(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機電子的装置の構造中に少なくとも一部が使用される平坦形成物Ｉから浸透物を除去する方法であって、平坦形成物Ｉを、少なくとも一種のゲッター材料を含みかつ平坦形成物Ｉから少なくとも一種の浸透物を取り込むことができる平坦形成物ＩＩと直接または間接的に面接触させることを含み、ここで平坦形成物Ｉ及びＩＩの間には接着性接合は起こらず、平坦形成物ＩＩは、平坦形成物Ｉを電子的装置の構造中に使用し始める前に、平坦形成物Ｉから剥がされ、平坦形成物ＩＩは、有機電子的装置中に残らない、前記方法。
【請求項２】
平坦形成物ＩとＩＩとの接触が、平坦形成物Ｉ及び平坦形成物ＩＩからなる複合体が交互に層を形成して存在するように行われることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
ゲッター材料が、塩化コバルト、塩化カルシウム、臭化カルシウム、塩化リチウム、臭化リチウム、塩化マグネシウム、過塩素酸バリウム、過塩素酸マグネシウム、塩化亜鉛、臭化亜鉛、硫酸アルミニウム、硫酸カルシウム、硫酸銅、硫酸バリウム、硫酸マグネシウム、硫酸リチウム、硫酸ナトリウム、硫酸コバルト、硫酸チタン、炭酸ナトリウム、硫酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸マグネシウム、並びに
珪藻土、ケイ酸（シリカ）、ゼオライト、層状シリレート、並びに
鉄、カルシウム、バリウム、ナトリウム、マグネシウム、酸化バリウム、酸化カルシウム、酸化鉄、酸化マグネシウム、酸化ナトリウム、二酸化チタン、酸化カリウム、酸化ストロンチウム、活性化酸化アルミニウム、並びに
カーボンナノチューブ、活性炭、五酸化リン、シラン、並びに
水素化カルシウム、水素化バリウム、水素化ストロンチウム、水素化ナトリウム、水素化アルミニウムリチウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム並びにアルミニウムアセチルアセトネート、並びに
無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸、無水メチルテトラヒドロフタル酸、ポリアクリル酸及びポリビニルアルコール、
からなる群から選択されることを特徴とする、請求項１または２の何れか一つに記載の方法。
【請求項４】
ゲッター材料が、バリウム、カルシウム、硫酸カルシウム、塩化カルシウム、酸化カルシウム、硫酸ナトリウム、炭酸カリウム、硫酸銅、過塩素酸マグネシウム、硫酸マグネシウム、塩化リチウム、ケイ酸及びゼオライト、並びに上記の物質の二種以上の混合物からなる群から選択されることを特徴とする、請求項１〜３の何れか一つに記載の方法。
【請求項５】
平坦形成物ＩＩのゲッター材料含有層が、それぞれ該当する層の総重量を基準にして、それぞれ少なくとも１０重量％のゲッター材料を含むことを特徴とする、請求項１〜４の何れか一つに記載の方法。
【請求項６】
ゲッター材料含有平坦形成物ＩＩが、施与の前に、１０００ｐｐｍ未満の浸透物含有率を示すことを特徴とする、請求項１〜５の何れか一つに記載の方法。
【請求項７】
平坦形成物ＩＩと平坦形成物Ｉとの接触の後に、平坦形成物Ｉとは反対側にゲッター材料含有層上に配置されている、平坦形成物ＩＩの層の内の少なくとも一つ層の水蒸気透過率（ＷＶＴＲ）が５０ｇ／（ｍ２＊ｄ）未満を示すことを特徴とする、請求項１〜６の何れか一つに記載の方法。
【請求項８】
ゲッター材料含有層のマトリックス材料が及び／または平坦形成物Ｉとの接触が予定された、平坦形成物ＩＩの外側層の材料が、エラストマーであることを特徴とする、請求項１〜７の何れか一つに記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、平坦形成物から浸透物を除去する技術分野に関する。特に、有機電子的装置に使用される平坦形成物から特に少量の浸透物を除去する方法が提案される。
【背景技術】
【０００２】
平坦形成物からの浸透物（例えば水）の除去は、原則的に、一般的な人生経験から既に既知である。一例は、植物標本集の作成のための、植物またはその一部、例えば葉の乾燥である。この際、多くの場合に、乾燥するべき植物部分を紙の間に置きそして圧して、密に接触させる。圧力をかけることによって、一方では水分が植物部分から吸水紙中に絞りだされ、他方で、長い貯蔵期間中に、植物部分から紙への水の拡散も起こり、そうして植物部分が乾燥される。乾燥された植物部分を取り出すときにこれが損傷されることを防ぐために、植物部分と乾燥用紙とは付着していてはならない。
【０００３】
しかし、この方法は、植物部分の含水率を数パーセントに低めることにしか適していない。というのも、乾燥用の媒体（ここでは紙）が平衡含水率に達し、それ以上水分を取り込めなくなるからである。すなわち、上記の方法は、乾燥すべき平坦形成物中の非常に少ない含水率、例えば１パーセント未満の含水率を達成するためには適していない。
【０００４】
しかし、このように低い浸透物含有率、例えば含水率は、特に電子的構造物、特に有機電子的構造物の部材の製造、貯蔵、輸送及び加工の時に概して必要である。なぜならばそうしないとこれらがダメージを受けるからである。
【０００５】
光（電子）装置は、商業的な製品により一層頻繁に使用されているか、または上市に間もない状況である。このような装置は、無機または有機電子的構造、例えば有機、有機金属またはポリマー系半導体またはこれらの組み合わせを含む。該当する製品は、各々望まれる用途に依存して、剛性にまたは柔軟に構築され、この際、柔軟な装置への要望が増えている。このような装置の製造は、多くの場合に印刷方法、例えば凸版印刷、凹版印刷、スクリーン印刷、平板印刷、またはいわゆる「ノンインパクトプリンティング」、例えば熱転写印刷、インクジェット印刷またはデジタル印刷によって行われる。しかし、多くの場合、真空方法、例えば化学蒸着（ＣＶＤ）、物理蒸着（ＰＶＤ）、プラズマ支援化学もしくは物理堆積法（ＰＥＣＶＤ）、スパッタリング、（プラズマ）エッチングもしくは蒸発が使用される。構造化は一般的にマスキングによって行われる。
【０００６】
既に市販されている、またはその市場可能性が注目されている有機もしくは無機電子用途の例としては、ここでは電気泳動もしくはエレクトロクロミックを用いた構成物もしくはディスプレイ、表示装置およびディスプレイ装置における有機発光ダイオードもしくはポリマー発光ダイオード（ＯＬＥＤもしくはＰＬＥＤ）、または照明として挙げればエレクトロルミネセンスランプ、発光電気化学セル（ＬＥＥＣ）、有機太陽電池、例えば色素太陽電池もしくはポリマー太陽電池；  更に無機太陽電池、特に薄層太陽電池、例えばケイ素、ゲルマニウム、銅、インジウム、およびセレンをベースとする無機薄層太陽電池、またはペロブスカイト太陽電池；  有機電界効果トランジスタ、有機スイッチング素子、有機光増幅器、有機レーザダイオード、有機センサもしくは無機センサ、またはさらに有機もしくは無機ベースのＲＦＩＤトランスポンダが挙げられる。
【０００７】
無機及び有機（光）エレクトロニクス、特に有機光エレクトロニクスの分野で（光）電子的装置の十分な耐用期間及び機能の実現のためには、そこに含まれる部材を浸透物から保護することを技術的な課題として見なすことができる。この際、固形物中に入り込みそして場合によってはその中に浸透もしくは拡散するガス状もしくは液状の物質が一般的に浸透物と見なされる。応じて、多くの低分子有機もしくは無機化合物が浸透物となり得、この際、ここに記載の関連では、水蒸気及び酸素が特に重要である。
【０００８】
数多くの電子的装置が、特に有機材料の使用の場合に、水蒸気に対してばかりでなく、酸素に対しても敏感である。それ故、電子的装置の耐用期間の間はカプセル化による保護が必要である。とうのも、そうしないと、性能が使用時間と共に低下するからである。保護が不十分な場合、例えば酸化もしくは加水分解プロセスによって、エレクトロルミネセンスランプ（ＥＬランプ）または有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）の場合には照度が、電気泳動ディスプレー（ＥＰディスプレー）の場合にはコントラストが、または太陽電池の場合には効率が、短時間内に劇的に低下する恐れがある。
【０００９】
しかし、浸入する浸透物に対する保護の他に、電子的装置自体の構造中に使用される多くの材料からの有害な浸透物の除去も絶対に必要である。特に、柔軟な構造物の場合に多くの場合に使用されるポリマー性の支持体フィルム、カバーフィルムまたは接着フィルムは、それら自体がしばしば有害な浸透物、特に水を含み、そのため、これらの材料を手間をかけて乾燥する必要がある。
【００１０】
更に、平坦な電子的装置の連続的製造の場合は特に、補助材料としてのみ機能する材料、例えば一次的なキャリア材（このキャリア材には、例えば個別のユニットが配置されそして相前後して続くプロセス段階によって輸送される）が使用される。その一部のみが電子的構造物中に残る補助材料も使用され、応じて、できるだけ浸透物を含まないように提供されるべきでる。
【００１１】
特に、例えば、有機発光層の提供及び転写のために「レーザー誘導熱転写法」（ＬＩＴＩ）で使用されるようなキャリアフィルムは浸透物不含に使用する必要がある。というのも、これらは、敏感な材料と直に接触するからである。
【００１２】
更に、平坦な電子的構造物の製造における中間段階は、時折、水性分散液の状態で存在する材料でコーティングまたは印刷される。例えば、電子または正孔輸送層は、Ｃｌｅｖｉｏｓ（ＰＥＤＯＴ：ＰＰＳ：  Ｈｅｒａｅｕｓ  Ｐｒｅｃｉｏｕｓ  Ｍｅｔａｌｓ社）などの真性導電性ポリマーから製造される。このような層は、敏感な材料と直に接触するため、手間をかけて高程度に水を除去する必要がある。
【００１３】
しかし、平坦形成物を乾燥するかまたは乾燥状態を維持するための方法は、他の使用分野、例えば製薬工業では有効成分含有の膏薬や医療診断用ストリップの製造及び貯蔵の際に；  化学分析では分析すべき基質の抽出において、または極一般的にセンサのカバーのためにも使用される。
【００１４】
有効物質含有膏薬または経皮的治療システム（ＴＴＳ、ＴＤＳ）は１９７９年に市場に導入され、そして今日では数多くの有効物質と共に大規模に使用されている。純粋に見た目では慣用の膏薬と同じこれらのシステムを用いると、有効物質（例えば中でもホルモン、ニコチン）が皮膚を通して経皮的に投与される。このような投与形態の利点は、胃腸域を回避しながら有効物質が血管中に移行することにある。それ故、胃腸系が痛められず、そして作用部位に到達する前の肝臓系による有効成分の代謝が低められる。更に、患者の承諾（コンプライアンス）が向上される。なぜならば、このような系の適用は毎日ではなく、比較的長い時間間隔をあけて行われるからである。経口投与された可溶性フィルム（口腔内溶解型フィルム、ＯＤＦ）の場合も同様である。
【００１５】
ＴＴＳ及びＯＤＦの利点は、有効成分の放出がこのようなシステムからインタラクティブに制御下に行われた場合に、更により明らかに発揮され得る。これには例えば、適当されるまではシステムに侵入できない例えば水蒸気または酸素などの浸透物による有効物質の放出または可動化などが挙げられる。その結果、このような有効物質膏薬からその製造後に浸透物を除去し、これを浸透物不含に維持し、並びにこれらを患者に利用できるようにするという要望が存在する。
【００１６】
ゲッター材料を含む平坦形成物によって、平坦形成物から浸透物を取り込むための方法は原則的に従来技術において既知である。
【００１７】
ＵＳ６，１０３，１４１（特許文献１）は、例えば、接着テープの形で提供される、乾燥剤充填ホットメルト接着剤を記載している。このテープは、容器の空間を乾燥状態に保つために、容器の内側に貼り付けられる。好ましい形態の一つでは、この乾燥剤充填ホットメルト接着剤は、キャリア材料の片面にコーティングされ、そしてキャリア材料の他の面には更に別の接着剤がコーティングされ、これは使用の時に容器の壁に対する結合を形成する。それ故、この構成は、敏感な物を内部に含むガス空間を乾燥状態に保つことを意図されており、すなわち乾燥すべき物との接触はなく、そのため乾燥時間が長い。
【００１８】
ＵＳ６，１３９，９３５（特許文献２）は、酸素吸収性のラベルを記載しており、このラベルは、容器の内側に貼り付けられそして同様に容器内空間を酸素不含に保つものである。
【００１９】
ＤＥ１９９１３７６１Ａ１（特許文献３）では、装置を取り囲むガス空間の湿度を低めるための平坦な形状で活性化可能な乾燥装置、並びにこのような装置の製造方法が記載されている。この際、乾燥剤は、感圧接着層中に加えることもできる。またこの場合も、敏感な物の周りのガス空間が乾燥される。必然的に、感圧接着層がその上に固定される基材も乾燥されるが、これは使用には重要ではない。
【００２０】
ＥＰ０５８２９６８Ｂ１（特許文献４）の発明は、水蒸気バリアを備えたフィルム複合体であり、この複合体は、第一のプラスチックフィルム、溶剤含有もしくは溶剤不含の接着剤もしくはホットメルト接着剤から構成された接着層（これは、微細な吸水性ポリマー（ＳＡＰ）を１０〜５０重量％含む）、並びにこの接着層を介して上記の第一のプラスチック層と結合している第二のプラスチックフィルムからなる。このようなフィルム複合体は、湿気に弱い製品の包装のために使用される。乾燥剤を充填した吸水性接着層は、複合体を水が通り抜けることを遅らせる。そのため、包装中への水の浸入は実質的に防がれる。
【００２１】
ＵＳ６，１１２，８８８（特許文献５）は、ポリマーと乾燥剤とからなるホットメルト接着性組成物を開示している。これも同様に、乾燥包装雰囲気の維持または形成に使用される。この組成物は溶融物から例えば押出またはスプレーによって包装の内部空間に施与されるが、詰め物上に直接施与することもできる。詰め物に直接施与する場合は、組成物がそれの接着性の故に詰め物上に留まることを前提としている。いずれにせよ、この接着性は、詰め物を取り出すときにそれがダメージを受けるというリスクをはらんでいる。
【００２２】
ＵＳ６，９３６，１３１（特許文献６）は、有機電子的構造物のためのカプセル化方法を記載しており、この方法では、乾燥剤を含む転写式接着テープが、基材とカバーとの接合に使用される。乾燥剤は、接着継ぎ目を通って電子的構造物中に水蒸気が浸透することを遅らせる。接着テープはずっと構造物中に残留する。含まれる乾燥剤によって、構造物の透明性が損なわれることが欠点である。
【００２３】
すなわち、従来技術では、多くの場合にガス空間を乾燥するための接着剤としてのまたは接着継ぎ目の浸透バリアとしての形態で平坦形成物を使用することが知られている。しかし、更には、使用した乾燥装置が平坦形成物を損傷しないし、またそれの光学的特性も本質的に変化させないが、それでもなお相互の面接触によって効率的に平坦形成物を効率的に乾燥する、平坦形成物の効率のよい乾燥方法についての要望がある。
【００２４】
平坦状の形成物、特に連続的プロセスにおいてウェブ状に製造または加工される形成物は、それの多くの場合に大きい寸法のために並びにしばしばロールとして巻き上げられた形態でもしくはスタックとして存在するために、浸透物不含に、特に乾燥した状態で製造すること、または浸透物を除去することは困難である。それらの大きな面積／体積比のために、これらは加えて簡単に周囲から浸透物を取り込んでしまう。すなわちこれらは、浸透物を含まない環境に入れる前にまたは浸透物に敏感な材料と接触させる前に、浸透物（複数種可）を再び除去する必要がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００２５】
【特許文献１】ＵＳ６，１０３，１４１
【特許文献２】ＵＳ６，１３９，９３５
【特許文献３】ＤＥ１９９１３７６１Ａ１
【特許文献４】ＥＰ０５８２９６８Ｂ１
【特許文献５】ＵＳ６，１１２，８８８
【特許文献６】ＵＳ６，９３６，１３１
【特許文献７】ＤＥ１０２０１００４３８７１（Ａ１）
【特許文献８】ＤＥ１０２０１００４３８６６（Ａ１）
【特許文献９】ＤＥ１０２００８０６０１１３Ａ１
【特許文献１０】ＤＥ２００８１００６２１３０Ａ１
【特許文献１１】ＤＥ２００８１００４７９６４Ａ１
【特許文献１２】ＤＥ２００９１００３６９７０Ａ１
【特許文献１３】ＤＥ２００９１００３６９６８Ａ１
【特許文献１４】ＵＳ２００９００２６９３４（Ａ１）
【特許文献１５】ＥＰ１４６９０５４Ｂ１
【特許文献１６】ＥＰ０５１９２７８Ｂ２
【特許文献１７】ＤＥ１０２００８０４７９６４Ａ１
【非特許文献】
【００２６】
【非特許文献１】「Ｈａｎｄｂｏｏｋ  ｏｆ  Ｐｒｅｓｓｕｒｅ  Ｓｅｎｓｉｔｉｖｅ  Ａｄｈｅｓｉｖｅ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ“，Ｄｏｎａｔａｓ  Ｓａｔａｓ  （Ｓａｔａｓ  ＆  Ａｓｓｏｃｉａｔｅｓ，Ｗａｒｗｉｃｋ  １９９９）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００２７】
それ故、本発明の課題は、平坦形成物、特に有機電子的構造物中に部材として使用される形成物及び／またはロールまたはスタックとして存在する形成物から浸透物を取り込むための簡単に実行できる効率の良い方法及び適した装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００２８】
上記課題の解決は、相応して構成された、浸透物を取り込む平坦形成物を実現するという思想に基づいている。
【００２９】
それ故、本発明の第一の対象は、少なく部分的に有機電子的装置の構造中に使用されている平坦形成物Ｉから浸透物を除去する方法であって、平坦形成物Ｉと、少なくとも一種のゲッター材料を含みかつ平坦形成物Ｉから少なくとも一種の浸透物を取り込むことができる平坦形成物ＩＩとを（直接的にもしくは間接的に）面接触させることを含み、ここで平坦形成物ＩとＩＩとの間に接着性接合は生じていない上記方法である。
【００３０】
乾燥するべき平坦形成物Ｉに面接着させるために高い乾燥効率が達成され、並びに非接着性特性の故に、乾燥用の平坦形成物ＩＩを簡単にかつ損傷無く除去できることが利点である。
【発明を実施するための形態】
【００３１】
「直接接触させる」とは、本発明では、平坦形成物ＩとＩＩとを互いに直接接触させることを意味する。「間接的に接触させる」とは、平坦形成物ＩとＩＩとの間に、更に別の層を配置できることを意味し、この更に別の層は、当然ながら、十分に浸透物透過性である必要がある。しかし、この際、本発明によれば、浸透物は、平坦形成物Ｉから平坦形成物ＩＩへと到達させるためには、ガス空間中を移動するように強いるべきではない。ガス空間は、電子的有機構造物中で不利である。というのも、例えば、これはより劣った光の分離を招く恐れがあるためである。好ましくは、平坦形成物Ｉ及び平坦形成物ＩＩは、互いに直接接触させる。
【００３２】
好ましくは、平坦形成物ＩＩは、有機電子的装置中に残留しない。特に、平坦形成物ＩＩは、平坦形成物Ｉを電子的装置の構造中に使用し始める前に、平坦形成物Ｉから剥がされる。
【００３３】
平坦形成物ＩＩが有機電子的装置の構造中に残留しないことによって、ゲッター材料と電子活性材料との間の起こり得る化学的相互作用が避けられる。従来技術による残留するゲッターパッドを備えた有機電子的装置の場合も、ゲッターパッドを取り囲む空間が避けられ、そうして、光電子的装置（例えば太陽電池またはＯＬＥＤ）では、屈折率に大きな差を持つ境界面が光路中に僅かしかないために、より高い光結合及び光分離が達成される。
【００３４】
好ましい態様の一つでは、平坦形成物の接触は、浸透物を除去するべき平坦形成物Ｉと、浸透物を取り込む平坦形成物ＩＩとが交互の層状形成物として存在するように、すなわちスタックまたはロールとして存在するように行われる。これは、特に強い接触、並びに装置によっては、浸透物を取り込む平坦形成物の両面作用並びに周囲から新たに浸入する浸透物の捕捉も可能にする。
【００３５】
「平坦形成物」とは、一つの空間方向のそれの寸法（厚さまたは高さ）が、主たる延在方向を確定する二つ他の空間方向のそれの寸法（長さ及び幅）よりもかなり短い平坦な造りのシステムのことと解される。このような平坦形成物は、本発明では、密に詰まった状態でまたは穴の開いた状態でも形成することができ、そして単一の材料または異なる材料からなることができる。平坦形成物は、それの面の広がり全体にわたって一定の厚さを有することができるが、異なる厚さを有することもできる。更に、これは、単一の層からなることも、または完全に等しくまたは少なくとも部分的に覆っていない状態で配置されていることができる複数の層からなることもできる。
【００３６】
浸透物を除去すべき平坦形成物Ｉは、例えばフィルムであり、このフィルムは、例えば、ポリマーフィルム、特に基材フィルム、カバーフィルムもしくは接着フィルムまたはキャリアフィルム、薄いガラスフィルム、金属フィルム、接着テープ、あるいはキャリアフィルムが上面に配置され得るか及び／または層複合体の一部であることができかつ（光）電子的構造物中に使用される層、例えばアノード層、カソード層、正孔輸送もしくは電子輸送層、半導体層、特にＬＩＴＩ法に使用されるような発光層である。
【００３７】
接着テープとは、少なくとも一種の感圧接着剤または少なくとも一種の活性化可能な接着剤がコーティングされたキャリア材料、あるいは平坦形成物として存在する感圧接着剤または持続的な形態の活性化可能な接着剤のことと解される。接着テープは、それの形態のために原則的に平坦形成物と見なされる。延びた長さ及び限定された幅を持つテープ、テープ断片、ラベル、ダイカット及び類似物も、「接着テープ」という呼称に包含される。これに対して、硬化した及びまだ硬化してない液状接着剤またはこれらを用いて製造された接着物は含まれない。
【００３８】
本発明によれば、平坦形成物ＩとＩＩとの間の面接着または接合は、これが＜０．５Ｎ／ｃｍ、好ましくは＜０．０５Ｎ／ｃｍの接着力を示す場合には、一般的に「接着」とは見なされない。本発明によれば、感圧接着剤に対する本発明の平坦形成物の一方の面接触は、本発明によれば、個々の場合の接着力が上に定義した接着力を下回る場合でも、常に「接着」と見なされる。
【００３９】
既知の感圧接着剤は、例えば、アクリレート及び／もしくはメタクリレート、ポリウレタン、天然ゴム、合成ゴム；  不飽和もしくは水素化ポリジエンブロックでできたエラストマーブロック、例えばポリブタジエン、ポリイソプレン、これら両者のコポリマー、ポリブチレン、特にポリイソブチレン、並びに更に別の当業者には周知のエラストマーブロックを持つスチレンブロックコポリマー組成物；  ポリオレフィン、特にポリ−α−オレフィン及び／もしくはポリイソブチレン；  フルオロポリマー及び／またはシリコーンである。「Ｈａｎｄｂｏｏｋ  ｏｆ  Ｐｒｅｓｓｕｒｅ  Ｓｅｎｓｉｔｉｖｅ  Ａｄｈｅｓｉｖｅ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ“，Ｄｏｎａｔａｓ  Ｓａｔａｓ  （Ｓａｔａｓ  ＆  Ａｓｓｏｃｉａｔｅｓ，Ｗａｒｗｉｃｋ  １９９９）（非特許文献１）に相当する感圧接着特性を有する他の接着剤も「感圧接着剤」という用語に該当する。
【００４０】
本発明の方法で使用される平坦形成物ＩＩは、少なくとも一種のゲッター材料を含む。この際、該平坦形成物は、それ自体全てがゲッター材料からなることができ、またはゲッター材料からなる層を含むことができ、またはゲッター材料を含む少なくとも一つの層を含むことができる。該平坦形成物は、更に別の層、例えばキャリア層、接触層、透過バリア層または特定の外側層を含むこともできる。
【００４１】
この際、「ゲッター材料」とは、一種または複数種の浸透可能な物質を取り込むこと（収着）ができる物質のことと解される。この際、ゲッター材料による浸透可能な物質（複数種可）の収着は、例えば吸収または吸着によって行うことができ、ここで吸着は化学収着の形で起こっても、物理収着の形で起こってもよい。それ故、ゲッター材料は、「収着体」または「収着剤」とも称することが可能である。
【００４２】
「浸透可能な物質」とは、ガス状もしくは液状物質として、または場合によっては固形の物質としても、平坦形成物中に侵入し得、そしてその後これら中に浸透することができる物質のことと解される。このような物質は、上記及び下記において、「浸透物」とも称する。浸透物は、平坦形成物自体にまたは周囲に由来して発生し得る。この平坦形成物自体中に、低分子量有機化合物、例えば溶剤残渣、残留モノマー、油、樹脂成分、軟化剤並びに水がしばしば含まれる。周囲からは、水、揮発性有機化合物（ＶＯＣ）、低分子量炭化水素及び酸素が入ってくる。特に次の物質が「浸透可能な物質」または「浸透物」と見なされる：  アセトニトリル、１−ブタノール、クロロベンゼン、クロロホルム（トリクロロメタン）、シクロヘキサン、ジエチルエーテル、１，４−ジオキサン、氷酢酸（酢酸）、無水酢酸、酢酸エチルエステル（酢酸エチル、酢酸エステル）、酢酸−ｎ−ブチルエステル（酢酸ｎ−ブチル）、酢酸−ｔｅｒｔ．−ブチルエステル（酢酸ｔ−ブチル）、エタノール、メタノール、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、３−ヘキサノン、２−プロパノール（イソプロパノール）、３−メチル−１−ブタノール（イソアミルアルコール）、塩化メチレン（ジクロロメタン）、メチルエチルケトン（ブタノン）、メチルイソブチルケトン、ニトロメタン（ニトロカルボール）、ｎ−ペンタン、２−ペンタノン、３−ペンタノン、石油エーテル（軽質ガソリン）、ベンジン、プロパノール、ピリジン（アジン）、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、テトラクロロエテン（パークロロエテン）、テトラヒドロフラン、トルエン、トリクロロエタン、トリエチルアミン、キシレン、酸素、メタン、エタン、プロパン、プロペン、ブタン、ブテン、二酸化炭素、オゾン、二酸化硫黄、水。
【００４３】
浸透物除去のプロセスにおけるゲッター材料含有平坦形成物の利点は、ゲッター材料が、ゲッター材料含有平坦形成物のマトリックス中で浸透物を平衡から遠ざけ、それ故、より良好な結果を達成できるという点にある。
【００４４】
好ましくは、本発明方法の枠内において、平坦形成物ＩＩは、平坦形成物Ｉから少なくとも水を少なくとも部分的に取り込むことができる。それ故、本発明の方法は、特に、有機電子的装置の構造中に少なくとも一部が使用される平坦形成物Ｉから水を除去する方法であって：  平坦形成物Ｉを、少なくとも一種のゲッター材料を含みかつ平坦形成物Ｉから少なくとも水を取り込むことができる平坦形成物ＩＩと直接または間接的に面接触させることを含み、ここで平坦形成物Ｉ及びＩＩの間には接着性接合は起きない、前記方法である。
【００４５】
適当なゲッター材料は、例えば、塩化コバルト、塩化カルシウム、臭化カルシウム、塩化リチウム、臭化リチウム、塩化マグネシウム、過塩素酸バリウム、過塩素酸マグネシウム、塩化亜鉛、臭化亜鉛、硫酸アルミニウム、硫酸カルシウム、硫酸銅、硫酸バリウム、硫酸マグネシウム、硫酸リチウム、硫酸ナトリウム、硫酸コバルト、硫酸チタン、亜ジチオン酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、硫酸ナトリウム、二亜硫酸カリウム、炭酸カリウム、炭酸マグネシウムなどの塩；  モンモリロナイト及びベントナイトなどの層状シリケート；  酸化バリウム、酸化カルシウム、酸化鉄、酸化マグネシウム、酸化ナトリウム、酸化カリウム、酸化ストロンチウム、酸化アルミニウム（活性化アルミナ）及び二酸化チタンなどの金属酸化物；  更にカーボンナノチューブ、活性炭、五酸化リン及びシラン；  易酸化性の金属、例えば鉄、カルシウム、ナトリウム及びマグネシウム；  例えば水素化カルシウム、水素化バリウム、水素化ストロンチウム、水素化ナトリウム及び水素化アルミニウムリチウムなどの金属水素化物；  水酸化カリウム及び水酸化ナトリウムなどの水酸化物；  例えばアルミニウムアセチルアセトネートなどの金属錯体；  更に例えばシリカゲルなどのケイ酸；  珪藻土；  ゼオライト；  更に、有機系吸収剤、例えばポリオレフィンコポリマー、ポリアミドコポリマー、ＰＥＴコポリエステル、一価もしくは多価カルボン酸の無水物、例えば無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸もしくは無水メチルテトラヒドロフタル酸、または更に、大概は例えばコバルトなどの触媒と組み合わせて使用される、ハイブリッドポリマーベースの吸収剤；  カルボジイミド；  例えば弱架橋ポリアクリル酸、ポリビニルアルコール、アスコルベート、グルコース、没食子酸または不飽和油脂などの更に別の有機系吸収剤である。更に、キレート形成性アミン及び遷移金属錯体をベースとする有機金属酸化添加剤が、特に酸化可能な基質材料と組み合わせて、特に酸素の結合のために有利に使用される。
【００４６】
本発明によれば、二種以上のゲッター材料の混合物も使用することができる。
【００４７】
ゲッター材料は、それらの機能に相応して、本質的に浸透物を含まない材料として、例えば無水の材料として使用されるのが好ましい。これにより、フィラーとして使用される類似の材料からゲッター材料が区別される。例えば、焼成ケイ酸の形のシリカはしばしばフィラーとして使用される。しかし、このフィラーは通常通りに周囲条件下に貯蔵されると、これは周囲から既に水を取り込んで、工業的に利用可能な規模ではもはやゲッター材料としては機能しなくなる。乾燥したシリカまたは乾燥状態に維持したシリカでようやくゲッター材料として利用できる。しかし、本発明では、既に部分的に浸透物と錯化した材料、例えばＣａＳＯ４＊１／２Ｈ２Ｏ（硫酸カルシウム半水和物）、または定義上、一般式（ＳｉＯ２）ｍ＊ｎＨ２Ｏの化合物として存在する部分水和ケイ酸も使用することができる。
【００４８】
［シラン」とは、一般式Ｒａ−Ｓｉ−Ｘ４−ａの化合物またはそれの部分縮合生成物のことと解される。上記式中、ａは０〜３の整数を表し、好ましくは０または１を表す。Ｘは、加水分解可能な基を表し、例えば及び好ましくはハロゲン原子、特に塩素、アルコキシ基、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基またはｔｅｒｔ−ブトキシ基を表し、またはアセトキシ基を表す。加水分解可能な基の当業者には既知の他の例を、本発明の意味において同様に使用可能である。複数の置換基Ｘが存在する場合には、これらは同一かまたは互いに異なることができる。Ｒは、場合により置換された炭化水素残基、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、並びにその分岐状異性体、ヘキシル基並びにその分岐状異性体、ヘプチル基並びにその分岐状異性体、オクチル基並びにその分岐状異性体、ノニル基並びにその分岐状異性体、デシル基並びにその分岐状異性体、ウンデシル基並びにその分岐状異性体、ドデシル基並びにその分岐状異性体、テトラデシル基並びにその分岐状異性体、ヘキサデシル基並びにその分岐状異性体、オクタデシル基並びにその分岐状異性体、またはエイコシル基並びにその分岐状異性体を表す。上記の炭化水素基は、加えて、環状及び／または芳香族部分を含むことができる。それの代表的な構造は、シクロヘキシル基、フェニル基及びベンジル基である。場合によっては、炭化水素基Ｒ（複数可）は、例えば一つ以上のヘテロ原子含有置換基、例えばアミノ基、アミノアルキル基、グリシジルオキシ基、（メタ）アクリルオキシ基及び類似物を含む。複数の置換基Ｒが存在する場合には、これらは同一かまたは互いに異なることができる。
【００４９】
ゲッター材料として使用可能なシランは、好ましくは、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルジエトキシメチルシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルジメトキシメチルシラン、（Ｎ−ブチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−（Ｎ−エチルアミノ）−２−メチルプロピルトリメトキシシラン、４−アミノ−３，３−ジメチルブチルトリメトキシシラン、４−アミノ−３，３−ジメチルブチルジメトキシメチルシラン、（Ｎ−シクロヘキシル）−アミノメチルジメトキシメチルシラン、（Ｎ−シクロヘキシル）−アミノメチルトリメトキシシラン、（Ｎ−フェニル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、（Ｎ−フェニル）−アミノメチルジメトキシメチルシラン、（Ｎ−ベンジル−２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、［２−（Ｎ−ベンジル−Ｎ−ビニルアミノ）−エチル］−３−アミノプロピルトリメトキシシラン塩化水素、［２−（Ｎ−ベンジル−Ｎ−ビニルアミノ）−エチル］−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、ビス−（３−プロピルトリエトキシシリル）−アミン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニル−トリ（２−メトキシエトキシ）−シラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、ビニルジメトキシメチルシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３−トリエトキシシリルプロピルコハク酸無水物、３−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシジルオキシプロピルトリエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）−エチルトリエトキシシラン、３−グリシジルオキシプロピルジエトキシメチルシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリイソプロポキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルジメトキシメチルシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルジエトキシメチルシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリエトキシシラン、３−イソシアナトプロピルトリメトキシシラン、３−イソシアナトプロピルトリエトキシシラン、イソシアナトメチルトリメトキシシラン、イソシアナトメチルジメトキシメチルシラン、トリス−［３−（トリメトキシシリル）−プロピル］−イソシアヌレート、３−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、２−ヒドロキシ−４−（３−トリエトキシシリルプロポキシ）−ベンゾフェノン、４−（３’−クロロジメチルシリルプロポキシ）−ベンゾフェノン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルジメトキシメチルシラン、ビス−（３−トリエトキシシリルプロピル）−ジスルファン、ビス−（３−トリエトキシシリルプロピル）−テトラスルファン、ビス−（トリエトキシシリルプロピル）−ポリスルファン及びオクタデシルアミノジメチルトリメトキシシリルプロピルアンモニウムクロライドを含む群から選択される。
【００５０】
好ましくは、ゲッター材料は、塩化コバルト、塩化カルシウム、臭化カルシウム、塩化リチウム、臭化リチウム、塩化マグネシウム、過塩素酸バリウム、過塩素酸マグネシウム、塩化亜鉛、臭化亜鉛、硫酸アルミニウム、硫酸カルシウム、硫酸銅、硫酸バリウム、硫酸マグネシウム、硫酸リチウム、硫酸ナトリウム、硫酸コバルト、硫酸チタン、炭酸ナトリウム、硫酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸マグネシウム、並びに
珪藻土、ケイ酸（シリカ）、ゼオライト、層状シリレート、並びに
鉄、カルシウム、バリウム、ナトリウム、マグネシウム、酸化バリウム、酸化カルシウム、酸化鉄、酸化マグネシウム、酸化ナトリウム、二酸化チタン、酸化カリウム、酸化ストロンチウム、活性化酸化アルミニウム、並びに
カーボンナノチューブ、活性炭、五酸化リン、シラン、並びに
水素化カルシウム、水素化バリウム、水素化ストロンチウム、水素化ナトリウム、水素化アルミニウムリチウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム並びにアルミニウムアセチルアセトネート、並びに
無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸、メチルテトラヒドロフタル酸無水物、ポリアクリル酸及びポリビニルアルコール、
からなる群から選択される、というのもこれらの材料は、特に良好に水分ゲッターとして適しているからである。
【００５１】
酸素に対する特に際立った結合作用の観点では、ゲッター材料は、好ましくは、鉄、亜ジチオン酸ナトリウム、酸化バリウム、鉄（ＩＩ，ＩＩＩ）酸化物、カルボヒドラジド、活性化酸化アルミニウム、ゼオライト、活性炭、亜硫酸塩、アスコルビン酸塩、ヒドラジン、モルホリン、２−ブタノンオキシム、ジエチルヒドロキシルアミン、グルコース、没食子酸、不飽和油脂、並びに（特に酸化可能な基質材料と組み合わせた）キレート形成性アミン及び遷移金属錯体をベースとする有機金属酸化添加剤からなる群から選択される。
【００５２】
特に好ましくは、ゲッター材料は、塩化コバルト、塩化カルシウム、臭化カルシウム、塩化リチウム、臭化リチウム、塩化マグネシウム、過塩素酸バリウム、過塩素酸マグネシウム、塩化亜鉛、臭化亜鉛、硫酸アルミニウム、硫酸カルシウム、硫酸銅、硫酸バリウム、硫酸マグネシウム、硫酸リチウム、硫酸ナトリウム、硫酸コバルト、硫酸チタン、炭酸ナトリウム、硫酸ナトリウム、炭酸カリウム、ゼオライト、カルシウム、マグネシウム、酸化バリウム、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化ナトリウム、酸化カリウム、酸化ストロンチウム、活性炭、五酸化リン、シラン、水素化カルシウム、水素化バリウム、水素化ストロンチウム、水素化ナトリウム及び水素化アルミニウムリチウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、無水酢酸、無水プロピオン酸、無類酪酸、メチルテトラヒドロフタル酸無水物及びカルボジイミド、並びに上記の物質の二種以上の混合物からなる群から選択される。これらの材料は、上記の浸透物のうちの少なくとも一つに対し、特に水に対しても高い収着キャパシティを有する。
【００５３】
「カルボジイミド」とは、一般式Ｒ１−Ｎ＝Ｃ＝Ｎ−Ｒ２で表され、この際、Ｒ１及びＲ２は、同一かまたは異なることができる有機基、特にアルキル基またはアリール基である化合物のことと解される。
【００５４】
非常に特に好ましくは、ゲッター材料は、バリウム、カルシウム、硫酸カルシウム、塩化カルシウム、酸化カルシウム、硫酸ナトリウム、炭酸カリウム、硫酸銅、過塩素酸マグネシウム、硫酸マグネシウム、塩化リチウム、ケイ酸及びゼオライト、並びに上記の物質の二種以上の混合物からなる群から選択される。これらのゲッター材料は、これらが、接着テープの該当する層中に簡単に配合でき、高い収着能を示し、そして再生可能なゲッター材料であるという利点を供する。これは、取り込んだ浸透物、例えば水を所定の条件下に再び放出することができ、そしてそれによって、再び浸透物を取り込み得る状態になる物質のことと解される。これは、ゲッター含有平坦形成物と、浸透物を除去するべき平坦形成物とを接触させる前に、場合によっては、そのゲッター含有平坦形成物から、その時点まで取り込まれた浸透物を、例えば加熱によって大幅に除去するといった方法を可能にする。それによって、有利なことに、ゲッター含有平坦形成物の使用の時に、ゲッタリングキャパシティが完全に利用される。
【００５５】
特に、ゲッター材料は、酸化カルシウム、硫酸カルシウム、塩化カルシウム、焼成シリカ及びゼオライト、並びに上記の物質の二種以上の混合物からなる群から選択される。これらの材料は、水及び他の浸透物の取り込みに特に大きなキャパシティを有し、大部分が再生可能であり、そして平坦形成物中に優れて組み入れることができる。
【００５６】
本発明の格別な実施形態の一つでは、ゲッター材料は、酸化カルシウム、カルシウム、鉄、バリウム、塩化リチウム及び塩化コバルトから選択される。これらの物質は、それらの光学的性質の変化を介して、平坦形成物の浸透物含有率についての推測を可能にする。すなわち、平坦形成物の光学的外観に基づいてフリーのゲッタリングキャパシティが認識できる間は、これは、保護すべき平坦形成物中に浸透物がまだ拡散していないかまたはあってもたがたが少量しか拡散していないことの証拠として見なすことができる。例えば、金属カルシウムは、それの金属的な不透明な外観を失い、そしてだんだんと透明になり；  塩化コバルトは水を取り込んだ時にその色を青からピンクへと変化させる。ゲッター材料は特に酸化カルシウムである。
【００５７】
平坦形成物ＩＩ中のゲッター材料含有層中のゲッター材料の割合は、該当する層の重量をそれぞれ基準にして、それぞれ少なくとも１重量％、好ましくは少なくとも１０重量％であるのが有利である。平坦形成物ＩＩのゲッター材料含有層中のゲッター材料の最大割合は、それぞれ限定はされず、ゲッター材料だけからなる層とまですることができる。
【００５８】
その含有率は、各々の浸透物（複数種可）に対する平坦形成物ＩＩの所望の取り込みキャパシティに本質的に依存する。
【００５９】
例えば僅かな取り込みキャパシティしか必要でない場合には、小さい取り込みキャパシティを持つ少量のゲッター材料の使用で場合により十分である。それ故、好ましい実施形態の一つでは、平坦形成物ＩＩの、ゲッター材料を含む一つまたは複数の層は、それぞれ該当する層の総重量を基準にして、それぞれ１〜５重量％のゲッター材料を含む。
【００６０】
しかし、平坦形成物ＩＩの非常に高い取り込みキャパシティが必要な場合には、ゲッター材料は、ゲッター材料含有層中に比較的高い含有率で使用する必要があり、この際、ゲッター材料も高い取り込みキャパシティを有するのがよい。しかし、コストや適合性の観点から得策の場合には、取り込みキャパシティの低いゲッター材料も使用できる。それ故、本発明方法の更に別の好ましい実施形態の一つの枠内では、平坦形成物ＩＩの、ゲッター材料を含む一つまたは複数の層は、該当する層の総重量を基準にして、２０〜９９重量％のゲッター材料を含む。
【００６１】
ゲッター材料を含む層が接着剤の場合には、ゲッター材料含有層の重量を基準にして１０〜８０重量％の含有率が好ましく、それにより十分な接着特性が維持される。
【００６２】
好ましくは、ゲーター材料含有平坦形成物ＩＩ自体は、施与の前は、浸透物含有率が１０００ｐｐｍ未満、特に好ましくは１００ｐｐｍ未満である。この際、上記のｐｐｍ数値は、平坦形成物の重量に対しての浸透物の全含有重量の関係での表記である。浸透物含有率は、ＶＤＡ２７７に従いガスクロマトグラフィを用いて測定でき、または水の場合には、試験体を２３℃及び５０％相対湿度で２４時間保存した後にＤＩＮ５３７１５（カールフィッシャー滴定）に従い測定できる。浸透物含有率が少ない場合には、平坦形成物ＩＩのゲッター材料のキャパシティは、平坦形成物自体から拡散する浸透物によってはそれほど強くは影響されず、平坦形成物は、浸透物除去装置としてのその機能をより良好に満たすことができる。
【００６３】
平坦形成物ＩＩと平坦形成物Ｉと接触の後に、平坦形成物Ｉとは反対側にゲッター材料含有層上に配置されている、平坦形成物ＩＩの層の内の少なくとも一つ、特に好ましくは、平坦形成物ＩＩの外側層の少なくとも一つ、例えば外側にある非接着性のポリマー層が、不動化するべき浸透物について低い浸透速度を有するのが特に有利である。浸透物が水蒸気である場合は、水蒸気透過速度（ＷＶＴＲ）は、５０μｍの層厚に基づいて、好ましくは５０ｇ／（ｍ２＊ｄ）未満、特に好ましくは２０ｇ／（ｍ２＊ｄ）未満である。この際、ＷＶＴＲは、３８℃及び９０％相対空気湿度でＡＳＴＭ  Ｆ−１２４９に従い、酸素透過速度（ＯＴＲ）は、２３℃及び５０％相対空気湿度でＤＩＮ５３３８０−パート３に従い測定される。
【００６４】
上記の低い浸透速度によって、特に平坦形成物の製造の際に、少ない浸透物しか、周囲から該当する層（複数可）を通ってゲッター材料含有層中に拡散しないかまたはゲッター材料含有層のマトリックスを通ってゲッター材料に拡散せず、それ故、これは、その機能をより長い時間満たすかまたは更により少ない量で使用でき、コストを削減する。それ故、特に好ましくは、少なくとも、平坦形成物ＩＩのゲッター材料含有層のマトリックス材料は、不動化すべき浸透物に対し低い透過速度を有する。
【００６５】
好ましくは、通常比較的低い水蒸気透過速度の故に、合成ゴムをベースとする層−またはマトリックス材料、例えばポリイソブチレン及びそれのコポリマー、ポリブテン、ブチルゴム；  １，３−ジエン、特にブタジエン、イソブチレン及び／またはイソプレンの重合によって形成されたポリマーブロックを有するスチレンブロックコポリマー（これは、特異的にまたは完全に水素化されたポリマーブロックを含んでいることもできる）；  並びにポリオレフィン及びそれのコポリマー、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、特に硬質ＰＶＣ、ポリ塩化ビニリデン（ＰＶＤＣ）、ポリアセタール、フルオロポリマー、並びにポリエチレン−ビニルアルコール（ＥＶＯＨ）をベースとする層−またはマトリックス材料が使用される。
【００６６】
特に好ましくは、ゲッター材料含有層のマトリックス材料及び／または乾燥すべき平坦形成物Ｉとの接触に予定された平坦形成物ＩＩの外側層の材料は、エラストマーである、というのも、その弾性によって、浸透物を除去すべき平坦形成物Ｉに対するより良好な接触を達成でき、それにより効率を高めることができる一方で、接着性の特性を示さないからである。
【００６７】
本発明の実施形態の一つでは、ゲッター材料含有平坦形成物ＩＩは、キャリア材料を有する、というのも、それによって、ダイカット性及び／または適用性が有利に向上するからである。
【００６８】
キャリア材料としては、繊維材料製平坦形成物、紙、プラスチックコート紙またはフィルムを使用でき、ここでフィルム、特に寸法安定性のプラスチックもしくは金属フィルムが好ましい。それ故、キャリア層またはキャリア材料は、好ましくは、ポリエステルから、特にポリエチレンテレフタレートから、例えば二軸延伸ポリエチレンテレフタレートから；  あるいはポリオレフィンから、特にポリブテン、シクロオレフィンコポリマー、ポリメチルペンテン、ポリプロピレンまたはポリエチレンから、例えば一軸延伸ポリプロピレン、二軸延伸ポリプロピレンまたは二軸延伸ポリエチレンからなる。ポリエステルフィルムは、これが、温度安定性を保証し、かつ高められた機械的安定性を提供するという利点を有する。それ故、非常に特に好ましくは、本発明方法に使用されるゲッター材料含有平坦形成物ＩＩのキャリア層またはキャリア材料は、ポリエステルフィルムから、例えば二軸延伸ポリエチレンテレフタレートからなる。
【００６９】
好ましい実施形態の一つでは、キャリア材料は、一種以上の特定の浸透物、特に水蒸気及び酸素に対してのバリア機能も含み、そうすると、平坦形成物ＩＩ中に存在するゲッター材料は、平坦形成物の製造及び／または貯蔵中に既に、周囲から拡散侵入した浸透物によって部分的にまたは完全に飽和されることはない。このようなバリア機能は、有機または無機材料からなることができる。
【００７０】
特に好ましくは、キャリア材料は少なくとも一つの無機バリア層を含む。無機バリア層としては、真空下に（例えば蒸発、ＣＶＤ、ＰＶＤ、ＰＥＣＶＤを用いて）または大気圧下に（例えば大気圧プラズマ、反応性コロナ放電または火炎熱分解を用いて）堆積した金属、例えばアルミニウム、銀、金、ニッケルまたは特に金属化合物、例えば金属酸化物、窒化物または水窒化物、例えばケイ素、ホウ素、アルミニウム、ジルコニウム、ハフニウムまたはテルルの酸化物または窒化物またはインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）が特に良好に適している。同様に、上述の変体の他の元素でドープされた層も適している。
【００７１】
無機バリア層を形成するための特に適した方法としては、高出力インパルスマグネトロンスパッタリング及び原子層堆積法が挙げられ、これらの方法によって、格別に浸透物に対し不透過性の層を、キャリア材料の低い温度負荷下に実現できる。好ましくは、バリア機能を持つキャリア層のまたはキャリア層とバリア層とからなる複合材の浸透物バリアは、＜１ｇ／（ｍ２＊ｄ）の水蒸気に対する（ＷＶＴＲ）及び／または＜１ｃｍ３／  （ｍ２＊ｄ＊ｂａｒ）の酸素に対する（ＯＴＲ）浸透物バリアが好ましく、この際、上記の値は、それぞれ平坦形成物中に使用した、キャリア層の厚さに基づくものであり、すなわち特定の厚さに正規化したものではない。この際、ＷＶＴＲは、３８℃及び９０％相対空気湿度でＡＳＴＭ  Ｆ−１２４９に従い、ＯＴＲは、２３℃及び５０％相対空気湿度でＤＩＮ５３３８０−パート３に従い測定される。
【００７２】
本発明に従う方法で使用される平坦形成物ＩＩの厚さは、通例の全ての厚さを包含し得、すなわちおおよそ１μｍ〜３０００μｍである。２５μｍと１００μｍの間の厚さが好ましく、なぜならばこの範囲において、柔軟性及び取り扱い性が特に有利になるからである。更に別の好ましい範囲の一つは、３〜２５μｍの厚さであり、なぜならばこの範囲において、平坦形成物Ｉ及びＩＩの層厚が厚くなり過ぎず、それ故、例えば、より多くの材料を、規定の直径を持つ一つのロール上に巻き取ることができるからである。
【００７３】
本発明による方法において使用可能な平坦形成物ＩＩの製造のためには、好ましくは、平坦形成物のキャリアまたは一次的なキャリア材料（ライナー）の片面に、ゲッター材料含有マトリックス材料を溶液もしくは分散液からまたは１００％濃度で（例えば溶融物）コーティングまたは印刷するか、あるいは平坦形成物を（共）押出法によって製造する。代替的に、好ましくはゲッター材料を含む接着剤層をキャリア材料上に積層して転写することによる製造が可能である。
【００７４】
ゲッター材料を含む層は、原則的に、溶液、エマルションまたは分散液から当業者には既知の方法を用いて直接施与することができる。使用する溶剤、乳化剤もしくは分散剤は、この場合、次いで、慣用の乾燥機中で蒸発させることができる。同様に、溶剤フリーのコーティング、例えば、散布法、フロック化法または粉体化法を用いたコーティングも適している。
【００７５】
ゲッター材料を含む層は、本発明に従い印刷することもできる。このためには、従来技術に従い凹版印刷法及びスクリーン印刷法が適している。ここでは、輪転印刷法を使用することが好ましい。更に、コーティングは、スプレー法によっても施与することができる。これは、回転スプレー法で、場合によっては静電気的に、行うことができる。
【００７６】
この製造方法は、特定の浸透物が小濃度だけで含まれるかまたは殆ど含まれない環境下に行うことが好ましい。例としては、３０％未満、好ましくは１５％未満の相対空気湿度を挙げることができる。
【００７７】
特性を最適化するため、使用する層材料を１種または複数の添加剤、例えば軟化剤、フィラー、顔料、ＵＶ吸収剤、光保護剤、老化防止剤、架橋剤及び／または架橋促進剤と混合することができる。
【００７８】
平坦形成物ＩＩ中のゲッター材料含有層の量または塗工量は、好ましくは１〜２００ｇ／ｍ２、より好ましくは１０〜１００ｇ／ｍ２であり、この際、「量」とは、場合により行う水または溶剤の除去の後の量と理解される。
【００７９】
本発明による方法は、有機電子的構造物の製造において原料及び／または中間製品からの浸透物の除去；  特に基材材料、接着材料及びカバー材料からの、特に印刷されたアノードまたはカソードからの、特に印刷された伝導性層または導体経路、正孔注入層（ＨＩＬ）または電子輸送層（ＥＴＬ）、特に真性伝導性ポリマー、例えばＰＥＤＯＴ：ＰＳＳの水性分散液をベースとするものからの浸透物の除去、並びに特に印刷された有機発光層または吸光層、特にＬＩＴＩフィルムからの浸透物の除去；  更には有効成分膏薬、医学用、生物学用もしくは化学用試験構造体からの、特に試験ストリップからの浸透物の除去、並びに電気化学セル、例えば燃料電池または電気分解セルの製造における原料または中間製品からの浸透物の除去に好ましく使用される。
【００８０】
特に好ましくは、本発明による方法は、基材フィルム、接着フィルムまたはカバーフィルムから、正孔注入層及び輸送層、電子輸送層から並びに有機発光もしくは吸光層からの浸透物の除去に使用される。
【００８１】
本発明の更に別の対象の一つは、非接着性でエラストマー性の接触層、並びに少なくとも一種のゲッター材料を含みかつ前記エラストマー性接触層を通過した少なくとも一種の浸透物を取り込むことができる、少なくとも一つの更に別の層を含む平坦形成物であって、この際、前記エラストマー接触層が、該平坦形成物の構造中に含まれる少なくとも一つの更に別の層、例えばキャリア層よりも、特に更に別の少なくとも一つのゲッター材料含有層よりも室温で低い弾性率を有する、前記平坦形成物である。弾性率の決定は、ＤＩＮ−ＥＮ−ＩＳＯ５２７−３に従い、２３℃及び５０％相対空気湿度において、試験体タイプ２を用いて５０ｍｍ／分の試験速度で行われる。
【００８２】
この際、前記の更に別の層は完全にゲッター材料からなることできるか、またはゲッター材料がマトリックス材料中に、例えば分散材料として埋蔵されていることができる。前記接触層は、浸透物を除去すべき平坦形成物との接触のために設けられている。該エラストマー性接触層が、平坦形成物の構造中に含まれる少なくとも一つの更に別の層よりも低い弾性率を有することによって、これはキャリア機能を担わず、それ故、良好な接触を有利に提供できる。この形態の利点は、エラストマー性接触層（外側層）による良好な接触、及びゲッター材料と浸透物を除去すべき平坦形成物との直接の接触の回避である。他の場合には、ゲッター材料の反応性の故に、望ましくない化学的相互作用が、または一部のゲッター材料の硬度の故に機械的な損傷が起こり得る。
【００８３】
そこで使用するゲッター材料含有平坦形成物ＩＩについて本方法の説明の枠内で既に開示された実施形態は、当然ながら、矛盾しない限りにおいて、本発明による平坦形成物にも当てはまる。これとは逆に、本発明によるゲッター材料含有平坦形成物の実施形態は、同時に、本発明による方法に使用可能な平坦形成物ＩＩの可能な実施形態でもある。
【００８４】
本発明による平坦形成物の一実施形態では、ゲッター材料はマトリックス材料中に分散相として含まれている。「分散相として含まれている」とは、ゲッター材料が、マトリックス材料の該当する層（複数可）中に微細な状態で存在していることと解される。原則的には、ゲッター材料粒子の形と大きさは、（当然ながら、平坦形成物または層の構造及び機能から生ずる制限内ではあるが）特に制限されない。「分散相として含まれる」という特徴は、該当する層の材料中のモル分散物及びそれ故、真性（分子）溶液、並びにゲッター材料一次粒子、ゲッター材料凝集物（Ａｇｇｒｅｇａｔｅ）及びゲッター材料集塊物（Ａｇｇｌｏｍｅｒａｔｅ）の分散物も包含する。
好ましくは、ゲッター材料はマトリックス材料中に分散相として含まれている。
【００８５】
更に、「分散相として含まれる」という特徴は、該当するゲッター材料が、独立した連続した相を形成せず、一般的に複数の分布した粒子の形で存在していることを意味する。それは反対に、層材料中でのゲッター材料粒子の理想的または統計学的分布が存在する必要があることは意味しない。ゲッター材料粒子は、例えば、完全に層内の特定の領域中に濃縮し得るか、またはゲッター含有層の特定の領域がゲッター材料を含まないことができる。
【００８６】
本発明による平坦形成物の一つの層中での分散相としてのゲッター材料の分布は、連続した独立したゲッター材料層と比べて、浸透物を取り込むための比表面積が、連続した層の場合の場合よりも大きく、そのため、浸透物に対してより高い取り込みキャパシティを実現できるという利点を持つ。
【００８７】
原則的に、ゲッター材料の粒子の大きさは、これらを含む各々の層の厚さの要求によって制限される。それ故、約２００μｍを粒子の大きさの上限として見なすことができ、しかし、好ましくは、最大で５０μｍの粒度を持つ粒子の形のゲッター材料が使用される。
【００８８】
本発明によるゲッター材料含有平坦形成物は、確かに、複数の層、例えばキャリア層、場合により及び、同一または異なるゲッター材料（複数可）を含む更に別の層を含むことができる。
【００８９】
好ましくは、ゲッター材料は、ゲッター材料の最大１体積％だけが、ゲッター材料含有層の平均層厚を超える粒度分布で粒子の形で存在する。これは、ゲッター粒子が、各々の層から突き出ておらず、それ故、表面特性に強くマイナスに影響を与えないという利点を持つ。特に好ましい実施形態の一つでは、本発明による平坦形成物中に含まれる全ゲッター材料が、ゲッター材料の最大１体積％だけが、各々の層の平均層厚を超える粒度分布で存在する。
【００９０】
代替的な好ましい変法一つでは、ゲッター材料は、少なくとも１０体積％が、ゲッター材料含有層の平均層厚を超える粒度分布で粒子の形で存在する。これは、粗い表面をもたらし、そして平坦形成物の層複合体中での異なる層の固定が向上され得る。特に好ましくは、本発明による平面形成物中に含まれる全ゲッター材料は、少なくとも１０体積％が各々のゲッター材料含有層の平均層厚を超えるような粒度分布で存在する。
【００９１】
「粒子」とは、ＤＩＮ５３２０６−１：１９７２−０８の意味で、ゲッター材料または複数種のゲッター材料の一次粒子、凝集物及び集塊物のことと解される。「粒度」とは、粒子の最大の次元のことと解される。粒度の決定は、好ましくは、ＩＳＯ１３３２０に従うレーザー回折を用いて行うが（この際、分散ステップでは、凝集物ではなく集塊物を分散する）、当業者には既知の他の方法も適している。
【００９２】
特に好ましくは、全てのゲッター材料がナノスケールで存在する、すなわち少なくとも一つの次元における最大の広がりが、５００ｎｍ未満、非常に特に好ましくは２００ｎｍ未満、例えば１００ｎｍ未満である。
【００９３】
このようなゲッター材料は、例えば分散焼成シリカ、例えばＥｖｏｎｉｋ社のエアロジル、Ｓｉｇｍａ−Ａｌｄｒｉｃｈ社の酸化カルシウムナノパウダー、Ａｍｅｒｉｃａｎ  Ｅｌｅｍｅｎｔｓ社（ロサンジェルス）の塩化カルシウムＣＡ−Ｃｌ−０２−ＮＰ、Ｎａｎｏｓｃａｐｅ社（プラネック−マルティンスリート）のナノゼオライトＬＴＡもしくはＦＡＵ、またはＣｌａｉｒａｎｔ社（フランクフルト）社のナノスケールゼオライトＬｕｃｉｄｏｔ  ＮＣＬ  ４０であることができる。
【００９４】
マトリックス材料は、好ましい形態の一つでは、（感圧）接着剤、特に固有のバリア作用を持つ（感圧）接着剤である。５０μｍの厚さで５０ｇ／（ｍ２＊ｄ）未満の水蒸気透過速度及び／または５０００ｇ／（ｍ２＊ｄ＊ｂａｒ）の酸素透過速度を有するこのような（感圧）接着剤としては、例えば次の文献ＤＥ１０２０１００４３８７１（Ａ１）（特許文献７）、ＤＥ１０２０１００４３８６６（Ａ１）（特許文献８）、ＤＥ１０２００８０６０１１３Ａ１（特許文献９）、ＤＥ２００８１００６２１３０Ａ１（特許文献１０）、ＤＥ２００８１００４７９６４Ａ１（特許文献１１）、ＤＥ２００９１００３６９７０Ａ１（特許文献１２）、ＤＥ２００９１００３６９６８Ａ１（特許文献１３）、ＵＳ２００９００２６９３４（Ａ１）（特許文献１４）、ＥＰ１４６９０５４Ｂ１（特許文献１５）及びＥＰ０５１９２７８Ｂ２（特許文献１６）に開示されるような接着剤を使用できる。
【００９５】
更に別の実施形態の一つでは、本発明によるゲッター材料含有平坦形成物は、ゲッター材料の層を少なくとも一つ含む。
【００９６】
ゲッター材料層は、好ましくは、凝集した、連続している途切れていない層として形成される。しかし、これは、途切れた層としても存在でき、または孔を有することもできる。本発明によれば、粉末状ゲッター材料の完全に平坦なまたは孔の開いた層を、該平坦形成物の構造中に存在する更に別の層上に、例えばキャリア材料上に施与することができ、例えば、熱的及び／または機械的プロセス、例えば熱ロール掛けによって層材料と結合することができる。孔の開いた層は、放出すべき浸透物はより簡単に層を通過できるが、結合すべき浸透物は捕捉されるという利点を有する。更に、例えば粒子からなる有孔層は、完全に平坦、平滑な層よりも大きな表面積を有するために、ゲッター材料の収着能力が更に一層良好に効果を発揮する。
【００９７】
ゲッター材料層の厚さは、特に、それぞれの浸透物について望まれる取り込みキャパシティに依存する。取り込み能力が高いゲッター材料の連続層、例えばカルシウム層の最小厚が下限と見なされ、これは約２０ｎｍと見積もることができる。その剛性がゲッター材料含有平坦形成物の巻き取りをなおも可能とする金属製ゲッター材料、例えばバリウム−亜鉛合金でできたフィルムの厚さが上限と見なされる。このような層厚は約１００μｍと見積もることができる。
【００９８】
このゲッター材料層は、好ましくは（純粋な）ゲッター材料からなる。これは例えば、ゲッター材料の蒸着またはスパッタリングした層である。更に別の実施形態の一つでは、少なくとも一種の更に別の材料がゲッター層中に分散して存在する。例えば、この更に別の材料は気体であり、それにより、ゲッター層が特に有利に発泡体として、特に連続気泡型発泡体として存在する。これは、ゲッター層の格別広い有効表面積という利点を有する。固形または液状の材料も、ゲッター材料層中に分散して存在することができる。これは、例えば、浸透物を取り込むと液状化するゲッター材料、例えば塩化リチウムを、または放出されたガス、例えばバリウムと水との反応での水素を結合する材料であることができる。ゲッター材料層の形成の後に再び除去される孔形成剤も、ゲッター層中に分散した材料を形成することができる。これは、例えば、先ずゲッター材料層の電気化学的堆積において組み入れられ、しかし後続のステップで再び溶解して取り除かれ、そうして多孔性ゲッター材料構造を後に残す有機材料であることができる。
【００９９】
平坦形成物の一つの層中に（分散相として）分散状態で存在するゲッター材料は、本発明の意味において「ゲッター材料の層」ではない。本発明による「ゲッター材料の層」は、層が本質的にゲッター材料自体から、例えば層の唯一の材料としてまたは分散物の連続層として、形成されているにのみ、存在する。分散物の連続相としては、本発明の意味では、パーコレート粒子もそれに該当する。「パーコレート粒子」とは、凝集した領域またはクラスターを形成するように互いに相互作用する粒子のことと解される。パーコレーションの存在は直接は把握できないために、その代わりに、分散物内の５０％のゲッター材料の重量割合がパーコレーション閾値として定義される。
【０１００】
本発明によるゲッター材料含有平坦形成物の可能な実施形態を図１〜図４に示す。
【図面の簡単な説明】
【０１０１】
【図１】非接着性エラストマー性接触層（１０）、ゲッター材料を含む層（２０）、使用したキャリア材料厚さを基準にして３８℃及び９０％相対湿度で＜１ｇ／ｍ２ｄのＷＶＴＲを有するキャリア材料（３０）を含む平坦形成物。
【図２】非接着性エラストマー性接触層（１０）、ゲッター材料を含む層（２０）、任意選択の更に別の非接着性接触層（１１）を含む平坦形成物。
【図３】非接着性エラストマー性接触層（１０）、ゲッター材料を含む層（２０）、キャリア材料（３１）、任意選択の別の非接着性エラストマー性接触層（１１）を含む平坦形成物。
【図４】キャリア材料（３２）、ゲッター材料を含む層（２０）、キャリア材料（３１）を含む平坦形成物。
【０１０２】
図１
１０：非接着性エラストマー性接触層
２０：ゲッター材料を含む層
３０：使用したキャリア材料厚さを基準にして３８℃及び９０％相対湿度で＜１ｇ／ｍ２ｄのＷＶＴＲを有するキャリア材料
図２
１０：非接着性エラストマー性接触層
２０：ゲッター材料を含む層
１１：任意選択の更に別の非接着性接触層
図３
１０：非接着性エラストマー性接触層
２０：ゲッター材料を含む層
３１：キャリア材料
１１：任意選択：  更に別の非接着性エラストマー性接触層
図４
３２：キャリア材料
２０：ゲッター材料を含む層
３１：キャリア材料
【０１０３】
本発明の更に別の対象の一つは、平坦形成物から浸透物を除去するための、好ましくは平坦形成物から少なくとも水を少なくとも部分的に除去するための、本発明による平坦形成物の使用である。
【実施例】
【０１０４】
当該方法の実施のために様々なゲッター材料含有平坦形成物を製造した。
非接着性エラストマー層及び接着剤：
層の形成のために、様々な材料を溶液から、Ｓｉｌｉｃｏｎａｔｕｒｅ社のタイプＳｉｌｐｈａｎ  Ｓ７５  Ｍ３７１の慣用のライナー上に、実験室用コーティング装置を用いて施与しそして乾燥した。乾燥後の層厚はそれぞれ５０μｍであった。乾燥は、それぞれ実験室用乾燥庫中で１２０℃で３０分間行った。
【０１０５】
【表１】
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【０１０６】
溶剤としては、トルエン及びアセトンを２：１の比率で含む混合物を使用した。
【０１０７】
【表２】
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【０１０８】
溶剤としては、トルエン及びアセトンを２：１の比率で含む混合物を使用した。
【０１０９】
【表３】
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【０１１０】
溶剤としては、特殊沸点スピリッツを使用した。
【０１１１】
ＡＳＴＭ  Ｆ−１２４９に従い３８℃及び９０％相対空気湿度で水蒸気透過速度（ＷＶＴＲ）を測定した。記載の値は、二回の測定からの平均値である。
【０１１２】
鋼鉄上での接着力は、ＩＳＯ２９８６２（方法３）に倣い２３℃および相対湿度５０％で、剥ぎ取り速度３００ｍｍ／分および剥ぎ取り角度１８０°で決定した。補強フィルムとして、Ｃｏｖｅｍｅ社（イタリア）から入手可能である厚さ５０μｍのエッチングされたＰＥＴフィルムを使用した。これに関し測定用ストリップの貼付はプレスロール機を用いて２３℃の温度で行った。接着テープは適用後すぐに剥ぎ取った。記載の値は、三回の測定からの平均値である。
【０１１３】
【表４】
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【０１１４】
求められた鋼鉄上での接着力は、組成物Ｍ２〜Ｍ３は非接着性材料であることを示している。
【０１１５】
以下のゲッター材料を使用した。
【０１１６】
【表５】
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【０１１７】
ゲッター材料は、実験室用攪拌装置の高速分散ディスクを用いて材料溶液中に導入した。材料溶液は、先ず、約１ｍｍの大きさのゼオライト球を用いて乾燥し、これをコーティングプロセスの前に再び濾別した。ゲッター材料含有層は１００μｍの厚さで形成した。
【０１１８】
キャリア材料Ｂ１として、無機バリア層でコーティングされた１２μｍ厚のポリエステルフィルム（Ｔｏｐｐａｎ  Ｐｒｉｎｔｉｎｇ社のＧＸ−Ｐ−Ｆ）を使用した。このフィルムは、０．０６ｇ／ｍ2ｄの水蒸気透過速度を有していた。ゲッター材料含有層を、このフィルムの無機バリア層を備えた側上に溶液からコーティングし、そして乾燥した。
【０１１９】
キャリア材料Ｂ２として、Ｐａｏ−Ｙａｎ社（台湾）製の厚さが３６μｍでＷＶＴＲが６８ｇ／ｍ2ｄのＢＯＰＰフィルムを使用した。
【０１２０】
表１は、個々の層としてまたは特定の形状の構造物としての製造されたゲッター材料含有平坦形成物の概要を示す。
【０１２１】
【表６】
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【０１２２】
比較例Ｖ１として、接着性ゲッター材料含有平坦形成物を、キャリア材料Ｂ２上に積層されたゲッター充填組成物Ｍ１から製造した。
【０１２３】
他の比較例Ｖ２として、坪量８０ｇ／ｍ２の慣用の印刷紙を用いた。これを一方で２４時間、２３℃及び５０％相対湿度で状態調節し、並びに他方で１時間、１２０℃で乾燥庫中で予備乾燥した。
【０１２４】
接着性マトリックス材料（Ｍ１）を使用した場合、非接着性エラストマーまたは対応するキャリアフィルムの５０μｍ厚の層を、実験室用ロールラミネータを用いてその上に積層し、この際、ゲッター材料含有層が、その乾燥後にできるだけ短時間のうちに周囲雰囲気に曝されるように配慮した。
Ｔ１３：ゲッター材料含有多層ポリオレフィンフィルム
更に、ポリオレフィンベースのフィルム（ＰＯ）をフラットフィルム共押出によって作製した。これは、５０μｍ厚のベース層と、二枚の１０μｍ厚の外側層からなっていた。ベース層は、７９．７重量％のポリプロピレンブロックコポリマーＮｏｖｏｌｅｎ  ２３０９Ｌ（ＢＡＳＦ、メルトインデックス  ２３０℃及び２．１６ｋｇで６ｇ／１０分、エチレン含有率  約６．５重量％）、２０重量％のゲッター材料Ｇ２、及び０．３％（重量／重量）のＨＡＬＳ安定剤Ｔｉｎｕｖｉｎ  ７７０からなるものであった。ベース層材料を、インラインでフラットフィルム押出が行われるＣｏｐｅｒｉｏｎ社製の二軸スクリュー押出機（ｄ＝２５ｍｍ、Ｌ／ｄ＝３７）でコンパウンドし、そして介在しているメルトポンプを用いて共押出ユニットのフィードブロック中に搬送した。ゲッター材料を、ポリマー成分を融解及びホモジナイズした後に、サイドフィーダーを用いてこの二軸スクリュー押出機に供給した。
【０１２５】
外側層は、８５重量％のエチレン−マルチブロックコポリマーＩｎｆｕｓｅ  Ｄ９１０７（Ｔｈｅ  Ｄｏｗ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｃｏｍｐａｎｙ、ｄ＝０．８６６ｇ／ｃｍ３）及び１５重量％のポリエチレンＬＤ２５１（ＥｘｘｏｎＭｏｂｉｌ、ｄ＝０．９１５５）からなるものであった。外側層材料は、Ｄｒ．Ｃｏｌｌｉｎ社製の二つの押出機で押出し、そして前記共押出ユニットのフィードブロックに搬送した。
【０１２６】
浸透物を除去すべき平坦形成物として、有機電子的構造物のカプセル化にも使用されるような、無機バリア層がコーティングされた５０μｍ厚のポリエステルフィルム（Ｋｕｒｅｈａ社（日本）製のＣｅｌｌｅｌ  Ｔ０５００）を使用した。このフィルムは、使用する前に、２４時間、２３℃及び５０％相対湿度で状態調節した。
【０１２７】
浸透物を除去するべき更に別の平坦形成物として、ＤＥ１０２００８０４７９６４Ａ１（特許文献１７）の例３に記載される、有機電子的構造物のカプセル化のための感圧接着剤の５０μｍ厚の層を使用した。この際、この接着剤は、その両面を、タイプＳＩＬＰＨＡＮ  Ｓ３６  Ｍ３７２（３６μｍＰＥＴ）の慣用のライナーで覆った。この平坦形成物は、使用する前に、２４時間、２３℃及び５０％相対湿度で状態調節した。
【０１２８】
製造されたゲッター材料含有平坦形成物の約１０×１０ｃｍ２の大きさの断片を、２３℃及び５０％相対湿度で、前記ポリエステルフィルムの同じ大きさの断片の無機コーティングされていない側上または前記感圧接着剤のライナー上に重ね、それによって、乾燥するべき平坦形成物と接触させた。
【０１２９】
追加的に、ゲッター材料含有平坦形成物Ｔ２、Ｔ５、Ｔ７及びＴ９を用いて、平坦形成物を先ず８時間、２３℃及び５０％相対湿度で開放して貯蔵し、それから上記ポリオエステルフィルムの上に重ねて試験を行った。
【０１３０】
こうして製造された複合体を、１４日間２３℃で、浸透物に対し不透過性の包装（アルミニウム複合体フィルム中に密閉）中で貯蔵し、この際、接触を維持するために、これらのサンプルバックを、その中にあるサンプルの表面全体に約１００ｇの重しをかけた。これらのサンプルを次いでグローブボックス（雰囲気：  水蒸気＜５ｐｐｍ、酸素＜１ｐｐｍ）中でそれらの包装から取り出し、そしてそれぞれ、ゲッター材料含有平坦形成物をポリエステルフィルムから剥がした。上記ポリエステルフィルムの断片を、含水率の決定のために直ぐにガラス容器中に封入した。接着剤の場合は、両方のライナーを剥がし、そして接着剤層の含水率を決定した。
含水率の測定
含水率は、ＤＩＮ５３７１５（カールフィッシャー滴定）に従い求めた。測定は、オーブンサンプラー（炉温度１４０℃）と組み合わせたカールフィッシャー電量計８５１で行った。約０．３ｇの秤量分を用いて、それぞれ三回の決定を行った。これらの測定の算術的平均値を含水率として記載する。
【０１３１】
表２は結果を示す：
【０１３２】
【表７】
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【０１３３】
これらの結果は、本発明による方法を用いた場合、従来技術に従う方法（Ｖ２）では達成できないような、優れた乾燥結果を達成できることを示している。予備乾燥した紙を用いた場合でさえ、有機電子的構造物中に使用される材料に必要である、２００ｐｐｍ未満の含水率、特に５０ｐｐｍ未満の含水率は達成されない。
【０１３４】
ゲッター材料を充填した平坦形成物Ｔ１〜Ｔ６の含水率を、施与の前に同様に求めた。含水率はそれぞれ１０ｐｐｍ未満であった。平坦形成物Ｔ７〜Ｔ８では、含水率は１０００ｐｐｍ未満であり、Ｔ９〜Ｔ１２では５００ｐｐｍ未満であった。それに対して、乾燥紙Ｖ２は、約９２００ｐｐｍの含水率を示した。これは、１０００ｐｐｍ未満の浸透物含有率が、非常に少ない浸透物含有率の達成に有利であることを示している。
【０１３５】
当業者は、ゲッター材料含有平坦形成物をむき出しの状態で重ねても、存在していないかまたは殆ど目立たない流動性の故に、接着基材に対して比較的少ない接触しか確立せず、それ故物質輸送が低減されることを予期するにもかかわらず、驚くべきことに、本発明による方法を用いて行われた試験は、原則的に、ゲッター材料含有接着剤を用いた比較例（Ｖ１）と比べて、浸透物の放出に劣っていなかったことを示す。しかし、ＰＥＴ試験基材からの感圧接着性ゲッター材料含有平坦形成物の剥離は、その接着性の故に、非接着性の平坦形成物と比べて明らかに困難であった。
【０１３６】
使用した両方のゲッター材料は、好適であることが分かった。驚くべきことに、接着テープ中でゲッター材料を少量使用した試験（Ｔ１、Ｔ４）も、比較的高い充填率を用いた試験（Ｔ２、Ｔ３またはＴ５、Ｔ６）と比べて、効果は僅かに低下するだけであることを示す。
【０１３７】
驚くべきことに、物質輸送を先ず低透過性層を通して行う必要があり、そしてこの層及びキャリアフィルムを先ずそれ自体浸透物不含にする必要のある図１（Ｔ７、Ｔ８）または図３（Ｔ９、Ｔ１０）または図４（Ｔ１１、Ｔ１２）による構造を持つ平坦形成物も、それほど劣った特性を示さなかった。
【０１３８】
８時間の状態調節の後に試験基材上に積層した平坦形成物Ｔ２及びＴ５を用いた方法と比べると、低い浸透速度を持つ接着剤の利点が示される：Ｔ２は、状態調節の後に、乾燥性能の本質的な低下を示し、他方で、本質的に低透過性の組成物を持つ接着テープＴ５は、乾燥性能の低下を殆ど示さない。
【０１３９】
本質的に低透過性のキャリア材料Ｂ１を用いた場合も同様である。これを用いた場合、状態調節の後に、透過性キャリア材料Ｂ２を用いた場合と比べて、観察された乾燥性能の低下はより小さい（Ｔ７対Ｔ９）。
【０１４０】
更に別の試験では、ゲッター材料含有平坦形成物Ｔ１０をＰＥＴ試験支持体とを組み合わせてなる複合体を、約２０ｍの巻取長さでロールに巻き取った。これはロールの芯上に約７０層のスタックを与えた。上述したように貯蔵した。
【０１４１】
含水率の測定のために、サンプルを２リニアメータ（芯の近く）、１０リニアメータ（ロールの中心）、及び１９リニアメータ（ロールの外側）採取した。これらの三つの箇所の全ての含水率が８〜１３ｐｐｍの範囲にあることが確認され、これは、ロール内での乾燥の優れた均一性を示している。それ故、本発明による方法は、積み重ねた平坦形成物の乾燥にも優れて適している。
【符号の説明】
【０１４２】
図１
１０：非接着性エラストマー性接触層
２０：ゲッター材料を含む層
３０：使用したキャリア材料厚さを基準にして３８℃及び９０％相対湿度で＜１ｇ／ｍ２ｄのＷＶＴＲを有するキャリア材料
図２
１０：非接着性エラストマー性接触層
２０：ゲッター材料を含む層
１１：任意選択の更に別の非接着性接触層
図３
１０：非接着性エラストマー性接触層
２０：ゲッター材料を含む層
３１：キャリア材料
１１：任意選択：更に別の非接着性エラストマー性接触層
図４
３２：キャリア材料
２０：ゲッター材料を含む層
３１：キャリア材料
更に、本発明は以下の実施の態様を包含する：
（１）
有機電子的装置の構造中に少なくとも一部が使用される平坦形成物Ｉから浸透物を除去する方法であって：平坦形成物Ｉを、少なくとも一種のゲッター材料を含みかつ平坦形成物Ｉから少なくとも一種の浸透物を取り込むことができる平坦形成物ＩＩと直接または間接的に面接触させることを含み、ここで平坦形成物Ｉ及びＩＩの間には接着性接合は起こらない、前記方法。
（２）
平坦形成物ＩＩが、有機電子的装置中に残らないことを特徴とする、前記（１）に記載の方法。
（３）
平坦形成物ＩとＩＩとの接触が、平坦形成物Ｉ及び平坦形成物ＩＩからなる複合体が交互に層を形成して存在するように行われることを特徴とする、前記（１）または（２）に記載の方法。
（４）
ゲッター材料が、塩化コバルト、塩化カルシウム、臭化カルシウム、塩化リチウム、臭化リチウム、塩化マグネシウム、過塩素酸バリウム、過塩素酸マグネシウム、塩化亜鉛、臭化亜鉛、硫酸アルミニウム、硫酸カルシウム、硫酸銅、硫酸バリウム、硫酸マグネシウム、硫酸リチウム、硫酸ナトリウム、硫酸コバルト、硫酸チタン、炭酸ナトリウム、硫酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸マグネシウム、並びに
珪藻土、ケイ酸（シリカ）、ゼオライト、層状シリレート、並びに
鉄、カルシウム、バリウム、ナトリウム、マグネシウム、酸化バリウム、酸化カルシウム、酸化鉄、酸化マグネシウム、酸化ナトリウム、二酸化チタン、酸化カリウム、酸化ストロンチウム、活性化酸化アルミニウム、並びに
カーボンナノチューブ、活性炭、五酸化リン、シラン、並びに
水素化カルシウム、水素化バリウム、水素化ストロンチウム、水素化ナトリウム、水素化アルミニウムリチウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム並びにアルミニウムアセチルアセトネート、並びに
無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸、無水メチルテトラヒドロフタル酸、ポリアクリル酸及びポリビニルアルコール、
からなる群から選択されることを特徴とする、前記（１）〜（３）の何れか一つに記載の方法。
（５）
ゲッター材料が、バリウム、カルシウム、硫酸カルシウム、塩化カルシウム、酸化カルシウム、硫酸ナトリウム、炭酸カリウム、硫酸銅、過塩素酸マグネシウム、硫酸マグネシウム、塩化リチウム、ケイ酸及びゼオライト、並びに上記の物質の二種以上の混合物からなる群から選択されることを特徴とする、前記（１）〜（４）の何れか一つに記載の方法。
（６）
平坦形成物ＩＩのゲッター材料含有層が、それぞれ該当する層の総重量を基準にして、それぞれ少なくとも１０重量％のゲッター材料を含むことを特徴とする、前記（１）〜（５）の何れか一つに記載の方法。
（７）
ゲッター材料含有平坦形成物ＩＩが、施与の前に、１０００ｐｐｍ未満の浸透物含有率を示すことを特徴とする、前記（１）〜（６）の何れか一つに記載の方法。
（８）
平坦形成物ＩＩと平坦形成物Ｉとの接触の後に、平坦形成物Ｉとは反対側にゲッター材料含有層上に配置されている、平坦形成物ＩＩの層の内の少なくとも一つ層の水蒸気透過率（ＷＶＴＲ）が５０ｇ／（ｍ２＊ｄ）未満を示すことを特徴とする、前記（１）〜（７）の何れか一つに記載の方法。
（９）
ゲッター材料含有層のマトリックス材料が及び／または平坦形成物Ｉとの接触が予定された、平坦形成物ＩＩの外側層の材料が、エラストマーであることを特徴とする、前記（１）〜（８）の何れか一つに記載の方法。
（１０）
非接着性でエラストマー性の接触層、並びに少なくとも一種のゲッター材料を含みかつ前記エラストマー性接触層を通過した少なくとも一種の浸透物を取り込むことができる、少なくとも一つの更に別の層を含む平坦形成物であって、前記エラストマー接触層が、該平坦形成物の構造中に含まれる少なくとも一つの更に別の層よりも、室温で小さい弾性率を有する、平坦形成物。
（１１）
ゲッター材料が、マトリックス材料中に分散した相として含まれていることを特徴とする、前記（１０）に記載の平坦形成物。
（１２）
マトリックス材料が感圧接着剤であることを特徴とする、前記（１１）に記載の平坦形成物。
（１３）
平坦形成物が、ゲッター材料からなる少なくとも一つの層を含むことを特徴とする、前記（１０）に記載の平坦形成物。
（１４）
平坦形成物から浸透物を除去するための、前記（１０）〜（１３）の何れか一つに記載の平坦形成物の使用。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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