(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
元素を誘導結合プラズマにより励起またはイオン化し、原子発光線を得る誘導結合プラズマ発生装置であって、
対象の元素を含むキャリアガスが導かれるプラズマトーチと、
前記プラズマトーチに巻き付けられた高周波誘導コイルと、
前記高周波誘導コイルに第１端が接続された伝熱部材と、
前記伝熱部材の第２端に接続された冷却ブロックと、を備え、
前記伝熱部材には作動液が封入されており、前記第１端において前記高周波誘導コイルにおいて発生した熱により前記作動液が蒸発し、当該作動液の蒸気が前記第２端に移動することにより、前記高周波誘導コイルで発生した熱が移動するともに前記蒸気が凝縮して、凝縮した作動液が前記第１端に移動し、
前記第２端は前記第１端よりも少なくとも上方の位置に存在する、誘導結合プラズマ発生装置。
【請求項２】
請求項１に記載の誘導結合プラズマ発生装置であって、
前記伝熱部材が前記作動液を封入したヒートパイプにより構成される、誘導結合プラズマ発生装置。
【請求項３】
請求項１に記載の誘導結合プラズマ発生装置であって、
前記冷却ブロックが前記プラズマトーチの上方に設けられたダクト排気チムニーに設けられる誘導結合プラズマ発生装置。
【請求項４】
請求項１に記載の誘導結合プラズマ発生装置であって、
前記冷却ブロックが、誘導結合プラズマの軸方向に設けられた軸方向入射ブロックに設けられる、誘導結合プラズマ発生装置。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか１項に記載の誘導結合プラズマ発生装置であって、
前記高周波誘導コイルの接地側端子を含む少なくとも一部が、前記の伝熱部材により構成される、誘導結合プラズマ発生装置。
【請求項６】
請求項１から５のいずれか１項に記載の誘導結合プラズマ発生装置を備える誘導結合プラズマ発光分光分析装置。
【請求項７】
請求項１から５のいずれか１項に記載の誘導結合プラズマ発生装置を備える誘導結合プラズマ質量分析装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、元素を誘導結合プラズマ（ＩＣＰ）により励起またはイオン化する誘導結合プラズマ発生装置に関する。特に誘導結合プラズマを生成させるための、高周波電力を供給する高周波誘導コイルの冷却に関する。また、前記誘導結合プラズマ発生装置を用いて分析対象試料の元素を励起またはイオン化して、原子発光線を得る誘導結合プラズマ分析装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
プラズマにエネルギーを供給する媒介である高周波誘導コイルの材質には、電気抵抗率の低い銀や銅が使用されるが、それでも電気抵抗率は０ではないため、高周波誘導コイルに１０Ｗから１００Ｗ程度の発熱が起こる。なお発熱量は、高周波電力値や高周波誘導コイルの表面状態（酸化など）に依存する。高周波誘導コイルが、この発熱によって抵抗率が変化したり損傷したりすることを防ぐために、水を流して冷却することが知られている（特許文献１）。すなわち、高周波誘導コイルは管をプラズマトーチの周りを巻く構造をしており、管中には冷却水が流される。ここで冷却水は、誘導結合プラズマ装置に付属した循環冷却水装置を使って循環・熱交換が行われる。また、誘導コイルに外から風を送って空冷したり、管の中にガスを流したり、ヒートパイプで冷却することも知られている（特許文献２）。
【０００３】
特許文献１は、図７（ａ）に示すように、高周波誘導コイル１００を移動させる駆動機構を小型にすることの出来る誘導結合プラズマ質量分析装置であり、高周波誘導コイル１００内にはフレキシブルパイプ１０１、配管１０２を介して冷却水を流通させることが開示されている。
【０００４】
特許文献２には、図７（ｂ）に示すように、出力コイル（高周波誘導コイル）２００をヒートパイプで構成し、高周波印加端２０１を蒸発部とし、接地端２０２を凝縮部として、ファン２０３でヒートシンク２０４を冷却し、出力コイル２００で発生した熱が出力コイル２００を伝わって効率よくヒートシンク２０４に伝達され、空気中に放出されるため出力コイル２００の温度上昇を防ぐことができる誘導結合プラズマ発生装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】実開平５−５０６４９号公報
【特許文献２】特開平８−２０３６９２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１に開示された冷却水を用いる場合以下の課題がある。循環冷却水装置の熱交換効率は５０％程度であり、冷却水を循環させるポンプはエネルギーを消費する。すなわち高周波誘導コイルの発熱以上のエネルギーを消費して冷却しており、環境負荷が大きく、循環冷却水装置を付属で設置するため、価格アップになる。また、冷却水を扱う場合、水漏れや配管の目詰まりで起こる事故を避けるために、冷却水系統の保守が必要であり、労力とコストがかかってしまう。
【０００７】
また、高周波誘導コイルを水に代えてガスで冷却する場合、冷却能力が水冷より低いため、高周波誘導コイルの温度は水冷より高い状態で運転することになる。そのため高周波誘導コイルの表面は、酸化が進む。そして高周波誘導コイルの電気抵抗が時間をかけて変化してゆき、誘導結合プラズマ発生装置の高周波出力が同じでもプラズマのパワーが時間をかけて変化する。即ち、誘導結合プラズマ分析装置の分析条件を変えていなくても、プラズマのパワーの時間変化と共に分析性能が変化してしまうという課題がある。
【０００８】
特許文献２の高周波誘導コイルは、そのものがヒートパイプであるが、ヒートパイプが水平に設けられているだけで具体的な姿勢の開示がなく液体の循環効率性に考慮されていない。また、ヒートパイプの蒸発部が高周波誘導コイルの中で一番高温になるコイル部分ではなく出力コイル端になっているためヒートパイプの特性を生かし切れず冷却効率に課題がある。そして高周波誘導コイルで発生した熱を逃がすために、凝縮部冷却の冷却ファンが必要不可欠となり、放熱のために冷却ファンを動かすことによる環境負荷が発生し、誘導結合プラズマ分析装置のコストアップに繋がるという課題があった。
【０００９】
本発明は、上記事由に鑑みてなされたものであり、その目的は、冷却水を使わずに高い冷却能力で高周波誘導コイルを冷却できる誘導結合プラズマ発生装置及び前記誘導結合プラズマ発生装置を用いた誘導結合プラズマ分析装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の誘導結合プラズマ発生装置は、分析対象の元素を誘導結合プラズマにより励起またはイオン化し、原子発光線を得る誘導結合プラズマ発生装置であって、分析対象の元素を含むキャリアガスが導かれるプラズマトーチと、前記プラズマトーチに巻き付けられた高周波誘導コイルと、前記高周波誘導コイルに第１端が接続された伝熱部材と、前記伝熱部材の第２端に接続された冷却ブロックと、を備え、前記伝熱部材には作動液が封入されており、前記第１端において前記高周波誘導コイルにおいて発生した熱により前記作動液が蒸発し、当該作動液の蒸気が前記第２端に移動することにより、前記高周波誘導コイルで発生した熱が移動するとともに前記蒸気が凝縮して、凝縮した作動液が前記第１端に移動するように、前記第２端は前記第１端よりも少なくとも上方の位置に存在する構造となっている。
【００１１】
本発明の誘導結合プラズマ発生装置の一態様として例えば、前記伝熱部材が前記作動液を封入したヒートパイプにより構成される。
【００１２】
本発明の誘導結合プラズマ発生装置の一態様として例えば、前記冷却ブロックが前記プラズマトーチの上方に設けられたダクト排気チムニーに設けられる。
【００１３】
本発明の誘導結合プラズマ発生装置の一態様として例えば、前記冷却ブロックが、前記プラズマトーチの上方であって、誘導結合プラズマの軸方向に設けられた軸方向入射ブロックに設けられる。
【００１４】
本発明の誘導結合プラズマ発生装置の一態様として例えば、前記高周波誘導コイルの接地側端子を含む少なくとも一部が、前記の伝熱部材により構成される。
【００１５】
本発明の一態様として例えば、前記のいずれかの誘導結合プラズマ発生装置を備えた誘導結合プラズマ発光分光分析装置である。
【００１６】
本発明の一態様として例えば、前記のいずれかの誘導結合プラズマ発生装置を備えた誘導結合プラズマ質量分析装置である。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、冷却水を使わずに高周波誘導コイルの冷却を行うため、環境負荷が小さく、循環冷却水装置を設置するコストが不要であり、冷却水系統の保守も不要となる。また、従来のガス冷却より冷却能力が高いので、プラズマのパワーを一定に維持できて、分析性能が変化することがない。そして、伝熱部材の第２端を第１端よりも上方の位置に配置することにより、凝縮した作動液が重力の作用により第１端に落下移動するため、作動液の循環、移動性が向上し放熱性の高い誘導結合プラズマ発生装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明に係るＩＣＰ発光分光分析装置の一例を示す概念図。
【図２】本発明に係るＩＣＰ質量分析装置の一例を示す概念図。
【図３】本発明に係る伝熱部材の一例である作動液を封入したヒートパイプの概要を示す模式図。
【図４】本発明に係る誘導結合プラズマ発生装置の第１の実施形態の一例を示す概念図。
【図５】本発明に係る誘導結合プラズマ発生装置の第２の実施形態の一例を示す概念図。
【図６】本発明に係る高周波誘導コイルを含む電気回路から見て、伝熱部材を接続する位置を示した回路図、（ａ）実施例１、（ｂ）実施例２。
【図７】従来の誘導結合プラズマ発生装置の構成を示す概略図、（ａ）特許文献１、（ｂ）特許文献２。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、本発明に係る誘導結合プラズマ発生装置（ＩＣＰ発生装置）の好適な実施形態を、図１、図３〜図６に基づき、誘導結合プラズマ分析装置の一種としての誘導結合プラズマ発光分光分析装置の事例として詳述する。ただし、本発明の誘導結合プラズマ発生装置は、図２に示すように、誘導結合プラズマ分析装置の他の種類である誘導結合プラズマ質量分析装置などでも適用可能である。
【００２０】
図１は、本発明に係る誘導結合プラズマ発光分光分析装置の一例を示す概念図である。
【００２１】
誘導結合プラズマ発生装置１０は、ＩＣＰ（誘導結合プラズマ）発光分光分析装置Ａ内に組み込まれ、ＩＣＰ発光分光分析装置Ａは、誘導結合プラズマ発生装置１０の他に、分光器２０と、制御部４０とを備えている。
【００２２】
誘導結合プラズマ発生装置１０は、プラズマトーチ１３と、高周波誘導コイル１４と、高周波電源１６とから概略構成されている。また、誘導結合プラズマ発生装置１０には、その一端（第１端）が高周波誘導コイル１４に接続され他端（第２端）が冷却ブロック１７に接続された伝熱部材１８が設けられている。
【００２３】
分光器２０は、入射窓２１と、レンズ、回折格子、ミラー等の光学部品２２と、検出器２４とを備えている。
【００２４】
制御部４０はコンピュータ等であり、ＩＣＰ発光分光分析装置Ａ全体を制御し、検出対象である原子発光線の出射光の波長に応じて、分光器２０を制御し目的波長の発光強度プロファイルを測定したり、目的波長の発光ピーク強度やバックグランド強度を測定する。
【００２５】
ネブライザー１２内に供給されたキャリアガス（アルゴンガス）は、例えば０．８Ｌ／ｍｉｎの早さでスプレーチャンバ１１内にネブライザー１２の先端から噴出される。キャリアガスの負圧吸引によって試料容器５０の分析を行いたい溶液試料５０ａが吸い上げられ、ネブライザー１２の先端から試料が噴射される。噴射された溶液試料５０ａは、スプレーチャンバ１１内で粒子の均一化と気流の安定化が図られ、円筒管構造をしたプラズマトーチ１３に導かれる。ガス制御部１５はネブライザー１２に供給するキャリアガスやプラズマトーチ１３に供給するガス(プラズマガス、補助ガス、チェンバーガス)の流量や圧力を制御する。
【００２６】
そして、高周波誘導コイル１４に高周波電源１６から高周波電流を流し、溶液試料５０ａの試料分子（又は原子）は加熱、励起されて発光し、プラズマトーチ１３の上方で誘導結合プラズマ６０（以下、プラズマと述べる）を生成する。高周波電流の周波数は、２７．１２ＭＨｚ或いは４０ＭＨｚが一般的であり、高周波電力は５００Ｗ〜２０００Ｗ程度である。
【００２７】
溶液試料５０ａの分析対象となる元素をプラズマ６０により励起又はイオン化して得られた原子発光線は、入射窓２１を介して分光器２０内に入射する。原子発光線は、分光器２０内の光学部品２２により分光され、検出器２４で検出される。分光器２０で分光され検出された原子発光線は、制御部４０でデータ処理して解析され、原子発光線（スペクトル線）の波長から溶液試料５０ａに含まれる元素（例えば微量不純物元素）の定性分析と原子発光線（スペクトル線）の強度から元素の定量分析が行われる。
【００２８】
図２は、本発明に係る誘導結合プラズマ質量分析装置（ＩＣＰ質量分析装置）Ｂの一例を示す概念図である。本発明の誘導結合プラズマ発生装置は、質量分析器（質量計）８０を備えるＩＣＰプラズマ質量分析装置Ｂにも適用可能である。
【００２９】
図３は、伝熱部材１８の一例である作動液を封入したヒートパイプの概要を示す模式図である。
【００３０】
伝熱部材１８を構成するヒートパイプは、例えば、第１端１８ａと第２端１８ｂが封鎖された金属製の略円筒形状からなる密閉容器であり、容器内に作動液が減圧密封され、内壁に作動液環流用のウイック（毛細管構造）１８ｃを備えている。第１端１８ａで外部の熱により作動液が蒸発し、第２端１８ｂの低温部に蒸気が移動し（図中矢印Ｓ参照）、第２端１８ｂに移動した蒸気が凝縮して作動液に戻りウイック１８ｃを通って第１端１８ａに移動する（図中矢印Ｔ参照）。第１端（蒸発部）１８ａと第２端（凝縮部）１８ｂとの蒸気圧差により作動液は第１端１８ａから第２端１８ｂに高速で移動し、気化された作動液が第２端１８ｂで冷やされて液化し、ウイック１８ｃの毛細管力により第１端１８ａに素早く移動することを繰り返す。尚、第２端１８ｂから第１端１８ａの移動は重力を利用しても良い。尚、本図では直線状のヒートパイプが示されているが、曲げ加工などによりヒートパイプを屈曲させたり、湾曲させたりすることも自由であり、形状は特に限定されない。
【００３１】
図４は、誘導結合プラズマ発生装置１０の第１の実施形態の一例を示す概念図である。
【００３２】
誘導結合プラズマ発生装置１０のプラズマトーチ１３の上方には、略円筒形状のダクト排気チムニー７０が配置されている。ダクト排気チムニー７０は、本実施形態では内筒７０ａと外筒７０ｂを有し、プラズマ６０で生じた熱や溶液試料５０ａの反応生成物をダクト排気する。尚、ダクト排気チムニー７０の排気量は、１〜１０ｍ３／ｍｉｎ程度である。
【００３３】
また、プラズマトーチ１３の側方には、横方向入射ブロック２１ａと横方向観察窓２１ｂを有する分光器２０の入射窓２１が配置されている。プラズマ６０で生じた光は、横方向入射ブロック２１ａを通して分光器２０で波長分離されて検出される。分析したい溶液試料５０ａの対象元素は、その発光波長から同定が行われ、発光強度から濃度が求められる。
【００３４】
誘導結合プラズマ発生装置１０のプラズマトーチ１３には、一端に接地側端子１４ａ、他端に高周波電圧が印加されるホット側端子１４ｂを有する高周波誘導コイル１４が巻き付けられている。また、接地側端子１４ａは熱接触ブロック１９と接続し、熱接触ブロック１９は伝熱部材１８の第１端１８ａと接続している。第１端１８ａの上方に第２端１８ｂが配置され、第２端１８ｂはダクト排気チムニー７０の内筒７０ａと接続した冷却ブロック１７に接続している。
【００３５】
高周波誘導コイル１４の材質には電気抵抗率の低い銀や銅が使われているが、電気抵抗率は０ではないため、高周波誘導コイル１４は１０Ｗから１００Ｗ程度の発熱が有る。そのため、上述したように、伝熱部材１８を用いて高周波誘導コイル１４の熱を冷却ブロック１７に移動させることにより、高周波誘導コイル１４を冷却している。
【００３６】
第１の実施形態では、伝熱部材１８の第１端１８ａである蒸発部と高周波誘導コイル１４の接地側端子１４ａとを接続し、更に、接地側端子１４ａと熱接触ブロック１９とを熱的に接続する。また伝熱部材１８の第２端１８ｂである凝縮部は、冷却ブロック１７を介してダクト排気チムニー７０の内筒７０ａと熱的に接続する。
【００３７】
伝熱部材１８の熱伝導性は銀の約１０００倍で非常に高いため、高周波誘導コイル１４の熱はすみやかにダクト排気チムニー７０の内筒７０ａに移動する。ダクト排気チムニー７０内にダクト排気の風が流れるため、ダクト排気チムニー７０の内筒７０ａは放熱板の働きをする。そして高周波誘導コイル１４の熱は、ダクト排気で放熱される。
【００３８】
伝熱部材１８の熱伝導性は構造上、熱伝導性を良好にするために、第１端１８ａを下方に置き第２端１８ｂを上方に置く姿勢にすることが好ましい。本実施形態では、下方の高周波誘導コイル１４から上方のダクト排気チムニー７０に熱を移動させており、熱伝導性が良く高周波誘導コイル１４の熱を確実に放熱でき、高い冷却能力で高周波誘導コイル１４を冷却できる。
【００３９】
また伝熱部材１８は高周波誘導コイル１４の接地側端子１４ａに接続しているため、伝熱部材１８やダクト排気チムニー７０は接地電位となる。そのため、これらが高周波ノイズの発生原因や高周波誘導コイル１４とプラズマ６０間の誘導結合状態の乱れを生じることがなく、安定した分析を行うことができる。そして、伝熱部材１８の熱伝導性は、入熱や排熱の配置や姿勢に大きく依存するため、正しい配置（姿勢）で使うことにより高い熱伝導性が得られる。
【００４０】
尚、第１の実施形態において、冷却ブロック１７をダクト排気チムニー７０の内筒７０ａに接続していたことを説明したが、外筒７０ｂに接続しても良く、ダクト排気チムニー７０が冷却ブロック１７であっても良い。
【００４１】
図５は、誘導結合プラズマ発生装置１０の第２の実施形態の一例を示す概念図である。
【００４２】
誘導結合プラズマ発生装置１０のプラズマトーチ１３の上方には、軸方向入射ブロック２１ｃと軸方向観察窓２１ｄを有する分光器２０の入射窓２１が配置されている。プラズマトーチ１３には、一端に接地側端子１４ａ、他端にホット側端子１４ｂを有する高周波誘導コイル１４が巻き付けられている。また、接地側端子１４ａは熱接触ブロック１９と接続し、熱接触ブロック１９は伝熱部材１８の第１端１８ａと接続している。第１端１８ａの上方に第２端１８ｂが配置され、第２端１８ｂは入射窓２１の軸方向入射ブロック２１ｃと接続した冷却ブロック１７に接続している。
【００４３】
第２の実施形態では、プラズマ６０の発光を軸方向（垂直方向）から観察する。即ち、軸方向入射ブロック２１ｃをプラズマ６０の放射する方向と平行となるプラズマ６０の軸方向に配置して、光を軸方向観察窓２１ｄから軸方向入射ブロック２１ｃに取入れて、分光器２０で波長分離されて検出される。分析したい溶液試料５０ａの対象元素は、その発光波長から同定が行われ、発光強度から濃度が求められる。
【００４４】
また、第２の実施形態では、伝熱部材１８の第１端１８ａである蒸発部と高周波誘導コイル１４の接地側端子１４ａとを接続する。熱接触ブロック１９は第１端１８ａと高周波誘導コイル１４を確実に熱的接触させている。また伝熱部材１８の第２端１８ｂは、冷却ブロック１７を介して軸方向入射ブロック２１ｃと熱的に接触する。
【００４５】
伝熱部材１８の熱伝導性は銀の約１０００倍で非常に高いため、高周波誘導コイル１４の熱はすみやかに軸方向入射ブロック２１ｃに移動する。軸方向入射ブロック２１ｃはプラズマ６０にあぶられるため、元々水などで冷却されている。そして高周波誘導コイル１４の熱は、軸方向入射ブロック２１ｃの冷却に乗って放熱される。これにより、高周波誘導コイル１４用の循環冷却水を設置する必要がなく、高周波誘導コイル１４の排熱を行うことができる。
図５ではプラズマトーチの上方に軸方向入射ブロック２１ｃと軸方向観察窓２１ｄを有する分光器２０の入射窓２１が配されているが、配置はこの限りではなく、例えばプラズマトーチを９０度倒し、プラズマトーチから生じているプラズマの横方向に軸方向入射ブロック２１ｃと軸方向観察窓２１ｄを有する分光器２０の入射窓２１が配してもよい。
【００４６】
伝熱部材１８の熱伝導性は構造上、熱伝導性を良好にするために、第１端１８ａを下方に置き第２端１８ｂを上方に置く姿勢にすることが好ましい。本実施形態では、下方の高周波誘導コイル１４から上方の軸方向入射ブロック２１ｃに熱を移動させており、熱伝導性が良好であり高周波誘導コイル１４の熱を確実に放熱でき、高い冷却能力で高周波誘導コイル１４を冷却できる。
【００４７】
また伝熱部材１８は高周波誘導コイル１４の接地側端子１４ａに接続しているため、伝熱部材１８や軸方向入射ブロック２１ｃは接地電位となる。そのため、これらが高周波ノイズの発生原因や高周波誘導コイル１４とプラズマ６０間の誘導結合状態の乱れを生じることがなく、安定した分析を行うことができる。そして、伝熱部材１８の熱伝導性は、入熱や排熱の配置や姿勢に大きく依存するため、正しい配置（姿勢）で使うことにより高い熱伝導性が得られる。
【００４８】
尚、第２の実施形態において、冷却ブロック１７を入射窓２１の軸方向入射ブロック２１ｃに接続していたことを説明したが、高周波誘導コイル１４で発生する熱を逃がすことができるならば、入射窓の２１の他の部分に接続しても良く、軸方向入射ブロック２１ｃ、入射窓２１が冷却ブロック１７であっても良い。
【００４９】
第１の実施形態および第２の実施形態では、伝熱部材１８の蒸発部である第１端１８ａを高周波誘導コイル１４の接地側端子１４ａに熱的に接触させていた。ここで伝熱部材１８の第１端１８ａが高周波誘導コイル１４の接地側端子１４ａを含む一部または全部を兼ねた構成にすると、高周波誘導コイル１４をより効率的に冷却することもできる。
【００５０】
図６は、高周波誘導コイル１４を含む電気回路から見て、伝熱部材１８を接続する位置を示した回路図で、（ａ）は実施例１、（ｂ）は実施例２である。
【００５１】
図６（ａ）では、高周波誘導コイル１４の一方の端が接地されている。この実施例１では、高周波誘導コイル１４の接地側に伝熱部材１８の第１端１８ａを接触させることにより、伝熱部材１８から冷却ブロック１７を接地電位にすることができる。
【００５２】
図６（ｂ）では、高周波誘導コイル１４の中腹が接地されている。そして高周波誘導コイル１４の両端には、接地位置に対して位相を１８０°変えた高周波が印加される。この実施例２では、高周波誘導コイル１４の中腹の接地電位位置に伝熱部材１８の第１端１８ａを接触させることにより、伝熱部材１８から冷却ブロック１７を接地電位にすることができる。
【００５３】
尚、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、適宜、変形、改良、等が可能である。その他、上述した実施形態における各構成要素の材質、形状、寸法、数値、形態、数、配置箇所、等は本発明を達成できるものであれば任意であり、限定されない。
【産業上の利用可能性】
【００５４】
本発明に係る誘導結合プラズマ発生装置は、効率よく高周波誘導コイルを冷却する用途に適用可能である。
【符号の説明】
【００５５】
１０：誘導結合プラズマ発生装置（ＩＣＰ発生装置）
１１：スプレーチャンバ
１２：ネブライザー
１３：プラズマトーチ
１４：高周波誘導コイル
１４ａ：接地側端子
１４ｂ：ホット側端子
１５：ガス制御部
１６：高周波電源
１７：冷却ブロック
１８：伝熱部材
１８ａ：第１端
１８ｂ：第２端
１９：熱接触ブロック
２０：分光器
２１：入射窓
２１ａ：横方向入射ブロック
２１ｂ：横方向観察窓
２１ｃ：軸方向入射ブロック
２１ｄ：軸方向観察窓
４０：制御部
５０：試料容器
５０ａ：溶液試料
６０：誘導結合プラズマ
７０：ダクト排気チムニー
７０ａ：内筒
７０ｂ：外筒
８０：質量分析器（質量計）
Ａ：誘導結合プラズマ発光分光分析装置（ＩＣＰ発光分光分析装置）
Ｂ：誘導結合プラズマ質量分析装置（ＩＣＰ質量分析装置）
【図１】
0006476020.tif 000002
【図２】
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【図３】
0006476020.tif 000004
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
0006476020.tif 000008