(57)【要約】  本発明により、偏光板の製造方法であって、（１）仮支持体と光学異方性層１および光学異方性層２を含む転写体とを含む転写材料を用意すること；（２）上記仮支持体を剥離し、上記仮支持体と上記転写体とを分離すること；および（３）上記転写体を、偏光子を含むフィルムに接着させることを含み、光学異方性層１および光学異方性層２はいずれも上記仮支持体上に塗布された液晶化合物を含む重合性組成物から形成された層であり、光学異方性層１および光学異方性層２は、いずれも面内のレターデーションを有し、光学異方性層１および光学異方性層２の遅相軸方向は互いに３°〜９０°異なる製造方法が提供される。本発明の製造方法により、多様な光学補償能を有する光学異方性層を最小限の構成で多様な偏光子と接着させることが可能である。
2015046399.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
偏光板の製造方法であって、以下（１）〜（３）：
（１）仮支持体と光学異方性層１および光学異方性層２を含む転写体とを含む転写材料を用意すること；
（２）前記仮支持体を剥離し、前記仮支持体と前記転写体とを分離すること；および、
（３）前記転写体を、偏光子を含むフィルムに接着させることを含み、
光学異方性層１および光学異方性層２はいずれも前記仮支持体上に塗布された液晶化合物を含む重合性組成物から形成された層であり、
光学異方性層１および光学異方性層２は、いずれも面内のレターデーションを有し、光学異方性層１および光学異方性層２の遅相軸方向は互いに３°〜９０°異なる製造方法。
【請求項２】
光学異方性層２が光学異方性層１に直接塗布された液晶化合物を含む重合性組成物から形成された層である請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
光学異方性層１が前記仮支持体に直接塗布された液晶化合物を含む重合性組成物から形成された層である請求項１または２に記載の製造方法。
【請求項４】
光学異方性層１が前記仮支持体上の配向層に直接塗布された液晶化合物を含む重合性組成物から形成された層である請求項１または２に記載の製造方法。
【請求項５】
（１）、（２）、（３）をこの順で含む請求項１〜４のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項６】
前記転写体を前記剥離により得られた面で偏光子を含む前記フィルムに接着させる請求項５に記載の製造方法。
【請求項７】
（１）、（３）、（２）をこの順で含み、
（３）において、前記転写材料を、前記仮支持体に対し前記転写体側の面で偏光子を含む前記フィルムに接着させる請求項１〜４のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項８】
偏光子を含む前記フィルム中の前記偏光子を前記転写体に直接接着させる請求項１〜７のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項９】
前記偏光子が変性または未変性のポリビニルアルコールを含む請求項１〜８のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項１０】
前記転写体と偏光子を含む前記フィルムとの前記接着が変性または未変性ポリビニルアルコールを含む接着剤を用いて行われる請求項１〜９のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項１１】
前記（１）と、（２）および（３）との間に、前記転写材料を０．０２５ｍ2以下に裁断する工程を含む請求項１〜１０のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項１２】
前記仮支持体がポリエステルを含む請求項１〜１１のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項１３】
前記仮支持体がポリエチレンテレフタレートを含む請求項１２に記載の製造方法。
【請求項１４】
以下（１１）〜（１４）を含む方法により前記転写材料を得ることをさらに含む請求項１〜１３のいずれか一項に記載の製造方法：
（１１）前記仮支持体上に、液晶化合物を含む重合性組成物を塗布すること、
（１２）（１１）で得られた塗布層を光照射または加熱に付して光学異方性層１を得ること、
（１３）（１２）で得られた光学異方性層１上に、液晶化合物を含む重合性組成物を塗布すること、
（１４）（１３）で得られた塗布層を光照射または加熱に付して光学異方性層２を得ること。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偏光板の製造方法に関する。本発明は特に、液晶化合物を含む組成物から形成された光学異方性層を有する偏光板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
スマートフォンやタブレットＰＣ等の市場の拡大により、ディスプレイにもますます、薄型化が求められている。この流れの中で、液晶表示装置の視野角補償のために利用される位相差フィルムにおいても薄型化が求められる。偏光板の保護フィルムとして所定の位相差を有するフィルムを用い、その位相差を液晶化合物の配向によって実現させた例が多く知られているが（例えば、特許文献１および２）、液晶化合物を含む組成物の光硬化等により形成した光学異方性層は、自己支持性が低いため、セルロースアシレート系ポリマーフィルム等の透明支持体上に形成されて、そのまま利用されることが通常であり、光学異方性層の薄膜化は、支持体を含む形態で検討する必要があった。一方、特許文献３においては、偏光膜の表面に直接液晶化合物を含む組成物を塗布して光学異方性層を形成し、薄い偏光板を実現したことが開示されている。また、特許文献４には、支持部材表面に形成した配向層および液晶補償層からなる光学異方性膜を、支持部材から剥がしながら偏光膜の１面に配向層が接するように偏光膜に積層することが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１３−０５０５７２号公報
【特許文献２】特開２０１１−１３３５４９号公報
【特許文献３】特開２００４−５３７７０号公報
【特許文献４】特開２００８−２４２４２０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は膜厚が小さい偏光板の提供を課題とする。本発明は特に液晶化合物を含む組成物から形成された光学異方性層を有する偏光板の製造方法であって、多様な光学補償能を有する光学異方性層を最小限の構成で多様な偏光子と接着させることが可能である偏光板の製造方法の提供を課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは上記課題の解決のため、特許文献４に記載の方法と同様に、仮支持体上の、配向層と液晶化合物を含む組成物の光硬化により形成した光学異方性層との偏光膜への転写を試みた。その結果、光学異方性層は配向層とともに仮支持体から分離可能であるが、割れなどの欠損が生じやすいという新たな課題を見出した。この新たな課題に基づいてさらに検討を重ね、本発明を完成させた。すなわち、本発明は下記の＜１＞〜＜１４＞を提供するものである。【０００６】
＜１＞偏光板の製造方法であって、以下（１）〜（３）：
（１）仮支持体と光学異方性層１および光学異方性層２を含む転写体とを含む転写材料を用意すること；
（２）上記仮支持体を剥離し、上記仮支持体と上記転写体とを分離すること；および、
（３）上記転写体を、偏光子を含むフィルムに接着させることを含み、
光学異方性層１および光学異方性層２はいずれも上記仮支持体上に塗布された液晶化合物を含む重合性組成物から形成された層であり、
光学異方性層１および光学異方性層２は、いずれも面内のレターデーションを有し、光学異方性層１および光学異方性層２の遅相軸方向は互いに３°〜９０°異なる製造方法。【０００７】
＜２＞光学異方性層２が光学異方性層１に直接塗布された液晶化合物を含む重合性組成物から形成された層である＜１＞に記載の製造方法。
＜３＞光学異方性層１が上記仮支持体に直接塗布された液晶化合物を含む重合性組成物から形成された層である＜１＞または＜２＞に記載の製造方法。
＜４＞光学異方性層１が上記仮支持体上の配向層に直接塗布された液晶化合物を含む重合性組成物から形成された層である＜１＞または＜２＞に記載の製造方法。【０００８】
＜５＞（１）、（２）、（３）をこの順で含む＜１＞〜＜４＞のいずれか一項に記載の製造方法。
＜６＞上記転写体を上記剥離により得られた面で偏光子を含む上記フィルムに接着させる＜５＞に記載の製造方法。
＜７＞（１）、（３）、（２）をこの順で含み、
（３）において、上記転写材料を、上記仮支持体に対し上記転写体側の面で偏光子を含む上記フィルムに接着させる＜１＞〜＜４＞のいずれか一項に記載の製造方法。
＜８＞偏光子を含む上記フィルム中の上記偏光子を上記転写体に直接接着させる＜１＞〜＜７＞のいずれか一項に記載の製造方法。【０００９】
＜９＞上記偏光子が変性または未変性のポリビニルアルコールを含む＜１＞〜＜８＞のいずれか一項に記載の製造方法。
＜１０＞上記転写体と偏光子を含む上記フィルムとの上記接着が変性または未変性ポリビニルアルコールを含む接着剤を用いて行われる＜１＞〜＜９＞のいずれか一項に記載の製造方法。
＜１１＞上記（１）と、（２）および（３）との間に、上記転写材料を０．０２５ｍ2以下に裁断する工程を含む＜１＞〜＜１０＞のいずれか一項に記載の製造方法。
＜１２＞上記仮支持体がポリエステルを含む＜１＞〜＜１１＞のいずれか一項に記載の製造方法。
＜１３＞上記仮支持体がポリエチレンテレフタレートを含む＜１２＞に記載の製造方法。【００１０】
＜１４＞以下（１１）〜（１４）を含む方法により上記転写材料を得ることをさらに含む＜１＞〜＜１３＞のいずれか一項に記載の製造方法：
（１１）上記仮支持体上に、液晶化合物を含む重合性組成物を塗布すること、
（１２）（１１）で得られた塗布層を光照射または加熱に付して光学異方性層１を得ること、
（１３）（１２）で得られた光学異方性層１上に、液晶化合物を含む重合性組成物を塗布すること、
（１４）（１３）で得られた塗布層を光照射または加熱に付して光学異方性層２を得ること。
【発明の効果】
【００１１】
本発明により、薄膜の偏光板の製造方法が提供される。本発明の製造方法により、液晶化合物を含む組成物から形成された、多様な光学補償能を有する光学異方性層を、最小限の構成で、多様な偏光子と接着させて偏光板を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の製造方法により製造される偏光板の層構成の例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明を詳細に説明する。
なお、本明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。また、本明細書において「遅相軸」とは、面内において屈折率が最大となる方向を意味する。本明細書において「偏光板」とは、特に断らない限り、長尺の偏光板および液晶表示装置に組み込まれる大きさに裁断された（本明細書において、「裁断」には「打ち抜き」および「切り出し」等も含むものとする）偏光板の両者を含む意味で用いられる。また、本明細書では、「偏光子」（「偏光膜」という場合もある）および「偏光板」を区別して用いるが、「偏光板」は「偏光子」の少なくとも片面にフィルムを有する積層体を意味するものとする。
また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」との記載は、「アクリレートおよびメタクリレートのいずれか一方または双方」の意味を表す。「（メタ）アクリル酸」等も同様である。
【００１４】
本明細書において、Ｒｅ（λ）は、波長λにおける面内のレターデーションを表す。Ｒｅ（λ）はＡＸＯＭＥＴＲＩＣＳ社製の偏光位相差解析装置ＡｘｏＳｃａｎを用いて測定することができる。またはＲｅ（λ）はＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨまたはＷＲ（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定してもよい。
【００１５】
本明細書では、測定波長について特に付記がない場合は、測定波長は５５０ｎｍである。例えば、単にＲｅと記載されているときは、Ｒｅ（５５０）を示す。また、本明細書において、光学的に等方性であるとは、面内レターデーション（Ｒｅ（５５０））の絶対値が１０ｎｍ以下であることを意味する。面内レターデーションを有するとは、Ｒｅ（５５０）が１０ｎｍより大きいことを意味する。
また、本明細書において、角度（例えば「９０°」等の角度）、およびその関係（例えば「直交」、「平行」、および「４５°で交差」等）については、本発明が属する技術分野において許容される誤差の範囲を含むものとする。例えば、厳密な角度±１０°未満の範囲内であることを意味し、厳密な角度との誤差は、５°以下であることが好ましく、３°以下であることがより好ましい。
【００１６】
［偏光板］
本発明の製造方法により製造される偏光板は、光学異方性層１、光学異方性層２および偏光子を含む。偏光子のいずれか一方の面、または両方の面に光学異方性層１および光学異方性層２が配置されていればよい。偏光板は、さらに、光学異方性層の形成の際の液晶化合物の配向のための配向層、偏光子または光学異方性層の表面の保護のための保護フィルムなどの他の層を含んでいてもよい。
本発明の製造方法により製造される偏光板の層構成の例を図１に示す。なお図においては、接着層は省略されている。
偏光板の膜厚は、特に限定されないが、５０μｍ〜５００μｍ程度であればよい。特に、本発明の製造方法によっては、偏光板を２００μｍ以下、１５０μｍ以下、１２０μｍ以下、１００μｍ以下、９０μｍ以下、８０μｍ以下、７０μｍ以下等の薄膜で形成することが可能である。
【００１７】
［転写材料］
本発明の製造方法においては、仮支持体と光学異方性層１および光学異方性層２を含む転写体とを含む転写材料が用いられる。本発明の製造方法においては、転写体を転写材料から偏光子を含むフィルムに転写する工程を経ることにより、光学異方性層１および光学異方性層２を、偏光子を含むフィルムの種類または性質に依存させずに形成することが可能であり、また、様々な液晶化合物を用い、様々な液晶化合物の配向形態で上記光学異方性層１および光学異方性層２を形成することができる。例えば、光学異方性層の形成の際に必要な加熱工程は偏光子の性質に影響を与える可能性があるが、転写材料を用いた製造方法により、偏光子に影響を与えることなく、光学異方性層の作製が可能である。
【００１８】
転写材料は、仮支持体を剥離して光学異方性層１および光学異方性層２を含む転写体を提供することができる材料である。本明細書において、「転写体」は偏光子を含むフィルムに転写される対象、すなわち、偏光子を含むフィルムに接着される対象であって光学異方性層１および光学異方性層２を含むものである。
転写材料は、仮支持体、光学異方性層１および光学異方性層２のほか、配向層や接着層などの他の層を含んでいてもよい。仮支持体と光学異方性層１および光学異方性層２との間に、剥離層、離型層などの他の層を含んでいてもよい。
【００１９】
転写材料は、仮支持体上に直接液晶化合物を含む重合性組成物を塗布し、得られた塗布層を光照射して上記の液晶化合物を含む重合性組成物を硬化させ光学異方性層を形成することによって製造することができる。本明細書において「仮支持体上に」というとき、「仮支持体表面に直接」または「仮支持体表面に設けられた他の層（１層でも複数層からなるものでもよい）の表面に直接」との意味である。「他の層」の例としては配向層、先に形成された光学異方性層（例えば光学異方性層１）が挙げられる。
以下、偏光板または転写材料に含まれる各層について詳細に説明する。
【００２０】
［光学異方性層］
光学異方性層は等方性でない光学特性を有する層である。本明細書において単に「光学異方性層」として記載するときは、光学異方性層１および光学異方性層２のいずれをも意味する。本発明で用いられる光学異方性層は、液晶化合物を含む重合性組成物から形成される層である。例えば光学異方性層は液晶化合物を含む重合性組成物を光照射または加熱等に付して上記液晶化合物を重合させることにより形成されていればよい。上記重合性組成物は、少なくとも１つの重合性基を有する液晶化合物を含んでおり、光照射または加熱により上記液晶化合物が重合性基により重合するものであればよい。上記重合性組成物は仮支持体、配向層、または他の光学異方性層等に直接、塗布されることが好ましい。塗布層をさらに、室温等により乾燥させる、または加熱（例えば  ５０℃〜１５０℃、好ましくは８０℃〜１２０℃の加熱）することにより、層中の液晶化合物分子を配向させることができる。これを重合固定化することにより、光学異方性層が形成されていればよい。
【００２１】
光学異方性層の膜厚は、光学異方性層１および光学異方性層２の膜厚の合計として、１０μｍ以下、８μｍ未満、７μｍ以下、６μｍ以下、５μｍ以下、４μｍ以下、３μｍ以下、２μｍ以下、１．９μｍ以下、１．８μｍ以下、１．７μｍ以下、１．６μｍ以下、１．５μｍ以下、１．４μｍ以下、１．３μｍ以下、１．２μｍ以下、１．１μｍ以下または１μｍ以下であってもよく、また、０．２μｍ以上、０．３μｍ以上、０．４μｍ以上、０．５μｍ以上、０．６μｍ以上、０．７μｍ以上、０．８μｍ以上、０．９μｍ以上であってもよい。
光学異方性層は透明（例えば、光透過率が８０％以上）であることも好ましい。
【００２２】
［光学異方性層１および光学異方性層２］
本発明の製造方法に用いられる転写材料および本発明の製造方法により製造される偏光板はそれぞれ、少なくとも２層の光学異方性層を含み、本明細書においては、転写材料および偏光板にそれぞれ含まれる２層の光学異方性層を光学異方性層１および光学異方性層２という。本明細書においては、転写材料において仮支持体により近い光学異方性層を光学異方性層１といい、他方を光学異方性層２という。転写材料および偏光板はそれぞれ光学異方性層１および光学異方性層２以外の光学異方性層を含んでいてもよく、光学異方性層として、光学異方性層１および光学異方性層２のみを含んでいてもよい。
【００２３】
光学異方性層１および光学異方性層２は法線方向に互いに直接接していてもよいし、間に配向層等の他の層を挟んでいてもよい。光学異方性層１および光学異方性層２を形成する重合性組成物は互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。例えば、２層の光学異方性層の組み合わせにおいて、棒状液晶化合物を含む組成物から形成された層同士、または円盤状液晶化合物を含む組成物から形成された層同士の組み合わせであってもよく、棒状液晶化合物を含む組成物から形成された層と円盤状液晶化合物を含む組成物から形成された層との組み合わせであってもよい。先に作製された光学異方性層１が後に形成される光学異方性層２の配向層として機能していてもよい。このとき光学異方性層１の表面はラビングされていてもよい。
【００２４】
光学異方性層１および光学異方性層２は、いずれも面内のレターデーションを有し、光学異方性層１の遅相軸方向および光学異方性層２の遅相軸方向は互いに３°〜９０°異なっている。本発明者らはこのような光学異方性層１および光学異方性層２を含む転写材料は、仮支持体を剥離しても割れの問題が生じにくいことを見出した。光学異方性層１および光学異方性層２の組成や液晶化合物の配向を様々に選択することにより、製造される偏光板において、多様な光学補償が可能となる。光学異方性層１および光学異方性層２は、互いに遅相軸方向が５°以上の角度をなしていることがさらに好ましい。遅相軸およびレターデーションの測定は、例えば、ＡＸＯＭＥＴＲＩＣＳ社製の偏光位相差解析装置ＡｘｏＳｃａｎなどを用いて測定することができる。
【００２５】
偏光板中の少なくとも２層の光学異方性層、好ましくは光学異方性層１および光学異方性層２は、例えば、合わせてλ／４位相差板としての機能を有していることが好ましい。λ／４位相差板は偏光子（直線偏光子）と組み合わされて円偏光板として機能する。
位相差板は、非常に多くの用途を有しており、既に反射型ＬＣＤ、半透過型ＬＣＤ、輝度向上膜、有機ＥＬ表示装置、タッチパネル等に使用されている。例えば、有機ＥＬ（有機エレクトロルミネッセンス）素子は、屈折率の異なる層を積層する構造や、金属電極を用いる構造を有するため、外光が各層の界面で反射し、コントラスト低下や映り込みの問題などを生じることがある。そこで、従来から、外光反射による悪影響を抑制するために、位相差板と偏光膜とから構成される円偏光板が有機ＥＬ表示装置やＬＣＤ表示装置などに使用されている。
【００２６】
［液晶化合物］
液晶化合物としては、棒状液晶化合物、円盤状液晶化合物が挙げられる。
棒状液晶化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。以上のような低分子液晶性分子だけではなく、高分子液晶性分子も用いることができる。
【００２７】
棒状液晶化合物は重合によって配向を固定することがより好ましく、重合性棒状液晶化合物としては、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．  Ｃｈｅｍ．，  １９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ  ５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許４６８３３２７号、同５６２２６４８号、同５７７０１０７号、WO９５／２２５８６号、同９５／２４４５５号、同９７／００６００号、同９８／２３５８０号、同９８／５２９０５号、特開平１−２７２５５１号、同６−１６６１６号、同７−１１０４６９号、同１１−８００８１号、特開２００１−３２８９７３号公報、特開２０１３−０５０５８３号公報などに記載の化合物を用いることができる。また、重合性棒状液晶化合物として好ましくは、下記一般式（１）にて表される重合性棒状液晶化合物が特に挙げられる。
【００２８】
一般式（１）  Ｑ1−Ｌ1−Ｃｙ1−Ｌ2−（Ｃｙ2−Ｌ3）ｎ−Ｃｙ3−Ｌ4−Ｑ2
（一般式（１）中、Ｑ1およびＱ2はそれぞれ独立に重合性基であり、Ｌ1およびＬ4はそれぞれ独立に二価の連結基であり、Ｌ2およびＬ3はそれぞれ独立に単結合または二価の連結基であり、Ｃｙ1、Ｃｙ2およびＣｙ3は二価の環状基であり、ｎは０、１、２または３である。）
【００２９】
以下にさらに一般式（１）で表される重合性棒状液晶化合物について説明する。
一般式（１）中、Ｑ1およびＱ2はそれぞれ独立に重合性基である。重合性基の重合反応は、付加重合（開環重合を含む）または縮合重合であることが好ましい。言い換えると、重合性基は、付加重合反応または縮合重合反応が可能な官能基であることが好ましい。以下に重合性基の例を示す。
【００３０】
【化１】
2015046399.tif 000003
【００３１】
上記のうち、好ましい重合性基としては、アクリル基、メタクリル基が挙げられる。特に一般式（１）におけるＱ1およびＱ2の双方がアクリル基またはメタクリル基であることが好ましい。
【００３２】
一般式（１）中、Ｌ1およびＬ4はそれぞれ独立に二価の連結基である。Ｌ1およびＬ4はそれぞれ独立に、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＲ−、−Ｃ＝Ｎ−、二価の鎖状基、二価の環状基およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。上記Ｒは炭素原子数が１から７のアルキル基または水素原子である。Ｒは、炭素原子数１から４のアルキル基または水素原子であることが好ましく、メチル基、エチル基または水素原子であることがさらに好ましく、水素原子であることがもっとも好ましい。
【００３３】
組み合わせからなる二価の連結基の例を以下に示す。ここで、左側がＱ（Ｑ1またはＱ2）に、右側がＣｙ（Ｃｙ1またはＣｙ3）に結合する。
【００３４】
Ｌ−１：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−
Ｌ−２：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−３：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−４：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−二価の環状基−
Ｌ−５：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−二価の環状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−６：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−二価の環状基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−７：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−二価の環状基−二価の鎖状基−
Ｌ−８：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−二価の環状基−二価の鎖状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−９：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−二価の環状基−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−１０：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−二価の環状基−
Ｌ−１１：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−二価の環状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−１２：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−二価の環状基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−１３：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−二価の環状基−二価の鎖状基−
Ｌ−１４：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−二価の環状基−二価の鎖状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−１５：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−二価の環状基−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−１６：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−二価の環状基−
Ｌ−１７：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−二価の環状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−１８：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−二価の環状基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−１９：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−二価の環状基−二価の鎖状基−
Ｌ−２０：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−二価の環状基−二価の鎖状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−２１：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−二価の環状基−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−
【００３５】
二価の鎖状基は、アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基、アルキニレン基、置換アルキニレン基を意味する。アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基が好ましく、アルキレン基およびアルケニレン基がさらに好ましい。
アルキレン基は、分岐を有していてもよい。アルキレン基の炭素数は１〜１２であることが好ましく、２〜１０であることがさらに好ましく、２〜８であることがもっとも好ましい。
置換アルキレン基のアルキレン部分は、上記アルキレン基と同様である。置換基の例としてはハロゲン原子が含まれる。
アルケニレン基は、分岐を有していてもよい。アルケニレン基の炭素数は２〜１２であることが好ましく、２〜１０であることがさらに好ましく、２〜８であることがもっとも好ましい。
置換アルキレン基のアルキレン部分は、上記アルキレン基と同様である。置換基の例としてはハロゲン原子が含まれる。
アルキニレン基は、分岐を有していてもよい。アルキニレン基の炭素数は２〜１２であることが好ましく、２〜１０であることがさらに好ましく、２〜８であることがもっとも好ましい。
置換アルキニレン基のアルキニレン部分は、上記アルキニレン基と同様である。置換基の例としてはハロゲン原子が含まれる。
二価の鎖状基の具体例としては、エチレン、トリメチレン、プロピレン、テトラメチレン、２−メチル−テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、オクタメチレン、２−ブテニレン、２−ブチニレンなどが挙げられる。
【００３６】
二価の環状基の定義および例は、後述するＣｙ1、Ｃｙ2およびＣｙ3の定義および例と同様である。
【００３７】
一般式（１）中、Ｌ2またはＬ3はそれぞれ独立に単結合または二価の連結基である。Ｌ2およびＬ3はそれぞれ独立に、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＲ−、−Ｃ＝Ｎ−、二価の鎖状基、二価の環状基およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基または単結合であることが好ましい。上記Ｒは炭素原子数が１から７のアルキル基または水素原子であり、炭素原子数１から４のアルキル基または水素原子であることが好ましく、メチル基、エチル基または水素原子であることがさらに好ましく、水素原子であることがもっとも好ましい。二価の鎖状基、および二価の環状基についてはＬ1およびＬ4の定義と同義である。
Ｌ2またはＬ3として好ましい二価の連結基としては、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯＯ−、−ＯＣＯＮＲ−、−ＣＯＳ−、−ＳＣＯ−、−ＣＯＮＲ−、−ＮＲＣＯ−、−ＣＨ2ＣＨ2−、−Ｃ＝Ｃ−ＣＯＯ−、−Ｃ＝Ｎ−、−Ｃ＝Ｎ−Ｎ＝Ｃ−、等が挙げられる。
【００３８】
一般式（１）において、ｎは０、１、２または３である。ｎが２または３の場合、二つのＬ3は同じであっても異なっていてもよく、二つのＣｙ2も同じであっても異なっていてもよい。ｎは１または２であることが好ましく、１であることがさらに好ましい。
【００３９】
一般式（１）において、Ｃｙ1、Ｃｙ2およびＣｙ3は、それぞれ独立に、二価の環状基である。
環状基に含まれる環は、５員環、６員環、または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがさらに好ましく、６員環であることが最も好ましい。
環状基に含まれる環は、縮合環であってもよい。ただし、縮合環よりも単環であることがより好ましい。
環状基に含まれる環は、芳香族環、脂肪族環、および複素環のいずれでもよい。芳香族環の例には、ベンゼン環およびナフタレン環が含まれる。脂肪族環の例には、シクロヘキサン環が含まれる。複素環の例には、ピリジン環およびピリミジン環が含まれる。
ベンゼン環を有する環状基としては、１、４−フェニレンが好ましい。ナフタレン環を有する環状基としては、ナフタレン−１、５−ジイルおよびナフタレン−２、６−ジイルが好ましい。シクロヘキサン環を有する環状基としては１、４−シクロへキシレンであることが好ましい。ピリジン環を有する環状基としてはピリジン−２、５−ジイルが好ましい。ピリミジン環を有する環状基としては、ピリミジン−２、５−ジイルが好ましい。
環状基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数が１〜５のアルキル基、炭素原子数が１〜５のハロゲン置換アルキル基、炭素原子数が１〜５のアルコキシ基、炭素原子数が１〜５のアルキルチオ基、炭素原子数が２〜６のアシルオキシ基、炭素原子数が２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数が２〜６のアルキル置換カルバモイル基および炭素原子数が２〜６のアシルアミノ基が含まれる。
【００４０】
以下に、一般式（１）で表される重合性棒状液晶化合物の例を示すが、重合性棒状液晶化合物の例はこれらに限定されるものではない。
【００４１】
【化２】
2015046399.tif 000004
【００４２】
【化３】
2015046399.tif 000005
【００４３】
【化４】
2015046399.tif 000006
【００４４】
【化５】
2015046399.tif 000007
【００４５】
また、棒状液晶化合物としては、一般式（１）で表される重合性棒状液晶化合物に加え、少なくとも一種の下記一般式（２）で表される化合物を併用することが好ましい。
【００４６】
一般式（２）
Ｍ1−（Ｌ1）ｐ−Ｃｙ1−Ｌ2−（Ｃｙ2−Ｌ3）ｎ−Ｃｙ3−（Ｌ4）ｑ−Ｍ2
（一般式（２）中、Ｍ1およびＭ2はそれぞれ独立に、水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ハロゲン、−ＳＣＮ、−ＣＦ3、ニトロ基、または、Ｑ1を表すが、Ｍ1およびＭ2の少なくとも一つは、Ｑ1以外の基を表す。
ただし、Ｑ1、Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3、Ｌ4、Ｃｙ1、Ｃｙ2、Ｃｙ3およびｎは一般式（１）で表される基と同義である。また、ｐおよびｑは０、または１である。）
【００４７】
Ｍ1およびＭ2がＱ1を表さない場合、Ｍ1およびＭ2は水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、シアノ基であることが好ましく、より好ましくは、炭素数１〜４のアルキル基、もしくは、フェニル基であり、ｐおよびｑは０であることが好ましい。
【００４８】
また、一般式（１）で表される重合性液晶化合物と、一般式（２）で表される化合物の混合物中における、一般式（２）で表される化合物の好ましい混合比率（質量比）としては、０．１％〜４０％であり、より好ましくは、１％〜３０％であり、更に好ましくは、５％〜２０％である。
【００４９】
以下に、一般式（２）で表される化合物の好ましい例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００５０】
【化６】
2015046399.tif 000008
【００５１】
【化７】
2015046399.tif 000009
【００５２】
円盤状液晶化合物は、様々な文献（Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅ  ｅｔ  ａｌ．，Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．，ｖｏｌ．７１，ｐａｇｅ  １１１（１９８１）；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第１０章第２節（１９９４）；Ｂ．Ｋｏｈｎｅ  ｅｔ  ａｌ．，Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．，ｐａｇｅ  １７９４（１９８５）；Ｊ．Ｚｈａｎｇ  ｅｔ  ａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，ｖｏｌ．１１６，ｐａｇｅ  ２６５５（１９９４））に記載されている。円盤状液晶化合物の重合については、特開平８−２７２８４公報に記載がある。円盤状配向層液晶化合物を重合により固定するためには、円盤状液晶化合物の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。ただし、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基との間に、連結基を導入する。即ち、光硬化型円盤状液晶化合物は、下記式（３）で表わされる化合物であることが好ましい。
【００５３】
一般式（３）
Ｄ（−Ｌ−Ｐ）ｎ
（一般式中、Ｄは円盤状コアであり、Ｌは二価の連結基であり、Ｐは重合性基であり、ｎは４〜１２の整数である。）
式（３）中の円盤状コア（Ｄ）、二価の連結基（Ｌ）および重合性基（Ｐ）の好ましい具体例は、それぞれ、特開２００１−４８３７号公報に記載の（Ｄ１）〜（Ｄ１５）、（Ｌ１）〜（Ｌ２５）、（Ｐ１）〜（Ｐ１８）であり、同公報に記載の内容を好ましく用いることができる。
また、円盤状液晶化合物としては、特開２００７−２２２０号公報に記載の一般式（ＤＩ）で表される化合物を用いることも好ましい。
【００５４】
液晶化合物は重合性組成物の固形分質量（溶媒を除いた質量）に対し、８０質量％以上、９０質量％以上、または、９５質量％以上、また、９９．９９質量％以下、９９．９８質量％以下、９９．９７質量％以下で含まれていればよい。特に、アクリル基、またはメタクリル基を含む化合物が、７０質量％以上、８０質量％以上、９０質量％以上、または、９５質量％以上、また、９９．９９質量％以下、９９．９８質量％以下、９９．９７質量％以下で含まれていることが好ましい。
【００５５】
液晶化合物は、水平配向、垂直配向、傾斜配向、およびねじれ配向のいずれの配向状態で固定されていてもよい。尚、本明細書において「水平配向」とは、棒状液晶の場合、分子長軸と透明支持体の水平面が平行であることをいい、円盤状液晶の場合、円盤状液晶化合物のコアの円盤面と透明支持体の水平面が平行であることをいうが、厳密に平行であることを要求するものではなく、本明細書では、水平面とのなす傾斜角が１０度未満の配向を意味するものとする。本発明で用いられる光学異方性層としては、棒状液晶化合物を水平配向させた状態で固定化されたものを含むことが好ましい。
【００５６】
[溶媒]
液晶化合物を含有する組成物を、塗布液として調製する場合の塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒もしくは水、またはこれらの混合溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例としては、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）、アルキルアルコール（例、メタノール、エタノール、プロパノール）が挙げられる。また、二種類以上の溶媒を混合して使用してもよい。上記の中で、アルキルハライド、エステル、ケトンおよびそれらの混合溶媒が好ましい。
【００５７】
[配向固定化]
液晶性化合物の配向の固定化は、液晶性化合物に導入した重合性基の架橋反応により実施することが好ましく、重合性基の重合反応により実施することがさらに好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれる。重合反応としては、ラジカル重合、カチオン重合のいずれでもよいが、ラジカル重合が好ましい。ラジカル光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）が含まれる。カチオン光重合開始剤の例には、有機スルフォニウム塩系、ヨードニウム塩系、フォスフォニウム塩系等を例示することができ、有機スルフォニウム塩系、が好ましく、トリフェニルスルフォニウム塩が特に好ましい。これら化合物の対イオンとしては、ヘキサフルオロアンチモネート、ヘキサフルオロフォスフェートなどが好ましく用いられる。
【００５８】
ラジカル熱重合開始剤は、分解温度以上に加熱することにより、ラジカルを発生させる化合物である。このようなラジカル熱重合開始剤としては、例えば、ジアシルパーオキサイド（アセチルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイドなど）ケトンパーオキサイド（メチルエチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイドなど）、ハイドロパーオキサイド（過酸化水素、tert-ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイドなど）、ジアルキルパーオキサイド（ジ−tert−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ジラウロイルパーオキサイドなど）パーオキシエステル類（tert−ブチルパーオキシアセテート、tert−ブチルパーオキシピバレートなど）、アゾ系化合物（アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスイソバレロニトリルなど）、過硫酸塩類（過硫酸アンモニウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウムなど）が挙げられる。
【００５９】
重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがさらに好ましい。液晶化合物の光重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、１０ｍＪ／ｃｍ2〜１０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、２５〜１０００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。照度は１０〜２０００ｍＷ／ｃｍ2であることが好ましく、２０〜１５００ｍＷ／ｃｍ2であることがより好ましく、４０〜１０００ｍＷ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。照射波長としては２５０〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、３００〜４１０ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、窒素などの不活性ガス雰囲気下あるいは加熱条件下で光照射を実施してもよい。
液晶化合物の熱重合のための加熱は、５０〜２００℃の温度範囲内で１０分〜３０時間行うことが好ましい。
【００６０】
［水平配向剤］
液晶化合物を含む重合性組成物中に、特開２００９−６９７９３号公報の段落「００９８」〜「０１０５」に記載の、一般式（１）〜（３）で表される化合物および一般式（４）のモノマーを用いた含フッ素ホモポリマーまたはコポリマーの少なくとも一種を含有させることで、液晶化合物の分子を水平配向させることができる。液晶化合物を水平配向させる場合、その傾斜角は０〜５度が好ましく、０〜３度がより好ましく、０〜２度がさらに好ましく、０〜１度が最も好ましい。
【００６１】
水平配向剤の添加量としては、液晶化合物の質量の０．０１〜２０質量％が好ましく、０．０１〜１０質量％がより好ましく、０．０２〜１質量％が特に好ましい。なお、特開２００９−６９７９３号公報の段落「００９８」〜「０１０５」に記載の一般式（１）〜（４）にて表される化合物は、単独で用いてもよいし、二種以上を併用してもよい。
【００６２】
［その他の添加剤］
液晶化合物を含む重合性組成物は、特開２０１３−０５０５８３号公報の段落０１２１〜０１４８に記載のオニウム塩、特に特開２００６−１１３５００号公報に記載の式（Ｉ）で表されるピリジニウム化合物を含んでいてもよい。オニウム塩は配向層界面側垂直配向剤として機能することができ、例えば、ディスコティック液晶性化合物の分子を配向層近傍で垂直に配向させることができる。また、液晶化合物を含む重合性組成物は、特開２０１３−０５４２０１号公報に記載の一般式（Ｉ）で表されるボロン酸化合物を含んでいてもよい。
液晶化合物を含む重合性組成物はそのほか必要な添加剤を含んでいてもよいが、いわゆるカイラル剤を含んでいないことが好ましい。
【００６３】
［塗布方法］
光学異方性層の形成の際の組成物の塗布は、ディップコート法、エアーナイフコート法、スピンコート法、スリットコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書）により、行うことができる。二以上の層を同時に塗布してもよい。同時塗布の方法については、米国特許２７６１７９１号、同２９４１８９８号、同３５０８９４７号、同３５２６５２８号の各明細書および原崎勇次著、コーティング工学、２５３頁、朝倉書店（１９７３）に記載がある。
【００６４】
［仮支持体］
仮支持体としては、特に限定はなく剛直なものでもフレキシブルなものでもよいが、取り扱いが容易な点でフレキシブルなものが好ましい。剛直な支持体としては特に限定はないが表面に酸化ケイ素皮膜を有するソーダガラス板、低膨張ガラス、ノンアルカリガラス、石英ガラス板等の公知のガラス板、アルミ板、鉄板、ＳＵＳ板などの金属板、樹脂板、セラミック板、石板などが挙げられる。フレキシブルな支持体としては特に限定はないがセルロースエステル（例、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート）、ポリオレフィン（例、ノルボルネン系ポリマー）、ポリ（メタ）アクリル酸エステル（例、ポリメチルメタクリレート）、ポリカーボネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタラートやポリエチレンナフタレート）、ポリスルホン、およびシクロオレフィンポリマー（例えば、ノルボルネン系樹脂（日本ゼオン（株）製のゼオネックス、ゼオノア、ＪＳＲ（株）製のアートン等）などのプラスチックフィルムや紙、アルミホイル、布などが挙げられる。この中でポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）がより好ましい。取扱いの容易さから、剛直な支持体の膜厚としては、１００〜３０００μｍが好ましく、３００〜１５００μｍがより好ましい。フレキシブルな支持体の膜厚としては、５μｍ〜１０００μｍ程度であればよく、好ましくは１０μｍ〜２５０μｍであり、より好ましくは１５μｍ〜９０μｍである。
【００６５】
[配向層]
光学異方性層の形成には配向層を用いてもよい。配向層は、仮支持体もしくは仮支持体上に塗設された下塗層、光学異方性層１の表面に設けられていればよい。配向層は、その上に設けられる重合性組成物中の液晶化合物の配向を規定するように機能する。配向層は、光学異方性層に配向性を付与できるものであれば、どのような層でもよい。垂直配向膜として公知の材料のみならず、水平配向膜として公知の材料から選択することもできる。配向層の例としては、有機化合物（好ましくはポリマー）からなる層、アゾベンゼンポリマーやポリビニルシンナメートに代表される偏光照射により液晶の配向性を発現する光配向層、無機化合物の斜方蒸着層、およびマイクログルーブを有する層、さらにω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライドおよびステアリル酸メチル等のラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）により形成される累積膜、あるいは電場あるいは磁場の付与により誘電体を配向させた層を挙げることができる。配向層としてはポリマー層が好ましく、変性または未変性のポリビニルアルコールを含むポリマー層が特に好ましい。変性または未変性ポリビニルアルコールは、水平配向膜としても用いられているが、オニウム化合物を光学異方性層形成用組成物中に添加することで、オニウム化合物と配向膜との作用、およびオニウム化合物と液晶性化合物との作用等により、液晶分子を配向膜界面で高い平均チルト角の傾斜配向状態、または垂直配向状態に配向させることができる。変性ポリビニルアルコールは、ポリビニルアルコールの少なくとも一個のヒドロキシル基が官能基で修飾されたものであり、例えば、ポリビニルアルコールが、アセトアセチル基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基等で修飾されたものを含む。配向膜としては、重合性基を有する単位を含む変性ポリビニルアルコールを含有する配向膜を用いることが好ましい。光学異方性層との密着性をさらに改善できるからである。さらにビニル部分、オキシラニル部分またはアジリジニル部分を有する基で、少なくとも一個のヒドロキシル基が置換されたポリビニルアルコールが好ましく、例えば、特許第３９０７７３５号公報の段落番号［００７１］〜［００９５］に記載の変性ポリビニルアルコールが好ましい。
配向層の厚さは０．０１〜５μｍであることが好ましく、０．０５〜２μｍであることがさらに好ましい。
【００６６】
（ラビング処理）
重合性組成物を塗布する配向層、仮支持体、または光学異方性層１の表面にはラビング処理が施されることが好ましい。配向層に施されるラビング処理は、一般にはポリマーを主成分とする膜の表面を、紙や布で一定方向に擦ることにより実施することができる。ラビング処理の一般的な方法については、例えば、「液晶便覧」（丸善社発行、平成１２年１０月３０日）に記載されている。
【００６７】
ラビング密度を変える方法としては、「液晶便覧」（丸善社発行）に記載されている方法を用いることができる。ラビング密度（Ｌ）は、下記式（Ａ）で定量化されている。
式（Ａ）  Ｌ＝Ｎｌ（１＋２πｒｎ／６０ｖ）
式（Ａ）中、Ｎはラビング回数、ｌはラビングローラーの接触長、ｒはローラーの半径、ｎはローラーの回転数（ｒｐｍ）、ｖはステージ移動速度（秒速）である。
【００６８】
ラビング密度を高くするためには、ラビング回数を増やす、ラビングローラーの接触長を長く、ローラーの半径を大きく、ローラーの回転数を大きく、ステージ移動速度を遅くすればよく、一方、ラビング密度を低くするためには、この逆にすればよい。
また、ラビング処理の際の条件としては、特許４０５２５５８号の記載を参照することもできる。
【００６９】
[他の機能性層]
転写材料または偏光板は、上記の層のほか、低透湿層、保護層、帯電防止層、ハードコート層、接着層、離型層、剥離層等の他の機能性層を含んでいてもよい。
転写材料は他の機能性層を含んでいてもよいが、本発明の製造方法は、転写材料が、光学異方性層または液晶化合物を含む重合性組成物から形成される層の表面に保護フィルム等を含んでいなくても、光学異方性層の偏光子への転写（転写体と偏光子を含むフィルムとの接着）が可能であることを特徴とする。
【００７０】
離型層
離型層は、仮支持体と転写体との間に設けられ、本発明の製造方法において、転写材料から仮支持体とともに剥離される層である。離型層の使用により、仮支持体と転写体との間の剥離が安定し、転写時の転写性を向上させることができる。
【００７１】
離型層としては、離型性樹脂、離型剤を含んだ樹脂、光照射で架橋する硬化性樹脂などが適用できる。離型性樹脂としては、例えば弗素系樹脂、シリコーン、メラミン系樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル系樹脂、繊維素系樹脂などが挙げられ、好ましくはメラミン系樹脂が挙げられる。離型剤を含んだ樹脂としては例えば、弗素系樹脂、シリコーン、各種のワックスなどの離型剤を、添加または共重合させたアクリル系樹脂、ビニル系樹脂、ポリエステル樹脂、繊維素系樹脂などが挙げられる。
【００７２】
離型層の形成は、上記樹脂を溶媒へ分散または溶解して、ロールコート、グラビアコートなどの公知のコーティング方法で、塗布し乾燥すればよい。また必要に応じて、温度３０℃〜１２０℃で加熱乾燥、あるいはエージング、または電離放射線を照射して架橋させてもよい。離型層の厚さとしては、通常は０．０１μｍ〜５．０μｍ程度、好ましくは０．５μｍ〜３．０μｍ程度である。
【００７３】
剥離層
剥離層は、仮支持体と転写体との間に設けられ、本発明の製造方法において、転写材料から仮支持体を剥離して得られる転写体の最表面となる層である。剥離層の利用により、転写材料からの仮支持体の剥離が安定する。
剥離層は転写体の最表面となることから、表面保護性を有することが好ましい。
剥離層の材料としては仮支持体との剥離性、および剥離層から見て仮支持体と反対側に形成される隣接層（配向層、パターン化光学異方性層等）との密着性を有するものであれば特に限定されるものではなく、例えばアクリル系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂、ポリエステル樹脂、ポリメタクリル酸エステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、セルロース樹脂、シリコーン樹脂、塩化ゴム、カゼイン、金属酸化物等を用いることができる。これらは２種以上を混合して用いることもできる。またこれらに対しては弗素系樹脂、シリコーン、各種のワックスなどの離型剤や各種界面活性剤等が添加または共重合されていてもよい。
転写材料においては、光学異方性層１または配向層が剥離層を兼ねていることも好ましい。
【００７４】
［偏光子］
偏光子としては、ヨウ素系偏光子、二色性染料を用いる染料系偏光子やポリエン系偏光子が挙げられる。ヨウ素系偏光子および染料系偏光子は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造される。本発明の製造方法においては、いずれの偏光子を用いてもよい。例えば偏光子は変性または未変性のポリビニルアルコールと二色性分子とから構成することが好ましい。変性または未変性のポリビニルアルコールと二色性分子とから構成される偏光子については例えば特開２００９−２３７３７６号公報の記載を参照することができる。偏光子の膜厚は５０μｍ以下であればよく、３０μｍ以下が好ましく、２０μｍ以下がより好ましい。また、偏光子の膜厚は、通常、１μｍ以上、５μｍ以上、または１０μｍ以上であればよい。
【００７５】
［偏光板の作製方法］
本発明の製造方法は、（２）上述の転写材料の仮支持体を剥離し仮支持体と転写体とを分離すること、および、（３）転写体を、偏光子を含むフィルムに接着させることを含む。（２）および（３）の順であってもよく、（３）および（２）の順であってもよい。偏光子を含むフィルムに接着させる転写体の面は、仮支持体を剥離して得られる面であっても、その反対の面であってもよいが、（３）および（２）の順で転写を行う場合は、光学異方性層１から見て、仮支持体側とは反対側の面で、偏光子を含むフィルムに接着させる。偏光子を含むフィルムに接着させる転写体の面は、光学異方性層１、光学異方性層２、配向層、剥離層などのいずれかの表面であればよい。
仮支持体の剥離方法は特に限定されない。仮支持体の剥離は転写体に破損を生じさせない速度で行うことが好ましい。  
【００７６】
用意される転写材料が、作製される偏光板よりも大きい場合においては、仮支持体の剥離前に、転写材料を裁断してもよい。例えば、幅１．５ｍ以上のロール状に作製された転写材料を裁断し、０．１ｍ2以下、０．０５ｍ2以下、０．０３ｍ2以下、０．０２５ｍ2以下、０．０２ｍ2以下、０．０１ｍ2以下、０．００５ｃｍ2以下、または０．００３ｍ2以下程度の大きさの、正方形または長方形などの任意の形状に裁断してもよい。上記形状の下限は特に限定されず、目的に応じて取扱い可能な程度の大きさであればよいが、通常０．０００１ｍ2（１ｃｍ2）程度以上であればよい。
【００７７】
転写体の最表面は偏光子を含むフィルム中の偏光子に接着されても偏光子以外の層に接着されてもよいが、偏光子に接着されることが好ましい。転写体の最表面が配向層であって、かつ、配向層が、偏光子に直接接着されていてもよい。この際、配向層がポリビニルアルコールを含む層であって、かつ偏光子がポリビニルアルコールを含むものである場合、特に接着性が良好である。
本明細書において、接着というときは、接着であっても粘着であってもよい。接着は接着層を介して行えばよい。接着層は接着剤または粘着剤を含む層であればよい。すなわち、転写体と偏光子を含むフィルムとは接着剤または粘着剤により接着または粘着させられていればよい。
【００７８】
接着剤としては特に限定はないが、ポリビニルアルコール系接着剤、ホウ素化合物水溶液、特開 ２００４−２４５９２５号公報に示されるような、分子内に芳香環を含まないエポキシ化合物の硬化性接着剤、特開２００８−１７４６６７号公報記載の３６０〜４５０ｎｍの波長におけるモル吸光係数が４００以上である光重合開始剤と紫外線硬化性化合物とを必須成分とする活性エネルギー線硬化型接着剤、特開２００８−１７４６６７号公報記載の（メタ）アクリル系化合物の合計量１００質量部中に（ａ）分子中に（メタ）アクリロイル基を２以上有する（メタ）アクリル系化合物と、（ｂ）分子中に水酸基を有し、重合性二重結合をただ１個有する（メタ）アクリル系化合物と、（ｃ）フェノールエチレンオキサイド変性アクリレートまたはノニルフェノールエチレンオキサイド変性アクリレートとを含有する活性エネルギー線硬化型接着剤などが挙げられる。
【００７９】
これらの中で、特にポリビニルアルコール系接着剤が好ましい。なお、ポリビニルアルコール系接着剤は変性または未変性ポリビニルアルコールを含む接着剤である。ポリビニルアルコール系接着剤は、変性または未変性ポリビニルアルコールのほか、架橋剤を含有していてもよい。接着剤の具体例としては、ポリビニルアルコールまたはポリビニルアセタール（例、ポリビニルブチラール）の水溶液や、ビニル系ポリマー（例、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリブチルアクリレート）のラテックスが挙げられる。特に好ましい接着剤は、ポリビニルアルコールの水溶液である。このとき、ポリビニルアルコールは完全鹸化されたものが好ましい。
接着剤層の厚みは乾燥膜厚で０．０１〜１０μｍが好ましく、０．０５〜５μｍが特に好ましい。
【００８０】
［偏光子を含むフィルム］
転写体が接着される偏光子を含むフィルムは、偏光子のみからなっていてもよく、偏光子の他、保護フィルムなどの他の層を含んでいてもよい。
【００８１】
［保護フィルム（保護層）］
偏光板は保護フィルムを含むことが好ましい。例えば、偏光子のいずれか一方または両方の面に保護フィルムを設けて、上記の偏光子を含むフィルムとしてもよい。また、転写材料において、予め、光学異方性層１から見て仮支持体側と反対側の、好ましくは最外面に、保護フィルムを設けておいてもよい。または、転写体と偏光子を含むフィルムとを接着させた後に、いずれか片方、または双方の面に保護フィルムを設けてもよい。
保護フィルムは、例えば、保護フィルムが設けられる表面に保護フィルム形成用組成物を直接塗布乾燥させるなどの方法によって、他の層と直接接するように設けてもよいが、通常は接着剤または粘着剤を用いて、上記表面に接着させてもよい。接着剤または粘着剤としては、転写体と偏光子を含むフィルムとの接着に用いられる接着剤または粘着剤と同様のものが挙げられる。
【００８２】
保護フィルムとしては、セルロースアシレ―ト系ポリマーフィルム、アクリル系ポリマーフィルム、またはシクロオレフィン系ポリマーフィルムを用いることができる。セルロースアシレ―ト系ポリマーに関しては特開２０１１−２３７４７４号公報のセルロースアシレ―ト系樹脂に関する記載を参照できる。シクロオレフィン系ポリマーフィルムとしては、特開２００９−１７５２２２号および特開２００９−２３７３７６号公報の記載を参照できる。シクロオレフィン系ポリマーフィルムを含むことにより、偏光板に透湿性を付与することができる。透湿性とは水は通さないが、水蒸気は通す性質を意味する。
保護フィルムの膜厚は、１００μｍ以下、５０μｍ以下、３０μｍ以下、２０μｍ以下、１０μｍ以下であればよく、１μｍ以上、５μｍ以上、１０μｍ以上であればよい。
【００８３】
［ハードコート層］
偏光板はハードコート層を含んでいてもよい。ハードコート層は偏光板の最外層として含まれていればよく、偏光子からみて、光学異方性層側の最外層に含まれていることが好ましい。
本明細書において、ハードコート層とは、形成されることで偏光板の鉛筆硬度が上昇する層をいう。実用的には、ハードコート層積層後の鉛筆硬度（ＪＩＳ Ｋ５４００）はＨ以上が好ましく、更に好ましくは２Ｈ以上であり、最も好ましくは３Ｈ以上である。ハードコート層の厚みは、０．４〜３５μｍが好ましく、更に好ましくは１〜３０μｍであり、最も好ましくは１．５〜２０μｍである。
具体的な組成については特開２０１２−１０３６８９号公報の記載を参照することができる。
【実施例】
【００８４】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の実施例に限定されるものではない。
なお、実施例において、Ｒｅおよび遅相軸は、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製  ＡｘｏＳｃａｎを用いて２３℃の室内で測定した。偏光板または転写材料において積層されている各光学異方性層の遅相軸を測定する場合は、仮支持体等は剥離して測定した。また、２層の光学異方性層を有する偏光板または転写材料において、２層目に形成される光学異方性層の遅相軸は一層目に形成した光学異方性層と同一の位相差層を別途作製して、面内で９０°回転させて重ね、一層目に形成した光学異方性層の位相差を打ち消して測定した。【００８５】
＜支持体１（セルロースアセテートフィルムＴ１）の作製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。【００８６】
――――――――――――――――――――――――――――――――――
セルロースアセテート溶液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
酢化度６０．７〜６１．１％のセルロースアセテート      １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤）                    ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）            ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                        ３３６質量部
メタノール（第２溶媒）                                  ２９質量部
１−ブタノール（第３溶媒）                              １１質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――【００８７】
別のミキシングタンクに、下記の添加剤（Ａ）１６質量部、メチレンクロライド９２質量部およびメタノール８質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、添加剤（Ａ）溶液を調製した。セルロースアセテート溶液４７４質量部に添加剤（Ａ）溶液２５質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した添加剤（Ａ）の添加量は、セルロースアセテート１００質量部に対して、６．０質量部であった。【００８８】
【化８】
2015046399.tif 000010
【００８９】
得られたドープを、バンド延伸機を用いて流延した。バンド上での膜面温度が４０℃となってから、７０℃の温風で１分乾燥し、バンドからフィルムを１４０℃の乾燥風で１０分乾燥し、残留溶剤量が０．３質量％のセルロースアセテートフィルムＴ１（支持体１）を作製した。【００９０】
得られた長尺状のセルロースアセテートフィルムＴ１の幅は１４９０ｍｍであり、厚さは８０μｍであった。また、面内レターデーション（Ｒｅ）は８ｎｍであった。【００９１】
＜転写材料１の作製＞
（配向膜１の形成）
上記で作製した支持体上に、下記組成の配向層塗布液を＃１４のワイヤーバーで連続的に塗布した。６０℃の温風で６０秒、更に１００℃の温風で１２０秒乾燥した。使用した変性ポリビニルアルコールの鹸化度は９６．８％であった。得られた配向膜の膜厚は０．５μｍであった。【００９２】
――――――――――――――――――――――――――――――――――
配向層１の塗布液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
変性ポリビニルアルコール（Ａ）                            １０質量部
水                                                      ３０８質量部
メタノール                                                ７０質量部
イソプロパノール                                          ２９質量部
光重合開始剤（イルガキュアー２９５９、ＢＡＳＦ社製）    ０．８質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――【００９３】
【化９】
2015046399.tif 000011
【００９４】
＜転写材料１の作製＞
以下の光学異方性層ａ−１および光学異方性層ａ−２により光学異方性層ａを作製した。得られた光学異方性層ａ−１と光学異方性層ａ−２との遅相軸の開き角（遅相軸方向の差異）は９０°であった。【００９５】
（光学異方性層ａ−１の形成）
上記支持体１および上記配向層１の積層体を作製し、配向層１にラビング処理を施した。このとき、長尺状のフィルムの長手方向と搬送方向は平行であり、フィルム長手方向とラビングローラーの回転軸とのなす角度が９０°（時計回り）とした（フィルム長手方向を９０°とすると、ラビングローラーの回転軸は０°）。
下記の組成のディスコティック液晶化合物を含む光学異方性層ａ−１の塗布液を上記の配向層１のラビング面に＃５のワイヤーバーで連続的に塗布した。塗布液の溶媒の乾燥およびディスコティック液晶化合物の配向熟成のために、１１５℃の温風で９０秒間、続いて、８０℃の温風で６０秒間加熱し、８０℃にてＵＶ照射を行い、液晶化合物の配向を固定化した。得られた光学異方性層の厚みは２．０μｍであった。ディスコティック液晶化合物の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、ディスコティック液晶化合物がフィルム面に対して、垂直に配向していることを確認した。また、遅相軸の角度はラビングローラーの回転軸と平行で、フィルム長手方向を９０°（フィルム幅方向を０°）とすると、０°であった。【００９６】
――――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層ａ−１の塗布液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
ディスコティック液晶化合物（Ａ）                          ８０質量部
ディスコティック液晶化合物（Ｂ）                          ２０質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）                      １０質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、ＢＡＳＦ社製）          ３質量部
ピリジニウム塩（Ｂ）                                    ０．９質量部
下記のボロン酸含有化合物                              ０．０８質量部
ポリマー（Ａ）                                          １．２質量部
フッ素系ポリマー（ＦＰ１）                              ０．３質量部
メチルエチルケトン                                      １８３質量部
シクロヘキサノン                                          ４０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――【００９７】
【化１０】
2015046399.tif 000012
【００９８】
（光学異方性層ａ−２の形成）
作製した光学異方性層ａ−１に連続的にラビング処理を施した。このとき、長尺状のフィルムの長手方向と搬送方向は平行であり、フィルム長手方向とラビングローラーの回転軸とのなす角度が−９０°（反時計回り）とした（フィルム長手方向を９０°とすると、ラビングローラーの回転軸は１８０°）。【００９９】
下記の組成の塗布液を、上記ラビング処理を施した光学異方性層ａ−１上に＃２．２のワイヤーバーで連続的に塗布した。塗布液の溶媒の乾燥および棒状液晶化合物の配向熟成のために、６０℃の温風で６０秒間加熱し、６０℃にてＵＶ照射を行い、液晶化合物の配向を固定化した。得られた光学異方性層ａ−２の厚みは０．８μｍであった。光学異方性層ａ−１と光学異方性層ａ−２との積層体を光学異方性層ａとした。棒状液晶化合物の長軸のフィルム面に対する平均傾斜角は０°であり、液晶化合物がフィルム面に対して、水平に配向していることを確認した。また、遅相軸の角度はラビングローラーの回転軸と直交で、フィルム長手方向を９０°（フィルム幅方向を０°）とすると、７５°であった。【０１００】
――――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層ａ−２の塗布液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
重合性液晶化合物（ＬＣ−１）                              ８０質量部
重合性液晶化合物（ＬＣ−２）                              ２０質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、ＢＡＳＦ社製）          ３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）            １質量部
フッ素系ポリマー（ＦＰ２）                              ０．３質量部
メチルエチルケトン                                      １９３質量部
シクロヘキサノン                                          ５０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――【０１０１】
【化１１】
2015046399.tif 000013
【０１０２】
＜転写材料２の作製＞
転写材料１の作製の際と同様に、支持体１および配向層１の積層体を作製し、この積層体の配向層１に連続的にラビング処理を施した。このとき、長尺状のフィルムの長手方向と搬送方向は平行であり、フィルム長手方向とラビングローラーの回転軸とのなす角度が４５°（時計回り）とした（フィルム長手方向を９０°とすると、ラビングローラーの回転軸は４５°）。【０１０３】
（光学異方性層ｂ−１の形成）
下記の組成のディスコティック液晶化合物を含む光学異方性層ｂ−１の塗布液を上記の配向層１のラビング面に＃５のワイヤーバーで連続的に塗布した。塗布液の溶媒の乾燥および液晶化合物の配向熟成のために、６０℃の温風で６０秒間加熱し、６０℃にてＵＶ照射を行い、液晶化合物の配向を固定化した。得られた光学異方性層の厚みは２．０μｍであった。また、遅相軸の角度はラビングローラーの回転軸と直交で、フィルム長手方向を９０°（フィルム幅方向を０°）とすると、１３５°であった。【０１０４】
――――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層ｂ−１の塗布液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
重合性液晶化合物（ＬＣ−１−１）                          ８０質量部
重合性液晶化合物（ＬＣ−２）                              ２０質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、ＢＡＳＦ社製）          ３質量部
ポリマー（Ａ）                                          １．５質量部
フッ素系ポリマー（ＦＰ１）                              ０．３質量部
メチルエチルケトン                                      １８３質量部
シクロヘキサノン                                          ４０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
その後、上記光学異方性層ｂ−１にラビング処理の角度をフィルム長手方向とラビングローラーの回転軸とのなす角度が−４５°（反時計回り）とする（フィルム長手方向を９０°とすると、ラビングローラーの回転軸は１３５°）以外は光学異方性層ａ−２の作製と同様の方法で光学異方性層ｂ（光学異方性層ｂ−１と光学異方性層ａ−２との積層体）を含む転写材料２を作製した。得られた光学異方性層ｂ−１と光学異方性層ａ−２との遅相軸の開き角は９０°であった。【０１０５】
＜転写材料３〜４の作製＞
支持体１を富士フイルム製ＰＥＴ（厚さ７５μｍ）に変更する以外はそれぞれ転写材料１〜２と同様に作製し、転写材料３〜４を得た。
＜転写材料５の作製＞
支持体１を富士フイルム製ＰＥＴ（厚さ７５μｍ）に変更し、配向層１を設けずに、支持体ＰＥＴに配向層１に行ったラビング処理と同様のラビング処理を行ったこと以外は転写材料４と同様に作製し、転写材料５を得た。【０１０６】
＜転写材料６、８の作製＞
光学異方性層ａ−１のラビング角度をフィルム長手方向とラビングローラーの回転軸とのなす角度が８０°（時計回り）とし（フィルム長手方向を９０°とすると、ラビングローラーの回転軸は１０°）、光学異方性層ａ−２のラビング角度をフィルム長手方向とラビングローラーの回転軸とのなす角度が−８０°（反時計回り）とする（フィルム長手方向を９０°とすると、ラビングローラーの回転軸は１７０°）以外は転写材料１、３と同様に作製し、転写材料６、８を得た。得られた転写材料６、８の光学異方性層ａ−１と光学異方性層ａ−２との遅相軸の開き角は７０°であった。【０１０７】
＜転写材料７、９、１０の作製＞
光学異方性層ｂ−１のラビング角度をフィルム長手方向とラビングローラーの回転軸とのなす角度が５５°（時計回り）とし（フィルム長手方向を９０°とすると、ラビングローラーの回転軸は３５°）、光学異方性層ａ−２のラビング角度をフィルム長手方向とラビングローラーの回転軸とのなす角度が−５５°（反時計回り）とする（フィルム長手方向を９０°とすると、ラビングローラーの回転軸は１４５°）以外は転写材料２、４、５と同様に作製し、転写材料７、９、１０を得た。得られた転写材料７、９、１０の光学異方性層ｂ−１と光学異方性層ａ−２との遅相軸の開き角は７０°であった。【０１０８】
＜転写材料１１、１３の作製＞
光学異方性層ａ−１のラビング角度をフィルム長手方向とラビングローラーの回転軸とのなす角度が７０°（時計回り）とし（フィルム長手方向を９０°とすると、ラビングローラーの回転軸は２０°）、光学異方性層ａ−２のラビング角度をフィルム長手方向とラビングローラーの回転軸とのなす角度が−７０°（反時計回り）とする（フィルム長手方向を９０°とすると、ラビングローラーの回転軸は１６０°）以外は転写材料１、３と同様に作製し、転写材料１１、１３を得た。得られた転写材料１１、１３の光学異方性層ａ−１と光学異方性層ａ−２との遅相軸の開き角は５０°であった。【０１０９】
＜転写材料１２、１４、１５の作製＞
光学異方性層ｂ−１のラビング角度をフィルム長手方向とラビングローラーの回転軸とのなす角度が６５°（時計回り）とし（フィルム長手方向を９０°とすると、ラビングローラーの回転軸は２５°）、光学異方性層ａ−２のラビング角度をフィルム長手方向とラビングローラーの回転軸とのなす角度が−６５°（反時計回り）とする（フィルム長手方向を９０°とすると、ラビングローラーの回転軸は１５５°）以外は転写材料２、４、５と同様に作製し、転写材料１２、１４、１５を得た。得られた転写材料１２、１４、１５の光学異方性層ｂ−１と光学異方性層ａ−２との遅相軸の開き角は５０°であった。【０１１０】
＜転写材料１６、１８の作製＞
光学異方性層ａ−１のラビング角度をフィルム長手方向とラビングローラーの回転軸とのなす角度が５７．５°（時計回り）とし（フィルム長手方向を９０°とすると、ラビングローラーの回転軸は３２．５°）、光学異方性層ａ−２のラビング角度をフィルム長手方向とラビングローラーの回転軸とのなす角度が−５７．５°（反時計回り）とする（フィルム長手方向を９０°とすると、ラビングローラーの回転軸は１４７．５°）以外は転写材料１、３と同様に作製し、転写材料１６、１８を得た。得られた転写材料１６、１８の光学異方性層ａ−１と光学異方性層ａ−２との遅相軸の開き角は２５°であった。【０１１１】
＜転写材料１７、１９、２０の作製＞
光学異方性層ｂ−１のラビング角度をフィルム長手方向とラビングローラーの回転軸とのなす角度が７７．５°（時計回り）とし（フィルム長手方向を９０°とすると、ラビングローラーの回転軸は１２．５°）、光学異方性層ａ−２のラビング角度をフィルム長手方向とラビングローラーの回転軸とのなす角度が−７７．５°（反時計回り）とする（フィルム長手方向を９０°とすると、ラビングローラーの回転軸は１６７．５°）以外は転写材料２、４、５と同様に作製し、転写材料１７、１９、２０を得た。得られた転写材料１７、１９、２０の光学異方性層ｂ−１と光学異方性層ａ−２の遅相軸の開き角は２５°であった。【０１１２】
＜転写材料２１、２３の作製＞
光学異方性層ａ−１のラビング角度をフィルム長手方向とラビングローラーの回転軸とのなす角度が５０°（時計回り）とし（フィルム長手方向を９０°とすると、ラビングローラーの回転軸は４０°）、光学異方性層ａ−２のラビング角度をフィルム長手方向とラビングローラーの回転軸とのなす角度が−５０°（反時計回り）とする（フィルム長手方向を９０°とすると、ラビングローラーの回転軸は１４０°）以外は転写材料１、３と同様に作製し、転写材料２１、２３を得た。得られた転写材料２１、２３の光学異方性層ａ−１と光学異方性層ａ−２との遅相軸の開き角は１０°であった。【０１１３】
＜転写材料２２、２４、２５の作製＞
光学異方性層ｂ−１のラビング角度をフィルム長手方向とラビングローラーの回転軸とのなす角度が８５°（時計回り）とし（フィルム長手方向を９０°とすると、ラビングローラーの回転軸は５°）、光学異方性層ａ−２のラビング角度をフィルム長手方向とラビングローラーの回転軸とのなす角度が−８５°（反時計回り）とする（フィルム長手方向を９０°とすると、ラビングローラーの回転軸は１７５°）以外は転写材料２、４、５と同様に作製し、転写材料２２、２４、２５を得た。得られた転写材料２２、２４、２５の光学異方性層ｂ−１と光学異方性層ａ−２との遅相軸の開き角は１０°であった。【０１１４】
＜転写材料２６、２８の作製＞
光学異方性層ａ−１のラビング角度をフィルム長手方向とラビングローラーの回転軸とのなす角度が４７．５°（時計回り）とし（フィルム長手方向を９０°とすると、ラビングローラーの回転軸は４２．５°）、光学異方性層ａ−２のラビング角度をフィルム長手方向とラビングローラーの回転軸とのなす角度が−４７．５°（反時計回り）とする（フィルム長手方向を９０°とすると、ラビングローラーの回転軸は１３７．５°）以外は転写材料１、３と同様に作製し、転写材料２６、２５を得た。得られた転写材料２６、２５の光学異方性層ａ−１と光学異方性層ａ−２との遅相軸の開き角は５°であった。【０１１５】
＜転写材料２７、２９、３０の作製＞
光学異方性層ｂ−１のラビング角度をフィルム長手方向とラビングローラーの回転軸とのなす角度が８７．５°（時計回り）とし（フィルム長手方向を９０°とすると、ラビングローラーの回転軸は２．５°）、光学異方性層ａ−２のラビング角度をフィルム長手方向とラビングローラーの回転軸とのなす角度が−８７．５°（反時計回り）とする（フィルム長手方向を９０°とすると、ラビングローラーの回転軸は１７７．５°）以外は転写材料２、４、５と同様に作製し、転写材料２７、２９、３０を得た。得られた転写材料２７、２９、３０の光学異方性層ｂ−１と光学異方性層ａ−２との遅相軸の開き角は５°であった。【０１１６】
＜転写材料３１、３３の作製＞
光学異方性層ａ−１のラビング角度をフィルム長手方向とラビングローラーの回転軸とのなす角度が４６．５°（時計回り）とし（フィルム長手方向を９０°とすると、ラビングローラーの回転軸は４３．５°）、光学異方性層ａ−２のラビング角度をフィルム長手方向とラビングローラーの回転軸とのなす角度が−４６．５°（反時計回り）とする（フィルム長手方向を９０°とすると、ラビングローラーの回転軸は１３６．５°）以外は転写材料１、３と同様に作製し、転写材料３１、３３を得た。得られた転写材料３１、３３の光学異方性層ａ−１と光学異方性層ａ−２との遅相軸の開き角は３°であった。【０１１７】
＜転写材料３２、３４、３５の作製＞
光学異方性層ｂ−１のラビング角度をフィルム長手方向とラビングローラーの回転軸とのなす角度が８８．５°（時計回り）とし（フィルム長手方向を９０°とすると、ラビングローラーの回転軸は１．５°）、光学異方性層ａ−２のラビング角度をフィルム長手方向とラビングローラーの回転軸とのなす角度が−８８．５°（反時計回り）とする（フィルム長手方向を９０°とすると、ラビングローラーの回転軸は１７８．５°）以外は転写材料２、４、５と同様に作製し、転写材料３２、３４、３５を得た。得られた転写材料３２、３４、３５の光学異方性層ｂ−１と光学異方性層ａ−２との遅相軸の開き角は３°であった。【０１１８】
＜比較例１〜５＞
＜転写材料３６、３８の作製＞
光学異方性層ａ−１のラビング角度をフィルム長手方向とラビングローラーの回転軸とのなす角度が４５°（時計回り）とし（フィルム長手方向を９０°とすると、ラビングローラーの回転軸は４５°）、光学異方性層ａ−２のラビング角度をフィルム長手方向とラビングローラーの回転軸とのなす角度が−４５°（反時計回り）とする（フィルム長手方向を９０°とすると、ラビングローラーの回転軸は１３５°）以外は転写材料１、３と同様に作製し、転写材料３６、３８を得た。得られた転写材料３６、３８の光学異方性層ａ−１と光学異方性層ａ−２との遅相軸の開き角は０°であった。【０１１９】
＜転写材料３７、３９、４０の作製＞
光学異方性層ｂ−１のラビング角度をフィルム長手方向とラビングローラーの回転軸とのなす角度が９０°（時計回り）とし（フィルム長手方向を９０°とすると、ラビングローラーの回転軸は０°）、光学異方性層ａ−２のラビング角度をフィルム長手方向とラビングローラーの回転軸とのなす角度が−９０°（反時計回り）とする（フィルム長手方向を９０°とすると、ラビングローラーの回転軸は１８０°）以外は転写材料２、４、５と同様に作製し、転写材料３７、３９、４０を得た。得られた転写材料３７、３９、４０の光学異方性層ｂ−１と光学異方性層ａ−２との遅相軸の開き角は０°であった。【０１２０】
＜比較例６、７＞
＜転写材料４１、４２の作製＞
光学異方性層を積層させないこと以外は、転写材料３、４と同様の方法で光学異方性層ａ−１、光学異方性層ｂ−１を作製し、転写材料４１、４２を得た。【０１２１】
＜比較例８＞
＜転写材料４３の作製＞
転写材料１の作製の際と同様に、支持体１および配向層１の積層体を作製し、この積層体の配向層１に転写材料２と同様のラビング処理を施した。ラビング処理面に、表１に示すコレステリック液晶層３の塗布液を乾燥後の乾膜の厚みが２．０μｍになるように室温にてワイヤーバーを用いて塗布した。塗布層を室温にて３０秒間乾燥させた後、８５℃の雰囲気で２分間加熱し、その後３０℃でフュージョン製Ｄバルブ(ランプ９０mW/cm)にて出力６０%で６〜１２秒間ＵＶ照射し液晶層を得た。この液晶層上にコレステリック液晶層３の塗布液を乾燥後の乾膜の厚みが０．８μｍになるように室温にて塗布し、その後上記と同様に乾燥、加熱、ＵＶ照射を行い、２層目のコレステリック液晶層を形成し、転写材料４３とした。【０１２２】
――――――――――――――――――――――――――――――――――
コレステリック液晶層３の塗布液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
重合性液晶化合物（ＬＣ−１）                            １００質量部
光重合開始剤（イルガキュアー８１９、ＢＡＳＦ社製）          ５質量部
配向制御剤（ＦＰ３）                                  ０．０３質量部
キラル剤（ＢＡＳＦ社製  ＬＣ−７５６）                      ７質量部
メチルエチルケトン                              膜厚に応じて適宜調整
――――――――――――――――――――――――――――――――――【０１２３】
【化１２】
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【０１２４】
＜比較例９＞
＜転写材料４４の作製＞
配向層を設けないこと以外は転写材料４３と同様に作製し、転写材料４４を得た。【０１２５】
＜仮支持体からの剥離性評価＞
転写材料１〜４４をそれぞれ２００ｍｍ×３００ｍｍに切り抜き、２００ｍｍの１辺の縁の形成した層に日東電工（株）製のポリエステル粘着テープ“ＮＯ．３１Ｂ”を圧着しての仮支持体からの剥離性を以下の基準で評価した。結果を表１に示す。
Ａ：３回とも全面円滑に剥離できる。
Ｂ：３回中２回全面円滑に剥離できる。
Ｃ：３回中１回全面円滑に剥離できる。
Ｄ：３回ともに途中で千切れて半分程度しか剥離できない。
Ｅ：３回ともに千切れて引き剥がせない。【０１２６】
【表１】
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【０１２７】
＜偏光板１〜３５の作製＞
（偏光子の作製）
厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中で連続して５倍に延伸し、乾燥して厚さ２０μｍの偏光膜（偏光子）を得た。【０１２８】
（アクリル樹脂シートＴ２の作製）
下記に記載のアクリル樹脂を使用した。このアクリル樹脂は市販品で入手可能である。
・ダイヤナールＢＲ８８（商品名）、三菱レイヨン（株）製、重量平均分子量１５０００００（以降アクリル樹脂ＡＣ−１とする）。
（紫外線吸収剤）
下記の紫外線吸収剤を使用した。
・ＵＶ剤１：チヌビン３２８（ＢＡＳＦ社製）【０１２９】
（ドープＡ調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、ドープＡを調製した。
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（ドープＡ組成）
――――――――――――――――――――――――――――――――――
アクリル樹脂ＡＣ−１                            １００質量部
紫外線吸収剤 ＵＶ剤１                               ２質量部
ジクロロメタン                                  ３００質量部
エタノール                                        ４０質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――【０１３０】
バンド流延装置を用い、調製したドープを２０００ｍｍ幅でステンレス製のエンドレスバンド（流延支持体）に流延ダイから均一に流延した。ドープ中の残留溶媒量が４０質量％になった時点で流延支持体から高分子膜として剥離し、延伸をせずに搬送し、乾燥ゾーンで１３０℃で乾燥を行った。得られたアクリル樹脂シートＴ２の膜厚は４０μｍであった。
このように得られた樹脂シートＴ２の片面にコロナ処理を行い、コロナ処理面においてＰＶＡ（（株）クラレ製、ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として用いて上記偏光子の片側面と貼り合わせた。【０１３１】
転写材料１〜３５をそれぞれ長手方向に２００ｍｍ×３００ｍｍ（長手方向が３００ｍｍ）にカットし、上記支持体Ｔ１または上記ＰＥＴを配向層との界面、または配向層のないものについては光学異方性層ｂ−１との界面でゆっくりと剥離して転写体を得た。上記偏光子の残りの片側面に、ポリビニルアルコール（クラレ製ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として用いて転写材料１、３、６、８、１１、１３、１６、１８、２１、２３、２６、２８、３１、３３からの転写体については偏向子の吸収軸と長手方向が平行になるように、転写材料２、４、５、７、９、１０、１２、１４、１５、１７、１９、２０、２２、２４、２５、２７、２９、３０、３２、３４、３５からの転写体については偏向子の吸収軸と長手方向のなす角が４５°となるように上記支持体Ｔ１または上記ＰＥＴを剥離した面と反対側の面で、貼り合わせた。得られた偏光板をそれぞれ偏光板１〜３５とした。【０１３２】
有機ＥＬパネルへの実装評価
有機ＥＬパネル搭載のＬＧ電子社製１５ＥＬ９５００を分解し、円偏光板を剥離した。上記偏光板１〜３５を画面サイズに裁断し、パネル前面に粘着剤を用いて貼合した。このとき、光学異方性層がパネル面側で、偏光膜保護フィルムが視認者側になるように偏光板を貼合した。得られた有機ＥＬパネルは薄く、可視領域において反射が抑えられており、反射防止性能を有していた。
【符号の説明】
【０１３３】
１  偏光子
２  光学異方性層１
３  光学異方性層２
４  保護フィルム
５  ハードコート層
１２  配向層
【図１】
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【国際調査報告】
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