(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料をビームで走査する走査部と、該走査部による走査によって試料上でビームを照射された部分から発生したＸ線を検出する複数のＸ線検出器とを備えるＸ線分析装置において、
前記走査部による走査によって試料上でビームを照射された複数の部分の夫々について、前記複数のＸ線検出器が検出した複数のＸ線強度を、各Ｘ線強度の相対比の大きさに対して単純増加する重み係数を各Ｘ線強度に乗じた上で加算した重み付き加算値を計算する計算部と、
試料上でビームを照射された各部分に、各部分について前記計算部が計算した重み付き加算値を関連付けることにより、Ｘ線の修正された強度分布を生成する強度分布生成部と
を備えることを特徴とするＸ線分析装置。
【請求項２】
前記計算部は、前記複数のＸ線強度の和で各Ｘ線強度を除した値を前記重み係数とするように構成してあること
を特徴とする請求項１に記載のＸ線分析装置。
【請求項３】
前記計算部は、前記複数のＸ線強度の内で最大のＸ線強度に対する重み係数を１とし、他のＸ線強度に対する重み係数を０とするように構成してあること
を特徴とする請求項１に記載のＸ線分析装置。
【請求項４】
前記計算部は、各Ｘ線検出器が検出したＸ線の特定のエネルギー範囲又は波長範囲の積分値を、前記複数のＸ線検出器に亘って前記積分値を加算した値で除した値を、前記重み係数とするように構成してあること
を特徴とする請求項１に記載のＸ線分析装置。
【請求項５】
前記計算部は、特定の元素に起因するＸ線を前記複数のＸ線検出器が検出した複数のＸ線強度に対して、前記重み付き加算値を計算するように構成してあり、
前記強度分布生成部は、前記特定の元素に起因するＸ線の強度分布を生成するように構成してあること
を特徴とする請求項１乃至４のいずれか一つに記載のＸ線分析装置。
【請求項６】
試料へビームを照射する照射部と、試料上でビームを照射された部分から発生したＸ線を検出する複数のＸ線検出器とを備えるＸ線分析装置において、
前記複数のＸ線検出器が検出した複数のＸ線強度を、各Ｘ線強度の相対比の大きさに対して単純増加する重み係数を各Ｘ線強度に乗じた上で加算した重み付き加算値を計算する計算部と、
Ｘ線のエネルギー又は波長の夫々について前記計算部が計算した重み付き加算値をＸ線強度としたスペクトルを生成するスペクトル生成部と
を備えることを特徴とするＸ線分析装置。
【請求項７】
ビームで走査された試料から発生したＸ線を複数のＸ線検出器で検出した結果をコンピュータに解析させるコンピュータプログラムにおいて、
コンピュータに、走査によって試料上でビームを照射された複数の部分の夫々について、前記複数のＸ線検出器が検出した複数のＸ線強度を、各Ｘ線強度の相対比の大きさに対して単純増加する重み係数を各Ｘ線強度に乗じた上で加算した重み付き加算値を計算させるステップと、
コンピュータに、試料上でビームを照射された各部分に、各部分について計算した重み付き加算値を関連付けることにより、Ｘ線の強度分布を生成させるステップと
を含むことを特徴とするコンピュータプログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、試料から発生するＸ線の強度分布を分析するＸ線分析装置及びコンピュータプログラムに関する。
【背景技術】
【０００２】
Ｘ線分析は、電子線又はＸ線等の放射線を試料へ照射し、試料から発生するＸ線をＸ線検出器で検出し、特性Ｘ線又は蛍光Ｘ線のスペクトルから試料に含有される元素の定性分析又は定量分析を行う分析手法である。また放射線のビームで試料を走査しながら試料からのＸ線を検出することにより、特定の元素に起因する特性Ｘ線又は蛍光Ｘ線の強度分布を調べることができる。特定の元素に起因する特性Ｘ線又は蛍光Ｘ線の強度は特定の元素の量に対応するので、特定の元素に起因する特性Ｘ線又は蛍光Ｘ線の強度分布を調べることにより、試料に含有される特定の元素の濃度分布を得ることができる。電子線を用いるＸ線分析装置は、電子顕微鏡に組み込まれていることもある。【０００３】
ところで、試料に凹凸が存在する場合は、試料の一部から発生したＸ線がＸ線検出器に検出される前に試料の他の部分に遮られることがある。このため、検出されるＸ線の強度は試料の形状に応じて変化する。Ｘ線分析装置が検出した特性Ｘ線又は蛍光Ｘ線の強度分布には、試料の形状による強度変化の影響が含まれており、正確な元素濃度分布を得ることができないことがある。このような場合には、試料を回転させる等の方法により、試料を観測する方向を変更する必要があった。【０００４】
そこで、複数のＸ線検出器を用いて複数方向から試料を観測することができるＸ線分析装置が実用化されている。特許文献１には、２基のＸ線検出器を用いたＸ線分析装置が開示されている。また、２基のＸ線検出器へ入射するＸ線の強度比から、２基のＸ線検出器で検出したＸ線強度の加算値を補正するための補正係数を予め求めておき、補正係数を用いてＸ線強度を補正することによって、試料の形状による影響を低減させる技術も開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００２−３１０９５７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
複数方向から試料を観測できるＸ線分析装置では、一つの試料に対して複数のＸ線強度分布が得られる。いずれのＸ線強度分布にも、試料の形状による強度変化の影響が含まれている。観測の方向が異なると、試料の形状による強度変化も異なるので、Ｘ線強度分布は一致しない。このため、複数のＸ線強度分布はいずれも正確な元素濃度分布には対応しない。そこで、複数のＸ線強度分布から、元素濃度分布を導出する方法が求められる。複数のＸ線強度分布を単純に加算しただけでは、試料の形状による影響を除去することができないので、特許文献１に開示されたような試料の形状による影響を低減させる技術が必要である。しかしながら、２基のＸ線検出器を用いる方法では、二つの方向からしかＸ線を検出できないので、試料の形状による影響を低減させる効果が不十分になることがある。より多くのＸ線検出器を用いた場合は、補正係数が複雑になりすぎてしまい、分析が困難になるという問題がある。【０００７】
本発明は、斯かる事情に鑑みてなされたものであって、その目的とするところは、複数のＸ線検出器で検出したＸ線強度を簡単な計算方法で補正することにより、試料の形状による影響を低減したＸ線強度分布を求めることができるＸ線分析装置及びコンピュータプログラムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明に係るＸ線分析装置は、試料をビームで走査する走査部と、該走査部による走査によって試料上でビームを照射された部分から発生したＸ線を検出する複数のＸ線検出器とを備えるＸ線分析装置において、前記走査部による走査によって試料上でビームを照射された複数の部分の夫々について、前記複数のＸ線検出器が検出した複数のＸ線強度を、各Ｘ線強度の相対比の大きさに対して単純増加する重み係数を各Ｘ線強度に乗じた上で加算した重み付き加算値を計算する計算部と、試料上でビームを照射された各部分に、各部分について前記計算部が計算した重み付き加算値を関連付けることにより、Ｘ線の修正された強度分布を生成する強度分布生成部とを備えることを特徴とする。【０００９】
本発明に係るＸ線分析装置は、前記計算部は、前記複数のＸ線強度の和で各Ｘ線強度を除した値を前記重み係数とするように構成してあることを特徴とする。【００１０】
本発明に係るＸ線分析装置は、前記計算部は、前記複数のＸ線強度の内で最大のＸ線強度に対する重み係数を１とし、他のＸ線強度に対する重み係数を０とするように構成してあることを特徴とする。【００１１】
本発明に係るＸ線分析装置は、前記計算部は、各Ｘ線検出器が検出したＸ線の特定のエネルギー範囲又は波長範囲の積分値を、前記複数のＸ線検出器に亘って前記積分値を加算した値で除した値を、前記重み係数とするように構成してあることを特徴とする。【００１２】
本発明に係るＸ線分析装置は、前記計算部は、特定の元素に起因するＸ線を前記複数のＸ線検出器が検出した複数のＸ線強度に対して、前記重み付き加算値を計算するように構成してあり、前記強度分布生成部は、前記特定の元素に起因するＸ線の強度分布を生成するように構成してあることを特徴とする。【００１３】
本発明に係るＸ線分析装置は、試料へビームを照射する照射部と、試料上でビームを照射された部分から発生したＸ線を検出する複数のＸ線検出器とを備えるＸ線分析装置において、前記複数のＸ線検出器が検出した複数のＸ線強度を、各Ｘ線強度の相対比の大きさに対して単純増加する重み係数を各Ｘ線強度に乗じた上で加算した重み付き加算値を計算する計算部と、Ｘ線のエネルギー又は波長の夫々について前記計算部が計算した重み付き加算値をＸ線強度としたスペクトルを生成するスペクトル生成部とを備えることを特徴とする。【００１４】
本発明に係るコンピュータプログラムは、ビームで走査された試料から発生したＸ線を複数のＸ線検出器で検出した結果をコンピュータに解析させるコンピュータプログラムにおいて、コンピュータに、走査によって試料上でビームを照射された複数の部分の夫々について、前記複数のＸ線検出器が検出した複数のＸ線強度を、各Ｘ線強度の相対比の大きさに対して単純増加する重み係数を各Ｘ線強度に乗じた上で加算した重み付き加算値を計算させるステップと、コンピュータに、試料上でビームを照射された各部分に、各部分について計算した重み付き加算値を関連付けることにより、Ｘ線の強度分布を生成させるステップとを含むことを特徴とする。【００１５】
本発明においては、Ｘ線分析装置は、ビームを照射した試料から発生したＸ線を複数のＸ線検出器で検出し、Ｘ線強度の相対比の大きさに対して単純増加する重み係数を乗じた上で複数のＸ線強度を加算した重み付き加算値を計算する。Ｘ線分析装置は、重み付き加算値を試料上の各部分でのＸ線強度として、Ｘ線の強度分布を生成する。Ｘ線強度の重み付加算値は、複数のＸ線検出器で検出したＸ線強度の内、相対的に大きい強度の寄与が大きくなり、試料の形状に応じてＸ線が減衰することによる影響が低減される。【００１６】
本発明においては、Ｘ線分析装置は、複数のＸ線検出器で検出したＸ線強度の和で各Ｘ線強度を除した値を重み係数として、Ｘ線強度の重み付加算値を計算する。試料の各部分でのＸ線強度として、複数のＸ線検出器で検出したＸ線強度の内で相対的に大きい強度の寄与が大きく、相対的に小さい強度の寄与が小さいＸ線強度が生成される。【００１７】
本発明においては、Ｘ線分析装置は、複数のＸ線検出器で検出したＸ線強度の内で最大のＸ線強度に対する重み係数を１とし、他のＸ線強度に対する重み係数を０として、Ｘ線強度の重み付加算値を計算する。これにより、Ｘ線分析装置は、複数のＸ線検出器で検出したＸ線強度の内の最大値を、試料から発生した特性Ｘ線の強度とする。【００１８】
本発明においては、Ｘ線分析装置は、各Ｘ線検出器で検出したＸ線の積分値を複数のＸ線検出器に亘って加算した値で、各積分値を除することによって、重み係数を得る。積分は特定のエネルギー又は波長の範囲で行われる。積分範囲は、例えば、Ｘ線を検出することができる全エネルギー若しくは全波長の範囲、又は特定の元素に起因する特性Ｘ線のエネルギー若しくは波長が含まれる範囲である。この重み係数を用いてＸ線強度の重み付加算値を計算することにより、複数のＸ線検出器で検出したＸ線強度の内で相対的に大きい強度の寄与が大きく、相対的に小さい強度の寄与が小さいＸ線強度が得られる。【００１９】
本発明においては、Ｘ線分析装置は、特定の元素に対応する特性Ｘ線の強度分布を生成する。これにより、特定の元素の試料上の濃度分布が得られる。【００２０】
本発明においては、Ｘ線分析装置は、計算したＸ線強度の重み付加算値からなるスペクトルを生成する。これにより、試料の形状による影響を低減したＸ線スペクトルが得られる。
【発明の効果】
【００２１】
本発明にあっては、Ｘ線分析装置は、試料の形状による影響を低減した特性Ｘ線の強度分布を容易に生成することができる。このため、Ｘ線分析装置は、試料に含まれる元素の正確な濃度分布を得ることが可能となる等、本発明は優れた効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】実施の形態１に係るＸ線分析装置の構成を示すブロック図である。
【図２】Ｘ線検出部の模式的平面図である。
【図３】制御装置の内部構成を示すブロック図である。
【図４】個々のＸ線検出器が検出した特性Ｘ線の強度分布の例を示す模式図である。
【図５】制御装置が実行する処理の手順を示すフローチャートである。
【図６】Ｓ３で生成された特性Ｘ線の強度分布の例を示す模式図である。
【図７】実施の形態５に係るＸ線分析装置の構成を示すブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下本発明をその実施の形態を示す図面に基づき具体的に説明する。
（実施の形態１）
図１は、実施の形態１に係るＸ線分析装置の構成を示すブロック図である。Ｘ線分析装置は、試料５に電子線（ビーム）を照射する電子銃４１と、電子レンズ系４２と、試料５が載置される試料台４３とを備えている。電子レンズ系４２は、電子線の方向を変更させる走査コイルを含んでいる。電子銃４１及び電子レンズ系４２は、本発明における走査部に対応する。また、電子銃４１及び電子レンズ系４２は、Ｘ線分析装置全体を制御する制御装置３に接続されている。
【００２４】
電子レンズ系４２と試料台４３との間には、Ｘ線検出部１が配置されている。Ｘ線検出部１は、電子線を通すための孔を設けた形状に形成されている。図１中には、Ｘ線検出部１の断面を示している。また、Ｘ線検出部１は、夫々にＳＤＤ（Silicon Drift Detector）を用いてなる複数のＸ線検出器を含んで構成されている。図２は、Ｘ線検出部１の模式的平面図である。Ｘ線検出部１は、孔１５を形成した基板に複数のＸ線検出器１１，１２，１３，１４が実装され、孔１５を囲んでＸ線検出器１１，１２，１３，１４が配置された構成となっている。Ｘ線検出部１は、孔１５を電子線が通る位置に配置され、Ｘ線の入射面が電子線の軸に交差して配置されている。また、Ｘ線検出部１には、ペルチェ素子等の図示しない冷却機構が付属している。試料５が試料台４３に載置された状態では、試料５の電子線が照射される面の前面にＸ線検出部１が配置されている。制御装置３からの制御信号に従って、電子銃４１が電子線を放出し、電子レンズ系４２が電子線の方向を定め、電子線はＸ線検出部１の孔１５を通って試料台４３上の試料５へ照射される。試料５上で、電子線を照射された部分では、特性Ｘ線が発生する。特性Ｘ線は、Ｘ線検出部１に含まれるＸ線検出器１１，１２，１３，１４で検出される。即ち、試料５上の同一の部分から同時に発生した特性Ｘ線が、複数のＸ線検出器で夫々独立に検出される。図１には、電子線を実線矢印で示し、特性Ｘ線を破線矢印で示している。Ｘ線検出器１１，１２，１３，１４は、検出した特性Ｘ線のエネルギーに比例した信号を出力する。Ｘ線分析装置の構成の内、少なくとも電子銃４１、電子レンズ系４２、Ｘ線検出部１及び試料台４３は、図示しない真空箱の中に納められている。真空箱は、電子線及びＸ線を遮蔽する材料で構成されており、Ｘ線分析装置の動作中には真空箱の内部は真空に保たれている。
【００２５】
Ｘ線検出器１１，１２，１３，１４の夫々は、出力した信号を処理する信号処理部２に接続されている。信号処理部２は、Ｘ線検出器１１，１２，１３，１４が出力した信号を受け付け、信号を値別にカウントし、信号の値が示す特性Ｘ線のエネルギーとカウント数とを対応付けた特性Ｘ線のスペクトルを取得する処理を行う。あるエネルギーに対応付けられたカウント数は、当該エネルギーを有する特性Ｘ線の強度である。信号処理部２は、制御装置３に接続されている。電子レンズ系４２が電子線の方向を順次変更することにより、電子線は試料５を走査する。電子線が試料５を走査することにより、試料５上の走査領域内の夫々の部分に電子線が順次照射される。電子線が試料５を走査することに伴い、試料５上で電子線を照射された部分から発生した特性Ｘ線がＸ線検出器１１，１２，１３，１４で順次検出される。信号処理部２は、順次信号処理を行うことにより、試料５上の電子線を照射された複数の部分で発生した特性Ｘ線のスペクトルを順次生成する。信号処理部２は、Ｘ線検出器１１，１２，１３，１４の夫々が検出した特性Ｘ線のスペクトルを個別に生成する。即ち、試料５上で電子線が照射された複数の部分の夫々について、特性Ｘ線の複数のスペクトルが生成される。信号処理部２は、生成した特性Ｘ線のスペクトルのデータを制御装置３へ順次出力する。
【００２６】
図３は、制御装置３の内部構成を示すブロック図である。制御装置３は、パーソナルコンピュータ等のコンピュータを用いて構成されている。制御装置３は、演算を行うＣＰＵ（Central Processing Unit ）３１と、演算に伴って発生する一時的なデータを記憶するＲＡＭ（Random Access Memory）３２と、光ディスク等の記録媒体６から情報を読み取るドライブ部３３と、ハードディスク等の不揮発性の記憶部３４とを備えている。また制御装置３は、使用者の操作を受け付けるキーボード又はマウス等の操作部３５と、液晶ディスプレイ等の表示部３６と、インタフェース部３７とを備えている。インタフェース部３７には、電子銃４１、電子レンズ系４２、及び信号処理部２が接続されている。ＣＰＵ３１は、記録媒体６に記録されたコンピュータプログラム６１をドライブ部３３に読み取らせ、読み取ったコンピュータプログラム６１を記憶部３４に記憶させる。コンピュータプログラム６１は必要に応じて記憶部３４からＲＡＭ３２へロードされ、ＣＰＵ３１は、ロードされたコンピュータプログラム６１に従って、Ｘ線分析装置に必要な処理を実行する。なお、コンピュータプログラム６１は、制御装置３の外部からダウンロードされてもよい。制御装置３は、信号処理部２から出力された特性Ｘ線のスペクトルのデータをインタフェース部３７で受け付け、試料５上で電子線を照射された部分の位置と特性Ｘ線のスペクトルとを関連付けたデータを記憶部３４に記憶する。また、制御装置３は、インタフェース部３７に接続された電子レンズ系４２の動作を制御する。
【００２７】
電子線による試料５の走査が終了した段階で、制御装置３は、Ｘ線検出器１１，１２，１３，１４の夫々で検出した特性Ｘ線のスペクトルのデータを試料５上の各部分に関連付けて記憶部３４で記憶している。記憶されたデータから、Ｘ線検出器１１，１２，１３，１４の夫々が検出した特性Ｘ線の試料５上での強度分布を求めることも可能である。しかしながら、個々のＸ線検出器が検出する特性Ｘ線の強度は、試料５の形状による影響を受けている。このため、個々のＸ線検出器が検出した特性Ｘ線の強度分布は、試料５中の元素の濃度分布には対応しない。
【００２８】
また、特性Ｘ線の強度は、各Ｘ線検出器の検出効率によっても影響を受ける。各Ｘ線検出器の検出効率は、一般的には種々の要因により互いに異なる。検出効率が異なる要因は、例えば、Ｘ線検出器の有効面積、試料からＸ線検出器までの距離、及び試料からの特性Ｘ線のＸ線検出器への入射角度から決まる検出立体角の差がある。また、例えば、Ｘ線検出器へ入射するＸ線が透過するＸ線窓又はＸ線検出器のＸ線入射面の材質及び厚みの違いによるＸ線検出器の検出感度の差である。また、例えば、信号処理の速度又は時定数の違いによる不感時間の差である。しかし、これらの要因は特性Ｘ線の測定前に既知であるので、各Ｘ線検出器の検出効率の違いを補正係数で補正することができる。補正係数は、理論的又は実験的に予め定められており、記憶部３４に記憶されている。制御装置３は、各Ｘ線検出器の検出効率による影響を補正した特性Ｘ線のスペクトルのデータを記憶部３４に記憶する。
【００２９】
図４は、個々のＸ線検出器が検出した特性Ｘ線の強度分布の例を示す模式図である。試料５の形状は球形であり、試料５上の各部分からは同一強度の特性Ｘ線が発生したと仮定する。図４Ａは、Ｘ線検出器１１が検出した特性Ｘ線の強度分布を示す。図４Ａ〜Ｄ上のハッチングが濃い部分は、検出した特性Ｘ線の強度が小さいことを示している。図１及び図２に示すように、Ｘ線検出器１１は、試料５の斜め上の位置で試料５からの特性Ｘ線を検出する。試料５上の各部分の内でＸ線検出器１１から見て他の部分の陰に隠れる部分からの特性Ｘ線は、強度が減衰する。図２に示す平面図上で、試料５は孔１５の位置にあり、Ｘ線検出器１１は試料５に対して左上の位置にあるので、球状の試料５の右下部分は、Ｘ線検出器１１から見て他の部分の陰に隠れている。従って、図４Ａに示すように、Ｘ線検出器１１が検出した特性Ｘ線の強度分布では、右下部分の特性Ｘ線強度が他の部分に比べて小さくなっている。
【００３０】
図４Ｂは、Ｘ線検出器１２が検出した特性Ｘ線の強度分布を示す。図２に示す平面図上で、Ｘ線検出器１２は試料５に対して左下の位置にあるので、図４Ｂに示すように、Ｘ線検出器１２が検出した特性Ｘ線の強度分布では、右上部分の特性Ｘ線強度が他の部分に比べて小さくなっている。図４Ｃは、Ｘ線検出器１３が検出した特性Ｘ線の強度分布を示す。図２に示す平面図上で、Ｘ線検出器１３は試料５に対して右上の位置にあるので、図４Ｃに示すように、Ｘ線検出器１３が検出した特性Ｘ線の強度分布では、左下部分の特性Ｘ線強度が他の部分に比べて小さくなっている。図４Ｄは、Ｘ線検出器１４が検出した特性Ｘ線の強度分布を示す。図２に示す平面図上で、Ｘ線検出器１４は試料５に対して右下の位置にあるので、図４Ｄに示すように、Ｘ線検出器１４が検出した特性Ｘ線の強度分布では、左上部分の特性Ｘ線強度が他の部分に比べて小さくなっている。
【００３１】
制御装置３は、試料５の形状による影響を除去するように、特性Ｘ線の強度分布を補正する計算を行う。試料５上の電子線を照射される各部分の位置を（ｘ，ｙ）で示す。複数のＸ線検出器の数をＮとし、（ｘ，ｙ）の位置で発生した特性Ｘ線をｉ番目のＸ線検出器で検出した強度をＩi （ｘ，ｙ）とする。Ｉi （ｘ，ｙ）は特性Ｘ線のカウント数であり、夫々のエネルギーについて得られる。本実施の形態に示す例では、Ｎ＝４である。制御装置３は、下記の（１）式に従った計算により、複数のＸ線検出器で検出した特性Ｘ線強度の重み付き加算値Ｉ（ｘ，ｙ）を計算する。
【００３２】
【数１】
0006472434.tif 000002
【００３３】
（１）式中のｗi (ｘ，ｙ）は、Ｘ線検出器別の重み係数である。重み係数ｗi (ｘ，ｙ）は、（ｘ，ｙ）の位置で発生した特性Ｘ線を検出した複数のＸ線検出器の夫々について、検出した特性Ｘ線の強度の相対比の大きさに対して単純増加するように定められる。具体的には、重み係数ｗi (ｘ，ｙ）は下記の（２）式で表される。
【００３４】
【数２】
0006472434.tif 000003
【００３５】
（２）式で表されるように、ｗi (ｘ，ｙ）は、（ｘ，ｙ）の位置で発生した特性Ｘ線を複数のＸ線検出器で検出した強度の和で、各Ｘ線検出器で検出した特性Ｘ線の強度を除した値である。（１）式及び（２）式を用いてＩ（ｘ，ｙ）を計算することにより、複数のＸ線検出器で検出した特性Ｘ線の強度の内、相対的に大きい強度のＩ（ｘ，ｙ）に対する影響をより大きく、相対的に小さい強度のＩ（ｘ，ｙ）に対する影響をより小さくする。複数の特性Ｘ線の強度の内、相対的に小さい強度は試料５の形状の影響により減衰したものであり、相対的に大きい強度は減衰の無い特性Ｘ線の強度に近い。複数のＸ線検出器で測定した特性Ｘ線強度の重み付き加算値Ｉ（ｘ，ｙ）は、相対的に大きい強度の寄与が大きく、相対的に小さい強度の寄与が小さいので、試料５の形状による影響を低減した特性Ｘ線強度である。
【００３６】
図５は、制御装置３が実行する処理の手順を示すフローチャートである。ＣＰＵ３１は、コンピュータプログラム６１を記憶部３４からＲＡＭ３２へロードし、ロードしたコンピュータプログラム６１に従って以下の処理を実行する。制御装置３は、電子銃４１及び電子レンズ系４２を制御して電子線で試料５を走査させながら、Ｘ線検出器１１，１２，１３，１４の夫々で検出した特性Ｘ線のスペクトルのデータを試料５上の各部分に関連付けて記憶部３４に記憶する（Ｓ１）。ＣＰＵ３１は、記憶部３４に記憶した特性Ｘ線のスペクトルのデータをＲＡＭ３２へ読み出し、（１）式及び（２）式を用いて、Ｘ線検出器１１，１２，１３，１４で検出した特性Ｘ線強度の重み付き加算値Ｉ（ｘ，ｙ）を計算する（Ｓ２）。Ｓ２では、ＣＰＵ３１は、特性Ｘ線のスペクトルに含まれる夫々のエネルギーについて、特性Ｘ線強度の重み付き加算値Ｉ（ｘ，ｙ）を計算する。ＣＰＵ３１は、特性Ｘ線のエネルギーと計算したＩ（ｘ，ｙ）とを対応付けて、試料５の形状による影響を低減した特性Ｘ線のスペクトルを生成する。また、Ｓ２では、ＣＰＵ３１は、試料５上で電子線を照射された夫々の部分について、Ｘ線検出器１１，１２，１３，１４で検出した特性Ｘ線強度の重み付き加算値Ｉ（ｘ，ｙ）を計算し、試料５の形状による影響を低減した特性Ｘ線のスペクトルを生成する。
【００３７】
ＣＰＵ３１は、次に、特性Ｘ線強度の重み付き加算値Ｉ（ｘ，ｙ）を、試料５から発生した特性Ｘ線の強度として、試料５上で発生した特性Ｘ線の強度分布を生成する（Ｓ３）。具体的には、ＣＰＵ３１は、試料５上で電子線を照射された夫々の部分の位置と計算した特性Ｘ線強度の重み付き加算値Ｉ（ｘ，ｙ）とを関連付けることにより、特性Ｘ線の強度分布を生成する。Ｓ３では、ＣＰＵ３１は、試料５上の夫々の部分の位置と特性Ｘ線のスペクトルとを関連付けて、特性Ｘ線のスペクトル分布を生成する。また、ＣＰＵ３１は、試料５上の夫々の部分の位置と特性Ｘ線のスペクトルに含まれる特定のエネルギーのＩ（ｘ，ｙ）とを関連付けて、特定のエネルギーを有する特性Ｘ線の強度分布を生成することもできる。記憶部３４は、特定の元素と当該元素に起因する特性Ｘ線のエネルギーとを対応付けたデータを記憶しておき、ＣＰＵ３１は、特定の元素に対応するエネルギーを有する特性Ｘ線の強度分布を生成してもよい。Ｓ３で得られた特性Ｘ線の強度分布は、試料５の形状による影響を低減するように修正された強度分布である。また、ＣＰＵ３１は、特定の元素に対応するエネルギーのＩ（ｘ，ｙ）から元素濃度を計算し、試料５上の夫々の部分の位置と特定の元素の濃度とを関連付けた元素濃度分布を生成してもよい。また、ＣＰＵ３１は、特定の元素に起因する特性Ｘ線のエネルギーのみについて、特性Ｘ線強度の重み付き加算値Ｉ（ｘ，ｙ）を計算し、特定の元素に起因する特性Ｘ線の強度分布又は特定の元素の濃度分布を生成してもよい。また、ＣＰＵ３１は、生成した特性Ｘ線の強度分布又は元素濃度分布の画像を表示部３６に表示させることも可能である。ＣＰＵ３１は、特性Ｘ線の強度分布又は元素濃度分布を表すデータを記憶部３４に記憶し、処理を終了する。
【００３８】
以上詳述したごとく、本実施の形態においては、Ｘ線分析装置は、電子線を照射した試料５の各部分から発生した特性Ｘ線をＸ線検出器１１，１２，１３，１４で検出し、特性Ｘ線強度の重み付き加算値Ｉ（ｘ，ｙ）を計算する。Ｘ線分析装置は、計算した重み付き加算値Ｉ（ｘ，ｙ）を試料５の各部分での特性Ｘ線強度として、試料５から発生した特性Ｘ線の強度分布を生成する。特性Ｘ線強度の重み付き加算値Ｉ（ｘ，ｙ）は、複数のＸ線検出器で検出した特性Ｘ線強度の内、相対的に大きい強度の寄与が大きい。試料５の同一部分から発生した特性Ｘ線を複数のＸ線検出器で検出した強度が異なる原因は、Ｘ線検出器の位置によって試料５の形状の影響による特性Ｘ線の減衰が異なることである。相対的に大きい強度は減衰の無い特性Ｘ線の強度に近いので、相対的に大きい強度の寄与が大きく相対的に小さい強度の寄与が小さい特性Ｘ線強度の重み付き加算値Ｉ（ｘ，ｙ）は、試料５の形状による影響を低減した特性Ｘ線強度である。Ｘ線分析装置は、重み付き加算値Ｉ（ｘ，ｙ）を特性Ｘ線強度として、試料５から発生した特性Ｘ線の強度分布を生成することにより、試料５の形状による影響を低減した特性Ｘ線の強度分布を生成することができる。
【００３９】
図６は、Ｓ３で生成された特性Ｘ線の強度分布の例を示す模式図である。図６には、図４Ａ〜Ｄに示した特性Ｘ線の検出結果から試料５の形状による影響を低減して生成した特性Ｘ線の強度分布を示している。試料５の形状に起因して特性Ｘ線の強度が低下している部分が無くなり、試料５上の各部分からは均一な強度で特性Ｘ線が発生したことが示されている。
【００４０】
本実施の形態に係る特性Ｘ線強度の重み付き加算値Ｉ（ｘ，ｙ）の計算方法は、簡単な計算方法であり、Ｘ線検出器の数が多くなったとしても複雑になることが無い。従って、Ｘ線分析装置は、Ｘ線検出器の数が多い場合でも、試料の形状による影響を低減したＸ線強度分布を容易に求めることができる。そして、Ｘ線分析装置は、多数のＸ線検出器を用いることで、試料の形状による影響を十分に低減したＸ線強度分布を得ることが可能となる。
【００４１】
Ｘ線分析装置が生成した特性Ｘ線の強度分布では、試料５上の位置の違いによる特性Ｘ線強度の違いに対して、試料５の形状による影響は小さい。このため、この強度分布は、特性Ｘ線の原因となる元素の試料５上での濃度分布を反映している。従って、Ｘ線分析装置は、試料５に含まれる元素の正確な濃度分布を得ることが可能となる。
【００４２】
なお、Ｘ線分析装置は、特性Ｘ線の強度分布又は元素濃度分布の画像を表示部３６に表示する形態に限るものではなく、外部の表示装置に画像を表示させる形態であってもよい。また、信号処理部２は、本実施の形態で説明した制御装置３の処理の一部を実行する形態であってもよく、制御装置３は、本実施の形態で説明した信号処理部２の処理の一部を実行する形態であってもよい。また、Ｘ線分析装置は、信号処理部２と制御装置３とが一体になった形態であってもよい。また、Ｘ線分析装置は、ＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）又はＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）に組み込まれた形態であってもよい。この形態では、Ｘ線分析装置には、ＳＥＭ又はＴＥＭ用に、反射電子、二次電子又は透過電子等の電子を検出する検出器と、検出器からの信号を処理する信号処理部とが備えられる。
【００４３】
（実施の形態２）
実施の形態２に係るＸ線分析装置の構成は、実施の形態１と同様である。実施の形態２においては、Ｘ線分析装置は、特性Ｘ線強度の重み付き加算値Ｉ（ｘ，ｙ）を実施の形態１とは異なる方法で計算する。
【００４４】
Ｘ線分析装置は、実施の形態１と同様に、試料５へ電子線を照射し、試料５の各部分から発生した特性Ｘ線をＸ線検出器１１，１２，１３，１４で検出し、特性Ｘ線のスペクトルを信号処理部２で生成する。制御装置３は、実施の形態１と同様に、Ｓ１〜Ｓ３の処理を実行する。この処理の内、Ｓ２では、ＣＰＵ３１は、重み係数ｗi (ｘ，ｙ）を計算するために（２）式を使用せずに他の方法で計算を行う。ＣＰＵ３１は、試料５上の（ｘ，ｙ）の位置で発生した特性Ｘ線を複数のＸ線検出器で検出した強度Ｉi （ｘ，ｙ）の内、最大の強度に対する重み係数を１とし、他のＸ線強度に対する重み係数を０とする。即ち、Ｎ個のＩi （ｘ，ｙ）の内の最大値をＩj （ｘ，ｙ）とすると、ｗj (ｘ，ｙ）＝１、ｉ≠ｊのｗi (ｘ，ｙ）＝０となる。特性Ｘ線強度の重み付き加算値Ｉ（ｘ，ｙ）は、（１）式より、Ｉ（ｘ，ｙ）＝Ｉj （ｘ，ｙ）となる。ＣＰＵ３１は、Ｓ２で、このようにして特性Ｘ線強度の重み付き加算値Ｉ（ｘ，ｙ）を計算する。
【００４５】
以上のように、本実施の形態においては、Ｘ線分析装置は、Ｘ線検出器１１，１２，１３，１４で検出した特性Ｘ線の強度の内の最大値を、試料５から発生した特性Ｘ線の強度とし、試料５上で発生した特性Ｘ線の強度分布を生成する。複数のＸ線検出器で検出した特性Ｘ線強度の内の最大値は、試料５の形状の影響による特性Ｘ線の減衰が最少になっている。この最大値を特性Ｘ線の強度とすることにより、Ｘ線分析装置は、試料５の形状による影響を可及的に低減した特性Ｘ線強度を得ることができる。Ｘ線分析装置は、得られた特性Ｘ線の強度分布を生成することにより、試料５の形状による影響を可及的に低減した特性Ｘ線の強度分布を生成することができる。また、Ｘ線分析装置は、実施の形態１と同様に、試料５に含まれる元素の正確な濃度分布を得ることが可能となる。
【００４６】
本実施の形態では、複数のＸ線検出器で検出した特性Ｘ線強度の加算を実際には行わない。加算による特性Ｘ線強度の平滑化が行われないので、実施の形態１に比べて、特性Ｘ線の強度分布及び元素の濃度分布のＳＮ比が悪化する。しかしながら、実施の形態１に必要な特性Ｘ線強度の加算、除算及び乗算が不必要であるので、本実施の形態では制御装置３の計算負荷が低下する。従って、本実施の形態では、より小さい計算リソースでＸ線分析装置を実現することができる。
【００４７】
なお、本実施の形態においては、複数のＸ線検出器で検出した特性Ｘ線の強度の内で最大値のみを使用する形態を示したが、Ｘ線分析装置は、相対的に値が大きい複数の特性Ｘ線強度を使用する形態であってもよい。例えば、Ｘ線分析装置は、複数のＸ線検出器で検出した特性Ｘ線の強度の内、相対的に値が大きい所定数の特性Ｘ線強度に対する重み係数を正の値とし、その他の特性Ｘ線強度に対する重み係数を０として、特性Ｘ線強度の重み付き加算値Ｉ（ｘ，ｙ）を計算する形態であってもよい。
【００４８】
（実施の形態３）
実施の形態３に係るＸ線分析装置の構成は、実施の形態１と同様である。Ｘ線分析装置は、実施の形態１と同様に、試料５へ電子線を照射し、試料５の各部分から発生した特性Ｘ線をＸ線検出器１１，１２，１３，１４で検出し、特性Ｘ線のスペクトルを信号処理部２で生成する。制御装置３は、実施の形態１と同様に、Ｓ１〜Ｓ３の処理を実行する。この処理の内、Ｓ２では、ＣＰＵ３１は、重み係数ｗi (ｘ，ｙ）を計算するために（２）式を使用せずに、下記の（３）式で表される重み係数ｗi (ｘ，ｙ）を使用する。
【００４９】
【数３】
0006472434.tif 000004
【００５０】
（３）式中のＳi （ｘ，ｙ）は、下記の（４）式で表される。
【００５１】
【数４】
0006472434.tif 000005
【００５２】
（４）式中のＥは特性Ｘ線のエネルギーであり、Ｅmin はＸ線検出器１１，１２，１３，１４で検出することが可能な特性Ｘ線のエネルギーの下限値、Ｅmax は上限値である。Ｓi （ｘ，ｙ）は、特性Ｘ線の全エネルギーに亘るカウント数の総和である。ＣＰＵ３１は、Ｓ２で、（３）式及び（４）式を用いて重み係数ｗi (ｘ，ｙ）を計算し、（１）式を用いて特性Ｘ線強度の重み付き加算値Ｉ（ｘ，ｙ）を計算する。ＣＰＵ３１は、Ｓ３では、実施の形態１と同様の処理を行い、特性Ｘ線の強度分布を生成する。また、Ｘ線分析装置は、実施の形態１と同様に、試料５に含まれる元素の正確な濃度分布を得ることが可能である。本実施の形態においても、Ｘ線分析装置は、試料５の形状による影響を可及的に低減した特性Ｘ線の強度分布を生成することができ、また、試料５に含まれる元素の正確な濃度分布を得ることが可能となる。
【００５３】
以上のように、本実施の形態では、特性Ｘ線の全エネルギーに亘るカウント数の総和から重み係数ｗi (ｘ，ｙ）を計算する。これにより、いずれのエネルギーにおいても重み係数ｗi (ｘ，ｙ）が同一となる。特性Ｘ線強度の重み付き加算値Ｉ（ｘ，ｙ）を計算する際には、特性Ｘ線のスペクトルに含まれる夫々のエネルギーについて重み係数ｗi (ｘ，ｙ）を逐一計算する必要が無くなり、必要な計算量が低減される。また、夫々のエネルギーについて重み係数を計算する場合に比べて、特性Ｘ線強度の重み付き加算値Ｉ（ｘ，ｙ）の変動が小さくなり、特性Ｘ線の強度分布及び元素の濃度分布のＳＮ比が改善される。
【００５４】
（実施の形態４）
実施の形態４に係るＸ線分析装置の構成は、実施の形態１と同様である。実施の形態１〜３では、あるエネルギーを有するＸ線のカウント数をＸ線の強度としたが、実施の形態４においては、Ｘ線分析装置は、特定のエネルギー範囲でＸ線のカウント数を積分した値をＸ線の強度とする。
【００５５】
Ｘ線分析装置は、実施の形態１と同様に、試料５へ電子線を照射し、試料５の各部分から発生した特性Ｘ線をＸ線検出器１１，１２，１３，１４で検出し、特性Ｘ線のスペクトルを信号処理部２で生成する。（ｘ，ｙ）の位置で発生した特性Ｘ線をｉ番目のＸ線検出器で検出した強度をＲi （ｘ，ｙ）とする。Ｒi （ｘ，ｙ）は、特定のエネルギー範囲で特性Ｘ線のカウント数を積分した値である。Ｒi （ｘ，ｙ）は下記の（５）式で表される。
【００５６】
【数５】
0006472434.tif 000006
【００５７】
（５）式の積分範囲は、特定の元素に起因する特性Ｘ線のエネルギーが含まれた特定のエネルギー範囲である。Ｅ1 は特定のエネルギー範囲に含まれるエネルギーの下限値であり、Ｅ2 は上限値である。特定の元素に対応するエネルギー範囲は、所謂ＲＯＩ（region of interest）である。特性Ｘ線のスペクトル中では、特定の元素に対応するピークはＲＯＩの範囲内に含まれる。特定の元素に対応するＲＯＩは複数設定することも可能であり、（５）式の積分範囲は複数のＲＯＩを含んでいてもよい。
【００５８】
制御装置３は、実施の形態１と同様に、Ｓ１〜Ｓ３の処理を実行する。この処理の内、Ｓ２では、制御装置３は、下記の（６）式に従った計算により、複数のＸ線検出器で検出した特性Ｘ線強度の重み付き加算値Ｒ（ｘ，ｙ）を計算する。
【００５９】
【数６】
0006472434.tif 000007
【００６０】
本実施の形態におけるＸ線検出器別の重み係数ｗi (ｘ，ｙ）は、下記の（７）式で表される。
【００６１】
【数７】
0006472434.tif 000008
【００６２】
ＣＰＵ３１は、（５）式及び（７）式を用いて重み係数ｗi (ｘ，ｙ）を計算し、（６）式を用いて特性Ｘ線強度の重み付き加算値Ｒ（ｘ，ｙ）を計算する。元素濃度分布を生成すべき特定の元素が複数存在する場合は、ＣＰＵ３１は、夫々の元素のＲＯＩについて、重み係数ｗi (ｘ，ｙ）を計算し、特性Ｘ線強度の重み付き加算値Ｒ（ｘ，ｙ）を計算する。ＣＰＵ３１は、Ｓ３では、実施の形態１と同様の処理を行い、特性Ｘ線の強度分布を生成する。また、Ｘ線分析装置は、実施の形態１と同様に、試料５に含まれる元素の正確な濃度分布を得ることが可能である。本実施の形態においても、Ｘ線分析装置は、試料５の形状による影響を可及的に低減した特性Ｘ線の強度分布を生成することができ、また、試料５に含まれる元素の正確な濃度分布を得ることが可能となる。
【００６３】
以上のように、本実施の形態では、特定の元素に対応するＲＯＩの範囲内で特性Ｘ線のカウント数を積分した値を、特定の元素に起因する特性Ｘ線の強度とし、重み付き加算値Ｒ（ｘ，ｙ）を計算する。夫々のエネルギーについてのカウント数に比べて、ＲＯＩの範囲内でカウント数を積分した値は、値が大きくなるので、特性Ｘ線強度の重み付き加算値Ｒ（ｘ，ｙ）の変動が小さくなり、特性Ｘ線の強度分布及び元素の濃度分布のＳＮ比が改善される。また、各元素に対応するＲＯＩについて重み係数及び特性Ｘ線強度の重み付き加算値を計算すればよく、夫々のエネルギーについて逐一計算する必要が無いので、必要な計算量が低減される。
【００６４】
なお、ＣＰＵ３１は、Ｓ２で、（７）式ではなく（３）式を用いて重み係数ｗi (ｘ，ｙ）を計算してもよい。この場合は、重み係数ｗi (ｘ，ｙ）が同一となり、必要な計算量が低減される。また、ＣＰＵ３１は、Ｓ２で、（７）式の計算に用いるためのＲi （ｘ，ｙ）を計算する際の積分範囲を、複数の元素に対応する複数のＲＯＩを含んだ範囲として、重み係数ｗi (ｘ，ｙ）を計算してもよい。この場合は、重み係数ｗi (ｘ，ｙ）が同一となるとともに、（３）式を用いて重み係数を計算した場合と比べて、元素濃度分布を生成すべき複数の元素以外の元素からの影響を低減することができる。
【００６５】
（実施の形態５）
図７は、実施の形態５に係るＸ線分析装置の構成を示すブロック図である。Ｘ線分析装置は、電子銃４１及び電子レンズ系４２は備えておらず、Ｘ線源４４と試料台４３を水平方向へ移動させる駆動部４５とを備えている。Ｘ線源４４はＸ線管を用いて構成されている。Ｘ線源４４は、試料台４３上の試料５へＸ線ビームを照射する。Ｘ線検出部１は、Ｘ線源４４と試料台４３との間に配置されている。Ｘ線検出部１の構成は実施の形態１と同様である。Ｘ線検出部１に含まれるＸ線検出器１１，１２，１３，１４は、Ｘ線ビームの照射によって試料５から発生した蛍光Ｘ線を検出する。信号処理部２は、Ｘ線検出器１１，１２，１３，１４が出力した信号に基づいて、蛍光Ｘ線のスペクトルを取得する。制御装置３は、駆動部４５の動作を制御して、試料台４３を水平面方向へ移動させ、移動した試料台４３上の試料５へＸ線ビームを照射させることによって、Ｘ線ビームで試料５を走査する処理を実行する。Ｘ線源４４及び駆動部４５は、本発明における走査部に対応する。信号処理部２は、Ｘ線ブームが照射された試料５上の夫々の部分について、蛍光Ｘ線の複数のスペクトルを生成する。
【００６６】
なお、Ｘ線分析装置は、Ｘ線ビームを試料５へ導くための図示しないＸ線光学系を備えた形態であってもよい。また、Ｘ線分析装置は、加速器を用いたＸ線源等、Ｘ線管を用いたＸ線源４４以外のＸ線源を備えた形態であってもよい。
【００６７】
制御装置３は、実施の形態１と同様に、Ｓ１〜Ｓ３と同様の処理を実行する。即ち、制御装置３は、Ｘ線検出器１１，１２，１３，１４の夫々で検出した蛍光Ｘ線のスペクトルのデータを試料５上の各部分に関連付けて記憶部３４で記憶する。ＣＰＵ３１は、Ｘ線検出器１１，１２，１３，１４で検出した蛍光Ｘ線強度の重み付き加算値を計算する。このとき、ＣＰＵ３１は、実施の形態１〜３と同様の計算方法で蛍光Ｘ線強度の重み付き加算値Ｉ（ｘ，ｙ）を計算するか、又は実施の形態４と同様の計算方法で蛍光Ｘ線強度の重み付き加算値Ｒ（ｘ，ｙ）を計算する。ＣＰＵ３１は、次に、蛍光Ｘ線強度の重み付き加算値を、試料５から発生した蛍光Ｘ線の強度として、試料５上で発生した蛍光Ｘ線の強度分布を生成する。具体的には、ＣＰＵ３１は、試料５上でＸ線ビームを照射された夫々の部分の位置と計算した蛍光Ｘ線強度の重み付き加算値とを関連付けることにより、蛍光Ｘ線の強度分布を生成する。このとき、ＣＰＵ３１は、蛍光Ｘ線のスペクトル分布を生成することができる。また、ＣＰＵ３１は、特定のエネルギーを有する蛍光Ｘ線の強度分布を生成することもできる。記憶部３４は、特定の元素と当該元素に起因する蛍光Ｘ線のエネルギーとを対応付けたデータを記憶しておき、ＣＰＵ３１は、特定の元素に対応するエネルギーを有する蛍光Ｘ線強度を生成してもよい。また、ＣＰＵ３１は、特定の元素に対応するエネルギーを有する蛍光Ｘ線強度から元素濃度を計算し、試料５に含まれる特定の元素の濃度分布を生成してもよい。また、ＣＰＵ３１は、生成した蛍光Ｘ線の強度分布又は元素濃度分布の画像を表示部３６に表示させることも可能である。ＣＰＵ３１は、蛍光Ｘ線の強度分布又は元素濃度分布を表すデータを記憶部３４に記憶する。
【００６８】
本実施の形態においては、Ｘ線分析装置は、実施の形態１〜４と同様に、試料５の形状による影響を低減した蛍光Ｘ線強度を得ることができる。同様に、Ｘ線分析装置は、得られた蛍光Ｘ線の強度分布を生成することにより、試料５の形状による影響を低減した蛍光Ｘ線の強度分布を生成することができる。また、同様に、Ｘ線分析装置は、試料５に含まれる元素の正確な濃度分布を得ることが可能となる。
【００６９】
なお、以上の実施の形態１〜５においては、複数のＸ線検出器で検出したＸ線のスペクトルを生成した上でＸ線強度分布を生成する形態を示したが、Ｘ線分析装置は、Ｘ線のスペクトルを生成することなくＸ線強度分布を生成する形態であってもよい。例えば、Ｘ線分析装置は、特定のエネルギーを有するＸ線のみの強度分布を生成する形態であってもよい。また、実施の形態１〜５においては、試料５の走査が終了した後でＸ線強度の重み付き加算値を計算する形態を示したが、Ｘ線分析装置は、走査と並行して、試料５上の各点から発生したＸ線の強度の重み付き加算値を計算する形態であってもよい。また、本発明におけるビームとして、実施の形態１〜４においては電子線を用いた形態を示し、実施の形態５においてはＸ線ビームを用いた形態を示したが、本発明におけるビームはその他のエネルギー線であってもよい。例えば、Ｘ線分析装置は、荷電粒子のビームを試料５へ照射する形態であってもよい。
【００７０】
また、Ｘ線分析装置は、実施の形態１〜５で示した方法以外の方法で重み係数を定めることも可能である。重み係数は、複数のＸ線検出器の夫々について、検出した特性Ｘ線の強度の相対比の大きさに対して単純増加するように定められる。単純増加であるので、一のＸ線検出器で検出した特性Ｘ線の強度が他のＸ線検出器で検出した特性Ｘ線の強度よりも大きい場合、一のＸ線検出器についての重み係数は、他のＸ線検出器での重み係数以上であればよい。例えば、強度の相対比の増加に対して、重み係数はステップ状に増加してもよい。二つのＸ線検出器で検出した特性Ｘ線の強度が同一である場合、強度の相対比がより小さい他のＸ線検出器と比較して、一方のＸ線検出器については重み係数が同一であり、他方のＸ線検出器については重み係数がより大きくなってもよい。
【００７１】
また、実施の形態１〜５においては、Ｘ線検出器１１，１２，１３，１４はＳＤＤを用いた半導体検出器であるとしたが、Ｘ線検出器１１，１２，１３，１４は、ＳＤＤ以外の半導体検出器であってもよく、半導体検出器以外の検出器であってもよい。また、実施の形態１〜５においては、Ｘ線をエネルギー別に分離して検出するエネルギー分散型の形態を示したが、Ｘ線分析装置は、Ｘ線を波長別に分離して検出する波長分散型の形態であってもよい。この形態では、Ｘ線分析装置は、Ｘ線の波長とカウント数とが対応づけられたスペクトルを生成し、また、特定の元素に対応する波長のＸ線の強度分布を生成する。
【符号の説明】
【００７２】
１  Ｘ線検出部
１１、１２、１３、１４  Ｘ線検出器
２  信号処理部
３  制御装置
３１  ＣＰＵ
３２  ＲＡＭ
３４  記憶部
４１  電子銃
４２  電子レンズ系
４３  試料台
４４  Ｘ線源
４５  駆動部
５  試料
６  記録媒体
６１  コンピュータプログラム
【図１】
0006472434.tif 000009
【図２】
0006472434.tif 000010
【図３】
0006472434.tif 000011
【図４】
0006472434.tif 000012
【図５】
0006472434.tif 000013
【図６】
0006472434.tif 000014
【図７】
0006472434.tif 000015