(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
可撓性を有し、互いに交差する第１方向及び第２方向に、行列状に配列された複数の画素を有する第１基板と、
前記第１基板上に配置され、前記複数の画素の各々に、少なくとも一つのトランジスタが配置されたトランジスタ層と、
前記第１方向に延び、前記複数の画素の内、前記第１方向に配列された複数の画素毎に接続された複数の第１配線群と、
前記第２方向に延び、前記複数の画素の内、前記第２方向に配列された複数の画素毎に接続された複数の第２配線群とを備え、
前記トランジスタ層は、少なくとも前記第１方向に隣接する前記トランジスタを区画し、前記トランジスタ層の無機絶縁膜を貫通し、前記第２方向に延びる複数の開口部を有し、
前記トランジスタ層の前記無機絶縁膜は、前記第２方向に前記複数の画素にわたって連続的に形成され、
前記複数の第１配線群に含まれる第１配線の各々は、断面視において、前記第１方向に沿って波型状に設けられることを特徴とする表示装置。
【請求項２】
可撓性を有し、互いに交差する第１方向及び第２方向に、行列状に配列された複数の画素を有する第１基板と、
前記第１基板上に配置され、前記複数の画素の各々に、少なくとも一つのトランジスタが配置されたトランジスタ層と、
前記第１方向に延び、前記複数の画素の内、前記第１方向に配列された複数の画素毎に接続された複数の第１配線群と、
前記第２方向に延び、前記複数の画素の内、前記第２方向に配列された複数の画素毎に接続された複数の第２配線群とを備え、
前記トランジスタ層は、少なくとも前記第１方向に隣接する前記トランジスタを区画し、前記トランジスタ層の無機絶縁膜を貫通し、前記第２方向に延びる複数の開口部を有し、
前記トランジスタ層の前記無機絶縁膜は、前記第２方向に前記複数の画素にわたって連続的に形成され、
前記複数の第１配線群は、前記複数の開口部を有するトランジスタ層の表面に沿って配置され、
前記トランジスタ層を覆い、前記トランジスタ層及び前記複数の第１配線群の間に配置され、無機絶縁層を含むカバー層を更に備えた表示装置。
【請求項３】
可撓性を有し、互いに交差する第１方向及び第２方向に、行列状に配列された複数の画素を有する第１基板と、
前記第１基板上に配置され、前記複数の画素の各々に、少なくとも一つのトランジスタが配置されたトランジスタ層と、
前記第１方向に延び、前記複数の画素の内、前記第１方向に配列された複数の画素毎に接続された複数の第１配線群と、
前記第２方向に延び、前記複数の画素の内、前記第２方向に配列された複数の画素毎に接続された複数の第２配線群とを備え、
前記トランジスタ層は、少なくとも前記第１方向に隣接する前記トランジスタを区画し、前記トランジスタ層の無機絶縁膜を貫通し、前記第２方向に延びる複数の開口部を有し、
前記トランジスタ層の前記無機絶縁膜は、前記第２方向に前記複数の画素にわたって連続的に形成され、
前記複数の第１配線群は、前記複数の開口部を有するトランジスタ層の表面に沿って配置され、
前記トランジスタ層を覆い、前記複数の第１配線群の上に配置され、無機絶縁層を含むカバー層を更に備えた表示装置。
【請求項４】
可撓性を有し、互いに交差する第１方向及び第２方向に、行列状に配列された複数の画素を有する第１基板と、
前記第１基板上に配置され、前記複数の画素の各々に、少なくとも一つのトランジスタが配置されたトランジスタ層と、
前記第１方向に延び、前記複数の画素の内、前記第１方向に配列された複数の画素毎に接続された複数の第１配線群と、
前記第２方向に延び、前記複数の画素の内、前記第２方向に配列された複数の画素毎に接続された複数の第２配線群とを備え、
前記トランジスタ層は、少なくとも前記第１方向に隣接する前記トランジスタを区画し、前記トランジスタ層の無機絶縁膜を貫通し、前記第２方向に延びる複数の開口部を有し、
前記トランジスタ層の前記無機絶縁膜は、前記第２方向に前記複数の画素にわたって連続的に形成され、
前記トランジスタ層を覆い、前記複数の第１配線群の下に配置され、表面に凹凸形状を有する凹凸層を更に備えた表示装置。
【請求項５】
前記第１配線群は、映像信号線を含み、
前記第２配線群は、走査信号線を含むことを特徴とする請求項１乃至４の何れか一項に記載の表示装置。
【請求項６】
前記第１配線群は、走査信号線を含み、
前記第２配線群は、映像信号線を含むことを特徴とする請求項１乃至４の何れか一項に記載の表示装置。
【請求項７】
前記第１基板及び前記トランジスタ層の間に配置される下地層を更に備え、
前記複数の開口部それぞれは、少なくとも前記第１方向に前記下地層を区画し、
前記下地層は前記第２方向に前記複数の画素に渡って連続的に形成されていることを特徴とする請求項１乃至４の何れか一項に記載の表示装置。
【請求項８】
前記複数の第１配線群は、前記複数の開口部を有するトランジスタ層の表面に沿って配置されることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項９】
前記複数の画素を覆い、有機絶縁層及び無機絶縁層が交互に積層された封止層を更に備えた請求項１乃至４の何れか一項に記載の表示装置。
【請求項１０】
前記第１方向に延び、前記複数の画素の内、前記第１方向に配列された複数の画素毎に接続された複数の第１配線群と、
前記第２方向に延び、前記複数の画素の内、前記第２方向に配列された複数の画素毎に接続された複数の第２配線群とを有し、
前記第１基板の厚さ方向の起伏に関して、前記第１配線群の方が前記第２配線群よりも大きい請求項１乃至４の何れか一項に記載の表示装置。
【請求項１１】
表示領域をそれぞれ有する平坦部と折り曲げ部を有し、
前記折り曲げ部は前記第２方向よりも前記第１方向により折り曲げ可能となっている請求項１乃至４の何れか一項に記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示装置に関する。特に、表示装置の配線の構成に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機エレクトロルミネッセンス（以下、有機ＥＬと呼ぶ。）表示装置は、各画素に発光素子が設けられ、個別に発光を制御することで画像を表示する。発光素子は、一方をアノード、他方をカソードとして区別される一対の電極間に有機ＥＬ材料を含む層（以下、「発光層」ともいう）を挟んだ構造を有している。発光層に、カソードから電子が注入され、アノードから正孔が注入されると、電子と正孔が再結合する。これにより放出される余剰なエネルギーによって発光層中の発光分子が励起し、その後脱励起することによって発光する。
【０００３】
有機ＥＬ表示装置においては、発光素子の各々のアノードは画素毎に画素電極として設けられ、カソードは複数の画素に跨がって共通の電位が印加される共通電極として設けられている。有機ＥＬ表示装置は、この共通電極の電位に対し、画素電極の電位を画素毎に印加することで、画素の発光を制御している。
【０００４】
近年、表示領域が折り曲げ可能なフレキシブル表示装置が盛んに開発されている。フレキシブル表示装置の表示領域に形成した配線は、表示装置の曲げ時に応力が集中し、切断され易いという問題がある。また、トランジスタに含まれるゲート絶縁層や、トランジスタを被覆する層間絶縁層等の無機絶縁層についても、表示装置を折り曲げた際にクラックが入りやすく、信頼性不良となり易かった。
【０００５】
このような課題に対し、例えば特許文献１には、基板上に導電膜からなる配線を備え、前記配線が蛇行部を有する配線基板が開示されている。ここで、蛇行部は、曲線状、折れ線状、Ｖ字形状、Ｕ字形状、Ｓ字形状又は半円形状のいずれでもよい。蛇行部は、基板表面と平行な基準面に対して同一距離をもって二次元的に蛇行していてもよく、基板表面と平行な基準面に対する距離が変化しながら三次元的に蛇行していてもよい。
【０００６】
特許文献２には、製造工程中の転写時のクラック発生や、表示装置の曲げ時の内部応力を緩和するために、絶縁膜積層体をアイランド状に分離することで、内部応力を緩和し応力集中を緩和する技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００５−０７９４７２号公報
【特許文献２】特開２００７−２８８０７８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、特許文献１の構成では、トランジスタに含まれるゲート絶縁層や、トランジスタを被覆する層間絶縁層等の無機絶縁層の応力破壊は考慮されていない。特許文献２の構成では、絶縁膜積層体のアイランドのパターンと表示装置の曲げ方向に関する考慮がなされていない。
【０００９】
本発明は、折り曲げ時に、無機絶縁層のクラックや配線の断線が生じにくく、信頼性の高い表示装置を提供することを目的の一つとする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明による表示装置の一態様は、可撓性を有し、互いに交差する第１方向及び第２方向に、行列状に配列された複数の画素を有する第１基板と、第１基板上に配置され、複数の画素の各々に、少なくとも一つのトランジスタが配置されたトランジスタ層と、第１方向に延び、複数の画素の内、第１方向に配列された複数の画素毎に接続され、第１基板の厚さ方向に周期的な起伏を有する複数の第１配線群と、第２方向に延び、複数の画素の内、第２方向に配列された複数の画素毎に接続された複数の第２配線群とを備える。
【００１１】
本発明による表示装置の製造方法の一態様は、可撓性を有し、互いに交差する第１方向及び第２方向に、行列状に配列された複数の画素を有する第１基板上に、複数の画素の各々に、少なくとも一つのトランジスタが配置されるトランジスタ層を形成し、トランジスタ層上に、第１方向に延び、複数の画素の内、第１方向に配列された複数の画素毎に接続され、第１基板の厚さ方向に周期的な起伏を有する複数の第１配線群を形成することを含む。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の一実施形態に係る表示装置の構成を説明する斜視図である。
【図２】本発明の一実施形態に係る表示装置の回路構成を説明する回路図である。
【図３Ａ】本発明の一実施形態に係る表示装置の構成を説明する断面図である。
【図３Ｂ】本発明の一実施形態に係る表示装置の構成を説明する断面図である。
【図４】本発明の一実施形態に係る表示装置の構成を説明する断面図である。
【図５】本発明の一実施形態に係る表示装置の構成を説明する断面図である。
【図６】本発明の一実施形態に係る表示装置の構成を説明する断面図である。
【図７】本発明の一実施形態に係る表示装置の構成を説明する断面図である。
【図８】本発明の一実施形態に係る表示装置の構成を説明する断面図である。
【図９】本発明の一実施形態に係る表示装置の構成を説明する断面図である。
【図１０】本発明の一実施形態に係る表示装置の構成を説明する断面図である。
【図１１】本発明の一実施形態に係る表示装置の構成を説明する断面図である。
【図１２】本発明の一実施形態に係る表示装置の構成を説明する断面図である。
【図１３】本発明の一実施形態に係る表示装置の構成を説明する断面図である。
【図１４】本発明の一実施形態に係る表示装置の構成を説明する斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明の実施の形態を、図面等を参照しながら説明する。但し、本発明は多くの異なる態様で実施することが可能であり、以下に例示する実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。また、図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。
【００１４】
＜第１実施形態＞
［構成］
本実施形態に係る表示装置１００の構成を、図１を参照して説明する。図１は、本実施形態に係る表示装置１００の構成を示す斜視図である。本実施形態に係る表示装置１００は、第１基板１０２と、第２基板１０４と、複数の画素１０８と、シール材１１０と、端子領域１１４と、接続端子１１６とを有している。
【００１５】
第１基板１０２には、表示領域１０６が設けられている。表示領域１０６は複数の画素１０８が配列することによって構成されている。表示領域１０６の上面には封止材としての第２基板１０４が設けられている。第２基板１０４は表示領域１０６を囲むシール材１１０によって、第１基板１０２に固定されている。第１基板１０２に形成された表示領域１０６は、封止材である第２基板１０４とシール材１１０によって大気に晒されないように封止されている。このような封止構造により画素１０８に設けられる発光素子の劣化を抑制している。
【００１６】
第１基板１０２には、一端部に端子領域１１４が設けられている。端子領域１１４は第２基板１０４の外側に配置されている。端子領域１１４は、複数の接続端子１１６によって構成されている。接続端子１１６には、映像信号を出力する機器や電源などと表示パネルとを接続する配線基板が配置される。配線基板と接続する接続端子１１６の接点は、外部に露出している。 第１基板１０２には端子領域１１４から入力された映像信号を表示領域１０６に出力するドライバＩＣ１１２が設けられている。
【００１７】
次いで、本実施形態に係る表示装置１００の回路構成について、図２を参照して説明する。図２は、本実施形態に係る表示装置１００の回路構成を示す図である。
【００１８】
表示装置１００は、画像を表示する表示領域１０６と、表示領域１０６を駆動する駆動部とを備える。表示装置１００の表示領域１０６には複数の画素１０８が行列状に配置され、画素１０８毎に画素回路１２０を有する。画素回路１２０は、少なくとも選択トランジスタ１２２、駆動トランジスタ１２４、保持容量１２６及び発光素子１２８を含む。
【００１９】
一方、駆動部は走査線駆動回路１３０、映像線駆動回路１３２、駆動電源回路１３４、基準電源回路１３６及び制御装置１３８を含み、画素回路１２０を駆動し発光素子１２８の発光を制御する等の機能を担う。
【００２０】
走査線駆動回路１３０は画素１０８の水平方向の並び（画素行）毎に設けられた走査信号線１４０に接続されている。走査線駆動回路１３０は制御装置１３８から入力されるタイミング信号に応じて走査信号線１４０を順番に選択し、選択した走査信号線１４０に、選択トランジスタ１２２をオンにする電圧を印加する。
【００２１】
映像線駆動回路１３２は画素１０８の垂直方向の並び（画素列）毎に設けられた映像信号線１４２に接続されている。映像線駆動回路１３２は制御装置１３８から映像信号を入力され、走査線駆動回路１３０による走査信号線１４０の選択に合わせて、選択された画素行の映像信号に応じた電圧を各映像信号線１４２に出力する。当該電圧は、選択された画素行にて選択トランジスタ１２２を介して保持容量１２６に書き込まれる。駆動トランジスタ１２４は書き込まれた電圧に応じた電流を発光素子１２８に供給し、これにより、選択された走査信号線１４０に対応する画素１０８の発光素子１２８が発光する。
【００２２】
駆動電源回路１３４は画素列毎に設けられた電源電位線１４４に接続され、電源電位線１４４及び選択された画素行の駆動トランジスタ１２４を介して発光素子１２８に電流を供給する。
【００２３】
基準電源回路１３６は、基準電源線１４６に接続され、発光素子１２８のカソード電極を構成する共通電極に定電位を与える。定電位は例えば、接地電位に設定することができる。
【００２４】
本実施形態において発光素子１２８の一方の電極は画素１０８毎に形成された画素電極であり、発光素子１２８の他方の電極は複数の画素１０８を覆い、複数の画素１０８に共通して設けられた共通電極となる。画素電極は駆動トランジスタ１２４に接続される。一方、共通電極は複数の画素１０８に亘る電極で構成される。
【００２５】
図３Ａ及び図３Ｂを参照し、本実施形態に係る表示装置１００の構成について詳細に説明する。図３Ａ及び図３Ｂは、本実施形態に係る表示装置１００の構成を示す断面図であり、図３ＡはＤ２方向に垂直な断面構造、図３ＢはＤ１方向に垂直な断面構造を示している。
【００２６】
本実施形態に係る表示装置１００は、少なくとも、第１基板１０２と、トランジスタ層１４８と、複数の第１配線群１５０と、複数の第２配線群１５２とを備えている。
【００２７】
第１基板１０２は、可撓性を有している。可撓性を有する第１基板１０２の材料としては、有機樹脂を用いることができる。有機樹脂としては、例えばポリイミドを用いることができる。
【００２８】
第１基板１０２は、更に、その表面上において互いに交差する第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２に、行列状に配列された複数の画素１０８を有する。第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２は、互いに直交してもよい。以下の実施形態においては、第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２は、互いに直交する態様を示す。
【００２９】
トランジスタ層１４８は、第１基板１０２上に配置されている。トランジスタ層１４８には、複数の画素１０８の各々に、少なくとも一つのトランジスタが配置されている。例えば、複数の画素１０８の各々には、選択トランジスタ１２２、駆動トランジスタ１２４等が配置されている。図３Ａ及び図３Ｂにおいて、トランジスタ層１４８に配置されたトランジスタは、選択トランジスタ１２２である。ここで、トランジスタ層１４８とは、各種トランジスタ及びそれらを被覆する層間絶縁層１９４を含む層を意味する。各種トランジスタは、少なくとも半導体層１８９、ゲート絶縁層１９０、ソース電極１９１、ドレイン電極１９２及びゲート電極１９３を有する。図面では、各種トランジスタのゲート電極１９３が半導体層１８９の上に配置されるトップゲート構造を有する態様について示しているが、これに限られず、例えばゲート電極１９３が半導体層１８９の下に配置されるボトムゲート構造を有していてもよい。
【００３０】
トランジスタ層１４８は、開口部１５４を有している。開口部１５４は、第１方向Ｄ１に隣接するトランジスタを区画する。開口部１５４は、隣接するトランジスタを区画するため、トランジスタ層１４８を貫通してもよい。この例では、各々のトランジスタに共通するゲート絶縁層まで開口されている。しかし、これに限られず、トランジスタ層１４８の全ての層を貫通しなくてもよい。例えば、ゲート絶縁層を残し、層間絶縁層までを開口してもよい。開口部１５４は、第１基板１０２の表面において第１方向Ｄ１と交差する第２方向Ｄ２に延びている。開口部１５４は、フォトリソグラフィー法を用いて容易に形成することができる。換言すると、トランジスタ層１４８は、一つ以上のトランジスタ及び層間絶縁層１９４を含む領域が、離隔された態様で表示領域１０６に複数個設けられている。すなわち、トランジスタ層１４８は、一つ以上のトランジスタ及び層間絶縁層１９４を含む複数の領域を有し、これら複数の領域の間に存在していた層間絶縁層１９４の一部又は全部が除去されたものとみなすこともできる。
【００３１】
このような構成を有することによって、無機絶縁層のクラック及びそれに起因した配線の断線が生じにくくなる。特に、曲げ方向がＤ１方向に垂直となるように規定されている場合（換言すると、折り曲げ線がＤ２方向に平行となるように規定されている場合）に、より有効に無機絶縁層のクラック及びそれに起因した配線の断線を防止できるようになる。よって、信頼性の向上した表示装置１００を提供することができる。
【００３２】
本実施形態に係る表示装置１００は、第１基板１０２及びトランジスタ層１４８の間に配置される下地層１５６を更に備えてもよい。下地層１５６の材料としては、無機絶縁層を用いることができる。無機絶縁層の材料としては、酸化珪素（ＳｉＯｘ）、窒化珪素（ＳｉＮｘ）、酸化窒化珪素（ＳｉＯｘＮｙ）、窒化酸化珪素（ＳｉＮｘＯｙ）、酸化アルミニウム（ＡｌＯｘ）、窒化アルミニウム（ＡｌＮｘ）、酸化窒化アルミニウム（ＡｌＯｘＮｙ）、窒化酸化アルミニウム（ＡｌＮｘＯｙ）等の膜を使用することができる（ｘ、ｙは任意）。また、これらの膜を積層した構造を使用してもよい。
【００３３】
このような構成を有することによって、第１基板１０２側から表示装置１００の内部への水分の侵入を抑制することができる。よって、信頼性の向上した表示装置１００を提供することができる。
【００３４】
トランジスタ層１４８を覆い、複数の第１配線群１５０の下に配置される凹凸層１５８を更に備えてもよい。凹凸層１５８は、その表面に凹凸形状を有する。
【００３５】
凹凸層１５８の材料としては、有機樹脂を用いることができる。有機樹脂としては、例えばアクリル樹脂を用いることができる。凹凸層１５８の表面の凹凸は、フォトリソグラフィー法によって形成することができる。ここで、表面の凹凸はハーフトーンマスクを用いたフォトリソグラフィー法を用いれば、連続的な起伏の凹凸を形成することができる。
【００３６】
このような構成を有することによって、その上に配置される第１配線群１５０に加わる応力を緩和することができ、配線の断線が生じにくくなる。よって、信頼性の向上した表示装置１００を提供することができる。
【００３７】
第１配線群１５０は、第１方向Ｄ１に延び、複数の画素１０８の内、第１方向Ｄ１に配列された複数の画素１０８毎に接続されている（図示せず）。第１配線群１５０は、この例では、トランジスタ層１４８上に配置された凹凸層１５８の上に配置されている。
【００３８】
更に、第１配線群１５０は、第１基板１０２の厚さ方向に起伏を有する。起伏は、第１配線群１５０の下に配置された凹凸層１５８の表面の凹凸に起因する。起伏は、周期性を有していてもよい。
【００３９】
第２配線群１５２は、第１方向Ｄ１と交差する第２方向Ｄ２に延び、複数の画素１０８の内、第２方向Ｄ２に配列された複数の画素１０８毎に接続されている。
【００４０】
このような構成を有することによって、第１方向Ｄ１に対して垂直な方向に沿って折り曲げる際に、無機絶縁層のクラックや配線の断線が生じにくくなる。よって、信頼性の向上した表示装置１００を提供することができる。
【００４１】
第１配線群１５０は、映像信号線１４２及び電源電位線１４４を含んでもよい。このとき、第２配線群１５２は、走査信号線１４０を含んでもよい。つまり、このとき、第１方向Ｄ１とは、映像信号線１４２が延びる方向を指し、第２方向Ｄ２とは、走査信号線１４０が延びる方向を指す。
【００４２】
図３Ａ及び図３Ｂにおいては、第１配線群１５０に含まれる配線として映像信号線１４２を示し、第２配線群１５２に含まれる配線として走査信号線１４０を示している。また、これらの図では、走査信号線は、選択トランジスタ１２２ののゲート電極１９３を兼ねる態様を示している。
【００４３】
このような構成を有することによって、映像信号線１４２に対して垂直な方向に沿って折り曲げる際に、無機絶縁層のクラックや配線の断線が生じにくくなる。図２を用いて説明すると、映像信号線１４２は図３Ａにあるように第１方向Ｄ１に延びる波型配線であり、映像信号線１４２は上下方向に延びる配線であるため、表示装置１００を上下に分割するような折り曲げに対して、配線の断線が生じにくくなる。よって、信頼性の向上した表示装置１００を提供することができる。さらに図３Ｂにあるように、トランジスタ層１４８が第２方向Ｄ２においては表示領域１０６においては連続的に分断されないような態様で形成されている。具体的にはゲート絶縁層１９０、層間絶縁層１９４、第２配線群１５２が連続的に形成されている。そのことで、トランジスタ層１４８にある程度配線やトランジスタを高密度に配置することができる。尚、第１方向Ｄ１に延びる第一配線群１５０の基板の厚み方向の起伏は、第２方向Ｄ２に延びる第二配線群１５２の基板の厚み方向の起伏よりも大きくなる。第二配線群１５２は下地等の影響を受けて多少の起伏を持つものもある。しかしながら、積極的に起伏を設けている第一配線群１５０の起伏よりも小さいものとなる。
【００４４】
第１配線群１５０の上には、平坦化絶縁層１６０が配置される。平坦化絶縁層１６０は、トランジスタや第１配線群１５０の起伏に起因した凹凸を平坦化するために設けられる。平坦化絶縁層１６０の材料としては有機樹脂を用いることができる。有機樹脂としては、例えばアクリル樹脂を用いることができる。
【００４５】
つまり、平坦化絶縁層１６０と凹凸層１５８とが、第１配線群１５０を挟持している。これによって、第１配線群１５０に加わる応力を更に緩和することができ、配線の断線が生じにくくなる。
【００４６】
平坦化絶縁層１６０の上には、発光素子１２８が配置される。発光素子１２８は、下層から、画素電極１６４、発光層１６６及び共通電極１６８の層構造を有する。画素電極１６４は複数の画素１０８毎に設けられ、共通電極１６８は、複数の画素１０８に亘って共通して設けられている。バンク１７０は、共通電極１６８の各々の端部を被覆するように設けられ、隣接する発光素子１２８を区画する。
【００４７】
発光素子１２８の上には、封止層１７２が、表示領域１０６に亘って配置されている。封止層１７２は発光層１６６へ水分が侵入することを抑制するため、無機絶縁層を含む層であることが好ましい。
【００４８】
第１基板１０２に対向し、トランジスタ層１４８及び発光素子１２８を挟持するように、第２基板１０４がシール材（図示せず）を介して貼り合わせられている。この例では、第２基板１０４の第１基板１０２側の表面には、複数の画素１０８の各々の位置に対応してカラーフィルタ１７４が設けられている。更に、隣接する画素１０８同士が発する光によるの混色を抑制するための遮光層１７６が設けられている。第１基板１０２と第２基板１０４との間には、充填剤１７８が充填されている。ここでは、各発光素子１２８が白色発光であり、各画素に対応する色を表示するため、カラーフィルタ１７４を組合せた例で説明したが、隣接する各発光素子１２８が、例えば赤緑青などの異なる色で発光する構造を用いた場合は、カラーフィルタ１７４、遮光層１７６、充填材１７８、更には第２基板１０４のいずれか一つ乃至は全てを設けずに表示装置１００を構成してもよい。
【００４９】
以上、本実施形態に係る表示装置１００の構成について説明した。本実施形態によれば、表示装置１００を折り曲げる際に、無機絶縁層のクラックや配線の断線が生じにくくなる。よって、信頼性の向上した表示装置１００を提供することができる。
【００５０】
＜第２実施形態＞
図４を参照し、本実施形態に係る表示装置２００の構成について詳細に説明する。図４は、本実施形態に係る表示装置２００の構成を示す断面図である。
【００５１】
本実施形態に係る表示装置２００と、第１実施形態に係る表示装置１００とを比較すると、本実施形態に係る表示装置２００は、トランジスタ層１４８が有する開口部は、下地層１５６を更に貫通している点で異なっている。
【００５２】
このような構成を有することによって、第１配線群１５０の起伏の高低差を大きく確保することができるため、無機絶縁層のクラックや配線の断線が更に生じにくくなる。よって、更に信頼性の向上した表示装置２００を提供することができる。
【００５３】
更に、平坦化絶縁層１６０上に無機絶縁層１８０が設けられてもよい。無機絶縁層１８０の材料としては、酸化珪素（ＳｉＯｘ）、窒化珪素（ＳｉＮｘ）、酸化窒化珪素（ＳｉＯｘＮｙ）、窒化酸化珪素（ＳｉＮｘＯｙ）、酸化アルミニウム（ＡｌＯｘ）、窒化アルミニウム（ＡｌＮｘ）、酸化窒化アルミニウム（ＡｌＯｘＮｙ）、窒化酸化アルミニウム（ＡｌＮｘＯｙ）等の膜を使用することができる（ｘ、ｙは任意）。また、これらの膜を積層した構造を使用してもよい。
【００５４】
このような構成を有することによって、下地層１５６を開口したことによって懸念される第１基板１０２側からの水分の侵入を抑制することができる。よって、信頼性の向上した表示装置２００を提供することができる。
【００５５】
＜第３実施形態＞
図５を参照し、本実施形態に係る表示装置３００の構成について詳細に説明する。図５は、本実施形態に係る表示装置３００の構成を示す断面図である。
【００５６】
本実施形態に係る表示装置３００と第２実施形態に係る表示装置２００とを比較すると、本実施形態に係る表示装置３００においては、トランジスタ層１４８を覆う有機絶縁層１８２を有している。複数の第１配線群１５０は、有機絶縁層１８２の上に、複数の開口部１５４を有するトランジスタ層１４８の表面に沿って配置されている。つまり、複数の第１配線群１５０は、トランジスタ層１４８の頂部、側壁、底面に沿って配置されている。
【００５７】
このような構成を有することによって、トランジスタ層１４８の凹凸を利用して第１配線群１５０の起伏を形成することができる。よって、製造工程が簡略化され、製造コストを削減することができる。
【００５８】
＜第４実施形態＞
図６を参照し、本実施形態に係る表示装置４００の構成について詳細に説明する。図６は、本実施形態に係る表示装置４００の構成を示す断面図である。
【００５９】
本実施形態に係る表示装置４００と第３実施形態に係る表示装置３００とを比較すると、本実施形態に係る表示装置４００においては、複数の第１配線群１５０は、トランジスタ層１４８上に直接配置され、複数の開口部１５４を有するトランジスタ層１４８に沿って配置されている。つまり、複数の第１配線群１５０は、トランジスタ層１４８の頂部、側壁、底面に沿って配置されている。
【００６０】
このような構成を有することによって、トランジスタ層１４８の凹凸を利用して第１配線群１５０の起伏を形成することができる。よって、製造工程が簡略化され、製造コストを更に削減することができる。
【００６１】
＜第５実施形態＞
図７を参照し、本実施形態に係る表示装置５００の構成について詳細に説明する。図７は、本実施形態に係る表示装置５００の構成を示す断面図である。
【００６２】
本実施形態に係る表示装置５００と第４実施形態に係る表示装置４００とを比較すると、本実施形態に係る表示装置５００においては、トランジスタ層１４８を覆い、トランジスタ層１４８及び複数の第１配線群１５０の間に配置されるカバー層１８４を更に備えている。つまり、複数の第１配線群１５０は、トランジスタ層１４８の頂部、側壁、底面に沿って配置されている。
【００６３】
カバー層１８４は、無機絶縁層を含む。無機絶縁層の材料としては、酸化珪素（ＳｉＯｘ）、窒化珪素（ＳｉＮｘ）、酸化窒化珪素（ＳｉＯｘＮｙ）、窒化酸化珪素（ＳｉＮｘＯｙ）、酸化アルミニウム（ＡｌＯｘ）、窒化アルミニウム（ＡｌＮｘ）、酸化窒化アルミニウム（ＡｌＯｘＮｙ）、窒化酸化アルミニウム（ＡｌＮｘＯｙ）等の膜を使用することができる（ｘ、ｙは任意）。また、これらの膜を積層した構造を使用してもよい。
【００６４】
このような構成を有することによって、区画された複数のトランジスタを保護することができる。よって、信頼性の向上した表示装置を提供することができる。
【００６５】
＜第６実施形態＞
図８を参照し、本実施形態に係る表示装置６００の構成について詳細に説明する。図８は、本実施形態に係る表示装置６００の構成を示す断面図である。
【００６６】
本実施形態に係る表示装置６００と第５実施形態に係る表示装置５００とを比較すると、本実施形態に係る表示装置６００においては、トランジスタ層１４８を覆い、複数の第１配線群１５０の上に配置されるカバー層１８２を備えている。つまり、第５実施形態に係る表示装置５００と本実施形態に係る表示装置６００は、第１配線群１５０とカバー層１８４が配置される層が逆である。
【００６７】
このような構成を有することによって、区画された複数のトランジスタおよび第１配線群１５０を保護することができる。よって、信頼性の向上した表示装置を提供することができる。
【００６８】
＜第７実施形態＞
図９を参照し、本実施形態に係る表示装置７００の構成について詳細に説明する。図９は、本実施形態に係る表示装置７００の構成を示す断面図である。
【００６９】
本実施形態に係る表示装置７００と第１実施形態に係る表示装置１００とを比較すると、本実施形態に係る表示装置７００においては、第２基板１０４の第１基板１０２に対向する面に配置され、表面に凹凸パターンを有する複数のカラーフィルタ１７４を備えている点で異なっている。
【００７０】
このような構成を有することによって、表示装置７００の折り曲げ時の応力をさらに緩和することができる。よって、信頼性の向上した表示装置７００を提供することができる。
【００７１】
＜第８実施形態＞
図１０を参照し、本実施形態に係る表示装置８００の構成について詳細に説明する。図１０は、本実施形態に係る表示装置８００の構成を示す断面図である。
【００７２】
本実施形態に係る表示装置８００と第１実施形態に係る表示装置１００とを比較すると、本実施形態に係る表示装置８００においては、第１基板１０２は、少なくとも第１方向Ｄ１に隣接するトランジスタを分離し、第２方向Ｄ２に延びる複数の凹部１８６を有する点で異なっている。
【００７３】
このような構成を有することによって、第１配線群１５０の面積を広くすることができる。よって、第１配線群１５０による放熱及び均熱効果が向上する。よって、高性能の表示装置を提供することができる。
【００７４】
複数の凹部１８６に配置された複数の容量１８８を更に備えてもよい。
【００７５】
このような構成を有することによって、凹部１８６の側壁を容量１８８の一部として用いることができるため、複数の画素１０８毎に形成することができる容量を増大させることができる。よって、高性能の表示装置８００を提供することができる。尚、容量１８８は特に制限されないが保持容量１２６である。
【００７６】
＜第９実施形態＞
図１１を参照し、本実施形態に係る表示装置９００の構成について詳細に説明する。図１１は、本実施形態に係る表示装置９００の構成を示す断面図である。
【００７７】
本実施形態に係る表示装置９００と第１実施形態に係る表示装置１００とを比較すると、本実施形態に係る表示装置９００においては、複数の画素１０８を覆い、有機絶縁層及び無機絶縁層が交互に積層された封止層１７２を更に備えている。
【００７８】
このような構成を有することによって、第２基板１０４側からの水分の侵入を抑制することができる。よって、信頼性の向上した表示装置を提供することができる。
【００７９】
尚、この例では、封止層１７２は４層の積層構造を有するが、積層数はこれに限られない。
【００８０】
＜第１０実施形態＞
図１２を参照し、本実施形態に係る表示装置１０００の構成について詳細に説明する。図１２は、本実施形態に係る表示装置１０００の構成を示す断面図である。
【００８１】
本実施形態に係る表示装置１０００と第１実施形態に係る表示装置１００とを比較すると、本実施形態に係る表示装置１０００においては、第１配線群１５０は、走査信号線１４０を含み、第２配線群１５２は、映像信号線１４２を含む点で異なっている。つまり、このとき、第１方向Ｄ１とは、走査信号線１４０が延びる方向を指し、第２方向Ｄ２とは映像信号線１４２が延びる方向を指す。つまり、本実施形態に係る表示装置においては、図２の回路図において、Ｄ１方向とＤ２方向とが入れ替わる。
【００８２】
このような構成を有することによって、走査信号線１４０に対して垂直な方向に沿って折り曲げる際に、無機絶縁層のクラックや配線の断線が生じにくくなる。よって、信頼性の向上した表示装置１００を提供することができる。
【００８３】
＜第１１実施形態＞
図１３を参照し、本実施形態に係る表示装置１１００の構成について詳細に説明する。図１３は、本実施形態に係る表示装置１１００の構成を示す断面図である。
【００８４】
本実施形態に係る表示装置１１００と第１実施形態に係る表示装置１００とを比較すると、本実施形態に係る表示装置１１００においては、トランジスタのドレイン電極と画素電極１６４とがコンタクトホールを介して接続され、第１配線層１５０はコンタクトホールを避けて配置されている点で異なっている。ここで、図中のトランジスタは駆動トランジスタ１２４となる。第１配線層１５０は、映像信号線１４２及び電源電位線１４４を含んでもよい。
【００８５】
＜第１２実施形態＞
図１４を参照し、本実施形態に係る表示装置１２００の構成について説明する。図１４（ａ）は、本実施形態に係る表示装置１２００の概略構成を示す斜視図である。
【００８６】
本実施形態に係る表示装置１２００は、表示領域１０６において、平坦部１０６ａ及び折り曲げ部１０６ｂを有する。この例では、長方形の表示領域１０６の対向する２辺に沿って折り曲げ部１０６ｂが配置されている。
【００８７】
平坦部１０６ａにおいては、従来の表示装置の配線構造を有し、折り曲げ部１０６ｂにおいては、前述の第１乃至第１０実施形態に係る表示装置の配線構造を有していてもよい。つまり、第１配線群がＤ１方向に延びるように配置されている。Ｄ１方向に折り曲げ部１０６が曲がり、Ｄ２方向には実質的には曲がらない形となっている。よって、折り曲げ部はＤ１方向に対する曲り可能量が、Ｄ２方向に対する曲り可能量よりも大きい形態となっている。
【００８８】
ここで、第１配線群は、映像信号線を含んでいてもよい。この場合、第２方向に延びる第２配線群は、走査信号線を含む。
【００８９】
また、第１配線群は、走査信号線を含んでいてもよい。この場合、第２方向に延びる第２配線群は、映像信号線を含む。
【００９０】
このような構成を有することによって、表示領域１０６の対向する２辺の近傍で折り曲げ易い表示装置１２００を提供することができる。
【００９１】
＜変形例＞
図１４（ｂ）は、本実施形態の変形例に係る表示装置１２５０の概略構成を示す斜視図である。
【００９２】
本変形例に係る表示装置１２５０は、表示装置１２００とは逆に、長方形の表示領域１０６の対向する２辺に沿って平坦部１０６ａが配置されている。２つの平坦部１０６ａに挟まれるように、折り曲げ部１０６ｂが配置されている。Ｄ１方向に折り曲げ部１０６が曲がり、Ｄ２方向には曲がらない形となっている。よって、折り曲げ部はＤ１方向に対する曲り可能量が、Ｄ２方向に対する曲り可能量よりも大きい形態となっている。
【００９３】
このような構成を有することによって、表示領域１０６を２分割する線に沿って折り曲げ易い表示装置１２５０を提供することができる。
【００９４】
以上、本発明の好ましい実施形態による表示装置１００乃至１２５０について説明した。しかし、これらは単なる例示に過ぎず、本発明の技術的範囲はそれらには限定されない。実際、当業者であれば、特許請求の範囲において請求されている本発明の要旨を逸脱することなく、種々の変更が可能であろう。よって、それらの変更も当然に、本発明の技術的範囲に属すると解されるべきである。
【符号の説明】
【００９５】
１００、２００、３００、４００、５００、６００、７００、８００、９００，１０００、１１００、１２００、１２５０：表示装置、１０２：第１基板、１０４：第２基板、１０６：表示領域、１０６ａ：平坦部、１０６ｂ：折り曲げ部、１０８：画素、１１０：シール材、１１２：ドライバＩＣ、１１４：端子領域、１１６：接続端子、１２０：画素回路、１２２：選択トランジスタ、１２４：駆動トランジスタ、１２６：保持容量、１２８：発光素子、１３０：走査線駆動回路、１３２：映像線駆動回路、１３４：駆動電源回路、１３６：基準電源経路、１３８：制御装置、１４０：走査信号線、１４２：映像信号線、１４４：電源電位線、１４６：基準電源線、１４８：トランジスタ層、１５０：第１配線群、１５２：第２配線群、１５４：開口部、１５６：下地層、１５８：凹凸層、１６０：平坦化絶縁層、１６４：画素電極、１６６：発光層、１６８：共通電極、１７０：バンク、１７２：封止層、１７４：カラーフィルタ、１７６：遮光層、１７８：充填剤、１８０：無機絶縁層、１８２：有機絶縁層、１８４：カバー層、１８６：凹部、１８８：容量、１８９：半導体層、１９０：ゲート絶縁層、１９１：ソース電極、１９２：ドレイン電極、１９３、ゲート電極、１９４：層間絶縁層
【図１】
0006624917.tif 000002
【図２】
0006624917.tif 000003
【図３Ａ】
0006624917.tif 000004
【図３Ｂ】
0006624917.tif 000005
【図４】
0006624917.tif 000006
【図５】
0006624917.tif 000007
【図６】
0006624917.tif 000008
【図７】
0006624917.tif 000009
【図８】
0006624917.tif 000010
【図９】
0006624917.tif 000011
【図１０】
0006624917.tif 000012
【図１１】
0006624917.tif 000013
【図１２】
0006624917.tif 000014
【図１３】
0006624917.tif 000015
【図１４】
0006624917.tif 000016