(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式［２]で表される化合物と、アルミニウム化合物、チタン化合物及びスルホン酸化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の酸と、を反応させる酸反応工程を含む、下記一般式［１]で表される含硫黄環化化合物の製造方法。
【化１】
0006499606.tif 000033
一般式［１］中、Ａ環はアリール環またはヘテロアリール環を表し、Ｂ環はアリール環またはヘテロアリール環を表す。ｎは０〜２の整数を表す。Ｘは、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、ＳＯ２、Ｏ、ＮＲａ、またはＣ（Ｒｂ）（Ｒｃ）を表し、Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、それぞれ独立に水素原子または１価の置換基を表す。
一般式［２］中、Ａ環はアリール環またはヘテロアリール環を表し、Ｂ環はアリール環またはヘテロアリール環を表す。ｎは０〜２の整数を表す。Ｘは、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、ＳＯ２、Ｏ、ＮＲａ、またはＣ（Ｒｂ）（Ｒｃ）を表し、Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、それぞれ独立に水素原子または１価の置換基を表す。
【請求項２】
前記一般式[１]、および前記一般式[２]におけるｎが０である請求項１に記載の含硫黄環化化合物の製造方法。
【請求項３】
下記一般式［４]で表される化合物と、アルミニウム化合物、チタン化合物及びスルホン酸化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の酸と、を反応させる酸反応工程を含む、下記一般式［３]で表される含硫黄環化化合物の製造方法。
【化２】
0006499606.tif 000034
一般式［３］中、Ｒ１ｂ、Ｒ２ｂ、Ｒ３ｂ、Ｒ４ｂ、Ｒ５ｂ、Ｒ６ｂ、Ｒ７ｂ、およびＲ８ｂはそれぞれ独立に、水素原子または１価の置換基を表す。ｎは０〜２の整数を表す。Ｘは、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、ＳＯ２、Ｏ、ＮＲａ、またはＣ（Ｒｂ）（Ｒｃ）を表し、Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、それぞれ独立に水素原子または１価の置換基を表す。
一般式［４］中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、およびＲ９はそれぞれ独立に、水素原子または１価の置換基を表し、Ｒ５、およびＲ９の少なくとも一方は、水素原子である。ｎは０〜２の整数を表す。Ｘは、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、ＳＯ２、Ｏ、ＮＲａ、またはＣ（Ｒｂ）（Ｒｃ）を表し、Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、それぞれ独立に水素原子または１価の置換基を表す。
【請求項４】
前記一般式[３]および前記一般式[４]におけるｎが、０である請求項３に記載の含硫黄環化化合物の製造方法。
【請求項５】
前記一般式[３]および前記一般式[４]におけるＸが、Ｓ、Ｏ、またはＮＲａを表し、Ｒａは、水素原子、アルキル基またはアリール基を表す請求項３または請求項４に記載の含硫黄環化化合物の製造方法。
【請求項６】
前記酸反応工程において使用される前記アルミニウム化合物、チタン化合物及びスルホン酸化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の酸の使用量は、前記一般式[２]または前記一般式[４]で表される化合物の総モル数に対し、０．００１モル％〜１０００モル％の範囲である請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の含硫黄環化化合物の製造方法。
【請求項７】
前記酸反応工程において使用される前記アルミニウム化合物、チタン化合物及びスルホン酸化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の酸の使用量は、前記一般式[２]または前記一般式[４]で表される化合物の総モル数に対し、１０モル％〜５００モル％の範囲である請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載の含硫黄環化化合物の製造方法。
【請求項８】
前記一般式[２]または前記一般式[４]で表される化合物と前記アルミニウム化合物、チタン化合物及びスルホン酸化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の酸との反応は、塩化メチレン、クロロホルム、クロロベンゼン、およびジクロロベンゼンからなる群より選択される少なくとも１種の溶媒中で実施される請求項１〜請求項７のいずれか１項に記載の含硫黄環化化合物の製造方法。
【請求項９】
前記酸反応工程において、さらに、ハロゲン化剤およびシアノ化剤から選ばれる添加剤を反応させる反応工程を含む、請求項１〜請求項８のいずれか１項に記載の含硫黄環化化合物の製造方法。
【請求項１０】
下記一般式［６]で表される化合物と、アルミニウム化合物、チタン化合物及びスルホン酸化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の酸と、ハロゲン化剤およびシアノ化剤から選ばれる添加剤と、を反応させる酸反応工程を含む、下記一般式［５]で表される含硫黄環化化合物の製造方法。
【化３】
0006499606.tif 000035
一般式［５］中、Ｒ１ｂ、Ｒ２ｂ、Ｒ３ｂ、Ｒ４ｂ、Ｒ５ｂ、Ｒ６ｂ、Ｒ７ｂ、およびＲ８ｂはそれぞれ独立に、水素原子または１価の置換基を表す。Ｘは、単結合、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、ＳＯ２、Ｏ、ＮＲａ、またはＣ（Ｒｂ）（Ｒｃ）を表し、Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、それぞれ独立に、水素原子または１価の置換基を表す。
一般式［６］中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、およびＲ９はそれぞれ独立に、水素原子または１価の置換基を表し、Ｒ５、およびＲ９の少なくとも一方は水素原子である。Ｘは、単結合、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、ＳＯ２、Ｏ、ＮＲａ、またはＣ（Ｒｂ）（Ｒｃ）を表し、Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、それぞれ独立に、水素原子または１価の置換基を表す。
【請求項１１】
前記酸反応工程において使用される前記アルミニウム化合物、チタン化合物及びスルホン酸化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の酸の使用量は、前記一般式[６]で表される化合物の総モル数に対し、１０モル％〜１００モル％の範囲である請求項１０に記載の含硫黄環化化合物の製造方法。
【請求項１２】
前記酸反応工程は、反応容器に前記アルミニウム化合物、チタン化合物及びスルホン酸化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の酸を入れ、その後、前記反応容器にハロゲン化剤およびシアノ化剤から選ばれる添加剤を投入する工程を含む請求項９〜請求項１１のいずれか１項に記載の含硫黄環化化合物の製造方法。
【請求項１３】
前記添加剤は、塩素化剤、臭素化剤、およびヨウ素化剤から選ばれる少なくとも１種のハロゲン化剤を含む請求項９〜請求項１２のいずれか１項に記載の含硫黄環化化合物の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、含硫黄環化化合物の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
フェノキサチイン環構造、チアントレン環構造等を有する含硫黄環化化合物は、医薬品、電子材料等に有用である。チアントレン骨格を有する重合体は、高屈折率であり、かつ、高アッベ数であるため、光学用部材の製造材料としても好適であり、具体的には、レンズ材料、ナノインプリント用材料、光学接着剤等の用途、記録材料等の光学部材の材料としての報告がある。さらに、フェノキサチイン環構造、チアントレン環構造等を有する含硫黄環化化合物は、フォトリソグラフィ用樹脂組成物、ポリマー発光ダイオードへの適用例についての報告がある。
しかし、フェノキサチイン環構造、チアントレン環構造等の含硫黄環化化合物は製造が困難であり、収率向上、或いは、穏和な条件下での製造について検討がなされている。
フェノキサチイン環構造、チアントレン環構造等を有する含硫黄環化化合物の製造方法としては、汎用の製造方法として、例えば、ＡＴＭ（ataxia telangiectasia mutated）阻害作用を有する新規なモルホリン誘導体またはその塩が提案されており、例えば、スルフィン酸基をもつ芳香環を有する化合物に、酸を反応させて環構造を形成させる方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。特許文献１には、反応に用いられる酸としては、ポリリン酸およびイートン試薬が記載されている。
【０００３】
また、含硫黄環化化合物のその他の製造方法として、ジスルフィド化合物を原料として、２当量以上のＭｏＣ１５（モリブデニウムペンタクロリド）とを反応させて、含硫黄環化化合物を製造する方法（例えば、非特許文献１参照）、両親媒性化合物の分子間反応を利用して、３当量以上の塩基とカップリングパートナーとを添加し、室温にて長時間撹拌して含硫黄環化化合物を製造する方法（例えば、非特許文献２参照）、およびＮａＨを用いて、塩基性条件下で、分子内求核置換反応によりフェノチアジンを合成する方法（例えば、非特許文献３参照）等が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】国際公開第２０１５／３００５７号
【非特許文献】
【０００５】
【非特許文献１】Ｃｈｅｍ．Ｅｕｒ．Ｊ．第１５号，ｐｐ．１３３１３−１３３１７（２００９年）
【非特許文献２】Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ，第５１号、ｐｐ．９１６５−９１６８（２０１５年）
【非特許文献３】Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｅｓ，第３６号、ｐｐ．９８７−９９３（１９９３年）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１に記載の方法によれば、例えばイートン試薬の存在下、無溶媒にて５０℃で１．５時間反応させる等過酷な条件を用いる必要があり、かつ、原料であるスルフィン酸化合物は不均化するため、収率に問題がある。さらに、副反応生成物の除去等の工程を必要とし、簡易に高収率で目的物質を得るためには、なお改良の余地がある。
非特許文献１に記載の方法では、出発物質として二量体を用いることで不均化の抑制は、ある程度達成されるとは考えられるが、出発物質である二量体が有する置換基によっては、電子供与性基の影響を受けやすい等の理由から、非対称のチアントレン化合物を合成することは困難である。また、反応が、量論量以上のＭｏＣｌ５の使用、あるいは基質によっては量論量以上のＴｉＣｌ４の添加という強酸性条件下で行なわれ、反応に大量の金属を必要とするため、製造適性に問題がある。
非特許文献２に記載の方法は、反応は室温で可能ではあるが、塩基性条件下で長時間、例えば、１６時間撹拌する等、反応に時間を要し、かつ反応の選択性が低いため、収率にばらつきがあるという問題がある。
非特許文献３に記載の方法では、ＮａＨとジメチルホルムアミドの存在下、高温での反応を必要とし、製造適性に問題がある。また、反応効率の点から出発物質に制限があり、収率も中程度である点においても、改良の余地がある。
以上のように、各種検討がなされているが、いずれの製造方法も製造適性、収率、目的物質の構造の選択性等について改良の余地があり、目的とする有用な含硫黄環化化合物を簡易に高収率で製造する方法は未だ得られていないのが現状である。
【０００７】
本発明の一実施形態の課題は、穏和な条件で、かつ、高収率で目的とする含硫黄環化化合物を製造しうる含硫黄環化化合物の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、以下の実施形態を含む。
＜１＞  下記一般式［２]で表される化合物と、ルイス酸およびブレンステッド酸からなる群より選ばれる少なくとも１種の酸と、を反応させる工程を含む、下記一般式［１]で表される含硫黄環化化合物の製造方法。
【０００９】
【化１】
0006499606.tif 000002
【００１０】
一般式［１］中、Ａ環はアリール環またはヘテロアリール環を表し、Ｂ環はアリール環またはヘテロアリール環を表す。ｎは０〜２の整数を表す。Ｘは、単結合、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、ＳＯ２、Ｏ、ＮＲａ、またはＣ（Ｒｂ）（Ｒｃ）を表し、Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、それぞれ独立に水素原子または１価の置換基を表す。
一般式［２］中、Ａ環はアリール環またはヘテロアリール環を表し、Ｂ環はアリール環またはヘテロアリール環を表す。ｎは０〜２の整数を表す。Ｘは、単結合、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、ＳＯ２、Ｏ、ＮＲａ、またはＣ（Ｒｂ）（Ｒｃ）を表し、Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、それぞれ独立に水素原子または１価の置換基を表す。
＜２＞  一般式[１]、および一般式[２]におけるｎが０である＜１＞に記載の含硫黄環化化合物の製造方法。
【００１１】
＜３＞  下記一般式［４]で表される化合物と、ルイス酸およびブレンステッド酸からなる群より選ばれる少なくとも１種の酸と、を反応させる工程を含む、下記一般式［３]で表される含硫黄環化化合物の製造方法。
【００１２】
【化２】
0006499606.tif 000003
【００１３】
一般式［３］中、Ｒ１ｂ、Ｒ２ｂ、Ｒ３ｂ、Ｒ４ｂ、Ｒ５ｂ、Ｒ６ｂ、Ｒ７ｂ、およびＲ８ｂはそれぞれ独立に、水素原子または１価の置換基を表す。ｎは０〜２の整数を表す。Ｘは、単結合、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、ＳＯ２、Ｏ、ＮＲａ、またはＣ（Ｒｂ）（Ｒｃ）を表し、Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、それぞれ独立に水素原子または１価の置換基を表す。
一般式［４］中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、およびＲ９はそれぞれ独立に、水素原子または１価の置換基を表し、Ｒ５、およびＲ９の少なくとも一方は、水素原子である。ｎは０〜２の整数を表す。Ｘは、単結合、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、ＳＯ２、Ｏ、ＮＲａ、またはＣ（Ｒｂ）（Ｒｃ）を表し、Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、それぞれ独立に水素原子または１価の置換基を表す。
＜４＞  一般式[３]および一般式[４]におけるｎが０である＜３＞に記載の含硫黄環化化合物の製造方法。
＜５＞  一般式[３]および一般式[４]におけるＸが単結合、Ｓ、Ｏ、またはＮＲａを表し、Ｒａは、水素原子、アルキル基またはアリール基を表す＜３＞または＜４＞請求項４に記載の含硫黄環化化合物の製造方法。
【００１４】
＜６＞  ルイス酸およびブレンステッド酸からなる群より選ばれる少なくとも１種の酸が、アルミニウム化合物、チタン化合物およびスルホン酸化合物から選ばれる少なくとも１種の酸である＜３＞〜＜５＞のいずれか１つに記載の含硫黄環化化合物の製造方法。
＜７＞  酸反応工程において使用されるルイス酸およびブレンステッド酸からなる群より選ばれる少なくとも１種の酸の使用量は、一般式[２]または一般式[４]で表される化合物の総モル数に対し、０．００１モル％〜１０００モル％の範囲である＜１＞〜＜６＞のいずれか１つに記載の含硫黄環化化合物の製造方法。
＜８＞  酸反応工程において使用されるルイス酸およびブレンステッド酸からなる群より選ばれる少なくとも１種の酸の使用量は、一般式[２]または一般式[４]で表される化合物の総モル数に対し、１０モル％〜５００モル％の範囲である＜１＞〜＜７＞のいずれか１つに記載の含硫黄環化化合物の製造方法。
【００１５】
＜９＞  一般式[２]または一般式[４]で表される化合物とルイス酸およびブレンステッド酸からなる群より選ばれる少なくとも１種の酸との反応は、塩化メチレン、クロロホルム、クロロベンゼン、およびジクロロベンゼンからなる群より選択される少なくとも１種の溶媒中で実施される＜１＞〜＜８＞のいずれか１つに記載の含硫黄環化化合物の製造方法。
＜１０＞  下記一般式［６]で表される化合物と、ルイス酸およびブレンステッド酸からなる群より選ばれる少なくとも１種の酸と、ハロゲン化剤およびシアノ化剤から選ばれる添加剤と、を反応させる酸反応工程を含む、下記一般式［５]で表される含硫黄環化化合物の製造方法。
【００１６】
【化３】
0006499606.tif 000004
【００１７】
一般式［５］中、Ｒ１ｂ、Ｒ２ｂ、Ｒ３ｂ、Ｒ４ｂ、Ｒ５ｂ、Ｒ６ｂ、Ｒ７ｂ、およびＲ８ｂはそれぞれ独立に、水素原子または１価の置換基を表す。Ｘは、単結合、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、ＳＯ２、Ｏ、ＮＲａ、またはＣ（Ｒｂ）（Ｒｃ）を表し、Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、それぞれ独立に、水素原子または１価の置換基を表す。
一般式［６］中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、およびＲ９はそれぞれ独立に、水素原子または１価の置換基を表し、Ｒ５、およびＲ９の少なくとも一方は水素原子である。Ｘは、単結合、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、ＳＯ２、Ｏ、ＮＲａ、またはＣ（Ｒｂ）（Ｒｃ）を表し、Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、それぞれ独立に、水素原子または１価の置換基を表す。
＜１１＞  酸反応工程において使用されるルイス酸およびブレンステッド酸からなる群より選ばれる少なくとも１種の酸の使用量は、一般式[６]で表される化合物の総モル数に対し、１０モル％〜１００モル％の範囲である＜１０＞に記載の含硫黄環化化合物の製造方法。
＜１２＞  酸反応工程は、反応容器にルイス酸およびブレンステッド酸からなる群より選ばれる少なくとも１種の酸を入れ、その後、反応容器にハロゲン化剤およびシアノ化剤から選ばれる添加剤を投入する工程を含む＜１＞〜＜１１＞のいずれか１つに記載の含硫黄環化化合物の製造方法。
＜１３＞  添加剤は、塩素化剤、臭素化剤、およびヨウ素化剤から選ばれる少なくとも１種のハロゲン化剤を含む＜１２＞に記載の含硫黄環化化合物の製造方法。
【発明の効果】
【００１８】
本実施形態によれば、穏和な条件で、かつ、高収率で、目的とする含硫黄環化化合物を製造しうる含硫黄環化化合物の製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
本実施形態の含硫黄環化化合物の製造方法は、下記一般式［２]で表される化合物と、ルイス酸およびブレンステッド酸からなる群より選ばれる少なくとも１種の酸と、を反応させる工程を含む、下記一般式［１]で表される含硫黄環化化合物の製造方法である。
【００２０】
【化４】
0006499606.tif 000005
【００２１】
一般式［１］中、Ａ環はアリール環またはヘテロアリール環を表し、Ｂ環はアリール環またはヘテロアリール環を表す。ｎは０〜２の整数を表す。Ｘは、単結合、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、ＳＯ２、Ｏ、ＮＲａ、またはＣ（Ｒｂ）（Ｒｃ）を表し、Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、それぞれ独立に水素原子または１価の置換基を表す。
一般式［２］中、Ａ環はアリール環またはヘテロアリール環を表し、Ｂ環はアリール環またはヘテロアリール環を表す。ｎは０〜２の整数を表す。Ｘは、単結合、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、ＳＯ２、Ｏ、ＮＲａ、またはＣ（Ｒｂ）（Ｒｃ）を表し、Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、それぞれ独立に水素原子または１価の置換基を表す。
【００２２】
本発明の作用は明確ではないが、以下のように考えている。
本実施形態の製造方法では、出発物質として、環構造を有する二量体化合物である一般式［２］、一般式［４］または一般式［６］で表される化合物を用いる。二量体化合物であるこれら化合物は、公知のスルフィン酸化合物等に比較して、環化反応の際の脱離能が高いため、高酸性または高塩基性化合物の存在、あるいは、高温度条件による反応促進を必要とせず、穏和な条件にて反応が進行すると考えられる。また、本実施形態の製造方法では、分子内反応、より詳細には、分子内Ｆｒｉｅｄｅｌ−Ｃｒａｆｔｓ反応を適用しているため、環化が容易に進行し、出発物質としての二量体化合物における置換基の有無に拘らず反応が進行し易く、このことからも穏和な条件、例えば、穏和な温度条件にて、添加剤、反応促進剤等の添加量を過剰としなくても反応が進行すると考えられる。さらに、二量体化合物を用いるために、不均化に伴う副生成物の生成が抑制され、高収率が達成させるものと推定される。
さらに、出発物質としての二量体化合物の置換基の有無に拘らず反応が進行するため、目的とする含硫黄環化化合物の構造の選択の自由度が高いという利点をも有する。
なお、本発明は上記の推定機構に何ら制限されない。
以下、一般式［２］、一般式［４］または一般式［６］で表される化合物を「二量体化合物」と総称することがある。
【００２３】
本明細書において「〜」を用いて示された数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値および最大値として含む範囲を示す。
本明細書において組成物等に含まれる各成分の量は、当該組成物中に、各成分に該当する物質が複数含まれる場合、特に断らない限り、当該複数の物質の合計量を意味する。
本明細書における「室温」とは、２５℃である。
本明細書中における「化合物」との語は、当該化合物が許容される塩の状態である「化合物の塩」を包含する意味で用いられる。
本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけでなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても工程の所期の目的が達成されれば、本用語に含まれる。
本明細書における「穏和な条件」とは、反応温度１５℃〜４０℃程度であること、および、環化反応を反応溶媒中で行なうことの少なくともいずれかを満たす条件を示す。
以下、本実施形態の製造方法について、詳細に説明する。
【００２４】
〔酸反応工程〕
本実施形態の製造方法は、下記一般式［２]で表される化合物と、ルイス酸およびブレンステッド酸からなる群より選ばれる少なくとも１種の酸と、を反応させる工程(以下、「酸反応工程」と称することがある）を含む。
【００２５】
＜一般式［２］で表される化合物＞
本工程は、出発物質として下記一般式［２]で表される化合物を使用する。
【００２６】
【化５】
0006499606.tif 000006
【００２７】
一般式［２］中、Ａ環はアリール環またはヘテロアリール環を表し、Ｂ環はアリール環またはヘテロアリール環を表す。Ａ環およびＢ環におけるアリール環またはヘテロアリール環は、それぞれ、無置換であってもさらに置換基を有していてもよい。
Ａ環またはＢ環におけるアリール環は、炭素系芳香環基である炭素環系アリール基であることが好ましい。アリール環としては、より具体的には、例えば、フェニル、１−ナフチル、４−メトキシフェニル、２−クロロフェニル、３−メチルフェニル、ジフルオロフェニル、テトラフルオロフェニル等が挙げられる。
Ａ環またはＢ環におけるヘテロアリール環は、アリール環に含まれるメチン、またはビニレンを１個以上、ヘテロ原子に置き換えた環を指す。ヘテロ原子としては、硫黄原子、酸素原子、窒素原子（−ＮＨ−の形態をとることがある）が挙げられる。
ヘテロアリール環としては、具体的には、例えば、６員のヘテロ環構造を有するヘテロアリール環としては、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、キノリン環、キナゾリン環等が挙げられる。５員のヘテロ環構造を有するヘテロアリール環としては、ピロール環、イミダゾール環、ピラゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、インドリン環、インダゾール環、トリアゾール環、チオフェン環、フラン環等が挙げられる。
【００２８】
Ａ環およびＢ環におけるアリール環またはヘテロアリール環は置換基を有していてもよく、アリール環またはヘテロアリール環が有してもよい置換基としては、以下に示す置換基群Ｔから選ばれる基が挙げられる。
［置換基群Ｔ］
アルキル基：好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基である。例えば、メチル、エチル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、１−エチルペンチル、ベンジル、２−エトキシエチル、１−カルボキシメチル、トリフルオロメチル等が挙げられる。アルキル基はシクロアルキル基であってもよく、シクロアルキル基は、好ましくは、炭素数３〜２０のシクロアルキル基であり、例えば、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、４−メチルシクロヘキシル等が挙げられる。
アルケニル基：好ましくは炭素数２〜２０のアルケニル基である。例えば、ビニル、アリル、ブテニルまたはオレイル等が挙げられる。アルケニル基はシクロアルケニル基であってもよく、シクロアルケニル基は、好ましくは炭素数５〜２０のシクロアルケニル基であり、例えば、シクロペンテニル、シクロヘキセニル等が挙げられる。
アルキニル基：好ましくは炭素数２〜２０のアルキニル基である。例えば、エチニル、ブチニル、フェニルエチニル等が挙げられる。
アリール基：好ましくは炭素数６〜２６のアリール基であり、例えば、フェニル、１−ナフチル、４−メトキシフェニル、２−クロロフェニル、３−メチルフェニル、ジフルオロフェニル、テトラフルオロフェニル等が挙げられる。
【００２９】
ヘテロ環基：好ましくは炭素数２〜２０のヘテロ環基であり、酸素原子、硫黄原子、および窒素原子から選ばれる少なくとも１つの原子を有する５員環または６員環のヘテロ環基がより好ましい。ヘテロ環基は、単環構造であっても、多環構造であってもよい。例えば、２−ピリジル、４−ピリジル、２−イミダゾリル、２−ベンゾイミダゾリル、２−チアゾリル、２−オキサゾリル等が挙げられる。
アルコキシ基：好ましくは炭素数１〜２０のアルコキシ基であり、例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロピルオキシ、ベンジルオキシ等が挙げられる。アルコキシ基は、シクロアルキルオキシ基であってもよく、好ましくは炭素数３〜２０のシクロアルキルオキシ基であり、例えば、シクロプロピルオキシ、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシ、４−メチルシクロヘキシルオキシ等が挙げられる。
アルケニルオキシ基：好ましくは炭素数２〜２０のアルケニルオキシ基であり、例えば、ビニルオキシ、アリルオキシ等が挙げられる。
アルキニルオキシ基：好ましくは炭素数２〜２０のアルキニルオキシ基であり、例えば、２−プロピニルオキシ、４−ブチニルオキシ等が挙げられる。
アリールオキシ基：好ましくは炭素数６〜２６のアリールオキシ基であり、例えば、フェノキシ、１−ナフチルオキシ、３−メチルフェノキシ、４−メトキシフェノキシ等が挙げられる。
ヘテロ環オキシ基：例えば、イミダゾリルオキシ、ベンゾイミダゾリルオキシ、チアゾリルオキシ、ベンゾチアゾリルオキシ、トリアジニルオキシ、プリニルオキシ等が挙げられる。
【００３０】
アルコキシカルボニル基：好ましくは炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基であり、例えば、エトキシカルボニル、２−エチルヘキシルオキシカルボニル等が挙げられる。アルコキシカルボニル基はシクロアルコキシカルボニル基であってもよく、シクロアルコキシカルボニル基は、好ましくは炭素数４〜２０のシクロアルコキシカルボニル基であり、例えば、シクロプロピルオキシカルボニル、シクロペンチルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル等が挙げられる。
アリールオキシカルボニル基：好ましくは炭素数６〜２０のアリール構造を含むアリールオキシカルボニル基であり、例えば、フェニルオキシカルボニル、ナフチルオキシカルボニル等が挙げられる。
アミノ基（好ましくは炭素数０〜２０のアミノ基）、アルキルアミノ基（シクロアルキルアミノ基を含む）、アルケニルアミノ基（シクロアルケニルアミノ基を含む）、アルキニルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基が挙げられ、より具体的には、例えば、アミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ、Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−アリルアミノ、Ｎ−（２−プロピニル）アミノ、Ｎ−シクロヘキシルアミノ、Ｎ−シクロヘキセニルアミノ、アニリノ、ピリジルアミノ、イミダゾリルアミノ、ベンゾイミダゾリルアミノ、チアゾリルアミノ、ベンゾチアゾリルアミノ、トリアジニルアミノ等が挙げられる。
スルファモイル基：好ましくは炭素数０〜２０のスルファモイル基であり、アルキル、シクロアルキルもしくはアリールのスルファモイル基が好ましく、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル、Ｎ−シクロヘキシルスルファモイルまたはＮ−フェニルスルファモイル等が挙げられる。
【００３１】
アシル基：好ましくは炭素数１〜２０のアシル基であり、例えば、アセチル、シクロヘキシルカルボニル、ベンゾイル等が挙げられる．
アシルオキシ基：好ましくは炭素数１〜２０のアシルオキシ基であり、例えば、アセチルオキシ、シクロヘキシルカルボニルオキシ、ベンゾイルオキシ等が挙げられる。
カルバモイル基：好ましくは炭素数１〜２０のカルバモイル基であり、アルキル、シクロアルキルもしくはアリールのカルバモイル基が好ましく、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−シクロヘキシルカルバモイル、Ｎ−フェニルカルバモイル等が挙げられる。
アシルアミノ基：好ましくは炭素数１〜２０のアシルアミノ基であり、例えば、アセチルアミノ、シクロヘキシルカルボニルアミノ、ベンゾイルアミノ等が挙げられる。
【００３２】
スルホンアミド基：好ましくは炭素数０〜２０のスルホンアミド基であり、アルキル、シクロアルキルもしくはアリールのスルホンアミド基が好ましく、例えば、メタンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド、Ｎ−メチルメタンスルホンアミド、Ｎ−シクロヘキシルスルホンアミド、Ｎ−エチルベンゼンスルホンアミド等が挙げられる。
アルキルチオ基：好ましくは炭素数１〜２０のアルキルチオ基であり、例えば、メチルチオ、エチルチオ、イソプロピルチオ、ペンチルチオ、ベンジルチオ等が挙げられる。アルキルチオ基は、シクロアルキルチオ基、好ましくは炭素数３〜２０のシクロアルキルチオ基を含み、シクロアルキルチオ基としては、例えば、シクロプロピルチオ、シクロペンチルチオ、シクロヘキシルチオ、４−メチルシクロヘキシルチオ等が挙げられる。
アリールチオ基：好ましくは炭素数６〜２６のアリールチオ基であり、例えば、フェニルチオ、１−ナフチルチオ、３−メチルフェニルチオ、４−メトキシフェニルチオ等が挙げられる。
アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基：好ましくは炭素数１〜２０で、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、シクロヘキシルスルホニル、ベンゼンスルホニル等が挙げられる。
【００３３】
シリル基：好ましくは炭素数１〜２０のアルキル、アリール、アルコキシまたはアリールオキシが置換したシリル基であり、例えば、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリイソプロピルシリル、トリフェニルシリル、ジエチルベンジルシリル、ジメチルフェニルシリル等が挙げられる。
シリルオキシ基：好ましくは炭素数１〜２０のアルキル、アリール、アルコキシまたはアリールオキシが置換したシリルオキシ基が好ましく、例えば、トリエチルシリルオキシ、トリフェニルシリルオキシ、ジエチルベンジルシリルオキシ、ジメチルフェニルシリルオキシ等が挙げられる。
その他の置換基としては、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子）等が挙げられる。
【００３４】
一般式［２］中、ｎは０〜２の整数を表し、合成が容易である点、反応性が良好である点から、ｎが０であることが好ましい。
一般式［２］中、Ｘは、単結合、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、ＳＯ２、Ｏ、ＮＲａ、またはＣ（Ｒｂ）（Ｒｃ）を表し、Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、それぞれ独立に水素原子または１価の置換基を表す。Ｒａ、ＲｂおよびＲｃの少なくともいずれかが１価の置換基を表す場合の１価の置換基としては、既述の置換基群Ｔに記載された置換基を挙げることができる。
なかでも、反応性が良好である点から、Ｘは、単結合、Ｓ、Ｏ、またはＮＲａであることが好ましく、ＮＲａとしては、ＮＨ、Ｎ（ＣＨ３）、Ｎ（Ｐｈ）等が好ましく、単結合、Ｓ、またはＯであることがより好ましい。なお、Ｐｈはフェニル基を示す。以下、同様に、フェニル基を、Ｐｈと記載することがある。
【００３５】
＜一般式[１]で表される化合物＞
酸反応工程により、下記一般式［１］で表される含硫黄環化化合物を得ることができる。
本発明の製造方法によれば、従来法よりも穏和な条件で、高収率、例えば、７０％以上、好ましくは８０％以上、条件を選択することにより、９０％以上の高収率で目的とする含硫黄環化化合物が製造できる。
なお、一般式［１］で表される含硫黄環化化合物は、その塩の形態を含む。塩としては、塩酸塩、硫酸塩などが挙げられる。
【００３６】
【化６】
0006499606.tif 000007
【００３７】
一般式［１］中、Ａ環はアリール環またはヘテロアリール環を表し、Ｂ環はアリール環またはヘテロアリール環を表す。ｎは０〜２の整数を表す。Ｘは、単結合、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、ＳＯ２、Ｏ、ＮＲａ、またはＣ（Ｒｂ）（Ｒｃ）を表し、Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、それぞれ独立に水素原子または１価の置換基を表す。
一般式［１］中、Ａ環、Ｂ環、ｎ、およびＸは、一般式［２］で説明したＡ環、Ｂ環、ｎ、およびＸとそれぞれ同義であり好ましい態様も同様である。
【００３８】
より好ましい実施形態として、下記一般式［４]で表される化合物と、ルイス酸およびブレンステッド酸からなる群より選ばれる少なくとも１種の酸と、を反応させる酸反応工程を含む、下記一般式［３]で表される含硫黄環化化合物の製造方法を挙げることができる。
【００３９】
【化７】
0006499606.tif 000008
【００４０】
一般式［３］中、Ｒ１ｂ、Ｒ２ｂ、Ｒ３ｂ、Ｒ４ｂ、Ｒ５ｂ、Ｒ６ｂ、Ｒ７ｂ、およびＲ８ｂはそれぞれ独立に、水素原子または１価の置換基を表す。ｎは０〜２の整数を表す。Ｘは、単結合、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、ＳＯ２、Ｏ、ＮＲａ、またはＣ（Ｒｂ）（Ｒｃ）を表し、Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、それぞれ独立に水素原子または１価の置換基を表す。
一般式［４］中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、およびＲ９はそれぞれ独立に、水素原子または１価の置換基を表し、Ｒ５、およびＲ９の少なくとも一方は、水素原子である。ｎは０〜２の整数を表す。Ｘは、単結合、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、ＳＯ２、Ｏ、ＮＲａ、またはＣ（Ｒｂ）（Ｒｃ）を表し、Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、それぞれ独立に水素原子または１価の置換基を表す。
【００４１】
ここで、一般式［３]で表される含硫黄環化化合物の製造の際に出発物質として用いられる一般式［４]で表される化合物は、既述の一般式［２]で表される化合物のより具体的な態様を示す化合物である。
即ち、一般式［４]で表される化合物は、一般式［２]で表される化合物におけるＡ環およびＢ環の双方がアリール環である化合物である。一般式［４]で表される化合物を出発物質として用いることで、それぞれ置換基を有していてもよいチアントレン化合物、フェノキサチイン化合物、チオフェン環を有する化合物等の代表的な含硫黄環化化合物である一般式［３]で表される含硫黄環化化合物を簡易に製造することができる。
【００４２】
〔酸反応工程〕
本実施形態における酸反応工程は、一般式［４]で表される化合物と、ルイス酸およびブレンステッド酸からなる群より選ばれる少なくとも１種の酸と、を反応させる工程であり、酸反応工程を経て一般式［３]で表される含硫黄環化化合物を製造することができる。
【００４３】
＜一般式［４]で表される化合物＞
まず、出発物質である一般式［４]で表される化合物について説明する。
【００４４】
【化８】
0006499606.tif 000009
【００４５】
一般式［４］中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、およびＲ９はそれぞれ独立に、水素原子または１価の置換基を表し、Ｒ５、およびＲ９の少なくとも一方は、水素原子である。
一般式［４］中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、およびＲ９の少なくともいずれかが１価の置換基を表す場合の１価の置換基としては、一般式［２］にて説明した置換基群Ｔに記載の置換基が、同様に挙げられる。
なかでも、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、およびＲ９における１価の置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルコキシカルボニル基、アミノ基、アシル基、アシルオキシ基、シリルオキシ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子等が好ましく、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子等がより好ましく、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、ヘテロ環基、シアノ基、ニトロ基、またはハロゲン原子であることがさらに好ましい。
それぞれの置換基のより具体的な例は、置換基群Ｔにおいて挙げたとおりである。
Ｒ１〜Ｒ９におけるアルキル基としては、炭素数１〜２０のアルキル基が好ましく、炭素数１〜１０のアルキル基がより好ましく、炭素数１〜６のアルキル基がさらに好ましい。
Ｒ１〜Ｒ９におけるアリール基としては、炭素数６〜２６のアリール基が好ましく、フェニル基、またはナフチル基がより好ましく、フェニル基がさらに好ましい。
Ｒ１〜Ｒ９におけるヘテロ環基としては、炭素数２〜２０のヘテロ環基が好ましく、少なくとも１つの酸素原子、硫黄原子、窒素原子を有する５員環または６員環のヘテロ環基がより好ましく、フラン環、またはチオフェン環がさらに好ましい。
Ｒ１〜Ｒ９におけるハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子が好ましく、塩素原子、または臭素原子がより好ましく、臭素原子がさらに好ましい。
Ｒ５、およびＲ９の少なくとも一方は、水素原子であり、Ｒ５、およびＲ９の双方が水素原子であってもよい。Ｒ５、およびＲ９の一方が水素原子である場合、反応性の点からは、Ｒ５およびＲ９のいずれが水素原子であってもよい。
【００４６】
一般式［４］中、ｎは０〜２の整数を表し、合成が容易である点、および反応性が良好である点から、ｎが０であることが好ましい。
一般式［４］中、Ｘは、単結合、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、ＳＯ２、Ｏ、ＮＲａ、またはＣ（Ｒｂ）（Ｒｃ）を表し、Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、それぞれ独立に水素原子または１価の置換基を表す。Ｒａ、ＲｂおよびＲｃの少なくともいずれか１つが１価の置換基を表す場合の１価の置換基としては、既述の置換基群Ｔに記載された置換基を挙げることができる。
なかでも、反応性が良好である点から、Ｘは、単結合、Ｓ、Ｏ、またはＮＲａであることが好ましい。ＮＲａにおけるＲａは。水素原子、アルキル基、またはアリール基であることが好ましく、なかでも、ＮＲａとしては、ＮＨ、Ｎ（ＣＨ３）、Ｎ（Ｐｈ）等が好ましい。Ｘは、単結合、Ｓ、またはＯであることがより好ましい。
【００４７】
本実施形態の製造方法において酸反応工程において出発物質として用いることができる一般式［４］で表される化合物の具体例を以下に挙げるが、本実施形態は以下の例に限定されない。
なお、既述の如く、本実施形態の製造方法では、分子内Ｆｒｉｅｄｅｌ−Ｃｒａｆｔｓ反応を適用しているため、出発物質における置換基の位置、種類等による影響を受け難く、環化反応が容易に進行する。したがって、任意の位置に置換基を有する含硫黄環化化合物を穏和な条件下で容易に合成できることも、本実施形態の製造方法の特徴のひとつである。
【００４８】
【化９】
0006499606.tif 000010
【００４９】
【化１０】
0006499606.tif 000011
【００５０】
【化１１】
0006499606.tif 000012
【００５１】
【化１２】
0006499606.tif 000013
【００５２】
【化１３】
0006499606.tif 000014
【００５３】
一般式［４］で表される化合物は、常法により、例えば、以下のスキームに従って合成することができる。
以下に、一般式［４］で表される化合物の合成について、具体例を挙げて説明する。
【００５４】
（合成例１：２−１．１，２−ビス（２−（（２−ブロモフェニル）チオ）−５−ニトロフェニル）ジスルファンの合成）
【００５５】
【化１４】
0006499606.tif 000015
【００５６】
（１）２−ブロモベンゼンチオール（７６．５ｇ）と水酸化ナトリウム（３０．８ｇ）の水（８００ｍＬ）溶液に２−クロロ−５−ニトロベンゼンスルホン酸ナトリウム（１００ｇ）を加え、窒素雰囲気下、内温８０℃にて１時間撹拌した。得られた反応混合物を５０℃まで冷却し、ヘキサン（２００ｍＬ）を加えて、分液をした。分液により得た水相を撹拌し、室温まで冷却すると結晶が析出し始めた。そのまま水相を室温にて１時間撹拌を続けた。撹拌後、ろ過し、ヘキサンにて洗浄後、よく乾燥し、固体の２−（（２−ブロモフェニル）チオ）−５−ニトロベンゼンスルホン酸ナトリウム（１４０ｇ）を得た。
合成された化合物の構造は、核磁気共鳴分光法（ＮＭＲ）の吸収スペクトルにて分析を行なった。本明細書における１Ｈ−ＮＭＲスペクトルは、内部基準としてテトラメチルシランを用い、Ｂｒｕｋｅｒ  ＡＶ４００Ｎ（Ｂｒｕｋｅｒ社）を用いて測定し、全δ値をｐｐｍで示した。
１Ｈ−ＮＭＲ（（ＣＤ３）２ＳＯ）δ値：８．５３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），８．０１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．８，２．７Ｈｚ），７．８９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．８，１．５Ｈｚ），７．７１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．５，１．８Ｈｚ），７．５６−７．４６（２Ｈ，ｍ），６．６９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）
【００５７】
（２）次に、よく乾燥させた２−（（２−ブロモフェニル）チオ）−５−ニトロベンゼンスルホン酸ナトリウム（１４０ｇ）のテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（５６０ｍＬ）溶液にＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）（５．６ｍＬ）を添加し、窒素雰囲気下にて還流させた。還流が確認できたところで、塩化チオニル（１６１．６ｇ）を滴下し、３０分還流を続けた。得られた反応混合物を室温まで冷却後、氷水にて冷却した２０質量％塩化ナトリウム水溶液（２８０ｍＬ）に滴下し、トルエン（１４００ｍＬ）を加え、３０℃にて１０分間撹拌した。
その後、分液を行い、２−（（２−ブロモフェニル）チオ）−５−ニトロベンゼン−１−スルホニルクロリドを含む有機相を得た。得られた有機相を窒素雰囲気にさらし、室温にてトリフェニルホスフィン（１８７ｇ）のトルエン溶液（２８０ｍＬ）を滴下しながら撹拌した。滴下終了後、３０分撹拌を続けた後に、水（１４０ｍＬ）を滴下した。室温にて３０分撹拌後、ろ過し、得られたろ物をメタノール（ＭｅＯＨ、以下同様。）で洗浄し、固体の１，２−ビス（２−（（２−ブロモフェニル）チオ）−５−ニトロフェニル）ジスルファン（７５ｇ）を得た。得られた化合物の構造を、既述の方法と同様にしてＮＭＲの吸収スペクトルにて分析した。
１Ｈ−ＮＭＲ（（ＣＤ３）２ＳＯ）δ値：８．３８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），８．１２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．６，２．４Ｈｚ），７．８５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．６，１．６Ｈｚ），７．４８−７．３６（３Ｈ，ｍ），７．２１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）
【００５８】
（合成例２：２−２．１，２−ビス（２−（２−ブロモフェノキシ）−５−ニトロフェニル）ジスルファンの合成）
２−２．１，２−ビス（２−（２−ブロモフェノキシ）−５−ニトロフェニル）ジスルファンは、Ｊ．Ｆｌｕｏｒｉｎｅ．Ｃｈｅｍ．．２００１，１１２，２８７−２９５．に記載の方法を参照して合成することができる。
【００５９】
【化１５】
0006499606.tif 000016
【００６０】
（１）２−フルオロ−５−ニトロベンゼン−１−スルホニルクロリド（１．１ｇ）のＴＨＦ（５ｍＬ）溶液を氷水にて冷却し、トリフェニルホスフィン（２．４ｇ）を添加し、１時間撹拌した。撹拌後の混合物に水を加えて酢酸エチルで抽出した。有機相を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにて精製後、得られた固体をアセト二トリル／水（２／１）の混合液にて洗浄し、白色固体の１，２−ビス（２−フルオロ−５−ニトロフェニル）ジスルファンを得た。
【００６１】
（２）１，２−ビス（２−フルオロ−５−ニトロフェニル）ジスルファン（０．４ｇ）のＤＭＦ（４ｍＬ）溶液に炭酸カリウム（０．４８ｇ）および２−ブロモフェノール（０．２７ｍＬ）を加え、室温にて２時間撹拌した。その後、水を加え、ろ過し、得られた固体をＭｅＯＨで洗浄し、１，２−ビス（２−（２−ブロモフェノキシ）−５−ニトロフェニル）ジスルファン（０．６１ｇ）を得た。得られた化合物の構造を、既述の方法と同様にしてＮＭＲの吸収スペクトルにて分析した。
１Ｈ−ＮＭＲ（（ＣＤ３）２ＳＯ）δ値：８．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），８．１１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．１，２．７Ｈｚ），７．８４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．６，１．６Ｈｚ），７．５７−７．５２（１Ｈ，ｍ），７．４０−７．３２（２Ｈ，ｍ），６．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）
具体例に示した一般式［４］で表される化合物であるジスルフィド体も上記と同様の手法にて合成することができる。
【００６２】
既述の一般式［４］で表される化合物を用いて、既述の一般式［２］で表される化合物を出発物質として用いた場合と同様にして酸反応工程を行なうことで、下記一般式［３］で表される含硫黄環化化合物を得ることができる。
【００６３】
【化１６】
0006499606.tif 000017
【００６４】
一般式［３］中、Ｒ１ｂ、Ｒ２ｂ、Ｒ３ｂ、Ｒ４ｂ、Ｒ５ｂ、Ｒ６ｂ、Ｒ７ｂ、およびＲ８ｂはそれぞれ独立に、水素原子または１価の置換基を表す。ｎは０〜２の整数を表す。Ｘは、単結合、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、ＳＯ２、Ｏ、ＮＲａ、またはＣ（Ｒｂ）（Ｒｃ）を表し、Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、それぞれ独立に水素原子または１価の置換基を表す。
一般式［３］中、Ｒ１ｂ、Ｒ２ｂ、Ｒ３ｂ、Ｒ４ｂ、Ｒ５ｂ、Ｒ６ｂ、Ｒ７ｂ、およびＲ８ｂが１価の置換基を表す場合の１価の置換基としては、既述の置換基群Ｔで例示した置換基を同様に挙げることができる。
なかでも、Ｒ１ｂ、Ｒ２ｂ、Ｒ３ｂ、Ｒ４ｂ、Ｒ５ｂ、Ｒ６ｂ、Ｒ７ｂ、およびＲ８ｂにおける１価の置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルコキシカルボニル基、アミノ基、アシル基、アシルオキシ基、シリルオキシ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子等が好ましく、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子等がより好ましく、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、またはハロゲン原子であることがさらに好ましい。
それぞれの置換基のより具体的な例は、置換基群Ｔにおいて挙げたとおりである。
Ｒ１ｂ〜Ｒ８ｂにおけるアルキル基としては、炭素数１〜２０のアルキル基が好ましく、炭素数１〜１０のアルキル基がより好ましく、炭素数１〜６のアルキル基がさらに好ましい。
Ｒ１ｂ〜Ｒ８ｂにおけるアリール基としては、炭素数６〜２６のアリール基が好ましく、フェニル基、またはナフチル基がより好ましく、フェニル基がさらに好ましい。
Ｒ１ｂ〜Ｒ８ｂにおけるヘテロ環基としては、炭素数２〜２０のヘテロ環基が好ましく、少なくとも１つの酸素原子、硫黄原子、窒素原子を有する５員環または６員環のヘテロ環基がより好ましく、フラン環、またはチオフェン環がさらに好ましい。
Ｒ１ｂ〜Ｒ８ｂにおけるハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子が好ましく、塩素原子、または臭素原子がより好ましく、臭素原子がさらに好ましい。
なお、一般式［３］で表される含硫黄環化化合物は、その塩の形態を含む。塩としては、塩酸塩、硫酸塩などが挙げられる。
一般式［３]で表される化合物については、後記する。
上記実施形態によっても、一般式［３］で表される含硫黄環化化合物を、従来法よりも穏和な条件で、高収率、例えば、７０％以上、好ましくは８０％以上、条件を選択することにより、９０％以上の高収率で目的とする含硫黄環化化合物が製造することができる。
【００６５】
本実施形態の製造方法の好ましい態様のひとつとして、以下に示す下記一般式［５］で表される化合物の製造方法が挙げられる。
本実施形態の製造方法は、下記一般式［６]で表される化合物と、ルイス酸およびブレンステッド酸からなる群より選ばれる少なくとも１種の酸と、を反応させる酸反応工程を含む、下記一般式［５]で表される含硫黄環化化合物の製造方法である。
なお、本実施形態の製造方法は、下記一般式［６]で表される化合物と、ルイス酸およびブレンステッド酸からなる群より選ばれる少なくとも１種の酸と、ハロゲン化剤およびシアノ化剤から選ばれる添加剤と、を反応させる酸反応工程を含む、下記一般式［５]で表される含硫黄環化化合物の製造方法であることが好ましい。
添加剤については、以下に詳述する。
酸反応工程において、添加剤を用いることで、添加剤による反応促進効果に起因して、酸の使用量を低減させたり、収率をより向上させたりすることができる。
【００６６】
【化１７】
0006499606.tif 000018
【００６７】
一般式［５］中、Ｒ１ｂ、Ｒ２ｂ、Ｒ３ｂ、Ｒ４ｂ、Ｒ５ｂ、Ｒ６ｂ、Ｒ７ｂ、およびＲ８ｂはそれぞれ独立に、水素原子または１価の置換基を表す。Ｘは、単結合、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、ＳＯ２、Ｏ、ＮＲａ、またはＣ（Ｒｂ）（Ｒｃ）を表し、Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、それぞれ独立に、水素原子または１価の置換基を表す。
一般式［６］中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、およびＲ９はそれぞれ独立に、水素原子または１価の置換基を表し、Ｒ５、およびＲ９の少なくとも一方は水素原子である。Ｘは、単結合、Ｓ、Ｓ（Ｏ）、ＳＯ２、Ｏ、ＮＲａ、またはＣ（Ｒｂ）（Ｒｃ）を表し、Ｒａ、ＲｂおよびＲｃは、それぞれ独立に、水素原子または１価の置換基を表す。
【００６８】
一般式［５］中、Ｒ１ｂ、Ｒ２ｂ、Ｒ３ｂ、Ｒ４ｂ、Ｒ５ｂ、Ｒ６ｂ、Ｒ７ｂ、およびＲ８ｂは、それぞれ一般式［３］におけるＲ１ｂ、Ｒ２ｂ、Ｒ３ｂ、Ｒ４ｂ、Ｒ５ｂ、Ｒ６ｂ、Ｒ７ｂ、およびＲ８ｂと同義であり、好ましい態様も同様である。
一般式［６］中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、およびＲ９は、それぞれ一般式［４］中のＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、およびＲ９と同義であり、好ましい態様も同様である。
一般式［５］および一般式［６］におけるＸは、既述の一般式［３］および一般式［４］におけるＸと同義であり、好ましい例も同様である。
一般式［５]で表される化合物については、後記する。一般式［６]で表される化合物の例示化合物は既述のとおりである。
【００６９】
以下、酸反応工程に使用される出発物質及び目的物質以外の成分について説明する。
＜ルイス酸およびブレンステッド酸からなる群より選ばれる少なくとも１種の酸＞
本実施形態の製造方法にて、酸反応工程に使用できるルイス酸は、電子対を受け取ることができる物質であり、反応の進行に悪影響を与えない酸であれば、いずれの物質を使用してもよい。
本実施形態に使用できるルイス酸としては、例えば、ＢＦ３・ＯＥｔ２、ＡｌＢｒ３、ＡｌＣｌ３、ＺｎＩ２、ＭｇＣｌ２、ＴｉＣｌ４、ＴｉＣｌ３（ＯｉＰｒ）、ＴｉＣｌ２（ＯｉＰｒ）２、ＴｉＣｌ（ＯｉＰｒ）３、Ｔｉ（ＯｉＰｒ）４、ＳｎＣｌ４、ＳｎＣｌ３、ＥｔＡｌＣｌ２、ＦｅＣｌ３、ＺｎＣｌ２、ＴＭＳＯＴｆ、ＦｅＢｒ３、ＢＢｒ３、Ｓｃ（ＯＴｆ）２、Ｚｎ（ＯＴｆ）２、Ｌａ（ＯＴｆ）３、Ｙｂ（ＯＴｆ）３、Ｈｆ（ＯＴｆ）４、ＢｅＣｌ２、ＣｄＣｌ２、ＧａＣｌ３、ＳｂＣｌ５等が挙げられる。
なかでも、ＢＦ３・ＯＥｔ２、ＡｌＢｒ３、ＡｌＣｌ３、ＺｎＩ２、ＴｉＣｌ４、ＴｉＣｌ３（ＯｉＰｒ）、ＳｎＣｌ４、ＳｎＣｌ３、ＥｔＡｌＣｌ２、ＦｅＣｌ３、ＺｎＣｌ２、ＦｅＢｒ３、ＢＢｒ３、Ｓｃ（ＯＴｆ）２、Ｚｎ（ＯＴｆ）２等が好ましく、ＡｌＢｒ３、ＡｌＣｌ３、ＺｎＩ２、ＴｉＣｌ４、ＳｎＣｌ４、ＦｅＣｌ３等がより好ましく、アルミニウム化合物およびチタン化合物から選ばれる少なくとも１種であるＡｌＣｌ３、ＴｉＣｌ４等がさらに好ましい。
なお、既述の化合物において、Ｅｔはエチル基の、ｉＰｒはイソプロピル基の、ＴＭＳはトリメチルシリル基の、それぞれ略称である。
【００７０】
本実施形態の製造方法にて、酸反応工程に使用できるブレンステッド酸とは、プロトンを有し、かつ、当該プロトンを放出または解離できる酸であり、ルイス酸のようなプロトンを有さない酸とは異なる。
ブレンステッド酸は、無機もしくは有機のブレンステッド酸のいずれでも構わない。本実施形態の製造方法における酸反応工程に使用できるブレンステッド酸としては、例えば、塩酸、硝酸、硫酸、燐酸、フッ化水素酸、ホウ酸、ポリ燐酸、蟻酸、酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、１０−カンファースルホン酸、Ｅａｔｏｎ試薬等が挙げられる。
なかでも、硫酸、燐酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、Ｅａｔｏｎ試薬等が好ましく、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸、Ｅａｔｏｎ試薬等がより好ましく、トリフルオロメタンスルホン酸がさらに好ましい。
酸反応工程に用いられる酸は、１種のみでもよく、２種以上を併用してもよい。
酸を２種以上併用する場合、ルイス酸同士を２種以上併用してもよく、ブレンステッド酸を２種以上併用してもよく、ルイス酸とブレンステッド酸とをそれぞれ１種以上併用してもよい。
２種のみを併用する場合、ルイス酸同士を２種以上併用するか、ブレンステッド酸を２種以上併用することが好ましい。より好ましくは、ルイス酸を１種のみ用いる態様、およびブレンステッド酸を１種のみ用いる態様である。
【００７１】
酸反応工程における酸の使用量は、出発物質である二量体化合物の総モル数に対し、０．００１モル％〜１０００モル％の範囲とすることができ、１０モル％〜５００モル％の範囲であることが好ましく、３０モル％〜３００モル％の範囲であることがより好ましく、１００モル％〜３００モル％の範囲であることがさらに好ましい。
なお、後述する反応を促進する添加剤を併用する場合には、酸の含有量はより少ない量でも反応が効率よく進行するため、例えば、酸の含有量を出発物質の総モル数の１モル％〜１００モル％の範囲とすることもできる。
【００７２】
＜反応溶媒＞
一般式［２］、一般式［４］又は一般式［６］で表される化合物（二量体化合物）と酸との反応は反応溶媒中で行なわれる。
反応溶媒は、反応の進行に悪影響のない溶媒であり、二量体化合物であるジスルフィド体およびその酸化体が必要な濃度で溶解可能であれば、どのような溶媒を使用してもよい。
反応性、化合物の溶解性の観点から、好ましいのはハロゲン系溶媒であり、例えば、塩化メチレン（ジクロロメタン：ＣＨ２ＣＩ２）、クロロホルム（トリクロロメタン：ＣＨＣＩ３）、二塩化エタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、モノクロロベンゼン（Ｃｌ−Ｐｈ）、ジクロロベンゼンが挙げられる。
なかでも、塩化メチレン、クロロホルム、モノクロロベンゼン、およびジクロロベンゼンからなる群より選択される少なくとも１種が好ましく、塩化メチレン、またはクロロベンゼンがより好ましい。
溶媒は、１種のみを用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００７３】
溶媒は、反応容器に出発物質である二量体化合物を入れた後に、反応容器中に投入することができる。
溶媒の使用量は、特に制限はないが、反応液を十分に撹拌することができるという観点からは、二量体化合物の全質量に対して、５倍〜３０倍量であることが好ましく、６倍〜１０倍量であることがより好ましい。
溶媒二量体化合物を溶解させた後、反応容器中に酸を投入して反応させることが好ましい。
反応は、窒素雰囲気下等の不活性ガス雰囲気下で行なわれることが好ましい。
【００７４】
酸反応工程は、特に雰囲気温度を制御することなく常温（２５℃）にて行なうことができる。また、２０℃〜４０℃の範囲で温度制御を行なってもよい。
本工程では、特段の加熱、例えば、５０℃以上といった加熱を行なわなくても、反応が速やかに進行する。
反応時間は、１０時間以下でよく、３０分間〜８時間が好ましく、１時間〜２時間がより好ましい。後述する添加剤を用いることで、より短時間で、かつ、高収率で目的とする化合物を得ることができる。
【００７５】
＜添加剤＞
酸反応工程では、反応を促進させる目的で添加剤を使用することができる。
添加剤としては、ハロゲン化剤およびシアノ化剤から選ばれる少なくとも１種が挙げられる。
添加剤として用いうるハロゲン化剤は、例えば、塩素、塩化チオニル、塩化スルフリル、トリクロロイソシアヌル酸、オキサリルクロリド、トリクロロメタンスルホニルクロリド、ジクロロアミン、シアヌルクロリド、Ｎ−クロロスクシンイミド、Ｎ−クロロフタルイミド、ベンジルトリメチルアンモニウムトリブロミド、ボロントリブロミド、臭素、三臭化リン、ブロモトリクロロメタン、Ｎ−ブロモスクシンイミド、ジブロモイソシアヌル酸、トリブロモイソシアヌル酸、５，５−ジブロモメルドラム酸、Ｎ−ブロモサッカリン、Ｎ−ブロモフタルイミド、ブロモジメチルスルホニウムブロミド、２−ブロモ−２−シアノ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−ブロモアセトアミド、ピリジニウムブロミドパーブロミド、１−ブチル−３−メチルイミダゾリウムトリブロミド、１，２−ジブロモ−１，１，２，２−テトラクロロエタン、２，４，４，６−テトラブロモ−２，５−シクロヘキサジエノン、１，３−ジブロモ−５，５−ジメチルヒダントイン、ヨウ素、１，３−ジヨード−５，５−ジメチルヒダントイン、Ｎ−ヨードサッカリン、トリメチルシリルヨーダイド等が挙げられる。
添加剤として用いうるシアノ化剤としては、例えば、アセトンシアノヒドリン、ベンジルチオシアネイト等が挙げられる。
【００７６】
反応の促進に有用な添加剤としては、塩素化剤、臭素化剤、およびヨウ素化剤から選ばれる少なくとも１種のハロゲン化剤が好ましい。
ハロゲン化剤としては、例えば、塩素、塩化スルフリル、トリクロロイソシアヌル酸、Ｎ−クロロスクシンイミド、Ｎ−クロロフタルイミド、臭素、Ｎ−ブロモスクシンイミド、Ｎ−ブロモフタルイミド、１，３−ジブロモ−５，５−ジメチルヒダントイン、ヨウ素がより好ましく、塩化スルフリルが特に好ましい。
添加剤は１種のみを用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
添加剤の含有量は、特に制限はないが、添加剤の効果を十分に発揮するという観点からは、一般式［２］で表される化合物等の二量体化合物に対し、１０モル％〜３００モル％であることが好ましく、２０モル％〜２００モル％であることがより好ましい。
【００７７】
〔添加剤の投入〕
添加剤の使用に際しては、予め反応容器中にルイス酸およびブレンステッド酸から選ばれる少なくとも１種の酸を入れ、その後、添加剤を投入することが好ましい。
二量体化合物と酸との反応に際しては、先に反応容器中に酸を投入した後、添加剤を投入することで、反応中の急激な温度上昇を抑制することができる。
【００７８】
既述の本実施形態の製造方法によれば、特定のチアントレン化合物、フェノキサチイン化合物等を合成することができる。例えば、以下に示す如き構造において、１（１’）位、３位、１（１’）位と３位、または２位と４位に、それぞれ任意の導入可能な置換基を有する化合物を選択的に合成することができる。なお、５位〜８位は水素原子であっても置換基を有していてもよい。
【００７９】
【化１８】
0006499606.tif 000019
【００８０】
本実施形態の製造方法により製造しうる目的物質の例を以下に挙げるが、本実施形態は以下の化合物の製造方法に限定されない。
【００８１】
【化１９】
0006499606.tif 000020
【００８２】
【化２０】
0006499606.tif 000021
【００８３】
【化２１】
0006499606.tif 000022
【００８４】
【化２２】
0006499606.tif 000023
【００８５】
【化２３】
0006499606.tif 000024
【００８６】
既述の如く、本実施形態の製造方法によれば任意の位置に置換基を有する含硫黄環化化合物を、室温近傍という穏和な条件で、例えば５時間以下、好ましくは１時間程度で、高収率で製造することが可能である。収率は、７０％以上、好ましくは８０％以上、条件によっては９０％以上とすることができる。このため、本実施形態の製造方法は、従来、効率的な合成が困難であったチアントレン化合物、フェノキサチイン化合物等の有用な種々の含硫黄環化化合物の合成に適用することができる。
【実施例】
【００８７】
以下、本発明を、実施例を挙げて詳細に説明する。しかしながら、本発明は以下の実施例に何ら限定されない。
【００８８】
中圧分取カラムクロマトグラフィーは、Ｓｍａｒｔ  ＦＬＡＳＨ  ＥＰＣＬＣ−Ｗ−Ｐｒｅｐ  ２ＸＹ（山善株式会社）を使用した。
以下の実施例において、溶離液における混合比は、容量比である。たとえば、「酢酸エチル／ヘキサン＝  １：１→酢酸エチル／ヘキサン４：１」は、５０質量％酢酸エチル／５０質量％ヘキサンの溶離液を最終的に８０質量％酢酸エチル／２０質量％ヘキサンの溶離液へ変化させたことを意味する。
実施例における１Ｈ−ＮＭＲスペクトルは、内部基準としてテトラメチルシランを用い、Ｂｒｕｋｅｒ  ＡＶ４００Ｎ（Ｂｒｕｋｅｒ社）を用いて測定し、全δ値をｐｐｍで示した。
高速液体クロマトグラフ質量分析は、ＡＱＵＩＴＹ  ＵＰＬＣ  Ｈ−ＣｌａｓｓＳｙｓｔｅｍ（Ｗａｔｅｒｓ社）を用いて測定した。以下、ＵＰＬＣ−ＭＳと略す。
【００８９】
［実施例１〜実施例１０］
１，２−ビス（−（（２−ブロモフェニル）チオ）−５−ニトロフェニル）ジスルファン０．２ｇに溶媒１．８ｍＬ入れ、窒素雰囲気下、下記表１に示す酸を添加して室温にて撹拌した。なお、酸に加え、表１に示す添加剤としてのハロゲン化剤を用いた場合がある。添加剤を使用する場合には、まず酸を反応容器中に投入し、酸の投入後に、添加剤を反応容器中に投入した。
反応液にテトラヒドロフランを入れ完溶させたのちに、反応混合物をＵＰＬＣ−ＭＳで分析したところ、１−ブロモ−７−ニトロチアントレンの生成が確認された。さらに、内部標準（４−プロピルビフェニル）との比較から反応率を算出した。結果を表１に併記した。
【００９０】
【化２４】
0006499606.tif 000025
【００９１】
【表１】
0006499606.tif 000026
【００９２】
表１より、実施例の方法によれば、目的とする含硫黄環化化合物を室温（ＲＴ：２５℃）という穏和な温度条件で、７１．０％以上という高収率で製造することができることがわかる。
また、実施例１〜２より、特に反応促進用の添加剤を用いなくても、目的とする含硫黄環化化合物の高収率な製造を達成できることがわかる。さらに、例えば、実施例１と実施例５及び実施例９との対比より、添加剤の使用により、添加剤を使用しない製造方法に比較し、さらに収率が向上することがわかる。
【００９３】
［実施例１１］
１，２−ビス（２−（（２−ブロモフェニル）チオ）−５−ニトロフェニル）ジスルファン２０．０ｇに溶媒である塩化メチレン１８０ｍＬ，塩化アルミニウム２．０５ｇを加え、窒素雰囲気下にて室温で１時間撹拌した。その後、塩化スルフリル２．７ｍＬを加え、室温で１時間撹拌した。氷水に反応液をさらし、メタノールを加え、濾過し、固体の１−ブロモ−７−ニトロチアントレン１７．８ｇ（収率８５％）を得た。得られた化合物の分析結果を以下に示す。
１Ｈ−ＮＭＲ（（ＣＤ３）２ＳＯ）δ値：８．４０−８．３８（１Ｈ，ｍ），８．１９−８．１６（１Ｈ，ｍ），７．９１−７．８９（１Ｈ，ｍ），７．７６−７．７３（１Ｈ，ｍ），７．６４−７．６２（１Ｈ，ｍ），７．３５−７．３１（１Ｈ，ｍ）
【００９４】
［実施例１２］
１，２−ビス（２−（２−ブロモフェノキシ）−５−ニトロフェニル）ジスルファン０．１ｇに塩化メチレン１．０ｍＬ，塩化アルミニウム１０．２ｍｇを加え、窒素雰囲気下にて室温で１時間撹拌した。その後、塩化スルフリル１４μＬを加え、室温で１時間撹拌した。反応液にテトラヒドロフランを入れ完溶させたのちに反応混合物をＵＰＬＣ−ＭＳで分析したところ、１−ブロモ−７−ニトロフェノキサチインの生成を確認し、内部標準（４−プロピルビフェニル）との比較から反応率９２．２％を算出した。
スキームおよび、得られた化合物の分析結果を以下に示す。
【００９５】
【化２５】
0006499606.tif 000027
【００９６】
１Ｈ−ＮＭＲ（（ＣＤ３）２ＳＯ）δ値：８．３０−８．２９（１Ｈ，ｍ），８．１３−８．０９（１Ｈ，ｍ），７．５９−７．５６（１Ｈ，ｍ），７．３７−７．３２（２Ｈ，ｍ），７．１４−７．０８（１Ｈ，ｍ）
【００９７】
［比較例１〜比較例５］
以下に、公知文献に記載された含硫黄環化化合物の合成スキーム、および文献に記載された収率を、当該文献名と共に記載する。化合物に併記された（  ）内の数値は収率を表す。
比較例１：国際公開２０１５／３００５７号に記載の合成方法の一態様
【００９８】
【化２６】
0006499606.tif 000028
【００９９】
比較例２：国際公開２００５／０１６９１９号に記載の合成方法の一態様
なお、下記合成方法におけるＭｅはメチル基を示す。
【０１００】
0006499606.tif 000029
【０１０１】
比較例３：Ｃｈｅｍ．Ｅｕｒ．Ｊ．第１５号，ｐｐ．１３３１３−１３３１７（２００９年）に記載の合成方法の一態様
なお、下記合成方法におけるＥｔはエチル基を示す。
【０１０２】
【化２７】
0006499606.tif 000030
【０１０３】
比較例４：Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ，第５１号、ｐｐ．９１６５−９１６８（２０１５年）に記載の合成方法の一態様
なお、下記合成方法におけるＭｅはメチル基を、ＴＭＳはトリメチルシリル基を、Ｔｆはトリフルオロメチルスルホニルを、それぞれ示す。
【０１０４】
【化２８】
0006499606.tif 000031
【０１０５】
比較例５：Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｅｓ，第３６号、ｐｐ．９８７−９９３（１９９３年）に記載の合成方法の一態様
【０１０６】
【化２９】
0006499606.tif 000032
【０１０７】
実施例の製造方法により得られた含硫黄環化化合物の収率は最低でも７１％であるのに対し、比較例の各製造方法によれば、高温または長時間での反応を行なっている場合でも、８０％以上という収率が達成されないことがわかる。
なお比較例における収率の最大値は、比較例２に記載の製造方法による７３％ではあるが、比較例２では原料との関連で特定の位置に置換基を有する含硫黄環化化合物しか合成できないことが確認された。
このことから、実施例の製造方法によれば、室温にて、２時間〜７時間という穏和な条件にて、目的とする含硫黄環化化合物が高収率で得られることが確認された。添加剤を用いた場合には、室温にて、さらに短時間、例えば１時間〜２時間で、目的とする含硫黄環化化合物が高収率で得られることが確認された。