(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ｎ型窒化物半導体層と、
ｐ型窒化物半導体層と、
前記ｎ型窒化物半導体層と前記ｐ型窒化物半導体層との間に設けられた多重量子井戸発光層と、を備え、
前記多重量子井戸発光層は、前記ｐ型窒化物半導体層に近い側から、第２発光層と、中間の井戸層と、第１発光層とを備え、
前記第１発光層は、複数の第１量子井戸層と、前記複数の第１量子井戸層の間に設けられた第１バリア層とを備え、
前記第２発光層は、複数の第２量子井戸層と、前記複数の第２量子井戸層の間に設けられた第２バリア層とを備え、
第１発光層と第２発光層の間に中間の井戸層があり、そのバンドギャップエネルギーは第２量子井戸層のバンドギャップエネルギーと第１量子井戸層のバンドギャップエネルギーとの間の値をとり、
前記第２量子井戸層のバンドギャップエネルギーは、前記第１量子井戸層のバンドギャップエネルギーよりも大きい、窒化物半導体発光素子。
【請求項２】
前記中間の井戸層のバンドギャップエネルギーは、前記第１量子井戸層のバンドギャップエネルギーと前記第２量子井戸層のバンドギャップエネルギーの間の値である、請求項１に記載の窒化物半導体発光素子。
【請求項３】
前記中間の井戸層の層厚は、前記第１量子井戸層または前記第２量子井戸層の層厚より大きいことを特徴とする、請求項１または２に記載の窒化物半導体発光素子。
【請求項４】
前記第２量子井戸層の層数は前記第１量子井戸層の層数より少ない、請求項１〜３のいずれか１項に記載の窒化物半導体発光素子。
【請求項５】
前記第２量子井戸層の層数は前記第１量子井戸層の層数より多い、請求項１〜３のいずれか１項に記載の窒化物半導体発光素子。
【請求項６】
発光スペクトルが、前記第１量子井戸層から発光される波長からの発光ピークと、前記第２量子井戸層から発光される波長からの発光ピークとを有する、請求項１〜５のいずれか１項に記載の窒化物半導体発光素子。
【請求項７】
前記第２量子井戸層の層厚は前記第１量子井戸層の層厚より小さい、請求項１〜６のいずれか１項に記載の窒化物半導体発光素子。 
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、窒化物半導体発光素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体発光素子と蛍光体とを組み合わせた発光装置は、低消費電力、小型化、高輝度、さらには広範囲な色再現性が期待される次世代の発光装置として注目され、活発に研究、開発が行われている。発光素子から発せられる一次光は、通常、長波長の紫外線から青色の範囲、すなわち３８０〜４８０ｎｍのものが用いられる。そして、これらの発光素子と様々な蛍光体を用いた波長変換部とを組合せた発光装置が実現している。
【０００３】
特に、４５０ｎｍ前後に発光ピークを有する青色発光素子と蛍光体とを組合せた白色発光装置は、一般照明用途や液晶ディスプレイ（以下、ＬＣＤ（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ））用バックライトなどに広く用いられている。
【０００４】
これらの白色ＬＥＤ発光装置には、より色再現性が良好でより変換効率（明るさ）の高いものや温度特性の良好なものが求められており、たとえば、ＥｕａＳｉｂＡｌｃＯｄＮｅなどのβ型ＳｉＡｌＯＮである２価のユーロピウム付活酸窒化物緑色系発光蛍光体と、（Ｃａ，Ｅｕ）ＡｌＳｉＮ３などの２価のユーロピウム付活窒化物赤色系発光蛍光体やＫ２（Ｓｉ，Ｍｎ）Ｆ６などのマンガン付活フッ化物赤色系蛍光体とを組合せた白色発光装置を用いることにより、従来よりも色再現性が良好で変換効率（明るさ）が高く温度特性の良好な白色発光装置が実現されてきている（たとえば、特開２００７−１８０４８３号公報（特許文献１）、国際公開第２００９／１１０２８５号（特許文献２）など）。
【０００５】
一方、上記蛍光体と組み合わせる発光素子としては、窒素を含むＩＩＩ−Ｖ族化合物半導体材料からなる窒化物半導体発光素子が一般的に用いられる。窒素を含むＩＩＩ−Ｖ族化合物半導体材料（以下、「窒化物半導体材料」と呼ぶ）は、赤外領域から紫外領域の波長を有する光のエネルギーに相当するバンドギャップを有している。そのため、窒化物半導体材料は、赤外領域から紫外領域の波長を有する光を発光する発光素子の材料や、その領域の波長を有する光を受光する受光素子の材料などに有用である。
【０００６】
上記の特性を有する窒化物半導体材料を用いた窒化物半導体発光素子においては、発光層に量子井戸構造が採用されることが一般的である。発光層に量子井戸構造を採用した窒化物半導体発光素子に電圧が印加されると、発光層の量子井戸層において、電子とホールとが再結合されて光が発生する。量子井戸構造を有する発光層としては、単一量子井戸（Ｓｉｎｇｌｅ  Ｑｕａｎｔｕｍ  Ｗｅｌｌ：ＳＱＷ）構造であってもよいが、量子井戸層とバリア層とが交互に積層された多重量子井戸（Ｍｕｌｔｉｐｌｅ  Ｑｕａｎｔｕｍ  Ｗｅｌｌ：ＭＱＷ）構造とする場合が多い。
【０００７】
発光層に量子井戸構造を採用した窒化物半導体発光素子については、発光層のＭＱＷ構造を工夫することによって、所望の特性を得ようとする試みがいくつかなされている。たとえば、特開２００７−１４２４２６号公報（特許文献３）には、互いに異なる波長光を放出する複数の活性層を有する窒化物半導体発光素子から発生される色分布のバラツキを活性層の配置と数で解決することを目的とした窒化物半導体発光素子が開示されている。特許文献３には、複数の活性層のうち短波長である活性層をｐ型窒化物層側に隣接するように配置し、さらにその量子井戸層数を長波長である活性層の数より少なくすることによって、互いに異なる波長光を有する複数の活性層の固有な発光が所望のレベルの分布を有することができ、モノリシック白色発光素子を実現可能であると記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００７−１８０４８３号公報
【特許文献２】国際公開第２００９／１１０２８５号
【特許文献３】特開２００７−１４２４２６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
従来の青色発光素子と緑色系発光蛍光体／赤色系発光蛍光体とを組合せた白色発光装置では、改善はされてきてはいるものの、さらなる色再現性や変換効率（明るさ）の向上が求められている。
【００１０】
上記の事情に鑑みて、本発明の目的は、従来の緑色系発光蛍光体／赤色系発光蛍光体との組合せでも色再現性や変換効率（明るさ）を向上させることが可能な窒化物半導体発光素子を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者らは、上記青色発光素子と緑色系発光蛍光体／赤色系発光蛍光体との組合せに、さらに該青色発光素子よりも発光波長が短く、紫外光または青紫色光を放射する発光素子を使用することで、発光装置への入力エネルギーを高くしなくても高い変換効率（明るさ）が得られることを見出した。
【００１２】
本発明の窒化物半導体発光素子は、ｎ型窒化物半導体層と、ｐ型窒化物半導体層と、前記ｎ型窒化物半導体層と前記ｐ型窒化物半導体層との間に設けられた多重量子井戸発光層と、を備え、前記多重量子井戸発光層は、前記ｐ型窒化物半導体層に近い側から、第２発光層と、中間の井戸層と、第１発光層とを備え、前記第１発光層は、複数の第１量子井戸層と、前記複数の第１量子井戸層の間に設けられた第１バリア層とを備え、前記第２発光層は、複数の第２量子井戸層と、前記複数の第２量子井戸層の間に設けられた第２バリア層とを備え、前記第２量子井戸層のバンドギャップエネルギーは、前記第１量子井戸層のバンドギャップエネルギーよりも大きいことを特徴とする。
【００１３】
本発明の窒化物半導体発光素子において、前記中間の井戸層のバンドギャップエネルギーは、前記第１量子井戸層のバンドギャップエネルギーと前記第２量子井戸層のバンドギャップエネルギーの間の値であることが好ましい。
【００１４】
本発明の窒化物半導体発光素子において、前記中間の井戸層の層厚は、前記第１量子井戸層または前記第２量子井戸層の層厚より大きいことが好ましい。
【００１５】
本発明の窒化物半導体発光素子において、前記第２量子井戸層の層数は前記第１量子井戸層の層数より少ない、または、前記第２量子井戸層の層数は前記第１量子井戸層の層数より多いことが好ましい。
【００１６】
本発明の窒化物半導体発光素子において、発光スペクトルは、前記第１量子井戸層から発光される波長からの発光ピークと、前記第２量子井戸層から発光される波長からの発光ピークとを有することが好ましい。
【００１７】
本発明の窒化物半導体発光素子において、前記第２量子井戸層の層厚は前記第１量子井戸層の層厚より小さいことが好ましい。
【発明の効果】
【００１８】
本発明は、青色光を放射する第１発光層と、（近）紫外光を放射する第２発光層をモノリシックに備えた窒化物半導体発光素子である。このような構成とすることにより、色再現性や変換効率（明るさ）を向上させることが可能な窒化物半導体発光素子を提供することができる。また、本発明によれば、青色光を放射する第１発光層と、（近）紫外光を放射する第２発光層の間に中間の井戸層を備えることで、大電流駆動領域での光出力の落ち込みを低減することが可能な窒化物半導体発光素子を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の窒化物半導体発光素子の一例である実施の形態の窒化物半導体発光素子の模式的な断面図である。
【図２】本発明の窒化物半導体発光素子に好適に用いられる多重量子井戸発光層１４のバンドギャップエネルギー図の一例である。
【図３】実施例１で作製された窒化物半導体発光素子のＩＦ＝２０ｍＡ駆動時の発光スペクトルである。
【図４】実施例１で作製された窒化物半導体発光素子の外部量子効率と印加電流密度依存性を比較例１と比較して示すグラフである。
【図５】比較例２のサンプルにおける多重量子井戸発光層のバンドギャップエネルギー図である。
【図６】実施例１で作製された窒化物半導体発光素子の外部量子効率と印加電流密度依存性を比較例２と比較して示すグラフである。
【図７】実施例１で作製された窒化物半導体発光素子の電流密度１３．４Ａ／ｃｍ２での発光スペクトルである。
【図８】実施例２で作製された窒化物半導体発光素子における多重量子井戸構造を示すバンドギャップエネルギー図である。
【図９】実施例２で作製された窒化物半導体発光素子の発光スペクトルである。
【図１０】実施例２で作製された窒化物半導体発光素子の外部量子効率と印加電流密度依存性を比較例２と比較して示すグラフである。
【図１１】実施例３で作製された窒化物半導体発光素子における多重量子井戸構造を示すバンドギャップエネルギー図である。
【図１２】実施例３で作製された窒化物半導体発光素子の外部量子効率と印加電流密度依存性を比較例２と比較して示すグラフである。
【図１３】実施例３で作製された窒化物半導体発光素子の発光スペクトルである。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明の実施の形態について説明する。なお、本発明の図面において、同一の参照符号は、同一部分または相当部分を表わすものとする。
【００２１】
また、本明細書中において、「バリア層」は量子井戸層に挟まれた層を指す。量子井戸層に挟まれていない層は「最初のバリア層」または「最後のバリア層」と表記し、量子井戸層に挟まれた層とは表記を変えている。
【００２２】
また、本明細書中において、「ドーパント濃度」という用語と、ｎ型ドーパントまたはｐ型ドーパントのドープに伴い発生する電子およびホールの濃度である「キャリア濃度」という用語とを用いているが、その関係については後述する。
【００２３】
また、本明細書中において、「キャリアガス」とは、ＩＩＩ族原料ガス、Ｖ族原料ガスおよびドーパント原料ガス以外のガスである。キャリアガスを構成する原子は窒化物半導体層などには取り込まれない。
【００２４】
また本明細書中において、「ｎ型窒化物半導体層」は、その中に電子の流れを実用上妨げない程度の厚さの低キャリア濃度のｎ型窒化物半導体層あるいはアンドープ層を含んでいてもよい。
【００２５】
また、本明細書中において、「ｐ型窒化物半導体層」についても、ホールの流れを実用上妨げない程度の厚さの低キャリア濃度のｐ型窒化物半導体層あるいはアンドープ層を含んでいてもよい。「実用上妨げない」とは窒化物半導体発光素子の動作電圧が実用的なレベルであることをいう。
【００２６】
［窒化物半導体発光素子の構成］
図１に、本発明の窒化物半導体発光素子の一例である実施の形態の窒化物半導体発光素子１の模式的な断面図を示す。図１に示す例の窒化物半導体発光素子１は、基板３と、基板３上に、順次設けられた、バッファ層５と、窒化物半導体下地層７と、ｎ型コンタクト層８と、低温ｎ型窒化物半導体層１０（ｖピット発生層）と、窒化物半導体多層構造体１２０と、多重量子井戸発光層１４と、３層のｐ型窒化物半導体層１６，１７，１８とを備えている。
【００２７】
ｐ型窒化物半導体層１８上には透明電極層２３が設けられており、透明電極層２３上にはｐ電極２５が設けられている。また、エッチングにより露出したｎ型コンタクト層８の上面にＡｕなどからなるｎ電極２１が備わり、ｎ電極２１の表面の一部およびｐ電極２５の表面の一部を露出させるように、窒化物半導体発光素子の表面は透明絶縁保護膜２７で覆われている。
【００２８】
［基板］
基板３としては、たとえば、サファイアなどの絶縁性基板、またはＧａＮ、ＳｉＣ若しくはＺｎＯなどの導電性基板を用いることができる。基板３の厚さは特に限定されないが、窒化物半導体層の成長時における基板の厚さは、９００μｍ以上１２００μｍであることが好ましく、窒化物半導体発光素子の使用時の基板の厚さは、５０μｍ以上３００μｍ以下であることが好ましい。
【００２９】
基板３の上面には、凸部３ａおよび凹部３ｂが形成されてもよい。凸部および凹部の形状は特に限定されないが、凸部は、平面視において、略正三角形の頂点に配された略円形であることが好ましく隣り合う凸部の頂点の間隔は１μｍ以上５μｍ以下であることが好ましい。また、凸部の断面形状は台形状であってもよく、台形の頂点部が丸みを帯びた形状であることがより好ましい。
【００３０】
なお、基板３は、基板上への窒化物半導体層の成長後に除去されることによって、本発明の窒化物半導体発光素子は、基板を有していない窒化物半導体発光素子としてもよい。
【００３１】
［バッファ層］
バッファ層５としては、たとえばＡｌｓ０Ｇａｔ０Ｏｕ０Ｎ１−ｕ０（０≦ｓ０≦１、０≦ｔ０≦１、０≦ｕ０＜１、ｓ０＋ｔ０＝１）からなる式で表わされる窒化物半導体層を用いることが好ましく、ＡｌＮ層またはＡｌＯＮ層であることがより好ましい。
【００３２】
ここで、バッファ層５を構成するＡｌＯＮ層としては、Ｎのごく一部（０．５原子％以上２原子％以下）が酸素に置き換えられていることが好ましい。この場合には、基板の成長面の法線方向に伸長するようにバッファ層が形成されるため、結晶粒の揃った柱状結晶の集合体からなるバッファ層５を得ることができる。
【００３３】
バッファ層５の厚さは、特に限定されないが、３ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましく、５ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることがより好ましい。
【００３４】
後述する窒化物半導体下地層は公知のスパッタ法により形成されたＡｌＯＮ層を用いることにより結晶性が向上する。窒化物半導体下地層の結晶性は、Ｘ線ロッキングカーブの半値幅で確認できる。
【００３５】
［窒化物半導体下地層］
窒化物半導体下地層７は、たとえば、ＭＯＣＶＤ（Ｍｅｔａｌ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法により、バッファ層５の表面上に形成することができる。
【００３６】
窒化物半導体下地層７としては、たとえば、Ａｌｘ０Ｇａｙ０Ｉｎｚ０Ｎ（０≦ｘ０≦１、０≦ｙ０≦１、０≦ｚ０≦１、ｘ０＋ｙ０＋ｚ０＝１）の式で表わされるＩＩＩ族窒化物半導体からなる層を用いることができる。
【００３７】
窒化物半導体下地層７としては、柱状結晶の集合体からなるバッファ層中の転位などの結晶欠陥を引き継がないようにするために、ＩＩＩ族元素としてＧａを含む窒化物半導体層を用いることが好ましい。
【００３８】
窒化物半導体下地層７としては、たとえば、ｎ型ドーパントが１×１０１７個／ｃｍ３以上１×１０１９個／ｃｍ３以下の範囲でドーピングされていてもよい。しかしながら、良好な結晶性を維持する観点からは、窒化物半導体下地層７はアンドープであることが好ましい。
【００３９】
窒化物半導体下地層７にドープされるｎ型ドーパントとしては、たとえば、Ｓｉ、ＧｅおよびＳｎからなる群から選択された少なくとも１種などを用いることができる。中でも、ｎ型ドーパントとしては、Ｓｉを用いることが好ましい。窒化物半導体下地層にドープされるｎ型ドーパントにＳｉを用いた場合には、ｎ型ドーピングガスとしては、シランまたはジシランを用いることが好ましい。
【００４０】
窒化物半導体下地層７の層厚をできるだけ大きくすることによって、窒化物半導体下地層中の欠陥は減少するが、窒化物半導体下地層７の層厚をある程度以上大きくしたとしても窒化物半導体下地層における欠陥減少効果が飽和する。これにより、窒化物半導体下地層７の層厚は、１μｍ以上８μｍ以下であることが好ましく、３μｍ以上５μｍ以下であることがより好ましい。
【００４１】
［ｎ型コンタクト層］
ｎ型コンタクト層８としては、たとえば、Ａｌｘ１Ｇａｙ１Ｉｎｚ１Ｎ（０≦ｘ１≦１、０≦ｙ１≦１、０≦ｚ１≦１、ｘ１＋ｙ１＋ｚ１＝１）の式で表わされるＩＩＩ族窒化物半導体からなる層にｎ型ドーパントがドープされた層を用いることができる。中でも、ｎ型コンタクト層８としては、Ａｌｘ２Ｇａ１−ｘ２Ｎ（０≦ｘ２≦１、好ましくは０≦ｘ２≦０．５、より好ましくは０≦ｘ２≦０．１）層にｎ型ドーパントがドープされた層を用いることがより好ましい。
【００４２】
ｎ型コンタクト層８にドープされるｎ型ドーパントは特に限定されないが、たとえば、Ｓｉ、Ｐ、ＡｓおよびＳｂからなる群から選択された少なくとも１種などを用いることができる。中でも、ｎ型ドーパントとしては、Ｓｉを用いることが好ましい。同様のことが、後述する層にもいえる。ｎ型コンタクト層のｎ型ドーパント濃度は、特に限定されないが、１×１０１９個／ｃｍ３以下であることが好ましい。
【００４３】
ｎ型コンタクト層８の層厚はできるだけ大きい方がｎ型コンタクト層の抵抗は減少する。一方、ｎ型コンタクト層８の層厚を大きくした場合には窒化物半導体発光素子の製造コストの上昇を招く。両者の兼ね合いから、ｎ型コンタクト層８の層厚は、１μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましいが、特に限定されない。
【００４４】
なお、後述する実施例では、ｎ型ＧａＮ層の成長を一旦中断させてから、同一のｎ型ＧａＮ層を再び成長させるという２つの成長工程によって、ｎ型コンタクト層８を形成している。しかしながら、ｎ型コンタクト層の形成方法およびその構成はこれに限定されるものではない。
【００４５】
たとえば、ｎ型コンタクト層８は、単層であってもよく、２層以上の複数層であってもよい。ｎ型コンタクト層が複数層である場合には、それぞれの層が同一の組成からなっていてもよく、少なくとも１層が異なる組成であってもよい。ｎ型コンタクト層が複数層である場合には、それぞれの層が同一の層厚であってもよく、少なくとも１層が異なる層厚であってもよい。
【００４６】
［低温ｎ型窒化物半導体層（Ｖピット発生層）］
低温ｎ型窒化物半導体層１０としては、たとえば、一般式Ａｌｘ２Ｇａｙ２Ｉｎｚ２Ｎ（０≦ｘ２≦１、０≦ｙ２≦１、０≦ｚ２≦１、ｘ２＋ｙ２＋ｚ２＝１）で表わされる窒化物半導体材料からなる層にｎ型ドーパントがドープされた層を用いることができる。好ましくは、一般式Ａｌｘ２Ｇａ１−ｘ２Ｎ（０≦ｘ２≦１、好ましくは０≦ｘ２≦０．３、より好ましくは０≦ｘ２≦０．１）で表される窒化物半導体材料からなる層または一般式Ｉｎｚ２Ｇａ１−ｚ２Ｎ（０≦ｚ２≦１、好ましくは０≦ｚ２≦０．３、より好ましくは０≦ｚ２≦０．１）で表される窒化物半導体材料からなる層にｎ型ドーパントがドープされた層を用いる。
【００４７】
低温ｎ型窒化物半導体層１０のｎ型ドーパント濃度は、好ましくはｎ型コンタクト層のｎ型ドーパント濃度よりも低く、より好ましくは１×１０１９／ｃｍ３以下である。なお、低温ｎ型窒化物半導体層はアンドープ層であっても良い。
【００４８】
低温ｎ型窒化物半導体層１０の層厚は特に限定されないが、５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下であることが好ましい。
【００４９】
低温ｎ型窒化物半導体層１０は積層構造を有していてもよく、この場合、低温ｎ型窒化物半導体層１０のｎ型ドーパント濃度は、低温ｎ型窒化物半導体層を構成する層のそれぞれに含まれるｎ型ドーパント量の合計を低温ｎ型窒化物半導体層の体積で除することにより求められる。
【００５０】
また、低温ｎ型窒化物半導体層１０はＶピット構造の発生の開始点となる機能を有する。ここで「Ｖピット構造」とは、貫通転位に起因して発生し、低温ｎ型窒化物半導体層の内部から発光層の上面（ｐ型窒化物半導体層側に位置する発光層の面）へ向かって拡径する形状を有する結晶欠陥を意味する。このＶピット構造は、低温ｎ型窒化物半導体層と窒化物半導体多層構造体と、多重量子井戸層とに部分的に形成されている。
【００５１】
［窒化物半導体多層構造体］
窒化物半導体多層構造体１２０は、たとえば一般式Ａｌｘ４Ｇａｙ４Ｉｎｚ４Ｎ（０≦ｘ４≦１、０≦ｙ４≦１、０≦ｚ４≦１、ｘ４＋ｙ４＋ｚ４＝１）とＡｌｘ５Ｇａｙ５Ｉｎｚ５Ｎ（０≦ｘ５≦１、０≦ｙ５≦１、０≦ｚ５≦１、ｘ５＋ｙ５＋ｚ５＝１）からなるバンドギャップエネルギーの異なる２つの層を繰り返し積層することで形成される。窒化物半導体多層構造の組成は多重量子井戸発光層１４からの発光を吸収しない、つまり、多重量子井戸発光層１４より高いバンドギャップエネルギーを取りうる材料ならいかなる組み合わせも許されるが、ＳｉドープＧａＮからなるワイドバンドギャップ層とＳｉドープＩｎＧａＮからなるナローバンドギャップ層を繰り返し積層した構造が多重量子井戸発光層１４の結晶性が向上し、より好ましい。
【００５２】
［多重量子井戸発光層］
図２に、本発明の窒化物半導体発光素子に好適に用いられる多重量子井戸発光層１４のバンドギャップエネルギー図の一例を示す。図２の横軸は積層方向の層厚を示しており、左方向がｐ型窒化物半導体層に近い側を意味している。また、図の縦軸はバンドギャップエネルギーの大きさを示しており、上方向にバンドギャップエネルギーが大きいことを意味している。
【００５３】
図２に示す例では、多重量子井戸発光層１４は、ｐ型窒化物半導体層に近い側から、第２波長の発光層（第２発光層）１４２と、中間の井戸層１４Ｍと、第１波長の発光層（第１発光層）１４１とを備えている。
【００５４】
第１発光層１４１は、複数の第１量子井戸層１４Ｗ（１４Ｗ１，１４Ｗ２，１４Ｗ３，１４Ｗ４）と、複数の第１バリア層１４Ａ（１４Ａ１，１４Ａ２，１４Ａ３，１４Ａ４）が交互に積層されている。
【００５５】
第２発光層１４２は、複数の第２量子井戸層１４Ｖ（１４Ｖ１，１４Ｖ２，１４Ｖ３）と、複数の第２バリア層１４Ｂ（１４Ｂ１，１４Ｂ２，１４Ｂ３）が交互に積層される。
【００５６】
図２に示す例において、中間の井戸層１４Ｍは第１バリア層１４Ａ４と第２バリア層１４Ｂ１の間に積層される。
【００５７】
窒化物半導体多層構造体１２０の直上、つまり第１量子井戸層１４Ｗ１に接する層には、最初のバリア層１４ＡＺが設けられている。最もｐ型窒化物半導体層１６側に位置する第２量子井戸層１４Ｖ３の直上には最後のバリア層１４Ｂ０が設けられている。
【００５８】
第１発光層１４１、第２発光層１４２、中間の井戸層１４Ｍ、最初のバリア層１４ＡＺ、最後のバリア層１４Ｂ０の材料は任意に設定できるが、たとえば、一般式ＡｌｘＧａｙＩｎｚＮ（０≦ｘ≦１、０≦ｙ≦１、０≦ｚ≦１、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１）で示される窒化物半導体からなる。各層のバンドギャップエネルギーはｘ、ｙ、ｚの値を変えることで調整が可能で、たとえばＧａＮに対しＩｎ濃度を高くすることでバンドギャップエネルギーは小さくなり、ＧａＮに対しＡｌ濃度を高くすることでバンドギャップエネルギーは大きくなる。
【００５９】
第２量子井戸層１４Ｖ（１４Ｖ１，１４Ｖ２，１４Ｖ３）と第１量子井戸層１４Ｗ（１４Ｗ１，１４Ｗ２，１４Ｗ３，１４Ｗ４）のバンドギャップエネルギーについては、第２量子井戸層１４Ｖのバンドギャップエネルギーが第１量子井戸層１４Ｗのバンドギャップエネルギーより大きいことを条件に任意に設定できる。本発明の窒化物半導体発光素子１は、第２量子井戸層１４Ｖのバンドギャップエネルギーが第１量子井戸層１４Ｗのバンドギャップエネルギーよりも大きいことによって、第１量子井戸層１４Ｗの発光波長より第２量子井戸層１４Ｖの発光波長が短波長となり、第１量子井戸層１４Ｗからの発光のうち、チップ上面、すなわちｐ型窒化物半導体層側への発光が第２量子井戸層で吸収されにくくなり、発光効率が向上する。また、ｐ型窒化物半導体層に近い第２量子井戸層のエネルギーバンドギャップが大きいため、ホールがトラップされにくく、発光効率が向上する。
【００６０】
本発明の窒化物半導体発光素子１において、中間の井戸層１４Ｍのバンドギャップエネルギーについては任意に設定できるが、第２量子井戸層１４Ｖのバンドギャップエネルギーと第１量子井戸層１４Ｗのバンドギャップエネルギーとの間の値であることが好ましい。ここで、「間の値」とは、第２量子井戸層１４Ｖと第１量子井戸層１４Ｗのバンドギャップエネルギーの中間値であってもよいし、第２量子井戸層１４Ｖ寄りの値であってもよいし、第１量子井戸層１４Ｗの値であってもよい。本発明の窒化物半導体発光素子１においては、中間の井戸層１４Ｍのバンドギャップエネルギーを第２量子井戸層１４Ｖのバンドギャップエネルギーと第１量子井戸層１４Ｗのバンドギャップエネルギー間の値とすることで、ｐ型窒化物半導体層側から供給されるホールが第２量子井戸層１４Ｖと第１量子井戸層１４Ｗとの間にある中間の井戸層１４Ｍでいったんトラップされ、このため中間の井戸層１４Ｍからｎ型窒化物半導体層に近い側の井戸層に再びホールが拡散し易く、ｎ型窒化物半導体層に近い側の井戸層での発光再結合が容易になり発光効率が向上する。
【００６１】
本発明の窒化物半導体発光素子１において、中間の井戸層１４Ｍの層厚は任意に設定できるが、第２量子井戸層１４Ｖの層厚（総厚み（各層の厚みの総計）ではなく、第２量子井戸層の各層の厚み）より大きいことがより好ましい。この場合、複数の第２量子井戸層１４Ｖ同士で層厚が異なる場合には、中間の井戸層１４Ｍの層厚は、第２量子井戸層１４Ｖの層厚のうちの最大値よりも大きいことが好ましい。中間の井戸層１４Ｍの層厚を第２量子井戸層１４Ｖより大くすることで、ｐ型窒化物半導体層側から供給されるホールが第２量子井戸層１４Ｖと第１量子井戸層１４Ｗとの間にある層厚の大きな中間の井戸層１４Ｍでいったんトラップされ、このため中間の井戸層１４Ｍからｎ型窒化物半導体層に近い側の井戸層に再びホールが拡散し易く、ｎ型窒化物半導体層に近い側の井戸層での発光再結合が容易になり発光効率が向上する。
【００６２】
なお、図２に示す例では、第１量子井戸層１４Ｗの層数を４つ（すなわち、第１量子井戸層１４Ｗ１，１４Ｗ２，１４Ｗ３，１４Ｗ４）、第２量子井戸層１４Ｖの層数を３つ（すなわち、第２量子井戸層１４Ｖ１，１４Ｖ２，１４Ｖ３）としているが、どちらの井戸層の層数も任意で設定でき、第１量子井戸層１４Ｗの層数と第２量子井戸層１４Ｖの層数とは同一であっても勿論よい。
【００６３】
第２量子井戸層１４Ｖの層数が第１量子井戸層１４Ｗの層数より少ない場合には、大電流駆動時において外部量子効率が向上するという利点がある。
【００６４】
一方、第２量子井戸層１４Ｖの層数が第１量子井戸層１４Ｗの層数より多い場合には、大電流駆動時において外部量子効率が期待できないが、第２波長の発光強度を向上できるという利点がある。
【００６５】
また、第１量子井戸層１４Ｗおよび第２量子井戸層１４Ｖの層厚は任意で設定できるが、第２量子井戸層１４Ｖの層厚（総厚み（各層の厚みの総計）ではなく、第２量子井戸層１４Ｗの各層の厚み）は第１量子井戸層１４Ｗの層厚（総厚み（各層の厚みの総計）ではなく、第１量子井戸層１４Ｗの各層の厚み）より小さいほうがより好ましい。この場合、複数の第１量子井戸層１４Ｗ同士、複数の第２量子井戸層１４Ｖ同士で層厚が異なる場合には、第２量子井戸層１４Ｖの層厚のうちの最大値が、第１量子井戸層１４Ｗの層厚のうちの最小値よりも小さいことが好ましい。第２量子井戸層１４Ｖより第１量子井戸層１４ＷはＩｎ濃度が大きいため、非発光再結合であるオージェ再結合の割合が高いことから、第１量子井戸層１４Ｗの層厚を大きくすることでホールの注入効率が上がり好ましい。対して第２量子井戸層１４ＶはＩｎ濃度が低いため、オージェ再結合の割合が低く、層厚は小さくてもよい。第２量子井戸層１４Ｖの層厚をさらに小さくすることで、電子とホールの波動関数のオーバーラップが向上し、発光再結合レートを向上させる効果も有する。
【００６６】
中間の井戸層１４Ｍでトラップされたホールは、主にｎ型窒化物半導体層に近い側の井戸層に再びホールが拡散し、第１発光層の第１量子井戸層で電子と発光再結合するため、本発明の窒化物半導体発光素子は、発光スペクトルが第１量子井戸層から発光される波長と、第２量子井戸層から発光される波長からの２つの発光ピークを有する。
【００６７】
また中間の井戸層１４Ｍでトラップされたホールの一部は中間の井戸層１４Ｍで電子と発光再結合に至る場合もあるが、主たる発光とはならず、発光スペクトルをよりブロードにするか、第１量子井戸層１４Ｗまたは第２量子井戸層１４Ｖのうちエネルギーバンドギャップの近いどちらか一方または両方の発光強度を強くするので、発光スペクトルは第１量子井戸層１４Ｗから発光される波長と、第２量子井戸層１４Ｖから発光される波長からの２つの発光ピークを有する。
【００６８】
［ｐ型窒化物半導体層］
ｐ型窒化物半導体層１６，１７，１８としては、それぞれ独立に、たとえばＡｌｓ４Ｇａｔ４Ｉｎｕ４Ｎ（０≦ｓ４≦１、０≦ｔ４≦１、０≦ｕ４≦１、ｓ４＋ｔ４＋ｕ４＝１）層にｐ型ドーパントがドープされた層を用いることが好ましく、Ａｌｓ４Ｇａ（１−ｓ４）Ｎ（０＜ｓ４≦０．４、好ましくは０．１≦ｓ４≦０．３）層にｐ型ドーパントがドープされた層を用いることがより好ましい。
【００６９】
ｐ型ドーパントとしては特に限定されないが、たとえばマグネシウムを用いることが好ましい。ｐ型窒化物半導体層１６，１７，１８におけるキャリア濃度は１×１０１７個／ｃｍ３以上であることが好ましい。ｐ型ドーパントの活性率は、０．０１程度であることから、ｐ型窒化物半導体層１６，１７，１８におけるｐ型ドーパント濃度（キャリア濃度とは異なる）は１×１０１９個／ｃｍ３以上であることが好ましい。ただし、ｐ型窒化物半導体層１６，１７，１８のうち、多重量子井戸発光層１４側に位置するｐ型窒化物半導体層１６におけるｐ型ドーパント濃度は１×１０１９個／ｃｍ３未満であることが好ましい。
【００７０】
ｐ型窒化物半導体層１６，１７，１８全体の層厚（各層厚の総計）は、特に限定されないが、５０ｎｍ以上３００ｎｍ以下であることが好ましい。ｐ型窒化物半導体層１６，１７，１８全体の層厚を小さくすることにより、ｐ型窒化物半導体層１６，１７，１８の成長時における加熱時間を短くすることができる。これにより、ｐ型窒化物半導体層１６，１７，１８におけるｐ型ドーパントの拡散を抑制することができる。
【００７１】
［ｎ電極、透明電極、ｐ電極］
ｎ電極２１およびｐ電極２５は、窒化物半導体発光素子に駆動電力を供給するための電極である。図に示すように、ｎ電極２１およびｐ電極２５は、パッド電極部分のみで構成されているが、たとえば電流拡散を目的とする細長い突出部（枝電極）などがｎ電極２１および／またはｐ電極２５に接続されていてもよい。
【００７２】
また、ｐ電極２５よりも下に、電流がｐ電極２５に注入されることを防止するための絶縁層が設けられていることが好ましい。これにより、ｐ電極２５に遮蔽される発光量が減少する。
【００７３】
ｎ電極２１は、たとえば、チタン層、アルミニウム層および金層がこの順序で積層されて構成されていることが好ましい。ｎ電極２１に、ワイヤボンディングを行なう場合を想定すると、ｎ電極２１の厚さは１μｍ以上であることが好ましい。
【００７４】
ｐ電極２５は、たとえば、ニッケル層、アルミニウム層、チタン層および金層がこの順序で積層されて構成されていることが好ましく、ｎ電極２１と同一の材料から構成されていてもよい。ｐ電極２５にワイヤボンディングを行なう場合を想定すると、ｐ電極２５の厚さは１μｍ以上であることが好ましい。
【００７５】
透明電極層２３は、たとえば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）またはＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）などの透明導電膜からなることが好ましく、２０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の厚さを有していることが好ましい。
【００７６】
［キャリア濃度とドーパント濃度について］
キャリア濃度は電子またはホールの濃度を意味し、ｎ型ドーパントの量またはｐ型ドーパントの量だけでは決定されない。このようなキャリア濃度は窒化物半導体発光素子の電圧対容量特性の結果に基づいて算出されるものであり、電流が注入されていない状態のキャリア濃度のことを指しており、イオン化した不純物、ドナー化した結晶欠陥およびアクセプター化した結晶欠陥から発生したキャリアの合計である。
【００７７】
しかしながら、ｎ型キャリア濃度は、ｎ型ドーパントであるＳｉなどの活性化率が高いことから、ｎ型ドーパント濃度とほぼ同じと考えることができる。また、ｎ型ドーパント濃度はＳＩＭＳ（Ｓｅｃｏｎｄａｒｙ  Ｉｏｎ  Ｍａｓｓ  Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ：二次イオン質量分析計）にて深さ方向の濃度分布を測定することにより容易に求めることができる。さらに、ドーパント濃度の相対関係（比率）は、キャリア濃度の相対関係（比率）とほぼ同じである。これらのことから、本明細書中では、実際に測定の容易なドーパント濃度で定義している。そして、測定により得られたｎ型ドーパント濃度を厚さ方向に平均すれば、平均ｎ型ドーパント濃度を得ることができる。
【００７８】
以下に実施例を挙げて、本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００７９】
＜実施例１＞
まず、凸部と凹部とからなる凹凸形状が上面に形成されたサファイア基板３（直径が１５０ｍｍ）を準備した。凸部は、図１に示す凸部３ａの断面形状を有しており、高さが０．６μｍ程度の円錐形の先端部を有し（円錐形の底部における円の直径は１．２μｍ）、各凸部は平面視において略三角形の頂点となる位置に設けられ、隣り合う頂点間隔は２μｍであった。また、凹部は、図１に示す凹部３ｂの断面形状を有していた。
【００８０】
凸部と凹部とが形成されたサファイア基板３の上面に対してＲＣＡ洗浄を行った。ＲＣＡ洗浄後のサファイア基板３を、チャンバーに設置して加熱した。窒素を含むアルゴン雰囲気下でのＡｌターゲットを用いた反応性スパッタリング法により、基板の上面に、ＡｌＮ結晶からなるバッファ層５（厚さが２５ｎｍ）を形成した。
【００８１】
バッファ層５が形成されたサファイア基板３をＭＯＣＶＤ装置に入れ、サファイア基板３の温度を１０００℃とした。ＭＯＣＶＤ法により、バッファ層５の上面に、アンドープＧａＮからなる窒化物半導体下地層７を成長させ、その後、窒化物半導体下地層７の上面に、ＳｉドープＧａＮからなるｎ型コンタクト層８を成長させた。窒化物半導体下地層７の層厚Ｔ１（図１参照、窒化物半導体下地層７の上面とサファイア基板３上面の凹部３ｂ間の直線距離）は６μｍであり、ｎ型コンタクト層８の層厚Ｔ２（図１参照）は３μｍであった。また、ｎ型コンタクト層のｎ型ドーパント濃度は１×１０１９／ｃｍ３であった。
【００８２】
サファイア基板の温度を８０１℃に下げた後、ｎ型コンタクト層８の上面に、ＳｉドープＧａＮからなる低温ｎ型窒化物半導体層１０（Ｖピット発生層）（厚さが３０ｎｍ）を成長させた。低温ｎ型窒化物半導体層１０（Ｖピット発生層）のｎ型不純物の濃度は９×１０１９／ｃｍ３であった。
【００８３】
サファイア基板の温度を８０１℃に保持した状態で、窒化物半導体多層構造体１２０を成長させた。具体的には、ＳｉドープＧａＮからなるワイドバンドギャップ層（厚さが１．５５ｎｍ）とＳｉドープＩｎＧａＮからなるナローバンドギャップ層（厚さが１．５５ｎｍ）とを交互に２０組、成長させた。窒化物半導体多層構造体１２０を構成するいずれの層においてもｎ型不純物の濃度は７×１０１８／ｃｍ３であった。ナローバンドギャップ層の組成はいずれにおいてもＩｎｙＧａ１−ｙＮ（ｙ＝０．０４）であった。
【００８４】
次に、サファイア基板の温度を７６９℃に下げ、図２に示したような構造を備える多重量子井戸発光層１４を形成した。
【００８５】
具体的には、まず、アンドープのＩｎｘＧａ（１−ｘ）Ｎ（ｘ＝０．２）からなる井戸層（第１量子井戸層１４Ｗ）を３．４ｎｍ積層し、アンドープのＧａＮからなるバリア層（第１バリア層１４Ａ）を４ｎｍ積層し、これを４回繰り返し積層することで、第１波長（４５０ｎｍ）の多重量子井戸構造（第１発光層１４１）とした。
【００８６】
次に、基板温度を７８１℃に上げ、アンドープのＩｎｚＧａ（１−ｚ）Ｎからなる中間の井戸層１４Ｍを５ｎｍ積層した。中間の井戸層１４ＭのＩｎ組成ｚは、第１波長（４５０ｎｍ）の多重量子井戸のＰＬ発光波長が４４８ｎｍとなるようにＴＭＩの流量を調整して設定した。
【００８７】
次に基板温度を７９４℃まで昇温し、アンドープのＩｎｙＧａ（１−ｙ）Ｎ（ｙ＝０．０９）からなる井戸層（第２量子井戸層１４Ｖ）を３．４ｎｍ積層し、アンドープのＧａＮからなるバリア層（第２バリア層１４Ｂ）を４ｎｍ積層し、これを３回繰り返し積層することで、第２波長（４０５ｎｍ）の多重量子井戸構造（第２発光層１４２）とした。
【００８８】
次に、発光層の上面（具体的には最上層の井戸層の上面）に、アンドープＧａＮからなるバリア層（最後のバリア層１４Ｂ０）（厚さ７ｎｍ）を成長させた。サファイア基板の温度を１０００℃に上げた後、最後のバリア層１４Ｂ０の上面に、ｐ型Ａｌ０．１８Ｇａ０．８２Ｎ層（ｐ型窒化物半導体層）１６、ｐ型ＧａＮ層（ｐ型窒化物半導体層）１７およびｐ型コンタクト層（ｐ型窒化物半導体層）１８を順に成長させた。
【００８９】
ｎ型コンタクト層の一部分が露出するように、ｐ型コンタクト層１８、ｐ型ＧａＮ層１７、ｐ型Ａｌ０．１８Ｇａ０．８２Ｎ層１６、多重量子井戸発光層１４、窒化物半導体多層構造体１２０、低温ｎ型窒化物半導体層（Ｖピット発生層）１０およびｎ型コンタクト層８をエッチングした。このエッチングにより露出したｎ型コンタクト層８の上面にＡｕなどからなるｎ電極２１を形成した。また、ｐ型コンタクト層１８の上面に、ＩＴＯからなる透明電極層２３とＡｕなどからなるｐ電極２５とを順に形成した。透明電極層２３と上記エッチングによって露出した各層の側面とを主に覆うように、ＳｉＯ２からなる透明絶縁保護膜２７を形成した。
【００９０】
次に、基板を１９０μｍ×９９０μｍサイズのチップに分割した。これにより、実施例１の窒化物半導体発光素子１が得られた。
【００９１】
（評価）
以上の方法により得られた窒化物半導体発光素子をＴＯ−１８型ステムにマウントし、樹脂による封止を行なうことなく窒化物半導体発光素子の発光スペクトルおよび光出力を測定した。図３に実施例１で作製された窒化物半導体発光素子のＩＦ＝２０ｍＡ駆動時の発光スペクトルを示す。４０５ｎｍと４５０ｎｍの２波長での発光ピークが確認された。また、４０５ｎｍと４５０ｎｍのピーク強度比が１６：８４となった。
【００９２】
図４は、実施例１で作製された窒化物半導体発光素子の外部量子効率（Ｅｘｔｅｒｎａｌ  ｑｕａｎｔｕｍ  ｅｆｆｉｃｉｅｎｃｙ：ＥＱＥ）と印加電流密度依存性を、比較例１と比較して示すグラフであり、縦軸はＥＱＥ、横軸は電流密度Ｊ（Ａ／ｃｍ２）である。比較のため、第２波長を有しないアンドープのＩｎｘＧａ（１−ｘ）Ｎ（ｘ＝０．２）井戸層と、アンドープのＧａＮからなるバリア層を８回繰り返し積層した比較例１のサンプルも作製した。
【００９３】
その結果、比較例１のサンプルと比較して１０Ａ／ｃｍ２未満におけるＥＱＥは比較例１のサンプルより低くなるが、実用領域である１０Ａ／ｃｍ２以上におけるＥＱＥが高くなり、大電流駆動領域での発光強度の落ち込み、いわゆるドループ現象が改善された。その詳細な原因は不明であるが、従来構造である比較例１のサンプルは大電流駆動時にｐ型窒化物半導体層側から供給されるホールがｐ型窒化物半導体層に近い井戸層では電子と発光再結合するものの、ｎ型窒化物半導体層に近い井戸層にはホールが拡散されず発光に至らなかったと考えられる。これに対し、実施例１で作製された窒化物半導体発光素子の構造は、ｐ型窒化物半導体層に近い井戸層のエネルギーバンドギャップが大きいため、ホールがトラップされにくい。さらに、実施例１で作製された窒化物半導体発光素子では、ｐ型窒化物半導体層側から供給されるホールが第２波長（４０５ｎｍ）の多重量子井戸構造と第１波長（４５０ｎｍ）の多重量子井戸構造の間にある層厚の大きな中間の井戸層でいったんトラップされる構造となっている。このため中間の井戸層からｎ型窒化物半導体層に近い側の井戸層に再びホールが拡散し易く、ｎ型窒化物半導体層に近い側の井戸層での発光再結合が容易になり発光効率が向上すると考えられる。
【００９４】
また、多重量子井戸発光層を、ｐ型窒化物半導体層に近い側から、第１量子井戸層（４５０ｎｍ）が１層、第２量子井戸層（４０５ｎｍ）が７回繰り返された井戸構造とし、その他は実施例１と同じ構造となる比較例２のサンプルを作製し（比較例２のサンプルにおける多重量子井戸発光層におけるバンドギャップエネルギー図は図５を参照）、同様に発光効率を確認した。図６は、実施例１で作製された窒化物半導体発光素子の外部量子効率と印加電流密度依存性を比較例２と比較して示すグラフであり、縦軸はＥＱＥ、横軸は電流密度Ｊ（Ａ／ｃｍ２）である。図６に示されるように、実施例１で作製された窒化物半導体発光素子において、比較例２のサンプルと比較して、低電流密度の領域および大電流密度の領域の両方でＥＱＥの向上が確認できた。
【００９５】
また図７は、実施例１で作製された窒化物半導体発光素子の電流密度１３．４Ａ／ｃｍ２での発光スペクトルであり、縦軸は光出力（ａ．ｕ．）、横軸は波長（ｎｍ）である。実施例１で作製された窒化物半導体発光素子では、電流密度＝１３．４Ａ／ｃｍ２において、発光スペクトルを確認すると４０５ｎｍと４５０ｎｍのピーク強度比が３：７となり（近）紫外光の強度が強くなることで緑色系発光蛍光体／赤色系発光蛍光体との組合せても、さらに高い変換効率（明るさ）が得られることを確認した。
【００９６】
＜実施例２＞
図８は、実施例２で作製された窒化物半導体発光素子における多重量子井戸構造を示すバンドギャップエネルギー図である。実施例２では、第２波長（４０５ｎｍ）の多重量子井戸構造中の井戸層（第２量子井戸層）の層厚が２ｎｍとなっている以外は実施例１と同様とした。
【００９７】
（評価）
実施例２で作製された窒化物半導体発光素子について、実施例１で行なったのと同様にして、発光スペクトルと光出力を評価した。図９は、実施例２で作製した窒化物半導体発光素子の発光スペクトルを示す図であり、縦軸は強度（ａ．ｕ．）、横軸は波長（ｎｍ）である。結果、実施例１で作製した窒化物半導体発光素子と比較して、電流密度＝１３．４Ａ／ｃｍ２における４０５ｎｍのピーク強度が増加し、４０５ｎｍと４５０ｎｍのピーク強度比が４：６となり、（近）紫外光の強度が強くなることで緑色系発光蛍光体／赤色系発光蛍光体との組合せても、さらに高い変換効率（明るさ）が得られることを確認した。また図１０は、実施例２で作製した窒化物半導体発光素子の外部量子効率と印加電流密度依存性を比較例２と比較して示すグラフであり、縦軸はＥＱＥ、横軸は電流密度Ｊ（Ａ／ｃｍ２）である。実施例２で作製した窒化物半導体発光素子は、比較例２のサンプルと比較して、また、実施例１で作製した窒化物半導体発光素子と比較しても、全ての電流密度領域でＥＱＥが改善された。
【００９８】
＜実施例３＞
図１１は、実施例３で作製された窒化物半導体発光素子における多重量子井戸構造を示すバンドギャップエネルギー図である。実施例３では、第２波長（４０５ｎｍ）の多重量子井戸構造中の井戸層（第２量子井戸層）の層数を５層とし、第１波長（４５０ｎｍ）の多重量子井戸構造中の井戸層（第１量子井戸層）の層数を２層とした以外は実施例１と同様とした。
【００９９】
（評価）
実施例３で作製された窒化物半導体発光素子について、実施例１で行なったのと同様にして、発光スペクトルと光出力を評価した。図１２は、実施例３で作製した窒化物半導体発光素子の外部量子効率と印加電流密度依存性を比較例２と比較して示すグラフであり、縦軸はＥＱＥ、横軸は電流密度Ｊ（Ａ／ｃｍ２）である。また図１３は、実施例３で作製した窒化物半導体発光素子の発光スペクトルを示す図であり、縦軸は強度（ａ．ｕ．）、横軸は波長（ｎｍ）である。実施例１において確認されたＥＱＥの改善が得られなかったものの、電流密度＝１３．４Ａ／ｃｍ２における４０５ｎｍのピーク強度が増加し、４０５ｎｍと４５０ｎｍのピーク強度比が３：７となり、第２量子井戸層の層数が第１量子井戸層の層数より多くても第２波長のピーク強度比が大きくなり、（近）紫外光の強度が強くなることで緑色系発光蛍光体／赤色系発光蛍光体との組合せても、さらに高い変換効率（明るさ）が得られることを確認できた。
【符号の説明】
【０１００】
１  窒化物半導体発光素子、３  基板、５  バッファ層、７  窒化物半導体下地層、８  ｎ型コンタクト層、１０  低温ｎ型窒化物半導体層、１４  多重量子井戸発光層、１６  ｐ型窒化物半導体層、１７  ｐ型窒化物半導体層、１８  ｐ型窒化物半導体層、２３  透明電極層、２５  ｐ電極、２７  透明絶縁保護膜、１２０  窒化物半導体多層構造体。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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