(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記（１）及び（２）を含み、下記（３）を含んでいてもよいインク組成物であって、下記式（ａ）におけるＺの値が０．３７以下であるインク組成物。
（１）ペロブスカイト化合物を含む半導体ナノ粒子
（２）硬化性樹脂組成物
（３）溶媒
式(ａ)  Ｚ＝（Ｏ２＋Ｏ３＋Ｎ２＋Ｎ３）／（Ｃ２＋Ｃ３）
（Ｏ２、Ｎ２、Ｃ２：それぞれ（２）に含まれるＯ原子数、Ｎ原子数、Ｃ原子数。
Ｏ３、Ｎ３、Ｃ３：それぞれ（３）に含まれるＯ原子数、Ｎ原子数、Ｃ原子数。
ただし、インク組成物が（３）を含まない場合、Ｏ３、Ｎ３、Ｃ３は、それぞれゼロである。）
【請求項２】
前記（２）が、下記式（ｂ−１）で表される低分子化合物及び下記式（ｂ―２）で表される繰り返し単位を含む重合体からなる群より選ばれる少なくとも一種を含み、前記低分子化合物及び重合体の合計の含有割合は、前記（２）の総質量を１００質量％として５０質量％以上である請求項１に記載のインク組成物。
【化１】
0006506488.tif 000017
（式（ｂ−１）及び（ｂ−２）中、Ａは水素原子又はメチル基を表す。
ｍ１は０〜２０の整数、ｍ２は０〜２の整数、ｍ３は０〜２０の整数、ｍ４は０〜２の整数、ｍ５は０〜２０の整数を表し、ｍ１〜ｍ５の合計は２０以下である。
Ｒａはメチレン基を表す。
Ｒｂは下記式（ｂ−３１）〜（ｂ−３８）のいずれかで表される２価の基を表し、Ｒｂが複数ある場合、Ｒｂは互いに同一であっても異なっていてもよい。
【化２】
0006506488.tif 000018
Ｒｃは下記式（ｂ−４１）〜（ｂ−４８）のいずれかで表される１価の基を表す。
【化３】
0006506488.tif 000019
【請求項３】
前記式（ｂ―２）で表される繰り返し単位を含む重合体が、前記重合体が含む全ての繰り返し単位を１００モル％として式（ｂ―２）で表される繰り返し単位を５０モル％以上含む重合体である請求項２に記載のインク組成物。
【請求項４】
前記（２）が光硬化性樹脂組成物である請求項１〜３のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項５】
インク組成物の総質量を１００質量％として、前記（３）の含有割合が２５質量％以下であり、前記（１）、（２）及び（３）の合計の含有割合が７０質量％以上である請求項１〜４のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項６】
請求項４に記載の組成物を硬化してなるフィルム。
【請求項７】
請求項６に記載のフィルムを備えるディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、インク組成物、フィルム及びディスプレイに関する。
本願は、２０１７年７月２８日に、日本に出願された特願２０１７−１４６３１９号に基づき、優先権を主張し、その内容をここに援用する。
【背景技術】
【０００２】
近年、波長変換材料として、高い発光強度を有するペロブスカイト化合物に対する関心が高まっており、例えば、波長変換フィルムを作製するためのインク組成物として、ペロブスカイト化合物とＰＭＭＡとを含むインク組成物が報告されている（非特許文献１）。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００３】
【非特許文献１】Ｎａｎｏ  Ｌｅｔｔ．２０１５，１５，３６９２−３６９６
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、非特許文献１に記載されたインク組成物の硬化物は、必ずしも耐溶剤性が十分ではない。【０００５】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであって、発光強度を維持しつつ、硬化物の耐溶剤性が高いインク組成物及びそのインク組成物を硬化してなるフィルムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
すなわち、本発明の実施形態は、下記［１］〜［７］の発明を包含する。
［１］下記（１）及び（２）を含み、下記（３）を含んでいてもよいインク組成物であって、下記式（ａ）におけるＺの値が０．３７以下であるインク組成物。
（１）ペロブスカイト化合物を含む半導体ナノ粒子
（２）硬化性樹脂組成物
（３）溶媒
式(ａ)  Ｚ＝（Ｏ２＋Ｏ３＋Ｎ２＋Ｎ３）／（Ｃ２＋Ｃ３）
（Ｏ２、Ｎ２、Ｃ２：それぞれ（２）に含まれるＯ原子数、Ｎ原子数、Ｃ原子数。
Ｏ３、Ｎ３、Ｃ３：それぞれ（３）に含まれるＯ原子数、Ｎ原子数、Ｃ原子数。
ただし、インク組成物が（３）を含まない場合、Ｏ３、Ｎ３、Ｃ３は、それぞれゼロである。）
［２］前記（２）が、下記式（ｂ−１）で表される低分子化合物及び下記式（ｂ―２）で表される繰り返し単位を含む重合体からなる群より選ばれる少なくとも一種を含み、前記低分子化合物及び重合体の合計の含有割合は、前記（２）の総質量を１００質量％として５０質量％以上である［１］に記載のインク組成物。
【化１】
0006506488.tif 000002
（式（ｂ−１）及び（ｂ−２）中、Ａは水素原子又はメチル基を表す。
ｍ１は０〜２０の整数、ｍ２は０〜２の整数、ｍ３は０〜２０の整数、ｍ４は０〜２の整数、ｍ５は０〜２０の整数を表し、ｍ１〜ｍ５の合計は２０以下である。
Ｒａはメチレン基を表す。
Ｒｂは下記式（ｂ−３１）〜（ｂ−３８）のいずれかで表される２価の基を表し、Ｒｂが複数ある場合、Ｒｂは互いに同一であっても異なっていてもよい。
【化２】
0006506488.tif 000003
Ｒｃは下記式（ｂ−４１）〜（ｂ−４８）のいずれかで表される１価の基を表す。
【化３】
0006506488.tif 000004
［３］前記式（ｂ―２）で表される繰り返し単位を含む重合体が、前記重合体が含む全ての繰り返し単位を１００モル％として式（ｂ―２）で表される繰り返し単位を５０モル％以上含む重合体である［２］に記載のインク組成物。
［４］前記（２）が光硬化性樹脂組成物である［１］〜［３］のいずれか一つに記載の組成物。
［５］インク組成物の総質量を１００質量％として、前記（３）の含有割合が２５質量％以下であり、前記（１）、（２）及び（３）の合計の含有割合が７０質量％以上である［１］〜［４］のいずれか一つに記載の組成物。
［６］［４］に記載の組成物を硬化してなるフィルム。
［７］［６］に記載のフィルムを備えるディスプレイ。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、発光特性及び耐溶剤性が高いインク組成物を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明に係る積層構造体の一実施形態を示す断面図である。
【図２】本発明に係るディスプレイの一実施形態を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
＜インク組成物＞
本実施形態のインク組成物は、下記（１）及び（２）を含み、下記（３）を含んでいてもよいインク組成物であって、下記式（ａ）におけるＺの値が０．３７未満であることを特徴とする。また、下記式（ａ）におけるＺの値は、０．３７以下であってもよい
（１）ペロブスカイト化合物を含む半導体ナノ粒子
（２）硬化性樹脂組成物
（３）溶媒
式（ａ）  Ｚ＝（Ｏ２＋Ｏ３＋Ｎ２＋Ｎ３）／（Ｃ２＋Ｃ３）
（Ｏ２、Ｎ２、Ｃ２：それぞれ（２）に含まれるＯ原子数、Ｎ原子数、Ｃ原子数。
Ｏ３、Ｎ３、Ｃ３：それぞれ（３）に含まれるＯ原子数、Ｎ原子数、Ｃ原子数。
ただし、インク組成物が（３）を含まない場合、Ｏ３、Ｎ３、Ｃ３は、それぞれゼロである。）
【００１０】
本実施形態のインク組成物は、下記（１）−２及び（１）−３からなる群より選ばれる少なくとも一種を含んでいてもよい。
（１）−２  キャッピング配位子
（１）−３  表面被覆材
【００１１】
本実施形態のインク組成物は、良好な耐溶剤性を得る観点で、インク組成物の総質量を１００質量％として、前記（１）、（２）及び（３）の合計の含有割合が７０質量％以上であることが好ましく、８０質量％以上であることがより好ましい。
本発明の一つの側面としては、本実施形態のインク組成物は、インク組成物の総質量を１００質量％として、前記（１）、（２）及び（３）の合計の含有割合が７０質量％以上１００％以下であることが好ましく、８０質量％以上１００％以下であることがより好ましい。
【００１２】
本実施形態のインク組成物は、揮散性の観点で、インク組成物の総質量を１００質量％として、前記（３）の含有割合が２５質量％以下であることが好ましく、２０質量％以下であるより好ましく、１０質量％以下であることがさらに好ましい。
本発明の一つの側面としては、本実施形態のインク組成物は、インク組成物の総質量を１００質量％として、前記（３）の含有割合が０質量％以上２５％質量以下であることが好ましく、０質量％以上１０質量％以下であることがより好ましい。
【００１３】
前記（１）、（２）及び（３）の合計の含有割合の好ましい範囲と、前記（３）の含有割合の好ましい範囲とは、任意に組み合わせることができる。
例えば、本実施形態のインク組成物は、インク組成物の総質量を１００質量％として、前記（３）の含有割合が２５質量％以下であり、前記（１）、（２）及び（３）の合計の含有割合が７０質量％以上であることが好ましい。
【００１４】
＜＜（１）ペロブスカイト化合物を含む半導体ナノ粒子＞＞
ペロブスカイト化合物は、Ａ、Ｂ及びＸを構成成分とする、ペロブスカイト型結晶構造を有する化合物である。
本発明において、Ａは、ペロブスカイト型結晶構造において、Ｂを中心とする６面体の各頂点に位置する成分であって、１価の陽イオンである。
Ｘは、ペロブスカイト型結晶構造において、Ｂを中心とする８面体の各頂点に位置する成分を表し、ハロゲン化物イオン及びチオシアン酸イオンからなる群より選ばれる少なくとも一種の陰イオンである。
Ｂは、ペロブスカイト型結晶構造において、Ａを頂点に配置する６面体及びＸを頂点に配置する８面体の中心に位置する成分であって、金属イオンである。
【００１５】
Ａ、Ｂ及びＸを構成成分とするペロブスカイト化合物としては、本発明の効果を有する限り、特に限定されず、３次元構造、２次元構造、疑似２次元構造のいずれの構造を有する化合物であってもよい。
３次元構造の場合、ペロブスカイト化合物の組成式は、ＡＢＸ（３＋δ）で表される。
２次元構造の場合、ペロブスカイト化合物の組成式は、Ａ２ＢＸ（４＋δ）で表される。
ここで、δは、Ｂの電荷バランスに応じて適宜変更が可能な数であり、−０．７以上０．７以下である。結晶構造を安定させる観点から、δは、−０．３以上０．３以下が好ましく、−０．１以上０．１以下がより好ましく、０がさらに好ましい。
【００１６】
ペロブスカイト化合物は、下記一般式（Ｐ１）で表されるペロブスカイト化合物であることが好ましい。
ＡＢＸ（３＋δ）  （−０．７≦δ≦０．７）  …（Ｐ１）
前記Ａは、ペロブスカイト型結晶構造において、前記Ｂを中心とする６面体の各頂点に位置する成分であって、１価の陽イオンである。
前記Ｘは、ペロブスカイト型結晶構造において、前記Ｂを中心とする８面体の各頂点に位置する成分を表し、ハロゲン化物イオン及びチオシアン酸イオンからなる群より選ばれる１種以上の陰イオンである。
前記Ｂは、ペロブスカイト型結晶構造において前記Ａを頂点に配置する６面体及び前記Ｘを頂点に配置する８面体の中心に位置する成分であって、金属イオンである。
【００１７】
（Ａ）
ペロブスカイト化合物中、Ａは前記ペロブスカイト型結晶構造において、Ｂを中心とする６面体の各頂点に位置する成分であって、１価の陽イオンである。１価の陽イオンとしては、セシウムイオン、有機アンモニウムイオン、又はアミジニウムイオンが挙げられる。ペロブスカイト化合物において、Ａがセシウムイオン、炭素原子数が３以下の有機アンモニウムイオン、又は炭素原子数が３以下のアミジニウムイオンである場合、一般的にペロブスカイト化合物は、ＡＢＸ（３＋δ）で表される、３次元構造を有する。
ペロブスカイト化合物中のＡはセシウムイオン、又は有機アンモニウムイオンが好ましい。
【００１８】
Ａの有機アンモニウムイオンとして具体的には、下記一般式（Ａ１）で表される陽イオンが挙げられる。
【００１９】
【化４】
0006506488.tif 000005
【００２０】
一般式（Ａ１）中、Ｒ６〜Ｒ９は、それぞれ独立に、水素原子、置換基としてアミノ基を有していてもよいアルキル基、又は置換基としてアルキル基又はアミノ基を有していてもよいシクロアルキル基を表す。但し、Ｒ６〜Ｒ９が同時に水素原子となることはない。
【００２１】
Ｒ６〜Ｒ９で表されるアルキル基は、それぞれ独立に、直鎖状であっても、分岐鎖状であってもよく、置換基としてアミノ基を有していてもよい。
Ｒ６〜Ｒ９がアルキル基である場合、炭素原子数は、それぞれ独立に、通常１〜２０であり、１〜４であることが好ましく、１〜３であることがより好ましく、１であることがさらに好ましい。
【００２２】
Ｒ６〜Ｒ９で表されるシクロアルキル基は、それぞれ独立に、置換基としてアルキル基を有していてもよく、アミノ基を有していてもよい。
Ｒ６〜Ｒ９で表されるシクロアルキル基の炭素原子数は、それぞれ独立に、通常３〜３０であり、３〜１１であることが好ましく、３〜８であることがより好ましい。炭素原子数は、置換基の炭素原子数も含む。
【００２３】
Ｒ６〜Ｒ９で表される基としては、それぞれ独立に、水素原子又はアルキル基であることが好ましい。
一般式（Ａ１）に含まれ得るアルキル基及びシクロアルキル基の数を少なくすること、並びにアルキル基及びシクロアルキル基の炭素原子数を小さくすることにより、発光強度が高い３次元構造のペロブスカイト型結晶構造を有する化合物を得ることができる。
アルキル基又はシクロアルキル基の炭素原子数が４以上の場合、２次元、及び／又は擬似２次元（ｑｕａｓｉ―２Ｄ）のペロブスカイト型結晶構造を一部あるいは全体に有する化合物を得ることができる。２次元のペロブスカイト型結晶構造が無限大に積層すると３次元のペロブスカイト型結晶構造と同等になる（参考文献：Ｐ．Ｐ．Ｂｏｉｘら、Ｊ．Ｐｈｙｓ．Ｃｈｅｍ．Ｌｅｔｔ．２０１５，６，８９８−９０７など）。
Ｒ６〜Ｒ９で表されるアルキル基に含まれる炭素原子数の合計は１〜４であることが好ましく、Ｒ６〜Ｒ９で表されるシクロアルキル基に含まれる炭素原子数の合計は３〜４であることが好ましい。Ｒ６〜Ｒ９のうちの１つが炭素原子数１〜３のアルキル基であり、Ｒ６〜Ｒ９のうちの３つが水素原子であることがより好ましい。
【００２４】
Ｒ６〜Ｒ９のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、１−メチルブチル基、ｎ−ヘキシル基、２−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、２，２−ジメチルブチル基、２，３−ジメチルブチル基、ｎ−ヘプチル基、２−メチルヘキシル基、３−メチルヘキシル基、２，２−ジメチルペンチル基、２，３−ジメチルペンチル基、２，４−ジメチルペンチル基、３，３−ジメチルペンチル基、３−エチルペンチル基、２，２，３−トリメチルブチル基、ｎ−オクチル基、イソオクチル基、２−エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、イコシル基が例示できる。
この中でもＲ６〜Ｒ９のアルキル基としては、エチル基、メチル基が好ましく、メチル基がより好ましい。
【００２５】
Ｒ６〜Ｒ９のシクロアルキル基としては、それぞれ独立にＲ６〜Ｒ９のアルキル基で例示した炭素原子数３以上のアルキル基が環を形成したものが挙げられ、一例として、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、１−アダマンチル基、２−アダマンチル基、トリシクロデシル基等を例示できる。
【００２６】
Ａで表される有機アンモニウムイオンとしては、ＣＨ３ＮＨ３＋（メチルアンモニウムイオンともいう。）、Ｃ２Ｈ５ＮＨ３＋（エチルアンモニウムイオンともいう。）、又はＣ３Ｈ７ＮＨ３＋（プロピルアンモニウムイオンともいう。）であることが好ましく、ＣＨ３ＮＨ３＋、又はＣ２Ｈ５ＮＨ３＋であることより好ましく、ＣＨ３ＮＨ３＋であることがさらに好ましい。
【００２７】
Ａで表されるアミジニウムイオンとしては、例えば、下記一般式（Ａ２）で表されるアミジニウムイオンが挙げられる。
（Ｒ１０Ｒ１１Ｎ＝ＣＨ−ＮＲ１２Ｒ１３）＋・・・（Ａ２）
【００２８】
一般式（Ａ２）中、Ｒ１０〜Ｒ１３は、それぞれ独立に、水素原子、置換基としてアミノ基を有していてもよいアルキル基、又は置換基としてアルキル基又はアミノ基を有していてもよいシクロアルキル基を表す。
【００２９】
Ｒ１０〜Ｒ１３で表されるアルキル基は、それぞれ独立に、直鎖状であっても、分岐鎖状であってもよく、置換基としてアミノ基を有していてもよい。
Ｒ１０〜Ｒ１３で表されるアルキル基の炭素原子数は、それぞれ独立に、通常１〜２０であり、１〜４であることが好ましく、１〜３であることがより好ましい。
【００３０】
Ｒ１０〜Ｒ１３で表されるシクロアルキル基は、それぞれ独立に、置換基としてアルキル基を有していてもよく、アミノ基を有していてもよい。
Ｒ１０〜Ｒ１３で表されるシクロアルキル基の炭素原子数は、それぞれ独立に、通常３〜３０であり、３〜１１であることが好ましく、３〜８であることがより好ましい。炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含む。
【００３１】
Ｒ１０〜Ｒ１３のアルキル基の具体例としては、それぞれ独立に、Ｒ６〜Ｒ９において例示したアルキル基が挙げられる。
この中でもＲ１０〜Ｒ１３のアルキル基としては、エチル基、メチル基が好ましく、メチル基がより好ましい。
Ｒ１０〜Ｒ１３のシクロアルキル基の具体例としては、それぞれ独立に、Ｒ６〜Ｒ９において例示したシクロアルキル基が挙げられる。
【００３２】
Ｒ１０〜Ｒ１３で表される基としては、それぞれ独立に、水素原子又はアルキル基が好ましい。
一般式（Ａ２）に含まれる、アルキル基及びシクロアルキル基の数を少なくすること、並びにアルキル基及びシクロアルキル基の炭素原子数を小さくすることにより、発光強度が高い３次元構造のペロブスカイト化合物を得ることができる。
アルキル基又はシクロアルキル基の炭素原子数が４以上の場合、２次元、及び／又は擬似２次元（ｑｕａｓｉ―２Ｄ）のペロブスカイト型結晶構造を一部あるいは全体に有する化合物を得ることができる。
Ｒ１０〜Ｒ１３で表されるアルキル基に含まれる炭素原子数の合計は１〜４であることが好ましく、Ｒ１０〜Ｒ１３で表されるシクロアルキル基に含まれる炭素原子数の合計は３〜４であることが好ましい。Ｒ１０が炭素原子数１〜３のアルキル基であり、Ｒ１１〜Ｒ１３が水素原子であることがより好ましい。
【００３３】
（Ｂ）
ペロブスカイト化合物中、Ｂは前記ペロブスカイト型結晶構造において、Ａを頂点に配置する６面体及びＸを頂点に配置する８面体の中心に位置する成分であって、金属イオンである。Ｂ成分の金属イオンは１価の金属イオン、２価の金属イオン、及び３価の金属イオンからなる群より選ばれる１種類以上からなる金属イオンであってよい。Ｂは２価の金属イオンを含むことが好ましく、鉛、又はスズからなる群より選ばれる少なくとも一種の金属イオンを含むことがより好ましい。
【００３４】
（Ｘ）
ペロブスカイト化合物中、Ｘは前記ペロブスカイト型結晶構造において、Ｂを中心とする８面体の各頂点に位置する成分を表し、ハロゲン化物イオン及びチオシアン酸イオンからなる群より選ばれる少なくとも一種の陰イオンである。
Ｘは、塩化物イオン、臭化物イオン、フッ化物イオン、ヨウ化物イオン及びチオシアン酸イオンからなる群より選ばれる少なくとも一種の陰イオンであってよい。
Ｘは、所望の発光波長に応じて適宜選択することができるが、例えば、Ｘは臭化物イオンを含むことができる。
Ｘが２種以上のハロゲン化物イオンである場合、前記ハロゲン化物イオンの含有比率は、発光波長により適宜選ぶことができ、例えば、臭化物イオンと塩化物イオンとの組み合わせ、又は、臭化物イオンとヨウ化物イオンとの組み合わせとすることができる。
【００３５】
ペロブスカイト化合物が３次元構造の場合、Ｂを中心とし、頂点をＸとする、ＢＸ６で表される頂点共有八面体の三次元ネットワークを有する。
ペロブスカイト化合物が２次元構造の場合、Ｂを中心とし、頂点をＸとする、ＢＸ６で表される八面体が同一平面の４つの頂点のＸを共有することにより、２次元的に連なったＢＸ６からなる層とＡからなる層が交互に積層された構造を形成する。
ＢはＸに対して八面体配位をとることができる金属カチオンである。
本明細書において、ペロブスカイト構造は、Ｘ線回折パターンにより確認することができる。
前記３次元構造のペロブスカイト型結晶構造を有する化合物の場合、Ｘ線回折パターンにおいて、通常、２θ＝１２〜１８°の位置に（ｈｋｌ）＝（００１）に由来するピーク、又は２θ＝１８〜２５°の位置に(ｈｋｌ)＝（１１０）に由来するピークが確認される。２θ＝１３〜１６°の位置に、(ｈｋｌ)＝（００１）に由来するピークが、又は２θ＝２０〜２３°の位置に、(ｈｋｌ)＝（１１０）に由来するピークが確認されることがより好ましい。
前記２次元構造のペロブスカイト型結晶構造を有する化合物の場合、Ｘ線回折パターンにおいて、通常、２θ＝１〜１０°の位置に、(ｈｋｌ)＝（００２）由来のピークが確認され、２θ＝２〜８°の位置に、(ｈｋｌ)＝（００２）由来のピークが確認されることがより好ましい。
【００３６】
ペロブスカイト化合物であって、ＡＢＸ（３＋δ）で表される、３次元構造のペロブスカイト型の結晶構造を有する化合物の具体例としては、ＣＨ３ＮＨ３ＰｂＢｒ３、ＣＨ３ＮＨ３ＰｂＣｌ３、ＣＨ３ＮＨ３ＰｂＩ３、ＣＨ３ＮＨ３ＰｂＢｒ（３−ｙ）Ｉｙ（０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３ＰｂＢｒ（３−ｙ）Ｃｌｙ（０＜ｙ＜３）、（Ｈ２Ｎ＝ＣＨ−ＮＨ２)ＰｂＢｒ３、（Ｈ２Ｎ＝ＣＨ−ＮＨ２)ＰｂＣｌ３、（Ｈ２Ｎ＝ＣＨ−ＮＨ２)ＰｂＩ３、
ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１−ａ）ＣａａＢｒ３（０＜ａ≦０．７）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１−ａ）ＳｒａＢｒ３（０＜ａ≦０．７）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１−ａ）ＬａａＢｒ（３＋δ）（０＜ａ≦０．７，０＜δ≦０．７）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１−ａ）ＢａａＢｒ３（０＜ａ≦０．７）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１−ａ）ＤｙａＢｒ（３＋δ）（０＜ａ≦０．７，０＜δ≦０．７）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１−ａ）ＮａａＢｒ（３＋δ）（０＜ａ≦０．７，−０．７≦δ＜０）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１−ａ）ＬｉａＢｒ（３＋δ）（０＜ａ≦０．７，−０．７≦δ＜０）、ＣｓＰｂ（１−ａ）ＮａａＢｒ（３＋δ）（０＜ａ≦０．７，−０．７≦δ＜０）、ＣｓＰｂ（１−ａ）ＬｉａＢｒ（３＋δ）（０＜ａ≦０．７，−０．７≦δ＜０）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１−ａ）ＮａａＢｒ（３＋δ−ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７，−０．７≦δ＜０,０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１−ａ）ＬｉａＢｒ（３＋δ−ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７，−０．７≦δ＜０,０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１−ａ）ＮａａＢｒ（３＋δ−ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７，−０．７≦δ＜０,０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１−ａ）ＬｉａＢｒ（３＋δ−ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７，−０．７≦δ＜０,０＜ｙ＜３）、（Ｈ２Ｎ＝ＣＨ−ＮＨ２)Ｐｂ（１−ａ）ＮａａＢｒ（３＋δ）（０＜ａ≦０．７，−０．７≦δ＜０）、（Ｈ２Ｎ＝ＣＨ−ＮＨ２)Ｐｂ（１−ａ）ＬｉａＢｒ（３＋δ）（０＜ａ≦０．７，−０．７≦δ＜０）、（Ｈ２Ｎ＝ＣＨ−ＮＨ２)Ｐｂ（１−ａ）ＮａａＢｒ（３＋δ−ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７，−０．７≦δ＜０,０＜ｙ＜３）、（Ｈ２Ｎ＝ＣＨ−ＮＨ２)Ｐｂ（１−ａ）ＮａａＢｒ（３＋δ−ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７，−０．７≦δ＜０,０＜ｙ＜３）、ＣｓＰｂＢｒ３、ＣｓＰｂＣｌ３、ＣｓＰｂＩ３、ＣｓＰｂＢｒ（３−ｙ）Ｉｙ（０＜ｙ＜３）、ＣｓＰｂＢｒ（３−ｙ）Ｃｌｙ（０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３ＰｂＢｒ（３−ｙ）Ｃｌｙ（０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１−ａ）ＺｎａＢｒ３（０＜ａ≦０．７）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１−ａ）ＡｌａＢｒ（３＋δ）（０＜ａ≦０．７，０≦δ≦０．７）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１−ａ）ＣｏａＢｒ３（０＜ａ≦０．７）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１−ａ）ＭｎａＢｒ３（０＜ａ≦０．７）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１−ａ）ＭｇａＢｒ３（０＜ａ≦０．７）、ＣｓＰｂ（１−ａ）ＺｎａＢｒ３（０＜ａ≦０．７）、ＣｓＰｂ（１−ａ）ＡｌａＢｒ（３＋δ）（０＜ａ≦０．７，０＜δ≦０．７）、ＣｓＰｂ（１−ａ）ＣｏａＢｒ３（０＜ａ≦０．７）、ＣｓＰｂ（１−ａ）ＭｎａＢｒ３（０＜ａ≦０．７）、ＣｓＰｂ（１−ａ）ＭｇａＢｒ３（０＜ａ≦０．７）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１−ａ）ＺｎａＢｒ（３−ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７，０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１−ａ）ＡｌａＢｒ（３＋δ−ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７，０＜δ≦０．７，０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１−ａ）ＣｏａＢｒ（３−ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７，０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１−ａ）ＭｎａＢｒ（３−ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７，０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１−ａ）ＭｇａＢｒ（３−ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７，０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１−ａ）ＺｎａＢｒ（３−ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７，０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１−ａ）ＡｌａＢｒ（３＋δ−ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７，０＜δ≦０．７，０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１−ａ）ＣｏａＢｒ（３＋δ−ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７，０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１−ａ）ＭｎａＢｒ（３−ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７，０＜ｙ＜３）、ＣＨ３ＮＨ３Ｐｂ（１−ａ）ＭｇａＢｒ（３−ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７，０＜ｙ＜３）、（Ｈ２Ｎ＝ＣＨ−ＮＨ２）ＺｎａＢｒ３（０＜ａ≦０．７）、（Ｈ２Ｎ＝ＣＨ−ＮＨ２）ＭｇａＢｒ３（０＜ａ≦０．７）、（Ｈ２Ｎ＝ＣＨ−ＮＨ２）Ｐｂ（１−ａ）ＺｎａＢｒ（３−ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７，０＜ｙ＜３）、（Ｈ２Ｎ＝ＣＨ−ＮＨ２）Ｐｂ（１−ａ）ＺｎａＢｒ（３−ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７，０＜ｙ＜３）等が好ましいものとして挙げられる。
本発明の一つの側面としては、ペロブスカイト化合物であって、ＡＢＸ（３＋δ）で表される、３次元構造のペロブスカイト型の結晶構造を有する化合物としてはＣｓＰｂＢｒ３が好ましい。
【００３７】
ペロブスカイト化合物であって、Ａ２ＢＸ（４＋δ）で表される、２次元構造のペロブスカイト型の結晶構造を有する化合物の具体例としては、(Ｃ４Ｈ９ＮＨ３)２ＰｂＢｒ４、(Ｃ４Ｈ９ＮＨ３)２ＰｂＣｌ４、(Ｃ４Ｈ９ＮＨ３)２ＰｂＩ４、(Ｃ７Ｈ１５ＮＨ３)２ＰｂＢｒ４、(Ｃ７Ｈ１５ＮＨ３)２ＰｂＣｌ４、(Ｃ７Ｈ１５ＮＨ３)２ＰｂＩ４、(Ｃ４Ｈ９ＮＨ３)２Ｐｂ（１−ａ）ＬｉａＢｒ（４＋δ）（０＜ａ≦０．７，−０．７≦δ＜０）、(Ｃ４Ｈ９ＮＨ３)２Ｐｂ（１−ａ）ＮａａＢｒ（４＋δ）（０＜ａ≦０．７，−０．７≦δ＜０）、(Ｃ４Ｈ９ＮＨ３)２Ｐｂ（１−ａ）ＲｂａＢｒ（４＋δ）（０＜ａ≦０．７，−０．７≦δ＜０）、(Ｃ７Ｈ１５ＮＨ３)２Ｐｂ（１−ａ）ＮａａＢｒ（４＋δ）（０＜ａ≦０．７，−０．７≦δ＜０）、(Ｃ７Ｈ１５ＮＨ３)２Ｐｂ（１−ａ）ＬｉａＢｒ（４＋δ）（０＜ａ≦０．７，−０．７≦δ＜０）、(Ｃ７Ｈ１５ＮＨ３)２Ｐｂ（１−ａ）ＲｂａＢｒ（４＋δ）（０＜ａ≦０．７，−０．７≦δ＜０）、(Ｃ４Ｈ９ＮＨ３)２Ｐｂ（１−ａ）ＮａａＢｒ（４＋δ−ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７，−０．７≦δ＜０，０＜ｙ＜４）、(Ｃ４Ｈ９ＮＨ３)２Ｐｂ（１−ａ）ＬｉａＢｒ（４＋δ−ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７，−０．７≦δ＜０，０＜ｙ＜４）、(Ｃ４Ｈ９ＮＨ３)２Ｐｂ（１−ａ）ＲｂａＢｒ（４＋δ−ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７，−０．７≦δ＜０，０＜ｙ＜４）、(Ｃ４Ｈ９ＮＨ３)２Ｐｂ（１−ａ）ＮａａＢｒ（４＋δ−ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７，−０．７≦δ＜０，０＜ｙ＜４）、(Ｃ４Ｈ９ＮＨ３)２Ｐｂ（１−ａ）ＬｉａＢｒ（４＋δ−ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７，−０．７≦δ＜０，０＜ｙ＜４）、(Ｃ４Ｈ９ＮＨ３)２Ｐｂ（１−ａ）ＲｂａＢｒ（４＋δ−ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７，−０．７≦δ＜０，０＜ｙ＜４）、(Ｃ４Ｈ９ＮＨ３)２ＰｂＢｒ４、(Ｃ７Ｈ１５ＮＨ３)２ＰｂＢｒ４、(Ｃ４Ｈ９ＮＨ３)２ＰｂＢｒ（４-ｙ）Ｃｌｙ（０＜ｙ＜４）、(Ｃ４Ｈ９ＮＨ３)２ＰｂＢｒ（４-ｙ）Ｉｙ（０＜ｙ＜４）、(Ｃ４Ｈ９ＮＨ３)２Ｐｂ（１−ａ）ＺｎａＢｒ４（０＜ａ≦０．７）、(Ｃ４Ｈ９ＮＨ３)２Ｐｂ（１−ａ）ＭｇａＢｒ４（０＜ａ≦０．７）、(Ｃ４Ｈ９ＮＨ３)２Ｐｂ（１−ａ）ＣｏａＢｒ４（０＜ａ≦０．７）、(Ｃ４Ｈ９ＮＨ３)２Ｐｂ（１−ａ）ＭｎａＢｒ４（０＜ａ≦０．７）、(Ｃ７Ｈ１５ＮＨ３)２Ｐｂ（１−ａ）ＺｎａＢｒ４（０＜ａ≦０．７、）、(Ｃ７Ｈ１５ＮＨ３)２Ｐｂ（１−ａ）ＭｇａＢｒ４（０＜ａ≦０．７）、(Ｃ７Ｈ１５ＮＨ３)２Ｐｂ（１−ａ）ＣｏａＢｒ４（０＜ａ≦０．７）、(Ｃ７Ｈ１５ＮＨ３)２Ｐｂ（１−ａ）ＭｎａＢｒ４（０＜ａ≦０．７）、(Ｃ４Ｈ９ＮＨ３)２Ｐｂ（１−ａ）ＺｎａＢｒ（４-ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７，０＜ｙ＜４）、（Ｃ４Ｈ９ＮＨ３)２Ｐｂ（１−ａ）ＭｇａＢｒ（４-ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７，０＜ｙ＜４）、(Ｃ４Ｈ９ＮＨ３)２Ｐｂ（１−ａ）ＣｏａＢｒ（４-ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７，０＜ｙ＜４）、(Ｃ４Ｈ９ＮＨ３)２Ｐｂ（１−ａ）ＭｎａＢｒ（４-ｙ）Ｉｙ（０＜ａ≦０．７，０＜ｙ＜４）、(Ｃ４Ｈ９ＮＨ３)２Ｐｂ（１−ａ）ＺｎａＢｒ（４-ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７，０＜ｙ＜４）、(Ｃ４Ｈ９ＮＨ３)２Ｐｂ（１−ａ）ＭｇａＢｒ（４-ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７，０＜ｙ＜４）、(Ｃ４Ｈ９ＮＨ３)２Ｐｂ（１���ａ）ＣｏａＢｒ（４-ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７，０＜ｙ＜４）、(Ｃ４Ｈ９ＮＨ３)２Ｐｂ（１−ａ）ＭｎａＢｒ（４-ｙ）Ｃｌｙ（０＜ａ≦０．７，０＜ｙ＜４）等が好ましいものとして挙げられる。
【００３８】
本実施形態のインク組成物に含まれる、（１）の平均粒径は、本発明の効果を有する限り、特に限定されるものではない。本実施形態のインク組成物においては、良好に（１）の結晶構造を維持させる観点から、（１）の平均粒径が１ｎｍ以上であることが好ましく、２ｎｍ以上であることがより好ましく、３ｎｍ以上であることがさらに好ましい。また、本実施形態のインク組成物においては、（１）を沈降させにくくする観点から、（１）の平均粒径が１０μｍ以下であることが好ましく、１μｍ以下であることがより好ましく、５００ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
上記の上限値及び下限値は任意に組み合わせることができる。
本実施形態のインク組成物に含まれる、（１）の平均粒径は、特に限定されるものではないが、（１）を沈降させにくくする観点、及び良好に結晶構造を維持させる観点から、平均粒径が１ｎｍ以上１０μｍ以下であることが好ましく、２ｎｍ以上１μｍ以下であることがより好ましく、３ｎｍ以上５００ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
インク組成物に含まれる（１）の平均粒径は、例えば、走査型電子顕微鏡（以下、ＳＥＭともいう。）、又は透過型電子顕微鏡（以下、ＴＥＭともいう。）により測定することができる。具体的には、ＴＥＭ、又はＳＥＭにより、前記インク組成物中に含まれる２０個の（１）のフェレー径を観察し、それらの平均値である平均のフェレー径を算出することにより、前記平均粒径を得ることができる。本明細書において「フェレー径」とは、ＴＥＭ、又はＳＥＭ画像上において、観察対象を挟む２本の平行な直線の最大距離を意味する。
【００３９】
本実施形態のインク組成物に含まれる、（１）のメディアン径（Ｄ５０）は、本発明の効果を有する限り、特に限定されるものではない。本実施形態のインク組成物においては、（１）が結晶構造を良好に保つ観点から、（１）のメディアン径（Ｄ５０）が３ｎｍ以上であることが好ましく、４ｎｍ以上であることがより好ましく、５ｎｍ以上であることがさらに好ましい。また、本実施形態のインク組成物においては、（１）を沈降させにくくする観点から、（１）のメディアン径（Ｄ５０）が５μｍ以下であることが好ましく、５００ｎｍ以下であることがより好ましく、１００ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
本発明の別の側面としては、インク組成物に含まれる、（１）のメディアン径（Ｄ５０）が３ｎｍ〜５μｍであることが好ましく、４ｎｍ〜５００ｎｍであることがより好ましく、５ｎｍ〜１００ｎｍであることがさらに好ましい。
本明細書において、インク組成物に含まれる、（１）のメディアン径（Ｄ５０）は、例えばＴＥＭ、ＳＥＭにより測定することができる。具体的には、ＴＥＭ、又はＳＥＭにより、前記インク組成物中に含まれる、２０個の（１）のフェレー径を観察し、それらの分布から、前記メディアン径（Ｄ５０）を求めることができる。
【００４０】
本実施形態の半導体ナノ粒子の総質量に対するペロブスカイト化合物の含有割合は、通常１〜１００質量％であり、１０〜１００質量％であることが好ましく、７０〜１００質量％であることがより好ましい。
【００４１】
本実施形態のインク組成物の総質量に対する（１）の含有割合は、本発明の効果を有する限り、特に限定されるものではないが、ペロブスカイト化合物を含む半導体ナノ粒子を凝集させにくくする観点、及び濃度消光を防ぐ観点から、５０質量％以下であることが好ましく、５質量％以下であることがより好ましく、１質量％以下であることがさらに好ましい。また、良好な量子収率を得る観点から、インク組成物の総質量に対する（１）の含有割合は、０．０００１質量％以上であることが好ましく、０．０００５質量％以上であることがより好ましく、０．００１質量％以上であることがさらに好ましい。
上記の上限値及び下限値は任意に組み合わせることができる。
インク組成物の総質量に対する（１）の含有割合は、通常、０．０００１〜５０質量％である。
インク組成物の総質量に対する（１）の含有割合は、０．０００１〜５質量％であることが好ましく、０．０００５〜２質量％であることがより好ましい。
本実施形態のインク組成物において、インク組成物の総質量に対する（１）の含有割合が上記範囲内である組成物は、（１）の凝集が生じ難く、発光性も良好に発揮される点で好ましい。
【００４２】
本実施形態のインク組成物の総質量に対する（２）の含有割合は、本発明の効果を有する限り、特に限定されるものではないが、発光強度を維持しつつ、硬化物の耐溶剤性を高める観点から、９９質量％以下であることが好ましい。また、発光強度を維持しつつ、硬化物の耐溶剤性を高める観点から、インク組成物の総質量に対する（２）の含有割合は、０．１質量％以上であることが好ましく、１質量％以上であることがより好ましく、１０質量％以上であることがさらに好ましい。
上記の上限値及び下限値は任意に組み合わせることができる。
インク組成物の総質量に対する（２）の含有割合は、通常、０．１〜９９質量％である。
インク組成物の総質量に対する（２）の含有割合は、１〜９９質量％であることが好ましく、１０〜９９質量％であることがより好ましい。
本実施形態のインク組成物において、インク組成物の総質量に対する（２）の含有割合が上記範囲内である組成物は、発光強度を維持しつつ、硬化物の耐溶剤性を高める点で好ましい。
【００４３】
本実施形態のインク組成物の総質量に対する（１）及び（２）の合計含有割合は、本発明の効果を有する限り、特に限定されるものではないが、発光強度を維持しつつ、硬化物の耐溶剤性を高める観点から、９９質量％以下であることが好ましい。また、発光強度を維持しつつ、硬化物の耐溶剤性を高める観点から、インク組成物の総質量に対する（１）及び（２）の合計含有割合は、０．１質量％以上であることが好ましく、１質量％以上であることがより好ましく、１０質量％以上であることがさらに好ましい。
上記の上限値及び下限値は任意に組み合わせることができる。
インク組成物の総質量に対する（１）及び（２）の合計含有割合は、通常、０．１〜９９質量％である。
インク組成物の総質量に対する（１）及び（２）の合計含有割合は、１〜９９質量％であることが好ましく、１０〜９９質量％であることがより好ましい。
本実施形態のインク組成物において、インク組成物の総質量に対する（１）及び（２）の合計含有割合が上記範囲内である組成物は、発光強度を維持しつつ、硬化物の耐溶剤性を高める点で好ましい。
【００４４】
（１）ペロブスカイト化合物を含む半導体ナノ粒子の少なくとも一部は、後述する（１）−２キャッピング配位子及び／又は（１）−３表面被覆材により被覆されていてもよい。
【００４５】
＜＜（１）−２  キャッピング配位子＞＞
本実施形態のインク組成物は、（１）の分散性を向上させ、発光特性を向上させるために、キャッピング配位子を含んでいてもよい。
本実施形態のインク組成物は、キャッピング配位子として、アンモニア、アミン、及びカルボン酸並びに、前記化合物がとり得る形態として、これらの塩又はイオンからなる群から選ばれる少なくとも一種の化合物又はイオンを含んでいてもよい。
すなわち、本実施形態のインク組成物は、アンモニア、アミン、カルボン酸、アンモニアの塩、アミンの塩、カルボン酸の塩、アンモニアのイオン、アミンのイオン、及びカルボン酸のイオンからなる群から選ばれる少なくとも一種の化合物又はイオンを含んでいてもよい。
アンモニア、アミン、及びカルボン酸、並びにこれらの塩又はイオンは、通常、キャッピング配位子として作用する。「キャッピング配位子」とは、（１）の表面に吸着して、（１）をインク組成物中に安定して分散させる作用を有する化合物である。アンモニア又はアミンのイオン若しくは塩（アンモニウム塩等）としては、後述する一般式（Ａ１’）で表されるアンモニウムカチオンと、それを含むアンモニウム塩、若しくは一般式（Ａ１’）で表されるアンモニウムカチオンから、Ｒ１〜Ｒ４のいずれか１つの基を除くことにより得られるアミンが挙げられる。カルボン酸のイオン又は塩（カルボン酸塩等）としては、後述する一般式（Ａ２’）で表されるカルボキシレートアニオンと、それを含むカルボン酸塩、若しくは一般式（Ａ２’）で表されるカルボキシレートアニオンにプロトンが結合したカルボン酸が挙げられる。本実施形態のインク組成物は、アンモニウム塩等、及びカルボン酸塩等のいずれか一方を含んでいてもよく、両方を含んでいてもよい。
キャッピング配位子は、一般式（Ａ１’）で表されるアンモニウムカチオン、又はそれを含むアンモニウム塩であってもよい。
【００４６】
【化５】
0006506488.tif 000006
【００４７】
一般式（Ａ１’）中、Ｒ１〜Ｒ３は、水素原子を表し、Ｒ４は、水素原子、又は１価の炭化水素基を表す。Ｒ４で表される炭化水素基は、飽和炭化水素基（すなわち、アルキル基、又はシクロアルキル基）であってもよく、不飽和炭化水素基であってもよい。
【００４８】
Ｒ４で表されるアルキル基は、直鎖状であっても、分岐鎖状であってもよい。
Ｒ４で表されるアルキル基の炭素原子数は、通常１〜２０であり、５〜２０であることが好ましく、８〜２０であることがより好ましい。
【００４９】
Ｒ４で表されるシクロアルキル基は、置換基としてアルキル基を有していてもよい。シクロアルキル基の炭素原子数は、通常３〜３０であり、３〜２０であることが好ましく、３〜１１であることがより好ましい。炭素原子数は、置換基の炭素原子数を含む。
【００５０】
Ｒ４の不飽和炭化水素基は、直鎖状であっても、分岐鎖状であってもよい。
Ｒ４の不飽和炭化水素基の炭素原子数は、通常２〜２０であり、５〜２０であることが好ましく、８〜２０であることがより好ましい。
【００５１】
Ｒ４は、水素原子、アルキル基、又は不飽和炭化水素基であることが好ましい。不飽和炭化水素基としては、アルケニル基が好ましい。Ｒ４は、炭素原子数８〜２０のアルケニル基であることが好ましい。
【００５２】
Ｒ４のアルキル基の具体例としては、Ｒ６〜Ｒ９において例示したアルキル基が挙げられる。
Ｒ４のシクロアルキル基の具体例としては、Ｒ６〜Ｒ９において例示したシクロアルキル基が挙げられる。
【００５３】
Ｒ４のアルケニル基としては、Ｒ６〜Ｒ９において例示した前記直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基において、いずれか一つの炭素原子間の単結合（Ｃ−Ｃ）が、二重結合（Ｃ＝Ｃ）に置換されたものが例示でき、二重結合の位置は限定されない。
このようなアルケニル基の好ましいものとしては、例えば、エテニル基、プロペニル基、３−ブテニル基、２−ブテニル基、２−ペンテニル基、２−ヘキセニル基、２−ノネニル基、２−ドデセニル基、９−オクタデセニル基が挙げられる。
【００５４】
アンモニウムカチオンが塩を形成する場合、カウンターアニオンとしては、特に制限は無いがＢｒ―、Ｃｌ―、Ｉ―、Ｆ―のハロゲン化物イオンや、カルボキシレートイオンなどが好ましい例として挙げられる。
一般式（Ａ１’）で表されるアンモニウムカチオンと、カウンターアニオンとを有するアンモニウム塩としては、ｎ−オクチルアンモニウム塩、オレイルアンモニウム塩が好ましい例として挙げられる。
【００５５】
キャッピング配位子は、一般式（Ａ２’）で表されるカルボキシレートアニオン、又はそれを含むカルボン酸塩であってもよい。
Ｒ５―ＣＯ２-・・・（Ａ２’）
【００５６】
一般式（Ａ２’）中、Ｒ５は、一価の炭化水素基を表す。Ｒ５で表される炭化水素基は、飽和炭化水素基（すなわち、アルキル基、シクロアルキル基）であってもよく、不飽和炭化水素基であってもよい。
【００５７】
Ｒ５で表されるアルキル基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。Ｒ５で表されるアルキル基の炭素原子数は、通常１〜２０であり、５〜２０であることが好ましく、８〜２０であることがより好ましい。
【００５８】
Ｒ５で表されるシクロアルキル基は、置換基としてアルキル基を有していてもよい。シクロアルキル基の炭素原子数は、通常３〜３０であり、３〜２０であることが好ましく、３〜１１であることがより好ましい。炭素原子数は、置換基の炭素原子数も含む。
【００５９】
Ｒ５で表される不飽和炭化水素基は、直鎖状であっても、分岐鎖状であってもよい。
Ｒ５で表される不飽和炭化水素基の炭素原子数は、通常２〜２０であり、５〜２０であることが好ましく、８〜２０であることがより好ましい。
【００６０】
Ｒ５はアルキル基又は不飽和炭化水素基であることが好ましい。不飽和炭化水素基としては、アルケニル基が好ましい。
【００６１】
Ｒ５のアルキル基の具体例としては、Ｒ６〜Ｒ９において例示したアルキル基が挙げられる。
Ｒ５のシクロアルキル基の具体例としては、Ｒ６〜Ｒ９において例示したシクロアルキル基が挙げられる。
Ｒ５のアルケニル基の具体例としては、Ｒ４において例示したアルケニル基が挙げられる。
この中でもＲ５のアルケニル基としては、９−オクタデセニル基が好ましい。
【００６２】
一般式（Ａ２’）で表されるカルボキシレートアニオンは、オレイン酸アニオンが好ましい。
カルボキレートアニオンが塩を形成する場合、カウンターカチオンとしては、特に制限は無いが、アルカリ金属カチオン、アルカリ土類金属カチオン、アンモニウムカチオンなどが好ましい例として挙げられる。
【００６３】
＜＜（１）−３  表面被覆材＞＞
本実施形態のインク組成物は、（１）の表面を保護し、発光特性を向上させるために、表面被覆材を含んでいてもよい。表面被覆材は、（１）を被覆することができる材料であればよい。
表面被覆材としてはケイ素原子を含有する化合物が挙げられる。
ケイ素原子を含有する化合物としては、シリコンアルコキシド、テトラエトキシシラン、テトラメトキシシランといったテトラアルコキシドシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリエトキシシランなどのトリアルコキシシランなどをあげることができる。
ケイ素原子を含有する化合物は、有機官能基を有する含ケイ素アルコキシド化合物であってもよい。具体的にはメルカプトプロピルトリエトキシシラン、アミノプロピルトリエトキシシランなどが挙げられる。
ケイ素原子を含有する化合物は、シラザン又はその改質体であってもよい。
ケイ素原子を含有する化合物は、シラザン又はその改質体であることが好ましい。
表面被覆材の（１）の被覆率としては、１〜１００％であることが好ましく、３〜１００％であることがより好ましく、１０〜１００％であることがさらに好ましい。
表面被覆材の（１）の被覆率は、表面被覆材で被覆された（１）をＴＥＭ、ＳＥＭ等で観察し、エネルギー分散型Ｘ線分析（ＥＤＸ）を行うことにより求めることができる。具体的には、ＥＤＸにより、表面被覆材由来の元素が存在する領域の範囲と、粒子全体の領域の範囲を求め、（（表面被覆材由来の元素が存在する領域の範囲／粒子全体の領域の範囲）×１００）を計算することにより求めることができる。
【００６４】
シラザンは、直鎖状、分岐鎖状、又は環状のいずれであってもよい。また、シラザンは、低分子であっても、高分子（本明細書では、ポリシラザンと記載することがある。）であってもよい。
本明細書において「低分子」とは、数平均分子量が６００未満であることを意味し、「高分子」とは、数平均分子量が６００以上２０００以下であることを意味する。
本明細書において「数平均分子量」とは、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）法により測定されるポリスチレン換算値を意味する。
例えば、下記の一般式（Ｂ１）又は（Ｂ２）で表される低分子のシラザン、及び、一般式（Ｂ３）で表される構成単位、又は一般式（Ｂ４）で表される構造を有するポリシラザンであることが好ましい。
シラザンは、後述する方法で改質してシリカ変性させて用いてもよい。
【００６５】
実施形態の組成物に含まれるシラザンは、後述する方法により改質された、シラザンの改質体であってもよい。
改質とは、シラザンに含まれる少なくとも一部のＳｉ−Ｎ−Ｓｉ結合において、ＮをＯで置換し、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を形成させることをいい、シラザンの改質体は、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を含む化合物である。
シラザンの改質体としては、例えば、上述した、一般式（Ｂ１）、又は（Ｂ２）に含まれる少なくとも１つのＮが、Ｏで置換された低分子の化合物、及び、一般式（Ｂ３）で表される構成単位を有するポリシラザンに含まれる少なくとも１つのＮがＯで置換された高分子の化合物、又は一般式（Ｂ４）で表される構造を有するポリシラザンに含まれる少なくとも１つのＮがＯで置換された高分子の化合物が好ましい。
一般式（Ｂ２）に含まれるＮの総量に対する、置換されたＯの数の割合は０．１〜１００％であることが好ましく、１０〜９８％であることがより好ましく、３０〜９５％であることがさらに好ましい。
一般式（Ｂ３）に含まれるＮの総量に対する、置換されたＯの数の割合は０．１〜１００％であることが好ましく、１０〜９８％であることがより好ましく、３０〜９５％であることがさらに好ましい。
一般式（Ｂ４）に含まれるＮの総量に対する、置換されたＯの数の割合は０．１〜９９％であることが好ましく、１０〜９７％であることがより好ましく、３０〜９５％であることがさらに好ましい。
シラザンの改質体は１種類であっても２種類以上の混合物であってもよい。
【００６６】
シラザン及びその改質体に含まれるＳｉ原子数、Ｎ原子数、Ｏ原子数は、核磁気共鳴分光法（ＮＭＲ）、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）、又は透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いたエネルギー分散型Ｘ線分析（ＥＤＸ）等で算出することができる。
特に好ましい方法としては、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）によって、インク組成物中のＳｉ原子数、Ｎ原子数、Ｏ原子数を測定することで、算出することができる。
上述の方法によって測定されるシラザン及びその改質体に含まれるＮ原子数に対するＯ原子数の割合は０．１〜９９％であることが好ましく、１０〜９５％であることがより好ましく、３０〜９０％であることがさらに好ましい。
【００６７】
シラザン、又はその改質体の少なくとも一部は、組成物に含まれるペロブスカイト化合物に吸着していてもよく、組成物中に分散していてもよい。
【００６８】
【化６】
0006506488.tif 000007
【００６９】
一般式（Ｂ１）中、Ｒ１４及び複数のＲ１５は、それぞれ独立して、水素原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数１〜２０のアルケニル基、炭素原子数３〜２０のシクロアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、又は炭素原子数１〜２０のアルキルシリル基を表す。炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数１〜２０のアルケニル基、炭素原子数３〜２０のシクロアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、又は炭素原子数１〜２０のアルキルシリル基は、アミノ基などの置換基を有していてもよい。複数あるＲ１５は、同一であってもよく、異なっていてもよい。
【００７０】
一般式（Ｂ１）で表される低分子のシラザンとしては、１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシラザン、１，３−ジフェニルテトラメチルジシラザン、及び１，１，１，３，３，３−ヘキサメチルジシラザンが挙げられる。
【００７１】
【化７】
0006506488.tif 000008
【００７２】
一般式（Ｂ２）中、Ｒ１４、及びＲ１５は上記同様である。
複数あるＲ１４は、同一であってもよく、異なっていてもよい。
複数あるＲ１５は、同一であってもよく、異なっていてもよい。
ｎ１は１以上２０以下の整数を表す。ｎ１は、１以上１０以下の整数でもよく、１又は２でもよい。
一般式（Ｂ２）で表される低分子のシラザンとしては、オクタメチルシクロテトラシラザン、２，２，４，４，６，６−ヘキサメチルシクロトリシラザン、及び２，４，６−トリメチル−２，４，６−トリビニルシクロトリシラザンが挙げられる。
【００７３】
低分子のシラザンとしては、オクタメチルシクロテトラシラザン、及び１，３−ジフェニルテトラメチルジシラザンが好ましく、オクタメチルシクロテトラシラザンがより好ましい。
【００７４】
ポリシラザンは、Ｓｉ−Ｎ−Ｓｉ結合を有する高分子化合物であり、特に制限されないが、例えば、下記の一般式（Ｂ３）で表される構成単位を有する高分子化合物が挙げられる。ポリシラザンに含まれる一般式（Ｂ３）で表される構成単位は、一種であっても、複数種であってもよい。
【００７５】
【化８】
0006506488.tif 000009
【００７６】
一般式（Ｂ３）中、Ｒ１４、及びＲ１５は、上記同様である。
＊は、結合手を表す。末端のＮ原子の結合手は、Ｒ１４と同様の置換基を有していてもよく、末端のＳｉ原子の結合手は、Ｒ１５と同様の置換基を有していてもよい。
複数あるＲ１４は、同一であってもよく、異なっていてもよい。
複数あるＲ１５は、同一であってもよく、異なっていてもよい。
ｍは、２以上１００００以下の整数を表す。
【００７７】
一般式（Ｂ３）で表される構成単位を有するポリシラザンは、例えば、Ｒ１４、及びＲ１５のすべてが水素原子であるパーヒドロポリシラザンでもよい。
【００７８】
また、一般式（Ｂ３）で表される構成単位を有するポリシラザンは、例えば、少なくとも１つのＲ１５が水素原子以外の基であるオルガノポリシラザンであってもよい。用途に応じて、適宜にパーヒドロポリシラザンとオルガノポリシラザンを選択してよく、混合して使用することもできる。
【００７９】
ポリシラザンは、分子内の一部に環構造を有していてもよく、例えば、一般式（Ｂ４）で表される構造を有していてもよい。
【００８０】
【化９】
0006506488.tif 000010
【００８１】
一般式（Ｂ４）中、＊は、結合手を表す。
結合手は、一般式（Ｂ３）で表される構成単位の結合手と結合していてもよい。ポリシラザンが、分子内に複数の一般式（Ｂ４）で表される構造を含む場合、一般式（Ｂ４）で表される構造の結合手は、他の一般式（Ｂ４）で表される構造の結合手と結合していてもよい。
一般式（Ｂ３）で表される構成単位の結合手、又は他の一般式（Ｂ４）で表される構造の結合手と結合していないＮ原子の結合手は、Ｒ１４と同様の置換基を有していてもよく、一般式（Ｂ３）で表される構成単位の結合手、又は他の一般式（Ｂ４）で表される構造の結合手と結合していないＳｉ原子の結合手は、Ｒ１５と同様の置換基を有していてもよい。
ｎ２は、１以上１００００以下の整数を表す。ｎ２は、１以上１０以下の整数でもよく、１又は２でもよい。
【００８２】
シラザン又はその改質体は、特に制限は無いが、分散性を向上させ、凝集を抑制できる観点からオルガノポリシラザン、又はその改質体が好ましい。オルガノポリシラザンは、例えば、一般式（Ｂ３）中のＲ１４及びＲ１５の少なくとも１つが、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数１〜２０のアルケニル基、炭素原子数３〜２０のシクロアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、又は炭素原子数１〜２０のアルキルシリル基である、一般式（Ｂ３）で表される構成単位を有するオルガノポリシラザンであってもよく、一般式（Ｂ４）中の少なくとも１つの結合手がＲ１４又はＲ１５と結合し、前記Ｒ１４及びＲ１５の少なくとも１つが、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数１〜２０のアルケニル基、炭素原子数３〜２０のシクロアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、又は炭素原子数１〜２０のアルキルシリル基である、一般式（Ｂ４）で表される構造を含むオルガノポリシラザンであってもよい。
オルガノポリシラザンは、一般式（Ｂ３）中のＲ１４及びＲ１５の少なくとも１つがメチル基である一般式（Ｂ３）で表される構成単位を有するオルガノポリシラザン、又は、一般式（Ｂ４）中の少なくとも１つの結合手がＲ１４又はＲ１５と結合し、前記Ｒ１４及びＲ１５の少なくとも１つがメチル基である一般式（Ｂ４）で表される構造を有するポリシラザンであることが好ましい。
【００８３】
一般的なポリシラザンは、例えば、直鎖構造と、６員環、又は８員環等の環構造とが存在した構造である。前述したようにその分子量は数平均分子量（Ｍｎ）で６００〜２０００（ポリスチレン換算）であり、分子量によって液体又は固体の物質でありうる。前記ポリシラザンは、市販品を使用してもよく、市販品としては、ＮＮ１２０−１０、ＮＮ１２０−２０、ＮＡＸ１２０−２０、ＮＮ１１０、ＮＡＸ１２０、ＮＡＸ１１０、ＮＬ１２０Ａ、ＮＬ１１０Ａ、ＮＬ１５０Ａ、ＮＰ１１０、ＮＰ１４０（ＡＺエレクトロニックマテリアルズ株式会社製）並びに、ＡＺＮＮ−１２０−２０、Ｄｕｒａｚａｎｅ（登録商標）  １５００  Ｓｌｏｗ  Ｃｕｒｅ、Ｄｕｒａｚａｎｅ（登録商標）  １５００  Ｒａｐｉｄ  Ｃｕｒｅ、Ｄｕｒａｚａｎｅ（登録商標）  １８００（メルクパフォーマンスマテリアルズ株式会社製）、及びＤｕｒａｚａｎｅ（登録商標）  １０３３（メルクパフォーマンスマテリアルズ株式会社製）等が挙げられる。
一般式（Ｂ３）で表される構成単位を有するポリシラザンは、好ましくはＡＺＮＮ−１２０−２０、Ｄｕｒａｚａｎｅ（登録商標）  １５００  Ｓｌｏｗ  Ｃｕｒｅ、Ｄｕｒａｚａｎｅ（登録商標）  １５００  Ｒａｐｉｄ  Ｃｕｒｅであり、より好ましくはＤｕｒａｚａｎｅ（登録商標）  １５００  Ｓｌｏｗ  Ｃｕｒｅである。
【００８４】
＜＜パラメータＺ＞＞
本実施形態のインク組成物は、下記式（ａ）におけるＺの値が０．３７以下であることで、優れた発光特性を示す。
式(ａ)  Ｚ＝（Ｏ２＋Ｏ３＋Ｎ２＋Ｎ３）／（Ｃ２＋Ｃ３）
（Ｏ２、Ｎ２、Ｃ２：それぞれ（２）に含まれるＯ原子数、Ｎ原子数、Ｃ原子数。Ｏ３、Ｎ３、Ｃ３：それぞれ（３）に含まれるＯ原子数、Ｎ原子数、Ｃ原子数。）
【００８５】
（２）が複数種類の化合物から構成される場合、Ｏ２、Ｎ２及びＣ２は、それぞれ構成される化合物に含まれるＯ原子数、Ｎ原子数、Ｃ原子数に対し、（２）の総質量を１００質量％として、構成される化合物の割合（質量％）で重み付けした平均のＯ２、Ｎ２及びＣ２の値とする。
（３）が複数種類の化合物から構成される場合、Ｏ３、Ｎ３及びＣ３は、それぞれ構成される化合物に含まれるＯ原子数、Ｎ原子数、Ｃ原子数に対し、（３）の総質量を１００質量％として、構成される化合物の割合（質量％）で重み付けした平均のＯ３、Ｎ３及びＣ３とする。
すなわち、Ｏ２、Ｎ２、Ｃ２、Ｏ３、Ｎ３及びＣ３は、以下のように定義することもできる。
【数１】
0006506488.tif 000011
（ｎ２は、（２）の種類の数を表し、
ｆｎ２は、（２）に含まれる全ての化合物の総質量を１００質量％として、ｎ２番目の化合物の割合（質量％）を表し、
Ｏ２ｎ２は、（２）に含まれる全ての化合物の総質量を１００質量％として、ｎ２番目の化合物に含まれるＯ原子数を表し、
Ｎ２ｎ２は、（２）に含まれる全ての化合物の総質量を１００質量％として、ｎ２番目の化合物に含まれるＮ原子数を表し、
Ｃ２ｎ２は、（２）に含まれる全ての化合物の総質量を１００質量％として、ｎ２番目の化合物に含まれるＣ原子数を表す。
ｎ３は、（３）の化合物の種類の数を表し、
ｆｎ３は、（３）に含まれる全ての化合物の総質量を１００質量％として、ｎ３番目の化合物の割合（質量％）を表し、
Ｏ３ｎ３は、（３）に含まれる全ての化合物の総質量を１００質量％として、ｎ３番目の化合物に含まれるＯ原子数を表し、
Ｎ３ｎ３は、（３）に含まれる全ての化合物の総質量を１００質量％として、ｎ３番目の化合物に含まれるＮ原子数を表し、
Ｃ３ｎ３は、（３）に含まれる全ての化合物の総質量を１００質量％として、ｎ３番目の化合物に含まれるＣ原子数を表す。）
【００８６】
本実施形態のインク組成物において、Ｚの値は０．２７以下であることが好ましく、０．２０以下であることがより好ましい。
本発明の一つの側面としては、本実施形態のインク組成物において、Ｚの値は０．０１以上０．３７以下であることが好ましく、０．０１以上０．２７以下であることがより好ましく、０．０１以上０．２０以下であることがさらに好ましい。
Ｚが前記範囲内であることにより、本実施形態のインク組成物を重合する際に、ペロブスカイト化合物の表面の劣化を抑制しつつ、硬化することができるため、発光特性が高い状態で耐溶剤性が得られると考えられる。
【００８７】
Ｚの値の測定方法としては、核磁気共鳴分光法（ＮＭＲ）、液体クロマトグラフィー、ガスクロマトグラフィー、紫外可視分光、といった方法を用いて含有される化合物の化学構造を特定して算出する方法を用いることができる。
また、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）、又は透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いたエネルギー分散型Ｘ線分析（ＥＤＸ）、元素分析装置、炭素硫黄分析装置、酸素窒素水素分析装置、蛍光Ｘ線装置等を用いた元素分析法、イオンクロマトグラフィー法、滴定法、ポーラログラフィー法、重量分析法といった手法を用いて元素の含有量を測定して算出する方法を用いることもできる。
これらの測定方法は単独で使用してもよいし、複数組み合わせて使用してもよい。
【００８８】
（２）と（３）がすでに混合された（２）と（３）の混合物からＺを得る方法としては、上述の測定方法により、前記混合物中のＯ原子数、Ｎ原子数、Ｃ原子数を求め、前記式(ａ)に従い、Ｏ原子数とＮ原子数の和をＣ原子数で除することにより得る方法が例として挙げられる。この場合、Ｃ原子数は炭素硫黄分析装置、Ｏ原子数及びＮ原子数は、酸素窒素水素分析装置又はイオンクロマトグラフィー法により測定することができる。
【００８９】
（１）と（２）と（３）がすでに混合された（１）と（２）と（３）の混合物からＺを得る方法としては、（１）がＯ原子、Ｎ原子、Ｃ原子を含まない場合は、前述の（２）と（３）の混合物からＺを得る方法を採用することができる。（１）がＯ原子、Ｎ原子、Ｃ原子を含む場合、（１）に含まれる原子をクロマトグラフィーなどにより分析し、同定及び定量を行う。（１）と（２）と（３）の混合物中のＯ原子数、Ｎ原子数、Ｃ原子数を上述の方法で測定し、これらの値から（１）由来のＯ原子数、Ｎ原子数、Ｃ原子数を差し引くことにより求めた（２）と（３）由来のＯ原子数とＮ原子数の和をＣ原子数で除することによりＺを得ることできる。
【００９０】
＜＜（２）硬化性樹脂組成物＞＞
【００９１】
硬化性樹脂組成物は、主原料として硬化性樹脂を含む。硬化性樹脂組成物は、硬化剤及び開始剤を含んでいてもよい。
硬化性樹脂組成物は、低分子化合物（本明細書において、硬化性樹脂モノマーと記載することがある。）を含んでいてもよく、低分子化合物が重合した重合体を含んでいてもよい。重合体は、オリゴマーであってもポリマーであってもよく、オリゴマーであることが好ましい。ここで、オリゴマーとは、重合体が有する全ての繰り返し単位について、繰り返し数の合計が２〜２０である重合体を意味し、ポリマーとは、繰り返し数の合計が２１以上である重合体を意味する。
本明細書において、硬化性樹脂とは、硬化性モノマー及びその重合体を意味する。
硬化性樹脂組成物に含まれる硬化性樹脂の含有割合は、硬化性樹脂組成物の総質量に対して、１０〜９５質量％が好ましく、５０〜９５質量％がより好ましく、７０〜９５質量％がさらに好ましい。
硬化性樹脂組成物に含まれる硬化剤の含有割合は、硬化性樹脂組成物に含まれる硬化性樹脂の総質量を１００質量％として、１〜５０質量％が好ましく、５〜２０質量％がより好ましい。
硬化性樹脂組成物に含まれる開始剤の含有割合は、硬化性樹脂組成物に含まれる前記硬化性樹脂総質量を１００質量％として、０．０１質量％〜２０質量％が好ましく、０．０１質量％〜５質量％がより好ましい。
【００９２】
本実施形態のインク組成物に含まれる硬化性樹脂組成物は、インク組成物全体で前記パラメータＺの値が０．３７以下であることを満たすものであれば特に限定されるものではない。
硬化性樹脂組成物は、発光特性を維持する観点で、例えば、下記式（ｂ−１）で表される低分子化合物及び下記式（ｂ―２）で表される繰り返し単位を含む重合体からなる群より選ばれる少なくとも一種を含み、前記低分子化合物及び重合体の合計の含有割合は、前記（２）の総質量を１００質量％として５０質量％以上であることが好ましい。
本発明の一つの側面としては、硬化性樹脂組成物は、下記式（ｂ−１）で表される低分子化合物及び下記式（ｂ―２）で表される繰り返し単位を含む重合体からなる群より選ばれる少なくとも一種を含み、前記低分子化合物及び重合体の合計の含有割合は、前記（２）の総質量を１００質量％として５０質量％以上９９質量％以下であることが好ましい。
前記硬化性樹脂組成物は、下記式（ｂ−１）で表される低分子化合物の含有割合が、前記（２）の総質量を１００質量％として５０質量％以上であること又は下記式（ｂ―２）で表される繰り返し単位を含む重合体の含有割合が、前記（２）の総質量を１００質量％として５０質量％以上であることがより好ましい。
本発明の一つの側面としては、硬化性樹脂組成物は、下記式（ｂ−１）で表される低分子化合物の含有割合が、前記（２）の総質量を１００質量％として５０質量％以上９９質量％以下であること又は下記式（ｂ―２）で表される繰り返し単位を含む重合体の含有割合が、前記（２）の総質量を１００質量％として５０質量％以上９９質量％以下であることがより好ましい。
前記式（ｂ―２）で表される繰り返し単位を含む重合体は、重合体に含まれる全ての繰り返し単位を１００モル％として式（ｂ―２）で表される繰り返し単位を５０モル％以上含む重合体であることが好ましく、９０モル％以上含む重合体であることがより好ましい。
前記式（ｂ―２）で表される繰り返し単位を含む重合体は、重合体に含まれる全ての繰り返し単位を１００モル％として式（ｂ―２）で表される繰り返し単位を５０モル％以上９９モル％以下含む重合体であることが好ましく、９０モル％以上９９モル％以下含む重合体であることがより好ましい。
【００９３】
【化１０】
0006506488.tif 000012
（式（ｂ−１）及び（ｂ−２）中、Ａは水素原子又はメチル基を表す。
ｍ１は０〜２０の整数、ｍ２は０〜２の整数、ｍ３は０〜２０の整数、ｍ４は０〜２の整数、ｍ５は０〜２０の整数を表し、ｍ１〜ｍ５の合計は２０以下である。
Ｒａはメチレン基を表す。
Ｒｂは下記式（ｂ−３１）〜（ｂ−３８）のいずれかで表される２価の基を表し、Ｒｂが複数ある場合、Ｒｂは互いに同一であっても異なっていてもよい。
【００９４】
【化１１】
0006506488.tif 000013
Ｒｃは下記式（ｂ−４１）〜（ｂ−４８）のいずれかで表される１価の基を表す。
【００９５】
【化１２】
0006506488.tif 000014
【００９６】
式（ｂ−１）及び（ｂ−２）中、Ｒｂは、前記式（ｂ−３２）〜（ｂ−３５）のいずれかで表される２価の基であることが好ましい。Ｒｂが複数ある場合、Ｒｂは互いに同一であっても異なっていてもよい。
式（ｂ−１）及び（ｂ−２）中、Ｒｃは、前記式（ｂ−４１）、（ｂ−４２）、（ｂ−４４）、（ｂ−４５）又は（ｂ−４６）のいずれかで表される一価の基であることが好ましい。
式（ｂ−１）及び（ｂ−２）中、ｍ２は０又は１であり、ｍ４及びｍ５は０であることが好ましい。
式（ｂ−１）及び（ｂ−２）中、
Ｒｂが、前記式（ｂ−３２）〜（ｂ−３５）のいずれかで表される２価の基であり、
Ｒｃが、前記式（ｂ−４１）、（ｂ−４２）、（ｂ−４４）、（ｂ−４５）又は（ｂ−４６）のいずれかで表される一価の基であり、
ｍ２が０又は１であり、ｍ４及びｍ５が０であることが好ましい。
【００９７】
発光特性を維持する観点で、（ｂ−１）で表される低分子化合物は、下記式（ｂ−５１）〜（ｂ−５４）のいずれかで表される低分子化合物であることが好ましい。
【００９８】
【化１３】
0006506488.tif 000015
【００９９】
硬化性樹脂モノマーとしては、例えば、（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、グリセロール（メタ）アクリレート等の多官能（メタ）アクリレートが挙げられる。
これらの硬化性樹脂モノマーは単独で使用しても複数種類を混合して使用してもよい。
これらの硬化性樹脂モノマーを重合させた重合体を使用してもよい。
硬化性樹脂モノマーは、（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート及びポリエーテル（メタ）アクリレートからなる群より選ばれる少なくとも一種が好ましく、（メタ）アクリレート及びウレタン（メタ）アクリレートからなる群より選ばれる少なくとも一種がより好ましい。これらの硬化性樹脂モノマーを重合させた重合体を使用してもよい。
【０１００】
（メタ）アクリレートとしては、ビニルメタクリレート、アリルメタクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート、ラウリルメタクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、イソボルニルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、ステアリルメタクリレート、カプロラクトンアクリレートが挙げられる。
これらの硬化性樹脂モノマーは単独で使用しても複数種類を混合して使用してもよい。
これらの硬化性樹脂モノマーを重合させた重合体を使用してもよい。
【０１０１】
・硬化剤
前記樹脂組成物は、硬化剤を含んでいてもよい。硬化剤としては、複数の官能基を有する硬化剤が挙げられる。複数の官能基を有する硬化剤としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、チオール基を含有するメルカプト化合物等が挙げられる。トリメチロールプロパントリアクリレートとしては、トリメチロールプロパントリメチロールプロパントリメタクリラートを使用することができる。
【０１０２】
・開始剤
前記樹脂組成物は、開始剤を含んでいてもよい。開始剤としては、具体的には、ベンゾイン及びその誘導体、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体やＩｒｇａｃｕｒｅ８１９，Ｉｒｇａｃｕｒｅ６５１，Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４等を挙げる事ができる。これらの開始剤は増感剤と共に使用しても良い。上記開始剤も増感剤として使用できる。また、エポキシアクリレート系の開始剤の使用の際、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等の増感剤を用いることができる。
【０１０３】
硬化性樹脂組成物は、加熱により硬化する熱硬化性樹脂組成物、光により硬化する光硬化性樹脂組成物又はその両方を兼ね備えた熱光硬化性樹脂組成物であることが好ましい。短時間で硬化させ生産効率を高める為には光硬化性樹脂組成物がより好ましい。
【０１０４】
硬化性樹脂組成物として、光硬化性樹脂組成物又は熱光硬化性樹脂組成物を採用する場合、硬化に用いる光としては特に限定はなく紫外光、可視光といった波長の光を用いることができる。１５０〜８００ｎｍの波長を持つ光が好ましく、２００〜５００ｎｍの波長を持つ光が更に好ましい。その光源としては低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ケミカルランプ、発光ダイオード（ＬＥＤ）光源、エキシマレーザー発生装置などを用いることができ、ｉ線（３６５ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）、ｇ線（４３６ｎｍ）などの３００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下の波長を有する活性光線が好ましく使用できる。また、必要に応じて長波長カットフィルター、短波長カットフィルター、バンドパスフィルターのような分光フィルターを通して照射光を調整することもできる。露光量は１〜５０００ｍＪ／ｃｍ2であることが好ましく、より好ましくは１０〜２０００ｍＪ／ｃｍ2であり、さらに好ましくは、５０〜５００ｍＪ／ｃｍ2である。
このように硬化される光硬化性樹脂としては、スチレン、アクリレート樹脂、メタクリレート樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、シリコン樹脂等及びそれぞれの原料となるモノマーやオリゴマー等の公知の硬化性樹脂が挙げられる。
【０１０５】
＜＜（３）溶媒＞＞
本発明のインク組成物は（１）、（２）の他に溶媒を含むことができる。溶媒は、パラメータＺが好適な範囲を満たし、（１）を分散させることができる媒体であれば特に限定されない。
本明細書において「溶媒」とは、１気圧、２５℃において液体状態をとる物質のことをいう（但し、前記（２）を除く）。
本明細書において「分散している」とは、（１）が、溶媒に浮遊あるいは懸濁している状態のことをいい、一部は沈降していてもよい。
【０１０６】
溶媒としては、例えば、メチルホルメート、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテート、ペンチルアセテート等のエステル；γ−ブチロラクトン、アセトン、ジメチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等のケトン；ジエチルエーテル、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、４−メチルジオキソラン、テトラヒドロフラン、メチルテトラヒドロフラン、アニソール、フェネトール等のエーテル；メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、１−ペンタノール、２−メチル−２−ブタノール、メトキシプロパノール、ジアセトンアルコール、シクロヘキサノール、２−フルオロエタノール、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノール等のアルコール；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールジメチルエーテル等のグリコールエーテル；Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド基を有する有機溶媒；アセトニトリル、イソブチロニトリル、プロピオニトリル、メトキシアセトニトリル等のニトリル基を有する有機溶媒；エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート基を有する有機溶媒；塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化した炭化水素基を有する有機溶媒；ｎ−ペンタン、シクロヘキサン、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素基を有する有機溶媒；ジメチルスルホキシド等が挙げられる。
【０１０７】
これらの中でもメチルホルメート、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテート、ペンチルアセテート等のエステル；γ−ブチロラクトン、アセトン、ジメチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等のケトン；ジエチルエーテル、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、４−メチルジオキソラン、テトラヒドロフラン、メチルテトラヒドロフラン、アニソール、フェネトール等のエーテル；アセトニトリル、イソブチロニトリル、プロピオニトリル、メトキシアセトニトリル等のニトリル基を有する有機溶媒；エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート基を有する有機溶媒；塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化した炭化水素基を有する有機溶媒；ｎ−ペンタン、シクロヘキサン、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素基を有する有機溶媒は、極性が低く、（１）を溶解し難いと考えられるため好ましく、塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化した炭化水素基を有する有機溶媒；ｎ−ペンタン、シクロヘキサン、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素基を有する有機溶媒がより好ましい。
【０１０８】
＜＜無機微粒子添加物（散乱材）＞＞
本発明のインク組成物に、光を散乱させ発光特性を向上させるために無機微粒子を添加しても良い。無機微粒子としては、例えば、酸化物、水酸化物などの公知の無機微粒子が挙げられ、組成物中を通過する光を効率的にペロブスカイト化合物に吸収させる観点、及びペロブスカイト化合物を劣化させずに、表面の欠陥サイト数を減少させ、励起した電子が欠陥サイトにトラップする確率を減少させる観点から、酸化物が好ましい。
前記無機微粒子添加物の添加量は、インク組成物１００質量部に対して、０．１〜３０質量部であることが好ましく、０．５〜２０質量部であることがより好ましく、１〜１０質量部であることがさらに好ましい。
【０１０９】
無機微粒子が酸化物の場合、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化ニオブ、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化マグネシウム、及び酸化ガリウムなどの公知の酸化物が挙げられ、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化ニオブでもよく、酸化亜鉛、酸化ニオブでもよく、酸化ニオブでもよい。
【０１１０】
無機微粒子が酸化アルミニウムである場合、αアルミナ、γアルミナ、θアルミナ、δアルミナ、ηアルミナ、κアルミナ及びχアルミナなどの公知の酸化アルミ二ウムが挙げられ、αアルミナ、γアルミナでもよく、αアルミナでもよい。
【０１１１】
無機微粒子の平均粒径としては組成物中を通過する光を効率的にペロブスカイト化合物に吸収させる観点、及びペロブスカイト化合物を劣化させずに表面の欠陥サイト数を減少させ、励起した電子が欠陥サイトにトラップする確率を減少させる観点から、１５０ｎｍ以上３０μｍ以下が好ましく、１６０ｎｍ以上１０μｍ以下がさらに好ましく、１７０ｎｍ以上４μｍ以下がもっとも好ましい。
【０１１２】
無機微粒子の平均粒径を測定する方法としては、例えば、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）、又はＴＥＭなどを用いて観察する方法が挙げられる。さらに、ＳＥＭ、又はＴＥＭを用いたＥＤＸ測定によって、詳細な元素分布を解析することができる。
【０１１３】
無機微粒子の形状は特に制限は無い。無機微粒子の粒径とは粒子の外周部の大きさであり、その外周部の図形に外接する長方形の縦及び横の長さのうち、大きい方として測定した際の平均の大きさ（フェレー径）として算出することが出来る。すなわち、無機微粒子の平均粒径は、例えば、TEMにより、２０個の無機微粒子のフェレー径を観察し、それらの平均値である平均のフェレー径を算出することにより得ることができる。
【０１１４】
無機微粒子の比表面積は組成物中を通過した光を効率的にペロブスカイト化合物に吸収させる観点、及びペロブスカイト化合物を劣化させずに表面の欠陥サイト数を減少させ、励起した電子が欠陥サイトにトラップする確率を減少させる観点から、０．０５ｍ２／ｇ以上、１００ｍ２／ｇ以下が好ましく、０．１ｍ２／ｇ以上、３０ｍ２／ｇ以下がさらに好ましく、０．４ｍ２／ｇ以上、１５ｍ２／ｇ以下がもっとも好ましい。
無機微粒子の比表面積は、例えば、比表面積測定装置（例えば、Ｍａｃｓｏｒｂ、ｍｏｕｎｔｅｃｈ製が使用できる）を用いてＢＥＴ法により測定することができる。
【０１１５】
＜インク組成物の製造方法＞
以下、本発明における組成物の製造方法に関し、実施形態を示して説明する。実施形態のインク組成物の製造方法によれば、本実施形態のインク組成物を製造可能である。なお、本発明の組成物は、以下の実施形態のインク組成物の製造方法によって製造されるものに限定されるものではない。
【０１１６】
＜＜（１）ペロブスカイト化合物の製造方法＞＞
ペロブスカイト化合物は、既知文献（Ｎａｎｏ  Ｌｅｔｔ．  ２０１５，  １５，  ３６９２−３６９６、ＡＣＳＮａｎｏ，２０１５，９，４５３３−４５４２）を参考に、以下に述べる第１実施形態又は第２実施形態の方法によって製造することができる。
【０１１７】
（Ａ、Ｂ、及びＸを構成成分とするペロブスカイト化合物の製造方法の第１実施形態）
例えば、本発明に係るペロブスカイト化合物の製造方法としては、
Ｂ成分、Ｘ成分、及びＡ成分を溶媒ｘに溶解させ溶液ｇを得る工程と、
得られた溶液ｇと、ペロブスカイト化合物の溶媒に対する溶解度が溶液ｇを得る工程で用いた溶媒ｘよりも低い溶媒ｙとを混合する工程とを含む製造方法が挙げられる。
より具体的には、Ｂ成分及びＸ成分を含む化合物と、Ａ成分、又はＡ成分及びＸ成分を含む化合物とを溶媒ｘに溶解させ、溶液ｇを得る工程と、
得られた溶液ｇと、ペロブスカイト化合物の溶媒に対する溶解度が溶液ｇを得る工程で用いた溶媒ｘよりも低い溶媒ｙとを混合する工程とを含む製造方法が挙げられる。
溶液ｇと、ペロブスカイト化合物の溶媒に対する溶解度が溶液ｇを得る工程で用いた溶媒ｘよりも低い溶媒ｙとを混合することによりペロブスカイト化合物が析出する。
【０１１８】
以下、Ｂ成分及びＸ成分を含む化合物と、Ａ成分、又はＡ成分及びＸ成分を含む化合物とを溶媒ｘに溶解させ、溶液ｇを得る工程と、得られた溶液ｇと、ペロブスカイト化合物の溶媒に対する溶解度が溶液ｇを得る工程で用いた溶媒ｘよりも低い溶媒ｙとを混合する工程とを含む製造方法について説明する。
なお、溶解度とは、混合する工程を行う温度における溶解度を意味する。
前記製造方法は、ペロブスカイト化合物を安定して分散できる観点から、キャッピング配位子を加える工程を含んでいることが好ましい。キャッピング配位子は、前述の混合する工程の前に添加することが好ましく、Ａ成分、Ｂ成分、及びＸ成分を溶解させた溶液ｇにキャッピング配位子を添加してもよいし、ペロブスカイト化合物の溶媒に対する溶解度が溶液ｇを得る工程で用いた溶媒ｘよりも低い溶媒ｙに添加してもよく、溶媒ｘ、及び溶媒ｙの両方に添加してもよい。
前記製造方法は、前述の混合する工程のあと、遠心分離、ろ過などの手法により粗大粒子を除去する工程を含んでいることが好ましい。前記除去する工程によって除去する粗大粒子のサイズは、好ましくは１０μｍ以上、より好ましくは１μｍ以上、さらに好ましくは５００ｎｍ以上である。
【０１１９】
前述の、溶液ｇと、溶媒ｙとを混合する工程は、
（Ｉ）溶液ｇを、溶媒ｙに滴下する工程であってもよく、
（ＩＩ）溶液ｇに、溶媒ｙを滴下する工程であってもよいが、（１）の分散性を高める観点から（Ｉ）であることが好ましい。
滴下する際には攪拌を行うことが（１）の分散性を高める観点から好ましい。
溶液ｇと、溶媒ｙとを混合する工程において、温度には特に制限は無いが、（１）の析出し易さを確保する観点から、−２０〜４０℃の範囲であることが好ましく、−５〜３０℃の範囲であることがより好ましい。
【０１２０】
前記製造方法で用いるペロブスカイト化合物の溶媒に対する溶解度の異なる２種類の溶媒ｘ、及びｙとしては、特に限定されるものではないが、例えば、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、１−ペンタノール、２−メチル−２−ブタノール、メトキシプロパノール、ジアセトンアルコール、シクロヘキサノール、２−フルオロエタノール、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノール等のアルコール；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールジメチルエーテル等のグリコールエーテル；Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド基を有する有機溶媒；メチルホルメート、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテート、ペンチルアセテート等のエステル；γ−ブチロラクトン、アセトン、ジメチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等のケトン；ジエチルエーテル、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、４−メチルジオキソラン、テトラヒドロフラン、メチルテトラヒドロフラン、アニソール、フェネトール等のエーテル；アセトニトリル、イソブチロニトリル、プロピオニトリル、メトキシアセトニトリル等のニトリル基を有する有機溶媒；エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート基を有する有機溶媒；塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化した炭化水素基を有する有機溶媒；ｎ−ペンタン、シクロヘキサン、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素基を有する有機溶媒、ジメチルスルホキシドからなる群より選ばれる２種の溶媒が挙げられる。
【０１２１】
前記製造方法に含まれる、溶液ｇを得る工程で用いる溶媒ｘとしては、ペロブスカイト化合物の溶媒に対する溶解度が高い溶媒が好ましく、例えば、室温（１０℃〜３０℃）で前記工程を行う場合、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、１−ペンタノール、２−メチル−２−ブタノール、メトキシプロパノール、ジアセトンアルコール、シクロヘキサノール、２−フルオロエタノール、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノール等のアルコール；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールジメチルエーテル等のグリコールエーテル；Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド基を有する有機溶媒；ジメチルスルホキシドが挙げられる。
【０１２２】
前記製造方法に含まれる、混合する工程で用いる溶媒ｙとしては、ペロブスカイト化合物の溶媒に対する溶解度が低い溶媒が好ましく、例えば、室温（１０℃〜３０℃）で前記工程を行う場合、メチルホルメート、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテート、ペンチルアセテート等のエステル；γ−ブチロラクトン、アセトン、ジメチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等のケトン；ジエチルエーテル、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、４−メチルジオキソラン、テトラヒドロフラン、メチルテトラヒドロフラン、アニソール、フェネトール等のエーテル；アセトニトリル、イソブチロニトリル、プロピオニトリル、メトキシアセトニトリル等のニトリル基を有する有機溶媒；エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート基を有する有機溶媒；塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化した炭化水素基を有する有機溶媒；ｎ−ペンタン、シクロヘキサン、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素基を有する有機溶媒が挙げられる。
【０１２３】
溶解度の異なる２種類の溶媒において、溶解度の差は（１００μｇ／溶媒１００ｇ）〜（９０ｇ／溶媒１００ｇ）であることが好ましく、（１ｍｇ／溶媒１００ｇ）〜（９０ｇ／溶媒１００ｇ）であることがより好ましい。溶解度の差を（１００μｇ／溶媒１００ｇ）〜（９０ｇ／溶媒１００ｇ）にする観点から、例えば、室温（１０℃〜３０℃）で混合する工程を行う場合、溶液を得る工程で用いる溶媒ｘが、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド基を有する有機溶媒やジメチルスルホキシドであり、混合する工程で用いる溶媒ｙが塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化した炭化水素基を有する有機溶媒；ｎ−ペンタン、シクロヘキサン、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素基を有する有機溶媒であることが好ましい。
【０１２４】
得られたペロブスカイト化合物を含む分散液から、ペロブスカイト化合物を取り出す方法としては、固液分離を行うことでペロブスカイト化合物のみを回収する方法が挙げられる。
前述の固液分離方法は、ろ過などの方法や、溶媒の蒸発を利用した方法などが挙げられる。
【０１２５】
（Ａ、Ｂ、及びＸを構成成分とするペロブスカイト化合物の製造方法の第２実施形態）
ペロブスカイト化合物の製造方法は、
Ｂ成分、Ｘ成分及びＡ成分を高温の溶媒ｚに添加して溶解させ溶液ｈを得る工程と、
得られた溶液ｈを冷却する工程とを含む製造方法であってもよい。
より具体的には、Ｂ成分及びＸ成分を含む化合物と、Ａ成分、又はＡ成分及びＸ成分を含む化合物とを高温の溶媒ｚに添加して溶解させ溶液ｈを得る工程と、  得られた溶液ｈを冷却する工程とを含む製造方法が挙げられる。
Ｂ成分及びＸ成分を含む化合物と、Ａ成分、又はＡ成分及びＸ成分を含む化合物とを高温の溶媒ｚに添加して溶解させ溶液ｈを得る工程は、Ｂ成分及びＸ成分を含む化合物と、Ａ成分、又はＡ成分及びＸ成分を含む化合物とを溶媒ｚに添加後、昇温することで溶液ｈを得る工程であってもよい。
前記製造方法では、温度の差による溶解度の差によって本発明に係るペロブスカイト化合物を析出させ、本発明に係るペロブスカイト化合物を製造することができる。
【０１２６】
前記製造方法は、ペロブスカイト化合物を安定して分散できる観点から、キャッピング配位子を加える工程を含んでいることが好ましい。キャッピング配位子は、前述の冷却する工程の前に溶液ｈに含まれていることが好ましい。
前記製造方法は、前述の冷却する工程のあと、遠心分離、ろ過などの手法により粗大粒子を除去する工程を含んでいることが好ましい。前記除去工程によって除去する粗大粒子のサイズは、好ましくは１０μｍ以上、より好ましくは１μｍ以上、さらに好ましくは５００ｎｍ以上である。
【０１２７】
ここで、高温の溶媒ｚとは、Ｂ成分及びＸ成分を含む化合物と、Ａ成分、又はＡ成分及びＸ成分を含む化合物とが、溶解する温度の溶媒であればよく、例えば、６０〜６００℃の溶媒であることが好ましく、８０〜４００℃の溶媒であることがより好ましい。
冷却する温度としては、−２０〜５０℃であることが好ましく、−１０〜３０℃であることがより好ましい。
冷却速度としては、０．１〜１５００℃／分であることが好ましく、１０〜１５０℃／分であることがより好ましい。
【０１２８】
前記製造方法に用いる溶媒ｚとしては、Ｂ成分及びＸ成分を含む化合物と、Ａ成分、又はＡ成分及びＸ成分を含む化合物とを溶解しうる溶媒であれば、特に限定されるものではないが、例えば、メチルホルメート、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテート、ペンチルアセテート等のエステル；γ−ブチロラクトン、アセトン、ジメチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等のケトン；ジエチルエーテル、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、４−メチルジオキソラン、テトラヒドロフラン、メチルテトラヒドロフラン、アニソール、フェネトール等のエーテル；メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、１−ペンタノール、２−メチル−２−ブタノール、メトキシプロパノール、ジアセトンアルコール、シクロヘキサノール、２−フルオロエタノール、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノール等のアルコール；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールジメチルエーテル等のグリコールエーテル；Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド基を有する有機溶媒；アセトニトリル、イソブチロニトリル、プロピオニトリル、メトキシアセトニトリル等のニトリル基を有する有機溶媒；エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート基を有する有機溶媒；塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化した炭化水素基を有する有機溶媒；ｎ−ペンタン、シクロヘキサン、ｎ−ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素基を有する有機溶媒；ジメチルスルホキシド、１−オクタデセンが挙げられる。
【０１２９】
得られたペロブスカイト化合物を含む分散液から、ペロブスカイト化合物を取り出す方法としては、固液分離を行うことでペロブスカイト化合物のみを回収する方法が挙げられる。
前述の固液分離方法は、ろ過などの方法や、溶媒の蒸発を利用した方法などが挙げられる。
【０１３０】
［シラザンを改質する方法］
シラザンを改質する方法としては、エキシマランプ等による真空紫外線を照射して改質する方法や、水等で加湿処理する方法等の公知の改質方法が挙げられる。中でも加湿処理による改質処理が、より強固な保護層を形成する観点から好ましい。
【０１３１】
紫外線を照射する方法で用いられる紫外線の波長は、通常１０〜４００ｎｍであり、１０〜３５０ｎｍが好ましく、１００〜１８０ｎｍがより好ましい。紫外線を発生させる光源としては、例えば、メタルハライドランプ、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、キセノンアークランプ、カーボンアークランプ、エキシマランプ、ＵＶレーザー光等が挙げられる。
【０１３２】
加湿処理の方法は、水蒸気と、シラザンとを反応させる方法であればよい。
【０１３３】
インク組成物中のシラザンを、加湿処理により改質する場合、例えば、後述する温度、及び湿度条件下で一定の時間、組成物を静置、又は攪拌してもよい。
【０１３４】
インク組成物に含まれるシラザンの分散性を高める観点から、攪拌することが好ましい。
【０１３５】
加湿処理における温度は、十分に改質が進行する温度であればよく、例えば、５〜１５０℃であることが好ましく、１０〜１００℃であることがより好ましく、１５〜８０℃であることがさらに好ましい。
【０１３６】
加湿処理における湿度は、インク組成物中のシラザンに十分に水分が供給される湿度であればよく、例えば３０％〜１００％、好ましくは、４０％〜９５％、より好ましくは６０％〜９０％である。
本明細書において「湿度」とは加湿処理を行う温度における相対湿度を意味する。
【０１３７】
加湿処理に要する時間は、十分に改質が進行する時間であればよく、例えば１０分間以上１週間以下、好ましくは、１時間以上５日間以下、より好ましくは１２時間以上３日間以下である。
【０１３８】
本実施形態において、使用する（２）、（３）の組成式、並びに使用量を適宜調整することによって、前記Ｚを所定の値（０．３７以下）とすることができる。
【０１３９】
＜組成物の製造方法＞
以下、本発明における組成物の製造方法に関し、実施形態を示して説明する。本実施形態の組成物の製造方法によれば、本発明に係る実施形態の組成物を製造可能である。なお、本発明の組成物は、以下の実施形態の組成物の製造方法によって製造されるものに限定されるものではない。
【０１４０】
（１）及び（２）を含む組成物の製造方法としては、（１）及び（２）を混合する工程を含む製造方法であることが好ましい。
また、（１）、（２）及び（３）を含む組成物の製造方法としては、（１）及び（２）を混合する工程と、（１）及び（２）の混合物と、（３）を混合する工程とを含む製造方法であることが好ましい。
上述の製造方法に含まれる混合する工程では、攪拌を行うことが分散性を高める観点から好ましい。
上述の製造方法に含まれる混合する工程において、温度には特に制限は無いが、均一に混合する観点から、０℃以上１００℃以下の範囲であることが好ましく、１０℃以上８０℃以下の範囲であることがより好ましい。
【０１４１】
組成物がさらに（１）−２  キャッピング配位子を含む組成物の製造方法は、上述した製造方法に含まれるいずれかの工程で（１）−２を混合する以外は、（１）及び（２）を含む組成物、又は（１）、（２）及び（３）を含む組成物の製造方法の製造方法と同様の方法とすることができる。
本実施形態においては、（１）の分散性を高める観点から、（１）−２は、上述の（１）成分のＡ、Ｂ、及びＸを構成成分とするペロブスカイト化合物の製造方法に含まれるいずれかの工程で混合されることが好ましい。例えば、下記製造方法（ａ１）又は製造方法（ａ２）により製造することが好ましい。
【０１４２】
製造方法（ａ１）：Ｂ成分及びＸ成分を含む化合物と、Ａ成分、又はＡ成分及びＸ成分を含む化合物と、（２）と、（１）−２とを溶媒ｘに溶解させ、溶液ｇを得る工程と、得られた溶液ｇと、ペロブスカイト化合物の溶媒に対する溶解度が、溶液ｇを得る工程で用いた溶媒ｘ成分よりも低い溶媒ｙとを混合する工程とを含む製造方法。
【０１４３】
製造方法（ａ２）：Ｂ成分及びＸ成分を含む化合物と、Ａ成分、又はＡ成分及びＸ成分を含む化合物と、（２）と、（１）−２と、高温の溶媒ｚと混合することでｚに（１）、（２）及び（１）−２を溶解させ溶液ｈを得る工程と、得られた溶液ｈを冷却する工程とを含む製造方法。
【０１４４】
組成物がさらに（１）−３  表面被覆材を含む組成物の製造方法は、上述した製造方法に含まれるいずれかの工程で（１）−３を混合する以外は、（１）及び（２）を含む組成物、又は（１）、（２）及び（３）を含む組成物の製造方法の製造方法と同様の方法とすることができる。
＜フィルム＞
【０１４５】
本実施形態のインク組成物は、インクとして使用することができる。具体的には、本実施形態のインク組成物を用いてフィルムを得ることができる。
例えば、グラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、インクジェット法等公知の方法を用いて、本実施形態のインク組成物を基板に塗布して、硬化処理することでフィルムを形成することができる。塗布量はウェット膜厚として０．１〜５００μｍが適当で、好ましくは、０．５〜３００μｍである。また、ドライ膜厚としては平均膜厚０．１〜２００μｍ、好ましくは２０〜１５０μｍである。 
【０１４６】
本発明に係るフィルムは、前記（１）及び（２）を含むインク組成物を塗布したのち硬化して得られる樹脂組成物フィルムである。
例えば、本実施形態のインク組成物であって、インク組成物の総質量を１００質量％として、前記（３）の含有割合が３０質量％以下であり、前記（１）、（２）及び（３）の合計の含有割合が７０質量％以上であるインク組成物からなるフィルムである。
本発明の一つの側面は、インク組成物の総質量を１００質量％として、前記（３）の含有割合が２５質量％以下であり、前記（１）、（２）及び（３）の合計の含有割合が７０質量％以上であるインク組成物からなるフィルムである。
【０１４７】
フィルムの形状は特に限定されるものではなく、シート状、バー状等の任意の形状であることができる。本明細書において、「バー状の形状」とは、例えば、異方性を有する形状を意味する。異方性を有する形状としては、各辺の長さが異なる板状の形状が例示される。
フィルムの厚みは、０．０１μｍ〜１０００ｍｍであってもよく、０．１μｍ〜１０ｍｍであってもよく、１μｍ〜１ｍｍであってもよい。
本明細書において、前記フィルムの厚さは、マイクロメータにより任意の３点おいて測定し、その平均値を算出することにより得ることができる。
【０１４８】
フィルムは、単層であってもよく、複層であってもよい。複層の場合、各層は同一の種類の実施形態の組成物が用いられていてもよく、互いに異なる種類の実施形態の組成物が用いられていてもよい。
【０１４９】
フィルムは、例えば、後述の積層構造体の製造方法（ｉ）〜（ｉｉｉ）により、基板上に形成されたフィルムを得ることもできる。また、フィルムは基板から剥がして得ることができる。
【０１５０】
＜積層構造体＞
本発明に係る積層構造体は、複数の層を有し、少なくとも一層が、上述のフィルムである。
【０１５１】
積層構造体が有する複数の層のうち、上述のフィルム以外の層としては、基板、バリア層、光散乱層等の任意の層が挙げられる。
積層されるフィルムの形状は特に限定されるものではなく、シート状、バー状等の任意の形状であることができる。
【０１５２】
（基板）
本発明に係る積層構造体が有していてもよい層としては、特に制限は無いが、基板が挙げられる。
基板は、特に制限はないが、フィルムであってもよく、発光した光を取り出す観点から、透明なものが好ましい。基板としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートなどのポリマーや、ガラスなどの公知の基材を用いることができる。
例えば、積層構造体において、上述のフィルムを、基板上に設けていてもよい。
【０１５３】
図１は、本実施形態の積層構造体の構成を模式的に示す断面図である。第１の積層構造体１ａは、第１の基板２０及び第２の基板２１の間に、本実施形態のフィルム１０が設けられている。フィルム１０は、封止層２２によって封止されている。
本発明の一つの側面は、第１の基板２０と、第２の基板２１と、第１の基板２０と第２の基板２１との間に位置する本実施形態に係るフィルム１０と、封止層２２と、を有する積層構造体であって、前記封止層が、前記フィルム１０の前記第１の基板２０、及び第２の基板２１と接していない面上に配置されることを特徴とする積層構造体１ａである。
【０１５４】
（バリア層）
本発明に係る積層構造体が有していてもよい層としては、特に制限は無いが、バリア層が挙げられる。外気の水蒸気、及び大気中の空気から前述の組成物を保護する観点から、バリア層を含んでいても良い。
バリア層は、特に制限は無いが、発光した光を取り出す観点から、透明なバリア層が好ましい。バリア層としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートなどのポリマーや、ガラス膜などの公知のバリア層を用いることができる。
【０１５５】
（光散乱層）
本発明に係る積層構造体が有していてもよい層としては、特に制限は無いが、光散乱層が挙げられる。入射した光を有効に利用する観点から、光散乱層を含んでいてもよい。
光散乱層は、特に制限は無いが、発光した光を取り出す観点から、透明なものが好ましい。光散乱層としては、シリカ粒子などの光散乱粒子や、増幅拡散フィルムなどの公知の光散乱層を用いることができる。
【０１５６】
＜発光装置＞
本発明に係る発光装置は、本発明の実施形態のフィルム又は積層構造体と、光源とを合せることで得ることができる。発光装置は、光源から発光した光を、後段に設置したフィルム又は積層構造体に照射することで、組成物又は積層構造体を発光させ、光を取り出す装置である。前記発光装置における積層構造体が有する複数の層のうち、上述のフィルム、基板、バリア層、光散乱層以外の層としては、光反射部材、輝度強化部、プリズムシート、導光板、要素間の媒体材料層等の任意の層が挙げられる。
本発明の一つの側面は、プリズムシート５０と、導光板６０と、前記第１の積層構造体１ａと、光源３０と、がこの順に積層された発光装置２である。
【０１５７】
（光源）
本発明に係る発光装置を構成する光源は、特に制限は無いが、前述のフィルム、又は積層構造体中のペロブスカイト化合物を含む半導体ナノ粒子を発光させるという観点から、６００ｎｍ以下の発光波長を有する光源が好ましい。光源としては、例えば、青色発光ダイオードなどの発光ダイオード（ＬＥＤ）、レーザー、ＥＬなどの公知の光源を用いることができる。
【０１５８】
（光反射部材）
本発明に係る発光装置を構成する積層構造体が有していてもよい層としては、特に制限は無いが、光反射部材が挙げられる。光源の光を前記の組成物、又は積層構造体に向かって照射する観点から、光反射部材を含んでいても良い。光反射部材は、特に制限は無いが、反射フィルムであっても良い。
反射フィルムとしては、例えば、反射鏡、反射粒子のフィルム、反射金属フィルムや反射体などの公知の反射フィルムを用いることができる。
【０１５９】
（輝度強化部）
本発明に係る発光装置を構成する積層構造体が有していてもよい層としては、特に制限は無いが、輝度強化部が挙げられる。光の一部分を、光が伝送された方向に向かって反射して戻す観点から、輝度強化部を含んでいても良い。
【０１６０】
（プリズムシート）
本発明に係る発光装置を構成する積層構造体が有していてもよい層としては、特に制限は無いが、プリズムシートが挙げられる。プリズムシートは、代表的には、基材部とプリズム部とを有する。なお、基材部は、隣接する部材に応じて省略してもよい。プリズムシートは、任意の適切な接着層（例えば、接着剤層、粘着剤層）を介して隣接する部材に貼り合わせることができる。プリズムシートは、視認側とは反対側（背面側）に凸となる複数の単位プリズムが並列されて構成されている。プリズムシートの凸部を背面側に向けて配置することにより、プリズムシートを透過する光が集光されやすくなる。また、プリズムシートの凸部を背面側に向けて配置すれば、凸部を視認側に向けて配置する場合と比較して、プリズムシートに入射せずに反射する光が少なく、輝度の高いディスプレイを得ることができる。
【０１６１】
（導光板）
本発明に係る発光装置を構成する積層構造体が有していてもよい層としては、特に制限は無いが、導光板が挙げられる。導光板としては、例えば、横方向からの光を厚さ方向に偏向可能となるよう、背面側にレンズパターンが形成された導光板、背面側及び／又は視認側にプリズム形状等が形成された導光板などの任意の適切な導光板が用いることができる。
【０１６２】
（要素間の媒体材料層）
本発明に係る発光装置を構成する積層構造体が有していてもよい層としては、特に制限は無いが、隣接する要素（層）間の光路上に１つ以上の媒体材料からなる層（要素間の媒体材料層）が挙げられる。
要素間の媒体材料層に含まれる１つ以上の媒体には、特に制限は無いが、真空、空気、ガス、光学材料、接着剤、光学接着剤、ガラス、ポリマー、固体、液体、ゲル、硬化材料、光学結合材料、屈折率整合又は屈折率不整合材料、屈折率勾配材料、クラッディング又は抗クラッディング材料、スペーサー、シリカゲル、輝度強化材料、散乱又は拡散材料、反射又は抗反射材料、波長選択性材料、波長選択性抗反射材料、色フィルター、又は前記技術分野で既知の好適な媒体、が含まれる。
【０１６３】
本発明に係る発光装置の具体例としては、例えば、ＥＬディスプレイや液晶ディスプレイ用の波長変換材料を備えたものが挙げられる。
具体的には、
（Ｅ１）本発明の組成物をガラスチューブ等の中に入れて封止し、これを導光板の端面（側面）に沿うように、光源である青色発光ダイオードと導光板の間に配置して、青色光を緑色光や赤色光に変換するバックライト（オンエッジ方式のバックライト）、
（Ｅ２）本発明の組成物をシート化し、これを２枚のバリアーフィルムで挟んで封止したフィルムを、導光板の上に設置して、導光板の端面（側面）に置かれた青色発光ダイオードから導光板を通して前記シートに照射される青色の光を緑色光や赤色光に変換するバックライト（表面実装方式のバックライト）、
（Ｅ３）本発明の組成物を、樹脂等に分散させて青色発光ダイオードの発光部近傍に設置し、照射される青色の光を緑色光や赤色光に変換するバックライト（オンチップ方式のバックライト）、及び
（Ｅ４）本発明の組成物を、レジスト中に分散させて、カラーフィルター上に設置し、光源から照射される青色の光を緑色光や赤色光に変換するバックライト
が挙げられる。
【０１６４】
また、本発明に係る発光装置の具体例としては、本発明の実施形態の組成物を成形し、光源である青色発光ダイオードの後段に配置して、青色光を緑色光や赤色光に変換して白色光を発する照明が挙げられる。
【０１６５】
＜ディスプレイ＞
図２に示すように、本実施形態のディスプレイ３は、液晶パネル４０と、前述の発光装置２とを視認側からこの順に備える。発光装置２は、第２の積層構造体１ｂと光源３０とを備える。第２の積層構造体１ｂは、前述の第１の積層構造体１ａに加え、プリズムシート５０と、導光板６０と、をさらに備えたものである。ディスプレイは、任意の適切なその他の部材をさらに備えていてもよい。
本発明の一つの側面は、液晶パネル４０と、プリズムシート５０と、導光板６０と、前記第１の積層構造体１ａと、光源３０と、がこの順に積層された液晶ディスプレイ３である。
【０１６６】
（液晶パネル）
上記液晶パネルは、代表的には、液晶セルと、前記液晶セルの視認側に配置された視認側偏光板と、前記液晶セルの背面側に配置された背面側偏光板とを備える。視認側偏光板及び背面側偏光板は、それぞれの吸収軸が実質的に直交又は平行となるようにして配置され得る。
【０１６７】
（液晶セル）
液晶セルは、一対の基板と、前記基板間に挟持された表示媒体としての液晶層とを有する。一般的な構成においては、一方の基板に、カラーフィルター及びブラックマトリクスが設けられており、他方の基板に、液晶の電気光学特性を制御するスイッチング素子と、このスイッチング素子にゲート信号を与える走査線及びソース信号を与える信号線と、画素電極及び対向電極とが設けられている。上記基板の間隔（セルギャップ）は、スペーサー等によって制御できる。上記基板の液晶層と接する側には、例えば、ポリイミドからなる配向膜等を設けることができる。
【０１６８】
（偏光板）
偏光板は、代表的には、偏光子と、偏光子の両側に配置された保護層とを有する。偏光子は、代表的には、吸収型偏光子である。
上記偏光子としては、任意の適切な偏光子が用いられる。例えば、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質を吸着させて一軸延伸したもの、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等ポリエン系配向フィルム等が挙げられる。これらの中でも、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素などの二色性物質を吸着させて一軸延伸した偏光子が、偏光二色比が高く、特に好ましい。
【０１６９】
本発明のインク組成物の用途としては、例えば、発光ダイオード（ＬＥＤ）用の波長変換材料が挙げられる。
＜ＬＥＤ＞
本発明のインク組成物は、例えば、ＬＥＤの発光層の材料として用いることができる。
本発明のインク組成物を含むＬＥＤとしては、例えば、本発明のインク組成物とＺｎＳなどの導電性粒子を混合して膜状に積層し、片面にｎ型輸送層を積層し、もう片面にｐ型輸送層を積層した構造をしており、電流を流すことで、ｐ型半導体の正孔と、ｎ型半導体の電子が接合面の組成物に含まれる（１）及び（２）の粒子中で電荷を打ち消すことで発光する方式が挙げられる。
【０１７０】
＜太陽電池＞
本発明の組成物は、太陽電池の活性層に含まれる電子輸送性材料として利用することができる。
前記太陽電池としては、構成は特に限定されないが、例えば、フッ素ドープされた酸化スズ（ＦＴＯ）基板、酸化チタン緻密層、多孔質酸化アルミニウム層、本発明の組成物を含む活性層、２，２’，７，７’−ｔｅｔｒａｋｉｓ（Ｎ，Ｎ’−ｄｉ−ｐ−ｍｅｔｈｏｘｙｐｈｅｎｙｌａｍｉｎｅ）−９，９’−ｓｐｉｒｏｂｉｆｌｕｏｒｅｎｅ（Ｓｐｉｒｏ−ＭｅＯＴＡＤ）などのホール輸送層、及び、銀（Ａｇ）電極をこの順で有する太陽電池が挙げられる。
酸化チタン緻密層は、電子輸送の機能、ＦＴＯのラフネスを抑える効果、及び、逆電子移動を抑制する機能を有する。
多孔質酸化アルミニウム層は、光吸収効率を向上させる機能を有する。
活性層に含まれる、本発明の組成物は、電荷分離及び電子輸送の機能を有する。
【０１７１】
＜積層構造体の製造方法＞
積層構造体の製造方法としては、
（ｉ）インク組成物が（３）を含む場合は、本発明のインク組成物を基板上に塗工する工程と、溶媒を除去する工程と、硬化性樹脂組成物を硬化させる工程と、を含む方法であってもよく、
（ｉｉ）インク組成物が（３）を含まない場合は、本発明のインク組成物を基板上に塗工する工程と、硬化性樹脂組成物を硬化させる工程と、を含む方法であっても良い。
（ｉｉｉ）本発明のインク組成物からなるフィルムを基板に張り合わせる工程であっても良い。
【０１７２】
（ｉ）、（ｉｉ）の製造方法に含まれる、基板上に塗工する工程は、特に制限は無いが、グラビア塗布法、バー塗布法、印刷法、スプレー法、スピンコーティング法、ディップ法、ダイコート法などの、公知の塗布、塗工方法を用いることができる。
【０１７３】
（ｉｉｉ）の製造方法に含まれる、基板に張り合わせる工程では、任意の接着剤を用いることができる。
接着剤は、（１）、及び（２）の化合物を溶解しない物であれば特に制限は無く、公知の接着剤を用いることができる。
【０１７４】
積層構造体の製造方法は、（ｉ）〜（ｉｉｉ）で得られた積層構造体に、さらに、任意のフィルムを張り合わせる工程を含んでいてもよい。
張り合わせる任意のフィルムとしては、例えば、反射フィルム、拡散フィルムが挙げられる。
フィルムを張り合わせる工程では、任意の接着剤を用いることができる。
上述の接着剤は、（１）、及び（２）の化合物を溶解しない物であれば特に制限は無く、公知の接着剤を用いることができる。
【０１７５】
＜発光装置の製造方法＞
例えば、前述の光源と、光源から後段の光路上に前述の組成物、又は積層構造体を設置する工程とを含む製造方法が挙げられる。
【０１７６】
なお、本発明の技術範囲は上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
【実施例】
【０１７７】
以下、実施例及び比較例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。【０１７８】
＜＜発光強度の測定＞＞
本発明のインク組成物の発光強度は、絶対ＰＬ量子収率測定装置（浜松ホトニクス株式会社製、Ｃ９９２０−０２）を用いて、励起光４５０ｎｍ、室温、大気下で測定した。励起光の強度は５×１０７であった。【０１７９】
＜＜硬化性試験＞＞
本実施形態のインク組成物の耐溶剤性は、以下の硬化性試験により評価することができる。
１インチ×１インチ、厚さ０．７ｍｍのガラス基板にＵＶオゾン処理を１５分間行った。ガラス基板に実施例１〜６、比較例４のインク組成物をドロップキャストした。
次に、ドロップキャストしたガラス基板の両脇に２６ｍｍ×７６ｍｍ、厚さ１ｍｍのスライドガラスを４枚積み上げた構造物を配置した。
次に、構造物を土台として、構造物上に５０ｍｍ×２０ｍｍ×厚さ０．３５ｍｍのアルミニウム板を橋渡す形で配置した。この際、ドロップキャストした面の半分はアルミニウム板の影になるように、残りの半分はアルミニウム板の影にならないように設置した。これにより、ガラス基板の半面側に紫外線が照射され、もう半面には紫外線が照射されない。
次に、上方から紫外光照射装置（ウシオライティング社製  スポットキュアＳＰ−９）を用いて紫外光を照射した。紫外光照射した後、ガラス基板ごとトルエン液（和光純薬）に浸漬した。浸漬した後は、ガラス基板を取り出し、トルエンを揮発させた。耐溶剤性の判断は、トルエン液の浸漬後に硬化物が保持しているかどうかで判断し、目視で行った。【０１８０】
［実施例１］
炭酸セシウム０．８１４ｇと、１−オクタデセンの溶媒４０ｍＬと、オレイン酸２．５ｍＬとを混合した。マグネチックスターラーで攪拌して、窒素を流しながら１５０℃で１時間加熱して炭酸セシウム溶液を調製した。
臭化鉛（ＰｂＢｒ２）０．２７６ｇを１−オクタデセンの溶媒２０ｍＬと混合した。マグネチックスターラーで攪拌して窒素を流しながら１２０℃の温度で１時間加熱した後、オレイン酸２ｍＬ、及びオレイルアミン２ｍＬを添加して臭化鉛分散液を調整した。
臭化鉛分散液を１６０℃の温度に昇温した後、上述の炭酸セシウム溶液を１．６ｍＬ添加した。添加後、反応容器を氷水に漬けることで、室温まで降温し、分散液を得た。
次いで、分散液を１００００ｒｐｍ、５分間遠心分離し、沈殿物としてペロブスカイト化合物を得た。
前記ペロブスカイト化合物のＸ線回折パターンをＸ線回折測定装置（ＸＲＤ、Ｃｕ Ｋα線、Ｘ’ｐｅｒｔ ＰＲＯ ＭＰＤ、スペクトリス社製）で測定した所、２θ＝１４°の位置に(ｈｋｌ)＝（００１）由来のピークを有しており、３次元のペロブスカイト型結晶構造を有していることを確認した。
ＴＥＭ（日本電子株式会社製、ＪＥＭ−２２００ＦＳ）で２０個のペロブスカイト化合物のフェレー径を観察した結果、ペロブスカイト化合物の平均のフェレー径（平均粒子径）は１１ｎｍであった。
得られたペロブスカイト化合物をトルエン５ｍＬに分散させ、ペロブスカイト化合物及び溶媒を含む分散液を得た。
ペロブスカイト化合物及び溶媒を含む分散液０．２９ｍＬを、１００００ｒｐｍ、１０分間遠心分離し、沈殿物を得た。
沈殿物にラウリルメタクリレート（純正化学）２．６４ｍＬを添加し、攪拌してラウリルメタクリレート分散液を得た。次いで、ラウリルメタクリレート分散液にトリメチロールプロパントリメチロールプロパントリメタクリラート（ＴＭＰＴＭ）０．３２ｍＬと、光開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９を９．０ｍｇ、Ｉｒｇａｃｕｒｅ６５１を１８．３ｍｇ）とを加えることで、インク組成物を得た。
インク組成物において、前記式（ａ）におけるＺの値は０．１５であった。
得られたインク組成物をマグネチックスターラーで１５分間攪拌した。
次いで、発光強度を測定した。発光強度は、４．５×１０６であった。【０１８１】
さらに、前記インク組成物をガラス基板上へドロップキャストし、キャストされたガラス基板の半分の面積に対し紫外光を照射した。照射条件は、照度１０ｍＷ／ｃｍ２、照射時間９０秒間とした。紫外光照射部分は硬化し、紫外光未照射部はトルエンリンスで除去された。【０１８２】
［実施例２］
実施例１と同様に、ペロブスカイト化合物及び溶媒を含む分散液を得た。
ペロブスカイト化合物及び溶媒を含む分散液０．５２ｍＬを、１００００ｒｐｍ、１０分間遠心分離し、沈殿物を得た。
沈殿物に、ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート（東京化成）２．６４ｍＬを添加し、攪拌してｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート分散液を得た。次いで、ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート分散液にＴＭＰＴＭ０．５８ｍＬと、光開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９を１６．３ｍｇ、Ｉｒｇａｃｕｒｅ６５１を３２．３ｍｇ）とを加えることでインク組成物を得た。
インク組成物において、前記式（ａ）におけるＺの値は０．２６であった。
得られたインク組成物をマグネチックスターラーで１５分間攪拌した。
次いで、発光強度を測定した。発光強度は、３．８×１０６であった。【０１８３】
さらに、前記インク組成物をガラス基板上へドロップキャストし、キャストされたガラス基板の半分の面積に対し紫外光を照射した。照射条件は、照度１０ｍＷ／ｃｍ２、照射時間９０秒間とした。紫外光照射部分は硬化し、紫外光未照射部はトルエンリンスで除去された。【０１８４】
［実施例３］
実施例１と同様に、ペロブスカイト化合物及び溶媒を含む分散液を得た。
ペロブスカイト化合物及び溶媒を含む分散液０．６２ｍＬを、１００００ｒｐｍ、１０分間遠心分離し、沈殿物を得た。
沈殿物に、アリルメタクリレート（東京化成）２．６４ｍＬを添加し、攪拌してアリルメタクリレート分散液を得た。次いで、アリルメタクリレート分散液にＴＭＰＴＭ０．６９ｍＬと、光開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９を１９．１ｍｇ、Ｉｒｇａｃｕｒｅ６５１を３８．９ｍｇ）とを加えることでインク組成物を得た。
インク組成物において、前記式（ａ）におけるＺの値は０．２９であった。
得られたインク組成物をマグネチックスターラーで１５分間攪拌した。
次いで、発光強度を測定した。発光強度は、３．５×１０６であった。【０１８５】
さらに、前記インク組成物をガラス基板上へドロップキャストし、ガラス基板の半分の面積に対しだけ紫外光を照射した。照射条件は、照度１０ｍＷ／ｃｍ２、照射時間１２０秒間の条件とした。紫外光照射部分は硬化し、紫外光未照射部はトルエンリンスで除去された。【０１８６】
［実施例４］
実施例１と同様に、ペロブスカイト化合物及び溶媒を含む分散液を得た。
ペロブスカイト化合物及び溶媒を含む分散液０．７１ｍＬを、１００００ｒｐｍ、１０分間遠心分離し、沈殿物を得た。
沈殿物に、ビニルメタクリレート（東京化成）２．６４ｍＬを添加し、攪拌してビニルメタクリレート分散液を得た。次いで、ビニルメタクリレート分散液にＴＭＰＴＭ０．７１ｍＬと、光開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９を２１．９ｍｇ、Ｉｒｇａｃｕｒｅ６５１を４４．０ｍｇ）とを加えることでインク組成物を得た。
インク組成物において、前記式（ａ）におけるＺの値は０．３３であった。
得られたインク組成物をマグネチックスターラーで１５分間攪拌した。
次いで、発光強度を測定した。発光強度は、３．３×１０６であった。【０１８７】
さらに、前記インク組成物をガラス基板上へドロップキャストし、キャストされたガラス基板の半分の面積に対し紫外光を照射した。照射条件は、照度１０ｍＷ／ｃｍ２、照射時間１８０秒間の条件とした。紫外光照射部分は硬化し、紫外光未照射部はトルエンリンスで除去された。【０１８８】
［実施例５］
炭酸セシウム０．８１４ｇと、１−オクタデセンの溶媒４０ｍＬと、オレイン酸２．５ｍＬとを混合した。マグネチックスターラーで攪拌して、窒素を流しながら１５０℃で１時間加熱して炭酸セシウム溶液を調製した。
臭化鉛（ＰｂＢｒ２）０．２７６ｇを１−オクタデセンの溶媒２０ｍＬと混合した。マグネチックスターラーで攪拌して窒素を流しながら１２０℃の温度で１時間加熱した後、オレイン酸２ｍＬ、及びオレイルアミン２ｍＬを添加して臭化鉛分散液を調整した。
臭化鉛分散液を１６０℃の温度に昇温した後、上述の炭酸セシウム溶液を１．６ｍＬ添加した。添加後、反応容器を氷水に漬けることで、室温まで降温し、分散液を得た。
次いで、分散液を１００００ｒｐｍ、を５分間遠心分離し、沈殿物としてペロブスカイト化合物を得た。
前記ペロブスカイト化合物のＸ線回折パターンをＸ線回折測定装置（ＸＲＤ、Ｃｕ Ｋα線、Ｘ’ｐｅｒｔ ＰＲＯ ＭＰＤ、スペクトリス社製）で測定した所、２θ＝１４°の位置に(ｈｋｌ)＝（００１）由来のピークを有しており、３次元のペロブスカイト型結晶構造を有していることを確認した。
ＴＥＭ（日本電子株式会社製、ＪＥＭ−２２００ＦＳ）で２０個のペロブスカイト化合物のフェレー径を観察した結果、ペロブスカイト化合物の平均のフェレー径（平均粒子径）は１１ｎｍであった。
得られたペロブスカイト化合物をトルエン５ｍＬに分散させ、ペロブスカイト化合物及び溶媒を含む分散液を得た。【０１８９】
次いで、ペロブスカイト化合物及び溶媒を含む分散液３ｍＬに、オルガノポリシラザン（Ｄｕｒａｚａｎｅ  １５００  Ｓｌｏｗ  Ｃｕｒｅ、メルクパフォーマンスマテリアルズ株式会社製）を６００μＬ混合した。
ペロブスカイト化合物及び溶媒を含む分散液を２５℃、８０％の湿度条件で、スターラーで攪拌しながら、１日間改質処理した。【０１９０】
上述の改質処理した分散液０．２９ｍＬを、１００００ｒｐｍ、１０分間遠心分離し、沈殿物を得た。
沈殿物にラウリルメタクリレート（純正化学）２．６４ｍＬを添加し、攪拌してラウリルメタクリレート分散液を得た。次いで、ラウリルメタクリレート分散液にＴＭＰＴＭ０．３２ｍＬと、光開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９を８．８ｍｇ、Ｉｒｇａｃｕｒｅ６５１を１７．７ｍｇ）とを加えることでインク組成物を得た。
インク組成物において、前記式（ａ）におけるＺの値は０．１５であった。
得られたインク組成物をマグネチックスターラーで１５分間攪拌した。
次いで、発光強度を測定した。発光強度は、４．５×１０６であった。【０１９１】
さらに、前記混合分散液をガラス基板上へドロップキャストし、キャストされたガラス基板の半分の面積に対し紫外光を照射した。照射条件は、照度１０ｍＷ／ｃｍ２、照射時間９０秒間とした。紫外光照射部分は硬化し、紫外光未照射部はトルエンリンスで除去された。【０１９２】
［比較例１］
炭酸セシウム０．８１４ｇと、１−オクタデセンの溶媒４０ｍＬと、オレイン酸２．５ｍＬとを混合した。マグネチックスターラーで攪拌して、窒素を流しながら１５０℃で１時間加熱して炭酸セシウム溶液を調製した。
臭化鉛（ＰｂＢｒ２）０．２７６ｇを１−オクタデセンの溶媒２０ｍＬと混合した。マグネチックスターラーで攪拌して窒素を流しながら１２０℃の温度で１時間加熱した後、オレイン酸２ｍＬ、及びオレイルアミン２ｍＬを添加して臭化鉛分散液を調整した。
臭化鉛分散液を１６０℃の温度に昇温した後、上述の炭酸セシウム溶液を１．６ｍＬ添加した。添加後、反応容器を氷水に漬けることで、室温まで降温し、分散液を得た。
次いで、分散液を１００００ｒｐｍ、を５分間遠心分離し、沈殿物としてペロブスカイト化合物を得た。
前記ペロブスカイト化合物のＸ線回折パターンをＸ線回折測定装置（ＸＲＤ、Ｃｕ Ｋα線、Ｘ’ｐｅｒｔ ＰＲＯ ＭＰＤ、スペクトリス社製）で測定した所、２θ＝１４°の位置に(ｈｋｌ)＝（００１）由来のピークを有しており、３次元のペロブスカイト型結晶構造を有していることを確認した。
ＴＥＭ（日本電子株式会社製、ＪＥＭ−２２００ＦＳ）で２０個のペロブスカイト化合物のフェレー径を観察した結果、ペロブスカイト化合物の平均のフェレー径（平均粒子径）は１１ｎｍであった。
得られたペロブスカイト化合物をトルエン５ｍＬに分散させ、ペロブスカイト化合物及び溶媒を含む分散液を得た。
ペロブスカイト化合物及び溶媒を含む分散液０．８０ｍＬを、１００００ｒｐｍ、１０分間遠心分離し、沈殿物を得た。
沈殿物にメチルメタクリレート（東京化成）２．６４ｍＬを添加し、攪拌してメチルメタクリレート分散液を得た。次いで、メチルメタクリレート分散液にＴＭＰＴＭ０．８８ｍＬと、光開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９を２４．７ｍｇ、Ｉｒｇａｃｕｒｅ６５１を４９．４ｍｇ）とを加え、インク組成物を得た。
インク組成物において、前記式（ａ）におけるＺの値は０．３８であった。
得られたインク組成物をマグネチックスターラーで１５分間攪拌した。
次いで、発光強度を測定した。発光強度は、２．５×１０５であった。【０１９３】
［比較例２］
比較例１と同様に、ペロブスカイト化合物及び溶媒を含む分散液を得た。
ペロブスカイト化合物及び溶媒を含む分散液０．４５ｍＬを、１００００ｒｐｍ、１０分間遠心分離し、沈殿物を得た。
沈殿物に、エチレングリコールジメタクリレート（東京化成）２．６４ｍＬを添加し、攪拌してエチレングリコールジメタクリレート分散液を得た。次いで、エチレングリコールジメタクリレート分散液にＴＭＰＴＭを０．５０ｍＬと、光開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９を１３．９ｍｇ、Ｉｒｇａｃｕｒｅ６５１を２７．７ｍｇ）とを加えることでインク組成物を得た。
インク組成物において、前記式（ａ）におけるＺの値は０．３９であった。
得られたインク組成物をマグネチックスターラーで１５分間攪拌した。
次いで、発光強度を測定した。発光強度は、１．０×１０５であった。【０１９４】
［比較例３］
比較例１と同様に、ペロブスカイト化合物及び溶媒を含む分散液を得た。
ペロブスカイト化合物及び溶媒を含む分散液０．６１ｍＬを、１００００ｒｐｍ、１０分間遠心分離し、沈殿物を得た。
沈殿物に、カレンズＭＯＩ（化学名：２−イソシアナトエチルメタクリレート）（昭和電工）２．６４ｍＬを添加し、攪拌してカレンズＭＯＩ分散液を得た。次いで、カレンズＭＯＩ分散液にＴＭＰＴＭ０．６３ｍＬと、光開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９を１８．７ｍｇ、Ｉｒｇａｃｕｒｅ６５１を３７．０ｍｇ）とを加えることでインク組成物を得た。
インク組成物において、前記式（ａ）におけるＺの値は０．５６であった。
得られたインク組成物をマグネチックスターラーで１５分間攪拌した。
次いで、発光強度を測定した。発光強度は、７．４×１０５であった。【０１９５】
［比較例４］
炭酸セシウム０．８１４ｇと、１−オクタデセンの溶媒４０ｍＬと、オレイン酸２．５ｍＬとを混合した。マグネチックスターラーで攪拌して、窒素を流しながら１５０℃で１時間加熱して炭酸セシウム溶液を調製した。
臭化鉛（ＰｂＢｒ２）０．２７６ｇを１−オクタデセンの溶媒２０ｍＬと混合した。マグネチックスターラーで攪拌して窒素を流しながら１２０℃の温度で１時間加熱した後、オレイン酸２ｍＬ、及びオレイルアミン２ｍＬを添加して臭化鉛分散液を調整した。
臭化鉛分散液を１６０℃の温度に昇温した後、上述の炭酸セシウム溶液を１．６ｍＬ添加した。添加後、反応容器を氷水に漬けることで、室温まで降温し、分散液を得た。
次いで、分散液を１００００ｒｐｍ、５分間遠心分離し、沈殿物としてペロブスカイト化合物を得た。
前記ペロブスカイト化合物のＸ線回折パターンをＸ線回折測定装置（ＸＲＤ、Ｃｕ Ｋα線、Ｘ’ｐｅｒｔ ＰＲＯ ＭＰＤ、スペクトリス社製）で測定した所、２θ＝１４°の位置に(ｈｋｌ)＝（００１）由来のピークを有しており、３次元のペロブスカイト型結晶構造を有していることを確認した。
ＴＥＭ（日本電子株式会社製、ＪＥＭ−２２００ＦＳ）で２０個のペロブスカイト化合物のフェレー径を観察した結果、ペロブスカイト化合物の平均のフェレー径（平均粒子径）は１１ｎｍであった。
得られたペロブスカイト化合物をトルエン５ｍＬに分散させ、ペロブスカイト化合物及び溶媒を含む分散液を得た。【０１９６】
上述の分散液５００μＬを分取して、トルエン４．５ｍＬに再分散させることで、ペロブスカイト化合物及び溶媒を含む分散液を得た。
次いで、メタクリル樹脂（ＰＭＭＡ、住友化学社製、スミペックス・メタクリル樹脂、ＭＨ、分子量約１２万、比重１．２ｇ／ｍＬ）がメタクリル樹脂とトルエンの総質量に対して１６．５質量％となるように、メタクリル樹脂と、トルエンとを混合した後、６０℃、３時間加熱して、重合体が溶解した溶液を得た。
上記のペロブスカイト化合物及び溶媒を含む分散液０．１ｍＬと、上記の重合体が溶解した溶液５．８３ｍＬ（トルエン５．１０ｍｌ、ＰＭＭＡ０．７３ｍｌ）とを混合し、ＰＭＭＡ−トルエン分散液（インク組成物）を得た。
インク組成物において、前記式（ａ）におけるＺの値は０．０５あった。【０１９７】
前記混合分散液をガラス基板上へドロップキャストし、キャストされたガラス基板の半分の面積に対し紫外光を照射した。照射条件は、照度１０ｍＷ／ｃｍ２、照射時間３００秒間とした。紫外光照射部分は硬化せず、紫外光未照射部と紫外光照射部の両方ともトルエンのリンスで除去された。【０１９８】
［実施例６］
炭酸セシウム０．８１４ｇと、１−オクタデセンの溶媒４０ｍＬと、オレイン酸２．５ｍＬとを混合した。マグネチックスターラーで攪拌して、窒素を流しながら１５０℃で１時間加熱して炭酸セシウム溶液を調製した。
臭化鉛（ＰｂＢｒ２）０．２７６ｇを１−オクタデセンの溶媒２０ｍＬと混合した。マグネチックスターラーで攪拌して窒素を流しながら１２０℃の温度で１時間加熱した後、オレイン酸２ｍＬ、及びオレイルアミン２ｍＬを添加して臭化鉛分散液を調整した。
臭化鉛分散液を１６０℃の温度に昇温した後、上述の炭酸セシウム溶液を１．６ｍＬ添加した。添加後、反応容器を氷水に漬けることで、室温まで降温し、分散液を得た。
次いで、分散液を１００００ｒｐｍ、５分間遠心分離し、沈殿物としてペロブスカイト化合物及び溶媒を含む分散液を得た。【０１９９】
ペロブスカイト化合物及び溶媒を含む分散液０．２９ｍＬを、１００００ｒｐｍ、１０分間遠心分離し、沈殿物を分離することで、沈殿物を得た。
沈殿物にラウリルメタクリレート（純正化学）２．１０ｍＬを添加し、攪拌してラウリルメタクリレート分散液を得た。次いで、ラウリルメタクリレート分散液にＴＭＰＴＭ０．２５ｍＬと、光開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９を７．０ｍｇ、Ｉｒｇａｃｕｒｅ６５１を１４．１ｍｇ）とを加え、更にトルエンを０．６１ｍＬ加えることで、溶媒であるトルエンの含有割合が２０質量％のインク組成物を得た。
インク組成物において、前記式（ａ）におけるＺの値は０．１９であった。
得られたインク組成物をマグネチックスターラーで１５分間攪拌した。
次いで、発光強度を測定した。発光強度は、４．４×１０６であった。【０２００】
さらに、前記インク組成物をガラス基板上へドロップキャストし、ガラス基板の半分の面積に対し紫外光を照射した。照射条件は、照度１０ｍＷ／ｃｍ２、照射時間９０秒間とした。紫外光照射部分は硬化し、紫外光未照射部はトルエンリンスで除去された。【０２０１】
【表１】
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【産業上の利用可能性】
【０２０２】
本発明によれば、発光特性が高く、良好な耐溶剤性を有するインク組成物、前記組成物からなるフィルム及び前記組成物を用いたディスプレイを提供することが可能となる。
したがって、本発明のインク組成物、前記組成物からなるフィルム、及び前記組成物を用いたディスプレイは、発光用途において好適に使用することができる。
【符号の説明】
【０２０３】
１ａ…第１の積層構造体、１ｂ…第２の積層構造体、１０…フィルム、２０…第１の基板、２１…第２の基板、２２…封止層、２…発光装置、３…ディスプレイ、３０…光源、４０…液晶パネル、５０…プリズムシート、６０…導光板
【要約】
本発明は、（１）ペロブスカイト化合物を含む半導体ナノ粒子及び（２）硬化性樹脂組成物を含み、（３）溶媒を含んでいてもよいインク組成物に関する前記インク組成物は、式(ａ)  Ｚ＝（Ｏ２＋Ｏ３＋Ｎ２＋Ｎ３）／（Ｃ２＋Ｃ３）におけるＺの値が０．３７以下であり、前記Ｏ２、Ｎ２、Ｃ２はそれぞれ前記（２）に含まれるＯ原子数、Ｎ原子数、Ｃ原子数を表し、前記Ｏ３、Ｎ３、Ｃ３はそれぞれ前記（３）に含まれるＯ原子数、Ｎ原子数、Ｃ原子数を表す。【図１】
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【図２】
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