(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を液処理する処理液を前記基板の外方で受けるためのカップの内周面をカップ洗浄用治具を用いて洗浄液で洗浄する基板液処理装置であって、
前記カップ洗浄用治具は、
前記基板を保持するために前記基板液処理装置に設けられた基板保持体で保持される基台と、
前記基台の中央側から前記カップの内周面上部よりも下側に向けて伸延し、前記洗浄液を前記カップの内周面上部に向けて案内するガイド体と、
を有し、
前記ガイド体の先端部と前記カップの内周面との間隔が、前記洗浄液の表面張力によって前記洗浄液が前記カップの内周面と前記ガイド体の先端部の両方に接触して前記カップの内周面と前記ガイド体との間で前記洗浄液がブリッジした状態を維持できる間隔とし、
前記カップ洗浄用治具を回転させながら、前記ガイド体の上部に前記洗浄液を供給し、前記ガイド体によって前記洗浄液を前記カップの内周面上部に向けて案内し、前記カップの内周面と前記ガイド体との間で前記洗浄液がブリッジした状態で前記カップの内周面を洗浄することを特徴とする基板液処理装置。
【請求項２】
前記カップの上端面に向けて気体を供給しながら、前記ガイド体の上部に前記洗浄液を供給することを特徴とする請求項１に記載の基板液処理装置。
【請求項３】
前記カップは、外側回転カップと内側回転カップとを有し、
前記ガイド体は、前記基台との間に間隙を形成するとともに、中央側に前記基台に連通する開口を形成し、
前記ガイド体の上部に供給した前記洗浄液が、前記ガイド体の外周側と内周側とに向けて流れ、外周側に向けて流れた前記洗浄液が前記外側回転カップの内周面と前記ガイド体との間で前記洗浄液がブリッジした状態で前記外側回転カップの内周面を洗浄し、内周側に向けて流れた前記洗浄液が前記ガイド体の中央側の前記開口から前記基台と前記ガイド体との間の前記間隙を通って前記内側回転カップの外周面を洗浄することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の基板液処理装置。
【請求項４】
基板を液処理する処理液を前記基板の外方で受けるためのカップの内周面をカップ洗浄用治具を用いて洗浄液で洗浄するカップ洗浄方法であって、
前記カップ洗浄用治具は、
前記基板を保持するために前記基板液処理装置に設けられた基板保持体で保持される基台と、
前記基台の中央側から前記カップの内周面上部よりも下側に向けて伸延し、前記洗浄液を前記カップの内周面上部に向けて案内するガイド体と、
を有し、
前記ガイド体の先端部と前記カップの内周面との間隔が、前記洗浄液の表面張力によって前記洗浄液が前記カップの内周面と前記ガイド体の先端部の両方に接触して前記カップの内周面と前記ガイド体との間で前記洗浄液がブリッジした状態を維持できる間隔とし、
前記カップ洗浄用治具を回転させながら、前記ガイド体の上部に前記洗浄液を供給し、前記ガイド体によって前記洗浄液を前記カップの内周面上部に向けて案内し、前記カップの内周面と前記ガイド体との間で前記洗浄液がブリッジした状態で前記カップの内周面を洗浄することを特徴とするカップ洗浄方法。
【請求項５】
前記カップの上端面に向けて気体を供給しながら、前記ガイド体の上部に前記洗浄液を供給することを特徴とする請求項４に記載のカップ洗浄方法。
【請求項６】
前記カップは、外側回転カップと内側回転カップとを有し、
前記ガイド体は、前記基台との間に間隙を形成するとともに、中央側に前記基台に連通する開口を形成し、
前記ガイド体の上部に供給した前記洗浄液が、前記ガイド体の外周側と内周側とに向けて流れ、外周側に向けて流れた前記洗浄液が前記外側回転カップの内周面と前記ガイド体との間で前記洗浄液がブリッジした状態で前記外側回転カップの内周面を洗浄し、内周側に向けて流れた前記洗浄液が前記ガイド体の中央側の前記開口から前記基台と前記ガイド体との間の前記間隙を通って前記内側回転カップの外周面を洗浄することを特徴とする請求項４又は請求項５に記載のカップ洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板を液処理する処理液を基板の外方で受けるために設けられたカップの内周面を洗浄液で洗浄するために用いられるカップ洗浄用治具に関するものであり、また、同治具を用いてカップを洗浄する基板液処理装置並びにカップ洗浄方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体部品やフラットパネルディスプレイなどの製造には、半導体ウエハや液晶基板などの基板に対して洗浄液やエッチング液などの処理液を用いて液処理するために、基板液処理装置が使用される。
【０００３】
基板液処理装置では、基板保持体で基板を保持しながら回転させるとともに、基板の表面に処理液を供給する。処理液は、回転する基板の遠心力によって基板の表面を流れて基板の外方へ振切られる。これにより、基板の表面が処理液で液処理される。その後、処理液は、基板の外周外方に設けられたカップで回収される。
【０００４】
この基板液処理装置では、カップの内周面において処理液が結晶化して付着するおそれがある。カップに付着した処理液の結晶が基板に転着してしまうと、基板のパターン倒壊やパーティクル発生などの処理不良の原因となるおそれがある。
【０００５】
そのため、従来より基板液処理装置では、カップ洗浄用治具を用いてカップの内周面を洗浄する。その際に、基板液処理装置では、基板保持体でカップ洗浄用治具を保持しながら回転させるとともに、カップ洗浄用治具に洗浄液を供給する。そして、カップ洗浄用治具で洗浄液をカップの内周面に案内し、洗浄液でカップの内周面を洗浄する（たとえば、特許文献１参照。）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１４−３３１７８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上記従来の基板液処理装置では、基板の外周端縁を基板保持体で保持した状態で処理液が供給されるために、処理液が基板保持体に衝突して飛散し、カップの内周面上端部に結晶となって付着することが多く見られた。
【０００８】
ところが、上記従来のカップ洗浄用治具では、カップの内周面上端部を洗浄しようとするとカップを洗浄する洗浄液がカップの外へ飛散する。そのため、カップよりも外側にある部品を汚してしまうおそれがある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
そこで、本発明では、基板を液処理する処理液を前記基板の外方で受けるためのカップの内周面をカップ洗浄用治具を用いて洗浄液で洗浄する基板液処理装置において、前記カップ洗浄用治具は、前記基板を保持するために前記基板液処理装置に設けられた基板保持体で保持される基台と、前記基台の中央側から前記カップの内周面上部よりも下側に向けて伸延し、前記洗浄液を前記カップの内周面上部に向けて案内するガイド体とを有し、前記ガイド体の先端部と前記カップの内周面との間隔が、前記洗浄液の表面張力によって前記洗浄液が前記カップの内周面と前記ガイド体の先端部の両方に接触して前記カップの内周面と前記ガイド体との間で前記洗浄液がブリッジした状態を維持できる間隔とし、前記カップ洗浄用治具を回転させながら、前記ガイド体の上部に前記洗浄液を供給し、前記ガイド体によって前記洗浄液を前記カップの内周面上部に向けて案内し、前記カップの内周面と前記ガイド体との間で前記洗浄液がブリッジした状態で前記カップの内周面を洗浄することにした。
【００１６】
また、前記カップの上端面に向けて気体を供給しながら、前記ガイド体の上部に前記洗浄液を供給することにした。
【００１７】
また、前記カップは、外側回転カップと内側回転カップとを有し、前記ガイド体は、前記基台との間に間隙を形成するとともに、中央側に前記基台に連通する開口を形成し、前記ガイド体の上部に供給した前記洗浄液が、前記ガイド体の外周側と内周側とに向けて流れ、外周側に向けて流れた前記洗浄液が前記外側回転カップの内周面と前記ガイド体との間で前記洗浄液がブリッジした状態で前記外側回転カップの内周面を洗浄し、内周側に向けて流れた前記洗浄液が前記ガイド体の中央側の前記開口から前記基台と前記ガイド体との間の前記間隙を通って前記内側回転カップの外周面を洗浄することにした。
【００１８】
また、本発明では、基板を液処理する処理液を前記基板の外方で受けるためのカップの内周面をカップ洗浄用治具を用いて洗浄液で洗浄するカップ洗浄方法であって、前記カップ洗浄用治具は、前記基板を保持するために前記基板液処理装置に設けられた基板保持体で保持される基台と、前記基台の中央側から前記カップの内周面上部よりも下側に向けて伸延し、前記洗浄液を前記カップの内周面上部に向けて案内するガイド体とを有し、前記ガイド体の先端部と前記カップの内周面との間隔が、前記洗浄液の表面張力によって前記洗浄液が前記カップの内周面と前記ガイド体の先端部の両方に接触して前記カップの内周面と前記ガイド体との間で前記洗浄液がブリッジした状態を維持できる間隔とし、前記カップ洗浄用治具を回転させながら、前記ガイド体の上部に前記洗浄液を供給し、前記ガイド体によって前記洗浄液を前記カップの内周面上部に向けて案内し、前記カップの内周面と前記ガイド体との間で前記洗浄液がブリッジした状態で前記カップの内周面を洗浄することにした。
【発明の効果】
【００１９】
本発明では、カップを洗浄する洗浄液がカップの外側へ飛散するのを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】基板処理システムを示す平面図。
【図２】基板洗浄装置（基板を保持した状態）を示す側面図。
【図３】同平面図。
【図４】基板洗浄装置（カップ洗浄用治具を保持した状態）を示す側面図。
【図５】同平面図。
【図６】同拡大側面断面図。
【図７】基板洗浄装置（カップを洗浄する状態）を示す側面図。
【図８】同拡大側面断面図。
【図９】カップ洗浄時の洗浄液の流れを示す説明図。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下に、本発明に係る基板液処理装置及び同基板液処理装置で用いるカップ洗浄用治具並びに同カップ洗浄用治具を用いたカップ洗浄方法の具体的な構成について図面を参照しながら説明する。以下の説明では、まず本発明に係る基板液処理装置を適用した基板処理システムの構成について説明し、次にカップ洗浄用治具の構成について説明し、最後にカップ洗浄方法について説明する。
【００２２】
図１は、本実施形態に係る基板処理システムの概略構成を示す図である。以下では、位置関係を明確にするために、互いに直交するＸ軸、Ｙ軸およびＺ軸を規定し、Ｚ軸正方向を鉛直上向き方向とする。
【００２３】
図１に示すように、基板処理システム１は、搬入出ステーション２と、処理ステーション３とを備える。搬入出ステーション２と処理ステーション３とは隣接して設けられる。
【００２４】
搬入出ステーション２は、キャリア載置部１１と、搬送部１２とを備える。キャリア載置部１１には、複数枚の基板、本実施形態では半導体ウェハ（以下ウェハＷ）を水平状態で収容する複数のキャリアＣが載置される。
【００２５】
搬送部１２は、キャリア載置部１１に隣接して設けられ、内部に基板搬送装置１３と、受渡部１４とを備える。基板搬送装置１３は、ウェハＷを保持するウェハ保持機構を備える。また、基板搬送装置１３は、水平方向および鉛直方向への移動ならびに鉛直軸を中心とする旋回が可能であり、ウェハ保持機構を用いてキャリアＣと受渡部１４との間でウェハＷの搬送を行う。
【００２６】
処理ステーション３は、搬送部１２に隣接して設けられる。処理ステーション３は、搬送部１５と、複数の処理ユニット１６とを備える。複数の処理ユニット１６は、搬送部１５の両側に並べて設けられる。
【００２７】
搬送部１５は、内部に基板搬送装置１７を備える。基板搬送装置１７は、ウェハＷを保持するウェハ保持機構を備える。また、基板搬送装置１７は、水平方向および鉛直方向への移動ならびに鉛直軸を中心とする旋回が可能であり、ウェハ保持機構を用いて受渡部１４と処理ユニット１６との間でウェハＷの搬送を行う。
【００２８】
処理ユニット１６は、基板搬送装置１７によって搬送されるウェハＷに対して所定の基板処理を行う。
【００２９】
また、基板処理システム１は、制御装置４を備える。制御装置４は、たとえばコンピュータであり、制御部１８と記憶部１９とを備える。記憶部１９には、基板処理システム１において実行される各種の処理を制御するプログラムが格納される。制御部１８は、記憶部１９に記憶されたプログラムを読み出して実行することによって基板処理システム１の動作を制御する。
【００３０】
なお、かかるプログラムは、コンピュータによって読み取り可能な記憶媒体に記録されていたものであって、その記憶媒体から制御装置４の記憶部１９にインストールされたものであってもよい。コンピュータによって読み取り可能な記憶媒体としては、たとえばハードディスク（ＨＤ）、フレキシブルディスク（ＦＤ）、コンパクトディスク（ＣＤ）、マグネットオプティカルディスク（ＭＯ）、メモリカードなどがある。
【００３１】
上記のように構成された基板処理システム１では、まず、搬入出ステーション２の基板搬送装置１３が、キャリア載置部１１に載置されたキャリアＣからウェハＷを取り出し、取り出したウェハＷを受渡部１４に載置する。受渡部１４に載置されたウェハＷは、処理ステーション３の基板搬送装置１７によって受渡部１４から取り出されて、処理ユニット１６へ搬入される。
【００３２】
処理ユニット１６へ搬入されたウェハＷは、処理ユニット１６によって処理された後、基板搬送装置１７によって処理ユニット１６から搬出されて、受渡部１４に載置される。そして、受渡部１４に載置された処理済のウェハＷは、基板搬送装置１３によってキャリア載置部１１のキャリアＣへ戻される。
【００３３】
上記基板処理システム１（基板液処理装置）に設けられた処理ユニット１６は、図２及び図３に示すように、基板保持部７１と処理液供給部７２と処理液回収部７３とを有し、これらを制御部１８で制御している。ここで、基板保持部７１は、ウェハＷを保持しながら回転させる。処理液供給部７２は、ウェハＷに処理液を供給する。処理液回収部７３は、処理液を回収する。制御部１８は、基板処理システム１の全体を制御する。
【００３４】
基板保持部７１は、処理室５の内部略中央に上下に伸延させた回転軸６を回転自在に設けている。回転軸６の上端には、円板状のターンテーブル７が水平に取付けられている。ターンテーブル７の外周端縁には、４個の基板保持体８が円周方向に等間隔をあけて取付けられている。基板保持体８の内側上部には、ウェハＷの外周端縁が載置される。これにより、ウェハＷは、基板保持体８で保持される。
【００３５】
また、基板保持部７１は、回転軸６に基板回転機構９と基板昇降機構１０を接続している。これらの基板回転機構９及び基板昇降機構１０は、制御部１８で回転制御や昇降制御される。
【００３６】
この基板保持部７１は、ターンテーブル７の基板保持体８でウェハＷを水平に保持する。また、基板保持部７１は、基板回転機構９を駆動させることでターンテーブル７に保持したウェハＷを回転させる。さらに、基板保持部７１は、基板昇降機構１０を駆動させることでターンテーブル７やウェハＷを昇降させる。
【００３７】
処理液供給部７２は、処理室５に左右に水平に伸延させたガイドレール２１を設け、ガイドレール２１に前後に水平に伸延させたアーム２２を左右移動自在に設けている。アーム２２の先端下部左側には、薬液供給ノズル２３が鉛直下向きに取付けられている。この薬液供給ノズル２３には、薬液供給源２４が流量調整器２５を介して接続されている。また、アーム２２の先端下部右側には、純水供給ノズル２６が鉛直下向きに取付けられている。この純水供給ノズル２６には、純水供給源２７が流量調整器２８を介して接続されている。各流量調整器２５,２８、制御部１８で流量制御される。
【００３８】
また、処理液供給部７２は、アーム２２にノズル移動機構２９を接続している。このノズル移動機構２９は、制御部１８で移動制御される。
【００３９】
また、処理液供給部７２は、処理室５に左右に水平に伸延させたガイドレール３０を設け、ガイドレール３０に前後に水平に伸延させたアーム３１を左右移動自在に設けている。アーム３１の先端下部には、気体供給ノズル３２が鉛直下向きに取付けられている。この気体供給ノズル３２には、気体供給源３３が流量調整器３４を介して接続されている。この流量調整器３４は、制御部１８で流量制御される。
【００４０】
また、処理液供給部７２は、アーム３１にノズル移動機構３５を接続している。このノズル移動機構３５は、制御部１８で移動制御される。
【００４１】
この処理液供給部７２は、ノズル移動機構２９,３５を駆動させることで、アーム２２,３１の先端部（薬液供給ノズル２３、純水供給ノズル２６、気体供給ノズル３２）をウェハＷの外方部の待機位置とウェハＷの中央部の吐出位置との間でそれぞれ移動させる。また、処理液供給部７２は、流量調整器２５,２８,３４を用いて薬液供給ノズル２３、純水供給ノズル２６、気体供給ノズル３２からウェハＷに向けて薬液（たとえば、バッファードフッ酸（ＢＨＦ）等の洗浄薬液）、純水、気体（たとえば、窒素ガス等の不活性ガス）を吐出させる。なお、ウェハＷを液処理する際には、薬液がウェハＷを液処理するための処理液として機能し、純水がウェハＷを液処理した後のリンス液として機能する。また、後述するカップ３６を洗浄処理する際には、純水がカップ３６を洗浄するための洗浄液として機能する。
【００４２】
処理液回収部７３は、基板保持体８で保持するウェハＷの外周外方にウェハＷを囲繞するようにカップ３６を配置している。カップ３６は、ターンテーブル７とともに回転する回転カップ３７と、回転カップ３７よりも外側において処理室５に固定された（ターンテーブル７とともに回転しない）固定カップ３８とを有する（図６参照。）。なお、ここではカップ３６が回転カップ３７と固定カップ３８とを有する構成となっているが、これに限られず、固定カップ３８だけでカップ３６を構成してもよい。
【００４３】
回転カップ３７は、外側回転カップ３７ａと内側回転カップ３７ｂとを有する。これらの外側回転カップ３７ａ及び内側回転カップ３７ｂは、ターンテーブル７の外周端縁上部に支柱３９を介して取付けられている。支柱３９は、円周方向に等間隔を開けて４個設けられている。ターンテーブル７の上面と回転カップ３７の下面との間には間隙４０が形成されている。なお、回転カップ３７がウェハＷとともに回転するために、回転カップ３７とウェハＷとの相対速度が０となり処理液の飛散を抑制することができる。
【００４４】
外側回転カップ３７ａは、内周面４１が外側へ向けて凸状の円弧面となっており、ウェハＷとともに回転しながらウェハＷから振切られた処理液（薬液や純水）を内周面４１で受け止め、ターンテーブル７との間隙４０から固定カップ３８へ向けて排出する。
【００４５】
内側回転カップ３７ｂは、外周面４８が外側へ向けて凸状の円弧面となっており、ウェハＷの表面から振切られた処理液（薬液や純水）を外周面４８に沿って外側に流し、処理液がウェハＷの裏面に回り込んで流れるのを防止する。
【００４６】
固定カップ３８は、処理室５に底部４２を取付け、底部４２にカップ部４３をカップ昇降機構４４を介して接続している。カップ昇降機構４４は、制御部１８で昇降制御される。底部４２には、ドレイン４５が接続されている。
【００４７】
この固定カップ３８は、回転カップ３７から排出された処理液を内周面４６で受け止め、ドレイン４５から外部へと排出する。その際に、処理液が回転カップ３７の上端外周部と固定カップ３８の上端内周部との間から逆流するおそれがある。そのために、回転カップ３７の上端外周部を固定カップ３８の上端内周部よりも上方に配置するとともに、回転カップ３７の上端外周部に庇状に張り出した円環状の凸部４７を形成している。これにより、回転カップ３７の外周面に沿って処理液が逆流しても凸部４７で遮断することができる。
【００４８】
基板処理システム１は、以上に説明したように構成しており、図２に示すように、制御部１８（コンピュータ）に設けた記憶部１９に記憶された各種のプログラムにしたがって制御部１８で制御され、ウェハＷの処理を行う。
【００４９】
次に、カップ洗浄用治具の構成について説明すると、図４〜図６に示すように、カップ洗浄用治具４９は、円板状の基台５０と、基台５０の外周上方に配置されたガイド体５１とを有する。
【００５０】
基台５０は、外周端縁が基板保持体８に載置されることで、基板保持体８で保持される。基台５０は、外周部に中央側から外周側へ向けて下方に傾斜する傾斜面５２が形成されている。
【００５１】
ガイド体５１は、基台５０の外周上部に支柱５３を介して取付けられている。支柱５３は、円周方向に等間隔を開けて８個設けられている。基台５０の上面とガイド体５１の下面との間には間隙５４が形成されている。ガイド体５１の中央側には、基台５０の上面へと連通する円形状の開口５５が形成されている。開口５５の下端側には、中央側から外周側へ向けて下方に傾斜する傾斜面５６が形成されている。
【００５２】
また、ガイド体５１は、下面５７が基台５０の中央側（傾斜面５６の下端）からカップ３６（回転カップ３７）の内周面４１の中途部に向けて水平状に伸延されている。また、ガイド体５１は、上面５８が基台５０の中央側（開口５５の上端）からカップ３６（回転カップ３７）の内周面４１の上部よりも下方に向けて概ね傾斜状に伸延されている。より具体的には、洗浄液が内周面４１の上部とガイド体５１の先端部との間を通過する際に、洗浄液の表面張力によって洗浄液が内周面４１の上部とガイド体５１の先端部の両方に接触して、洗浄液が内周面４１の上部とガイド体５１の先端部との間でブリッジした状態（図９参照。）を維持できる間隔（距離）となるように、ガイド体５１の先端部（外周部）をカップ３６の内周面４１に向けて伸延させている。
【００５３】
このガイド体５１の上面５８は、開口５５の上端から外周側に向けて水平状の平坦面５９が形成されている。その平坦面５９の外周側には、基台５０の中央側からカップ３６（回転カップ３７）の内周面４１の上端部よりも下方に向けて下り傾斜状の傾斜面６０が形成されている。その傾斜面６０の外周側には、傾斜面６０の外周端縁（下端）よりも一段低くなる段差６１を介して水平状の平坦面６２が形成されている。なお、開口５５の上端部と平坦面５９との間に中央側下方へ向けて傾斜する傾斜面を形成してもよい。
【００５４】
カップ洗浄用治具４９は、以上に説明したように構成しており、基板処理システム１のカップ３６（回転カップ３７）の特に内周面４１を洗浄するために、基板処理システム１の基板保持部７１の基板保持体８によってウェハＷと同様に保持及び回転させて使用される。
【００５５】
次に、基板処理システム１でカップ洗浄用治具４９を用いてカップ３６（回転カップ３７）を洗浄するカップ洗浄方法について説明する。なお、基板処理システム１では、記憶部１９に記憶されたプログラムにしたがって以下に説明するカップ洗浄方法を実行する。
【００５６】
まず、基板処理システム１は、図４〜図６に示すように、基板保持部７１にカップ洗浄用治具４９をセッティングする。このカップ洗浄用治具４９のセッティングは、ウェハＷと同様にカップ洗浄用治具４９を基板搬送装置１７によって基板保持部７１に自動で載置してもよく、オペレーターによって手動で載置してもよい。
【００５７】
次に、基板処理システム１は、図７及び図８に示すように、カップ洗浄用治具４９に洗浄液（純水）を供給する。その際に、基板処理システム１は、カップ３６（回転カップ３７）に気体（窒素ガス）を供給する。
【００５８】
具体的には、ノズル移動機構２９によってアーム２２を移動させることで、純水供給ノズル２６をカップ洗浄用治具４９のガイド体５１の平坦面５９の上方位置に配置する。また、ノズル移動機構３５によってアーム３１を移動させることで、気体供給ノズル３２を回転カップ３７の上端面の上方位置に配置する。さらに、基板回転機構９によって所定の回転速度でターンテーブル７を回転させることで、カップ洗浄用治具４９を回転させる。その後、流量調整器３４によって所定流量に流量制御された気体を気体供給ノズル３２から回転カップ３７の上端面に向けて吐出させる。また、流量調整器２８によって所定流量に流量制御された純水を純水供給ノズル２６からカップ洗浄用治具４９のガイド体５１の平坦面５９に向けて吐出させる。ここで、カップ洗浄用治具４９は、洗浄水としての純水が遠心力による影響を受けない程度（純水がカップ洗浄用治具４９の中央側から外周側へ向けて半径方向に直線的に流れる程度）の回転速度で回転させる。
【００５９】
純水供給ノズル２６から吐出された洗浄液は、図９に示すように、遠心力の影響を受けずに平坦面５９からあふれて、大部分がガイド体５１の平坦面５９に沿って外周側へ向けて流れ、一部が平坦面５９に沿って内周側（中央側）へ向けて流れる。
【００６０】
ガイド体５１の平坦面５９の外周側へ向けて流れた洗浄液は、傾斜面６０に沿って外周側へ向けて加速して流れ、その後、段差６１を落下した後に、平坦面６２で減速し、平坦面６２に沿って外周側へ向けて流れる。その後、洗浄液は、ガイド体５１の平坦面６２の先端部（外周部）において、洗浄液の表面張力によって内周面４１の上部とガイド体５１の先端部の両方に接触する。そして、洗浄液が内周面４１の上部とガイド体５１の先端部との間でブリッジした状態となる。その後、洗浄液は、内周面４１に沿って下方へ向けて流れる。これにより、カップ３６（外側回転カップ３７ａ）の内周面４１（特に上端部）を洗浄液で洗浄することができる。ブリッジは、カップ３６（外周カップ３７ａ）の全周に形成されるのではなく、純水供給ノズル２６から供給されあふれ出た一部分で形成されるが、カップ３６が回転しているために、カップ３６の全周をブリッジが通過し、カップ３６の全周を洗浄することができる。なお、回転カップ３７の上端面に吐出された気体が内周側（中央側）に向けて流れるために、洗浄液が回転カップ３７の上端面から外方へ流出することはない。
【００６１】
また、ガイド体５１の平坦面５９の内周側へ向けて流れた洗浄液は、開口５５を通って傾斜面５６に沿って下方外周側へ向けて流れた後に、間隙５４を通って基台５０の上面に沿って外周側へ向けて流れる。その後、洗浄液は、基台５０の上面から内側回転カップ３７ｂの外周面４８に沿って下方へ向けて流れる。これにより、洗浄液で内側回転カップ３７ｂの外周面４８を洗浄することができる。なお、全ての洗浄液は、最終的には、回転カップ３７の間隙４０から固定カップ３８に排出された後にドレイン４５から外部へと排出される。
【００６２】
以上のようにして、基板処理システム１では、カップ３６（回転カップ３７）の内周面４１を洗浄液で洗浄する。その際に、上記カップ洗浄用治具４９では、ガイド体５１が基台５０の中央側からカップ３６（回転カップ３７）の内周面４１の上端部よりも下側に向けて伸延しているために、ガイド体５１によって洗浄液をカップ３６（回転カップ３７）の内周面４１の上端部に向けて案内することができる。これにより、カップ３６（回転カップ３７）の内周面４１の上端部に処理液の結晶等が付着していた場合には、それらを除去することができ、ウェハＷへの転着を防止し、ウェハＷの処理不良の発生を防止することができる。
【００６３】
特に、上記カップ洗浄用治具４９のガイド体５１では、基台５０の中央側からカップ３６（回転カップ３７）の内周面４１の上端部よりも下方に向けて下り傾斜状に形成した傾斜面６０を有するために、洗浄液をカップ３６（回転カップ３７）の内周面４１へ向けて円滑に供給（案内）することができ、平坦面５９において洗浄液が飛散するのを防止することができる。
【００６４】
また、上記カップ洗浄用治具４９のガイド体５１では、傾斜面６０の外周に水平状の平坦面６２を有するために、外周側へ向けて流れる洗浄液の速度を遅らせることができる。これにより、洗浄液がカップ３６（回転カップ３７）の内周面４１の上端部近傍で滞留し、洗浄液と内周面４１の上端部との接触を確実なものとし、内周面４１に付着する処理液の結晶等を良好に除去することができる。平坦面６２は、傾斜面６０の外周下端から連続して形成してもよいが、上記カップ洗浄用治具４９のガイド体５１では、傾斜面６０と平坦面６２との間に段差６１を形成している。これにより、外周側へ向けて流れる洗浄液の速度をより一層遅らせることができるので、内周面４１の上部とガイド体５１の先端部との間に洗浄液のブリッジを形成するために適した速度とすることができる。
【００６５】
さらに、上記カップ洗浄用治具４９のガイド体５１では、基台５０との間に間隙５４を形成するとともに、中央側に基台５０に連通する開口５５を形成しているために、ガイド体５１の上面５８に供給された洗浄液の一部を開口５５及び間隙５４を介して基台５０の外周端縁からカップ３６（回転カップ３７）の内周面４１の中途部に向けて流すことができる。これにより、カップ３６（回転カップ３７）の内周面４１の中途部をも洗浄液で洗浄することができる。しかも、カップ３６（回転カップ３７）の内周面４１の中途部において、ガイド体５１の上面５８からカップ３６（回転カップ３７）の内周面４１の上端部に向けて流れる洗浄液が、基台５０の上面からカップ３６（回転カップ３７）の内周面４１の中途部に向けて流れる洗浄液に衝突（合流）する。そのため、ガイド体５１の上面５８からカップ３６（回転カップ３７）の内周面４１の上端部に向けて流れる洗浄液の速度を遅らせることができ、これによっても、洗浄液と内周面４１の上端部との接触を確実なものとし、内周面４１に付着する処理液の結晶等をより一層良好に除去することができる。なお、基台５０の上面に外周側へ向けて下方に傾斜する傾斜面５２を形成しているために、基台５０の上面に沿って外周側へ向けて流れる洗浄液を加速させることができ、洗浄液をカップ３６（回転カップ３７）の内周面４１の中途部に確実に衝突（供給）させるようにしている。
【００６６】
また、上記基板処理システム１では、カップ洗浄時にカップ３６（回転カップ３７）の上部に気体を供給することで、洗浄液がカップ３６（回転カップ３７）の上端部から外方へ流出してしまうのを防止することができる。なお、気体供給ノズル３２を固定してカップ３６の所定位置に気体を吐出させ続けてもよく、また、気体を吐出させながら気体供給ノズル３２を内周側へ移動させてもよい。
【符号の説明】
【００６７】
Ｗ  ウェハ
１  基板処理システム
８  基板保持体
３６  カップ
４９  カップ洗浄用治具
５０  基台
５１  ガイド体
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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