(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１底部と、前記第１底部から延びる第１壁とで形成される主貯水槽であって、製氷水位と、脱スケール水位と、前記製氷レベルよりも上の消毒水位とに水が充填されるように構成される、前記主貯水槽と、
消毒剤を保持する消毒剤槽であって、第２底部と、前記第２底部から延びる第２壁とで形成され、前記主貯水槽と流体連通する、前記消毒剤槽と、を備え、
前記第２底部は、前記主貯水槽が前記消毒剤水位に充填されたときに、前記消毒剤槽に水が入り、内部の前記消毒剤が主貯水槽内に入るように、前記第１底部よりも上の高さにある、製氷機用の水だめ。
【請求項２】
前記消毒剤槽は、前記第１壁と一体的に形成される、請求項１に記載の水だめ。
【請求項３】
前記消毒剤槽と前記主貯水槽とは、チューブにより流体連通する、請求項１に記載の水だめ。
【請求項４】
第１底部と、前記第１底部から延びる第１壁とで形成される主貯水槽であって、製氷水位と、脱スケール水位と、前記製氷レベルよりも上の消毒水位とに水が充填されるように構成される、前記主貯水槽と、
消毒剤を保持するための前記第１壁にヒンジ接続される消毒剤槽であって、前記消毒剤槽は、第２底部と、前記第２底部から延びる第２壁とで形成され、前記消毒剤槽は更にフロートを有する、前記消毒剤槽と、を備え、
前記第２底部は、前記水だめが前記消毒水位に充填されたときに、水が前記フロートを上昇させ、前記消毒剤槽を回転させ、前記主貯水槽内にその内部の前記消毒剤を放出させるように、第１底部よりも上の高さにある、製氷機用の水だめ。
【請求項５】
前記フロートは、前記消毒剤槽に、アームで接続される、請求項４に記載の水だめ。
【請求項６】
前記脱スケール水位は、前記製氷水位と実質的に等しい、請求項１〜５のいずれかに記載の水だめ。
【請求項７】
前記脱スケール水位は、前記製氷水位よりも上にある、請求項１〜５のいずれかに記載の水だめ。
【請求項８】
氷を形成するための製氷機であって、前記製氷機は、
（ｉ）圧縮機、凝縮器、蒸発器、及び、前記蒸発器に熱的に連結された凍結プレートを有し、前記圧縮機、前記凝縮器、及び、前記蒸発器が１つまたは複数の冷媒管路により、流体連通する冷凍システムと、
（ｉｉ）前記凍結プレートに水を供給する給水システムであって、前記給水システムは、前記凍結プレートの下側で、水を保持する主貯水槽及び消毒剤を保持する消毒剤槽を有する水だめと、前記凍結プレートの上側の水分配器と、送水ポンプとを有し、前記送水ポンプは、前記水だめ及び前記水分配器に送水ラインで流体連通し、前記給水システムは、更に、給水ライン及びそれと流体連通する水入口弁を有し、前記水入口弁は、前記水だめに水を供給するように構成される、前記給水システムと、
（ｉｉｉ）前記水だめ内の水位を測定するように構成される水位センサと、
（ｉｖ）前記水位センサで測定される前記水だめ内の水位に応じて前記製氷機を制御するように構成されるコントローラと、を備え、前記コントローラは、
（ａ）製氷サイクルの際、前記水入口弁を開いて、製氷水位まで前記主貯水槽に水を充填し、
（ｂ）脱スケール及び消毒プロセスの脱スケール部分の際、前記水入口弁を開いて、脱スケール水位まで前記主貯水槽に水を充填し、
（ｃ）前記脱スケール及び消毒プロセスの消毒部分の際、前記水入口弁を開いて、消毒水位まで前記主貯水槽に水を充填し、前記消毒水位は、前記脱スケール水位よりも上にあり、前記消毒水位に達したときに、前記消毒剤槽内の前記消毒剤が前記主貯水槽に入るように構成される、前記製氷機。
【請求項９】
前記水だめの前記主貯水槽は、第１底部と前記第１底部から延びる第１壁とで形成され、
前記消毒剤槽は、第２底部と、前記第２底部から延びる第２壁とで形成される消毒剤槽であり、
前記消毒剤槽は、前記主貯水槽と流体連通し、前記第２底部は、前記主貯水槽が前記消毒剤水位に充填されたときに、前記消毒剤槽に水が入り、内部の前記消毒剤が前記主貯水槽内に入るように、前記第１底部より上の高さにある、請求項８に記載の製氷機。
【請求項１０】
前記水だめの前記主貯水槽は、第１底部と前記第１底部から延びる第１壁とで形成され、
前記消毒剤槽は、前記第１壁にヒンジ接続され、前記消毒剤槽は、第２底部と、前記第２底部から延びる第２壁とで形成され、前記消毒剤槽は更にフロートを有し、
前記第２底部は、前記水だめが前記消毒水位に充填されたときに、水が前記フロートを上昇させ、前記消毒剤槽を回転させ、前記主貯水槽内にその内部の前記消毒剤を放出させるように、第１底部よりも上の高さにある、請求項８に記載の製氷機。
【請求項１１】
氷を形成するための製氷機であって、前記製氷機は、
（ｉ）圧縮機、凝縮器、蒸発器、及び、前記蒸発器に熱的に連結された凍結プレートを有し、前記圧縮機、前記凝縮器、及び、前記蒸発器が１つまたは複数の冷媒管路により、流体連通する冷凍システムと、
（ｉｉ）水を前記凍結プレートに供給する給水システムであって、前記給水システムは、前記凍結プレートの下側の主貯水槽を有する水だめ、前記凍結プレートの上側の水分配器、前記水だめの上側で消毒剤を保持するために底部と前記底部から延びる壁とで形成され、通常は閉位置のばね付勢されたドアを有する消毒剤槽、及び、送水ポンプを有し、前記送水ポンプは、送水ラインにより、前記水分配器と流体連通し、前記給水システムは、更に、前記主貯水槽に水を供給するように構成される第１給水入口弁と、前記消毒剤槽に水を供給するように構成された第２水入口弁と、を有する、前記給水システムと、
（ｉｉｉ）前記主貯水槽内の水位を測定するように構成される水位センサと、
（ｉｖ）前記水位センサで測定される前記主貯水槽内の水位に応じて前記製氷機を制御するように構成されるコントローラと、を備え、前記コントローラは、
（ａ）製氷サイクルの際、前記第１水入口弁を開いて、製氷水位まで前記主貯水槽に水を充填し、
（ｂ）脱スケール及び消毒プロセスの脱スケール部分の際、前記第１水入口弁を開いて、脱スケール水位まで前記主貯水槽に水を充填し、
（ｃ）前記脱スケール及び消毒プロセスの消毒部分の際、前記第２水入口弁を開いて、前記消毒剤槽に水を充填し、前記消毒剤槽のドアを開かせ、その中の任意の消毒剤を前記主貯水槽内に入れるように構成される、前記製氷機。
【請求項１２】
前記コントローラは、前記送水ポンプを作動して、前記主貯水槽から任意の水と洗浄剤とを前記給水システムを通して前記凍結プレート上に送り込み、前記給水システム及び前記凍結プレートを脱スケールする、請求項８〜１１のいずれかに記載の製氷機。
【請求項１３】
前記コントローラは、前記送水ポンプを作動し、前記主貯水槽及び／または前記消毒剤槽から前記給水システムを通して前記凍結プレート上に、任意の水及び消毒剤を送り込み、前記給水システムと前記凍結プレートとを消毒するように構成される、請求項８〜１２のいずれかに記載の製氷機。
【請求項１４】
前記製氷機は、更に、排出弁を有し、前記コントローラは、前記排出弁を開き、前記水だめからあらゆる水及びあらゆる洗浄剤及び／または消毒剤をパージするように構成される、請求項８〜１３のいずれかに記載の製氷機。
【請求項１５】
前記脱スケール水位は、前記製氷水レベルと実質的に等しい、請求項８〜１４のいずれかに記載の製氷機。
【請求項１６】
前記脱スケール水位は、前記製氷レベルよりも上である、請求項８〜１４のいずれかに記載の製氷機。
【請求項１７】
製氷機を脱スケール及び消毒する方法であって、
前記製氷機は、
（ｉ）圧縮機、凝縮器、蒸発器、及び、前記蒸発器に熱的に連結された凍結プレートを有し、前記圧縮機、前記凝縮器、及び、前記蒸発器が１つまたは複数の冷媒管路により、流体連通する冷凍システムと、
（ｉｉ）前記凍結プレートに水を供給する給水システムであって、前記給水システムは、前記凍結プレートの下側で、水を保持する主貯水槽及び消毒剤を保持する消毒剤槽を有する水だめと、前記凍結プレートの上側の水分配器と、送水ポンプとを有し、前記送水ポンプは、前記水だめ及び前記水分配器に送水ラインで流体連通す、前記給水システムと、を備え、
前記方法は、
（ｉ）前記水だめの前記主貯水槽を脱スケール水位まで第１水量で充填することであって、前記水は前記主貯水槽内に配置された洗浄剤と混合する、前記充填すること、
（ｉｉ）前記水及び前記洗浄剤の混合物を、前記水だめから前記給水システムを通して前記凍結プレートの上に送り込んで前記給水システムと前記凍結プレートとを脱スケールすること、
（ｉｉｉ）前記水及び前記洗浄剤の混合物を前記水だめからパージすること、
（ｉｖ）前記主貯水槽を第２水量で前記脱スケール水位まで充填することにより、前記給水システム及び前記凍結プレートの残留する洗浄剤を洗浄し、前記第２水量を前記水だめから、前記給水システムを通して前記凍結プレートの上に送り込み、前記第２水量及び前記残留洗浄剤を前記水だめからパージすること、
（ｖ）前記水だめの前記主貯水槽を第３水量で消毒水位まで充填することであって、前記消毒水位は前記脱スケール水位よりも上であり、前記水は消毒剤リザーバ内に配置された消毒剤と混合する、前記充填すること、
（ｖｉ）前記水及び消毒剤の混合物を、前記水だめから前記給水システムを通して前記凍結プレートの上に送り込んで前記給水システムと前記凍結プレートとを消毒すること、
（ｖｉｉ）前記水及び前記消毒剤の混合物を前記水だめからパージすること、
（ｖｉｉｉ）前記主貯水槽を第４水量で前記消毒水位まで充填することにより、前記給水システム及び前記凍結プレートから残留する消毒剤を洗い流し、前記第４水量を前記水だめから、前記給水システムを通して前記凍結プレートの上に送り込み、前記第４水量及び残留消毒剤を前記水だめからパージすること、を備える、前記方法。
【請求項１８】
前記水だめの前記主貯水槽は、第１底部と前記第１底部から延びる第１壁とで形成され、
前記消毒剤槽は、第２底部と、前記第２底部から延びる第２壁とで形成される消毒剤槽であり、前記消毒剤槽は、前記主貯水槽と流体連通し、前記第２底部は、前記主貯水槽が前記消毒剤水位に充填されたときに、前記消毒剤槽に水が入り、内部の前記消毒剤が前記主貯水槽内に入るように、前記第１底部より上の高さである、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記水だめの前記主貯水槽は、第１底部と前記第１底部から延びる第１壁とで形成され、
前記消毒剤槽は、前記第１壁にヒンジ接続され、前記消毒剤槽は、第２底部と、前記第２底部から延びる第２壁とで形成され、前記消毒剤槽は更にフロートを有し、
前記第２底部は、前記水だめが前記消毒水位に充填されたときに、水が前記フロートを上昇させ、前記消毒剤槽を回転させ、前記主貯水槽内にその内部の前記消毒剤を放出させるように、第１底部よりも上の高さにある、請求項１７に記載の方法。
【請求項２０】
前記給水システムは、更に、給水ラインと、その間を流体連通する水入口弁とを有し、前記水入口弁は、前記水だめに水を供給するように構成される、請求項１７〜１９のいずれかに記載の方法。
【請求項２１】
製氷機を脱スケール及び消毒する方法であって、前記製氷機は、
（ｉ）圧縮機、凝縮器、蒸発器、及び、前記蒸発器に熱的に連結された凍結プレートを有し、前記圧縮機、前記凝縮器、及び、前記蒸発器が１つまたは複数の冷媒管路により、流体連通する冷凍システムと、
（ｉｉ）水を前記凍結プレートに供給する給水システムであって、前記給水システムは、前記凍結プレートの下側の主貯水槽を有する水だめ、前記凍結プレートの上側の水分配器、前記水だめの上側で消毒剤を保持するために底部と前記底部から延びる壁とで形成され、通常は閉位置のばね付勢されたドアを有する消毒剤槽、及び、送水ポンプを有し、前記送水ポンプは、送水ラインにより前記水分配器と流体連通し、前記給水システムは、更に、前記主貯水槽に水を供給するように構成される第１水入口弁と、前記消毒剤槽に水を供給するように構成された第２水入口弁と、を有する、前記給水システムと、を備え、
前記方法は、
（ｉ）前記水だめの前記主貯水槽を、前記第１水入口弁を使用して、脱スケール水位まで第１水量で充填することであって、前記水は前記主貯水槽内に配置された洗浄剤と混合する、前記充填すること、
（ｉｉ）前記水及び前記洗浄剤の混合物を、前記水だめから前記給水システムを通して前記凍結プレートの上に送り込んで前記給水システムと前記凍結プレートとを脱スケールすること、
（ｉｉｉ）前記水及び前記洗浄剤の混合物を前記水だめからパージすること、
（ｉｖ）前記第１水入口弁を使用して、前記主貯水槽を第２水量で脱スケール水位まで充填することにより、前記給水システム及び前記凍結プレートから残留する洗浄剤を洗い流し、前記第２水量を、前記水だめから前記給水システムを通して前記凍結プレートの上に送り込み、前記第２水量及び残留洗浄剤を前記水だめからパージすること、
（ｖ）前記第２水入口弁を使用して、脱スケール水位まで第３水量で、前記水だめの前記主貯水槽を充填することであって、前記第２水入口弁は、前記消毒剤槽に水を充填し、前記消毒剤槽のドアを開かせ、その中の任意の消毒剤を主貯水槽内に配置する、前記充填すること、
（ｖｉ）前記水及び前記消毒剤の混合物を、前記水だめから前記給水システムを通して前記凍結プレートの上に送り込んで前記給水システムと前記凍結プレートとを消毒すること、
（ｖｉｉ）前記水及び前記消毒剤の混合物を前記水だめからパージすること、
（ｖｉｉｉ）前記主貯水槽を第４水量で前記消毒水位まで充填することにより、前記給水システム及び前記凍結プレートから残留する消毒剤を洗い流し、前記第４水量を前記水だめから、前記給水システムを通して前記凍結プレートの上に送り込み、前記第４水量及び前記残留消毒剤を前記水だめからパージすること、を備える、前記方法。
【請求項２２】
前記主貯水槽に第１水量を充填する前に、前記凍結プレートから氷を取入れること、をさらに備える、請求項１７〜２１のいずれかに記載の方法。
【請求項２３】
前記主貯水槽に第１水量を充填する前に、前記水だめの前記主貯水槽に洗浄剤を追加し、前記消毒剤槽に消毒剤を追加することをユーザに指示すること、をさらに備える、請求項１７〜２２のいずれかに記載の方法。
【請求項２４】
前記製氷機は、前記水だめ内の水位を測定するように構成される水位センサと、前記水位センサで測定された前記水だめ内の水位に応じて前記製氷機を制御するように構成されるコントローラと、をさらに備える、請求項１７〜２３のいずれかに記載の方法。
【請求項２５】
前記水だめから、前記給水システムを通して前記凍結プレートの上に前記水及び前記洗浄剤の混合物を送り込み、前記給水システムと前記凍結プレートとを脱スケールするステップは、前記水だめから前記水及び前記洗浄剤の混合物をパージするステップの前に、所定時間繰り返される、請求項１７〜２４のいずれかに記載の方法。
【請求項２６】
前記所定時間は、３０秒から５分である、請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】
前記給水システム及び前記凍結プレートから残留する洗浄剤を洗い流すステップは、前記水だめの前記主貯水槽に消毒水位まで第３水量を充填するステップの前に、複数回繰り返される、請求項２１〜２６のいずれかに記載の方法。
【請求項２８】
前記給水システム及び前記凍結プレートから残留する洗浄剤を洗い流すステップは、前記水だめの前記主貯水槽に消毒水位まで第３水量を充填するステップの前に、５〜１０回繰り返される、請求項２１〜２７のいずれかに記載の方法。
【請求項２９】
前記給水システム及び前記凍結プレートから残留する洗浄剤を洗い流すステップは、前記水だめの前記主貯水槽に消毒水位まで第３水量を充填するステップの前に、８回繰り返される、請求項２１〜２７のいずれかに記載の方法。
【請求項３０】
前記水だめから、前記給水システムを通して前記凍結プレート上に前記水及び前記洗浄剤の混合物を送り込み、前記給水システム及び前記凍結プレートを消毒するステップは、前記水だめから前記水及び前記洗浄剤の混合物をパージするステップの前に、所定時間繰り返される、請求項２１〜２９のいずれかに記載の方法。
【請求項３１】
前記所定時間は、３０秒から５分である、請求項３０に記載の方法。
【請求項３２】
前記給水システム及び前記凍結プレートから残留する消毒剤を洗い流すステップは、複数回繰り返される、請求項２１〜３１のいずれかに記載の方法。
【請求項３３】
前記給水システム及び前記凍結プレートから残留する消毒剤を洗い流すステップは、５〜１０回繰り返される、請求項２１〜３２のいずれかに記載の方法。
【請求項３４】
前記給水システム及び前記凍結プレートから残留する消毒剤を洗い流すステップは、８回繰り返される、請求項２１〜３２のいずれかに記載の方法。
【請求項３５】
前記脱スケール水位は、前記製氷水レベルと実質的に等しい、請求項２１〜３４のいずれかに記載の方法。
【請求項３６】
前記脱スケール水位は、前記製氷レベルよりも上である請求項２１〜３４のいずれかに記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、概略的には自動製氷装置、特に、自動脱スケール及び消毒機能を有する製氷装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
製氷装置または製氷機は、典型的には、圧縮機、凝縮器、熱膨張装置、蒸発器、及び、蒸発器に熱連結された格子状のキューブ金型を有する凍結プレートを介して順に流れる冷媒源を採用する冷凍及び給水システムを備える。更に、典型的には、製氷機は、周知かつ広範囲に使用されている重力水流及び氷取入れシステムを採用する。このような冷凍及び給水システムを有する製氷機は、氷収納庫の頂部に配置されることが多く、ここに、取入れられた氷が必要とされるまで貯蔵される。このような製氷機は、更に、製氷機と氷収納庫とが単一のユニットである「自給式」としてもよい。このような製氷機は、広く採用されており、特に、新氷の需要が高くかつ絶えることのないレストラン、バー、モーテル、及び、種々の飲料小売店等の商用設備に望ましい。
【０００３】
このような製氷機で製造される氷は、飲料内の食品として消費され、食品に直接接触し、及び／または、飲む人の飲料と唇と口とに直接接触するようになる飲料容器に直接接触する。したがって、氷は食品であり、製氷機は食品調理機である。このため、製氷機の定期的な消毒及び洗浄または脱スケールが、推奨される業務である。
【０００４】
実際に、消毒は、低温の氷製造環境で育つ有害なバクテリア、ウィルス、及び、原生動物を排除する。これらの微生物は、空気伝搬または水媒介のいずれかであり得る。公営水道は、塩素処理により、有害な水媒介生物は比較的存在しない。水のろ過も、水媒介細菌汚染に対する保護を提供することができる。しかし、空気媒介細菌は、まだ製氷機に移動することができる。バクテリア、ウィルス及び原生動物も、製氷機の内側の湿潤部位に付着し、冷たい湿気状態で育つことができる。これは、金型内に、藻類及びスライムが蓄積する結果となることがある。スライムは、通常、空気伝搬または水媒介となることが可能な藻類、カビ、酵母胞子で構成されるゼリー状の物質である。これらのバクテリア及びウィルスの一部は、人を病気にする可能性がある。したがって、製氷機を消毒することは、無視することのできない重要な作業である。製氷機に引付けられることのあるバクテリア及び他の生物を殺菌するため、典型的には、種々のタイプの食品グレード消毒剤が、使用される。
【０００５】
製氷機の消毒とは異なるプロセスは、洗浄とも称せられることがある脱スケールである。製氷機の脱スケールは、製氷機の給水システム及び凍結プレート、特に、凍結プレートから落下した冷却水を受けて保持するために使用される水だめに堆積したミネラル及び金属を除去する。ミネラル及び金属は、一般に、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウム、鉄、銅、マンガン、リン、及び、亜鉛を含み、その量は、場所及び水源のタイプによって相違する。
【０００６】
製氷機が凍結プレート上で氷を造り始めると、ミネラル及び金属が水だめ内で濃縮する傾向があり、「洗い落とし」または溶液の落下が始まり、給水システムの最下部、水だめ内に堆積される固体を形成する。これは、純粋な水が最初に凍結する傾向のためである。これは、より純粋な液体水が氷の形態で除去されるため、未凍結の水内のミネラル及び金属の濃縮を進行させる。この状況は、アイスキューブ内で清水が凍結するときにも明白である。最も清澄な水がキューブの外縁部となる傾向があり、これが最初に凍結し、最終的には、ミネラルの雲がキューブの中央に閉じ込められる。
【０００７】
製氷機または製氷に使用される方法で造られる氷のタイプに関わらず、より清潔な製氷機及びより純粋な水が、より固く、より衛生的で、より透明な氷を形成する。多くの製氷機は、所定量の水が氷になったときに、水だめからどのような水もドレインに導く内蔵のフラッシング及びパージングサイクルを有する。この高ミネラル濃縮水のフラッシングは、水だめ内のミネラル層の減少を支援するが、最終的には、ミネラルは、まだ水だめ及び給水システム内のいずれかに存在する。所定時間の後、ミネラルは、氷の透明かつ衛生状態を維持するために、更に除去しなければならない。
【０００８】
製氷機からミネラルの堆積またはスケールを除去するときに、ミネラル堆積の溶解を支援するために食物グレードの酸が使用される。より重度のスケールの沈殿は、酸溶液内に浸漬することを必要とすることがある。手動による研磨、かき取り、ふき取りも効果的であり、時には、ミネラル及び金属を水だめ及び製氷機の他の部位から除去するために必要なことがある。
【０００９】
製氷機の安全かつ健全な運転に重要であるが、製氷機の脱スケール及び／または消毒は、このようなメンテナンスが多くの時間を必要とするために、放置されることが多い。脱スケール及び消毒は、製氷機を所定時間オフラインとしなければならず、したがって、不都合である。これらの処理は、更に、処理のほとんどにサービス員がそこに居ることを必要とする。２つの別個の処理が存在するため、サービス員は一方を開始して放置することができない。脱スケール処理が完了し、消毒処理を開始することができるまで、彼らは製氷機にまたはその近くに残る必要がある。
【発明の概要】
【００１０】
本発明の１つの態様は、脱スケール部分と消毒部分とを有する製氷機のための自動脱スケール及び消毒プロセスに向けられている。水だめは、主貯水槽と消毒剤槽とを有する。製氷機の水だめは、プロセスのこれらの部分の際、異なるレベルに水を満たされる。脱スケール部分では、主貯水槽は、脱スケール水位に水を満たされ、先に主貯水槽内に配置されていた洗浄剤が水と混合する。この水及び洗浄剤の混合物は、製氷機の給水システムを通して凍結プレートの上に送り込まれ、給水システム及び凍結プレートを脱スケールする。この水及び洗浄剤の混合物は、この後、製氷機からパージされ、かつ洗い落とされ、製氷機内に堆積したどのようなスケールまたはミネラルをも除去する。消毒部分では、水だめは消毒水位まで水を充填され、先に配置されていた、理想的には粉末の消毒剤である任意の消毒剤と混合される。この水及び消毒剤の混合物は、製氷機の給水システムを通して凍結プレートの上に送り込まれ、給水システムと凍結プレートとを消毒する。この水及び消毒剤の混合物は、この後、製氷機からパージされかつ洗い落とされ、製氷機内のどのような有害バクテリア及び他の生物をも除去する。消毒剤槽は、脱スケール水位よりも上のレベルにある。したがって、自動脱スケール及び消毒プロセスの脱スケール部分の際、消毒剤槽に配置された消毒剤は、水だめの主貯水槽内の水と接触しない。自動脱スケール及び消毒プロセスの後、製氷機は、氷の製造に戻ることができる。
【００１１】
本発明の他の態様は、製氷機の水だめに向けられており、この水だめは、（ｉ）第１底部と、第１底部から延びる第１壁とで形成される主貯水槽であって、製氷水位と、脱スケール水位と、脱スケールレベルよりも上の消毒水位とに水が充填されるように構成される主貯水槽と、（ｉｉ）消毒剤を保持する消毒剤槽であって、第２底部と、第２底部から延びる第２壁とで形成される消毒剤槽と、を備える。消毒剤槽は、主貯水槽と流体連通し、第２底部は、主貯水槽が消毒水位まで水を充填されたときに、水が消毒剤槽に入り、その中の消毒剤が水と混合し、この後、主貯水槽内に入ることができるように、第１底部よりも上の高さにある。
【００１２】
本発明の他の態様は、製氷機の水だめに向けられており、この水だめは、（ｉ）第１底部と、第１底部から延びる第１壁とで形成される主貯水槽であって、製氷水位と、脱スケール水位と、脱スケールレベルよりも上の消毒水位とに水が充填されるように構成される主貯水槽と、（ｉｉ）消毒剤を保持するための第１壁にヒンジ接続される消毒剤槽であって、第２底部と、第２底部から延びる第２壁とで形成され、消毒剤槽は更にフロートを有する消毒剤槽と、を備える。第２底部は、水だめが消毒水位に充填されたときに、水がフロートを上昇させ、消毒剤槽を回転させ、主貯水槽内にその内部の消毒剤を放出させるように、第１底部よりも上の高さにある。
【００１３】
本発明の他の態様は、氷を形成するための製氷機に向けられており、この製氷機は、冷凍システム、給水システムを備える。冷凍システムは、圧縮機、凝縮器、蒸発器、及び、蒸発器に熱的に連結された凍結プレートを備え、圧縮機、凝縮器、及び、蒸発器は１つまたは複数の冷媒管路により、流体連通する。給水システムは、凍結プレートに水を供給し、凍結プレートの下側で、水を保持する主貯水槽と消毒剤を保持する消毒剤槽とを有する水だめと、凍結プレートの上側の水分配器と、送水ラインにより水分配器と流体連通する送水ポンプと、を備える。給水システムは、更に、給水ラインと、その間を流体連通し、水だめに水を供給するように構成される水入口弁と、を備える。製氷機は、更に、水だめ内の水位を測定するように構成される水位センサと、水位センサで測定された水だめ内の水位に応じて製氷機を制御するように構成されるコントローラとを備える。コントローラは、（ａ）製氷サイクルの際、水入口弁を開いて、製氷水位まで主貯水槽に水を充填し、（ｂ）脱スケール及び消毒プロセスの脱スケール部分の際、水入口弁を開いて、脱スケール水位まで主貯水槽に水を充填し、（ｃ）脱スケール及び消毒プロセスの消毒部分の際、水入口弁を開いて、消毒水位まで主貯水槽に水を充填し、消毒水位は、脱スケール水位よりも上であり、消毒水位に達したときに、消毒剤槽内の消毒剤は主貯水槽に入る、ように構成される。
【００１４】
本発明の他の態様は、氷を形成するための製氷機に向けられており、この製氷機は、冷凍システムと給水システムとを備える。冷凍システムは、圧縮機、凝縮器、蒸発器、及び、蒸発器に熱的に連結された凍結プレートを備え、圧縮機、凝縮器、及び、蒸発器は１つまたは複数の冷媒管路により、流体連通する。給水システムは、水を凍結プレートに供給し、凍結プレートの下側の主貯水槽を有する水だめと、凍結プレートの上の水分配器と、水だめの上側で消毒剤を保持するための消毒剤槽であって、底部とこの底部から延びる壁とで形成され、通常閉位置にばね負荷されたドアと、送水ポンプとを有する消毒剤槽と、を備え、送水ポンプは、送水ラインにより水分配器と流体連通する。給水システムは、更に、主貯水槽に水を供給するように構成された第１水入口弁と、水を消毒剤槽に供給するように構成された第２水入口弁とを有する。製氷機は、更に、主貯水槽内の水位を測定するように構成される水位センサと、水位センサで測定された主貯水槽内の水位に応じて製氷機を制御するように構成されるコントローラとを備える。コントローラは、（ａ）製氷サイクルの際、第１水入口弁を開いて、製氷水位まで主貯水槽に水を充填し、（ｂ）脱スケール及び消毒プロセスの脱スケール部分の際、第１水入口弁を開いて、脱スケール水位まで主貯水槽に水を充填し、（ｃ）脱スケール及び消毒プロセスの消毒部分の際、第２水入口弁を開いて、消毒剤槽に水を充填し、消毒剤槽のドアを開かせ、その中に配置された任意の消毒剤を主貯水槽内に入れるように、構成される。脱スケール水位は、製氷水位と等しいかまたはこれよりも高くてもよい。
【００１５】
本発明の更に他の態様は、製氷機を脱スケール及び消毒する方法に向けられる。製氷機は、（ｉ）圧縮機、凝縮器、蒸発器、及び、蒸発器に熱的に連結された凍結プレートを有する冷凍システムであって、圧縮機、凝縮器、及び、蒸発器が１つまたは複数の冷媒管路により、流体連通する冷凍システムと、（ｉｉ）凍結プレートに水を供給する給水システムであって、凍結プレートの下側の水だめと、凍結プレートの上側の水分配器と、送水ポンプと、を有する給水システムと、を備える。ここで、水だめは、主貯水槽と消毒剤槽とを有し、送水ポンプは、送水ラインにより、水分配器と流体連通する。この方法は、（ｉ）水だめの主貯水槽を脱スケール水位まで第１水量で充填することであって、この水は主貯水槽内に配置された洗浄剤と混合する充填すること、（ｉｉ）水及び洗浄剤の混合物を、水だめから給水システムを通して凍結プレートの上に送り込んで給水システムと凍結プレートとを脱スケールすること、（ｉｉｉ）水及び洗浄剤の混合物を水だめからパージすること、（ｉｖ）主貯水槽を第２水量で脱スケール水位まで充填することにより、給水システム及び凍結プレートの残留する洗浄剤を洗浄し、第２水量を水だめから給水システムを通して凍結プレートの上に送り込み、第２水量及び残留洗浄剤を水だめからパージすること、（ｖ）水だめの主貯水槽を第３水量で消毒水位まで充填することであって、消毒水位は脱スケール水位よりも上であり、水は消毒剤水リザーバ内に配置された消毒剤と混合する、充填すること、（ｖｉ）水及び消毒剤の混合物を、水だめから給水システムを通して凍結プレートの上に送り込んで給水システムと凍結プレートとを消毒すること、（ｖｉｉ）水及び消毒剤の混合物を水だめからパージすること、（ｖｉｉｉ）主貯水槽を第４水量で消毒水位まで充填することにより、給水システム及び凍結プレートから残留する消毒剤を洗い流し、第４水量を、水だめから給水システムを通して凍結プレートの上に送り込み、第４水量及び残留消毒剤を水だめからパージすること、のステップを備える。
【００１６】
本発明の更に他の態様は、製氷機を脱スケール及び消毒する方法に向けられる。製氷機は、（ｉ）圧縮機、凝縮器、蒸発器、及び、蒸発器に熱的に連結された凍結プレートを有する冷凍システムであって、圧縮機、凝縮器、及び、蒸発器が１つまたは複数の冷媒管路により、流体連通する冷凍システムと、（ｉｉ）水を凍結プレートに供給する給水システムであって、凍結プレートの下側の主貯水槽を有する水だめと、凍結プレートの上側の水分配器と、水だめの上側で消毒剤を保持するために底部とこの底部から延びる壁とで形成されて通常閉位置のばね負荷されたドアを有する消毒剤槽と、送水ラインにより水分配器と流体連通する送水ポンプと、を有する給水システムと、を備える。この給水システムは、更に、主貯水槽に水を供給するように構成される第１給水入口弁と、消毒剤槽に水を供給するように構成された第２水入口弁とを有する。方法は、（ｉ）水だめの主貯水槽を、第１水入口弁を使用して、脱スケール水位まで第１水量で充填することであって、水は主貯水槽内に配置された洗浄剤と混合する、充填すること、（ｉｉ）水及び洗浄剤の混合物を、水だめから給水システムを通して凍結プレートの上に送り込んで給水システムと凍結プレートとを脱スケールすること、（ｉｉｉ）水及び洗浄剤の混合物を水だめからパージすること、（ｉｖ）主貯水槽を、第１水入口弁を使用して、第２水量で脱スケール水位まで充填することにより、給水システム及び凍結プレートから残留する洗浄剤を洗い流し、第２水量を、水だめから給水システムを通して凍結プレートの上に送り込み、更に、第２水量及び残留洗浄剤を水だめからパージすること、（ｖ）水だめの主貯水槽に、第２水入口弁を使用して脱スケール水位まで第３水量を充填することであって、この第２水入口弁は、消毒剤槽に水を充填し、消毒剤槽のドアを開かせ、その中の任意の消毒剤を主貯水槽内に配置する、充填すること、（ｖｉ）水及び消毒剤の混合物を水だめから給水システムを通して凍結プレートの上に送り込んで給水システムと凍結プレートとを消毒すること、（ｖｉｉ）水及び消毒剤の混合物を水だめからパージすること、（ｖｉｉｉ）主貯水槽を第４水量で消毒水位まで充填することにより、給水システム及び凍結プレートから残留する消毒剤を洗い流し、第４水量を、水だめから給水システムを通して凍結プレートの上に送り込み、第４水量及び残留消毒剤を水だめからパージすること、を備える。
【００１７】
本発明のこれら及び他の特徴、態様及び利点は、以下の詳細な説明、添付の請求の範囲、及び、参照する図面からより十分に明らかとなり、ここで、図面は、本発明の例示的な実施形態による特徴を説明する。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の第１実施形態による種々の構成要素を有する製氷機の概略図である。
【図２】本発明の第１実施形態による製氷機の種々の構成要素の作動を制御するコントローラの概略図である。
【図３】本発明の第１実施形態による氷収納庫組立体の上のキャビネット内に配置される製氷機の右側斜視図である。
【図４】本発明の第１実施形態による氷収納庫組立体の上のキャビネット内に配置される製氷機の右側斜視図である。
【図５Ａ】本発明の第１実施形態による凍結プレート及び水だめの一部の前面図である。
【図５Ｂ】本発明の第１実施形態による水だめの上面図である。
【図６】本発明の第１実施形態による水だめ及び水位センサの左断面図である。
【図７】本発明の第１実施形態による製氷機の自動脱スケール及び消毒プロセスの脱スケール部分を説明する流れ図である。
【図８】本発明の第１実施形態による製氷機の自動脱スケール及び消毒プロセスの消毒部分を説明する流れ図である。
【図９】本発明の第２実施形態による水だめの一部の前面図である。
【図９Ａ】本発明の第２実施形態による水だめ内の水位が通常の製氷水位及び脱スケール水位のときに、第１位置の消毒剤槽を有する水だめの一部の右断面図である。
【図９Ｂ】本発明の第２実施形態による水だめ内の水位が消毒水位のときに、消毒剤槽が第２位置にある水だめの一部の右断面図である。
【図１０】本発明の第３実施形態による種々の構成要素を有する製氷機の概略図である。
【図１１】本発明の第３実施形態による製氷機の自動脱スケール及び消毒プロセスの消毒部分を説明する流れ図である。
【図１２】本発明の第４実施形態による水だめの断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
種々の図面の複数の図を通して同様な参照番号は対応する構成要素を示す。
【００２０】
本発明のいずれかの実施形態を詳細に説明する前に、本発明は、以下の記載に説明し、または、以下の図面に示した構成要素の構成及び配置の詳細にその用途が制限されるものではないことを理解すべきである。本発明は、他の実施形態が可能であり、種々の方法で実施または実行することが可能である。更に、ここに使用する用語及び専門用語は、説明のためであり、制限するものと見なすべきでないことを理解すべきである。「ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ（含む）」、「ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ（備える）」または「ｈａｖｉｎｇ（有する）」、及び、その変化を本明細書で使用することは、後に列挙した事項及びその等価物、並びに、追加事項を包含することを意味する。明細書及び請求の範囲で使用する測定結果等を示す全ての数字は、全て事例で「約」の用語で変更されるとして理解すべきである。更に、ここにおける、前後、左右、天地（ｔｏｐ  ａｎｄ  ｂｏｔｔｏｍ）、及び、上下（ｕｐｐｅｒ  ａｎｄ  ｌｏｗｅｒ）に対するいずれかの参照は、説明の便宜のためであり、ここに開示した発明またはその構成要素を任意の１つの位置または空間的配向に制限するものではない。
【００２１】
図１は、冷凍システム１２及び給水システム１４を有する製氷機１０の１つの実施形態の特定の主要構成要素を示す。製氷機１０の冷凍システム１２は、圧縮機１５、圧縮機１５から排出された圧縮冷媒蒸気を凝縮する凝縮器１６、冷媒の温度及び圧力を低下する冷媒膨張装置１９、製氷装置２０、及び、高温ガス弁２４を有する。冷媒膨張装置１９は、制限するものではないが、毛細管、温度式膨張弁、または、電子式膨張弁を有してもよい。製氷装置２０は、蒸発器２１と、蒸発器２１に熱的に連結された凍結プレート２２とを有する。蒸発器２１は、当該分野で公知のように、曲がりくねった配管（図示しない）で構成される。凍結プレート２２は、その表面上に多数のポケット（通常は、小区画の格子の形態）を有し、この表面上を流れる水を収集することができる（図４を参照）。高温ガス弁２４は、暖かい冷媒を圧縮機１５から、入口２１ａで蒸発器２１に直接導き、氷が所要の厚さに達したときに、凍結プレート２２からアイスキューブを除去または取り入れるために用いられる。
【００２２】
製氷機１０は、更に、蒸発器２１の出口２１ｂに配置されて、冷媒膨張装置１９を制御する温度センサ２６を有する。冷媒膨張装置１９が温度式膨張弁（ＴＸＶ）である場合、センサ２６及び膨張装置１９は毛細管（図示しない）で接続され、これは、その中に包含する冷媒の圧力を介して、温度センサ２６により膨張装置１９を制御することを可能とする。冷媒膨張装置１９が電子式膨張弁の場合、温度センサ２６はコントローラ８０と電気的に、信号及び／またはデータ通信し、これは、次に、冷媒膨張弁１９と電気的に信号及び／またはデータ通信し、温度センサ２６（図２を参照）で測定される温度に応じて冷媒膨張弁１９を制御してよい。種々の実施形態では、例えば、温度センサ２６は、冷媒膨張装置１９と電気的に信号及び／またはデータ通信してもよい。他の実施形態では、冷媒膨張装置１９が電子式膨張弁の場合、製氷機１０も、蒸発器２１の出口に配置される圧力センサ（図示しない）を有し、当該分野で既知のように、冷媒膨張装置１９を制御してもよい。ガス状冷却媒体（例えば、空気）を用いて凝縮器を冷却する特定の実施形態では、凝縮器ファン１８は、凝縮器１６の全体にガス状冷却媒体を吹き付けるように配置してもよい。本明細書のいずれかに、より十分に説明するように、冷媒の形態は、冷媒管路２８ａ，２８ｂ，２８ｃ，２８ｄを介してこれらの構成要素を循環する。
【００２３】
製氷機１０の給水システム１４は、送水ポンプ６２、送水ライン６３、水分配器６６（例えば、マニフォルド、皿、チューブ等）、及び、凍結プレート２２の下側に配置され水を保持するように構成される水だめ７０を有する。製氷機１０の作動中、水が水だめ７０から送水ポンプ６２により、送水ライン６３を通して送り出され、水分配器６６から出ると、水は凍結プレート２２に衝突し、凍結プレート２２のポケットの上を流れ、凍結して氷となる。水だめ７０は、凍結プレート２２の下側に位置し、水が送水ポンプ６２で再循環されるように、凍結プレート２２から出てくる水を受けてもよい。水分配器６６は、２０１４年１月２９日に出願されＢｒｏａｄｂｅｎｔに対して継続中の米国特許出願公開第２０１４／０２０８７９２号に記載された水分配器でもよく、その全体が参照により、本願明細書に包含される。
【００２４】
製氷機１０の給水システム１４は、更に、給水ライン５０と、水供給源（図示しない）から水を水だめ７０に充填するために、これに流体連通する水入口弁５２とを有し、供給された水の一部または全部を凍結して水にしてもよい。製氷機１０の給水システム１４は、更に、水排出ライン５４と、その上に配置された排出弁５６（例えば、パージ弁、ドレイン弁）とを有する。氷が形成された後に水だめ７０内に残留する水及び／またはあらゆる汚染を、水排出ライン５４及び排出弁５６を介して排出することができる。種々の実施形態では、水排出ライン５４は、送水ライン６３と流体連通してもよい。したがって、水だめ７０内の水は、送水ポンプ６２を運転したときに、排出弁５６を開くことにより、水だめ７０から排出され得る。
【００２５】
ここで図２を参照すると、製氷機１０は、更に、コントローラ８０を有してもよい。コントローラ８０は、製氷装置２０及び水だめ７０から離隔して配置してもよい。コントローラ８０は、製氷機１０の作動を制御するプロセッサ８２を有してもよい。コントローラ８０のプロセッサ８２は、プロセッサ８２に処理を実行させる命令を表現するコードを記憶するプロセッサ可読媒体を有してもよい。プロセッサ８２は、例えば、市販のマイクロプロセッサ、特定用途向け集積回路（ＡＳＩＣ）または複数のＡＳＩＣの組合わせとしてもよく、これらは、１つまたは複数の特定の機能を達成し、または、１つまたは複数の特別な装置若しくは用途を可能とするように設計される。更に他の実施形態では、コントローラ８０は、アナログ若しくはデジタル回路、または、多数の回路の組合わせとしてもよい。コントローラ８０は、更に、コントローラ８０で取込み可能な形態でデータを記憶する１つまたは複数のメモリ要素（図示しない）を有してもよい。コントローラ８０は、１つまたは複数のメモリ要素にデータを格納し、または、これからデータを取込むことができる。
【００２６】
種々の実施形態では、コントローラ８０は、更に、製氷機１０の種々の構成要素と通信及び／または制御する入出力（Ｉ／Ｏ）要素（図示しない）を有してもよい。特定の実施形態では、例えばコントローラ８０は、取入れセンサ５８（図２を参照）、温度センサ（複数可）２６（図１を参照）、水だめ水位センサ８４（図５を参照）、電力供給源（図示しない）、及び／または、制限するものではないが、圧力変換器、音響センサ等の種々のセンサ及び／またはスイッチから入力を受取ってもよい。種々の実施形態では、これらの入力に基づいて、例えば、コントローラ８０は、圧縮機１５、凝縮器ファン１８、冷媒膨張装置１９、高温ガス弁２４、水入口弁５２、排出弁５６、及び／または、送水ポンプ６２を制御可能としてもよい。
【００２７】
次に、図４を参照すると、コントローラ８０は、更に、ユーザコントロールパネル１０２（図４を参照）でディスプレイ１０４を制御できるようにしてもよい。ディスプレイ１０４は、指示メッセージ、情報メッセージ、及び／または、エラーもしくは故障メッセージを含むメッセージを表示することができてもよい。ディスプレイ１０４は、制限するものではないが、本開示の範囲から逸脱することなく、ＬＣＤ画面、１つまたは複数ＬＥＤ等を含む任意のタイプのディスプレイとしてもよい。製氷機１０は、制限するものではないが、更に、スピーカ、ブザー、チャイム、ベル、及び／または、人に可聴及び／または人に不可聴の音を発生することのできるいくつかの他の装置を含む音発生装置から音響信号を与えてもよい。
【００２８】
多くの実施形態では、図３に示すように、製氷機１０は、氷収納庫装置３０の頂部に装着してもよいキャビネット２９の内側に配置してもよい。キャビネット２９は、適切に固定されかつ取外し可能なパネルで閉じ、当業者に理解されているように、温度を保全しかつ区画毎にアクセスさせてもよい。氷収納庫装置３０は、製氷機１０で製造された氷を通して落下させるアイスホール３７（図４を参照）を有する氷保管庫３１を備える。このように、氷は、回収するまで、キャビティ３６内に貯蔵される。氷保管庫３１は、更に、キャビティ３６及びその中に貯蔵された氷にアクセスする開口３８を有する。キャビティ３６、アイスホール３７（図４を参照）及び開口３８は、左壁３３ａ、右壁３３ｂ、前壁３４、後壁３５及び底壁（図示しない）により、形成される。氷貯蔵庫３１の壁は、制限するものではないが、グラスファイバ断熱材、または、例えばポリスチレン若しくはポリウレタン等で形成される連続気泡若しくは独立気泡の発泡材を含む種々の絶縁材料で断熱し、氷貯蔵庫３１内に貯蔵された氷の融解を抑制してもよい。ドア４０を開くと、キャビティ３６にアクセスすることができる。他の実施形態では、製氷機１０は、当該分野で既知のように、氷ディスペンサ（図示しない）の頂部に装着することのあるキャビネット２９の内側に配置してもよい。例えば、製氷機１０は、レストラン、カフェテリア、病院、ホテル、または、ユーザがセルフサービスの形態で氷をカップ、バケット若しくは他の容器に小分けできる他の場所の氷ディスペンサに装着してもよい。
【００２９】
図５Ａ及び５Ｂを参照して、製氷機１０に使用される水だめ７０を詳細に説明する。本明細書のいずれかに、より十分に説明するように、製氷機１０は、自動脱スケール及び消毒プロセスの消毒部分の際、製氷機１０を消毒する消毒液剤を使用する。水だめ７０は、水を保持する主貯水槽７０ａと、消毒剤を保持する消毒剤槽７５とを有する。主貯水槽７０ａは、底部７２及びこれから上方に延びる壁７１で形成される。壁７１は、左壁部７１ａ、前壁部７１ｂ、右壁部７１ｃ及び後壁部７１ｄを有する。消毒剤槽７５は、右壁７１ｃに近接する水だめ７０の前壁７１ｂ上に示してある。消毒剤槽７５は、底部７６及びこれから上方に延びる壁７８で形成される。壁７８は、左壁部７８ａ、前壁部７８ｂ、及び、右壁部７８ｃを含む。消毒剤槽７５は、消毒剤（例えば、粉末状消毒剤、液状消毒剤、錠剤状消毒剤、鞘状消毒剤等）を保持するように構成される。消毒剤槽７５は、水だめ７０の主貯水槽７０ａと流体連通する。すなわち、この明細書のいずれかで、より十分に説明するように、脱スケール及び消毒プロセスの消毒部分の作動中、消毒剤は、消毒剤槽７５から、水だめ７０の主貯水槽７０ａ内に移動してもよい。消毒剤槽７５を前壁７４の近部に配置することで、製氷機１０を脱スケール及び／または消毒しようとするユーザに対する消毒剤槽７５のアクセスしやすさを支援する。ユーザは、製氷機１０の他の部分から大きな干渉無しで、消毒剤を消毒剤槽７５内に容易に配置することができる。更に、消毒剤槽７５は、凍結プレート２２及び取入れの際に凍結プレート２２から落ちる氷の邪魔にならないように、右側に配置される（図５Ａ、５Ｂ（点線の囲みは、水だめ７０に対する凍結プレート２２の概略的位置を示す）を参照）。
【００３０】
詳細に後述するように、自動脱スケール及び消毒プロセスは、脱スケール部分と消毒部分とを含み、水だめ７０は、このプロセスのこれらの部分の際に異なる高さに水を充填される。次に、図６を参照すると、脱スケール部分の際、水だめ７０は脱スケール水位まで水を充填され、消毒部分の際、水だめ７０は消毒水位まで水を充填される。脱スケール水位は、通常の製氷レベルの上方に堆積するスケール及びミネラルの除去を支援するために、通常の製氷レベルより高い、すなわち上方であるのが好ましい。しかし、種々の実施形態では、脱スケール水位は、通常の製氷レベルと実質的に同じまたは同じでもよい。他の実施形態では、例えば、脱スケール水位は、通常の製氷レベルより低くてもよい。図５Ａ及び６に示す様に、消毒剤槽７５は、脱スケール水位の上方のレベルにある。したがって、製氷機１０が自動脱スケール及び消毒プロセスの脱スケール部分で作動している間に、消毒剤槽内に配置される消毒剤は、水だめ７０内の水と接触するようにはならない。より十分に後述するように、水だめ７０内の水位が消毒水位のときに、消毒剤槽７５内の消毒剤は、水だめ７０内の水と混合し、給水システム１４及び凍結プレート２２を消毒する。
【００３１】
水だめ７０内の水位を測定するため、製氷機１０は、図６にも示す様に、水位測定システムを有する。水位測定システムは、水だめ７０内の通常の「フル」もしくは製氷水位、または、これよりも上の、水だめ７０内の２つの水位（すなわち、脱スケール水位及び消毒水位）を測定することができる。水位測定システムは、水だめ７０内に配置される空気フィッティング９０、空気フィッティング９０と連通する空気チューブ８６、及び、コントローラ８０を有する。コントローラ８０は、更に、空気圧センサ８４を有しまたはこれに取付けてもよく、これは、水だめ７０の底部７２の近部の水圧を測定するために使用してもよく、ここでは、水だめ７０の底部７２の近部の水圧は、水だめ７０内の水位に相互関連し得る。水だめ７０内の水位は、凍結プレート６０上の氷の厚さに相互関連することがある。空気圧センサ８４からの出力を使用して、プロセッサ８２は、水だめ７０内の水位を測定することができる。したがって、コントローラは、水だめの空レベル、取入れレベル、製氷レベル、並びに、脱スケールレベル及び消毒レベルを測定できる。図６に示すように、脱スケールレベル及び消毒レベルは、通常の製氷レベルよりも上側である。脱スケール及び消毒プロセスの際、製氷機１０を脱スケール及び消毒するため、水だめ内の水は脱スケールレベルに、この後、消毒レベルに上昇する。製氷機１０の通常の製氷の際、空気圧センサ８４は、更に、プロセッサ８２が、氷取入れサイクルを開始する好適な時間を決定し、充填及びパージ機能を制御し、製氷機１０の給水システムの構成要素のなんらかの故障を検出するのを可能とする。
【００３２】
特定の実施形態では、空気圧センサ８４は、モノリシックシリコンの圧力センサを有するピエゾ抵抗式トランスデューサを備えてもよい。トランスデューサは、アナログディジタル（Ａ／Ｄ）入力を有するコントローラ８０にアナログ信号を供給してもよい。空気圧力センサ８４は、ひずみゲージを使用して、水だめ７０内の水に作用する圧力に比例する出力信号を供給してもよい。特定の実施形態では、空気圧センサ８４は、例えば、テキサス、オースティンのＦｒｅｅｓｃａｌｅ  Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒの部品番号ＭＰＸＶ５００４等の低コストで、高信頼性の空気圧トランスデューサとしてもよい。他の実施形態では、コントローラ８０は、空気圧センサ８４に加えまたは代えて、水だめ７０内の水を測定するための任意の市販の装置を有しまたは連結してもよい。
【００３３】
図６を続けて参照すると、空気圧センサ８４は、近位端８６ａと遠位端８６ｂとを有する空気チューブ８６により、水だめ７０に接続してもよい。空気チューブ８６の近位端８６ａは、空気圧センサ８４に接続され、空気圧チューブ８６の遠位端８６ｂは、空気フィッティング９０に接続されかつこれと流体連通する。空気フィッティング９０は、水だめ７０内に位置してもよく、ベース部９０ａ、第１部９０ｂ、第２部９０ｃ、及び、頂部９０ｄを有し、全てが水だめ７０の底部７２の近部で水と流体連通する。空気フィッティング９０のベース部９０ａ、第１部９０ｂ、第２部９０ｃ、及び、頂部９０ｄは、空気を内部に閉じ込め得るチャンバ９２を画定する。１つまたは複数の開口９８が、ベース部９０ａの周囲を囲み、水だめ７０の底部７２に近接する水を空気フィッティング９０のチャンバ９２内の空気と流体連通するのを可能とする。水だめ７０内の水位が上昇すると、水だめ７０の底部７２に近接する水の圧力が、空気フィッティング９０の１つまたは複数の開口９２を介してチャンバ９２内の空気と連通する。チャンバ９２内の空気圧が上昇すると、この圧力上昇は空気チューブ８６を通る空気を介して空気圧センサ８４と連通する。したがって、コントローラ８０は、水だめ７０内の水位を決定することができる。更に、水だめ７０内の水位が低下すると、チャンバ９２内の圧力も低下する。この圧力低下は、空気チューブ８６を通る空気を介して空気圧力センサ８４に伝わる。したがって、コントローラ８０は、水だめ内の水位を測定することができる。
【００３４】
空気フィッティング９０のベース部９０ａは、実質的に円形状でもよく、チャンバ９２内の水の毛管作用の減少または排除を支援する大きな径を有してもよい。第１部９０ｂは、実質的に円錐形状でもよく、したがって、ベース部９０ａの大径から第２部９０ｃの小径の間で移行する。第２部９０ｃは、第１部９０ｂから頂部９０ｄまで先細状としてもよい。頂部９０ｄの近部には、空気チューブ８６の遠位端８６ｂが接続されるコネクタ９４を配置してもよい。コネクタ９４は、制限するものではないが、返し、ニップル等を含む、当該分野で既知の任意のタイプの空気チューブコネクタであってもよい。
【００３５】
上述の構成要素に加え、製氷機１０は、本発明の範囲から逸脱することなく、ここには記載してない他の通常の構成要素を有してもよい。
【００３６】
製氷機１０の１つの実施形態の各構成要素のそれぞれを説明してきたが、種々の実施形態において、構成要素が相互作用しかつ動作する方法を、再度、図１を参照して次に説明する。製氷サイクルで製氷機１０が作動する際、圧縮機１５は、低圧で実質的にガス状の冷媒を、吸入管路２８ｄを通して蒸発器２１から受取り、冷媒を圧縮し、高圧で実質的にガス状の冷媒を、排出ライン２８ｂを通して凝縮器１６に排出する。凝縮器１６では、冷媒から熱が除去され、実質的にガス状の冷媒を実質的に液状の冷媒に凝縮する。実質的に液状の冷媒は、冷媒が液体−ガスの混合体であるように、いくらかのガスを包含してもよい。
【００３７】
凝縮器１６を出た後、高圧の実質的に液状の冷媒は、液体管路２８ｃ通って冷媒膨張装置１９に送られ、これは、入口２１ａで蒸発器２１に導くために、実質的に液状の冷媒の圧力を減じる。低圧の膨張した冷媒が、蒸発器２１のチューブを通過するため、冷媒は、このチューブを通るときに蒸発器２１内のチューブから熱を吸収し、気化する。低圧で実質的にガス状の冷媒は、蒸発器２１の出口２１ｂから排出され、吸入管路２８ｄを通って圧縮機１５の入口に再度導かれる。
【００３８】
本発明の特定の実施形態では、製氷サイクルの開始のときに、水充填弁５２が開かれ、多量の水が水だめ７０に供給され、送水ポンプ６２が作動する。製氷機は、多量の水の一部または全てを氷結させる。所要量の水が水だめ７０に供給された後、水充填弁を閉じてもよい。圧縮機１５が作動され、凍結システム１２を通して冷媒の流れを開始する。送水ポンプ６２は、送水ライン６３及び水分配器６６を介して、凍結プレート２２の上に水を循環する。送水ポンプ６２で供給された水は、この後、凍結プレート２２に接触するときに冷却され、凍結プレート２２の下側の水だめ７０に戻り、送水ポンプ６２により凍結プレート２２に再循環される。水が十分に冷たくなると、凍結プレート２２を通して流れる水がアイスキューブの形成を開始する。
【００３９】
所要のアイスキューブ厚さに達するようにアイスキューブが形成された後、送水ポンプ６２が停止され、高温ガス弁２４を開くことにより、製氷サイクルの取入れ部分が、開始する。これは、圧縮機１５から暖かい高圧ガスが高温ガスバイパス管路２８ａを通って、入口２１ａで蒸発器２１に入るのを可能とする。暖かな冷媒は、蒸発器２１の曲がりくねったチューブを通して流れ、暖かな冷媒と蒸発器２１との間で熱移動を生じる。この熱は、暖かさを、蒸発器２１、凍結プレート２２、及び、凍結プレート２２に形成された氷に伝達する。この結果、氷が凍結プレート２２から解放され、氷が一時的に貯蔵されて後から回収される氷貯蔵庫３１内に落下する程度に、形成された氷が溶融される。
【００４０】
上述のように、所定の製氷時間の後、製氷機１０は、脱スケール及び消毒をしなければならない。次に、図７及び８を参照すると、自動的に製氷機１０を脱スケール及び消毒する方法が詳細に記載されている。ステップ７００で、自動脱スケール及び消毒プロセスが開始する。ユーザが製氷機１０の制御パネルのボタン（例えば、「掃除」のラベル付き）を押し、プロセスを開始することが好ましい。ユーザが「掃除」ボタンを押すと、コントローラ８０が信号を受取り、脱スケール及び消毒プロセスを開始する。製氷機１０のボタンを押すことに代え、ユーザは、コンピュータ及び／または携帯電子装置（例えば、ラップトップコンピュータ、スマートホン、タブレット等）等の遠隔装置の「掃除」ボタンを押すか、または選択してもよい。したがって、脱スケール及び消毒プロセスを開始する信号を、離隔位置からコントローラ８０に送信することができる。
【００４１】
ステップ７０２で、脱スケール及び消毒プロセスを開始する指示を受取った後、コントローラ８０は、製氷機１０に、凍結プレート２２の上のあらゆる氷を取入れる取入れサイクルを実行させる。取入れサイクルが完了した後、製氷機１０は、ステップ７０４で、洗浄剤を水だめ７０の主貯水槽７０ａに、消毒剤を消毒剤槽７５に加えるよう、ユーザに指示する。洗浄剤を水だめ７０の主貯水槽７０ａに、消毒剤を消毒剤槽７５に加えるためのユーザに対する指示は、製氷機１０の制御パネル１０２から発せられる可聴音（例えば、ビープ音、ベル音、リング音等）としてもよい。可聴音に加えまたは代えて、ユーザが洗浄剤を水だめ７０の主貯水槽７０ａに、消毒剤を消毒剤槽７５に加えるべきことを指示するメッセージを制御パネル１０２のディスプレイ１０４に表示してもよい。種々の実施形態では、コントローラ８０は、コンピュータ及び／または携帯電子装置（例えば、ラップトップコンピュータ、スマートホン、タブレット等）等の遠隔装置に、洗浄剤を水だめ７０の主貯水槽７０ａに、消毒剤を消毒剤槽７５に追加することをユーザに音響または視覚的に指示させる信号または情報を送信してもよい。特に、製氷機１０を制御するアプリケーションを有するスマートホンは、コントローラ８０からこのような信号または情報を受取ってもよく、更に、スマートホンのスピーカ（複数可）を通して音を出し及び／またはスマートホンのディスプレイにメッセージを表示してもよい。
【００４２】
ステップ７０６で、この後、コントローラ８０は、約３０秒から約９０秒（例えば、約３０秒、約４５秒、約６０秒、約７５秒、約９０秒）の所定時間（ｔｗａｉｔ）中断し、ステップ７０４で、ユーザが洗浄剤を水だめ７０の主貯水槽７０ａに、消毒剤を消毒剤槽７５に加えるのを可能とする。洗浄剤は、水だめ７０の主貯水槽７０ａに直接加えられる。洗浄剤は、食品安全性のある酸性、または、硝酸等の酸性の洗浄剤が好ましいが、製氷機を洗浄するために当該分野で既知の任意のタイプの洗浄剤を使用してもよい。消毒剤は、図５Ａ及び５Ｂを参照して上述した消毒剤槽７５に加えられる。消毒剤は、ニューヨーク州ＥｌｍｓｆｏｒｄのＵｒｎｅｘ  Ｂｒａｎｄｓ社から販売されているＳａｎｉ−Ｐｕｒｅ（登録商標）等の食品安全性のある粉末状消毒剤が好ましいが、しかし、製氷機または食品設備の消毒用に当該分野で既知の任意のタイプの粉末状、固体状、タブレット及び／または鞘状の食品安全性の消毒剤を使用してもよい。代りに、コントローラ８０は、ユーザが水だめ７０の主貯水槽７０ａに洗浄剤を、消毒剤槽７５に消毒剤を加えたことを、ユーザがコントローラ８０に示すまで、休止してもよい。すなわち、ユーザが洗浄剤及び消毒剤を加えた後、ユーザが、製氷機１０の制御パネル１０４またはコントローラ８０に信号する遠隔装置のボタンを押し、自動脱スケール及び消毒プロセスを進めてもよい。したがって、コントローラ８０は、これにより、この信号を受けた後、自動洗浄及び消毒プロセスを進め得る。ユーザが洗浄剤及び消毒剤をそれぞれ主貯水槽７０ａ及び消毒剤槽７５に加えた後、ユーザは製氷機１０を去り、無人で自動脱スケール及び消毒プロセスを実行することができる。これは、脱スケール部分が完了した後に消毒剤を追加するために製氷機にまたはその近くにユーザが残ることを必要とする典型的な製氷機を越える利点である。したがって、製氷機１０は、必要とするユーザの介入及び時間がより少なく、したがって、典型的な製氷機に比較して脱スケール及び消毒の頻度を増加することができる。製氷機１０のオペレータ、借り主、及び／または、オーナが、洗浄を実行するサービス員に支払いをしている場合、より短い時間で達成し、及び／または、サービス員が全プロセスに対して立ち会うことを必要としないため、このプロセスのコストはより少ない。
【００４３】
製氷機１０を脱スケール及び消毒するとき、このプロセスの脱スケール部分は、プロセスの消毒部分の前に行うべきである。そうでない場合、消毒プロセスは、ミネラル堆積部の外側を消毒し、その後、これらの堆積部が脱スケール工程で除去され、ミネラル堆積部の下側の消毒されてない表面を露出することになる。最初に脱スケールを行うことにより、消毒工程は、脱スケールで除去される表面ではなく、下側の表面を消毒することになる。更に、一般的に、脱スケール及び消毒は、それぞれに使用する化学薬剤が混合可能ではなく、混合すると、有害かつ危険なガスを生成可能であるため、同時に行うことはできない。
【００４４】
ステップ７０８で、コントローラ８０は、水供給弁５２を開き、水だめ７０の主貯水槽７０ａに水を供給する。水だめ７０の主貯水槽７０ａに送り込まれた水は、この後、ユーザが水だめに加えた洗浄剤と混合される。水供給弁５２は開状態を維持し、水だめ７０の主貯水槽７０ａ内の水位が、水だめ水位センサ８４で測定された脱スケール水位に達するまで、水だめ７０の主貯水槽７０ａに水を供給する。脱スケール水位に達すると、コントローラ８０は水供給弁５２を閉じる。通常の製氷の際、水は通常水位より上の水だめ７０の部分まで跳ね上がり、付着することがある。これは、水だめの種々の部分にミネラルの堆積を残すことになり得る。したがって、図６に示すように、脱スケール水位は、通常の製氷レベルより高いまたは上側であることが好ましい。脱スケールは、このより高い水位で行ってもよく、したがって、通常の製氷水位よりも上側のあらゆるミネラルの堆積も、自動脱スケール及び消毒プロセスの脱スケール部分の際に除去される。
【００４５】
脱スケール水位は、送水ポンプ６２が次のステップ（ステップ７１０，７１４を参照）の際に作動したとき、主貯水槽７０ａ内の水位が脱スケールプロセス（ステップ７１０，７１４を参照）の際に通常製氷レベルより上を維持するように、主貯水槽７０ａ内で十分高いことが好ましい。すなわち、送水ポンプ６２が作動したときに、ある程度の水が主貯水槽７０ａから、送水ライン６３、水分配器６６及び凍結プレート２２の上に送り込まれ、この結果、主貯水槽７０ａ内の水位が低下する。所要の脱スケール水位は、２つの方法で設定してもよい。第１に、脱スケール水位は、送水ポンプ６２が作動し、ある程度の水量が送水ライン６３を通して、水分配器６６及び凍結プレート２２の上に送込まれるときに、僅かに低下する水位を考慮するために十分な高さとしてもよい。第２に、送水ポンプ６２は、主貯水槽７０ａが脱スケール水位まで水を充填されたときに作動し、充填ステップ（ステップ７０８）の持続中に維持してもよい。この変形例では、充填中に送水ポンプ６２を作動したことにより、水位が脱スケール水位に達したときに、送水ライン６３、水分配器６６及び凍結プレート２２の上の水量が既に存在している。したがって、ステップ７１０及び７１４の際、送水ポンプ６２が作動しまたは作動状態を維持されるときに、脱スケール水位からの水位の低下はほとんどないか、または、全くない。ポンプ６２が作動しているにもかかわらず、水位の低下を可能とするのに十分高い脱スケール水位を有し、更に、製氷レベルより上の水位を維持することを可能とすることにより、製氷水位よりも上のあらゆるミネラルの堆積を除去することができる。脱スケール水位は通常の製氷レベルよりも高いことが好ましいが、種々の実施形態では、例えば、脱スケール水位は、実質的に同じか、または、通常の製氷レベルと同じでもよい。他の実施形態では、例えば、脱スケール水位は、通常の製氷レベルより低くてもよい。
【００４６】
ステップ７１０で、水だめ７０内の水及び洗浄剤の混合物は、給水システム１４（水だめ７０、送水ポンプ６２、水分配器６６及び送水ライン６３を含む）及び凍結プレート２２を通して循環される。これは、コントローラ８０により送水ポンプ６２を作動することで行われる。しかし、他の実施形態では、例えば、充填ステップ（ステップ７０８）中に送水ポンプ６２が作動すると、コントローラ８０は、送水ポンプ６２の作動を維持する。したがって、いくつかの実施形態では、ステップ７０８及び７１０が同時に起こる。送水ポンプ６２は、水及び洗浄剤の混合物を水だめ７０の主貯水槽７０ａから送水ライン６３を介して水分配器６６に送り込む。水及び洗浄剤の混合物は、この後、水分配器６６を出て、凍結プレート２２から滝状に落下し、水だめ７０の主貯水槽７０ａに戻る。製氷機１０のコントローラ８０は、送水ポンプ６２を作動し続け、水及び洗浄剤の混合物を給水システム１４、及び、製氷機１０の凍結プレート２２を介して、所要時間（ｔｃｌｅａｎ）にわたって再循環する。洗浄時間（ｔｃｌｅａｎ）は、約３０秒から約５分としてもよい（例えば、３０秒、約４５秒、約１分、約１．５分、約２．０分、約２．５分、約３．０分、約３．５分、約４．０分、約４．５分、約５．０分)。洗浄時間（ｔｃｌｅａｎ）は、約６０秒であるのが好ましい。特定の実施形態では、例えば、洗浄時間（ｔｃｌｅａｎ）３０秒よりも少ない。他の実施形態では、例えば、洗浄時間（ｔｃｌｅａｎ）は、５分よりも多くてもよい。いくつかの実施形態では、ユーザは、コントローラ８０で、製氷機１０のミネラルの堆積量に基づいて、洗浄時間（ｔｃｌｅａｎ）を変更させてもよい。
【００４７】
所要の洗浄時間（ｔｃｌｅａｎ）に達した後、水及び洗浄剤の混合物は、ステップ７１２で水だめ７０の主貯水槽７０ａからパージされる。これは、コントローラ８０が排出弁５６を開き、送水ポンプ６２を作動することにより、達成される。送水ポンプ６２は、この後、水及び洗浄剤の混合体、ミネラルの堆積、破片、汚れ及び／または他の汚染物質を水だめ７０から水排出ライン５４を介して送り出す。製氷機１０のコントローラ８０は、水だめ７０が実質的にまたは完全に空であることの指示をコントローラ８０が水だめ水位センサ８４から受取るまで、送水ポンプ６２を作動し続け、水及び洗浄剤の混合物を水だめ７０の主貯水槽７０ａから排出する。種々の実施形態では、水入口弁５４は、水だめから水及び洗浄剤の混合物のパージを支援することができる清水または清浄水を水だめ７０に供給するパージサイクルの少なくとも一部のために開いてもよい。これに代え、種々の実施形態では、例えば製氷機１０のコントローラ８０は、所要の時間が経過するまで、送水ポンプ６２を作動し続け、水及び洗浄剤の混合物を水だめ７０の主貯水槽７０ａから排出し、ここに、その経過時間の後、水だめ７０は実質的にまたは完全に空となる。水だめ７０が実質的にまたは完全に空になると、コントローラ８０は、送水ポンプ６２を停止し、排出弁５６を閉じる。他の実施形態では、例えば、水だめ７０は、送水ポンプ６２を必要とすることなく、重力で排出してもよい。このような実施形態では、排出弁５６を開くと、水及び洗浄剤の混合物を重力で水だめ７０から排出することができる。
【００４８】
水及び洗浄剤の混合物が水だめ７０からパージされた後、給水システム１４及び凍結プレート２２は、清水または清浄水を給水システム１４及び凍結プレート２２を介して送り込むことにより、ステップ７１４で、洗浄される。この洗浄は、洗浄剤の実質的に全てまたは全部が、プロセスの消毒部分の前に、給水システム１４及び凍結プレート２２から除去されるのを確実にする。上述のように、洗浄剤と消毒剤とは有毒及び／または危険なガスを生成することがあり、したがって、給水システム１４及び凍結プレート２２を洗浄することは、プロセスの後の消毒部分におけるこのようなガスが生成される可能性の低減または排除を支援する。
【００４９】
脱スケール部分のリンスステップの際、コントローラ８０は、再度水供給弁５２を開き、清水または清浄水を水だめ７０に供給する。水供給弁５２は、開状態を維持し、水だめ７０内の水位が、ステップ７０８に関して上述したように、水だめ水位センサ８４で測定されるように、脱スケール水位に達するまで、水を水だめ７０に供給する。脱スケール水位に達すると、コントローラ８０は水供給弁５２を閉じる。送水ポンプ６２は、清水を水だめ７０から送水ライン６３を介して水分配器６６に送る。清水は、この後、水分配器６６を出て、凍結プレート２２を滝状に落下し、水だめ７０に戻る。送水ポンプ６２は、水だめ７０が清水または清浄水を脱スケール水位まで充填されたときに作動され、リンスステップ（ステップ７１４）継続中に作動状態に維持されるが、しかし、他の実施形態では、送水ポンプ６２は、水だめ７０が充填された後にのみ作動状態としてもよい。製氷機１０のコントローラ８０は、送水ポンプ６２の作動を継続し、清水を再循環して製氷機１０の給水システム１４及び凍結プレート２２に残留する洗浄剤の一部または全てを所要の時間（ｔｒｉｎｓｅ）にわたって洗い流す。リンス時間（ｔｒｉｎｓｅ）は、約３０秒から約４分（例えば、約３０秒、約４５秒、約１分、約１．５分、約２．０分、約２．５分、約３分、約３．５分、約４分）である。リンス時間（ｔｒｉｎｓｅ）は、約２分が好ましい。特定の実施形態では、例えば、リンス時間（ｔｒｉｎｓｅ）は、３０秒よりも短い。他の実施形態では、例えば、リンス時間（ｔｒｉｎｓｅ）は、４分よりも長くてもよい。リンス時間が経過した後、清水及び給水システム１４と凍結プレート２２とに残留するあらゆる洗浄剤の少なくとも一部が、水だめ７０からパージされる。ステップ７１２で説明したパージと同様に、これは、排出弁５６を開いて送水ポンプ６２を維持または作動し、水を水だめ７０の主貯水槽７０ａから水排出ライン５４を介して送り出すコントローラ８０によって達成される。このプロセスのリンス部分は、水だめ７０が実質的にまたは完全に空であることの指示をコントローラ８０が水だめ水位センサ８４から受取るときに完了する。
【００５０】
プロセスの脱スケール部分のリンスステップ（ステップ７１４）は、複数回繰返し、給水システム１４（水だめ７０、送水ポンプ６２、水分配器６６、及び、送水ライン６３を含む）及び凍結プレート２２から、洗浄剤を実質的に完全にまたは完全に洗い流し、または、除去を支援することが好ましい。したがって、ステップ７１４は、約５から約１０回（例えば、約５回、約６回、約７回、約８回、約９回、約１０回）繰返してもよい。ステップ７１４は、約８回繰返されるのが好ましい。特定の実施形態では、例えば、ステップ７１４は、５回よりも少なく繰返される。他の実施形態では、例えば、ステップ７１４は、１０回よりも多く繰返される。リンスステップ７１４が行われる複数の回数を追跡及び制御するため、コントローラ８０は、ステップ７１４が完了するたびに値が増加するカウンタを有してもよい。他の実施形態では、プロセスの脱スケール部分のリンスステップ（ステップ７１４）は、ステップ７１４の繰返し数によることに代えて、全リンス時間（ｔΣｒｉｎｓｅ）に基づく回数を繰返すことが好ましい。リンス時間（ｔΣｒｉｎｓｅ）は、約１０分から約６０分（例えば、約１０分、約１５分、約２０分、約２５分、約３０分、約３５分、約４０分、約４５分、約５０分、約５５分、約６０分）としてもよい。リンス時間（ｔΣｒｉｎｓｅ）は、約３０分が好ましい。特定の実施形態では、例えば、リンス時間（ｔΣｒｉｎｓｅ）は、１０分よりも短い。他の実施形態では、例えば、リンス時間（ｔΣｒｉｎｓｅ）は、６０分よりも長くてもよい。
【００５１】
洗浄剤が給水システム１４及び凍結プレート１４から実質的にまたは完全に洗い流された後、自動脱スケール及び消毒プロセスの脱スケール部分が完了する。この後、プロセスは、図８に示すように、プロセスの消毒部分に続く。ステップ７１６で、コントローラ８０は、水供給弁５２を開き、水だめ７０の主貯水槽７０ａに水を供給する。水供給弁５２は、水だめ７０内の水位が、水だめ水位センサ８４で測定されるように、消毒水位に達するまで、開状態を維持し、水を水だめ７０に供給する。図５Ａ及び図６に関して図示及び説明したように、消毒水位は、脱スケール水位より高い、すなわち上側である。消毒水位も、水だめ７０内の水が消毒水位に達したときに、水が少なくとも部分的に消毒剤槽７５を充填し、消毒剤と混合するように、水だめ７０の底部７２よりも上の高さにある。水及び消毒剤の混合物は、この後、消毒剤槽７５から水だめ７０の主貯水槽７０ａ内に流れる。消毒剤（上記）は容易に水に溶解し得る。消毒水位に達すると、コントローラ８０は水供給弁５２を閉じる。
【００５２】
消毒水位は、送水ポンプ６２が続くステップ（ステップ７１８，７２２を参照）の際に作動されるときに、水が主貯水槽７０ａから消毒剤槽７５内に入り続け、消毒プロセス（ステップ７１８，７２２を参照）の際に消毒剤が水に混合するのを支援するように、主貯水槽７０ａ内で十分な高さであるのが好ましい。すなわち、送水ポンプ６２が作動したときに、ある程度の水が主貯水槽７０ａから、送水ライン６３、水分配器６６及び凍結プレート２２の上に送り込まれ、この結果、主貯水槽７０ａ内の水位が低下する。所要の消毒水位は、２つの方法で設定してもよい。第１に、消毒水位は、送水ポンプ６２が作動し、ある程度の水量が送水ライン６３を通して、水分配器６６及び凍結プレート２２上に送込まれるときに、僅かに低下する水位を考慮するために十分な高さとしてもよい。第２に、送水ポンプ６２は、主貯水槽７０ａが消毒水位まで水を充填されたときに作動し、充填ステップ（ステップ７１６）の持続中に作動を維持してもよい。この変形例では、充填中に送水ポンプ６２を作動することにより、水位が消毒水位に達したときに、送水ライン６３、水分配器６６及び凍結プレート２２の上の水量が既に存在している。したがって、ステップ７１８及び７２２の際、送水ポンプ６２が作動しまたは作動状態を維持されるときに、消毒水位からの水位の低下はほとんどないか、または、全くない。
【００５３】
ステップ７１８で、水だめ７０内の水及び消毒剤の混合物は、給水システム１４（水だめ７０、送水ポンプ６２、水分配器６６及び送水ライン６３を含む）及び凍結プレート２２を通して循環される。これは、コントローラ８０により送水ポンプ６２を作動することで行われる。しかし、他の実施形態では、例えば、充填ステップ（ステップ７１６）中に送水ポンプ６２が作動すると、コントローラ８０は、送水ポンプ６２の作動を維持する。したがって、いくつかの実施形態では、ステップ７１６及び７１８が同時に起こる。送水ポンプ６２は、水及び消毒剤の混合物を水だめ７０から送水ライン６３を介して水分配器６６に送り込む。この後、水及び洗浄剤の混合物は、水分配器６６を出て、凍結プレート２２から滝状に落下し、水だめ７０に戻る。製氷機１０のコントローラ８０は、送水ポンプ６２を作動し続け、水及び消毒剤の混合物を給水システム１４、及び、製氷機１０の凍結プレート２２を介して、所要時間（ｔｓａｎｉｔｉｚｅ）にわたって再循環する。このステップの際、給水システム１４及び凍結プレート２２内のバクテリア、ウィルス、及び／または、他の望ましくない生物由来物は、水及び消毒剤の混合物内の消毒剤で破壊される。消毒時間（ｔｓａｎｉｔｉｚｅ）は、約３０秒から約５分としてもよい（例えば、３０秒、約４５秒、約１分、約１．５分、約２．０分、約２．５分、約３．０分、約３．５分、約４．０分、約４．５分、約５．０分)。消毒時間（ｔｓａｎｉｔｉｚｅ）は、約６０秒が好ましい。特定の実施形態では、例えば、消毒時間（ｔｓａｎｉｔｉｚｅ）は、３０秒より短い。他の実施形態では、例えば、消毒時間（ｔｓａｎｉｔｉｚｅ）は、５分より長いことがある。
【００５４】
所要の消毒時間（ｔｓａｎｉｔｉｚｅ）に達した後、水及び消毒剤の混合物は、ステップ７２０で水だめ７０からパージされる。これは、コントローラ８０が排出弁５６を開き、送水ポンプ６２を作動することにより、達成される。この後、送水ポンプ６２は、水及び消毒剤の混合物と共に、バクテリア、ウィルス及び／または他の望ましくない生物由来物を、水排出ライン５４を介して水だめ７０から送り出す。製氷機１０のコントローラ８０は、水だめ７０が実質的にまたは完全に空であることの指示をコントローラ８０が水だめ水位センサ８４から受取るまで、送水ポンプ６２を作動し続け、水及び洗浄剤の混合物を水だめ７０から排出する。これに代え、種々の実施形態では、例えば製氷機１０のコントローラ８０は、所要の時間が経過するまで、送水ポンプ６２を作動し続け、水及び消毒剤の混合物を水だめ７０から排出し、ここで、その経過時間の後、水だめ７０は実質的にまたは完全に空となる。水だめ７０が実質的にまたは完全に空になると、コントローラ８０は、送水ポンプ６２を停止し、排出弁５６を閉じる。種々の実施形態では、水入口弁５４は、水だめから水及び消毒剤の混合物のパージを支援し得る清水または清浄水を水だめ７０に供給するパージサイクルの少なくとも一部のために開いてもよい。他の実施形態では、例えば、水だめ７０は、送水ポンプ６２を必要とすることなく、重力で排出してもよい。このような実施形態では、排出弁５６を開くことは、水及び消毒剤の混合物を重力で水だめ７０から排出するのを可能とする。
【００５５】
水及び消毒剤の混合物が水だめ７０からパージされた後、給水システム１４及び凍結プレート２２は、清水または清浄水を給水システム１４及び凍結プレート２２を介して送り込むことにより、ステップ７２２で、洗い流される。この洗い流しは、製氷機１０が製氷を再開する前に、実質的に全てまたは全ての消毒剤が、給水システム１４及び凍結プレート２２から除去されることを確実にする。上述のように、製氷機１０で造られた氷は食品であり、したがって、給水システム１４及び凍結プレート２２を洗い流すことは、自動脱スケール及び消毒プロセスの完了後に造られるいかなる氷にも消毒剤が氷結される可能性の低減または排除を支援する。
【００５６】
消毒部分のリンスステップの際、コントローラ８０は、再度水供給弁５２を開き、清水または清浄水を水だめ７０に供給する。水供給弁５２は、開状態を維持し、水だめ７０内の水位が、ステップ７１６に関して上述したように、水だめ水位センサ８４で測定されるように、消毒水位に達するまで、水を水だめ７０に供給する。消毒水位に達すると、コントローラ８０は水供給弁５２を閉じる。送水ポンプ６２は、清水を水だめ７０から送水ライン６３を介して水分配器６６に送る。清水は、この後、水分配器６６を出て、凍結プレート２２を滝状に落下し、水だめ７０に戻る。送水ポンプ６２は、水だめ７０が清水または清浄水を消毒水位まで充填されたときに作動され、リンスステップ（ステップ７２２）継続中に作動状態に維持されるが、しかし、他の実施形態では、送水ポンプ６２は、水だめ７０が消毒水位まで充填された後にのみ作動状態としてもよい。製氷機１０のコントローラ８０は、送水ポンプ６２の作動を継続し、清水を再循環して製氷機１０の給水システム１４及び凍結プレート２２に残留する消毒剤の一部または全てを所要の時間（ｔｒｉｎｓｅ）にわたって洗い落す。リンス時間（ｔｒｉｎｓｅ）は、約３０秒から約４分（例えば、約３０秒、約４５秒、約１分、約１．５分、約２．０分、約２．５分、約３分、約３．５分、約４分）である。リンス時間（ｔｒｉｎｓｅ）は、約２分が好ましい。特定の実施形態では、例えば、リンス時間（ｔｒｉｎｓｅ）は、３０秒よりも短い。他の実施形態では、例えば、リンス時間（ｔｒｉｎｓｅ）は、４分よりも長くてもよい。リンス時間が経過した後、清水及び給水システム１４と凍結プレート２２とに残留するあらゆる消毒剤の少なくとも一部が、水だめ７０からパージされる。ステップ７２０で説明したパージと同様に、これは、排出弁５６を開いて送水ポンプ６２の作動を維持または作動し、水を水だめ７０から水排出ライン５４を介して送り出すコントローラ８０によって達成される。このプロセスのリンス部分は、水だめ７０が実質的にまたは完全に空であることの指示をコントローラ８０が水だめ水位センサ８４から受取るときに完了する。
【００５７】
プロセスの消毒部分のリンスステップ（ステップ７２２）は、複数回繰返し、給水システム１４（水だめ７０、送水ポンプ６２、水分配器６６、及び、送水ライン６３を含む）及び凍結プレート２２から、洗浄剤の実質的に完全にまたは完全な洗い落とし、または、除去を支援することが好ましい。したがって、ステップ７２２は、約５から約１０回（例えば、約５回、約６回、約７回、約８回、約９回、約１０回）繰返してもよい。ステップ７２２は、約８回繰返されるのが好ましい。特定の実施形態では、例えば、ステップ７２２は、５回よりも少なく繰返される。他の実施形態では、例えば、ステップ７２２は、１０回よりも多く繰返される。リンスステップ７２２が行われる多くの回数を追跡及び制御するため、コントローラ８０は、ステップ７２２が完了するたびに値が増加するカウンタを有してもよい。他の実施形態では、プロセスの消毒部分のリンスステップ（ステップ７２２）は、ステップ７２２の繰返し数によることに代えて、全リンス時間（ｔΣｒｉｎｓｅ）に基づく回数を繰返すのが好ましい。リンス時間（ｔΣｒｉｎｓｅ）は、約１０分から約６０分（例えば、約１０分、約１５分、約２０分、約２５分、約３０分、約３５分、約４０分、約４５分、約５０分、約５５分、約６０分）としてもよい。リンス時間（ｔΣｒｉｎｓｅ）は、約３０分が好ましい。特定の実施形態では、例えば、リンス時間（ｔΣｒｉｎｓｅ）は、１０分よりも短くてもよい。他の実施形態では、例えば、リンス時間（ｔΣｒｉｎｓｅ）は、６０分よりも長くてもよい。
【００５８】
消毒剤が実質的にまたは完全に給水システム１４及び凍結プレート１４から洗い落とされた後、ステップ７２４で自動脱スケール及び消毒プロセスが完了する。この時点で、製氷機１０は、通常の製氷に復帰してもよい。
【００５９】
本開示の水だめの代替的実施形態を、図９，図９Ａ及び図９Ｂに示し、以下に説明する。水だめ７０及び１７０の１つまたは複数の特徴の一部は、互いに共通しており、したがって、１つの実施形態におけるこのような特徴の説明は、他の実施形態にも適用されることを理解すべきである。更に、１つの実施形態の特定の特徴及び態様は、他の実施形態の特定の特徴及び態様と組合わせ、または、代えて使用してもよい。
【００６０】
次に、図９，図９Ａ及び図９Ｂを参照して、消毒剤槽１７５を有する水だめ１７０の代替的実施形態を詳細に説明する。水だめ７０の適切な位置に固定された消毒剤槽７５に代え、水だめ１７０は、水だめ１７０の底部７２より上の高さ位置で水だめ１７０にヒンジ接続された消毒剤槽１７５を有する。消毒剤槽１７５は回転するように構成され、水位が消毒水位（図９Ｂ）に達したときに、消毒剤槽１７５内の任意の消毒剤が水だめ１７０の主貯水槽７０ａ内に放出される。消毒剤槽７５は、消毒剤（例えば、粉末状消毒剤、錠剤状消毒剤、鞘状消毒剤等）を保持するように構成される。消毒剤槽１７５は、底部１７６及びこれから上方に延びる壁１７８で形成される。壁１７８は、左壁部１７８ａ、後壁部１７８ｂ、及び、右壁部１７８ｃを含む。消毒剤槽１７５は、更に、底部１７６にアーム１８２で接続されるフロート１８０を有する。水だめ１７０は、更に、チャンバ１８６内に開口する水だめ１７０の壁７１に穴１８４を有する。水だめ１７０内の水位が消毒水位に達したときに、水は、穴１８４を介してチャンバ１８６内に入り、フロート１８０を上昇させる。フロート１８０の上昇の結果として、消毒剤槽はポイントＲの回りを回転し、その内部の消毒剤を水だめ１７０の主貯水槽７０ａ内に投入する(図９Ｂを参照)。消毒剤槽１７５は、消毒剤槽１７５にヒンジ接続され、水だめ１７０内の水が消毒水位（図９Ａを参照）よりも低いときに閉じるように構成され、かつ、水だめ１７０内の水が消毒水位（図９Ｂを参照）のときに開くように構成されたドア１８８を選択的に有してもよい。ドア１８８は、プロセスの消毒部分前に、消毒剤が水だめ１７０の主貯水槽７０ａに入るのを減少または防止するのを支援してもよい。上述の固定された消毒剤槽７５に比較して、自動脱スケール及び消毒プロセスの際に、水は消毒剤槽７５に入らない。この態様は、消毒剤が湿ると、使用される消毒剤が表面に凝縮または付着する傾向がある場合に望ましいことがある。
【００６１】
本開示の製氷機の代替的実施形態が、図１０及び図１１に示し、以下に説明する。製氷機１０及び２１０の１つまたは複数の特徴の一部は、互いに共通しており、したがって、１つの実施形態におけるこのような特徴の説明は、他の実施形態にも適用されることを理解されたい。更に、１つの実施形態の特定の特徴及び態様は、他の実施形態の特定の特徴及び態様と組合わせ、または、代えて使用してもよい。
【００６２】
次に、図１０を参照すると、消毒剤槽２７５を有する製氷機２１０の他の実施形態が詳細に記載されている。図１０は、製氷機２１０の一部のみを概略的に示し、製氷機１０との共通の製氷機２１０の特定の構成要素は明瞭にするために示してない。水入口弁５２及び給水ライン５０に加え、製氷機２１０は、消毒水供給ライン２５０と流体連通する第２水入口弁２５２を有する。消毒水供給ライン２５０は、給水ライン５０からＴ字状に分岐して示してある。製氷機２１０は、更に、内部に消毒剤を配置してもよい、底部とこれから上方に延びる壁とで形成される消毒剤槽２７５を有する。したがって、消毒剤槽２７５は、消毒剤（例えば、粉末状消毒剤、液状消毒剤、錠剤状消毒剤、鞘状消毒剤等）を保持するように構成される。消毒剤槽２７５の底部は、ばね負荷してもよく、通常は閉位置に付勢される任意のドア２８０を有する。第２水入口弁２５２が開いたときに、消毒水供給ライン２５０から流れ出る水の力でドア２８０が下方（点線で示すように）スイングし、消毒剤槽内の消毒剤が水だめ７０内に落下する。
【００６３】
製氷機２１０の自動脱スケール及び消毒プロセスの脱スケール部分は、図７のステップ７００〜ステップ７１４で説明したように、製氷機１０の自動脱スケール及び消毒プロセスの脱スケール部分と同様である。しかし、製氷機２１０の自動脱スケール及び消毒プロセスの消毒部分は、異なり、図１１を参照して説明する。
【００６４】
図７に記載のステップ７００〜ステップ７１４の後に、製氷機２１０の自動脱スケール及び消毒プロセスの消毒部分は、図１１に示すように続く。ステップ１１１６で、コントローラ８０は、第２水供給弁２５２を開く。消毒水供給ラインを出る水は、消毒剤槽２７５に入り、予め内部に配置された消毒剤と混合し始め、ドア２８０を下方にスイングさせる。水と消毒剤とは、この後、水だめ７０内に落下し、水だめ７０を充填し始める。第２水供給弁５２は、水だめ７０内の水位が、水だめ水位センサ８４で測定されるように、少なくとも脱スケール水位に達するまで、開状態を維持し、水を水だめ７０に供給する。消毒剤槽７５および１７５と比較して、消毒剤槽２７５の代替的な構成、機能及び配置により、水位は、脱スケール水位よりも高いすなわち上側であることは必要ない。しかし、いくつかの実施形態では、水だめ７０は、脱スケール水位よりも高い水位に充填してもよい。消毒剤（上記）は容易に水に溶解することができる。少なくとも脱スケール水位に達すると、コントローラ８０は水供給弁５２を閉じる。
【００６５】
ステップ１１１８で、水だめ７０内の水及び消毒剤の混合物は、給水システム１４（水だめ７０、送水ポンプ６２、水分配器６６及び送水ライン６３を含む）及び凍結プレート２２を通して循環される。これは、コントローラ８０により送水ポンプ６２を作動することで行われる。送水ポンプ６２は、水及び消毒剤の混合物を水だめ７０から送水ライン６３を介して水分配器６６に送り込む。この後、水及び洗浄剤の混合物は、水分配器６６を出て、凍結プレート２２から滝状に落下し、水だめ７０に戻る。製氷機１０のコントローラ８０は、送水ポンプ６２を作動し続け、水及び消毒剤の混合物を給水システム１４、及び、製氷機１０の凍結プレート２２を介して、所要時間（ｔｓａｎｉｔｉｚｅ）にわたって再循環する。このステップの際、給水システム１４及び凍結プレート２２内のバクテリア、ウィルス、及び／または、他の望ましくない生物由来物は、水及び消毒剤の混合物内の消毒剤で破壊される。消毒時間（ｔｓａｎｉｔｉｚｅ）は、約３０秒から約５分としてもよい（例えば、３０秒、約４５秒、約１分、約１．５分、約２．０分、約２．５分、約３．０分、約３．５分、約４．０分、約４．５分、約５．０分)。消毒時間（ｔｓａｎｉｔｉｚｅ）は、約６０秒が好ましい。特定の実施形態では、例えば、消毒時間（ｔｓａｎｉｔｉｚｅ）は、３０秒より短い。他の実施形態では、例えば、消毒時間（ｔｓａｎｉｔｉｚｅ）は、５分より長いことがある。いくつかの実施形態では、ユーザは、コントローラ８０で、製氷機１０のミネラルの堆積量に基づいて、消毒時間（ｔｓａｎｉｔｉｚｅ）を変更させてもよい。
【００６６】
所要の消毒時間（ｔｓａｎｉｔｉｚｅ）に達した後、水及び消毒剤の混合物は、ステップ１１２０で水だめ７０からパージされる。これは、コントローラ８０が排出弁５６を開き、送水ポンプ６２を作動することにより、達成される。この後、送水ポンプ６２は、水及び消毒剤の混合物と共に、バクテリア、ウィルス及び／または他の望ましくない生物由来物を、水排出ライン５４を介して水だめ７０から送り出す。製氷機２１０のコントローラ８０は、水だめ７０が実質的にまたは完全に空であることの指示をコントローラ８０が水だめ水位センサ８４から受取るまで、送水ポンプ６２を作動し続け、水及び洗浄剤の混合物を水だめ７０から排出する。これに代え、種々の実施形態では、例えば製氷機１０のコントローラ８０は、所要の時間が経過するまで、送水ポンプ６２を作動し続け、水及び消毒剤の混合物を水だめ７０から排出し、ここで、その経過時間の後、水だめ７０は実質的にまたは完全に空となる。水だめ７０が実質的にまたは完全に空になると、コントローラ８０は、送水ポンプ６２を停止し、排出弁５６を閉じる。種々の実施形態では、水入口弁５４は、水だめから水及び消毒剤の混合物のパージを支援することができる清水または清浄水を水だめ７０に供給するパージサイクルの少なくとも一部のために開いてもよい。他の実施形態では、例えば、水だめ７０は、送水ポンプ６２を必要とすることなく、重力で排出してもよい。このような実施形態では、排出弁５６を開くことは、水及び消毒剤の混合物を重力で水だめ７０から排出するのを可能とする。
【００６７】
水及び消毒剤の混合物が水だめ７０からパージされた後、給水システム１４及び凍結プレート２２は、清水または清浄水を給水システム１４及び凍結プレート２２を介して送り込むことにより、ステップ１１２２で、洗い流される。この洗い流しは、製氷機１０が製氷を再開する前に、実質的に全てまたは全ての消毒剤が、給水システム１４及び凍結プレート２２から除去されることを確実にする。上述のように、製氷機１０で造られた氷は食品であり、したがって、給水システム１４及び凍結プレート２２を洗い流すことは、自動脱スケール及び消毒プロセスの完了後に造られるいかなる氷にも消毒剤が氷結される可能性の低減または排除を支援する。
【００６８】
消毒部分のリンスステップの際、コントローラ８０は再度第２水供給弁２５２を開き、消毒剤槽２７５を洗い流し、清水を水だめ７０に供給する。水供給弁５２は、水だめ７０内の水位が、水だめ水位センサ８４で測定されるように、少なくとも脱スケール水位に達するまで、開状態を維持し、洗浄剤槽２７５を洗い流し、水を水だめ７０に供給する。消毒水位に達すると、コントローラ８０は水供給弁５２を閉じる。送水ポンプ６２は、清水を水だめ７０から送水ライン６３を介して水分配器６６に送る。清水は、この後、水分配器６６を出て、凍結プレート２２を滝状に落下し、水だめ７０に戻る。送水ポンプ６２は、水だめ７０が清水または清浄水を消毒水位まで充填されたときに作動され、リンスステップ（ステップ１１２２）継続中に作動状態に維持されるが、しかし、他の実施形態では、送水ポンプ６２は、水だめ７０が消毒水位まで充填された後にのみ作動状態としてもよい。製氷機２１０のコントローラ８０は、送水ポンプ６２の作動を継続し、清水を再循環して製氷機２１０の消毒剤槽２７５、給水システム１４及び凍結プレート２２に残留する消毒剤の一部または全てを所要の時間（ｔｒｉｎｓｅ）にわたって洗い落す。リンス時間（ｔｒｉｎｓｅ）は、約３０秒から約４分（例えば、約３０秒、約４５秒、約１分、約１．５分、約２．０分、約２．５分、約３分、約３．５分、約４分)としてもよい。リンス時時間（ｔｒｉｎｓｅ）は、約２分であるのが好ましい。特定の実施形態では、例えば、リンス時間（ｔｒｉｎｓｅ）は、３０秒よりも短い。他の実施形態では、例えば、リンス時間（ｔｒｉｎｓｅ）は、４分よりも長くてもよい。リンス時間が経過した後、清水及び消毒剤槽２１０と給水システム１４と凍結プレート２２とに残留するあらゆる消毒剤の少なくとも一部が、水だめ７０からパージされる。ステップ１１２０で説明したパージと同様に、これは、排出弁５６を開いて送水ポンプ６２の作動を維持または作動し、清水を水だめ７０から水排出ライン５４を介して送り出すコントローラ８０によって達成される。このプロセスのリンス部分は、水だめ７０が実質的にまたは完全に空であることの指示をコントローラ８０が水だめ水位センサ８４から受取るときに完了する。
【００６９】
プロセスの消毒部分のリンスステップ（ステップ１１２２）は、複数回繰返し、消毒剤槽２７５、給水システム１４（水だめ７０、送水ポンプ６２、水分配器６６、及び、送水ライン６３を含む）及び凍結プレート２２から、洗浄剤の実質的に完全にまたは完全な洗い落とし、洗浄、または、除去を支援することが好ましい。したがって、ステップ１１２２は、約５から約１０回（例えば、約５回、約６回、約７回、約８回、約９回、約１０回）繰返してもよい。ステップ１１２２は、約８回繰返されるのが好ましい。特定の実施形態では、例えば、ステップ１１２２は、５回よりも少なく繰返される。他の実施形態では、例えば、ステップ１１２２は、１０回よりも多く繰返される。リンスステップ１１２２が行われる多くの回数を追跡及び制御するため、コントローラ８０は、ステップ１１２２が完了するたびに値が増加するカウンタを有してもよい。他の実施形態では、プロセスの消毒部分のリンスステップ（ステップ１１２２）は、ステップ１１２２の繰返し数によることに代えて、全リンス時間（ｔΣｒｉｎｓｅ）に基づく回数を繰返すのが好ましい。リンス時間（ｔΣｒｉｎｓｅ）は、約１０分から約６０分（例えば、約１０分、約１５分、約２０分、約２５分、約３０分、約３５分、約４０分、約４５分、約５０分、約５５分、約６０分）としてもよい。リンス時間（ｔΣｒｉｎｓｅ）は、約３０分が好ましい。特定の実施形態では、例えば、リンス時間（ｔΣｒｉｎｓｅ）は、１０分よりも短くてもよい。他の実施形態では、例えば、リンス時間（ｔΣｒｉｎｓｅ）は、６０分よりも長くてもよい。
【００７０】
消毒剤が実質的にまたは完全に消毒剤槽２７５、給水システム１４及び凍結プレート１４から洗い流された後、ステップ１１２４で自動脱スケール及び消毒プロセスが完了する。この時点で、製氷機２１０は、通常の製氷に復帰してもよい。
【００７１】
本開示の水だめの他の代替的実施形態が、図１２に示し、以下に説明してある。水だめ７０及び３７０の１つまたは複数の特徴の一部は、互いに共通しており、したがって、１つの実施形態におけるこのような特徴の説明は、他の実施形態にも適用されることを理解すべきである。更に、１つの実施形態の特定の特徴及び態様は、他の実施形態の特定の特徴及び態様と組合わせ、または、代えて使用してもよい。
【００７２】
次に、図１２を参照して、遠隔消毒剤槽３７５を有する水だめ３７０の代替的実施形態を詳細に説明する。水だめ３７０は、水を保持する主貯水槽７０ａと、消毒剤を保持する遠隔消毒剤槽３７５とを有する。水だめ３７０の主貯水槽７０ａから離れて消毒剤槽３７５を配置することは、凍結プレート２２からの氷の落下に干渉することなく、消毒剤槽３７５の接近性を支援することができ、更に、水だめ３７０の主貯水槽７０ａをより狭くすることができる。狭い製氷機（例えば、２２インチ幅の製氷機）における水だめの幅は、ユニットの目標幅を達成するために重要であり、したがって、遠隔消毒剤槽３７５はこの目標を達成可能とし得る。
【００７３】
主貯水槽７０ａは、底部７２及びこれから上方に延びる壁７１で形成される。消毒剤槽３７５は、底部７６及びこれから上方に延びる壁７８で形成される。消毒剤槽３７５は、消毒剤（例えば、粉末状消毒剤、錠剤状消毒剤、鞘状消毒剤等）を保持するように構成される。消毒剤槽３７５は、チューブ３００で主貯水槽７０ａと流体連通する。主消毒剤内の水位が消毒水位に向けて上昇すると、水がチューブ３００に入り、消毒剤槽３７５の充填が始まる。水が消毒水位に達すると、消毒剤槽３７５内の実質的に全てまたは全ての消毒剤が水中に沈む。送水ポンプ６２がステップ７１８（図８を参照）で説明したように作動すると、給水システム１４を通して水が送られるため、水だめ３７０内の水位は低下し始める。これは、殺菌剤を殺菌剤槽３７５から矢印Ａに沿って主貯水槽７０ａ内に引き込もうとする。図示のように、消毒剤槽３７５の底部７６は主貯水槽７０ａに向けて傾斜してもよく、消毒剤槽３７５から主貯水槽７０ａへの消毒剤の移動を支援する。
【００７４】
複数の方法の種々のステップをここでは１つの順序で説明したが、この方法の他の実施形態は、本発明の範囲から逸脱することなく、記載したステップの全てを任意の順序及び／または無しで実行することが可能であることを理解すべきである。
【００７５】
したがって、自動脱スケール及び消毒プロセスを有する製氷機の新規な方法及び装置を示されかつ記載してきた。しかし、当業者であれば、主題の装置及び方法に対する多くの変化、変形、変更及び他の使用及び適用が可能である。本発明の精神及び範囲から逸脱することなく、このような変化、変形、変更並びに他の使用及び適用の全ては、以下の請求の範囲でのみ制限される本発明の範囲に包含されるものと見なされる。
【図１】
0006506408.tif 000002
【図２】
0006506408.tif 000003
【図３】
0006506408.tif 000004
【図４】
0006506408.tif 000005
【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
0006506408.tif 000007
【図６】
0006506408.tif 000008
【図７】
0006506408.tif 000009
【図８】
0006506408.tif 000010
【図９】
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【図９Ａ】
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【図９Ｂ】
0006506408.tif 000013
【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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