(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ラジカル重合性基含有化合物と、カチオン重合性基含有化合物と、光ラジカル開始剤と、光酸発生剤とを含有し、
前記ラジカル重合性基含有化合物の含有量が、前記カチオン重合性基含有化合物の含有量よりも多く、
前記光ラジカル開始剤が、α−ヒドロキシアルキルフェノン系光ラジカル開始剤、及びベンジルメチルケタール系光ラジカル開始剤の少なくともいずれかであり、
前記光ラジカル開始剤と、前記光酸発生剤との質量比率（光ラジカル開始剤／光酸発生剤）が、０．５〜３０であることを特徴とする光硬化性樹脂組成物。
【請求項２】
前記カチオン重合性基含有化合物が、ラジカル重合性基を有する請求項１に記載の光硬化性樹脂組成物。
【請求項３】
前記カチオン重合性基含有化合物におけるカチオン重合性基が、アルコキシシリル基、及びエポキシ基の少なくともいずれかである請求項１から２のいずれかに記載の光硬化性樹脂組成物。
【請求項４】
前記光酸発生剤の含有量が、０．０１質量％以上であり、
前記光ラジカル開始剤の含有量と、前記光酸発生剤の含有量との和（光ラジカル開始剤＋光酸発生剤）が、１．５質量％以下である請求項１から３のいずれかに記載の光硬化性樹脂組成物。
【請求項５】
更に可塑剤を含有する請求項１から４のいずれかに記載の光硬化性樹脂組成物。
【請求項６】
請求項１から５のいずれかに記載の光硬化性樹脂組成物の硬化物を有することを特徴とする画像表示装置。
【請求項７】
画像表示部材と、光透過性カバー部材とを有し、
前記画像表示部材と、前記光透過性カバー部材とが、前記硬化物を介して接着されている請求項６に記載の画像表示装置。
【請求項８】
前記光透過性カバー部材が、周縁部に遮光層を有し、
前記光透過性カバー部材において、前記遮光層を有する面が、前記画像表示部材を向いている請求項７に記載の画像表示装置。
【請求項９】
周縁部に遮光層を有する光透過性カバー部材の前記遮光層を有する側の面に、請求項１から５のいずれかに記載の光硬化性樹脂組成物を塗布し、塗布層を得る塗布工程と、
前記塗布層に、前記光透過性カバー部材側と反対側から光を照射し、前記塗布層を仮硬化させ、仮硬化層を得る仮硬化工程と、
前記仮硬化層と、画像表示部材とを貼り合わせる貼合工程と、
前記光透過性カバー部材側から前記仮硬化層に光を照射し、前記仮硬化層を本硬化させ、本硬化層を得る本硬化工程と、を含むことを特徴とする画像表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光硬化性樹脂組成物、並びに画像表示装置、及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、テレビ、ノートパソコン、タブレットパソコン、カーナビゲーション、電卓、携帯電話、スマートフォン、電子手帳、及びＰＤＡ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ  Ｄｉｇｉｔａｌ  Ａｓｓｉｓｔａｎｔ）等の各種電子機器である画像表示装置には、例えば、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、有機ＥＬディスプレイ（ＯＬＥＤ）、電界発光ディスプレイ（ＥＬＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ）、及びプラズマディスプレイ（ＰＤＰ）などの表示素子が使用されている。
【０００３】
前記画像表示装置において、前記表示素子を保護するために、板ガラスなどの光透過性カバー部材を前記表示素子に貼り合わせることが行われており、貼合せには光硬化性樹脂組成物が用いられる。
【０００４】
ここで、一般的な光硬化性樹脂組成物としては、ラジカル重合性成分と、光ラジカル開始剤とを含有する組成物が知られている（例えば、特許文献１〜２参照）。更に、ラジカル重合性成分と、カチオン重合性成分と、光ラジカル開始剤と、光酸発生剤とを含有する組成物も提案されている（例えば、特許文献３参照）。
【０００５】
ところで、光透過性カバー部材の画像表示部側表面の周縁部には、表示画像の輝度、コントラスト、意匠性等の向上のために遮光層が設けられている。そのような遮光層と画像表示部材との間に挟まれた光硬化性樹脂組成物は、硬化の際に光が直接当たらないため、硬化が十分に進行しない。そのために、十分に硬化しなかった成分が滲み出す（ブリードアウト）という不具合が生じる。
【０００６】
そこで、光硬化性樹脂組成物に熱重合開始剤を配合して熱及び光硬化性樹脂組成物とし、遮光層が形成された光透過性カバー部材の表面に、この熱及び光硬化性樹脂組成物を塗布し、この塗布面を画像表示部材に重ね、紫外線を照射して光硬化させた後に、全体を加熱することにより遮光層と画像表示部材との間に挟まれた熱及び光硬化性樹脂組成物を熱硬化させることが提案されている（例えば、特許文献４参照）。
しかし、この提案の技術では、熱重合開始剤を含有するために、熱重合プロセスのための設備を要することや、保存安定性が低下するという問題がある。
【０００７】
したがって、熱重合プロセスを必要とせず、かつ遮光層と画像表示部材との間に挟まれ光が直接届かない領域の硬化性を良好にし、硬化物のブリードアウトを防止できる光硬化性樹脂組成物の提供が求められているのが現状である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２０１５−３４２４０号公報
【特許文献２】特開２０００−６７６７７号公報
【特許文献３】特開２０００−３３６１２７号公報
【特許文献４】国際公開第２００８／１２６８６０号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、光が直接届かない領域の硬化性を良好にし、硬化物のブリードアウトを防止できる光硬化性樹脂組成物、前記光硬化性樹脂組成物を用いた画像表示装置、及び前記光硬化性樹脂組成物を用いた画像表示装置の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
＜１＞  ラジカル重合性基含有化合物と、カチオン重合性基含有化合物と、光ラジカル開始剤と、光酸発生剤とを含有し、
前記ラジカル重合性基含有化合物の含有量が、前記カチオン重合性基含有化合物の含有量よりも多く、
前記光ラジカル開始剤が、α−ヒドロキシアルキルフェノン系光ラジカル開始剤、及びベンジルメチルケタール系光ラジカル開始剤の少なくともいずれかであり、
前記光ラジカル開始剤と、前記光酸発生剤との質量比率（光ラジカル開始剤／光酸発生剤）が、０．５〜３０であることを特徴とする光硬化性樹脂組成物である。
＜２＞  前記カチオン重合性基含有化合物が、ラジカル重合性基を有する前記＜１＞に記載の光硬化性樹脂組成物である。
＜３＞  前記カチオン重合性基含有化合物におけるカチオン重合性基が、アルコキシシリル基、及びエポキシ基の少なくともいずれかである前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載の光硬化性樹脂組成物である。
＜４＞  前記光酸発生剤の含有量が、０．０１質量％以上であり、
前記光ラジカル開始剤の含有量と、前記光酸発生剤の含有量との和（光ラジカル開始剤＋光酸発生剤）が、１．５質量％以下である前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の光硬化性樹脂組成物である。
＜５＞  更に可塑剤を含有する前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の光硬化性樹脂組成物である。
＜６＞  前記＜１＞から＜５＞のいずれかに記載の光硬化性樹脂組成物の硬化物を有することを特徴とする画像表示装置である。
＜７＞  画像表示部材と、光透過性カバー部材とを有し、
前記画像表示部材と、前記光透過性カバー部材とが、前記硬化物を介して接着されている前記＜６＞に記載の画像表示装置である。
＜８＞  前記光透過性カバー部材が、周縁部に遮光層を有し、
前記光透過性カバー部材において、前記遮光層を有する面が、前記画像表示部材を向いている前記＜７＞に記載の画像表示装置である。
＜９＞  周縁部に遮光層を有する光透過性カバー部材の前記遮光層を有する側の面に、前記＜１＞から＜５＞のいずれかに記載の光硬化性樹脂組成物を塗布し、塗布層を得る塗布工程と、
前記塗布層に、前記光透過性カバー部材側と反対側から光を照射し、前記塗布層を仮硬化させ、仮硬化層を得る仮硬化工程と、
前記仮硬化層と、画像表示部材とを貼り合わせる貼合工程と、
前記光透過性カバー部材側から前記仮硬化層に光を照射し、前記仮硬化層を本硬化させ、本硬化層を得る本硬化工程と、を含むことを特徴とする画像表示装置の製造方法である。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、従来における前記諸問題を解決し、前記目的を達成することができ、光が直接届かない領域の硬化性を良好にし、硬化物のブリードアウトを防止できる光硬化性樹脂組成物、前記光硬化性樹脂組成物を用いた画像表示装置、及び前記光硬化性樹脂組成物を用いた画像表示装置の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１Ａ】図１Ａは、本発明の画像表示装置の製造方法の一例を説明するための断面模式図である（その１）。
【図１Ｂ】図１Ｂは、本発明の画像表示装置の製造方法の一例を説明するための断面模式図である（その２）。
【図１Ｃ】図１Ｃは、本発明の画像表示装置の製造方法の一例を説明するための断面模式図である（その３）。
【図１Ｄ】図１Ｄは、本発明の画像表示装置の製造方法の一例を説明するための断面模式図である（その４）。
【図１Ｅ】図１Ｅは、本発明の画像表示装置の製造方法の一例を説明するための断面模式図である（その５）。
【図２Ａ】図２Ａは、実施例における模擬パネルの製造方法を説明するための断面模式図である（その１）。
【図２Ｂ】図２Ｂは、実施例における模擬パネルの製造方法を説明するための断面模式図である（その２）。
【図２Ｃ】図２Ｃは、実施例における模擬パネルの製造方法を説明するための断面模式図である（その３）。
【図２Ｄ】図２Ｄは、実施例における模擬パネルの製造方法を説明するための断面模式図である（その４）。
【図２Ｅ】図２Ｅは、実施例における模擬パネルの製造方法を説明するための断面模式図である（その５）。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
（光硬化性樹脂組成物）
本発明の光硬化性樹脂組成物は、ラジカル重合性基含有化合物と、カチオン重合性基含有化合物と、光ラジカル開始剤と、光酸発生剤とを含有し、更に必要に応じて、その他の成分を含有する。
前記光ラジカル開始剤は、α−ヒドロキシアルキルフェノン系光ラジカル開始剤、及びベンジルメチルケタール系光ラジカル開始剤の少なくともいずれかである。
前記光硬化性樹脂組成物において、前記ラジカル重合性基含有化合物の含有量は、前記カチオン重合性基含有化合物の含有量よりも多い。
【００１４】
本発明者らは、光が直接届かない領域の硬化性を良好にし、硬化物のブリードアウトを防止できる光硬化性樹脂組成物を提供すべく、鋭意検討を行った。その結果、ラジカル硬化系にカチオン硬化系を併用した光硬化系において、光ラジカル開始剤として、α−ヒドロキシアルキルフェノン系光ラジカル開始剤、及びベンジルメチルケタール系光ラジカル開始剤の少なくともいずれかを用い、カチオン硬化系の硬化剤として光酸発生剤を用いることにより、光が直接届かない領域の硬化性を良好にし、硬化物のブリードアウトを防止できることを見出し、本発明の完成に至った。
【００１５】
ここで、本発明者が考える、本発明の効果が得られる推定メカニズムを以下のスキーム１を用いて説明する。以下の例は、光ラジカル開始剤として、α−ヒドロキシアルキルフェノン系光ラジカル開始剤を用い、光酸発生剤としてオニウム塩を用いた例である。
【化１】
0006623121.tif 000002
【００１６】
光硬化性樹脂組成物に光が照射されると、α−ヒドロキシアルキルフェノン系光ラジカル開始剤が優先的に光を吸収し、カルボニル基と水酸基の炭素-炭素結合が開裂を起こし（α開裂）、ラジカルを生じる。生じたラジカル（Ａ）の一部は、光酸発生剤に電子を移動し、ラジカル（Ａ）は、カチオン（Ｂ）となる。カチオン（Ｂ）は、より安定構造である非イオン性の構造（Ｃ）に転位する。その際、プロトン（Ｈ＋）が生じる。
プロトンの発生には、光照射からタイムラグが有る。また、プロトンはラジカルに比べて安定であり、プロトンは系内を拡散可能である。そのため、光硬化性樹脂組成物は光照射後においても硬化が継続し、かつ光が直接届かない領域における硬化を可能にする。なお、光照射後の硬化は、カチオン硬化が支配的であると考えられる。
なお、ベンジルメチルケタール系光ラジカル開始剤は、カルボニル基に隣接するα炭素が水酸基を有しないが、カルボニル基に隣接した結合がα開裂する点で共通している。そのため、ベンジルメチルケタール系光ラジカル開始剤を用いた場合には、α開裂する点は同じであるが、光酸発生剤へ電子が移動した後は、上記スキーム１とは異なるメカニズムによりプロトンを生成するものと考えられる。
【００１７】
＜ラジカル重合性基含有化合物＞
前記ラジカル重合性基含有化合物（ラジカル重合成分）としては、ラジカル重合性基を有する化合物であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記ラジカル重合性基としては、例えば、（メタ）アクリロイルオキシ基が挙げられる。
ここで、（メタ）アクリロイルオキシ基とは、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を意味する。
【００１８】
前記ラジカル重合性基含有化合物が有するラジカル重合性基は、１つであってもよく、２つ以上であってもよい。
【００１９】
前記ラジカル重合性基含有化合物としては、例えば、（メタ）アクリル酸に水酸基を有する化合物を反応させることにより得られるエステル化合物、（メタ）アクリル酸とエポキシ化合物とを反応させることにより得られるエポキシ（メタ）アクリレート、イソシアネートに水酸基を有する（メタ）アクリル酸誘導体を反応させることにより得られるウレタン（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
ここで、（メタ）アクリルとは、アクリル又はメタクリルを意味し、（メタ）アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートを意味する。
【００２０】
１つのラジカル重合性基を有する前記ラジカル重合性基含有化合物としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、イミド（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、イソミリスチル（メタ）アクリレート、２−ブトキシエチル（メタ）アクリレート、２−フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ビシクロペンテニル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイロキシエチルコハク酸、２−（メタ）アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、２−（メタ）アクリロイロキシエチル２−ヒドロキシプロピルフタレート、２−（メタ）アクリロイロキシエチルホスフェートなどが挙げられる。
【００２１】
２つのラジカル重合性基を有する前記ラジカル重合性基含有化合物としては、例えば、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド付加ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド付加ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド付加ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、ジメチロールジシクロペンタジエニルジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（メタ）アクリロイロキシプロピル（メタ）アクリレート、カーボネートジオールジ（メタ）アクリレート、ポリエーテルジオールジ（メタ）アクリレート、ポリエステルジオールジ（メタ）アクリレート、ポリカプロラクトンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリブタジエンジオールジ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
【００２２】
３つ以上のラジカル重合性基を有する前記ラジカル重合性基含有化合物としては、例えば、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド付加トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド付加トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド付加イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド付加グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリス（メタ）アクリロイルオキシエチルフォスフェートなどが挙げられる。
【００２３】
前記ラジカル重合性基含有化合物は、所謂オリゴマーであってもよい。
前記オリゴマーとしては、例えば、（メタ）アクリレートオリゴマーが挙げられる。
前記（メタ）アクリレートオリゴマーとしては、例えば、ポリウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー、ポリイソプレン（メタ）アクリレートオリゴマー、ポリブタジエン（メタ）アクリレートオリゴマー、ポリエーテル（メタ）アクリレートオリゴマーなどが挙げられる。更に、以下のアクリル重合体にラジカル重合性基を付与させたものであってもよい。
アクリル重合体：ブチルアクリレート、２−ヘキシルアクリレート、及びアクリル酸の共重合体や、シクロヘキシルアクリレート、メタクリル酸の共重合体
【００２４】
前記ポリウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーとは、主鎖にポリウレタン骨格を有するポリウレタン系（メタ）アクリレートオリゴマーである。具体例として、日本合成化学工業株式会社製のＵＶ−２０００Ｂ、ＵＶ−２７５０Ｂ、ＵＶ−３０００Ｂ、ＵＶ−３０１０Ｂ、ＵＶ−３２００Ｂ、ＵＶ−３３００Ｂ、ＵＶ−３７００Ｂ、ＵＶ−６６４０Ｂ、ＵＶ−８６３０Ｂ、ＵＶ−７０００Ｂ、ＵＶ−７６１０Ｂ、ＵＶ−１７００Ｂ、ＵＶ−７６３０Ｂ，ＵＶ−６３００Ｂ、ＵＶ−６６４０Ｂ、ＵＶ−７５５０Ｂ、ＵＶ−７６００Ｂ、ＵＶ−７６０５Ｂ、ＵＶ−７６１０Ｂ、ＵＶ−７６３０Ｂ、ＵＶ−７６４０Ｂ、ＵＶ−７６５０Ｂ、ＵＴ−５４４９、ＵＴ−５４５４などが挙げられる。
【００２５】
前記ポリイソプレン（メタ）アクリレートオリゴマーとは、主鎖にポリイソプレン骨格を有するポリイソプレン系（メタ）アクリレートオリゴマーである。具体例として、ポリイソプレン重合体の無水マレイン酸付加物と２−ヒドロキシエチルメタクリレートとのエステル化物〔ＵＣ１０２（ポリスチレン換算分子量１７０００）、（株）クラレ；ＵＣ２０３（ポリスチレン換算分子量３５０００）、（株）クラレ〕などが挙げられる。
【００２６】
前記ポリブタジエン（メタ）アクリレートオリゴマーとは、主鎖にポリブタジエン骨格又は水素化ポリブタジエン骨格を有するポリブタジエン系（メタ）アクリレートオリゴマーである。具体例として、ポリブタジエン重合体と２−ヒドロキシエチルメタクリレートとのエステル化物〔ＥＭＡ−３０００（分子量３７００）、日本曹達（株）〕などが挙げられる。
【００２７】
前記ポリエーテル（メタ）アクリレートオリゴマーとは、主鎖にポリエチレングリコールやポリプロピレングリコールなどのポリエーテル骨格を有するポリエーテル系（メタ）アクリレートオリゴマーである。具体例として、末端アクリル変性ポリエーテル〔ＵＮ−６２０２（分子量６５００）、根上工業（株）；ＥＢＥＣＲＹＬ２３０（分子量５０００）、ダイセル・オルネクス(株)〕などが挙げられる。
【００２８】
前記オリゴマーの重量平均分子量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１，０００〜１００，０００が好ましく、２，０００〜８０，０００がより好ましく、５，０００〜５０，０００が特に好ましい。前記重量平均分子量は、例えば、ＧＰＣ（ゲル浸透クロマトグラフィー）により測定される。
【００２９】
前記光硬化性樹脂組成物における前記ラジカル重合性基含有化合物の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、２０質量％〜８０質量％が好ましく、３０質量％〜７０質量％がより好ましく、４０質量％〜６０質量％が特に好ましい。なお、前記光硬化性樹脂組成物が揮発分（例えば、有機溶剤）を含有する場合、本明細書における含有量は、前記光硬化性樹脂組成物の不揮発分に対する含有量である。
本明細書において「〜」を用いて示された数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。即ち、２０質量％〜８０質量％は、２０質量％以上８０質量％以下を意味する。
【００３０】
前記ラジカル重合性基含有化合物は、前記オリゴマーと、前記オリゴマーよりも低分子量のモノマーとを併用していてもよい。前記モノマーの分子量としては、例えば、１，０００未満が好ましく、５００以下がより好ましい。
【００３１】
前記ラジカル重合性基含有化合物が、前記オリゴマーと、前記モノマーとを含有する場合、前記光硬化性樹脂組成物における前記オリゴマーの含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、２０質量％〜７０質量％が好ましく、３０質量％〜６０質量％がより好ましい。
前記ラジカル重合性基含有化合物が、前記オリゴマーと、前記モノマーとを含有する場合、前記光硬化性樹脂組成物における前記モノマーの含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１質量％〜２０質量％が好ましく、３質量％〜１５質量％がより好ましい。
【００３２】
＜カチオン重合性基含有化合物＞
前記カチオン重合性基含有化合物（カチオン重合成分）としては、ブレンステッド酸由来又はルイス酸の作用により生成したプロトン又は炭素カチオンと反応する官能基（カチオン重合性基）を有していれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
【００３３】
前記カチオン重合性基としては、例えば、アルコキシシリル基、エポキシ基、ビニルエーテル基、オキセタニル基などが挙げられる。これらの中でも、アルコキシシリル基、及びエポキシ基が好ましい。
【００３４】
前記アルコキシシリル基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、下記一般式（１）で表される基が好ましい。
【化２】
0006623121.tif 000003
ただし、一般式（１）中、Ｒ１は、炭素数１〜３のアルキル基、及び炭素数１〜３のアルコキシ基のいずれかを表す。Ｒ２、及びＲ３は、それぞれ独立して、炭素数１〜３のアルキル基を表す。
【００３５】
前記アルコキシシリル基としては、カチオン重合性に優れる点で、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基、ジメトキシメチルシリル基、ジエトキシメチルシリル基が好ましい。
【００３６】
前記エポキシ基は、脂環式エポキシ基であってもよいし、非脂環式エポキシ基であってもよい。前記エポキシ基としては、例えば、下記一般式（２）、下記一般式（３）で表される基などが挙げられる。
【化３】
0006623121.tif 000004
ただし、一般式（２）中、Ｒ４は、水素原子、及びメチル基のいずれかを表す。
【００３７】
前記カチオン重合性基含有化合物は、前記光硬化性樹脂組成物中の原材料の相溶性を良好にし、かつ前記光硬化性樹脂組成物の硬化物の相分離を防止できる点で、更にラジカル重合性基を有することが好ましい。
なお、本発明において、ラジカル重合性基を有する前記カチオン重合性基含有化合物は、前記ラジカル重合性基含有化合物に属するのではなく、前記カチオン重合性基含有化合物に属するものとする。
【００３８】
前記ラジカル重合性基を有する前記カチオン重合性基含有化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、下記一般式（２）で表される化合物などが挙げられる。
【化４】
0006623121.tif 000005
ただし、一般式（４）中、Ｒは、水素原子及びメチル基のいずれかを表し、Ｘは、カチオン重合性基を表し、Ｙは、２価の連結基を表す。
【００３９】
前記Ｘとしては、例えば、前記一般式（１）で表される基、前記一般式（２）で表される基、前記一般式（３）で表される基などが挙げられる。
【００４０】
前記Ｙとしては、例えば、アルキレン基、アルキレンオキシアルキレン基などが挙げられる。前記アルキレン基としては、例えば、Ｃ１〜６アルキレン基などが挙げられる。前記アルキレンオキシアルキレン基としては、例えば、Ｃ１〜６アルキレンオキシＣ１〜６アルキレン基などが挙げられる。ここで、Ｃ１〜６は、炭素数が１〜６を表す。
【００４１】
前記光硬化性樹脂組成物における前記カチオン重合性含有化合物の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．５質量％〜３０質量％が好ましく、１質量％〜２０質量％がより好ましく、２質量％〜１５質量％が特に好ましい。
【００４２】
＜光ラジカル開始剤＞ 
前記光ラジカル開始剤は、α−ヒドロキシアルキルフェノン系光ラジカル開始剤、及びベンジルメチルケタール系光ラジカル開始剤の少なくともいずれかである。
【００４３】
前記α−ヒドロキシアルキルフェノン系光ラジカル開始剤としては、例えば、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−１−オン、オリゴ［２−ヒドロキシ−２−メチル−［１−（メチルビニル）フェニル］プロパノン］などが挙げられる。
【００４４】
前記α−ヒドロキシアルキルフェノン系光ラジカル開始剤としては、適宜合成したものを使用してもよいし、市販品を使用してもよい。前記市販品としては、イルガキュア１８４（１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ＢＡＳＦ社製）、イルガキュア１１７３（２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、ＢＡＳＦ社製）、イルガキュア２９５９（１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、ＢＡＳＦ社製）、イルガキュア１２７（２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−１−オン、ＢＡＳＦ社製）、Ｅｓａｃｕｒｅｏｎｅ（オリゴ［２−ヒドロキシ−２−メチル−［１−（メチルビニル）フェニル］プロパノン］、Ｌａｍｂｅｒｔｉ社製）などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００４５】
前記ベンジルメチルケタール系光ラジカル開始剤としては、例えば、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オンなどが挙げられる。
前記ベンジルメチルケタール系光ラジカル開始剤としては、適宜合成したものを使用してもよいし、市販品を使用してもよい。前記市販品としては、例えば、イルガキュア６５１（２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。
【００４６】
前記光硬化性樹脂組成物における前記光ラジカル開始剤の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．１質量％以上が好ましく、０．１質量％〜２．０質量％がより好ましく、０．２質量％〜１．０質量％が特に好ましい。
【００４７】
＜光酸発生剤＞
前記光酸発生剤としては、光を吸収して酸を発生する化合物であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、オニウム塩が好ましい。
【００４８】
前記オニウム塩としては、例えば、ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、安定性の点から、ヨードニウム塩、及びスルホニウム塩が好ましい。
【００４９】
前記ジアゾニウム塩としては、例えば、ベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロアンチモネート、ベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート、ベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロボレートなどが挙げられる。
【００５０】
前記ヨードニウム塩としては、例えば、ジフェニルヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジ（４−ノニルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ジ（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ジ（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリルクミルヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、（４−メチルフェニル）［４−（２−メチルプロピル）フェニル］ヨードニウムヘキサフロオロホスフェートなどが挙げられる。
【００５１】
前記スルホニウム塩としては、例えば、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジフェニル［４−（フェニルチオ）フェニル］スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、４，４’−ビス〔ジフェニルスルホニオ〕ジフェニルスルフィドビスヘキサフルオロホスフェート、４，４’−ビス〔ジ（β−ヒドロキシエトキシ）フェニルスルホニオ〕ジフェニルスルフィドビスヘキサフルオロアンチモネート、４，４’−ビス〔ジ（β−ヒドロキシエトキシ）フェニルスルホニオ〕ジフェニルスルフィドビスヘキサフルオロホスフェート、７−〔ジ（ｐ−トルイル）スルホニオ〕−２−イソプロピルチオキサントンヘキサフルオロアンチモネート、７−〔ジ（ｐ−トルイル）スルホニオ〕−２−イソプロピルチオキサントンテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、４−フェニルカルボニル−４’−ジフェニルスルホニオ−ジフェニルスルフィドヘキサフルオロホスフェート、４−（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルカルボニル）−４’−ジフェニルスルホニオ−ジフェニルスルフィドヘキサフルオロアンチモネート、４−（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルカルボニル）−４’−ジ（ｐ−トルイル）スルホニオ−ジフェニルスルフィドテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジフェニル［４−（フェニルチオ）フェニル］スルホニウムのリン酸塩などが挙げられる。
【００５２】
前記光酸発生剤としては、適宜合成したものを使用してもよいし、市販品を使用してもよい。前記市販品としては、例えば、ＣＰＩ−１００Ｐ、１０１Ａ、２００Ｋ、２１０Ｓ（トリアリールスルホニウム塩、サンアプロ株式会社製）、カヤラッド（登録商標）ＰＣＩ−２２０、ＰＣＩ−６２０（日本化薬株式会社製）、ＵＶＩ−６９９０、ＵＶＩ−６９９２（ユニオンカーバイド社製）、アデカオプトマーＳＰ−１５０、ＳＰ−１７０（株式会社ＡＤＥＫＡ製）、ＣＩ−５１０２（日本曹達株式会社製）、ＣＩＴ−１３７０、１６８２、（日本曹達株式会社製）、ＣＩＰ−１８６６Ｓ、２０４８Ｓ、２０６４Ｓ、（日本曹達株式会社製）、ＤＰＩ−１０１、１０２、１０３、１０５（みどり化学株式会社製）、ＭＰＩ−１０３、１０５（みどり化学株式会社製）、ＢＢＩ−１０１、１０２、１０３、１０５、１０９、２０１（みどり化学株式会社製）、ＴＰＳ−１０１、１０２、１０３、１０５（みどり化学株式会社製）、ＭＤＳ−１０３、１０５（みどり化学株式会社製）、ＤＴＳ−１０２、１０３、２０００（みどり化学株式会社製）、ＰＩ−２０７４（ローディアジャパン株式会社製）、ＷＰＩ−１１３、１１６（和光純薬工業株式会社製）、イルガキュア２５０（ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。
【００５３】
前記光硬化性樹脂組成物における前記光酸発生剤の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．０１質量％以上が好ましく、０．０１質量％〜２．０質量％がより好ましく、０．０１質量％〜１．０質量％が特に好ましい。
【００５４】
前記光ラジカル開始剤と、前記光酸発生剤との質量比率（光ラジカル開始剤／光酸発生剤）は、０．５〜３０であり、１．０〜２０が好ましい。前記質量比率が、０．５未満であると、ブリードを生じ、３０を超えても、ブリードを生じる。
【００５５】
前記光ラジカル開始剤の含有量と、前記光酸発生剤の含有量との和（光ラジカル開始剤＋光酸発生剤）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記光ラジカル開始剤及び前記光酸発生剤の含有量が多すぎると、硬化物の変色が生じる恐れがあることから、４．０質量％以下が好ましく、２．５質量％以下がより好ましく、１．５質量％以下が特に好ましい。
【００５６】
＜その他の成分＞
前記その他の成分としては、本発明の効果を阻害しない限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、その他の光ラジカル開始剤、可塑剤、粘着付与剤、増感剤などが挙げられる。
【００５７】
＜＜その他の光ラジカル開始剤＞＞
前記その他の光ラジカル開始剤としては、例えば、アシルホスフィンオキサイド系光ラジカル重合開始剤、オキシムエステル系光ラジカル重合開始剤などが挙げられる。
【００５８】
前記アシルホスフィンオキサイド系光ラジカル重合開始剤としては、例えば、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキサイド（商品名ルシリンＴＰＯ、ルシリンはビーエーエスエフ社の登録商標）、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド（商品名イルガキュア８１９）などが挙げられる。
【００５９】
前記オキシムエステル系光ラジカル重合開始剤としては、例えば、（２Ｅ）−２−（ベンゾイルオキシイミノ）−１−［４−（フェニルチオ）フェニル］オクタン−１−オン（商品名イルガキュアＯＸＥ−０１）などが挙げられる。
【００６０】
前記光硬化性樹脂組成物における前記その他の光ラジカル開始剤の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．１質量％以上が好ましく、０．１質量％〜２．０質量％がより好ましく、０．２質量％〜１．０質量％が特に好ましい。
【００６１】
＜＜可塑剤＞＞
前記可塑剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、可塑剤成分としては、ラジカル重合性基、及びカチオン重合性基を分子内に持たず、紫外線の照射を受けてラジカル重合及びカチオン重合しない公知の可塑剤を使用することができる。例えば、フタル酸エステル系可塑剤、リン酸エステル系可塑剤、アジピン酸エステル系可塑剤、トリメリット酸エステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤、エポキシ系可塑剤、セバシン酸エステル系可塑剤、アゼライン酸エステル系可塑剤、クエン酸エステル系可塑剤、グリコール酸系可塑剤、リシノール酸系可塑剤、マレイン酸エステル系可塑剤、フマル酸エステル系可塑剤、ピロメリット酸エステル系可塑剤、イタコン酸エステル系可塑剤、及びシクロヘキサンジカルボキシレート系可塑剤などが挙げられる。
前記可塑剤は、硬化後の硬化物に柔軟性を与え、また硬化収縮率を低減させるものである。
【００６２】
前記光硬化性樹脂組成物における前記可塑剤の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１０質量％〜５０質量％が好ましく、２０質量％〜４０質量％がより好ましい。
【００６３】
＜＜粘着付与剤＞＞
前記粘着付与剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、テルペン系樹脂（例えば、テルペン樹脂、テルペンフェノール樹脂、水素添加テルペン樹脂など）、ロジン樹脂（例えば、天然ロジン、重合ロジン、ロジンエステル、水素添加ロジンなど）、石油樹脂（例えば、ポリブタジエン、ポリイソプレン等）などが挙げられる。
また、前記粘着付与剤は、光ラジカル重合性（メタ）アクリレートを予めポリマー化した材料であってもよい。そのようなポリマー化した材料としては、ブチルアクリレート、２−ヘキシルアクリレート、及びアクリル酸の共重合体や、シクロヘキシルアクリレート、及びメタクリル酸の共重合体などが挙げられる。
前記粘着付与剤は、硬化物にタック性を付与し、接着強度を高める。
【００６４】
前記光硬化性樹脂組成物における前記粘着付与剤の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１０質量％〜５０質量％が好ましく、２０質量％〜４０質量％がより好ましい。
【００６５】
＜＜増感剤＞＞
前記増感剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記光ラジカル開始剤を増感させる増感剤であってもよいし、前記光酸発生剤を増感させる増感剤であってもよい。
【００６６】
前記増感剤としては、例えば、ベンゾフェノン系増感剤、アントラセン系増感剤、チオキサントン系増感剤、カルバゾール系増感剤などが挙げられる。
【００６７】
（画像表示装置）
本発明の画像表示装置は、本発明の前記光硬化性樹脂組成物の硬化物を少なくとも有し、好ましくは画像表示部材と、光透過性カバー部材とを有し、更に必要に応じて、その他の部材を有する。
【００６８】
前記画像表示部材と、前記光透過性カバー部材とは、前記光硬化性樹脂組成物の前記硬化物を介して接着されている。
【００６９】
＜画像表示部材＞
前記画像表示部材としては、例えば、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）パネル、有機ＥＬディスプレイ（ＯＬＥＤ）パネル、電界発光ディスプレイ（ＥＬＤ）パネル、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ）パネル、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）パネルなどが挙げられる。
【００７０】
＜光透過性カバー部材＞
前記光透過性カバー部材としては、前記画像表示部材に形成された画像が視認可能となるような光透過性があればよく、その材質としては、例えば、ガラス、アクリル樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネートなどが挙げられる。
前記光透過性カバー部材の形状としては、例えば、板状などが挙げられる。
前記光透過性カバー部材には、片面又は両面ハードコート処理、反射防止処理などを施すことができる。
前記光透過性カバー部材の平均厚み、弾性等の物性は、使用目的に応じて適宜決定することができる。
【００７１】
前記光透過性カバー部材は、周縁部に遮光層を有する。前記遮光層は、例えば、表示画像の輝度、コントラスト、意匠性等の向上のために設けられる。その場合、前記光透過性カバー部材において、前記遮光層を有する面は、前記画像表示部材を向いている。
前記遮光層は、例えば、前記光透過性カバー部材上に黒色インクを所定の領域に塗布し、乾燥させることにより作製することができる。
【００７２】
前記画像表示装置としては、例えば、テレビ、ノートパソコン、タブレットパソコン、カーナビゲーション、電卓、携帯電話、スマートフォン、電子手帳、ＰＤＡ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ  Ｄｉｇｉｔａｌ  Ａｓｓｉｓｔａｎｔ）などが挙げられる。
【００７３】
（画像表示装置の製造方法）
本発明の画像表示装置の製造方法は、塗布工程と、仮硬化工程と、貼合工程と、本硬化工程とを少なくとも含み、更に必要に応じて、その他の工程を含む。
【００７４】
＜塗布工程＞
前記塗布工程としては、周縁部に遮光層を有する光透過性カバー部材の前記遮光層を有する側の面に、本発明の前記光硬化性樹脂組成物を塗布し、塗布層を得る塗布工程であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記塗布工程に供される前記光硬化性樹脂組成物は、例えば、液状である。
【００７５】
前記光透過性カバー部材としては、例えば、本発明の前記画像表示装置の説明において例示した前記光透過性カバー部材などが挙げられる。
【００７６】
前記塗布工程において、前記光硬化性樹脂組成物は、前記遮光層上にも塗布されることが好ましい。この場合、前記遮光層の表面の全面に塗布されてもよいし、一部に塗布されてもよい。
【００７７】
前記塗布工程においては、前記遮光層と前記光透過性カバー部材の遮光層形成側表面とで形成される段差がキャンセルされるように、前記光硬化性樹脂組成物を塗布することが好ましい。
【００７８】
前記塗布層の平均厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記遮光層の平均厚みよりも厚いことが好ましい。
前記塗布層の平均厚みは、前記遮光層と前記光透過性カバー部材の遮光層形成側表面とで形成される段差がキャンセルされるようにするために、前記遮光層の平均厚みの２．５倍〜４０倍が好ましく、２．５倍〜１０倍がより好ましく、２．５倍〜４．０倍が特に好ましい。
【００７９】
前記塗布工程における塗布方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
なお、前記光硬化性樹脂組成物の塗布は、必要な厚みが得られるように複数回行ってもよい。
【００８０】
＜仮硬化工程＞
前記仮硬化工程としては、前記塗布層に、前記光透過性カバー部材側と反対側から光を照射し、前記塗布層を仮硬化させ、仮硬化層を得る工程であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
【００８１】
前記仮硬化工程により、例えば、光硬化性樹脂組成物を液状から流動しない状態にする。そうすることにより、取り扱い性が向上する。また、本硬化工程により得られる本硬化層の厚みの均一性が向上する。
【００８２】
前記仮硬化層としては、流動しない程度に硬化していればよく、硬化率（ゲル分率）としては、９０％以上が好ましく、９５％以上がより好ましい。
【００８３】
前記仮硬化工程において前記塗布層に照射する光としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、紫外線が好ましく、近紫外線がより好ましい。
照射時間としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記近紫外線を照射する装置としては、例えば、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、蛍光ケミカルランプ、蛍光青色ランプ、ＬＥＤランプなどが挙げられる。また、近紫外線の波長領域としては、３００ｎｍ以上５００ｎｍ以下であることが好ましい。
【００８４】
前記仮硬化工程において前記塗布層に照射される光の照射量は、例えば、前記本硬化工程において前記仮硬化層に照射される光の照射量よりも少ない。
【００８５】
＜貼合工程＞
前記貼合工程としては、前記仮硬化層と、画像表示部材とを貼り合わせる工程であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、公知の圧着装置を用いて、１０℃〜８０℃で加圧することにより行うことができる。
【００８６】
前記画像表示部材としては、例えば、本発明の前記画像表示部材の説明において例示した前記光透過性カバー部材などが挙げられる。
【００８７】
＜本硬化工程＞
前記本硬化工程としては、前記光透過性カバー部材側から前記仮硬化層に光を照射し、前記仮硬化層を本硬化させ、本硬化層を得る工程であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
【００８８】
前記本硬化工程において前記仮硬化層に照射する光としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、紫外線が好ましく、近紫外線がより好ましい。
照射時間としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記近紫外線を照射する装置としては、例えば、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、蛍光ケミカルランプ、蛍光青色ランプ、ＬＥＤランプなどが挙げられる。また、近紫外線の波長領域としては、３００ｎｍ以上５００ｎｍ以下であることが好ましい。
【００８９】
前記仮硬化工程において使用する光源と、前記本硬化工程において使用する光源とは同じであってもよいし、異なっていてもよい。
【００９０】
得られる前記本硬化層の光透過性としては、前記画像表示部材に形成された画像が視認可能となるような光透過性であればよい。
【００９１】
ここで、本発明の画像表示装置の製造方法の一例を、図を用いて説明する。
図１Ａ〜図１Ｅは、本発明の画像表示装置の製造方法の一例を説明するための断面模式図である。
まず、片面の周縁部に形成された遮光層１Ａを有する光透過性カバー部材１を用意する（図１Ａ）。
次に、光透過性カバー部材１の表面に、液状の光硬化性樹脂組成物を、遮光層１Ａと光透過性カバー部材１の遮光層形成側表面とで形成される段差がキャンセルされるように、遮光層１Ａの厚さより厚く塗布し、塗布層２Ａを形成する（図１Ｂ）。
次に、形成された塗布層２Ａに対し光源１００を用いて紫外線を照射して仮硬化させることにより仮硬化層２Ｂを形成する（図１Ｃ）。
次に、画像表示部材３に、光透過性カバー部材１を仮硬化層２Ｂ側から貼り合わせる（図１Ｄ）。
次に、画像表示部材３と光透過性カバー部材１との間に挟持されている仮硬化層２Ｂに対し光源２００を用いて紫外線を照射して本硬化させ、本硬化層２Ｃを形成する。
これにより、画像表示部材３と光透過性カバー部材１とを光透過性の本硬化層２Ｃを介して積層して画像表示装置を得る。
【実施例】
【００９２】
以下、本発明の実施例を説明するが、本発明は、これらの実施例に何ら限定されるものではない。
【００９３】
（実施例１〜２７、及び比較例１〜１０）
下記表１−１〜表１−７に示す組成、及び含有量の光硬化性樹脂組成物を調製した。具体的には、ラジカル重合性基含有化合物、カチオン重合性基含有化合物、光ラジカル開始剤、光酸発生剤、増感剤、及び可塑剤を混合した後、固形分が溶解するまで撹拌した。
なお、表１−１〜表１−７中の含有量の単位は、質量部である。
【００９４】
【表１−１】
0006623121.tif 000006
【００９５】
【表１−２】
0006623121.tif 000007
【００９６】
【表１−３】
0006623121.tif 000008
【００９７】
【表１−４】
0006623121.tif 000009
【００９８】
【表１−５】
0006623121.tif 000010
【００９９】
【表１−６】
0006623121.tif 000011
【０１００】
【表１−７】
0006623121.tif 000012
【０１０１】
表１−１〜表１−７中の各種材料は以下のとおりである。
＜＜ラジカル重合性基含有化合物＞＞
・ＵＶ−３７００Ｂ：日本合成化学株式会社
ウレタンアクリレート
・ＬＡ（ライトアクリレート）：共栄社化学株式会社
ラウリルアアクリレート
・４ＨＢＡ：日本化成株式会社
４−ヒドロキシブチルアクリレート
【０１０２】
＜＜カチオン重合性基含有化合物＞＞
・ＫＢＭ−５１０３：信越化学工業株式会社
３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン
【化５】
0006623121.tif 000013
【０１０３】
・ＫＢＭ−５０２：信越化学工業株式会社
３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン
【化６】
0006623121.tif 000014
【０１０４】
・ＫＢＭ−５０３：信越化学工業株式会社
３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン
【化７】
0006623121.tif 000015
【０１０５】
・ＫＢＥ−５０２：信越化学工業株式会社
３−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン
【化８】
0006623121.tif 000016
【０１０６】
・ＫＢＥ−５０３：信越化学工業株式会社
３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン
【化９】
0006623121.tif 000017
【０１０７】
・４ＨＢＡＧＥ：日本化成株式会社
４−ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル
【化１０】
0006623121.tif 000018
【０１０８】
・Ｍ−１００：ダイセル社
３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタアクリレート
【化１１】
0006623121.tif 000019
【０１０９】
＜＜光ラジカル開始剤＞＞
・Ｉｒｇａｃｕｒｅ  １８４：ＢＡＳＦ社
１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン
【化１２】
0006623121.tif 000020
【０１１０】
・Ｉｒｇａｃｕｒｅ  １１７３：ＢＡＳＦ社
２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン
【化１３】
0006623121.tif 000021
【０１１１】
・Ｉｒｇａｃｕｒｅ  ６５１：ＢＡＳＦ社
２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン
【化１４】
0006623121.tif 000022
【０１１２】
・Ｉｒｇａｃｕｒｅ  ２９５９：ＢＡＳＦ社
１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン
【化１５】
0006623121.tif 000023
【０１１３】
・Ｉｒｇａｃｕｒｅ  １２７：ＢＡＳＦ社
２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−１−オン
【化１６】
0006623121.tif 000024
【０１１４】
・ｅｓａｃｕｒｅｏｎｅ：Ｌａｍｂｅｒｔｉ社
オリゴ［２−ヒドロキシ−２−メチル−［１−（メチルビニル）フェニル］プロパノン
【化１７】
0006623121.tif 000025
【０１１５】
・Ｓｐｅｅｄ  Ｃｕｒｅ  ＴＰＯ：Ｌａｍｂｅｒｔｉ社
２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキサイド
【化１８】
0006623121.tif 000026
【０１１６】
・ＯＸＥ−０１：ＢＡＳＦ社
１．２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］
【化１９】
0006623121.tif 000027
【０１１７】
・ＤＥＴＸ−Ｓ：日本化薬株式会社
２，４−ジエチルチオキサントン
【化２０】
0006623121.tif 000028
【０１１８】
・ベンゾフェノン：東京化成工業株式会社
【化２１】
0006623121.tif 000029
【０１１９】
＜＜光酸発生剤＞＞
・ＰＩ−２０７４：ローディアジャパン株式会社
【化２２】
0006623121.tif 000030
【０１２０】
・ＢＢＩ−１０５：みどり化学株式会社
【化２３】
0006623121.tif 000031
【０１２１】
・ＢＢＩ−１０９：みどり化学株式会社
【化２４】
0006623121.tif 000032
【０１２２】
・ＢＢＩ−２０１：みどり化学株式会社
【化２５】
0006623121.tif 000033
【０１２３】
・ＤＴＳ−２０００：みどり化学株式会社
【化２６】
0006623121.tif 000034
【０１２４】
＜＜増感剤＞＞
・ベンゾフェノン
・ｅｓａｃｕｒｅＴＺＴ：Ｌａｍｂｅｒｔｉ社
４−メチルベンゾフェノンと２，４，６−トリメチルベンゾフェノンとの混合物
【０１２５】
＜＜可塑剤＞
・Ｈｅｘａｍｏｌｌ  ＤＩＮＣＨ：ＢＡＳＦ社
ジイソノニルシクロヘキサン−１，２−ジカルボキシレート
【０１２６】
（評価）
光硬化性樹脂組成物を以下の評価に供した。
【０１２７】
＜相溶性＞
光硬化性樹脂組成物に白濁があるかどうかについて目視で観察し、下記評価基準で評価した。結果を、表２−１〜表２−７に示す。
〔評価基準〕
○：白濁がなかった。
×：白濁があった。
【０１２８】
＜後硬化＞
得られた光硬化性樹脂組成物についてＵＶレオメーター（ＭＡＲＳ、ＨＡＫＫＥ社製）を用いて、下記測定条件、及び評価基準により後硬化の有無を評価した。結果を、表２−１〜表２−７に示す。
−測定条件−
光源：ＬＥＤ  ３６５ｎｍ
波長３６５ｎｍにおけるＵＶ照度：２００ｍＷ／ｃｍ２
照射時間：６０秒間
温度：２５℃
〔評価基準〕
○：照射終了時から３６０秒間経過後のＧ’の値／照射終了直後のＧ’の値が、１．１０超
×：照射終了時から３６０秒間経過後のＧ’の値／照射終了直後のＧ’の値が、１．１０以下
なお、Ｇ’は、貯蔵弾性率を意味する。
【０１２９】
【表２−１】
0006623121.tif 000035
【０１３０】
【表２−２】
0006623121.tif 000036
【０１３１】
【表２−３】
0006623121.tif 000037
【０１３２】
【表２−４】
0006623121.tif 000038
【０１３３】
【表２−５】
0006623121.tif 000039
【０１３４】
【表２−６】
0006623121.tif 000040
【０１３５】
【表２−７】
0006623121.tif 000041
【０１３６】
増感剤を含有する光硬化性樹脂組成物（実施例１８、及び実施例１９）については、照射する波長を３６５ｎｍからより長波長側の３８５ｎｍに変えた場合でも、照射する波長が３６５ｎｍの場合と同様に後硬化することが確認できた。
【０１３７】
＜ブリード試験＞
−印刷及び露光−
下記表３に示すいずれかの基板、及び光源を用いて印刷及び露光を行い、模擬パネルを作製した。作製手順を図２Ａ〜図２Ｅを用いて説明する。
外周から１ｃｍの地点を中心に幅３ｍｍ、厚み２０μｍの遮光部１１Ａを有する５ｃｍ四方の基板１１を用いた（図２Ａ）。
基板１１の中心から４ｃｍ四方に、光硬化性樹脂組成物を平均厚みが１００μｍになるように印刷し、塗布層１２Ａを得た（図２Ｂ）。
光硬化性樹脂組成物を印刷した面側から、光源１００を用いて１回目の露光を行い、仮硬化層１２Ｂ得た（図２Ｃ）。
次に、５ｃｍ四方の偏光板１３（住友化学社製）を仮硬化層１２Ｂに貼りあわせ（図２Ｄ）、基板１側から、光源２００を用いて２回目の露光を行い、本硬化層１２Ｃを得た（図２Ｅ）。
以上により、模擬パネルを作製した。
【０１３８】
【表３】
0006623121.tif 000042
【０１３９】
−評価方法−
作製した模擬パネルを、９５℃０％ＲＨ下において１００時間保管（保管条件Ａ）し、又は６０℃９０％ＲＨ下において１００時間保管（保管条件Ｂ）し、光硬化性樹脂組成物の硬化物のブリードの有無を目視により観察し、下記評価基準で評価した。結果を表４−１〜表４−７に示す。
〔評価基準〕
○：ブリードがなかった。
×：ブリードがあった。
【０１４０】
＜黄変＞
作製した前記模擬パネルに対し、紫外線フェードメーター（Ｕ４８、スガ試験機株式会社）を用いて１００時間光照射を行い、光照射後の黄変の有無を目視により観察し、下記評価基準で評価した。結果を表４−１〜表４−７に示す。
〔評価基準〕
○：黄変がなかった。
×：黄変があった。
【０１４１】
【表４−１】
0006623121.tif 000043
【０１４２】
【表４−２】
0006623121.tif 000044
【０１４３】
【表４−３】
0006623121.tif 000045
【０１４４】
【表４−４】
0006623121.tif 000046
【０１４５】
【表４−５】
0006623121.tif 000047
【０１４６】
【表４−６】
0006623121.tif 000048
【０１４７】
【表４−７】
0006623121.tif 000049
【０１４８】
プロセスｃ、ｄについては、実施例１〜２７の光硬化性樹脂組成物を代表して、実施例１９及び２１の光硬化性樹脂組成物について、行った。そのところ、保管条件Ａ及び保管条件Ｂのいずれにおいてもブリードは見られなかった。
【０１４９】
本発明の光硬化性樹脂組成物は、光照射後も硬化が継続し、かつ光が直接届かない領域においても硬化が進行するため、光が直接届かない領域の硬化不足によるブリードを防ぐことができた。また、硬化物に対して、長時間紫外線を照射しても黄変が生じなかった。
【０１５０】
一方、以下の比較例１〜１０では、後硬化が生じておらす、かつブリードが生じた。
比較例１：光酸発生剤を含有するものの、光ラジカル開始剤とカチオン重合成分とを含有しない。
比較例２：光酸発生剤とカチオン重合成分とを含有するものの、光ラジカル開始剤を含有しない。
比較例３：光酸発生剤とカチオン重合成分とを含有するものの、光ラジカル開始剤がα−ヒドロキシアルキルフェノン系光ラジカル開始剤、又はベンジルメチルケタール系光ラジカル開始剤ではない。
比較例４：光酸発生剤を含有するものの、カチオン重合成分を含有しない。
比較例５：光酸発生剤とカチオン重合成分とを含有しない。
比較例６：光酸発生剤と、カチオン重合成分とを含有するものの、質量比率（Ａ／Ｂ）が、３０を超える。
比較例７：光酸発生剤と、カチオン重合成分とを含有するものの、質量比率（Ａ／Ｂ）が、０．５未満である。
比較例８〜１０：光酸発生剤とカチオン重合成分とを含有するものの、光ラジカル開始剤がα−ヒドロキシアルキルフェノン系光ラジカル開始剤、又はベンジルメチルケタール系光ラジカル開始剤ではない。
【産業上の利用可能性】
【０１５１】
本発明の光硬化性樹脂組成物は、光が直接届かない領域の硬化性を良好にし、硬化物のブリードアウトを防止できるため、周縁部に遮光層を有する光透過性カバー部材と、画像表示部材との接着に良好に用いることができる。
【符号の説明】
【０１５２】
１      光透過性カバー部材
１Ａ    遮光層
２Ａ    塗布層
２Ｂ    仮硬化層
２Ｃ    本硬化層
３      画像表示部材
１１    基板
１１Ａ  遮光部
１２Ａ  塗布層
１２Ｂ  仮硬化層
１２Ｃ  本硬化層
１３    偏光板
１００  光源
２００  光源
【図１Ａ】
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【図１Ｂ】
0006623121.tif 000051
【図１Ｃ】
0006623121.tif 000052
【図１Ｄ】
0006623121.tif 000053
【図１Ｅ】
0006623121.tif 000054
【図２Ａ】
0006623121.tif 000055
【図２Ｂ】
0006623121.tif 000056
【図２Ｃ】
0006623121.tif 000057
【図２Ｄ】
0006623121.tif 000058
【図２Ｅ】
0006623121.tif 000059