(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
上部ケース及び下部ケースを相互に組み合わせられた揚水盤を備えるケース洗浄治具であって、
前記上部ケースは、前記上部ケースを上部から底部まで貫通させる吸入口と、前記上部ケースの所定の端面に形成される少なくとも１つの揚水孔とを有し、
前記下部ケースは、前記上部ケースに対合する端面に集水室及び前記集水室に連通される少なくとも１つの揚水路が形成され、且つ前記揚水路及び前記揚水孔がマッチすると共に前記上部ケースに向けて所定の角度を有することを特徴とするケース洗浄治具。
【請求項２】
前記吸入口と前記揚水孔との間は、前記上部ケース及び前記下部ケースに当接される端面に連通される上部導水路がさらに形成され、且つ前記上部導水路の幅は前記吸入口の端から前記揚水孔の端に向けて漸減することを特徴とする、請求項１に記載のケース洗浄治具。
【請求項３】
前記集水室と前記揚水路との間は、前記下部ケース及び前記上部ケースに当接される端面に連通されると共に前記上部導水路にマッチする下部導水路がさらに形成されることを特徴とする、請求項２に記載のケース洗浄治具。
【請求項４】
前記所定の角度は１０〜９０度であることを特徴とする、請求項３に記載のケース洗浄治具。
【請求項５】
前記下部ケースはキャリアにさらに畳設され、前記キャリアは所定のウェハーのサイズに合わせて形成されることを特徴とする、請求項１〜４の内の何れか１項に記載のケース洗浄治具。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、洗浄用溶液の放出角度の調整が可能なケース洗浄治具に関する。
【背景技術】
【０００２】
薄膜の成長工程において、例えば化学気相成長、物理気相成長、電気めっき、及びフォトレジストの塗布等で、化学薬品や金属粒子がウェハーの円形ではない背面及び側辺で成長すると汚染源になる。ウェハーの背面及び側辺の汚染がウェハーの運搬過程で操作アーム及び製造設備のベース表面を汚染することになり、製造過程で反応室壁及びウェハー表面の汚染粒子源となる。このため、新材料をウェハーの製造工程に導入して、ウェハーの洗浄を行い汚染物質を除去する必要がある。
【０００３】
図６及び図７は従来のウエハー洗浄装置９の概念図である。上に向けて開放される洗浄溝９１と、洗浄溝９１に選択的に蓋をする蓋体９２と、洗浄溝９１に内設される載置台９３と、供水用パイプ９４とを少なくとも備える。上述のウェハー８の現像が完成した後に、相関する設備(図示せず)によりウェハー８をウエハー洗浄装置９の載置台９３に輸送する。洗浄時には、載置台９３に設置されるウェハー８が載置台９３の高速回転に連動して、供水用パイプ９４との組み合わせにより所定の流速で洗浄用溶液９５を洗浄溝９１内に導水し、ウェハー８を洗浄する目的を達成させる。ウェハー８の洗浄が完了した後に、さらに洗浄用溶液９５及び異物を洗浄溝９１の外に排出する。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、従来のウエハー洗浄装置９はウェハー８を洗浄する目的を達成させるが、但しウェハー８の洗浄時には、高速に放出する洗浄用溶液９５及び異物が洗浄溝９１の溝壁に飛び散り、一層の残留物９１１が徐々に累積してしまう。これらの残留物９１１は時間と共に累積して厚くなり、また変質し、ウエハー洗浄装置９の洗浄能力に悪影響を与えた。故に、一定の時間毎にウエハー洗浄装置９を停止させてメンテナンスを行わねばならない点が、業界が最も悩める問題であった。何故ならば、ウエハー洗浄装置９を停止すると、製造時間の浪費や停滞が生じ、生産ラインも停止することにもなった。よって、停止せずともウエハー洗浄装置９の洗浄溝９１の溝壁の残留物９１１の洗浄が可能であり、残留を予防し、或いは停止させてメンテナンスを行う間隔を延長させる方法を業界では求めていた。
【０００５】
そこで、本発明者は上記の欠点が改善可能と考え、鋭意検討を重ねた結果、合理的かつ効果的に課題を改善する本発明の提案に到った。
【０００６】
本発明は、このような従来の問題に鑑みてなされたものであり、その目的とすることろは、ケース洗浄治具を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明に係るケース洗浄治具は、キャリア及びキャリアに設置される揚水盤を備える。前記揚水盤は相互に組み合わせられる上部ケース及び下部ケースを備え、且つ上部ケースは吸入口及び吸入口に連通されて上部ケースの外径の周縁にそれぞれ形成される少なくとも１つの揚水孔を有する。上述の部材構成が洗浄溝に設置されると、洗浄用溶液が吸入口から揚水盤内に進入し、揚水盤が外力により回転する際に発生させる遠心力により、揚水盤内の洗浄用溶液が揚水孔から所定の角度で放出され、これにより洗浄溝の溝壁を洗浄して、洗浄溝の溝壁に残留物が累積するのを防ぐ。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、使用者が専門の訓練を受けずとも自分で状況に合わせて、訓練レベルを自主的に調節できるケース洗浄治具を提供する。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の好ましい実施形態に係るケース洗浄治具を示す外観斜視図である。
【図２】図１に示す実施形態の展開図である。
【図３】本発明の好ましい実施形態に係るケース洗浄治具を示す断面図である。
【図４】図３に示す実施形態の部分の概念図である。
【図５】図３に示す実施形態の他の部分の概念図である。
【図６】従来のウエハー洗浄装置を示す外観斜視図である。
【図７】図６に示す実施形態の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明における好適な実施の形態について、添付図面を参照して説明する。尚、以下に説明する実施の形態は、実用新案登録請求の範囲に記載された本発明の内容を限定するものではない。また、以下に説明される構成の全てが、本発明の必須要件であるとは限らない。
【００１１】
本発明の実施方式について理解を促すため、以下では同じ部材については同じ符号により表示して説明する。なお、以下、本発明の具体的な実施形態を図１〜７に基づいて説明する。本発明に係るケース洗浄治具は、キャリア１及びキャリア１に設置される揚水盤２を備え、前記揚水盤２は相互に組み合わせられる上部ケース２１及び下部ケース２２を具備し、且つ上部ケース２１は吸入口２１１及び吸入口２１１に連通されると共に上部ケース２１の外径の周縁にそれぞれ形成される少なくとも１つの揚水孔２１２を有する。上述の部材構成により、本発明に係るケース洗浄治具が洗浄溝９１に設置されると、 洗浄用溶液９５が吸入口２１１から揚水盤２に進入し、揚水盤２が外力を受けて回転する際に発生する遠心力により、揚水盤２内の洗浄用溶液９５が揚水孔２１３から所定の角度で放出され、これにより洗浄溝９１の溝壁を洗浄し、洗浄溝９１の溝壁に残留物９１１が累積するのを防ぐ。
【００１２】
また、上述のキャリア１はウェハーのサイズに合わせて形成され、ウエハー洗浄装置９の相関する部材を挟持させ、洗浄溝９１内に納置される。実施では、キャリア９は省略してもウェハーチップにより代替してもよい。
【００１３】
上述の上部ケース２１は、上部ケース２１を貫通して形成される吸入口２１１と、上部ケース２１の外径の周縁に設置される少なくとも１つの揚水孔２１２と、上部ケース２１及び下部ケース２２が相互に当接される端面に形成されると共に吸入口２１１及び揚水孔２１２に連通される少なくとも１つの上部導水路２１３とを備える。実施では、上部導水路２１２は省略してもよく、その幅は吸入口２１１の端から揚水孔２１３の端に向けて漸減する。
【００１４】
さらに、上述の下部ケース２２は、下部ケース２２に形成されると共に吸入口２１１、揚水孔２１２、及び上部導水路２１３の位置にそれぞれ対応する集水室２２１と、集水室２２１に連通される少なくとも１つの下部導水路２２２と、下部導水路２２２に連通される少なくとも１つの揚水路２２３とを備える。揚水路２１２は上部ケースに向けて所定の角度(１０〜９０度)を有する。実施では、下部導水路２２２は省略してもよく、その幅は集水室２２１の端から揚水路２２３の端に向けて漸減する。
【００１５】
以上が本発明の好ましい実施形態に係るケース洗浄治具の各部材の説明である。続いて、本発明の装設方式及び使用上の特徴について以下に説明する。
【００１６】
まず、ウェハー８の洗浄過程では、ケース洗浄治具に洗浄するウェハー仮貯蔵装置(図示せず)に導入してもよく、ウエハー洗浄装置９の作動時に、ウェハー仮貯蔵装置から洗浄するウェハー８を洗浄溝９１に自動的に取り出して洗浄を行う。当然ながら、本発明に係るケース洗浄治具を洗浄溝９１に導入して洗浄を行ってもよい。
【００１７】
ウエハー洗浄装置９からケース洗浄治具を洗浄溝９１に取り出す場合、ケース洗浄治具が載置台９３に設置されて高速回転し、供水用パイプ９４が所定の流速で洗浄用溶液９５を洗浄溝９１に導水し、上部ケース２１の吸入口２１１から集水室２２１に進入させ、ケース洗浄治具の箇所が高速回転状態になることで、集水室２２１の洗浄用溶液９５が上部導水路２１３及び下部導水路２２２に沿って揚水路２２３及び揚水孔２１２の方向に向けて流入し、揚水路２２３の角度の調整が行われて揚水孔２１２がケース洗浄治具に沿って回転して放射状に放出され、洗浄溝９１の所定の高さの溝壁に打ち付けられることで洗浄の効果を達成させる。
【００１８】
ケース洗浄治具が回転する際の遠心力により供水用パイプ９４から導水された洗浄用溶液９５が放出される以外、さらには上部導水路２１３及び下部導水路２２２の幅が漸縮することで、上部導水路２１３及び下部導水路２２２中での洗浄用溶液９５の圧力が増し、洗浄用溶液９５が放出される際の衝撃力が増強されて、洗浄効果が強化される。
【００１９】
以上のとおり、本発明に係るケース洗浄治具は異物が洗浄溝９１の溝壁９１１に累積するのを防ぎ、洗浄溝壁のメンテナンスの間隔を延長させる。また、停止せずとも、正常なウェハー８の洗浄工程中に洗浄溝９１の洗浄を行え、ウェハー洗浄設備を停止してメンテナンスを行うことに伴う損失や負担を大幅に減少させる。
【００２０】
上述の実施形態は本発明の技術思想及び特徴を説明するためのものにすぎず、当該技術分野を熟知する者に本発明の内容を理解させると共にこれをもって実施させることを目的とし、本発明の特許請求の範囲を限定するものではない。従って、本発明の精神を逸脱せずに行う各種の同様の効果をもつ改良又は変更は、後述の請求項に含まれるものとする。
【符号の説明】
【００２１】
１：キャリア
２：揚水盤
２１：上部ケース
２１１：吸入口
２１２：揚水孔
２１３：上部導水路
２２：下部ケース
２２１：集水室
２２２：下部導水路
２２３：揚水路
９：ウエハー洗浄装置
９１：洗浄溝
９２：蓋体
９３：載置台
９４：供水用パイプ
９５：洗浄用溶液
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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