(57)【要約】  下地層１３の上方に各々が第１方向に延伸するよう並設された複数条の第１隔壁１６と、下地層１３の上方に各々が第１方向と交差する第２方向に延伸するように並設され、且つ、各々が第１隔壁１６の上面１６ａよりも低い位置に上面１４ａを有する複数条の第２隔壁１４と、下地層１３の上方であって隣り合う第１隔壁１６間の間隙２０内に、複数条の第２隔壁１４を乗り越えるようにして第１方向に沿って形成された発光層１７とを備え、第２隔壁１４の少なくとも上面１４ａには、第２隔壁１４よりも親液性の高い被膜１５が形成されている構成とする。これにより、輝度むらを抑制した有機ＥＬ表示パネルが得られる。
2015133086.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
基板の上方に形成された下地層と、
前記下地層の上方に各々が第１方向に延伸するよう並設された複数条の第１隔壁と、
前記下地層の上方に各々が前記第１方向と交差する第２方向に延伸するように並設され、且つ、各々が前記第１隔壁の上面よりも低い位置に上面を有する複数条の第２隔壁と、
前記下地層の上方であって隣り合う前記第１隔壁間の間隙内に、前記複数条の第２隔壁を乗り越えるようにして前記第１方向に沿って形成された発光層と
を備え、
前記第２隔壁の少なくとも上面には、前記第２隔壁よりも親液性の高い被膜が形成されている
有機ＥＬ表示パネル。
【請求項２】
前記被膜は、前記下地層よりも親液性が高い、又は、前記下地層と同程度の親液性である
請求項１に記載の有機ＥＬ表示パネル。
【請求項３】
前記下地層は酸化タングステンを含む
請求項１または２に記載の有機ＥＬ表示パネル。
【請求項４】
前記発光層は、前記間隙内に有機材料を含むインクを塗布し、これを乾燥してなり、
前記被膜の上面は、前記インクに対する接触角が３°以下である
請求項３に記載の有機ＥＬ表示パネル。
【請求項５】
前記被膜は、前記間隙内において前記第１方向に沿って前記第２隔壁上及び前記下地層上に連続して形成されている
請求項１から請求項４のいずれかに記載の有機ＥＬ表示パネル。
【請求項６】
前記被膜は、前記間隙内において前記第２隔壁上にのみ形成されている
請求項１から請求項４のいずれかに記載の有機ＥＬ表示パネル。
【請求項７】
請求項１から請求項６のいずれかに記載の有機ＥＬ表示パネルを備える、
有機ＥＬ表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ（Electro  Luminescence）素子を用いた表示パネル、及びそのような有機ＥＬ表示パネルを備えた有機ＥＬ表示装置に関し、特に輝度むらを抑制する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、有機ＥＬ素子を用いた表示パネルの大型化について、研究・開発が進められている。有機ＥＬ素子は、有機化合物からなる発光層を一対の電極で挟んだ構造を有する。この発光層の膜厚は発光輝度と相関し、表示パネルの画素領域内における膜厚は均一であることが望ましい。表示パネルの大型化に向けて、この画素領域における発光層の膜厚の均一化手法の検討が多くなされている。【０００３】
発光層の形成方法は、真空蒸着法などの乾式プロセスと、インクジェット法などの湿式プロセスとに大別される。湿式プロセスは、その形成精度とコストの面から、表示パネルの大型化に適した技術とされている。【０００４】
湿式プロセスで発光層を形成する場合、一般に、基板上には予め隔壁（バンク）が形成され、隔壁で区画された画素領域内に発光層が形成される。隔壁には、格子状に隔壁を形成するピクセルバンクと、列方向に延伸する複数条の隔壁を形成するラインバンク（例えば、特許文献１参照。）との２種類がある。【０００５】
ラインバンクの場合は、発光層の材料となる有機化合物を含んだ溶液（以下、「インク」という。）が、隔壁間の間隙内で列方向に流動可能である。よって、列方向にインクの塗布量がばらついた場合でも、その後のインクの流動によって画素領域間の膜厚むらを低減することができる。【０００６】
ところで、インクは一般に表面張力が大きいため、隔壁間の間隙内に異物や乾燥が進んだインクの塊が存在していると、それらが存在する箇所にインクが集まり易い。特に、ラインバンクの場合は、インクが列方向に流動可能であるため、異物やインクの塊が存在する箇所に広範囲からインクが集まりやすく、列方向に大きな膜厚むらが発生するおそれがある（特許文献２参照。）。【０００７】
そこで、特許文献２の有機ＥＬ表示パネルでは、図１４に示すように、列方向に延伸する複数条の第１隔壁９１６に加えて、さらに行方向に延伸する複数条の第２隔壁９１４を形成している。第２隔壁９１４を形成することによって、隣り合う第１隔壁９１６間の間隙９２０に塗布されたインクの列方向の流動が程良く抑制されるため、異物やインクの塊が存在する箇所に広範囲からインクが集まり難くなっており、その結果、列方向の膜厚むらの発生が抑制されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００２−７５６４０号公報
【特許文献２】特開２００９−４３４９９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、上記構成の場合、隣り合う第１隔壁９１６間の間隙９２０に塗布され乾燥途中のインクが、下地層９１３よりも親液性の低い第２隔壁９１４上で途切れる（未濡れになる）ことが起こり得る。第２隔壁９１４上でインクが途切れてしまうと、第２隔壁９１４上に存在していたインクが両隣の画素領域９２１のいずれかに流れ込むことになるため、それら画素領域９２１に塗布されるインクの量が不均一になる。そうすると、画素領域９２１において、インク乾燥後に形成される発光層９１７の膜厚が一定せず、膜厚の差によりパネル点灯時の輝度むらが観測される。【００１０】
そこで、本発明の目的は、輝度むらを抑制した有機ＥＬ表示パネル、及びそのような有機ＥＬ表示パネルを備えた有機ＥＬ表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルは、基板と、基板の上方に形成された下地層と、前記下地層の上方に各々が第１方向に延伸するよう並設された複数条の第１隔壁と、前記下地層の上方に各々が前記第１方向と交差する第２方向に延伸するように並設され、且つ、各々が前記第１隔壁の上面よりも低い位置に上面を有する複数条の第２隔壁と、前記下地層の上方であって隣り合う前記第１隔壁間の間隙内に、前記複数条の第２隔壁を乗り越えるようにして前記第１方向に沿って形成された発光層とを備え、前記第２隔壁の少なくとも上面には、前記第２隔壁よりも親液性の高い被膜が形成されている。
【発明の効果】
【００１２】
上記態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、第２隔壁の少なくとも上面に、前記第２隔壁よりも親液性の高い被膜が形成されているため、輝度むらが抑制されている。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】実施の形態１に係る有機ＥＬ表示パネルの一部を示す模式平面図である。
【図２】図１におけるＡ−Ａ断面模式図である。
【図３】図１におけるＢ−Ｂ断面模式図である。
【図４】発光層が形成される前の有機ＥＬ表示パネルの構造を示す模式斜視図である。
【図５】発光層が形成された後の有機ＥＬ表示パネルの構造を示す模式斜視図である。
【図６】被膜による発光層の途切れ抑制効果を説明するための図である。
【図７】インクに対する接触角の測定方法を説明するための図である。
【図８】接触角の測定結果を示す図である。
【図９】（ａ）〜（ｆ）は有機ＥＬ表示パネルの製造工程を示すＡ−Ａ断面模式図であって、（ａ）は下地層形成工程を示す図、（ｂ）は第２隔壁形成工程を示す図、（ｃ）は被膜形成工程を示す図、（ｄ）は第１隔壁形成工程を示す図、（ｅ）はインク塗布工程を示す図、（ｆ）はインク乾燥工程を示す図、である。
【図１０】（ａ）〜（ｆ）は有機ＥＬ表示パネルの製造工程を示すＢ−Ｂ断面模式図であって、（ａ）は下地層形成工程を示す図、（ｂ）は第２隔壁形成工程を示す図、（ｃ）は被膜形成工程を示す図、（ｄ）は第１隔壁形成工程を示す図、（ｅ）はインク塗布工程を示す図、（ｆ）はインク乾燥工程を示す図、である。
【図１１】変形例１に係る被膜を説明するための模式斜視図である。
【図１２】変形例２に係る被膜を説明するための断面模式図である。
【図１３】実施の形態２に係る有機ＥＬ表示装置の概略構成を示すブロック図である。
【図１４】従来の有機ＥＬ表示パネルにおける膜厚むらの発生原因を説明するための模式斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
［本発明の態様の概要］
本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルは、基板と、基板の上方に形成された下地層と、前記下地層の上方に各々が第１方向に延伸するよう並設された複数条の第１隔壁と、前記下地層の上方に各々が前記第１方向と交差する第２方向に延伸するように並設され、且つ、各々が前記第１隔壁の上面よりも低い位置に上面を有する複数条の第２隔壁と、前記下地層の上方であって隣り合う前記第１隔壁間の間隙内に、前記複数条の第２隔壁を乗り越えるようにして前記第１方向に沿って形成された発光層とを備え、前記第２隔壁の少なくとも上面には、前記第２隔壁よりも親液性の高い被膜が形成されている。この構成であれば、第１隔壁間の間隙に塗布された乾燥途中のインクが、第２隔壁の上方にとどまり易いため、発光層が第２隔壁の上方で途切れ難い。したがって、輝度むらが抑制される。
【００１５】
また、本発明の別態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、前記被膜は、前記下地層よりも親液性が高い、又は、前記下地層と同程度の親液性である。この構成であれば、下地層と第２隔壁との境界部分で乾燥途中のインクが途切れ難いため、より輝度むらが抑制される。
【００１６】
また、本発明の別態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、前記下地層は酸化タングステンを含む。さらに、本発明の別態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、前記発光層は、前記間隙内に有機材料を含むインクを塗布し、これを乾燥してなり、前記被膜の上面は、前記インクに対する接触角が３°以下である。下地層に酸化タングステンが含まれる場合は、下地層の上面のインクに対する接触角は約３°であるため、被膜の上面のインクに対する接触角を３°以下にすれば、下地層よりも親液性の高い被膜、又は、下地層と同程度の親液性の被膜とすることができる。したがって、より確実に輝度むらが抑制される。
【００１７】
また、本発明の別態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、前記被膜は、前記間隙内において前記第１方向に沿って前記第２隔壁上及び前記下地層上に連続して形成されている。この構成であれば、第１隔壁間の間隙内において、画素領域（第２隔壁間の領域）と画素間領域（第２隔壁上の領域）との親液性を同じにすることができる。
【００１８】
また、本発明の別態様に係る有機ＥＬ表示パネルでは、前記被膜は、前記間隙内において前記第２隔壁上にのみ形成されている。この構成であれば、第２隔壁の上方の親液性のみを高めることができるため、相対的に第２隔壁の上方にインクがとどまり易くなる。
【００１９】
また、本発明の別態様に係る有機ＥＬ表示装置は、上記有機ＥＬ表示パネルを備える。上記態様に係る有機ＥＬ表示装置では、輝度むらが抑制した有機ＥＬ表示パネルを備えるため、高い表示品質が実現される。
【００２０】
なお、本願において、「上方」とは、絶対的な空間認識における上方向（鉛直上方）を指すものではなく、積層構成における積層順を基に、相対的な位置関係により規定されるものである。また、「上方」という用語は、互いの間に間隔を空けた場合のみならず、互いに密着する場合にも適用する。
【００２１】
［実施の形態１］
以下では、本発明の一態様である実施の形態１に係る有機ＥＬ表示パネルについて、図面を用いて説明する。なお、図面は模式図であって、その縮尺は実際とは異なる場合がある。
【００２２】
＜有機ＥＬ表示パネルの概略構成＞
図１は、実施の形態１に係る有機ＥＬ表示パネルの一部を示す模式平面図である。図１に示すように、有機ＥＬ表示パネル１０（以下、「パネル１０」という。）は、有機化合物の電界発光現象を利用した有機ＥＬ表示パネルである。パネル１０では、ラインバンクを採用し、各条が第１方向としての列方向（図１の紙面上下方向）に延伸する第１隔壁１６が複数並設されている。また、隣り合う第１隔壁１６間の各々を、間隙２０と定義した場合、パネル１０は、このような第１隔壁１６と間隙２０が交互に多数並んだ構成を有する。
【００２３】
間隙２０のそれぞれでは、複数の画素領域２１と、隣り合う画素領域２１同士の間である複数の画素間領域２２とが、列方向に交互に並んでいる。また、間隙２０内の複数の画素間領域２２には、各条が第２方向としての行方向（図１の紙面左右方向）に延伸する第２隔壁１４が複数並設されている。列方向に設けられた第１隔壁１６と行方向に設けられた第２隔壁１４とは直交している。
【００２４】
本実施の形態では、画素領域２１には、赤色に発光する赤色画素領域２１Ｒ、緑色に発光する緑色画素領域２１Ｇ、青色に発光する青色画素領域２１Ｂが存在する。また、間隙２０には、内部の画素領域２１がすべて赤色画素領域２１Ｒである赤色間隙２０Ｒ、緑色画素領域２１Ｇである緑色間隙２０Ｇ、青色画素領域２１Ｂである青色間隙２０Ｂが存在する。さらに、赤色画素領域２１Ｒ、緑色画素領域２１Ｇ、青色画素領域２１Ｂの３つの画素領域２１が行方向に並んで組となっており、１画素を構成している。
【００２５】
＜有機ＥＬ表示パネルの各部構成＞
パネル１０の各部構成を図２及び図３を用いて説明する。図２は、図１におけるＡ−Ａ断面模式図である。図３は、図１におけるＢ−Ｂ断面模式図である。
【００２６】
パネル１０は、一例として、図２及び図３の紙面上側を表示面とする、いわゆるトップエミッション型を採用している。なお、以下においては、図２及び図３の紙面上側をパネル１０の上方として説明する。
【００２７】
パネル１０は、基板１１、画素電極１２、下地層１３、第２隔壁１４、被膜１５、第１隔壁１６、発光層１７、対向電極１８、封止層１９を備える。
【００２８】
（基板）
基板１１は、基材（不図示）と、基材上に形成された薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ） 層（不図示）と、基材上及びＴＦＴ層上に形成された層間絶縁層（不図示）とを有する。
【００２９】
基材は、パネル１０の支持部材であり、平板状である。基材の材料としては、電気絶縁性を有する材料、例えば、ガラス材料、樹脂材料、半導体材料、絶縁層をコーティングした金属材料などを用いることができる。
【００３０】
ＴＦＴ層は、基材上面に形成された複数のＴＦＴ及び配線からなる。ＴＦＴは、パネル１０の外部回路からの駆動信号に応じ、自身に対応する画素電極１２と外部電源とを電気的に接続するものであり、電極、半導体層、絶縁層などの多層構造からなる。配線は、ＴＦＴ、画素電極１２、外部電源、外部回路などを電気的に接続している。
【００３１】
層間絶縁層は、ＴＦＴ層によって凹凸が存在する基板１１の上面の少なくとも画素領域２１を平坦化するものである。また、層間絶縁層は、配線及びＴＦＴの間を埋め、配線及びＴＦＴの間を電気的に絶縁している。層間絶縁層の材料としては、例えば電気絶縁性を有するポジ型の感光性有機材料、具体的には、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、シロキサン系樹脂、フェノール系樹脂などを用いることができる。
【００３２】
（画素電極）
画素電極１２は、発光層１７へキャリアを供給するためのものであり、例えば陽極として機能した場合は、発光層１７へ正孔を供給する。画素電極１２の形状は、平板状であるが、例えば、ＴＦＴとの接続を層間絶縁層に開口したコンタクトホールを通じて行う場合は、コンタクトホールに沿った凹凸部を有する。画素電極１２は、間隙２０のそれぞれにおいて、列方向に間隔をあけて基板１１上に配されている。
【００３３】
画素電極１２の材料としては、パネル１０がトップエミッション型であるため、光反射性を有する導電材料、例えば銀、アルミニウム、モリブデンなどの金属や、これらを用いた合金などを用いることが好ましい。
【００３４】
（下地層）
下地層１３は、例えば、本実施の形態では正孔注入層であって、画素電極１２の上方に連続したべた膜として形成されており、隣接する画素電極１２の間を電気的に絶縁している。このように、下地層１３が連続したべた膜として形成されていれば、製造工程の簡略化を図ることができる。
【００３５】
また、下地層１３は、遷移金属酸化物からなり、正孔注入層として機能する。ここで遷移金属とは、周期表の第３族元素から第１１族元素までの間に存在する元素である。遷移金属の中でも、タングステン、モリブデン、ニッケル、チタン、バナジウム、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニオブ、ハフニウム、タンタル等は、酸化した後に高い正孔注入性を有するため好ましい。特に、タングステンは、高い正孔注入性を有する正孔注入層を形成するのに適している。なお、下地層１３は、遷移金属酸化物からなる場合に限定されず、例えば遷移金属の合金等、遷移金属酸化物以外の酸化物からなっていてもよい。また、下地層１３は、正孔注入層に限定されず、画素電極１２と発光層１７との間に形成される層であればどのような層であってもよい。
【００３６】
（第２隔壁）
第２隔壁１４は、発光層１７形成時に、その材料となる有機化合物を含んだインクが列方向へ流動することを抑制するためのものである。第２隔壁１４の形状は、行方向に延伸する線状であり、列方向の断面は上方を先細りとする順テーパー台形状である。第２隔壁１４は、各第１隔壁１６を貫通するようにして、列方向と直交する行方向に沿った状態で設けられており、各々が第１隔壁１６の上面１６ａよりも低い位置に上面１４ａを有する。
【００３７】
第２隔壁１４の材料としては、電気絶縁性を有する材料、例えば酸化シリコン、窒化シリコンなどの無機材料、並びに、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、シロキサン系樹脂、フェノール系樹脂など有機材料などを用いることができる。
【００３８】
（被膜）
被膜１５は、発光層１７が第２隔壁１４の上方で途切れるのを防止するためのものであって、第２隔壁１４上に形成されている。具体的には、間隙２０内において、図３に示すように、画素間領域２２に存在する第２隔壁１４の上面１４ａと側面１４ｂの上に形成されており、画素領域２１に存在する下地層１３の上面１３ａの上には形成されていない。
【００３９】
被膜１５の材料としては、塗布型の有機機能層の材料などを用いることができる。例えば、ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳなどの塗布型の正孔注入材料を用いることができる。被膜１５は、例えば、塗布型の有機機能層の材料を溶媒に溶かしてなるインクを、第２隔壁１４の上面１４ａ及び側面１４ｂに塗布し、これを乾燥させて形成する。
【００４０】
被膜１５用のインクは、第２隔壁１４の表面（上面１４ａ及び側面１４ｂ）に対して濡れ性の良いものが好ましい。また、被膜１５の材料は、被膜１５の上に形成される層用のインク（例えば、発光層１７用のインク、又は、インターレイヤー用のインク（ＣＨＢ））に対して、濡れ性の良いものが好ましい。また、第２隔壁１４の材料が有機材料である場合は、被膜１５用のインクに極性溶媒が使用されていることが好ましい。第２隔壁１４の材料が有機材料である場合は第２隔壁１４の表面に水酸基が存在するため、極性溶媒が使用されていると濡れ性が良くなるからである。
【００４１】
被膜１５は、第２隔壁１４の材料よりも親液性の高い材料で形成されており、第２隔壁１４よりも親液性が高い。したがって、第２隔壁１４の上方において発光層１７が途切れ難い構成となっている。このことについては後述する。
【００４２】
（第１隔壁）
第１隔壁１６は、発光層１７形成時に、インクが間隙２０内において行方向へ流動することを規制するためのものである。第１隔壁１６の形状は、列方向に延伸する線状であり、行方向の断面は上方を先細りとする順テーパーの台形状である。第１隔壁１６は、各画素電極１２を行方向から挟むように、且つ、各第２隔壁１４を乗り越えるように、下地層１３上に形成されている。
【００４３】
第１隔壁１６の材料としては、例えば、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、シロキサン系樹脂、フェノール系樹脂など有機材料などを用いることができる。なお、第１隔壁１６は、有機溶剤への耐性を有し、エッチング処理やベーク処理に対して過度に変形、変質などをしない材料で形成されることが好ましい。また、表面に撥液性をもたせるために、表面をフッ素処理してもよい。
【００４４】
（発光層）
発光層１７は、有機化合物からなる層であり、内部で正孔と電子が再結合することで光を発する機能を有する。各発光層１７は、間隙２０内に列方向に延伸するように線状に設けられており、画素領域２１においては下地層１３上に位置し、画素間領域２２においては被膜１５上に位置する。
【００４５】
ここで、発光層１７は、画素電極１２からキャリアが供給される部分のみが発光する。したがって、図３に示すように、発光層１７のうち、画素電極１２上にある画素領域２１の部分のみが発光し、第２隔壁１４上にある画素間領域２２の部分は発光しない。
【００４６】
なお、図３に示すように、発光層１７は、画素領域２１だけでなく、隣接する画素間領域２２まで延伸されている。このようにすると、発光層１７の形成時に、画素領域２１に塗布されたインクが、画素間領域２２に塗布されたインクを通じて列方向に流動でき、列方向の画素領域２１間でその膜厚を平準化することができる。但し、画素間領域２２では、第２隔壁１４によって、インクの流動が程良く抑制される。よって、列方向に大きな膜厚むらが発生しにくい。
【００４７】
発光層１７の材料としては、湿式プロセスを用いて成膜できる発光性の有機材料を用いる。具体的には、例えば、特許公開公報（日本国・特開平５−１６３４８８号公報）に記載の化合物、誘導体、錯体など、公知の蛍光物質、燐光物質を用いることができる。
【００４８】
（対向電極）
対向電極１８は、画素電極１２と対になって発光層１７を挟むことで通電経路を作り、発光層１７へキャリアを供給するものであり、例えば陰極として機能した場合は、発光層１７へ電子を供給する。対向電極１８は、各発光層１７の上面１７ａ及び発光層１７から露出する各第１隔壁１６の表面に沿って形成され、各発光層１７に共通の電極となっている。
【００４９】
対向電極１８の材料としては、パネル１０がトップエミッション型であるため、光透過性を有する導電材料が用いられる。例えば、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）などを用いることができる。
【００５０】
（封止層）
封止層１９は、発光層１７が水分や空気などに触れて劣化することを抑制するためのものである。封止層１９は、対向電極１８の上面を覆うようにパネル１０全面に渡って設けられている。封止層１９の材料としては、パネル１０がトップエミッション型であるため、例えば窒化シリコン、酸窒化シリコンなどの光透過性材料が用いられる。
【００５１】
（その他）
なお、図２及び図３では図示しないが、封止層１９の上にカラーフィルタや上部基板を設置・接合してもよい。これにより、パネル１０の表示色の調整や、剛性向上、水分や空気などの侵入防止などを図ることができる。
【００５２】
＜有機ＥＬ表示パネルの要部構成＞
パネル１０の要部構成を図４及び図５を用いて説明する。図４は、発光層が形成される前の有機ＥＬ表示パネルの構造を示す模式斜視図である。図５は、発光層が形成された後の有機ＥＬ表示パネルの構造を示す模式斜視図である。
【００５３】
上述したように、第２隔壁１４上には第２隔壁１４よりも親液性が高い被膜１５が形成されている。ここで、親液性が高いとは、発光層１７のインクとの親和性が高いこと、すなわちインクに対する濡れ性が良いことを意味する。
【００５４】
被膜１５の親液性が第２隔壁１４の親液性よりも高いため、被膜１５の上面１５ａの親液性は、第２隔壁１４の上面１４ａの親液性よりも高い。したがって、被膜１５の上面１５ａは、第２隔壁１４の上面１４ａよりもインクに対する濡れ性が良い。
【００５５】
従来のパネルの場合、図１４に示すように、第２隔壁９１４上に被膜が形成されていない。したがって、画像間領域９２２の親液性は低く、濡れ性も悪いため、第１隔壁１６間の間隙２０に塗布された乾燥途中のインクが、第２隔壁９１４の上面９１４ａで弾かれる。そうすると、第２隔壁９１４の上面９１４ａでインクが途切れることになり、その結果、発光層９１７も第２隔壁９１４の上面９１４ａで途切れることになる。
【００５６】
実施の形態１に係るパネル１の場合、図４に示すように、発光層１７が形成される前において、第２隔壁１４の上面１４ａには、第２隔壁１４よりも親液性の高い被膜１５が形成されているため、被膜１５によって画素間領域２２の濡れ性が向上している。そのため、第１隔壁１６間の間隙２０に塗布された乾燥途中のインクが、画素間領域２２にとどまり易くなっており、ウエット状態で隣り合う画素領域２１のインクがつながった状態を維持することができる。それ故、第２隔壁１４の上方の画素間領域２２において、発光層１７が途切れ難くなっている。その結果、均一な液量を各画素領域２１に塗布することができ、均一な膜厚の発光層１７を得ることができる。
【００５７】
このようにして形成された発光層１７は、画素領域２１であるか画素間領域２２であるのかを問わずに、上面１７ａ全体が平坦であり、したがって、画素領域２１における発光層１７の膜厚も均一である。すなわち、インクは、各画素領域２１に予定どおり同程度ずつ塗布され、画素領域２１間において塗布量は十分に平準化されている。塗布量が同じであるため、各画素領域２１の発光層１７の膜厚が均一なのである。
【００５８】
上記構成によって、パネル点灯時の輝度むらが抑制されている。上記構成は、例えば、ＲＧＢの各画素において光学調整などのために各色発光層の膜厚を変えることがあるが、そのような場合には特に有効である。なぜなら、光学調整の関係で色によっては膜厚をかなり薄くせざるを得ない状況が起こり易く、その色においては、インクの塗布量が少なくなるために発光層１７が途切れ易いからである。
【００５９】
なお、パネル１０では、第２隔壁１４の親液性が、第１隔壁１６の親液性よりも大きいことが好ましい。そうであれば、インクの途切れや画素領域２１の膜厚むらの発生を抑制できる。一般に、第１隔壁１６を乗り越えてインクが流動しないよう、第１隔壁１６表面は親液性が低められていることが多い（撥液性が高められていることが多い）。このとき、第２隔壁１４表面の親液性が第１隔壁１６表面の親液性と同程度以下であると、第２隔壁１４の表面と第１隔壁１６の表面とが接合する箇所までインクが広がりにくくなり、インクの途切れや画素領域２１の膜厚むらの発生原因となる。
【００６０】
（膜切れの評価）
被膜１５による発光層１７の途切れ抑制効果を実験により評価した。
【００６１】
図６は、被膜による発光層の途切れ抑制効果を説明するための図である。図６において、上段には、発光層１７形成後の基板１１を上方から撮影した写真画像を表示している。上段の６つの写真画像は、左から順に、それぞれ画素領域２１にインクを２滴、３滴、４滴、５滴、６滴又は７滴塗布して発光層１７を形成した場合である。
【００６２】
また、上段の写真画像のそれぞれには、行方向に隣り合う３つの画素領域２１の発光層１７が写っているが、そのうちの左２つは、画素領域２１の両側（上側と下側）に位置する画素間領域２２に被膜１５が形成されているもの、残りの右１つは画素間領域２２に被膜１５が形成されていないものである。すなわち、被膜１５による効果は、画素間領域２２の発光層１７の状態を、左の２つと右の１つとで比べてみればわかる。
【００６３】
また、図６において、下段には、上段の写真画像からわかる発光層１７の輪郭をトレースして表示している。画素間領域２２の発光層１７に欠損部１７ｂが存在するものは、画素間領域２２の濡れ性が悪かったために、発光層１７に途切れが生じたもの、又は、途切れないまでも発光層１７の幅が狭くなったものである。
【００６４】
図６に示すように、インクを２〜５滴塗布した場合には、被膜１５が形成されていない画素間領域２２において、発光層１７に欠損部１７ｂが生じている。さらに、インクを２〜３滴塗布した場合には、被膜１５が形成されていない画素間領域２２において、発光層１７の途切れが生じている。
【００６５】
一方、画素間領域２２に被膜１５が形成されている場合は、たとえ塗布量が２滴であったとしても発光層１７の途切れが生じていない。
【００６６】
以上の結果から、第２隔壁１４に被膜１５を形成すれば、インクの塗布量が少なくても画素間領域２２における発光層１７の途切れを抑制できることがわかる。
【００６７】
（接触角の測定）
インクに対する濡れ性は、インクに対する接触角を測定することにより評価できる。
【００６８】
図７は、インクに対する接触角の測定方法を説明するための図である。インクに対する接触角の測定においては、まず、図７に示すように、基板などに濡れ性を評価したい層を形成し、その層の上面にインクを０．５〜１．０μｌ滴下し、液滴の状態を水平方向からカメラで観察する。次に、得られた画像から、液滴の底面の半径ｒと、液滴の高さｈ（層の上面から液滴の頂点までの鉛直方向の距離）とを計測して、それら半径ｒと高さｈとを下記の式１に代入して角度θ1を求める。そして、式２に示すように、角度θ1の２倍の値を接触角θとした。
【００６９】
θ1＝ｔａｎ-1（ｈ／ｒ）    ・・・  式１
θ＝θ1×２      ・・・・・・・・  式２
なお、接触角が小さいほど濡れ性が高いと評価できる。また、接触角が小さいほど親液性が高いと評価できる。
【００７０】
（濡れ性の評価）
被膜１５による効果、及び、後述するＵＶ照射及びベーク処理を施す効果を確認するために、サンプル１〜３を作成し、それぞれのサンプルの画素間領域２２の濡れ性を評価した。
【００７１】
サンプル１として、実施の形態１に係るパネル１の、第１隔壁１６及び発光層１７が形成される前の半製品を作製した。サンプル１では、接触角を小さくするために、第２隔壁１４にＵＶ照射及びベーク処理が施されている。また、さらに接触角を小さくするために、第２隔壁１４上に被膜１５が形成されている。
【００７２】
サンプル２として、サンプル１と同じく第１隔壁１６及び発光層が形成される前の半製品であるが、第２隔壁１４上に被膜１５が形成されていないものを作製した。サンプル２は、サンプル１と同様に、第２隔壁１４にＵＶ照射及びベーク処理が施されているが、サンプル１と違って、被膜１５は形成されていない。
【００７３】
サンプル３として、被膜１５が形成される前の半製品であって、さらに第２隔壁１４にＵＶ照射及びベーク処理を施していないものを作製した。サンプル３は、サンプル１と違って、第２隔壁１４にＵＶ照射及びベーク処理が施されておらず、さらに被膜１５も形成されていない。
【００７４】
濡れ性の評価は、上述した方法によりインクに対する接触角を測定し、接触角が小さいほど濡れ性が良いと判断した。
【００７５】
図８は、接触角の測定結果を示す図である。図８に示すように、サンプル３の接触角が５．９°であったのに対して、サンプル２の接触角は３．１°であり、サンプル３よりもサンプル２の方が濡れ性は高かった。サンプル３とサンプル２の違いは、第２隔壁１４にＵＶ照射及びベーク処理を施すか否かであるため、ＵＶ照射及びベーク処理を施すことにより濡れ性が向上することが確認できた。
【００７６】
また、サンプル１の接触角は１．５°であり、サンプル２の接触角よりもよりも小さかった。このことから、被膜１５を形成することによって、濡れ性がより向上することが確認できた。
【００７７】
＜有機ＥＬ表示パネルの製造方法＞
パネル１０の製造方法について図９及び図１０を用いて説明する。図９（ａ）〜（ｆ）は、有機ＥＬ表示パネルの製造工程を示すＡ−Ａ断面模式図である。図１０（ａ）〜（ｆ）は、有機ＥＬ表示パネルの製造工程を示すＢ−Ｂ断面模式図である。
【００７８】
（基板準備工程）
まず基板１１を用意する。具体的には、例えば、基材にスパッタリング法、ＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法、スピンコート法などによって必要な膜を形成し、フォトリソグラフィー法によって膜をパターニングすることでＴＦＴ層及び層間絶縁層を形成する。この際、必要に応じて、プラズマ処理、イオン注入、ベーキングなどの処理を行ってもよい。
【００７９】
（画素電極形成工程）
次に、基板１１上に画素電極１２を形成し、画素電極１２を形成する。具体的には、例えば、まず真空蒸着法又はスパッタリング法によって基板１１上に金属膜を形成する。次に、フォトリソグラフィー法によって金属膜をパターニングし、基板１１上に間隔をあけて列方向に画素電極１２を複数並べ、さらにそのような画素電極１２の列を複数並設する。このようにして、基板１１上に二次元配置された画素電極１２を形成する。
【００８０】
（下地層形成工程）
次に、図９（ａ）及び図１０（ａ）に示すように、画素電極１２を形成後の基板１１上に下地層１３を形成する。具体的には、例えば、スパッタリング法により全ての画素電極１２を覆い隠すようにべた膜の酸化物層を基板１１上に成膜する。
【００８１】
（第２隔壁形成工程）
次に、図９（ｂ）及び図１０（ｂ）に示すように、下地層１３上に第２隔壁１４を形成する。具体的には、例えば、ＣＶＤ法によって下地層１３上に、無機絶縁膜（酸化シリコンなど）を形成する。そして、フォトリソグラフィー法によって無機絶縁膜をパターニングし、画素電極１２行のそれぞれを挟む位置に、行方向に延伸するように線状の第２隔壁１４を形成する。
【００８２】
第２隔壁１４を形成後は、第２隔壁１４の親液性を高めるために、まずは上方からＵＶを照射し、その後ベーク処理を行う。なお、本願において、ＵＶ照射及びベーク処理は、必須でなく任意である。ＵＶ照射の条件は、例えば、ＵＶオゾンクリーナー（ＵＶ−１、ＳＡＭＣＯ社製）を用いて６０秒から１８０秒程度である。また、ベーク処理の条件は、例えば、２００℃〜２５０℃で１０分〜３０分程度である。
【００８３】
次に、図９（ｃ）及び図１０（ｃ）に示すように、塗布型の有機機能層の材料を含むインクを、第２隔壁１４上に塗布し、これを乾燥させて被膜１５を形成する。具体的には、例えば、スピンコート法によって、下地層１３及び第２隔壁１４上にインクを塗布する。そして、フォトリソグラフィー法によってパターニングし、第２隔壁１４の上面１４ａ及び側面１４ｂのみに被膜１５を形成する。
【００８４】
（第１隔壁形成工程）
次に、図９（ｄ）及び図１０（ｄ）に示すように、下地層１３上の一部及び第２隔壁１４上の一部に第１隔壁１６を形成する。具体的には、例えば、スピンコート法によって、ポジ型の感光性有機材料（アクリル系樹脂など）を塗布する。この際、塗布した材料の膜厚は第２隔壁１４の膜厚よりも大きくする。そして、フォトリソグラフィー法によって感光性有機材料をパターニングし、画素電極１２列のそれぞれを挟む位置に、列方向に延伸するように線状の第１隔壁１６を形成する。
【００８５】
なお、印刷法などによって直接第１隔壁１６を形成してもよい。また、第１隔壁１６に対し、アルカリ性溶液、水、有機溶媒、プラズマなどによる表面処理を行って、第１隔壁１６の表面に以降の工程で塗布するインクに対する撥液性を付与してもよい。このようにすることで、以降の発光層形成工程で、インクが第１隔壁１６を超えて流動することを抑制できる。
【００８６】
なお、この工程により、隣り合う第１隔壁１６間の間隙２０が形成され、画素領域２１と画素間領域２２とがなす列は、それぞれ間隙２０内に存在することになる。
【００８７】
（発光層形成工程）
次に、図９（ｅ）及び図１０（ｅ）に示すように、間隙２０内にインク１７Ａを塗布する。具体的には、例えば、発光層１７の材料となる有機化合物と溶媒とを所定の比率で混合してインク１７Ａを作成し、インクジェット法を用いて、このインク１７Ａを間隙２０内に塗布する。インク１７Ａの上面が、第２隔壁１４の上面１４ａよりも高くなるよう塗布することで、第２隔壁１４を乗り越えるインク１７Ａの流動を可能にしている。そして、インク１７Ａに含まれる溶媒を蒸発乾燥させることにより、発光層１７を形成する。なお、インク１７Ａの塗布方法としては、ディスペンサー法、ノズルコード法、スピンコート法、印刷法などを用いてもよい。
【００８８】
また、本実施の形態では、発光層１７は、赤、緑、青の３色の画素領域２１を有するため、それぞれ異なるインク１７Ａを用いて形成する。具体的には、例えば、赤、緑、青のいずれかに対応するインク１７Ａのみを吐出するノズル（吐出口）を用いて、３色のインク１７Ａを順に塗布する方法や、赤、緑、青の各色に対応するインク１７Ａを同時に吐出可能な３連ノズルを用いて、３色のインク１７Ａを同時に塗布する方法などがある。
【００８９】
また、ラインバンクを採用したパネル１０であるため、同色のインク１７Ａのみを吐出する複数のノズルを列方向に並べ、列方向と交差する方向に移動させながら、間隙２０内へインク１７Ａを吐出して発光層１７を形成する方法が好ましい。この方法によると、まず複数のノズルを用いるため、インク１７Ａの塗布時間が短くなり工程を短縮できる。次に、複数のノズルから吐出されたインク１７Ａが間隙２０で列方向に連結するため、各ノズルのインク１７Ａの吐出量がばらついても、その後にインク１７Ａが列方向へ流動でき、塗布量が平準化されることで、画素領域２１間の膜厚むら、すなわち輝度むらの発生を低減できる。
【００９０】
塗布したインク１７Ａが乾燥すると、図９（ｆ）及び図１０（ｆ）に示すように、間隙２０に発光層１７が形成される。間隙２０では、第２隔壁１４に被覆されていない下地層１３が存在する画素領域２１と、第２隔壁１４及び被膜１５が存在する画素間領域２２とに跨って線状の発光層１７を形成することができる。
【００９１】
（対向電極形成工程）
その後、各発光層１７の上面１７ａ及び発光層１７から露出する各第１隔壁１６の表面に沿って、対向電極１８を形成する。具体的には、例えば、真空蒸着法又はスパッタリング法などによって、各発光層１７の上面１７ａ及び発光層１７から露出する各第１隔壁１６の表面に沿って、ＩＴＯ、ＩＺＯなどの光透過性導電材料からなる膜を形成する。
【００９２】
（封止層形成工程）
次に、対向電極１８の上面を覆う封止層１９を形成する。具体的には、例えば、スパッタリング法又はＣＶＤ法によって、対向電極１８上に無機絶縁膜（酸化シリコンなど）を形成する。
【００９３】
以上のようにして、パネル１０が完成する。
【００９４】
＜変形例＞
実施の形態１では、本発明の一態様に係るパネル１０を説明したが、本発明は、その本質的な特徴的構成要素を除き、以上の実施の形態に何ら限定を受けるものではない。例えば、各実施の形態に対して当業者が思いつく各種変形を施して得られる形態や、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で各実施の形態における構成要素及び機能を任意に組み合わせることで実現される形態も本発明に含まれる。以下では、そのような形態の一例として、パネル１０の変形例を説明する。
【００９５】
（変形例１）
変形例１に係るパネルは、画素領域における下地層と発光層との間にも被膜が形成されている点において実施の形態１に係るパネル１０とは相違する。その他の構成については基本的に実施の形態１に係るパネル１０と同様である。したがって、上記相違点についてのみ説明し、その他の構成についての説明は省略する。
【００９６】
図１１は、変形例１に係る被膜を説明するための模式斜視図である。図１１に示すように、被膜１１５は、隣り合う第１隔壁１６間の間隙２０内に、列方向に並んだ複数の画素領域２１に跨って形成されている。より詳細には、同じ間隙２０内の各画素領域２１だけでなく、隣り合う画素領域２１間に存在する各画素間領域２２にも形成されている。さらには、第１隔壁１６の下方にも形成されている。すなわち、被膜１１５は、基板１１全体に亘ってべた膜で形成されており、第２隔壁１４上の全体に形成されているだけでなく、隣り合う第２隔壁１４間における下地層１３の上面１３ａにも形成されている。
【００９７】
なお、被膜は、第１隔壁１６間の間隙２０内にのみ帯状に形成されていてもよい。すなわち、第１隔壁１６の下方には被膜が形成されていない構成であってもよい。
【００９８】
被膜１１５は、第２隔壁１４よりも親液性が高い。したがって、被膜１１５の上面１１５ａは、下地層１３の上面１３ａよりも親液性が高い。被膜１１５を構成する材料としては、実施の形態１に係る被膜１５の材料と同じ材料を使用することができる。
【００９９】
このような構成とした場合は、画素領域２１の濡れ性と、画素間領域２２の濡れ性とが同じになるため、より輝度むらが抑制される。また、被膜１１５を形成する際の細かいパターニングが不要となるため、製造工程を簡略化できる。
【０１００】
（変形例２）
変形例２に係るパネルは、被膜が第２隔壁の上面のみに形成されている点において実施の形態１に係るパネル１０とは相違する。その他の構成については基本的に実施の形態１に係るパネル１０と同様である。したがって、上記相違点についてのみ説明し、その他の構成についての説明は省略する。
【０１０１】
図１２は、変形例２に係る被膜を説明するための断面模式図である。図１２に示すように、被膜２１５は、第２隔壁１４の上面１４ａには形成されているが、第２隔壁１４の側面１４ｂには形成されていない。このように、被膜２１５は必ずしも第２隔壁１４上の全体（第２隔壁１４の発光層１７側の面の全体）に形成されている必要はなく、少なくとも第２隔壁１４の上面１４ａに形成されていればよい。第２隔壁１４の上面１４ａに被膜２１５を形成すれば、第２隔壁１４の上方におけるインクの途切れを効果的に抑制できるからである。
【０１０２】
また、被膜２１５は、第２隔壁１４の上面１４ａの全体に形成されていることが好ましいが、必ずしも上面１４ａの全体に形成されている必要はなく、上面１４ａの一部に形成されていてもよい。
【０１０３】
被膜２１５は、第２隔壁１４よりも親液性が高い。したがって、被膜２１５の上面２１５ａは、下地層１３の上面１３ａよりも親液性が高い。被膜２１５を構成する材料としては、実施の形態１に係る被膜１５の材料と同じ材料を使用することができる。
【０１０４】
このような構成とした場合も、画素間領域２２の濡れ性が向上するため、輝度むらが抑制される。また、被膜２１５の材料の使用量を削減することができる。
【０１０５】
（その他の変形例）
上記実施の形態１では、画素電極１２と対向電極１８の間に、下地層１３及び発光層１７のみが存在する構成であったが、本発明はこれに限られない。例えば、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、電子注入層などを備える構成や、これらの複数又は全部を同時に備える構成であってもよい。また、これらの層はすべて有機化合物からなる必要はなく、無機物などで構成されていてもよい。
【０１０６】
また、上記実施の形態１では、画素領域２１には、赤色画素領域２１Ｒ、緑色画素領域２１Ｇ、青色画素領域２１Ｂの３種類があったが、本発明はこれに限られない。例えば、発光層が１種類であってもよいし、発光層が赤、緑、青、黄色に発光する４種類であってもよい。
【０１０７】
また、上記実施の形態１では、間隙２０内の画素領域２１はすべて同色の光を発する構成であったが、本発明はこれに限られない。例えば、赤色画素領域２１Ｒと青色画素領域２１Ｂが交互に並んだ間隙２０と、緑色間隙２０Ｇとを備える構成であってもよい。
【０１０８】
また、上記実施の形態１では、画素領域２１が、マトリクス状に並んだ構成であったが、本発明はこれに限られない。例えば、画素領域の間隔を１ピッチとするとき、隣り合う間隙同士で画素領域が列方向に半ピッチずれている構成に対しても、本発明は効果を有する。高精細化が進む表示パネルにおいて、多少の列方向のずれは視認上判別が難しく、ある程度の幅を持った直線上（あるいは千鳥状）に膜厚むらが並んでも、視認上は帯状となる。したがって、このような場合も輝度むらが上記千鳥状に並ぶことを抑制することで、表示パネルの表示品質を向上できる。
【０１０９】
また、上記実施の形態１では、下地層１３が行方向に並ぶ画素電極１２間を電気的に絶縁していたが、本発明はこれに限られない。例えば下地層１３の下部に行方向に並ぶ画素電極１２間を電気的に絶縁する層があってもよい。
【０１１０】
また、上記実施の形態１に係るパネル１では、すべての間隙２０に画素電極１２が配されていたが、本発明はこの構成に限られない。例えば、バスバーなどを形成するために、画素電極１２が形成されない間隙２０が存在してもよい。
【０１１１】
また、上記実施の形態１では、第２隔壁１４が、下地層１３や第１隔壁１６などの他の構成要素とは区別できる形状であったが、本発明はこれに限られない。例えば、下地層の一部が、第２隔壁に相当してもよい。なお、他の構成要素の一部が第２隔壁となる場合は、その一部が第２隔壁であるかは相対的に判断すればよい。例えば、間隙内の画素間領域のうち、基板上面からの高さ、第１隔壁と交差する方向の長さ、撥液性など、構造・性質が他と異なることで、列方向へのインクの流動を規制する効果が他より大きい画素間領域があれば、当該画素間領域には第２隔壁が存在するとする。一方、上記実施の形態１に係る下地層１３のように、多少の流動規制効果を持つ部分が存在しても、ただちに第２隔壁が存在する画素間領域とはならない。
【０１１２】
また、上記実施の形態１では、パネル１０がトップエミッション型の構成であったが、ボトムエミッション型を採用することもできる。その場合には、各構成について、適宜の変更が可能である。
【０１１３】
また、上記実施の形態１では、パネル１０がアクティブマトリクス型の構成であったが、本発明はこれに限られず、例えば、パッシブマトリクス型の構成であってもよい。具体的には、第１隔壁の延伸方向と平行な線状の電極と、第１隔壁の延伸方向と直交する線状の電極とを発光層を挟むようにそれぞれ複数並設すればよい。このとき、第１隔壁の延伸方向と直交する線状の電極を下部側とすれば、各間隙では、複数の下部側の電極が、互いに間隔をあけて第１隔壁の延伸方向に並び、本発明の一態様となる。その場合には、各構成について、適宜の変更が可能である。なお、上記実施の形態１では、基板１１がＴＦＴ層を有する構成であったが、上記パッシブマトリクス型の例などから分かるように、基板１１はＴＦＴ層を有する構成に限られない。
【０１１４】
［実施の形態２］
以下では、本発明の一態様である実施の形態２に係る有機ＥＬ表示装置について、図１３を用いて説明する。
【０１１５】
図１３は、実施の形態２に係る有機ＥＬ表示装置の概略構成を示すブロック図である。図１３に示すように、実施の形態２に係る有機ＥＬ表示装置１は、実施の形態１に係るパネル１０を備えた有機ＥＬ表示装置である。有機ＥＬ表示装置１は、その他に、パネル１０に接続された駆動制御部３０を有する。
【０１１６】
駆動制御部３０は、４つの駆動回路３１〜３４と制御回路３５とから構成されている。ただし、有機ＥＬ表示装置１では、パネル１０に対する駆動制御部３０の配置については、これに限られない。
【０１１７】
パネル１０に画像を表示する場合、アクティブマトリクス方式により、駆動回路３１〜３４によって、パネル１０の基板１１内のＴＦＴを介して所定の画素電極１２に電圧が印加される。その結果、所定の画素電極１２と対向電極１８と間に電流が流れて、所定の画素電極１２に対応する画素領域２１の発光層１７が発光する。この結果、パネル１０は全体として、有色の画像を表示することが可能となる。
【０１１８】
有機ＥＬ表示装置１は、輝度むらが抑制されたパネル１０を備える。したがって、有機ＥＬ表示装置１は、高い表示品質を実現することができる。
【産業上の利用可能性】
【０１１９】
本発明に係る有機ＥＬ表示パネル、及び有機ＥＬ表示装置は、テレビジョンセット、パーソナルコンピュータ、携帯電話などの装置、又はその他表示パネルを有する様々な電子機器に広く利用することができる。
【符号の説明】
【０１２０】
１  有機ＥＬ表示装置
１０  有機ＥＬ表示パネル
１１  基板
１３  下地層
１４  第２隔壁
１４ａ  上面
１５  被膜
１６  第１隔壁
１６ａ  上面
１７  発光層
【図１】
2015133086.tif 000003
【図２】
2015133086.tif 000004
【図３】
2015133086.tif 000005
【図４】
2015133086.tif 000006
【図５】
2015133086.tif 000007
【図６】
2015133086.tif 000008
【図７】
2015133086.tif 000009
【図８】
2015133086.tif 000010
【図９】
2015133086.tif 000011
【図１０】
2015133086.tif 000012
【図１１】
2015133086.tif 000013
【図１２】
2015133086.tif 000014
【図１３】
2015133086.tif 000015
【図１４】
2015133086.tif 000016
【国際調査報告】
2015133086.tif 000017
2015133086.tif 000018
2015133086.tif 000019
2015133086.tif 000020