(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
銀を主成分とするまたは銀製の少なくとも一つの金属機能層（１４０、１８０、２２０）および二つの反射防止コーティング（１２０、１６０、２００、２４０）を備える薄層スタック（３４、３５、３６）で面（３１）をコーティングされた基板（３０）であり、前記反射防止コーティングは各々が少なくとも一つの反射防止層（１２４、１６４、２０４、２４４）を備え、前記金属機能層（１４０）が二つの反射防止コーティング（１２０、１６０）間に配置される基板において、前記または各金属機能層（１４０、１８０、２２０）は表面占有率が５０％〜９８％である不連続層であり、不連続層が互いに結合された小島の形状で、小島間に覆われていない区域がある組織構造を示す自己構造化層であることを特徴とする基板。
【請求項２】
前記または各不連続金属機能層（１４０、１８０、２２０）は、下記の厚さｅ：
‐二酸化チタンＴｉＯ2を主成分とする層上に堆積された１．０≦ｅ≦４．５ｎｍ、または、
‐酸化亜鉛錫ＳｎＺｎＯxを主成分とする層上に堆積された１．０≦ｅ≦４．５ｎｍ、または、
‐酸化亜鉛ＺｎＯを主成分とする層上に堆積された１．０≦ｅ≦５．０ｎｍ、または、
‐窒化ケイ素Ｓｉ3Ｎ4を主成分とする層上に堆積された１．０≦ｅ≦７．０ｎｍ、または、
‐ニッケルを主成分とする層上に堆積された１．０≦ｅ≦５．０ｎｍ、
を示すことを特徴とする、請求項１に記載の基板（３０）。
【請求項３】
面（３１）と第一の、または単一の不連続金属機能層（１４０）との間に配置された反射防止コーティング（１２０）は、５５０ｎｍで屈折率が１．８〜２．２である材料製の、屈折率が中程度の反射防止層（１２４）を備え、この屈折率が中程度の反射防止層（１２４）は酸化物を主成分とし、および／または、この屈折率が中程度の反射防止層（１２４）の物理的厚さは５〜３５ｎｍであることを特徴とする、請求項１または２に記載の基板（３０）。
【請求項４】
各不連続金属機能層（１４０、１８０、２２０）の下方に配置された反射防止コーティング（１２０、１６０、２００）は、５５０ｎｍで屈折率が１．８〜２．２である材料製の、屈折率が中程度の反射防止層（１２４、１６４、２０４）を備え、この屈折率が中程度の反射防止層（１２４、１６４、２０４）は酸化物を主成分とし、および／または、この屈折率が中程度の反射防止層（１２４、１６４、２０４）の物理的厚さは５〜３５ｎｍであることを特徴とする、請求項１または２に記載の基板（３０）。
【請求項５】
面（３１）と第一の、または、単一の不連続金属機能層（１４０）との間に配置された前記反射防止コーティング（１２０）は、５５０ｎｍで屈折率が２．３〜２．７である材料製の、屈折率が高い反射防止層（１２４）を備え、この屈折率が高い反射防止層（１２４）は酸化物を主成分とし、および／または、この屈折率が高い反射防止層（１２４）の物理的厚さは５〜２５ｎｍであることを特徴とする、請求項１または２に記載の基板（３０）。
【請求項６】
各不連続金属機能層（１４０、１８０、２２０）の下方に配置された反射防止コーティング（１２０、１６０、２００）は、５５０ｎｍで屈折率が２．３〜２．７である材料製の、屈折率が高い反射防止層（１２４、１６４、２０４）を備え、この屈折率が高い反射防止層（１２４、１６４、２０４）は酸化物を主成分とし、および／または、この屈折率が高い反射防止層（１２４、１６４、２０４）の物理的厚さは５〜２５ｎｍであることを特徴とする、請求項１または２に記載の基板（３０）。
【請求項７】
面（３１）から反対側の、第一の、または、単一の不連続金属機能層（１４０）の上方に配置された反射防止コーティング（１６０）は、５５０ｎｍで屈折率が１．８〜２．２である材料製の、屈折率が中程度の反射防止層（１６４）を備え、この屈折率が中程度の反射防止層（１６４）は酸化物を主成分とし、および／または、この屈折率が中程度の反射防止層（１６４）の物理的厚さは、５〜３５ｎｍであることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか一つに記載の基板（３０）。
【請求項８】
面（３１）から反対側の各不連続金属機能層（１４０、１８０、２２０）の上方に配置された反射防止コーティング（１６０、２００、２４０）は、５５０ｎｍで屈折率が１．８〜２．２である材料製の、屈折率が中程度の反射防止層（１６４、２０４、２４４）を備え、この屈折率が中程度の反射防止層（１６４、２０４、２４４）は酸化物を主成分とし、および／または、この屈折率が中程度の反射防止層（１６４）の物理的厚さは、５〜３５ｎｍであることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか一つに記載の基板（３０）。
【請求項９】
面（３１）から反対側の、第一の、または、単一の不連続金属機能層（１４０）の上方に配置された反射防止コーティング（１６０）は、５５０ｎｍで屈折率が２．３〜２．７である材料製の、屈折率が高い反射防止層（１６４）を備え、この屈折率が高い反射防止層（１６４）は酸化物を主成分とし、および／または、この屈折率が高い反射防止層（１６４）の物理的厚さは、５〜２５ｎｍであることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか一つに記載の基板（３０）。
【請求項１０】
面（３１）から反対側の各不連続金属機能層（１４０、１８０、２２０）の上方に配置された反射防止コーティング（１６０、２００、２４０）は、５５０ｎｍで屈折率が２．３〜２．７である材料製の、屈折率が高い反射防止層（１６４、２０４、２４４）を備え、この屈折率が高い反射防止層（１６４、２０４、２４４）は酸化物を主成分とし、および／または、この屈折率が高い反射防止層（１６４、２０４、２４４）の物理的厚さは、５〜２５ｎｍであることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか一つに記載の基板（３０）。
【請求項１１】
前記スタック（３５）は、銀を主成分とするまたは銀製の二つの金属機能層（１４０、１８０）および三つの反射防止コーティング（１２０、１６０、２００）を備え、各金属機能層は二つの反射防止コーティング間に配置されていることを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか一つに記載の基板（３０）。
【請求項１２】
前記スタック（３６）は、銀を主成分とするまたは銀製の三つの金属機能層（１４０、１８０、２２０）および四つの反射防止コーティング（１２０、１６０、２００、２４０）を備え、各金属機能層は二つの反射防止コーティング間に配置されていることを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか一つに記載の基板（３０）。
【請求項１３】
少なくとも一つのいわゆる金属機能層（１４０、１８０、２２０）は、この金属機能層（１４０、１８０、２２０）とこの金属機能層の下方にある反射防止コーティング（１２０）との間に配置された下方遮断コーティング（１３０）上に直接堆積され、および／または、少なくとも一つのいわゆる金属機能層（１４０、１８０、２２０）はこの金属機能層（１４０、１８０、２２０）とこの金属機能層の上方にある反射防止コーティング（１６０）との間に配置された上方遮断コーティング（１５０）下に直接堆積され、および、下方遮断コーティング（１３０）および／または上方遮断コーティング（１５０）はニッケルまたはチタンを主成分とする薄層を備え、その物理的厚さｅ’は０．２ｎｍ≦ｅ’≦２．５ｎｍであることを特徴とする、請求項１〜１２のいずれか一つに記載の基板（３０）。
【請求項１４】
スタック（３４、３５、３６）の最後の層（１６８）である、基板（３０）から最も遠い層は酸化物を主成分とし、化学量論で堆積され、二酸化チタンを主成分とするか、あるいは、亜鉛および錫の混合酸化物を主成分とすることを特徴とする、請求項１〜１３のいずれか一つに記載の基板（３０）。
【請求項１５】
シャーシ構造（９０）によって共に保持される少なくとも二つの基板（１０、３０）を備える多重グレージングユニット（１００）であって、前記グレージングユニットは外部空間（ＥＳ）および内部空間（ＩＳ）の間に分離を実現し、その内部では少なくとも一つの挿入ガス層（１５）が二つの基板の間に配置され、基板（３０）は請求項１〜１４のいずれか一つに記載のものである多重グレージングユニット。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、特にガラスなどの剛性無機材料製の透明基板であり、前記基板は太陽放射および／または波長の大きい赤外線放射に作用することができる一つまたは複数の機能層を備える薄層スタックによってコーティングされている基板に関する。
【０００２】
本発明は、さらに詳細には、交互になった「ｎ」個の金属機能層、特に銀または銀を含有する金属合金を主成分とする機能層、および「（ｎ＋１）」個の反射防止コーティング（ここで、整数ｎ≧１）を備え、その結果、一つまたは各機能層が二つの反射防止コーティング間に配置されている薄層スタックを備える基板、特に透明なガラス基板に関するものである。各反射防止コーティングは少なくとも一つの反射防止層を備え、各コーティングは好ましくは複数の層から構成されており、少なくとも一つの層、さらに各層は、反射防止層である。反射防止層の概念は、ここでは誘電体層の概念と同義であり、誘電体層の概念は、特にその金属の性質によって誘電性になることのできない金属機能層の概念の反対として使用される。
【０００３】
本発明は、さらに詳細には、熱絶縁および／または太陽光線からの保護のグレージングユニットを製造するためのそのような基板の使用に関するものである。これらのグレージングユニットは、特に空調の労力を小さくするおよび／または過度な過熱を防止する（いわゆる「ソーラーコントロール」グレージングユニット）および／または建物および車両キャビン内でガラス表面が常に増大することによって生じる外部への散逸エネルギー量を減少させる（いわゆる「低放射性」グレージングユニット）ことを目的とする、建物および車両に装備されるためのものにもなり得る。
【背景技術】
【０００４】
これらの基板は、電子装置内に特に集積化され得、そのとき、スタックは電流伝導用電極として働くことができ（照明装置、ディスプレイ装置、太陽電池パネル、エレクトロクロミックグレージングユニットなど）、または、例えば加熱グレージングユニットのように独特の機能性を示すグレージングユニット内に集積化され得る。
【０００５】
そのような特性を基板に付与するために公知のタイプの層スタックは、赤外線および／または太陽放射での反射特性を備える金属機能層、特に銀または銀を含有する金属合金を主成分とする、または、完全に銀製の金属機能層によって構成される。
【０００６】
このタイプのスタックでは、したがって、機能層は、各々が通常は複数の層を備える二つの反射防止誘電体コーティング間に配置され、複数の層は各々窒化物タイプの反射防止材料、窒化物または酸化物のケイ素またはアルミニウム製である。
【０００７】
しかしながら、しばしば遮断コーティングが一つまたは各反射防止コーティングと金属機能層との間に差し込まれ、基板の方向であって機能層の下方に配置された遮断コーティングは、成形および／または焼き入れタイプの、場合によっては行われる高温での熱処理のとき、金属機能層を保護し、基板から反対側で機能層上に配置された遮断コーティングは、上方の反射防止コーティングの堆積のとき、および、場合によっては成形および／または焼き入れタイプの高温での熱処理のとき、この層を保護する。
【０００８】
現在では、一般的に各金属機能層が完全な層であること、すなわち、その表面全体および厚さ全体にわたって、考慮された金属材料から構成されることが望まれている。
【０００９】
当業者は、所定の材料（例えば銀）で、この材料の堆積の従来の条件では、完全な層はある一定の厚さだけからしか得られないとみなしている。
【００１０】
完全な銀層と反射防止層との間の付着エネルギーは極めて小さく、約１Ｊ／ｍ2位であり、二つの反射防止層間の付着エネルギーは銀と他の層との間のそれより５〜９倍高い。したがって、少なくとも一つの銀製または銀を主成分とする機能層を備えるスタックの付着エネルギーは、完全な金属機能層の他の材料とのこの弱い付着エネルギーによって制限される。
【００１１】
発明者らは、一つまたは複数の金属機能層を有し、および、単一の金属機能層、または複数の金属機能層が存在するときにはこれらの全ての金属機能層を考慮した条件で完全な層を得るために必要な最低限の厚さよりも薄い厚さを有する薄層スタックを堆積させる可能性に興味を持った。
【００１２】
そのようにして、発明者らは、明らかにスタックの面抵抗率が完全な機能層（単数または複数）を有するものよりも高いが、この面抵抗率はやはり特定の用途を可能にすることができることを確認した。
【００１３】
特に、発明者らは、スタックの付着エネルギーがそのとき理論モデルが予想していたものよりも高いことを確認した。
【００１４】
発明者らは、単一の金属機能層を備えていて、この金属機能層が不連続であるスタックについても、複数の金属機能層を備えていて、これら全ての金属機能層が不連続であるスタックについても同じように、極めて高い機械抵抗および、また、さらにより驚くべきことに極めて高い化学抵抗が得られることがあることを確認した。
【００１５】
さらに、発明者らは、そのように作製されたスタックが、反射と同様に透過においても、透明で、ベール（「ｈａｚｅ」）または虹色効果がなく、複数の色を有し、完全金属機能層（単数または複数）を備えるスタックで得られるものと類似することがあることを確認した。
【００１６】
結局、発明者らは、スタックでコーティングされた基板が成形、焼き入れまたは焼成の熱処理を受けるときでさえ、これらの機械抵抗および化学抵抗の優れた特性が維持されることを確認した。
【００１７】
したがって、この確認によって、一つの金属機能層または各金属機能層が比較的高い面抵抗率（例えば１０Ω／□より高い）を示すことが許容される用途において、および、機械抵抗、さらに時には化学抵抗に好ましい作用を有する高い付着エネルギーが大きな利点である用途において、このタイプのスタックの使用の道が開かれる。
【００１８】
上の例の範囲内で、確かに、スタックのいくつかの、あるいは、全部の機能層が完全であるときよりも高い面抵抗率を有するが、しかし特に耐性があり、したがって、気候条件が強い制約を生じさせる地域で使用できる薄層スタックを作製することが可能である。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１９】
したがって、本発明は、その最も広義な意味において、銀を主成分とするまたは銀製の少なくとも一つの金属機能層および二つの反射防止コーティングを備える薄層スタックで面をコーティングされた基板であり、前記反射防止コーティングは各々が少なくとも一つの反射防止層を備え、いわゆる機能層が二つの反射防止コーティング間に配置される基板において、この基板は前記（すなわち、スタックが銀を主成分とする、または、銀製の単一の金属機能層を備えるときのスタックの単一の金属機能層）、または、各（すなわち、スタックが銀を主成分とする、または、銀製の複数の金属機能層を備えるときのスタックの全部の金属機能層）金属機能層は表面占有率が５０％〜９８％、さらに５３％〜８３％、さらに６３％〜８３％である不連続な層であることを特徴とする基板を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００２０】
本発明によると、そのように堆積された単数の機能層、または、そのように堆積された各機能層は互いに結合された小島の形状で、小島間に覆われていない区域がある組織構造を示す自己構造化層である。
【００２１】
金属機能層がスタックの単一の金属機能層であるとき、または、スタック内に複数の金属機能層があるときに各金属機能層が不連続のときの金属機能層であるときのように、それによって、銀を主成分とする、または、銀製の単数の金属機能層、または、各金属機能層を囲む層の間に、直接接触を有することができる。これらの区域は、強い付着力を有する。最も弱い境界面、したがって、銀および隣接する層間の境界面で場合によっては生じる溝は、また、二つの反射防止層間に広がり、進行するであろうが、それがより高いエネルギーを要求する。したがって、この方法によって、スタックの全体の付着エネルギーがかなり向上されるとみられる。
【００２２】
薄層スタックが銀を主成分とするまたは銀製の連続した金属機能層を全く含まないことは、少なくとも一つのそのような連続層の存在がこの連続金属機能層または各連続金属機能層の二つの境界面での付着エネルギーを減少させ、その結果、「弱いリンク（ｍａｉｌｌｏｎ  ｆａｉｂｌｅ）」現象によってスタック全体の抵抗特性を減少させるので、重要である。
【００２３】
本発明の意味において、「不連続層」によって、本発明によるスタックの表面でのいずれかのサイズの方形を考慮するとき、そのとき、この方形では、不連続機能層は方形の表面の５０％〜９８％、さらに方形の表面の５３％〜８３％、さらに各々６３％〜８３％しか占めないことが理解される必要がある。
【００２４】
考慮する方形は、コーティングの主要な部分に位置する。本発明の範囲内では、特定の縁部、または、それに加えて最終的な使用では隠される特定の輪郭を実現することは重要ではない。
【００２５】
不連続性とは、従来技術によって無限ではない面抵抗率を測定することができるようなものである。したがって、層を構成する金属材料の集積がこの材料の全欠如体積によって分離されているが、互いに結合している不連続機能層（または各不連続機能層）を得ることが重要である。
【００２６】
本発明によると、自己構造化機能層（単数または複数）を備えるこのタイプのスタックは連続機能層（単数または複数）を備えるスタックより高い付着エネルギーを示し、それらの光学的特性（光透過率、光反射率および放射率）は、主に暑いまたは温暖な気候の地域でのいくつかの特定の用途で許容できる範囲にとどまりながら、減少し、その地域では、約２０％〜３０％の放射率はふさわいものでありえる。
【００２７】
本発明の意味での「コーティング」とは、単一層または異なる材料の複数の層がコーティングの内部に存在することがあることを理解しなければならない。
【００２８】
「スタック」とは、互いに堆積された薄層の集合を意味し、これらの層の間には無機基板（ガラスなど）または有機基板（プラスチック材料シートなど）が挟まれていないことを理解する必要がある。
【００２９】
従来のように、「材料を主成分とする層」とは、その層の大部分がこの材料からなり、すなわち、材料の化学元素、または場合によってはその安定したストイキメトリーで考慮される材料の製品が、考慮される層の原子百分率で少なくとも５０％を構成することを理解する必要がある。
【００３０】
また、従来のように、本発明の意味での「反射防止層」とは、その性質の観点から、材料は「非金属」であり、すなわち、金属ではないことを理解する必要がある。本発明の文脈では、この語は可視光の波長の範囲全体（３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ）で５以上のｎ／ｋ比を示す材料を意味する。
【００３１】
ｎは所定の波長での材料の実際の屈折率を意味し、ｋは所定の波長での屈折率の虚数部分を示し、ｎ／ｋ比は所定の波長で算出されることが喚起される。
【００３２】
本明細書中に表示される屈折率の値は、従来のように波長５５０ｎｍで測定された値である。
【００３３】
本発明によると、前記または各不連続金属機能層は、下記の厚さｅ：
‐二酸化チタンＴｉＯ2を主成分とする層上に堆積された１．０≦ｅ≦４．５ｎｍ、さらに１．０≦ｅ≦４．０ｎｍ、または２．０≦ｅ≦４．５ｎｍ、さらに２．０≦ｅ≦４．０ｎｍ、または、
‐酸化亜鉛錫ＳｎＺｎＯxを主成分とする層上に堆積された１．０≦ｅ≦４．５ｎｍ、さらに１．０≦ｅ≦４．０ｎｍ、または２．０≦ｅ≦４．５ｎｍ、さらに２．０≦ｅ≦４．０ｎｍ、または、
‐酸化亜鉛ＺｎＯを主成分とする層上に堆積された１．０≦ｅ≦５．０ｎｍ、さらに１．０≦ｅ≦４．５ｎｍ、または２．０≦ｅ≦５．０ｎｍ、さらに２．０≦ｅ≦４．５ｎｍ、または、
‐窒化ケイ素Ｓｉ3Ｎ4を主成分とする層上に堆積された１．０≦ｅ≦７．０ｎｍ、さらに１．０≦ｅ≦６．０ｎｍ、または２．０≦ｅ≦７．０ｎｍ、さらに２．０≦ｅ≦６．０ｎｍ、または、
‐ニッケルを主成分とする層上に堆積された１．０≦ｅ≦５．０ｎｍ、さらに１．０≦ｅ≦４．０ｎｍ、または２．０≦ｅ≦５．０ｎｍ、さらに２．０≦ｅ≦４．０ｎｍ
を示すことがある。
【００３４】
好ましくは、本発明によるスタックは基板の面上に直接堆積される。
【００３５】
本発明による単一の不連続金属機能層を備えるスタックとしては、下記のものがある。
‐本発明の一実施態様では、面と前記金属機能層との間に配置された前記反射防止コーティングは、屈折率が１．８〜２．２である材料製の、屈折率が中程度の反射防止層を備え、この層は好ましくは酸化物を主成分とする。この屈折率が中程度の反射防止層の物理的厚さは、５〜３５ｎｍであることがある。
‐さらに、前記金属機能層の下方に配置された前記反射防止コーティングは、屈折率が２．３〜２．７である材料製の、屈折率が高い反射防止層を備え、この屈折率が高い反射防止層は好ましくは酸化物を主成分とし、および／または、この屈折率が高い反射防止層の物理的厚さは、好ましくは、５〜２５ｎｍであることが可能である。
‐本発明の別の実施例では、面から反対側の前記金属機能層の上方に配置された前記反射防止コーティングは、屈折率が１．８〜２．２である材料製の、屈折率が中程度の反射防止層を備え、この層は好ましくは酸化物を主成分とする。この屈折率が中程度の反射防止層の物理的厚さは、好ましくは、５〜３５ｎｍである。
【００３６】
さらに、前記金属機能層の上方に配置された前記反射防止コーティングは、屈折率が２．３〜２．７である材料製の、屈折率が高い反射防止層を備え、この屈折率が高い反射防止層は好ましくは酸化物を主成分とし、および／または、この屈折率が高い反射防止層の物理的厚さは、好ましくは５〜２５ｎｍである。前記スタックは、銀を主成分とするまたは銀製の不連続な二つの金属機能層および三つの反射防止コーティングだけを備えることがあり、各金属機能層は二つの反射防止コーティング間に配置されている。
【００３７】
前記スタックは、銀を主成分とするまたは銀製の不連続な三つの金属機能層および四つの反射防止コーティングだけを備えることがあり、各不連続金属機能層は二つの反射防止コーティング間に配置されている。
【００３８】
本発明による複数の不連続金属機能層を備えるスタックとしては、下記のものがある。
‐本発明の一実施態様では、面と第一の金属機能層との間に配置された、または各々の金属機能層の下方に配置された前記反射防止コーティングは、屈折率が１．８〜２．２である材料製の、屈折率が中程度の反射防止層を備え、この層は好ましくは酸化物を主成分とする。この屈折率が中程度の反射防止層の物理的厚さは、５〜３５ｎｍであることがある。
‐さらに、第一の、または各々の、金属機能層の下方に配置された前記反射防止コーティングは、屈折率が２．３〜２．７である材料製の、屈折率が高い反射防止層を備え、この屈折率が高い反射防止層は好ましくは酸化物を主成分とし、および／または、この屈折率が高い反射防止層の物理的厚さは、好ましくは５〜２５ｎｍであることが可能である。
‐本発明の別の実施例では、最後の、または、各々の、面から反対側の金属機能層の上方に配置された前記反射防止コーティングは、屈折率が１．８〜２．２である材料製の、屈折率が中程度の反射防止層を備え、この層は好ましくは酸化物を主成分とする。この屈折率が中程度の反射防止層の物理的厚さは、好ましくは５〜３５ｎｍである。
‐さらに、最後の、または、各々の、金属機能層の上方に配置された前記反射防止コーティングは、屈折率が２．３〜２．７である材料製の、屈折率が高い反射防止層を備え、この屈折率が高い反射防止層は好ましくは酸化物を主成分とし、および／または、この屈折率が高い反射防止層の物理的厚さは、好ましくは５〜２５ｎｍである。
【００３９】
本発明の別の一実施態様では、少なくとも一つの機能層は、機能層と機能層の下方にある反射防止コーティングとの間に配置された下方遮断コーティング上に直接堆積され、および／または、少なくとも一つの機能層は機能層と機能層の上方にある反射防止コーティングとの間に配置された上方遮断コーティング下に直接堆積され、また下方遮断コーティングおよび／または上方遮断コーティングはニッケルまたはチタンを主成分とする薄層を備え、その物理的厚さｅ’は０．２ｎｍ≦ｅ’≦２．５ｎｍである。
【００４０】
上方にある反射防止コーティングの最後の層、基板から最も遠い層は酸化物を主成分とすることがあり、そのとき、好ましくはストイキメトリーで堆積される。層は、特に二酸化チタン（ＴｉＯx）を主成分とするか、あるいは、亜鉛および錫の混合酸化物（ＳｎzＺｎyＯx）を主成分とすることがある。
【００４１】
そのように、スタックは、好ましくはストイキメトリーで堆積された最後の層（英語では「ｏｖｅｒｃｏａｔ」）、すなわち保護層を備えることがある。この層は堆積後スタック内でストイキメトリー的に実質的に酸化されている。
【００４２】
本発明は、また、シャーシ構造によって共に保持される少なくとも二つの基板を備える多重グレージングユニットに関するものであり、前記グレージングユニットは外部空間および内部空間の間に分離を実現し、その内部では少なくとも一つの挿入ガス層が二つの基板の間に配置され、一つの基板は本発明によるものである。
【００４３】
ある変形形態では、本発明によるスタックはグレージングユニットの面４に配置される。
【００４４】
本発明によるグレージングユニットは、本発明によるスタックを支持する少なくとも一つの基板を組み込み、それは場合によっては少なくとも一つの他の基板に組み合わされている。各基板は透明でも着色されていてもよい。基板の一つは少なくとも特にバルク着色されたガラス製のことがある。着色の種類の選択は製造が終了したグレージングユニットに求める光透過率のレベルおよび／または求める比色分析のアスペクトによって変化する。
【００４５】
本発明によるグレージングユニットは少なくとも一つの熱可塑性ポリマーシートによって特に少なくとも二つのガラスタイプの剛性基板に組み合わされた薄層化された構造を示すことがあり、その結果、ガラス／薄層スタック／シート（単数または複数）／ガラス／ガラスシートのタイプの構造を示す。ポリマーは特にポリビニルブチラールＰＶＢ、エチレン酢酸ビニルＥＶＡ、ポリエチレンテレフタレートＰＥＴ、ポリ塩化ビニルＰＶＣを主成分とすることがある。
【００４６】
本発明は、また、薄層スタックでコーティングされた基板および特に本発明による基板を作製するための少なくとも一つの銀を主成分とするまたは銀製の金属機能層および二つの反射防止コーティングの使用に関するものであり、前記（すなわち、スタックが銀を主成分とするまたは銀製の単一の金属機能層を備えるときのスタックの単一の金属機能層）、または、各（すなわち、スタックが銀を主成分とするまたは銀製の複数の金属機能層を備えるときのスタックの全部の金属機能層）金属機能層は、表面占有率５０％〜９８％、さらに５３％〜８３％、さらに６３％〜８３％の不連続層である。
【００４７】
本発明は、また、薄層スタックでコーティングされた基板および特に本発明による基板を作製するための少なくとも一つの銀を主成分とするまたは銀製の金属機能層および二つの反射防止コーティングの堆積方法に関するものであり、前記（すなわち、スタックが銀を主成分とする、または、銀製の単一の金属機能層を備えるときのスタックの単一の金属機能層）、または、各（すなわち、スタックが銀を主成分とする、または、銀製の複数の金属機能層を備えるときのスタックの全部の金属機能層）金属機能層は、表面占有率５０％〜９８％、さらに５３％〜８３％、さらに６３％〜８３％の不連続層である。
【００４８】
好ましくは、本発明によって、そのように、透明基板上に堆積され、可視光領域での光透過率ＴL＞５０％および可視光内光反射率（スタック側）ＲLが２０％未満で、透過および反射においても比較的ニュートラルな色であるが、基板だけの場合よりも低い放射率を示す機能単層の薄層スタックを作製することができる。
【００４９】
好ましくは、本発明によって、そのように、銀を主成分とするまたは銀製の全部の金属機能層が不連続であり、それによって、スタックが高い機械抵抗および／または高い化学抵抗を示す、薄層１、２、３、４、さらにより多くの金属機能層（単数または複数）のスタックを作製することができる。
【００５０】
本発明の詳細および好ましい特徴は、下記の添付図面を参照しておこなう下記の実施例の説明から明らかになるであろう。但し、これらの実施例は本発明を何ら限定するものではない。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】図１は、本発明による機能単層スタックを図示したものであり、不連続機能層が下方遮断コーティング上に直接、および、上方遮断コーティング下に直接堆積されている。
【図２】図２は、図１による機能単層スタックを組み込んだ二重グレージングユニットの解決法を図示したものである。
【図３】図３は、左から右へ、表面占有率が５３％〜９８％の銀製機能層の場合の、二つのモードのＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）の画像である。
【図４】図４は、図３の四つのケースの不連続層について測定し、これらの同じ四つのケースについて、銀の面積比（英語では、「Ｓｉｌｖｅｒ  Ｓｕｒｆａｃｅ  Ｆｒａｃｔｉｏｎ」、ＳＦＦ）、すなわち、表面占有率に応じたモデルによる理論値Ｇｍに比較した付着エネルギーＡｄ（Ｊ／ｍ2）を示したものである。
【図５】図５は、銀層の厚さｅに応じたＺタイプの薄層スタックの可視光領域での光透過率ＴLを黒の三角形で、可視光領域での光反射率ＲLを黒の長方形で示したものである。
【図６】図６は、銀層の厚さｅに応じたＺタイプの薄層スタックおよびスタックのない基板の理論放射率を反転した黒の三角形で、測定した放射率を黒丸で示したものである。
【図７】図７は、可視光領域での光透過率ＴLを勾配が１．０〜８．０ｎｍの銀層の厚さｅに応じたＹタイプの薄層スタックについて黒のひし形で、および、勾配が０．０〜２．０ｎｍの銀層の厚さｅに応じたＹタイプの薄層スタックについて黒の正方形で示したものである。
【図８】図８は、赤外線内光吸収Ａｂｓを勾配が１．０〜８．０ｎｍの銀層の厚さｅに応じたＹタイプの薄層スタックについて黒のひし形で、および、勾配が０．０〜２．０ｎｍの銀層の厚さｅに応じたＹタイプの薄層スタックについて黒の正方形で示したものである。
【図９】図９は、可視光領域での光反射率ＲLを勾配が１．０〜８．０ｎｍの銀層の厚さｅに応じたＹタイプの薄層スタックについて黒のひし形で、および、勾配が０．０〜２．０ｎｍの銀層の厚さｅに応じたＹタイプの薄層スタックについて黒の正方形で示したものである。
【図１０】図１０は、λ波長に応じた、および、銀層の厚さｅに応じたＹタイプ薄層スタックの吸収スペクトルを示したものである。
【図１１】図１１は、銀層の厚さに応じた実施例１〜４のスタックの面抵抗率ＲをΩ／□で示したものである。
【図１２】図１２は、銀層の厚さに応じた実施例１〜４のスタックの赤外線吸収Ａｂを示したものである。
【図１３】図１３は、銀層の厚さに応じた実施例１〜４のスタックのダイアグラムＬａｂにおける透過色ｃｔを示したものである。
【図１４】図１４は、銀層の厚さに応じた実施例１〜４のスタックの、スタック側の、ダイアグラムＬａｂにおける反射色Ｃｒを示したものである。
【図１５】図１５は、銀層の厚さｅに応じた実施例６の可視光領域での光透過率ＴLを破線で、および、可視光領域での光反射率ＲLを実線で示したものである。
【図１６】図１６、は銀層の厚さｅに応じた実施例６の赤外線吸収を示したものである。
【図１７】図１７は、銀層の厚さｅに応じた実施例６の放射率を破線で、および、面抵抗率を実線で示したものである。
【図１８】図１８は、本発明による機能二層スタックを示し、二つの不連続機能層の各々が反射防止コーティングの上に直接、および、反射防止コーティングの下に直接堆積されている。
【図１９】図１９は、本発明による機能三層スタックを示し、三つの不連続機能層の各々が反射防止コーティングの上に直接、および、反射防止コーティングの下に直接堆積されている。
【００５２】
図１、２、１８および１９において、さまざまな層またはさまざまな要素の厚みの間の割合は、図面を見やすくするため、厳密には守られていない。
【発明を実施するための形態】
【００５３】
図１は、透明なガラス基板３０、および、より詳細にはこの基板３０の面３１上に堆積された本発明による機能単層スタック３４の構造を示しており、その構造において、銀または銀を含有する合金を主成分とし、好ましくは銀だけからなる単一の機能単層１４０は二つの反射防止コーティングの間に配置され、下方にある反射防止コーティング１２０は基板３０の方向であって機能層１４０の下方に位置し、上方にある反射防止コーティング１６０は基板３０から反対側で機能層１４０の上方に配置されている。
【００５４】
これらの二つの反射防止コーティング１２０、１６０は、各々が少なくとも一つの反射防止層１２４、１６４を備える。
【００５５】
場合によっては、一方では、機能層１４０は、下方にある反射防止コーティング１２０と機能層１４０との間に配置された下方遮断コーティング１３０の上に直接堆積されることがあり、他方では、機能層１４０は、機能層１４０と上方にある反射防止コーティング１６０との間に配置された上方遮断コーティング１５０の下に直接堆積されることがある。
【００５６】
下方および／または上方遮断層は、金属の形態で堆積され、金属層として表示されているが、それらの第一の機能はスタックの堆積中に酸化して、機能層を保護することなので、実際には酸化層である。
【００５７】
この反射防止コーティング１６０は、特に酸素のストイキメトリーで、とりわけ酸化物を主成分とする任意の保護層１６８によって終了されることができる。
【００５８】
図２のように、機能単層スタックが二重グレージングユニットの構造の多重グレージングユニット１００内で使用されるとき、このグレージングユニットはシャーシ構造９０によって共に保持され、挿入ガス層１５によって互いに分離されている二つの基板１０、３０を備える。
【００５９】
グレージングユニットはこのように外部空間ＥＳおよび内部空間ＩＳの分離を実現する。
【００６０】
本発明によるスタックは、その機械抵抗が高いという事実から、面４（建物に入る太陽光線の入射方向を考慮して建物の最も内側のシート上およびその内部を向いた面上）に配置できる。
【００６１】
図２は、外部空間ＥＳと接触する基板３０の外側面３１上に配置された薄層スタック３４の面４でのこの配置（建物に入る太陽光線の入射方向が二重矢印によって図示されている）を図示しており、基板３０のもう一つの面２９は挿入ガス層１５と接触している。
【００６２】
しかしながら、また、この二重グレージングユニット構造では、基板の一つはシート化された構造を示すことが考えられる。しかし、そのような構造には、挿入ガス層が存在しないので、混同が起こり得ることはない。
【００６３】
第一の期間に、実施される研究は、構造が基板／ＺｎＯ／Ａｇ／ＺｎＯで、各ＺｎＯ層の厚さが１０ｎｍであるＺタイプスタック、次に構造が基板／ＺｎＯ／Ａｇ／ＺｎＯで、各ＺｎＯ層の厚さが５ｎｍであるＹタイプスタックについてであり、続いて五つのシリーズの実施例を実現して、不連続層の枠内の様々な材料を試験して、最終的に完全なスタックの例を実現した。
【００６４】
全部のスタックについて、下記に層の堆積条件を示す。
【００６５】
【表１】
0006456295.tif 000002
【００６６】
堆積層は、このように三つのカテゴリーに分類することができる。
ｉ）可視光波長の全範囲にわたって５を上回るｎ／ｋ比を示す誘電性／反射防止性材料層：Ｓｉ3Ｎ4：Ａｌ、ＴｉＯx、ＴｉＯ2、ＺｎＯ、ＳｎＺｎＯx
ｉｉ）赤外線および／または太陽放射での反射特性を有する材料製の金属機能層：Ａｇ
ｉｉｉ）スタックの堆積のとき機能層をその性質の変更に対して保護するための上方遮断および下方遮断層：Ｎｉ、ＮｉＣｒ；それらの厚さが極めて小さい（２ｎｍ以下）とき、それらの光学的およびエネルギー特性についての影響は一般的に無視される。
【００６７】
下記の全実施例において、薄層スタックは、ＳＡＩＮＴ−ＧＯＢＡＩＮ社によって流通されているＰｌａｎｉｌｕｘブランドの、厚さ４ｍｍの透明なカルシウムソーダガラス製基板上に堆積される。
【００６８】
これらのスタックについて、
‐Ｒはスタックの面抵抗率をΩ／□で示し、
‐Ａｂは赤外線域内での吸収を示し、
‐ＴLは照明Ｄ６５によって２°で測定した可視光領域での光透過率％であり、
‐ＲLは、照明Ｄ６５によって２°で測定したガラス側（スタックが堆積されている側の反対側の基板の面）可視光領域での光反射率％を示し、
‐Ｃｔは照明Ｄ６５によって２°で測定したＬＡＢシステム内での透過ａ*およびｂ*における色を示し、
‐Ｃｒはコーティングした基板の側（面３１）で照明Ｄ６５によって２°で測定したＬＡＢシステム内での反射ａ*およびｂ*における色を示す。
【００６９】
本発明によると、金属機能層１４０は、表面占有率（機能層のすぐ下に配置され、金属機能層によって被覆された層の表面の割合）が５０％〜９８％の不連続層である。
【００７０】
図３は、左から右へ、構造が基板／ＺｎＯ／Ａｇ／ＺｎＯで、各ＺｎＯ層の厚さが１０ｎｍであるＺスタックで得られた、
‐銀の厚さ２ｎｍで得られた表面占有率５３％、
‐銀の厚さ３ｎｍで得られた表面占有率６３％、
‐銀の厚さ４ｎｍで得られた表面占有率８４％、
‐銀の厚さ５ｎｍで得られた表面占有率９８％、
を示す。
【００７１】
本明細書中で、不連続機能層の厚さｅを参照するとき、機能層によって被覆された区域で測定した厚さまたは平均の厚さが重要ではなく、機能層が連続しているとしたら得られるであろう厚さが重要である。
【００７２】
層の堆積速度（またはより正確には金属機能層の堆積チャンバー内での基板の進行速度）、単位時間で噴霧された材料の量、および堆積が行われる面積を考慮すると、この値に近づきやすい。この厚さは、連続機能層と直接比較できるので、極めて実用的である。
【００７３】
したがって、厚さｅは、堆積した層が連続していたら測定されるであろう厚さである。
【００７４】
実際、もし従来のようにマグネトロン噴霧による同じ堆積条件（極めて弱い圧力、ターゲットの組成、基板の進行速度、陰極での電力）で、機能層の厚さが１０ｎｍならば、機能層の厚さを半分に、すなわち、５ｎｍにするには、基板の進行速度を半分にする必要があり、それで十分である。
【００７５】
この図３では、二つのモード（黒‐白）で図示された、ＴＥＭによって観察されたものである。この図の四つの部分では、銀は白であり、ＺｎＯは黒である。
【００７６】
このタイプのスタックＺでは、銀の厚さが５ｎｍより大きいと付着エネルギーはほぼ一定であることが確認された。このエネルギーは１．０〜１．５Ｊ／ｍ2であり、それは十分に弱い。
【００７７】
図４は、不連続金属機能層１４０の前記の四つのケースでスタックＺについて測定した付着エネルギーＧe（黒の点を伴う曲線）を示す。この付着エネルギーは、５ｎｍより大きい銀の厚さで確認した付着エネルギーより常に大きい。
【００７８】
さらに、この測定された結合エネルギーＧeは、科学文献で使用されるモデルによって計算した理論結合エネルギーＧm（白色正方形を伴う曲線）より大きい。
【００７９】
図５は、黒の三角形によって銀製の金属機能層の厚さｅに応じたＺタイプのスタックの光透過率ＴLを示す。この光透過率は、銀の厚さが５ｎｍ以下で、すなわち、表面占有率が５０％〜９８％で、６０〜８０％の有効的な範囲にある。
【００８０】
図５は、さらに、黒の長方形によって銀製の金属機能層の厚さｅに応じたＺタイプのスタックの光反射率ＲLを示す。この光反射率は、銀の厚さが５ｎｍ以下で、すなわち、表面占有率が５０％〜９８％で、１０〜２０％の有効的な範囲にある。
【００８１】
図６は、参考として、コーティングのない、基板だけの放射率εGを示す。それは、約９０％に位置する水平直線である。
【００８２】
図６は、さらに、Ｚタイプスタックについて、銀の厚さが５ｎｍ以下で、すなわち、表面占有率が５０％〜９８％で、基板だけの放射率より小さい放射率εz（黒の丸）を測定することができることを示す。
【００８３】
下記表１は、銀層の厚さおよび表面占有率に応じたＺタイプスタックについて測定した放射率をまとめたものである。
【００８４】
【表２】
0006456295.tif 000003
【００８５】
理論計算は、Ｚタイプスタックについて、銀の厚さが５ｎｍ以下で、すなわち、表面占有率が５０％〜９８％で、基板だけの放射率より小さい放射率εz（反転した黒の三角形）を得ることができることを示すが、それは確認されたものより大きい。
【００８６】
そのように、図５および６は、光反射率が比較的小さく、光透過率が比較的高く、放射率が少し高いが、図４に見られるように、付着エネルギーが極めて高くても、複数の用途に使用することができるＺタイプスタックを作製することができることを示す。
【００８７】
Ｚタイプスタックで観察した現象をより良く理解しようとして、構造が基板／ＺｎＯ／Ａｇ／ＺｎＯで、各ＺｎＯ層の厚さが５ｎｍである「Ｙタイプ」と呼ばれる第二のスタックを試験したが、銀の勾配を、一方では１．０〜０．８ｎｍ、他方では０〜２．０ｎｍにして試験した。
【００８８】
吸収は、０〜２．０ｎｍ間で連続して増大し、２％（素のガラスの吸収）から２０〜２３％の吸収になるのが観察された。前記のように、吸収は次に銀２〜６ｎｍ間で大きく減少し、その結果、５〜６％の値に達する。また、Ａｇの厚さが小さいと、吸収レベルの一部は、大きくなる反射性のレベルと関連することに気づくことが有利でもある。これは、光学干渉作用を調節して、吸収レベルを軽く調整することができるであろうことを意味する。
【００８９】
そのうえ、０〜約２ｎｍ間で、Ｙタイプスタックの色は次第に青色になり（Ｌａｂシステム参照）、それとともに、ｂ*が極めて大きく減少することが観察された。約２〜約４ｎｍ間で、展開は劇的に変更され、ａ*およびｂ*が大きく増加するとともに赤色になる。結局、約４〜約８ｎｍ間で、色は再度青色／ニュートラルに向かう。これらの展開の解釈は、図１０で、下記のように銀の厚さに応じた吸収スペクトルの展開を見ることによって得られる。
‐極めて小さい銀の厚さ（１．０〜２．５ｎｍ）で、吸収スペクトルはピークを示し、その位置は、Ａｇの厚さを増大させ、１ｎｍで６７５ｎｍから２．５ｎｍで６９５ｎｍまで通過して、ピークを赤色に動かす。このピークは確かにＡｇの「ナノ物体」の表面プラズモンに対応する。
‐２．５〜４．０ｎｍで、吸収のピークの位置は、６９５ｎｍから５３５ｎｍまで通過して青色の方へ移動し、その強さをかなり失う。平行して、赤色／ＩＲ近傍の吸収レベルは高いままである。この厚さの範囲は、５０％〜８３％の表面占有率を示す不連続銀層に対応する。
‐最後に、６．０〜８．０ｎｍで、吸収レベルは大きく減少して、反射がより高くなる。銀層が連続するためには、厚さの範囲が重要である。
【００９０】
Ｙタイプスタックの面抵抗率を局所的に測定した。このタイプのスタックでは、３．０ｎｍから面抵抗率を測定することが可能であって、Ａｇ膜のパーコレーションの開始を示している。
【００９１】
基板の側であって直接下方に選択された層の種類（「湿潤層」１２８と呼ばれる）に応じた機能層の異なる厚みを試験するために、１〜５の番号を付した五組の実施例を実行し、実施例の各組について様々なパラメータを測定した。
【００９２】
これらの実施例では、二つの反射防止コーティング１２０、１６０は各々が反射防止層１２４、１６４を備える。
【００９３】
下記の表２は、実施例１〜５の層の各々の幾何学的または物理的厚さ（光学的厚さではない）をナノメートルで表示する。
【００９４】
【表３】
0006456295.tif 000004
【００９５】
全実施例の反射防止層１２４および実施例４の湿潤層１２８は窒化ケイ素を主成分とし、より正確には、Ｓｉ3Ｎ4：Ａｌ（図１１〜１４では「ＳｉＮ」と表記）製である。それらはアルミニウム８質量％でドープされたシリコン製金属ターゲットから堆積される。
【００９６】
全実施例の反射防止層１６４および実施例３の湿潤層１２８は酸化亜鉛を主成分とし、より正確には、ＺｎＯ（図１１〜１４では「ＡＺＯ」と表記）製である。それらは酸化亜鉛ＺｎＯから構成されるセラミックターゲットから堆積される。しかしながら、例えば金属ターゲットを使用して、酸素の存在下で反応性噴霧を実施することができる。
【００９７】
下記表３はちょうど下方に位置する層の種類に応じて不連続機能層を実現することができた銀製の機能層の最大の厚さをまとめたものである。
【００９８】
【表４】
0006456295.tif 000005
【００９９】
十分に高い光透過率ＴL（５０％より高い）および十分に低い光反射率ＲL（２０％以下）が得られることが確認された。
【０１００】
【表５】
0006456295.tif 000006
【０１０１】
さらに、下記のことが確認された。
‐スタックの面抵抗率Ｒは、図１１に見られるように妥当な値（２００Ω／□未満）を示すことができた。
‐吸収は、図１２に見られるように、比較的少なくなり得た（２５％以下）。
‐透過色Ｃｔは、図１３に見られるように、青色‐緑色内にあり得た（ａ*は負または微かに正）。および、
‐反射色Ｃｒは、図１４に見られるように、青色‐緑色内にあり得た（ａ*は負または微かに正）。
【０１０２】
色は、透過でも反射でも、試験用に最適化されていなかったが、反射防止層の厚さに応じた最適化の規則は、完全（または連続）金属機能層のスタックの場合と同様であると思われる。
【０１０３】
これらの観察を確認するために、図１を参照して下記の構造及びナノメートルでの幾何学的または物理的厚さ（および光学的厚さではない）を示す実施例６に基づいて、一連の実施例を実行した。
【０１０４】
【表６】
0006456295.tif 000007
【０１０５】
この実施例６は、ＺｎＯ製の機能層の下に湿潤層を備える実施例３に基づいて、および、欧州特許出願公開第７１８２５０号明細書の教示にしたがって、すなわち、ＺｎＯ／Ａｇ集合の各側に窒化ケイ素のバリア層を備えて、焼き入れ可能なタイプの低放射性スタック構造を示している。
【０１０６】
実施した第一の試験は、ＨＨ（高湿度）試験である。それは所望の期間（７日、１４日および５６日）、気候チャンバー内にサンプルを置いて、それらを観察するためにチャンバーのスイッチを消さずにそれらを引き出す。銀の厚さ１、２、３、４および５ｎｍでは、欠陥はほとんど出現せず、期間内で変化しない。反対に、６、７および８ｎｍでは試験７日目から腐食が出現し、増大するだけである。
【０１０７】
銀の厚さが小さいほど、スタックは従来から実施されるような機械抵抗試験ＥＳＴに耐性があることが分かった。銀の厚さが１および２ｎｍでは、第一の傷が７Ｎで発現するが、Ａｇが８ｎｍを比較すると、そこでは０．３Ｎから発現する。これらの結果は、第一の実験のとき観察される付着エネルギーの増大と一貫性がある。
【０１０８】
成形または焼き入れの熱処理をシミュレートして、６５０℃で１０分間の焼成後（ＥＳＴＴＴ試験用）、観察も類似している。Ａｇの厚さが小さいほど、傷はより急速に出現する。Ａｇの厚さが１および２ｎｍでは、第一の傷が３Ｎで発現するが、Ａｇが８ｎｍを比較すると、そこでは０．１Ｎから発現する。
【０１０９】
実施例６の組の光学「性能」を評価するために、銀の厚さに応じた可視光領域での光透過率および可視光領域での光反射率を図１５に示し、銀の厚さに応じた光吸収を図１６に示し、銀の厚さに応じた面抵抗率を図１７に示した。
【０１１０】
光吸収は、銀が１〜３ｎｍの間に比較的大きな値（約１６〜１８％）まで増加し、次に３ｎｍの後、減少して、厚さ６〜８ｎｍの連続した銀層を備える従来の低放射性スタックの「通常の」値に近い値に近づく。３ｎｍの後の吸収の減少は光反射率の増大と同時に起きるものである。
【０１１１】
３ｎｍから１００Ω／□未満の面抵抗率を測定できることが確認された。吸収に応じた面抵抗率曲線は、５〜４０Ω／□の面抵抗率について吸収の急速な増大を示す。次に、この吸収は約２０％の最大値周辺で安定化する。
【０１１２】
さらに、Ａｇの厚さが小さい（１〜４ｎｍ）と、透過色は青色に位置することが注目された。
【０１１３】
図１８および１９は、各々、透明なガラス基板３０、および、より詳細にはこの基板３０の面３１上に堆積された本発明による機能二層スタック３５の構造および本発明による機能三層スタック３６の構造を図示している。
【０１１４】
銀または銀を含む合金を主成分とする、および、好ましくは銀だけからなる各機能層１４０、１８０、２２０は二つの反射防止コーティング間に配置され、下方にある反射防止コーティング１２０、１６０、２００は基板３０の方向であって各機能層１４０、１８０、２２０の下方に配置され、上方にある反射防止コーティング１６０、２００、２４０は基板３０から反対側で各機能層１４０、１８０、２２０の上方に配置される。
【０１１５】
各反射防止コーティング１２０、１６０、２００、２４０は、少なくとも一つの反射防止層１２４、１６４、２０４、２４４を備える。
【０１１６】
本発明による、銀を主成分とするまたは銀製の不連続な金属機能層の強い付着エネルギーに関する発明の用途を開発するために、図１、１８および１９を参照して、下記の構造および幾何学的または物理的なナノメートル単位の厚さ（光学的厚さではない）を示す三つの実施例を実行した。
【０１１７】
【表７】
0006456295.tif 000008
【０１１８】
堆積された二酸化チタンＴｉＯ2製の反射防止層１２４、１６４、２０４および２４４は光学指数２．４（５５０ｎｍで）を示す。
【０１１９】
これらのスタックは厚さ４ｍｍの透明なガラス基板上に堆積された。
【０１２０】
これらの実施例７〜９はまた理論上の付着エネルギーに比較して付着エネルギーの増大を示す。
【０１２１】
下記の表８は実施例７〜９の主要な光学的特性を示し、これらの特性を、厚さ４ｍｍのガラス基板の方向であって下方が厚さ１０ｎｍの窒化ケイ素を主成分とする層によって、上方が厚さ３０ｎｍの窒化ケイ素を主成分とする層によって囲まれた厚さ１．５ｎｍのＮｂＮ製の単一の窒化機能層を備える、吸収によるソーラーコントロールスタック（実施例１０）と比較する。
【０１２２】
【表８】
0006456295.tif 000009
【０１２３】
したがって、下記のように、中程度の、実施例１０と同様な範囲にある可視光領域での光透過率（５０％〜７０％）および中程度の、実施例１０と同様な範囲にある選択度ｓ（約１．１）を示す、
‐不連続機能層を備える金属機能単層スタック（実施例７）、
‐二つの不連続機能層を備える金属機能二層スタック（実施例８）、
‐三つの不連続機能層を備える金属機能三層スタック（実施例９）
が作製可能であることが確認された。
【０１２４】
さらに、得られる色は、透過色（Ｃｔ）も反射色（Ｃｒ）も、求める範囲、青色、青色−緑色内にある。
【０１２５】
本発明は、例として前記のように記載したが、特許請求の範囲に記載したような範囲を越えることなく、本発明の様々な変更が可能であることは当業者には明らかであろう。
【符号の説明】
【０１２６】
１０、３０  基板
１５  挿入ガス層
３１  面
３４、３５、３６  薄層スタック
９０  シャーシ構造
１００  多重グレージングユニット
１２０、１６０、２００、２４０  反射防止コーティング
１２４、１６４、２０４、２４４  反射防止層
１４０、１８０、２２０  金属機能層
【図１】
0006456295.tif 000010
【図２】
0006456295.tif 000011
【図３】
0006456295.tif 000012
【図４】
0006456295.tif 000013
【図５】
0006456295.tif 000014
【図６】
0006456295.tif 000015
【図７】
0006456295.tif 000016
【図８】
0006456295.tif 000017
【図９】
0006456295.tif 000018
【図１０】
0006456295.tif 000019
【図１１】
0006456295.tif 000020
【図１２】
0006456295.tif 000021
【図１３−１４】
0006456295.tif 000022
【図１５】
0006456295.tif 000023
【図１６】
0006456295.tif 000024
【図１７】
0006456295.tif 000025
【図１８】
0006456295.tif 000026
【図１９】
0006456295.tif 000027