(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子ビーム（１２）を使用して工作物（２２）に小孔（４８）を形成するための方法であって、
ａ）エネルギー供給時にガスを放出する載置台（２４）上に工作物（２２）を載せ、
ｂ）電子ビーム（１２）が載置台（２４）に到達するまで電子ビーム（１２）を工作物（２２）に向け、
ｃ）以下のパラメータ群、即ちビーム径、ビーム電流、パルス時間、ビーム集束、電子ビーム（１２）の装置軸（１８）からの相対的偏向、工作物（２２）における電子ビーム（１２）の軌道速度、区間エネルギーから選択した少なくとも１つの作業パラメータを変更し、
ｄ）前記変更をビームパルス内部で行ない、ビーム軸に対して斜めに延びる凸状又は凹状の線を有する輪郭形成された孔を形成する、
ことを特徴とする方法。
【請求項２】
パラメータ群の２つ以上の作業パラメータを変更することを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
少なくとも２つの変更された作業パラメータを同時に変更することを特徴とする、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
少なくとも２つの変更された作業パラメータを順次変更することを特徴とする、請求項２又は３に記載の方法。
【請求項５】
加工時間は、工作物（２２）における電子ビーム（１２）の２回以上の運動サイクル、好ましくは２〜５０運動サイクル、さらに好ましくは２〜２０運動サイクル、さらに好ましくは２〜１０運動サイクルを含むことを特徴とする、請求項１〜４の何れか一項に記載の方法。
【請求項６】
最初のビーム周回で工作物（２２）はその厚さが不完全にしか溶融されず、最後のビーム周回で載置台の表面に到達し、好ましくは載置台の端部に向かうことを特徴とする、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
少なくとも最後の１サイクル、好ましくは最後の５サイクルで電子ビーム（１２）をビーム径の微小部分、好ましくはビーム径の約２％〜約５％に相当する距離だけ半径方向外側にずらすことを特徴とする、請求項５又は６に記載の方法。
【請求項８】
孔（４８）を２回、３回など連続するビームパルスで形成することを特徴とする、請求項１〜７の何れか一項に記載の方法。
【請求項９】
第１のビームパルスで工作物は工作物厚さの少なくとも約半分、３分の１などに相当する深さまで溶融するが、まだ載置台（２４）まで到達せず、第２、第３などのビームパルスで残っている材料ウェブを載置台（２４）に達するまで完全に溶融して、最初の先行ビームパルスによって形成された孔（４８）の部分の壁を越えることを特徴とする、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
第２、第３などのビームパルスは、前記パラメータ群から選択したパラメータによって第１のビームパルスとは区別されることを特徴とする、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
電子ビーム（１２）を加工の目的で誘導する運動速度と軌道は、孔を形成する際に孔の少なくとも１部分を２回擦過するように互いに同調されていることを特徴とする、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
電子ビーム（２）の軌道を増分的に通過することを特徴とする、請求項１〜１１の何れか一項に記載の方法。
【請求項１３】
電子ビーム（１２）を順次軌道上に誘導し、それらの電子ビームの間隔はビームの運動方向に対して直角の方向でビーム径より小さく、好ましくはビーム径の１０〜４０％、さらに好ましくはビーム径の１５〜２５％であることを特徴とする、請求項１〜１２の何れか一項に記載の方法。
【請求項１４】
孔が完成した後で、孔を包囲している材料の縁に沿って電子ビーム（１２）を好ましくは工作物の材料が溶融せず蒸発もしないように低減されたエネルギーで誘導することを特徴とする、請求項１〜１３の何れか一項に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子ビームを使用して工作物に小孔を形成するための方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子ビームを特に金属工作物に向けると、電子ビームは非常に集中してエネルギーを材料中に導入し、それによって材料は溶融する。このとき材料は蒸発もできるので、材料内に小さい横断方向寸法を有する凹部が生じ、その凹部は材料が電子ビームによって材料の当該箇所が長く照射されればされるほど材料中に深く達する。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
電子ビームが工作物の後に配置されている載置台から形成するガスで溶融した金属を材料から押し出すことによって、穿孔の効率性を高めることができる。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
そのような方法が請求項１の対象である。
【０００５】
本発明により、以下のパラメータ群、即ちビーム径、ビーム電流、パルス時間、ビーム集束、電子ビームの装置軸からの相対的偏向、工作物上の電子ビームの軌道速度及び区間エネルギーから選択した少なくとも１つの作業パラメータを変更するようにされている。それによって孔のジオメトリを変えることができるようになる。この場合、変更はビームパルスの内部で行われる。このことは、加工ができるだけ短い時間内で実施できるという観点でも有利である。それにより所望の変更されたパラメータを除けば、その他の動作条件は同じままであることも保証され得る。このようにすると変更の影響を予見しやすい。
【０００６】
挙げられた変形例に共通しているのは、エネルギー導入のやり方を変化させ、この変化により相応に異なる材料の溶融、ひいては穴の種々異なるジオメトリを可能にすることである。
【０００７】
ここで輪郭は、孔の壁がビーム軸中心に回転するときに生じる形成体として理解すべきである。言い換えれば、輪郭は孔の縦断面図において孔の壁を表す線である。輪郭は特に円錐状又は円錐台状の孔に対応するビーム軸に対して斜めに延びる線、或いは膨らんだ孔又はくびれのある孔に対応する凸状又は凹状の線であることができる。
【０００８】
ここで形状は、孔の横断面図の形状と理解すべきである。
【０００９】
従属請求項はそのような方法の有利な拡張に関する。
【００１０】
請求項２による本発明の拡張によって、孔壁の円筒形からの逸脱をより微妙に調整できるようになる。
【００１１】
請求項３及び４に従う方法も同じ目標に用いられる。
【００１２】
ここで、請求項５による本発明の拡張は、孔を良好な壁品質で作製するための加工時間が短いという点で有利である。
【００１３】
請求項６による本発明の拡張は、溶融した金属を孔から特に効果的且つ急速に吹き出す点で有利であり得る。
【００１４】
請求項７による本発明の拡張は、孔壁の特に良好な表面品質の点で有利である。
【００１５】
請求項８による本発明の拡張によって、輪郭形成された孔をより厚い材料によっても作製できる。
【００１６】
請求項９による本発明の拡張は、やはり液状材料を孔から良好に取り除くという点で有利である。
【００１７】
請求項１０による本発明の拡張は、孔の作製の可変性が高まるという点で有利である。孔部分のより強く異なる所望された特性を得るために、連続するビームパルスの特性は１つのパルスの推移において可能であるよりも強く異なって選択できよう。
【００１８】
請求項１１による本発明の拡張は、孔壁の良好な表面品質という点で有利である。
【００１９】
請求項１２による方法は、一方では電子ビームの誘導にデジタル製図で慣用の技術を使用することを可能にする。さらに電子ビームを増分的に送り続けることにより、次の軌道点への偏向を先へ延ばすか、短縮するかによって所定の箇所における電子ビームの滞留時間を簡単に変えることができる。
【００２０】
請求項１３による本発明の拡張は、デジタル製図で用いられる手順を利用する点で有利である。この場合、形態は類似しているが縮尺のみ異なる曲線を非常に簡単に互いに導き出すことができる。記載されているように種々の軌道の間隔をビーム径に対して同調させることは、材料が不必要に気相に移行するのを避けながら工作物の材料を十分溶融させるという点で有利である。
【００２１】
請求項１４による方法は、孔の周囲で熱に起因する内部応力が発生する危険を低減する。
【００２２】
以下に本発明を図面を参照して実施例に基づき詳細に説明する。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】電子ビーム機械並びにその駆動に必要な電子装置の模式図である。
【図２】電子ビームを用いて孔を形成する際の種々のフェーズの模式図である。
【図３】輪郭形成された丸くない孔の作製の説明に使用する種々の軌道曲線とグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
図１に示された電子ビーム機械は、電子ビーム１２を発生する電子砲を有しており、その全体を１０で表す。電子銃１０の後には、集束ユニット１４が設けられており、１つ以上の静電レンズ又は電磁レンズを有することができる。
【００２５】
集束ユニット１４の後にはビーム経路に偏向ユニット２０があり、電子ビーム１２を電子銃１０の軸１７に対して実質的に平行に２つの独立の座標方向にずらす。本明細書の目的のために、この位置のずれは極座標、即ち電子ビーム１２が照射される半径Ｒと、ビーム方向で直角に想定される基準面において当該基準面内にある基準方向に対して測定される角度Ｗによって記述され得ることを前提とする。
【００２６】
偏向ユニット２０の後には、電子ビーム１２を装置軸１８に転向する転向ユニット１６が設けられている。
【００２７】
電子ビーム１２は転向ユニット１６の後で工作物２４に当り、その後には載置台２４がある。
【００２８】
電子銃１０は、加速電圧Ｕとビーム電流Ｉを指定し提供する銃制御ユニット２６と接続されている。
【００２９】
集束ユニット１４のために焦点制御ユニット２８が設けられており、焦点位置を指定する信号Ｓを提供する。
【００３０】
転向制御ユニット３０は、転向ユニット１６内における電子ビーム１２の傾倒角を指定する一定信号Ｋを転向ユニット１６に提供する。
【００３１】
偏向ユニット２０と協働する偏向制御装置３２は、２つの独立の制御信号Ｒ及びＷを提供し、そのうち一方の信号（Ｒ）は電子ビーム１２の銃軸１７からの半径方向間隔を指定し、他方の信号（Ｗ）はビーム方向で直角をなす基準面において当該基準面内にある基準方向に対する電子ビーム１２の角度位置を指定する。
【００３２】
種々の制御ユニット２６〜３２は、電子ビーム機械の動作を制御する主制御装置３４と接続されている。主制御装置３４の動作はスクリーン３６でコントロールしてキーボード３８により影響を与えることができる。
【００３３】
データメモリ４０は種々の加工のためのデータとプログラムを含むことができる。
【００３４】
図面には詳細に表現されていないセンサ、例えば４２で示されているセンサは主制御装置３４と接続されていて、電子ビーム機械内の真空及び電子ビーム機械のその他の運転パラメータを測定することができる。主制御装置３４には図示されていないが、電子ビーム機械の運転に必要な他の制御された負荷、例えば真空ポンプ、エアロックを操作するためのサーボモータ、工作物の搬送装置なども接続されている。
【００３５】
図２は、孔の形成の４種類のフェーズを示す。
【００３６】
ａ）では、電子ビームが装置軸上で工作物２２の第１の材料領域を少し溶かす。
【００３７】
ｂ）では既に発生しつつある孔の材料のない腔が存在しており、その周縁領域はまだ細長い円錐形の形をした中空の溶融した金属層４６によって形成されている。
【００３８】
ｃ）では、電子ビーム１２は工作物２２の材料を裏面まで完全に溶かして、載置台２４の最上部に到達している。
【００３９】
載置台２４は電子ビームによって容易に蒸発可能な材料、例えば低温で蒸発する金属から作られているので、ｄ）に示されているように、ここでより多くの量の金属蒸気が発生して液状金属層４６を吹き出す。
【００４０】
載置台２４の材料として特に考慮の対象となるのはプラスチック、特にエポキシ樹脂、シリコーン化合物、ギプス又は結晶水を含んだ結晶材料、黄銅、塗料層、フォイル、又は上記の材料の粒子からなる固体充填材を含んだプレート、並びに上記の材料の混合物である。
【００４１】
特に選好されるのは、石英粉末の充填率が高い厚さ数ｍｍのシリコーンプレートである。
【００４２】
載置台は典型的には厚さ２〜３ｍｍのプレートの形をしており、エアクッション（図示せず）によって工作物２２の下面と当接して保持される。載置台２２の厚さは、加工過程でごくわずかだけ電子ビームによって横断され得るように設定されている。電子ビームの長さは、電子ビームが載置台に達するのに必要とされる時間より極めて短い時間だけ長くなるように選択されている。
【００４３】
重要なのは、載置台２４が工作物２２の裏面と十分面状に嵌合していることである。
【００４４】
このようにして作製された孔がｄ）に４８で表されている。
【００４５】
図２のｄ）に孔の輪郭、つまり図示平面で見た孔の周面の切断線が見える。輪郭は上述したように、ここでは孔４８の横断面の形として理解される断面若しくは形状と区別される。典型的には、図２に示されている孔４８は実質的に円形断面を有している。
【００４６】
図２による孔を形成する際に電子ビーム１２はフェーズａ）からフェーズｂ）に至るまで正確に装置軸上にある。
【００４７】
電子ビーム１２は、規則的な時間間隔で連続するビームパルスの形で形成される。図２に示されたフェーズａ）からｄ）は電子ビームの単一のパルスによって経過し、そのパルスの強さと持続は孔４８を穿孔するのにちょうど十分であるように設定されている。
【００４８】
このようにして作製された孔の輪郭形成及び断面は、以下の要因によって影響可能である。
ａ）電子ビーム１２のジオメトリ（断面及び腐食法）
ｂ）ビーム電流
ｃ）ビームパルスの長さ
ｄ）電子ビームが工作物２２上で動く軌道のジオメトリ
ｅ）電子ビーム１２が工作物上で誘導される速度
ｆ）工作物２２の材料特性
ｇ）限られた範囲（現在考察されている条件）で載置台２４の材料特性。
【００４９】
ここで図３を参照すると、電子ビームを工作物上で様々な軌道で誘導することにより、電子ビーム機械の作業パラメータも変更して工作物に種々のジオメトリの孔を作製する。
【００５０】
この図全体を通してＢ、Ｂｌ及びＢ２は電子ビーム１２が工作物表面で装置軸１８中心に描く軌道、Ｑはビーム断面若しくはＤはビーム径、Ｉはビーム電流、Ｒは軌道の半径、Ｗは考察された軌道点に対する角度、及び４８は孔である。
【００５１】
他の輪郭形成又は他の断面を有する孔を所望する場合は、電子ビーム１２のジオメトリ及び／又は１つ以上の他の作業パラメータが変更され、及び／又は装置軸１８から離間した軌道Ｂで誘導される。
【００５２】
図３の（ａ）列の左には円形軌道Ｂが図示されている。
【００５３】
ビーム電流Ｉは２周回（２周期）のビーム周回にわたって維持される。これらの２周回内で工作物の材料はちょうど完全に溶かされる。ビーム電流の大きさは、円の内部で材料が溶け、円軌道Ｂの外側で断面積として対称的な量の材料が溶けるように設定されている。
【００５４】
変形例では破線で暗示されているように、ビーム電流を縮小又は拡大することもできる。
【００５５】
溶融物を吹き出した後にやや傾斜した孔が得られるが、それは材料が電子ビームの進入側で電子ビームの基体への進出箇所より長く加熱されるという事実から生じる。
【００５６】
図３の（ａ）列の第２及び第３のグラフでは、間隔Ｒ及び角度Ｗの変化を時間Ｔに対してプロットした。ここで時間単位はビームの１周回に対応している。
【００５７】
（ａ）の中央のグラフから、半径を調整する信号Ｒはパルス時間を越えても持続できることが分かる。同様のことは（ａ）列の最後のグラフにも該当し、角度信号Ｗは連続的に持続できるので、ここでも急激な信号スロープが生じる必要はない。実線は通常の周期的過程の表現に対応しており、所要スペースを節約するために２πの倍数は省いてある。
【００５８】
上記の実施例では電子ビーム１２が動いた円の半径は、ビーム径の半分に等しい。変形例では電子ビームを、直径がこれより小さい、例えばビーム径の１０〜５０％に相当する１０〜５０％円軌道で誘導することもできる。その場合はより小さい孔が得られ、それらの周壁も同様に斜めに傾いて延びている。
【００５９】
図３の（ｂ）列には、円錐度を拡大した孔を形成するための対応する諸関係が図示されている。電子ビーム１２は、小さい十字で表示された点から開始し、小さい円で表示された点で終了する。
【００６０】
電子ビーム１２は最初に第１の円形軌道Ｂｌ上を３６０°誘導され、そこにおいて工作物は、工作物２２の厚さの約１／３である最初の深さまで溶融する。
【００６１】
（ｂ）列の第３のグラフから見られるように、第２及び第３の周回で半径は連続的に減少する。その際に切断深さは増して、第３の周回が終了したとき載置台２４の上面に達する。
【００６２】
角度グラフは、（ａ）列の角度グラフに一致する。
【００６３】
このようにすると表面から始まって、ビームジオメトリ及び熱効果によって指定された円錐度より大きい円錐度に対応する孔を形成できることが分かる。その際にビームが２周回時間内に内側に向って進むように操作する。
【００６４】
電子ビームが孔壁の最初の上部を２回以上通過することによって、その表面性状が良好であることも保証する。
【００６５】
図３の実施例（ｂ）の変形例では、電流強度が時間とともに減少するように電子ビームの強さを変えることもできる（破線で記入）。このことは円錐度を拡大する方向でも作用する。
【００６６】
図３の例（ａ）の変形例では、電流強度を上昇又は下降させて、破線で暗示されているように、孔の円錐度を拡大又は減少させることができる。
【００６７】
図３の（ｃ）列は、実質的に正方形の開口を形成する際の諸関係を示している。一定の角速度（第４グラフ）において偏向電流を調節して、間隔が増すとビームが１つの角に入れられ、間隔Ｒが減ると１つの角から戻されるようにしなければならない。このことは、図３の（ｃ）列の第３のグラフに示されているように、例えばほぼ正弦形の調節によって達成できる。
【００６８】
実質的に正方形の軌道Ｂｌに沿って誘導することにより、所定の角速度Ｗにおいて軌道区間当りの電子ビームの強度が変化する。これを補償するために、（ｃ）列の第２グラフに模式的に示されているように、正方形の１つの角を通過する軌道の範囲で電流を一時的に高めることができる。簡単にするために、鋭く突き出たピークＰが図示されているが、実際には鐘形に近い潰れた曲線であり得る。
【００６９】
軌道Ｂｌ上を１周回した後で電子ビーム１２は、軌道Ｂｌに沿って材料が溶けるまで装置軸上に置かれる。この装置軸上にある状態を形式的に第２軌道Ｂ２と見なすことができる。軌道Ｂｌ及びＢ２の通過にかかる合計時間は１タクトタイムＴである。
【００７０】
再び電子ビームのパルスによる穿孔の全形成が行なわれ、これに２タクトタイムかかる。これは、第１タクト後にビームによって形成された溝の深さが工作物の中心までよりもやや深く進み、第２周回で完全に基体の上面まで突き抜けるというように行うことができる。
【００７１】
（ｄ）列は、円錐度がより強く小さい直径を有する孔の形成を示している。このために電子ビーム１２がずっと装置軸１８上で工作物表面に当るようにする。（ｄ）列の右の部分図に見られるように、作用の過程でビーム径Ｄは小さくなる。同時にビーム電流Ｉは中央の図に見られる通り減少する。加工開始時はビーム径Ｄは特定の時間にわたり一定に保つことができ、それから（ｄ）列の第３部分図に見られる通り縮小する。曲線Ｄ（Ｔ）の高台部の幅によって孔の円錐度を調整することができる。電子ビームの断面変化は、例えば電子ビームの拡散及び集束によって形成できる。
【００７２】
ビーム断面より大きい断面の穴をどのように形成できるかは、上で図３の（ｂ）を参照して説明された。
【００７３】
図３の（ｅ）列は、電子ビーム１２を２つの同心円軌道上、即ち最初に外側の円軌道Ｂｌ、次いで内側の円軌道Ｂ２を誘導して円錐度の強い大きい穴を形成する別の可能性を示している。
【００７４】
この軌道運動においても材料は孔の内部で溶融され、電子ビーム１２が載置台２４の上面に到達すると液状金属がこのとき発生するガスによって押し出される。
【００７５】
図３の（ｅ）列の第２部分図に図示されているように、ビーム電流は内側の円軌道Ｂ２で減少する。この減少は、ビームエネルギー、より正確には金属の溶融に利用できる単位長さ当り出力（区間エネルギー）がすべての軌道部分で等しい。
【００７６】
原則として孔の成形にはそのような一定の区間エネルギーによる作業が選好される。
【００７７】
その際に、ビーム誘導軌道の湾曲した部分では、ビーム軌道の凸状側に位置する若しくはビーム軌道の凸状側によって包囲される材料領域は、ビーム誘導軌道の凹状側にある材料領域より多く加熱されることも考慮できる。
【００７８】
原則として一定の区間エネルギーは、ビーム電流を介するよりもビーム速度の制御によって調節する方が簡単である。
【００７９】
若干の応用に対しては、例えばビーム誘導軌道の特定の部分で工作物の材料をより多く蒸発させるために、一定ではない区間エネルギーで作業することが有利であり得る。
【００８０】
区間出力を加工経路の過程で変化させることによって、例えば角を回る際に軌道曲線を単純に維持しながらも材料を局所的により強く溶融させて孔の膨らみを形成することもできる。そのような方法は図３の（ｃ）列に従う孔を形成する際に、電子ビームを円軌道で誘導しながらもそれ自体所望された正方形の４つの角を形成するために使用できよう。
【００８１】
上述した実施例ではいずれも、電子ビームが２周回又は３周回することによって工作物２２が完成するように、電子ビームの軌道速度とビームパルスの長さを調整して作業された。
【００８２】
１周回又は３周回以上でも作業できることは言うまでもない。
【００８３】
一般的に、１周回の電子ビームのみで孔を形成すると表面品質が均一ではない孔壁が得られると言える。２周回では明らかに良好な表面品質が得られ、孔壁の表面品質により高い要求が課せられる場合は２〜１０周回で孔を形成することもできる。
【００８４】
周回の数が多くなると平均的な要件のみを満たせばよい工作物の場合は、加工時間及び加工コストの増大と孔壁の表面品質の改善が釣り合わなくなるという問題が生じる。孔壁の品質が最も重要な役割を持つ高級な工作物の場合は、１０周回、２０周回〜５０周回で作業することも全く可能である。この場合、多量の材料が除去されず、むしろ孔壁を平滑にすることを目的とした周回においてビーム出力を下げることができる。
【００８５】
先述した実施例では、孔が完成したらビームは停止された。材料内で孔の周囲に後で材料破断を招くような大きい応力が生じないようにすることが重要な若干の場合は、孔に隣接する工作物の領域で電子ビームをさらに１回以上周回させて、温度の降下を遅くすることが有利であり得る。
【００８６】
その種の焼き戻しサイクルは少ないビーム出力で実施されて、工作物から取るに足る材料除去は行われない。相応の焼き戻し軌道が図３の（ｅ）列においてＢ３で１８０°にわたり図示されている。このような焼き戻しのためにビーム電流を縮小し及び／又はビーム速度を高め及び／又はビーム断面を拡大する。
【００８７】
以下に、作業パラメータに対してさらに若干の数値例を例示する。
−工作物の厚さ：０．８ｍｍ〜４ｍｍ
−加速電圧：１２０ｋＶ
−ビームパルスの長さ：ｌμｓ〜１ｍｓ
−ビーム径：＞４０μｍ
−載置台の材料：石膏及び／又は黄銅の充填材粒子８０〜９０％を含むシリコーン材からなる厚さ２〜３ｍｍのプレート
−形成された孔の典型的直径：８０μｍ〜１２００μｍ
【００８８】
次の文は、本発明による方法のその他の側面を一般化した形で記載する。出願者は以下の文に記載された何らかの側面に対して請求する権利を留保する。
【００８９】
［文１］電子ビーム（１２）を使用して工作物（２２）に小孔（４８）を形成するための方法において、
ａ）エネルギー供給時にガスを放出する載置台（２４）上に工作物（２２）を載せ、
ｂ）電子ビーム（１２）が載置台（２４）に到達するまで電子ビーム（１２）を工作物（２２）に向ける方法。
【００９０】
［文２］以下のパラメータ群、即ちビーム径、ビーム電流、パルス時間、ビーム集束、電子ビーム（１２）の装置軸（１８）からの相対的偏向、工作物（２２）における電子ビーム（１２）の軌道速度、区間エネルギーから選択した少なくとも１つの作業パラメータを変更することを特徴とする、文１に記載の方法。
【００９１】
［文３］パラメータ群の２つ以上の作業パラメータを変更することを特徴とする、文１又は文２に記載の方法。
【００９２】
［文４］少なくとも２つの変更された作業パラメータを同時に変更することを特徴とする、文３に記載の方法。
【００９３】
［文５］少なくとも２つの変更された作業パラメータを順次変更することを特徴とする、文３又は文４に記載の方法。
【００９４】
［文６］変更が１回のビームパルスの内部で行われることを特徴とする、文１から文５のいずれかに記載の方法。
【００９５】
［文７］加工時間は、工作物（２２）における電子ビーム（１２）の２回以上の運動サイクル、好ましくは２〜５０運動サイクル、さらに好ましくは２〜２０運動サイクル、さらに好ましくは２〜１０運動サイクルを含むことを特徴とする、文１から文６のいずれかに記載の方法。
【００９６】
［文８］最初のビーム周回で工作物（２２）はその厚さが不完全にしか溶融されず、最後のビーム周回で載置台の表面に到達し、好ましくは載置台の端部に向かうことを特徴とする、文７に記載の方法。
【００９７】
［文９］少なくとも最後の１サイクル、好ましくは最後の５サイクルで電子ビーム（１２）をビーム径の微小部分、好ましくはビーム径の約２％〜約５％に相当する距離だけ半径方向外側にずらすことを特徴とする、文７又は文８に記載の方法。
【００９８】
［文１０］孔（４８）を２回、３回など連続するビームパルスで形成することを特徴とする、文１から文９のいずれかに記載の方法。
【００９９】
［文１１］第１のビームパルスで工作物は工作物厚さの少なくとも約半分、３分の１などに相当する深さまで溶融するが、まだ載置台（２４）まで到達せず、第２、第３などのビームパルスで残っている材料ウェブを載置台（２４）に達するまで完全に溶融して、最初の先行ビームパルスによって形成された孔（４８）の部分の壁を越えることを特徴とする、文１０に記載の方法。
【０１００】
［文１２］第２、第３などのビームパルスは、前記パラメータ群から選択したパラメータによって第１のビームパルスとは区別されることを特徴とする、文１１及び文２に記載の方法。
【０１０１】
［文１３］電子ビーム（１２）を加工の目的で誘導する運動速度と軌道は、孔を形成する際に孔の少なくとも１部分を２回擦過するように互いに同調されていることを特徴とする、文１２に記載の方法。
【０１０２】
［文１４］電子ビーム（２）の軌道を増分的に通過することを特徴とする、文１から文１３のいずれかに記載の方法。
【０１０３】
［文１５］電子ビーム（１２）を順次軌道上に誘導し、それらの電子ビームの間隔はビームの運動方向に対して直角の方向でビーム径より小さく、好ましくはビーム径の１０〜４０％、さらに好ましくはビーム径の１５〜２５％であることを特徴とする、文１から文１４のいずれかに記載の方法。
【０１０４】
孔が完成した後で、孔を包囲している材料の縁に沿って電子ビーム（１２）を好ましくは工作物の材料が溶融せず蒸発もしないように低減されたエネルギーで誘導することを特徴とする、文１から文１５のいずれかに記載の方法。
【図１】
0006568195.tif 000002
【図２】
0006568195.tif 000003
【図３（１）】
0006568195.tif 000004
【図３（２）】
0006568195.tif 000005