(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記の工程（Ａ）〜（Ｂ）を有することを特徴とする、ガラス基材表面のエッチング処理方法。
工程（Ａ）：ガラス基材に、パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含有する被膜を形成する工程
工程（Ｂ）：前記被膜の形成されたガラス基材を、アルカリ性溶液に浸漬させて該被膜を溶解する工程
【請求項２】
前記被膜が、一般式［１］〜［３］で表されるパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の少なくとも１つを含有する被膜である、請求項１に記載のガラス基材表面のエッチング処理方法。
【化１】
0006575388.tif 000009
（式中、Ｒｆ１は、式：−ＣｐＦ２ｐＯ−（ｐは１〜６の整数である。）で表される構造、または、−ＣｑＦ２ｑ−（ｑは１〜８の整数である。）で表される構造を表す。Ｚはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基からなる群から選ばれる少なくとも１つの加水分解可能な官能基を表し、Ｒは炭素数が１〜１０のアルキル基を表し、ａは１〜３の整数を表す。ｎ及びｎ′はそれぞれ１〜５の整数、ｍ及びｍ′はそれぞれ０〜２の整数を表す。）
【化２】
0006575388.tif 000010
（式中、ｒは１〜２００の整数、Ｚはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基からなる群から選ばれる少なくとも１つの加水分解可能な官能基を表す。）
【化３】
0006575388.tif 000011
（式中、ｓは１〜１００の整数、ｔは１〜１０の整数を表す。Ｚはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基からなる群から選ばれる少なくとも１つの加水分解可能な官能基を表す。）
【請求項３】
前記アルカリ水溶液のｐＨが８〜１１である、請求項１に記載のガラス基材表面のエッチング処理方法。
【請求項４】
前記アルカリ性溶液の温度が４０〜８０℃である、請求項１に記載のガラス基材表面のエッチング処理方法。
【請求項５】
前記アルカリ性溶液が、水酸化ナトリウム水溶液、ラウリン酸ナトリウム水溶液、アンモニア水溶液からなる群から選ばれる少なくとも１つである、請求項１に記載のガラス基材表面のエッチング処理方法。
【請求項６】
下記の工程（Ａ）〜（Ｂ）を有するガラス基材表面のエッチング処理方法を含む、表面に凹み構造を有するガラス基材の製造方法。
工程（Ａ）：ガラス基材に、パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含有する被膜を形成する工程
工程（Ｂ）：前記被膜の形成されたガラス基材を、アルカリ性溶液に浸漬させて該被膜を溶解する工程
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラス基材表面に微細な凹み構造を形成するための、ガラス基材表面のエッチング処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ガラス基材表面に微細な凹凸構造を形成することにより、ガラス基材へ様々な機能を付与することが出来る。例えば、親水性・撥水性といった濡れ性の制御、光の透過率といった光学特性の制御をすることができ、これらの特性を大幅に向上、改善することが可能になる（特許文献１や２参照）。そのため、ガラス基材の表面を加工する多くの試みがなされてきた。
【０００３】
ガラス基材表面に微細な凹凸構造を形成する方法の１つとして、ガラス基材表面のエッチング処理方法があり、大きくウェットエッチングとドライエッチングに分けられる。中でも、ウェットエッチングにおいては、フッ酸によるエッチングが広く知られている。
【０００４】
特許文献３には、ガラス基材の表面に酸化ケイ素被膜を形成した後、該ガラス基材板をフッ酸や硝酸を含むエッチング液中に浸漬して、該被膜を除去することにより、ガラス基材表面に凹みを形成して低反射性ガラス基材とすることを特徴とする、ガラス基材の表面処理法について記載されている。また、特許文献４には、シリコンアルコキシドを含む溶液を基板に塗布し、ゲル化し、加熱後フッ素系溶液またはガスによりエッチングせしめることからなる基板面への微細凹凸形成法が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００２−１６１２４０（特許３８１８８８２）号公報
【特許文献２】特開２０００−１４４１１６号公報
【特許文献３】特開昭６３−３０７１４４（特許２５４１９８６）号公報
【特許文献４】特開平４−２７５９５０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、特許文献３，４に記載のエッチング方法では、ガラス基材の表面に形成した被膜を除去するためのエッチング液として、人体に対する危険性の大きいフッ酸を用いており、安全性に懸念があった。
【０００７】
そこで、本発明は、ガラス基材の表面に被膜を形成した後にガラス基材をエッチング液に浸漬して該被膜とガラス基材の表面を部分的に溶解するというガラス基材表面のエッチング処理方法において、エッチング液にフッ酸を用いることなく安全に、ガラス基材の表面に微細な凹みを形成する方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、上記課題に鑑み、種々検討した結果、ガラス基材に、パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含有する被膜を形成した後、該被膜の形成されたガラス基材を、アルカリ性溶液に浸漬させて該被膜を溶解することで、上記課題を解決出来ることを見出し、本発明に到達した。
【０００９】
すなわち、本発明は以下の各発明を含む。
［発明１］
下記の工程（Ａ）〜（Ｂ）を有することを特徴とする、ガラス基材表面のエッチング処理方法。
工程（Ａ）：ガラス基材に、パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含有する被膜を形成する工程
工程（Ｂ）：前記被膜の形成されたガラス基材を、アルカリ性溶液に浸漬させて該被膜を溶解する工程
［発明２］
前記被膜が、一般式［１］〜［３］で表されるパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の少なくとも１つを含有する被膜である、発明１に記載のガラス基材表面のエッチング処理方法。
【化１】
0006575388.tif 000002
（式中、Ｒｆ１は、式：−ＣｐＦ２ｐＯ−（ｐは１〜６の整数である。）で表される構造、または、−ＣｑＦ２ｑ−（ｑは１〜８の整数である。）で表される構造を表す。Ｚはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基からなる群から選ばれる少なくとも１つの加水分解可能な官能基を表し、Ｒは炭素数が１〜１０のアルキル基を表し、ａは１〜３の整数を表す。ｎ及びｎ′はそれぞれ１〜５の整数、ｍ及びｍ′はそれぞれ０〜２の整数を表す。）
【化２】
0006575388.tif 000003
（式中、ｒは１〜２００の整数、Ｚはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基からなる群から選ばれる少なくとも１つの加水分解可能な官能基を表す。）
【化３】
0006575388.tif 000004
（式中、ｓは１〜１００の整数、ｔは１〜１０の整数を表す。Ｚはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基からなる群から選ばれる少なくとも１つの加水分解可能な官能基を表す。）
［発明３］
前記アルカリ水溶液のｐＨが８〜１１である、発明１に記載のガラス基材表面のエッチング処理方法。
［発明４］
前記アルカリ性溶液の温度が４０〜８０℃である、発明１に記載のガラス基材表面のエッチング処理方法。
［発明５］
前記アルカリ性溶液が、水酸化ナトリウム水溶液、ラウリン酸ナトリウム水溶液、アンモニア水溶液からなる群から選ばれる少なくとも１つである、発明１に記載のガラス基材表面のエッチング処理方法。
[発明６]
下記の工程（Ａ）〜（Ｂ）を有するガラス基材表面のエッチング処理方法を含む、表面に凹み構造を有するガラス基材の製造方法。
工程（Ａ）：ガラス基材に、パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含有する被膜を形成する工程
工程（Ｂ）：前記被膜の形成されたガラス基材を、アルカリ性溶液に浸漬させて該被膜を溶解する工程
【発明の効果】
【００１０】
本発明によると、エッチング液として従来一般的に用いられていた人体に対する危険性の大きいフッ酸を用いることなく安全に、ガラス基材表面のエッチング処理を行うことができ、エッチング液にフッ酸を用いた場合と同等以上の大きさの凹み構造を有するガラス基材を得ることが出来る。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】実施例１のガラス基材表面のエッチング処理方法によって得られたガラス基材表面の一例を示す図面代用走査型電子顕微鏡写真である。
【図２】実施例１のガラス基材表面のエッチング処理方法によって得られたガラス基材表面の一例を示す図面代用走査型電子顕微鏡写真であり、図１よりも拡大された図である。
【図３】実施例１のガラス基材表面のエッチング処理方法によって得られたガラス基材の断面の一例を示す図面代用走査型電子顕微鏡写真である。半球状の微細な凹みが確認できる。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明の実施形態について具体的に説明する。しかしながら、本発明は、以下の実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を変更しない範囲において適宜変更して適用することができる。
【００１３】
＜工程（Ａ）＞
本発明のガラス基材表面のエッチング処理方法は、工程（Ａ）：ガラス基材に、パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含有する被膜を形成する工程を有する。
【００１４】
本発明のエッチング処理の対象であるガラス基材としては、例えば、車両用窓ガラス、建築物用窓ガラスに通常使用されているフロート板ガラス、又はロールアウト法で製造されたソーダ石灰ガラス等無機質の透明性がある板ガラスを使用できる。また、これら板ガラスを用いて製造された、鏡等の反射性基材、擦りガラス、模様が刻まれたガラス等の半透明から不透明のガラス基材も使用することができる。
【００１５】
本発明のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物としては、例えば、下記一般式［１］〜［３］で表される化合物を用いることが出来る。
【化４】
0006575388.tif 000005
（式中、Ｒｆ１は、式：−ＣｐＦ２ｐＯ−（ｐは１〜６の整数である。）で表される構造、または、−ＣｑＦ２ｑ−（ｑは１〜８の整数である。）で表される構造を表す。Ｚはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基からなる群から選ばれる少なくとも１つの加水分解可能な官能基を表し、Ｒは炭素数が１〜１０のアルキル基を表し、ａは１〜３の整数を表す。ｎ及びｎ′はそれぞれ１〜５の整数、ｍ及びｍ′はそれぞれ０〜２の整数を表す。）
【化５】
0006575388.tif 000006
（式中、ｒは１〜２００の整数、Ｚはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基からなる群から選ばれる少なくとも１つの加水分解可能な官能基を表す。）
【化６】
0006575388.tif 000007
（式中、ｓは１〜１００の整数、ｔは１〜１０の整数を表す。Ｚはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基からなる群から選ばれる少なくとも１つの加水分解可能な官能基を表す。）
【００１６】
一般式［１］〜［３］において、パーフルオロポリエーテル基に相当する基は、−ＣｕＦ２ｕＯ−（ｕは任意の自然数）で表される基である。
【００１７】
工程（Ａ）においては、パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を溶媒で希釈した塗布液をガラス基材表面に塗布する方法を用いることが出来る。塗布方法としては、手塗り法、ノズルフローコート法、ディッピング法、スプレー法、リバースコート法、フレキソ法、印刷法、フローコート法、スピンコート法、ロールコート法、それらの併用等各種塗布方法が適宜採用され得る。これらの塗布方法の中では、手塗り法が、塗着効率が高く塗布ロスが少ない点、塗布設備の導入費用を削減できる点、透明性に優れ、キズが目立ちにくい、ｎｍオーダーの膜厚の被膜を形成できる点などから好ましい。なお、本発明で「手塗り法」とは、塗布液を部材に給液した後、該部材を基材に接触させる手段、及び、塗布液を基材に給液した後、部材で該塗布液を引き延ばす手段から選ばれる少なくとも一つの手段で基材上に塗布液を塗布する技術手段のことを指す。塗布液を給液される部材、又は塗布液を引き延ばす部材としては、布、紙、不織布、ガーゼ、スポンジ、フェルトなどが挙げられる。塗布液を給液された部材を基材に接触させる手段、又は部材で塗布液を引き延ばす手段は、人の手によるもの、ロボットや機械などによるものなどがある。
【００１８】
パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の希釈溶媒には、ハイドロフルオロカーボン、パーフルオロカーボン、パーフルオロエーテル、ハイドロフルオロエーテルなどのフッ素系溶剤を用いることができる。
【００１９】
また、前記希釈溶媒の添加量は、塗布液の総量に対し、８０〜９９．９質量％とすることが好ましく、９０〜９９．９質量％がより好ましい。８０質量％未満では、基材への塗布液の付着量が多くなりすぎ、塗布液の塗り伸ばし易さが悪くなる。また、９９．９質量％を超えると基材への塗布液の付着量が少なくなる。
【００２０】
工程（Ａ）に形成された被膜の膜厚としては、１００ｎｍ以下であることが好ましく、２０ｎｍ以下であることがより好ましい。１００ｎｍよりも厚いと、工程（Ｂ）においてエッチング液に浸漬する時間が長くなり過ぎ、実用的でなくなる。
【００２１】
＜工程（Ｂ）＞
本発明のガラス基材表面のエッチング処理方法は、工程（Ｂ）：前記被膜の形成されたガラス基材を、アルカリ性溶液に浸漬させる工程を有する。前記被膜の形成されたガラス基材を該アルカリ性溶液に浸漬させて該被膜を溶解することで、ガラス基材表面をエッチングすることが出来るので、以下、該アルカリ性溶液をエッチング液と呼ぶことがある。
【００２２】
工程（Ｂ）のアルカリ性溶液には、水酸化ナトリウム水溶液、ラウリン酸ナトリウム水溶液、アンモニア水溶液、水酸化カリウム水溶液、水酸化カルシウム水溶液、炭酸ナトリウム水溶液を用いることが出来る。
【００２３】
アルカリ性溶液のｐＨは、１２以下であることが好ましく、８〜１１であることがより好ましい。ｐＨが大きいほど、エッチングの速度が速くなる。一方、ｐＨが１２よりも大きいと、エッチング速度が速すぎ、ガラス基材表面に凹み構造が得られにくくなる。
【００２４】
アルカリ性溶液の温度としては、１０〜９０℃であることが好ましく、４０〜８０℃であることがより好ましい。温度が高いほど、エッチングの速度が速くなる。１０℃よりも低いと、工程（Ｂ）においてエッチング液に浸漬する時間が長くなり過ぎ、実用的でなくなる。一方、９０℃よりも高いと、エッチング液の揮発が盛んになり、エッチング液に浸漬するのが困難になる。
【００２５】
アルカリ性溶液への浸漬期間は、５〜６０日ほどであることが好ましい。５日より短いと、エッチング効果が小さく、６０日より長いと工程（Ｂ）においてエッチング液に浸漬する時間が長くなり過ぎ、実用的でなくなる。
【００２６】
＜エッチング処理されたガラス基材＞
本発明のエッチング処理方法によって、表面に半球状の微細な凹み構造を不規則に有するガラス基材を得られる。工程（Ａ）において形成された被膜には、パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の密な部分と疎な部分が不規則に分布し、工程（Ｂ）において、疎な部分から優先的に被膜の溶解が進行し、被膜が優先的に溶解した箇所に対応してガラス基材表面に半球状の微細な凹み構造がガラスの溶解によって形成され、該箇所以外のガラス基材表面は平坦性が維持されると推測している。
【００２７】
なお、ガラス基材の走査型電子顕微鏡写真等から、凹み以外の箇所は平坦面と推測している（図１〜３参照）。また、被膜はアルカリ性水溶液によって完全に溶解していると推測しているが、途中までの溶解であっても良い。
【００２８】
これに対し、工程（Ａ）において、フルオロアルキルシラン化合物やポリジメチルシロキサン化合物からなる被膜を形成した場合は、該化合物の密な部分と疎な部分の差が小さく、工程（Ｂ）においては、全体的に均一に被膜の溶解が進行するため、ガラス基材表面に微細な凹み構造が形成されなかったと推測している（比較例６、７参照）
半球状の微細な凹み構造としては、算術平均粗さＲａが１０〜１００ｎｍ、最大高さ粗さＲｚが２０〜５００ｎｍ、ヘイズが１〜５０％のものを得られる。この程度のＲａ値、Ｒｚ値やヘイズ値であれば、(１)凹み構造を作成したガラス基材上に機能性被膜（撥水性被膜、防曇性被膜、ＵＶカット被膜など）を形成することで、機能性被膜とガラス基材のアンカー効果による両者の密着性向上、(２)凹み部に微粒子を埋め込むことにより、被膜形成よりも効果的な微粒子の性能発現、(３)調湿機能（高湿時には凹みに水分を吸着し、低湿時には凹みから水分を放出）等が期待できる。一方、Ｒａ値、Ｒｚ値やヘイズ値が大き過ぎると、表面が脆くなることが想定される。
【実施例】
【００２９】
実施例により本発明を具体的に説明する。本実施例および比較例のエッチング処理方法で得られたガラス基材は、以下に示す方法により品質評価を行った。なお、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００３０】
［被膜の膜厚］
ガラス基材に形成した被膜を、カッターナイフで削り取り、被膜とガラス基材との間に生じる段差部分を高精度微細形状測定器（ＳＵＲＥＦＣＯＲＤＥＲ  ＥＴ  ４０００Ａ  小坂研究所製）で測定することにより、被膜の膜厚を測定した。
【００３１】
［透明性（ヘイズ）の評価］
ＪＩＳ−Ｋ７１０５（１９８１年）に準拠して、ヘイズメーター（日本電色工業製、ＮＤＨ２０００）を用いて、得られたガラス基材のヘイズを測定した。ヘイズ値において、１％以上をヘイズあり、合格（○）とし、１％未満を不合格（×）とした。
【００３２】
［算術平均粗さ（Ｒａ）］
ＪＩＳ−Ｂ０６０１（２００１年）に準拠して、触針式表面粗さ計（小坂研究所製、サーフコーダーＥＴ−４０００Ａ）を用いて、得られたガラス基材の算術平均粗さ（Ｒａ）を評価した。算術平均粗さＲａが１０ｎｍ以上を凹みあり、合格（○）とし、１０ｎｍ未満を不合格（×）とした。
【００３３】
［最大高さ粗さ（Ｒｚ）］
ＪＩＳ−Ｂ０６０１（２００１年）に準拠して、触針式表面粗さ計（小坂研究所製、サーフコーダーＥＴ−４０００Ａ）を用いて、得られたガラス基材の最大高さ粗さ（Ｒｚ）を評価した。最大高さ粗さＲｚにおいて、２０ｎｍ以上を凹みあり、合格（○）とし、２０ｎｍ未満を不合格（×）とした。
【００３４】
［実施例１］
（塗布液の調製）
ＫＹ−１３０（両末端に加水分解可能な官能基を有し、一般式［１］で表されるパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物のメタキシレンヘキサフロライド溶液、固形分濃度２０質量％、信越化学工業社製）１．０ｇを、フッ素系不活性液体（ＦＣ−３２８３、３Ｍ社製）９９．０ｇに溶解させ、室温で３０分間撹拌し、パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の濃度が０．２質量％の塗布剤を得た。
【００３５】
（ガラス基材の準備）
１０ｃｍ角で厚さ３．０ｍｍのフロートガラス板の表面を酸化セリウムで十分に研磨した後、精製水で洗浄後、乾燥させてガラス基材を準備した。
【００３６】
（工程（Ａ））
上記方法で調製した塗布液１．０ｍｌを前記ガラス基材表面に滴下し、綿布（商品名；ベンコット）でガラス基材表面の全面に十分引き伸ばした後、５分程度風乾した。その後、ガラス基材を電気炉に入れ１０分間熱処理した。このとき、ガラス基材の最高温度（熱処理温度）は１５０℃であった。その後、目視で白くまだらに残留している余剰な撥水成分をイソプロピルアルコールで湿らした紙タオルで拭き上げて、目視観察で透明なガラス基材を得た。（後述の比較例２のガラス基材に相当する。）
【００３７】
（工程（Ｂ））
得られたガラス基材を、６０℃に加温した水酸化ナトリウム水溶液（ｐＨ＝８．０）に浸漬させて、１４日間放置した。得られたガラス基材を上記方法で評価したところ、ヘイズ：３．８％、Ｒａ：２２ｎｍ、Ｒｚ：１３３ｎｍであり、半球状の微細な凹み構造を有していることを確認した。
【００３８】
［実施例２〜８、比較例１〜７］
表１に示すとおり、パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物の種類、アルカリ性溶液の種類、ｐＨ、温度を変え、それ以外は実施例１と同様に実施した。
【００３９】
［実施例９］
表１に示すとおり、アルカリ性溶液のｐＨ、温度を変え、エッチング液の浸漬期間を３０日間とし、それ以外は実施例１と同様に実施した。
【００４０】
なお、表１中で、ＰＦＰＥとは、パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物のことを指し、ＰＤＭＳとは、ポリジメチルシロキサンのことを指す。
【００４１】
Ｄｏｗ２６３４は、東レ・ダウコーニング製のパーフルオロポリエーテル基含有シラン溶液（固形分濃度２０質量％）であり、一般式［２］においてｒ：２０〜２２、Ｚ：メトキシ基のものを指す。
【００４２】
オプツールＤＳＸは、ダイキン工業製のパーフルオロポリエーテル基含有シランのパーフルオロヘキサン溶液（固形分濃度２０質量％）であり、一般式［３］においてｔ：２〜３、Ｚ：メトキシ基ものを指す。
【００４３】
Ｃ６ＦＡＳとは、フルオロカーボンユニットの数が６のフルオロアルキルトリアルコキシシランである（３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−トリデカフルオロオクチル）トリエトキシシラン〔ＣＦ３（ＣＦ２）５ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３〕のことを指す。
【００４４】
ＤＭＳ―Ｓ１２は、Ｇｅｌｅｓｔ製の、分子の両末端にシラノール基を有するポリジメチルシロキサンのことを指す。
【００４５】
上水とは、三重県松阪市の一般家庭で使用されている水道水のことを指す。
【００４６】
各実施例及び各比較例について、被膜の成分、膜厚、エッチング液浸漬条件、エッチング処理の結果得られたガラス基材の評価を表１に示す。
【００４７】
【表１】
0006575388.tif 000008
【００４８】
表１より明らかなように、実施例１〜９のガラス基材表面のエッチング処理方法は、工程（Ａ）、（Ｂ）を有し、該エッチング処理方法を用いて製造された物品のＲａは１０ｎｍ以上であり、ガラス基材表面に半球状の微細な凹み構造を有していた。
【００４９】
ｐＨの大きなアルカリ性溶液を用いた実施例４の方が、実施例１よりも大きな凹み構造を得られ、エッチング効果が大きかった。
【００５０】
アルカリ性溶液としてアンモニア水を用いた実施例６の方が、水酸化ナトリウム水溶液を用いた実施例５よりも大きな凹み構造を得られ、エッチング効果が大きかった。
【００５１】
［比較例１］
工程（Ａ）を有さなかった以外は実施例１と同様にしてエッチング処理を行ったが、表面に被膜を有さないガラス基材が均一にエッチングされたため、凹み構造が形成されず、Ｒａが不十分であった。
【００５２】
［比較例２］
工程（Ｂ）を有さず、エッチング処理は行われていないため、Ｒａが不十分であった。
【００５３】
［比較例３〜５］
アルカリ性溶液の代わりに酸性溶液を用いた以外は実施例１と同様にしてエッチング処理を行ったが、エッチング液のｐＨが小さいため、エッチング速度が遅く、凹み構造が形成されず、Ｒａが不十分であった。
【００５４】
［比較例６、７］
パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物（ＰＦＰＥ）の代わりに、フルオロアルキルシラン化合物（ＦＡＳ）やポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）を用いた以外は実施例１と同様にしてエッチング処理を行ったが、ＦＡＳやＰＤＭＳでは、凹み構造が形成されず、Ｒａが不十分であった。
【産業上の利用可能性】
【００５５】
本発明のガラス基材のエッチング処理方法によって半球状の微細な凹み形状の形成されたガラス基材は、ガラス基材表面の濡れ性（親水性）の向上による防曇機能の付与や、反射率の低減による反射防止機能の付与が期待でき、建築用ガラス基材、車両用ガラス基材、ディスプレイ用ガラス基材等に用いることが出来る。
【図１】
0006575388.tif 000012
【図２】
0006575388.tif 000013
【図３】
0006575388.tif 000014