用装置
第一のガラス基板に透明電極を形成し、第二のガラス基板にブラックマトリックス（ＢＭ）を形成した後、カラーフィルタとして赤色着色組成物をスピンコートにより膜厚２μｍとなるように塗布した。７０℃で２０分間乾燥の後、超高圧水銀ランプを備えた露光機にて紫外線を、フォトマスクを介してストライプ状のパターン露光をした。アルカリ現像液にて９０秒間スプレー現像、イオン交換水で洗浄し、風乾した。さらに、クリーンオーブン中で、２３０℃で３０分間ポストベークを行い、ストライプ状の着色層である赤色画素を透明基板上に形成した。同様に、緑色着色組成物も同様にスピンコートにて膜厚が２μｍとなるように塗布。乾燥後、露光機にてストライプ状の着色層を前述の赤色画素からずらした場所に露光し現像することで、前述赤色画素と隣接した緑色画素を形成した。更に、青色着色組成物についても同様にスピンコートにて膜厚２μｍで赤色画素、緑色画素と隣接した青色画素を形成した。これで、透明基板上に赤、緑、青の３色のストライプ状の画素を持つカラーフィルタが得られた。【０４５４】
次に、光応答性配向材料溶液１を孔径０．２ミクロンのメンブランフィルターで濾過した後、スピンコーターを用いて回転数１８００ｒｐｍにて両基板上に塗布し、１００℃で３分間乾燥することで、基板上に膜厚９０ｎｍの塗膜を形成した。形成された塗膜を目視で観察したところ、平滑な膜が形成されていることが確認された。次に、超高圧水銀ランプ、波長カットフィルター、バンドパスフィルター、及び、偏光フィルターを備えた偏光照射装置を用いて、紫外光（波長３６５ｎｍ）の直線偏光（照度：２０ｍＷ／ｃｍ２）を、形成された膜に対して、鉛直方向から１０秒照射して、２００ｍＪ／ｃｍ２のエネルギーを照射した光配向層を得た。【０４５５】
シール剤をディスペンス用のシリンジに充填し、脱泡処理を行ってから、ディスペンサーにて、それぞれシール剤を長方形の枠を描く様に、第一の基板の配向層側に塗布した。シール剤が未硬化の状態で以下の液晶組成物１の微小滴を第一の基板の枠内全面に滴下塗布し、直ちに真空張り合わせ装置を用い、第二の基板を５Ｐａの真空下にて張り合わせた。真空解除後、押しつぶされたシール剤の線幅が約１．２ｍｍであり、そのうちの０．３ｍｍがＢＭと重なるように描画条件および基板間のギャップを調整した。直ちに、１２０℃にて１時間熱処理してシール剤を熱硬化させ、ＩＰＳ方式の液晶表示素子（１）を作製した（ｄｇａｐ＝４．０μｍ）。液晶組成物（１）の組成および物性値を以下に示す。【０４５６】
液晶組成物（１）：【０４５７】
【化１０６】
2015178447.tif 000109
【０４５８】
前記液晶組成物（１）のネマチック−等方性液体相転移温度は８５．６℃、ｎｅ（波長５８９ｎｍにおける異常光屈折率）は１．５９６、ｎｏ（波長５８９ｎｍにおける異常光屈折率）は、１．４９１であった。また誘電率異方性は＋７．０、Ｋ２２は７．４ｐＮであった。【０４５９】
下記式で表される化合物を、上記液晶組成物（１）に対し０．２５質量％添加して液晶組成物（２）を調製した。ピッチを測定したところ４０．４０μｍであった。【０４６０】
【化１０７】
2015178447.tif 000110
【０４６１】
光応答性配向材料溶液１を厚さ０．７ｍｍのガラス基材にスピンコート法を用いて塗布し、１００℃で３分乾燥して基板上に膜厚９０ｎｍの塗膜を形成した。形成された塗膜を目視で観察したところ、平滑な膜が形成されていることが確認された。次に、超高圧水銀ランプ、波長カットフィルター、バンドパスフィルター、及び、偏光フィルターを備えた偏光照射装置を用いて、紫外光（波長３６５ｎｍ）の直線偏光（照度：２０ｍＷ／ｃｍ２）を、形成された膜に対して、鉛直方向から１０秒照射して、２００ｍＪ／ｃｍ２のエネルギーを照射した光配向層とした。同様にレンチキュラーレンズ用の透明樹脂金型にも光配向層を形成した。【０４６２】
上記のようにして得られた光配向層の形成されたガラス基材上に下記の複屈折材料（１）を５５℃に温めた状態のままスピンコート法で塗布した。得られた塗布膜の上に配向処理が施された透明樹脂金型を圧着し、室温まで冷却した。その際、配向処理した基材の配向方向と金型の配向方向が並行になるように配置した。その後、高圧水銀ランプを用いて、４０ｍＷ／ｃｍ２の強度で２５秒間紫外線光照射し、レンチキュラーレンズ（１）を得た。レンチキュラーレンズ（１）は、欠陥がなく配向性も良好であった。レンチキュラーレンズ（１）をＩＰＳ方式の液晶表示素子（１）に積層して立体画像表示用装置を得た。【０４６３】
本立体画像表示用装置のコントラストを測定したところ、１３５であった。また、ガラス基板に形成されていた配向層の黄色度（ＹＩ）は６．１であった。その結果、前記立体画像表示用装置は、比較例（１）、（２）の立体画像表示用装置に比べてコントラストが大きく、欠陥や配向乱れ及び光漏れが少なく、高精細な液晶表示装置となった。
複屈折材料（１）：【０４６４】
【化１０８】
2015178447.tif 000111
【０４６５】
【化１０９】
2015178447.tif 000112
【０４６６】
ダロキュアＴＰＯ（Ｃ−１）
ｐ−メトキシフェノール（Ｄ−１）
アクリル酸ブチル（Ｅ−１）（東亞合成株式会社製）
ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６（Ｅ−２）（ＢＡＳＦ社製）
上記各化合物の組成比（質量比％）を次表に示す。【０４６７】
【表１】
2015178447.tif 000113
【０４６８】
なお、本発明の複屈折材料（１）の固体相から液晶相への転移温度は、−２７℃、液晶相から液体相への転移温度は７０℃であった。【０４６９】
（比較例１）レンチキュラーランズ付立体画像表示用装置
光応答性配向材料溶液１の代わりに光応答性配向材料溶液３を用いた以外、実施例１と同様にＩＰＳ方式の立体画像表示用装置を作製した。【０４７０】
また、立体画像表示用装置に積層したレンチキュラーレンズのガラス基板に形成されていた配向層の黄色度（ＹＩ）は、６．７×１０−４であった。本表示用装置のコントラストを測定したところ、７６であった。【０４７１】
（実施例２）レンチキュラーランズ付立体画像表示用装置
実施例１と同様にＩＰＳ方式の液晶表示素子（１）を用い、レンチキュラーレンズの作製において、ガラス基板上に形成する配向層材料として光応答性配向材料溶液１の代わりに光応答性配向材料溶液２を用いた以外、実施例１と同様にＩＰＳ方式の立体画像表示用装置を作製した。上記ガラス基板上の配向層の膜厚は２９０ｎｍだった。【０４７２】
本立体画像表示用装置のコントラストを測定したところ、１１０であった。また、本レンチキュラーレンズのガラス基板に形成されていた光配向層の黄色度（ＹＩ）は２．０×１０−３であった。その結果、前記立体画像表示用装置は、比較例（１）、（２）の立体画像表示用装置に比べてコントラストが大きく、欠陥や配向乱れ及び光漏れが少なく、高精細な液晶表示装置となった。【０４７３】
（比較例２）レンチキュラーランズ付立体画像表示用装置
実施例１と同様にＩＰＳ方式の液晶表示素子（１）を用い、レンチキュラーレンズの作製において、ガラス基板上に形成する光配向層材料として光応答性配向材料溶液１の代わりに光応答性配向材料溶液４を用いた以外、実施例１と同様にＩＰＳ方式の立体画像表示用装置を作製した。本表示用装置のコントラストを測定したところ、６４であった。また、液晶表示素子の透明電極付ガラス基板に形成されていた光配向層の黄色度（ＹＩ）は、４×１０−５であった。【０４７４】
（実施例３）レンチキュラーランズ付立体画像表示用装置
実施例１と同様にＩＰＳ方式の液晶表示素子（１）を用い、レンチキュラーレンズの作製において、ガラス基板上に形成する光配向層材料として光応答性配向材料溶液１の代わりに光応答性配向材料溶液５を用いた以外、実施例１と同様にＩＰＳ方式の立体画像表示用装置を作製した。上記ガラス基板上の配向層の膜厚は２９０ｎｍだった。【０４７５】
本立体画像表示用装置のコントラストを測定したところ、１２７であった。また、本レンチキュラーレンズのガラス基板に形成されていた光配向層の黄色度（ＹＩ）は、５×１０−３であった。その結果、前記立体画像表示用装置は、比較例の立体画像表示用装置に比べてコントラストが大きく、欠陥や配向乱れ及び光漏れが少なく、高精細な液晶表示装置となった。【０４７６】
（実施例４）レンチキュラーランズ付立体画像表示用装置
実施例１と同様にＩＰＳ方式の液晶表示素子（１）を用い、レンチキュラーレンズの作製において、ガラス基板上に形成する光配向層材料として光応答性配向材料溶液１の代わりに光応答性配向材料溶液６を用い、スピンコーターによる塗膜形成後、８０℃で５分、２５０℃で１時間加熱処理し、かつ塗膜に対する紫外光の照射条件を波長２５４ｎｍの偏光紫外線を２０００ｍＪ／ｃｍ２照射する以外、実施例１と同様にＩＰＳ方式の立体画像表示用装置を作製した。上記ガラス基板上の配向層の膜厚は１６０ｎｍだった。【０４７７】
本立体画像表示用装置のコントラストを測定したところ、１３０であった。また、本レンチキュラーレンズのガラス基板に形成されていた光配向層の黄色度（ＹＩ）は、４．３であった。【０４７８】
その結果、前記立体画像表示用装置は、比較例の立体画像表示用装置に比べてコントラストが大きく、欠陥や配向乱れ及び光漏れが少なく、高精細な液晶表示装置となった。【０４７９】
（実施例５）レンチキュラーランズ付立体画像表示用装置
実施例１と同様にＩＰＳ方式の液晶表示素子（１）を用い、レンチキュラーレンズの作製において、ガラス基板上に形成する光配向層材料として光応答性配向材料溶液１の代わりに光応答性配向材料溶液７を用いた以外、実施例１と同様にＩＰＳ方式の立体画像表示用装置を作製した。上記ガラス基板上の配向層の膜厚は９０ｎｍだった。本立体画像表示用装置のコントラストを測定したところ、１３３であった。【０４８０】
また、本レンチキュラーレンズのガラス基板に形成されていた光配向層の黄色度（ＹＩ）は、６．９であった。【０４８１】
その結果、前記立体画像表示用装置は、比較例（１）、（２）の立体画像表示用装置に比べてコントラストが大きく、欠陥や配向乱れ及び光漏れが少なく、高精細な液晶表示装置となった。また、素子を作製する工程における紫外線および加熱によるシール剤の硬化前後のコントラスト変化も見られず、光による劣化を抑制・防止することができていた。【０４８２】
（実施例６）パターンリターダ付立体画像表示用装置
光応答性配向材料溶液１を厚さ０．７ｍｍのガラス基材にスピンコート法を用いて塗布し、１００℃で３分乾燥して基板上に膜厚９０ｎｍの塗膜を形成した。形成された塗膜を目視で観察したところ、平滑な膜が形成されていることが確認された。次に、超高圧水銀ランプ、波長カットフィルター、バンドパスフィルター、及び、偏光フィルターを備えた偏光照射装置を用いて、紫外光（波長３６５ｎｍ）の直線偏光（照度：２０ｍＷ／ｃｍ２）を、形成された膜に対して、鉛直方向から１０秒照射して、２００ｍＪ／ｃｍ２のエネルギーを照射した光配向層とした。この時、偏光の方向が９０°異なる紫外光がストライプ状に、また隣り合わせになるようにフォトマスクを用いて照射し、合計２回照射した。【０４８３】
上記のようにして得られた光配向層の形成されたガラス基材上に、上記の複屈折材料（１）を５５℃に温めた状態のままスピンコート法で塗布し、室温まで冷却した。その後、高圧水銀ランプを用いて、４０ｍＷ／ｃｍ２の強度で２５秒間紫外線光照射し、配向方向が９０°異なるストライプ状で、１／４波長板として機能する位相差を有するパターンリターダを得た。該パターンリターダは、欠陥がなく配向性も良好であった。該パターンリターダを実施例１に記載のＩＰＳ方式の液晶表示素子（１）に積層して立体画像表示用装置を得た。【０４８４】
本立体画像表示用装置のコントラストを測定したところ、１４８であった。また、ガラス基板に形成されていた光配向層の黄色度（ＹＩ）は６．１であった。その結果、前記立体画像表示用装置は、比較例（３）、（４）の立体画像表示用装置に比べてコントラストが大きく、欠陥や配向乱れ及び光漏れが少なく、特に配向方向の異なるパターン間の境界領域の配向乱れが少なく、高精細な液晶表示装置となった。【０４８５】
（実施例７）パターンリターダ付立体画像表示用装置
実施例６と同様にＩＰＳ方式の液晶表示素子（１）を用い、パターンリターダの作製において、光応答性配向材料溶液１の代わりに光応答性配向材料溶液２を用いた以外、実施例６と同様にＩＰＳ方式の立体画像表示用装置を作製した。パターンリターダに用いたガラス基板上の配向層の膜厚は２９０ｎｍだった。【０４８６】
本立体画像表示用装置のコントラストを測定したところ、１２３であった。また、本パターンリターダのガラス基板に形成されていた光配向層の黄色度（ＹＩ）は２×１０−３であった。その結果、前記立体画像表示用装置は、比較例（３）、（４）の立体画像表示用装置に比べてコントラストが大きく、欠陥や配向乱れ及び光漏れが少なく、特に配向方向の異なるパターン間の境界領域の配向乱れが少なく、高精細な液晶表示装置となった。【０４８７】
（比較例３）パターンリターダ付立体画像表示用装置
実施例６と同様にＩＰＳ方式の液晶表示素子（１）を用い、パターンリターダの作製において、光応答性配向材料溶液１の代わりに光応答性配向材料溶液３を用いた以外、実施例６と同様にＩＰＳ方式の立体画像表示用装置を作製した。本表示装置のコントラストを測定したところ、７９であった。また、本パターンリターダのガラス基板に形成されていた配向層の黄色度（ＹＩ）は、６．７×１０−４であった。【０４８８】
（比較例４）パターンリターダ付立体画像表示用装置
実施例６と同様にＩＰＳ方式の液晶表示素子（１）を用い、パターンリターダの作製において、光応答性配向材料溶液１の代わりに光応答性配向材料溶液４を用いた以外、実施例６と同様にＩＰＳ方式の立体画像表示用装置を作製した。本表示装置のコントラストを測定したところ、６８であった。また、本パターンリターダのガラス基板に形成されていた配向層の黄色度（ＹＩ）は、４×１０−５であった。【０４８９】
（実施例８）パターンリターダ付立体画像表示用装置
実施例６と同様にＩＰＳ方式の液晶表示素子（１）を用い、パターンリターダの作製において、光応答性配向材料溶液１の代わりに光応答性配向材料溶液５を用いた以外、実施例６と同様にＩＰＳ方式の立体画像表示用装置を作製した。パターンリターダに用いたガラス基板上の配向層の膜厚は２９０ｎｍだった。【０４９０】
本立体画像表示用装置のコントラストを測定したところ、１４０であった。また、本パターンリターダのガラス基板に形成されていた光配向層の黄色度（ＹＩ）は、５×１０−３であった。【０４９１】
その結果、前記立体画像表示用装置は、比較例（３）、（４）の立体画像表示用装置に比べてコントラストが大きく、欠陥や配向乱れ及び光漏れが少なく、特に配向方向の異なるパターン間の境界領域の配向乱れが少なく、高精細な液晶表示装置となった。【０４９２】
（実施例９）パターンリターダ付立体画像表示用装置
実施例６と同様にＩＰＳ方式の液晶表示素子（１）を用い、パターンリターダの作製において、光応答性配向材料溶液１の代わりに光応答性配向材料溶液６を用い、スピンコーターによる塗膜形成後、８０℃で５分、２５０℃で１時間加熱処理し、かつ塗膜に対する紫外光の照射条件を波長２５４ｎｍの偏光紫外線を２０００ｍＪ／ｃｍ２照射する以外、実施例６と同様にＩＰＳ方式の立体画像表示用装置を作製した。パターンリターダに用いたガラス基板上の配向層の膜厚は１６０ｎｍだった。【０４９３】
本立体画像表示用装置のコントラストを測定したところ、１４５であった。また、本パターンリターダのガラス基板に形成されていた光配向層の黄色度（ＹＩ）は、４．３であった。【０４９４】
その結果、前記立体画像表示用装置は、比較例（３）、（４）の立体画像表示用装置に比べてコントラストが大きく、欠陥や配向乱れ及び光漏れが少なく、特に配向方向の異なるパターン間の境界領域の配向乱れが少なく、高精細な液晶表示装置となった。【０４９５】
（実施例１０）パターンリターダ付立体画像表示用装置
実施例６と同様にＩＰＳ方式の液晶表示素子（１）を用い、パターンリターダの作製において、光応答性配向材料溶液１の代わりに光応答性配向材料溶液７を用いた以外、実施例１と同様にＩＰＳ方式の立体画像表示用装置を作製した。パターンリターダに用いたガラス基板上の配向層の膜厚は９０ｎｍだった。本立体画像表示用装置のコントラストを測定したところ、１４７であった。【０４９６】
また、本パターンリターダのガラス基板に形成されていた光配向層の黄色度（ＹＩ）は、６．９であった。その結果、前記立体画像表示用装置は、比較例（３）、（４）の立体画像表示用装置に比べてコントラストが大きく、欠陥や配向乱れ及び光漏れが少なく、特に配向方向の異なるパターン間の境界領域の配向乱れが少なく、高精細な液晶表示装置となった。【０４９７】
また、素子を作製する工程における紫外線および加熱によるシール剤の硬化前後のコントラスト変化も見られず、光による劣化を抑制・防止することができていた。【０４９８】
（実施例１１）位相差膜付液晶表示用装置
光応答性配向材料溶液１を厚さ８０μｍのＴＡＣ（トリアセチルセルロース）基材にスピンコート法を用いて塗布し、８０℃で５分乾燥して基板上に膜厚９０ｎｍの塗膜を形成した。形成された塗膜を目視で観察したところ、平滑な膜が形成されていることが確認された。次に、超高圧水銀ランプ、波長カットフィルター、バンドパスフィルター、及び、偏光フィルターを備えた偏光照射装置を用いて、紫外光（波長３６５ｎｍ）の直線偏光（照度：２０ｍＷ／ｃｍ２）を、形成された膜に対して、鉛直方向から１０秒照射して、２００ｍＪ／ｃｍ２のエネルギーを照射した光配向層とした。【０４９９】
上記のようにして得られた光配向層の形成されたＴＡＣ基材上に、上記の複屈折材料（１）を５５℃に温めた状態のままスピンコート法で塗布し、室温まで冷却した。その後、高圧水銀ランプを用いて、４０ｍＷ／ｃｍ２の強度で２５秒間紫外線光照射し位相差膜を得た。該位相差膜は、欠陥がなく配向性も良好であった。該位相差膜を実施例１に記載のＩＰＳ方式の液晶表示素子（１）に積層して液晶表示用装置を得た。【０５００】
本液晶表示用装置のコントラストを測定したところ、１５２であった。また、ＴＡＣ基板に形成されていた光配向層の黄色度（ＹＩ）は６．１であった。その結果、前記液晶表示用装置は、比較例（５）の立体画像表示用装置に比べてコントラストが大きく、欠陥や配向乱れ及び光漏れが少なく、高精細な液晶表示装置となった。【０５０１】
また該液晶表示素子に高圧水銀ランプを用いて無偏光の紫外線を４０ｍＷ／ｃｍ２の強度で１２５秒間照射した。照射後の液晶表装置のコントラストを測定したところ、１４６であった。比較例５のようなコントラストの激減は見られなかった。【０５０２】
（比較例５）位相差膜付液晶表示用装置
光応答性配向材料溶液１の代わりに光応答性配向材料溶液３を用いた以外、実施例１１と同様にＩＰＳ方式の液晶表示装置を得た。【０５０３】
また、該位相差膜のＴＡＣ基板に形成されていた配向層の黄色度（ＹＩ）は、６．７×１０−４であった。本表示用装置のコントラストを測定したところ、８１であった。【０５０４】
また該液晶表示素子に高圧水銀ランプを用いて無偏光の紫外線を４０ｍＷ／ｃｍ２の強度で１２５秒間照射した。照射後の液晶表装置のコントラストを測定したところ、３８に激減した。【０５０５】
（実施例１２）位相差膜付液晶表示用装置
光応答性配向材料溶液１の代わりに光応答性配向材料溶液７を用いた以外、実施例１１と同様にＩＰＳ方式の液晶表示装置を得た。本液晶表示装置のコントラストを測定したところ、１４９であった。【０５０６】
また、該位相差膜のＴＡＣ基板に形成されていた光配向層の黄色度（ＹＩ）は、６．９であった。【０５０７】
また該液晶表示素子に高圧水銀ランプを用いて無偏光の紫外線を４０ｍＷ／ｃｍ２の強度で１２５秒間照射した。照射後の液晶表装置のコントラストを測定したところ、１４５であった。比較例５のようなコントラストの激減は見られなかった。【０５０８】
その結果、前記立体画像表示用装置は、比較例の立体画像表示用装置に比べてコントラストが大きく、欠陥や配向乱れ及び光漏れが少なく、高精細な液晶表示装置となった。また、素子を作製する工程における紫外線および加熱によるシール剤の硬化前後のコントラスト変化も見られず、意図的に素子に照射した紫外線にコントラスト変化も僅かであり、光による劣化を抑制・防止することができていた。【０５０９】
（実施例１３）液晶表示素子
第一のガラス基板に透明電極を形成し、第二のガラス基板にブラックマトリックス（ＢＭ）を形成した後、カラーフィルタとして赤色着色組成物をスピンコートにより膜厚２μｍとなるように塗布した。７０℃で２０分間乾燥の後、超高圧水銀ランプを備えた露光機にて紫外線を、フォトマスクを介してストライプ状のパターン露光をした。アルカリ現像液にて９０秒間スプレー現像、イオン交換水で洗浄し、風乾した。さらに、クリーンオーブン中で、２３０℃で３０分間ポストベークを行い、ストライプ状の着色層である赤色画素を透明基板上に形成した。同様に、緑色着色組成物も同様にスピンコートにて膜厚が２μｍとなるように塗布。乾燥後、露光機にてストライプ状の着色層を前述の赤色画素からずらした場所に露光し現像することで、前述赤色画素と隣接した緑色画素を形成した。更に、青色着色組成物についても同様にスピンコートにて膜厚２μｍで赤色画素、緑色画素と隣接した青色画素を形成した。これで、透明基板上に赤、緑、青の３色のストライプ状の画素を持つカラーフィルタが得られた。【０５１０】
次に、光応答性液晶配向材料溶液１を孔径０．２ミクロンのメンブランフィルターで濾過した後、スピンコーターを用いて回転数１８００ｒｐｍにて両基板上に塗布し、１００℃で３分間乾燥することで、基板上に膜厚９０ｎｍの塗膜を形成した。形成された塗膜を目視で観察したところ、平滑な膜が形成されていることが確認された。次に、超高圧水銀ランプ、波長カットフィルター、バンドパスフィルター、及び、偏光フィルターを備えた偏光照射装置を用いて、紫外光（波長３６５ｎｍ）の直線偏光（照度：２０ｍＷ／ｃｍ２）を、形成された膜に対して、鉛直方向から１０秒照射して、２００ｍＪ／ｃｍ２のエネルギーを照射した光配向層を得た。【０５１１】
シール剤をディスペンス用のシリンジに充填し、脱泡処理を行ってから、ディスペンサーにて、それぞれシール剤を長方形の枠を描く様に、第一の基板の配向層側に塗布した。シール剤が未硬化の状態で以下の液晶組成物１の微小滴を第一の基板の枠内全面に滴下塗布し、直ちに真空張り合わせ装置を用い、第二の基板を５Ｐａの真空下にて張り合わせた。真空解除後、押しつぶされたシール剤の線幅が約１．２ｍｍであり、そのうちの０．３ｍｍがＢＭと重なるように描画条件および基板間のギャップを調整した。直ちに、１２０℃にて１時間熱処理してシール剤を熱硬化させ、ＩＰＳ方式の液晶表示素子を作製した（ｄｇａｐ＝４．０μｍ）。液晶組成物１の組成および物性値を以下に示す。【０５１２】
液晶組成物１：【０５１３】
【化１１０】
2015178447.tif 000114
【０５１４】
前記液晶組成物（１）のネマチック−等方性液体相転移温度は８５．６℃、ｎｅ（波長５８９ｎｍにおける異常光屈折率）は１．５９６、ｎｏ（波長５８９ｎｍにおける異常光屈折率）は、１．４９１であった。また誘電率異方性は＋７．０、Ｋ２２は７．４ｐＮであった。【０５１５】
本液晶表示素子のコントラストを測定したところ、１５６であった。また、本液晶表示素子の透明電極付ガラス基板に形成されていた配向層の黄色度（ＹＩ）は６．１であった。その結果、前記液晶表示素子において、比較例の素子に比べてコントラストが大きく、欠陥や配向乱れ及び光漏れが少なく、またシール際の配向乱れも小さく、高精細な液晶表示素子となった。【０５１６】
（比較例６）液晶表示素子
光応答性液晶配向材料溶液１の代わりに光応答性液晶配向材料溶液３を用いた以外、実施例１３と同様にＩＰＳ方式の液晶表示素子を作製した。【０５１７】
また、液晶表示素子の透明電極付ガラス基板に形成されていた配向層の黄色度（ＹＩ）は、６．７×１０−４であった。本表示素子のコントラストを測定したところ、８７であった。【０５１８】
（実施例１４）液晶表示素子
光応答性液晶配向材料溶液１の代わりに光応答性液晶配向材料溶液２を用いた以外、実施例１３と同様にＩＰＳ方式の液晶表示素子を作製した。配向層の膜厚は２９０ｎｍだった。本表示素子のコントラストを測定したところ、１３１であった。【０５１９】
また、本液晶表示素子の透明電極付ガラス基板に形成されていた配向層の黄色度（ＹＩ）は２×１０−３であった。【０５２０】
その結果、前記液晶表示素子において、比較例の素子に比べてコントラストが大きく、欠陥や配向乱れ及び光漏れが少なく、またシール際の配向乱れも小さく、高精細な液晶表示素子となった。【０５２１】
（比較例７）液晶表示素子
光応答性液晶配向材料溶液１の代わりに光応答性液晶配向材料溶液４を用いた以外、実施例１３と同様にＩＰＳ方式の液晶表示素子を作製した。本表示素子のコントラストを測定したところ、７６であった。また、液晶表示素子の透明電極付ガラス基板に形成されていた光配向層の黄色度（ＹＩ）は、４×１０−５であった。【０５２２】
（実施例１５）液晶表示素子
光応答性液晶配向材料溶液１の代わりに光応答性液晶配向材料溶液５を用いた以外、実施例１３と同様にＩＰＳ方式の液晶表示素子を作製した。配向層の膜厚は２９０ｎｍだった。【０５２３】
本表示素子のコントラストを測定したところ、１４８であった。【０５２４】
また、本液晶表示素子の透明電極付ガラス基板に形成されていた光配向層の黄色度（ＹＩ）は、５×１０−３であった。その結果、前記液晶表示素子において、比較例の素子に比べてコントラストが大きく、欠陥や配向乱れ及び光漏れが少なく、またシール際の配向乱れも小さく、高精細な液晶表示素子となった。【０５２５】
（実施例１６）液晶表示素子
光応答性液晶配向材料溶液１の代わりに光応答性液晶配向材料溶液６を用い、スピンコーターによる塗膜形成後、８０℃で５分、２５０℃で１時間加熱処理し、かつ塗膜に対する紫外光の照射条件を波長２５４ｎｍの偏光紫外線を２０００ｍＪ／ｃｍ２照射する以外、実施例１３と同様にＩＰＳ方式の液晶表示素子を作製した。配向層の膜厚は１６０ｎｍだった。【０５２６】
本表示素子のコントラストを測定したところ、１５３であった。【０５２７】
また、本液晶表示素子の透明電極付ガラス基板に形成されていた光配向層の黄色度（ＹＩ）は、４．３であった。
その結果、前記液晶表示素子において、比較例の素子に比べてコントラストが大きく、欠陥や配向乱れ及び光漏れが少なく、またシール際の配向乱れも小さく、高精細な液晶表示素子となった。【０５２８】
（実施例１７）液晶表示素子
光応答性液晶配向材料溶液１の代わりに光応答性液晶配向材料溶液７を用いた以外、実施例１３と同様にＩＰＳ方式の液晶表示素子を作製した。配向層の膜厚は９０ｎｍだった。本表示素子のコントラストを測定したところ、１５５であった。【０５２９】
また、本液晶表示素子の透明電極付ガラス基板に形成されていた光配向層の黄色度（ＹＩ）は、７．１であった。その結果、前記液晶表示素子において、比較例の素子に比べてコントラストが大きく、欠陥や配向乱れ及び光漏れが少なく、またシール際の配向乱れも小さく、高精細な液晶表示素子となった。また、素子を作製する工程における紫外線および加熱によるシール剤の硬化前後のコントラスト変化も見られず、光による劣化を抑制・防止することができていた。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【手続補正書】
【提出日】平成28年7月6日(2016.7.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透光性の光学積層体および一対の基板を備える画像表示部を有する画像表示装置であって、
前記光学積層体は、透過する光の位相または速さを制御し、かつ高分子液晶または重合可能な液晶化合物を硬化してなる光学異方性分子の少なくともいずれかを含む光学異方層と、
前記光学異方層と当接して前記高分子液晶または前記液晶化合物の配向を制御する光配向層と、を備え、
前記光配向層の黄色度（ＹＩ）が、０．００１＜ＹＩ＜１００である、画像表示装置。
【請求項２】
前記光配向層は、光に応答して二量化により架橋構造を形成する光応答性二量化型分子、光に応答して異性化し偏光軸に対して略垂直または平行に配向する光応答性異性化型分子および光に応答して高分子鎖が切断する光応答性分解型高分子からなる群から選択される少なくとも１種の光配向成分を有することを特徴とする、請求項１に記載の画像表示装置。
【請求項３】
偏光板をさらに備える請求項１または２に記載の画像表示装置。
【請求項４】
前記偏光板および前記光学積層体を前記一対の基板の外部に備える、請求項３に記載の画像表示装置。
【請求項５】
前記偏光板および前記光学積層体を前記一対の基板の内部に備える、請求項３に記載の画像表示装置。
【請求項６】
第一の光配向層が表面に形成された第一の基板と、
前記第一の光配向層と対向するよう離間して設けられた第二の光配向層が表面に形成された第二の基板と、
前記第一の光配向層および前記第二の光配向層と当接するよう前記第一の基板および第二の基板間に充填され、かつ外場により前記配向制御可能な液晶媒体を含む液晶層と、
前記第一の光配向層と前記第一の基板との間にアクティブ素子および画素電極を含む電極層と、
前記透光性の光学積層体と、を前記画像表示部に備え、
前記第一の光配向層または第二の光配向層の黄色度（ＹＩ）が、０．００１＜ＹＩ＜１００であることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか１項に記載の画像表示装置。
【請求項７】
前記画素電極と前記第一基板との間または前記第二の光配向層と前記第二の基板との間にカラーフィルタをさらに有する、請求項６に記載の画像表示装置。
【請求項８】
前記光配向層の平均厚みは、０．０１〜１μｍである、請求項６または７に記載の画像表示装置。
【請求項９】
前記第一の光配向層と前記第一の基板との間にアクティブ素子、画素電極、共通電極を有し、かつ液晶層はホモジニアス配向する、請求項６〜８のいずれか１項に記載の画像表示装置。
【請求項１０】
前記第二の基板と第二の光配向層との間に共通電極を有する、請求項６〜８のいずれか１項に記載の画像表示装置。
【請求項１１】
前記画素電極は櫛歯状であり、前記第一の基板上に、共通電極、絶縁層および画素電極の順に積層されている、請求項６〜９のいずれか１項に記載の画像表示装置。
【請求項１２】
前記共通電極は櫛歯状であり、前記第一の基板上に、画素電極、絶縁層および共通電極の順に積層されている、請求項６〜９のいずれか１項に記載の画像表示装置。
【請求項１３】
前記画素電極と前記第一の基板との間にカラーフィルタを有する場合、前記第二の光配向層の黄色度（ＹＩ）が０．００１＜ＹＩ＜１００であることを特徴とする、請求項７に記載の画像表示装置。
【請求項１４】
前記第二の光配向層と前記第二の基板との間にカラーフィルタを有する場合、前記第一の光配向層の黄色度（ＹＩ）が０．００１＜ＹＩ＜１００であることを特徴とする、請求項７に記載の画像表示装置。
【国際調査報告】
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