(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
搬送方向に延び、基板浮上面上に基板を浮上させる浮上ステージ部と、
前記基板浮上面上に浮上した基板を保持する基板保持部と、
を備え、前記基板浮上面上に浮上した状態の基板を保持した状態で前記基板保持部が前記搬送方向に沿って移動することにより、基板が基板浮上面上に浮上した状態で搬送される基板浮上搬送装置において、
前記浮上ステージ部と前記基板保持部との間には、基準サイズの基板よりも搬送方向と直交する川幅方向寸法が大きい幅広基板を搬送する場合に、前記基板浮上面から川幅方向にはみ出す前記幅広基板のはみ出し領域を浮上させる補助浮上支持部を備えており、
前記補助浮上支持部は、前記基板保持部に一体的に設けられており、前記補助浮上支持部には、前記基準サイズの基板が吸着されて保持される吸着面が前記基板保持部の吸着面よりも川幅方向内側に設けられ、
前記基準サイズの基板が搬送される際には、前記補助浮上支持部の吸着面で前記基準サイズの基板が吸着保持され、前記幅広基板が搬送される際には前記基板保持部の吸着面で前記幅広基板が吸着保持されることを特徴とする基板浮上搬送装置。
【請求項２】
前記基板保持部の吸着面は、前記補助浮上支持部の吸着面よりも高さ位置が高く設定されており、前記基板保持部の吸着面により幅広基板が保持された状態では、前記補助浮上支持部の浮上機構により、前記浮上ステージ部における浮上状態と同じ浮上状態に維持されることを特徴とする請求項１に記載の基板浮上搬送装置。
【請求項３】
前記補助浮上支持部は、その浮上機構が前記浮上ステージ部と同じ浮上機構を有していることを特徴とする請求項１又は２に記載の基板浮上搬送装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板を浮上させながら搬送する基板浮上搬送装置に関するものであり、特に、基準サイズの基板に対して川幅方向寸法が大きい基板であっても平面度を高精度に維持しつつ搬送することができる基板浮上搬送装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等のフラットパネルディスプレイには、基板上にレジスト液が塗布されたもの（塗布基板と称す）が使用されている。この塗布基板は、基板を搬送しつつ塗布装置により基板上にレジスト液が均一に塗布されることによって塗布膜が形成される。その後、さらに基板搬送装置により搬送され、乾燥装置等により塗布膜が乾燥されることにより生産される。
【０００３】
最近の基板搬送装置では、塗布基板の裏面（塗布面と反対側）の損傷を回避するため、エア浮上や超音波浮上等、基板を浮上させながら基板を搬送させる基板浮上搬送装置が使用されている。この基板浮上搬送装置は、図７に示すように、基板Ｗを浮上させる浮上ステージ部１００と、浮上した状態の基板Ｗを保持する基板保持部１０２とを有しており、基板保持部１０２を搬送方向に移動させることにより基板Ｗが浮上ステージ部１００上を浮上した状態で搬送されるようになっている。
【０００４】
例えば、エア浮上搬送の場合には、図８（ａ）に示すように、浮上ステージ部１００における基板Ｗを浮上させる基板浮上面１０１に、エアを噴出させる噴出口とエアを吸引する吸引口とが一定の割合で配置されており、基板浮上面１０１から所定の高さ位置に基板Ｗを浮上させることができるようにエアの噴出力とエアの吸引力とが調整される（図８の矢印はエアの流れを示す）。そして、基板Ｗの搬送方向と直交する方向（以下、川幅方向という）の両端部は、基板保持部１０２の吸着部１０２ａで吸着されることによって保持され、この状態で基板保持部１０２が搬送方向に走行することにより基板Ｗが搬送方向に搬送される。すなわち、浮上ステージ部１００は、基板Ｗに対して川幅方向に小さく形成されており、浮上ステージ部１００の基板浮上面１０１に基板Ｗを載置した状態では、川幅方向両端部に基板Ｗを吸着できる程度の吸着代（はみ出し領域Ｔ）を有する程度に形成されている。そして、基板保持部１０２を浮上ステージ部１００に近接させて設置することでエア浮上が作用しない領域を極力少なくすることにより、川幅方向両端に亘って基板Ｗを均一に浮上させることができ、基板Ｗの平面姿勢（以下、平面度という）を高精度に維持した状態で搬送することができる。これより、基板浮上搬送装置と組み合わされる塗布装置１０３や乾燥装置において、基板Ｗの姿勢の影響による塗布ムラや乾燥ムラを抑えることができるようになっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１３−１１５１２５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
近年では、基板Ｗの多種多様化に伴い、サイズの異なる塗布基板Ｗを要求される場合がある。すなわち、最終製品の基板サイズの多様化により、通常よりも川幅方向に寸法が大きい基板Ｗ（以下、幅広基板Ｗという）が要求される場合がある。ところが上記の基板浮上搬送装置で幅広基板Ｗを搬送しようとすると、図８（ｂ）に示すように、塗布すべき基板有効領域αが浮上ステージ部１００を超えて基板保持部１０２に跨ってしまうことにより、基板Ｗの平面度を維持できないという問題があった。すなわち、基板有効領域αが基板保持部１０２に跨ると、浮上ステージ部１００と基板保持部１０２とで基板有効領域α内に浮上状態が異なるため、基板浮上搬送装置と組み合わされる塗布装置１０３や乾燥装置において、基板Ｗの姿勢変化による塗布ムラや乾燥ムラが発生するという問題があった。
【０００７】
このような場合には、川幅方向に寸法に僅かでも寸法が大きい幅広基板Ｗは、上記基板浮上搬送装置では搬送することができず、幅広基板Ｗを搬送させるために新たな基板浮上搬送装置を別途用意する必要があるという問題があった。
【０００８】
本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、川幅方向に寸法の大きい幅広基板でも平面度を高精度に維持しつつ搬送することができる基板浮上搬送装置を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために本発明の基板浮上搬送装置は、搬送方向に延び、基板浮上面上に基板を浮上させる浮上ステージ部と、前記基板浮上面上に浮上した基板を保持する基板保持部と、を備え、前記基板浮上面上に浮上した状態の基板を保持した状態で前記基板保持部が前記搬送方向に沿って移動することにより、基板が基板浮上面上に浮上した状態で搬送される基板浮上搬送装置において、前記浮上ステージ部と前記基板保持部との間には、基準サイズの基板よりも搬送方向と直交する川幅方向寸法が大きい幅広基板を搬送する場合に、前記基板浮上面から川幅方向にはみ出す前記幅広基板のはみ出し領域を浮上させる補助浮上支持部を備えており、前記補助浮上支持部は、前記基板保持部に設けられており、前記補助浮上支持部には、前記基準サイズの基板が吸着されて保持される吸着面が前記基板保持部の吸着面よりも川幅方向内側に設けられ、前記基準サイズの基板が搬送される際には、前記補助浮上支持部の吸着面で前記基準サイズの基板が吸着保持され、前記幅広基板が搬送される際には前記基板保持部の吸着面で前記幅広基板が吸着保持されることを特徴としている。
【００１０】
上記基板浮上搬送装置によれば、浮上ステージ部と基板保持部との間に補助浮上支持部を備えているため、川幅方向に寸法の大きい幅広基板でも平面度を高精度に維持しつつ搬送することができる。すなわち、幅広基板のうち、浮上ステージ部よりも川幅方向にはみ出す領域は、補助浮上支持部による浮上機構により、浮上ステージ部上に位置する基板と同じ浮上状態に設定することにより、川幅方向に亘って浮上状態を均一にすることができる。したがって、従来の基板浮上搬送装置に比べて、幅広基板の平面度を高精度に維持して基板有効領域に塗布ムラが発生する問題を抑えることができ、幅広基板のために新たな基板浮上搬送装置を別途用意する設備コストを抑えることができる。
【００１１】
また、前記補助浮上支持部は、その浮上機構が前記浮上ステージ部と同じ浮上機構を有している構成が好ましい。
【００１２】
この構成によれば、補助浮上支持部は、浮上ステージ部と同じ浮上機構（例えば、エア浮上、超音波浮上等）を有しているため、補助浮上支持部における浮上状態を浮上ステージ部における浮上状態と同じ状態にすることができ、幅広基板の浮上状態を川幅方向に亘って均一にすることができる。
【００１８】
そして、基準サイズの基板、幅広基板、いずれを搬送する場合であっても、装置構成を組み替えることがなく、段取り作業を簡略化することができる。
【００１９】
また、前記基板保持部の吸着面は、前記補助浮上支持部の吸着面よりも高さ位置が高く設定されており、前記基板保持部の吸着面により幅広基板が保持された状態では、前記補助浮上支持部の浮上機構により、前記浮上ステージ部における浮上状態と同じ浮上状態に維持される構成にしてもよい。
【００２０】
この構成によれば、幅広基板を保持する場合において、浮上ステージ部及び補助浮上支持部のいずれにおいても浮上状態が同じ状態に維持されるため、川幅方向に亘って幅広基板の平面度を高精度に維持することができる。
【発明の効果】
【００２１】
本発明の基板浮上搬送装置によれば、川幅方向に寸法の大きい幅広基板でも平面度を高精度に維持しつつ搬送することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の一実施形態における基板浮上搬送装置と組み合わされる塗布装置を示す斜視図である。
【図２】上記一実施形態における基板浮上搬送装置と組み合わされる塗布装置の正面図である。
【図３】上記一実施形態における基板浮上搬送装置において基板を保持した状態を示す拡大図であり、（ａ）は標準基板を保持した状態を示す図、（ｂ）は幅広基板を保持するために浮上ステージ部に補助浮上支持部を取り付けた状態を示す図である。
【図４】上記一実施形態における基板浮上搬送装置の基板保持部を示す図であり、（ａ）は標準基板を保持した状態を示す図、（ｂ）は補助浮上支持部を取り付けた場合に幅広基板を保持した状態を示す図である。
【図５】上記一実施形態における基板浮上搬送装置の基板保持部の吸着パッドを示す図であり、（ａ）は吸着する前の状態を示す図であり、（ｂ）は吸着した状態を示す図である。
【図６】他の実施形態における基板浮上搬送装置の基板保持部を示す図であり、（ａ）は標準基板を保持した状態を示す図であり、（ｂ）は幅広基板を保持した状態を示す図である。
【図７】従来の基板浮上搬送装置と組み合わされる塗布装置を示す斜視図である。
【図８】従来の基板浮上搬送装置において基板の保持状態を示す図であり、（ａ）は標準基板を保持した状態を示す図であり、（ｂ）は幅広基板を保持した状態を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
本発明の基板浮上搬送装置に係る実施の形態について図面を用いて説明する。
【００２４】
図１は、本発明の基板浮上搬送装置１と組み合わされる塗布装置２を概略的に示す斜視図であり、図２は、図１における基板浮上搬送装置１と組み合わされる塗布装置２の正面図である。
【００２５】
図１、図２において、基板Ｗを搬送させる基板浮上搬送装置１は、搬送される基板Ｗに塗布膜を形成する塗布装置２の塗布ユニット２１と組み合わされており、一連の基板処理装置を形成している。この基板浮上搬送装置１は、一方向に延びる浮上ステージ部１０を有しており、この浮上ステージ部１０の延びる方向に沿って基板Ｗが搬送される。図１の例では、浮上ステージ部１０は、Ｘ軸方向に延びて形成されており、基板ＷがＸ軸方向に上流側（前工程側）から下流側（後工程側）に搬送されるようになっている。そして、塗布ユニット２１から塗布液を吐出することにより、基板Ｗ上に塗布膜が形成される。具体的には、基板Ｗが浮上ステージ部１０に浮上された状態でＸ軸方向に搬送されつつ、塗布ユニット２１から塗布液が吐出されることにより、基板Ｗ上に均一厚さの塗布膜が形成されるようになっている。なお、以下の説明では、基板Ｗが搬送される方向をＸ軸方向とし、Ｘ軸方向が搬送方向に相当する。また、Ｘ軸方向（搬送方向）と水平面上で直交する方向をＹ軸方向とし、特にＹ軸方向を川幅方向ともいう。そして、Ｘ軸方向及びＹ軸方向の双方に直交する方向をＺ軸方向として説明を進めることとする。
【００２６】
塗布ユニット２１は、基板Ｗに塗布液を塗布するものであり、フレーム部２２と口金部２３とを有している。フレーム部２２は、浮上ステージ部１０のＹ軸方向両側にそれぞれ配置される支柱２２ａを有しており、この支柱２２ａに口金部２３が設けられている。具体的には、支柱２２ａは、Ｙ軸方向（川幅方向）両側に固定して設けられており、後述する基板保持部３０の走行を妨げることのないように、基板保持部３０の走行経路よりも外側に配置されている。そして、これらの支柱２２ａに口金部２３が架け渡されて設けられており、口金部２３が浮上ステージ部１０を横切る状態で取り付けられている。また、支柱２２ａには昇降機構が設けられており、昇降機構を作動させることにより口金部２３がＺ方向に移動できるようになっている。すなわち、昇降機構により口金部２３が浮上ステージ部１０に対して接離動作できるようになっている。
【００２７】
口金部２３は、塗布液を吐出するものであり、一方向に延びて形成されている。この口金部２３は、一方向に延びるスリットノズル２３ａ（図２参照）が形成されており、口金部２３内に貯留された塗布液をスリットノズル２３ａから吐出できるようになっている。具体的には、スリットノズル２３ａは、浮上ステージ部１０と対向する面に形成されており、口金部２３はスリットノズル２３ａが川幅方向に延びる状態で設置されている。そして、搬送される基板Ｗに対して口金部２３を昇降させて基板Ｗとスリットノズル２３ａとの距離を所定の距離に合わせた状態で、スリットノズル２３ａから塗布液を吐出することにより、川幅方向に一様な塗布膜が搬送方向に連続的に形成されるようになっている。
【００２８】
また、基板浮上搬送装置１は、基板Ｗを浮上させつつ特定方向に搬送させるものである。基板浮上搬送装置１は、基板Ｗを浮上させる浮上ステージ部１０と、浮上ステージ部１０に浮上させた基板Ｗを保持し搬送させる基板搬送ユニット３とを有している。
【００２９】
浮上ステージ部１０は、基板Ｗを浮上させるものであり、本実施形態ではエア浮上機構を有している。浮上ステージ部１０は、基台１１上に平板部１２が設けられて形成されており、複数枚の平板部１２がＸ軸方向に沿って配列されて形成されている。すなわち、平板部１２は、平滑な基板浮上面１２ａ（図３参照）を有しており、それぞれの基板浮上面１２ａが均一高さになるように配列されている。そして、基板浮上面１２ａには、搬送させる基板Ｗとの間に空気層が形成されることにより基板Ｗを所定高さ位置に浮上させることができるようになっている。具体的には、平板部１２には、基板浮上面１２ａに開口する微小な噴出口（不図示）と吸引口（不図示）とが形成されており、噴出口とコンプレッサとが配管で接続され、吸引口と真空ポンプとが配管で接続されている。そして、噴出口から噴出されるエアと吸引口に発生する吸引力とをバランスさせることにより、基板Ｗが基板浮上面１２ａから所定高さに水平の姿勢で浮上させることができるようになっている。これにより、基板Ｗの平面姿勢（平面度という）を高精度に維持した状態で搬送できるようになっている。
【００３０】
また、浮上ステージ部１０の平板部１２は、そのＹ軸方向寸法が基準サイズの基板Ｗ（標準基板Ｗ）のＹ軸方向寸法よりも小さく形成されており、基板浮上面１２ａ上に基板Ｗを載置すると、基板浮上面１２ａから基板ＷのＹ軸方向端部がはみ出した状態となる。このはみ出した部分（はみ出し領域Ｔ）を後述の基板搬送ユニット３で保持することにより、基板Ｗを搬送できるようになっている。この平板部１２のＹ軸方向寸法は、はみ出し領域Ｔが基板保持部３０で保持できる必要最小限の寸法になるように設定されている。すなわち、はみ出し領域Ｔのはみ出し量は、基板保持部３０で基板Ｗのはみ出し領域Ｔを保持した場合に、基板保持部３０と平板部１２との間に互いに接触することのない僅かな隙間が形成される程度に設定されている。なお、基準サイズの基板Ｗとは、基板浮上搬送装置１を設計する際に基準となる大きさの基板Ｗのことをいい、後述の川幅方向寸法が大きい幅広基板Ｗに対して標準基板Ｗと呼ぶこととする。
【００３１】
また、平板部１２は、補助浮上支持部４が取り付けできるようになっている。この補助浮上支持部４は、標準基板Ｗに対して川幅方向寸法が大きい幅広基板Ｗを搬送させる場合に、幅広基板Ｗの姿勢を川幅方向に亘って水平に維持させるものである。
【００３２】
本実施形態の補助浮上支持部４は、補助ブロック４０であり、幅広基板Ｗを搬送させる場合に、平板部１２のＹ軸方向（川幅方向）側面に取り付けて固定されるようになっている。具体的には、補助ブロック４０は、直方体形状を有しており、搬送方向寸法は平板部１２と同じ寸法に形成され、川幅方向寸法は、幅広基板Ｗが基板浮上面１２ａに載置された場合に、幅広基板ＷのＹ軸方向端部が川幅方向にはみ出した状態となる寸法に形成されている。すなわち、はみ出し量は、標準基板Ｗと同様に、基板保持部３０で基板Ｗを保持した場合に、基板保持部３０が補助ブロック４０に接触せず走行するのに最低限必要となる寸法、すなわち、基板保持部３０と補助ブロック４０との間に互いに接触することのない僅かな隙間が形成される寸法に設定されている。また、補助ブロック４０が取り付けられた状態では、補助ブロック４０の上面が平板部１２の基板浮上面１２ａと同じ高さになるように設定されている。これにより、平板部１２と補助ブロック４０によって一回り大きい平坦で一様な基板浮上面１２ａが形成されるようになっている。
【００３３】
また、補助ブロック４０（補助浮上支持部４）は、浮上ステージ部１０と同じ浮上機構（本実施形態ではエア浮上機構）を有している。具体的には、補助ブロック４０の基板浮上面１２ａを形成する面には、平板部１２と同様に、噴出口（不図示）と吸引口（不図示）とが形成されており、平板部１２の噴出口及び吸引口と同じ態様で形成されている。すなわち、平板部１２の出口及び吸引口と同じ割合、同じ位置関係を有するように形成されており、平板部１２における基板Ｗの浮上状態と、補助ブロック４０における基板Ｗの浮上状態とを同じ状態にすることができるようになっている。したがって、補助ブロック４０が取り付けられた状態では、幅広基板Ｗであっても、川幅方向に亘って均一に浮上させることができ、基板Ｗの平面度を高精度に維持した状態で浮上させることができる。
【００３４】
また、基板搬送ユニット３は、浮上状態の基板Ｗを搬送させるものであり、基板Ｗを保持する基板保持部３０と、基板保持部３０を走行させる搬送駆動部３１とを有している。
【００３５】
搬送駆動部３１は、基板保持部３０を搬送方向に移動させるように構成されており、浮上ステージ部１０に沿って搬送方向に延びる搬送レール部３１ａと、この搬送レール部３１ａ上を走行する搬送本体部３１ｂとで形成されている。具体的には、搬送方向に延びるように設けられた基台１１が浮上ステージ部１０の川幅方向両側に配置されており、それぞれの基台１１上に搬送レール部３１ａが設けられている。すなわち、搬送レール部３１ａが浮上ステージ部１０に沿って途切れることなく連続して設けられている。また、搬送本体部３１ｂは、凹形状に形成された板状部材であり、図４（ａ）に示すように、搬送レール部３１ａの上面を覆うように設けられている。具体的には、搬送本体部３１ｂは、エアパッド３２を介して搬送レール部３１ａに覆うように設けられており、図示しないリニアモータを駆動させることにより、搬送本体部３１ｂが搬送レール部３１ａ上を走行するようになっている。すなわち、リニアモータを駆動制御することにより、搬送本体部３１ｂが搬送レール部３１ａ上を接触することなく走行し、適切な位置で停止できるようになっている。
【００３６】
また、基板保持部３０は、基板Ｗを保持するものであり、搬送本体部３１ｂに取り付けられている。具体的には、図４（ａ）に示すように、基板保持部３０は、ほぼ直方体のブロック状に形成されており、浮上ステージ部１０の平板部１２に接触しない程度の隙間を介して取り付けられている。また、基板保持部３０は、その上面（吸着面３３）が浮上させた基板Ｗの下面の高さ位置と面位置になるように設定されている。そして、図５に示すように、吸着面３３には、開口部３４が形成されており、その開口部３４内に弾性変形可能な蛇腹形状の吸着パッド３５が埋設されている。この吸着パッド３５は、吸引力を発生させて基板Ｗを吸着保持するものであり、通常状態（基板Ｗがない状態）では、その先端が開口部３４から僅かに突出した状態で待機するように設定されている（図５（ａ）参照）。そして、基板浮上面１２ａに基板Ｗが載置されると基板浮上面１２ａから川幅方向にはみ出した部分が吸着パッド３５に当接する。この状態で吸着パッド３５に吸引力を発生させると、基板Ｗの下面が吸着パッド３５で吸引されつつ、その吸引状態を保ったまま、吸着パッド３５自体が開口部３４内に収縮して基板Ｗの下面が吸着面３３に当接し基板Ｗが保持されるようになっている（図５（ｂ）参照）。これにより、浮上ステージ部１０で浮上された基板Ｗが、川幅方向に亘って同じ浮上高さ位置を維持した状態で保持される。
【００３７】
また、基板保持部３０は、位置調節機構を有している。すなわち、基板保持部３０は、搬送本体部３１ｂにリニアガイド３６を介して設けられており、川幅方向に移動できるようになっている。具体的には、搬送本体部３１ｂには、川幅方向に移動可能なリニアガイド３６が取り付けられており、このリニアガイド３６に基板保持部３０が取り付けられている。そして、リニアガイド３６を駆動制御することにより基板保持部３０が川幅方向に移動し、適切な位置で停止できるようになっている。
【００３８】
本実施形態では、標準基板Ｗを搬送させる場合には、基板保持部３０が浮上ステージ部１０に近接する位置に移動し固定される（図４（ａ）参照）。すなわち、基板保持部３０と浮上ステージ部１０との間に、基板保持部３０が搬送方向に走行しても浮上ステージ部１０の平板部１２に接触しない程度の隙間を有するように、基板保持部３０が浮上ステージ部１０に極力接近する位置に固定される。これにより、基板Ｗに浮上機構が作用しない領域を極力少なくすることができ、基板Ｗの浮上状態を川幅方向に亘って均一にすることができる。
【００３９】
また、幅広基板Ｗを搬送させる場合には、補助ブロック４０が存在する分だけ川幅方向外側に移動し、基板保持部３０が補助ブロック４０に近接した位置に固定される（図４（ｂ）参照）。この場合においても、基板保持部３０と補助ブロック４０との間に、基板保持部３０が搬送方向に走行しても補助ブロック４０に接触しない程度の隙間を有するように固定され、基板Ｗに浮上機構が作用しない領域を極力少なくして、基板Ｗの浮上状態を川幅方向に亘って均一にすることができるようになっている。
【００４０】
このように、本実施形態における基板浮上搬送装置１では、浮上ステージ部１０と基板保持部３０との間に補助浮上支持部４（補助ブロック４０）を備えているため、川幅方向に寸法の大きい幅広基板Ｗでも平面度を高精度に維持しつつ搬送することができる。すなわち、幅広基板Ｗのうち、浮上ステージ部１０よりも川幅方向にはみ出す領域は、補助浮上支持部４による浮上機構により、浮上ステージ部１０上に位置する基板Ｗと同じ浮上状態に設定することにより、川幅方向に亘って浮上状態を均一にすることができる。したがって、従来の基板浮上搬送装置１に比べて、幅広基板Ｗの平面度を高精度に維持して基板Ｗ有効領域に塗布ムラが発生する問題を抑えることができ、幅広基板Ｗのために新たな基板浮上搬送装置１を別途用意する設備コストを抑えることができる。
【００４１】
また、補助ブロック４０には、浮上ステージ部１０と同じエア浮上機構を使用しているため、補助ブロック４０における浮上状態を浮上ステージ部１０における浮上状態と同じ状態にすることができるため、幅広基板Ｗの浮上状態を川幅方向に亘って均一にすることができる。
【００４２】
また、上記実施形態では、補助浮上支持部４が浮上ステージ部１０に取り付けられる補助ブロック４０である場合について説明したが、補助浮上支持部４が基板保持部３０に設けられるものであってもよい。図６に示す例では、基板保持部３０の吸着面３３ａが補助浮上支持部４の一部をなすように構成されている。すなわち、基板保持部３０には、吸着ブロック３７が設けられ、川幅方向内側に補助浮上支持部４が形成され、川幅方向外側に基板保持部３０が形成され、これらが一体的に構成されている。具体的には、基板保持部３０の吸着面３３ａが、川幅方向外側に位置し、補助浮上支持部４の吸着面３３ｂよりも一段高い位置に形成されている。そして、それぞれの吸着面３３（吸着面３３ａ及び吸着面３３ｂ）には、開口部３４が形成されており、その開口部３４に上述した吸着パッド３５が埋設され、基板Ｗを吸着して保持できるようになっている。すなわち、吸着ブロック３７における補助浮上支持部４は、浮上ステージ部１０の平板部１２に近接する位置に配置されており、浮上ステージ部１０に標準基板Ｗが載置されると基板浮上面１２ａからはみ出したはみ出し領域Ｔを吸着パッド３５で吸着できるようになっている（図６（ａ））。すなわち、吸着ブロック３７の補助浮上支持部４は、上記実施形態と同様に、基板保持部３０が搬送方向に走行しても浮上ステージ部１０の平板部１２に接触しない程度の隙間を有するように配置され、川幅方向に亘って均一に浮上させ、基板Ｗの平面度を高精度に維持した状態で浮上させることができる。
【００４３】
また、基板保持部３０における吸着パッド３５は、浮上ステージ部１０に載置された幅広基板Ｗのはみ出し領域Ｔを吸着できる位置に配置されている。また、補助浮上支持部４の吸着面３３ｂには、噴出口（不図示）と吸引口（不図示）とが形成されており、平板部１２の噴出口及び吸引口と同じ態様で形成されている。すなわち、浮上ステージ部１０に幅広基板Ｗが載置されると、浮上ステージ部１０からはみだす部分は、吸着ブロック３７の補助浮上支持部４に設けられた浮上機構により浮上される。また、吸着面３３ｂと基板浮上面１２ａの高さ位置は共通の高さに設定されている。これにより、幅広基板Ｗのはみ出し領域Ｔは、浮上ステージ部１０に設けられた浮上機構と同じ構成の浮上機構で浮上させることができるため、基板保持部３０が浮上ステージ部１０から川幅方向外側に離れた位置に配置されていても、基板Ｗの浮上状態を川幅方向に亘って均一にすることができる。そして、本実施形態では、上記実施形態のように、標準基板Ｗと幅広基板Ｗを搬送する際に、補助ブロック４０を付け替える必要がないため、上記実施形態に比べて、段取り作業を簡略化することができる。
【００４４】
また、上記実施形態では、浮上ステージ部１０の浮上機構としてエア浮上機構を使用する例について説明したが、超音波浮上等、他の浮上機構を用いるものであってもよい。
【００４５】
また、上記実施形態では、補助浮上支持部４において、浮上ステージ部１０と同じ浮上機構を用いる例について説明したが、異なる浮上機構を用いるものであってもよい。例えば、浮上ステージ部１０に超音波浮上機構を使用し、補助浮上支持部４においてエア浮上機構を使用してもよい。いずれの浮上機構を使用しても、浮上ステージ部１０及び補助浮上支持部４での浮上高さを共通にして川幅方向に亘って均一な浮上状態を形成できればよい。
【００４６】
また、上記実施形態では、基板浮上搬送装置１を塗布装置２に組み合わせる例について説明したが、基板浮上搬送装置１を乾燥装置に組み合わせてもよく、さまざまな基板処理装置に組み合わせて使用することができる。
【符号の説明】
【００４７】
１  基板浮上搬送装置
２  塗布装置
３  基板搬送ユニット
４  補助浮上支持部
１０  浮上ステージ部
１２  平板部
１２ａ  基板浮上面
３０  基板保持部
３３  吸着面
３７  吸着ブロック
４０  補助ブロック
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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