(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマトーチに巻回された誘導コイルにプラズマ生成用高周波電力を供給する自励発
振方式の電力供給部を具備するＩＣＰ分析装置において、
a) 前記電力供給部の出力周波数を測定する周波数測定部と、
b) プラズマトーチの種類毎のプラズマ点灯前と後の出力周波数の差である基準出力周
波数差が保存されている記憶部と、
c) 前記周波数測定部が測定したプラズマ点灯前と後の測定出力周波数の差が、前記記
憶部に保存されている基準出力周波数差のいずれかと一致するか否かを判定し、通知する
トーチ判定部と
を備えることを特徴とするＩＣＰ分析装置。
【請求項２】
更に、
d) 前記プラズマトーチのプラズマ点灯を検出するトーチ点灯検出部と
を備えることを特徴とする請求項１に記載のＩＣＰ分析装置。
【請求項３】
更に、
e) 前記トーチ判定部において判定を行った基準出力周波数差に対応するプラズマトー
チの種類が、前記ＩＣＰ分析装置に装着されたプラズマトーチの種類と異なると判定され
た場合に、別の種類のプラズマトーチの基準出力周波数差に自動で切り換えるトーチ自動
設定部と
を備えることを特徴とする請求項１に記載のＩＣＰ分析装置。
【請求項４】
更に、
f) 前記トーチ判定部において判定を行った基準出力周波数差に対応するプラズマトー
チの種類が、前記ＩＣＰ分析装置に装着されたプラズマトーチの種類と異なると判定され
た場合に、装着されたプラズマトーチに最適なパラメータ設定値に自動で変更する制御部
、
を備えることを特徴とする請求項１に記載のＩＣＰ分析装置。
【請求項５】
前記制御部が、前記装着されたプラズマトーチに対し、前記記憶部に保存されている複
数のプラズマトーチのそれぞれに対応する高周波電力を、その電力が小さい順に供給する
ことを特徴とする請求項４に記載のＩＣＰ分析装置。
【請求項６】
更に、
g) オペレータにより制御部に設定されたプラズマトーチの種類に対応した基準出力周
波数差とプラズマ点灯前と後の測定出力周波数の差が異なると判定され、それが通知され
た場合に、前記電力供給部からプラズマトーチに巻回された誘導コイルへの高周波電力の
供給を停止させる電力供給停止部
を備えることを特徴とする請求項１に記載のＩＣＰ分析装置。
【請求項７】
プラズマトーチと、該プラズマトーチに巻回された誘導コイルにプラズマ生成用高周波
電力を供給する自励発振方式の電力供給部を具備するＩＣＰ分析装置において、
プラズマ点灯前と点灯後に前記電力供給部の出力周波数を測定し、
プラズマ点灯前に測定された出力周波数と点灯後に測定された出力周波数の差が、予め
記憶部に保存された基準出力周波数差と一致するか否かを判定し、判定の結果を通知する
ことを特徴とするＩＣＰ分析装置のプラズマトーチ判定方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＩＣＰ（Inductively Coupled Plasma：誘導結合プラズマ）発光分析装置やＩＣＰ質量分析装置など、液体試料をプラズマ発光させる或いはイオン化させるＩＣＰ光源を用いたＩＣＰ分析装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＩＣＰ発光分析装置は、プラズマ中に導入され、励起された試料原子が低エネルギー準位に遷移するときに放出する光を分光することにより得られる原子スペクトルの波長や強度を測定することにより、試料に含まれる元素の定性、定量分析を行う。
【０００３】
ＩＣＰ発光分析装置は、図５に示すように、プラズマ形成用の、誘導コイル３１１が巻回されたプラズマトーチ３１０と、該プラズマトーチ３１０に試料を導入する試料導入部３４０と、プラズマトーチ３１０へプラズマガス等を供給し、流量を制御するガス流量制御部３５０と、前記誘導コイル３１１に高周波電力を供給する電力供給部３２０と、各部を制御するための制御部３３０を有する（例えば、特許文献１）。
【０００４】
ＩＣＰ発光分析装置３００を用いて試料の分析を行うために、まず、ガス流量制御部３５０からプラズマトーチ３１０へプラズマガス及び冷却ガスを所定流量で供給しつつ誘導コイル３１１に所定の高周波電力を供給し、火花放電を利用して高周波誘導プラズマを点灯する。試料導入部３４０にはガス流量制御部３５０からキャリアガスが供給されており、このキャリアガス中に注入され、霧化された試料が前記プラズマ中に導入されることで、試料分子の励起発光が生じる。
【０００５】
電力供給部として、特許文献２のような自励発振方式の高周波電源が提案されている。自励発振方式の高周波電源では、該高周波電源内に設けられたコンデンサとプラズマトーチに設けられた誘導コイルによりＬＣ共振回路を構成し、この共振によりプラズマトーチに安定した高周波電力を供給する。
【０００６】
プラズマトーチは測定する試料の種類や用途によって使い分けられる。例えば、高塩用のプラズマトーチは析出した塩の付着を防止するために出口付近の形状が標準のプラズマトーチよりも大きくなっている。また、有機溶媒用のプラズマトーチは、プラズマトーチ内での試料の揮発分を見込んでその分内容積が小さくなっている。このようにプラズマトーチは種類毎にその形状や内容積が異なっており、それに応じて高周波電力の供給量や各種ガス流量の適正値が異なる。従って、オペレータはＩＣＰ分析装置に対して試料の分析に最適なプラズマトーチを装着するとともに、ＩＣＰ分析装置に装着したプラズマトーチの種類を制御部に設定し、該制御部がその設定に従って供給電力及びガス流量の制御を行っていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開2007-205899号公報
【特許文献２】特表2012-039035号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
上述のとおり、ＩＣＰ分析装置に取り付けられるプラズマトーチの種類は、オペレータによって手動で設定される。オペレータがこの設定を誤ると、実際に装着されたプラズマトーチとは異なる種類のプラズマトーチに対応する高周波電力やガス量が供給されてしまい、プラズマトーチの温度が上がりすぎて溶損したり、その熱によって周囲の部品が損傷したりするおそれがあった。
【０００９】
このような溶損等を防止するためには、プラズマトーチの種類を直接検出する手段を設けることが好ましい。しかしながら、プラズマトーチ周辺は誘導コイル中に流れる高周波電流が電気的なノイズとなり、電気的なセンサやスイッチ等によりプラズマトーチの種類を検出することが難しい。
【００１０】
本発明が解決しようとする課題は、自励発振方式の高周波電源を備えるＩＣＰ分析装置において、装着されたプラズマトーチの種類を判定可能なＩＣＰ分析装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記課題を解決するために成された本発明の第１の態様は、プラズマトーチに巻回された誘導コイルにプラズマ生成用高周波電力を供給する自励発振方式の電力供給部を具備するＩＣＰ分析装置において、
a) 前記電力供給部の出力周波数を測定する周波数測定部と、
b) プラズマトーチの種類毎の基準出力周波数が保存されている記憶部と、
c) 前記周波数測定部が測定したプラズマ点灯後の測定出力周波数が、前記記憶部に保存されている基準出力周波数のいずれかと一致するか否かを判定し、通知するトーチ判定部と
を備えることを特徴とする。
【００１２】
本発明に係るＩＣＰ分析装置では、使用され得るプラズマトーチの種類毎に最適な高周波電力を供給した場合の出力周波数を予め測定し、それらを基準出力周波数として記憶部に保存しておく。
試料の分析を行う際に、オペレータはプラズマトーチをＩＣＰ分析装置の所定の箇所にセットするとともに、セットしたプラズマトーチの種類を制御部に設定する。このとき誤って、制御部に設定するプラズマトーチの種類を実際にセットしたものと異なるものとした場合、あるいは、制御部に設定するプラズマトーチと異なる種類のプラズマトーチをセットした場合、周波数測定部により測定された周波数は設定されたプラズマトーチに対応する基準周波数及び、その他のいずれのプラズマトーチの基準周波数とも異なる値となる。トーチ判定部はこれを検出し、その旨を通知する。通知は、モニタなどの表示装置、ランプ等による表示や、スピーカによる警告音等でもよいし、通信により遠方に通知するというものであってもよい。
【００１３】
なお、本発明は、予めオペレータがプラズマトーチの種類を制御部に設定しないＩＣＰ分析装置についても適用することができる。この場合、制御部は、使用可能な複数のプラズマトーチに対応する各高周波電力を、それらの低い順にプラズマトーチに供給してゆく。トーチ判定部は、ある高周波電力が供給されている間、測定周波数を、記憶部に保存されている複数の基準周波数と比較し、いずれとも一致しない場合には制御部にそれを通知する。制御部はそれに応じて、高周波電力を次の段階（一つ高い値）に上昇させる。これを繰り返し、実際にセットされたプラズマトーチに対応する高周波電力が供給された時点で測定周波数がいずれかの基準周波数と一致するため、制御部はそこで供給高周波電力を維持し、分析を開始する。
【００１４】
上記課題を解決するために成された本発明の第２の態様は、プラズマトーチに巻回された誘導コイルにプラズマ生成用高周波電力を供給する自励発振方式の電力供給部を具備するＩＣＰ分析装置において、
a) 前記電力供給部の出力周波数を測定する周波数測定部と、
b) プラズマトーチの種類毎のプラズマ点灯前と後の出力周波数の差である基準出力周波数差が保存されている記憶部と、
c) 前記周波数測定部が測定したプラズマ点灯前と後の測定出力周波数の差が、前記記憶部に保存されている基準出力周波数差のいずれかと一致するか否かを判定し、通知するトーチ判定部と
を備えることを特徴とする。
【００１５】
プラズマ点灯後の出力周波数は、主に、プラズマトーチの種類、高周波電源内に設けられたコンデンサの値、誘導コイルの形状等によって決まるが、誘導コイルが他の部材と接触したり経年変化等により変形した場合、その変形量に応じて出力周波数が変化する場合がある。この場合、記憶部に保存されている基準出力周波数が誘導コイル変形前の値であると、変形後のプラズマトーチの種類を判定することができない。一方で、誘導コイルの変形に伴い出力周波数はプラズマ点灯前と、後で同様に変化する。従って、プラズマ点灯前と点灯後の出力周波数の差は、誘導コイルに変形が発生した場合でも略変わらない。また、この出力周波数差はプラズマトーチの種類毎に異なる。従って、プラズマ点灯前後の該出力周波数の差を基準出力周波数差として記憶部に保存し、プラズマトーチの判定に用いることで誘導コイルの変形の有無にかかわらず正確な判定を行うことができる。
【００１６】
上記ＩＣＰ分析装置では、さらに、前記プラズマトーチのプラズマ点灯を検出するトーチ点灯検出部を備えることが望ましい。
【００１７】
プラズマは電力供給開始から一定時間が経過すると点灯するため、本発明の第１及び第２の態様のようにプラズマトーチ点灯検出部がなくても、プラズマの点灯を判定することは可能である。しかし、プラズマが確実に点灯しているタイミングで出力周波数を測定するために、通常は、プラズマが実際に点灯した時点よりも所定時間経過してから周波数測定部が出力周波数を測定するように構成されており、その分、プラズマトーチの判定が遅れる。トーチ点灯検出部を設けることで、プラズマが点灯した直後にプラズマトーチの判定を行うことができる。
【００１８】
ここで、トーチ点灯検出部は光センサ、熱センサ等の各種センサや、電力計等の計器のいずれかで構成することができる。光センサや熱センサ等を利用する構成では、センサを誘導コイルから離れた位置に設け、プラズマが点灯した際に発生する光や熱をこれらのセンサで検出することでプラズマの点灯を検出することができる。また電力計を電力供給部に設け、プラズマ点灯による電力の増加を検出することでプラズマの点灯を検出することもできる。
【００１９】
また、本発明に係るＩＣＰ分析装置は、オペレータにより制御部に設定されたプラズマトーチの種類に対応した基準出力周波数と測定出力周波数が異なると判定され、それが通知された場合に、前記電力供給部からプラズマトーチに巻回された誘導コイルへの高周波電力の供給を停止させる電力供給停止部を備えるものとしてもよい。
【００２０】
トーチ判定部において、プラズマトーチの種類に対応した基準出力周波数と測定出力周波数が異なると判定され、それが通知された場合には、電力供給停止部が電力供給部の動作を停止させる。
【発明の効果】
【００２１】
本発明に係るＩＣＰ分析装置によれば、プラズマ点灯後の測定出力周波数と、予め求めておいたプラズマトーチの種類毎の基準出力周波数が一致するか否かを判定し、その結果を通知するため、オペレータはこの通知に基づき制御部に設定したプラズマトーチの種類と実際にセットしたプラズマトーチの種類が一致するか否かを容易に判断することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の第１の実施例によるＩＣＰ発光分析装置の概略構成図。
【図２】同実施例においてプラズマトーチの種類を判定するフローチャート。
【図３】本発明の第２の実施例によるＩＣＰ発光分析装置の概略構成図。
【図４】同実施例においてパラメータ設定値を自動で設定するフローチャート。
【図５】従来のＩＣＰ発光分析装置の概略構成図。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、本発明を実施するための形態について図面を参照しつつ説明する。
【実施例１】
【００２４】
図１は、本発明の第１の実施例によるＩＣＰ発光分析装置１００の概略構成図である。このＩＣＰ発光分析装置１００は、プラズマ形成用のガスが導入されるプラズマトーチ１１０と、キャリアガスに注入され、霧化された試料をプラズマトーチ１１０に導入する試料導入部１４０と、プラズマトーチ１１０及び試料導入部１４０へ冷却ガス等のガスを供給するガス流量制御部１５０とプラズマトーチ１１０に巻回された誘導コイル１１１に高周波電力を供給する電力供給部１２０と、各部を制御するための制御部１３０と、プラズマからの光を分光する分光器１７１と、該分光された光を検出し検出データとして出力する検出器１７２と、該検出データの処理を行うデータ処理部１６０と、プラズマトーチ毎のパラメータを保存するための記憶部１９０を有する。
【００２５】
電力供給部１２０は、誘導コイル１１１と電力供給部１２０内部に設けられたコンデンサによりＬＣ共振回路を構成する自励発振方式の高周波電源である。電力供給部１２０は、制御部１３０からの指令に基づいて誘導コイル１１１に高周波電流を流す。この高周波電流の出力周波数は電力供給部１２０に設けられた高周波電流用の周波数カウンタ等の周波数測定部１２１により測定される。
【００２６】
制御部１３０は各種演算を行うＣＰＵ（Central Processing Unit：中央演算処理装置）やメモリやハードディスクなどの大容量記憶装置等からなり、ガス流量制御部１５０から供給する各種ガス（プラズマガス、冷却ガス、キャリアガス）の流量や導入タイミングの制御を行ったり、電力供給部１２０に対して電力供給量の制御を行ったりする。制御部１３０内のパラメータ設定部１３１、トーチ判定部１３２、電力供給停止部１３３の各部は、制御部１３０のＣＰＵが所定のプログラムを実行することにより実現される（トーチ判定部１３２は回路等によってハード的に構成されていてもよい。）。制御部１３０には、オペレータが各種設定を行うための入力部１３７と、設定情報や取得した試料のデータなどを表示するための表示部１３８が接続される。
【００２７】
記憶部１９０はメモリやハードディスク等の大容量記憶装置であり、制御部１３０によりデータの入出力が行われる。記憶部１９０には、ＩＣＰ発光分析装置１００に装着されるプラズマトーチ１１０の種類、該トーチ毎に規定された各種ガスの流量や導入タイミング、誘導コイル１１１に対する電力供給量などの設定値がパラメータ設定値１９１として保存されている。また、該パラメータ設定値１９１がプラズマトーチの種類に応じて適切に設定された場合の出力周波数である基準出力周波数１９２も、プラズマトーチの種類毎に記憶されている。
【００２８】
分光器１７１はプラズマから発せられる光を分光し、該分光された光を検出器１７２へ導入する。検出器１７２へ導入された光は検出器１７２により検出され、光の強度に応じた検出データがデータ処理部１６０に出力される。検出データはデータ処理部１６０により各種データ処理が行われ、その結果は制御部１３０に送られて表示部１３８に表示される。
【００２９】
本実施例におけるＩＣＰ発光分析装置１００の動作を図１及び２を参照しつつ説明する。図２はＩＣＰ発光分析装置１００に取り付けられたプラズマトーチの判定を行うフローチャートである。本実施例ではオペレータは、分析する試料に最適な種類のプラズマトーチをＩＣＰ発光分析装置１００に取り付け、そのプラズマトーチの種類を制御部１３０に接続された入力部１３７から予め設定しておく。この状態で、オペレータが所定の操作を行うことによりプラズマ点灯処理の開始を指示すると、パラメータ設定部１３１は記憶部１９０にアクセスして予めオペレータにより制御部１３０に設定されているプラズマトーチの種類に対応したパラメータ設定値１９１を取得する。そして、その設定値をガス流量制御部１５０、試料導入部１４０及び電力供給部１２０に送信し、各部の設定を行う（ステップＳ１１）。次に、制御部１３０により各種ガス及び電力供給開始の指令が送信されると、ガス流量制御部１５０により各種ガスがプラズマトーチ１１０へ供給され、電力供給部１２０により誘導コイル１１１に高周波電力が供給される（ステップＳ１２）。
【００３０】
電力供給の開始後に、電力供給部１２０は周波数測定部１２１によって出力周波数を測定し、測定の結果を測定出力周波数として制御部１３０へ出力し続ける。制御部１３０は、電力供給が開始された時刻からの経過時間を計測し、プラズマが点灯するのに必要な時間が経過するまで待機する（ステップＳ１３でＮＯ）。この時間が経過すると、プラズマが点灯したと判定し（ステップＳ１３でＹＥＳ）、測定出力周波数を制御部１３０内のメモリに保持する（ステップＳ１４）。
【００３１】
次に制御部１３０内のトーチ判定部１３２は、予めオペレータが設定したプラズマトーチの種類に対応する基準出力周波数１９２と測定出力周波数を比較する。測定出力周波数と基準出力周波数１９２が一致した場合には（ステップＳ１５でＹＥＳ）、分析装置１００に装着されているプラズマトーチ１１０の種類が、制御部１３０に設定されているパラメータ設定値に対応したプラズマトーチであると判定し、表示部１３８によりオペレータに通知する。その後、制御部１３０は試料導入部１４０へ試料を注入する指令を出し、試料の分析を開始する（ステップＳ１６）。
【００３２】
測定出力周波数と基準出力周波数１９２が一致しない場合には（ステップＳ１５でＮＯ）、装着されているプラズマトーチ１１０の種類はオペレータが制御部１３０に設定したプラズマトーチではないと判定する。そして、制御部１３０の電力供給停止部１３３は、電力供給部１２０、ガス流量制御部１５０、試料導入部１４０にそれぞれ高周波電力、各種ガスの供給を停止させる指令を出し、電力及びガスの供給を停止させる（ステップＳ１７）。このとき、トーチ判定部１３２はオペレータにプラズマトーチの設定が誤っていることを知らせるための警告表示を表示部１３８に出力する（ステップＳ１８）。
【実施例２】
【００３３】
続いて、本発明の第２の実施例によるＩＣＰ発光分析装置について説明する。図３は本発明の第２の実施例によるＩＣＰ発光分析装置２００の概略構成図である。本実施例は、第１の実施例の構成に加えて、プラズマトーチ２１０の点灯を検出するためのトーチ点灯判定部２８０と、制御部２３０にトーチ自動設定部２３４とを設けている。記憶部２９０には、基準出力周波数に替えて、基準出力周波数差２９２が保存されている。また、電力供給停止部は設けていない。その他の構成については、図１と同様であるため、既に説明したものと同一又は対応する構成要素については下二桁が共通する符号を付し、適宜説明を省略する。
【００３４】
ＩＣＰ発光分析装置２００の動作を図３及び４を参照しつつ説明する。図４は分析に使用するパラメータ設定値を自動で決定するフローチャートである。オペレータは、分析する試料に最適な種類のトーチをＩＣＰ発光分析装置２００に予め取り付けておく。まず、オペレータが所定の操作を行うことによりプラズマ点灯処理の開始を指示する。パラメータ設定部２３１は記憶部２９０に保存されたパラメータ設定値２９１の中から、供給電力の値が最も小さい設定値を読み出す。そして、電力供給部２２０、試料導入部２４０、ガス流量制御部２５０に送信し、各部の設定を行う（ステップＳ２１）。次に、制御部２３０は各種ガス及び電力供給の指令を送信し、これによりガス流量制御部２５０により各種ガスがプラズマトーチ２１０へ供給され、電力供給部２２０により誘導コイル２１１に高周波電力が供給される（ステップＳ２２）。
【００３５】
電力の供給が開始されると、周波数測定部２２１は電力供給部２２０から誘導コイル２１１に供給される高周波電流の出力周波数を測定する。測定された出力周波数は、制御部２３０に送信され続ける。制御部２３０は、送信されてくる測定出力周波数のうち、プラズマが点灯する前の測定出力周波数をメモリに保持する（ステップＳ２３）。
【００３６】
トーチ点灯検出部２８０は、ＣＣＤ（Charge Coupled Device：電荷結合素子）等の光センサでありプラズマからの光を検出し、発光の有無を制御部へ出力する。
【００３７】
制御部２３０は、トーチ点灯検出部２８０から出力される検出信号をモニタし、プラズマ点灯の有無を判定する。プラズマが点灯するまでの間、制御部２３０はトーチ点灯検出部２８０からの通知を待ち続ける（ステップＳ２４でＮＯ）。プラズマが点灯すると該プラズマから発せられる光によりトーチ点灯検出部２８０の出力が増加するため、制御部２３０は該出力が予め設定された閾値を超えると、プラズマが点灯したものとして判定する（ステップＳ２４でＹＥＳ）。
【００３８】
プラズマ点灯の判定がなされると、制御部２３０は、プラズマ点灯後の測定出力周波数をメモリに保持する（ステップＳ２５）。
【００３９】
次に制御部２３０内のトーチ判定部２３２はプラズマ点灯前の測定出力周波数（ステップＳ２３の測定結果）と、プラズマ点灯後の測定出力周波数（ステップＳ２５の測定結果）の差分である測定出力周波数差を算出する。そして、前記測定出力周波数差を記憶部２９０に保存された基準出力周波数差２９２と比較し、いずれかの基準周波数差と一致するか否かを判定し、その結果を表示部２３８に表示することでオペレータに通知する。
【００４０】
また、上記の判定において、測定出力周波数差と基準出力周波数差２９２が一致しないと判定されると（ステップＳ２６でＮＯ）、制御部２３０は、電力供給部２２０、ガス流量制御部２５０、試料導入部２４０にそれぞれ高周波電力、各種ガスの供給を停止させる指令を出し、電力及びガスの供給を停止させる（ステップＳ２８）。
【００４１】
その後、トーチ自動設定部２３４は記憶部２９０に保存されている別のパラメータ設定値２９１を読み出し、ガス流量制御部２５０、試料導入部２４０及び電力供給部２２０へ設定する（ステップＳ２９）。このとき記憶部２９０から読み出すパラメータ設定値２９１は、供給電力が現在設定されている電力値の次に小さいものを読み出す。以降、パラメータ設定値２９１を変更する場合には、電力値が小さいものから順番に読み出す。
【００４２】
パラメータ設定値２９１の変更後、上述したステップＳ２２→Ｓ２３→Ｓ２４の処理を実施する。これらの処理を測定出力周波数差と基準出力周波数差２９２が一致している判定されると（ステップＳ２６でＹＥＳ）、制御部２３０は試料導入部２４０へ試料を注入する指令を出し、試料の分析を開始する（ステップＳ２７）。
【００４３】
このように上記実施例では、測定出力周波数差と基準出力周波数差２９２が一致するか否かの判定を行うことで、ＩＣＰ発光分析装置２００に装着されているプラズマトーチの種類を確認することができる。また、制御部２３０が自動でパラメータ設定値を変更し、装着されているプラズマトーチの種類に応じた設定で分析を行うことができる。
【００４４】
以上、本発明に係るＩＣＰ発光分析装置の実施形態について説明したが、本発明の趣旨の範囲であれば、適宜変更、修正を行うことができる。例えば、上記実施例ではトーチ点灯検出部として光センサを設けたが、検出器を光センサとして使用することも可能である。この構成では光センサを別途設ける必要がなくなる。
また、第１の実施例においてトーチ判定部を設けたり、第２の実施例においてトーチ判定部を設けずに、時間経過によりプラズマの点灯の判定を行ってもよい。
さらに第１の実施例のプラズマ点灯後の出力周波数に基づいてプラズマトーチの種類を判定する構成にトーチ自動設定部を設け、自動でトーチを設定する構成とすることもできる。また、第２の実施例のプラズマ点灯前後の出力周波数差に基づいてプラズマトーチの種類を判定する構成に電力供給停止部を設け、オペレータが予め設定したプラズマトーチと装着されているプラズマトーチの種類が異なると判定された場合に電力供給部の電力供給を自動で停止させる構成としてもよい。
【符号の説明】
【００４５】
１００、２００…ＩＣＰ発光分析装置
１１０、２１０…プラズマトーチ
１１１、２１１…誘導コイル
１２０、２２０…電力供給部
１２１、２２１…周波数測定部
１３０、２３０…制御部
１３１、２３１…パラメータ設定部
１３２、２３２…トーチ判定部
１３３…電力供給停止部
２３４…トーチ自動設定部
１３７、２３７…入力部
１３８、２３８…表示部
１４０、２４０…試料導入部
１５０、２５０…ガス流量制御部
１６０、２６０…データ処理部
１７１、２７１…分光器
１７２、２７２…検出器
２８０…トーチ点灯検出部
１９０、２９０…記憶部
１９１、２９１…パラメータ設定値
１９２…基準出力周波数
２９２…基準出力周波数差
【図１】
0006623557.tif 000002
【図２】
0006623557.tif 000003
【図３】
0006623557.tif 000004
【図４】
0006623557.tif 000005
【図５】
0006623557.tif 000006