(57)【要約】  有機ＥＬ素子（１０）は、透光性を有する基板（１００）と、基板（１００）の上方に積層された、少なくとも一方が透光性を有する一対の第１電極層（１２０）及び第２電極層（１３０）と、一対の第１電極層（１２０）及び第２電極層（１３０）間に設けられた平面発光層（１４０）とを備え、第１電極層（１２０）は、平面視における第１領域（１１）に配置されており、有機ＥＬ素子（１０）は、さらに、平面視において第１領域（１１）に隣接する第２領域（１２）に設けられた、第１領域（１１）と第２領域（１２）との、所定の光に対する光学特性の差を緩和するための緩和層（１５０）とを備える。
2015155924.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機ＥＬ素子であって、
透光性を有する基板と、
前記基板の上方に積層された、少なくとも一方が透光性を有する一対の電極層と、
前記一対の電極層間に設けられた平面発光層とを備え、
前記一対の電極層の一方は、平面視における第１領域に配置されており、
前記有機ＥＬ素子は、さらに、
平面視において前記第１領域に隣接する第２領域に配置された、前記第１領域と前記第２領域との、所定の光に対する光学特性の差を緩和するための緩和層とを備える
有機ＥＬ素子。
【請求項２】
前記緩和層は、前記第１領域と前記第２領域との、前記所定の光に対する光学長の位相差を緩和する
請求項１に記載の有機ＥＬ素子。
【請求項３】
前記緩和層は、前記第１領域と前記第２領域との、前記所定の光に対する吸収スペクトル差を緩和する
請求項１又は２に記載の有機ＥＬ素子。
【請求項４】
前記緩和層は、前記一対の電極層の一方と同層に設けられている
請求項１〜３のいずれか１項に記載の有機ＥＬ素子。
【請求項５】
前記緩和層は、前記一対の電極層の一方と同一の材料、かつ、同一の膜厚で構成されている
請求項４に記載の有機ＥＬ素子。
【請求項６】
前記一対の電極層の一方と前記緩和層との間には、絶縁溝が設けられている
請求項４又は５に記載の有機ＥＬ素子。
【請求項７】
前記有機ＥＬ素子は、さらに、前記絶縁溝に設けられた、前記所定の光に対する光学長の位相差及び吸収スペクトル差が前記一対の電極層の一方と略同一の絶縁層を備える
請求項６に記載の有機ＥＬ素子。
【請求項８】
前記絶縁溝の幅は、１．５ｍｍ以下である
請求項６又は７に記載の有機ＥＬ素子。
【請求項９】
前記緩和層は、前記第１領域と前記第２領域との、所定の光に対する光学特性の差を１５％以下に緩和する
請求項１〜８のいずれか１項に記載の有機ＥＬ素子。
【請求項１０】
前記有機ＥＬ素子は、さらに、平面視において、前記第１領域と前記第２領域との境界部分に設けられた光散乱部を備える
請求項１〜９のいずれか１項に記載の有機ＥＬ素子。
【請求項１１】
前記一対の電極層の両方が、透光性を有する
請求項１〜１０のいずれか１項に記載の有機ＥＬ素子。
【請求項１２】
前記第１領域は、発光領域であり、
前記第２領域は、非発光領域である
請求項１〜１１のいずれか１項に記載の有機ＥＬ素子。
【請求項１３】
前記緩和層は、絶縁性材料から構成される
請求項１２に記載の有機ＥＬ素子。
【請求項１４】
前記第１領域及び前記第２領域は、互いに独立して発光可能な領域である
請求項１〜１１のいずれか１項に記載の有機ＥＬ素子。
【請求項１５】
請求項１〜１４のいずれか１項に記載の有機ＥＬ素子を備える照明装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）素子、及び、当該有機ＥＬ素子を備える照明装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、有機ＥＬ素子を用いた様々なデバイスが開発されている。例えば、特許文献１には、有機ＥＬ素子を備えた有機ＥＬ表示デバイスが開示されている。【０００３】
特許文献１に記載の有機ＥＬ表示デバイスでは、一対の電極と、当該一対の電極間に設けられた有機ＥＬ層と、本体の両側の表面に配設された絵柄部とを備える。さらに、有機ＥＬ表示デバイスは、発光部と絵柄部との間に、発光領域を開口し非発光領域を遮蔽する遮光層と、発光部及び非発光部全面を覆う円偏光板と、発光部及び非発光部全面を覆う半透過半反射層を備えている。これにより、絵柄層でのコントラストの低下を抑制している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００９−０９４００３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記従来の有機ＥＬ表示デバイスでは、非発光領域は遮光されているため、非発光時においても発光面内に発光領域の形状が確認できてしまう。つまり、非発光時に、自然な発光面を見せることができない。なお、発光面とは、発光領域及び非発光領域を含む平面のことである。【０００６】
そこで、本発明は、非発光時に自然な発光面を見せることができる有機ＥＬ素子及び照明装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するため、本発明の一態様に係る有機ＥＬ素子は、透光性を有する基板と、前記基板の上方に積層された、少なくとも一方が透光性を有する一対の電極層と、前記一対の電極層間に設けられた平面発光層とを備え、前記一対の電極層の一方は、平面視における第１領域に配置されており、前記有機ＥＬ素子は、さらに、平面視において前記第１領域に隣接する第２領域に配置された、前記第１領域と前記第２領域との、所定の光に対する光学特性の差を緩和するための緩和層とを備える。
【発明の効果】
【０００８】
本発明に係る有機ＥＬ素子及び照明装置によれば、非発光時に自然な発光面を見せることができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１Ａ】図１Ａは、本発明の実施の形態１に係る有機ＥＬ素子を示す上面図である。
【図１Ｂ】図１Ｂは、本発明の実施の形態１に係る有機ＥＬ素子を示す下面図である。
【図２】図２は、本発明の実施の形態１に係る有機ＥＬ素子を示す断面図である。
【図３】図３は、本発明の実施の形態１に係る有機ＥＬ素子の点灯例及び消灯例を示す図である。
【図４】図４は、本発明の実施の形態２に係る有機ＥＬ素子を示す断面図である。
【図５Ａ】図５Ａは、本発明の実施の形態３に係る有機ＥＬ素子を示す断面図である。
【図５Ｂ】図５Ｂは、本発明の実施の形態３に係る有機ＥＬ素子の別の例を示す断面図である。
【図６】図６は、本発明の実施の形態４に係る有機ＥＬ素子を示す断面図である。
【図７】図７は、本発明の実施の形態４に係る有機ＥＬ素子の点灯例を示す図である。
【図８】図８は、本発明の実施の形態５に係る有機ＥＬ素子を示す断面図である。
【図９】図９は、本発明の実施の形態６に係る照明装置を示す図である。
【図１０】図１０は、本発明の実施の形態６に係る照明装置の点灯例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
（本発明の基礎となった知見）
本発明者は、「背景技術」の欄において記載した有機ＥＬ素子及び照明装置に関し、以下の問題が生じることを見出した。
【００１１】
従来の有機ＥＬ素子では、例えば、一対の電極の少なくとも一方を所定の形状（例えば、文字又は記号など）に形成することで、当該所定の形状で発光させることができる。つまり、有機ＥＬ素子では、一対の電極の少なくとも一方を所定の形状に形成することで、平面内に発光領域と非発光領域とを設けることができる。
【００１２】
しかしながら、この場合、発光領域と非発光領域との間で、電極膜及び有機膜の有無の違いが生じる。電極膜及び有機膜の有無によって光の透過率が異なるため、非発光時に発光領域の形状（発光模様）が見えてしまうという課題がある。
【００１３】
このような問題を解決するために、本発明の一態様に係る有機ＥＬ素子は、透光性を有する基板と、基板の上方に積層された、少なくとも一方が透光性を有する一対の電極層と、一対の電極層間に設けられた平面発光層とを備え、一対の電極層の一方は、平面視における第１領域に配置されており、有機ＥＬ素子は、さらに、平面視において第１領域に隣接する第２領域に配置された、第１領域と第２領域との、所定の光に対する光学特性の差を緩和するための緩和層とを備える。
【００１４】
これにより、例えば、第１領域と第２領域との間の光学特性の差を緩和層が緩和するので、非発光時に第１領域の形状が見えるのを抑制することができる。したがって、非発光時に自然な発光面、すなわち、発光模様などがあまり見えずに違和感のない平面を見せることができる。
【００１５】
以下では、本発明の実施の形態に係る有機ＥＬ素子及び照明装置について、図面を用いて詳細に説明する。なお、以下に説明する実施の形態は、いずれも本発明の好ましい一具体例を示すものである。したがって、以下の実施の形態で示される数値、形状、材料、構成要素、構成要素の配置及び接続形態などは、一例であり、本発明を限定する趣旨ではない。よって、以下の実施の形態における構成要素のうち、本発明の最上位概念を示す独立請求項に記載されていない構成要素については、任意の構成要素として説明される。
【００１６】
また、各図は、模式図であり、必ずしも厳密に図示されたものではない。また、各図において、同じ構成部材については同じ符号を付している。
【００１７】
（実施の形態１）
［有機ＥＬ素子］
まず、本発明の実施の形態１に係る有機ＥＬ素子（平面発光体）について、図１Ａ、図１Ｂ及び図２を用いて説明する。図１Ａ及び図１Ｂはそれぞれ、本実施の形態に係る有機ＥＬ素子１０を示す上面図及び下面図である。図２は、本実施の形態に係る有機ＥＬ素子１０を示す断面図である。なお、図１Ｂは、有機ＥＬ素子１０を下方から見た図であるが、基板１００を示していない。また、図２は、図１Ａ及び図１ＢにおけるＡ−Ａ断面を示している。
【００１８】
なお、各図において、Ｘ軸方向及びＹ軸方向は、有機ＥＬ素子１０の発光面に平行で、かつ、互いに直交する２つの方向であり、Ｚ軸方向は、有機ＥＬ素子１０の発光面に垂直な方向である。
【００１９】
図１Ａ及び図１Ｂに示すように、本実施の形態に係る有機ＥＬ素子１０は、平面視において、第１領域１１と、第２領域１２とを有する。第１領域１１及び第２領域１２は、有機ＥＬ素子１０の面内において互いに隣接する領域である。
【００２０】
具体的には、第１領域１１は、平面視における有機ＥＬ素子１０の発光領域であり、第２領域１２は、非発光領域である。つまり、有機ＥＬ素子１０は、平面視した場合に、第１領域１１が発光し、第２領域１２が発光しない。図１Ａ及び図１Ｂに示す例では、第１領域１１は、第２領域１２に囲まれている。
【００２１】
図２に示すように、有機ＥＬ素子１０は、一対の基板１００及び１１０と、一対の第１電極層１２０及び第２電極層１３０と、平面発光層１４０と、緩和層１５０とを備える。また、第１電極層１２０と緩和層１５０との間には、絶縁溝１６０が設けられている。
【００２２】
なお、図１Ｂに示すように、第１領域１１は、第１電極層１２０が配置された領域である。具体的には、第１領域１１は、第１電極層１２０によって形成される領域である。つまり、第１領域１１の形状と、第１電極層１２０の平面視形状とは略同一である。
【００２３】
第２領域１２は、平面視において、第１電極層１２０が配置されていない領域である。具体的には、第２領域１２は、緩和層１５０及び絶縁溝１６０が配置される領域である。
【００２４】
また、図１Ａに示すように、端子部１２１及び１３１が設けられている。図示しないが、端子部１２１及び１３１は、基板１００上に設けられている。端子部１２１及び１３１はそれぞれ、第１電極層１２０及び第２電極層１３０に給電するための引き出し電極である。
【００２５】
［一対の基板］
基板１００及び１１０は、互いの主面が対向するように設けられた一対の基板である。
【００２６】
基板１００は、透光性を有する基板である。例えば、基板１００は、可視光の少なくとも一部を透過する透明基板である。基板１１０と対向する主面と反対側の、基板１００の主面（図２における基板１００の下面）が発光面である。
【００２７】
例えば、基板１００は、ソーダガラス、無アルカリガラス、無蛍光ガラス、リン酸系ガラス、ホウ酸系ガラスなどのガラス基板である。あるいは、基板１００は、石英基板又はプラスチック基板でもよい。また、基板１００としては、基板内に基板母剤と屈折率の異なる粒子、粉体、泡等を含有してもよく、あるいは、基板表面に形状を付与することによって、光拡散効果を有するものも使用可能である。
【００２８】
基板１１０は、基板１００とともに、平面発光層１４０を封止するための封止基板である。基板１１０の端部は、封止部材（図示せず）などによって基板１００に固定されている。
【００２９】
具体的には、基板１１０は、下面が開放された箱状の基板である。基板１１０の主面の端部から下方に（Ｚ軸負方向）立設した側壁部が封止部材などによって基板１００に固定されている。言い換えると、基板１１０は、凹部を有する基板であり、当該凹部内に平面発光層１４０が配置される。凹部は、例えば、板状の基板材料を掘り込むことで形成される。
【００３０】
基板１１０は、透光性を有する基板である。例えば、基板１１０は、可視光の少なくとも一部を透過する透明基板である。具体的には、基板１１０は、ガラス基板、石英基板又はプラスチック基板である。なお、基板１１０は、光透過性を有さなくてもよく、例えば、ステンレス、アルミニウム、銅などの金属から構成されてもよい。基板１００と基板１１０とが同一の組成にすることにより熱膨張率が等しくなるため、クラックの発生や封止不良を抑制することが可能となる。
【００３１】
なお、基板１００と基板１１０との接続に用いる封止部材は、例えば、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、又は、シリコン樹脂などの光硬化性樹脂である。あるいは、封止部材は、熱硬化性樹脂、二液硬化性樹脂、又は、ポリエチレン若しくはポリプロピレンなどの熱可塑性樹脂などでもよい。例えば、基板１００及び１１０の少なくとも一方に封止部材を塗布し、基板１００及び１１０を接着させて硬化することで、内部を封止することができる。
【００３２】
なお、基板１００及び１１０の間の空間は、樹脂材料（充填樹脂、フィル材）などで充填されていてもよい。これにより、平面発光層１４０の封止性をより高めることができる。空間に樹脂材料が充填されている場合には、基板１００と基板１１０との接触を抑制することができるため、基板１１０に凹部が形成されていない場合にも、信頼性を担保することが可能となる。
【００３３】
［一対の電極層］
第１電極層１２０及び第２電極層１３０は、基板１００の上方に積層された、少なくとも一方が透光性を有する一対の電極層である。
【００３４】
第１電極層１２０は、発光面側に設けられた電極であり、例えば、基板１００上に設けられる。第１電極層１２０は、例えば、陽極であり、平面発光層１４０の発光時には、第２電極層１３０よりも高い電圧が印加される。
【００３５】
第１電極層１２０は、透光性を有する導電性材料から構成される。例えば、第１電極層１２０は、可視光の少なくとも一部を透過する透明の導電性材料から構成される。第１電極層１２０は、例えば、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、アルミニウムがドープされた酸化亜鉛（ＡＺＯ）などから構成される。なお、第１電極層１２０は、光を透過できる程度に薄膜の銀、アルミニウムなどの金属薄膜でもよい。ＡｇナノワイヤやＡｇ粒子を分散させてもよい。また、第１電極層１２０としては、ＰＥＤＯＴ、ポリアニリン等の導電性高分子、若しくは、任意のアクセプタ等をドープした導電性高分子、又は、カーボンナノチューブなどの導電性光透過性材料を用いることができる。例えば、第１電極層１２０は、蒸着法、塗布法又はスパッタリング法などによって透明導電膜を基板１００上に成膜し、成膜した透明導電膜をパターニングすることで形成される。
【００３６】
第１電極層１２０は、第１領域１１に配置される。本実施の形態に係る有機ＥＬ素子１０では、平面発光層１４０のうち、第１電極層１２０と第２電極層１３０とで挟まれた領域のみが発光する。すなわち、第１電極層１２０の平面視形状が、発光領域（第１領域１１）に相当する。
【００３７】
したがって、第１電極層１２０を所定の形状にパターニングすることで、平面発光層１４０を当該所定の形状で発光させることができる。本実施の形態では、例えば、図１Ａ及び図１Ｂに示すように、第１電極層１２０は、矢印の形状にパターニングされている。なお、第１電極層１２０の平面視形状はこれに限らない。例えば、第１電極層１２０の平面視形状は、所定の文字、数字、記号、図形、模様などでもよい。パターニングは、成膜後にエッチングすることで行ってもよい。また、マスクを用いて成膜パターニングすることにより、低コストで作製することが可能である。他にもレーザーなどで直接描画することにより、多品種のパターニングが容易となる。
【００３８】
なお、第１電極層１２０は、端子部１２１と電気的に接続されている。図１Ｂに示すように、端子部１２１は、第１電極層１２０の一部が延伸するように設けられている。
【００３９】
例えば、端子部１２１は、第１電極層１２０と同一の工程で、導電膜をパターニングすることで形成される。したがって、端子部１２１は、例えば、第１電極層１２０と同一の材料で構成される。なお、端子部１２１は、第１電極層１２０とは別の工程で、別の材料から構成されてもよい。例えば、端子部１２１は、端子部１３１と同時に形成されてもよい。
【００４０】
第２電極層１３０は、発光面とは反対側に設けられた電極であり、平面発光層１４０上に設けられる。第２電極層１３０は、例えば、陰極であり、平面発光層１４０の発光時には、第１電極層１２０よりも低い電圧が印加される。
【００４１】
第２電極層１３０は、光を反射する反射電極である。第２電極層１３０は、平面発光層１４０から発せられた光を反射し、発光面側に出射させる。
【００４２】
第２電極層１３０は、例えば、アルミニウム、銀若しくはマグネシウム、又は、これらの少なくとも１種類を含む合金などから構成される。例えば、第２電極層１３０は、蒸着法、塗布法又はスパッタリング法などによって導電膜を平面発光層１４０上に成膜することで形成される。
【００４３】
なお、第２電極層１３０は、端子部１３１と電気的に接続されている。具体的には、端子部１３１は、第２電極層１３０の一部が平面発光層１４０の端面に沿って延伸するように設けられている。つまり、第２電極層１３０の延伸部は、平面発光層１４０の端面を覆っている。具体的には、端子部１３１は、第２電極層１３０と同一の工程で、導電膜をパターニングすることで形成される。したがって、端子部１３１は、例えば、第２電極層１３０と同一の材料で構成される。なお、端子部１３１は、第２電極層１３０とは別の工程で、別の材料から構成されてもよい。
【００４４】
［平面発光層］
平面発光層１４０は、一対の第１電極層１２０及び第２電極層１３０間に設けられる発光ユニットの一例である。平面発光層１４０は、第１電極層１２０及び第２電極層１３０間に電圧が印加されることで、面状に発光する。具体的には、平面発光層１４０のうち発光領域、すなわち、第１領域１１のみが発光する。
【００４５】
具体的には、平面発光層１４０は、正孔注入層、正孔輸送層、発光層（有機ＥＬ層）、電子輸送層及び電子注入層を含んでいる。発光層などの有機層は、例えば、ジアミン、アントラセン、金属錯体などの有機材料から構成される。例えば、平面発光層１４０は、発光色が白色の場合には、発光層中に赤色、緑色、青色の３色のドーパント色素をドーピングしてもよく、あるいは、青色正孔輸送性発光層と緑色電子輸送性発光層と赤色電子輸送性発光層との積層構造にしてもよい。また、平面発光層１４０は、赤色、緑色、青色の発光ユニットが光透過性及び導電性を有する中間層を介して積層され、電気的に直接的に接続したマルチユニット構造になっていてもよい。平面発光層１４０を構成する各層は、蒸着法、スピンコート法、キャスト法などにより形成される。
【００４６】
［緩和層］
緩和層１５０は、第２領域１２に配置され、第１領域１１と第２領域１２との、所定の光に対する光学特性の差（光学コントラスト）を緩和する。具体的には、緩和層１５０は、緩和層１５０が設けられていない場合に比べて、有機ＥＬ素子１０の第１領域１１（発光領域）と第２領域１２（非発光領域）との、所定の光に対する光学特性の差を緩和する。緩和層１５０は、発光領域には設けられず、非発光領域のみに設けられている。
【００４７】
所定の光は、非発光時に基板１００から有機ＥＬ素子１０に入射する外光である。所定の光は、具体的には、所定の波長を有する光であり、例えば、ＲＧＢのいずれでもよい。また、所定の光は、一般的な有機ＥＬ照明が発する白色光のピーク波長を有する光でもよい。
【００４８】
非発光時にユーザが発光面側から有機ＥＬ素子１０を見た場合、第２電極層１３０で反射された光が目に入る。具体的には、第１領域１１（発光領域）では、基板１００、第１電極層１２０及び平面発光層１４０を往復した光がユーザの目に入射する。第２領域１２（非発光領域）では、基板１００、緩和層１５０及び平面発光層１４０を往復した光がユーザの目に入射する。
【００４９】
また、基板１００の発光面、及び、各層の界面などでも部分的に光は反射されて、ユーザの目に入射する。第１領域１１と第２領域１２とで異なる反射光は、第１電極層１２０の上面又は下面での反射光と、緩和層１５０の上面又は下面での反射光とである。
【００５０】
したがって、第１領域１１と第２領域１２との光学特性の差は、第１電極層１２０の光学特性と緩和層１５０の光学特性との差に相当する。よって、緩和層１５０は、第１電極層１２０との光学特性の差を緩和する。
【００５１】
例えば、緩和層１５０は、第１領域１１と第２領域１２との、所定の光に対する光学特性の差を１５％以下に緩和する。これは、光学特性の差が１５％以下であれば、例えば、視力１．０の人間が背景輝度１０００ｃｄ／ｍ２（有機ＥＬ照明の一般的な輝度）において、その違いを認識できなくなるためである。
【００５２】
ここで、本実施の形態に係る緩和層１５０が緩和する光学特性について説明する。光学特性は、具体的には、光学長と、吸収スペクトルとである。
【００５３】
［光学長］
光学長は、光学特性の１つである。緩和層１５０は、第１領域１１と第２領域１２との、所定の光に対する光学長の位相差を緩和する。具体的には、緩和層１５０は、発光領域と非発光領域との光学長の位相差を緩和する。発光領域と非発光領域との光学長の位相差は、第１電極層１２０の光学長と緩和層１５０の光学長との位相差に相当する。
【００５４】
光学長は、積層方向の光に対する光学長であり、具体的には、屈折率ｎと厚さｄとの積で表される。位相差は、（光学長の差）／２π／λで表される。ここで、λは、有機ＥＬ素子１０に入射する外光に含まれる波長とする。ただし、（光学長の差）＞λの場合には、位相差は、｛（光学長の差）−ｍ×λ｝／２π／λで表される。ここで、ｍは整数である。緩和層１５０は、第１電極層１２０の光学長との位相差を緩和する。
【００５５】
例えば、第１電極層１２０の屈折率がｎ１、膜厚がｄ１である場合、第１電極層１２０の光学長は、ｎ１×ｄ１で表される。このとき、緩和層１５０を屈折率がｎ２の材料で構成する場合、緩和層１５０の膜厚ｄ２は、第１電極層１２０の光学長ｎ１×ｄ１と、緩和層１５０の光学長ｎ２×ｄ２との差を小さくするように決定される。具体的には、緩和層１５０の膜厚ｄ２は、ｄ１×（ｎ１／ｎ２）に近い値に決定すればよい。例えば、ｄ２は、ｄ１×（ｎ１／ｎ２）の０．８５〜１．１５倍の値に決定されればよい。
【００５６】
例えば、第１電極層１２０の屈折率ｎ１が２．０で、膜厚ｄ１が１００ｎｍである場合、第１電極層１２０の光学長は２００ｎｍになる。一方で、緩和層１５０の屈折率ｎ２が１．９で、膜厚ｄ２が９０ｎｍである場合、緩和層１５０の光学長は１７１ｎｍになる。
【００５７】
これにより、波長が５００ｎｍの光が積層方向に入射された場合、緩和層１５０が非発光領域に設けられていないときの発光領域と非発光領域との位相差は、（２００／５００）／２πである。これに対して、緩和層１５０が非発光領域に設けられることにより、発光領域と非発光領域との位相差は、（２００−１７１）／５００／２πになる。したがって、緩和層１５０は、緩和層１５０が設けられていない場合に比べて、発光領域と非発光領域との光学長の位相差を緩和していることが分かる。
【００５８】
なお、緩和層１５０の膜厚ｄ２は、第１電極層１２０の光学長と緩和層１５０の光学長とが一致するように決定してもよい。つまり、緩和層１５０の膜厚ｄ２は、ｄ１×（ｎ１／ｎ２）に等しくてもよい。これにより、発光領域と非発光領域との間に干渉縞のような模様が現れるのを抑制することができる。
【００５９】
例えば、緩和層１５０は、第１電極層１２０と同一の材料、かつ、同一の膜厚で構成されている。緩和層１５０は、第１電極層１２０と同一の材料で構成されるので、緩和層１５０の屈折率ｎ２は、第１電極層１２０の屈折率ｎ１に等しい。また、緩和層１５０の膜厚ｄ２と第１電極層１２０の膜厚ｄ１とが等しいので、緩和層１５０の光学長は、第１電極層１２０の光学長に等しくなる。これにより、第１電極層１２０と緩和層１５０との間の光学長の位相差は略０になる。
【００６０】
また、例えば、図２に示すように、緩和層１５０は、第１電極層１２０と同層に設けられている。これにより、上述した緩和層１５０の上面又は下面での反射光を、第１電極層１２０の上面又は下面での反射光に近づけることができる。さらに、緩和層１５０と第１電極層１２０とを同一の工程で形成することができるので、製造工程を容易にすることができ、製造コストを削減することができる。
【００６１】
例えば、緩和層１５０は、第１電極層１２０と同様に、蒸着法、塗布法又はスパッタリング法などによって導電膜を基板１００上に成膜し、成膜した導電膜をパターニングすることで形成される。同一の工程で形成することで、容易に緩和層１５０を、第１電極層１２０と同一の材料、かつ、同一の膜厚で形成することができる。
【００６２】
ただし、このとき、第１電極層１２０と緩和層１５０との絶縁性を保つために、図１Ｂ及び図２に示すように、第１電極層１２０と緩和層１５０との間には、絶縁溝１６０が設けられている。絶縁溝１６０については、後で説明する。
【００６３】
なお、光学長の差は、０にしなくてもよい。例えば、発光領域と非発光領域とで光学長の差が、入射光の半波長の整数倍、又は、これに近い値になるようにし、位相差を小さくすればよい。この場合でも干渉縞をほとんど見えなくすることができる。
【００６４】
［吸収スペクトル］
吸収スペクトルは、光学特性の１つである。緩和層１５０は、第１領域１１と第２領域１２との、所定の光に対する吸収スペクトル差を緩和する。具体的には、緩和層１５０は、発光領域と非発光領域との吸収スペクトル差を緩和する。発光領域と非発光領域との吸収スペクトル差は、第１電極層１２０の吸収スペクトルと緩和層１５０の吸収スペクトルとの差に相当する。緩和層１５０は、第１電極層１２０との吸収スペクトル差を緩和する。
【００６５】
例えば、第１電極層１２０の所定の光に対する吸収係数がα１、膜厚がｄ１である場合、第１電極層１２０の吸収スペクトル量は、α１×ｄ１で表される。なお、吸収係数は、入射光の波長によって異なる。
【００６６】
このとき、緩和層１５０の所定の光に対する吸収係数がα２の材料で構成する場合、緩和層１５０の膜厚ｄ２は、第１電極層１２０の吸収スペクトル量α１×ｄ１と、緩和層１５０の吸収スペクトル量α２×ｄ２との差を小さくするように決定される。具体的には、緩和層１５０の膜厚ｄ２は、ｄ１×（α１／α２）に近い値に決定すればよい。例えば、ｄ２は、ｄ１×（α１／α２）の０．８５〜１．１５倍の値に決定されればよい。
【００６７】
例えば、第１電極層１２０の吸収係数α１が０．０３で、膜厚ｄ１が１００ｎｍである場合、第１電極層１２０での吸収スペクトル量は１００ｎｍ×０．０３である。したがって、緩和層１５０が非発光領域に設けられていないときの発光領域と非発光領域との吸収スペクトル差は、１００ｎｍ×０．０３である。このとき、吸収係数α２が０．０６で、膜厚ｄ２が５０ｎｍである緩和層１５０を非発光領域に設けることで、吸収スペクトル差を略０にすることができる。
【００６８】
このように、緩和層１５０の膜厚ｄ２は、第１電極層１２０の吸収スペクトル量と緩和層１５０の吸収スペクトル量とが一致するように決定してもよい。つまり、緩和層１５０の膜厚ｄ２は、ｄ１×（α１／α２）に等しくてもよい。これにより、特に、有機ＥＬ素子１０を正面から見た時に、発光領域と非発光領域とで色の違いが現れるのを抑制することができる。
【００６９】
したがって、光学長の場合と同様に、例えば、緩和層１５０を、第１電極層１２０と同一の材料、かつ、同一の膜厚で構成することで、緩和層１５０と第１電極層１２０との吸収スペクトル差を略０にすることができる。
【００７０】
なお、緩和層１５０は、第１電極層１２０と異なる材料で構成してもよい。例えば、緩和層１５０は、ポリイミド、アクリル、ノボラック系の樹脂材料から構成してもよい。あるいは、緩和層１５０は、アルミニウム又は銀などの金属薄膜で構成されてもよい。
【００７１】
なお、例えば、緩和層１５０を第１電極層１２０と異なる材料で構成する場合に、光学長の位相差と吸収スペクトル差との両方を低減するためには、光学長の差が、入射光の半波長の整数倍に近い値であればいいことを利用すればよい。
【００７２】
具体的には、緩和層１５０の膜厚ｄ２は、第１電極層１２０との光学長の差が入射光の半波長の整数倍に略一致するものの中から、吸収スペクトル差が０に近いものを選択すればよい。これにより、光学長の位相差及び吸収スペクトル差を同時に低減することができる。
【００７３】
［絶縁溝］
絶縁溝１６０は、第１電極層１２０と緩和層１５０との間に設けられた溝である。絶縁溝１６０は、第１電極層１２０と緩和層１５０とを離間させることで、電気的に絶縁している。これにより、端子部１２１から給電される電力が、緩和層１５０に供給されることを防止することができる。つまり、これにより、第１電極層１２０のみが発光領域を形成する。
【００７４】
絶縁溝１６０は、上述したように、導電膜をパターニングすることで形成される。パターニングの方法は、いかなるものでもよく、例えば、フォトリソグラフィでもよい。あるいは、レーザー光を用いて絶縁溝１６０部分の導電膜を除去してもよく、物理的に（機械的に）導電膜を除去してもよい。
【００７５】
また、図２に示すように、絶縁溝１６０は、テーパを有する。言い換えると、第１電極層１２０の端面と、緩和層１５０の端面とが、積層方向に対して傾斜している。具体的には、絶縁溝１６０は、基板１００から基板１１０に向かうにつれて、その幅が広くなるように形成されている。
【００７６】
これにより、絶縁溝１６０の上部の層の段切れを抑制することができる。具体的には、平面発光層１４０を構成する層の段切れを抑制することができる。よって、電極間のショートなどを抑制し、有機ＥＬ素子１０の信頼性を高めることができる。
【００７７】
また、絶縁溝１６０が設けられた領域の光学特性は、第１電極層１２０（発光領域）の光学特性、及び、緩和層１５０（非発光領域の大部分）の光学特性とは異なっている。このため、絶縁溝１６０の幅は、小さい方が好ましい。例えば、絶縁溝１６０の幅Ｌは、例えば、１．５ｍｍ以下である。この幅は、ランドルト環に基づいて視力１．０の人間が一定距離（例えば、５ｍ）以上離れた場合に識別できない程度の幅を意味する。
【００７８】
［まとめ］
以上のように、本実施の形態に係る有機ＥＬ素子１０は、透光性を有する基板１００と、基板１００の上方に積層された、少なくとも一方が透光性を有する一対の第１電極層１２０及び第２電極層１３０と、一対の第１電極層１２０及び第２電極層１３０間に設けられた平面発光層１４０とを備え、第１電極層１２０は、平面視における第１領域１１に配置されており、有機ＥＬ素子１０は、さらに、平面視において第１領域１１に隣接する第２領域１２に配置された、第１領域１１と第２領域１２との、所定の光に対する光学特性の差を緩和するための緩和層１５０とを備える。また、例えば、第１領域１１は、発光領域であり、第２領域１２は、非発光領域である。
【００７９】
図３は、本実施の形態に係る有機ＥＬ素子１０の点灯例及び消灯例を示す図である。
【００８０】
図３の（ａ）に示すように、発光時には、矢印の形状の第１領域１１（発光領域）が発光する。非発光時には、第１領域１１（発光領域）と第２領域１２（非発光領域）との間で、光学特性の差が緩和されているので、図３の（ｂ）に示すように、発光模様、すなわち、第１領域１１の形状を見えにくくすることができる。
【００８１】
このように、第１領域１１（発光領域）と第２領域１２（非発光領域）との間の光学特性の差を緩和層１５０が緩和するので、非発光時に発光模様が見えるのを抑制することができる。したがって、非発光時に自然な発光面、すなわち、発光模様などがあまり見えずに違和感のない平面を見せることができる。
【００８２】
また、例えば、緩和層１５０は、第１領域１１と第２領域１２との、所定の光に対する光学長の位相差を緩和する。
【００８３】
これにより、発光領域と非発光領域との間の光学長の位相差を緩和層１５０が緩和するので、発光領域と非発光領域との間に干渉縞のような模様が現れるのを抑制することができる。
【００８４】
また、例えば、緩和層１５０は、第１領域１１と第２領域１２との、所定の光に対する吸収スペクトル差を緩和する。
【００８５】
これにより、発光領域と非発光領域との間の吸収スペクトル差を緩和層１５０が緩和するので、発光領域と非発光領域とで色の違いが現れるのを抑制することができる。
【００８６】
また、例えば、緩和層１５０は、第１電極層１２０と同層に設けられている。
【００８７】
これにより、緩和層１５０を第１電極層１２０と同一の工程で形成することができるので、製造工程を容易にすることができ、製造コストを削減することができる。
【００８８】
また、例えば、緩和層１５０は、第１電極層１２０と同一の材料、かつ、同一の膜厚で構成されている。
【００８９】
これにより、緩和層１５０が第１電極層１２０と同一の材料及び同一の膜厚であるので、光学特性を容易に同じにすることができる。
【００９０】
また、例えば、第１電極層１２０と緩和層１５０との間には、絶縁溝１６０が設けられている。
【００９１】
これにより、緩和層１５０と第１電極層１２０とを絶縁させることができるので、第１電極層１２０に供給される電力が緩和層１５０に供給されることを防止することができる。
【００９２】
また、例えば、絶縁溝１６０の幅は、１．５ｍｍ以下である。
【００９３】
これにより、例えば、視力１．０の人間が５ｍ以上離れた場合に、絶縁溝１６０を識別することができなくなる。したがって、非発光時に、より自然な発光面を見せることができる。
【００９４】
また、例えば、緩和層１５０は、第１領域１１と第２領域１２との、所定の光に対する光学特性の差を１５％以下に緩和する。
【００９５】
これにより、例えば、視力１．０の人間が背景輝度１０００ｃｄ／ｍ２の状況下で、発光領域と非発光領域との光学特性による違いを認識することができなくなる。したがって、非発光時に、より自然な発光面を見せることができる。
【００９６】
（実施の形態２）
続いて、本発明の実施の形態２に係る有機ＥＬ素子について、図４を用いて説明する。図４は、本実施の形態に係る有機ＥＬ素子２０を示す断面図である。
【００９７】
図４に示すように、本実施の形態に係る有機ＥＬ素子２０は、図２に示す有機ＥＬ素子１０と比較して、新たに絶縁層２６１を備える点が異なっている。以下では、異なる点を中心に説明する。
【００９８】
絶縁層２６１は、絶縁溝１６０に設けられている。例えば、絶縁層２６１は、絶縁溝１６０を埋めるように設けられている。絶縁層２６１は、透光性を有し、例えば、ポリイミド、アクリル系などの絶縁性樹脂材料から構成される。例えば、絶縁層２６１は、ポリイミドなどの絶縁性樹脂を絶縁溝１６０に塗布し、加熱などにより硬化させることで形成される。
【００９９】
あるいは、絶縁層２６１は、酸化シリコン又は窒化シリコンなどでもよい。この場合、絶縁層２６１は、例えば、プラズマＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）などによりシリコン酸化膜を成膜し、パターニングすることで形成される。
【０１００】
絶縁層２６１は、第１領域１１との光学特性の差が略同一である。具体的には、絶縁層２６１は、所定の光に対する光学長の位相差及び吸収スペクトル差が第１電極層１２０と略同一である。つまり、絶縁層２６１は、緩和層１５０と同様に、第１電極層１２０と絶縁層２６１との光学長の位相差及び吸収スペクトル差を緩和する。具体的には、絶縁層２６１の膜厚及び材料は、緩和層１５０と同様にして決定される。
【０１０１】
以上のように、本実施の形態に係る有機ＥＬ素子２０は、さらに、絶縁溝１６０に設けられた、所定の光に対する光学長の位相差及び吸収スペクトル差が第１電極層１２０と略同一の絶縁層２６１を備える。
【０１０２】
これにより、絶縁層２６１と第１領域１１（発光領域）との光学特性の差をほとんどなくすことができるので、非発光時に、絶縁層２６１の形状が見えるのを抑制することができる。したがって、非発光時に、より自然な発光面を見せることができる。
【０１０３】
（実施の形態３）
続いて、本発明の実施の形態３に係る有機ＥＬ素子について、図５Ａを用いて説明する。図５Ａは、本実施の形態に係る有機ＥＬ素子３０を示す断面図である。
【０１０４】
図５Ａに示すように、本実施の形態に係る有機ＥＬ素子３０は、図２に示す有機ＥＬ素子１０と比較して、新たに、光散乱部３７０を備える点が異なっている。以下では、異なる点を中心に説明する。
【０１０５】
光散乱部３７０は、平面視において、第１領域１１（発光領域）と第２領域１２（非発光領域）との境界部分に設けられる。具体的には、光散乱部３７０は、平面視において、絶縁溝１６０に重なる領域に設けられる。例えば、図５Ａに示すように、光散乱部３７０は、基板１００の発光面側の全面に形成される。すなわち、光散乱部３７０は、発光領域と非発光領域との全領域に形成される。
【０１０６】
光散乱部３７０は、通過する光を散乱させる。例えば、光散乱部３７０は、表面に凹凸を有する光拡散シート、光拡散フィルムなどである。あるいは、光散乱部３７０は、基板１００の発光面をシボ加工することによって形成されてもよい。または、光散乱部３７０は、基板１００内に光散乱粒子などを混入させることで形成してもよい。
【０１０７】
以上のように、本実施の形態に係る有機ＥＬ素子３０は、さらに、平面視において、第１領域１１と第２領域１２との境界部分に設けられた光散乱部３７０を備える。
【０１０８】
これにより、光散乱部３７０が発光領域と非発光領域との境界部分の光を散乱させることで、境界部分における光学特性の差を目立たなくすることができる。したがって、非発光時に、より自然な発光面を見せることができる。
【０１０９】
なお、光散乱部３７０は、基板１００の外側ではなく、図５Ｂに示すように、基板１００の内側に設けてもよい。図５Ｂは、本実施の形態の別の例に係る有機ＥＬ素子３１を示す断面図である。
【０１１０】
図５Ｂに示すように、本変形例に係る有機ＥＬ素子３１は、図２に示す有機ＥＬ素子１０と比較して、新たに、光散乱部３７０と、平坦化膜３８０とを備える点が異なっている。
【０１１１】
平坦化膜３８０は、上面が平坦な絶縁膜である。また、平坦化膜３８０は、透光性を有する。例えば、平坦化膜３８０は、ポリイミド、アクリルなどの絶縁性樹脂材料から構成される。平坦化膜３８０は、絶縁性樹脂材料を基板１００上に塗布し、加熱などにより硬化させることで形成される。
【０１１２】
平坦化膜３８０を設けることで、光散乱部３７０による凹凸を平坦化し、第１電極層１２０、緩和層１５０及び平面発光層１４０などの成膜を精度良く行うことができる。つまり、膜質の良い平面発光層１４０などを形成することができる。
【０１１３】
図５Ｂに示す場合でも、光散乱部３７０が発光領域と非発光領域との境界部分の光を散乱させることで、境界部分における光学特性の差を目立たなくすることができる。したがって、非発光時に、より自然な発光面を見せることができる。なお、図５Ｂに示す有機ＥＬ素子３１の場合も、光散乱部３７０を全面に設けてもよい。
【０１１４】
（実施の形態４）
続いて、本発明の実施の形態４に係る有機ＥＬ素子について、図６を用いて説明する。図６は、本実施の形態に係る有機ＥＬ素子４０を示す断面図である。
【０１１５】
図６に示すように、本実施の形態に係る有機ＥＬ素子４０は、図２に示す有機ＥＬ素子１０と比較して、第２電極層１３０の代わりに第２電極層４３０を備える点が異なっている。以下では、異なる点を中心に説明する。
【０１１６】
第２電極層４３０は、透光性を有する点が、第２電極層１３０と異なっている。例えば、第２電極層４３０は、可視光の少なくとも一部を透過する透明の導電性材料から構成される。第２電極層４３０は、例えば、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、ＩＺＯ、ＡＺＯなどから構成される。なお、第２電極層４３０は、光を透過できる程度に薄膜の銀、アルミニウムなどの金属薄膜でもよい。ＡｇナノワイヤやＡｇ粒子を分散させてもよい。また、第２電極層４３０としては、ＰＥＤＯＴ、ポリアニリン等の導電性高分子、若しくは、任意のアクセプタ等をドープした導電性高分子、又は、カーボンナノチューブなどの導電性光透過性材料を用いることができる。例えば、第２電極層４３０は、蒸着法、塗布法又はスパッタリング法などによって透明導電膜を平面発光層１４０上に成膜することで形成される。
【０１１７】
なお、本実施の形態では、基板１１０も透光性を有する。透光性を有する場合、非発光時の第１領域１１の形状が見えやすくなるため、光学特性の差を緩和する効果がさらに大きくなる。
【０１１８】
以上のように、本実施の形態に係る有機ＥＬ素子４０では、第１電極層１２０及び第２電極層４３０の両方が、透光性を有する。
【０１１９】
図７は、本実施の形態に係る有機ＥＬ素子４０の点灯例を示す図である。図７に示すように、有機ＥＬ素子４０の表面及び裏面のいずれの側からも発光領域が発光するのを確認することができる。これにより、非発光時には有機ＥＬ素子４０を通して反対側を視認可能であるので、例えば、有機ＥＬ素子４０を建物の窓などに利用することができる。つまり、非発光時には、通常の「窓」として利用することができ、発光時には、所定の形状に発光させることで、例えば、情報の提示などの看板灯又はデジタルサイネージなどとして利用することができる。
【０１２０】
（実施の形態５）
続いて、本発明の実施の形態５に係る有機ＥＬ素子について、図８を用いて説明する。図８は、本実施の形態に係る有機ＥＬ素子５０を示す断面図である。
【０１２１】
図８に示すように、本実施の形態に係る有機ＥＬ素子５０は、図２に示す有機ＥＬ素子１０と比較して、緩和層１５０の代わりに緩和層５５０を備える点と、絶縁溝１６０が設けられていない点とが異なっている。以下では、異なる点を中心に説明する。
【０１２２】
本実施の形態では、絶縁溝１６０が設けられていないので、第１電極層１２０と緩和層５５０とは接触している。このため、緩和層５５０は、絶縁性材料から構成される。
【０１２３】
緩和層５５０は、緩和層１５０と比較して、絶縁材料から構成される点が異なっている。緩和層５５０の機能などは、緩和層１５０と同じである。
【０１２４】
緩和層５５０は、第１電極層１２０とは異なる材料から構成される。したがって、実施の形態１で説明したように、緩和層５５０として用いる材料の屈折率に応じて、緩和層５５０の膜厚が決定される。
【０１２５】
以上のように、本実施の形態に係る有機ＥＬ素子５０では、緩和層５５０は、絶縁性材料から構成される。
【０１２６】
これにより、絶縁溝１６０を設けなくてもよいので、非発光時に絶縁溝１６０の形状は見えない。したがって、非発光時に、より自然な発光面を見せることができる。
【０１２７】
（実施の形態６）
続いて、本発明の実施の形態６に係る照明装置について、図９を用いて説明する。図９は、本実施の形態に係る照明装置６００を示す図である。
【０１２８】
図９に示すように、本実施の形態に係る照明装置６００は、有機ＥＬ素子６０と、第１電源回路６１０と、第２電源回路６２０とを備える。本実施の形態に係る有機ＥＬ素子６０及び照明装置６００は、第１領域１１と第２領域１２とが、互いに独立して発光可能な領域である。つまり、第１領域１１だけでなく、第２領域１２も有機ＥＬ素子６０の発光領域である。
【０１２９】
有機ＥＬ素子６０は、図１Ａ及び図２に示す有機ＥＬ素子１０と比較して、新たに、端子部１５１を備える点が異なっている。以下では、異なる点を中心に説明する。
【０１３０】
端子部１５１は、基板１００上に設けられている。端子部１５１は、緩和層１５０に給電するための引き出し電極である。
【０１３１】
つまり、端子部１５１は、緩和層１５０と電気的に接続されている。なお、緩和層１５０は、導電性材料から構成されており、例えば、第１電極層１２０と同一の材料、かつ、同一の膜厚で構成されている。
【０１３２】
例えば、端子部１５１は、緩和層１５０の一部が延伸するように設けられている。端子部１５１は、緩和層１５０と同一の工程で、導電膜をパターニングすることで形成される。したがって、端子部１５１は、例えば、緩和層１５０と同一の材料で構成される。なお、端子部１５１は、緩和層１５０とは別の工程で、別の材料から構成されてもよい。例えば、端子部１５１は、端子部１３１と同時に形成されてもよい。
【０１３３】
これにより、緩和層１５０は、平面発光層１４０の第２の陽極として機能する（なお、第１電極層１２０が第１の陽極である）。緩和層１５０に電力を供給することで、緩和層１５０が設けられている領域、すなわち、第２領域１２を発光させることができる。
【０１３４】
第１電源回路６１０は、端子部１２１と端子部１３１との間に設けられる。第１電源回路６１０は、端子部１２１と端子部１３１とに接続される直流電流源又は直流電圧源であり、第１電極層１２０と第２電極層１３０との間に所定の電圧又は電流を印加する。これにより、第１電極層１２０が設けられている領域、すなわち、第１領域１１を発光させることができる。
【０１３５】
第２電源回路６２０は、端子部１５１と端子部１３１との間に設けられる。第２電源回路６２０は、端子部１５１と端子部１３１とに接続される直流電流源又は直流電圧源であり、緩和層１５０と第２電極層１３０との間に所定の電圧又は電流を印加する。これにより、第２領域１２を発光させることができる。
【０１３６】
第１電源回路６１０及び第２電源回路６２０は、互いに独立して動作することができる。したがって、任意のタイミングで第１領域１１及び第２領域１２のそれぞれを独立して発光させることができる。
【０１３７】
図１０は、本実施の形態に係る照明装置６００の点灯例を示す図である。例えば、図１０の（ａ）に示すように、第１電源回路６１０のみが電力を供給することで、第１領域１１のみを発光させることができる。また、図１０の（ｂ）に示すように、第２電源回路６２０のみが電力を供給することで、第２領域１２のみを発光させることができる。
【０１３８】
以上のように、本実施の形態に係る有機ＥＬ素子６０では、第１領域１１及び第２領域１２は、互いに独立して発光可能な領域である。
【０１３９】
これにより、例えば、状況に応じて発光させる領域を変更することができる。第１領域１１の形状自体は変更しないので、第１領域１１及び第２領域１２のいずれを発光させた場合でも同じ形状（例えば、矢印）を認識させることができる。
【０１４０】
なお、第１領域１１と第２領域１２とを同時に発光させてもよい。例えば、第１領域１１と第２領域１２とを異なる色、又は、異なる光強度で発光させてもよい。
【０１４１】
なお、図９に示す端子部１２１、１３１及び１５１の配置は一例に過ぎず、これに限らない。例えば、端子部１２１、１３１及び１５１の全てを同じ側に設けてもよい。
【０１４２】
（その他）
以上、本発明に係る有機ＥＬ素子及び照明装置について、上記実施の形態に基づいて説明したが、本発明は、上記の実施の形態に限定されるものではない。
【０１４３】
例えば、上記の各実施の形態では、面内に１つの第１電極層１２０、すなわち、１つの発光領域を設けたが、これに限らない。本発明の一態様に係る有機ＥＬ素子は、複数の第１電極層１２０を備えてもよい。分かりやすく言い換えると、矢印などの記号又は文字が複数設けられて発光してもよい。
【０１４４】
また、例えば、上記の各実施の形態では、第１電極層１２０を所定の形状にパターニングし、第２電極層１３０を全面に形成する例について説明したが、これに限らない。例えば、第２電極層１３０を所定の形状にパターニングし、第１電極層１２０を全面に形成してもよい。この場合、緩和層１５０は、第２電極層１３０と同層に設けてもよい。すなわち、緩和層１５０は、一対の第１電極層１２０及び第２電極層１３０の一方と同層に設けてもよい。
【０１４５】
また、例えば、上記の各実施の形態では、緩和層１５０を、第１電極層１２０と同層に設ける例について説明したが、これに限らない。緩和層１５０は、第１電極層１２０と異なる層に設けてもよい。例えば、緩和層１５０は、平面発光層１４０と第２電極層１３０との間に設けられてもよい。あるいは、緩和層１５０は、基板１００及び基板１１０の外側に設けられてもよい。
【０１４６】
また、例えば、上記の各実施の形態では、絶縁溝１６０の幅が１．５ｍｍ以下の例について示したが、これに限らない。例えば、有機ＥＬ素子１０が設けられる位置によっては、絶縁溝１６０の幅は１．５ｍｍよりも大きくても絶縁溝１６０は目立たない。例えば、有機ＥＬ素子１０が建物の高い所に設けられる場合など、遠くから離れて見ることが想定される場合は、絶縁溝１６０の幅は１．５ｍｍより大きくてもよい。同様に、光学特性の差も１５％以上でもよい。
【０１４７】
また、例えば、上記の実施の形態６では、第１領域１１及び第２領域１２の双方が発光する照明装置６００について説明したが、例えば、実施の形態１〜５のように第１領域１１のみが発光領域である場合、照明装置６００は、第１電源回路６１０のみを備えていればよい。
【０１４８】
また、例えば、上記の各実施の形態では、第１電極層１２０が陽極で、第２電極層１３０が陰極である例について示したが、逆でもよい。すなわち、第１電極層１２０が陰極で、第２電極層１３０が陽極でもよい。
【０１４９】
また、例えば、上記の各実施の形態では、有機ＥＬ素子の平面視形状が矩形である例について示したが、これに限らない。有機ＥＬ素子の平面視形状は、多角形、円形又は楕円形などの、直線若しくは曲線で描かれた閉じた形状でもよい。
【０１５０】
その他、各実施の形態に対して当業者が思いつく各種変形を施して得られる形態や、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で各実施の形態における構成要素及び機能を任意に組み合わせることで実現される形態も本発明に含まれる。
【符号の説明】
【０１５１】
１０、２０、３０、３１、４０、５０、６０  有機ＥＬ素子
１１  第１領域
１２  第２領域
１００、１１０  基板
１２０  第１電極層
１３０、４３０  第２電極層
１４０  平面発光層
１５０、５５０  緩和層
１６０  絶縁溝
２６１  絶縁層
３７０  光散乱部
６００  照明装置
【図１Ａ】
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【図１Ｂ】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【国際調査報告】
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