(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
誘電体バリアプラズマを用いて処置される被処置表面のための処置装置であって、正面壁（１４、１４’）を有するハウジング（１）と、前記正面壁（１４、１４’）の少なくとも一部を形成する誘電体（１９、３４）により被処置表面から遮蔽され、高電圧発生器（１７）に接続可能な電極（１８、３３）とを含み、前記正面壁（１４、１４’）は少なくとも１つのスペーサー（２９、２９’）を有し、前記少なくとも１つのスペーサー（２９、２９’）が前記被処置表面に当接する場合、前記少なくとも１つのスペーサーによって少なくとも１つの空隙が形成され、処置に必要な前記誘電体バリアプラズマが前記少なくとも１つの空隙に形成される処置装置において、
前記正面壁（１４、１４’）の、前記被処置表面側とは反対側において処置剤で充填可能な環状の貯蔵室（２５、２５’）が配置されていることと、前記正面壁（１４、１４’）が複数の通り穴（２８、２８’）を有することと、前記貯蔵室（２５、２５’）の体積は、前記体積が縮小する場合に前記処置剤が前記通り穴を通じて前記被処置表面の範囲に入り込むように縮小し得ることと、を特徴とする処置装置。
【請求項２】
前記ハウジング（１）を前記被処置表面に押圧することによって前記貯蔵室（２５、２５’）が縮小することを特徴とする、請求項１に記載の処置装置。
【請求項３】
前記ハウジング（１）が、伸縮自在に互いに嵌まり合うように構成され、前記ハウジング（１）に与える圧力により前記被処置表面の方向に互いに滑り込み可能な、複数の外被部（３６、３７）を有することを特徴とする、請求項１又は２に記載の処置装置。
【請求項４】
前記正面壁（１４、１４’）が少なくとも部分的に柔軟であることと、前記ハウジング（１）に与える圧力により前記貯蔵室（２５’）内に向けて変形することとを特徴とする、請求項１〜３の何れか一項に記載の処置装置。
【請求項５】
前記ハウジング（１）は前記貯蔵室（２５、２５’）を規定し、前記貯蔵室（２５、２５’）の体積を縮小させるために押込可能である、軟性の外被を有することを特徴とする、請求項１〜４の何れか一項に記載の処置装置。
【請求項６】
前記電極（３３）が平面電極として、平らに構成された誘電体（３４）内に四方から囲まれるように組み込まれており、半径方向に連続的に前記誘電体（３４）により規定される通路が形成されるように、前記誘電体の前記通り穴（２８’）が前記電極（３３）の対応する通り穴（３９）より小さく構成されていることを特徴とする、請求項１〜５の何れか一項に記載の処置装置。
【請求項７】
前記誘電体（３４）と前記組み込まれた電極（３３）からなる配置構成が柔軟であることを特徴とする、請求項６に記載の処置装置。
【請求項８】
前記誘電体（３４）が全ての前記正面壁（１４’）に渡って一体的に拡がっていることを特徴とする、請求項１〜７の何れか一項に記載の処置装置。
【請求項９】
前記正面壁（１４）が少なくとも２片構成であることを特徴とする、請求項１〜７の何れか一項に記載の処置装置。
【請求項１０】
前記正面壁（１４）の第一部分が前記電極（１８）を遮蔽する前記誘電体（１９）により形成されていることと、前記正面壁（１４）の少なくとも１つの第二部分（２７）が前記貯蔵室（２５）を規定し前記通り穴（２８）を有することとを特徴とする、請求項９に記載の処置装置。
【請求項１１】
前記誘電体（１９）が前記正面壁（１４）の中心部を形成することと、前記正面壁（１４）の前記第二部分（２７）が前記誘電体（１９）を環状に取り囲んでいることとを特徴とする、請求項１０に記載の処置装置。
【請求項１２】
前記正面壁（１４）の前記少なくとも１つの第二部分（２７）が絶縁プラスチックからなることを特徴とする、請求項１０又は１１に記載の処置装置。
【請求項１３】
前記正面壁（１４）の前記少なくとも１つの第二部分（２７）が前記少なくとも１つのスペーサー（２９）を形成することを特徴とする、請求項１０〜１２の何れか一項に記載の処置装置。
【請求項１４】
前記被処置表面が前記誘電体（１９、３４）により遮蔽された前記電極（１８、３３）に対して対向電極として機能することを特徴とする、請求項１〜１３の何れか一項に記載の処置装置。
【請求項１５】
前記正面壁（１４、１４’）と前記貯蔵室（２５、２５’）の少なくとも一部からなるハウジング部が交換式の頭部（６、６’）として構成されていることを特徴とする、請求項１〜１４の何れか一項に記載の処置装置。
【請求項１６】
前記処置剤が担体材料（２６、２６’）に組み込まれて前記貯蔵室（２５、２５’）に導入されていることを特徴とする、請求項１〜１５の何れか一項に記載の処置装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本願発明は、誘電体バリアプラズマ処置において被処置表面に採用される処置装置に関するものであって、正面壁を有するハウジングと、正面壁の少なくとも一部を形成する誘電体により被処置表面から遮蔽され、高電圧発生器に接続可能な電極とを含み、正面壁は、被処置表面が当接する場合、処置に必要な誘電体バリアプラズマが形成される少なくとも１つの空隙を形成する少なくとも１つのスペーサーを有する。
【背景技術】
【０００２】
ＤＥ  １０  ２００９  ０６０  ６２７  Ｂ４から、平面かつ軟性の電極と平面かつ軟性の誘電体からなり、誘電体が平面電極を四方から取り囲み、電極の一つの接続部が高電圧発生器に接続するように誘電体内から外方へ絶縁的に伸びている、電極配置が公知である。その誘電体は、人体又は動物の体の皮膚表面等の被処置表面が当接するためのものであり、当接する面側がスペーサーとして機能する隆起構造を持つ。その構造は、隆起部間において誘電体バリアプラズマが形成され得る空隙を形成するためのものである。
【０００３】
ＤＥ  １０  ２０１２  ０１５  ４８２  Ａ１には、類似の電極配置を備えた処置装置が記載されている。ここで、電極を埋め込む誘電体は、処置装置のハウジングの正面壁を形成する。柔軟に埋め込まれた平面電極を含む軟性誘電体の軟性電極配置は、電極配置の後ろに配置された弾性の当接手段により被処置表面に押し付けられることによって、特に皮膚表面等の被処置表面の外形に対する電極配置の適応性を改善させる。
【０００４】
特に美容や医療のために、誘電体バリアプラズマ処置は塗布される処置剤により強化される。美容のために皮膚表面を処置する場合、誘電体バリアプラズマ処置によって、表面が清浄／消毒されるとともに毛穴の血行や膨張が改善し、その結果、処置剤を皮膚が効果的に吸収し得る。非美容の分野においては、プラズマ処置後に、例えば木製表面又はプラスチック表面に対して、プライマーや含浸剤等の処置剤をより良く塗布し得る。より良く塗布し得ることは、表面に対する処置剤の接着性向上に寄与する。プラズマ処置の前後に処置剤を個別の工程において塗布することが通常行われる。
【発明の概要】
【０００５】
本願発明の課題は、前述の処置装置を、処置剤の使用下で誘電体バリアプラズマ処置、特に皮膚表面の美容の処置を改善させるために構成することである。
【０００６】
本願発明の課題を解決するために、本願発明による処置装置は、正面壁の、被処置表面側とは反対側において処置剤で充填可能な貯蔵室が配置されていることと、正面壁が通り穴を有することと、貯蔵室の体積は、体積が縮小する場合に処置剤が通り穴を通じて被処置表面の範囲に入り込むように、縮小し得ることとを特徴とする。
【０００７】
従って、本願発明による処置装置では、誘電体バリアプラズマ処置中でも処置剤を被処置表面に塗布し得る。このようにして、プラズマと処置剤は、被処置表面に対して処置剤を継続的に補充しながら同時に作用し得る。
【０００８】
本願発明による好ましい実施形態では、ハウジングを被処置表面に押圧して処置剤を押し出し、すなわち貯蔵室を縮小させる。従って、被処置表面に対して均等に加圧する場合、処置剤は被処置表面に対して均等に塗布し得る。
【０００９】
それに適した第一構造的構成では、ハウジングは伸縮自在に互いに嵌め合う外被部を有する。これら外被部は、ハウジングに与える圧力により被処置表面の方向に互いに滑り込み可能である。このようにして、処置剤を正面壁の通り穴から押し出す。
【００１０】
その原理に基づく更なる構造的構成では、正面壁は少なくとも部分的に柔軟に構成され、被処置表面の方向にハウジングに与える圧力により、貯蔵室内に向けて変形する。このようにして、体積が縮小し処置剤を押し出す。
【００１１】
更なる構造的実施形態では、ハウジングは、貯蔵室を規定し、貯蔵室の体積を縮小させるために押込可能な、軟性の外被を有する。この外被を押し込む際、外被が内向きにへこむ限り、圧力を外被に対して半径方向内向きに与えても、軸圧力を被処置表面の方向に与えても良い。
【００１２】
貯蔵室の体積が縮小することによって、処置剤は、ハウジングの正面壁の通り穴を通して被処置表面の範囲に押し出される。この際、処置剤が流動可能でなければならないことが明らかである。それは、処置剤が適切に粉状、糊状、ガス状又は液状である場合に該当する。適切なことに、通り穴の純径間がそれに応じて調整される。粉状の処置剤を押し出す際、糊状又は液状の処置剤より大きい通り穴が使用されることに対して、非粘性液状又はガス状の処置剤を押し出す際、当然、純横断面の小さい通り穴が使用される。
【００１３】
本願発明による処置装置の構造的構成では、電極が平面電極として平らに構成された誘電体内に四方から囲まれるように組み込まれている。誘電体が四方から平面の電極を取り囲むため、電極にも通り穴を構成しなければならない。しかし、本願発明では、その電極の通り穴が誘電体の通り穴より大きいため、誘電体内には、誘電体により半径方向に連続的に規定された通路が形成される。このようにして、処置剤を介して流れる望まれない電流を確実に回避する。
【００１４】
本願発明では、誘電体と組み込まれた電極の配置を柔軟に構成することが、場合によって適切である。
【００１５】
正面壁を誘電体により形成するために、誘電体は全ての正面壁に渡って拡がり得る。この場合、処置される非平面表面の外形に適応し得るために、誘電体と組み込まれた電極の軟性配置構成が有利である。
【００１６】
本願発明による他の構造的構成では、正面壁は少なくとも２片構成として構成されている。特に、正面壁の第一部分は電極を遮蔽する誘電体により形成され得、正面壁の少なくとも１つの第二部分は貯蔵室を規定し、通り穴を有し得る。この実施形態においても、処置剤を押し出すための、貯蔵室の体積を縮小させる、前述の全ての手段を用途や適用によって選択し得る。
【００１７】
誘電体が正面壁の中心部となることと、正面壁の第二部分が誘電体（つまり誘電体に組み込まれた電極）を環状に取り囲むこととが、場合によって有利である。この場合、正面壁の第二部分が軟性であるのに対して、誘電体と誘電体に遮蔽された電極の中心配置は硬い（つまり実際面で処置のために適用されるプレス部品が非軟性である）ことが、場合によって十分である。
【００１８】
正面壁の少なくとも１つの第二部分は、絶縁プラスチックからなり得、つまり、電極の領域外でも正面壁内の誘電体を継続し得る。この構造的構成では、正面壁の少なくとも１つの第二部分を他の絶縁材料から構成しなくて良いため、伝導率が平均又は高い材料を採用し得る。
【００１９】
その場合、被処置表面に接触する際に被処置表面の近傍で誘電体と電極の配置を保持する、少なくとも１つのスペーサーを正面壁の少なくとも１つの第二部分により形成することが、場合によって適切である。このようにして、電極を遮蔽する誘電体と被処置表面の間に小さな間隔が形成される。この空隙又は空間におけるガス又は空気の電離現象により誘電体バリアプラズマが発生し、被処置表面と電極の間には直接電流が流れることを誘電体により防止する。このようにして、プラズマ変位電流のみしか形成されない。それは当然、誘電体自体が少なくとも１つのスペーサーで形成された配置にも当てはまる。このようにして、このような空隙又は空間が（少なくとも１つのスペーサーの外における）誘電体の凹部と被処置表面の間に形成される。この際も電極と被処置表面の間に直接電流が流れることを防止する。
【００２０】
プラズマを形成するために、直流高電圧を使用し得る。この際、最初の変位電流のみが発生し、電位差はプラズマを維持する。しかし、高電位差が正電圧と負電圧を切り替える交流高電圧を使用することがより望ましい。被処置表面（例えば皮膚表面又は生体）が、いわゆるフローティング対向電極として機能することが望ましい。フローティング対向電極は交流電圧の電位の切り替えに慣性で従うため、交互に変わる周波数により、実質的に接地電位となる平均電位のままの状態でいる。
【００２１】
特に糊状又は液状の処置剤を貯蔵室に充填する場合、処置剤を直接充填することを回避することが適切である。この際、処置剤を担体材料に組み込んで貯蔵室に導入することが適切である。担体材料は、貯蔵室の体積縮小により圧縮可能な任意の疎性材料（例えば綿、不織布又は多孔質のスポンジ材料）であっても良い。貯蔵室の体積が前述の方法のうち少なくとも１つにより縮小されると、処置剤は担体材料から押し出される。
【００２２】
本願発明による特に有利な実施形態では、ハウジングの一部が正面壁と貯蔵室の少なくとも一部からなる交換式の頭部として構成されている。この際、頭部は処置剤を、表面の処置（例えば顔の美容の処置）を対象とした量で受け取る。処置剤が消費され処置が完了した場合、交換式の頭部を外し新たな頭部を入れ替えるだけで、本願発明による処置装置がまた使える状態になる。このようにして、高い衛生水準を確保しながら、清浄作業は不要となるか、又は僅かかつ簡易で済む。
【００２３】
以下、図面の実施例を参照して本願発明を説明する。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
図面において、
【図１】は、組み立てられた、本願発明による処置装置の第一実施形態を示す図、
【図２】は、頭部が取り外された、図１の処置装置が示される図、
【図３】は、図２に示される処置装置を示す断面図、
【図４】は、図１に示される、完全に組み立てられた処置装置を示す断面図、
【図５】は、分離された、頭部及び残りのハウジングの一端の構造を示す拡大図、
【図６】は、頭部が残りのハウジングに差し込まれた、図５の構造が示される図、
【図７】は、本願発明による第二実施形態の処置装置の頭部を示す断面図、
【図８】は、図７に示される頭部の下部を示す拡大部分図、
【図９】は、図７に示される頭部を示す分解図、
【図１０】は、ハウジングの外被部を含む中間部を示す透視図、
【図１１】図７に示される処置装置の正面壁を示す上面図、
【図１２】図７に示される頭部を示す透視図、である。
【００２５】
図１に示される本願発明による第一実施形態の処置装置には、ハンドル２と屈曲部３からなるハウジング１が含まれる。この二つのハウジングの部品は、中空管として構成され、ハンドル２は直線状の中空管であり、屈曲部３は１３５度の角度で互いに接続されている二つの管端を有する。屈曲部３がハンドル２の中空管の挿入部位を有することによって、ハンドル２と屈曲部３は互いに接続されている。屈曲部３に挿入されたハンドル２はねじ４により組み立て状態で固定されている。ハンドル２は引き抜き管としてプラスチック又は金属から形成し得るのに対して、屈曲部３は射出成形部品であることが望ましい。管状基部７付きの頭部６は、ハンドル２から外方に向く、屈曲部３の端部５内に滑り込み可能である。管状基部７は、弾力性がある、二つの正反対のプランジャーピン８を有する。頭部６を屈曲部３に固定させるために、これらのプランジャーピン８はハンドル２の管状の端部５の夫々の係止口９に係止し得る。このようにして、軸方向かつ回転運動に対する安全な接続が成立する。
【００２６】
ハンドル２において屈曲部３に接続していない端部には、ケーブルブッシュ１１を含む後端キャップ１０が構成されている。後端キャップ１０をハンドル２のねじ山に留めることが好ましい。
【００２７】
頭部６は、管軸と実質的に垂直に伸びている接続壁１３を介して管状基部７に接続している外被１２を含む。外被１２を周回する自由端には、正面壁１４が構成されている。図示の実施例では、頭部６が実質的に円柱形状に構成されているため、正面壁１４は球状面積を占める。
【００２８】
図３、４には、ハウジング１の内部構造が示されている。図３には頭部６が独立して示されている一方、図４では頭部６がプランジャーピン８と係止口９からなる係止機構により屈曲部３に結合されている。
【００２９】
図３、４に示されるように、ハンドル２の内部には、電気制御用の構成要素１６が取り付けられたサーキットボード１５が構成されている。サーキットボード１５は、ハウジング１において後端キャップ１０のケーブルブッシュ１１を通過するケーブル（図示せず）により格子交流電圧に接続されている。整流電圧を詳細に記載されていない接続部を介しインバーター１７に供給する。このインバーター１７は、塊状かつ円筒状の電極１８に交流高電圧として供給される高電圧を、周知のとおりに発生することに適する。電極１８は、屈曲部３内で高電圧線２１用の絶縁通過部２０に接続する、鍋状の誘電体１９により取り囲まれている。
【００３０】
図４から明らかなように、誘電体１９及び電極１８は正面壁１４の範囲に及び、底部２２の下面と正面壁１４の下面との間に、図６によりはっきりと示されている小間隔が残る。
【００３１】
図３、４に示されるように、ハンドル２及び屈曲部３の内部が高電圧フラッシュオーバからの更なる安全性を提供するために、回路において高電圧が発生され電極１８に転送される範囲は、完全に鋳造合成物２３、２４で充填されている。
【００３２】
図５、６には、屈曲部３の端部に対して、頭部６、外被１２、正面壁１４の具体的構造が分解状態かつ組み立て状態で示されている。そこで、管状基部７が正面壁１４まで伸びていることがかわる。管状基部７、接続壁１３、外被１２、正面壁１４により、処置剤に浸されたスポンジ様環状構造の担体材料２６が充填された環状の貯蔵室２５が規定されている。特に図６が示すように、正面壁１４は、中心において、正面壁１４の第一部分として誘電体１９の底部２２により形成されている。それに半径方向外向きに続く構成は、環状になった平面壁部２７からなる正面壁１４の第二部分である。平面壁部２７は、半径方向内側において管状基部７により、かつ半径方向外側において外被１２により保持されている。平面壁部２７は、実施例に示されるように、絶縁プラスチックからなり、通り穴２８を有し、図１のように、正面壁１４上に配置されている。また、壁部２７の下面にはスペーサー２９として機能する環状隆線が成形されている。壁部２７は、被処置表面（図示せず）を押し付けることによって貯蔵室２５の範囲に変形し入り込み、貯蔵室２５及びそれに内在する担体材料の体積を縮小させる、軟性の材料からなる。担体材料を圧縮させることによって、担体材料に充填された処置剤は通り穴２８に押し通され、スペーサー２９の間における被処置表面の範囲まで到達する。スペーサー２９によって、スペーサー２９に対して埋め込まれ、誘電体１９の底部２２の下面と整列する壁部２７の表面３０が形成される。従って、スペーサー２９の高さにより誘電体１９の底部２２と被処置表面の間の間隔２２ａの高さが定義される。電極１８に高電圧を供給すると、その間隔において、誘電体バリアプラズマが形成される。この際、被処置表面（例えば人体又は動物体の皮膚表面）がフローティング対向電極として機能する。当然、本願発明では、対向電極となる被処置表面の電位のフローティングを減少させるために、身体（つまり被処置表面）が接地されることを除外しない。
【００３３】
この実施例では、誘電体１９が剛体の電極１８をきっちりと取り囲んで、正面壁１４が誘電体１９の範囲において非軟性であることが明らかである。従って、正面壁の中心が剛体である一方、誘電体１９を取り囲む、壁部の形をした正面壁１４の第二部分が軟性であり、被処置表面の外形にある程度まで適応する。ハンドル２を含むハウジング１が被処置表面に処置圧力を与えると、壁部２７が貯蔵室２５の内部へ盛り上がる。このように、貯蔵室２５の体積は縮小し、それにより処置剤が通り穴２８を通して被処置表面の範囲内に押し込まれる。貯蔵室の体積２５は、意図した処置（例えば顔の美容の処置）に必要な処置剤量が、処置中に通り穴２８から押し出され得る構成を選択する。処置後に、プランジャーピン８により頭部６を屈曲部３から取り外して、適切な処置剤で充填された新たな頭部６に交換し得る。このようにして、頭部６は使い捨て部品として利用可能であり、その後処分される。誘電体１９の滑らかな下面のみを洗浄するだけで済むことが明らかであり、それはその下面が滑らかであるため簡単である。
【００３４】
図５、６から更にわかるように、軟性の壁部２７はやや膨れた状態で取り付け得る。このようにして、処置圧力が僅かであっても、貯蔵室の体積２５が凹ませられ、処置剤は処置初期から通り穴２８を通して被処置表面の範囲内に押し付けられる。
【００３５】
図７〜１２には、本願発明によるハウジングの他の実施形態による頭部６’が示されている。図７は頭部６’の垂直断面図である。頭部６’と屈曲部３の係合は、変更された方法で行われ、つまり、下端が環状かつ塊状のフランジ３１に遷移する円筒ボルトの形をした、金属からなる塊状の高電圧接続部２１’によって行われている。金属の接続部２１’のボルトはしっかりと締まり、フランジ３１まで伸びる絶縁パイプ部３２により取り囲まれている。フランジ３１の下面には、誘電体３４に完全に組み込まれた、平面かつ柔軟な電極３３が隣接している。誘電体は四方から電極３３の縁越しに伸びているとともに、二つの平面層３４’、３４’’からなる。層３４’、３４’’は、電極３３の両側の表面を覆っているとともに、電極３３の外方において半径方向に（例えば接着又は溶接により）しっかりと結合している。誘電体３４は正面壁１４’を形成している。正面壁１４’の表面は、誘電体の下側の層３４’’により形成されている。誘電体は、スペーサー２９’として、誘電体の下側の層３４’’と一体化し突き出ている瘤３５を有している。誘電体は、複数の通り穴２８’を有し、それらのうち二つのみが図７〜９の断面図に図示されている。正面壁１４’に渡る通り穴２８’の分布は、図１１から明らかである。また、図１１には当実施例による、スペーサー２９を形成する瘤３５の位置も示されている。
【００３６】
正面壁１４’は、下側の外被部３６と上側の外被部３７により形成される外被１２’によって半径方向の縁にて規定されている。外被部３６、３７は、円柱形状であり、伸縮自在に嵌まり合う。下側の外被部３６から半径方向内側へ、誘電体３４の上面上に支持された中間底３８が伸びている。中間底３８は、大型の通り穴３９を有する。上側の外被部３７は水平の蓋壁４０に遷移している。蓋壁４０は、絶縁管３２まで伸びているとともに、絶縁管３２において、下方を向いた、絶縁管３２に摺動自在に隣接する管状の部分４１に遷移している。
【００３７】
外被部３６、３７は、伸縮自在に嵌まり合い、夫々の重複する端においてフランジ４２、４３を有している。上側かつ外側の外被部３７のフランジ４２は内向きであるのに対して、内側かつ下側の外被部３６の端のフランジ４３は外向きである。従って、フランジ４２、４３は、外被部３６、３７が処置運用中に互いから図７に示される元の位置を越して引き離されることを防止している。
【００３８】
管状の部分４１を含む蓋壁４０、伸縮自在に嵌まり合う外被部３６、３７、及び中間底３８は、環状の貯蔵室２５’を規定し、貯蔵室２５’内には処置剤に浸された担体材料２６’が配置されている。瘤３５がスペーサー２９’として隣接する被処置表面（図示せず）に圧力を与えると、上側の外被部３７は下側の外被部３６に対して下方に動き、それゆえに、貯蔵室の体積２５’は縮小し担体材料２６’は圧縮される。このようにして、処置剤は、担体材料２６’から中間底３８の通り穴３９と誘電体の通り穴２８’を通り、被処置表面における範囲、すなわち被処置表面とスペーサー２９’に対して埋め込まれた表面３０’との間にスペーサー３５により空間として形成されかつ誘電体バリアプラズマが形成し得る範囲、に入り込む。
【００３９】
特に図８から明らかなように、誘電体３４の通り穴２８’は電極３３の著しくより大きい通り穴４４と一直線になる。誘電体の層３４’と層３４’’を結合する際、誘電体は電極３３の通り穴４４を通り穴２８’の純径間まで充填される。このようにして、誘電体３４により連続的に規定された通路が形成され、処置剤と電極３３の直接的接触が不可能になる。
【００４０】
図９は、頭部６’の部品を示す分解図である。
【００４１】
図１０には、下側の外被部３６、フランジ４３、及び中間底３８を含む射出成形部品、並びに、貯蔵室２５’から処置剤の流出を妨げることのない通り穴３９の寸法が示されている。
【００４２】
図１２は、実施形態による頭部を下方から斜めに見た透視図である。そこで、上側の外被部３７は下側の外被部３６に対して下方に摺動自在であり、それゆえに貯蔵室の体積２５’は被処置表面に圧力を与えることにより縮小する。
【００４３】
他の実施形態では、頭部６’は半径方向内側に押込可能な統一した外被を備え得る。この構成によって、指で外被に半径方向内向きに圧力を与えることによって貯蔵室２５’の体積を縮小させ得る。このようにしても、同様に、被処置表面の範囲内で処置剤を貯蔵室２５’から押し出し得る。本実施形態の変形例では、選択的に又は追加的に軟性の蓋壁４０を備え得る。
【００４４】
また、頭部６’を処置後の交換部品として備え得る。貯蔵室２５’の概して大きな体積のおかげで、頭部６’は著しく大きな処置に適する。頭部６’を交換することで、当然頭部６’に他の処置剤も備え得る。美容又は医療の処置では、先ず極めて有効な処置剤で処置し、初期状態から少し改善があった場合は軽度の処置剤に移り得る。この工程は当然、更に軽度の処置剤に移るために繰り返し得る。最後に、処置剤としてケア製品のみを採用し得る。
【００４５】
前述の実施例には、貯蔵室２５、２５’の体積を縮小させる様々な機構が示されそれら機構が正面壁１４、１４’による特定の構成と組み合わせられているものの、体積を縮小させる様々な方法が正面壁１４、１４’の単一又は多部材の構成と任意に組み合わせられ得ることは当業者が容易に理解できる。従って、伸縮自在に互いに滑り込み可能な外被部３６、３７を有する頭部６’の構成は、電極が誘電体の範囲内の中心のみに存在し、誘電体の周りに半径方向に通り穴２８を有する環状の壁部が構成されている正面壁１４に適用し得る。
【００４６】
同様に、正面壁１４’は完全に誘電体３４によって形成され得る。しかし、誘電体３４は被処置表面に与えられる圧力によって組み込まれた軟性の電極３３とともに変形し得、それゆえに貯蔵室２５、２５’の体積が縮小する。
以下に、出願当初の特許請求の範囲に記載の事項を、そのまま、付記しておく。
［１］誘電体バリアプラズマ処置において被処置表面に採用される処置装置であって、正面壁（１４、１４’）を有するハウジング（１）と、前記正面壁（１４、１４’）の少なくとも一部を形成する誘電体（１９、３４）により被処置表面から遮蔽され、高電圧発生器（１７）に接続可能な電極（１８、３３）とを含み、前記正面壁（１４、１４’）は少なくとも１つのスペーサー（２９、２９’）を有し、前記少なくとも１つのスペーサー（２９、２９’）は、それが前記被処置表面に当接する場合、処置に必要な誘電体バリアプラズマが形成される少なくとも１つの空隙を形成し、
前記正面壁（１４、１４’）の、前記被処置表面側とは反対側において処置剤で充填可能な貯蔵室（２５、２５’）が配置されていることと、前記正面壁（１４、１４’）が通り穴（２８、２８’）を有することと、前記貯蔵室（２５、２５’）の体積は、前記体積が縮小する場合に前記処置剤が前記通り穴を通じて前記被処置表面の範囲に入り込むように、縮小し得ることとを特徴とする、処置装置。
［２］前記ハウジング（１）を前記被処置表面に押圧することによって前記貯蔵室（２５、２５’）が縮小することを特徴とする、［１］に記載の処置装置。
［３］前記ハウジング（１）が、伸縮自在に互いに嵌まり合うように構成され、前記ハウジング（１）に与える圧力により前記被処置表面の方向に互いに滑り込み可能な、複数の外被部（３６、３７）を有することを特徴とする、［１］又は［２］に記載の処置装置。
［４］前記正面壁（１４、１４’）が少なくとも部分的に柔軟であることと、前記ハウジング（１）に与える圧力により前記貯蔵室（２５’）内に向けて変形することとを特徴とする、［１］〜［３］の何れか一項に記載の処置装置。
［５］前記ハウジング（１）は前記貯蔵室（２５、２５’）を規定し、前記貯蔵室（２５、２５’）の体積を縮小させるために押込可能である、軟性の外被を有することを特徴とする、［１］〜［４］の何れか一項に記載の処置装置。
［６］前記電極（３３）が平面電極として、平らに構成された誘電体（３４）内に四方から囲まれるように組み込まれており、半径方向に連続的に前記誘電体（３４）により規定される通路が形成されるように、前記誘電体の前記通り穴（２８’）が前記電極（３３）の対応する通り穴（３９）より小さく構成されていることを特徴とする、［１］〜［５］の何れか一項に記載の処置装置。
［７］前記誘電体（３４）と前記組み込まれた電極（３３）からなる配置構成が柔軟であることを特徴とする、［６］に記載の処置装置。
［８］前記誘電体（３４）が全ての前記正面壁（１４’）に渡って一体的に拡がっていることを特徴とする、［１］〜［７］の何れか一項に記載の処置装置。
［９］前記正面壁（１４）が少なくとも２片構成であることを特徴とする、［１］〜［７］の何れか一項に記載の処置装置。
［１０］前記正面壁（１４）の第一部分が前記電極（１８）を遮蔽する前記誘電体（１９）により形成されていることと、前記正面壁（１４）の少なくとも１つの第二部分（２７）が前記貯蔵室（２５）を規定し前記通り穴（２８）を有することとを特徴とする、［９］に記載の処置装置。
［１１］前記誘電体（１９）が前記正面壁（１４）の中心部を形成することと、前記正面壁（１４）の前記第二部分（２７）が前記誘電体（１９）を環状に取り囲んでいることとを特徴とする、［１０］に記載の処置装置。
［１２］前記正面壁（１４）の前記少なくとも１つの第二部分（２７）が絶縁プラスチックからなることを特徴とする、［１０］又は［１１］に記載の処置装置。
［１３］前記正面壁（１４）の前記少なくとも１つの第二部分（２７）が前記少なくとも１つのスペーサー（２９）を形成することを特徴とする、［１０］〜［１２］の何れか一項に記載の処置装置。
［１４］前記被処置表面が前記誘電体（１９、３４）により遮蔽された前記電極（１８、３３）に対して対向電極として機能することを特徴とする、［１］〜［１３］の何れか一項に記載の処置装置。
［１５］前記正面壁（１４、１４’）と前記貯蔵室（２５、２５’）の少なくとも一部からなるハウジング部が交換式の頭部（６、６’）として構成されていることを特徴とする、［１］〜［１４］の何れか一項に記載の処置装置。
［１６］前記処置剤が担体材料（２６、２６’）に組み込まれて前記貯蔵室（２５、２５’）に導入されていることを特徴とする、［１］〜［１５］の何れか一項に記載の処置装置。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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