(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の光源を有する光送信機であって前記複数の光源の位置をそれぞれ特定可能な印が付された光送信機と、前記複数の光源から出射される光をそれぞれ伝播可能な複数のコアを有する光導波路と、を基板に設け、
前記印に基づいて前記複数の光源の各位置を特定し、
前記複数の光源から出射される光をそれぞれ反射させて前記複数のコアにより伝播させる複数のミラーを、前記印に基づいて特定した前記複数の光源の各位置に応じた前記光導波路の位置に形成する、
ことを特徴とする光インターコネクションの光軸調整方法。
【請求項２】
前記印が示す各位置と、前記複数の光源の各位置と、の間のずれを示す情報を取得し、
前記印が示す各位置と、取得した前記情報が示すずれと、に基づいて前記複数の光源の位置を特定する、
ことを特徴とする請求項１に記載の光インターコネクションの光軸調整方法。
【請求項３】
前記基板は、前記複数の光源に対応する位置に開口部を有し、
前記開口部を介して前記光導波路にレーザ光を照射することにより前記複数のミラーを形成する、
ことを特徴とする請求項１または２に記載の光インターコネクションの光軸調整方法。
【請求項４】
前記開口部を介して前記印を撮影し、
前記印を撮影して得られた画像データに基づいて前記複数の光源の位置を特定する、
ことを特徴とする請求項３に記載の光インターコネクションの光軸調整方法。
【請求項５】
前記基板には、前記複数のコアによって伝播した光をそれぞれ受光する複数の受光部を有する光受信機が設けられ、
前記光導波路には、前記複数のコアにより伝播した光をそれぞれ反射させて前記複数の受光部へ出射する出射側のミラーが形成され、
前記複数のコアのそれぞれは、前記基板における前記光導波路が設けられる面と平行な方向のコア幅が、前記出射側のミラーが設けられる部分に近づくほど小さくなる勾配部を有し、前記複数の光源からの各光が入射する部分の前記コア幅より、前記出射側のミラーが設けられる部分の前記コア幅の方が小さい、
ことを特徴とする請求項１〜４のいずれか一つに記載の光インターコネクションの光軸調整方法。
【請求項６】
基板と、
前記基板に設けられ複数の光源を有する光送信機であって、前記複数の光源の位置をそれぞれ特定可能な印が付された光送信機と、
前記基板に設けられ、前記複数の光源から出射される光をそれぞれ伝播可能な複数のコアを有する光導波路であって、前記複数の光源から出射される光をそれぞれ反射させて前記複数のコアにより伝播させる複数のミラーが、前記印に基づいて特定される前記複数の光源の各位置に応じた位置に形成された光導波路と、
を備えることを特徴とする光インターコネクション基板。
【請求項７】
複数の光をそれぞれ伝播可能な複数のコアを有する光導波路と、前記光導波路によって伝播した光をそれぞれ受光する複数の受光部を有する光受信機であって前記複数の受光部の位置をそれぞれ特定可能な印が付された光受信機と、を基板に設け、
前記印に基づいて前記複数の受光部の各位置を特定し、
前記複数のコアによって伝播した光をそれぞれ反射させて前記複数の受光部に受光させる複数のミラーを、前記印に基づいて特定した前記複数の受光部の各位置に応じた前記光導波路の位置に形成する、
ことを特徴とする光インターコネクションの光軸調整方法。
【請求項８】
基板と、
前記基板に設けられ複数の光をそれぞれ伝播可能な複数のコアを有する光導波路と、
前記基板に設けられ、前記光導波路によって伝播した光をそれぞれ受光する複数の受光部を有する光受信機であって、前記複数の受光部の位置をそれぞれ特定可能な印が付された光受信機と、
を備え、前記光導波路には、前記光導波路によって伝播した光をそれぞれ反射させて前記複数の受光部に受光させる複数のミラーが、前記印に基づいて特定される前記複数の受光部の各位置に応じた位置に形成されている、
ことを特徴とする光インターコネクション基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光インターコネクションの光軸調整方法および光インターコネクション基板に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、光素子と光導波路との位置合せを行うために、光素子と光導波路にそれぞれ位置合わせ用のマーカを設ける技術が知られている（たとえば、下記特許文献１参照。）。また、光導波部を、光出射側に行くほどコア幅が徐々に直線的に狭くなる形状とする技術が知られている（たとえば、下記特許文献１参照。）。
【０００３】
また、基板上に形成された光導波路を構成要素とする光結合構造において、光導波路の光出射端面におけるコア幅を、光ビーム入射端面と比べて狭くする技術が知られている（たとえば、下記特許文献２参照。）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００５−２６５８８５号公報
【特許文献２】特開２００３−２７０４６２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上述した従来技術では、たとえばチャネルが３つ以上である場合に、両端のチャネル以外のチャネルについては光軸を正確に合わせることが困難であるという問題がある。
【０００６】
１つの側面では、本発明は、両端以外にあるチャネルの光軸を正確に合わせることができる光インターコネクションの光軸調整方法および光インターコネクション基板を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上述した課題を解決し、目的を達成するため、本発明の一側面によれば、複数の光源を有する光送信機であって前記複数の光源の位置をそれぞれ特定可能な印が付された光送信機と、前記複数の光源から出射される光をそれぞれ伝播可能な複数のコアを有する光導波路と、を基板に設け、前記印に基づいて前記複数の光源の各位置を特定し、前記複数の光源から出射される光をそれぞれ反射させて前記複数のコアにより伝播させる複数のミラーを、特定した前記複数の光源の各位置に応じた前記光導波路の位置に形成する光インターコネクションの光軸調整方法および該光軸調整方法により光軸調整された光インターコネクション基板が提案される。
【０００８】
本発明の別の一側面によれば、複数の光をそれぞれ伝播可能な複数のコアを有する光導波路と、前記光導波路によって伝播した光をそれぞれ受光する複数の受光部を有する光受信機であって前記複数の受光部の位置をそれぞれ特定可能な印が付された光受信機と、を基板に設け、前記印に基づいて前記複数の受光部の各位置を特定し、前記複数のコアによって伝播した光をそれぞれ反射させて前記複数の受光部に受光させる複数のミラーを、特定した前記複数の受光部の各位置に応じた前記光導波路の位置に形成する光インターコネクションの光軸調整方法および該光軸調整方法により光軸調整された光インターコネクション基板が提案される。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の一側面によれば、両端以外にあるチャネルの光軸を正確に合わせることができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】図１は、実施の形態にかかる光インターコネクション基板の一例を示す正面図である。
【図２Ａ】図２Ａは、光源およびミラーの光軸ずれがない状態の一例を参考として示す図である。
【図２Ｂ】図２Ｂは、光源およびミラーの光軸ずれが生じた状態の一例を参考として示す斜視図である。
【図２Ｃ】図２Ｃは、ミラーの光軸が調整された状態（送信側）の一例を示す斜視図である。
【図２Ｄ】図２Ｄは、ミラーの光軸が調整された状態（受信側）の一例を示す斜視図である。
【図３】図３は、ミラーを形成する加工装置の一例を示す図である。
【図４Ａ】図４Ａは、画像データおよびアライメントマークの一例を示す図である。
【図４Ｂ】図４Ｂは、アライメントマークの変形例１を示す図である。
【図４Ｃ】図４Ｃは、アライメントマークの変形例２を示す図である。
【図５】図５は、光インターコネクション基板の製造プロセスの一例を示すフローチャートである。
【図６Ａ】図６Ａは、ミラーの形成工程の一例を示す図（その１）である。
【図６Ｂ】図６Ｂは、ミラーの形成工程の一例を示す図（その２）である。
【図６Ｃ】図６Ｃは、ミラーの形成工程の一例を示す図（その３）である。
【図７】図７は、光導波路の形状の一例を示す図である。
【図８】図８は、光導波路のコアの斜視図である。
【図９】図９は、光導波路のコアにおける光の伝播の一例を示す正面図である。
【図１０Ａ】図１０Ａは、光導波路のコアの変形例１を示す斜視図である。
【図１０Ｂ】図１０Ｂは、光導波路のコアの変形例１を示す上面図である。
【図１１Ａ】図１１Ａは、光導波路のコアの変形例２を示す斜視図である。
【図１１Ｂ】図１１Ｂは、光導波路のコアの変形例２を示す上面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下に図面を参照して、本発明にかかる光インターコネクションの光軸調整方法および光インターコネクション基板の実施の形態を詳細に説明する。
【００１２】
（実施の形態）
（実施の形態にかかる光インターコネクション基板）
図１は、実施の形態にかかる光インターコネクション基板の一例を示す正面図である。図１に示すように、実施の形態にかかる光インターコネクション基板１００は、プリント回路基板１０１と、第１回路１１０と、光送信機１２０と、光導波路群１３０と、光受信機１４０と、第２回路１５０と、を備える。
【００１３】
図１において、Ｚ軸方向は、プリント回路基板１０１の実装面に対して垂直な方向である。Ｙ軸方向は、プリント回路基板１０１の実装面に対して平行な方向であって、光導波路群１３０における光の進行方向である。Ｘ軸方向は、プリント回路基板１０１の実装面に対して平行な方向であって、Ｙ軸方向に対して垂直な方向である。
【００１４】
光インターコネクション基板１００においては、プリント回路基板１０１に対して第１回路１１０、光送信機１２０、光導波路群１３０、光受信機１４０および第２回路１５０が実装される。そして、第１回路１１０と第２回路１５０が、光送信機１２０、光導波路群１３０および光受信機１４０を用いた光インターコネクションにより接続される。これにより、第１回路１１０から第２回路１５０への信号の伝送が可能になる。
【００１５】
プリント回路基板１０１は、たとえばマザーボードなどのＰＣＢ（Ｐｒｉｎｔｅｄ  Ｃｉｒｃｕｉｔ  Ｂｏａｒｄ：プリント回路基板）である。第１回路１１０および第２回路１５０は、それぞれＬＳＩ１１１，１５１を含む。ＬＳＩ１１１，１５１は、それぞれ情報処理を行うＬＳＩ（Ｌａｒｇｅ  Ｓｃａｌｅ  Ｉｎｔｅｇｒａｔｉｏｎ：大規模集積回路）である。
【００１６】
光送信機１２０は、プリント回路基板１０１を介して第１回路１１０に電気的に接続されている。光送信機１２０は、光源アレイ１２１を備える。光源アレイ１２１は、複数のチャネル（１ｃｈ，２ｃｈ，３ｃｈ，…）に対応して、Ｘ軸方向に配列された複数の光源を有する。光源アレイ１２１に含まれる各光源は、それぞれ光導波路群１３０に含まれる各光導波路へ向けて、Ｚ軸方向（図の下方向）に光を出射する。
【００１７】
光源アレイ１２１に含まれる各光源は、たとえばＶＣＳＥＬ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ｃａｖｉｔｙ  Ｓｕｒｆａｃｅ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｌａｓｅｒ：垂直共振器面発光レーザ）などのＬＤ（Ｌａｓｅｒ  Ｄｉｏｄｅ：レーザダイオード）である。
【００１８】
たとえば、図１に示す光源１２１ａは、光源アレイ１２１に含まれる１ｃｈの光源である。光源１２１ａは、第１回路１１０からプリント回路基板１０１を介して出力された電気信号に基づく光を発振して出射する。１ｃｈに対応する光源１２１ａについて説明したが、それぞれ２ｃｈ，３ｃｈ，…に対応する光源アレイ１２１の他の各光源についても同様である。
【００１９】
光導波路群１３０は、複数のチャネル（１ｃｈ，２ｃｈ，３ｃｈ，…）に対応して、プリント回路基板１０１に積層して設けられた複数の光導波路である。光導波路群１３０に含まれる各光導波路は、たとえばポリマ材料を用いたポリマ導波路である。たとえば、光導波路群１３０は、フォトリソグラフィなどにより形成することができる。
【００２０】
たとえば、図１に示す光導波路１３０ａは、光導波路群１３０に含まれる１ｃｈの光導波路である。光導波路１３０ａは、クラッド１３１ａと、クラッド１３１ａに囲まれたコア１３２ａと、を有する。コア１３２ａは、クラッド１３１ａより屈折率が高い。光導波路１３０ａをフォトリソグラフィなどにより形成することにより、コア１３２ａの高さを一定（たとえば３０［μｍ］）にすることができる。
【００２１】
また、光導波路１３０ａは、光源１２１ａに対応する位置にミラー１３３ａを有する。また、光導波路１３０ａは、光受信機１４０の側の端部にミラー１３４ａを有する。ミラー１３３ａ，１３４ａは、たとえば光導波路１３０ａに設けられた空間である。図１に示す例では、ミラー１３３ａ，１３４ａは、光導波路１３０ａの両端部をそれぞれ三角錐の形状で削り取ることによって形成された光導波路１３０ａの境界面である。
【００２２】
ミラー１３３ａ，１３４ａの形成方法について説明する。たとえば、プリント回路基板１０１には開口部１０２，１０３が設けられている。開口部１０２，１０３は、たとえばプリント回路基板１０１の製造時に型形成される。または、開口部１０２，１０３はプリント回路基板１０１の形成後に塑性加工により設けられてもよい。
【００２３】
ミラー１３３ａは、開口部１０２を用いて、光導波路１３０ａの一部をプリント回路基板１０１の側からレーザ照射等により切削することにより光導波路１３０ａに形成されている。ミラー１３４ａは、開口部１０３を用いて、光導波路群１３０の一部をプリント回路基板１０１の側から切削することにより光導波路１３０ａに形成されている。
【００２４】
開口部１０２，１０３のそれぞれは、たとえば空間（空気）である。または、開口部１０２，１０３は、プリント回路基板１０１の板厚とほぼ同じ厚みのレーザ光を透過する材質で埋まっていてもよい。これにより、防塵効果を得ることができる。また、プリント回路基板１０１の強度の低下を抑えることができる。レーザ光を透過する材質には、たとえばガラス、アクリル、ポリカーボネート等の樹脂を用いることができる。
【００２５】
または、開口部１０２，１０３は、ミラー１３３ａ，１３４ａの形成後に、樹脂等で埋められていてもよい。この場合に用いる樹脂は、レーザ光を透過する材質でなくてもよい。また、開口部１０２，１０３は、たとえばプリント回路基板１０１の下面から貼り付けられたシールなどにより塞がれていてもよい。
【００２６】
ミラー１３３ａは、光源１２１ａから出射された光を反射させてコア１３２ａへ入射させる。ミラー１３３ａからコア１３２ａへ入射した光は、クラッド１３１ａとコア１３２ａとの間の境界面で全反射しながらコア１３２ａを伝播する。ミラー１３４ａは、コア１３２ａを伝播した光を反射させてＺ軸方向（図の上方向）へ出射する。１ｃｈに対応する光導波路１３０ａについて説明したが、それぞれ２ｃｈ，３ｃｈ，…に対応する光導波路群１３０の他の各光導波路についても同様である。
【００２７】
光受信機１４０は、プリント回路基板１０１を介して第２回路１５０に電気的に接続されている。光受信機１４０は、受光部アレイ１４１を備える。受光部アレイ１４１は、複数のチャネル（１ｃｈ，２ｃｈ，３ｃｈ，…）に対応してＸ軸方向に配列された複数の受光部を有する。受光部アレイ１４１に含まれる各受光部は、それぞれ光導波路群１３０に含まれる各光導波路から出射された光を受光する。受光部アレイ１４１に含まれる各受光部は、たとえばＰＤ（Ｐｈｏｔｏ  Ｄｉｏｄｅ：フォトダイオード）である。
【００２８】
たとえば、図１に示す受光部１４１ａは、受光部アレイ１４１における１ｃｈの受光部である。受光部１４１ａは、ミラー１３４ａから出射された光を受光する。そして、受光部１４１ａは、受光した光に基づく電気信号を、プリント回路基板１０１を介して第２回路１５０へ出力する。１ｃｈに対応する受光部１４１ａについて説明したが、それぞれ２ｃｈ，３ｃｈ，…に対応する受光部アレイ１４１の他の各受光部についても同様である。
【００２９】
（光源およびミラーの光軸ずれがない状態）
図２Ａは、光源およびミラーの光軸ずれがない状態の一例を参考として示す図である。図２Ａにおいて、図１に示した部分と同様の部分については同一の符号を付して説明を省略する。図２Ａの右側の斜視図は、光源アレイ１２１と、光導波路群１３０における光源アレイ１２１の側の端部と、を示している。図２Ａにおいては、一例として、チャネルが４つ（１ｃｈ〜４ｃｈ）である場合について説明する。
【００３０】
すなわち、光源アレイ１２１は、それぞれ１ｃｈ〜４ｃｈに対応する光源１２１ａ〜１２１ｄを有する。また、光導波路群１３０は、それぞれ１ｃｈ〜４ｃｈに対応する光導波路１３０ａ〜１３０ｄを有する。クラッド１３１ａ〜１３１ｄは、それぞれ光導波路１３０ａ〜１３０ｄのクラッドである。コア１３２ａ〜１３２ｄは、それぞれ光導波路１３０ａ〜１３０ｄのコアである。ミラー１３３ａ〜１３３ｄは、それぞれ光導波路１３０ａ〜１３０ｄにおける光源アレイ１２１の側に設けられたミラーである。
【００３１】
図２Ａにおいては、光源１２１ａ〜１２１ｄおよびミラー１３３ａ〜１３３ｄの製造ばらつきがない理想的な状態を示している。このため、たとえば光源１２１ａおよびミラー１３３ａの間の相対位置と、光源１２１ｄおよびミラー１３３ｄの間の相対位置と、を一致させることで、各チャネルにおける光源とミラーとの光軸を一致させることができる。
【００３２】
図２Ａに示す例では、光源１２１ａの光軸（一点鎖線）と、ミラー１３３ａの光軸（一点鎖線）と、が一致している。同様に、光源１２１ｂ〜１２１ｄの光軸とミラー１３３ｂ〜１３３ｄの光軸とがそれぞれ一致している。なお、光源または受光部の光軸は、たとえば光源または受光部の回転対称軸と一致するＺ軸方向の軸である。ミラーの光軸は、たとえばミラーの中心位置を通るＺ軸方向の軸である。
【００３３】
（光源およびミラーの光軸ずれが生じた状態）
図２Ｂは、光源およびミラーの光軸ずれが生じた状態の一例を参考として示す斜視図である。図２Ｂにおいて、図２Ａに示した部分と同様の部分については同一の符号を付して説明を省略する。図２Ｂに示す例では、光源１２１ａ〜１２１ｄおよびミラー１３３ａ〜１３３ｄの製造ばらつきにより、光源１２１ｂの光軸（一点鎖線）と、ミラー１３３ｂの光軸（一点鎖線）と、の間で光軸ズレ２６１が生じている。同様に、光源１２１ａ，１２１ｃ，１２１ｄの光軸とミラー１３３ａ，１３３ｃ，１３３ｄの中心位置との間でも光軸ずれが生じている。
【００３４】
（ミラーの光軸が調整された状態）
図２Ｃは、ミラーの光軸が調整された状態（送信側）の一例を示す斜視図である。図２Ｃにおいて、図２Ａに示した部分と同様の部分については同一の符号を付して説明を省略する。図２Ｃに示す例では、光源１２１ａ〜１２１ｄおよびミラー１３３ａ〜１３３ｄの製造ばらつきがあるが、図１に示した開口部１０２を用いて、光源１２１ａ〜１２１ｄと位置を合わせるようにミラー１３３ａ〜１３３ｄが形成されている。この結果、光源１２１ａ〜１２１ｄの光軸（一点鎖線）と、ミラー１３３ａ〜１３３ｄの光軸（一点鎖線）と、がそれぞれ一致している。
【００３５】
図２Ｄは、ミラーの光軸が調整された状態（受信側）の一例を示す斜視図である。図２Ｄにおいて、図２Ｃに示した部分と同様の部分については同一の符号を付して説明を省略する。図２Ｃにおいては光源１２１ａ〜１２１ｄとミラー１３３ａ〜１３３ｄとの位置合わせについて説明したが、受信側においても受光部アレイ１４１の各受光部に対応する複数のミラーを形成する場合は、受信側においても同様の位置合わせを行ってもよい。
【００３６】
図２Ｄに示すミラー１３４ａ〜１３４ｄは、１ｃｈ〜４ｃｈに対応してそれぞれ光導波路１３０ａ〜１３０ｄの受光部アレイ１４１の側に設けられたミラーである。受光部１４１ａ〜１４１ｄは、受光部アレイ１４１に含まれそれぞれ１ｃｈ〜４ｃｈに対応する受光部である。
【００３７】
ミラー１３４ａ〜１３４ｄと受光部１４１ａ〜１４１ｄとの位置合わせについても、光源１２１ａ〜１２１ｄとミラー１３３ａ〜１３３ｄとの位置合わせと同様に行うことができる。これにより、ミラー１３４ａ〜１３４ｄの光軸（一点鎖線）と、受光部１４１ａ〜１４１ｄの光軸（一点鎖線）と、をそれぞれ一致させることができる。
【００３８】
（ミラーを形成する加工装置）
図３は、ミラーを形成する加工装置の一例を示す図である。図３に示す光軸３０１は、光源１２１ａの光軸である。図３に示すコリメートレンズ３０２は、光源１２１ａと光導波路１３０ａとの間に設けられ、光源１２１ａから出射された光をコリメートする。なお、ミラー１３３ａを形成する際にコリメートレンズ３０２は設けられていなくてもよい。
【００３９】
図３に示す加工装置３１０は、光導波路１３０ａを加工することによりミラー１３３ａを形成する装置である。加工装置３１０は、カメラ３１１と、カメラ駆動部３１２と、レーザ装置３２１と、レーザ駆動部３２２と、制御部３３０と、を備える。
【００４０】
カメラ３１１は、開口部１０２を介して、プリント回路基板１０１の側から光源１２１ａを撮影するデジタルカメラである。コリメートレンズ３０２および光導波路１３０ａは透明な部材であるため、カメラ３１１は光源１２１ａをプリント回路基板１０１の側から撮影することができる。
【００４１】
カメラ駆動部３１２は、制御部３３０からの制御によってカメラ３１１を駆動する。たとえば、カメラ駆動部３１２は、カメラ３１１を、カメラ３１１が光源１２１ａを撮影可能な位置と、カメラ３１１がレーザ装置３２１によるレーザ照射を遮らない位置と、のいずれかに移動させる。
【００４２】
レーザ装置３２１は、開口部１０２を介して、レーザ光を光導波路１３０ａへ照射して光導波路１３０ａの一部を切削することによりミラー１３３ａを形成する。レーザ装置３２１には、たとえば紫外線レーザ装置（一例としてはエキシマレーザ）などを用いることができる。
【００４３】
レーザ駆動部３２２は、制御部３３０からの制御によってレーザ装置３２１を駆動する。たとえば、レーザ駆動部３２２は、レーザ装置３２１を、レーザ装置３２１が開口部１０２を介して光導波路１３０ａにレーザ照射可能な位置と、その他の位置と、に移動させる。また、レーザ駆動部３２２は、レーザ装置３２１の位置を微調整しながらレーザ装置３２１によるレーザの照射を制御することにより、光導波路１３０ａにミラー１３３ａを形成する。なお、レーザ装置３２１の位置は、レーザ装置３２１が開口部１０２を介して光導波路１３０ａにレーザ照射可能な位置に固定されていてもよい。
【００４４】
制御部３３０は、カメラ駆動部３１２およびレーザ駆動部３２２を制御することにより、光源１２１ａの光軸３０１と一致する位置にミラー１３３ａを形成する。制御部３３０の制御によるミラー１３３ａの形成については後述する（たとえば図６Ａ〜図６Ｃ）。
【００４５】
また、加工装置３１０は、ミラー１３３ｂ〜１３３ｄ，１３４ａ〜１３４ｄについてもミラー１３３ａと同様に形成することができる。この場合に、カメラ３１１は、たとえば光源１２１ａ〜１２１ｄを一度にまとめて撮影してもよい。また、カメラ３１１は、たとえば受光部１４１ａ〜１４１ｄを一度にまとめて撮影してもよい。
【００４６】
（画像データおよびアライメントマーク）
図４Ａは、画像データおよびアライメントマークの一例を示す図である。図４Ａに示す画像データ４１０は、カメラ３１１によって生成されたデジタルの画像データを可視化したものである。カメラ３１１によって光源１２１ａ〜１２１ｄをまとめて撮影した場合は、たとえば図４Ａに示す画像データ４１０を得ることができる。配線パターン４１１ａ〜４１１ｄは、それぞれ光源１２１ａ〜１２１ｄの配線パターン（電極）である。
【００４７】
マーカ４１２ａ〜４１２ｄは、それぞれ光源１２１ａ〜１２１ｄを囲むように光源アレイ１２１の表面に形成されたアライメントマーク（印）である。マーカ４１２ａ〜４１２ｄは、それぞれ光源１２１ａ〜１２１ｄの光軸と中心が一致する円弧（幅広円弧）の形状である。このため、光源１２１ａ〜１２１ｄが小さく画像データ４１０から光源１２１ａ〜１２１ｄの各光軸の位置を直接特定することが困難であっても、マーカ４１２ａ〜４１２ｄの位置に基づいて光源１２１ａ〜１２１ｄの各光軸の位置が特定可能になる。
【００４８】
すなわち、制御部３３０は、画像データ４１０に基づく画像処理（たとえばパターン認識）によりマーカ４１２ａ〜４１２ｄの位置を特定し、特定した各位置に基づく演算により光源１２１ａ〜１２１ｄの各光軸の位置を特定することができる。
【００４９】
マーカ４１２ａ〜４１２ｄは、たとえば配線パターン４１１ａ〜４１１ｄとともに同一の工程で形成されたダミーパターンとすることができる。ダミーパターンは、たとえば、実際には電気配線として用いられないダミーの配線パターンである。これにより、工程数の増加を抑えつつマーカ４１２ａ〜４１２ｄを形成することができる。ただし、マーカ４１２ａ〜４１２ｄは、ダミーパターンに限らず、たとえばソルダレジストやシルク印刷などによって形成されたマーカであってもよい。
【００５０】
図４Ｂは、アライメントマークの変形例１を示す図である。図４Ｂにおいて、図４Ａに示した部分と同様の部分については同一の符号を付して説明を省略する。図４Ａに示したマーカ４１２ａ〜４１２ｄに代えて、図４Ｂに示すマーカ４２１ａ，４２２ａ，４２３ａ，４２１ｂ，４２２ｂ，４２３ｂ，４２１ｃ，４２２ｃ，４２３ｃ，４２１ｄ，４２２ｄ，４２３ｄを光源アレイ１２１に形成してもよい。
【００５１】
マーカ４２１ａ，４２２ａ，４２３ａは、中心が光源１２１ａの光軸と一致する円弧上の３つのマーカである。マーカ４２１ｂ，４２２ｂ，４２３ｂは、中心が光源１２１ｂの光軸と一致する円弧上の３つのマーカである。
【００５２】
マーカ４２１ｃ，４２２ｃ，４２３ｃは、中心が光源１２１ｃの光軸と一致する円弧上の３つのマーカである。マーカ４２１ｄ，４２２ｄ，４２３ｄは、中心が光源１２１ｄの光軸と一致する円弧上の３つのマーカである。
【００５３】
制御部３３０は、画像データ４１０に基づく画像処理（たとえばパターン認識）によりマーカ４２１ａ，４２２ａ，４２３ａ，４２１ｂ，４２２ｂ，４２３ｂ，４２１ｃ，４２２ｃ，４２３ｃ，４２１ｄ，４２２ｄ，４２３ｄの各位置を特定する。
【００５４】
そして、制御部３３０は、特定したマーカ４２１ａ，４２２ａ，４２３ａの各位置に基づく演算により光源１２１ａの光軸の位置を特定することができる。また、制御部３３０は、特定したマーカ４２１ｂ，４２２ｂ，４２３ｂの各位置に基づく演算により光源１２１ｂの光軸の位置を特定することができる。また、制御部３３０は、特定したマーカ４２１ｃ，４２２ｃ，４２３ｃの各位置に基づく演算により光源１２１ｃの光軸の位置を特定することができる。また、制御部３３０は、特定したマーカ４２１ｄ，４２２ｄ，４２３ｄの各位置に基づく演算により光源１２１ｄの光軸の位置を特定することができる。
【００５５】
マーカ４２１ａ，４２２ａ，４２３ａ，４２１ｂ，４２２ｂ，４２３ｂ，４２１ｃ，４２２ｃ，４２３ｃ，４２１ｄ，４２２ｄ，４２３ｄは、たとえば配線パターン４１１ａ〜４１１ｄとともに同一の工程で形成されたダミーパターンとすることができる。これにより、工程数の増加を抑えつつマーカ４２１ａ，４２２ａ，４２３ａ，４２１ｂ，４２２ｂ，４２３ｂ，４２１ｃ，４２２ｃ，４２３ｃ，４２１ｄ，４２２ｄ，４２３ｄを形成することができる。ただし、マーカ４２１ａ，４２２ａ，４２３ａ，４２１ｂ，４２２ｂ，４２３ｂ，４２１ｃ，４２２ｃ，４２３ｃ，４２１ｄ，４２２ｄ，４２３ｄは、ダミーパターンに限らず、たとえばソルダレジストやシルク印刷などによって形成されたパターンであってもよい。
【００５６】
図４Ｃは、アライメントマークの変形例２を示す図である。図４Ｃにおいて、図４Ａに示した部分と同様の部分については同一の符号を付して説明を省略する。図４Ａに示したマーカ４１２ａ〜４１２ｄに代えて、図４Ｃに示すマーカ４３１ａ，４３２ａ，４３１ｂ，４３２ｂ，４３１ｃ，４３２ｃ，４３１ｄ，４３２ｄを光源アレイ１２１に形成してもよい。
【００５７】
マーカ４３１ａ，４３２ａは、中点が光源１２１ａの光軸と一致する２つのマーカである。マーカ４３１ｂ，４３２ｂは、中点が光源１２１ｂの光軸と一致する２つのマーカである。マーカ４３１ｃ，４３２ｃは、中点が光源１２１ｃの光軸と一致する２つのマーカである。マーカ４３１ｄ，４３２ｄは、中点が光源１２１ｄの光軸と一致する２つのマーカである。
【００５８】
制御部３３０は、画像データ４１０に基づく画像処理（たとえばパターン認識）によりマーカ４３１ａ，４３２ａ，４３１ｂ，４３２ｂ，４３１ｃ，４３２ｃ，４３１ｄ，４３２ｄの各位置を特定する。
【００５９】
そして、制御部３３０は、特定したマーカ４３１ａ，４３２ａの各位置に基づく演算により光源１２１ａの光軸の位置を特定することができる。また、制御部３３０は、特定したマーカ４３１ｂ，４３２ｂの各位置に基づく演算により光源１２１ｂの光軸の位置を特定することができる。また、制御部３３０は、特定したマーカ４３１ｃ，４３２ｃの各位置に基づく演算により光源１２１ｃの光軸の位置を特定することができる。また、制御部３３０は、特定したマーカ４３１ｄ，４３２ｄの各位置に基づく演算により光源１２１ｄの光軸の位置を特定することができる。
【００６０】
マーカ４３１ａ，４３２ａ，４３１ｂ，４３２ｂ，４３１ｃ，４３２ｃ，４３１ｄ，４３２ｄは、たとえば配線パターン４１１ａ〜４１１ｄとともに同一の工程で形成されたダミーパターンとすることができる。これにより、工程数の増加を抑えつつマーカ４３１ａ，４３２ａ，４３１ｂ，４３２ｂ，４３１ｃ，４３２ｃ，４３１ｄ，４３２ｄを形成することができる。ただし、マーカ４３１ａ，４３２ａ，４３１ｂ，４３２ｂ，４３１ｃ，４３２ｃ，４３１ｄ，４３２ｄは、ダミーパターンに限らず、たとえばソルダレジストやシルク印刷などによって形成されたパターンであってもよい。
【００６１】
なお、アライメントマークについては、図４Ａ〜図４Ｃに示したものに限らず各種のものを用いることができる。すなわち、アライメントマークは、光源１２１ａ〜１２１ｄより画像処理による位置特定が容易であり、かつアライメントマークに基づいて光源１２１ａ〜１２１ｄの位置を一意に特定可能であればよい。光源１２１ａ〜１２１ｄより画像処理による位置特定が容易なアライメントマークは、たとえば光源１２１ａ〜１２１ｄより大きなマークや、光源１２１ａ〜１２１ｄよりコントラストが高いマークなどである。
【００６２】
光源１２１ａ〜１２１ｄの位置を一意に特定可能なアライメントマークにも各種のものを用いることができる。たとえば、光源１２１ａの位置を一意に特定可能なアライメントマークは、延長線の交点が光源１２１ａの光軸とほぼ一致し方向が異なる１組の線分などにしてもよい。この場合は、光源１２１ａ〜１２１ｄに対応する４組の線分を用いる。
【００６３】
また、図４Ａ〜図４Ｃにおいては光源アレイ１２１に対応する画像データ４１０およびアライメントマークについて説明したが、受光部アレイ１４１に対応する画像データおよびアライメントマークについても同様である。ただし、アライメントマークを用いる調整方法は、光源アレイ１２１および受光部アレイ１４１のいずれかのみに適用してもよい。
【００６４】
（アライメントマークの微小ずれの補正）
また、たとえば図４Ａに示した例において、マーカ４１２ａ〜４１２ｄによって特定される位置と、光源１２１ａ〜１２１ｄの光軸の位置との間に、製造ばらつきにより微小なずれが生じる場合がある。これに対して、たとえば、マーカ４１２ａ〜４１２ｄを有する光源アレイ１２１の製造後に該ずれ（方向および量）を測定しておいてもよい。該ずれの測定は、たとえば光源アレイ１２１を撮影して得られた画像データに基づく画像処理により行うことができる。この場合の撮影には、たとえば図３に示したカメラ３１１より解像度の高いものを用いることができる。
【００６５】
該ずれの測定結果は、加工装置３１０のメモリに記憶される。加工装置３１０の制御部３３０は、マーカ４１２ａ〜４１２ｄによって特定した各位置を、メモリに記憶された測定結果に基づいて補正し、補正した位置を光源１２１ａ〜１２１ｄの各光軸の位置として特定する。これにより、製造ばらつきによりマーカ４１２ａ〜４１２ｄのずれがあっても光源１２１ａ〜１２１ｄの各光軸の位置を精度よく特定することができる。
【００６６】
図４Ａに示した例について説明したが、図４Ｂ，図４Ｃに示した例やその他の例についても同様である。また、光源アレイ１２１のアライメントマークについて説明したが、受光部アレイ１４１のアライメントマークについても同様である。
【００６７】
（光インターコネクション基板の製造プロセス）
図５は、光インターコネクション基板の製造プロセスの一例を示すフローチャートである。まず、製造者は、ポリマ材料を用いて光導波路群１３０を形成する（ステップＳ５０１）。つぎに、製造者は、開口部１０２，１０３を有するプリント回路基板１０１に、ステップＳ５０１によって形成した光導波路群１３０を貼り付ける（ステップＳ５０２）。
【００６８】
つぎに、製造者は、光送信機１２０をプリント回路基板１０１に実装する（ステップＳ５０３）。つぎに、製造者は、光受信機１４０の光軸アライメントを行い（ステップＳ５０４）、光受信機１４０をプリント回路基板１０１に実装する（ステップＳ５０５）。ステップＳ５０４による光軸アライメントは、たとえば光導波路群１３０に対する、光受信機１４０の受光部アレイ１４１に含まれる各受光部の光軸の位置決めである。
【００６９】
つぎに、製造者は、加工装置３１０により、光導波路群１３０の光導波路１３０ａ〜１３０ｄにそれぞれミラー１３３ａ〜１３３ｄ，１３４ａ〜１３４ｄを形成し（ステップＳ５０６）、一連の製造プロセスを終了する。ステップＳ５０６は、プリント回路基板１０１が有する開口部１０２，１０３を介してレーザ照射を行うことにより行われる。
【００７０】
図５に示したように、実施の形態にかかる製造プロセスにおいては、プリント回路基板１０１に光導波路群１３０を貼り付けた後に、プリント回路基板１０１が有する開口部１０２，１０３を用いて各光導波路にミラーを形成することができる。
【００７１】
このため、たとえば、図２Ｃに示したように、光源１２１ａ〜１２１ｄおよびミラー１３３ａ〜１３３ｄの製造ばらつきがあっても、光源１２１ａ〜１２１ｄの光軸と、ミラー１３３ａ〜１３３ｄの光軸と、をそれぞれ一致させることができる。
【００７２】
また、受光部１４１ａ〜１４１ｄおよびミラー１３４ａ〜１３４ｄの製造ばらつきがあっても、受光部１４１ａ〜１４１ｄの光軸と、ミラー１３４ａ〜１３４ｄの光軸と、をそれぞれ一致させることができる。
【００７３】
なお、光導波路群１３０の送信側および受信側の両方に対して実施の形態を適用して開口部１０２，１０３を用いて各ミラーを形成する場合について説明したが、開口部を用いて各ミラーを形成するのは送信側および受信側のいずれかのみであってもよい。たとえば、送信側については開口部１０２を用いてミラー１３３ａ〜１３３ｄを形成し、受信側については開口部１０３を設けないようにしてもよい。この場合に、受信側のミラー１３４ａ〜１３４ｄは、たとえばステップＳ５０１において形成することができる。
【００７４】
（ミラーの形成工程）
図６Ａ〜図６Ｃは、ミラーの形成工程の一例を示す図である。図６Ａ〜図６Ｃにおいて、図３に示した部分と同様の部分については同一の符号を付して説明を省略する。図５に示したステップＳ５０６において、制御部３３０は、たとえば図６Ａ〜図６Ｃに示す工程によりミラーを形成することができる。図６Ａ〜図６Ｃにおいてはミラー１３３ａの形成について説明する。
【００７５】
まず、図６Ａに示すように、開口部１０２を有するプリント回路基板１０１に対して光送信機１２０および光導波路群１３０が設けられた後に、制御部３３０は、カメラ駆動部３１２を制御して、光源１２１ａを撮影可能な位置にカメラ３１１を移動させる。つぎに、制御部３３０は、カメラ３１１を制御してカメラ３１１に光源１２１ａを撮影させ、撮影により得られた画像データをカメラ３１１から取得する。
【００７６】
つぎに、図６Ｂに示すように、制御部３３０は、カメラ駆動部３１２を制御して、カメラ３１１がレーザ装置３２１によるレーザ照射を遮らない位置にカメラ３１１を移動させる。また、制御部３３０は、レーザ駆動部３２２を制御して、開口部１０２を介して光導波路１３０ａにレーザ照射可能な位置にレーザ装置３２１を移動させる。
【００７７】
つぎに、図６Ｃに示すように、制御部３３０は、取得した画像データに基づく画像処理によって光源１２１ａの光軸３０１の位置を特定する。そして、制御部３３０は、レーザ駆動部３２２を制御して、特定した光軸３０１の位置に対してレーザ装置３２１からレーザ光６３１を照射させることによりミラー１３３ａを形成する。
【００７８】
図６Ａ〜図６Ｃにおいてはミラー１３３ａの形成について説明したが、ミラー１３３ｂ〜１３３ｄの形成についても同様である。ミラー１３３ｂ〜１３３ｄを形成する場合は、制御部３３０は、光源１２１ｂ〜１２１ｄを撮影し、光源１２１ｂ〜１２１ｄの光軸の位置を特定してレーザを照射する。たとえば、カメラ３１１により、光源１２１ａ〜１２１ｄをまとめて撮影してもよい。この場合は、得られた画像データに基づいて光源１２１ａ〜１２１ｄの各光軸を特定することができる。
【００７９】
また、ミラー１３４ａ〜１３４ｄの形成についても同様である。ミラー１３４ａ〜１３４ｄを形成する場合は、制御部３３０は、受光部１４１ａ〜１４１ｄを撮影し、受光部１４１ａ〜１４１ｄの光軸の位置を特定してレーザを照射する。また、ミラー１３３ａ〜１３３ｄおよびミラー１３４ａ〜１３４ｄの形成の際に、１つの加工装置３１０を用いてもよいし、複数の加工装置３１０を用いてもよい。
【００８０】
（光導波路の形状）
図７は、光導波路の形状の一例を示す図である。図８は、光導波路のコアの斜視図である。図７に示す上面図７１０、側面図７２１，７２２および正面図７３０は、それぞれ光導波路群１３０に対応する光導波路の上面、側面および正面を示す。図８においては、コア１３２ａの斜視図を示している。図８においてはコア１３２ａの形状を示しているが、コア１３２ｂ〜１３２ｄの形状についても同様である。
【００８１】
図７および図８に示す例では、クラッド１３１ａ〜１３１ｄに代えてクラッド７０１が用いられている。すなわち、コア１３２ａ〜１３２ｄは、１つのクラッド７０１に囲まれている。ただし、図７および図８に示す例において、クラッド７０１に代えてクラッド１３１ａ〜１３１ｄを用いる構成としてもよい。
【００８２】
また、図７および図８に示す例では、ミラー１３４ａ〜１３４ｄに代えてミラー７０３が設けられている。ミラー７０３は、コア１３２ａ〜１３２ｄに渡って形成されたミラーである。ただし、図７および図８に示す例において、ミラー７０３に代えてチャネルごとのミラー１３４ａ〜１３４ｄを設ける構成としてもよい。また、図７に示す例では、コア１３２ａ〜１３２ｄは１２５［μｍ］間隔で設けられている。
【００８３】
図７および図８に示すように、コア１３２ａ〜１３２ｄのそれぞれは、光源アレイ１２１の側の端部に比べて、受光部アレイ１４１の側の端部におけるＸ軸方向の長さが小さくなっている。たとえば、図７および図８に示す例では、コア１３２ａ〜１３２ｄのそれぞれの光源アレイ１２１の側の端部のＸ軸方向の長さは１００［μｍ］である。これに対して、コア１３２ａ〜１３２ｄのそれぞれの受光部アレイ１４１の側の端部のＸ軸方向の長さは３０［μｍ］である。
【００８４】
これにより、コア１３２ａ〜１３２ｄのそれぞれの光源アレイ１２１の側の端部については、ミラー１３３ａ〜１３３ｄの各位置の調整シロを大きくすることができる。また、コア１３２ａ〜１３２ｄのそれぞれの受光部アレイ１４１の側の端部については、出射面を小さくして結合トレランスの拡大を図ることができる。出射面は、コア１３２ａ〜１３２ｄのうちのミラー７０３が形成された部分である。
【００８５】
また、図７および図８に示す例では、コア１３２ａ〜１３２ｄのそれぞれは、Ｙ軸方向の位置に応じてＸ軸方向の長さが１００［μｍ］から３０［μｍ］に連続的に変化する勾配部７０２ａ〜７０２ｄ（テーパ）を有している。そして、コア１３２ａ〜１３２ｄのＸ軸方向の長さは、それぞれ勾配部７０２ａ〜７０２ｄより光源アレイ１２１の側では１００［μｍ］で一定であり、それぞれ勾配部７０２ａ〜７０２ｄより受光部アレイ１４１の側では３０［μｍ］で一定である。
【００８６】
（光導波路のコアにおける光の伝播）
図９は、光導波路のコアにおける光の伝播の一例を示す正面図である。図７および図８に示したコア１３２ａは、Ｙ軸方向の位置に応じてＸ軸方向の長さが変化する勾配部７０２ａにおいてもＺ軸方向の長さは一定であるため、コア１３２ａを伝播する光が全反射せずにＺ軸方向に出ることによる光損失を抑えることができる。コア１３２ａにおける光の伝播について説明したが、コア１３２ｂ〜１３２ｄにおける光の伝播も同様である。
【００８７】
（光導波路のコアの変形例）
図１０Ａは、光導波路のコアの変形例１を示す斜視図である。図１０Ｂは、光導波路のコアの変形例１を示す上面図である。図１０Ａ，図１０Ｂにおいて、図７に示した部分と同様の部分については同一の符号を付して説明を省略する。図１０Ａ，図１０Ｂに示すように、コア１３２ａは、Ｙ軸方向のほぼ全域にわたり、Ｙ軸方向の位置に応じてＸ軸方向の長さが連続的に変化する勾配部７０２ａとなっていてもよい。
【００８８】
これにより、コア１３２ａの勾配部７０２ａにおけるＸ軸方向の長さの変化を緩やかにし、コア１３２ａを伝播する光が全反射せずにＸ軸方向に出ることによる光損失を抑えることができる。コア１３２ａの形状について説明したが、コア１３２ｂ〜１３２ｄの形状についても同様である。
【００８９】
図１１Ａは、光導波路のコアの変形例２を示す斜視図である。図１１Ｂは、光導波路のコアの変形例２を示す上面図である。図１１Ａ，図１１Ｂにおいて、図７に示した部分と同様の部分については同一の符号を付して説明を省略する。図１１Ａ，図１１Ｂに示すように、コア１３２ａにおけるＹ軸方向の位置に応じてＸ軸方向の長さが連続的に変化する勾配部７０２ａのＸ軸方向の各側面は、コア１３２ａの外側に対して凸の曲面となっていてもよい。この曲面には、たとえば放物面や球面などを用いることができる。
【００９０】
これにより、コア１３２ａを伝播する光を、コア１３２ａの受光部アレイ１４１の側の端部で効率よく集光し、コア１３２ａを伝播する光が全反射せずにＸ軸方向に出ることによる光損失を抑えることができる。コア１３２ａの形状について説明したが、コア１３２ｂ〜１３２ｄの形状についても同様である。なお、勾配部７０２ａのＸ軸方向の各側面が外側に凸の曲面である場合について説明したが、勾配部７０２ａのＸ軸方向の各側面の一方は平面であってもよい。
【００９１】
このように、実施の形態においては、各チャネルの光源１２１ａ〜１２１ｄの位置を示すマークを光送信機１２０に付しておく。そして、光送信機１２０と光導波路群１３０をプリント回路基板１０１に設けてから該マークを用いてチャネルごとにミラー１３３ａ〜１３３ｄを光導波路群１３０に形成することができる。これにより、両端以外のチャネルを含む各チャネルについて、光源とミラーとの光軸を正確に合わせることができる。
【００９２】
以上説明したように、光インターコネクションの光軸調整方法および光インターコネクション基板によれば、両端以外にあるチャネルの光軸を正確に合わせることができる。
【００９３】
たとえば、高速かつ大容量の信号伝送処理においては、高速信号伝達での品質の高さや相互干渉の低さ等から光配線技術が検討されている。またサーバやデータセンタの高速化に伴い、筐体間の光インターコネクションが用いられ、さらなる高度化に際して筐体内のボード間やボード内の光インターコネクションがキーテクノロジとなっている。
【００９４】
たとえば、光インターコネクションにおける第１の課題として、多芯（多チャネル）の光結合がある。すなわち、光インターコネクションにおいては、光路（チャネル）の多芯化や高密度化のために、高難度なアライメントによって複数のチャネルを同等の精度で結合させることが求められる。たとえば、光送信機と導波路の受光面との間や、導波路の出射面と光受信機との間において高精度の光結合が求められ、たとえば、伝送速度が２５［Ｇｂｐｓ］以上である場合は誤差±１０［μｍ］以下という精度が求められる。
【００９５】
この場合に、光源側も導波路側もチャネルごとに製造ばらつきに起因する微小な位置ずれを有するため、特定のチャネルをアライメントするだけでは全チャネルを正確に位置合わせすることはできない（たとえば図２Ｂ参照）。
【００９６】
一例として、たとえば１２チャネル（１ｃｈ〜１２ｃｈ）の構成において、両端の１ｃｈおよび１２ｃｈのみアライメントするという手法が考えられる。しかしながら、この手法では、両端のチャネル以外のチャネル（２ｃｈ〜１１ｃｈ）においては上述した製造ばらつきによる相互位置ずれを有したままである。
【００９７】
また、光インターコネクションにおける第２の課題として、入射側および出射側のコア径の最適化がある。すなわち、導波路のコアサイズは、通常、送信側（入射側）においては、光源からの出射光を導波路のコアに入れるため、コア径は大きい方が高効率である。また、受信側（出射側）はコア全面から出射する光を受光部にて受光するため、コア径は小さい方が高効率である。
【００９８】
しかしながら、従来技術では、たとえば導波路は送信側から出射側まで一定の断面形状（たとえば直方体）となっているため、送信側および受信側における効率を最適化することができない。これに対して、たとえばテーパ型の導波路を用いることが考えられるが、光の伝播方向に応じてコアの高さ（厚み）が変化するように導波路を製造することは困難である。また、送信側と受信側において光導波路の高さが異なると、たとえば光送信機と光受信機を対照に構成することができず、取り扱いが悪くなる。
【００９９】
また、光インターコネクションにおける第３の課題として、アライメントマークとしての光源のサイズがある。すなわち、各チャネルの光源や受光部と導波路上に設けられたミラー部の中心を高精度に位置合わせするために、カメラを使用した画像処理により光源や受光部自体をアライメントマークとして認識させ、ミラー部の中心と位置合わせするという手法が考えられる。
【０１００】
しかしながら、光源や受光部は非常に小さく（たとえば２０［μｍ］以下）、通常の設備では光源や受光部の光軸の位置を精度よく特定することは困難である。たとえば、得られた画像を拡大しても像が歪みにくい高解像度のカメラを用いれば、光源や受光部を認識させることは可能であっても、そのようなシステムは高額であり、通常使用され得るレーザ加工機に適用することは困難である。
【０１０１】
これに対して、上述した実施の形態によれば、あらかじめ設置しておいた基板の開口部から導波路越しに光源の中心をカメラにより認識し、光源の中心を狙ってチャネルごとにミラー加工を行うことができる（たとえば図３，図６Ａ〜図６Ｃ）。このため、各チャネルにおけるミラーにおける結合率を向上させることができる。
【０１０２】
また、光源や受光部と中心を合わせた円弧形状等のマーカを光源や受光部が実装された部品側の基板に設置し（たとえば図４Ａ〜図４Ｃ）、マーカの中心を認識しながら該中心にレーザを出射することができる。これにより、光源や受光部が小さくアライメントマークとして用いることが困難であってもミラーの位置合わせを精度よく行うことができる。
【０１０３】
また、製造ばらつきに起因するマーカの中心と光源や受光部の中心との微小ずれに対しては、部品単体で事前に中心間のずれ量を測定しておき、加工を行うシステムに反映させ、ミラー加工時に該ずれ量を補正することでずれをキャンセルさせることができる。
【０１０４】
また、導波路の形状について、送信側については、コア幅を通常より広くすることでミラー位置の調整シロを確保することができる。また、受信側については、出射面に近づくほど徐々にコア幅を小さくし、出射面を小さくすることにより結合トレランスの拡大を図ることができる（図７，図８，図１０Ａ〜図１１Ｂ）。また、たとえば高さ方向（Ｚ軸方向）の長さが連続的に変化するテーパ状のコアを用いる構成に比べて、コアを伝播する光が全反射せずにＺ軸方向に出ることによる光損失を抑えることができる。また、コアの厚み（Ｚ軸方向の長さ）を一定にすることにより、取り扱いが容易となる。
【０１０５】
上述した実施の形態に関し、さらに以下の付記を開示する。
【０１０６】
（付記１）複数の光源を有する光送信機であって前記複数の光源の位置をそれぞれ特定可能な印が付された光送信機と、前記複数の光源から出射される光をそれぞれ伝播可能な複数のコアを有する光導波路と、を基板に設け、
前記印に基づいて前記複数の光源の各位置を特定し、
前記複数の光源から出射される光をそれぞれ反射させて前記複数のコアにより伝播させる複数のミラーを、特定した前記複数の光源の各位置に応じた前記光導波路の位置に形成する、
ことを特徴とする光インターコネクションの光軸調整方法。
【０１０７】
（付記２）前記複数のミラーは、前記複数の光源から出射され、前記光導波路における光の伝播方向とは異なる方向から前記光導波路に入射する光をそれぞれ反射させて前記複数のコアにより伝播させることを特徴とする付記１に記載の光インターコネクションの光軸調整方法。
【０１０８】
（付記３）前記印は、前記複数の光源の配線パターンとともに形成されたダミーパターンであることを特徴とする付記１または２に記載の光インターコネクションの光軸調整方法。
【０１０９】
（付記４）前記印が示す各位置と、前記複数の光源の各位置と、の間のずれを示す情報を取得し、
前記印が示す各位置と、取得した前記情報が示すずれと、に基づいて前記複数の光源の位置を特定する、
ことを特徴とする付記１〜３のいずれか一つに記載の光インターコネクションの光軸調整方法。
【０１１０】
（付記５）前記基板は、前記複数の光源に対応する位置に開口部を有し、
前記開口部を介して前記光導波路にレーザ光を照射することにより前記複数のミラーを形成する、
ことを特徴とする付記１〜４のいずれか一つに記載の光インターコネクションの光軸調整方法。
【０１１１】
（付記６）前記開口部を介して前記印を撮影し、
前記印を撮影して得られた画像データに基づいて前記複数の光源の位置を特定する、
ことを特徴とする付記５に記載の光インターコネクションの光軸調整方法。
【０１１２】
（付記７）前記基板には、前記複数のコアによって伝播した光をそれぞれ受光する複数の受光部を有する光受信機が設けられ、
前記光導波路には、前記複数のコアにより伝播した光をそれぞれ反射させて前記複数の光受信機へ出射する出射側のミラーが形成され、
前記複数のコアのそれぞれは、前記基板における前記光導波路が設けられる面と平行な方向のコア幅が、前記出射側のミラーが設けられる部分に近づくほど小さくなる勾配部を有し、前記複数の光源からの各光が入射する部分の前記コア幅より、前記出射側のミラーが設けられる部分の前記コア幅の方が小さい、
ことを特徴とする付記１〜６のいずれか一つに記載の光インターコネクションの光軸調整方法。
【０１１３】
（付記８）前記複数のコアのそれぞれは、前記面と平行な方向の各側面の少なくとも一方が外側に凸の曲面である前記勾配部を有することを特徴とする付記７に記載の光インターコネクションの光軸調整方法。
【０１１４】
（付記９）基板と、
前記基板に設けられ複数の光源を有する光送信機であって、前記複数の光源の位置をそれぞれ特定可能な印が付された光送信機と、
前記基板に設けられ、前記複数の光源から出射される光をそれぞれ伝播可能な複数のコアを有する光導波路であって、前記複数の光源から出射される光をそれぞれ反射させて前記複数のコアにより伝播させる複数のミラーが、前記印に基づいて特定される前記複数の光源の各位置に応じた位置に形成された光導波路と、
を備えることを特徴とする光インターコネクション基板。
【０１１５】
（付記１０）複数の光をそれぞれ伝播可能な複数のコアを有する光導波路と、前記光導波路によって伝播した光をそれぞれ受光する複数の受光部を有する光受信機であって前記複数の受光部の位置をそれぞれ特定可能な印が付された光受信機と、を基板に設け、
前記印に基づいて前記複数の受光部の各位置を特定し、
前記複数のコアによって伝播した光をそれぞれ反射させて前記複数の受光部に受光させる複数のミラーを、特定した前記複数の受光部の各位置に応じた前記光導波路の位置に形成する、
ことを特徴とする光インターコネクションの光軸調整方法。
【０１１６】
（付記１１）基板と、
前記基板に設けられ複数の光をそれぞれ伝播可能な複数のコアを有する光導波路と、
前記基板に設けられ、前記光導波路によって伝播した光をそれぞれ受光する複数の受光部を有する光受信機であって、前記複数の受光部の位置をそれぞれ特定可能な印が付された光受信機と、
を備え、前記光導波路には、前記光導波路によって伝播した光をそれぞれ反射させて前記複数の受光部に受光させる複数のミラーが、前記印に基づいて特定される前記複数の受光部の各位置に応じた位置に形成されている、
ことを特徴とする光インターコネクション基板。
【符号の説明】
【０１１７】
１００  光インターコネクション基板
１０１  プリント回路基板
１０２，１０３  開口部
１１０  第１回路
１１１，１５１  ＬＳＩ
１２０  光送信機
１２１  光源アレイ
１２１ａ〜１２１ｄ  光源
１３０  光導波路群
１３０ａ〜１３０ｄ  光導波路
１３１ａ〜１３１ｄ，７０１  クラッド
１３２ａ〜１３２ｄ  コア
１３３ａ〜１３３ｄ，１３４ａ〜１３４ｄ，７０３  ミラー
１４０  光受信機
１４１  受光部アレイ
１４１ａ〜１４１ｄ  受光部
１５０  第２回路
２６１  光軸ズレ
３０１  光軸
３０２  コリメートレンズ
３１０  加工装置
３１１  カメラ
３１２  カメラ駆動部
３２１  レーザ装置
３２２  レーザ駆動部
３３０  制御部
４１０  画像データ
４１１ａ〜４１１ｄ  配線パターン
４１２ａ〜４１２ｄ，４２１ａ〜４２１ｄ，４２２ａ〜４２２ｄ，４２３ａ〜４２３ｄ，４３１ａ〜４３１ｄ，４３２ａ〜４３２ｄ  マーカ
６３１  レーザ光
７０２ａ〜７０２ｄ  勾配部
【図１】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図２Ｃ】
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【図２Ｄ】
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【図３】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図４Ｃ】
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【図５】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【図６Ｃ】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０Ａ】
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【図１０Ｂ】
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【図１１Ａ】
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【図１１Ｂ】
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