(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスクと基板とを走査方向に走査しながら走査露光を行う露光方法であって、
露光装置を用いて、前記走査方向に直交する第１方向に隣接し、互いに重なり合うつなぎ領域を含む第１領域及び第２領域に前記走査露光を行う工程を有し、
前記露光装置は、光源からの光を整形するための開口を形成する開口部材と、前記開口部材の複数の箇所に設けられた複数の駆動部と、前記開口の一部を遮蔽することで前記つなぎ領域に入射する光の前記第１方向における積算照度分布を漸減させる遮蔽板と、を備え、
前記工程は、
前記遮蔽板が前記開口を遮蔽していない状態において、前記開口を通過して前記基板に入射する光によって前記基板上に形成される前記第１方向における積算照度分布がフラットになるように前記複数の駆動部を駆動したときの前記開口の形状を求める第１工程と、
前記開口の予め設定された遮蔽位置に前記遮蔽板を配置したときに、前記第１工程で求められた前記開口の形状に基づいて、前記第１領域及び前記第２領域の全体の領域の前記第１方向における積算照度分布をフラットにするための、前記複数の駆動部、前記遮蔽板及び前記開口部材の前記開口の少なくとも一つの駆動情報を求める第２工程と、
を含むことを特徴とする露光方法。
【請求項２】
前記工程は、前記第２工程で求められた前記駆動情報に基づいて、前記複数の駆動部、前記遮蔽板及び前記開口部材の前記開口の少なくとも一つを駆動する第３工程を含むことを特徴とする請求項１に記載の露光方法。
【請求項３】
前記第２工程では、前記第１工程で求められた前記開口の形状に基づいて、前記遮蔽位置に前記遮蔽板を配置したときの前記第１領域のつなぎ領域の前記第１方向の第１幅と前記第２領域のつなぎ領域の前記第１方向の第２幅とを特定し、前記第１幅と前記第２幅とを等しくするための前記駆動情報を求めることを特徴とする請求項１又は２に記載の露光方法。
【請求項４】
前記第２工程では、前記遮蔽位置に前記遮蔽板を配置し、且つ、前記複数の駆動部により前記開口の形状を調整した状態において、前記開口を通過する光の積算照度を計測することにより、前記第１幅及び前記第２幅を特定することを特徴とする請求項３に記載の露光方法。
【請求項５】
前記第２工程では、前記開口を通過して前記開口部材の共役面の前記第１方向に沿った各位置に入射する光の積算照度を計測して前記各位置に対する積算照度の変化率を求め、前記変化率に基づいて、前記第１幅及び前記第２幅を特定することを特徴とする請求項４に記載の露光方法。
【請求項６】
前記第２工程では、前記各位置のうち、前記つなぎ領域に含まれる位置での積算照度を線形近似して近似直線を求め、前記近似直線に基づいて、前記第１幅及び前記第２幅を特定することを特徴とする請求項５に記載の露光方法。
【請求項７】
前記第３工程では、前記駆動情報に基づいて、前記複数の駆動部を前記走査方向に駆動することを特徴とする請求項２に記載の露光方法。
【請求項８】
前記第３工程では、前記駆動情報に基づいて、前記遮蔽位置に前記遮蔽板を配置したときの前記遮蔽板と前記開口との交点の１つを中心として前記遮蔽板を回転駆動することを特徴とする請求項２に記載の露光方法。
【請求項９】
前記第３工程では、前記駆動情報に基づいて、前記遮蔽板を前記走査方向及び前記第１方向で規定される面内で駆動することを特徴とする請求項２に記載の露光方法。
【請求項１０】
マスクと基板とを走査方向に走査しながら走査露光を行う露光装置であって、
前記走査方向に直交する第１方向に隣接し、互いに重なり合うつなぎ領域を含む第１領域及び第２領域に前記走査露光を行う制御部と、
光源からの光を整形するための開口を形成する開口部材と、
前記開口部材の複数の箇所に設けられた複数の駆動部と、
前記開口の一部を遮蔽することで前記つなぎ領域に入射する光の前記第１方向における積算照度分布を漸減させる遮蔽板と、を有し、
前記制御部は、前記走査露光を行う際に、
前記遮蔽板が前記開口を遮蔽していない状態において、前記開口を通過して前記基板に入射する光によって前記基板上に形成される前記第１方向における積算照度分布がフラットになるように前記複数の駆動部を駆動したときの前記開口の形状を求め、
前記開口の予め設定された遮蔽位置に前記遮蔽板を配置したときに、求められた前記開口の形状に基づいて、前記第１領域及び前記第２領域の全体の領域の前記第１方向における積算照度分布をフラットするための、前記複数の駆動部、前記遮蔽板及び前記開口部材の前記開口の少なくとも一つの駆動情報を求める、
ことを特徴とする露光装置。
【請求項１１】
請求項１０に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
露光した前記基板を現像する工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光方法、露光装置及び物品の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
マスクと基板とを同期して走査しながら、開口部材の開口によって整形された光でマスクを照明し、かかるマスクのパターンを基板に投影することで、基板上にパターンを形成する走査型の露光装置が従来から使用されている。このような露光装置では、１回の走査露光でマスクのパターンの像が転写される領域（ショット領域）よりも大きな領域にパターンを形成することが要求されている。かかる要求に伴い、基板上でショット領域をつなぎ合わせるように露光する（即ち、複数回の走査露光を重複して行う）技術、所謂、つなぎ露光が提案されている（特許文献１参照）。
【０００３】
つなぎ露光では、１回目に走査露光する領域と２回目に走査露光する領域との重ね合わせ領域、即ち、つなぎ領域において、１回目の露光量（積算照度）と２回目の露光量との合計の露光量を非つなぎ領域の露光量と等しくする必要がある。そこで、開口部材の開口の一部を遮蔽して基板に入射する光の走査方向に直交する方向における積算照度分布を漸減させる漸減領域を、１回目の走査露光及び２回目の走査露光のそれぞれに設ける。そして、それぞれの漸減領域をつなぎ領域と一致させることで、つなぎ領域での露光量と非つなぎ領域での露光量とを等しくさせることができる。なお、非つなぎ領域とは、１回目の走査露光又は２回目の走査露光によって１度だけ露光される領域である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平６−１３２１９５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
近年では、基板上に形成されるパターンの精度低下要因の影響を低減するために、基板に入射する光の走査方向における積算照度分布を任意に調整することが必要となっている。ここで、精度低下要因とは、露光装置の照度むらや収差、レジストの塗布むらや現像むら、マスクや基板のうねりなどを含む。例えば、積算照度が高くなると線幅が細くなるレジストを用いて、基板上に直線状のパターンを形成する場合を考える。現像むらなどによって所定の線幅よりも太い線幅となる箇所があるとき、その箇所での積算照度を周辺での積算照度よりも高くすることで、所定の線幅を有するパターンを形成することができる。
【０００６】
しかしながら、積算照度分布を任意に調整すべく開口部材の開口の形状を調整すると、開口部材の開口の走査方向の幅が必ずしも一定ではなくなり、１回目の走査露光と２回目の走査露光とで、漸減領域の走査方向に直交する方向の幅が異なり得る。このような場合、つなぎ領域での露光量が非つなぎ領域での露光量と等しくならず、つなぎ領域の端部に露光量の急峻な変化が生じる。露光量の急峻な変化は、つなぎ領域での露光量の制御精度を低下させる主要因であるため、基板上に形成されるパターンの精度を低下させてしまう。
【０００７】
本発明は、このような従来技術の課題に鑑みてなされ、つなぎ露光を行うのに有利な露光方法を提供することを例示的目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての露光方法は、マスクと基板とを走査方向に走査しながら走査露光を行う露光方法であって、露光装置を用いて、前記走査方向に直交する第１方向に隣接し、互いに重なり合うつなぎ領域を含む第１領域及び第２領域に前記走査露光を行う工程を有し、前記露光装置は、光源からの光を整形するための開口を形成する開口部材と、前記開口部材の複数の箇所に設けられた複数の駆動部と、前記開口の一部を遮蔽することで前記つなぎ領域に入射する光の前記第１方向における積算照度分布を漸減させる遮蔽板と、を備え、前記工程は、前記遮蔽板が前記開口を遮蔽していない状態において、前記開口を通過して前記基板に入射する光によって前記基板上に形成される前記第１方向における積算照度分布がフラットになるように前記複数の駆動部を駆動したときの前記開口の形状を求める第１工程と、前記開口の予め設定された遮蔽位置に前記遮蔽板を配置したときに、前記第１工程で求められた前記開口の形状に基づいて、前記第１領域及び前記第２領域の全体の領域の前記第１方向における積算照度分布をフラットにするための、前記複数の駆動部、前記遮蔽板及び前記開口部材の前記開口の少なくとも一つの駆動情報を求める第２工程と、を含むことを特徴とする。
【０００９】
本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される好ましい実施形態によって明らかにされるであろう。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、例えば、つなぎ露光を行うのに有利な露光方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の一側面としての露光装置の構成を示す概略図である。
【図２】図１に示す露光装置における開口部材の開口、遮蔽板及び駆動部を示す図である。
【図３】つなぎ露光を説明するための図である。
【図４】つなぎ露光を説明するための図である。
【図５】つなぎ露光を説明するための図である。
【図６】図１に示す露光装置におけるつなぎ露光を説明するための図である。
【図７】図１に示す露光装置の動作を具体的に説明するための図である。
【図８】図１に示す露光装置の計測部による照度の計測を説明するための図である。
【図９】つなぎ領域のＸ軸方向の幅を特定するための具体例を説明するための図である。
【図１０】つなぎ領域のＸ軸方向の幅を特定するための具体例を説明するための図である。
【図１１】図１に示す露光装置におけるつなぎ露光を説明するための図である。
【図１２】図１に示す露光装置におけるつなぎ露光を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施の形態について説明する。なお、各図において、同一の部材については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。
【００１３】
図１は、本発明の一側面としての露光装置１００の構成を示す概略図である。露光装置１００は、基板にパターンを形成するリソグラフィ装置である。露光装置１００は、本実施形態では、ステップ・アンド・スキャン方式を採用し、マスクと基板とを走査方向（Ｙ軸方向）に走査しながら基板を露光する走査露光を行う走査型の露光装置として具現化される。露光装置１００においては、１回の走査露光でマスクのパターンの像が転写される領域（ショット領域）よりも大きな領域にパターンを形成することが要求されている。そこで、露光装置１００では、基板上でショット領域をつなぎ合わせるように露光する技術、所謂、つなぎ露光を行う。以下では、走査方向をＹ軸方向、重力方向をＺ軸方向、Ｙ軸方向及びＺ軸方向に直交する方向をＸ軸方向とする。
【００１４】
露光装置１００は、照明光学系１と、開口部材２と、結像光学系３と、マスク４を保持して移動するマスクステージ５と、投影光学系６と、基板７を保持して移動する基板ステージ８と、計測部９と、遮蔽板１０と、複数の駆動部１１と、制御部１２とを備える。
【００１５】
照明光学系１は、光源からの光でマスク４を照明する光学系である。開口部材２は、光を整形するための開口２ａを形成する。照明光学系１からの光は、開口部材２の開口２ａで整形され、結像光学系３を介して、マスク４に照射される。開口部材２（開口２ａ）とマスク４とは、結像光学系３に対して光学的に共役な位置に配置されている。従って、マスク４に照射される光の形状は、開口部材２の開口２ａの形状（例えば、矩形形状）と等しくなる。結像光学系３が倍率を有している場合、マスク上に結像される光は、開口部材２の開口２ａの大きさに結像光学系３の倍率を乗じた大きさとなる。
【００１６】
マスク４は、マスクステージ５に保持されている。投影光学系６は、マスク４のパターンの像を基板７に投影する光学系である。マスク上に結像された光は、投影光学系６を介して、基板７に投影される。マスク４と基板７とは、投影光学系６に対して光学的に共役な位置に配置されている。従って、マスク上に結像される光の形状は、基板７に投影される光の形状と等しくなる。また、マスク４と開口部材２とは、上述したように、光学的に共役な位置に配置されているため、開口部材２の開口２ａと等しい形状の光が基板７に投影される。
【００１７】
基板７は、基板ステージ８に保持されている。基板７には、レジスト（感光材）が塗布されている。マスクステージ５と基板ステージ８とを同期して走査することで、マスク４のパターンの像が基板７に塗布されたレジストに投影される。かかるレジストを現像液で現像することで、マスク４のパターンに対応するパターンが基板上に形成される。
【００１８】
計測部９は、開口部材２の開口２ａを通過して開口部材２の共役面のＸ軸方向（走査方向に直交する第１方向）に沿った各位置に入射する光の照度（積算照度）を計測する。計測部９は、本実施形態では、基板ステージ８に配置された照度センサを含む。
【００１９】
遮蔽板１０は、開口部材２に対して駆動可能に設けられている。遮蔽板１０は、制御部１２の制御下において、開口部材２の開口２ａの一部を遮蔽するように、図示しない駆動部を介して、走査方向及び走査方向に直交する方向で規定されるＸＹ面内で任意の位置に位置決めされる。また、遮蔽板１０は、ＸＹ面内で回転駆動が可能なように構成されている。
【００２０】
駆動部１１は、アクチュエータなどを含み、図２に示すように、開口部材２の複数の箇所に設けられている。駆動部１１は、制御部１２の制御下において、開口部材２を押し引きして開口２ａの走査方向の幅を局所的に変更することで、開口２ａの形状を調整する。駆動部１１は、本実施形態では、開口２ａを規定するＸ軸方向に沿った２つの辺のうちの一方の辺に設けられているが、両方の辺に設けられていてもよい。図２は、開口部材２の開口２ａ、遮蔽板１０及び駆動部１１を示す図である。
【００２１】
制御部１２は、ＣＰＵやメモリなどを含み、露光装置１００の全体を制御する。換言すれば、制御部１２は、露光装置１００の各部を統括的に制御することで、露光装置１００の動作を制御する。例えば、制御部１２は、計測部９によって計測された積算照度や基板上に形成されたパターンを計測して得られる照度敏感度に基づいて、駆動部１１によって調整される開口部材２の開口２ａの形状を決定する。基板上に形成されるパターンの誤差を低減するためには、駆動部１１によって開口部材２の開口２ａの形状を調整し、基板７に入射する光のＹ軸方向における積算照度を調整する必要がある。従って、制御部１２は、図２に示すように、開口２ａを通過して基板７に入射する光によって基板上に形成されるＸ軸方向における積算照度分布がフラットになるように、開口２ａの形状を決定（調整）する。この際、遮蔽板１０が開口部材２の開口２ａを遮蔽していない状態において、基板上に形成されるＸ軸方向における積算照度分布がフラットになるようにする。
【００２２】
本実施形態では、制御部１２は、図３（ａ）及び図３（ｂ）に示すように、走査方向に直交する方向に隣接し、互いに重なり合うつなぎ領域を含む第１ショット領域（第１領域）及び第２ショット領域（第２領域）に走査露光を行う。図３（ａ）を参照するに、第１ショット領域の走査露光時には、開口部材２の開口２ａのＸ軸方向の右端を遮蔽板１０によって遮蔽することで、基板上に入射する光のＸ軸方向における積算照度を漸減させる。また、図３（ｂ）を参照するに、第２ショット領域の走査露光時には、開口部材２の開口２ａのＸ軸方向の左端を遮蔽板１０によって遮蔽することで、基板上に入射する光のＸ軸方向における積算照度を漸減させる。第１ショット領域の積算照度が漸減する漸減領域と第２ショット領域の積算照度が漸減する漸減領域とを重複して走査露光することでつなぎ露光を行う。従って、第１ショット領域の漸減領域及び第２ショット領域の漸減領域がつなぎ領域となる。
【００２３】
このように、遮蔽板１０は、開口部材２の開口２ａの一部を遮蔽することで第１ショット領域及び第２ショット領域のつなぎ領域に入射する光のＸ軸方向における積算照度分布を漸減させる機能を有する。また、遮蔽板１０は、図１に示すように、開口部材２の近傍、例えば、照明光学系１と開口部材２との間に配置され、つなぎ露光を行わない場合には、開口部材２の開口２ａを遮蔽しない位置に退避する。遮蔽板１０は、開口部材２と光学的に共役な位置に配置すればよいため、マスク４の近傍、或いは、基板７の近傍に配置してもよい。
【００２４】
図４（ａ）は、第１ショット領域の走査露光時における開口部材２の開口２ａに対する遮蔽板１０の位置、及び、第１ショット領域に入射する光のＸ軸方向における積算照度分布を示している。図４（ｂ）は、第２ショット領域の走査露光時における開口部材２の開口２ａに対する遮蔽板１０の位置、及び、第２ショット領域に入射する光のＸ軸方向における積算照度分布を示している。但し、駆動部１１による開口部材２の開口２ａの形状の調整は行っておらず、開口２ａの走査方向の幅は一定である。この場合、図４（ａ）及び図４（ｂ）に示すように、開口部材２の開口２ａの予め設定された遮蔽位置に遮蔽板１０を配置すれば、第１ショット領域のつなぎ領域のＸ軸方向の幅と、第２ショット領域のつなぎ領域のＸ軸方向の幅とが等しくなる。また、図４（ｃ）に示すように、第１ショット領域のつなぎ領域での積算照度と第２ショット領域のつなぎ領域での積算照度との和を、他の領域での積算照度と等しくする。これにより、第１ショット領域及び第２ショット領域の全体の領域のＸ軸方向における合算積算照度分布をフラットにすることができるため、基板上にパターンを高精度に形成することができる。ここで、第１ショット領域及び第２ショット領域の全体の領域のＸ軸方向における合算積算照度分布がフラットであることは、２回の走査露光が行われるつなぎ領域での露光量と１回の走査露光が行われる非つなぎ領域での露光量とが等しいことを意味する。
【００２５】
しかしながら、実際には、光源からの光には照度むらなどがあるため、開口部材２の開口２ａの形状を調整することなく、開口２ａを通過して基板７に入射する光によって基板上に形成されるＸ軸方向における積算照度分布がフラットになることは少ない。そこで、図２に示すように、開口部材２の開口２ａを通過して基板７に入射する光によって基板上に形成されるＸ軸方向における積算照度分布がフラットになるように、駆動部１１によって開口２ａの形状を調整しなければならない。このような場合、開口部材２の開口２ａの走査方向の幅が必ずしも一定ではなくなる。従って、図５（ａ）及び図５（ｂ）に示すように、開口部材２の開口２ａの予め設定された遮蔽位置に遮蔽板１０を配置すると、第１ショット領域のつなぎ領域のＸ軸方向の幅と、第２ショット領域のつなぎ領域のＸ軸方向の幅とが異なってしまう。その結果、図５（ｃ）に示すように、つなぎ領域の端部に積算照度の急峻な変化が生じるため、第１ショット領域及び第２ショット領域の全体の領域のＸ軸方向における合算積算照度分布がフラットにならず、基板上にパターンを高精度に形成することができない。
【００２６】
そこで、本実施形態では、つなぎ領域の端部に積算照度の急峻な変化が生じることを回避するために、図５（ａ）又は図５（ｂ）に示す状態から駆動部１１によって開口２ａの形状を更に調整する。具体的には、図６（ａ）及び図６（ｂ）に示すように、第１ショット領域のつなぎ領域のＸ軸方向の第１幅と第２ショット領域のつなぎ領域のＸ軸方向の第２幅とが等しくなるように、例えば、複数の駆動部１１を走査方向に駆動する。これにより、図６（ｃ）に示すように、第１ショット領域のつなぎ領域での積算照度と第２ショット領域のつなぎ領域での積算照度との和と、他の領域での積算照度との差を低減することができる。換言すれば、第１ショット領域及び第２ショット領域の全体の領域のＸ軸方向における合算積算照度分布をフラットにすることができる。なお、つなぎ領域に対応する開口部材２の領域に多数の駆動部１１が設けられている場合には、かかる駆動部１１によって、積算照度の急峻な変化だけではなく、高次の照度差を更に調整することも可能である。
【００２７】
ここでは、第１ショット領域を走査露光する際に、複数の駆動部１１のうちのつなぎ領域に位置する１つの駆動部１１ａを走査方向に押し込んで開口部材２の開口２ａの形状を調整し、第２ショット領域を走査露光する際には、開口２ａの形状を調整していない。但し、第１ショット領域を走査露光する際には、開口部材２の開口２ａの形状を調整せずに、第２ショット領域を走査露光する際に、駆動部１１によって開口２ａの形状を調整してもよい。また、第１ショット領域を走査露光する際及び第２ショット領域を走査露光する際の両方で、駆動部１１によって開口２ａの形状を調整してもよい。
【００２８】
図７（ａ）乃至図７（ｄ）を参照して、第１ショット領域及び第２ショット領域の全体の領域のＸ軸方向における合算積算照度分布をフラットにするための露光装置１００の動作について具体的に説明する。かかる動作は、図７（ａ）に示す処理Ａ、図７（ｂ）に示す処理Ｂ、図７（ｃ）に示す処理Ｃ及び図７（ｄ）に示す処理Ｄを含み、制御部１２が露光装置１００の各部を統括的に制御することで行われる。
【００２９】
処理Ａでは、遮蔽板１０が開口部材２の開口２ａを遮蔽していない状態において、開口２ａを通過して基板７に入射する光の照度を計測して基板上に形成されるＸ軸方向における積算照度分布を求める。ここでは、基板ステージ８に配置された計測部９（照度センサ）を用いて、基板上に形成されるＸ軸方向における積算照度分布を求める。図８に示すように、計測部９は、開口部９ａから光を取り込み、取り込んだ光の照度を計測する。計測部９の開口部９ａの走査方向の長さは、開口部材２の開口２ａを通過して基板７に入射する光Ｌの走査方向の長さよりも長くなるように設定されているため、基板上に形成されるＸ軸方向における積算照度分布を求めることができる。
【００３０】
処理Ｂでは、処理Ａで求められた積算照度分布に基づいて、開口部材２の開口２ａを通過して基板７に入射する光によって基板上に形成されるＸ軸方向における積算照度分布がフラットになるように、駆動部１１によって開口２ａの形状を調整する。
【００３１】
処理Ｃでは、処理Ｂで駆動部１１により開口部材２の開口２ａの形状を調整した状態において、開口２ａの予め設定された遮蔽位置に遮蔽板１０を配置したときの第１ショット領域のつなぎ領域の第１幅と第２ショット領域のつなぎ領域の第２幅とを特定する。ここでは、基板ステージ８に配置された計測部９（照度センサ）を用いて、第１ショット領域のつなぎ領域の第１幅と第２ショット領域のつなぎ領域の第２幅とを特定する。
【００３２】
図９に示すように、開口部材２の開口２ａの予め設定された遮蔽位置に遮蔽板１０を配置し、且つ、駆動部１１により開口２ａの形状を調整した状態において、開口２ａを通過する光の照度を計測部９で計測する。例えば、ショット領域のつなぎ領域の端部の近傍のＸ軸方向に沿った各位置（計測点）に入射する光の照度を順次計測することで、各位置に対する照度の変化率を求めることができる。そして、かかる変化率から、第１ショット領域のつなぎ領域の第１幅と第２ショット領域のつなぎ領域の第２幅を特定することができる。具体的には、積算照度が非つなぎ領域の積算照度と同じ値となる点のうち最もＸ軸プラス側にある点を第１端点とし、積算照度が０となる点のうち最もＸ軸マイナス側にある点を第２端点とし、第１端点と第２端点との間の距離をつなぎ領域のＸ軸方向の幅とする。
【００３３】
また、図１０に示すように、第１ショット領域又は第２ショット領域のつなぎ領域の端部の近傍のＸ軸方向に沿った各位置での積算照度を線形近似して近似直線を求め、かかる近似直線に基づいて、つなぎ領域のＸ軸方向の幅を特定してもよい。具体的には、ショット領域のつなぎ領域の端部の近傍のＸ軸方向に沿った各位置のうち、つなぎ領域に含まれる位置での積算照度を線形近似して第１近似直線を、非つなぎ領域に含まれる位置での積算照度を線形近似して第２近似直線を求める。そして、第１近似直線とＸ軸（即ち、積算照度が０）との交点を第１端点とし、第１近似直線と第２近似直線との交点を第２端点とし、第１端点と第２端点との間の距離をつなぎ領域のＸ軸方向の幅とする。
【００３４】
処理Ｄでは、処理Ｃで特定された第１ショット領域のつなぎ領域の第１幅及び第２ショット領域のつなぎ領域の第２幅に基づいて、第１幅と第２幅とが等しくなるように、複数の駆動部１１を走査方向に駆動して開口部材２の開口２ａの形状を調整する。これにより、開口部材２の開口２ａを通過して基板７に入射する光によって基板上に形成される第１ショット領域及び第２ショット領域の全体の領域のＸ軸方向における積算照度分布をフラットすることができる。
【００３５】
このように、本実施形態では、駆動部１１により開口部材２の開口２ａの形状を調整した状態、即ち、開口部材２の開口２ａの走査方向の幅が一定ではない状態であっても、第１幅と第２幅とを等しくすることができる。従って、露光装置１００は、第１ショット領域及び第２ショット領域の全体の領域のＸ軸方向における積算照度分布をフラットにして、基板上にパターンを高精度に形成することができる。
【００３６】
また、本実施形態では、処理Ｄにおいて、第１ショット領域のつなぎ領域の第１幅と第２ショット領域のつなぎ領域の第２幅とを等しくするために、複数の駆動部１１を走査方向に駆動している。但し、開口部材２の開口２ａと遮蔽板１０とを相対的に回転させることによって、第１ショット領域のつなぎ領域の第１幅と第２ショット領域のつなぎ領域の第２幅とを等しくすることも可能である。
【００３７】
具体的には、図１１（ａ）及び図１１（ｂ）に示すように、第１ショット領域のつなぎ領域の第１幅と第２ショット領域のつなぎ領域の第２幅とが等しくなるように、開口部材２の開口２ａに対して遮蔽板１０を回転駆動する。図１１（ａ）を参照するに、開口部材２の開口２ａの予め定められた遮蔽位置に遮蔽板１０を配置したときの遮蔽板１０と開口２ａとの交点の１つを中心として遮蔽板１０を回転駆動させている。これにより、図１１（ｃ）に示すように、第１ショット領域のつなぎ領域での積算照度と第２ショット領域のつなぎ領域での積算照度との和と、他の領域での積算照度との差を低減することができる。換言すれば、開口部材２の開口２ａを通過して基板７に入射する光によって基板上に形成される第１ショット領域及び第２ショット領域の全体の領域のＸ軸方向における積算照度分布をフラットすることができる。
【００３８】
ここでは、第１ショット領域を走査露光する際に、遮蔽板１０を回転駆動し、第２ショット領域を走査露光する際には、遮蔽板１０を回転駆動していない。但し、第１ショット領域を走査露光する際には、遮蔽板１０を回転駆動せずに、第２ショット領域を走査露光する際に、遮蔽板１０を回転駆動してもよい。また、第１ショット領域を走査露光する際及び第２ショット領域を走査露光する際の両方で、遮蔽板１０を回転駆動してもよい。なお、遮蔽板１０を回転駆動するのではなく、開口部材２をＺ軸周りに回転駆動することによっても同様の効果を得ることができる。
【００３９】
また、第１ショット領域のつなぎ領域の第１幅と第２ショット領域のつなぎ領域の第２幅とを等しくするために、開口部材２の開口２ａと遮蔽板１０とをＸＹ平面内で相対的に駆動させてもよい。具体的には、図１２（ａ）及び図１２（ｂ）に示すように、第１ショット領域のつなぎ領域の第１幅と第２ショット領域のつなぎ領域の第２幅とが等しくなるように、開口部材２の開口２ａに対して遮蔽板１０をＸＹ平面内で平行駆動する。これにより、図１２（ｃ）に示すように、第１ショット領域のつなぎ領域での積算照度と第２ショット領域のつなぎ領域での積算照度との和と、他の領域での積算照度との差を低減することができる。換言すれば、開口部材２の開口２ａを通過して基板７に入射する光によって基板上に形成される第１ショット領域及び第２ショット領域の全体の領域のＸ軸方向における積算照度分布をフラットすることができる。
【００４０】
ここでは、第１ショット領域を走査露光する際に、遮蔽板１０をＸＹ平面内で駆動し、第２ショット領域を走査露光する際には、遮蔽板１０を駆動していない。但し、第１ショット領域を走査露光する際には、遮蔽板１０を駆動せずに、第２ショット領域を走査露光する際に、遮蔽板１０をＸＹ平面内で駆動してもよい。また、第１ショット領域を走査露光する際及び第２ショット領域を走査露光する際の両方で、遮蔽板１０をＸＹ平面内で駆動してもよい。なお、図１２（ａ）乃至図１２（ｃ）では、開口部材２の開口２ａの形状が円弧形状である場合を例に説明したが、開口２の形状は矩形形状であってもよい。
【００４１】
なお、第１ショット領域のつなぎ領域の第１幅と第２ショット領域のつなぎ領域の第２幅とが等しくなるように、開口部材２の開口２ａに対して遮蔽板１０とをＸＹ平面内で平行駆動する他に、以下のようにしてもよい。例えば、開口部材２自体を不図示の駆動部によりＸ方向に駆動し、遮蔽板１０をＹ方向に駆動することで、開口部材２の開口２ａと遮蔽板１０とをＸＹ平面内で相対的に駆動させてもよい。更には、遮蔽板１０に対して開口部材２の開口２ａのみを平行駆動してもよい。これにより、第１ショット領域のつなぎ領域での積算照度と第２ショット領域のつなぎ領域での積算照度との和と、他の領域での積算照度とを差を低減することができる。
【００４２】
また、本実施形態では、処理Ｂにおいて駆動部１１を実際に駆動し、処理Ｃにおいて遮蔽板１０を遮蔽位置に実際に配置する場合を例に説明した。但し、処理Ｂでは、駆動部１１を実際には駆動せず、開口部材２の開口２ａを通過して基板７に入射する光によって基板上に形成されるＸ軸方向における積算照度分布がフラットになるように複数の駆動部１１を駆動したときの開口２ａの形状を求めてもよい。また、処理Ｃでは、遮蔽板１０を実際には配置せず、処理Ｂで求められた開口部材２の開口２ａの形状に基づいて、第１ショット領域及び第２ショット領域の全体の領域のＸ軸方向における積算照度分布をフラットするための駆動情報を求めてもよい。ここで、駆動情報とは、複数の駆動部１１、遮蔽板１０及び開口部材２の開口２ａの少なくとも一つを駆動するための情報である。従って、駆動情報は、例えば、どの駆動部１１をどれだけ駆動するのかを示す情報、遮蔽板１０をどれだけ回転駆動するのかを示す情報、遮蔽板１０をどれだけ平行駆動するのかを示す情報などを含む。更に、駆動情報は、駆動部１１や遮蔽板１０や開口部材２の開口２ａを駆動すべき位置を示す情報などを含む。そして、処理Ｄにおいて、遮蔽板１０を遮蔽位置に実際に配置するとともに、処理Ｃで求めた駆動情報に基づいて、複数の駆動部１１、遮蔽板１０及び開口部材２の開口２ａの少なくとも一つを実際に駆動してもよい。
【００４３】
本発明の実施形態における物品の製造方法は、例えば、デバイス（半導体素子、磁気記憶媒体、液晶表示素子など）などの物品を製造するのに好適である。かかる製造方法は、露光装置１００を用いて、感光剤が塗布された基板を露光する工程と、露光された基板を現像する工程を含む。また、かかる製造方法は、他の周知の工程（酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージングなど）を含みうる。本実施形態における物品の製造方法は、従来に比べて、物品の性能、品質、生産性及び生産コストの少なくとも１つにおいて有利である。
【００４４】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されないことはいうまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。
【符号の説明】
【００４５】
１００：露光装置    ２：開口部材    ２ａ：開口    １０：遮蔽板    １２：制御部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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