(57)【要約】  優れた発光効率および表示性能を有する有機ＥＬ表示装置を提供する。この表示装置は、基体上に、第１の電極層と有機層と第２の電極層とが順に積層された積層構造をそれぞれ有すると共に異なる色の光を発する２種類以上の有機発光素子を備える。有機層は、全ての種類の有機発光素子に共通に設けられた共通発光層と、特定の色光を発する種類の前記有機発光素子にのみ設けられた個別発光層とを含む。一部の種類の有機発光素子は、第１の電極層と有機層との間に透明導電層を有する。
2014199745.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基体上に、第１の電極層と有機層と第２の電極層とが順に積層された積層構造をそれぞれ有すると共に異なる色の光を発する２種類以上の有機発光素子を備え、
前記有機層は、全ての種類の前記有機発光素子に共通に設けられた共通発光層と、特定の色光を発する種類の前記有機発光素子にのみ設けられた個別発光層とを含み、
一部の種類の前記有機発光素子は、前記第１の電極層と前記有機層との間に透明導電層を有する
有機ＥＬ表示装置。
【請求項２】
前記２種類以上の有機発光素子として、第１の色光を発する第１の発光素子と、第２の色光を発する第２の発光素子と、第３の色光を発する第３の発光素子とを備え、
前記第１の発光素子は、前記第１の色光を発する第１の発光層を前記個別発光層として含み、
前記第２の発光素子は、前記第２の色光を発する第２の発光層を前記個別発光層として含み、
前記第３の色光を発する第３の発光層が前記共通発光層として設けられ、
前記第１の発光素子および前記第２の発光素子の双方のみ、または前記第１の発光素子のみが前記透明導電層を有する
請求項１記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項３】
前記有機層は、前記共通発光層と前記個別発光層との間に１以上の中間層を含む
請求項１記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項４】
前記個別発光層は、前記共通発光層と前記第１の電極層との間に設けられている
請求項１記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項５】
前記有機層は、前記共通発光層および前記個別発光層と、前記第１の電極層との間に、正孔注入層を含む
請求項１記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項６】
前記正孔注入層は、前記個別発光層および前記第１の電極層の双方と接する
請求項５記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項７】
前記有機層は、前記共通発光層および前記個別発光層と、前記正孔注入層との間に、正孔輸送層を含む
請求項５記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項８】
前記有機層は、前記共通発光層および前記個別発光層と、前記第２の電極層との間に、電子輸送層を含む
請求項１記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項９】
前記電子輸送層は、前記共通発光層および前記第２の電極層の双方と接する
請求項８記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項１０】
前記２種類以上の有機発光素子は、その発光色の波長が短いほど前記第１の電極層と前記第２の電極層との間隔が狭くなっている
請求項１記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項１１】
前記第２電極層は、全ての種類の前記有機発光素子に共通に設けられている
請求項１記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項１２】
前記有機層のうち、前記個別発光層以外の層は、全ての前記有機発光素子に共通に設けられている
請求項１記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項１３】
前記２種類以上の有機発光素子として、赤色光を発する赤色発光素子と、緑色光を発する緑色発光素子と、青色光を発する青色発光素子とを備え、
前記赤色発光素子は、赤色発光層を前記個別発光層として含み、
前記緑色発光素子は、緑色発光層を前記個別発光層として含み、
青色発光層が前記共通発光層として設けられ、
前記赤色発光素子および前記緑色発光素子の双方のみ、または前記赤色発光素子のみが前記透明導電層を有する
請求項１記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項１４】
全ての前記透明導電層の厚さが互いに等しい
請求項１記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項１５】
前記透明導電層は前記第１の電極層と接している
請求項１記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項１６】
前記透明導電層は、前記第１電極層の上面および端面を覆うと共に前記基体と接している
請求項１記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項１７】
前記第１の電極層および前記第２の電極層のうち、一方は光透過性を有し、他方は光反射性を有する
請求項１記載の有機ＥＬ表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、有機エレクトロルミネセンス（ＥＬ；Electro Luminescence）現象を利用して発光する有機ＥＬ表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、有機発光素子などの自発光素子は、基板に、第１の電極層と、発光層を含む有機層と、第２の電極層とを順に有し、第１の電極層と第２の電極層との間に直流電圧が印加されると発光層において正孔と電子との再結合が起こり、光を発するものである。発生した光は、基板から取り出される場合もあるが、第２の電極層から取り出される場合もある。基板にはＴＦＴ（Thin Film Transistor；薄膜トランジスタ）や配線を含む回路が形成されていることから、その基板とは反対側に位置する第２の電極層から光を取り出すことにより、開口率を向上させられるからである。その場合、第１の電極層として高反射の金属電極を用いることが一般的である。また、隣り合う画素における第１の電極層同士は、絶縁膜（バンク）によって分離されている。【０００３】
ここで、第１の電極層、発光層を含む有機層および第２の電極層をひとつの微小共振器と見立て、射出したい発光色に応じて下記の数式（１）を満たす構成となるよう調整することで、より多くの光を外部に取り出せることが可能である（例えば特許文献１参照。）。
２Ｌ／λmax ＋ Φ／２π＝ｍ  ……（１）
但し、
Ｌ：微小共振器の共振部の光学的膜厚
λmax：外部に取り出す光の波長
Φ：微小共振器の共振部の両端で反射する際に生じる位相シフト
ｍ：定数【０００４】
光学的膜厚Ｌは、例えば、射出したい色ごとに有機層の膜厚を変更する。その際、プロセス装置の負荷を軽減するという観点から、共通の機能を有する層は複数の画素に亘って共通に形成し、発光層のような色ごとに機能が異なる層については、それぞれの色ごとにパターニングすることで調整する。そのパターニングの方法として、区画された画素ごとにシャドウマスクを介して有機層を形成する真空蒸着方式や、インクジェット等による印刷技術を用いてパターニングすることが知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００２−３６７７７０号公報
【発明の概要】
【０００６】
最近では、優れた表示性能を発現しつつ、より消費電力の小さな有機ＥＬ表示装置が望まれるようになっている。
【０００７】
したがって、簡素な構成でありながら優れた発光効率および表示性能を有する有機ＥＬ表示装置を提供することが望ましい。
【０００８】
本開示の一実施形態としての有機ＥＬ表示装置は、基体上に、第１の電極層と有機層と第２の電極層とが順に積層された積層構造をそれぞれ有すると共に異なる色の光を発する２種類以上の有機発光素子を備える。有機層は、全ての種類の有機発光素子に共通に設けられた共通発光層と、特定の色光を発する種類の有機発光素子にのみ設けられた個別発光層とを含む。一部の種類の有機発光素子は、第１の電極層と有機層との間に透明導電層を有する。
【０００９】
本開示の一実施形態としての有機ＥＬ表示装置では、有機層が共通発光層と個別発光層とを含むので、共通発光層のみの場合と比較して発光効率および色度が向上する。また、一部の種類の有機発光素子において、個別発光層の厚さと透明導電層の厚さとにより光学的膜厚が調整されるので、個別発光層の厚さを薄くできる。
【００１０】
本開示の一実施形態としての有機ＥＬ表示装置によれば、発光層の塗り分けによって優れた表示性能を担保しつつ、発光層の薄型化によって消費電力を低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本開示における第１の実施の形態に係る表示装置の要部構成例を表す断面図である。
【図２】図１に示した表示装置の全体構成例を表す平面図である。
【図３】図１に示した画素駆動回路の一例を表す図である。
【図４】図１に示した表示装置の変形例を表す断面図である。
【図５】図１に示した表示装置の製造方法の流れを表す図である。
【図６】本開示における第２の実施の形態に係る表示装置の要部構成例を表す断面図である。
【図７Ａ】図６に示した表示装置の製造方法の一工程を表す断面図である。
【図７Ｂ】図７Ａに続く一工程を表す断面図である。
【図７Ｃ】図７Ｂに続く一工程を表す断面図である。
【図７Ｄ】図７Ｃに続く一工程を表す断面図である。
【図７Ｅ】図７Ｄに続く一工程を表す断面図である。
【図７Ｆ】図７Ｅに続く一工程を表す断面図である。
【図８】本開示における第３の実施の形態に係る表示装置の要部構成例を表す断面図である。
【図９】第１から第３の実施の形態の表示装置を含むモジュールの概略構成を表す平面図である。
【図１０Ａ】第１から第３の実施の形態の表示装置の適用例１の外観を表す斜視図である。
【図１０Ｂ】適用例１の外観を表す他の斜視図である。
【図１１】適用例２の外観を表す斜視図である。
【図１２】適用例３の外観を表す斜視図である。
【図１３Ａ】適用例４の表側から見た外観を表す斜視図である。
【図１３Ｂ】適用例４の裏側から見た外観を表す斜視図である。
【図１４】適用例５の外観を表す斜視図である。
【図１５】適用例６の外観を表す斜視図である。
【図１６Ａ】適用例７の閉じた状態を表す図である。
【図１６Ｂ】適用例７の開いた状態を表す図である。
【図１７】比較例１の表示装置の要部構成例を表す断面図である。
【図１８】比較例２の表示装置の要部構成例を表す断面図である。
【図１９Ａ】実施例１および比較例１，２の表示装置における駆動電圧と電流密度との関係を表す第１の特性図である。
【図１９Ｂ】実施例１および比較例１，２の表示装置における駆動電圧と電流密度との関係を表す第２の特性図である。
【図１９Ｃ】実施例１および比較例１，２の表示装置における駆動電圧と電流密度との関係を表す第３の特性図である。
【図２０】図６に示した表示装置の変形例を表す断面図である。
【図２１】図６に示した表示装置の他の変形例を表す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本開示の実施の形態について図面を参照して以下の順に詳細に説明する。
１．第１の実施の形態
（下部電極層の上面のみと接する透明層を設けたトップエミッション方式の有機ＥＬ表示装置）
２．第２の実施の形態
（下部電極層および基体と接する透明層を設けたトップエミッション方式の有機ＥＬ表示装置）
３．第３の実施の形態
（ボトムエミッション方式の有機ＥＬ表示装置）
４．適用例
５．実施例
【００１３】
＜第１の実施の形態＞
[表示装置１の構成]
図１は本開示の第１の実施の形態に係る有機ＥＬ表示装置（表示装置１）の要部構成例を表す断面図である。図２は、表示装置１の全体構成例を表す平面図である。図１は、図２に示した表示領域１１０の断面構成を表したものである。
【００１４】
表示装置１は、有機ＥＬテレビジョン装置などとして用いられるものである。表示装置１は、例えば図２に示したように、基体としての基板１１の上に、複数の赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇおよび青色有機ＥＬ素子１０Ｂ（以下、総括して有機ＥＬ素子１０という。）がマトリクス状に配置された表示領域１１０を含むものである。表示領域１１０の周辺には、映像表示用のドライバである信号線駆動回路１２０および走査線駆動回路１３０が設けられている。
【００１５】
表示領域１１０内には画素駆動回路１４０が設けられている。図３は、画素駆動回路１４０の一例を表したものである。画素駆動回路１４０は、後述する下部電極１４の下層に形成されたアクティブ型の駆動回路である。すなわち、この画素駆動回路１４０は、駆動トランジスタＴｒ１および書き込みトランジスタＴｒ２と、これらトランジスタＴｒ１，Ｔｒ２の間のキャパシタ（保持容量）Ｃｓと、第１の電源ライン（Ｖｃｃ）および第２の電源ライン（ＧＮＤ）の間において駆動トランジスタＴｒ１に直列に接続された赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ（または緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂ）とを有する。駆動トランジスタＴｒ１および書き込みトランジスタＴｒ２は、一般的な薄膜トランジスタ（ＴＦＴ（Thin Film Transistor））により構成され、その構成は例えば逆スタガ構造（いわゆるボトムゲート型）でもよいしスタガ構造（トップゲート型）でもよく特に限定されない。
【００１６】
画素駆動回路１４０において、列方向には信号線１２０Ａが複数配置され、行方向には走査線１３０Ａが複数配置されている。各信号線１２０Ａと各走査線１３０Ａとの交差点が、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇまたは青色有機ＥＬ素子１０Ｂのいずれか１つ（サブピクセル）に対応している。各信号線１２０Ａは、信号線駆動回路１２０に接続され、この信号線駆動回路１２０から信号線１２０Ａを介して書き込みトランジスタＴｒ２のソース電極に画像信号が供給されるようになっている。各走査線１３０Ａは走査線駆動回路１３０に接続され、この走査線駆動回路１３０から走査線１３０Ａを介して書き込みトランジスタＴｒ２のゲート電極に走査信号が順次供給されるようになっている。
【００１７】
また、表示領域１１０には、赤色の光を発生する赤色有機ＥＬ素子１０Ｒと、緑色の光を発生する緑色有機ＥＬ素子１０Ｇと、青色の光を発生する青色有機ＥＬ素子１０Ｂとが、順に全体としてマトリクス状に配置されている。なお、隣り合う赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂの組み合わせが１つの画素（ピクセル）を構成している。
【００１８】
図１に示したように、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇおよび青色有機ＥＬ素子１０Ｂは、それぞれ、基板１１の上に、画素駆動回路１４０の駆動トランジスタＴｒ１および平坦化絶縁膜（図示せず）を介して、下部電極層１４、隔壁１５、後述する発光層１６Ｃ（１６ＣＲ，１６ＣＧ，１６ＣＢ）を含む有機層１６および上部電極層１７がこの順に積層された構成を有している。表示装置１は、有機層１６の発光層１６Ｃで発せられた光が基板１１と反対側の上部電極層１７を透過して光Ｈとして外部へ放出される、いわゆるトップエミッション方式の有機ＥＬ表示装置である。
【００１９】
全ての有機ＥＬ素子１０は、保護層３０により被覆されている。さらに、この保護層３０上に熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂などの接着層（図示せず）を介してガラスなどよりなる封止用基板４０が全面にわたって貼り合わされることにより封止されている。
【００２０】
基板１１は、その一主面に赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇおよび青色有機ＥＬ素子１０Ｂが配列形成される支持体である。基板１１としては、例えば、石英、ガラス、シリコン、金属箔、もしくは樹脂製のフィルムやシートなどが用いられる。この中でも石英やガラスが好ましく、樹脂製の場合には、その材質としてポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）に代表されるメタクリル樹脂類、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリブチレンナフタレート（ＰＢＮ)などのポリエステル類、もしくはポリカーボネート樹脂などが挙げられるが、透水性や透ガス性を抑える積層構造、表面処理を行うことが必要である。
【００２１】
下部電極層１４は、基板１１上に、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇまたは青色有機ＥＬ素子１０Ｂの各々に対応して個別に設けられている。下部電極層１４は、例えば、１０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の厚さを有する。下部電極層１４は、例えば、クロム（Ｃｒ），金（Ａｕ），白金（Ｐｔ），ニッケル（Ｎｉ），銅（Ｃｕ），タングステン（Ｗ）あるいは銀（Ａｇ）などの金属元素の単体または合金により形成されている。下部電極層１４がカソードとして使われる場合には、下部電極層１４は正孔注入性の高い材料により構成されていることが望ましい。但し、アルミニウム（Ａｌ）合金のように、表面の酸化皮膜の存在や、仕事関数が大きくないことによる正孔注入障壁が問題となる材料においても、適切な正孔注入層１６Ａを設けることによって下部電極層１４として使用することが可能である。下部電極層１４は反射層としての機能を発揮するため、光反射性に優れたＡｌやＡｇなどにより構成され、４０％以上の反射率を有することが望ましい。
【００２２】
一部の種類の有機ＥＬ素子１０、例えば赤色有機ＥＬ素子１０Ｒおよび緑色有機ＥＬ素子１０Ｇは、下部電極層１４と有機層１６との間に透明導電層１８を有する。透明導電層１８は下部電極層１４および有機層１６と接している。透明導電層１８は、例えばＩｎ−Ｓｎ−Ｏ（インジウム錫酸化物），Ｉｎ−Ｚｎ−Ｏ（インジウム亜鉛酸化物），Ｉｎ−Ｏ（インジウム酸化物），Ｚｎ−Ｏ（亜鉛酸化物），Ａｌ−Ｚｎ−Ｏ（アルミニウム亜鉛酸化物）などの透明導電性材料からなる。透明導電層１８の厚さは、例えば５ｎｍ以上１００ｎｍ以下である。ここで、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒにおける透明導電層１８と、緑色有機ＥＬ素子１０Ｇにおける透明導電層１８とは、互いに同種の材料からなり、かつ、等しい厚さを有するとよい。それらを一括形成することができ、製造性に優れるからである。
【００２３】
隔壁１５は、下部電極層１４と上部電極層１７との絶縁性を確保すると共に発光領域を所望の形状にするためのものである。また、製造工程においてインクジェットまたはノズルコート方式等による塗布を行う際の仕切り壁としての機能も有している。隔壁１５は、例えば、ＳｉＯ2等の無機絶縁材料よりなる下層の上に、ポジ型感光性ポリベンゾオキサゾール，ポジ型感光性ポリイミドなどの感光性樹脂よりなる上層を設けたものである。隔壁１５には、発光領域に対応して開口が設けられている。
【００２４】
赤色有機ＥＬ素子１０Ｒの有機層１６は、例えば、下部電極層１４の上に正孔注入層１６Ａ，正孔輸送層１６Ｂ，赤色発光層１６ＣＲ，中間層１６Ｄ，青色発光層１６ＣＢおよび電子輸送層１６Ｅが順に積層されたものである。緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの有機層１６は、例えば、下部電極層１４の上に正孔注入層１６Ａ，正孔輸送層１６Ｂ，緑色発光層１６ＣＧ，中間層１６Ｄ，青色発光層１６ＣＢおよび電子輸送層１６Ｅが順に積層されたものである。青色有機ＥＬ素子１０Ｂの有機層１６は、例えば、下部電極層１４の上に正孔注入層１６Ａ，正孔輸送層１６Ｂ，中間層１６Ｄ，青色発光層１６ＣＢおよび電子輸送層１６Ｅが順に積層されたものである。ここで、青色発光層１６ＣＢは、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇおよび青色有機ＥＬ素子１０Ｂの全てに共通に設けられた共通発光層である。一方、緑色発光層１６ＣＧは緑色有機ＥＬ素子１０Ｇにのみ設けられた個別発光層であり、赤色発光層１６ＣＲは赤色有機ＥＬ素子１０Ｒにのみ設けられた個別発光層である。また、正孔注入層１６Ａ，正孔輸送層１６Ｂ，中間層１６Ｄおよび電子輸送層１６Ｅは、それぞれ、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇおよび青色有機ＥＬ素子１０Ｂの全てに共通する共通層とすることができる。
【００２５】
正孔注入層１６Ａは、各発光層１６Ｃ（赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧ，青色発光層１６ＣＢ）への正孔注入効率を高めるものである。正孔注入層１６Ａの厚みは例えば５ｎｍ〜１００ｎｍであることが好ましく、より好ましくは８ｎｍ〜５０ｎｍである。正孔注入層１６Ａの構成材料は、電極や隣接する層の材料との関係で適宜選択すればよい。例えば、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリフェニレンビニレン、ポリチエニレンビニレン、ポリキノリン、ポリキノキサリンおよびそれらの誘導体、芳香族アミン構造を主鎖又は側鎖に含む重合体などの導電性高分子、金属フタロシアニン（銅フタロシアニン等）、カーボンなどが挙げられる。
【００２６】
正孔注入層１６Ａに用いられる材料が高分子材料である場合には、その高分子材料の重量平均分子量（Ｍｗ）は１万〜３０万の範囲であればよく、特に５０００〜２０万程度が好ましい。また、２０００〜１万程度のオリゴマーを用いてもよいが、正孔注入層１６Ａの上に正孔輸送層１６Ｂや発光層１６Ｃなどを形成する際、正孔注入層１６Ａが溶解するのを確実に回避するため、Ｍｗを５０００以上とすることが望ましい。また、Ｍｗを３０万以下とすることで、その高分子材料のゲル化を回避し易くなる。
【００２７】
正孔注入層１６Ａの構成材料として使用される典型的な導電性高分子としては、例えばポリアニリン、オリゴアニリンおよびポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）（ＰＥＤＯＴ）などのポリジオキシチオフェンが挙げられる。このほか、エイチ・シー・スタルク製Nafion(商標)、溶解形態で市販されている商品名Liquion(商標)、日産化学製エルソース（商標）、あるいは綜研化学製導電性ポリマーベラゾール（商標）などがある。
【００２８】
正孔輸送層１６Ｂは、発光層１６Ｃへの正孔輸送効率を高めるためのものである。正孔輸送層１６Ｂに用いられる具体的な材料としては、例えば、ベンジン、スチリルアミン、トリフェニルアミン、ポルフィリン、トリフェニレン、アザトリフェニレン、テトラシアノキノジメタン、トリアゾール、イミダゾール、オキサジアゾール、ポリアリールアルカン、フェニレンジアミン、アリールアミン、オキザゾール、アントラセン、フルオレノン、ヒドラゾン、スチルベンあるいはこれらの誘導体、または、ポリシラン系化合物、ビニルカルバゾール系化合物、チオフェン系化合物あるいはアニリン系化合物等の複素環式共役系のモノマー、オリゴマーあるいはポリマーを用いることができる。
【００２９】
さらに具体的な材料としては、α−ナフチルフェニルフェニレンジアミン、ポルフィリン、金属テトラフェニルポルフィリン、金属ナフタロシアニン、ヘキサシアノアザトリフェニレン、７,７,８,８−テトラシアノキノジメタン（ＴＣＮＱ）、７,７,８,８−-テトラシアノ - ２，３，５，６-テトラフルオロキノジメタン（Ｆ４−ＴＣＮＱ）、テトラシアノ４、４、４−トリス（３−メチルフェニルフェニルアミノ）トリフェニルアミン、Ｎ、Ｎ、Ｎ’、Ｎ’−テトラキス（ｐ−トリル）ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ、Ｎ、Ｎ’、Ｎ’−テトラフェニル−４、４’−ジアミノビフェニル、Ｎ−フェニルカルバゾール、４−ジ−ｐ−トリルアミノスチルベン、ポリ（パラフェニレンビニレン）、ポリ（チオフェンビニレン）、ポリ（２、２’−チエニルピロール）等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００３０】
さらに好ましくは、下記の式（１）〜式（３）で表わされる低分子材料が挙げられる。これらの一般式で構成される材料は、単分子の状態でも、複数個連なったオリゴマーとして用いてもよい。
【００３１】
【化１】
2014199745.tif 000003
（Ａ１〜Ａ３は芳香族炭化水素基、複素環基またはそれらの誘導体である。）
【００３２】
【化２】
2014199745.tif 000004
（Ｚは含窒素炭化水素基あるいはその誘導体である。Ｌ１は２価の芳香族環基が１ないし４個結合した基、具体的には１〜４個の芳香族環が連結した２価の基、またはその誘導体である。Ａ４およびＡ５は、芳香族炭化水素基あるいは芳香族複素環基、またはその誘導体である。但し、Ａ４およびＡ５は互いに結合して環状構造を形成してもよい。）
【００３３】
【化３】
2014199745.tif 000005
（Ｌ２は２価の芳香族環基が２ないし６個結合した基である。具体的には２〜６個の芳香族環が連結した２価の基、またはその誘導体である。Ａ６〜Ａ９は、芳香族炭化水素基あるいは複素環基、またはその誘導体が１〜１０個結合した基である。）
【００３４】
式（１）におけるＡ１〜Ａ３は、それぞれ複数の環が共役結合によって連結する伸展構造であっても良いが、総炭素数３０以下であることが好ましい。またこれらの芳香族炭化水素基または複素環基に結合される置換基としては、水素、ハロゲン、ヒドロキシル基、炭素数２０以下の置換もしくは無置換のカルボニル基、炭素数２０以下の置換もしくは無置換のカルボニルエステル基、炭素数２０以下の置換もしくは無置換のアルキル基、炭素数２０以下の置換もしくは無置換のアルケニル基、炭素数２０以下の置換もしくは無置換のアルコキシル基、シアノ基、ニトロ基、または炭素数３０以下の置換もしくは無置換のアミノ基が挙げられる。式（１）に示した化合物の具体例としては、以下の式（１−１）〜式（１−４８）などの化合物が挙げられる。
【００３５】
【化４】
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【００３６】
【化５】
2014199745.tif 000007
【００３７】
【化６】
2014199745.tif 000008
【００３８】
式（２）に示した化合物の具体例としては、以下の式（２−１）〜式（２−６９）などの化合物が挙げられる。なお、ここでＬ１に結合する含窒素炭化水素基として、例えばカルバゾール基やインドール基を有する化合物を挙げたがこれに限らない。例えばイミダゾール基を用いてもよい。
【００３９】
【化７】
2014199745.tif 000009
【００４０】
【化８】
2014199745.tif 000010
【００４１】
【化９】
2014199745.tif 000011
【００４２】
【化１０】
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【００４３】
【化１１】
2014199745.tif 000013
【００４４】
式（３）に示した化合物の具体例としては、以下の式（３−１）〜式（３−４５）などの化合物が挙げられる。
【００４５】
【化１２】
2014199745.tif 000014
【００４６】
【化１３】
2014199745.tif 000015
【００４７】
【化１４】
2014199745.tif 000016
【００４８】
【化１５】
2014199745.tif 000017
【００４９】
また、図４に示した変形例としての表示装置１Ａのように、正孔輸送層１６Ｂを有しない構造であってもよい。その場合、正孔注入層１６Ａは、下部電極層１４と接し、かつ、中間層１６Ｄまたは緑色発光層１６ＣＧもしくは赤色発光層１６ＣＲと接する。
【００５０】
赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧでは、電界をかけることにより電子と正孔との再結合が起こり発光する。赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧの厚みは、素子の全体構成にもよるが、例えば１０ｎｍ〜２００ｎｍであることが好ましく、さらに好ましくは１５ｎｍ〜１５０ｎｍである。赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧは、高分子（発光）材料に低分子材料が添加された混合材料により構成されている。ここで低分子材料とは、モノマーまたはこのモノマーを２〜１０個結合したオリゴマーとし、１万以下の重量平均分子量を有するものが好ましいが、上記範囲を超えた重量平均分子量を有する低分子材料であってもよい。
【００５１】
赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧは、例えばインクジェット等の塗付法により形成する。その際、高分子材料および低分子材料を例えばトルエン、キシレン、アニソール、シクロヘキサノン、メシチレン（１，３，５−トリメチルベンゼン）、ブサイドクメン(１，２，４−トリメチルベンゼン)、ジハイドロベンゾフラン、１，２，３，４−テトラメチルベンゼン、テトラリン、シクロヘキシルベンゼン、１−メチルナフタレン、ｐ−アニシルアルコール、ジメチルナフタレン、３-メチルビフェニル、４−メチルビフェニル、３−イソプロピルビフェニル、モノイソプロピルナフタレンなどの有機溶媒に少なくとも1種類以上使って溶解し、この混合溶液を用いて形成する。
【００５２】
赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧを構成する高分子材料としては、例えばポリフルオレン系高分子誘導体や、ポリフェニレンビニレン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、ポリチオフェン誘導体等の発光性高分子が挙げられる。例えば、一重項励起子から発光する高分子発光層として、赤色発光層１６ＣＲにAmerican Dye Source社製の商品名ＡＤＳ１１１ＲＥ（商標；式（４−１））、緑色発光層１６ＣＧに同社製の商品名ＡＤＳ１０９ＧＥ（商標；式（４−２））が挙げられる。なお、ここで用いられる高分子材料は共役系高分子だけに限らず、ペンダント形の非共役系高分子および色素混合型の非共役系高分子も含み、近年開発がすすめられている中心にコアの分子を配し、デンドロンと呼ばれる側鎖から構成されるデンドリマー型の高分子発光材料であってもよい。また、高分子材料に含まれる置換基は限定されず、式（４−１），式（４−２）に示した主骨格に対して必要に応じて電子輸送性および／または正孔輸送性を有する置換基を含んでいてもよい。さらに、発光部位に関しては、一重項励起子から発光するもの、三重項励起子から発光するものおよびこの両者から発光するものがあるが、本実施の形態の発光層１６Ｃはいずれの発光部位を含んでいてもよい。
【００５３】
【化１６】
2014199745.tif 000018
【００５４】
また、上記以外の発光ユニットとしては、アントラセン，ナフタレン，フェナントレン，ピレン，テトラセン，コロネン，クリセン，フルオレセイン，ペリレン，フタロペリレン，ナフタロペリレン，ペリノン，フタロペリノン，ナフタロペリノン，ジフェニルブタジエン、テトラフェニルブタジエン，クマリンモキサジアゾール，アルダジン，ビスベンゾキサゾリン，ビススチリル，ピラジン，シクロペンタジエン，キノリン金属錯体，アミノキノリン金属錯体，ベンゾキノリン金属錯体，イミン，ジフェニルエチレン，ビニルアントラセン，ジアミノカルバゾール，ピラン，チオピラン，ポリメチン，メロシアニン，イミダゾールキレート化オキシノイド化合物，キナクリドン，ルブレン等の芳香族炭化水素、または複素環式化合物が挙げられる。さらに、三重項励起状態を伴う発光ユニットを用いることができる。三重項励起状態を伴う発光ユニットとしては、イリジウム金属錯体等の金属錯体を含む化合物が多いが、金属錯体の含有も含めこの限りではない。三重項励起状態から発光する高分子発光材料の具体例としては、赤色りん光発光材料としてＲＰＰ（式（５−１））、緑色りん光発光材料としてＧＰＰ（式（５−２））等が挙げられる。
【００５５】
【化１７】
2014199745.tif 000019
【００５６】
また、赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧを構成する高分子材料には低分子材料を添加することが好ましい。これにより、赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧへの正孔および電子の注入効率が向上する。以下にその原理を説明する。
【００５７】
高分子材料のみから構成される赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧの上部に共通層として低分子材料からなる青色発光層１６ＣＢを形成しており、赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧのエネルギー準位と、青色発光層１６ＣＢのエネルギー準位との差は大きい。このため、青色発光層１６ＣＢと赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧ各々との間の正孔または電子の注入効率は非常に低く、前述のように、本来の高分子材料からなる発光層が有する特性を十分に得ることができないという問題があった。そこで、本実施の形態では赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧのエネルギー準位と、青色発光層１６ＣＢのエネルギー準位との差を小さくする低分子材料（モノマーまたはオリゴマー）を赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧに添加するとよい。正孔注入特性または電子注入特性を向上させるためである。ここでは、赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＲの最高占有分子軌道（Highest Occupied Molecular Orbital；ＨＯＭＯ）準位および最低非占有分子軌道（Lowest Unoccupied Molecular Orbital；ＬＵＭＯ）準位と、青色発光層１６ＣＢのＨＯＭＯ（最高占有分子軌道）準位および最低非占有分子軌道（ＬＵＭＯ）準位と、赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧに添加する低分子材料のＨＯＭＯ（最高占有分子軌道）準位および最低非占有分子軌道（ＬＵＭＯ）準位との関係を考慮する。具体的には、（Ａ）赤色発光層１６ＣＲまたは緑色発光層１６ＣＧのそれぞれのＬＵＭＯより深い値を有すると共に、青色発光層１６ＣＢのＬＵＭＯより浅い値を有すること、（Ｂ）赤色発光層１６ＣＲまたは緑色発光層１６ＣＧのそれぞれのＨＯＭＯより深い値を有すると共に、青色発光層のＨＯＭＯより浅い値を有すること、の双方を満たす化合物を選択する。
【００５８】
また、赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧに添加する低分子材料は、低分子化合物が同じ反応または類似の反応を連鎖的に繰り返すことにより生じた高分子量の重合体または縮合体の分子からなる化合物以外のものであって、分子量が実質的に単一であるものをいう。また、上記低分子材料は加熱による分子間の新たな化学結合は生じず、単分子で存在する。このような低分子材料の重量平均分子量（Ｍｗ）は１万以下であることが好ましい。さらに、高分子材料の分子量と低分子材料の分子量との比が１０以上であることが好ましい。これは分子量の大きい、例えば５万以上の材料に比べてある程度小さい分子量の材料のほうが多様な特性を有し、正孔または電子の移動度やバンドギャップあるいは溶媒への溶解度などを調整しやすいためである。高分子材料：低分子材料の混合比率が１０：１未満では、低分子材料の添加による効果が低くなるためである。また、この混合比率が１：２を超える場合には、発光材料としての高分子材料が有する特性が得られにくくなるためである。
【００５９】
上述のように、赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧへ低分子材料を添加することにより、正孔および電子のキャリアバランスを調整することがより簡易になる。これにより、後述する低分子材料からなる青色発光層１６ＣＢを形成することによって起こる、赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧへの電子注入性の低下および正孔輸送性の低下が抑制される。すなわち、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒおよび緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの発光効率および寿命の低下、駆動電圧の上昇および発光色度の変化が抑制される。このような低分子材料としては、例えば上述した正孔輸送層１６Ｂを構成する材料を用いることができる。
【００６０】
さらに、赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧへ添加する低分子材料としては、電子輸送能を有する化合物を用いることができる。具体的には、下記の式（６）〜式（８）で表わされるベンゾイミダゾール誘導体（式（６）），ピリジルフェニル誘導体（式（７）），ビピリジン誘導体（式（８））が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００６１】
【化１８】
2014199745.tif 000020
（Ａ１は水素原子あるいはハロゲン原子、炭素数１〜２０個のアルキル基、３〜４０個の芳香族環が縮合した多環芳香族炭化水素基を有する炭素数６〜６０個の炭化水素基または含窒素複素環基あるいはそれらの誘導体である。Ｂは単結合、２価の芳香族環基あるいはその誘導体である。Ｒ１，２は各々独立して水素原子あるいはハロゲン原子、炭素数１〜２０個のアルキル基、炭素数６〜６０個の芳香族炭化水素基、含窒素複素環基または炭素数１〜２０個のアルコキシ基あるいはそれらの誘導体である。）
【００６２】
【化１９】
2014199745.tif 000021
（Ａ２は芳香族環が２ないし５個縮合したｎ価の基である。具体的には３個の芳香族環が縮合したｎ価のアセン系芳香族環基、またはその誘導体である。Ｒ３〜Ｒ８は各々独立して水素原子あるいはハロゲン原子、Ａ２またはＲ９〜Ｒ１３のいずれか１つに結合する遊離原子価である。Ｒ９〜Ｒ１３は各々独立して水素原子、ハロゲン原子またはＲ３〜８のいずれか１つに結合する遊離原子価である。ｎは２以上の整数であり、ｎ個のピリジルフェニル基は同一でもよく、異なっていてもよい。）
【００６３】
【化２０】
2014199745.tif 000022
（Ａ３は芳香族環が２ないし５個縮合したｍ価の基である。具体的には３個の芳香族環が縮合したｎ価のアセン系芳香族環基、またはその誘導体である。Ｒ１４〜Ｒ１８は各々独立して水素原子あるはハロゲン原子、Ａ３またはＲ１９〜Ｒ２３のいずれか１つに結合する遊離原子価である。Ｒ１９〜Ｒ２３は各々独立して水素原子、ハロゲン原子またはＲ１４〜１８のいずれか１つに結合する遊離原子価である。ｍは２以上の整数であり、ｍ個のビピリジル基は同一でもよく、異なっていてもよい。）
【００６４】
なお、赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧおよび青色発光層１６ＣＢに添加する低分子材料は１種類だけでなく、複数種類を混合して用いてもよい。
【００６５】
中間層１６Ｄは、緑色発光層１６ＣＧおよび赤色発光層１６ＣＲと青色発光層１６ＣＢとの間に挿入され、正孔輸送性を有する材料により構成されている。これにより、色分離がなされる。なお、中間層１６Ｄは単層構造であってもよいし、複数層からなる多層構造であってもよい。
【００６６】
青色発光層１６ＣＢは、電界をかけることにより電子と正孔との再結合が起こり、光を発生するものであり、中間層１６Ｄ上の全面に設けられている。青色発光層１６ＣＢは、アントラセン化合物をホスト材料として青色もしくは緑色の蛍光性色素のゲスト材料がドーピングされており、青色もしくは緑色の発光光を発生する。
【００６７】
このうち、青色発光層１６ＣＢを構成するホスト材料は、式（９）に表わされる化合物をホスト材料として用いることが好ましい。
【００６８】
【化２１】
2014199745.tif 000023
（Ｒ１〜Ｒ６は、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、または炭素数２０以下のアルキル基、アルケニル基、カルボニル基を有する基、カルボニルエステル基を有する基、アルコキシル基を有する基、シアノ基を有する基、ニトロ基を有する基、あるいはそれらの誘導体、炭素数３０以下のシリル基を有する基、アリール基を有する基、複素環基を有する基、アミノ基を有する基あるいはそれらの誘導体である。）
【００６９】
式（９）で表わされる化合物におけるＲ１〜Ｒ６が示すアリール基を有する基としては、例えば、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、フルオレニル基、１−アントリル基、２−アントリル基、９−アントリル基、１−フェナントリル基、２−フェナントリル基、３−フェナントリル基、４−フェナントリル基、９−フェナントリル基、１−ナフタセニル基、２−ナフタセニル基、９−ナフタセニル基、１−ピレニル基、２−ピレニル基、４−ピレニル基、１−クリセニル基、６−クリセニル基、２−フルオランテニル基、３−フルオランテニル基、２−ビフェニルイル基、３−ビフェニルイル基、４−ビフェニルイル基、ｏ−トリル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基、ｐ−ｔ−ブチルフェニル基等が挙げられる。
【００７０】
また、Ｒ１〜Ｒ６が示す複素環基を有する基としては、ヘテロ原子として酸素原子（Ｏ）、窒素原子（Ｎ）、硫黄原子（Ｓ）を含有する５員環または６員環の芳香環基であり、炭素数２〜２０の縮合多環芳香環基が挙げられる。このような複素環基としては、例えばチエニル基、フリル基、ピロリル基、ピリジル基、キノリル基、キノキサリル基、イミダゾピリジル基、ベンゾチアゾール基が挙げられる。代表的なものとしては，１−ピロリル基、２−ピロリル基、３−ピロリル基、ピラジニル基、２−ピリジニル基、３−ピリジニル基、４−ピリジニル基、１−インドリル基、２−インドリル基、３−インドリル基、４−インドリル基、５−インドリル基、６−インドリル基、７−インドリル基、１−イソインドリル基、２−イソインドリル基、３−イソインドリル基、４−イソインドリル基、５−イソインドリル基、６−イソインドリル基、７−イソインドリル基、２−フリル基、３−フリル基、２−ベンゾフラニル基、３−ベンゾフラニル基、４−ベンゾフラニル基、５−ベンゾフラニル基、６−ベンゾフラニル基、７−ベンゾフラニル基、１−イソベンゾフラニル基、３−イソベンゾフラニル基、４−イソベンゾフラニル基、５−イソベンゾフラニル基、６−イソベンゾフラニル基、７−イソベンゾフラニル基、キノリル基、３−キノリル基、４−キノリル基、５−キノリル基、６−キノリル基、７−キノリル基、８−キノリル基、１−イソキノリル基、３−イソキノリル基、４−イソキノリル基、５−イソキノリル基、６−イソキノリル基、７−イソキノリル基、８−イソキノリル基、２−キノキサリニル基、５−キノキサリニル基、６−キノキサリニル基、１−カルバゾリル基、２−カルバゾリル基、３−カルバゾリル基、４−カルバゾリル基、９−カルバゾリル基、１−フェナンスリジニル基、２−フェナンスリジニル基、３−フェナンスリジニル基、４−フェナンスリジニル基、６−フェナンスリジニル基、７−フェナンスリジニル基、８−フェナンスリジニル基、９−フェナンスリジニル基、１０−フェナンスリジニル基、１−アクリジニル基、２−アクリジニル基、３−アクリジニル基、４−アクリジニル基、９−アクリジニル基、などが挙げられる。
【００７１】
Ｒ１〜Ｒ６が示すアミノ基を有する基としては、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アラルキルアミノ基などのいずれでもよい。これらは、炭素数１〜６個の脂肪族炭化水素基および／または１〜４個の芳香環基を有することが好ましい。このような基としては、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジブチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ジトリルアミノ基、ビスビフェニリルアミノ基、ジナフチルアミノ基が挙げられる。なお、上記置換基は２以上の置換基からなる縮合環を形成していてもよく、さらにその誘導体でもよい。
【００７２】
式（９）に示した化合物の具体例としては、以下の式（９−１）〜式（９−５１）などの化合物が挙げられる。
【００７３】
【化２２】
2014199745.tif 000024
【００７４】
【化２３】
2014199745.tif 000025
【００７５】
【化２４】
2014199745.tif 000026
【００７６】
一方、青色発光層１６ＣＢを構成する発光性ゲスト材料としては、発光効率が高い材料、例えば、低分子蛍光材料、りん光色素あるいは金属錯体等の有機発光材料が用いられる。
【００７７】
ここで青色の発光性ゲスト材料とは、発光の波長範囲が約４００ｎｍ〜４９０ｎｍの範囲にピークを有する化合物を示す。このよう化合物として、ナフタレン誘導体、アントラセン誘導体、ナフタセン誘導体、スチリルアミン誘導体、ビス（アジニル）メテンホウ素錯体などの有機物質が用いられる。なかでも、アミノナフタレン誘導体、アミノアントラセン誘導体、アミノクリセン誘導体、アミノピレン誘導体、スチリルアミン誘導体、ビス（アジニル）メテンホウ素錯体から選択されることが好ましい。
【００７８】
電子輸送層１６Ｅは、赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧおよび青色発光層１６ＣＢへの電子輸送効率を高めるためのものであり、青色発光層１６ＣＢ上の全面に共通層として設けられている。電子輸送層１６Ｅは、青色発光層１６ＣＢおよび上部電極層１７の双方と接している。電子輸送層１６Ｅの厚みは素子の全体構成にもよるが、例えば５ｎｍ〜３００ｎｍであることが好ましく、さらに好ましくは１０ｎｍ〜２００ｎｍである。
【００７９】
電子輸送層１６Ｅの材料としては、優れた電子輸送能を有する有機材料を用いることが好ましい。発光層１６Ｃ、特に赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧへの電子の輸送効率を高めることにより、後述する電界強度による赤色有機ＥＬ素子１０Ｒおよび緑色有機ＥＬ素子１０Ｇにおける発光色の変化が抑制される。このような有機材料としては、具体的には電子移動度が１０-6ｃｍ2／Ｖｓ以上１．０×１０-1ｃｍ2／Ｖｓ以下の含窒素複素環誘導体を用いることができる。
【００８０】
電子輸送層１６Ｅの材料として具体的には、上記の式（６）〜式（８）で表わされるベンゾイミダゾール誘導体（式（６）），ピリジルフェニル誘導体（式（７）），ビピリジン誘導体（式（８））が挙げられる。
【００８１】
なお、電子輸送層１６Ｅに用いる有機材料は上記化合物のようにアントラセン骨格を有する化合物が好ましいが、これに限らない。例えばアントラセン骨格に変えて、ピレン骨格またはクリセン骨格を備えたベンゾイミダゾール誘導体、ピリジルフェニル誘導体、ビピリジル誘導体を用いてもよい。また、電子輸送層１６Ｅに用いる有機材料は１種類だけでなく、複数種類を混合または積層して用いてもよい。
【００８２】
各発光層１６Ｃ（１６ＣＲ，１６ＣＧ，１６ＣＢ）において生じる発光光ｈは、それぞれ赤色，緑色，青色の波長領域で発光強度を有している。有機層１６は赤色，緑色または青色の取り出したい波長領域の全てに発光強度の極大を持ち、不要な波長領域の発光強度が小さい構成であることが望ましい。このような有機層１６を用いることにより、必要な発光領域の光の取り出し効率が高く、色純度の高い有機ＥＬ表示装置１が得られる。有機層１６の膜厚は、下部電極１４と上部電極１７との間が目的とする波長を共振させる共振部となるように詳細に設定されていることが重要である。
【００８３】
また、各有機ＥＬ素子１０（１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ）において、下部電極層１４、有機層１６および上部電極層１７は微小共振器を構成している。下部電極層１４と上部電極層１７との間隔である光学的距離Ｌは、各有機ＥＬ素子１０（１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ）に設定した所望の波長領域の光が共振部の両端で共振する値にそれぞれ設定されている。このため、例えば共振部の両端において発光層１６Ｃで発光した発光光ｈが反射する際に生じる位相シフトをφラジアン、共振部の光学的距離Ｌ、発光層１６Ｃで発光した発光光ｈのうち取り出したい光Ｈのスペクトルのピーク波長をλmaxとした場合には、下記の数式（２）を満たす範囲で共振部の光学的距離Ｌが構成されている。この場合、光Ｈの取り出し効率を最大限とるためには、数式（２）のｍは正の整数であることからＬはこのｍを満たす設定とする必要がある。
【００８４】
（２Ｌ）／λmax ＋ Φ／２π＝ｍ  ……（２）
但し、
Ｌ：共振部の光学的距離
λmax：外部に取り出す光Ｈのピーク波長
Φ：微小共振器の共振部の両端で反射する際に生じる位相シフト
ｍ：正の整数
【００８５】
また、上部電極層１７と下部電極層１４との短絡を防止するためには、有機層１６の膜厚を厚くする必要があるため、光学的距離Ｌを大きく取る必要がある。この際にはｍを増加させて光学的距離Ｌを大きくする。従って、ｍを１以上とすることにより有機層１６の光学的距離Ｌを厚くする。但し、赤色，緑色，青色の波長はそれぞれ異なるため、光学的距離Ｌも有機ＥＬ素子１０の種類によって異なる。光学的距離Ｌは異なるが、ｍの値は揃える必要があり、赤色のｍをｍR，緑色のｍをｍG，青色のｍをｍBとした場合には、ｍR＝ｍG＝ｍBとなるようにそれぞれの光学的距離Ｌを設定する。下部電極層１４および上部電極層１７を固定し、取り出したい波長λ（例えば、赤色λ＝６３０ｎｍ，緑色λ＝５３０ｎｍ，青色λ＝４６０ｎｍ）は各有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂによって固定される。よって数式（２）のｍは光学的距離Ｌによって規定される。より具体的には、有機発光素子１０は、その発光色の波長λが短いほど下部電極層１４と上部電極層１７との距離が狭く（光学的膜厚Ｌが小さく）なっている。
【００８６】
上部電極層１７は、例えば、厚みが２ｎｍ以上１５ｎｍ以下であり、光透過性を有する導電膜により構成されている。具体的には、上部電極１７をカソードとして用いる場合には、Ｎｉ，Ａｇ，Ａｕ，Ｐｔ，パラジウム（Ｐｄ），セレン（Ｓｅ），ロジウム（Ｒｈ），ルテニウム（Ｒｕ），イリジウム（Ｉｒ），レニウム（Ｒｅ），Ｗ，モリブデン（Ｍｏ），Ｃｒ，タンタル（Ｔａ），ニオブ（Ｎｂ）およびこれらの合金、あるいはＳｎＯｘ，ＩＴＯ，ＺｎＯｘ，ＴｉＯ等の仕事関数の大きな導電性材料が挙げられる。また、上部電極層１７をアノードとして用いる場合には、リチウム（Ｌｉ），Ｍｇ，カルシウム（Ｃａ）等の活性な金属と、Ａｇ，Ａｌ，インジウム（Ｉｎ）等の金属との合金等の仕事関数の小さな導電性材料が挙げられる。また、上記金属および導電性材料を積層した構造としてもよい。また、上部電極層１７と電子輸送層１６Ｅとの間には、電子注入層を挿入してもよい。
【００８７】
さらに、上部電極層１７は、アルミキノリン錯体、スチリルアミン誘導体、フタロシアニン誘導体等の有機発光材料を含有した混合層でもよい。この場合には、さらに第３層としてＭｇＡｇのような光透過性を有する層を別途有していてもよい。なお、上部電極層１７は、アクティブマトリックス駆動方式の場合、有機層１６と隔壁１５とによって、下部電極層１４と絶縁された状態で基板１１上にベタ膜状に形成され、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂの共通電極層として用いられる。表示装置１はトップエミッション型であることから、有機層１６からの光が上部電極層１７を透過して外部へ取り出されることとなり、光透過率は膜厚等で調整される。また、上部電極層１７の反射率は０．１％以上５０％未満であることが好ましい。これにより、微小共振器構造の共振強度が適切な条件となり、表示装置１の正面取り出し光の色選択性と光強度とが大きくなると共に、輝度および色度の視野角依存性を低く保つことができる。
【００８８】
保護層３０は、例えば厚みが２〜３μｍであり、絶縁性材料または導電性材料のいずれにより構成されていてもよい。絶縁性材料としては、無機アモルファス性の絶縁性材料、例えばアモルファスシリコン（α−Ｓｉ）,アモルファス炭化シリコン（α−ＳｉＣ）,アモルファス窒化シリコン（α−Ｓｉ1-xＮx）、アモルファスカーボン（α−Ｃ）などが好ましい。このような無機アモルファス性の絶縁性材料は、グレインを構成しないため透水性が低く、良好な保護膜となる。
【００８９】
封止用基板４０は、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂの上部電極層１７の側に位置しており、接着層（図示せず）と共に赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂを封止するものである。封止用基板４０は、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂで発生した光に対して透明なガラスなどの材料により構成されている。封止用基板４０には、例えば、カラーフィルタおよびブラックマトリクスとしての遮光膜（いずれも図示せず）が設けられている。
【００９０】
カラーフィルタは、赤色フィルタ，緑色フィルタおよび青色フィルタ（いずれも図示せず）を有しており、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂに対応して順に配置されている。赤色フィルタ，緑色フィルタおよび青色フィルタは、それぞれ例えば矩形形状で隙間なく形成されている。これら赤色フィルタ，緑色フィルタおよび青色フィルタは、顔料を混入した樹脂によりそれぞれ構成されており、顔料を選択することにより、目的とする赤，緑あるいは青の波長域における光透過率が高く、他の波長域における光透過率が低くなるように調整されている。
【００９１】
さらに、カラーフィルタにおける透過率の高い波長範囲と、共振器構造から取り出したい光のスペクトルのピーク波長λとは一致している。これにより、封止用基板４０から入射する外光のうち、取り出したい光のスペクトルのピーク波長λに等しい波長を有するもののみがカラーフィルタを透過し、その他の波長の外光が各色の有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂに侵入することが防止される。
【００９２】
遮光膜は、例えば黒色の着色剤を混入した光学濃度が１以上の黒色の樹脂膜、または薄膜の干渉を利用した薄膜フィルタにより構成されている。このうち黒色の樹脂膜により構成するようにすれば、安価で容易に形成することができるので好ましい。薄膜フィルタは、例えば、金属，金属窒化物あるいは金属酸化物よりなる薄膜を１層以上積層し、薄膜の干渉を利用して光を減衰させるものである。薄膜フィルタとしては、具体的には、Ｃｒと酸化クロム（ＩＩＩ）（Ｃｒ2Ｏ3）とを交互に積層したものが挙げられる。
【００９３】
[表示装置１の製造方法]
この表示装置１は、例えば以下のようにして製造することができる。以下、図１および図２に加えて図５を参照して表示装置１の製造方法について説明する。
【００９４】
図５は、表示装置１の製造方法の流れを表したフロー図である。まず、上述した材料よりなる基板１１の上に駆動トランジスタＴｒ１を含む画素駆動回路１４０を形成し、例えば感光性樹脂よりなる平坦化絶縁膜（図示せず）を設ける。
【００９５】
（下部電極層１４の形成）
次に、基板１１の全面に所定の材料よりなる導電膜を形成し、この導電膜をパターニングすることにより、下部電極層１４を有機ＥＬ素子１０ごとに個別に形成する（ステップＳ１０１）。その際、下部電極層１４を、平坦化絶縁膜（図示せず）のコンタクトホール（図示せず）を介して駆動トランジスタＴｒ１のドレイン電極と導通させる。パターニングの際にはフォトリソグラフィ技術およびエッチング技術を用いればよい。
【００９６】
（透明導電層１８の形成）
次に、基板１１およびその上に形成された下部電極層１４の全体を覆うように、所定材料よりなる透明導電膜を形成する。この透明導電膜をパターニングすることにより、例えば下部電極層１４と同じ平面形状を有する透明導電層１８を、有機ＥＬ素子１０ごとに個別に形成する（ステップＳ１０２）。但し、この透明導電層１８は、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒの下部電極層１４および緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの下部電極層１４の上にのみ形成する。パターニングの際にはフォトリソグラフィ技術およびエッチング技術を用いればよい。
【００９７】
（隔壁１５の形成）
続いて、下部電極層１４上および平坦化絶縁膜（図示せず）上に、例えばＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition；化学気相成長）法により、ＳｉＯ2等の無機絶縁材料からなる絶縁膜を成膜する。そののち、フォトリソグラフィ技術およびエッチング技術を用いてその絶縁膜をパターニングすることにより、隔壁１５を形成する。（ステップＳ１０３）。
【００９８】
隔壁１５を形成したのち、基板１１の、下部電極層１４および隔壁１５が形成された表面を酸素プラズマ処理し、その表面に付着した有機物等の汚染物を除去して濡れ性を向上させるとよい。具体的には、基板１１を所定温度、例えば７０〜８０℃程度に加熱し、続いて大気圧下で酸素を反応ガスとするプラズマ処理（Ｏ2プラズマ処理）を行う。
【００９９】
（正孔注入層１６Ａおよび正孔輸送層１６Ｂの形成）
撥水化処理を行ったのち、全面を覆うように正孔注入層１６Ａと正孔輸送層１６Ｂとを順次共通層として形成する（ステップＳ１０４，ステップＳ１０５）。これらの正孔注入層１６Ａおよび正孔輸送層１６Ｂは、スピンコート法、液滴吐出法もしくはスリットコート法などの塗布法、シャドウマスクを用いた方法、または印刷法などにより形成するとよい。塗布ののち、熱処理（乾燥処理）を行うとよい。
【０１００】
（赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧの形成）
正孔注入層１６Ａおよび正孔輸送層１６Ｂの形成ののち、赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧを所定位置に選択的に形成する（ステップＳ１０６，ステップＳ１０７）。赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧは、スピンコート法、液滴吐出法もしくはスリットコート法などの塗布法、シャドウマスクを用いた方法、または印刷法などにより形成する。特に、隔壁１５に囲まれた領域に赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧの形成材料を選択的に配する必要上、液滴吐出法であるインクジェット方式や、ノズルコート方式を用いることが好ましい。
【０１０１】
（中間層１６Ｄの形成）
赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧの形成ののち、正孔輸送性を有する材料用い、全面を覆うように中間層１６Ｄを共通層として形成する（ステップＳ１０８）。
【０１０２】
（青色発光層１６ＣＢ、電子輸送層１６Ｅおよび上部電極層１７の形成）
中間層１６Ｄを形成したのち、例えば蒸着法により、全面を覆うように、それぞれ所定の材料を用いて青色発光層１６ＣＢ、電子輸送層１６Ｅおよび上部電極層１７を共通層として順次形成する（ステップＳ１０９〜Ｓ１１１）。
【０１０３】
（保護層３０の形成）
上部電極層１７を形成したのち、例えば蒸着法やＣＶＤ法により、保護層３０を形成する。例えば、アモルファス窒化シリコンからなる保護層３０を形成する場合には、ＣＶＤ法によって２〜３μｍの膜厚に形成する。この際、有機層１６の劣化による輝度の低下を防止するため、成膜温度を常温に設定すると共に、保護層３０の剥がれを防止するために膜のストレスが最小になる条件で成膜することが望ましい。
【０１０４】
中間層１６Ｄ，青色発光層１６ＣＢ，電子輸送層１６Ｅ，上部電極１７および保護層３０は、マスクを用いることなく全面にベタ膜として形成される。また、これらの形成は、大気に暴露されることなく同一の成膜装置内において連続して行われることが望ましい。大気中の水分による有機層１６の劣化が防止されるからである。
【０１０５】
保護層３０を形成したのち、例えば、上述した材料よりなる封止用基板４０に、上述した材料よりなる遮光膜を形成する。続いて、封止用基板４０に赤色フィルタ（図示せず）の材料をスピンコートなどにより塗布し、フォトリソグラフィ技術によりパターニングして焼成することにより赤色フィルタを形成する。続いて、赤色フィルタ（図示せず）と同様にして、青色フィルタ（図示せず）および緑色フィルタ（図示せず）を順次形成する。
【０１０６】
そののち、保護層３０の上に、接着層（図示せず）を形成し、この接着層を間にして封止用基板４０を貼り合わせる。以上により、表示装置１が完成する。
【０１０７】
この表示装置１では、各画素に対して走査線駆動回路１３０から書き込みトランジスタＴｒ２のゲート電極を介して走査信号が供給されると共に、信号線駆動回路１２０から画像信号が書き込みトランジスタＴｒ２を介して保持容量Ｃｓに保持される。すなわち、この保持容量Ｃｓに保持された信号に応じて駆動トランジスタＴｒ１がオンオフ制御され、これにより、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂに駆動電流Ｉｄが注入され、正孔と電子とが再結合して発光が起こる。この光は、下面発光（ボトムエミッション）の場合には下部電極層１４および基板１１を透過して、上面発光（トップエミッション）の場合には上部電極層１７，カラーフィルタ（図示せず）および封止用基板４０を透過して取り出される。
【０１０８】
［表示装置１の作用効果］
以上、説明したように、本実施の形態の表示装置１によれば、下部電極層１４と上部電極層１７との間に設けた有機層１６が共通発光層としての青色発光層１６ＣＢと、個別発光層としての緑色発光層１６ＣＧおよび赤色発光層１６ＣＲとを含むようにした。このため、全ての有機ＥＬ発光素子における発光層が共通発光層のみによって構成された場合と比較して発光効率および色度が向上する。また、緑色有機ＥＬ素子１０Ｇおよび赤色有機ＥＬ素子１０Ｒにおいて、下部電極層１４と有機層１６との間に透明導電層１８を設けるようにした。このため、光学的膜厚Ｌを、個別発光層である緑色発光層１６ＣＧおよび赤色発光層１６ＣＲの厚さと、透明導電層１８の厚さとにより調整でき、透明導電層１８を設けない場合と比較して個別発光層の厚さを薄くできる。その結果、表示装置１によれば、発光層１６Ｃの塗り分けによって優れた表示性能を担保しつつ、発光層１６Ｃの薄型化によって消費電力を低減することができる。
【０１０９】
ところが、透明導電層を設けずに、発光層１６Ｃの厚さのみによって光学的膜厚Ｌを調整しようとする場合、取り出す光の色の違いによってその発光層１６Ｃの厚さが大きく異なる。このため、所望の色の光、例えば赤色光を発する赤色発光層１６ＣＲの厚さは、青色発光層１６ＣＢの厚さと比較してかなり大きくせざるを得ない。一般的に、発光層を駆動するための消費電力は、その発光層の厚さが増大するほど大きくなる。そのため、実際に選択可能な発光層の厚さの範囲は限定されることとなる。これに対し、本実施の形態によれば、透明導電層１８の厚さの分だけ、発光層１６Ｃの厚さを低減できるので、低消費電力の点で有利となる。
【０１１０】
なお、光学的膜厚Ｌを調整するにあたり、下部電極層１４上に設けた透明導電層１８の厚さを、その有機ＥＬ素子１０の発光色に応じて適宜選択し調整してもよい。但し、その場合は、有機ＥＬ素子１０の発光色ごとにパターニングする必要がある。
【０１１１】
また、本実施の形態の表示装置１では、青色有機ＥＬ素子１０Ｂには透明導電層１８を設けないようにした。上述の数式（２）に示したように、ｍが同一である場合は、青色光の波長が最も短くなるからである。
【０１１２】
＜第２の実施の形態＞
[表示装置２の構成]
図６は本開示の第２の実施の形態に係る表示装置（表示装置２）の要部構成例を表す断面図である。
【０１１３】
表示装置２は、透明導電層１８が透明導電層１９に代替されたことを除き、他は表示装置１と同様の構成である。よって以下では、表示装置２に関し、表示装置１と同様の構成要素については同様の符号を付し、適宜その説明を省略する。
【０１１４】
表示装置２では、表示装置１と異なり、透明導電層１９が下部電極層１４の上面だけでなく、その端面をも覆い、かつ、基板１１と接している。ここで、透明導電層１９は、平坦化絶縁膜（図示せず）のコンタクトホール（図示せず）を介して駆動トランジスタＴｒ１のドレイン電極と導通している。したがって、透明導電層１９は、上部電極層１７と共に、それらの間に位置する有機層１６に対し電圧を印加する電極として実質的に機能する。一方で、下部電極層１４は、発光層１６Ｃで発生した光を反射する反射層として主に機能する。
【０１１５】
[表示装置２の製造方法]
ここでは、表示装置２のうち、下部電極層１４および透明導電層１９の製造工程についてのみ図７Ａ〜図７Ｆを参照して説明する。その他の部分については、第１の実施の形態で説明した表示装置１と同様である。
【０１１６】
まず、画素駆動回路１４０が形成された基板１１を用意したのち、基板１１を全面的に覆うように所定の材料よりなる導電膜１４Ｚを形成する（図７Ａ）。導電膜１４Ｚは、例えばＤＣスパッタリングにより成膜する。
【０１１７】
次に、その導電膜１４Ｚ上の所定領域を覆うように、マスクパターンＭ１Ｂ，Ｍ１Ｇ，Ｍ１Ｒをそれぞれ形成する（図７Ｂ）。
【０１１８】
そののち、マスクパターンＭ１Ｂ，Ｍ１Ｇ，Ｍ１Ｒに覆われていない露出領域の導電膜１４Ｚをエッチングにより除去し、マスクパターンＭ１Ｂ，Ｍ１Ｇ，Ｍ１Ｒをリフトオフする。これにより、マスクパターンＭ１Ｂ，Ｍ１Ｇ，Ｍ１Ｒにそれぞれ対応する位置に、青色有機ＥＬ素子１０Ｂの下部電極層１４Ｂと、緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの下部電極層１４Ｇと、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒの下部電極層１４Ｒとが現れる（図７Ｃ）。
【０１１９】
続いて、全体を覆うように、所定の材料よりなる透明導電膜１９Ｚを形成する（図７Ｄ）。
【０１２０】
次に、その透明導電膜１９Ｚ上の、下部電極層１４Ｇおよび下部電極層１４Ｒとそれぞれ対応する領域を覆うように、マスクパターンＭ２Ｇ，Ｍ２Ｒをそれぞれ形成する（図７Ｅ）。この際、マスクパターンＭ２Ｇ，Ｍ２Ｒの占有面積を、下部電極層１４Ｇおよび下部電極層１４Ｒの占有面積よりも少し大きくする。
【０１２１】
そののち、マスクパターンＭ２Ｇ，Ｍ２Ｒに覆われていない露出領域の透明導電膜１９Ｚをエッチングにより除去したのち、マスクパターンＭ２Ｇ，Ｍ２Ｒをリフトオフする。これにより、マスクパターンＭ２Ｇ，Ｍ２Ｒにそれぞれ対応する位置に、緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの透明導電層１９Ｇと、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒの透明導電層１９Ｒとが現れる（図７Ｆ）。この際、マスクパターンＭ２Ｇ，Ｍ２Ｒが下部電極層１４Ｇおよび下部電極層１４Ｒよりも少し大きいので、下部電極層１４Ｇ，１４Ｒの端面も覆われる。透明導電膜１９Ｚの構成材料としてＩｎ−Ｚｎ−Ｏを用いる場合、例えば塩素ガスを含むドライエッチングガスを用いたドライエッチング処理により、露出領域の透明導電膜１９Ｚを除去する。また、透明導電膜１９Ｚの厚さが大きい場合には、ウェットエッチング処理によりある程度の厚さまで薄膜化したのち、上記のドライエッチング処理を行ってもよい。このように、ウェットエッチング処理とドライエッチング処理とを併用することでドライエッチング処理に要する時間を短縮し、そのドライエッチング処理中に発生するダスト等を低減できる。
【０１２２】
［表示装置２の作用効果］
以上、説明したように、本実施の形態の表示装置２によれば、透明導電層１９が下部電極層１４の上面および端面を覆い、かつ、基板１１に埋設された画素駆動回路１４０の駆動トランジスタＴｒ１と接している。このため、透明導電層１９は、下部電極層１４の担う電極としての機能を発揮することとなる。
【０１２３】
下部電極層１４として用いられる反射率の高いＡｌやＡｇなどの金属材料は、その特性上、その表面に酸化膜を生成しやすい。それらの酸化膜は比較的高い電気抵抗を有するため、下部電極層１４の有する電極としての機能を低下させるおそれがある。また、ＡｌやＡｇなどの金属材料は、酸などの腐食を受けやすいそのため、製造時においては、下部電極層１４の周囲環境について十分な配慮が求められる。これに対し、本実施の形態では、酸化や腐食などによる構造変化が生じにくいＩＴＯなどの透明導電性材料からなる透明導電層１９を電極として用いるので、高い信頼性を有する有機ＥＬ素子１０が得られる。また、下部電極層１４としてＡｌ−Ｎｄを使用し、透明導電層１９としてＩＴＯを使用した場合には、それらの界面における接触抵抗による抵抗増加が生じる。しかし、本実施の形態によれば、透明導電層１９に駆動トランジスタＴｒ１を接続することで透明導電層１９を電極として機能させるので、抵抗増加の影響を回避できる。
【０１２４】
＜第３の実施の形態＞
[表示装置３の構成]
図８は本開示の第３の実施の形態に係る表示装置（表示装置３）の要部構成例を表す断面図である。
【０１２５】
表示装置３は、有機層１６の発光層１６Ｃで発せられた光が下部電極層１４および基板１１を透過して光Ｈとして外部へ放出される、いわゆるボトムエミッション方式の有機ＥＬ表示装置である。したがって、下部電極層１４は、例えばＩｎ−Ｓｎ−Ｏ，Ｉｎ−Ｚｎ−Ｏ，Ｉｎ−Ｏ，Ｚｎ−Ｏ，Ａｌ−Ｚｎ−Ｏなどの透明導電性材料からなる。基板１１も光透過性を有する石英やガラスのほか、透明樹脂などにより構成される。一方、上部電極層１７は、例えば、アルミニウムのほか、クロム，金，白金，ニッケル，銅，タングステンあるいは銀などの金属元素の単体または合金により形成され、反射層としての機能をも有する。表示装置３は、これらの点を除き、他は表示装置１と同様の構成である。この表示装置３においても、上記表示装置１と同様の効果が得られる。
【０１２６】
＜適用例＞
以下、上記のような表示装置（表示装置１，１Ａ，２，３）の電子機器への適用例について説明する。電子機器としては、例えばテレビジョン装置，デジタルカメラ，ノート型パーソナルコンピュータ、携帯電話等の携帯端末装置あるいはビデオカメラ等が挙げられる。すなわち、上記表示装置は、外部から入力された映像信号あるいは内部で生成した映像信号を、画像あるいは映像として表示するあらゆる分野の電子機器に適用することが可能である。
【０１２７】
［モジュール］
上記表示装置は、例えば図９に示したようなモジュールとして、後述の適用例１〜７などの種々の電子機器に組み込まれる。このモジュールは、例えば、基板１１の一辺に、封止用基板４０または保護層３０から露出した領域６１を設け、この露出した領域６１に、信号線駆動回路１２０、走査線駆動回路１３０および電源線供給回路１４０の配線を延長して外部接続端子（第１周辺電極および第２周辺電極等）を形成したものである。この外部接続端子には、信号の入出力のためのフレキシブルプリント配線基板（ＦＰＣ；Flexible Printed Circuit）６２が設けられていてもよい。
【０１２８】
［適用例１］
図１０Ａおよび図１０Ｂはそれぞれ、上記実施の形態の表示装置が適用される電子ブックの外観を表したものである。この電子ブックは、例えば、表示部２１０および非表示部２２０を有しており、この表示部２１０が上記実施の形態の表示装置により構成されている。
【０１２９】
［適用例２］
図１１は、上記実施の形態の表示装置が適用されるスマートフォンの外観を表したものである。このスマートフォンは、例えば、表示部２３０および非表示部２４０を有しており、この表示部２３０が上記実施の形態の表示装置により構成されている。
【０１３０】
［適用例３］
図１２は、上記実施の形態の表示装置が適用されるテレビジョン装置の外観を表したものである。このテレビジョン装置は、例えば、フロントパネル３１０およびフィルターガラス３２０を含む映像表示画面部３００を有しており、この映像表示画面部３００は、上記実施の形態の表示装置により構成されている。
【０１３１】
［適用例４］
図１３Ａ，図１３Ｂは、上記実施の形態の表示装置が適用されるデジタルカメラの外観を表したものである。このデジタルカメラは、例えば、フラッシュ用の発光部４１０、表示部４２０、メニュースイッチ４３０およびシャッターボタン４４０を有しており、この表示部４２０が上記実施の形態の表示装置により構成されている。
【０１３２】
［適用例５］
図１４は、上記実施の形態の表示装置が適用されるノート型パーソナルコンピュータの外観を表したものである。このノート型パーソナルコンピュータは、例えば、本体５１０，文字等の入力操作のためのキーボード５２０および画像を表示する表示部５３０を有しており、この表示部５３０が上記実施の形態の表示装置により構成されている。
【０１３３】
［適用例６］
図１５は、上記実施の形態の表示装置が適用されるビデオカメラの外観を表したものである。このビデオカメラは、例えば、本体部６１０，この本体部６１０の前方側面に設けられた被写体撮影用のレンズ６２０，撮影時のスタート／ストップスイッチ６３０および表示部６４０を有している。そして、この表示部６４０が上記実施の形態の表示装置により構成されている。
【０１３４】
［適用例７］
図１６Ａ，図１６Ｂは、上記実施の形態の表示装置が適用される携帯電話機の外観を表したものである。この携帯電話機は、例えば、上側筐体７１０と下側筐体７２０とを連結部（ヒンジ部）７３０で連結したものであり、ディスプレイ７４０，サブディスプレイ７５０，ピクチャーライト７６０およびカメラ７７０を有している。そして、これらのうちのディスプレイ７４０またはサブディスプレイ７５０が、上記実施の形態の表示装置により構成されている。
【０１３５】
＜３．実施例＞
以下、本開示の実施例について具体的に説明するが、本技術はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
【０１３６】
（実験例１）
ここでは、上記第２の実施の形態で説明した表示装置を作製した。具体的な作製手順は以下の通りである。
【０１３７】
まず、基板１１の上に、厚さ２００ｎｍのアルミニウム−ネオジム合金（Ａｌ−Ｎｄ）からなる導電膜１４Ｚ（図７Ａ参照）をＤＣスパッタリングにより成膜した。そののち、導電膜１４Ｚを、フォトリソグラフィ法により所定形状にパターニングすることで、下部電極層１４（１４Ｂ，１４Ｇ，１４Ｒ）を形成した（図７Ｃ参照）。
【０１３８】
次いで、全体を覆うように、ＩＴＯよりなる透明導電膜１９Ｚを２０ｎｍの厚さで形成した（図７Ｄ参照）。そののち、フォトリソグラフィ法により、下部電極層１４Ｇ，１４Ｒを覆うように、透明導電層１９Ｇ，１９Ｒを形成した（図７Ｆ参照）。この際、下部電極層１４Ｇ，１４Ｒが露出しないように、透明導電層１９Ｇ，１９Ｒが下部電極層１４Ｇ，１４Ｒの上面および端面を完全に被覆するようにした。さらに、透明導電層１９Ｇ，１９Ｒを、平坦化絶縁膜（図示せず）のコンタクトホール（図示せず）を介して駆動トランジスタＴｒ１のドレイン電極と導通させるようにした。これは、Ａｌ−Ｎｄからなる下部電極層１４Ｇ，１４ＲとＩＴＯからなる透明導電層１９Ｇ，１９Ｒとの界面における接触抵抗による抵抗増加を回避するためである。なお、青色有機ＥＬ素子１０Ｂについては、下部電極層１４Ｂが駆動トランジスタＴｒ１のドレイン電極と導通するようにした。
【０１３９】
次に、１０Ｐａ以下の真空雰囲気中において、基板１１の表面を酸素プラズマ処理し、表面の洗浄を実施した。
【０１４０】
さらに、以下の手順で有機層１６を形成した。まず、正孔注入層１６Ａをスリットコーティング法により２０ｎｍの厚さで形成したのち、２００℃の大気雰囲気下で３０分間に亘る加熱処理を実施した。次に、インクジェット法を用い、下部電極層１４Ｒと対応する位置に赤色発光層１６ＣＲを６０ｎｍの厚さで形成すると共に、下部電極層１４Ｇと対応する位置に緑色発光層１６ＣＧを４０ｎｍの厚さで形成した。そののち、１０2Ｐａ程度
の真空雰囲気中で１０分程度乾燥させ、窒素雰囲気下で、１３０℃の温度下、３０分間に亘るベーク処理を行った。さらに、真空下で、中間層１３と２０ｎｍの厚さの青色発光層１６ＣＢとを蒸着ドーピング法で形成し、電子輸送層１６ＥとＬｉＦからなる電子注入層とを順次形成した。
【０１４１】
最後に、上部電極層１７、窒化シリコンからなる３μｍ厚の保護層１２を形成したのち、真空化でガラスからなる封止基板４０と貼り合わせることで封止処理をおこなった。
【０１４２】
（比較例１）
比較例１として、全ての有機ＥＬ素子１０の下部電極層１４の上にＩＴＯからなる透明導電層１９を設けたことを除き、その他は実施例１と同様にして表示装置１０１（図１７）を作製した。なお、青色有機ＥＬ素子１０Ｂについても、下部電極層１４Ｂを覆う透明導電層１９Ｂが駆動トランジスタＴｒ１のドレイン電極と導通するようにした。
【０１４３】
（比較例２）
比較例２として、透明導電層１９を一切設けなかったことを除き、その他は実施例１と同様にして表示装置１０２（図１８）を作製した。なお、全ての有機ＥＬ素子１０において、下部電極層１４が駆動トランジスタＴｒ１のドレイン電極と導通するようにした。
【０１４４】
これらの実施例１ならびに比較例１，２の表示装置における有機ＥＬ素子１０について、駆動電圧、電流密度１０ｍＡ／ｃｍ2での駆動時における発光効率（ｃｄ／Ａ）および色度の測定を実施した。その結果を表１および図１９Ａ〜図１９Ｃに示す。図１９Ａ〜図１９Ｃは、いずれも横軸が駆動電圧Ｖ（Ｖ）、縦軸が電流密度Ｊ（ｍＡ／ｃｍ2）を示し、それらのフルスケールは統一したうえで規格化している。図１９Ａは赤色有機ＥＬ素子１０Ｒを、図１９Ｂは緑色有機ＥＬ素子１０Ｇを、図１９Ｃは青色有機ＥＬ素子１０Ｂをそれぞれ表している。
【０１４５】
【表１】
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【０１４６】
比較例１の場合、透明電極層が全色の有機ＥＬ素子に配置されていることから、青色有機ＥＬ素子１０Ｂからの発光光Ｈの色度が大きくずれ、発光効率が低下している。
【０１４７】
また、比較例２の場合は、色度は良好であるが、実施例１と比較して赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧの膜厚がそれぞれ２０ｎｍほど増加していることから、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒおよび緑色有機ＥＬ素子１０Ｇを駆動するための駆動電圧が大きく上昇した。
【０１４８】
これに対し、実施例１では、良好な色度を確保しつつ、駆動電圧の低減を図ることができた。以上の結果から、本技術によれば、簡素な構成でありながら、透明導電層１９を適切な位置に選択的に設け、発光層１６Ｃの膜厚を適切に制御することにより、優れた色再現性と、駆動電圧の低減により光取り出し効率の向上とを両立できることが確認できた。
【０１４９】
以上、実施の形態および変形例を挙げて本技術を説明したが、本技術はこれら実施の形態等に限定されず、種々の変形が可能である。例えば、上記実施の形態等では、透明導電層１８を緑色有機ＥＬ素子１０Ｇおよび赤色有機ＥＬ素子１０Ｒに設けるようにしたが、本技術はこれに限定されるものではない。例えば、図２０に示した表示装置２Ａまたは図２１に示した表示装置２Ｂのように、緑色有機ＥＬ素子１０Ｇにのみ、または赤色有機ＥＬ素子１０Ｒにのみ透明導電層１９を設けるようにしてもよい。
【０１５０】
また、上記実施の形態等では、有機発光素子として赤色有機ＥＬ素子、緑色有機ＥＬ素子および青色有機ＥＬ素子の３種を例示して説明したが、本技術は他の色の光を発する有機発光素子を備えた表示装置にも適用され得る。
【０１５１】
また、上記実施の形態等において説明した各層の材料および厚さ、または成膜方法および成膜条件等は限定されるものではなく、他の材料および厚さとしてもよく、または他の成膜方法および成膜条件としてもよい。
【０１５２】
さらに、上記実施の形態等では、アクティブマトリクス型の表示装置の場合について説明したが、本技術はパッシブマトリクス型の表示装置への適用も可能である。また、アクティブマトリクス駆動のための画素駆動回路の構成は、上記実施の形態で説明したものに限られず、必要に応じて容量素子やトランジスタを追加してもよい。その場合、画素駆動回路の変更に応じて、上述した信号線駆動回路１２０や走査線駆動回路１３０のほかに、他の駆動回路を追加してもよい。
【０１５３】
また、本技術は以下のような構成を取り得るものである。
（１）
基体上に、第１の電極層と有機層と第２の電極層とが順に積層された積層構造をそれぞれ有すると共に異なる色の光を発する２種類以上の有機発光素子を備え、
前記有機層は、全ての種類の前記有機発光素子に共通に設けられた共通発光層と、特定の色光を発する種類の前記有機発光素子にのみ設けられた個別発光層とを含み、
一部の種類の前記有機発光素子は、前記第１の電極層と前記有機層との間に透明導電層を有する
有機ＥＬ表示装置。
（２）
前記２種類以上の有機発光素子として、第１の色光を発する第１の発光素子と、第２の色光を発する第２の発光素子と、第３の色光を発する第３の発光素子とを備え、
前記第１の発光素子は、前記第１の色光を発する第１の発光層を前記個別発光層として含み、
前記第２の発光素子は、前記第２の色光を発する第２の発光層を前記個別発光層として含み、
前記第３の色光を発する第３の発光層が前記共通発光層として設けられ、
前記第１の発光素子および前記第２の発光素子の双方のみ、または前記第１の発光素子のみが前記透明導電層を有する
上記（１）記載の有機ＥＬ表示装置。
（３）
前記有機層は、前記共通発光層と前記個別発光層との間に１以上の中間層を含む
上記（１）または（２）に記載の有機ＥＬ表示装置。
（４）
前記個別発光層は、前記共通発光層と前記第１の電極層との間に設けられている
上記（１）から（３）のいずれか１つに記載の有機ＥＬ表示装置。
（５）
前記有機層は、前記共通発光層および前記個別発光層と、前記第１の電極層との間に、正孔注入層を含む
上記（１）から（４）のいずれか１つに記載の請求項１記載の有機ＥＬ表示装置。
（６）
前記正孔注入層は、前記個別発光層および前記第１の電極層の双方と接する
上記（５）記載の有機ＥＬ表示装置。
（７）
前記有機層は、前記共通発光層および前記個別発光層と、前記正孔注入層との間に、正孔輸送層を含む
上記（５）記載の有機ＥＬ表示装置。
（８）
前記有機層は、前記共通発光層および前記個別発光層と、前記第２の電極層との間に、電子輸送層を含む
上記（１）から（７）のいずれか１つに記載の有機ＥＬ表示装置。
（９）
前記電子輸送層は、前記共通発光層および前記第２の電極層の双方と接する
上記（８）記載の有機ＥＬ表示装置。
（１０）
前記２種類以上の有機発光素子は、その発光色の波長が短いほど前記第１の電極層と前記第２の電極層との間隔が狭くなっている
上記（１）から（９）のいずれか１つに記載の有機ＥＬ表示装置。
（１１）
前記第２電極層は、全ての種類の前記有機発光素子に共通に設けられている
上記（１）から（１０）のいずれか１つに記載の有機ＥＬ表示装置。
（１２）
前記有機層のうち、前記個別発光層以外の層は、全ての前記有機発光素子に共通に設けられている
上記（１）から（１１）のいずれか１つに記載の有機ＥＬ表示装置。
（１３）
前記２種類以上の有機発光素子として、赤色光を発する赤色発光素子と、緑色光を発する緑色発光素子と、青色光を発する青色発光素子とを備え、
前記赤色発光素子は、赤色発光層を前記個別発光層として含み、
前記緑色発光素子は、緑色発光層を前記個別発光層として含み、
青色発光層が前記共通発光層として設けられ、
前記赤色発光素子および前記緑色発光素子の双方のみ、または前記赤色発光素子のみが前記透明導電層を有する
上記（１）記載の有機ＥＬ表示装置。
（１４）
全ての前記透明導電層の厚さが互いに等しい
上記（１）から（１３）のいずれか１つに記載の有機ＥＬ表示装置。
（１５）
前記透明導電層は前記第１の電極層と接している
上記（１）から（１４）のいずれか１つに記載の有機ＥＬ表示装置。
（１６）
前記透明導電層は、前記第１電極層の上面および端面を覆うと共に前記基体と接している
上記（１）から（１５）のいずれか１つに記載の有機ＥＬ表示装置。
（１７）
前記第１の電極層および前記第２の電極層のうち、一方は光透過性を有し、他方は光反射性を有する
上記（１）から（１４）のいずれか１つに記載の有機ＥＬ表示装置。
【０１５４】
本出願は、日本国特許庁において２０１３年６月１２日に出願された日本特許出願番号２０１３−１２３６３７号を基礎として優先権を主張するものであり、この出願のすべての内容を参照によって本出願に援用する。
【０１５５】
当業者であれば、設計上の要件や他の要因に応じて、種々の修正、コンビネーション、サブコンビネーション、および変更を想到し得るが、それらは添付の請求の範囲やその均等物の範囲に含まれるものであることが理解される。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７Ａ】
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【図７Ｂ】
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【図７Ｃ】
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【図７Ｄ】
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【図７Ｅ】
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【図７Ｆ】
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【図８】
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【図９】
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【図１０Ａ】
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【図１０Ｂ】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３Ａ】
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【図１３Ｂ】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６Ａ】
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【図１６Ｂ】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９Ａ】
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【図１９Ｂ】
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【図１９Ｃ】
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【図２０】
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【図２１】
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【国際調査報告】
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