(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
部品（３）上でマイクロアーク酸化処理を行うためのデバイス（１）であって、デバイス（１）は、
処理される部品（３）、および処理される部品に面して位置する対極（７）を備える処理チャンバ（１０）であって、処理される部品（３）は、処理チャンバ（１０）の第１の壁を構成し、対極（７）は、第１の壁に面して位置する処理チャンバ（１０）の壁を構成する、処理チャンバ（１０）と；
交流を印加するように構成されている発電機（５）であって、発電機の第１の端子は、処理される部品（３）に電気的に接続され、発電機の第２の端子は、対極（７）に電気的に接続されている、発電機（５）と；
電解質（１１）を貯蔵および循環させるためのシステム（２０）と
を備え、
システム（２０）は、
電解質（１１）を格納するための、処理チャンバ（１０）とは異なる貯蔵槽（２１）であって、処理チャンバ（１０）は貯蔵槽（２１）の容積よりも小さい容積を有する、貯蔵槽（２１）と；
電解質が貯蔵槽（２１）と処理チャンバ（１０）との間で流動するのを可能にするために、電解質を循環させるための回路（２３；２５）と
を備える、デバイス（１）。
【請求項２】
処理チャンバ（１０）の第２の壁を構成する少なくとも１つのシーリングガスケット（１３ａ；１３ｂ）を含み、第２の壁は第１の壁と異なることを特徴とする、請求項１に記載のデバイス（１）。
【請求項３】
電解質を貯蔵および循環させるためのシステム（２０）が、前記システム（２０）にわたる電解質（１１）の循環を駆動するためのポンプ（２７）をさらに含むことを特徴とする、請求項１または２に記載のデバイス（１）。
【請求項４】
（処理チャンバの容積）／（貯蔵槽の容積）の比率が０．２以下であることを特徴とする、請求項１から３のいずれか一項に記載のデバイス（１０）。
【請求項５】
電解質を循環させるための回路（２３；２５）が、
貯蔵槽（２１）から来る電解質（１１）が処理チャンバ（１０）に流動することを可能にするための第１のチャネル（２３）と；
電解質（１１）が処理チャンバ（１０）から貯蔵槽（２１）に流動することを可能にするための第２のチャネル（２５）と
を備えることを特徴とする、請求項１から４のいずれか一項に記載のデバイス（１０）。
【請求項６】
デバイスは、第１のチャネル（２３）および／または第２のチャネル（２５）内を流動する電解質（１１）に関連した情報を決定するセンサ（６０）を含み、
このセンサは、マイクロアーク酸化処理の少なくとも１つの特性を変更するような様式で、発電機（５）に作用するように構成されていることを特徴とする、請求項５に記載のデバイス。
【請求項７】
部品（３）を陽極酸化する方法であって、
請求項１から６のいずれか一項に記載のデバイス（１）を使用したマイクロアーク酸化処理により、部品（３）の表面（Ｓ）上にコーティングを形成するステップを含み、マイクロアーク酸化処理の間、処理チャンバ（１０）内には電解質（１１）が存在し、電解質は、マイクロアーク酸化処理の間、電解質循環回路（２３；２５）内を流動する、方法。
【請求項８】
マイクロアーク酸化処理の間、
貯蔵槽（２１）から来る電解質（１１）が、第１のチャネル（２３）を通して処理チャンバ（１０）に流動すること；および
電解質（１１）が、第２のチャネル（２５）を通して処理チャンバ（１０）から貯蔵槽（２１）に流動すること
を特徴とする、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
処理チャンバ（１０）内に存在する電解質（１１）が、マイクロアーク酸化処理の間継続的に取り替えられることを特徴とする、請求項７または８に記載の方法。
【請求項１０】
電解質（１１）が、１分当たり処理チャンバ（１０）の容積の０．１倍から１０倍の範囲内にある流量で、電解質循環回路（２３；２５）内を流動することを特徴とする、請求項７から９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
貯蔵槽（２１）に戻る前に、第２のチャネル（２５）内を流動する電解質（１１）を濾過するステップをさらに含むことを特徴とする、請求項８から１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
第１のチャネル（２３）および／または第２のチャネル（２５）内を流動する電解質（１１）に関連した情報を少なくとも決定するステップと；
マイクロアーク酸化処理の少なくとも１つの特性を変更するステップであって、この変更は、電解質について決定された情報に応じて行われる、変更するステップと
をさらに含むことを特徴とする、請求項８から１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
決定される電解質に関連した情報は、電解質中の金属種の濃度、電解質のｐＨおよび導電率といったパラメータの１つまたは複数に関連することを特徴とする、請求項１２に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、陽極酸化処理、好ましくはマイクロアーク陽極酸化処理を行うためのデバイスに関し、また関連した方法にも関する。
【背景技術】
【０００２】
マグネシウム、アルミニウム、またはチタンをベースとした合金を、マイクロアーク陽極酸化により処理することが知られている。その技術は、非常に低い空隙率を有し、硫酸法陽極酸化（ＳＡＯ）、クロム酸法陽極酸化（ＣＡＯ）、またはリン酸法陽極酸化（ＰＡＯ）等の従来の陽極酸化により得ることができる非晶質酸化物の硬度よりもはるかに高い硬度の層を作製するのに役立つ。具体的には、マイクロアーク陽極酸化処理において、部品の表面上の酸化物層は、陽極酸化ステップの間に形成する非晶質酸化物を結晶化させるように極めて局所的に部品表面の温度を上昇させる能力を有するマイクロアークの形成をもたらす、微小放電を発生させる結果形成される。マイクロアーク陽極酸化処理において、部品は、水性電解質中に浸漬されてもよく、特定の電子発生器、および必要な場合には部品に一致する形状の対極による電気エネルギーの発振パルスに曝露される。次いで、そのような部品の表面において微視的な発光放電が視認され得るが、この放電は、水酸化物層における絶縁破壊に起因し、またこの放電は、マイクロプラズマとみなすことができる。
【０００３】
処理の主なパラメータ（電気信号の周波数、電流密度、部品が浴中に浸漬される期間、温度等）は、処理される部品の材料、その形状、および陽極酸化の層に求められる特性に応じて調整および制御され得る。
【０００４】
それにもかかわらず、大型槽（約０．５立方メートル（ｍ３）の容積を有する槽）におけるこのマイクロアーク陽極酸化技術によるコーティングの作製は、いくつかの制約をもたらし得る。
【０００５】
まず、この技術は、処理される部品（複数を含む）の大きな表面積を仮定して、高い値の二極式の電流を送達する発電機の使用を伴う可能性があり、これは、高レベルの電気消費量をもたらし得る。さらに、陽極酸化には高い電流が必要であるため、マイクロアーク陽極酸化により大面積の部品上にコーティングを得ることは困難となり得る。
【０００６】
さらに、マイクロアーク陽極酸化処理は、大量のエネルギーを消費するため、先行技術の浴処理における電解質の温度は、制御するのが困難となり得る。それにもかかわらず、コーティングが適切に作製されることを確実とするためには、浴の温度を制御する必要がある。浴の温度調節の要望は、比較的複雑な設備の使用をもたらし、それにより処理を行うための費用が大幅に増加する可能性がある。
【０００７】
先行技術のマイクロアーク陽極酸化方法の別の欠点は、陽極酸化処理が行われている間、浴内の電解質のある特定のパラメータを確実に測定することが困難となり得ることである。それでも、例えば、行われている陽極酸化処理をそのような測定から決定された情報に応じて変更することができるようにするためには、そのようなパラメータの確実な測定が望ましい。
【０００８】
最後に、部品の全表面上にマイクロアーク陽極酸化層が形成されるのを防止することを目的として、部品上の明確に指定されたゾーン内でマイクロアーク陽極酸化を行うために、ニス等の有機タイプ、または例えば従来の陽極酸化から得られる無機タイプであってもよいレジストを使用することが可能である。レジストは、特に、その下の部品の表面を電解質から電気的に絶縁し、それにより表面が陽極酸化されるのを防止するように機能する。それでも、レジストを適所に置くことは比較的高費用となり得、また製造の統合を大幅により複雑化し得る。さらに、マスキングステップは、実行が困難となり得、したがって処理を大幅により高費用とし得る。
【０００９】
したがって、陽極酸化処理、特にマイクロアーク陽極酸化処理が単純に、および低費用で行われることを可能にするデバイスを提供する必要がある。
【００１０】
また、陽極酸化処理の間、特にマイクロアーク陽極酸化処理の間の電解質の温度が効果的に制御されることを可能にするデバイスを提供する必要がある。
【００１１】
また、陽極酸化に追加して処理を行うのに好適であり、特に陽極酸化処理の間使用されている電解質のパラメータを確実に監視することを可能にする新規デバイスを提供する必要がある。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【００１２】
この目的のために、第１の態様において、本発明は、部品上で陽極酸化処理を行うためのデバイスであって、
処理される部品、および処理される部品に面して位置する対極を備える処理チャンバであって、処理される部品は、処理チャンバの第１の壁を構成する、処理チャンバと；
発電機であって、発電機の第１の端子は、処理される部品に電気的に接続され、発電機の第２の端子は、対極に電気的に接続されている、発電機と；
電解質を貯蔵および循環させるためのシステムであって、
電解質を格納するための、処理チャンバとは異なる貯蔵槽と；
電解質が貯蔵槽と処理チャンバとの間で流動するのを可能にするために、電解質を循環させるための回路と
を備えるシステムと
を備えるデバイスを提供する。
【００１３】
本発明は、電解質貯蔵槽から「遠隔」にある処理チャンバを使用する原理に依拠し、処理される部品は、処理チャンバの壁を形成する。先行技術において知られている陽極酸化デバイスとは異なり、処理される部品は、電解質中に浸漬されずに、処理される部品の表面のみが、陽極酸化処理の間電解質と接触する。当然ながら、処理される部品の表面は、電気伝導性であり、部品は、例えば、アルミニウム、マグネシウム、および／またはチタン等の金属で構成される。
【００１４】
本発明により、有利には、陽極酸化処理が処理チャンバ内の限定された体積に「集中」することが可能となり、また、処理される部品が浸漬される、先行技術の陽極酸化方法において使用される槽の容積よりも大幅に小さい容積の処理チャンバを使用することが可能となる。したがって、本発明において、処理される表面の寸法に釣り合う容積を有する処理チャンバが使用され、これはいくつかの利点をもたらす。
【００１５】
具体的には、本発明のデバイスを使用する間、発電機により送達される電力は、処理される表面積の寸法に明確に比例するため、本発明により、先行技術の方法と比較してエネルギー消費の点で節約を達成することが可能となる。さらに、航空学の分野においてしばしば見られる大型寸法の種類の部品、例えばアルミニウムで作製された部品は、有利には、既知の先行技術の方法において必要とされるような、それが完全に浸漬され得る槽に頼ることなく陽極酸化され得、したがって、陽極酸化処理の間使用される電解質の量の点で節約を達成することが可能となる。
【００１６】
したがって、処理される表面に釣り合う容積および形状の処理チャンバを使用した結果として、処理される表面積の寸法に釣り合う電流および電解質の量を使用することが可能である。さらに、そのような処理チャンバの使用は、レジストまたはマスクを置く高費用のステップを不要とする。
【００１７】
したがって、本発明は、陽極酸化処理、好ましくはマイクロアーク酸化処理が単純に、および低費用で行われることを可能にするデバイスを提供する。
【００１８】
本発明のデバイスは、好ましくは、マイクロアーク酸化処理を行う上で使用されるものである。
【００１９】
また、本発明のデバイスは、処理チャンバ内の電解質の効果的な取り替えを可能にすることにより、および処理チャンバを良好な混合条件下に維持することにより、処理されるゾーンにおいて発生している熱の作用に対するより良好な制御を有することを可能にする。この取り替えは、電解質が貯蔵槽から処理チャンバに流動すること、および電解質が処理チャンバから貯蔵槽に戻ることを可能にする、電解質を貯蔵および循環させるためのシステムにより可能となる。そのようなシステムは、陽極酸化処理に対するより良好な制御を有することに寄与し、必要とされる仕様に適合するように作製することがより容易なコーティングをもたらす。
【００２０】
有利には、電解質を貯蔵および循環させるためのシステムは、前記システムにわたる電解質の循環を駆動するためのポンプをさらに含んでもよい。
【００２１】
一実施形態において、デバイスは、電解質を循環させるための回路が、
貯蔵槽から来る電解質が処理チャンバに流動することを可能にするための第１のチャネルと、
電解質が処理チャンバから貯蔵槽に流動することを可能にするための第２のチャネルと
を備えるようなデバイスであってもよい。
【００２２】
有利には、処理チャンバは、貯蔵槽の容積よりも小さい容積を有してもよい。貯蔵槽の容積および処理チャンバの容積は、それぞれ、前記貯蔵槽および前記処理チャンバの内部容積（すなわち、壁の体積を含まない）に対応する。特に、（処理チャンバの容積）／（貯蔵槽の容積）の比率は、１以下、好ましくは０．２以下である。
【００２３】
一実施形態において、デバイスは、処理チャンバの第２の壁を構成する少なくとも１つのシーリングガスケットを含んでもよく、第２の壁は、第１の壁と異なる。特に、デバイスは、有利には、互いに面して位置し、処理チャンバの２つの別個の壁を構成する、２つのシーリングガスケットを含む。
【００２４】
一実施形態において、処理チャンバは、単一の区画を画定し得る。
【００２５】
本発明はまた、部品を陽極酸化する方法であって、
上で定義されたようなデバイスを使用した陽極酸化により、部品の表面上にコーティングを形成するステップを含み、陽極酸化処理の間、処理チャンバ内には電解質が存在し、電解質は、陽極酸化処理の間、電解質循環回路内を流動する、方法を提供する。
【００２６】
本発明の陽極酸化処理は、上述のような利点をもたらす。
【００２７】
好ましくは、陽極酸化処理は、マイクロアーク酸化処理である。
【００２８】
１つの実装において、電解質は、１分当たり処理チャンバの容積の０．１倍から１０倍の範囲内にある流量で、電解質循環回路内を流動し得る。
【００２９】
有利には、処理チャンバ内に存在する電解質は、陽極酸化処理の間継続的に取り替えられる。
【００３０】
１つの実装において、陽極酸化処理の間、
貯蔵槽から来る電解質は、第１のチャネルを通して処理チャンバに流動してもよく；
電解質は、第２のチャネルを通して処理チャンバから貯蔵槽に流動してもよい。
【００３１】
１つの実装において、方法はまた、貯蔵槽に戻る前に、第２のチャネル内を流動する電解質を濾過するステップをさらに含んでもよい。
【００３２】
１つの実装において、方法はまた、
第１のチャネルおよび／または第２のチャネル内を流動する電解質に関連した情報を少なくとも決定するステップと、
陽極酸化処理の少なくとも１つの特性を変更するステップであって、この変更は、電解質について決定された情報に応じて行われる、変更するステップと
をさらに含んでもよい。
【００３３】
本発明の他の特性および利点は、限定されない例として示される本発明の具体的実施形態の以下の説明から、および添付の図面を参照して明らかである。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】本発明のデバイスの一実施形態を示す図である。
【図２】本発明のデバイスの他の実施形態を示す図である。
【図３】本発明のデバイスの他の実施形態を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００３５】
図１は、本発明のデバイス１の一実施形態を示す。デバイス１は、処理される部品３および発電機５を備える。処理される部品３は、陽極酸化処理、好ましくはマイクロアーク酸化に供される部品である。発電機５は、この陽極酸化を行うように機能する。示されるように、発電機５の第１の端子は、部品３に電気的に接続され、発電機５の第２の端子は、部品３に面して位置する対極７に電気的に接続される。発電機５は、有利には、交流（ＡＣ）を印加するように構成される。
【００３６】
対極７は、好ましくは、ステンレススチールで作製される。より一般的には、陽極酸化処理の実行に適合する限り、任意の電気伝導性材料を対極７に使用することが可能である。
【００３７】
デバイス１は、陽極酸化処理が行われる処理チャンバ１０を有し、処理される部品３が、処理チャンバ１０の第１の壁を構成し、対極７が、第１の壁に面して位置する処理チャンバの壁を構成する。電解質１１は、処理チャンバ１０内の部品３と対極７との間に存在する。電解質１１は、部品３が陽極酸化処理に供されることを可能にする化学組成を有する。示されるように、対極７は、電解質１１中に浸漬されない。対極７は、処理チャンバ１０の壁を形成する。
【００３８】
したがって、示されるように、処理される部品３は、処理チャンバ１０内に存在する電解質１１中に浸漬されない。部品３は、部品３の処理される表面Ｓのみが電解質１１と接触するように、処理チャンバ１０の壁を構成する。示された例において、部品３は、その長さ全体にわたり、すなわちその最長寸法全体にわたり処理される。当然ながら、部品がその長さの一部のみにわたり処理されることは、本発明の範囲を超えるものではない。したがって、本発明の範囲内において、部品の表面の一部のみにわたり、または部品の全表面にわたり陽極酸化処理を行うことは、等しく可能である。
【００３９】
さらに、処理チャンバ１０は、互いに面して位置し、処理チャンバの２つの別個の壁を形成する、２つのシーリングガスケット１３ａおよび１３ｂを備える。示されるように、シーリングガスケット１３ａおよび１３ｂは、処理チャンバ１０の上端部および下端部に存在する。ガスケット１３ａおよび１３ｂは、可撓性材料で作製され得る。
【００４０】
したがって、デバイス１の示される実施形態において、陽極酸化に使用される電解質１１は、可撓性ガスケット１３ａおよび１３ｂを使用した静的シーリングにより、部品３と対極７との間に格納される。したがって、処理チャンバ１０は、部品３の表面Ｓをコーティングするための電解質１１のタンクを構成する。上述のように、処理チャンバ１０は、部品３の処理される表面Ｓの寸法および形状に適合した容積および寸法を有する。示される例において、処理チャンバ１０は、単一の区画を画定する。
【００４１】
さらに、デバイス１は、電解質１１を貯蔵および循環させるためのシステム２０を含む。システム２０は、電解質１１が貯蔵される貯蔵槽２１を備え、貯蔵槽内に貯蔵される電解質１１の温度は、冷却システム（図示せず）により決定される値に維持される。貯蔵槽１０内に存在する電解質１１のｐＨもまた、一定値に維持される。陽極酸化処理の間、貯蔵槽２１から来る電解質１１は、第１のチャネル２３に沿って処理チャンバ１０に流動する。システム２０はまた、電解質１１が処理チャンバ１０から貯蔵槽２１に流動することを可能にする第２のチャネル２５を有する。第２のチャネル２５は、処理チャンバ１０内に存在する電解質１１が放出されて貯蔵槽２１に戻され、そこで冷却され得ることを可能にする。電解質１１は、ポンプ２７によって、システム２０を通して循環させられる。例えば、ポンプ２７は、サプライヤーであるＴＫＥＮによりＹＢ１−２５の名称で販売されているポンプであってもよい。
【００４２】
図１は、電解質１１の流動方向を示す矢印を含んでいる。ポンプ２７により決定される電解質１１の流量によって、陽極酸化により所望のコーティングが作製され得るように処理チャンバ１０内の電解質１１が適切に取り替えられることが可能となる。ポンプ２７が、電解質１１を１分当たり処理チャンバ１０の約１つ分の容積に等しい流量で流動させることが有利となり得る。より一般的には、ポンプ２７は、有利には、電解質１１を、１分当たり処理チャンバ１０の容積の０．１倍から１０倍の範囲内にある流量で流動させることができる。
【００４３】
有利には、貯蔵槽２１から処理チャンバ１０への、および処理チャンバ１０から貯蔵槽２１への電解質１１の流動は、陽極酸化処理の期間中、中断されない。換言すれば、陽極酸化処理の間中、処理チャンバ１０内に存在する電解質１１を継続的に取り替えることが好ましい。
【００４４】
第１のチャネル２３は、その長さの全体または一部にわたり、１０センチメートル（ｃｍ）以下、例えば１ｃｍから３ｃｍの範囲内にある直径ｄ１を有してもよい。第２のチャネル２５は、その長さの全体または一部にわたり、１０ｃｍ未満、例えば１ｃｍから３ｃｍの範囲内にある直径ｄ２を有してもよい。処理チャンバ１０は、０．５ｍ３以下、例えば１０立方デシメートル（ｄｍ３）から４０ｄｍ３の範囲内にある容積を有してもよい。貯蔵槽２１は、０．５ｍ３以上、例えば０．５ｍ３から２ｍ３の範囲内にある容積を有してもよい。
【００４５】
ガスケット１３ａおよび１３ｂ、第１のチャネル２３、および第２のチャネル２５を形成する材料は、対極７と部品３との間を電気が通らないことを確実とするように選択される。
【００４６】
図１に示されるデバイス１は、部品ごとに陽極酸化処理を行うように機能する。示されるように、図１に示されるデバイス１により行われる方法は、有利には、部品３の表面Ｓの一部をマスキングするステップ、または処理される部品３の表面Ｓ上の適所に少なくとも１つのレジストを置くステップを含まない。
【００４７】
下の部品の表面に対して垂直に測定された、陽極酸化処理後に形成されたコーティングの最終的な厚さは、２マイクロメートル（μｍ）から２００μｍの範囲内にあってもよい。
【００４８】
以下は、上述のようなデバイス１でマイクロアーク酸化処理を行うために実施され得る操作条件の例である。
【００４９】
印加電流：４０アンペア毎平方デシメートル（Ａ／ｄｍ２）から４００Ａ／ｄｍ２；
電圧：１８０ボルト（Ｖ）から６００Ｖ；
パルス周波数：１０ヘルツ（Ｈｚ）から５００Ｈｚ；
処理期間：１０分（ｍｉｎ）から９０ｍｉｎ；
貯蔵槽内の電解質の温度：１７℃から３０℃。
貯蔵槽内の電解質のｐＨ：６から１２；および
貯蔵槽内の電解質の導電率：２００ミリジーメンス毎メートル（ｍＳ／ｍ）から５００ｍＳ／ｍ。
【００５０】
特に、マイクロアーク酸化処理を行うために、以下の組成を有する電解質１１を使用することが可能である。
【００５１】
純水；
５グラム毎リットル（ｇ／Ｌ）から５０ｇ／Ｌの範囲内にある濃度の水酸化カリウム（ＫＯＨ）；
５ｇ／Ｌから５０ｇ／Ｌの範囲内にある濃度のケイ酸ナトリウム（Ｎａ２ＳｉＯ３）；および
５ｇ／Ｌから５０ｇ／Ｌの範囲内にある濃度のリン酸カリウム（Ｋ３ＰＯ４）。
【００５２】
それでも、本発明は、マイクロアーク酸化方法の実行に限定されない。本発明のデバイスは、任意の種類の陽極酸化、例えば硫酸法陽極酸化（ＳＡＯ）、クロム酸法陽極酸化（ＣＡＯ）、スルホ酒石酸法陽極酸化（ｓｕｌｆｏｔａｒｔｒｉｃ  ａｎｏｄｉｃ  ｏｘｉｄａｔｉｏｎ：ＳＴＡＯ）、またはスルホリン酸法陽極酸化（ｓｕｌｆｏ−ｐｈｏｓｐｈｏｒｉｃ  ａｎｏｄｉｃ  ｏｘｉｄａｔｉｏｎ：ＳＰＡＯ）等を行うために使用され得る。
【００５３】
例えば、処理される部品は、例えばチタンで作製されたブレード、またはポンプ本体であってもよい。また、損傷した陽極酸化の層を修復するために本発明のデバイスを使用することも可能であり、デバイスによって、損傷したゾーンのみに陽極酸化によりコーティングが形成される局所的修復を行うことが可能となる。
【００５４】
示されていない変形例において、任意選択で同じ発電機に接続された複数の本発明のデバイスを使用して、複数の別個の部品を処理することが可能である。部品は、任意選択で、同時に処理されてもよい。
【００５５】
貯蔵槽２１は、電解質の貯蔵および取り替え専用であり、そこでは陽極酸化処理は行われない。貯蔵槽２１を処理チャンバ１０から隔離することにより、本発明のデバイスを、以下で詳細に説明されるように、陽極酸化に追加した処理を行うように構成することが可能である。本発明者が知る限り、陽極酸化に追加したこれらの処理は、最新技術において知られている方法では行われない、または十分には行われない。
【００５６】
図２は、本発明のデバイス１の変形例を示す。この例では、デバイス１はまた、処理チャンバ１０と貯蔵槽２１との間に位置するフィルタデバイス５２を有する。第２のチャネル２５内に存在する電解質は、フィルタデバイス５２を通して流動し、濾過された後、チャネル２５ａを介して貯蔵槽２１に戻される。例えば、そのようなフィルタデバイス５２を使用することにより、有利には、形成されている陽極層に付着していない粒子を排除し、それにより処理チャンバ１０に戻す前に電解質１１を精製することが可能となる。
【００５７】
図３は、本発明のデバイス１の変形例を示す。デバイス１は、第１のチャネル２３内を流動する電解質１１に関する情報を決定するためのセンサ６０を含む。決定される情報に応じて、このセンサ６０は、行われている陽極酸化処理の少なくとも１つの特性を変更するような様式で発電機５に作用することを可能にする。変形例において、センサは、行われている陽極酸化処理をこの情報に応じて変更するために、第２のチャネル内を流動する電解質に関する情報を決定してもよく、または実に、第１のチャネル内を流動する電解質に関する情報および第２のチャネル内を流動する電解質に関する情報の両方を決定してもよい。処理チャンバ１０の上流側および／または下流側で測定を行うことにより、本発明のデバイス１のこの実施形態は、有利には、反応チャンバ内で観察され得る情報よりも確実な情報を得ることを可能にし、したがって、決定された情報に応じて、処理チャンバ内で行われる陽極酸化を十分に制御することを可能にする。典型的には、センサにより決定される電解質に関する情報は、電解質中の金属種、例えばアルミニウムの濃度、電解質のｐＨおよび導電率といったパラメータの１つまたは複数に関連し得る。電解質は、陽極酸化が進行するにつれて徐々に金属種を含有するようになってもよいが、このパラメータにより、電解質のｐＨまたは導電率と同様、行われている陽極酸化処理に対して影響を与えることが可能となる。行われている陽極酸化に対する直接的な制御は、航空学の分野において使用される部品上で陽極酸化処理を行うために、および／または比較的長期間の陽極酸化処理を行う場合に特に有利となり得る。
【００５８】
「〜を含む／含有する／備える」という用語は、「少なくとも１つの〜を含む／含有する／備える」として理解されるべきである。
【００５９】
「〜から〜の範囲内」という用語は、その限界値を含むものとして理解されるべきである。
【図１】
0006591445.tif 000002
【図２】
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【図３】
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