(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）主鎖が一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位及び一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位（但し、ｎ＝７０〜１５０）を含むポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ−１）を含み、（Ａ）成分中の一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位の含有量が１．０〜２．８質量％であり、（Ａ）成分の粘度平均分子量が１９，０００〜３０，０００であるポリカーボネート樹脂成分１００質量部に、（Ｂ）酸化防止剤０．００１〜２質量部を配合してなり、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分以外の成分の含有量が、（Ａ）成分１００質量部に対して、それぞれ１０質量部以下である、耐日焼け止め剤性を有するポリカーボネート樹脂組成物（ただし、（Ａ）成分７０〜９７質量部、及び有機物で表面処理された、平均粒子径が０．５〜５．０μｍの酸化チタン３〜３０質量部を含有する場合、並びに電流遮断器筐体用のポリカーボネート樹脂組成物を除く）。
【化１−１】
0006503589.tif 000015
〔式中、Ｒ1及びＲ2は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のアルコキシ基を示す。Ｘは、単結合、炭素数１〜８のアルキレン基、炭素数２〜８のアルキリデン基、炭素数５〜１５のシクロアルキレン基、炭素数５〜１５のシクロアルキリデン基、フルオレンジイル基、炭素数７〜１５のアリールアルキレン基、炭素数７〜１５のアリールアルキリデン基、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、−Ｏ−又は−ＣＯ−を示す。ａ及びｂは、それぞれ独立に、０〜４の整数を示す。
Ｒ3及びＲ4は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又は炭素数６〜１２のアリール基を示す。ｎは、平均繰り返し数である。〕
【請求項２】
（Ａ）成分の粘度平均分子量が１９，５００〜３０，０００である、請求項１に記載のポリカーボネート樹脂組成物。
【請求項３】
（Ｂ）成分の酸化防止剤が、リン系酸化防止剤である、請求項１又は２に記載のポリカーボネート樹脂組成物。
【請求項４】
（Ａ）成分中の一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位の含有量が１．４〜２．４質量％である、請求項１〜３のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂組成物。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂組成物を成形してなる成形体。
【請求項６】
請求項５に記載の成形体からなる携帯型情報端末の筐体。
【請求項７】
請求項５に記載の成形体からなる携帯型情報端末の保護ケース。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ポリカーボネート系樹脂組成物、該樹脂組成物を成形してなる成形体、及び該成形体からなる携帯型情報端末用部材に関する。
【背景技術】
【０００２】
ポリカーボネート樹脂は、透明性、耐衝撃性、及び寸法安定性などに優れ、エンジニアリングプラスチックとして、電気・電子機器分野、自動車分野等様々な分野において幅広く利用されている。また、携帯電話、スマートフォン、タブレット端末、モバイルパソコン、デジタルカメラ、ビデオカメラ、及び電動工具などの筐体にもポリカーボネート樹脂が利用される。これらの用途では、取扱い時に落下等の可能性があることから耐衝撃特性（特に低温環境下）が重要であるとともに、意匠性（特に色彩）や耐薬品性も重要な因子である。
意匠性（特に色彩）については、色の深みや高級感などが発現しやすく、比較的着色が容易であることが重要であるため、透明性を有するポリカーボネート樹脂が好適である。また、前記用途を想定するポリカーボネート樹脂については、耐薬品性を改善するために例えば、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂との複合化など種々の検討（例えば、特許文献１〜３参照）がなされているが、耐衝撃特性が不十分である。
一方、ポリオルガノシロキサンを共重合したポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（以下、「ＰＣ−ＰＯＳ」と称する。）が知られている（例えば、特許文献４参照）。ＰＣ−ＰＯＳは耐衝撃性と透明性とのバランスに優れることから、前記用途への適用が期待されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１２−７７２３９号公報
【特許文献２】特開２００７−２３１１８公報
【特許文献３】特開２００９−１６２０公報
【特許文献４】特許第２６６２３１０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
このＰＣ−ＰＯＳは、携帯電話、スマートフォン、タブレット端末等の携帯型情報端末の外装部材（筐体や保護ケース）として使用されている。これらの携帯型情報端末は、屋外で取り扱われることも多く、日焼け止め剤を塗布した皮膚に接触することが多かった。特に、海水浴場等では、日焼け止め剤を多量に用いた後に、携帯型情報端末が使用されることも行われている。また、日常生活において、日焼け止め剤を塗布した手で、携帯電話等の携帯型情報端末を頻繁に用いることにより、日焼け止め剤が、携帯型情報端末用機器の外装部材に蓄積し、長期間の使用において、亀裂の発生、外装部材の塗装がはがれる等の問題点があった。【０００５】
日焼け止め剤には、紫外線吸収剤、紫外線散乱剤、一般に皮膚外用剤に使用される溶剤、乳化剤、油剤、及び添加剤等が含まれており、これらの成分がポリカーボネート樹脂に悪影響を及ぼしているのではないかと考えられる。
そこで、本発明の課題は、耐日焼け止め剤性、及び耐衝撃性に優れた成形体を得ることができるポリカーボネート樹脂組成物を提供することにある。また、耐日焼け止め剤性及び耐衝撃性に優れた成形体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、鋭意研究を重ねた結果、耐衝撃性と透明性とのバランスに優れることが知られているＰＣ−ＰＯＳのうち、特定のシロキサン繰り返し単位数を有し、かつシロキサン繰り返し単位を特定量含有するＰＣ−ＰＯＳを含む樹脂組成物であれば、耐日焼け止め剤性、及び耐衝撃特性に優れた樹脂組成物となることを見出し、本発明を完成させるに至った。
すなわち、本発明は、下記［１］〜［８］に関する。【０００７】
［１］（Ａ）主鎖が一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位及び一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位（但し、ｎ＝３０〜５００）を含むポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ−１）を含み、（Ａ）成分中の一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位の含有量が１．０〜３．０質量％であるポリカーボネート樹脂１００質量部に、（Ｂ）酸化防止剤０．００１〜２質量部を配合してなる、耐日焼け止め剤性を有するポリカーボネート樹脂組成物。【０００８】
【化１−１】
0006503589.tif 000002
【０００９】
〔式中、Ｒ1及びＲ2は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のアルコキシ基を示す。Ｘは、単結合、炭素数１〜８のアルキレン基、炭素数２〜８のアルキリデン基、炭素数５〜１５のシクロアルキレン基、炭素数５〜１５のシクロアルキリデン基、フルオレンジイル基、炭素数７〜１５のアリールアルキレン基、炭素数７〜１５のアリールアルキリデン基、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、−Ｏ−又は−ＣＯ−を示す。ａ及びｂは、それぞれ独立に、０〜４の整数を示す。
Ｒ3及びＲ4は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又は炭素数６〜１２のアリール基を示す。ｎは、平均繰り返し数である。〕
［２］（Ａ）主鎖が一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位及び一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位（但し、ｎ＝３０〜５００）を含むポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ−１）を含み、（Ａ）成分中の一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位の含有量が１．０〜３．０質量％であるポリカーボネート樹脂１００質量部に、（Ｂ）酸化防止剤０．００１〜２質量部を配合してなり、かつ、１２５×１３×３．２ｍｍの試験片を３サンプル作成し、成形温度２８０℃、金型温度８０℃で射出成形し、スパン距離８０ｍｍの３点曲げ試験法にて、２．０％の歪みをかけた後、紫外線吸収剤、紫外線散乱剤、乳化剤、油剤、添加剤、及びアルコールから選ばれる少なくとも１種を含む溶剤を含浸させた布をかけ、２３℃で２４０時間放置した後に、３個のサンプルとも亀裂が見られない、ポリカーボネート樹脂組成物。【００１０】
【化１−２】
0006503589.tif 000003
【００１１】
〔式中、Ｒ1及びＲ2は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のアルコキシ基を示す。Ｘは、単結合、炭素数１〜８のアルキレン基、炭素数２〜８のアルキリデン基、炭素数５〜１５のシクロアルキレン基、炭素数５〜１５のシクロアルキリデン基、フルオレンジイル基、炭素数７〜１５のアリールアルキレン基、炭素数７〜１５のアリールアルキリデン基、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、−Ｏ−又は−ＣＯ−を示す。ａ及びｂは、それぞれ独立に、０〜４の整数を示す。
Ｒ3及びＲ4は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又は炭素数６〜１２のアリール基を示す。ｎは、平均繰り返し数である。〕
［３］前記溶剤が、メトキシケイヒ酸エステル、アルコール、酢酸トコフェロール、及びグリセリンから選ばれる少なくとも１種を含む、上記［２］に記載のポリカーボネート樹脂組成物。
［４］（Ａ）成分の粘度平均分子量が１８，０００〜３０，０００である、上記［１］〜［３］のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂組成物。
［５］（Ｂ）成分の酸化防止剤が、リン系酸化防止剤である、上記［１］〜［４］のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂組成物。
［６］上記［１］〜［５］のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂組成物を成形してなる成形体。
［７］上記［６］に記載の成形体からなる携帯型情報端末の筐体。
［８］上記［６］に記載の成形体からなる携帯型情報端末の保護ケース。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、耐日焼け止め剤性、及び耐衝撃性に優れた成形体を得ることができるポリカーボネート樹脂組成物を提供することができる。また、耐日焼け止め剤性、及び耐衝撃性に優れた成形体を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本発明のポリカーボネート樹脂組成物は、下記特定の（Ａ）成分１００質量部及び下記特定の（Ｂ）成分０．００１〜２質量部を含有するポリカーボネート樹脂組成物である。
以下、本発明のポリカーボネート樹脂組成物が含有する成分について詳細に説明する。なお、本明細書において、好ましいとされている規定は任意に採用することができ、好ましいもの同士の組み合わせはより好ましいと言える。
【００１４】
［（Ａ）ポリカーボネート樹脂］
（Ａ）成分のポリカーボネート樹脂は、主鎖が一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位及び一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位（但し、ｎ＝３０〜５００）を含むＰＣ−ＰＯＳ（Ａ−１）を含む。
ＰＣ−ＰＯＳ（Ａ−１）は、１種を単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００１５】
【化２】
0006503589.tif 000004
【００１６】
〔式中、Ｒ1及びＲ2は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のアルコキシ基を示す。Ｘは、単結合、炭素数１〜８のアルキレン基、炭素数２〜８のアルキリデン基、炭素数５〜１５のシクロアルキレン基、炭素数５〜１５のシクロアルキリデン基、フルオレンジイル基、炭素数７〜１５のアリールアルキレン基、炭素数７〜１５のアリールアルキリデン基、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、−Ｏ−又は−ＣＯ−を示す。ａ及びｂは、それぞれ独立に、０〜４の整数を示す。
Ｒ3及びＲ4は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又は炭素数６〜１２のアリール基を示す。ｎは、平均繰り返し数である。〕
【００１７】
一般式（Ｉ）中、Ｒ1及びＲ2がそれぞれ独立して示すハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
Ｒ1及びＲ2がそれぞれ独立して示すアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、各種ブチル基（「各種」とは、直鎖状及びあらゆる分岐鎖状のものを含むことを示し、以下、同様である。）、各種ペンチル基、各種ヘキシル基が挙げられる。Ｒ1及びＲ2がそれぞれ独立して示すアルコキシ基としては、アルキル基部位が前記アルキル基である場合が挙げられる。
Ｒ1及びＲ2としては、いずれも、好ましくは炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数１〜４のアルコキシ基である。
Ｘが表すアルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基等が挙げられ、炭素数１〜５のアルキレン基が好ましい。Ｘが表すアルキリデン基としては、エチリデン基、イソプロピリデン基等が挙げられる。Ｘが表すシクロアルキレン基としては、シクロペンタンジイル基やシクロヘキサンジイル基、シクロオクタンジイル基等が挙げられ、炭素数５〜１０のシクロアルキレン基が好ましい。Ｘが表すシクロアルキリデン基としては、例えば、シクロヘキシリデン基、３，５，５−トリメチルシクロヘキシリデン基、２−アダマンチリデン基等が挙げられ、炭素数５〜１０のシクロアルキリデン基が好ましく、炭素数５〜８のシクロアルキリデン基がより好ましい。Ｘが表すアリールアルキレン基のアリール部位としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、アントリル基などの環形成炭素数６〜１４のアリール基が挙げられる。Ｘが表すアリールアルキリデン基のアリール部位としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、アントリル基などの環形成炭素数６〜１４のアリール基が挙げられる。
ａ及びｂは、それぞれ独立に０〜４の整数を示し、好ましくは０〜２、より好ましくは０又は１である。
【００１８】
一般式（ＩＩ）中、Ｒ3及びＲ4がそれぞれ独立して示すハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。Ｒ3及びＲ4がそれぞれ独立して示すアルキル基、アルコキシ基としては、Ｒ1及びＲ2の場合と同じものが挙げられる。Ｒ3及びＲ4がそれぞれ独立して示すアリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
なお、Ｒ3及びＲ4としては、いずれも、好ましくは、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又は炭素数６〜１２のアリール基であり、いずれもメチル基であることがより好ましい。
【００１９】
（Ａ）成分は、後述するように、上記（Ａ−１）成分に該当しないポリカーボネート系樹脂を（Ａ−２）成分として含有していてもよい。
ここで、（Ａ−１）成分の配合割合は、ポリカーボネート樹脂（Ａ）中の一般式（ＩＩ）で表される単位の含有量が１．０〜３．０質量％となるように調整すればよい。例えば、（Ａ）成分中の（Ａ−１）成分の含有量は、特に制限は無いが、好ましくは３０質量％以上、より好ましくは５０質量％以上、更に好ましくは７０質量％以上、特に好ましくは９０質量％以上である。
【００２０】
一般式（ＩＩ）で表される繰返し単位を含む構造としては、好ましくは、下記一般式（ＩＩ’）で表されるものである。
【化３】
0006503589.tif 000005
【００２１】
上記式（ＩＩ’）中、Ｒ3〜Ｒ6は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又は炭素数６〜１２のアリール基を示す。Ｙは単結合、脂肪族又は芳香族を含む有機残基を示す。ｎは、平均繰り返し数である。
Ｒ3〜Ｒ6としては、いずれも、好ましくは、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又は炭素数６〜１２のアリール基である。Ｙとしては、好ましくはアルキル基を有するフェノール系化合物の残基であり、アリルフェノール由来の有機残基やオイゲノール由来の有機残基がより好ましい。
また、一般式（ＩＩ）で表される繰返し単位を含む構造としては、下記式（ＩＩ”）であることも好ましい。
【化４】
0006503589.tif 000006
【００２２】
上記式（ＩＩ”）中、Ｒ3〜Ｒ6、Ｙ及びｎは、前記一般式（ＩＩ’）中のものと同様であり、好ましいものも同じである。
ｍは、０又は１を示す。
Ｚ’は、−Ｒ7Ｏ−、−Ｒ7ＣＯＯ−、−Ｒ7ＮＨ−、−ＣＯＯ−又は−Ｓ−を示し、該Ｒ7は直鎖、分岐鎖もしくは環状アルキレン基、アリール置換アルキレン基、環上にアルコキシ基を有してもよいアリール置換アルキレン基、アリーレン基を示す。
また、βは、ジイソシアネート化合物由来の２価の基又はジカルボン酸由来の２価の基を示す。該ジイソシアネート化合物由来の２価の基及びジカルボン酸由来の２価の基の具体例については後述する。
【００２３】
ＰＣ−ＰＯＳ（Ａ−１）では、上記一般式（ＩＩ）で表される構成単位における平均繰り返し数（ｎ）は３０〜５００であり、好ましくは３０〜３００、より好ましくは３０〜２００、さらに好ましくは３０〜１５０である。平均繰り返し数（ｎ）が３０未満であると、耐日焼け止め剤性（耐薬品性）及び低温時の耐衝撃性が低下する。平均繰り返し数（ｎ）が５００を超えると、原料ポリオルガノシロキサンの粘度が高くなりすぎ、共重合体を製造する際のハンドリングが困難となる。平均繰り返し数（ｎ）は、透明性を有する成形体を製造する観点からは、３０〜１５０の範囲内とすることが好ましい。
上記一般式（ＩＩ）で表される構成単位における平均繰り返し数（ｎ）の値は、核磁気共鳴（ＮＭＲ）測定により算出された値である。
このような特定のＰＣ−ＰＯＳ（Ａ−１）を用い、後述する（Ｂ）成分を所定量混合することにより、耐日焼け止め剤性、及び耐衝撃性が優れたものとすることができる。
【００２４】
ＰＣ−ＰＯＳ（Ａ−１）の粘度平均分子量（Ｍｖ）は、好ましくは１８，０００〜３０，０００であり、より好ましくは１８，５００〜２６，０００であり、さらに好ましくは１９，０００〜２５，０００、特に好ましくは１９，５００〜２４，０００である。ＰＣ−ＰＯＳの粘度平均分子量がこの範囲であれば、成形体の耐衝撃性が十分となり、ＰＣ−ＰＯＳの粘度が大きくなり過ぎずに製造時の生産性が安定的になり、薄肉の成形も容易となる。
なお、本発明において、粘度平均分子量（Ｍｖ）は、ウベローデ型粘度管にて、２０℃における塩化メチレン溶液の極限粘度〔η〕を測定し、Ｓｃｈｎｅｌｌの式（〔η〕＝１．２３×１０-5×Ｍｖ0.83）より算出した値である。
【００２５】
本発明では、耐日焼け止め剤性（耐薬品性）、及び耐衝撃性を改善する観点から、前記（Ａ）成分中、ＰＣ−ＰＯＳ（Ａ−１）中の一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位の含有量が１．０〜３．０質量％であること要し、好ましくは１．１〜２．９質量％、より好ましくは１．２〜２．８質量％である。とする。なお、（Ａ）成分中の一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位の含有量が１．０質量％未満であると低温時の耐衝撃性が低下するとともに、耐日焼け止め剤性が低下し、３．０質量％を超えると、耐日焼け止め剤性が低下する。
ここで、（Ａ）成分中の一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位の含有量は、核磁気共鳴（ＮＭＲ）測定により算出された値である。
【００２６】
ＰＣ−ＰＯＳ（Ａ−１）の製造方法に特に制限はなく、公知のＰＣ−ＰＯＳの製造方法、例えば、特開２０１０−２４１９４３号公報等に記載の方法を参照して容易に製造することができる。
具体的には、予め製造された芳香族ポリカーボネートオリゴマーと、末端に反応性基を有するポリオルガノシロキサンとを、非水溶性有機溶媒（塩化メチレン等）に溶解させ、下記一般式（１）で表される二価フェノール系化合物（ビスフェノールＡ等）のアルカリ性化合物水溶液（水酸化ナトリウム水溶液等）を加え、重合触媒として第三級アミン（トリエチルアミン等）や第四級アンモニウム塩（トリメチルベンジルアンモニウムクロライド等）を用い、末端停止剤（ｐ−ｔ−ブチルフェノール等の１価フェノール）の存在下、界面重縮合反応させることにより製造できる。なお、下記一般式（２）で表されるポリオルガノシロキサンの使用量を調整することなどにより、一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位の含有量を前記範囲内に調整することができる。
上記界面重縮合反応後、適宜静置して水相と非水溶性有機溶媒相とに分離し［分離工程］、非水溶性有機溶媒相を洗浄（好ましくは塩基性水溶液、酸性水溶液、水の順に洗浄）し［洗浄工程］、得られた有機相を濃縮［濃縮工程］、粉砕［粉砕工程］及び乾燥する［乾燥工程］ことによって、ＰＣ−ＰＯＳを得ることができる。
【００２７】
また、ＰＣ−ＰＯＳは、下記一般式（１）で表される二価フェノールと、下記一般式（２）で表されるポリオルガノシロキサンと、ホスゲン、炭酸エステル又はクロロホーメートとを共重合させることによっても製造できる。
【００２８】
【化５】
0006503589.tif 000007
ここで、一般式（１）中、Ｒ1及びＲ2、Ｘ、ａ及びｂは、上記一般式（Ｉ）と同じである。一般式（２）中、Ｒ3〜Ｒ6は、前記一般式（ＩＩ’）中のものと同じであり、ｎは前記一般式（ＩＩ）中のものと同じである。また、Ｙ’は、前記一般式（ＩＩ’）中のＹと同じである。
ｍは０又は１を示し、Ｚはハロゲン原子、−Ｒ7ＯＨ、−Ｒ7ＣＯＯＨ、−Ｒ7ＮＨ2、−ＣＯＯＨ又は−ＳＨを示し、Ｒ7は直鎖、分岐鎖もしくは環状アルキレン基、アリール置換アルキレン基、環上にアルコキシ基を有してもよいアリール置換アルキレン基、アリーレン基を示す。
好ましくは、Ｙ’は、単結合、脂肪族又は芳香族を含み、ＳｉとＯ又はＳｉとＺに結合している有機残基を示す。Ｒ3〜Ｒ6としては、いずれも、好ましくは、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又は炭素数６〜１２のアリール基である。ｎは上記と同じであり、ｍは０又は１を示す。
Ｚとしては、好ましくは−Ｒ7ＯＨ、−Ｒ7ＣＯＯＨ、−Ｒ7ＮＨ2、−ＣＯＯＨ又は−ＳＨである。該Ｒ7は、前記同様、直鎖、分岐鎖もしくは環状アルキレン基、アリール置換アルキレン基、環上にアルコキシ基を有してもよいアリール置換アルキレン基、アリーレン基を示す。
【００２９】
ＰＣ−ＰＯＳの原料である一般式（１）で表される二価フェノールとしては、特に限定されないが、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン〔通称：ビスフェノールＡ〕が好適である。二価フェノールとしてビスフェノールＡを用いた場合、一般式（Ｉ）において、Ｘがイソプロピリデン基であり、且つａ＝ｂ＝０のＰＣ−ＰＯＳとなる。
ビスフェノールＡ以外の二価フェノールとしては、例えば、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）オクタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ナフチルメタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−ｔ−ブチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−ブロモフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−クロロフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジブロモフェニル）プロパン等のビス（ヒドロキシアリール）アルカン類；１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，５，５−トリメチルシクロヘキサン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ノルボルナン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロドデカン等のビス（ヒドロキシアリール）シクロアルカン類；４，４’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルフェニルエーテル等のジヒドロキシアリールエーテル類；４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルスルフィド等のジヒドロキシジアリールスルフィド類；４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルスルホキシド等のジヒドロキシジアリールスルホキシド類；４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルスルホン等のジヒドロキシジアリールスルホン類；４，４’−ジヒドロキシジフェニル等のジヒドロキシジフェニル類；９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン等のジヒドロキシジアリールフルオレン類；１，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）アダマンタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）アダマンタン、１，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−５，７−ジメチルアダマンタン等のジヒドロキシジアリールアダマンタン類；４，４’−［１，３−フェニレンビス（１−メチルエチリデン）］ビスフェノール、１０，１０−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−９−アントロン、１，５−ビス（４−ヒドロキシフェニルチオ）−２，３−ジオキサペンタエン等が挙げられる。
これらの二価フェノールは、１種を単独で使用してもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。
【００３０】
一般式（２）で表されるポリオルガノシロキサンは、オレフィン性の不飽和炭素−炭素結合を有するフェノール類（好ましくはビニルフェノール、アリルフェノール、オイゲノール、イソプロペニルフェノール等）を、所定の重合度（ｎ；繰り返し数）を有するポリオルガノシロキサン鎖の末端に、ハイドロシラネーション反応させることにより容易に製造することができる。上記フェノール類は、アリルフェノール又はオイゲノールであることがより好ましい。
【００３１】
一般式（２）で表されるポリオルガノシロキサンとしては、Ｒ3〜Ｒ6がいずれもメチル基であるものが好ましい。
一般式（２）で表されるポリオルガノシロキサンとしては、例えば、以下の一般式（２−１）〜（２−９）の化合物が挙げられる。
【化６】
0006503589.tif 000008
【００３２】
上記一般式（２−１）〜（２−９）中、Ｒ3〜Ｒ6、及びｎは、前記定義の通りであり、好ましいものも同じである。また、Ｒ8はアルキル基、アルケニル基、アリール基又はアラルキル基を示し、ｃは正の整数を示し、通常１〜６の整数である。
また、Ｒ8としては、好ましくは、アルキル基、アルケニル基、アリール基又はアラルキル基である。
これらの中でも、重合の容易さの観点においては、一般式（２−１）で表されるフェノール変性ポリオルガノシロキサンが好ましい。また、入手の容易さの観点においては、一般式（２−２）で表されるフェノール変性ポリオルガノシロキサンの一種であるα，ω−ビス［３−（ｏ−ヒドロキシフェニル）プロピル］ポリジメチルシロキサン、一般式（２−３）で表されるフェノール変性ポリオルガノシロキサンの一種であるα，ω−ビス［３−（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）プロピル］ポリジメチルシロキサンが好ましい。
【００３３】
上記フェノール変性ポリオルガノシロキサンは、公知の方法により製造することができる。製造法としては、例えば、以下に示す方法が挙げられる。
まず、シクロトリシロキサンとジシロキサンとを酸性触媒存在下で反応させ、α，ω−ジハイドロジェンオルガノポリシロキサンを合成する。このとき、シクロトリシロキサンとジシロキサンとの仕込み比を変えることで所望の平均繰り返し数を持つα，ω−ジハイドロジェンオルガノポリシロキサンを合成することができる。次いで、ヒドロシリル化反応用触媒の存在下に、このα，ω−ジハイドロジェンオルガノポリシロキサンにアリルフェノールやオイゲノール等の不飽和脂肪族炭化水素基を有するフェノール化合物を付加反応させることで、所望の平均繰り返し数を有するフェノール変性ポリオルガノシロキサンを製造することができる。
また、この段階では、低分子量の環状ポリオルガノシロキサンや過剰量の上記フェノール化合物が不純物として残存するために、減圧下で加熱し、これらの低分子化合物を留去することが好ましい。
【００３４】
さらに、ＰＣ−ＰＯＳは、一般式（１）で表される二価フェノールと、下記一般式（３）で表されるポリオルガノシロキサンと、ホスゲン、炭酸エステル又はクロロホーメートとを共重合させることによって製造されたものでもよい。一般式（３）で表されるポリオルガノシロキサンは、一般式（２）で表されるポリオルガノシロキサンとジイソシアネート化合物又はジカルボン酸との反応生成物である。
【化７】
0006503589.tif 000009
一般式（３）式中、Ｒ3〜Ｒ6、ｎ、ｍ、Ｙ’、Ｚ及びＺ’は、前記定義の通りであり、好ましいものも同じである。
また、βは、ジイソシアネート化合物由来の２価の基又はジカルボン酸由来の２価の基を示し、例えば、以下の一般式（３−１）〜（３−５）で表される２価の基が挙げられる。
【化８】
0006503589.tif 000010
【００３５】
前述のとおり、（Ａ）成分としては、本発明の効果を損なわない程度に、（Ａ−１）成分以外のポリカーボネート系樹脂（Ａ−２）が含まれていてもよい。該（Ａ−２）成分としては、芳香族二価フェノール系化合物が用いられて得られる芳香族ポリカーボネート樹脂であってもよいし、脂肪族二価フェノール系化合物が用いられて得られる脂肪族ポリカーボネート樹脂であってもよいし、脂肪族二価水酸基含有化合物が用いられて得られる脂肪族ポリカーボネート樹脂であってもよいし、芳香族二価フェノール系化合物と脂肪族二価フェノール系化合物とを併用して得られる芳香族−脂肪族ポリカーボネート樹脂であってもよい。当該（Ａ−２）成分は、（Ａ−１）成分に含まれる、一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位の含有量を調整するために用いることができる。
これらの中でも、（Ａ−２）成分としては、芳香族ポリカーボネート樹脂が好ましい。
該（Ａ−２）成分のポリカーボネート系樹脂の粘度平均分子量は、物性面の観点から、好ましくは１０，０００〜４０，０００、より好ましくは１３，０００〜３０，０００である。
【００３６】
上記芳香族ポリカーボネート樹脂は、前記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を有していないものであり、かつ主鎖が下記一般式（ＩＩＩ）で表される繰り返し単位からなるものであることが好ましい。このような芳香族ポリカーボネート樹脂としては、特に制限はなく種々の公知の芳香族ポリカーボネート樹脂を使用できる。
【化９】
0006503589.tif 000011
［式中、Ｒ9及びＲ10は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のアルコキシ基を示す。Ｘ’は単結合、炭素数１〜８のアルキレン基、炭素数２〜８のアルキリデン基、炭素数５〜１５のシクロアルキレン基、炭素数５〜１５のシクロアルキリデン基、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、−Ｏ−又は−ＣＯ−を示す。ｄ及びｅは、それぞれ独立に０〜４の整数を示す。］
Ｒ9及びＲ10の具体例としては、前記Ｒ1及びＲ2と同じものが挙げられ、好ましいものも同じである。Ｒ9及びＲ10としては、より好ましくは、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のアルコキシ基である。Ｘ’の具体例としては、前記Ｘと同じものが挙げられ、好ましいものも同じである。ｄ及びｅは、それぞれ独立に、好ましくは０〜２、より好ましくは０又は１である。
【００３７】
上記芳香族ポリカーボネート樹脂は、具体的には、反応に不活性な有機溶媒、アルカリ水溶液の存在下、芳香族二価フェノール系化合物及びホスゲンと反応させた後、第三級アミンもしくは第四級アンモニウム塩等の重合触媒を添加して重合させる界面重合法や、芳香族二価フェノール系化合物をピリジン又はピリジンと不活性溶媒の混合溶液に溶解し、ホスゲンを導入し直接製造するピリジン法等、従来の芳香族ポリカーボネートの製造法により得られるものを使用できる。
上記の反応に際し、必要に応じて、分子量調節剤（末端停止剤）、分岐化剤等が使用される。
なお、上記芳香族二価フェノール系化合物としては、下記一般式（ＩＩＩ’）で表されるものが挙げられる。
【化１０】
0006503589.tif 000012
［式中、Ｒ9、Ｒ10、Ｘ’、ｄ及びｅは前記定義の通りであり、好ましいものも同じである。］
該芳香族二価フェノール系化合物の具体例としては、例えば、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン〔ビスフェノールＡ〕、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）プロパン等のビス（ヒドロキシフェニル）アルカン系、４，４’−ジヒドロキシジフェニル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロアルカン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）オキシド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホキシド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ケトン等が挙げられる。
これらの中でも、ビス（ヒドロキシフェニル）アルカン系二価フェノールが好ましく、ビスフェノールＡがより好ましい。
【００３８】
上記芳香族ポリカーボネート樹脂は１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
また、脂肪族ポリカーボネート樹脂は、前記芳香族二価フェノール系化合物の代わりに脂肪族二価水酸基含有化合物、又は脂肪族二価フェノール系化合物を用いることによって製造できる。
なお、芳香族−脂肪族ポリカーボネート樹脂は、前述の通り、芳香族二価フェノール系化合物と脂肪族二価フェノール系化合物を併用することによって製造できる。
【００３９】
ポリカーボネート樹脂組成物に上記（Ａ−１）成分以外のポリカーボネート系樹脂（Ａ−２）を含有させる場合、その含有量に特に制限は無いが、（Ａ）成分中、好ましくは７０質量％以下、より好ましくは５０質量％以下、さらに好ましくは３０質量％以下、特に好ましくは１０質量％以下である。
（Ａ）ポリカーボネート樹脂の粘度平均分子量（Ｍｖ）は、好ましくは１８，０００〜３０，０００であり、より好ましくは１８，５００〜２６，０００であり、さらに好ましくは１９，０００〜２５，０００、特に好ましくは１９，５００〜２４，０００である。
（Ａ）成分の粘度平均分子量がこの範囲であれば、成形体の耐衝撃性が十分となり、ポリカーボネート樹脂製造時の生産性が安定的になり、薄肉の成形も容易となる。
【００４０】
〔（Ｂ）酸化防止剤〕
本発明のポリカーボネート樹脂組成物においては、（Ｂ）成分として酸化防止剤を含有することを要する。（Ｂ）酸化防止剤としては，リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤、及びフェノール系酸化防止剤等が挙げられる。
リン系酸化防止剤としては、特に制限はない。代表的な例としては、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、２−エチルヘキシルジフェニルホスファイトの他、トリメチルホスファイト、トリエチルホスファイト、トリブチルホスファイト、トリオクチルホスファイト、トリノニルホスファイト、トリデシルホスファイト、トリオクタデシルホスファイト、ジステアリルペンタエリスチルジホスファイト、トリス（２−クロロエチル）ホスファイト、トリス（２，３−ジクロロプロピル）ホスファイト等のトリアルキルホスファイト、トリシクロヘキシルホスファイト等のトリシクロアルキルホスファイト、トリフェニルホスファイト、トリクレジルホスファイト、トリス（エチルフェニル）ホスファイト、トリス（ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（ヒドロキシフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト等のトリアリールホスファイト、トリメチルホスフェイト、トリエチルホスフェイト、トリブチルホスフェイト、トリオクチルホスフェイト、トリデシルホスフェイト、トリオクタデシルホスフェイト、ジステアリルペンタエリスリチルジホスフェイト、トリス（２−クロロエチル）ホスフェイト、トリス（２，３−ジクロロプロピル）ホスフェイト等のトリアルキルホスフェイト、トリシクロヘキシル−１−ホスフェイト等のトリシクロアルキルホスフェイト、トリフェニルホスフェイト、トリクレジルホスフェイト、トリス（ノニルフェニル）ホスフェイト、２−エチルフェニルジフェニルホスフェイト等のトリアリールホスフェイトなどが挙げられる。この中では、トリアリールホスファイト及びトリアリールホスフェイトが好適に用いられる。
【００４１】
イオウ系酸化防止剤としては、特に制限はない。代表的な例としては、ジラウリル−３，３’−チオジプロピオン酸エステル、ジトリデシル−３，３’−チオジプロピオン酸エステル、ジミリスチル−３，３’−チオジプロピオン酸エステル、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオン酸エステル、ラウリルステアリル−３，３’−チオジプロピオン酸エステル、ペンタエリスリトールテトラキス（３−ラウリルチオプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、グリセロール−３−ステアリルチオプロピオネート、ビス［２−メチル−４−（３−ラウリルチオプロピオニルオキシ）−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル］スルフィド、オクタデシルジスルフィド、メルカプトベンズイミダゾール、２−メルカプト−６−メチルベンズイミダゾール、１，１’−チオビス（２−ナフトール）、テトラキス〔メチレン−３−（ドデシルチオ）プロピオネート〕メタンなどが挙げられる。この中では、ペンタエリスリトールテトラキス（３−ラウリルチオプロピオネート）、テトラキス〔メチレン−３−（ドデシルチオ）プロピオネート〕メタンが好ましい。
【００４２】
＜フェノール系酸化防止剤＞
フェノール系酸化防止剤としては、特に制限はないが、ヒンダードフェノール系が好適に用いられる。代表的な例としては、トリエチレングリコール−ビス［３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，６−ヘキサンジオール−ビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ペンタエリスリトール−テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス［（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ）−ヒドロシンナマイド］、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンジルホスホネート−ジエチルエステル、トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、４，４’−ビフェニレンジホスフィン酸テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）、３，９−ビス｛１，１−ジメチル−２−［β−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ］エチル｝−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ（５，５）ウンデカン、２，２−チオ−ジエチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２，４−ビス（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン及びビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸エチル）カルシウム等が挙げられる。
【００４３】
これらの化合物の中でも、炭素数５以上のアルキル基によって１つ以上置換された芳香族モノヒドロキシ化合物が好ましく、具体的には、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，６−ヘキサンジオール−ビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン等が好ましく、ペンタエリスリトール−テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］が更に好ましい。
【００４４】
本発明においては、（Ｂ）酸化防止剤は一種を単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。（Ｂ）酸化防止剤としては、リン系酸化防止剤を用いることが好ましく、リン系酸化防止剤を単独で用いる、あるいはリン系酸化防止剤とイオウ系酸化防止剤及び／又はフェノール系酸化防止剤とを併用して用いることがより好ましい。
本発明のポリカーボネート樹脂組成物中の（Ｂ）酸化防止剤の含有量は、（Ａ）ポリカーボネート系樹脂１００質量部に対して、０．００１〜２質量部であることを要し、好ましくは０．００５〜１質量部、更に好ましくは０．０１〜０．５質量部である。（Ｂ）成分の含有量が０．００１質量部未満であると、成形時に変色や分子量低下が起こり、また、（Ｂ）成分の含有量が２質量部を超えると、酸化防止効果を向上させることができない。
【００４５】
［その他の成分］
本発明のポリカーボネート樹脂組成物は、本発明の効果を著しく損なわない程度において、適宜、その他の成分を含有させることができる。
その他の成分としては、例えば、無機充填材、紫外線吸収剤、離型剤、着色剤（染料、顔料）等の添加剤が挙げられる。
無機充填材としては、タルク、マイカ、カオリン、珪藻土、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、ガラス繊維、炭素繊維、チタン酸カリウム繊維等が挙げられる。中でも、板状であるタルク、マイカなどや、ガラス繊維、炭素繊維などの繊維状の充填材が好ましい。
なお、成形体の透明性を得るためには、光を遮蔽するような無機充填材は用いることはできないが、光を透過する無機充填材、例えばガラス繊維を用いて透明性を得ることができる。ガラス繊維を用いて透明性を得る場合、（Ａ）ポリカーボネート樹脂とガラス繊維との屈折率差を０．００２以下であるガラス繊維を用いることが好ましい。また、ガラス繊維として、断面が扁平形状を有するガラス繊維を用いることにより、得られる成形品の寸法安定性を向上させることができる。
【００４６】
紫外線吸収剤としては、ベンゾオキサジノン系、ベンゾトリアゾール系、サリチレート系、マロン酸エステル系、オキサリルアラニド系、トリアジン系、ベンゾフェノン系、シアノアクリレート系等が挙げられる。中でも、ベンゾトリアゾール系及びベンゾフェノン系紫外線吸収剤が好ましい。
離型剤としては、脂肪酸エステル、ポリオレフィン系ワックス、フッ素オイル、パラフィンワックス等を使用することができる。中でも、脂肪酸エステルが好ましく、例えばステアリン酸モノグリセリド、ステアリン酸ジグリセリド、ステアリン酸モノソルビテート、ベヘニン酸モノグリセリド、ペンタエリスリトールモノステアレート、ペンタエリスリトールジステアレート、プロピレングリコールモノステアレート、ソルビタンモノステアレート等の部分エステルが好ましい。
着色剤としては、ペリレン系染料、クマリン系染料、チオインジゴ系染料、アンスラキノン系染料、チオキサントン系染料、フェロシアン化物、ペリノン系染料、キノリン系染料、フタロシアニン系染料の染料等が挙げられる。
ポリカーボネート樹脂組成物に上記その他の成分を含有させる場合、その含有量に特に制限は無いが、（Ａ）成分１００質量部に対して、それぞれ、好ましくは１０質量部以下、より好ましくは５質量部以下、さらに好ましくは１質量部以下、特に好ましくは０．５質量部以下である。
【００４７】
［混練・成形］
本発明のポリカーボネート樹脂組成物は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分、さらには、必要に応じてその他の成分を所定量混練することにより得られる。混練方法としては、特に制限されず、例えば、リボンブレンダー、ヘンシェルミキサー、バンバリーミキサー、ドラムタンブラー、単軸スクリュー押出機、二軸スクリュー押出機、コニーダ、多軸スクリュー押出機等を用いる方法が挙げられる。また、混練の際の加熱温度は、好ましくは２４０〜３３０℃、より好ましくは２５０〜３２０℃である。
成形方法としては、従来公知の各種成形方法を用いることができ、例えば、射出成形法、射出圧縮成形法、押出成形法、ブロー成形法、プレス成形法、真空成形法及び発泡成形法等が挙げられる。
なお、ポリカーボネート樹脂以外の含有成分は、あらかじめ、ポリカーボネート樹脂又は他の熱可塑性樹脂と溶融混練しておき、即ち、マスターバッチとして添加することもできる。
また、ポリカーボネート樹脂組成物は、ペレット化してから射出成形することが好ましい。射出成形には、一般的な射出成形法もしくは一般的な射出圧縮成形法を、又はガスアシスト成形法等の特殊成形法を用いることができ、このようにして成形体を製造することができる。
【００４８】
本発明の成形体を外観部材として使用する場合には、ヒートサイクル成形法、高温金型、断熱金型等の外観を向上させる成形技術を用いることが好ましい。
金属部品のインサート成形、アウトサート成形を行うことにより発熱源からの熱伝達効率を高めることができるので、高発熱源を有する場合には有効な方法となる。
大型薄肉の射出成形体を得るためには、射出圧縮成形や高圧又は超高圧の射出成形を用いることが好ましく、部分的な薄肉部を有する成形体の成形には、部分圧縮成形等を用いることもできる。
【００４９】
こうして得られる本発明のポリカーボネート樹脂組成物は、耐日焼け止め剤性を有する。ここで、耐日焼け止め剤性を有するとは、日焼け止め剤に接触した際に起きる、ポリカーボネート樹脂組成物の物理的性質の低下を低く抑え、日焼け止め剤による耐薬品性を有することである。具体的には、１２５×１３×３．２ｍｍの試験片を３サンプル作成し、成形温度２８０℃、金型温度８０℃で射出成形し、スパン距離８０ｍｍの３点曲げ試験法にて、２．０％の歪みをかけた後、紫外線吸収剤、紫外線散乱剤、乳化剤、油剤、添加剤、及びアルコールから選ばれる少なくとも１種を含む溶剤を含浸させた布をかけ、１０日間放置した後に、微細な亀裂等の外観変化が見られないことをいう。
【００５０】
本発明のポリカーボネート樹脂組成物は、日焼け止め剤に含まれる紫外線吸収剤、紫外線散乱剤、アルコール類等の溶剤、乳化剤、油剤、及び添加剤等の成分による耐薬品性に優れる。
紫外線吸収剤としては、パラ−アミノ安息香酸誘導体、サリチル酸誘導体、ケイ皮酸誘導体、β，β−ジフェニルアクリラート誘導体、ベンゾフェノン誘導体、ベンジリデンショウノウ誘導体、フェニルベンゾイミダゾール誘導体、トリアジン誘導体、フェニルベンゾトリアゾール誘導体、アントラニル誘導体、イミダゾリン誘導体、ベンザルマロナート誘導体、ジベンゾイルメタン誘導体、４，４−ジアリールブタジエン誘導体等が挙げられる。
【００５１】
パラ−アミノ安息香酸誘導体としては、パラ−アミノ安息香酸（以下、「ＰＡＢＡ」と略記する）、エチルＰＡＢＡ、エチル−ジヒドロキシプロピルＰＡＢＡ、エチルヘキシル−ジメチルＰＡＢＡ、グリセリルＰＡＢＡ、ＰＥＧ−２５−ＰＡＢＡ等が挙げられる。
サリチル酸誘導体としては、ホモサラート（サリチル酸ホモメンチル）、サリチル酸エチルヘキシル、エチルヘキシルサリチラート、ジプロピレングリコールサリチラート、ＴＥＡサリチラート等が挙げられる。
【００５２】
ケイ皮酸誘導体としては、メトキシケイヒ酸エチルヘキシル、メトキシケイヒ酸オクチル、メトキシケイ皮酸イソプロピル、メトキシケイ皮酸イソアミル、シンノキサート、ＤＥＡメトキシシンナマート、メチルケイ皮酸ジイソプロピル、グリセリル−エチルヘキサノアート−ジメトキシシンナマート等が挙げられる。
【００５３】
β，β−ジフェニルアクリラート誘導体としては、オクトクリレン、エトクリレン等が挙げられる。
ベンゾフェノン誘導体としては、ベンゾフェノン−１、ベンゾフェノン−２、ベンゾフェノン−３、ベンゾフェノン−４、ベンゾフェノン−５、ベンゾフェノン−６、ベンゾフェノン−８、ベンゾフェノン−９、ベンゾフェノン−１２等が挙げられる。
ベンジリデンショウノウ誘導体としては、３−ベンジリデンショウノウ、４−メチルベンジリデンショウノウ、ベンジリデンショウノウスルホン酸、メト硫酸ショウノウベンザルコニウム、テレフタリリデンジショウノウスルホン酸、ポリアクリルアミドメチルベンジリデンショウノウ等が挙げられる。
フェニルベンゾイミダゾール誘導体としては、フェニルベンゾイミダゾールスルホン酸、フェニルベンズイミダゾールスルホン酸Ｎａ、フェニルジベンゾイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム等が挙げられる。
【００５４】
トリアジン誘導体としては、アニソトリアジン、エチルヘキシルトリアゾン、オクチルトリアゾン、ジエチヘキシルブタミドトリアゾン、２，４，６−トリス（ジイソブチル−４'−アミノベンザルマロナート）−ｓ−トリアジン、２，４，６−トリス［４−（２−エチルヘキシルオキシカルボニル）アニリノ］−１，３，５−トリアジン等が挙げられる。
フェニルベンゾトリアゾール誘導体としては、ドロメトリゾールトリシロキサン、メチレンビス（ベンゾトリアゾリルテトラメチルブチルフェノール）等が挙げられる。
アントラニル誘導体としては、アントラニル酸メンチル等が挙げられる。
イミダゾリン誘導体としては、エチルヘキシルジメトキシベンジリデンジオキソイミダゾリンプロピオナート等が挙げられる。
ベンザルマロナート誘導体としては、ベンザルマロナート官能基を有するポリオルガノシロキサン等が挙げられる。
ジベンゾイルメタン誘導体としては、ｔ−ブチルメトキシジベンゾイルメタン、４−イソプロピルジベンゾイルメタン等が挙げられる。
４，４−ジアリールブタジエン誘導体としては、１，１−ジカルボキシ（２，２'−ジメチルプロピル）−４，４−ジフェニルブタジエン等が挙げられる。
【００５５】
紫外線散乱剤としては、酸化チタン、酸化亜鉛等が挙げられる。
【００５６】
溶剤としては、エタノール、変性アルコール等のアルコール類、水等が挙げられる。
乳化剤としては、セテアリル硫酸ナトリウム、水添ココグリセリル、水酸化Ｎａ等が挙げられる。
【００５７】
油剤としては、シリコーン油、エステル油、エーテル油、フッ素油、炭化水素油、高級アルコール等が挙げられる。
シリコーン油としては、直鎖状ポリオルガノシロキサン、環状ポリシロキサン等が挙げられる。直鎖状ポリオルガノシロキサンとしては、炭素数が１〜５のアルキル基を有する直鎖状アルキルポリシロキサン、炭素数が１〜５のアルキル基及び炭素数が６〜１０のアリール基を有する直鎖状アルキルアリールポリシロキサン等が挙げられ、具体的には、直鎖状ジメチルポリシロキサン、直鎖状メチルフェニルポリシロキサン等が挙げられる。
【００５８】
エステル油としては、サフラワー油、大豆油、ブドウ種子油、ゴマ油、小麦胚芽油、アボガド油、オリーブ油、ヒマシ油、マカデミアナッツ油、メドフォーム油等の植物性油；ミンク油、タートル油、液状ラノリン等の動物性油；ミリスチン酸イソプロピル、イソステアリン酸イソプロピル、ラノリン脂肪酸イソプロピル等の低級アルコールの脂肪酸エステル；イソノナン酸２−エチルヘキシル、イソノナン酸イソトリデシル、ミリスチン酸オクチルドデシル、オレイン酸オクチルドデシル、２−エチルヘキサン酸セチル、２−エチルヘキサン酸イソセチル、イソステアリン酸イソステアリル等の高級アルコールの脂肪酸エステル；リンゴ酸ジイソステアリル、乳酸セチル等の高級アルコールのオキシ酸エステル；トリカプリル酸グリセリル、トリ−２−エチルヘキサン酸グリセリル、トリイソステアリン酸グリセリル、グリセリン、エチルヘキシルグリセリン、トリ（カプリル・カプリン酸）グリセリン、ジカプリル酸プロピレングリコール、ジ（カプリル・カプリン酸）プロピレングリコール、ジイソステアリン酸プロピレングリコール、ジカプリン酸ネオペンチルグリコール等の多価アルコールの脂肪酸エステルなどが挙げられる。
【００５９】
エーテル油としては、セチルジメチルブチルエーテル等が挙げられ、フッ素油としては、パーフルオロポリエーテル、パーフルオロカーボン等が挙げられる。
【００６０】
炭化水素油としては、流動パラフィン、スクワラン、軽質流動イソパラフィン、重質流動イソパラフィン、ポリブテン等が挙げられる。
高級アルコールとしては、セテアリルアルコール、セチルアルコール等が挙げられる。
【００６１】
添加剤としては、界面活性剤、増粘剤、防腐剤、酸化防止剤、キレート剤、保湿剤、植物抽出液、ビタミンＥ誘導体等が挙げられる。
界面活性剤としては、非イオン界面活性剤、シリコーン界面活性剤等が挙げられる。
非イオン界面活性剤としては、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸モノアルカノールアミド、ポリオキシエチレン脂肪酸ジアルカノールアミド、ＰＥＧ‐４０ヒマシ油、セテス‐１０等が挙げられる。
シリコーン界面活性剤としては、ポリオキシエチレン・メチルポリシロキサン共重合体、ジメチコン等が挙げられる。
【００６２】
増粘剤としては、グアガム、クインスシード、カラギーナン、キサンタンガム、ローストビーンガム、アラビアガム、トラガカント、ペクチン、マンナン、デンプン、プルラン、デキストラン、カードラン、コラーゲン、ケラチン、カゼイン、アルブミン、ゼラチン、キチン、メチルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、可溶化デンプン、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリエチレングリコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸アミド、ムコ多糖、リン酸架橋デンプン、ポリクオタニウム‐５１、（アクリル酸／アクリル酸アルキル（Ｃ１０‐３０））コポリマー、カルボマー等が挙げられる。
【００６３】
防腐剤としては、フェノキシエタノール、メチルパラベン、エチルパラベン、プロピルパラベン等が挙げられる。
酸化防止剤としては、ジブチルヒドロキシトルエン、ブチルヒドロキシアニソール、ソルビン酸、亜硫酸ナトリウム、Ｌ−システイン塩酸塩等が挙げられる。
【００６４】
キレート剤としては、エチレンジアミン４酢酸（エデト酸）、エチレンジアミン四酢酸三ナトリウム（ｔｒｉｓｏｄｉｕｍ  ＥＤＴＡ)、フィチン酸、グルコン酸、ポリリン酸、メタリン酸等が挙げられる。
【００６５】
保湿剤としては、プロピレングリコールシクロメチコン、１,３‐ブチレングリコール、ヒアルロン酸Ｎａ、クインスシードエキス等が挙げられる。
植物抽出液としては、キハダ樹皮エキス等が挙げられ、ビタミンＥ誘導体としては、酢酸トコフェロール等が挙げられる。
【００６６】
また、日焼け止め剤は、前記以外に、通常化粧料に用いられる成分、例えば、半固形油、高分子ラテックス、薬剤、セラミド類、血行促進剤、冷感剤、制汗剤、殺菌剤、皮膚賦活剤、ｐＨ調整剤、香料等を含有することができる。
【００６７】
本発明における日焼け止め剤の形態として、サンスクリーンクリーム、サンスクリーンローション、サンスクリーンエマルジョン、サンスクリーンムース、サンオイル、サンケアスプレー等が挙げられる。
【００６８】
また、本発明のポリカーボネート樹脂組成物は、実施例に記載の方法に従って測定した２３℃でのＩＺＯＤ衝撃強度が７００Ｊ／ｍ2以上であることが好ましく、より好ましくは７２０Ｊ／ｍ2以上、さらに好ましくは７３０Ｊ／ｍ2以上である。
本発明のポリカーボネート樹脂組成物は、実施例に記載の方法に従って測定した−３０℃でのＩＺＯＤ衝撃強度が４００Ｊ／ｍ2以上であることが好ましく、より好ましくは４３０Ｊ／ｍ2以上、さらに好ましくは４５０Ｊ／ｍ2以上である。
【００６９】
上記のようにして得られたポリカーボネート樹脂組成物のペレットを用い、射出成形法、射出圧縮成形法、押出成形法、ブロー成形法、プレス成形法、真空成形法、発泡成形法等を利用して成形することにより、成形体を製造することができる。
本発明の成形体としては、射出成形体（射出圧縮を含む）であることが好ましい。
本発明の成形体は、耐日焼け止め剤性及び耐衝撃性に優れるために、例えば、携帯電話、スマートフォン、タブレット端末等の携帯型情報端末用部材、具体的には筐体、保護ケース、及び保護カバーに好適に用いられる。
携帯型情報端末の例として、携帯電話、スマートフォン、タブレット型コンピュータ等を挙げることができる。またこれらの携帯型情報端末は、通常の状態で使用されている携帯型情報端末であってもよいし、日焼け止め剤が塗られた皮膚に接触するように装着される情報端末（例えば、腕装着型情報端末、顔装着型情報端末等）であってもよい。
【実施例】
【００７０】
本発明を実施例によりさらに詳しく説明するが、本発明はこれらにより何ら限定されるものではない。
各例で得られた樹脂組成物の性能試験は、次のとおりに行った。
（１）耐薬品性（耐日焼け止め剤性）
１２５×１３×３．２ｍｍの試験片を成形温度２８０℃、金型温度８０℃で射出成形し、スパン距離８０ｍｍの３点曲げ試験法にて、２．０％の歪みをかけた後、日焼け止め剤を含浸させた布をかけ、２３℃で２４０時間放置した後に、外観変化を確認した。サンプル数（ｎ）３で試験を行い、次の基準に従い評価した。
３個のサンプルとも外観変化のないものを「○」
１個のサンプルでも微細な亀裂等の外観変化が見られるものを「×」
なお、日焼け止め剤は以下の２種類を使用した。
日焼け止め剤１：Ｂｅｉｅｒｓｄｏｒｆ社製ＮＩＶＥＡ  ＳＵＮ  ＭＯＩＳＴＵＲＩＳＩＮＧ  ＩＭＭＥＤＩＡＴＥ  ＳＵＮ  ＰＲＯＴＥＣＴＩＯＮ  ＳＰＦ３０（成分：水、メトキシケイヒ酸エチルヘキシル、ホモサラート（サリチル酸ホモメンチル）、サリチル酸エチルヘキシル、変性アルコール、ベンゾフェノン−３、リン酸架橋デンプン、t-ブチルメトキシジベンゾイルメタン、ジメチコン、フェニルベンズイミダゾールスルホン酸Ｎａ、セテアリルアルコール、グリセリン、酢酸トコフェロール、セチルアルコール、水添ココグリセリル、エチルヘキシルグリセリン、キサンタンガム、ＰＥＧ‐４０ヒマシ油、エチレンジアミン四酢酸三ナトリウム（ｔｒｉｓｏｄｉｕｍ  ＥＤＴＡ)、セテアリル硫酸ナトリウム、フェノキシエタノール、メチルパラベン、エチルパラベン、プロピルパラベン、ジブチルヒドロキシトルエン、香料）
日焼け止め剤２：花王ニベア株式会社製 ニベアサン プロテクトウォータージェル  ＳＰＦ３０（成分：水、エタノール、メトキシケイヒ酸オクチル、ＰＧ：プロピレングリコールシクロメチコン、トリ（カプリル／カプリン酸）グリセリル、オクチルトリアゾン、ヒアルロン酸Ｎａ、ポリクオタニウム‐５１、ＢＧ：１,３‐ブチレングリコール、クインスシードエキス、キハダ樹皮エキス、酢酸トコフェロール、（アクリル酸／アクリル酸アルキル（Ｃ１０‐３０））コポリマー、カルボマー、セテス‐１０、メチルパラベン、水酸化Ｎａ）
（２）ノッチ付アイゾット衝撃強度（ＩＺＯＤ）：耐衝撃性
厚み３．２ｍｍの試験片を用いて、ＡＳＴＭ規格Ｄ−２５６に準拠し、測定温度２３℃及び−３０℃にてノッチ付アイゾット衝撃強度を測定し、耐衝撃性の指標とした。
（３）全光線透過率：透明性
２５×３５×３．２ｍｍの試験片を用い、ヘーズメーター（日本電色工業株式会社製、ＮＤＨ２０００）を用いて、ＪＩＳＫ  ７１０５に準拠して全光線透過率を測定した。【００７１】
［製造例１］ポリカーボネート−ポリジメチルシロキサン共重合体１（ＰＣ−ＰＤＭＳ１；（Ａ−１）成分）の製造
（１．オリゴマー合成工程）
５．６質量％水酸化ナトリウム水溶液に後から溶解するビスフェノールＡ（ＢＰＡ）に対して２，０００質量ｐｐｍの亜二チオン酸ナトリウムを加え、これにＢＰＡ濃度が１３．５質量％になるようにＢＰＡを溶解し、ＢＰＡの水酸化ナトリウム水溶液を調製した。
このＢＰＡの水酸化ナトリウム水溶液を４０Ｌ／ｈｒ、塩化メチレンを１５Ｌ／ｈｒの流量で、ホスゲンを４．０ｋｇ／ｈｒの流量で内径６ｍｍ、管長３０ｍの管型反応器に連続的に通した。管型反応器はジャケット部分を有しており、ジャケットに冷却水を通して反応液の温度を４０℃以下に保った。
管型反応器を出た反応液は、後退翼を備えた内容積４０Ｌのバッフル付き槽型反応器へ連続的に導入され、ここにさらにＢＰＡの水酸化ナトリウム水溶液を２．８Ｌ／ｈｒ、２５質量％水酸化ナトリウム水溶液を０．０７Ｌ／ｈｒ、水を１７Ｌ／ｈｒ、１質量％トリエチルアミン水溶液を０．６４Ｌ／ｈｒの流量で添加して反応を行った。槽型反応器から溢れ出る反応液を連続的に抜き出し、静置することで水相を分離除去し、塩化メチレン相を採取した。
このようにして得られたポリカーボネートオリゴマーは濃度３２９ｇ／Ｌ、クロロホーメート基濃度０．７４ｍｏｌ／Ｌであった。【００７２】
（２．ＰＣ−ＰＤＭＳ１製造工程）
次いで、邪魔板、パドル型攪拌翼及び冷却用ジャケットを備えた５０Ｌ槽型反応器に、上記で製造したポリカーボネートオリゴマー溶液１５Ｌ、塩化メチレン９．０Ｌ、ジメチルシロキサン単位の平均繰り返し数（ｎ）が９０であるアリルフェノール末端変性ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）９６ｇ及びトリエチルアミン８．８ｍＬ、を仕込み、攪拌下でここに６．４質量％水酸化ナトリウム水溶液１，３８９ｇを加え、１０分間ポリカーボネートオリゴマーとアリルフェノール末端変性ＰＤＭＳの反応を行った。
この重合液に、ｐ−ｔ−ブチルフェノール（ＰＴＢＰ）の塩化メチレン溶液（ＰＴＢＰ１１４ｇを塩化メチレン２．０Ｌに溶解したもの）、ＢＰＡの水酸化ナトリウム水溶液（ＮａＯＨ５７７ｇと亜二チオン酸ナトリウム２．０ｇを水８．４Ｌに溶解した水溶液にＢＰＡ１，０１２ｇを溶解させたもの）を添加し、５０分間重合反応を実施した。
希釈のために塩化メチレン１０Ｌを加え、１０分間攪拌した後、ＰＣ−ＰＤＭＳを含む有機相と過剰のＢＰＡ及びＮａＯＨを含む水相に分離し、有機相を単離した。
こうして得られたＰＣ−ＰＤＭＳの塩化メチレン溶液を、その溶液に対して順次、１５容積％の０．０３ｍｏｌ／Ｌ ＮａＯＨ水溶液、０．２ｍｏｌ／Ｌ塩酸で洗浄し、次いで洗浄後の水相中の電気伝導度が０．０１μＳ／ｍ以下になるまで純水で洗浄を繰り返した。
洗浄により得られたＰＣ−ＰＤＭＳの塩化メチレン溶液を濃縮・粉砕し、得られたフレークを減圧下１２０℃で乾燥し、ＰＣ−ＰＤＭＳ１を得た。
得られたＰＣ−ＰＤＭＳ１のＮＭＲ測定により求めたジメチルシロキサン残基の量は１．５質量％、ＩＳＯ１６２８−４（１９９９）に準拠して測定した粘度数は５３．８、粘度平均分子量（Ｍｖ）は２０５００であった。【００７３】
［製造例２］ポリカーボネート−ポリジメチルシロキサン共重合体２（ＰＣ−ＰＤＭＳ２；（Ａ−１）成分）の製造
ｐ−ｔ−ブチルフェノール（ＰＴＢＰ）の塩化メチレン溶液中のＰＴＢＰ使用量を１１４ｇから１０７ｇへ変更したこと以外は製造例１と同様に実施した。得られたＰＣ−ＰＤＭＳ２のＮＭＲ測定により求めたジメチルシロキサン残基の量は１．５質量％、ＩＳＯ１６２８−４（１９９９）に準拠して測定した粘度数は５６．０、粘度平均分子量（Ｍｖ）は２１５００であった。【００７４】
［製造例３］ポリカーボネート−ポリジメチルシロキサン共重合体３（ＰＣ−ＰＤＭＳ３；（Ａ−１）成分）の製造
ジメチルシロキサン単位の平均繰り返し数（ｎ）が９０であるアリルフェノール末端変性ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）の使用量を９６ｇから１５４ｇへ変更したこと以外は製造例１と同様に実施した。
得られたＰＣ−ＰＤＭＳ３のＮＭＲ測定により求めたジメチルシロキサン残基の量は２．４質量％、ＩＳＯ１６２８−４（１９９９）に準拠して測定した粘度数は５３．８、粘度平均分子量（Ｍｖ）は２０５００であった。【００７５】
［製造例４］ポリカーボネート−ポリジメチルシロキサン共重合体４（ＰＣ−ＰＤＭＳ４；（Ａ−１）成分）の製造
ｐ−ｔ−ブチルフェノール（ＰＴＢＰ）の塩化メチレン溶液中のＰＴＢＰ使用量を１１４ｇから１０７ｇへ変更したこと以外は製造例２と同様に実施した。
得られたＰＣ−ＰＤＭＳ４のＮＭＲ測定により求めたジメチルシロキサン残基の量は２．４質量％、ＩＳＯ１６２８−４（１９９９）に準拠して測定した粘度数は５６．１、粘度平均分子量（Ｍｖ）は２１５００であった。【００７６】
［製造例５］ポリカーボネート−ポリジメチルシロキサン共重合体５（ＰＣ−ＰＤＭＳ５）の製造
ジメチルシロキサン単位の平均繰り返し数（ｎ）が９０であるアリルフェノール末端変性ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）の使用量を１５４ｇから２３１ｇへ変更したこと以外は製造例４と同様に実施した。
得られたＰＣ−ＰＤＭＳ５のＮＭＲ測定により求めたジメチルシロキサン残基の量は３．６質量％、ＩＳＯ１６２８−４（１９９９）に準拠して測定した粘度数は５６．０、粘度平均分子量（Ｍｖ）は２１５００であった。【００７７】
［製造例６］ポリカーボネート−ポリジメチルシロキサン共重合体６（ＰＣ−ＰＤＭＳ６；（Ａ−１）成分）の製造
ジメチルシロキサン単位の平均繰り返し数（ｎ）を９０から１５０へ変更したこと以外は製造例４と同様に実施した。
得られたＰＣ−ＰＤＭＳ６のＮＭＲ測定により求めたジメチルシロキサン残基の量は２．４質量％、ＩＳＯ１６２８−４（１９９９）に準拠して測定した粘度数は５６．０、粘度平均分子量（Ｍｖ）は２１５００であった。【００７８】
［製造例７］ポリカーボネート−ポリジメチルシロキサン共重合体７（ＰＣ−ＰＤＭＳ７；（Ａ−１）成分）の製造
ジメチルシロキサン単位の平均繰り返し数（ｎ）を９０から７０へ変更したこと以外は製造例４と同様に実施した。
得られたＰＣ−ＰＤＭＳ７のＮＭＲ測定により求めたジメチルシロキサン残基の量は２．４質量％、ＩＳＯ１６２８−４（１９９９）に準拠して測定した粘度数は５６．１、粘度平均分子量（Ｍｖ）は２１５００であった。【００７９】
［製造例８］ポリカーボネート−ポリジメチルシロキサン共重合体８（ＰＣ−ＰＤＭＳ８；（Ａ−１）成分）の製造
ジメチルシロキサン単位の平均繰り返し数（ｎ）を９０から２０へ変更したこと以外は製造例４と同様に実施した。
得られたＰＣ−ＰＤＭＳ８のＮＭＲ測定により求めたジメチルシロキサン残基の量は２．４質量％、ＩＳＯ１６２８−４（１９９９）に準拠して測定した粘度数は５６．１、粘度平均分子量（Ｍｖ）は２１５００であった。【００８０】
下記表１に、製造例１〜８で得たＰＣ−ＰＤＭＳ１〜ＰＣ−ＰＤＭＳ８の物性を纏める。【００８１】
【表１】
0006503589.tif 000013
【００８２】
［実施例１〜７及び比較例１〜３］
表２に示す割合（単位：質量部）で（Ａ）ポリカーボネート樹脂を配合し、（Ｂ）酸化防止剤として「ＩＲＧＡＦＯＳ１６８」（商品名、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）を（Ａ）成分１００質量部に対して０．１０質量部混合した後に、ベント付き二軸押出機「ＴＥＭ−３５Ｂ」（機種名、東芝機械株式会社製）によって樹脂温度２８０℃で溶融混練し、樹脂組成物のペレットを得た。
得られたペレットを、射出成形機を用い、シリンダー温度２８０℃、金型温度８０℃の成形条件で射出成形して試験片を得た。
得られた試験片を用いて上記方法に従って、耐日焼け止め剤性、耐衝撃性及び透明性の評価を行った。その結果を表２に示す。【００８３】
【表２】
0006503589.tif 000014
【００８４】
（表２中の注釈の説明）
＊１：「タフロンＦＮ２２００Ａ」（商品名、出光興産株式会社製、ｐ−ｔ−ブチルフェノールを末端基に有するビスフェノールＡタイプの芳香族ポリカーボネート、粘度平均分子量２１，５００）、（Ａ−２）成分【００８５】
表２より、本発明の一態様のポリカーボネート樹脂組成物は、耐日焼け止め剤性（耐薬品性）、耐衝撃性及び透明性のいずれにも優れていることがわかる。
一方、比較例１から、（Ａ）成分にＰＣ−ＰＯＳを含有していないポリカーボネート樹脂組成物は、耐日焼け止め剤性（耐薬品性）および低温時の耐衝撃性を満足させられないことがわかる。比較例２から、（Ａ）成分中の一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位の含有量が３．０質量％を超えると、耐日焼け止め剤性（耐薬品性）を満足させられないことがわかる。比較例３から、（Ａ）成分中の一般式（ＩＩ）で表される平均繰り返し数ｎが３０未満であると、耐日焼け止め剤性（耐薬品性）および低温時の耐衝撃性を満足させられないことがわかる。
【産業上の利用可能性】
【００８６】
本発明のポリカーボネート樹脂組成物は、耐日焼け止め剤性（耐薬品性）、耐衝撃性及び透明性に優れるため、これらの特性を必要とする携帯型情報端末用部材に好適に使用することができる。