(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
水槽構造物の内面に液体を散布するための液体散布装置であって、
水槽構造物内に立設可能とした、主柱と、
前記主柱に、該主柱に沿うように折り畳んだ状態から、該主柱の長手方向と直交する方向に展開可能に取り付けた、腕部と、
前記腕部から前記液体を散布するための、散布手段と、
前記主柱が立設した状態で前記主柱の長手方向を回転軸として前記腕部を回転自在とした、回転手段と、
前記主柱が立設した状態で前記主柱の長手方向に前記腕部を昇降自在とした、昇降手段と、
を少なくとも備えたことを特徴とする、
水槽構造物用の液体散布装置。
【請求項２】
水槽構造物の内面に液体を散布するための液体散布方法であって、
水槽構造物の上面に設けた開口部から、請求項１に記載の液体散布装置を挿入し、
前記水槽構造物の内部で、前記腕部を展開し、
（１）前記腕部の回転動作を行いながら、前記腕部から前記液体を水槽構造物の内面に散布する工程、
（２）前記腕部を上昇又は降下する工程、
の各工程を、順序を問わずまたは並行して行うことを特徴とする、
水槽構造物用の液体散布方法。
【請求項３】
放射性物質を含んだ汚染水を貯蔵するタンクの解体前に行う粉塵抑制方法であって、
前記タンクの上面に設けた開口部から、請求項１に記載の液体散布装置を挿入し、
前記タンクの内部で、前記腕部を展開し、
（１）前記腕部の回転動作を行いながら、前記腕部から粉塵抑制剤を前記タンクの内面に塗布する工程、
（２）前記腕部を上昇又は降下する工程、
の各工程を、順序を問わずまたは並行して行うことを特徴とする、
汚染水貯蔵タンクの解体前に行う粉塵抑制方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、水槽構造物の内面に液体を散布するための装置および方法に関し、特に、水槽構造物の内部に人が立ち入る事のできない状況下での使用に好適な、液体散布装置および液体散布方法ならびに水槽構造物の粉塵抑制方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
石油貯蔵タンクなどの水槽構造物の内面に塗料などの液体を散布する場合には、水槽構造物の内部に足場を組んで、人力によって作業を行う方法が一般的である。
【０００３】
しかし、上記方法は、水槽構造物への作業員の立ち入りが許されない現場では採用することができない。
例えば、特許文献１，２のような、放射性物質を含む汚染水を貯蔵するためのタンクは、汚染水の排水後であっても内部に放射性物質が充満した状態であるため、作業員が中に入ることは健康被害の面から困難である。
【０００４】
他方、上記した汚染水を貯蔵するためのタンクは、そのまま解体してしまうと、放射性物質の付着した粉塵が大気中に拡散してしまう恐れがある。
この粉塵の発生を防止するには、タンクの解体前に予めタンク内面へと粉塵抑制剤を塗布しておく方法があるものの、上記の通り作業員の健康被害などの面から、当該方法の実施が困難であった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１３−３５５９９号公報
【特許文献２】特開２０１４−３８０５２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
このように、水槽構造物への作業員の立ち入りが許されない現場において、水槽構造物の外部にいる作業員によって、水槽構造物の内面に液体を散布する作業が可能な装置や方法の開発が求められている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記課題を解決すべくなされた本願の第１発明は、水槽構造物の内面に液体を散布するための液体散布装置であって、水槽構造物内に立設可能とした、主柱と、前記主柱に、該主柱に沿うように折り畳んだ状態から、該主柱の長手方向と直交する方向に展開可能に取り付けた、腕部と、前記腕部から前記液体を散布するための、散布手段と、前記主柱が立設した状態で前記主柱の長手方向を回転軸として前記腕部を回転自在とした、回転手段と、前記主柱が立設した状態で前記主柱の長手方向に前記腕部を昇降自在とした、昇降手段と、を少なくとも備えたことを特徴とする、水槽構造物用の液体散布装置を提供する。
また、本願の第２発明は、水槽構造物の内面に液体を散布するための液体散布方法であって、水槽構造物の上面に設けた開口部から、前記第１発明に記載の液体散布装置を挿入し、前記水槽構造物の内部で、前記腕部を展開し、（１）前記腕部の回転動作を行いながら、前記腕部から前記液体を水槽構造物の内面に散布する工程、（２）前記腕部を上昇又は降下する工程、の各工程を、順序を問わずまたは並行して行うことを特徴とする、水槽構造物用の液体散布方法を提供する。
また、本願の第３発明は、放射性物質を含んだ汚染水を貯蔵するタンクの解体前に行う粉塵抑制方法であって、前記タンクの上面に設けた開口部から、前記第１発明に記載の液体散布装置を挿入し、前記タンクの内部で、前記腕部を展開し、（１）前記腕部の回転動作を行いながら、前記腕部から粉塵抑制剤を前記タンクの内面に塗布する工程、（２）前記腕部を上昇又は降下する工程、の各工程を、順序を問わずまたは並行して行うことを特徴とする、汚染水貯蔵タンクの解体前に行う粉塵抑制方法を提供する。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、以下に記載する効果を奏する。
（１）水槽構造物の内部に作業員が立ち入る必要がない。
（２）液体散布装置の挿入時は腕部が折り畳んだ状態であるため、開口部を大きく確保する必要が無い。
（３）液体散布装置を軽量に構成することができるため、タンク上部への運搬性に優れる。
（４）液体散布装置が簡易な装置であるため、コストも安価でメンテナンス性にも優れる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明に係る液体散布装置の一例を示す概略斜視図。
【図２Ａ】本発明に係る液体散布方法の一例の手順を示す概略図（１）。
【図２Ｂ】本発明に係る液体散布方法の一例の手順を示す概略図（２）。
【図２Ｃ】本発明に係る液体散布方法の一例の手順を示す概略図（３）。
【図２Ｄ】本発明に係る液体散布方法の一例の手順を示す概略図（４）。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、図面を参照しながら、本発明の実施例について説明する。
【実施例１】
【００１１】
［液体散布装置］
図１を参照しながら、本発明に係る液体散布装置の一例について説明する。
＜１＞全体構成
本発明に係る液体散布装置Ａは、水槽構造物内に立設または吊り下げ可能とした主柱１０と、前記主柱１０に取り付ける腕部２０と、前記腕部２０から前記液体を散布するための、散布手段３０と、前記主柱１０の長手方向を回転軸として前記腕部２０を回転自在とした、回転手段４０と、前記主柱１０の長手方向に前記腕部２０を昇降自在とした、昇降手段５０と、を少なくとも備えて構成する。
以下、各構成要素の詳細について説明する。
【００１２】
＜２＞主柱
主柱１０は、腕部２０を水槽構造物内に配置するための部材である。
主柱１０の底部は、水槽構造物の底面に設置可能に構成する。
主柱１０の長さは、水槽構造物の高さよりも長くしておく。
主柱１０の上部は、水槽構造物の上面に露出させた状態とし、この露出部分を別途設ける支持具（図示せず）で支持した状態とする。
上記構成により、主柱１０は水槽構造物内で立設した状態を維持することができる。
【００１３】
＜３＞腕部
腕部２０は、水槽構造物の内部で、前記散布手段３０を水槽構造物の内面に接近させるための部材である。
腕部２０は、主柱１０に沿うように折り畳んだ状態から、該主柱１０の長手方向と直交する方向に展開可能となるように、主柱１０に取り付けてある。
主柱１０と腕部２０との取付態様は、公知の機構から適宜採用することができる。
なお、本実施例では、主柱１０の長手方向に摺動可能に構成した基部２１を設け、該基部２１の側面に回動自在に腕部２０を設けた構成としている。
前記基部２１の上部には、主柱１０の長手方向に摺動可能に構成した展開部２２を設けてあり、この展開部２２と腕部２０との間がワイヤ２３で接続されている。さらに展開部の上部には、展開部自身を昇降するために上方に伸びるワイヤ２４が接続されている。
よって、この展開部２２を、基部２１に対して相対的に離隔する位置となるようにワイヤ２４で引きあげると、腕部２０はワイヤ２３を介して展開部２２に引っ張られて、主柱１０に沿うように折り畳んだ状態となる。
反対に、展開部２２を基部２１に接近する位置となるようにすると、展開部２２によるワイヤ２３の引張りが解かれて、腕部２０は自然に展開する状態となる。
この腕部２０の展開状態の際は、腕部２０の長手方向が、主柱１０の長手方向と直交する方向となるように構成する。
腕部２０の長さは、腕部２０の展開時において、主柱１０から水槽構造物の内面までの距離にほぼ相当する程度の長さとする。
腕部２０の本数は、特段限定せず、適宜決定することができる。
【００１４】
＜４＞散布手段
散布手段３０は、腕部２０から液体を散布するための部材である。
散布手段３０は、腕部２０の解放端側から、水槽構造物Ｂの内面に液体を散布可能であれば、いかなる態様を用いても良い。
本実施例では、散布手段３０は、腕部の先端に設けたノズル３１から構成している。
このノズル３１に、水槽構造物の外側に設けたタンク（図示せず）から液体を供給可能することで、腕部２０の先端から液体を散布可能に構成している。
【００１５】
＜５＞回転手段
回転手段４０は、腕部２０を回転させるための部材である。
回転手段４０は、主柱１０の長手方向を回転軸として回転可能であれば、如何なる態様を用いても良い。
例えば、主柱１０を回転させることで間接的に腕部２０を回転させたり、腕部２０が取り付けてある基部２１を主柱１０に対して回転させたり、直接腕部２０を回転させたりする方法などを採用することができる。
本実施例では、主柱１０の底部に電気磁石式のベアリング４１を設け、水槽構造物の外側から主柱１０自体を回転可能に構成することで、腕部２０を回転可能としている。
【００１６】
＜６＞昇降手段
昇降手段５０は、散布手段３０の高さを任意の位置に制御するための部材である。
昇降手段５０は、腕部２０を、主柱１０の長手方向に移動（昇降）可能であれば、如何なる態様を用いても良い。
例えば、主柱１０と腕部２０とを連結するために介設してある基部２１を主柱１０に対して昇降自在とする方法がある。
本実施例では、前述した基部２１の上部から水槽構造物の外側まで伸ばしたワイヤ５１を用意し、このワイヤ５１をウインチや人力で巻きあげまたは巻き降ろしすることで、ノズル３１の高さを調節可能としている。
【００１７】
＜７＞使用方法
前記した実施例１に係る液体散布装置Ａを、内面に放射性物質が付着した水槽構造物の解体前に行う粉塵抑制方法に用いた場合の手順の一例について説明する。
なお、以下の各手順は、矛盾の無い範囲で、順番を入れ換えて行っても良いし、同時並行で行っても良い。
（１）櫓の設置
水槽構造物Ｂの上面に櫓Ｃを設置する（図２Ａ）。この櫓Ｃが、主柱１０の上部を支持するための支持具となる。
（２）開口部の形成
水槽構造物Ｂの上面に、開口部Ｂ１を形成する（図２Ａ）。開口部Ｂ１の径は、腕部２０が折り畳まれた主柱１０を挿通可能な程度で十分である。
（３）主柱の挿入
腕部２０が折り畳まれた主柱１０を、前記開口部Ｂ１へと挿入する。
主柱１０の先端が水槽構造物Ｂの底面に接すると、主柱１０は、前記櫓Ｃと前記水槽構造物Ｂの底面とで支持されて、水槽構造物Ｂの内部で立設した状態となる（図２Ａ）。
（４）腕部の展開
水槽構造物Ｂの内部にて、主柱１０から腕部２０を展開する（図２Ｂ）。
腕部２０を展開するためのワイヤ２３（図示せず）の巻き降ろしは、水槽構造物の外部に設けたウインチで制御することができる。
（５）腕部の回転および粉塵抑制剤の散布
腕部２０に設けたノズル３１から粉塵抑制剤を散布しながら、腕部２０を回転させて、水槽構造物Ｂの内面Ｂ２に粉塵抑制剤を吹き付ける（図２Ｃ）。
粉塵抑制剤を供給するタンクは水槽構造物Ｂの外部に設けておき、該タンクから伸ばしたホースをノズル３１に接続することで散布作業を行う。
（６）腕部の上昇
散布作業が完了して、散布領域Ｄ１を形成した際は、腕部２０を上昇させて（図２Ｄ）、前記（５）の作業を行う。
この作業を繰り返すことで、水槽構造物Ｂの内面Ｂ２の全域に、粉塵抑制剤を散布していき、散布領域Ｄ（Ｄ１，Ｄ２・・・）を形成していく。
（７）主柱の撤去
水槽構造物Ｂの内面Ｂ２の全域にわたって粉塵抑制剤の散布が完了した後は、前記腕部２０を再度下に降ろし、前記（３）および（４）の作業と逆の手順で作業を行って、腕部２０を折り畳み、主柱１０を水槽構造物Ｂから撤去する（図２Ｂ，図２Ａ）。
（８）作用・効果
本実施例に係る方法によれば、水槽構造物Ｂをほぼ閉塞したままで内面に粉塵抑制剤を散布することができるため、水槽構造物Ｂの内部に人の立ち入りを行うことなく、水槽構造物Ｂの解体前作業を安全かつ確実に実施することができる。
【実施例２】
【００１８】
前記した実施例１では、主柱１０を、水槽構造物Ｂ内に立設するように構成しているが、本発明は、その他、主柱１０を、水槽構造物Ｂ内で吊り下げ可能に構成することもできる（図示せず）。このとき、回転手段４０は、水槽構造物Ｂの上方に設置した櫓Ｃに設けるなどすればよい。
【実施例３】
【００１９】
前記した実施例１または２では、放射性物質を含んだ汚染水を貯蔵するタンクの解体前に行う粉塵抑制方法として、本発明に係る液体散布装置を使用した例について説明したが、本発明に係る液体散布装置は、その他の用途にも使用することが可能である。
例えば、大型タンクの塗装作業、塗膜劣化剤の塗布作業、タンク内部へのドライアイスブラスト洗浄作業、高圧水による洗浄作業、ショットブラスト、酸欠・硫化水素等の滞留する恐れのある箇所の洗浄・塗装・清掃作業などが考えられる。
【符号の説明】
【００２０】
Ａ    液体散布装置
１０  主柱
２０  腕部
２１  基部
２２  展開部
２３、２４  ワイヤ
３０  散布手段
３１  ノズル
４０  回転手段
４１  ベアリング
５０  昇降手段
５１  ワイヤ
Ｂ    水槽構造物
Ｂ１  開口部
Ｂ２  内面
Ｃ    櫓
Ｄ    散布領域
【図１】
0006535198.tif 000002
【図２Ａ】
0006535198.tif 000003
【図２Ｂ】
0006535198.tif 000004
【図２Ｃ】
0006535198.tif 000005
【図２Ｄ】
0006535198.tif 000006