(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも３つ以上の保持部を結ぶ多角形の中に下面が中央領域に向かって中凹に湾曲したウエーハの中心を位置付けて少なくとも該３つ以上の保持部でウエーハの外周縁を保持する保持手段と、該保持手段で保持されるウエーハの中心を軸にウエーハを回転させるウエーハ回転手段と、該保持手段に保持されるウエーハの下面に円筒状のスポンジローラの外側面を接触させてウエーハの下面を洗浄する洗浄手段と、洗浄水を供給する洗浄水供給手段と、を備える洗浄装置であって、
該洗浄手段は、
該保持手段に保持されるウエーハの下方に配設され、
ウエーハの半径以上でかつウエーハの直径未満の長さの該スポンジローラと、軸方向が該スポンジローラの長さ方向である回転軸と、該回転軸を中心として該スポンジローラを回転させるスポンジ回転機構と、該スポンジローラの一方の端側を支持する支点部と該スポンジローラのもう一方の端側を上方向に付勢する弾性部材とを備え該スポンジローラの傾きを自在に調整する傾き調整機構と、該傾き調整機構をウエーハに対して昇降させる昇降手段と、を備え、
該スポンジローラは、該支点部で支持される該一方の端側が低くされ、かつ、該弾性部材により上方向に付勢される該もう一方の端側が高くされ、
該昇降手段で上昇した該スポンジローラは、該傾き調整機構によってウエーハの下面の中凹の湾曲に合わせて傾斜していき、該ウエーハ回転手段によって回転されるウエーハの回転方向に抗する方向で該スポンジローラを回転させウエーハを洗浄する洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ウエーハを洗浄する洗浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造において用いられるウエーハを洗浄する洗浄装置においては、例えば、ウエーハの少なくとも一方の面に対して、回転する円筒状のローラの外側面を接触させて洗浄を行っている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００９−１１７７６５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ここで、洗浄装置で洗浄される被洗浄物として、上面または下面が平面となっていないウエーハがある。このようなウエーハの例としては、複数のデバイスが上面に形成された一枚のウエーハとエポキシ樹脂等で形成されたもう一枚のウエーハとを貼り合わせて構成されたウエーハ（貼り合わせウエーハ）がある。このような貼り合わせウエーハは、樹脂で形成されたウエーハが収縮することで、樹脂ウエーハ側の中央領域が凹み中凹に湾曲してしまう場合がある。また、シリコン基板の内部を垂直に貫通する電極を備えたウエーハ（ＴＳＶウエーハ）においては、その製造段階において、シリコン基板に貫通孔を設けた後にエポキシ樹脂等を被覆し樹脂層を形成する。この樹脂層を形成する際に、被覆された樹脂が硬化し収縮することで、ウエーハの中央部分が凹み中凹に湾曲する場合がある。
【０００５】
貼り合わせウエーハまたはＴＳＶウエーハのような湾曲したウエーハを洗浄する場合には、例えば、ウエーハを上下からスポンジローラで挟んで洗浄するか、または、ウエーハの上面（デバイス面）を傷付ける可能性をなくすために、ウエーハの上面は２流体を噴射することで洗浄しウエーハの下面はスポンジローラで洗浄している。
【０００６】
しかし、ウエーハの上面を２流体で洗浄し下面をスポンジローラで洗浄する場合においては、スポンジローラの長さがウエーハの直径と同じであること等から、中凹（または中凸）に湾曲しているウエーハの中央領域が十分に洗浄できないという問題がある。よって、被洗浄物が中凹（または中凸）に湾曲しているウエーハである場合においても、ウエーハの中央領域を十分に洗浄できるようにするという課題がある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するための本発明は、少なくとも３つ以上の保持部を結ぶ多角形の中に下面が中央領域に向かって中凹に湾曲したウエーハの中心を位置付けて少なくとも該３つ以上の保持部でウエーハの外周縁を保持する保持手段と、該保持手段で保持されるウエーハの中心を軸にウエーハを回転させるウエーハ回転手段と、該保持手段に保持されるウエーハの下面に円筒状のスポンジローラの外側面を接触させてウエーハの下面を洗浄する洗浄手段と、洗浄水を供給する洗浄水供給手段と、を備える洗浄装置であって、該洗浄手段は、該保持手段に保持されるウエーハの下方に配設され、ウエーハの半径以上でかつウエーハの直径未満の長さの該スポンジローラと、軸方向が該スポンジローラの長さ方向である回転軸と、該回転軸を中心として該スポンジローラを回転させるスポンジ回転機構と、該スポンジローラの一方の端側を支持する支点部と該スポンジローラのもう一方の端側を上方向に付勢する弾性部材とを備え該スポンジローラの傾きを自在に調整する傾き調整機構と、該傾き調整機構をウエーハに対して昇降させる昇降手段と、を備え、該スポンジローラは、該支点部で支持される該一方の端側が低くされ、かつ、該弾性部材により上方向に付勢される該もう一方の端側が高くされ、該昇降手段で上昇した該スポンジローラは、該傾き調整機構によってウエーハの下面の中凹の湾曲に合わせて傾斜していき、該ウエーハ回転手段によって回転されるウエーハの回転方向に抗する方向で該スポンジローラを回転させウエーハを洗浄する洗浄装置である。
【発明の効果】
【０００８】
本発明に係る洗浄装置は、保持手段に保持される下面が中央領域に向かって中凹に湾曲したウエーハの下方に配設された洗浄手段を、ウエーハの半径以上でウエーハの直径未満の長さのスポンジローラと、軸方向がスポンジローラの長さ方向である回転軸と、回転軸を中心としてスポンジローラを回転させるスポンジ回転機構と、スポンジローラの一方の端側を支持する支点部とスポンジローラのもう一方の端側を上方向に付勢する弾性部材とを備えスポンジローラの傾きを自在に調整する傾き調整機構と、傾き調整機構をウエーハに対して昇降させる昇降手段とを備え、スポンジローラは、支点部で支持される一方の端側が低くされ、かつ、弾性部材により上方向に付勢されるもう一方の端側が高くされ、昇降手段で上昇したスポンジローラは、傾き調整機構によってウエーハの下面の中凹の湾曲に合わせて傾斜していき、ウエーハ回転手段によって回転されるウエーハの回転方向に抗する方向でスポンジローラを回転させウエーハを洗浄するものとしたことで、例えば中央領域が中凹（または中凸）に湾曲したウエーハが被洗浄物あっても、スポンジローラの傾きを調整してウエーハの中央領域も十分に洗浄することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】洗浄装置の一例を示す平面図である。
【図２】保持手段を構成する保持ユニットを示す側面図である。
【図３】洗浄前におけるウエーハと洗浄手段との配置を示す断面図である。
【図４】ウエーハを洗浄手段により洗浄している状態を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
図１に示すウエーハＷの洗浄装置１は、少なくとも３つ以上（本実施形態においては４つ）の保持部３０を結ぶ多角形（本実施形態においては四角形）の中にウエーハＷの中心Ｗｃを位置付けて少なくとも３つ以上（本実施形態においては４つ）の保持部３０でウエーハＷの外周縁Ｗｄを保持する保持手段３と、保持手段３に保持されるウエーハＷの中心Ｗｃを軸にウエーハＷを回転させるウエーハ回転手段２と、保持手段３に保持されるウエーハＷの下面Ｗｂ（図１には不図示）に円筒状のスポンジローラ４０の外側面４０ａを接触させてウエーハＷの下面Ｗｂを洗浄する洗浄手段４と、洗浄水を供給する洗浄水供給手段５とを備える。洗浄装置１は、これ単独で用いることができ、また、切削装置又は研削装置等に組み込んで使用することもできる。
【００１１】
図１に示す保持手段３は、例えば、互いの長手方向（Ｙ軸方向）に対して垂直な方向（Ｘ軸方向）に所定の距離離間して向かい合うように配置される保持ユニット３ａ及び保持ユニット３ｂを備える。保持ユニット３ａと保持ユニット３ｂとの間には洗浄手段４が配置されている。
【００１２】
図１及び図２に示す保持ユニット３ｂの構成は、保持ユニット３ａの構成と同様であるから、以下に保持ユニット３ａの構成についてのみ説明する。図１に示すように、保持ユニット３ａは、略直方体状の基台３１を備えている。基台３１の上面には、可動板３２ａ及び可動板３２ｂが、保持ユニット３ａの長手方向（Ｙ軸方向）に離間して配置されている。
【００１３】
可動板３２ａ、３２ｂは、基台３１の上面に配置され回転軸として機能する連結具３３ａ、連結具３３ｂとを介して、それぞれ基台３１の上面に接続されている。そして、可動板３２ａ、３２ｂは、この連結具３３ａ、３３ｂの回りを回転して基台３１の上面上でスライドできるようになっている。
【００１４】
基台３１の上面の外側の領域（洗浄手段４に対してより離れている側の領域）には、可動板３２ａ、３２ｂを回転させる可動板回転機構３４が設けられている。可動板回転機構３４は、例えばエアシリンダであり、内部に図示しないピストンを備え基端側（−Ｙ方向側）に底のある有底円筒状のシリンダチューブ３４０と、シリンダチューブ３４０に挿入されその一端がピストンに取り付けられたピストンロッド３４１とを備える。ピストンロッド３４１のもう一端には連結具３４２ｂを介して可動板３２ｂが接続されている。また、ピストンチューブ３４０の基端側には、連結具３４２ａを介して可動板３２ａが接続されている。シリンダチューブ３４０にエアが供給（または、排出）されシリンダチューブ３４０の内部の圧力が変化することで、ピストンロッド３４１がＹ軸方向に移動し、これに伴って可動板３２ａ、３２ｂが各々連結具３３ａ、３３ｂの回りを回転して基台３１の上面上でスライドする。
【００１５】
可動板３２ａ、３２ｂの上面には、ウエーハＷの外周縁Ｗｄに当接しウエーハＷの外周縁Ｗｄを保持する保持部３０がそれぞれ１つずつ配設されている。保持部３０は、例えば、軸方向が鉛直方向（Ｚ軸方向）である回転軸３００と、回転軸３００に取り付けられ回転軸の周りを回転する回転ローラ３０１とから構成されている。回転ローラ３０１は、図示の例では、径方向（回転軸３００の軸方向と水平方向に直交する方向）外向きに延出される一対のフランジ部３０１ａを備えており、一対のフランジ部３０１ａの間にウエーハＷの外周縁Ｗｄが引っかかるように形成されている。
【００１６】
可動板３２ａ、３２ｂを回転させて、複数の回転ローラ３０１をウエーハＷの直径２Ｒ１（図１に示すウエーハＷの半径Ｒ１を２倍したもの）に合わせて水平方向に移動させることで、ウエーハＷを複数の回転ローラ３０１で挟み込むように保持できる。
【００１７】
ウエーハ回転手段２は、例えば、モータ等の回転駆動源であり、図示の例では、１つの回転ローラ３０１に接続されている。ウエーハＷを複数の回転ローラ３０１で挟み込むように保持した後に、ウエーハ回転手段２が回転ローラ３０１を回転させれば、保持手段３に保持されるウエーハＷの中心Ｗｃを軸にウエーハＷを回転させることができる。なお、ウエーハ回転手段２は、少なくとも１つの回転ローラ３０１に接続されていればよいが、複数の回転ローラ３０１に接続されていてもよい。
【００１８】
保持手段３とウエーハ回転手段２とは上記の構成に限定されるものではなく、以下のように構成されていてもよい。例えば、保持手段３が備える複数の保持部３０の内、１つの保持部３０は回転軸３００の周りを回転ローラ３０１が回転する構成とし、その他の保持部３０は回転ローラ３０１が回転軸３００に対して固定されて回転しない構成としてもよい。また、ウエーハ回転手段２については、図１に示すようにウエーハＷの外周縁Ｗｄに当接するように配設されるウエーハ回転用ローラであってもよい。この場合においては、ウエーハ回転手段２自体が回転することにより、保持手段３で保持されるウエーハＷの中心Ｗｃを軸にしてウエーハＷを回転させることができる。さらに、本実施形態においては、保持手段３に４つの保持部３０を備えているが、保持手段３が備える保持部３０は少なくとも３つ以上であればよい。
【００１９】
図１、３に示す洗浄手段４は、ウエーハＷの半径Ｒ１以上でウエーハＷの直径２Ｒ１未満の長さＬ１のスポンジローラ４０と、軸方向がスポンジローラ４０の長さ方向である回転軸４１と、回転軸４１を中心としてスポンジローラ４０を回転させるスポンジ回転機構４２と、スポンジローラ４０の一方の端４０ｂ側を支持する支点部４３０とスポンジローラ４０のもう一方の端４０ｃ側を上方向に付勢する弾性部材４３１（図１には不図示）とを備えスポンジローラ４０の傾きを自在に調整する傾き調整機構４３と、傾き調整機構４３をウエーハＷに対して昇降させる昇降手段４４とを備える。なお、図３において、保持手段３の構成は簡略化して示している。
【００２０】
スポンジローラ４０は、所定の厚みを備えるスポンジを円筒状に形成したものであり、その長さＬ１がウエーハＷの半径Ｒ１以上でかつウエーハＷの直径２Ｒ１未満である。スポンジローラ４０は、スポンジローラ４０の中心に回転軸４１が通された状態で、回転軸４１に対して固定されている。
【００２１】
スポンジ回転機構４２は、例えば、回転軸４１の一端に接続されたカップリング４２０と、カップリング４２０を介して回転軸４１と連結されたモータ４２１とを備え、モータ４２１が回転軸４１を回動させることで回転軸４１によりスポンジローラ４０を回転させる。
【００２２】
傾き調整機構４３は、例えば、スポンジローラ４０が収納されるケース４３Ａと、ケース４３Ａをその長手方向に揺動可能に収容し支持する支持台４３Ｂと、スポンジローラ４０の一方の端４０ｂ側を支持する支点部４３０と、スポンジローラ４０のもう一方の端４０ｃ側を上方向に付勢する弾性部材４３１（図１には不図示）とを備える。
【００２３】
図３に示すケース４３Ａは、例えば、略長方形状の底板４３ａと、底板４３ａの四辺から立設される４枚の側板とからなり上部が開口している。例えば、ケース４３Ａを構成する２枚の側板４３ｂ、４３ｃ（ケース４３Ａの長手方向において対面する側板４３ｂ、４３ｃ）には、軸受けを備える図示しない貫通孔がそれぞれ厚さ方向（Ｙ軸方向）に向かって貫通して形成されており、スポンジローラ４０が固定された回転軸４１がこの貫通孔を通してケース４３Ａに挿通されている。そして、スポンジローラ４０はその外側面４０ａがケース４３Ａの上部において露出するようにして、ケース４３Ａ内に回転可能に配設される。また、側板４３ｂの上部には、図示しない挿入孔が幅方向（Ｘ軸方向）に向かって貫通して形成されている。
【００２４】
支持台４３Ｂは、例えば、略長方形状の底板４３ｇと、底板４３ｇの長辺から立設される２枚の側板４３ｈ（図３においては一枚のみ図示）とからなり、ケース４３Ａを収容可能な大きさに形成されている。図示の例では側板４３ｈは台形に形成されているが、この形に限定されるものではない。支持台４３Ｂを構成する２枚の側板４３ｈの上部には、図示しない挿入孔が厚さ方向（Ｘ軸方向）に向かって貫通して形成されている。
【００２５】
支持台４３Ｂの２枚の側板４３ｈの間にケース４３Ａが配置された状態で、支持台４３Ｂの２枚の側板４３ｈに設けられた挿入孔とケース４３Ａの側板４３ｂに設けられた挿入孔とに支持軸４３０が挿通される。そして、ケース４３Ａは、弾性部材４３１の伸縮によって長手方向（Ｙ軸方向）に向かって揺動可能な状態で支持台４３Ｂにより支持される。本実施形態においては、支持軸４３０が支点部４３０となり、例えば、ケース４３Ａと支持台４３Ｂとを介して回転軸４１に固定されたスポンジローラ４０の一方の端４０ｂ側を支持する。
【００２６】
弾性部材４３１は、例えば、スプリングであり、スポンジローラ４０の一方の端４０ｃ側において、ケース４３Ａの底板４３ａと支持台４３Ｂの底板４３ｇとの間に挟まれるようにして配設されている。そして、弾性部材４３１は、スポンジローラ４０の端４０ｃ側を上方向に付勢する。図３に示すように、スポンジローラ４０がウエーハＷに接触していない状態においては、弾性部材４３１の長さは自然長となっている。例えば、弾性部材４３１が収縮することで、支点部４３０を支点としてその傾きが小さくなるようにケース４３Ａが動いていく。なお、弾性部材４３１は、スプリングに限定されるものではなくゴム柱等であってもよい。
【００２７】
図３に示す昇降手段４４は、例えばエアシリンダであり、内部に図示しないピストンを備え基端側（−Ｚ方向側）に底のある有底円筒状のシリンダチューブ４４０と、シリンダチューブ４４０に挿入され一端がピストンに取り付けられたピストンロッド４４１とを備える。ピストンロッド４４１のもう一端は、支持部材４４２を介して支持台４３Ｂの底板４３ｇの下面に接続されている。また、ピストンチューブ４４０の基端側は、洗浄手段４をＸ軸Ｙ軸平面上で移動させる移動機構４５に接続されている。
【００２８】
シリンダチューブ４４０にエアが供給（または、排出）されシリンダチューブ４４０内部の内圧が変化することで、ピストンロッド４４１がＺ軸方向に上下動し、これに伴って傾き調整機構４３がウエーハＷに対して昇降する。なお、昇降手段４４は、エアシリンダに限定されるものではなく、例えば、モータにより傾き調整機構４３に接続されたボールネジを回動させることで、傾き調整機構４３を昇降させるように構成されていてもよい。
【００２９】
洗浄水供給手段５は、例えば、純水等の洗浄水を供給する洗浄水供給源５０と、洗浄水をスポンジローラ４０とウエーハＷとの接触部位に対して外部から噴射する洗浄水ノズル５１と、洗浄水供給源５０と洗浄水ノズル５１とを連通する洗浄水供給管５２とを備える。
【００３０】
なお、洗浄水供給手段５は、このようにスポンジローラ４０に対して外部から洗浄水を供給するものに限定されるものではなく、例えば、以下のように構成されていてもよい。すなわち、洗浄水供給手段５は、例えば、回転軸４１を中空のパイプ状に形成しかつその側面に噴出孔を備えるものとし、回転軸４１と洗浄水供給管５２とを連通させる構成としてもよい。この場合には、洗浄水供給源５０から供給される洗浄水は、回転軸４１を通りスポンジローラ４０の内部からウエーハＷとの接触部位に対して供給されることになる。
【００３１】
図１、３に示す洗浄装置１により洗浄されるウエーハＷは、例えば、外形が円盤状の半導体ウエーハＷ１に、エポキシ樹脂等からなり半導体ウエーハＷ１と同程度の直径を備える樹脂ウエーハＷ２が貼り合わされて構成されている。ウエーハＷの上面Ｗａは、図示しない多数のデバイスが形成されている。ウエーハＷの下面Ｗｂは、樹脂ウエーハＷ２の収縮により＋Ｚ方向に凹むことで中央領域に向かって中凹に湾曲している。
【００３２】
以下に、図１〜４を用いて、洗浄装置１によりウエーハＷを洗浄する場合の、洗浄装置１の動作について説明する。
【００３３】
まず、図１に示すように、ウエーハＷが洗浄装置１へと搬送され、ウエーハＷと保持手段３との位置合わせが行われ、ウエーハＷの下面Ｗｂ側と洗浄手段４とが対向する状態となる。そして、４つの保持部３０を結ぶ四角形の中にウエーハＷの中心Ｗｃが位置付けられてから、各保持部３０が移動して各回転ローラ３０１をウエーハＷの外周縁Ｗｄに当接させた状態とすることで、４つの保持部３０によってウエーハＷの外周縁Ｗｄが保持される。
【００３４】
さらに、保持手段３に保持されたウエーハＷの下面Ｗｂと洗浄手段４との位置合わせが行われる。この位置合わせは、例えば、スポンジローラ４０の一方の端４０ｃ（弾性部材４３１により上方向に付勢される側）がウエーハＷの中心Ｗｃより少し＋Ｙ方向の位置にあり、かつ、スポンジローラ４０のもう一方の端４０ｂ側がウエーハＷの外周縁Ｗｄに接触するように行われる。なお、弾性部材４３１により上方向に付勢される端４０ｃ側をウエーハの外周縁Ｗｄに接触させ、支点部４３０により支持される端４０ｂ側をウエーハＷの中心Ｗｃより少し＋Ｙ方向側の位置にあるように、スポンジローラ４０をウエーハＷに対して位置付けてもよい。
【００３５】
次いで、図３に示す昇降手段４４のシリンダチューブ４４０にエアが供給されピストンロッド４４１が上昇するのに伴って、スポンジローラ４０が上昇していきウエーハＷの下面Ｗｂに接触する。
【００３６】
図４に示すように、スポンジローラ４０は、まず端４０ｃ側からウエーハＷの下面Ｗｂに対して接触していく。そして、ピストンロッド４４１がさらに上昇すると、傾き調整機構４３がスポンジローラ４０をウエーハＷの下面Ｗｂの形状に合わせて傾斜させていく。さらに、ウエーハＷに押し付けられることで、スポンジローラ４０はウエーハＷの下面Ｗｂの形状に合わせて変形していき、スポンジローラ４０とウエーハＷの下面Ｗｂとの接触面積が最大化される。なお、昇降手段４４がもっとも上まで上昇したときの位置は、スポンジローラ４０が支点部４３０により支持される端４０ｂ側の最上面が保持部３０に保持されるウエーハＷの下面に接する高さとする。つまり、中凹または中凸で湾曲していているウエーハを保持部３０で保持したときウエーハＷの外周の高さは変化しない。よって、高さが変化しないウエーハＷの外周に対してはスポンジローラ４０の支点部４３０により支持される端４０ｂ側を接触させ、ウエーハＷの形状（中凹、中凸）によって高さが変化するウエーハＷの中央に対してはスポンジローラ４０の弾性部材４３１により上方向に付勢される端４０ｃ側を接触させる。
【００３７】
この状態で、モータ４２１がカップリング４２０を介して回転軸４１を回動させることで、回転軸４１に固定されたスポンジローラ４０がウエーハＷの下面Ｗｂを洗浄する。また、洗浄水供給手段５から洗浄水をスポンジローラ４０とウエーハＷの下面Ｗｂとの接触部位に供給する。さらに、ウエーハ回転手段２が、ウエーハＷの中心Ｗｃを軸にウエーハＷを回転させることで、スポンジローラ４０がウエーハＷの下面Ｗｂの全面の洗浄を行う。
【００３８】
以上のように、洗浄装置１は、スポンジローラ４０の一方の端４３ｂ側を支持する支点部４３０とスポンジローラ４０のもう一方の端４０ｃ側を上方向に付勢する弾性部材４３１とを備えスポンジローラ４０の傾きを自在に調整する傾き調整機構４３を備えるものとしたことで、洗浄時においてスポンジローラ４０の傾きを傾き調整機構４３により変化させて、中凹に湾曲したウエーハＷの下面Ｗｂに合わせてスポンジローラ４０を傾斜させることができる。そのため、スポンジローラ４０をウエーハＷの下面Ｗｂに最大限に接触させることで、ウエーハＷの下面Ｗｂ全体を十分に洗浄することができる。
【００３９】
なお、本発明に係る洗浄装置１は上記実施形態に限定されるものではなく、また、添付図面に図示されている洗浄装置１の各構成の大きさや形状等についても、これに限定されず、本発明の効果を発揮できる範囲内で適宜変更可能である。
【００４０】
例えば、洗浄装置１では、ウエーハＷの上面Ｗａを洗浄することも可能である。この場合には、ウエーハＷを上面Ｗａが下側になった状態で保持手段３により保持することで、上記ウエーハＷの下面Ｗｂを洗浄したのと同様にウエーハＷの上面Ｗａを洗浄することができる。
【符号の説明】
【００４１】
１：洗浄装置
２：ウエーハ回転手段
３：保持手段  ３ａ（３ｂ）：保持ユニット  ３０：保持部  ３００：回転軸  
３０１：回転ローラ  ３０１ａ：一対のフランジ部
３１：基台  ３２ａ（３２ｂ）：可動板  ３３ａ（３３ｂ）：連結具
３４：可動板回転機構  ３４０：シリンダチューブ  ３４１：ピストンロッド
３４２ａ（３４２ｂ）：連結具  
４：洗浄手段  
４０：スポンジローラ  ４０ａ：スポンジローラの外側面  
４０ｂ（４０ｃ）：スポンジローラの一端
４１：回転軸  ４２：スポンジ回転機構  ４２０：カップリング  ４２１：モータ
４３：傾き調整機構  ４３０：支点部  ４３１：弾性部材
４３Ａ：ケース  ４３ａ：ケースの底板  ４３ｂ（４３ｃ）：ケースの側板  
４３Ｂ：支持台  ４３ｇ：支持台の底板  ４３ｈ：支持台の側板
４４：昇降手段  ４４０：シリンダチューブ  ４４１：ピストンロッド  ４４２：支持部材
５：洗浄水供給手段  ５０：洗浄水供給源  ５１：洗浄水ノズル  ５２：洗浄水供給管
Ｗ：ウエーハ  Ｗ１：半導体ウエーハ  Ｗ２：樹脂ウエーハ  Ｗａ：ウエーハの上面  
Ｗｂ：ウエーハの下面  Ｗｃ：ウエーハの中心  Ｗｄ：ウエーハの外周縁
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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