(57)【要約】  本発明は、芳香族ビニル化合物由来の繰り返し単位を主成分とする２以上の重合体ブロック［Ａ］と、鎖状共役ジエン化合物由来の繰り返し単位を主成分とする１以上の重合体ブロック［Ｂ］とからなり、全重合体ブロック［Ａ］、［Ｂ］のブロック共重合体全体に占める重量分率をｗＡ、ｗＢとしたときに、（ｗＡ：ｗＢ）が４０：６０〜８０：２０であるブロック共重合体［１］の、全不飽和結合を水素化したブロック共重合体水素化物［２］からなる光学用フィルムであって、該フィルムの長手方向に形成されるダイラインの隣接する山の頂点から谷の底点までの高さがフィルム全面で１００ｎｍ以下であり、かつ、フィルムの表面のダイラインの傾きがフィルム全面で３００ｎｍ／ｍｍ以下の光学用フィルムである。本発明によれば、表面欠陥の少ない光学用フィルムが提供される。
2015002020.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
芳香族ビニル化合物由来の繰り返し単位を主成分とする、少なくとも２つの重合体ブロック［Ａ］と、鎖状共役ジエン化合物由来の繰り返し単位を主成分とする、少なくとも１つの重合体ブロック［Ｂ］とからなり、
全重合体ブロック［Ａ］のブロック共重合体全体に占める重量分率をｗＡとし、全重合体ブロック［Ｂ］のブロック共重合体全体に占める重量分率をｗＢとしたときに、ｗＡとｗＢとの比（ｗＡ：ｗＢ）が４０：６０〜８０：２０であるブロック共重合体［１］の、全不飽和結合の９０％以上を水素化したブロック共重合体水素化物［２］からなる光学用フィルムであって、
該フィルムの長手方向に形成されるダイラインの隣接する山の頂点から谷の底点までの高さがフィルム全面で１００ｎｍ以下であり、かつ、
式１で表されるフィルムの表面のダイラインの傾きがフィルム全面で３００ｎｍ／ｍｍ以下であることを特徴とする光学用フィルム。
【数１】
2015002020.tif 000008
【請求項２】
請求項１の光学用フィルムからなる偏光板保護フィルム。
【請求項３】
請求項１記載の光学用フィルムを延伸してなる位相差フィルム。
【請求項４】
ブロック共重合体水素化物［２］を、押出機によって溶融させて当該押出機に取り付けられたダイスからシート状に押出し、押出されたシート状のブロック共重合体水素化物［２］を、少なくとも１つの冷却ドラムに密着させて成形して引き取る工程を有する光学用フィルムの製造方法において、
ダイスリップの表面粗さＲａの平均値が０．０５μｍ以下で、かつダイスリップ全幅における表面粗さＲａの分布の範囲が前記平均値の±０．０２５μｍ以下であるダイスを使用し、且つ、
５０〜１２０℃の温度で、２時間以上保持したブロック共重合体水素化物［２］のペレットを使用することを特徴とする光学用フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偏光板保護フィルム等として有用な、ブロック共重合体水素化物からなる光学用フィルムに関し、さらに詳しくは従来よりも表面欠陥が少なく、面状の優れた光学用フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
芳香族ビニル化合物重合体の芳香環を水素化した芳香族ビニル化合物重合体水素化物や、芳香族ビニル化合物由来の繰り返し単位を主成分とする重合体ブロックと、鎖状共役ジエン化合物由来の繰り返し単位を含む重合体ブロックからなるブロック共重合体の芳香環及びジエン由来の二重結合を水素化したブロック共重合体水素化物が、偏光フィルムや位相差フィルム等の光学フィルムに使用でき、押出し成形によるフィルムを延伸して所望の位相差を付与できることが知られている（特許文献３〜６）。【０００３】
一方で、液晶表示装置のように偏光を取り扱う装置に用いる熱可塑性樹脂からなるフィルムには、光学的に透明であり、平面方向及び厚み方向の面内で位相差の変動が小さいこと、フィルム表面の凹凸によるレンズ効果による画像のゆがみ現象が生じにくいこと、等が要求される。【０００４】
このため、光学用フィルム用途では、フィルムの厚さの均一性が高度に要求され、従来、光学用フィルムは、厚さの均一性に優れるフィルムを得ることができる観点から、溶液流延法により製造されてきた。
近年においては、溶液流延法は溶剤による環境の汚染や生産性の低さが指摘され、溶融押出法が適用されつつある。しかし、溶融押出法には、成膜されたフィルムの厚さが変動しやすいことに加え、フィルム押出し方向にダイラインが生じやすいという欠点がある。【０００５】
ところで、ダイラインには、ダイスから押出される溶融樹脂がダイスの壁面に付着したその付着跡が線状痕となって現れるダイラインと、ダイスのリップ口に付着した樹脂跡を通過したダイライン等がある。これらのダイラインの凹凸は約０．１〜０．５μｍ程度でその幅は約５０〜５００μｍ程度の山と谷からなっている。
光学用フィルムにおいては、このダイラインが光信号エラーの原因あるいはディスプレイにダイライン模様が映る等の悪影響を与える。そのため、フィルムの押出成形時に溶融樹脂の温度の調整や溶融粘度の選定、冷却ロールとダイスのエアーギャップ、溶融樹脂フィルムが冷却ロールに接した溶融樹脂フィルムに電圧を付与する等の試みがなされている。また、ダイスのリップ部に研磨処理やクロム鍍金等の鍍金処理を施したりしている。
しかしながら、これらの方法では、ダイラインを防止するには十分ではなく、生産を続けていくうちに徐々にダイラインが増加してしまい、生産面や製品特性の安定性等種々の問題が生じている。【０００６】
そこで、種々の検討が行われている。
例えば、特許文献１には、環状オレフィン系熱可塑性樹脂よりなり、少なくとも一面に表面粗さが０．０１μｍ以下の平滑面が形成され、厚みが０．０５〜３ｍｍで、残留位相差が２０ｎｍ以下であることを特徴とする透明樹脂シートが提案されている。また、この文献には、このシートを製造する方法として、押出機に取り付けられたＴダイから溶融状態の環状オレフィン系熱可塑性樹脂を、金属製の冷却用ロールと金属製の冷却用ベルトによって挟圧することにより、当該環状オレフィン系熱可塑性樹脂を当該冷却用ロール又は冷却用ベルトに圧着させ、その後、前記環状オレフィン系熱可塑性樹脂のガラス転移温度以下の温度で当該環状オレフィン系熱可塑性樹脂を前記冷却ロール又は前記冷却用ベルトから剥離することが記載されている。【０００７】
また、特許文献２には、環状オレフィン樹脂を溶融し、溶融状態の環状オレフィン樹脂を剥離強度７５Ｎ以下のリップ部を有するダイを通して押出し、環状オレフィン樹脂を成形することを特徴とする環状オレフィン樹脂製押出成形物（シート又はフィルム形状）の製造方法が提案されている。また、この文献には、この方法によれば、極めて優れた表面平滑性を有するため、光学用途において好適に用いることができると記載されている。【０００８】
また、特許文献３には、脂環式構造を有する非晶性の熱可塑性樹脂を、押出機によって溶融させてダイスからシート状に押出し、押出されたシート状の非晶性の熱可塑性樹脂を、少なくとも１つの冷却ドラムに密着させて成形して引き取る工程を有する光学用フィルムの製造方法において、ダイスリップの表面粗さＲａの平均値が０．０５μｍ以下で、かつダイスリップ全幅における表面粗さＲａの分布の範囲が前記平均値の±０．０２５μｍ以下であるダイスを使用することにより、ダイラインの隣接する山の頂点から谷の底点までの高さがフィルム全面で１００ｎｍ以下であり、かつ、フィルムの表面のダイラインの傾きがフィルム全面で３００ｎｍ／ｍｍ以下である光学用フィルムが得られることが開示されている。【０００９】
一方、特許文献４、６には、芳香族ビニル化合物由来の重合体ブロックと共役ジエン化合物由来の重合体ブロックの両方が水素化されているブロック共重合体水素化物を用いることで、光学補償フィルム及び位相差の小さい光学用フィルムが得られることが開示されている。ブロック共重合体水素化物は、原料である芳香族ビニル化合物及び共役ジエンの入手が容易であるため、環状オレフィンから合成される脂環式構造を有する熱可塑性樹脂に比べて、より大規模な供給が容易であり、これを用いた光学用フィルムの実用化が望まれている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２０００−２１９７５２号公報
【特許文献２】特開２０００−２８０３１５号公報
【特許文献３】特開２００５−１２８３６０号公報
【特許文献４】特開２００３−１１４３２９号公報
【特許文献５】国際公開ＷＯ２００９／０６７２９０号（ＵＳ２０１０／２９０１１７Ａ１）
【特許文献６】国際公開ＷＯ２００９／１３７２７８号（ＵＳ２０１１／０３８０４５Ａ１）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
近年の液晶表示装置の高精細化、高輝度化に伴い、輝度の高い光源を備える表示装置に、これらの公報に記載された方法により得られた光学用フィルムを用いると、ダイライン由来のスジが光の明もしくは暗として表示画面上に目視でも顕著に見られたり、光漏れが発生したりする問題があり、さらなる改善が求められていた。【００１２】
かかる状況の下、本願出願人は、特許文献２、３等に開示されている環状オレフィンから合成される脂環式構造を有する熱可塑性樹脂に比べて、特許文献４、６等に開示されている芳香族ビニル化合物由来の重合体ブロックと共役ジエン化合物由来の重合体ブロックの両方が水素化されているブロック共重合体水素化物が、溶融押出し成形時にダイスのリップ口での酸化劣化による付着物の発生が少ないことを見出した。
しかしながら、必ずしもダイラインが低減されるものではなかった。【００１３】
そこで、本発明は、工業的に大規模な供給が容易であるブロック共重合体水素化物を使用し、従来のものより表面欠陥が少なく、特に高精細で高輝度の光源を備える表示装置に用いたときに、ダイラインに起因する明暗のスジが確認されず、さらには光漏れのない光学用フィルムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討した結果、特定のブロック共重合体水素化物のフィルムを溶融押出するに際し、特定のダイスを使用し、かつ、溶融押出し前に特定温度範囲で特定時間以上加熱処理したブロック共重合体水素化物のペレットを使用することにより、上記目的を達成しうることを見出し、本発明を完成するに至った。【００１５】
かくして本発明によれば、下記（１）の光学用フィルム、（２）の偏光板保護フィルム、（３）の位相差フィルム、及び、（４）の光学用フィルムの製造方法が提供される。
（１）芳香族ビニル化合物由来の繰り返し単位を主成分とする、少なくとも２つの重合体ブロック［Ａ］と、鎖状共役ジエン化合物由来の繰り返し単位を主成分とする、少なくとも１つの重合体ブロック［Ｂ］とからなり、全重合体ブロック［Ａ］のブロック共重合体全体に占める重量分率をｗＡとし、全重合体ブロック［Ｂ］のブロック共重合体全体に占める重量分率をｗＢとしたときに、ｗＡとｗＢとの比（ｗＡ：ｗＢ）が４０：６０〜８０：２０であるブロック共重合体［１］の、全不飽和結合の９０％以上を水素化したブロック共重合体水素化物［２］からなる光学用フィルムであって、該フィルムの長手方向に形成されるダイラインの隣接する山の頂点から谷の底点までの高さがフィルム全面で１００ｎｍ以下であり、かつ、式１で表されるフィルムの表面のダイラインの傾きがフィルム全面で３００ｎｍ／ｍｍ以下であることを特徴とする光学用フィルム。【００１６】
【数１】
2015002020.tif 000003
【００１７】
（２）前記（１）記載の光学用フィルムからなる偏光板保護フィルム。
（３）前記（１）記載の光学用フィルムを延伸してなる位相差フィルム。
（４）ブロック共重合体水素化物［２］を、押出機によって溶融させて当該押出機に取り付けられたダイスからシート状に押出し、押出されたシート状のブロック共重合体水素化物［２］を、少なくとも１つの冷却ドラムに密着させて成形して引き取る工程を有する光学用フィルムの製造方法において、ダイスリップの表面粗さＲａの平均値が０．０５μｍ以下で、かつダイスリップ全幅における表面粗さＲａの分布の範囲が前記平均値の±０．０２５μｍ以下であるダイスを使用し、且つ、５０〜１２０℃の温度で、２時間以上保持したブロック共重合体水素化物［２］のペレットを使用することを特徴とする光学用フィルムの製造方法。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、従来のものより表面欠陥が少なく、特に輝度の高い光源を備える表示装置に用いたときに、ダイラインに起因する明暗のスジが確認されず、さらには輝度ムラのない光学用フィルムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の光学用フィルムのダイラインの拡大部である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
本発明の光学用フィルムは、芳香族ビニル化合物由来の繰り返し単位を主成分とする、少なくとも２つの重合体ブロック［Ａ］と、鎖状共役ジエン化合物由来の繰り返し単位を主成分とする、少なくとも１つの重合体ブロック［Ｂ］とからなり、全重合体ブロック［Ａ］のブロック共重合体全体に占める重量分率をｗＡとし、全重合体ブロック［Ｂ］のブロック共重合体全体に占める重量分率をｗＢとしたときに、ｗＡとｗＢとの比（ｗＡ：ｗＢ）が４０：６０〜８０：２０であるブロック共重合体［１］の、全不飽和結合の９０％以上を水素化したブロック共重合体水素化物［２］からなる。【００２１】
１．ブロック共重合体［１］
本発明に係るブロック共重合体水素化物［２］の前駆体であるブロック共重合体［１］は、少なくとも２つの重合体ブロック［Ａ］と少なくとも１つの重合体ブロック［Ｂ］を含有する。【００２２】
重合体ブロック［Ａ］は、芳香族ビニル化合物由来の構造単位を主成分とするものである。重合体ブロック［Ａ］中の芳香族ビニル化合物由来の構造単位の含有量は、通常９０重量％以上、好ましくは９５重量％以上、より好ましくは９９重量％以上である。
また、重合体ブロック［Ａ］は、芳香族ビニル化合物由来の構造単位以外の成分として、鎖状共役ジエン由来の構造単位及び／又はその他のビニル化合物由来の構造単位を含むことができる。その含有量は、通常１０重量％以下、好ましくは５重量％以下、より好ましくは１重量％以下である。重合体ブロック［Ａ］中の芳香族ビニル化合物由来の構造単位の含有量が少なすぎると、本発明の光学用フィルムの耐熱性が低下するおそれがある。
複数の重合体ブロック［Ａ］は、上記の範囲を満足するものであれば、互いに同じであっても、相異なっていても良い。【００２３】
重合体ブロック［Ｂ］は、鎖状共役ジエン化合物由来の構造単位を主成分とするものである。重合体ブロック［Ｂ］中の鎖状共役ジエン化合物由来の構造単位の含有量は、通常９０重量％以上、好ましくは９５重量％以上、より好ましくは９９重量％以上である。鎖状共役ジエン化合物由来の構造単位が上記範囲にあると、本発明の光学用フィルムを延伸した際の複屈折発現性が良好であり、フィルムの柔軟性も付与される。
また、重合体ブロック［Ｂ］は、鎖状共役ジエン化合物由来の構造単位以外の成分としては、芳香族ビニル化合物由来の構造単位及び／又はその他のビニル化合物由来の構造単位を含むことができる。その含有量は、通常１０重量％以下、好ましくは５重量％以下、より好ましくは１重量％以下である。重合体ブロック［Ｂ］中の芳香族ビニル化合物由来の構造単位の含有量が増加すると、フィルムの複屈折発現性が低下するおそれがある。
重合体ブロック［Ｂ］が複数有る場合には、重合体ブロック［Ｂ］は、上記の範囲を満足すれば互いに同じであっても、異なっていても良い。【００２４】
芳香族ビニル化合物としては、スチレン；α−メチルスチレン、２−メチルスチレン、３−メチルスチレン、４−メチルスチレン、２，４−ジイソプロピルスチレン、２，４−ジメチルスチレン、４−ｔ−ブチルスチレン、５−ｔ−ブチル−２−メチルスチレン等のアルキル置換スチレン；４−クロロスチレン、２，４−ジクロロスチレン、４−フルオロスチレン等のハロゲン置換スチレン；４−フェニルスチレン等のアリール置換スチレン；４−メトキシスチレン、３，５−ジメトキシスチレン等のアルコキシ置換スチレン；が挙げられ、吸湿性の面で、スチレン、アルキル置換スチレン等の極性基を含有しないものが好ましく、工業的な入手の容易さからスチレンが特に好ましい。【００２５】
鎖状共役ジエン系化合物としては、具体的には、１，３−ブタジエン、イソプレン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン、１，３−ペンタジエン等が挙げられ、吸湿性の面で極性基を含有しないものが好ましく、工業的な入手の容易さから１，３−ブタジエン、イソプレンが特に好ましい。【００２６】
その他のビニル系化合物としては、鎖状ビニル化合物や環状ビニル化合物が挙げられる。これらのビニル系化合物は、ニトリル基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシカルボニル基又はハロゲン原子を置換基として有するビニル化合物、及び／又は不飽和の環状酸無水物又は不飽和イミド化合物を含んでも良い。その他のビニル系化合物としては、エチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、１−ヘプテン、１−オクテン、１−ノネン、１−デセン、１−ドデセン、１−エイコセン、４−メチル−１−ペンテン、４，６−ジメチル−１−ヘプテン等の鎖状オレフィン；ビニルシクロヘキサン等の環状オレフィン；等の極性基を含有しないものが、吸湿性の面から好ましく、鎖状オレフィンがより好ましく、エチレン、プロピレンが特に好ましい。【００２７】
ブロック共重合体［１］中の重合体ブロック［Ａ］の数は、通常５個以下、好ましくは４個以下、より好ましくは３個以下である。重合体ブロック［Ａ］及び／又は重合体ブロック［Ｂ］が複数存在する際、重合体ブロック［Ａ］の中で重量平均分子量が最大と最少の重合体ブロックの重量平均分子量をそれぞれＭｗ（Ａ１）及びＭｗ（Ａ２）とし、重合体ブロック［Ｂ］の中で重量平均分子量が最大と最少の重合体ブロックの重量平均分子量をそれぞれＭｗ（Ｂ１）及びＭｗ（Ｂ２）としたとき、Ｍｗ（Ａ１）とＭｗ（Ａ２）との比（Ｍｗ（Ａ１）／Ｍｗ（Ａ２））、及び、Ｍｗ（Ｂ１）とＭｗ（Ｂ２）との比（Ｍｗ（Ｂ１）／Ｍｗ（Ｂ２））は、それぞれ２．０以下、好ましくは１．５以下、より好ましくは１．２以下である。【００２８】
ブロック共重合体［１］のブロックの形態は、鎖状型ブロックでもラジアル型ブロックでも良いが、鎖状型ブロックであるものが、機械的強度に優れ好ましい。ブロック共重合体［１］の最も好ましい形態は、重合体ブロック［Ｂ］の両端に重合体ブロック［Ａ］が結合した、[Ａ]−[Ｂ]−[Ａ]で表されるトリブロック共重合体、及び、重合体ブロック［Ａ］の両端に重合体ブロック［Ｂ］が結合し、更に、該両重合体ブロック［Ｂ］の他端にそれぞれ重合体ブロック［Ａ］が結合した、[Ａ]−[Ｂ]−[Ａ]−[Ｂ]−[Ａ]で表されるペンタブロック共重合体である。【００２９】
ブロック共重合体中［１］の、全重合体ブロック［Ａ］がブロック共重合体全体に占める重量分率をｗＡとし、全重合体ブロック［Ｂ］がブロック共重合体全体に占める重量分率をｗＢとしたときに、ｗＡとｗＢとの比（ｗＡ：ｗＢ）は、４０：６０〜８０：２０、好ましくは５０：５０〜７５：２５、より好ましくは６０：４０〜７０：３０である。ｗＡの割合が高過ぎる場合は、本発明で使用する変性ブロック共重合体水素化物［３］の耐熱性は高くなるが、柔軟性が低く、切削面で光学用フィルムが割れ易くなる。一方、ｗＡの割合が低過ぎる場合は、耐熱性が低下し、フィルムを延伸しても直ぐに収縮して位相差を保持できなくなるおそれがある。【００３０】
ブロック共重合体［１］の分子量は、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を溶媒とするゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定されるポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）で、通常３０，０００〜２００，０００、好ましくは４０，０００〜１５０，０００、より好ましくは５０，０００〜１００，０００である。また、ブロック共重合体［１］の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、好ましくは３以下、より好ましくは２以下、特に好ましくは１．５以下である。【００３１】
ブロック共重合体［１］は、例えば、リビングアニオン重合等の公知の製造方法により製造することができる。より具体的には、芳香族ビニル化合物を主成分として含有するモノマー混合物（ａ）と鎖状共役ジエン系化合物を主成分として含有するモノマー混合物（ｂ）を交互に重合させる方法；芳香族ビニル化合物を主成分として含有するモノマー混合物（ａ）と鎖状共役ジエン系化合物を主成分として含有するモノマー混合物（ｂ）を順に重合させた後、重合体ブロック［Ｂ］の末端同士を、カップリング剤によりカップリングさせる方法等が挙げられる。【００３２】
２．ブロック共重合体水素化物［２］
本発明に係るブロック共重合体水素化物［２］は、上記のブロック共重合体［１］の、主鎖及び側鎖の炭素−炭素不飽和結合、並びに芳香環の炭素−炭素不飽和結合を水素化して得られるものである。その水素化率は、通常９０％以上、好ましくは９７％以上、より好ましくは９９％以上である。水素化率が高いほど、成形体の耐候性、耐熱性が良好である。ブロック共重合体水素化物［２］の水素化率は、１Ｈ−ＮＭＲによる測定において求めることができる。【００３３】
不飽和結合の水素化方法や水素化反応の形態等は特に限定されず、公知の方法にしたがって行えばよいが、水素化率を高くでき、重合体鎖切断反応の少ない水素化方法が好ましい。このような水素化方法としては、国際公開ＷＯ２０１１／０９６３８９号、国際公開ＷＯ２０１２／０４３７０８号等に記載された方法を挙げることができる。【００３４】
上記した方法で得られるブロック共重合体水素化物［２］は、水素化触媒及び／又は重合触媒を、ブロック共重合体水素化物［２］を含む反応溶液から除去した後、反応溶液から回収される。回収されたブロック共重合体水素化物［２］の形態は限定されるものではないが、通常はペレット形状にして、その後のフィルムの成形加工に供することができる。【００３５】
ブロック共重合体水素化物［２］の分子量は、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を溶媒としたＧＰＣにより測定されるポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）で、通常３５，０００〜２００，０００、好ましくは４０，０００〜１５０，０００、より好ましくは４５，０００〜１００，０００である。また、ブロック共重合体水素化物［２］の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）を、好ましくは３以下、より好ましくは２以下、特に好ましくは１．５以下にする。Ｍｗ及びＭｗ／Ｍｎが上記範囲となるようにすると、成形したフィルムの機械強度や耐熱性が向上する。【００３６】
本発明に使用するブロック共重合体水素化物［２］は、他の配合剤を含んでいてもよい。配合剤としては、格別限定はないが、層状結晶化合物；無機微粒子；酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、耐候安定剤、紫外線吸収剤、近赤外線吸収剤等の安定剤；滑剤、可塑剤等の樹脂改質剤；染料や顔料等の着色剤；帯電防止剤等；が挙げられる。これらの配合剤は、１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。その配合量は本発明の目的を損なわない範囲で適宜選択される。【００３７】
ブロック共重合体水素化物［２］を溶融押出ししてフィルムを成形する際に、ダイスのリップ部に樹脂酸化劣化物の付着を抑えるために、酸化防止剤を添加することは有効である。酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤等が挙げられ、これらの中でも、フェノール系酸化防止剤、特にアルキル置換フェノール系酸化防止剤が好ましい。酸化防止剤の配合量は、本発明の目的を損なわない範囲で適宜選択されるが、ブロック共重合体水素化物［２］１００重量部に対して、通常０．００５〜１重量部、好ましくは０．０１〜０．５重量部である。【００３８】
３．光学用フィルム
本発明の光学用フィルムは、該フィルムの長手方向に形成されるダイラインの隣接する山の頂点から谷の底点までの高さが、フィルム全面で１００ｎｍ以下であり、かつ、式１で表されるフィルムの表面のダイラインの傾きがフィルム全面で３００ｎｍ／ｍｍ以下である。【００３９】
【数２】
2015002020.tif 000004
【００４０】
ここで長手方向とは、フィルムを押出す流れ方向のことをいう。「フィルムの長手方向に形成されるダイラインの隣接する山の頂点から谷の底点までの高さがフィルム全面で１００ｎｍ以下である」ということは、ダイラインの高さがすべて１００ｎｍ以下であることを意味する。また、フィルム表面のダイラインの傾きがフィルム全面で３００ｎｍ／ｍｍ以下である」ということは、ダイラインの傾きがすべて３００ｎｍ／ｍｍ以下であることを意味している。【００４１】
本発明の光学用フィルムにおいては、前記高さは好ましくは５０ｎｍ以下、さらに好ましくは３０ｎｍ以下、前記傾きは好ましくは１００ｎｍ／ｍｍ以下、さらに好ましくは５０ｎｍ／ｍｍ以下である。前記ダイラインの隣接する山の頂点から谷の底点までの高さ、及び傾きが上記範囲であることにより、高輝度のバックライトユニットを有する液晶表示ユニットに組み込む場合にも輝点がなく良好な表示状態とすることができる。【００４２】
上記ダイラインの隣接する山の頂点から谷の底点までの高さ、及び傾きは、三次元表面構造解析顕微鏡を用い、フィルム表面の凹凸のある面を一定速度で走査させて干渉縞を発生させて測定することができる。
ダイラインの隣接する山の頂点から谷の底点までの高さ及び傾きを測定するに際しては、隣り合う谷の底点と山の頂点とで、ベースが異なっている場合は、図１に示すように、ベースライン１を引いて、山の頂点２又は谷の底点３からそのベースライン２へ垂直に引いた線とベースライン１との交点間の距離を、山の頂点から谷の底点までの距離４とする。また、高さは、山の頂点２又は谷の底点３を通ってベースラインに平行な線５、６を引き、線５から線６までの最短距離を高さ７とする。【００４３】
本発明の光学用フィルムにおいては、該フィルムの長手方向に形成されるダイラインの隣接する山の頂点から谷の底点までの幅４が、好ましくは５００μｍ以上、さらに好ましくは１０００μｍ以上である。【００４４】
本発明の光学用フィルムの厚さは、通常２０〜３００μｍ、好ましくは３０〜２００μｍである。フィルムの厚さ変動は、上記厚さの３％以内であることが好ましく、２．５％以内であることがさらに好ましい。フィルムの厚さ変動を上記範囲とすることにより、本発明の光学用フィルムを液晶表示装置に組み込んだ場合の色ムラを、小さくすることができる。【００４５】
４．光学用フィルムの製造方法
本発明の光学用フィルムの製造方法は、ブロック共重合体水素化物［２］を、押出機によって溶融させて、当該押出機に取り付けられたダイスからシート状に押出し、押出されたシート状のブロック共重合体水素化物［２］を、少なくとも１つの冷却ドラムに密着させて成形して引き取る工程を有する。【００４６】
本発明の光学用フィルムの製造方法は、ダイスリップの表面粗さＲａの平均値が０．０５μｍ以下で、かつダイスリップ全幅における表面粗さＲａの分布の範囲が前記平均値の±０．０２５μｍ以下であるダイスを使用することを特徴とする。
また、本発明の光学用フィルムの製造方法において使用するダイスは、ダイスリップの表面粗さＲａの平均値が０．０１μｍ以下で、かつダイスリップ全幅における表面粗さＲａの分布の範囲が前記平均値の±０．００５μｍ以下であることが好ましい。表面粗さＲａ及びその分布は、非接触３次元表面形状・粗さ測定機を用いて測定することができる。ダイスリップの表面粗さＲａの平均値が０．０５μｍを上回る場合は、ダイス起因の許容できないダイラインを発生し易くなる。【００４７】
本発明の光学用フィルムの製造方法では、ブロック共重合体水素化物［２］のペレットとして、このものを押出機によって溶融押出し成形する前に、通常５０〜１２０℃、好ましくは６０〜１１５℃、より好ましくは７０〜１１０℃の温度で、２時間以上、好ましくは４８時間以下、保持したものを使用する。ブロック共重合体水素化物［２］のペレットを上記の条件で加熱処理することにより、ペレット中の溶存空気量が低減され、これによりダイラインの発生が抑制される。加熱処理の温度及び時間が上記範囲を下回る場合は、溶存空気の除去量が少なく、ダイラインの発生を十分抑止できなくなり、また、加熱処理の温度が上記範囲を上回る場合は、ブロック共重合体水素化物［２］のペレットがブロッキングを生じ易くなり、押出し成形に供することができなくなるおそれがあり、加熱処理の時間が上記範囲を上回る場合は、色調が悪化するおそれがある。【００４８】
加熱処理により除去される溶存空気量は、通常１００ｐｐｍ以上、好ましくは１５０ｐｐｍ以上である。ペレットを加熱して放出される溶存空気量は、加熱処理前後でのペレットの重量減少量から測定することができる。また、ペレットから放出される溶存空気量はテプラーポンプを用いて測定することもできる。【００４９】
加熱処理により溶存空気量を低減した後、室温に冷却しておくと、水分を遮断した雰囲気下でも再び空気を吸収して元に戻るため、加熱処理後したペレットは、加熱状態を維持したまま溶融押出し工程に供するか、冷却後に再び空気を吸収して元に戻る前に溶融押出し工程に供することが必要である。冷却後は、通常１時間以内、好ましくは０．５時間以内に溶融押出し工程に供することが望ましい。【００５０】
本発明の製造方法において、Ｔダイを有する押出機におけるブロック共重合体水素化物［２］の溶融温度は、通常ブロック共重合体水素化物［２］のガラス転移温度よりも７０〜１６０℃高い温度であり、ガラス転移温度よりも９０〜１４０℃高い温度にすることがより好ましい。ブロック共重合体水素化物［２］のガラス転移温度は、粘弾性スペクトルにおけるｔａｎδのピークトップ値として求めることができる。押出機での溶融温度が過度に低いと、樹脂の流動性が不足するおそれがあり、逆に溶融温度が過度に高いと樹脂が分解して分子量が低下する可能性がある。【００５１】
ダイスの開口部から押出されたシート状のブロック共重合体水素化物［２］を冷却ドラムに密着させる方法としては、特に制限されず、例えば、エアナイフ方式、バキュームボックス方式、静電密着方式等が挙げられる。冷却ドラムの数は特に制限されないが、通常は２本以上である。また、冷却ドラムの配置方法としては、例えば、直線型、Ｚ型、Ｌ型等が挙げられるが特に制限されない。またダイスの開口部から押出されたシート状のブロック共重合体水素化物［２］の冷却ドラムへの通し方も特に制限されない。【００５２】
本発明においては、冷却ドラムの温度により、押出されたシート状のブロック共重合体水素化物［２］の冷却ドラムへの密着具合が変化する。冷却ドラムの温度を上げると密着はよくなるが、温度を上げすぎるとシート状のブロック共重合体水素化物［２］が冷却ドラムから剥がれずに、ドラムに巻きつく不具合が発生するおそれがある。そのため、冷却ドラム温度は、通常ブロック共重合体水素化物［２］をＴｇ（℃）とすると、通常（Ｔｇ＋１０）℃以下、好ましくは（Ｔｇ−８０）℃〜（Ｔｇ−５）℃の範囲、より好ましくは（Ｔｇ−６０）℃〜（Ｔｇ−１０）℃の範囲にする。冷却ドラムの温度をこのような温度範囲にすることにより、滑りやキズ等の不具合を防止することができる。【００５３】
本発明においては、ブロック共重合体水素化物［２］を押出機内で溶融して、当該押出機に取り付けられたダイスから押出す前に、溶融状態のブロック共重合体水素化物［２］を、ギヤーポンプやフィルターを通すことが好ましい。ギヤーポンプを使用することにより、樹脂の押出量の均一性を向上させ、厚さむらを低減させることができる。また、フィルターを使用することにより、樹脂中の異物を除去し欠陥の無い外観に優れた光学用フィルムを得ることができる。【００５４】
本発明の光学用フィルムは、液晶表示装置等の表示装置に用いられる部材、例えば、偏光板保護フィルム、位相差フィルム、輝度向上フィルム、透明導電フィルム、タッチパネル用基板、液晶基板、光拡散シート、プリズムシート等にも用いることができる。なかでも、偏光板保護フィルムや位相差フィルムに好適である。【００５５】
５．偏光板保護フィルム
本発明の光学用フィルムは、偏光板保護フィルムとして用いることができる。偏光板保護フィルムとして用いる場合は、フィルム面内の位相差Ｒｅが１０ｎｍ以下であることが好ましく、３ｎｍ以下であることがより好ましい。位相差が１０ｎｍ以下であることにより、液晶表示ユニットに組み込んだ場合の色ムラを抑えることができる。大画面の液晶表示装置において色ムラが顕著に目立つ傾向にあるが、本発明の偏光板保護フィルムは、このような大画面の表示装置にも好適である。フィルム面内の位相差Ｒｅは、フィルム面内の主屈折率をＮｘ、Ｎｙとし、フィルムの厚さをｄとすると、Ｒｅ＝（Ｎｘ−Ｎｙ）×ｄで求めることができる。フィルム面内の位相差Ｒｅは、市販の自動複屈折計を用いて測定することができる。【００５６】
本発明の光学用フィルムを偏光板保護フィルムとして用いる場合は、偏光板の片面又は両面に、適当な接着剤を介してこれを積層する。偏光板は、ポリビニルアルコール系フィルムに、ヨウ素等をドープした後、延伸加工することにより得られる。接着層としては、アクリル系重合体、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリエーテル、合成ゴム、本発明に使用するブロック共重合体水素化物［２］に、アルコキシシリル基を導入した変性ブロック共重合体水素化物等の適当なポリマーをベースポリマーとする粘着剤あるいは接着剤が用いられる。【００５７】
６．位相差フィルム
本発明の光学用フィルムは、位相差フィルムとして用いることができる。位相差フィルムとして用いる場合は、本発明の光学用フィルムを延伸処理して望ましい位相差を付与して使用する。延伸処理する方法としては、溶融押出し成形でロール側の周速の差を利用して縦方向に一軸延伸する方法、テンター延伸機を用いて横方向に一軸延伸する方法等の一軸延伸法；固定するクリップの間隔を開いての縦方向の延伸と同時に、ガイドレールの広がり角度により横方向に延伸する同時二軸延伸法や、ロール間の周速の差を利用して縦方向に延伸した後、その両端部をクリップ把持してテンター延伸機を用いて横方向に延伸する逐次二軸延伸法等の二軸延伸法；等が挙げられる。【００５８】
延伸処理するときの温度は、通常ブロック共重合体水素化物［２］のガラス転移温度をＴｇとすると、好ましくは（Ｔｇ−４０℃）から（Ｔｇ＋３０℃）の間、より好ましくは（Ｔｇ−３０℃）から（Ｔｇ＋１０℃）の温度範囲である。また、延伸倍率は、通常１．０１〜３０倍、好ましくは１．０５〜１０倍、より好ましくは１．１〜５倍である。【００５９】
本発明の位相差フィルムとしては、所定の波長に対して１／２波長の位相差を与える１／２波長板、所定の波長に対して１／４波長の位相差を与える１／４波長板、前記１／２波長板と１／４波長板とを特定の角度で貼りあわせた広帯域１／４波長板、ポジティブリターダー（素子面に垂直な方向に正の位相差を有する位相差素子）、ネガティブリターダー（素子面に垂直な方向に負の位相差を有する位相差素子）等が挙げられる。本発明の位相差フィルムの厚さは、通常３０〜２００μｍである。【００６０】
本発明の位相差フィルムにおいては、複数枚の位相差フィルムを、各々の遅相軸が所定の角度で交差するように積層させてもよい。積層させる場合は、公知の積層方法を用いればよい。また、積層の際に粘着剤等を用いてもよい。
【実施例】
【００６１】
以下、実施例を示しながら、本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は以下の実施例のみに限定されるものではない。なお部及び％は特に断りのない限り、重量基準である。【００６２】
本実施例における評価は、以下の方法によって行う。
（１）重量平均分子量（Ｍｗ）及び分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）
ブロック共重合体及びブロック共重合体水素化物の分子量は、テトラヒドロフランを溶離液とするＧＰＣによる標準ポリスチレン換算値として３８℃において測定して求めた。測定装置としては、東ソー社製「ＨＬＣ８０２０ＧＰＣ」を用いた。
（２）水素化率
ブロック共重合体水素化物［２］の主鎖、側鎖及び芳香環の水素化率は、１Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定して算出した。
（３）ガラス転移温度
ブロック共重合体水素化物をプレス成形して、長さ２０ｍｍ、幅４ｍｍ、厚さ１ｍｍの試験片を作成し、ＪＩＳ−Ｋ７２４４−４法に基づき、損失弾性率測定装置（セイコーインスツル社製、製品名「ＤＭＳ６１００」）を用い、−１００℃から１５０℃の範囲で、振動周波数１０Ｈｚ、昇温速度５℃／分で粘弾性スペクトルを測定し、損失係数ｔａｎδの高温側のピークトップ温度から、ガラス転移温度を求めた。【００６３】
（４）ダイスリップの表面粗さＲａ及びその分布
非接触３次元表面形状・粗さ測定機（Ｚｙｇｏ社製、製品名「Ｎｅｗ  Ｖｉｅｗ５０００」）を用いて測定する。測定は、ダイスリップ全幅において５０ｍｍ間隔で行う。そして、Ｒａの測定値の算術平均値を代表値とし、各測定値と算術平均値との差をＲａの分布とする。
（５）フィルムの膜厚（基準膜厚、膜厚ムラ）
フィルムを長手方向に１００ｍｍ毎に切り出し、その切り出したフィルム１０枚について、接触式ウェブ厚さ計（明産社製、製品名「ＲＣ−１０１」）を用いて、フィルムの幅方向に０．４８ｍｍ毎に測定し、その測定値の算術平均値を基準膜厚Ｔ（μｍ）とする。
膜厚ムラは、前記測定した膜厚の内最大値をＴＭＡＸ（μｍ）、最小値をＴＭＩＮ（μｍ）として、以下の式から算出する。【００６４】
【数３】
2015002020.tif 000005
【００６５】
（６）フィルムのダイラインの隣接する山の頂点から谷の底点までの高さ及び傾き
フィルムに光を照射して、透過光をスクリーンに映したときに、スクリーン上に光の明若しくは暗の縞部分が見られる箇所（ダイライン）について、全幅に渡って観察する。このダイライン部分のフィルムを３ｃｍ角程度の大きさに切り取り、三次元表面構造解析顕微鏡（Ｚｙｇｏ社製）を用いて、フィルム両面の表面を観察する。フィルム上に、凹凸の干渉縞を発生させて測定する。
（７）光漏れ
原反（未延伸）フィルム２枚それぞれを、縦延伸（延伸温度は１３２℃、延伸倍率は２倍）して延伸フィルムを得、これらを互いの延伸軸が直交するように貼りあわせて積層体を作製する。この積層体をそれぞれ延伸フィルムの延伸軸が偏光板の透過軸に対して４５度となるようにして偏光板で挟む。次に、この偏光板を挟んだ積層体にバックライトにより光を透過させ、偏光板から法線方向の距離で３０ｍｍの所に照度計（横河メータ＆インスツルメンツ社製、製品名「５１００１」）を配置し、照度を測定する。照度が３００ルクス以上の場合を「光漏れ有り」、照度が３００ルクス未満の場合を「光漏れなし」とする。なお、バックライトは、照度５，０００ルクスのものと、１０，０００ルクスのものを用いる。【００６６】
［参考例１］
ブロック共重合体水素化物［２］−１
（ブロック共重合体［１］−１の合成）
内部が充分に窒素置換された、攪拌装置を備えた反応器に、脱水シクロヘキサン５５０部、脱水スチレン３０．０部、及びｎ−ジブチルエーテル０．４７５部を入れ、６０℃で攪拌しながら、ｎ−ブチルリチウム（１５％シクロヘキサン溶液）０．６１部を加えて重合を開始した。攪拌しながら６０℃で６０分間反応させた。ガスクロマトグラフィーにより測定したこの時点で、重合転化率は９９．５％であった。
次に、脱水イソプレン４０．０部を加え、同温度で３０分攪拌を続けた。この時点で重合転化率は９９．５％であった。
その後、更に、脱水スチレンを３０．０部加え、６０℃で６０分間攪拌した。この時点での重合転化率はほぼ１００％であった。
ここで、イソプロピルアルコール０．５部を加えて反応を停止させた。得られたブロック共重合体［１］−１の重量平均分子量（Ｍｗ）は８０，４００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０３、ｗＡ：ｗＢ＝６０：４０であった。【００６７】
（ブロック共重合体水素化物［２］−１の合成）
次に、上記重合体溶液を、攪拌装置を備えた耐圧反応器に移送し、水素化触媒として珪藻土担持型ニッケル触媒（ズードケミー触媒社製、製品名「Ｔ−８４００ＲＬ」）３．０部、及び脱水シクロヘキサン１００部を添加して混合した。反応器内部を水素ガスで置換し、さらに溶液を攪拌しながら水素を供給し、温度１９０℃、圧力４．５ＭＰａにて６時間水素化反応を行った。水素化反応後のブロック共重合体水素化物［２］−１の重量平均分子量（Ｍｗ）は８１，２００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０４であった。【００６８】
水素化反応終了後、反応溶液をろ過して水素化触媒を除去した後、フェノール系酸化防止剤であるペンタエリスリチル・テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］（コーヨ化学研究所社製、製品名「Ｓｏｎｇｎｏｘ１０１０」）０．１部を溶解したキシレン溶液１．０部を添加して溶解させた。
次いで、上記溶液を、金属ファイバー製フィルター（ニチダイ社製、孔径０．４μｍ）にてろ過して、微小な固形分を除去した後、円筒型濃縮乾燥器（日立製作所社製、製品名「コントロ」）を用いて、温度２６０℃、圧力０．００１ＭＰａ以下で、溶液から、溶媒であるシクロヘキサン、キシレン及びその他の揮発成分を除去した。連続して溶融ポリマーを、濃縮乾燥器に連結した孔径５μｍのステンレス製焼結フィルターを備えたポリマーフィルター（富士フィルター社製）により、温度２６０℃でろ過した後、ダイから溶融ポリマーをストランド状に押出し、冷却後、ペレタイザーにより、ブロック共重合体水素化物［２］−１のペレット９５部を作製した。得られたペレット状のブロック共重合体水素化物［２］−１の重量平均分子量（Ｍｗ）は８０，２００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０４であった。水素化率はほぼ１００％、ガラス転移温度（Ｔｇ）は１４３℃であった。【００６９】
［参考例２］
ブロック共重合体水素化物［２］−２
（ブロック共重合体［１］−２の合成）
スチレン２０．０部、イソプレン２０．０部、スチレン２０．０部、イソプレン２０．０部及びスチレン２０．０部を、それぞれ５回に分けてこの順に加える以外は参考例１と同様に重合及び反応停止を行った。得られたブロック共重合体［１］−２の重量平均分子量（Ｍｗ）は７９，１００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０４、ｗＡ：ｗＢ＝６０：４０であった。【００７０】
（ブロック共重合体水素化物［２］−２の合成）
次に、上記重合体溶液を、参考例１と同様にして水素化反応を行った。水素化反応後のブロック共重合体水素化物［２］−２の重量平均分子量（Ｍｗ）は７９，９００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０６であった。【００７１】
水素化反応終了後、参考例１と同様に酸化防止剤を添加した後、濃縮乾燥してブロック共重合体水素化物［２］−２のペレット９１部を作成した。得られたペレット状のブロック共重合体水素化物［２］−２の重量平均分子量（Ｍｗ）は７８，９００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０６であった。水素化率はほぼ１００％、ガラス転移温度は１３５℃であった。【００７２】
（実施例１）
参考例１で得られたブロック共重合体水素化物［２］−１のペレットを、空気を流通させた熱風乾燥機を用いて８０℃で、４時間加熱処理を行った。この加熱処理後のペレットを１時間以内に、リーフディスク形状のポリマーフィルター（濾過精度１０μｍ）を設置した５０ｍｍの単軸押出機と、表１に示すダイスリップＡを有するＴ型ダイス１を用いて２６０℃で溶融押出し、押出されたシート状のブロック共重合体水素化物［２］−１を３本の冷却ドラム（直径２５０ｍｍ、ドラム温度１０５℃、引取り速度０．３５ｍ／ｓ）に通して冷却し、６００ｍｍ幅の光学用フィルム１を得た。得られた光学用フィルム１の評価結果を表２に示す。【００７３】
（加熱処理により除去されるブロック共重合体水素化物［２］−１ペレット中の溶存空気量）
実施例１で使用したのと同じブロック共重合体水素化物［２］−１のペレット５．０１２６ｇを精秤して、摺り合せコック及び摺り合せジョイント付きのガラス製試験管に入れた。摺り合せジョイントを介してテプラーポンプに接続し、２５℃で試験管内の空気を２５秒間で脱気した。試験管のコックを閉じ、試験管をオイルバスにて実施例１の加熱処理と同条件の８０℃で４時間加熱し、ブロック共重合体水素化物［２］−１のペレットに溶存している空気を放出させた。試験管を８０℃に保持したまま、試験管内に放出された空気の量をテプラーポンプにより２５℃、常圧で測定した。測定した空気量は０．７８７ｍｌであった。なお、同じ脱気条件で空の試験管を脱気した場合の、試験管内の残存空気量は０．０１ｍｌ以下であり、無視できる量であった。空気の平均分子量を２８．８として、放出された空気量を算出した結果、１０．１２×１０−４ｇであり、ブロック共重合体水素化物［２］−１ペレットの重量に対し２０２ｐｐｍであった。【００７４】
（実施例２）
ダイスリップとして、表１に示すダイスリップＢを有するＴ型ダイス２を用いる他は、実施例１と同様にして光学用フィルム２を得た。得られた光学用フィルム２の評価結果を表２に示す。【００７５】
（実施例３）
参考例２で得られたブロック共重合体水素化物［２］−２のペレットを使用し、８０℃で５時間加熱処理を行い、ダイスリップとして、表１に示すダイスリップＢを有するＴ型ダイス２を用いる他は、実施例１と同様にして光学用フィルム３を得た。得られた光学用フィルム３の評価結果を表２に示す。【００７６】
（実施例４）
参考例２で得られたブロック共重合体水素化物［２］−２のペレットを使用し、６０℃で５時間加熱処理を行い、ダイスリップとして、表１に示すダイスリップＢを有するＴ型ダイス２を用いる他は、実施例１と同様にして光学用フィルム４を得た。得られた光学用フィルム４の評価結果を表２に示す。【００７７】
（比較例１）
ダイスリップとして、表１に示すダイスリップＣを有するＴ型ダイス３を用いた他は、実施例１と同様にして光学用フィルム５を得た。得られた光学用フィルム５の評価結果を表２に示す。【００７８】
（比較例２）
ダイスリップとして、表１に示すダイスリップＤを有するＴ型ダイス４を用いた他は、実施例１と同様にして光学用フィルム６を得た。得られた光学用フィルム６の評価結果を表２に示す。【００７９】
（比較例３）
ブロック共重合体水素化物［２］−１のペレットを、加熱処理を行わずに使用すること、及び、ダイスリップとして、表１に示すダイスリップＢを有するＴ型ダイス２を用いた他は、実施例１と同様にして光学用フィルム７を得た。得られた光学用フィルム７の評価結果を表２に示す。【００８０】
（比較例４）
ブロック共重合体水素化物［２］−１のペレットの加熱処理条件を、４０℃で４時間とし、ダイスリップとして、表１に示すダイスリップＢを有するＴ型ダイス２を用いた他は、実施例１と同様にして光学用フィルム８を得た。得られた光学用フィルム８の評価結果を表２に示す。【００８１】
（比較例５）
ブロック共重合体水素化物［２］−１のペレットの加熱処理条件を、８５℃で１時間とし、ダイスリップとして、表１に示すダイスリップＢを有するＴ型ダイス２を用いた他は、実施例１と同様にして光学用フィルム９を得た。得られた光学用フィルム９の評価結果を表２に示す。【００８２】
（実施例５）
ダイスリップとして、表１に示すダイスリップＢを有するＴ型ダイス２を用い、押し出しレートを上げ、冷却ドラムの温度を９５℃、引取り速度を０．４１ｍ／ｓに変更する他は、実施例１と同様にして光学用フィルム１０を得た。得られた光学用フィルム１０の評価結果を表２に示す。【００８３】
（実施例６）
ダイスリップとして、表１に示すダイスリップＢを有するＴ型ダイス２を用い、押し出しレートを上げ、冷却ドラムの温度を８５℃、引取り速度を０．４８ｍ／ｓに変更する他は、実施例１と同様にして光学用フィルム１１を得た。得られた光学用フィルム１１の評価結果を表２に示す。【００８４】
（実施例７）
ブロック共重合体水素化物［２］−１のペレットを１００℃で２．５時間加熱処理を行い、ダイスリップとして、表１に示すダイスリップＢを有するＴ型ダイス２を用いる他は、実施例１と同様にして光学用フィルム１２を得た。得られた光学用フィルム１２の評価結果を表２に示す。【００８５】
（実施例８）
ブロック共重合体水素化物［２］−１のペレットを５５℃で２．５時間加熱処理を行い、ダイスリップとして、表１に示すダイスリップＢを有するＴ型ダイス２を用いる他は、実施例１と同様にして光学用フィルム１３を得た。得られた光学用フィルム１３の評価結果を表２に示す。【００８６】
【表１】
2015002020.tif 000006
【００８７】
【表２】
2015002020.tif 000007
【００８８】
本実施例及び比較例の結果から以下のことがわかる。
本発明の光学用フィルムは、実施例に示すように、ダイラインの隣接する山の頂点から谷の底点までの高さが１００ｎｍ以下で、傾きが３００ｎｍ／ｍｍ以下である。そのため、このフィルムを延伸して偏光板に挟んで光漏れを測定すると、照度５，０００ルクス及び１０，０００ルクスのバックライトを用いても光漏れがない（実施例１〜実施例８）。【００８９】
一方、比較例の光学用フィルムは、ダイラインの隣接する山の頂点から谷の底点までの高さが１００ｎｍより大きい、及び／又は傾きが３００ｎｍ／ｍｍより大きい。そのため、このフィルムを延伸して偏光板に挟んで光漏れを測定すると、照度５，０００ルクス及び１０，０００ルクスのバックライトを用いても光漏れがある（比較例３、４）、照度５，０００ルクスのバックライトを用いた場合には光漏れがなくても、１０，０００ルクスのバックライトを用いると光漏れがある（比較例１、２、５）。【００９０】
ダイスリップの表面粗さＲａの平均値や、ダイスリップ全幅における表面粗さＲａの分布の範囲が、本発明の範囲を上回る場合（比較例１、比較例２）は、ダイラインの高さとダイラインの傾きが本発明の範囲より大きくなる。【００９１】
ブロック共重合体水素化物［２］のペレットの溶融押出し成形前の加熱処理条件が、本発明の範囲を下回る場合（比較例３〜比較例５）は、ダイラインの高さが本発明の範囲より大きくなり、照度５，０００ルクスや１０，０００ルクスのバックライトを用いた場合、光漏れが生じる。
【産業上の利用可能性】
【００９２】
本発明のブロック共重合体水素化物からなる光学フィルムは、表面欠陥が少なく、面状の優れたフィルムであり、偏光板保護フィルムや位相差フィルム等の光学用フィルムとして有用である。
【符号の説明】
【００９３】
１：ベースライン
２：山の頂点
３：谷の底点
４：山の頂点から谷の底点までの距離
５、６：線
７：山の頂点から谷の底点までの高さ
【図１】
2015002020.tif 000009
【国際調査報告】
2015002020.tif 000010
2015002020.tif 000011
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