(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画素が第１の方向と、前記第１の方向と交差する第２の方向とに、行列状に配置された表示領域を有する表示装置であって、
前記複数の画素はそれぞれ、
少なくとも一つのトランジスタと、
前記トランジスタ上に、絶縁層を介して設けられた画素電極と、
前記トランジスタを覆うと共に、前記トランジスタと前記画素電極との間に設けられた平坦化膜と、
前記平坦化膜と前記画素電極との間に設けられた絶縁膜と、
前記トランジスタのソース電極又はドレイン電極と、前記画素電極との接続箇所に設けられたコンタクトホールと、
前記画素電極上に、前記画素電極の端部と前記コンタクトホールとを覆うように設けられたバンクと、
前記画素電極の一部を露出するように、前記バンクに形成された第２開口部と、を有し、
隣接する前記画素の所定方向の境界に、前記平坦化膜の一部を露出するように、前記絶縁膜に形成された第１開口部が設けられており、
前記平坦化膜と前記バンクとは、前記第１開口部を介して互いに接しており、
前記第１開口部は、前記第１の方向又は前記第２の方向のいずれか一に沿って平行移動した軌跡が前記コンタクトホール上を通り、かつ前記第１の方向又は前記第２の方向の他の一に沿って平行移動した軌跡が前記コンタクトホール上を通らず、前記第２開口部上を通る平面形状を有することを特徴とする表示装置。
【請求項２】
前記第１開口部は、その開口端に少なくとも一の直線部分を有し、
前記第１開口部の直線部分は、前記第１の方向及び前記第２の方向のいずれとも交わる方向に延在することを特徴とする、請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記第２開口部は、その開口端に少なくとも一の直線部分を有し、
前記第２開口部の直線部分は、前記第１の方向及び前記第２の方向のいずれとも交わる
方向に延在することを特徴とする、請求項１又は２に記載の表示装置。
【請求項４】
前記第１開口部の直線部分と、前記第２開口部の直線部分とは、互いに平行に延在する部分を有することを特徴とする、請求項３に記載の表示装置。
【請求項５】
前記表示装置は、第１の基板と、前記第１の基板と対向する第２の基板と、をさらに有し、
前記複数の画素は、それぞれ前記第１の基板上に形成され、
前記第２の基板の前記複数の画素に対応する位置に、カラーフィルタが形成されていることを特徴とする、請求項１乃至４のいずれか一に記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は表示装置およびその製造方法に関する。本発明が開示する一実施形態は、表示装置の画素構造に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機エレクトロルミネッセンス（以下、有機ＥＬと呼ぶ。）表示装置は、各画素に発光素子が設けられ、個別に発光を制御することで画像を表示する。発光素子は、一方を下部電極、他方を上部電極として区別される一対の電極間に有機ＥＬ材料を含む層（以下、「発光層」ともいう）を挟んだ構造を有している。
【０００３】
有機ＥＬ表示装置は、一方の電極が画素ごとに個別画素電極（単に、画素電極ともいう）として設けられ、他方の電極は複数の画素に跨がって共通の電位が印加される共通画素電極（共通電極ともいう）として設けられている。有機ＥＬ表示装置は、この共通画素電極に対し、個別画素電極から画素ごとに流す電流を制御することで、画素の発光を制御している。
【０００４】
特に、白色発光素子とカラーフィルタを組み合わせてフルカラーを実現する有機ＥＬ表示装置は、アレイ基板と、カラーフィルタ基板を貼り合わせて構成されるのが一般的である。アレイ基板は、行列状に配列された複数の発光素子を有している。カラーフィルタ基板は、例えばＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の三色が並ぶカラーフィルタと、各色のカラーフィルタを区画する遮光層（ブラックマトリックスとも呼ばれる）とが設けられている。
【０００５】
ところで、表示装置では、Ｒ（赤）画素、Ｇ（緑）画素、Ｂ（青）画素をサブ画素とし、これらのサブ画素を一組として一つの画素を構成する場合がある。表示装置では、画質の向上を図るために、サブ画素を含む画素の構造に工夫がされている。
【０００６】
たとえば、特許文献１は、液晶表示装置において、駆動回路チップの数を減らして表示装置の製造費用を減らし、また、表示装置の画質を向上するために、行列状に配列されている画素電極、及び該画素電極に連結されているスイッチング素子を各々有する複数の画素と、前記スイッチング素子に連結されており、行方向にのびている複数のゲート線と、前記スイッチング素子に連結されており、列方向にのびている複数のデータ線とを有し、各行は少なくとも２つのゲート線を有し、前記画素電極各々は第１側及び該第１側より前記データ線から遠い第２側を有しており、前記スイッチング素子は前記画素電極の第２側付近に位置する、との液晶表示装置を開示している。
【０００７】
また特許文献２は、反射型液晶表示装置において、位置をかえて複数回の露光を行った場合でも、継ぎ目なく表示装置を作成するために、反射板および表示品位マスクが、１画素分の凹凸パターンを複数種類有し、少なくとも１種類の凹凸パターンは複数個あり、複数個ある特定種類の凹凸パターンのうちのいずれか２パターンは、平行移動、回転移動、表裏反転のうちの少なくとも平行移動を含む１または複数の関係であり、かつ不規則的に配置されている。マスク１ａを用いて感光性樹脂膜を露光して、凸部を有する反射板および反射型液晶表示装置を作成する、というものである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００６−７９１０４号公報
【特許文献２】特開平１０−１２３５０８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
有機ＥＬ表示装置のような自発光型の表示装置に求められる課題として、横方向へ出射される発光が無効成分になっており光の取出効率の向上を妨げていること、および、白色有機ＥＬ素子にカラーフィルタを用いる方式では、横方向へ出射される発光が光学的混色の一因となっていること、がある。
【００１０】
ここでいう光学的混色とは、屈折率が比較的大きな透明発光層中でほぼ等方的に発光した光の一部は発光層の界面で全反射してしまい発光層から外部に出ることができず、発光素子を出射した光の一部が発光層を伝播して横方向に伝わることで、他の画素のカラーフィルタを透過し、結果として意図しない発色を発生させる現象をいう。
【００１１】
本発明はこのような問題に鑑み、表示装置の光学的混色の低減を図ることを目的の一つとする。また、本発明は、外光反射の低減を図ることを目的の一つとする。また、本発明は、製造時においてカラーフィルタ開口形状が安定して同一形状に作成することができる開口形状とすることを目的の一つとする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の一実施形態に係る表示装置は、複数の画素が第１の方向と、第１の方向と交差する第２の方向とに、行列状に配置された表示領域を有する表示装置であって、複数の画素はそれぞれ、少なくとも一つのトランジスタと、トランジスタ上に、絶縁層を介して設けられた画素電極と、トランジスタのソース電極又はドレイン電極と、画素電極との接続箇所に設けられたコンタクトホールと、画素電極上に、前記画素電極の端部とコンタクトホールとを覆うように設けられたバンクと、画素電極の一部を露出するように、矩形、又は鈍角で形成された多角形でバンクに形成された開口部と、を有し、複数の画素のうち、第１の画素のコンタクトホール中心と、第１の画素と前記第１の方向または第２の方向に隣接する第２の画素のコンタクトホールの中心を結んだ線が、第１の方向または第２の方向と略平行であり、第１の画素の開口部の中心と前記第２の画素の開口部の中心とを結んだ線は、第１の方向または第２の方向と略平行であり、複数の画素の開口部が有する直線状の辺は、第１の方向、及び前記第２の方向のいずれとも角度を有することを特徴とする表示装置、である。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の一実施形態に係る表示装置の構成を示す斜視図である。
【図２】本発明の一実施形態に係る表示装置の構成を示す平面図である。
【図３】本発明の一実施形態に係る表示装置の構成を示す断面図である。
【図４】本発明の一実施形態に係る表示装置の等価回路図である。
【図５】本発明の一実施形態に係る表示装置に設けられる画素の配置を示す平面図である。
【図６】本発明の一実施形態に係る表示装置に設けられる画素の配置を示す平面図である。
【図７】本発明の一実施形態に係る表示装置に設けられる絶縁層開口部の配置を示す平面図である。
【図８】本発明の一実施形態に係る表示装置に設けられる画素の配置を示す平面図である。
【図９】本発明の一実施形態に係る表示装置に設けられる画素の配置を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明の実施の形態を、図面等を参照しながら説明する。但し、本発明は多くの異なる態様で実施することが可能であり、以下に例示する実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。また、図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。
【００１５】
本明細書において、ある部材又は領域が、他の部材又は領域の「上に（又は下に）」あるとする場合、特段の限定がない限り、これは他の部材又は領域の直上（又は直下）にある場合のみでなく、他の部材又は領域の上方（又は下方）にある場合を含み、すなわち、他の部材又は領域の上方（又は下方）において間に別の構成要素が含まれている場合も含む。
【００１６】
本実施形態に係る表示装置１００の構成を、図１を参照して説明する。表示装置１００は、第１基板１０２に表示領域１０６が設けられている。表示領域１０６は複数の画素１０８が配列することによって構成されている。表示領域１０６の上面には第２基板１０４が設けられている。
【００１７】
第２基板１０４は表示領域１０６を囲むシール材１１０によって、第１基板１０２に固定されている。第１基板１０２に形成された表示領域１０６は、第２基板１０４とシール材１１０によって大気に晒されないように封止されている。このような封止構造により画素１０８に設けられる発光素子の劣化を抑制している。ただし、封止が目的であれば、特に第２基板１０４を設ける必要は無く、複数の画素１０８が設けられた表示領域１０６を覆うように、ガスバリア性の高い膜を形成して封止を行っても良い。
【００１８】
第１基板１０２は、一端部に端子領域１１４が設けられている。端子領域１１４は第２基板１０４の外側に配置されている。端子領域１１４は、複数の接続端子１１６によって構成されている。接続端子１１６には、映像信号を出力する機器や電源などと表示パネルとを接続する配線基板が配置される。配線基板と接続する接続端子１１６の接点は、外部に露出している。第１基板１０２には端子領域１１４から入力された映像信号を表示領域１０６に出力するドライバ回路１１２が設けられていてもよい。
【００１９】
図２〜図４を参照し、本実施形態に係る表示装置１００の構成について説明する。図２は、本実施形態に係る表示装置１００の構成を示す平面図である。図３は、本実施形態に係る表示装置１００の構成を示す断面図である。図４は、本実施形態に係る表示装置の等価回路図である。
【００２０】
図２に示すように、第１基板１０２上に表示画面を形成する表示領域１０６には複数の画素１０８が、第１の方向Ｌ１（行）と、第２の方向Ｌ２（列）とに、行列状に配列されている。第１基板１０２上の周辺部には、他の要素として表示領域１０６に信号を入力する垂直走査回路、水平走査回路等が設けられていてもよい。
【００２１】
図３は、図２に示した一つの画素を通過するＡ―Ｂ間の断面図である。複数の画素１０８の各々は、複数の発光領域を有している。複数の発光領域の各々は、その周辺に設けられたバンク１３０によって、隣接する発光領域と分離されている。複数の発光領域の各々は、選択トランジスタ１１７と、白色光を発する発光素子１２０と、その上部に配置される赤、緑、青又は白のいずれかのカラーフィルタ１２２を有し、各色の光を発するサブピクセルを構成している。
【００２２】
発光素子１２０は、個別画素電極１２４(単に、画素電極とも言う)、有機層１２８、共通画素電極１２６（共通電極とも言う）の順に積層された構造を有している。個別画素電極１２４は各発光素子１２０に個別に設けられ、駆動トランジスタ１１８を介してサブピクセル毎に異なる電位が供給される。有機層１２８は発光層を含む。共通画素電極は全ての発光素子に共通して設けられる。
【００２３】
個別画素電極１２４は、有機層１２８で発生した光を共通画素電極１２６側に反射させるため、反射率の高い材料（たとえば、金属膜）で形成されていることが好ましい。或いは、個別画素電極１２４を金属膜と透明導電膜との積層構造とし、光反射面が含まれる構造としてもよい。
【００２４】
有機層１２８は複数の画素１０８に共通して設けられ、個別画素電極１２４及びサブピクセル間のバンク１３０を覆うように設けられる。有機層１２８については、図３のように、全ての発光素子に共通に設けられても良いし、発光色に応じて、個別画素電極上に独立して形成されても良い。
【００２５】
なお、図３で示すように、バンク１３０は個別画素電極１２４の周縁部を覆っている。有機層１２８と共通画素電極１２６は、個別画素電極１２４の上面からバンク１３０の上面に設けられる。発光素子１２０は、個別画素電極１２４、有機層１２８、共通画素電極１２６が重畳する領域が発光領域とみなすことができる。バンク１３０は、個別画素電極１２４の周縁部において、有機層１２８及び共通画素電極１２６を個別画素電極１２４から離隔している。このことから、バンク１３０は、発光領域を形成しているということもできる。
【００２６】
有機層１２８が、例えば有機ＥＬ層から成る場合、低分子系又は高分子系の有機材料を用いて形成される。低分子系の有機材料を用いる場合、有機層１２８は発光性の有機材料を含む発光層に加え、当該発光層を挟むように正孔注入層や電子注入層、更に正孔輸送層や電子輸送層等を含んで構成される。本実施形態においては、発光層は、白色発光を呈するものを用い、カラーフィルタによってフルカラー発光を実現している。なお、有機層１２８は、複数の発光層（例えば有機ＥＬ層）を重ねた、いわゆるタンデム型の構造を用いても良い。図３においては、有機層１２８が２層積層のように記載されているが、これに限らず、３層以上の積層であっても良いし、間に他の有機層を挟んでも良い。
【００２７】
共通画素電極１２６は、発光層で発光した光を透過させるため、透光性を有しかつ導電性を有するＩＴＯ（酸化スズ添加酸化インジウム）やＩＺＯ（酸化インジウム・酸化亜鉛）等の透明導電膜で形成されていることが好ましい。または、共通画素電極１２６として、出射光が透過できる程度の膜厚で金属層を形成しても良い。
【００２８】
共通画素電極１２６上には、封止膜１３２が設けられる。封止膜１３２は、水分の浸入を遮断できる絶縁膜が好ましい。絶縁膜として無機絶縁膜又は有機絶縁膜を用いることができる。
【００２９】
例えば、絶縁膜として無機絶縁膜を使用する場合、酸化ケイ素（ＳｉＯｘ）、窒化系ケイ素（ＳｉＮｘ）、酸化窒化ケイ素（ＳｉＯｘＮｙ）、窒化酸化ケイ素（ＳｉＮｘＯｙ）、酸化アルミニウム（ＡｌＯｘ）、窒化アルミニウム（ＡｌＮｘ）、酸化窒化アルミニウム（ＡｌＯｘＮｙ）、窒化酸化アルミニウム（ＡｌＮｘＯｙ）等の膜を使用することができる（ｘ、ｙは任意）。また、これらの膜を積層した構造を使用してもよい。成膜方法としてはプラズマＣＶＤ法やスパッタリング法を用いることができる。
【００３０】
絶縁膜として有機絶縁膜を使用する場合、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、シロキサン樹脂等の膜を使用することができる。また、これらの材料を積層した構造を使用してもよい。成膜方法としては蒸着法や蒸着重合法を用いることができる。
【００３１】
封止膜１３２としては更に、上記の無機絶縁膜及び有機絶縁膜を組み合わせて積層した構造を使用してもよい。
【００３２】
第１基板１０２には、シール材１１０によって第１基板１０２との間隔を保持された透明な第２基板１０４が被せられている。これら第２基板１０４、シール材１１０及び封止膜１３２によって囲まれた空間には、例えば透明なエポキシ樹脂からなる充填剤１３４が充填されていても良い。なお、第２基板は、第１基板に対向するため、対向基板とも称する。
【００３３】
図２には示していないが、表示領域は、複数の開口部を有する第１の遮光層１３６で覆われている。第１の遮光層１３６は、カラーフィルタ１２２の上方に（第２基板１０４の側に）配置され、発光領域を開口する複数の開口部１４２を有している。
【００３４】
画素１０８は、複数の副画素（サブピクセル）１４４を備えている。開口部１４２は、副画素（サブピクセル）１４４に対応して設けられている。尚、副画素（サブピクセル）１４４のことを単に画素ということもある。
【００３５】
図２において画素１０８は、点線で表される領域であり、副画素１４４は、点線で表される領域を４区画に分けた領域のうちの１つである。もちろん、４区画でなければならないわけではなく、ＲＧＢＷの４色の場合には、点線で表される領域は４区画となるが、ＲＧＢ等では３区画にもなるのであって、２以上の区画に分かれていてもよい。
【００３６】
図４は、図３で示す画素の等価回路図である。選択トランジスタ１１７は、ゲート信号線１５１に選択信号が与えられたとき、この選択信号と同期してデータ信号線１５３から与えられるデータ信号を駆動トランジスタ１１８のゲート電位として与え、容量素子１５２はそのゲート電位を保持する。電源線１５４に接続される駆動トランジスタ１１８は、当該ゲート電位に基づくドレイン電流を発光素子１２０に供給する。発光素子１２０はこのドレイン電流に基づく輝度で発光をする。
【００３７】
なお、図４のレイアウト及び図３で示す画素の等価回路図は一例であり、本発明の表示装置はこのような画素および回路構成に限定されない。例えば、駆動トランジスタ１１８の閾値電圧を補償する回路や、発光素子の発光を強制的に終了させるスイッチングトランジスタをさらに付加してもよい。
【００３８】
＜画素の配列例１＞
図５に本発明の一実施形態における画素の開口形状を示す。図５は開口部１４２、コンタクトホール１３８の場所と形状を示したものであるが、あくまで模式図であり、実際にはコンタクトホールが露出しているわけではない。図５に示した遮光層１３６が有する開口部１４２の形状は、略四角形の形状をしている。
【００３９】
また、開口部の形状は、本実施形態においては四角形の態様を示しているが、これに限定されるものではない。たとえば、円形の開口形状でもよい。ただし、たとえば五角形等の多角形では、開口部面積に対する辺の長さが長くなるため、製造に適さず、略四角形または円形等であることが望ましいといえる。また、四角形を選択したとしても、図面に示した正方形の態様を取ることが必須なわけではなく、略長方形でも構わない。もっとも、正方形に近いほうが、対称性が高く、後述の通り、外光反射の観点から優れる。すなわち、頂点が直線同士によって角をなさずとも、一定の曲率を有する曲線であってもよいことは当然である。
【００４０】
本実施形態においては、画素の開口部１４２は、それぞれ、副画素１４４として点線で示した四角形から、回転して傾いた形状となっている。そして、図５を見ると、第１の方向に隣り合う画素の開口部の中心を結ぶ線、第１の方向に隣り合う画素のコンタクトホールの中心を結ぶ線は、いずれも、第１の方向と略平行である。同様に、第２の方向に隣り合う画素の開口部の中心を結ぶ線、第２の方向に隣り合う画素のコンタクトホールの中心を結ぶ線は、いずれも、第２の方向と略平行である。
【００４１】
また、開口部が有する直線状の辺を延長させると、第１の方向、及び第２の方向のいずれとも角度を有している。これを、図５の平面図（模式図）で見ると、あたかも開口部が傾いた形状をしている。なお、この傾き、すなわち、前述の角度は、０度から９０度まで任意の値を取ることができる。好ましくは、１つの開口部の辺が、第１の方向又は第２の方向となす角度のうち、より小さい値が、０度から４５度の間であることが望ましい。これは後述の、開口部における外光反射（ちらつき）が、角度依存性を有するためである。なお、四角形の場合においては、この傾き（角度）は解像度との相関関係の中で好ましい値が変化する。
【００４２】
たとえば、開口部の大きさが一定程度小さく形成できるのであれば、１つの開口部のなす四角形における対角線の長さが十分小さくなるため、角度を４５度に近づけることで、画素開口を高密度化することで高精細化を実現することができる。また、対称性が高くなるため、後述の通り外交反射を低減することができる。また、長辺同士の隣接箇所が低減するので、光学的混色低減を実現できる。
【００４３】
本実施形態においては、このような画素の配列構造を採ることによって、開口部に対称性を持たせることができるために、反射光に対する空間周波数が増大し、この結果、外光反射による虹模様のコントラストが低下し、それが視認されにくくなる。ここで、空間周波数とは、視角一度あたりの繰り返し数と定義され、単位はｃｐｄ（ｃｙｃｌｅ  ｐｅｒ  ｄｅｇｒｅｅ）である。本明細書においては、視角一度当たりの開口部の繰り返し数（或いは、単に視角一度当たりの開口部の数）である。そして、空間周波数の増大によって外光反射による二次模様のコントラストが低減する機序は、場所によって開口幅が大きく異なるという状態が低減するため、外光反射による虹模様の視野角依存性を低減できるというものである。
【００４４】
また、開口辺と開口辺が近接する辺が少ないことから、隣接するカラーフィルタに出射光が入り込む現象が低減され、光学的混色を防止できる。これは、長辺同士が近接することによって、たとえばバンクの斜面に当たった光が、隣接する画素のカラーフィルタ方向に出射すること等の現象が、開口辺と開口辺が近接する辺が少ないことによって低減されるためである。
【００４５】
また、カラーフィルタを略四角形にできるため、製造時においてカラーフィルタ開口形状が安定して同一形状に作成することができる。また、画素開口が四角形状であることから、一定面積に占める画素開口部の辺の量が減るため、製造時における寸法ばらつきを防止することができる。
【００４６】
また、カラーフィルタの開口部分を略四角形状にしても、コンタクトホールをカラーフィルタの開口部分外に配置可能であり、コンタクトホール部分が開口部とならないで済むことにより、反射特性が向上する。
【００４７】
なお、開口部の形状について、略四角形と円形では、略四角形の方が開口率を向上させることができる点で優位であるものの、製造プロセス上、完全な四角にすることは難しいため、本明細書における四角形とは、完全な四角形を意味するのではなく、略四角形を意味する。
【００４８】
＜画素の配列例２＞
図６に本発明の一実施形態における画素の開口形状を示す。本実施例は、開口部１４２、コンタクトホール１３８に加えて、絶縁層開口部１４０を設けたものである。
【００４９】
本実施形態における画素の開口部１４２の開口形状、コンタクトホール１３８の位置については、画素の配列例１と同様である。また、実際にはコンタクトホールが露出しているわけではないことも同様である。
【００５０】
本実施形態では、駆動トランジスタ上には、個別画素電極を平坦にするための平坦化膜を設けてもよく、また、平坦化膜上に、絶縁層１３１を設け、バンク１３０と、平坦化膜とが、絶縁層１３１を介さずに接触する領域である絶縁層開口部１４０を設ける。絶縁層開口部１４０は、図６で１４０として指示した箇所に設けることができる。絶縁層開口部１４０は、製造工程におけるリソグラフィー工程など（たとえばレジスト除去等）で使用された水分が、トランジスタ上に設けられた平坦化膜等にたまり、水分を透過しない絶縁層１３１によって保持されてトランジスタ等が劣化することを防止するために設けられるものである。
【００５１】
図６に示した遮光層１３６が有する開口部１４２の形状は、略四角形の形状をしているが、必ずしもこれに限定されるものではなく、頂点が直線同士によって角をなさず、一定の曲率を有する曲線であってもよいことは前述のとおりである。本実施形態においては、画素の開口部１４２は、それぞれ、副画素１４４として点線で示した四角形から、回転して傾いた形状となっている。この形状については、先に述べた画素の配列例１と同じである。
【００５２】
そして、本実施形態で設けられる絶縁層開口部１４０は、隣接する画素１４４の間に設けられる。図６では、絶縁層開口部１４０を第２の方向に隣接する画素１４４間に設けているが、第１の方向に隣接する画素１４４間に設けることも可能である。
【００５３】
本実施形態においては、このような画素の配列構造を採ることによって、対称性を持たせることができ、また、開口辺と開口辺が近接する辺が少ないことから、前記の通り光学的混色を防止できる。また、カラーフィルタを略四角形にできるため、製造時においてカラーフィルタ開口形状が安定して同一形状に作成することができる。また、画素開口が四角形状であることから、一定面積に占める画素開口部の辺の量が減るため、製造時における寸法ばらつきを防止することができる。カラーフィルタの開口部分を四角形状にしても、コンタクトホールをカラーフィルタの開口部分外に配置可能であり、コンタクトホール部分が開口部とならないで済むことにより、反射特性が向上する。
【００５４】
また、図７に示すように、平坦化膜とバンクとが、前述した開口部を通じて接触している領域があることによって、バンク形成後のフォトリソグラフィ工程や熱処理等を通じて、平坦化膜から脱離する水分や脱ガスを、バンクを通じて引き抜くことが可能であり、表示装置の劣化を防止することができる。なお、この開口部を、本明細書では絶縁層開口部１４０と称する。
【００５５】
（画素の配列例３）
本発明の一実施形態に係る表示装置の画素の配列を、図８を示して説明する。本実施形態において、開口部１４２の形状は、画素１０８を３か所開口する形状としたものである。この場合も、第１の方向に隣り合う画素の開口部の中心を結ぶ線、第１の方向に隣り合う画素のコンタクトホールの中心を結ぶ線は、いずれも、第１の方向と略平行である。同様に、第２の方向に隣り合う画素の開口部の中心を結ぶ線、第２の方向に隣り合う画素のコンタクトホールの中心を結ぶ線は、いずれも、第２の方向と略平行である。
【００５６】
このように配列することで、画素配列例３においても、光学的混色を防止できる。また、カラーフィルタを略四角形にできるため、製造時においてカラーフィルタ開口形状が安定して同一形状に作成することができる。また、画素開口が四角形状であることから、一定面積に占める画素開口部の辺の量が減るため、製造時における寸法ばらつきを防止することができる。また、開口辺と開口辺が近接する辺が少ないことから光学混色を防止することができる。カラーフィルタの開口部分を四角形状にしても、コンタクトホールをカラーフィルタの開口部分外に配置可能であり、コンタクトホール部分が開口部とならないで済むことにより、反射特性が向上する。
【００５７】
（画素の配列例４）
また、画素の配列例３において、絶縁層開口部１４０を設けることも可能である。この場合には、図９に示すように、隣接する画素１４４間に設けることが可能である。
【００５８】
このように画素配列例４によって、隣接する画素同士に距離を持たせることができるため光学的混色を防止できる。また、カラーフィルタを略四角形にできるため、製造時においてカラーフィルタ開口形状が安定して同一形状に作成することができる。また、画素開口が四角形状であることから、一定面積に占める画素開口部の辺の量が減り、製造時における寸法ばらつきを防止することができる。また、開口辺と開口辺が近接する辺が少ないことから光学混色を防止することができる。カラーフィルタの開口部分を四角形状にしても、コンタクトホールをカラーフィルタの開口部分外に配置可能であり、コンタクトホール部分が開口部とならないで済むことにより、反射特性が向上する。
【００５９】
以上、本発明の好ましい実施形態による表示装置１００について説明した。本実施形態によれば、高精細な表示装置１００を提供することができる。
【００６０】
以上の実施形態は単なる例示に過ぎず、本発明の技術的範囲はそれらには限定されない。当業者であれば、本発明の要旨を逸脱することなく、種々の変更が可能であろう。よって、それらの変更も当然に、本発明の技術的範囲に属すると解されるべきである。
【符号の説明】
【００６１】
１００：表示装置
１０２、１０４：基板
１０６：表示領域
１０８：画素
１１０：シール材
１１２：ドライバ回路
１１４：端子領域
１１６：接続端子
１１７：選択トランジスタ
１１８：駆動トランジスタ
１２０：発光素子
１２２：カラーフィルタ
１２４：個別画素電極
１２６：共通画素電極
１２８：有機層
１３０：バンク
１３２：封止膜
１３１：絶縁層
１３４：充填材
１３６：遮光層（ＢＭ）
１３８：コンタクトホール
１４０：絶縁層開口部
１４２：開口部
１４４：サブピクセル
１５１：ゲート信号線
１５２：容量素子
１５３：データ信号線
１５４：電極線
【図１】
0006625835.tif 000002
【図２】
0006625835.tif 000003
【図３】
0006625835.tif 000004
【図４】
0006625835.tif 000005
【図５】
0006625835.tif 000006
【図６】
0006625835.tif 000007
【図７】
0006625835.tif 000008
【図８】
0006625835.tif 000009
【図９】
0006625835.tif 000010