(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１及び第２の紙基材層と、前記第１及び第２の紙基材層の間に配置され前記第１及び第２の紙基材層を接着する熱可塑性樹脂層と、前記第１の紙基材層の上に形成される絵柄層と、を備えた化粧シートであって、
前記化粧シートの前記絵柄層が形成される表面側には複数のエンボス凹部が前記第１の紙基材層に入り込むように形成されており、当該複数のエンボス凹部の最大深度が前記化粧シートのエンボス加工前の総厚に対して１５％以上となっており、
前記熱可塑性樹脂層の厚みが２０μｍ以上且つ７０μｍ以下であり、前記第２の紙基材層に用いる紙材よりも厚くなっていることを特徴とする化粧シート。
【請求項２】
前記エンボス凹部の最大深度が３０μｍ以上であることを特徴とする請求項１に記載の化粧シート。
【請求項３】
前記第１及び第２の紙基材層に用いる紙材の厚みが１５μｍ以上且つ６０μｍ未満であることを特徴とする請求項１又は２に記載の化粧シート。
【請求項４】
前記化粧シートの前記表面側に位置する前記第１の紙基材層に用いる紙材の厚みが、前記第２の紙基材層に用いる紙材の厚みよりも厚いことを特徴とする請求項１〜３の何れか一項に記載の化粧シート。
【請求項５】
前記化粧シートの裏面側には複数の凹部が形成されていることを特徴とする請求項１〜４の何れか一項に記載の化粧シート。
【請求項６】
前記複数の凹部は、前記エンボス凹部が形成されている箇所とは積層方向における位置が異なるように形成されていることを特徴とする請求項５に記載の化粧シート。
【請求項７】
請求項１〜６の何れか一項に記載の化粧シートと、
前記化粧シートが少なくとも一方の面に貼り合わされた基材と、を備えた化粧板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、化粧シート及び当該化粧シートを備えた化粧板に関し、より詳細には、一般内装材や組み立て家具の表面装飾などに用いられる絵柄印刷を施し表面に凹凸を設けた化粧シート及び当該化粧シートを備えた化粧版に関する。
【背景技術】
【０００２】
化粧シートとして、熱可塑性樹脂フィルムを基材として、それに印刷を施したものに、透明フィルムのラミネートやエンボスなどの加工をして意匠性や耐久性などを高めたものが実用化され、広く用いられている。
【０００３】
その一方で、紙を基材として印刷を施したものも化粧シートあるいは化粧紙として用いられることがある。この場合には、原紙に印刷を施し、それに熱硬化性樹脂を含浸した後、プレスで熱や圧をかけて化粧板にする方法が知られている。熱硬化性樹脂が表面にあることにより、表面硬度や耐摩耗性が高い化粧板（若しくは化粧シート）を得ることができる。
【０００４】
特許文献１には、このような紙を基材として用いた化粧シートの例が開示されている。特許文献１に記載の化粧シートでは、２枚の薄葉紙（原紙）の間に熱可塑性樹脂からなる押出し層を設けて両薄葉紙を貼り合せるようにしている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特許平８−１３２５８２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１に記載の化粧シートでは、熱可塑性樹脂からなる押出しコート層を介して２枚の薄葉紙を接着していることから、これら紙基材の抗張力が大きくなり紙の破れ等は防止しやすくなるものの、エンボスを深くすることによる化粧シートの意匠性の向上が十分ではなく、更なる意匠性の向上が望まれていた。
【０００７】
そこで、本発明では、意匠性を更に高めた化粧シート及び当該化粧シートを備えた化粧板を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するため、本発明に係る化粧シートは、第１及び第２の紙基材層と、第１及び第２の紙基材層の間に配置され第１及び第２の紙基材層を接着する熱可塑性樹脂層と、第１の紙基材層の上に形成される絵柄層と、を備えた化粧シートであって、化粧シートの絵柄層が形成される表面側に複数のエンボス凹部が形成されており、当該複数のエンボス凹部の最大深度が化粧シートのエンボス加工前の総厚に対して１５％以上となっていることを特徴としている。
【０００９】
この化粧シートでは、複数のエンボス凹部の最大深度が化粧シートのエンボス加工前の総厚に対して１５％以上となるようにしている。このため、化粧シートの表面側に、より深い凹凸形状を設けることになり、より意匠性を高めることが可能となる。
【００１０】
上記の化粧シートにおいて、エンボス凹部の最大深度が３０μｍ以上であることが好ましい。この場合、化粧シートの意匠性をかなり良好なものとすることができ、また、エンボス加工性も良好にすることができる。
【００１１】
上記の化粧シートにおいて、第１及び第２の紙基材層に用いる紙材の厚みが１５μｍ以上且つ６０μｍ未満であることが好ましい。紙材の厚みが６０μｍ以上であると、化粧シートに適正なエンボス加工を施すことが難しくなることがあり、意匠性の高い化粧シートを得ることが困難となる。一方、紙材の厚みが１５μｍよりも薄くなると、エンボス加工を施す際に紙材に破れ等が生じやすくなる可能性がある。
【００１２】
上記の化粧シートにおいて、熱可塑性樹脂層の厚みが２０μｍ以上且つ７０μｍ以下であり、第２の紙基材層に用いる紙材よりも厚くなっていることが好ましい。このように熱可塑性樹脂層が２０μｍ以上の厚みを有することにより、エンボス加工を施した際に化粧シートにエンボス凹部がより確実に形成されて意匠性を高めることができると共に、化粧シートにラミネート処理等を施したとしても形成されたエンボス形状が元に戻ってしまうといったことを抑制することが可能となる。
【００１３】
上記の化粧シートにおいて、化粧シートの表面側に位置する第１の紙基材層に用いる紙材の厚みが、第２の紙基材層に用いる紙材の厚みよりも厚いことが好ましい。この場合、印刷がし易くなる（印刷適正が良くなる）といったことが可能となる。
【００１４】
上記の化粧シートでは、表面側と積層方法において反対側となる化粧シートの裏面側には複数の凹部が形成されていることが好ましい。この場合、当該化粧シートを基材に接着等する際に当該凹部に接着剤が入り込むことによって、化粧シートの接着性を向上させることができる。その結果、使用する接着剤の量を減らすことも可能となる。また、裏面側に凹部を設けることにより、化粧シートを貼り合せる際の皺寄りを抑制することもできる。
【００１５】
また、上記の化粧シートでは、複数の凹部は、エンボス凹部が形成されている箇所とは積層方向における位置が異なるように形成されていてもよい。
【００１６】
また、本発明は、上述した何れかの構成を備えた化粧シートと、当該化粧シートが少なくとも一方の面に貼り合わされた基材とを備えた化粧板の発明として捉えることも可能である。この化粧板によれば、化粧シートと同様に、上述した効果を奏することが可能となる。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、意匠性をより一層高めた化粧シート、及び、当該化粧シートを備えた化粧板を得ることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明に係る化粧シートの断面構成を示す模式的な断面図である。
【図２】本発明に係る化粧シートにおける各種の厚みを示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、図面を参照しつつ、本発明に係る化粧シート及び化粧板について詳細に説明する。説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には、同一符号を用いる場合があり、重複する説明は省略する。
【００２０】
図１は、本発明に係る化粧シートの断面構成を示す模式的な断面図である。図１に示すように、化粧シート１０は、第１の紙基材層１と、第２の紙基材層２と、熱可塑性樹脂層３と、絵柄印刷層４（絵柄層）と、を備えて構成されている。第１及び第２の紙基材層１，２は、それらの間に配置される熱可塑性樹脂層３を介して互いに接着固定されている。化粧シート１０は、表面１０ａにエンボス加工が施されており、表面１０ａに複数のエンボス凹部５が形成されている。各エンボス凹部５は、例えば絵柄の木目等に沿って長手方向に延びる溝状に形成されている。また、化粧シート１０は、裏面１０ｂにも複数の凹部６が形成されている。各凹部６も、エンボス凹部５と同様に例えば長手方向に延びる溝状に形成されている。裏面１０ｂ側の凹部６は、表面１０ａ側のエンボス凹部５が形成される箇所とは積層方向における位置が異なるようにずれて形成されていることが好ましいが、エンボス凹部５が形成される箇所とは積層方向における位置が同じになるように形成されていてもよい。
【００２１】
このような積層体からなる化粧シート１０は、所定の温度に加熱され、エンボスロールとゴムバックロールとからなるエンボスユニットに通過させることにより、その両面１０ａ，１０ｂに凹凸を付与することができるようになっている。化粧シート１０では、加熱されることによって、積層体が可塑性を備えることができ、また熱可塑性樹脂層３があることによって、抗張力も増すことになり、エンボス適性を向上させることができる。
【００２２】
第１及び第２の紙基材層１，２としては、例えばセルロース繊維を５０％以上含有する各種の紙材を用いることができる。第１及び第２の紙基材層１，２を構成する紙材は、例えばその厚さが１５μｍ以上６０μｍ未満であることが好ましく、２５μｍ以上３５μｍ以下であることがより好ましい。第１及び第２の紙基材層１，２に用いる紙材が１５μｍよりも薄い場合には、強度が印刷および後加工において不適となり、一方、紙材が６０μｍ以上の場合には、エンボス適性において不適であり、エンボス可能が困難となる、若しくは深いエンボス可能が難しくなるといったことが生じることがある。
【００２３】
また、第１及び第２の紙基材層１，２を構成する紙材の厚みとして、第１及び第２の紙基材層１，２に用いる紙材それぞれの厚みが互いに同じであってもよいし、第１の紙基材層１に用いる紙材の方が第２の紙基材層２に用いる紙材よりも厚くなる、つまり、第２の紙基材層２の紙材の方が第１の紙基材層１の紙材よりも薄くなるように設定してもよいし、その逆でもよい。但し、第２の紙基材層２の紙材の方を薄くした場合、エンボス処理が施される表面１０ａ側での紙材の破損等が抑制されると共に、当該紙材を薄くすることで、化粧シート１０全体の総厚をより薄くすることが可能となるため、第２の紙基材層２の紙材の厚みを第１の紙基材層１の紙材の厚みよりも薄くしておくことが好ましい。なお、このように第１の紙基材層１を構成する紙材の方が第２の紙基材層２を構成する紙材よりも厚いことで、第１の紙基材層１への印刷がし易くなる（印刷適性が良くなる）。
【００２４】
熱可塑性樹脂層３は、第１及び第２の紙基材層１，２の間に積層され、第１及び第２の紙基材層１，２を互いに接着するための層であり、また、エンボス処理をされた際に変形しその形状を保持固定するための層でもある。熱可塑性樹脂層３は、その厚さは限定されるものではないが、例えば２０μｍ以上７０μｍ以下であることが好ましく、４５μｍ以上５５μｍ以下であることがより好ましい。また、熱可塑性樹脂層３は、その厚みが第１及び第２の紙基材層１，２を構成する紙材よりも厚いことが好ましく、特に第２の紙基材層２を構成する紙材よりも厚いこと、つまり第２の紙基材層２の紙材が熱可塑性樹脂層３よりも薄いことが好ましい。このような熱可塑性樹脂層３を設けるには、例えば押出機を用いて熱可塑性樹脂層を形成し、第１及び第２の紙基材層１，２を貼り合せるといったことが可能である。
【００２５】
熱可塑性樹脂層３を構成する熱可塑性樹脂としては、例えば１００℃から２００℃の融点を有する熱可塑性樹脂を用いることが好ましく、例えば、ポリ塩化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、ナイロン１２、ポリアミド、ポリビニルアルコール、ポリスチレン、スチレン・アクリルニトリル共重合体、スチレン・ブタジエン・アクリロニトリル共重合体、高密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリアセタール、ポリメチルメタクリレート、変成アクリル、ポリカーボネイト、ポリアセタール、ニトロセルロース、プロピオン酸セルロース、エチルセルロース、酢酸セルロース、ポリウレタンなどの何れかから構成することができる。
【００２６】
熱可塑性樹脂層３を構成する樹脂の融点を１００℃から２００℃の範囲とすることで、紙の熱劣化を招くことなく、またラインスピードなど生産性を損なうことなくエンボス加工を行なうことができる。熱可塑性樹脂層３に用いる樹脂は、融点を考慮して適宜選択することができるが、樹脂価格や溶融時の流動性などを考慮して、たとえば高密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、低密度ポリエチレンなどを用いることが好ましい。
【００２７】
絵柄印刷層４は、化粧シート１０に絵柄等を付与するための層であり、例えばインキ等により構成される。絵柄としては、例えば木目等が例示される。このような絵柄印刷層４を設ける印刷の方法としては、既知の印刷方法や印刷装置を用いることができる。その方法は特に限定されるものではないが、例えば生産性の観点などからグラビア印刷法を用いることができる。
【００２８】
絵柄印刷層４を構成する印刷インキについては、特に限定されるものではなく、水性インキや溶剤タイプのインキを用いることができ、装置との適合性や、化粧シート、化粧板に求められる性能を考慮して適宜選択することができる。インキに含まれる着色剤は、化粧シートや化粧板の場合には、一般に耐光性を考慮して顔料タイプを用いることが好ましい。
【００２９】
絵柄印刷層４の上にさらに透明樹脂のコート層（不図示）を設けることも可能である。透明樹脂のコート層を設けることにより、化粧シート１０の表面１０ａの光沢を調節し、好ましい意匠性を得ることが可能となる。また、コート層を設けることにより、化粧シート１０において、耐磨耗性などの表面物性の向上を図ることも可能となる。また、コート層を設けるに際しては、たとえば木目の導管部分のように光沢の差を部分的に設けて凹凸感を視覚的に作りだして、エンボスによる凹凸と組み合わせてより高度な意匠性を表現することも可能である。
【００３０】
コート層を設けるには、既知のコーティング装置を用いてもよく、またグラビア印刷装置を用いたコーティングで行なってもよい。コート層を構成する透明樹脂としては、特に限定されるものでは無いが、例えば２液硬化型のウレタン樹脂に光沢調整のためのシリカを分散したものを用いることができる。
【００３１】
ここで、熱可塑性樹脂層３により互いに接着された第１及び第２の紙基材層１，２を含む積層体に対してエンボス加工を施す方法について、図２を参照しながら説明する。なお、第１及び第２の紙基材層１，２を構成する紙材を熱可塑性樹脂層３により接着する方法については、従来の方法を用いることができるため、その説明を省略する。
【００３２】
まず、図２の（ａ）に示すように、第２の紙基材層２、熱可塑性樹脂層３、第１の紙基材層１及び絵柄印刷層４がこの順に積層された積層体１００を準備する。積層体１００の総厚Ｄは、例えば、６０μｍ〜１６０μｍであり、より好ましくは、８０μｍ〜１２０μｍである。なお、積層体１００を形成する際、熱及び圧をかけて積層するため、第１及び第２の紙基材層１，２を構成する紙材等の厚みが多少は縮められる。そして、かかる積層体１００に対して、エンボス装置を用いてエンボス加工を施す。ここで用いるエンボス装置は、例えば積層体１００を加熱する装置を有しており、次いで表面に凹凸を有するエンボスロールとゴムバックロールからなるエンボスユニットに挟みこんで積層体１００に対して図２の（ｂ）に示すようにエンボス加工を施す。積層体１００を加熱することによって、熱可塑性樹脂層３が軟化して表面１００ａにエンボスが入りやすくなり、また第１及び第２の紙基材層１，２を構成する紙材の中間に熱可塑性樹脂層３が位置して積層体の抗張力が増し、破断しにくくなるなどの効果を得ることができる。
【００３３】
エンボス加工に用いるエンボスは、例えば１５μｍ以上の深度を持つものを用いて行なう。これはエンボスが意匠的に凹凸感を持ち効果的に視覚に感知できるのは、仕上がりの化粧シート又は化粧板において、エンボス凹部５のＤ１（高低差）が１５μｍ以上であることによる。
【００３４】
また、本実施形態で用いるゴムバックロールは、特にその硬度が５０°以上８０°以下を用いるのが好ましく、より好ましくは５０°のゴムバックロールが適しているが、限定されない。硬度は、例えばＪＩＳ  ６３０１  Ａ型により測定される。本実施形態では、好ましくは、硬度が５０°のゴムバックロールを用いることが好ましい。なお、硬度が９０°のゴムバックロールを用いた場合にはエンボス意匠が劣ってしまう場合がある。
【００３５】
上記のような構成を備えたエンボス装置を用いてエンボス加工を行い、化粧シートの表面に凹凸を付与された積層体を得ることができ、これにより、化粧シート１０を得ることが可能となる。また、本実施形態で用いるゴムバックロールは、その硬度が通常よりも低めとなっているため、エンボスロールにより表面１００ａ側にエンボス凹部５が形成されると同時に、ゴムバックロールとエンボスロールとの挟み込みにより、裏面１００ｂ側に所定の深さの凹部６が互い違いに形成される。なお、上述した製造方法では、積層体１００に対して、その両面１００ａ，１００ｂにエンボス凹部５と凹部６とを略同時に形成するようにしたが、それぞれにエンボス装置を用いて、エンボス凹部５と凹部６とを別々に設けるようにしてももちろんよい。
【００３６】
次に、エンボス加工前の化粧シート１０（積層体１００）の総厚Ｄと、表面１０ａ側のエンボス凹部５の深さＤ１（最大深度とも記す）との関係について説明する。
【００３７】
本実施形態に係る化粧シート１０では、上述したエンボス加工方法を採用しているため、従来よりも深いエンボスを化粧シート１０に施すことができる。そこで、本実施形態に係る化粧シート１０では、エンボス凹部５の深さＤ１が化粧シート１０のエンボス加工前の総厚Ｄに対して１５％以上の比率となるようになっており、より好ましくは、エンボス凹部５の深さＤ１が化粧シート１０のエンボス加工前の総厚Ｄに対して１０％より大きく２００％以下の比率である。エンボス凹部５がこのような深い凹部（溝）であることから、化粧シート１０の意匠性、例えば、より自然な木目調のシートとすることが可能となる。なお、エンボス凹部５の深さＤ１は、具体的には、例えば１５μｍ以上であり、より好ましくは、３０μｍ以上２００μｍ以下である。
【００３８】
なお、化粧シート１０は、裏面１０ｂ側、つまり化粧シート１０を基材等に貼り付ける側にも複数の溝状の凹部６を備えている。このため、基材等への貼付強度を容易に高めることが可能となる。また、裏面側に凹部６を設けることにより、化粧シートを貼り合せる際の皺寄りを抑制することもできる。
【００３９】
また、熱可塑性樹脂がエンボス時に再加熱されることで、第１の紙基材層１又は第２の紙基材層２を構成する紙材と熱可塑性樹脂層３の相関剥離強度を高めることが可能となる。例えば、幅が２５ｍｍの化粧シートを厚さが３ｍｍであるＭＤＦの基材に両面テープ（積水化学製両面テープ＃5760）で固定した後、引張試験機（オリエンテック製RTM-100）で引張速度が２００ｍｍ／ｍｉｎで１８０°引張を行い評価した場合に、ピーリング強度（相関剥離強度）を１．８Ｎ／２５ｍｍ以上、より好ましくは２．３Ｎ／２５ｍｍ以上とすることが可能となる。
【００４０】
なお、このような化粧シート１０は、例えば接着剤を用いて基材の一方の面に貼りあわせて化粧材として用いることも可能である。化粧材に用いられる基材としては、例えば、木質系のＭＤＦや合板、無機質系であれば石膏ボードや金属板などを用いることができる。
【実施例】
【００４１】
以下、実施例および比較例を用いて本発明をさらに具体的に説明する。但し本発明はこれらの例にのみ限定されるものではない。
【００４２】
＜実施例１＞
以下の材料と手順で、化粧シートを作成し、それを用いた化粧板を作製した。
（１）第１の紙基材として、坪量２３g/ｍ２（厚み３３μｍ）の混抄紙（天間特殊製紙（株）製ＴＰ２３）を準備し、その表面に東洋インキ製硝化綿インキ(ＰＣＮＴインキ)および東洋インキ製ウレタンインキ(ＰＣＲＮＴインキ)を用いて絵柄を印刷した。その後、アクリルポリオールを主成分とする主剤にイソシアネート硬化剤を添加した透明な表面保護コートを、その印刷面上に乾燥重量で７g／ｍ２施した化粧シート用の紙基材を作成した。
（２）前述の絵柄印刷が施された紙基材を６０℃４８時間の養生を行って表面保護層の硬化反応を促進させた後、当該紙基材の印刷が施されていない側と、第２の紙基材である坪量２３ｇ／ｍ２（厚み３０μｍ）の混抄紙（王子製紙（株）製ＦＩＸＷ２３）の間に３００℃に熱して熱溶融した高密度ポリエチレンを膜状に押し出して圧着し、直後に冷却することにより、ポリエチレン層の表裏に第１及び第２の紙基材層を有する積層体を得た。ポチエチレン層の厚みは５０μｍで、積層体の総厚Ｄは１０１μｍであった。
（３）得られた積層体の絵柄印刷面の表面温度がポリエチレンの融点に近い１３０℃になるように加熱し、腐食方式にて作成した最大深度１５０μｍのエンボス版とＪＩＳ  Ｋ６３０１：１９７５による硬度計でＨＳ（Ｈａｒｄｎｅｓｓ  ｓｐｒｉｎｇ）５０°の硬度を有するゴムロールとの間に、この積層体を挟むことにより表裏両面に凹凸形状を付与し、直後に積層体を冷却することにより、凹凸形状を有する化粧シートを作成した。得られた化粧シートの表面側のエンボス凹部の深さＤ１は、最大１００μｍの高低差を有しており、また、エンボス加工前の総厚Ｄに対して深さＤ１の比率が９９％であり、化粧シートとして良好な意匠が確認された。また、エンボス加工も容易に行うことができた。なお、エンボス深さＤ１の高低差（深さ）は、表面粗さ形状測定器（東京精密製サーフコム１２０Ａ）で最大高さ（Ｒｍａｘ）を測定した。
（４）得られた凹凸形状を有する化粧シートを、２．５ｍｍ厚のＭＤＦ（中密度繊維）基材に１液のエチレン酢ビエマルジョン接着剤を、塗液重量で５５ｇ/ｍ２塗布し、表面温度を１００℃に熱したラミネートロールを介して貼りあわせることにより、凹凸形状を有する化粧板を作成した。得られた化粧板のエンボス凹部は最大で５９μｍの深さがあり、良好な凹凸意匠性を有する化粧板を作製することができた。
【００４３】
＜実施例２＞
以下の材料と手順で、化粧シートを作製し、それを用いた化粧板を作製した。
（１）（２）第１の紙基材として、厚み５２μｍの混抄紙（天間特殊製紙（株）製ＨＰ４５）を用いた以外は実施例１と同様の材料及び手順にて、積層体を作製した。積層体の総厚Ｄは１１７μｍであった。
（３）このようにして作製された積層体に対して、実施例１と同様の手順でエンボス加工を行なった。得られた化粧シートのエンボス凹部の深さＤ１は、最大７０μｍの高低差を有しており、また、エンボス加工前の総厚Ｄに対して深さＤ１の比率が６０％であり、化粧シートとして良好な意匠が確認された。また、エンボス加工も容易に行うことができた。（４）実施例１と同様の材料及び手順で化粧板を作成した。その結果、良好な凹凸意匠性を有する化粧板を作成することができた。
【００４４】
＜実施例３＞
以下の材料と手順で、化粧シートを作製し、それを用いた化粧板を作製した。
（１）（２）第２の紙基材として、厚み５５μｍの混抄紙（天間特殊製紙（株）製ＨＰＳ４５）を用いた以外は実施例２と同様の材料及び手順にて、積層体を作製した。積層体の総厚Ｄは１４０μｍであった。
（３）このようにして作製された積層体に対して、実施例１と同様の手順でエンボス加工を行なった。得られた化粧シートのエンボス凹部の深さＤ１は、最大２１μｍの高低差を有しており、また、エンボス加工前の総厚Ｄに対して深さＤ１の比率が１５％であり、化粧シートとして問題ないレベルの意匠が確認された。また、エンボス加工も容易に行うことができた。
（４）実施例１と同様の材料及び手順で化粧板を作製した。その結果、良好な凹凸意匠性を有する化粧板を作製することができた。
【００４５】
＜実施例４＞
以下の材料と手順で、化粧シートを作製した。
（１）（２）熱可塑性樹脂層に用いた高密度ポリエチレンの厚みが１８μｍである以外は実施例１と同様の材料及び手順にて、積層体を作製した。積層体の総厚Ｄは７２μｍであった。
（３）このようにして作製された積層体に対して、実施例１と同様の手順でエンボス加工を行なった。得られた化粧シートのエンボス凹部の深さＤ１は、最大７２μｍの高低差を有しており、また、エンボス加工前の総厚Ｄに対して深さＤ１の比率が１００％であり、化粧シートとして良好な意匠が確認された。また、エンボス加工も容易に行うことができた。
（４）但し、熱可塑性樹脂層の厚さが薄いため、化粧板としては作製しなかった。
【００４６】
＜実施例５＞
以下の材料と手順で、化粧シートを作製し、それを用いた化粧板を作製した。
（１）（２）熱可塑性樹脂層に用いた高密度ポリエチレンの厚みが９０μｍである以外は実施例１と同様の材料及び手順にて、積層体を作製した。積層体の総厚Ｄは１３６μｍであった。
（３）このようにして作製された積層体に対して、実施例１と同様の手順でエンボス加工を行なった。得られた化粧シートのエンボス凹部の深さＤ１は、最大１４０μｍの高低差を有しており、また、エンボス加工前の総厚Ｄに対して深さＤ１の比率が１０３％であり、化粧シートとして良好な意匠が確認された。また、エンボス加工も容易に行うことができた。
（４）実施例１と同様の材料及び手順で化粧板を作成した。その結果、良好な凹凸意匠性を有する化粧板を作成することができた。
【００４７】
＜実施例６＞
以下の材料と手順で、化粧シートを作製し、それを用いた化粧板を作製した。
（１）（２）熱可塑性樹脂層に用いた高密度ポリエチレンの厚みが１０５μｍである以外は実施例１と同様の材料及び手順にて、積層体を作製した。積層体の総厚Ｄは１５０μｍであった。
（３）このようにして作製された積層体に対して、実施例１と同様の手順でエンボス加工を行なった。得られた化粧シートのエンボス凹部の深さＤ１は、最大１４８μｍの高低差を有しており、また、エンボス加工前の総厚Ｄに対して深さＤ１の比率が９９％であり、化粧シートとして良好な意匠が確認された。また、エンボス加工も容易に行うことができた。
（４）実施例１と同様の材料及び手順で化粧板を作成した。その結果、良好な凹凸意匠性を有する化粧板を作成することができた。
【００４８】
＜実施例７＞
以下の材料と手順で、化粧シートを作製した。
（１）（２）第１の紙基材として、厚み５０μｍの混抄紙を用いた以外は実施例１と同様の材料及び手順にて、積層体を作製した。積層体の総厚Ｄは１１６μｍであった。
（３）このようにして作製された積層体に対して、実施例１と同様の手順でエンボス加工を行なった。但し、エンボス加工に用いたゴムロールの硬度はＨＳ８０°であった。得られた化粧シートのエンボス凹部の深さＤ１は、最大１７μｍの高低差を有しており、また、エンボス加工前の総厚Ｄに対して深さＤ１の比率が１５％であり、化粧シートとして問題ないレベルの意匠が確認された。また、エンボス加工も行うことができた。
（４）但し、化粧板としては作製しなかった。
【００４９】
＜実施例８＞
以下の材料と手順で、化粧シートを作製し、それを用いた化粧板を作製した。
（１）（２）実施例１と同様の材料及び手順にて、積層体を作製した。積層体の総厚Ｄは１０１μｍであった。
（３）このようにして作製された積層体に対して、実施例７と同様の手順でエンボス加工を行なった。即ち、エンボス加工に用いたゴムロールの硬度はＨＳ８０°であった。得られた化粧シートのエンボス凹部の深さＤ１は、最大２９μｍの高低差を有しており、また、エンボス加工前の総厚Ｄに対して深さＤ１の比率が２８％であり、化粧シートとして問題ないレベルの意匠が確認された。また、エンボス加工も行うことができた。
（４）実施例１と同様の材料及び手順で化粧板を作成した。その結果、良好な凹凸意匠性を有する化粧板を作成することができた。
【００５０】
＜実施例９＞
以下の材料と手順で、化粧シートを作製した。
（１）（２）実施例１と同様の材料及び手順にて、積層体を作製した。積層体の総厚Ｄは１０１μｍであった。
（３）このようにして作製された積層体に対して、実施例１と同様の手順でエンボス加工を行なった。但し、エンボス加工に用いたゴムロールの硬度はＨＳ９０°であった。得られた化粧シートのエンボス凹部の深さＤ１は、最大２１μｍの高低差を有しており、また、エンボス加工前の総厚Ｄに対して深さＤ１の比率が２１％であり、化粧シートとして問題ないレベルの意匠が確認された。また、エンボス加工も行うことができた。
（４）但し、化粧板としては作製しなかった。
【００５１】
＜比較例１＞
以下の材料と手順で、化粧シートを作製した。
（１）（２）第１の紙基材として、厚み６０μｍの混抄紙（天間特殊製紙（株）製ＨＣ５０）を用いた点、及び、第２の紙基材として、厚み６０μｍの混抄紙（王子製紙（株）製ＨＣ５０）を用いた以外は実施例１と同様の材料及び手順にて、積層体を作製した。積層体の総厚Ｄは１５１μｍであった。
（３）このようにして作製された積層体に対して、実施例１と同様の手順でエンボス加工を行なった。得られた化粧シートのエンボス凹部の深さＤ１は、最大１０μｍの高低差を有しており、また、エンボス加工前の総厚Ｄに対して深さＤ１の比率が６％であり、化粧シートとして良好な意匠性を確認することができなかった。なお、エンボス加工は容易であった。
（４）但し、化粧板としては作製しなかった。
【００５２】
＜比較例２＞
以下の材料と手順で、化粧シートを作製した。
（１）（２）実施例２と同様の材料及び手順にて、積層体を作製した。積層体の総厚Ｄは１１７μｍであった。
（３）このようにして作製された積層体に対して、実施例１と同様の手順でエンボス加工を行なった。但し、エンボス加工に用いたゴムロールの硬度はＨＳ９０°であった。得られた化粧シートのエンボス凹部の深さＤ１は、最大１２μｍの高低差を有しており、また、エンボス加工前の総厚Ｄに対して深さＤ１の比率が１０％であり、化粧シートとして良好な意匠性を確認することができなかった。なお、エンボス加工は容易であった。
（４）但し、化粧板としては作製しなかった。
【００５３】
＜比較例３＞
以下の材料と手順で、化粧シートを作製した。
（１）（２）実施例３と同様の材料及び手順にて、積層体を作製した。積層体の総厚Ｄは１４０μｍであった。
（３）このようにして作製された積層体に対して、比較例２と同様の手順でエンボス加工を行なった。即ち、エンボス加工に用いたゴムロールの硬度がＨＳ９０°であった。得られた化粧シートのエンボス凹部の深さＤ１は、最大５μｍの高低差を有しており、また、エンボス加工前の総厚Ｄに対して深さＤ１の比率が４％であり、化粧シートとして良好な意匠性を確認することができなかった。なお、エンボス加工は容易であった。
（４）但し、化粧板としては作製しなかった。
【００５４】
以下の表１に、上述した実施例１〜９と比較例１〜３をまとめたものを示す。
【表１】
0006536549.tif 000002
【００５５】
上記の表１から明らかなように、厚み比率が１５％以上、より好ましくは３０％以上（若しくは３０μｍ以上）のエンボス深さを有する化粧シート及び当該化粧シートを備えた化粧板を得ることができ、これらによれば、意匠性を高められることが確認できた。
【符号の説明】
【００５６】
１…第１の紙基材層、２…第２の紙基材層、３…熱可塑性樹脂層、４…絵柄印刷層（絵柄層）、５…エンボス凹部、６…凹部、１０…化粧シート、１０ａ…表面、１０ｂ…裏面、１００…積層体、１００ａ…表面、１００ｂ…裏面、Ｄ…化粧シートのエンボス加工前の総厚、Ｄ１…エンボス凹部の深さ。
【図１】
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【図２】
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