(57)【要約】【課題】太陽光の効率的利用、大面積生産、耐久性に優れ、製造容易な太陽光反射フィルムを提供する。【解決手段】本発明の太陽光反射フィルムは、光入射する面から順に、コーティングによって形成された紫外線反射積層部と、銀反射層とを有し、前記紫外線反射積層部の少なくとも１層が、少なくとも１種の無機酸化物を含むことを特徴とする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光入射する面から順に、コーティングによって形成された紫外線反射積層部と、銀反射層とを有し、
前記紫外線反射積層部の少なくとも１層が、少なくとも１種の無機酸化物を含むことを特徴とする太陽光反射フィルム。
【請求項２】
前記紫外線反射積層部が、高屈折率層と低屈折率層とを積層したユニットを少なくとも１つ含み、
前記高屈折率層および前記低屈折率層はともに少なくとも１種のポリビニルアルコールを含有し、
前記低屈折率層中で最も含有量の多いポリビニルアルコールをポリビニルアルコール（Ａ）とし、前記高屈折率層中で最も含有量の多いポリビニルアルコールをポリビニルアルコール（Ｂ）とした場合に、
前記ポリビニルアルコール（Ａ）の鹸化度と、ポリビニルアルコール（Ｂ）の鹸化度とが異なることを特徴とする請求項１に記載の太陽光反射フィルム。
【請求項３】
前記銀反射層の表面に、腐食防止層が設けられてなることを特徴とする請求項１または２に記載の太陽光反射フィルム。
【請求項４】
前記銀反射層を被覆する腐食防止層の水接触角が、９０°未満であることを特徴とする請求項３に記載の太陽光反射フィルム。
【請求項５】
前記紫外線反射積層部よりも太陽光入側に、耐傷層が設けられてなることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の太陽光反射フィルム。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の太陽光反射フィルムを有することを特徴とする太陽光反射体。
【請求項７】
請求項６に記載の太陽光反射体を有することを特徴とする太陽光反射装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、太陽光を効率よく反射することが可能な光反射フィルム、ならびにこれを用いた光反射体および光反射装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、地球温暖化は一層深刻化しており、その主因は、化石燃料の二酸化炭素といわれている。【０００３】
化石燃料の代替エネルギーとして、太陽光、風力、地熱等の自然エネルギーを利用した発電技術の開発が行われているが、太陽光を利用した発電は、安定性およびエネルギー量の豊富さから特に注目されている。【０００４】
太陽熱発電では、太陽光を反射体（鏡）により反射させて一か所に集光する集光装置が用いられる。当該反射体は太陽光による紫外線や熱、風雨、砂嵐等に晒されるため、耐久性の観点から従来はガラス製光反射体が用いられてきた。しかしながら、ガラス製光反射体は、輸送時に破損する、重いため設置するのに高強度の架台が必要となりプラントの建設費がかさむ、といった問題を有していた。【０００５】
上記問題を解決するために、ガラス製光反射体に代えて耐久性を高めた樹脂製光反射フィルムを支持体に貼付して光反射体として用いるという試みがなされている。例えば、特許文献１には、銀反射層を含む樹脂性高反射フィルムが開示されており、紫外線による樹脂の劣化や剥離損傷等を防止し耐環境性を克服するために、最上層に紫外線吸収剤を含む紫外線遮蔽アクリル層を備える構成とすることで、有害な紫外線を吸収している。【０００６】
また、紫外光線エネルギーを発電に利用するために、紫外光を可視光や赤外光と同じ方向に反射させて受光部に集めるべく、紫外光を反射する手段として、特許文献２には高屈折率材料と低屈折率材料を積層させて紫外線反射層を形成する手法が記載されている。この紫外〜赤外を反射する積層体によって太陽光は効果的に反射できる。【０００７】
更に、特許文献３には、アルミニウムやステンレス製の金属板を研磨し、表面に屈折率の異なる多層膜反射層を増反射コーティングとして付ける発明が記載されている。【０００８】
更にまた、多層膜形成手段として、特許文献４には、屈折率の異なる２種のポリマー層を交互に積層し、該ポリマーのガラス転移点付近に加熱し延伸することを特徴とする紫外線反射層の形成方法が提案されている（比較例４参照）。【０００９】
また、特許文献５には紫外線を反射する多層膜を誘電体で形成し、一方で可視光、赤外光の波長範囲においては銀薄膜を用い、これら２つの異なる機能を持った層を組み合わせることで、効率良く太陽光を反射する方法が開示されている。さらに、この紫外線を反射する多層膜は、高屈折率層と低屈折率層を交互に積層した構成であり、このうちの低屈折率層は、酸素バリア性、水蒸気バリア性を持つバリア層を兼ねている。こうした構成とすることで、太陽光劣化に対して耐久性にも優れるというものである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】米国特許第７６１２９３７号明細書
【特許文献２】欧州特許出願公開第２２０４６２４号明細書
【特許文献３】米国特許第６８４８７９７号明細書
【特許文献４】特表２０１１−５２１２８９号公報
【特許文献５】特許第５４２４０９１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかしながら、上記特許文献１の技術によると最上層で紫外線を紫外線吸収剤により吸収しているため、紫外光線エネルギーを発電に利用できず、太陽光エネルギーの効率的な利用により、発電の効率を更に向上させるという点では不十分である。【００１２】
また、上記特許文献２の技術によると、紫外線反射層を緻密で精巧な膜を形成する方法で製造するには、真空下におけるスパッタ以外では難しく、製造に長時間を要する上、大面積及び大量生産が困難であり、実用的ではないという問題があった。【００１３】
更に、上記特許文献３の技術によると、アルミニウムやステンレスは太陽光の反射率はさほど高くなく、１００％近い反射率を得るためには増反射に依存するところが大きい。またアルミニウム板やステンレス板を大面積にわたって研磨するにはコストが上がるという問題があった。【００１４】
また、特許文献４の製法（技術）では、大面積かつ大量に紫外線反射層を製造することができるが、特許文献４の技術によると、ポリマーのガラス転移点付近に加熱し延伸する必要がある。該ポリマーをガラス転移点温度付近まで加熱するとラジカルが発生し、得られた紫外線反射層がラジカルにより経時的に劣化していくことがわかった。そのため、このポリマーを加熱延伸してなる多層紫外線反射フィルムを太陽光に類似したキセノンランプにて曝露した場合、米国アリゾナ州フェニックスの２０年分に相当する紫外線を照射したところで、層界面の剥離が発生するという問題があった。これは、製造時に発生したラジカルが劣化を招いたと推測している。【００１５】
更に、上記特許文献５の技術では、上記紫外線を反射する多層膜のうち、酸素バリア性、水蒸気バリア性を持つバリア層を兼ねた低屈折率層を形成するにはプラズマ等の成膜手段により放電電力を多く必要とするため、製造が容易ではなかった。【００１６】
そこで本発明は、太陽光の効率的利用、大面積生産、耐久性に優れ、製造容易な太陽光反射フィルムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明者は、上記の問題を解決すべく、鋭意研究を行った。その結果、無機酸化物を使い、コーティングによって形成した高屈折率材料と低屈折率材料を積層させた紫外線反射積層部を用い、大面積生産可能で、耐久性の高い太陽光反射フィルムとし得るなど上記諸問題が解決し、上記目的を達成し得ることを見出し、本発明を完成させた。【００１８】
すなわち、本発明の太陽光反射フィルムは、光入射する面から順に、コーティングによって形成された紫外線反射積層部と、銀反射層とを有し、
前記紫外線反射積層部の少なくとも１層が、少なくとも１種の無機酸化物を含むことを特徴とする。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の実施形態に係る太陽光反射フィルムの１形態を模式的に表し断面図である。
【図２】本発明の実施形態に係る太陽光反射フィルムの他の形態を模式的に表した断面図である。
【図３】比較例１で形成した太陽光反射フィルムの構成を模式的に表した断面図である。
【図４】実施例１で形成した太陽光反射フィルムの構成を模式的に表した断面図である。
【図５】実施例２で形成した太陽光反射フィルムの構成を模式的に表した断面図である。
【図６】比較例２で形成した太陽光反射フィルムの構成を模式的に表した断面図である。
【図７】比較例３で形成した太陽光反射フィルムの構成を模式的に表した断面図である。
【図８】実施例３で形成した太陽光反射フィルムの構成を模式的に表した断面図である。
【図９】実施例４で形成した太陽光反射フィルムの構成を模式的に表した断面図である。
【図１０】比較例４で形成した太陽光反射フィルムの構成を模式的に表した断面図である。
【図１１】比較例５で形成した太陽光反射フィルムの構成を模式的に表した断面図である。
【図１２】比較例６で形成した太陽光反射フィルムの構成を模式的に表した断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明の好ましい形態について説明するが、本発明の技術的範囲は特許請求の範囲の記載に基づいて定められるべきであり、以下の形態のみに制限されない。
【００２１】
＜太陽光反射フィルム＞
以下、図面を参照しながら本形態について説明する。なお、図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。また、図面の寸法比率は、説明の都合上誇張されており、実際の比率とは異なる場合がある。
【００２２】
図１は、本発明の実施形態に係る太陽光反射フィルムの１態様を模式的に表した断面図である。図１に示す太陽光反射フィルム１０は、太陽光１００の入射する面から順に、コーティングによって形成された紫外線反射積層部１１と、銀反射層１３とを有し、前記紫外線反射積層部１１の少なくとも１層が、少なくとも１種の無機酸化物１１ａを含む構造を有する。かかる構成を有する本発明によれば、太陽光の効率的利用、大面積生産、耐久性に優れ、製造容易な太陽光反射フィルムを提供することが可能となる。好ましくは紫外線反射積層部１１を構成する屈折率の異なる２種の屈折率層１１１、１１２のうち、少なくとも一方の屈折率層が、上記無機酸化物１１ａを含む構造を有するのが望ましい。かかる構成とすることで、紫外線反射積層部１１が紫外線を吸収することなく、効率的に紫外線を反射することができる。また太陽光１００中の紫外線を反射することで、下層材料の劣化を防止し、耐久性を高めることができる。また紫外線反射積層部がコーティングによって形成し得るため、大面積生産を短時間で行うことが可能である。加えて、紫外線反射積層部をコーティングによって形成し得るため、特許文献４のように紫外線反射積層部をポリマーのガラス移転点付近（２２５℃）に加熱して延伸して形成するといった高温にさらす工程がないため劣化因子を減らすことができ、耐久性を改善できる点で優れている。更に、紫外線反射積層部をコーティングによって形成し得ることで、太陽光反射フィルムがカールされるのを防止ないし大幅に低減することができる。更に、紫外線反射積層部（特に低屈折率層）をコーティングによって形成し得ることで、特許文献５のようにバリア層を兼ねた低屈折率層を形成するために電力を多く必要とする真空蒸着、スパッタ、イオンビームスパッタ、ＣＶＤ、大気圧プラズマ等の成膜手段を用いることなく、製造を容易に行うことができる。
【００２３】
太陽光反射フィルム１０において、太陽光１００は矢印で示すように、無機酸化物１１ａを含む（加熱延伸することなく）コーティングによって形成された紫外線反射積層部１１側から銀反射層１３側へと入射する。このように、太陽光１００が入射する方向から順に、無機酸化物１１ａを含む紫外線反射積層部１１と、銀反射層１３とを有することにより、紫外線が太陽光反射フィルム１０の無機酸化物１１ａを含む紫外線反射積層部１１よりも更に深部にまで透過するのを防ぎ、太陽光反射フィルム１０の劣化を抑制することができる。
【００２４】
太陽光反射フィルム１０において、無機酸化物１１ａを含む紫外線反射積層部１１は、低屈折率層１１１および高屈折率層１１２が積層されたユニットを有する。図１に示すように異なる屈折率を有する層１１１及び１１２を積層させることによりその境界面で光の反射が起こり、紫外線反射射機能が発現される。なお、図１では、紫外線反射積層部１１として、それぞれ光入射方向から順に高屈折率層、低屈折率層、・・・高屈折率層の多層が積層されているが、紫外線反射積層部１１は低屈折率層１１１および高屈折率層１１２が積層された少なくとも１つのユニットを有していればよく、低屈折率層１１１および高屈折率層１１２の層数や積層順は特に制限されない。また図１に示す態様では、紫外線反射積層部１１を構成する全ての低屈折率層１１１および高屈折率層１１２に無機酸化物１１ａが含まれている構成を示したが、本発明では、紫外線反射積層部１１を構成する層の少なくとも１層に無機酸化物１１ａが含まれていればよい。例えば、実施例１では、高屈折率層１１２側にのみ無機酸化物１１２ａ（１１ａ）が含まれている構成例である。即ち、実施例１に示したように、高屈折率層１１２側に無機酸化物１１２ａ（１１ａ）を含むのが、屈折率差（低屈折率層と高屈折率層の屈折率差）を高め、界面での紫外線反射効率を高める点で有効である。また、図１に示す本態様のように紫外線反射積層部１１を構成する高屈折率層１１２、低屈折率層１１１ともに無機酸化物１１２ａ，１１１ａを含有することにより、高屈折率層１１２と低屈折率層１１１の屈折率差が大きく紫外線反射効率が高まる結果、より一層、耐光性が向上する点でより有効である（図２の態様においても同様である。実施例２〜４参照）。
【００２５】
太陽光反射フィルム１０において、紫外線反射積層部１１を構成する低屈折率層１１１または高屈折率層１１２の少なくとも１層が、水または水と相溶性を有する溶剤の少なくとも一方に可溶な樹脂を含むのが好ましい。このような特定の樹脂を含むことにより、１００℃以下の低温にて薄膜形成ができ、製造時に高温加熱工程にさらすことなく、ポリマー内にラジカルが残存する点を防止することができる。また、このような樹脂を含むことにより、紫外線反射積層部１１の層形成に（加熱延伸することなく）コーティングにより形成する塗布法を採用することができるという利点も有する。さらに、紫外線反射積層部１１の層形成に（加熱延伸することなく）コーティングにより形成する塗布法を採用することにより、得られる積層体（紫外線反射積層部１１）の大面積生産を短時間で行うことが可能である。加えて、紫外線反射積層部をコーティングにより形成する塗布法を採用することにより、特許文献４のように紫外線反射積層部をポリマーのガラス移転点付近（２２５℃）に加熱して延伸して形成するといった高温にさらす工程がないため劣化因子を減らすことができ、耐久性を改善できる。更には太陽光反射フィルム１０全体のカールを低減させることができる。また、紫外線反射積層部１１の層形成に（加熱延伸することなく）コーティングにより形成する塗布法を採用することにより、特許文献５のように成膜に電力を多く必要とする真空蒸着、スパッタ、イオンビームスパッタ、ＣＶＤ、大気圧プラズマ等の手段を用いなくてもよいため、製造を容易に行うことができる。
【００２６】
図１に示す太陽光反射フィルム１０の実施形態では、紫外線反射積層部１１と銀反射層１３との間に樹脂フィルム状支持体（高分子フィルム）１２が配置されている。即ち、樹脂フィルム状支持体１２の片面（光入射面側）に紫外線反射積層部１１が形成され、樹脂フィルム状支持体１２のもう一方の片面に銀反射層１３が形成されている。
【００２７】
また、前記銀反射層１３上には、当該銀反射層１３を構成する銀の腐食を防止するために１層以上の腐食防止層１４が配置されている。さらに上記腐食防止層１４上には、支持基材（太陽光反射体の構成部材；図示せず）への貼付のために、粘着層１５が配置されている。更に上記粘着層１５上には、前記支持基材への貼付までの間、保管や輸送や取扱が容易なように剥離材（剥離フィルムや剥離紙など）１６が備えられている。
【００２８】
また、図１に示す太陽光反射フィルム１０の実施形態では、紫外線反射積層部１１上（光入射面側）に、耐傷層１７が配置されている。図１の形態では、太陽光反射フィルム１０の最表面に耐傷層１７が配置されている。このように耐傷層１７を備えることにより擦傷等から紫外線反射積層部１１を保護し、太陽光反射フィルム１０の耐久性を向上させることができる。
【００２９】
図２は、本発明の実施形態に係る太陽光反射フィルムの他の態様を模式的に表した断面図である。図２に示す太陽光反射フィルム１０’でも、太陽光１００の入射する面から順に、紫外線反射積層部１１と、銀反射層１３とを有し、前記紫外線反射積層部１１の少なくとも１層が、少なくとも１種の無機酸化物１１ａを含む構造を有する。図２では、図１と同様に、紫外線反射積層部１１を構成する高屈折率層１１２、低屈折率層１１１ともに無機酸化物１１２ａ，１１１ａを含有する形態を図示している。
【００３０】
図１と図２は、共に光入射側から、紫外線反射積層部１１、銀反射層１３の順で形成されているが、樹脂フィルム状支持体１２に対して紫外線反射積層部１１と銀反射層１３（さらに腐食防止層１４）の配置が異なる態様（構成）となっている。図１は、樹脂フィルム状支持体１２の片方の面に紫外線反射積層部１１を形成し、もう一方の面に銀反射層１３を形成した構成である（実施例１、２が同様の構成である）。一方、図２は、樹脂フィルム状支持体１２の片面に、銀反射層１３、紫外線反射積層部１１の順で形成した構成である（実施例３、４が同様の構成である）。図１、２のいずれの構成（態様）も表１の実施例１〜４に示す評価結果から本発明の作用効果を有効かつ効果的に発現し得るものである。図２に示す太陽光反射フィルム１０’は、図１に示す太陽光反射フィルム１０と上記した構成部材の配置が異なる以外は、図１と同様に構成（配置）を有するものである。そのため、上記した図１と同じ説明の繰り返しになるため、それらの説明については省略する。
【００３１】
上記したように、本発明の太陽光反射フィルムでは、図１、２に示す形態に何ら制限されるものではなく、本発明の要件を満足する範囲内において、いかなる構成をも取り得るものである。以下、本形態の太陽光反射フィルム１０、１０’の各構成部材について詳細に説明する。
【００３２】
［紫外線反射積層部１１］
本形態の太陽光反射フィルム１０、１０’は、銀反射層１３よりも光入射面側に紫外線反射積層部１１を必須に有する。紫外線反射積層部１１は、太陽光に含まれる紫外線領域（２８０〜４００ｎｍ）の少なくとも一部の波長（光）を反射する機能を有し、好ましくは、３６０〜４００ｎｍの紫外線の５０％以上、好ましくは６０％以上、より好ましくは７０％以上、特に好ましくは８０％以上を反射する機能を有する。太陽光に含まれる紫外線領域（２８０〜４００ｎｍ）の反射率は、積分球を持つ分光光度計により測定することができる。
【００３３】
また、光入射面側に設けられる紫外線反射積層部１１は、より下層の銀反射層１３により太陽光（特に可視光〜赤外線領域の光線）を反射させることができるように、特に可視光〜赤外線領域の光を透過するのが望ましい。かかる観点から、紫外線反射積層部１１の可視〜赤外線領域の光線（４００〜２５００ｎｍの波長）の透過率は、５０％以上が好ましく、より好ましくは６０％以上、更に好ましくは７０％以上、特に好ましくは８０％以上の範囲である。波長４００〜２５００ｎｍの透過率は、積分球を持つ分光光度計により測定することができる。
【００３４】
紫外線反射積層部１１は、低屈折率層１１１および高屈折率層１１２が積層されたユニットを少なくとも１つ有するのが好ましい。
【００３５】
紫外線反射積層部１１は、低屈折率層１１１および高屈折率層１１２が交互に積層された交互積層体の形態を有する。このような低屈折率層１１１および高屈折率層１１２の屈折率差により紫外線反射機能が発現される。なお、本明細書において、「低屈折率層」および「高屈折率層」とは、隣接した２層の屈折率差を比較した場合に、屈折率が低い方の屈折率層を低屈折率層とし、高い方の屈折率層を高屈折率層とすることを意味する。
【００３６】
本形態の太陽光反射フィルム１０、１０’は、紫外線反射積層部１１を構成する低屈折率層１１１または高屈折率層１１２の少なくとも１層が水または水と相溶性を有する溶剤の少なくとも一方に可溶な樹脂１１ｂ（１１１ｂないし１１２ｂ）を含むのが好ましい。なお、本明細書において、「水と相溶性を有する溶剤」とは水と混合した際に界面を形成せず化学構造の中に水酸基、カルボニル基、カルボキシル基、アルデヒド基などを含む溶剤を意味する。また、「水または水と相溶性を有する溶剤の少なくとも一方に可溶な樹脂」とは、水または水と相溶性を有する溶剤と混合し撹拌した後に樹脂の沈降が発生せず白濁や光散乱が目視できない状態である樹脂を意味する。つまりごく微小なサイズの粒径を持ち屈折率が同じで混合撹拌した際に白濁や光散乱が目視できない状態であれば相溶しているとここでは定義する。水または水と相溶性を有する溶剤の少なくとも一方に可溶な樹脂１１ｂは、低屈折率層１１１と高屈折率層１１２のいずれか一方のみに含まれていてもよいし、両方に含まれていても構わない。なお、低屈折率層１１１または高屈折率層１１２の少なくとも１層が水または水と相溶性を有する溶剤の少なくとも一方に可溶な樹脂を含む限りにおいては、低屈折率層１１１および／または高屈折率層１１２が水または水と相溶性を有する溶剤のいずれにも不溶な樹脂を含んでもよいことは勿論である。また、本明細書において「低屈折率層または高屈折率層の少なくとも１層が水または水と相溶性を有する溶剤の少なくとも一方に可溶な樹脂」のうち「水に可溶な樹脂」を「水溶性樹脂」とも称する。
【００３７】
本形態の太陽光反射フィルム１０、１０’においては、当該樹脂１１ｂは耐光性に優れていることが好ましく、具体的には、主鎖に芳香環を含まない樹脂であることが好ましく、芳香環を持たないモノマー成分から構成された樹脂であることがより好ましい。このような樹脂としては、例えば、水溶性樹脂、シリコーン系樹脂、アクリル系樹脂、オレフィン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、アクリル・ウレタン系樹脂、含フッ素ポリマー等が挙げられる。これら水または水と相溶性を有する溶剤の少なくとも一方に可溶な樹脂１１のなかでも、後述のように水溶性樹脂を使用することが好ましいが、水溶性樹脂以外の樹脂の中では、特に耐候性に優れる材料として、シロキサン結合を持ったシリコーン系樹脂、または少なくとも２種以上のアクリル系モノマーを共重合したアクリル系共重合体が好適に用いられる。
【００３８】
本形態の太陽光反射フィルム１０、１０’において、紫外線反射積層部１１（各屈折率層１１１、１１２）は、コーティングにより形成されてなるものである。紫外線反射積層部１１（各屈折率層１１１、１１２）をコーティングにより形成するのに水系塗布を用いることが可能になるという観点から、当該樹脂１１ｂは水溶性樹脂であることが好ましい。紫外線反射積層部１１をコーティングにより形成するのに水系塗布を用いることにより、被塗布層の有機溶剤による溶解を抑制することができる。
【００３９】
上記水溶性樹脂としては、例えば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）類、ポリアクリル酸、アクリル酸−アクリルニトリル共重合体、アクリル酸カリウム−アクリルニトリル共重合体、酢酸ビニル−アクリル酸エステル共重合体、もしくはアクリル酸−アクリル酸エステル共重合体等のアクリル系樹脂、スチレン−アクリル酸共重合体、スチレン−メタクリル酸共重合体、スチレン−メタクリル酸−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−α−メチルスチレン−アクリル酸共重合体、もしくはスチレン−α−メチルスチレン−アクリル酸−アクリル酸エステル共重合体等のスチレンアクリル酸樹脂、スチレン−スチレンスルホン酸ナトリウム共重合体、スチレン−２−ヒドロキシエチルアクリレート共重合体、スチレン−２−ヒドロキシエチルアクリレート−スチレンスルホン酸カリウム共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ビニルナフタレン−アクリル酸共重合体、ビニルナフタレン−マレイン酸共重合体、酢酸ビニル−マレイン酸エステル共重合体、酢酸ビニル−クロトン酸共重合体、酢酸ビニル−アクリル酸共重合体等の酢酸ビニル系共重合体およびこれらの塩等の合成水溶性樹脂；ゼラチン、増粘多糖類等の天然水溶性樹脂等が挙げられる。このうち、製造時のハンドリングと膜の柔軟性の点から、ポリビニルアルコール類、およびこれを含有する共重合体、ゼラチン、増粘多糖類（特にセルロース類）が好ましく、なかでも、光学特性の観点からポリビニルアルコール類であることがより好ましい。これらの水溶性樹脂は、１種のみを単独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせて使用しても構わない。
【００４０】
本形態で使用されるポリビニルアルコール類としては、ポリ酢酸ビニルを加水分解して得られる通常のポリビニルアルコールの他に、一部が変性された変性ポリビニルアルコールも使用することができる。なお、以下で特に断りがない限り、変性ポリビニルアルコールと区別して、「ポリ酢酸ビニルを加水分解して得られる通常のポリビニルアルコール」を単に「ポリビニルアルコール」とも称する。本形態の太陽光反射フィルム１０においては、低屈折率層１１１および高屈折率層１１２が、ともに少なくとも１種のポリビニルアルコールを含有する際、低屈折率層１１１中で最も含有量の多いポリビニルアルコールをポリビニルアルコール（Ａ）とし、高屈折率層１１２中で最も含有量の多いポリビニルアルコールをポリビニルアルコール（Ｂ）とした場合に、ポリビニルアルコール（Ａ）の鹸化度と、ポリビニルアルコール（Ｂ）の鹸化度とが異なることが好ましい。ここで鹸化度とはポリビニルアルコール中のアセチルオキシ基（原料の酢酸ビニル由来のもの）と水酸基の合計数に対する水酸基の割合のことである。このように鹸化度の異なるポリビニルアルコールを用いることにより、高屈折率層１１２と低屈折率層１１１の層間混合が小さく、高反射率を得ることができる。詳しくは、水系の重層塗布により各屈折率層１１１、１１２を形成した場合の層間混合が抑制され、界面の乱れが小さくなることにより、所望の波長の紫外線反射性に優れ、ヘイズの少ない紫外線反射積層部１１を形成することができる。
【００４１】
各屈折率層１１１、１１２中で鹸化度の相違を比較するポリビニルアルコールは、各屈折率層が複数のポリビニルアルコールを含む場合（すなわち、鹸化度または重合度が異なるポリビニルアルコールを２種以上含む場合）には、屈折率層中で最も含有量の多いポリビニルアルコールである。ここで、「屈折率層中で最も含有量が多いポリビニルアルコール」という際には、鹸化度の差が３ｍｏｌ％以内のポリビニルアルコールは同一のポリビニルアルコールであるとし、重合度を算出する。ただし、重合度１０００以下の低重合度ポリビニルアルコールは異なるポリビニルアルコールとする（仮に鹸化度の差が３ｍｏｌ％以内のポリビニルアルコールがあったとしても同一のポリビニルアルコールとはしない）。具体的には、鹸化度が９０ｍｏｌ％、鹸化度が９１ｍｏｌ％、鹸化度が９３ｍｏｌ％のポリビニルアルコールが同一層内にそれぞれ１０質量％、４０質量％、５０質量％含まれる場合には、これら３つのポリビニルアルコールは同一のポリビニルアルコールとし、これら３つの混合物をポリビニルアルコール（Ａ）または（Ｂ）とする。また、上記「鹸化度の差が３ｍｏｌ％以内のポリビニルアルコール」とは、いずれかのポリビニルアルコールに着目した場合に３ｍｏｌ％以内であれば足り、例えば、９０、９１、９２、９４ｍｏｌ％のビニルアルコールを含む場合には、９１ｍｏｌ％のビニルアルコールに着目した場合にいずれのポリビニルアルコールも３ｍｏｌ％以内なので、同一のポリビニルアルコールとなる。
【００４２】
本形態において、含有量が最も高いポリビニルアルコールが、鹸化度差が３ｍｏｌ％以内の複数のポリビニルアルコール種から構成される場合、含有量が最も高いポリビニルアルコールの鹸化度は、含有量が最も高いポリビニルアルコールを構成する各ポリビニルアルコールの鹸化度に該ポリビニルアルコールの含有量を乗じたものの和とする。具体的には以下のように算出する。含有量が最も高いポリビニルアルコールがポリビニルアルコール（１）およびポリビニルアルコール（２）から構成され、ポリビニルアルコール（１）（屈折率層全量（固形分）に対するポリビニルアルコール（１）の含有量：Ｗａ、鹸化度：Ｓａ（ｍｏｌ％））およびポリビニルアルコール（２）（屈折率層全量（固形分）に対するポリビニルアルコール（２）の含有量：Ｗｂ、鹸化度：Ｓｂ（ｍｏｌ％））である場合、含有量が最も高いポリビニルアルコールの鹸化度は下記式のようになる。
【００４３】
【数１】
2015002053.tif 000003
【００４４】
１層内に鹸化度が３ｍｏｌ％を超える異なるポリビニルアルコールが含まれる場合、異なるポリビニルアルコールの混合物とみなし、それぞれに重合度と鹸化度を算出する。例えば、ＰＶＡ１０３：５質量％、ＰＶＡ１１７：２５質量％、ＰＶＡ２１７：１０質量％、ＰＶＡ２２０：１０質量％、ＰＶＡ２２４：１０質量％、ＰＶＡ２３５：２０質量％、ＰＶＡ２４５：２０質量％が含まれる場合、最も含有量の多いＰＶＡはＰＶＡ２１７〜２４５の混合物であり（ＰＶＡ２１７〜２４５の鹸化度の差は３ｍｏｌ％以内なので同一のポリビニルアルコールである。ここで、ＰＶＡ１０３〜ＰＶＡ２４５は、いずれも株式会社クラレの商品名（クラレポバール＝ＰＶＡ）と銘柄（１０３〜２４５）を表しており、銘柄の始めの数字は鹸化度の分類を表し、次の二つの数字に１００を掛けたものが重合度の目安を表す。銘柄の始めの数字１＝鹸化度９８〜９９ｍｏｌ％、平均値９８．５ｍｏｌ％、銘柄の始めの数字２＝鹸化度８７〜８９ｍｏｌ％、平均値８８ｍｏｌ％を表している。また、次の二つの数字が、例えば０３＝重合度３００、１７＝重合度１７００、４５＝重合度４５００を表している。）、この混合物がポリビニルアルコール（Ａ）または（Ｂ）となる。そして、ＰＶＡ２１７〜２４５の混合物（ポリビニルアルコール（Ａ）／（Ｂ））においては、重合度は、（１７００×０．１＋２０００×０．１＋２４００×０．１＋３５００×０．２＋４５００×０．２）／０．７＝３２００であり、鹸化度は、８８ｍｏｌ％となる。
【００４５】
また、含有量が最も高いポリビニルアルコール（群）が同一の含有量で複数存在する場合には、いずれか一つのポリビニルアルコール（群）の組合せが、低屈折率層１１１と高屈折率層１１２との異なる鹸化度に該当すればよい。例えば、低屈折率層１１１中に、ポリビニルアルコールとして、ポリビニルアルコール（１）（鹸化度９８．５ｍｏｌ％）：２０質量％、ポリビニルアルコール（２）（鹸化度８８ｍｏｌ％）：２０質量％、ポリビニルアルコール（３）（鹸化度７９．５ｍｏｌ％）：２０質量％、が含有されている場合（含有量が最も高いポリビニルアルコール（群）が同一の含有量で複数存在する場合）、ポリビニルアルコール（１）、（２）及び（３）のいずれかが、高屈折率層１１２中に含有される最も含有量の高いポリビニルアルコール（Ｂ）の鹸化度と異なっていればよい。
【００４６】
ポリビニルアルコール（Ａ）とポリビニルアルコール（Ｂ）との鹸化度の絶対値の差は、１ｍｏｌ％以上であることが好ましく、３ｍｏｌ％以上であることがより好ましい。さらに好ましくは５ｍｏｌ％以上である。また、さらに好ましくは８ｍｏｌ％以上であり、最も好ましくは１０ｍｏｌ％以上である。かような範囲であれば、低屈折率層１１１と高屈折率層１１２との層間混合状態を好ましいレベルにするために好ましい。ポリビニルアルコール（Ａ）とポリビニルアルコール（Ｂ）との鹸化度の差は離れていれば離れているほど好ましいが、ポリビニルアルコールの水への溶解性の点からは２０ｍｏｌ％以下であることが好ましい。
【００４７】
ポリビニルアルコール（Ａ）およびポリビニルアルコール（Ｂ）の鹸化度は水への溶解性の点で７５ｍｏｌ％以上が好ましい。さらにポリビニルアルコール（Ａ）およびポリビニルアルコール（Ｂ）のうち一方が鹸化度９０ｍｏｌ％以上であり、他方が該鹸化度が９０ｍｏｌ％以上のポリビニルアルコールの鹸化度より低い鹸化度であることが好ましい。かような形態であると、層間混合がより抑制される。さらに、ポリビニルアルコール（Ａ）およびポリビニルアルコール（Ｂ）のうち一方が鹸化度９０ｍｏｌ％以上であり、他方が９０ｍｏｌ％以下であることが低屈折率層１１１と高屈折率層１１２との層間混合状態をより好ましいレベルにし、特定の波長（紫外線）の反射率が向上するために好ましい。ポリビニルアルコール（Ａ）およびポリビニルアルコール（Ｂ）のうち一方が鹸化度９５ｍｏｌ％以上であり、他方が９０ｍｏｌ％以下であることが特定波長（紫外線）の反射率向上の観点からより好ましい。なお、ポリビニルアルコールの鹸化度の上限は特に限定されるものではないが、通常１００ｍｏｌ％未満であり、９９．９ｍｏｌ％以下程度である。
【００４８】
また前記鹸化度の異なる２種のポリビニルアルコールの重合度は１０００以上のものが好ましく用いられ、特に平均重合度が１５００〜５０００のものが好ましく、２０００〜５０００のものがさらに好ましく用いられる。ポリビニルアルコールの重合度が１０００以上であると塗布膜のひび割れがなく、５０００以下であるとハンドリング性がよく作業効率性が向上するため好ましい。また、ポリビニルアルコール（Ａ）およびポリビニルアルコール（Ｂ）の少なくとも一方の重合度が２０００〜５０００であると、塗膜のひび割れが減少し、特定の波長（紫外線）の反射率が向上するため好ましい。ポリビニルアルコール（Ａ）およびポリビニルアルコール（Ｂ）の双方の重合度が２０００〜５０００であると層間が一層分離され、上記効果はより顕著に発揮されるため好ましい。ここで、重合度とは粘度平均重合度を指し、ＪＩＳ−Ｋ６７２６（１９９４）に準じて測定される。具体的には、ポリビニルアルコールを完全に再鹸化し、精製した後、３０℃の水中で測定した極限粘度［η］（ｄｌ／ｇ）から次式により求められる。
【００４９】
【数２】
2015002053.tif 000004
【００５０】
本形態においては、上記ポリビニルアルコール（Ａ）およびポリビニルアルコール（Ｂ）は、各屈折率層の全質量に対し、好ましくは５．０質量％以上、より好ましくは１０質量％以上の範囲で含有させることが好ましい。含有量が５．０質量％以上であると、層間混合が抑制され界面の乱れが小さくなるという効果が顕著に現れる。また、ポリビニルアルコール（Ａ）およびポリビニルアルコール（Ｂ）は、各屈折率層の全質量に対し、５０質量％以下が好ましく、４０質量％以下がより好ましい。含有量が５０質量％以下であれば、相対的な無機酸化物（１１１ａ、１１２ａ）の含有量が適切となり、低屈折率層１１１と高屈折率層１１２との屈折率差を大きくすることが容易になる。
【００５１】
本形態では前記鹸化度の異なる２種のポリビニルアルコールに加えて、重合度が１００〜１０００、より好ましくは重合度１００〜５００で鹸化度が９５ｍｏｌ％以上である低重合度高鹸化ポリビニルアルコール（以下、単に低重合度高鹸化ポリビニルアルコールとも称する）を各屈折率層の少なくとも一方が含むことが好ましい。このような低重合度高鹸化ポリビニルアルコールを含有すると塗布液の安定性が向上する。より好ましくは、双方の屈折率層が低重合度高鹸化ポリビニルアルコールを含有することが塗布液の安定性の観点から好ましい。低重合度高鹸化ポリビニルアルコールの含有量は、特に限定されるものではないが、各屈折率層の全質量（固形分）に対し、好ましくは０．５〜５質量％である。かような範囲であれば、上記効果がより発揮される。なお、低重合度高鹸化ポリビニルアルコールの鹸化度の上限は特に限定されるものではないが、通常１００ｍｏｌ％未満であり、９９．９ｍｏｌ％以下程度である。
【００５２】
本形態では前記鹸化度の異なる２種のポリビニルアルコール（ポリビニルアルコール（Ａ）およびポリビニルアルコール（Ｂ））以外に、低屈折率層１１１および高屈折率層１１２のいずれか一方に鹸化度が９０ｍｏｌ％以上（より好ましくは９５ｍｏｌ％以上）のポリビニルアルコールをさらに含むことが好ましい。かような高鹸化度のポリビニルアルコールを含有させることで、塗布液が安定し、層間混合がより抑制され、反射率がより向上する。
【００５３】
さらに各屈折率層は、ポリ酢酸ビニルを加水分解して得られる通常のポリビニルアルコールの他に、一部が変性された変性ポリビニルアルコールを含んでもよい。かような変性ポリビニルアルコールを含むと、膜（各屈折率層）の密着性や耐水性、柔軟性が改良される場合がある。このような変性ポリビニルアルコールとしては、カチオン変性ポリビニルアルコール、アニオン変性ポリビニルアルコール、ノニオン変性ポリビニルアルコール、ビニルアルコール系ポリマーが挙げられる。これらの変性ポリビニルアルコールは、重合度や変性の種類違うもの２種類以上を併用することもできる。
【００５４】
カチオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開昭６１−１０４８３号公報に記載されているような、第一〜三級アミノ基や第四級アンモニウム基を上記ポリビニルアルコールの主鎖または側鎖中に有するポリビニルアルコールであり、カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体と酢酸ビニルとの共重合体を鹸化することにより得られる。
【００５５】
カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体としては、例えば、トリメチル−（２−アクリルアミド−２，２−ジメチルエチル）アンモニウムクロライド、トリメチル−（３−アクリルアミド−３，３−ジメチルプロピル）アンモニウムクロライド、Ｎ−ビニルイミダゾール、Ｎ−ビニル−２−メチルイミダゾール、Ｎ−（３−ジメチルアミノプロピル）メタクリルアミド、ヒドロキシルエチルトリメチルアンモニウムクロライド、トリメチル−（２−メタクリルアミドプロピル）アンモニウムクロライド、Ｎ−（１，１−ジメチル−３−ジメチルアミノプロピル）アクリルアミド等が挙げられる。カチオン変性ポリビニルアルコールのカチオン変性基含有単量体の比率は、酢酸ビニルに対して０．１〜１０モル％、好ましくは０．２〜５モル％である。
【００５６】
アニオン変性ポリビニルアルコールは、例えば、特開平１−２０６０８８号公報に記載されているようなアニオン性基を有するポリビニルアルコール、特開昭６１−２３７６８１号公報および同６３−３０７９７９号公報に記載されているような、ビニルアルコールと水溶性基を有するビニル化合物との共重合体及び特開平７−２８５２６５号公報に記載されているような水溶性基を有する変性ポリビニルアルコールが挙げられる。
【００５７】
ノニオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開平７−９７５８号公報に記載されているようなポリアルキレンオキサイド基をビニルアルコールの一部に付加したポリビニルアルコール誘導体、特開平８−２５７９５号公報に記載されている疎水性基を有するビニル化合物とビニルアルコールとのブロック共重合体、シラノール基を有するシラノール変性ポリビニルアルコール、アセトアセチル基やカルボニル基、カルボキシル基等の反応性基を有する反応性基変性ポリビニルアルコール等が挙げられる。
【００５８】
またビニルアルコール系ポリマーとして、エクセバール（商品名：（株）クラレ製）やニチゴーＧポリマー（商品名：日本合成化学工業（株）製）等が挙げられる。
【００５９】
変性ポリビニルアルコールの含有量は、特に限定されるものではないが、各屈折率層の全質量（固形分）に対し、好ましくは１〜３０質量％である。かような範囲であれば、上記の膜の密着性や耐水性、柔軟性の向上効果がより発揮される。
【００６０】
本形態においては、上記鹸化度の異なる２種のポリビニルアルコールは、屈折率層の全ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールの全質量に対し、４０質量％以上、１００質量％以下の範囲で含有させることが好ましく、６０質量％以上、９５質量％以下がより好ましい。含有量が４０質量％以上であると、層間混合が抑制され界面の乱れが小さくなるという効果が顕著に表れる。一方、含有量が９５質量％以下であれば、塗布液の安定性が向上する。
【００６１】
ゼラチンとしては、石灰処理ゼラチンのほか、酸処理ゼラチンを使用してもよく、さらにゼラチンの加水分解物、ゼラチンの酵素分解物を用いることもできる。
【００６２】
増粘多糖類としては、例えば、一般に知られている天然単純多糖類、天然複合多糖類、合成単純多糖類および合成複合多糖類を挙げることができ、これら多糖類の詳細については、「生化学事典（第２版），東京化学同人出版」、「食品工業」第３１巻（１９８８）２１頁等を参照することができる。なお、本明細書において、増粘多糖類とは、糖類の重合体であり分子内に水素結合基を多数有するもので、温度による分子間の水素結合力の違いにより、低温時の粘度と高温時の粘度との差が大きな特性を備えた多糖類をいう。さらに無機酸化物粒子１１１ａないし１１２ａを添加すると、低温時にその無機酸化物粒子１１１ａないし１１２ａとの水素結合によると思われる粘度上昇を起こし、その粘度上昇幅は、添加することにより４０℃における粘度が好ましくは１．０ｍＰａ・ｓ以上の上昇を生じる多糖類であり、より好ましくは５．０ｍＰａ・ｓ以上であり、さらに好ましくは１０．０ｍＰａ・ｓ以上の粘度上昇能を備えた多糖類である。
【００６３】
このような増粘多糖類としては、例えば、β１−４グルカン（例えば、カルボキシメチルセルロース、カルボキシエチルセルロース等）、ガラクタン（例えば、アガロース、アガロペクチン等）、ガラクトマンノグリカン（例えば、ローカストビーンガム、グアラン等）、キシログルカン（例えば、タマリンドガム等）、グルコマンノグリカン（例えば、蒟蒻マンナン、木材由来グルコマンナン、キサンタンガム等）、ガラクトグルコマンノグリカン（例えば、針葉樹材由来グリカン）、アラビノガラクトグリカン（例えば、大豆由来グリカン、微生物由来グリカン等）、グルコラムノグリカン（例えば、ジェランガム等）、グリコサミノグリカン（例えば、ヒアルロン酸、ケラタン硫酸等）、アルギン酸およびアルギン酸塩、寒天、κ−カラギーナン、λ−カラギーナン、ι−カラギーナン、ファーセレラン等の紅藻類に由来する天然高分子多糖類等が挙げられる。
【００６４】
水溶性樹脂の重量平均分子量は、特に制限はないが、コーティング可能な粘度に調整して製造する観点から、１０００〜２０００００が好ましく、３０００〜４００００がより好ましい。本明細書において、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いて下記測定条件下で測定した値を採用する。
【００６５】
・溶媒：０．２Ｍ  ＮａＮＯＨ３，ＮａＨ２Ｐ０４，ｐＨ７
・カラム：Ｓｈｏｄｅｘ  Ｃｏｌｕｍｎ  Ｏｈｐａｋ  ＳＢ−８０２．５  ＨＱ，８×３００ｍｍとＳｈｏｄｅｘ  Ｃｏｌｕｍｎ  Ｏｈｐａｋ  ＳＢ−８０５  ＨＱ，８×３００ｍｍの組み合わせ
・カラム温度：４５℃
・試料濃度：０．１質量％
・検出器：ＲＩＤ−１０Ａ（株式会社島津製作所製）
・ポンプ：ＬＣ−２０ＡＤ（株式会社島津製作所製）
・流量：１ｍｌ／ｍｉｎ
・校正曲線：  Ｓｈｏｄｅｘ  スタンダード  ＧＦＣ（水系  ＧＰＣ）カラム用  Ｓｔａｎｄａｒｄ  Ｐ−８２  標準物質プルランによる校正曲線を使用。
【００６６】
本形態では、水溶性樹脂を硬化させるための硬化剤を使用してもよい。硬化剤の種類は特に制限はなく、水溶性樹脂と硬化反応を起こすものであればいずれの硬化剤も使用可能である。
【００６７】
水溶性樹脂がポリビニルアルコールの場合の硬化剤としては、ホウ素原子を有するホウ酸、ホウ酸塩、およびホウ砂等が挙げられる。これらを使用した場合、より優れた紫外線反射特性が発揮されうる。特に、低屈折率層１１１と高屈折率層１１２の多層重層をコーターで塗布後、一旦塗膜の膜面温度を１５℃程度に冷やした後、膜面を乾燥させるセット系塗布プロセスを用いた場合には、より好ましく効果を発現することができる。
【００６８】
ホウ酸またはホウ酸塩とは、ホウ素原子を中心原子とする酸素酸およびその塩のことをいい、具体的には、オルトホウ酸、二ホウ酸、メタホウ酸、四ホウ酸、五ホウ酸および八ホウ酸およびこれらの塩が挙げられる。
【００６９】
ホウ砂とは、Ｎａ２Ｂ４Ｏ５（ＯＨ）４・８Ｈ２Ｏ（四ホウ酸ナトリウム  Ｎａ２Ｂ４Ｏ７の十水和物）で表される鉱物である。
【００７０】
ホウ酸、ホウ酸塩、およびホウ砂は、１種のみを単独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせて使用しても構わない。
【００７１】
これ以外にも、ポリビニルアルコールと反応し得る基を有する化合物あるいはポリビニルアルコールが有する異なる基同士の反応を促進するような化合物が硬化剤として適宜用いられる。具体例としては、エポキシ系硬化剤、活性ハロゲン系硬化剤、活性ビニル系化合物、アルミニウムミョウバン等が挙げられる。
【００７２】
上記硬化剤の総使用量は、ポリビニルアルコール系樹脂１ｇ当たり１〜６００ｍｇが好ましく、１００〜５００ｍｇがより好ましい。
【００７３】
水溶性樹脂がゼラチンの場合の硬化剤としては、例えば、ビニルスルホン化合物、尿素−ホルマリン縮合物、メラニン−ホルマリン縮合物、エポキシ系化合物、アジリジン系化合物、活性オレフィン類、イソシアネート系化合物等の有機硬膜剤、クロム、アルミニウム、ジルコニウム等の無機多価金属塩類等が挙げられる。
【００７４】
水溶性樹脂以外の樹脂のうち、シリコーン系樹脂としては、例えば、トリメトキシシラン（関東化学）、ソルガードＮＰ−７３０（日本ダクロシャムロック）、トスガード５１０（東芝シリコーン）、ＫＰ−６４（信越化学工業）等を採用することができる。かかるシリコーン系樹脂の主成分は、Ｒ、Ｒ’をメチル基、エチル基等の有機基、Ｘを０および自然数とすれば、ＲＸＳｉ（ＯＲ’）４−Ｘで表される。
【００７５】
アクリル系樹脂としては、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート等のアルキル（メタ）アクリレートのような側鎖中に官能性基を有しないモノマー（以下、非官能性モノマーという）から選ばれる１種または２種以上のモノマーを主成分とし、これに２−ヒドロキシエチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、等のモノマーから選ばれる１種または２種以上のモノマーの側鎖中にＯＨやＣＯＯＨ等の官能性基を有するモノマー（以下、官能性モノマーという）の１種または２種以上を組み合せて、溶液重合法、懸濁重合法、乳化重合法、塊状重合法等の重合法により共重合させることにより得られる重量平均分子量が４万〜１００万、好ましくは１０万〜４０万のアクリル系共重合体が挙げられる。なかでも、エチルアクリレート、メチルアクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート等の比較的ガラス転移点（Ｔｇ）の低いポリマーを与える非官能性モノマーを５０〜９０質量％、メチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート等の比較的Ｔｇの高いポリマーを与える非官能性モノマーを１０〜５０質量％、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、アクリル酸、イタコン酸等の官能性モノマーを０〜１０質量％含有するようなアクリル系重合体が最も好適である。また市販のアクリル系樹脂を用いてもよく、例えば、三菱レイヨン製のＢＲ−８５、旭化成ケミカルズ製のデルペットＳＲＢ２１５等を使用することもできる。
【００７６】
シクロオレフィン樹脂は、脂環式構造を含有する重合体樹脂からなるものである。好ましいシクロオレフィン樹脂は、環状オレフィンを重合または共重合した樹脂である。環状オレフィンとしては、ノルボルネン、ジシクロペンタジエン、テトラシクロドデセン、エチルテトラシクロドデセン、エチリデンテトラシクロドデセン、テトラシクロ［７．４．０．１１０，１３．０２，７］トリデカ−２，４，６，１１−テトラエン等の多環構造の不飽和炭化水素およびその誘導体、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、３，４−ジメチルシクロペンテン、３−メチルシクロヘキセン、２−（２−メチルブチル）−１−シクロヘキセン、シクロオクテン、３ａ，５，６，７ａ−テトラヒドロ−４，７−メタノ−１Ｈ−インデン、シクロヘプテン、シクロペンタジエン、シクロヘキサジエン等の単環構造の不飽和炭化水素およびその誘導体等が挙げられる。好ましいシクロオレフィン樹脂は、環状オレフィン以外の単量体を付加共重合したものであってもよい。付加共重合可能な単量体としては、エチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン等のエチレンまたはα−オレフィン、１，４−ヘキサジエン、４−メチル−１，４−ヘキサジエン、５−メチル−１，４−ヘキサジエン、１，７−オクタジエン等のジエン等が挙げられる。これらに限定されるものではない。また、これらは、１種のみを単独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせて使用しても構わない。具体的には、日本ゼオン（株）製ゼオネックス、ゼオノア、ＪＳＲ（株）製アートン、三井化学（株）製アペル（ＡＰＬ８００８Ｔ、ＡＰＬ６５０９Ｔ、ＡＰＬ６０１３Ｔ、ＡＰＬ５０１４ＤＰ、ＡＰＬ６０１５Ｔ）等が好ましく用いられる。
【００７７】
塩化ビニル系樹脂としては、塩化ビニル単独重合体（塩化ビニルホモポリマー）、塩化ビニルモノマーと共重合可能な不飽和結合を有するモノマーと塩化ビニルモノマーとの共重合体、重合体に塩化ビニルモノマーをグラフト共重合したグラフト共重合体、これらの塩化ビニルモノマー単位が塩素化されたものからなる（共）重合体等が挙げられる。これらは１種のみを単独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせて使用しても構わない。
【００７８】
アクリル・ウレタン系樹脂は、多価イソシアネート化合物またはイソシアネート基を有するポリウレタンと、アクリル系モノマーと、を反応させて得ることができるものであれば制限なく使用できる。アクリル系モノマーとしては、例えば、アルキルアクリレート（アルキル基としてはメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、２−エチルヘキシル、シクロヘキシル等）、アルキルメタクリレート（アルキル基としてはメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、２−エチルヘキシル、シクロヘキシル等）、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート等のヒドロキシ基含有モノマー、アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチルメタクリルアミド、Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチロールアクリルアミド、Ｎ−メトキシメチルアクリルアミド、Ｎ−メトキシメチルメタクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド等のアミド基含有モノマー、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルメタクリレート等のアミノ基含有モノマー、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート等のグリシジル基含有モノマー、アクリル酸、メタクリル酸およびそれらの塩（ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩等）等のカルボキシル基またはその塩を含有するモノマー等を用いることができる。架橋性官能基を共重合することが好ましく、特にＮ−メチロールアクリルアミドを共重合することが、自己架橋性や架橋密度向上点で特に好ましい。Ｎ−メチロールアクリルアミドの共重合比率は、共重合性や架橋度の点で０．５〜５重量％が好ましく、特に塗布外観の点を考慮すると、１〜３重量％がより好ましい。架橋剤としては、例えば、メラミン系架橋剤、イソシアネート系架橋剤、アジリジン系架橋剤、エポキシ系架橋剤、メチロール化あるいはアルキロール化した尿素系、アクリルアミド系、ポリアミド系樹脂、オキサゾリン系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、各種シランカップリング剤、各種チタネート系カップリング剤等を用いることができる。架橋剤の少なくとも１種がオキサゾリン系架橋剤およびカルボジイミド系架橋剤を含有していることが好ましい。
【００７９】
含フッ素ポリマーとしては、フッ素含有不飽和エチレン性単量体成分を主として含有する重合物を挙げることができる。
【００８０】
フッ素含有不飽和エチレン性単量体としては、含フッ素アルケン、含フッ素アクリル酸エステル、含フッ素メタクリル酸エステル、含フッ素ビニルエステル、含フッ素ビニルエーテル等を挙げることができ、例えば、特開２０１３−０５７９６９号の段落「０１８１」に記載のフッ素含有不飽和エチレン性単量体を挙げることができる。
【００８１】
フッ素含有単量体と共重合し得る単量体としては、例えば、エチレン、プロピレン、ブテン、酢酸ビニル、ビニルエチルエーテル、ビニルエチルケトン、メチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、ブチルアクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、メチル−α−フルオロアクリレート、エチル−α−フルオロアクリレート、プロピル−α−フルオロアクリレート、ブチル−α−フルオロアクリレート、アクリル酸、メタクリル酸、α−フルオロアクリル酸、スチレン、スチレンスルホン酸、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート等が挙げられる。
【００８２】
フッ素含有エチレン性不飽和単量体の単独の樹脂の屈折率は、ほぼ１．３３〜１．４２の範囲にあり、又共重合し得るフッ素を含有しない単量体の単独樹脂ポリマーの屈折率は、１．４４以上で、これらを任意の割合で共重合して目的の屈折率の含フッ素ポリマーとして用いることができ、上記ポリビニルアルコールと任意の割合で混合して目的の屈折率のものとして使用できる。かような含フッ素ポリマーとポリビニルアルコールとの屈折率層における含有質量比（固形分換算）は、好適にはポリビニルアルコール：含フッ素ポリマー＝１：０．１〜５である。
【００８３】
各屈折率層中の樹脂の含有量は、各屈折率層中に無機酸化物（１１１ａないし１１２ａ）を含有しない場合においては、コーティング時の粘度調節の観点から、各屈折率層中の固形分の総量に対して５０〜１００質量％であることが好ましく、８０〜１００質量％であることが好ましい。５０質量％以上であれば層形成が可能である。一方、各屈折率層中の樹脂の含有量は、各屈折率層中に無機酸化物（１１１ａないし１１２ａ）を含有する場合においては、各屈折率層中の固形分の総量に対して３０〜７０質量％であることが好ましく、４０〜５０質量％であることが好ましい。無機酸化物（１１１ａないし１１２ａ）を含有する場合でも、樹脂の含有量が３０質量％以上であれば層形成が可能である。
【００８４】
（無機酸化物１１ａ（１１１ａないし１１２ａ）
本形態の太陽光反射フィルム１０、１０’における紫外線反射部１１の少なくとも１層が、少なくとも１種の無機酸化物１１ａを含むことを特徴とするものである。かかる構成とすることで、紫外線反射積層部１１が紫外線を効率的に反射し、太陽光の効率的利用が図られる。また紫外線を反射することで、下層材料の劣化を防止し、耐久性を高めることができる。特に無機酸化物１１ａにより、無機酸化物１１ａを含有する層（屈折率層）を高屈折率化することができる。また、無機酸化物１１ａを含有する層（屈折率層）の形成に用いる塗布液（屈折率層用塗布液）の粘度を調整することができる点で優れている。好ましくは、前記紫外線線反射部１１を構成する低屈折率層１１１または高屈折率層１１２の少なくとも一方は、それぞれ無機酸化物１１ａ（１１１ａないし１１２ａ）および上述の樹脂１１ｂを含むのが好ましい。更に低屈折率層１１１または高屈折率層１１２の少なくとも一方は、それぞれ無機酸化物１１ａ（１１１ａないし１１２ａ）および樹脂成分を含む溶液を塗布することにより形成されてなることが好ましい。これにより、紫外線反射積層部１１がコーティングによって形成し得るため、大面積生産を短時間で行うことが可能である。
【００８５】
無機酸化物粒子１１ａは、紫外線反射に適するように、平均粒径が１００ｎｍ以下であることが好ましい。用いる無機酸化物粒子の平均粒径が１００ｎｍ以下であることで、光散乱を抑制し、また紫外線反射フィルムにおける各屈折率層の膜厚制御の際の精度を向上させることができる。ここで、本明細書において平均粒径は、一次平均粒径を指す。本明細書でいう一次平均粒径とは、粒子そのものをレーザー回折散乱法、動的光散乱法、あるいは電子顕微鏡を用いて観察する方法や、屈折率層（１１１、１１２）の断面や表面に現れた粒子像を電子顕微鏡で観察する方法により、１０００個の任意の粒子の粒径を測定し、その平均を求めた値である。無機酸化物粒子１１ａの平均粒径は、無機酸化物粒子１１ａが被覆処理されている場合（例えば、後述のシリカ付着二酸化チタンゾル等）、無機酸化物粒子１１ａの平均粒径とは母体（上記シリカ付着二酸化チタンゾルの場合は、処理前の二酸化チタン）の平均粒径を指すものとする。本実施形態において、低屈折率層１１１中の無機酸化物１１１ａ（例えば、コロイダルシリカ粒子など）は低屈折率材料として機能し、高屈折率層１１２中の無機酸化物１１２ａ（例えば、酸化チタン粒子など）は高屈折率材料として機能する。
【００８６】
（低屈折率層１１１中の無機酸化物１１１ａ）
低屈折率層１１１には無機酸化物１１１ａとしてシリカ（二酸化ケイ素）を用いることが好ましく、具体的な例として合成非晶質シリカ、コロイダルシリカ等が挙げられる。これらのうち、酸性のコロイダルシリカゾルを用いることがより好ましく、有機溶媒に分散させたコロイダルシリカを用いることが特に好ましい。また、屈折率をより低減させるために、低屈折率層１１１の無機酸化物微粒子１１１ａとして、粒子の内部に空孔を有する中空微粒子を用いてもよく、特にシリカ（二酸化ケイ素）の中空微粒子が好ましい。また、シリカ以外の公知の無機酸化物粒子も使用することができる。低屈折率層１１１において、無機酸化物１１１ａとしては、屈折率が低く小粒径である観点から、二酸化ケイ素を用いることが好ましく、屈折率が低く小粒径であり更に透明性が高く、二次粒子を作らず扱いやすい観点から、コロイダルシリカを用いることが特に好ましい。
【００８７】
低屈折率層１１１に含まれる無機酸化物粒子１１１ａ（好ましくは二酸化ケイ素）は、その平均粒径が３〜１００ｎｍであることが好ましい。一次粒子の状態で分散された二酸化ケイ素の一次粒子の平均粒径（塗布前の分散液状態での粒径）は、３〜５０ｎｍであるのがより好ましく、３〜４０ｎｍであるのがさらに好ましく、３〜２０ｎｍであるのが特に好ましく、４〜１０ｎｍであるのがもっとも好ましい。また、二次粒子の平均粒径としては、３０ｎｍ以下であることが、ヘイズが少なく可視光透過性に優れる観点で好ましい。
【００８８】
本形態で用いられるコロイダルシリカは、珪酸ナトリウムの酸等による複分解やイオン交換樹脂層を通過させて得られるシリカゾルを加熱熟成して得られるものであり、たとえば、特開昭５７−１４０９１号公報、特開昭６０−２１９０８３号公報などに記載されているものである。
【００８９】
この様なコロイダルシリカは合成品を用いてもよいし、市販品を用いてもよい。市販品としては、日産化学工業（株）から販売されているスノーテックスシリーズ（スノーテックスＯＳ、ＯＸＳ、Ｓ、ＯＳ、２０、３０、４０、Ｏ、Ｎ、Ｃ等）が挙げられる。
【００９０】
コロイダルシリカは、その表面をカチオン変性されたものであってもよく、また、Ａｌ、Ｃａ、ＭｇまたはＢａ等で処理された物であってもよい。
【００９１】
また、低屈折率層１１１の無機酸化物粒子１１１ａとして、中空粒子を用いることもできる。中空微粒子を用いる場合には、平均粒子空孔径が、３〜７０ｎｍであるのが好ましく、５〜５０ｎｍがより好ましく、５〜４５ｎｍがさらに好ましい。なお、中空微粒子の平均粒子空孔径とは、中空微粒子の内径の平均値である。中空微粒子の平均粒子空孔径は、上記範囲であれば、十分に低屈折率層の屈折率が低屈折率化される。平均粒子空孔径は、電子顕微鏡観察で、円形、楕円形または実質的に円形は楕円形として観察できる空孔径を、ランダムに５０個以上観察し、各粒子の空孔径を求め、その数平均値を求めることにより得られる。なお、平均粒子空孔径は、円形、楕円形または実質的に円形もしくは楕円形として観察できる空孔径の外縁を、２本の平行線で挟んだ距離のうち、最小の距離を意味する。
【００９２】
低屈折率層１１１における無機酸化物粒子１１１ａの含有量は、低屈折率層の固形分１００質量％に対して、２０〜９０質量％であることが好ましく、３０〜８５質量％であることがより好ましく、４０〜７０質量％であることがさらに好ましい。２０質量％以上であると、所望の屈折率が得られ９０質量％以下であると塗布性が良好となり好ましい。
【００９３】
（高屈折率層１１２中の無機酸化物１１２ａ）
本形態に係る高屈折率層１１２の無機酸化物粒子１１２ａとしては、例えば、二酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、アルミナ、コロイダルアルミナ、チタン酸鉛、鉛丹、黄鉛、亜鉛黄、酸化クロム、酸化第二鉄、鉄黒、酸化銅、酸化マグネシウム、水酸化マグネシウム、チタン酸ストロンチウム、酸化イットリウム、酸化ニオブ、酸化ユーロピウム、酸化ランタン、ジルコン、酸化スズなどが挙げられる。中でも、透明でより屈折率の高い高屈折率層１１２を形成することのできる、二酸化チタン、酸化ジルコニウム等の無機酸化物粒子１１２ａが好ましい。
【００９４】
二酸化チタンとしては、ルチル型（正方晶形）酸化チタン粒子が好ましい。
【００９５】
高屈折率層１１２で用いられる無機酸化物粒子１１２ａに用いられる無機酸化物粒子１１２ａの一次平均粒径は、３０ｎｍ以下であることが好ましく、１〜３０ｎｍであることがより好ましく、５〜１５ｎｍであることがさらに好ましい。一次平均粒径が１ｎｍ以上３０ｎｍ以下であれば、ヘイズが少なく可視光透過性に優れる観点で好ましい。
【００９６】
本形態の酸化チタン粒子としては、水系の酸化チタンゾルの表面を変性して分散状態を安定にしたものを用いることが好ましい。
【００９７】
さらに、酸化チタン粒子を含ケイ素の水和酸化物で被覆した、コアシェル構造を有する粒子を用いてもよい。ここで、「被覆」とは、酸化チタン粒子の表面の少なくとも一部に、含ケイ素の水和酸化物が付着されている状態を意味する。すなわち、無機酸化物粒子１１２ａとして用いられる酸化チタン粒子の表面が、完全に含ケイ素の水和酸化物で被覆されていてもよく、酸化チタン粒子の表面の一部が含ケイ素の水和酸化物で被覆されていてもよい。被覆された酸化チタン粒子の屈折率が含ケイ素の水和酸化物の被覆量により制御される観点から、酸化チタン粒子の表面の一部が含ケイ素の水和酸化物で被覆されることが好ましい。以下ではこのような被覆された酸化チタン粒子を「シリカ付着二酸化チタンゾル」とも称する。
【００９８】
含ケイ素の水和酸化物で被覆された酸化チタン粒子の酸化チタンはルチル型であってもアナターゼ型であってもよいが、ルチル型がより好ましい。これは、ルチル型の酸化チタン粒子が、アナターゼ型の酸化チタン粒子より光触媒活性が低いため、高屈折率層１１２や隣接した低屈折率層１１１の耐候性が高くなり、さらに屈折率が高くなるためである。
【００９９】
本明細書における「含ケイ素の水和酸化物」とは、無機ケイ素化合物の水和物、有機ケイ素化合物の加水分解物および／または縮合物のいずれでもよいが、本形態の効果を得るためにはシラノール基を有することがより好ましい。
【０１００】
含ケイ素の水和酸化物の被覆量は、３〜３０質量％、好ましくは３〜１０質量％、より好ましくは３〜８質量％である。被覆量が３０質量％以下であると、高屈折率層の所望の屈折率化が得られ、被覆量が３％以上であると粒子を安定に形成することができるからである。
【０１０１】
酸化チタン粒子を含ケイ素の水和酸化物で被覆する方法としては、従来公知の方法により製造することができ、例えば、特開平１０−１５８０１５号公報、特開２０００−２０４３０１号公報、特開２００７−２４６３５１号公報等に記載された事項を参照することができる。
【０１０２】
高屈折率層１１２における無機酸化物粒子１１２ａの含有量としては、高屈折率層１１２の固形分１００質量％に対して、１５〜９０質量％であることが好ましく、２０〜８５質量％であることがより好ましく、３０〜８５質量％であることが反射率向上の観点から、さらに好ましい。
【０１０３】
（他の添加剤）
各屈折率層（１１１、１１２）は、塗布により形成する場合の塗布性の観点から界面活性剤を含有することが好ましい。塗布時の表面張力調整のため用いられる界面活性剤としてアニオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、両性界面活性剤等を用いることができるが、アニオン系界面活性剤がより好ましい。好ましい化合物としては、１分子中に炭素数８〜３０の疎水性基とスルホン酸基またはその塩を含有するものが挙げられる。
【０１０４】
アニオン系界面活性剤としては、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、アルカンまたはオレフィンスルホン酸塩、アルキル硫酸エステル塩、ポリオキシエチレンアルキルまたはアルキルアリールエーテル硫酸エステル塩、アルキルリン酸塩、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩、エーテルカルボキシレート、アルキルスルホコハク酸エステル塩、α−スルホ脂肪酸エステルおよび脂肪酸塩よりなる群から選ばれる界面活性剤や、高級脂肪酸とアミノ酸との縮合物、ナフテン酸塩等を用いることができる。好ましく用いられるアニオン系界面活性剤は、アルキルベンゼンスルホン酸塩（とりわけ直鎖アルキルのもの）、アルカンまたはオレフィンスルホン酸塩（とりわけ第２級アルカンスルホン酸塩、α−オレフィンスルホン酸塩）、アルキル硫酸エステル塩、ポリオキシエチレンアルキルまたはアルキルアリールエーテル硫酸エステル塩（とりわけポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩）、アルキル燐酸塩（とりわけモノアルキルタイプ）、エーテルカルボキシレート、アルキルスルホコハク酸塩、α−スルホ脂肪酸エステルおよび脂肪酸塩よりなる群から選ばれる界面活性剤であり、特に好ましくは、アルキルスルホコハク酸塩である。
【０１０５】
各屈折率層における界面活性剤の含有量は、各屈折率層中の固形分の総量に対して、０．００１〜０．５質量％であることが好ましく、０．００５〜０．３質量％であることがより好ましい。
【０１０６】
各屈折率層は、塗布液の分散安定性の観点から高分子分散剤を含有することが好ましい。高分子分散剤とは、重量平均分子量が１０，０００以上の高分子の分散剤を指す。好適には、側鎖または末端に水酸基が置換された高分子であり、例えばポリアクリル酸ソーダ、ポリアクリルアミドのようなアクリル系の高分子で２−エチルヘキシルアクリレートが共重合されたもの、ポリエチレングリコールやポリプロピレングリコールのようなポリエーテル、ポリビニルアルコール等が挙げられる。高分子分散剤は市販品を用いてもよく、かような高分子分散剤としては、マリアリムＡＫＭ−０５３１（日油社製）等が挙げられる。高分子分散剤の含有量は屈折率層に対して固形分換算で０．１〜１０質量％であることが好ましい。
【０１０７】
各屈折率層は、エマルジョン樹脂をさらに含有していてもよい。エマルジョン樹脂を含むことにより、膜の柔軟性が高くなりガラスへの貼りつけ等の加工性がよくなる。
【０１０８】
エマルジョン樹脂とは、水系媒体中に微細な、例えば、平均粒径が０．０１〜２．０μｍ程度の樹脂粒子がエマルジョン状態で分散されている樹脂で、油溶性のモノマーを、水酸基を有する高分子分散剤を用いてエマルジョン重合して得られる。
【０１０９】
水酸基を含む高分子分散剤としては、例えばポリアクリル酸ソーダ、ポリアクリルアミドのようなアクリル系の高分子で２−エチルヘキシルアクリレートが共重合されたもの、ポリエチレングリコールやポリプロピレングリコールのようなポリエーテル、ポリビニルアルコール等が挙げられ、特にポリビニルアルコールが好ましい。
【０１１０】
高分子分散剤として使用されるポリビニルアルコールは、ポリ酢酸ビニルを加水分解して得られる通常のポリビニルアルコールの他に、カチオン変性したポリビニルアルコールやカルボキシル基のようなアニオン性基を有するアニオン変性ポリビニルアルコール、シリル基を有するシリル変性ポリビニルアルコール等の変性ポリビニルアルコールも含まれる。ポリビニルアルコールは、平均重合度は高い方が各屈折率層を形成する際のクラックの発生を抑制する効果が大きいが、平均重合度が５０００以内であると、エマルジョン樹脂の粘度が高くなく、製造時に取り扱いやすい。したがって、平均重合度は３００〜５０００のものが好ましく、１５００〜５０００のものがより好ましく、３０００〜４５００のものが特に好ましい。ポリビニルアルコールの鹸化度は７０〜１００ｍｏｌ％のものが好ましく、８０〜９９．５ｍｏｌ％のものがより好ましい。
【０１１１】
上記の高分子分散剤で乳化重合される樹脂としては、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、ビニル系化合物、スチレン系化合物といったエチレン系単量体、ブタジエン、イソプレンといったジエン系化合物の単独重合体または共重合体が挙げられ、例えばアクリル系樹脂、スチレン−ブタジエン系樹脂、エチレン−酢酸ビニル系樹脂等が挙げられ、これらの樹脂も各屈折率層を構成する樹脂として使用できる。
【０１１２】
各屈折率層は、上記以外にも、例えば、特開昭５７−７４１９３号公報、同５７−８７９８８号公報および同６２−２６１４７６号公報に記載の紫外線吸収剤、特開昭５７−７４１９２号公報、同５７−８７９８９号公報、同６０−７２７８５号公報、同６１−１４６５９１号公報、特開平１−９５０９１号公報および同３−１３３７６号公報等に記載されている退色防止剤、特開昭５９−４２９９３号公報、同５９−５２６８９号公報、同６２−２８００６９号公報、同６１−２４２８７１号公報および特開平４−２１９２６６号公報等に記載されている蛍光増白剤、硫酸、リン酸、酢酸、クエン酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等のｐＨ調整剤、消泡剤、ジエチレングリコール等の潤滑剤、防腐剤、帯電防止剤、マット剤、ヒンダードアミン系などの光安定剤等の公知の各種添加剤を含有していてもよい。
【０１１３】
（膜設計）
本形態の太陽光反射フィルム１０、１０’は、低屈折率層１１１および高屈折率層１１２が積層されたユニットを少なくとも１つ有する紫外線反射積層部１１を有する。低屈折率層１１１および高屈折率層１１２の総層数の範囲は、１００層以下、より好ましくは４５層以下である。下限は特に限定されるものではないが、５層以上であることが好ましい。光散乱および反射強度を考慮すると、１つの紫外線反射積層部１１あたりの低屈折率層１１１および高屈折率層１１２の総層数の範囲は、７〜２３層であることが好ましい。
【０１１４】
また、低屈折率層１１１と高屈折率層１１２との屈折率の差を大きく設計することが、少ない層数で所望の光線である紫外線に対する反射率を高くすることができるという観点から好ましい。本形態においては、少なくとも隣接した２層（低屈折率層１１１および高屈折率層１１２）の屈折率差が０．１以上であることが好ましく、より好ましくは０．２５以上であり、さらに好ましくは０．３以上であり、よりさらに好ましくは０．３５以上である。また、上限には特に制限はないが通常１．４以下である。ただし、例えば、最表層はフィルムを保護するための層として形成される場合または最下層が基板との接着性改良層として形成される場合等において、最表層や最下層に関しては、上記好適な屈折率差の範囲外の構成であってもよい。なお、紫外線反射積層部１１における各屈折率層間の屈折率差と、必要な層数とについては、市販の光学設計ソフトを用いて計算することができる。
【０１１５】
低屈折率層１１１は、屈折率が１．１０〜１．６０であることが好ましく、より好ましくは１．３０〜１．５５である。高屈折率層１１２は、屈折率が１．８０〜２．５０であることが好ましく、より好ましくは１．８０〜２．２０である。
【０１１６】
隣接した層界面での反射は、層間の屈折率比に依存するのでこの屈折率比が大きいほど、反射率が高まる。また、単層膜でみたとき層表面における反射光と、層底部における反射光の光路差を、ｎ・ｄ＝波長／４、で表される関係にすると位相差により反射光を強めあうよう制御でき、反射率を上げることができる。ここで、ｎは屈折率、またｄは層の物理膜厚、ｎ・ｄは光学膜厚である。この光路差を利用することで、反射を制御できる。この関係を利用して、各層の屈折率と膜厚を制御して、可視光の透過や、紫外線の反射を制御する。
【０１１７】
また、高屈折率層１１２の平均厚さｄＨと、低屈折率層１１１の平均厚さｄＬとの関係が、下記式（１）および（２）を満たすことが好ましい。
【０１１８】
｜ｄＨ−ｄＬ｜＜４０ｎｍ      式（１）
｜ｄＨ＋ｄＬ｜＜１５０ｎｍ    式（２）
上記式（１）および（２）を満たすことで、紫外域の反射率を高くすることができる。｜ｄＨ−ｄＬ｜は２５ｎｍ以下であることがより好ましい。｜ｄＨ−ｄＬ｜の下限は特に限定されないが、光路差を確保するために、５ｎｍ以上であることが好ましい。また、｜ｄＨ＋ｄＬ｜は１３０ｎｍ以下であることがより好ましい。｜ｄＨ＋ｄＬ｜の下限は通常１００ｎｍ以上となる。
【０１１９】
高屈折率層１１２の１層あたりの厚み（乾燥後の厚み）は、２０〜８０ｎｍであることが好ましく、３０〜７０ｎｍであることがより好ましく、４０〜６０ｎｍであることがより好ましい。低屈折率層１１１２１層あたりの厚み（乾燥後の厚み）は、４０〜１００ｎｍであることが好ましく、５０〜９０ｎｍであることがより好ましく、６０〜８０ｎｍであることがより好ましい。
【０１２０】
（紫外線反射積層部の製造方法）
本形態の太陽光反射フィルム１０、１０’における紫外線反射積層部１１の製造方法は特に制限はないが、大面積かつ大量生産が可能であること、製造が容易であること、および好適には水溶性樹脂を含むことから、塗布による膜形成法が好ましい。また、塗布の方法としては、逐次塗布でも同時重層塗布でもよいが、生産性が向上することから、同時重層塗布であることが好ましい。
【０１２１】
塗布方式としては、例えば、ロールコーティング法、ロッドバーコーティング法、エアナイフコーティング法、スプレーコーティング法、カーテン塗布方法、あるいは米国特許第２，７６１，４１９号、同第２，７６１，７９１号公報に記載のホッパーを使用するスライドビード塗布方法、エクストルージョンコート法等が好ましく用いられる。
【０１２２】
低屈折率層用塗布液、高屈折率層用塗布液および樹脂層塗布液を調製するための溶媒は、特に制限されないが、水、有機溶媒、またはその混合溶媒が好ましい。本形態においては、好適な樹脂として水溶性樹脂を用いることができるために、水系溶媒を用いることができる。水系溶媒は、有機溶媒を用いる場合と比較して、大規模な生産設備を必要とすることがないため、生産性の点で好ましく、また環境保全の点でも好ましい。
【０１２３】
前記有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−ブタノール等のアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステル類、ジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等のエーテル類、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド類、アセトン、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、シクロヘキサノン等のケトン類等が挙げられる。これら有機溶媒は、単独でもまたは２種以上混合して用いてもよい。環境面、操作の簡便性等から、塗布液の溶媒としては、特に水、または水とメタノール、エタノール、もしくは酢酸エチルとの混合溶媒が好ましく、水がより好ましい。
【０１２４】
低屈折率層用塗布液中の樹脂（水溶性樹脂等）の濃度は、０．５〜１０質量％であることが好ましい。また、低屈折率層用塗布液中の無機酸化物粒子の濃度は、１〜５０質量％であることが好ましい。高屈折率層用塗布液中の樹脂（水溶性樹脂等）の濃度は、０．５〜１０質量％であることが好ましい。また、高屈折率層用塗布液中の無機酸化物粒子の濃度は、１〜５０質量％であることが好ましい。
【０１２５】
低屈折率層用塗布液、高屈折率層用塗布液の調製方法は、特に制限されず、例えば、無機酸化物粒子、樹脂（水溶性樹脂など）、および必要に応じて添加されるその他の添加剤を添加し、攪拌混合する方法が挙げられる。この際、各成分の添加順も特に制限されず、攪拌しながら各成分を順次添加し混合してもよいし、攪拌しながら一度に添加し混合してもよい。必要に応じて、さらに溶媒を用いて、適当な粘度に調製される。
【０１２６】
同時重層塗布を行う際の低屈折率層用塗布液および高屈折率層用塗布液の温度は、スライドビード塗布方式、カーテン塗布方式を用いる場合は、２５〜６０℃の温度範囲が好ましく、３０〜４５℃の温度範囲がより好ましい。
【０１２７】
同時重層塗布を行う際の低屈折率層用塗布液と高屈折率層用塗布液の粘度は、特に制限されない。しかしながら、スライドビード塗布方式を用いる場合には、上記の塗布液の好ましい温度の範囲（２５〜６０℃）において、５〜１００ｍＰａ・ｓの範囲が好ましく、さらに好ましくは１０〜５０ｍＰａ・ｓの範囲である。また、カーテン塗布方式を用いる場合には、上記の塗布液の好ましい温度の範囲（２５〜６０℃）において、５〜１２００ｍＰａ・ｓの範囲が好ましく、さらに好ましくは２５〜５００ｍＰａ・ｓの範囲である。このような粘度の範囲であれば、効率よく同時重層塗布を行うことができる。
【０１２８】
また、塗布液の１５℃における粘度としては、１００ｍＰａ・ｓ以上が好ましく、１００〜３０，０００ｍＰａ・ｓがより好ましく、さらに好ましくは３，０００〜３０，０００ｍＰａ・ｓであり、最も好ましいのは１０，０００〜３０，０００ｍＰａ・ｓである。
【０１２９】
塗布および乾燥方法の条件は、特に制限されないが、例えば、逐次塗布法の場合は、まず、図１に示す形態のように樹脂フィルム状支持体１２の片面に銀反射層１３、腐食防止層１４が形成された該樹脂フィルム状支持体１２のもう一方の面（光入射面側）上に、あるいは図２に示す形態のように樹脂フィルム状支持体１２の片面に銀反射層１３、腐食防止層１４が形成された当該腐食防止層１４上に、低屈折率層用塗布液および高屈折率層用塗布液のいずれか一方の塗布液をこの樹脂フィルム状支持体１２或いは腐食防止層１４上に塗布、乾燥し、さらに低屈折率層用塗布液および高屈折率層用塗布液の他方の塗布液を前記一方の塗布液からなる塗膜上に塗布、乾燥し、積層膜前駆体（ユニット）を形成する。次に、所望の紫外線反射性能を発現するために必要なユニット数を、前記方法にて逐次塗布、乾燥して積層させて積層膜前駆体を得る。乾燥する際は、形成した塗膜を、３０℃以上で乾燥することが好ましい。例えば、湿球温度５〜５０℃、膜面温度５〜１００℃（好ましくは１０〜５０℃）の範囲で乾燥するのが好ましく、例えば、４０〜６０℃の温風を１〜５秒吹き付けて乾燥する。乾燥方法としては、温風乾燥、赤外乾燥、マイクロ波乾燥が用いられる。また単一プロセスでの乾燥よりも多段プロセスの乾燥が好ましく、恒率乾燥部の温度＜減率乾燥部の温度にするのがより好ましい。この場合の恒率乾燥部の温度範囲は３０〜６０℃、減率乾燥部の温度範囲は５０〜１００℃にするのが好ましい。
【０１３０】
また、同時重層塗布を行う場合の塗布および乾燥方法の条件は、低屈折率層用塗布液、および高屈折率層用塗布液を３０〜６０℃に加温して、樹脂フィルム状支持体１２或いは腐食防止層１４上に低屈折率層用塗布液と高屈折率層用塗布液の同時重層塗布を行った後、形成した塗膜の温度を好ましくは１〜１５℃にいったん冷却し（セット）、その後１０℃以上で乾燥することが好ましい。より好ましい乾燥条件は、湿球温度５〜５０℃、膜面温度１０〜５０℃の範囲の条件である。例えば、８０℃の温風を吹き付けて乾燥する。乾燥時間は、特に制限されるものではないが、例えば、１〜５秒程度が生産性の観点から好ましい。また、塗布直後の冷却方式としては、形成された塗膜の均一性向上の観点から、水平セット方式で行うことが好ましい。
【０１３１】
［銀反射層１３］
本形態の太陽光反射フィルム１０、１０’における銀反射層１３は、特に可視光〜赤外線領域の光；２８０〜２５００ｎｍの波長を反射する機能を有する銀もしくは銀を主成分とする層である。銀反射層１３は、図１、２に示すように、光入射面側の紫外線反射積層部１１よりも下層側に設けられていればよい。ここで、銀を主成分とするとは、銀反射層１３を構成する銀含有合金の中で最も銀の含有量が大きければよく、好ましくは銀の含有量が７０質量％以上、より好ましくは８０質量％以上、更に好ましくは９０質量％以上であり、最も好ましくは１００質量％である。なお、銀含有合金に含まれる他合金成分としては、製膜時の温度、太陽光反射率、耐食性の観点から、Ａｌ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｒｈ、Ｐｔ及びＡｕからなる元素群の中から選ばれるいずれかの元素を含む材料が好ましく、よい好ましくはＡｌである。
【０１３２】
銀反射層１３の表面反射率（詳しくは、可視光〜赤外線領域の反射率；２８０〜２５００ｎｍの波長の反射率）は好ましくは８０％以上、さらに好ましくは９０％以上である。銀反射層１３の上記表面反射率は、市販の分光光度計を用いて測定することができる。
【０１３３】
また、銀反射層１３上にＳｉＯ２、ＴｉＯ２等の金属酸化物からなる層（図１、２中には図示せず）を設けてさらに反射率を向上させてもよい。
【０１３４】
本発明における銀反射層１３の形成法としては、例えば、湿式法及び乾式法のどちらも使用することができる。
【０１３５】
湿式法とは、めっき法または金属錯体溶液塗布法の総称であり、溶液から金属を析出させ膜を形成する方法である。具体例を挙げると銀鏡反応や、銀錯体インクの焼成（詳しくは銀錯体化合物を含有する銀コーティング液組成物を塗布して形成した塗布膜の焼成）による銀層形成等がある。
【０１３６】
一方、乾式法とは、真空成膜法の総称であり、具体的には、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法等がある。とりわけ、本発明には連続的に成膜するロールツーロール方式が可能な蒸着法が好ましく用いられる。すなわち、本発明の太陽光反射フィルム１０の製造方法においては、銀反射層１３を銀の蒸着により形成することが好ましい。
【０１３７】
銀反射層１３の厚さは、太陽光反射率、耐食性等の観点から、１０〜２００ｎｍが好ましく、より好ましくは３０〜１５０ｎｍである。
【０１３８】
（気化・脱離しうる配位子を有する銀錯体化合物）
銀反射層１３を形成する際に、配位子が気化・脱離しうる銀錯体化合物を含有する塗布膜を加熱焼成することにより銀反射層１３を形成するようにしてもよい。
【０１３９】
「気化・脱離しうる配位子を有する銀錯体化合物」とは、溶液中では銀が安定に溶解するための配位子を有するが、溶媒を除去し、加熱焼成することによって、配位子が熱分解し、ＣＯ２や低分子量のアミン化合物となり、気化・脱離し、金属銀のみが残存することのできる銀錯体化合物のことをいう。
【０１４０】
このような銀錯体化合物およびその製造方法については、例えば、公知である特開２０１２−１３７５７９号公報の段落「００６４」〜「００８９」に記載の銀錯体化合物およびその製造方法を適宜用いることができる。
【０１４１】
［腐食防止層１４］
腐食防止層１４は、空気中の水分や化学物質等の銀反射層１３（ミラー面）への侵入を防止（ひいては銀反射層１３の銀や銀含有合金材料（特に銀）の腐食を防止）し、更には外部からの機械的な圧力、例えば衝撃や引っ掻き等から保護する目的で設けられている。即ち、腐食防止層１４により、銀反射層１３の銀の腐食を防止して太陽光の反射を維持することができる。その結果、太陽光反射フィルム１０、１０’の耐久性を向上することができる。上記目的から、腐食防止層１４は、銀反射層３に隣接して設けられているのが望ましい。但し、上記目的を達成し得る範囲内であれば、銀反射層１３から離して（隣接することなく）設けられていてもよく、そうした場合にも銀の腐食防止剤を含有していることが好ましい。
【０１４２】
腐食防止層１４は、１層のみからなっていてもよいし、複数層からなっていてもよい。
【０１４３】
（腐食防止層１４ａ）
複数層からなる腐食防止層１４を設ける場合、銀反射層１３と接する面上に設けられる腐食防止層１４ａとしては、上記目的を達成した上で、腐食防止層１４ａ上に設けられる腐食防止層１４ｂと銀反射層１３とを密着させるために設けられる層である。従って、腐食防止層１４ａは上記腐食防止層１４ｂと銀反射層１３とを密着させる密着性、及び銀反射層１３が本来有する高い反射性能を引き出すための平滑性が必要である。また、図２に示す態様では、銀反射層１３よりも光入射面側に位置するため、透明性（特に太陽光透過率）に優れるものが望ましい。
【０１４４】
腐食防止層１４ａに使用するバインダー（樹脂）は、上記の密着性及び平滑性、（更には透明性）の条件を満足するものであれば特に制限はなく、後述するバインダー（樹脂）の中から適宜選択することができる。中でも、アクリル、シリコーン、オレフィン、ポリエステルが好ましい。また、腐食防止層１４ａは、後述する腐食防止剤が適量含有される。
【０１４５】
腐食防止層１４ａの厚さは、０．０５〜５μｍが好ましく、より好ましくは０．１〜３μｍである。この範囲を満たすことにより、密着性を保ちつつ、銀反射層１３表面（銀蒸着面）の凹凸を覆い隠すことができ、平滑性を良好にでき、腐食防止層１４ａの硬化も十分に行えるため、結果として本形態の太陽光反射フィルム１０の反射率を高めることが可能となる。
【０１４６】
（腐食防止層１４ｂ）
複数層からなる腐食防止層１４を設ける場合、銀反射層１３と腐食防止層１４ａを介して設けられる腐食防止層１４ｂとしては、上記目的を達成した上で、特に紫外線反射積層部との密着性を維持させるために設けられる層である。従って、腐食防止層１４ｂは紫外線反射積層部との密着性を良好にするための密着性、コーティングによる紫外線反射積層部が均一に塗布可能になるための平滑性と親水性が必要である。
【０１４７】
腐食防止層１４ｂに使用するバインダー（樹脂）は、上記した腐食防止層本来の目的を達成ことができるものであれば特に制限はなく、後述するバインダー（樹脂）の中から適宜選択することができる。中でも、水酸基やカルボキシル基をもつアクリル樹脂が好ましい。また、腐食防止層１４ｂも、後述する腐食防止剤が適量含有される。
【０１４８】
腐食防止層１４ｂの厚さは、０．０５〜５μｍが好ましく、より好ましくは０．１〜３μｍである。この範囲を満たすことにより、密着性を保ちつつ、腐食防止層１４ｂの硬化も十分に行えるため、結果として空気中の水分や化学物質等の銀反射層１３（ミラー面）への侵入を防止（ひいては銀反射層１３の銀や銀含有合金材料（特に銀）の腐食を防止）し、更には外部からの機械的な圧力、例えば衝撃や引っ掻き等から保護することができ、本形態の太陽光反射フィルム１０の耐侯性（耐久性）、耐傷性、反射率を高めることが可能となる。
【０１４９】
腐食防止層１４の厚さ（２層以上の場合は合計厚さ）は、１〜１０μｍが好ましく、より好ましくは２〜８μｍである。腐食防止層１４の厚さが１μｍ以上であれば、空気中の水分や化学物質等の銀反射層１３（ミラー面）への侵入、更には外部からの機械的な圧力、例えば衝撃や引っ掻き等から保護することができる。腐食防止層１４の厚さが１０μｍ以下であれば、フレキシブル性を十分に維持することができるため、クラックや割れを効果的に防止することができる。
【０１５０】
腐食防止層１４は、屋外環境下で長期にわたって設置しても銀反射層１３との高い膜密着性を保つことができ、上記目的を達成でき。更に図２に示す態様のように水溶性高分子（＝紫外線反射積層部１１の構成部材）が腐食防止層１４の上に形成できるように、銀反射層１３を被覆する腐食防止層１４の水接触角が、９０°未満であるのが好ましく、より好ましくは８５〜４０°、更に好ましくは８０〜４０°、特に好ましくは７５〜４０°の範囲である。腐食防止層１４の水接触角は、既存の測定装置を用いて測ることができ、例えば、協和界面化学株式会社製のＤＭ３００等を使用して計測することができる。
【０１５１】
腐食防止層１４は、屋外環境下で長期にわたって設置しても銀反射層１３との高い膜密着性を保つことができ、上記目的を達成できるように、主にバインダー（樹脂）から構成されており、更に銀反射層１３の銀や銀含有合金材料と同種の金属（特に銀）の腐食防止剤を含む。このうち、腐食防止層１４のバインダー（樹脂）としては、例えば、以下の樹脂を好ましく用いることができる。セルロースエステル、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン系、ポリカーボネート、ノルボルネン系、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリル樹脂等を挙げることができる。中でも、アクリル樹脂、ポリエステルが好ましい。
【０１５２】
（腐食防止剤）
腐食防止層１４の腐食防止剤としては、銀反射層１３の銀や銀含有合金材料の腐食を防止する観点から、銀反射層１３の銀や銀含有合金材料と同種の金属（特に銀、更に必要に応じてＡｌ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｒｈ、Ｐｔ及びＡｕからなる元素群の中から選ばれるいずれかの元素）の腐食防止剤、特に銀に対する吸着性基を有することが好ましい。ここで、「腐食」とは、金属（特に銀）がそれをとり囲む環境物質によって、化学的または電気化学的に浸食されるか若しくは材質的に劣化する現象をいう（ＪＩＳ  Ｚ０１０３−２００４参照）。なお、腐食防止剤の含有量は、使用する化合物によって最適量は異なるが、一般的には０．００１〜０．１ｇ／ｍ２の範囲内であることが好ましい。
【０１５３】
銀反射層１３の銀や銀含有合金材料と同種の金属（特に銀、更に必要に応じてＡｌ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｒｈ、Ｐｔ及びＡｕからなる元素群の中から選ばれるいずれかの元素）の腐食防止剤としては、シリコーン変性樹脂、シランカップリング剤、チオール基を複数含有する化合物及び以下に挙げる銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤から選ばれることが望ましい。
【０１５４】
銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤としては、アミン類およびその誘導体、ピロール環を有する化合物、ベンゾトリアゾール等トリアゾール環を有する化合物、ピラゾール環を有する化合物、チアゾール環を有する化合物、イミダゾール環を有する化合物、インダゾール環を有する化合物、銅キレート化合物類、チオ尿素類、メルカプト基を有する化合物、ナフタレン系の少なくとも一種またはこれらの混合物から選ばれることが望ましい。ベンゾトリアゾール等の化合物においては、紫外線吸収剤が腐食防止剤を兼ねる場合もある。また、シリコーン変性樹脂を用いることも可能である。シリコーン変性樹脂としては特に限定されない。
【０１５５】
アミン類およびその誘導体としては、エチルアミン、ラウリルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、Ｏ−トルイジン、ジフェニルアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、２Ｎ−ジメチルエタノールアミン、２−アミノ−２−メチル−１，３−プロパンジオール、アセトアミド、アクリルアミド、ベンズアミド、ｐ−エトキシクリソイジン、ジシクロヘキシルアンモニウムナイトライト、ジシクロヘキシルアンモニウムサリシレート、モノエタノールアミンベンゾエート、ジシクロヘキシルアンモニウムベンゾエート、ジイソプロピルアンモニウムベンゾエート、ジイソプロピルアンモニウムナイトライト、シクロヘキシルアミンカーバメイト、ニトロナフタレンアンモニウムナイトライト、シクロヘキシルアミンベンゾエート、ジシクロヘキシルアンモニウムシクロヘキサンカルボキシレート、シクロヘキシルアミンシクロヘキサンカルボキシレート、ジシクロヘキシルアンモニウムアクリレート、シクロヘキシルアミンアクリレート等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１５６】
ピロール環を有する化合物としては、Ｎ−ブチル−２，５−ジメチルピロール，Ｎ−フェニル−２，５ジメチルピロール、Ｎ−フェニル−３−ホルミル−２，５−ジメチルピロール，Ｎ−フェニル−３，４−ジホルミル−２，５−ジメチルピロール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１５７】
トリアゾール環を有する化合物としては、１，２，３−トリアゾール、１，２，４−トリアゾール、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、３−ヒドロキシ−１，２，４−トリアゾール、３−メチル−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、４−メチル−１，２，３−トリアゾール、ベンゾトリアゾール、トリルトリアゾール、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール、４，５，６，７−テトラハイドロトリアゾール、３−アミノ−１，２，４−トリアゾール、３−アミノ−５−メチル−１，２，４−トリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ３’５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２’−メチレンビス［６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール］、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノールなどが挙げられる。あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１５８】
ピラゾール環を有する化合物としては、ピラゾール、ピラゾリン、ピラゾロン、ピラゾリジン、ピラゾリドン、３，５−ジメチルピラゾール、３−メチル−５−ヒドロキシピラゾール、４−アミノピラゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１５９】
チアゾール環を有する化合物としては、チアゾール、チアゾリン、チアゾロン、チアゾリジン、チアゾリドン、イソチアゾール、ベンゾチアゾール、２−Ｎ，Ｎ−ジエチルチオベンゾチアゾール、Ｐ−ジメチルアミノベンザルロダニン、２−メルカプトベンゾチアゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１６０】
イミダゾール環を有する化合物としては、イミダゾール、ヒスチジン、２−ヘプタデシルイミダゾール、２−メチルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、２−ウンデシルイミダゾール、１−ベンジル−２−メチルイミダゾール、２−フェニル−４−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−フェニルイミダゾール、１−シアノエチル−２−エチル−４−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−ウンデシルイミダゾール、２−フェニル−４−メチル−５−ヒドロメチルイミダゾール、２−フェニル−４，５ジヒドロキシメチルイミダゾール、４−フォルミルイミダゾール、２−メチル−４−フォルミルイミダゾール、２−フェニル−４−フォルミルイミダゾール、４−メチル−５−フォルミルイミダゾール、２−エチル−４−メチル−５−フォルミルイミダゾール、２−フェニル−４−メチル−４−フォルミルイミダゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１６１】
インダゾール環を有する化合物としては、４−クロロインダゾール、４−ニトロインダゾール、５−ニトロインダゾール、４−クロロ−５−ニトロインダゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１６２】
銅キレート化合物類としては、アセチルアセトン銅、エチレンジアミン銅、フタロシアニン銅、エチレンジアミンテトラアセテート銅、ヒドロキシキノリン銅等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１６３】
チオ尿素類としては、チオ尿素、グアニルチオ尿素等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１６４】
メルカプト基を有する化合物としては、すでに上記に記載した材料も加えれば、メルカプト酢酸、チオフェノール、１，２‐エタンジオール、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、グリコールジメルカプトアセテート、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、トリメチロールプロパントリス（β−チオプロピオネート）等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１６５】
ナフタレン系としては、チオナリド等が挙げられる。
【０１６６】
（銀反射層１３の隣接層に用いられうる含窒素環状化合物）
銀反射層１３を形成する際に、上述した配位子が気化・脱離しうる銀錯体化合物を含有する塗布膜を加熱焼成することにより銀反射層１３を形成する場合、銀反射層１３の隣接層（例えば、上記した腐食防止層１４、銀反射層１３と腐食防止層１４との間に適用され得るアンカー層（図示せず）など）に含窒素環状化合物を含有することが好ましい。含窒素環状化合物の銀反射層１３の隣接層への含有量は、０．００１〜５質量％であることが好ましく、より好ましくは０．０１〜１質量％である。含窒素環状化合物の銀反射層１３の隣接層への含有量が０．００１質量％以上であれば、銀の防錆および腐食防止機能を有効に発現することができる。含窒素環状化合物の銀反射層１３の隣接層への含有量が５質量％以下であれば、着色することなく、隣接層の脆化防止機能を有効に発現することができる。当該含窒素環状化合物としては、大別して、銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤と酸化防止剤が好ましく用いられる。
【０１６７】
銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤において、含窒素環状化合物を用いることで、所望の銀腐食防止効果を得ることができる。かかる銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤の銀反射層１３の隣接層への含有量は、０．００１〜５質量％であることが好ましく、より好ましくは０．０１〜１質量％である。銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤の銀反射層１３の隣接層への含有量が０．００１質量％以上であれば、銀の腐食防止機能を有効に発現することができる。銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤の銀反射層１３の隣接層への含有量が５質量％以下であれば、着色することなく、隣接層の脆化防止機能を有効に発現することができる。例えば、ピロール環を有する化合物、トリアゾール環を有する化合物、ピラゾール環を有する化合物、イミダゾール環を有する化合物、インダゾール環を有する化合物の少なくとも一種又はこれらの混合物から選ばれることが望ましい。
【０１６８】
ピロール環を有する化合物としては、上記した［腐食防止層１４］の（腐食防止剤）の項で列挙した化合物のうち「ピロール環を有する化合物」に具体的に例示した化合物を用いることができる。
【０１６９】
トリアゾール環を有する化合物としては、上記した［腐食防止層１４］の（腐食防止剤）の項で列挙した化合物のうち「トリアゾール環を有する化合物」に具体的に例示した化合物を用いることができる。
【０１７０】
ピラゾール環を有する化合物としては、上記した［腐食防止層１４］の（腐食防止剤）の項で列挙した化合物のうち「ピラゾール環を有する化合物」に具体的に例示した化合物を用いることができる。
【０１７１】
イミダゾール環を有する化合物としては、上記した［腐食防止層１４］の（腐食防止剤）の項で列挙した化合物のうち「イミダゾール環を有する化合物」に具体的に例示した化合物を用いることができる。
【０１７２】
インダゾール環を有する化合物としては、上記した［腐食防止層１４］の（腐食防止剤）の項で列挙した化合物のうち「インダゾール環を有する化合物」に具体的に例示した化合物を用いることができる。
【０１７３】
（酸化防止剤）
本形態の太陽光反射フィルム１０における銀反射層１３の隣接層（例えば、上記した腐食防止層１４、銀反射層１３と腐食防止層１４との間に適用され得るアンカー層（図示せず）など）に含まれる含窒素環状化合物としては、酸化防止剤を用いることもできる。かかる酸化防止剤の銀反射層１３の隣接層への含有量が０．００１質量％以上であれば、銀の酸化防止機能を有効に発現することができる。酸化防止剤の銀反射層１３の隣接層への含有量が５質量％以下であれば、着色することなく、隣接層の脆化防止機能を有効に発現することができる。
【０１７４】
酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、チオール系酸化防止剤及びホスファイト系酸化防止剤を使用することが好ましい。
フェノール系酸化防止剤としては、例えば、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、テトラキス−〔メチレン−３−（３’、５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，３，５−トリス（３’、５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンジル）−Ｓ−トリアジン−２，４，６−（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）トリオン、ステアリル−β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、トリエチレングリコールビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネー〕、３，９−ビス［１，１−ジ−メチル−２−〔β−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕エチル］−２，４，８，１０−テトラオキオキサスピロ〔５，５〕ウンデカン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン等が挙げられる。特に、フェノール系酸化防止剤としては、分子量が５５０以上のものが好ましい。
【０１７５】
チオール系酸化防止剤としては、例えば、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス−（β−ラウリル−チオプロピオネート）等が挙げられる。
【０１７６】
ホスファイト系酸化防止剤としては、例えば、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ジ（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス−（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）−ペンタエリスリトールジホスファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）４，４’−ビフェニレン−ジホスホナイト、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト等が挙げられる。
【０１７７】
なお、上記酸化防止剤と下記の光安定剤を併用することもできる。かかる光安定剤の銀反射層１３の隣接層への含有量が０．００１質量％以上であれば、光安定化機能を有効に発現することができる。光安定剤の銀反射層１３の隣接層への含有量が５質量％以下であれば、着色することなく、隣接層の脆化防止機能を有効に発現することができる。
【０１７８】
ヒンダードアミン系の光安定剤としては、例えば、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロネート、１−メチル−８−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−セバケート、１−［２−〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕エチル］−４−〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ベンゾイルオキシ−２，２、６，６−テトラメチルピペリジン、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタン−テトラカルボキシレート、トリエチレンジアミン、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４，５］デカン−２，４−ジオン等が挙げられる。
【０１７９】
その他ニッケル系紫外線安定剤として、〔２，２’−チオビス（４−ｔ−オクチルフェノレート）〕−２−エチルヘキシルアミンニッケル（ＩＩ）、ニッケルコンプレックス−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル・リン酸モノエチレート、ニッケル・ジブチル−ジチオカーバメート等も使用することが可能である。
【０１８０】
特にヒンダードアミン系の光安定剤としては、３級のアミンのみを含有するヒンダードアミン系の光安定剤が好ましく、具体的には、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロネート、又は１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジノール／トリデシルアルコールと１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸との縮合物が好ましい。
【０１８１】
［樹脂フィルム状支持体１２］
樹脂フィルム状支持体１２としては、従来公知の種々の樹脂フィルムを用いることができる。例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルム等を挙げることができる。中でも、ポリカーボネート系フィルム、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、及びセルロースエステル系フィルム、アクリルフィルムが好ましい。特にポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系フィルム又はアクリルフィルムを用いることが好ましく、溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。
【０１８２】
樹脂フィルム状支持体１２は、図２に示すように、銀反射層１３よりも光入射側から遠い位置に設ける場合には、紫外線が樹脂フィルム状支持体１２に到達しにくい。特に、樹脂フィルム状支持体１２よりも光入射側にある紫外線反射部１１により紫外線を反射させることで、紫外線が、樹脂フィルム状支持体１２に、より到達しにくい。従って、樹脂フィルム状支持体１２は、紫外線に対して劣化しやすい樹脂であっても用いることが可能となる。そのような観点から、樹脂フィルム状支持体１２として、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステルフィルムを用いることが可能となる。
【０１８３】
本形態の太陽光反射フィルム１０、１０’では、紫外線の反射機能に優れる紫外線反射部１１を光入射側に設けることから、図１に示すように、樹脂フィルム状支持体１２の片面（光入射面側）に紫外線反射部１１を設けても紫外線が、樹脂フィルム状支持体１２に到達しにくいことから、従来公知の種々の樹脂フィルムを用いることができる。特に樹脂フィルム状支持体１２の光入射面側とは反対側に銀反射層１３を設ける場合には、当該樹脂フィルム状支持体１２が太陽光（特に可視光〜赤外線領域の光線）を透過させることのできる樹脂フィルムを用いるのが望ましい。かかる観点から、樹脂フィルム状支持体１２の太陽光（特に可視光〜赤外線領域の光線；４００〜２５００ｎｍの波長）の透過率は、７０％以上が好ましく、より好ましくは８０％以上、更に好ましくは９０％以上、特に好ましくは９５％以上の範囲である。太陽光（４００〜２５００ｎｍの波長）の透過率は、積分球を持つ分光光度計により測定することができる。
【０１８４】
樹脂フィルム状支持体１２の厚さは、樹脂の種類及び目的等に応じて適切な厚さにすることが好ましい。例えば、一般的には、１０〜２５０μｍの範囲内である。好ましくは２０〜２００μｍである。
【０１８５】
［アンカー層（図示せず）］
本形態の太陽光反射フィルム１０、１０’では、アンカー層（図１、２中に図示せず）を設けてもよい。かかるアンカー層は、樹脂からなり、樹脂フィルム状支持体１２と銀反射層１３とを密着させるために設けられる層である。従って、アンカー層は樹脂フィルム状支持体１２と銀反射層１３とを密着させる密着性、銀反射層１３を真空蒸着法等で形成する時の熱にも耐え得る耐熱性、及び銀反射層１３が本来有する高い反射性能を引き出すための平滑性、透明性（太陽光透過率）が必要である。
【０１８６】
アンカー層に使用する樹脂は、上記の密着性、耐熱性、透明性及び平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等の単独またはこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂の混合樹脂又はポリエステル系樹脂とアクリル系樹脂の混合樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。
【０１８７】
アンカー層の厚さは、０．０１〜３μｍが好ましく、より好ましくは０．１〜２μｍである。この範囲を満たすことにより、密着性を保ちつつ、樹脂フィルム状支持体１１表面の凹凸を覆い隠すことができ、平滑性を良好にでき、アンカー層の硬化も十分に行えるため、結果として本形態の太陽光反射フィルム１０の反射率を高めることが可能となる。
【０１８８】
また、アンカー層には、上述の上記した［腐食防止層１４］の（腐食防止剤）に記載した腐食防止剤を含有させることが好ましい。
【０１８９】
図１に示すように樹脂フィルム状支持体１２の光入射面側とは反対側に銀反射層１３を設ける場合には、当該樹脂フィルム状支持体１２と銀反射層１３の間に設けられるアンカー層も太陽光（特に可視光〜赤外線領域の光線）を透過し得るのが望ましい。かかる観点から、アンカー層の太陽光（特に可視光〜赤外線領域の光線；４００〜２５００ｎｍの波長）の透過率は、７０％以上が好ましく、より好ましくは８０％以上、更に好ましくは９０％以上、特に好ましくは９５％以上の範囲である。
【０１９０】
尚、アンカー層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。
【０１９１】
［粘着層１５］
本形態の太陽光反射フィルム１０、１０’は、後述の支持基材（太陽光反射体の構成部材である自己支持性の基材）に接合するための粘着層１５を有することが好ましい。粘着層１５を構成する粘着剤としては、特に制限されず、例えば、アクリル系粘着剤、シリコン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリビニルブチラール系粘着剤、エチレン−酢酸ビニル系粘着剤等を例示することができる。粘着層１５は、太陽光反射フィルム１０、１０’において、太陽光入射面側とは反対の面（最表面；但し離型材１６は除く）に形成されていればよい。
【０１９２】
アクリル系粘着剤としては、溶剤系およびエマルジョン系どちらでも良いが、粘着力等を高め易いことから、溶剤系粘着剤が好ましく、その中でも溶液重合で得られたものが好ましい。このような溶剤系アクリル系粘着剤を溶液重合で製造する場合の原料としては、例えば、骨格となる主モノマーとして、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、オクリルアクリレート等のアクリル酸エステル、凝集力を向上させるためのコモノマーとして、酢酸ビニル、アクリルニトリル、スチレン、メチルメタクリレート等、さらに架橋を促進し、安定した粘着力を付与させ、また水の存在下でもある程度の粘着力を保持するために官能基含有モノマーとして、メタクリル酸、アクリル酸、イタコン酸、ヒドロキシエチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート等が挙げられる。該積層フィルムの粘着剤層には、主ポリマーとして、特に高タック性を要するため、ブチルアクリレート等のような低いガラス転移温度（Ｔｇ）を有するものが特に有用である。
【０１９３】
この粘着層１５には、添加剤として、例えば安定剤、界面活性剤、紫外線吸収剤、難燃剤、帯電防止剤、抗酸化剤、熱安定剤、滑剤、充填剤、着色、接着調整剤等を含有させることもできる。
【０１９４】
粘着層１５の厚みは１μｍ〜１００μｍが好ましく、より好ましくは３〜５０μｍである。１μｍ以上であれば粘着性が向上する傾向にあり、十分な粘着力が得られる。１００μｍよりも厚い場合には粘着層の局所的な収縮や膨張に影響され銀反射層の平面性が失われる傾向にあるため、１００μｍ以下が望ましい。
【０１９５】
［剥離材１６］
本形態の太陽光反射フィルム１０、１０’は、粘着層１５の光入射側と逆側に剥離材１６を有していてもよい。例えば、太陽光反射フィルム１０の出荷時には剥離材１６が粘着層１５に張り付いた状態で出荷し、剥離材１６から粘着層１５を有する太陽光反射フィルム１０を剥離し、太陽光反射体の構成部材である自己支持性の基材（支持基材）に貼り合わせて太陽光反射体、更には太陽光反射装置を形成することができる。
【０１９６】
剥離材１６７としては、銀反射層１３の保護性を付与できるものであればよく、例えば、アクリルフィルム又はシート、ポリカーボネートフィルム又はシート、ポリアリレートフィルム又はシート、ポリエチレンナフタレートフィルム又はシート、ポリエチレンテレフタレートフィルム又はシート、フッ素フィルムなどのプラスチックフィルム又はシート、又は酸化チタン、シリカ、アルミニウム粉、銅粉などを練り込んだ樹脂フィルム又はシート、これらを練り込んだ樹脂をコーティングしたりアルミニウム等の金属を金属蒸着などの表面加工を施した樹脂フィルム又はシートが用いられる。
【０１９７】
剥離材１６の厚さは、特に制限はないが、通常１２〜２５０μｍの範囲であることが好ましい。
【０１９８】
また、これらの剥離材１６を太陽光反射フィルム１０（剥離材１６を除く）と貼り合わせる前に凹部や凸部を設けてから貼り合せてもよく、貼り合せた後で凹部や凸部を有するように成形してもよく、貼り合わせと凹部や凸部を有するように成形することを同時にしてもよいものである。
【０１９９】
［耐傷層１７］
本形態の太陽光反射フィルム１０、１０’は、紫外線反射積層部１１を擦傷から保護する目的で、紫外線反射積層部１１の光が入射する面側に、耐傷層（ハードコート層；ＨＣ層）１７をさらに有することが好ましい。
【０２００】
耐傷層１７で使用される硬化樹脂としては、熱硬化性樹脂や活性エネルギー線硬化性樹脂が挙げられるが、成形が容易なことから、活性エネルギー線硬化性樹脂が好ましい。かような硬化性樹脂は、単独でもまたは２種以上組み合わせても用いることができる。また、硬化型樹脂は市販品を用いてもよいし、合成品を用いてもよい。
【０２０１】
活性エネルギー線樹脂とは、紫外線や電子線のような活性エネルギー線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂をいう。活性エネルギー線硬化樹脂としては、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含む成分が好ましく用いられ、紫外線や電子線のような活性エネルギー線を照射することによって硬化させて活性エネルギー線硬化樹脂層が形成される。活性エネルギー線硬化樹脂としては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、紫外線照射によって硬化する紫外線硬化性樹脂が好ましい。
【０２０２】
紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化性ウレタンアクリレート系樹脂、紫外線硬化性ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化性エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化性ポリオールアクリレート系樹脂、または紫外線硬化性エポキシ樹脂等が好ましく用いられる。中でも紫外線硬化性アクリレート系樹脂が好ましい。
【０２０３】
紫外線硬化性アクリル・ウレタン系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、またはプレポリマーを反応させて得られた生成物にさらに２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（以下アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する）、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることができる。例えば、特開昭５９−１５１１１０号公報に記載の、ユニディック１７−８０６（大日本インキ（株）製）１００部とコロネートＬ（日本ポリウレタン（株）製）１部との混合物等が好ましく用いられる。
【０２０４】
紫外線硬化性ポリエステルアクリレート系樹脂は、一般にポリエステル末端の水酸基やカルボキシル基に２−ヒドロキシエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、アクリル酸のようなモノマーを反応させることによって容易に得ることができる（例えば、特開昭５９−１５１１１２号公報）。
【０２０５】
紫外線硬化性エポキシアクリレート系樹脂は、エポキシ樹脂の末端の水酸基にアクリル酸、アクリル酸クロライド、グリシジルアクリレートのようなモノマーを反応させて得られる。
【０２０６】
紫外線硬化性ポリオールアクリレート系樹脂としては、エチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることができる。
【０２０７】
さらにまた、これらの樹脂の光増感剤（ラジカル重合開始剤）として、ペンゾイン、べンゾインメチルエーテル、べンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、べンジルメチルケタール等のべンゾインとそのアルキルエーテル類；アセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（商品名イルガキュア１８４；ＢＡＳＦ社）、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モリフォリノプロパン−１−オン（商品名イルガキュア９０７、；ＢＡＳＦ社）等のアセトフェノン類；メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−アミルアントラキノン等のアントラキノン類；チオキサントン、２，４―ジエチルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン類；アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタール等のケタール類；ベンゾフェノン、４，４−ビスメチルアミノべンゾフェノン等のベンゾフェノン類およびアゾ化合物等を用いることができる。これらは単独でもまたは２種以上組み合わせても使用することができる。加えて、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン等の第３級アミン；２−ジメチルアミノエチル安息香酸、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル等の安息香酸誘導体等の光開始助剤等と組み合わせて使用することができる。これらラジカル重合開始剤の使用量は、樹脂の重合性成分１００重量部に対して好ましくは０．５〜２０重量部、より好ましくは１〜１５重量部である。
【０２０８】
熱硬化性樹脂としては、ポリシロキサンに代表される無機系材料が挙げられる。
【０２０９】
ポリシロキサン系ハードコート（ＨＣ層１７）は、一般式ＲｍＳｉ（ＯＲ’）ｎで示されるものが出発原料である。ＲおよびＲ’は、炭素数１〜１０のアルキル基を表し、ｍおよびｎは、ｍ＋ｎ＝４の関係を満たす整数である。具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ポロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テロラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等が挙げられる。また、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（Ｎ−アミノベンジルアミノエチル）−γ−アミノプロピルメトキシシラン・塩酸塩、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、アミノシラン、メチルメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、オクタデシルジメチル［３−（トリメトキシシリル）プロピル］アンモニウムクロライドを用いることもできる。これらのメトキシ基、エトキシ基等の加水分解性基が水酸基に置換した状態のものが、一般的にポリオルガノシロキサン系ハードコートといわれている。これを基板上に塗布し、加熱硬化させることで、脱水縮合反応が促進し、硬化・架橋することで、ハードコート（ＨＣ層１７）が製膜される。これらのポリオルガノシロキサン系ハードコート中でも、加水分解によって脱離しない有機基がメチル基のものが最も耐候性が高い。また、メチル基であれば、ハードコート製膜後の表面にメチル基が均一且密に分布するため、転落角も低い。そのため、本用途では、メチルポリシロキサンを用いることが好ましい。
【０２１０】
ポリシロキサン系ハードコート（ＨＣ層１７）の膜厚として、厚すぎれば、応力によって耐傷層１７が割れる危険性があり、薄すぎれば硬度が維持できない。そのため、厚さとして、１〜５μｍが好ましく、１．５〜３μｍであることが好ましい。
【０２１１】
ポリオルガノシロキサン系ハードコート（ＨＣ層１７）として具体的には、サーコートシリーズ（動研製）、ＳＲ２４４１（東レ・ダウコーニング社）、ＫＦ−８６（信越シリコン社）、Ｐｅｒｍａ‐Ｎｅｗ（登録商標）６０００（Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ  Ｈａｒｄｃｏａｔｉｎｇ  Ｃｏｍｐａｎｙ）等を利用することができる。
【０２１２】
硬化樹脂の耐傷層１７中の配合量は、耐傷層の合計１００重量％（固形分換算）に対して、２０〜７０重量％であることが好ましく、３０〜５０重量％であることがより好ましい。
【０２１３】
耐傷層１７の厚みは０．１〜２０μｍが好ましく、１〜１５μｍがより好ましく、３〜１０μｍであることがより好ましい。０．１μｍ以上であればハードコート性が向上する傾向にあり、２０μｍ以上であれば耐傷層のカールが大きく、耐屈曲性が低下する傾向にある。
【０２１４】
耐傷層１７は、硬化樹脂層形成用組成物（塗布液）をワイヤーバーによるコーティング、スピンコーティング、ディップコーティングにより塗布することで作製することができ、蒸着等の乾式製膜法でも作製することができる。また、上記の組成物（塗布液）をダイコーター、グラビアコーター、コンマコーター等の連続塗布装置でも塗布・製膜することは可能である。ポリシロキサン系ハードコートの場合、塗布後、溶剤を乾燥させた後、該ハードコートの硬化・架橋を促進するため、５０℃以上、１５０℃以下の温度で３０分〜数日間の熱処理を必要とする。塗布基材の耐熱性やロールにした時の基材の安定性を考慮して、４０℃以上８０℃以下で２日間以上処理することが好ましい。活性エネルギー線硬化樹脂の場合、活性エネルギー線の照射波長、照度、光量によってその反応性が変わるため、使用する樹脂によって最適な条件を選択する必要がある。
【０２１５】
硬化樹脂層形成用組成物（塗布液）には溶媒が含まれていてもよく、必要に応じて適宜含有し、希釈されたものであってもよい。塗布液に含有される有機溶媒としては、例えば、炭化水素類（トルエン、キシレン、）、アルコール類（メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸メチル）、グリコールエーテル類、その他の有機溶媒の中から適宜選択し、またはこれらを混合し利用できる。
【０２１６】
耐傷層１７の下層への密着性が得られない場合、硬化樹脂層を積層する前に第２アンカー層（プライマー層；図１、２中に図示せず）を形成することができる。第２アンカー層の膜厚は特に限定されるものではないが、０．１〜１０μｍ程度である。好適な例として、アンカー層を構成する樹脂としては、ポリビニルアセタール樹脂、アクリル樹脂が挙げられる。
【０２１７】
［ガスバリア層］
銀反射層１３よりも光入射側にガスバリア層（図１、２中に図示せず）を設けてもよい。耐傷層１７と銀反射層１３の間にガスバリア層を設けることが好ましい。更には、粘着層１５と腐食防止層１４の間にガスバリア層を設けることが好ましい。ガスバリア層の詳細については、例えば、公知である国際公開番号ＷＯ２０１１／０９６１５１  Ａ１公報の段落「００４４」〜「００９６」を適用することができる。
【０２１８】
また、本形態の太陽光反射フィルム１０、１０’は、使用される環境や用途に応じて、易接着層（接着層）、紫外線吸収剤含有層、導電性層、帯電防止層、ガスバリア層、防汚層、消臭層、流滴層、易滑層、耐摩耗性層、反射防止層、電磁波シールド層、印刷層、蛍光発光層、ホログラム層、剥離層、接着層等の機能層の１つ以上を有していてもよい。
【０２１９】
＜太陽光反射体＞
本発明の一形態によると、上述の太陽光反射フィルム１０、１０’を有することを特徴とする太陽光反射体が提供される。太陽光反射体は、粘着層１５を介して太陽光反射フィルム１０、１０’が自己支持性の基材（支持基材）に接合されてなる構造を有する。ここで、「自己支持性の基材」という場合の、「自己支持性」とは、太陽光反射体の基材として用いられる大きさに断裁された場合において、その対向する端縁部分を支持することで、基材を担持することが可能な程度の剛性を有することを表す。太陽光反射体の基材が自己支持性を有することで、後述の太陽光反射装置に設置する際に取り扱い性に優れるとともに、太陽光反射体を保持するための保持部材を簡素な構成とすることが可能となるため、太陽光反射装置を軽量化することが可能となり、例えば、太陽熱発電の太陽光反射装置として用いた際、太陽追尾の際の消費電力を抑制することが可能となる。
【０２２０】
［自己支持性の基材（支持基材）］
自己支持性の基材（支持基材）は、単層であってもよく、複数の層を積層させた形状であってもよい。また、単一構造であってもよく、複数に分割されていてもよい。当該支持基材の形状としては、凹面状の形状を有する又は凹面状の形状になり得ることが好ましい。そのために、平板状から凹面状の形状に可変である支持基材を用いてもよいし、凹面状の形状に固定されている支持基材を用いてもよい。凹面状の形状に可変である支持基材は、該支持基材の曲率を調整することで、接合されている太陽光反射フィルム１０、１０’の曲率も任意に調整することが可能となるため、反射効率を調整し高い正反射率を得ることができるため好ましい。凹面状の形状が固定されている支持基材は、曲率を調整する必要がなくなるため、調整費用の観点から好ましい。
【０２２１】
自己支持性の基材（支持基材）の素材としては、鋼板、銅板、アルミニウム板、アルミニウムめっき鋼板、アルミニウム系合金めっき鋼板、銅めっき鋼板、錫めっき鋼板、クロムめっき鋼板、ステンレス鋼板等の金属板、ベニヤ板（好ましくは防水処理がされたもの）等の木板、繊維強化プラスチック（ＦＲＰ）板、樹脂板、等が挙げられる。前記材料の中でも金属板を用いることが、熱伝導率が高いという観点から好ましい。さらに好ましくは、高い熱伝導率だけでなく耐腐食性の良好なめっき鋼板、ステンレス鋼板、アルミニウム板などにすることである。最も好ましくは、樹脂と金属板を組み合わせた鋼板を用いることである。
【０２２２】
前記表面層としての樹脂フィルムの材料としては、従来公知の種々の樹脂フィルムを用いることができる。例えば、前述した樹脂フィルム状支持体１２に挙げた樹脂フィルムが挙げられる。中でも、ポリカーボネート系フィルム、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、およびセルロースエステル系フィルム、アクリルフィルムが好ましい。特にポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系フィルム又はアクリルフィルムを用いることが好ましい。この樹脂フィルムの厚さは、樹脂の種類及び目的等に応じて適切な厚さにすることが好ましい。例えば、一般的には、１０〜２５０μｍであり、好ましくは２０〜２００μｍである。
【０２２３】
＜太陽光反射装置＞
本発明の他の一形態によれば、太陽光反射体を有することを特徴とする太陽光反射装置が提供される。本形態の太陽光反射装置は、太陽熱発電において太陽光を集光に好適に用いられる。本形態の太陽光反射装置は、太陽光反射体および該太陽光反射体を保持する保持部材を有する。
【０２２４】
好ましい形態としては、当該太陽光反射装置を太陽熱発電用として場合、内部に流体を有する筒状部材を集熱部として太陽光反射フィルム（フィルムミラー）１０の近傍に設け、筒状部材に太陽光を反射させることで内部の流体を加熱し、その熱エネルギーを変換して発電する、一般的にトラフ型と呼ばれる形態が挙げられる。また、その他の形態として、タワー型と呼ばれる形態も挙げられる。タワー型の形態は、少なくとも一つの集熱部と、太陽光を反射して集熱部に照射するための少なくとも一つの太陽熱発電用太陽光反射装置を有しており、集熱部に集められた熱を用いて液体を加熱しタービンを回して発電するものがある。なお、集熱部の周囲に、太陽熱発電用太陽光反射装置が複数配置されていることが好ましい。また、それぞれの太陽熱発電用太陽光反射装置が同心円状や、同心の扇状に複数配置されていることが好ましい。また、支持タワーの周囲に設置された太陽光反射体（太陽光反射用ミラー）により、太陽光が集光鏡へと反射され、その後、集光鏡によりさらに反射し、集熱部へと送られ熱交換施設へ送られる。本形態の太陽光反射装置はトラフ型、タワー型のどちらにも用いることができる。もちろん、それ以外の種々の太陽熱発電に用いることができる。
【０２２５】
太陽光反射装置は、太陽光反射体を保持する保持部材を有する。保持部材は、太陽光反射体が太陽を追尾可能な状態で保持する事が好ましい。保持部材の形態としては、特に制限はないが、例えば、太陽光反射体が所望の形状を保持できるように、複数個所を棒状の保持部材により、保持する形態が好ましい。保持部材は太陽を追尾可能な状態で太陽光反射体を保持する構成を有することが好ましいが、太陽追尾に際しては、手動で駆動させてもよいし、別途駆動装置を設けて自動的に太陽を追尾する構成としてもよい。
【実施例】
【０２２６】
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」または「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」または「質量％」を表す。【０２２７】
［塗布液の調製］
（低屈折率層用塗布液Ｌ１の調製）
メチルエチルケトン７５質量部を４５℃で加熱・撹拌している中に、ヒンダードアミン系光安定剤ＬＡ−５２（株式会社ＡＤＥＫＡ製）  ０．５質量部を添加し、さらにアクリルポリマー（ＢＲ−８５：三菱レイヨン株式会社製）を２０質量部とデルペットＳＲＢ２１５（旭化成ケミカルズ株式会社製）４．５質量部とを添加して低屈折率層用塗布液Ｌ１を調製した。【０２２８】
低屈折率層用塗布液Ｌ１により得られる低屈折率層の屈折率は１．４９であった。なお、屈折率の測定は下記に記載した。【０２２９】
（低屈折率層用塗布液Ｌ２の調製）
３質量％ホウ酸水溶液１０質量部を４５℃で加熱・撹拌している中に、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ−２３５、重合度３５００、鹸化度８８ｍｏｌ％、株式会社クラレ製）の５質量％水溶液８０質量部を添加した後、界面活性剤（ラピゾールＡ３０、日油株式会社製）の１質量％水溶液１質量部を添加し、純水９質量部を加えて低屈折率層用塗布液Ｌ２を調製した。【０２３０】
低屈折率層用塗布液Ｌ２により得られる低屈折率層の屈折率は１．５０であった。なお、屈折率の測定は下記に記載した。【０２３１】
（低屈折率層用塗布液Ｌ３の調製）
無機酸化物微粒子１１１ａとしてコロイダルシリカ（スノーテックスＯＳ、日産化学工業株式会社製、固形分２０質量％、平均粒子径８〜１１ｎｍ）２２．５質量部に、純水２２．５質量部、ポリオキシアルキレン系分散剤（マリアリムＡＫＭ−０５３１、日油株式会社製）の５質量％水溶液１０質量部、３質量％ホウ酸水溶液１０質量部をそれぞれ添加した後、４５℃に加熱し、撹拌しながら、ポリビニルアルコール（ＪＣ−２５（重合度２５００、鹸化度９９．５ｍｏｌ％、日本酢ビ・ポバール株式会社製）と、ＪＭ−１７（重合度１７００、鹸化度９６．４ｍｏｌ％、日本酢ビ・ポバール株式会社製）と、ＪＰ−１５（重合度１５００、鹸化度８９．８ｍｏｌ％、日本酢ビ・ポバール株式会社製）と、ＪＬ−２５Ｅ（重合度２５００、鹸化度７９．５ｍｏｌ％、日本酢ビ・ポバール株式会社製）との、４３：５：９：４３（固形分質量比）の混合物）の５質量％水溶液４０質量部、界面活性剤（ラピゾールＡ３０、日油株式会社製）の１質量％水溶液１質量部を添加し、純水２質量部を加えて低屈折率層用塗布液Ｌ３を調製した。【０２３２】
低屈折率層用塗布液Ｌ３により得られる低屈折率層の屈折率は１．４５であった。なお、屈折率の測定は下記に記載した。【０２３３】
（低屈折率層用塗布液Ｌ４の調製）
下記調製で得られた１０質量％含フッ素ポリマー１水溶液４５質量部に、３質量％ホウ酸水溶液１０質量部を添加した後、４５℃に加熱し、撹拌しながら、ポリビニルアルコール（ＪＣ−２５（重合度２５００、鹸化度９９．５ｍｏｌ％、日本酢ビ・ポバール株式会社製）と、ＪＭ−１７（重合度１７００、鹸化度９６．４ｍｏｌ％、日本酢ビ・ポバール株式会社製）と、ＪＰ−１５（重合度１５００、鹸化度８９．８ｍｏｌ％、日本酢ビ・ポバール株式会社製）と、ＪＬ−２５Ｅ（重合度２５００、鹸化度７９．５ｍｏｌ％、日本酢ビ・ポバール株式会社製）との、４３：５：９：４３（固形分質量比）の混合物）の５質量％水溶液４０質量部、界面活性剤（ラピゾールＡ３０、日油株式会社製）の１質量％水溶液１質量部を添加し、純水２質量部を加えて低屈折率層用塗布液Ｌ４を調製した。【０２３４】
低屈折率層用塗布液Ｌ４により得られる低屈折率層の屈折率は１．４０であった。なお、屈折率の測定は下記に記載した。【０２３５】
（含フッ素ポリマー１水溶液の調製）
窒素雰囲気下、還流冷却管を備えた１Ｌのフラスコに６．４ｇの１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ヘプタデカフルオロデシルアクリレートと、２６．４ｇのメトキシポリエチレングリコール＃１０００メタクリレートと、３４．９ｇのメチルメタクリレートを、１５０ｍｌのイソプロパノールと１００ｍｌの純水の混合溶媒に加えた。１時間室温で撹拌した後、１０ｍｌの純水に溶かした１．２ｇの過硫酸アンモニウムを加え、６５℃で１６時間加熱撹拌した。得られた反応混合物を冷ました後、ロータリーエバポレーターでイソプロパノールを留去し、さらに純水を加えて、１０質量％含フッ素ポリマー１水溶液を調製した。ＧＰＣを用いて分子量を測定したところ、重量平均分子量は１６，０００であった。【０２３６】
（シリカ付着二酸化チタンゾルの調製）
１５．０質量％酸化チタンゾル（ＳＲＤ−Ｗ、体積平均粒径５ｎｍ、ルチル型二酸化チタン粒子、堺化学工業株式会社製）０．５質量部に純水２質量部を加えた後、９０℃に加熱した。次いで、ケイ酸水溶液（ケイ酸ソーダ４号（日本化学工業株式会社製）をＳｉＯ２濃度が２．０質量％となるように純水で希釈したもの）１．３質量部を徐々に添加し、ついでオートクレーブ中、１７５℃で１８時間加熱処理を行い、冷却後、限外濾過膜にて濃縮することにより、ＳｉＯ２を表面に付着させた（含ケイ素の水和物被覆量は４質量％）二酸化チタンゾル（以下シリカ付着二酸化チタンゾル）を固形分濃度で２０質量％得た。【０２３７】
（高屈折率層用塗布液Ｈ１の調製）
無機酸化物微粒子１１２ａとして前記調製で得られたシリカ付着二酸化チタンゾル（固形分２０．０質量％）４５質量部に、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ−１０３、重合度３００、鹸化度９８．５ｍｏｌ％、株式会社クラレ製）の５質量％水溶液２質量部、３質量％ホウ酸水溶液１０質量部、２質量％クエン酸水溶液１０質量部をそれぞれ添加した後、４５℃に加熱し、撹拌しながら、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ−１１７、重合度１７００、鹸化度９８．５ｍｏｌ％、株式会社クラレ製）の５質量％水溶液２０質量部、界面活性剤（ラピゾールＡ３０、日油株式会社製）の１質量％水溶液１質量部を添加し、純水１２質量部を加えて高屈折率層用塗布液Ｈ１を調製した。【０２３８】
高屈折率層用塗布液Ｈ１により得られる高屈折率層の屈折率は１．９５であった。なお、屈折率の測定は下記に記載した。【０２３９】
（高屈折率層用塗布液Ｈ２の調製）
無機酸化物微粒子２５２ａとしてジルコニアゾル（ＳＺＲ−Ｗ、固形分３０質量％、堺化学工業株式会社製、一次平均粒径３ｎｍ）３０質量部に、ポリオキシアルキレン系分散剤（マリアリムＡＫＭ−０５３１、日油株式会社製）の５質量％水溶液１０質量部、３質量％ホウ酸水溶液１０質量部、２質量％クエン酸水溶液１０質量部を順に添加した後、４５℃に加熱し、撹拌しながら、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ−２１７、重合度１７００、鹸化度８８．０ｍｏｌ％、株式会社クラレ製）の５質量％水溶液２０質量部、界面活性剤（ラピゾールＡ３０、日油株式会社製）の１質量％水溶液１質量部を添加し、純水１９質量部を加えて高屈折率層用塗布液Ｈ２を調製した。【０２４０】
高屈折率層用塗布液Ｈ２により得られる高屈折率層の屈折率は１．８５であった。なお、屈折率の測定は下記に記載した。【０２４１】
（高屈折率層用塗布液Ｈ３の調製）
無機酸化物微粒子２６２ａとして前記調製で得られたシリカ付着二酸化チタンゾル（固形分２０．０質量％）４３質量部に前記低屈折率層用塗布液Ｌ１を５５質量部と紫外線吸収剤Ｔｉｎｕｖｉｎ４７９（ＢＡＳＦ社製）を２質量部添加した後、液温度を１０℃に保ちつつ２時間攪拌し、高屈折率層用塗布液Ｈ３を調製した。【０２４２】
高屈折率層用塗布液Ｈ３により得られる高屈折率層の屈折率は１．９０であった。なお、屈折率の測定は下記に記載した。【０２４３】
［太陽光反射フィルムの作製］
（銀蒸着フィルム１０ａの作製）
樹脂フィルム状支持体１２として、２軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ５０μｍ）を用いた。このフィルムの片面に、銀反射層１３として、真空蒸着法により厚さ８０ｎｍの銀反射層１３を蒸着スピード１００ｍ／ｓｅｃで真空蒸着した。銀反射層１３上に、ポリエステル系樹脂（ポリエスター  ＳＰ−１８１、日本合成化学工業株式会社製）と、硬化剤としてＴＤＩ系イソシアネート（２，４−トリレンジイソシアネート）を樹脂固形分比率で１０：２に混合した樹脂中に、さらに腐食防止剤としてグリコールジメルカプトアセテートを塗布後に０．３ｇ／ｍ２となるよう調整した量を添加し、グラビアコート法により膜厚が０．１μｍになるようコーティングしての第１の腐食防止層１４ａとした。さらにその上に水分散エマルジョンタイプのベンゾトリアゾール系高分子型紫外線吸収コーティング液ＵＶＡ−１３８３ＭＧ（ＢＡＳＦ社製）をグラビアコート法によりコーティングして、５５℃で４分間乾燥し厚さ３μｍの第２の腐食防止層１４ｂを形成して、銀蒸着フィルム１０ａを作製した。ここで、第１及び第２の腐食防止層１４ａ及び１４ｂを合わせて腐食防止層１４とした。【０２４４】
（腐食防止層１４の水接触角測定）
ＪＩＳ−Ｒ３２５７に基づいて、純水３μＬを腐食防止層の表面に滴下した。純水の接触角を接触角計ＤＭ３００（協和界面化学）を用いて測定した。得られた結果を表１に示す。【０２４５】
比較例１（太陽光反射フィルム３０Ａの作製）（試料１；図３参照）
アクリル系の粘着剤（ニッセツＳＺ−７１０３、日本カーバイド工業株式会社製）を乾燥後２５μｍの膜厚になるように塗布した剥離フィルム１６を上記銀蒸着フィルム１０ａの腐食防止層１４の表面にラミネートして粘着層１５を形成し、比較例１の太陽光反射フィルム３０Ａ（試料１）を得た。【０２４６】
実施例１（太陽光反射フィルム１０Ａの作製）（試料２；図４参照）
アクリル系の粘着剤（ニッセツＳＺ−７１０３、日本カーバイド工業株式会社製）を乾燥後２５μｍの膜厚になるように塗布した剥離フィルム１６を上記銀蒸着フィルム１０ａの腐食防止層１４の表面にラミネートして粘着層１５を形成した。樹脂フィルム状支持体１２であるポリエステルフィルムフィルムの銀反射層１３を蒸着した面とは反対の面に高屈折率層１１２として高屈折率層用塗布液Ｈ１を４５℃に保温しながら、低屈折率層１１１として低屈折率層用塗布液Ｌ１は２５℃に保温しながらＨ１とＬ１を、Ｈ１はポリエステルフィルムフィルムに接するように、次いで、Ｈ１上にＬ１となるように、かつ、Ｈ１とＬ１はそれぞれ交互になるように塗布し、高屈折率層１１２は乾燥膜厚４６ｎｍ、低屈折率層１１１は乾燥膜厚６２ｎｍになるように８０℃の温風を吹き付けて乾燥させて、２１層（低屈折率層１０層、高屈折率層１１層）からなる紫外線反射積層部１１を形成し、実施例１の太陽光反射フィルム１０Ａ（試料２）を得た。【０２４７】
実施例２（太陽光反射フィルム１０Ｂの作製）（試料３；図５参照）
樹脂フィルム状支持体１２であるポリエステルフィルムフィルム上に銀反射層１３、腐食防止層１４、粘着層１５（更に剥離フィルム１６）を形成する工程は、銀蒸着フィルム１０ａ及び実施例１の太陽光反射フィルム１０Ａの工程と同様にして作製した。樹脂フィルム状支持体１２であるポリエステルフィルムフィルムの銀反射層１３を蒸着した面とは反対の面に高屈折率層１１２として高屈折率層用塗布液Ｈ１、低屈折率層１１１として低屈折率層用塗布液Ｌ３を２１層重層塗布可能なスライドホッパー塗布装置を用い、低屈折率層用塗布液Ｌ３及び高屈折率層用塗布液Ｈ１を４５℃に保温しながら、４５℃に加温した樹脂フィルム状支持体１２である厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡株式会社製Ａ４３００：両面易接着層を有するフィルム）上に、Ｈ１はポリエチレンテレフタレートフィルムに接するように、次いで、Ｈ１上にＬ３となるように、かつ、Ｈ１とＬ３はそれぞれ交互になるように、同時重層塗布を行った。塗布直後、５℃の冷風を５分吹き付けたのち、８０℃の温風を吹き付けて乾燥させて、２１層（低屈折率層１０層、高屈折率層１１層）からなる紫外線反射積層部１１を形成し、実施例２の太陽光反射フィルム１０Ｂ（試料３）を得た。乾燥後の膜厚は、低屈折率層用塗布液Ｌ３を塗布した低屈折率層１１１は各層６４ｎｍ、高屈折率用塗布液Ｈ１を塗布した高屈折率層１１２は各層４７ｎｍであった。【０２４８】
比較例２（太陽光反射フィルム３０Ｂの作製）（試料４；図６参照）
アクリル系の粘着剤（ニッセツＳＺ−７１０３、日本カーバイド工業株式会社製）を乾燥後２５μｍの膜厚になるように塗布した剥離フィルム１６を、上記銀蒸着フィルム１０ａのポリエステルフィルムフィルム１２の銀反射層１３を蒸着した面とは反対の面にラミネートして粘着層１５を形成し、比較例２の太陽光反射フィルム３０Ｂ（試料４）を得た。【０２４９】
比較例３（太陽光反射フィルム３０Ｃの作製）（試料５；図７参照）
樹脂フィルム状支持体１２であるポリエステルフィルムフィルム上に銀反射層１３、腐食防止層１４、粘着層１５（更に剥離フィルム１６）を形成する工程は、銀蒸着フィルム１０ａ及び実施例１の太陽光反射フィルム１０Ａの工程と同じで作製した。樹脂フィルム状支持体１２であるポリエステルフィルムフィルムの銀反射層１３を蒸着した面とは反対の面に接着層１８（膜厚７μｍ）を塗布した。接着層１８はＬＩＳ６０３とＣＲ−００１（いずれも東洋インキ株式会社製）を１０：１の割合で混合した後、液温を２５℃に保ちながら１時間撹拌して得た接着剤を塗布し１００℃３０秒の温風を当て接着層１８を得た。その接着層１８に紫外線保護層１９として紫外線吸収剤含有アクリルフィルム（Ｓ００１Ｇ、住友化学株式会社製；厚さ５０μｍ）を貼り合せて、比較例３の太陽光反射フィルム３０Ｃ（試料５）を得た。【０２５０】
実施例３（太陽光反射フィルム１０Ｃの作製）（試料６；図８参照）
アクリル系の粘着剤（ニッセツＳＺ−７１０３、日本カーバイド工業株式会社製）を乾燥後２５μｍの膜厚になるように塗布した剥離フィルム１６を、上記銀蒸着フィルム１０ａのポリエステルフィルム１２の銀反射層１３を蒸着した面とは反対の面にラミネートして粘着層１５を形成した。銀蒸着フィルム１０ａの腐食防止層１４を形成した側に高屈折率層として高屈折率層用塗布液Ｈ１、低屈折率層として低屈折率層用塗布液Ｌ３を２１層重層塗布可能なスライドホッパー塗布装置を用い、低屈折率層用塗布液Ｌ３及び高屈折率層用塗布液Ｈ１を４５℃に保温しながら、４５℃に加温した樹脂フィルム状支持体１２である厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡株式会社製Ａ４３００：両面易接着層を有するフィルム）上に、Ｈ１はポリエチレンテレフタレートフィルムに接するように、次いで、Ｈ１上にＬ３となるように、かつ、Ｈ１とＬ２はそれぞれ交互になるように、同時重層塗布を行った。塗布直後、５℃の冷風を５分吹き付けたのち、８０℃の温風を吹き付けて乾燥させて、２１層（低屈折率層１０層、高屈折率層１１層）からなる紫外線反射積層部１１を形成し、実施例３の太陽光反射フィルム１０Ｃ（試料６）を得た。乾燥後の膜厚は、低屈折率層用塗布液Ｌ３を塗布した層は各層６４ｎｍ、高屈折率用塗布液Ｈ１を塗布した層は各層４７ｎｍであった。【０２５１】
実施例４（太陽光反射フィルム１０Ｄの作製）（試料７；図９参照）
実施例３の紫外線反射積層部１１の表面に下記耐傷層用硬化性ハードコート液を乾燥膜厚３μｍになるように塗布し、９０℃１分間乾燥させた。その後、４５℃の恒温環境下に７日間置き耐傷層１７を表面に持つ実施例４の太陽光反射フィルム１０Ｄ（試料７）を得た。【０２５２】
（耐傷層用硬化性ハードコート液の作製）
合成容器に水２０重量部と酢酸２重量部とを入れ、液温度を０〜１０℃に保ちつつ充分に攪拌した。この中にトリメトキシシラン（関東化学株式会社：化学式はＣＨ３Ｓｉ（ＯＣＨ３）３）５０重量部とフッ素結合基及びメトキシ基含有ＦＡＳ（信越化学工業株式会社：ＫＢＭ−７８０３）０．５重量部とを迅速に添加し、液温度を１０℃に保ちつつ１６時間攪拌した。その後、液温度を２０℃とし、シリコーン系表面調整剤（ビックケミージャパン株式会社：ＢＹＫ−３００（有機変性ポリシロキサン））を０．１重量部と、酢酸ナトリウム０．０５重量部と、ｎ−プロパノール１５重量部とを含有させ、耐傷層用硬化性ハードコート液を得た。【０２５３】
比較例４（太陽光反射フィルム３０Ｄの作製）（試料８；図１０参照）
特表２０１１−５２１２８９号公報に記載の実施例６と同じ作製方法で紫外線反射フィルム３０Ｄ（試料８）を作製した。【０２５４】
ＰＭＭＡと商品名３Ｍ（登録商標）Ｄｙｎｅｏｎ（登録商標）Ｆｌｕｏｒｏｐｌａｓｔｉｃ  ＴＨＶＰ  ２０３０ＧＺとして入手可能なフルオロポリマーの２種ポリマー層で紫外線反射フィルム２１を形成した。ＰＭＭＡ層２１２およびＴＨＶ層２１１を、交互に重ね合わせ多層ポリマー溶解マニホールドを通して共押出し、２種のポリマー層の１５０の交互層を有する多層溶解ストリームを形成した。加えてＰＥＮからなる一対の非光学層２３１、２３２を、保護表面層２３として光学スタックのいずれかの側面上に共押し出しすることができる。この多層共押出溶解ストリームを、１分当たり２２メートルで冷却ロール上に流し込み、多層成形ウェブを約３００マイクロメートル厚に形成した。次に、多層成形ウェブをテンターオーブンにおいて、１３５℃で１０秒間加熱し３．８×３．８の延伸比に対して２軸配向し加熱延伸紫外線反射フィルム１１を得た。これらのＰＭＭＡ薄膜は商品Ｔｉｎｕｖｉｎ４０５として入手できる紫外線吸収剤を２質量％含んでいる。【０２５５】
この加熱延伸紫外線反射フィルム１１の片面に、銀反射層１３として、真空蒸着法により厚さ８０ｎｍの銀反射層１３を蒸着スピード１００ｍ／ｓｅｃで真空蒸着した。銀反射層１３上に、ポリエステル系樹脂（ポリエスター  ＳＰ−１８１、日本合成化学工業株式会社製）と、硬化剤としてＴＤＩ系イソシアネート（２，４−トリレンジイソシアネート）を樹脂固形分比率で１０：２に混合した樹脂中に、さらに腐食防止剤としてグリコールジメルカプトアセテートを塗布後に０．３ｇ／ｍ２となるよう調整した量を添加し、グラビアコート法により０．１μｍになるようコーティングしての腐食防止層１４ａとした。さらにその上に水分散エマルジョンタイプのベンゾトリアゾール系高分子型紫外線吸収コーティング液ＵＶＡ−１３８３ＭＧ（ＢＡＳＦ社製）をグラビアコート法によりコーティングして、５５℃で４分間乾燥し厚さ３μｍの腐食防止層１４ｂを形成した。腐食防止層１４ａと１４ｂを合わせて腐食防止層１４とした。アクリル系の粘着剤（ニッセツＳＺ−７１０３、日本カーバイド製）を乾燥後２５μｍの膜厚になるように塗布した剥離フィルム１６を上記銀蒸着フィルムの腐食防止層１４の表面にラミネートして粘着層１５を形成し、比較例４の太陽光反射フィルム３０Ｄ（試料８）を得た。【０２５６】
（腐食防止層１４の水接触角測定）
ＪＩＳ−Ｒ３２５７に基づいて、純水３μＬを腐食防止層の表面に滴下した。純水の接触角を接触角計ＤＭ３００（協和界面化学）を用いて測定した。得られた結果を表１に示す。【０２５７】
比較例５（太陽光反射フィルム３０Ｅの作製）（試料９；図１１参照）
ポリエステルフィルムフィルム１２上に粘着層１５（更に剥離フィルム１６）を形成する工程は、実施例１の太陽光反射フィルム１０Ａの工程と同じで作製した。【０２５８】
樹脂フィルム状支持体１２であるポリエステルフィルムフィルム１２の銀反射層１３を蒸着した面とは反対の面に高屈折率層として高屈折率層用塗布液Ｈ２、低屈折率層として低屈折率層用塗布液Ｌ２を２１層重層塗布可能なスライドホッパー塗布装置を用い、低屈折率層用塗布液Ｌ２及び高屈折率層用塗布液Ｈ２を４５℃に保温しながら、４５℃に加温した厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡製Ａ４３００：両面易接着層を有するフィルム）上に、Ｈ２はポリエチレンテレフタレートフィルムに接するように、次いで、Ｈ２上にＬ３となるように、かつ、Ｈ２とＬ２はそれぞれ交互になるように、同時重層塗布を行った。塗布直後、５℃の冷風を５分吹き付けたのち、８０℃の温風を吹き付けて乾燥させて、２１層からなる赤外線反射層２５を形成した。赤外線反射層２５の乾燥後の膜厚は、低屈折率層用塗布液Ｌ２を塗布した層２５１は各層１８０ｎｍ、高屈折率用塗布液Ｈ２を塗布した層２５２は各層１５０ｎｍであった。【０２５９】
さらに赤外線反射層２５の上に高屈折率層として高屈折率層用塗布液Ｈ３、低屈折率層として低屈折率層用塗布液Ｌ４を２１層重層塗布可能なスライドホッパー塗布装置を用い、低屈折率層用塗布液Ｌ４及び高屈折率層用塗布液Ｈ３を４５℃に保温しながら、４５℃に加温した樹脂フィルム状支持体１２である厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡株式会社製Ａ４３００：両面易接着層）上の赤外線反射層２５の表面上に、Ｌ４は赤外線反射層２５表面に接するように、次いで、Ｌ４上にＨ３となるように、かつ、Ｈ３とＬ４はそれぞれ交互になるように、同時重層塗布を行った。塗布直後、５℃の冷風を５分吹き付けたのち、８０℃の温風を吹き付けて乾燥させて、２１層からなる可視光線反射層２６を形成した。可視光線反射層２６の乾燥後の膜厚は、低屈折率層用塗布液Ｌ４を塗布した層２６１は各層１２０ｎｍ、高屈折率用塗布液Ｈ３を塗布した層２６２は各層９０ｎｍであった。【０２６０】
さらに高屈折率層１１２として高屈折率層用塗布液Ｈ１、低屈折率層１１１として低屈折率層用塗布液Ｌ３を２１層重層塗布可能なスライドホッパー塗布装置を用い、低屈折率層用塗布液Ｌ３及び高屈折率層用塗布液Ｈ１を４５℃に保温しながら、４５℃に加温した樹脂フィルム状支持体１２である厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡株式会社製Ａ４３００：両面易接着層）上に順に形成した赤外線反射層２５、可視光線反射層２６の表面上に、Ｌ３は可視光線反射層２６表面に接するように、次いで、Ｌ３上にＨ１となるように、かつ、Ｈ１とＬ３はそれぞれ交互になるように、同時重層塗布を行った。塗布直後、５℃の冷風を５分吹き付けたのち、８０℃の温風を吹き付けて乾燥させて、２１層からなる紫外線反射積層部１１を形成した。乾燥後の膜厚は、低屈折率層用塗布液Ｌ３を塗布した低屈折率層１１１は各層６４ｎｍ、高屈折率用塗布液Ｈ１を塗布した高折率層１１２は各層４７ｎｍであった。このようにして比較例５の太陽光反射フィルム３０Ｅ（試料９）を得た。【０２６１】
比較例６（太陽光反射フィルム３０Ｆの作製）（試料１０；図１２参照）
可視光線反射層２６を形成する工程までを比較例５の太陽光反射フィルム３０Ｅの製造方法と同じ方法に従った。可視光線反射層２６の表面に接着層２７（厚さ５μｍ）を塗布し、先に作製した比較例４の紫外線反射積層部１１をラミネートし比較例６の太陽光反射フィルム３０Ｆ（試料１０）を得た。【０２６２】
〔太陽光反射フィルムの評価〕
上記で作製した各太陽光反射フィルム（試料１〜１０）について、下記の性能評価を行った。【０２６３】
（各層の単膜屈折率の測定）
基材上に屈折率を測定するため各層を単層で塗布したサンプルを作製し、このサンプルを１０ｃｍ×１０ｃｍに裁断した後、下記の方法に従って屈折率を求めた。日立製の分光光度計  Ｕ−４１００（固体試料測定システム）を用いて、各サンプルの測定面とは反対側の面（裏面）を粗面化処理した後、黒色のスプレーで光吸収処理を行って裏面での光の反射を防止して、５度正反射の条件にて５５０ｎｍの反射率を測定して平均値を求め、その結果より平均反射率を求め、さらに屈折率を求めた。【０２６４】
（初期の５度正反射率の測定）
上記作製した各太陽光反射フィルムの透過率と光入射面側における５度正反射率を測定した。測定は日立製の分光光度計  Ｕ−４１００（固体試料測定システム）を用いた。反射率の波長範囲は２８０〜２５００ｎｍで測定した。反射率の波長範囲２８０〜２５００ｎｍの測定値から算出された平均反射率Ｒ（波長２８０〜２５００ｎｍ）を以下のようにランク付した。【０２６５】
５：９５％以上
４：９０％以上９５％未満
３：８５％以上９０％未満
２：８０％以上８５％未満
１：８０％未満。【０２６６】
（カール評価）
フィルムのカールの測定を、ＪＩＳ  Ｋ７６１９−１９８８の「写真フィルムのカールの測定法」中の方法Ａのカール測定用型板を用いて行った。ここで、カールがプラス（＋）とはフィルムの光入射側が湾曲の内側になるカールをいい、マイナス（−）とは光入射側が湾曲の外側になるカールをいう。また、カールは下記数式で表される。【０２６７】
【数３】
2015002053.tif 000005
【０２６８】
測定結果のカール量により、以下のようにランク付した；
５：−５以上〜＋５以下
４：−１０以上〜−５未満、＋５超〜＋１０以下
３：−１５以上〜−１０未満、＋１０超〜＋１５以下
２：−２０以上〜−１５未満、＋１５超〜＋２０以下
１：−２０未満、＋２０超。【０２６９】
（耐候性の評価）
上記作製した各太陽光反射フィルムを、温度８５℃、相対湿度８５％の環境下で３０日間放置したのち、フィルムの光入射面側に対しキセノンランプ照射（スガ試験機  ＳＸ７５を用いて、ブラックパネル温度６３℃、相対湿度５０％の環境下で放射強度１８０Ｗ／ｍ２、５０００時間）を行った。次いで、キセノンランプ照射後に上記と同様の方法で５度正反射率を測定し、初期の反射率と耐候性試験後の反射率とを比較し、下記評価にしたがって、フィルムを評価した。耐候性試験後の反射率は紫外線積算光量３４５０ＭＪ／ｍ２に達した時点での反射率を「ＵＶ３４５０ＭＪ／ｍ２暴露後」とし、紫外線積算光量６９００ＭＪ／ｍ２に達した時点での反射率を「ＵＶ６９００ＭＪ／ｍ２暴露後」とした。【０２７０】
・初期最大反射率に対する耐候性試験後の最大反射率の低下（＝初期最大反射率−耐候性試験後の最大反射率（％））
５：最大反射率低下が１０％未満
４：最大反射率低下が１０％以上３０％未満
３：最大反射率低下が３０％以上５０％未満
２：最大反射率低下が５０％以上７０％未満
１：最大反射率低下が７０％以上。【０２７１】
（密着性の評価）
上記耐候性の評価の後、ＪＩＳ  Ｋ  ５６００−５−６：１９９９に準拠した碁盤目試験を行った。具体的には、各太陽光反射フィルムの光入射面側に、１ｍｍ間隔で縦、横に１１本の切れ目を入れ、１ｍｍ角の碁盤目を１００個作製した。この上にセロハンテープを貼り付け、９０度の角度で素早く剥がし、剥がれずに残った碁盤目の数を測定し、下記の基準に従って、比較例１では銀反射層と樹脂フィルム状支持体、実施例１、２では紫外線反射部と樹脂フィルム状支持体、比較例２では銀反射層（ないし腐食防止層）と樹脂フィルム状支持体、比較例３では紫外線保護層と接着層を介した樹脂フィルム状支持体、実施例３では、紫外線反射積層部と腐食防止層を介した銀反射層、実施例４では、紫外線反射積層部と耐傷層、比較例４では、加熱延伸紫外線反射フィルムと銀反射層、比較例５では紫外線反射積層部と可視光線反射層、比較例６では紫外線反射積層部と接着層を介した可視光線反射層との密着性評価を評価した。【０２７２】
５：剥離がまったく認められない
４：剥離した碁盤目数が、１個以上、５個以下である
３：剥離した碁盤目数が、６個以上、１０個以下である
２：剥離した碁盤目数が、１１個以上、２０個以下である
１：剥離した碁盤目数が、２１個以上である。【０２７３】
（耐擦過性の評価）
新東科学株式会社摩擦摩耗試験機（トライボステーションＴＹＰＥ：３２、移動速度４０００ｍｍ／ｍｉｎ．）を使用し、２センチ角にカットした日本スチールウール株式会社製の品番＃００００のスチールウールに１０００ｇ／ｃｍ２の荷重をかけ試料（各太陽光反射フィルムの光入射面側）上を１０センチの長さにわたって２０往復させた。下記の基準に従って、各太陽光反射フィルムの耐擦過性評価を評価した。【０２７４】
５：傷がまったく認められない
４：１センチ以上の傷が、１本以上、５本以下である
３：１センチ以上の傷が、６本以上、１０本以下である
２：１センチ以上の傷が、１１本以上、２０本以下である
１：１センチ以上の傷が、２１本以上である。【０２７５】
評価結果を下記表１に示す。なお、各評価において評価ランク３以上であれば良好であると言える。【０２７６】
【表１】
2015002053.tif 000006
【０２７７】
表１の結果から明らかなように、実施例１〜４のすべての耐候性評価は４〜５の範囲に収まっている。このことは以下の理由であると考えられる。【０２７８】
実施例１〜４のすべての太陽光反射フィルムにおいて、良好な反射効率および耐光性、カールの低減が認められた。特に、実施例２、３、４では、紫外線反射積層部を構成する高屈折率層、低屈折率層ともに無機酸化物を含有することにより、高屈折率層と低屈折率層の屈折率差が大きく紫外線反射効率が高まった結果、実施例１よりも耐光性が向上した。実施例３ではポリエステルフィルムに変えて腐食防止層上に紫外線反射層を設けたことによりポリエステルフィルムの光吸収の影響を受けることなく反射率が向上した。実施例４では耐傷層を設けることにより、耐傷性と密着性が向上した。【０２７９】
一方、比較例１〜３では、紫外線反射層が無いので、使える太陽光が減り（平均反射率が低く、耐光性も低く）、耐久性（密着性、耐擦過性）も低く（ＰＥＴが黄変）、耐候性評価が１〜２の項目が多くなっていることがわかる。比較例４では、紫外線反射層を加熱延伸によって製膜したため、残存しているラジカルの影響を受けて酸化劣化が促進されることで紫外線耐久性が悪く、耐候性評価が１〜２の項目があることがわかる。比較例５では、ポリエステルフィルムの片面に赤外線、可視光線、紫外線反射のコーティング層を積層したため、一方向にカールが発生し、カール評価が１であることがわかる。比較例６では、ポリエステルフィルムの片面に赤外線、可視光線、コーティング層を積層し、紫外線反射層を加熱延伸によって製膜したため、一方向にカールが発生し、カール評価、耐候性評価が１〜２の項目があることがわかる。【０２８０】
本出願は、２０１３年７月１日に出願された日本特許出願番号２０１３−１３８１５６号に基づいており、その開示内容は、参照され、全体として、組み入れられている。
【符号の説明】
【０２８１】
１０、１０’、１０Ａ〜１０Ｄ、３０Ａ〜３０Ｆ  太陽光反射フィルム、
１１  紫外線反射積層部、
１１ａ  紫外線反射積層部内の無機酸化物粒子、
１２  樹脂フィルム状支持体、
１３  銀反射層、
１４  腐食防止層、
１４ａ  第１腐食防止層、
１４ｂ  第２腐食防止層、
１５  粘着層、
１６  剥離材（剥離フィルム）、
１７  耐傷層、
１８  接着層、
１９  紫外線保護層、
２１  多層光学フィルム、
２３  保護表面層、
２５  赤外線反射層、
２６  可視光線反射層、
２７  接着層、
１００  太陽光、
１１１  低屈折率層、
１１１ａ  低屈折率層内の無機酸化物粒子、
１１２  高屈折率層、
１１２ａ  高屈折率層内の無機酸化物粒子、
２１１  ＴＨＶ層、
２１２  ＰＭＭＡ層、
２３１、２３２  ＰＥＮからなる１対の非光学層、
２５１  赤外線反射層の低屈折率層、
２５２  赤外線反射層の高屈折率層、
２６１  可視光線反射層の低屈折率層、
２６２  可視光線反射層の高屈折率層。
【図１】
2015002053.tif 000007
【図２】
2015002053.tif 000008
【図３】
2015002053.tif 000009
【図４】
2015002053.tif 000010
【図５】
2015002053.tif 000011
【図６】
2015002053.tif 000012
【図７】
2015002053.tif 000013
【図８】
2015002053.tif 000014
【図９】
2015002053.tif 000015
【図１０】
2015002053.tif 000016
【図１１】
2015002053.tif 000017
【図１２】
2015002053.tif 000018
【国際調査報告】
2015002053.tif 000019
2015002053.tif 000020
2015002053.tif 000021
2015002053.tif 000022