(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
鋳型と、
前記鋳型内の金属溶湯の表面の高さ位置を測定する渦流式レベル計と、
前記渦流式レベル計から出力される信号と、前記金属溶湯の表面の高さ位置との関係に基づいて、前記渦流式レベル計から出力された信号を、前記金属溶湯の表面の高さ位置を示す信号に変換するレベル変換手段と、
前記金属溶湯の表面の高さ位置を示す信号または前記金属溶湯の表面の高さ位置を示す信号に基づく信号である高さ位置信号に含まれるノイズを低減するためのローパスフィルタと、
を有する連続鋳造機における、前記渦流式レベル計および前記レベル変換手段の更新に伴って更新される前記ローパスフィルタの設計方法であって、
前記高さ位置信号が前記ローパスフィルタを通過しない状態にし、且つ、前記金属溶湯が内部にない状態で前記鋳型内の所定の高さ位置に金属板が配置された状態にし、且つ、前記鋳型を一定の周波数ｆosc［Ｈｚ］で上下動させた状態にしたうえで、更新前の前記渦流式レベル計および更新前の前記レベル変換手段を用いて、前記高さ位置信号を取得する第１の工程と、
前記第１の工程により取得された前記高さ位置信号の時系列データから、前記高さ位置信号の振幅ΔＹO［ｍｍ］を導出する第２の工程と、
前記高さ位置信号が前記ローパスフィルタを通過しない状態にし、且つ、前記金属溶湯が内部にない状態で前記鋳型内の前記所定の高さ位置に金属板が配置された状態にし、且つ、前記鋳型を前記一定の周波数ｆosc［Ｈｚ］で上下動させた状態にしたうえで、更新後の前記渦流式レベル計および更新後の前記レベル変換手段を用いて、前記高さ位置信号を取得する第３の工程と、
前記第３の工程により取得された前記高さ位置信号の時系列データから、前記高さ位置信号の振幅ΔＹN［ｍｍ］を導出する第４の工程と、
以下の（Ａ）式により更新後の更新後の前記ローパスフィルタのカットオフ周波数ｆcutN［Ｈｚ］を導出する第５の工程と、を有し、
前記渦流式レベル計は、コイル面が前記金属溶湯の表面と略正対するように、前記金属溶湯の表面と間隔を有して配置され、交流電圧が印加される一次コイルと、コイル面が前記金属溶湯の表面と略正対するように、前記金属溶湯の表面と間隔を有して配置され、前記一次コイルから発生する磁界により前記金属溶湯内に生じる渦電流に基づく磁界を少なくとも検出する少なくとも１つの二次コイルとを有することを特徴とするローパスフィルタの設計方法。
（Ａ）式において、ｆcutOは、更新前の前記ローパスフィルタのカットオフ周波数［Ｈｚ］であり、ｋは、前記第２の工程で導出される前記高さ位置信号の振幅ΔＹO［ｍｍ］に対する前記第４の工程で取得される前記高さ位置信号の振幅ΔＹN［ｍｍ］の比ΔＹN／ΔＹO［ｍｍ／ｍｍ］である。
【数１】
0006531618.tif 000006
【請求項２】
前記ローパスフィルタは、前記レベル変換手段から出力された前記金属溶湯の表面の高さ位置を示す信号に含まれるノイズを低減し、
前記連続鋳造機は、前記ローパスフィルタを通過した前記金属溶湯の表面の高さ位置を示す信号と、前記金属溶湯の表面の高さ位置の目標値との偏差を示す信号を導出する偏差導出手段と、
前記偏差導出手段により導出された前記偏差を示す信号に含まれるノイズを低減する第２のローパスフィルタと、
前記第２のローパスフィルタを通過した前記偏差を示す信号に基づいて、前記鋳型に供給される前記金属溶湯の供給量を調整するためのアクチュエータを動作させるための信号を生成する制御手段と、を更に有し、
前記渦流式レベル計および前記レベル変換手段を更新する際に、前記第２のローパスフィルタを更新しないことを特徴とする請求項１に記載のローパスフィルタの設計方法。
【請求項３】
前記連続鋳造機は、前記レベル変換手段から出力された前記金属溶湯の表面の高さ位置を示す信号に含まれるノイズを低減する第２のローパスフィルタと、
前記第２のローパスフィルタを通過した前記金属溶湯の表面の高さ位置を示す信号と、前記金属溶湯の表面の高さ位置の目標値との偏差を示す信号を導出する偏差導出手段と、
前記ローパスフィルタを通過した前記偏差を示す信号に基づいて、前記鋳型に供給される前記金属溶湯の供給量を調整するためのアクチュエータを動作させるための信号を生成する制御手段と、を更に有し、
前記ローパスフィルタは、前記金属溶湯の表面の高さ位置を示す信号に基づく信号として前記偏差導出手段により導出された前記偏差を示す信号に含まれるノイズを低減し、
前記渦流式レベル計および前記レベル変換手段を更新する際に、前記第２のローパスフィルタを更新しないことを特徴とする請求項１に記載のローパスフィルタの設計方法。
【請求項４】
前記二次コイルは、前記一次コイルの上下にそれぞれ１つずつ配置され、
前記渦流式レベル計は、前記二次コイルに誘起される電圧の差に基づく信号を出力することを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載のローパスフィルタの設計方法。
【請求項５】
前記金属溶湯が内部にない状態で前記鋳型内に金属板を配置したときに前記渦流式レベル計から出力される信号を、前記金属板の前記鋳型内の高さ位置を異ならせて取得することを、更新前の前記渦流式レベル計と更新後の前記渦流式レベル計とのそれぞれについて行う第６の工程と、
前記鋳型内の複数の高さ位置のそれぞれにおいて前記渦流式レベル計から出力される信号に基づいて、前記渦流式レベル計から出力される信号と、前記金属溶湯の表面の高さ位置との関係を導出することを、更新前の前記渦流式レベル計と更新後の前記渦流式レベル計とのそれぞれについて行う第７の工程と、を更に有することを特徴とする請求項１〜４の何れか１項に記載のローパスフィルタの設計方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ローパスフィルタの設計方法に関し、特に、連続鋳造機における鋳型内の金属溶湯の表面の高さ位置を検出する際に用いるローパスフィルタを設計するために用いて好適なものである。
【背景技術】
【０００２】
連続鋳造機の操業に際し、鋳型内の金属溶湯の湯面レベルを目標レベルに保つべく、湯面レベル制御を行うことは、鋳型内での金属溶湯の冷却と凝固状態とを安定化させることによって、製造される鋳片の品質を向上させる観点から極めて重要である。また、このような湯面レベル制御を行うことは、鋳型からの金属溶湯の溢れ出しやブレークアウトの発生等、安定操業を阻害する各種の不都合を未然に防止して、生産能率の向上を図る観点からも極めて重要である。
【０００３】
かかる湯面レベル制御では、鋳型への金属溶湯の注入量を調整する装置として、スライディングノズル或いはストッパーを配置するとともに、湯面レベルを検出するレベル計を鋳型内の金属溶湯の湯面の上方に配置する。そして、鋳型内の金属溶湯の湯面レベルをレベル計で常時検出し、レベル計で検出した湯面レベルに基づいて、スライディングノズル或いはストッパーの開度をフィードバック制御することでタンディッシュから鋳型内へ注入する金属溶湯の注入量を調整する。このように連続鋳造機では、鋳型内の金属溶湯の湯面レベルを可及的に一定の目標レベルに保持する自動制御が実施される。
【０００４】
鋳型内の金属溶湯の湯面レベルを検出するレベル計として渦流式レベル計がある。渦流式レベル計は、例えば、交流電源と、コイル面が湯面と略平行になるように配置された一次コイルと、一次コイルの上下にそれぞれコイル面が湯面と略平行になるように配置された２つの二次コイルと、を有する。
【０００５】
一次コイルに交流電力を供給することにより一次コイルから交流磁界が発生する。この交流磁界は二次コイルに鎖交すると共に、鋳型内の金属溶湯にも鎖交する。これにより鋳型内の金属溶湯に渦電流が発生し、この渦電流により、一次コイルから発生した交流磁界とは逆極性の交流磁界が発生する。この逆極性の交流磁界は、一次コイルおよび二次コイルに鎖交する。この交流磁界により、一次コイルで発生した交流磁界が減少する。この交流磁界が減少する度合いは、２つの二次コイルと金属溶湯との距離が異なるために異なる。従って、それぞれの二次コイルに誘起される電圧には差が生じる。以下の説明では、この電圧の差を必要に応じて差電圧と称する。
【０００６】
差電圧は、一次コイルおよび２つの二次コイルと、鋳型内の金属溶湯の湯面との距離に対応して変化する。従って、ＳＵＳ板等の金属板の高さ位置を鋳型内の金属溶湯の湯面レベルと見立てて、渦流式レベル計により、金属板の各高さ位置における差電圧を測定し、測定した差電圧と金属板の高さ位置との関係を、差電圧と鋳型内の金属溶湯の湯面レベルとの関係として予め調査しておき、その後、実際の操業において検出された差電圧この関係に与えることにより、鋳型内の金属溶湯の湯面レベルを測定することができる。
【０００７】
ところで、連続鋳造機の鋳型内の金属溶湯の外周側の領域（相対的に鋳型に近い領域）は鋳型等により冷却され、凝固殻（凝固シェル）となる。この凝固殻の厚みは鋳型の下方であるほど厚くなる。この凝固殻が鋳型に固着することを防止するために、鋳型内の金属溶湯の湯面上には潤滑用のパウダーを与え、一定の周期で鋳型を上下動させ、パウダーを鋳型と凝固殻との間に流入させる（この鋳型の上下動をオシレーションという）。オシレーションにより二次コイルで検出される磁界には、オシレーションの周期および振幅に応じた正弦波の磁界が外乱として加わる。従って、特許文献１、２に記載のように、ローパスフィルタを用いることにより、この外乱を低減することが行われている。尚、渦流式レベル計では、パウダーの影響を受けることなく、鋳型内の金属溶湯の湯面レベルを測定することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開昭５９−１６６８０１号公報
【特許文献２】特開昭６０−２１６９５９号公報
【特許文献３】特開２０１５−６２９１７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ところで、渦流式レベル計の老朽化や設計変更等が生じると、渦流式レベル計を更新する必要がある。更新前の渦流式レベル計のコイル構造（サイズ・形・配置等）と、更新後の渦流式レベル計のコイル構造とが異なる場合には、更新後の渦流式レベル計を用いて前述した調査を行い、差電圧と鋳型内の金属溶湯の湯面レベルとの関係を更新することになる。
【００１０】
しかしながら、更新前の渦流式レベル計の二次コイルに重畳されるオシレーションによる外乱の振幅と、更新後の渦流式レベル計の二次コイルに重畳されるオシレーションによる外乱の振幅は、コイル構造の変化により、オシレーションの振幅が同じであっても異なることになる。従って、渦流式レベル計の更新前後におけるオシレーションの振幅が同じであっても、鋳型内の金属溶湯の湯面レベルに含まれるオシレーションによる外乱は、渦流式レベル計の更新前後で異なるものとなる。さらに、渦流式レベル計の更新によって、差電圧と鋳型内の金属溶湯の湯面レベルとの関係における曲線の傾き（鋳型内の金属溶湯の湯面レベルの変化量／差電圧の変化量）が小さくなる場合には、鋳型内の金属溶湯の湯面レベルのＳ／Ｎ比が悪くなるので、オシレーションによる外乱の影響が鋳型内の金属溶湯の湯面レベルに顕著に表れることになる。
【００１１】
また、ストッパーを駆動させる方式として、ストッパーを駆動する油圧シリンダーのロッドの移動速度に、上下限値が規定された整数を乗じたパルス幅を有するパルス信号を生成して出力する方式がある。このような方式を採用した場合に、前述したオシレーションによる外乱の影響が大きくなると、パルス幅がその上限値を上回り易くなる。そうすると、本来抑制したい鋳型内の金属溶湯の湯面レベルの変動を抑制することができず、事実上、鋳型内の金属溶湯の湯面レベルを制御することができなくなる虞がある。鋳型内の金属溶湯の湯面レベルをハイゲイン制御する場合にこのような傾向が表れやすくなる。
【００１２】
本発明は、以上のような問題点に鑑みてなされたものであり、渦流式センサの更新後において、オシレーションによる外乱の影響が更新前と可及的に同じなるようにすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明のローパスフィルタの設計方法は、鋳型と、前記鋳型内の金属溶湯の表面の高さ位置を測定する渦流式レベル計と、前記渦流式レベル計から出力される信号と、前記金属溶湯の表面の高さ位置との関係に基づいて、前記渦流式レベル計から出力された信号を、前記金属溶湯の表面の高さ位置を示す信号に変換するレベル変換手段と、前記金属溶湯の表面の高さ位置を示す信号または前記金属溶湯の表面の高さ位置を示す信号に基づく信号である高さ位置信号に含まれるノイズを低減するためのローパスフィルタと、を有する連続鋳造機における、前記渦流式レベル計および前記レベル変換手段の更新に伴って更新される前記ローパスフィルタの設計方法であって、前記高さ位置信号が前記ローパスフィルタを通過しない状態にし、且つ、前記金属溶湯が内部にない状態で前記鋳型内の所定の高さ位置に金属板が配置された状態にし、且つ、前記鋳型を一定の周波数ｆosc［Ｈｚ］で上下動させた状態にしたうえで、更新前の前記渦流式レベル計および更新前の前記レベル変換手段を用いて、前記高さ位置信号を取得する第１の工程と、前記第１の工程により取得された前記高さ位置信号の時系列データから、前記高さ位置信号の振幅ΔＹO［ｍｍ］を導出する第２の工程と、前記高さ位置信号が前記ローパスフィルタを通過しない状態にし、且つ、前記金属溶湯が内部にない状態で前記鋳型内の前記所定の高さ位置に金属板が配置された状態にし、且つ、前記鋳型を前記一定の周波数ｆosc［Ｈｚ］で上下動させた状態にしたうえで、更新後の前記渦流式レベル計および更新後の前記レベル変換手段を用いて、前記高さ位置信号を取得する第３の工程と、前記第３の工程により取得された前記高さ位置信号の時系列データから、前記高さ位置信号の振幅ΔＹN［ｍｍ］を導出する第４の工程と、以下の（Ａ）式により更新後の更新後の前記ローパスフィルタのカットオフ周波数ｆcutN［Ｈｚ］を導出する第５の工程と、を有し、前記渦流式レベル計は、コイル面が前記金属溶湯の表面と略正対するように、前記金属溶湯の表面と間隔を有して配置され、交流電圧が印加される一次コイルと、コイル面が前記金属溶湯の表面と略正対するように、前記金属溶湯の表面と間隔を有して配置され、前記一次コイルから発生する磁界により前記金属溶湯内に生じる渦電流に基づく磁界を少なくとも検出する少なくとも１つの二次コイルとを有することを特徴とする。
（Ａ）式において、ｆcutOは、更新前の前記ローパスフィルタのカットオフ周波数［Ｈｚ］であり、ｋは、前記第２の工程で導出される前記高さ位置信号の振幅ΔＹO［ｍｍ］に対する前記第４の工程で取得される前記高さ位置信号の振幅ΔＹN［ｍｍ］の比ΔＹN／ΔＹO［ｍｍ／ｍｍ］である。
【００１４】
【数１】
0006531618.tif 000002
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、渦流式センサの更新後において、オシレーションによる外乱の影響を更新前と可及的に同じにすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】連続鋳造機の構成の一例を示す図である。
【図２】渦流式レベル計の一例を示す図である。
【図３】電圧−湯面レベル変換特性を導出する方法の一例を示す図である。
【図４】電圧−湯面レベル変換特性と、当該電圧−湯面レベル変換特性から得られる溶鋼の湯面レベルと表示レベルとの関係の一例を示す図である。
【図５】コイル構造が異なる渦流式レベル計における電圧−湯面レベル変換特性と、それらの電圧−湯面レベル変換特性から得られる溶鋼の湯面レベルと表示レベルとの関係の一例を示す図である。
【図６】更新前の板レベルの時系列データと、更新後の板レベルの時系列データの一例を示す図である。
【図７】渦流式レベル計およびアンプ盤を更新する様子の一例を概念的に示す図である。
【図８】渦流式レベル計、アンプ盤、および湯面レベル制御装置を更新する様子の一例を概念的に示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態を説明する。
（第１の実施形態）
まず、第１の実施形態を説明する。
図１は、連続鋳造機の構成の一例を示す図である。尚、各図に示すＸ−Ｙ−Ｚ座標は、各図における向きの関係を示すものである。
図１において、連続鋳造機は、タンディッシュ１１と、浸漬ノズル１２と、ストッパー１３と、鋳型（モールド）１４と、ピンチロール１５と、冷却スプレー１６とを有する。
【００１８】
タンディッシュ１１は、不図示の取鍋から供給された溶鋼（金属溶湯）１７を一時的に貯留する。
鋳型１４は、タンディッシュ１１と間隔を有して、タンディッシュ１１の下方に配置される。鋳型１４は、例えば筒形状を有する。また、鋳型１４は水冷される。
浸漬ノズル１２は、タンディッシュ１１に貯留されている溶鋼１７を鋳型１４の内部に注入する。浸漬ノズル１２は、その基端がタンディッシュ１１の底面に位置するとともに、先端側の所定の領域が鋳型１４の内部に位置するように配置される。また、浸漬ノズル１２の内部とタンディッシュ１１の内部は連通している。
【００１９】
ストッパー１３は、タンディッシュ１１から浸漬ノズル１２に供給される溶鋼１７の供給量を制御するためのアクチュエータであり、タンディッシュ１１と浸漬ノズル１２との接続部分に配置される。ストッパー１３は、高さ方向（図１のＺ軸方向）に移動する。ストッパー１３が最も低い位置にあるときに、タンディッシュ１１と浸漬ノズル１２との接続部分は全閉する。ストッパー１３が当該位置よりも高い位置に位置するほど、タンディッシュ１１と浸漬ノズル１２との接続部分の開口面積が増加する。ストッパー１３が所定の上限位置まで上昇すると、タンディッシュ１１から浸漬ノズル１２に供給される溶鋼１７の供給量は最大となる。
【００２０】
鋳型１４から下方に引き出された鋼（の相互に対向する端部）の搬送経路に沿うように、複数対のピンチロール１５が配置される。ピンチロール１５の外側には、鋳型１４から下方に引き出された鋼を冷却するための冷却水を当該鋼に対して噴射する複数の冷却スプレー１６が配置される。
このように、鋳型１４の内部の注入された溶鋼は、鋳型１４で冷却され、その表面から凝固殻１８が形成されて凝固する。表面は凝固殻１８となっているが内部は凝固していない鋼が、ピンチロール１５によって挟まれながら鋳型１４の下端部から連続的に引き出される。このようにして鋳型１４から引き出される過程で、冷却スプレー１６から噴射される冷却水によって鋼の冷却を進めることで、内部まで鋼を凝固させる。このようにして凝固した鋼は、図示しない連続鋳造機の下流側で所定の大きさに切断され、スラブ、ブルーム、ビレッド等、断面の形状が異なる鋳片が製造される。
【００２１】
以上のような連続鋳造機の鋳型１４の内部に滞留する溶鋼の表面（湯面）を臨むように、鋳型１４の上方に、渦流式レベル計１９が配置される。渦流式レベル計１９は、鋳型１４の内部に滞留する溶鋼１７の表面の高さ位置を検出する。鋳型１４の内部に滞留する溶鋼の表面は、凝固殻１８が鋳型１４に固着することを防止するためのパウダーによって覆われる。尚、以下の説明では、溶鋼１７の表面の高さ位置を必要に応じて湯面レベルと称する。本実施形態では、湯面レベルは、鋳型１４の上面からの距離［ｍｍ］で表されるものとする。ただし、湯面レベルは、溶鋼１７の表面の高さを特定するものであれば、必ずしもこのように表さなくてもよい。例えば、地面からの高さを湯面レベルとしてもよい。
【００２２】
図２は、渦流式レベル計１９の一例を示す図である。
図２において、渦流式レベル計１９は、発振回路１９ａと、一次コイル１９ｂと、二次コイル１９ｃ、１９ｄと、同期検波回路１９ｅとを有する。
【００２３】
発振回路１９ａは、一次コイル１９ｂの両端に交流電圧を印加する。
一次コイル１９ｂは、そのコイル面が溶鋼の表面（湯面）と略正対するように、溶鋼の表面（湯面）と間隔を有した位置に配置される。
【００２４】
二次コイル１９ｃは、そのコイル面が溶鋼の表面（湯面）と略正対するように、一次コイル１９ｂの下側の位置であって、溶鋼の表面（湯面）と間隔を有した位置に配置される。
二次コイル１９ｄは、そのコイル面が溶鋼の表面（湯面）と略正対するように、一次コイル１９ｂの上側の位置であって、溶鋼の表面（湯面）と間隔を有した位置に配置される。
【００２５】
ここで、コイル面とは、コイルの巻回軸に垂直な方向の面である。発振回路１９ａから一次コイル１９ｂに交流電圧が印加されると、一次コイル１９ｂから交流磁界Ｈが発生する。二次コイル１９ｃ、１９ｄは、一次コイル１９ｂから発生する交流磁界Ｈが鎖交する位置に配置される。一次コイル１９ｂおよび二次コイル１９ｃ、１９ｄの巻回軸が略一致するように、一次コイル１９ｂおよび二次コイル１９ｃ、１９ｄが配置されるのが好ましい。
【００２６】
背景技術で説明したように、一次コイル１９ｂから発生した交流磁界Ｈは、溶鋼にも鎖交する。そうすると、溶鋼内に渦電流Ｉが、交流磁界Ｈを打ち消す方向に発生し、この渦電流Ｉにより交流磁界Ｈを打ち消す方向に交流磁界Ｈ´が発生する。この交流磁界Ｈ´は、一次コイル１９ｂおよび二次コイル１９ｃ、１９ｄに鎖交し、一次コイル１９ｂで発生した交流磁界Ｈが減少する。この交流磁界Ｈが減少する度合いは、二次コイル１９ｃ、１９ｄと溶鋼の湯面との距離が異なるために異なる。従って、それぞれの二次コイル１９ｃ、１９ｄに誘起される電圧には差（差電圧［Ｖ］）が生じる。
同期検波回路１９ｅは、同期検波により、二次コイル１９ｃ、１９ｄで検出された電圧の差（差電圧）を直流電圧［Ｖ］に変換する。本実施形態では、以上のようにして渦流式レベル計１９から差電圧が出力される。
【００２７】
図１の説明に戻り、アンプ盤１００は、レベル変換部１１０と、ローパスフィルタ（ＬＰＦ）１２０とを有する。
レベル変換部１１０は、渦流式レベル計１９から出力された差電圧を、溶鋼の湯面レベルに変換する。レベル変換部１１０は、差電圧と溶鋼の湯面レベルとの関係を示す情報を予め記憶している。以下の説明では、差電圧と溶鋼の湯面レベルとの関係を示す情報を、必要に応じて、電圧−湯面レベル変換特性と称する。
【００２８】
以下に、電圧−湯面レベル変換特性を導出する方法の一例を説明する。
図３は、電圧−湯面レベル変換特性を導出する方法の一例を示す図である。
図３において、連続鋳造機の操業を止め、鋳型１４内に溶鋼がない状態にする。この状態で、溶鋼の湯面を模擬するために、金属板３１０を鋳型１４内に配置する。金属板３１０は、例えば、ＳＵＳ板（ステンレス鋼板）または鉛板により構成される。金属板３１０の上側表面の高さ位置が溶鋼の湯面レベルに対応する。また、操業時と同じ条件で鋳型１４を上下動させる（すなわちオシレーションを行う）。
【００２９】
以上のようにした状態で、渦流式レベル計１９を動作させ、差電圧を測定する。このような測定を、金属板３１０の高さ位置を異ならせて行う。これにより、金属板３１０の上側表面の高さ位置である板レベルと、差電圧との関係が得られる。この関係を示す情報が電圧−湯面レベル変換特性になる。金属板３１０の高さ位置は、例えば、等ピッチで変更するのが好ましい。
【００３０】
図４（ａ）は、電圧−湯面レベル変換特性の一例を示す図である。
図４（ａ）において、前述したようにして測定した差電圧と、当該差電圧が測定されたときの板レベルにより定まる点を、差電圧および溶鋼の湯面レベルを軸とする２次元座標上にプロットする。そして、プロットした点に基づいて、差電圧と溶鋼の湯面レベルとの関係を示す関数を、電圧−湯面レベル変換特性として導出する。差電圧と溶鋼の湯面レベルとの関係を示す関数は、例えば、公知のカーブフィッティングの技術を用いることにより導出することができる。尚、関数としてではなく、差電圧と溶鋼の湯面レベルとを相互に関連付けて記憶するテーブルを電圧−湯面レベル変換特性として導出してもよい。電圧−湯面レベル変換特性は、例えば、差電圧と板レベルの情報をコンピュータに入力し、コンピュータが前述した導出方法を記述したプログラムを実行することにより得ることができる。
【００３１】
以上のようにして導出した電圧−湯面レベル変換特性をレベル変換部１１０に設定（記憶）する。
本実施形態では、以上のようにして、更新前の渦流式レベル計に対する第６の工程および第７の工程が実現される。
【００３２】
その後、鋳型１４内に溶鋼が注入され、渦流式レベル計１９から差電圧が出力されると、レベル変換部１１０は、当該差電圧に対応する溶鋼の湯面レベルを電圧−湯面レベル変換特性から導出し、ローパスフィルタ１２０に出力することと、オペレータに報知するためにコンピュータディスプレイ等に表示することとを実行する。
【００３３】
図４（ｂ）は、電圧−湯面レベル変換特性から得られる溶鋼の湯面レベルと表示レベルとの関係の一例を示す図である。表示レベルとは、オペレータに報知するためにコンピュータディスプレイ等に表示される溶鋼の湯面レベルをいう。電圧−湯面レベル変換特性を予め記憶しておき、渦流式レベル計１９から出力された差電圧から溶鋼の湯面レベルを導出することにより、図４（ｂ）に示すように、溶鋼の湯面レベルと表示レベルとの関係が１：１の線形関数になり、渦流式レベル計１９から出力された差電圧から、溶鋼の湯面レベルの表示値を得ることができる。
【００３４】
レベル変換部１１０は、渦流式レベル計１９から差電圧を入力する度に、以上のようにして溶鋼の湯面レベルを導出する。これにより、溶鋼の湯面レベルの時系列データ（各時刻における溶鋼の湯面レベルのデータ）が得られる。本実施形態では、レベル変換部１１０が、レベル変換手段の一例である。
【００３５】
図１の説明に戻り、ローパスフィルタ１２０は、そのカットオフ周波数において、レベル変換部１１０から出力された溶鋼の湯面レベルの信号の振幅を、ゲインＧ倍に増幅する（ゲインＧは１未満であるので実質的には減衰する）。本実施形態では、溶鋼の湯面レベルの信号が、高さ位置信号（金属溶湯の表面の高さ位置を示す信号）の一例である。
ローパスフィルタ１２０は、レベル変換部１１０から出力された溶鋼の湯面レベルに含まれるノイズであって、主にオシレーションにより起因するノイズを除去するためのものである。
ローパスフィルタ１２０のゲインＧは、以下の（１）式〜（３）式で表される。
【００３６】
【数２】
0006531618.tif 000003
【００３７】
（１）式および（２）式において、ｆoscは、オシレーションの周波数［Ｈｚ］である。また、（１）式において、Ｔは時定数［ｓｅｃ］であり、（１）式および（３）式においてｆcutは、ローパスフィルタのカットオフ周波数［Ｈｚ］である。
（１）式に示すように、カットオフ周波数ｆcutを小さくするほどゲインＧは小さくなる。しかしながら、カットオフ周波数ｆcutを小さくすると、溶鋼の湯面レベルの信号の遅れが大きくなる。従って、オシレーションにより起因するノイズを抑制することと、溶鋼の湯面レベルの信号の遅れを抑制することとのバランスを考慮してゲインＧが設定される。
【００３８】
湯面レベル制御装置２００は、アンプ盤１００から出力された溶鋼の湯面レベルの信号ＰＶを入力し、ストッパー１３の開度の変更分を表すパルス信号である開閉パルス信号を出力する。湯面レベル制御装置２００は、減算器２１０と、ローパスフィルタ（ＬＰＦ）２２０と、制御部２３０と、を有する。
【００３９】
減算器２１０は、溶鋼の湯面レベルの設定値（目標値）ＳＶから溶鋼の湯面レベルの信号の実績値ＰＶを減算し、溶鋼の湯面レベルの偏差の信号を出力する。本実施形態では、減算器２１０が、偏差導出手段の一例である。
ローパスフィルタ２２０は、減算器２１０から出力された溶鋼の湯面レベルの偏差の信号の振幅を、そのカットオフ周波数において、ゲインＧ´倍に増幅する（ゲインＧ´は１未満であるので実質的には減衰する）。ゲインＧ´は、前述した（１）式〜（３）式と同様にして導出される。本実施形態では、ローパスフィルタ２２０の更新は行わない。
以上のように本実施形態では、ローパスフィルタ１２０が、更新の対象となるローパスフィルタの一例であり、ローパスフィルタ２２０が、第２のローパスフィルタの一例である。
【００４０】
制御部２３０は、ローパスフィルタ２２０から出力された溶鋼の湯面レベルの偏差の信号を入力とするＰＩ演算を一定の制御周期で行うことで、当該偏差を解消するために必要なストッパー１３の目標開度を生成する。さらに、制御部２３０は、このストッパー１３の目標開度に基づいて、油圧シリンダー４００のロッドの移動速度に、上下限値が規定された整数を乗じたパルス幅を有するパルス信号を開閉パルス信号として生成し、ＳＴ制御装置３００に出力する。開閉パルス信号を生成する方法は、例えば、特許文献３に記載の公知の技術で実現できるので、ここでは、その詳細な説明を省略する。尚、ＰＩ制御の代わりに例えばＰＩＤ制御を行ってもよい。本実施形態では、制御部２３０が、制御手段の一例である。
【００４１】
開閉パルス信号のパルス幅を制御周期よりも長くすることはできない。このため、ストッパー１３の目標開度から導出される前述した整数が、その上限値を上回る場合、油圧シリンダー４００のロッドの移動速度に、当該整数の上限値を乗じたパルス幅を有するパルス信号が開閉パルス信号として生成される。このことをパルスの飽和と呼ぶ。
【００４２】
ＳＴ制御装置３００は、油圧シリンダー４００を動作させるためのパルスモータの駆動回路を備える。ＳＴ制御装置３００は、湯面レベル制御装置２００から出力された開閉パルス信号を入力して、当該駆動回路等による処理を行った後の開閉パルス信号を、油圧シリンダー４００に出力する。尚、湯面レベル制御装置２００は、開閉パルス信号の代わりに、当該開閉パルス信号に含まれる情報を表すアナログ信号をＳＴ制御装置３００に出力することができる。この場合、ＳＴ制御装置３００は、湯面レベル制御装置２００から出力されたアナログ信号に基づいて開閉パルス信号を生成して油圧シリンダー４００に出力する。
【００４３】
油圧シリンダー４００は、パルスモータを備える。パルスモータは、ＳＴ制御装置３００から送信される開閉パルス信号に基づいて回転し、この回転により、油圧シリンダー４００のロッドの位置を変更する。油圧シリンダー４００は、開閉パルス信号のパルス幅と油圧シリンダー４００のロッドの移動速度とを乗算した値に応じて、ストッパー１３を上下方向（Ｚ軸方向）に移動させる。油圧シリンダー４００は、公知の技術で実現できるので、ここでは、その詳細な説明を省略する。
【００４４】
以上のような連続鋳造機において、渦流式レベル計を、当該渦流式レベル計とはコイル構造が異なる別の渦流式レベル計に更新する場合について説明する。コイル構造とは、例えば、コイルの大きさ、形状、および配置の少なくとも１つを含む。例えば、渦流式レベル計の老朽化に伴い、省スペース化および省電力化を図るために、更新後の渦流式レベル計の一次コイルおよび二次コイルを、更新前の渦流式レベル計の一次コイルおよび二次コイルよりも小型化することが考えられる。また、省スペース化を図るために、特許文献２に記載の技術のように、水平方向に一次コイルおよび二次コイルを並べて配置する構成を、図２に示すように一次コイルの上下に二次コイルを配置する構成に変更することも考えられる。
【００４５】
図５（ａ）は、コイル構造が異なる渦流式レベル計における電圧−湯面レベル変換特性の一例を示す図である。図５（ａ）において、電圧−湯面レベル変換特性５１０は、更新前の渦流式レベル計における電圧−湯面レベル変換特性の一例であり、電圧−湯面レベル変換特性５２０は、更新後の渦流式レベル計における電圧−湯面レベル変換特性の一例である。
【００４６】
このようにコイル構造が変わることにより、電圧−湯面レベル変換特性が異なることがある。従って、更新後の渦流式レベル計を用いて、前述したように電圧−湯面レベル変換特性を導出し、レベル変換部１１０における電圧−湯面レベル変換特性を更新する。このようにすることにより、図５（ｂ）に示すように、渦流式レベル計の更新があっても、溶鋼の湯面レベルと表示レベルとの関係を１：１の線形関数に揃えることができる。このことは、オシレーションがない状態では、電圧−湯面レベル変換特性を更新すれば、更新後の渦流式レベル計でも、更新前の渦流式レベル計と同様にして溶鋼の湯面レベルを測定することができることを意味する。
【００４７】
しかしながら、更新前の渦流式レベル計と更新後の渦流式レベル計とでコイル構造が異なる場合、同一の高さ位置に金属板３１０を配置して同一のオシレーションを実行した場合でも、渦流式レベル計から出力される差電圧に含まれる、オシレーションに起因するノイズの振幅は、更新前の渦流式レベル計を用いた場合と更新後の渦流式レベル計を用いた場合とで異なる。更新後の渦流式レベル計を用いた方が、更新前の渦流式レベル計を用いた場合よりも、渦流式レベル計から出力される差電圧に含まれる、オシレーションに起因するノイズの振幅が大きくなる場合、電圧−湯面レベル変換特性を更新するだけでは、レベル変換部１１０から出力される溶鋼の湯面レベルの信号に、オシレーションに起因するノイズとして大きな振幅のノイズが含まれることになる。その結果、ローパスフィルタ１２０により、オシレーションに起因するノイズを十分に除去することができず、湯面レベル制御装置２００において前述したパルスの飽和が発生しやすくなる。
【００４８】
このようなパルスの飽和が発生すると、開閉パルス信号のパルス幅は、オシレーションに起因するノイズに大きく依存してしまう。そうすると、本来抑制したい鋳型内の金属溶湯の湯面レベルの変動を抑制することができず、事実上、鋳型内の金属溶湯の湯面レベルを制御することができなくなる虞がある。鋳型内の金属溶湯の湯面レベルをハイゲイン制御する場合にこのような傾向が表れやすくなる。
ここで、パルスの飽和を避けるために、制御ゲインを下げてしまうと、本来の目的である溶鋼の湯面レベルの制御を適切に行うことができなくなる虞がある。また、前述したＰＩ演算を行う制御器の設計を試行錯誤的に変更するのには多大な労力を要する。
【００４９】
以上のような知見の下、本発明者らは、更新前の渦流式レベル計を用いた場合と、更新後の渦流式レベル計を用いた場合とで、ローパスフィルタを通過した後のオシレーションに起因するノイズの振幅を同じにすれば、オシレーションが行われる状況でも、更新前の渦流式レベル計と同様にして溶鋼の湯面レベルを測定することができるということに想到した。
【００５０】
本実施形態では、以上の知見に基づき、以下のようにして、更新前の渦流式レベル計を用いた場合と、更新後の渦流式レベル計を用いた場合とで、ローパスフィルタを通過した後のオシレーションに起因するノイズの振幅が同じになるように、更新後のローパスフィルタカットオフ周波数を変更する。
【００５１】
図７は、渦流式レベル計１９およびアンプ盤１００を更新する様子の一例を概念的に示す図である。図７に示すように、ここでは、渦流式レベル計１９に対しコイルの大きさが小さい渦流式レベル計１９´に渦流式レベル計１９を変更し、これに伴い、以下の説明するようにして定まるカットオフ周波数を有するローパスフィルタ１２０´にローパスフィルタ１２０を変更する場合を例に挙げて説明する。尚、湯面レベル制御装置２００内のローパスフィルタ２２０については変更しない。また、図７に示すように、レベル変換部１１０についてもレベル変換部１１０´に更新し、アンプ盤１００をアンプ盤１００´に更新する。レベル変換部１１０の更新方法は、図５を参照しながら説明した通りである。本実施形態では、このようにして更新後の渦流式レベル計に対する第６の工程および第７の工程が実現される。
【００５２】
以下に、更新後のローパスフィルタのカットオフ周波数を変更する方法の一例を説明する。
まず、図３を参照しながら説明したように、連続鋳造機の操業を止め、鋳型１４内に溶鋼がない状態にする。この状態で、溶鋼の湯面を模擬するために、金属板３１０を鋳型１４内に配置する。このとき、金属板３１０の高さ位置を所定位置（例えば、鋳型１４０の上面から１００ｍｍの位置）とする。
【００５３】
そして、操業時と同じ条件で鋳型１４を一定の周波数で上下動させる（すなわちオシレーションを行う）。また、ローパスフィルタ１２０を"切"の状態にする。すなわち、ローパスフィルタ１２０を通さずに、レベル変換部１１０からの出力（溶鋼の湯面レベル（表示レベル））が得られるようにする。例えば、ローパスフィルタ１２０の設定を変更してもよいし、ローパスフィルタ１２０を取り外してもよい。また、ローパスフィルタ１２０をそのままの状態とし、レベル変換部１１０から出力され、ローパスフィルタ１２０に入力される前の信号を取り出してもよい。
【００５４】
以上の状態で、渦流式レベル計１９を動作させて差電圧を測定し、レベル変換部１１０により板レベル（表示レベル）を導出する。所定の期間、この板の導出を行い、板レベルの所定の期間における時系列データ（各時刻における板レベルのデータ）を得る。尚、前述したように、板レベルは、金属板３１０の上側表面の高さ位置である。尚、オシレーションの周波数［Ｈｚ］は、鋳型１４を周波数であるので既知である。
本実施形態では、以上のようにして第１の工程が実現される。
【００５５】
次に、渦流式レベル計１９、アンプ盤１００（レベル変換部１１０およびローパスフィルタ１２０）を、それぞれ新しい渦流式レベル計１９´、アンプ盤１００（レベル変換部１１０´およびローパスフィルタ１２０´）とし、更新前の渦流式レベル計１９およびアンプ盤１００を用いた場合と同じ条件でオシレーションを行い、前述したのと同様にして板レベルの所定の期間における時系列データを得る。
本実施形態では、以上のようにして第３の工程が実現される。
【００５６】
以上のようにして更新前の板レベルの時系列データと、更新後の板レベルの時系列データが得られると、それらの板レベルの時系列データの振幅（peak to peak値：最大値と最小値の差の絶対値）をそれぞれ導出する。
本実施形態では、以上のようにして第２の工程および第４の工程が実現される。
【００５７】
図６は、更新前の板レベルの時系列データ６１０と、更新後の板レベルの時系列データ６２０の一例を示す図である。
図６に示すように、更新前の板レベルの時系列データ６１０の波形の振幅ΔＹOと、更新後の板レベルの時系列データ６１０の波形の振幅ΔＹNとが導出される。この振幅は、例えば、更新前後の板レベルの時系列データをコンピュータに入力し、時系列データの振幅の導出方法が記述されたプログラムをコンピュータが実行することにより得ることができる。このようにする場合、コンピュータは、更新前の板レベルの時系列データ６１０の波形の振幅ΔＹOと、更新後の板レベルの時系列データ６１０の波形の振幅ΔＹNとを出力する（例えば、コンピュータディスプレイに表示する）ことができる。尚、図６では、更新後の板レベルの時系列データ６１０の波形の振幅ΔＹNが、更新前の板レベルの時系列データ６１０の波形の振幅ΔＹOよりも大きい場合を例に挙げて示す。しかしながら、これらの大小関係は逆であってもよい。
【００５８】
前述したように、更新前の渦流式レベル計１９を用いた場合と、更新後の渦流式レベル計１９´を用いた場合とで、ローパスフィルタ１２０、１２０´を通過した後のオシレーションに起因するノイズの振幅が同じになるようにする必要がある。従って、以下の（４）式が成り立つ必要がある。
ΔＹN×ＧN＝ΔＹO×ＧO  ・・・（４）
（４）式において、ＧN、ＧOは、それぞれ、更新後のローパスフィルタ１２０´のゲインＧ、更新前のローパスフィルタ１２０ゲインＧであり、前述した（１）式〜（３）式で表される。従って、（１）式および（４）式より、以下の（５）式が得られる。
【００５９】
【数３】
0006531618.tif 000004
【００６０】
（５）式において、ｆcutN、ｆcutOは、それぞれ、更新後のローパスフィルタ１２０´のカットオフ周波数、更新前のローパスフィルタ１２０のカットオフ周波数である。尚、前述したように、ｆoscは、オシレーションの周波数［Ｈｚ］であり、既知の値（一定値）である。
（５）式において、ΔＹN／ΔＹO［ｍｍ／ｍｍ］をｋとすると、更新後のローパスフィルタ１２０´のカットオフ周波数ｆcutNは、以下の（６）式で表される。
【００６１】
【数４】
0006531618.tif 000005
【００６２】
従って、更新前のローパスフィルタ１２０のカットオフ周波数ｆcutO、オシレーションの周波数ｆosc、更新前の板レベルの時系列データ６１０の波形の振幅ΔＹO、および更新後の板レベルの時系列データ６１０の波形の振幅ΔＹNから、（６）式の計算を行うことにより、更新後のローパスフィルタ１２０´のカットオフ周波数ｆcutNが導出される。このようにして更新後のローパスフィルタ１２０´のカットオフ周波数ｆcutNを導出すれば、更新前の渦流式レベル計１９を用いた場合と、更新後の渦流式レベル計１９´を用いた場合とで、ローパスフィルタ１２０、１２０´を通過した後のオシレーションに起因するノイズの振幅を同じにすることができる。
【００６３】
更新後のローパスフィルタ１２０´のカットオフ周波数ｆcutNの導出は、例えば、コンピュータが、（６）式の演算が記述されたプログラムを実行することにより実現することができる。このようにする場合、コンピュータは、更新後のローパスフィルタ１２０´のカットオフ周波数ｆcutNを出力する（例えば、コンピュータディスプレイに表示する）ことができる。そして、このカットオフ周波数ｆcutNを有するように、更新後のローパスフィルタ１２０´を構成する。この際、オペレータは、前述したようにしてコンピュータから出力された振幅ΔＹO、ΔＹNから、ｋの値を求め、求めたｋの値を、コンピュータのユーザインタフェースを用いて、コンピュータに入力することができる。
本実施形態では、以上のようにして第５の工程が実現される。
【００６４】
以上のように本実施形態では、更新前の渦流式レベル計１９を用いた場合と、更新後の渦流式レベル計１９´を用いた場合とで、ローパスフィルタ１２０、１２０´を通過した後のオシレーションに起因するノイズの振幅が同じになるように、更新後のローパスフィルタ１２０´のカットオフ周波数ｆcutNを導出する。従って、渦流式レベル計１９を更新する際に、オシレーションに起因するノイズを抑制するためのローパスフィルタ１２０の設定を更新後のシステムに移す（コンバートする）ことができ、渦流式センサの更新後において、オシレーションによる外乱の影響が更新前と可及的に同じなるようにすることができる。よって、更新後の渦流式レベル計１９´の計測値の再現性・信頼性を損なうことを可及的に抑制することができる。これにより、渦流式レベル計を更新しても、既存のシステムにおける計測・制御性能を可及的に維持することができる。また、湯面レベル制御装置２００のローパスフィルタ２２０および制御部（制御器）２３０を再調整する必要がなくなるので、更新の際に要する手間を軽減することができる。
【００６５】
尚、渦流式レベル計は、本実施形態で説明したものに限定されず、例えば、特許文献１、２に記載の渦流式レベル計を用いることができる。すなわち、コイル面が溶鋼の湯面と略正対するように、溶鋼の湯面と間隔を有して配置され、交流電圧が印加される一次コイルと、コイル面が溶鋼の湯面と略正対するように、溶鋼の湯面と間隔を有して配置され、一次コイルから発生する磁界により溶鋼内に生じる渦電流に基づく磁界を少なくとも検出する少なくとも１つの二次コイルとを有していればよい。二次コイルが１つである場合には、前述した説明において、差電圧を、二次コイルに誘起される電圧に置き換えればよい。
【００６６】
また、本実施形態では、鋳型１４に供給される溶鋼の供給量を調整するためのアクチュエータがストッパー１３である場合を例に挙げて説明した。しかしながら、かかるアクチュエータはストッパー１３に限定されず、スライディングノズルであってもよい。
【００６７】
（第２の実施形態）
次に、第２の実施形態を説明する。第１の実施形態では、湯面レベル制御装置２００のローパスフィルタ２２０を更新せずにアンプ盤１００のローパスフィルタ１２０を更新する場合を例に挙げて説明した。これに対し、本実施形態では、アンプ盤１００のローパスフィルタ１２０を更新せずに、湯面レベル制御装置２００のローパスフィルタ２２０を更新する場合を例に挙げて説明する。このように本実施形態と第１の実施形態とは、更新の対象となるローパスフィルタが異なる点が主として異なる。従って、本実施形態の説明において、第１の実施形態と同一の部分については、図１〜図７に付した符号と同一の符号を付す等して詳細な説明を省略する。
【００６８】
図８は、渦流式レベル計１９、アンプ盤１００、および湯面レベル制御装置２００を更新する様子の一例を概念的に示す図である。図８は、図７に対応する図である。
本実施形態では、更新前の渦流式レベル計１９を用いた場合と、更新後の渦流式レベル計１９´を用いた場合とで、ローパスフィルタ２２０、２２０´を通過した後のオシレーションに起因するノイズの振幅を同じにする。従って、以下の（７）式が成り立つ必要がある。
ΔＹN×ＧN1×ＧN2＝ΔＹO×ＧO1×Ｇo2  ・・・（７）
【００６９】
（７）式において、ΔＹOは、更新前の板レベルの時系列データの波形の振幅である。ΔＹNは、更新後の板レベルの時系列データの波形の振幅である。ＧN1、ＧO1は、ローパスフィルタ１２０のゲインＧである。ＧN2、ＧO2は、それぞれ、更新後のローパスフィルタ２２０´のゲインＧ、更新後のローパスフィルタ２２０´のゲインＧである。
【００７０】
尚、更新前の湯面レベル制御装置２００と更新後の湯面レベル制御装置２００´とで制御部２３０は同じものを使用する。また、第１の実施形態で説明したように、渦流式レベル計１９の渦流式レベル計１９´への更新に合わせ、レベル変換部１１０をレベル変換部１１０´に更新する。このとき、アンプ盤１００をアンプ盤１００´に取り替える。ただし、アンプ盤１００、１００´に含まれるローパスフィルタ１２０は同じ機能を有するものとする。尚、アンプ盤１００全体を取り替えることなく、レベル変換部１１０だけを取り替えてもよい。
【００７１】
本実施形態では、ローパスフィルタ１２０を更新しないので、ゲインＧN1、ＧO1は、同じ値になる。従って、（７）式は、第１の実施形態で説明した（５）式と同じ形になる。そうすると、更新後のローパスフィルタ２２０´のカットオフ周波数も、第１の実施形態で説明した（６）式で表される。
ただし、ｆcutN、ｆcutOは、ローパスフィルタ１２０´、１２０ではなく、それぞれ、ローパスフィルタ２２０´、２２０のカットオフ周波数である。
【００７２】
以上のように湯面レベル制御装置２００のローパスフィルタ２２０を更新しても、第１の実施形態で説明した（６）式と同じ演算を行って、更新後のローパスフィルタ２２０´のカットオフ周波数ｆcutNを導出することにより、更新前の渦流式レベル計１９を用いた場合と、更新後の渦流式レベル計１９´を用いた場合とで、ローパスフィルタ２２０、２２０´を通過した後のオシレーションに起因するノイズの振幅を同じにすることができる。従って、第１の実施形態で説明したのと同様の効果が得られる。
【００７３】
ただし、第１の実施形態では、渦流式レベル計１９、アンプ盤１００（レベル変換部１１０およびローパスフィルタ１２０）を、それぞれ新しい渦流式レベル計１９´、アンプ盤１００´（レベル変換部１１０´およびローパスフィルタ１２０´）とする。これに対し、本実施形態では、渦流式レベル計１９とアンプ盤１００（レベル変換部１１０）に加え、湯面レベル制御装置２００（ローパスフィルタ２２０）を、それぞれ新しい渦流式レベル計１９´、アンプ盤１００´（レベル変換部１１０´）、湯面レベル制御装置２００´（ローパスフィルタ２２０´）とする。
【００７４】
尚、本実施形態においても、第１の実施形態で説明した種々の変形例を採用することができる。
また、第１の実施形態と第２の実施形態とでは、更新の対象となるローパスフィルタと第２のローパスフィルタとの関係が逆になる。すなわち、第１の実施形態では、ローパスフィルタ１２０が、更新の対象となるローパスフィルタの一例である場合について説明した（前述したようにこの場合、ローパスフィルタ２２０が、第２のローパスフィルタの一例である）。これに対し、本実施形態では、ローパスフィルタ２２０が、更新の対象となるローパスフィルタの一例であり、ローパスフィルタ１２０が、第２のローパスフィルタの一例である。このように、ローパスフィルタ１２０が、更新の対象となるローパスフィルタの一例である場合には、ローパスフィルタ２２０が、第２のローパスフィルタの一例になり、ローパスフィルタ２２０が、更新の対象となるローパスフィルタの一例である場合には、ローパスフィルタ１２０が、第２のローパスフィルタの一例になる。
また、減算器２１０から出力される溶鋼の湯面レベルの偏差の信号が、高さ位置信号（金属溶湯の表面の高さ位置を示す信号に基づく信号、偏差を示す信号）の一例である。
【００７５】
尚、以上説明した本発明の実施形態のうち、コンピュータにより行える処理は、コンピュータがプログラムを実行することによって実現することができる。また、前記プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体及び前記プログラム等のコンピュータプログラムプロダクトも本発明の実施形態として適用することができる。記録媒体としては、例えば、フレキシブルディスク、ハードディスク、光ディスク、光磁気ディスク、ＣＤ−ＲＯＭ、磁気テープ、不揮発性のメモリカード、ＲＯＭ等を用いることができる。
また、以上説明した本発明の実施形態は、何れも本発明を実施するにあたっての具体化の例を示したものに過ぎず、これらによって本発明の技術的範囲が限定的に解釈されてはならないものである。すなわち、本発明はその技術思想、またはその主要な特徴から逸脱することなく、様々な形で実施することができる。
【符号の説明】
【００７６】
１１：タンディッシュ、１２：浸漬ノズル１２、１３：ストッパー、１４：鋳型（モールド）、１５：ピンチロール、１６：冷却スプレー、１００・１００´：アンプ盤、１１０・１１０´：レベル変換部、１２０・１２０´：ローパスフィルタ、２００・２００´：湯面レベル制御装置、２１０：減算器、２２０・２２０´：ローパスフィルタ、２３０：制御部
【図１】
0006531618.tif 000007
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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