(57)【要約】搬送装置は、軸状に延在し、ガラス基板を搬送方向に沿って搬送する搬送ローラ（６２）と、搬送ローラ（６２）をその軸周りに回転可能に支持する軸受部（６４）と、軸受部（６４）を保持するフレーム（６６）であって、液体収容部（７０）を有し、液体収容部（７０）内に軸受部（６４）の摺接部位の一部が露出するものとされたフレーム（６６）と、を備える。液体収容部（７０）内に液体を流し込むことで、軸受部（６４）の摺接部位のうち液体収容部（７０）内に露出する部位を液体に浸らせ、液体収容部（７０）内の液体によって上記塵や埃を当該摺接部位から流し落とすことができる。
2015178301.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
軸状に延在し、搬送部材を搬送方向に沿って搬送する搬送ローラと、
前記搬送ローラをその軸周りに回転可能に支持する軸受部と、
前記軸受部を保持する保持部材であって、液体収容部を有し、該液体収容部内に前記軸受部の摺接部位の少なくとも一部が露出するものとされた保持部材と、
を備える搬送装置。
【請求項２】
前記軸受部は、前記搬送ローラの軸周りに配された環状の環状部と、前記搬送ローラと前記環状部との間に介在し、前記環状部によって摺動可能に支持される複数のボールと、を有するボールベアリングであり、
前記摺接部位は、前記環状部のうち前記複数のボールを支持する部位である、請求項１に記載の搬送装置。
【請求項３】
前記液体収容部は溝状に延在するものとされている、請求項１または請求項２に記載の搬送装置。
【請求項４】
前記液体収容部の延在方向の一端部に前記液体収容部内に液体を供給する液体供給部が設けられ、前記液体収容部の延在方向の他端部に前記液体収容部内を流れる液体を排出する液体排出部が設けられている、請求項３に記載の搬送装置。
【請求項５】
前記液体収容部は、前記一端部が前記搬送方向の上流側に配されるとともに前記他端部が前記搬送方向の下流側に配された形で、前記搬送方向に沿って延在するものとされている、請求項４に記載の搬送装置。
【請求項６】
前記搬送部材は基板であり、
前記搬送ローラはその延在方向が前記搬送方向と直交する形で該搬送方向に複数が並列配置され、
前記軸受部は前記搬送ローラの両端部にそれぞれ配されている、請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の搬送装置。
【請求項７】
請求項６に記載の搬送装置と、前記搬送方向に沿って搬送される前記基板にウェットプロセスを施すウェットプロセス槽と、を備えるウェットプロセス装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本明細書で開示される技術は、搬送装置及びウェットプロセス装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶表示装置の主要構成部品である液晶パネルの製造過程において、ガラス基板を搬送装置によって搬送しながらガラス基板の表面に洗浄処理やレジスト塗布処理等のウェットプロセスを施すウェットプロセス装置が知られている。ウェットプロセス装置が備える搬送装置は、通常、軸状の搬送ローラと、搬送ローラの両端部に配されて搬送ローラをその軸周りに回転可能に支持する軸受部と、がガラス基板の搬送方向に沿って複数配された構成とされる。【０００３】
このような搬送装置では、搬送ローラの回転時にスリップ等によって搬送ローラと軸受部との間が摺動することで、軸受部の摺接部位が摩耗し、当該摺接部位から錆粉等の塵や埃が発生することがある。その結果、摺接部位から発生した塵や埃等がガラス基板の表面に付着することがある。そこで、例えば下記特許文献１には、搬送装置の軸受部から発生するこのような塵や埃のガラス基板への付着を防止できるウェットプロセス装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特許第３２３３２４３号公報
【０００５】
（発明が解決しようとする課題）
しかしながら、上記特許文献１で開示されるウェットプロセス装置では、搬送ローラの回転機構をウェット雰囲気外に設けられた外部室に配設するとともに排気手段をこの外部室に設けることで、ウェット雰囲気内のガラス基板に塵や埃が付着することを防止する。このため、このように搬送ローラの回転機構や排気手段を外部室に配設することで、装置が全体として大型化し、また、部品点数が多くなる問題があった。
【発明の概要】
【０００６】
本明細書で開示される技術は、上記の課題に鑑みて創作されたものであって、装置の大型化を回避しながら、軸受部から発生した塵や埃が搬送部材に付着することを防止ないし抑制できる搬送装置及びウェットプロセス装置を提供することを目的とする。
【０００７】
（課題を解決するための手段）
本明細書で開示される技術は、軸状に延在し、搬送部材を搬送方向に沿って搬送する搬送ローラと、前記搬送ローラをその軸周りに回転可能に支持する軸受部と、前記軸受部を保持する保持部材であって、液体収容部を有し、該液体収容部内に前記軸受部の摺接部位の少なくとも一部が露出するものとされた保持部材と、を備える搬送装置に関する。
【０００８】
上記の搬送装置では、液体収容部内に純水等の液体を流し込むことで、軸受部の摺接部位のうち液体収容部内に露出する部位を液体に浸らせることができる。その結果、液体収容部内の液体が軸受部の潤滑剤として機能し、軸受部の摺接部位に塵や埃が発生することを防止ないし抑制することができる。また、軸受部の摺接部位に塵や埃が発生したとしても、液体収容部内の液体によって上記塵や埃を当該摺接部位から流し落とすことができ、上記塵や埃が搬送部材に付着することを防止ないし抑制することができる。また、保持部材に液体収容部を設けるのみで上記塵や埃の搬送部材への付着を防止ないし抑制できるので、装置が大型化することを回避することができる。このように、上記の搬送装置では、装置の大型化を回避しながら、軸受部の摺接部位から発生した塵や埃が搬送部材に付着することを防止ないし抑制することができる。
【０００９】
前記軸受部は、前記搬送ローラの軸周りに配された環状の環状部と、前記搬送ローラと前記環状部との間に介在し、前記環状部によって摺動可能に支持される複数のボールと、を有するボールベアリングであり、前記摺接部位は、前記環状部のうち前記複数のボールを支持する部位であってもよい。
【００１０】
この構成によると、軸受部及び摺接部位の具体的な構成を提供することができる。
【００１１】
前記液体収容部は溝状に延在するものとされていてもよい。
【００１２】
この構成によると、液体収容部に流し込まれた液体が液体収容部の延在方向に沿って流れることになるため、液体の流れによる力によって軸受部の摺接部位に発生した塵や埃等を効果的に流し落とすことができる。
【００１３】
前記液体収容部の延在方向の一端部に前記液体収容部内に液体を供給する液体供給部が設けられ、前記液体収容部の延在方向の他端部に前記液体収容部内を流れる液体を排出する液体排出部が設けられていてもよい。
【００１４】
この構成では、液体供給部において液体収容部内に新たな液体が順次供給されるとともに、軸受部の表面の塵や埃を流し落とした液体が液体排出部において液体収容部から順次排出されることで、軸受部の摺接部位に発生した塵や埃等をより効果的に流し落とすことができる。
【００１５】
前記液体収容部は、前記一端部が前記搬送方向の上流側に配されるとともに前記他端部が前記搬送方向の下流側に配された形で、前記搬送方向に沿って延在するものとされていてもよい。
【００１６】
この構成によると、軸受部の摺接部位に発生した塵や埃等を、搬送方向の上流側から下流側に向かって順に流し落とすことができる。
【００１７】
前記搬送部材は基板であり、前記搬送ローラはその延在方向が前記搬送方向と直交する形で該搬送方向に複数が並列配置され、前記軸受部は前記搬送ローラの両端部にそれぞれ配されていてもよい。
【００１８】
この構成によると、搬送部材として基板を搬送するための搬送装置の具体的な構成を提供することができる。
【００１９】
本明細書で開示される他の技術は、上記の搬送装置と、前記搬送方向に沿って搬送される前記基板にウェットプロセスを施すウェットプロセス槽と、を備えるウェットプロセス装置に関する。
【００２０】
基板に対する洗浄処理や塗布処理等のウェットプロセスでは、基板の表面に対して洗浄水が噴射され、噴射された洗浄水がウェットプロセス槽内で循環されて再び洗浄水として使用される。このため、洗浄水内に塵や埃等が流出した場合、それらの塵や埃等が基板に付着し易い。上記のウェットプロセス装置では、液体収容部内の液体によって塵や埃が軸受部の摺接部位から流し落とされるため、洗浄水内に塵や埃等が流出することを防止ないし抑制することができる。その結果、ウェットプロセス槽内において軸受部の摺接部位から発生した塵や埃等が基板に付着することを防止ないし抑制することができる。なお、本明細書でいうウェットプロセスは、基板の洗浄処理や基板の塗布処理に限定されず、基板のディップ処理等、他の処理を含む。
【００２１】
（発明の効果）
本明細書で開示される技術によれば、装置の大型化を回避しながら、軸受部から発生した塵や埃が搬送部材に付着することを防止ないし抑制できる搬送装置及びウェットプロセス装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】液晶表示装置を長辺方向に沿って切断した断面の概略断面図
【図２】液晶パネルの概略平面図
【図３】液晶パネルの断面構成を示す概略断面図
【図４】液晶パネルを構成するアレイ基板における表示領域の平面構成を示す平面図
【図５】図４のV−V断面の断面図であって、アレイ基板の一部の断面構成を示す断面図
【図６】ガラス基板に対する各製造装置による処理手順を説明するためのブロック図
【図７】実施形態１に係る搬送装置の側面図
【図８】搬送装置の平面図
【図９】搬送方向の下流側端部において搬送装置を拡大した拡大斜視図
【図１０】軸受部の正面図
【図１１】図１０のXI−XI断面の断面図であって、液体収容部に純水が流し込まれた状態における軸受部近傍の断面図
【図１２】液体収容部に純水が流し込まれた状態における軸受部の正面図
【図１３】実施形態２に係る搬送装置の軸受部の正面図
【図１４】図１３のXIV−XIV断面の断面図であって、液体収容部に純水が流し込まれた状態における軸受部近傍の断面図
【図１５】実施形態３に係る搬送装置の断面図
【図１６】搬送装置の一部を拡大した拡大斜視図
【図１７】実施例において、本発明の適用前後におけるゲート絶縁膜異物及びゲート絶縁膜欠損の検出結果を示す表
【図１８】実施例において、本発明の適用前後における層間絶縁膜異物及び層間絶縁膜欠損の検出結果を示す表
【発明を実施するための形態】
【００２３】
＜実施形態１＞
図１から図１２を参照して実施形態１を説明する。本実施形態では、液晶表示装置１０の構成部品である液晶パネル１１の製造過程において、ガラス基板３０Ａの表面に対して洗浄処理を施しながらガラス基板３０Ａを搬送する洗浄装置５０（図７参照）について例示する。なお、各図面の一部にはＸ軸、Ｙ軸およびＺ軸を示しており、各軸方向が各図面で共通した方向となるように描かれている。また、図１、図３、及び図５では、図の上側を液晶表示装置１０の上側（表側）とする。
【００２４】
先に液晶表示装置１０、及び液晶パネル１１の構成について説明する。液晶表示装置１０は、図１及び図２に示すように、液晶パネル１１と、液晶パネル１１に実装されて当該液晶パネル１１を駆動する電子部品であるＩＣチップ１７と、ＩＣチップ１７に対して各種入力信号を外部から供給するコントロール基板１９と、液晶パネル１１と外部のコントロール基板１９とを電気的に接続するフレキシブル基板１８と、液晶パネル１１に光を供給する外部光源であるバックライト装置１４と、を備えている。また、液晶表示装置１０は、相互に組み付けた液晶パネル１１及びバックライト装置１４を収容して保持するための表裏一体の外部部材１５，１６を備えており、このうち表側の外部部材１５には、液晶パネル１１に表示された画像を外部から視認させるための開口部１５Ａが設けられている。
【００２５】
バックライト装置１４は、図１に示すように、表側に向けて開口した略箱型をなすシャーシ１４Ａと、シャーシ１４Ａ内に配された図示しない光源（冷陰極管、ＬＥＤ、有機ＥＬ等）と、シャーシ１４Ａの開口部を覆う形で配される図示しない光学部材と、を備えている。光学部材は、光源から出射される光を面状の光に変換する等の機能を有している。光学部材を通過して面状となった光は、液晶パネル１１に入射し、液晶パネル１１において画像を表示するために利用される。
【００２６】
液晶パネル１１は、図２に示すように、全体として縦長の矩形状をなしており、その長辺方向が各図面のＹ軸方向と一致し、その短辺方向が各図面のＸ軸方向と一致している。液晶パネル１１では、その大部分に画像を表示可能な表示領域Ａ１が配され、その長辺方向における一方の端部側（図２に示す下側）に偏った位置に画像が表示されない非表示領域Ａ２が配されている。非表示領域Ａ２の一部には、ＩＣチップ１７及びフレキシブル基板１８が異方性導電膜（不図示）を介した圧着接続によって実装されている。なお、液晶パネル１１では、図１に示すように、後述するカラーフィルタ基板２０よりも一回り小さな枠状の一点鎖線が表示領域Ａ１の外形をなしており、当該一点鎖線よりも外側の領域が非表示領域Ａ２となっている。
【００２７】
液晶パネル１１は、図３に示すように、透光性に優れた一対のガラス製の基板２０、３０と、電界印加に伴って光学特性が変化する物質である液晶分子を含む液晶層１１Ａと、を備えている。液晶パネル１１を構成する両基板２０，３０は、液晶層１１Ａの厚さ分のセルギャップを維持した状態で図示しないシール材によって貼り合わされている。両基板２０，３０のうち、表側（正面側）の基板２０がカラーフィルタ基板２０とされ、裏側（背面側）の基板３０がアレイ基板（回路基板の一例）３０とされる。両基板２０，３０の内面側には、図３に示すように、液晶層１１Ａに含まれる液晶分子を配向させるための配向膜１１Ｂ，１１Ｃがそれぞれ形成されている。また、両基板２０，３０を構成するガラス基板２０Ａ，３０Ａの外面側には、それぞれ偏光板１１Ｄ，１１Ｅが貼り付けられている。
【００２８】
カラーフィルタ基板２０は、図２に示すように、短辺寸法がアレイ基板３０とほぼ同等であるものの、長辺寸法がアレイ基板３０よりも小さく、アレイ基板３０に対して長辺方向についての一方の端部（図２に示す上側）を揃えた状態で貼り合わされている。従って、アレイ基板３０のうち長辺方向についての他方の端部（図１に示す下側）は、所定範囲に亘ってカラーフィルタ基板２０が重なり合うことがなく、表裏両板面が外部に露出した状態とされており、ここにＩＣチップ１７及びフレキシブル基板１８の実装領域が確保されている。アレイ基板３０を構成するガラス基板３０Ａは、その主要部分にカラーフィルタ基板２０及び偏光板１１Ｅが貼り合わされており、ＩＣチップ１７及びフレキシブル基板１８の実装領域が確保された部分がカラーフィルタ基板２０及び偏光板１１Ｅと非重畳とされている。
【００２９】
続いてアレイ基板３０及びカラーフィルタ基板２０における表示領域Ａ１内の構成について説明する。アレイ基板３０を構成するガラス基板（基板の一例）３０Ａの内面側（液晶層１１Ａ側）には、図３及び図４に示すように、３つの電極３２Ａ〜３２Ｃを有するスイッチング素子であるＴＦＴ（Thin Film Transistor）３２及びＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等の透明導電膜からなる画素電極３３が多数個並んで設けられている。これらＴＦＴ３２及び画素電極３３の周りには、図４に示すように、格子状をなすゲート配線３４及びソース配線３５が取り囲むようにして配設されている。ゲート配線３４とソース配線３５はそれぞれＴＦＴ３２のゲート電極３２Ａとソース電極３２Ｂとに接続され、画素電極３３がドレイン配線（不図示）を介してＴＦＴ３２のドレイン電極３２Ｃに接続されている。
【００３０】
また、アレイ基板３０には、ゲート配線３４に並行するとともに画素電極３３に対して平面に視て重畳する容量配線３６が設けられている。容量配線３６は、Ｙ軸方向についてゲート配線３４と交互に配されている。ゲート配線３４がＹ軸方向に隣り合う画素電極３３の間に配されているのに対し、容量配線３６は、各画素電極３３におけるＹ軸方向のほぼ中央部を横切る位置に配されている。このアレイ基板３０の端部には、ゲート配線３４及び容量配線３６から引き回された端子部及びソース配線３５から引き回された端子部が設けられており、これらの各端子部には、図１に示すコントロール基板１９から各信号または基準電位が入力されるようになっており、それによりＴＦＴ３２の駆動が制御される。
【００３１】
一方、カラーフィルタ基板２０を構成するガラス基板２０Ａの内面側（液晶層１１Ａ側）には、図３に示すように、アレイ基板３０の各画素電極３３と平面に視て重畳する位置に多数個のカラーフィルタが並んで設けられている。カラーフィルタは、Ｒ（赤色），Ｇ（緑色），Ｂ（青色）を呈する各着色部２２がＸ軸方向に沿って交互に並ぶ配置とされる。カラーフィルタを構成する各着色部２２間には、混色を防ぐための略格子状の遮光部（ブラックマトリクス）２３が形成されている。遮光部２３は、アレイ基板３０側のゲート配線３４、ソース配線３５、及び容量配線３６に対して平面に視て重畳する配置とされる。また、各着色部２２及び遮光部２３の表面には、アレイ基板３０側の画素電極３３と対向する対向電極２４が設けられている。液晶パネル１１では、Ｒ（赤色），Ｇ（緑色），Ｂ（青色）の３色の着色部２２及びそれらと対向する３つの画素電極３３の組によって表示単位である１つの表示画素が構成されている。
【００３２】
ここで、アレイ基板３０に設けられたスイッチング素子であるＴＦＴ３２について詳しく説明する。ＴＦＴ３２は、図４及び図５に示すように、アレイ基板３０上に複数の膜を積層した構成とされている。具体的には、図５に示すように、下層側（ガラス基板３０Ａ側）から順に、ゲート配線３４に接続されたゲート電極３２Ａ、ゲート絶縁膜３７、半導体膜３８、ソース配線３５に接続されたソース電極３２Ｂ及び画素電極３３に接続されたドレイン電極３２Ｃ、層間絶縁膜３９、保護膜４０が積層されている。
【００３３】
ゲート電極３２Ａは、ゲート配線３４と同一材料からなるとともにゲート配線３４と同一工程にてアレイ基板３０上にパターニングされており、アルミニウム（Al）、クロム（Cr）、タンデル（Ta）、チタン（Ti）、銅（Cu）等の金属膜単体又はこれらの金属窒化物との積層膜で形成することができる。ゲート絶縁膜３７は、例えばシリコン酸化膜（SiOx）からなり、ゲート電極３２Ａと半導体膜３８との間を絶縁する。半導体膜３８は、例えばアモルファスシリコン（a−Si）又は透明なアモルファス酸化物半導体（InGaZnOx）からなり、一端側がドレイン電極３２Ｃに、他端側がソース電極３２Ｂにそれぞれ接続されることで、相互間の導通を図るチャネル領域として機能する。
【００３４】
ソース電極３２Ｂ及びドレイン電極３２Ｃは、ソース配線３５と同一材料を含むとともにソース配線３５と同一工程にてアレイ基板３０上にパターニングされている。ソース電極３２Ｂ及びドレイン電極３２Ｃは、下層側（半導体膜３８側）の第１導電膜３２Ｂ１，３２Ｃ１と上層側（層間絶縁膜３９側）の第２導電膜３２Ｂ２，３２Ｃ２とを積層した構成とされる。下層側の第１導電膜３２Ｂ１，３２Ｃ１は、リン（P）等のｎ型不純物を高濃度にドーピングしたアモルファスシリコン（n+Si）からなり、オーミックコンタクト層として機能する。上層側の第２導電膜３２Ｂ２，３２Ｃ２は、異なる金属膜を積層してなる２層構造とされており、そのうち下層側の金属膜がチタン（Ti）からなり、上層側の金属膜がアルミニウム（Al）からなる。
【００３５】
上記したソース電極３２Ｂ及びドレイン電極３２Ｃは、所定の間隔（開口領域）を挟んで対向状に配されているため、相互が直接的には電気的に接続されていない。しかし、ソース電極３２Ｂ及びドレイン電極３２Ｃは、その下層側の半導体膜３８を介して間接的に電気的に接続されており、この半導体膜３８における両電極３２Ｂ，３２Ｃ間のブリッジ部分が、ドレイン電流が流れるチャネル領域として機能する。
【００３６】
層間絶縁膜３９は、例えばシリコン酸化膜（SiOx）からなり、上記したゲート絶縁膜３７と同一材料とされる。保護膜４０は、有機材料であるアクリル樹脂（例えばポリメタクリル酸メチル樹脂（PMMA））やポリイミド樹脂からなる。従って、この保護膜４０は、他の無機材料からなるゲート絶縁膜３７、層間絶縁膜３９に比べて膜厚が厚いものとされるとともに、平坦化膜として機能する。なお、ＴＦＴ３２における各絶縁膜（ゲート絶縁膜３７、層間絶縁膜３９及び保護膜４０）は、それぞれアレイ基板３０においてＴＦＴ３２の形成領域以外の領域を含みつつ概ね全域に亘って均一な膜厚で形成されている。
【００３７】
上記したＴＦＴ３２、画素電極３３、及び各配線３４，３５，３６等の薄膜をアレイ基板３０上に形成するに際しては、既知のフォトリソグラフィ法が用いられ、そのために各種製造装置５０〜５６が用いられている。具体的には、製造装置５０〜５６としては、図６に示すように、洗浄装置５０、成膜装置５１、洗浄装置５０Ａ、レジスト塗布装置５２、露光装置５３、現像装置５４、洗浄装置５０Ｂ、エッチング装置５５、及びレジスト剥離装置５６が用いられる。そして、アレイ基板３０を構成するガラス基板３０Ａには、洗浄装置５０による洗浄工程、成膜装置５１による成膜工程、洗浄装置５０Ａによる洗浄工程、レジスト塗布装置５２によるレジスト塗布工程、露光装置５３による露光工程、現像装置５４による現像工程、洗浄装置５０Ｂによる洗浄工程、エッチング装置５５によるエッチング工程、レジスト剥離装置５６によるレジスト剥離工程を経ることで、目的の薄膜が所定のパターンで形成され、この手順を各薄膜について繰り返し行うことで、各薄膜が順に積層されて形成される。
【００３８】
具体的には、洗浄工程では、洗浄装置５０により、各薄膜を形成する前のガラス基板３０Ａ上に洗浄液を供給することでガラス基板３０Ａを洗浄し、ガラス基板３０Ａ上の塵や埃等を除去する。成膜工程では、成膜装置５１により、形成する薄膜の材料をガラス基板３０Ａの板面に対して均一な膜厚となるように成膜する。この成膜装置５１としては、具体的には、ＣＶＤ装置、スパッタ装置、真空蒸着装置等が用いられる。その後、成膜に伴う残余物質やゴミを除去するために洗浄装置５０Ａにより基板を洗浄する。次に、レジスト塗布工程では、レジスト塗布装置５２により、成膜装置５１によって成膜された材料膜に対してフォトレジストを均一な膜厚となるように塗布して積層形成する。このとき、フォトレジストとしては、ポジ型、またはネガ型のものが用いられる。露光工程では、露光装置５３により、レジスト塗布装置５２により塗布されたフォトレジストに対して、所定のパターンを有するフォトマスクを介してＵＶ光等を照射することで、フォトマスクのパターンに応じた範囲を露光する。
【００３９】
現像工程では、現像装置５４により、ガラス基板３０Ａの板面上に現像液を供給することで、フォトレジストを現像し、露光領域又は非露光領域のいずれかを除去する。現像液等の残渣物を洗浄すべく洗浄装置５０Ｂにより基板を洗浄した後、エッチング工程では、エッチング装置５５により、材料膜のうち残されたフォトレジストによって覆われていない領域をエッチングして除去することで、材料膜をパターニングする。エッチング装置５５としては、具体的には、エッチングガスやイオン、ラジカルによって材料膜をエッチングするドライエッチング装置やエッチング液によって材料膜をエッチングするウェットエッチング装置等が用いられる。このうちウェットエッチング装置では、ガラス基板３０Ａの板面上にエッチング液を供給することで、材料膜をエッチングする。レジスト剥離工程では、レジスト剥離装置５６により、ガラス基板３０Ａの板面上にレジスト剥離液を供給することで、残されたフォトレジストを除去する。
【００４０】
上記した各製造装置５０〜５６のうち、洗浄装置は、上記した成膜前後の洗浄工程、及び現像後の洗浄工程以外にも、他の製造装置５１〜５６による工程の後で使用される場合がある。具体的には、例えばエッチング装置５５としてドライエッチング装置を用いた場合、そのエッチング工程の後にドライエッチングによる残渣物を除去するために洗浄工程を行う場合があり、その洗浄工程においても、上記した洗浄装置が用いられる。
【００４１】
さて、上記した製造装置５０〜５６のうち、ガラス基板３０Ａ上に液体を供給して処理を行うもの、具体的には洗浄装置５０、５０Ａ、５０Ｂ、レジスト塗布装置５２、現像装置５４、ウェットエッチングを行うエッチング装置５５、及びレジスト剥離装置５６には、ガラス基板３０Ａを搬送するための共通の搬送装置６０が採用されている。以下では、洗浄装置５０内における搬送装置６０の構成について詳しく説明する。なお、図７から図１２では、Ｘ軸方向がガラス基板３０Ａの搬送方向とされ、図７及び図８では、図の左側が搬送方向の上流側、図の右側が搬送方向の下流側とされる。また、図７、図８、及び図１０から図１２では、図の上側を搬送装置６０の上側とし、図の下側を搬送装置６０の下側とする。また、洗浄装置５０、レジスト塗布装置５２、現像装置５４、ウェットエッチングを行うエッチング装置５５、及びレジスト剥離装置５６は、それぞれウェットプロセス装置の一例である。
【００４２】
洗浄装置５０は、図７に示すように、外部雰囲気から隔てられた洗浄槽（ウェットプロセス槽の一例）５０Ａと、この洗浄槽５０Ａ内に配設された搬送装置６０と、を備える構成とされる。また、洗浄槽５０Ａの上側には、搬送装置６０によって搬送されるガラス基板３０Ａ上に洗浄液を噴射する図示しないノズルが複数設けられている。洗浄装置５０では、ノズルから噴射された洗浄液は回収され、図示しない循環装置により循環されて再び洗浄液として使用されるようになっている。洗浄装置５０において、ガラス基板３０Ａは、各種薄膜の形成面又は形成予定面が上側に向けられて搬送方向の上流側に投入され、その長辺方向がＸ軸方向に沿うとともにその短辺方向がＹ軸方向に沿った姿勢で、搬送装置６０によって搬送方向の上流側から下流側へと搬送される（図７及び図８の矢印参照）。
【００４３】
搬送装置６０は、図７及び図８に示すように、軸状に延在し、ガラス基板３０Ａを搬送方向に沿って搬送する複数の搬送ローラ６２と、各搬送ローラ６２の両端部をその軸周りに回転可能に支持する軸受部６４と、所定の高さ位置に固定されて軸受部６４を保持する一対のフレーム（保持部材の一例）６６，６７とを備えている。このうち一対のフレーム６６，６７は、ガラス基板３０Ａの搬送方向に沿って延在する形状とされ、各搬送ローラ６２の取付位置に対応する位置に凹状に凹んでなる複数の凹状部６６Ａ１を有している。各凹状部６６Ａ１は、上方に開口する形で、ガラス基板３０Ａの搬送方向に沿って間欠的に設けられている。
【００４４】
各搬送ローラ６２は、一対のフレーム６６，６７の間に架け渡され、その延在方向がＹ軸方向に沿った姿勢で、搬送方向に沿って所定の間隔で並列配置されている。各搬送ローラ６２は、図７及び図８に示すように、金属製のシャフト部６２Ａと、シャフト部６２Ａに取り付けられた合成樹脂製の複数の基板支持部６２Ｂとを有している。シャフト部６２Ａの両端部における先端は、図１１に示すように、それぞれシャフト部６２Ａの他の部位より縮径された縮径部６２Ａ１とされている。各基板支持部６２Ｂは、シャフト部６２Ａよりも径大な円板状とされ、搬送ローラ６２の延在方向において所定の間隔を空けてシャフト部６２Ａに取り付けられている。ガラス基板３０Ａは、各種薄膜の形成面又は形成予定面とは反対側の板面が搬送ローラ６２の基板支持部６２Ｂによって継続的に支持されながら、搬送方向に沿って搬送される。なお搬送装置６０は、図８に示すように、各搬送ローラ６２をその軸周りに回転させるための回転機構６８を備えている。回転機構６８は、各搬送ローラ６２の延在方向の一端側（図８における図面上側）に設けられ、複数のギアを備えて構成される。
【００４５】
軸受部６４は、図１０に示すように、いわゆるボールベアリングであり、搬送ローラ６２のシャフト部６２Ａにおける縮径部６２Ａ１の軸周りの外側に配されている。軸受部６４は、環状とされた金属製の環状部６４Ａと、縮径部６２Ａ１と環状部６４Ａとの間に介在する金属製の複数のボール６４Ｂと、を有している。軸受部６４は、環状部６４Ａの下側部分が各フレーム６６，６７の凹状部６６Ａ１に接着固定されることで、フレーム６６に対して保持されている。環状部６４Ａのうちシャフト部６２Ａの縮径部６２Ａ１と対向する部位には、図１１に示すように、内側に窪んでなるとともに各ボール６４Ｂの一部が入り込んだ軸受側凹部（摺接部位の一例）６４Ａ１が設けられている。この軸受側凹部６４Ａ１は、環状部６４Ａに沿って溝状に設けられている。一方、シャフト部６２Ａの縮径部６２Ａ１において軸受側凹部６４Ａ１と対向する部位には、同様に内側に窪んでなるとともに各ボール６４Ｂの一部が入り込んだ溝状のシャフト側凹部６２Ａ２が設けられている。このシャフト側凹部６２Ａ２は、縮径部６２Ａ１の外周に沿って溝状に設けられている。
【００４６】
各ボール６４Ｂが入り込んだ軸受側凹部６４Ａ１及びシャフト側凹部６２Ａ２が上記のような構成とされていることで、各ボール６４Ｂは、環状部６４Ａによって摺動可能に支持された状態となっている。換言すれば、軸受部６４は、各軸受側凹部６４Ａ１において、ボール６４Ｂを介して搬送ローラのシャフト部６２Ａと摺接している。上述したように軸受部６４はフレーム６６によって保持されているため、軸受部６４の環状部６４Ａと搬送ローラ６２のシャフト部６２Ａ（縮径部６２Ａ１）との間で各ボール６４Ｂが摺動することで、環状部６４Ａは回転せず、上記回転機構６８によって搬送ローラ６２のみがその軸周りに回転するようになっている。
【００４７】
各フレーム６６，６７の構成についてさらに詳しく説明する。各フレーム６６は、図１１に示すように、フレーム６６の主要部分を構成する本体部６６Ａと、外板６６Ｂと、複数の内板６６Ｃと、を有している。このうち本体部６６Ａには、上述した凹状部６６Ａ１が設けられている。なお、一対のフレーム６６，６７は、その一部が互いに異なる構成とされる。まず、各搬送ローラ６２の延在方向の他端側（図８における図面下側、回転機構６８が設けられた側とは反対側）に設けられた図７に示すフレーム６６（以下、「一方のフレーム６６」と称する）の構成について説明する。
【００４８】
一方のフレーム６６を構成する本体部６６Ａは、搬送方向（Ｘ軸方向）に沿って壁状に延在しており、凹状部６６Ａ１よりもやや下方に位置する部位のＹ軸方向における厚みが、軸受部６４のＹ軸方向における幅寸法よりも大きいものとなっている。具体的には、本体部６６Ａは、凹状部６６Ａ１よりもやや下方に位置する部位が、搬送ローラ６２におけるシャフト部６２Ａの縮径部６２Ａ１の先端よりも外側（図１１で示す左側、搬送ローラ６２の延在方向における中心側とは反対側）に迫り出している（以下、この迫り出した部位を「迫り出し部６６Ａ２」と称する）。外板６６Ｂは、透明な合成樹脂製の板状部材とされ、上下方向（Ｚ軸方向）においてその上端が搬送ローラ６２の回転軸とほぼ同じ高さに位置した状態で、その下側部分が上記迫り出し部６６Ａ２の外面（図１１で示す左側の面）に貼り付け固定されている。複数の内板６６Ｃは、板状部材とされ、上下方向においてその上端が搬送ローラ６２におけるシャフト部６２Ａの縮径部６２Ａ１と近接した状態で、その下側部分が本体部６６Ａの内面のうち各凹状部６６Ａ１と対応する位置にそれぞれ貼り付け固定されている。なお、図１０及び図１２に示すように、本体部６６Ａにおける各凹状部６６Ａ１の上方には、軸受部６４が凹状部６６Ａ１から上方に抜けることを防止する抜け防止板６９（図１０及び図１２を除く各図面では図示を省略している）が取り付けられている。
【００４９】
一方のフレーム６６が上記のような構成とされることで、当該一方のフレーム６６において本体部６６Ａと外板６６Ｂと複数の内板６６Ｃとによって囲まれる部分には、図９及び図１１に示すように、液体を収容可能な液体収容部７０が形成されている。ここで、上述したように、複数の内板６６Ｃは、その上端が搬送ローラ６２におけるシャフト部６２Ａの縮径部６２Ａ１と近接した状態で配されているので、図１１に示すように、液体収容部７０内には、軸受部６４の軸受側凹部６４Ａ１の少なくとも一部が露出するものとされている。なお、一方のフレーム６６において、本体部６６Ａにおける上記迫り出し部６６Ａ２は、搬送方向の上流側端部から下流側端部に亘って設けられている。このため、一方のフレーム６６における液体収容部７０は、図７及び図８に示すように、搬送方向の上流側端部から下流側端部に亘って溝状に延在している。
【００５０】
本体部６６Ａにおける搬送方向の上流側端部には、図７に示すように、液体収容部７０内に液体を供給するための円形の供給口（液体供給部の一例）６６Ａ３が液体収容部７０内に露出する形で設けられている。一方、本体部６６Ａにおける搬送方向の下流側端部には、図７及び図９に示すように、液体収容部７０内の液体を外部に排出するための円形の排水口（液体排出部の一例）６６Ａ４が液体収容部７０内に露出する形で設けられている。また、図７に示すように、上記供給口６６Ａ３には、洗浄装置５０の外部から当該供給口６６Ａ３へ液体を供給するための供給管７２の一端が取り付けられており、上記排出口６６Ａ４には、当該排出口６６Ａ４から洗浄装置５０の外部へ液体を排出するための排出管７４の一端が取り付けられている。このような構成とされることで、一方のフレーム６６では、洗浄装置５０の外部から供給口６６Ａ３を介して液体収容部７０内に供給された液体が、液体収容部７０内を搬送方向の上流側から下流側に向かって流れ、排出口６６Ａ４から洗浄装置５０の外部へと排出されるようになっている。なお、上述したように外板６６Ｂは透明とされているので、液体収容部７０内に液体が収容された状態では、液体収容部７０内の液体を搬送装置６０の側方から視認することができる。
【００５１】
本実施形態では、液体収容部７０内に供給される液体の一例として純水Ｗ１を例示する（図７、図８、図１１及び図１２参照）。一方のフレーム６６では、液体収容部７０内に純水Ｗ１が流し込まれると、図１１及び図１２に示すように、液体収容部７０内に露出する軸受部６４の軸受側凹部６４Ａ１の一部が純水Ｗ１に浸った状態となる。ここで、本実施形態の搬送装置６０では、搬送ローラ６２の回転時にスリップ等によって搬送ローラ６２と軸受部６４との間が摺動することで、軸受部６４の軸受側凹部６４Ａ１が摩耗し、当該軸受側凹部６４Ａ１から錆粉等の塵や埃が発生することがある。この点、搬送装置６０における一方のフレーム６６では、一方のフレーム６６側に配された軸受部６４の軸受側凹部６４Ａ１に錆粉等の塵や埃が発生した発生した場合であっても、液体収容部７０内に純水Ｗ１が流し込まれ、錆粉等の塵や埃が発生した軸受側凹部６４Ａ１が上述したように純水Ｗ１に浸った状態となることで、当該塵や埃が軸受側凹部６４Ａ１から流し落とされるようになっている。また、軸受側凹部６４Ａ１のうち液体収容部７０内に露出する部位以外の部位に上記塵や埃が発生した場合であっても、搬送ローラ６２の回転に伴って当該塵や埃が軸受側凹部６４Ａに沿って液体収容部７０内に露出する軸受側凹部６４Ａ１の部位まで移動することで、当該塵や埃が液体収容部７０内の純水Ｗ１によって流し落とされるようになっている。
【００５２】
次に、各搬送ローラ６２の延在方向の一端側（図８における図面上側、回転機構６８が設けられた側）に設けられたフレーム６７（以下、「他方のフレーム６７」と称する）の構成について簡単に説明する。他方のフレーム６７では、図８に示すように、本体部と外板と複数の内板とによって囲まれる部分に形成される液体収容部７１が、一方のフレーム６６のように搬送方向の上流側端部から下流側端部に亘って設けられておらず、搬送方向に沿って間欠的に複数形成されている。このため、他方のフレーム６７では、液体収容部７１内に流し込まれた純水Ｗ１が、搬送方向の上流側から下流側に向かって流れるようになっておらず、液体収容部７１内に貯留されるようになっている。このような構成であっても、液体収容部７１内に純水Ｗ１が流し込まれると、液体収容部７１内に露出する軸受部６４の軸受側凹部６４Ａ１が純水Ｗ１に浸った状態となる。このため、他方のフレーム６７側に配された軸受部の軸受側凹部に錆粉等の塵や埃が発生した発生した場合、液体収容部７０内に純水Ｗ１が流し込まれ、錆粉等の塵や埃が発生した軸受側凹部が搬送ローラ６２の回転に伴って上述したように純水Ｗ１に浸った状態となることで、当該塵や埃が軸受側凹部から流し落とされるようになっている。
【００５３】
ところで、本実施形態の洗浄装置５０では、軸受部６４の軸受側凹部６４Ａ１から発生した錆粉等の塵や埃がノズルから噴射される洗浄液に混入することがある。そして、上述したように洗浄装置５０ではノズルから噴射された洗浄液が循環されて再び洗浄液として使用されるようになっているため、アレイ基板３０の製造過程において、洗浄装置５０が他の製造装置５１〜５６による工程の後で使用されると、上記塵や埃が混入した洗浄液がガラス基板３０Ａ上に噴射されることがある。このため、洗浄装置５０が他の製造装置５１〜５６による工程の後で使用される場合、軸受側凹部６４Ａ１から発生した錆粉等の塵や埃が洗浄液に紛れて例えばガラス基板３０Ａ上に成膜された上記ゲート絶縁膜３７や上記層間絶縁膜３９に付着し、ゲート絶縁膜異物又は層間絶縁膜異物として検出されることがある。
【００５４】
また、洗浄装置５０が他の製造装置５１〜５６による工程の後で使用される場合、軸受側凹部６４Ａ１から発生した塵や埃が洗浄液に紛れて例えばガラス基板３０Ａ上に成膜された上記ゲート絶縁膜３７や上記層間絶縁膜３９に付着し、ゲート絶縁膜３７や層間絶縁膜３９の一部と共にガラス基板３０Ａから剥がれることで、ゲート絶縁膜欠損又は層間絶縁膜欠損として検出されることがある。このような異物や欠損が検出されたアレイ基板３０は、不良品とされる。この点、上記の洗浄装置５０が備える搬送装置６０では、上述したように、軸受側凹部６４Ａ１から発生した塵や埃が液体収容部７０内に流し込まれた純水Ｗ１によって流し落とされるため、アレイ基板３０の製造過程において、軸受側凹部６４Ａ１から発生した塵や埃に起因してアレイ基板３０に不良品が発生することが防止ないし抑制される。
【００５５】
以上説明したように本実施形態の洗浄装置５０が備える搬送装置６０では、液体収容部７０内に純水Ｗ１を流し込むことで、軸受部６４の軸受側凹部６４Ａ１のうち液体収容部７０内に露出する部位を純水Ｗ１に浸らせることができる。その結果、液体収容部７０内の純水Ｗ１が軸受部６４の潤滑剤として機能し、軸受部６４の軸受側凹部６４Ａ１に塵や埃が発生することを防止ないし抑制することができる。また、軸受部６４の軸受側凹部６４Ａ１に塵や埃が発生したとしても、液体収容部７０内の純水Ｗ１によって上記塵や埃を当該軸受側凹部６４Ａ１から流し落とすことができ、上記塵や埃がガラス基板３０Ａ上に付着することを防止ないし抑制することができる。また、フレーム６６，６７に上記のような構成とされた液体収容部７０を設けるのみで上記塵や埃のガラス基板３０Ａへの付着を防止ないし抑制できるので、装置が大型化することを回避することができる。このように、本実施形態の搬送装置６０では、装置の大型化を回避しながら、軸受部６４の軸受側凹部６４Ａ１から発生した塵や埃が搬送対象であるガラス基板３０Ａに付着することを防止ないし抑制することができる。
【００５６】
また本実施形態では、一方のフレーム６６側に設けられた液体収容部７０が溝状に延在するものとされている。さらに、一方のフレーム６６側において、搬送方向（液体収容部７０の延在方向）の上流側端部に液体収容部７０内に純水Ｗ１を供給する供給口６６Ａ３が設けられ、搬送方向の下流側端部に液体収容部７０内を流れる純水Ｗ１を排出する排出口６６Ａ４が設けられている。このような構成とされていることで、一方のフレーム６６側では、供給口６６Ａ３から液体収容部７０内に新たな純水Ｗ１が順次供給されるとともに、軸受側凹部６４Ａ１に発生した塵や埃を流し落とした純水Ｗ１が排出口６６Ａ４において液体収容部７０から順次排出される。このため、搬送方向の上流側から下流側に向かって溝状の液体収容部７０内を純水Ｗ１が流れる力によって、軸受部６４の軸受側凹部６４Ａ１に発生した塵や埃等を効果的に流し落とすことができる。
【００５７】
また本実施形態では、上述したように軸受部６４び軸受側凹部６４Ａ１から発生した塵や埃が洗浄液に紛れて搬送対象であるガラス基板３０Ａに付着することを防止することができる。その結果、アレイ基板３０の製造過程において、上記塵や埃に起因してアレイ基板３０に不良品が発生することを防止ないし抑制することができる。
【００５８】
また本実施形態では、上述したように、液体収容部７０内に純水Ｗ１を流し込むことで、液体収容部７０内の純水Ｗ１がボールベアリングとされた軸受部６４の潤滑剤としても機能する。このため、軸受部６４によって回転可能に支持される搬送ローラ６２の回転性能を良好な状態に保つことができる。
【００５９】
＜実施形態２＞
図１３及び図１４を参照して実施形態２を説明する。実施形態２は、搬送装置における搬送ローラ１６２の構成、軸受部１６４の構成、軸受部１６４による搬送ローラ１６２の支持態様、及びフレーム１６６における軸受部１６４の保持態様が実施形態１のものとそれぞれ異なっている。その他の構成については実施形態１と同様であるため、構造、作用、及び効果の説明は省略する。なお、図１３、図１４において、それぞれ図１０、図１１の参照符号に数字１００を加えた部位は、実施形態１で説明した部位と同一である。
【００６０】
本実施形態の洗浄装置が備える搬送装置では、実施形態１のものと異なり、ボールベアリングとされた軸受部１６４が、搬送ローラ１６２のシャフト部１６２Ａの軸周りの内側に配されている。即ち、図１３に示すように、搬送ローラ１６２のシャフト部１６２Ａが筒状とされ、内部が中空とされるとともに、その全体が均一な径となっている。一方、軸受部１６４は、図１３及び図１４に示すように、円柱状とされるとともに搬送ローラ１６２のシャフト部１６２Ａの内径よりも径小とされた金属製の円柱部１６４Ａと、シャフト部１６２Ａと円柱部１６４Ａとの間に介在する金属製の複数のボール１６４Ｂと、を有している。軸受部１６４は、円柱部１６４Ａの外面がフレーム１６６の本体部１６６Ａにおける内面に接着固定されることで、フレーム１６６に対して保持されている。円柱部１６４Ａのうちシャフト部１６２Ａと対向する部位には、図１４に示すように、内側に窪んでなるとともに各ボール１６４Ｂの一部が入り込んだ溝状の軸受側凹部（摺接部位の一例）１６４Ａ１が設けられている。一方、シャフト部１６２Ａにおいて軸受側凹部１６４Ａ１と対向する部位には、同様に内側に窪んでなるとともに各ボール１６４Ｂの一部が入り込んだ溝状のシャフト側凹部１６２Ａ２が設けられている。
【００６１】
各ボール１６４Ｂが入り込んだ軸受側凹部１６４Ａ１及びシャフト側凹部１６２Ａ２が上記のような構成とされていることで、各ボール１６４Ｂは、円柱部１６４Ａによって摺動可能に支持された状態となっている。換言すれば、軸受部１６４は、各軸受側凹部１６４Ａ１において、ボール１６４Ｂを介して搬送ローラのシャフト部１６２Ａと摺接している。上述したように本実施形態の軸受部１６４はその円柱部１６４Ａがフレーム１６６によって保持されているため、軸受部１６４の円柱部１６４Ａと搬送ローラ１６２のシャフト部１６２Ａとの間で各ボール１６４Ｂが摺動することで、円柱部１６４Ａは回転せず、図示しない回転機構によって搬送ローラ１６２のみがその軸周りに回転するようになっている。
【００６２】
フレーム１６６を構成する本体部１６６Ａは、実施形態１と同様に搬送方向（Ｘ軸方向）に沿って壁状に延在している。本体部１６６Ａは、その内面（軸受部１６４の円柱部１６４Ａが接着された面）の上端が当該円柱部１６４Ａの上端とほぼ一致しており、その外面側が当該円柱部１６４Ａの上端よりもやや下方に位置するように段差をなして外面側に迫り出した迫り出し部１６６Ａ２となっている。外板１６６Ｂは、透明な合成樹脂製の板状部材とされ、上下方向（Ｚ軸方向）においてその上端が搬送ローラ１６２におけるシャフト部１６２Ａよりもやや上方に位置する形で、本体部１６６Ａの外面に接着固定されている。複数の内板１６６Ｃは、板状部材とされ、上下方向においてその上端が軸受部１６４の円柱部１６４Ａの上端よりもやや上方に位置した状態で、各軸受部１６４の円柱部１６４Ａにおける内面にそれぞれ貼り付け固定されている。
【００６３】
本実施形態では、搬送ローラ１６２、軸受部１６４、及びフレーム１６６がそれぞれ上記のような構成とされることで、フレーム１６６において本体部１６６Ａと外板１６６Ｂと複数の内板１６６Ｃとによって囲まれる部分に、図１３及び図１４に示すように、液体を収容可能な液体収容部１７０が形成されている。ここで、上述したように、複数の内板１６６Ｃは、その上端が軸受部１６４の円柱部１６４Ａの上端よりもやや上方に位置した状態で配されているので、図１４に示すように、液体収容部１７０内には、軸受部１６４の軸受側凹部１６４Ａ１の少なくとも一部が露出するものとされている。なお、本実施形態における液体収容部１７０は、実施形態１と同様に、搬送方向の上流側端部から下流側端部に亘って溝状に延在しており、本体部１６６Ａにおける搬送方向の上流側端部に供給口、本体部１６６Ａにおける搬送方向の下流側端部に排出口がそれぞれ設けられている。また、フレーム１６６の本体部１６６Ａには、軸受部１６４の下方に位置する受け板１６８が取り付けられており、これにより、ボール１６４Ｂのうち図１４において下側に位置するボール１６４Ｂから漏れる液体（洗浄液）を受けることが可能とされ、受けた液体は排出樋１６９から外部へ排出されるものとなっている。
【００６４】
以上説明したように本実施形態においても、液体収容部１７０内に軸受側凹部１６４Ａ１の少なくとも一部が露出することで、実施形態１と同様に、液体収容部１７０内に純水Ｗ１を流し込むことで、軸受部１６４の軸受側凹部１６４Ａ１のうち液体収容部１７０内に露出する部位を純水Ｗ１に浸らせることができる。その結果、軸受部１６４の軸受側凹部１６４Ａ１に塵や埃が発生したとしても、液体収容部１７０内の純水Ｗ１によって上記塵や埃を当該軸受側凹部１６４Ａ１から流し落とすことができ、上記塵や埃が搬送対象であるガラス基板上に付着することを防止ないし抑制することができる。また、搬送方向の上流側から下流側に向かって溝状とされた液体収容部１７０内を新たな純水Ｗ１が順次流れることとなるため、液体収容部１７０内を純水Ｗ１が流れる力によって、軸受部１６４の軸受側凹部１６４Ａ１に発生した塵や埃等を効果的に流し落とすことができる。
【００６５】
＜実施形態３＞
図１５及び図１６を参照して実施形態３を説明する。実施形態３は、搬送装置２６０におけるフレーム２６６の構成が実施形態１のものとそれぞれ異なっている。その他の構成については実施形態１と同様であるため、構造、作用、及び効果の説明は省略する。なお、図１５、図１６において、それぞれ図７、図９の参照符号に数字２００を加えた部位は、実施形態１で説明した部位と同一である。
【００６６】
本実施形態の洗浄装置２５０が備える搬送装置２６０では、図１５及び図１６に示すように、フレーム２６６における本体部２６６Ａの迫り出し部（凹状部２６６Ａ１よりもやや下方に位置する部位において外側に迫り出した部位）において、隣り合う凹状部２６６Ａ１の間に液体収容部２７０を隔てる隔壁２６６Ａ３がそれぞれ設けられている。その結果、フレーム２６６では、１つの軸受部２６４に１つの液体収容部２７０が対応する形で、搬送方向に沿って隔壁２６６Ａ３によって隔てられた複数の液体収容部２７０が形成されている。従って、各液体収容部２７０内には、軸受部２６４の軸受側凹部２６４Ａ１の少なくとも一部が露出した状態となっている。そして、各液体収容部２７０内に流し込まれた純水Ｗ１は、実施形態１における他方のフレーム６７側に設けられた液体収容部７１と同様に、液体収容部２７０内に貯留されるようになっている。
【００６７】
本実施形態では、搬送装置２６０において、上記のように１つの軸受部２６４に１つの液体収容部２７０が対応する形で複数の液体収容部２７０が形成されている場合であっても、各液体収容部２７０内に純水Ｗ１が流し込まれると、各液体収容部２７０内に露出する軸受部２６４の軸受側凹部２６４Ａ１の各々が純水Ｗ１に浸った状態となる。このため、各軸受部２６４の軸受側凹部２６４Ａ１に塵や埃が発生したとしても、液体収容部２７０内の純水Ｗ１によって上記塵や埃を当該軸受側凹部２６４Ａ１から流し落とすことができ、上記塵や埃が搬送対象であるガラス基板２３０Ａ上に付着することを防止ないし抑制することができる。
【００６８】
上記の各実施形態の変形例を以下に列挙する。
（１）上記の各実施形態では、洗浄装置が備える搬送装置の構成について例示したが、洗浄装置以外でガラス基板に対してウェットプロセスを施す装置、即ちレジスト塗布装置、現像装置、ウェットエッチングを行うエッチング装置、及びレジスト剥離装置の各装置に上述したような液体収容部が設けられた搬送装置を適用してもよい。この場合、各装置において用いる処理液に軸受部の軸軸受側凹部から発生した塵や埃が紛れ込んだとしても、当該塵や埃を液体収容部内に流し込まれた純水によって流し落とすことができ、当該塵や埃が搬送装置によって搬送されるガラス基板上に付着することを防止ないし抑制することができる。
【００６９】
（２）上記の各実施形態では、アレイ基板の製造過程において用いられる洗浄装置を例示したが、カラーフィルタ基板の製造過程に用いられる洗浄装置に本発明を適用してもよい。この場合、軸受側凹部から発生した塵や埃に起因してカラーフィルタ基板に不良品が発生することを防止ないし抑制することができる。
【００７０】
（３）上記の各実施形態では、液体収容部に流し込まれる液体の一例として純水を例示したが、液体収容部に流し込まれる液体は、軸受部の軸受側凹部から発生した塵や埃を流し落とすことができる程度の粘度の液体であればよく、純水に限定されない。
【００７１】
（４）上記の各実施形態では、搬送装置に搬送される搬送対象部材の一例としてガラス基板を例示したが、搬送装置に搬送される搬送対象部材はガラス基板に限定されない。搬送対象部材がガラス基板以外で合っても、本発明を適用することで、軸受部の軸受側凹部から発生した塵や埃が当該搬送対象部材に付着することを防止ないし抑制することができる。
【００７２】
（５）上記の各実施形態では、軸受部がボールベアリングとされた構成を例示したが、軸受部がボールベアリング以外の構成とされていてもよい。この場合であっても、本発明を適用することで、軸受部の摺接部位から発生した塵や埃が搬送対象部材に付着することを防止ないし抑制することができる。
【００７３】
（６）上記の各実施形態以外にも、保持部材における液体収容部の形状及び構成については、適宜に変更可能である。
【００７４】
以上、本発明の各実施形態について詳細に説明したが、これらは例示に過ぎず、特許請求の範囲を限定するものではない。特許請求の範囲に記載の技術には、以上に例示した具体例を様々に変形、変更したものが含まれる。
【実施例】
【００７５】
次に、実施例によって本発明を具体的に説明する。実施例では、アレイ基板の製造過程において、洗浄装置が備える搬送装置に対する本発明の適用前後で、ガラス基板上に成膜されたゲート絶縁膜のゲート絶縁膜異物、ゲート絶縁膜欠損、及びガラス基板上に成膜された層間絶縁膜の層間絶縁膜異物、層間絶縁膜欠損をそれぞれ検出した。なお、図１７及び図１８における数値は、個別不良率（検査を行った総個体数に対する不良品が発生した個体の割合）を百分率（％）で示したものである。【００７６】
図１７に示すように、検出されたゲート絶縁膜異物及びゲート絶縁膜欠損については、本発明の適用前後で大きな減少が見られた。従って、本発明の適用により、軸受部の軸受側凹部から発生した塵や埃に起因してアレイ基板上のゲート絶縁膜にゲート絶縁膜異物やゲート絶縁膜欠損が発生することを防止ないし抑制できたことが確認できた。【００７７】
また、図１８に示すように、検出された層間絶縁膜異物及び層間絶縁膜欠損については、層間絶縁膜欠損については本発明の適用前後で大きな変化は見られないものの、層間絶縁膜異物については本発明の適用前後で大きな減少が見られた。従って、本発明の適用により、軸受部の軸受側凹部から発生した塵や埃に起因してアレイ基板上の層間絶縁膜に層間絶縁膜異物が発生することを防止ないし抑制できたことが確認できた。【００７８】
以上の結果より、アレイ基板の製造過程に用いる洗浄装置に本発明を適用することで、軸受部の軸受側凹部から発生した塵や埃に起因してアレイ基板に不良品が発生することを防止ないし抑制できることを確認することができた。
【符号の説明】
【００７９】
１０：液晶表示装置、１１：液晶パネル、２０：カラーフィルタ基板、３０：アレイ基板、３０Ａ：ガラス基板、３７：ゲート絶縁膜、３９：層間絶縁膜、５０，２５０：洗浄装置、５０Ａ，２５０Ａ：洗浄槽、６０：搬送装置、６２，１６２，２６２：搬送ローラ、６２Ａ，１６２Ａ，２６２Ａ：シャフト部、６２Ａ１，２６２Ａ１：縮径部、６２Ｂ，２６２Ｂ：基板支持部、６４，１６４，２６２：軸受部、６４Ａ，１６４Ａ：環状部、６４Ａ１，１６４Ａ１，２６４Ａ１：軸受側凹部、６４Ｂ，１６４Ｂ，２６４Ｂ：ボール、６６，６７，１６６，２６６：フレーム、６６Ａ，１６６Ａ，２６６Ａ：本体部、６６Ａ３：供給口、６６Ａ４：排出口、６６Ｂ，１６６Ｂ，２６６Ｂ：外板、６６Ｃ，１６６Ｃ：内板、７０，７１，１７０．２７０：液体収容部、７２，２７２：供給管、７４，２７４：排出管、２６４Ａ：円柱部、Ｗ１：純水
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【手続補正書】
【提出日】平成28年11月1日(2016.11.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
軸状に延在し、基板を搬送方向に沿って搬送する搬送ローラと、
前記搬送ローラをその軸周りに回転可能に支持する軸受部と、
前記軸受部を保持する保持部材であって、液体収容部を有し、該液体収容部内に前記軸受部の摺接部位の少なくとも一部が露出するものとされた保持部材と、を備え、
前記搬送ローラはその延在方向が前記搬送方向と直交する形で該搬送方向に複数が並列配置され、
前記軸受部は前記搬送ローラの両端部にそれぞれ配されている、搬送装置と、
前記搬送方向に沿って搬送される前記基板にウェットプロセスを施すウェットプロセス槽と、を備えるウェットプロセス装置。
【請求項２】
前記軸受部は、前記搬送ローラの軸周りに配された環状の環状部と、前記搬送ローラと前記環状部との間に介在し、前記環状部によって摺動可能に支持される複数のボールと、を有するボールベアリングであり、
前記摺接部位は、前記環状部のうち前記複数のボールを支持する部位である、請求項１に記載のウェットプロセス装置。
【請求項３】
前記液体収容部は溝状に延在するものとされている、請求項１または請求項２に記載のウェットプロセス装置。
【請求項４】
前記液体収容部の延在方向の一端部に前記液体収容部内に液体を供給する液体供給部が設けられ、前記液体収容部の延在方向の他端部に前記液体収容部内を流れる液体を排出する液体排出部が設けられている、請求項３に記載のウェットプロセス装置。
【請求項５】
前記液体収容部は、前記一端部が前記搬送方向の上流側に配されるとともに前記他端部が前記搬送方向の下流側に配された形で、前記搬送方向に沿って延在するものとされている、請求項４に記載のウェットプロセス装置。
【国際調査報告】
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