(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶を介在して対面する２枚の板状部材と、
前記２枚の板状部材間のスペーサと、
前記２枚の板状部材の一方又は他方に含まれ、複数の開口が並設されている遮光層と、
前記２枚の板状部材の一方又は他方に含まれ、前記複数の開口を閉塞するか、又は前記複数の開口に臨んで配置される、互いに異なる色の複数の着色層と
を備え、
それぞれが前記複数の開口の１つ及び前記複数の着色層の１つを有する複数の副画素をそれぞれが含む複数の画素を有し、
前記複数の画素のそれぞれに含まれる前記複数の副画素は、一方向に連続して並ぶ同一色の複数個の副画素を含み、
前記スペーサはそれぞれ、前記異なる色のそれぞれについて、前記一方向に隣り合う同一色の２個の副画素の間に配置してある
液晶表示装置を製造する方法であって、
前記複数の着色層を形成する工程は、
前記複数の着色層のうちの１つの着色層を形成する着色層形成工程であって、
ある色の着色材料層を形成する材料層形成工程と、
前記複数の開口の内の第１の開口を閉塞するか、又は前記第１の開口に臨んで配置される前記ある色の着色層に対応する第１マスクパターンを有する第１露光マスクを用いたフォトリソグラフィにより、前記着色材料層の第１範囲に前記第１マスクパターンを転写する第１転写工程と、
前記複数の開口の内の、前記第１の開口と異なる第２の開口を閉塞するか、又は前記第２の開口に臨んで配置される前記ある色の着色層に対応する第２マスクパターンを有する第２露光マスクを用いたフォトリソグラフィにより、前記着色材料層の前記第１範囲に部分的に重なって隣接する第２範囲に前記第２マスクパターンを転写する第２転写工程と、
前記第１転写工程及び第２転写工程の終了後、前記着色材料層の非露光領域を除去する除去工程と
を包含する前記着色層形成工程を前記複数の着色層の色の数だけ繰り返す工程を包含し、
前記第１マスクパターン及び前記第２マスクパターンの少なくとも一方は、前記スペーサのそれぞれを間に介して前記一方向に隣り合う同一色の２個の副画素が有する着色層を形成すべき開口パターンを複数有しており、
前記複数の開口パターンはそれぞれ、前記一方向に連続して並ぶ同一色の２個超の副画素に対応する大きさを有し、
前記一方向に連続して並ぶ同一色の前記２個超の副画素の個数は、前記複数の画素のそれぞれに含まれている同一色の副画素の総数の２倍以上であることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項２】
前記複数の画素のそれぞれが有する前記複数の副画素は、同一色の副画素を２個ずつ含み、
前記一方向に連続して並ぶ同一色の前記２個超の副画素は、少なくとも前記一方向に連続してこの順に並ぶ第１画素、第２画素および第３画素に含まれている複数の副画素を含み、かつ、前記スペーサを有する前記第２画素に含まれている２個の副画素、及び前記スペーサを有しない前記第１画素および前記第３画素の夫々に含まれている１個の副画素を含むことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項３】
請求項１または２に記載の液晶表示装置の製造方法において用いられる、前記第１露光マスクおよび前記第２露光マスクを含む、露光マスクのセット。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、２枚の板状部材間のスペーサを備える液晶表示装置の製造方法及び露光マスクに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、液晶駆動用のＴＦＴ基板と、ＴＦＴ基板に対面する対向基板とを備えている。液晶は、対向基板とＴＦＴ基板との間に封入されている。
対向基板は、透光基板と、透光基板の一面に形成してある遮光層と、ＲＧＢ３原色、ＲＧＢＹ４原色、又はＲＧＢＷ４原色等を有する着色層とを備えている。以下では、ＲＧＢ３原色を例示する。
遮光層には複数個の開口が並設されている。開口は非遮光部であり、隣り合う開口の間は遮光部である。
【０００３】
遮光層に設けられている各開口は、ＲＧＢ３原色の何れか１色の着色層によって閉塞されている。着色層は、開口を確実に閉塞するために、開口の周縁部から内部に亘って形成される。
対向基板とＴＦＴ基板との間には、対向基板とＴＦＴ基板との間の離隔距離（セルギャップ）を均一にするためのスペーサが設けられている。
【０００４】
対向基板に設けられている各画素は、ＲＧＢ３色分の副画素を含んでいる。１個の副画素は、遮光層の開口及び開口を閉塞する着色層を有する。
各画素が、１色につき２個ずつ（即ち計６個の）副画素を含んでいるマルチ画素である場合、各マルチ画素にはスペーサが配されている。以下では、各マルチ画素に含まれている同一色の２個の副画素を、２個の同色副画素という。
各スペーサは、例えば２個の同色副画素間の遮光部に突設される。
【０００５】
各色の着色層をフォトリソグラフィによって形成するためには、一の色の着色層に対応するマスクパターンを夫々が有する複数の露光マスクが用いられる。マスクパターンには、複数個の開口パターンが含まれている。
各露光マスクの中央部においては、マスクパターンは開口パターンの密度が一定である。一の露光マスクの一端部においては、マスクパターンは中央寄りから周縁寄りに向けて開口パターンの密度が密から粗に変化し、他の露光マスクの他端部においては、マスクパターンは周縁寄りから中央寄りに向けて開口パターンの密度が粗から密に変化する。一の露光マスクの一端部における粗密と他の露光マスクの他端部における粗密とは互いに補完し合う（特許文献１参照）。
【０００６】
透光基板の一面は、遮光層が形成された後で、着色材料層で覆われる。
次に、この着色材料層に対して一の露光マスク及び他の露光マスクを用いたフォトリソグラフィが順に為される。この結果、着色材料層に、各露光マスクが有するマスクパターンが転写される。着色材料層において、一の露光マスクが有するマスクパターンが転写される範囲と、他の露光マスクが有するマスクパターンが転写される範囲とは部分的に重なる。
その後、着色材料層の非露光領域が除去される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０００−６６２３５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
２個の同色副画素夫々に係る着色層が両方とも一の露光マスク及び他の露光マスクの何れか一方を用いてパターン形成された場合に比べると、２個の同色副画素夫々に係る着色層の一方が一の露光マスクを用いてパターン形成され、他方が他の露光マスクを用いてパターン形成された場合には、２個の同色副画素間同士の膜厚の差異が大きい。
２個の同色副画素間同士の膜厚の差異が大きい場合、２個の同色副画素間にスペーサを配置すると、セルギャップを均一にすることができない。
【０００９】
つまり、一の露光マスクを用いてパターン形成された着色層と他の露光マスクを用いてパターン形成された着色層とが隣り合う部分（いわゆるマスク継ぎ部）にスペーサを配置することは、液晶表示装置の表示品位を低下させることにつながる。
かといって、膜厚の差異に応じてスペーサの長さを調整することは現実的ではない。
【００１０】
本発明は斯かる事情に鑑みてなされたものであり、その主たる目的は、セルギャップを均一にすることができる液晶表示装置の製造方法及び露光マスクを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明に係る液晶表示装置の製造方法は、液晶を介在して対面する２枚の板状部材と、該２枚の板状部材間のスペーサと、前記２枚の板状部材の一方又は他方に含まれ、複数個の開口が並設されている遮光層と、前記２枚の板状部材の一方又は他方に含まれ、前記開口を閉塞するか、又は前記開口に臨んで配置される着色層とを備え、前記開口及び着色層を有する副画素を複数個含む画素が複数個設けられており、複数個の副画素は、一方向に隣り合う副画素と同一色を有し、前記スペーサは、前記一方向に隣り合う同一色の２個の副画素の間に配置してある液晶表示装置を製造する方法において、前記着色層を形成する着色層形成工程では、一の色の着色材料層を形成する材料層形成工程と、複数個の一部の開口を閉塞するか、又は該開口に臨むべき一の色の着色層に対応するマスクパターンを有する第１露光マスクを用いたフォトリソグラフィにより、前記着色材料層の第１範囲に前記マスクパターンを転写する第１転写工程と、複数個の他部の開口を閉塞するか、又は該開口に臨むべき一の色の着色層に対応するマスクパターンを有する第２露光マスクを用いたフォトリソグラフィにより、前記着色材料層の前記第１範囲に部分的に重なって隣接する第２範囲に前記マスクパターンを転写する第２転写工程と、前記第１転写工程及び第２転写工程の終了後、前記着色材料層の非露光領域を除去する除去工程とを、複数色分繰り返し、前記第１露光マスク及び第２露光マスクの少なくとも一方が有するマスクパターンには、前記スペーサに隣り合う前記同一色の２個の副画素が有する着色層を形成すべき開口パターンが含まれており、該開口パターンは、前記一方向に隣り合う複数個の同一色の副画素に対応する大きさを有し、前記一方向に隣り合う複数個の同一色の副画素の個数は、複数個の前記画素に含まれている同一色の副画素の総数と同じであることを特徴とする。
【００１２】
本発明に係る液晶表示装置の製造方法は、前記画素は、同一色の副画素が２個ずつ含まれているマルチ画素であり、前記一方向に隣り合う複数個の同一色の副画素は、少なくとも１個のマルチ画素に含まれている２個の副画素、及び２個のマルチ画素夫々に含まれている各１個の副画素であることを特徴とする。
【００１３】
本発明に係る露光マスクは、液晶を介在して対面する２枚の板状部材と、該２枚の板状部材の一方又は他方に含まれ、複数個の開口が並設されている遮光層と、前記２枚の板状部材の一方又は他方に含まれ、前記開口を閉塞するか、又は前記開口に臨んで配置される着色層とを備え、前記開口及び着色層を有する副画素を複数個含む画素が複数個設けられており、複数個の副画素は、一方向に隣り合う副画素と同一色を有する液晶表示装置を製造する場合に用いられ、一の色の前記着色層をフォトリソグラフィによって形成するためのマスクパターンを有する露光マスクにおいて、前記マスクパターンには、前記一方向に隣り合う複数個の同一色の副画素に対応する大きさを有する開口パターンが含まれており、前記一方向に隣り合う複数個の同一色の副画素の個数は、複数個の前記画素に含まれている同一色の副画素の総数と同じであることを特徴とする。
【００１４】
本発明にあっては、第１露光マスクを用いたフォトリソグラフィにより、着色材料層の第１範囲に、第１露光マスクのマスクパターンが転写され、第２露光マスクを用いたフォトリソグラフィにより、着色材料層の第１範囲に部分的に重なって隣接する第２範囲に、第２露光マスクのマスクパターンが転写される。つまり、本発明に係る液晶表示装置の製造方法においては、着色層の形成時に、いわゆるマスク継ぎが行なわれる。
【００１５】
スペーサは、一方向に隣り合う同一色の２個の副画素間に配される。第１露光マスク及び第２露光マスクの少なくとも一方が有するマスクパターンには、スペーサに隣り合う同一色の２個の副画素が有する着色層を形成すべき開口パターンが含まれている。つまり、スペーサに隣り合う同一色の２個の副画素間はマスク継ぎ部ではない（非マスク継ぎ部である）。従って、スペーサの配置位置は、膜厚の差異が小さい。
換言すれば、スペーサは、膜厚の差異が大きい位置には配されない。従って、膜厚の差異がスペーサを介してセルギャップに悪影響を与える虞はない。
【００１６】
しかも、スペーサに隣り合う同一色の２個の副画素が有する着色層を形成すべき開口パターンは、一方向に隣り合う複数個の同一色の副画素に対応する大きさを有する。一方向に隣り合う複数個の同一色の副画素の個数は、複数個の画素に含まれている同一色の副画素の総数と同じである。つまり、第１露光マスク及び第２露光マスクの少なくとも一方が有するマスクパターンは、従来の露光マスクが有するマスクパターンとは異なる。何故ならば、本発明に係る露光マスクの開口パターンのサイズ（いわゆるドットサイズ）は複数画素分であるが、従来の露光マスクの開口パターンのサイズは１画素分だからである。
【００１７】
このような開口パターンを用いれば、スペーサに隣り合う同一色の２個の副画素に亘る着色層が形成される。つまり、スペーサの配置位置は着色層の一方向中央部である。そして、着色層の一方向中央部同士に係る膜厚の差異は非常に小さい。
一方、マスク継ぎ部においては、第１露光マスク又は第２露光マスクの位置ずれによって、隣り合う２個の着色層が重なり合っているところと無用に離隔しているところとがあったり、着色層における二重露光された部分と１回しか露光されなかった部分とで膜厚が異なったりすることがあるので、２個の副画素間同士に係る膜厚の差異が大きい。
【００１８】
マルチ画素以外の通常の画素の場合、スペーサが配される位置の着色層の一方向両端部は、隣り合う２個の通常の画素夫々の同一色の副画素間に配される。隣り合う２個の通常の画素夫々の同一色の副画素間には、一般に遮光層の遮光部又は遮光性部材（例えば遮光性を有する配線部）が配されているので、着色層の一方向両端部を遮光することができる。従って、スペーサが配される位置の着色層が、液晶表示装置の表示品位に悪影響を及ぼす虞はない。
【００１９】
ここで、遮光層と着色層とは、同一の板状部材に含まれていてもよい。この場合、着色層は、遮光層に設けられている開口を閉塞する。このとき、スペーサは、遮光層と着色層とを含む板状部材に設けられていてもよく、遮光層と着色層とを含まない板状部材に設けられていてもよい。遮光層と着色層とを含む板状部材に設けられている場合、スペーサは、遮光層の遮光部上に設けられていてもよく、遮光層の遮光部上以外（例えば着色層上）に設けられていてもよい。
【００２０】
また、遮光層と着色層とは、異なる板状部材に含まれていてもよい。この場合、着色層は、遮光層に臨んで配置される。このとき、スペーサは、遮光層を含む板状部材に設けられていてもよく、遮光層を含まない板状部材に設けられていてもよい。遮光層を含む板状部材に設けられている場合、スペーサは、遮光層の遮光部上に設けられていてもよく、遮光層の遮光部上以外に設けられていてもよい。着色層を含む板状部材に設けられている場合、スペーサは、着色層上に設けられていてもよく、着色層上以外に設けられていてもよい。
【００２１】
つまり、スペーサの配置位置は、マスク継ぎ部でなく、非マスク継ぎ部であれば、遮光層の遮光部上、着色層上、及びこれら以外の何れであってもよい。
少なくとも着色層を含む板状部材にスペーサが設けられている場合、スペーサは、例えば着色層と同時的に形成されてもよく、着色層の形成後に形成されてもよい。
開口と副画素とは一対一対応（１個の副画素が１個の開口を有する構成）でもよく、１個の開口に複数個の副画素が対応している構成（複数個の副画素夫々が１個の開口の一部分ずつを有する構成）でもよい。
【００２２】
画素に含まれている複数個の副画素の内、少なくとも２個の副画素が同一色であってもよい。又は、画素に含まれている複数個の副画素の全てが異なる色であってもよい。
各画素は、マルチ画素でもよく、マルチ画素ではない通常の画素でもよい。各画素に含まれている副画素の個数は、等しくてもよく、異なっていてもよい。
一方向に隣り合う同一色の２個の副画素は、２個の画素に１個ずつ含まれていてもよく、１個の画素に２個とも含まれていてもよい。つまり、スペーサは、隣り合う２個の画素間に配されていてもよく、１個の画素の内部に配されていてもよい。
【００２３】
スペーサの個数は限定されない。スペーサに隣り合う副画素を含む画素に関し、スペーサの個数は画素に含まれている副画素の個数と同じでもよく（例えば副画素３個に対してスペーサ３個）、異なっていてもよい（例えば副画素３個に対してスペーサ２個以下又は４個以上）。スペーサに隣り合う副画素を含む画素同士で、夫々に対応するスペーサの個数が異なっていてもよい。
スペーサに隣り合う同一色の２個の副画素が有する着色層を形成すべき開口パターンは、第１露光マスク及び第２露光マスクの何れか一方のみに含まれていてもよく、第１露光マスク及び第２露光マスク夫々に含まれていてもよい。スペーサの配置位置が非マスク継ぎ部でさえあれば、開口パターン同士の形状又はサイズは互いに同じでも異なっていてもよい。
【００２４】
本発明にあっては、一方向に隣り合う複数個の同一色の副画素の個数は、複数個のマルチ画素に含まれている同一色の副画素の総数と同じである。
この場合、スペーサに隣り合う同一色の２個の副画素が有する着色層を形成すべき開口パターンは、Ｋ個のマルチ画素に含まれている｛２×Ｋ｝個の副画素（Ｋは自然数）、及び２個のマルチ画素夫々に含まれている各１個の副画素に対応する大きさを有する。
【００２５】
この結果、スペーサが配される位置の着色層の一方向両端部は、２個のマルチ画素夫々の２個の同色副画素間に配される。マルチ画素の２個の同色副画素間には、一般に遮光層の遮光部又は遮光性部材が配されているので、着色層の一方向両端部を遮光することができる。従って、スペーサが配される位置の着色層が、液晶表示装置の表示品位に悪影響を及ぼす虞はない。
【発明の効果】
【００２６】
本発明の液晶表示装置の製造方法による場合、スペーサは、膜厚の差異が小さい位置に配されるので、液晶表示装置のセルギャップが、膜厚の大きな差異の影響を受けることがない。故に、液晶表示装置のセルギャップを均一にすることができる。従って、液晶表示装置の表示品位を向上させることができる。
【００２７】
本発明の露光マスクは、本発明の液晶表示装置の製造方法に従って液晶表示装置を製造する場合に好適である。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本発明の実施の形態１に係る液晶表示装置の製造方法に従って製造された液晶表示装置の構成を模式的に示す断面図である。
【図２】液晶表示装置の構成を模式的に示す正面図である。
【図３】液晶表示装置が備える対向基板の構成を模式的に示す正面図である。
【図４】液晶表示装置の製造方法を説明するための正面図である。
【図５】本発明の実施の形態１に係るＲ色用の第１露光マスクの構成を模式的に示す正面図である。
【図６】Ｒ色用の第２露光マスクの構成を模式的に示す正面図である。
【図７】Ｂ色用の第１露光マスクの構成を模式的に示す正面図である。
【図８】Ｂ色用の第２露光マスクの構成を模式的に示す正面図である。
【図９】Ｇ色用の第１露光マスクの構成を模式的に示す正面図である。
【図１０】Ｇ色用の第２露光マスクの構成を模式的に示す正面図である。
【図１１】液晶表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【図１２】液晶表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【図１３】液晶表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【図１４】液晶表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【図１５】液晶表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【図１６】液晶表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【図１７】本発明の実施の形態２に係る液晶表示装置の製造方法に従って製造された液晶表示装置が備える対向基板の構成を模式的に示す正面図である。
【図１８】本発明の実施の形態２に係るＲＧＢ３色分の第１露光マスクによって形成される着色層及びスペーサを模式的に示す正面図である。
【図１９】ＲＧＢ３色分の第２露光マスクによって形成される着色層及びスペーサを模式的に示す正面図である。
【図２０】本発明の実施の形態３に係る液晶表示装置の製造方法に従って製造された液晶表示装置が備える対向基板の構成を模式的に示す正面図である。
【図２１】本発明の実施の形態３に係るＲＧＢ３色分の第１露光マスクによって形成される着色層及びスペーサを模式的に示す正面図である。
【図２２】ＲＧＢ３色分の第２露光マスクによって形成される着色層及びスペーサを模式的に示す正面図である。
【図２３】本発明の実施の形態４に係る液晶表示装置の製造方法に従って製造された液晶表示装置が備える対向基板の構成を模式的に示す正面図である。
【図２４】本発明の実施の形態４に係るＲＧＢ３色分の第１露光マスクによって形成される着色層及びスペーサを模式的に示す正面図である。
【図２５】ＲＧＢ３色分の第２露光マスクによって形成される着色層及びスペーサを模式的に示す正面図である。
【図２６】本発明の実施の形態５に係る液晶表示装置の製造方法に従って製造された液晶表示装置が備える対向基板の構成を模式的に示す正面図である。
【図２７】本発明の実施の形態５に係るＲＧＢ３色分の第１露光マスクによって形成される着色層及びスペーサを模式的に示す正面図である。
【図２８】ＲＧＢ３色分の第２露光マスクによって形成される着色層及びスペーサを模式的に示す正面図である。
【図２９】液晶表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【図３０】液晶表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【図３１】液晶表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
以下、本発明を、その実施の形態を示す図面に基づいて詳述する。以下の説明では、図において矢符で示す上下、前後、及び左右を使用する。
【００３０】
実施の形態  １．
図１及び図２は、本発明の実施の形態１に係る液晶表示装置の製造方法に従って製造された液晶表示装置１の構成を模式的に示す断面図及び正面図である。ただし、図２は後述する偏光板２４、保護ガラス２５、及び透光基板４１の図示を省略している。
図３は、液晶表示装置１が備える対向基板４の構成を模式的に示す正面図である。図３に示す対向基板４の上下左右方向は、図３に向かって上下左右方向である。
【００３１】
液晶表示装置１は、テレビジョン受信機又はディスプレイ等として構成されている。液晶表示装置１は、ＲＧＢ三原色を用いてカラー画像を表示する。以下では、Ｒ色、Ｇ色、又はＢ色を有するもの同士を区別する場合、それらの符号に“ｒ”、“ｇ”、又は“ｂ”を付す。
【００３２】
液晶表示装置１は、液晶表示装置１の前部を構成する液晶パネル１１と、液晶表示装置１の後部を構成する照明装置１２とを備えている。液晶パネル１１は、拡散板２１、偏光板２２、ＴＦＴ基板３（板状部材）、液晶２３、対向基板４（板状部材）、偏光板２４、及び保護ガラス２５を、照明装置１２よりも前側にて、後ろ側から前側へこの順に備えている。ＴＦＴ基板３は、透光基板３１、ＴＦＴ層３２、及び配向膜３３を備えている。対向基板４は、透光基板４１、ＢＭ４２、着色層４３，４３，…、透明電極部４４、配向膜４５、スペーサ４６，４６，…、及びスペーサ４９，４９，…,を備えている。
【００３３】
液晶パネル１１は、矩形状の表示領域と、表示領域を囲繞する矩形枠状の額縁領域（不図示）とを有する。液晶パネル１１の表示領域には、多数個のマルチ画素１３，１３，…が、上下方向及び左右方向夫々に複数個ずつ並設されている。以下では、マルチ画素１３，１３，…の左右方向の並びを行といい、マルチ画素１３，１３，…の上下方向の並びを列という。
図１の左側（及び右側）には、液晶表示装置１における偶数行目（及び奇数行目）のマルチ画素１３を含む部分が示されている。図２に示す二点鎖線の矩形の内、上側（及び下側）の矩形は偶数行目（及び奇数行目）のマルチ画素１３を示している。図３には、Ｍ行目〜｛Ｍ＋４｝行目及びＮ列目〜｛Ｎ＋３｝列目のマルチ画素１３，１３，…が示されている。ここで、Ｍ，Ｎは、Ｍ，Ｎ≧０の偶数である。
【００３４】
各マルチ画素１３はＲＧＢ３色分（１色当たり２個。計６個）の副画素１４，１４，…を含んでいる。図２に示す右上がりのハッチングの部分は、偶数行目のマルチ画素１３における上側の副画素１４ｒ，１４ｇ，１４ｂを示しており、右下がりのハッチングの部分は、偶数行目のマルチ画素１３における下側の副画素１４ｒ，１４ｇ，１４ｂを示している。
各マルチ画素１３に含まれている同一色の２個の副画素１４，１４（即ち、２個の同色副画素１４，１４）は、上下方向に並設されている。異なる色の２個の同色副画素１４，１４同士は、Ｒ色、Ｇ色、及びＢ色の順に左側から右側へ並置されている。対向基板４全体において、ＲＧＢ３色分の副画素１４，１４，…は、同色同士が上下方向に並ぶストライプ状に配されている。
【００３５】
図２に示すように、上下方向に隣り合う２個のマルチ画素１３，１３同士は隣接しており、両者間の離隔距離は“０”と見做せる。即ち、２個の同色副画素１４，１４間の離隔距離は、上下方向に隣り合う２個のマルチ画素１３，１３間の離隔距離よりも長い。
しかしながら、図３では、マルチ画素１３，１３，…同士を区別し易くするために、上下方向に隣り合う２個のマルチ画素１３，１３同士が離隔しており、上下方向に隣り合う２個のマルチ画素１３，１３間の離隔距離の方が２個の同色副画素１４，１４間の離隔距離よりも長いように描かれている。
【００３６】
液晶パネル１１が備える拡散板２１及び偏光板２２は、夫々透光性を有し、各矩形状になしてある。拡散板２１は液晶パネル１１の最後部を構成している。偏光板２２は拡散板２１の前面に積層されている。
【００３７】
ＴＦＴ基板３が備える透光基板３１は矩形状のガラス板を用いてなる。透光基板３１は偏光板２２の前面に積層されている。
ＴＦＴ層３２は透光基板３１の前面に積層されている。ＴＦＴ層３２は、各透光性を有する複数個の画素電極３２１，３２１，…、及び、各遮光性を有し、画素電極３２１，３２１，…と同数個の図示しないＴＦＴと、各複数本の左右方向のゲートバスライン及びＣｓバスライン（各不図示）とを有する。各１個の画素電極３２１及びＴＦＴは、互いに電気的に接続されており、１個の副画素１４を構成している。
配向膜３３は透光性を有し、ＴＦＴ層３２の前面における表示領域に積層されている。
【００３８】
対向基板４が備える透光基板４１は矩形状のガラス板を用いてなる。
ＢＭ４２はブラックマトリクスであり、本発明の実施の形態における遮光層として機能する。ＢＭ４２は透光基板４１の後面に積層されている。
ＢＭ４２における表示領域には、各矩形状の複数個の開口４７，４７，…が設けられている。開口４７，４７，…は、上下方向及び左右方向夫々に複数個ずつ、互いに離隔配置されている。即ち、隣り合う２個の開口４７，４７間には、ＢＭ４２の遮光部が配されている。
本実施の形態における各開口４７の周縁部はＢＭ４２の遮光部であるが、開口４７の構成はこれに限定されるものではない。開口４７の周縁部の内、他の開口４７，４７，…に隣り合わない範囲は非遮光部であってもよい。つまり、開口４７の周縁部の一部が透光基板４１の周縁部の一部に一致していてもよい。
【００３９】
着色層４３夫々は透光性を有し、ＲＧＢ３原色の何れか１色を有する。１個の着色層４３は、１個の開口４７を閉塞している。着色層４３は、開口４７を確実に閉塞するために、開口４７の周縁部から内部に亘って形成されている。
透明電極部４４は、ＢＭ４２及び着色層４３，４３，…の後面における表示領域に積層されている。
配向膜４５は透光性を有し、透明電極部４４の後面に積層されている。配向膜３３，４５は、液晶２３を構成する液晶分子群を一定方向に配列させるためのものである。
【００４０】
各副画素１４は、ＢＭ４２の開口４７及び着色層４３と、ＴＦＴ層３２の画素電極３２１及びＴＦＴとを有する。ただし、各副画素１４が有する開口４７は、開口４７の上半分又は下半分である。このために、各画素電極３２１が開口４７の上半分又は下半分に臨むようにして、ＴＦＴ基板３の前面（更に詳細には、配向膜３３の前面）と対向基板４の後面（更に詳細には、配向膜４５の後面）とが対面配置されている。
上下方向に隣り合う２個のマルチ画素１３，１３間にはＢＭ４２の遮光部は配されていない。従って、上下方向に隣り合う２個のマルチ画素１３，１３間にＢＭ４２の遮光部が配されている場合よりも、液晶表示装置１の解像度が向上する。なお、上下方向に隣り合う２個のマルチ画素１３，１３間にＢＭ４２の遮光部が配されていてもよい。
【００４１】
透明電極部４４は、ＴＦＴ層３２の画素電極３２１，３２１，…に対向する共通電極として機能する。
ＴＦＴ層３２が有するＴＦＴは、ＢＭ４２における遮光部に対向配置されている。ＴＦＴ層３２が有するゲートバスラインは、ＢＭ４２における２個の同色副画素１４，１４間の遮光部に対向配置されている。ＴＦＴ層３２が有するＣｓバスラインは、マルチ画素１３，１３の境界部分に対向配置されている。
【００４２】
対面配置されているＴＦＴ基板３と対向基板４とは、図示しない封止部を介して接着されている。封止部は遮光性を有する矩形枠状であり、ＴＦＴ基板３と対向基板４との間にて、ＴＦＴ基板３及び対向基板４夫々の額縁領域に接着している。封止部がＴＦＴ基板３と対向基板４との間に介在することによって、ＴＦＴ基板３と対向基板４とは適宜のセルギャップを有して対面配置される。
【００４３】
各スペーサ４６，４９は、前後方向の柱状部である。スペーサ４９の長さはスペーサ４６の半分程度である。
スペーサ４６は、２個の同色副画素１４ｒ，１４ｒ間に位置している。スペーサ４６は、着色層４３ｇ，４３ｂ夫々を構成する材料と同じ材料を含んでいる。
スペーサ４９は、２個の同色副画素１４ｇ，１４ｇ間及び２個の同色副画素１４ｂ，１４ｂ間の何れかに位置している。２個の同色副画素１４ｇ，１４ｇ間に位置しているスペーサ４９は、着色層４３ｂを構成する材料と同じ材料を含んでいる。２個の同色副画素１４ｂ，１４ｂ間に位置しているスペーサ４９は、着色層４３ｂを構成する材料と同じ材料を含んでいる。
【００４４】
スペーサ４６，４６，…は、いわゆるメインスペーサであり、ＴＦＴ基板３と対向基板４との間に介在して、セルギャップを均一にする効果を奏する。
スペーサ４９，４９，…は、いわゆるサブスペーサであり、セルギャップを短縮する方向の外力が加えられた場合にセルギャップの過剰な短縮を抑制する。この結果、セルギャップを短縮する方向の外力が加えられた場合に液晶表示装置１が過剰に変形し破損することが抑制される。
【００４５】
ところで、従来の液晶表示装置においては、全てのマルチ画素１３，１３，…に対してスペーサ４６，４９，４９が配されていることがある。
一方、液晶表示装置１においては、一部のマルチ画素１３，１３，…に対してはスペーサ４６，４９，４９が配されているが、残部のマルチ画素１３，１３，…に対してはスペーサ４６，４９，４９は配されていない。具体的には、奇数行目（｛Ｍ＋１｝行目、｛Ｍ＋３｝行目、…）のマルチ画素１３，１３，…夫々に対してはスペーサ４６，４９，４９が配されているが、偶数行目（Ｍ行目、｛Ｍ＋２｝行目、｛Ｍ＋４｝行目、…）のマルチ画素１３，１３，…夫々にはスペーサ４６，４９，４９は配されていない。
【００４６】
液晶パネル１１が備える液晶２３は、透光性を有する。液晶２３は、ＴＦＴ基板３と対向基板４との間、且つ、封止部に囲繞された空間に封入されている。スペーサ４６，４９，４９，…は、液晶２３を貫通している。
【００４７】
偏光板２４及び保護ガラス２５は夫々透光性を有し、各矩形状になしてある。
偏光板２４は透光基板４１の前面に積層されている。偏光板２２，２４は、互いに直交する直線偏光を夫々透過する。
保護ガラス２５は偏光板２４の前面に積層されている。
【００４８】
照明装置１２は、直下型又はエッジライト型のバックライトユニットである。照明装置１２は液晶パネル１１を後ろ側から照明する。
照明装置１２が発した光は、拡散板２１を透過することによって拡散する。拡散した光は、偏光板２２を透過してからＴＦＴ基板３に入射する。
【００４９】
ＴＦＴ基板３に入射した光は、透光基板３１、ＴＦＴ層３２の画素電極３２１、及び配向膜３３を順に透過してから、液晶２３に入射する。
ＴＦＴ層３２の各画素電極３２１と透明電極部４４との間に電圧が印加されていない場合、画素電極３２１の前側の液晶２３に入射した光は、そのまま液晶２３を透過する。
一方、ＴＦＴ層３２の各画素電極３２１と透明電極部４４との間に電圧が印加された場合、画素電極３２１の前側の液晶２３に入射した光は、液晶２３によって偏光されてから液晶２３を透過する。何故ならば、電圧の印加によって、液晶２３を構成する液晶分子群の配列が変化するからである。
【００５０】
液晶２３を透過した光は、対向基板４に入射する。
対向基板４に入射した光は、配向膜４５、透明電極部４４、着色層４３、及び透光基板４１を順に透過してから出射する。
液晶２３をそのまま透過した光は、対向基板４から出射した後、偏光板２４によって遮断される。液晶２３によって偏光された光は、対向基板４から出射した後、偏光板２４、及び保護ガラス２５を順に透過し、外部へ出射する。
以上の結果、液晶パネル１１の表示領域にカラー画像が表示される。
【００５１】
図４は、液晶表示装置の製造方法を説明するための正面図であり、具体的には、対向基板４の製造手順を説明するためものである。図４の上側には露光マスク５が模式的に示してあり、下側には着色材料層４０が模式的に示してある。
着色材料層４０は、ＲＧＢ３原色の何れか１色の着色層４３，４３，…を形成するための着色材料層である。着色材料層４０はフォトレジストを用いてなる構成でもよく、着色材料層４０の表面に不図示のフォトレジスト膜が形成してある構成でもよい。
【００５２】
露光マスク５は、左側マスク部５１と中央マスク部５２と右側マスク部５３とを有する。
左側マスク部５１と中央マスク部５２と右側マスク部５３とは、ＲＧＢ３原色の何れか１色の着色層４３，４３，…に対応するマスクパターン５１１，５２１，５３１を有する。
【００５３】
Ｒ色用の露光マスク５ｒ、Ｇ色用の露光マスク５ｇ、及びＢ色用の露光マスク５ｂは互いに類似の構成である。
ただし、露光マスク５ｒのマスクパターン５１１，５２１，５３１には、スペーサ４６及びスペーサ４９を形成すべき開口パターンは含まれていない。
一方、露光マスク５ｇのマスクパターン５１１，５２１，５３１には、スペーサ４６を形成すべき開口パターン及び２個の同色副画素１４ｂ，１４ｂ間に位置するスペーサ４９を形成すべき開口パターンが含まれており、露光マスク５ｂのマスクパターン５１１，５２１，５３１には、スペーサ４６を形成すべき開口パターン及び２個の同色副画素１４ｇ，１４ｇ間に位置するスペーサ４９を形成すべき開口パターンが含まれている。
以下では、Ｒ色用の露光マスク５ｒについて主に説明する。
【００５４】
左側マスク部５１が有するマスクパターン５１１には、着色層４３，４３，…を形成すべき開口パターン５１２，５１２，…が含まれている。開口パターン５１２，５１２，…同士は上下左右方向に適長離隔している。
同様に、中央マスク部５２（及び右側マスク部５３）が有するマスクパターン５２１（及びマスクパターン５３１）には、開口パターン５２２，５２２，…（及び開口パターン５３２，５３２，…）が含まれている。
マスクパターン５１１，５２１，５３１は、露光マスク５を用いたフォトリソグラフィによって着色材料層４０に夫々転写される。
【００５５】
左側マスク部５１が有するマスクパターン５１１の左端部及び左右方向中央部においては、着色層４３，４３，…を形成すべき開口パターン５１２，５１２，…はマトリクス状に配置されており、密度が一定である。
マスクパターン５１１の右端部は、マトリクス状に配置すべき開口パターン５１２，５１２，…の密度が変化する粗密部であり、左右方向中央部寄りから右端部寄りに向けて、開口パターン５１２，５１２，…の密度が密から粗に変化する。図４に示す二点鎖線の矢符は、開口パターン５１２，５１２，…の密度が密から粗に変化する方向を示している。
左側マスク部５１のマスクパターン５１１は、着色材料層４０の左端部の所定の範囲（右上がりの粗いハッチングで示す範囲）に転写される。
【００５６】
中央マスク部５２が有するマスクパターン５２１の左右方向中央部においては、着色層４３，４３，…を形成すべき開口パターン５２２，５２２，…はマトリクス状に配置されており、密度が一定である。
マスクパターン５２１の左端部は粗密部であり、左右方向中央部寄りから左端部寄りに向けて、開口パターン５２２，５２２，…の密度が密から粗に変化する。マスクパターン５２１の左端部における粗密部の開口パターン５２２，５２２，…の粗密と左側マスク部５１の右端部における粗密部の開口パターン５１２，５１２，…の粗密とは互いに補完し合う。
【００５７】
マスクパターン５２１の右端部は粗密部であり、左右方向中央部寄りから右端部寄りに向けて、開口パターン５２２，５２２，…の密度が密から粗に変化する。マスクパターン５２１の右端部における粗密部の開口パターン５２２，５２２，…の粗密と左端部における粗密部の開口パターン５２２，５２２，…の粗密とは互いに補完し合う。
【００５８】
中央マスク部５２のマスクパターン５２１は、着色材料層４０の左右方向中央部の所定の範囲に転写される。
更に詳細には、中央マスク部５２のマスクパターン５２１は、左側マスク部５１のマスクパターン５１１が転写される範囲（右上がりの粗いハッチングで示す範囲。第１範囲）に部分的に重なって右側に隣接する範囲（右下がりの細かいハッチングで示す範囲。第２範囲）に転写される。また、中央マスク部５２のマスクパターン５２１は、中央マスク部５２のマスクパターン５２１が転写される範囲（右下がりの細かいハッチングで示す範囲。第１範囲）に部分的に重なって右側に隣接する範囲（右上がりの細かいハッチングで示す範囲。第２範囲）に転写される。
【００５９】
右側マスク部５３が有するマスクパターン５３１の右端部及び左右方向中央部においては、着色層４３，４３，…を形成すべき開口パターン５３２，５３２，…はマトリクス状に配置されており、密度が一定である。
マスクパターン５３１の左端部は粗密部であり、左右方向中央部寄りから右端部寄りに向けて、開口パターン５３２，５３２，…の密度が密から粗に変化する。マスクパターン５３１の左端部における粗密部の開口パターン５３２，５３２，…の粗密と中央マスク部５２のマスクパターン５２１の右端部における粗密部の開口パターン５２２，５２２，…の粗密とは互いに補完し合う。
【００６０】
右側マスク部５３のマスクパターン５３１は、着色材料層４０の右端部の所定の範囲に転写される。
更に詳細には、右側マスク部５３のマスクパターン５３１は、中央マスク部５２のマスクパターン５２１が転写される範囲（右上がりの細かいハッチングで示す範囲。第１範囲）に部分的に重なって右側に隣接する範囲（右下がりの粗いハッチングで示す範囲。第２範囲）に転写される。
【００６１】
マスクパターン同士が重なって転写される範囲を、以下では二重露光範囲Ｄという。図４には、左側マスク部５１及び中央マスク部５２に係る二重露光範囲Ｄと、中央マスク部５２同士に係る二重露光範囲Ｄと、中央マスク部５２及び右側マスク部５３に係る二重露光範囲Ｄとが各１個例示されている。
本実施の形態では、二重露光範囲Ｄに２列分のマルチ画素１３，１３，…が含まれている場合を例示する（図３参照）。
【００６２】
図５及び図６は、本発明の実施の形態１に係るＲ色用の第１露光マスク及び第２露光マスクの構成を模式的に示す正面図である。図５（及び図６）に示す左側マスク部５１ｒ（及び中央マスク部５２ｒ）の上下左右方向は、図５（及び図６）に向かって上下左右方向である。
左側マスク部５１ｒが本発明の実施の形態における第１露光マスクとして機能する場合、右側マスク部５３ｒは本発明の実施の形態における第２露光マスクとして機能する。中央マスク部５２ｒは、左側マスク部５１ｒとの関係では第２露光マスクとして機能し、右側マスク部５３との関係では第１露光マスクとして機能し、中央マスク部５２ｒとの関係では第１露光マスク及び第２露光マスクの何れか一方として機能する。
【００６３】
図５はＲ色用の第１露光マスクとしての左側マスク部５１ｒを示している。
図５には、左側マスク部５１ｒが有するマスクパターン５１１に含まれている開口パターン５１２，５１２，…が実線で示してある。また、中央マスク部５２ｒが有するマスクパターン５２１に含まれている開口パターン５２２，５２２，…が二点鎖線で示してある。
また、図５には、開口パターン５１２，５１２，…によって形成される着色層４３，４３，…を有する副画素１４，１４，…が太い破線で示してあり、これ以外の副画素１４，１４，…とスペーサ４６，４６，…及びスペーサ４９，４９，…とが細い破線で示してある。
【００６４】
同様に、図６はＲ色用の第２露光マスクとしての中央マスク部５２ｒを示している。
図６には、中央マスク部５２ｒが有するマスクパターン５２１に含まれている開口パターン５２２，５２２，…が実線で示してある。また、左側マスク部５１ｒが有するマスクパターン５１１に含まれている開口パターン５１２，５１２，…が二点鎖線で示してある。
また、図６には、開口パターン５２２，５２２，…によって形成される着色層４３，４３，…を有する副画素１４，１４，…が太い破線で示してあり、これ以外の副画素１４，１４，…とスペーサ４６，４６，…及びスペーサ４９，４９，…とが細い破線で示してある。
【００６５】
図５及び図６における各副画素１４及びスペーサ４６，４９の配置は、図３における配置に対応している。
【００６６】
左側マスク部５１ｒのマスクパターン５１１における｛Ｎ＋１｝列目から｛Ｎ＋２｝列目までは、左側マスク部５１ｒの右端部における粗密部である。｛Ｎ＋１｝列目の開口パターン５２１，５２１，…の密度は、｛Ｎ＋２｝列目の開口パターン５２１，５２１，…の密度より高い。
中央マスク部５２ｒのマスクパターン５２１における｛Ｎ＋１｝列目から｛Ｎ＋２｝列目までは、中央マスク部５２ｒの左端部における粗密部である。｛Ｎ＋２｝列目の開口パターン５２１，５２１，…の密度は、｛Ｎ＋１｝列目の開口パターン５２１，５２１，…の密度より高い。
左側マスク部５１ｒ及び中央マスク部５２ｒを仮想的に重ね合わせると、開口パターン５１２，５１２，…及び開口パターン５２２，５２２，…はマトリクス状に配置される。
【００６７】
図５に示す左側マスク部５１ｒが有するマスクパターン５１１に含まれている各開口パターン５１２は、上下方向に隣り合う４個の副画素１４ｒ，１４ｒ，…に対応する大きさを有する。この副画素１４ｒ，１４ｒ，…の個数（４個）は、２個のマルチ画素１３，１３に含まれている副画素１４ｒ，１４ｒ，…の総数（４個）と同じである。
同様に、図６に示す中央マスク部５２ｒが有するマスクパターン５２１に含まれている各開口パターン５２２は、上下方向に隣り合う４個の副画素１４ｒ，１４ｒ，…に対応する大きさを有する。
【００６８】
各１個の開口パターン５１２又は開口パターン５２２に対応する４個の副画素１４ｒ，１４ｒ，…は、奇数行目のマルチ画素１３に含まれている２個の同色副画素１４ｒ，１４ｒと、奇数行目のマルチ画素１３の上側に隣り合う偶数行目のマルチ画素１３に含まれている下側の副画素１４ｒと、奇数行目のマルチ画素１３の下側に隣り合う偶数行目のマルチ画素１３に含まれている上側の副画素１４ｒとである。
【００６９】
つまり、マスクパターン５１１，５２１には、スペーサ４６に隣り合う同一色の２個の副画素１４ｒ，１４ｒに亘る１個の着色層４３ｒを形成すべき開口パターン５１２，５２２が含まれている。
換言すれば、スペーサ４６に隣り合う同一色の２個の副画素１４ｒ，１４ｒ間は非マスク継ぎ部である。
図５及び図６には、マスク継ぎ部が白抜き矢符で示してある。マスク継ぎ部は、奇数行目の各マルチ画素１３に含まれている２個の同色副画素１４ｒ，１４ｒ間にはなく、偶数行目の各マルチ画素１３に含まれている２個の同色副画素１４ｒ，１４ｒ間にある。
【００７０】
露光マスク５の設計者は、粗密部のマスクパターン５１１，５２１を設計する場合に、奇数行目のマルチ画素１３における２個の同色副画素１４ｒ，１４ｒを含む上下方向４個の副画素１４ｒ，１４ｒ，…（即ちマルチ画素２画素分の副画素１４ｒ，１４ｒ，…）を１単位として、１単位毎に開口パターンを設定し、設定した開口パターンを左側マスク部５１ｒ及び中央マスク部５２ｒの何れに配するかを決定する。
【００７１】
なお、例えば２個の開口パターン５１２，５１２同士（又は開口パターン５２２，５２２同士）が上下方向に隣り合う場合、設計者は、隣り合う２個の開口パターン５１２，５１２（又は開口パターン５２２，５２２）をまとめて、１個の開口パターン（マルチ画素４画素分の副画素に対応する開口パターン）としてもよい。
【００７２】
図７及び図８は、Ｂ色用の第１露光マスク及び第２露光マスクの構成を模式的に示す正面図である。図７及び図８は図５及び図６に対応する。
図７はＢ色用の第１露光マスクとしての左側マスク部５１ｂを示し、図８はＢ色用の第２露光マスクとしての中央マスク部５２ｂを示している。
【００７３】
左側マスク部５１ｂが有するマスクパターン５１１に含まれている開口パターン５１２，５１２，…は、左側マスク部５１ｒが有するマスクパターン５１１に含まれている開口パターン５１２，５１２，…と略同様であるが、粗密の分布が異なる。
同様に、中央マスク部５２ｂが有するマスクパターン５２１に含まれている開口パターン５２２，５２２，…は、中央マスク部５２ｒが有するマスクパターン５２１に含まれている開口パターン５２２，５２２，…と略同様であるが、粗密の分布が異なる。
また、左側マスク部５１ｂ及び中央マスク部５２ｂが有するマスクパターン５１１，５２１には、スペーサ４９に隣り合う同一色の２個の副画素１４ｂ，１４ｂに亘る１個の着色層４３ｂを形成すべき開口パターン５１２，５２２が含まれている。
【００７４】
図９及び図１０は、Ｇ色用の第１露光マスク及び第２露光マスクの構成を模式的に示す正面図である。図９及び図１０は図５及び図６に対応する。
図９はＧ色用の第１露光マスクとしての左側マスク部５１ｇを示し、図１０はＧ色用の第２露光マスクとしての中央マスク部５２ｇを示している。
左側マスク部５１ｇ及び中央マスク部５２ｇが有するマスクパターン５１１，５２１にも、スペーサ４９に隣り合う同一色の２個の副画素１４ｇ，１４ｇに亘る１個の着色層４３ｇを形成すべき開口パターン５１２，５２２が含まれている。
【００７５】
図２にも白抜き矢符にてマスク継ぎ部が示してある。マスク継ぎ部はＢＭ４２における２個の同色副画素１４，１４間の遮光部に位置し、上下方向に隣り合う２個のマルチ画素１３，１３の境界部分に位置することはない。
【００７６】
図１１〜図１６は、液晶表示装置の製造方法を説明するための断面図である。図１１は遮光層形成工程を示し、図１２はＲ色用の材料層形成工程を示し、図１３の上側及び下側はＲ色用の第１転写工程及び第２転写工程を示し、図１４、図１５、及び図１６はＲ色用、Ｇ色用、及びＢ色用の除去工程を示している。図１３〜図１６には、マスク継ぎ部が白抜き矢符で示してある。
【００７７】
図１１〜図１６に示す左右方向中央部の開口４７は、上半分が偶数行目（例えばＭ行｛Ｎ＋１｝列目）のマルチ画素１３における下側の副画素１４ｒを構成し、下半分が奇数行目（例えば｛Ｍ＋１｝行｛Ｎ＋１｝列目）のマルチ画素１３における上側の副画素１４ｒを構成するものである。図１３〜図１６には、２個の副画素１４ｒ，１４ｒの境界部分を一点鎖線で示してある。
本実施の形態における液晶表示装置の製造方法に従う場合、着色層形成工程以外は従来のものと同様でよい。
【００７８】
製造者は、遮光層形成工程及び着色層形成工程をこの順に実施することによって対向基板４を製造する。
着色層形成工程は、Ｒ色用の材料層形成工程、第１転写工程、第２転写工程、及び除去工程と、Ｇ色用の材料層形成工程、第１転写工程、第２転写工程、及び除去工程と、Ｂ色用の材料層形成工程、第１転写工程、第２転写工程、及び除去工程とを有する。製造者は、各色用の材料層形成工程、第１転写工程、第２転写工程、及び除去工程をこの順に実施する。
【００７９】
図１１に示す遮光層形成工程では、製造者は、透光基板４１の後面に複数個の開口４７，４７，…が設けられているＢＭ４２を形成する。ＢＭ４２の形成手順は、従来の対向基板が備えるＢＭの形成手順と同様である。
【００８０】
なお、２個の同色副画素１４，１４間にＢＭ４２に係るＢＭマスク継ぎ部を配する場合には、スペーサ４６，４９，４９に隣り合う２個の同色副画素１４，１４間以外の２個の同色副画素１４，１４間にＢＭマスク継ぎ部を配する方が望ましい。何故ならば、ＢＭ４２となすべき着色材料層におけるＢＭマスク継ぎ部は２回露光されるので、ＢＭ４２のＢＭマスク継ぎ部の膜厚はＢＭマスク継ぎ部以外の膜厚よりも厚くなるからである。
仮に、ＢＭ４２の厚い部分に位置するスペーサ４６とＢＭ４２の薄い部分に位置するスペーサ４６とが混在している場合、透光基板４１からのスペーサ４６，４６，…夫々の長さのばらつきが大きくなる。従って、セルギャップが不均一になる。
【００８１】
図１２に示すＲ色用の材料層形成工程では、製造者は、未閉塞の開口４７，４７，…の内部及びＢＭ４２の後面側に、着色材料層４０ｒを形成する。
【００８２】
図１３に示すＲ色用の第１転写工程では、製造者は、左側マスク部５１ｒを用いて着色材料層４０ｒを露光する。このとき、左側マスク部５１ｒのマスクパターン５１１が、着色材料層４０ｒの左端部の所定の範囲に転写される。
図１３に示すＲ色用の第２転写工程では、製造者は、中央マスク部５２ｒを用いて着色材料層４０ｒを露光する。このとき、中央マスク部５２ｒのマスクパターン５２１が、着色材料層４０ｒにおける左側マスク部５１ｒのマスクパターン５１１が転写された範囲に部分的に重なって右側に隣接する範囲に転写される。
【００８３】
図示はしないが、製造者は、更に中央マスク部５２ｒを用いて着色材料層４０ｒを露光する。このとき、中央マスク部５２ｒのマスクパターン５２１が、着色材料層４０ｒにおける中央マスク部５２ｒのマスクパターン５２１が転写された範囲に部分的に重なって右側に隣接する範囲に転写される。
図示はしないが、製造者は、右側マスク部５３ｒを用いて着色材料層４０ｒを露光する。このとき、右側マスク部５３ｒのマスクパターン５３１が、着色材料層４０ｒにおける中央マスク部５２ｒのマスクパターン５２１が転写された範囲に部分的に重なって右側に隣接する範囲に転写される。
【００８４】
図１４に示すＲ色用の除去工程では、製造者は、着色材料層４０ｒの非露光領域を除去する。以上の結果、着色層４３ｒ，４３ｒ，…が形成される。
各着色層４３ｒの上下方向両端部夫々は、偶数行目のマルチ画素１３に含まれている２個の同色副画素１４ｒ，１４ｒ間に配される。ここにはＢＭ４２における遮光部が存在するので、着色層４３ｒの上下方向両端部が遮光される。
【００８５】
奇数行目の各マルチ画素１３に含まれている２個の同色副画素１４ｒ，１４ｒ間に係る膜厚の差異は小さい（図１４参照）。
何故ならば、奇数行目のマルチ画素１３に含まれている２個の同色副画素１４ｒ，１４ｒ間においては、１個の開口パターン５１２によって１個の着色層４３ｒの上下方向中央部がＢＭ４２の遮光部上に形成されているからである（図１３参照）。各１個の着色層４３ｒ，４３ｒ，…の上下方向中央部同士は、膜厚の差異が小さい。
【００８６】
製造者は、Ｒ色用の材料層形成工程、第１転写工程、第２転写工程、及び除去工程と同様にして、Ｇ色用の材料層形成工程、第１転写工程、第２転写工程、及び除去工程とを実施する。この結果、着色層４３ｇ，４３ｇ，…と、奇数行目のマルチ画素１３に含まれている２個の同色副画素１４ｒ，１４ｒ間に設けられるべきスペーサ４６の前半分と、奇数行目のマルチ画素１３に含まれている２個の同色副画素１４ｂ，１４ｂ間に設けられるべきスペーサ４９とが形成される（図１５参照）。
【００８７】
更に製造者は、Ｒ色用の材料層形成工程、第１転写工程、第２転写工程、及び除去工程と同様にして、Ｂ色用の材料層形成工程、第１転写工程、第２転写工程、及び除去工程とを実施する。この結果、着色層４３ｂ，４３ｂ，…と、奇数行目のマルチ画素１３に含まれている２個の同色副画素１４ｒ，１４ｒ間に設けられるべきスペーサ４６の後ろ半分と、奇数行目のマルチ画素１３に含まれている２個の同色副画素１４ｇ，１４ｇ間に設けられるべきスペーサ４９とが形成される（図１６参照）。
【００８８】
以上のような液晶表示装置１においては、各スペーサ４６，４９は、膜厚の差異が小さい位置に配されており、膜厚の差異が大きい位置には配されていない。
ＴＦＴ基板３と対向基板４との間にはスペーサ４６，４６，…が介在するので、ＴＦＴ基板３と対向基板４とのセルギャップを均一にすることができる。この結果、液晶表示装置１の表示品位を向上させることができる。
仮に、各スペーサ４６，４９が、膜厚の差異が大きい位置に配されている場合、スペーサ４６，４６，…を介してＴＦＴ基板３と対向基板４とのセルギャップに膜厚の差異の悪影響が及ぶ。即ち、セルギャップを均一にすることができない。
【００８９】
ここで、マスク継ぎ部のような膜厚の差異が大きい位置以外にスペーサ４６を配置する為の他の手法について考察する。
仮に、マスク継ぎ部が２個の同色副画素１４，１４間に配されるとしても、上下方向に隣り合う２個のマルチ画素１３，１３間にスペーサ４６が配されていれば、マスク継ぎ部に係る膜厚の差異がセルギャップを不均一にする虞はない。
また、上下方向に隣り合う２個のマルチ画素１３，１３間にマスク継ぎ部が配されていれば、マスク継ぎ部における膜厚の差異がセルギャップを不均一にする虞はない。
【００９０】
しかしながら、上下方向に隣り合う２個のマルチ画素１３，１３間にスペーサ４６又はマスク継ぎ部を配する構成は、２個の同色副画素１４，１４間にスペーサ４６又はマスク継ぎ部を配する構成よりも不利である。何故ならば、上下方向に隣り合う２個のマルチ画素１３，１３間にはＢＭ４２の遮光部が配されていないので、スペーサ４６又はマスク継ぎ部が開口４７の内部に臨む位置に配されてしまい、液晶表示装置１の表示品位に悪影響が及ぶからである。
【００９１】
かといって、上下方向に隣り合う２個のマルチ画素１３，１３間にＢＭ４２の遮光部を配すれば、ＢＭ４２の開口率が低下する。また、新たに設けられたＢＭ４２の遮光部の分だけ、ＴＦＴ基板３と対向基板４との間に液晶２３を封入する際に液晶２３の流動が阻害され易くなる。流動が阻害された液晶２３は、ＴＦＴ基板３と対向基板４との間に十分に拡散することができないので、液晶表示装置１の表示品位に悪影響が及ぶ。
【００９２】
液晶表示装置１においては、マルチ画素２画素分４個の副画素１４，１４，…を１単位としてマスク継ぎ部を配するので、従来のようにマルチ画素１画素分２個の副画素１４，１４を１単位としてマスク継ぎ部を配する場合に比べると、いわゆるモザイクむらが顕著になる。
しかしながら、液晶表示装置１が例えば４ｋ解像度であれば、液晶表示装置１におけるモザイクむらの程度は、従来のフルＨＤ解像度の液晶表示装置におけるモザイクむらの程度と大差ない。即ち、液晶表示装置１のモザイクむらが表示品位に悪影響を及ぼす虞はない。
以上のことから、液晶表示装置１の方が従来の液晶表示装置よりも有利である。
【００９３】
本実施の形態では、スペーサ４６，４９は１個の着色層４３上に配されているが、これ限定されず、２個の着色層４３，４３間に配されていてもよい。この場合、スペーサ４６，４９を配するべき２個の着色層４３，４３間は、非マスク継ぎ部（例えば｛Ｍ＋２｝行｛Ｎ＋１｝列目のマルチ画素１３に含まれている２個の同色副画素１４，１４間）でなければならない。
【００９４】
次に説明する実施の形態２〜５の液晶表示装置１は、実施の形態１の液晶表示装置１と略同様の構成である。以下では、実施の形態１との差異について説明し、その他、実施の形態１に対応する部分には同一符号を付してそれらの説明を省略する。
【００９５】
実施の形態  ２．
図１７は、本発明の実施の形態２に係る液晶表示装置の製造方法に従って製造された液晶表示装置１が備える対向基板４の構成を模式的に示す正面図であり、実施の形態１の図３に対応する。
図１８は、本発明の実施の形態２に係るＲＧＢ３色分の第１露光マスクによって形成される着色層及びスペーサを模式的に示す正面図である。
図１９は、ＲＧＢ３色分の第２露光マスクによって形成される着色層及びスペーサを模式的に示す正面図である。
本実施の形態では、ＲＧＢ３色分の第１露光マスク及び第２露光マスクとして左側マスク部５１ｒ，５１ｇ，５１ｂ及び中央マスク部５２ｒ，５２ｇ，５２ｂを例示する。
【００９６】
図１８には、左側マスク部５１ｒが有するマスクパターン５１１に含まれている開口パターン５１２，５１２，…が太い実線で示してある。また、中央マスク部５２ｒが有するマスクパターン５２１に含まれている開口パターン５２２，５２２，…が二点鎖線で示してある。
また、図１８には、左側マスク部５１ｒ，５１ｇ，５１ｂの開口パターン５１２，５１２，…によって形成される着色層４３，４３，…を有する副画素１４，１４，…とスペーサ４６，４６，…及びスペーサ４９，４９，…とが細い実線で示してあり、これ以外の副画素１４，１４，…とスペーサ４６，４６，…及びスペーサ４９，４９，…とが細い破線で示してある。
【００９７】
図１９には、右側マスク部５３ｒが有するマスクパターン５３１に含まれている開口パターン５３２，５３２，…が太い実線で示してある。また、中央マスク部５２ｒが有するマスクパターン５２１に含まれている開口パターン５２２，５２２，…が二点鎖線で示してある。
また、図１９には、右側マスク部５３ｒ，５３ｇ，５３ｂの開口パターン５３２，５３２，…によって形成される着色層４３，４３，…を有する副画素１４，１４，…とスペーサ４６，４６，…及びスペーサ４９，４９，…とが細い実線で示してあり、これ以外の副画素１４，１４，…とスペーサ４６，４６，…及びスペーサ４９，４９，…とが細い破線で示してある。
【００９８】
図１８及び図１９における各副画素１４及びスペーサ４６，４９の配置は、図１７における配置に対応している。
図１８及び図１９には、マスク継ぎ部が白抜き矢符で示してある。
【００９９】
図１７に示すように、本実施の形態の液晶表示装置１においては、３行毎に上下方向両端の行（即ち、｛Ｍ＋（３×ｋ）｝行目及び｛Ｍ＋（３×ｋ＋２）｝行目）のマルチ画素１３，１３，…に対しては各３個のスペーサ４６，４９，４９が配されているが、上下方向中央の行（即ち、｛Ｍ＋（３×ｋ＋１）｝行目）のマルチ画素１３，１３，…にはスペーサ４６，４９は配されていない。ここで、ｋ＝０，１，２，…である。
【０１００】
図１８及び図１９に示すように、マスクパターン５１１，５２１，５３１には、スペーサ４６に隣り合う同一色の２個の副画素１４ｒ，１４ｒに亘る１個の着色層４３ｒを形成すべき開口パターン５１２，５２２，５３２が含まれている。
開口パターン５１２，５２２，５３２は、上下方向に隣り合う６個のＲ色の副画素１４ｒ，１４ｒ，…に対応する大きさを有する。この個数は、３個のマルチ画素１３，１３，…に含まれているＲ色の副画素１４ｒ，１４ｒ，…の総数と同じである。また、この個数は、２個のマルチ画素１３夫々に含まれている各２個の副画素１４ｒ，１４ｒ、及び２個のマルチ画素１３夫々に含まれている各１個の副画素１４ｒの総数と同じである。
【０１０１】
故に、本実施の形態においても、スペーサ４６に隣り合うＲ色の２個の副画素１４ｒ，１４ｒ間は非マスク継ぎ部である。
また、スペーサ４９に隣り合うＧ色の２個の副画素１４ｇ，１４ｇ間、及びスペーサ４９に隣り合うＢ色の２個の副画素１４ｂ，１４ｂ間も非マスク継ぎ部である。
【０１０２】
露光マスク５の設計者は、粗密部のマスクパターン５１１，５２１，５３１を設計する場合に、マルチ画素３画素分の副画素１４，１４，…を１単位として、１単位毎に開口パターンを設定し、設定した開口パターンを左側マスク部５１、中央マスク部５２および右側マスク部５３の何れに配するかを決定する。
以上のような液晶表示装置１は、実施の形態１の液晶表示装置１と同様の手順で製造される。
また、本実施の形態の液晶表示装置１が備えるスペーサ４６，４６，…の個数は実施の形態１の液晶表示装置１よりも多いので、セルギャップの確実な均一化を図ることができる。
【０１０３】
実施の形態１，２においては、マスク継ぎ部（又は非マスク継ぎ部）は左右方向に一列に配されるので、露光マスク５の設計が容易である。
実施の形態１，２においては、夫々にスペーサ４６，４９，４９が配されているマルチ画素１３，１３，…と夫々にスペーサ４６，４９，４９が配されていないマルチ画素１３，１３，…とが左右方向に並設されているが、これらは上下方向に並設されていてもよい。
【０１０４】
実施の形態  ３．
図２０は、本発明の実施の形態３に係る液晶表示装置の製造方法に従って製造された液晶表示装置１が備える対向基板４の構成を模式的に示す正面図である。
図２１は、本発明の実施の形態３に係るＲＧＢ３色分の第１露光マスクによって形成される着色層及びスペーサを模式的に示す正面図である。
図２２は、ＲＧＢ３色分の第２露光マスクによって形成される着色層及びスペーサを模式的に示す正面図である。
図２０〜図２２は、実施の形態２の図１７〜図１９に対応する。
【０１０５】
図２０に示すように、本実施の形態の液晶表示装置１においては、夫々にスペーサ４６，４９，４９が配されているマルチ画素１３，１３，…と夫々にスペーサ４６，４９，４９が配されていないマルチ画素１３，１３，…とが千鳥配置されている。
【０１０６】
図２１及び図２２に示すように、マスクパターン５１１，５２１，５３１には、スペーサ４６に隣り合う同一色の２個の副画素１４ｒ，１４ｒに亘る１個の着色層４３ｒを形成すべき開口パターン５１２，５２２，５３２が含まれている。
開口パターン５１２，５２２は、上下方向に隣り合う４個のＲ色の副画素１４ｒ，１４ｒ，…に対応する大きさを有する。この個数は、２個のマルチ画素１３，１３に含まれているＲ色の副画素１４ｒ，１４ｒ，…の総数と同じである。また、この個数は、１個のマルチ画素１３に含まれている２個の副画素１４ｒ，１４ｒ、及び２個のマルチ画素１３夫々に含まれている各１個の副画素１４ｒの総数と同じである。
【０１０７】
故に、本実施の形態においても、スペーサ４６に隣り合うＲ色の２個の副画素１４ｒ，１４ｒ間は非マスク継ぎ部である。
また、スペーサ４９に隣り合うＧ色の２個の副画素１４ｇ，１４ｇ間、及びスペーサ４９に隣り合うＢ色の２個の副画素１４ｂ，１４ｂ間も非マスク継ぎ部である。
【０１０８】
露光マスク５の設計者は、粗密部のマスクパターン５１１，５２１，５３１を設計する場合に、マルチ画素２画素分の副画素１４，１４，…を１単位として、１単位毎に開口パターンを設定し、設定した開口パターンを左側マスク部５１、中央マスク部５２および右側マスク部５３の何れに配するかを決定する。
以上のような液晶表示装置１は、実施の形態１の液晶表示装置１と同様の手順で製造される。
【０１０９】
本実施の形態の液晶表示装置１は、実施の形態１の液晶表示装置１よりも液晶表示装置１の表示品位を向上させることができる。
何故ならば、実施の形態１の液晶表示装置１においてはマスク継ぎ部が一列に配されている（即ち、表示品位に悪影響を及ぼし得る部分の配置位置が集中している）が、本実施の形態の液晶表示装置１においてはマスク継ぎ部が千鳥配置される（即ち、表示品位に悪影響を及ぼし得る部分の配置位置が分散している）からである。
【０１１０】
実施の形態  ４．
図２３は、本発明の実施の形態４に係る液晶表示装置の製造方法に従って製造された液晶表示装置１が備える対向基板４の構成を模式的に示す正面図であり、実施の形態１の図３に対応する。
図２４は、本発明の実施の形態４に係るＲＧＢ３色分の第１露光マスクによって形成される着色層及びスペーサを模式的に示す正面図であり、実施の形態１の図９に対応する。
図２５は、ＲＧＢ３色分の第２露光マスクによって形成される着色層及びスペーサを模式的に示す正面図であり、実施の形態１の図１０に対応する。
【０１１１】
図２３に示すように、本実施の形態の液晶表示装置１においては、３列毎に左側から２列（即ち、｛Ｎ＋（３×ｋ）｝列目及び｛Ｎ＋（３×ｋ）＋１｝列目）については、奇数行目（｛Ｍ＋１｝行目、｛Ｍ＋３｝行目、…）のマルチ画素１３，１３，…夫々にスペーサ４６，４９，４９が配されており、偶数行目（Ｍ行目、｛Ｍ＋２｝行目、｛Ｍ＋４｝行目、…）のマルチ画素１３，１３，…にはスペーサ４６，４９，４９は配されていない。つまり、３列毎に左側から２列については実施の形態１の液晶表示装置１と同じ構成である。
一方、３列毎に右側の１列（即ち、｛Ｎ＋（３×ｋ）＋２｝列目）のマルチ画素１３，１３，…にはスペーサ４６，４９，４９は配されていない。
【０１１２】
図２３及び図２４に示すように、マスクパターン５１１，５２１には、開口パターン５１２，５２２と、開口パターン５１３，５２３とが含まれている。
開口パターン５１２，５２２は、夫々にスペーサ４６，４９，４９が配されているマルチ画素１３，１３，…を含む｛Ｎ＋（３×ｋ）｝列目及び｛Ｎ＋（３×ｋ）＋１｝列目に対して設けられている。
開口パターン５１３，５２３は、夫々にスペーサ４６，４９，４９が配されていないマルチ画素１３，１３，…のみを含む｛Ｎ＋（３×ｋ）＋２｝列目列目に対して設けられている。
【０１１３】
開口パターン５１２，５２２は、上下方向に隣り合う４個のＲ色の副画素１４ｒ，１４ｒ，…に対応する大きさを有する。この個数は、２個のマルチ画素１３，１３に含まれているＲ色の副画素１４ｒ，１４ｒ，…の総数と同じである。また、この個数は、１個のマルチ画素１３に含まれている２個の副画素１４ｒ，１４ｒ、及び２個のマルチ画素１３夫々に含まれている各１個の副画素１４ｒの総数と同じである。
故に、本実施の形態においても、スペーサ４６に隣り合うＲ色の２個の副画素１４ｒ，１４ｒ間は非マスク継ぎ部である。
また、スペーサ４９に隣り合うＧ色の２個の副画素１４ｇ，１４ｇ間、及びスペーサ４９に隣り合うＢ色の２個の副画素１４ｂ，１４ｂ間も非マスク継ぎ部である。
【０１１４】
開口パターン５１３，５２３は、従来の露光マスクに含まれている開口パターンと同様のサイズを有する。即ち、開口パターン５１３，５２３は、上下方向に隣り合う２個のＲ色の副画素１４ｒ，１４ｒに対応する大きさを有する。この個数は、１個のマルチ画素１３，１３に含まれているＲ色の副画素１４ｒ，１４ｒの総数と同じである。
【０１１５】
露光マスク５の設計者は、粗密部のマスクパターン５１１，５２１を設計する場合に、｛Ｎ＋（３×ｋ）｝列目及び｛Ｎ＋（３×ｋ）＋１｝列目については、実施の形態１の場合と同様に、マルチ画素２画素分の副画素１４，１４，…を１単位として、１単位毎に開口パターンを設定し、設定した開口パターンを左側マスク部５１及び中央マスク部５２の何れに配するかを決定する。
一方、｛Ｎ＋（３×ｋ）＋２｝列目については、従来と同様に、マルチ画素１画素分の副画素１４，１４，…を１単位として、１単位毎に開口パターンを設定し、設定した開口パターンを左側マスク部５１及び中央マスク部５２の何れに配するかを決定する。
【０１１６】
このように、スペーサ４６，４９，４９の配置位置が非マスク継ぎ部でさえあれば、開口パターン同士の形状及びサイズは互いに異なっていてもよい。開口パターンのサイズが小さいほど表示品位の向上に寄与するので、本実施の形態の液晶表示装置１は、実施の形態１の液晶表示装置よりも表示品位が向上している。
【０１１７】
実施の形態  ５．
図２６は、本発明の実施の形態５に係る液晶表示装置の製造方法に従って製造された液晶表示装置１が備える対向基板４の構成を模式的に示す正面図である。
図２７は、本発明の実施の形態５に係るＲＧＢ３色分の第１露光マスクによって形成される着色層及びスペーサを模式的に示す正面図である。
図２８は、ＲＧＢ３色分の第２露光マスクによって形成される着色層及びスペーサを模式的に示す正面図である。
図２６〜図２８は、実施の形態２の図１７〜図１９に対応する。
【０１１８】
本実施の形態の液晶表示装置１は、実施の形態１のスペーサ４６，４９，４９に替えて、スペーサ４８，４８，４８を備えている。
実施の形態１の場合、スペーサ４６，４９，４９は、着色層形成工程において着色層４３，４３，…と同時的に形成されるので、着色層４３，４３，…を構成する材料と同じ材料を含んでいる。
本実施の形態の場合、各スペーサ４８は、着色層形成工程において着色層４３，４３，…が形成された後で、スペーサ形成工程において形成される。従って、各スペーサ４８は、着色層４３，４３，…を構成する材料と同じ材料を含んでいてもよく、着色層４３，４３，…を構成する材料とは全く異なる材料からなる構成でもよい。
【０１１９】
各スペーサ４８は、実施の形態１のスペーサ４６と同様の形状及び寸法を有する。スペーサ４８は、２個の同色副画素１４ｒ，１４ｒ間、２個の同色副画素１４ｇ，１４ｇ間、及び２個の同色副画素１４ｂ，１４ｂ間の何れかに位置している。
液晶表示装置１においては、奇数行目（｛Ｍ＋１｝行目、｛Ｍ＋３｝行目、…）のマルチ画素１３，１３，…夫々に対してはスペーサ４８，４８，…が３個ずつ配されているが、偶数行目（Ｍ行目、｛Ｍ＋２｝行目、｛Ｍ＋４｝行目、…）のマルチ画素１３，１３，…夫々にはスペーサ４８は１個も配されていない。
露光マスク５は、着色層４３，４３，…に対応するマスクパターンを有しているが、スペーサ４８，４８，…に対応するマスクパターンは有していない。
【０１２０】
図２９〜図３１は、液晶表示装置の製造方法を説明するための断面図である。図２９の上側及び下側はＲ色用の第１転写工程及び第２転写工程を示し、図３０はＲ色用の除去工程を示し、図３１はスペーサ形成工程を示している。図２９、図３０、及び図３１は、実施の形態１の図１３、図１４、及び図１６に対応する。
製造者は、遮光層形成工程、着色層形成工程、及びスペーサ形成工程をこの順に実施することによって対向基板４を製造する。本実施の形態の遮光層形成工程及び着色層形成工程は実施の形態１の遮光層形成工程及び着色層形成工程と同様である。ただし、着色層形成工程において用いられるのは、スペーサ４８，４８，…に対応するマスクパターンを有していない左側マスク部５１及び中央マスク部５２等であるので、着色層形成工程においてスペーサ４８，４８，…が形成されることはない。
【０１２１】
図３１に示すスペーサ形成工程では、フォトリソグラフィによってスペーサ４８，４８，…が形成される。
なお、スペーサ４８，４８，…は、フォトリソグラフィ以外の手法によって形成されてもよい。また、スペーサ４８，４８，…は全てメインスペーサであるが、スペーサ４８，４８，…の一部に替えて、実施の形態１のスペーサ４９，４９，…が備えられていてもよい。
【０１２２】
本実施の形態１〜５では、ＲＧＢ３原色がストライプ状に配された対向基板４を例示しているが、これに限定されず、ＲＧＢ３原色がモザイク状又はデルタ状に配された対向基板４でもよい。
また、本実施の形態１〜５では、液晶パネル１１がマルチ画素を備える場合を例示しているが、これに限定されず、液晶パネル１１が、マルチ画素ではない通常の画素を備えていてもよい。この場合、上下方向に隣り合う２個の通常の画素間にはＢＭ４２の遮光部が配されており、スペーサは上下方向に隣り合う２個の通常の画素間に配される。各通常の画素がＲＧＢ３色分３個の副画素からなる場合、スペーサは、上側のＲ色（又はＧ色若しくはＢ色）の副画素と、下側のＲ色（又はＧ色若しくはＢ色）の副画素との間にある。
【０１２３】
本実施の形態１〜３では、液晶表示装置１は、対向基板４がＢＭ４２、着色層４３，４３，…、及びスペーサ４６，４９，４９…を備えているが、これに限定されず、ＢＭ４２、着色層４３，４３，…、及びスペーサ４６，４９，４９…に相当するＢＭ、着色層、及びスペーサをＴＦＴ基板３が備えている構成でもよい。
本実施の形態１〜３では、１個のマルチ画素１３に対して３個のスペーサ４６，４９，４９…が配されているが、これに限定されず、１個のマルチ画素１３に対して２個以下又は４個以下のスペーサ４６，４９，…が配されている構成でもよい。
【０１２４】
ＢＭ、着色層、及びスペーサは、全てがＴＦＴ基板３及び対向基板４の何れか一方に設けられる構成に限定されるものではない。
例えば、ＴＦＴ基板３（又は対向基板４）にＢＭが設けられており、対向基板４（又はＴＦＴ基板３）にスペーサ及び着色層が設けられていてもよい。この場合、着色層はＢＭに設けられた開口を閉塞することができないので、開口に臨んで配される。
【０１２５】
或いは、ＴＦＴ基板３（又は対向基板４）にＢＭ及び着色層が設けられており、対向基板４（又はＴＦＴ基板３）にスペーサが設けられていてもよい。
さもなくば、ＴＦＴ基板３（又は対向基板４）にＢＭ及びスペーサが設けられており、対向基板４（又はＴＦＴ基板３）に着色層が設けられていてもよい。この場合も、着色層はＢＭに設けられた開口を閉塞することができないので、開口に臨んで配される。
【０１２６】
本発明の実施の形態に係る液晶表示装置は、ＢＭの開口に１個の副画素が対応する構成でもよく、ＢＭの開口にＪ（Ｊは複数）個の副画素が対応する構成でもよい。
ＢＭの開口にＪ個の副画素が対応する場合、ＢＭの開口は、ＢＭの遮光部以外の遮光性部材（例えば遮光性を有する配線部）によって分割されていてもよい。この遮光性部材は、ＢＭが含まれている板状部材に配されていてもよく、ＢＭが含まれていない板状部材に配されていてもよい。
【０１２７】
ＢＭの開口が遮光性部材によって分割されている場合、開口の分割された一部分に、Ｊ個の副画素の内のＬ（ＬはＬ＜Ｊの自然数）個の副画素が対応する。スペーサは、ＢＭの遮光部に遮光される位置に配されていてもよく、遮光性部材に遮光される位置に配されていてもよく、遮光されない位置に配されていてもよい。
ＢＭの開口が遮光性部材によって分割されている場合、分割された一部分毎に異なる色の着色層が対応していてもよい。
【０１２８】
今回開示された実施の形態は、全ての点で例示であって、制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上述した意味ではなく、請求の範囲と均等の意味及び請求の範囲内での全ての変更が含まれることが意図される。
また、本発明の効果がある限りにおいて、液晶表示装置又は対向基板に、実施の形態１〜５に開示されていない構成要素が含まれていてもよい。
各実施の形態に開示されている構成要件（技術的特徴）はお互いに組み合わせ可能であり、組み合わせによって新しい技術的特徴を形成することができる。
【符号の説明】
【０１２９】
１    液晶表示装置
１３  マルチ画素（画素）
１４  副画素
２３  液晶
３    ＴＦＴ基板（板状部材）
４    対向基板（板状部材）
４０  着色材料層
４１  透光基板
４２  ＢＭ（遮光層）
４３  着色層
４６，４８  スペーサ
４７  開口
５１  左側マスク部（第１露光マスク）
５２  中央マスク部（第２露光マスク，第１露光マスク）
５３  右側マスク部（第２露光マスク）
【図１】
0006499204.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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