(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）
【化１】
0006458022.tif 000006
〔式中、Ｒ１は、ハロアルキルである〕
で表されるハロケトンを製造する方法であって、式（ＩＩ）
【化２】
0006458022.tif 000007
〔式中、
Ｒ２は、アルキル又はベンジルであり；及び、
Ｒ１は、上記で定義されているとおりである〕
で表されるケトエステルをリン酸の存在下で切断することを特徴とし、但し、カルボン酸を該ケトエステルと反応させる方法を除く、前記方法。
【請求項２】
Ｒ１が、ＣＦ３、ＣＦ２Ｈ、ＣＦ２Ｃｌから選択され；
Ｒ２が、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ベンジルから選択される；
ことを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
Ｒ１が、ＣＦ２Ｈであり；
Ｒ２が、メチル、エチルから選択される；
ことを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
７０℃〜１３０℃の温度で実施することを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
連続操作として実施することを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ハロケトン類を製造するための新規方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ハロケトン類（例えば、ジフルオロアセトン及びトリフルオロアセトン）は、生物学的に活性な化合物の製造における重要な中間体である：ＷＯ  ２００９／０００４４２。
【０００３】
ジフルオロアセトン又はトリフルオロアセトンは、例えば、ジフルオロアセテート又はトリフルオロ酢酸とメチルマグネシウムブロミドから製造することができる（Ｉｓｒ．  Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，  １９９９，  ３９，  １５５）。しかしながら、ジフルオロアセトンに関する収率は４７％にすぎず、トリフルオロアセトンに関する収率は５６％である。
【０００４】
ジフルオロアセトン及びトリフルオロアセトンは、２０％強度の硫酸の存在下でトリフルオロアセトアセテートを切断することによっても製造することができる（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，  １９６４，  ２０，  ２１６３）。この反応の不利な点は、当該反応をその中で実施することが可能な腐食しない適切な構造材料を見いだすのが困難であるということである。ここで、腐食を引き起こす成分は、硫酸のみではなく、遊離フッ素も腐食を引き起こす成分である。この組合せによって、鋼板エナメル、ステンレス鋼を使用することが不可能であり、ハステロイタンクを使用することも不可能である。
【０００５】
ＥＰ０６２３５７５（Ｂ１）には、カルボン酸を触媒量のオニウム塩の存在下でケトエステルと反応させることによる、ケトン類の合成について記載されている：
【化１】
0006458022.tif 000002
【０００６】
この方法は、非経済的である：  ＣＦ３ＣＯＯＨなどのカルボン酸がさらに必要とされる。加えて、生成物を精製することに関して問題を引き起こすエステルが形成される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】国際特許出願公開第２００９／０００４４２号
【特許文献２】欧州特許出願公開第０６２３５７５（Ｂ１）号
【非特許文献】
【０００８】
【非特許文献１】Ｉｓｒ．  Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，  １９９９，  ３９，  １５５
【非特許文献２】Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，  １９６４，  ２０，  ２１６３
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
上記従来技術を考慮して、本発明が取り組んでいる問題は、上記で記載した不利な点を有しておらず、従って、高い収率でハロケトンへと至る経路をもたらす方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記問題は、式（Ｉ）
【化２】
0006458022.tif 000003
【００１１】
〔式中、Ｒ１は、ハロアルキルである〕
で表されるハロケトンを製造するための新規方法によって解決された。ここで、該方法は、式（ＩＩ）
【化３】
0006458022.tif 000004
【００１２】
〔式中、
Ｒ２は、アルキル又はベンジルであり；及び、
Ｒ１は、上記で定義されているとおりである〕
で表されるケトエステルをリン酸の存在下で切断することを特徴とする。
【００１３】
驚くべきことに、式（Ｉ）で表されるハロケトンは、本発明の条件下においては、強力な腐食性を有する反応条件を用いることなく、良好な収率で高い純度で得られる。従って、本発明による方法は、従来技術において記載されている製造方法が有している上記不利点を克服する。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
好ましいのは、式（Ｉ）及び式（ＩＩ）で表される化合物のラジカルが以下のように定義される、本発明による調製方法である：
Ｒ１は、ＣＦ３、ＣＦ２Ｈ、ＣＦ２Ｃｌから選択され；
Ｒ２は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ベンジルから選択される。
【００１５】
特に好ましいのは、式（Ｉ）及び式（ＩＩ）で表される化合物のラジカルが以下のように定義される、本発明による調製方法である：
Ｒ１は、ＣＦ２Ｈであり；
Ｒ２は、メチル、エチルから選択される。
【００１６】
一般的な定義
ハロアルキル：  １〜６個（好ましくは、１〜３個）の炭素原子を有している直鎖又は分枝鎖のアルキル基において、これら基の中の水素原子の一部又は全部が上記で記載されているハロゲン原子で置き換えられ得るもの、例えば（限定するものではないが）Ｃ１−Ｃ３−ハロアルキル，例えば、クロロメチル、ブロモメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロフルオロメチル、ジクロロフルオロメチル、クロロジフルオロメチル、１−クロロエチル、１−ブロモエチル、１−フルオロエチル、２−フルオロエチル、２，２−ジフルオロエチル、２，２，２−トリフルオロエチル、２−クロロ−２−フルオロエチル、２−クロロ−２−ジフルオロエチル、２，２−ジクロロ−２−フルオロエチル、２，２，２−トリクロロエチル、ペンタフルオロエチル，及び、１，１，１−トリフルオロプロパ−２−イル。
【００１７】
アルキル基は、本発明の目的のためには、直鎖、分枝鎖又は環状の飽和炭化水素基である。定義「Ｃ１−Ｃ１２−アルキル」は、アルキル基に関して本明細書中で定義されている最も広い範囲を包含する。具体的には、この定義は、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル及びｔブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、１，３−ジメチルブチル、３，３−ジメチルブチル、ｎ−ヘプチル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル、ｎ−ウンデシル又はｎ−ドデシルを包含する。
【００１８】
方法に関する記載
スキーム１：
【化４】
0006458022.tif 000005
【００１９】
出発化合物として使用される式（ＩＩ）で表されるケトエステル化合物は、既知であり、市販されている。本発明による反応における温度は、２０℃〜２００℃の範囲内にあり、好ましくは、７０℃〜１３０℃の範囲内にある。
【００２０】
本発明による方法は、場合により、連続操作として実施することができる。
【００２１】
Ｈ３ＰＯ４の量は、式（Ｉ）で表される化合物の１ｍｏｌに対して、５〜５００ｇであり、好ましくは、２０〜３５０ｇである。生成物を単離したら、Ｈ３ＰＯ４は、精製することなく再利用する。収率を低下させることなく、少なくとも５回のそのようなサイクルが可能である。好ましくは、Ｈ３ＰＯ４水溶液を使用する。Ｈ３ＰＯ４の濃度は、２０〜８５％であり、好ましくは、８５％である。濃度が７０〜８５％の工業用グレードのものを使用するのが好ましい。ポリリン酸を使用することも可能である。該反応は、場合により、クロロベンゼンやトルエンなどの不活性溶媒の中で実施する。この方法では、構造物のガラス製材料及び金属製材料の腐食は観察されなかった。
【実施例】
【００２２】
実施例１
ジフルオロアセトン  ＨＣＦ２ＣＯＣＨ３
蒸留橋を備えた２５０ｍＬ容多口フラスコの中に１５０ｍＬのＨ３ＰＯ４（８５％ｗ／ｗ）を最初に装入し、１００℃〜１０５℃に加熱した。シリンジポンプによって、１３２ｇ（純度  ９１％ｗ／ｗ）のジフルオロアセト酢酸エチル（０．７２０ｍｏｌ）を３時間かけて添加した。沸点が４０〜６０℃である留出物を５時間以内で連続的に除去した。該反応は、５時間後に終了した。総量で７５ｇの透明な無色の液体が収集された。
【００２３】
当該フラクションの組成（１９Ｆ  ＮＭＲによる測定）は、以下の通りである：
７０％ｗ／ｗ  ＨＣＦ２ＣＯＣＨ３
１１％ｗ／ｗ  ＨＣＦ２Ｃ（ＯＨ）２ＣＨ３水和物
１４％ｗ／ｗ  ＨＣＦ２Ｃ（ＯＥｔ）（ＯＨ）ＣＨ３モノケタール。
【００２４】
上記混合物は、精製することなく、さらに使用することが可能である。必要に応じて、、さらに精製するために、Ｈ３ＰＯ４に対して２回目の蒸留を実施することができる。水和物及びモノケタールは、同時に切断されて、ジフルオロアセトンに変換される。
【００２５】
５ｇのＨ３ＰＯ４を使用して、蒸留後に、６７ｇのジフルオロアセトン（ＨＣＦ２ＣＯＣＨ３）が９５％〜９６％の純度で得られる。その収率は、９４％〜９５％である。