(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
カソードとして使用する原型とこの原型の表面から離反して配置されたアノード体との間に形成される電鋳空間へめっき液を供給し、前記原型と前記アノード体との間に電鋳電圧を印加することで前記原型表面に電鋳シェルを析出形成させる電鋳方法において、
前記原型は厚さ方向への突出成分を備えた立体形に形成されたものとし且つ前記アノード体は前記原型の立体表面を包囲するものとしたうえで、
前記原型の一端部と前記アノード体における同側の端部とを連結する閉鎖板に前記原型の立体表面に沿った配置で設けたノズル孔により前記電鋳空間へ向けてめっき液を噴出させることにより当該電鋳空間内で前記原型の立体表面に沿ったメッキ液の層流を生じさせると共に、
前記めっき液が供給圧に伴う流速よりも高速化するように前記原型と前記アノード体との間隔を近接させ、
前記めっき液を加圧供給しつつ電鋳電圧の印加を行うことを特徴とする電鋳方法。
【請求項２】
厚さ方向への突出成分を備えた立体形で形成されカソードとして使用する原型と、
前記原型の立体表面を包囲する状態で且つ前記立体表面から電鋳空間を離して配置されたアノード体と、
前記電鋳空間にめっき液を加圧供給することで前記原型の立体表面に沿った層流を生じさせる送液ポンプと、を有しており、
前記アノード体は、
前記電鋳空間を通るめっき液の層流の流速が前記送液ポンプによる供給流速よりも高速になるように前記原型の立体表面との通路幅を近接させて配置され、
前記原型の一端部と前記アノード体における同側の端部とが閉鎖板により連結され、前記閉鎖板には前記送液ポンプにより供給されるめっき液を前記原型の立体表面に沿った位置から前記電鋳空間へ噴出するノズル孔が設けられていることを特徴とする電鋳装置。
【請求項３】
前記原型は中心軸まわりに全方位形とされ、前記アノード体は前記原型の全方位を取り囲む枠形とされることにより、前記電鋳空間が中空形体に形成されていることを特徴とする請求項２記載の電鋳装置。
【請求項４】
前記原型は中心軸の一方寄りが径小で他方寄りが径大となる円錐形又は円錐台形に形成されており、
前記アノード体は前記原型の径小側表面を包囲する部位が径小で前記原型の径大側表面を包囲する部位が径大となる開口を備えた円錐凹部形に形成されていることを特徴とする請求項３記載の電鋳装置。
【請求項５】
前記アノード体は、内径の違いを段階的に区分することによって形成した複数のセグメントを前記原型の中心軸方向で段積みした構造を有していることを特徴とする請求項４記載の電鋳装置。
【請求項６】
前記ノズル孔は、前記原型の立体表面に沿う方向に長いスリット状に開口形成されていることを特徴とする請求項２乃至請求項５のいずれか１項に記載の電鋳装置。
【請求項７】
前記ノズル孔は、前記電鋳空間で形成されるめっき液の層流が前記原型のまわりを周回する旋回流となるように孔軸を旋回方向に傾斜させて設けられていることを特徴とする請求項３乃至請求項５のいずれか１項に記載の電鋳装置。
【請求項８】
前記電鋳空間と前記送液ポンプとの間には前記送液ポンプから前記電鋳空間へ向けた供給ラインと前記電鋳空間から前記送液ポンプへ向けた回収ラインとが設けられ、
前記供給ラインにはめっき液から不純物を除去する濾過器が設けられていると共に前記回収ラインにはめっき液を暫時貯留する管理槽が設けられており、
前記供給ラインは複数本の支流ラインにより前記電鋳空間に区画設定された複数ブロックへ接続され、
これら支流ラインごとに前記濾過器が各別に設けられている
ことを特徴とする請求項２乃至請求項７のいずれか１項に記載の電鋳装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高能率、高品質、低コストでありながら、分厚い電鋳シェルや一定肉厚の電鋳シェルなどを形成させることができる電鋳方法及び電鋳装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
めっき処理の一つとして知られる電鋳は、カソード（陰極）として使用する原型に対し、その表面に、ある程度、分厚い肉厚の電鋳シェルを析出形成させることができる。この電鋳において、めっき槽中に台形状の原型を沈めて電鋳を行うことで、原型の表面に箱状（蓋無しの中空体）をした電鋳シェルを形成させる方法が知られている（特許文献１等参照）。
【０００３】
一方で、めっき槽中に回転自在に保持させた円板状の原型を回転させつつ、その片面に沿わせてめっき液を供給する（層流を生じさせる）ようにして、高速電鋳を目指す方法が提案されている（特許文献２等参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平７−２０７４８５号公報
【特許文献２】特開平８−１０４９９２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
めっき槽中に沈めた原型によって箱状の電鋳シェルを形成させる従来の電鋳方法（特許文献１のもの）では、原型及びめっき液が共に静置状態にあるために、一定肉厚の電鋳シェルを形成させることが難しいということがあった。また、処理時間が長く、高コストになるという問題もあった。
のみならず、この電鋳方法において電鋳シェルの肉厚を分厚くする場合は、更に長い処理時間を要することになるが、肉厚を一定にするためには、定期的に電鋳処理を中断して形成途中の電鋳シェルをめっき槽から取り出し、この電鋳シェルの表面研削や研磨を行う必要があり、益々、製造効率の低下や製造コストの高騰化等を招来するものとなっていた。
【０００６】
一方、めっき槽中に回転自在に保持させた原型を回転させながら、この原型の片面にのみ電鋳シェルを形成させる従来の電鋳方法（特許文献２のもの）では、原型を回転させる必要があることから、めっき槽のみならず、回転駆動装置や原型を保持する構造などの設備が大型になる。また、原型の回転により発生する遠心力の影響を鑑みれば、原型自体、その大きさにも制限が生じる。
【０００７】
結果として、この電鋳方法は大型の電鋳シェルを形成する場合には不向きであるという問題があった。のみならず、原型の回転を原因として、めっき槽内ではめっき液が大きな波打ちやうねり等を伴った流動を起こすことになるので、電鋳シェルの肉厚が一定しないという問題もあった。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、原型の形状や大きさに制限されずに電鋳シェルの形成ができ、また分厚い肉厚を形成することもでき肉厚の一定化をも可能とするものであって、これらの電鋳シェルを高能率、高品質、低コストにて形成できるようにした電鋳方法及び電鋳装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記目的を達成するために、本発明は次の手段を講じた。
即ち、本発明に係る電鋳方法は、カソードとして使用する原型とこの原型の表面から離反して配置されたアノード体との間に形成される電鋳空間へめっき液を供給し、前記原型と前記アノード体との間に電鋳電圧を印加することで前記原型表面に電鋳シェルを析出形成させる電鋳方法において、前記原型は厚さ方向への突出成分を備えた立体形に形成されたものとし且つ前記アノード体は前記原型の立体表面を包囲するものとしたうえで、前記原型の一端部と前記アノード体における同側の端部とを連結する閉鎖板に前記原型の立体表面に沿った配置で設けたノズル孔により前記電鋳空間へ向けてめっき液を噴出させることにより当該電鋳空間内で前記原型の立体表面に沿ったメッキ液の層流を生じさせると共に、前記めっき液が供給圧に伴う流速よりも高速化するように前記原型と前記アノード体との間隔を近接させ、前記めっき液を加圧供給しつつ電鋳電圧の印加を行うことを特徴とする。
【０００９】
一方、本発明に係る電鋳装置は、厚さ方向への突出成分を備えた立体形で形成されカソードとして使用する原型と、前記原型の立体表面を包囲する状態で且つ前記立体表面から電鋳空間を離して配置されたアノード体と、前記電鋳空間にめっき液を加圧供給することで前記原型の立体表面に沿った層流を生じさせる送液ポンプと、を有しており、前記アノード体は、前記電鋳空間を通るめっき液の層流の流速が前記送液ポンプによる供給流速よりも高速になるように前記原型の立体表面との通路幅を近接させて配置され、前記原型の一端部と前記アノード体における同側の端部とが閉鎖板により連結され、前記閉鎖板には前記送液ポンプにより供給されるめっき液を前記原型の立体表面に沿った位置から前記電鋳空間へ噴出するノズル孔が設けられていることを特徴とする。
【００１０】
前記原型の一端部と前記アノード体における同側の端部とが閉鎖板により連結され、前記閉鎖板には前記送液ポンプにより供給されるめっき液を前記原型の立体表面に沿った位置から前記電鋳空間へ噴出するノズル孔が設けられたものとするのが好適である。
前記原型は中心軸まわりに全方位形とされ、前記アノード体は前記原型の全方位を取り囲む枠形とされることにより、前記電鋳空間が中空形体に形成されたものとすることができる。
【００１１】
前記原型は中心軸の一方寄りが径小で他方寄りが径大となる円錐形又は円錐台形に形成されており、前記アノード体は前記原型の径小側表面を包囲する部位が径小で前記原型の径大側表面を包囲する部位が径大となる開口を備えた円錐凹部形に形成されたものとしてもよい。
前記アノード体は、内径の違いを段階的に区分することによって形成した複数のセグメントを前記原型の中心軸方向で段積みした構造を有したものとしてもよい。
【００１２】
前記ノズル孔は、前記原型の立体表面に沿う方向に長いスリット状に開口形成することができる。
或いは、前記ノズル孔は、前記電鋳空間で形成されるめっき液の層流が前記原型のまわりを周回する旋回流となるように孔軸を旋回方向に傾斜させて設けることができる。
前記電鋳空間と前記送液ポンプとの間には前記送液ポンプから前記電鋳空間へ向けた供給ラインと前記電鋳空間から前記送液ポンプへ向けた回収ラインとが設けられ、前記供給ラインにはめっき液から不純物を除去する濾過器が設けられていると共に前記回収ラインにはめっき液を暫時貯留する管理槽が設けられており、前記供給ラインは複数本の支流ラインにより前記電鋳空間に区画設定された複数ブロックへ接続され、これら支流ラインごとに前記濾過器が各別に設けられたものとするのが好適である。
【発明の効果】
【００１３】
本発明に係る電鋳方法及び電鋳装置では、原型の形状や大きさに制限されずに電鋳シェルの形成ができ、また分厚い肉厚を形成することもでき肉厚の一定化をも可能とするものであって、これらの電鋳シェルを高能率、高品質、低コストにて形成できるようになる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明に係る電鋳装置の第１実施形態を示した側断面図である。
【図２】第１実施形態の電鋳装置において原型を省略して示した平面図である。
【図３】本発明に係る電鋳装置の全体構成を概略的に示した模式図である。
【図４】原型の立体形状を説明した模式図である。
【図５】本発明に係る電鋳装置の第２実施形態を示した側断面図である。
【図６】第２実施形態の電鋳装置において原型を省略して示した平面図である。
【図７】第２実施形態の電鋳装置で採用したノズル孔を拡大して示した平面図である。
【図８】図７のＡ−Ａ線断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明の実施の形態を、図面に基づき説明する。
図１乃至図３は、本発明に係る電鋳装置１の第１実施形態を示している。図１に示すように、この電鋳装置１は、厚さ方向への突出成分を備えた立体形で形成された原型２と、この原型２の立体表面を包囲する状態で設けられたアノード体３とを有している。
なお、アノード体３は容器型の装置本体４内に収容設置されたものとし、原型２は装置本体４の上部開口を塞ぐように設けられる蓋体５の下面に固定されたものとした。
【００１６】
原型２には蓋体５の上部で突出する陰極端子２ａが設けられており、この陰極端子２ａと直流電源（図示略）の陰極側とが電気的に接続される。すなわち、この原型２はアノード体３に対応するカソードとして使用される。
またアノード体３には装置本体４の側部へ突出する陽極端子３ａが設けられており、この陽極端子３ａと直流電源の陽極側とが電気的に接続される。
【００１７】
本第１実施形態において原型２は、中心軸まわりに全方位形を呈するものとしてある。具体的には、原型２は中心軸の一方寄り（図１の下位側）が径小で他方寄り（図１の上位側）が径大となる逆円錐台形に形成されたものとした。
ここにおいて「全方位形」とはいわゆる回転対称形であって、円錐形や円柱形などをはじめとして角錐形や角柱形などのｎ回対称形も含んでいる。また中心軸からの張出形状（張出度合い）が方角によって異なるような回転非対称形も含むものとする。
【００１８】
また、原型２の基本形状として「厚さ方向への突出成分」を前提としているのは、原型２が扁平な一面のみを表面としている場合を除くことを言い、肉厚的なボリュウムを備えることで厚さ方向にも表面としての広がりを有していることを表している。
例えば、図１及び図２に示したような逆円錐台形では、その直径が厚さ方向への突出成分に相当するので、この原型２の表面は逆円錐台形の外周面としての曲面的な広がりを有していることになる。
【００１９】
このようなことから、原型２は図４（ａ）に示すように端面を円形や楕円形等とする柱状としたり、図４（ｂ）に示すように端面を半円形とする柱状としたり、図４（ｃ）に示すように端面を三角形とする柱形状としたり、図４（ｄ）に示すような端面を四角形とする柱形状としたりすることでもよい。また錐形状や柱形状の他、ブロック状などとすることも可能である。なお、図４（ｂ）に示すように、原型２が有する立体表面の全てにアノード体３が対向しない場合を含む。
【００２０】
これに対してアノード体３は、原型２の立体表面を取り囲む枠形とされている。具体的には、アノード体３は原型２の全方位を取り囲んでおり径小側表面を包囲する下方の部位が径小で、原型２の径大側表面を包囲する上方の部位が径大となる開口を備えた円錐凹部形（すり鉢状）に形成されたものとした。
アノード体３の表面（内周面）は、原型２の立体表面（外周面）に対して一定間隔を保持するように離されており、これら原型２とアノード体３との間に電鋳空間７が形成されている。言い換えれば、アノード体３は、その表面が原型２の中心軸から見て、当該原型２の立体表面と相似的な関係を有したものと言うことができる（図４各図を参照）。
【００２１】
原型２とアノード体３との間の電鋳空間７は、めっき液を流動させるスペースであると共に、原型２の表面に電鋳シェルＳを形成させるためのスペースとして活用される。本第１実施形態の場合、電鋳空間７は下すぼみの中空形体に形成されることになる。そのため、この電鋳装置１を用いて形成される電鋳シェルＳは、原型２の表面（外周面全周）を取り囲んで下すぼみの中空形体を呈するものとなる。
【００２２】
この電鋳空間７に対し、新鮮なめっき液は装置本体４の底９に設けられた供給管部１１と、原型２の下端部とアノード体３の下端部とを連結している閉鎖板１０に設けられたノズル孔１２とを介して供給される。
また電鋳空間７を経た後のめっき液は、電鋳空間７の上部からオーバーフロー状に排出された後、装置本体４の閉鎖板１０に設けられた排出管部１３を介して装置本体４外へと取り出される。
【００２３】
図３に示すように、装置本体４の供給管部１１には供給ライン１５が接続されている。この供給ライン１５は、送液ポンプ１６から電鋳空間７へ向けてめっき液を供給するための経路であって、この供給ライン１５にはめっき液を加圧供給する送液ポンプ１６と、めっき液から不純物を除去する濾過器２０とが設けられている。
本第１実施形態では、図２に示すように、装置本体４の供給管部１１が複数本（図例では３本）設けられたものとして、電鋳空間７内に区画設定した複数ブロック（周方向に１２０°で区分けした３区画とした）に満遍なくめっき液が行き渡るように、それぞれの供給管部１１を割り当てている。
【００２４】
そのため、供給ライン１５は各供給管部１１に対応させて複数本（３本）の支流ライン１５ａを有して構成されるものとした。そしてこれら各支流ライン１５ａに個別に対応させるように、送液ポンプ１６及び濾過器２０も複数台（３台）ずつ設けられたものとしてある。
なお、各支流ライン１５ａのライン方向（めっき液が流れる方向）において、送液ポンプ１６や濾過器２０の配置は特に限定されるものではなく、また送液ポンプ１６と濾過器２０との配置順（どちらを上流側にするか）についても限定されない。
【００２５】
これに対し、装置本体４の排出管部１３には回収ライン２１が接続されている。この回収ライン２１は、電鋳空間７からめっき液を回収し、その後再び送液ポンプ１６へ向けて供給するための経路であって、この回収ライン２１にはめっき液を暫時貯留する管理槽２２が設けられている。
管理槽２２では、貯留しためっき液の濃度や温度を、設定値の許容範囲内に保持すべく自動又は手動操作により調整するようにしてある。
【００２６】
なお、本第１実施形態では、供給ライン１５が複数本の支流ライン１５ａを有し、且つ各支流ライン１５ａに送液ポンプ１６が設けられた構成としているので、めっき液の単位時間当たりの供給量と排水量とを釣り合わせる意味において、装置本体４に設ける排出管部１３は太径にして複数本（図２では２本）設けてある。
以上の説明から明らかなように、めっき液は、供給ライン１５（複数本の支流ライン１５ａ）及び回収ライン２１により、送液ポンプ１６、濾過器２０、電鋳空間７、管理槽２２の間を一巡することを繰り返すように、循環流動を行うようになる。
【００２７】
本発明に係る電鋳装置１では、電鋳空間７の通路幅Ｗ（図１参照）を設定するに際して、原型２の立体表面に沿うようにめっき液に生じる層流の流速が、送液ポンプ１６による供給流速よりも高速になることを目安として、原型２の立体表面にアノード体３を近接させるような配置としている。すなわち、原型２の立体表面（外周面）とアノード体３の表面（内周面）との間隔が狭くなるように設定している。
【００２８】
ここにおいて、めっき液の流速を送液ポンプ１６の供給流速よりも高速にするというのは、あくまでも送液ポンプ１６が電鋳空間７に一定のめっき液流れを発生できるようなポンプ能力を有していることを前提にしている。
本発明者は、実際には、電鋳空間７を通るめっき液の流速を０．２〜０．５ｍ／ｓｅｃとするのが好適であることを幾多の実験により突き止めている。通路幅Ｗは、電鋳空間７の大きさや得ようとする電鋳シェルＳの肉厚にもよるが、２９〜７０ｍｍの範囲で調整するのがよい。
【００２９】
このようにめっき液の流速を高速化することで、めっき液に含まれる不純物が電鋳シェルＳに付着するのを防止でき、また電鋳シェルＳの肌荒れを防止できることになる。まためっき液に不規則な揺れ（波立ち）や淀みを生じないことに繋がり、電鋳シェルＳの肉厚一定化に大きく寄与するものと考えられる。
のみならず、めっき液の流速を高速化することで、電鋳シェルＳの形成効率を高めることもできる。すなわち、めっき液の流速を０．２〜０．５ｍ／ｓｅｃとすることで、電鋳シェルＳの形成前の原型表面や形成途中の電鋳シェル表面に対して、電流密度を４〜１０Ａ／ｄｍ2に上げることができる（従来の電鋳法ではせいぜい２〜３Ａ／ｄｍ2程度である）。このことで、電鋳シェルＳに対する焦げ付き防止作用を得ることにも繋がる。
【００３０】
めっき液の流速が０．２ｍ／ｓｅｃに満たない場合は、電流密度を４Ａ／ｄｍ2まで上げることができず、一方で、めっき液の流速が０．５ｍ／ｓｅｃを超えるようにしても、電鋳シェルＳの形成効率を高める効果が低いことが判っている。
本第１実施形態では、前記したようにアノード体３を円錐凹部形（すり鉢状）に形成する必要があることから、アノード体３は、内径の違いを段階的に区分することによってリング状に形成した複数の異径セグメント３０ａ〜３０ｅを、原型２の中心軸方向に沿って内径の小さなものから徐々に大きなものへと移行する順番で段積みさせた構造としている。
【００３１】
このような段積み構造を採用することで、原型２がその立体表面に複雑な曲面を有している場合（第１実施形態でも原型２の外周面は若干径方向外方へ膨らむ形状としてある）であっても、この曲面の立体表面に沿わせてアノード体３を配置することが容易となり、電鋳空間７の通路幅Ｗを一定に保持させることができる。
しかも、電鋳処理の継続に伴ってアノード体３から金属イオンが溶解した後に、各セグメント３０ａ〜３０ｅを新品のものと交換する作業がいとも簡単に行え、この交換作業により再び、電鋳空間７の通路幅Ｗを一定に保持できるという利点に繋がる。
【００３２】
各セグメント３０ａ〜３０ｅは、リング状に形成した透水性の収容体（網材や袋材など）に銅などのアノードボールを多数詰め込んで、各段ごとに上面を封鎖したものである。このようにアノード体３（各セグメント３０ａ〜３０ｅ）において、アノードボールの詰め込み構造を採用することは、電鋳空間７の通路幅Ｗを可及的に狭く設定するという条件のもとで、原型２の表面積に対するアノード体３の表面積比を所定の範囲内（２倍程度）に設定するうえで好都合と言える。
【００３３】
すなわち、前記したように電鋳空間７は、通路幅Ｗを可及的に狭くすることがめっき液の供給流速を高速にさせるうえで必要とされている。しかし、電鋳空間７の通路幅Ｗが狭くなる点だけに着目してアノード体３を形成すると、原型２の表面積に対してアノード体３の表面積を十分に大きく確保できないおそれがある。
アノード体３の表面積比が原型２の２倍に満たない場合には、電鋳シェルＳの形成効率が低くなる（肉厚成長が遅い）という事情がある。とは言え、アノード体３の表面積比が原型２の２倍を超えると、金属イオンの溶解が過多となり電鋳シェルＳの表面が粗面になるおそれがある。
【００３４】
めっき液の流速を高速化するための具体的手段としては、原型２の下端部とアノード体３の下端部とを連結している閉鎖板１０に設けるノズル孔１２を、図１及び図２に示すように、原型２の外周面に沿ってスリット状に開口形成にする例を挙げることができる。
このようにノズル孔１２をスリット状にし、且つ原型２の外周面に沿った配置とする（原型２の外周面に近接させる）ことにより、めっき液の層流を原型２の立体表面（形成途中の電鋳シェル表面である場合を含む）から剥離し難くし、また原型２の立体表面に接することによる減速（管路抵抗）を可及的に小さく抑制できる利点が得られる。更に、原型２の立体表面や形成途中の電鋳シェル表面に対して、めっき液に含まれる不純物や気泡等が付着する機会を与えないようにできる。
【００３５】
なお、閉鎖板１０には、ノズル孔１２のメンテナンス（孔内の清掃）やスリット幅の変更などが簡単に行えるように、交換可能な目皿３２を着脱自在な構造で設けておき、この目皿３２に対してノズル孔１２を設けるようにするのがよい。
また、原型２の下端部にピボット受け凹部を備えた座部３４を設け、装置本体４の底９に対してピボット受けに嵌合する円錐状突起３５を設けておくと、アノード体３に対する原型２の芯合わせや、原型２の外周面に対するノズル孔１２のスリット幅一定化などが簡単且つ確実に行えるようになり、好適である。
【００３６】
以上詳説した本発明に係る電鋳装置１により、本発明に係る電鋳方法を実施するには、送液ポンプ１６を稼動させ、原型２とアノード体３との間に形成される電鋳空間７へめっき液を供給し、送液ポンプ１６、濾過器２０、電鋳空間７、管理槽２２の間を一巡する循環流動を生じさせる。そしてこの状況下で原型２とアノード体３との間（電鋳空間７）へ電鋳電圧を印加する。
【００３７】
電鋳空間７へ供給されるめっき液は、送液ポンプ１６による供給流速よりも高速化されて０．２〜０．５ｍ／ｓｅｃの流速で原型２の立体表面に沿った（近接した）層流を生じさせるようになり、電鋳シェルＳの形成前の原型表面や形成途中の電鋳シェル表面に対して、単位表面積当たりの電流値を４〜１０Ａ／ｄｍ2として高速処理が行われるようにする。
【００３８】
このような電鋳方法では、原型２を回転させるものではないので、その形状や大きさが制限されることはない。また得られた電鋳シェルＳは、分厚い肉厚を形成することもでき、肉厚の一定化も可能となる。例えば、電鋳シェルＳの内径を数百ｍｍ〜数千ｍｍといった大型のものにすることや、電鋳シェルＳの肉厚を数十ｍｍといった分厚いものにすることができる。
【００３９】
そして、このように電鋳シェルＳを肉厚一定にできるので、電鋳処理の途中で何度も処理を中断して形成途中の電鋳シェルＳをわざわざ表面研削等するといった手間をかける必要はなく、一気呵成に目標とする肉厚を得ることができる。
かくして、電鋳シェルＳを高能率、高品質、低コストにて形成できる。例えば、前記したような内径が数百ｍｍ〜数千ｍｍ、肉厚が数十ｍｍといった大型の電鋳シェルＳであっても、僅か１日程度の極めて短時間のうちに形成できることになる。
【００４０】
図５乃至図８は、本発明に係る電鋳装置１の第２実施形態を示している。本第２実施形態の電鋳装置１が前記した第１実施形態と最も異なるところは、ノズル孔１２が小孔の貫通孔とされて多数設けられており、且つ図７及び図８に示すように、各ノズル孔１２がその孔軸を傾斜させて設けられている点にある。
ノズル孔１２の孔軸を傾斜させることで、電鋳空間７では原型２の外周面に沿ってできる層流が、当該原型２のまわりを周回しつつ上昇するような螺旋状の旋回流となる。勿論、この旋回流は、送液ポンプ１６による供給流速よりも高速化されて０．２〜０．５ｍ／ｓｅｃの流速を生じたものとなっている。
【００４１】
なお、全てのノズル孔１２の傾斜方向は、旋回流の旋回方向（例えば反時計回り）に揃えておくのが好適である。
その他の構成及び作用効果については第１実施形態と略同様であり、同一作用を奏するものに同一符号を付することでここでの詳説は省略する。
ところで、本発明は、前記実施形態に限定されるものではなく、実施の形態に応じて適宜変更可能である。
【００４２】
例えば、原型２は上位側が径小で下位側が径大となる正位の円錐台形としてもよく、アノード体３は、上位開口部が径小で下位開口部が径大となるドーム形としてもよい。この場合、原型２を容器型の装置本体４内に収容設置されたものとし、アノード体３を蓋体５の下面に固定されたものとすればよい。
電鋳空間７と管理槽２２とを接続する回収ライン２１の適所で負圧を発生させ、電鋳空間７からめっき液を強制吸引させるようにしてもよい。この場合、電鋳空間７内では強力な高速流が発生することになる。
【００４３】
そこで、例えばアノード体３の表面に対し、原型２のまわりを取り囲むような傾斜フィンや傾斜リブ、或いは傾斜溝などを設けておくと、めっき液に対して、原型２のまわりに沿った旋回流の発生を促すことができる。このような旋回流によっても、めっき液の層流を高速化させることになるので効果的である。
アノード体３は銅に限らず、亜鉛、ニッケル、クロム、金、銀などをはじめとして何ら限定されるものではない。
【００４４】
本発明に係る電鋳装置１は、装置本体４内にアノード体３を取り付けず、また蓋体５と共に原型２を取り付けない状態にすることで、装置本体４内を貯槽として活用することができる。
そのため、この状態の貯槽を、本発明に係る電鋳装置１（電鋳処理を実施するもの）とは別に脱脂処理、水洗処理、活性処理、酸洗い処理などの工程に設置して、ノズル孔１２から各種処理に必要な処理液を供給するといった使い方ができる。例えば、前処理用、及び後処理用を本発明に係る電鋳装置１に加えた合計３台の装置だけで、めっき処理全体（全工程）の自動化ラインを構成することができる。
【００４５】
このようにすることで、装置自体のイニシャルコストを低廉化できることはもとより、各種処理において、ノズル孔１２からの各液の噴出流を有効活用できることになって、処理時間の短縮化などを図ることができる。この作用効果は、電鋳シェルＳが大型化すればするほど、その移載などに関して作業や構造物の省略化が図れるために、もたらされる実益もそれだけ大きくなる。
【符号の説明】
【００４６】
１  電鋳装置
２  原型
２ａ  陰極端子
３  アノード体
３ａ  陽極端子
４  装置本体
５  蓋体
７  電鋳空間
９  底
１０  閉鎖板
１１  供給管部
１２  ノズル孔
１３  排出管部
１５  供給ライン
１５ａ  支流ライン
１６  送液ポンプ
２０  濾過器
２１  回収ライン
２２  管理槽
３０ａ〜３０ｅセグメント
３２  目皿
３４  座部
３５  円錐状突起
Ｓ  電鋳シェル
Ｗ  通路幅
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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