(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明導電性粒子とバインダ樹脂と溶媒を含む透明導電性膜用組成物であって、
前記透明導電性膜用組成物の固形分濃度が２０〜５０重量％であり、
前記溶媒は酢酸ブチルの蒸発速度を１とした場合の相対蒸発速度が１以上の溶媒Ａと、相対蒸発速度が１未満の溶媒Ｂを含み、
前記溶媒Ａと前記溶媒Ｂはいずれも、少なくともケトン系溶媒、エステル系溶媒から選ばれる１種を含み、
前記溶媒Ａと前記溶媒Ｂの比率が重量比で、溶媒Ａ：溶媒Ｂ＝９５：５〜７４：２６で有り
前記溶媒Ａの中で、ケトン系溶媒、エステル系溶媒の量は合計で９０重量％以上である
ことを特徴とする、透明導電性膜用組成物。
【請求項２】
請求項１に記載の透明導電性膜用組成物であって、
前記溶媒Ｂの中で、ケトン系溶媒、エステル系溶媒の量は合計で７０重量％以上であることを特徴とする、透明導電性膜用組成物。
【請求項３】
請求項１又は請求項２のいずれか1項に記載の透明導電性膜用組成物を用いた透明導電性シートの製造方法であって、
透明基材の一主面上に前記透明導電性膜用組成物を塗布して、透明導電性塗布膜を形成する第１の工程と、
前記透明導電性塗布膜を乾燥させて透明導電性膜を形成した透明導電性シートを形成する第２の工程とを含み、
前記第２の工程において
前記透明導電性膜の厚さが０．３〜１．５μｍであり、
更に前記透明導電性塗布膜を乾燥させて透明導電性膜を形成する際に予熱期間、恒率乾燥期間、減率乾燥期間を含み、
前記予熱期間Ａの時間と前記恒率乾燥期間Ｂの時間の合計をＡＢｔｉ、前記減率乾燥期間Ｃの時間をＣｔｉとし、
前記予熱期間Ａの温度と前記恒率乾燥期間Ｂの温度をＡＢｔｅ、前記減率乾燥期間Ｃの温度をＣｔｅとすると、式１から式４を満足することを特徴とする、透明導電性膜用組成物を用いた透明導電性シートの製造方法。
式１          ０．５分＜ＡＢｔｉ
式２          １分＜Ｃｔｉ＜５分
式３          ２０℃≦ＡＢｔｅ≦４０℃
式４          ７０℃＜Ｃｔｅ＜１２０℃
【請求項４】
請求項１または請求項２のいずれか１項に記載の透明導電性膜用組成物を用いた透明導電性シート。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
従来、透明導電性シートを形成する透明導電膜は、例えば、スズ含有酸化インジウムなどの透明導電性薄膜をスパッタリング、蒸着などのいわゆるドライプロセスにより基材上に堆積することにより、製造されていた。このようなドライプロセス法を用いた透明導電性膜の製造は、真空条件下で行われるため、高価な製造装置を必要とし、また生産効率が低く、大量生産には適さない。そのため、上記ドライプロセス法に代わる方法として、透明導電性粒子を含む分散組成物を塗布して透明導電性膜を形成するウェットプロセスの検討が進められている。
【０００２】
透明導電性粒子のうち、酸化インジウムにスズを含有させたスズ含有酸化インジウム（ＩＴＯ）粒子は、可視光に対する高い透光性と、高い導電性から、静電防止や電磁波遮蔽が要求されるＣＲＴ画面、ＬＣＤ画面などに好適な材料として用いられてきた。
【０００３】
また、透明導電性膜のドライプロセス法で使用されてきたスズ含有酸化インジウムの他、酸化スズ、アンチモン含有酸化スズ、酸化亜鉛、フッ素含有酸化スズなどの透明導電性粒子を含む分散組成物を基材上に塗布して形成した塗布型透明導電性膜も実用化されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１２−１９０７１３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
塗布型透明導電性膜に用いる溶媒として、特許文献１では炭化水素類、芳香族類、ケトン類、アルコール類、グリコール類、グリコールエステル類、グリコールエーテル類などが記載されている。また塗布型透明導電性膜を設けた塗布型透明導電性シートの製造方法では特許文献１で、乾燥塗膜中の残存溶媒量を乾燥膜厚に対する比率で規定し、表面電気抵抗値変化率が小さく、ヘイズが小さい塗布型透明導電性シートと、その製造方法が記載されている。
【０００６】
しかし一般に透明導電性粒子とバインダ樹脂と溶媒とを含む透明導電性膜用組成物において、特許文献１の実施例で記載されている溶媒系（ＭＥＫ／トルエン）では組成物の安定性が不十分であり、長期の保存によって透明導電性膜用組成物の粘度上昇が生じることがあった。またこのような組成物を用いて透明導電性シートを形成した場合、表面電気抵抗値の安定性が不十分であり、経時変化で表面電気抵抗値が上昇すると言う問題があった。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の透明導電性シート性膜用組成物は、透明導電性粒子とバインダ樹脂と溶媒を含む透明導電性膜用組成物であって、
前記透明導電性膜用組成物の固形分濃度が２０〜５０重量％であり、
前記溶媒は酢酸ブチルの蒸発速度を１とした場合の相対蒸発速度が１以上の溶媒Ａと、相対蒸発速度が１未満の溶媒Ｂを含み、前記溶媒Ａと前記溶媒Ｂはいずれも、少なくともケトン系溶媒、エステル系溶媒から選ばれる１種を含むことを特徴とする。
【０００８】
更に本発明の透明導電性膜用組成物は、前記溶媒Ａと前記溶媒Ｂの比率が重量比で、溶媒Ａ：溶媒Ｂ＝９５：５〜７０：３０で有ることを特徴とする。
【０００９】
更に本発明の透明導電性膜用組成物は、前記溶媒Ａの中で、ケトン系溶媒、エステル系溶媒の量は合計で９０重量％以上であり、前記溶媒Ｂの中で、ケトン系溶媒、エステル系溶媒の量は合計で７０重量％以上であることを特徴とする。
【００１０】
また本発明の透明導電性膜用組成物を用いた透明導電性シートの製造方法は、透明基材の一主面上に前記透明導電性膜用組成物を塗布して、透明導電性塗布膜を形成する第１の工程と、
前記透明導電性塗布膜を乾燥させて透明導電性膜を形成した透明導電性シートを形成する第２の工程とを含み、
前記第２の工程において
前記透明導電性膜の厚さが０．３〜１．５μｍであり、
更に前記透明導電性塗布膜を乾燥させて透明導電性膜を形成する際に、予熱期間、恒率乾燥期間、減率乾燥期間を含み、
前記予熱期間Ａの時間と前記恒率乾燥期間Ｂの時間の合計をＡＢｔｉ、前記減率乾燥期間Ｃの時間をＣｔｉとし、
前記予熱期間Ａの温度と前記恒率乾燥期間Ｂの温度をＡＢｔｅ、前記減率乾燥期間Ｃの温度をＣｔｅとすると、式１から式４を満足することを特徴とする。
式１          ０．５分＜ＡＢｔｉ
式２          １分＜Ｃｔｉ＜５分
式３          ２０℃＜ＡＢｔｅ＜４０℃
式４          ７０℃＜Ｃｔｅ＜１２０℃
【００１１】
更に本発明は、上記の製造方法で作製した透明導電性シートを含む。
【発明の効果】
【００１２】
本発明は前記問題を解決した発明であり、透明導電性シートの初期表面電気抵抗値が低く、前記表面電気抵抗値が経時変化で上昇することを抑制し、透明性に優れた透明導電性シート用組成物と、この組成物を用いた透明導電性シートの製造方法、及びこの製造方法を用いて作製した透明導電性シートを提供する。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本願では、透明導電性膜用組成物を透明基材上に塗布して形成した膜を透明導電性塗布膜、前記透明導電性塗布膜を乾燥させた膜を透明導電性膜とし、前記透明基材と、前記透明基材上に形成した透明導電性膜を合わせて透明導電性シートと定義する。また透明導電性膜用組成物を単に組成物と記載することもある。
【００１４】
［請求項１］本発明の透明導電性膜用組成物において溶媒が、酢酸ブチルの蒸発速度を１とした場合の相対蒸発速度が１以上の溶媒Ａと、相対蒸発速度が１未満の溶媒Ｂを含むということは、酢酸ブチルの蒸発速度を基準として、相対的に乾燥しやすい溶媒Ａと、乾燥しにくい溶媒Ｂを併用することを意味する。
【００１５】
固形分濃度が２０〜５０重量％の透明導電性膜用組成物、即ち溶媒が５０〜８０重量％含まれる本発明の透明導電性膜用組成物において、溶媒として乾燥速度の異なる混合溶媒を用いるにより、透明導電性膜用組成物を透明基材に塗布、乾燥して透明導電性膜を形成する際に、相対的に乾燥しやすい溶媒Ａにより透明導電性膜中の残存溶媒量を低減する。また相対的に乾燥しにくい溶媒Ｂが乾燥しやすい溶媒Ａに比べて徐々に乾燥する結果、透明導電性膜中の透明導電性粒子の充填性が向上し、透明導電性粒子間の接触が増えることで表面電気抵抗値が低下すると共に、表面電気抵抗値の経時変化を小さくすることができる。更にヘイズが低い透明導電性膜を形成した透明導電性シートを得ることができる。
【００１６】
溶媒Ａと溶媒Ｂはいずれも、少なくともケトン系溶媒、エステル系溶媒から選ばれる少なくとも１種を含む。従って溶媒Ａと溶媒Ｂの両方にケトン系溶媒を用いても良いし、エステル系溶媒を用いても良いし、ケトン系溶媒、エステル系溶媒の両方を使っても良い。
【００１７】
透明導電性膜用組成物の固形分濃度が２０重量％より少ないと、透明導電性膜用組成物中の溶媒量が多くなるため、溶媒Ａ、溶媒Ｂを用いても透明導電性塗布膜中から乾燥する溶媒量が多いため、溶媒の乾燥に伴い透明導電性粒子の充填性が低下して透明導電性粒子間の接触が減少するため、表面電気抵抗値を下げることができない。固形分濃度が５０重量％より多いと、溶媒量が少ないため透明導電性膜用組成物の分散が不十分になり、分散安定性が低下するため表面電気抵抗値の経時変化を小さくすることができない。固形分濃度は２５〜４５重量％が好ましく、３０〜４０重量％が更に好ましい。
【００１８】
［請求項２］更に、相対的に乾燥しやすい溶媒Ａと、乾燥しにくい溶媒Ｂの比率を溶媒Ａ：溶媒Ｂ＝９５：５〜７０：３０の範囲とすることで、透明導電性膜中の残存溶媒量と透明導電性粒子の充填性のバランスを取ることができ、その結果表面電気抵抗値の低下と、表面電気抵抗値の経時変化の低下を実現することができる。
【００１９】
溶媒の中に占める相対的に乾燥しやすい溶媒Ａが７０部より少ないと、相対的に乾燥しにくい溶媒Ｂが多くなるため、透明導電性膜中の残存溶媒量が増加し、表面電気抵抗値の経時変化が大きくなる。一方溶媒の中に占める相対的に乾燥しやすい溶媒Ａが９５部より多いと、相対的に乾燥しやすい溶媒Ａが多すぎるため、急劇な乾燥により透明導電性膜中の透明導電性粒子の充填性を向上させることができず、透明導電性粒子間の接触が減少するため、表面電気抵抗値を下げることができない。
【００２０】
［請求項３］更に溶媒Ａの中で、ケトン系溶媒、エステル系溶媒が占める割合を９０重量％以上とする。この範囲とすることで、組成物の分散性が向上すると共に、透明導電性膜中の残存溶媒量を低減し、表面電気抵抗値の経時変化を小さくすることができる。ケトン系溶媒、エステル系溶媒が９０重量％より少ないと、組成物の分散性が低下する恐れがあり、組成物の保存安定性が低下する。溶媒Ａの中で、ケトン系溶媒、エステル系溶媒が占める割合は９５重量％以上が好ましい。
【００２１】
また、溶媒Ｂの中で、ケトン系溶媒、エステル系溶媒が占める割合を７０重量％以上とする。この範囲とすることで、組成物の分散性が向上すると共に、透明導電性粒子の充填性が向上して透明導電性粒子間の接触が増加するため、表面電気抵抗値を下げることができる。ケトン系溶媒、エステル系溶媒が７０重量％より少ないと、組成物の分散性が低下する恐れがあり、組成物の保存安定性が低下する。溶媒Ｂの中で、ケトン系溶媒、エステル系溶媒が占める割合は８０重量％以上が好ましい。
【００２２】
溶媒Ａの中で、ケトン系溶媒、エステル系溶媒が占める割合を９０重量％以上とし、溶媒Ｂの中で、ケトン系溶媒、エステル系溶媒が占める割合を７０重量％以上とすれば、ケトン系溶媒、エステル系溶媒以外の溶媒を含んでも良い。
【００２３】
［請求項４］本発明の透明導電性シートの製造方法が、透明基材の一主面上に前記透明導電性膜用組成物を塗布して、透明導電性塗布膜を形成する第１の工程と、前記透明導電性塗布膜を乾燥させて透明導電性膜を形成した透明導電性シートを形成する第２の工程とを含み、第２の工程において乾燥後の透明導電性膜の厚さが０．３〜１．５μｍであり、
更に第２の工程は、前記透明導電性塗布膜を乾燥させて透明導電性膜を形成する際に予熱期間、恒率乾燥期間、減率乾燥期間を含み、前記予熱期間Ａの時間と前記恒率乾燥期間Ｂの時間の合計をＡＢｔｉ、前記減率乾燥期間Ｃの時間をＣｔｉとし、前記予熱期間Ａの温度と前記恒率乾燥期間Ｂの温度をＡＢｔｅ、前記減率乾燥期間Ｃの温度をＣｔｅとすると、式１から式４を満足することを特徴とする、請求項１に記載の透明導電性シートの製造方法。
式１          ０．５分＜ＡＢｔｉ
式２          １分＜Ｃｔｉ＜５分
式３          ２０℃＜ＡＢｔｅ＜４０℃
式４          ７０℃＜Ｃｔｅ＜１２０℃
【００２４】
式１において予熱期間Ａの時間と恒率乾燥期間Ｂの時間の合計ＡＢｔｉを０．５分より長くすることにより、透明導電性塗布膜中の溶媒が徐々に乾燥するため空隙の生成を抑制することができ、透明導電性粒子の充填性が向上して粒子間の接触が増える。その結果、透明導電性膜の表面電気抵抗値が低下すると共に、表面電気抵抗値の経時変化を小さくすることができる。ＡＢｔｉが０．５分より短いと、低温での乾燥時間が短いため、透明導電性膜中での空隙の生成を抑制する効果が小さくなり、透明導電性粒子の充填性を向上させることができないため、表面電気抵抗値を低下させることができず、更に表面電気抵抗値の経時変化を小さくすることができない。ＡＢｔｉの上限値は５分が好ましく、３分がより好ましい。
【００２５】
式２において高温の減率乾燥期間Ｃの時間Ｃｔｉを１分より長く５分より短くすることで、透明導電性膜中の残存溶媒量が低減すると共に、透明導電性粒子の充填性が向上し、透明導電性粒子間の接触が増えることで表面電気抵抗値が低下すると共に、表面電気抵抗値の経時変化を小さくすることができる。Ｃｔｉが５分より長いと、透明基材が高温の環境下に晒される時間が長くなりすぎるため、透明基材が変形し、透明導電性膜を形成した透明導電性シートが得られない。またＣｔｉが１分より短いと、透明導電性膜中の残存溶媒量が多くなるため、透明導電性膜中の透明導電性粒子の充填性を向上させることができず、表面電気抵抗値が低下させることができない。更に透明導電製膜を形成後残存溶媒が透明導電製膜から徐々に蒸発するため、表面電気抵抗値の経時変化を小さくすることができない。Ｃｔｉは２分から４分が好ましい。
【００２６】
乾燥後の透明導電性膜の厚さは０．３〜１．５μｍが好ましい。
【００２７】
また式３において、予熱期間Ａの温度と恒率乾燥期間Ｂの温度ＡＢｔｅは２０℃〜４０℃が好ましく、２５℃〜３５℃が好ましい。２０℃より低いと透明導電性塗布膜の温度上昇が不十分になり、その後の減率乾燥期間Ｃの短時間の乾燥によって溶媒が急激に蒸発する為、乾燥後の透明導電性膜中の透明導電性粒子の充填性が向上せず、表面電気抵抗値の低下が見込めない。４０℃より高いと乾燥工程の初期で溶媒が急激に乾燥するため、透明導電性膜中での空隙の生成を抑制することができず、透明導電性粒子の充填性を向上させることができないため、表面電気抵抗値を低下させることができない。温度ＡＢｔｅの下限値は２５℃が好ましく、上限値は３５℃が好ましい。
【００２８】
更に式４において減率乾燥期間Ｃの温度Ｃｔｅが７０℃より高く、１２０℃より低い温度とすることで、相対蒸発速度が１未満の溶剤Ｂを含む透明導電性塗布膜の乾燥工程において、透明導電性膜中の残存溶媒量が低減する。その結果、透明導電性膜中の透明導電性粒子の充填性が向上し、透明導電性粒子間の接触が増えることで表面電気抵抗値が低下すると共に、表面電気抵抗値の経時変化を小さくすることができる。Ｃｔｅが１２０℃を超えると、溶媒の蒸発効果が飽和するとともに、高温の加熱により透明基材がダメージを受ける可能性がある。Ｃｔｅが７０より低いと乾燥が不十分となり、相対蒸発速度が１未満の溶媒Ｂの蒸発が進まず、透明導電性膜中の残存溶媒量が多くなり、表面電気抵抗値の経時変化が大きくなる。減率乾燥期間Ｃの温度Ｃｔｅの下限値は８０℃が好ましく、上限値は１１０℃が好ましい。
【００２９】
ここで、予熱期間Ａとは、導電性塗布膜中の溶媒が蒸発し始める温度に達するまで上昇する期間のことである。恒率乾燥期間Ｂとは、透明導電性塗布膜から溶媒が蒸発することによって透明導電性塗布膜から奪われる蒸発潜熱と、透明導電性塗布膜が周囲から受け取る熱量との釣合いがほぼ取れている期間のことである。この恒率乾燥期間Ｂにおいて透明導電性塗布膜中の溶媒が徐々に乾燥するため空隙の生成を抑制し、透明導電性粒子の充填性が向上して透明導電性粒子間の接触が増える結果、予熱期間Ａと共に主として表面電気抵抗値に影響を与える。
【００３０】
減率乾燥期間Ｃとは、透明導電性塗布膜中の溶媒がほとんどなくなった後、塗膜が固化され、塗膜の表面温度が上昇して乾燥雰囲気の温度に近づく期間のことである。この減率乾燥期間Ｃにおいて、恒率乾燥期間Ｂで蒸発しなかった溶媒、特に相対蒸発速度が１未満の溶剤Ｂが蒸発するため、主として残存溶媒量に影響を与える。
【００３１】
［請求項５］本願の製造方法で作製した透明導電性シートは、低い表面電気抵抗値と、表面電気抵抗値の経時変化を抑制し、更に全光線透過率が高く、ヘイズが低い透明導電性シートを提供することができる。
【００３２】
＜透明導電性シート用組成物＞
コーティング組成物は、透明導電性粒子とバインダ樹脂とを溶媒に分散させて調製することにより得られる。
【００３３】
＜＜透明導電性粒子＞＞
上記透明導電性粒子としては、透明性と導電性を兼ね備えた粒子であれば特に限定されず、例えば、導電性金属酸化物粒子、導電性窒化物粒子などを用いることができる。上記導電性金属酸化物粒子としては、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化カドミウムなどの金属酸化物粒子が挙げられる。また、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛及び酸化カドミウムからなる群から選ばれる１種類以上の金属酸化物を主成分として、さらにスズ、アンチモン、アルミニウム、ガリウムがドープされた導電性金属酸化物粒子、例えば、スズ含有酸化インジウム（ＩＴＯ）粒子、アンチモン含有酸化スズ（ＡＴＯ）粒子、アルミニウム含有酸化亜鉛（ＡＺＯ）粒子、ガリウム含有酸化亜鉛（ＧＺＯ）粒子、ＩＴＯをアルミニウム置換した導電性金属酸化物粒子なども用いることができる。中でも、透明性及び導電性に優れている点から、ＩＴＯ粒子が特に好ましい。
【００３４】
また、導電性の観点から、上記ＩＴＯ粒子において、ＩＴＯ全体に対してスズの添加量は酸化スズ換算で１〜２０重量％が好ましい。ＩＴＯへのスズの添加により導電性が改善されるが、スズの添加量が１重量％より少ない場合は導電性の改善が乏しい傾向があり、２０重量％を超えても導電性向上の効果は少ない傾向がある。
【００３５】
上記透明導電性粒子は、平均一次粒子径が１０〜２００ｎｍの範囲にあることが好ましい。１０ｎｍより小さい場合、分散処理が困難になり粒子同士が凝集しやすくなるためか、曇りが大きくなり、光学特性が劣る傾向がある。また、２００ｎｍより大きい場合、粒子による可視光線の散乱によるためか、曇りが大きくなる傾向がある。ここで、平均一次粒子径は、例えば、透明基材上に形成した透明導電性膜の表面又は断面において、個々の粒子の粒子径を電子顕微鏡を用いて観察・測定した後、少なくとも１００個の粒子の粒子径を平均した平均粒子径をいう。
【００３６】
＜＜バインダ樹脂＞＞
上記透明導電性膜用組成物に含まれる上記バインダ樹脂の含有量は、透明導電性粒子１００重量部に対して５〜１８重量部であることが好ましい。５重量部より少ないと塗膜強度向上の効果が乏しい傾向があり、１８重量部より多いと表面電気抵抗値が上昇する傾向があり、良好な導電性が得られない可能性がある。
【００３７】
上記バインダ樹脂としては、特に限定されないが、ガラス転移温度が３０〜１２０℃の樹脂が好ましい。上記バインダ樹脂としては、ガラス転移温度が３０〜１２０℃である樹脂を用いることにより、透明導電性膜は適度な柔軟性を有することができる。上記バインダ樹脂としては、例えば、ガラス転移温度が３０〜１２０℃である熱可塑性樹脂又はガラス転移温度が３０〜１２０℃である放射線硬化性樹脂などを用いることができる。上記バインダ樹脂は、単独で用いてもよく、又は二種以上を組合せて用いてもよい。ここで、ガラス転移温度の測定は、いわゆる熱分析によるＤＳＣ法を用いて日本工業規格（ＪＩＳ）Ｋ７１２１に準拠して行うことができる。
【００３８】
上記ガラス転移温度が３０〜１２０℃である熱可塑性樹脂としては、例えばアクリル系樹脂又はポリエステル樹脂を用いることができる。
【００３９】
上記アクリル系樹脂としては、例えば、三菱レイヨン社製のダイヤナールＢＲ−６０、ダイヤナールＢＲ−６４、ダイヤナールＢＲ−７５、ダイヤナールＢＲ−７７、ダイヤナールＢＲ−８０、ダイヤナールＢＲ−８３、ダイヤナールＢＲ−８７、ダイヤナールＢＲ−９０、ダイヤナールＢＲ−９５、ダイヤナールＢＲ−９６、ダイヤナールＢＲ−１００、ダイヤナールＢＲ−１０１、ダイヤナールＢＲ−１０５、ダイヤナールＢＲ−１０６、ダイヤナールＢＲ−１０７、ダイヤナールＢＲ−１０８、ダイヤナールＢＲ−１１０、ダイヤナールＢＲ−１１３、ダイヤナールＢＲ−１２２、ダイヤナールＢＲ−６０５、ダイヤナールＭＢ−２５３９、ダイヤナールＭＢ−２３８９、ダイヤナールＭＢ−２４８７、ダイヤナールＭＢ−２６６０、ダイヤナールＭＢ−２９５２、ダイヤナールＭＢ−３０１５、ダイヤナールＭＢ−７０３３などが挙げられる。
【００４０】
上記ポリエステル樹脂としては、例えば、東洋紡積社製のバイロン２００、バイロン２２０、バイロン２２６、バイロン２４０、バイロン２４５、バイロン２７０、バイロン２８０、バイロン２９０、バイロン２９６、バイロン６６０、バイロン８８５、バイロンＧＫ１１０、バイロンＧＫ２５０、バイロンＧＫ３６０、バイロンＧＫ６４０、バイロンＧＫ８８０などが挙げられる。
【００４１】
上記ガラス転移温度が３０〜１２０℃である放射線硬化性樹脂としては、特に限定されないが、例えば、アクリレートモノマー、メタクリレートモノマー、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、アクリルオリゴマーなどが挙げられる。具体的には、イソボルニルアクリレート、２−フェノキシエチルメタクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコ−ルジアクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートなどを用いることができる。ここで、放射
線硬化性樹脂のガラス転移温度は、例えば、樹脂１００重量部に対し紫外線重合開始剤、例えば２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オンを５重量部添加し、紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ  ２  照射して得られた放射線硬化処理後の測定値を用いることが好ましい。
【００４２】
また、上記ガラス転移温度が３０〜１２０℃である樹脂として、エポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂を用いてもよい。
【００４３】
バインダ樹脂として放射線硬化性樹脂を用いた場合、紫外線、電子線、β線などの放射線により硬化処理を行ってもよい。これらのうち紫外線を用いることが簡便であり、この場合、放射線硬化性樹脂に、さらに紫外線重合開始剤を含ませてもよい。紫外線重合開始剤としては、以下のものを用いることができる。例えば、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，４−ジエチルチオキサントン、ｏ−ヘンゾイル安息香酸メチル、４，４−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェン、ベンジル、２−クロロチオキサントン、ジイソプロピルチオザンソン、９，１０−アントラキノン、ベンソイン、ベンソインメチルエーテル、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオフェノン、４−イソプロピル−２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、α，α−ジメトキシ−α−フェニルアセトンなどを用いることができる。上記紫外線重合開始剤は、単独で用いてもよく、二種以上を組合せて用いてもよい。
【００４４】
上記紫外線重合開始剤は、放射線硬化性樹脂１００重量部に対し、１〜２０重量部の範囲で添加することが好ましい。１重量部より少ない場合、樹脂の硬化性が劣るためか、透明導電性膜の強度が劣る傾向にある。また、２０重量部を超える場合、架橋が十分に進まないため、透明導電性膜の強度が劣る傾向にある。
【００４５】
＜＜溶媒＞＞
溶媒としては、酢酸ブチルの蒸発速度を１とした場合の相対蒸発速度が１以上の溶媒Ａと、相対蒸発速度が１未満の溶媒Ｂを用いる。なお相対蒸発速度とは酢酸ブチルの蒸発速度を１とした場合の相対的な蒸発速度であり、値が大きいほど蒸発しやすく、値が小さい程蒸発しにくい。
【００４６】
溶媒Ａと溶媒Ｂはいずれも、少なくともケトン系溶媒、エステル系溶媒から選ばれる少なくとも１種を含む。従って溶媒Ａと溶媒Ｂの両方にケトン系溶媒を用いても良いし、エステル系溶媒を用いても良いし、ケトン系溶媒、エステル系溶媒の両方を使っても良い。
相対蒸発速度が１以上の溶媒Ａのケトン系溶媒として、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）を用いることができる。
【００４７】
相対蒸発速度が１以上の溶媒Ａのエステル系溶媒として、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸イソブチル、酢酸ブチルを用いることができる。
【００４８】
相対蒸発速度が１未満の溶媒Ｂのケトン系溶媒として、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、シクロヘプタノンを用いることができる。
【００４９】
相対蒸発速度が１未満の溶媒Ｂのエステル系溶媒として、酢酸アミル、酢酸メチルアミル、乳酸メチル、乳酸エチルを用いることができる。
【００５０】
相対蒸発速度が１以上の溶媒Ａのエステル系溶媒、相対蒸発速度が１未満の溶媒Ｂのエステル系溶媒はいずれも、グリコール構造を有さないエステル系溶媒が好ましい。ケトン系溶媒とエステル系溶媒、特にグリコール構造を有さないエステル系溶媒は、金属酸化物の分散性（ぬれ性）が良く、組成物としての安定性にすぐれるため好ましい。
【００５１】
＜＜その他の添加剤＞＞
透明導電性シート用組成物には透明導電性粒子、バインダ樹脂以外に分散剤や可塑剤、耐電防止剤等を含んでも良い。
【００５２】
分散剤としては、少なくともアニオン系官能基を含む分散剤を用いることが好ましく、アニオン系官能基を含むポリエステル系樹脂、アニオン系官能基を含むアクリル系樹脂を用いることがより好ましい。例えば、カルボン酸含有アクリル系樹脂、酸含有ポリエステル系樹脂、酸及び塩基含有ポリエステル系樹脂などを用いることができる。具体的には、三菱レイヨン社製のダイヤナールＭＲ−２５３９、ダイヤナールＭＢ−２３８９、ダイヤナールＭＢ−２６６０、ダイヤナールＭＢ−３０１５、ダイヤナールＢＲ−６０、ダイヤナールＢＲ−６４、ダイヤナールＢＲ−７７、ダイヤナールＢＲ−８４、ダイヤナールＢＲ−８３  、ダイヤナールＢＲ−８７、ダイヤナールＢＲ−１０６、ダイヤナールＢＲ−１１３など、又はアビシア社製のソルスパーズ３０００、ソルスパーズ２１０００、ソルスパーズ２６０００、ソルスパーズ３２０００、ソルスパーズ３６０００、ソルスパーズ４１０００、ソルスパーズ４３０００、ソルスパーズ４４０００、ソルスパーズ４５０００、ソルスパーズ５６０００などの市販のものを用いることができる。
【００５３】
＜透明基材＞
透明基材としては、透明な透光性を有する材料で形成されていれば特に限定されない。例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂、ポリオレフィン類、セルローストリアセテートなどのセルロース系樹脂、ナイロン、アラミドなどのアミド系樹脂、ポリフェニレンエーテル、ポリスルホンエーテルなどのポリエーテル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、芳香族ポリアミド系樹脂などの材料からなる、フィルム又はシートを用いることができる。また、ガラス、セラミックスなどを用いてもよい。透明基材の厚さは、通常３〜３００μｍが好ましく、２５〜２００μｍがより好ましい。
【００５４】
また、本発明で透明とは、ＪＩＳ  Ｋ７１６１：１９９７に準拠して測定した全光線透過率が７５％以上であることをいう。
【００５５】
透明基材には、酸化防止剤、難燃剤、耐熱防止剤、紫外線吸収剤、易滑剤、帯電防止剤などの添加剤が添加されてもよい。さらに、透明基材上に形成される透明導電性膜との密着性を向上させるために、基材表面に易接着剤層（例えば、プライマー層）を設けたり、コロナ処理、プラズマ処理などの表面処理を行ったりすることができる。
【００５６】
＜透明導電性シート＞
本願の透明導電性シートは全光線透過率が７５％以上が好ましく、８５％以上がより好ましい。またヘイズは２％以下が好ましく、１％以下がより好ましい。このような範囲に設定することで、例えばタッチパネルや調光フィルム用の電極、透明面発熱体、ディスプレイの帯電防止フィルム、電磁波シールド材用の透明導電シートに好適に用いることができる。
【００５７】
＜透明導電性膜用組成物の調製方法＞
透明導電性膜用組成物の調製方法は、透明導電性粒子とバインダ樹脂とを溶媒中に分散できればよく、その分散方法はそれぞれ特に限定されない。例えば、サンドグラインドミルなどのビーズミル、超音波分散機、３本ロールミルなどによる分散処理が挙げられるが、より分散性が優れるという点から、ビーズミルによる分散処理が好ましい。
【００５８】
＜透明導電性膜の形成＞
透明基材への透明導電性膜用組成物を塗布して透明導電性塗布膜を形成する方法としては、平滑な塗膜を形成しうる塗布方法であればよく、特に限定されない。例えば、グラビアロール法、マイクログラビアロール法、スプレイ法、スピン法、ナイフ法、キス法、スクイズ法、リバースロール法、ディップ法、バーコート法などの塗布方法を用いることができる。
【００５９】
塗膜の乾燥方法としては、熱風を透明導電性塗布膜側から、あるいは透明基材側からあててもよい。また透明基材側に熱源を直接接触させても良い。また、赤外線ヒーター、遠赤外線ヒーターなどを用いて、熱源と非接触の方法で透明導電性塗布膜を乾燥させても良い。温度、湿度管理された空間にて自然乾燥させてもよい
【００６０】
＜実施例＞
以下、実施例に基づいて本発明を詳細に説明する。但し、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。また、特に指摘がない場合、下記において、「部」は「重量部」を意味する。なお、本件における実施例は、実施例１〜実施例１４、実施例１８〜実施例２０である。
【００６１】
＜透明導電性膜用組成物Ａの調整＞
0006506608.tif 000002
まず、以下の組成の混合物を、分散メディアとして直径０．１ｍｍのジルコニアビーズを用い、ペイントコンディショナーを用いて分散処理した。
【００６２】
上記にて得られた分散溶液１００部に以下の成分の混合物を加え、３０分撹拌を行った後フィルター（日本ミリポア社製のグラスファイバーフィルター“ＡＰ−２５）を通して「透明導電性膜用組成物Ａ」を得た。
0006506608.tif 000003
【００６３】
＜透明導電性膜用組成物Ｂの調整＞
まず、以下の組成の混合物を、分散メディアとして直径０．１ｍｍのジルコニアビーズを用い、ペイントコンディショナーを用いて分散処理した。
0006506608.tif 000004
【００６４】
上記にて得られた分散溶液１００部に以下の成分の混合物を加え、３０分撹拌を行った後フィルター（日本ミリポア社製のグラスファイバーフィルター“ＡＰ−２５）を通して「透明導電性膜用組成物Ｂ」を得た。
0006506608.tif 000005
【００６５】
＜透明導電性膜用組成物Ｃの調整＞
まず、以下の組成の混合物を、分散メディアとして直径０．１ｍｍのジルコニアビーズを用い、ペイントコンディショナーを用いて分散処理した。
0006506608.tif 000006
【００６６】
上記にて得られた分散溶液１００部に以下の成分の混合物を加え、３０分撹拌を行った後フィルター（日本ミリポア社製のグラスファイバーフィルター“ＡＰ−２５）を通して「透明導電性膜用組成物Ｃ」を得た。
0006506608.tif 000007
【００６７】
＜透明導電性膜用組成物Ｄの調整＞
まず、以下の組成の混合物を、分散メディアとして直径０．１ｍｍのジルコニアビーズを用い、ペイントコンディショナーを用いて分散処理した。
0006506608.tif 000008
【００６８】
上記にて得られた分散溶液１００部に以下の成分の混合物を加え、３０分撹拌を行った後フィルター（日本ミリポア社製のグラスファイバーフィルター“ＡＰ−２５）を通して「透明導電性膜用組成物Ｄ」を得た。
0006506608.tif 000009
【００６９】
＜透明導電性膜用組成物Ｅの調整＞
まず、以下の組成の混合物を、分散メディアとして直径０．１ｍｍのジルコニアビーズを用い、ペイントコンディショナーを用いて分散処理した。
0006506608.tif 000010
【００７０】
上記にて得られた分散溶液１００部に以下の成分の混合物を加え、３０分撹拌を行った後フィルター（日本ミリポア社製のグラスファイバーフィルター“ＡＰ−２５）を通して「透明導電性膜用組成物Ｅ」を得た。
0006506608.tif 000011
【００７１】
＜透明導電性膜用組成物Ｆの調整＞
まず、以下の組成の混合物を、分散メディアとして直径０．１ｍｍのジルコニアビーズを用い、ペイントコンディショナーを用いて分散処理した。
0006506608.tif 000012
【００７２】
上記にて得られた分散溶液１００部に以下の成分の混合物を加え、３０分撹拌を行った後フィルター（日本ミリポア社製のグラスファイバーフィルター“ＡＰ−２５）を通して「透明導電性膜用組成物Ｆ」を得た。
0006506608.tif 000013
【００７３】
＜透明導電性膜用組成物Ｇの調整＞
まず、以下の組成の混合物を、分散メディアとして直径０．１ｍｍのジルコニアビーズを用い、ペイントコンディショナーを用いて分散処理した。
0006506608.tif 000014
【００７４】
上記にて得られた分散溶液１００部に以下の成分の混合物を加え、３０分撹拌を行った後フィルター（日本ミリポア社製のグラスファイバーフィルター“ＡＰ−２５）を通して「透明導電性膜用組成物Ｇ」を得た。
0006506608.tif 000015
【００７５】
＜透明導電性膜用組成物Ｈの調整＞
まず、以下の組成の混合物を、分散メディアとして直径０．１ｍｍのジルコニアビーズを用い、ペイントコンディショナーを用いて分散処理した。
0006506608.tif 000016
【００７６】
上記にて得られた分散溶液１００部に以下の成分の混合物を加え、３０分撹拌を行った後フィルター（日本ミリポア社製のグラスファイバーフィルター“ＡＰ−２５）を通して「透明導電性膜用組成物Ｈ」を得た。
0006506608.tif 000017
【００７７】
＜透明導電性膜用組成物Ｉの調整＞
まず、以下の組成の混合物を、分散メディアとして直径０．１ｍｍのジルコニアビーズを用い、ペイントコンディショナーを用いて分散処理した。
0006506608.tif 000018
【００７８】
上記にて得られた分散溶液１００部に以下の成分の混合物を加え、３０分撹拌を行った後フィルター（日本ミリポア社製のグラスファイバーフィルター“ＡＰ−２５）を通して「透明導電性膜用組成物Ｉ」を得た。
0006506608.tif 000019
【００７９】
＜透明導電性膜用組成物Ｊの調整＞
まず、以下の組成の混合物を、分散メディアとして直径０．１ｍｍのジルコニアビーズを用い、ペイントコンディショナーを用いて分散処理した。
0006506608.tif 000020
【００８０】
上記にて得られた分散溶液１００部に以下の成分の混合物を加え、３０分撹拌を行った後フィルター（日本ミリポア社製のグラスファイバーフィルター“ＡＰ−２５）を通して「透明導電性膜用組成物Ｊ」を得た。
0006506608.tif 000021
【００８１】
＜透明導電性膜用組成物Ｋの調整＞
まず、以下の組成の混合物を、分散メディアとして直径０．１ｍｍのジルコニアビーズを用い、ペイントコンディショナーを用いて分散処理した。
0006506608.tif 000022
【００８２】
上記にて得られた分散溶液１００部に以下の成分の混合物を加え、３０分撹拌を行った後フィルター（日本ミリポア社製のグラスファイバーフィルター“ＡＰ−２５）を通して「透明導電性膜用組成物Ｋ」を得た。
0006506608.tif 000023
【００８３】
透明導電性膜用組成物Ａから透明導電性膜用組成物Ｋの組成を表１〜表３に纏めた。
【００８４】
＜透明導電性シートの作製＞    
実施例１〜実施例１３
バーコータを用いて、「透明導電性膜用組成物Ａ」を透明基材（帝人デュポン社製のポリエステルフィルム“ＫＥＬ８６Ｗ、厚み：１２５μｍ）に、乾燥後の膜厚が０．７μｍになるよう塗布して透明導電性塗布膜を形成し、次いで乾燥して透明導電性膜を形成した透明導電性シートを形成した。この時の温度を予熱期間Ａの温度と恒率乾燥期間Ｂの温度ＡＢｔｅとし、時間をＡＢｔｉとした。続いて防爆型乾燥機を用いて乾燥を行う時の温度を減率乾燥期間Ｃの温度Ｃｔｅとし、時間をＣｔｉとした。ＡＢｔｅ、ＡＢｔｉ、Ｃｔｅ、Ｃｔｉを表４、表５に記載の条件に設定し、実施例１〜実施例１３の透明導電性シートを得た。
【００８５】
実施例１４
バーコータを用いて、「透明導電性膜用組成物Ｂ」を透明基材（帝人デュポン社製のポリエステルフィルム“ＫＥＬ８６Ｗ、厚み：１２５μｍ）に、バーコータを用いて塗布して透明導電性塗布膜を形成し、次いで乾燥して膜厚が０．７μｍの透明導電性膜を形成した透明導電性シートを形成した。この時の温度を予熱期間Ａの温度と恒率乾燥期間Ｂの温度ＡＢｔｅとし、時間をＡＢｔｉとした。続いて防爆型乾燥機を用いて乾燥を行う時の温度を減率乾燥期間Ｃの温度Ｃｔｅとし、時間をＣｔｉとした。ＡＢｔｅ、ＡＢｔｉ、Ｃｔｅ、Ｃｔｉは各々表５に記載の条件に設定し、実施例１４の透明導電性シートを得た。
【００８６】
実施例１５
バーコータを用いて、「透明導電性膜用組成物Ｃ」を透明基材（帝人デュポン社製のポリエステルフィルム“ＫＥＬ８６Ｗ、厚み：１２５μｍ）に、バーコータを用いて塗布して透明導電性塗布膜を形成し、次いで乾燥して膜厚が０．７μｍの透明導電性膜を形成した透明導電性シートを形成した。この時の温度を予熱期間Ａの温度と恒率乾燥期間Ｂの温度ＡＢｔｅとし、時間をＡＢｔｉとした。続いて防爆型乾燥機を用いて乾燥を行う時の温度を減率乾燥期間Ｃの温度Ｃｔｅとし、時間をＣｔｉとした。ＡＢｔｅ、ＡＢｔｉ、Ｃｔｅ、Ｃｔｉは各々表５に記載の条件に設定し、実施例１５の透明導電性シートを得た。
【００８７】
実施例１６
バーコータを用いて、「透明導電性膜用組成物Ｄ」を透明基材（帝人デュポン社製のポリエステルフィルム“ＫＥＬ８６Ｗ、厚み：１２５μｍ）に、バーコータを用いて塗布して透明導電性塗布膜を形成し、次いで乾燥して膜厚が０．７μｍの透明導電性膜を形成した透明導電性シートを形成した。この時の温度を予熱期間Ａの温度と恒率乾燥期間Ｂの温度ＡＢｔｅとし、時間をＡＢｔｉとした。続いて防爆型乾燥機を用いて乾燥を行う時の温度を減率乾燥期間Ｃの温度Ｃｔｅとし、時間をＣｔｉとした。ＡＢｔｅ、ＡＢｔｉ、Ｃｔｅ、Ｃｔｉは各々表５に記載の条件に設定し、実施例１６の透明導電性シートを得た。
【００８８】
実施例１７
バーコータを用いて、「透明導電性膜用組成物Ｅ」を透明基材（帝人デュポン社製のポリエステルフィルム“ＫＥＬ８６Ｗ、厚み：１２５μｍ）に、バーコータを用いて塗布して透明導電性塗布膜を形成し、次いで乾燥して膜厚が０．７μｍの透明導電性膜を形成した透明導電性シートを形成した。この時の温度を予熱期間Ａの温度と恒率乾燥期間Ｂの温度ＡＢｔｅとし、時間をＡＢｔｉとした。続いて防爆型乾燥機を用いて乾燥を行う時の温度を減率乾燥期間Ｃの温度Ｃｔｅとし、時間をＣｔｉとした。ＡＢｔｅ、ＡＢｔｉ、Ｃｔｅ、Ｃｔｉは各々表６に記載の条件に設定し、実施例１７の透明導電性シートを得た。
【００８９】
実施例１８
バーコータを用いて、「透明導電性膜用組成物Ｆ」を透明基材（帝人デュポン社製のポリエステルフィルム“ＫＥＬ８６Ｗ、厚み：１２５μｍ）に、バーコータを用いて塗布して透明導電性塗布膜を形成し、次いで乾燥して膜厚が０．７μｍの透明導電性膜を形成した透明導電性シートを形成した。この時の温度を予熱期間Ａの温度と恒率乾燥期間Ｂの温度ＡＢｔｅとし、時間をＡＢｔｉとした。続いて防爆型乾燥機を用いて乾燥を行う時の温度を減率乾燥期間Ｃの温度Ｃｔｅとし、時間をＣｔｉとした。ＡＢｔｅ、ＡＢｔｉ、Ｃｔｅ、Ｃｔｉは各々表６に記載の条件に設定し、実施例１８の透明導電性シートを得た。
【００９０】
実施例１９
バーコータを用いて、「透明導電性膜用組成物Ｇ」を透明基材（帝人デュポン社製のポリエステルフィルム“ＫＥＬ８６Ｗ、厚み：１２５μｍ）に、バーコータを用いて塗布して透明導電性塗布膜を形成し、次いで乾燥して膜厚が０．７μｍの透明導電性膜を形成した透明導電性シートを形成した。この時の温度を予熱期間Ａの温度と恒率乾燥期間Ｂの温度ＡＢｔｅとし、時間をＡＢｔｉとした。続いて防爆型乾燥機を用いて乾燥を行う時の温度を減率乾燥期間Ｃの温度Ｃｔｅとし、時間をＣｔｉとした。ＡＢｔｅ、ＡＢｔｉ、Ｃｔｅ、Ｃｔｉは各々表６に記載の条件に設定し、実施例１９の透明導電性シートを得た。
【００９１】
実施例２０
バーコータを用いて、「透明導電性膜用組成物Ｈ」を透明基材（帝人デュポン社製のポリエステルフィルム“ＫＥＬ８６Ｗ、厚み：１２５μｍ）に、バーコータを用いて塗布して透明導電性塗布膜を形成し、次いで乾燥して膜厚が０．７μｍの透明導電性膜を形成した透明導電性シートを形成した。この時の温度を予熱期間Ａの温度と恒率乾燥期間Ｂの温度ＡＢｔｅとし、時間をＡＢｔｉとした。続いて防爆型乾燥機を用いて乾燥を行う時の温度を減率乾燥期間Ｃの温度Ｃｔｅとし、時間をＣｔｉとした。ＡＢｔｅ、ＡＢｔｉ、Ｃｔｅ、Ｃｔｉは各々表６に記載の条件に設定し、実施例２０の透明導電性シートを得た。
【００９２】
実施例２１
バーコータを用いて、「透明導電性膜用組成物Ｉ」を透明基材（帝人デュポン社製のポリエステルフィルム“ＫＥＬ８６Ｗ、厚み：１２５μｍ）に、バーコータを用いて塗布して透明導電性塗布膜を形成し、次いで乾燥して膜厚が０．７μｍの透明導電性膜を形成した透明導電性シートを形成した。この時の温度を予熱期間Ａの温度と恒率乾燥期間Ｂの温度ＡＢｔｅとし、時間をＡＢｔｉとした。続いて防爆型乾燥機を用いて乾燥を行う時の温度を減率乾燥期間Ｃの温度Ｃｔｅとし、時間をＣｔｉとした。ＡＢｔｅ、ＡＢｔｉ、Ｃｔｅ、Ｃｔｉは各々表６に記載の条件に設定し、実施例２１の透明導電性シートを得た。
【００９３】
比較例１
バーコータを用いて、溶媒Ａにケトン系溶媒或いはエステル系溶媒を含まない「透明導電性膜用組成物Ｊを透明基材（帝人デュポン社製のポリエステルフィルム“ＫＥＬ８６Ｗ、厚み：１２５μｍ）に、バーコータを用いて塗布して透明導電性塗布膜を形成し、次いで乾燥して膜厚が０．７μｍの透明導電性膜を形成した透明導電性シートを形成した。この時の温度を予熱期間Ａの温度と恒率乾燥期間Ｂの温度ＡＢｔｅとし、時間をＡＢｔｉとした。続いて防爆型乾燥機を用いて乾燥を行う時の温度を減率乾燥期間Ｃの温度Ｃｔｅとし、時間をＣｔｉとした。ＡＢｔｅ、ＡＢｔｉ、Ｃｔｅ、Ｃｔｉを表６に記載の条件に設定し、比較例１の透明導電性シートを得た。
【００９４】
比較例２
バーコータを用いて、溶媒Ｂがケトン系溶媒或いはエステル系溶媒を含まない「透明導電性膜用組成物Ｋを透明基材（帝人デュポン社製のポリエステルフィルム“ＫＥＬ８６Ｗ、厚み：１２５μｍ）に、バーコータを用いて塗布して透明導電性塗布膜を形成し、次いで乾燥して膜厚が０．７μｍの透明導電性膜を形成した透明導電性シートを形成した。この時の温度を予熱期間Ａの温度と恒率乾燥期間Ｂの温度ＡＢｔｅとし、時間をＡＢｔｉとした。続いて防爆型乾燥機を用いて乾燥を行う時の温度を減率乾燥期間Ｃの温度Ｃｔｅとし、時間をＣｔｉとして透明導電性シートを得た。ＡＢｔｅ、ＡＢｔｉ、Ｃｔｅ、Ｃｔｉを表６に記載の条件に変更し比較例６の組成物を塗布、乾燥して透明導電性シートを得た。
【００９５】
＜初期表面電気抵抗値＞
透明導電性膜用組成物を分散処理後、２４時間以内に塗布、乾燥して得た膜厚が０．７μｍの透明導電性膜を形成した透明導電性シートから、長さ７５ｍｍ、幅７５ｍｍのサンプルを切り出し、塗布面の中心部を抵抗率計（“ロレスタＭＣＰ−Ｔ６１０三菱化学アナリテック社製）を用いて、透明導電性膜側の初期表面電気抵抗値を測定した。表面電気抵抗値が１００００Ω／□未満のものを○、１００００〜１５０００Ω／□のものを△、１５０００Ω／□以上のものを×とした。
【００９６】
＜ヘイズ＞
光学特性は、ヘイズ（曇り）を測定することにより評価した。ヘイズの値が低いほど、光学特性が優れることになる。測定資料は透明導電性膜用組成物を分散処理後、２４時間以内に塗布、乾燥して得た、膜厚０．７μｍの透明導電性膜を形成した透明導電性シートを用いた。ヘイズの測定はヘイズメーター（“ＮＤＨ２０００日本電色社製）を用いてＪＩＳＫ７３６１に準拠した方法（モード：ホウホウ１）にて透明基材を含めたヘイズを評価した。ヘイズが１．０％未満のものを○、１．０〜２．０％のものを△、２．０％以上のものを×とした。
【００９７】
＜組成物の保存安定性＞
透明導電性膜用組成物を分散処理後、２５℃環境下で７日間保存した。この組成物を塗布、乾燥して得た膜厚が０．７μｍの透明導電性膜を形成した透明導電性シートから、長さ７５ｍｍ、幅７５ｍｍのサンプルを切り出し、塗布面の中心部を抵抗率計（“ロレスタＭＣＰ−Ｔ６１０三菱化学アナリテック社製）を用いて、透明導電性膜側の表面電気抵抗値を測定した。この値と、上記で測定した初期表面電気抵抗値から下記の式を用いて計算した値が、５％未満のものを透明導電性膜用組成物の保存安定性が○、５％以上１０％未満のものを保存安定性が△、１０％以上であるものを保存安定性が×とした。
（透明導電性膜用組成物保存後表面電気抵抗値−初期表面電気抵抗値）／初期表面電気抵抗値×１００
【００９８】
＜透明導電性シートの表面電気抵抗値経時変化＞
透明導電性膜用組成物を分散処理後、２４時間以内に塗布、乾燥して、乾燥膜厚が０．７μｍの透明導電性膜を形成した透明導電性シートを得た。この透明導電性シートを２３℃相対湿度５０％の暗室に２４時間静置した後、長さ７５ｍｍ、幅７５ｍｍのサンプルを切り出し、塗布面の中心部を抵抗率計（“ロレスタＭＣＰ−Ｔ６１０三菱化学アナリテック社製）を用いて、透明導電性膜側の透明導電性シート保存後表面電気抵抗値を測定した。この値と、上記で測定した初期表面電気抵抗値から、下記の式を用いて計算した透明導電性膜シートの表面電気抵抗値経時変化の値が、５％未満のものをシートの保存安定性が○、５％以上１０％未満のものをシートの保存安定性が△、１０％以上であるものをシートの保存安定性が×とした。
（透明導電性シート保存後表面電気抵抗値−初期表面電気抵抗値）／初期表面電気抵抗値  ×１００
【００９９】
各実施例で作製した透明導電膜用組成物Ａ〜Ｋの組成を表１〜表３に纏めた。また、各実施例、比較例で作製した透明導電性シートの測定結果を表４〜６に纏めた。
【０１００】
【表１】
0006506608.tif 000024
【０１０１】
【表２】
0006506608.tif 000025
【０１０２】
【表３】
0006506608.tif 000026
【０１０３】
【表４】
0006506608.tif 000027
【０１０４】
【表５】
0006506608.tif 000028
【０１０５】
【表６】
0006506608.tif 000029
【０１０６】
実施例１〜実施例１３より、本発明の透明導電性膜用組成物を透明基材に塗布した透明導電性塗布膜を乾燥して透明導電性膜を形成する際に、相対的に乾燥しやすい溶媒Ａにより透明導電性膜中の残存溶媒量を低減できる。また相対的に乾燥しにくい溶媒Ｂが乾燥しやすい溶媒Ａに比べて徐々に乾燥する結果、透明導電性膜用組成物の保存安定性が向上し、初期表面電気抵抗値が低下すると共に、表面電気抵抗値経時変化を小さくすることができた。更にヘイズ値が低い透明導電性シートを得ることができた。
【０１０７】
比較例１では相対的に乾燥しやすい溶媒Ａにトルエンを使用し、ケトン系溶媒、エステル系溶媒から選ばれる少なくとも１種を用いていないため、分散性が低下し、透明導電性膜用組成物の保存安定性が低下すると共に、初期表面電気抵抗値、ヘイズ値が上昇した。
比較例２では相対的に乾燥しにくい溶媒Ｂにプロピレングリコールモノメチルエーテルを使用し、ケトン系溶媒、エステル系溶媒から選ばれる少なくとも１種を用いていないため、分散性が低下し、透明導電性膜用組成物の保存安定性が低下した。