(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の両面に誘電体多層膜を有する赤外カットフィルターであって、
波長４２５〜６２０ｎｍにおける入射角度０度での平均透過率が９５％以上であり、
波長４２５〜６２０ｎｍにおける入射角度３０度での平均透過率が９４％以上であり、
波長６００〜６２０ｎｍにおける入射角度０度での平均透過率が９１％以上であり、
波長５８０〜７００ｎｍにおいて、以下の条件式（１）及び（２）を満足し、
波長７００〜１１００ｎｍにおける平均透過率が０．５％以下で最大透過率が１．８％以下であり、
波長１１００〜１２００ｎｍにおける平均透過率が８％以下で最大透過率１２．５％以下である赤外カットフィルター；
Σ［Ｔ＝５０〜９０％］｜λＴ（０度）−λＴ（３０度）｜＜４００  …（１）
Σ［Ｔ＝  ５〜５０％］｜λＴ（０度）−λＴ（３０度）｜＜８５０  …（２）
ただし、
Σ［Ｔ＝ａ〜ｂ％］｜λＴ（０度）−λＴ（３０度）｜：透過率Ｔがａ％からｂ％までの１％毎の波長差｜λＴ（０度）−λＴ（３０度）｜の和、
λＴ（θ）：入射角度θ度で透過率Ｔ％のときの波長（ｎｍ）、
である。
【請求項２】
波長５８０〜７００ｎｍにおいて、前記基板両面の誘電体多層膜からなる両フィルター面のうち、入射角度０度で透過率５０％のときの波長の短い方の面をＡ面とし、長い方の面をＢ面とすると、以下の条件式（３）を満足する請求項１記載の赤外カットフィルター；
−１５≦λＡ５０％（０度）−λＢ５０％（３０度）≦１０  …（３）
ただし、
λＡ５０％（０度）：Ａ面において入射角度０度で透過率５０％のときの波長（ｎｍ）、
λＢ５０％（３０度）：Ｂ面において入射角度３０度で透過率５０％のときの波長（ｎｍ）、
である。
【請求項３】
波長４２５〜６２０ｎｍにおける入射角度０度での平均透過率が９９％以上であり、
波長４２５〜６２０ｎｍにおける入射角度３０度での平均透過率が９７％以上であり、
波長６００〜６２０ｎｍにおける入射角度０度での平均透過率が９８．５％以上である請求項１又は２記載の赤外カットフィルター。
【請求項４】
波長５８０〜７００ｎｍにおいて、以下の条件式（１ａ）を満足する請求項１〜３のいずれか１項に記載の赤外カットフィルター；
Σ［Ｔ＝５０〜９０％］｜λＴ（０度）−λＴ（３０度）｜＜２１５  …（１ａ）
ただし、
Σ［Ｔ＝ａ〜ｂ％］｜λＴ（０度）−λＴ（３０度）｜：透過率Ｔがａ％からｂ％までの１％毎の波長差｜λＴ（０度）−λＴ（３０度）｜の和、
λＴ（θ）：入射角度θ度で透過率Ｔ％のときの波長（ｎｍ）、
である。
【請求項５】
波長７００〜１１００ｎｍにおける平均透過率が０．１５％以下で最大透過率が１％以下であり、
波長１１００〜１２００ｎｍにおける平均透過率が４％以下で最大透過率９％以下である請求項１〜４のいずれか１項に記載の赤外カットフィルター。
【請求項６】
波長７００〜１１００ｎｍにおける平均透過率が０．１％以下で最大透過率が０．７％以下であり、
波長１１００〜１２００ｎｍにおける平均透過率が１％以下で最大透過率１．５％以下である請求項１〜５のいずれか１項に記載の赤外カットフィルター。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の赤外カットフィルターを備えたカメラユニット。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、赤外カットフィルターに関するものであり、例えば、カメラユニットに用いられる赤外カットフィルターに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
カメラ付き携帯電話，スマートフォン（高機能携帯電話）等の画像入力機能付きデジタル機器には、撮像レンズで形成された光学像を電気信号に変換する撮像素子として、シリコン半導体デバイス（例えば、CCD(Charge Coupled Device)型イメージセンサー，ＣＭＯＳ(Complementary Metal-Oxide Semiconductor)型イメージセンサー等の固体撮像素子）が従来より一般的に用いられている。このシリコン半導体デバイスは、近赤外線領域まで感度を持っているため、光が入射すると可視光以外に近赤外線をも映像として取り込んでしまう。その結果、得られた映像には疑似色が発生する等の問題が生じることになる。【０００３】
そこで、従来の画像入力機能付きデジタル機器では、撮像レンズと撮像素子との間に赤外カットフィルターを挿入することでこの問題を解消している。赤外カットフィルターとしては、さまざまなタイプのものが提案されており、例えば特許文献１〜３には、カメラ用の赤外カットフィルターとして、入射角度依存性の少ないものが提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】ＷＯ２０１３／０４２７３８  Ａ１
【特許文献２】特開２０１３−１７８３３８号公報
【特許文献３】ＵＳ２０１３／００２１５１５  Ａ１
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
撮像レンズ，撮像素子等を備えたカメラユニットでは、カメラの低背化や撮像素子の大型化に伴って、赤外カットフィルターへの光線入射角度が大きくなる。ガラス基板の両面に誘電体多層膜が形成された一般的な赤外カットフィルターの場合、入射角度０度と入射角度３０度とではカットオフ波長のシフト量が大きいため、画面中心部と周辺部とで色が異なる色シェーディング現象が発生してしまう。吸収ガラスを用いることにより色シェーディング現象の発生を抑制することは可能であるが、吸収ガラスを薄くすると吸収量が確保できなくなったり落下強度の低下を招いたりすることになる。【０００６】
特許文献１に記載の赤外カットフィルターの場合、透明基板からなるものは透過率９０％〜５０％での入射角度０度と３０度との波長差の和が大きいため、色シェーディングが少ないとは言えない。特許文献２に記載の赤外カットフィルターの場合、波長６００〜６２０での平均透過率が小さいためゴーストが少ないとは言えず、波長７００〜１１００ｎｍでの最大透過率も大きいため、画面全体あるいは特定の色に赤色がかぶる赤かぶりが少ないとは言えない。特許文献３に記載の赤外カットフィルターの場合、波長１１００〜１２００ｎｍでの平均透過率が開示されておらず、膜構成から特性を再現することも困難であるが、赤かぶりが少ないとは言えない。また、各基板面の多層膜特性は不明であるが、生産性が良好な膜構成にはなっていない。【０００７】
本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであって、その目的は、ゴースト，色シェーディング及び赤かぶりの少ない赤外カットフィルターを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するために、本発明の赤外カットフィルターは、基板の両面に誘電体多層膜を有する赤外カットフィルターであって、
波長４２５〜６２０ｎｍにおける入射角度０度での平均透過率が９５％以上であり、
波長４２５〜６２０ｎｍにおける入射角度３０度での平均透過率が９４％以上であり、
波長６００〜６２０ｎｍにおける入射角度０度での平均透過率が９１％以上であり、
波長５８０〜７００ｎｍにおいて、以下の条件式（１）及び（２）を満足し、
波長７００〜１１００ｎｍにおける平均透過率が０．５％以下で最大透過率が１．８％以下であり、
波長１１００〜１２００ｎｍにおける平均透過率が８％以下で最大透過率１２．５％以下である。
Σ［Ｔ＝５０〜９０％］｜λＴ（０度）−λＴ（３０度）｜＜４００  …（１）
Σ［Ｔ＝  ５〜５０％］｜λＴ（０度）−λＴ（３０度）｜＜８５０  …（２）
ただし、
Σ［Ｔ＝ａ〜ｂ％］｜λＴ（０度）−λＴ（３０度）｜：透過率Ｔがａ％からｂ％までの１％毎の波長差｜λＴ（０度）−λＴ（３０度）｜の和、
λＴ（θ）：入射角度θ度で透過率Ｔ％のときの波長（ｎｍ）、
である。【０００９】
本発明のカメラユニットは、上記赤外カットフィルターを備えたものである。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、分光特性に特徴のある誘電体多層膜を基板の両面に有する構成になっているため、ゴースト，色シェーディング及び赤かぶりの少ない赤外カットフィルターと、それを備えたカメラユニットを実現することができる。そして、本発明に係るカメラユニットをデジタルカメラ，スマートフォン等のデジタル機器に用いることによって、高性能の画像入力機能を安価に実現することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】赤外カットフィルターの一実施の形態を模式的に示す断面図。
【図２】赤外カットフィルターの分光特性とゴースト，色シェーディング及び赤かぶりとの関係を説明するための図。
【図３】色シェーディングと波長シフト量の和との関係を説明するための図。
【図４】画像入力機能付きデジタル機器の概略構成例を示すブロック図。
【図５】比較例１のフィルター全体の分光透過率を示すグラフ。
【図６】比較例１の各フィルター面の分光透過率を示すグラフ。
【図７】比較例２のフィルター全体の分光透過率を示すグラフ。
【図８】比較例２の各フィルター面の分光透過率を示すグラフ。
【図９】比較例３のフィルター全体の分光透過率を示すグラフ。
【図１０】比較例３の各フィルター面の分光透過率を示すグラフ。
【図１１】実施例１のフィルター全体の分光透過率を示すグラフ。
【図１２】実施例１の各フィルター面の分光透過率を示すグラフ。
【図１３】実施例２のフィルター全体の分光透過率を示すグラフ。
【図１４】実施例２の各フィルター面の分光透過率を示すグラフ。
【図１５】実施例３のフィルター全体の分光透過率を示すグラフ。
【図１６】実施例３の各フィルター面の分光透過率を示すグラフ。
【図１７】実施例４のフィルター全体の分光透過率を示すグラフ。
【図１８】実施例４の各フィルター面の分光透過率を示すグラフ。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明を実施した赤外カットフィルター，カメラユニット等を、図面を参照しつつ説明する。図１に、基板ＳＵ（例えば、ガラス基板）の両面に誘電体多層膜ＭＡ，ＭＢがコーティングされた赤外カットフィルターＦＲの一実施の形態について、その断面構造を模式的に示す。この赤外カットフィルターＦＲは、基板ＳＵ両面の誘電体多層膜ＭＡ，ＭＢに特徴的な分光特性を持たせることにより、ゴースト，色シェーディング及び赤かぶりを良好に低減するものである。本発明者は様々な特性の赤外カットフィルターを作製し、カメラユニットに組み込んで画像評価を実施し、フィルター特性，ゴースト，色シェーディング，赤かぶり等の評価結果を解析した。その結果、ゴースト，色シェーディング，赤かぶりと赤外カットフィルターＦＲの分光特性との間には、以下に説明するような関係があることを見出した。その一例を図２に示す（θ：入射角度）。
【００１３】
ゴーストは、可視領域（波長４２５〜６５０ｎｍ）の反射率と相関があり、その反射率が少ない方がゴーストの発生が抑制される。言い換えれば、誘電体多層膜は可視領域での光の吸収がほとんどないため、透過率が高いとゴーストが抑制される。ゴーストと関係する特性は、具体的には、波長４２５〜６２０ｎｍにおける入射角度０度での平均透過率と、波長４２５〜６２０ｎｍにおける入射角度３０度での平均透過率と、波長６００〜６２０ｎｍにおける入射角度０度での平均透過率と、である。これらの数値と実写テストの画像評価結果との関係から、ゴーストを良好に低減することの可能な閾値を算出することができる。
【００１４】
色シェーディングは、赤外カットフィルターに対する入射角度０度と３０度との透過率差に関係があり、その透過率差が小さくなれば色シェーディングの発生が抑制される。色シェーディングと関係する特性は、具体的には、透過率９０％から透過率５０％までの間の入射角度０度と３０度との波長シフト量の和、及び透過率５０％から透過率５％までの間の入射角度０度と３０度との波長シフト量の和である。これらの数値と実写テストの画像評価結果との関係から、色シェーディングを良好に低減することの可能な閾値を算出することができる。
【００１５】
赤かぶりは、波長７００〜１２００ｎｍの透過率と相関があり、その透過率が小さい方が赤かぶりの発生が抑制される。赤かぶりと関係する特性は、具体的には、波長７００〜１１００ｎｍにおける平均透過率及び最大透過率、並びに波長１１００〜１２００ｎｍにおける平均透過率及び最大透過率である。これらの数値と実写テストの画像評価結果との関係から、赤かぶりを良好に低減することの可能な閾値を算出することができる。
【００１６】
上記観点に基づく本発明に係る赤外カットフィルターＦＲは、基板ＳＵの両面に誘電体多層膜ＭＡ，ＭＢを有する赤外カットフィルターであって、
波長４２５〜６２０ｎｍにおける入射角度０度での平均透過率が９５％以上であり、
波長４２５〜６２０ｎｍにおける入射角度３０度での平均透過率が９４％以上であり、
波長６００〜６２０ｎｍにおける入射角度０度での平均透過率が９１％以上であり、
波長５８０〜７００ｎｍにおいて、以下の条件式（１）及び（２）を満足し、
波長７００〜１１００ｎｍにおける平均透過率が０．５％以下で最大透過率が１．８％以下であり、
波長１１００〜１２００ｎｍにおける平均透過率が８％以下で最大透過率１２．５％以下であることを特徴とするものである。
Σ［Ｔ＝５０〜９０％］｜λＴ（０度）−λＴ（３０度）｜＜４００  …（１）
Σ［Ｔ＝  ５〜５０％］｜λＴ（０度）−λＴ（３０度）｜＜８５０  …（２）
ただし、
Σ［Ｔ＝ａ〜ｂ％］｜λＴ（０度）−λＴ（３０度）｜：透過率Ｔがａ％からｂ％までの１％毎の波長差｜λＴ（０度）−λＴ（３０度）｜の和、
λＴ（θ）：入射角度θ度で透過率Ｔ％のときの波長（ｎｍ）、
である。
【００１７】
図３の分光透過率のグラフに、色シェーディングと、波長シフト量の和：Σ［Ｔ＝ａ〜ｂ％］｜λＴ（０度）−λＴ（３０度）｜と、の関係を示す。図３（ａ）中の斜線部分は条件式（１）が規定している条件範囲を示しており、図３（ｂ）中の斜線部分は条件式（２）が規定している条件範囲を示している。そして、条件式（１），（２）は両方とも色シェーディングを良好に補正するための条件範囲を規定している。条件式（１）は高透過率範囲を規定しているので、条件式（１）を満たすようにその上限を設定することにより、効果的な色シェーディング補正が可能となる。一方、条件式（２）はセンサー感度の弱い範囲である低透過率範囲を規定しているので、条件式（２）を満たすようにその上限を設定することにより、少ない光量に対応した効果的な色シェーディング補正が可能となる。したがって、色シェーディングの発生を抑えるには、条件式（１），（２）を両方とも満たすのが効果的である。つまり、条件式（１），（２）を満たすように、透過率９０％から透過率５０％までの間の入射角度０度と３０度との波長シフト量の和と、透過率５０％から透過率５％までの間の入射角度０度と３０度との波長シフト量の和と、を両方共小さくすればよい。
【００１８】
生産性を良好にするために少ない層数で色シェーディングを低減する場合には、透過率９０％から透過率５０％までの間の入射角度０度と３０度との波長シフト量の和：Σ［Ｔ＝５０〜９０％］｜λＴ（０度）−λＴ（３０度）｜を重視して、それを小さくすれば良好な結果を得ることができる。波長シフト量の和：Σ［Ｔ＝５０〜９０％］｜λＴ（０度）−λＴ（３０度）｜を重視して、それを小さくする最適な方法を考えた場合、波長５８０〜７００ｎｍにおいて、基板ＳＵ両面の誘電体多層膜ＭＡ，ＭＢからなる両フィルター面のうち、入射角度０度で透過率５０％のときの波長λ５０％（０度）の短い方の面をＡ面とし、長い方の面をＢ面とすると、Ａ面の特性で波長シフト量の和：Σ［Ｔ＝５０〜９０％］｜λＴ（０度）−λＴ（３０度）｜を小さくして、その波長域５８０〜７００ｎｍでＢ面が赤外カットフィルターＦＲの特性に影響しないように高い透過率を持つのが好ましい。また、透過率５０％から透過率５％までの間の入射角度０度と３０度との波長シフト量の和：Σ［Ｔ＝  ５〜５０％］｜λＴ（０度）−λＴ（３０度）｜を重視して、それをＢ面の特性で小さくすれば、色シェーディングを低減する上で良好な結果を得ることができる。
【００１９】
上記特徴的構成によると、分光特性に特徴のある誘電体多層膜ＭＡ，ＭＢを基板ＳＵの両面に有する構成になっているため、ゴースト，色シェーディング及び赤かぶりの少ない赤外カットフィルターＦＲを実現することができる。そして、赤外カットフィルターＦＲを備えたカメラユニットをデジタルカメラ，スマートフォン等のデジタル機器に用いることによって、高性能の画像入力機能を安価に実現することが可能となる。そして、ゴースト，色シェーディング及び赤かぶりの低減を更に効果的に達成するための条件等を以下に説明する。
【００２０】
波長５８０〜７００ｎｍにおいて、以下の条件式（３）を満足することが好ましい。
−１５≦λＡ５０％（０度）−λＢ５０％（３０度）≦１０  …（３）
ただし、
λＡ５０％（０度）：Ａ面において入射角度０度で透過率５０％のときの波長（ｎｍ）、
λＢ５０％（３０度）：Ｂ面において入射角度３０度で透過率５０％のときの波長（ｎｍ）、
である。
【００２１】
前述したように、Ａ面で透過率９０〜５０％の波長シフト量を重視して小さくし、Ｂ面で透過率５０〜５％の波長シフト量を重視して小さくすることは、Ａ面において入射角度０度で透過率５０％のときの波長λＡ５０％（０度）と、Ｂ面において入射角度３０度で透過率５０％のときの波長λＢ５０％（３０度）と、の波長差：λＡ５０％（０度）−λＢ５０％（３０度）と関係がある。この波長差が大きすぎると（つまり、Ａ面とＢ面との重なりが大きいと）、透過率９０％〜５０％の波長シフトがＢ面の特性の影響を受けて大きくなり、色シェーディングが悪化する。また、波長差が小さすぎると（つまり、Ａ面とＢ面とがあまり重ならない）と、波長７００ｎｍ以上の透過率がＢ面のカットオフ領域のスソにかかって大きくなり、赤かぶりが悪化する。
【００２２】
条件式（３）を満たすことにより、Ａ面の誘電体多層膜ＭＡで色シェーディングに効く波長シフトを抑えることができ、Ｂ面の誘電体多層膜ＭＢで適正に赤外カットすることができる。条件式（３）の上限を上回ると色シェーディングが大きくなり、条件式（３）の下限を下回ると赤かぶりが大きくなる。角度依存性が小さいＡ面の誘電体多層膜ＭＡで斜めの特性を決めており、Ｂ面の誘電体多層膜ＭＢで赤外カットしているので、条件式（３）の下限を下回ると、λＢ５０％（３０度）がλＡ５０％（０度）より長波長側に離れて、誘電体多層膜ＭＢの分光特性（０度）で７００ｎｍあたりを赤外カットすることが困難になる。
【００２３】
ゴースト，色シェーディング及び赤かぶりを抑制する設計は、各誘電体多層膜ＭＡ，ＭＢの層数を多くすることにより可能であるが、層数が多くなると、材料の表面粗さや材料に僅かにある吸収によって光の散乱や光の吸収が発生することになり、生産性も悪くなる。したがって、前述した構成を有する赤外カットフィルターＦＲでは、誘電体多層膜ＭＡ，ＭＢの層数は、片面で２００層以下であることが好ましく、片面で１００層以下であることが更に好ましい。
【００２４】
ゴーストと関係する特性に関して、波長４２５〜６２０ｎｍにおける入射角度０度での平均透過率が９９％以上であり、波長４２５〜６２０ｎｍにおける入射角度３０度での平均透過率が９７％以上であり、波長６００〜６２０ｎｍにおける入射角度０度での平均透過率が９８．５％以上であることが好ましい。この条件は、前述したゴースト関連の条件範囲のなかでも、前記観点等に基づいた更に好ましい条件範囲を規定している。したがって、好ましくはこの条件を満たすことにより、前記ゴースト低減効果をより一層大きくすることができる。
【００２５】
赤外カットフィルターＦＲは、波長５８０〜７００ｎｍにおいて、以下の条件式（１ａ）を満足することが好ましい。
Σ［Ｔ＝５０〜９０％］｜λＴ（０度）−λＴ（３０度）｜＜２１５  …（１ａ）
この条件式（１ａ）は、前記条件式（１）が規定している条件範囲のなかでも、前記観点等に基づいた更に好ましい条件範囲を規定している。したがって、好ましくは条件式（１ａ）を満たすことにより、前記色シェーディング低減効果をより一層大きくすることができる。
【００２６】
赤かぶりと関係する特性に関して、波長７００〜１１００ｎｍにおける平均透過率が０．１５％以下で最大透過率が１％以下であり、波長１１００〜１２００ｎｍにおける平均透過率が４％以下で最大透過率９％以下であることが好ましく、波長７００〜１１００ｎｍにおける平均透過率が０．１％以下で最大透過率が０．７％以下であり、波長１１００〜１２００ｎｍにおける平均透過率が１％以下で最大透過率１．５％以下であることが更に好ましい。これらの条件は、前述した赤かぶり関連の条件範囲のなかでも、前記観点等に基づいた更に好ましい条件範囲を規定している。したがって、好ましくはこの条件を満たすことにより、前記赤かぶり低減効果をより一層大きくすることができる。
【００２７】
画像入力機能付きデジタル機器（例えばスマートフォン）に搭載される撮像光学装置（例えばカメラユニット）においては、本発明に係る赤外カットフィルターＦＲの使用が適している。撮像光学装置は、被写体の静止画撮影や動画撮影に用いられるカメラの主たる構成要素を成す光学装置であり、例えば、物体（すなわち被写体）の光学像を形成する撮像レンズと、その撮像レンズにより形成された光学像を電気的な信号に変換する撮像素子（例えば、ＣＣＤ型イメージセンサー，ＣＭＯＳ型イメージセンサー等の固体撮像素子）と、撮像レンズと撮像素子との間に配置される赤外カットフィルターＦＲと、を備えることにより、被写体の映像を光学的に取り込んで電気的な信号として出力するものである。
【００２８】
画像入力機能付きデジタル機器の例としては、デジタルカメラ，ビデオカメラ，監視カメラ，車載カメラ，テレビ電話用カメラ等のカメラが挙げられる。また、パーソナルコンピュータ，携帯用デジタル機器（例えば、携帯電話，スマートフォン，タブレット端末，モバイルコンピュータ等の小型情報機器端末），これらの周辺機器（スキャナー，プリンター等），その他のデジタル機器等に内蔵又は外付けによりカメラ機能が搭載されたものが挙げられる。これらの例から分かるように、撮像光学装置を用いることによりカメラを構成することができるだけでなく、各種機器に撮像光学装置を搭載することによりカメラ機能を付加することが可能である。例えば、スマートフォン等の画像入力機能付きデジタル機器を構成することが可能である。
【００２９】
図４に、画像入力機能付きデジタル機器の一例として、デジタル機器ＤＵの概略構成例を模式的断面で示す。図４に示すデジタル機器ＤＵに搭載されている撮像光学装置ＬＵは、物体（すなわち被写体）側から順に、物体の光学像（像面）ＩＭを形成する撮像レンズＬＮ（ＡＸ：光軸）と、赤外カットフィルターＦＲと、撮像レンズＬＮにより光電変換部である受光面（撮像面）ＳＳ上に形成された光学像ＩＭを電気的な信号に変換する撮像素子ＳＲと、を備えている。この撮像光学装置ＬＵで画像入力機能付きデジタル機器ＤＵを構成する場合、通常そのボディ内部に撮像光学装置ＬＵを配置することになるが、カメラ機能を実現する際には必要に応じた形態を採用することが可能である。例えば、ユニット化した撮像光学装置ＬＵをデジタル機器ＤＵの本体に対して着脱可能又は回動可能に構成することが可能である。
【００３０】
デジタル機器ＤＵは、撮像光学装置ＬＵの他に、信号処理部１，制御部２，メモリー３，操作部４，表示部５等を備えている。撮像素子ＳＲで生成した信号は、信号処理部１で所定のデジタル画像処理や画像圧縮処理等が必要に応じて施され、デジタル映像信号としてメモリー３（半導体メモリー，光ディスク等）に記録されたり、場合によってはケーブルを介したり赤外線信号等に変換されたりして他の機器に伝送される（例えば携帯電話の通信機能）。制御部２はマイクロコンピュータからなっており、撮影機能（静止画撮影機能，動画撮影機能等），画像再生機能等の機能の制御；フォーカシングのためのレンズ移動機構の制御等を集中的に行う。例えば、被写体の静止画撮影，動画撮影のうちの少なくとも一方を行うように、制御部２により撮像光学装置ＬＵに対する制御が行われる。表示部５は液晶モニター等のディスプレイを含む部分であり、撮像素子ＳＲによって変換された画像信号あるいはメモリー３に記録されている画像情報を用いて画像表示を行う。操作部４は、操作ボタン（例えばレリーズボタン），操作ダイヤル（例えば撮影モードダイヤル）等の操作部材を含む部分であり、操作者が操作入力した情報を制御部２に伝達する。
【００３１】
赤外カットフィルターＦＲは、基板ＳＵ両面の誘電体多層膜ＭＡ，ＭＢがいずれも可視域の光を透過させ赤外域の光を反射させる光学特性を有するものである。例えば、波長４５０〜６００ｎｍの光を透過させ、波長７００ｎｍ以上の光を反射させる赤外カットフィルターを作製する場合、誘電体多層膜ＭＡ，ＭＢを構成するＴｉＯ2とＳｉＯ2を、光学的な膜厚が赤外域（例えば、波長９００ｎｍ）の１／４波長に相当する膜厚を交互に積層する。そして、波長４５０ｎｍ〜６００ｎｍの光を効率良く透過させるため、各層の膜厚を少しずつ１／４波長からずらし、干渉の効果を抑えるように設定する。赤外カットフィルターＦＲの成膜方法としては、真空蒸着、イオンアシスト成膜、イオンプレーティング成膜、スパッタ成膜（反応性スパッタ成膜等）、イオンビームスパッタ成膜等が挙げられる。基板ＳＵ両面の誘電体多層膜ＭＡ，ＭＢは、いずれもこれらの成膜方法で形成されたものであることが望ましい。
【００３２】
基板ＳＵはガラスからなることが好ましい。プラスチック基板は、誘電体多層膜の形成に不向きである。したがって、赤外カットフィルターＦＲとしてある程度の強度を有し、かつ、剥がれの生じない信頼性のある透明基板としては、プラスチック基板よりもガラス基板が好ましい。
【００３３】
基板ＳＵの両面の誘電体多層膜ＭＡ，ＭＢがいずれも少なくとも２つの蒸着材料からなり、そのうちの少なくとも１つがＳｉＯ2又はＳｉＯ2を含む混合物からなることが好ましい。また、基板ＳＵの両面の誘電体多層膜ＭＡ，ＭＢがいずれも少なくとも２つの蒸着材料からなり、そのうちの少なくとも１つがＴｉＯ2、Ｎｂ2Ｏ5、Ｔａ2Ｏ5、ＺｒＯ2又はそのいずれかを含む混合物からなることが好ましい。ＳｉＯ2等の低屈折率材料やＴｉＯ2等の高屈折率材料は、圧縮応力を持たせる上で好ましい材料であり、製造が容易であり、性能に要求される屈折率に関しても好ましい材料である。
【実施例】
【００３４】
以下、本発明に係る赤外カットフィルターの構成等を、比較例１〜３及び実施例１〜４のコンストラクションデータ等を挙げて更に具体的に説明する。コンストラクションデータでは、誘電体多層膜ＭＡ，ＭＢの各層の成膜材料及び膜厚（ｎｍ）、並びに基板ＳＵ及び成膜材料の屈折率ｎ（波長５４０ｎｍ）を示す。比較例１〜３及び実施例１，２では、誘電体多層膜ＭＡ，ＭＢがいずれも、Ｎｂ2Ｏ5からなる高屈折率層と、ＳｉＯ2からなる低屈折率層と、の交互層（Nb2O5／SiO2）で構成されており、実施例３，４では、誘電体多層膜ＭＡ，ＭＢがいずれも、ＴｉＯ2からなる高屈折率層と、ＳｉＯ2からなる低屈折率層と、の交互層（TiO2／SiO2）で構成されている。【００３５】
表１に、比較例１〜３及び実施例１〜４の特性値，条件式対応値等を示し、表２に、以下の画像評価方法を用いて得られた評価結果を示す。また、図５〜１８のグラフに、比較例１〜３及び実施例１〜４の分光特性を示す。図５，図７，…，図１５，図１７はフィルター全体の分光透過率（入射角度θ＝０°，３０°）を示しており、図６，図８，…，図１６，図１８は各フィルター面（Ａ面，Ｂ面）の分光透過率（入射角度θ＝０°，３０°）を示している。【００３６】
［画像評価方法］  図４に示すように、撮像レンズＬＮ（正負正正負の５枚構成）と撮像素子ＳＲとの間に、Ａ面側が撮像素子ＳＲと対向するように赤外カットフィルターＦＲを配置し、写真を撮ってその画像を評価した。ゴースト評価（波長：４２５〜６２０ｎｍ）では、光源を光軸ＡＸに対して５度ピッチで短辺，長辺，対角に位置するように配置し、撮った画像からゴーストの出方を評価した。色シェーディング評価（波長：５８０〜７００ｎｍ）では、光源として全面が白いものを撮影し、周辺部と中心部の色目の違いを評価した。赤かぶり評価（波長：７００〜１２００ｎｍ）では、光源で照明された黒い物体を撮影し、撮影された画像と物体の色目の違いを評価した。光源としては、ＤＡＹＬＩＧＨＴ（北窓光），Ｃｏｏｌ  Ｗｈｉｔｅ（冷白色蛍光灯），ＨＯＲＩＺＯＮ（日没光），ＩＮＣＡ（ショーケース光）を用いた。【００３７】
表１中、
＊１：波長４２５〜６２０ｎｍにおける入射角度０度での平均透過率（％）、
＊２：波長４２５〜６２０ｎｍにおける入射角度３０度での平均透過率（％）、
＊３：波長６００〜６２０ｎｍにおける入射角度０度での平均透過率（％）、
＊４：波長７００〜１１００ｎｍにおける平均透過率（％）、
＊５：波長７００〜１１００ｎｍにおける最大透過率（％）、
＊６：波長１１００〜１２００ｎｍにおける平均透過率（％）、
＊７：波長１１００〜１２００ｎｍにおける最大透過率（％）、
λＡ５０％（０度）：Ａ面において入射角度０度で透過率５０％のときの波長（ｎｍ）、
λＢ５０％（０度）：Ｂ面において入射角度０度で透過率５０％のときの波長（ｎｍ）、
λＢ５０％（３０度）：Ｂ面において入射角度３０度で透過率５０％のときの波長（ｎｍ）、
であり、これらの数値を条件式（１）〜（３）の対応値と併せて示す。【００３８】
表２に示す評価結果では、
Ｄ：許容不可能なレベル、
Ｃ：少し問題がある程度の許容可能なレベル、
Ｂ：問題無い許容可能なレベル、
Ａ：全く問題無い許容可能なレベル、
とした。【００３９】
比較例１
多層膜ＭＡ（Ａ面）
n(540nm)
基板    1.52
SiO2    1.47
Nb2O5   2.39
層      材料       膜厚(nm)
1       SiO2        188.38
2       Nb2O5        15.15
3       SiO2         32.36
4       Nb2O5       131.87
5       SiO2         32.99
6       Nb2O5        17.68
7       SiO2        398.71
8       Nb2O5        22.86
9       SiO2         34.94
10      Nb2O5        36.95
11      SiO2        185.92
12      Nb2O5        86.08
13      SiO2         19.58
14      Nb2O5        24.40
15      SiO2         44.06
16      Nb2O5       127.03
17      SiO2         26.41
18      Nb2O5       133.05
19      SiO2         27.31
20      Nb2O5       132.96
21      SiO2         29.16
22      Nb2O5       130.45
23      SiO2         31.00
24      Nb2O5       128.35
25      SiO2         31.06
26      Nb2O5       128.73
27      SiO2         33.58
28      Nb2O5       129.50
29      SiO2         36.22
30      Nb2O5       124.47
31      SiO2         53.14
32      Nb2O5        24.69
33      SiO2         13.91
34      Nb2O5        79.38
35      SiO2        200.47
36      Nb2O5        16.43
37      SiO2        200.03
38      Nb2O5        95.12
39      SiO2        131.85
40      Nb2O5        90.18
41      SiO2        144.59
42      Nb2O5        95.05
43      SiO2        161.79
44      Nb2O5        84.43
45      SiO2         37.89
46      Nb2O5        15.15
47      SiO2         58.99
48      Nb2O5        99.29
49      SiO2        169.89
50      Nb2O5        33.59
51      SiO2         29.51
52      Nb2O5        25.57
53      SiO2        170.14
54      Nb2O5        16.41
55      SiO2         22.54
56      Nb2O5        65.88
57      SiO2         18.69
58      Nb2O5        28.11
59      SiO2        203.62
60      Nb2O5       107.66
61      SiO2        206.28
62      Nb2O5        26.38
63      SiO2         27.17
64      Nb2O5       131.61
65      SiO2        173.95
66      Nb2O5        99.66
67      SiO2        157.76
68      Nb2O5        97.97
69      SiO2         83.39【００４０】
比較例１
多層膜ＭＢ（Ｂ面）
n(540nm)
基板    1.52
SiO2    1.47
Nb2O5   2.39
層      材料       膜厚(nm)
1       Nb2O5        14.63
2       SiO2         47.88
3       Nb2O5        23.01
4       SiO2        191.84
5       Nb2O5       115.50
6       SiO2         25.77
7       Nb2O5       117.17
8       SiO2         52.53
9       Nb2O5        14.63
10      SiO2         35.23
11      Nb2O5        90.70
12      SiO2        190.20
13      Nb2O5        15.61
14      SiO2        221.29
15      Nb2O5        14.63
16      SiO2        217.11
17      Nb2O5        16.34
18      SiO2        187.01
19      Nb2O5        86.72
20      SiO2         25.86
21      Nb2O5        16.74
22      SiO2         49.39
23      Nb2O5       102.56
24      SiO2         18.22
25      Nb2O5        16.13
26      SiO2         28.51
27      Nb2O5       106.36
28      SiO2         19.32
29      Nb2O5        17.53
30      SiO2         23.21
31      Nb2O5       119.66
32      SiO2         21.56
33      Nb2O5       132.02
34      SiO2         19.79
35      Nb2O5       123.94
36      SiO2         15.24
37      Nb2O5        22.64
38      SiO2         14.63
39      Nb2O5       120.11
40      SiO2         18.69
41      Nb2O5       120.08
42      SiO2         24.50
43      Nb2O5        18.25
44      SiO2         18.36
45      Nb2O5       115.81
46      SiO2         22.13
47      Nb2O5       118.79
48      SiO2         42.60
49      Nb2O5        20.05
50      SiO2         22.85
51      Nb2O5        86.07
52      SiO2        156.82
53      Nb2O5        85.07
54      SiO2        157.16
55      Nb2O5       105.44
56      SiO2        178.10
57      Nb2O5       109.09
58      SiO2        176.07
59      Nb2O5       106.98
60      SiO2        174.50
61      Nb2O5        99.23
62      SiO2        164.22
63      Nb2O5        95.44
64      SiO2        167.02
65      Nb2O5       101.09
66      SiO2         85.49【００４１】
比較例２
多層膜ＭＡ（Ａ面）
n(540nm)
基板    1.52
SiO2    1.47
Nb2O5   2.38
層      材料       膜厚(nm)
1       Nb2O5        14.28
2       SiO2         35.73
3       Nb2O5       114.45
4       SiO2        196.82
5       Nb2O5        15.55
6       SiO2        203.33
7       Nb2O5        35.97
8       SiO2         28.56
9       Nb2O5        16.23
10      SiO2        134.47
11      Nb2O5       111.08
12      SiO2         33.69
13      Nb2O5       125.54
14      SiO2         29.75
15      Nb2O5       129.86
16      SiO2         29.14
17      Nb2O5       128.16
18      SiO2         29.69
19      Nb2O5       127.96
20      SiO2         29.89
21      Nb2O5       127.01
22      SiO2         30.13
23      Nb2O5       127.97
24      SiO2         30.59
25      Nb2O5       127.78
26      SiO2         30.36
27      Nb2O5       128.81
28      SiO2         29.79
29      Nb2O5       128.57
30      SiO2         28.59
31      Nb2O5       129.83
32      SiO2         27.90
33      Nb2O5       129.82
34      SiO2         27.10
35      Nb2O5       130.60
36      SiO2         26.84
37      Nb2O5       128.22
38      SiO2         27.16
39      Nb2O5       115.70
40      SiO2         48.45
41      Nb2O5        14.41
42      SiO2         32.98
43      Nb2O5        91.74
44      SiO2         41.00
45      Nb2O5        15.00
46      SiO2         38.68
47      Nb2O5        93.99
48      SiO2         27.72
49      Nb2O5        17.30
50      SiO2         34.30
51      Nb2O5       115.57
52      SiO2         24.24
53      Nb2O5       115.71
54      SiO2         28.56
55      Nb2O5        16.89
56      SiO2         28.56
57      Nb2O5       114.81
58      SiO2         28.56
59      Nb2O5       115.01
60      SiO2         55.50
61      Nb2O5        14.95
62      SiO2         28.56
63      Nb2O5        81.55
64      SiO2        145.32
65      Nb2O5        89.25
66      SiO2        191.09
67      Nb2O5        23.04
68      SiO2         37.35
69      Nb2O5       113.82
70      SiO2        158.36
71      Nb2O5        85.25
72      SiO2         75.02【００４２】
比較例２
多層膜ＭＢ（Ｂ面）
n(540nm)
基板    1.52
SiO2    1.47
Nb2O5   2.38
層      材料       膜厚(nm)
1       Nb2O5        15.38
2       SiO2         30.98
3       Nb2O5        57.67
4       SiO2         23.94
5       Nb2O5        23.79
6       SiO2         97.67
7       Nb2O5        17.92
8       SiO2         30.75
9       Nb2O5        63.82
10      SiO2         46.28
11      Nb2O5        15.38
12      SiO2         75.48
13      Nb2O5        42.78
14      SiO2         25.62
15      Nb2O5        27.01
16      SiO2        113.30
17      Nb2O5        19.51
18      SiO2         30.75
19      Nb2O5        39.64
20      SiO2        163.91
21      Nb2O5        84.80
22      SiO2        151.54
23      Nb2O5        86.74
24      SiO2         33.52
25      Nb2O5        15.38
26      SiO2         45.62
27      Nb2O5        93.29
28      SiO2        147.13
29      Nb2O5        86.07
30      SiO2        147.27
31      Nb2O5        94.66
32      SiO2         56.66
33      Nb2O5        15.38
34      SiO2         37.30
35      Nb2O5        84.03
36      SiO2         39.12
37      Nb2O5        15.38
38      SiO2         57.54
39      Nb2O5        99.89
40      SiO2        160.09
41      Nb2O5        99.61
42      SiO2        176.00
43      Nb2O5       108.43
44      SiO2        182.01
45      Nb2O5       109.79
46      SiO2        183.74
47      Nb2O5       110.39
48      SiO2        183.10
49      Nb2O5       110.53
50      SiO2        183.09
51      Nb2O5       109.97
52      SiO2        181.76
53      Nb2O5       108.76
54      SiO2        181.05
55      Nb2O5       105.08
56      SiO2        170.20
57      Nb2O5        96.29
58      SiO2         79.48【００４３】
比較例３
多層膜ＭＡ（Ａ面）
n(540nm)
基板    1.52
SiO2    1.47
Nb2O5   2.38
層      材料       膜厚(nm)
1       SiO2         94.81
2       Nb2O5        10.48
3       SiO2         33.79
4       Nb2O5       102.05
5       SiO2         33.32
6       Nb2O5        19.56
7       SiO2         40.71
8       Nb2O5       110.44
9       SiO2         35.39
10      Nb2O5        18.71
11      SiO2         24.59
12      Nb2O5        96.29
13      SiO2        196.65
14      Nb2O5        16.05
15      SiO2        223.97
16      Nb2O5        13.32
17      SiO2        227.18
18      Nb2O5        16.59
19      SiO2        196.77
20      Nb2O5        79.59
21      SiO2         19.56
22      Nb2O5        21.98
23      SiO2         57.44
24      Nb2O5       119.21
25      SiO2         32.06
26      Nb2O5       126.82
27      SiO2         33.85
28      Nb2O5       125.23
29      SiO2         34.09
30      Nb2O5       126.07
31      SiO2         36.59
32      Nb2O5       124.86
33      SiO2         34.66
34      Nb2O5       119.49
35      SiO2         61.27
36      Nb2O5        21.29
37      SiO2         20.28
38      Nb2O5        77.19
39      SiO2        183.85
40      Nb2O5        27.08
41      SiO2         31.73
42      Nb2O5        12.97
43      SiO2        156.54
44      Nb2O5       115.14
45      SiO2         34.33
46      Nb2O5       124.38
47      SiO2         79.30
48      Nb2O5        12.14
49      SiO2         72.94
50      Nb2O5        22.51
51      SiO2        201.57
52      Nb2O5       106.89
53      SiO2         37.65
54      Nb2O5        13.77
55      SiO2         34.15
56      Nb2O5       104.51
57      SiO2        202.42
58      Nb2O5        14.97
59      SiO2        199.77
60      Nb2O5       100.80
61      SiO2         35.73
62      Nb2O5        14.97
63      SiO2         43.55
64      Nb2O5       100.83
65      SiO2        188.87
66      Nb2O5        15.30
67      SiO2        209.98
68      Nb2O5        20.25
69      SiO2         35.81
70      Nb2O5        15.62
71      SiO2        149.54
72      Nb2O5        93.93
73      SiO2        154.42
74      Nb2O5        27.07
75      SiO2         17.64
76      Nb2O5        35.17
77      SiO2        170.29
78      Nb2O5        96.88
79      SiO2         37.25
80      Nb2O5        16.06
81      SiO2         45.39
82      Nb2O5       103.42
83      SiO2         87.50【００４４】
比較例３
多層膜ＭＢ（Ｂ面）
n(540nm)
基板    1.52
SiO2    1.47
Nb2O5   2.38
層      材料       膜厚(nm)
1       Nb2O5        10.22
2       SiO2         35.62
3       Nb2O5       102.34
4       SiO2        156.54
5       Nb2O5        87.14
6       SiO2        149.29
7       Nb2O5       106.00
8       SiO2         20.02
9       Nb2O5       105.21
10      SiO2        149.81
11      Nb2O5        95.01
12      SiO2         42.76
13      Nb2O5        19.36
14      SiO2         34.17
15      Nb2O5       204.24
16      SiO2         44.45
17      Nb2O5        15.13
18      SiO2         57.31
19      Nb2O5       116.83
20      SiO2         21.06
21      Nb2O5       113.61
22      SiO2         23.41
23      Nb2O5        18.19
24      SiO2         26.17
25      Nb2O5       105.37
26      SiO2         62.06
27      Nb2O5        13.73
28      SiO2         44.37
29      Nb2O5       199.88
30      SiO2         42.86
31      Nb2O5        14.37
32      SiO2         56.82
33      Nb2O5       102.26
34      SiO2         61.10
35      Nb2O5        15.10
36      SiO2         41.53
37      Nb2O5       210.79
38      SiO2         41.49
39      Nb2O5        20.40
40      SiO2         40.23
41      Nb2O5       215.61
42      SiO2         33.15
43      Nb2O5        21.37
44      SiO2         40.41
45      Nb2O5        95.54
46      SiO2        154.28
47      Nb2O5       112.66
48      SiO2         30.66
49      Nb2O5        31.57
50      SiO2         45.52
51      Nb2O5        28.05
52      SiO2         34.75
53      Nb2O5       108.26
54      SiO2        154.08
55      Nb2O5        88.11
56      SiO2        155.57
57      Nb2O5       100.53
58      SiO2        173.70
59      Nb2O5       105.39
60      SiO2        172.65
61      Nb2O5       107.21
62      SiO2        172.22
63      Nb2O5        98.85
64      SiO2        156.11
65      Nb2O5       102.42
66      SiO2         37.82
67      Nb2O5        24.49
68      SiO2         27.87
69      Nb2O5       207.40
70      SiO2         24.01
71      Nb2O5        25.02
72      SiO2         32.87
73      Nb2O5       102.86
74      SiO2        152.65
75      Nb2O5        83.67
76      SiO2         70.39【００４５】
実施例１
多層膜ＭＡ（Ａ面）
n(540nm)
基板    1.52
SiO2    1.47
Nb2O5   2.38
層      材料       膜厚(nm)
1       Nb2O5        16.34
2       SiO2         28.28
3       Nb2O5        64.83
4       SiO2         23.55
5       Nb2O5        30.30
6       SiO2         40.40
7       Nb2O5       112.82
8       SiO2         45.22
9       Nb2O5        15.15
10      SiO2         36.35
11      Nb2O5        95.45
12      SiO2        190.09
13      Nb2O5        16.10
14      SiO2        218.88
15      Nb2O5        15.15
16      SiO2        220.94
17      Nb2O5        18.97
18      SiO2        199.93
19      Nb2O5        54.05
20      SiO2         29.18
21      Nb2O5        23.30
22      SiO2         74.99
23      Nb2O5       116.94
24      SiO2         38.72
25      Nb2O5       124.35
26      SiO2         36.76
27      Nb2O5       124.83
28      SiO2         38.48
29      Nb2O5       124.23
30      SiO2         38.39
31      Nb2O5       123.75
32      SiO2         40.50
33      Nb2O5       114.51
34      SiO2         85.79
35      Nb2O5        20.64
36      SiO2         28.61
37      Nb2O5        53.60
38      SiO2        176.99
39      Nb2O5        28.74
40      SiO2         25.25
41      Nb2O5        15.15
42      SiO2        147.35
43      Nb2O5        89.39
44      SiO2        143.58
45      Nb2O5        89.74
46      SiO2        169.33
47      Nb2O5        21.40
48      SiO2         30.30
49      Nb2O5        15.15
50      SiO2        165.72
51      Nb2O5       106.58
52      SiO2         56.89
53      Nb2O5        15.15
54      SiO2         32.19
55      Nb2O5        91.52
56      SiO2        180.87
57      Nb2O5        27.05
58      SiO2         30.30
59      Nb2O5        15.15
60      SiO2        155.48
61      Nb2O5        95.56
62      SiO2        149.06
63      Nb2O5        98.23
64      SiO2        180.19
65      Nb2O5       121.78
66      SiO2         46.19
67      Nb2O5        16.93
68      SiO2        229.33
69      Nb2O5       107.14
70      SiO2        180.94
71      Nb2O5       129.41
72      SiO2         25.25
73      Nb2O5        28.00
74      SiO2        184.96
75      Nb2O5       100.23
76      SiO2         79.29【００４６】
実施例１
多層膜ＭＢ（Ｂ面）
n(540nm)
基板    1.52
SiO2    1.47
Nb2O5   2.38
層      材料       膜厚(nm)
1       Nb2O5        14.55
2       SiO2         47.64
3       Nb2O5        22.99
4       SiO2        190.77
5       Nb2O5       115.18
6       SiO2         25.31
7       Nb2O5       116.76
8       SiO2         51.63
9       Nb2O5        14.55
10      SiO2         35.46
11      Nb2O5        90.76
12      SiO2        189.51
13      Nb2O5        15.45
14      SiO2        220.58
15      Nb2O5        14.55
16      SiO2        216.46
17      Nb2O5        16.15
18      SiO2        186.22
19      Nb2O5        87.09
20      SiO2         27.39
21      Nb2O5        15.78
22      SiO2         49.91
23      Nb2O5       101.61
24      SiO2         19.36
25      Nb2O5        16.15
26      SiO2         28.83
27      Nb2O5       105.70
28      SiO2         18.02
29      Nb2O5        17.32
30      SiO2         22.62
31      Nb2O5       119.51
32      SiO2         21.35
33      Nb2O5       131.68
34      SiO2         19.38
35      Nb2O5       123.47
36      SiO2         13.98
37      Nb2O5        22.41
38      SiO2         14.55
39      Nb2O5       120.63
40      SiO2         18.50
41      Nb2O5       120.55
42      SiO2         23.56
43      Nb2O5        18.17
44      SiO2         16.53
45      Nb2O5       115.62
46      SiO2         22.04
47      Nb2O5       117.29
48      SiO2         44.84
49      Nb2O5        18.62
50      SiO2         25.30
51      Nb2O5        86.10
52      SiO2        156.03
53      Nb2O5        84.32
54      SiO2        155.86
55      Nb2O5       105.01
56      SiO2        177.09
57      Nb2O5       109.00
58      SiO2        174.93
59      Nb2O5       106.74
60      SiO2        174.34
61      Nb2O5        98.98
62      SiO2        163.78
63      Nb2O5        94.55
64      SiO2        165.72
65      Nb2O5       100.46
66      SiO2         85.17【００４７】
実施例２
多層膜ＭＡ（Ａ面）
n(540nm)
基板    1.52
SiO2    1.47
Nb2O5   2.38
層      材料       膜厚(nm)
1       Nb2O5        16.34
2       SiO2         28.28
3       Nb2O5        64.83
4       SiO2         23.55
5       Nb2O5        30.30
6       SiO2         40.40
7       Nb2O5       112.82
8       SiO2         45.22
9       Nb2O5        15.15
10      SiO2         36.35
11      Nb2O5        95.45
12      SiO2        190.09
13      Nb2O5        16.10
14      SiO2        218.88
15      Nb2O5        15.15
16      SiO2        220.94
17      Nb2O5        18.97
18      SiO2        199.93
19      Nb2O5        54.05
20      SiO2         29.18
21      Nb2O5        23.30
22      SiO2         74.99
23      Nb2O5       116.94
24      SiO2         38.72
25      Nb2O5       124.35
26      SiO2         36.76
27      Nb2O5       124.83
28      SiO2         38.48
29      Nb2O5       124.23
30      SiO2         38.39
31      Nb2O5       123.75
32      SiO2         40.50
33      Nb2O5       114.51
34      SiO2         85.79
35      Nb2O5        20.64
36      SiO2         28.61
37      Nb2O5        53.60
38      SiO2        176.99
39      Nb2O5        28.74
40      SiO2         25.25
41      Nb2O5        15.15
42      SiO2        147.35
43      Nb2O5        89.39
44      SiO2        143.58
45      Nb2O5        89.74
46      SiO2        169.33
47      Nb2O5        21.40
48      SiO2         30.30
49      Nb2O5        15.15
50      SiO2        165.72
51      Nb2O5       106.58
52      SiO2         56.89
53      Nb2O5        15.15
54      SiO2         32.19
55      Nb2O5        91.52
56      SiO2        180.87
57      Nb2O5        27.05
58      SiO2         30.30
59      Nb2O5        15.15
60      SiO2        155.48
61      Nb2O5        95.56
62      SiO2        149.06
63      Nb2O5        98.23
64      SiO2        180.19
65      Nb2O5       121.78
66      SiO2         46.19
67      Nb2O5        16.93
68      SiO2        229.33
69      Nb2O5       107.14
70      SiO2        180.94
71      Nb2O5       129.41
72      SiO2         25.25
73      Nb2O5        28.00
74      SiO2        184.96
75      Nb2O5       100.23
76      SiO2         79.29【００４８】
実施例２
多層膜ＭＢ（Ｂ面）
n(540nm)
基板    1.52
SiO2    1.47
Nb2O5   2.38
層      材料       膜厚(nm)
1       Nb2O5        21.03
2       SiO2         31.00
3       Nb2O5        34.37
4       SiO2        180.97
5       Nb2O5       117.57
6       SiO2         24.25
7       Nb2O5       110.40
8       SiO2         40.51
9       Nb2O5        14.55
10      SiO2         43.14
11      Nb2O5        98.21
12      SiO2         24.25
13      Nb2O5        20.35
14      SiO2         33.41
15      Nb2O5       121.78
16      SiO2         24.73
17      Nb2O5       115.21
18      SiO2         24.25
19      Nb2O5        17.27
20      SiO2         29.59
21      Nb2O5       122.35
22      SiO2         24.25
23      Nb2O5       133.06
24      SiO2         24.25
25      Nb2O5       134.08
26      SiO2         24.25
27      Nb2O5       134.90
28      SiO2         24.25
29      Nb2O5       133.68
30      SiO2         24.25
31      Nb2O5       132.29
32      SiO2         26.35
33      Nb2O5       133.27
34      SiO2         24.25
35      Nb2O5       132.92
36      SiO2         24.25
37      Nb2O5       133.38
38      SiO2         24.25
39      Nb2O5       134.92
40      SiO2         24.25
41      Nb2O5       133.53
42      SiO2         24.25
43      Nb2O5       133.31
44      SiO2         26.21
45      Nb2O5       128.44
46      SiO2         33.18
47      Nb2O5       110.75
48      SiO2        147.03
49      Nb2O5        87.24
50      SiO2        176.66
51      Nb2O5       114.02
52      SiO2         24.25
53      Nb2O5        14.55
54      SiO2        175.10
55      Nb2O5        26.12
56      SiO2         27.24
57      Nb2O5        34.05
58      SiO2        168.35
59      Nb2O5        92.33
60      SiO2        164.19
61      Nb2O5       108.87
62      SiO2        179.05
63      Nb2O5        97.45
64      SiO2        150.95
65      Nb2O5        88.14
66      SiO2         72.29【００４９】
実施例３
多層膜ＭＡ（Ａ面）
n(540nm)
基板    1.52
SiO2    1.47
TiO2    2.39
層      材料       膜厚(nm)
1       TiO2          9.16
2       SiO2         29.43
3       TiO2         95.11
4       SiO2        159.35
5       TiO2         85.78
6       SiO2         20.25
7       TiO2         20.88
8       SiO2         39.90
9       TiO2        108.96
10      SiO2        195.34
11      TiO2         11.36
12      SiO2        678.69
13      TiO2         11.21
14      SiO2        192.42
15      TiO2         99.02
16      SiO2         37.50
17      TiO2         14.79
18      SiO2         42.40
19      TiO2        115.31
20      SiO2         24.63
21      TiO2        128.14
22      SiO2         24.24
23      TiO2        128.40
24      SiO2         25.26
25      TiO2        129.56
26      SiO2         27.05
27      TiO2        125.56
28      SiO2         31.34
29      TiO2        113.94
30      SiO2         80.27
31      TiO2         12.39
32      SiO2         31.73
33      TiO2         77.37
34      SiO2        185.56
35      TiO2         23.60
36      SiO2        185.81
37      TiO2         64.17
38      SiO2         19.91
39      TiO2         13.83
40      SiO2        117.13
41      TiO2         96.53
42      SiO2        139.71
43      TiO2         13.27
44      SiO2         37.62
45      TiO2         30.27
46      SiO2        188.60
47      TiO2        103.49
48      SiO2         29.02
49      TiO2         18.48
50      SiO2         38.05
51      TiO2        108.82
52      SiO2        197.19
53      TiO2         19.31
54      SiO2        194.83
55      TiO2         86.27
56      SiO2         23.28
57      TiO2         18.11
58      SiO2         53.39
59      TiO2        110.09
60      SiO2         60.43
61      TiO2         20.65
62      SiO2         24.11
63      TiO2         70.07
64      SiO2        159.63
65      TiO2         82.41
66      SiO2         48.23
67      TiO2         11.26
68      SiO2         63.43
69      TiO2         81.18
70      SiO2         20.53
71      TiO2         21.66
72      SiO2         50.41
73      TiO2        107.83
74      SiO2        208.64
75      TiO2         18.66
76      SiO2         42.12
77      TiO2        112.95
78      SiO2        165.54
79      TiO2         89.71
80      SiO2         77.84【００５０】
実施例３
多層膜ＭＢ（Ｂ面）
n(540nm)
基板    1.52
SiO2    1.47
TiO2    2.39
層      材料       膜厚(nm)
1       TiO2         10.05
2       SiO2         34.19
3       TiO2         97.80
4       SiO2        153.99
5       TiO2         86.57
6       SiO2        151.02
7       TiO2        105.53
8       SiO2         19.19
9       TiO2        113.00
10      SiO2         56.42
11      TiO2         12.87
12      SiO2         51.09
13      TiO2        100.27
14      SiO2         17.08
15      TiO2         26.39
16      SiO2         32.21
17      TiO2         32.55
18      SiO2         47.26
19      TiO2         22.20
20      SiO2         48.91
21      TiO2        108.20
22      SiO2         70.03
23      TiO2         11.45
24      SiO2         47.32
25      TiO2        200.40
26      SiO2         41.57
27      TiO2         14.77
28      SiO2         60.07
29      TiO2        105.16
30      SiO2         58.44
31      TiO2         15.70
32      SiO2         43.57
33      TiO2        196.62
34      SiO2        161.54
35      TiO2         85.75
36      SiO2         18.19
37      TiO2         21.35
38      SiO2         54.77
39      TiO2         25.45
40      SiO2         45.46
41      TiO2         31.68
42      SiO2         36.17
43      TiO2        116.54
44      SiO2         54.43
45      TiO2         17.42
46      SiO2         42.47
47      TiO2        203.30
48      SiO2         48.00
49      TiO2         12.03
50      SiO2         68.49
51      TiO2        104.90
52      SiO2         52.83
53      TiO2         18.34
54      SiO2         37.92
55      TiO2        202.90
56      SiO2         38.40
57      TiO2         19.27
58      SiO2         48.13
59      TiO2         96.33
60      SiO2        155.44
61      TiO2         92.57
62      SiO2        173.19
63      TiO2        103.66
64      SiO2        173.53
65      TiO2        103.50
66      SiO2        174.04
67      TiO2        102.01
68      SiO2        164.17
69      TiO2         90.66
70      SiO2        161.13
71      TiO2        113.04
72      SiO2         31.81
73      TiO2         29.18
74      SiO2         51.13
75      TiO2         26.04
76      SiO2         36.69
77      TiO2        109.39
78      SiO2        155.58
79      TiO2         85.88
80      SiO2        150.37
81      TiO2         83.25
82      SiO2         72.86【００５１】
実施例４
多層膜ＭＡ（Ａ面）
n(540nm)
基板    1.52
SiO2    1.47
TiO2    2.39
層      材料       膜厚(nm)
1       SiO2         54.59
2       TiO2          9.90
3       SiO2         35.25
4       TiO2        107.25
5       SiO2         35.16
6       TiO2         21.40
7       SiO2         23.47
8       TiO2         91.88
9       SiO2        189.41
10      TiO2         19.76
11      SiO2        214.64
12      TiO2         20.27
13      SiO2        192.62
14      TiO2         72.68
15      SiO2         19.67
16      TiO2         26.11
17      SiO2         50.06
18      TiO2        121.81
19      SiO2         27.69
20      TiO2        128.55
21      SiO2         24.37
22      TiO2        129.54
23      SiO2         23.31
24      TiO2        129.71
25      SiO2         22.52
26      TiO2        130.03
27      SiO2         21.83
28      TiO2        130.18
29      SiO2         20.98
30      TiO2        130.68
31      SiO2         21.97
32      TiO2        130.13
33      SiO2         25.70
34      TiO2        121.99
35      SiO2         56.45
36      TiO2         23.71
37      SiO2         24.89
38      TiO2         69.60
39      SiO2        189.30
40      TiO2         23.96
41      SiO2        211.37
42      TiO2         22.52
43      SiO2        212.72
44      TiO2         23.32
45      SiO2        201.67
46      TiO2         42.44
47      SiO2         29.81
48      TiO2         22.29
49      SiO2        288.86
50      TiO2         15.75
51      SiO2         20.02
52      TiO2         75.03
53      SiO2        168.01
54      TiO2         69.30
55      SiO2         17.58
56      TiO2         20.89
57      SiO2        236.37
58      TiO2         11.40
59      SiO2         31.79
60      TiO2        100.20
61      SiO2        176.11
62      TiO2        113.67
63      SiO2        186.72
64      TiO2        113.29
65      SiO2        187.39
66      TiO2        114.15
67      SiO2        182.70
68      TiO2        124.66
69      SiO2         37.51
70      TiO2         17.76
71      SiO2        158.83
72      TiO2          9.94
73      SiO2         32.29
74      TiO2         82.85
75      SiO2         24.80
76      TiO2         19.07
77      SiO2         74.29
78      TiO2         21.29
79      SiO2         16.41
80      TiO2         78.08
81      SiO2         86.14【００５２】
実施例４
多層膜ＭＢ（Ｂ面）
n(540nm)
基板    1.52
SiO2    1.47
TiO2    2.39
層      材料       膜厚(nm)
1       TiO2         10.15
2       SiO2         34.31
3       TiO2        102.29
4       SiO2        158.00
5       TiO2         85.29
6       SiO2        150.91
7       TiO2         87.84
8       SiO2         35.67
9       TiO2         15.31
10      SiO2         41.05
11      TiO2         89.48
12      SiO2        146.05
13      TiO2         80.84
14      SiO2        143.54
15      TiO2         80.59
16      SiO2        145.35
17      TiO2         93.20
18      SiO2         46.82
19      TiO2         22.36
20      SiO2         31.17
21      TiO2         58.41
22      SiO2         45.47
23      TiO2         11.33
24      SiO2         74.10
25      TiO2         88.06
26      SiO2        142.90
27      TiO2         81.55
28      SiO2        142.88
29      TiO2         82.87
30      SiO2        147.03
31      TiO2         91.50
32      SiO2        179.06
33      TiO2         26.19
34      SiO2         12.57
35      TiO2         80.35
36      SiO2         20.26
37      TiO2         10.15
38      SiO2        146.29
39      TiO2         92.57
40      SiO2        145.43
41      TiO2         21.58
42      SiO2         16.24
43      TiO2         40.24
44      SiO2        167.77
45      TiO2        104.56
46      SiO2         32.72
47      TiO2         14.04
48      SiO2         91.76
49      TiO2         10.15
50      SiO2         47.83
51      TiO2        100.80
52      SiO2        155.22
53      TiO2         90.33
54      SiO2        148.68
55      TiO2         11.92
56      SiO2         15.22
57      TiO2        304.64
58      SiO2         26.97
59      TiO2         26.25
60      SiO2         41.89
61      TiO2        112.25
62      SiO2         77.59
63      TiO2         10.15
64      SiO2         51.91
65      TiO2        212.68
66      SiO2         40.31
67      TiO2         20.94
68      SiO2         47.55
69      TiO2        106.09
70      SiO2         18.40
71      TiO2         10.15
72      SiO2        179.85
73      TiO2         15.07
74      SiO2         16.31
75      TiO2         92.24
76      SiO2        168.29
77      TiO2         64.07
78      SiO2         17.50
79      TiO2         19.39
80      SiO2        108.52
81      TiO2         21.10
82      SiO2         21.61
83      TiO2         50.42
84      SiO2         85.10【００５３】
【表１】
0006458797.tif 000002
【００５４】
【表２】
0006458797.tif 000003
【符号の説明】
【００５５】
ＦＲ    赤外カットフィルター
ＭＡ，ＭＢ    誘電体多層膜
ＳＵ    基板
ＤＵ    デジタル機器
ＬＵ    撮像光学装置（カメラユニット）
ＬＮ    撮像レンズ
ＳＲ    撮像素子
ＳＳ    受光面（撮像面）
ＩＭ    像面（光学像）
ＡＸ    光軸
１    信号処理部
２    制御部
３    メモリー
４    操作部
５    表示部
【図１】
0006458797.tif 000004
【図２】
0006458797.tif 000005
【図３】
0006458797.tif 000006
【図４】
0006458797.tif 000007
【図５】
0006458797.tif 000008
【図６】
0006458797.tif 000009
【図７】
0006458797.tif 000010
【図８】
0006458797.tif 000011
【図９】
0006458797.tif 000012
【図１０】
0006458797.tif 000013
【図１１】
0006458797.tif 000014
【図１２】
0006458797.tif 000015
【図１３】
0006458797.tif 000016
【図１４】
0006458797.tif 000017
【図１５】
0006458797.tif 000018
【図１６】
0006458797.tif 000019
【図１７】
0006458797.tif 000020
【図１８】
0006458797.tif 000021