(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
多孔性金属錯体（Ａ）とエラストマー（Ｂ）とを１：９９〜９９：１の質量比で含む組成物からなるペレットの製造方法であって、当該多孔性金属錯体（Ａ）及びエラストマー（Ｂ）に、アルコール、多価アルコール及び水からなる群より選択される少なくとも１種の滑沢剤であって、エラストマー（Ｂ）の飽和溶解度が３０ｍｇ／ｍＬ以下である滑沢剤を添加し、打錠成型することを特徴とするペレットの製造方法。
【請求項２】
多孔性金属錯体（Ａ）が物質の吸着に伴い体積変化することを特徴とする請求項１に記載のペレットの製造方法。
【請求項３】
多孔性金属錯体（Ａ）の物質の吸着に伴う体積変化率が０．５〜５０％である請求項１または２に記載のペレットの製造方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の製造方法で製造されたペレット。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ペレットの製造方法に関する。さらに詳しくは、多孔性金属錯体と、熱可塑性樹脂とからなる組成物からなるペレットの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
これまで、脱臭、排ガス処理などの分野で種々の吸着材が開発されている。活性炭はその代表例であり、活性炭の優れた吸着性能を利用して、空気浄化、脱硫、脱硝、有害物質除去など各種工業において広く使用されている。近年は半導体製造プロセスなどへ窒素の需要が増大しており、かかる窒素を製造する方法として、分子ふるい炭を使用して圧力スイング吸着法や温度スイング吸着法により空気から窒素を製造する方法が使用されている。また、分子ふるい炭は、メタノール分解ガスからの水素精製など各種ガス分離精製にも応用されている。
【０００３】
圧力スイング吸着法や温度スイング吸着法により混合ガスを分離する際には、一般に、分離吸着材として分子ふるい炭やゼオライトなどを使用し、その平衡吸着量または吸着速度の差により分離を行っている。しかしながら、平衡吸着量の差によって混合ガスを分離する場合、これまでの吸着材では除去したいガスのみを選択的に吸着することができないため分離係数が小さくなり、装置の大型化は不可避であった。また、吸着速度の差によって混合ガスを分離する場合、ガスの種類によっては除去したいガスのみを吸着できるが、吸着と脱着を交互に行う必要があり、この場合も装置は依然として大型にならざるを得なかった。
【０００４】
一方、より優れた吸着性能を与える吸着材として、多孔性金属錯体が開発されている。多孔性金属錯体は、（１）広い表面積と高い空隙率、（２）高い設計性、（３）外部刺激による動的構造変化、といった特徴を有しており、既存の吸着材にはない吸着特性が期待される。
【０００５】
多孔性金属錯体を吸着材として使用するに際しては、粉末状のままではなく成形してから用いることが好ましい。例えば、多孔性金属錯体を成形する方法として、打錠成形によるペレット化が知られている（特許文献１、特許文献２参照）。しかしながら、打錠時の滑沢剤がペレットの強度に与える影響については何ら記載されていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】ＷＯ２００３／１０２０００公報
【特許文献２】ＷＯ２００６／０５０８９８公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
したがって、本発明の目的は、圧壊強度が大きい多孔性金属錯体を含むペレットを製造する方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは鋭意検討し、多孔性金属錯体と、エラストマーとからなる組成物からなるペレットの製造方法において、多孔性金属錯体（Ａ）とエラストマー（Ｂ）の質量比が１：９９〜９９：１の範囲内であり、成形時に滑沢剤を添加し打錠成型を行うことにより、上記目的を達成できることを見出し、本発明に至った。
【０００９】
すなわち、本発明によれば、以下のものが提供される。
（１）多孔性金属錯体（Ａ）とエラストマー（Ｂ）とを１：９９〜９９：１の質量比で含む組成物からなるペレットの製造方法であって、当該多孔性金属錯体（Ａ）及びエラストマー（Ｂ）に、エラストマーの飽和溶解度が３０ｍｇ／ｍＬ以下である滑沢剤を添加し、打錠成型することを特徴とするペレットの製造方法。
（２）多孔性金属錯体（Ａ）が吸着に伴い体積変化することを特徴とする（１）に記載のペレットの製造方法。
（３）多孔性金属錯体（Ａ）の吸着に伴う体積変化率が０．５〜５０％である（１）または（２）に記載のペレットの製造方法。
（４）（１）から（３）のいずれか一項に記載の製造方法で製造されたペレット。
【発明の効果】
【００１０】
本発明により、多孔性金属錯体と、熱可塑性樹脂とからなる組成物からなるペレットの製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】テレフタル酸のカルボキシレートイオンと金属イオンとからなるパドルホイール骨格中の金属イオンのアキシャル位に４，４'−ビピリジルが配位して形成されるジャングルジム骨格の模式図である。
【図２】ジャングルジム骨格が二重に相互貫入した三次元構造の模式図である。
【図３】合成例１で得た金属錯体のメタノールを吸着した状態の粉末Ｘ線回折パターンである。
【図４】合成例１で得た金属錯体のメタノールを吸着した状態の結晶構造である。
【図５】合成例１で得た金属錯体の乾燥した状態の粉末Ｘ線回折パターンである。
【図６】合成例１で得た金属錯体の乾燥した状態の結晶構造である。
【図７】合成例１で得た金属錯体を重アンモニア水溶液に溶解させて測定した1Ｈ  ＮＭＲスペクトルである。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
本発明は、多孔性金属錯体（Ａ）と、エラストマー（Ｂ）とからなる組成物からなるペレットの製造方法である。
【００１３】
本発明に用いられる多孔性金属錯体（Ａ）は、周期表の１〜１３族に属する金属のイオンから選択される少なくとも１種の金属イオンとアニオン性配位子とを含む。
【００１４】
多孔性金属錯体（Ａ）に含まれる金属イオンは、周期表の１〜１３族に属する金属のイオンから選択される少なくとも１種の金属イオンである。
【００１５】
多孔性金属錯体（Ａ）に用いられる周期表の１〜１３族に属する金属のイオンとしては、例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム、マグネシウムイオン、カルシウムイオン、スカンジウムイオン、ランタノイドイオン（ランタンイオン、テルビウムイオン、ルテチウムイオンなど）、アクチノイドイオン（アクチニウムイオン、ローレンシウムイオンなど）、ジルコニウムイオン、バナジウムイオン、クロムイオン、モリブデンイオン、マンガンイオン、鉄イオン、コバルトイオン、ニッケルイオン、銅イオン、亜鉛イオン、カドミウムイオン及びアルミニウムイオンなどを使用することができ、中でもマンガンイオン、コバルトイオン、ニッケルイオン、銅イオン及び亜鉛イオンが好ましく、銅イオンがより好ましい。
【００１６】
多孔性金属錯体（Ａ）に用いられる金属イオンは、単一の金属イオンでも、２種類以上の金属イオンを含んでいてもよい。また、本発明に用いる金属錯体（Ａ）は、単一の金属イオンからなる金属錯体を２種以上混合して使用することもできる。
【００１７】
多孔性金属錯体（Ａ）に用いられるアニオン性配位子としては、例えば、フッ化物イオン、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオンなどのハロゲン化物イオン；テトラフルオロホウ酸イオン、ヘキサフルオロケイ酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、ヘキサフルオロヒ酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオンなどの無機酸イオン；トリフルオロメタンスルホン酸イオン、ベンゼンスルホン酸イオンなどのスルホン酸イオン；ギ酸イオン、酢酸イオン、トリフルオロ酢酸イオン、プロピオン酸イオン、酪酸イオン、イソ酪酸イオン、吉草酸イオン、カプロン酸イオン、エナント酸イオン、シクロヘキサンカルボン酸イオン、カプリル酸イオン、オクチル酸イオン、ペラルゴン酸イオン、カプリン酸イオン、ラウリン酸イオン、ミリスチン酸イオン、ペンタデシル酸イオン、パルミチン酸イオン、マルガリン酸イオン、ステアリン酸イオン、ツベルクロステアリン酸イオン、アラキジン酸イオン、ベヘン酸イオン、リグノセリン酸イオン、α−リノレン酸イオン、エイコサペンタエン酸イオン、ドコサヘキサエン酸イオン、リノール酸イオン、オレイン酸イオンなどの脂肪族モノカルボン酸イオン；安息香酸イオン、２，５−ジヒドロキシ安息香酸イオン、３，７−ジヒドロキシ−２−ナフトエ酸イオン、２，６−ジヒドロキシ−１−ナフトエ酸イオン、４，４'−ジヒドロキシ−３−ビフェニルカルボン酸イオンなどの芳香族モノカルボン酸イオン；ニコチン酸イオン、イソニコチン酸イオンなどの複素芳香族モノカルボン酸イオン；１，４−シクロヘキサンジカルボキシレートイオン、フマレートイオンなどの脂肪族ジカルボン酸イオン；１，３−ベンゼンジカルボキシレートイオン、１，４−ベンゼンジカルボキシレートイオン、１，４−ナフタレンジカルボキシレートイオン、２，６−ナフタレンジカルボキシレートイオン、２，７−ナフタレンジカルボキシレートイオン、４，４'−ビフェニルジカルボキシレートイオンなどの芳香族ジカルボン酸イオン；２，５−チオフェンジカルボキシレート、２，２'−ジチオフェンジカルボキシレートイオン、２，３−ピラジンジカルボキシレートイオン、２，５−ピリジンジカルボキシレートイオン、３，５−ピリジンジカルボキシレートイオンなどの複素芳香族ジカルボン酸イオン；１，３，５−ベンゼントリカルボキシレートイオン、１，３，４−ベンゼントリカルボキシレートイオン、ビフェニル−３，４’，５−トリカルボキシレートイオンなどの芳香族トリカルボン酸イオン；１，２，４，５−ベンゼンテトラカルボキシレートイオン、［１，１’：４’，１’’］ターフェニル−３，３’’，５，５’’−テトラカルボキシレートイオン、５，５’−（９，１０−アントラセンジイル）ジイソフタレートイオンなどの芳香族テトラカルボン酸イオン；イミダゾレートイオン、２−メチルイミダゾレートイオン、ベンゾイミダゾレートイオンなどの複素環化合物のイオンなどを使用することができる。ここで、アニオン性配位子とは金属イオンに対して配位する部位がアニオン性を有する配位子を意味する。
【００１８】
上記の中でも、アニオン性配位子としては、カルボキシレート基を有するものが好ましい。すなわち、脂肪族モノカルボン酸イオン、芳香族モノカルボン酸イオン、複素芳香族モノカルボン酸イオン、脂肪族ジカルボン酸イオン、芳香族ジカルボン酸イオン、複素芳香族ジカルボン酸イオン、芳香族トリカルボン酸イオン及び芳香族テトラカルボン酸イオンから選ばれるいずれかであることが好ましい。
【００１９】
上記のアニオン性配位子がカルボキシレート基、スルホネート基などを有する有機配位子の場合、該有機配位子はカルボキシル基、スルホ基などのアニオンになり得る置換基以外にイオン化しない置換基をさらに有していてもよい。具体的には、２−ニトロ−１，４−ベンゼンジカルボキシレートイオン、２−フルオロ−１，４−ベンゼンジカルボキシレートイオン、２，３，５，６−テトラフルオロ−１，４−ベンゼンジカルボキシレートイオン、２，４，６−トリフルオロ−１，３，５−ベンゼントリカルボキシレートイオンなどの置換基を有する多価カルボキシレートイオンであってもよい。
【００２０】
多孔性金属錯体（Ａ）に用いられるアニオン性配位子は、単一のアニオン性配位子でも、２種以上のアニオン性配位子を含んでいてもよい。また、金属錯体（Ａ）は、単一のアニオン性配位子からなる金属錯体を２種以上混合して使用することもできる。
【００２１】
本発明に用いられる多孔性金属錯体（Ａ）は多孔質体であり、その細孔中にガスなどの低分子を吸着し、また脱着することができるため、各種ガスの吸着材、吸蔵材及び分離材として用いることができる。
【００２２】
本発明に用いられる多孔性金属錯体（Ａ）は、気体、液体等の物質の吸着に伴う体積変化率が０．５％〜５０％であることが好ましい。ここで、体積変化率とは、吸着前後における多孔性金属錯体（Ａ）の構造単位の体積比と定義する。多孔性金属錯体（Ａ）の構造単位の体積は、単結晶Ｘ線構造解析、粉末Ｘ線結晶構造解析、単結晶中性子構造解析、粉末中性子結晶構造解析などにより求めることができるが、これらに限定されるものではない。
【００２３】
体積変化率は、例えば、多孔性金属錯体（Ａ）を真空乾燥後に常温常圧下で放置したときの体積を基準体積とし、多孔性金属錯体（Ａ）を合成する際に用いる溶媒に浸漬させたときに、基準体積から増加した体積と比較することで求めることができる。溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、塩化メチレン、クロロホルム、アセトン、酢酸エチル、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、水またはこれらの混合溶媒を使用することができる。浸漬温度としては、２５３〜４２３Ｋが好ましい。
【００２４】
本発明に用いられる多孔性錯体（Ａ）は、上記の金属イオンに多座配位可能な有機配位子を含んでいてもよい。
【００２５】
多座配位可能な有機配位子としては、特に限定されるものではないが、金属イオンに二座配位可能な有機配位子、金属イオンに三座配位可能な有機配位子、金属イオンに四座配位可能な有機配位子などを使用することができる。ここで、多座配位可能な中性有機配位子とは非共有電子対で金属イオンに対して配位する部位を少なくとも２箇所以上有する中性配位子を意味する。二座有機配位子は、非共有電子対で金属イオンに対して配位する部位を２箇所有する多座配位可能な中性有機配位子；三座有機配位子は、非共有電子対で金属イオンに対して配位する部位を３箇所有する多座配位可能な中性有機配位子；四座有機配位子は、非共有電子対で金属イオンに対して配位する部位を４箇所有する多座配位可能な中性有機配位子である。
【００２６】
二座配位可能な有機配位子（二座配位子）としては、例えば、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、ピラジン、４，４'−ビピリジル、１，２−ビス（４−ピリジル）エチン、１，４−ビス（４−ピリジル）ブタジイン、１，４−ビス（４−ピリジル）ベンゼン、３，６−ジ（４−ピリジル）−１，２，４，５−テトラジン、２，２'−ビ−１，６−ナフチリジン、フェナジン、ジアザピレン、２，６−ジ（４−ピリジル）−ベンゾ［１，２−ｃ：４，５−ｃ'］ジピロール−１，３，５，７（２Ｈ，６Ｈ）−テトロン、Ｎ，Ｎ'−ジ（４−ピリジル）−１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボキシジイミド、トランス−１，２−ビス（４−ピリジル）エテン、４，４'−アゾピリジン、１，２−ビス（４−ピリジル）エタン、４，４'−ジピリジルスルフィド、１，３−ビス（４−ピリジル）プロパン、１，２−ビス（４−ピリジル）−グリコール、Ｎ−（４−ピリジル）イソニコチンアミド、１，２−ビス（１−イミダゾリル）エタン、１，２−ビス（１，２，４−トリアゾリル）エタン、１，２−ビス（１，２，３，４−テトラゾリル）エタン、１，３−ビス（１−イミダゾリル）プロパン、１，３−ビス（１，２，４−トリアゾリル）プロパン、１，３−ビス（１，２，３，４−テトラゾリル）プロパン、１，４−ビス（４−ピリジル）ブタン、１，４−ビス（１−イミダゾリル）ブタン、１，４−ビス（１，２，４−トリアゾリル）ブタン、１，４−ビス（１，２，３，４−テトラゾリル）ブタン、１，４−ビス（ベンゾイミダゾール−１−イルメチル）−２，４，５，６−テトラメチルベンゼン、１，４−ビス（４−ピリジルメチル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゼン、１，３−ビス（イミダゾール−１−イルメチル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，３−ビス（４−ピリジルメチル）−２，４，６−トリメチルベンゼンなどが挙げられる。三座配位可能な有機配位子（三座配位子）としては、例えば、１，３，５−トリス（２−ピリジル）ベンゼン、１，３，５−トリス（３−ピリジル）ベンゼン、１，３，５−トリス（４−ピリジル）ベンゼン、１，３，５−トリス（１−イミダゾリル）ベンゼン、２，４，６−トリス（２−ピリジル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（３−ピリジル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリ（４−ピリジル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（１−イミダゾリル）−１，３，５−トリアジンなどが挙げられる。四座配位可能な有機配位子（四座配位子）としては、例えば、１，２，４，５−テトラキス（２−ピリジル）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（３−ピリジル）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（４−ピリジル）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（１−イミダゾリル）ベンゼン、テトラキス（３−ピリジルオキシメチレン）メタン及びテトラキス（４−ピリジルオキシメチレン）メタン、テトラキス（１−イミダゾリルメチル）メタンなどが挙げられる。これらの中でも二座配位可能な有機配位子であることが好ましい。
【００２７】
多座配位可能な有機配位子は置換基を有していてもよい。具体的には、２−メチルピラジン、２，５−ジメチルピラジン、２，２’−ジメチル−４，４’−ビピリジンなどの置換基を有する多座配位可能な有機配位子が挙げられる。
【００２８】
多孔性金属錯体（Ａ）に用いられる多座配位可能な有機配位子は、単一の多座配位可能な有機配位子でも、２種以上の多座配位可能な有機配位子を含んでいてもよい。また、多孔性金属錯体（Ａ）は、単一の多座配位可能な有機配位子からなる金属錯体を２種以上混合して使用することもできる。
【００２９】
多孔性金属錯体（Ａ）は、さらに本発明の効果を損なわない範囲で、単座有機配位子を含んでいてもよい。単座有機配位子とは、非共有電子対で金属イオンに対して配位する部位を１箇所持つ中性配位子を意味する。単座有機配位子としては、例えば、フラン、チオフェン、ピリジン、キノリン、イソキノリン、アクリジン、トリフェニルホスフィン、トリフェニルホスファイト、メチルイソシアニドなどを使用することができ、中でもピリジンが好ましい。単座有機配位子は炭素数１〜２３の炭化水素基を置換基として有してもよい。
【００３０】
本発明に用いられる多孔性金属錯体（Ａ）は、周期表の１〜１３族に属する金属のイオンから選択される少なくとも１種の金属イオンを含む金属塩と、アニオン性配位子を含む化合物と、必要に応じて該金属イオンに多座配位可能な有機配位子とを、気相、液相または固相のいずれかで反応させることで製造することができる。中でも、常圧下、溶媒中で数時間から数日間反応させ、析出させて製造することが好ましい。このとき、超音波またはマイクロウェーブ照射下で反応を行ってもよい。例えば、金属塩の水溶液または有機溶媒溶液と、アニオン性配位子及び多座配位可能な有機配位子を含有する有機溶媒溶液とを、常圧下で混合して反応させることにより本発明に用いられる多孔性金属錯体（Ａ）を得ることができる（例えば、特開２０１０−７０５４５公報参照）。
【００３１】
多孔性金属錯体（Ａ）を製造するときの金属塩とアニオン性配位子との混合比率は、金属塩：アニオン性配位子＝１：１０〜１０：１のモル比の範囲内が好ましく、１：５〜５：１のモル比の範囲内がより好ましい。これ以外の範囲で反応を行っても目的とする金属錯体は得られるが、収率が低下し、副反応も増えるために好ましくない。
【００３２】
多孔性金属錯体（Ａ）が多座配位可能な有機配位子を含有する場合には、金属錯体（Ａ）を製造するときのその混合比率は、アニオン性配位子：多座配位可能な有機配位子＝１：５〜８：１のモル比の範囲内が好ましく、１：３〜６：１のモル比の範囲内がより好ましい。また、金属塩：多座配位可能な有機配位子＝３：１〜１：３のモル比の範囲内が好ましく、２：１〜１：２のモル比の範囲内がより好ましい。
【００３３】
本発明に用いられる多孔性金属錯体（Ａ）は、用いるアニオン性配位子の種類、また多座配位可能な有機配位子を有する場合にはその種類により、一次元、二次元、或いは三次元の集積構造をとる。
【００３４】
多孔性金属錯体（Ａ）の集積構造は、例えば、単結晶Ｘ線構造解析、粉末Ｘ線結晶構造解析、単結晶中性子構造解析、粉末中性子結晶構造解析などにより確認できるが、これらに限定されるものではない。
【００３５】
吸着に伴い体積が変化する多孔性金属錯体（Ａ）の一例として、金属イオンとして亜鉛イオンを、アニオン性配位子として１，４−ベンゼンジカルボキシレート（テレフタル酸イオン）を、多座配位可能な有機配位子として４，４'−ビピリジルを有する多孔性金属錯体（Ａ−１）について詳しく述べる。多孔性金属錯体（Ａ−１）は、１，４−ベンゼンジカルボキシレートのカルボキシレートイオンと金属イオンとからなるパドルホイール骨格中の金属イオンのアキシャル位に４，４'−ビピリジルが配位して形成されるジャングルジム骨格が二重に相互貫入した三次元構造を有する。ジャングルジム骨格の模式図を図１に、ジャングルジム骨格が二重に相互貫入した三次元構造の模式図を図２に示す。
【００３６】
上記「ジャングルジム骨格」とは、１，４−ベンゼンジカルボキシレートなどのアニオン性配位子と金属イオンとからなるパドルホイール骨格中の金属イオンのアキシャル位に４，４'−ビピリジルなどの多座配位可能な有機配位子が配位し、アニオン性配位子と金属イオンとからなる二次元格子状シート間を連結することで形成されるジャングルジム様の三次元構造を意味する。「ジャングルジム骨格が多重に相互貫入した構造」とは、複数のジャングルジム骨格が互いの細孔を埋める形で貫入し合った三次元集積構造である。
【００３７】
本明細書において「吸着に伴い体積が変化する多孔性金属錯体」とは、多孔性金属錯体の細孔内に物質が吸着される化学的刺激により骨格中の細孔の構造や大きさが変化する多孔性金属錯体を意味する。該金属錯体は、化学的刺激に加えて、温度、圧力、電場などの物理的刺激によっても体積変化しうる。
【００３８】
多孔性金属錯体（Ａ）の細孔の構造や大きさの変化は、吸着される物質の種類、吸着圧力、吸着温度に依存する。すなわち、細孔表面と物質の相互作用の差に加え（相互作用の強さは物質のＬｅｎｎａｒｄ−Ｊｏｎｅｓポテンシャルの大きさに比例）、吸着する物質により構造変化の程度が異なる。
【００３９】
吸着に伴い体積変化が可能である多孔性金属錯体（Ａ）の他の例としては、例えば、金属イオンとして銅イオンを、アニオン性配位子としてテトラフルオロホウ酸イオンを、多座配位可能な有機配位子として１，２−ビス（４−ピリジル）エタンを用いた場合に得られる一次元鎖骨格が集積した三次元構造を有する多孔性金属錯体（Ａ−２）；金属イオンとして銅イオンを、アニオン性配位子としてテトラフルオロホウ酸イオンを、多座配位可能な有機配位子として４，４'−ビピリジルを用いた場合に得られる二次元格子状骨格が積層した三次元構造を有する多孔性金属錯体（Ａ−３）；金属イオンとして銅イオンを、アニオン性配位子として２，５−ジヒドロキシ安息香酸イオンを、多座配位可能な有機配位子として４，４'−ビピリジルを用いた場合に得られる二次元シート骨格が相互嵌合した三次元構造を有する多孔性金属錯体（Ａ−４）などを挙げることができる。
【００４０】
本発明に用いられる多孔性金属錯体（Ａ）が、吸着に伴い体積変化が可能であることは、例えば、単結晶Ｘ線構造解析結果の比較、粉末Ｘ線回折パターンの変化、吸収波長の変化または磁化率の変化などによりできるが、これらに限定されるものではない。
【００４１】
本発明に用いられるエラストマー（Ｂ）は特に限定されず、任意のものを使用することができる。中でも、オレフィン（共）重合体または熱可塑性エラストマーが好ましい。オレフィン（共）重合体としては、エチレンまたはプロピレンと他の単量体、例えば酢酸ビニル等との共重合体を使用することができる。熱可塑性エラストマーとしては、高分子鎖の一部にガラス転移温度が２７３Ｋ以下である（例えば、ガラス転移温度が１７３Ｋ以上２７３Ｋ以下である）重合体ブロック（ゴム相）を少なくとも１つ有するブロック共重合体を使用することができる。特に、高分子鎖の一部にガラス転移温度が２７３Ｋ以下である重合体ブロック（ゴム相）と、ガラス転移温度が３１０Ｋ以上である（例えば、ガラス転移温度が３１０Ｋ以上３９３Ｋ以下である）重合体ブロック（拘束相）とを有するブロック共重合体である熱可塑性エラストマーが好ましい。
【００４２】
本発明に用いられる熱可塑性エラストマーとしては、例えば、スチレン系エラストマー、オレフィン系エラストマー、ウレタン系エラストマー、ポリエステル系エラストマー、ニトリル系エラストマー、アミド系エラストマー、ポリブタジエン系エラストマー、アクリル系エラストマー、塩化ビニル系熱可塑性エラストマーなどを使用することができる。中でも、スチレン系エラストマー、オレフィン系エラストマー及びアクリル系エラストマーを特に好適に使用することができる。
【００４３】
金属錯体（Ａ）とエラストマー（Ｂ）の混合比率は、金属錯体（Ａ）とエラストマー（Ｂ）との質量比が１：９９〜９９：１の範囲内であることが好ましく、１０：９０〜９０：１０の範囲内であることがより好ましい。この範囲外ではガスの吸着性能が低下する場合、及び／または、組成物として形態を維持できなくなる場合がある。
【００４４】
本発明に用いられる組成物は、本発明の効果を損なわない範囲であれば、必要に応じて、酸化防止剤、凍結防止剤、ｐＨ調整剤、隠蔽剤、着色剤、油剤、難燃剤、近赤外線吸収剤、紫外線吸収剤、色調補正剤、染料、酸化防止剤、その他の特殊機能剤を１種または２種以上含有することができる。
【００４５】
本発明におけるペレットの製造方法は、組成物を成形する際に滑沢剤を添加し打錠成型を行うことを特徴とする。滑沢剤を使用することで、以下の理由により圧壊強度に優れたペレットを製造することが出来る。
【００４６】
組成物を打錠成形する際、鋳型壁面と組成物の摩擦力が大きいと、鋳型壁面近傍の組成物は十分に圧縮されない。この問題は、適切な滑沢剤を添加することで解決できる場合がある。即ち、滑沢剤を添加することで鋳型壁面と組成物の間の摩擦力を下げ、鋳型壁面近傍においても十分な圧縮圧を伝えることが出来る。結果として、優れた圧壊強度のペレットを得ることが出来る。鋳型壁面と組成物の間の摩擦力が下がる原因は、これらの間に滑沢剤が入り込み、鋳型壁面と組成物の接触面積を小さくすることであると推定される。
【００４７】
本発明に用いる滑沢剤は、多孔性金属錯体（Ａ）とエラストマー（Ｂ）とを含む組成物と打錠成型機の金型（鋳型）の壁面との摩擦を低減するような物質を意味する。滑沢剤としては、エラストマーの飽和溶解度が小さく、且つ、２５℃で液体である滑沢剤が好ましい。本発明において滑沢剤は、用いるエラストマー（Ｂ）の飽和溶解度で３０ｍｇ／ｍＬ以下である必要があり、１０ｍｇ／ｍＬ以下が好ましく、５ｍｇ／ｍＬ以下がより好ましい。エラストマーを溶解する滑沢剤を用いると、鋳型壁面近傍のエラストマーは滑沢剤と混合するため、鋳型壁面と組成物の接触面積を小さくする効果が得られない場合がある。また、成形時は鋳型壁面と組成物の摩擦により摩擦熱が発生する。滑沢剤の沸点が４５℃以下であると、圧縮時に鋳型壁面近傍の滑沢剤が気化し、それが緩衝層となって組成物が十分に圧縮されない場合がある。
【００４８】
本発明に用いる滑沢剤の具体例としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソプロピルアルコール、ヘプタノール、ヘキサノール等のアルコール；エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン等の多価アルコール；ジメチルエーテル、エチルメチルエーテル、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、酢酸ペンチル、酢酸イソペンチル、サリチル酸メチル等のエステル；水；ジメチルホルムアミド、アセトニトリル等が挙げられる。これらの滑沢剤は１種単独で又は２種以上を混合して用いることができる。滑沢剤としてアルコール又は多価アルコールを用いる場合、炭素数２〜８のものが好ましく、炭素数２〜３のものがより好ましい。また、滑沢剤として多価アルコールを用いる場合、１〜３価のアルコールが好ましく、２〜３価のアルコールがより好ましい。
【００４９】
本発明において飽和溶解度は、実施例に記載の方法に準じ、２５℃で測定した値を意味する。
【００５０】
滑沢剤の配合割合は特に限定されないが、例えば、金属錯体（Ａ）とエラストマー（Ｂ）との合計質量１００質量部に対し、１〜５０質量部、好ましくは３〜３０質量部の範囲で適宜設定できる。
【００５１】
本発明においては、滑沢剤を配合して打錠成型することによって、得られるペレットの圧壊強度を高めることができる。従って、本発明において、滑沢剤は、強度増強剤として用いられていると言い換えることもできる。従って、本発明は、多孔性金属錯体（Ａ）とエラストマー（Ｂ）とを１：９９〜９９：１の質量比で含む組成物に、エラストマー（Ｂ）の飽和溶解度が３０ｍｇ／ｍＬ以下である滑沢剤を添加し、打錠成型することを特徴とするペレットの圧壊強度増強方法も提供する。
【００５２】
本発明の方法においては、打錠成型工程の後、得られたペレットを乾燥する工程を行ってもよい。打錠成型工程後にペレット中に滑沢剤が残存している場合、当該乾燥工程により、滑沢剤を除去することができる。乾燥工程の温度は特に限定されないが、例えば、３００℃以下、好ましくは８０〜２５０℃の範囲で適宜設定できる。また、乾燥工程の時間も特に限定されないが、例えば、１０〜３０００分、好ましくは６０〜６００分の範囲で適宜設定できる。乾燥工程は圧力を調整せずに行っても、減圧下で行ってもよい。
【００５３】
本発明により得られるペレットのサイズとしては、使用条件によって異なることから特に限定されるものではないが、直径が０．５ｍｍ〜５．０ｍｍの範囲内であり、かつ長さが１．０ｍｍ〜１０．０ｍｍの範囲内であることが好ましい。
【００５４】
本発明により得られるペレットの圧壊強度としては、ペレットのサイズや使用条件によって異なることから特に限定されるものではないが、９０Ｎ以上であることが好ましく、１００Ｎ以上であることがより好ましい。
【００５５】
本発明の製造方法によって得られるペレットは、二酸化炭素、水素、一酸化炭素、酸素、窒素、炭素数１〜４の炭化水素（メタン、エタン、エチレン、アセチレン、プロパン、プロペン、メチルアセチレン、プロパジエン、ブタン、１−ブテン、イソブテン、１−ブチン、２−ブチン、１，３−ブタジエン、メチルアレンなど）、希ガス（ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノンなど）、硫化水素、アンモニア、硫黄酸化物、窒素酸化物、シロキサン（ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサンなど）、水蒸気または有機蒸気（常温、常圧で液体状の有機物質の気化ガス）などの各種ガスの吸着性能、吸蔵性能及び分離性能に優れている。従って、本発明のペレットは、各種ガスの吸着材、吸蔵材及び分離材として有用であり、これらも本発明の権利範囲に含まれる。
【００５６】
有機蒸気とは、常温、常圧で液体状の有機物質の気化ガスを意味する。このような有機物質としては、メタノール、エタノールなどのアルコール類；トリメチルアミンなどのアミン類；ホルムアルデヒド、アセトアルデヒドなどのアルデヒド類；ペンタン、イソプレン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、メチルシクロヘキサン、オクタン、１−オクテン、シクロオクタン、シクロオクテン、１，５−シクロオクタジエン、４−ビニル−１−シクロヘキセン、１，５，９−シクロドデカトリエンなどの炭素数５〜１６の炭化水素；ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素；アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類；酢酸メチル、酢酸エチルなどのエステル類；塩化メチル、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素などが挙げられる。
【実施例】
【００５７】
以下、本発明を実施例によって具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。以下の実施例および比較例における分析および評価は次のようにして行った。
【００５８】
（１）粉末Ｘ線回折パターンの測定
Ｘ線回折装置を用いて、回折角（２θ）＝５〜５０°の範囲を走査速度１°／分で走査し、対称反射法で測定した。分析条件の詳細を以下に示す。
＜分析条件＞
装置：株式会社リガク製ＳｍａｒｔＬａｂ
Ｘ線源：ＣｕＫα（λ＝１．５４１８Å）  ４５ｋＶ  ２００ｍＡ
ゴニオメーター：横型ゴニオメーター
検出器：Ｄ／ｔｅＸ  Ｕｌｔｒａ
ステップ幅：０．０２°
スリット：発散スリット＝２／３°
受光スリット＝０．３ｍｍ
散乱スリット＝２／３°。
【００５９】
（２）金属錯体に含まれる酢酸の定量
金属錯体を重アンモニア水溶液に溶解させたサンプルについて1Ｈ  ＮＭＲ測定を行い、得られたスペクトルの積分比から算出した。分析条件の詳細を以下に記す。
＜分析条件＞
装置：日本電子株式会社製ＪＮＭ−ＬＡ５００
共鳴周波数：５００ＭＨｚ
溶媒：２５ｗｔ％重アンモニア水溶液
基準物質：３−（トリメチルシリル）プロパン酸ナトリウム−ｄ４
温度：２９８Ｋ
積算回数：２，０４８回。
【００６０】
（３）圧壊強度の測定
ペレットを一軸加圧機に設置し、２９８Ｋで載荷速度９ｍｍ／分で一軸加圧した。応力緩和が起こった時点の加圧力（Ｎ）を測定し、この値を圧壊強度とした（ＪＩＳ  Ｚ８８４１に準拠）。分析条件の詳細を以下に示す。
＜分析条件＞
装置：株式会社島津製作所製オートグラフＡＧＳ−１０ｋＮＧ
ロードセル  ５ＢＬ−１ｋＮ
測定モード：圧縮・引張モード。
【００６１】
（４）飽和溶解度の測定
５０ｍＬナスフラスコに５０ｍｇ、３００ｍｇ、又は５００ｍｇのエラストマーと、１０ｍＬの溶媒に添加し、内温２５℃にて５時間攪拌を行った。次いで、ナスフラスコの内容物を取り出し、ＰＴＦＥフィルターを用いてろ過を行った。得られた残存固体を回収した後、１５０℃にて減圧乾燥を５時間行い、固体の質量を測定した。固体質量と投入したエラストマーの質量から、エラストマーの飽和溶解度を算出した。
【００６２】
＜合成例１＞
［第一工程］
窒素雰囲気下、酢酸銅一水和物２１．８ｇ（１０９ｍｍｏｌ）、テレフタル酸１８．２ｇ（１０９ｍｍｏｌ）及び酢酸１９．７ｇ（３２８ｍｍｏｌ）をメタノール２００ｍＬに分散させ、懸濁状態で３３３Ｋで１８時間攪拌した。析出した金属錯体を吸引濾過により回収した後、メタノールで３回洗浄し、中間体を単離した。
【００６３】
［第二工程］
窒素雰囲気下、単離した中間体をメタノール１３３ｍＬ中に分散させ、４，４’−ビピリジル８．５４ｇ（５４．７ｍｍｏｌ）を添加し、２９８Ｋで３時間攪拌した。このとき、反応溶液は懸濁したままであった。金属錯体を吸引濾過により回収した後、メタノールで３回洗浄した。得られた金属錯体の粉末Ｘ線回折パターンを図３に示す。別途合成した単結晶の構造解析結果から求めたシミュレーションパターンとの比較から、得られた金属錯体はジャングルジム骨格が二重に相互貫入した構造を有していることがわかった。単結晶構造解析結果を以下に示す。また、結晶構造を図４に示す。
Ｔｒｉｃｌｉｎｉｃ（Ｐ−１）
ａ＝１０．８１９５（１８）Å
ｂ＝１４．００４（３）Å
ｃ＝２１．６８２（４）Å
α＝８７．５７０（４）°
β＝８６．５７７（５）°
γ＝８８．０８３（５）°
Ｖ＝３２７４．９（１０）Å3
Ｒ＝０．０４５８
Ｒw＝０．１１８７。
【００６４】
続いて、得られた金属錯体を３７３Ｋ、５０Ｐａで８時間乾燥し、目的の金属錯体２６．３ｇを得た。得られた金属錯体の粉末Ｘ線回折パターンを図５に示す。別途合成した単結晶の構造解析結果から求めたシミュレーションパターンとの比較から、得られた金属錯体はジャングルジム骨格が二重に相互貫入した構造を有していることがわかった。単結晶構造解析結果を以下に示す。また、結晶構造を図６に示す。
Ｔｒｉｃｌｉｎｉｃ（Ｐ−１）
ａ＝７．８９８（３）Å
ｂ＝８．９３０（３）Å
ｃ＝１０．８１８（３）Å
α＝６７．５０９（１２）°
β＝８０．４０１（１４）°
γ＝７９．５６６（１３）°
Ｖ＝６８９．３（４）Å3
Ｒ＝０．０３３０
Ｒw＝０．０９０５。
【００６５】
図３と、図５との比較から、メタノールの吸脱着前後で構造が異なるので、本錯体は吸脱着に伴い、構造が動的に変化することが分かる。このときの体積変化率は、真空乾燥前（メタノール吸着状態）の金属錯体の構造単位の体積が３２７４．９（１０）Å3、真空乾燥後の金属錯体の構造単位の体積が６８９．３（４）Å3であることから、次式に従って２７．１％と算出される。
体積変化率＝｛３２７４．９／（６８９．３ｘ４）−１｝ｘ１００
＝２７．１％。
【００６６】
得られた金属錯体１０ｍｇを２５ｗｔ％重アンモニア水７００ｍｇ（基準物質として３−（トリメチルシリル）プロパン酸ナトリウム−ｄ４を０．４ｗｔ％含有）に溶解させ、1Ｈ  ＮＭＲ測定を行った。得られたスペクトルを図３に示す。スペクトルを解析した結果、テレフタル酸の２位、３位、５位及び６位のプロトンに帰属される７．９１７ｐｐｍ（ｓ，４Ｈ）のピークの積分値が２．０３７であるのに対し、酢酸のメチル基のプロトンに帰属される１．９２８ｐｐｍ（ｓ，３Ｈ）のピークの積分値は０．０３０であったことから、金属錯体に含まれるテレフタル酸と酢酸のモル比は、テレフタル酸：酢酸＝１０４：１であることが分かった。なお、図７において３．９ｐｐｍ付近のブロードなシグナルは水によるものである。
【００６７】
粉末Ｘ線結晶構造解析と1Ｈ−ＮＭＲ測定との結果から、得られた金属錯体の組成式は［Ｃｕ2（Ｃ8Ｈ4Ｏ4）2-x（Ｃ10Ｈ8Ｎ2）（ＣＨ3ＣＯＯ）x］n（ｘ＝０．０１９）であることが分かった。ｘの値は小さいため、理論収量は［Ｃｕ2（Ｃ8Ｈ4Ｏ4）2（Ｃ10Ｈ8Ｎ2）］n（銅：テレフタル酸：４，４’−ビピリジル＝２：２：１）で表される化合物の分子量から算出した。その結果、得られた金属錯体の収率は８１％であった。
【００６８】
＜合成例２＞
エチレンと酢酸ビニルのランダム共重合体である三井・デュポン  ポリケミカル株式会社製＜エバフレックス（登録商標）＞（銘柄：ＥＶ４５ＬＸ）２．８０ｇをクロロホルム１６０ｍＬに加え、２９８Ｋで攪拌して溶解させた。得られた溶液に合成例１で得た金属錯体２５．２ｇを加え、２９８Ｋで５分間攪拌した。続いて、減圧下でクロロホルムを留去した後、３７３Ｋ、５０Ｐａで８時間乾燥し、金属錯体とエチレン−酢酸ビニル共重合体の組成物２４．５ｇ（収率８５％）を得た。
【００６９】
＜実施例１＞
合成例２で得た金属錯体とエチレン−酢酸ビニル共重合体の組成物４５０ｍｇを、滑沢剤である水１１３ｍｇと混合し、内径３．０ｍｍ、長さ１５ｍｍの臼に入れ、市橋精機株式会社製簡易錠剤成型機ＨＡＮＤＴＡＢ−１００を用い、打錠圧２，４５０ｋｇｆ／ｃｍ2、温度４７３Ｋ、保持時間０分で打錠成型を行い、直径３．０ｍｍ、長さ７．８ｍｍのペレット６個（４２５ｍｇ）を得た。
【００７０】
得られたペレットの圧壊強度を測定した結果、１３７Ｎ（ｎ＝５平均値）であった。
【００７１】
＜実施例２〜３、比較例１〜３＞
表１に記載の種類及び量の滑沢剤を用いる以外、実施例１と同様にして、実施例２〜３、比較例２〜３のペレットを作製し、圧壊強度を測定した。滑沢剤を配合しないこと以外は、実施例１と同様にして比較例１のペレットを作製し、圧壊強度を測定した。結果を下記表に示す。
【００７２】
【表１】
0006522397.tif 000002
【００７３】
上記表１に示すように、エラストマー（Ｂ）の飽和溶解度が低い滑沢剤を用いることにより、高い圧壊強度のペレットを得ることができた。尚、比較例２においては、エラストマーがトルエンにより溶けだし、打錠機の壁面が汚れてしまった。
【図１】
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【図２】
0006522397.tif 000004
【図３】
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【図４】
0006522397.tif 000006
【図５】
0006522397.tif 000007
【図６】
0006522397.tif 000008
【図７】
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