(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
クラッド中に形成された前記クラッドよりも屈折率の高いコアによって光を導波する光導波路構造であって、
前記コアによって導波される光の導波方向に対して横断的に形成されたスリットと、
前記スリットを介して対向して配置された前記コアの一対の端面と、
を備え、
前記コアの端面の各々と前記スリットとの間には前記クラッドと同じ材料からなる部分が介在し、
前記コアの端面の各々と前記スリットとの間における前記クラッドと同じ材料からなる部分は、前記コアによって導波される光の導波方向に関する長さが３μｍ以下である、
ことを特徴とする光導波路構造。
【請求項２】
前記コアの端部は、前記端面に近付くにつれてコア幅が拡大する部位を有している、
ことを特徴とする請求項１に記載の光導波路構造。
【請求項３】
前記コアの端部の形状は、端部形状を微小に摂動させた形状における結合損失を繰り返して計算することにより特定された構造最適化形状である、
ことを特徴とする請求項２に記載の光導波路構造。
【請求項４】
請求項１から請求項３のうち何れか１項に記載の光導波路構造を備えることを特徴とする光導波路回路。
【請求項５】
ＤＰ−ＱＰＳＫ変調方式の復調器に用いられるコヒーレントミキサである、ことを特徴とする請求項４に記載の光導波路回路。
【請求項６】
入力された光の偏波を分波または合波する偏波合分波器である、ことを特徴とする請求項４に記載の光導波路回路。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光導波路構造および光導波路回路に関する。
【背景技術】
【０００２】
代表的かつ実用的なコヒーレント変調方式として、四値位相変調方式が普及している。さらに、この四値位相変調方式と偏波多重技術を組み合わせた偏波多重四値位相変調（ＤＰ−ＱＰＳＫ：Dual  Polarization  Quadrature  Phase  Shift  Keying）方式は、周波数利用効率を高めることができるので、大容量光伝送を実現する技術として、より有望視されている。
【０００３】
ＤＰ−ＱＰＳＫ変調方式の復調器は、平面光波回路（Planar  Lightwave  Circuit：ＰＬＣ）技術を用いて素子を集積した光導波路回路によって実現する構成例が知られている（例えば特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特許第５６８４１３１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、偏波多重技術を利用しているＤＰ−ＱＰＳＫ変調方式のための光導波路回路等において、光導波路の途中に波長板を設けることがある。そして、光導波路の途中に波長板を設ける場合、光導波路を切断するようにスリットを形成し、当該スリットに波長板を挿入するのが一般的な製造方法である。
【０００６】
しかしながら、スリットを形成する際には、形成されるスリット幅にバラツキが発生してしまい、当該バラツキが光導波路における損失のバラツキを引き起こしてしまうことがある。間を隔てて配置された２つの光導波路間における損失は、当該光導波路のコア間の距離に依存するからである。光導波路を切断するようにスリットを形成すると、スリット幅のバラツキが切断されたコア間の距離のバラツキに直結してしまう。
【０００７】
本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、その目的は、光導波路に対して横断的に設けられたスリットにおけるスリット幅のバラツキによる光導波路の損失のバラツキを抑制できる光導波路構造および光導波路回路を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明の一態様に係る光導波路構造は、クラッド中に形成された前記クラッドよりも屈折率の高いコアによって光を導波する光導波路構造であって、前記コアによって導波される光の導波方向に対して横断的に形成されたスリットと、前記スリットを介して対向して配置された前記コアの一対の端面と、を備え、前記コアの端面の各々と前記スリットとの間には前記クラッドと同じ材料からなる部分が介在し、前記コアの端面の各々と前記スリットとの間における前記クラッドと同じ材料からなる部分は、前記コアによって導波される光の導波方向に関する長さが３μｍ以下である、ことを特徴とする。
【００１０】
また、本発明の一態様に係る光導波路構造では、前記コアの端部は、前記端面に近付くにつれてコア幅が拡大する部位を有している、ことを特徴とする。
【００１１】
また、本発明の一態様に係る光導波路構造は、前記コアの端部の形状は、端部形状を微小に摂動させた形状における結合損失を繰り返して計算することにより特定された構造最適化形状である、ことを特徴とする。
【００１２】
また、本発明の一態様に係る光導波路回路は、上記光導波路構造を備えていることを特徴とする。
【００１３】
また、本発明の一態様に係る光導波路回路は、ＤＰ−ＱＰＳＫ変調方式の復調器に用いられるコヒーレントミキサである、ことを特徴とする。
【００１４】
また、本発明の一態様に係る光導波路回路は、入力された光の偏波を分波または合波する偏波合分波器である、ことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１５】
本発明に係る光導波路構造および光導波路回路は、光導波路に対して横断的に設けられたスリットにおけるスリット幅のバラツキによる光導波路の損失のバラツキを抑制できるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】図１は、実施形態に係る光導波路回路の模式的な平面図である。
【図２】図２は、石英系ガラス材料からなるＰＬＣ型の光導波路回路における光導波路の横断方向の断面を示す図である。
【図３】図３は、実施形態に係る光導波路構造における光の伝搬方向に関する断面を示す図である。
【図４】図４は、コアの端部がＭＭＩ形状である場合の光導波路構造を模式的に示す平面図である。
【図５】図５は、コアの端部がＭＭＩ形状である場合の伝搬状態を示す図である。
【図６】図６は、コアの端部が構造最適化形状である場合の光導波路構造を模式的に示す平面図である。
【図７】図７は、コアの端部がテーパー形状である場合の光導波路構造を模式的に示す平面図である。
【図８】図８は、コアの端部がテーパー形状である場合の伝搬状態を示す図である。
【図９】図９は、実施形態に係る光導波路回路の製造方法の例を示す図である。
【図１０】図１０は、１／２波長板をガラスブロックに固定する構成例を示す図である。
【図１１】図１１は、実施形態に係る光導波路回路を偏波分波器に適用した例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下に、図面を参照して本発明に係る光導波路回路の実施の形態を詳細に説明する。なお、以下で説明する実施形態により本発明が限定されるものではない。また、各図面において、同一または対応する要素には適宜同一の符号を付している。さらに、図面は模式的なものであり、各要素の寸法の関係、各要素の寸法の比率などは、現実のものとは異なる場合があることに留意する必要がある。図面の相互間においても、互いの寸法の関係や比率が異なる部分が含まれている場合がある。
【００１８】
（光導波路回路の実施形態）
図１は、実施形態に係る光導波路回路の模式的な平面図である。図１に示される光導波路回路は、石英系ガラス材料からなるＰＬＣ型の光導波路回路であり、ＤＰ−ＱＰＳＫ変調方式の復調器に用いられるコヒーレントミキサとして使用することを想定した構成例である。図１に示される光導波路回路の構成は、後に詳述する実施形態に係る光導波路構造を適用する好適な構成例であり、例えば図１中の領域Ａ、Ｂの光導波路において後に詳述する実施形態に係る光導波路構造を適用し得る。
【００１９】
図１に示すように、光導波路回路１００は、入力光導波路１１、１２と、偏波分波器２１と、接続光導波路３１、３２、３３、３４と、９０度ハイブリッド素子４１、４２と、Ｙ分岐光導波路５１、スリット６１、６２と、１／２波長板７１を備えている。
【００２０】
信号光Ｌ１が入力される入力光導波路１１は、曲率の正負が逆で曲率半径が等しく、かつ弧の角度が等しい屈曲部を組み合わせたＳ字形状の屈曲部を経由して、偏波分波器２１へ接続されている。一方、局所発振光ＬＯが入力される入力光導波路１２は、略直線状にＹ分岐光導波路５１へ接続されている。
【００２１】
偏波分波器２１は、さらに詳しくは、Ｙ分岐光導波路と方向性結合器とＹ分岐光導波路および方向性結合器を接続する２本のアーム光導波路とを備えており、マッハツェンダー（Mach-Zehnder  Interferometer：ＭＺＩ）型干渉計の構成を有している。接続光導波路３１、３３は、それぞれ、偏波分波器２１によって分波された光線の光路を９０度ハイブリッド素子４１、４２へ接続する光路である。
【００２２】
Ｙ分岐光導波路５１は、入力光導波路１２に入力された局所発振光ＬＯを、分岐比１：１で接続光導波路３２、３４に分岐する。接続光導波路３２、３４は、それぞれＹ分岐光導波路５１によって分波された光線の光路を９０度ハイブリッド素子４１、４２へ接続する光路である。
【００２３】
９０度ハイブリッド素子４１、４２は、干渉回路の一種であり、入力された信号光Ｌ１と局所発振光ＬＯとをそれぞれ二分岐し、二分岐された局所発振光ＬＯに光波の相対位相差として９０度の位相差を与えた後、二分岐された一方の信号光Ｌ１と局所発振光ＬＯ、および二分岐されたもう一方の信号光Ｌ１と局所発振光ＬＯをそれぞれ混合する回路である。
【００２４】
ここで、図１に示すように、Ｙ分岐光導波路５１から９０度ハイブリッド素子４１への接続光導波路３２の領域Ａには、スリット６１が設けられ、当該スリット６１には１／２波長板７１が挿入されている。なお、１／２波長板７１の光軸は接続光導波路３２の偏波軸と４５度の角度をなすように調整されている。したがって、１／２波長板７１を通過する局所発振光ＬＯは、偏波が９０度回転されて９０度ハイブリッド素子４１へ入力される。
【００２５】
一方、Ｙ分岐光導波路５１から９０度ハイブリッド素子４２への接続光導波路３４の領域Ｂには、スリット６２が設けられているが、当該スリット６２には１／２波長板が挿入されていない。したがって、９０度ハイブリッド素子４２へは、そのままの偏波で局所発振光ＬＯが入力される。
【００２６】
ところで、接続光導波路３４には、スリット６２が設けられているが、当該スリット６２には１／２波長板が挿入されていない理由は以下ととおりである。
【００２７】
接続光導波路３２には、スリット６１が設けられ、１／２波長板７１が挿入されているので、その分の損失が発生している。したがって、そのままでは、９０度ハイブリッド素子４１に入力する局所発振光は、９０度ハイブリッド素子４２に入力する局所発振光よりも、過剰な損失を受ける。そこで、光導波路回路１００では、当該損失を補償するために、接続光導波路３４にもスリット６２を設けている。
【００２８】
上記目的のため、接続光導波路３４に設けられたスリット６２のスリット幅は、接続光導波路３２におけるスリット６１および１／２波長板７１によって発生する損失に相当する量の損失が発生するように設計することが好ましい。なお、接続光導波路３４には交差点Ｃが存在するので、交差点Ｃにおける交差損失の分を考慮してスリット６２のスリット幅を設計すればより好ましい。
【００２９】
（光導波路構造の実施形態）
以下、図１に示される領域Ａまたは領域Ｂに適用し得る実施形態に係る光導波路構造について説明する。なお、説明の重複を避けるために、以下で説明する光導波路構造の例は、スリットに波長板を挿入した構成とするが、スリットに波長板を挿入しない構成も、波長板の有無を除いて、以下で説明する例と同様に構成することができる。
【００３０】
図２は、石英系ガラス材料からなるＰＬＣ型の光導波路回路における光導波路の横断方向の断面を示す図である。図２に示すように、光導波路回路１００は、シリコン等からなる基板１０１上に形成された石英ガラス系材料からなるクラッド１０２内に、クラッド１０２よりも屈折率の高いコア１０３が形成されることによって構成されたものである。クラッド１０２よりも屈折率の高いコア１０３を得るには、例えばジルコニア（ＺｒＯ２）やゲルマニア（ＧｅＯ２）等を石英ガラス系材料にドープすればよい。ここで、コア１０３は、光導波路回路１００において実質的に光導波路に相当する構成であり、図１に示される接続光導波路３３、３４などの光導波路を代表する構成として記載している。
【００３１】
図３は、実施形態に係る光導波路構造における光の伝搬方向に関する断面を示す図である。図３に示すように、実施形態に係る光導波路構造は、コア１０３ａ、１０３ｂによって導波される光の導波方向（図中矢印方向）に対して横断的に形成されたスリット６１を備えている。スリット６１は、例えば１／２波長板７１を挿入するためのものであり、実施形態に係る光導波路構造の使用目的に応じて適した光学素子を挿入することが可能であり、また、図１に示される領域Ｂのように、光学素子を挿入しない構成とすることも可能である。
【００３２】
コア１０３ａ、１０３ｂは、スリット６１を介して、コア１０３ａとコア１０３ｂに分割されており、コア１０３ａの端面Ｓａとコア１０３ｂの端面Ｓｂとは、スリット６１を介して対向して配置されている。また、コア１０３ａの端面Ｓａとスリット６１との間には、クラッド１０２ａと同じ材料からなる部分が介在し、コア１０３ｂの端面Ｓｂとスリット６１との間には、クラッド１０２ｂと同じ材料からなる部分が介在している。
【００３３】
なお、ここでは図面を参照した説明を容易にするため、クラッド１０２ａとクラッド１０２ｂとを区別して記載しているが、一般には図面外にてクラッド１０２ａとクラッド１０２ｂとは繋がっており、同一の材料からなる。
【００３４】
上記の構成により、実施形態に係る光導波路構造では、コア１０３ａの端面Ｓａから出射した光は、クラッド１０２ａと同じ材料からなる部分と、スリット６１に挿入された１／２波長板７１と、クラッド１０２ｂと同じ材料からなる部分とを順次通過し、コア１０３ｂの端面Ｓｂに入射される。
【００３５】
上記構成を言い換えると、実施形態に係る光導波路構造では、スリット６１の幅Ｇ１は、コア１０３ａの端面Ｓａとコア１０３ｂの端面Ｓｂとの間の幅Ｇ２よりも狭いことになる。
【００３６】
また、コア１０３ａの端面Ｓａとスリット６１との間におけるクラッド１０２ａと同じ材料からなる部分の幅Ｇ３、および、コア１０３ｂの端面Ｓｂとスリット６１との間におけるクラッド１０２ｂと同じ材料からなる部分の幅Ｇ４は、いずれも、３μｍ以下であることが好ましい。幅Ｇ３および幅Ｇ４が広いほど、スリット６１の幅のバラツキに対する耐性が高くなるが、コア１０３ａとコア１０３ｂとの間の結合損失を低く抑制することとのバランスを考えると、幅Ｇ３および幅Ｇ４が３μｍ以下とすることが好ましい。
【００３７】
なお、上記幅Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３、Ｇ４は、いずれも、コア１０３ａ、１０３ｂによって導波される光の導波方向に関して測定した長さとする。
【００３８】
以下、実施形態に係る光導波路構造におけるコア１０３ａ、１０３ｂの端部の形状例について説明する。以下で説明するように、コア１０３ａ、１０３ｂの端部の形状は、コア１０３ａとコア１０３ｂとの間の結合損失が小さくなるように設計されている。実施形態に係る光導波路構造は、結合損失が小さくなるように好適に設計された光導波路構造に対して、スリット幅のバラツキが光導波路の損失へ影響するのを抑制できる。
【００３９】
（ＭＭＩ形状）
図４は、コアの端部がＭＭＩ（Multi-Mode  Interference）形状である場合の光導波路構造を模式的に示す平面図である。なお、図４では、コアの端部形状を見やすくするために、スリット６１は、端面位置を直線で記載し、スリット６１に挿入される光学素子の記載を省略している。図５は、コアの端部がＭＭＩ形状である場合の伝搬状態を示す図である。
【００４０】
図４に示すように、実施形態に係る光導波路構造は、コア１０３ａ、１０３ｂの端部Ｆ１ａ、Ｆ１ｂの形状をＭＭＩ形状とすることができる。
【００４１】
図５に示すように、コア１０３ａ、１０３ｂの端部Ｆ１ａ、Ｆ１ｂの形状がＭＭＩ形状である導波路構造では、コア１０３ａの端面Ｓａから出射された光は、端面Ｓａと端面Ｓｂとの間で集光し、端面Ｓｂへ入射される。その結果、コア１０３ａの端面Ｓａから出射された光がクラッドへ拡散することが抑制され、コア１０３ａとコア１０３ｂとの間の結合損失が小さくなる。そして、このような伝搬状態は、コア１０３ａ、１０３ｂの端部Ｆ１ａ、Ｆ１ｂの形状を適切に設計することにより実現されている。
【００４２】
図４に示すように、実施形態に係る光導波路構造は、コア１０３ａ、１０３ｂの端面Ｓａ、Ｓｂとスリット６１との間には、幅Ｇ３、Ｇ４のクラッドと同じ材料からなる部分が介在しているので、スリット６１の位置または幅Ｇ１にバラツキが生じた場合であっても、コア１０３ａ、１０３ｂの端部Ｆ１ａ、Ｆ１ｂの形状に影響を及ぼすことが抑制されている。特に、コア１０３ａ、１０３ｂの端面Ｓａ、Ｓｂの間の幅Ｇ２は、コア１０３ａとコア１０３ｂとの間の結合損失に大きく影響を与えるので、本実施形態に係る光導波路構造の効果は顕著である。つまり、本実施形態に係る光導波路構造は、スリット幅のバラツキによる光導波路の損失のバラツキを抑制できる構成である。
【００４３】
（構造最適化形状）
図６は、コアの端部が構造最適化形状である場合の光導波路構造を模式的に示す平面図である。図４と同様に、図６でも、コアの端部形状を見やすくするために、スリット６１は、端面位置を直線で記載し、スリット６１に挿入される光学素子の記載を省略している。
【００４４】
図６に示すように、実施形態に係る光導波路構造は、コア１０３ａ、１０３ｂの端部Ｆ２ａ、Ｆ２ｂの形状を構造最適化形状とすることができる。ここで、構造最適化形状とは、コア１０３ａ、１０３ｂの端部Ｆ２ａ、Ｆ２ｂの形状を微小に摂動させ、当該摂動させた形状における結合損失をコンピュータシミュレーションによって計算するというプロセスを繰り返すことにより、結合損失が小さく抑えられる形状としてコンピュータシミュレーションによって特定された形状のことである。この最適化アルゴリズムは、例えば波面整合法やトポロジー最適化法という名で知られている手法を用いることができる。
【００４５】
図６に示されるように、コア１０３ａ、１０３ｂの端部Ｆ２ａ、Ｆ２ｂの形状が構造最適化形状である導波路構造では、コア１０３ａ、１０３ｂの端面Ｓａ、Ｓｂが平坦な面ではない場合もある。これは、コア１０３ａ、１０３ｂの端面Ｓａ、Ｓｂも構造最適化の計算過程において形状が摂動された結果である。
【００４６】
つまり、図６に示すように、実施形態に係る光導波路構造は、コア１０３ａ、１０３ｂの端面Ｓａ、Ｓｂとスリット６１との間には、幅Ｇ３、Ｇ４のクラッドと同じ材料からなる部分が介在しているので、コア１０３ａ、１０３ｂの端面Ｓａ、Ｓｂも構造最適化の形状パラメータの一部にすることができ、結合損失を抑制するのにより好適な形状を採用することが可能となる。特に、コア１０３ａ、１０３ｂの端面Ｓａ、Ｓｂの間の幅Ｇ２は、コア１０３ａとコア１０３ｂとの間の結合損失に大きく影響を与えるので、本実施形態に係る光導波路構造の効果は顕著である。つまり、本実施形態に係る光導波路構造は、スリット幅のバラツキによる光導波路の損失のバラツキを抑制できる構成である。
【００４７】
（テーパー形状）
図７は、コアの端部がテーパー形状である場合の光導波路構造を模式的に示す平面図である。なお、図４と同様に、図７でも、コアの端部形状を見やすくするために、スリット６１は、端面位置を直線で記載し、スリット６１に挿入される光学素子の記載を省略している。図８は、コアの端部がテーパー形状である場合の伝搬状態を示す図である。
【００４８】
図７に示すように、実施形態に係る光導波路構造は、コア１０３ａ、１０３ｂの端部Ｆ３ａ、Ｆ３ｂの形状をテーパー形状とすることができる。
【００４９】
図８に示すように、コア１０３ａ、１０３ｂの端部Ｆ３ａ、Ｆ３ｂの形状がテーパー形状である導波路構造では、コア１０３ａの端面Ｓａから出射された光は、コア１０３ｂの端部Ｆ３ｂのテーパー形状によって拡散が吸収される。その結果、コア１０３ａの端面Ｓａから出射された光がクラッドへ拡散することが抑制され、コア１０３ａとコア１０３ｂとの間の結合損失が小さくなる。テーパー形状の場合も、このような伝搬状態は、コア１０３ａ、１０３ｂの端部Ｆ３ａ、Ｆ３ｂの形状を適切に設計することにより実現されている。
【００５０】
図７に示すように、実施形態に係る光導波路構造は、コア１０３ａ、１０３ｂの端面Ｓａ、Ｓｂとスリット６１との間には、幅Ｇ３、Ｇ４のクラッドと同じ材料からなる部分が介在しているので、スリット６１の位置または幅Ｇ１にバラツキが生じた場合であっても、コア１０３ａ、１０３ｂの端部Ｆ３ａ、Ｆ３ｂの形状に影響を及ぼすことが抑制されている。特に、コア１０３ａ、１０３ｂの端面Ｓａ、Ｓｂの間の幅Ｇ２は、コア１０３ａとコア１０３ｂとの間の結合損失に大きく影響を与えるので、本実施形態に係る光導波路構造の効果は顕著である。つまり、本実施形態に係る光導波路構造は、スリット幅のバラツキによる光導波路の損失のバラツキを抑制できる構成である。
【００５１】
スリットの幅Ｇ１のバラツキは、例えばダイシングで作製した時に±３μｍ存在する。これに対し、コアの端面の間の幅Ｇ２は、コアの位置精度および線幅精度により決まり、およそ±０．３μｍ以下である。例えば、コアとクラッドとの比屈折率差が５％Δの光導波路に対して２０μｍのスリットを形成するという条件で比較すると、スリットの幅Ｇ１のバラツキが直接コアの端面間の幅Ｇ２のバラツキになる場合は、損失が±０．４５ｄＢであるのに対し、本実施形態に係る光導波路構造の場合は、コアの端面間の幅Ｇ２はコアの位置精度および線幅精度により決まるため、損失のバラツキを±０．０５ｄＢに抑制することができる。
【００５２】
（製造方法例）
ここで、図９を参照しながら、実施形態に係る光導波路回路１００の製造方法の例について説明する。最初に、シリコンや石英ガラスなどで形成された基板１０１を用意する。次に、コア１０３ａ、１０３ｂよりも下のクラッドである下部クラッド１０２ｃに対応する石英系ガラスからなる層を基板１０１上に形成し、その後、当該層をアニールして透明ガラス化する。
【００５３】
次に、スパッタ法を用いて、下部クラッド１０２ｃ上におけるコア１０３に対応する箇所にジルコニア（ＺｒＯ２）がドープされたシリカ（ＳｉＯ２）層を形成する。そして、フォトリソグラフィ技術やエッチング技術等によって、光導波路に対応する所望の形状にジルコニア（ＺｒＯ２）がドープされたシリカ（ＳｉＯ２）層を加工し、クラッドよりも屈折率の高いコア１０３が形成される。
【００５４】
その後、コア１０３の上、および、コア１０３が形成されなかった下部クラッド１０２ｃの上に、石英系ガラスからなる上部クラッド１０２ｄを形成する。
【００５５】
次に、スリット６１を形成するが、その形成手法は、ダイシングやエッチング加工やレーザー加工など、どの加工方法を採用してもよい。これらの選択肢の中でもエッチング加工は、スリット幅のバラツキを小さくすることができるのでより好ましい。実施形態に係る光導波路構造は、スリット幅のバラツキに対する耐性があるが、スリット幅のバラツキを小さくすることが出来れば、コアとスリットとの間におけるクラッドの幅を狭く設計することができ、このことは、結合損失を低減することに資する。
【００５６】
ここで、スリット６１ａの深さは、図９に示すように、基板１０１の一部を含む深さまで到達させることが好ましい。一般に光導波路回路１００のクラッド（下部クラッド１０２ｃおよび上部クラッド１０２ｄ）の厚さは１００μｍ以下であり、１／２波長板７１を十分に安定させるためには、基板１０１の一部を含む深さまで到達させることが好ましい。なお、スリット６１ａをエッチング加工によって形成する場合、クラッドを四フッ化炭素（ＣＦ６）等のエッチング剤でエッチングし、シリコンからなる基板を六フッ化硫黄（ＳＦ６）等のエッチング剤でエッチングすればよい。
【００５７】
なお、上記製造方法例では、基板１０１の一部を含む深さのスリット６１ａを形成するものとしたが、クラッド（下部クラッド１０２ｃおよび上部クラッド１０２ｄ）のみに形成したスリット６１であっても、１／２波長板７１を十分に安定させることできる構成を採用し得る。例えば、図１０に示すように、スリット６１の縁にガラスブロック８１等を配置し、１／２波長板７１をガラスブロック８１に固定する構成とすることも可能である。
【００５８】
（変形実施形態）
上記説明した実施形態に係る光導波路回路は、ＤＰ−ＱＰＳＫ変調方式の復調器に用いられるコヒーレントミキサとして使用することを想定した構成例であるが、本発明の実施はこれに限定されるものではない。例えば、図１１に示すように、実施形態に係る光導波路回路を偏波分波器（または偏波合波器）に適用することも可能である。
【００５９】
図１１は、実施形態に係る光導波路回路を偏波分波器に適用した例を示す図である。図１１に示すように、光導波路回路２００は、Ｙ分岐光導波路９１と方向性結合器９３とＹ分岐光導波路９１および方向性結合器９３を接続する２本のアーム光導波路９２ａ、９２ｂとを備えており、マッハツェンダー型干渉計の構成を有している。
【００６０】
２本のアーム光導波路９２ａ、９２ｂの途中には、スリット６３が設けられ、当該スリット６３にはそれぞれ１／４波長板７２、７３が挿入されている。ここで、アーム光導波路９２ａの途中に挿入された１／４波長板７２は、遅軸が基板と垂直になるように挿入され、アーム光導波路９２ｂの途中に挿入された１／４波長板７３は、遅軸が基板と水平になるように挿入されている。
【００６１】
以上の構成により、光導波路回路２００は、入力された信号光Ｌ２を偏波分波する偏波分波器として機能する。また、以上の構成の光導波路回路２００におけるスリット６３においても、上記説明した実施形態に係る光導波路構造を適用することが可能である。そして、実施形態に係る光導波路構造を適用する結果、スリット６３の幅のバラツキによる光導波路の損失のバラツキを抑制することができる光導波路回路２００が実現される。
【００６２】
以上、本発明を実施形態に基づいて説明してきたが、上記実施形態により本発明が限定されるものではない。上記各実施形態の各構成要素を適宜組み合わせて構成したものも本発明に含まれる。また、さらなる効果や変形例は、当業者によって容易に導き出すことができる。よって、本発明のより広範な態様は、上記の実施の形態に限定されるものではなく、様々な変更が可能である。
【符号の説明】
【００６３】
１００、２００  光導波路回路
１０１  基板
１０２、１０２ａ、１０２ｂ  クラッド
１０２ｃ  下部クラッド
１０２ｄ  上部クラッド
１０３、１０３ａ、１０３ｂ  コア
１１、１２  入力光導波路
２１  偏波分波器
３１、３２、３３、３４  接続光導波路
４１、４２  ９０度ハイブリッド素子
５１、９１  Ｙ分岐光導波路
６１、６１ａ、６２、６３  スリット
７１  １／２波長板
７２、７３  １／４波長板
８１  ガラスブロック
９２ａ、９２ｂ  アーム光導波路
９３  方向性結合器
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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