(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）非シリコン系ジ（メタ）アクリレートを約１０重量％〜約７０重量％、
（Ｂ）シリコン系ジ（メタ）アクリレートを約２０重量％〜約７０重量％、
（Ｃ）モノ（メタ）アクリレートを約５重量％〜約４０重量％、及び
（Ｄ）開始剤を約１重量％〜約１０重量％
で含み、前記（Ｂ）シリコン系ジ（メタ）アクリレートは下記の化学式３〜８のうちのいずれか一つで表示されるものである、有機発光素子封止用組成物。
【化１】
0006592005.tif 000018
【化２】
0006592005.tif 000019
【請求項２】
（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）及び（Ｄ）の総重量を基準にして、
前記（Ａ）非シリコン系ジ（メタ）アクリレートを約１０重量％〜約５０重量％、
前記（Ｂ）シリコン系ジ（メタ）アクリレートを約２０重量％〜約７０重量％、
前記（Ｃ）モノ（メタ）アクリレートを約５重量％〜約４０重量％、及び
前記（Ｄ）開始剤を約１重量％〜約１０重量％
で含む、請求項１に記載の有機発光素子封止用組成物。
【請求項３】
前記（Ａ）非シリコン系ジ（メタ）アクリレートは、下記の化学式２で表示されるものである、請求項１または２に記載の有機発光素子封止用組成物。
【化３】
0006592005.tif 000020
（前記化学式２において、
Ｒ３、Ｒ４は、それぞれ独立して、水素又はメチル基で、
Ｒ５は、置換又は非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基である。）
【請求項４】
前記（Ｃ）モノ（メタ）アクリレートは非シリコン系モノ（メタ）アクリレートである、請求項１〜３のいずれか１項に記載の有機発光素子封止用組成物。
【請求項５】
前記（Ｃ）モノ（メタ）アクリレートは芳香族系モノ（メタ）アクリレートを含むものである、請求項１〜４のいずれか１項に記載の有機発光素子封止用組成物。
【請求項６】
前記（Ｃ）モノ（メタ）アクリレートは非芳香族系モノ（メタ）アクリレートを含むものである、請求項１〜４のいずれか１項に記載の有機発光素子封止用組成物。
【請求項７】
前記有機発光素子封止用組成物は熱安定剤をさらに含むものである、請求項１〜５のいずれか１項に記載の有機発光素子封止用組成物。
【請求項８】
前記熱安定剤は、前記（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、及び（Ｄ）の総重量に対して約０．０１ｐｐｍ〜約２，０００ｐｐｍで含まれるものである、請求項７に記載の有機発光素子封止用組成物。
【請求項９】
前記（Ａ）非シリコン系ジ（メタ）アクリレートは、Ｃ１〜Ｃ２０のアルキレン基を有するジ（メタ）アクリレートを含み、
前記（Ｃ）モノ（メタ）アクリレートは下記の化学式９で表示され、
【化４】
0006592005.tif 000021
（前記化学式９において、
Ｒ３は、水素又はメチル基で、
ｓは０〜１０の整数で、
Ｒ６は、置換又は非置換のＣ６〜Ｃ５０のアリール基、又は置換又は非置換のＣ６〜Ｃ５０のアリールオキシ基である。）
前記（Ｄ）開始剤はリン系開始剤を含むものである、請求項７または８に記載の有機発光素子封止用組成物。
【請求項１０】
２５℃±２℃で粘度が約５ｃｐｓ〜約５０ｃｐｓである、請求項１〜９のいずれか１項に記載の有機発光素子封止用組成物。
【請求項１１】
有機発光素子と、前記有機発光素子の上に形成され、無機バリア層及び有機バリア層を含むバリアスタックと、を含み、
前記有機バリア層は、請求項１〜１０のいずれか１項の有機発光素子封止用組成物で形成される、有機発光素子表示装置。
【請求項１２】
前記有機バリア層は、インクジェット法又は蒸着法を用いて前記有機発光素子封止用組成物で形成される、請求項１１に記載の有機発光素子表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機発光素子封止用組成物及びこれを用いて製造された有機発光素子表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機発光素子表示装置は、電界発光現象を用いて自ら光を出す表示装置であって、有機発光素子を含む。有機発光素子は、外部の水分及び／又は酸素と接すると発光特性が低下し得る。そのため、有機発光素子は、封止用組成物で封止されなければならない。有機発光素子は、無機バリア層と有機バリア層が順次形成された多層構造で封止されている。このとき、有機バリア層は、無機バリア層をプラズマ蒸着で形成する過程によってエッチングが行われてもよい。この場合、有機バリア層はエッチングによって封止機能が損なわれることがある。これによって、有機発光素子は発光特性が低下し、信頼性が低下することがある。
【０００３】
本発明の背景技術は、韓国公開特許第２０１１−００７１０３９号に開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】韓国公開特許第２０１１−００７１０３９号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、耐プラズマ性に優れた有機バリア層を実現することができ、有機発光素子の信頼性を向上できる有機発光素子封止用組成物を提供することにある。
【０００６】
本発明の他の目的は、光透過率と光硬化率の高い有機バリア層を実現することができる、有機発光素子封止用組成物を提供することにある。
本発明の更に他の目的は、蒸着法又はインクジェット法などの方法で有機バリア層の形成が容易である、有機発光素子封止用組成物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の有機発光素子封止用組成物は、（Ａ）非シリコン系ジ（メタ）アクリレートを約１０重量％〜約７０重量％、（Ｂ）シリコン系ジ（メタ）アクリレートを約２０重量％〜約７０重量％、（Ｃ）モノ（メタ）アクリレートを約５重量％〜約４０重量％、及び（Ｄ）開始剤を約１重量％〜約１０重量％で含み、前記（Ｂ）シリコン系ジ（メタ）アクリレートは、下記の化学式１で表示されてもよい。
【０００８】
【化１】
0006592005.tif 000002
【０００９】
（前記化学式１において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、Ｘ５、Ｘ６、及びｎは、下記の発明の詳細な説明で説明した通りである。）
本発明の有機発光素子表示装置は、有機発光素子と、前記有機発光素子の上に形成され、無機バリア層及び有機バリア層を含むバリアスタックとを含み、前記有機バリア層は、本発明の有機発光素子封止用組成物で形成されてもよい。
【発明の効果】
【００１０】
本発明は、耐プラズマ性を有する有機バリア層を実現できる有機発光素子封止用組成物を提供し、これを通じて、有機発光素子の信頼性を向上させた。
【００１１】
本発明は、光硬化率が高い有機発光素子封止用組成物を提供し、これを通じて、有機バリア層の光透過率が向上した。
【００１２】
また、本発明は、蒸着法又はインクジェット法などの方法で有機バリア層の形成が容易である、有機発光素子封止用組成物を提供した。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の一実施例に係る有機発光素子表示装置の断面図である。
【図２】本発明の他の実施例に係る有機発光素子表示装置の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
添付の図面を参考にして、実施例によって本発明の属する技術分野における通常の知識を有する者が容易に実施できるように詳細に説明する。本発明は、様々な異なる形態に実現されてもよく、ここで説明する実施例に限定されない。図面において、本発明を明確に説明するために説明と関係のない部分は省略し、明細書全体を通じて同一又は類似する構成要素に対しては同一の図面符号を付した。
【００１５】
本明細書において、「（メタ）アクリル」は、アクリル及び／又はメタアクリルを意味する。
【００１６】
本明細書において、「置換された」は、別途の定義がない限り、官能基の一つ以上の水素原子がハロゲン（例えば、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ又はＩ）、ヒドロキシ基、ニトロ基、シアノ基、イミノ基（＝ＮＨ、＝ＮＲ、ＲはＣ１〜Ｃ１０のアルキル基）、アミノ基（−ＮＨ２、−ＮＨ（Ｒ’）、−Ｎ（Ｒ’’）（Ｒ’’’）、前記Ｒ’、Ｒ’’、Ｒ’’’は、それぞれ独立してＣ１〜Ｃ１０のアルキル基）、アミジノ基、ヒドラジン基、ヒドラゾン基、カルボン酸基、Ｃ１〜Ｃ２０のアルキル基、Ｃ６〜Ｃ３０のアリール基、Ｃ３〜Ｃ３０のシクロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ３０のヘテロアリール基、Ｃ２〜Ｃ３０のヘテロシクロアルキル基に置換されることを意味する。
【００１７】
本明細書において、「アリール（ａｒｙｌ）基」は、環状の置換基のすべての元素がｐ−オービタルを有しており、これらｐ−オービタルが共役（ｃｏｎｊｕｇａｔｉｏｎ）を形成している官能基を意味する。アリール基は、モノサイクリック、非融合型ポリサイクリック又は融合型ポリサイクリック官能基を含む。ここで、融合は、各炭素原子が隣接したペアを分有する環状を意味する。アリール基は、２以上のアリール基がシグマ結合を通じて連結された形態であるビフェニル基、テルフェニル基、又はクアテルフェニル基なども含む。アリール基は、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナントレニル基（ｐｈｅｎａｎｔｈｒｅｎｙｌ）、ピレニル（ｐｙｒｅｎｙｌ）基、クリセニル（ｃｈｒｙｓｅｎｙｌ）基などを意味し得る。
【００１８】
本明細書において、「ヘテロアリール（ｈｅｔｅｒｏａｒｙｌ）基」は、アリール基内にＮ、Ｏ、Ｓ、Ｐ及びＳｉからなる群から選ばれるヘテロ原子を１個〜３個含有し、残りは炭素である官能基を意味する。ヘテロアリール基は、２以上のヘテロアリール基がシグマ結合を通じて直接連結されたものも含む。ヘテロアリール基は、２以上のヘテロアリール基が互いに融合されたものも含む。ヘテロアリール基が融合されたものである場合、それぞれの環ごとに前記ヘテロ原子を１個〜３個含んでもよい。前記ヘテロアリール基は、例えば、ピリジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ピリダジニル基、トリアジニル基、キノリニル基、イソキノリニル基などを意味し得る。
【００１９】
より具体的に、Ｃ６〜Ｃ３０アリール基及び／又はＣ３〜Ｃ３０ヘテロアリール基は、置換又は非置換のフェニル基、置換又は非置換のナフチル基、置換又は非置換のアントラセニル基、置換又は非置換のフェナントリル基、置換又は非置換のナフタセニル基、置換又は非置換のピレニル基、置換又は非置換のビフェニル基、置換又は非置換のｐ−テルフェニル基、置換又は非置換のｍ−テルフェニル基、置換又は非置換のクリセニル基、置換又は非置換のトリフェニレニル基、置換又は非置換のフェニレニル基、置換又は非置換のインデニル基、置換又は非置換のフラニル基、置換又は非置換のチオフェニル基、置換又は非置換のピロリル基、置換又は非置換のピラゾリル基、置換又は非置換のイミダゾリル基、置換又は非置換のトリアゾリル基、置換又は非置換のオキサゾリル基、置換又は非置換のチアゾリル基、置換又は非置換のオキサジアゾリル基、置換又は非置換のチアジアゾリル基、置換又は非置換のピリジル基、置換又は非置換のピリミジニル基、置換又は非置換のピラジニル基、置換又は非置換のトリアジニル基、置換又は非置換のベンゾフラニル基、置換又は非置換のベンゾチオフェニル基、置換又は非置換のベンズイミダゾリル基、置換又は非置換のインドリル基、置換又は非置換のキノリニル基、置換又は非置換のイソキノリニル基、置換又は非置換のキナゾリニル基、置換又は非置換のキノキサリニル基、置換又は非置換のナフチリジニル基、置換又は非置換のベンズオキサジニル基、置換又は非置換のベンズチアジニル基、置換又は非置換のアクリジニル基、置換又は非置換のフェナジニル基、置換又は非置換のフェノチアジニル基、置換又は非置換のフェノキサジニル基、置換又は非置換のジベンゾフラニル基、又は置換又は非置換のジベンゾチオフェニル基、又はこれらの組み合わせであってもよいが、これらに制限されない。
【００２０】
本明細書において、「有機発光素子封止用組成物」は、単純に「封止用組成物」と表記されてもよい。
【００２１】
本明細書において、「プラズマによる有機バリア層のエッチング率」又は「プラズマエッチング率」は、有機発光素子封止用組成物を所定の厚さで蒸着及び光硬化させることによって形成された有機バリア層の初期高さ（Ｔ１、単位：μｍ）を測定し、前記有機バリア層にＩＣＰ−ＣＶＤを用いてＩＣＰ（ｉｎｄｕｃｔｉｖｅｌｙ  ｃｏｕｐｌｅｄ  ｐｌａｓｍａ）電力：２５００Ｗ、ＲＦ（ｒａｄｉｏ  ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ）電力：３００Ｗ、ＤＣバイアス：２００Ｖ、Ａｒ  ｆｌｏｗ：５０ｓｃｃｍ、エッチング時間：１ｍｉｎ、圧力：１０ｍｔｏｒｒでプラズマを処理した後の有機バリア層の高さ（Ｔ２、単位：μｍ）を測定し、下記の式２によって計算された値である。このとき、前記有機バリア層の初期高さ（Ｔ１）は約１μｍ〜約１０μｍになってもよい。下記の式２によって計算された値が低いほど、有機バリア層の耐プラズマ性に優れることを意味する。
【００２２】
【数１】
0006592005.tif 000003
【００２３】
以下、本発明の一実施例に係る有機発光素子封止用組成物を説明する。
【００２４】
本発明の一実施例に係る有機発光素子封止用組成物は、（Ａ）非シリコン系ジ（メタ）アクリレートを約１０重量％〜約７０重量％、（Ｂ）シリコン系ジ（メタ）アクリレートを約２０重量％〜約７０重量％、（Ｃ）モノ（メタ）アクリレートを約５重量％〜約４０重量％、及び（Ｄ）開始剤を約１重量％〜約１０重量％で含み、（Ｂ）シリコン系ジ（メタ）アクリレートは、下記の化学式１で表示されてもよい。
【００２５】
【化２】
0006592005.tif 000004
【００２６】
（前記化学式１において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、Ｘ５、Ｘ６、及びｎは後で説明する。）
本発明の一実施例に係る有機発光素子封止用組成物は、（Ａ）非シリコン系ジ（メタ）アクリレート、前記化学式１の（Ｂ）シリコン系ジ（メタ）アクリレート、（Ｃ）モノ（メタ）アクリレート、及び（Ｄ）開始剤を含んでもよい。また、本発明の一実施例に係る有機発光素子封止用組成物は、（Ａ）非シリコン系ジ（メタ）アクリレート、前記化学式１の（Ｂ）シリコン系ジ（メタ）アクリレート、（Ｃ）モノ（メタ）アクリレート、及び（Ｄ）開始剤を上述した特定含量で含む。これを通じて、本発明の一実施例に係る有機発光素子封止用組成物の光硬化率が著しく向上し得る。また、本発明の一実施例に係る有機発光素子封止用組成物は、硬化後の光透過率に優れ、耐プラズマ性が著しく高い有機バリア層を実現することができる。これを通じて、本発明の一実施例に係る有機発光素子封止用組成物は、無機バリア層の形成時に使用されるプラズマによるエッチング率が低い有機バリア層を実現することができ、その結果、有機発光素子の信頼性を高めることができる。
【００２７】
具体的に、本発明の一実施例に係る有機発光素子封止用組成物は、光硬化率が約８８％以上、例えば約８８％〜約９９％であってもよい。また、本発明の一実施例に係る有機発光素子封止用組成物は、硬化後、波長３８０ｎｍ〜７００ｎｍで光透過率が約９３％以上、例えば約９３．５％〜約１００％であってもよい。また、本発明の一実施例に係る有機発光素子封止用組成物は、硬化後、プラズマによる有機バリア層のエッチング率が約２０％以下、例えば約１７％以下、例えば約０．１％〜約２０％になってもよい。前記光硬化率、光透過率及びプラズマによる有機バリア層のエッチング率の範囲で、本発明の一実施例に係る封止用組成物は、有機発光素子の信頼性を著しく高めることができる。
【００２８】
一具体例において、本発明の一実施例に係る有機発光素子封止用組成物は、（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）及び（Ｄ）の総重量を基準にして、（Ａ）非シリコン系ジ（メタ）アクリレートは約１０重量％〜約５０重量％で含まれ、（Ｂ）シリコン系ジ（メタ）アクリレートは約２０重量％〜約７０重量％で含まれ、（Ｃ）モノ（メタ）アクリレートは約５重量％〜約４０重量％で含まれ、（Ｄ）開始剤は約１重量％〜約１０重量％で含まれてもよい。
【００２９】
本明細書において、（Ａ）非シリコン系ジ（メタ）アクリレート、（Ｂ）シリコン系ジ（メタ）アクリレート、（Ｃ）モノ（メタ）アクリレート、及び（Ｄ）開始剤はそれぞれ別個の化合物である。
【００３０】
以下、（Ａ）非シリコン系ジ（メタ）アクリレート、（Ｂ）シリコン系ジ（メタ）アクリレート、（Ｃ）モノ（メタ）アクリレート、及び（Ｄ）開始剤について詳細に説明する。
【００３１】
（Ａ）非シリコン系ジ（メタ）アクリレート
（Ａ）非シリコン系ジ（メタ）アクリレートは、シリコン（ｓｉｌｉｃｏｎ、Ｓｉ）を含まず、（メタ）アクリレート基を２個有する光硬化性モノマーである。これを通じて、封止用組成物は、光硬化率が向上し、硬化後の光透過率が高くなり得る。また、（Ａ）非シリコン系ジ（メタ）アクリレートは、２５℃で粘度が低いので封止用組成物の粘度を低下させ得る。これを通じて、封止用組成物は、インクジェット法などの方法で有機発光素子又は有機発光素子を封止する無機バリア層上に有機バリア層を容易に形成させることができる。
【００３２】
（Ａ）非シリコン系ジ（メタ）アクリレートは、芳香族基を含まない非芳香族系であって、置換又は非置換の長鎖のアルキレン基を含む非シリコン系ジ（メタ）アクリレートを含んでもよい。この場合、封止用組成物は、蒸着などの方法で、有機発光素子又は有機発光素子を封止する無機バリア層上に有機バリア層を形成しやすい。
【００３３】
具体的に、（Ａ）非シリコン系ジ（メタ）アクリレートは、置換又は非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基を有するジ（メタ）アクリレートであってもよい。より具体的に、（Ａ）非シリコン系ジ（メタ）アクリレートは、（メタ）アクリレート基間に非置換のＣ１〜Ｃ１５のアルキレン基を有するジ（メタ）アクリレートを含んでもよい。このとき、アルキレン基の炭素数は、ジ（メタ）アクリレート基にある炭素を除いたアルキレン基自体にある炭素数のみを意味する。
【００３４】
一具体例において、（Ａ）非シリコン系ジ（メタ）アクリレートは、下記の化学式２で表示されてもよい。
【００３５】
【化３】
0006592005.tif 000005
【００３６】
（前記化学式２において、
Ｒ３、Ｒ４は、それぞれ独立して水素又はメチル基で、
Ｒ５は、置換又は非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基である。）
本発明の有機発光素子封止用組成物は、前記化学式２で表示される（Ａ）非シリコン系ジ（メタ）アクリレートを含むことによって、光硬化率をさらに高めることができ、粘度が低いため蒸着などがさらに容易になり得る。
【００３７】
例えば、前記化学式２において、Ｒ５は、非置換のＣ８〜Ｃ１２のアルキレン基であってもよい。より具体的に、（Ａ）非シリコン系ジ（メタ）アクリレートは、オクタンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、デカンジオールジ（メタ）アクリレート、ウンデカンジオールジ（メタ）アクリレート、及びドデカンジオールジ（メタ）アクリレートのうち一つ以上を含んでもよい。
【００３８】
（Ａ）非シリコン系ジ（メタ）アクリレートは、有機発光素子封止用組成物中に単独又は２種以上混合して使用されてもよい。
【００３９】
（Ａ）非シリコン系ジ（メタ）アクリレートは、（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、及び（Ｄ）の総重量を基準にして約１０重量％〜約７０重量％で含まれてもよい。一例として、（Ａ）非シリコン系ジ（メタ）アクリレートは、（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）及び（Ｄ）の総重量を基準にして約１０重量％〜約５０重量％又は約３５重量％〜約４８重量％で含まれてもよい。前記範囲内であれば、封止用組成物の光硬化率が向上し、光透過率が高く、プラズマエッチング率が低い有機バリア層を実現することができる。
【００４０】
（Ｂ）シリコン系ジ（メタ）アクリレート
（Ｂ）シリコン系ジ（メタ）アクリレートは、シリコン原子に連結された少なくとも１個以上の置換又は非置換のＣ６〜Ｃ３０のアリール基又は置換又は非置換のＣ２〜Ｃ３０のヘテロアリール基を含む。これを通じて、有機発光素子封止用組成物は、プラズマに対する耐性が著しく高いので、プラズマエッチング率が低い有機バリア層を実現することができる。
【００４１】
（Ｂ）シリコン系ジ（メタ）アクリレートは、下記の化学式１で表示されてもよい。
【００４２】
【化４】
0006592005.tif 000006
【００４３】
（前記化学式１において、
Ｒ１、Ｒ２は、互いに独立して、単結合、置換又は非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、置換又は非置換のＣ１〜Ｃ３０のアルキレンエーテル基、＊−Ｎ（Ｒ’）−（Ｒ’’）−＊（＊は元素の連結部位、Ｒ’は水素、又は置換又は非置換のＣ１〜Ｃ３０のアルキル基、Ｒ’’は置換又は非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基）、置換又は非置換のＣ６〜Ｃ３０のアリーレン基、置換又は非置換のＣ７〜Ｃ３０のアリールアルキレン基、又は＊−（Ｒ’）−Ｏ−＊＊（このとき、＊は、化学式１においてＯに対する連結部位、＊＊は、化学式１においてＳｉに対する連結部位、Ｒ’は、置換又は非置換のＣ１〜Ｃ３０のアルキレン基）で、
Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、Ｘ５、Ｘ６は、それぞれ独立して水素、水酸基、ハロゲン、シアノ基、置換又は非置換のＣ１〜Ｃ３０のアルキル基、置換又は非置換のＣ１〜Ｃ３０のヘテロシクロアルキル基、置換又は非置換のＣ３〜Ｃ３０のシクロアルキル基、置換又は非置換のＣ１〜Ｃ３０のアルキルエーテル基、＊−Ｎ（Ｒ’）（Ｒ’’）（＊は元素の連結部位、Ｒ’及びＲ’’は、それぞれ独立して水素又は置換又は非置換のＣ１〜Ｃ３０のアルキル基）、置換又は非置換のＣ１〜Ｃ３０のアルキルスルフィド基、置換又は非置換のＣ６〜Ｃ３０のアリール基、置換又は非置換のＣ２〜Ｃ３０のヘテロアリール基、又は置換又は非置換のＣ７〜Ｃ３０のアリールアルキル基で、
Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、Ｘ５、及びＸ６のうちの一つ以上は、置換又は非置換のＣ６〜Ｃ３０のアリール基、又は置換又は非置換のＣ２〜Ｃ３０のヘテロアリール基で、
Ｒ３、Ｒ４は、それぞれ独立して、水素又はメチル基で、
ｎは、０〜３０の整数であるか、または平均値が０〜３０である。）
前記「単結合」は、化学式１においてＳｉとＯとが直接に連結されていること（Ｓｉ−Ｏ）を意味する。
【００４４】
具体的に、前記化学式１において、Ｒ１、Ｒ２は、互いに独立して、単結合、置換又は非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基、又は置換又は非置換のＣ１〜Ｃ３０のアルキレンエーテル基になってもよい。具体的に、前記化学式１において、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、Ｘ５、Ｘ６は、それぞれ独立して水素、置換又は非置換のＣ１〜Ｃ３０のアルキル基、置換又は非置換のＣ３〜Ｃ３０のシクロアルキル基、置換又は非置換のＣ１〜Ｃ３０のアルキルエーテル基、置換又は非置換のＣ６〜Ｃ３０のアリール基、置換又は非置換のＣ２〜Ｃ３０のヘテロアリール基、又は置換又は非置換のＣ７〜Ｃ３０のアリールアルキル基で、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、Ｘ５、及びＸ６のうち一つ以上は、置換又は非置換のＣ６〜Ｃ３０のアリール基であってもよい。
【００４５】
より具体的に、化学式１において、Ｒ１、Ｒ２は、それぞれ独立して単結合、又は置換又は非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基であってもよい。この場合、プラズマエッチング率を低下させるという効果がさらにあり得る。
【００４６】
より具体的に、化学式１において、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、Ｘ５、Ｘ６は、それぞれ独立して、置換又は非置換のＣ１〜Ｃ１０のアルキル基、又は置換又は非置換のＣ６〜Ｃ１０のアリール基で、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、Ｘ５、及びＸ６のうちの一つ以上は、置換又は非置換のＣ６〜Ｃ１０のアリール基であってもよい。より具体的に、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、Ｘ５、Ｘ６は、それぞれ独立して、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、フェニル基、ビフェニル基、又はナフチル基であってもよく、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｘ４、Ｘ５、及びＸ６のうち１個、２個、３個又は６個はフェニル基又はナフチル基であってもよい。この場合、プラズマエッチング率を低下させる効果がさらにあり得る。
【００４７】
より具体的に、ｎは、１〜５の整数であってもよい。この場合、プラズマエッチング率を低下させる効果がさらにあり得る。
【００４８】
より具体的に、（Ｂ）シリコン系ジ（メタ）アクリレートは、下記の化学式３〜８のうちのいずれか一つで表示されてもよい。
【００４９】
【化５−１】
0006592005.tif 000007
【００５０】
【化５−２】
0006592005.tif 000008
【００５１】
（Ｂ）シリコン系ジ（メタ）アクリレートは、単独又は２種以上混合して有機発光素子封止用組成物に含まれてもよい。
【００５２】
（Ｂ）シリコン系ジ（メタ）アクリレートは、（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、及び（Ｄ）の総重量を基準にして約２０重量％〜約７０重量％で含まれてもよい。例えば、（Ｂ）シリコン系ジ（メタ）アクリレートは、（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、及び（Ｄ）の総重量を基準にして約２５重量％〜約４５重量％で含まれてもよい。前記範囲で、封止用組成物の光硬化率を高めることができる。また、前記範囲で、有機バリア層の光透過率を高め、プラズマエッチング率を低下させ得る。
【００５３】
（Ａ）非シリコン系ジ（メタ）アクリレートと（Ｂ）前記化学式１のシリコン系ジ（メタ）アクリレートの総和は、（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、及び（Ｄ）の総重量を基準にして約５０重量％〜約９０重量％、具体的に約６０重量％〜約９０重量％で含まれてもよい。前記範囲で、プラズマエッチング率が低い有機バリア層を実現することができる。
【００５４】
（Ｂ）シリコン系ジ（メタ）アクリレートは通常の方法で製造してもよい。例えば、（Ｂ）シリコン系ジ（メタ）アクリレートは、置換又は非置換のＣ６〜Ｃ３０のアリール基又は置換又は非置換のＣ２〜Ｃ３０のヘテロアリール基が一つ以上のシリコン原子と連結されたシロキサン化合物と炭素鎖を延長させる化合物（例えば、アリールアルコール）を反応させた後、（メタ）アクリロイルクロリドを反応させて製造されてもよいが、これに制限されない。又は、（Ｂ）シリコン系ジ（メタ）アクリレートは、置換又は非置換のＣ６〜Ｃ３０のアリール基、又は置換又は非置換のＣ２〜Ｃ３０のヘテロアリール基が一つ以上のシリコン原子と連結されたシロキサン化合物と（メタ）アクリロイルクロリドを反応させて製造されてもよいが、これに制限されない。
【００５５】
（Ｃ）モノ（メタ）アクリレート
（Ｃ）モノ（メタ）アクリレートは、有機発光素子封止用組成物に含まれ、封止用組成物の光硬化率を高めることができる。また、（Ｃ）モノ（メタ）アクリレートは、有機バリア層の光透過率を高めると同時に、プラズマエッチング率も低下させ得る。
【００５６】
（Ｃ）モノ（メタ）アクリレートは、シリコンを含まない非シリコン系モノ（メタ）アクリレートを含んでもよい。
【００５７】
（Ｃ）モノ（メタ）アクリレートは、芳香族基を有する芳香族系モノ（メタ）アクリレート、及び芳香族基を有さない非芳香族系モノ（メタ）アクリレートのうち一つ以上を含んでもよい。
【００５８】
（Ｃ）モノ（メタ）アクリレートは、単独又は２種以上混合して含まれてもよい。（Ｃ）モノ（メタ）アクリレートのうち芳香族系モノ（メタ）アクリレートは、単独又は２種以上混合して含まれてもよい。（Ｃ）モノ（メタ）アクリレートのうち非芳香族系モノ（メタ）アクリレートは、単独又は２種以上混合して含まれてもよい。
【００５９】
一具体例において、（Ｃ）モノ（メタ）アクリレートは、芳香族基を有するモノ（メタ）アクリレートを含んでもよい。芳香族基を有するモノ（メタ）アクリレートと上述した（Ｂ）シリコン系ジ（メタ）アクリレートは、いずれも芳香族基を有しており、これらを共に使用する場合、有機発光素子封止用組成物内の相溶性が特に優れる。これによって、（Ｃ）モノ（メタ）アクリレートと、上述した（Ｂ）シリコン系ジ（メタ）アクリレートとの混和性をさらに高めることができる。この場合、封止用組成物は、有機バリア層のプラズマエッチング率を著しく低下させるという効果がさらに優れたものとなり得る。
【００６０】
芳香族系モノ（メタ）アクリレートは、置換又は非置換の芳香族基を有するモノ（メタ）アクリレートを含んでもよい。このとき、「芳香族基」は、単一環（ｍｏｎｏｃｙｃｌｉｃ）、融合された（ｆｕｓｅｄ）形態、または単一環がシグマ結合で連結された形態などを含む多環の（ｐｏｌｙｃｙｃｌｉｃ）芳香族基を意味する。例えば、芳香族基は、置換又は非置換のＣ６〜Ｃ５０のアリール基、置換又は非置換のＣ７〜Ｃ５０のアリールアルキル基、置換又は非置換のＣ３〜Ｃ５０のヘテロアリール基、及び置換又は非置換のＣ３〜Ｃ５０のヘテロアリールアルキル基のうちの一つ以上を意味し得る。より具体的に、芳香族基は、フェニル、ビフェニル、テルフェニル、クアテルフェニル、ナフチル、アントラセニル、フェナントレニル、クリセニル、トリフェニレニル、テトラセニル、ピレニル、ベンゾピレニル、ペンタセニル、コロネニル、オバレニル、コランヌレニル、ベンジル、ピリジニル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリダジニル、トリアジニル、キノリニル、イソキノリニル、キノキサリニル、アクリジニル、キナゾリニル、シンノリニル、フタラジニル、チアゾリル、ベンゾチアゾリル、イソオキサゾリル、ベンズイソオキサゾリル、オキサゾリル、ベンズオキサゾリル、ピラゾリル、インダゾリル、イミダゾリル、ベンゾイミダゾリル、フリニル、チオフェニル、ベンゾチオフェニル、フラニル、ベンゾフラニル、及びイソベンゾフラニルのうちの一つ以上であってもよい。
【００６１】
例えば、芳香族系モノ（メタ）アクリレートは、下記の化学式９で表示されてもよい。
【００６２】
【化６】
0006592005.tif 000009
【００６３】
（前記化学式９において、
Ｒ３は、水素又はメチル基で、
ｓは、０〜１０の整数で、
Ｒ６は、置換又は非置換のＣ６〜Ｃ５０のアリール基、又は置換又は非置換のＣ６〜Ｃ５０のアリールオキシ基である。）
例えば、Ｒ６は、フェニルフェノキシエチル基、フェノキシエチル基、ベンジル基、フェニル基、フェニルフェノキシ基、フェノキシ基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基、フェニルブチル基、メチルフェニルエチル基、プロピルフェニルエチル基、メトキシフェニルエチル基、シクロヘキシルフェニルエチル基、クロロフェニルエチル基、ブロモフェニルエチル基、メチルフェニル基、メチルエチルフェニル基、メトキシフェニル基、プロピルフェニル基、シクロヘキシルフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、フェニルフェニル基、ビフェニル基、テルフェニル基、クアテルフェニル基、アントラセニル基、ナフタレニル基、トリフェニレニル基、メチルフェノキシ基、エチルフェノキシ基、メチルエチルフェノキシ基、メトキシフェニルオキシ基、プロピルフェノキシ基、シクロヘキシルフェノキシ基、クロロフェノキシ基、ブロモフェノキシ基、ビフェニルオキシ基、テルフェニルオキシ基、クアテルフェニルオキシ基、アントラセニルオキシ基、ナフタレニルオキシ基、またはトリフェニレニルオキシ基であってもよい。
【００６４】
具体的に、芳香族系モノ（メタ）アクリレートは、２−フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、フェノキシ（メタ）アクリレート、２−エチルフェノキシ（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−フェニルエチル（メタ）アクリレート、３−フェニルプロピル（メタ）アクリレート、４−フェニルブチル（メタ）アクリレート、２−（２−メチルフェニル）エチル（メタ）アクリレート、２−（３−メチルフェニル）エチル（メタ）アクリレート、２−（４−メチルフェニル）エチル（メタ）アクリレート、２−（４−プロピルフェニル）エチル（メタ）アクリレート、２−（４−（１−メチルエチル）フェニル）エチル（メタ）アクリレート、２−（４−メトキシフェニル）エチル（メタ）アクリレート、２−（４−シクロヘキシルフェニル）エチル（メタ）アクリレート、２−（２−クロロフェニル）エチル（メタ）アクリレート、２−（３−クロロフェニル）エチル（メタ）アクリレート、２−（４−クロロフェニル）エチル（メタ）アクリレート、２−（４−ブロモフェニル）エチル（メタ）アクリレート、２−（３−フェニルフェニル）エチル（メタ）アクリレート、４−（ビフェニル−２−イルオキシ）ブチル（メタ）アクリレート、３−（ビフェニル−２−イルオキシ）ブチル（メタ）アクリレート、２−（ビフェニル−２−イルオキシ）ブチル（メタ）アクリレート、１−（ビフェニル−２−イルオキシ）ブチル（メタ）アクリレート、４−（ビフェニル−２−イルオキシ）プロピル（メタ）アクリレート、３−（ビフェニル−２−イルオキシ）プロピル（メタ）アクリレート、２−（ビフェニル−２−イルオキシ）プロピル（メタ）アクリレート、１−（ビフェニル−２−イルオキシ）プロピル（メタ）アクリレート、４−（ビフェニル−２−イルオキシ）エチル（メタ）アクリレート、３−（ビフェニル−２−イルオキシ）エチル（メタ）アクリレート、２−（ビフェニル−２−イルオキシ）エチル（メタ）アクリレート、１−（ビフェニル−２−イルオキシ）エチル（メタ）アクリレート、２−（４−ベンジルフェニル）エチル（メタ）アクリレート、１−（４−ベンジルフェニル）エチル（メタ）アクリレート及びこれらの構造異性体のうちの一つ以上を含んでもよいが、これらに制限されることはない。すなわち、本発明で言及した（メタ）アクリレートは、一例に該当するものに過ぎなく、これに限定されることはない。なお、本発明は、構造異性体の関係にあるアクリレートをすべて含む。例えば、本発明の一例として２−フェニルエチル（メタ）アクリレートのみが言及されているとしても、本発明は、３−フェニルエチル（メタ）アクリレート、４−フェニル（メタ）アクリレートをすべて含む。
【００６５】
非芳香族系モノ（メタ）アクリレートは、置換又は非置換のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基を有するモノ（メタ）アクリレートであってもよい。具体的に、非芳香族系モノ（メタ）アクリレートは、非置換の直鎖型のＣ１〜Ｃ２０のアルキル基を有するモノ（メタ）アクリレートであってもよく、より具体的には、非置換の直鎖型のＣ１０〜Ｃ２０のアルキル基を有するモノ（メタ）アクリレートであってもよい。例えば、非芳香族系モノ（メタ）アクリレートは、デシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、テトラデシル（メタ）アクリレート、ペンタデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート、ヘプタデシル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート、ノナデシル（メタ）アクリレート、及びアラキジル（メタ）アクリレートのうちの一つ以上を含んでもよいが、これらに制限されない。
【００６６】
（Ｃ）モノ（メタ）アクリレートは、（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、及び（Ｄ）の総重量を基準にして約５重量％〜約４０重量％で含まれてもよい。例えば、（Ｃ）モノ（メタ）アクリレートは、（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、及び（Ｄ）の総重量を基準にして約５重量％〜約３０重量％で含まれてもよい。前記範囲内であれば、封止用組成物の光硬化率を高めることができる。また、有機バリア層の光透過率を高め、プラズマエッチング率をさらに低下させ得る。
【００６７】
（Ｄ）開始剤
（Ｄ）開始剤は、（Ａ）非シリコン系ジ（メタ）アクリレート、（Ｂ）シリコン系ジ（メタ）アクリレート、及び（Ｃ）モノ（メタ）アクリレートを硬化させることによって有機バリア層を形成させるものであって、通常の光重合開始剤を制限なく含むことができる。
【００６８】
（Ｄ）開始剤は、トリアジン系開始剤、アセトフェノン系開始剤、ベンゾフェノン系開始剤、チオキサントン系開始剤、ベンゾイン系開始剤、リン系開始剤、及びオキシム系開始剤のうちの一つ以上を含んでもよいが、これらに制限されない。例えば、リン系開始剤としては、ジフェニル（２，４，６−トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキシド、ベンジル（ジフェニル）ホスフィンオキシド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）（２，４，４−トリメチルペンチル）ホスフィンオキシド又はこれらの混合物であってもよい。例えば、リン系開始剤を使用する場合、本発明の組成物において、長波長のＵＶでより良い開始性能を示すことができる。
【００６９】
（Ｄ）開始剤は、単独又は２種以上混合して有機発光素子用封止用組成物に含まれてもよい。
【００７０】
（Ｄ）開始剤は（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、及び（Ｄ）の総重量を基準にして約１重量％〜約１０重量％で含まれてもよい。前記範囲内であれば、封止用組成物は、露光時に光重合が十分に起こり得る。また、光重合後に残った未反応開始剤を減少させ、有機バリア層の光透過率をさらに向上させることができる。具体的に、（Ｄ）開始剤は、（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、及び（Ｄ）の総重量を基準にして約２重量％〜約５重量％で含まれてもよい。
【００７１】
有機発光素子封止用組成物は、（Ａ）非シリコン系ジ（メタ）アクリレート、（Ｂ）シリコン系ジ（メタ）アクリレート、（Ｃ）モノ（メタ）アクリレート及び（Ｄ）開始剤を混合して形成してもよい。例えば、有機発光素子封止用組成物は、溶剤を含まない無溶剤タイプで形成してもよい。例えば、有機発光素子組成物が無溶剤タイプである場合、重量％は、（Ａ）非シリコン系ジ（メタ）アクリレート、（Ｂ）シリコン系ジ（メタ）アクリレート、（Ｃ）モノ（メタ）アクリレート、及び（Ｄ）開始剤の総重量に基づく。
【００７２】
有機発光素子封止用組成物は、シリコン（Ｓｉ）が全体の有機発光素子封止用組成物の中に約１０重量％〜約５０重量％で含まれてもよい。前記範囲内であれば、封止用組成物においては、有機バリア層のプラズマエッチング率を低下させるという効果がさらに得ることができる。
【００７３】
有機発光素子封止用組成物は、２５±２℃（２３℃〜２７℃）で粘度が約０ｃｐｓ〜約２００ｃｐｓ、具体的に約１００ｃｐｓ以下、より具体的に約５ｃｐｓ〜約５０ｃｐｓ、約５ｃｐｓ〜約４０ｃｐｓ又は約５ｃｐｓ〜約３０ｃｐｓになってもよい。前記範囲内であれば、有機発光素子封止用組成物は、有機バリア層の形成を促進することができる。また、前記範囲内であれば、有機バリア層の形成の時、蒸着法、インクジェット法などの方法を行うのに有利になり得る。
【００７４】
有機発光素子封止用組成物は、光硬化組成物であって、約１０ｍＷ／ｃｍ２〜約５００ｍＷ／ｃｍ２で約１秒〜約１００秒間のＵＶ照射によって硬化されてもよいが、これに制限されない。
【００７５】
有機発光素子封止用組成物は、有機発光素子を封止するのに使用されてもよく、具体的に、無機バリア層と有機バリア層とが順次形成される封止構造で有機バリア層を形成してもよい。例えば、有機発光素子封止用組成物は、蒸着法、インクジェット法などの方法で有機バリア層を形成してもよいが、これに制限されない。
【００７６】
有機発光素子封止用組成物は、装置用部材、特にディスプレイ装置用部材の封止用途にも使用可能である。前記部材は、周辺環境の気体又は液体、例えば、電子製品を加工するときに使用された化学物質や大気中の酸素及び／又は水分及び／又は水蒸気の透過によって、分解されたり不良になり得る装置用部材であってもよい。前記封止用組成物は、例えば、照明装置、金属センサパッド、マイクロディスクレーザ、電気変色装置、光変色装置、マイクロ電子機械システム、太陽電池、集積回路、電荷結合装置、発光重合体、発光ダイオードなどの装置用部材の封止構造にも使用可能であるが、これらに制限されない。
【００７７】
以下、本発明の他の実施例に係る有機発光素子封止用組成物を説明する。
【００７８】
本発明の他の実施例に係る有機発光素子封止用組成物は、（Ａ）非シリコン系ジ（メタ）アクリレート、（Ｂ）シリコン系ジ（メタ）アクリレート、（Ｃ）モノ（メタ）アクリレート、（Ｄ）開始剤及び（Ｅ）熱安定剤を含み、前記（Ｂ）シリコン系ジ（メタ）アクリレートは前記化学式１で表示され、（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）及び（Ｄ）の総重量を基準にして、（Ａ）非シリコン系ジ（メタ）アクリレートは約１０重量％〜約７０重量％で含まれ、（Ｂ）シリコン系ジ（メタ）アクリレートは約２０重量％〜約７０重量％で含まれ、（Ｃ）モノ（メタ）アクリレートは約５重量％〜約４０重量％で含まれ、（Ｄ）開始剤は約１重量％〜約１０重量％で含まれてもよい。
【００７９】
その結果、本発明の他の実施例に係る有機発光素子封止用組成物は、封止用組成物の常温での粘度変化を抑制することができる。本発明の他の実施例に係る有機発光素子封止用組成物は、熱安定剤を含まない封止用組成物に比べて光透過率と光硬化率をさらに高め、プラズマエッチング率をさらに低下させることができる。本発明の他の実施例に係る有機発光素子封止用組成物は、熱安定剤をさらに含む点を除いては、本発明の一実施例に係る有機発光素子封止用組成物と同一である。以下では、熱安定剤に対してのみ説明する。
【００８０】
（Ｅ）熱安定剤は、封止用組成物に含まれ、封止用組成物の常温での粘度変化を抑制するものであって、通常の熱安定剤を制限なく使用可能であるが、（Ｅ）熱安定剤としては、立体障害がある（ｓｔｅｒｉｃａｌｌｙ  ｈｉｎｄｅｒｅｄ）フェノール系熱安定剤を使用してもよい。
【００８１】
具体的に、（Ｅ）熱安定剤は、ペンタエリトリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ステアリル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、１，３，５−トリス（２，６−ジメチル−３−ヒドロキシ−４−ｔ−ブチルベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、ペンタエリトリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチルヒドロキシフェニル）プロピオネート］、及びトリス（４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレートのうちの一つ以上を含んでもよいが、これらに制限されない。
【００８２】
（Ｅ）熱安定剤は、（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、及び（Ｄ）の総重量に対して約２０００ｐｐｍ以下、具体的に約０．０１ｐｐｍ〜約２０００ｐｐｍ、より具体的に約１００ｐｐｍ〜約８００ｐｐｍで含まれてもよい。前記範囲内であれば、熱安定剤は、封止用組成物の液相状態の貯蔵安定性と工程性をさらに良好にすることができる。
【００８３】
本発明の有機発光素子表示装置は、本発明の実施例に係る有機発光素子封止用組成物で形成された有機バリア層を含んでもよい。具体的に、有機発光素子表示装置は、有機発光素子と、有機発光素子の上に形成され、無機バリア層及び有機バリア層を含むバリアスタックとを含み、有機バリア層は、本発明の実施例に係る有機発光素子封止用組成物で形成されてもよい。その結果、有機発光素子表示装置は優れた信頼性を有することができる。
【００８４】
本発明の有機発光素子表示装置において、有機バリア層は、有機発光素子封止用組成物のインクジェット法又は蒸着法で形成されたものであってもよい。
【００８５】
以下、図１を参考にして本発明の一実施例に係る有機発光素子表示装置を説明する。図１は、本発明の一実施例に係る有機発光素子表示装置の断面図である。
【００８６】
図１を参照すると、本発明の一実施例に係る有機発光素子表示装置１００は、基板１０と、基板１０上に形成された有機発光素子２０と、有機発光素子２０上に形成され、無機バリア層３１及び有機バリア層３２を含むバリアスタック３０とを含み、無機バリア層３１は有機発光素子２０と接触する状態となっており、有機バリア層３２は、本発明の各実施例に係る有機発光素子封止用組成物で形成されてもよい。
【００８７】
基板１０は、有機発光素子が形成され得る基板であれば特に制限されなく、例えば、透明ガラス、プラスチックシート、シリコン又は金属基板などの材料からなってもよい。
【００８８】
有機発光素子２０は、通常、有機発光素子表示装置で使用されるものであって、図１に示していないが、第１電極、第２電極、及び第１電極と第２電極との間に形成された有機発光膜を含み、有機発光膜は、ホール注入層、ホール輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層が順次積層されたものであってもよいが、これに制限されない。
【００８９】
バリアスタック３０は有機バリア層及び無機バリア層を含み、有機バリア層と無機バリア層とは、それぞれ層を構成する成分が互いに異なり、それぞれ有機発光素子封止機能を実現することができる。
【００９０】
無機バリア層は、有機バリア層とは異なる成分を有することによって、有機バリア層の効果を補完することができる。無機バリア層は、光透過性に優れ、水分及び／又は酸素遮断性に優れた無機素材で形成されてもよい。例えば、無機バリア層は、金属、非金属、金属間化合物又は合金、非金属間化合物又は合金、金属又は非金属の酸化物、金属又は非金属のフッ化物、金属又は非金属の窒化物、金属又は非金属の炭化物、金属又は非金属の酸素窒化物、金属又は非金属のホウ素化物、金属又は非金属の酸素ホウ素化物、金属又は非金属のシリサイド、又はこれらの混合物であってもよい。金属又は非金属は、シリコン（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、セレニウム（Ｓｅ）、亜鉛（Ｚｎ）、アンチモン（Ｓｂ）、インジウム（Ｉｎ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、スズ（Ｓｎ）、ビスマス（Ｂｉ）、転移金属、ランタン族金属などであってもよいが、これらに制限されない。具体的に、無機バリア層は、シリコン酸化物（ＳｉＯｘ）、シリコン窒化物（ＳｉＮｘ）、シリコン酸素窒化物（ＳｉＯｘＮｙ）、ＺｎＳｅ、ＺｎＯ、Ｓｂ２Ｏ３、Ａｌ２Ｏ３などを含むＡｌＯｘ、Ｉｎ２Ｏ３、ＳｎＯ２であってもよい。
【００９１】
無機バリア層は、プラズマ工程、または真空工程、例えば、スパッタリング、化学気相蒸着、プラズマ化学気相蒸着、蒸発、昇華、電子サイクロトロン共鳴−プラズマ蒸気蒸着またはその組み合わせで蒸着されてもよい。
【００９２】
有機バリア層は、無機バリア層と交互に蒸着するとき、無機バリア層の平滑化特性を確保し、無機バリア層の欠陥が他の無機バリア層に伝播されることを防止することができる。
【００９３】
有機バリア層は、本発明の実施例に係る有機発光素子封止用組成物の蒸着、インクジェットプリント、スクリーン印刷、スピンコーティング、ブレードコーティング、硬化単独又はこれらの組み合わせによって形成されてもよい。例えば、有機発光素子封止用組成物を約１μｍ〜約５０μｍの厚さにコートし、約１０ｍＷ／ｃｍ２〜約５００ｍＷ／ｃｍ２で約１秒〜約１００秒間照射することによって硬化させてもよい。
【００９４】
バリアスタックは、有機バリア層及び無機バリア層を含み、有機バリア層と無機バリア層の総層数は制限されない。有機バリア層と無機バリア層の総層数は、酸素及び／又は水分及び／又は水蒸気及び／又は化学物質に対する透過抵抗性の水準によって変更可能である。例えば、有機バリア層と無機バリア層の総層数は１０層以下、例えば２層〜７層になってもよく、具体的に、無機バリア層／有機バリア層／無機バリア層／有機バリア層／無機バリア層／有機バリア層／無機バリア層の順に７層に形成されてもよい。
【００９５】
バリアスタックにおいて、有機バリア層と無機バリア層とは交互に蒸着されてもよい。これは、上述したように、組成物の物性によって生成された有機バリア層に対する効果があるためである。これにより、有機バリア層と無機バリア層とは、装置に対する封止効果を補完又は強化することができる。
【００９６】
以下、図２を参考にして、本発明の他の実施例に係る有機発光素子表示装置を説明する。図２は、本発明の他の実施例に係る有機発光素子表示装置の断面図である。
【００９７】
図２を参照すると、本発明の他の実施例に係る有機発光素子表示装置２００は、基板１０と、基板１０上に形成された有機発光素子２０と、有機発光素子２０上に形成され、無機バリア層３１及び有機バリア層３２を含むバリアスタック３０とを含み、無機バリア層３１は、有機発光素子２０が収容された内部空間４０を封止し、有機バリア層３２は、本発明の各実施例に係る有機発光素子封止用組成物で形成されてもよい。本発明の他の実施例に係る有機発光素子表示装置２００は、無機バリア層が有機発光素子と接触しない点を除いては、本発明の一実施例に係る有機発光素子表示装置と実質的に同一である。
【００９８】
以下、本発明の好ましい実施例を通じて本発明の構成及び作用をより詳細に説明する。但し、これは、本発明の好ましい例示として提示されたものであって、如何なる意味でも、これによって本発明が制限されると解釈することはできない。
【００９９】
製造例１
冷却管と撹拌機とを備えた１０００ｍｌのフラスコに、エチルアセテート３００ｍｌを入れて、３−フェニル−１，１，３，５，５−ペンタメチルトリシロキサン（Ｇｅｌｅｓｔ社）２５ｇと、アリールアルコール（ａｌｌｙｌ  ａｌｃｏｈｏｌ）４３ｇ（大井化金社）とを入れて、３０分間窒素置換した。その後、混合物に白金−カーボンクラック（Ｐｔ−ｏｎ−ｃａｒｂｏｎ  ｂｌａｃｋ）パウダー（Ａｌｄｒｉｃｈ社）７２ｐｐｍを追加し、フラスコ内の温度を８０℃に上げた後で４時間撹拌した。残留溶媒を蒸留で除去することによって化合物を得た。得られた化合物７１．５ｇをジクロロメタン３００ｍｌに入れ、これにトリエチルアミン３９ｇを追加し、０℃で撹拌しながらアクリロイルクロリド（ａｃｒｙｌｏｙｌ  ｃｈｌｏｒｉｄｅ）３４．３ｇを徐々に添加した。残留溶媒を蒸留で除去し、下記の化学式３のモノマー（分子量：５２２．８５ｇ／ｍｏｌ）をＨＰＬＣ純度９７％で得た。（１Ｈ  ＮＭＲ：δ７．６１、ｍ、３Ｈ；δ７．１２、ｍ、２Ｈ；δ６．２５、ｄ、２Ｈ；δ６．０２、ｄｄ、２Ｈ；δ５．８２、ｔ、１Ｈ；δ５．５９、ｄ、２Ｈ；δ３．８７、ｍ、４Ｈ；δ１．５４、ｍ、４Ｈ；δ０．５８、ｍ、４Ｈ；δ０．０２、ｍ、１５Ｈ）
【０１００】
【化７】
0006592005.tif 000010
【０１０１】
製造例２
製造例１において、３−フェニル−１，１，３，５，５−ペンタメチルトリシロキサン２５ｇの代わりに３，３−ジフェニル−１，１，５，５−テトラメチルトリシロキサン２１ｇを使用し、アクリロイルクロリド３４．３ｇの代わりにメタアクリロイルクロリド３０．２ｇを使用したことを除いては、同一の方法で下記の化学式４のモノマー（分子量：５８４．９２ｇ／ｍｏｌ）をＨＰＬＣ純度９６％で得た。（１Ｈ  ＮＭＲ：δ７．５２、ｍ、６Ｈ；δ７．４２、ｍ、４Ｈ；δ６．２５、ｄ、２Ｈ；δ６．０２、ｄｄ、２Ｈ；δ５．８２、ｔ、１Ｈ；δ５．５９、ｄ、２Ｈ；δ３．８６、ｍ、４Ｈ；δ１．５２、ｍ、４Ｈ；δ０．５８、ｍ、４Ｈ；δ０．０４、ｍ、１２Ｈ）
【０１０２】
【化８】
0006592005.tif 000011
【０１０３】
製造例３
製造例１において、３−フェニル−１，１，３，５，５−ペンタメチルトリシロキサン２５ｇの代わりに３，３−ジフェニル−１，１，５，５−テトラメチルトリシロキサン２１ｇを使用したことを除いては、同一の方法で下記の化学式５のモノマー（分子量：６４６．９９ｇ／ｍｏｌ）をＨＰＬＣ純度９４％で得た。（１Ｈ  ＮＭＲ：δ７．６１、ｍ、６Ｈ；δ７．１２、ｍ、４Ｈ；δ６．２５、ｄ、２Ｈ；δ６．０２、ｄｄ、２Ｈ；δ５．８２、ｔ、２Ｈ；δ３．８７、ｍ、４Ｈ；δ１．５４、ｍ、４Ｈ；δ０．５８、ｍ、４Ｈ；δ０．０２、ｍ、１２Ｈ）
【０１０４】
【化９】
0006592005.tif 000012
【０１０５】
実施例と比較例で使用した成分の具体的な仕様は、次の通りである。
【０１０６】
（Ａ）非シリコン系ジ（メタ）アクリレート：（Ａ１）１，１２−ドデカンジオールジメタクリレート（Ｓａｒｔｏｍｅｒ社）、（Ａ２）１，１０−デカンジオールジメタクリレート（新中村社）
（Ｂ）シリコン系ジ（メタ）アクリレート：（Ｂ１）製造例１のモノマー、（Ｂ２）製造例２のモノマー、（Ｂ３）製造例３のモノマー
（Ｃ）モノ（メタ）アクリレート：（Ｃ１）ＨＲＩ−０７（大林化学）、（Ｃ２）ベンジルメタクリレート（ＴＣＩ社）、（Ｃ３）ラウリルアクリレート（Ａｌｄｒｉｃｈ社）
（Ｄ）開始剤：Ｄａｒｏｃｕｒ  ＴＰＯ（ＢＡＳＦ社）
（Ｅ）熱安定剤：ＩＲＧＡＮＯＸ  １０１０（ＢＡＳＦ社）
（Ｆ）下記の化学式１０のモノマー（分子量：４６０．７８ｇ／ｍｏｌ、信越社、Ｘ−２２−１６４）
【０１０７】
【化１０】
0006592005.tif 000013
【０１０８】
実施例１
（Ａ１）４７．８重量部、（Ｂ１）２８．７重量部、（Ｃ１）１９．２重量部、（Ｄ）４．３重量部を１２５ｍｌの褐色ポリプロピレン瓶に入れ、シェーカーを用いて３時間室温で混合することによって封止用組成物（２５℃で粘度が２１ｃｐｓ）を製造した。
【０１０９】
実施例２〜実施例１３と比較例１〜比較例４
実施例１において、（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）、（Ｅ）の種類及び／又は含量を下記の表１（単位：重量部）のように変更したことを除いては、実施例１と同一の方法で封止用組成物を製造した。
【０１１０】
比較例５
実施例１において（Ｂ１）製造例１のモノマー２８．７重量部の代わりに（Ｆ）モノマー２８．７重量部を使用したことを除いては、実施例１と同一の方法で封止用組成物を製造した。
【０１１１】
実施例と比較例で製造した封止用組成物に対して下記の表１の物性を測定し、その結果を表１と表２に示した。
【０１１２】
【表１】
0006592005.tif 000014
【０１１３】
【表２】
0006592005.tif 000015
【０１１４】
前記表１のように、本発明の有機発光素子封止用組成物は、光硬化率と光透過率が高く、プラズマに対するエッチング率が低い有機バリア層を実現することができた。
【０１１５】
その一方、前記表２のように、本発明の有機発光素子封止用組成物のうち（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の含量範囲から逸脱する比較例１においては、プラズマエッチング率が高いという問題があった。また、（Ｂ）及び（Ｃ）のうちのいずれか一つを含まない比較例２〜４においても、プラズマエッチング率が高いという問題があった。また、シリコン系ジ（メタ）アクリレートを含むとしても、アリール基がないシリコン系ジ（メタ）アクリレートを含む比較例５においてもプラズマエッチング率が高いという問題があった。
【０１１６】
＜物性評価方法＞
（１）光硬化率：封止用組成物に対してＦＴ−ＩＲ（ＮＩＣＯＬＥＴ  ４７００、Ｔｈｅｒｍｏ社）を使用して１６３５ｃｍ−１付近（Ｃ＝Ｃ）、１７２０ｃｍ−１付近（Ｃ＝Ｏ）での吸収ピークの強度を測定した。ガラス基板上に封止用組成物をスプレーで塗布し、１００ｍＷ／ｃｍ２で１０秒間ＵＶ照射して硬化させ、２０ｃｍ×２０ｃｍ×３μｍ（横×縦×厚さ）の試験片を得た。硬化されたフィルムを分取し、ＦＴ−ＩＲ（ＮＩＣＯＬＥＴ  ４７００、Ｔｈｅｒｍｏ社）を用いて１６３５ｃｍ−１付近（Ｃ＝Ｃ）、１７２０ｃｍ−１付近（Ｃ＝Ｏ）での吸収ピークの強度を測定した。光硬化率は、下記の式１によって計算した。
【０１１７】
【数２】
0006592005.tif 000016
【０１１８】
（前記式１において、Ａは、硬化されたフィルムにおいて１７２０ｃｍ−１付近での吸収ピークの強度に対する１６３５ｃｍ−１付近での吸収ピークの強度の比で、
Ｂは、封止用組成物において１７２０ｃｍ−１付近での吸収ピークの強度に対する１６３５ｃｍ−１付近での吸収ピークの強度の比である。）
（２）光透過率：封止用組成物をＮ２環境下でＵＶ硬化させることによって厚さ１０μｍのフィルムを製造し、フィルムに対してＬａｍｂｄａ９５０（Ｐｅｒｋｉｎ  Ｅｌｍｅｒ社）で可視光領域波長５５０ｎｍにおける光透過率を測定した。
【０１１９】
（３）プラズマエッチング率：封止用組成物を所定の厚さで蒸着及び光硬化させ、有機封止層の蒸着高さ（Ｔ１、１μｍ〜１０μｍ）を測定した。ＩＣ電力：２５００Ｗ、ＲＦ電力：３００Ｗ、ＤＣバイアス：２００Ｖ、Ａｒ  ｆｌｏｗ：５０ｓｃｃｍ、エッチング時間：１ｍｉｎ、圧力：１０ｍｔｏｒｒで有機バリア層にプラズマを処理した後、有機バリア層の高さ（Ｔ２、単位：μｍ）を測定した。式２によってプラズマによる有機バリア層のエッチング率を計算した。
【０１２０】
【数３】
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【０１２１】
本発明の単純な変形及び変更は、この分野の通常の知識を有する者によって容易に実施することができ、このような変形や変更は、いずれも本発明の領域に含まれるものと見なすことができる。
【図１】
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【図２】
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