(57)【要約】本発明の感光性組成物は、ラジカル開始剤（Ａ）、単官能ラジカル重合性物質（Ｄ１）を含有する重合性物質（Ｄ）及び非ラジカル重合性ポリマー（Ｅ）を含有し、以下の（１）〜（３）を満たす。（１）前記（Ｄ）と前記（Ｅ）の合計重量に対する前記（Ｄ）の重量割合が、４０〜９５重量％である。（２）前記（Ｄ）の重量に対する前記（Ｄ１）の重量割合が、５０〜９９．９重量％である。（３）前記（Ｄ１）が、炭素数６〜３５の単官能アルキル（メタ）アクリレート（Ｄ１１１）を含有する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
ラジカル開始剤（Ａ）、単官能ラジカル重合性物質（Ｄ１）を含有する重合性物質（Ｄ）及び非ラジカル重合性ポリマー（Ｅ）を含有し、以下の（１）〜（３）を満たす感光性組成物。
（１）前記（Ｄ）と前記（Ｅ）との合計重量に対する前記（Ｄ）の重量割合が、４０〜９５重量％である。
（２）前記（Ｄ）の重量に対する前記（Ｄ１）の重量割合が、５０〜９９．９重量％である。
（３）前記（Ｄ１）が、炭素数６〜３５の単官能アルキル（メタ）アクリレート（Ｄ１１１）を含有する。
【請求項２】
前記非ラジカル重合性ポリマー（Ｅ）が、炭素数６〜３５の単官能分岐アルキル（メタ）アクリレートを構成単位として含有するビニルポリマーである請求項１に記載の感光性組成物。
【請求項３】
前記非ラジカル重合性ポリマー（Ｅ）が、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレートを構成単位として５０モル％以上含有するビニルポリマーである請求項１又は２に記載の感光性組成物。
【請求項４】
更に酸発生剤（Ｂ）及び／又は塩基発生剤（Ｃ）を含有する請求項１〜３のいずれか１項に記載の感光性組成物。
【請求項５】
前記ラジカル開始剤（Ａ）、前記酸発生剤（Ｂ）及び前記塩基発生剤（Ｃ）の内の少なくとも１つが活性光線の照射により活性種（Ｈ）を発生し、前記活性種（Ｈ）が前記ラジカル開始剤（Ａ）、前記酸発生剤（Ｂ）又は前記塩基発生剤（Ｃ）と反応して新たな活性種（Ｉ）を生成して前記新たな活性種（Ｉ）による前記重合性物質（Ｄ）の重合反応が進行し、前記活性種（Ｈ）又は（Ｉ）が酸又は塩基である請求項４に記載の感光性組成物。
【請求項６】
前記ラジカル開始剤（Ａ）が、活性光線によりラジカルを発生するラジカル開始剤（Ａ１）、又は酸及び／若しくは塩基によりラジカルを発生するラジカル開始剤（Ａ２）であり、前記酸発生剤（Ｂ）が、活性光線により酸を発生する酸発生剤（Ｂ１）、又はラジカル、酸及び塩基からなる群から選ばれる少なくとも１種により酸を発生する酸発生剤（Ｂ２）であり、前記塩基発生剤（Ｃ）が、活性光線により塩基を発生する塩基発生剤（Ｃ１）、又はラジカル、酸及び塩基からなる群から選ばれる少なくとも１種により塩基を発生する塩基発生剤（Ｃ２）であって、（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）又は（Ｃ２）を以下の（１）〜（４）のいずれかの組合せで含有する請求項４又は５に記載の感光性組成物。
（１）（Ａ１）並びに（Ｂ２）及び／又は（Ｃ２）を含有する。
（２）（Ｂ１）、（Ａ２）及び必要により（Ｃ２）を含有する。
（３）（Ｃ１）、（Ａ２）及び必要により（Ｂ２）を含有する。
（４）上記（１）〜（３）の２種類以上の組合せ。
【請求項７】
前記ラジカル開始剤（Ａ１）が、アシルホスフィンオキサイド誘導体系重合開始剤（Ａ１２１）、α−アミノアセトフェノン誘導体系重合開始剤（Ａ１２２）、ベンジルケタール誘導体系重合開始剤（Ａ１２３）、α−ヒドロキシアセトフェノン誘導体系重合開始剤（Ａ１２４）、ベンゾイン誘導体系重合開始剤（Ａ１２５）、オキシムエステル誘導体系重合開始剤（Ａ１２６）及びチタノセン誘導体系重合開始剤（Ａ１２７）からなる群から選ばれる少なくとも１種のラジカル開始剤であり、前記ラジカル開始剤（Ａ２）が、前記開始剤（Ａ１２１）、前記開始剤（Ａ１２２）、前記開始剤（Ａ１２３）、前記開始剤（Ａ１２４）、前記開始剤（Ａ１２５）、前記開始剤（Ａ１２６）、前記開始剤（Ａ１２７）、有機過酸化物系重合開始剤（Ａ２１）及びアゾ化合物系重合開始剤（Ａ２２）からなる群から選ばれる少なくとも１種のラジカル開始剤である請求項６に記載の感光性組成物。
【請求項８】
前記活性光線により酸を発生する酸発生剤（Ｂ１）、又は前記ラジカル、酸及び塩基からなる群から選ばれる少なくとも１種により酸を発生する酸発生剤（Ｂ２）が、スルホニウム塩誘導体（Ｂ１２１）、ヨードニウム塩誘導体（Ｂ１２２）、スルホン酸エステル誘導体（Ｂ２１）、酢酸エステル誘導体（Ｂ２２）及びホスホン酸エステル（Ｂ２３）からなる群から選ばれる少なくとも１種の酸発生剤である請求項６又は７に記載の感光性組成物。
【請求項９】
前記活性光線により酸を発生する酸発生剤（Ｂ１）のアニオン部が、ヘキサフルオロホスフェートアニオン、トリフルオロ［トリス（パーフルオロエチル）］ホスフェートアニオン又はテトラキス（パーフルオロフェニル）ボレートアニオンである請求項６〜８のいずれか１項に記載の感光性組成物。
【請求項１０】
前記活性光線により塩基を発生する塩基発生剤（Ｃ１）が、オキシム誘導体（Ｃ１２１）、４級アンモニウム塩誘導体（Ｃ１２２）及び４級アミジン塩誘導体（Ｃ１２３）からなる群から選ばれる少なくとも１種の塩基発生剤であり、前記ラジカル、酸及び塩基からなる群から選ばれる少なくとも１種により塩基を発生する塩基発生剤（Ｃ２）が、前記誘導体（Ｃ１２１）、前記誘導体（Ｃ１２２）、前記誘導体（Ｃ１２３）及びカルバメート誘導体（Ｃ２１）からなる群から選ばれる少なくとも１種の塩基発生剤である請求項６〜９のいずれか１項に記載の感光性組成物。
【請求項１１】
前記重合性物質（Ｄ）に対する前記ラジカル開始剤（Ａ）の含有量が０．０５〜３０重量％であり、前記重合性物質（Ｄ）に対する前記酸発生剤（Ｂ）及び／又は前記塩基発生剤（Ｃ）の含有量〔（Ｂ）と（Ｃ）の合計〕が０．０１〜３０重量％である請求項４〜１０のいずれか１項に記載の感光性組成物。
【請求項１２】
接着剤として用いられる請求項１〜１１のいずれか１項に記載の感光性組成物。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載の感光性組成物が活性光線の照射により硬化されてなる硬化物。
【請求項１４】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載の感光性組成物を用いて貼り合わされた光学基材を含む画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、活性光線照射で硬化し、フラットパネルディスプレイ用、タッチパネル用、コーティング剤用、インキ用、塗料用、接着剤用、レジストパターン形成用又はセラミック電子部品製造用等として好適に用いられ、特に接着剤用として有用な感光性組成物及び感光性組成物が硬化されてなる硬化物に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）や有機ＥＬディスプレイに代表されるフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）は、テレビやタブレット端末、スマートフォンに代表される携帯電話まで多くの電子機器に不可欠なものとなっており、ＦＰＤを構成する数多くの光学用材料の需要も大きく伸びている。また、近年のスマートフォンやタブレット端末にはタッチパネルがほとんどの機種で搭載されており、電子機器に用いられる材料には、耐光性、耐候性、耐熱性、耐湿性等の信頼性、密着性、接着性、透明性等の様々な要求項目があり、特に耐熱・耐湿試験時の信頼性の高い樹脂が求められている。【０００３】
近年フラットパネルに用いられるカバーガラスが薄くなってきている。カバーガラスが薄くなると、活性光線照射で硬化する樹脂でカバーガラスとＬＣＤを貼り合わせた際、硬化時に発生する応力でＬＣＤがたわみ変形しやすくなり、従来の感光性組成物では、硬化時の寸法変化によりカバーガラスが割れたり、ＬＣＤ点灯表示時に明るさにムラが生じるという問題があった。カバーガラスの割れやムラの発生を改良する方法としては、例えば、脂環構造を有するゴム成分を含有した感光性組成物を用いる貼り合わせ方法があるが、耐熱・耐湿試験時に接着面が剥がれたりする等の懸念がある（例えば特許文献１参照）。
したがって、接着強度が高く、寸法変化の少ない感光性組成物の開発が強く求められている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１３−０２０２５８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、接着強度（特に耐熱接着性及び耐湿接着性）が高く、寸法変化の少ない硬化物を形成することができる感光性組成物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、上記の目的を達成すべく鋭意検討を行った結果、本発明に到達した。即ち、本発明は、ラジカル開始剤（Ａ）、単官能ラジカル重合性物質（Ｄ１）を含有する重合性物質（Ｄ）及び非ラジカル重合性ポリマー（Ｅ）を含有し、以下の（１）〜（３）を満たす感光性組成物である。
（１）前記（Ｄ）と前記（Ｅ）との合計重量に対する前記（Ｄ）の重量割合が、４０〜９５重量％である。
（２）前記（Ｄ）の重量に対する前記（Ｄ１）の重量割合が、５０〜９９．９重量％である。
（３）前記（Ｄ１）が、炭素数６〜３５の単官能アルキル（メタ）アクリレート（Ｄ１１１）を含有する。
【発明の効果】
【０００７】
本発明の感光性組成物を使用することにより、接着強度（特に耐熱接着性及び耐湿接着性）が高く、柔軟性、低誘電性及び寸法変化の少ない硬化物が製造可能となる。
感光性組成物の硬化物が柔軟性に優れると、例えば接着剤用として用いた場合に衝撃吸収性が良好となり、低誘電性に優れると例えばタッチパネル用接着剤として用いた場合にタッチパネルの応答速度や感度が向上する。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
本発明の感光性組成物は、ラジカル開始剤（Ａ）、重合性物質（Ｄ）及び非ラジカル重合性ポリマー（Ｅ）を含有する。
【０００９】
以下に、本発明の感光性組成物の必須構成成分である（Ａ）、（Ｄ）及び（Ｅ）について、順に説明する。
【００１０】
本発明においてラジカル開始剤（Ａ）とは、活性光線、酸及び塩基のうちの少なくとも１種によりラジカルを発生する化合物を意味し、活性光線によりラジカルを発生するラジカル開始剤（Ａ１）、並びに酸及び／若しくは塩基によりラジカルを発生するラジカル開始剤（Ａ２）等の公知の化合物を用いることができる。
例えば、アシルホスフィンオキサイド誘導体系重合開始剤（Ａ１２１）、α−アミノアセトフェノン誘導体系重合開始剤（Ａ１２２）、ベンジルケタール誘導体系重合開始剤（Ａ１２３）、α−ヒドロキシアセトフェノン誘導体系重合開始剤（Ａ１２４）、ベンゾイン誘導体系重合開始剤（Ａ１２５）、オキシムエステル誘導体系重合開始剤（Ａ１２６）及びチタノセン誘導体系重合開始剤（Ａ１２７）等は活性光線、酸及び塩基いずれによってもラジカルを発生させることが可能で（Ａ１）、及び（Ａ２）のいずれとしても好ましく用いることができる。
また、有機過酸化物系重合開始剤（Ａ２１）、アゾ化合物系重合開始剤（Ａ２２）、その他のラジカル開始剤（Ａ２３）等は、酸及び／又は塩基によってラジカルを発生させることが可能である。
（Ａ）は単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
尚、（Ａ１２１）は、（Ａ１）、及び（Ａ２）のいずれとしても適用できる化合物（Ａ１２）の１番目の例であることを示す。
【００１１】
アシルホスフィンオキサイド誘導体系重合開始剤（Ａ１２１）としては、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド［ＢＡＳＦジャパン（株）製（ＬＵＣＩＲＩＮ（登録商標）  ＴＰＯ）等］及びビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド［ＢＡＳＦジャパン（株）製（ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）  ８１９）等］等が挙げられる。
【００１２】
α−アミノアセトフェノン誘導体系重合開始剤（Ａ１２２）としては、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン［ＢＡＳＦ（株）ジャパン製（ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ９０７）等］、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン［ＢＡＳＦジャパン（株）製（ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ３６９）等］及び１，２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルホリニル）フェニル］−１−ブタノン［ＢＡＳＦジャパン（株）製（ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ３７９）等］等が挙げられる。
【００１３】
ベンジルケタール誘導体系重合開始剤（Ａ１２３）としては、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン［ＢＡＳＦジャパン（株）製（ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ６５１）等］等が挙げられる。
【００１４】
α−ヒドロキシアセトフェノン誘導体系重合開始剤（Ａ１２４）としては、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン［ＢＡＳＦジャパン（株）製（ＩＲＧＡＣＵＲＥ  １８４）等］、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン［ＢＡＳＦジャパン（株）製（ＤＡＲＯＣＵＲ（登録商標）  １１７３）等］、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン［ＢＡＳＦジャパン（株）製（ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ２９５９）等］及び２−ヒロドキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン［ＢＡＳＦジャパン（株）製（ＩＲＧＡＣＵＲＥ  １２７）等］等が挙げられる。
【００１５】
ベンゾイン誘導体系重合開始剤（Ａ１２５）としては、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル及びベンゾインイソプロピルエーテル等が挙げられる。
【００１６】
オキシムエステル誘導体系重合開始剤（Ａ１２６）としては、１，２−オクタンジオン−１−［４−（フェニルチオ）−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］［ＢＡＳＦジャパン（株）製（ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＯＸＥ  ０１）等］及びエタノン−１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−１−（Ｏ−アセチルオキシム）［ＢＡＳＦジャパン（株）製（ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＯＸＥ  ０２）等］等が挙げられる。
【００１７】
チタノセン誘導体系重合開始剤（Ａ１２７）としては、ビス（η５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウム［ＢＡＳＦジャパン（株）製（ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ７８４）等］等が挙げられる。
【００１８】
有機過酸化物系重合開始剤（Ａ２１）としては、ベンゾイルパーオキサイド（ＢＰＯ）、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシアセテート、２，２−ジ−（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）ブタン、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ｎ−ブチル４，４−ジ−（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）バレレート、ジ−（２−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン、ジクミルパーオキサイド、ジ−ｔｅｒｔ−ヘキシルパーオキサイド、２，５，−ジメチル−２，５，−ジ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン、ｔｅｒｔ−ブチルクミルパーオキサイド、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、ｐ−メンタンハイドロパーオキサイド、１，１，３，３，−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロパーオキサイド及びｔｅｒｔ−ブチルトリメチルシリルパーオキサイド等が挙げられる。
【００１９】
アゾ化合物系重合開始剤（Ａ２２）としては、１−［（１−シアノ−１−メチルエチル）アゾ］ホルムアミド、２，２’−アゾビス（Ｎ−ブチル−２−メチルプロピオンアミド）、２，２’−アゾビス（Ｎ−シクロヘキシル−２−メチルプロピオンアミド）及び２，２’−アゾビス（２，４，４−トリメチルペンタン）等が挙げられる。
【００２０】
その他の重合開始剤（Ａ２３）としては、２，３−ジメチル−２，３−ジフェニルブタン等が挙げられる。
【００２１】
活性光線によりラジカルを発生するラジカル開始剤（Ａ１）としては、光硬化性の観点から、アシルホスフィンオキサイド誘導体系重合開始剤（Ａ１２１）、α−アミノアセトフェノン誘導体系重合開始剤（Ａ１２２）、ベンジルケタール誘導体系重合開始剤（Ａ１２３）、α−ヒドロキシアセトフェノン誘導体系重合開始剤（Ａ１２４）、ベンゾイン誘導体系重合開始剤（Ａ１２５）、オキシムエステル誘導体系重合開始剤（Ａ１２６）及びチタノセン誘導体系重合開始剤（Ａ１２７）からなる群から選ばれる少なくとも１種のラジカル開始剤が好ましい。
【００２２】
酸及び／又は塩基によりラジカルを発生するラジカル開始剤（Ａ２）としては、光硬化性の観点から、アシルホスフィンオキサイド誘導体系重合開始剤（Ａ１２１）、α−アミノアセトフェノン誘導体系重合開始剤（Ａ１２２）、ベンジルケタール誘導体系重合開始剤（Ａ１２３）、α−ヒドロキシアセトフェノン誘導体系重合開始剤（Ａ１２４）、ベンゾイン誘導体系重合開始剤（Ａ１２５）、オキシムエステル誘導体系重合開始剤（Ａ１２６）、チタノセン誘導体系重合開始剤（Ａ１２７）、有機過酸化物系重合開始剤（Ａ２１）及びアゾ化合物系重合開始剤（Ａ２２）からなる群から選ばれる少なくとも１種のラジカル開始剤が好ましい。
【００２３】
これらのラジカル開始剤（Ａ）の中では、感光性組成物の貯蔵安定性の観点から、活性光線によりラジカルを発生するラジカル開始剤（Ａ１）〔（Ａ１２）を含む〕が好ましい。特に感光性組成物中に活性光線により塩基を発生する塩基発生剤（Ｃ１）を含む場合は、（Ｃ１）から発生した塩基によるラジカル発生がより促進されることから、（Ａ１２）を用いるのが好ましい。
【００２４】
本発明の感光性組成物中のラジカル開始剤（Ａ）の含有量は、光硬化性の観点から、重合性物質（Ｄ）の重量に対して、好ましくは０．０５〜３０重量％、更に好ましくは０．１〜２５重量％である。
【００２５】
本発明における重合性物質（Ｄ）としては、単官能ラジカル重合性物質（Ｄ１）、２官能ラジカル重合性物質（Ｄ２）及び３官能以上のラジカル重合性物質（Ｄ３）等の公知の化合物を用いることができ、（Ｄ）は単官能ラジカル重合性物質（Ｄ１）を必須成分として含有する。
（Ｄ）は１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
尚、上記「単官能ラジカル重合性物質（Ｄ１）」とは、重合性官能基の数が１個のラジカル重合性物質を意味し、「２官能ラジカル重合性物質（Ｄ２）」とは、重合性官能基の数が２個のラジカル重合性物質を意味し、「３官能以上のラジカル重合性物質（Ｄ３）」とは、重合性官能基の数が３個以上のラジカル重合性物質を意味する。以下同様の記載法を用いる。
【００２６】
単官能ラジカル重合性物質（Ｄ１）としては、（メタ）アクリル酸、炭素数４〜３５の単官能（メタ）アクリレート化合物（Ｄ１１）、炭素数３〜３５の単官能（メタ）アクリルアミド化合物（Ｄ１２）、炭素数６〜３５の単官能芳香族ビニル化合物（Ｄ１３）、炭素数３〜２０の単官能ビニルエーテル化合物（Ｄ１４）及びその他の単官能ラジカル重合性物質（Ｄ１５）等が挙げられる。
（Ｄ１）は１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
【００２７】
尚、上記及び以下において、「アクリレート」、「メタクリレート」の双方又はいずれかを指す場合「（メタ）アクリレート」と、「アクリル」、「メタクリル」の双方又はいずれかを指す場合「（メタ）アクリル」と、それぞれ記載することがある。
【００２８】
炭素数４〜３５の単官能（メタ）アクリレート化合物（Ｄ１１）としては、炭素数６〜３５の単官能アルキル（メタ）アクリレート（Ｄ１１１）、炭素数９〜４０の芳香環を有する単官能（メタ）アクリレート（Ｄ１１２）、炭素数４〜３５の水酸基を有する単官能（メタ）アクリレート（Ｄ１１３）、その他の単官能（メタ）アクリレート（Ｄ１１４）等が挙げられ、炭素数６〜３５の単官能アルキル（メタ）アクリレート（Ｄ１１１）を必須成分として含有する。
【００２９】
炭素数６〜３５の単官能アルキル（メタ）アクリレート（Ｄ１１１）としては、ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−オクチル（メタ）アクリレート、２，３−ジメチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、テトラデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、２−デシルテトラデカニル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
（Ｄ１１１）としては、接着強度及び低誘電性の観点から炭素数１１〜３５の単官能アルキル（メタ）アクリレートが好ましく、２，３−ジメチルヘキシルアクリレート、ステアリルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート及びイソステアリルアクリレートが更に好ましい。
【００３０】
炭素数９〜４０の芳香環を有する単官能（メタ）アクリレート（Ｄ１１２）としては、ベンジル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、フェノキシメチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、フェニルジエチレングリコール（メタ）アクリレート及びフェニルトリエチレングリコール（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００３１】
炭素数４〜３５の水酸基を有する単官能（メタ）アクリレート（Ｄ１１３）としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート及び４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
（Ｄ１１３）としては、重合性物質（Ｄ）との相溶性の観点から、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート及び４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートが好ましい。
【００３２】
その他の単官能（メタ）アクリレート（Ｄ１１４）としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、４−ｎ−ブチルシクロへキシル（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルジグリコール（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、２−クロロエチル（メタ）アクリレート、４−ブロモブチル（メタ）アクリレート、シアノエチル（メタ）アクリレート、ブトキシメチル（メタ）アクリレート、メトキシプロピレンモノ（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、アルコキシメチル（メタ）アクリレート、２−エチルへキシルカルビトール（メタ）アクリレート、アルコキシエチル（メタ）アクリレート、２−（２−メトキシエトキシ）エチル（メタ）アクリレート、２−（２−ブトキシエトキシ）エチル（メタ）アクリレート、２，２，２−テトラフルオロエチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシル（メタ）アクリレート、４−ブチルフェニル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、グリシジロキシブチル（メタ）アクリレート、グリシジロキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジロキシプロピル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、トリメトキシシリルプロピル（メタ）アクリレート、トリメチルシリルプロピル（メタ）アクリレート、ポリエチレンオキサイドモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、オリゴエチレンオキサイドモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ポリエチレンオキサイド（メタ）アクリレート、オリゴエチレンオキサイド（メタ）アクリレート、オリゴエチレンオキサイドモノアルキルエーテル（メタ）アクリレート、ポリエチレンオキサイドモノアルキルエーテル（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ポリプロピレンオキサイドモノアルキルエーテル（メタ）アクリレート、オリゴプロピレンオキサイドモノアルキルエーテル（メタ）アクリレート、２−メタクリロイロキシエチルコハク酸、２−メタクリロイロキシヘキサヒドロフタル酸、ブトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、トリフロロエチル（メタ）アクリレート、パーフロロオクチルエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド（以下、ＥＯと記載）変性フェノール（メタ）アクリレート、ＥＯ変性クレゾール（メタ）アクリレート、ＥＯ変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド（以下、ＰＯと記載）変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート及びＥＯ変性−２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート等のビニルエーテル基及び／又はアリルエーテル基を有しないもの等が挙げられる。
【００３３】
炭素数３〜３５の単官能（メタ）アクリルアミド化合物（Ｄ１２）としては、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−プロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｎ−ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド及びＮ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。
【００３４】
炭素数６〜３５の単官能芳香族ビニル化合物（Ｄ１３）〔後述するビニルエーテル化合物（Ｄ１４）は含まない。〕としては、ビニルチオフェン、ビニルフラン、ビニルピリジン、スチレン、メチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、クロルメチルスチレン、メトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロルスチレン、ジクロルスチレン、ブロムスチレン、ビニル安息香酸メチルエステル、３−メチルスチレン、４−メチルスチレン、３−エチルスチレン、４−エチルスチレン、３−プロピルスチレン、４−プロピルスチレン、３−ブチルスチレン、４−ブチルスチレン、３−ヘキシルスチレン、４−ヘキシルスチレン、３−オクチルスチレン、４−オクチルスチレン、３−（２−エチルヘキシル）スチレン、４−（２−エチルヘキシル）スチレン、アリルスチレン、イソプロペニルスチレン、ブテニルスチレン、オクテニルスチレン、４−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルスチレン、４−メトキシスチレン及び４−ｔｅｒｔ−ブトキシスチレン等が挙げられる。
【００３５】
炭素数３〜２０の単官能ビニルエーテル化合物（Ｄ１４）としては、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、ｎ−ノニルビニルエーテル、ラウリルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルメチルビニルエーテル、４−メチルシクロヘキシルメチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、ジシクロペンテニルビニルエーテル、２−ジシクロペンテノキシエチルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、ブトキシエチルビニルエーテル、メトキシエトキシエチルビニルエーテル、エトキシエトキシエチルビニルエーテル、メトキシポリエチレングリコールビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテル、２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、２−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、４−ヒドロキシメチルシクロヘキシルメチルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、ポリエチレングリコールビニルエーテル、クロルエチルビニルエーテル、クロルブチルビニルエーテル、クロルエトキシエチルビニルエーテル、フェニルエチルビニルエーテル及びフェノキシポリエチレングリコールビニルエーテル等が挙げられる。
【００３６】
その他の単官能ラジカル重合性物質（Ｄ１５）としては、アクリロニトリル、脂肪族ビニルエステル化合物（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル及びバーサチック酸ビニル等）、脂肪族アリルエステル化合物（酢酸アリル等）、ハロゲン含有単量体（塩化ビニリデン及び塩化ビニル等）及びオレフィン化合物（エチレン及びプロピレン等）等が挙げられる。
【００３７】
重合性物質（Ｄ）の重量に対する単官能ラジカル重合性物質（Ｄ１）の重量割合は、５０〜９９．９重量％であり、基材密着性の観点から７５〜９９．９重量％含有するのが好ましく、柔軟性の観点から好ましくは８０〜９９．９重量％であり、更に好ましくは９０〜９９．９重量％である。（Ｄ１）の重量割合が５０重量％未満であると基材密着性が低下し、（Ｄ１）のみの場合は光硬化性が不足する。
【００３８】
重合性物質（Ｄ）の重量に対する炭素数６〜３５の単官能アルキル（メタ）アクリレート（Ｄ１１１）の重量割合は、接着強度及び低誘電性の観点から、２０〜９９．９重量％であることが好ましく、６０〜９９．９重量％であることが更に好ましい。
【００３９】
炭素数９〜４０の芳香環を有する単官能（メタ）アクリレート（Ｄ１１２）は、硬化物の低誘電性の観点から、重合性物質（Ｄ）に対して５０モル％未満であることが好ましい。
【００４０】
２官能ラジカル重合性物質（Ｄ２）としては、例えば、炭素数８〜３５の２官能（メタ）アクリレート化合物（Ｄ２２）及び炭素数６〜２０の２官能ビニルエーテル化合物（Ｄ２４）が挙げられる。（Ｄ２）は１種を単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。
【００４１】
炭素数８〜３５の２官能（メタ）アクリレート化合物（Ｄ２２）としては、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、２，４−ジメチル−１，５−ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、ブチルエチルプロパンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化シクロヘキサンメタノールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、オリゴエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、２−エチル−２−ブチル−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、オリゴプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、２−エチル−２−ブチル−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート及びプロポキシ化エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００４２】
炭素数６〜２０の２官能ビニルエーテル化合物（Ｄ２４）としては、例えば、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、ポリエチレングリコールジビニルエーテル、プロピレングリコールジビニルエーテル、ブチレングリコールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、アルキレンオキサイド変性ビスフェノールＡジビニルエーテル、アルキレンオキサイド変性ビスフェノールＦジビニルエーテル等が挙げられる。
【００４３】
３官能以上のラジカル重合性物質（Ｄ３）としては、３〜６価のアルコールの３〜６官能（メタ）アクリレート化合物（Ｄ３１）、３〜６価のアルコールの３〜６官能ビニルエーテル化合物（Ｄ３２）及び、その他の３官能以上のラジカル重合性物質（Ｄ３３）が挙げられる。（Ｄ３）は１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
【００４４】
３〜６価のアルコールの３〜６官能（メタ）アクリレート化合物（Ｄ３１）としては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンのアルキレンオキサイド変性トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスルトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（（メタ）アクリロイルオキシプロピル）エーテル、ソルビトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールの炭素数２〜４のアルキレンオキサイド１〜３０モル付加物のトリ（メタ）アクリレート、エトキシ化グリセリントリ（メタ）アクリレート、プロピオン酸ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ソルビトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、プロピオン酸ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールの炭素数２〜４のアルキレンオキサイド１〜３０モル付加物のテトラ（メタ）アクリレート、ソルビトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ソルビトールヘキサ（メタ）アクリレート及びカプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００４５】
３〜６価のアルコールの３〜６官能ビニルエーテル化合物（Ｄ３２）としては、トリメチロールエタントリビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、グリセリントリビニルエーテルＥＯ付加トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ＰＯ付加トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ジトリメチロールプロパンテトラビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ＥＯ付加ジトリメチロールプロパンテトラビニルエーテル、ＰＯ付加ジトリメチロールプロパンテトラビニルエーテル、ＥＯ付加ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ＰＯ付加ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ジペンタエリスリトールペンタビニルエーテル、ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル、ＥＯ付加ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル及びＰＯ付加ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル等が挙げられる。
【００４６】
その他の３官能以上のラジカル重合性物質（Ｄ３３）としては、イソシアヌル酸アルキレンオキサイド変性トリ（メタ）アクリレート、トリ（（メタ）アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ヒドロキシピバルアルデヒド変性ジメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート及びフォスファゼンのアルキレンオキサイド変性ヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００４７】
２官能ラジカル重合性物質（Ｄ２）及び３官能以上のラジカル重合性物質（Ｄ３）として好ましいのは、炭素数８〜３５の２官能（メタ）アクリレート化合物（Ｄ２２）、炭素数６〜２０の２官能ビニルエーテル化合物（Ｄ２４）及び３〜６価のアルコールの３〜６官能（メタ）アクリレート化合物（Ｄ３１）である。
【００４８】
本発明における非ラジカル重合性ポリマー（Ｅ）としては、前記単官能ラジカル重合性物質（Ｄ１）を構成単位として含有するビニルポリマー（Ｅ１）、２価のアルコール（ｅ２１）と２価のカルボン酸（ｅ２２）とを構成単位として含有するポリエステル樹脂（Ｅ２）、２価のアルコール（ｅ２１）と２価のイソシアネート（ｅ３１）とを構成単位として含有するポリウレタン樹脂（Ｅ３）等の公知の化合物を用いることができる。上記各構成単位は、１種であっても２種以上であってもよい。例えば、単官能ラジカル重合性物質（Ｄ１）を構成単位として含有するビニルポリマー（Ｅ１）は、単官能ラジカル重合性物質（Ｄ１）を含む単量体組成物を重合することにより得られる。
尚、本発明における非ラジカル重合性ポリマー（Ｅ）とは、ラジカル重合性官能基を実質的に有さない重量平均分子量（以下、Ｍｗと略記）１万以上の化合物を意味する。（Ｅ）は１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
【００４９】
ポリエステル樹脂（Ｅ２）及びポリウレタン樹脂（Ｅ３）の構成単位である２価のアルコール（ｅ２１）としては、例えば、エチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，４−ブタンジオ−ル、ネオペンチルグリコール、１，４−ブテンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール等のアルキレングリコール類；ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等のアルキレンエーテルグリコール類；１，４−シクロヘキサンジメタノール、水素添加ビスフェノールＡ等の脂環式ジオール類；ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ等のビスフェノール類；ビスフェノール類のアルキレンオキサイド［ＥＯ、ＰＯ及びブチレンオキサイド等］２〜８モル付加物等が挙げられる。
【００５０】
ポリエステル樹脂（Ｅ２）の構成単位である２価のカルボン酸（ｅ２２）としては、例えば、マレイン酸、フマール酸、シトラコン酸、イタコン酸、グルタコン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、コハク酸、アジピン酸、セバンチン酸、アゼライン酸、マロン酸、ｎ−ドデセニルコハク酸、イソドデセニルコハク酸、ｎ−ドデシルコハク酸、イソドデシルコハク酸、ｎ−オクテニルコハク酸、イソオクテニルコハク酸、ｎ−オクチルコハク酸、イソオクチルコハク酸等及びこれらの酸の無水物又は低級アルキルエステル等が挙げられる。
【００５１】
ポリウレタン樹脂（Ｅ３）の構成単位である２価のイソシアネート（ｅ３１）としては、１，３−又は１，４−フェニレンジイソシアネート、２，４−又は２，６−トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、４，４’−又は２，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、ｍ−又はｐ−イソシアナトフェニルスルホニルイソシアネート、４，４’−ジイソシアナトビフェニル、３，３’−ジメチル−４，４’−ジイソシアナトビフェニル、３，３’−ジメチル−４，４’−ジイソシアナトジフェニルメタン、１，５−ナフチレンジイソシアネート、ｍ−又はｐ−イソシアナトフェニルスルホニルイソシアネート、エチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）、ヘプタメチレンジイソシアネート、オクタメチレンジイソシアネート、ノナメチレンジイソシアネート、デカメチレンジイソシアネート、ドデカメチレンジイソシアネート、２，２，４−又は２，４，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、２，６−ジイソシアナトメチルカプロエート、２，６−ジイソシアナトエチルカプロエート、ビス（２−イソシアナトエチル）フマレート、ビス（２−イソシアナトエチル）カーボネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート（ＴＭＤＩ）、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）、２，４−又は２，６−メチルシクロヘキサンジイソシアネート（水添ＴＤＩ）、ジシクロヘキシルメタン−４，４’−ジイソシアネート（水添ＭＤＩ）、シクロヘキシレンジイソシアネート、メチルシクロヘキシレンジイソシアネート、ビス（２−イソシアナトエチル）−４−シクロヘキシレン−１，２−ジカルボキシレート、２，５−又は２，６−ノルボルナンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート（ＤＤＩ）、ｍ−又はｐ−キシリレンジイソシアネート（ＸＤＩ）、ジエチルベンゼンジイソシアネート及びα，α，α’，α’−テトラメチルキシリレンジイソシアネート（ＴＭＸＤＩ）等が挙げられる。
【００５２】
非ラジカル重合性ポリマー（Ｅ）として好ましいのは、相溶性の観点から、単官能ラジカル重合性物質（Ｄ１）を構成単位として含有するビニルポリマー（Ｅ１）であり、更に好ましくは、炭素数６〜３５の単官能分岐アルキル（メタ）アクリレートを構成単位として含有するビニルポリマーであり、特に好ましくは、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレートを構成単位として５０モル％以上含有するビニルポリマーである。
非ラジカル重合性ポリマー（Ｅ）の酸価は、通常０〜１００ｍｇＫＯＨ／ｇであり、重合性物質（Ｄ）との相溶性の観点から好ましくは０〜８０ｍｇＫＯＨ／ｇ、更に好ましくは０〜４５ｍｇＫＯＨ／ｇである。酸価が１００を超えると、他の成分との相溶性が悪くなる。
【００５３】
非ラジカル重合性ポリマー（Ｅ）のＭｗ［測定は下記ゲルパーミエイションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法による。］は、通常１０，０００以上、好ましくは１２，０００〜１，０００，０００、更に好ましくは１００，０００〜９００，０００である。Ｍｗが１０，０００未満では基材に対する密着性が悪くなる。
【００５４】
＜ＧＰＣ測定条件＞
［１］装置    ：ゲルパーミエイションクロマトグラフィー
型式「ＨＬＣ−８１２０ＧＰＣ」、東ソー（株）製
［２］カラム  ：「ＴＳＫｇｅｌ  ＧＭＨＸＬ」２本＋「ＴＳＫｇｅｌ
Ｍｕｌｔｉｐｏｒｅ  ＨＸＬ−Ｍ」（いずれも製品名）、
東ソー（株）製
［３］溶離液  ：テトラヒドロフラン
［４］基準物質：標準ポリスチレン
（ＴＳＫｓｔａｎｄａｒｄ  ＰＯＬＹＳＴＹＲＥＮＥ）、
東ソー（株）製
［５］注入条件：サンプル濃度０．２５重量％、カラム温度４０℃
【００５５】
本発明の感光性組成物中の重合性物質（Ｄ）と非ラジカル重合性ポリマー（Ｅ）との合計重量に対する重合性物質（Ｄ）の重量割合は、４０〜９５重量％であり、好ましくは４２〜９２重量％、更に好ましくは、６０〜９０重量％である。重合性物質（Ｄ）と非ラジカル重合性ポリマー（Ｅ）との合計重量に対する重合性物質（Ｄ）の含有量が４０重量％未満であると、重合性官能基が不足するため硬化性が悪くなり、９５重量％を超えると、接着強度が低下する。
【００５６】
本発明の感光性組成物中は、各種基材への密着性がより良好となることから、酸発生剤（Ｂ）及び／又は塩基発生剤（Ｃ）を含有するのが好ましい。
酸発生剤（Ｂ）と塩基発生剤（Ｃ）のいずれを用いても、各種基材への密着性がより優れ、かつ透明な硬化物が得られるが、硬化物の耐黄変性の観点からは、酸発生剤（Ｂ）を用いるのが更に好ましい。
【００５７】
本発明において酸発生剤（Ｂ）とは、活性光線、ラジカル、酸及び塩基のうちの少なくとも１種により酸を発生する化合物を意味し、活性光線により酸を発生する酸発生剤（Ｂ１）、並びにラジカル、酸及び塩基からなる群から選ばれる少なくとも１種により酸を発生する酸発生剤（Ｂ２）等の公知の化合物が挙げられる。
酸発生剤（Ｂ）を含むことで、感光性組成物が高感度化され、反応が均一に進行する為、本発明の感光性組成物が硬化されてなる本発明の硬化物は、高硬度・高い耐擦傷性、高透明性が発現可能となると推定される。
例えば、スルホニウム塩誘導体（Ｂ１２１）及びヨードニウム塩誘導体（Ｂ１２２）等は活性光線又はラジカルによって酸を発生させることが可能で、（Ｂ１）又は（Ｂ２）として適用できる。
また、スルホン酸エステル誘導体（Ｂ２１）、酢酸エステル誘導体（Ｂ２２）及びホスホン酸エステル（Ｂ２３）等は酸及び／又は塩基によって酸を発生させることが可能で、（Ｂ２）として適用できる。
（Ｂ）は単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
尚、（Ｂ１２１）は、（Ｂ１）及び（Ｂ２）のいずれとしても適用できる化合物（Ｂ１２）の１番目の例であることを示す。
【００５８】
本発明におけるスルホニウム塩誘導体（Ｂ１２１）としては、下記一般式（１）又は下記一般式（２）で示される化合物等が挙げられる。
【００５９】
【化１】
2015029940.tif 000002
【００６０】
一般式（１）又は（２）において、Ａ１は下記式（３）、式（４）、一般式（５）〜（８）、式（９）及び式（１０）のいずれかで表される２価又は３価の基であり、Ａｒ１〜Ａｒ７はそれぞれ独立にベンゼン環骨格を少なくとも１個有し、ハロゲン原子、炭素数１〜２０のアシル基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアルキルチオ基、炭素数１〜２０のアルキルシリル基、ニトロ基、カルボキシル基、水酸基、メルカプト基、アミノ基、シアノ基、フェニル基、ナフチル基、フェノキシ基及びフェニルチオ基からなる群から選ばれる少なくとも１種の原子又は置換基で置換されていてもよい芳香族炭化水素基又は複素環基であってＡｒ１〜Ａｒ４、Ａｒ６及びＡｒ７は１価の基、Ａｒ５は２価の基であり、（Ｘ１）−及び（Ｘ２）−はそれぞれ独立に陰イオンを表し、ａは０〜２の整数、ｂは１〜３の整数で、かつａ＋ｂは２又は３でＡ１の価数と同じ整数である。
【００６１】
【化２】
2015029940.tif 000003
【００６２】
一般式（５）〜（８）におけるＲ１〜Ｒ７は、それぞれ独立に水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、又は、ハロゲン原子、炭素数１〜２０のアシル基、炭素数１〜２０のアルキル基、アミノ基、シアノ基、フェニル基、ナフチル基、フェノキシ基及びフェニルチオ基からなる群から選ばれる少なくとも１種の原子又は置換基で置換されていてもよいフェニル基を表し、Ｒ１とＲ２、Ｒ４とＲ５、及びＲ６とＲ７は互いに結合して環構造を形成していてもよい。
【００６３】
一般式（２）におけるＡ１として、酸発生効率の観点から好ましいのは、一般式（５）、一般式（７）、一般式（８）、式（９）及び式（１０）のいずれかで表される基であり、一般式（５）、一般式（８）、式（９）及び式（１０）のいずれかで表される基が更に好ましい。
【００６４】
一般式（１）及び一般式（２）におけるＡｒ１〜Ａｒ７は、一般式（１）又は一般式（２）で表される化合物が紫外〜可視光領域に吸収をもつようになる基である。
Ａｒ１〜Ａｒ７におけるベンゼン環骨格の数は、好ましくは１〜５、更に好ましくは１〜４である。
ベンゼン環骨格を１個有する場合の例としては、例えばベンゼン、又はベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、キノリン及びクマリン等の複素環化合物から水素原子を１個又は２個除いた残基が挙げられる。
ベンゼン環骨格を２個有する場合の例としては、例えばナフタレン、ビフェニル、フルオレン、又はジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、キサントン、キサンテン、チオキサントン、アクリジン、フェノチアジン及びチアントレン等の複素環化合物から水素原子を１個又は２個除いた残基が挙げられる。
ベンゼン環骨格を３個有する場合の例としては、例えば、アントラセン、フェナントレン、ターフェニル、ｐ−（チオキサンチルメルカプト）ベンゼン及びナフトベンゾチオフェン等の複素環化合物から水素原子を１個又は２個除いた残基が挙げられる。
ベンゼン環骨格を４個有する場合の例としては、例えばナフタセン、ピレン、ベンゾアントラセン及びトリフェニレン等から水素原子を１個又は２個除いた残基が挙げられる。
【００６５】
ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素が挙げられ、フッ素及び塩素が好ましい。
【００６６】
炭素数１〜２０のアシル基としては、例えばホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、イソブチリル基、バレリル基及びシクロヘキシルカルボニル基等が挙げられる。
【００６７】
炭素数１〜２０のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−又はｉｓｏ−プロピル基、ｎ−、ｓｅｃ−又はｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−、ｉｓｏ−又はｎｅｏ−ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基及びオクチル基等が挙げられる。
【００６８】
炭素数１〜２０のアルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−又はｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−、ｓｅｃ−又はｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−、ｉｓｏ−、又はｎｅｏ−ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基及びオクチルオキシ基等が挙げられる。
【００６９】
炭素数１〜２０のアルキルチオ基としては、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−又はｉｓｏ−プロピルチオ基、ｎ−、ｓｅｃ−又はｔｅｒｔ−ブチルチオ基、ｎ−、ｉｓｏ−又はｎｅｏ−ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、ヘプチルチオ基及びオクチルチオ基等が挙げられる。
【００７０】
炭素数１〜２０のアルキルシリル基としては、例えばトリメチルシリル基及びトリイソプロピルシリル基等のトリアルキルシリル基等が挙げられる。ここでアルキルは直鎖構造でも分岐構造でも構わない。
【００７１】
Ａｒ１〜Ａｒ７における置換する原子又は置換基として、酸発生効率の観点から好ましいのは、ハロゲン原子、シアノ基、フェニル基、ナフチル基、フェノキシ基、フェニルチオ基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアルキルチオ基及び炭素数１〜２０のアシル基であり、更に好ましいのは、シアノ基、フェニル基、炭素数１〜１５のアルキル基、炭素数１〜１５のアルコキシ基、炭素数１〜１５のアルキルチオ基及び炭素数１〜１５のアシル基、特に好ましいのは、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数１〜１０のアルキルチオ基及び炭素数１〜１０のアシル基である。尚、上記の置換基中のアルキル部分は直鎖でも分岐でも環状でもよい。
【００７２】
Ａｒ１〜Ａｒ４、Ａｒ６及びＡｒ７として、酸発生効率の観点から好ましいのは、フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ｐ−メトキシフェニル基、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、ｐ−（チオキサンチルメルカプト）フェニル基及びｍ−クロロフェニル基である。
【００７３】
Ａｒ５として、酸発生効率の観点から好ましいのは、フェニレン基、２−又は３−メチルフェニレン基、２−又は３−メトキシフェニレン基、２−又は３−ブチルフェニレン基及び２−又は３−クロロフェニレン基である。
【００７４】
一般式（１）又は（２）において（Ｘ１）−又は（Ｘ２）−で表される陰イオンとしては、ハロゲン化物アニオン、水酸化物アニオン、チオシアナートアニオン、炭素数１〜４のジアルキルジチオカルバメートアニオン、炭酸アニオン、炭酸水素アニオン、ハロゲンで置換されていてもよい脂肪族又は芳香族カルボキシアニオン（安息香酸アニオン、トリフルオロ酢酸アニオン、パーフルオロアルキル酢酸アニオン、及びフェニルグリオキシル酸アニオン等）、ハロゲンで置換されていてもよい脂肪族又は芳香族スルホキシアニオン（トリフルオロメタンスルホン酸アニオン等）、６フッ化アンチモネートアニオン（ＳｂＦ６−）、ホスフィンアニオン［ヘキサフルオロホスフェートアニオン（ＰＦ６−）及びトリフルオロ［トリス（パーフルオロエチル）］ホスフェートアニオン（ＰＦ３（Ｃ２Ｆ５）３−）等］及びボレートアニオン（テトラフェニルボレートアニオン、テトラキス（パーフルオロフェニル）ボレートアニオン及びブチルトリフェニルボレートアニオン等）等が挙げられ、酸発生効率の観点から、ホスフィンアニオン、ハロゲンで置換された脂肪族スルホキシアニオン及びボレートアニオンが好ましい。更に好ましくは、ヘキサフルオロホスフェートアニオン、トリフルオロ［トリス（パーフルオロエチル）］ホスフェートアニオン及びテトラキス（パーフルオロフェニル）ボレートアニオンであり、特に好ましくは、トリフルオロ［トリス（パーフルオロエチル）］ホスフェートアニオン及びテトラキス（パーフルオロフェニル）ボレートアニオンである。
【００７５】
スルホニウム塩誘導体（Ｂ１２１）として、酸発生効率の観点から好ましいのは、トリフェニルスルホニウムカチオン、トリ−ｐ−トリルスルホニウムカチオン又は［ｐ−（フェニルメルカプト）フェニル］ジフェニルスルホニウムカチオンをカチオン骨格として有する化合物及び下記一般式（１１）〜（１４）で示される化合物であり、更に好ましいのは下記一般式（１１）〜（１４）で示される化合物である。
【００７６】
【化３】
2015029940.tif 000004
【００７７】
一般式（１１）〜（１４）における（Ｘ３）−〜（Ｘ６）−は、それぞれ独立に陰イオンを表し、具体的には一般式（１）又は（２）における（Ｘ１）−又は（Ｘ２）−として例示したものと同様のものが挙げられ、好ましいものも同様である。
【００７８】
本発明におけるヨードニウム塩誘導体（Ｂ１２２）としては、下記一般式（１５）又は下記一般式（１６）で示される化合物等が挙げられる。
【００７９】
【化４】
2015029940.tif 000005
【００８０】
式中、Ａ２は前記式（３）、式（４）、一般式（５）〜（８）、式（９）及び式（１０）のいずれかで表される２価又は３価の基であり、Ａｒ８〜Ａｒ１２はそれぞれ独立にベンゼン環骨格を少なくとも１個有し、ハロゲン原子、炭素数１〜２０のアシル基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアルキルチオ基、炭素数１〜２０のアルキルシリル基、ニトロ基、カルボキシル基、水酸基、メルカプト基、アミノ基、シアノ基、フェニル基、ナフチル基、フェノキシ基及びフェニルチオ基からなる群から選ばれる少なくとも１種の置換基で置換されていてもよい芳香族炭化水素基又は複素環基であって、Ａｒ８〜Ａｒ１０及びＡｒ１２は１価の基、Ａｒ１１は２価の基であり、（Ｘ７）−及び（Ｘ８）−は、それぞれ独立に陰イオンを表し、ｃは０〜２の整数、ｄは１〜３の整数で、かつｃ＋ｄは２又は３でＡ２の価数と同じ整数である。
【００８１】
ハロゲン原子、炭素数１〜２０のアシル基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアルキルチオ基及び炭素数１〜２０のアルキルシリル基としては、一般式（１）及び一般式（２）の説明で記載したものと同様のものが例示される。
【００８２】
一般式（１６）におけるＡ２として、酸を発生する効率の観点から好ましいのは、前記一般式（５）、一般式（７）、一般式（８）、式（９）及び式（１０）のいずれかで表される基であり、一般式（５）、一般式（８）、式（９）及び式（１０）のいずれかで表される基が更に好ましい。
【００８３】
一般式（１５）又は一般式（１６）におけるＡｒ８〜Ａｒ１２は、一般式（１５）又は一般式（１６）で表される化合物が紫外〜可視光領域に吸収をもつようになる基である。
Ａｒ８〜Ａｒ１２におけるベンゼン環骨格の数は、好ましくは１〜５、更に好ましくは１〜４であり、Ａｒ８〜Ａｒ１２の具体例としては、一般式（１）又は一般式（２）のＡｒ１〜Ａｒ７として例示したものと同様のものが挙げられ、好ましいものも同様である。
【００８４】
（Ｘ７）−及び（Ｘ８）−としては、一般式（１）又は（２）における（Ｘ１）−又は（Ｘ２）−として例示したものと同様のものが挙げられ、好ましいものも同様である。
【００８５】
ヨードニウム塩誘導体（Ｂ１２２）として、酸発生効率の観点から好ましいのは、（４−メチルフェニル）｛４−（２−メチルプロピル）フェニル｝ヨードニウムカチオン、［ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）］ヨードニウムカチオン、［ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）］トリフルオロ［トリス（パーフルオロエチル）］ヨードニウムカチオン及び［ビス（４−メトキシフェニル）］ヨードニウムカチオンのいずれかをカチオン骨格として有する化合物、並びにこれら以外の下記一般式（１７）〜（２０）で示される化合物であり、更に好ましいのは下記一般式（１７）〜（２０）で示される化合物（例示した化合物を含む）である。
【００８６】
【化５】
2015029940.tif 000006
【００８７】
一般式（１７）〜（２０）において、Ｒ８〜Ｒ１３は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０のアシル基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアルキルチオ基、炭素数１〜２０のアルキルシリル基、ニトロ基、カルボキシル基、水酸基、メルカプト基、アミノ基、シアノ基、フェニル基、及びナフチル基からなる群から選ばれる原子又は置換基であり、（Ｘ９）−〜（Ｘ１２）−は、それぞれ独立に陰イオンを表す。
【００８８】
ハロゲン原子、炭素数１〜２０のアシル基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアルキルチオ基及び炭素数１〜２０のアルキルシリル基としては、一般式（１）及び一般式（２）の説明で記載したものと同様のものが例示される。
【００８９】
Ｒ８〜Ｒ１３として好ましいのは、ハロゲン原子、シアノ基、フェニル基、ナフチル基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基及び炭素数１〜２０のアシル基であり、更に好ましいのは、シアノ基、フェニル基、炭素数１〜１５のアルキル基、炭素数１〜１５のアルコキシ基及び炭素数１〜１５のアシル基、特に好ましいのは、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基及び炭素数１〜１０のアシル基である。尚、上記のアルキル部分は直鎖でも分岐でも環状でもよい。
【００９０】
一般式（１７）〜（２０）における（Ｘ９）−〜（Ｘ１２）−としては一般式（１）又は（２）における（Ｘ１）−又は（Ｘ２）−として例示したものと同様のものが挙げられ、好ましいものも同様である。
【００９１】
一般に可視光領域（３６０ｎｍ〜８３０ｎｍ；ＪＩＳ−Ｚ８１２０参照）での硬化に使用可能な光重合開始剤は、可視光を吸収するため開始剤自体が着色しており、硬化膜の色相に悪影響を与えるが、一般式（２）又は一般式（１６）で示される化合物を使用することにより硬化膜の色相への悪影響を抑止することができる。
【００９２】
スルホン酸エステル誘導体（Ｂ２１）としては、メタンスルホン酸シクロヘキシルエステル、エタンスルホン酸イソプロピルエステル、ベンゼンスルホン酸−ｔｅｒｔ−ブチルエステル、ｐ−トルエンスルホン酸シクロヘキシルエステル及びナフタレンスルホン酸シクロヘキシルエステル等が挙げられる。
【００９３】
酢酸エステル誘導体（Ｂ２２）としては、ジクロロ酢酸シクロヘキシルエステル及びトリクロロ酢酸イソプロピルエステル等が挙げられる。
【００９４】
ホスホン酸エステル（Ｂ２３）としては、トリフェニルホスホン酸シクロヘキシルエステル等が挙げられる。
【００９５】
（Ｂ）の内、光硬化性の観点からスルホニウム塩誘導体（Ｂ１２１）、ヨードニウム塩誘導体（Ｂ１２２）、スルホン酸エステル誘導体（Ｂ２１）、酢酸エステル誘導体（Ｂ２２）及びホスホン酸エステル（Ｂ２３）からなる群から選ばれる少なくとも１種の酸発生剤が好ましい。中でも、スルホニウム塩誘導体（Ｂ１２１）及びヨードニウム塩誘導体（Ｂ１２２）からなる群から選ばれる少なくとも１種の酸発生剤がより好ましい。
【００９６】
本発明において塩基発生剤（Ｃ）とは、活性光線、ラジカル、酸及び塩基のうちの少なくとも１種により塩基を発生する化合物を意味し、活性光線により塩基を発生する塩基発生剤（Ｃ１）、並びにラジカル、酸及び塩基からなる群から選ばれる少なくとも１種により塩基を発生する塩基発生剤（Ｃ２）等の公知の化合物を用いることができる。
塩基発生剤（Ｃ）を含むことで、感光性組成物が高感度化され、反応が均一に進行する為、本発明の感光性組成物が硬化されてなる本発明の硬化物は、高硬度・高い耐擦傷性、高透明性が発現可能となると推定される。
例えば、オキシム誘導体（Ｃ１２１）、４級アンモニウム塩誘導体（Ｃ１２２）及び４級アミジン塩誘導体（Ｃ１２３）等は活性光線又はラジカルによって塩基を発生させることが可能で、（Ｃ１）又は（Ｃ２）として適用できる。
また、カルバメート誘導体（Ｃ２１）は塩基によって塩基を発生させることが可能で、（Ｃ２）として適用できる。
（Ｃ）は単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
尚、（Ｃ１２１）は、（Ｃ１）、（Ｃ２）のいずれとしても適用できる化合物（Ｃ１２）の１番目の例であることを示す。
【００９７】
オキシム誘導体（Ｃ１２１）としては、例えばＯ−アシロキシム等が挙げられる。
【００９８】
４級アンモニウム塩誘導体（Ｃ１２２）及び４級アミジン塩誘導体（Ｃ１２３）としては、例えば下記一般式（２１）〜（２３）のいずれかで示される化合物が挙げられる。
【００９９】
【化６】
2015029940.tif 000007
【０１００】
一般式（２１）〜（２３）におけるＲ１４〜Ｒ４１は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０のアシル基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアルキルチオ基、炭素数１〜２０のアルキルシリル基、ニトロ基、カルボキシル基、水酸基、メルカプト基、アミノ基、シアノ基、フェニル基、ナフチル基、一般式（２４）で表される置換基及び一般式（２５）で表される置換基からなる群から選ばれる原子又は置換基であって、Ｒ１４〜Ｒ２３のいずれか１つは一般式（２４）又は一般式（２５）で表される置換基であり、Ｒ２４〜Ｒ３１のいずれか１つは一般式（２４）又は一般式（２５）で表される置換基であり、Ｒ３２〜Ｒ４１のいずれか１つは一般式（２４）又は一般式（２５）で表される置換基である。
【０１０１】
【化７】
2015029940.tif 000008
【０１０２】
一般式（２４）及び（２５）におけるＲ４２〜Ｒ４５は、それぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜２０のアルキル基であり、Ｒ４６〜Ｒ４８は、それぞれ独立に水酸基で置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルキル基であり、（Ｘ１３）−及び（Ｘ１４）−は、それぞれ独立に陰イオンを表し、ｅは２〜４の整数である。
【０１０３】
一般式（２１）〜（２３）におけるハロゲン原子、炭素数１〜２０のアシル基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアルキルチオ基及び炭素数１〜２０のアルキルシリル基としては、一般式（１）及び一般式（２）の説明で記載したものと同様のものが例示される。
【０１０４】
一般式（２１）で示される化合物はアントラセン骨格、一般式（２２）で示される化合物はチオキサントン骨格、一般式（２３）で示される化合物はベンゾフェノン骨格を有する化合物であり、それぞれｉ線（３６５ｎｍ）付近に最大吸収波長を有する化合物の一例である。Ｒ１４〜Ｒ２３は吸収波長の調整、感度の調整、熱安定性、反応性、分解性等を考慮して適宜選択されるものであり、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０のアルコキシ基、ニトロ基、カルボキシル基、水酸基、メルカプト基、炭素数１〜２０のアルキルシリル基、炭素数１〜２０のアシル基、アミノ基、シアノ基、炭素数１〜２０のアルキル基、フェニル基、及びナフチル基からなる群から選ばれる原子又は置換基から目的に応じて選択される。但し、Ｒ１４〜Ｒ２３のいずれか１つは一般式（２４）又は一般式（２５）で表される置換基である。
【０１０５】
Ｒ１４〜Ｒ２３として好ましいのは、ハロゲン原子、シアノ基、フェニル基、ナフチル基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基及び炭素数１〜２０のアシル基であり、更に好ましいのは、シアノ基、フェニル基、炭素数１〜１５のアルキル基、炭素数１〜１５のアルコキシ基及び炭素数１〜１５のアシル基、特に好ましいのは、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基及び炭素数１〜１０のアシル基である。尚、上記のアルキル部分は直鎖でも分岐でも環状でもよい。
【０１０６】
上記のＲ１４〜Ｒ２３の具体例としては、一般式（１７）〜（１９）のＲ８〜Ｒ１３の説明で記載した原子及び置換基が例示される。
【０１０７】
一般式（２４）で示される置換基はカチオン化したアミジン骨格を有する置換基であり、ｅは２〜４の整数である。この置換基としては、ｅが４である１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセンがカチオン化した構造を有する置換基及びｅが２である１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］−５−ノネンがカチオン化した構造を有する置換基が好ましい。Ｒ４２とＲ４３は、それぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜２０のアルキル基を表し、好ましいのは水素原子及び炭素数１〜１０のアルキル基、更に好ましいのは水素原子及び炭素数１〜５のアルキル基である。
【０１０８】
一般式（２５）は４級アンモニウム構造を有しており、Ｒ４４とＲ４５は、それぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜２０のアルキル基を表し、好ましくは水素原子又は炭素数１〜１０のアルキル基、更に好ましくは水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基である。また、Ｒ４６〜Ｒ４８は、それぞれ独立に水酸基で置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルキル基を表し、直鎖でも分岐でも環状でもよい。Ｒ４６〜Ｒ４８は好ましくは炭素数１〜１０のアルキル基、特に好ましくは炭素数１〜５のアルキル基である。
【０１０９】
一般式（２４）及び（２５）における（Ｘ１３）−及び（Ｘ１４）−は、それぞれ独立に陰イオンを表し、具体的には一般式（１）又は（２）における（Ｘ１）−又は（Ｘ２）−として例示したものと同様のものが挙げられる。これらの内、光分解性の観点から、脂肪族又は芳香族カルボキシアニオン及びボレートアニオンが好ましい。
【０１１０】
一般式（２４）で示される化合物は活性光線の照射により、Ｒ４２とＲ４３とが結合した炭素と窒素との間の結合が解裂してアミジン骨格を有する塩基性化合物を生成し、一般式（２５）で示される化合物は活性光線の照射により、Ｒ４４とＲ４５とが結合した炭素と窒素との間の結合が解裂して３級アミンが生成する。
【０１１１】
これらの活性光線により塩基を発生する塩基発生剤（Ｃ１）の内、光硬化性の観点からオキシム誘導体（Ｃ１２１）、４級アンモニウム塩誘導体（Ｃ１２２）及び４級アミジン塩誘導体（Ｃ１２３）からなる群から選ばれる少なくとも１種の塩基発生剤が好ましく、光分解性の観点から、下記一般式（２６）で示される化合物が更に好ましい。
【０１１２】
【化８】
2015029940.tif 000009
【０１１３】
一般式（２６）における（Ｘ１５）−は、陰イオンを表し、具体的には一般式（１）又は（２）における（Ｘ１）−又は（Ｘ２）−として例示したものと同様のものが挙げられる。これらの内、光分解性の観点から、脂肪族又は芳香族カルボキシアニオン及びボレートアニオンが好ましい。
【０１１４】
カルバメート誘導体（Ｃ２１）としては、１−Ｚ−４−ピペリドン、１−Ｆｍｏｃ−４−ピペリドン及びｏ−ニトロベンゾイルカルバメート等が挙げられる。
【０１１５】
ラジカル、酸及び塩基からなる群から選ばれる少なくとも１種により塩基を発生する塩基発生剤（Ｃ２）の内、光硬化性の観点から、オキシム誘導体（Ｃ１２１）、４級アンモニウム塩誘導体（Ｃ１２２）、４級アミジン塩誘導体（Ｃ１２３）及びカルバメート誘導体（Ｃ２１）からなる群から選ばれる少なくとも１種の塩基発生剤が好ましい。
本発明における（Ｃ）として、４級アンモニウム塩誘導体（Ｃ１２２）及び４級アミジン塩誘導体（Ｃ１２３）からなる群より選択される少なくとも１種の塩基発生剤がより好ましい。
【０１１６】
本発明の感光性組成物中の酸発生剤（Ｂ）及び／又は塩基発生剤（Ｃ）の含有量〔（Ｂ）と（Ｃ）の合計〕は、光硬化性の観点から、重合性物質（Ｄ）の重量に対して、好ましくは０．０１〜３０重量％、更に好ましくは０．０１〜２５重量％である。
【０１１７】
本発明の感光性組成物においては、ラジカル開始剤（Ａ）、酸発生剤（Ｂ）及び塩基発生剤（Ｃ）の内の少なくとも１つが活性光線の照射により活性種（Ｈ）を発生し、該活性種（Ｈ）がラジカル開始剤（Ａ）、酸発生剤（Ｂ）及び／又は塩基発生剤（Ｃ）と反応して新たな活性種（Ｉ）を生成して、該新たな活性種（Ｉ）による重合性化合物（Ｄ）の重合反応が進行するのが好ましい。ここで、活性種（Ｈ）及び（Ｉ）としては、ラジカル、酸及び塩基等が挙げられるが、上記反応において、活性種（Ｈ）又は（Ｉ）は酸又は塩基であることが好ましい。活性種（Ｈ）が拡散することにより硬化がより促進され、配線の影となる部分を含めて感光性組成物の硬化性が向上する。また、得られる硬化物の基材への密着性が向上する。活性種（Ｈ）が容易に拡散するためには、ラジカル開始剤（Ａ）として、活性種（Ｈ）と反応しないものを使用することが好ましい。
【０１１８】
本発明においては、（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）、又は（Ｃ２）を、以下の（１）〜（４）のいずれかの組合せで含有することが好ましい。
（１）（Ａ１）並びに（Ｂ２）及び／又は（Ｃ２）を含有する。
（２）（Ｂ１）、（Ａ２）及び必要により（Ｃ２）を含有する。
（３）（Ｃ１）、（Ａ２）及び必要により（Ｂ２）を含有する。
（４）上記（１）〜（３）の２種類以上の組合せ。
【０１１９】
上記（１）においては、活性光線の照射により活性種（Ｈ）としてラジカルが発生し、活性種（Ｉ）として酸及び／又は塩基が発生する。
上記（２）においては、活性光線の照射により活性種（Ｈ）として酸が発生し、活性種（Ｉ）としてラジカルが発生し、更に（Ｃ２）を含有する場合には塩基が発生する。
上記（３）においては、活性光線の照射により活性種（Ｈ）として塩基が発生し、活性種（Ｉ）としてラジカルが発生し、更に（Ｂ２）を含有する場合には酸が発生する。
これらの組合せの中で更に好ましいものは、（１）の内（Ａ１）及び（Ｂ２）を含有するもの、（２）の内（Ｂ１）及び（Ａ２）の内前記（Ａ１）及び（Ａ２）のいずれとしても適用できる前記化合物（Ａ１２）を含有するもの、並びに（３）の内（Ｃ１）及び（Ａ２）の内前記（Ａ１）及び（Ａ２）のいずれとしても適用できる前記化合物（Ａ１２）を含有するものであり、特に好ましいものは、（Ａ１）及び（Ｂ２）を含有するもの、並びに（Ｂ１）及び（Ａ１２）を含有するものである。
【０１２０】
本発明の感光性組成物が（Ａ１）及び（Ｂ２）を含有する場合、（Ａ１）及び（Ｂ２）として、例えば、α−アミノアセトフェノン誘導体系重合開始剤（Ａ１２２）及びヨードニウム塩誘導体（Ｂ１２２）を用いることが好ましい。また、感光性組成物が（Ｂ１）及び（Ａ１２）を含有する場合、（Ｂ１）及び（Ａ１２）として、例えば、スルホニウム塩誘導体（Ｂ１２１）及びアシルホスフィンオキサイド誘導体系重合開始剤（Ａ１２１）を用いることが好ましい。
本発明の感光性組成物が（Ｃ１）及び（Ａ１２）を含有する場合、（Ｃ１）及び（Ａ１２）として、例えば、４級アンモニウム塩誘導体（Ｃ１２２）又は４級アミジン塩誘導体（Ｃ１２３）、及びα−アミノアセトフェノン誘導体系重合開始剤（Ａ１２２）を用いることが好ましい。
【０１２１】
本発明の感光性組成物は、必要により、重合禁止剤（ハイドロキノン類等）、溶剤及び増感剤等を含有することができる。
【０１２２】
溶剤としては、グリコールエーテル類（エチレングリコールモノアルキルエーテル及びプロピレングリコールモノアルキルエーテル等）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン及びシクロヘキサノン等）、エステル類（エチルアセテート、ブチルアセテート、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート及びプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン及びメシチレン等）、アルコール類（メタノール、エタノール、ノルマルプロパノール、イソプロパノール、ブタノール、ゲラニオール、リナロール及びシトロネロール等）及びエーテル類（テトラヒドロフラン及び１，８−シネオール等）が挙げられる。これらは、単独で使用しても２種以上を併用してもよい。
感光性組成物が溶剤を含有する場合、その含有量は感光性組成物の重量を基準として、０．０１〜９９重量％であることが好ましく、更に好ましくは０．０１〜９０重量％である。
【０１２３】
増感剤としては、ケトクマリン、フルオレン、チオキサントン、アントラキノン、ナフチアゾリン、ビアセチル、ベンジル及びこれらの誘導体、ペリレン並びに置換アントラセン等が挙げられる。増感剤の含有量は、感光性組成物に対して０．０１〜２０重量％が好ましく、更に好ましくは０．０１〜１５重量％、特に好ましくは０．０１〜１０重量％である。
【０１２４】
本発明の感光性組成物は、更に、使用目的に合わせて、密着性付与剤（シランカップリング剤等）、粘着性付与剤、分散剤、消泡剤、レベリング剤、チクソトロピー性付与剤、スリップ剤、難燃剤、帯電防止剤、酸化防止剤及び紫外線吸収剤等を含有することができる。
【０１２５】
本発明の感光性組成物は、ラジカル開始剤（Ａ）、単官能ラジカル重合性物質（Ｄ１）を含む重合性物質（Ｄ）と、非ラジカル重合性ポリマー（Ｅ）と必要により酸発生剤（Ｂ）、塩基発生剤（Ｃ）及びその他の成分等とを自転公転式攪拌装置、ボールミル又は３本ロールミル等で混練することで得られる。混練温度は好ましくは１０℃〜４０℃、更に好ましくは２０℃〜３０℃である。
【０１２６】
本発明の感光性組成物の基材への塗布方法としては、スピンコート、ロールコート及びスプレーコート等の公知のコーティング法並びにナノインプリントプロセス、平版印刷、カルトン印刷、金属印刷、オフセット印刷、スクリーン印刷及びグラビア印刷といった印刷法を適用できる。また、微細液滴を連続して吐出するインクジェット方式や液体定量吐出装置を用いた塗布にも適用できる。
【０１２７】
本発明の感光性組成物を硬化するのに用いる活性光線としては、可視光線及び紫外線等が挙げられる。
本発明の感光性組成物は、３６０ｎｍ〜８３０ｎｍの活性光線の照射で光硬化できるため、一般的に使用されている高圧水銀灯の他、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ及びハイパワーメタルハライドランプ等（ＵＶ・ＥＢ硬化技術の最新動向、ラドテック研究会編、シーエムシー出版、１３８頁、２００６）が使用できる。また、ＬＥＤ光源を使用した照射装置も好適に使用できる。更に、太陽光、低圧水銀灯及び半導体レーザー等も使用できる。活性光線の照射時及び／又は照射後に酸発生剤（Ｂ）及び／又は塩基発生剤（Ｃ）から発生した酸及び／又は塩基の拡散と硬化促進の目的で、加熱を行ってもよい。加熱温度は、好ましくは３０℃〜２００℃であり、更に好ましくは３５℃〜１５０℃、特に好ましくは４０℃〜１２０℃である。
本発明の感光性組成物が活性光線の照射により硬化されてなる硬化物も、本発明に包含される。
【０１２８】
本発明の感光性組成物は、柔軟性の観点から、樹脂組成物が活性光線の照射により硬化されてなる硬化物のデュロメータＥ硬さが２０未満であることが好ましく、１５未満であることが更に好ましく、１０未満であることが特に好ましい。硬化物のデュロメータＥ硬さを２０未満にすることにより、柔軟性が向上することから、硬化物の衝撃吸収性が良好となる。尚、本発明におけるデュロメータＥ硬さは、後述の方法で測定することができる。
【０１２９】
本発明の感光性組成物は、低誘電性の観点から、樹脂組成物が活性光線の照射により硬化されてなる硬化物の１ＭＨｚでの比誘電率が５．０以下であることが好ましく、４．０以下であることが更に好ましく、３．０以下であることが特に好ましい。硬化物の１ＭＨｚでの比誘電率が５．０以下であることにより、タッチパネル用接着剤として使用した場合に誤作動を起こしにくくなり、タッチパネルの応答速度や感度が向上する。
尚、本発明における比誘電率は、後述の方法で測定することができる。
【０１３０】
本発明の感光性組成物は、例えば、コーティング剤用、インキ用、塗料用、接着剤用、レジストパターン形成用又はセラミック電子部品製造用等の感光性組成物として好適に用いられる。中でも、接着剤として好適に用いられる。本発明の感光性組成物を接着剤用感光性組成物として用いることは、本発明における好ましい実施態様の１つである。
【０１３１】
本発明の感光性組成物は、例えば、画像表示装置の製造において、光学基材等の基材を貼り合わせる接着剤として好適に用いられる。本発明の感光性組成物を用いて貼り合わされた光学基材を含む画像表示装置も、本発明に包含される。
本発明の感光性組成物が使用される画像表示装置としては、例えば、フラットパネルディスプレイ、タッチパネル等が好適である。本発明の感光性組成物は、このような画像表示装置の製造において、例えば、透明基板、透明板、化粧板、タッチパネル、アイコンシート及び画像表示部材等の光学基材を貼り合わせるために特に好適に使用される。
【実施例】
【０１３２】
以下、実施例により本発明を更に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。以下、特に規定しない限り、％は重量％、部は重量部を示す。【０１３３】
［酸発生剤（Ｂ）の製造］
製造例１
［活性光線により酸を発生するスルホニウム塩誘導体（Ｂ１２１−１）｛化学式（２７）で表される化合物｝の合成］【０１３４】
【化９】
2015029940.tif 000010
【０１３５】
（１）２−（フェニルチオ）チオキサントン［中間体（Ｂ１２１−１−１）］の合成：
２−クロロチオキサントン１１．０部、チオフェノール４．９部、水酸化カリウム２．５部及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１６２部を均一混合し、１３０℃で９時間反応させた後、反応溶液を室温（約２５℃）まで冷却し、蒸留水２００部中に投入し、生成物を析出させた。これをろ過し、残渣を水で濾液のｐＨが中性になるまで洗浄した後、残渣を減圧乾燥させ、黄色粉末状の生成物を得た。カラムクロマトグラフィー（溶離液：トルエン／ヘキサン＝１／１：容量比）で精製し、中間体（Ｂ１２１−１−１）（黄色固体）３．１部を得た。【０１３６】
（２）２−［（フェニル）スルフィニル］チオキサントン［中間体（Ｂ１２１−１−２）］の合成：
中間体（Ｂ１２１−１−１）１１．２部、アセトニトリル２１５部及び硫酸０．０２部を４０℃で撹拌しながら、これに３０％過酸化水素水溶液４．０部を徐々に滴下し、４０〜４５℃で１４時間反応させた後、反応溶液を室温（約２５℃）まで冷却し、蒸留水２００部中に投入し、生成物を析出させた。これをろ過し、残渣を水で濾液のｐＨが中性になるまで洗浄した後、残渣を減圧乾燥させ、黄色粉末状の生成物を得た。カラムクロマトグラフィー（溶離液：酢酸エチル／トルエン＝１／３：容量比）にて生成物を精製して、中間体（Ｂ１２１−１−２）（黄色固体）１３．２部を得た。【０１３７】
（３）スルホニウム塩誘導体（Ｂ１２１−１）の合成：
中間体（Ｂ１２１−１−２）４．３部、無水酢酸４．１部及びアセトニトリル１１０部を４０℃で撹拌しながら、これにトリフルオロメタンスルホン酸２．４部を徐々に滴下し、４０〜４５℃で１時間反応させた後、反応溶液を室温（約２５℃）まで冷却し、蒸留水１５０部中に投入し、クロロホルムで抽出し、水相のｐＨが中性になるまで水で洗浄した。クロロホルム相をロータリーエバポレーターに移して溶媒を留去した後、トルエン５０部を加えて超音波洗浄器でトルエン中に分散し約１５分間静置してから上澄みを除く操作を３回繰り返して、生成した固体を洗浄した後、残渣を減圧乾燥した。この残渣をジクロロメタン２１２部に溶かし、１０％カリウム｛トリフルオロ［トリス（パーフルオロエチル）］ホスフェート｝水溶液６５部中に投入してから、室温（約２５℃）で２時間撹拌し、ジクロロメタン層を分液操作にて水で３回洗浄した後、有機溶媒を減圧留去することにより、スルホニウム塩誘導体（Ｂ１２１−１）（黄色固体）５．５部を得た。【０１３８】
製造例２
［活性光線により酸を発生するヨードニウム塩誘導体（Ｂ１２２−１）｛化学式（２８）で表される化合物｝の合成］【０１３９】
【化１０】
2015029940.tif 000011
【０１４０】
トルエン６．５部、イソプロピルベンゼン８．１部、ヨウ化カリウム５．３５部及び無水酢酸２０部を酢酸７０部に溶解させ、１０℃まで冷却し、温度を１０±２℃に保ちながら、濃硫酸１２部と酢酸１５部との混合溶液を１時間かけて滴下した。２５℃まで昇温し、２４時間攪拌した。その後、反応溶液にジエチルエーテル５０部を加え、水で３回洗浄し、ジエチルエーテルを減圧留去した。残渣にカリウム｛トリフルオロ［トリス（パーフルオロエチル）］ホスフェート｝１１８部を水１００部に溶解させた水溶液を加え、２５℃で２０時間攪拌した。その後、反応溶液に酢酸エチル５００部を加え、水で３回洗浄し、有機溶剤を減圧留去することで目的とするヨードニウム塩誘導体（Ｂ１２２−１）（淡黄色液体）１４．０部を得た。【０１４１】
［塩基発生剤（Ｃ）の製造］
製造例３
［塩基発生剤（Ｃ１２２−１）｛化学式（２９）で表される化合物｝の合成］【０１４２】
【化１１】
2015029940.tif 000012
【０１４３】
９−クロロメチルアントラセン２．０部をクロロホルムに溶解させ、そこへ、トリオクチルアミン３．１部を少量ずつ加え（添加後若干の発熱が見られた。）、このまま室温（約２５℃）で１時間攪拌して反応液を得た。ナトリウムテトラフェニルボレート塩４．０部及び水４０部からなる水溶液に、反応液を少しずつ滴下し、更に１時間室温（約２５℃）で攪拌した後、水層を分液操作により除き、有機層を水で３回洗浄した。有機溶剤を減圧留去することで、白色固体７．１部を得た。この白色固体をアセトニトリルで再結晶させて、塩基発生剤（Ｃ１２２−１）（白色固体）６．２部を得た。【０１４４】
製造例４
［塩基発生剤（Ｃ１２３−１）｛化学式（３０）で表される化合物｝の合成］【０１４５】
【化１２】
2015029940.tif 000013
【０１４６】
「トリオクチルアミン３．１部」を「１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン１．３部」に変更したこと以外、製造例３と同様にして、塩基発生剤（Ｃ１２３−１）（白色固体）４．７部を得た。【０１４７】
［非ラジカル重合性ポリマー（Ｅ）の製造］
製造例５
［ビニルポリマー（Ｅ１−１）の製造］
撹拌機、温度計、還流冷却管、滴下ロート及び窒素ガス導入管を備えた反応容器に、溶剤としての酢酸エチル１３０部を仕込み８０℃まで昇温した。溶剤還流下、２−エチルヘキシルアクリレート５００部を酢酸エチル２００部に溶解させたモノマー溶液と、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）０．２４５部を酢酸エチル５０部に溶解させた開始剤溶液とを、反応容器内に窒素を吹き込みながら滴下ロートで４時間かけて連続的に滴下させた。続いて２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）０．４９０部を酢酸エチル３０部に溶解させた開始剤溶液を滴下ロートを用いて２時間かけて連続的に追加し、溶剤還流下で４時間反応させた。反応終了後、減圧下に１２０℃で２時間かけて酢酸エチルを留去することにより、Ｍｗ＝２５０，０００のポリ（２−エチルヘキシルアクリレート）であるビニルポリマー（Ｅ１−１）を得た。【０１４８】
製造例６
［ビニルポリマー（Ｅ１−２）の製造］
撹拌機、温度計、還流冷却管、滴下ロート及び窒素ガス導入管を備えた反応容器に、溶剤としての酢酸エチル１３０部を仕込み８０℃まで昇温した。溶剤還流下、アクリル酸５０部、２−エチルヘキシルアクリレート４００部、酢酸ビニル５０部及び酢酸エチル２００部を配合させたモノマー配合液と、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）０．２４５部を酢酸エチル５０部に溶解させた開始剤溶液とを反応容器内に窒素を吹き込みながら、滴下ロートで４時間かけて連続的に滴下させた。続いて２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）０．４９０部を酢酸エチル３０部に溶解させた開始剤溶液を滴下ロートを用いて２時間かけて連続的に追加し、溶剤還流下で４時間反応させた。反応終了後、減圧下に１２０℃で２時間かけて酢酸エチルを留去することにより、Ｍｗ＝３００，０００のアクリル酸、２−エチルヘキシルアクリレート及び酢酸ビニルの共重合物であるビニルポリマー（Ｅ１−２）を得た。【０１４９】
製造例７
［ポリエステル樹脂（Ｅ２−１）の製造］
攪拌機、温度計、還流冷却管、空気・窒素混合気体の導入管、及び分水器を備えた反応容器に、アジピン酸２９０部、ネオペンチルグリコール２６０部、トルエン７０部及びｐ−トルエンスルホン酸５部を仕込み、空気・窒素混合気体の気流下で攪拌しながら１２０℃まで昇温して、生成する水を分水器により連続的に系外へ除去しながら、反応液の酸価が５以下となるまで反応させた。反応終了後、減圧下に１２０℃で４時間かけてトルエンを留去することにより、Ｍｗ＝１２，０００のポリエステル樹脂（Ｅ２−３）を得た。【０１５０】
実施例１〜１９及び比較例１〜５
表１〜２に示す部数の重合性物質（Ｄ）、非ラジカル重合性ポリマー（Ｅ）、ラジカル開始剤（Ａ）と、必要により酸発生剤（Ｂ）又は塩基発生剤（Ｃ）とを表１〜２に記載の部数配合し、自転公転式攪拌装置を用いて２５℃で１０分混合して、本発明の感光性組成物（Ｑ−１）〜（Ｑ−１９）と比較用の感光性組成物（Ｑ’−１）〜（Ｑ’−５）とを製造した。【０１５１】
【表１】
2015029940.tif 000014
【０１５２】
【表２】
2015029940.tif 000015
【０１５３】
感光性組成物（Ｑ−１）〜（Ｑ−１９）と比較用の感光性組成物（Ｑ’−１）〜（Ｑ’−５）の評価は、以下の方法により行った。【０１５４】
［接着強度］
厚さ０．５ｍｍの薄板ガラス［セントラル硝子（株）製  以下同様］上に、実施例１〜１９及び比較例１〜５で得た各感光性組成物を約０．１ｍＬ塗布し、隙間ゲージ［（株）永井ゲージ製作所製  厚さ０．１０ｍｍ］を用いてもう一枚用意したスライドガラスとの間に膜厚１００μｍとなるように円形に成型した。ベルトコンベア式ＵＶ照射装置［アイグラフィックス株式会社、型式「ＥＣＳ−１５１Ｕ」、以下同様］を使用して露光を行った。露光量は３６５ｎｍとして１５００ｍＪ／ｃｍ２であった。
硬化後の円形の試験片を、ＪＩＳ  Ｋ−６８４９に準拠し、引張試験機［製品名  オートグラフＡＧ−ＩＳ、（株）島津製作所製、以下同様］により接着強度を評価した。【０１５５】
［耐熱試験後の接着強度］
実施例１〜１９及び比較例１〜５で得た各感光性組成物を用い、上記接着強度測定用の試験片を作製した。８５℃で１０００ｈｒ試験片を耐熱試験にかけた後、耐熱試験後の試験片について、ＪＩＳ  Ｋ−６８４９に準拠し、引張試験機により接着強度を評価した。
［耐湿試験後の接着強度］
実施例１〜１９及び比較例１〜５で得た各感光性組成物を用い、上記接着強度測定用の試験片を作製した。６０℃、９０％ＲＨで１０００ｈｒ試験片を耐湿試験にかけた後、耐湿試験後の試験片について、ＪＩＳ  Ｋ−６８４９に準拠し、引張試験機により接着強度を評価した。【０１５６】
［硬化収縮率］
実施例１〜１９及び比較例１〜５で得た各感光性組成物について２５ｍＬ比重瓶を用い、ＪＩＳ  Ｚ−８８０４に準拠し液比重〔ρ１〕を測定した。
また、実施例１〜１９及び比較例１〜５で得た各感光性組成物を厚さ２５μｍのＰＰ（ポリプロピレン）フィルム［日本ポリプロ（株）製、ウィンテック（登録商標）ＷＦＸ４ＴＡ］上に隙間ゲージ［（株）永井ゲージ製作所製  厚さ１．００ｍｍ］を用いてもう一枚用意した上記ＰＰフィルムとの間に膜厚１．０ｍｍとなるよう成型した。ベルトコンベア式ＵＶ照射装置を使用して露光を行った。露光量は３６５ｎｍとして１５００ｍＪ／ｃｍ２であった。硬化後の塗膜を用い、ＪＩＳ  Ｋ−７１１２に準拠し水中置換法により硬化物比重〔ρ２〕を測定した。
硬化収縮率を下記式から計算し求めた。
硬化収縮率（％）＝｛１−（ρ１／ρ２）｝×１００【０１５７】
［柔軟性］
実施例１〜１９及び比較例１〜５で得た各感光性組成物を膜厚が１ｃｍとなるように円柱状の型に流しこみ、ベルトコンベア式ＵＶ照射装置を使用して露光を行い、柔軟性評価用の試験片を得た。露光量は３６５ｎｍとして３０００ｍＪ／ｃｍ２であった。この試験片を使用して、ＪＩＳ−Ｋ７２１５に準拠し、デュロメータ硬度計（タイプＥ）［製品名  アスカーゴム硬度計、高分子計器（株）社製］を用いてデュロメータＥ硬さを測定した。【０１５８】
［比誘電率］
実施例１〜１９及び比較例１〜５で得た各感光性組成物を膜厚が３ｍｍとなるように円柱状の型に流しこみ、ベルトコンベア式ＵＶ照射装置を使用して露光を行い、比誘電率測定用の試験片を得た。露光量は３６５ｎｍとして３０００ｍＪ／ｃｍ２であった。この試験片を使用して、ＪＩＳ−Ｋ６９１１に準拠し、誘電体損自動測定装置［安藤電気（株）製、型式ＴＲ−１１００］を用いて比誘電率を測定した。比誘電率は、測定値に応じて以下のように示した。
◎：３．０未満
○：３．０以上４．０未満
×：４．０以上【０１５９】
これらの評価結果を表１〜２に示す。【０１６０】
比較例１は樹脂が硬化せず、評価できなかった。また、比較例２及び５は硬化収縮率が高く、露光時にガラスが割れ接着強度を評価できなかった。
【産業上の利用可能性】
【０１６１】
本発明の感光性組成物は、接着性、耐熱性、耐湿性及び柔軟性に優れ、かつ、低硬化収縮率、低誘電性であるため、接着剤用（例えば、フラットパネルディスプレイ製造用又はタッチパネル製造用）、コーティング剤用、インキ用、塗料用、レジストパターン形成用及びセラミック電子部品製造用として好適であり、特に接着剤用として極めて有用である。
【国際調査報告】
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2015029940.tif 000018
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