(57)【要約】【課題】フィルム基材に対して十分な密着性を有し且つ耐擦傷性に優れ、離型時においてモールドから樹脂膜を容易に剥離できるインプリント材料を提供すること。【解決手段】（Ａ）Ｎ，Ｎ‘−ジメチルアクリルアミド等の特定のアクリルアミド類、（Ｂ）アルキレンオキサイドユニットを有しかつ重合性基を末端に２つ乃至６つ有する化合物であって、該アルキレンオキサイドユニットがエチレンオキサイドユニット、プロピレンオキサイドユニット、又はそれらの組み合わせである化合物、及び（Ｃ）光重合開始剤を含有するインプリント材料。【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記（Ａ）成分、（Ｂ）成分、及び（Ｃ）成分を含有するインプリント材料。
（Ａ）下記式（１）で表される化合物
（Ｂ）アルキレンオキサイドユニットを有しかつ重合性基を末端に２つ乃至６つ有する化合物であって、該アルキレンオキサイドユニットがエチレンオキサイドユニット、プロピレンオキサイドユニット、又はそれらの組み合わせである化合物
（Ｃ）光重合開始剤
【化１】
2014171302.tif 000005
（式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は水素原子又は炭素原子数１乃至３のアルキル基を表し、ｎは１又は２を表し、
ｎが１の場合、
Ｒ３は、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アセチル基、１つ又は２つの水素原子がメチル基で置換されていてもよいアミノ基、スルホ基、及び炭素原子数１乃至４のアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも一つの置換基で置換されていてもよい、炭素原子数１乃至１２のアルキル基を表し、 
ｎが２の場合、
Ｒ３は、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アセチル基、１つ又は２つの水素原子がメチル基で置換されていてもよいアミノ基、スルホ基、及び炭素原子数１乃至４のアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも一つの置換基で置換されていてもよい、炭素原子数１乃至１２のアルキレン基を表す。）
【請求項２】
（Ａ）成分が、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計質量に基づいて０．０５質量％以上１０質量％以下の量にて含まれてなる、請求項１に記載のインプリント材料。
【請求項３】
（Ｄ）成分としてシリコーン化合物を更に含有する、請求項１又は請求項２に記載のインプリント材料。
【請求項４】
（Ｅ）成分として界面活性剤を更に含有する、請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載のインプリント材料。
【請求項５】
（Ｆ）成分として溶剤を更に含有する、請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載のインプリント材料。
【請求項６】
（Ｂ）成分が重合性基を２つ有する化合物である、請求項１乃至請求項５のいずれか一項に記載のインプリント材料。
【請求項７】
（Ｂ）成分がアクリロイルオキシ基、メタアクリロイルオキシ基、ビニル基及びアリル基からなる群から選ばれる少なくとも１種の重合性基を２つ有する化合物である、請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載のインプリント材料。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか一項に記載のインプリント材料から作製され、パターンが転写された膜。
【請求項９】
請求項８に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えた光学部材。
【請求項１０】
請求項８に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えた固体撮像装置。
【請求項１１】
請求項８に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えたＬＥＤデバイス。
【請求項１２】
請求項８に記載のパターンが転写された膜を備えた半導体素子。
【請求項１３】
請求項８に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えた太陽電池。
【請求項１４】
請求項８に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えたディスプレイ。
【請求項１５】
請求項８に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えた電子デバイス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、インプリント材料（インプリント用膜形成組成物）及び当該材料から作製され、パターンが転写された膜に関する。より詳しくは、硬化後、離型時においてモールドから樹脂膜を容易に剥離可能なインプリント材料、並びに当該材料から作製され、基板との密着性に優れ、耐擦傷性にも優れるパターンが転写された膜に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
１９９５年、現プリンストン大学のチョウ教授らがナノインプリントリソグラフィという新たな技術を提唱した（特許文献１）。ナノインプリントリソグラフィは、任意のパターンを有するモールドを樹脂膜が形成された基材と接触させ、当該樹脂膜を加圧すると共に、熱又は光を外部刺激として用い、目的のパターンを硬化された当該樹脂膜に形成する技術であり、このナノインプリントリソグラフィは、従来の半導体デバイス製造における光リソグラフィ等に比べて簡便・安価にナノスケールの加工が可能であるという利点を有する。
したがって、ナノインプリントリソグラフィは、光リソグラフィ技術に代わり、半導体デバイス、オプトデバイス、ディスプレイ、記憶媒体、バイオチップ等の製造への適用が期待されている技術であることから、ナノインプリントリソグラフィに用いる光ナノインプリントリソグラフィ用硬化性組成物について様々な報告がなされている（特許文献２、特許文献３）。【０００３】
また、光ナノインプリントリソグラフィにおいて、パターンが転写された膜を高効率で量産する方法として、ロール・ツー・ロール方式が提唱されている。従来光ナノインプリントリソグラフィにおいて提案されているロール・ツー・ロール方式は、フレキシブルなフィルムを基材として用い、ナノインプリントリソグラフィに用いる材料（以下、本明細書では「インプリント材料」と略称する。）としてパターン寸法が変化しにくいように溶剤を加えない無溶剤タイプの材料を使用する方法が主流となっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】米国特許第５７７２９０５号明細書
【特許文献２】特開２００８−１０５４１４号公報
【特許文献３】特開２００８−２０２０２２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上述したように、従来提案されているインプリント材料には無溶剤タイプの材料が使用されているが、インプリント後の膜と基材フィルムとの好適な密着性が構築できない場合がある。
またナノインプリントリソグラフィにおいて高価なモールドを使用する場合、モールドの長寿命化が求められるが、離型の際、硬化された樹脂膜をモールドから引き剥がすのに要する力（以下、本明細書では「離型力」と略称する。）が大きいとモールドへ樹脂が付着しやすくなり、モールドが使用不可能となりやすくなる。このためインプリント材料には低離型力性（硬化された樹脂膜をモールドから容易に剥離出来る特性）が求められることとなる。
また、固体撮像装置、太陽電池、ＬＥＤデバイス、ディスプレイなどの製品では、その内部又は表面に光学部材として作製した構造物に対して、耐擦傷性が求められることがある。
しかしながら、従来種々のインプリント材料が開示されているものの、フィルム基材に十分な密着性を有し、且つ、離型力（硬化された樹脂膜をモールドから容易に剥離出来る特性）が小さく、しかも耐擦傷性に優れる材料について具体的な検討や報告はなされていない。【０００６】
本発明は、上記の事情に基づいてなされたものであり、その解決しようとする課題は、インプリント材料を用いて樹脂膜を形成した時、フィルム基材に対して十分な密着性を有し且つ耐擦傷性に優れ、離型時においてモールドから樹脂膜を容易に剥離できるインプリント材料を提供することであり、当該材料から作製され、パターンが転写された膜を提供することである。
具体的には、塗膜の密着性を評価するクロスカットテスト試験において剥離がなく、かつ離型力が０．５ｇ／ｃｍ以下、なおかつパターンを転写した後の膜に対してスチールウール擦傷試験を行ったときに傷が殆ど発生しない（発生した傷が１本以下）の膜を形成するインプリント材料を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、上記の課題を解決するべく鋭意検討を行った結果、プロピレンオキサイドユニット及び／又はエチレンオキサイドユニットを有しかつ重合性基を末端に有する化合物と所定の（メタ）アクリルアミド化合物及び光重合開始剤を含有する材料をインプリント材料として使用することにより、モールド面上において該材料の光硬化によりモールドパターンが転写された硬化被膜を、モールド面から剥離する際に計測される離型力が格段に小さく、また該材料より作製したパターン転写された膜と基材との密着性に優れ、該パターン上でスチールウール擦傷試験を行っても傷が殆ど発生しないという驚くべき知見を得、本発明を完成するに至った。【０００８】
すなわち本発明は、第１観点として、下記（Ａ）成分、（Ｂ）成分、及び（Ｃ）成分を含有するインプリント材料に関する。
（Ａ）下記式（１）で表される化合物
（Ｂ）アルキレンオキサイドユニットを有しかつ重合性基を末端に２つ乃至６つ有する化合物であって、該アルキレンオキサイドユニットがエチレンオキサイドユニット、プロピレンオキサイドユニット、又はそれらの組み合わせである化合物
（Ｃ）光重合開始剤
【化１】
2014171302.tif 000002
（式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は水素原子又は炭素原子数１乃至３のアルキル基を表し、ｎは１又は２を表し、
ｎが１の場合、
Ｒ３は、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アセチル基、１つ又は２つの水素原子がメチル基で置換されていてもよいアミノ基、スルホ基、及び炭素原子数１乃至４のアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも一つの置換基で置換されていてもよい、炭素原子数１乃至１２のアルキル基を表し、
ｎが２の場合、
Ｒ３は、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アセチル基、１つ又は２つの水素原子がメチル基で置換されていてもよいアミノ基、スルホ基、及び炭素原子数１乃至４のアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも一つの置換基で置換されていてもよい、炭素原子数１乃至１２のアルキレン基を表す。）
第２観点として、（Ａ）成分が、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計質量に基づいて０．０５質量％以上１０質量％以下の量にて含まれてなる、第１観点に記載のインプリント材料に関する。
第３観点として、（Ｄ）成分としてシリコーン化合物を更に含有する、第１観点又は第２観点に記載のインプリント材料に関する。
第４観点として、（Ｅ）成分として界面活性剤を更に含有する、第１観点乃至第３観点のいずれか一つに記載のインプリント材料に関する。
第５観点として、（Ｆ）成分として溶剤を更に含有する、第１観点乃至第４観点のいずれか一つに記載のインプリント材料に関する。
第６観点として、（Ｂ）成分が重合性基を２つ有する化合物である、第１観点乃至第５観点のいずれか一つに記載のインプリント材料に関する。
第７観点として、（Ｂ）成分がアクリロイルオキシ基、メタアクリロイルオキシ基、ビニル基及びアリル基からなる群から選ばれる少なくとも１種の重合性基を２つ有する化合物である、第１観点乃至第６観点のいずれか一つに記載のインプリント材料に関する。
第８観点として、第１観点乃至第７観点のいずれか一つに記載のインプリント材料から作製され、パターンが転写された膜に関する。
第９観点として、第８観点に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えた光学部材に関する。
第１０観点として、第８観点に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えた固体撮像装置に関する。
第１１観点として、第８観点に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えたＬＥＤデバイスに関する。
第１２観点として、第８観点に記載のパターンが転写された膜を備えた半導体素子に関する。
第１３観点として、第８観点に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えた太陽電池に関する。
第１４観点として、第８観点に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えたディスプレイに関する。
第１５観点として、第８観点に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えた電子デバイスに関する。
【発明の効果】
【０００９】
本発明のインプリント材料は、分子中にプロピレンオキサイドユニット及び／又はエチレンオキサイドユニットを有しかつ重合性基を末端に２つ乃至６つ有する化合物とともに上記式（１）で表される化合物を含有させることにより、当該インプリント材料から作製された硬化膜はフィルム基材への十分な密着性を獲得し、且つ、該硬化膜は低離型力性を有するとともに高擦傷耐性を有する。
また本発明のインプリント材料は、光硬化が可能であり、かつモールド面からの剥離時にパターンの一部に剥がれが生じないため、所望のパターンが正確に形成された膜が得られる。したがって、良好な光インプリントのパターン形成が可能である。【００１０】
また、本発明のインプリント材料は、任意の基材上に製膜することができ、また形成された膜とフィルム基材とは十分な密着性を有し、且つ当該膜は低い離型力と耐擦傷性を有する。このためインプリント後に形成されるパターンが転写された膜は、固体撮像装置、太陽電池、ＬＥＤデバイス、ディスプレイなどの、耐擦傷性が求められる光学部材の製造に好適に用いることができる。【００１１】
さらに、本発明のインプリント材料は、上記（Ｂ）成分の化合物の種類及び含有割合を変更することで、硬化速度、動的粘度、膜厚をコントロールすることができる。したがって、本発明のインプリント材料は、製造するデバイス種と露光プロセス及び焼成プロセスの種類に対応した材料の設計が可能であり、プロセスマージンを拡大できるため、光学部材の製造に好適に用いることができる。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
［（Ａ）成分：式（１）で表される化合物］
（Ａ）成分の化合物は、下記式（１）で表される化合物であり、すなわちその構造内に（メタ）アクリルアミド構造を有する化合物である。
【化２】
2014171302.tif 000003
式（１）中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は水素原子又は炭素原子数１乃至３のアルキル基を表し、ｎは１又は２を表す。
ｎが１の場合、Ｒ３は、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アセチル基、１つ又は２つの水素原子がメチル基で置換されていてもよいアミノ基、スルホ基、及び炭素原子数１乃至４のアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも一つの置換基で置換されていてもよい、炭素原子数１乃至１２のアルキル基を表す。
またｎが２の場合、Ｒ３は、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アセチル基、１つ又は２つの水素原子がメチル基で置換されていてもよいアミノ基、スルホ基、及び炭素原子数１乃至４のアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも一つの置換基で置換されていてもよい、炭素原子数１乃至１２のアルキレン基を表す。
【００１３】
上記炭素原子数１乃至１２のアルキル基としては、直鎖状、分枝鎖状、環状のいずれのアルキル基であってもよく、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロブチル基、１−メチル−シクロプロピル基、２−メチル−シクロプロピル基、ｎ−ペンチル基、１−メチル−ｎ−ブチル基、２−メチル−ｎ−ブチル基、３−メチル−ｎ−ブチル基、１，１−ジメチル−ｎ−プロピル基、１，２−ジメチル−ｎ−プロピル基、２，２−ジメチル−ｎ−プロピル基、１−エチル−ｎ−プロピル基、シクロペンチル基、１−メチル−シクロブチル基、２−メチル−シクロブチル基、３−メチル−シクロブチル基、１，２−ジメチル−シクロプロピル基、２，３−ジメチル−シクロプロピル基、１−エチル−シクロプロピル基、２−エチル−シクロプロピル基、ｎ−ヘキシル基、１−メチル−ｎ−ペンチル基、２−メチル−ｎ−ペンチル基、３−メチル−ｎ−ペンチル基、４−メチル−ｎ−ペンチル基、１，１−ジメチル−ｎ−ブチル基、１，２−ジメチル−ｎ−ブチル基、１，３−ジメチル−ｎ−ブチル基、２，２−ジメチル−ｎ−ブチル基、２，３−ジメチル−ｎ−ブチル基、３，３−ジメチル−ｎ−ブチル基、１−エチル−ｎ−ブチル基、２−エチル−ｎ−ブチル基、１，１，２−トリメチル−ｎ−プロピル基、１，２，２−トリメチル−ｎ−プロピル基、１−エチル−１−メチル−ｎ−プロピル基、１−エチル−２−メチル−ｎ−プロピル基、シクロヘキシル基、１−メチル−シクロペンチル基、２−メチル−シクロペンチル基、３−メチル−シクロペンチル基、１−エチル−シクロブチル基、２−エチル−シクロブチル基、３−エチル−シクロブチル基、１，２−ジメチル−シクロブチル基、１，３−ジメチル−シクロブチル基、２，２−ジメチル−シクロブチル基、２，３−ジメチル−シクロブチル基、２，４−ジメチル−シクロブチル基、３，３−ジメチル−シクロブチル基、１−ｎ−プロピル−シクロプロピル基、２−ｎ−プロピル−シクロプロピル基、１−ｉ−プロピル−シクロプロピル基、２−ｉ−プロピル−シクロプロピル基、１，２，２−トリメチル−シクロプロピル基、１，２，３−トリメチル−シクロプロピル基、２，２，３−トリメチル−シクロプロピル基、１−エチル−２−メチル−シクロプロピル基、２−エチル−１−メチル−シクロプロピル基、２−エチル−２−メチル−シクロプロピル基、２−エチル−３−メチル−シクロプロピル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基が挙げられる。
なお炭素原子数１乃至３のアルキル基の具体例としては、上記炭素原子数１乃至１２のアルキル基として挙げた基のうち、炭素原子数が１乃至３の基を挙げることができる。
【００１４】
また炭素原子数１乃至１２のアルキレン基の具体例としては、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよく、具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン−１，２−ジイル基、プロパン−１，３−ジイル基、２，２−ジメチルプロパン−１，３−ジイル基、２−エチル−２−メチルプロパン−１，３−ジイル基、２，２−ジエチルプロパン−１，３−ジイル基、２−メチル−２−プロピルプロパン−１，３−ジイル基、ブタン−１，３−ジイル基、ブタン−２，３−ジイル基、ブタン−１，４−ジイル基、２−メチルブタン−２，３−ジイル基、２，３−ジメチルブタン−２，３−ジイル基、ペンタン−１，３−ジイル基、ペンタン−１，５−ジイル基、ペンタン−２，３−ジイル基、ペンタン−２，４−ジイル基、２−メチルペンタン−２，３−ジイル基、３−メチルペンタン−２，３−ジイル基、４−メチルペンタン−２，３−ジイル基、２，３−ジメチルペンタン−２，３−ジイル基、３−メチルペンタン−２，４−ジイル基、３−エチルペンタン−２，４−ジイル基、３，３−ジメチルペンタン−２，４−ジイル基、３，３−ジメチルペンタン−２，４−ジイル基、２，４−ジメチルペンタン−２，４−ジイル基、ヘキサン−１，６−ジイル基、ヘキサン−１，２−ジイル基、ヘキサン−１，３−ジイル基、ヘキサン−２，３−ジイル基、ヘキサン−２，４−ジイル基、ヘキサン−２，５−ジイル基、２−メチルヘキサン−２，３−ジイル基、４−メチルヘキサン−２，３−ジイル基、３−メチルヘキサン−２，４−ジイル基、２，３−ジメチルヘキサン−２，４−ジイル基、２，４−ジメチルヘキサン−２，４−ジイル基、２，５−ジメチルヘキサン−２，４−ジイル基、２−メチルヘキサン−２，５−ジイル基、３−メチルヘキサン−２，５−ジイル基、２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジイル基が挙げられる。
【００１５】
上記式（１）で表される化合物の具体例としては、（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ’−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ’−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−［３−（ジメチルアミノ）プロピル］（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（ヒドロキシメチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ドデシル（メタ）アクリルアミド、ジアセトン（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（ブトキシメチル）（メタ）アクリルアミド、２−（メタ）アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、６−（メタ）アクリルアミドへキサン酸、Ｎ，Ｎ’−（１，２−ジヒドロキシエチレン）ビス（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ’−メチレンビス（メタ）アクリルアミドが挙げられる。なお本明細書において、（メタ）アクリルアミド化合物はアクリルアミド化合物とメタクリルアミド化合物の双方の意味を表す。
中でも、上記式（１）で表される化合物は、極少量の添加量で密着性を発現させる観点から、Ｎ，Ｎ’−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ’−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ’−（１，２−ジヒドロキシエチレン）ビス（メタ）アクリルアミドが好ましく、これらの中でもアクリルアミド化合物が最も好ましい。
【００１６】
上記（Ａ）成分の化合物は、単独又は２種以上の組み合わせで使用することができる。
【００１７】
［（Ｂ）成分：アルキレンオキサイドユニットを有し、かつ重合性基を末端に２つ乃至６つ有する化合物］
（Ｂ）成分の化合物は、一分子内にプロピレンオキサイドユニットを１つ以上、エチレンオキサイドユニットを１つ以上、又はプロピレンオキサイドユニット及びエチレンオキサイドユニットをそれぞれ１つ以上有し、かつ重合性基を末端に２つ乃至６つ有する化合物を指す。
なお、上記プロピレンオキサイドユニットとは例えば（−ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２Ｏ−）、（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−）を表し、上記エチレンオキサイドユニットとは例えば（−ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−）を表す。
また当該重合性基としては、例えば、アクリロイルオキシ基、メタアクリロイルオキシ基、ビニル基、アリル基が挙げられる。ここで、アクリロイルオキシ基はアクリロキシ基と、メタアクリロイルオキシ基はメタアクリロキシ基と表現されることがある。
【００１８】
上記（Ｂ）成分である化合物のうち、一分子内にエチレンオキサイドユニットを１つ以上有し、かつ重合性基を末端に２つ乃至６つ有する化合物としては、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化グリセリントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、エトキシ化ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートが挙げられる。なお、本明細書では（メタ）アクリレート化合物とは、アクリレート化合物とメタクリレート化合物の両方を指す。例えば（メタ）アクリル酸は、アクリル酸とメタクリル酸を指す。
上記化合物は、市販品として入手が可能であり、その具体例としては、ＡＭ−３０Ｇ、ＡＭ−９０Ｇ、ＡＭ−１３０Ｇ、ＡＭ−２３０Ｇ、ＡＭＰ−１０Ｇ、ＡＭＰ−２０ＧＹ、ＡＭＰ−６０Ｇ、ＰＨＥ−１Ｇ、Ａ−２００、Ａ−４００、Ａ−６００、Ａ−１０００、１Ｇ、２Ｇ、３Ｇ、４Ｇ、９Ｇ、１４Ｇ、２３Ｇ、ＡＢＥ−３００、Ａ−ＢＰＥ−４、Ａ−ＢＰＥ−６、Ａ−ＢＰＥ−１０、Ａ−ＢＰＥ−２０、Ａ−ＢＰＥ−３０、ＢＰＥ−８０Ｎ、ＢＰＥ−１００Ｎ、ＢＰＥ−２００、ＢＰＥ−５００、ＢＰＥ−９００、ＢＰＥ−１３００Ｎ、Ａ−ＧＬＹ−３Ｅ、Ａ−ＧＬＹ−９Ｅ、Ａ−ＧＬＹ−２０Ｅ、Ａ−ＴＭＰＴ−３ＥＯ、Ａ−ＴＭＰＴ−９ＥＯ、ＡＴＭ−４Ｅ、ＡＴＭ−３５Ｅ、Ａ−ＤＰＨ−１２Ｅ（以上、新中村化学工業株式会社製）、ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＤＰＥＡ−１２、同ＰＥＧ４００ＤＡ、同ＴＨＥ−３３０、同ＲＰ−１０４０（以上、日本化薬株式会社製）、Ｍ−２１０、Ｍ−３５０（以上、東亞合成株式会社製）が挙げられる。
【００１９】
上記（Ｂ）成分である化合物のうち、一分子内にプロピレンオキサイドユニットを１つ以上有し、かつ重合性基を末端に２つ乃至６つ有する化合物としては、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール♯４００ジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール♯７００ジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートが挙げられる。
上記化合物は、市販品として入手が可能であり、その具体例としては、ＡＰＧ−１００、ＡＰＧ−２００、ＡＰＧ−４００、ＡＰＧ−７００、３ＰＧ、９ＰＧ、Ａ−ＤＰＨ−６Ｐ（以上、新中村化学工業株式会社製）、ファンクリル（登録商標）ＦＡ−Ｐ２４０Ａ、同ＦＡ−Ｐ２７０Ａ、（以上、日立化成工業株式会社製）が挙げられる。
【００２０】
上記（Ｂ）成分である化合物のうち、一分子内にエチレンオキサイドユニットとプロピレンオキサイドユニットをそれぞれ１つ以上有し、かつ重合性基を末端に２つ乃至６つ有する化合物としては、エチレンオキサイドプロピレンオキサイド共重合体ジ（メタ）アクリル酸エステル、プロポキシ化エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ポリプロピレングリコール♯７００ジ（メタ）アクリレートが挙げられる。
上記化合物は、市販品として入手が可能であり、その具体例としては、Ａ−１０００ＰＥＲ、Ａ−Ｂ１２０６ＰＥ（以上、新中村化学工業株式会社製）、ファンクリル（登録商標）ＦＡ−０２３Ｍ（以上、日立化成工業株式会社製）が挙げられる。
【００２１】
上記（Ｂ）成分の化合物は、単独又は２種以上の組み合わせで使用することができる。
【００２２】
本発明における（Ｂ）成分は、パターン転写後の膜に対して耐擦傷性を付与することができる。またインプリント時の硬化時において、後述する（Ｄ）成分のシリコーン化合物をブリードアウトさせる一助を担い、得られた樹脂膜（硬化被膜）においてモールド面から剥離した際に計測される離型力を低下させることができる。
また上記（Ｂ）成分の化合物の種類及び含有割合を変更することで、インプリント材料の動的粘度、インプリント時の硬化速度及び形成される膜厚をコントロールすることができる。
【００２３】
本発明のインプリント材料における上記（Ａ）成分の含有割合は、上記（Ａ）成分及び上記（Ｂ）成分の総質量に基づいて、又は後述する（Ｇ）成分を含む場合には（Ａ）成分及び（Ｂ）成分及び（Ｇ）成分の総質量に基づいて、０．０５質量％以上１０質量％以下であることが好ましい。
（Ａ）成分の割合が０．０５質量％未満であると、光インプリントにより得られる膜の基板に対する密着性が低下し、一方、１０質量％を超えて添加すると、耐擦傷性が急激に低下する。
【００２４】
［（Ｃ）成分：光重合開始剤］
（Ｃ）成分である光重合開始剤は、光硬化時に使用する光源に吸収をもつものであれば、特に限定されるものではない。
例えば、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ−ｉｓｏ−ブタレート、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ベンゾイルジオキシ）ヘキサン、１，４−ビス［α−（ｔｅｒｔ−ブチルジオキシ）−ｉｓｏ−プロポキシ］ベンゼン、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシド、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルジオキシ）ヘキセンヒドロペルオキシド、α−（ｉｓｏ−プロピルフェニル）−ｉｓｏ−プロピルヒドロペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド、１，１−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルジオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、ブチル−４，４−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルジオキシ）バレレート、シクロヘキサノンペルオキシド、２，２’，５，５’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−アミルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ヘキシルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシカルボニル）−４，４’−ジカルボキシベンゾフェノン、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシベンゾエート、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジペルオキシイソフタレート等の有機過酸化物；９，１０−アントラキノン、１−クロロアントラキノン、２−クロロアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，２−ベンズアントラキノン等のキノン類；ベンゾインメチル、ベンゾインエチルエーテル、α−メチルベンゾイン、α−フェニルベンゾイン等のベンゾイン誘導体；２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−１−［４−｛４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）ベンジル｝−フェニル］−２−メチル−プロパン−１−オン、フェニルグリオキシリックアシッドメチルエステル、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタン−１−オン、２−ジメチルアミノ−２−（４−メチル−ベンジル）−１−（４−モルホリン−４−イル−フェニル）−ブタン−１−オン等のアルキルフェノン系化合物；ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド系化合物；１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）等のオキシムエステル系化合物が挙げられる。
【００２５】
上記化合物は、市販品として入手が可能であり、その具体例としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）６５１、同１８４、同５００、同２９５９、同１２７、同７５４、同９０７、同３６９、同３７９、同３７９ＥＧ、同８１９、同８１９ＤＷ、同１８００、同１８７０、同７８４、同ＯＸＥ０１、同ＯＸＥ０２、同２５０、Ｄａｒｏｃｕｒ（登録商標）１１７３、同ＭＢＦ、同４２６５、Ｌｕｃｉｒｉｎ（登録商標）ＴＰＯ（以上、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）、ＫＡＹＡＣＵＲＥ（登録商標）ＤＥＴＸ、同ＭＢＰ、同ＤＭＢＩ、同ＥＰＡ、同ＯＡ（以上、日本化薬株式会社製）、ＶＩＣＵＲＥ−１０、同５５（以上、ＳＴＡＵＦＦＥＲ  Ｃｏ．ＬＴＤ製）、ＥＳＡＣＵＲＥ（登録商標）ＫＩＰ１５０、同ＴＺＴ、同１００１、同ＫＴＯ４６、同ＫＢ１、同ＫＬ２００、同ＫＳ３００、同ＥＢ３、トリアジン−ＰＭＳ、トリアジンＡ、トリアジンＢ（以上、日本シイベルヘグナー株式会社製）、アデカオプトマーＮ−１７１７、同Ｎ−１４１４、同Ｎ−１６０６（株式会社ＡＤＥＫＡ製）が挙げられる。
【００２６】
上記光重合開始剤は、単独又は２種以上の組み合わせで使用することができる。
【００２７】
本発明のインプリント材料における（Ｃ）成分の含有量は、上記（Ａ）成分及び上記（Ｂ）成分の総質量に基づいて、又は後述する（Ｇ）成分を含む場合には（Ａ）成分及び（Ｂ）成分及び（Ｇ）成分の総質量に基づいて、０．１ｐｈｒ乃至３０ｐｈｒであることが好ましく、１ｐｈｒ乃至２０ｐｈｒであることがより好ましい。
（Ｃ）成分の含有量の割合が０．１ｐｈｒ未満の場合には、十分な硬化性が得られず、パターニング特性の悪化及び耐擦傷性の低下が起こるからである。本明細書において“ｐｈｒ”とは、例えば（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総質量１００ｇに対する、又は後述する（Ｇ）成分を含む場合には（Ａ）成分及び（Ｂ）成分及び（Ｇ）成分の総質量１００ｇに対する、光重合開始剤の質量を表す。
【００２８】
［（Ｄ）成分：シリコーン化合物］
本発明においては、任意成分としてシリコーン化合物を含んでいてもよい。（Ｄ）成分であるシリコーン化合物は、分子内にシリコーン骨格（シロキサン骨格）を有する化合物を表し、特にジメチルシリコーン骨格を有することが好ましい。
【００２９】
上記化合物としては市販品として入手が可能であり、その具体例としては、ＢＹＫ−３０２、ＢＹＫ−３０７、ＢＹＫ−３２２、ＢＹＫ−３２３、ＢＹＫ−３３０、ＢＹＫ−３３３、ＢＹＫ−３７０、ＢＹＫ−３７５、ＢＹＫ−３７８、ＢＹＫ−ＵＶ  ３５００、ＢＹＫ−ＵＶ  ３５７０（以上、ビックケミー・ジャパン株式会社製）、Ｘ−２２−１６４、Ｘ−２２−１６４ＡＳ、Ｘ−２２−１６４Ａ、Ｘ−２２−１６４Ｂ、Ｘ−２２−１６４Ｃ、Ｘ−２２−１６４Ｅ、Ｘ−２２−１６３、Ｘ−２２−１６９ＡＳ、Ｘ−２２−１７４ＤＸ、Ｘ−２２−２４２６、Ｘ−２２−９００２、Ｘ−２２−２４７５、Ｘ−２２−４９５２、ＫＦ−６４３、Ｘ−２２−３４３、Ｘ−２２−２４０４、Ｘ−２２−２０４６、Ｘ−２２−１６０２（以上、信越化学工業株式会社製）が挙げられる。
【００３０】
上記シリコーン骨格を有する化合物は単独又は２種以上の組み合わせで使用することができる。
【００３１】
本発明のインプリント材料における（Ｄ）成分の含有量は、上記（Ａ）成分及び上記（Ｂ）成分の総質量に基づいて、又は後述する（Ｇ）成分を含む場合には（Ａ）成分及び（Ｂ）成分及び（Ｇ）成分の総質量に基づいて、０．２ｐｈｒ乃至４ｐｈｒであることが好ましく、０．５ｐｈｒ乃至２ｐｈｒであることがより好ましい。この割合が０．２ｐｈｒを下回る場合には、添加しても十分な低離型力性を得ることができず、４ｐｈｒを上回る場合には硬化が不十分になることがあり、パターニング特性が悪化する。
【００３２】
［（Ｅ）成分：界面活性剤］
本発明においては任意成分として界面活性剤を含んでいてもよい。（Ｅ）成分である界面活性剤は、得られる塗膜の製膜性を調整する役割を果たす。
【００３３】
上記界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル類、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンモノオレエート、ソルビタントリオレエート、ソルビタントリステアレート等のソルビタン脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタントリオレエート、ポリオキシエチレンソルビタントリステアレート等のポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル類等のノニオン系界面活性剤；商品名エフトップ（登録商標）ＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５２（三菱マテリアル電子化成株式会社）、商品名メガファック（登録商標）Ｆ−１７１、同Ｆ−１７３、同Ｆ−４７７、同Ｆ−４８６、同Ｆ−５５４、同Ｆ−５５６、同Ｒ−０８、同Ｒ−３０、同Ｒ−３０Ｎ、（ＤＩＣ株式会社製）、フロラードＦＣ４３０、同ＦＣ４３１（住友スリーエム株式会社製）、商品名アサヒガード（登録商標）ＡＧ７１０、サーフロン（登録商標）Ｓ−３８２、同ＳＣ１０１、同ＳＣ１０２、同ＳＣ１０３、同ＳＣ１０４、同ＳＣ１０５、同ＳＣ１０６（旭硝子株式会社製）等のフッ素系界面活性剤；及びオルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１（信越化学工業株式会社製）を挙げることができる。
【００３４】
上記界面活性剤は、単独又は２種以上の組み合わせで使用することができる。
界面活性剤が使用される場合、その割合は、上記（Ａ）成分及び上記（Ｂ）成分の総質量に基づいて、又は後述する（Ｇ）成分を含む場合には（Ａ）成分及び（Ｂ）成分及び（Ｇ）成分の総質量に基づいて、好ましくは０．０１ｐｈｒ乃至４０ｐｈｒ、より好ましくは０．０１ｐｈｒ乃至１０ｐｈｒである。
【００３５】
［（Ｆ）成分：溶剤］
本発明においては（Ｆ）成分として溶剤を含有してもよい。任意成分である（Ｆ）溶剤は、前記（Ａ）成分及び（Ｂ）成分、並びに、又は後述する（Ｇ）成分を含む場合には（Ａ）成分及び（Ｂ）成分及び（Ｇ）成分の粘度調節の役割を果たす。
【００３６】
上記溶剤としては、例えば、トルエン、ｐ−キシレン、ｏ−キシレン、スチレン、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコ−ルジメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコール、１−オクタノール、エチレングリコール、ヘキシレングリコール、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、プロピレングリコール、ベンジルアルコール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、２，３−ブタンジオール、γ−ブチロラクトン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルｎ−ブチルケトン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸イソブチル、酢酸ｎ−ブチル、乳酸エチル、ピルビン酸エチル、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、アリルアルコール、ｎ−プロパノール、２−メチル−２−ブタノール、イソブタノール、ｎ−ブタノール、２−メチル−１−ブタノール、１−ペンタノール、２−メチル−１−ペンタノール、２−エチルヘキサノール、トリメチレングリコール、１−メトキシ−２−ブタノール、イソプロピルエーテル、１，４−ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド、Ｎ−シクロヘキシル−２−ピロリジンが挙げられ、上記（Ａ）成分及び（Ｂ）成分、そして（Ｇ）成分の粘度を調節することができるものであれば、特に限定されるものではない。
【００３７】
上記溶剤は、単独又は２種以上の組み合わせで使用することができる。
溶剤が使用される場合、本発明のインプリント材料の全成分、すなわち前述の（Ａ）成分乃至（Ｃ）成分、並びに後述するその他添加剤を含む全成分から（Ｆ）成分の溶剤を除いたものとして定義される固形分の割合が前記インプリント材料の総質量に対して２０質量％乃至８０質量％、好ましくは４０質量％乃至６０質量％となる量になるように、溶剤を含有することが好ましい。
【００３８】
［（Ｇ）成分：重合性基を末端に３つ以上有しアルキレンオキサイドユニットは有さない化合物］
本発明においては、その効果を損なわない限りにおいて、（Ｇ）成分として重合性基を末端に３つ以上有しアルキレンオキサイドユニットは有さない化合物を添加してもよい。（Ｇ）成分である重合性基を末端に３つ以上有しアルキレンオキサイドユニットは有さない化合物は、光インプリントにより得られる膜の硬度を調整する役割を果たす。当該重合性基としては、例えば、アクリロイルオキシ基、メタアクリロイルオキシ基、ビニル基、アリル基が挙げられる。
【００３９】
上記（Ｇ）成分である化合物としては、例えば、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ε−カプロラクトン変性トリス−（２−アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールポリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレートトルエンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレートイソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマーが挙げられる。
【００４０】
上記化合物は、市販品として入手が可能であり、その具体例としては、ＮＫエステル  Ａ−ＴＭＭ−３ＬＭＮ、同Ａ−ＴＭＰＴ、同ＴＭＰＴ、同Ａ−ＴＭＭＴ、同ＡＤ−ＴＭＰ、同Ａ−ＤＰＨ、同Ａ−９５５０、同Ａ−９５３０、同ＡＤＰ−５１ＥＨ、同ＡＴＭ−３１ＥＨ、（以上、新中村化学工業株式会社製）、ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）Ｔ−１４２０、同Ｄ−３３０、同Ｄ−３１０、同ＤＰＣＡ−２０、同ＤＰＣＡ−３０、同ＤＰＣＡ−６０、同ＤＰＣＡ−１２０、同ＴＭＰＴＡ、同ＰＥＴ−３０、同ＤＰＨＡ（以上、日本化薬株式会社製）、ＵＡ−３０６Ｈ、ＵＡ−３０６Ｔ、ＵＡ−３０６Ｉ、ＵＡ−５１０Ｈ（以上、共栄社化学株式会社製）が挙げられる。
【００４１】
上記重合性基を末端に３つ以上有しアルキレンオキサイドユニットは有さない化合物は、単独又は２種以上の組み合わせで使用することができる。重合性基を３つ以上有しアルキレンオキサイドユニットは有さない化合物が使用される場合、その割合は、上記（Ｂ）成分の質量に対して、１０ｐｈｒ乃至７０ｐｈｒであることが好ましく、１０ｐｈｒ乃至６０ｐｈｒであることがより好ましい。
【００４２】
［その他添加剤］
本発明のインプリント材料は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、必要に応じて、エポキシ化合物、光酸発生剤、光増感剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、密着補助剤又は離型性向上剤を含有することができる。
【００４３】
上記エポキシ化合物としては、例えば、エポリード（登録商標）ＧＴ−４０１、同ＰＢ３６００、セロキサイド（登録商標）２０２１Ｐ、同２０００、同３０００、ＥＨＰＥ３１５０、同ＥＨＰＥ３１５０ＣＥ、サイクロマー（登録商標）Ｍ１００（以上、株式会社ダイセル製）、ＥＰＩＣＬＯＮ（登録商標）８４０、同８４０−Ｓ、同Ｎ−６６０、同Ｎ−６７３−８０Ｍ（以上、ＤＩＣ株式会社製）が挙げられる。
【００４４】
上記光酸発生剤としては、例えば、ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）ＰＡＧ１０３、同ＰＡＧ１０８、同ＰＡＧ１２１、同ＰＡＧ２０３、同ＣＧＩ７２５（以上、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）、ＷＰＡＧ−１４５、ＷＰＡＧ−１７０、ＷＰＡＧ−１９９、ＷＰＡＧ−２８１、ＷＰＡＧ−３３６、ＷＰＡＧ−３６７（以上、和光純薬工業株式会社製）、ＴＦＥトリアジン、ＴＭＥ−トリアジン、ＭＰ−トリアジン、ジメトキシトリアジン、ＴＳ−９１、ＴＳ−０１（株式会社三和ケミカル製）が挙げられる。
【００４５】
上記光増感剤としては、例えば、チオキサンテン系、キサンテン系、ケトン系、チオピリリウム塩系、ベーススチリル系、メロシアニン系、３−置換クマリン系、３，４−置換クマリン系、シアニン系、アクリジン系、チアジン系、フェノチアジン系、アントラセン系、コロネン系、ベンズアントラセン系、ペリレン系、ケトクマリン系、クマリン系、ボレート系が挙げられる。
光増感剤は、単独又は２種以上の組み合わせで使用することができる。当該光増感剤を用いることによって、ＵＶ領域の吸収波長を調整することもできる。
【００４６】
上記紫外線吸収剤としては、例えば、ＴＩＮＵＶＩＮ（登録商標）ＰＳ、同９９−２、同１０９、同３２８、同３８４−２、同４００、同４０５、同４６０、同４７７、同４７９、同９００、同９２８、同１１３０、同１１１ＦＤＬ、同１２３、同１４４、同１５２、同２９２、同５１００、同４００−ＤＷ、同４７７−ＤＷ、同９９−ＤＷ、同１２３−ＤＷ、同５０５０、同５０６０、同５１５１（以上、ＢＡＳＦジャパン株式会社）が挙げられる。
紫外線吸収剤は、単独又は２種以上の組み合わせで使用することができる。当該紫外線吸収剤を用いることによって、光硬化時に膜の最表面の硬化速度を制御することができ、離型性を向上できる場合がある。
【００４７】
上記酸化防止剤としては、例えば、ＩＲＧＡＮＯＸ（登録商標）１０１０、同１０３５、同１０７６、同１１３５、同１５２０Ｌ（以上、ＢＡＳＦジャパン株式会社）が挙げられる。
酸化防止剤は、単独又は２種以上の組み合わせで使用することができる。当該酸化防止剤を用いることで、酸化によって膜が黄色に変色することを防止することができる。
【００４８】
上記密着補助剤としては、例えば、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシランが挙げられる。当該密着補助剤を用いることによって、基材との密着性が向上する。
当該密着補助剤の含有量は、上記（Ａ）成分及び上記（Ｂ）成分の総質量に基づいて、又は前述の（Ｇ）成分を含む場合には（Ａ）成分及び（Ｂ）成分及び（Ｇ）成分の総質量に基づいて、好ましくは５ｐｈｒ乃至５０ｐｈｒ、より好ましくは１０ｐｈｒ乃至５０ｐｈｒである。
【００４９】
上記離型性向上剤としては、例えば、フッ素含有化合物が挙げられる。フッ素含有化合物としては、例えば、Ｒ−５４１０、Ｒ−１４２０、Ｍ−５４１０、Ｍ−１４２０、Ｅ−５４４４、Ｅ−７４３２、Ａ−１４３０、Ａ−１６３０（以上、ダイキン工業株式会社製）が挙げられる。
【００５０】
［インプリント材料の調製］
本発明のインプリント材料の調製方法は、特に限定されないが、（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分、並びに任意成分である（Ｄ）成分、（Ｅ）成分、（Ｆ）成分及び（Ｇ）成分並びに所望によりその他添加剤を混合し、インプリント材料が均一な状態となっていればよい。
また、（Ａ）成分乃至（Ｇ）成分並びに所望によりその他添加剤を混合する際の順序は、均一なインプリント材料が得られるなら問題なく、特に限定されない。当該調製方法としては、例えば、（Ａ）成分に（Ｂ）成分を所定の割合で混合する方法が挙げられる。また、これに更に（Ｃ）成分、（Ｄ）成分、（Ｅ）成分、（Ｆ）成分、（Ｇ）成分を適宜混合し、均一なインプリント材料とする方法も挙げられる。さらに、この調製方法の適当な段階において、必要に応じて、その他の添加剤を更に添加して混合する方法が挙げられる。
【００５１】
［光インプリント及びパターンが転写された膜］
本発明のインプリント材料は、基材上に塗布し光硬化させることで所望の被膜を得ることができる。塗布方法としては、公知又は周知の方法、例えば、スピンコート法、ディップ法、フローコート法、インクジェット法、スプレー法、バーコート法、グラビアコート法、スリットコート法、ロールコート法、転写印刷法、刷毛塗り、ブレードコート法、エアーナイフコート法を挙げることができる。
【００５２】
本発明のインプリント材料を塗布するための基材としては、例えば、シリコン、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）が成膜されたガラス（以下、本明細書では「ＩＴＯ基板」と略称する。）、シリコンナイトライド（ＳｉＮ）が成膜されたガラス（ＳｉＮ基板）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）が成膜されたガラス、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、アクリル、プラスチック、ガラス、石英、セラミックス等からなる基材を挙げることができる。また、可撓性を有するフレキシブル基材、例えばトリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリメタクリル酸メチル、シクロオレフィン（コ）ポリマー、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリイミド、ポリアミド、ポリオレフィン、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルスルフォン、並びにこれらポリマーを組み合わせた共重合体からなる基材を用いることも可能である。
【００５３】
本発明のインプリント材料を硬化させる光源としては、特に限定されないが、例えば、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、無電極ランプ、メタルハライドランプ、ＫｒＦエキシマーレーザー、ＡｒＦエキシマーレーザー、Ｆ２エキシマーレーザー、電子線（ＥＢ）、極端紫外線（ＥＵＶ）を挙げることができる。また、波長は、一般的には、４３６ｎｍのＧ線、４０５ｎｍのＨ線、３６５ｎｍのＩ線、又はＧＨＩ混合線を用いることができる。さらに、露光量は、好ましくは、３０乃至２０００ｍＪ／ｃｍ２、より好ましくは３０乃至１０００ｍＪ／ｃｍ２である。
【００５４】
なお、前述の（Ｆ）成分である溶剤を用いる場合には、光照射前の塗膜及び光照射後の被膜の少なくとも一方に対し、溶剤を蒸発させる目的で、焼成工程を加えてもよい。焼成機器としては、特に限定されるものではなく、例えば、ホットプレート、オーブン、ファーネスを用いて、適切な雰囲気下、すなわち大気、窒素等の不活性ガス、又は真空中で焼成することができるものであればよい。焼成温度は、溶剤を蒸発させる目的では、特に限定されないが、例えば、４０℃乃至２００℃で行うことができる。
【００５５】
光インプリントを行う装置は、目的のパターンが得られれば特に限定されないが、例えば、東芝機械株式会社製のＳＴ５０、Ｏｂｄｕｃａｔ社製のＳｉｎｄｒｅ（登録商標）６０、明昌機工株式会社製のＮＭ−０８０１ＨＢ等の市販されている装置にて、基材とモールドをローラー圧着し、光硬化後に離型する方法を用いることができる。
【００５６】
また、本発明で用いる光インプリント用に使用するモールド材としては、例えば、石英、シリコン、ニッケル、アルミナ、カルボニルシラン、グラッシーカーボンを挙げることができるが、目的のパターンが得られるなら、特に限定されない。また、モールドは、離型性を高めるために、その表面にフッ素系化合物等の薄膜を形成する離型処理を行ってもよい。離型処理に用いる離型剤としては、例えば、ダイキン工業株式会社製のオプツール（登録商標）ＨＤ、同ＤＳＸが挙げられるが、目的のパターンが得られるなら、特に限定されない。
【００５７】
光インプリントのパターンサイズはナノメートルオーダーであり、具体的には１ミクロン未満のパターンサイズに準ずる。
【００５８】
なお、本発明において、離型力を評価する９０°剥離試験とは、一般に接着物（本発明ではインプリント材料より形成された硬化被膜に相当する）を被着物（本発明ではフィルムに相当する）に貼付し、所定時間後に所定の剥離速度で９０°方向に引き剥がす際に生じる抵抗力（張力）を測定する試験であり、通常、測定はＪＩＳ  Ｚ０２３７を参考にした評価法にて実施される。ここで測定された抵抗力を被着物の幅あたりに換算した値を離型力として評価することができる。
そして本発明のインプリント材料をフィルム上に塗布し、これをモールド面に接着させ、続いて該塗膜をモールド面を接着させたまま光硬化させ、その後フィルム上に硬化被膜をモールド面から９０°剥離する試験において計測された離型力、すなわち、該フィルム上の被膜をモールド面から完全に剥離したときの荷重を該フィルムの横幅１ｃｍあたりに換算した値が０ｇ／ｃｍより大きく０．５ｇ／ｃｍ以下であることが好ましく、より好ましくは０．４ｇ／ｃｍ以下である。
【００５９】
こうして本発明のインプリント材料から作製され、パターンが転写された膜、また該膜を備えた半導体素子並びに該膜を基材上に備えた光学部材、固体撮像素子、ＬＥＤデバイス、太陽電池、ディスプレイ及び電子デバイスも本発明の対象である。
【実施例】
【００６０】
以下、実施例及び比較例を挙げて、本発明を更に詳しく説明するが、本発明は、これら実施例に限定されるものでない。【００６１】
［インプリント材料の調製］
＜実施例１＞
ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＤＰＥＡ−１２（以下、本明細書では「ＤＰＥＡ−１２」と略称する。）（日本化薬株式会社製）９．９ｇ及びＮ，Ｎ’−ジメチルアクリルアミド（東京化成工業株式会社製）０．１ｇを混合し、その混合物にＬｕｃｉｒｉｎ（登録商標）ＴＰＯ（ＢＡＳＦジャパン株式会社製）（以下、本明細書では「Ｌｕｃｉｒｉｎ  ＴＰＯ」と略称する。）を０．２５ｇ（ＤＰＥＡ−１２、Ｎ，Ｎ’−ジメチルアクリルアミドの総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ１を調製した。【００６２】
＜実施例２＞
ＮＫエステル  Ａ−２００（以下、本明細書では「Ａ−２００」と略称する。）（新中村化学工業株式会社製）９．９９５ｇ及びＮ，Ｎ’−ジメチルアクリルアミド０．００５ｇを混合し、その混合物にＬｕｃｉｒｉｎ  ＴＰＯを０．２５ｇ（Ａ−２００、Ｎ，Ｎ’−ジメチルアクリルアミドの総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ２を調製した。【００６３】
＜実施例３＞
Ａ−２００を９ｇ及びＮ，Ｎ’−ジメチルアクリルアミド１ｇを混合し、その混合物にＬｕｃｉｒｉｎ  ＴＰＯを０．２５ｇ（Ａ−２００、Ｎ，Ｎ’−ジメチルアクリルアミドの総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ３を調製した。【００６４】
＜実施例４＞
ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＰＥＴ３０（以下、本明細書では「ＰＥＴ３０」と略称する。）（日本化薬株式会社製）１．５ｇ、Ａ−２００を８ｇ及びＮ，Ｎ’−ジメチルアクリルアミド０．５ｇを混合し、その混合物にＬｕｃｉｒｉｎ  ＴＰＯを０．２５ｇ（ＰＥＴ３０、Ａ−２００、Ｎ，Ｎ’−ジメチルアクリルアミドの総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ４を調製した。【００６５】
＜実施例５＞
Ａ−２００を６．５ｇ、ＮＫエコノマー  Ａ−１０００ＰＥＲ（以下、本明細書では「Ａ−１０００ＰＥＲ」と略称する。）（新中村化学工業株式会社製）３ｇ、Ｎ，Ｎ’−ジメチルアクリルアミドを０．５ｇ及びＢＹＫ−３３３（ビックケミー・ジャパン株式会社製）０．１ｇ（Ａ−２００、Ａ１０００ＰＥＲ、Ｎ，Ｎ’−ジメチルアクリルアミドの総質量に対して１ｐｈｒ）を混合し、その混合物にＬｕｃｉｒｉｎ  ＴＰＯを０．２５ｇ（Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、Ｎ，Ｎ’−ジメチルアクリルアミドの総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ５を調製した。【００６６】
＜実施例６＞
Ａ−２００を５．５ｇ、Ａ−１０００ＰＥＲを４ｇ、Ｎ，Ｎ’−ジメチルアクリルアミドを０．５ｇ及びＢＹＫ−３３３を０．１ｇ（Ａ−２００、Ａ１０００ＰＥＲ、Ｎ，Ｎ’−ジメチルアクリルアミドの総質量に対して１ｐｈｒ）混合し、その混合物にＬｕｃｉｒｉｎ  ＴＰＯを０．２５ｇ（Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、Ｎ，Ｎ’−ジメチルアクリルアミドの総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ６を調製した。【００６７】
＜実施例７＞
ＤＰＥＡ−１２を９．９ｇ及びＮ，Ｎ’−ジエチルアクリルアミド（東京化成工業株式会社製）０．１ｇを混合し、その混合物にＬｕｃｉｒｉｎ  ＴＰＯを０．２５ｇ（ＤＰＥＡ−１２、Ｎ，Ｎ’−ジエチルアクリルアミドの総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ７を調製した。【００６８】
＜実施例８＞
ＤＰＥＡ−１２を３．９ｇ、Ａ−２００を３ｇ、Ａ−１０００ＰＥＲを３ｇ、Ｎ，Ｎ’−ジエチルアクリルアミドを０．１ｇ及びＢＹＫ−３３３を０．１ｇ（ＤＰＥＡ−１２、Ａ−２００、Ａ１０００ＰＥＲ、Ｎ，Ｎ’−ジエチルアクリルアミドの総質量に対して１ｐｈｒ）混合し、その混合物にＬｕｃｉｒｉｎ  ＴＰＯを０．２５ｇ（ＤＰＥＡ−１２、Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、Ｎ，Ｎ’−ジエチルアクリルアミドの総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ８を調製した。【００６９】
＜実施例９＞
Ａ−２００を５ｇ、ＮＫエステル  ＡＰＧ−７００（以下、本明細書では「ＡＰＧ−７００」と略称する。）（新中村化学工業株式会社製）を４．５ｇ及びＮ，Ｎ’−ジエチルアクリルアミドを０．５ｇ混合し、その混合物にＬｕｃｉｒｉｎ  ＴＰＯを０．２５ｇ（Ａ−２００、ＡＰＧ−７００、Ｎ，Ｎ’−ジエチルアクリルアミドの総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ９を調製した。【００７０】
＜実施例１０＞
Ａ−２００を７．９９ｇ、Ａ１０００ＰＥＲを２ｇ、Ｎ，Ｎ’−ジエチルアクリルアミドを０．０１ｇ及びＢＹＫ−３３３を０．１ｇ（Ａ−２００、Ａ１０００ＰＥＲ、Ｎ，Ｎ’−ジエチルアクリルアミドの総質量に対して１ｐｈｒ）混合し、その混合物にＬｕｃｉｒｉｎ  ＴＰＯを０．２５ｇ（Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、Ｎ，Ｎ’−ジエチルアクリルアミドの総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ１０を調製した。【００７１】
＜実施例１１＞
Ａ−２００を７．５ｇ、Ａ１０００ＰＥＲを２ｇ、Ｎ，Ｎ’−ジエチルアクリルアミドを０．５ｇ及びＢＹＫ−３３３を０．１ｇ（Ａ−２００、Ａ１０００ＰＥＲ、Ｎ，Ｎ’−ジエチルアクリルアミドの総質量に対して１ｐｈｒ）混合し、その混合物にＬｕｃｉｒｉｎ  ＴＰＯを０．２５ｇ（Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、Ｎ，Ｎ’−ジエチルアクリルアミドの総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ１１を調製した。【００７２】
＜実施例１２＞
ＤＰＥＡ−１２を９．９ｇ及びＮ，Ｎ’−（１，２−ジヒドロキシエチレン）ビスアクリルアミド（東京化成工業株式会社製）０．１ｇを混合し、その混合物にＬｕｃｉｒｉｎ  ＴＰＯを０．２５ｇ（ＤＰＥＡ−１２、Ｎ，Ｎ’−（１，２−ジヒドロキシエチレン）ビスアクリルアミドの総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ１２を調製した。【００７３】
＜実施例１３＞
Ａ−２００を５ｇ、ＡＰＧ−７００を４．５ｇ、Ｎ，Ｎ’−（１，２−ジヒドロキシエチレン）ビスアクリルアミドを０．５及びＢＹＫ−３３３を０．１ｇ（Ａ−２００、ＡＰＧ−７００、Ｎ，Ｎ’−（１，２−ジヒドロキシエチレン）ビスアクリルアミドの総質量に対して１ｐｈｒ）混合し、その混合物にＬｕｃｉｒｉｎ  ＴＰＯを０．２５ｇ（Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、Ｎ，Ｎ’−（１，２−ジヒドロキシエチレン）ビスアクリルアミドの総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ１３を調製した。【００７４】
＜実施例１４＞
Ａ−２００を７．５ｇ、Ａ−１０００ＰＥＲを２ｇ、Ｎ，Ｎ’−（１，２−ジヒドロキシエチレン）ビスアクリルアミドを０．５ｇ及びＢＹＫ−３３３を０．１ｇ（Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、Ｎ，Ｎ’−（１，２−ジヒドロキシエチレン）ビスアクリルアミドの総質量に対して１ｐｈｒ）混合し、その混合物にＬｕｃｉｒｉｎ  ＴＰＯを０．２５ｇ（Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、Ｎ，Ｎ’−（１，２−ジヒドロキシエチレン）ビスアクリルアミドの総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ１４を調製した。【００７５】
＜実施例１５＞
Ａ−２００を８．５ｇ、Ａ−１０００ＰＥＲを０．５ｇ、Ｎ，Ｎ’−ジメチルアクリルアミドを１ｇ及びＢＹＫ−３３３を０．１ｇ（Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、Ｎ，Ｎ’−ジメチルアクリルアミドの総質量に対して１ｐｈｒ）混合し、その混合物にＬｕｃｉｒｉｎ  ＴＰＯを０．２５ｇ（Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、Ｎ，Ｎ’−ジメチルアクリルアミドの総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ１５を調製した。【００７６】
＜実施例１６＞
Ａ−２００を８．９ｇ、Ａ−１０００ＰＥＲを０．１ｇ、Ｎ，Ｎ’−ジメチルアクリルアミドを１ｇ及びＢＹＫ−３３３を０．１ｇ（Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、Ｎ，Ｎ’−ジメチルアクリルアミドの総質量に対して１ｐｈｒ）混合し、その混合物にＬｕｃｉｒｉｎ  ＴＰＯを０．２５ｇ（Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲ、Ｎ，Ｎ’−ジメチルアクリルアミドの総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ａ１６を調製した。【００７７】
＜比較例１＞
ＰＥＴ３０を１０ｇ用意し、それにＬｕｃｉｒｉｎ  ＴＰＯを０．２５ｇ（ＰＥＴ３０の総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ｂ１を調製した。【００７８】
＜比較例２＞
ＰＥＴ３０を２ｇ及びＡ−２００を８ｇ混合し、その混合物にＬｕｃｉｒｉｎ  ＴＰＯを０．２５ｇ（ＰＥＴ３０、Ａ−２００の総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ｂ２を調製した。【００７９】
＜比較例３＞
Ａ−２００を６．５ｇ及びＡ−１０００ＰＥＲを３．５ｇ混合し、その混合物にＬｕｃｉｒｉｎ  ＴＰＯを０．２５ｇ（Ａ−２００、Ａ−１０００ＰＥＲの総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ｂ３を調製した。【００８０】
＜比較例４＞
Ａ−２００を５．５ｇ及びＡＰＧ−７００を４．５ｇ混合し、その混合物にＬｕｃｉｒｉｎ  ＴＰＯを０．２５ｇ（Ａ−２００、ＡＰＧ−７００の総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ｂ４を調製した。【００８１】
＜比較例５＞
Ａ−２００を８．７ｇ及びＮ，Ｎ’−ジメチルアクリルアミドを１．３ｇ混合し、Ｌｕｃｉｒｉｎ  ＴＰＯを０．２５ｇ（Ａ−２００、Ｎ，Ｎ’−ジメチルアクリルアミドの総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ｂ５を調製した。【００８２】
＜比較例６＞
Ａ−２００を５ｇ、ＡＰＧ−７００を３．７ｇ及びＮ，Ｎ’−ジメチルアクリルアミドを１．３ｇ混合し、その混合物にＬｕｃｉｒｉｎ  ＴＰＯを０．２５ｇ（Ａ−２００、ＡＰＧ−７００、Ｎ，Ｎ’−ジメチルアクリルアミドの総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ｂ６を調製した。【００８３】
＜比較例７＞
Ａ−２００を５ｇ、ＡＰＧ−７００を３．７ｇ、Ｎ，Ｎ’−ジメチルアクリルアミドを１．３ｇ及びＢＹＫ−３３３を０．１ｇ（Ａ−２００、ＡＰＧ−７００、Ｎ，Ｎ’−ジメチルアクリルアミドの総質量に対して１ｐｈｒ）混合し、その混合物にＬｕｃｉｒｉｎ  ＴＰＯを０．２５ｇ（Ａ−２００、ＡＰＧ−７００、Ｎ，Ｎ’−ジメチルアクリルアミドの総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ｂ７を調製した。【００８４】
＜比較例８＞
Ａ−２００を５ｇ、ＡＰＧ−７００を３．７ｇ及びＮ，Ｎ’−ジエチルアクリルアミドを１．３ｇ混合し、その混合物にＬｕｃｉｒｉｎ  ＴＰＯを０．２５ｇ（Ａ−２００、ＡＰＧ−７００、Ｎ，Ｎ’−ジエチルアクリルアミドの総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ｂ８を調製した。【００８５】
＜比較例９＞
Ａ−２００を５ｇ、ＡＰＧ−７００を３．７ｇ及びＮ，Ｎ’−（１，２−ジヒドロキシエチレン）ビスアクリルアミドを１．３ｇ混合し、その混合物にＬｕｃｉｒｉｎ  ＴＰＯを０．２５ｇ（Ａ−２００、ＡＰＧ−７００、Ｎ，Ｎ’−（１，２−ジヒドロキシエチレン）ビスアクリルアミドの総質量に対して２．５ｐｈｒ）加え、インプリント材料ＰＮＩ−ｂ９を調製した。【００８６】
［モールドの離型処理］
ニッケル製のピッチ２５０ｎｍ、高さ２５０ｎｍのモスアイパターンモールド（株式会社イノックス製）及びシリコンウエハを、オプツール（登録商標）ＤＳＸ（ダイキン工業株式会社製）をノベック（登録商標）ＨＦＥ−７１００（ハイドロフルオロエーテル、住友スリーエム株式会社）（以下、本明細書では「ノベックＨＦＥ−７１００」と略称する。）で０．１質量％に希釈した溶液へ浸漬し、温度が９０℃、湿度が９０ＲＨ％の高温高湿装置を用いて１時間処理し、ノベックＨＦＥ−７１００でリンス後、エアーで乾燥させた。【００８７】
［光インプリント及び離型力試験］
実施例１乃至実施例１６及び比較例１乃至比較例９で得られた各インプリント材料を、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（富士フイルム株式会社製  フジタック（登録商標）を使用）（以下、本明細書では「ＴＡＣフィルム」と略称する。）上にバーコーター（全自動フィルムアプリケーター  ＫＴ−ＡＢ３１２０  コーテック株式会社製）を用いて塗布し、そのＴＡＣフィルム上の塗膜を前述の離型処理を施したモスアイパターンモールドへローラー圧着させた。続いて該塗膜に対し、ＴＡＣフィルム側から無電極均一照射装置（ＱＲＥ−４０１６Ａ、株式会社オーク製作所製）にて、３５０ｍＪ／ｃｍ２の露光を施し、光硬化を行った。そしてＪＩＳ  Ｚ０２３７を参考にして９０°剥離試験を行い、モールドの凹凸形状を有する面と接着している、ＴＡＣフィルム上に形成された硬化被膜が、モールドの凹凸形状を有する面から完全に剥がれたときの荷重を測定した。そしてフィルムの幅１ｃｍ当たりの荷重を算出し、離型力（ｇ／ｃｍ）とした。結果を表１に示す。【００８８】
［スチールウール擦傷試験］
上記離型力試験後に得られた硬化被膜について、スチールウール擦傷試験を行った。試験機は大栄精機（有）製を使用し、♯００００のスチールウールを使用した。単位面積当たりの荷重は１５ｇ／ｃｍ２とし、上記スチールウールを１０往復させ、擦傷後の傷本数を確認した。本擦傷試験を３回繰り返し、擦傷後の傷本数の平均値を算出し、以下のように評価した。
０〜１本：Ａ
２〜５本：Ｂ
６〜１０本：Ｃ
１１本以上：Ｄ【００８９】
［密着性試験］
上記離型力試験後に得られた硬化被膜について、パターン形成膜とＴＡＣフィルムとの密着性試験を行った。密着性試験はＪＩＳ  Ｋ５４００に従い、以下の手順にて行った。
まず、パターン形成膜を、カッターを用いてＴＡＣフィルムに達する碁盤目状の切り傷を１ｍｍ間隔にて１００マス付けた。約５０ｍｍの長さのセロハン粘着テープを碁盤目の上に粘着し、膜面に対して９０°の角度で瞬間的に引き剥がした。
テープ剥離後のマス目を観察し、１００マスに対して剥離しなかったマス目数をｘとし、密着性をｘ／１００として評価した。本密着性試験を３回繰り返し、各評価の平均値を算出した。得られた結果を表１に示す。【００９０】
【表１】
2014171302.tif 000004
【００９１】
表１の結果より、実施例１乃至実施例１６で得られたインプリント材料を用いた場合は、いずれも離型力が０．４ｇ／ｃｍ以下と非常に低く、得られた硬化被膜はスチールウール擦傷試験後に発生する傷の本数が０〜１本とほぼ傷が発生していないと認められ、耐擦傷性が確認され、また密着性にも優れるとする結果を得た。
一方、アクリルアミド化合物を含有せず、また、アルキレンオキサイドユニットを有しない重合性化合物を用いた比較例１で得られたインプリント材料を用いた場合は、離型力が大きく、密着性に欠け、またスチールウール擦傷試験後に傷が多数発生した。
またアクリルアミド化合物を含有せずに調製した比較例２乃至比較例４で得られたインプリント材料を用いた場合は密着性に欠ける結果となった。
そしてアクリルアミド化合物の含有量を増やした比較例５乃至比較例９で得られたインプリント材料を用いた場合はスチールウール擦傷試験後に傷が多数発生した。
以上、本発明のインプリント材料により得られる膜は、低離型力性を有し、またインプリント後も耐擦傷性を有し、しかも基板に対する密着性に優れるものとなる。
【手続補正書】
【提出日】平成28年11月15日(2016.11.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記（Ａ）成分、（Ｂ）成分、及び（Ｃ）成分を含有し、（Ａ）成分が、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計質量に基づいて０．０５質量％以上１０質量％以下の量にて含まれてなる、インプリント材料。
（Ａ）下記式（１）で表される化合物
（Ｂ）アルキレンオキサイドユニットを有しかつ重合性基を末端に２つ乃至６つ有する化合物であって、該アルキレンオキサイドユニットがエチレンオキサイドユニット、プロピレンオキサイドユニット、又はそれらの組み合わせである化合物
（Ｃ）光重合開始剤
【化１】
2014171302.tif 000006
（式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は水素原子又は炭素原子数１乃至３のアルキル基を表し、ｎは１又は２を表し、
ｎが１の場合、
Ｒ３は、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アセチル基、１つ又は２つの水素原子がメチル基で置換されていてもよいアミノ基、スルホ基、及び炭素原子数１乃至４のアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも一つの置換基で置換されていてもよい、炭素原子数１乃至１２のアルキル基を表し、
ｎが２の場合、
Ｒ３は、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アセチル基、１つ又は２つの水素原子がメチル基で置換されていてもよいアミノ基、スルホ基、及び炭素原子数１乃至４のアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも一つの置換基で置換されていてもよい、炭素原子数１乃至１２のアルキレン基を表す。）
【請求項２】
（Ｂ）成分が重合性基を２つ有する化合物である、請求項１に記載のインプリント材料。
【請求項３】
下記（Ａ）成分、（Ｂ）成分、及び（Ｃ）成分を含有するインプリント材料。
（Ａ）下記式（１）で表される化合物
（Ｂ）アルキレンオキサイドユニットを有しかつ重合性基を末端に２つ有する化合物であって、該アルキレンオキサイドユニットがエチレンオキサイドユニット、プロピレンオキサイドユニット、又はそれらの組み合わせである化合物
（Ｃ）光重合開始剤
【化２】
2014171302.tif 000007
（式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は水素原子又は炭素原子数１乃至３のアルキル基を表し、ｎは１又は２を表し、
ｎが１の場合、
Ｒ３は、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アセチル基、１つ又は２つの水素原子がメチル基で置換されていてもよいアミノ基、スルホ基、及び炭素原子数１乃至４のアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも一つの置換基で置換されていてもよい、炭素原子数１乃至１２のアルキル基を表し、
ｎが２の場合、
Ｒ３は、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アセチル基、１つ又は２つの水素原子がメチル基で置換されていてもよいアミノ基、スルホ基、及び炭素原子数１乃至４のアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも一つの置換基で置換されていてもよい、炭素原子数１乃至１２のアルキレン基を表す。）
【請求項４】
（Ａ）成分が、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計質量に基づいて０．０５質量％以上１０質量％以下の量にて含まれてなる、請求項３に記載のインプリント材料。
【請求項５】
（Ｄ）成分としてシリコーン化合物を更に含有する、請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載のインプリント材料。
【請求項６】
（Ｅ）成分として界面活性剤を更に含有する、請求項１乃至請求項５のいずれか一項に記載のインプリント材料。
【請求項７】
（Ｆ）成分として溶剤を更に含有する、請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載のインプリント材料。
【請求項８】
（Ｂ）成分がアクリロイルオキシ基、メタアクリロイルオキシ基、ビニル基及びアリル基からなる群から選ばれる少なくとも１種の重合性基を２つ有する化合物である、請求項１乃至請求項７のいずれか一項に記載のインプリント材料。
【請求項９】
請求項１乃至請求項８のいずれか一項に記載のインプリント材料から作製され、パターンが転写された膜。
【請求項１０】
請求項９に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えた光学部材。
【請求項１１】
請求項９に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えた固体撮像装置。
【請求項１２】
請求項９に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えたＬＥＤデバイス。
【請求項１３】
請求項９に記載のパターンが転写された膜を備えた半導体素子。
【請求項１４】
請求項９に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えた太陽電池。
【請求項１５】
請求項９に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えたディスプレイ。
【請求項１６】
請求項９に記載のパターンが転写された膜を基材上に備えた電子デバイス。
【国際調査報告】
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