(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
１以上の凹部を有し、且つ、前記凹部の底面において、中心部はハイドロゲルに対する吸着性が低い第１の材料で構成され、周縁部はハイドロゲルに対する吸着性が高い第２の材料で構成された部材Ａと、
前記部材Ａの前記凹部の横断面とほぼ同一の大きさの横断面の貫通孔を１以上有する部材Ｂと、を
前記部材Ａの前記凹部と前記部材Ｂの前記貫通孔とが重なるように同心状に配置させ、載置する工程１と、
前記部材Ｂの前記貫通孔からゾルを注入する工程２と、
前記ゾルが注入された前記部材Ａ及び前記部材Ｂを静置して、前記ゾルをゲル化させる工程３と、
前記工程３で得られたハイドロゲルを前記部材Ａ及び前記部材Ｂ内に形成された状態で乾燥しガラス化させる工程４と、
前記工程４で得られたハイドロゲル乾燥体を前記部材Ａ及び前記部材Ｂ内に形成された状態で水和させる工程５と、
前記工程５で得られたビトリゲルを前記部材Ａ及び前記部材Ｂ内に形成された状態で乾燥し再度ガラス化させる工程６と、
前記工程６で得られたビトリゲル乾燥体のうち前記部材Ａの天面上をわずかに覆う部分を切り離す工程７と、
をこの順に備えるビトリゲル膜乾燥体の製造方法。
【請求項２】
前記第１の材料が前記部材Ａの前記凹部の底面において脱着可能である請求項１に記載のビトリゲル膜乾燥体の製造方法。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のビトリゲル膜乾燥体の製造方法により得られたビトリゲル膜乾燥体を用いてビトリゲル膜乾燥体が接着されたデバイスを製造する方法であって、
前記ビトリゲル膜乾燥体が前記部材Ａ及び前記部材Ｂ内に配置された状態で、前記部材Ｂを前記部材Ａから離間させ、
前記ビトリゲル膜乾燥体と接する側の面の周縁部に接着剤層を有する筒状部材が抜き差し可能にはめ込まれており、且つ、前記部材Ａの前記凹部の横断面とほぼ同一の大きさの横断面の凹部を１以上有する部材Ｃを、前記部材Ａの前記凹部と前記部材Ｃの前記凹部とが重なるように同心状に配置させ、前記部材Ｃの上に前記部材Ａを載置する工程８と、
前記部材Ａと前記部材Ｃとを離間させ、前記部材Ａから前記ビトリゲル膜乾燥体が接着された筒状部材を抜き出す工程９と、
をこの順に備えるビトリゲル膜乾燥体が接着されたデバイスの製造方法。
【請求項４】
前記工程９の後に、さらに、
前記工程９で得られた前記ビトリゲル膜乾燥体が接着された前記筒状部材を、前記ビトリゲル膜乾燥体が接着された面が底面と接するように第２の部材Ｃに抜き差し可能にはめ込み、前記筒状部材の前記ビトリゲル膜乾燥体が接着されていない面の周縁部に接着剤層を形成する工程１０と、
前記ビトリゲル膜乾燥体の製造方法により得られた第２のビトリゲル膜乾燥体が第２の部材Ａ及び第２の部材Ｂ内に形成された状態で、前記第２の部材Ｂを前記第２の部材Ａから離間させ、
前記工程１０で得られた第２の部材Ｃを、前記第２の部材Ａの前記凹部と前記第２の部材Ｃの前記凹部とが重なるように同心状に配置させ、前記第２の部材Ｃの前記ビトリゲル乾燥体が接着されていない面の前記接着剤層と前記第２の部材Ａ内に形成された第２のビトリゲル乾燥体とが接するように、前記第２の部材Ｃの上に前記第２の部材Ａを載置する工程１１と、
前記第２の部材Ｃと前記第２の部材Ａとを離間させ、前記第２の部材Ａから前記ビトリゲル膜乾燥体が両面に接着された筒状部材を抜き出す工程１２と、
をこの順に備える請求項３に記載のビトリゲル膜乾燥体が接着されたデバイスの製造方法。
【請求項５】
１以上の凹部を有し、且つ、前記凹部の底面において、中心部はハイドロゲルに対する吸着性が低い第１の材料で構成され、周縁部はハイドロゲルに対する吸着性が高い第２の材料で構成された部材Ａと、
前記部材Ａの前記凹部の横断面とほぼ同一の大きさの横断面の貫通孔を１以上有する部材Ｂと、を備え、
前記部材Ａと前記部材Ｂとを同心状に配置した場合に、前記凹部と前記貫通孔とが重なるように配置されているビトリゲル膜乾燥体の製造装置。
【請求項６】
前記第１の材料が前記部材Ａの前記凹部の底面において脱着可能である請求項５に記載のビトリゲル膜乾燥体の製造装置。
【請求項７】
請求項５又は６に記載のビトリゲル膜乾燥体の製造装置と、
前記部材Ａの前記凹部の横断面とほぼ同一の大きさの横断面の凹部を１以上有する部材Ｃと、を備え、
前記部材Ｃの前記凹部は、ビトリゲル膜乾燥体が接着されたデバイスの本体となる筒状部材を抜き差し可能にはめ込むためのものであり、
前記部材Ａと前記部材Ｃとを同心状に配置した場合に、前記部材Ａの前記凹部と前記部材Ｃの前記凹部とが重なるように配置されているビトリゲル膜乾燥体が接着されたデバイスの製造装置。
【請求項８】
２以上の前記ビトリゲル膜乾燥体の製造装置を備える請求項７に記載のビトリゲル膜乾燥体が接着されたデバイスの製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ビトリゲル膜乾燥体の製造方法及び製造装置に関する。具体的には、本発明は、ビトリゲル膜乾燥体の製造方法及び製造装置、並びに、該製造方法及び製造装置を用いて得られたビトリゲル膜乾燥体が接着されたデバイスの製造方法及び製造装置に関する。
本願は、２０１７年５月１７日に、日本に出願された特願２０１７−０９８３３０号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
【背景技術】
【０００２】
これまで、発明者は、コラーゲンビトリゲル膜乾燥体を備えるチャンバーを開発してきた（例えば、特許文献１参照）。当初、パラフィルム（登録商標）と一体化した、しわのない平滑な面を有するコラーゲンビトリゲル膜乾燥体を製造し（例えば、特許文献２参照）、これを筒状のチャンバー本体に貼り付けた後にパラフィルム（登録商標）を剥離することでコラーゲンビトリゲル膜乾燥体を備えるチャンバーを製造していた。現在では、２枚の環状磁石に挟んだコラーゲンビトリゲル膜を乾燥させてコラーゲンビトリゲル膜乾燥体を製造し（例えば、特許文献３参照）、これを筒状のチャンバー本体に貼り付けた後に不要部分を切除することでコラーゲンビトリゲル膜乾燥体を備えるチャンバーを製造している。
また、発明者は、製造されたコラーゲンビトリゲル膜乾燥体を備えるチャンバーにおいて、水和時にコラーゲンビトリゲル膜がたわむことを防ぐために、当該コラーゲンビトリゲル膜の下に、シリコン処理されたポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを貼り付ける方法を開発した（例えば、特許文献４参照）。【０００３】
また、発明者は、現在、コラーゲンビトリゲル膜乾燥体を備える細胞封入用デバイスを開発している。その製造方法としては、まず、２枚の環状磁石に挟んだコラーゲンビトリゲル膜を乾燥させてコラーゲンビトリゲル膜乾燥体を製造する（例えば、特許文献３参照）。次いで、このコラーゲンビトリゲル膜乾燥体をリング状の側面部材に貼り付けた後に不要部分を切除することでコラーゲンビトリゲル膜乾燥体を備える細胞封入用デバイスが得られる。
一方、発明者がこれまでに開発した貼付型（絆創膏型）人工皮膚製剤は、アテロコラーゲンビトリゲル膜乾燥体を創傷部に置き、次いで、コラーゲンビトリゲル膜乾燥体よりも一回り大きいシリコン処理されたＰＥＴフィルムを重ね、さらに、その上からドレッシングテープを覆い被せて貼り付けたものである（例えば、特許文献５参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】日本国特許第５９３３２２３号公報
【特許文献２】日本国特許第５８９２６１１号公報
【特許文献３】日本国特許第４８１７８４７号公報
【特許文献４】日本国特開２０１５−２２３１０８号公報
【特許文献５】再公表ＷＯ２０１４／２０８５２５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献２に記載のパラフィルム（登録商標）と一体化した、しわのない平滑な面を有するコラーゲンビトリゲル膜乾燥体では、パラフィルム（登録商標）を剥離した後に、コラーゲンビトリゲル膜乾燥体の表面にパラフィルム（登録商標）に由来する成分が付着するという課題があった。
また、特許文献３に記載の環状磁石を用いて製造されたコラーゲンビトリゲル膜乾燥体は、作業に時間とコストとを要し、さらに、コラーゲンビトリゲル膜乾燥体に乾燥皺が生じるという課題があった。
また、特許文献４に記載のシリコン処理されたＰＥＴフィルムが貼付されたコラーゲンビトリゲル膜を備えるチャンバーでは、コラーゲンビトリゲル膜を備えるチャンバーを製造した後にシリコン処理されたＰＥＴフィルムを貼付していた。そのため、シリコン処理されたＰＥＴフィルムが弱く貼付された、しわのない平滑な面を有するコラーゲンビトリゲル膜乾燥体を低コスト且つ簡便に製造する技術は未だ開発されていなかった。【０００６】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、簡便に、しわのない平滑な面を有するビトリゲル膜乾燥体を得られるビトリゲル膜乾燥体の製造方法及び製造装置を提供する。また、ビトリゲル膜乾燥体の製造から連続的に製造可能であり、簡便なビトリゲル膜乾燥体が接着されたデバイスの製造方法及び製造装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
発明者は、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、ハイドロゲルに対する吸着性が低い部材及びハイドロゲルに対する吸着性が高い部材を備える装置を用いることで、簡便にしわのない平滑な面を有するビトリゲル膜乾燥体が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。【０００８】
すなわち、本発明は、以下の態様を含む。
本発明の第１態様に係るビトリゲル膜乾燥体の製造方法は、１以上の凹部を有し、且つ、前記凹部の底面において、中心部はハイドロゲルに対する吸着性が低い第１の材料で構成され、周縁部はハイドロゲルに対する吸着性が高い第２の材料で構成された部材Ａと、前記部材Ａの前記凹部の横断面とほぼ同一の大きさの横断面の貫通孔を１以上有する部材Ｂと、を前記部材Ａの前記凹部と前記部材Ｂの前記貫通孔とが重なるように同心状に配置させ、載置する工程１と、前記部材Ｂの前記貫通孔からゾルを注入する工程２と、前記ゾルが注入された前記部材Ａ及び前記部材Ｂを静置して、前記ゾルをゲル化させる工程３と、前記工程３で得られたハイドロゲルを前記部材Ａ及び前記部材Ｂ内に形成された状態で乾燥しガラス化させる工程４と、前記工程４で得られたハイドロゲル乾燥体を前記部材Ａ及び前記部材Ｂ内に形成された状態で水和させる工程５と、前記工程５で得られたビトリゲルを前記部材Ａ及び前記部材Ｂ内に形成された状態で乾燥し再度ガラス化させる工程６と、前記工程６で得られたビトリゲル乾燥体のうち前記部材Ａの天面上をわずかに覆う部分を切り離す工程７と、をこの順に備える方法である。
上記第１態様に係るビトリゲル膜乾燥体の製造方法において、前記第１の材料が前記部材Ａの前記凹部の底面において脱着可能であってもよい。【０００９】
本発明の第２態様に係るビトリゲル膜乾燥体が接着されたデバイスの製造方法は、上記第１態様に係るビトリゲル膜乾燥体の製造方法により得られたビトリゲル膜乾燥体を用いてビトリゲル膜乾燥体が接着されたデバイスを製造する方法であって、前記ビトリゲル膜乾燥体が前記部材Ａ及び前記部材Ｂ内に配置された状態で、前記部材Ｂを前記部材Ａから離間させ、前記ビトリゲル膜乾燥体と接する側の面の周縁部に接着剤層を有する筒状部材が抜き差し可能にはめ込まれており、且つ、前記部材Ａの前記凹部の横断面とほぼ同一の大きさの横断面の凹部を１以上有する部材Ｃを、前記部材Ａの前記凹部と前記部材Ｃの前記凹部とが重なるように同心状に配置させ、前記部材Ｃの上に前記部材Ａを載置する工程８と、前記部材Ａと前記部材Ｃとを離間させ、前記部材Ａから前記ビトリゲル膜乾燥体が接着された筒状部材を抜き出す工程９と、をこの順に備える方法である。
上記第２態様に係るビトリゲル膜乾燥体が接着されたデバイスの製造方法において、前記工程９の後に、さらに、前記工程９で得られた前記ビトリゲル膜乾燥体が接着された前記筒状部材を、前記ビトリゲル膜乾燥体が接着された面が底面と接するように第２の部材Ｃに抜き差し可能にはめ込み、前記筒状部材の前記ビトリゲル膜乾燥体が接着されていない面の周縁部に接着剤層を形成する工程１０と、前記ビトリゲル膜乾燥体の製造方法により得られた第２のビトリゲル膜乾燥体が第２の部材Ａ及び第２の部材Ｂ内に形成された状態で、前記第２の部材Ｂを前記第２の部材Ａから離間させ、前記工程１０で得られた第２の部材Ｃを、前記第２の部材Ａの前記凹部と前記第２の部材Ｃの前記凹部とが重なるように同心状に配置させ、前記第２の部材Ｃの前記ビトリゲル乾燥体が接着されていない面の前記接着剤層と前記第２の部材Ａ内に形成された第２のビトリゲル乾燥体とが接するように、前記第２の部材Ｃの上に前記第２の部材Ａを載置する工程１１と、前記第２の部材Ｃと前記第２の部材Ａとを離間させ、前記第２の部材Ａから前記ビトリゲル膜乾燥体が両面に接着された筒状部材を抜き出す工程１２と、をこの順に備えていてもよい。【００１０】
本発明の第３態様に係るビトリゲル膜乾燥体の製造装置は、１以上の凹部を有し、且つ、前記凹部の底面において、中心部はハイドロゲルに対する吸着性が低い第１の材料で構成され、周縁部はハイドロゲルに対する吸着性が高い第２の材料で構成された部材Ａと、前記部材Ａの前記凹部の横断面とほぼ同一の大きさの横断面の貫通孔を１以上有する部材Ｂと、を備え、前記部材Ａと前記部材Ｂとを同心状に配置した場合に、前記凹部と前記貫通孔とが重なるように配置されている。
上記第３態様に係るビトリゲル膜乾燥体の製造装置において、前記第１の材料が前記部材Ａの前記凹部の底面において脱着可能であってもよい。【００１１】
本発明の第４態様に係るビトリゲル膜乾燥体が接着されたデバイスの製造装置は、上記第３態様に係るビトリゲル膜乾燥体の製造装置と、前記部材Ａの前記凹部の横断面とほぼ同一の大きさの横断面の凹部を１以上有する部材Ｃと、を備え、前記部材Ｃの前記凹部は、ビトリゲル膜乾燥体が接着されたデバイスの本体となる筒状部材を抜き差し可能にはめ込むためのものであり、前記部材Ａと前記部材Ｃとを同心状に配置した場合に、前記部材Ａの前記凹部と前記部材Ｃの前記凹部とが重なるように配置されている。
上記態様に係るビトリゲル膜乾燥体が接着されたデバイスの製造装置において、２以上の前記ビトリゲル膜乾燥体の製造装置を備えてもよい。
【発明の効果】
【００１２】
上記態様のビトリゲル膜乾燥体の製造方法及び製造装置によれば、簡便に、しわのない平滑な面を有するビトリゲル膜乾燥体を得られる。また、上記態様のビトリゲル膜乾燥体が接着されたデバイスの製造方法及び製造装置によれば、ビトリゲル膜乾燥体が接着されたデバイスをビトリゲル膜乾燥体の製造から連続的に製造でき、簡便にビトリゲル膜乾燥体が接着されたデバイスを得られる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１Ａ】本実施形態のビトリゲル膜乾燥体が接着されたデバイスの製造装置の一例を示す平面図である。
【図１Ｂ】本実施形態のビトリゲル膜乾燥体が接着されたデバイスの製造装置の一例を示す正面図である。
【図１Ｃ】本実施形態のビトリゲル膜乾燥体が接着されたデバイスの製造装置の一例を示す斜視図である。
【図２Ａ】実施例１における本実施形態のビトリゲル膜乾燥体が接着されたデバイスの製造方法を用いて得られた細胞封入用デバイスにＰＢＳが満たした状態を示す画像である。
【図２Ｂ】比較例１における環状磁石を用いて製造されたビトリゲル膜乾燥体が接着された細胞封入用デバイスにＰＢＳが満たした状態を示す画像である。
【図３】実施例２における本実施形態のビトリゲル膜乾燥体が接着されたチャンバーにＰＢＳを注いだ状態を示す画像である。
【図４】製造例６における本実施形態のビトリゲル膜乾燥体とＰＥＴフィルムとを脱着させた様子を示す画像である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
≪ビトリゲル膜乾燥体の製造方法≫
本実施形態のビトリゲル膜乾燥体の製造方法は、部材Ａと部材Ｂとを用いる方法である。部材Ａは、１以上の凹部を有する。この凹部の底面において、中心部はハイドロゲルに対する吸着性が低い第１の材料で構成され、周縁部はハイドロゲルに対する吸着性が高い第２の材料で構成されている。また、部材Ｂは、部材Ａの凹部の横断面とほぼ同一の大きさの横断面の貫通孔を１以上有する。
また、本実施形態のビトリゲル膜乾燥体の製造方法は、以下の工程１〜工程７をこの順に備える。
工程１では、前記部材Ａの前記凹部と前記部材Ｂの前記貫通孔とが重なるように同心状に配置させ、載置する。
工程２では、前記部材Ｂの前記貫通孔からゾルを注入する。
工程３では、前記ゾルが注入された前記部材Ａ及び前記部材Ｂを静置して、前記ゾルをゲル化させる。
工程４では、前記工程３で得られたハイドロゲルを前記部材Ａ及び前記部材Ｂ内に形成された状態で乾燥しガラス化させる。
工程５では、前記工程４で得られたハイドロゲル乾燥体を前記部材Ａ及び前記部材Ｂ内に形成された状態で水和させる。
工程６では、前記工程５で得られたビトリゲルを前記部材Ａ及び前記部材Ｂ内に形成された状態で乾燥し再度ガラス化させる。
工程７では、前記工程６で得られたビトリゲル乾燥体のうち前記部材Ａの天面上をわずかに覆う部分を切り離す。
【００１５】
本実施形態のビトリゲル膜乾燥体の製造方法によれば、簡便にしわのない平滑な面を有するビトリゲル膜乾燥体を製造することができる。
なお、本明細書において、「ゾル」とは、液体を分散媒とする分散質のコロイド粒子（サイズ：約１〜数百ｎｍ程度）が、特に高分子化合物で構成されるものを意味する。ゾルとしてより具体的には、天然物高分子化合物や合成高分子化合物の水溶液が挙げられる。そのため、これら高分子化合物が化学結合により架橋が導入されて網目構造をとった場合は、その網目に多量の水を保有した半固形状態の物質である、「ハイドロゲル」に転移する。すなわち、「ハイドロゲル」とは、ゾルをゲル化させたものを意味する。
また、「ビトリゲル」とは、従来のハイドロゲルをガラス化（ｖｉｔｒｉｆｉｃａｔｉｏｎ）した後に再水和して得られる安定した状態にあるゲルのことを指し、発明者によって、「ビトリゲル（ｖｉｔｒｉｇｅｌ）（登録商標）」と命名されている。なお、以下、用語「ビトリゲル」を用いる際には、用語「（登録商標）」を省略して用いる。
また、本明細書において、ハイドロゲルからなるビトリゲル膜乾燥体の製造工程を詳細に説明するにあたり、当該ガラス化工程の直後であり再水和の工程を経ていないハイドロゲルの乾燥体に対しては、単に「ハイドロゲル乾燥体」と称する。そして、当該ガラス化工程の後に再水和の工程を経て得られたゲルを「ビトリゲル」として区別して表し、そのビトリゲルをガラス化させて得られた乾燥体を「ビトリゲル乾燥体」と称する。また、ビトリゲル乾燥体に紫外線照射する工程を施して得られるものを「ビトリゲル乾燥体に紫外線照射処理を施したビトリゲル材料」と称し、該ビトリゲル材料に再水和する工程を施して得られるゲルを「ビトリゲル材料」と称し、ビトリゲル材料を乾燥させて得られた乾燥体を「ビトリゲル材料の乾燥体」と称する。従って、「ビトリゲル」及び「ビトリゲル材料」は水和体である。
本実施形態のビトリゲル膜乾燥体の製造方法の各工程について、以下に詳細を説明する。
【００１６】
＜工程１＞
まず、部材Ａの上に部材Ｂを載置する。このとき、部材Ａの凹部と部材Ｂの貫通孔とが重なるように同心状に配置させる。部材Ａの凹部と部材Ｂの貫通孔とが重なり、連通することで、続く工程２において、部材Ｂの貫通孔を通して部材Ａの凹部にゾルを注入することができる。
次いで、各部材の構成及び材料について、以下に示す。
【００１７】
［部材Ａ］
（形状）
部材Ａは、１以上の凹部を有する。この凹部内に、ビトリゲル膜乾燥体が製造される。
部材Ａの凹部は、平滑な面を有するビトリゲル膜乾燥体が得られることから、底面が平滑であり、且つ、側面と底面とが互いに垂直になっているものである。
また、凹部の横断面の面積としては、所望の大きさのビトリゲル膜乾燥体となるような大きさとすることができ、特別な限定はない。凹部の横断面の面積としては、具体的には、例えば４ｍｍ２以上４００ｃｍ２以下とすることができ、例えば２０ｍｍ２以上４０ｃｍ２以下とすることができ、例えば８０ｍｍ２以上４ｃｍ２以下とすることができる。
【００１８】
凹部の数は、例えば、１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１２、１５、２０等が挙げられ、これらに限定されない。中でも、凹部の数は、偶数であることが好ましく、２、４、６又は８であることがより好ましく、４、６又は８であることがさらに好ましい。
また、部材Ａにおいて凹部を２以上有する場合、凹部は部材Ａ上において、等間隔に配置されていることが好ましい。
【００１９】
また、部材Ａにおいて、凹部の深さは、ビトリゲル膜乾燥体の厚さが所望の厚さとなるように適宜調整することができ、１μｍ以上５ｍｍ以下であることが好ましく、５μｍ以上３ｍｍ以下であることがより好ましく、１０μｍ以上２ｍｍ以下であることがさらに好ましく、１００μｍ以上１ｍｍ以下であることが特に好ましい。凹部の深さが上記範囲であることにより、例えば、本実施形態の製造方法により得られたビトリゲル膜乾燥体を細胞封入用デバイスに使用した場合に、当該デバイス内に細胞を注入し、培養することが可能な強度とすることができる。
【００２０】
また、部材Ａにおいて、凹部の横断面の形状は、ビトリゲル膜乾燥体の形状が所望の形状となるように適宜調整することができ、例えば、三角形、四角形（正方形、長方形、台形含む）、五角形、六角形、七角形、八角形等の多角形；円形、楕円形、略円形、楕円形、略楕円形、半円形、扇形等が挙げられ、これらに限定されない。中でも、凹部の横断面の形状は、円形であることが好ましい。
【００２１】
また、部材Ａにおいて、凹部の横断面が円形である場合、その径は、ビトリゲル膜乾燥体の径が所望の径となるように適宜調整することができ、例えば２ｍｍ以上２２６ｍｍ以下とすることができ、例えば５ｍｍ以上７２ｍｍ以下とすることができ、例えば１０ｍｍ以上２３ｍｍ以下とすることができる。
【００２２】
（材料）
また、部材Ａを構成する材料としては、凹部の底面において、中心部はハイドロゲルに対する吸着性が低い第１の材料で構成され、周縁部はハイドロゲルに対する吸着性が高い第２の材料で構成されている。また、凹部の底面の中心部以外の部分は全て第２の材料で構成されていてもよい。
ここで、「凹部の底面の中心部」とは、底面の中心から最短の縁部までの距離のうち、例えば９／１０、好ましくは４／５、より好ましくは３／４、さらに好ましくは２／３、特に好ましくは１／２までの位置を意味する。また、「凹部の底面の周縁部」とは、前記凹部の底面の中心部を取り囲む部分を意味する。
【００２３】
本明細書において、「ハイドロゲルに対する吸着性が低い材料」とは、ハイドロゲルが全く吸着しない材料又は脱着可能な程度の弱い力で吸着する材料を意味する。
また、本明細書において、「ハイドロゲルに対する吸着性が高い材料」とは、ハイドロゲルが完全に吸着する材料又は脱着できない程度の強い力で吸着する材料を意味する。
具体的には、以下に示すとおり定義することができる。
まず、ハイドロゲルと第１の材料又は第２の材料とを接触させて、第１の材料又は第２の材料の表面上のハイドロゲルを水平方向から観察したときに、ハイドロゲルの輪郭曲線と第１の材料表面又は第２の材料との交点を「端点」とすると、端点において接触角θが測定される。このとき、端点には、第１の材料又は第２の材料の表面張力（気体／第１の材料又は第２の材料間の界面張力）γＳ１又はγＳ２、ハイドロゲル／第１の材料又は第２の材料間の界面張力γＬＳ１又はγＬＳ２、及び、ハイドロゲルの表面張力（気体／ハイドロゲル間の界面張力）γＬが働く。ぬれの状態が安定しているとき、端点は右左に動かず静止するため、これら「γＳ１、γＬＳ１、及び、γＬ」、又は、「γＳ２、γＬＳ２、及び、γＬ」のそれぞれ３つの力はつり合っていることになる。これらの３つの力のつり合いは、以下の［１］又は［２］で表される式（Ｙｏｕｎｇの式）で示される。
γＳ１＝γＬｃｏｓθ＋γＬＳ１    ・・・［１］
γＳ２＝γＬｃｏｓθ＋γＬＳ２    ・・・［２］
【００２４】
また、ぬれ性、すなわち接触角の大小は、ハイドロゲル及び第１の材料又は第２の材料それぞれの表面特性によって決まることになる。よって、上記式［１］を変形した以下の［３］で表される式、又は、上記式［２］を変形した以下の［４］で表される式で考えることができる。
ｃｏｓθ＝（γＳ１−γＬＳ１）／γＬ    ・・・［３］
ｃｏｓθ＝（γＳ２−γＬＳ２）／γＬ    ・・・［４］
【００２５】
ｃｏｓθが小さくなって０に近づくということは、接触角θが１８０°に近づき、ぬれが悪くなる、すなわちハイドロゲルに対する吸着性が低くなることを意味する。このことから、ハイドロゲルに対する吸着性を低くするための方法としては、「（１）ハイドロゲルの表面張力γＬを大きくする」、又は、「（２）第１の材料の表面張力γＳ１を小さくする」のいずれかの方法が挙げられる。
【００２６】
一方、ｃｏｓθが大きくなって１に近づくということは、接触角θが０°に近づき、ぬれが良くなる、すなわちハイドロゲルに対する吸着性が高くなることを意味する。このことから、ハイドロゲルに対する吸着性を高くするための方法としては、「（１）ハイドロゲルの表面張力γＬを小さくする」、又は、「（２）第２の材料の表面張力γＳ２を大きくする」のいずれかの方法が挙げられる。
【００２７】
ハイドロゲルの表面張力は、得られる膜の強度を一定とするために、可変できる領域が限られている。そのため、ハイドロゲルに対する吸着性を低くする場合には、「（２）第１の材料の表面張力γＳ１を小さくする」方法が好適である。一方、ハイドロゲルに対する吸着性を高くする場合には、「（２）第２の材料の表面張力γＳ２を大きくする」方法が好適である。
【００２８】
以上のことから、ハイドロゲルに対する吸着性が低い材料とは、ハイドロゲルの表面張力よりも表面張力が小さい材料を意味する。より具体的には、第１の材料の表面張力がハイドロゲルの表面張力よりも、例えば１ｄｙｎｅｓ／ｃｍ以上、好ましくは５ｄｙｎｅｓ／ｃｍ以上、より好ましくは１０ｄｙｎｅｓ／ｃｍ以上、さらに好ましくは２０ｄｙｎｅｓ／ｃｍ以上、特に好ましくは３０ｄｙｎｅｓ／ｃｍ以上小さくすることができる。
第１の材料の表面張力がハイドロゲルの表面張力よりも上記下限値以上小さいことにより、製造されたビトリゲル膜乾燥体を第１の材料から容易に引き剥がすことができる。
【００２９】
また、ハイドロゲルに対する吸着性が高い材料とは、ハイドロゲルの表面張力よりも表面張力が大きい材料を意味する。より具体的には、第２の材料の表面張力がハイドロゲルの表面張力よりも、例えば１ｄｙｎｅｓ／ｃｍ以上、好ましくは３ｄｙｎｅｓ／ｃｍ以上、より好ましくは５ｄｙｎｅｓ／ｃｍ以上、さらに好ましくは７ｄｙｎｅｓ／ｃｍ以上、特に好ましくは１０ｄｙｎｅｓ／ｃｍ以上大きい。
第２の材料の表面張力がハイドロゲルの表面張力よりも上記下限値以上大きいことにより、後述の工程７の後に、製造されたビトリゲル膜乾燥体が意図に反して剥がれること、又は、移動することを抑制することができる。
【００３０】
また、ハイドロゲルがコラーゲン等のタンパク質を含むゲルである場合、ハイドロゲルに対する吸着性が低い材料とは親水性基を表面上に多く有する材料であってもよく、ハイドロゲルに対する吸着性が高い材料とは疎水性基を表面上に多く有する材料であってもよい。前記親水性基及び前記疎水性基の表面上に有する数は、使用するタンパク質を含むハイドロゲルの種類に応じて、適宜調整することができる。
前記親水性基としては、例えば、ホスホリルコリン基、アルキレングリコール基等が挙げられる。
前記疎水性基としては、例えば、直鎖状、分岐鎖状及び環状のアルキル基が挙げられる。アルキル基の炭素数は、例えば１以上２０以下であり、例えば４以上２０以下である。
【００３１】
前記第１の材料として具体的には、例えば、ステンレス鋼、ポリ（塩化ビニル）等が挙げられ、これらに限定されない。
また、第１の材料としては、例えば、シリコン等の剥離剤が積層されたフィルムであってもよい。ビトリゲル膜乾燥体と当該フィルムの剥離剤層が積層された面とが接するように、ビトリゲル膜乾燥体を製造することで、容易にビトリゲル膜乾燥体を引き剥がすことができる。前記フィルムの材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタラート、ポリスチレン、ポリプロピレン等が挙げられ、特別な限定はない。
また、第１の材料としては、例えば、シリコン等のオイルを部材Ａの底面上に塗布してなるオイル被膜であってもよい。
【００３２】
前記第２の材料として具体的には、例えば、ガラス材料、ポリアクリレート（アクリル樹脂）、ポリスチレン、ナイロン等が挙げられ、これらに限定されない。
前記ガラス材料としてより具体的には、例えば、ソーダ石灰ガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、バイコール（登録商標）ガラス、石英ガラス等が挙げられる。
前記ポリアクリレート（アクリル樹脂）としてより具体的には、例えば、ポリ（メタクリル酸メチル）、ポリ（メタクリル酸エチル）、ポリ（メタクリル酸ブチル）、ポリ（メタクリル酸イソブチル）、ポリ（メタクリル酸ヘキシル）、ポリ（メタクリル酸イソデシル）、ポリ（メタクリル酸ラウリル）、ポリ（メタクリル酸フェニル）、ポリ（アクリル酸メチル）、ポリ（アクリル酸イソプロピル）、ポリ（アクリル酸イソブチル）、ポリ（アクリル酸オクタデシル）等が挙げられる。
また、凹部の底面の中心部以外の部分が全て上記例示した第２の材料で構成されていてもよい。
【００３３】
また、前記第１の材料は、部材Ａの凹部の底面において、脱着可能に載置されていてもよい。このとき、第１の材料は物理的な引き剥がしによって、簡単に脱着可能な程度の弱い力で、部材Ａの凹部の底面を構成する材料に接着されていることが好ましい。具体的には、例えば、後述の製造例に示すように、第１の材料はＰＢＳ等の塩を介して、ピンセット等による物理的な引き剥がしによって簡単に脱着可能な程度の弱い力で、部材Ａの凹部の底面を構成する材料に接着されていてもよい。又は、第１の材料はシリコン等の剥離剤を含有する剥離剤層を介して、ピンセット等による物理的な引き剥がしによって簡単に脱着可能な程度の弱い力で、部材Ａの凹部の底面を構成する材料に接着されていてもよい。
このとき、第１の材料の下に存在する部材Ａの凹部の底面を構成する材料としては、上述の第２の材料と同様のものが挙げられる。
【００３４】
［部材Ｂ］
（形状）
部材Ｂは、１以上の貫通孔を有する。この貫通孔は、部材Ａの凹部の横断面とほぼ同一の大きさである。具体的には、貫通孔の横断面の面積は、部材Ａの凹部の横断面の面積に対して好ましくは１倍以上１．５倍以下、より好ましくは１倍以上１．３倍以下、さらに好ましくは１倍以上１．２５倍以下、特に好ましくは１．２１倍である。
貫通孔の数は、部材Ａの凹部の数と同じ数であることが好ましく、例えば、１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１２、１５、２０等が挙げられ、これらに限定されない。中でも、貫通孔の数は、偶数であることが好ましく、２、４、６又は８であることがより好ましく、４、６又は８であることがさらに好ましい。
また、部材Ｂにおいて貫通孔を２以上有する場合、貫通孔は部材Ｂ上において、等間隔に配置されていることが好ましい。
また、部材Ｂにおいて貫通孔を２以上有する場合、貫通孔は部材Ｂ上において、部材Ａ上の凹部と同じ間隔で配置されている。
また、部材Ａと部材Ｂとを同心状に配置させたときに、部材Ｂの貫通孔は、部材Ａの凹部と重なるように配置されている。
【００３５】
また、部材Ｂにおいて、貫通孔の高さは、特別な限定はなく、例えば１μｍ以上１００ｍｍ以下とすることができ、例えば１μｍ以上５０ｍｍ以下とすることができ、例えば５μｍ以上１０ｍｍ以下とすることができ、例えば１０μｍ以上５ｍｍ以下とすることができる。
【００３６】
また、部材Ｂにおいて、貫通孔の横断面の形状は、部材Ａの凹部の横断面と同一とすることができ、例えば、三角形、四角形（正方形、長方形、台形含む）、五角形、六角形、七角形、八角形等の多角形；円形、楕円形、略円形、楕円形、略楕円形、半円形、扇形等が挙げられ、これらに限定されない。中でも、貫通孔の横断面の形状は、円形であることが好ましい。
【００３７】
また、部材Ｂにおいて、貫通孔の横断面が円形である場合、その径は、部材Ａの凹部の径とほぼ同一とすることができ、例えば２ｍｍ以上２２６ｍｍ以下とすることができ、例えば５ｍｍ以上７２ｍｍ以下とすることができ、例えば１０ｍｍ以上２３ｍｍ以下とすることができる。
【００３８】
（材料）
また、部材Ｂの材料としては、特別な限定はなく、取扱いやすさから、部材Ａを構成する第２の材料と同じものであることが好ましい。部材Ｂの材料としては、上述の部材Ａの第２の材料として例示されたものと同じものが挙げられる。
【００３９】
＜工程２＞
次いで、部材Ｂの貫通孔から、部材Ａの凹部にゾルを注入する。
前記ゾルとしては、例えば、ゲル化する細胞外マトリックス由来成分、フィブリン、寒天、アガロース、セルロース等の天然高分子化合物、及びポリアクリルアミド、ポリビニルアルコール、ポリエチレンオキシド、ｐｏｌｙ（ＩＩ−ｈｙｄｒｏｘｙｅｔｈｙｌｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）／ｐｏｌｙｃａｐｒｏｌａｃｔｏｎｅ等の合成高分子化合物が包含される。
前記ゲル化する細胞外マトリックス由来成分としては、例えば、コラーゲン（I型、II型、III型、V型、XI型等）、マウスＥＨＳ腫瘍抽出物（IV型コラーゲン、ラミニン、ヘパラン硫酸プロテオグリカン等を含む）より再構成された基底膜成分（商品名：マトリゲル）、グリコサミノグリカン、ヒアルロン酸、プロテオグリカン、ゼラチン等が挙げられ、これらに限定されない。それぞれのゲル化に至適な塩等の成分、その濃度、ｐＨ等を選択し所望のビトリゲル膜乾燥体を製造することが可能である。また、原料を組み合わせることで、様々な生体内組織を模倣したビトリゲル膜乾燥体を得ることができる。
中でも、ゾルとしては、ゲル化する細胞外マトリックス由来成分が好ましく、コラーゲンがより好ましい。また、コラーゲンの中でもより好ましい原料としては、ネイティブコラーゲン又はアテロコラーゲンを例示できる。
【００４０】
前記ゾルがコラーゲンゾルである場合、コラーゲンゾルは至適な塩濃度を有するものとして、例えば、生理食塩水、ＰＢＳ（Ｐｈｏｓｐｈａｔｅ Ｂｕｆｆｅｒｅｄ Ｓａｌｉｎｅ）、ＨＢＳＳ（Ｈａｎｋ’ｓ Ｂａｌａｎｃｅｄ Ｓａｌｔ Ｓｏｌｕｔｉｏｎ）、基礎培養液、無血清培養液、血清含有培養液等を用いて、調製したものを用いることができる。また、コラーゲンのゲル化の際の溶液のｐＨは、例えば６以上８以下とすることができる。
特に無血清培養液を用いる場合、他動物血清成分中に含まれる移植に適さない物質（例えば、抗原、病原因子等）がビトリゲル膜乾燥体に含まれることを回避できる。そのため、無血清培養液を用いて得られたビトリゲル膜乾燥体は、医療用細胞移植デバイスに好適に用いられる。
【００４１】
また、ビトリゲル膜乾燥体を作製するためのコラーゲンゾルの濃度は、０．１％以上１．０％以下であることが好ましく、０．２％以上０．６％以下であることがより好ましい。コラーゲンゾルの濃度が上記下限値以上であることにより、ゲル化が弱すぎず、また、コラーゲンゾルの濃度が上記上限値以下であることにより、均一なコラーゲンゲルからなるビトリゲル膜乾燥体を得ることができる。
また、コラーゲンゾルの調製は例えば４℃程度で行えばよい。
【００４２】
＜工程３＞
次いで、ゾルが注入された部材Ａ及び部材Ｂを静置して、ゾルをゲル化させる。
ゾルを保温する温度は、用いるゾルの種類に応じて適宜調整することができる。例えば、ゾルがコラーゲンゾルである場合、ゲル化する際の保温は、用いるコラーゲンの動物種に依存したコラーゲンの変性温度より低い温度とすることができ、一般的には２０℃以上３７℃以下の温度で保温することで数分から数時間でゲル化を行うことができる。
【００４３】
＜工程４＞
次いで、得られたハイドロゲルを部材Ａ及び部材Ｂ内に形成された状態で乾燥し、ガラス化させる。
ハイドロゲルを乾燥させることにより、ハイドロゲル内の自由水を完全に除去し、さらに結合水の部分除去を進行させることができる。
このガラス化工程（ハイドロゲル内の自由水を完全に除去した後に、結合水の部分除去を進行させる工程）の期間を長くするほど、再水和した際には透明度、強度に優れたビトリゲルを得ることができる。なお、必要に応じて短期間のガラス化後に再水和して得たビトリゲルをＰＢＳ等で洗浄し、再度ガラス化することもできる。
【００４４】
乾燥方法としては、例えば、風乾、密閉容器内で乾燥（容器内の空気を循環させ、常に乾燥空気を供給する）、シリカゲルを置いた環境下で乾燥する等、種々の方法を用いることができる。例えば、風乾の方法としては、１０℃、４０％湿度で無菌に保たれたインキュベーターで２日間乾燥させる、若しくは、無菌状態のクリーンベンチ内で一昼夜、室温で乾燥する等の方法を例示することができる。
【００４５】
＜工程５＞
次いで、得られたハイドロゲル乾燥体を部材Ａ及び部材Ｂ内に形成された状態で水和させる。このとき、生理食塩水、ＰＢＳ（Ｐｈｏｓｐｈａｔｅ Ｂｕｆｆｅｒｅｄ Ｓａｌｉｎｅ）等を用いて、水和させることができる。
【００４６】
＜工程６＞
次いで、得られたビトリゲルを部材Ａ及び部材Ｂ内に形成された状態で乾燥し、再度ガラス化させる。
乾燥方法としては、上述の工程４で例示された方法と同様の方法が挙げられる。
【００４７】
＜工程７＞
次いで、得られたビトリゲル乾燥体を、例えば筒状のブレード（薄い刃）等を用いて、ビトリゲル乾燥体のうち前記部材Ａの天面上をわずかに覆う部分を切り離す。このとき、部材Ｂの内側面に沿って筒状のブレードを打ち込み、部材Ａの天面上をわずかに覆っているビトリゲル乾燥体を切断する。これにより、横断面の大きさがほぼ均一なビトリゲル乾燥体が形成できる。
前記筒状のブレードの横断面は、部材Ａの凹部の横断面より僅かに大きく、また部材Ｂの貫通孔の横断面より僅かに小さい大きさとすることができる。具体的には、筒状のブレードの横断面の面積は、部材Ａの凹部の横断面の面積に対して好ましくは１倍以上１．１５倍以下、より好ましくは１倍以上１．１倍以下、さらに好ましくは１倍以上１．０７倍以下、特に好ましくは１倍以上１．０５倍以下である。
【００４８】
また、筒状のブレードの高さは、部材Ａ及び部材Ｂに差し込むことができ、且つ、製造されたビトリゲル膜乾燥体を切り離すことが可能な高さとすることができ、特別な限定はない。
【００４９】
また、筒状のブレードの横断面の形状は、部材Ａの凹部の横断面と同一とすることができ、例えば、三角形、四角形（正方形、長方形、台形含む）、五角形、六角形、七角形、八角形等の多角形；円形、楕円形、略円形、楕円形、略楕円形、半円形、扇形等が挙げられ、これらに限定されない。中でも、貫通孔の横断面の形状は、円形であることが好ましい。
【００５０】
また、前記筒状のブレードの径は、筒状のブレードの横断面が円形である場合、その径は、部材Ａの凹部の径とほぼ同一とすることができ、例えば２ｍｍ以上２２６ｍｍ以下とすることができ、例えば５ｍｍ以上７２ｍｍ以下とすることができ、例えば１０ｍｍ以上２３ｍｍ以下とすることができる。
【００５１】
また、例えば、２以上のビトリゲル膜乾燥体を同時に製造する場合において、部材Ａの凹部の数に応じた数の前記筒状のブレードを備える部材Ｄであって、前記部材Ａと前記部材Ｂと前記部材Ｄとを同心状に配置させたとき、部材Ｂの貫通孔を介して、部材Ａの凹部と筒状のブレードとが重なるように筒状のブレードが配置された部材Ｄを用いて、部材Ａの凹部内に製造された２以上のビトリゲル膜乾燥体を一度に切り離してもよい。
【００５２】
＜その他の工程＞
また、得られたビトリゲル乾燥体は、工程６の後であって工程７の前に、部材Ａ及び部材Ｂ内に形成された状態で、又は、工程７の後に、部材Ａ及び部材Ｂから取り出された状態で、紫外線を照射して、ビトリゲル乾燥体に紫外線照射処理を施したビトリゲル材料としてもよい。
紫外線の照射には、公知の紫外線照射装置を使用することができる。
ビトリゲル乾燥体への紫外線の照射エネルギーは、単位面積あたりの総照射量が、０．１ｍＪ／ｃｍ２以上６０００ｍＪ／ｃｍ２以下であることが好ましく、１０ｍＪ／ｃｍ２以上４０００ｍＪ／ｃｍ２以下であることがより好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ２以上３０００ｍＪ／ｃｍ２以下であることがさらに好ましい。総照射量が上記の範囲であることにより、さらに再水和の工程で得られるビトリゲル材料の透明度及び強度を特に好ましいものとすることができる。
【００５３】
また、ビトリゲル乾燥体への紫外線の照射は、複数回繰り返し行ってもよい。ビトリゲル乾燥体への紫外線の照射を繰り返す場合、１度目の紫外線の照射を行った後に、ビトリゲル乾燥体に紫外線照射処理を施したビトリゲル材料の再水和及び再ガラス化の工程を行い、その後２度目以降の再ガラス化後のビトリゲル材料の乾燥体への紫外線の照射を行うことが好ましい。
単位面積あたりの紫外線総照射量が同一であるとき、ビトリゲル乾燥体への紫外線の照射を、複数回に分割して繰り返して行うことで、さらに再水和して得られるビトリゲル材料の透明度及び強度をより高めることができる。また分割の回数は多いほど好ましい。例えば、ビトリゲル乾燥体への紫外線の照射の単位面積あたりの総照射量が、１０００ｍＪ／ｃｍ２以上４０００ｍＪ／ｃｍ２以下の範囲であるとき、該範囲内での照射回数が２回以上１０回以下であることが好ましく、２回以上６回以下であることがより好ましい。
また、ビトリゲル乾燥体への紫外線の照射を繰り返す場合、紫外線の照射部位を、ビトリゲル乾燥体の一方の面と他方の面（上面と下面）とに分けて照射して、その総照射量を、ビトリゲル乾燥体への単位面積あたりの紫外線総照射量としてもよい。
【００５４】
紫外線の照射を、ビトリゲル乾燥体に行うことで、さらに再水和して得られるビトリゲル材料の強度と透明度が高まることは、ビトリゲル材料内の高分子化合物同士が、紫外線によって架橋されるからであると考えられる。つまり、当該操作により、高い透明度及び強度をビトリゲル材料に維持させることができると考えられる。
【００５５】
さらに、得られたビトリゲル乾燥体に紫外線照射処理を施したビトリゲル材料を水和することで、ビトリゲル材料としてもよい。このとき、生理食塩水、ＰＢＳ（Ｐｈｏｓｐｈａｔｅ Ｂｕｆｆｅｒｅｄ Ｓａｌｉｎｅ）等を用いて、水和させることができる。
【００５６】
さらに、得られたビトリゲル材料を乾燥することで、再ガラス化させて、ビトリゲル材料の乾燥体としてもよい。
乾燥方法としては、上述の工程４で例示された方法と同様の方法が挙げられる。
【００５７】
本実施形態のビトリゲル膜乾燥体の製造方法により得られるビトリゲル膜乾燥体は、例えば、ビトリゲル膜乾燥体を備えるチャンバー、細胞封入用デバイス、又は、前記ビトリゲル膜乾燥体を備えるフィルムを利用した貼付型人工皮膚製剤等に利用することができる。
【００５８】
≪ビトリゲル膜乾燥体が接着されたデバイスの製造方法≫
・第１実施形態
本実施形態のビトリゲル膜乾燥体が接着されたデバイスの製造方法は、上記実施形態に係るビトリゲル膜乾燥体の製造方法により得られたビトリゲル膜乾燥体を用いてビトリゲル膜乾燥体が接着されたデバイスを製造する方法である。
また、本実施形態のビトリゲル膜乾燥体が接着されたデバイスの製造方法は、上記部材Ａ及び上記部材Ｂに加えて、さらに、部材Ｃを用いる方法である。部材Ｃは、凹部を１以上有する。この部材Ｃの凹部には、ビトリゲル膜乾燥体と接する側の面の周縁部に接着剤層を有する筒状部材が抜き差し可能にはめ込まれている。また、部材Ｃの凹部の横断面は、部材Ａの凹部の横断面とほぼ同一の大きさである。
また、本実施形態のビトリゲル膜乾燥体が接着されたデバイスの製造方法は、以下の工程８及び工程９をこの順に備える方法である。
工程８では、ビトリゲル膜乾燥体が部材Ａ及び部材Ｂ内に配置された状態で、部材Ｂを部材Ａから離間させ、次いで、部材Ｃを、部材Ａの凹部と部材Ｃの凹部とが重なるように同心状に配置させ、部材Ｃの上に部材Ａを載置する。
工程９では、部材Ａと部材Ｃとを離間させ、部材Ａからビトリゲル膜乾燥体が接着された筒状部材を抜き出す。
【００５９】
本実施形態のビトリゲル膜乾燥体が接着されたデバイスの製造方法によれば、前記ビトリゲル膜乾燥体の製造方法から連続的にビトリゲル膜乾燥体が接着されたデバイスを製造することができる。
なお、本実施形態の製造方法より製造されるビトリゲル膜乾燥体が接着されたデバイスとしては、例えば、ビトリゲル膜乾燥体を備えるチャンバー、細胞封入用デバイス等が挙げられ、これらに限定されない。
以下、本実施形態のビトリゲル膜乾燥体が接着されたデバイスの製造方法の各工程について、詳細を説明する。
【００６０】
＜工程８＞
まず、上述の工程１〜工程７を経て得られたビトリゲル膜乾燥体を部材Ａ及び部材Ｂ内に配置された状態で、部材Ｂを部材Ａから離間させる。次いで、部材Ｃを部材Ａの上に載置する。このとき、部材Ａの凹部と部材Ｃの凹部とが重なるように同心状に配置させる。部材Ａの凹部と部材Ｃの凹部とが重なることで、ずれることなく、接着剤層を介して、ビトリゲル膜乾燥体を筒状部材に接着させることができる。
ビトリゲル膜乾燥体及び筒状部材を接着させる時間及び環境は、接着剤層の組成に応じて、適宜選択することができる。
次いで、部材Ｃ及び筒状部材の構成及び材料について、以下に示す。
【００６１】
［部材Ｃ］
（形状）
部材Ｃは、１以上の凹部を有する。また、部材Ｃの凹部には、筒状部材が抜き差し可能にはめ込まれている。
部材Ｃの凹部は、後述する筒状部材を抜き差し可能にはめ込める形状とすることができる。具体的には、部材Ｃの凹部の底面が平滑であってもよく、平滑でなくてもよい。また、部材Ｃの凹部において側面と底面とが互いに垂直になっていてもよく、垂直になっていなくてもよい。
【００６２】
部材Ｃの凹部の横断面は、部材Ａの凹部の横断面とほぼ同一の大きさである。具体的には、凹部の横断面の面積は、部材Ａの凹部の横断面の面積に対して好ましくは１．０倍以下、より好ましくは０．９倍以下、さらに好ましくは０．８倍以下、特に好ましくは０．７５倍である。
【００６３】
部材Ｃの凹部の数は、部材Ａの凹部の数と同じ数であることが好ましく、例えば、１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１２、１５、２０等が挙げられ、これらに限定されない。中でも、部材Ｃの凹部の数は、偶数であることが好ましく、２、４、６又は８であることがより好ましく、４、６又は８であることがさらに好ましい。
また、部材Ｃにおいて凹部を２以上有する場合、凹部は部材Ｃ上において、等間隔に配置されていることが好ましい。
また、部材Ｃにおいて凹部を２以上有する場合、凹部は部材Ｃ上において、部材Ａ上の凹部と同じ間隔で配置されている。
また、部材Ａと部材Ｃとを同心状に配置させたときに、部材Ｃの凹部は、部材Ａの凹部と重なるように配置されている。
【００６４】
また、部材Ｃにおいて、凹部の高さは、特別な限定はなく、はめ込まれる筒状部材の高さに応じて適宜調整することができる。
【００６５】
また、部材Ｃにおいて、凹部の横断面の形状は、部材Ａの凹部の横断面と同一とすることができ、例えば、三角形、四角形（正方形、長方形、台形含む）、五角形、六角形、七角形、八角形等の多角形；円形、楕円形、略円形、楕円形、略楕円形、半円形、扇形等が挙げられ、これらに限定されない。中でも、部材Ｃの凹部の横断面の形状は、円形であることが好ましい。
【００６６】
また、部材Ｃにおいて、凹部の横断面が円形である場合、その径は、部材Ａの凹部の径とほぼ同一とすることができ、例えば２ｍｍ以上２２６ｍｍ以下とすることができ、例えば５ｍｍ以上７２ｍｍ以下とすることができ、例えば１０ｍｍ以上２３ｍｍ以下とすることができる。
【００６７】
（材料）
また、部材Ｃの材料としては、特別な限定はなく、取扱いやすさから、部材Ａを構成する第２の材料と同じものであることが好ましい。部材Ｃの材料としては、上述の部材Ａの第２の材料として例示されたものと同じものが挙げられる。
【００６８】
［筒状部材］
（形状）
筒状部材の形状は、得られるデバイスの用途に応じて適宜選択することができる。形状としては、例えば、円柱、円錐、円錐台、角錐、角錐台、球、多面体（例えば、四面体、五面体、六面体（立方体含む）、八面体、十二面体、二十面体、二十四面体、ケプラー・ポアンソ立体等）等が挙げられ、これらに限定されない。
【００６９】
筒状部材の横断面は、部材Ａの凹部の横断面よりも小さくすることができる。具体的には、筒状部材の横断面の面積は、部材Ａの凹部の横断面の面積に対して好ましくは０．５倍以上、より好ましくは０．６倍以上、さらに好ましくは０．７倍以上、特に好ましくは０．７５倍である。
【００７０】
筒状部材の外径は、部材Ａの凹部の径よりも小さくすることができる。具体的には、筒状部材の外径は、部材Ａの凹部の径に対して好ましくは０．７倍以上、より好ましくは０．８倍以上、さらに好ましくは０．８５倍以上、特に好ましくは０．８７倍である。
【００７１】
筒状部材の高さは、得られるデバイスの用途に応じて適宜選択することができる。
例えば、細胞封入用デバイスを製造する場合には、筒状部材の高さは、５μｍ以上であって、５０μｍ以上１５ｍｍ以下であることが好ましく、１００μｍ以上１０ｍｍ以下であることがより好ましく、５００μｍ以上２ｍｍ以下であることがさらに好ましい。
【００７２】
（材料）
筒状部材の材料は、液密性を有するものとすることができる。また、筒状部材の材料は、通気性を有するものであってもよく、通気性を有さないものであってもよい。
筒状部材の材料が、通気性を有するものである場合、酸素透過係数が、例えば１００ｃｍ３／ｍ２・２４ｈｒ・ａｔｍ以上５０００ｃｍ３／ｍ２・２４ｈｒ・ａｔｍ以下とすることができ、例えば１０００ｃｍ３／ｍ２・２４ｈｒ・ａｔｍ以上３０００ｃｍ３／ｍ２・２４ｈｒ・ａｔｍ以下とすることができ、例えば１２００ｃｍ３／ｍ２・２４ｈｒ・ａｔｍ以上２５００ｃｍ３／ｍ２・２４ｈｒ・ａｔｍ以下とすることができる。さらに、二酸化炭素透過係数が、例えば１０００ｃｍ３／ｍ２・２４ｈｒ・ａｔｍ以上２００００ｃｍ３／ｍ２・２４ｈｒ・ａｔｍ以下とすることができ、例えば３０００ｃｍ３／ｍ２・２４ｈｒ・ａｔｍ以上１５０００ｃｍ３／ｍ２・２４ｈｒ・ａｔｍ以下とすることができ、例えば５０００ｃｍ３／ｍ２・２４ｈｒ・ａｔｍ以上１００００ｃｍ３／ｍ２・２４ｈｒ・ａｔｍ以下とすることができる。
また、筒状部材の材料が通気性を有さないものである場合、酸素透過係数が例えば１００ｃｍ３／ｍ２・２４ｈｒ・ａｔｍ以下とすることができ、例えば５０ｃｍ３／ｍ２・２４ｈｒ・ａｔｍ以下とすることができる。さらに、二酸化炭素透過係数が、例えば１０００ｃｍ３／ｍ２・２４ｈｒ・ａｔｍ以下とすることができ、例えば５００ｃｍ３／ｍ２・２４ｈｒ・ａｔｍ以下とすることができる。
【００７３】
また、筒状部材の材料としては、例えば、細胞を取り扱うためのデバイスを製造する場合には、細胞の培養に適した材料とすることができる。細胞の培養に適した材料として具体的には、例えば、ガラス材料、エラストマー材料、樹状ポリマー又はコポリマーを含むプラスチック等が挙げられ、これらに限定されない。ガラス材料としては、例えば、ソーダ石灰ガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、バイコール（登録商標）ガラス、石英ガラス等が挙げられる。エラストマー材料としては、例えば、ウレタンゴム、ニトリルゴム、シリコンゴム、シリコン樹脂（例えば、ポリジメチルシロキサン）、フッ素ゴム、アクリルゴム、イソプレンゴム、エチレンプロピレンゴム、クロロスルホン化ポリエチレンゴム、エピクロルヒドリンゴム、クロロプレンゴム、スチレン・ブタジエンゴム、ブタジエンゴム、ポリイソブチレンゴム等が挙げられる。樹状ポリマーとしては、例えば、ポリ（塩化ビニル）、ポリ（ビニルアルコール）、ポリ（メタクリル酸メチル）、ポリ（酢酸ビニル−共−無水マレイン酸）、ポリ（ジメチルシロキサン）モノメタクリレート、環状オレフィンポリマー、フルオロカーボンポリマー、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンイミン等が挙げられる。コポリマーとしては、例えば、ポリ（酢酸ビニル−共−無水マレイン酸）、ポリ（スチレン−共−無水マレイン酸）、ポリ（エチレン−共−アクリル酸）、及び、これらの誘導体等が挙げられる。
【００７４】
また、筒状部材は、ビトリゲル膜乾燥体と接着する面に、接着剤層を有する。前記接着剤層を構成する接着剤としては、細胞毒性がないものを用いることができ、合成化合物の接着剤であってもよく、天然化合物の接着剤であってもよい。合成化合物の接着剤としては、例えば、ウレタン系接着剤、シアノアクリレート系接着剤、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、リン酸カルシウム系接着剤、レジン系セメント等が挙げられる。天然化合物の接着剤としては、例えば、フィブリン糊、ゼラチン糊等が挙げられる。
また、接着剤層は、両面テープからなってもよい。前記両面テープとしては、細胞毒性がないものを用いることができ、医療用途にて用いられているもの等が好適に用いられる。具体的には、例えば、支持体の両面に粘着剤層が積層された構造を有し、前記粘着剤層がゴム系、アクリル系、ウレタン系、シリコン系、ビニルエーテル系の公知の粘着剤からなるもの等が挙げられる。より具体的には、例えば、３Ｍジャパン社製の皮膚貼付用両面テープ（製品番号：１５１０、１５０４ＸＬ、１５２４等）、日東電工社製の皮膚用両面粘着テープ（製品番号：ＳＴ５０２、ＳＴ５３４等）、ニチバンメディカル社製の医療用両面テープ（製品番号：＃１０８８、＃１０２２、＃１０１０、＃８０９ＳＰ、＃４１４１２５、＃１０１０Ｒ、＃１０８８Ｒ、＃８８１０Ｒ、＃２１１０Ｒ等）、ＤＩＣ社製の薄型発泡体基材両面接着テープ（製品番号：＃８４０１０、＃８４０１５、＃８４０２０等）等が挙げられる。
【００７５】
＜工程９＞
次いで、部材Ａと部材Ｃとを離間させ、部材Ａからビトリゲル膜乾燥体が接着された筒状部材を抜き出すことで、ビトリゲル膜乾燥体が接着されたデバイスが得られる。
【００７６】
・第２実施形態
本実施形態のビトリゲル膜乾燥体が接着されたデバイスの製造方法は、工程９の後に、さらに、以下の工程１０〜工程１２をこの順に備えてもよい。
工程１０では、工程９で得られたビトリゲル膜乾燥体が接着された筒状部材を、ビトリゲル膜乾燥体が接着された面が底面と接するように第２の部材Ｃに抜き差し可能にはめ込む。次いで、筒状部材のビトリゲル膜乾燥体が接着されていない面の周縁部に接着剤層を形成する。
工程１１では、まず、上記実施形態に係るビトリゲル膜乾燥体の製造方法により第２のビトリゲル膜乾燥体を得る。次いで、得られた第２のビトリゲル膜乾燥体が第２の部材Ａ及び第２の部材Ｂ内に形成された状態で、第２の部材Ｂを第２の部材Ａから離間させる。次いで、工程１０で得られた第２の部材Ｃを、第２の部材Ａの凹部と第２の部材Ｃの凹部とが重なるように同心状に配置させる。次いで、第２の部材Ｃのビトリゲル乾燥体が接着されていない面の接着剤層と第２の部材Ａ内に形成された第２のビトリゲル乾燥体とが接するように、第２の部材Ｃの上に前記第２の部材Ａを載置する。
工程１２では、第２の部材Ｃと第２の部材Ａとを離間させ、第２の部材Ａからビトリゲル膜乾燥体が両面に接着された筒状部材を抜き出す。
工程８までは、上述の第１実施形態と同様である。続く工程１０〜１２について、以下に詳細を説明する。
【００７７】
＜工程１０＞
工程９で得られた、ビトリゲル膜乾燥体が筒状部材に接着されたデバイスを該ビトリゲル膜乾燥体が接着された面が底面と接するように第２の部材Ｃに抜き差し可能にはめ込む。なお、第２の部材Ｃは、上述の部材Ｃと同じものである。
次いで、筒状部材のビトリゲル膜乾燥体が接着されていない面の周縁部に接着剤層を形成する。
接着剤層の形成方法としては、例えば、接着剤を塗布する方法、又は、両面テープを貼付する方法等が挙げられ、これらに限定されない。前記接着剤及び前記両面テープとしては、上述の工程８で例示されたものと同様のものが挙げられる。
【００７８】
＜工程１１＞
次いで、上記実施形態に係るビトリゲル膜乾燥体の製造方法を用いて、第２の部材Ａ上に第２のビトリゲル膜乾燥体を製造する。次いで、得られた第２のビトリゲル膜乾燥体が第２の部材Ａ及び第２の部材Ｂ内に形成された状態で、第２の部材Ｂを第２の部材Ａから離間させる。なお、第２の部材Ａ及び第２の部材Ｂは、上述の部材Ａ及び上述の部材Ｂと同じものである。
次いで、第２の部材Ｃの上に第２の部材Ａを載置する。このとき、第２の部材Ｃには、筒状部材が抜き差し可能にはめ込まれている。この筒状部材は、ビトリゲル膜乾燥体が接着されていない面の周縁部に接着剤層を有する。また、筒状部材の接着剤層を有する面と反対側の面にビトリゲル膜乾燥体を有する。また、第２の部材Ａの凹部と第２の部材Ｃの凹部とが重なるように同心状に配置させる。第２の部材Ｃの凹部と第２の部材Ａの凹部とが重なることで、ずれることなく、接着剤層を介して、ビトリゲル膜乾燥体を筒状部材に接着させることができる。ビトリゲル膜乾燥体及び筒状部材を接着させる時間及び環境は、接着剤層の組成に応じて、適宜選択することができる。
【００７９】
＜工程１２＞
次いで、第２の部材Ｃと第２の部材Ａとを離間させ、第２の部材Ａから両面にビトリゲル膜乾燥体が接着された筒状部材を抜き出すことで、両面にビトリゲル膜乾燥体が接着されたデバイスが得られる。
【００８０】
≪ビトリゲル膜乾燥体の製造装置≫
本実施形態のビトリゲル膜乾燥体の製造装置は、部材Ａと部材Ｂとを備える。
部材Ａは、１以上の凹部を有する。この凹部の底面において、中心部はハイドロゲルに対する吸着性が低い第１の材料で構成され、周縁部はハイドロゲルに対する吸着性が高い第２の材料で構成されている。
部材Ｂは貫通孔を１以上有する。この貫通孔の横断面は、部材Ａの凹部の横断面とほぼ同一の大きさである。
また、部材Ａと部材Ｂとを同心状に配置した場合に、凹部と貫通孔とが重なるように配置されている。
【００８１】
本実施形態のビトリゲル膜乾燥体の製造装置によれば、簡便にしわのない平滑な面を有するビトリゲル膜乾燥体を製造することができる。
【００８２】
図１Ａは、本実施形態のビトリゲル膜乾燥体が接着されたデバイスの製造装置の一例を示す平面図である。また、図１Ｂは、本実施形態のビトリゲル膜乾燥体が接着されたデバイスの製造装置の一例を示す正面図である。また、図１Ｃは、本実施形態のビトリゲル膜乾燥体が接着されたデバイスの製造装置の一例を示す斜視図である。
図１Ａ〜図１Ｃにおいて、ビトリゲル膜乾燥体の製造装置（１０）は、部材Ａ（１）及び部材Ｂ（２）を備える。
部材Ａ（１）は、１以上の凹部（１ｃ）を有する。また、凹部（１ｃ）の底面において、中心部はハイドロゲルに対する吸着性が低い第１の材料（１ａ）で構成されている。また、凹部（１ｃ）に底面において、周縁部はハイドロゲルに対する吸着性が高い第２の材料（１ｂ）で構成されている。
なお、部材Ａにおける凹部の形状、並びに、第１の材料及び第２の材料等の詳細については、上述のビトリゲル膜乾燥体の製造方法において説明したとおりである。
【００８３】
また、第１の材料（１ａ）は、凹部（１ｃ）の底面において、脱着可能であってもよい。このとき、第１の材料（１ａ）は物理的な引き剥がしによって、簡単に脱着可能な程度の弱い力で、部材Ａ（１）の凹部（１ｃ）の底面を構成する材料に接着されていることが好ましい。具体的には、例えば、後述の製造例に示すように、第１の材料（１ａ）は、ＰＢＳ等の塩を介して、ピンセット等による物理的な引き剥がしによって簡単に脱着可能な程度の弱い力で、部材Ａ（１）の凹部（１ｃ）の底面を構成する材料に接着させることができる。又は、第１の材料（１ａ）は、シリコン等の剥離剤を含有する剥離剤層を介して、ピンセット等による物理的な引き剥がしによって簡単に脱着可能な程度の弱い力で、部材Ａ（１）の凹部（１ｃ）の底面を構成する材料に接着させることができる。
このとき、第１の材料（１ａ）の下に存在する部材Ａ（１）の凹部（１ｃ）の底面を構成する材料としては、上述の第２の材料と同様のものが挙げられる。
【００８４】
また、部材Ａ（１）は、部材Ａ（１）の凹部（１ｃ）と部材Ｂ（２）の貫通孔（２ａ）とが重なるように部材Ａ（１）と部材Ｂ（２）とを同心状に配置させるための位置決めピン（４）を有していてもよい。位置決めピン（４）を有することで、簡便に凹部（１ｃ）と貫通孔（２ａ）とが重なるように部材Ａ（１）と部材Ｂ（２）とを同心状に配置させることができる。
【００８５】
また、部材Ｂ（２）は、１以上の貫通孔（２ａ）を有する。貫通孔（２ａ）の横断面は、凹部（１ｃ）の横断面とほぼ同一の大きさである。具体的には、貫通孔（２ａ）の横断面の面積は、部材Ａ（１）の凹部（１ｃ）の横断面の面積に対して好ましくは１倍以上１．５倍以下、より好ましくは１倍以上１．３倍以下、さらに好ましくは１倍以上１．２５倍以下、特に好ましくは１．２１倍である。
なお、部材Ｂにおける貫通孔の形状及び部材Ｂの材料等の詳細については、上述の「ビトリゲル膜乾燥体の製造方法」において説明したとおりである。
また、部材Ｂ（２）は、部材Ａ（１）の凹部（１ｃ）と部材Ｂ（２）の貫通孔（２ａ）とが重なるように部材Ａ（１）と部材Ｂ（２）とを同心状に配置させるための位置決めピンの受け側穴（２ｂ）を有していてもよい。位置決めピンの受け側穴（２ｂ）を有することで、簡便に凹部（１ｃ）と貫通孔（２ａ）とが重なるように部材Ａ（１）と部材Ｂ（２）とを同心状に配置させることができる。
【００８６】
本実施形態のビトリゲル膜乾燥体の製造装置は、図１Ａ〜図１Ｃに示すものに限定されず、本実施形態のビトリゲル膜乾燥体の製造装置の効果を損なわない範囲内において、図１Ａ〜図１Ｃに示すものの一部の構成が変更又は削除されたものや、これまでに説明したものにさらに他の構成が追加されたものであってもよい。
例えば、図１Ａ〜図１Ｃにおいて、部材Ａの凹部の横断面、及び、部材Ｂの貫通孔の横断面が円形のものを例示したが、これに限定されず、他の形状であってもよい。横断面の形状としては、上述のビトリゲル膜乾燥体の製造方法において例示されたものと同じものが挙げられる。
また、例えば、図１Ａ〜図１Ｃにおいて、部材Ａの凹部の数及び部材Ｂの貫通孔の数が６であるものを例示したが、これに限定されず、１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１２、１５、２０等、他の数であってもよい。
また、例えば、図１Ａ〜図１Ｃにおいて、部材Ａ及び部材Ｂの形状が円柱状のものを例示したが、これに限定されず、円錐台、角錐台、多面体（例えば、四面体、五面体、六面体（立方体含む）、八面体、十二面体、二十面体、二十四面体等の他の形状であってもよい。
【００８７】
＜その他の構成＞
また、本実施形態のビトリゲル膜乾燥体の製造装置は、さらに、１以上の筒状のブレードを備える部材Ｄを備えていてもよい。筒状のブレードの数としては、部材Ａの凹部の数に応じた数とすることができる。
部材Ｄにおいて、部材Ａと部材Ｄとを同心状に配置させたとき、部材Ａの凹部と筒状のブレードとが重なるように筒状のブレードが配置されている。この部材Ｄを用いることで、部材Ａの凹部内に製造されたビトリゲル膜乾燥体を容易に切り離すことができる。
【００８８】
≪ビトリゲル膜乾燥体が接着されたデバイスの製造装置≫
・第１実施形態
本実施形態のビトリゲル膜乾燥体が接着されたデバイスの製造装置は、上記実施形態に係るビトリゲル膜乾燥体の製造装置と、部材Ｃと、を備える。
部材Ｃは、凹部を１以上有する。この凹部の横断面は、部材Ａの凹部の横断面とほぼ同一の大きさである。また、部材Ｃの凹部は、ビトリゲル膜乾燥体が接着されたデバイスの本体となる筒状部材を抜き差し可能にはめ込むためのものである。また、本実施形態のビトリゲル膜乾燥体が接着されたデバイスの製造装置において、部材Ａと部材Ｃとを同心状に配置した場合に、部材Ａの凹部と部材Ｃの凹部とが重なるように配置されている。
【００８９】
本実施形態のビトリゲル膜乾燥体が接着されたデバイスの製造装置によれば、前記ビトリゲル膜乾燥体の製造装置から連続的にビトリゲル膜乾燥体が接着されたデバイスを製造することができる。
【００９０】
図１Ａは、本実施形態のビトリゲル膜乾燥体が接着されたデバイスの製造装置の一例を示す平面図である。また、図１Ｂは、本実施形態のビトリゲル膜乾燥体が接着されたデバイスの製造装置の一例を示す正面図である。また、図１Ｃは、本実施形態のビトリゲル膜乾燥体が接着されたデバイスの製造装置の一例を示す斜視図である。
図１Ａ〜図１Ｃにおいて、ビトリゲル膜乾燥体が接着されたデバイスの製造装置（１００）は、ビトリゲル膜乾燥体の製造装置（１０）及び部材Ｃ（３）を備える。ビトリゲル膜乾燥体の製造装置（１０）は上述の「ビトリゲル膜乾燥体の製造装置」において説明したとおりである。
【００９１】
部材Ｃ（３）は、１以上の凹部（３ａ）を有する。凹部（３ａ）の横断面は、部材Ａ（１）の凹部（１ｃ）の横断面とほぼ同一の大きさである。具体的には、凹部（３ａ）の横断面の面積は、凹部（１ｃ）の横断面の面積に対して好ましくは１．０倍以下、より好ましくは０．９倍以下、さらに好ましくは０．８倍以下、特に好ましくは０．７５倍である。
【００９２】
なお、部材Ｃにおける凹部の形状及び部材Ｃの材料等の詳細については、上述のビトリゲル膜乾燥体が接着されたデバイスの製造方法において説明したとおりである。
また、部材Ｃ（３）は、部材Ａ（１）の凹部（１ｃ）と部材Ｃ（３）の凹部（３ａ）とが重なるように部材Ａ（１）と部材Ｃ（３）とを同心状に配置させるための位置決めピンの受け側穴（３ｂ）を有していてもよい。位置決めピンの受け側穴（３ｂ）を有することで、簡便に凹部（１ｃ）と凹部（３ａ）とが重なるように部材Ａ（１）と部材Ｃ（３）とを同心状に配置させることができる。
【００９３】
また、部材Ｃ（３）の凹部（３ａ）は、ビトリゲル膜乾燥体が接着されたデバイスの本体となる筒状部材（５）を抜き差し可能にはめ込むことができる。これにより、製造されたビトリゲル膜乾燥体が接着されたデバイスを簡便に取り出すことができる。
なお、筒状部材の形状及び材料等の詳細については、上述の「ビトリゲル膜乾燥体が接着されたデバイスの製造方法」において説明したとおりである。
【００９４】
・第２実施形態
本実施形態のビトリゲル膜乾燥体が接着されたデバイスの製造装置は、２以上の上記実施形態に係るビトリゲル膜乾燥体の製造装置を備えてもよい。
【００９５】
本実施形態のビトリゲル膜乾燥体が接着されたデバイスの製造装置は、２以上の前記ビトリゲル膜乾燥体の製造装置を備える以外は、上述の第１実施形態のビトリゲル膜乾燥体が接着されたデバイスの製造装置と同様の構成である。
ビトリゲル膜乾燥体の製造装置を２以上備えることで、両面にビトリゲル乾燥体が接着されたデバイスを簡便に製造することができる。
ビトリゲル膜乾燥体の製造装置の数としては、例えば、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１５、２０等が挙げられ、これに限定されない。中でも、ビトリゲル膜乾燥体の製造装置の数としては、２つの面のビトリゲル膜乾燥体の同時に製造できることができことから、偶数であることが好ましい。
【実施例】
【００９６】
以下、実施例により本発明を説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。【００９７】
［製造例１］ネイティブコラーゲンビトリゲル膜乾燥体の製造１
（１）製造装置の準備
ビトリゲル膜乾燥体を製造するために、図１Ａ〜図１Ｃに示す製造装置（岸本工業社製、アクリル樹脂製）を用いた。具体的には、厚さ１０ｍｍの部材Ａ（凹部：深さ１．０ｍｍ、直径１５．０ｍｍの円形底面）、厚さ５ｍｍの部材Ｂ（貫通孔：直径１６．５ｍｍの円形）及び厚さ５ｍｍの部材Ｃ（凹部：深さ０．７５ｍｍ、直径１３．０３ｍｍの円形底面）を用いた。また、コラーゲンビトリゲルに対する吸着性が低い材料として、ポリ塩化ビニルフィルム（ユニパック社製、ＡＳ  ＯＮＥ  ６−６３３−２５、厚さ０．０８ｍｍ）を用いた。まず、打ち抜き機を用いて、ポリ塩化ビニルフィルムをφ１３ｍｍの円形に打ち抜いた。次いで、得られた円形状のポリ塩化ビニルフィルムを７０％エタノール溶液が入ったφ６０ｍｍのペトリディッシュに入れ、１０分間浸漬して殺菌した。１０分後、７０％エタノール溶液を取り除き、ＰＢＳを添加して洗浄した。洗浄を３回繰り返した。【００９８】
次いで、７０％エタノール溶液をアクリル樹脂製の部材Ａと部材Ｂとに吹き付けて殺菌し、クリーンベンチ内で乾燥させた。次いで、ポリ塩化ビニルフィルムの片側の面に両面テープ（スコッチ社製、厚さ０．０６５ｍｍ）を貼付し、両面テープが貼付された面と、部材Ａの凹部の底面とを接着させた。部材Ａの６つのウェル全てに同様にしてポリ塩化ビニルフィルムを接着させた。【００９９】
次いで、部材Ａと部材Ｂとを位置決めピンを用いて重ね合せた。次いで、部材Ａと部材Ｂとを押さえながら、周囲にパラフィルム（登録商標）を巻き付けて、２個の重石（岸本工業社製、５０ｔ×２５×２５、約２６０ｇ）を部材Ｂの上にのせた。【０１００】
（２）コラーゲンゾルの調製
氷上でウシ血清含有培養液２ｍＬを５０ｍＬコニカルチューブに分注した。次いで、ウシ由来ネイティブコラーゲン溶液（高研社製、Ｉ−ＡＣ、コラーゲン濃度０．５質量％）２ｍＬを添加し、３回ピペッティングを行い、均一なコラーゲンゾルを調製した。用いたウシ血清含有培養液は、以下に示す組成であった。
ウシ血清含有培養液：ダルベッコ改変イーグル培地（Ｄｕｌｂｅｃｃｏ’ｓ  Ｍｏｄｉｆｉｅｄ  Ｅａｇｌｅ’ｓ  Ｍｅｄｉｕｍ；ＤＭＥＭ）（ＧＩＢＣＯ社製、Ｃａｔ．Ｎｏ．１１８８５−０８４）
＋非働化ウシ胎児血清（Ｆｅｔａｌ  Ｂｏｖｉｎｅ  Ｓｅｒｕｍ；ＦＢＳ）（ＳＩＧＭＡ社製、Ｆ２４４２）
＋２０ｍＭ  ＨＥＰＥＳ（ＧＩＢＣＯ社製、Ｃａｔ．Ｎｏ．１５６３０−０８０）
＋１００ｕｎｉｔｓ／ｍＬペニシリン＋１００μｇ／ｍＬストレプトマイシン（ＧＩＢＣＯ社製、Ｃａｔ．Ｎｏ．１５１４０−１４８）【０１０１】
（３）コラーゲンゾルの注入
次いで、部材Ｂの貫通孔から部材Ａの底面に接着されたポリ塩化ビニルフィルム上にコラーゲンゾル８００μＬを注入し、ウェル全体にコラーゲンゾルを行き渡らせた後、４４０μＬを抜いて、ウェル内に３６０μＬのコラーゲンゾルが残るようにした。次いで、重石を動かしながら、６ウェル全てについて６回同じ操作を繰り返し行った。【０１０２】
（４）コラーゲンのゲル化
次いで、（３）でコラーゲンゾルが注入された部材を３７℃に設定した５％二酸化炭素濃度のインキュベーター内にて２時間保管し、ゲル化させた。ゲル化後、重石を外した。【０１０３】
（５）コラーゲンゲルのガラス化（コラーゲンゲル乾燥体の製造）
次いで、ゲル化後、１０℃、４０％湿度に設定した恒温恒湿機庫内にて風を吹きかけて乾燥させて、ガラス化させて、コラーゲンゲル乾燥体を得た。【０１０４】
（６）コラーゲンゲル乾燥体の再水和（ビトリゲルの製造）
次いで、ガラス化後、恒温恒湿機庫から取り出し、再び重石を部材Ｂの上にのせた。次いで、部材Ｂの貫通孔からＰＢＳを１ｍＬ添加し、１０分間静置し、再水和させた（ＰＢＳ添加１回目）。１０分後、ＰＢＳを除去し、部材Ｂの貫通孔から再びＰＢＳを１ｍＬ添加し、１０分間静置した（ＰＢＳ添加２回目）。再度同じ操作を行い（ＰＢＳ添加３回目）、ＰＢＳを除去し、再水和を完了させた。【０１０５】
（７）ビトリゲルの再ガラス化（ビトリゲル乾燥体の製造）
再水和後、１０℃、４０％湿度に設定した恒温恒湿機庫内にて風を吹きかけて乾燥させて、再ガラス化させて、ビトリゲル乾燥体を得た。【０１０６】
（８）ビトリゲル乾燥体の打ち抜き
次いで、再ガラス化後、恒温恒湿機庫から取り出し、打ち抜き刃（森下製版社製、φ１５．４ｍｍ）を用いて、ビトリゲル乾燥体のうち部材Ａの天面上に覆われた部分を切断した。次いで、打ち抜き刃により切断されていることを確認し、部材Ａから部材Ｂを外して、部材Ａ上にビトリゲル膜乾燥体を製造した。【０１０７】
［製造例２］ネイティブコラーゲンビトリゲル膜乾燥体を備えた細胞封入用デバイスの製造１
（１）ビトリゲル膜乾燥体の製造１
製造例１の（１）〜（８）と同様の方法を用いて、部材Ａ上にビトリゲル膜乾燥体を製造した。【０１０８】
（２）筒状部材の準備
滅菌水４０ｍＬを５０ｍＬコニカルチューブに加えた。次いで、細胞封入用デバイスの本体となる筒状部材として、ポリスチレン製リング（岸本工業社製、内径φ７．９８ｍｍ、外径φ１３ｍｍ、厚さ２．０ｍｍ）を加えて、振盪機（ＮＩＳＳＩＮ社製、ＲＥＣＩＰＲＯ  ＳＨＡＫＥＲ）の上で、１０分間振盪させて洗浄した。洗浄後、滅菌水を除去し、新しい滅菌水を４０ｍＬ加えて、同様の操作を３回繰り返した。次いで、７０％エタノール溶液４０ｍＬを５０ｍＬコニカルチューブに加え、そこに滅菌水で洗浄したリングを投入し、振盪機（ＮＩＳＳＩＮ社製、ＲＥＣＩＰＲＯ  ＳＨＡＫＥＲ）の上で、３分間振盪させて殺菌した。【０１０９】
（３）筒状部材への接着剤の塗布及び部材Ｃへの装着１
まず、７０％エタノール溶液をアクリル樹脂製の部材Ｃに吹き付けて殺菌し、クリーンベンチ内で乾燥させた。次いで、２００μＬロングチップを用いて接着剤を適量とり、リングの周縁部にポリウレタン系接着剤（セメダイン社製、ＵＭ７００）を塗り広げた。次いで、リングの接着剤が塗布されていない面と部材Ｃの底面とが接するように、リングを部材Ｃに抜き差し可能な状態で装着した。【０１１０】
（４）筒状部材とビトリゲル膜乾燥体との接着１
次いで、リングが装着された部材Ｃの上に、（１）で得られたビトリゲル膜乾燥体が製造された状態の部材Ａを、リングの接着剤が塗布された面とビトリゲル膜乾燥体とが接するように、位置決めピンを用いて重ね合せた。次いで、重石を部材Ａの上に乗せて、１日クリーンベンチ内に静置して接着剤を乾燥させた。【０１１１】
（５）部材Ｃの取り外し１
乾燥開始から１日後、乾いていることを確認し、部材Ｃが上にくるように反転させて、部材Ｃを取り外した。次いで、ピンセットを用いて、横から押しずらすようにして、ビトリゲル膜乾燥体が接着されたリングを部材Ａのウェルの底面からゆっくり取り外した。次いで、片面にビトリゲル膜乾燥体が接着されたリングをφ６０ｍｍのペトリディッシュに入れた。次いで、ペトリディッシュにパラフィルム（登録商標）を巻いてアルミホイルで遮光して、室温保存した。【０１１２】
（６）ビトリゲル膜乾燥体の製造２
製造例１の（１）〜（８）と同様の方法を用いて、さらに１セットの部材Ａ上にビトリゲル膜乾燥体を製造した。【０１１３】
（７）筒状部材への接着剤の塗布及び部材Ｃへの装着２
（５）で保存した片面にビトリゲル膜乾燥体が接着されたリングをペトリディッシュから取り出し、ビトリゲル膜乾燥体が接着されている面と反対側の面の周縁部に、接着剤を塗り広げた。次いで、リングのビトリゲル膜乾燥体が接着された面と部材Ｃの底面とが接するように、片面にビトリゲル膜乾燥体が接着されたリングを部材Ｃに抜き差し可能な状態で装着した。【０１１４】
（８）筒状部材とビトリゲル膜乾燥体との接着２
次いで、リングが装着された部材Ｃの上に、（６）で得られたビトリゲル膜乾燥体が製造された状態の部材Ａを、リングの接着剤が塗布された面とビトリゲル膜乾燥体とが接するように、位置決めピンを用いて重ね合せた。次いで、重石を部材Ａの上に乗せて、１日クリーンベンチ内に静置して接着剤を乾燥させた。【０１１５】
（９）部材Ｃの取り外し２
乾燥開始から１日後、乾いていることを確認し、部材Ｃが上にくるように反転させて、部材Ｃを取り外した。次いで、ピンセットを用いて、横から押しずらすようにして、ビトリゲル膜乾燥体が接着されたリングを部材Ａのウェルの底面からゆっくり取り外し、両面にビトリゲル膜乾燥体が接着されたリング（すなわち、細胞封入用デバイス）を得た。次いで、得られた両面にビトリゲル膜乾燥体が接着されたリング（細胞封入用デバイス）はφ３５ｍｍのペトリディッシュに入れて、ペトリディッシュにパラフィルム（登録商標）を巻いてアルミホイルで遮光して、室温保存した。【０１１６】
［製造例３］ネイティブコラーゲンビトリゲル膜乾燥体の製造２
（１）製造装置の準備
コラーゲンビトリゲルに対する吸着性が低い材料として、シリコン処理されたポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（藤森工業社製、厚さ７５μｍ）を用いた、まず、打ち抜き機を用いて、シリコン処理されたＰＥＴフィルムをφ１３ｍｍの円形に打ち抜いた。次いで、得られた円形状のシリコン処理されたＰＥＴフィルムにメンディングテープ（スコッチ社製、厚さ０．０５８ｍｍ）を貼付してシリコン処理面を確認した。次いで、得られた円形状のシリコン処理されたＰＥＴフィルムを７０％エタノール溶液が入ったφ６０ｍｍのペトリディッシュに入れ、１０分間浸漬して殺菌した。１０分後、７０％エタノール溶液を取り除き、面に注意しながらＰＢＳを添加して洗浄した。洗浄を３回繰り返した。【０１１７】
次いで、深さ５．０ｍｍ、直径１５．０ｍｍの円形底面から成るウェルを有する２４ウェルプレート（岸本工業社製、アクリル樹脂製）に７０％エタノール溶液を吹き付けて、殺菌した。次いで、クリーンベンチ内で乾燥させた。次いで、洗浄したシリコン処理されたＰＥＴフィルムを１枚ずつ２４ウェルプレートの底面にシリコン処理面が上面となるように置いた。次いで、ＰＢＳを１ｍＬずつ加え、除去し、約３時間クリーンベンチ内で乾燥させて、シリコン処理されたＰＥＴフィルムをＰＢＳの塩を介して、２４ウェルプレートの底面に弱く接着させた。【０１１８】
（２）コラーゲンゾルの調製
製造例１の（２）と同様の方法を用いて、均一なコラーゲンゾルを調製した。【０１１９】
（３）コラーゲンゾルの注入
次いで、２４ウェルプレート内のシリコン処理されたＰＥＴフィルム上にコラーゲンゾルを６００μＬずつ注入し、ウェル全体にコラーゲンゾルを行き渡らせた後、２４０μＬを抜いて、ウェル内に３６０μＬのコラーゲンゾルが残るようにした。次いで、２４ウェル全てについて２４回同じ操作を繰り返し行った。【０１２０】
（４）コラーゲンのゲル化
次いで、（３）でコラーゲンゾルが注入された２４ウェルプレートを３７℃に設定した５％二酸化炭素濃度のインキュベーター内にて２時間保管し、ゲル化させた。【０１２１】
（５）コラーゲンゲルのガラス化（コラーゲンゲル乾燥体の製造）
次いで、ゲル化後、１０℃、４０％湿度に設定した恒温恒湿機庫内にて風を吹きかけて乾燥させて、ガラス化させて、コラーゲンゲル乾燥体を得た。【０１２２】
（６）コラーゲンゲル乾燥体の再水和（ビトリゲルの製造）
次いで、ガラス化後、恒温恒湿機庫から取り出し、ウェルにＰＢＳを６００μＬ添加し、１０分間静置し、再水和させた（ＰＢＳ添加１回目）。１０分後、ＰＢＳを除去し、ウェルに再度ＰＢＳを６００μＬ添加し、１０分間静置した（ＰＢＳ添加２回目）。再度同じ操作を行い（ＰＢＳ添加３回目）、ＰＢＳを除去し、再水和を完了させた。【０１２３】
（７）ビトリゲルの再ガラス化（ビトリゲル乾燥体の製造）
再水和後、１０℃、４０％湿度に設定した恒温恒湿機庫内にて風を吹きかけて乾燥させて、再ガラス化させて、シリコン処理されたＰＥＴフィルム上に貼付されたビトリゲル乾燥体を得た。【０１２４】
（８）フィルムに吸着したビトリゲル乾燥体の２４ウェルプレートからの脱着
２４ウェルプレートのウェル内壁面とＰＥＴフィルムとの間隙にピンセットを入れて、ＰＥＴフィルムを横から弱く押しずらすようにして、ウェル底面から脱着した。
その結果、シリコン処理されたＰＥＴフィルムが弱く貼付された、しわのない平滑な面を有するネイティブコラーゲンビトリゲル膜乾燥体を得た。
シリコン処理されたＰＥＴフィルムが弱く貼付していることは、以下のようにして確認した。
まず、ネイティブコラーゲンビトリゲル膜乾燥体が貼付されていない側のＰＥＴフィルムの表面にメンディングテープを貼付した。その後、反対側であって、ＰＥＴフィルムが貼付されていない側のネイティブコラーゲンビトリゲル膜乾燥体の表面にもメンディングテープを貼付した。次いで、両側のメンディングテープについて互いを遠ざけるように弱く引っ張ることで、至って簡単にＰＥＴフィルムとネイティブコラーゲンビトリゲル膜乾燥体を脱着できたことから確認できた。【０１２５】
［実施例１］
製造例２で得られた両面にビトリゲル膜乾燥体が接着されたリング（細胞封入用デバイス）の内部にＰＢＳを満たした。結果を図２Ａに示す。
図２Ａから、ＰＢＳを注入した状態の細胞封入用デバイスにおけるビトリゲル膜は、均一でしわがなく、平滑な面であった。【０１２６】
［比較例１］
従来の製造方法である、２枚の環状磁石を用いた方法（参考文献：特許第４８１７８４７号公報）により、ビトリゲル膜乾燥体を製造した。次いで、リングにポリウレタン系接着剤を用いて、得られたビトリゲル膜乾燥体を接着させて、両面にビトリゲル膜乾燥体が接着されたリング（細胞封入用デバイス）を製造した。次いで、細胞封入用デバイスの内部にＰＢＳを満たした。結果を図２Ｂに示す。
図２Ｂから、ＰＢＳを注入した状態の細胞封入用デバイスにおけるビトリゲル膜は、周縁部に僅かな皺が生じていた。【０１２７】
実施例１及び比較例１の結果から、本実施形態のビトリゲル膜乾燥体の製造方法及び製造装置を用いることで、簡便にしわのない平滑な面を有するビトリゲル膜乾燥体を製造できることが示された。【０１２８】
［製造例４］アテロコラーゲンビトリゲル膜乾燥体の製造１
（１）製造装置の準備
製造例１の（１）と同様の方法を用いて、製造装置を準備した。【０１２９】
（２）コラーゲンゾルの調製
次いで、氷上で無血清培養液４ｍＬを５０ｍＬコニカルチューブに分注した。次いで、ブタ由来アテロコラーゲン溶液（関東化学社製、コラーゲン濃度１．０質量％）４ｍＬを添加し、３回ピペッティングを行い、均一なコラーゲンゾルを調製した。なお、使用した無血清培養液は、以下に示す組成であった。
無血清培養液：ダルベッコ改変イーグル培地（Ｄｕｌｂｅｃｃｏ’ｓ  Ｍｏｄｉｆｉｅｄ  Ｅａｇｌｅ’ｓ  Ｍｅｄｉｕｍ；ＤＭＥＭ）（ＧＩＢＣＯ社製、Ｃａｔ．Ｎｏ．１１８８５−０８４）
＋２０ｍＭ  ＨＥＰＥＳ（ＧＩＢＣＯ社製、Ｃａｔ．Ｎｏ．１５６３０−０８０）
＋１００ｕｎｉｔｓ／ｍＬペニシリン＋１００μｇ／ｍＬストレプトマイシン（ＧＩＢＣＯ社製、Ｃａｔ．Ｎｏ．１５１４０−１４８）【０１３０】
（３）コラーゲンゾルの注入
次いで、部材Ｂの貫通孔から部材Ａの底面に接着されたポリ塩化ビニルフィルム上にコラーゲンゾル９００μＬを注入し、ウェル全体にコラーゲンゾルを行き渡らせた。次いで、重石を動かしながら、６ウェル全てについて６回同じ操作を繰り返し行った。【０１３１】
（４）コラーゲンのゲル化
製造例１の（４）と同様の方法を用いて、コラーゲンをゲル化した。【０１３２】
（５）コラーゲンゲルのガラス化（コラーゲンゲル乾燥体の製造）
製造例１の（５）と同様の方法を用いて、コラーゲンゲルをガラス化した。【０１３３】
（６）コラーゲンゲル乾燥体の再水和（ビトリゲルの製造）
製造例１の（６）と同様の方法を用いて、コラーゲンゲル乾燥体を再水和した。【０１３４】
（７）ビトリゲルの再ガラス化（ビトリゲル乾燥体の製造）
製造例１の（７）と同様の方法を用いて、ビトリゲルを再ガラス化した。【０１３５】
（８）ビトリゲル乾燥体の打ち抜き
製造例１の（８）と同様の方法を用いて、部材Ａ上にビトリゲル膜乾燥体を製造した。【０１３６】
［製造例５］アテロコラーゲンビトリゲル膜乾燥体を備えたチャンバーの製造
（１）ビトリゲル膜乾燥体の製造
製造例４の（１）〜（８）と同様の方法を用いて、部材Ａ上にビトリゲル膜乾燥体を製造した。【０１３７】
（２）筒状部材の準備
チャンバーの本体となる筒状部材として、アクリル製パイプ（内径φ１１ｍｍ、外径φ１５ｍｍ、長さ１５ｍｍ）を用いた。アクリル製パイプの周縁部のうち、片面の外径が約１４ｍｍとなるようにヤスリでテーパー加工した。次いで、テーパー加工してない側のパイプの周縁部に２本のアクリル製ハンガーを接着した。接着後、滅菌水４０ｍＬを予め注入した５０ｍＬコニカルチューブ内に入れた。次いで、振盪機（ＮＩＳＳＩＮ社製、ＲＥＣＩＰＲＯ  ＳＨＡＫＥＲ）の上で、１０分間振盪させて洗浄した。洗浄後、滅菌水を除去し、新しい滅菌水を４０ｍＬ加えて、同様の操作を３回繰り返した。次いで、７０％エタノール溶液４０ｍＬを５０ｍＬコニカルチューブに加え、そこに滅菌水で洗浄したパイプを投入し、振盪機（ＮＩＳＳＩＮ社製、ＲＥＣＩＰＲＯ  ＳＨＡＫＥＲ）の上で、３分間振盪させて殺菌した。【０１３８】
（３）筒状部材への両面テープの接着
薄型発泡体基材両面接着テープ（ＤＩＣ社製、＃８４０１０ＷＨＩＴＥ、厚さ１００μｍ）を環状形状（内径φ１１ｍｍ、外径φ１４ｍｍ）に切り抜いた。次いで、テーパー加工した側のパイプの周縁部に、切り抜いた両面テープの片側を接着し、パイプの周縁部に接着剤層を形成させた。【０１３９】
（４）筒状部材とビトリゲル膜乾燥体との接着
次いで、片側の周縁部に両面テープが接着されたパイプを、（１）で得られた部材Ａ上のビトリゲル膜乾燥体の上に、パイプの周縁部の両面テープが接着された面とビトリゲル膜乾燥体とが接するように、重ね合せて接着した。次いで、パイプを部材Ａの底面からゆっくり取り外すことで、ビトリゲル膜乾燥体を備えたチャンバーを製造した。【０１４０】
［実施例２］
製造例４で得られた片面にビトリゲル膜乾燥体が接着されたパイプ（チャンバー）の内部にＰＢＳを注入した。結果を図３に示す。
図３から、ＰＢＳを注入した状態のチャンバーにおけるビトリゲル膜からＰＢＳは漏れないことが確認できた。【０１４１】
［製造例６］アテロコラーゲンビトリゲル膜乾燥体の製造２
（１）製造装置の準備
コラーゲンビトリゲルに対する吸着性が低い材料として、シリコン処理されたポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（藤森工業社製、厚さ７５μｍ）を用いた。まず、打ち抜き機を用いて、シリコン処理されたＰＥＴフィルムをφ１３ｍｍの円形に打ち抜いた。次いで、得られた円形状のシリコン処理されたＰＥＴフィルムにメンディングテープ（スコッチ社製、厚さ０．０５８ｍｍ）を貼付してシリコン処理面を確認した。次いで、得られた円形状のシリコン処理されたＰＥＴフィルムを７０％エタノール溶液が入ったφ６０ｍｍのペトリディッシュに入れ、１０分間浸漬して殺菌した。１０分後、７０％エタノール溶液を取り除き、面に注意しながらＰＢＳを添加して洗浄した。洗浄を３回繰り返した。【０１４２】
ビトリゲル膜乾燥体を製造するために、図１Ａ〜図１Ｃに示す製造装置（岸本工業社製、アクリル樹脂製）を用いた。具体的には、厚さ１０ｍｍの部材Ａ（凹部：深さ１．０ｍｍ、直径１５．０ｍｍの円形底面）、及び厚さ５ｍｍの部材Ｂ（貫通孔：直径１６．５ｍｍの円形）を用いた。次いで、７０％エタノール溶液をアクリル樹脂製の部材Ａと部材Ｂに吹き付けて殺菌し、クリーンベンチ内で乾燥させた。
次いで、洗浄したシリコン処理されたＰＥＴフィルムを１枚ずつ、部材Ａの６つのウェル全ての底面上に、シリコン処理面が上面となるように置いた。次いで、ＰＢＳを約０．５ｍＬずつ加え、除去し、約３時間クリーンベンチ内で乾燥させて、シリコン処理されたＰＥＴフィルムをＰＢＳの塩を介して、部材Ａのウェルの底面上に弱く接着させた。次いで、部材Ａと部材Ｂとを位置決めピンを用いて重ね合せた。次いで、部材Ａと部材Ｂとを押さえながら、周囲にパラフィルム（登録商標）を巻き付けて、２個の重石（岸本工業社製、５０ｔ×２５×２５、約２６０ｇ）を部材Ｂの上にのせた。【０１４３】
（２）コラーゲンゾルの調製
製造例４の（２）と同様の方法を用いて、均一なコラーゲンゾルを調製した。【０１４４】
（３）コラーゲンゾルの注入
次いで、部材Ｂの貫通孔から部材Ａの底面に接着されたシリコン処理ＰＥＴフィルム上にコラーゲンゾル９００μＬを注入し、ウェル全体にコラーゲンゾルを行き渡らせた。次いで、重石を動かしながら、６ウェル全てについて６回同じ操作を繰り返し行った。【０１４５】
（４）コラーゲンのゲル化
製造例１の（４）と同様の方法を用いて、コラーゲンをゲル化した。【０１４６】
（５）コラーゲンゲルのガラス化（コラーゲンゲル乾燥体の製造）
製造例１の（５）と同様の方法を用いて、コラーゲンゲルをガラス化した。【０１４７】
（６）コラーゲンゲル乾燥体の再水和（ビトリゲルの製造）
製造例１の（６）と同様の方法を用いて、コラーゲンゲル乾燥体を再水和した。【０１４８】
（７）ビトリゲルの再ガラス化（ビトリゲル乾燥体の製造）
製造例１の（７）と同様の方法を用いて、ビトリゲルを再ガラス化した。【０１４９】
（８）フィルムに吸着したビトリゲル乾燥体の部材Ａからの脱着
製造例１の（８）と同様の方法を用いて、部材Ａ上にビトリゲル膜乾燥体を製造した。次いで、部材Ａのウェル内壁面とＰＥＴフィルムとの間隙にピンセットを入れて、ＰＥＴフィルムを横から弱く押しずらすようにして、ウェル底面から脱着した。
その結果、シリコン処理されたＰＥＴフィルムが弱く貼付された、しわのない平滑な面を有するアテロコラーゲンビトリゲル膜乾燥体を得た。【０１５０】
なお、シリコン処理されたＰＥＴフィルムが弱く貼付していることは、以下のようにして確認した。
まず、アテロコラーゲンビトリゲル膜乾燥体が貼付されていない側のＰＥＴフィルムの表面にメンディングテープを貼付した。次いで、反対側であって、ＰＥＴフィルムが貼付されていない側のアテロコラーゲンビトリゲル膜乾燥体の表面にもメンディングテープを貼付した。次いで、両側のメンディングテープについて互いを遠ざけるように弱く引っ張ることで、簡単にＰＥＴフィルムとアテロコラーゲンビトリゲル膜乾燥体とを脱着できることが確認できた（図４参照）。【０１５１】
［製造例７］ネイティブコラーゲンビトリゲル膜乾燥体を備えた細胞封入用デバイスの製造２
（１）ビトリゲル膜乾燥体の製造
製造例１の（１）〜（８）と同様の方法を用いて、部材Ａ上にビトリゲル膜乾燥体を製造した。【０１５２】
（２）筒状部材の準備
製造例２の（２）と同様の方法を用いて、ポリスチレン製リング（岸本工業社製、内径φ７．９８ｍｍ、外径φ１３ｍｍ、厚さ２．０ｍｍ）を準備した。【０１５３】
（３）筒状部材の部材Ｃへの装着及び筒状部材への両面テープの接着１
まず、薄手発泡体基材防水両面テープ（Ｎｉｔｔｏ  Ｄｅｎｋｏ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製、Ｎｏ．５７２１０Ｂ、厚さ:０．１ｍｍ）を打ち抜き刃（φ１２ｍｍ及びφ８．５ｍｍ)を使用し、打ち抜き機で、リング状に打ち抜いた。これを２枚準備した。次いで、７０％エタノール溶液をアクリル樹脂製の部材Ｃに吹き付けて殺菌し、クリーンベンチ内で乾燥させた。次いで、部材Ｃにリングを設置した。次いで、部材Ｃに設置したリングに、リング状に打ち抜いた両面テープのうちの１枚をリングからはみ出さないように貼りつけた。【０１５４】
（４）筒状部材とビトリゲル膜乾燥体との接着１
次いで、両面テープのリングと接していない側の面の剥離紙をはがして粘着剤層を露出させた。次いで、リングが設置された部材Ｃと、（１）で得られたビトリゲル膜乾燥体が製造された状態の部材Ａとを、リングの粘着剤層が露出された面とビトリゲル膜乾燥体とが接するように、位置決めピンを用いて重ね合せて、リングとビトリゲル膜乾燥体とを接着させた。【０１５５】
（５）部材Ｃの取り外し１
次いで、部材Ｃが上にくるように反転させて、部材Ｃを取り外した。次いで、ピンセットを用いて、横から押しずらすようにして、ビトリゲル膜乾燥体が接着されたリングを部材Ａのウェルの底面からゆっくり取り外した。【０１５６】
（６）ビトリゲル膜乾燥体の製造２
製造例１の（１）〜（８）と同様の方法を用いて、さらに１セットの部材Ａ上にビトリゲル膜乾燥体を製造した。【０１５７】
（７）筒状部材の部材Ｃへの装着及び筒状部材への両面テープの接着２
次いで、部材Ｃに（５）で作製した片面にビトリゲル膜乾燥体が接着されたリングを設置した。次いで、リングのビトリゲル膜乾燥体が接着されている面と反対側の面に、（３）でリング状に打ち抜いた両面テープをリングからはみ出さないように貼りつけた。【０１５８】
（８）筒状部材とビトリゲル膜乾燥体との接着２
次いで、両面テープのリングと接していない側の面の剥離紙をはがして粘着剤層を露出させた。次いで、片面にビトリゲル膜乾燥体が接着されたリングが設置された部材Ｃと、（６）で得られたビトリゲル膜乾燥体が製造された状態の部材Ａとを、リングの粘着剤層が露出された面とビトリゲル膜乾燥体とが接するように、位置決めピンを用いて重ね合せて、リングとビトリゲル膜乾燥体とを接着させた。【０１５９】
（９）部材Ｃの取り外し２
次いで、部材Ｃが上にくるように反転させて、部材Ｃを取り外した。次いで、ピンセットを用いて、横から押しずらすようにして、ビトリゲル膜乾燥体が接着されたリングを部材Ａのウェルの底面からゆっくり取り外し、両面にビトリゲル膜乾燥体が接着されたリング（すなわち、細胞封入用デバイス）を得た。次いで、得られた両面にビトリゲル膜乾燥体が接着されたリング（細胞封入用デバイス）はφ３５ｍｍのペトリディッシュに入れて、ペトリディッシュにパラフィルム（登録商標）を巻いてアルミホイルで遮光して、室温保存した。【０１６０】
［製造例８］ネイティブコラーゲンビトリゲル膜乾燥体を備えた細胞封入用デバイスの製造３
（１）ビトリゲル膜乾燥体の製造
製造例１の（１）〜（８）と同様の方法を用いて、部材Ａ上にビトリゲル膜乾燥体を製造した。【０１６１】
（２）筒状部材の準備
シリコンゴムシート（厚さ：２ｍｍ、品番：２−９３１８−０１、アズワン社製）をφ１３ｍｍ及びφ８ｍｍの打ち抜き刃で打ち抜き、シリコンリングを作製した。次いで、作製したシリコンリングを７０％エタノールに１０分浸漬し、さらにＰＢＳで３回洗浄することで殺菌した。【０１６２】
（３）筒状部材の部材Ｃへの装着及び筒状部材への両面テープの接着１
まず、シリコーンゴム接着用両面テープ（Ｎｉｔｔｏ  Ｄｅｎｋｏ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製、Ｎｏ．５３０２Ａ、厚さ:０．０８５ｍｍ）を打ち抜き刃（φ１２ｍｍ及びφ８．５ｍｍ)を使用し、打ち抜き機で、リング状に打ち抜いた。これを２枚準備した。次いで、７０％エタノール溶液をアクリル樹脂製の部材Ｃに吹き付けて殺菌し、クリーンベンチ内で乾燥させた。次いで、部材Ｃにシリコンリングを設置した。次いで、シリコンリングに、リング状に打ち抜いた両面テープのうちの１枚をリングからはみ出さないように貼りつけた。このとき、両面テープのシリコンゴム接着用粘着剤層の面（剥離紙：透明側）をシリコンリングに貼付した。【０１６３】
（４）筒状部材とビトリゲル膜乾燥体との接着１
次いで、両面テープのシリコンリングと接していない側の面の剥離紙をはがして粘着剤層を露出させた。次いで、シリコンリングが設置された部材Ｃと、（１）で得られたビトリゲル膜乾燥体が製造された状態の部材Ａとを、リングの粘着剤層が露出された面とビトリゲル膜乾燥体とが接するように、位置決めピンを用いて重ね合せて、シリコンリングとビトリゲル膜乾燥体とを接着させた。【０１６４】
（５）部材Ｃの取り外し１
次いで、部材Ｃが上にくるように反転させて、部材Ｃを取り外した。次いで、ピンセットを用いて、横から押しずらすようにして、ビトリゲル膜乾燥体が接着されたシリコンリングを部材Ａのウェルの底面からゆっくり取り外した。【０１６５】
（６）ビトリゲル膜乾燥体の製造２
製造例１の（１）〜（８）と同様の方法を用いて、さらに１セットの部材Ａ上にビトリゲル膜乾燥体を製造した。【０１６６】
（７）筒状部材の部材Ｃへの装着及び筒状部材への両面テープの接着２
次いで、部材Ｃに（５）で作製した片面にビトリゲル膜乾燥体が接着されたシリコンリングを設置した。次いで、シリコンリングのビトリゲル膜乾燥体が接着されている面と反対側の面に、（３）でリング状に打ち抜いたシリコーンゴム接着用両面テープをリングからはみ出さないように貼りつけた。このとき、両面テープのシリコンゴム接着用粘着剤層の面（剥離紙：透明側）をシリコンリングに貼付した。【０１６７】
（８）筒状部材とビトリゲル膜乾燥体との接着２
次いで、両面テープのシリコンリングと接していない側の面の剥離紙をはがして粘着剤層を露出させた。次いで、シリコンリングが設置された部材Ｃと、（６）で得られたビトリゲル膜乾燥体が製造された状態の部材Ａとを、シリコンリングの粘着剤層が露出された面とビトリゲル膜乾燥体とが接するように、位置決めピンを用いて重ね合せて、シリコンリングとビトリゲル膜乾燥体とを接着させた。【０１６８】
（９）部材Ｃの取り外し２
次いで、部材Ｃが上にくるように反転させて、部材Ｃを取り外した。次いで、ピンセットを用いて、横から押しずらすようにして、ビトリゲル膜乾燥体が接着されたシリコンリングを部材Ａのウェルの底面からゆっくり取り外し、両面にビトリゲル膜乾燥体が接着されたシリコンリング（すなわち、細胞封入用デバイス）を得た。次いで、得られた両面にビトリゲル膜乾燥体が接着されたシリコンリング（細胞封入用デバイス）はφ３５ｍｍのペトリディッシュに入れて、ペトリディッシュにパラフィルム（登録商標）を巻いてアルミホイルで遮光して、室温保存した。【０１６９】
［製造例９］アテロコラーゲンビトリゲル膜乾燥体からなる細胞封入用デバイスの製造
（１）製造装置の準備
ビトリゲル膜乾燥体を製造するために、図１Ａ〜図１Ｃに示す製造装置（岸本工業社製、アクリル樹脂製）を用いた。具体的には、厚さ１０ｍｍの部材Ａ（凹部：深さ１．０ｍｍ、直径１５．０ｍｍの円形底面）、及び厚さ５ｍｍの部材Ｂ（貫通孔：直径１６．５ｍｍの円形）を用いた。次いで、７０％エタノール溶液をアクリル樹脂製の部材Ａと部材Ｂに吹き付けて殺菌し、クリーンベンチ内で乾燥させた。
次いで、シリコンオイル（ＫＦ−９６、信越化学工業社製）を浸み込ませたキムワイプを用いて、部材Ａの凹部内の壁面を拭った。次いで、部材Ａと部材Ｂとを位置決めピンを用いて重ね合せた。次いで、部材Ａと部材Ｂとを押さえながら、周囲にパラフィルム（登録商標）を巻き付けた。【０１７０】
（２）コラーゲンゾルの調製
製造例４の（２）と同様の方法を用いて、均一なコラーゲンゾルを調製した。【０１７１】
（３）ビトリゲル膜乾燥体の製造
（１）で準備した製造装置を用いた以外は、製造例４の（３）〜（７）と同様の方法を用いて、部材Ｂの貫通孔から部材Ａの底面上にコラーゲンゾル１．８ｍＬを注入し、部材Ａ上にアテロコラーゲンビトリゲル膜乾燥体を製造した。【０１７２】
（４）筒状部材の準備
公知の方法（参考文献１：国際公開第２０１８／００３８５８号）を用いて、アテロコラーゲンからなる筒状部材を準備した。具体的には、以下に示す手順で作製した。【０１７３】
（４−１）アテロコラーゲンビトリゲル膜乾燥体の作製
まず、内径６０ｍｍの壁面鋳型内に２８ｍＬの０．５％アテロコラーゲンゾルを注ぎ、８枚のアテロコラーゲンビトリゲル膜乾燥体（コラーゲン量：５．０ｍｇ／ｃｍ２）を公知の方法（参考文献２：国際公開第２０１２／０２６５３１号）に準じて作製した。なお、０．５％アテロコラーゲンゾルは、氷上で無血清培養液１６ｍＬを５０ｍＬコニカルチューブに分注した後、ブタ由来アテロコラーゲン溶液（関東化学社製、コラーゲン濃度１．０質量％）１６ｍＬを添加し、３回ピペッティングを行うことで調製した。【０１７４】
（４−２）アテロコラーゲンビトリゲル膜二重層接着乾燥体の作製
次いで、このアテロコラーゲンビトリゲル膜乾燥体２枚をＰＢＳで再水和して、２枚のアテロコラーゲンビトリゲル膜を調製した。ビニールシート上に１枚のアテロコラーゲンビトリゲル膜を伸展した。次いで、その上に６００μＬの０．５％アテロコラーゲンゾルを添加して、膜からはみ出ないように広げた後、もう１枚のアテロコラーゲンビトリゲル膜を覆い被せた。なお、０．５％アテロコラーゲンゾルは、公知の方法（参考文献３：特開２０１５−２０３０１８号公報）に準じて、接着剤として使用した。次いで、１０℃、湿度４０％のインキュベーター内で、クリーン風乾機を用いて、乾燥（ガラス化）した。次いで、ＵＶ照射（単位面積あたりのＵＶ総照射量：４００ｍＪ／ｃｍ２）した。さらに、ＵＶ照射後の二重層接着乾燥体を裏返して、ＵＶ照射（単位面積あたりのＵＶ総照射量：４００ｍＪ／ｃｍ２）して、アテロコラーゲンビトリゲル膜二重層接着乾燥体を得た。【０１７５】
（４−３）アテロコラーゲンビトリゲル膜四重層接着乾燥体の作製
次いで、（４−２）で得られたアテロコラーゲンビトリゲル膜二重層接着乾燥体をＰＢＳで再水和した。次いで、ビニールシート上に１つの二重層接着体を伸展した。次いで、その上に６００μＬの０．５％アテロコラーゲンゾルを添加して、二重層接着体からはみ出ないように広げた後、もう１つの二重層接着体を覆い被せることで、四重層接着体を作製した。次いで、１０℃、湿度４０％のインキュベーター内で、クリーン風乾機を用いて、乾燥（ガラス化）した。次いで、ＵＶ照射（単位面積あたりのＵＶ総照射量：４００ｍＪ／ｃｍ２）した。さらに、ＵＶ照射後の四重層接着乾燥体を裏返して、ＵＶ照射（単位面積あたりのＵＶ総照射量：４００ｍＪ／ｃｍ２）して、アテロコラーゲンビトリゲル膜四重層接着乾燥体を得た。【０１７６】
（４−４）筒状部材の成形
次いで、（４−３）で得られたアテロコラーゲンビトリゲル膜四重層接着乾燥体をφ１３ｍｍ及びφ８ｍｍの打ち抜き刃で２箇所打ち抜き、リング状のアテロコラーゲンビトリゲル膜四重層接着乾燥体（内径８ｍｍ、外径１３ｍｍ）を２つ作製した。【０１７７】
（５）筒状部材とビトリゲル乾燥体との接着
まず、（３）で作製した部材Ａ上のアテロコラーゲンビトリゲル膜乾燥体をＰＢＳで再水和して、アテロコラーゲンビトリゲル膜を調製した。一方、（４）で作製したリング状のアテロコラーゲンビトリゲル膜四重層接着乾燥体も同様にＰＢＳで再水和して、リング状のアテロコラーゲンビトリゲル膜四重層接着体を調製した。次いで、ビニールシート上にリング状のアテロコラーゲンビトリゲル膜四重層接着体を伸展した。次いで、四重層接着体上に２０μＬの０．５％アテロコラーゲンゾルを添加して、リングからはみ出ないように広げた。次いで、このリング状のアテロコラーゲンビトリゲル膜四重層接着体のアテロコラーゲンゾルを塗布した面が、部材Ａ上のアテロコラーゲンビトリゲル膜に接するように、リング状のアテロコラーゲンビトリゲル膜四重層接着体とアテロコラーゲンビトリゲル膜とを接着させた。次いで、１０℃、湿度４０％のインキュベーター内で、クリーン風乾機を用いて、乾燥（ガラス化）して、片面にアテロコラーゲンビトリゲル膜を備えるリング状のアテロコラーゲンビトリゲル膜四重層接着体（以下、単に「片面膜付きリング状四重層接着体」と称する場合がある）を得た。この片面膜付きリング状四重層接着体を２つ作製した。次いで、片面膜付きリング状四重層接着乾燥体２つを、それぞれ部材Ａから取り外した。次いで、片面膜付きリング状四重層接着乾燥体の部材Ａと接していた側の面に、ＵＶ照射（単位面積あたりのＵＶ総照射量：４００ｍＪ／ｃｍ２）した。さらに、ＵＶ照射後の片面膜付きリング状四重層接着乾燥体を裏返して、リング状のアテロコラーゲンビトリゲル膜四重層接着乾燥体が接着している側の面にも、ＵＶ照射（単位面積あたりのＵＶ総照射量：４００ｍＪ／ｃｍ２）した。【０１７８】
（６）片面膜付きリング状四重層接着体同士の接着
次いで、（５）で得られた片面膜付きリング状四重層接着乾燥体２つをＰＢＳで再水和して片面膜付きリング状四重層接着体とした。次いで、ビニールシート上に、片面膜付きリング状四重層接着体２つを、それぞれリング状のアテロコラーゲンビトリゲル膜四重層接着体が接着している側の面が上になるように伸展した。次いで、片面膜付きリング状四重層接着体のうち１つに、２０μＬの０．５％アテロコラーゲンゾルを添加して、リングからはみ出ないように広げた。次いで、アテロコラーゲンゾルを塗布した片面膜付きリング状四重層接着体と、もう１つのアテロコラーゲンゾルが塗布していない片面膜付きリング状四重層接着体とを、四重層接着体が接着している側の面同士が接するように接着させた。次いで、１０℃、湿度４０％のインキュベーター内で、クリーン風乾機を用いて、乾燥（ガラス化）した。次いで、ＵＶ照射（単位面積あたりのＵＶ総照射量：４００ｍＪ／ｃｍ２）した。さらに、裏返して、ＵＶ照射（単位面積あたりのＵＶ総照射量：４００ｍＪ／ｃｍ２）して、アテロコラーゲンビトリゲル膜乾燥体からなる細胞封入用デバイスを得た。次いで、得られたアテロコラーゲンビトリゲル膜乾燥体からなる細胞封入用デバイスはφ３５ｍｍのペトリディッシュに入れて、ペトリディッシュにパラフィルム（登録商標）を巻いてアルミホイルで遮光して、室温保存した。
【産業上の利用可能性】
【０１７９】
本実施形態のビトリゲル膜乾燥体の製造方法及び製造装置によれば、簡便にしわのない平滑な面を有するビトリゲル膜乾燥体を製造することができる。また、本実施形態のビトリゲル膜乾燥体が接着されたデバイスの製造方法及び製造装置によれば、前記ビトリゲル膜乾燥体の製造方法及び製造装置から連続的にビトリゲル膜乾燥体が接着されたデバイスを製造することができる。
【符号の説明】
【０１８０】
１…部材Ａ、１ａ…第１の材料、１ｂ…第２の材料、１ｃ…部材Ａの凹部、２…部材Ｂ、２ａ…貫通孔、２ｂ…部材Ｂにおける位置決めピンの受け側穴、３…部材Ｃ、３ａ…部材Ｃの凹部、３ｂ…部材Ｃにおける位置決めピンの受け側穴、４…位置決めピン、５…筒状部材、１０…ビトリゲル膜乾燥体の製造装置、１００…ビトリゲル膜乾燥体が接着されたデバイスの製造装置。
【要約】
簡便に、しわのない平滑な面を有するビトリゲル膜乾燥体を得られるビトリゲル膜乾燥体の製造方法を提供する。ビトリゲル膜乾燥体の製造方法は、１以上の凹部を有する部材Ａと、貫通孔を１以上有する部材Ｂと、を前記凹部と前記貫通孔とが重なるように同心状に配置させ、載置する工程１と、前記部材Ｂの前記貫通孔からゾルを注入する工程２と、前記ゾルをゲル化させる工程３と、前記工程３で得られたハイドロゲルを前記部材Ａ及び前記部材Ｂ内に形成された状態で乾燥しガラス化させる工程４と、前記工程４で得られたハイドロゲル乾燥体を水和させる工程５と、前記工程５で得られたビトリゲルを乾燥し再度ガラス化させる工程６と、前記工程６で得られたビトリゲル乾燥体のうち前記部材Ａの天面上をわずかに覆う部分を切り離す工程７と、をこの順に備える方法である。【図１Ａ】
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【図１Ｂ】
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【図１Ｃ】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図３】
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【図４】
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