(57)【要約】  本発明は、フロート法により製造した化学強化用ガラスのボトム面におけるＡＦＰ剤とガラスとの密着性を向上し、ガラスの耐摩耗性を向上することを課題とする。  本発明は、フロート法で製造された化学強化用ガラスであって、成形時に溶融金属と接するボトム面とボトム面に対向するトップ面のＳｎ量が、ともに２％以下であり、かつ、ボトム面とトップ面の算術平均粗さＲａがともに０．０１〜０．２ｎｍの範囲にあることを特徴とする、化学強化用ガラスに関する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
フロート法で製造された化学強化用ガラスであって、成形時に溶融金属と接するボトム面とボトム面に対向するトップ面の以下の式（１）で表わされるＳｎ量が、ともに２％以下であり、かつ、ボトム面とトップ面の算術平均粗さＲａがともに０．０１〜０．２ｎｍの範囲にあることを特徴とする、化学強化用ガラス。
Ｓｎ量＝Ｓｎ／［Ｓｉ＋Ａｌ＋Ｚｒ＋Ｓｎ］×１００（％）  （１）
【請求項２】
アルミノシリケートガラスまたはソーダライムガラスである、請求項１に記載の化学強化用ガラス。
【請求項３】
タッチセンサ一体型カバーガラスとして用いられることを特徴とする請求項１または２に記載の化学強化用ガラス。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の化学強化用ガラスを得る化学強化用ガラスの製造方法であって、ガラスを酸性溶液により洗浄することを特徴とする化学強化用ガラスの製造方法。
【請求項５】
前記酸性溶液が硝酸、硫酸、塩化水素およびホウ酸からなる群から選定される少なくとも１つの酸を、酸性溶液全量に対して７〜３０質量％含む、請求項４に記載の化学強化用ガラスの製造方法。
【請求項６】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の化学強化用ガラスを強化して得られる化学強化ガラス。
【請求項７】
タッチセンサ一体型カバーガラスとして用いられることを特徴とする請求項６に記載の化学強化ガラス。
【請求項８】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の化学強化用ガラスを化学強化する化学強化工程、およびガラスを耐指紋防止処理するＡＦＰ工程を含む化学強化ガラスの製造方法であって、該ＡＦＰ工程より前に、ガラスを酸性溶液により洗浄することを特徴とする化学強化ガラスの製造方法。
【請求項９】
前記酸性溶液が硝酸、硫酸、塩化水素およびホウ酸からなる群から選定される少なくとも１つの酸を、酸性溶液全量に対して７〜３０質量％含む、請求項８に記載の化学強化ガラスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は化学強化用ガラスおよびその製造方法、並びに化学強化ガラスの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、タッチパネル機能を有するディスプレイ装置[例えば、携帯電話、携帯情報端末（ＰＤＡ）およびタブレットＰＣ等]が知られている。このようなディスプレイ装置は、タッチセンサを搭載したガラス基板を液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）上に配置し、さらにその上に化学強化ガラスをカバーガラスとして搭載することで構成されていた［図１（ａ）］。【０００３】
近年では、特許文献１のように、より軽量化および薄型化するため、タッチセンサを化学強化ガラスに直接搭載させることでガラス基板を省略し、タッチセンサを搭載した化学強化ガラスを液晶ディプレイ（ＬＣＤ）上に配置する、いわゆるＯＧＳ（Ｏｎｅ  Ｇｌａｓｓ  Ｓｏｌｕｔｉｏｎ）方式のディスプレイ装置が開発されている［図１（ｂ）］。【０００４】
防汚性、耐スクラッチ性および表面滑り性を付与するために、前記化学強化ガラスの表面を、シリコーン系化合物若しくはフッ素系化合物又はそれらを含む組成物からなる耐指紋防止（Ａｎｔｉ  Ｆｉｎｇｅｒ  Ｐｒｉｎｔ、ＡＦＰ）剤を用いて蒸着、スプレーまたはディップ等の方法によりコーティングして、ＡＦＰ膜を形成する場合がある（特許文献２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】日本国特開２０１１−１９７７０８号公報
【特許文献２】日本国特開２０００−１４４０９７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
通常のＡＦＰ剤は、分子量が３，０００〜１０，０００に対し、反応点が１〜３個と少ないため、所望の防汚性、耐スクラッチ性、表面滑り性を長期間持続するためには、ＡＦＰ剤とガラスとの密着性が重要とされる。しかしながら、フロート法により製造されたガラスのボトム面におけるＡＦＰ剤とガラスとの密着性が低く、耐摩耗性が問題となっていた。【０００７】
したがって、本発明は、フロート法により製造した化学強化用ガラスのボトム面におけるＡＦＰ剤とガラスとの密着性を向上し、ＡＦＰ剤の耐摩耗性を向上することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、ガラス中のスズ濃度を特定範囲とすることにより、ＡＦＰ剤とガラスとの密着性が向上し、耐摩耗性が向上することを見出し、本発明を完成させた。【０００９】
すなわち、本発明は以下の通りである。
１．フロート法で製造された化学強化用ガラスであって、成形時に溶融金属と接するボトム面とボトム面に対向するトップ面の以下の式（１）で表わされるＳｎ量が、ともに２％以下であり、かつ、ボトム面とトップ面の算術平均粗さＲａがともに０．０１〜０．２ｎｍの範囲にあることを特徴とする、化学強化用ガラス。
Ｓｎ量＝Ｓｎ／［Ｓｉ＋Ａｌ＋Ｚｒ＋Ｓｎ］×１００（％）  （１）
２．アルミノシリケートガラスまたはソーダライムガラスである、前項１に記載の化学強化用ガラス。
３．タッチセンサ一体型カバーガラスとして用いられることを特徴とする前項１または２に記載の化学強化用ガラス。
４．前項１〜３のいずれか１に記載の化学強化用ガラスを得る化学強化用ガラスの製造方法であって、ガラスを酸性溶液により洗浄することを特徴とする化学強化用ガラスの製造方法。
５．前記酸性溶液が硝酸、硫酸、塩化水素およびホウ酸からなる群から選定される少なくとも１つの酸を、酸性溶液全量に対して７〜３０質量％含む、前項４に記載の化学強化用ガラスの製造方法。
６．前項１〜３のいずれか１に記載の化学強化用ガラスを強化して得られる化学強化ガラス。
７．タッチセンサ一体型カバーガラスとして用いられることを特徴とする前項６に記載の化学強化ガラス。
８．前項１〜３のいずれか１に記載の化学強化用ガラスを化学強化する化学強化工程、およびガラスを耐指紋防止処理するＡＦＰ工程を含む化学強化ガラスの製造方法であって、該ＡＦＰ工程より前に、ガラスを酸性溶液により洗浄することを特徴とする化学強化ガラスの製造方法。
９．前記酸性溶液が硝酸、硫酸、塩化水素およびホウ酸からなる群から選定される少なくとも１つの酸を、酸性溶液全量に対して７〜３０質量％含む、前項８に記載の化学強化ガラスの製造方法。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の化学強化用ガラスは、スズ濃度が特定範囲であることにより、ガラス表面の酸化スズがＡＦＰ剤を優先的に化学吸着してガラス表面のＳｉＯ２とＡＦＰ剤との反応を阻害するのを抑制することにより、ＡＦＰ剤との高い密着性を示し、優れた耐摩耗性を有する。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】図１（ａ）は従来のタッチパネル機能を有するディスプレイ装置の模式図であり、図１（ｂ）はタッチセンサ一体型カバーガラス付きディスプレイ装置の模式図である。
【図２】図２（ａ）は、フロート法により製造されたガラスのボトム面における耐摩耗性が劣化する機構を説明する模式図である。図２（ｂ）は、ＡＦＰ剤としてＣ８Ｆ１７Ｃ２Ｈ４Ｓｉ（ＮＣＯ）３を用いた場合のＭＯＨ量を示すグラフである。
【図３】図３は、タッチセンサ付化学強化ガラスの主要部を構成する平面図である。
【図４】図４は、図３のＡ−Ａ線断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
フロート法により製造されたガラスのボトム面における耐摩耗性が劣化する機構について、図２（ａ）および（ｂ）を用いて説明する。図２（ａ）に示すように、ガラス表面の酸化スズがＡＦＰ剤と優先的に反応して、ガラス表面のＳｉＯ２とＡＦＰ剤との反応を阻害する。
【００１３】
図２（ｂ）はＡＦＰ剤としてＣ８Ｆ１７Ｃ２Ｈ４Ｓｉ（ＮＣＯ）３を用いた場合のＭＯＨ量を示すグラフである。図２（ｂ）に示すように、ＳｎＯ２はＳｉＯ２と比較してＯＨが多く、ＡＦＰ剤と反応しやすいが、共有結合を形成しにくく化学吸着による結合のため、解離し易い。そのため、ＳｎＯ２はガラス中のＳｉＯ２がＡＦＰ剤とシロキサン結合するのを阻害すると考えられる。
【００１４】
１．化学強化用ガラス
本発明の化学強化用ガラスは、成形時に溶融金属と接するボトム面とボトム面に対向するトップ面のＳｎ量が、ともに２％以下であることにより、ガラス表面の酸化スズがＡＦＰ剤と優先的に反応するのを抑制することができる。さらに、ボトム面とトップ面のＲａがともに０．２ｎｍ以下であることにより、後続する洗浄工程において残留する洗剤または異物等を低減し、ＡＦＰ剤とガラスとの密着性を向上することができる。Ｒａは小さいほど好ましいが、生産性等の観点から０．０１ｎｍ以上が好ましい。これらにより、ＡＦＰ剤とＳｉＯ２との反応点を増加させ、ＡＦＰ剤とガラスとの密着性を向上することができる。
【００１５】
Ｓｎ量はＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）によりガラス表面の全元素濃度（単位は原子パーセント）を測定し、下記式（１）により算出する。測定された元素濃度は、ガラス表面から約５ｎｍの深さに存在する元素濃度に相当する。
Ｓｎ量＝Ｓｎ／［Ｓｉ＋Ａｌ＋Ｚｒ＋Ｓｎ］×１００（％）  （１）
式（１）のうち、分母に選定した元素Ｓｉ、Ａｌ、Ｚｒ、Ｓｎは、酸化物とした場合に、ＡＦＰ剤との反応点を形成し得る元素であって、式（１）はそのうちのＳｎ量の割合を示すものである。
【００１６】
本発明の化学強化用ガラスは、成形時に溶融金属と接するボトム面とボトム面に対向するトップ面のＳｎ量がともに２％以下であり、好ましくは１．５％以下、より好ましくは１．２％以下、さらに好ましくは１．０％以下である。Ｓｎ量が２％を超えると、ＡＦＰ剤とガラスとの密着性が低下し、ガラスの耐摩耗性が低下する。
【００１７】
さらに、本発明の化学強化用ガラスは、ボトム面とトップ面の算術平均粗さＲａがともに０．０１〜０．２ｎｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜０．１８ｎｍ、より好ましくは０．０１〜０．１５ｎｍである。Ｒａが０．２ｎｍを超えると、ＡＦＰ剤とガラスの密着性が低下し、ガラスの耐摩耗性が低下する。算術平均粗さＲａは、ＪＩＳＢ０６０１（２００１年）に準拠して測定する。
【００１８】
フロート法で製造されたガラスのボトム面とトップ面のＳｎ量をともに２％以下とし、且つボトム面とトップ面のＲａをともに０．０１〜０．２ｎｍの範囲とするために、本発明の化学強化用ガラスの製造方法は、酸性溶液によりガラスを洗浄する洗浄工程を含むことが好ましい。酸性溶液のｐＨは−１〜１であることが好ましく、−１〜０であることがより好ましい。また、酸性溶液は、３〜７．５ｍｏｌ／Ｌであることが好ましく、４〜７．５ｍｏｌ／Ｌであることがより好ましい。
【００１９】
酸性溶液としては、例えば、硝酸水溶液、塩酸水溶液、硫酸水溶液、リン酸水溶液、ホウ酸水溶液、酒石酸水溶液、臭化水素酸水溶液、酢酸水溶液、トリフルオロ酢酸水溶液、蓚酸水溶液およびクエン酸水溶液およびこれらの混酸水溶液が挙げられる。これらの中でも、解離定数の観点から、硝酸水溶液、塩酸水溶液または硫酸水溶液が好ましく、塩酸水溶液がより好ましい。
【００２０】
酸性溶液は、硝酸、硫酸、塩化水素、およびホウ酸からなる群から選定される少なくとも１つの酸を酸性溶液全量に対して７〜３０質量％含むことが好ましく、１０〜２５質量％含むことがより好ましい。酸性溶液は、硝酸、硫酸、塩化水素、およびホウ酸からなる群から選定される少なくとも１つの酸を酸性溶液全量に対して７〜３０質量％含むことにより、１０〜３０秒程度の短時間でトップ面およびボトム面のＳｎ量を２％以下に低減することができる。
【００２１】
酸性溶液による洗浄条件としては、温度は３０〜６０℃であることが好ましく、３５〜５０℃であることがより好ましい。洗浄時間は２０秒〜３０分間であることが好ましく、３０秒〜１分間であることがより好ましい。
【００２２】
ガラスは、フロート法で製造されるガラスであれば特に限定されず、例えば、アルミノシリケートガラス、ソーダライムガラス、アルミノボロシリケートガラスおよびリチウムアルミノシリケートガラスが挙げられる。これらの中でも、価格および強化特性の観点から、アルミノシリケートガラスまたはソーダライムガラスが好ましい。
【００２３】
本発明のガラスは、板厚が１．５ｍｍ以下であることが好ましく、より好ましくは１．０ｍｍ以下、さらに好ましくは０．８ｍｍ以下である。また、例えば、以下の組成のガラスが使用される。
（ｉ）モル％で表示した組成で、ＳｉＯ２を５０〜８０％、Ａｌ２Ｏ３を２〜２５％、Ｌｉ２Ｏを０〜１０％、Ｎａ２Ｏを０〜１８％、Ｋ２Ｏを０〜１０％、ＭｇＯを０〜１５％、ＣａＯを０〜５％およびＺｒＯ２を０〜５％を含むガラス。ここで、たとえば「Ｋ２Ｏを０〜１０％含む」とはＫ２Ｏは必須ではないが１０％までの範囲で、かつ、本発明の目的を損なわない範囲で含んでもよい、の意である。
（ｉｉ）モル％で表示した組成が、ＳｉＯ２を５０〜７４％、Ａｌ２Ｏ３を１〜１０％、Ｎａ２Ｏを６〜１４％、Ｋ２Ｏを３〜１１％、ＭｇＯを２〜１５％、ＣａＯを０〜６％およびＺｒＯ２を０〜５％含有し、ＳｉＯ２およびＡｌ２Ｏ３の含有量の合計が７５％以下、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏの含有量の合計が１２〜２５％、ＭｇＯおよびＣａＯの含有量の合計が７〜１５％であるガラス
（ｉｉｉ）モル％で表示した組成が、ＳｉＯ２を６８〜８０％、Ａｌ２Ｏ３を４〜１０％、Ｎａ２Ｏを５〜１５％、Ｋ２Ｏを０〜１％、ＭｇＯを４〜１５％およびＺｒＯ２を０〜１％含有するガラス
（ｉｖ）モル％で表示した組成が、ＳｉＯ２を６７〜７５％、Ａｌ２Ｏ３を０〜４％、Ｎａ２Ｏを７〜１５％、Ｋ２Ｏを１〜９％、ＭｇＯを６〜１４％およびＺｒＯ２を０〜１．５％含有し、ＳｉＯ２およびＡｌ２Ｏ３の含有量の合計が７１〜７５％、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏの含有量の合計が１２〜２０％であり、ＣａＯを含有する場合その含有量が１％未満であるガラス
【００２４】
本発明の化学強化用ガラスを強化して得られる化学強化ガラスの用途としては、例えば、タッチセンサ付化学強化ガラス、自動車用窓ガラス、鏡および建築用窓ガラス等が挙げられる。
【００２５】
具体例として、タッチセンサ付化学強化ガラスについて図面に基づいて説明する。図３は、タッチセンサ付化学強化ガラスの主要部を構成する平面図であり、図４は、図３のＡ−Ａ線断面図である。
【００２６】
タッチセンサ付化学強化ガラス１０は、タッチセンサ１１と、該タッチセンサ１１を搭載する化学強化ガラス２０と、を備え、タッチセンサ一体型カバーガラス付きディスプレイ装置に使用されるタッチセンサ付化学強化ガラスである。即ち、タッチセンサ付化学強化ガラス１０の化学強化ガラス２０は、カバーガラスとしての機能と、センサ基板としての機能とを兼ねるものである。
【００２７】
タッチセンサ１１は、化学強化ガラス２０の片側の面に、交差するＸ軸、Ｙ軸の２軸それぞれの軸方向に伸びる列電極が、その交差部分において間に電気的絶縁層を介することにより電気的に非接触状態で形成されることにより構成されている。
【００２８】
ここにおいて、Ｘ軸方向に伸びる列電極を第１電極１２ａ、Ｙ軸方向に伸びる列電極を第２電極１２ｂと呼ぶと、タッチ位置を検出するためには、各軸方向に伸びる第１電極１２ａと第２電極１２ｂとが互いに独立していることが好ましい。
【００２９】
このため、化学強化ガラス２０の片側の面に、マトリックス状を構成する各々の第１電極１２ａと第２電極１２ｂの列電極パターン（各軸方向に伸びる複数列の電極パターン）を１層の透明電極パターン１２として配列させた上で、２つの列が交差する領域においていずれか一方の列を他方の列と接触しないよう分断させた透明電極パターン１２の分断箇所をブリッジ配線１４で接続していることが好ましい。
【００３０】
なお、ブリッジ配線１４と透明電極パターン１２とが重なり合う領域（交差領域）においては、透明電極パターン１２とブリッジ配線１４との間に絶縁性物質による絶縁層１３が設けられている。
【００３１】
符号１５は、透明電極パターン１２を囲むように化学強化ガラス２０の周縁部に形成される遮光性を有する黒色層であり、符号１６は、各列をなす電極集合への引き廻し配線を示している。引き廻し配線１６は、各列の電極パターンのいずれか１つに接続されていればよい。タッチセンサ１１の最下層には、保護ガラス１７が形成されている。
【００３２】
絶縁層１３を構成する透明性の電気絶縁性物質として、有機樹脂材料を用いることが可能であり、有機樹脂材料を使用して絶縁層を形成する場合には、フォトリソ技術により容易にパターニングされた樹脂製の絶縁層を得ることができる。
【００３３】
ブリッジ配線１４を構成する導電物質としては、化学強化ガラス２０に対して高い密着力を容易に得ることができる金属材料が望ましく使用される。特に、透明基板がガラス基板の場合には、ガラス基板に対して密着力が高く、ＩＴＯより導電性が高く、耐久性、耐摩耗性にも優れた、Ｍｏ、Ｍｏ合金、Ａｌ、Ａｌ合金、ＡｕまたはＡｕ合金などの金属材料を好ましく用いることができる。
【００３４】
２．化学強化ガラスの製造方法
本発明の化学強化ガラスの製造方法は、フロート法で製造されたガラスを化学強化する工程、および耐指紋防止処理するＡＦＰ工程を含む化学強化ガラスの製造方法であって、ＡＦＰ工程より前に、酸性溶液によりガラスを洗浄し、成形時に溶融金属と接するボトム面とボトム面に対向するトップ面の前記式（１）で表されるＳｎ量をともに２％以下とする洗浄工程を行うことを特徴とする。
【００３５】
（洗浄工程）
化学強化ガラスの製造方法における洗浄工程は、上記した化学強化用ガラスの製造方法における洗浄工程と同様に行う。洗浄工程は、化学強化工程の前であっても、化学強化工程の後であってもよいが、化学強化工程の前に洗浄工程を行うことにより、Ｓｎを効果的に除去し、ガラス表面の平滑性を維持できる。
【００３６】
（化学強化工程）
化学強化工程は、ガラス転移点以下の温度でイオン交換によりガラス表面のイオン半径が小さなアルカリ金属イオン（典型的には、ＬｉイオンまたはＮａイオン）をイオン半径のより大きなアルカリイオン（典型的には、Ｋイオン）に交換する処理である。
【００３７】
化学強化工程は従来公知の方法によって行うことができる。例えば、３８０℃〜４５０℃の硝酸カリウム（ＫＮＯ３）溶融塩にガラスを０．１〜２０時間浸漬させることで行われるが、硝酸カリウム（ＫＮＯ３）溶融塩の温度や、浸漬時間、溶融塩等を変更することで、化学強化の入り方を調整することができる。化学強化することでガラス表面には圧縮応力層が形成され、内部に引張応力層が形成される。
【００３８】
（ＡＦＰ工程）
ＡＦＰ工程はＡＦＰ剤をガラスに付着させて、ＡＦＰ膜をガラスに形成する工程である。ＡＦＰ剤の分子量は３，０００〜１０，０００であることが好ましく、３，０００〜８，０００であることがより好ましく、３，０００〜６，０００であることがさらに好ましい。ＡＦＰ剤の分子量が３，０００以上であることにより、分子構造に柔軟性が付与され、耐スクラッチ性、表面滑り性を得ることができる。また、１０，０００以下であることにより、ＡＦＰ剤１分子あたりの反応基を十分確保でき、ガラス表面との密着性を確保できる。
【００３９】
ＡＦＰ剤としては、フッ素含有有機ケイ素化合物が挙げられる。フッ素含有有機ケイ素化合物としては、防汚性、撥水性および撥油性を付与するものであれば特に限定されず使用できる。
【００４０】
このようなフッ素含有有機ケイ素化合物としては、例えば、ポリフルオロポリエーテル基、ポリフルオロアルキレン基及びポリフルオロアルキル基からなる群から選ばれる１つ以上の基を有するフッ素含有有機ケイ素化合物を好ましく利用できる。なお、ポリフルオロポリエーテル基とは、ポリフルオロアルキレン基とエーテル性酸素原子（炭素原子２つと共有結合した酸素原子）とが交互に結合した構造を有する２価の基のことである。
【００４１】
このポリフルオロポリエーテル基、ポリフルオロアルキレン基及びポリフルオロアルキル基からなる群から選ばれる１つ以上の基を有するフッ素含有有機ケイ素化合物の具体例としては、下記一般式（Ｉ）〜（Ｖ）で表される化合物等が挙げられる。
【００４２】
【化１】
2014157008.tif 000002
【００４３】
式中、Ｒｆは炭素数１〜１６の直鎖状のポリフルオロアルキル基（アルキル基として、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基およびｎ−ブチル基等）、Ｘは水素原子又は炭素数１〜５の低級アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基およびｎ−ブチル基等）、Ｒ１は加水分解可能な基（例えば、アミノ基およびアルコキシ基等）又はハロゲン原子（例えば、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素等）、ｍは１〜５０、好ましくは１〜３０の整数、ｎは０〜２、好ましくは１〜２の整数、ｐは１〜１０、好ましくは１〜８の整数である。
【００４４】
ＣｑＦ２ｑ＋１ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＮＨ２）３    （ＩＩ）
ここで、ｑは１以上、好ましくは２〜２０の整数である。
【００４５】
一般式（ＩＩ）で表される化合物としては、例えば、ｎ−トリフロロ（１，１，２，２−テトラヒドロ）プロピルシラザン［ｎ−ＣＦ３ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＮＨ２）３］およびｎ−ヘプタフロロ（１，１，２，２−テトラヒドロ）ペンチルシラザン（ｎ−Ｃ３Ｆ７ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ［ＮＨ２）３］等が挙げられる。
【００４６】
Ｃｑ’Ｆ２ｑ’＋１ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３    （ＩＩＩ）
ここで、ｑ’は１以上、好ましくは１〜２０の整数である。
【００４７】
一般式（ＩＩＩ）で表される化合物としては、例えば、２−（パーフルオロオクチル）エチルトリメトキシシラン［ｎ−Ｃ８Ｆ１７ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３］等が挙げられる。
【００４８】
【化２】
2014157008.tif 000003
【００４９】
式（ＩＶ）中、Ｒｆ２は、−（ＯＣ３Ｆ６）ｓ−（ＯＣ２Ｆ４）ｔ−（ＯＣＦ２）ｕ−（ｓ、ｔ、ｕはそれぞれ独立に０〜２００の整数）で表わされる２価の直鎖状ポリフルオロポリエーテル基であり、Ｒ２、Ｒ３は、それぞれ独立に炭素原子数１〜８の一価炭化水素基（例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基およびｎ−ブチル基等）である。Ｘ２、Ｘ３は独立に加水分解可能な基（例えば、アミノ基、アルコキシ基、アシロキシ基、アルケニルオキシ基およびイソシアネート基等）またはハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子等）であり、ｄ、ｅは独立に１〜２の整数であり、ｃ、ｆは独立に１〜５（好ましくは１〜２）の整数であり、ａおよびｂは独立に２または３である。
【００５０】
ただし、化合物（ＩＶ）が有するＲｆ２において、（ＯＣ３Ｆ６）、（ＯＣ２Ｆ４）および（ＯＣＦ２）の繰り返し単位の結合順序は前述のものに限定されず、互いにランダムに結合してもブロックで結合してもよい。また、（ＯＣ３Ｆ６）および（ＯＣ２Ｆ４）の構造は、直鎖構造でもよく、側鎖を有する構造でもよい。
【００５１】
化合物（ＩＶ）が有するＲｆ２においてｓ＋ｔ＋ｕは、２０〜３００であることが好ましく、２５〜１００であることがより好ましい。また、Ｒ２、Ｒ３としては、メチル基、エチル基またはブチル基がより好ましい。Ｘ２、Ｘ３で示される加水分解性基としては、炭素数１〜６のアルコキシ基がより好ましく、メトキシ基またはエトキシ基が特に好ましい。また、ａおよびｂはそれぞれ３が好ましい。
【００５２】
【化３】
2014157008.tif 000004
【００５３】
式（Ｖ）中、ｖは１〜３の整数であり、ｗ、ｙ、ｚはそれぞれ独立に０〜２００の整数であり、ｈは１または２であり、ｉは２〜２０の整数であり、Ｘ４は加水分解性基であり、Ｒ４は炭素数１〜２２の直鎖または分岐の炭化水素基であり、ｋは０〜２の整数である。
【００５４】
ただし、化合物（Ｖ）において、（ＯＣ３Ｆ６）、（ＯＣ２Ｆ４）および（ＯＣＦ２）の繰り返し単位の結合順序は前述のものに限定されず、互いにランダムに結合してもブロックで結合してもよい。また、（ＯＣ３Ｆ６）および（ＯＣ２Ｆ４）の構造は、直鎖構造でもよく、側鎖を有する構造でもよい。ｗ＋ｙ＋ｚは、２０〜３００であることが好ましく、２５〜１００であることがより好ましい。また、ｉは２〜１０であることがより好ましい。Ｘ４は、炭素数１〜６のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基、エトキシ基がより好ましい。Ｒ４としては、炭素数１〜１０のアルキル基がより好ましい。
【００５５】
また、市販されているポリフルオロポリエーテル基、ポリフルオロアルキレン基およびポリフルオロアルキル基からなる群から選ばれる１つ以上の基を有するフッ素含有有機ケイ素化合物として、ＫＰ−８０１（商品名、信越化学社製）、ＫＹ１７８（商品名、信越化学社製）、ＫＹ−１３０（商品名、信越化学社製）、ＫＹ１８５（商品名、信越化学社製）、オプツ−ル（登録商標）ＤＳＸおよびオプツール（登録商標）ＡＥＳ（いずれも商品名、ダイキン社製）などが好ましく使用できる。
【００５６】
ＡＦＰ膜を形成する方法に特に制限はなく、例えば、ウェットコーティング法およびドライコーティング法が挙げられる。
【００５７】
ウェットコーティング法としては、例えば、ディップコーティング法、スピンコーティング法、スプレーコーティング法、フローコーティング法、ロールコーティング法およびグラビアコーティング法等が挙げられる。
【００５８】
また、ドライコーティング法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法およびＣＶＤ法等が挙げられる。真空蒸着法としては、例えば、抵抗加熱、電子線ビーム、高周波加熱およびイオンビーム等が挙げられる。ＣＶＤ法としては、例えば、プラズマＣＶＤ、光ＣＶＤおよび熱ＣＶＤ等が挙げられる。
【００５９】
ウェットコーティング法による場合、希釈溶媒としては特に制限されないが、例えば、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサンおよびパーフルオロ１，３−ジメチルシクロヘキサン等のパーフルオロ脂肪族炭化水素、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン等の多フッ素化芳香族炭化水素並びに多フッ素化脂肪族炭化水素等が挙げられる。また、溶媒は単独または２種以上の混合物として用いることができる。
【００６０】
一方、ドライコーティング法による場合、フッ素含有有機ケイ素化合物は、大気中の水分との反応による劣化抑制などのためにフッ素系溶媒等の溶媒と混合して保存されているのが一般的であるが、これらの溶媒を含んだまま成膜工程に供すると、得られた薄膜の耐久性等に悪影響を及ぼすことがある。
【００６１】
その場合、加熱容器で加熱を行う前に予め溶媒除去処理を行ったフッ素含有有機ケイ素化合物、または、溶媒で希釈されていない（溶媒を添加していない）フッ素含有有機ケイ素化合物を用いることが好ましい。例えば、フッ素含有有機ケイ素化合物溶液中に含まれる溶媒の濃度として１ｍｏｌ％以下のものが好ましく、０．２ｍｏｌ％以下のものがより好ましい。溶媒を含まないフッ素含有有機ケイ素化合物を用いることが特に好ましい。
【００６２】
フッ素系溶媒を含むフッ素含有有機ケイ素化合物溶液からの溶媒（溶剤）の除去処理は、例えばフッ素含有有機ケイ素化合物溶液を入れた容器を真空排気することにより行うことができる。
【００６３】
真空排気を行う時間については、排気ライン、真空ポンプ等の排気能力、溶液の量等により変化するため限定されるものではないが、例えば１時間程度以上真空排気することにより行うことができる。
【実施例】
【００６４】
＜評価方法＞
（Ｓｎ量）
Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）を用いて、ガラス表面の全元素濃度（単位は原子パーセント）を測定し、以下の式（１）に従いＳｎ量を算出した。測定された元素濃度は、ガラス表面から約５ｎｍの深さに存在する元素濃度に相当する。
Ｓｎ量＝Ｓｎ／［Ｓｉ＋Ａｌ＋Ｚｒ＋Ｓｎ］×１００（％）  （１）【００６５】
（ガラスの表面粗さ）
ＡＦＰ剤成膜前のガラス板の算術平均粗さＲａを、ＪＩＳＢ０６０１（２００１年）に準拠して測定した。なお、化学強化前後でＲａは変化しない。【００６６】
（ＡＦＰ剤の耐摩耗性）
１ｃｍ２の圧子に＃００００のスチールウールを取り付け、１ｋｇｆの荷重をかけた状態で、ＡＦＰ膜表面をストローク幅２５ｍｍ、速度３０ｍｍ／ｓｅｃで２０００回往復摩擦した後、エタノールで表面を清浄化した後、水接触角を測定して耐摩耗性を評価した。水接触角は、ＪＩＳ  Ｒ  ３２５７（１９９９年）で規定されている基板ガラス表面のぬれ性試験方法に準拠して測定した。【００６７】
＜ガラス板の調製＞
例１〜例８のガラスの組成は以下の硝材Ａまたは硝材Ｂとした。
（硝材Ａ）酸化物基準のモル％表示で、ＳｉＯ２  ６４％、Ａｌ２Ｏ３  ８％、ＭｇＯ  １１％、ＣａＯ  ０．１％、ＳｒＯ  ０．１％、Ｎａ２Ｏ  １３％、Ｋ２Ｏ  ４％、ＺｒＯ２  ０．５％
（硝材Ｂ）酸化物基準のモル％表示で、ＳｉＯ２  ７２％、Ａｌ２Ｏ３  １％、ＭｇＯ  ６％、ＣａＯ  ９％、ＳｒＯ  ０％、Ｎａ２Ｏ  １３％、Ｋ２Ｏ  ０．２％、ＺｒＯ２  ０％【００６８】
（例１）
（１）洗浄工程
硝材Ａの５０ｍｍ×５０ｍｍ×０．７ｍｍのフロートガラス板を６Ｎ  ＨＣＬにより４０℃にて２５秒間洗浄した。
（２）化学強化工程
洗浄したガラスを、ＫＮＯ３溶融塩に浸漬し、イオン交換処理した後、室温付近まで冷却することにより化学強化した。このとき、ＫＮＯ３溶融塩の温度は４０５℃とし、浸漬時間は１．５時間とした。得られた化学強化ガラスは水洗いした。
（３）ＡＦＰ工程
化学強化したガラス表面に、オプツール（登録商標）ＤＳＸ（ダイキン社製）をスプレーコーティングしてガラス板上にＡＦＰ膜を成膜した。膜厚は７．５ｎｍとし、５０℃８０％ＲＨの条件下で１時間処理してＡＦＰ膜を硬化させた。【００６９】
（例２）
洗浄工程の条件を６Ｎ  ＨＣｌにより４０℃にて１０分間とした以外は、例１と同様に行った。【００７０】
（例３）
洗浄工程の条件を５Ｎ  ＨＣｌにより４０℃にて２５秒間とした以外は、例１と同様に行った。【００７１】
（例４）
ガラスの組成を硝材Ｂとし、洗浄工程の条件を６Ｎ  ＨＣｌにより４０℃にて２５秒間とした以外は例１と同様に行った。【００７２】
（例５）
洗浄工程を行わなかった以外は例１と同様に行った。【００７３】
（例６）
洗浄工程の代わりに、セリア粉末を脱イオン水中に入れた３質量％の分散物でガラスを研磨するセリア研磨工程とした以外は、例１と同様に行った。研磨操作は、市販の洗浄機を用いて１分間行った。【００７４】
（例７）
洗浄工程の代わりに、６Ｎ  ＨＣｌにより４０℃にて１０分間洗浄後、セリア粉末を脱イオン水中に入れた３質量％の分散物でガラスを研磨するセリア研磨工程とする以外は、例１と同様に行う。研磨操作は、市販の洗浄機を用いて１分間行う。【００７５】
（例８）
ガラスの組成を硝材Ｂとし、洗浄工程を行わなかった以外は例１と同様に行った。【００７６】
例１〜８で調製したガラス板のボトム面について、Ｓｎ量、Ｒａおよび耐摩耗性を測定した結果を表１に示す。例１〜４は実施例、例５〜８は比較例である。
なお、例１〜８について、トップ面のＳｎ量は、０．０１〜０．１％とボトム面より少ないと予測される。また、例１〜８について、トップ面のＲａはボトム面と同等の０．０１〜０．２ｎｍであると予測される。例１〜８について、トップ面の耐摩耗性はそれぞれボトム面と同等程度であると予測される。【００７７】
【表１】
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【００７８】
表１に示すように、酸性溶液による洗浄工程を行った例１〜３は、洗浄工程を行わなかった例５と比較して、トップ面およびボトム面におけるＳｎ量が２％以下と低く、耐摩耗性が大幅に向上していた。同様に、ＡＦＰ工程より前に、酸性溶液による洗浄工程を行った例４は、洗浄工程を行わなかった例８と比較して耐摩耗性が大幅に向上していた。この結果から、トップ面およびボトム面におけるＳｎ量を２％以下としたガラスは、ＡＦＰ剤との密着性が向上し、耐摩耗性が顕著に向上することが分かった。【００７９】
また、酸性溶液による洗浄工程の代わりにセリア研磨を行った例６は、トップ面およびボトム面におけるＳｎ量は１．１％と低かったが、トップ面およびボトム面におけるガラスの算術平均粗さＲａが０．２５ｎｍと大きく、洗浄工程を行わなかった例５と耐摩耗性が同等程度であった。一方、洗浄工程のみを含む例１〜４のトップ面およびボトム面におけるＲａは少なくとも０．２ｎｍ以下であり、耐摩耗性も良好であった。【００８０】
また、酸性溶液による洗浄工程に加えてセリア研磨を行う例７は、酸性溶液による洗浄工程のみを行う例２と比較して、耐摩耗性が低下する。以上のように、トップ面およびボトム面におけるＲａを少なくとも０．２ｎｍ以下としたガラスは、ＡＦＰ剤との密着性が向上し、耐摩耗性を少なくとも維持できることが分かった。【００８１】
本発明を特定の態様を用いて詳細に説明したが、本発明の意図と範囲を離れることなく様々な変更および変形が可能であることは、当業者にとって明らかである。なお本出願は、２０１３年３月２９日付で出願された日本特許出願（特願２０１３−０７２７７６）に基づいており、その全体が引用により援用される。
【符号の説明】
【００８２】
１０  タッチセンサ付化学強化ガラス
１１  タッチセンサ
２０  化学強化ガラス
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【国際調査報告】
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