(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
底壁、この底壁の周縁から起立する起立壁、および上記底壁の上方に位置するとともに上記底壁と間隔を隔てて離間し、上下方向に見て上記起立壁で囲まれた領域を覆う天井壁、を有する容器部と、
上記起立壁の所定部位に繋がり、先端が開口する筒状のネック部と、を備えた培養フラスコであって、
上記天井壁は、上記起立壁における上記ネック部の接続部上端よりも上下方向において上記底壁寄りに位置する低位領域を有し、
上記低位領域は、上下方向における高さ位置が上記起立壁の上下方向における寸法に対して当該起立壁の下端から１／２以下である第１部分を含むことを特徴とする、培養フラスコ。
【請求項２】
上記天井壁全体に占める上記低位領域の割合は、上下方向における投影面積にして６０％以上である、請求項１に記載の培養フラスコ。
【請求項３】
上記天井壁全体に占める上記第１部分の割合は、上下方向における投影面積にして５０％以上である、請求項１または２に記載の培養フラスコ。
【請求項４】
上記起立壁は、前後方向に離間する前壁および後壁と、上記前壁と後壁とに繋がり、左右方向に離間する一対の側壁と、を含み、
上記ネック部は、上記前壁に繋がっている、請求項１ないし３のいずれかに記載の培養フラスコ。
【請求項５】
上記天井壁は、上記底壁と概略対向する主要天井壁部、および、上記前壁と上記主要天井壁部とに繋がり、上記後壁に向かうにつれて下方に変位するように傾斜する天井側傾斜壁部、を有する、請求項４に記載の培養フラスコ。
【請求項６】
上記天井側傾斜壁部は、上記左右方向において上記主要天井壁部の間に挟まれた部分を有する、請求項５に記載の培養フラスコ。
【請求項７】
上記主要天井壁部は、他の部位より相対的に上位に位置し、かつ上記後壁に向かうにつれて上記左右方向の寸法が大となる凸状部を有する、請求項５または６に記載の培養フラスコ。
【請求項８】
上記底壁は、平坦状の主要底壁部、および、上記前壁における上記ネック部の接続部下端付近の高さ位置部分と、上記主要底壁部とに繋がり、上記前壁から上記主要底壁部に向かうにつれて下方に変位するように傾斜する傾斜底壁部、を有する、請求項４ないし７のいずれかに記載の培養フラスコ。
【請求項９】
上記起立壁から下方に突出したリブを備え、
上記起立壁の上端により構成された係止部と、上記リブとが係合可能である、請求項１ないし８のいずれかに記載の培養フラスコ。
【請求項１０】
上記底壁の周縁部と、上記起立壁の下端とが、全周にわたって溶着により接合されている、請求項１ないし９のいずれかに記載の培養フラスコ。
【請求項１１】
上記容器部および上記ネック部は、透明プラスチック材料により形成される、請求項１ないし１０のいずれかに記載の培養フラスコ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、細胞培養、あるいは組織培養等に用いられる培養フラスコに関する。
【背景技術】
【０００２】
培養フラスコは、細胞培養や組織培養に広く用いられており、培養はフラスコ内の培地中で行われる。培養フラスコは、一般に、細胞や培地を収容する容器部と、容器部に対して細胞や培地の出し入れを行うためのネック部とを備えている（例えば特許文献１を参照）。容器部は、底壁と、この底壁の周縁から各々が起立し、前後方向に離間する前壁および後壁と、上記前壁と後壁とに繋がり、左右方向に離間する一対の側壁と、底壁に対向する天井壁と、を有し、概略中空の箱状とされている。ネック部は、前壁に繋がり、先端が開口する円筒状とされている。ネック部は、先端に向かうほど上方に変位するように傾斜している。ネック部にはキャップが装着される。【０００３】
特許文献１に示されるように、底壁は例えば概略長矩形状とされており、前壁と底壁との間には、底壁に向かうにつれて下方に変位するように傾斜する底部傾斜壁（傾斜面３６）が形成されている。底部傾斜壁は、前壁におけるネック部の接続部下端付近の高さ位置部分から底壁に至っている。培地を容器部内に入れる際には、ネック部を通じて底部傾斜壁付近まで挿入したピペットから培地（液体）を注入する。一方、底部傾斜壁はネック部側が高い位置にあるので、底壁を下面にして置いた場合には溜まった培地がネック部側に逆流しにくい。一対の側壁は、前壁寄りの部分が先窄み状とされている。このような容器部の形状により、培地吸引用のピペットや細胞を剥がすためのスクレイパーを底壁上の隅々まで到達させることが可能である。【０００４】
天井壁は、前壁におけるネック部の接続部上端よりも上位に位置しており、天井壁上に他の培養フラスコの底壁を載置することにより、複数の培養フラスコを積み重ねることが可能とされている。【０００５】
接着性細胞を培養する場合、この細胞は、必要量の培地で覆われた培養フラスコの培養面（底壁）に付着した状態で増殖する。培養細胞の輸送に際し、従来は凍結輸送が主流で、この場合、凍結保存用の専用容器に移し替えて凍結させた上で輸送、その後に解凍し再び必要量の培地を注入した培養容器に移す必要がある。容器を移し替えることによるコンタミネーションや細胞損失のリスクや、凍結・解凍など、細胞を利用できる状態にするために多くの時間と技術を要するという不都合があった。近年では、細胞を凍結させず培養に適した温度を保ちながら輸送することが定温輸送技術の進歩によって可能となっている。培養状態を維持しながら輸送することで届け先においてすぐに実験、研究等に利用できる。この培養状態維持輸送の際には、培地が波打つことによって底壁に付着した細胞が剥がれるのを防止するため、フラスコ内部全体に培地を満たし培地の動きを抑える必要がある。したがって、培養状態維持輸送に際しては、培地の使用量が多くなる。【０００６】
しかしながら、培養細胞の種類によっては、培地の単位量あたりの金額が高額なものがある。そして、培養状態維持輸送に際して、高額な培地の使用量が多くなるのでは、輸送コストの高騰化を招いてしまう。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特許第２６８３７３２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、このような事情のもとで考え出されたものであって、培養状態維持輸送時のコストを削減するのに適した培養フラスコを提供することをその課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明によって提供される培養フラスコは、底壁、この底壁の周縁から起立する起立壁、および上記底壁の上方に位置し、上下方向に見て上記起立壁で囲まれた領域を覆う天井壁、を有する容器部と、上記起立壁の所定部位に繋がり、先端が開口する筒状のネック部と、を備えた培養フラスコであって、上記天井壁は、上記起立壁における上記ネック部の接続部上端よりも上下方向において上記底壁寄りに位置する低位領域を有することを特徴としている。【００１０】
好ましい実施の形態においては、上記天井壁全体に占める上記低位領域の割合は、上下方向における投影面積にして６０％以上である。【００１１】
好ましい実施の形態においては、上記低位領域は、上下方向における高さ位置が上記起立壁の上下方向における寸法に対して当該起立壁の下端から１／２以下である第１部分を含む。【００１２】
好ましい実施の形態においては、上記天井壁全体に占める上記第１部分の割合は、上下方向における投影面積にして５０％以上である。【００１３】
好ましい実施の形態においては、上記起立壁は、前後方向に離間する前壁および後壁と、上記前壁と後壁とに繋がり、左右方向に離間する一対の側壁と、を含み、上記ネック部は、上記前壁に繋がっている。【００１４】
好ましい実施の形態においては、上記天井壁は、上記底壁と概略対向する主要天井壁部、および、上記前壁と上記主要天井壁部とに繋がり、上記後壁に向かうにつれて下方に変位するように傾斜する天井側傾斜壁部、を有する。【００１５】
好ましい実施の形態においては、上記天井側傾斜壁部は、上記左右方向において上記主要天井壁部の間に挟まれた部分を有する。【００１６】
好ましい実施の形態においては、上記主要天井壁部は、他の部位より相対的に上位に位置し、かつ上記後壁に向かうにつれて上記左右方向の寸法が大となる凸状部を有する。【００１７】
好ましい実施の形態においては、上記底壁は、平坦状の主要底壁部、および、上記前壁における上記ネック部の接続部下端付近の高さ位置部分と、上記主要底壁部とに繋がり、上記前壁から上記主要底壁部に向かうにつれて下方に変位するように傾斜する傾斜底壁部、を有する。【００１８】
好ましい実施の形態においては、上記起立壁から下方に突出したリブを備え、上記起立壁の上端により構成された係止部と、上記リブとが係合可能である。【００１９】
好ましい実施の形態においては、上記底壁の周縁部と、上記起立壁の下端とが、全周にわたって溶着により接合されている。【００２０】
好ましい実施の形態においては、上記容器部および上記ネック部は、透明プラスチック材料により形成される。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明に係る培養フラスコの一例を示す斜視図である。
【図２】図１に示す培養フラスコの平面図である。
【図３】図２のＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿う断面図である。
【図４】図２のＩＶ−ＩＶ線に沿う断面図である。
【図５】図１に示す培養フラスコを底面側から見た斜視図である。
【図６】溶着前の上側の部材を底面側から見た斜視図である。
【図７】作用説明図である。
【図８】作用説明図である。
【図９】作用説明図である。
【図１０】本発明に係る培養フラスコの他の例を示す斜視図である。
【図１１】図１０のＸＩ−ＸＩ線に沿う断面図である。
【図１２】本発明に係る培養フラスコの他の例を示す斜視図である。
【図１３】図１２のＸＩＩＩ−ＸＩＩＩ線に沿う断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、本発明の好ましい実施の形態を図面を参照しつつ具体的に説明する。
【００２３】
図１〜図５は、本発明に係る培養フラスコの一例を示している。本実施形態の培養フラスコＡ１は、容器部１と、ネック部２と、ネック部２に装着されるキャップ３とを備えている。なお、図２〜図５においては、キャップ３を省略している。
【００２４】
本実施形態において、容器部１は、底壁１１と、この底壁１１の周縁から各々が立ち上がる、前壁１２、後壁１３、および一対の側壁１４と、天井壁１５と、を有する。容器部１は、これら要素によって囲まれた所定の内部空間をもつ。
【００２５】
前壁１２および後壁１３は、前後方向（図２における方向ｘ）に離間しており、互いに対向している。前壁１２は容器部１の前方端に位置し、後壁１３は容器部１の後方端に位置する。前壁１２は、後壁１３よりも左右方向（方向ｘに対して直角である方向ｙ）における寸法が小さく、例えば前壁１２の当該寸法は後壁１３の０．４〜０．５倍程度である。前壁１２の中央は開口しており、前壁１２の中央部にはネック部２が繋がっている。
【００２６】
図３〜図５に表れているように、底壁１１は、平坦状の主要底壁部１１１と、この主要底壁部１１１に対して傾く傾斜底壁部１１２とを有する。主要底壁部１１１は、容器部１の後端から前方に延びており、概略長矩形状とされる。傾斜底壁部１１２は、前壁１２におけるネック部２の接続部下端付近の高さ位置部分と、主要底壁部１１１とに繋がり、前壁１２から主要底壁部１１１に向かうにつれて下方に変位するように傾斜している。
【００２７】
図１〜図４に表れているように、一対の側壁１４は、左右方向（図２において方向ｘに対して直角である方向ｙ）に離間しており、各々の両端が前壁１２と後壁１３とに繋がっている。本実施形態では、各側壁１４は、後壁１３に繋がる主要側壁部１４１と、前壁１２に繋がる境界壁部１４２とからなる。主要側壁部１４１は、主要底壁部１１１の周縁に沿っている。左右一対の主要側壁部１４１は互いに対向している。その一方、左右一対の境界壁部１４２は、前壁１２から後方に向かうにつれて互いの距離が大きくなって広がっている。なお、上記前壁１２、後壁１３、および一対の側壁１４は、本発明でいう起立壁を構成する。
【００２８】
図１〜図４に表れているように、天井壁１５は、底壁１１の上方に位置しており、上下方向（方向ｘおよび方向ｙのいずれにも直角である方向ｚ）に見て前壁１２、後壁１３、および一対の側壁１４で囲まれた領域の全体を覆っている。本実施形態においては、天井壁１５は、主要底壁部１１１（底壁１１）と概略対向する主要天井壁部１５１と、天井側傾斜壁部１５２とを有する。本実施形態においては、図３によく表れているように、天井壁１５（主要天井壁部１５１および天井側傾斜壁部１５２）は、前壁１２におけるネック部２の接続部上端Ｐ１よりも下位（上下方向において底壁１１寄り）に位置する。
【００２９】
本実施形態においては、主要天井壁部１５１は、他の部位より相対的に上位に位置する凸状部１５３を有する。凸状部１５３は、主要天井壁部１５１の前後方向長さの大半にわたって設けられている。また、凸状部１５３は、前後方向の位置によって左右方向の寸法が異なっており、後壁１３（奥方）に向かうにつれて左右方向の寸法が大となっている。
【００３０】
また、本実施形態においては、主要天井壁部１５１のうち凸状部１５３以外の部分は、主要底壁部１１１に対向しており、平坦状である。その一方、凸状部１５３は、後壁１３（奥方）に向かうにつれて下方に変位するように僅かに傾斜している。
【００３１】
天井側傾斜壁部１５２は、前壁１２と主要天井壁部１５１（凸状部１５３）とに繋がっており、後壁１３（奥方）に向かうにつれて下方に変位するように傾斜している。本実施形態において、天井側傾斜壁部１５２は、概略部分円筒状とされている。図３に表れているように、水平面に対する天井側傾斜壁部１５２の傾斜角度は、水平面に対する凸状部１５３の傾斜角度よりも大きい。また、本実施形態において、図２に示すように、天井側傾斜壁部１５２は、左右方向（方向ｙ）において主要天井壁部１５１によってその間に挟まれている。主要天井壁部１５１は、天井側傾斜壁部１５２を間に挟みつつ前壁１２まで延びている。図２によく表れているように、天井側傾斜壁部１５２の左右方向（方向ｙ）における寸法は、ネック部２の左右方向における寸法と同程度あるいはそれ以下である。本実施形態では、天井側傾斜壁部１５２が概略部分円筒状であることから、前後方向（方向ｘ）において後壁１３に向かうにつれて、天井側傾斜壁部１５２の左右方向の寸法が小さくなっている。
【００３２】
天井壁１５において、上記の接続部上端Ｐ１よりも下位に位置する領域は、本発明でいう低位領域に相当する。天井壁１５全体に占める上記低位領域の割合は、例えば上下方向における投影面積にして６０％以上であり、好ましくは８０％以上であり、より好ましくは９０％以上である。本実施形態においては、天井壁１５（主要天井壁部１５１および天井側傾斜壁部１５２）の全体が接続部上端Ｐ１よりも下位に位置しており、天井壁１５全体に占める上記低位領域の割合は１００％である。
【００３３】
上記した低位領域は、上下方向における高さが意図して低くされた部分を含む。当該高さが意図して低くされた部分の高さ位置は、例えば前壁１２、後壁１３、および一対の側壁１４の上下方向における寸法に対してこれら前壁１２、後壁１３、および一対の側壁１４の下端から１／２以下である。本実施形態においては、主要天井壁部１５１の全体が、高さが意図して低くされた部分に該当する。当該高さが意図して低くされた部分は、本発明でいう第１部分に相当し、天井壁１５全体に占める上記高さが意図して低くされた部分の割合は、例えば上下方向における投影面積にして５０％以上であり、好ましくは８０％以上である。本実施形態においては、天井壁１５全体に占める上記高さが意図して低くされた部分（主要天井壁部１５１）の割合は、９５％程度である。
【００３４】
図２〜図４から理解されるように、上記の前壁１２、後壁１３、および一対の側壁１４は、上下方向視において底壁１１の周縁を囲っており、環状をなしている。本実施形態においては、前壁１２、後壁１３、および一対の側壁１４の上端は、略同一の高さであり、これら前壁１２、後壁１３、一対の側壁１４の上端により構成された係止部１７は、主要底壁部１１１（底壁１１の平坦状部分）から所定の距離離れた位置にある。また、係止部１７には、内側に窪む凹部１７１が形成されている。
【００３５】
また、本実施形態においては、前壁１２、後壁１３、および一対の側壁１４の各々から下方に突出するリブ１８が設けられている。図３〜図５から理解されるように、リブ１８は、上下方向視において底壁１１の周縁を囲っており、環状をなしている。リブ１８は、主要底壁部１１１（底壁１１の平坦状部分）から下方に所定距離延びている。
【００３６】
詳細は後述するが、図９に示すように、複数の培養フラスコＡ１を積み重ねる際、リブ１８が係止部１７の凹部１７１に嵌入可能となっている。これにより、係止部１７とリブ１８とが係合可能となっている。
【００３７】
ネック部２は、容器部１に対して細胞や培地の出し入れを行う部分である。ネック部２は、円筒状であり、先端が開口している。また、ネック部２は、先端に向かうほど（前壁１２から遠ざかるほど）上方に変位するように傾斜している。ネック部２の外周面には雄ねじ２１が形成されている。
【００３８】
キャップ３は、当該キャップ３の内周面に形成された雌ねじ（図示略）をネック部２の雄ねじ２１に螺合させて、ネック部２の先端開口を塞ぐものである。キャップ３は、通気性を有するものと、密閉式のものとがあり、これらは使用状況に応じて使い分けられる。例えば、細胞培養時には通気性を有するキャップ３が用いられるか、もしくは密閉式のキャップが緩めた状態で用いられる。輸送時には密閉式のキャップ３が締めた状態で用いられる。
【００３９】
上記した容器部１およびネック部２は、いずれも透明プラスチック材料により形成されている。透明プラスチック材料としては、例えば医療用プラスチックとして一般的なポリスチレンやメチルペンテンのほか、シクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンコポリマーなどの、好適には透明性を有する材料が用いられるが、これらに限定されない。
【００４０】
また、本実施形態において、容器部１およびネック部２は、上下に分割された２部材を溶着によって接合することにより一体とされたものである。本実施形態においては、底壁１１の周縁部と、前壁１２、後壁１３、および一対の側壁１４の各々の下端とが、全周にわたって溶着されている。図６は、上側の部材を底面側から見た斜視図である。図３、図４、図６から理解されるように、溶着面ｗは、全周にわたって平坦な同一平面上にある。なお、図示しないが、溶着前の上側の部材または下側の部材のいずれか一方には、溶着面ｗの全周にわたって溶着時に溶融する小さな突起が形成されている。
【００４１】
なお、培養フラスコＡ１において接着性細胞を培養する場合、細胞を付着させる培養面（主要底壁部１１１の上面）には、例えばコロナ放電やプラズマ放電による親水化処理が施される。
【００４２】
次に、上記構成の培養フラスコＡ１の作用について説明する。
【００４３】
培養フラスコＡ１において、容器部１の天井壁１５は、前壁１２におけるネック部２の接続部上端Ｐ１よりも下位に位置する低位領域を有する。これにより、底壁１１と天井壁１５とに挟まれた、容器部１の内部空間の体積は、実質的に減少する。例えばｉＰＳ細胞などの接着性細胞を培養状態維持輸送する際、培地が波打つことによって底壁に付着した細胞が剥がれるのを防止するため、培養フラスコＡ１の内部全体に培地を満たし培地の動きを抑える必要がある。天井壁１５が相対的に低くされた本実施形態の構成によれば、培養状態維持輸送に際して、高額な培地の使用量を大幅に減らすことができる。また、天井壁１５における低位領域は、天井壁１５全体の平面視サイズに対して高い割合（本実施形態では１００％）を占めており、低位領域のうち高さが意図して低くされた部分についても所定の高い割合（本実施形態では約９５％）を占めている。このような構成によれば、容器部１の内部空間の体積を従来の構成よりも大幅に減少させることができ、培養状態維持輸送に際しての培地の使用量削減について特に大きな効果が見込める。培養状態維持輸送は、ｉＰＳ細胞の培養状態を維持しながら輸送することで届け先においてすぐに実験、研究等に利用できるため、ｉＰＳ細胞を利用する医薬品開発や再生医療の分野で極めて重要な技術である。その際に培養フラスコＡ１を利用すれば、大幅なコストダウンが見込めることとなる。
【００４４】
本実施形態においては、前壁１２と主要天井壁部１５１とに繋がり、後壁１３に向かうにつれて下方に変位するように傾斜する天井側傾斜壁部１５２を備える。このような構成によれば、図７に示すように、例えば底壁１１（主要底壁部１１１）上の接着性細胞を掻き出す際、スクレイパーＳ（図７において点線で表す）を利用して、主要底壁部１１１上の奥方側（後壁１３側）から手前側（前壁１２側）に至る範囲の細胞を剥がすことが可能である。
【００４５】
本実施形態においては、天井側傾斜壁部１５２は、左右方向（方向ｘ）において主要天井壁部１５１によってその間に挟まれている。このような構成によれば、天井壁１５における主要天井壁部１５１の割合を極力高くすることができる。このことは、容器部１の内部空間の体積を減らすうえでより好ましい。
【００４６】
天井壁１５（主要天井壁部１５１）は、他の部位より相対的に上位に位置し、かつ後壁１３に向かうにつれて左右方向（図中の方向ｙ）の寸法が大となる凸状部１５３を有する。このような構成によれば、図７、図８に示すように、例えば底壁１１（主要底壁部１１１）上の接着性細胞を掻き出す際、スクレイパーＳを主要底壁部１１１上の奥方角部まで到達させることができる。また、培地吸引用のピペットも主要底壁部１１１の奥方角部まで到達させることが可能であり、培地を最後まで残さずに吸引できる。
【００４７】
なお、本実施形態では、凸状部１５３は、後壁１３（奥方）に向かうにつれて下方に変位するように傾斜している。このような構成によれば、天井壁１５における凸状部１５３以外の部分の高さをより低くすることが可能である。その結果、容器部１の内部空間の体積を極力減少させることができ、培養状態維持輸送時のコスト削減を図るうえでより好ましい。
【００４８】
容器部１およびネック部２は、上下に分割された２部材を溶着によって接合することにより一体とされる。そして、底壁１１の周縁部と、前壁１２、後壁１３、および一対の側壁１４の各々の下端とを溶着面ｗとして、全周にわたって溶着される。このように各壁の下端および底壁１１の周縁部を溶着面ｗ（平坦な同一平面）において接合する構成によれば、溶着時に溶着面ｗ全体への均等な加圧が可能であり、溶着により接合された容器部１のシール性能を高めることができる。
【００４９】
前壁１２、後壁１３、および一対の側壁１４の各々から下方に突出するリブ１８が設けられている。リブ１８は、主要底壁部１１１（底壁１１の平坦状部分）から下方に所定距離延びている。前壁１２、後壁１３、および一対の側壁１４の上端によって構成された係止部１７は、略同一の高さであり、主要底壁部１１１（底壁１１の平坦状部分）から所定の距離離れた位置にある。そして、係止部１７とリブ１８とが係合可能となっている。これにより、図９に示すように、複数の培養フラスコＡ１を積み重ねることができる。ここで、積み重ねられた培養フラスコＡ１それぞれの主要底壁部１１１は、互いに平行となっている。したがって、多くの培養フラスコＡ１を安定姿勢で積み重ねることができる。このことは、例えば培養フラスコＡ１の培養時のインキュベーター内における占有スペース削減に寄与する。
【００５０】
このように、培養フラスコＡ１は培養状態維持輸送時の培地の使用量を大幅に削減可能にするため天井壁１５を相対的に低くしているものの、フラスコに対して行うスクレイパーやピペットの操作やスタッキング性などは一般的なフラスコと変わりがなく、多くの研究者らが慣れ親しんでいる扱い方を変える必要が全くない。
【００５１】
図１０〜図１３は、本発明に係る培養フラスコの他の例を示している。なお、これらの図においては、上記実施形態と同一または類似の要素には、上記実施形態と同一の符号を付しており、適宜説明を省略する。また、図１０〜図１３においては、上記実施形態で示したキャップ３を省略している。
【００５２】
図１０、図１１に示した培養フラスコＡ２は、溶着面ｗの位置が前壁１２、後壁１３、および一対の側壁１４の上端付近とされており、これに伴い培養フラスコＡ１と比べて種々の変更が施されている。
【００５３】
図１１から理解されるように、溶着される２部材のうち下側の部材は、底壁１１、前壁１２、後壁１３、一対の側壁１４、およびネック部２を含む。溶着される２部材のうち上側の部材は、天井壁１５を含む。天井壁１５は、主要天井壁部１５１、天井側傾斜壁部１５２および支持周縁部１５４を有する。主要天井壁部１５１は、略全体が平坦状となっている。支持周縁部１５４は、平坦状の主要天井壁部１５１の周縁から立ち上がって前壁１２、後壁１３、および一対の側壁１４の上端に支持されている。図１１から理解されるように、溶着面ｗは、全周にわたって平坦な同一平面上にある。天井側傾斜壁部１５２は、後壁１３（奥方）に向かうにつれて下方に変位するように傾斜しており、平面状である。
【００５４】
主要天井壁部１５１の全体、天井側傾斜壁部１５２の大半、および支持周縁部１５４の大半は、前壁１２におけるネック部２の接続部上端Ｐ１よりも下位に位置しており、本発明でいう低位領域に相当する。本実施形態においては、天井壁１５全体に占める上記低位領域の割合は、上下方向における投影面積にして９２％程度である。また、本実施形態においては、上記低位領域のうち、主要天井壁部１５１の全体については、上下方向における高さ位置が前壁１２、後壁１３、および一対の側壁１４の上下方向における寸法に対してこれらの下端から１／２以下であり、上下方向における高さが意図して低くされた部分（本発明でいう第１部分に相当）である。本実施形態においては、天井壁１５全体に占める上記高さが意図して低くされた部分（主要天井壁部１５１）の割合は、８０％程度である。
【００５５】
培養フラスコＡ２において、容器部１の天井壁１５は、前壁１２におけるネック部２の接続部上端Ｐ１よりも下位に位置する低位領域（主要天井壁部１５１の全体、天井側傾斜壁部１５２の大半、および支持周縁部１５４の大半）を有する。したがって、天井壁１５が相対的に低くされた本培養フラスコＡ２によれば、培養状態維持輸送に際して培地の使用量を減らすことができ、培養フラスコＡ２を用いて行う培養状態維持輸送のコスト削減を図ることができる。
【００５６】
図１２、図１３に示した培養フラスコＡ３は、溶着面ｗの位置が上記の培養フラスコＡ１と異なっており、これに伴い培養フラスコＡ１と比べて種々の変更が施されている。
【００５７】
図１３から理解されるように、溶着される２部材のうち下側の部材は、底壁１１、前壁１２、後壁１３、一対の側壁１４、およびネック部２を含む。溶着される２部材のうち上側の部材は、天井壁１５を含む。天井壁１５は、主要天井壁部１５１および天井側傾斜壁部１５２を有する。主要天井壁部１５１は、略全体が平坦状となっている。
【００５８】
前壁１２、後壁１３、および一対の側壁１４は、各々、高さ方向の中間において段部が設けられており、段部よりも上方にある部位が外側に張り出した形状である。前壁１２、後壁１３および一対の主要側壁部１４１において、段部は平坦状である。一対の境界壁部１４２における段部は、前壁１２に向かうにつれて上方に変位するように傾斜しており、前壁１２の段部に？がっている。培養フラスコＡ３においては、前壁１２、後壁１３、および一対の側壁１４の段部が、溶着面ｗとされている。当該溶着面ｗは、全周にわたって同一平面上には設けられていない。天井側傾斜壁部１５２は、後壁１３（奥方）に向かうにつれて下方に変位するように傾斜しており、平面状である。
【００５９】
主要天井壁部１５１の全体、および天井側傾斜壁部１５２の大半は、前壁１２におけるネック部２の接続部上端Ｐ１よりも下位に位置しており、本発明でいう低位領域に相当する。本実施形態においては、天井壁１５全体に占める上記低位領域の割合は、上下方向における投影面積にして９７％程度である。また、本実施形態においては、上記低位領域のうち、主要天井壁部１５１の全体については、上下方向における高さ位置が前壁１２、後壁１３、および一対の側壁１４の上下方向における寸法に対してこれらの下端から１／２以下であり、上下方向における高さが意図して低くされた部分（本発明でいう第１部分に相当）である。本実施形態においては、天井壁１５全体に占める上記高さが意図して低くされた部分（主要天井壁部１５１）の割合は、８５％程度である。
【００６０】
培養フラスコＡ３において、容器部１の天井壁１５は、前壁１２におけるネック部２の接続部上端Ｐ１よりも下位に位置する低位領域（主要天井壁部１５１の全体、および天井側傾斜壁部１５２の大半）を有する。したがって、天井壁１５が相対的に低くされた本培養フラスコＡ３によれば、培養状態維持輸送に際して培地の使用量を減らすことができ、培養フラスコＡ３を用いて行う培養状態維持輸送のコスト削減を図ることができる。
【００６１】
培養フラスコＡ２、Ａ３ともに、フラスコに対して行うスクレイパーやピペットの操作やスタッキング性などは一般的なフラスコと変わりがなく、多くの研究者らが慣れ親しんでいる扱い方を変える必要が全くないことは、上述の培養フラスコＡ１と同様である。
【００６２】
以上、本発明の実施形態を説明したが、本発明の範囲は上記した実施形態に限定されるものではなく、各請求項に記載した事項の範囲内でのあらゆる変更は、すべて本発明の範囲に包摂される。
【００６３】
上記実施形態においては、一対の側壁１４が、互いに対向する一対の主要側壁部１４１と、後方に向かうにつれて互いの距離が大きくなって広がる一対の境界壁部１４２とによって構成される場合について説明したが、これに限定されない。一対の側壁は、その全体が一様に、後方に向かうにつれて互いの距離が大きくなって広がるように構成してもよい。
【００６４】
上記実施形態においては、起立壁が、前壁１２、後壁１３、および一対の側壁１４により構成される場合について説明したが、起立壁の構成はこれに限定されない。例えば、起立壁は、上下方向視において概略円形状をなすように構成してもよい。
【符号の説明】
【００６５】
Ａ１，Ａ２，Ａ３    培養フラスコ
Ｐ１      接続部上端
ｗ        溶着面
１        容器部
１１      底壁
１１１    主要底壁部
１１２    傾斜底壁部
１２      前壁（起立壁）
１３      後壁（起立壁）
１４      側壁（起立壁）
１４１    主要側壁部
１４２    境界壁部
１５      天井壁
１５１    主要天井壁部
１５２    天井側傾斜壁部
１５３    凸状部
１５４    支持周縁部
１７      係止部
１７１    凹部
１８      リブ
２        ネック部
２１      雄ねじ
３        キャップ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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