(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１樹脂層と、第２樹脂層と、支持体とをこの順に備え、
前記第１樹脂層の厚みが、０．０３ｍｍ以下であり、
前記第２樹脂層のダイナミック硬度に対する前記第１樹脂層のダイナミック硬度の割合が、０．３以下である、レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版。
【請求項２】
前記第１樹脂層の厚みが、０．０２ｍｍ以下である、請求項１に記載のレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版。
【請求項３】
前記第１樹脂層が、ジエン系ポリマーと光熱変換剤と架橋剤とを含有する第１樹脂層形成用組成物を架橋させることで得られる樹脂層であり、
前記第２樹脂層が、ジエン系ポリマーと光熱変換剤と架橋剤とを含有する第２樹脂層形成用組成物を架橋させることで得られる樹脂層である、請求項１または２に記載のレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載のレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版に対してレーザー彫刻することで得られる、フレキソ印刷版。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版およびフレキソ印刷版に関する。
【背景技術】
【０００２】
フレキソ印刷は、アニロックスロール等を用いて印刷版状の凸部にインキをつけて、被印刷体に転写する印刷方式である。フレキソ印刷に使用されるフレキソ印刷版としては、フレキソ印刷版原版をレーザーで直接彫刻したものなどが用いられている。【０００３】
例えば、特許文献１には、支持体上に、加水分解性シリル基及び／又はシラノール基を有する化合物と共役ジエン単量体単位を含有する重合体と加硫剤とを含有するレーザー彫刻用樹脂組成物を用いてレリーフ形成層（樹脂層）を形成し、上記レリーフ形成層を熱架橋して架橋レリーフ形成層とすることで得られる、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版（レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版）、および、上記原版をレーザー彫刻することで得られるレリーフ印刷版（フレキソ印刷版）が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１１−１３６４２９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ここで、フレキソ印刷版にはベタの品質（ベタ品質）が優れることが要求される。より具体的には、印刷版を押込んだ際にベタの濃度が均一であることが要求される。
また同時に、印圧を上げたときに網点の濃度上昇（ドットゲイン）が小さいことも求められる。すなわち、印圧を変動させても網点の濃度変動が小さい（印圧ラチチュードが広い）ことが求められる。なお、印圧は、通常、印刷版の押込み量［μｍ］で表される。【０００６】
本発明者が特許文献１に開示されるレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版について検討したところ、得られるフレキソ印刷版は、ベタ品質と印圧ラチチュードを必ずしも高いレベルで両立させることができないことが明らかになった。【０００７】
そこで、本発明は、上記実情を鑑みて、ベタ品質に優れ、かつ、印圧ラチチュードが広いフレキソ印刷版を得ることができるレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版、および、上記レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版に対してレーザー彫刻することで得られるフレキソ印刷版を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者は、上記課題について鋭意検討した結果、ダイナミック硬度が特定の関係にある２つの樹脂層を備えたレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版とすることで上記課題が解決できることを見出し、本発明に至った。
すなわち、本発明者は、以下の構成により上記課題が解決できることを見出した。【０００９】
（１）  第１樹脂層と、第２樹脂層と、支持体とをこの順に備え、
上記第１樹脂層の厚みが、０．０３ｍｍ以下であり、
上記第２樹脂層のダイナミック硬度に対する上記第１樹脂層のダイナミック硬度の割合が、０．９以下である、レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版。
（２）  上記第１樹脂層の厚みが、０．０２ｍｍ以下である、上記（１）に記載のレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版。
（３）  上記第２樹脂層のダイナミック硬度に対する上記第１樹脂層のダイナミック硬度の割合が、０．３以下である、上記（１）または（２）に記載のレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版。
（４）  上記第１樹脂層が、ジエン系ポリマーと光熱変換剤と架橋剤とを含有する第１樹脂層形成用組成物を架橋させることで得られる樹脂層であり、
上記第２樹脂層が、ジエン系ポリマーと光熱変換剤と架橋剤とを含有する第２樹脂層形成用組成物を架橋させることで得られる樹脂層である、上記（１）〜（３）のいずれかに記載のレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版。
（５）  上記（１）〜（４）のいずれかに記載のレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版に対してレーザー彫刻することで得られる、フレキソ印刷版。
【発明の効果】
【００１０】
以下に示すように、本発明によれば、ベタ品質に優れ、かつ、印圧ラチチュードが広いフレキソ印刷版を得ることができるレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版、および、上記レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版に対してレーザー彫刻することで得られるフレキソ印刷版を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明のレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の一実施形態の模式的断面図である。
【図２】実施例で用いた評価画像である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下に、本発明のレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版およびフレキソ印刷版について説明する。
なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
【００１３】
［レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版］
本発明のレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版（以下、本発明のフレキソ印刷版原版、または、本発明の原版とも言う）は、第１樹脂層と、第２樹脂層と、支持体とをこの順に備え、上記第１樹脂層の厚みが、０．０３ｍｍ以下であり、上記第２樹脂層のダイナミック硬度に対する上記第１樹脂層のダイナミック硬度の割合が、０．９以下である。
本発明の原版はこのような構成をとるため、ベタ品質に優れ、かつ、印圧ラチチュードが広いフレキソ印刷版を得ることができるものと考えられる。その理由は明らかではないがおよそ以下のとおりと推測される。
すなわち、本発明の原版は、表層に硬度が小さい（柔らかい）樹脂層（第１樹脂層）と、その下層に硬度が高い（硬い）樹脂層（第２樹脂層）とを備えるため、得られる印刷版において、印刷版を押込んだ際に柔らかい表層が均一に潰れて、優れたベタ品質を示すものと考えられる。一方で、硬い下層が存在するため、網点の大きな変形が抑えられ、印圧ラチチュードは広くなるものと考えられる。結果として、ベタ品質と印圧ラチチュードが高いレベルで両立されるものと考えられる。
【００１４】
なお、後述するように、本発明の原版を第１樹脂層側から彫刻することで、レリーフ層と支持体とを備えるフレキソ印刷版を製版することができる。
また、各樹脂層および支持体の間に他の層を備えてもよいが、第１樹脂層と第２樹脂層は隣接するのが好ましい。
【００１５】
まず、本発明の原版について、図面を用いて説明する。
図１は、本発明のレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の一実施形態の模式的断面図である。
レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版１００は、第１樹脂層１０と、第２樹脂層２０と、支持体３０とをこの順に備える。ここで、第１樹脂層１０の厚みは０．０３ｍｍ以下である。また、第２樹脂層２０のダイナミック硬度に対する第１樹脂層１０のダイナミック硬度の割合は、０．９以下である。
以下、各樹脂層および支持体について説明する。
【００１６】
〔第１樹脂層〕
第１樹脂層は、厚みが０．０３ｍｍ以下であり、後述する割合（Ｄ１／Ｄ２）を満たす樹脂層であれば特に制限されない。第１樹脂層はゴム層であることが好ましい。
【００１７】
第１樹脂層の厚みの下限は特に制限されないが、０．００１ｍｍ以上であることが好ましく、０．００２ｍｍ以上であることがより好ましく、０．００５ｍｍ以上であることがさらに好ましく、０．０１ｍｍ以上であることが特に好ましい。
第１樹脂層の厚みは、０．０２ｍｍ以下であることが好ましい。
第１樹脂層の厚みが０．０３ｍｍを超えると、得られるフレキソ印刷版の印圧ラチチュードが狭くなる。
【００１８】
第１樹脂層は、後述する第１樹脂層形成用組成物を架橋させることで得られる樹脂層であることが好ましい。すなわち、第１樹脂層は、後述するジエン系ポリマーまたはその架橋体、および、後述する光熱変換剤を含有するのが好ましい。
【００１９】
〔第２樹脂層〕
第２樹脂層は、後述する割合（Ｄ１／Ｄ２）を満たす樹脂層であれば特に制限されない。第１樹脂層はゴム層であることが好ましい。
【００２０】
第２樹脂層の厚みは特に制限されないが、０．５〜１０ｍｍであることが好ましく、０．６〜３ｍｍであることがより好ましい。
【００２１】
第２樹脂層は、後述する第２樹脂層形成用組成物を架橋させることで得られる樹脂層であることが好ましい。すなわち、第２樹脂層は、後述するジエン系ポリマーまたはその架橋体、および、後述する光熱変換剤を含有するのが好ましい。
【００２２】
上記第２樹脂層のダイナミック硬度（Ｄ２）に対する上記第１樹脂層のダイナミック硬度（Ｄ１）の割合（Ｄ１／Ｄ２）は、０．９以下である。本発明の原版は、上記割合（Ｄ１／Ｄ２）が０．９以下であるため、得られるフレキソ印刷版が優れたベタ品質を示すものと考えられる。
割合（Ｄ１／Ｄ２）の下限は特に制限されないが、０．１以上であることが好ましい。
割合（Ｄ１／Ｄ２）は、０．３以下であることが好ましい。
第１樹脂層のダイナミック硬度（Ｄ１）は、０．１Ｎ／ｍｍ２以上５Ｎ／ｍｍ２未満であることが好ましく、１Ｎ／ｍｍ２以上３Ｎ／ｍｍ２以下であることがより好ましい。
第２樹脂層のダイナミック硬度（Ｄ２）は、５Ｎ／ｍｍ２以上２０Ｎ／ｍｍ２以下であることが好ましく、６Ｎ／ｍｍ２以上１０Ｎ／ｍｍ２以下であることがより好ましい。
【００２３】
本明細書において、各樹脂層のダイナミック硬度［Ｎ／ｍｍ２］は、以下の条件で測定したものである。
・測定機器：フィッシャー社製ピコデンター  ＨＭ５００
・圧子：ビッカース圧子（圧子対面角度１３６°の四角錐型ダイヤモンド圧子）
・押し込み速度：０．８３ｍＮ／ｓｅｃ
・押し込み深さ：１μｍ
・測定温度：２５℃
【００２４】
なお、第１樹脂層のダイナミック硬度は、原版の第１樹脂層側の表面に対して垂直に測定したものである。また、第２樹脂層のダイナミック硬度は、原版の表面に対して垂直に断面を切り出し、得られた断面に対して垂直に測定したものである。
【００２５】
〔支持体〕
支持体は特に制限されないが、寸法安定性の高いものが好ましく使用され、その素材としては、例えば、スチール、ステンレス、アルミニウムなどの金属、ポリエステル（例えばＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＢＴ（ポリブチレンテレフタレート）、ＰＡＮ（ポリアクリロニトリル））；ポリ塩化ビニルなどのプラスチック樹脂；スチレン−ブタジエンゴムなどの合成ゴム；ガラスファイバーで補強されたプラスチック樹脂（エポキシ樹脂やフェノール樹脂など）；等が挙げられる。
支持体は、ＰＥＴフィルムやスチール基板が好ましく用いられる。
支持体の厚みは特に制限されないが、１０〜１０００μｍであることが好ましい。
【００２６】
〔その他の層〕
上述のとおり、本発明の原版は、各樹脂層および支持体の間に他の層を備えてもよい。
例えば、第２樹脂層と支持体との間の接着力を強化する観点から、接着層を設けてもよい。
接着層に用いることができる材料（接着剤）としては、例えば、Ｉ．Ｓｋｅｉｓｔ編、「Ｈａｎｄｂｏｏｋ  ｏｆ  Ａｄｈｅｓｉｖｅｓ」、第２版（１９７７）に記載のものを用いることができる。
なお、上述のとおり、第１樹脂層と第２樹脂層は隣接するのが好ましい。
【００２７】
〔レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の製造方法〕
本発明の原版を製造する方法は特に制限されないが、好適な態様としては、以下の（１）〜（５）の工程を備える方法が挙げられる。
（１）ジエン系ポリマーと光熱変換剤と架橋剤とを含有する第１樹脂層形成用組成物を用いて第１樹脂層前駆体層を形成する、第１樹脂層前駆体層形成工程
（２）ジエン系ポリマーと光熱変換剤と架橋剤とを含有する第２樹脂層形成用組成物を用いて第２樹脂層前駆体層を形成する、第２樹脂層前駆体層形成工程
（３）上記第１樹脂層前駆体層と上記第２樹脂層前駆体層とを貼り合わせることでレリーフ形成層を形成する、レリーフ形成層形成工程
（４）上記レリーフ形成層を加熱により架橋させて架橋レリーフ形成層（第１樹脂層＋第２樹脂層）を形成する、架橋工程
（５）上記架橋レリーフ形成層の第２樹脂層側に支持体を貼り合わせることでレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版を製造する、支持体貼り合わせ工程
以下、各工程について説明する。
【００２８】
＜工程（１）：第１樹脂層前駆体層形成工程＞
第１樹脂層前駆体層形成工程は、ジエン系ポリマーと光熱変換剤と架橋剤とを含有する第１樹脂層形成用組成物を用いて第１樹脂層前駆体層（第１樹脂シート）を形成する工程である。
まず、第１樹脂層形成用組成物に含有される各成分について説明する。
【００２９】
（ジエン系ポリマー）
第１樹脂層形成用組成物に含有されるジエン系ポリマーは特に限定されず、従来公知のジエン系ポリマーを制限なく使用することができる。
上記ジエン系ポリマーとしては、具体的には、例えば、ポリイソプレン、ポリブタジエン、エチレン−プロピレン−ジエン共重合体（ＥＰＤＭ）、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体（ＳＢＲ）、スチレン−イソプレン共重合体、スチレン−イソプレン−ブタジエン共重合体等が挙げられ、これらを１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
これらのうち、原版の厚みのばらつきが小さくなる理由から、ポリイソプレン、ポリブタジエンおよびエチレン−プロピレン−ジエン共重合体よりなる群から選択される少なくとも１種のジエン系ポリマーであるのが好ましい。
【００３０】
本発明において、ポリイソプレンまたはポリブタジエンは、それぞれ、主鎖が主としてイソプレンまたはブタジエンを単量体単位とするポリマーであればよく、一部が水素添加されて飽和結合に変換されていてもよい。また、ポリマーの主鎖中または末端が、アミド、カルボキシ基、ヒドロキシ基、（メタ）アクリロイル基等で変性されていてもよく、エポキシ化されていてもよい。
なお、本明細書において、（メタ）アクリロイル基とは、アクリロイル基またはメタクリロイル基のことをいう。
【００３１】
また、本発明において、ポリイソプレンまたはポリブタジエンは、それぞれ、主鎖中に占める脂肪族炭化水素（イソプレン、ブタジエンまたはそれらの水素添加物）に由来するモノマー単位の割合が８０ｍｏｌ％以上であることが好ましい。
主鎖中に占める脂肪族炭化水素に由来するモノマー単位の割合が８０ｍｏｌ％以上であると、彫刻カスのリンス性が良好であるので好ましい。
脂肪族炭化水素に由来するモノマー単位の含有量は、ジエン系ポリマーの主鎖を構成する全モノマー単位の９０ｍｏｌ％以上であることがより好ましく、９５ｍｏｌ％であることが更に好ましく、９９ｍｏｌ％以上であることが特に好ましい。
なお、本発明において、「主鎖」とは樹脂を構成する高分子化合物の分子中で相対的に最も長い結合鎖を表し、「側鎖」とは主鎖から枝分かれしている炭素鎖を表し、側鎖にはヘテロ原子を含んでもよい。
すなわち、例えば、ポリイソプレンは、イソプレン及びイソプレンの水素添加物に由来するモノマー単位の割合が、合計して８０ｍｏｌ％以上であることが好ましく、９０ｍｏｌ％以上であることがより好ましく、９５ｍｏｌ％以上であることが更に好ましく、９９ｍｏｌ％以上であることが特に好ましい。
同様に、ポリブタジエンは、ブタジエン及びブタジエンの水素添加物に由来するモノマー単位の割合が、合計して８０ｍｏｌ％以上であることが好ましく、９０ｍｏｌ％以上であることがより好ましく、９５ｍｏｌ％以上であることが更に好ましく、９９ｍｏｌ％以上であることが特に好ましい。
また、ジエン系ポリマーとして、イソプレン／ブタジエン共重合体を使用する場合には、イソプレン、ブタジエン及びそれらの水素添加物に由来するモノマー単位を合計して８０ｍｏｌ％以上含有することが好ましく、９０ｍｏｌ％以上含有することがより好ましく、９５ｍｏｌ％以上含有することが更に好ましく、９９ｍｏｌ％以上含有することが特に好ましい。
【００３２】
イソプレンは、触媒や反応条件により、１，２−、３，４−又は１，４−付加により重合することが知られているが、本発明は上記のいずれの付加により重合されたポリイソプレンでもよい。これらの中でも所望のムーニー粘度を得る観点から、主成分としてｃｉｓ−１，４−ポリイソプレンを含有することが好ましい。なお、ｃｉｓ−１，４−ポリイソプレンの含有量は、５０質量％以上であることが好ましく、６５質量％以上であることがより好ましく、８０質量％以上であることが更に好ましく、９０質量％以上であることが特に好ましい。
また、ポリイソプレンとしては、天然ゴムを使用してもよく、また、上市されているポリイソプレンを使用することもでき、例えば、ＮＩＰＯＬ ＩＲシリーズ（日本ゼオン株式会社製）が例示される。
【００３３】
ブタジエンは、触媒や反応条件により１，２−又は１，４−付加により重合することが知られているが、本発明は上記のいずれの付加により重合されたポリブタジエンでもよい。これらの中でも、所望のムーニー粘度を得る観点から、１，４−ポリブタジエンが主成分であることがより好ましい。
なお、１，４−ポリブタジエンの含有量は、５０質量％以上であることが好ましく、６５質量％以上であることがより好ましく、８０質量％以上であることが更に好ましく、９０質量％以上であることが特に好ましい。
なお、ｃｉｓ体とｔｒａｎｓ体の含有量は特に制限はなく、所望のムーニー粘度の範囲で適宜選択すればよいが、ゴム弾性を発現させる観点から、ｃｉｓ体が好ましく、ｃｉｓ−１，４−ポリブタジエンの含有量が５０質量％以上であることが好ましく、６５質量％以上であることがより好ましく、８０質量％以上であることが更に好ましく、９０質量％以上であることが特に好ましい。
ポリブタジエンとしては、上市されている製品を使用してもよく、例えば、ＮＩＰＯＬ ＢＲシリーズ（日本ゼオン株式会社製）、ＵＢＥＰＯＬ ＢＲシリーズ（宇部興産株式会社製）等が例示される。
【００３４】
一方、エチレン−プロピレン−ジエン共重合体（ＥＰＤＭ）は、ムーニー粘度ＭＬ1+4（１００℃）が２５〜９０であるポリマーであるのが好ましい。なお、ムーニー粘度ＭＬ1+4（１００℃）は、ＡＳＴＭ Ｄ１６４６の規定に準じて測定される値である。
また、ＥＰＤＭは、エチレン含量が４０〜７０質量％であるポリマーであるのが好ましく、ジエン含量が１〜２０質量％であるポリマーであるのが好ましい。
また、ＥＰＤＭのジエン成分としては、例えば、ジシクロペンタジエン（ＤＣＰＤ）、５−エチリデン−２−ノルボルネン、１，４ヘキサジエン等が挙げられる。
【００３５】
本発明において、ジエン系ポリマーは、重量平均分子量は２００，０００以上であることが好ましく、３００，０００〜２，０００，０００であることがより好ましく、３００，０００〜１，５００，０００であることが更に好ましく、３００，０００〜７００，０００であることが特に好ましい。
ここで、重量平均分子量は、ゲル透過クロマトグラフ法（ＧＰＣ）法にて測定され、標準ポリスチレンで換算して求められる。具体的には、例えば、ＧＰＣは、ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ（東ソー株式会社製）を用い、カラムとして、ＴＳＫｇｅＬ Ｓｕｐｅｒ ＨＺＭ−Ｈ、ＴＳＫｇｅＬ ＳｕｐｅｒＨＺ４０００、ＴＳＫｇｅＬ ＳｕｐｅｒＨＺ２０００（東ソー株式会社製、４．６ｍｍＩＤ×１５ｃｍ）を３本用い、溶離液としてＴＨＦ（テトラヒドロフラン）を用いる。また、条件としては、試料濃度を０．３５質量％、流速を０．３５ｍＬ／ｍｉｎ、サンプル注入量を１０μＬ、測定温度を４０℃とし、ＩＲ検出器を用いて行う。また、検量線は、東ソー株式会社製「標準試料ＴＳＫ ｓｔａｎｄａｒｄ，ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ」：「Ｆ−４０」、「Ｆ−２０」、「Ｆ−４」、「Ｆ−１」、「Ａ−５０００」、「Ａ−２５００」、「Ａ−１０００」、「ｎ−プロピルベンゼン」の８サンプルから作製する。
【００３６】
また、本発明において、ジエン系ポリマーのムーニー粘度は、耐刷性の観点から、２０以上であることが好ましく、２５以上であることがより好ましく、３５以上であることが更に好ましい。
同様に、ジエン系ポリマーのムーニー粘度は、溶剤溶解性や混合時の取り扱いの簡便さから、９０以下であることが好ましく、７０以下であることがより好ましく、６０以下であることが更に好ましい。
ここで、ムーニー粘度は、ＪＩＳ６３００−１に準拠して測定した値である。具体的には、温度制御が可能なダイ間に円筒状の空間を形成して試料室とすると共に、その試料室の中心部にローターを配置し、試料室内に被測定試料を充填してその温度を所定の温度に保った状態で、ローターを規定回転数で回転させ、溶融した試料の粘性抵抗によって生じるローターの反トルクをロードセルで検出することによって測定される。なお、本発明で用いるムーニー粘度の値はＬ型ローターを用いて、予熱時間１分、ローター回転時間４分、ゴム試料のムーニー粘度は、１００℃で１分間の予熱期間をおいてローターを回転させ、４分後のムーニー粘度（ＭＬ１＋４）を示している。
【００３７】
第１樹脂層形成用組成物において、ジエン系ポリマーの含有量は、全不揮発成分（沸点が１２０℃以上）に対して、１０〜９５質量％であることが好ましく、５０〜９２質量％であることがより好ましい。ジエン系ポリマーの含有量が上記範囲内であると、彫刻カスのリンス性に優れ、インキ転移性に優れるレリーフ層が得られるので好ましい。
【００３８】
（光熱変換剤）
第１樹脂層形成用組成物に含有される光熱変換剤（光熱変換材料）は、レーザーの光を吸収し発熱することで、レーザー彫刻時の硬化物の熱分解を促進する成分と考えられる。
そのため、彫刻に用いるレーザー波長の光を吸収する光熱変換材料を選択することが好ましい。
例えば、本発明の原版を、７００〜１，３００ｎｍの赤外線を発するレーザー（ＹＡＧレーザー、半導体レーザー、ファイバーレーザー、面発光レーザー等）を光源としてレーザー彫刻に用いる場合は、光熱変換材料としては、７００〜１，３００ｎｍに極大吸収波長を有する化合物を用いることが好ましい。
このような光熱変換材料としては、種々の染料又は顔料が用いられる。
【００３９】
光熱変換材料のうち、染料としては、市販の染料及び例えば「染料便覧」（有機合成化学協会編集、昭和４５年刊）等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、７００〜１，３００ｎｍに極大吸収波長を有するものが挙げられ、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、ジインモニウム化合物、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が好ましく挙げられる。本発明において好ましく用いられる染料としては、ヘプタメチンシアニン色素等のシアニン系色素、ペンタメチンオキソノール色素等のオキソノール系色素、フタロシアニン系色素及び特開２００８−６３５５４号公報の段落０１２４〜０１３７に記載の染料を挙げることができる。
【００４０】
本発明において使用される光熱変換材料のうち、顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）便覧、「最新顔料便覧」（日本顔料技術協会編、１９７７年刊）、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）、「印刷インキ技術」ＣＭＣ出版、１９８４年刊）に記載されている顔料が利用できる。また、顔料としては、特開２００９−１７８８６９号公報の段落０１２２〜０１２５に記載の顔料が例示できる。
これらの顔料のうち、好ましいものは後述するカーボンブラックである。
【００４１】
カーボンブラックとしては、具体的には、例えば、ファーネスブラック、サーマルブラック、チャンネルブラック、ランプブラック、アセチレンブラック等が挙げられ、これらを１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
なお、これらのカーボンブラックは、分散を容易にするため、必要に応じて分散剤を用い、予めニトロセルロースやバインダーなどに分散させたカラーチップやカラーペーストとして使用することができるが、コストの観点から粉体で使用することが好ましい。
【００４２】
本発明においては、カーボンブラックの平均粒子径は、第１樹脂層形成用組成物の粘度や加工性が良好となり、また、耐刷性が良好となる理由から、１３ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることが好ましく、１５ｎｍ以上４０ｎｍ以下であることがより好ましく、１５ｎｍ以上３１ｎｍ以下であることが特に好ましい。
ここで、カーボンブラックの平均粒子径は、数平均粒子径であり、透過型電子顕微鏡により測定される。
【００４３】
カーボンブラックの窒素吸着比表面積（以下、「Ｎ2ＳＡ」とも略す。）は、２５ｍ2／ｇ以上１８０ｍ2／ｇ以下が好ましい。用いるカーボンブラックのＮ2ＳＡは３０ｍ2／ｇ以上１６０ｍ2／ｇ以下であることがより好ましく、４０ｍ2／ｇ以上１５０ｍ2／ｇ以下であることが特に好ましい。
ここで、カーボンブラックのＮ2ＳＡは、ＪＩＳ Ｋ６２１７−２：２００１によって求められる。
【００４４】
また、上記カーボンブラックとしては、ゴム用カーボンブラックを用いることができ、その具体例としては、ＳＡＦ、ＳＡＦ−ＨＳ、ＩＳＡＦ、ＩＳＡＦ−ＬＳ、ＩＳＡＦ−ＨＳ、ＩＩＳＡＦ、ＩＩＳＡＦ−ＨＳ、ＩＩＳＡＦ−ＨＳ、ＨＡＦ、ＨＡＦ−ＨＳ、ＨＡＦ−ＬＳ、ＬＩ−ＨＡＦ、ＦＥＦ、ＦＥＦ−ＨＳ、ＭＡＦ、ＭＡＦ−ＨＳ、Ｔ−ＮＳ等が挙げられ、これらを１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
具体的には、以下に示す市販のカーボンブラックを使用することができるが、これらに限定されるものではない。括弧内は順に、平均粒子径（ｎｍ）、窒素吸着比表面積（ｍ2／ｇ）を表わす。
【００４５】
旭カーボン株式会社製のカーボンブラックとしては、例えば、旭♯７８（２２ｎｍ、１２４ｍ2／ｇ）、旭♯８０（２２ｎｍ、１１５ｍ2／ｇ）、旭♯７０（２８ｎｍ、７７ｍ2／ｇ）、旭♯７０Ｌ（２７ｎｍ、８４ｍ2／ｇ）、旭Ｆ−２００（３８ｎｍ、５１ｍ2／ｇ）、旭♯６６（４４ｎｍ、４３ｍ2／ｇ）、旭♯６５（４４ｎｍ、４２ｍ2／ｇ）、旭♯６０ＨＮ（４０ｎｍ、４８ｍ2／ｇ）、旭♯６０Ｈ（４１ｎｍ、４５ｍ2／ｇ）、旭♯６０Ｕ（４３ｎｍ、４３ｍ2／ｇ）、旭♯６０（４５ｎｍ、４０ｍ2／ｇ）、旭ＡＸ−０１５（１９ｎｍ、１４５ｍ2／ｇ）等が挙げられる。
新日化カーボン株式会社製のカーボンブラックとしては、例えば、♯３００ＩＨ（１９ｎｍ、１２０ｍ2／ｇ）、♯３００（２４ｎｍ、１１７ｍ2／ｇ）、♯２００ＩＳ（２６ｎｍ、９５ｍ2／ｇ）、♯２００（２９ｎｍ、７５ｍ2／ｇ）、♯２００Ｌ（２９ｎｍ、８１ｍ2／ｇ）、♯２００ＩＮ（３１ｎｍ、７１ｍ2／ｇ）、♯１０（４０ｎｍ、４９ｍ2／ｇ）、♯１０Ｋ（３９ｎｍ、４８ｍ2／ｇ）、♯１０Ｓ（４２ｎｍ、５３ｍ2／ｇ）、♯１００（４４ｎｍ、４１ｍ2／ｇ）等が挙げられる。
東海カーボン株式会社製のカーボンブラックとしては、例えば、シースト９Ｈ（１８ｎｍ、１４２ｍ2／ｇ）、シースト９（１９ｎｍ、１４２ｍ2／ｇ）、シースト７ＨＭ：Ｎ２３４（１９ｎｍ、１２６ｍ2／ｇ）、シースト６（２２ｎｍ、１１９ｍ2／ｇ）、シースト６００（２３ｎｍ、１０６ｍ2／ｇ）、シースト５Ｈ（２２ｎｍ、９９ｍ2／ｇ）、シーストＫＨ：Ｎ３３９（２４ｎｍ、９３ｍ2／ｇ）、シースト３Ｈ（２７ｎｍ、８２ｍ2／ｇ）、シーストＮＨ：Ｎ３５１（２９ｎｍ、７４ｍ2／ｇ）、シースト３（２８ｎｍ、７９ｍ2／ｇ）、シーストＮ（２９ｎｍ、７４ｍ2／ｇ）、シースト３００（２８ｎｍ、８４ｍ2／ｇ）、シースト１１６ＨＭ（３８ｎｍ、５６ｍ2／ｇ）、シースト１１６（３８ｎｍ、４９ｍ2／ｇ）、シーストＦＭ（５０ｎｍ、４２ｍ2／ｇ）、シーストＳＯ（４３ｎｍ、４２ｍ2／ｇ）等が挙げられる。
三菱化学株式会社製のカーボンブラックとしては、例えば、ダイアブラックＡ（１９ｎｍ、１４２ｍ2／ｇ）、ダイアブラックＮ２３４（２２ｎｍ、１２３ｍ2／ｇ）、ダイアブラックＩ（２３ｎｍ、１１４ｍ2／ｇ）、ダイアブラックＬＩ（２３ｎｍ、１０７ｍ2／ｇ）、ダイアブラックＩＩ（２４ｎｍ、９８ｍ2／ｇ）、ダイアブラックＮ３３９（２６ｎｍ、９６ｍ2／ｇ）、ダイアブラックＳＨ（３１ｎｍ、７８ｍ2／ｇ）、ダイアブラックＨ（３１ｎｍ、７９ｍ2／ｇ）、ダイアブラックＬＨ（３１ｎｍ、８４ｍ2／ｇ）、ダイアブラックＨＡ（３２ｎｍ、７４ｍ2／ｇ）、ダイアブラックＮ５５０Ｍ（４３ｎｍ、４７ｍ2／ｇ）、ダイアブラックＥ（４８ｎｍ、４１ｍ2／ｇ）等が挙げられる。
【００４６】
また、上記カーボンブラックとしては、カラー用カーボンブラックを用いることができ、その具体例としては、以下に示す市販のカーボンブラックを使用することができるが、これらに限定されるものではない。括弧内は順に、平均粒子径（ｎｍ）、窒素吸着比表面積（ｍ2／ｇ）を表わす。
【００４７】
三菱化学株式会社製のカーボンブラックとしては、例えば、♯１０００（１８ｎｍ、１８０ｍ2／ｇ）、ＭＣＦ８８（１８ｎｍ、１８０ｍ2／ｇ）、ＭＡ６００（２０ｎｍ、１４０ｍ2／ｇ）、♯７５０Ｂ（２２ｎｍ、１２４ｍ2／ｇ）、♯６５０Ｂ（２２ｎｍ、１２４ｍ2／ｇ）、♯５２（２７ｎｍ、８８ｍ2／ｇ）、♯４７（２３ｎｍ、１３２ｍ2／ｇ）、♯４５（２４ｎｍ、１２０ｍ2／ｇ）、♯４５Ｌ（２４ｎｍ、１２５ｍ2／ｇ）、♯４４（２４ｎｍ、１１０ｍ2／ｇ）、♯４０（２４ｎｍ、１１５ｍ2／ｇ）、♯３３（３０ｎｍ、８５ｍ2／ｇ）、♯３２（３０ｎｍ、８３ｍ2／ｇ）、♯３０（３０ｎｍ、７４ｍ2／ｇ）、♯２５（４７ｎｍ、５５ｍ2／ｇ）、♯２０（５０ｎｍ、４５ｍ2／ｇ）、♯９５（４０ｎｍ、５５ｍ2／ｇ）、♯８５（４０ｎｍ、６０ｍ2／ｇ）、♯２６０（４０ｎｍ、７０ｍ2／ｇ）、ＭＡ７７（２３ｎｍ、１３０ｍ2／ｇ）、ＭＡ７（２４ｎｍ、１１５ｍ2／ｇ）、ＭＡ８（２４ｎｍ、１２０ｍ2／ｇ）、ＭＡ１１（２９ｎｍ、９２ｍ2／ｇ）、ＭＡ１００（２４ｎｍ、１１０ｍ2／ｇ）、ＭＡ１００Ｒ（２４ｎｍ、１１０ｍ2／ｇ）、ＭＡ１００Ｓ（２４ｎｍ、１１０ｍ2／ｇ）、ＭＡ２３０（３０ｎｍ、７４ｍ2／ｇ）、ＭＡ１４（４０ｎｍ、５６ｍ2／ｇ）等が挙げられる。
【００４８】
第１樹脂層形成用組成物において、光熱変換材料（特にカーボンブラック）の含有量は特に制限されないが、レーザー彫刻時の感度が良好となり、インキ着肉性も良好となる理由から、ジエン系ポリマー５０質量部に対して、０．１〜３０質量部であることが好ましく、０．５〜８質量部であることがより好ましい。
【００４９】
（架橋剤）
第１樹脂層形成用組成物に含有される架橋剤は特に制限されず、例えば、従来公知の架橋剤を使用することができる。架橋剤は熱によりジエン系ポリマー同士を架橋する化合物（熱架橋剤）であることが好ましく、加硫剤であることがより好ましく、有機過酸化物、イオウ系化合物であることがさらに好ましい。
【００５０】
（ア）有機過酸化物
有機過酸化物としては、具体的には、例えば、ジクミルペルオキシド（１０時間半減期温度：１１６℃）、α，α’−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ジイソプロピルベンゼン（１０時間半減期温度：１１９℃）、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン（１０時間半減期温度：１１８℃）等が挙げられ、これらを１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００５１】
本発明において、有機過酸化物の形態としては、原体のまま使用することも可能であるが、取扱い上の問題（危険性、作業性など）から、原体を炭酸カルシウムなどの無機フィラーに吸着させた濃度４０ｗｔ％の希釈品（非危険物、粉状）や更に、混練時の粉立ち防止、ポリマーへの分散性改善を目的としたマスターバッチタイプの希釈品をより好ましく用いることができる。
原体としては、例えば、パークミルＤ（日油株式会社製）、ＰｅｒｋａｄｏｘＢＣ−ＦＦ（化薬アクゾ株式会社製）、ルペロックスＤＣ（アルケマ吉富株式会社製）、パーブチルＰ（日油株式会社製）、パーカドックス１４（化薬アクゾ株式会社製）、ルペロックスＦ（アルケマ吉富株式会社製）、ルペロックスＦ９０Ｐ（アルケマ吉富株式会社製）、パーヘキサ２５Ｂ（日油株式会社製）、カヤヘキサＡＤ（化薬アクゾ株式会社製）、ルペロックス１０１（アルケマ吉富株式会社製）等を用いることができるが、これらに限定されるものではない。
また、希釈品としては、例えば、パークミルＤ−４０（日油株式会社製：不活性充填剤希釈品）、パークミルＤ−４０ＭＢ（日油株式会社製：シリカ／ポリマー他希釈品）、カヤクミルＤ−４０Ｃ（化薬アクゾ株式会社製：炭酸カルシウム希釈品）、カヤクミルＤ−４０ＭＢ−Ｓ（化薬アクゾ株式会社製：ゴムマスターバッチ）、カヤクミルＤ−４０ＭＢ（化薬アクゾ株式会社製：ゴムマスターバッチ）、パーブチルＰ−４０（日油株式会社製：不活性充填剤希釈品）、パーブチルＰ−４０ＭＢ（日油株式会社製：シリカ／ポリマー他希釈品）、パーカドックス１４／４０（化薬アクゾ株式会社製：炭酸カルシウム希釈品）、パーカドックス１４−４０Ｃ（化薬アクゾ株式会社製：炭酸カルシウム希釈品）、ルペロックスＦ４０（アルケマ吉富株式会社製）、パーヘキサ２５Ｂ−４０（日油株式会社製：シリカ他希釈品）、カヤヘキサＡＤ−４０Ｃ（化薬アクゾ株式会社製：ケイ酸カルシウム希釈品）、トリゴノックス１０１−４０ＭＢ（化薬アクゾ株式会社製：ゴムマスターバッチ）、ルペロックス１０１ＸＬ（アルケマ吉富株式会社製）等を用いることができるが、これらに限定されるものではない。
【００５２】
（イ）イオウ系化合物
イオウ系化合物としては、例えば、イオウ（元素状硫黄）、塩化イオウ、二塩化イオウ、メルカプト化合物、スルフィド化合物、ジスルフィド化合物、ポリスルフィド化合物、チウラム化合物、チオカルバミン酸化合物、多官能メルカプト化合物等が挙げられ、中でも、イオウ、塩化イオウ、二塩化イオウ、ジスルフィド化合物、チウラム化合物、チオカルバミン酸化合物、多官能メルカプト化合物が好適に挙げられる。
【００５３】
このようなイオウ系化合物の具体例としては、イオウ、塩化イオウ、二塩化イオウ、モルホリンジスルフィド、アルキルフェノールジスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、ジメチルジチオカルバミン酸セレン、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート、トリス（３−メルカプトブチルオキシエチル）イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールヘキサキスチオプロピオネート等が挙げられる。
これらのうち、イオウ、アルキルフェノールジスルフィド、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）が好ましく、アルキルフェニールジスルフィド、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）がより好ましい。
【００５４】
第１樹脂層形成用組成物において、架橋剤の含有量は特に制限されないが、ジエン系ポリマー５０質量部に対して、０．１〜１０質量部であることが好ましく、１〜４質量部であることがより好ましく、１〜２質量部であることがさらに好ましい。
【００５５】
（任意成分）
第１樹脂層形成用組成物は、上述した成分以外の成分を含有してもよい。そのような成分としては、溶剤、架橋助剤、シランカップリング剤、充填剤、ワックス、プロセス油、金属酸化物、オゾン分解防止剤、老化防止剤、重合禁止剤、着色剤、重合性化合物、重合開始剤などが挙げられる。
【００５６】
（ア）重合性化合物
重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合を有する化合物（以下、「エチレン性不飽和化合物」とも言う。）であるのが好ましい。
【００５７】
上記エチレン性不飽和化合物としては、単官能エチレン性不飽和化合物であっても、多官能エチレン性不飽和化合物であってもよいが、多官能エチレン性不飽和化合物であることが好ましい。具体的には、多官能エチレン性不飽和化合物としては、末端エチレン性不飽和基を２〜２０個有する化合物が好ましい。このような化合物群は当産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に制限なく用いることができる。
【００５８】
また、上記エチレン性不飽和化合物は、上述したジエン系ポリマー以外のエチレン性不飽和化合物であり、分子量１，０００未満の化合物であるのが好ましい。
多官能エチレン性不飽和化合物におけるエチレン不飽和基が由来する化合物の例としては、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など）や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル類、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。
また、ヒドロキシ基や、アミノ基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル、アミド類と多官能イソシアネート類、エポキシ類との付加反応物、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。
また、イソシアナト基やエポキシ基等の親電子性置換基を有する、不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官能又は多官能のアルコール類、アミン類との付加反応物、ハロゲン基や、トシルオキシ基、等の脱離性置換基を有する、不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類との置換反応物も好適である。
また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、ビニル化合物、アリル化合物、不飽和ホスホン酸、スチレン等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
【００５９】
上記エチレン性不飽和基化合物は、反応性の観点から、アクリレート化合物、メタクリレート化合物、ビニル化合物、及び、アリル化合物が好ましい。
【００６０】
アリル化合物としては、ポリエチレングリコールジアリルエーテル、１，４−シクロヘキサンジアリルエーテル、１，４−ジエチルシクロヘキシルジアリルエーテル、１，８−オクタンジアリルエーテル、トリメチロールプロパンジアリルエーテル、トリメチロールエタントリアリルエーテル、ペンタエリスリトールトリアリルエーテル、ペンタエリスリトールテトラアリルエーテル、ジペンタエリスリトールペンタアリルエーテル、ジペンタエリスリトールヘキサアリルエーテル、フタル酸ジアリル、テレフタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、イソシアヌル酸トリアリル、シアヌル酸トリアリル、リン酸トリアリル等が挙げられる。
これらの中でも、アリル化合物としては、イソシアヌル酸トリアリル、及び、シアヌル酸トリアリルが特に好ましい。
【００６１】
脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、１，３−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等が挙げられる。
【００６２】
メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、１，３−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔ｐ−（３−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕ジメチルメタン、ビス〔ｐ−（メタクリルオキシエトキシ）フェニル〕ジメチルメタン等が挙げられる。
【００６３】
イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、１，３−ブタンジオールジイタコネート、１，４−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等が挙げられる。
【００６４】
クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラクロトネート等が挙げられる。
【００６５】
イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等が挙げられる。
【００６６】
マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等が挙げられる。
【００６７】
その他のエステルの例として、例えば、特公昭４６−２７９２６号、特公昭５１−４７３３４号、特開昭５７−１９６２３１号各公報記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭５９−５２４０号、特開昭５９−５２４１号、特開平２−２２６１４９号各公報記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平１−１６５６１３号公報記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。
上記エステルモノマーは混合物としても使用することができる。
【００６８】
また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビスアクリルアミド、メチレンビスメタクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビスアクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビスメタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等が挙げられる。
【００６９】
その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭５４−２１７２６号公報記載のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることができる。
【００７０】
また、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭４８−４１７０８号公報中に記載されている１分子に２個以上のイソシアナト基を有するポリイソシアネート化合物に、下記式（ｉ）で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加させた１分子中に２個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。
【００７１】
ＣＨ２＝Ｃ（Ｒ）ＣＯＯＣＨ２ＣＨ（Ｒ’）ＯＨ      （ｉ）
（ただし、Ｒ及びＲ’は、それぞれ、Ｈ又はＣＨ３を示す。）
【００７２】
また、特開昭５１−３７１９３号、特公平２−３２２９３号、特公平２−１６７６５号各公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭５８−４９８６０号、特公昭５６−１７６５４号、特公昭６２−３９４１７号、特公昭６２−３９４１８号各公報記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。
【００７３】
更に、特開昭６３−２７７６５３号、特開昭６３−２６０９０９号、特開平１−１０５２３８号各公報に記載される、分子内にアミノ構造を有する付加重合性化合物類を用いることによって、短時間で硬化組成物を得ることができる。
【００７４】
その他の例としては、特開昭４８−６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０４９０号各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。また、特公昭４６−４３９４６号、特公平１−４０３３７号、特公平１−４０３３６号各公報記載の特定の不飽和化合物や、特開平２−２５４９３号公報記載のビニルホスホン酸系化合物等も挙げることができる。また、ある場合には、特開昭６１−２２０４８号公報記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。更に、日本接着協会誌ｖｏｌ．２０、Ｎｏ．７、３００〜３０８ページ（１９８４年）に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。
【００７５】
ビニル化合物としては、ブタンジオール−１，４−ジビニルエーテル、エチレングリコールジビニルエーテル、１，２−プロパンジオールジビニルエーテル、１，３−プロパンジオールジビニルエーテル、１，３−ブタンジオールジビニルエーテル、１，４−ブタンジオールジビニルエーテル、ネオペンチルグリコールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、トリメチロールエタントリビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、テトラエチレングリコールジビニルエーテル、ペンタエリスリトールジビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ソルビトールテトラビニルエーテル、ソルビトールペンタビニルエーテル、エチレングリコールジエチレンビニルエーテル、エチレングリコールジプロピレンビニルエーテル、トリメチロールプロパントリエチレンビニルエーテル、トリメチロールプロパンジエチレンビニルエーテル、ペンタエリスリトールジエチレンビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリエチレンビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラエチレンビニルエーテル、１，１，１−トリス〔４−（２−ビニロキシエトキシ）フェニル〕エタン、ビスフェノールＡジビニロキシエチルエーテル、アジピン酸ジビニル等が挙げられる。
【００７６】
上記エチレン性不飽和化合物は、１種単独で含有しても、２種以上を含有してもよい。
上記エチレン性不飽和化合物の含有量は、第１樹脂層形成用組成物の全質量に対し、０．１〜３０質量％であることが好ましく、１〜２０質量％であることがより好ましい。
【００７７】
（イ）重合開始剤
第１樹脂層形成用組成物が重合性化合物（特にエチレン性不飽和化合物）を含有する場合は、重合開始剤を併用するのが好ましい。
上記重合開始剤は、従来公知の重合開始剤を制限なく使用することができる。
また、上記重合開始剤は、ラジカル重合開始剤であっても、カチオン重合開始剤であってもよいが、ラジカル重合開始剤であることが好ましい。
また、上記重合開始剤は、熱重合開始剤であっても、光重合開始剤であってもよいが、熱重合開始剤であることが好ましい。
【００７８】
（第１樹脂層形成用組成物の調製方法）
第１樹脂層形成用組成物の調製方法は特に制限されず、例えば、上述した各成分を混合して、撹拌する方法などが挙げられる。
【００７９】
（第１樹脂層前駆体層を形成する方法）
第１樹脂層形成用組成物を用いて第１樹脂層前駆体層を形成する方法は特に制限されないが、第１樹脂層形成用組成物をカレンダーロールによりシート状に成形する方法、第１樹脂層形成用組成物をＰＥＴフィルムなどの基材上に塗布した後に乾燥して溶剤を除去する方法、などが挙げられる。
【００８０】
第１樹脂層前駆体層の厚みは、架橋後の第１樹脂層の厚みが０．０３ｍｍ以下であれば特に制限されないが、０．００１〜０．０３ｍｍであることが好ましく、なかでも、０．０２ｍｍ以下であることが好ましい。
【００８１】
＜工程（２）：第２樹脂層前駆体層形成工程＞
第２樹脂層前駆体層形成工程は、ジエン系ポリマーと光熱変換剤と架橋剤とを含有する第２樹脂層形成用組成物を用いて第２樹脂層前駆体層（第２樹脂シート）を形成する工程である。
第２樹脂層形成用組成物に含有される各成分の定義、具体例および好適な態様は、第１樹脂層形成用組成物と同じである。
【００８２】
第２樹脂層形成用組成物において、ジエン系ポリマーの含有量は、全不揮発成分（沸点が１２０℃以上）に対して、５〜９０質量％であることが好ましく、１５〜８５質量％であることがより好ましく、３０〜８０質量％であることが更に好ましい。ジエン系ポリマーの含有量が上記範囲内であると、彫刻カスのリンス性に優れ、インキ転移性に優れるレリーフ層が得られるので好ましい。
第２樹脂層形成用組成物において、光熱変換材料（特にカーボンブラック）の含有量は特に制限されないが、ジエン系ポリマー５０質量部に対して、０．１〜３０質量部であることが好ましく、０．５〜８質量部であることがより好ましい。
第２樹脂層形成用組成物において、架橋剤の含有量は特に制限されないが、ジエン系ポリマー５０質量部に対して、１０〜５０質量部であることが好ましく、２０〜５０質量部であることがより好ましく、３０〜５０質量部であることがさらに好ましい。
【００８３】
第２樹脂層形成用組成物の調製方法の具体例および好適な態様は、第１樹脂層形成用組成物と同じである。
第２樹脂層前駆体層を形成する方法の具体例および好適な態様は、第１樹脂層前駆体層と同じである。
【００８４】
＜工程（３）：レリーフ形成層形成工程＞
レリーフ形成層形成工程は、第１樹脂層前駆体層と第２樹脂層前駆体層とを貼り合わせることでレリーフ形成層を形成する工程である。第１樹脂層前駆体層と第２樹脂層前駆体層とを貼り合わせる方法は特に制限されない。
【００８５】
＜工程（４）：架橋工程＞
架橋工程は、レリーフ形成層を加熱により架橋させて架橋レリーフ形成層を形成する工程である。架橋工程において、レリーフ形成層中のジエン系ポリマーが架橋剤により架橋され、架橋レリーフ形成層（第１樹脂層＋第２樹脂層）が形成される。なお、第１樹脂層は第１樹脂層前駆体層を架橋させた層であり、第２樹脂層は第２樹脂層前駆体層を架橋させた層である。
【００８６】
レリーフ形成層の架橋方法としは、レリーフ形成層を表面から内部まで均一に硬化（架橋）可能という観点で、熱による架橋（熱架橋）を行う。
レリーフ形成層を架橋することで、第１にレーザー彫刻後形成されるレリーフがシャープになり、第２にレーザー彫刻の際に発生する彫刻カスの粘着性が抑制されるという利点がある。未架橋のレリーフ形成層をレーザー彫刻すると、レーザー照射部の周辺に伝播した余熱により、本来意図していない部分が溶融、変形しやすく、シャープなレリーフ層が得られない場合がある。
【００８７】
熱架橋設備としては、熱風加熱炉、加熱プレス機（枚葉型加熱プレス機、連続型プレスコンベア）、加熱ロール等を挙げられるが特に限定するものではない。架橋工程前にカッターで目的の大きさに裁断した後に架橋する場合は、枚葉型加熱プレス機を使用してもよい。
【００８８】
加熱温度は、１００℃〜２００℃が好ましく、１２０℃〜１９０℃がより好ましく、１４０℃〜１８０℃が特に好ましい。加熱時間は、１分〜１００分が好ましく、３分〜６０分がより好ましく、５分〜３０分が特に好ましい。
【００８９】
加熱する際に、プレスしながら加熱してもよい。そのときの圧力は、厚みの精度の点で、１ＭＰａ〜２０ＭＰａが好ましく、３ＭＰａ〜１２ＭＰａがより好ましい。この範囲内の圧力だと、プレス機の型板間で受ける圧力とその圧力に対抗するシートの弾性反発力等の反力とが釣り合うことで、プレス機の型板間が所定の距離に維持され、熱架橋されるため、厚みはほとんど変化しない。
【００９０】
架橋工程は、レリーフ形成層単独の状態で行ってもよいし、レリーフ形成層の片面あるいは両面にシート（フィルム）を有した状態で行ってもよい。例えば、上記レリーフ形成層形成工程が、混練された第１樹脂層形成用組成物を支持体上に設けた状態で実施された場合、その支持体を有したまま架橋してもよいし、剥離してレリーフ形成層単独で架橋してもよい。また、レリーフ形成層形成工程後、一旦剥離シート（フィルム）を介してローラ状に巻き取られる場合、剥離シート（フィルム）を有したまま架橋してもよいし、剥離してレリーフ形成層単独で架橋してもよい。その場合使用されるシート（フィルム）は、前述のレリーフ形成層形成工程で記載した支持体に使用されるシート（フィルム）を使用することができる。
【００９１】
＜工程（５）：支持体貼り合わせ工程＞
支持体貼り合わせ工程は、架橋レリーフ形成層の第２樹脂層側に支持体を貼り合わせることでレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版を製造する工程である。
貼り合わせる支持体の具体例および好適な態様は上述のとおりである。
支持体を貼り合わせる方法は特に制限されないが、好適な態様としては、接着層を介して支持体を貼り合わせる方法などが挙げられる。具体的には、例えば、架橋レリーフ形成層の第２樹脂層側に光硬化性組成物を塗布して光硬化性層を形成し、光硬化性層に支持体を貼り合わせ、露光して光硬化性層を硬化させる方法などが挙げられる。この場合、得られるレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版は、第１樹脂層と第２樹脂層と接着層（硬化後の光硬化性層）と支持体とを備える。
【００９２】
上述のとおり、本発明の原版において、第２樹脂層のダイナミック硬度（Ｄ２）に対する第１樹脂層のダイナミック硬度（Ｄ１）の割合（Ｄ１／Ｄ２）は０．９以下である。
割合（Ｄ１／Ｄ２）を０．９以下にする方法は特に制限されないが、第１樹脂層形成用組成物のカーボンブラックや架橋剤の含有量よりも第２樹脂形成用組成物のカーボンブラックや架橋剤の含有量を多くする方法などが挙げられる。
【００９３】
［フレキソ印刷版］
本発明のフレキソ印刷版は、上述した本発明の原版に対してレーザー彫刻することで得られるフレキソ印刷版である。
本発明のフレキソ印刷版を製版する方法は特に制限されないが、上述した本発明の原版に対してレーザー彫刻し、レリーフ層を形成する彫刻工程を備えるのが好ましく、さらに、上記レリーフ層の表面をアルカリ水溶液でリンスし、フレキソ印刷版を得るリンス工程を備えるのがより好ましい。
以下、各工程について説明する。
【００９４】
〔彫刻工程〕
彫刻工程は、上記架橋工程で架橋された架橋レリーフ形成層をレーザー彫刻してレリーフ層を形成する工程である。具体的には、架橋された架橋レリーフ形成層に対して、所望の画像に対応したレーザー光を照射して彫刻を行うことによりレリーフ層を形成することが好ましい。また、所望の画像のデジタルデータを元にコンピューターでレーザーヘッドを制御し、架橋レリーフ形成層に対して走査照射する工程が好ましく挙げられる。
この彫刻工程には、赤外線レーザーが好ましく用いられる。赤外線レーザーが照射されると、架橋レリーフ形成層中の分子が分子振動し、熱が発生する。赤外線レーザーとして炭酸ガスレーザーやＹＡＧレーザーのような高出力のレーザーを用いると、レーザー照射部分に大量の熱が発生し、架橋レリーフ形成層中の分子は分子切断又はイオン化されて選択的な除去、すなわち、彫刻がなされる。レーザー彫刻の利点は、彫刻深さを任意に設定できるため、構造を３次元的に制御することができる点である。例えば、微細な網点を印刷する部分は、浅く又はショルダーをつけて彫刻することで、印圧でレリーフが転倒しないようにすることができ、細かい抜き文字を印刷する溝の部分は深く彫刻することで、溝にインキが埋まりにくくなり、抜き文字つぶれを抑制することが可能となる。
中でも、光熱変換剤の吸収波長に対応した赤外線レーザーで彫刻する場合には、より高感度で架橋レリーフ形成層の選択的な除去が可能となり、シャープな画像を有するレリーフ層が得られる。
【００９５】
彫刻工程に用いられる赤外線レーザーとしては、生産性、コスト等の面から、炭酸ガスレーザー（ＣＯ2レーザー）又は半導体レーザーが好ましい。特に、ファイバー付き半導体赤外線レーザー（ＦＣ−ＬＤ）が好ましく用いられる。一般に、半導体レーザーは、ＣＯ2レーザーに比べレーザー発振が高効率かつ安価で小型化が可能である。また、小型であるためアレイ化が容易である。更に、ファイバーの処理によりビーム形状を制御できる。
半導体レーザーとしては、波長が７００〜１，３００ｎｍのものが好ましく、８００〜１，２００ｎｍのものがより好ましく、８６０〜１，２００ｎｍのものが更に好ましく、９００〜１，１００ｎｍのものが特に好ましい。
【００９６】
また、ファイバー付き半導体レーザーは、更に光ファイバーを取り付けることで効率よくレーザー光を出力できるため、本発明における彫刻工程には有効である。更に、ファイバーの処理によりビーム形状を制御できる。例えば、ビームプロファイルはトップハット形状とすることができ、安定に版面にエネルギーを与えることができる。半導体レーザーの詳細は、「レーザーハンドブック第２版」レーザー学会編、「実用レーザー技術」電子通信学会等に記載されている。
また、本発明のフレキソ印刷版を製版するのに好適に用いることができるファイバー付き半導体レーザーを備えた製版装置は、特開２００９−１７２６５８号公報及び特開２００９−２１４３３４号公報に詳細に記載され、これを本発明に係るフレキソ印刷版の製版に使用することができる。
【００９７】
〔リンス工程〕
上述のとおり、本発明のフレキソ印刷版を製版する方法は、彫刻工程に次いで、レリーフ層の表面をアルカリ水溶液でリンスするリンス工程を有するのが好ましい。リンス工程は、リンス液として、アルカリ水溶液を使用するのが好ましい。リンス工程により、レリーフ層の表面の付着・残留する彫刻カスを洗い流し、除去する。
リンスの手段として、アルカリ水溶液に浸漬する方法、アルカリ水溶液に浸漬しながらリンス液を回転させる方法、アルカリ水溶液に浸漬しながら彫刻板をブラシで摺る方法、アルカリ水溶液をスプレー噴射する方法、感光性樹脂凸版の現像機として公知のバッチ式又は搬送式のブラシ式洗い出し機で、彫刻表面を主にアルカリ水溶液の存在下でブラシ擦りする方法などが挙げられ、彫刻カスのヌメリがとれない場合は、石鹸や界面活性剤を添加したリンス液を用いてもよい。
【００９８】
本発明に用いることができるリンス液（アルカリ水溶液）のｐＨは、１０．０以上であることが好ましく、１２以上であることがより好ましく、１３以上であることが更に好ましい。また、リンス液のｐＨは１４以下であることが好ましい。上記範囲であると、リンス性に優れる。
リンス液を上記のｐＨ範囲とするために、適宜、酸及び／又は塩基を用いてｐＨを調整すればよく、使用する酸及び塩基は特に限定されない。
本発明に用いることができるリンス液は、主成分として水を含有することが好ましい。
また、リンス液は、水以外の溶剤として、アルコール類、アセトン、テトラヒドロフラン等などの水混和性溶剤を含有していてもよい。
【００９９】
リンス液は、界面活性剤を含有することが好ましい。
本発明に用いることができる界面活性剤としては、彫刻カスの除去性、及び、フレキソ印刷版への影響を少なくする観点から、カルボキシベタイン化合物、スルホベタイン化合物、ホスホベタイン化合物、アミンオキシド化合物、又は、ホスフィンオキシド化合物等のベタイン化合物（両性界面活性剤）が好ましく挙げられる。
【０１００】
また、界面活性剤としては、公知のアニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤、ノニオン界面活性剤等も挙げられる。更に、フッ素系、シリコーン系のノニオン界面活性剤も同様に使用することができる。
界面活性剤は、１種単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。
界面活性剤の使用量は特に限定する必要はないが、リンス液の全質量に対し、０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．０５〜１０質量％であることがより好ましい。
【０１０１】
本発明のフレキソ印刷版を製版する方法は、更に、必要に応じて乾燥工程、及び／又は、後架橋工程を含んでもよい。
乾燥工程：彫刻されたレリーフ層を乾燥する工程。
後架橋工程：彫刻後のレリーフ層にエネルギーを付与し、レリーフ層を更に架橋する工程。
彫刻表面をリンスするリンス工程を行った場合、彫刻されたレリーフ層を乾燥してリンス液を揮発させる乾燥工程を追加することが好ましい。
更に、必要に応じてレリーフ層を更に架橋させる後架橋工程を追加してもよい。追加の架橋工程である後架橋工程を行うことにより、彫刻によって形成されたレリーフをより強固にすることができる。
【０１０２】
以上のようにして、レリーフ層と支持体とを備えるフレキソ印刷版が得られる。
フレキソ印刷版が有するレリーフ層の厚さは、耐磨耗性やインキ転移性のような種々の印刷適性を満たす観点からは、０．５ｍｍ以上１０ｍｍ以下が好ましく、より好ましくは０．６ｍｍ以上７ｍｍ以下、特に好ましくは０．６ｍｍ以上３ｍｍ以下である。
レリーフ層がベタ（未彫刻部）と網点とを有する場合、ベタと網点との差（低層化量）は、０．００１〜０．０１ｍｍであることが好ましい。
【０１０３】
本発明のフレキソ印刷版は、フレキソ印刷機による水性インキでの印刷に特に好適であるが、凸版用印刷機による水性インキ、油性インキ及びＵＶインキ、いずれのインキを用いた場合でも、印刷が可能であり、また、フレキソ印刷機によるＵＶインキでの印刷も可能である。
【実施例】
【０１０４】
以下、実施例により、本発明についてさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。【０１０５】
［実施例１］
＜第１樹脂層前駆体層（第１樹脂シート）の作製＞
撹拌羽及び冷却管をつけた３つ口フラスコ中に、ジエン系ポリマーとしてＵＢＥＰＯＬＢＲ１５０（ポリブタジエン、宇部興産（株）製）を５０質量部、および、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセタート（ＰＧＭＥＡ）を入れ、撹拌しながら７０℃で１８０分間加熱しポリブタジエンを溶解させた。
その後、カーボンブラック＃４５（三菱化学株式会社製）を１質量部と、架橋剤としてパークミルＤ−４０（日油株式会社製）を４質量部添加して、１０分撹拌した。この操作により、流動性のある塗布液（第１樹脂層形成用組成物）を得た。
ＰＥＴ基板上に、所定厚のスペーサー枠を設置し、上記により得られた塗布液を静かに流涎し、８０℃のオーブンで３時間加熱して溶剤を除去した。このようにして第１樹脂シートを得た。上記作製方法をＢとする。【０１０６】
＜第２樹脂層前駆体層（第２樹脂シート）の作製＞
ＭＳ式小型加圧ニーダー（株式会社モリヤマ製）を用いて、ジエン系ポリマーとしてＵＢＥＰＯＬ ＢＲ１５０（ポリブタジエン、宇部興産株式会社製）を５０質量部と、カーボンブラック＃４５（三菱化学株式会社製）を５質量部とを、８０℃にて、前ブレード３５ｒｐｍ、後ブレード３５ｒｐｍで１０分間混練した後、６０℃まで冷却し、架橋剤としてパークミルＤ−４０（日油株式会社製）を４０質量部添加して、６０℃にて前ブレード２０ｒｐｍ、後ブレード２０ｒｐｍで更に１０分間混練し、第２樹脂層形成用組成物を得た。
得られた第２樹脂層形成用組成物を、カレンダーロール（日本ロール製造株式会社製逆Ｌ型４本）でシート状に成形し、第２樹脂シートを作製した。具体的には、ウォームアップロールを５０℃として上記第２樹脂層形成用組成物を１０分間予備混練し、ロールに巻き付いたものを途中でカットしてシート状に引き出し、一旦ロール状に巻き取った。これをカレンダーロールの第１ロールと第２ロールの間にセットし、圧延成形した。なお、カレンダーロールの各ロールの温度は、第１ロール温度を５０℃、第２ロール温度を６０℃、第３ロール温度を７０℃、第４ロール温度を８０℃とした。また、得られるレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版における第２樹脂層の厚みが０．８８ｍｍになるようにロール間隔を調整した。搬送速度は１ｍ／分とした。【０１０７】
＜レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の製造＞
得られた第１樹脂シートおよび第２樹脂シートをそれぞれ幅２０ｃｍ、長さ２０ｃｍにカットし、重ね合わせた後、プレス機（テスター産業株式会社製ＳＡ−３０３）を用いて、４ＭＰａの圧力で、１６０℃で２０分間加熱して架橋させることで、架橋レリーフ形成層（第１樹脂層＋第２樹脂層）を得た。
得られた架橋レリーフ形成層の第２樹脂層側に、光硬化性組成物（株式会社スリーボンド製：３０３０）を平均膜厚が８０μｍになるように塗設した後、支持体として２５０μｍ厚のＰＥＴフィルムをニップローラにて貼り合わせ、２０秒後にＰＥＴフィルム側からＵＶ露光機（アイグラフィックス株式会社製ＵＶ露光機ＥＣＳ―１５１Ｕ、メタルハライドランプ、１，５００ｍＪ／ｃｍ2、１４ｓｅｃ露光）にて光硬化性層を硬化させて、第１樹脂層と第２樹脂層とＰＥＴフィルムとをこの順に備えるレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版を得た。
得られたレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版について、第１樹脂層および第２樹脂層のダイナミック硬度を評価した。ダイナミック硬度の評価方法は上述のとおりである。第１樹脂層および第２樹脂層のダイナミック硬度、ならびに、第２樹脂層のダイナミック硬度に対する上記第１樹脂層のダイナミック硬度の割合（上述した割合（Ｄ１／Ｄ２））を第１表に示す。【０１０８】
＜フレキソ印刷版の製版＞
得られたレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の第１樹脂層側から半導体レーザーを用いてラスター彫刻し、図２に示す評価画像（サイズ：５０ｍｍ×５０ｍｍ、ベタ：４０ｍｍ×５ｍｍ、網点：２ｐｉｘ  ｄｏｔ（解像度：２４００ｄｐｉ））を有するフレキソ印刷版を得た。なお、半導体レーザー彫刻機として、最大出力８．０Ｗのファイバー付き半導体レーザー（ＦＣ−ＬＤ）ＳＤＬ−６３９０（ＪＤＳＵ社製、波長９１５ｎｍ）を装備したレーザー記録装置を用いた。（レーザー出力：７．５Ｗ、ヘッド速度：４０９ｍｍ／秒、ピッチ設定：２，４００ｄｐｉ）【０１０９】
＜評価＞
得られたフレキソ印刷版を用いて、押込み量２０μｍの条件と、押込み量１２０μｍの条件で印刷を実施し、ベタおよび網点それぞれの濃度を濃度計（グレタグ社製、マクベスＲＤ−１９Ｉ）で測定した。なお、ベタが均一に印刷される印圧（押込み量）を基準（０μｍ）とした。【０１１０】
（ベタ品質）
押込み量１２０μｍの条件におけるベタの反射濃度が１．８以上であるものをベタ品質に優れるものとして「Ａ」とし、１．７以上１．８未満であるものをベタ品質にやや優れるものとして「Ｂ」とし、１．７未満であるものをベタ品質が不十分であるものとして「Ｃ」とした。評価結果を第１表に示す。実用上、「Ａ」または」「Ｂ」であることが好ましく、「Ａ」であることがより好ましい。【０１１１】
（印圧ラチチュード）
押込み量２０μｍの条件における網点の反射濃度と押込み量１２０μｍの条件における網点の反射濃度との差が０．０２未満であるものを印圧ラチチュードが広いものとして「Ａ」とし、０．０２以上０．０５未満であるものを印圧ラチチュードがやや広いものとして「Ｂ」とし、０．０５以上であるものを印圧ラチチュードが狭いものとして「Ｃ」とした。評価結果を第１表に示す。実用上、「Ａ」または」「Ｂ」であることが好ましく、「Ａ」であることがより好ましい。【０１１２】
［実施例２〜１１、比較例１〜３］
第１樹脂層前駆体および第２樹脂層前駆体の作製において、第１表に示されるように、各樹脂層形成用組成物中のジエン系ポリマーの種類および配合量、カーボンブラックの配合量ならびに架橋剤の配合量を変更し、また、得られるレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版における各樹脂層の厚みが第１表に示される厚みになるようにスペーサー枠の厚みおよびロール間隔を変更した以外は、実施例１と同様の手順に従ってレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版およびフレキソ印刷版を得た。また、各種評価を行った。結果を第１表に示す。
なお、実施例９では以下のとおり第１樹脂層を作製した。
また、比較例１では第１樹脂層のみを作製し、第１樹脂層にＰＥＴフィルムを貼り合わせることでレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版を得た。
また、比較例２では第２樹脂層のみを作製し、第２樹脂層にＰＥＴフィルムを貼り合わせることでレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版を得た。比較例２ではレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版の第２樹脂層側からラスター彫刻し、フレキソ印刷版を得た。【０１１３】
＜実施例９における第１樹脂層（第１樹脂シート）の作製＞
ＭＳ式小型加圧ニーダー（株式会社モリヤマ製）を用いて、ＵＢＥＰＯＬ ＢＲ１５０（ポリブタジエン、宇部興産（株）製）を５０質量部と、カーボンブラック＃４５（三菱化学社製）を５質量部とを、８０℃にて、前ブレード３５ｒｐｍ、後ブレード３５ｒｐｍで１０分間混練した後、６０℃まで冷却し、架橋剤としてパークミルＤ−４０（日本油脂社製）を４質量部添加して、６０℃にて前ブレード２０ｒｐｍ、後ブレード２０ｒｐｍで更に１０分間混練し、第１樹脂層形成用組成物を得た。
得られた第１樹脂層形成用組成物を、カレンダーロール（日本ロール製造株式会社製逆Ｌ型４本）でシート状に成形し、第１樹脂層を作製した。具体的には、ウォームアップロールを５０℃として上記第１樹脂層形成用組成物を１０分間予備混練し、ロールに巻き付いたものを途中でカットしてシート状に引き出し、一旦ロール状に巻き取った。これをカレンダーロールの第１ロールと第２ロールの間にセットし、圧延成形した。なお、カレンダーロールの各ロールの温度は、第１ロール温度を５０℃、第２ロール温度を６０℃、第３ロール温度を７０℃、第４ロール温度を８０℃とした。また、得られるレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版における第１樹脂層の厚みが０．０２ｍｍになるようにロール間隔を調整した。搬送速度は１ｍ／分とした。
この作製方法をＡとする。【０１１４】
なお、第１表中の架橋剤（樹脂層形成用組成物に使用した架橋剤）について、上段は使用したパークミルＤ−４０（純度：４０質量％）の配合量を表し、下段（カッコ内）は架橋剤の正味量を表す。
また、第１表中の厚みは、得られたレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版における各樹脂層の厚みを表す。【０１１５】
【表１】
0006469106.tif 000002
【０１１６】
第１表中、ジエン系ポリマーの詳細は以下のとおりである。
・ＢＲ：ＵＢＥＰＯＬ ＢＲ１５０（ポリブタジエン、宇部興産（株）製）
・ＥＰＤＭ：ＭＩＴＳＵＩ ＥＰＴ１０４５（エチレン−プロピレン−ジエン共重合体、エチレン含量：５８質量％、ジエン含量：５質量％、ジエン種：ジシクロペンタジエン（ＤＣＰＤ）、三井化学（株）製）
・ＩＲ：Ｎｉｐｏｌ ＩＲ２２００（ポリイソプレン、日本ゼオン（株）製）【０１１７】
第１表から分かるように、本願実施例のレーザー彫刻用フレキソ印刷版原版から得られるフレキソ印刷版はベタ品質に優れ、かつ、印圧ラチチュードが広かった。なかでも、第１樹脂層の厚みが０．０２ｍｍ以下である実施例１〜７および９〜１１はより印圧ラチチュードが広かった。そのなかでも、第２樹脂層のダイナミック硬度に対する第１樹脂層のダイナミック硬度の割合が０．３以下である実施例１、２、５、６および９〜１１はよりベタ品質に優れていた。
一方、架橋レリーフ形成層が１層のみである比較例１および２はベタ品質が不十分であるか、または、印圧ラチチュードが狭かった。また、第１樹脂層と第２樹脂層と支持体とをこの順に備え、第２樹脂層のダイナミック硬度に対する第１樹脂層のダイナミック硬度の割合が０．９以下ではあるが、第１樹脂層の厚みが０．０３ｍｍを超える比較例３は印圧ラチチュードが狭かった。
【符号の説明】
【０１１８】
１０  第１樹脂層
２０  第２樹脂層
３０  支持体
１００  レーザー彫刻用フレキソ印刷版原版
【図１】
0006469106.tif 000003
【図２】
0006469106.tif 000004