(57)【要約】  アモルファス合金薄帯が積層されてなり、薄帯の幅方向の一端面及び他端面と薄帯の積層方向に直交する内周面及び外周面とを有する積層体を準備し、積層体の一端面を起点とする穴を形成し、穴が形成された積層体に対し、穴の内部の温度を測定しながら熱処理を施し、熱処理後の積層体の少なくとも一端面の少なくとも一部に対し、粘度が３８〜５１Ｐａ・ｓであってＴ．Ｉ．値が１．６〜２．７である２液混合型のエポキシ樹脂組成物を塗布して硬化させることにより、一端面の少なくとも一部を被覆するとともに穴を閉塞する樹脂層を形成するアモルファス合金磁心の製造方法。
2016047717.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アモルファス合金薄帯が積層されてなり、前記アモルファス合金薄帯の幅方向の一端面及び他端面と、前記アモルファス合金薄帯の積層方向に対して直交する内周面及び外周面と、を有する積層体を準備する積層体準備工程と、
前記積層体の前記一端面を起点とし、前記幅方向を深さ方向とする穴を形成する穴形成工程と、
前記穴形成工程後の積層体に対し、前記穴の内部の温度を測定しながら熱処理を施す熱処理工程と、
前記熱処理工程後の積層体の少なくとも前記一端面の少なくとも一部であって前記穴を含む領域に対し、回転数５０ｒｐｍの条件で測定された２液混合後の粘度（２５℃）が３８Ｐａ・ｓ〜５１Ｐａ・ｓであって下記式（１）によって求められた２液混合後のチキソトロピーインデックス値（２５℃）が１．６〜２．７である２液混合型のエポキシ樹脂組成物を塗布し、硬化させることにより、前記一端面の少なくとも一部を被覆するとともに前記穴を閉塞する樹脂層を形成する樹脂層形成工程と、
を有するアモルファス合金磁心の製造方法。
２液混合後のチキソトロピーインデックス値（２５℃）  ＝  ５ｒｐｍ粘度／５０ｒｐｍ粘度  ・・・  式（１）
〔式（１）中、「５０ｒｐｍ粘度」は、回転数５０ｒｐｍの条件で測定された、２液混合型のエポキシ樹脂組成物の２液混合後の粘度（２５℃）を指し、「５ｒｐｍ粘度」は、回転数５ｒｐｍの条件で測定された、２液混合型のエポキシ樹脂組成物の２液混合後の粘度（２５℃）を指す。〕
【請求項２】
前記熱処理工程は、磁場中に配置された前記積層体に対して前記熱処理を施す請求項１に記載のアモルファス合金磁心の製造方法。
【請求項３】
前記穴形成工程後であって前記樹脂層形成工程前の積層体は、前記一端面の側から見たときに、前記穴の中心と前記積層体の厚さ方向の中心線との最短距離が、前記積層体の厚さに対し、１０％以下である請求項１又は請求項２に記載のアモルファス合金磁心の製造方法。
【請求項４】
前記穴形成工程後であって前記樹脂層形成工程前の積層体は、前記一端面の側から見たときに、前記穴の全体が、前記一端面において、前記内周面の長手方向の一端から他端までの範囲に相当する範囲に含まれる請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載のアモルファス合金磁心の製造方法。
【請求項５】
前記穴形成工程後であって前記樹脂層形成工程前の積層体は、前記一端面の側から見たときに、前記穴の中心と前記積層体の長手方向の中心線との最短距離が、前記積層体の長手方向長さに対し、２０％以下である請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載のアモルファス合金磁心の製造方法。
【請求項６】
前記穴形成工程後であって前記樹脂層形成工程前の積層体は、前記穴の深さが、前記一端面と前記他端面との距離に対し、３０％〜７０％である請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載のアモルファス合金磁心の製造方法。
【請求項７】
前記穴形成工程後であって前記樹脂層形成工程前の積層体は、前記穴の幅が、１．５ｍｍ以上である請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載のアモルファス合金磁心の製造方法。
【請求項８】
前記穴形成工程後であって前記樹脂層形成工程前の積層体は、前記積層体の厚さ（ｍｍ）をＴとし、アモルファス合金磁心の占積率（％）をＬＦとしたときに、前記穴の幅が、数式〔Ｔ×（１００−ＬＦ）／１００〕によって算出される値未満である請求項１〜請求項７のいずれか１項に記載のアモルファス合金磁心の製造方法。
【請求項９】
前記穴形成工程後であって前記樹脂層形成工程前の積層体は、前記穴の幅が、３．５ｍｍ以下である請求項１〜請求項８のいずれか１項に記載のアモルファス合金磁心の製造方法。
【請求項１０】
前記穴形成工程後であって前記樹脂層形成工程前の積層体は、前記穴の長さが、１．５ｍｍ〜３５ｍｍである請求項１〜請求項９のいずれか１項に記載のアモルファス合金磁心の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、アモルファス合金磁心の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
アモルファス合金は、優れた磁気特性を有することから、電力配電用トランス、電子・電気回路用トランスなどの磁心（コア）の材料として採用されている。
アモルファス合金製の磁心（以下、「アモルファス合金磁心」という）は、珪素鋼板（電磁鋼板）製の磁心と比較して、無負荷時の電流の損失を約１／３に抑えられることから、近年の省エネルギー化に適合する磁心として期待されている。【０００３】
アモルファス合金磁心の作製に用いられるアモルファス合金薄帯（アモルファス合金リボン）は、一般に単ロール法により、回転する銅合金製の冷却ロール上に、合金溶湯をノズルから吐出し、急冷することによって、製造される。【０００４】
上記アモルファス合金磁心について適正な磁気特性を得るためには、アモルファス合金薄帯を積層させてアモルファス合金磁心を作製した後、熱処理を行うことが多い。
例えば、特開２００７−２３４７１４号公報には、アモルファス合金磁心の熱処理温度と、アモルファス合金磁心の鉄損（コアロス）やＨｃ（保磁力）と、の関係について開示されている。
また、特表２００１−５１０５０８号公報には、アモルファス合金磁心の熱処理温度と、アモルファス合金磁心の励磁力と、の関係について開示されている。【０００５】
また、特公平７−９８５８号公報には、上記アモルファス合金磁心に関し、積層されたアモルファス合金薄帯の端部の一部の欠落を抑制すること等を目的とし、積層されたアモルファス合金薄帯の幅方向端部を結合層によって被覆することが開示されている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特開２００７−２３４７１４号公報及び特表２００１−５１０５０８号公報に示されるように、アモルファス合金磁心に対して適正な磁気特性を付与するためには、アモルファス合金磁心に対し、適正な熱処理条件で熱処理を施すことが重要である。
しかし、従来のアモルファス合金磁心では、熱処理条件の適正化が困難または煩雑であるという問題があった。その理由は、熱処理中において、磁心の内部の温度プロファイルと、磁心の表面の温度プロファイルと、が一致しないことが多いためである。このため、従来は、熱処理条件と実際に得られた磁気特性との関係を確認しながら熱処理条件の調整を繰り返すことにより、最終的な熱処理条件を決定することが多かった。【０００７】
そこで本発明者等は、アモルファス合金薄帯を積層させた積層体（磁心）に対し、磁心の内部の温度測定用の穴として、薄帯の幅方向の一端面を起点としこの幅方向を深さ方向とする穴を形成することにより、磁心の熱処理条件の適正化を容易に行うことができることを見出した。【０００８】
一方、積層体に対して上記穴を形成する過程で、アモルファス合金の破砕粉が生じる懸念がある。この破砕粉が積層体から遊離すると、トランスの絶縁劣化の原因となる懸念がある。
そこで本発明者等は、積層体の端面（薄帯の幅方向の端面）を被覆するための樹脂層によって上記穴を閉塞することを検討した。
しかし、積層体の端面を被覆するために用いられる樹脂層では、上記穴を閉塞することが困難な場合があることが判明した。【０００９】
そこで本発明者等は、上記穴を閉塞することを優先させて樹脂層の樹脂の種類の検討を行った。
しかし、上記穴を閉塞できる樹脂を用いた樹脂層では、樹脂層の表面の平坦性が損なわれる場合があることが判明した。【００１０】
本発明は上記に鑑みなされたものであり、以下の目的を達成することを課題とする。
即ち、本発明の目的は、アモルファス合金薄帯が積層された積層体を備え、上記積層体の一端面を起点とする熱処理温度測定用の穴が形成され、さらに上記一端面の少なくとも一部を被覆する樹脂層を備えた磁心を製造するにあたり、樹脂層の表面の平坦性を高く維持したまま、樹脂層によって穴を閉塞できるアモルファス合金磁心の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記課題を解決するための具体的手段は以下のとおりである。
＜１＞  アモルファス合金薄帯が積層されてなり、前記アモルファス合金薄帯の幅方向の一端面及び他端面と、前記アモルファス合金薄帯の積層方向に対して直交する内周面及び外周面と、を有する積層体を準備する積層体準備工程と、
前記積層体の前記一端面を起点とし、前記幅方向を深さ方向とする穴を形成する穴形成工程と、
前記穴形成工程後の積層体に対し、前記穴の内部の温度を測定しながら熱処理を施す熱処理工程と、
前記熱処理工程後の積層体の少なくとも前記一端面の少なくとも一部であって前記穴を含む領域に対し、回転数５０ｒｐｍの条件で測定された２液混合後の粘度（２５℃）が３８Ｐａ・ｓ〜５１Ｐａ・ｓであって下記式（１）によって求められた２液混合後のチキソトロピーインデックス値（２５℃）が１．６〜２．７である２液混合型のエポキシ樹脂組成物を塗布し、硬化させることにより、前記一端面の少なくとも一部を被覆するとともに前記穴を閉塞する樹脂層を形成する樹脂層形成工程と、
を有するアモルファス合金磁心の製造方法。
２液混合後のチキソトロピーインデックス値（２５℃）  ＝  ５ｒｐｍ粘度／５０ｒｐｍ粘度  ・・・  式（１）
〔式（１）中、「５０ｒｐｍ粘度」は、回転数５０ｒｐｍの条件で測定された、２液混合型のエポキシ樹脂組成物の２液混合後の粘度（２５℃）を指し、「５ｒｐｍ粘度」は、回転数５ｒｐｍの条件で測定された、２液混合型のエポキシ樹脂組成物の２液混合後の粘度（２５℃）を指す。〕
＜２＞  前記熱処理工程は、磁場中に配置された前記積層体に対して前記熱処理を施す＜１＞に記載のアモルファス合金磁心の製造方法。
＜３＞  前記穴形成工程後であって前記樹脂層形成工程前の積層体は、前記一端面の側から見たときに、前記穴の中心と前記積層体の厚さ方向の中心線との最短距離が、前記積層体の厚さに対し、１０％以下である＜１＞又は＜２＞に記載のアモルファス合金磁心の製造方法。
＜４＞  前記穴形成工程後であって前記樹脂層形成工程前の積層体は、前記一端面の側から見たときに、前記穴の全体が、前記一端面において、前記内周面の長手方向の一端から他端までの範囲に相当する範囲に含まれる＜１＞〜＜３＞のいずれか１項に記載のアモルファス合金磁心の製造方法。
＜５＞  前記穴形成工程後であって前記樹脂層形成工程前の積層体は、前記一端面の側から見たときに、前記穴の中心と前記積層体の長手方向の中心線との最短距離が、前記積層体の長手方向長さに対し、２０％以下である＜１＞〜＜４＞のいずれか１項に記載のアモルファス合金磁心の製造方法。
＜６＞  前記穴形成工程後であって前記樹脂層形成工程前の積層体は、前記穴の深さが、前記一端面と前記他端面との距離に対し、３０％〜７０％である＜１＞〜＜５＞のいずれか１項に記載のアモルファス合金磁心の製造方法。
＜７＞  前記穴形成工程後であって前記樹脂層形成工程前の積層体は、前記穴の幅が、１．５ｍｍ以上である＜１＞〜＜６＞のいずれか１項に記載のアモルファス合金磁心の製造方法。
＜８＞  前記穴形成工程後であって前記樹脂層形成工程前の積層体は、前記積層体の厚さ（ｍｍ）をＴとし、アモルファス合金磁心の占積率（％）をＬＦとしたときに、前記穴の幅が、数式〔Ｔ×（１００−ＬＦ）／１００〕によって算出される値未満である＜１＞〜＜７＞のいずれか１項に記載のアモルファス合金磁心の製造方法。
＜９＞  前記穴形成工程後であって前記樹脂層形成工程前の積層体は、前記穴の幅が、３．５ｍｍ以下である＜１＞〜＜８＞のいずれか１項に記載のアモルファス合金磁心の製造方法。
＜１０＞  前記穴形成工程後であって前記樹脂層形成工程前の積層体は、前記穴の長さが、１．５ｍｍ〜３５ｍｍである＜１＞〜＜９＞のいずれか１項に記載のアモルファス合金磁心の製造方法。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、アモルファス合金薄帯が積層された積層体を備え、上記積層体の一端面を起点とする熱処理温度測定用の穴が形成され、さらに上記一端面の少なくとも一部を被覆する樹脂層を備えた磁心を製造するにあたり、樹脂層の表面の平坦性を高く維持したまま、樹脂層によって穴を閉塞できるアモルファス合金磁心の製造方法が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】第１実施形態における、穴形成工程後であって樹脂層形成工程前の積層体の概略斜視図である。
【図２】第１実施形態における、穴形成工程後であって樹脂層形成工程前の積層体の概略平面図である。
【図３】図２の部分拡大図である。
【図４】第１実施形態における、穴形成工程後であって樹脂層形成工程前の積層体の概略側面図である。
【図５】第２実施形態における、穴形成工程後であって樹脂層形成工程前の積層体の概略斜視図である。
【図６】第１実施形態における、樹脂層形成工程後の積層体（磁心）の概略斜視図である。
【図７】第１実施形態における、樹脂層形成工程後の積層体（磁心）の概略側面図である。
【図８】実施例１において、熱処理開始からの経過時間（分（min））と、コア（積層体）の温度及び炉の温度と、の関係を示すグラフである。
【図９】図８の部分拡大図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明のアモルファス合金磁心（以下、単に「磁心」や「コア」ともいう）の製造方法（以下、「本発明の製造方法」ともいう）について詳細に説明する。
本明細書において、「〜」を用いて示された数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を意味する。
本明細書において、「ｒｐｍ」は、round per minuteの略である。
本明細書において、「工程」との用語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の目的が達成されれば、本用語に含まれる。
【００１５】
本発明のアモルファス合金磁心の製造方法は、アモルファス合金薄帯（以下、単に「薄帯」や「リボン」ともいう）が積層されてなり、前記アモルファス合金薄帯の幅方向の一端面及び他端面と、前記アモルファス合金薄帯の積層方向に対して直交する内周面及び外周面と、を有する積層体を準備する積層体準備工程と、前記積層体の前記一端面を起点とし、前記幅方向を深さ方向とする穴を形成する穴形成工程と、前記穴形成工程後の積層体に対し、前記穴の内部の温度を測定しながら熱処理を施す熱処理工程と、前記熱処理工程後の積層体の前記一端面の少なくとも一部であって前記穴を含む領域に対し、回転数５０ｒｐｍの条件で測定された２液混合後の粘度（２５℃）（以下、「５０ｒｐｍ粘度」又は単に「粘度」ともいう）が３８Ｐａ・ｓ〜５１Ｐａ・ｓであって下記式（１）によって求められた２液混合後のチキソトロピーインデックス値（２５℃）（以下、「Ｔ．Ｉ．値」ともいう）が１．６〜２．７である２液混合型のエポキシ樹脂組成物を塗布し、硬化させることにより、前記一端面の少なくとも一部を被覆するとともに前記穴を閉塞する樹脂層を形成する樹脂層形成工程と、を有する。本発明の製造方法は、必要に応じ、その他の工程を有していてもよい。
【００１６】
２液混合後のチキソトロピーインデックス値（２５℃）  ＝  ５ｒｐｍ粘度／５０ｒｐｍ粘度  ・・・  式（１）
〔式（１）中、「５０ｒｐｍ粘度」は、回転数５０ｒｐｍの条件で測定された、２液混合型のエポキシ樹脂組成物の２液混合後の粘度（２５℃）を指し、「５ｒｐｍ粘度」は、回転数５ｒｐｍの条件で測定された、２液混合型のエポキシ樹脂組成物の２液混合後の粘度（２５℃）を指す。〕
【００１７】
従来のアモルファス合金磁心では、磁気特性を付与するための熱処理条件の適正化が困難または煩雑であるという問題があった。その理由は、熱処理中において、磁心の内部の温度プロファイルと、磁心の表面の温度プロファイルと、が一致しないことが多いためである。このため、従来は、熱処理条件と実際に得られた磁気特性との関係を確認しながら熱処理条件の調整を繰り返すことにより、最終的な熱処理条件を決定することが多かった。
【００１８】
上記問題に関し、本発明の製造方法では、磁心の一部を構成する上記積層体に対し、温度測定用の穴を形成する穴形成工程を有する。これにより、熱電対や温度センサーなどの温度測定手段（以下、「熱電対等」ともいう）を上記穴に挿入することにより、磁気特性を付与するための熱処理中において、穴の内部、即ち磁心の内部の温度プロファイルを正確に測定することができる。そして磁心の内部の温度プロファイルを確認しながら、熱処理条件を容易に調整（適正化）することができる。
従って、本発明の製造方法によれば、積層体の熱処理条件の適正化を容易に行うことができる。
本発明の製造方法によれば、例えば、異なるサイズの磁心に対し共通する熱処理条件を決定する場合や、同一の熱処理炉内で複数の磁心を熱処理するための熱処理条件を決定する場合においても、個々の磁心の内部の温度プロファイルを確認しながら、熱処理条件を容易に調整（適正化）することができる。
【００１９】
以上のように、本発明者等は、アモルファス合金薄帯を積層させた積層体（磁心）に対して上記穴を形成することにより、磁心の熱処理条件の適正化を容易に行うことができることを見出した。
【００２０】
一方、積層体に対して上記穴を形成する過程で、アモルファス合金の破砕粉が生じる懸念がある。この破砕粉が積層体から遊離すると、トランスの絶縁劣化の原因となる懸念がある。
また、熱処理後に積層体を変形させて穴を塞ごうとすると、新たに歪みが生じて磁気特性が劣化する。このため、積層体における穴は、熱処理後においても穴として残留させるのが良い。
そこで本発明者等は、積層体の端面（薄帯の幅方向の端面）を被覆するための樹脂層によって上記穴を閉塞することを検討した。
しかし、積層体の端面を被覆するために用いられる一般的な樹脂層では、上記穴を閉塞することが困難な場合があることが判明した。
【００２１】
そこで本発明者等は、上記穴を閉塞することを優先させて樹脂層の樹脂の種類の検討を行った。
しかし、上記穴を閉塞できる樹脂を用いた樹脂層では、樹脂層の表面の平坦性が損なわれる場合があることが判明した。
例えば、積層体の端面に樹脂組成物を、塗布部材（例えばヘラ状やブラシ状の塗布部材）を用いて塗布することによって樹脂層を形成した場合には、樹脂層の表面に塗布部材との接触による凹凸が残り、樹脂層の表面の平坦性が悪化することがある。
【００２２】
上述した問題に関し、本発明の製造方法によれば、粘度及びＴ．Ｉ．値が上記範囲である２液混合型のエポキシ樹脂組成物を用いて樹脂層を形成することにより、樹脂層によって穴を閉塞する閉塞性（以下、「樹脂層による穴の閉塞性」や「穴の閉塞性」ともいう）と、樹脂層の表面の平坦性と、を両立できる。
【００２３】
具体的には、本発明では、粘度（５０ｒｐｍ粘度）が３８Ｐａ・ｓ以上であることにより、樹脂層による穴の閉塞性が向上する。粘度が３８Ｐａ・ｓ未満であると、樹脂層によって穴を閉塞することが困難となる。
【００２４】
更に、本発明では、Ｔ．Ｉ．値が１．６以上であることにより、樹脂層による穴の閉塞性が向上する。Ｔ．Ｉ．値が１．６未満であると、５０ｒｐｍ粘度に対応する塗布中の粘度と比較して、５ｒｐｍ粘度に対応する塗布後の粘度があまり上昇しないので、塗布後において、自重等によって樹脂が穴に入り込み易くなり、穴の閉塞性が低下する傾向となる。
【００２５】
更に、本発明では、Ｔ．Ｉ．値が２．７以下であることにより、樹脂層の平坦性を高く維持することができる。
Ｔ．Ｉ．値が２．７を超えると、樹脂層の表面の平坦性が損なわれる。
【００２６】
更に、本発明では、粘度が５１Ｐａ・ｓ以下であることにより、樹脂層の平坦性を高く維持できるという効果や、塗布し易いという効果が得られる。
【００２７】
本発明において、回転数５０ｒｐｍの条件で測定された２液混合後の粘度（２５℃）（５０ｒｐｍ粘度）は、ＪＩＳ  Ｋ  ７１１７−１（１９９９）に準拠し、Ｂ型粘度計を用い、ローター番号Ｎｏ．７（スピンドル番号７）のローター（スピンドル）を用い、ローター回転数（スピンドル回転数）５０ｒｐｍ、２液混合後のエポキシ樹脂組成物の温度２５℃の条件で測定された粘度を指す。
また、本発明において、５ｒｐｍ粘度は、ローター回転数（スピンドル回転数）を５ｒｐｍに変更すること以外は５０ｒｐｍ粘度と同様にして測定された粘度を指す。
なお、本明細書中において、「ｒｐｍ」（round per minute）は、「ｍｉｎ−１」と同義である。
【００２８】
本発明において、上記粘度（５０ｒｐｍ粘度）は、４０Ｐａ・ｓ以上であることが特に好ましい。
また、本発明において、上記粘度（５０ｒｐｍ粘度）は、４５Ｐａ・ｓ以下であることが特に好ましい。
また、本発明において、上記Ｔ．Ｉ．値は、１．８以上であることが特に好ましい。
また、本発明において、上記Ｔ．Ｉ．値は、２．５以下であることが特に好ましい。
【００２９】
なお、樹脂層は、穴の入り口（開口部）を塞いでいれば十分である。樹脂層が穴の入り口を塞いでいれば、前記破砕粉の飛散は抑制される。即ち、必ずしも穴全体（穴の全容積）が樹脂で充填されている必要はない。
【００３０】
本発明の製造方法の好ましい態様は、穴形成工程後であって熱処理工程前に、穴に温度測定手段を挿入し、熱処理工程において上記温度測定手段によって穴の内部の温度を測定し、熱処理工程後であって樹脂層形成工程前に、穴から温度測定手段を除去する（引き抜く）態様である。
温度測定手段としては、積層体の熱処理中において、上記穴の内部の温度を測定できる手段であれば特に制限はないが、例えば、熱電対、温度センサーなどが挙げられる。
熱電対としては、シース型熱電対が好適である。
温度測定手段の径は、穴の幅を考慮し、適宜選択できる。
【００３１】
また、本発明の製造方法において、前記熱処理工程は、磁場中に配置された前記積層体に対して前記熱処理を施すことが好ましい。これにより、製造される磁心に対し、所望とする磁気特性を付与し易い。
【００３２】
本発明の製造方法における穴は、積層体表面との温度差が大きい位置に設けることが好ましい。積層体表面との温度差が大きい位置は、例えば、熱伝導を考慮したシミュレーション等によって求めることができる。
以下、穴の位置の好ましい態様などについて説明する。
【００３３】
本発明の製造方法において、前記穴形成工程後であって前記樹脂層形成工程前の積層体は、前記一端面の側から見たときに、前記穴の中心と前記積層体の厚さ方向の中心線（例えば、図２中の中心線Ｃ１）との最短距離が、前記積層体の厚さに対し、１０％以下であることが好ましい。
要するに、上記穴は、積層体の厚さ方向の中心またはその近傍に形成することが好ましい。
これにより、積層体内部における、積層体表面（例えば、後述の外周面及び内周面）との温度差が大きい箇所の温度を測定できるので、熱処理条件の適正化がより容易となる。
【００３４】
本明細書中において、積層体の厚さ方向とは、薄帯の厚さ方向、言い換えれば、薄帯の積層方向を指す。
即ち、積層体の厚さは、積層された薄帯の総厚（薄帯の積層厚）（例えば、図２中の厚さＴ１）を指す。
【００３５】
また、前記穴形成工程後であって前記樹脂層形成工程前の積層体は、前記一端面の側から見たときに、前記穴の全体が、前記一端面において、前記内周面の長手方向の一端から他端までの範囲に相当する範囲（例えば、図２中、斜線で示した範囲Ｘ１）に含まれることが好ましい。
ここで、「一端面において、内周面の長手方向の一端から他端までの範囲に相当する範囲」とは、一端面において、内周面の長手方向の一端を通り且つこの長手方向に対して直交する直線から、内周面の長手方向の他端を通り且つこの長手方向に対して直交する直線までの範囲を指す。
また、前記穴形成工程後であって前記樹脂層形成工程前の積層体は、前記一端面の側から見たときに、前記穴の中心と前記積層体の長手方向の中心線（例えば、図２中の中心線Ｃ２）との最短距離が、前記積層体の長手方向長さ（例えば、図２中の長辺長さＬ１）に対し、２０％以下（より好ましくは１０％以下、更に好ましくは５％以下）であることも好ましい。
【００３６】
また、本発明の製造方法において、前記穴形成工程後であって前記樹脂層形成工程前の積層体は、前記穴の深さ（例えば、図４中の深さＤｈ）が、前記一端面と前記他端面との距離（例えば、図４中の距離Ｄ１）に対し、３０％〜７０％であることが好ましい。
要するに、上記穴の底は、前記一端面と前記他端面との中間点又はその近傍に存在することが好ましい。
これにより、積層体内部における、積層体表面（具体的には一端面及び他端面）との温度差が大きい箇所の温度を測定できるので、熱処理条件の適正化がより容易となる。
【００３７】
また、本発明の製造方法において、前記穴形成工程後であって前記樹脂層形成工程前の積層体は、前記穴の幅が、１．５ｍｍ以上であることが好ましい。
これにより、穴に熱電対等を挿入することがより容易となる。更に、熱電対等を穴から抜き取る際の摩擦をより低減できる。
【００３８】
なお、本明細書中において、穴の幅とは、一端面側からみたときの穴の最大幅（穴の幅方向長さの最大値；例えば、図３中の幅Ｗｈ）を意味する。
上記積層体において、穴の幅は、穴の、積層体の厚さ方向の長さに相当することが好ましい（例えば、図２参照）。
【００３９】
また、本発明の製造方法において、前記穴形成工程後であって前記樹脂層形成工程前の積層体は、前記積層体の厚さ（ｍｍ）をＴとし、アモルファス合金磁心の占積率（％）をＬＦとしたときに、前記穴の幅が、数式〔Ｔ×（１００−ＬＦ）／１００〕によって算出される値未満であることが好ましい。
数式〔Ｔ×（１００−ＬＦ）／１００〕によって算出される値は、前記内周面と前記外周面との間に含まれる、薄帯間の空隙の幅の総和となっている。
穴の幅が数式〔Ｔ×（１００−ＬＦ）／１００〕によって算出される値未満であることにより、穴を設けることによる積層体の外形（外周面及び内周面、以下同じ。）の変形量を、薄帯間の空隙によって吸収できる。このため、穴を設けることによる積層体の外形の変形を抑制することができる。
上記穴の幅は、穴を設けることによる積層体の外形の変形をより抑制する観点から、数式〔（Ｔ×（１００−ＬＦ）／１００）／２〕によって算出される値未満であることが好ましい。
【００４０】
また、本発明の製造方法において、前記穴形成工程後であって前記樹脂層形成工程前の積層体は、前記穴の幅が、３．５ｍｍ以下であることが好ましく、３．０ｍｍ以下であることがより好ましい。
穴の幅が３．５ｍｍ以下であることにより、穴を設けることによる積層体の外形の変形を抑制することができる。
【００４１】
穴の幅は、１．５ｍｍ〜３．５ｍｍが更に好ましく、１．５ｍｍ〜３．０ｍｍが更に好ましく、２．０ｍｍ〜３．０ｍｍが特に好ましい。
【００４２】
また、本発明の製造方法において、前記穴形成工程後であって前記樹脂層形成工程前の積層体は、前記穴の長さが、１．５ｍｍ〜３５ｍｍであることが好ましい。
穴の長さが、１．５ｍｍ以上であると、穴に熱電対等を挿入することがより容易となる。更に、熱電対等を穴から抜き取る際の摩擦をより低減できる。
一方、穴の長さが、３５ｍｍ以下であると、穴を設けることによる磁心の磁気特性の低下をより抑制できる。
穴の長さは、５ｍｍ〜３５ｍｍがより好ましく、１０ｍｍ〜３０ｍｍが特に好ましい。
【００４３】
なお、本明細書中において、穴の長さとは、一端面側からみたときの穴の最大長さ（穴の長手方向長さの最大値；例えば、図３中の長さＬｈ）を意味する。
また、言うまでもないが、本明細書中において、穴の長さ及び穴の幅は、穴の長さ≧穴の幅の関係を満たす。
【００４４】
また、本発明の製造方法において、積層体の厚さ（薄帯の積層厚）は、１０ｍｍ〜３００ｍｍが好ましく、１０ｍｍ〜２００ｍｍがより好ましい。
また、本発明の製造方法において、積層体の占積率は、８５％以上であることが好ましい。積層体の占積率の上限は、理想的には１００％であるが、上限は９５％であってもよく、また、９０％であってもよい。
ここで、占積率（％）は、薄帯の厚さ、薄帯の積層数、及び積層体の厚さ（例えば、図２中の厚さＴ１）に基づいて求められる値を指す。
【００４５】
以下、本発明の製造方法の各工程について説明する。
【００４６】
＜積層体準備工程＞
積層体準備工程は、薄帯が積層されてなり、薄帯の幅方向の一端面及び他端面と、薄帯の積層方向に対して直交する内周面及び外周面と、を有する積層体を準備する工程である。
本工程で準備する積層体は、本発明の製造方法によって製造されるアモルファス合金磁心の主たる構成部材である。
本工程は便宜的な工程であり、積層体を製造する工程であってもよいし、既に製造された積層体を単に準備する工程であってもよい。
【００４７】
また、積層体準備工程は、積層体の内周面（即ち、最内周の薄帯の内周面）の更に内側に、内周面に接する珪素鋼板（以下、「内周面側珪素鋼板」ともいう）を備えた複合体を準備する工程であってもよい。
内周面側珪素鋼板を備えた複合体は、磁心の強度を向上できる、磁心の形状を保持し易い、等の利点を有する。
また、積層体準備工程は、積層体の外周面（即ち、最外周の薄帯の外周面）の更に外側に、外周面に接する珪素鋼板（以下、「外周面側珪素鋼板」ともいう）を備えた複合体を準備する工程であってもよい。
外周面側珪素鋼板を備えた複合体は、磁心の強度を向上できる、磁心の形状を保持し易い、等の利点を有する。
また、積層体準備工程は、上記積層体と、上記外周面側珪素鋼板と、上記内周面側珪素鋼板と、を備えた複合体を準備する工程であってもよい。
内周面側珪素鋼板及び外周面側珪素鋼板は、それぞれ、無方向性珪素鋼板であってもよいし、方向性珪素鋼板であってもよい。
内周面側珪素鋼板及び外周面側珪素鋼板の厚さには特に制限はなく、一般的な珪素鋼板の厚さが挙げられる。内周面側珪素鋼板及び外周面側珪素鋼板の厚さは、それぞれ、０．２ｍｍ〜０．４ｍｍが好ましい。
【００４８】
上記積層体を製造する方法や、上記積層体と、上記外周面側珪素鋼板及び上記内周面側珪素鋼板の少なくとも一方と、を備えた複合体を製造する方法については、公知のアモルファス合金磁心の製造方法を適用することができる。
なお、アモルファス合金磁心の製造方法やアモルファス合金磁心の構造については、例えば、日立金属株式会社のホームページ中の”省エネルギー変圧器用アモルファスコアの特長と磁気特性”（インターネット＜ＵＲＬ：http://www.hitachi-metals.co.jp/products/infr/en/pdf/hj-b13-a.pdf＞）を参照することができる。
【００４９】
本発明の製造方法の好ましい態様は、積層体準備工程において、積層体（例えば、後述の積層体１０、後述する積層体１００、等）と、内周面側珪素鋼板と、外周面側珪素鋼板と、を備えた複合体（例えば、実施例における第２複合体）を準備し、穴形成工程において、この複合体の積層体の部分に穴を形成する態様である。
【００５０】
＜穴形成工程＞
穴形成工程は、積層体の一端面（薄帯の幅方向の一端面）を起点とし、幅方向（薄帯の幅方向）を深さ方向とする穴を形成する工程である。
上記穴は、後述する熱処理工程において、積層体の内部の温度を測定するための穴である。積層体に対し上記の穴を形成することにより、穴の内部（即ち積層体の内部）の温度を測定しながら積層体の熱処理を行うことができるので、熱処理条件の適正化が容易となる。
【００５１】
穴を形成する方法には特に限定はないが、磁心の磁気特性への影響を低減する観点から、積層体の一端面から棒状部材を差し込む方法によって形成する方法が好ましい。この方法では、差し込まれた棒状部材により、薄帯と薄帯との間隔が部分的に押し広げられることによって穴が形成される。
棒状部材の形状としては、尖った先端部を有する棒形状が好適である。この態様では、積層体の一端面に対し、尖った先端部の側から棒状部材を差し込むことができるので、薄帯間の一部を押し広げ易い（即ち、穴を形成し易い）。
棒状部材の材質としては、剛性が高い材質が好ましく、例えば、金属、セラミックス等が挙げられる。
棒状部材の径は、形成しようとする穴の大きさを考慮して適宜選択できるが、例えば、３ｍｍ〜７ｍｍが挙げられる。
【００５２】
以下、図面の参照し、本発明の実施形態における、穴形成工程後であって樹脂層形成工程前の積層体（即ち、樹脂層が形成される前の磁心）について説明するが、本発明は以下の実施形態に限定されることはない。また、各図面に共通の要素については、同一の符号を付すことがあり、重複した説明を省略することがある。
【００５３】
（第１実施形態）
第１実施形態における積層体は、「単相コア」（または「単相二脚コア」）と呼ばれる磁心の一部を構成する積層体の例である。
図１は、本発明の第１実施形態における、穴形成工程後であって樹脂層形成工程前の積層体の概略斜視図であり、図２は、第１実施形態における、穴形成工程後であって樹脂層形成工程前の積層体の概略平面図であり、図４は、第１実施形態における、穴形成工程後であって樹脂層形成工程前の積層体の概略側面図である。
図１及び図４に示すように、穴形成工程後であって樹脂層形成工程前の積層体である積層体１０は、アモルファス合金薄帯が積層されてなるものであり（積層構造は不図示）、アモルファス合金薄帯の幅方向Ｗ１についての一端面１２及び他端面１４と、アモルファス合金薄帯の積層方向に対して直交する内周面１６及び外周面１８と、を有する矩形の環状形状（筒状形状）の積層体である。積層体１０において、オーバーラップ部３０は、個々の薄帯の長手方向両端部がオーバーラップしている部分である。
【００５４】
なお、ここでいう「矩形」には、４つの角が丸まっていない形状には限定されず、積層体１０のように４つの角が丸まっている（曲率半径を有する）形状も含まれる。
また、本発明における積層体の形状は、矩形の環状形状（筒状形状）には限定されず、楕円形（円形も含む）の環状形状（筒状形状）であってもよい。
【００５５】
積層体１０には、一端面１２の一部を起点とし、幅方向Ｗ１を深さ方向とする穴２０が形成されている。
この穴２０に熱電対等を差し込んだ状態で積層体１０を熱処理することにより、熱処理の過程において、穴２０の内部（即ち、積層体の内部）の温度プロファイルを正確に測定することができる。これにより、熱処理条件の適正化を容易に行うことができる。
【００５６】
図３は、図２の部分拡大図であり、穴２０を拡大して表した図である。
図２及び図３に示すように、穴２０の形状は、薄帯の長手方向を長手方向とし、長手方向中央部が膨らみ、かつ、長手方向両端部が尖った形状となっている。但し、本発明の穴の形状は穴２０の形状に限定されることはなく、楕円形状（円形状を含む）、ひし形状、矩形状等、どのような形状であってもよい。
【００５７】
また、図２及び図３に示すように、積層体１０において、穴２０は、積層体の厚さ方向（厚さＴ１の方向）の中心線Ｃ１上に設けられている。
中心線Ｃ１上の位置は、積層体１０の外周面１８及び内周面１６から最も離れた位置であり、外周面１８及び内周面１６との温度差が大きい箇所である。この位置に穴２０を設けることが、積層体１０内部の温度を測定する上で、特に効果的である。この位置に穴２０を設けることにより、熱処理の過程において、積層体１０内部の温度プロファイルを正確に測定することができる。これにより、熱処理条件の適正化がより容易となる。
但し、穴２０は、必ずしも中心線Ｃ１上に設けられる必要はない。例えば、穴２０の中心Ｐ１と中心線Ｃ１との最短距離が、前記積層体の厚さＴ１に対し、１０％以下（好ましくは５％以下）であれば、穴２０を中心線Ｃ１上に設けた場合とほぼ同様の効果が得られる。
【００５８】
また、図２及び図３に示すように、積層体１０において、穴２０は、積層体１０の長手方向の中心線Ｃ２上に設けられている。
中心線Ｃ２上の位置は、積層体１０の長手方向の両端から最も離れた位置であり、この両端との温度差が大きい箇所である。この位置に穴２０を設けることも、積層体１０内部（即ち、磁心内部）の温度を測定する上で特に効果的である。この位置に穴２０を設けることにより、熱処理の過程において、積層体１０内部（即ち、磁心内部）の温度プロファイルを正確に測定することができる。これにより、熱処理条件の適正化がより容易となる。
なお、穴２０は、必ずしも中心線Ｃ２上に設けられる必要はないが、一端面１２の側から見たときに、穴２０の全体が、一端面１２において、内周面１６の長手方向の一端から他端までの範囲に相当する範囲（図２中、斜線で示した範囲Ｘ１）に含まれることが好ましい。また、穴２０の中心Ｐ１と中心線Ｃ２との最短距離は、積層体１０の長辺長さＬ１（積層体１０の長手方向長さ）に対し、２０％以下（より好ましくは１０％以下、更に好ましくは５％以下）であることも好ましい。
【００５９】
また、図４に示すように、穴２０の深さＤｈは、一端面１２と他端面１４との距離Ｄ１（言い換えれば、薄帯の幅）の半分（５０％）となっている。距離Ｄ１の５０％の位置は、積層体１０の一端面１２及び他端面１４から最も離れた位置であり、これら一端面１２及び他端面１４との温度差が大きい箇所である。穴２０の深さＤｈをこの深さとすることも、積層体１０内部（即ち、磁心内部）の温度を測定する上で特に効果的である。穴２０の深さＤｈを上記深さとすることにより、熱処理の過程において、積層体１０内部（即ち、磁心内部）の温度プロファイルを正確に測定することができる。これにより、熱処理条件の適正化がより容易となる。
但し、穴２０の深さＤｈは、必ずしも距離Ｄ１の５０％である必要はない。例えば、穴２０の深さＤｈが、距離Ｄ１の３０％〜７０％（より好ましくは４０％〜６０％）であれば、深さＤｈを距離Ｄ１の５０％とした場合とほぼ同様の効果が得られる。
【００６０】
また、一端面１２側からみた穴２０の幅（図３中、穴の幅Ｗｈ）には特に制限はないが、幅Ｗｈは、前述のとおり１．５ｍｍ以上であることが好ましい。
また幅Ｗｈは、前述のとおり、数式〔Ｔ×（１００−ＬＦ）／１００〕によって算出される値未満（より好ましくは、数式〔（Ｔ×（１００−ＬＦ）／１００）／２〕によって算出される値未満）であることが好ましい。
なお、これらの数式中のＴ（積層体の厚さ）は、第１実施形態では厚さＴ１であり、後述の第２実施形態では厚さＴ１１である。
また幅Ｗｈは、前述のとおり、３．５ｍｍ以下であることが好ましく、３．０ｍｍ以下であることがより好ましい。
【００６１】
また、一端面１２側からみた穴２０の長さ（図３中、穴の長さＬｈ）には特に制限はないが、穴の長さＬｈは、前述のとおり、１．５ｍｍ〜３５ｍｍが好ましく、５ｍｍ〜３５ｍｍがより好ましく、１０ｍｍ〜３０ｍｍが特に好ましい。
【００６２】
なお、積層体１０では、一端面１２を起点とする穴が１つのみ設けられているが、本発明における積層体はこの形態には限定されない。また、積層体における穴の数は、２つ以上であってもよい。積層体には、一端面を起点とする穴だけでなく、他端面を起点とする穴が設けられていてもよい。
【００６３】
積層体１０におけるアモルファス合金薄帯の材質には特に制限はなく、Ｆｅ基アモルファス合金、Ｎｉ基アモルファス合金、ＣｏＣｒ基アモルファス合金等、公知のアモルファス合金を用いることができる。
公知のアモルファス合金としては、例えば、国際公開第２０１３／１３７１１７号の段落００４４〜００４９に記載されている、Ｆｅ基アモルファス合金、Ｎｉ基アモルファス合金、ＣｏＣｒ基アモルファス合金等が挙げられる。
【００６４】
本発明におけるアモルファス合金薄帯の材質としては、Ｆｅ基アモルファス合金が特に好ましい。
上記Ｆｅ基アモルファス合金としては、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｂ系アモルファス合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｂ−Ｃ系アモルファス合金がより好ましい。
上記Ｆｅ−Ｓｉ−Ｂ系アモルファス合金としては、２原子％〜１３原子％のＳｉ及び８原子％〜１６原子％のＢを含有し、残部がＦｅ及び不可避不純物である組成を有する系の合金が好ましい。
また、上記Ｆｅ−Ｓｉ−Ｂ−Ｃ系アモルファス合金としては、２原子％〜１３原子％のＳｉ、８原子％〜１６原子％のＢ、及び３原子％以下のＣを含有し、残部がＦｅ及び不可避不純物である組成を有する系の合金が好ましい。
いずれの系においても、Ｓｉが１０原子％以下であり且つＢが１７原子％以下である場合が、飽和磁束密度Ｂｓが高い点で好ましい。また、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｂ−Ｃ系アモルファス合金薄帯では、Ｃを多く加え過ぎると、経年変化が大きくなるため、Ｃの量は０．５原子％以下が好ましい。
【００６５】
また、アモルファス合金薄帯の厚さ（薄帯一枚の厚さ）は、１５μｍ〜４０μｍが好ましく、２０μｍ〜３０μｍがより好ましく、２３μｍ〜２７μｍが特に好ましい。
薄帯の厚さが１５μｍ以上であると、薄帯の機械的強度を保持できる点、及び占積率が高くなり、積層した場合の層数が少なくなる点で有利である。
また、薄帯の厚さが４０μｍ以下であると、渦電流損が小さく抑えられる点、及び積層の磁心を加工した際の曲げ歪を小さくできる点、更にアモルファス相を安定的に得やすい点で有利である。
【００６６】
また、アモルファス合金薄帯の幅（薄帯の長手方向と直交する幅方向の長さ）は、１５ｍｍ〜２５０ｍｍが好ましい。
薄帯の幅が１５ｍｍ以上であると、大容量の磁心が得られやすい。
また、薄帯の幅が２５０ｍｍ以下であると、幅方向において板厚の均一性の高い薄帯が得られやすい。
中でも、薄帯の幅は、大容量で実用的な磁心を得る観点から、５０ｍｍ〜２２０ｍｍがより好ましく、１００ｍｍ〜２２０ｍｍが更に好ましく、１３０ｍｍ〜２２０ｍｍが更に好ましい。中でも、薄帯の幅としては、標準的に使用されている薄帯の幅である、１４２±１ｍｍ、１７０±１ｍｍ、２１３±１ｍｍが特に好ましい。
【００６７】
アモルファス合金薄帯の製造は、例えば、液体急冷法（単ロール法、双ロール法、遠心法等）等の公知の方法により行うことができる。中でも、単ロール法は、製造設備が比較的単純で、かつ安定製造が可能な製造法であって、優れた工業生産性を有する。
単ロール法によるアモルファス合金薄帯の製造方法については、例えば、特許第３４９４３７１号公報、特許第３５９４１２３号公報、特許第４２４４１２３号公報、特許第４５２９１０６号公報、国際公開第２０１３／１３７１１７号の記載を適宜参照できる。
【００６８】
また、積層体１０の厚さＴ１は、１０ｍｍ〜３００ｍｍが好ましく、１０ｍｍ〜２００ｍｍが好ましく、２０ｍｍ〜１５０ｍｍがより好ましく、４０ｍｍ〜１００ｍｍが特に好ましい。
また、積層体１０の長辺長さＬ１（長手方向の長さ）は、２５０ｍｍ〜１４００ｍｍが好ましく、２６０ｍｍ〜４５０ｍｍがより好ましい。
また、積層体１０の短辺長さＬ２（長手方向と直交する方向の長さ）は、８０ｍｍ〜８００ｍｍが好ましく、１６０ｍｍ〜２５０ｍｍが好ましい。
【００６９】
なお、上述したとおり、積層体１０の内周面側には上述の内周面側珪素鋼板が配置され、積層体１０の外周面側には上述の外周面側珪素鋼板が配置されていることが好ましい。
【００７０】
（第２実施形態）
本発明の第２実施形態における積層体は、「三相コア」（または「三相三脚コア」）と呼ばれる磁心の一部を構成する積層体の例である。
図５は、本発明の第２実施形態における、穴形成工程後であって樹脂層形成工程前の積層体の概略斜視図である。
図５に示すように、第２実施形態における積層体１００も、アモルファス合金薄帯が積層されてなるものであり（積層構造は不図示）、積層体１０と同様に、アモルファス合金薄帯の幅方向についての一端面１１２及び他端面１１４と、外周面１１８と、を有する矩形の積層体である。
但し、積層体１００は、内周面を２つ（内周面１１６Ａ及び内周面１１６Ｂ）を有している点で、積層体１０とは異なる。
積層体１００の構造は、積層体１０のような単相コアを２つ並べ、これらの周りを薄帯の束で取り囲んだ構造となっている。積層体１００は、２つの単相コアの部分にオーバーラップ部１３２及び１３４をそれぞれ有し、周りを取り囲む薄帯の束の部分にオーバーラップ部１３６を有している。
【００７１】
積層体１００にも、一端面１１２の一部を起点とし、薄帯の幅方向を深さ方向とする穴１２０及び穴１２２が設けられている。
これらの穴が設けられていることにより、積層体１０の場合と同様に、熱処理条件の適正化を容易に行うことができる。
なお、穴１２０及び１２２のいずれか一方は、省略されていてもよい。
【００７２】
積層体１００における穴（穴１２０及び１２２）の好ましい態様（形状、位置、深さ、大きさ等）については、積層体１０の好ましい態様を適宜参照できる。
【００７３】
積層体１００の厚さＴ１１は、１０ｍｍ〜３００ｍｍが好ましく、１０ｍｍ〜２００ｍｍがより好ましく、２０ｍｍ〜２００ｍｍが更に好ましく、４０ｍｍ〜２００ｍｍが特に好ましい。
積層体１００の一辺の長さ（長さＬ１１、長さＬ１２）は、１８０ｍｍ〜１３８０ｍｍが好ましく、４６０ｍｍ〜５００ｍｍがより好ましい。
【００７４】
その他、積層体１００の好ましい態様や変形例は、積層体１０の好ましい態様や変形例と同様である。
【００７５】
＜熱処理工程＞
熱処理工程は、穴形成工程後の積層体に対し、穴の内部の温度を測定しながら熱処理を施す工程である。この熱処理により、積層体に磁気特性が付与される。
【００７６】
穴の内部（即ち、磁心の内部）の温度の測定は、前述のとおり、熱電対、温度センサー等の温度測定手段を用いて行うことができる。
熱電対としては、シース型熱電対が好適である。
温度測定手段の径は、穴の幅を考慮して適宜選択できるが、例えば０．５ｍｍ〜３．０ｍｍが挙げられ、１．０ｍｍ〜２．０ｍｍが好ましい。
【００７７】
熱処理は、公知の熱処理炉を用いて行うことができる。
熱処理条件は、薄帯の材質、目的とする磁気特性の程度などを考慮し、適宜設定できる。
【００７８】
熱処理条件として、穴の内部（即ち、磁心の内部）の最高到達温度が、３００℃を超えてアモルファス合金の結晶化開始温度よりも１５０℃低い温度ｔｐ以下の範囲である条件が挙げられる。
最高到達温度が３００℃を超えると、薄帯の歪みを除去し易く、また、磁心に優れた磁気特性を付与し易い。
最高到達温度が温度ｔｐ以下であると、薄帯のアモルファス状態を維持しやすく、また、優れた磁気特性が得られやすい。
また、最高到達温度は、３００℃を超えて３７０℃以下としてもよく、３１０℃以上３７０℃以下としてもよい。
【００７９】
ここで、アモルファス合金の結晶化開始温度とは、アモルファス合金薄帯を、示差走査熱量計（ＤＳＣ）で、室温から２０℃／分の条件で昇温した際の発熱開始温度として測定されるものである。
【００８０】
また、熱処理条件としては、上述した好ましい最高到達温度での保持時間が、１時間〜６時間である条件がより好ましい。
上記状態での保持時間が１時間以上であると、磁心ごとの磁気特性のバラツキを抑制できる。
上記状態での保持時間が６時間以下であると、薄帯のアモルファス状態を維持しやすい。
【００８１】
＜樹脂層形成工程＞
樹脂層形成工程は、熱処理工程後の積層体の少なくとも一端面の少なくとも一部に対し、２液混合後の粘度（５０ｒｐｍ粘度）が３８Ｐａ・ｓ〜５１Ｐａ・ｓであって２液混合後のＴ．Ｉ．値が１．６〜２．７である２液混合型のエポキシ樹脂組成物（以下、「特定樹脂組成物」ともいう）を塗布し、硬化させることにより、一端面の少なくとも一部を被覆するとともに上記穴を閉塞する樹脂層（エポキシ樹脂層）を形成する工程である。
本工程のおける粘度及びＴ．Ｉ．値については、前述したとおりである。
【００８２】
図６は、第１実施形態における樹脂層形成後の積層体（磁心）の概略斜視図であり、図７は、第１実施形態における樹脂層形成後の積層体（磁心）の概略側面図である。
図６及び図７に示すように、樹脂層形成後の積層体１１（磁心）では、上述した積層体１０に対し、一端面１２の一部を被覆する樹脂層４０Ａが形成されている。樹脂層４０Ａは、穴２０の入り口（開口部）を閉塞している。
第１実施形態における樹脂層形成後の積層体１１（磁心）では、さらに、積層体１０の他端面１４の一部にも、樹脂層４０Ｂが形成されている。
樹脂層４０Ａ及び樹脂層４０Ｂは、積層体の一端面及び他端面を保護する機能等を有する層である。樹脂層４０Ａ及び樹脂層４０Ｂは、オーバーラップ部３０以外の領域の一部に設けられている。この実施形態では、樹脂層４０Ａは、積層体１０の一端面の全領域のうち、オーバーラップ部３０以外の領域の一部であって、穴２０を含み、かつ、外周面１８から内周面１６に至るまでの連続した領域に形成されている。また、樹脂層４０Ｂは、積層体１０の他端面のうち、一端面側からみて、一端面側の樹脂層と重なる領域に設けられている。
但し、樹脂層は、オーバーラップ部を含めた一端面及び他端面の全体に設けられていてもよい。
【００８３】
樹脂層４０Ａ及び樹脂層４０Ｂのうち、穴２０の入り口を閉塞する樹脂層４０Ａは、穴２０を形成することによって生じた薄帯の破砕片が、積層体１０から遊離することを防止する機能を有している。
【００８４】
樹脂層４０Ａ及び樹脂層４０Ｂのうち、少なくとも樹脂層４０Ａは、上述した特定樹脂組成物を用いて形成される層である。
樹脂層４０Ｂも上述した特定樹脂組成物を用いて形成される層であってもよいが、上述した特定樹脂組成物以外の樹脂組成物（好ましくは２液混合型のエポキシ樹脂組成物）を用いて形成された層であってもよい。
【００８５】
上記特定樹脂組成物は、エポキシ樹脂を含有するＡ液と、硬化剤を含有するＢ液と、からなる２液混合型のエポキシ樹脂組成物であって、粘度及びＴ．Ｉ値がそれぞれ上述した範囲内である２液混合型のエポキシ樹脂組成物である。
【００８６】
Ａ液は、エポキシ樹脂を少なくとも１種含む。
Ａ液に含有されるエポキシ樹脂には特に制限はないが、ビスフェノールＡ型液状エポキシ樹脂（例えば、CAS No.25068-38-6の化合物）、ビスフェノールＡビス（プロピレングリコールグリシジルエーテル）エーテル（例えば、CAS No.36484-54-5の化合物）が好ましい。
Ａ液中におけるエポキシ樹脂の含有量（２種以上の場合は総含有量）は、Ａ液の全量に対し、４０〜９５質量％が好ましく、５０〜８５質量％がより好ましい。
Ａ液がビスフェノールＡ型液状エポキシ樹脂を含有する場合、この化合物の含有量は、Ａ液の全量に対し、２０〜４０質量％が好ましく、２５〜３５質量％がより好ましい。
Ａ液がビスフェノールＡビス（プロピレングリコールグリシジルエーテル）エーテルを含有する場合、この化合物の含有量は、Ａ液の全量に対し、３０〜５５質量％が好ましく、３５〜５０質量％がより好ましい。
【００８７】
Ａ液は、エポキシ樹脂以外のその他の成分を含有していてもよい。
その他の成分としては、シリカ（例えば、CAS No.14808-60-7の化合物）が挙げられる。
Ａ液がシリカを含有する場合、シリカの含有量は、Ａ液の全量に対し、１０〜４０質量％が好ましく、２０〜３５質量％がより好ましい。
また、その他の成分としては、顔料も挙げられる。
Ａ液が顔料を含有する場合、顔料の含有量は、Ａ液の全量に対し、５質量％未満が好ましい。
【００８８】
Ｂ液は、硬化剤を少なくとも１種含有する。
硬化剤としては、アミン化合物が好ましく、変性脂肪族ポリアミン（例えば、CAS No.39423-51-3の化合物）、イソホロンジアミン（例えば、CAS No.2855-13-2の化合物）、メタ−キシリレンジアミン（例えば、CAS No.1477-55-0の化合物）がより好ましい。
Ｂ液中における硬化剤の含有量（２種以上の場合は総含有量）は、Ｂ液の全量に対し、８０〜１００質量％が好ましく、９０〜１００質量％がより好ましい。
Ｂ液が、変性脂肪族ポリアミンを含有する場合、変性脂肪族ポリアミンの含有量は、Ｂ液の全量に対し、７０〜１００質量％が好ましく、８０〜９０質量％がより好ましい。
Ｂ液が、イソホロンジアミンを含有する場合、イソホロンジアミンの含有量は、Ｂ液の全量に対し、５〜２５質量％が好ましく、１０〜２０質量％がより好ましい。
Ｂ液が、メタ−キシリレンジアミンを含有する場合、メタ−キシリレンジアミンの含有量は、Ｂ液の全量に対し、５質量％未満が好ましい。
【００８９】
Ａ液とＢ液との混合比率（質量比）（Ａ液：Ｂ液）は、１００：１０〜１００：４０が好ましく、１００：２０〜１００：３０がより好ましく、１００：２３〜１００：２５が特に好ましい。
Ａ液１００質量部に対するＢ液の量が１０質量部以上であると、粘度が３８Ｐａ・ｓ以上であること、及び、Ｔ．Ｉ．値１．６以上であることを達成し易い。
Ａ液１００質量部に対するＢ液の量が４０質量部以下であると、樹脂の硬化時の発熱をより低減でき、硬化後の樹脂応力をより低減でき、ひいてはコアへの磁気特性をより向上させることができる。
【００９０】
樹脂層形成工程において、特定樹脂組成物を塗布する方法には特に限定はなく、公知の塗布方法を用いることができる。
特定樹脂組成物を塗布する方法としては、例えば、熱処理工程後の積層体の少なくとも一端面の一部に対し、特定樹脂組成物を、ブラシやヘラなどの塗布部材を用いて塗布する方法が好適である。
また、一般的には、塗布部材を用いて樹脂組成物を塗布する方法では、形成される樹脂層の表面に、塗布部材と接触したことによって凹凸が生じ、樹脂層の表面の平坦性が低下する場合がある。しかし本発明の製造方法では、粘度が５１Ｐａ・ｓ以下でありＴ．Ｉ．値が２．７以下である特定樹脂組成物を用いて樹脂層を形成するため、特定樹脂組成物を塗布部材を用いて塗布した場合であっても、樹脂層の表面の凹凸を効果的に抑制することができ、樹脂層の表面の平坦性を高く維持することができる。
【００９１】
また、樹脂層形成工程において、積層体の一部に付与された特定樹脂組成物を硬化する方法にも特に制限はなく、２液混合型のエポキシ樹脂組成物を硬化させる方法として公知の方法を適用することができる。
【００９２】
また、前述のとおり、樹脂層形成工程では、積層体の一端面の少なくとも一部に加え、積層体の他端面の少なくとも一部にも樹脂層を形成してもよい。他端面に樹脂層を形成する場合、特定樹脂組成物を用いて形成してもよいし、特定樹脂組成物以外の樹脂組成物を用いて形成してもよい。特定樹脂組成物以外の樹脂組成物としては、特定樹脂組成物以外の２液混合型のエポキシ樹脂組成物が好ましい。
【００９３】
本発明の製造方法は、上記以外のその他の工程を有していてもよい。その他の工程としては、アモルファス合金磁心の製造工程として公知の工程が挙げられる。
【実施例】
【００９４】
以下、本発明の実施例を示すが、本発明は以下の実施例に制限されるものではない。【００９５】
〔実施例１〕
＜アモルファス合金薄帯の作製＞
単ロール法により、厚さ２５μｍ、幅１７０ｍｍの長尺状のアモルファス合金薄帯を連続鋳造により作製した。
作製したアモルファス合金薄帯の組成は、Ｆｅ８１．７Ｓｉ２Ｂ１６Ｃ０．３（添え字は、各元素の原子％を表す）である。【００９６】
＜積層体準備工程＞
上記アモルファス合金薄帯を用い、穴形成工程前のコア（磁心）として、前述の積層体１０と同様の矩形環状の積層体と、上記積層体の外周面に接する外周面側珪素鋼板と、上記積層体の内周面に接する内周面側珪素鋼板と、からなる複合体（以下、「第２複合体」とする）を準備した。以下、詳細を説明する。【００９７】
まず、上記アモルファス合金薄帯を長手方向長さ７００ｍｍに切断した第１合金薄帯を、３０枚準備した。
更に、上記アモルファス合金薄帯を第１合金薄帯の長手方向長さよりも５．５ｍｍ長い長手方向長さとなるように切断した第２合金薄帯を、３０枚準備した。
同様にして、上記アモルファス合金薄帯を第ｎ合金薄帯の長手方向長さよりも５．５ｍｍ長い長手方向長さとなるように切断した第ｎ＋１合金薄帯を、それぞれ３０枚ずつ準備した（ここで、ｎは２〜８４の整数である）。
更に、長手方向長さ１３００ｍｍに切断した方向性珪素鋼板（板厚０．２７ｍｍ、板幅１７０ｍｍ）を準備した。【００９８】
次に、第１〜第８５合金薄帯（それぞれ３０枚）をこの順序で積み重ね、更に、第８５合金薄帯の側に上記方向性珪素鋼板を重ねた。この時、方向性珪素鋼板の幅方向の両端部及び各合金薄帯（合計２５５０枚）の両端部が重なるように積み重ねた。【００９９】
次に、各合金薄帯及び方向性珪素鋼板の位置が動かないように固定した状態のまま、第１合金薄帯３０枚を、これらの長手方向両端部が１５ｍｍ〜２５ｍｍオーバーラップするように環状（トロイダル形状）に曲げた。
次に、第２合金薄帯３０枚を長手方向両端部が１５ｍｍ〜２５ｍｍオーバーラップするように環状に曲げた。
この操作を、第３〜第８４合金薄帯（各々３０枚）についても順次同様にして行った。
次に、第８５合金薄帯３０枚を、長手方向両端部が１０ｍｍ〜２０ｍｍオーバーラップするように環状に曲げた。
次に、最外周となる方向性珪素鋼板を、環状に曲げた第８５合金薄帯３０枚に沿うように、かつ、長手方向両端部がオーバーラップするように環状に曲げ、オーバーラップした長手方向両端部を耐熱テープで固定した。このとき、方向性珪素鋼板がオーバーラップする位置は、第８５合金薄帯３０枚の長手方向両端部が１０ｍｍ〜２０ｍｍオーバーラップする位置とした。
最後に、環状に曲げた第１〜第８４合金薄帯の環の径を、第８５合金薄帯に沿うように広げ、第１〜第８４合金薄帯が全て１０ｍｍ〜２０ｍｍオーバーラップするようにした。
以上により、アモルファス合金薄帯が積層されてなる環状の積層体と、環状の外周面側珪素鋼板と、からなる環状の第１複合体を得た。【０１００】
得られた環状の第１複合体を、図１に示すような矩形環状の形状となるように成形治具を用いて成形し固定した。この時、磁心の最内周（第１合金薄帯側）に、内周面側珪素鋼板として、矩形環状の方向性珪素鋼板（板厚０．２７ｍｍ、板幅１７０ｍｍ）をはめ込んだ。
以上により、穴形成工程前のコア（磁心）として、環状のアモルファス合金薄帯の積層体と、外周面側珪素鋼板と、内周面側珪素鋼板と、からなる矩形環状の第２複合体を得た。【０１０１】
得られた第２複合体（即ち、穴形成工程前の磁心）において、磁心外周の長辺長さ（磁心の長手方向長さ）は４１８ｍｍであり、磁心外周の短辺長さ（磁心の長手方向と直交する方向の長さ）は２３６ｍｍであった。
この磁心において、積層体の積層方向の厚さ（図２中の厚さＴ１）と、内周面側珪素鋼板の厚さと、外周面側珪素鋼板の厚さと、の合計は７３ｍｍであった。【０１０２】
＜穴形成工程＞
次に、成形治具によって固定された状態の上記第２複合体の一端面（薄帯の幅方向の一端面）の長辺部分における、長辺長さの中心線上（長辺長さを二等分する位置；図２中の中心線Ｃ２上）であり、かつ、積層方向の中心線上（内周面及び外周面から等距離の位置；図２中の中心線Ｃ１上）である位置に、尖った先端部を有する直径５ｍｍ金属棒を磁心の一端面に対して垂直方向に差し込んだ。これにより、薄帯と薄帯との間隔を部分的に押し広げ、熱電対挿入用の穴を形成した。この穴の深さは、８５ｍｍ（薄帯の幅の半分）とした。なお、この穴は、上記一端面の側から見たときに、穴の全体が、上記一端面において、内周面の長手方向の一端から他端までの範囲に相当する範囲（図２中、斜線で示した範囲Ｘ１）に含まれている。
次に、上記金属棒が差し込まれたままの状態で、上記穴に直径１．６ｍｍのシース型熱電対を差し込み、その後、上記金属棒を抜いた。【０１０３】
＜熱処理工程＞
次に、金属棒を抜いた後の第２複合体（シース型熱電対が差し込まれ、かつ、成形治具によって固定された状態の第２複合体）を熱処理炉に入れた。熱処理炉としては、上部に加熱用のヒーターを備え、かつ、内部を空気循環する機構を備えた熱処理炉を用いた。
次に、熱電対によって穴の内部の温度を測定しながら、第２複合体の熱処理を行った。
上記熱処理は、第２複合体の閉磁路方向に磁束が発生するように第２複合体の中心（内周の中心）に導線を配置し、１８００Ａの直流電流を流すことで磁場を発生させ、磁場中で行った。【０１０４】
上記熱処理の条件は、下記ステップ１〜ステップ４の操作を順次行う条件とした（後述の図８及び図９参照）。
・ステップ１  …  炉内を空気循環し、炉温３４０℃狙いで昇温し、第２複合体内部の温度（熱電対による測定温度。以下同じ。）が３１０℃以上となった段階でステップ２に移行した。
・ステップ２  …  炉内を空気循環したまま、炉温３３０℃狙いで降温し、第２複合体内部の温度が３１５℃以上となった段階でステップ３に移行した。
・ステップ３  …  炉温３２０℃狙いで降温し、７０分間保持した。
・ステップ４  …  炉温０℃狙いで降温し、ファンを用いて炉内に空気を送った。第２複合体内部の温度が２００℃以下となった段階で、熱処理を終了し、熱処理炉の扉を開き、熱処理炉から第２複合体を取り出した。【０１０５】
熱処理炉から第２複合体を取り出した後、第２複合体から熱電対を抜き取った。
熱電対を抜き取った後の穴の幅（図３中の幅Ｗｈ）は２．５ｍｍであり、上記穴の長さ（図３中の長さＬｈ）は２０ｍｍであった。【０１０６】
＜樹脂層形成工程＞
第２複合体の上記一端面の一部（穴を含む領域）に対し、エポキシ樹脂組成物（下記樹脂組成物１）を塗布し、硬化させて樹脂層を形成し、磁心（コア）を得た。以下、詳細を説明する。
樹脂層を形成するためのエポキシ樹脂組成物としては、Ａ液とＢ液とからなる２液混合型の樹脂組成物１を用いた。この樹脂組成物１は、明電ケミカル株式会社製の２液混合型のエポキシ樹脂組成物である。Ａ液及びＢ液の組成は、以下のとおりである。【０１０７】
−樹脂組成物１のＡ液の組成（合計で１００質量％）−
・ビスフェノールＡ型液状エポキシ樹脂（CAS No.25068-38-6）
…  ２５〜３５質量％
・ビスフェノールＡビス（プロピレングリコールグリシジルエーテル）エーテル（CAS No.36484-54-5）                                  …  ３５〜４５質量％
・シリカ（CAS No.14808-60-7）                   …  ２５〜３５質量％
・顔料ほか（CAS No.67762-90-7, 13463-67-7, 1333-86-4）
…  ５質量％未満【０１０８】
−樹脂組成物１のＢ液の組成−
・変性脂肪族ポリアミン（CAS No.39423-51-3他）  …  ８１質量％
・イソホロンジアミン（CAS No.2855-13-2）       …  １９質量％【０１０９】
上記Ａ液と上記Ｂ液とを下記表１に示す混合比にて混合して樹脂組成物１とし、得られた樹脂組成物１を、上記Ａ液と上記Ｂ液との混合から１時間以内に、第２複合体の上記一端面の一部（穴を含む領域）に、ヘラ（塗布手段）を用いて塗布した。樹脂組成物１を塗布する領域（即ち、樹脂層を形成する領域）は、図６及び図７中の樹脂層４０Ａが形成された領域と同様の領域とした。即ち、塗布する領域は、第２複合体における積層体１０の一端面の全領域のうち、オーバーラップ部３０以外の領域の一部であって、穴２０を含み、かつ、外周面１８から内周面１６に至るまでの連続した領域とした。
次いで、塗布された樹脂組成物１を、室温で３時間乾燥させた。
次いで、樹脂組成物１が塗布された第２複合体を炉に入れ、１００℃で２時間加熱して、樹脂組成物１を硬化させて樹脂層とした。その後、第２複合体から成形治具を取り外した。【０１１０】
第２複合体の他端面の一部（詳細には、一端面側からみて、一端面側の樹脂層と重なる領域）に対しても同様にして、樹脂組成物１を塗布し、硬化させて樹脂層を形成した。【０１１１】
以上により、第２複合体の一端面の一部（穴を含む領域）、及び、他端面の一部に樹脂層が形成された構成の磁心（コア）を得た。【０１１２】
＜測定及び評価＞
樹脂組成物１について、以下の測定を行った。
さらに、樹脂層形成後のコアに対し、以下の評価を行った。
これらの結果を下記表１に示す。【０１１３】
（樹脂組成物の粘度及びＴ．Ｉ．値）
２００ｍＬのプラスチック容器に上記Ａ液を入れ、ここに上記Ｂ液を添加し、Ａ液とＢ液とをステンレス製ヘラを用いて１〜２分程度かけて十分に混合した。このとき、Ａ液とＢ液との合計量は１５０ｇとし、Ａ液とＢ液との比率は下記表１に示す比率とした。これにより、樹脂組成物１の粘度測定用サンプルを得た。
得られた粘度測定用サンプルについて、粘度測定用サンプル作製完了後（即ち、Ａ液とＢ液との混合完了後）５分以内に、ＪＩＳ  Ｋ  ７１１７−１（１９９９）に準拠し、Ｂ型粘度計を用い、ローター番号Ｎｏ．７（スピンドル番号７）のローター（スピンドル）を用い、ローター回転数（スピンドル回転数）５０ｒｐｍ、２液混合後のエポキシ樹脂組成物の温度２５℃の条件で、粘度（５０ｒｐｍ粘度）を測定した。
５０ｒｐｍ粘度を測定した粘度測定用サンプルについて、５０ｒｐｍ粘度の測定直後に、ローター回転数５ｒｐｍに変更したこと以外は５０ｒｐｍ粘度と同様にして、５ｒｐｍ粘度を測定した。
ここで、Ｂ型粘度計としては、東機産業株式会社製のＢ型粘度計「ＴＶＢ−１０」を用いた。【０１１４】
（樹脂層による穴閉塞性）
樹脂層形成後のコアの穴の部分を目視で観察し、下記評価基準に従って、樹脂層による穴閉塞性を評価した。
−評価基準−
ａ：樹脂層によって穴が完全に閉塞されており、樹脂層による穴の閉塞性に優れていた。
ｂ：樹脂層によって穴が閉塞されておらず、樹脂層による穴の閉塞性に劣っていた。【０１１５】
（樹脂層の表面の平坦性）
樹脂層の表面に対し、３０°の角度でランプの光を照射した状態で、樹脂層の全体を目視で観察し、下記評価基準に従って、樹脂層の表面の平坦性を評価した。
−評価基準−
ａ：樹脂層の表面に陰影が観察されず、樹脂層の表面の平坦性に優れていた。
ｂ：樹脂層の表面に陰影が観察され、樹脂層の表面の平坦性に劣っていた。【０１１６】
〔実施例２及び３、並びに比較例１及び２〕
樹脂層形成に用いた樹脂組成物の種類を、表１に示す、樹脂組成物２（実施例２）、樹脂組成物３（実施例３）、比較用樹脂組成物Ｘ（比較例１）、又は比較用樹脂組成物Ｙ（比較例２）に変更したこと以外は実施例１と同様の操作を行った。結果を表１に示す。
また、樹脂組成物２、樹脂組成物３、比較用樹脂組成物Ｘ、及び比較用樹脂組成物Ｙの各々における、Ａ液及びＢ液の組成は以下のとおりである。
また、各樹脂組成物におけるＡ液とＢ液との混合比（質量比）は、表１に示すとおりである。【０１１７】
−樹脂組成物２のＡ液の組成（合計で１００質量％）−
・ビスフェノールＡ型液状エポキシ樹脂（CAS No.25068-38-6）
…  ２５〜３５質量％
・ビスフェノールＡビス（プロピレングリコールグリシジルエーテル）エーテル（CAS No.36484-54-5）                                …  ４０〜５０質量％
・シリカ（CAS No.14808-60-7）                 …  ２０〜３０質量％
・顔料ほか（CAS No.112945-52-5, 13463-67-7, 1333-86-4）
…  ５質量％未満【０１１８】
−樹脂組成物２のＢ液の組成−
・変性脂肪族ポリアミン（CAS No.39423-51-3他）  …  ８１質量％
・イソホロンジアミン（CAS No.2855-13-2）       …  １９質量％【０１１９】
−樹脂組成物３のＡ液の組成（合計で１００質量％）−
・ビスフェノールＡ型液状エポキシ樹脂（CAS No.25068-38-6）
…  ２５〜３５質量％
・ビスフェノールＡビス（プロピレングリコールグリシジルエーテル）エーテル（CAS No.36484-54-5）                                …  ３５〜４５質量％
・シリカ（CAS No.14808-60-7）                 …  ２５〜３５質量％
・顔料ほか（CAS No.112945-52-5, 13463-67-7, 1333-86-4）
…  ５質量％未満【０１２０】
−樹脂組成物３のＢ液の組成（合計で１００質量％）−
・変性脂肪族ポリアミン（CAS No.39423-51-3他）  …  ８０〜９０質量％
・イソホロンジアミン（CAS No.2855-13-2）       …  １０〜２０質量％
・メタ−キシリレンジアミン（CAS No.1477-55-0） …  ５質量％未満【０１２１】
−比較用樹脂組成物ＸのＡ液の組成（合計で１００質量％）−
・ビスフェノールＡ型液状エポキシ樹脂（CAS No.25068-38-6）
…  ２０〜３０質量％
・ビスフェノールＡビス（プロピレングリコールグリシジルエーテル）エーテル（CAS No.36484-54-5）                                …  ３０〜４０質量％
・タルク（CAS No.14807-96-6）                 …  ３０〜４０質量％
・顔料ほか（CAS No.112945-52-5）              …  ５質量％未満【０１２２】
−比較用樹脂組成物ＸのＢ液の組成（合計で１００質量％）−
・ポリアミドアミン                            …  ７０〜８０質量％
・３，６，９−トリアザウンデカン−１，１１−ジアミン（CAS No.112-57-2）
…  ２０〜３０質量％【０１２３】
−比較用樹脂組成物ＹのＡ液の組成（合計で１００質量％）−
・ビスフェノールＡ型液状エポキシ樹脂（CAS No.25068-38-6）
…  ２０〜３０質量％
・ビスフェノールＡビス（プロピレングリコールグリシジルエーテル）エーテル（CAS No.36484-54-5）                                …  ３０〜４０質量％
・タルク（CAS No.14807-96-6）                 …  ３０〜４０質量％
・顔料ほか（CAS No.112945-52-5）              …  ５質量％未満【０１２４】
−比較用樹脂組成物ＹのＢ液の組成（合計で１００質量％）−
・ポリアミドアミン                            …  ７０〜８０質量％
・３，６，９−トリアザウンデカン−１，１１−ジアミン（CAS No.112-57-2）
…  ２０〜３０質量％【０１２５】
【表１】
2016047717.tif 000003
【０１２６】
−表１の説明−
・「粘度（Ｐａ・ｓ）」は、５０ｒｐｍ粘度である。
・「Ｔ．Ｉ．値」は、５ｒｐｍ粘度を５０ｒｐｍ粘度で除した値である（前述の式（１）参照）。【０１２７】
表１に示すように、粘度が３８〜５１Ｐａ・ｓの範囲内であり、かつ、Ｔ．Ｉ．値が１．６〜２．７の範囲内である実施例１〜３では、樹脂層による穴の閉塞性に優れており、かつ、樹脂層表面の平坦性にも優れていた。
一方、Ｔ．Ｉ．値が２．９と大きい比較例１では、樹脂層による穴の閉塞性には優れるものの、樹脂層表面の陰影が明確に観察され、樹脂層表面の凹凸が大きい（即ち、平坦性が悪い）ことが確認された。
また、粘度が３３Ｐａ・ｓと小さく、かつ、Ｔ．Ｉ．値も１．５と小さい比較例２では、樹脂層表面の平坦性には優れるものの、樹脂層による穴の閉塞性が悪かった（即ち、樹脂層によって穴を閉塞できなかった）。【０１２８】
次に、再現性の確認として、上記実施例１〜３のコアをそれぞれ１０個ずつ作製し、樹脂層による穴の閉塞性及び樹脂層表面の平坦性を評価した。その結果、いずれのコアにおいても、樹脂層による穴の閉塞性に優れており（穴の閉塞性の評価結果が「ａ」であり）、かつ、樹脂層表面の平坦性に優れていた（樹脂層表面の平坦性の評価結果が「ａ」であった）。これにより、表１中の実施例１〜３の結果は再現性を有することが確認された。【０１２９】
＜磁気特性の評価＞
次に、上記実施例１のコアに、１次巻線として断面積２ｍｍ２の導線を１０ターン巻き、２次巻線として上記導線を２ターン巻いて、巻き磁心を得た。
得られた巻き磁心について、１．４Ｔ６０Ｈｚでのコアロス（Ｗ／ｋｇ）及び皮相電力（ＶＡ／ｋｇ）を評価した。
その結果、コアロスは０．２６Ｗ／ｋｇであり、皮相電力は０．４８ＶＡ／ｋｇであった。
このように、上述した条件の熱処理により、コアに対して良好な磁気特性が付与された。【０１３０】
次に、上記実施例１の熱処理条件における、第２複合体の内部（穴の内部）の温度プロファイルの測定結果を示す。ここでは、金属棒を抜いた後の第２複合体（シース型熱電対が差し込まれ、かつ、成形治具によって固定された状態の第２複合体）を４つ準備し（以下、コア１〜４とする）、これらコア１〜４を一つの熱処理炉に入れて熱処理した時の結果を示す。
図８は、上記熱処理の条件における、熱処理開始からの経過時間（分（min））と、磁心の温度及び炉の温度との関係を示すグラフであり、図９は、図８の部分拡大図である。
図８及び図９において、コア１〜４は、それぞれ、コア１〜４の内部の温度（熱電対による測定温度）を示し、炉１〜３は、熱処理炉内の３点の温度である。
図８及び図９に示すように、上記熱処理の過程において、コア１〜４の内部の温度のプロファイルはほぼ一致していることが確認された。従って、コア１〜４のすべてについて、良好な磁気特性を付与するための適正な熱処理が施されたことが確認された。
以上の結果から、コア（積層体）に熱電対挿入用の穴を設けることにより、コア内部の温度を測定しながら熱処理条件を調整できるという効果、即ち、熱処理条件の最適化を容易に行うことができるという効果が期待される。【０１３１】
〔実施例４〕
＜他形状のコアの作製及び評価＞
アモルファス合金薄帯の幅、外周側珪素鋼板の板幅、及び内周側珪素鋼板の板幅をそれぞれ１４２ｍｍとし、磁心外周の長辺長さ（磁心の長手方向長さ）を３０２ｍｍとし、磁心外周の短辺長さ（磁心の長手方向と直交する方向の長さ）１６４ｍｍとし、薄帯の枚数を調整することにより積層体の積層方向の厚さ（図２中の厚さＴ１）と内周面側珪素鋼板の厚さと外周面側珪素鋼板の厚さとの合計を５３ｍｍとしたこと以外は実施例１と同様の操作を行い、コア（樹脂層形成工程後のコア）を作製した。
磁気特性の評価の結果、実施例４のコアにおいて、コアロスは０．２６Ｗ／ｋｇであり、皮相電力は０．４８ＶＡ／ｋｇであった。
以上のように、実施例１における熱処理条件は、実施例１のコア（第２複合体）とはサイズが異なる実施例４のコア（第２複合体）に対しても適正な条件であることが確認された。【０１３２】
日本国特許出願２０１４−１９７３４４の開示はその全体が参照により本明細書に取り込まれる。
本明細書に記載された全ての文献、特許出願、及び技術規格は、個々の文献、特許出願、及び技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に参照により取り込まれる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【国際調査報告】
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