(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
塗布材料を透過可能な孔を有するメッシュと、
前記メッシュに設けられ、幅寸法が最も小さい位置において３０μｍ以下である開口パターンを有するとともに、前記メッシュの印刷面側における厚みである乳厚が１２μｍ以上であるマスク膜と、を備えるスクリーンマスクの前記マスク膜に、粘度が、せん断速度４ｓｅｃ−１で１００〜５００Ｐａ・ｓであり、かつ、チキソトロピー性が３〜１０の特性を有する塗布材を供給し、前記マスク膜の前記開口パターンから、前記マスク膜の前記印刷面側に対向配置された印刷媒体に、前記塗布材を塗布する、ことを特徴とするスクリーン印刷方法。
【請求項２】
塗布材料を透過可能な孔を有するメッシュと、
前記メッシュに設けられ、幅寸法が最も小さい位置において３０μｍ以下である開口パターンを有するとともに、前記メッシュの印刷面側における厚みである乳厚が１２μｍ以上であるマスク膜と、を備えるスクリーンマスクの前記マスク膜に、粘度が、せん断速度４ｓｅｃ−１で１００〜５００Ｐａ・ｓであり、かつ、チキソトロピー性が３〜１０の特性を有する塗布材を保持させ、前記マスク膜の前記開口パターンから、前記マスク膜の前記印刷面側に対向配置された印刷媒体に、前記塗布材を塗布する、ことを特徴とする印刷物の製造方法。
【請求項３】
前記チキソトロピー性は回転数１ｒｐｍの粘度を回転数１０ｒｐｍの粘度で割った数値を用いることを特徴とする請求項２に記載の印刷物の製造方法。
【請求項４】
塗布材料を透過可能な孔を有するメッシュと、
前記メッシュに設けられ、幅寸法が最も小さい位置において３０μｍ以下である開口パターンを有するとともに、厚みが３０μｍ〜７０μｍであって、３０μｍ以下の前記開口パターンの周りにおいて前記メッシュの印刷面側における厚みである乳厚が１２μｍ〜４０μｍである、マスク膜と、を備えるスクリーンマスクと、
前記スクリーンマスクの前記印刷面側とは反対側の面に当接して移動可能に構成されたスキージと、を備え、
粘度が、せん断速度４ｓｅｃ−１で１００〜５００Ｐａ・ｓであり、かつ、チキソトロピー性が３〜１０の特性を有する塗布材を前記マスク膜に保持した状態で、
前記スキージの移動により、前記マスク膜の前記開口パターンから前記塗布材を押し出すことで、前記マスク膜の前記印刷面側に対向配置された印刷媒体に、前記塗布材を塗布することを特徴とするスクリーン印刷装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、スクリーンマスク、スクリーン印刷装置、及びスクリーン印刷方法及び印刷物の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
印刷手法の一つであるスクリーン印刷法はメッシュ上に樹脂組成物で形成された所定の開口パターンが形成されたスクリーンマスクを用い、被印刷物に任意の印刷体を形成する方法である。このスクリーン印刷法は、例えば配線、電極、蛍光材料の印刷等、種々の印刷に用いられ、電子部品等を含む様々な分野で利用されている。
【０００３】
近年、電子部品の小型化、高品質化により、スクリーンマスクの高精度化が求められている。例えば線幅が３０μｍ以下の細かいパターンを形成する場合、メッシュ上のマスクの厚さである乳厚を薄くすることが一般的に行われており、例えば線幅が３０μｍ程度の場合、乳厚は５〜１０μｍ程度としている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１３−１６９７８３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、パターンの線幅が細かく乳厚が薄い場合、メッシュの経糸や緯糸が近くに位置する部位では、塗布材の転写量が減少する場合があり、印刷の形状が不均一となり、印刷精度が低下する原因となる。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一態様に係るスクリーン印刷方法は、塗布材料を透過可能な孔を有するメッシュと、前記メッシュに設けられ、幅寸法が最も小さい位置において３０μｍ以下である開口パターンを有するとともに、前記メッシュの印刷面側における厚みである乳厚が１２μｍ以上であるマスク膜と、を備えるスクリーンマスクの前記マスク膜に、粘度が、せん断速度４ｓｅｃ−１で１００〜５００Ｐａ・ｓであり、かつ、チキソトロピー性が３〜１０の特性を有する塗布材を供給し、前記マスク膜の前記開口パターンから、前記マスク膜の前記印刷面側に対向配置された印刷媒体に、前記塗布材を塗布する、ことを特徴とする。
【０００７】
本発明の一態様に係る印刷物の製造方法は、塗布材料を透過可能な孔を有するメッシュと、前記メッシュに設けられ、幅寸法が最も小さい位置において３０μｍ以下である開口パターンを有するとともに、前記メッシュの印刷面側における厚みである乳厚が１２μｍ以上であるマスク膜と、を備えるスクリーンマスクの前記マスク膜に、粘度が、せん断速度４ｓｅｃ−１で１００〜５００Ｐａ・ｓであり、かつ、チキソトロピー性が３〜１０の特性を有する塗布材を保持させ、前記マスク膜の前記開口パターンから、前記マスク膜の前記印刷面側に対向配置された印刷媒体に、前記塗布材を塗布する、ことを特徴とする。
【０００８】
本発明の一態様に係るスクリーン印刷装置は、塗布材料を透過可能な孔を有するメッシュと、前記メッシュに設けられ、幅寸法が最も小さい位置において３０μｍ以下である開口パターンを有するとともに、厚みが３０μｍ〜７０μｍであって、３０μｍ以下の前記開口パターンの周りにおいて前記メッシュの印刷面側における厚みである乳厚が１２μｍ〜４０μｍである、マスク膜と、を備えるスクリーンマスクと、前記スクリーンマスクの前記印刷面側とは反対側の面に当接して移動可能に構成されたスキージと、を備え、粘度が、せん断速度４ｓｅｃ−１で１００〜５００Ｐａ・ｓであり、かつ、チキソトロピー性が３〜１０の特性を有する塗布材を前記マスク膜に保持した状態で、前記スキージの移動により、前記マスク膜の前記開口パターンから前記塗布材を押し出すことで、前記マスク膜の前記印刷面側に対向配置された印刷媒体に、前記塗布材を塗布することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の実施形態によれば、単純な構成で高精度の印刷が可能なスクリーンマスク、スクリーン印刷装置、スクリーン印刷方法、及び印刷物の製造方法を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】第１実施形態にかかるスクリーン印刷装置の説明図。
【図２】同実施形態に係るスクリーンマスクの斜視図。
【図３】同スクリーンマスクの断面図。
【図４】同スクリーンマスクの製造工程を示す説明図。
【図５】同スクリーンマスクの乳厚と印刷形状を示す説明図。
【図６】同スクリーンマスクの塗布材の特性と印刷形状を示す説明図。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
[第１実施形態]  
以下、本発明の第１実施形態にかかるスクリーン印刷装置１０及びスクリーンマスク２０について図１乃至図６を参照して説明する。図１は本実施形態に係るスクリーン印刷装置１０を示す説明図である。図２はスクリーンマスク２０の斜視図、図３はスクリーンマスク２０の断面図である。なお、各図では説明のため、適宜構成を拡大、縮小、省略して示している。図中矢印Ｘ，Ｙ，Ｚは互いに直交する３方向をそれぞれ示している。
【００１３】
図１に示すように、スクリーン印刷装置１０は、スクリーンマスク２０と、スクリーンマスク２０の印刷面側である一方の面（表面）に対向して印刷媒体Ｂａを保持する保持部材１２と、スクリーンマスク２０の印刷面側とは反対の他方の面（裏面）に当接した状態で移動可能に構成されたスキージ１３と、スキージ１３を移動させる移動手段と、スクリーンマスク２０を印刷媒体Ｂａに対向して支持する支持手段と、を備える。
【００１４】
スクリーン印刷装置１０は、印刷媒体Ｂａの表面に、各種印刷材料を所定のパターンで形成する。例えば、チップ部品（コンデンサー、チップ抵抗、インダクター、サーミスター等）、タッチパネル、液晶基板（Liquid crystal display, LCD）シール、ＬＴＣＣ(Low Temperature Co-fired ceramics)基板、太陽電池用電極、その他の電子部品等の製造に用いられる。
【００１５】
図１乃至図３に示すように、スクリーンマスク２０は、フレーム２１と、フレーム２１に張設されたメッシュ２２と、メッシュ２２に形成されたマスク膜２３と、を備える。スクリーンマスク２０において、印刷を行う際に印刷媒体Ｂａの表面に対向する側を表面とし、その反対側であって塗布材Ｐｅが供給される側を裏面とする。
【００１６】
フレーム２１は、互いに平行な２対の辺を有し、例えば所望のサイズの方形の開口を備える枠状に構成される。フレーム２１はメッシュ２２の外周縁を支持し、開口にメッシュ２２を張設する。またフレーム２１は、所定量の塗布材Ｐｅをマスク膜２３の裏面側に保持する枠としても機能する。フレーム２１とメッシュ２２は、例えば合成ゴム系やシアノアクリレート系の接着剤２４により接合されている。
【００１７】
メッシュ２２は、経糸２２ａと緯糸２２ｂとが編まれて形成された織物であり、塗布材Ｐｅを透過可能に開口した孔部を多数有している。経糸２２ａ及び緯糸２２ｂは、例えばステンレス等の金属のワイヤ、あるいはポリエステル等の樹脂で構成された繊維である。経糸２２ａ及び緯糸２２ｂは、それぞれ例えば矢印Ａに沿うスキージ１３の移動方向に対して、斜めに延びている。このメッシュ２２に、所定の開口パターン２３ａを有するマスク膜２３が形成される。すなわち、メッシュ２２によって、フレーム２１の開口部分にマスク膜２３が保持される。
【００１８】
マスク膜２３は、光硬化性の樹脂組成物、例えば ＰＶＡ、ＰＶＡｃ、シリコン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等からなる層である。マスク膜２３は、メッシュ２２に形成され、フレーム２１の開口部分に配されている。マスク膜２３には、フォトマスク２５を用いた露光によって、印刷用の所定の開口パターン２３ａが形成されている。開口パターン２３ａは、ライン状のパターンである。開口パターン２３ａの最小開口幅Ｗ１、すなわち、開口パターン２３ａの最も狭い部分における開口の幅寸法は、３０μｍ以下である。ここでは、一例として、マスク膜２３の表面、すなわち印刷媒体Ｂａに対向する面における寸法を基準とした。
【００１９】
マスク膜２３は、開口パターン２３ａにおいて感光性樹脂が存在せず、メッシュ２２の孔部を通過して塗布材Ｐｅが裏面から表面へと透過可能な印刷部を構成する。マスク膜２３の開口パターン２３ａ以外であってメッシュ２２の孔部が感光性樹脂で塞がれた部位は、塗布材Ｐｅとしてのインクを透過しない非印刷部を構成する。
【００２０】
マスク膜２３の厚みｔ0は例えば３０μｍ〜７０μｍに構成されている。なお、マスク膜２３のうちメッシュ２２よりも、印刷面側（例えば図３中上側）にある部分、すなわちメッシュ２２の表側に突出する部分の厚みｔｍを、乳厚と呼ぶ。乳厚ｔｍは、好ましくは１２μｍ〜４０μｍに設定する。また、より好ましい範囲としては、乳厚ｔｍは１５μｍ以上である。
【００２１】
マスク膜２３が形成されたメッシュ２２は、例えばスキージ１３による押圧力によって撓み変形し、押圧力が解除されることで復元するように、弾性変形可能に構成されている。マスク膜２３の開口パターン２３ａに塗布材Ｐａが保持された状態で、メッシュ２２の弾性変形によりマスク膜２３が印刷媒体Ｂに接離することで、塗布材Ｐａが開口パターン２３ａから印刷媒体Ｂに転写される。
【００２２】
スキージ１３は例えばウレタンゴム・シリコンゴム・合成ゴム・金属・プラスチック等の材料から、例えば薄い板状に構成される。例えば、スキージ１３は先端の厚みが低減するように面取りされている。スキージ１３はフレーム２１に対して往復移動可能に構成されている。例えばスキージ１３は移動方向と直交する方向においてマスク膜２３の領域の全長にわたる長さを有して構成される。スキージ１３の先端部分１３ａがスクリーンマスク２０の裏面に当接し、表側に押しつけられた状態で、図１中矢印Ａに沿う移動方向に移動することで、マスク膜２３の全面を押圧し、塗布材Ｐｅが予め充填された開口パターン２３ａから塗布材Ｐｅを表側に押し出す。
【００２３】
支持手段は、印刷媒体Ｂａに対して所定の間隔Ｃ１を開けて平行に、フレーム２１を支持する。移動手段は、スキージ１３を所定の速度で所定方向に沿って移動させる。
【００２４】
次に、本実施形態にかかるスクリーンマスク２０の製造方法について図４を参照して説明する。図４は、スクリーンマスク２０の製造方法を示す説明図である。スクリーンマスク２０の製造方法は、乳剤Ｐｍの塗布処理、露光処理、を備える。
【００２５】
乳剤Ｐｍは、光硬化性の樹脂であり、たとえばポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリ酢酸ビニル（ＰＶＡｃ）、シリコン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等を包含する液体である。
【００２６】
まず、フレーム２１の枠内にスクリーンメッシュ２２を略平面となるように取り付ける。この状態で、乳剤Ｐｍをメッシュ２２上に塗布する塗布処理を行う。塗布処理の際には、スクリーンメッシュ２２を略鉛直方向となるように設置した状態で、乳剤Ｐｍが収容された供給用のバケット２７を用いて、メッシュ２２の表面に塗布する（ＳＴ１）。
【００２７】
このとき、所定位置に配置されたバケット２７を下方から上方に向けて移動させ、バケット２７の縁で乳剤Ｐｍを平らにならしながら塗布することで（ＳＴ２）、スクリーンメッシュ２２上に、乳剤Ｐｍが平板状に形成される。このとき、塗布する回数に応じて厚さが変わるため、必要に応じて複数回塗布を繰り返す。また、乾燥後に膜厚を測定し場合によっては追加で塗布することもある。本実施形態では乾燥後に乳厚ｔｍが１５μｍ程度となるように乳剤Ｐｍの厚さを設定する。
【００２８】
次に、ＳＴ３に示すように、フォトマスク２５を用いて露光処理を行う。フォトマスク２５は、ガラス、ＰＥＴフィルム等の光を透過する部材と、光を透過しない材質にて形成されたスクリーン印刷用パターン２５ａと、を備えて構成されている。このフォトマスク２５を、乳剤Ｐｍの表面側に配置し、乳剤Ｐｍの表面側を紫外線ランプや紫外線ＬＥＤ等の照明２８に向けて配置する。照明２８と乳剤Ｐｍとの間にフォトマスク２５を介在させた状態で照明２８により光を照射させ、乳剤Ｐｍの表面を照らす露光処理を行う。このとき、フォトマスク２５の印刷用パターン２５ａを除く部分に対応して、乳剤Ｐｍの紫外線が照射された部分が紫外線によって硬化する。
【００２９】
その後、水や溶剤により、乳剤Ｐｍの表面側を洗い流す。この処理によって、ＳＴ４に示すように、乳剤Ｐｍの未硬化部分が洗い流される。すなわち、乳剤Ｐｍの層において、フォトマスク２５のスクリーン印刷用パターン２５ａに対応して形成される未硬化領域は全て洗い流され、厚み方向において表面側から裏面側まで貫通する開口パターン２３ａが形成される。以上により乳剤Ｐｍから、所定の形状の開口パターン２３ａを有するマスク膜２３が形成される。
【００３０】
次に、本実実施形態にかかるスクリーン印刷装置１０を用いたスクリーン印刷方法により印刷物を製造する方法について、説明する。まず、スクリーンマスク２０の表面側を保持部材１２で保持された印刷媒体Ｂａの表面に対向させて配置する。
【００３１】
そして、図１に二点鎖線で示すように、高粘度のペースト状の塗布材Ｐｅをスクリーンマスク２０の裏面側、すなわち、印刷媒体Ｂａとは反対側の面から供給し、塗布材Ｐｅを開口パターン２３ａ内に充填させる。使用する塗布材Ｐｅの粘度は１００〜５００Ｐａ・ｓでチキソトロピー性は３〜１０とする。ここでは一例として、粘度は、ブルックフィールド製のＨＡＤＶ１／ＳＣ４―１４で回転数１０ｒｐｍ、せん断速度４ｓｅｃ−１で測定し、チキソトロピー性は回転数１ｒｐｍの粘度を回転数１０ｒｐｍの粘度で割った数値を用いた。例えば塗布材Ｐｅの粘度が５００Ｐａ・ｓより高い場合には、開口パターン２３ａにインクが十分に充填されず、転写時する際に印刷物の欠けが発生することがある。また、粘度が１００Ｐａ・ｓより低い場合には、転写後にインクが保持されず滲んでしまうために印刷物の幅が不均一になる。チキソトロピー性が１０より高い場合には、上記粘度範囲に入っていても、印刷物の厚みが不均一になる。チキソトロピー性が３より低い場合には、上記粘度範囲に入っていても、印刷部の形状保持力が低く形状が崩れてしまい、幅が不均一になる。したがって、塗布材Ｐｅの粘度は１００〜５００Ｐａ・ｓが好ましく、チキソトロピー性は３〜１０が好ましい。
【００３２】
次に、スクリーンマスク２０の裏面、すなわち印刷面側とは反対側の面に、スキージ１３を配置する。このとき、例えばスキージ１３を、印刷媒体Ｂａの表側の面に対して所定の角度θで配置する。そして、スキージ１３をメッシュ２２及びマスク膜２３の裏面において、所定の印圧Ｐ０で印刷媒体Ｂａ側に向けて押しつけながら、所定の速度ｖで移動させる。マスク膜２３の裏面全面にわたる領域で、スキージ１２がマスク膜２３を押圧する。スキージ１３の押圧により、マスク膜２３は押圧される部分が表側に変位するように変形し、印刷媒体Ｂａに当接する。スキージ１３が通過した塗布材Ｐｅが開口パターン２３ａから印刷媒体Ｂａ側に押し出される。
【００３３】
スキージ１２が通過した後、マスク膜２３及びメッシュ２２が復元するように変形して印刷媒体Ｂａから離れるとともに、一部の塗布剤Ｐａが印刷媒体Ｂａ上に転写されて残ることで、印刷媒体Ｂａ上にパターン印刷がなされ、印刷物が完成する。このとき、塗布材Ｐｅは裏側の一部がマスク膜２３側に残る。なお塗布材Ｐｅは、例えば金属材や樹脂材などを含む各種材料であり、印刷対象の種類、例えば、電子部品、ディスプレイ、等によって、多様な材料が用いられる。
【００３４】
本実施形態にかかるスクリーンマスク２０は、乳厚ｔｍが１２μｍ以上であり、メッシュ２２とマスク膜２３の表面との距離が離れている。このため、転写される塗布材Ｐｅとマスク膜２３側に残る塗布材Ｐｅとの分離部分であって印刷媒体Ｂａの転写される塗布材Ｐｅの表面を構成する部分に、メッシュ２２が及ぼす影響が少ない。したがって、開口パターン２３ａにおいて、メッシュ２２による塗布材Ｐｅの減少が抑制され、塗布材Ｐｅの転写量に差が発生しにくい。その結果、印刷したパターン形状が均一な形状となる。したがって、細線パターンにおいて、高精度の印刷形状を実現できる。
【００３５】
図５は、本実施形態にかかるスクリーンマスク２０を用いて形成した印刷形状を示す。ここでは、乳厚ｔｍをそれぞれ７μｍ，１２μｍ，１５μｍ，１８μｍ，２３μｍとした場合のスクリーンマスク２０を用いた印刷による、印刷形状の外観と、厚みばらつき、および線幅ばらつきをそれぞれ示す。ここで、パターン開口２３ａの最小化以降幅Ｗ１は１５μｍとした。図５に示すように、乳厚ｔｍを一定の範囲にすることで印刷形状が改善されることがわかる。
【００３６】
また、図５は、各乳厚において測定機にて測定した厚みばらつきと線幅ばらつきの比率の対応を示す。なお、厚みばらつきは形成された印刷体パターンの厚みの一番高いところと一番低いところの差を示しており、線幅ばらつきは形成された印刷体パターンの一番狭いところと一番広いところの差であり、乳厚２３μｍの時のばらつきを１とした場合の、各乳厚におけるばらつきの比率を数値で示している。
【００３７】
図５に示されるように、乳厚ｔｍが１２μｍ以上で厚みばらつきや線幅ばらつきが低く抑えられる。また、乳厚ｔｍが１２μｍ、１５μｍ、１８μｍ、２３μｍ場合には、例えば７μｍの場合と比べて、印刷形状が良好で、印刷直線性と印刷厚均一性が良好であることがわかる。
【００３８】
図６に、塗布材Ｐｅの特性と印刷物の形状の対応を示す。図６では、パターン開口２３ａの最小化以降幅Ｗ１は１５μｍ、乳厚ｔｍは１８μｍとした場合の、粘度が５２０Ｐａ・ｓであってチキソトロピー性が４．０の塗布材、粘度が２０８Ｐａ・ｓであってチキソトロピー性が７．０の塗布材、粘度が１３６Ｐａ・ｓであってチキソトロピー性が５．４の塗布材，粘度が９０Ｐａ・ｓであってチキソトロピー性が５．０である塗布材をそれぞれ使用した場合の印刷形状の外観を示す。
【００３９】
図６に示すように、塗布材Ｐｅの特性として、粘度が１００〜５００Ｐａ・ｓでチキソトロピー性が３〜１０の範囲で、印刷直線性と印刷厚均一性が良好であり、印刷精度が高いことがわかる。
【００４０】
以上のように構成されたスクリーンマスク２０、スクリーン印刷装置１０、及びスクリーン印刷方法によれば、単純な構成で高精度の印刷が可能となる。すなわち、最小開口幅が３０μｍ以下の開口パターン２３ａを有したスクリーンマスク２０において、マスク膜２３の乳厚を１５μｍ以上とし、マスク膜２３の表面の位置とメッシュ２２の位置を離間させることで、印刷時にスクリーンマスク２０の開口パターン２３ａ内の塗布材Ｐｅが印刷媒体Ｂａに転写される際、転写される塗布材Ｐｅとマスク膜２３に残る塗布材Ｐｅが分かれる部分であって印刷媒体Ｂａ側に転写された塗布材の表面を構成する部分に、メッシュ２２が及ぼす影響を減らしあるいは無くすことができ、メッシュ２２により転写量が減少することが抑制される。このため、インクの転写量に差が発生しにくく、その結果、印刷した細線パターン形状が均一な形状となる。
【００４１】
さらに、塗布材Ｐｅの特性を粘度が１００〜５００Ｐａ・ｓであり、かつ、チキソトロピー性が３〜１０とすることで、高精度の印刷が可能となる。
【００４２】
なお、本発明は上記各実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。
【００４３】
例えば上記実施形態に例示した乳厚１５μｍに限るものではなく、１２μｍ以上４０μｍ以下の乳厚にすることで、上記実施形態と同様の効果を得られる。
【００４４】
なお、上記実施形態では、フレーム２１にメッシュ２２を接着剤２４で貼り付け、フレーム２１の開口部全域わたってマスク膜２３を形成した例を示したが、これに限定されるものではない。例えば、メッシュは、伸び率の異なる内側のメインメッシュと外側のサポートメッシュをＵＶ硬化性の接着剤で固定したいわゆるコンビネーション型を用いてもよく、また、メッシュ２２の中央部分の一部にのみマスク膜２３が形成されていてもよい。
【００４５】
この他、上記実施形態に例示された各構成要素を削除してもよく、各構成要素の形状、構造、材質等を変更してもよい。上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。
以下に、本願出願の当初の特許請求の範囲に記載された発明を付記する。
［１］
塗布材料を透過可能な孔を有するメッシュと、
前記メッシュに設けられ、幅寸法が最も小さい位置において３０μｍ以下である開口パターンを有するとともに、前記メッシュの印刷面側における厚みである乳厚が１２μｍ以上であるマスク膜と、を備えることを特徴とするスクリーンマスク。
［２］
印刷媒体に対向して前記メッシュを支持するフレームを備え、
前記マスク膜を保持する前記メッシュは、弾性変形可能であり、前記マスク膜の前記開口パターンに塗布材が保持された状態で、前記マスク膜が印刷媒体に接離することにより、前記塗布材が前記開口パターンから前記印刷媒体に転写されることを特徴とする［１］記載のスクリーンマスク。
［３］
［１］または［２］に記載のスクリーンマスクと、
前記スクリーンマスクの前記印刷面側とは反対側の面に当接して移動可能に構成されたスキージと、
を備えることを特徴とするスクリーン印刷装置。
［４］
塗布材料を透過可能な孔を有するメッシュと、
前記メッシュに設けられ、幅寸法が最も小さい位置において３０μｍ以下である開口パターンを有するとともに、前記メッシュの印刷面側における厚みである乳厚が１２μｍ以上であるマスク膜と、を備えるスクリーンマスクの前記マスク膜に、粘度が１００〜５００Ｐａ・ｓであり、かつ、チキソトロピー性が３〜１０の特性を有する塗布材を供給し、  前記マスク膜の前記開口パターンから、前記マスク膜の前記印刷面側に対向配置された印刷媒体に、前記塗布材を塗布する、ことを特徴とするスクリーン印刷方法。
［５］
塗布材料を透過可能な孔を有するメッシュと、
前記メッシュに設けられ、幅寸法が最も小さい位置において３０μｍ以下である開口パターンを有するとともに、前記メッシュの印刷面側における厚みである乳厚が１２μｍ以上であるマスク膜と、を備えるスクリーンマスクの前記マスク膜に、塗布材を保持させ、前記マスク膜の前記開口パターンから、前記マスク膜の前記印刷面側に対向配置された印刷媒体に、前記塗布材を塗布する、ことを特徴とする印刷物の製造方法。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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