(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板容器用のパージタワーアセンブリであって、
基板容器の底部プレートに取り付けられたコンベアプレートの入口に挿入されるパージインターフェース本体を含み、前記パージインターフェース本体は、基部部分および上部部分を含み、
前記基部部分は、下端部から上端部まで上方に延在する実質的に管状の基部側壁を有し、前記下端部は、前記基部部分の内部にアクセスするための第１の開口部を画定し、前記第１の開口部は、第１の軸について同心であり、一又は複数の支持部分が前記管状の基部側壁から外側に延びており、当該支持部分は、前記パージインターフェース本体が前記入口に挿入される際に前記コンベアプレートのロック機構に係合し、
前記上部部分は前記基部部分に接続され、前記上部部分は前記基部部分の前記上端部に配置された上部側壁、および前記基板容器の前記底部プレートの入口を介して取り付けられるように構成された入口ノズルを含み、前記入口ノズルは前記上部側壁からノズル端部まで上方に延在する実質的に管状のノズル側壁を有し、前記ノズル端部は前記入口ノズルの内部にアクセスするための第２の開口部を画定し、前記第２の開口部は前記第１の軸に対して実質的に平行でかつ前記第１の軸の後方に位置する第２の軸について同心であり、前記上部側壁は前記基部部分と協働して前記第１の開口部と前記入口ノズルとの間に配置されたオフセット導管部分を画定し、前記基部部分および前記入口ノズルは前記オフセット導管部分を介して流体連通する、パージタワーアセンブリ。
【請求項２】
ディフューザ軸に沿ってディフューザ部分内に延在するディフューザ通路を画定する前記ディフューザ部分をさらに含み、前記ディフューザ通路は、前記基部部分と前記入口ノズルと前記ディフューザ部分との間の流体連通のために前記入口ノズルに動作可能に結合された前記ディフューザ部分の底部部分に開口を画定する、請求項１に記載のパージタワーアセンブリ。
【請求項３】
前記ノズル側壁は、前記ノズル側壁の外面に形成された雄ねじを含む、請求項２に記載のパージタワーアセンブリ。
【請求項４】
前記ディフューザ部分は、前記ディフューザ部分の内面に形成された雌ねじを含み、前記雌ねじは、前記ディフューザ部分と前記入口ノズルとの間の動作可能な結合のために前記入口ノズルの前記雄ねじと適合する、請求項３に記載のパージタワーアセンブリ。
【請求項５】
前記ディフューザ部分は、多孔質ディフューザ側壁を含む、請求項２に記載のパージタワーアセンブリ。
【請求項６】
前記基部部分は、外部流体源との流体連通のために前記第１の開口部に取り付けられたグロメットおよびバルブを含む、請求項１に記載のパージタワーアセンブリ。
【請求項７】
前記入口ノズルは、バーブ付き部分およびテーパ部分を含むバーブ付きノズルであり、前記バーブ付き部分は前記バーブ付きノズルの外径を画定し、前記テーパ部分は前記バーブ付き部分に隣接する縮小外径を画定する、請求項１に記載のパージタワーアセンブリ。
【請求項８】
前記入口ノズルは、前記基板容器の前記底部プレートに取り付けられた場合に、前記入口ノズルが前記基板容器内に収容された第１のウエハの位置の周りまで上方に延在するようにサイズが決められている、請求項１に記載のパージタワーアセンブリ。
【請求項９】
前記上部側壁は実質的に平坦である、請求項１に記載のパージタワーアセンブリ。
【請求項１０】
基板を収容するための基板容器であって、
２つの対向する側壁、背部側壁、上部側壁、および底部プレートを含む容器部分であって、基板の挿入および除去のために前記基板容器の前部部分に開口を画定し、コンベアプレートに取り付けられた容器部分と、
前記容器部分によって画定された前記開口を覆って封止するように構成されたドアと、
請求項１に記載のパージタワーアセンブリとを含む、基板容器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、一般的に、微小環境用のパージシステム、より具体的には、基板容器用のディフューザタワーに関する。
【０００２】
関連出願
本出願は、２０１５年９月４日出願の米国特許出願第６２／２１４，４６４号および２０１５年１２月４日出願の米国特許出願第６２／２６３，１９４号の先の出願日の利益を主張し、上記出願はその全体が参照により本明細書に組み込まれる。
【背景技術】
【０００３】
基板容器から基板を挿入または除去する際に、微量の塵、気体不純物、または湿度の増加が基板容器に導入され、常駐ウエハの製品歩留まりに悪影響を与える可能性がある。したがって、高いレベルの清浄度を達成または維持するために、基板ハンドリング中にこれらの容器内の環境を制御する要求が高まっている。
【０００４】
いくつかの例では、基板容器内の微小環境は、入口ポートを介して容器の内部に注入される不活性ガスを用いてパージして、容器内の空気を出口ポートから排出させる。パージガスを容器に供給するためのシステムおよび方法は、容器内に改善された環境を提供するように設計されている。
【０００５】
前面開口一体化ポッド（ＦＯＵＰ）が開発されたので、底部パージポートがキャリア製造業者によって導入され、クリーンドライエア（ＣＤＡ）または不活性パージによる内部環境のパージが可能になった。これらのパージモジュールは、ＦＯＵＰシェルの内部底面の下に導入された。
【０００６】
パージディフューザが導入されたとき、ディフューザがパージインターフェースに軸方向に組み立てられた場合には、それはウエハ処理排除容積だけでなくＦＯＵＰ内部に保管されたウエハにも干渉することが明らかになった。代わりに、既存のシェル設計に何ら変更を加えることなく、ディフューザチューブが軸方向に内部的にオフセットされるように設計された。
【０００７】
Ｂｕｒｎｓらの米国特許第９，０５４，１４４号（「Ｂｕｒｎｓ」）には、オフセット導管によって接続された基部部分およびディフューザタワー部分を含むパージタワーを有する基板容器が開示されている。オフセット導管は、タワー部分を容器の背部に向かってオフセットすることを可能にし、それにより内部空間を基板の保管およびハンドリングのためにより良く利用することを可能にし、よりコンパクトな設計を提供することができる。Ｂｕｒｎｓの開示は、それに含まれる明白な定義および特許請求の範囲を除き、本明細書に参照により組み込まれる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
オフセット導管を使用する従来のパージタワーは、オフセット導管が基板容器の内側にあって、オフセット導管部分が基板容器の床と同一平面上にないように基板容器の床から上方に突出するように構成されている。最下段のウエハが導管を通過するように導管のサイズを決めることができるが、突出した導管は最下段のウエハの挿入または除去中にロボット式エンドエフェクタの動作を依然として妨害する可能性があることが判明している。この妨害は、エンドエフェクタと導管との間の衝突を引き起こし、それによって粒子を生成し、またウエハの誤ったハンドリングにつながるおそれがある。
【０００９】
従来のオフセットパージタワーの別の問題は、それらが基板容器の内部に取り付けられなければならないことである。オフセットパージタワーの全長が基板容器の床から天井までの隙間よりも大きい構成の場合には、組み立て中にパージタワーを直立させようとするときに問題が生じる可能性がある。ディフューザ部分の上端が基板容器の天井に衝突する可能性があり、ディフューザ部分および基板容器の一方または両方に損傷を与えるおそれがある。場合によっては、ディフューザ部分の所望の長さを犠牲にする必要があり得る。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本開示の様々な実施形態は、パージガスの流れを許容しながら、ウエハの保管および操作のためにウエハ容器内のさらなる空間を解放するパージディフューザアセンブリに関する。したがって、本開示の様々な実施形態では、エンドエフェクタとパージタワーアセンブリとの間の衝突によって基板容器の内面を汚染する確率が低い。さらに、本開示の様々な実施形態では、パージガス出口が従来のパージタワーアセンブリよりも基板容器の床の近くに位置するように、パージタワーアセンブリのディフューザ部分の有効長さが長くなっている。パージ出口を床の近くに配置することによって、パージ性能を向上させるために、基板容器の最下段のウエハの下のパージガスの流れを増加させることができる。
【００１１】
本開示の様々な実施形態は、容器の内部ではなく基板容器の外部にあるオフセット導管を提供し、この導管は基板容器の床の下に引き回される。基板容器の外部にオフセット導管を配置することによって提供されるさらなるスペースは、ロボット式エンドエフェクタが、オフセット導管と衝突することなく、そこに格納された最下段のウエハの下で動作することを可能にする。
【００１２】
また、いくつかの実施形態は、パージタワーのディフューザ部分が基板容器の床レベルでアクティブになるように構成される。すなわち、ディフューザ部分の有効長さは、基板容器の床に対応するディフューザ部分の高さから始まる。これにより、パージガスが床レベルで基板容器に入ることが可能になり、最下段の基板の下のパージ流が従来のパージタワーに比べて増加する。一実施形態では、ディフューザ部分の有効部分は、従来のディフューザと比較して４．５ｍｍほど低くなる。
【００１３】
本開示のいくつかの実施形態は、外部で組み立てられ、基板容器の外部から着脱可能な外部にオフセットされたパージタワーアセンブリを提供する。本開示のいくつかの実施形態は、外部にオフセットされたパージタワーアセンブリのパージインターフェース本体に着脱可能なディフューザ部分を含み、パージインターフェース本体が基板容器に取り付けられた後に、ディフューザ部分がパージインターフェース本体に固定される。これらの実施形態の両方により、パージタワーアセンブリの過剰な長さの問題が取り除かれる。
【００１４】
導管が引き回される容器の床に凹部を設けることによって、内部導管のプロファイルを縮小させる実施形態も考えられる。オフセット導管および凹部は、オフセット導管の最上端が基板容器の床の内部レベル以下になるようなサイズにすることができる。このような実施形態では、オフセット導管の縮小されたプロファイルは、内部では、エンドエフェクタの隙間に関して外部オフセット導管と同じ効果をもたらし、最下段の基板のパージを強化する。
【００１５】
本開示の様々な実施形態は、基板容器の底部プレートに接続するためのパージインターフェース本体を含む基板容器のパージタワーアセンブリに関する。パージインターフェース本体は、基部部分および上部部分を含むことができる。基部部分は、下端部から上端部まで上方に延在する実質的に管状の基部側壁を有することができる。下端部は、基部部分の内部にアクセスするための、第１の軸の周りに同心の第１の開口部を画定することができる。
【００１６】
１つまたは複数の実施形態では、上部部分は基部部分の上端部に接続される。上部部分は、底部開口部を上方に覆うために、基部部分の上端部に配置された上部側壁を有することができる。上部部分は、基板容器の底部プレートの入口を介して取り付けるための入口ノズルを含むことができる。入口ノズルは、上部側壁からノズル端部まで上方に延在する実質的に管状のノズル側壁を有することができる。ノズル端部は、入口ノズルの内部にアクセスするための、第２の軸の周りに同心の第２の開口部を画定することができる。特定の実施形態では、第２の軸は、第１の軸に対して実質的に平行であり、かつ第１の軸の後方に位置する。１つまたは複数の実施形態では、パージインターフェース本体は、基部部分と入口ノズルとの間に配置されたオフセット導管部分を含む。基部部分および入口ノズルは、オフセット導管部分を介して流体連通することができる。
【００１７】
パージタワーアセンブリは、ディフューザ部分を含む。１つまたは複数の実施形態では、ディフューザ部分は、多孔質ディフューザ側壁を含み、ディフューザ軸に沿ってディフューザ部分内に延在するディフューザ通路を画定するディフューザ部分である。ディフューザ側壁は、基部部分と入口ノズルとディフューザ部分との間の流体連通のために、入口ノズルに動作可能に結合することができるディフューザ部分の底部部分に開口を画定することができる。それに加えてまたはその代わりに、ディフューザ部分は、複数の貫通開口部が形成された外部シェルを含むことができる。
【００１８】
上記の概要は、本開示の各例示された実施形態またはすべての実施態様を説明することを意図するものではない。
【００１９】
本出願に含まれる図面は、明細書に組み込まれ、明細書の一部を形成する。それらは、本開示の実施形態を例示し、説明と共に、本開示の原理を説明するのに役立つ。図面は、特定の実施形態の単なる例示であり、本開示を限定するものではない。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本開示の一実施形態による、基板容器の斜視図である。
【図２】本開示の一実施形態による、パージタワーアセンブリの正面立面図である。
【図３】本開示の一実施形態による、図２のパージタワーアセンブリの断面図である。
【図４】本開示の一実施形態による、図４のパージタワーアセンブリの分解図である。
【図５】本開示の一実施形態による、パージタワーアセンブリの拡大部分斜視図である。
【図６】本開示の一実施形態による、基板容器に取り付けられたパージタワーアセンブリの正面立面図である。
【図７】図６の線７−７で切り取られたパージタワーアセンブリおよび基板容器の断面図である。
【図８】本開示の一実施形態による、基板容器の断面図およびパージタワーアセンブリの分解図である。
【図９】本開示の一実施形態による、パージタワーアセンブリのための開口を含む基板容器の部分底面斜視図である。
【図１０】本開示の一実施形態による、コンベアプレートを含む基板容器の部分底面斜視図である。
【図１１】本開示の一実施形態による、底部プレートに取り付けられたコンベアプレートを含む基板容器の部分底面斜視図である。
【図１２】本開示の一実施形態による、底部プレートに取り付けられたコンベアプレートを含む基板容器の部分断面図である。
【図１３】本開示の一実施形態による、外部に取り付けられたパージアセンブリを含む基板容器の部分底面斜視図である。
【図１４】本開示の一実施形態による、外部に取り付けられたパージタワーアセンブリを含む基板容器の内部の部分斜視図である。
【図１５】本開示の一実施形態による、外部に取り付けられたパージタワーアセンブリを含む基板容器の内部の部分斜視図である。
【図１６】本開示の一実施形態による、内部に取り付けられたパージタワーアセンブリを有する凹部を含む基板容器の断面図である。
【図１７】図６の線７−７で切り取られたパージタワーアセンブリおよび基板容器の拡大断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
本開示実施形態は様々な変更および代替形式に従うが、それらの詳細は図面において例として示され、詳細に説明される。しかしながら、本開示を記載された特定の実施形態に限定することを意図するものではないことを理解されたい。むしろ、本開示の趣旨および範囲内に入るすべての変形例、等価例、および代替例を含むことを意図するものである。
【００２２】
図１を参照すると、本開示の一実施形態による、複数の基板を格納するための基板容器３０が示されている。本明細書で使用する場合、複数の基板には、半導体、プリント回路基板、および／またはフラットパネルディスプレイなどの製造に使用される基板が含まれる。説明のために、単一の基板３２ａが示されている。特定の実施形態では、基板容器３０は、２つの対向する側部部分３４、上部部分３６、底部プレート３８、および背部部分４２を含む。底部プレート３８は、基板容器３０のための内面または床４０を画定する。基板容器３０の前部部分４４は、基板３２の挿入および除去のためのドア開口４８を画定するドアフレーム４６を含む。ドア５２は、ドア開口４８を密閉して覆うように適合される。基板容器３０のドア開口４８は、垂直方向５４に実質的に平行な平面内にある。様々な実施形態では、基板容器３０は、微小環境６４を含むように特徴付けられている。
【００２３】
１つまたは複数の実施形態では、一対のスロット付き側壁６６が基板容器３０内に配置され、各側壁は側部部分３４のそれぞれに近接している。スロット付き側壁６６は、複数のスロット位置６８を画定するようにスロットが互いに向き合うように位置合わせされ、それらの間に基板３２が支持されるように離間されている。本開示の目的のために、複数のスロット位置６８の最下段のスロット位置６８ａ（すなわち、底部プレート３８に最も近いスロット）は、「第１の」スロットとして識別され、スロット番号が上方向に増加する。以下に説明する、図６〜図８および図１５、図１６などの説明のために、基板３２ｂが提供され、最下段のスロット６８ａを占めるように示されている。
【００２４】
様々な実施形態では、基板容器３０は、基板容器３０内に配置された少なくとも１つのパージタワーアセンブリ７０をさらに含む。様々な実施形態では、パージタワーアセンブリ７０は、気体状作動流体を基板容器３０内に導入するために、基板容器３０の外部のガス供給源（図示せず）に動作可能に結合することができる。特定の実施形態では、パージタワーアセンブリ７０の１つまたは複数は、基板容器３０をパージするために気体状作動流体をドア開口４８に導くように配向される。
【００２５】
特定の実施形態では、基板容器３０は、底部プレート３８の下に配置されたコンベアプレート７１をさらに含む。様々な実施形態では、コンベアプレート７１は、様々な基板処理工程の間に、基板容器３０の機械による位置決めおよびアライメントのために、基板容器３０の底部に取り付けられる。
【００２６】
図２〜図５を参照すると、本開示の一実施形態によるパージタワーアセンブリ７０が示されている。図示された実施形態では、パージタワーアセンブリ７０は、基部部分９４および上部部分９８を含むパージインターフェース本体９０を含む。１つまたは複数の実施形態では、パージインターフェース本体９０は、基板容器３０の外部に取り付けるための適切なサイズおよび形状になっている。例えば、パージインターフェース本体を基板容器３０のコンベアプレート７１に取り付けることができる。いくつかの実施形態では、パージインターフェース本体を底部プレート３８に取り付けることができる。いくつかの実施形態では、パージインターフェース本体９０を底部プレート３８とコンベアプレート７１との間に取り付けてもよい。
【００２７】
様々な実施形態、例えば図３では、基部部分９４は、下端部１０２から上端部１０６まで延在する側壁１００によって画定される管状形状を有する。側壁１００の管状形状は、内部部分１１０を画定し、下端部１０２において、内部部分１１０にアクセスするための底部開口部１１４を画定する。様々な実施形態では、基部部分９４は、外部流体供給源に結合するための構成要素を含む。例えば、いくつかの実施形態では、基部部分は、底部開口部１１４および内部部分１１０（図４）に取り付けられたグロメット１１８、フィルタ１２２、およびバルブ１２６を含む。特定の実施形態では、底部開口部１１４は軸１３０と同心である。
【００２８】
１つまたは複数の実施形態では、例えば図５では、側壁１００は、基部部分９４に複数の開口部１１９を画定する。特定の実施形態では、開口部１１９の各々は、側壁１００の周りでかつ軸１３０の周りに円周方向に離間している。様々な実施形態では、開口部１１９は、基部部分９４の内部１１０内にグロメット１１８を嵌合して配置するために、グロメット１１８の側面から突出するラグ用のレセプタクルである。例えば、いくつかの実施形態では、グロメット１１８は可撓性の構成要素であり、ラグは基部部分の内部１１０への挿入中に弾性的に圧縮し、その後グロメットを定位置にロックするために開口部１１９内に外向きに拡張することができる。
【００２９】
いくつかの実施形態では、基部部分９４は支持部分１２０を含む。支持部分１２０は、側壁１００と一体の材料の外向きに延在する部分であってもよい。特定の実施形態では、支持部分１２０は、パージインターフェース本体９０の操作のためのハンドルまたはグリップとして機能する。いくつかの実施形態では、支持部分１２０は、本明細書でさらに説明される基板容器への本体９０の設置のためにコンベアプレート内のアンダーカット特徴部にスナップ嵌めされる可撓性の梁である。
【００３０】
１つまたは複数の実施形態では、上部部分９８は、実質的に平面であり、上端部１０６に沿って基部部分９４に接続された上部側壁１３４を含む。いくつかの実施形態では、上部側壁１３４は、基部部分９４の上部に接続される。基部部分９４および上部部分９８は、例えば、超音波または熱溶接、スナップ嵌め、接着接合などの熟練工によって利用可能な技術によって、または他の適切な技術によって接続することができる。
【００３１】
さらに、例えば図３において、上部側壁１３４は、基部部分９４から一方の側に延在するオフセット部分１３８を含むことができる。オフセット部分１３８は、基部部分９４からオフセットされた入口ノズル１４２を含むことができる。１つまたは複数の実施形態では、入口ノズル１４２は、上部側壁１３４からノズル端部１５０まで上方に延在するノズル側壁１４６によって画定される管状形状を有する。１つまたは複数の実施形態では、ノズル側壁１４６は、ノズル端部１５０において内部部分１５４およびノズル開口部１５８を画定する。様々な実施形態では、ノズル開口部１５８は、入口ノズル１４２の内部部分１５４へのアクセスを提供する。特定の実施形態では、ノズル開口部１５８は、第２の軸１６２について同心である。様々な実施形態では、第２の軸１６２は、第１の軸１３０と実質的に平行である。
【００３２】
１つまたは複数の実施形態では、オフセット導管部分１６６は、基部部分９４と入口ノズル１４２（図２および図５）との間に配置される。１つまたは複数の実施形態では、オフセット導管部分１６６は、上部側壁１３４のオフセット部分１３８と協働して、パージインターフェース本体９０の構成要素間の流体連通のために基部部分９４と入口ノズル１４２との間の通路を提供する。
【００３３】
動作時には、流体は、逆止バルブ１２６および底部開口部１１４を通ってパージタワーアセンブリ７０に入り、内部部分１１０、１５４を通り、ノズル開口部１５８を通過する。機能的には、オフセット導管１６６は、第１の軸１３０から第２の軸１６２へ流れを迂回させる。
【００３４】
いくつかの実施形態では、図５に示すように、入口ノズル１４２は、ノズル側壁１４６のバーブ付き部分１７０およびテーパ部分１７４を含むバーブ付きノズルである。特定の実施形態では、バーブ付き部分１７０は、入口ノズル１４２の外径を画定し、テーパ部分１７４は、バーブ付き部分１７０に隣接する縮小外径を画定する。特定の実施形態では、ノズル側壁１４６は、バーブ付き部分１７０とテーパ部分１７４との間に横方向開口部１７８を画定する。さらに説明すると、横方向開口部１７８は、ガスを基板容器３０内に低拡散させるためのノズル側壁１４６の孔または開口部である。
【００３５】
１つまたは複数の実施形態では、パージタワーアセンブリ７０は、パージインターフェース本体９０の入口ノズル１４２に結合されたディフューザ部分１８２を含む。いくつかの実施形態では、ディフューザ部分１８２は、多孔質または穴があいた（開口した）側壁１８６を含む。いくつかの実施形態では、側壁１８６は、ディフューザ部分１８２の上面１９０から下端部１９４まで延在するディフューザ通路を有する実質的に管状の形状を画定する。１つまたは複数の実施形態では、ディフューザ部分１８２の下端部１９４は、ディフューザ部分１８２の底部部分２０２に開口部１９８を画定する。様々な実施形態では、開口部１９８は、基部部分９４と入口ノズル１４２とディフューザ部分１８２との間の流体連通のための２つの間の動作可能な結合のために入口ノズル１４２を挿入するようなサイズにすることができる。
【００３６】
特定の実施形態では、ノズル側壁１８６は、ノズル側壁１４６（図示せず）の外面に形成された雄ねじを含む。ディフューザ部分１８２は、ディフューザ部分（図示せず）の内面に形成された雌ねじを含むことができる。ディフューザ部分１８２およびノズル側壁１８６のねじは、実施された場合に、それらの間の結合に適合する。
【００３７】
様々な実施形態では、ディフューザ部分１８２は、ディフューザ部分１８２の底部部分に拡幅部分２０６を含む。特定の実施形態では、拡幅部分２０６は、外側に拡幅され、入口ノズル１４６との挿入および結合のためにディフューザ部分の本体に対して増加した内径を有する。
【００３８】
図６〜図８を参照すると、パージタワーアセンブリ７０は、本開示の一実施形態による基板容器３０内のアセンブリとして示されている。図示する実施形態では、基板容器３０およびパージタワーアセンブリ７０は、本明細書に記載されているものと同じまたは実質的に同様である。したがって、同様の要素は同様の番号の符号で識別される。
【００３９】
組み立て時には、例えば図８では、パージインターフェース本体９０を方向２１０に上方に挿入し、入口ノズル１４２を底部プレート３８の後方入口２１４を通して配置し、パージインターフェース本体９０を後方取り付け領域２１８の底部プレート３８の外面に取り付けることによって、パージインターフェース本体９０を基板容器３０に組み立てることができる。様々な実施形態では、後方取り付け領域２１８は、コンベアプレート７１と底部プレート３８との間にある。パージインターフェース本体９０は、ロードポートのパージ固定具に対して様々な垂直高さ２２２まで基板容器３０に組み立てるように設計することができる。様々な実施形態では、垂直高さ２２２は、既存の基板容器の垂直高さと実質的に一致する。１つまたは複数の実施形態では、入口ノズル１４２は、基板容器３０のコンベアプレート７１に取り付けられた場合に、入口ノズル１４２のノズル端部１５０が基板容器３０の第１のスロット６８ａの周りまで上方に延在するように、サイズが決められる。
【００４０】
パージインターフェース本体９０が入口２１４を通して挿入されると、ドア開口４８を介して基板容器３０の後部で入口ノズル１４２にアクセスすることによって、ディフューザ部分１８２を組み立てることができる。次いで、ディフューザ部分１８２が入口ノズル１４２に固定される。
【００４１】
図９〜図１４を参照すると、本開示の一実施形態による、パージタワーアセンブリ７０の基板容器３０内での様々な組み立て段階が示されている。基板容器３０およびパージタワーアセンブリ７０は、本明細書に記載したものと同じまたは実質的に類似していてもよい。したがって、同様の要素は同様の番号の符号で識別される。図９を参照すると、基板容器３０および底部プレート３８の底面斜視図が示されている。１つまたは複数の実施形態では、底部プレート３８は、パージタワーアセンブリ７０（図８）の入口ノズル１４２を挿入するための後方入口２１４を含む。さらに、いくつかの実施形態では、底部プレート３８は、取り付け入口２５０を含む。様々な実施形態では、取り付け入口２５０は、コンベアプレート７１を基板容器３０の底部プレート３８に取り付けるための取り付け手段を受け入れるための、底部プレート３８の開口部である。
【００４２】
例えば、図１０では、コンベアプレート７１は、基板容器３０の底部プレート３８に対して配置される。コンベアプレート７１は、取り付け入口２５０と整列した取り付け入口２５１を含むことができる。図１１に示すように、取り付け機構２５４が取り付け入口２５０に受け入れられ、コンベアプレート７１を底部プレート３８に固定する。１つまたは複数の実施形態では、取り付け機構２５４は、コンベアプレート７１を基板容器３０の底部に固定するための、底部プレート３８に配置された材料の一部である。図１１および図１２に示すように、取り付け機構２５４は、下方に延在する側壁２５８を有し、側壁２５８に円周方向に配置された複数の略Ｌ字形のスロット２６２を含む部分的なリングである。１つまたは複数の実施形態では、Ｌ字形スロット２６２は、垂直部分２６３および水平部分もしくは戻り止め部分２６４を有して、傾斜している。
【００４３】
様々な実施形態では、コンベアプレート７１は、取り付け入口２５１に複数の外向きに延在する部材またはカム２６５を含むことができる。カム２６５の各々がＬ字形スロット２６２に対応することができるので、取り付け入口２５０、２５１に取り付け機構２５４を下方に挿入し、カム２６５を垂直部分２６３内に受け入れ、取り付け機構２５４を捻ってカム２５４を上方に移動して戻り止め部分２６４に導き、コンベアプレート７１を底部プレート３８に固定することによって、コンベアプレート７１を底部プレート３８に固定することができる。
【００４４】
様々な実施形態では、側壁２５４は、オフセット導管部分１６６に対応する後方開口２６６を含む。このように、底部プレート３８に固定されると、オフセット導管部分１６６が取り付け機構２５４から後方に延在して入口ノズル２１４に達する。
【００４５】
特定の実施形態では、コンベアプレート７１を底部プレート３８に固定するために、様々なタイプの取り付け機構２５４を使用することができる。例えば、取り付け機構は、超音波または熱溶接、スナップ嵌合、接着接合、あるいは他の適切な技術を使用することができる。いくつかの実施形態では、取り付け機構２５４は底部プレート３８と一体であり、底部プレート３８および取り付け機構は１つの連続した部品である。
【００４６】
図１２〜図１３に示す１つまたは複数の実施形態では、コンベアプレート７１は、パージインターフェース本体９０のためのロック機構を含み、支持棚２６８へのアクセスを露出する取り付け入口２５１の１つまたは複数の横方向開口２６７を含む。様々な実施形態では、支持棚２６８は、コンベアプレート７１のアンダーカット部分２６９によって画定される。様々な実施形態では、パージインターフェース本体９０は、パージインターフェース本体９４を取り付け入口２５１に、かつ入口ノズル１４２（図２〜図４）を後方入口２１４に上方に挿入することによって、基板容器３０に固定される。パージインターフェース本体９４が上方に挿入されると、支持部分１２０は、傾斜したまたはバーブ付きのアンダーカット部分２６９と係合し、パージインターフェース本体９４が取り付け入口２５１に完全に挿入されるまで撓曲することができる。一旦挿入されると、支持部分１２０が支持棚２６８上に「スナップ」して、パージインターフェース本体を定位置にロックすることができる。
【００４７】
図１４には、基板容器３０の内部が示されている。内部では、後方入口２１４および取り付け機構２５４が、基板容器３０の床４０に示されている。パージインターフェース本体９０は基板容器３０に取り付けられ、入口ノズル１４２は後方入口２１４を通って挿入され、容器３０の内部に延在して示されている。図１５には、入口ノズル１４２上に嵌合されたディフューザタワー１８２が示されている。
【００４８】
図１６および図１７を参照すると、本開示の実施形態による基板容器３０およびパージタワーアセンブリ７０の一部の断面図が示されている。図１５では、パージインターフェース本体９０は、上述したように、底部プレート３８の外部に取り付けられている。取り付け機構２５４は床４０に配置され、パージインターフェース本体９０を容器３０に固定する。入口ノズル１４２は、後方入口２１４を通って容器３０の内部に入る。パージインターフェース本体９０を通って基板容器３０に入るパージガスを拡散させるためのディフューザ部分１８２は、入口ノズル１４２の一部がディフューザ部分１８２の内部に延在するように入口ノズル１４２に嵌合される。最下段のスロット６８ａに配置された基板３２ｂは、パージタワーアセンブリ７０に向かって容器３０内で後方に延在する。パージインターフェース本体９０が外部に取り付けられているので、最下段の基板３２ｂと床４０と容器の取り付け機構２５４との間に隙間２９０が維持される。
【００４９】
図１６に示すようないくつかの実施形態では、基板容器３０は、床４０に後方凹部３００を画定する。そのような実施形態では、パージインターフェース本体９０は、容器３０の内部に取り付けられる。例えば、パージインターフェース本体９０は、外部流体源に接続するための開口部３０４を通って延在する基部部分９４と共に凹部３００内に配置することができる。凹部３００は、パージインターフェース本体９０の最上端が基板容器３０の床４０のレベル以下になるようなサイズにすることができる。
【００５０】
機能的には、図１６の実施形態の凹部３００は、オフセット導管１６６のプロファイルを縮小させる。プロファイルが縮小されるので、オフセット導管１６６は、容器３０の内部ではあるが、図１５の外部オフセット導管配置と同じ隙間２９０を提供し、エンドエフェクタ操作およびガスパージに関して同じ操作上の利点をもたらす。
【００５１】
図１５および図１６にも示されているが、１つまたは複数の実施形態では、入口ノズル１４２は、上述したように、横方向開口部１７８を含む。様々な実施形態では、入口ノズル１４２および横方向開口部１７８は、パージタワーアセンブリ７０のディフューザ部分１８２が基板容器の床４０またはその付近で有効であるように構成されている。例えば、いくつかの実施形態では、横方向開口部１７８は、基板容器３０の床４０に対応する入口ノズル１４２の高さに配置される。
【００５２】
動作時には、図１５および図１６の実施形態の両方について、隙間２９０は、ロボット式エンドエフェクタ（図示せず）のために基板３２ｂの下に動作空間を提供し、パージインターフェース本体９０の構成要素からの干渉はほとんどまたは全くない。また、ディフューザ部分１８２の基部を床レベルにすることにより、外部のまたは縮小されたプロファイルのオフセット導管１６６によって提供される隙間２９０と組み合わせて、パージガスが床レベルで基板容器３０に入り、パージ流３０８を最下段の基板３２ｂの下に導くことが可能になる。
【００５３】
本明細書で開示した追加の図面および方法の各々は、改良された装置およびその製造方法および使用方法を提供するために、別々に、あるいは他の特徴および方法と組み合わせて使用することができる。したがって、本明細書で開示した特徴および方法の組み合わせは、その最も広い意味での開示を実施するために必要でなくてもよく、代わりに代表的かつ好ましい実施形態を特に説明するために単に開示しているに過ぎない。
【００５４】
本開示を読むことにより、実施形態に対する様々な変更が当業者には明らかであろう。例えば、当業者は、種々の実施形態について記載された様々な特徴が、単独で、または種々の組み合わせで、他の特徴と適切に結合され、分離され、再結合され得ることを認識するであろう。同様に、上記の様々な特徴は、本開示の範囲または趣旨に対する制限ではなく、すべて例示的な実施形態とみなすべきである。
【００５５】
当業者は、様々な実施形態が、上記の個々の実施形態に示すものよりも少ない特徴を含んでもよいことを認識するであろう。本明細書に記載した実施形態は、様々な特徴を組み合わせることができる方法の網羅的な提示を意味するものではない。したがって、実施形態は、相互に排他的な特徴の組み合わせではなく、むしろ、特許請求の範囲は、当業者によって理解されるように、異なる個々の実施形態から選択された異なる個々の特徴の組み合わせを含むことができる。
【００５６】
上記の文献を参照することによるいかなる組み込みも、本明細書の明示的開示に反する主題が組み込まれないように限定される。上記の文献を参照することによる取いかなる組み込みも、その文献に含まれる特許請求の範囲が参照により本明細書に組み込まれないようにさらに限定される。上記の文献を参照することによる取いかなる組み込みも、本明細書に明示的に含まれていない限り、その文献に提供されている定義が参照により組み込まれないようにさらに限定される。
【００５７】
本明細書に含まれる「実施形態」、「開示」、「本開示」、「本開示の実施形態」、「開示された実施形態」などは、認められた従来技術ではない本特許出願の明細書（本文、特許請求の範囲、および図面を含む）を指す。
【００５８】
特許請求の範囲を解釈する目的では、それぞれの請求項に「手段」または「ステップ」という特定の用語が記載されていない限り、米国特許法１１２条（ｆ）の規定を行使することはないことを明示的に意図している。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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