(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
筐体と、
前記筐体に設けられる複数の機器と、
前記筐体の周囲に設定された、保守作業時における保守作業者の立ち位置と、前記筐体の設置環境に応じた、前記立ち位置における前記複数の機器ごとの保守作業の適切度合いとの対応関係を記憶する記憶部と、
前記対応関係に基づいて、前記複数の機器のうちの保守作業対象機器に対する前記保守作業の適切度合いが高い立ち位置を特定する特定部と、
を具備する自動分析装置。
【請求項２】
前記記憶部は、前記立ち位置の候補となる区画情報、および保守作業対象となる複数の機器ごとに定められる、前記立ち位置として使用する区画の優先度情報を関連付けた第１テーブルと、前記区画情報、および前記筐体の設置環境により決定される前記立ち位置の使用可否情報を関連付けた第２テーブルとを記憶し、
前記特定部は、前記第１テーブルと前記第２テーブルとに基づいて、所定の設置環境における前記保守作業対象機器の保守作業に適した立ち位置を特定する、
請求項１記載の自動分析装置。
【請求項３】
前記複数の機器を駆動するための複数の駆動装置と、
前記保守作業対象機器を、前記特定した立ち位置において保守作業が容易な位置に移動させる、または、手動で移動可能にさせる制御部と、
をさらに具備する請求項１記載の自動分析装置。
【請求項４】
前記記憶部は、前記立ち位置および前記立ち位置に対する前記複数の機器のうちの前記保守作業対象機器を移動させる第１移動パターンを関連付けた第３テーブルを記憶し、
前記特定部は、前記特定した立ち位置と前記第３テーブルとに基づいて、前記特定した立ち位置に対する前記保守作業対象機器に対応する第１移動パターンを特定し、
前記制御部は、前記特定した第１移動パターンに従って、前記保守作業対象機器を移動させる、
請求項３記載の自動分析装置。
【請求項５】
前記複数の機器を駆動するための複数の駆動装置と、
前記保守作業対象機器以外の機器を、前記特定した立ち位置における保守作業の妨げにならない位置に移動させる、または、手動で移動可能にさせる制御部と、
をさらに具備する請求項１記載の自動分析装置。
【請求項６】
前記記憶部は、前記立ち位置および前記立ち位置に対する前記複数の機器のうちの前記保守作業対象機器以外の機器を移動させる第２移動パターンを関連付けた第３テーブルを記憶し、
前記特定部は、前記特定した立ち位置と前記第３テーブルとに基づいて、前記特定した立ち位置に対する前記保守作業対象機器以外の機器に対応する第２移動パターンを特定し、
前記制御部は、前記特定した第２移動パターンに従って、前記保守作業対象機器以外の機器を移動させる、
請求項５記載の自動分析装置。
【請求項７】
前記特定部は、前記複数の機器の保守作業を行う保守作業者情報に応じて、前記特定した立ち位置を変更する請求項１記載の自動分析装置。
【請求項８】
前記特定部は、保守作業者による入力により前記特定した立ち位置を変更する請求項１記載の自動分析装置。
【請求項９】
前記特定した立ち位置を前記保守作業者に通知する通知部をさらに具備する請求項１記載の自動分析装置。
【請求項１０】
前記通知部は、前記特定した立ち位置と前記特定した立ち位置において行う保守作業指示内容とをグラフィカルに表現した表示画面を表示する請求項９記載の自動分析装置。
【請求項１１】
前記通知部は、前記筐体あるいは前記筐体周辺に、前記立ち位置に対応するよう設置され、前記特定した立ち位置を通知するための照明機器を有する請求項９記載の自動分析装置。
【請求項１２】
前記通知部は、前記特定した立ち位置を音により通知するためのスピーカを有する請求項９記載の自動分析装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、例えば、被検体の血液および尿等の試料を試薬と反応させて、試料を分析する自動分析装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
自動分析装置は、省スペース化、測定の高速化、分析の迅速化等を実現するため、装置を構成する複数の異なった各種機器同士の凝集度を高めている。しかしながら、凝集度を高めれば高める程、各機器の保守を行える作業領域が狭まり、各機器に対する保守作業の効率が低下してしまう。一方で、装置内に設置された機器について保守作業する場合、特定パターンで機器を退避させることにより作業領域を確保することが可能である。しかしながら、保守作業者の経験が浅く、装置に習熟していない場合、上記特定パターンを再現できない、または特定パターン自体を推定できない。また、装置の設置環境によって保守作業者の立ち位置が限定されてしまうため、実際に利用可能な立ち位置に沿って保守作業を行わなければならない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１０−１５６６４９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本実施形態の目的は、保守作業の効率化を可能とする自動分析装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
実施形態によれば、自動分析装置は、筐体と、前記筐体に設けられる複数の機器と、記憶部と、特定部とを具備する。記憶部は、前記筐体の周囲に設定された保守作業者による保守作業時の立ち位置と、前記筐体の設置環境に応じた、前記立ち位置における前記複数の機器ごとの保守作業の適切度合いとの対応関係を記憶する。特定部は、前記対応関係に基づいて、前記複数の機器のうちの保守作業対象機器に対する前記保守作業の適切度合いが高い立ち位置を特定する。
【図面の簡単な説明】
【０００６】
【図１】図１は、実施形態に係る自動分析装置を示す図である。
【図２】図２は、反応機構の外観を示す斜視図である。
【図３】図３は、実施形態に係る自動分析装置の保守作業における、保守作業対象機器の保守作業に適した、保守作業者の立ち位置を特定するための処理の流れを示すフローチャートである。
【図４】図４は、所定の設置形態で設置された筐体と、筐体周辺に設定された保守作業者の立ち位置候補となる区画とを表示するための初期画面の一例を示す図である。
【図５】図５は、筐体の周囲に設定された保守作業者の立ち位置の候補となる区画情報を示す図である。
【図６】図６は、図１に示す記憶回路に記憶される第１テーブルの一例を示す図である。
【図７】図７は、図１に示す記憶回路に記憶される第２テーブルの一例を示す図である。
【図８Ａ】図８Ａは、保守作業者へ特定した立ち位置を通知する手法１を示す図である。
【図８Ｂ】図８Ｂは、保守作業者へ特定した立ち位置を通知する手法１を示す図である。
【図９Ａ】図９Ａは、保守作業者へ特定した立ち位置を通知する手法２を示す図である。
【図９Ｂ】図９Ｂは、保守作業者へ特定した立ち位置を通知する手法２を示す図である。
【図１０】図１０は、実施形態に係る自動分析装置の保守作業における、保守作業対象機器の移動させるための制御の流れを示すフローチャートである。
【図１１】図１１は、図１に示す記憶回路に記憶される第３テーブルの一例を示す図である。
【図１２Ａ】図１２Ａは、図１１に示すパターンＡｂを示す図である。
【図１２Ｂ】図１２Ｂは、図１２Ａに示すパターンＡｂで移動させた機器Ａと、非対象機器である機器ＢおよびＣとを示す図である。
【図１３Ａ】図１３Ａは、図１１に示すパターンＢｄを示す図である。
【図１３Ｂ】図１３Ｂは、図１３Ａに示すパターンＢｄで移動させた機器Ｂと、非対象機器ＣおよびＡとを示す図である。
【図１４Ａ】図１４Ａは、図１１に示すパターンＡｃを示す図である。
【図１４Ｂ】図１４Ｂは、図１４Ａに示すパターンＡｃで移動させた機器Ａと、非対象機器ＢおよびＣとを示す図である。
【図１５Ａ】図１５Ａは、図１１に示すパターンＢｃを示す図である。
【図１５Ｂ】図１５Ｂは、図１５Ａに示すパターンＢｃで移動させた機器Ｂと、非対象機器ＣおよびＡとを示す図である。
【図１５Ｃ】図１５Ｃは、保守作業者の利き手に応じて移動させた機器Ｂと、非対象機器ＣおよびＡとを示す図である。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
以下、実施形態に係る自動分析装置について、図面を参照して説明する。なお、以下の説明において、略同一の機能および構成を有する構成要素については、同一符号を付し、重複説明は必要な場合にのみ行う。
【０００８】
図１は、実施形態に係る自動分析装置１を示す図である。図１に示すように、自動分析装置１は、反応機構１０と、分析装置２０と、出力装置３０と、入力インターフェース回路４０と、通信インターフェース回路５０と、記憶回路６０と、システム制御回路７０とを備える。
【０００９】
図２は、反応機構１０の外観を示す斜視図である。反応機構１０は、筐体に装備されている。筐体は、サンプルプローブ３３４、サンプルアーム３３６、第１試薬庫３５０、第２試薬庫３７０、第１試薬プローブ３５４、第１試薬アーム３５６、第２試薬プローブ３７４、第２試薬アーム３７６、攪拌装置３２０、洗浄装置３２５、反応容器支持機構３１０、測光器１１等を有する。
【００１０】
サンプルプローブ３３４は、サンプルアーム３３６の先端に取り付けられている。サンプルアーム３３６は、サンプルプローブ３３４を回動可能に支持する。サンプルプローブ３３４は、サンプリングレーン上におけるサンプル吸引位置にあるサンプル容器から、サンプル分注ポンプによりサンプルを吸引する。サンプルプローブ３３４は、吸引したサンプルを、反応容器支持機構３１０においてサンプルが吐出される位置にあるサンプルが吐出される位置にある反応容器３１２に吐出する。
【００１１】
第１試薬庫３５０は、複数の測定項目に対応する複数の第１試薬容器３５２を保持する。第２試薬庫３７０は、複数の測定項目に対応する複数の第２試薬容器３７２を保持する。第１試薬容器３５２および第２試薬容器３７２には、各検査項目の成分と反応する試薬が収容されている。第１試薬庫３５０および第２試薬庫３７０は、反応機構制御回路１２の制御のもとで、所定のタイミングで所定の角度で回転する。なお、反応機構１０は、第１試薬庫３５０および第２試薬庫３７０に加えて、さらに他の試薬庫を有していてもよい。第１試薬庫３５０および第２試薬庫３７０は、保持した複数の試薬容器を保冷する。第１試薬庫３５０および第２試薬庫３７０は、複数の試薬容器各々を保持するための保持区画を有する。
【００１２】
第１試薬プローブ３５４は、第１試薬アーム３５６の先端に取り付けられている。第１試薬アーム３５６は、第１試薬プローブ３５４を回動可能および上下動可能に支持する。第１試薬プローブ３５４は、待機位置から、第１試薬庫３５０上における第１試薬を吸引する位置にある第１試薬容器３５２内へ降下する。第１試薬プローブ３５４は、第１試薬分注ポンプにより、第１試薬容器３５２から第１試薬を所定量だけ吸引する。第１試薬プローブ３５４は、所定量の吸引を終えると上記待機位置まで上昇する。第１試薬プローブ３５４は、吸引した第１試薬を、反応容器支持機構３１０において第１試薬が吐出される位置にある反応容器３１２に吐出する。
【００１３】
第２試薬プローブ３７４は、第２試薬アーム３７６の先端に取り付けられている。第２試薬アーム３７６は、第２試薬プローブ３７４を回動可能および上下動可能に支持する。第２試薬プローブ３７４は、待機位置から、第２試薬庫３７０上における第２試薬を吸引する位置にある第２試薬容器３７２内へ降下する。第２試薬プローブ３７４は、第２試薬分注ポンプにより、第２試薬容器３７２から第２試薬を所定量だけ吸引する。第２試薬プローブ３７４は、所定量の吸引を終えると上記待機位置まで上昇する。第２試薬プローブ３７４は、吸引した第２試薬を、反応容器支持機構３１０において第２試薬が吐出される位置にある反応容器３１２に吐出する。
【００１４】
攪拌装置３２０は、攪拌アーム３２２と攪拌子３２４とを有する。攪拌子３２４は、攪拌アーム３２２の先端に取り付けられている。攪拌アーム３２２は、攪拌子３２４を回動可能および上下動可能に支持する。攪拌アーム３２２は、反応容器３１２内の被検混合物を攪拌する位置に停止した反応容器３１２内に、攪拌子３２４を待機位置から下降させて挿入する。攪拌子３２４の先端が反応容器３１２の内底面の近傍まで下降すると、攪拌アーム３２２は、攪拌子３２４の下降を停止させる。攪拌子３２４の停止後、攪拌子３２４は、反応機構制御回路１２の制御により振動する。攪拌子３２４が振動することにより、反応容器３１２内の混合液（サンプルと第１試薬、サンプルと第２試薬、サンプルと第１試薬と第２試薬等）は、攪拌される。攪拌後、攪拌アーム３２２は、攪拌子３２４を待機位置まで上昇させる。
【００１５】
洗浄装置３２５は、使用された反応容器３１２を洗浄するための装置であり、図示していない支持機構と洗浄ノズルと乾燥ノズルとを有する。支持機構は、洗浄ノズルと乾燥ノズルとを、それぞれ上下移動可能に支持する。洗浄ノズルは、反応容器支持機構３１０上における反応容器３１２を洗浄する位置にある反応容器３１２から、洗浄ポンプにより混合液を吸引する。混合液を吸引後、洗浄ノズルは純水を吐出して、反応容器３１２内を洗浄する。乾燥ノズルは、反応容器支持機構３１０上における反応容器３１２を乾燥する位置にある反応容器３１２内を、乾燥ポンプにより乾燥させる。
【００１６】
反応容器支持機構３１０は、円周上に複数配置された反応容器３１２を回転可能に支持する。反応容器３１２は、恒温槽に収容される。反応容器支持機構３１０は、分析サイクルごとに所定の角度で回転した後、停止する。これにより、反応容器３１２は、所定の角度だけ回転される。
【００１７】
測光器１１は、被検試料と試薬の混合物（以降、被検混合物と記載）に光を照射する。測光器１１は、被検混合物を透過した光を吸光度に変換し、被検試料に関する吸光度のデータを発生する。測光器１１は、発生した吸光度のデータをメモリ２２へ出力する。測光器１１は、標準物質と試薬の混合物（以降、標準混合物と記載）に光を照射する。標準物質とは、測定する物質と同じか共通の性質を有する物質または、試薬との反応に共通性のある物質のことである。測光器１１は、標準混合物を透過した光を吸光度に変換し、標準物質に関する吸光度のデータを発生する。測光器１１は、標準物質に関する吸光度のデータをメモリ２２へ出力する。
【００１８】
反応機構制御回路１２は、ハードウェア資源として、ＣＰＵ（Central Processing Unit）やＭＰＵ（Micro Processing Unit）等のプロセッサと、ＲＯＭやＲＡＭ等のメモリとを含む。反応機構制御回路１２は、入力インターフェース回路４０を介して検査技師や保守作業者等の操作者により入力された分析項目、分析手順等に関するシステム制御回路７０からの信号に基づいて、図２に示す反応機構１０の各要素に対してシーケンスを組む。反応機構制御回路１２は、組まれたシーケンスに基づいて、第１試薬庫３５０、第２試薬庫３７０をそれぞれ所定のタイミングで所定の角度で回転させる。
【００１９】
反応機構制御回路１２は、サンプルプローブ３３４、第１試薬プローブ３５４、第２試薬プローブ３７４、攪拌子３２４、洗浄装置３２５を同期的に動作する。
【００２０】
反応機構制御回路１２は、入力インターフェース回路４０から供給される電気信号等に基づいて、各構成を動作する。例えば、反応機構制御回路１２は、システム制御回路７０からの移動パターンに応じた指示により、サンプルアーム３３６、第１試薬庫３５０、第２試薬庫３７０、第１試薬プローブ３５４、第１試薬アーム３５６、第２試薬プローブ３７４、第２試薬アーム３７６、攪拌装置３２０、洗浄装置３２５、反応容器支持機構３１０、測光器１１等を動作する。
【００２１】
分析装置２０は、測光器１１で発生された吸光度のデータから被検試料の成分等を分析する装置であり、試料分析回路２１とメモリ２２とを有する。試料分析回路２１は、メモリ２２に記憶された吸光度のデータと分析項目とに基づいて、検量線のデータを発生する。発生された検量線のデータは、メモリ２２に記憶されるとともに、出力装置３０へ出力される。試料分析回路２１は、当該検量線のデータとメモリ２２に記憶された被検試料に関する吸光度のデータとに基づいて、検査項目に対応する成分の濃度および活性値等に関する分析データを発生する。試料分析回路２１は、発生した分析データをメモリ２２に記憶するとともに、出力装置３０へ出力する。
【００２２】
メモリ２２は、ハードディスク等の記憶媒体を有する。メモリ２２は、反応機構１０の測光器１１により発生された吸光度のデータを記憶する。メモリ２２は、試料分析回路２１により発生された検量線のデータを、標準物質ごとに記憶する。メモリ２２は、試料分析回路２１により発生された分析データを、被検試料ごとに記憶する。
【００２３】
出力装置３０は、分析装置２０から発生された検量線と分析データとを、印刷または表示するための装置であり、例えば、プリンタ３１とディスプレイ３２とを有する。プリンタ３１は、分析装置２０で発生された検量線と分析データを、プリンタ用紙に所定のレイアウトで印刷する。ディスプレイ３２は、分析装置２０で発生された検量線と分析データとを所定のレイアウトで表示する。また、ディスプレイ３２は、各測定項目に関する被検試料の液量、試薬の液量、測光ビームの波長等の分析条件を設定するための分析条件設定画面、被検試料に関して被検体ＩＤや被検体名等を設定するための被検体情報設定画面、被検試料ごとの測定項目を選択するための測定項目選択画面等を表示する。また、ディスプレイ３２は、保守作業時においてシステム制御回路７０により特定された、保守作業対象機器の保守作業に適した保守作業者の立ち位置を保守作業者に対して通知するための通知情報等も表示する。ディスプレイ３２としては、例えば、ＣＲＴディスプレイ（Cathode Ray Tube Display）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ：Liquid Crystal Display）、有機ＥＬディスプレイ（ＯＥＬＤ：Organic Electro Luminescence Display）、ＬＥＤディスプレイ、プラズマディスプレイ、または当技術分野で知られている他の任意のディスプレイが適宜利用可能である。
【００２４】
入力インターフェース回路４０は、トラックボール、スイッチボタン、マウス、キーボード、操作面へ触れることで入力操作を行うタッチパッド、および表示画面とタッチパッドとが一体化されたタッチパネルディスプレイ等によって実現される。入力インターフェース回路４０は、操作者により入力された各測定項目の分析条件、被検試料ごとに測定する測定項目等を電気信号へ変換し、当該電気信号としてシステム制御回路７０へ出力する。なお、入力インターフェース回路４０を介して操作者により入力された情報は、図示していない記憶部に記憶されてもよい。ここで、本実施形態において、入力インターフェース回路４０は、トラックボール、スイッチボタン、マウス、キーボード等の物理的な操作部品を備えるものだけに限られない。例えば、装置とは別体に設けられた外部の入力機器から入力操作に対応する電気信号を受け取り、この電気信号をシステム制御回路７０へ出力する電気信号の処理回路も入力インターフェース回路４０の例に含まれる。
【００２５】
通信インターフェース回路５０は、有線あるいは無線にて外部装置と通信する。外部装置は、例えば、病院情報システム（ＨＩＳ：Hospital Information System）およびＰＡＣＳ（Picture Archiving and Communication System）等のシステムに含まれるサーバ、あるいは他のワークステーションである。
【００２６】
記憶回路６０は、筐体の周囲に設定された、保守作業時における保守作業者の立ち位置と、筐体の設置環境に応じた、当該立ち位置における複数の機器ごとの保守作業の適切度合いとの対応関係を記憶する。ここで、保守作業時における保守作業者の立ち位置とは、当該装置の各機器の保守作業に従事する保守作業者が当該空間領域に位置して作業を行なうことで、当該作業者による当該機器に対する保守作業が適切に行えるとして、当該装置のベンダーが想定、推奨した当該装置周りの区画である。また、保守作業が適切に行えるとは、例えば、保守作業を容易に、楽に、安全に、或いは効率良く行える状態であり、これらの何れかの少なくとも一つの状態である。また、何れかの少なくとも一つとは、何れかの一つだけを満たすだけでも良いし、複数の幾つかを同時に満たしても良い。本実施形態では、保守作業の容易性を保守作業時における保守作業者の立ち位置の観点とし、保守作業を容易に行える程、保守作業を適切に行える立ち位置とする。上記筐体の設置環境とは、筐体そのものの設置形態と、筐体を設置する周辺環境とを含む。設置形態については、後ほど、具体的に記述する。また、上記対応関係とは、上記保守作業時における保守作業者の立ち位置ごとに設定される、複数の機器ごとの保守作業の適切さを示すための指標である。具体的には、記憶回路６０は、当該立ち位置の候補となる区画情報と、保守作業対象となる複数の機器ごとに定められる、保守作業者の立ち位置として使用する区画の優先度情報とを関連付けた第１テーブルを記憶する。上記優先度とは、保守作業対象となった機器に対して保守作業を行う場合に、当該保守作業者の立ち位置として優先的に使用する区画を示すための指標である。また、記憶回路６０は、当該区画情報と、筐体の設置環境により決定される保守作業者の立ち位置それぞれの使用可否情報とを関連付けた第２テーブルを記憶する。なお、上記第１テーブルと第２テーブルとの具体例については、後ほど、保守作業対象機器の保守作業に適した保守作業者の立ち位置を特定するための処理の流れと共に記載する。
【００２７】
記憶回路６０は、保守作業対象機器を、特定した立ち位置において保守作業が容易に行える位置に移動させる、または、手動で移動可能にさせるための第１移動パターンを記憶する。また、記憶回路６０は、保守作業対象機器以外の機器を、特定した立ち位置における保守作業の妨げにならない位置に移動させる、または、手動で移動可能にさせるための第２移動パターンを記憶する。本実施形態では、保守作業者の立ち位置と当該第１移動パターンおよび第２移動パターンとを関連付けた第３テーブルとして、記憶回路６０に記憶する。なお、上記第３テーブルの具体例については、後ほど、機器の移動パターンについての説明と共に記載する。
【００２８】
システム制御回路７０は、ハードウェア資源として、ＣＰＵやＭＰＵ等のプロセッサと、ＲＯＭやＲＡＭ等のメモリとを含む。システム制御回路７０のメモリは、自動分析装置１における各構成を制御するための所定の動作制御プログラムを記憶する。当該システム制御回路７０のプロセッサは、所定の動作制御プログラムを読み出して実行することで、自動分析装置１における各構成の動作を統括して制御する。システム制御回路７０は、入力インターフェース回路４０から供給される電気信号等に基づいて、各構成の動作を制御する。例えば、システム制御回路７０は、サンプルアーム３３６、第１試薬庫３５０、第２試薬庫３７０、第１試薬プローブ３５４、第１試薬アーム３５６、第２試薬プローブ３７４、第２試薬アーム３７６、攪拌装置３２０、洗浄装置３２５、反応容器支持機構３１０、測光器１１等の動作を統括して制御する。
【００２９】
システム制御回路７０のメモリは、保守作業者の立ち位置を特定するための第１特定プログラムを記憶する。当該システム制御回路７０のプロセッサは、第１特定プログラムを読み出して実行することで、第１特定機能７１を実現する。システム制御回路７０は、第１特定機能７１を実現することで、筐体に関する設置環境情報を取得する。システム制御回路７０は、第１特定機能７１を実現することで、上記対応関係に基づいて、複数の機器のうちの保守作業対象機器における保守作業の適切度合いが高い立ち位置を特定する。具体的には、システム制御回路７０は、保守作業者により指定された保守作業対象機器に関する入力情報を基に当該第１テーブルを検索し、筐体の設置環境に関する設置環境情報を基に当該第２テーブルを検索することで、保守作業対象機器の保守作業に適した立ち位置を特定する。
【００３０】
システム制御回路７０のメモリは、特定した立ち位置に対応する移動パターンを特定するための第２特定プログラムを記憶する。当該システム制御回路７０のプロセッサは、第２特定プログラムを読み出して実行することで、第２特定機能７２を実現する。システム制御回路７０は、第２特定機能７２を実現することで、特定した立ち位置を基に、当該第３テーブルを検索する。システム制御回路７０は、検索結果を基に特定した立ち位置に対する保守作業対象機器に対応する第１移動パターンと保守作業対象機器以外の機器に対応する第２移動パターンとを特定する。
【００３１】
システム制御回路７０のメモリは、特定した立ち位置を保守作業者に通知するための通知プログラムを記憶する。当該システム制御回路７０のプロセッサは、通知プログラムを読み出して実行することで、通知機能７３を実現する。システム制御回路７０は、通知機能７３を実現することで、特定した立ち位置を保守作業者に通知する。なお、保守作業者へ特定した立ち位置を通知する手法については、後ほど具体的に記載する。
【００３２】
ここで、保守作業対象機器の保守作業に適した保守作業者の立ち位置を特定し、特定した立ち位置を保守作業者に通知するための処理について、詳しく説明する。説明の便宜上、保守作業対象となる機器をサンプルアーム３３６、第１試薬アーム３５６、第２試薬アーム３７６に限定して、例示的に記載する。また、第１試薬アーム３５６を機器Ａ、第２試薬アーム３７６を機器Ｂ、サンプルアーム３３６を機器Ｃとして記載する。また、以降の実施形態では、保守作業者による保守作業対象機器の指定あるいは保守作業開始指示を契機として、保守作業の対象となる機器の保守作業に適した保守作業者の立ち位置を特定し、特定した立ち位置を保守作業者に通知するための処理を開始することとする。
【００３３】
図３は、実施形態に係る自動分析装置１の保守作業における、保守作業対象機器の保守作業に適した、保守作業者の立ち位置を特定するための処理の流れを示すフローチャートである。
【００３４】
ステップＳａ１において、まず、所定の設置形態で設置された筐体と、筐体周辺に設定された保守作業者の立ち位置候補となる区画ａ〜ｈとを表示するための初期画面を表示する。図４は、初期画面の一例を示す図である。なお、初期画面には、所定の設置形態で設置された筐体と、筐体周辺に設定された保守作業者の立ち位置の候補となる区画ａ〜ｈとが表示されるとしたが、これに限定されない。例えば、筐体から見た設置部屋の壁および他の設置機器の配置等の周辺環境情報や筐体に接続された外付け機器情報を表示してもよい。
【００３５】
ステップＳａ２において、システム制御回路７０は、保守作業者により指定された保守作業対象機器に関する入力情報と、筐体の設置環境に関する設置環境情報とを取得する。設置環境情報には、例えば、筐体の設置形態に関する情報と、筐体の周辺環境に関する情報とが含まれる。なお、設置環境情報は、筐体の据え付け作業において記憶回路６０に予め記憶されていても、保守作業者により入力されてもよい。
【００３６】
ステップＳａ３において、システム制御回路７０は、システム制御回路７０は、保守作業者により指定された保守作業対象機器に関する入力情報を基に当該第１テーブルを検索し、筐体の設置環境に関する設置環境情報を基に当該第２テーブルを検索する。ステップＳａ４において、システム制御回路７０は、ステップＳａ３における検索結果を基に、保守作業者の立ち位置を特定する。
【００３７】
ここで、ステップＳａ３における検索からステップＳａ４における保守作業者の立ち位置の特定の流れについて、具体的に記載する。まず、第１テーブルおよび第２テーブルについて記載する。
【００３８】
図５は、筐体の周囲に設定された保守作業者の立ち位置の候補となる区画情報を示す図である。図６は、図１に示す記憶回路６０に記憶される、当該第１テーブルの一例を示す図である。図６に示すように、記憶回路６０は、図６に示す筐体の周囲に設定された区画ａ〜ｈと、保守作業対象となる機器ごとに定められる、保守作業者の立ち位置として使用する区画ａ〜ｈの優先度１〜８とを関連付けて記憶する。本実施形態において、優先度は、１に近いほど高く、８に近いほど低い。また、優先度が高いほど、所定の立ち位置における保守作業対象機器の保守作業に適しており、優先度が低いほど、所定の立ち位置における保守作業対象機器の保守作業に適していない。このため、保守作業対象機器の保守作業を行う場合、優先度が高い区画を優先的に選択し、選択した区画において保守作業を行うこととする。
【００３９】
図７は、図１に示す記憶回路６０に記憶される、当該第２テーブルの一例を示す図である。図７に示すように、記憶回路６０は、当該区画情報と、筐体の設置環境により決定される保守作業者の立ち位置ａ〜ｈの使用可否情報とを関連付けた第２テーブルを記憶する。
【００４０】
具体的には、図７に示すように、自動分析装置１の設置形態（デフォルト、連結（左端）、連結（右端）、連結（中央）、ＬＡＳ）ごとに、立ち位置ａ〜ｈの使用可否情報が設定される。ここで、図７における設置形態（デフォルト）とは、筐体を１台設置する形態である。すなわち、設置形態がデフォルトの場合、筐体の周囲に設定されるすべての区画が保守作業者の立ち位置として使用可能である。設置形態（連結（左端））とは、デフォルトで設置された筐体の左端に、別の筐体を設置する形態である。すなわち、設置形態が連結（左端）の場合、筐体の周囲に設定される区画のうち、区画ａおよびｂが使用不可である。設置形態（連結（右端））とは、デフォルトで設置された筐体の右端に、別の筐体を設置する形態である。すなわち、設置形態が連結（右端）の場合、筐体の周囲に設定される区画のうち、区画ｅおよびｆが使用不可である。設置形態（連結（中央））とは、デフォルトで設置された筐体の両端に、別の筐体を設置する形態である。すなわち、設置形態が連結（両端）の場合、筐体の周囲に設定される区画のうち、区画ａ、ｂ、ｅおよびｆが使用不可である。設置形態（ＬＡＳ）とは、例えば、デフォルトで設置された筐体の背面に、検体自動搬送システム（Laboratory Automation System）を設置する形態である。すなわち、設置形態がＬＡＳの場合、筐体の周囲に設定される区画のうち、区画ｇおよびｈが使用不可である。
【００４１】
ステップＳａ３において、システム制御回路７０は、保守作業者により指定された保守作業対象機器に関する入力情報を基に、第１テーブルを検索する。例えば、設置形態がデフォルト、かつ保守作業者の指定により機器Ａの保守作業を行う場合、システム制御回路７０は、機器Ａの保守作業を行う区画のうち、優先度が最も高い区画ｂを保守作業者の立ち位置として選択する。さらに、システム制御回路７０は、取得した設置形態に関する設置形態情報を基に、第２テーブルを検索する。設置形態がデフォルトの場合、すべての区画が使用可能である。ステップＳａ４において、システム制御回路７０は、ステップＳａ３における検索結果を基に、区画ｂを保守作業者の立ち位置として特定する。
【００４２】
ステップＳａ５において、システム制御回路７０は、特定した立ち位置である区画ｂを保守作業者に通知する。
【００４３】
（特定した立ち位置を保守作業者へ通知する手法）
図８Ａおよび図８Ｂは、保守作業者へ特定した立ち位置を通知する手法１を示す図である。ステップＳａ５において、システム制御回路７０は、特定した立ち位置と、特定した立ち位置において行う保守作業指示内容とをグラフィカルに表現した表示画面をディスプレイ３２に表示する。これにより、図８Ａに示すように、図４に示す初期画面に加えて、特定した立ち位置に立つ保守作業者アイコンＯＰと特定した立ち位置において行う保守作業指示内容とを表示した表示画面をディスプレイ３２に表示することが可能となる。
【００４４】
ここで、図８Ａに示す表示画面を表示した後、さらに、図８Ｂに示す、次の立ち位置に立つ保守作業者アイコンＯＰと、立ち位置において行う次の保守作業指示内容とをグラフィカルに表現した表示画面を表示してもよい。これにより、保守作業工程をグラフィカルに表示することが可能となる。また、自動分析装置１の設置形態あるいは周辺環境により、カバー外し等の追加作業が発生する場合、追加作業指示をグラフィカルに表現した表示画面を表示してもよい。
【００４５】
図９Ａおよび図９Ｂは、保守作業者へ特定した立ち位置を通知する手法２を示す図である。図９Ａに示すように、筐体の周囲に設定された区画ａ〜ｈそれぞれに対応する位置通知機器を筐体、あるいは筐体周辺に設置する。例えば、区画ａ〜ｈそれぞれに対応するＬＥＤ等の照明機器を設置する。ステップＳａ５において、システム制御回路７０は、特定した立ち位置を通知するための通知信号を特定した立ち位置に対応する照明機器に出力する。これにより、図９Ｂに示すように、特定した立ち位置を、当該特定した立ち位置に対応する照明機器により通知することが可能となる。
【００４６】
なお、システム制御回路７０は、音声により保守作業者の立ち位置を通知してもよい。この場合、筐体に設けられたスピーカを介して、特定した立ち位置を通知する音声を出力してもよい。
【００４７】
ここで、特定した立ち位置において保守作業する前に、機器を移動する移動パターンを特定し、特定した移動パターンにより機器を移動する流れについて、詳しく説明する。以降、保守作業対象機器以外の機器は、単に非対象機器と記載する。
【００４８】
（保守作業対象機器のみを移動する場合の移動パターン）
図１０は、実施形態に係る自動分析装置１の保守作業における、保守作業対象機器の移動させるための制御の流れを示すフローチャートである。
【００４９】
ステップＳｂ１において、システム制御回路７０は、ステップＳａ３で特定した立ち位置を基に、第３テーブルを検索する。ステップＳｂ２において、システム制御回路７０は、ステップＳｂ１における検索結果を基に、機器の移動パターンを特定する。ステップＳｂ３において、システム制御回路７０は、特定した機器の移動パターンに従って、保守作業対象機器を所定の位置に移動させるよう、保守作業対象機器に対応する駆動装置を制御する。
【００５０】
ここで、ステップＳｂ１における検索からステップＳｂ３における機器の移動パターンに従った機器の移動について、具体的に記載する。まず、第３テーブルについて記載する。
【００５１】
図１１は、図１に示す記憶回路６０に記憶される、当該第３テーブルの一例を示す図である。図１１に示すように、記憶回路６０は、当該区画ａ〜ｈと、区画ａ〜ｈに対する保守作業対象機器を移動させるための移動パターンとを関連付けた第３テーブルを記憶している。ここで、保守作業対象機器である各アームの移動経路の中央と、右端と、左端とを、移動パターンに応じて機器を移動させる所定の移動位置として設定する。以降、移動経路の右端を時計回りの端（ＣＷ（Clockwise）端）、移動経路の左端を反時計回りの端（ＣＣＷ（Counter Clockwise）端）と呼称する。
【００５２】
ステップＳｂ１において、システム制御回路７０は、特定した立ち位置を基に第１テーブルを検索する。例えば、特定した区画ｂにおいて機器Ａの保守作業を行う場合、システム制御回路７０は、機器Ａの保守作業を行うための移動パターンのうち、特定した区画ｂに対応するパターンＡｂを機器の移動パターンとして選択する。ステップＳｂ２において、システム制御回路７０は、ステップＳｂ１における検索結果を基に、保守作業を行う区画ｂに対応するパターンＡｂを特定する。
【００５３】
ステップＳｂ３において、システム制御回路７０は、特定したパターンＡｂに従って、保守作業対象機器を上記所定の移動位置に移動させるよう、保守作業対象機器に対応する駆動装置（図示せず）を制御する。図１２Ａは、図１１に示すパターンＡｂを示す図である。図１２Ｂは、図１２Ａに示すパターンＡｂで移動させた機器Ａと、非対象機器である機器ＢおよびＣとを示す図である。具体的には、反応機構制御回路１２は、システム制御回路７０からのパターンＡｂに応じた指示により、機器ＡをＣＣＷ端に移動する。これにより、保守作業対象機器である機器Ａを、区画ｂにおいて保守作業が容易な位置であるＣＣＷ端に移動することが可能となる。
【００５４】
なお、パターンＡｂの場合、非対象機器である機器Ｂと機器Ｃとは、機器Ａのように移動させる必要はない。しかしながら、もし、機器Ａの保守作業の妨げになる場合、反応機構制御回路１２は、機器Ｂと機器Ｃとを、機器Ａの保守作業の妨げにならない位置に手動で移動可能にする。この場合、当該駆動装置に設けられるモータの励磁を遮断することにより、手動で移動可能となる。
【００５５】
（保守作業対象機器の移動と非対象機器の移動とを行う場合の移動パターン）
図１３Ａは、図１１に示すパターンＢｄを示す図である。図１３Ｂは、図１３Ａに示すパターンＢｄで移動させた機器Ｂと、非対象機器ＣおよびＡとを示す図である。
【００５６】
図１３Ｂに示すように、区画ｄから機器Ｂの保守作業を行う場合、機器Ｃが機器Ｂの保守作業の妨げになる。このため、システム制御回路７０は、機器Ｂを保守作業の妨げにならない位置に移動させるための移動パターンを特定する。具体的には、システム制御回路７０は、機器Ｂの保守作業を行う場合に機器を移動させるための移動パターンのうち、区画ｄに対応するパターンＢｄを機器の移動パターンとして特定する。システム制御回路７０は、特定したパターンＢｄに従って、保守作業対象機器と非対象機器とを上記所定の移動位置に移動させるよう、保守作業対象機器と非対象機器とにそれぞれ対応する駆動装置（図示せず）を制御する。具体的には、反応機構制御回路１２は、システム制御回路７０からのパターンＢｄに応じた指示により、機器Ｃを保守作業の妨げにならないＣＣＷ端に移動する。また、反応機構制御回路１２は、保守作業が容易になるよう機器Ｂを移動経路の中央に移動する。これにより、保守作業対象機器である機器Ｂを、区画ｄにおいて保守作業が容易な位置である移動経路の中央に移動させることが可能となる。また、非対象機器である機器Ｃを、保守作業の妨げにならない位置であるＣＣＷ端に移動することが可能となる。
【００５７】
なお、パターンＢｄの場合、非対象機器である機器Ｃは、機器Ａと機器Ｂとのように移動させる必要はない。しかしながら、もし、機器Ｂの保守作業の妨げになる場合、反応機構制御回路１２は、機器Ａを、機器Ｂの保守作業の妨げにならない位置に手動で移動可能にする。この場合、当該駆動装置に設けられるモータの励磁を遮断することにより手動で移動可能となる。
【００５８】
（筐体の設置形態により使用不可の区画がある場合において、保守作業対象機器を移動する場合の移動パターン）
図１４Ａは、図１１に示すパターンＡｃを示す図である。図１４Ｂは、図１４Ａに示すパターンＡｃで移動させた機器Ａと、非対象機器ＢおよびＣとを示す図である。
【００５９】
図１４Ｂに示すように、設置形態が連結（左端）の場合、区画ａおよびｂが使用不可となる。すなわち、当該設置形態で機器Ａの保守作業を行う場合、優先度が最も高い区画ｂが、設置された別の筐体により使用不可となるため、区画ｂの次に優先度が高い区画ｃを使用して機器Ａの保守作業を行う。区画ｃから機器Ａの保守作業を行う場合、システム制御回路７０は、機器Ａの保守作業を行う場合に機器を移動させるための移動パターンのうち、区画ｃに対応するパターンＡｃを機器の移動パターンとして特定する。システム制御回路７０は、特定したパターンＡｃに従って、保守作業対象機器と非対象機器とを上記所定の移動位置に移動させるよう、保守作業対象機器と非対象機器とにそれぞれ対応する駆動装置（図示せず）を制御する。具体的には、反応機構制御回路１２は、保守作業が容易になるよう機器ＡをＣＷ端に移動する。これにより、保守作業対象機器である機器Ａを、区画ｃにおける保守作業が容易な位置であるＣＷ端に移動することが可能となる。
【００６０】
なお、パターンＡｃの場合、非対象機器である機器Ｂと機器Ｃとは、機器Ａのように移動させる必要はない。しかしながら、もし、機器Ａの保守作業の妨げになる場合、反応機構制御回路１２は、機器Ｂと機器Ｃとを、機器Ａの保守作業の妨げにならない位置に手動で移動可能にする。この場合、当該駆動装置に設けられるモータの励磁を遮断することにより手動で移動可能となる。
【００６１】
（利き手や身長等の保守作業者情報に応じた機器の移動パターン）
図１５Ａは、図１１に示すパターンＢｃを示す図である。図１５Ｂは、図１５Ａに示すパターンＢｃで移動させた機器Ｂと、非対象機器ＣおよびＡとを示す図である。
【００６２】
図１５Ｂに示すように、設置形態がＬＡＳの場合、優先度の高い区画ｇおよび区画ｈが使用不可となる。このため、当該設置形態において機器Ｂの保守作業を行う場合、区画ｇおよび区画ｈの次に優先度の高い区画ｃから機器Ｂの保守作業を行う。この場合、機器Ｃが機器Ｂの保守作業の妨げになる。このため、システム制御回路７０は、機器Ｂを保守作業の妨げにならない位置に移動させるための移動パターンを特定する。具体的には、システム制御回路７０は、機器Ｂの保守作業を行う場合に機器を移動させるための移動パターンのうち、区画ｃに対応するパターンＢｃを機器の移動パターンとして特定する。システム制御回路７０は、特定したパターンＢｃに従って、保守作業対象機器と非対象機器とを上記所定の移動位置に移動させるよう、保守作業対象機器と非対象機器とにそれぞれ対応する駆動装置（図示せず）を制御する。具体的には、反応機構制御回路１２は、機器Ｃを保守作業の妨げにならないＣＷ端に移動する。また、反応機構制御回路１２は、保守作業が容易になるよう機器ＢをＣＷ端に移動する。これにより、保守対象機器である機器Ｂを、区画ｃにおいて保守作業が容易な位置であるＣＷ端に移動させることが可能となる。また、非対象機器である機器Ｃを、保守作業の妨げにならない位置であるＣＷ端に移動することが可能となる。
【００６３】
しかしながら、上記立ち位置において保守作業を行う適切度合いが異なる場合がある。例えば、保守作業者が左利きの場合、右利きの保守作業者より機器Ｂの保守作業が困難である。このため、本実施形態では、保守作業者の利き手に応じて、特定した立ち位置を変更することが可能である。
【００６４】
システム制御回路７０は、当該立ち位置の変更に伴い、変更した立ち位置に対応する移動パターンを特定し、特定した移動パターンに従って、機器を移動させる。この場合、保守作業を行う保守作業者の利き手情報を保守作業者情報として記憶回路６０に予め記憶する。
【００６５】
図１５Ｃは、保守作業者の利き手に応じて移動させた機器Ｂと、非対象機器ＣおよびＡとを示す図である。
【００６６】
図１５Ｃに示すように、保守作業者が左利きであると想定して、移動パターンを変更する。具体的には、システム制御回路７０は、パターンＢｃをパターンＢｄに変更する。システム制御回路７０は、特定したパターンＢｄに従って、保守作業対象機器と非対象機器とを上記所定の移動位置に移動させるよう、保守作業対象機器と非対象機器とにそれぞれ対応する駆動装置（図示せず）を制御する。具体的には、反応機構制御回路１２は、保守作業が容易になるよう機器Ｂを、移動経路の中央に移動する。また、反応機構制御回路１２は、機器Ｃを保守作業の妨げにならないＣＣＷ端に移動する。これにより、保守作業対象機器である機器Ｂを、区画ｄにおいて、左利きの保守作業者にとって保守作業が容易な位置である移動経路の中央に移動することが可能となる。また、非対象機器である機器Ｃを、左利きの保守作業者にとって保守作業の妨げにならない位置であるＣＣＷ端に移動することが可能となる。
【００６７】
なお、保守作業を行う保守作業者の利き手情報を保守作業者情報として記憶回路６０に記憶するとしたが、これに限定されない。本実施形態では、保守作業者による入力により特定した立ち位置を変更してもよい。
【００６８】
（総括）
以上の説明の通り、実施形態に係る自動分析装置１は、筐体に設けられる複数の機器と、記憶回路６０と、システム制御回路７０とを備える。記憶回路６０は、筐体の周囲に設定された保守作業者の立ち位置と、筐体の設置環境に応じた、立ち位置における複数の機器ごとの保守作業の容易度との対応関係を記憶する。システム制御回路７０は、当該対応関係に基づいて、複数の機器のうちの保守作業対象機器における保守作業の容易度が高い立ち位置を特定する第１特定機能７１を実現する。
【００６９】
上記構成によれば、実施形態に係る自動分析装置１は、省スペース化と高性能化との両立によって筐体内の凝集度が上昇しても、保守作業の妨げとなる機器を移動させることが可能なため、保守作業時の作業領域を確保することができる。これにより、保守作業効率を向上することができる。また、作業領域の確保を、保守作業者の装置への習熟度によらずに実現することができる。また、作業領域の確保を、設置環境によらずに実現することができる。また、保守作業工程をグラフィカルに表現することが可能であるため、経験の浅い保守作業者であっても、熟練した保守作業者のように効率よく保守作業を進めることができる。また、筐体の設置環境に関する情報のみを保守作業者に提示することにより、筐体の設置環境に関する視認性が向上する。
【００７０】
かくして、保守作業の効率化を可能とする自動分析装置を提供することができる。
【００７１】
なお、保守作業者は、当該装置の保守作業を日々の業務として特化して行う装置ベンダー系列のサービスマンに限定されるものではなく、当該装置が設置されている施設のスタッフや検査技師等であっても良い。
【００７２】
また、上述した各実施形態の各プロセッサは、プロセッサごとに単一の回路として構成される場合に限らず、複数の独立した回路を組み合わせて１つのプロセッサとして構成し、その機能を実現するようにしてもよい。さらに、図１および図７における各処理回路を各制御回路に統合してその機能を実現するようにしてもよい。
【００７３】
また、上記各実施形態において、プロセッサは、特定用途向け集積回路（ＡＳＩＣ：Application Specific Integrated Circuit）やプログラマブル論理デバイス（単純プログラマブル論理デバイス（ＳＰＬＤ：Simple Programmable Logic Device）、複合プログラマブル論理デバイス（ＣＰＬＤ：Complex Programmable Logic Device）、フィールドプログラマブルゲートアレイ（ＦＰＧＡ：Field Programmable Gate Array）等）により実現されてもよい。
【００７４】
以上、本発明の実施形態を説明したが、この実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。この新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。この実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。
【符号の説明】
【００７５】
１…自動分析装置、１０…反応機構、１１…測光器、１２…反応機構制御回路、２０…分析装置、２１…試料分析回路、２２…メモリ、３０…出力装置、３１…プリンタ、３２…ディスプレイ、４０…入力インターフェース回路、５０…通信インターフェース回路、６０…記憶回路、７０…システム制御回路、３１０…反応容器支持機構、３１２…反応容器、３２０…攪拌装置、３２２…攪拌アーム、３２４…攪拌子、３２５…洗浄装置、３３４…サンプルプローブ、３３６…サンプルアーム、３５０…第１試薬庫、３５２…第１試薬容器、３５４…第１試薬プローブ、３５６…第１試薬アーム、３７０…第２試薬庫、３７２…第２試薬容器、３７４…第２試薬プローブ、３７６…第２試薬アーム。
【図１】
0006595318.tif 000002
【図２】
0006595318.tif 000003
【図３】
0006595318.tif 000004
【図４】
0006595318.tif 000005
【図５】
0006595318.tif 000006
【図６】
0006595318.tif 000007
【図７】
0006595318.tif 000008
【図８Ａ】
0006595318.tif 000009
【図８Ｂ】
0006595318.tif 000010
【図９Ａ】
0006595318.tif 000011
【図９Ｂ】
0006595318.tif 000012
【図１０】
0006595318.tif 000013
【図１１】
0006595318.tif 000014
【図１２Ａ】
0006595318.tif 000015
【図１２Ｂ】
0006595318.tif 000016
【図１３Ａ】
0006595318.tif 000017
【図１３Ｂ】
0006595318.tif 000018
【図１４Ａ】
0006595318.tif 000019
【図１４Ｂ】
0006595318.tif 000020
【図１５Ａ】
0006595318.tif 000021
【図１５Ｂ】
0006595318.tif 000022
【図１５Ｃ】
0006595318.tif 000023