(57)【要約】  研磨後のガラスから光学素子を製造する方法であって、研磨後のガラスに対する洗浄工程で用いられる洗浄液、および、前記洗浄工程後のリンス工程で用いられるリンス液のうち少なくともいずれかは、研磨後のガラスの表面に存在するクラック部が拡大するのを抑制する液である光学素子の製造方法を提供する。
2014109204.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
研磨後のガラスから光学素子を製造する方法であって、
研磨後のガラスに対する洗浄工程で用いられる洗浄液、および、前記洗浄工程後のリンス工程で用いられるリンス液のうち少なくともいずれかは、研磨後のガラスの表面に存在するクラック部が拡大するのを抑制する液である光学素子の製造方法。
【請求項２】
芯取後のガラスの直径は１５ｍｍ以上である請求項１に記載の光学素子の製造方法。
【請求項３】
前記洗浄液および前記リンス液のうち少なくともいずれかは、リン酸塩を含有する液体である請求項１または２に記載の光学素子の製造方法。
【請求項４】
前記ガラスはリン酸塩ガラスである請求項１ないし３のいずれかに記載の光学素子の製造方法。
【請求項５】
前記リン酸塩ガラスはフッ素を含有する請求項４に記載の光学素子の製造方法。
【請求項６】
前記フッ素を含有するリン酸塩ガラスのＦの含有量は５５アニオン％以上、Ｏの含有量は４５アニオン％以下である請求項５に記載の光学素子の製造方法。
【請求項７】
前記洗浄液および前記リンス液のうち少なくともいずれかは、ｐＨ３〜９．８以下の緩衝液である請求項１ないし６のいずれかに記載の光学素子の製造方法。
【請求項８】
研磨後のガラスとして、モールドプレス成形に用いられるプリフォームを用いる請求項１ないし７のいずれかに記載の光学素子の製造方法。
【請求項９】
研磨前のガラスを研磨する研磨工程と、
研磨後のガラスを前記洗浄液で洗浄する洗浄工程と、
前記洗浄工程後、研磨後のガラスを前記リンス液でリンスするリンス工程と、
を有する請求項１ないし７のいずれかに記載の光学素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学素子の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
多くの光学素子にはガラスが用いられている。光学素子の製造の工程中、ガラスの表面に加工液や異物等が付着して汚れる機会がある。そのため、適宜、ガラスに対する洗浄工程が行われ、ガラスは清浄に保たれる。また洗浄に用いられた洗浄液をすすぐべく、洗浄工程と共に、リンス工程も設けられる。【０００３】
通常、このリンス工程において用いられるリンス液には、特許文献１に示すような純水や、その他の脱イオン水（以降、ＤＩ（Ｄｅｉｏｎｉｚｅｄ）水と呼ぶ。）などが用いられる。【０００４】
一方、研磨液として、ガラスのｐＨと研磨剤含有分散液のｐＨとを近似させた技術が、特許文献２にて開示されている。この技術は、ガラスと研磨液との化学反応を抑制するという思想の基になされたものである（特許文献２の［００１０］）。そして、洗浄液やリンス液においても、ガラスのｐＨと洗浄液やリンス液のｐＨとを近似させることにより、潜傷を発生させにくくすることが記載されている（特許文献２の［００２１］）。なお、ここでのガラスの良否判定の基準は、７μｍ幅の線状傷の有無となっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１０−１０８５９０号公報
【特許文献２】特許第３３６１２７０号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、研磨等のガラス加工処理においては、砥粒を含有する研磨液、研削液および砥石等が用いられる。このような砥粒は、ガラスの研磨処理中にガラス表面に衝突することにより、１μｍ幅程度以下のクラック部を生じさせる場合がある。さらに、このようなクラック部は、研磨後の洗浄工程またはリンス工程において拡大することがわかった。ここで、「クラック部」とは、ガラス表面近傍に形成された凹部、および、亀裂等が生じることによりガラス内部に比べて密度が低くなっている部分のうち少なくともいずれかであって、所定の深さおよび所定の幅を持つものをいう。クラック部は、線状傷とは異なり、基本的に閉ざされた領域からなる。また、「クラック部が拡大する」とはクラック部の深さおよび幅の少なくともいずれかが大きくなることをいう。【０００７】
従来、ガラス表面におけるクラック部の拡大による光散乱強度の増大やムラ（曇り）は、適用製品の性能に影響を与えることはなく、問題になることはなかった。しかしながら、例えば、近年のデジタルカメラの高性能化に伴い、撮像素子の大型化や画素数の増加に加えて、ガラスレンズの中口径化ないし大口径化が求められている。ここでは、クラック部の拡大に起因する僅かな曇りであっても、製品性能を劣化させる場合がある。【０００８】
本発明の一態様は、良好な製品性能を有する光学素子の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは、上記の課題を解決すべく、鋭意検討を行った。その結果が、後述する実施例および比較例である。詳細は実施例の項目で詳述するが、本発明者が調査したところ、以下の内容が明らかとなった。
研磨後のガラスに対してＤＩ水または純水等の水により洗浄工程を行ったところ、目に見えて曇りが生じた。そして、クラック部に着目してみると、洗浄工程前に比べて洗浄工程後の方が、クラック部の幅および深さの少なくともいずれかが大きくなっていることを見出した。すなわち、クラック部の拡大が生じていた。【００１０】
本発明者は、この現象を見出したのみならず、この現象が起こる原因について鋭意検討を行った。その結果、以下のメカニズムを推測するに至った。【００１１】
まず、クラック部の発生原因として、研磨の際に使用される砥粒がガラスの表面に衝突することが挙げられる。このような物理的衝撃により、研磨直後のガラスの表面には凹部および亀裂等の低密度部のうち少なくともいずれかが生じるとともに、凹部または低密度部の下に潜在的なダメージが残存する。この状態で、ＤＩ水等による洗浄工程を行うと、潜在的なダメージ部分のガラスが選択的にエッチングされることになり、クラック部が拡大してしまう。クラック部の拡大が生じると、光散乱体としての体積が大きくなるため、光散乱強度が大きくなり、目視で曇りが濃くなって見えるようになる。【００１２】
上記の知見を得た本発明者が、研磨後のガラスにおけるクラック部の拡大を抑制するために想到した構成の一例が、以下の態様となる。
本発明の一つの態様は、
研磨後のガラスから光学素子を製造する方法であって、
研磨後のガラスに対する洗浄工程で用いられる洗浄液、および、前記洗浄工程後のリンス工程で用いられるリンス液のうち少なくともいずれかは、研磨後のガラスの表面に存在するクラック部が拡大するのを抑制する液である光学素子の製造方法、である。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、良好な製品性能を有する光学素子の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本実施形態における光学素子の製造方法を示すフローチャートである。
【図２】本実施形態における光学素子の製造方法において、ガラスに対する加工における各工程を示すフローチャートである。
【図３】実施例１におけるガラス基板および比較例１におけるガラス基板に対し、テープを剥がした後の参照面を参考にして、ガラスの表面の品質に変化が生じているかについて、目視で調査した結果を示す写真である。（ａ）が実施例１、（ｂ）が比較例１の結果を示す。
【図４】実施例１におけるガラス基板に対し、ＳＥＭ観察を行った結果を示す写真である。（ａ）が試験面、（ｂ）が参照面の写真である。
【図５】比較例１におけるガラス基板に対し、ＳＥＭ観察を行った結果を示す写真である。（ａ）が試験面、（ｂ）が参照面の写真である。
【図６】実施例１におけるガラス基板に対し、更に高倍率でＳＥＭ観察を行った結果を示す写真である。（ａ）が試験面、（ｂ）が参照面の写真である。
【図７】比較例１におけるガラス基板に対し、更に高倍率でＳＥＭ観察を行った結果を示す写真である。（ａ）が試験面、（ｂ）が参照面の写真である。
【図８】ＳＥＭ観察結果から想定される、ガラス基板の表面近傍を拡大した断面模式図である。
【図９】実施例１におけるガラス基板に対し、断面ＴＥＭ観察を行った結果を示す写真である。（ａ）が試験面、（ｂ）が参照面の写真である。
【図１０】比較例１におけるガラス基板に対し、断面ＴＥＭ観察を行った結果を示す写真である。（ａ）が試験面、（ｂ）が参照面の写真である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明の実施の形態について説明する。
本実施形態においては、次の順序で説明を行う。以下、明細書に特筆のない事項については、公知の技術を使用しても構わない。以下の工程を図１および図２に示す。
図１は、本実施形態における光学素子の製造方法を示すフローチャートである。
図２は、本実施形態における光学素子の製造方法において、Ｂ）ガラスに対する加工における各工程を示すフローチャートである。
１．光学素子の製造方法
Ａ）ガラスの準備
Ｂ）ガラスに対する加工
Ｂ−１）創成研削工程
Ｂ−２）精研削工程
Ｂ−３）研磨工程
Ｂ−４）第１の洗浄工程
Ｂ−５）第１のリンス工程
Ｂ−６）芯取り工程
Ｂ−７）第２の洗浄工程
Ｂ−８）第２のリンス工程
Ｃ）その他（成膜、保管等）
２．実施の形態による効果
３．変形例
【００１６】
なお、本明細書において、「研磨」とは、創成研削工程、精研削工程、研磨工程のうち少なくともいずれか一つの工程で実施される研磨または研削を指す。
また、「研磨後のガラス」とは、以下の２つを含むものとする。一つは、ガラス素材を研磨したもの、すなわちブランクに対して研磨によりレンズ形状が形成されたガラスである。もう一つは、モールドプレス成形に用いられるプリフォーム（予備成形体）のうち、冷間加工により形成されたプリフォームである。冷間加工によるプリフォームは創成研削工程、精研削工程等の研削工程および研磨工程が実施されるためである。このように、「研磨後のガラス」は、クラック部および潜在的なダメージが生じ得る研磨が行われた後のガラスを指す。
「洗浄液」とは、文字通り洗浄用途としての液体、例えば洗剤を含む液体を含む。「リンス液」とは、洗浄工程後に行われるリンス工程で用いられる液体であり、洗浄液を洗い流すために用いられる液体も含む。
【００１７】
＜１．光学素子の製造方法＞
Ａ）ガラスの準備
本実施形態におけるガラスは、ガラス素材、ガラス物品としての光学素子の材料となるブランク、もしくは製品となる前の段階の中間品を指す。また、本実施形態におけるガラスは、後に光学素子として出荷できる程度の品質を有するものであれば、素材および形状共に、特に限定はない。本実施形態においてはフツリン酸塩ガラスを用いた場合について述べる。
【００１８】
Ｂ）ガラスに対する加工
Ｂ−１）創成研削工程
まず、最終形状の光学素子に近似させた形状に形成したブランクを用意しておく。そしてこのブランクに対し、切削・研削方法として球面加工、トーリック面加工、および自由曲面加工を行うためのカーブジェネレーティング加工（ＣＧ加工）を行う。ＣＧ加工が行われる工程は、粗削り工程とも呼ばれる。ＣＧ加工により、ブランクにおけるレンズ面となるべき部分を略球面状に創成研削加工し、レンズ面を得る。また、創成研削工程は、曲面加工だけでなく、平面加工が行われる場合もある。
【００１９】
Ｂ−２）精研削工程
続いて、ＣＧ加工が行われレンズ形状が形成されたガラスに対し、スムージングを行う。このスムージングは、ＣＧ加工により粗くなったガラスの表面を整えるために行われる工程である。具体例を挙げると、レンズ形状を略反転した形状の皿状工具を用いて、研削液を供給しながらレンズ面を精研削加工する。この研削液は、界面活性剤等を含む液体であり、研削加工時の潤滑性を高め、被加工物を冷却するために用いられる。なお、本精研削工程は行わない場合がある。
【００２０】
Ｂ−３）研磨工程
次いで、研磨工程において、レンズ形状を略反転した形状の研磨工具を用いて研磨液を供給しながらレンズ面を研磨加工して平滑な面に仕上げる。具体例を挙げると、例えば、研磨シートが貼り付けられたレンズ形状を略反転した形状の皿状工具を用いて、研磨液を供給しながらレンズ面を研磨加工してレンズ面を仕上げる。この研磨液は、砥粒（酸化セリウム粒子、酸化ジルコニウム粒子等）を含む液体である。
【００２１】
上記Ｂ−１）、Ｂ−２）、Ｂ−３）の工程のいずれかにおいて、研磨用砥粒がガラス表面に衝突し、１μｍ程度以下のクラック部を生じさせる。研磨直後のガラスの表面にはクラック部（凹部および低密度部のうち少なくともいずれか）が生じ、且つ、クラック部からひび割れが生じるなどの潜在的なダメージが生じる。クラック部の拡大を抑制するため、以下のＢ−４）第１の洗浄工程およびＢ−５）第１のリンス工程が行われる。なお、両工程に対して本発明を適用しても構わないし、いずれか一方のみに本発明を適用しても構わない。ただ、クラック部の拡大が生じる機会を減らすためには、両工程に対して本発明を適用するのが好ましい。
【００２２】
Ｂ−４）第１の洗浄工程
研磨工程終了後、研磨液の除去やその他の汚れを除去するために、洗浄液を用いてガラスを洗浄する洗浄工程が行われる。具体的には、加工後（たとえば、研磨加工後または芯取り加工後）のガラス（光学レンズ）を保持具に載置し、無機アルカリ、有機アルカリや界面活性剤を含有する洗浄液を貯留する洗浄槽に浸漬することにより洗浄を行う。このとき、洗浄槽の底面周囲から洗浄液に対して所定の周波数（例えば、５０ｋＨｚ）で超音波を印加し洗浄液を振動させて超音波洗浄を行うことが好ましい。この洗浄は複数の槽で所望の回数行うことができる。なお、洗浄液として従来のようにＤＩ水を用いても構わない。ただ、後述のリンス液と同様に、リン酸塩水溶液を用いるのが好ましい。その理由については、以下のＢ−５）第１のリンス工程にて述べる。洗浄液にもリンス液にも本発明の適用が可能であるし、洗浄液およびリンス液のうちいずれかに本発明を適用しても構わないが、本実施形態においてはリンス液について主に述べる。以降、本実施形態で述べるリンス液についての特徴はいずれも、洗浄液に適用可能である。
なお、上記の方法以外に、有機溶剤を用いたレンズ用ペーパーにより、手拭きでの洗浄が行われる場合がある。この場合、ガラス表面のクラック部の拡大は生じない。
【００２３】
Ｂ−５）第１のリンス工程
洗浄工程後、洗浄液をすすぐために、リンス工程が行われる。具体的には、上記の洗浄工程後の光学レンズを保持具に載置し、リンス液を貯留するリンス槽に浸漬させてリンスを行う。このとき、リンス液に対して所定の周波数（例えば、５０ｋＨｚ）で超音波を印加し水溶液を振動させて超音波洗浄を行うことが好ましい。このリンス工程は複数の槽で所望の回数行うことができ、必ずしも超音波を印加しなくてもよい。リンス液として、リン酸塩水溶液を用いる。なお、第１のリンス工程は第１の洗浄工程に含めた一連のプロセスとして行うことができる。また、リンス工程は、上記だけでなく、バブリングによる場合や噴流または流水中で行われる場合もある。
なお、洗浄工程とリンス工程に共通することであるが、ＤＩ水による処理を超音波使用下で行うと、エッチングが促進されるため、クラック部の拡大はより顕著になる。
【００２４】
以下、本実施形態におけるリンス液の具体例について詳述する。
本実施形態において、リンス液は溶質および溶媒を含む溶液であり、本実施形態では、例えばリンス液としてリン酸イオン（ＰＯ４３−、ＨＰＯ４２−、Ｈ２ＰＯ４−）とアルカリ金属イオンとを含む水溶液を用いる。これらのイオンにより水溶液のｐＨがコントロールされていることが好ましい。このようなリンス液は、たとえば、溶質としてのリン酸塩と、溶媒としての水と、を含む。また、リンス液は、用途に応じた公知の成分をさらに含んでもよい。
【００２５】
リン酸塩としては、特に制限されず、リン酸二水素ナトリウム（ＮａＨ２ＰＯ４）、リン酸水素二ナトリウム（Ｎａ２ＨＰＯ４）、リン酸ナトリウム（Ｎａ３ＰＯ４）、リン酸二水素カリウム（ＫＨ２ＰＯ４）、リン酸水素カリウム（ＫＨ２ＰＯ４）、リン酸カリウム（Ｋ３ＰＯ４）等が例示される。
ただし、トリポリリン酸ナトリウム（ＳＴＰＰ：Ｎａ５Ｐ３Ｏ１０）のようにリン酸化合物であってもキレート効果を有する物質（キレート錯体）を溶質として使用すると、金属イオンがキレート効果を有する物質に取り込まれ、ガラス表面の品質が劣化してしまう。そのため、リンス液中にキレート効果を有する物質を加えないことが好ましく、リンス液がキレート効果を有する物質を含まないことが好ましい。リンス液は、リン酸塩などの溶質を溶媒に溶解した溶液であってもよいし、溶媒に酸とアルカリとを加えて中和させ、溶質（塩）が溶媒（水）に溶解した状態と同様の溶液であってもよい。いずれの場合もリンス液は溶質と溶媒とを含む。
【００２６】
リンス液の構成を更に具体的に述べると、以下のものが挙げられる。例えば、リン酸二水素ナトリウムとリン酸水素二ナトリウムをモル比で１：１の割合で混合し、リンの濃度とナトリウムの濃度がそれぞれ１０〜１０００ｐｐｍの範囲となるように混合物をＤＩ水または純水内に導入することにより、リンス液をつくることができる。別の例としては、リンの濃度は１５０〜１６０ｐｐｍとすることができる。また、この濃度の１／１０あるいは１０倍以上の濃度でも本発明の効果を奏することが確認されている。
あるいは、所定濃度のリン酸二水素ナトリウム水溶液と所定濃度のリン酸水素二ナトリウム水溶液を作り、これらの水溶液を混合してもよい。また、Ｈ３ＰＯ４とＮａＯＨを用いてリンス液のｐＨと濃度を調整しても良い。ＮａＯＨの代わりのアルカリ成分としてＫを用いても構わない。さらにこのとき、リン酸二水素ナトリウムの導入比率を高めると、リンス液のｐＨが小さくなり、リン酸水素二ナトリウムの導入比率を高めると、リンス液のｐＨが大きくなる傾向にある。したがって、リンス液のｐＨの調整は、リン酸成分とアルカリ成分の導入比率を調整することで、容易に調整可能である。
【００２７】
また、本実施形態におけるリンス液のｐＨは、好ましくは３〜９．８、より好ましくは５〜９、さらに好ましくは６〜８、一層好ましくは６．５〜７．５である。この範囲のｐＨならば、ガラスに含まれる成分がガラスから溶出し過ぎることがなくなる。特に、リン酸イオンＰＯ４３−を含み、ｐＨが７付近にコントロールした水溶液をリンス液として用いるのが好ましい。
【００２８】
なお、リンス液の温度は特に限定されず、例えば、常温を含む５〜６０℃の範囲内で適宜使用できる。
【００２９】
ところで、ガラスの全表面において高品質が要求されない場合がある。例えば、光学素子の光学機能面は、レンズの光学機能面のようにガラスの表面であることが多い。そして、光学素子の光学機能面以外の面、例えば、光学レンズのコバに相当する面などは潜傷が顕在化したり、ヤケが生じたりしても光学素子としての性能低下には至らない。したがって、本実施形態において、「ガラスの表面」というときは、ガラスの表面のうち、少なくとも高品質が要求される面（例えば、光学素子の光学機能面）を含む面を指し、必ずしもガラスの全表面でなくてもよい。なお、光学機能面とは光学素子の制御対象である光の透過、屈折、反射、回折等に使用する面を意味する。
【００３０】
Ｂ−６）芯取り工程
芯取り工程は、研磨加工またはモールドプレス成形によって得られたガラスの外周部を、光軸を中心として所望の形状に研削する工程である。具体的には、光学素子を一対のベルホルダで挟持して芯出しを行い、その中心線周りにレンズを回転させ、芯取り液を供給しながらレンズの側周面をダイヤモンド砥石等で研削する。この芯取り液は、研削液と同様に、芯取り時の潤滑性を高め、被加工物を冷却するために用いられる。これにより、ガラスの外周形状が、ガラスをレンズとしたときの光軸を中心とする真円形となる。芯取加工の具体的な手法については、公知のものを適用すればよい。
【００３１】
なお、芯取後のガラスの直径は１５ｍｍ以上であると、本実施形態の効果は更に際立つ。上述の通り、ここでのクラック部の大きさの基準値は、例えば幅１μｍとなっており、これは特許文献２の基準である線状傷の幅７μｍに比べて極めて小さい。また、クラック部の深さについても同様に基準が厳しくなっている。仮に、従来のリンス工程によりクラック部の幅が大きくならないとしても、クラック部の深さが大きくなってしまうと、結局のところ、品質の基準をクリアすることができなくなってしまう。その逆に、クラック部の深さが大きくならないとしても、クラック部の幅が大きくなってしまうと、結局のところ、品質の基準をクリアすることができなくなってしまう。
ましてや、芯取後のガラスの直径が１５ｍｍ以上の中口径ないし大口径の光学素子においては、クラック部の存在が顕在化するようになり、クラック部の拡大を抑制することの必要性が更に増大する。これは、特許文献２からは窺い知れない新たな課題である。
ところが、本実施形態の手法を用いることにより、クラック部の拡大を抑制することが可能となる。そのため、芯取後のガラスの直径は１５ｍｍ以上といった、中口径ないし大口径の光学素子においても、良好な製品性能を発揮させることができる。
なお、芯取後のガラスの直径としては、さらに好ましいのは３０ｍｍ以上であり、より一層好ましいのは６０ｍｍ以上である。
また、本発明に係る光学素子が適用されるのは、例えば一眼レフ用のデジタルカメラである。ここでは、「ＡＰＳ−Ｃ（Ａｄｖａｎｃｅｄ  Ｐｈｏｔｏ  Ｓｙｓｔｅｍ  ｔｙｐｅ  Ｃ；例えば、サイズ２３．４ｍｍ×１６．７ｍｍ）」、「フルサイズ（例えば、サイズ３６ｍｍ×２４ｍｍ）」、「フォーサーズ（登録商標）、またはマイクロフォーサーズ（登録商標）（例えば、サイズ１７．３ｍｍ×１３．０ｍｍ）」等と呼ばれるＣＣＤ（Ｃｈａｒｇｅ  Ｃｏｕｐｌｅｄ  Ｄｅｖｉｃｅ）やＣＭＯＳ（Ｃｏｍｐｌｅｍｅｎｔａｒｙ  Ｍｅｔａｌ  Ｏｘｉｄｅ  Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ）センサ等の撮像素子が用いられている。このような大型の撮像素子に対しては、中口径ないし大口径の光学素子が用いられることになるため、本実施形態の効果は更に際立つ。
【００３２】
Ｂ−７）第２の洗浄工程
芯取り工程が行われた後、ガラスに付着している加工液やスラッジを除去するために、ガラスに対して洗浄が行われる。この洗浄については公知の手法を用いても構わないが、上述の洗浄液にて洗浄を行うのが好ましい。
なお、本工程においても、Ｂ−４）第１の洗浄工程に記載の、レンズ用ペーパーを用いた手拭きでの洗浄が行われる場合がある。
【００３３】
Ｂ−８）第２のリンス工程
その後、ガラスの表面に付着する洗浄液を洗い流すために、ガラス対して第２のリンス工程が行われる。リンス工程については、公知の手法を用いても構わないが、上述のリンス液にてリンスを行うのが好ましい。なお、第２のリンス工程は第２の洗浄工程に含めた一連のプロセスとして行うことができる。
【００３４】
Ｃ）その他（成膜、保管等）
本実施形態のリンス工程を行った後、光学素子の製造に必要な諸工程（例えば乾燥工程）を行う。なお、ガラスの表面に対し、必要に応じて、反射防止膜、全反射膜、部分反射膜、分光特性を有する膜等の光学薄膜を設け、光学素子とすることもできる。また、ガラスに対して保護膜を形成しても構わない。なお、成膜方法は、公知の手法を採用しても構わない。
【００３５】
また、上記の研磨、洗浄、リンス等の各種処理を行った後、もしくは各種処理の途中で、ガラスを保管液に浸漬させておく保管工程を経ても構わない。
【００３６】
以上の工程により、本実施形態におけるガラスが製造される。このガラスは、光学素子としてはもちろんのこと、最終的に光学素子になる前の中間品としても使用することが可能である。
【００３７】
本実施形態におけるガラスは光学素子として極めて好適である。この光学素子としては、例えば光学ガラスレンズが挙げられる。他の具体例としては、球面レンズ、非球面レンズ、マイクロレンズ等の各種のレンズ、回折格子、回折格子付のレンズ、レンズアレイ、プリズム等を例示することができる。また、形状という点から見ると、凹メニスカスレンズ、両凹レンズ、平凹レンズ、凸メニスカスレンズ、両凸レンズ、平凸レンズ等を例示することができる。
また、上記光学素子は、高性能かつコンパクトな撮像光学系の部品として好適であり、デジタルスチルカメラ、デジタルビデオカメラ、携帯電話搭載カメラ、車載カメラ等の撮像光学系に好適である。さらに、平面光学素子、フィルター基板、色フィルター、青色フィルター、カバーガラス、ウィンドウ、等に好適である。
【００３８】
＜２．実施の形態による効果＞
本実施形態においては、洗浄液およびリンス液のいずれかを、研磨後のガラスの表面に存在するクラック部が拡大するのを抑制する液としている。その結果、光学素子に求められる製品性能が向上している現在であっても、品質の基準をクリアすることが可能となる。
【００３９】
特に、芯取後のガラスの直径が１５ｍｍ以上である場合、中口径ないし大口径の光学素子を製造することになるが、本実施形態の手法を用いることにより、クラック部の拡大を抑制することが可能となる。そのため、芯取後のガラスの直径は１５ｍｍ以上といった、中口径ないし大口径の光学素子においても、良好な製品性能を発揮させることができる。
また、レーザープロジェクター用光学素子（コリメートレンズ）においては、投影画像の高輝度化が求められている。しかしながら、光学素子表面でクラック部が拡大していると、レーザー光源からの光束が散乱し、輝度の低下を招く場合がある。本実施形態による光学素子はこのような用途の光学素子においても、良好な製品性能を発揮することができる。
さらに、レーザー加工用光学素子（フォーカスレンズ）においては、高出力化が求められている。しかしながら、光学素子表面でクラック部が拡大していると、レーザー光源からの光束が散乱し、出力の低下またはレーザーダメージ、レーザー光による誘電破壊を招く場合がある。本実施形態による光学素子はこのような用途の光学素子においても、良好な製品性能を発揮することができる。
【００４０】
＜３．変形例＞
以下、上記の実施形態以外の変形例について述べる。
【００４１】
（洗浄方法およびリンス方法）
上記の実施形態においては光学素子の製造方法について述べたが、本発明は「ガラスの洗浄方法」および「ガラスのリンス方法」としても大きな技術的特徴がある。
【００４２】
（ガラスの等級）
上記の実施形態におけるガラスとしては特に限定がないことは上述の通りだが、本発明を適用する際には、耐潜傷性（ＤＮａＯＨ）が比較的低いガラスであっても、リンス液がもたらすガラス表面への悪影響を軽減することができる。特に、潜傷等による品質低下が生じ易い硝種（すなわち、耐潜傷性が低い硝種）に対して、本発明を適用することは好適である。
【００４３】
（有機化合物を用いたリンス液）
実施の形態におけるリンス液としては、環境への配慮やコスト面から、溶媒として水を用いた。しかしながら、溶媒として有機化合物を用いることを妨げない。
【００４４】
（リン酸塩水溶液以外のリンス液）
クラック部の拡大を抑制することができるのならば、リンス液には特に限定はない。また、緩衝液として用いられている化合物（酢酸、フタル酸等々）の水溶液に対して適宜化合物を混合して、これをリンス液としても構わない。
【００４５】
（クラック部の拡大を抑制するための条件の多様性）
なお、上記の実施形態に係る効果を実現するための条件は、ガラスの硝種等によって異なる。本明細書においては主に、ガラスがフツリン酸塩ガラスである場合について例示している。結局、ガラスの硝種に応じて、研磨後のガラスの表面に存在するクラック部が拡大するのを抑制する液をリンス液として使用すればよい。
【００４６】
（ガラスの組成）
次にフツリン酸塩ガラスの組成例について説明するが、上記の実施形態において使用するガラスは、これら組成例のガラスに限定されるものではない。
【００４７】
フツリン酸塩ガラスの第１の好ましいガラス（以下、ガラス１という）は、Ｆの含有量が５５アニオン％以上、Ｏの含有量が４５アニオン％以下のガラス、すなわち、Ｆ−を５５アニオン％以上、Ｏ２−を４５アニオン％以下含むガラスである。ガラスの表面を水に接触させたとき、クラック部の拡大はガラス中のＦの含有量の増加に伴い一層顕著になる。したがって、本実施態様の効果は、Ｆの含有量がより多いガラスにおいて一層顕著なものとなる。ガラス１の中でより好ましいガラスは、ガラス成分として、Ｐ５＋を１〜３５カチオン％、Ａｌ３＋を１０〜４０カチオン％、Ｌｉ＋を０〜２５カチオン％、Ｆ−を５５〜９９アニオン％、Ｏ２−を１〜４５アニオン％含むフツリン酸塩ガラス（ガラス１Ａ）である。さらに、ガラス１Ａの中でより好ましいガラス（ガラス１Ｂ）は、ガラス成分として、Ｐ５＋を３〜２５カチオン％、Ａｌ３＋を３０カチオン％を超え４０カチオン％以下、Ｌｉ＋を０〜２０カチオン％、Ｆ−を６５〜９９アニオン％、Ｏ２−を１〜３５アニオン％含むフツリン酸塩ガラスである。
【００４８】
ガラス１、ガラス１Ａ、ガラス１Ｂのいずれにおいても、上記成分に加え、カチオン％表示にて、Ｍｇ２＋を０〜１５％、Ｃａ２＋を０〜３５％、Ｓｒ２＋を０〜２５％、Ｂａ２＋を０〜２０％、Ｎａ＋を０〜１０％、Ｋ＋を０〜１０％、希土類イオンを０〜７％、Ｃａ２＋を３〜３５％含むガラスがさらに好ましい。希土類イオンとしては、ガラスを着色させないＹ３＋、Ｇｄ３＋、Ｌａ３＋、Ｙｂ３＋のいずれかが好ましく、Ｙ３＋、Ｇｄ３＋、Ｌａ３＋およびＹｂ３＋の合計含有量を０．１〜７カチオン％にすることが好ましい。そして、これら希土類イオンの中でもガラスの安定性を維持する上から、Ｙ３＋を含有することが好ましく、Ｙ３＋を０．１〜５カチオン％含有することがさらに好ましい。
【００４９】
ガラス１（ガラス１Ａ，ガラス１Ｂを含む）のアッベ数νｄは７８以上であることが好ましく、８０以上であることがより好ましく、８５以上であることがさらに好ましく、９０以上であることが一層好ましい。アッベ数νｄの上限は上記組成により自ずと定まるが、１００以下を目安とすることができる。アッベ数νｄは概ねガラス中のＦの含有量に依存し、Ｆの含有量の増加とともにアッベ数νｄも増加する。そのため、アッベ数νｄが大きいガラスほど、水に接触したときのクラック部の拡大は顕著になる。したがって、アッベ数νｄが大きいガラスほど、本実施態様の効果も一層顕著になる。
【００５０】
Ｐ５＋は、ガラスの網目構造を形成する機能を有する。ガラスの安定性を維持しつつ、ガラス溶解時の揮発を抑えて光学的に均質なガラスを得るという観点から、Ｐ５＋の含有量を上記範囲とすることが好ましい。
【００５１】
Ａｌ３＋は、ガラスの安定性を向上させる働きをする成分である。このような働きを得るという観点から、Ａｌ３＋の含有量を上記範囲にすることが好ましい。
【００５２】
Ｌｉ＋は、ガラス融液の粘性を低下させるが、液相温度を低下させる働きが非常に強く、結果的に液相温度におけるガラスの粘度を大きくし、熔融ガラスを成形する際、脈理の発生を抑制する働きをする。また、ガラス転移温度を低下させる働きもある。こうした効果を得るという観点から、Ｌｉ＋の含有量を上記範囲にすることが好ましい。Ｌｉ＋の含有量の好ましい下限は０．１カチオン％である。
【００５３】
Ｆ−は、ガラスに低分散性、異常分散性を付与するための必須成分である。所望の低分散性、異常分散性を得るという観点から、Ｆ−の含有量を上記範囲にすることが好ましい。
【００５４】
ガラス１におけるアニオン成分は実質的にＦ−とＯ２−からなる。この他、アニオン成分として少量のＣｌ−を導入することもできる。熔融ガラスを白金系パイプから流出する際、ガラスがパイプ外周面に濡れ上がって脈理などの発生要因となるが、Ｃｌ−を添加することによりガラス融液の濡れ上がりを低減する効果が得られる。
【００５５】
熱的安定性の優れたガラスを実現するという観点から、Ｆ−とＯ２−の合計含有量をアニオン％表示で９５％以上とすることが好ましい。
【００５６】
ガラスの熱的安定性、耐水性を改善するという観点から、Ｍｇ２＋、Ｃａ２＋、Ｓｒ２＋、Ｂａ２＋、Ｎａ＋、Ｋ＋の各成分の含有量を上記範囲にすることが好ましい。
【００５７】
Ｙ３＋は、少量の導入によりガラスの熱的安定性向上が期待されるが、過剰に導入するとガラスの熔融温度が上昇し、熔融ガラスからの揮発が助長されるとともに、ガラスの熱的安定性も低下する。したがって、Ｙ３＋の含有量を上記範囲にすることが好ましい。Ｙ３＋の含有量のより好ましい範囲は０．１〜７カチオン％、さらに好ましい範囲は０．１〜５カチオン％である。
【００５８】
この他、屈折率の調整などを目的として少量のＬａ３＋、Ｇｄ３＋、Ｚｒ４＋、Ｚｎ２＋を導入することができる。
【００５９】
Ｂ３＋はガラスの揮発性を著しく助長させるため、Ｂ３＋の含有量を０〜１％とすることが好ましく、実質的に含有しないことがより好ましい。なお、「実質的に含有しない」とは、全くＢ３＋を含有しないことも含むし、Ｂ３＋を含有していたとしてもガラスの揮発性が発揮されない程度の微々たる量であることを指す。
【００６０】
Ｐｂ、Ａｓ、Ｃｄ、Ｔｌ、Ｔｅ、Ｃｒ、Ｓｅ、Ｕ、Ｔｈは、環境負荷が大きい物質であるので、ガラスに導入しないことが好ましい。
【００６１】
ガラス１は、Ｌｕ、Ｓｃ、Ｈｆ、Ｇｅといった成分を必要としない。Ｌｕ、Ｓｃ、Ｈｆ、Ｇｅは高価な成分なので、これらを導入しないことが好ましい。ガラス１は可視域の広い波長域にわたり、優れた光線透過性を示す。こうした性質を活かすという観点から、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｖ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｎｄ、Ｅｒ、Ｔｂ、Ｅｕなどの着色の要因となる物質を導入しないことが好ましい。
【００６２】
屈折率ｎｄの好ましい範囲は１．４２〜１．５３である。なお、ガラス１の揮発性、侵蝕性を抑制するという観点から、Ｐ５＋の含有量に対するＯ２−の含有量のモル比Ｏ２−／Ｐ５＋を３．５以上にすることが望ましい。
【００６３】
フツリン酸塩ガラスの第２の好ましいガラス（以下、ガラス２という）は、元素質量％表示で、Ｐを０．１〜６％、Ａｌを０．８〜２２％、Ｏを１〜２０％、Ｆを３０〜６０％、を含有し、Ｃａ、ＳｒおよびＢａの合計含有量は０元素質量％を超え、ＰおよびＡｌの合計量をＦの含有量で割った値（（Ｐ＋Ａｌ）／Ｆ）が０．１〜０．４であるガラスである。
ガラス２において、Ｃａを１〜２０％、Ｓｒを１〜２０％、Ｂａを１〜２０％、Ｆを３０〜６０％、Ｏを１〜２０％、Ｍｇを０〜１０％、Ｙを０〜１０％含有することが好ましい。ガラス２によればアッベ数νｄが９０〜１００のガラスを得ることができる。
【００６４】
なお、上記の実施形態においてはフツリン酸塩ガラスを用いたガラスを例として挙げた。ただ、それ以外の物質からなるガラスにも本発明は適用可能である。例えば、リン酸塩ガラス、等である。なお、クラック部の拡大は、特にフツリン酸ガラス等の軟硝材において特に生じやすい。
【００６５】
以上、本発明の実施形態について説明してきたが、本発明は、上述した実施形態に何等限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々に改変することができる。
【実施例】
【００６６】
次に実施例を示し、本発明について具体的に説明する。もちろん本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。【００６７】
＜実施例１＞
まず、ガラスとしては、円盤状の平面ガラス基板（直径４３．７ｍｍ、厚さ５ｍｍ）を用いた。この平面基板は、既に研磨加工されている。また、このガラス基板の硝材としては、上記の実施形態にて例示した「ガラス１」を用いた。なお、研磨後の洗浄は、有機溶剤を用いたレンズ用ペーパーにより手拭きで行った。【００６８】
そして、このガラス基板の一部にテープを貼り付けることによりマスキングを行った。マスキングを行った後、ガラス基板をリンス液に浸漬させた。つまり、マスキングを行った部分は、リンス液の影響を受けない参照面と
なる。そして、ガラス基板においてリンス液に接触する部分は試験面となり、テープを剥がした後の参照面と比較することによりガラス基板の主表面の品質の変化度合いを確認することができる。【００６９】
本実施例のリンス液の効果を確かめるべく、リン酸塩水溶液を入れた槽へと、ガラス基板の浸漬を行い、リンス工程を行った。リン酸塩水溶液を入れた槽を複数用意し、この浸漬を複数回行った。また、超音波の放出も適宜行った。
なお、リン酸塩水溶液としては、ＮａＨ２ＰＯ４とＮａ２ＨＰＯ４をモル比１：１としてｐＨ７．０となるようにした水溶液を用いた。また、リン酸塩水溶液の温度は常温とし、浸漬時間は合計１分とした。【００７０】
その後、乾燥工程を行うべく、有機溶剤を入れた槽へとガラス基板の浸漬を行い、最終的には蒸気乾燥を行った。
こうして、本実施例におけるガラス基板を得た。【００７１】
＜比較例１＞
比較例１においては、実施例１におけるリンス工程で用いたリン酸塩水溶液をＤＩ水とした。また、ＤＩ水の温度は常温とし、浸漬時間は合計１分とした。それ以外は、実施例１と同様の手法を用いて、ガラス基板を作製した。【００７２】
＜評価１＞
実施例１および比較例１におけるガラス基板に対し、各種評価を行った。【００７３】
（目視による外観評価）  
まず、実施例１および比較例１におけるガラス基板に対し、テープを剥がした後の参照面を参考にして、主表面の品質に変化が生じているかについて、目視で調査した。その結果を示す写真が図３である。
図３は、実施例１におけるガラス基板および比較例１におけるガラス基板に対し、テープを剥がした後の参照面を参考にして、主表面の品質に変化が生じているかについて、目視で調査した結果を示す写真であり、（ａ）が実施例１、（ｂ）が比較例１の結果を示す。なお、図中の○がある領域が、リンス液と接触させた試験面であり、△がある領域が、マスキングによってリンス液が接触しなかった参照面である。【００７４】
図３（ａ）（実施例１）を見ると分かるように、試験面と参照面とでは差異が目視では確認できなかった。また、ガラス基板の主表面においては曇りの発生を確認することはできなかった。
一方、図３（ｂ）（比較例１）を見ると分かるように、試験面において曇りが生じていた。【００７５】
（ＳＥＭ観察１）  
次に、実施例１および比較例１におけるガラス基板に対し、ＳＥＭ（Ｓｃａｎｎｉｎｇ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）観察を行った。その結果を示す写真が図４および図５である。
図４は、実施例１におけるガラス基板に対し、ＳＥＭ観察を行った結果を示す写真である。（ａ）が試験面、（ｂ）が参照面の写真である。
図５は、比較例１におけるガラス基板に対し、ＳＥＭ観察を行った結果を示す写真である。（ａ）が試験面、（ｂ）が参照面の写真である。【００７６】
図４（ａ）および（ｂ）（実施例１）を見ると分かるように、試験面と参照面とでは差異が確認できなかった。また、ガラス基板の主表面に元々存在していたクラック部（写真における点状の黒色部分）の濃さ（すなわちクラック部の深さ）も、試験面と参照面とでは相違がなかった。つまり、研磨後に存在していたクラック部が拡大している様子は伺えなかった。その結果、実施例１においては、良好な製品性能を有する光学素子を製造することができた。
一方、図５（ａ）および（ｂ）（比較例１）を見ると分かるように、ガラス基板の主表面に元々存在していたクラック部（写真における点状の黒色部分）の濃さが、参照面に比べて試験面だと濃くなっていることが確認できた。つまり、研磨後に存在していたクラック部が拡大して（特にクラック部の深さが大きくなって）いることが確認できた。その結果、比較例１においては、良好な製品性能を有する光学素子を製造することができなかった。【００７７】
（ＳＥＭ観察２）
次に、実施例１および比較例１におけるガラス基板に対し、更に高倍率でＳＥＭ観察を行った。その結果を示す写真が図６及び図７である。
図６は、実施例１におけるガラス基板に対し、更に高倍率でＳＥＭ観察を行った結果を示す写真である。（ａ）が試験面、（ｂ）が参照面の写真である。
図７は、比較例１におけるガラス基板に対し、更に高倍率でＳＥＭ観察を行った結果を示す写真である。（ａ）が試験面、（ｂ）が参照面の写真である。【００７８】
図６（ａ）および（ｂ）（実施例１）を見ると分かるように、試験面と参照面とでは差異が確認できなかった。また、ガラス基板の主表面に元々存在していたクラック部（写真における点状の黒色部分）の幅も、そしてクラック部の濃さ（すなわちクラック部の深さ）も、試験面と参照面とでは相違がなかった。つまり、研磨後に存在していたクラック部が拡大している様子は伺えなかった。その結果、実施例１においては、良好な製品性能を有する光学素子を製造することができた。
一方、図７（ａ）および（ｂ）（比較例１）を見ると分かるように、少なくとも、ガラス基板の主表面に元々存在していたクラック部（写真における点状の黒色部分）の濃さが、参照面に比べて試験面だと濃くなって（特にクラック部の深さが大きくなって）いることが確認された。つまり、研磨後に存在していたクラック部が拡大していることが確認された。その結果、比較例１においては、良好な製品性能を有する光学素子を製造することができなかった。【００７９】
（ＳＥＭ観察２で得られた画像に対する分析）
本実施例では、更に、クラック部の深さの変化を表す定量的な値を得るために、ＳＥＭ観察２で得られた画像に対し、分析を行った。概要を言うと、画像に表示されたクラック部の中央部の輝度を、試験面と参照面とで対比させた。そしてその対比を、実施例１のガラス基板の表面の複数点（試験面：部位１〜２、参照面：部位１〜２）にて行い、同様に比較例１のガラス基板の表面の複数点（試験面：部位１〜２、参照面：部位１〜２）にて行った。その結果を示すのが以下の表である。
【表１】
2014109204.tif 000003
【００８０】
上記の表における各用語について、図８を用いて説明する。図８は、ＳＥＭ観察結果から想定される、ガラス基板の表面近傍を拡大した断面模式図である。
まず、画像分析に際し、コントラストの調整を行った。その際、ガラスにおける平坦部を調整に用いた。「平坦部」は、クラック部の周辺部分であり、線状傷及びクラック部が存在しない場所のことを指す。コントラストの調整は、実施例１のガラス基板の表面の複数点、及び、比較例１のガラス基板の表面の複数点をＳＥＭ観察した際の写真における平坦部の輝度を、全ての観察点において一致させることにより行った。その後、図８に示すクラック部の中央部の輝度を求めた。【００８１】
表１を見ると、実施例１の場合、試験面のクラック部の中央部の輝度と参照面のクラック部の中央部の輝度とを比較すると、輝度の低下は見られなかった。つまり、クラック部の深さは大きくなっておらず、目視観察による判定は良好（〇）であり、クラック部の拡大は抑制されていることが分かった。
その一方、比較例１の場合、試験面のクラック部の中央部の輝度と参照面のクラック部の中央部の輝度とを比較すると、顕著な輝度の低下が見られた。つまり、クラック部の深さが大きくなっており、目視観察による判定は不良（×）であった。クラック部の拡大が抑制されていないことが分かった。
ここで見積もられたクラック部の深さは、凹部の深さ、および、亀裂等が形成された低密度部の深さのうちの少なくともいずれかを反映したものである。ＳＥＭ画像における輝度の低下は、該当部分の深さが深くなることに加え、該当部分の密度が低下することにも起因するためである。ＳＥＭ観察１におけるクラック部の深さについても同様である。なお、ＳＥＭ観察で得られた画像において一部が暗くなっている場合があるが、これはＳＥＭ観察の際のチャージアップに起因するものであり、表面状態を反映したものではない。【００８２】
（断面ＴＥＭ観察）
さらに、実施例１と比較例１のガラス基板に対し、断面ＴＥＭ（Ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）観察を行った。
図９は、実施例１におけるガラス基板に対し、断面ＴＥＭ観察を行った結果を示す写真である。（ａ）が試験面、（ｂ）が参照面の写真である。
図１０は、比較例１におけるガラス基板に対し、断面ＴＥＭ観察を行った結果を示す写真である。（ａ）が試験面、（ｂ）が参照面の写真である。
図９、図１０において、クラック部は「Ａ」、線状傷は「Ｂ」で示す。また、ガラス表面には蒸着等によるＣ等の保護膜が形成されている。
ここでは、Ａのクラック部に着目し、Ｂの線状傷については後述する。【００８３】
図９（ａ）および図９（ｂ）（実施例１）において、クラック部（Ａ）が観察されている。試験面、参照面のいずれのクラック部も、表面から深さ３０ｎｍ程度の「凹部」と、凹部下から４０ｎｍ程度の範囲に形成された「低コントラスト部」とからなる。凹部下の低コントラスト部は、ガラス内部に比べて密度が低い部分（以降、「低密度部」とも言う。）である。構造としては、亀裂等が形成されていると考えられる。すなわち、研磨時の砥粒による物理的衝撃により、ガラス表面に凹部が形成されるとともに、凹部下に亀裂等が生じると考えられる。図中に示すクラック部深さは、「凹部」と「低密度部」とを含めて見積もった値である。試験面と参照面とでクラック部深さを比較すると、いずれも７０ｎｍ程度であり、大差はない。実施例１では、リンス工程によるクラック部深さの増加は生じておらず、クラック部の拡大は抑制されていることがわかった。なお、ここでのクラック部幅は０．５μｍ程度以下、正確には０．４μｍ程度である。【００８４】
図１０（ａ）および図１０（ｂ）（比較例１）において、まず図１０（ｂ）の参照面のクラック部は、表面から深さ２０〜３０ｎｍ程度の「凹部」と、凹部下から深さ３０ｎｍ程度の「低密度部」とからなる。低密度部は、亀裂等が形成されている部分と考えられる。図１０（ｂ）中に示すように、凹部と低密度部とを含むクラック部深さは６６ｎｍである。
一方、図１０（ａ）に示す試験面におけるクラック部に注目すると、クラック部における「凹部」の深さは、参照面のそれと同等であるが、凹部下の「低密度部」の深さは、参照面に比べて増大していることがわかる。図１０（ａ）中に示すように、凹部と低密度部とを含むクラック部深さは１６５ｎｍであり、参照面のクラック部深さの２．５倍程度になっている。このように、比較例１では、リンス工程によりクラック部深さが増大しており、クラック部の拡大が生じていることがわかった。
研磨後のガラス表面においては、砥粒による物理的衝撃により、ガラス表面に凹部または亀裂等が形成された低密度部が形成される。さらに、これら凹部または低密度部の下には本ＴＥＭ観察において検出できないレベルの微小亀裂等の潜在的ダメージ部が残存する。この潜在的ダメージ部がＤＩ水処理により選択的にエッチングされ、図１０（ａ）のような低密度部深さの増大が生じるものと考えられる。【００８５】
（線状傷についての知見）
本実施例は、クラック部の拡大の抑制に焦点を当てているが、上記の結果から線状傷についての知見を得ることもできた。「線状傷」とは、クラック部とは異なるものであり、筋状の傷（スクラッチ）のことを指す。
例えば、図９（ａ）、図９（ｂ）から、実施例１において、線状傷（Ｂ）はクラック部よりも幅が小さく、０．１μｍ程度以下である。深さは、クラック部よりも小さい。線状傷は幅、深さともに、リンス工程により増加する傾向は認められない。
また、図１０（ａ）、図１０（ｂ）から、比較例１において、線状傷（Ｂ）の幅は０．１μｍ程度以下である。比較例１のリンス工程により、幅、深さともに増加する傾向は認められない。深さについては、参照面では３５〜５０ｎｍ、試験面では３０〜６０ｎｍであり、大差はない。線状傷は、その幅や深さがクラック部に比べて小さいことから、主に研磨時に形成されると考えられる。研磨は、研削よりも遥かに小さな径の砥粒を用い、かつ処理圧力も低い条件で行われるためである。クラック部のように深さが増大しないのは、線状傷は研磨によって形成されるため、クラック部発生時に比べるとガラス表面への物理的衝撃は少ない。よって、クラック部の場合に比べて、エッチングの対象となる潜在的ダメージ部が生じ難いためと考えられる。  このように、ＤＩ水による影響はクラック部と線状傷とで異なり、ＤＩ水処理をすると、曇りの原因であるクラック部の拡大が進行することがわかる。  【００８６】
＜実施例２＞
実施例２においては、ガラス基板の硝材として、上述の「ガラス２」を用いた。それ以外は、実施例１と同様の手法を用いて、ガラス基板を作製した。【００８７】
＜比較例２＞
比較例２においては、ガラス基板の硝材として、上述の「ガラス２」を用いた。それ以外は、比較例１と同様の手法を用いて、ガラス基板を作製した。【００８８】
＜評価２＞
実施例２および比較例２におけるガラス基板に対し、評価を行った。
実施例２においては、試験面と参照面とでは差異が確認できなかった。また、ガラス基板の主表面に元々存在していたクラック部（写真における点状の黒色部分）の濃さ（すなわちクラック部の深さ）も、試験面と参照面とでは相違がなかった。つまり、元々存在していたクラック部が拡大している様子は伺えなかった。その結果、実施例２においては、良好な製品性能を有する光学素子を製造することができた。
一方、比較例２においては、ガラス基板の主表面に元々存在していたクラック部（写真における点状の黒色部分）の濃さが、参照面に比べて試験面だと濃くなって（特にクラック部の深さが大きくなって）いることが確認された。つまり、元々存在していたクラック部が拡大していることが確認された。その結果、比較例２においては、良好な製品性能を有する光学素子を製造することができなかった。
最後に実施の形態について総括する。【００８９】
本発明の実施の形態１は、
研磨後のガラスから光学素子を製造する方法であって、
研磨後のガラスに対する洗浄工程で用いられる洗浄液、および、洗浄工程後のリンス工程で用いられるリンス液のうち少なくともいずれかは、研磨後のガラスの表面に存在するクラック部が拡大するのを抑制する液である光学素子の製造方法である。【００９０】
形態２としては、形態１において、
芯取後のガラスの直径は１５ｍｍ以上であるのが好ましい。【００９１】
形態３としては、形態１または２において、
洗浄液およびリンス液のうち少なくともいずれかは、リン酸塩水溶液であるのが好ましい。【００９２】
形態４としては、形態１ないし３のいずれかにおいて、
ガラスはリン酸塩ガラスであるのが好ましい。【００９３】
形態５としては、形態４において、
リン酸塩ガラスはフッ素を含有するのが好ましい。【００９４】
形態６としては、形態５において、
フッ素を含有するリン酸塩ガラスのＦの含有量は５５アニオン％以上、Ｏの含有量は４５アニオン％以下であるのが好ましい。【００９５】
形態７としては、形態１ないし６のいずれかにおいて、
洗浄液およびリンス液のうち少なくともいずれかは、ｐＨ３〜９．８以下の緩衝液であるのが好ましい。【００９６】
形態８としては、形態１ないし７のいずれかにおいて、
研磨後のガラスとして、モールドプレス成形に用いられるプリフォームを用いるのが好ましい。【００９７】
形態９としては、形態１ないし７のいずれかにおいて、
研磨前のガラスを研磨する研磨工程と、
研磨後のガラスを洗浄液で洗浄する洗浄工程と、
洗浄工程後、研磨後のガラスをリンス液でリンスするリンス工程と、
を有するのが好ましい。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【国際調査報告】
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2014109204.tif 000015
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