(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１方向及び前記第１方向に交差する第２方向にそれぞれ並ぶ複数の透過領域を有する基板と、
前記基板に配置された前記第１方向にそれぞれ延びる複数の第１配線と、
前記基板に配置された前記第２方向にそれぞれ延びる複数の第２配線と、
前記基板に配置された複数の発光部と、
を有し、
前記複数の透過領域の各々は、前記複数の第１配線及び前記複数の第２配線に囲まれており、
前記複数の発光部の一つの少なくとも一部が、前記透過領域と隣接し、前記第１配線と重畳する領域に配置され、
前記複数の発光部の他の一つの少なくとも一部が、前記透過領域と隣接し、前記第２配線と重畳する領域に配置され、
前記複数の発光部は、発光色が青の青発光部を含み、
前記透過領域の各々は、前記第１配線を含む第１配線群及び前記第２配線を含む第２配線群と隣接し、
前記第１配線群と前記第２配線群のうち幅が広い方の配線群と、平面的に見て前記青発光部が重なっている、
ことを特徴とする表示装置。
【請求項２】
請求項１に記載された表示装置において、
それぞれの前記透過領域の、前記第１方向の両側及び前記第２方向の両側に、それぞれ、少なくとも１つの前記発光部が位置することを特徴とする表示装置。
【請求項３】
請求項１に記載された表示装置において、
それぞれの前記透過領域の、前記第１方向及び前記第２方向のうち一方の両側の各々には、１つの前記発光部が配置され、
それぞれの前記透過領域の、前記第１方向及び前記第２方向のうち他方の両側の各々に、２つの前記発光部が配置されることを特徴とする表示装置。
【請求項４】
請求項１に記載された表示装置において、
それぞれの前記発光部は、いずれかの前記透過領域の、前記第１方向の一方側から前記第２方向の一方側に連続に延びて、Ｌ字状に設けられていることを特徴とする表示装置。
【請求項５】
請求項１に記載された表示装置において、
それぞれの前記発光部は、前記第１方向及び前記第２方向に相互に隣り合う４つの前記透過領域のなかで、前記第１方向及び前記第２方向のうち一方の方向に隣り合う一対の前記透過領域の間から、前記第１方向及び前記第２方向のうち他方の方向に隣り合う二対の前記透過領域の間にそれぞれ連続的に延びて、Ｔ字状に設けられていることを特徴とする表示装置。
【請求項６】
請求項５に記載された表示装置において、
それぞれの前記発光部は、前記第１方向及び前記第２方向のうち前記他方の方向が、前記Ｔ字の上下の向きになるように配置され、
前記複数の発光部は、前記Ｔ字の上下の向きが同じになるように配列されていることを特徴とする表示装置。
【請求項７】
請求項５に記載された表示装置において、
それぞれの前記発光部は、前記第１方向及び前記第２方向の前記他方の方向が、前記Ｔ字の上下の向きになるように配置され、
前記第１方向及び前記第２方向のうち前記一方の方向に並ぶ前記発光部は、前記Ｔ字の上下の向きが交互に反対になるように配列されていることを特徴とする表示装置。
【請求項８】
請求項１に記載された表示装置において、
それぞれの前記発光部は、前記第１方向及び前記第２方向に相互に隣り合う４つの前記透過領域の中央に位置し、前記第１方向に隣り合う二対の前記透過領域の間にそれぞれ延びる第１部分と、前記第２方向に隣り合う二対の前記透過領域の間にそれぞれ延びる第２部分と、を連続的に有することを特徴とする表示装置。
【請求項９】
請求項８に記載された表示装置において、
それぞれの前記発光部は、第３部分をさらに有し、
前記第３部分は、前記第１部分から前記第１方向の両側に延びるとともに、前記第２部分から前記第２方向の両側に延びて、前記第１部分及び前記第２部分を接続することを特徴とする表示装置。
【請求項１０】
請求項１から９のいずれか１項に記載された表示装置において、
前記複数の発光部の下に前記複数の透過領域を避けるように設けられた層間膜と、
前記複数の透過領域に設けられた光透過性の平坦化膜と、
をさらに有することを特徴とする表示装置。
【請求項１１】
請求項１０に記載された表示装置において、
前記層間膜は、前記平坦化膜に対向する側面を有し、
それぞれの前記発光部は、前記側面に至るように設けられていることを特徴とする表示装置。
【請求項１２】
請求項１から１１のいずれか一項に記載された表示装置において、
前記複数の透過領域のそれぞれの上方に配置されたマイクロレンズをさらに有することを特徴とする表示装置。
【請求項１３】
請求項１２に記載された表示装置において、
前記複数の発光部及び前記複数の透過領域を覆う封止膜をさらに有し、
前記マイクロレンズは、前記封止膜の上に設けられることを特徴とする表示装置。
【請求項１４】
請求項１から１３のいずれか１項に記載された表示装置において、
前記複数の発光部は、それぞれの前記透過領域に対して、前記第１方向の隣でいずれかの前記第２配線と重なり、前記第２方向の隣でいずれかの前記第１配線と重なるように配列されていることを特徴とする表示装置。
【請求項１５】
請求項１４に記載された表示装置において、
前記複数の発光部は、発光色が緑の複数の緑発光部と、発光色が白の複数の白発光部と、発光色が青の複数の青発光部と、を含み、
前記複数の第１配線及び前記複数の第２配線のうち一方の配線群が、最も幅の広い配線群を含み、前記複数の緑発光部及び前記複数の白発光部と重なるように設けられていることを特徴とする表示装置。
【請求項１６】
請求項１５に記載された表示装置において、
前記複数の第１配線及び前記複数の第２配線のうち他方の配線群が、前記複数の青発光部と重なるように設けられていることを特徴とする表示装置。
【請求項１７】
第１方向及び前記第１方向に交差する第２方向にそれぞれ並ぶ複数の透過領域を有する基板と、
前記基板に配置された前記第１方向にそれぞれ延びる複数の第１配線と、
前記基板に配置された前記第２方向にそれぞれ延びる複数の第２配線と、
前記基板に配置された複数の発光部と、
を有し、
前記複数の透過領域の各々は、前記複数の第１配線及び前記複数の第２配線に囲まれており、
前記複数の発光部の一つの少なくとも一部が、前記透過領域と隣接し、前記第１配線と重畳する領域に配置され、
前記複数の発光部の他の一つの少なくとも一部が、前記透過領域と隣接し、前記第２配線と重畳する領域に配置され、
前記複数の発光部は、発光色が青の青発光部を含み、
前記透過領域の各々は、前記第１配線を含む第１配線群及び前記第２配線を含む第２配線群と隣接し、
前記第１配線群と前記第２配線群のうち幅が狭い方の配線群と、平面的に見て前記青発光部が重なっている、
ことを特徴とする表示装置。
【請求項１８】
請求項１７に記載された表示装置において、
それぞれの前記透過領域の、前記第１方向の両側及び前記第２方向の両側に、それぞれ、少なくとも１つの前記発光部が位置することを特徴とする表示装置。
【請求項１９】
請求項１７に記載された表示装置において、
それぞれの前記透過領域の、前記第１方向及び前記第２方向のうち一方の両側の各々には、１つの前記発光部が配置され、
それぞれの前記透過領域の、前記第１方向及び前記第２方向のうち他方の両側の各々に、２つの前記発光部が配置されることを特徴とする表示装置。
【請求項２０】
請求項１７に記載された表示装置において、
それぞれの前記発光部は、いずれかの前記透過領域の、前記第１方向の一方側から前記第２方向の一方側に連続に延びて、Ｌ字状に設けられていることを特徴とする表示装置。
【請求項２１】
請求項１７に記載された表示装置において、
それぞれの前記発光部は、前記第１方向及び前記第２方向に相互に隣り合う４つの前記透過領域のなかで、前記第１方向及び前記第２方向のうち一方の方向に隣り合う一対の前記透過領域の間から、前記第１方向及び前記第２方向のうち他方の方向に隣り合う二対の前記透過領域の間にそれぞれ連続的に延びて、Ｔ字状に設けられていることを特徴とする表示装置。
【請求項２２】
請求項２１に記載された表示装置において、
それぞれの前記発光部は、前記第１方向及び前記第２方向のうち前記他方の方向が、前記Ｔ字の上下の向きになるように配置され、
前記複数の発光部は、前記Ｔ字の上下の向きが同じになるように配列されていることを特徴とする表示装置。
【請求項２３】
請求項２１に記載された表示装置において、
それぞれの前記発光部は、前記第１方向及び前記第２方向の前記他方の方向が、前記Ｔ字の上下の向きになるように配置され、
前記第１方向及び前記第２方向のうち前記一方の方向に並ぶ前記発光部は、前記Ｔ字の上下の向きが交互に反対になるように配列されていることを特徴とする表示装置。
【請求項２４】
請求項１７に記載された表示装置において、
それぞれの前記発光部は、前記第１方向及び前記第２方向に相互に隣り合う４つの前記透過領域の中央に位置し、前記第１方向に隣り合う二対の前記透過領域の間にそれぞれ延びる第１部分と、前記第２方向に隣り合う二対の前記透過領域の間にそれぞれ延びる第２部分と、を連続的に有することを特徴とする表示装置。
【請求項２５】
請求項２４に記載された表示装置において、
それぞれの前記発光部は、第３部分をさらに有し、
前記第３部分は、前記第１部分から前記第１方向の両側に延びるとともに、前記第２部分から前記第２方向の両側に延びて、前記第１部分及び前記第２部分を接続することを特徴とする表示装置。
【請求項２６】
請求項１７から２５のいずれか１項に記載された表示装置において、
前記複数の発光部の下に前記複数の透過領域を避けるように設けられた層間膜と、
前記複数の透過領域に設けられた光透過性の平坦化膜と、
をさらに有することを特徴とする表示装置。
【請求項２７】
請求項２６に記載された表示装置において、
前記層間膜は、前記平坦化膜に対向する側面を有し、
それぞれの前記発光部は、前記側面に至るように設けられていることを特徴とする表示装置。
【請求項２８】
請求項１７から２７のいずれか一項に記載された表示装置において、
前記複数の透過領域のそれぞれの上方に配置されたマイクロレンズをさらに有することを特徴とする表示装置。
【請求項２９】
請求項２８に記載された表示装置において、
前記複数の発光部及び前記複数の透過領域を覆う封止膜をさらに有し、
前記マイクロレンズは、前記封止膜の上に設けられることを特徴とする表示装置。
【請求項３０】
請求項１７から２９のいずれか１項に記載された表示装置において、
前記複数の発光部は、それぞれの前記透過領域に対して、前記第１方向の隣でいずれかの前記第２配線と重なり、前記第２方向の隣でいずれかの前記第１配線と重なるように配列されていることを特徴とする表示装置。
【請求項３１】
請求項３０に記載された表示装置において、
前記複数の発光部は、発光色が緑の複数の緑発光部と、発光色が白の複数の白発光部と、発光色が青の複数の青発光部と、を含み、
前記複数の第１配線及び前記複数の第２配線のうち一方の配線群が、最も幅の広い配線群を含み、前記複数の緑発光部及び前記複数の白発光部と重なるように設けられていることを特徴とする表示装置。
【請求項３２】
請求項３１に記載された表示装置において、
前記複数の第１配線及び前記複数の第２配線のうち他方の配線群が、前記複数の青発光部と重なるように設けられていることを特徴とする表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
発光領域を含む画素と光透過性の領域とが隣接して配置され、画素からの発光で画像を表示すると共に外部からの光を透過するディスプレイ、いわゆる透明ディスプレイの存在が知られている。
【０００３】
特許文献１および特許文献２には、透過領域が、発光領域を含む２つの画素領域の間に設けられる有機発光表示装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１１−１４２２９０号公報
【特許文献２】特開２０１４−１０７２６８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
透明ディスプレイを平面的にみて、例えば発光領域が透過領域を一方向の両側からのみ挟む場合、視野角特性が悪化する現象や反射された外光に色が付くといった現象が生じやすくなる。
【０００６】
本発明は上記課題を鑑みてなされたものであって、その目的は、視野角特性が悪化する現象や外光が反射された光に色が付くといった現象の発生が抑えられる技術を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本出願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、以下の通りである。本発明にかかる表示装置は、第１方向及び前記第１方向に交差する第２方向にそれぞれ並ぶ複数の透過領域を有する基板と、前記基板に配置された前記第１方向にそれぞれ延びる複数の第１配線と、前記基板に配置された前記第２方向にそれぞれ延びる複数の第２配線と、前記基板に配置された複数の発光部と、を有し、前記複数の透過領域の各々は、前記複数の第１配線及び前記複数の第２配線に囲まれており、前記複数の発光部の一つの少なくとも一部が、前記透過領域と隣接し、前記第１配線と重畳する領域に配置され、前記複数の発光部の他の一つの少なくとも一部が、前記透過領域と隣接し、前記第２配線と重畳する領域に配置されている。
【０００８】
本発明にかかる他の表示装置は、第１方向に延びる複数の第１配線と、前記第１方向に交差する第２方向に延びる複数の第２配線と、前記複数の第１配線と前記複数の第２配線とに囲まれた透過領域と、互いに離間して配置され、且つ前記複数の第１配線と前記複数の第２配線とのいずれかと重なる第１発光部、第２発光部、第３発光部、及び第４発光部とを備え、前記透過領域は、前記第１と第２発光部と第３発光部と第４発光部とによって囲まれている。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、視野角特性が悪化する現象や反射された外光に色が付くといった現象の発生を抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】第１の実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置の等価回路の一例を示す回路図である。
【図２】第１の実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置における発光部と透過領域との配置の一例を示す図である。
【図３】図２に示す有機ＥＬ表示装置のアレイ基板の一例を示す平面図である。
【図４】図３に示すアレイ基板のIV−IV切断線における断面図である。
【図５】画素回路の等価回路を示す回路図である。
【図６】アレイ基板の他の一例を示す断面図である。
【図７】アレイ基板の他の一例を示す断面図である。
【図８】アレイ基板の他の一例を示す平面図である。
【図９】図８に示すアレイ基板上の画素回路のIX−IX切断線における断面図である。
【図１０】アレイ基板の他の一例を示す断面図である。
【図１１】アレイ基板の他の一例を示す断面図である。
【図１２】発光部と透過領域との配置の他の一例を示す図である。
【図１３】発光部と透過領域との配置の他の一例を示す図である。
【図１４】第２の実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置における発光部と透過領域との配置の一例を示す図である。
【図１５】図１４に示す有機ＥＬ表示装置のアレイ基板の一例を示す平面図である。
【図１６】図１５に示すアレイ基板のXVI−XVI切断線における断面図である。
【図１７】発光部と透過領域との配置の他の一例を示す図である。
【図１８】発光部と透過領域との配置の他の一例を示す図である。
【図１９】第３の実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置における発光部と透過領域との配置の一例を示す図である。
【図２０】図１９に示す有機ＥＬ表示装置のアレイ基板の一例を示す平面図である。
【図２１】発光部と透過領域との配置の他の一例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下では、本発明の実施形態について図面に基づいて説明する。出現する構成要素のうち同一機能を有するものには同じ符号を付し、その説明を省略する。以下では、本発明の実施形態として、表示装置の一種である有機ＥＬ表示装置に本発明を適用した場合の例について説明する。
【００１２】
［第１の実施形態］
本発明の第１の実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置は、アレイ基板ＳＢ（図４参照）と、アレイ基板ＳＢに接続されるフレキシブル回路基板と、ドライバ集積回路とを含む。アレイ基板ＳＢにはＲＧＢ等のそれぞれの色を発光する複数の発光素子ＬＥ（図５参照）が配置され、発光素子ＬＥのそれぞれの輝度が制御されることによりフルカラー表示が実現される。本実施形態では発光素子ＬＥはＯＬＥＤ（Organic Light Emitting Diode）であるが、他の種類の発光素子であってもよい。なお、白色ＯＬＥＤとカラーフィルタによりフルカラー表示が実現されてもよい。
【００１３】
図１は、第１の実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置の等価回路の一例を示す回路図である。図１に示す回路は、物理的にはアレイ基板ＳＢ（図４参照）上やドライバ集積回路内に形成されている。アレイ基板ＳＢ上には、複数の画素回路ＰＣ、複数のゲート線ＧＬ、複数のデータ線ＤＬ、複数の電源線ＰＬが配置されている。複数の画素回路ＰＣは、アレイ基板ＳＢの表示領域内にマトリクス状に配置されている。画素回路ＰＣはそれぞれ１つの単位画素に相当する。また、画像に含まれる１つのフルカラーの画素ＰＸ（図２参照）は、複数の色を発光する複数の単位画素により表現される。画素回路ＰＣの行につき１本のゲート線ＧＬが設けられており、ゲート線ＧＬのそれぞれは対応する行を構成する画素回路ＰＣに接続されている。また画素回路ＰＣの列につき１本のデータ線ＤＬが設けられており、データ線ＤＬのそれぞれは対応する列を構成する画素回路ＰＣに接続されている。また、複数のゲート線ＧＬの一端は駆動回路ＹＤＶに接続され、複数のデータ線ＤＬの一端は駆動回路ＸＤＶに接続されている。駆動回路ＹＤＶはゲート線ＧＬに走査信号を出力し、駆動回路ＸＤＶは、単位画素の表示階調に応じた映像信号の電位をデータ線ＤＬに供給する。映像信号は走査信号により選択された画素回路ＰＣに入力される。画素回路ＰＣの詳細については後述する。
【００１４】
図２は、第１の実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置における発光部ＩＢ，ＩＧ，ＩＲ，ＩＷと透過領域ＴＰとの配置の一例を示す図である。アレイ基板ＳＢ上には図２の縦方向に延び、横方向に並ぶ複数の配線領域ＸＷと、図２の横方向に延び縦方向に並ぶ複数の配線領域ＹＷとが設けられている。配線領域ＸＷのそれぞれには図２の横方向に並ぶ１または複数のデータ線ＤＬと電源線ＰＬとが配置される。配線領域ＹＷのそれぞれには図２の縦方向に並ぶ１または複数のゲート線ＧＬが配置される。また、アレイ基板ＳＢ上かつ、配線領域ＸＷと、配線領域ＹＷとにより区切られた領域内には、アレイ基板ＳＢの表示領域に入射する外光を透過する透過領域ＴＰが設けられている。また、フルカラーを表現する画素ＰＸのそれぞれは、配線領域ＸＷと配線領域ＹＷとが交差する交差部を中心として、交差部の上下左右にある４つの発光部ＩＲ，ＩＧ，ＩＢ，ＩＷを有している。発光部ＩＢ，ＩＷは平面的にみて配線領域ＸＷと重なるように設けられ、発光部ＩＲ，ＩＧは平面的にみて配線領域ＹＷと重なるように設けられている。配線領域ＸＷと配線領域ＹＷとが交差する交差部は、上下方向および左右方向に互いに隣り合う４つの透過領域ＴＰからみて中央に位置している。
【００１５】
発光部ＩＢ，ＩＧ，ＩＲ，ＩＷはそれぞれ青色、緑色、赤色、白色に光る発光素子ＬＥ（図５参照）の発光領域である。発光部ＩＢ，ＩＧ，ＩＲ，ＩＷのそれぞれは単位画素に相当し、データ線ＤＬを介して駆動回路ＸＤＶから供給される映像信号の電位により、発光部ＩＢ，ＩＧ，ＩＲ，ＩＷのそれぞれの輝度が制御される。透過領域ＴＰの左右方向の両側には、それぞれ発光部ＩＲ，ＩＧが少なくとも隣り合い、透過領域の上下方向の両側には、それぞれ発光部ＩＢ，ＩＷが少なくとも隣り合う。図２の例では、青の発光部ＩＢと白の発光部ＩＷとが透過領域ＴＰを上下方向で挟み、赤の発光部ＩＲと緑の発光部ＩＧとが透過領域ＴＰを左右方向に挟む。
【００１６】
発光部ＩＢ，ＩＧ，ＩＲ，ＩＷと透過領域ＴＰとの関係についてさらに説明する。図３は、図２に示す有機ＥＬ表示装置のアレイ基板ＳＢの一例を示す平面図であり、図４は、図３に示すアレイ基板ＳＢのIV−IV切断線における断面図である。アレイ基板ＳＢの表示領域内には、図３の横方向に並び縦方向に延びる複数のデータ線ＤＬ１，ＤＬ２と複数の電源線ＰＬとが配置され、図３の縦方向に並び横方向に延びる複数のゲート線ＧＬが配置される。ここで、図２における配線領域ＸＷのそれぞれには、データ線ＤＬ１のうち１つとデータ線ＤＬ２のうち１つと、電源線ＰＬのうち１つとからなる１つの縦配線群が配置される。縦配線群では、データ線ＤＬ１、データ線ＤＬ２、電源線ＰＬが右から順に隣接するように並んでいる。また、図２における配線領域ＹＷのそれぞれには、ゲート線ＧＬ１のうち１つとゲート線ＧＬ２のうち１つとからなる１つの横配線群が配置される。横配線群では、ゲート線ＧＬ１のうち１つとゲート線ＧＬ２のうち１つとが下から順に隣接するように並ぶ。透過領域ＴＰは、縦配線群および横配線群により囲まれている。透過領域ＴＰの形状は、四角の角を丸めたような形状である。
【００１７】
上下方向について、１つの透過領域ＴＰの両側（上下）に隣接して２つの画素回路ＰＣ１が配置されている。また左右方向について、１つの透過領域ＴＰの両側（左右）に隣接して２つの画素回路ＰＣ２が配置される。ここで、ある透過領域ＴＰの下に隣接する画素回路ＰＣ１はその下の透過領域ＴＰにも隣接し、透過領域ＴＰの右に隣接する画素回路ＰＣ２はその右の透過領域ＴＰにも隣接する。したがって、１つの透過領域ＴＰの周囲に２つの画素回路ＰＣ１，２つの画素回路ＰＰＣ２が設けられている。
【００１８】
発光部ＩＢ，ＩＷを含む画素回路ＰＣ１の行と、発光部ＩＲ，ＩＧを含む画素回路ＰＣ２の行とはそれぞれゲート線ＧＬ１のいずれかとゲート線ＧＬ２のいずれかに対応している。また画素回路ＰＣ１の列と、画素回路ＰＣ２の列とはそれぞれデータ線ＤＬ１のいずれかとデータ線ＤＬ２のいずれかに対応している。画素回路ＰＣ１は対応するゲート線ＧＬ１および対応するデータ線ＤＬ１に接続されており、画素回路ＰＣ２は対応するゲート線ＧＬ２および対応するデータ線ＤＬ２に接続されている。
【００１９】
画素回路ＰＣ１および画素回路ＰＣ２は、それぞれ薄膜トランジスタＴＦＴ１，ＴＦＴ２、キャパシタＣＳ、発光素子ＬＥ（図５参照）を有する。発光素子ＬＥは画素電極ＰＥ、発光層ＯＬ、共通電極ＣＥを含む（図４参照）。なお、共通電極ＣＥは他の画素回路ＰＣ１，ＰＣ２に含まれる共通電極ＣＥと一体化している。平面的にみて、画素回路ＰＣ１は、ゲート線ＧＬ１，ＧＬ２と重なり、画素回路ＰＣ２はデータ線ＤＬ１，ＤＬ２と重なっている。さらに、画素回路ＰＣ１，ＰＣ２のそれぞれについて、平面的にみて、薄膜トランジスタＴＦＴ２やキャパシタＣＳは発光素子ＬＥに含まれる画素電極ＰＥやその画素電極ＰＥ上にある発光部ＩＲ，ＩＧ，ＩＢ，ＩＷのいずれかと重なっている。また、発光部ＩＲ，ＩＧ，ＩＢ，ＩＷのうち透過領域ＴＰの上下方向に隣接するものは横配線群に含まれるゲート線ＧＬ１，ＧＬ２と重なるよう配置され、透過領域ＴＰの左右方向に隣接するものは縦配線群に含まれるデータ線ＤＬ１，ＤＬ２と重なるよう配置されている。
【００２０】
図４に示すように、第１の実施形態にかかるアレイ基板ＳＢの上には、半導体層(図４では図示せず)と、第１絶縁層ＩＮ１と、第１の導電層(図４では図示せず)と、第２絶縁層ＩＮ２と、第２の導電層と、第３絶縁層ＩＮ３と、第３の導電層と、バンクＢＫが形成される有機絶縁層と、発光層ＯＬと、共通電極ＣＥの層と、封止膜ＳＦとが順に積層されている。半導体層には、キャパシタＣＳの１つの電極や、薄膜トランジスタＴＦＴ１，ＴＦＴ２のチャネルが形成されており、第１の導電層にはキャパシタＣＳのもう１つの電極や、ゲート線ＧＬ１，ＧＬ２、薄膜トランジスタＴＦＴ１，ＴＦＴ２のゲートが形成されている。第２の導電層には、電源線ＰＬ、データ線ＤＬ１，ＤＬ２、また画素回路ＰＣ１，ＰＣ２内の配線が形成されている。第３の導電層には、画素電極ＰＥが形成されている。アレイ基板ＳＢは例えばガラスなどの透明材料からなり、半導体層は例えばポリシリコンや酸化物半導体といった半導体材料からなる。第１から第３の導電層はパターニングされた金属の薄膜であり、共通電極ＣＥは例えばＩＴＯ、ＩＺＯといった透明導電膜である。第１から第３絶縁層ＩＮ１，ＩＮ２，ＩＮ３は、無機絶縁材料からなり、バンクＢＫや封止膜ＳＦは有機絶縁材料からなる。なお、半導体層とアレイ基板ＳＢとの間に、半導体膜の汚染を防ぐための下地膜が設けられてもよい。
【００２１】
バンクＢＫは、平面的にみて画素電極ＰＥのうち周縁部を覆い、かつ第３絶縁層ＩＮ３上の領域のうち、画素電極ＰＥの外縁から外側にある一定の幅の領域も覆っている。画素電極ＰＥと発光層ＯＬとは、画素電極ＰＥ上にバンクＢＫが形成されない領域（バンク開口）にて接しており、このバンク開口において共通電極ＣＥと画素電極ＰＥとの間に電流が流れる。したがって、このバンク開口が発光部ＩＢ，ＩＧ，ＩＲ，ＩＷとなる。一方、図３、４に示すように透過領域ＴＰには金属でできた導電膜、即ち配線や、薄膜トランジスタなどの各種回路が形成されておらず、発光層ＯＬも設けられていない。これにより、透過領域ＴＰはアレイ基板ＳＢの上下からきた光を透過させる。なお、透過領域には共通電極ＣＥが設けられなくてもよい。
【００２２】
図５は、画素回路ＰＣ１，ＰＣ２の等価回路を示す回路図である。発光素子ＬＥは、アノードと、基準電位を供給する電源供給回路ＰＷ（図１参照）に電気的に接続されるカソードと、を有する。発光素子ＬＥのアノードは画素電極ＰＥ（図４参照）に相当し、カソードは共通電極ＣＥのうち発光部ＩＲ，ＩＧ，ＩＢ，ＩＷ上の領域に相当する。また薄膜トランジスタＴＦＴ２は、発光素子ＬＥのアノードに電気的に接続されるソースと、電源線ＰＬに電気的に接続されるドレインと、ゲートを有する。キャパシタＣＳは、電源線ＰＬに電気的に接続される第１電極と、薄膜トランジスタＴＦＴ２のゲートに電気的に接続される第２電極とを有する。薄膜トランジスタＴＦＴ１は、ドレインと、薄膜トランジスタＴＦＴ２のゲートに電気的に接続されるソースと、ゲートとを有する。画素回路ＰＣ１に含まれる薄膜トランジスタＴＦＴ１のゲートはゲート線ＧＬ１に電気的に接続され、ドレインはデータ線ＤＬ１に電気的に接続される。一方、画素回路ＰＣ２に含まれる薄膜トランジスタＴＦＴ１のゲートはゲート線ＧＬ２に電気的に接続され、ドレインはデータ線ＤＬ２に電気的に接続される。なお、画素回路ＰＣは図５に示すようなものと異なっていてもよい。また、ソースとドレインは電圧の高低に応じて定まるものであり、薄膜トランジスタＴＦＴ１，ＴＦＴ２がｐ型である場合や、別の駆動方式が採られる場合にはソースとドレインとが反対であってもよい。またＴＦＴを構成する半導体がＬＴＰＳ（低温ポリシリコン）であったり、ＴＡＯＳ（酸化物半導体）であったり、ＬＴＰＳを用いたＴＦＴとＴＡＯＳを用いたＴＦＴとが混在する構成であってもよい。
【００２３】
図３の画素回路ＰＣ１，ＰＣ２においても、薄膜トランジスタＴＦＴ１とゲート線ＧＬ１，ＧＬ２、データ線ＤＬ１，ＤＬ２との接続や、薄膜トランジスタＴＦＴ２と電源線ＰＬとの接続、また画素回路ＰＣ１，ＰＣ２内の接続は同様である。
【００２４】
以下では図３に示される画素回路ＰＣ１についてさらに説明する。薄膜トランジスタＴＦＴ１のチャネルは半導体層にあり、ゲート線ＧＬ１の下側に隣接しかつデータ線ＤＬ１と重なる部分から図３の右側に延びている。またチャネルはゲート線ＧＬ１のうち下側に突出した部分と交差している。チャネルの左端はデータ線ＤＬ１に接続され、右端は第２の導電層の第１配線に接続されている。次に第１配線は右に延び、途中で下側に屈曲している。第１配線は、右に延びる区間のうち中間部で、薄膜トランジスタＴＦＴ２のゲートと一体化された第２配線に接続されている。キャパシタＣＳの第２電極は半導体層にあり、第１配線の下端に接続されている。第２電極はその接続される部分から右側に向けて、電源線ＰＬの手前まで延びている。また、キャパシタＣＳの第１電極は第１の導電層にあり、第２電極に対向して第１配線の下端の右から電源線ＰＬと重なる部分まで延びている。薄膜トランジスタＴＦＴ２は図３でみてキャパシタＣＳの上かつ第１配線の右側に設けられ、半導体層にあるチャネルは電源線ＰＬと重なる部分から左側に延びている。チャネルは中間部で薄膜トランジスタＴＦＴ２のゲートに対向している。チャネルの右端は電源線ＰＬに接続され、左端は第２の導電層にある第３配線に接続されている。第３配線は少し左に延び、コンタクトホールＣＨを介して画素電極ＰＥに接続されている。
【００２５】
次に図３に示される画素回路ＰＣ２についてさらに説明する。薄膜トランジスタＴＦＴ１のチャネルは半導体層にあり、図３でみてゲート線ＧＬ２の上側に隣接しかつデータ線ＤＬ２と重なる部分から右側に延びている。またチャネルはデータ線ＤＬ１と交差し、さらにゲート線ＧＬ２の上側に突出した部分と交差している。チャネルの左端はデータ線ＤＬ２に接続され、右端は第２の導電層の第１配線に接続されている。次に第１配線は上に延び、途中で右側に屈曲している。第１配線は、上に延びる領域の中間部で、薄膜トランジスタＴＦＴ２のゲートと一体化された第２配線に接続されている。キャパシタＣＳの第２電極は半導体層にあり、第１配線の右端に接続されている。第２電極はその接続される部分から上側に向けて、画素回路ＰＣ１に含まれる薄膜トランジスタＴＦＴ１の手前まで延びている。また、キャパシタＣＳの第１電極は第１の導電層にあり、第２電極に対向して第１配線の下端の上から画素回路ＰＣ１に含まれる薄膜トランジスタＴＦＴ１の手前まで延び、さらに左に屈曲し電源線ＰＬと重なるまで延びている。薄膜トランジスタＴＦＴ２はキャパシタＣＳの左かつ第１配線の上側に設けられ、半導体層にあるチャネルは電源線ＰＬと重なる部分から右側に延び、さらにキャパシタＣＳの手前で下向きに延びている。チャネルは下向きに延びる部分の中間部で薄膜トランジスタＴＦＴ２のゲートに対向している。チャネルの左端は電源線ＰＬに接続され、下端は第２の導電層にある第３配線に接続されている。第３配線はチャネルと接続する位置から少し下に延び、コンタクトホールＣＨを介して画素電極ＰＥに接続されている。
【００２６】
透過領域ＴＰが、１つの方向(例えば縦方向)で見て発光領域を含む２つの画素領域の間に設けられ、それに交差する方向（例えば横方向）では、透過領域ＴＰの間には発光領域が設けられず、配線しか設けられていない構造では次のような課題が生ずる。この構造では、実質的に透過領域ＴＰが交差する方向（例えば横方向）に延びて配置される。即ち、透過領域ＴＰ該交差する方向（例えば横方向）に延びるスリットを構成する。すると、そのスリットが回析格子として機能し、視野角特性が悪化する現象や反射された外光に色が付くといった現象が発生し、画質を大幅に劣化させる懸念が生ずる。一方、本実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置では、発光部の配置により、透過領域ＴＰの上下左右が発光部により囲まれる。すると、透過領域ＴＰはスリットを構成することがない。したがって、視野角特性が悪化する現象や反射された外光に色が付くといった現象の発生を抑えることができる。
【００２７】
ここで、発光部ＩＲ，ＩＧ，ＩＢ，ＩＷの配置は図２の例と異なっていてもよい。透過領域ＴＰが縦方向（第１方向）でみて複数の発光部のうちいずれかの少なくとも一部に挟まれ、また透過領域ＴＰが横方向（第１方向に交差する第２方向）でみて複数の発光部のうちいずれかの少なくとも一部に挟まれていればよい。さらに、配線領域ＸＷ，ＹＷのうち幅の広い方に重なるように緑の発光部ＩＧと白の発光部ＩＷとが配置され、幅の狭い方に重なるように赤の発光部ＩＲと青の発光部ＩＢとが配置されてよい。図２においては、配線領域ＸＷの幅が配線領域ＹＷの幅よりも広く形成されている。ここでは配線領域ＸＷの幅が縦配線群の幅（図３でみて電源線ＰＬの左端からデータ線ＤＬ１の右端までの幅）であり、配線領域ＹＷの幅が横配線群の幅（図３でみてゲート線ＧＬ１の下端からゲート線ＧＬ２の上端までの幅）であるとする。このようにすると、人の眼への影響が大きい色（視認性が高い色）、高輝度発光に対して支配的な色である発光部ＩＧ，ＩＷを大きくし、人の眼への影響が小さい色（視認性が低い色）の発光部ＩＲ，ＩＢを小さくしても透過領域ＴＰをできるだけ大きくすることができ、人の眼に認知される画質を維持しつつ透過領域ＴＰを確保することが容易になる。さらに、配線領域ＸＷ，ＹＷのうち幅の広い方に重なるように青の発光部ＩＢが配置されてもよい。視認性が低い青色の発光部ＩＢを幅の広い配線領域に配置することで、視認性が低い色の発光部の面積を大きくでき、視認性が低い色の輝度向上が図れる。配線領域ＸＷ，ＹＷのうち幅の狭い方に重なるように発光部ＩＧやＩＷが配置されてもよい。幅の狭い配線領域に配置し発光部の面積が小さくなっても、視認性が高い色なので画質劣化や高輝度発光の妨げにはほとんど影響がないからである。
【００２８】
なお、透過領域ＴＰの断面構造が図４の例と異なっていてもよい。図６は、アレイ基板ＳＢの他の一例を示す断面図である。図６は、図４の例に対して、第１絶縁層ＩＮ１、第２絶縁層ＩＮ２、第３絶縁層ＩＮ３が透過領域ＴＰを避けるように設けられている点が異なる。図６の例では、透過領域ＴＰ内の第１絶縁層ＩＮ１、第２絶縁層ＩＮ２、第３絶縁層ＩＮ３が除去されたことにより凹部が形成されている。平面的にみて透過領域ＴＰに重なる凹部に、平坦化膜として機能する封止膜ＳＦが充填されている。これにより、透過領域における光の透過率をさらに向上させることができる。
【００２９】
また、発光部ＩＲ，ＩＧ，ＩＢ，ＩＷが、凹部の側面にも設けられてよい。即ち凹部の側面に、画素電極ＰＥと発光層ＯＬと共通電極ＣＥとが配置されてもよい。図７は、アレイ基板ＳＢの他の一例を示す断面図である。図７の例では、画素電極ＰＥは第３絶縁層ＩＮ３の上面から第１から第３絶縁層ＩＮ１，ＩＮ２，ＩＮ３の側面を経て該凹部の底面上へと延びる領域に設けられており、画素電極ＰＥの端部を覆うように該凹部の底面にも位置するバンクＢＫが設けられている。また、発光層ＯＬも画素電極ＰＥを覆い、かつ端部を除く画素電極ＰＥに接するように設けられており、画素電極ＰＥのうちバンクＢＫに覆われていない部分が発光部ＩＲ，ＩＧ，ＩＢ，ＩＷとなる。これにより、発光部ＩＲ，ＩＧ，ＩＢ，ＩＷを大きくすることができ、表示輝度が向上する。
【００３０】
図８は、アレイ基板ＳＢの他の一例を示す平面図であり、図９は図８に示すアレイ基板ＳＢ上の画素回路ＰＣ１，ＰＣ２のIX−IX切断線における断面図である。図８および図９に示す例は、図６に示す例に対して、透過領域ＴＰの上方にマイクロレンズＬＭが設けられている点が主に異なる。図８および図９の例では、平面的にみて透過領域ＴＰの中央部とマイクロレンズＬＭの中央部とが重なるように設けられており、マイクロレンズＬＭは発光部ＩＲ，ＩＧ，ＩＢ，ＩＷと重ならないように設けられている。図９の矢印は上方から入射する外光が進む経路を示す。図９からわかるように、マイクロレンズＬＭにより、透過領域ＴＰより広い領域に入射する光を透過させ、マイクロレンズＬＭが無い場合より透過率を向上させることができる。ここで、マイクロレンズＬＭはＳｉＮにより形成されてもよいし、封止膜ＳＦと一体的に形成されてもよい。
【００３１】
図１０は、アレイ基板ＳＢの他の一例を示す断面図である。図１０に示す例は、図９に示す例に対して、封止膜ＳＦが窪みを有し、その窪みにマイクロレンズＬＭが埋め込まれている点、また透過領域ＴＰ内かつアレイ基板ＳＢと封止膜ＳＦとの間にもう１つのマイクロレンズＬＭ２が設けられている点が異なる。図１０に示す形状であっても、透過領域ＴＰより広い領域に入射する光を透過させ、マイクロレンズＬＭ，ＬＭ２が無い場合より透過率を向上させることができる。
【００３２】
さらに、図７の例にマイクロレンズＬＭを組み合わせてもよい。図１１は、アレイ基板ＳＢの他の一例を示す断面図である。図１１の例では、封止膜ＳＦが窪みを有し、その窪みにマイクロレンズＬＭが埋め込まれている点が主に図７の例と異なる。図１１の例では、透過領域ＴＰの全面にバンクＢＫが設けられている。これにより、図４の例に比べ、透過領域ＴＰの透過率を向上させつつ、発光部ＩＲ，ＩＧ，ＩＢ，ＩＷの輝度も向上させることができる。
【００３３】
図１２は発光部ＩＲ，ＩＧ，ＩＢと透過領域ＴＰとの配置の他の一例を示す図である。図１２は、白の発光部ＩＷは存在せず、光の３原色によりフルカラーの画素ＰＸが表現される有機ＥＬ表示装置の例を示す。図１２の例では、透過領域ＴＰのそれぞれの左右に隣接して１つの緑の発光部ＩＧが配置され、その透過領域ＴＰのそれぞれの上下には、１つの青の発光部ＩＢと、１つの赤の発光部ＩＲとが隣接する。ここで、１つの青の発光部ＩＢと、１つの赤の発光部ＩＲとの組合せを横発光群とよぶ。図１２の左右方向で見て、透過領域ＴＰのそれぞれは２つの緑の発光部ＩＧにより挟まれ、図１２の上下方向で見て、透過領域ＴＰのそれぞれは２つの横発光群により挟まれる。配線領域ＸＷと配線領域ＹＷとが交差する箇所を交差部とする。上下に隣り合う交差部の間には、緑の発光部ＩＧが配線領域ＸＷに重なるように設けられている。左右に隣り合う交差部の間には、左から順に青の発光部ＩＢと赤の発光部ＩＲとが設けられており、発光部ＩＢ，ＩＲは平面的にみて配線領域ＸＷに重なっている。
【００３４】
画素ＰＸは、交差部ごとに設けられる。図１２でみて、画素ＰＸは、交差部の上に隣接する１つの緑の発光部ＩＧと、交差部の左に隣接する１つの赤の発光部ＩＲと、交差部の右に隣接する１つの青の発光部ＩＢとを含む。画素回路ＰＣについては説明を省略するが、発光部ＩＲ，ＩＧ，ＩＢが薄膜トランジスタＴＦＴ２、キャパシタＣＳと重なり、発光部ＩＲ，ＩＧ，ＩＢがデータ線ＤＬ１，２またはゲート線ＧＬ１，２に重なる点は図２の例と同様である。ここで緑青赤の各発光部の位置は本実施形態に限るものではく、必要に応じて適時入れ替えることができる。例えば、幅が広い配線領域に視認性が高い色の発光部ＩＷを配置してもよいし、幅が広い配線領域に視認性が低い色の発光部ＩＢや発光部ＩＲを配置してもよい。
【００３５】
図１３は、発光部ＩＢ，ＩＧ，ＩＲ，ＩＷと透過領域ＴＰとの配置の他の一例を示す図である。本図の例では、図２の例と異なり、上下または左右に隣り合う２つの交差部の間には、発光部ＩＲ，ＩＧ，ＩＢ，ＩＷのうち２つが配置されている。その２つの交差部のうち一方に発光部ＩＲ，ＩＧ，ＩＢ，ＩＷのうち１つが隣接し、他方に発光部ＩＲ，ＩＧ，ＩＢ，ＩＷのうち他の１つが隣接する。また、画素ＰＸは、交差部ごとに設けられており、画素ＰＸは、交差部の上に隣接する発光部ＩＢと、交差部の下に隣接する発光部ＩＲと、交差部の左に隣接する発光部ＩＷと、交差部の右に隣接する発光部ＩＧとを含む。画素回路ＰＣについては説明を省略するが、発光部ＩＲ，ＩＧ，ＩＢ，ＩＷが薄膜トランジスタＴＦＴ２、キャパシタＣＳと重なり、発光部ＩＲ，ＩＧ，ＩＢ，ＩＷがデータ線ＤＬ１，２またはゲート線ＧＬ１，２に重なる点は図２の例と同様である。
【００３６】
［第２の実施形態］
以下では本発明の第２の実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置について、第１の実施形態との相違点を中心に説明する。
【００３７】
図１４は、第２の実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置における発光部ＩＲ，ＩＧ，ＩＢ，ＩＷと透過領域ＴＰとの配置の一例を示す図である。アレイ基板ＳＢ上には図１４の縦方向に延びる複数の配線領域ＸＷと、図１４の横方向に延びる複数の配線領域ＹＷとが設けられている。配線領域ＸＷのそれぞれにはデータ線ＤＬ１（図１５参照）と電源線ＰＬとが配置される。配線領域ＹＷのそれぞれにはゲート線ＧＬ１（図１５参照）が配置される。また、単位画素のそれぞれは、配線領域ＸＷと配線領域ＹＷとが交差する交差部に対応して設けられている。また、フルカラーを表示する画素ＰＸは２行２列の単位画素により構成されている。画素ＰＸにおいて、右上、左上、右下、左下の単位画素は、それぞれ発光部ＩＲ、発光部ＩＧ、発光部ＩＷ、発光部ＩＢに対応する。
【００３８】
平面的にみて、発光部ＩＲ，ＩＧ，ＩＢ，ＩＷのそれぞれは、透過領域ＴＰの上下方向のうち一方の側（上側）から左右方向のうち一方の側（左側）へ連続的に延び、発光部ＩＲ，ＩＧ，ＩＢ，ＩＷのそれぞれの形状はＬ字型である。また発光部ＩＲ，ＩＧ，ＩＢ，ＩＷのそれぞれは、透過領域ＴＰの上側および左側に隣接するように配置されている。発光部ＩＲ，ＩＧ，ＩＢ，ＩＷのそれぞれは、平面的にみてそれぞれ配線領域ＸＷおよび配線領域ＹＷと重なっている。
【００３９】
図１５は、図１４に示す有機ＥＬ表示装置のアレイ基板ＳＢの一例を示す平面図である。図１６は、図１５に示すアレイ基板ＳＢのXVI−XVI切断線における断面図である。図１５，１６はそれぞれ第１の実施形態における図３，４に対応する。アレイ基板ＳＢの表示領域内には、図１５の横方向に並び縦方向に延びる複数のデータ線ＤＬ１と複数の電源線ＰＬとが配置され、さらに図１５の縦方向に並び横方向に延びる複数のゲート線ＧＬ１が配置される。ここで、図１５における配線領域ＸＷのそれぞれには、データ線ＤＬ１のうち１つと、電源線ＰＬのうち１つとからなる１つの縦配線群が配置される。縦配線群では、データ線ＤＬ１、電源線ＰＬが右から順に隣接するように並んでいる。また、図１５における配線領域ＹＷのそれぞれには、ゲート線ＧＬ１のうち１つと横方向に延びる１本の配線とを含む１つの横配線群が配置される。
【００４０】
また、上下方向について、１つの透過領域ＴＰの両側（上下）に隣接して２つの画素回路ＰＣ１が配置されている。本実施形態では、１つの透過領域ＴＰにつき１つの画素回路ＰＣ１が設けられている。画素回路ＰＣ１の詳細については図４に示されるものと同様である。平面的にみて、画素回路ＰＣ１に含まれる薄膜トランジスタＴＦＴ２やキャパシタＣＳは、発光部ＩＲ，ＩＧ，ＩＢ，ＩＷや、それを構成する画素電極ＰＥと重なっている。
【００４１】
また、図１６については、図６に示される構造に対し、データ線ＤＬ２が存在しない点が主に異なっている。この違いは、画素回路ＰＣ２が存在しない点に起因する。
【００４２】
発光部ＩＲ，ＩＧ，ＩＢ，ＩＷの形状は、図１４に示されるものには限られない。図１７は、発光部ＩＲ，ＩＧ，ＩＢ，ＩＷと透過領域ＴＰとの配置の他の一例を示す図である。図１７の例では、発光部ＩＲ，ＩＧ，ＩＢ，ＩＷのそれぞれは交差部から上下方向に延び、また交差部から左右方向のうち一方へ延びている。発光部ＩＲ，ＩＧ，ＩＢ，ＩＷの形状は、Ｔ字状である。見方を変えると、発光部ＩＲ，ＩＧ，ＩＢ，ＩＷのそれぞれに重なる交差部の左上、右上、左下、右下に位置し、上下方向および左右方向に互いに隣り合う４つの透過領域ＴＰについて、その発光部は、上下方向に隣り合う一対の透過領域ＴＰ（右上、右下の透過領域ＴＰ）の間から、左右方向に隣り合う二対の透過領域ＴＰの間に連続的に延びている。また、左右方向が、Ｔ字の上下方向になるように発光部ＩＲ，ＩＧ，ＩＢ，ＩＷが配置されており、さらにＴ字の上下の向きは発光部ＩＲ，ＩＧ，ＩＢ，ＩＷの位置によらず同じ（右向き）である。
【００４３】
図１８は、発光部ＩＲ，ＩＧ，ＩＢ，ＩＷと透過領域ＴＰとの配置の他の一例を示す図である。図１８の例は、発光部ＩＲ，ＩＧ，ＩＢ，ＩＷの形状がＴ字状であり、発光部ＩＲ，ＩＧ，ＩＢ，ＩＷのそれぞれが交差部から上下方向に延びる部分を有する点は図１７の例と同じである。一方、図１８の例では、ある行に位置する発光部ＩＲ，ＩＧ，ＩＢ，ＩＷのそれぞれは交差部から左右方向のうち一方（例えば右）へ延びているが、その次の行に位置する発光部ＩＲ，ＩＧ，ＩＢ，ＩＷのそれぞれは交差部から左右方向のうち他方（例えば左）へ延びている。言い換えると、左右方向が、Ｔ字の上下方向になるように発光部ＩＲ，ＩＧ，ＩＢ，ＩＷが配置されており、さらにＴ字の上下の向きは交互に反対になるように（右向きの行と左向きの行とが交互に表れる）配列されている。
【００４４】
［第３の実施形態］
以下では本発明の第３の実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置について、第２の実施形態との相違点を中心に説明する。
【００４５】
図１９は、第３の実施形態にかかる有機ＥＬ表示装置における発光部ＩＲ，ＩＧ，ＩＢ，ＩＷと透過領域ＴＰとの配置の一例を示す図である。単位画素のそれぞれが、配線領域ＸＷと配線領域ＹＷとが交差する交差部に相当するように設けられ、フルカラーを表示する画素ＰＸは２行２列の単位画素により構成されている点は第２の実施形態と同様である。一方、図１９の例は、発光部ＩＲ，ＩＧ，ＩＢ，ＩＷの形状が十字である点が図１４，１７，１８の例と主に異なる。図１９の例では、発光部ＩＲ，ＩＧ，ＩＢ，ＩＷのそれぞれは、その発光部の左上、右上、左下、右下に存在し、上下方向および左右方向に互いに隣り合う４つの透過領域ＴＰからみて中央に位置する。また、発光部ＩＲ，ＩＧ，ＩＢ，ＩＷのそれぞれは、交差部から上下左右に延びている。見方を変えると、発光部ＩＲ，ＩＧ，ＩＢ，ＩＷのそれぞれは、上下方向に隣り合う二対の透過領域ＴＰの間にそれぞれ延びる第１部分と、左右方向に隣り合う二対の透過領域ＴＰの間にそれぞれ延びる第２部分と、を有し、第１部分と第２部分とはそれぞれの中央で連続的に接続されている。ここで発光部ＩＷを省略して発光部ＩＲ，ＩＧ，ＩＢの３色で画素を構成し、発光部ＩＷを除いた領域に他の色の発光領域を拡張してもよい。
【００４６】
図２０は、図１９に示す有機ＥＬ表示装置のアレイ基板ＳＢの一例を示す平面図である。図２０の例では、発光部ＩＲ，ＩＧ，ＩＢ，ＩＷの形状にあわせて画素電極ＰＥの形状が十字型になっている点が図１５の例と主に異なる。図１９の例では、発光部ＩＲ，ＩＧ，ＩＢ，ＩＷのそれぞれはデータ線ＤＬ１とゲート線ＧＬ１とに重なっているが、その発光部ＩＲ，ＩＧ，ＩＢ，ＩＷの輝度を制御する画素回路ＰＣ１へは、重なっているデータ線ＤＬ１の左に位置するデータ線ＤＬ１から映像信号が供給されている。透過領域ＴＰの上にある画素回路ＰＣ１と画素電極ＰＥとを接続するコンタクトホールＣＨが、その画素回路ＰＣ１に接続されているデータ線ＤＬ１より隣のデータ線ＤＬ１に近い位置にあるからである。データ線ＤＬ１からそのデータ線ＤＬ１に重なっている画素回路ＰＣ１に映像信号が供給されるようにコンタクトホールＣＨが配置されてもよい。
【００４７】
図２１は、発光部ＩＲ，ＩＧ，ＩＢ，ＩＷと透過領域ＴＰとの配置の他の一例を示す図である。図２１の例は、発光部ＩＲ，ＩＧ，ＩＢ，ＩＷが、角のとれた四角形の形状である点が図１９の例と異なる。この四角形の対角線は交差部から上下方向と左右方向に延び、配線領域ＸＷと配線領域ＹＷに重なっている。透過領域ＴＰの形状は、発光部ＩＲ，ＩＧ，ＩＢ，ＩＷを避けるため、対角線が上下方向と左右方向に延びる四角形となっている。見方を変えると、発光部ＩＲ，ＩＧ，ＩＢ，ＩＷのそれぞれは、上下方向に隣り合う二対の透過領域ＴＰの間を左右方向にそれぞれ延びる第１部分と、左右方向に隣り合う二対の透過領域ＴＰの間を上下方向にそれぞれ延びる第２部分と、第１部分と第２部分とを接続する第３部分を有する。第３部分は、第１部分から上下方向の両側に延び、第２部分から左右方向の両側に延びている。このようにすると、図１９の例に比べ発光部ＩＲ，ＩＧ，ＩＢ，ＩＷの面積が大きくなり、発光輝度を高くすることができる。
【００４８】
上記で説明した第１の実施形態から第３の実施形態の各構造において、マトリクス状に配置された透過領域ＴＰを含む複数の画素ＰＸの周囲に、画素ＰＸとは異なる発光に寄与しない画素、所謂ダミー画素を配置しても良い。該ダミー画素は画素ＰＸと同じ構造でもよいし、画素ＰＸ異なる構造にしてもよい。例えば、ダミー画素を囲う配線群と重なる位置には発光部が配置されていなくてもよいし、透過領域の形状や大きさが画素ＰＸと異なってもよい。
【符号の説明】
【００４９】
ＧＬ，ＧＬ１，ＧＬ２  ゲート線、ＰＣ，ＰＣ１，ＰＣ２  画素回路、ＰＬ  電源線、ＰＷ  電源供給回路、ＤＬ，ＤＬ１，ＤＬ２  データ線、ＸＤＶ，ＹＤＶ  駆動回路、ＩＢ，ＩＧ，ＩＲ，ＩＷ  発光部、ＴＰ  透過領域、ＸＷ，ＹＷ  配線領域、ＢＫ  バンク、ＣＥ  共通電極、ＣＳ  キャパシタ、ＣＨ  コンタクトホール、ＩＮ１  第１絶縁層、ＩＮ２  第２絶縁層、ＩＮ３  第３絶縁層、ＬＥ  発光素子、ＬＭ，ＬＭ２  マイクロレンズ、ＯＬ  発光層、ＰＥ  画素電極、ＰＸ  画素、ＳＢ  アレイ基板、ＳＦ  封止膜、ＴＦＴ１，ＴＦＴ２  薄膜トランジスタ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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