(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
被絶縁体が内部に配置されるための真空容器と、
真空ポンプと、
前記真空容器内と前記真空ポンプを連結する排気管とを備える絶縁処理装置であって、
液体状の絶縁体が内部に収容される絶縁体収納容器と、
前記真空容器内と前記絶縁体収納容器内とを連結する絶縁体導入管と、
前記排気管中に形成された排気管バルブと、
前記絶縁体導入管中に形成された絶縁体導入管バルブとを備え、
前記絶縁体収納容器には、内部に収容されている前記絶縁体の量を検出する残量センサが設置されており、
前記排気管バルブが開放されることで、前記真空容器内が真空にされた後、前記絶縁体導入管バルブが開放されることで、前記真空容器内に配置された前記被絶縁体に前記絶縁体が供給され、
前記残量センサは、前記絶縁体の量が所定値以下になったことを検知したときには、前記絶縁体導入管バルブを閉止することを特徴とする絶縁処理装置。
【請求項２】
前記被絶縁体は、高電圧発生装置又は高周波発生装置であることを特徴とする請求項１に記載の絶縁処理装置。
【請求項３】
前記絶縁体収納容器には、前記絶縁体を前記絶縁体導入管に導くための加圧機構が設置されていることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の絶縁処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、回路基板上等に絶縁体層を形成するための絶縁処理装置（真空ポッティング装置）及びそれにより製造された絶縁処理物（例えば高電圧発生装置や高周波発生装置等）に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子線が照射された試料表面上の分析位置からは試料表面に含まれる元素に特有のエネルギーを有する特性Ｘ線が発生するため、この特性Ｘ線を検出してそのエネルギー及び強度を分析することにより、試料表面上の分析位置に存在する元素の同定や定量を行う電子線マイクロアナライザ（ＥＰＭＡ：「電子線プローブ微小部分析装置」ともいう）が開示されている（例えば、特許文献１参照）。
このようなＥＰＭＡや走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）等には、一般的に高電圧発生装置が設けられている。
【０００３】
高電圧発生装置Ａは、直方体形状（例えば２０ｃｍ×１０ｃｍ×５ｃｍ）のケース２０と、ケース２０内部の中央部に配置された回路基板３０（セラミックコンデンサ、ダイオード、高圧抵抗等で構成）とを有する。
そして、ケース２０内部には、絶縁体層（エポキシ樹脂、シリコン樹脂、ウレタン樹脂等）が形成されており、この絶縁体層内部の中央部分に回路基板３０が埋め込まれている。
【０００４】
ところで、このような高電圧発生装置Ａでは、放電が生じないように異なる電位の素子間を絶縁する必要がある。そのため、素子間にオイルやガスや固体等の絶縁体が満たされているが、絶縁性能や加工の容易さや環境への配慮等の点から、絶縁体層の固体による絶縁が行われている。
【０００５】
ここで、回路基板３０上に絶縁体層が形成された高電圧発生装置（絶縁処理物）Ａを製造する製造方法について説明する。まず、ケース２０内部の中央部に回路基板３０を配置し、容器等に収容された液体状の絶縁体をケース２０内部に流し込む（ポッティング工程）。このポッティング工程時に液体状の絶縁体が空気を巻き込んでしまうことにより、ケース２０内部に形成された絶縁体層内には気泡が存在するため、ポッティング工程後に高電圧発生装置（被絶縁体）Ａ’を真空容器内に配置し、真空容器内を真空状態として絶縁体層内から気泡を除去している（脱泡工程）。最後に、脱泡工程実行後の高電圧発生装置Ａ’の絶縁体層を常温又は加熱によって硬化させること（硬化工程）により高電圧発生装置Ａを得ている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００８−５８１５９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、上述したような製造方法では、液体状の絶縁体の粘度が高い場合や、表面積が大きい（特に回路基板３０の素子のように細かい凹凸がある）場合には、形成された絶縁体層内から完全に気泡を除去することができず、放電原因となる気泡が絶縁体層内に存在したままとなって、製品の歩留まり悪化につながるという問題点があった。
そこで、本発明は、回路基板上等に気泡が存在しない絶縁体層を形成することができる絶縁処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するためになされた本発明の絶縁処理装置は、被絶縁体が内部に配置されるための真空容器と、真空ポンプと、前記真空容器内と前記真空ポンプを連結する排気管とを備える絶縁処理装置であって、液体状の絶縁体が内部に収容される絶縁体収納容器と、前記真空容器内と前記絶縁体収納容器内とを連結する絶縁体導入管と、前記排気管中に形成された排気管バルブと、前記絶縁体導入管中に形成された絶縁体導入管バルブとを備え、前記絶縁体収納容器には、内部に収容されている前記絶縁体の量を検出する残量センサが設置されており、前記排気管バルブが開放されることで、前記真空容器内が真空にされた後、前記絶縁体導入管バルブが開放されることで、前記真空容器内に配置された前記被絶縁体に前記絶縁体が供給され、前記残量センサは、前記絶縁体の量が所定値以下になったことを検知したときには、前記絶縁体導入管バルブを閉止するようにしている。
ここで、「所定値」とは、真空容器内に空気が流入しないように設計者等によって予め決定された任意の数値である。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の絶縁処理装置によれば、ポッティング工程後に脱泡工程を行うのではなく、真空容器内に被絶縁体を配置し、真空容器内を真空引きした後、真空容器内に絶縁体を引き込むようにしているので、絶縁体内への空気の巻き込みをなくして被絶縁体上に気泡が存在しない絶縁体層を形成することができる。
また、本発明の絶縁処理装置によれば、真空容器内への空気の流入を防止することができる。これにより製品の歩留まり及び絶縁性能の向上を実現して高電圧発生装置等の被絶縁体のリップル・ノイズの低減や安定度を向上させることができる。
【００１０】
また、上記した本発明の絶縁処理装置において、前記被絶縁体は、高電圧発生装置又は高周波発生装置であるようにしてもよい。
【００１１】
また、上記した本発明の絶縁処理装置において、前記絶縁体収納容器には、前記絶縁体を前記絶縁体導入管に導くための加圧機構が設置されているようにしてもよい。
【００１２】
以上のように、本発明の絶縁処理装置によれば、絶縁体の粘度が高く真空容器内に引き込みにくい場合は、負圧のみではなく加圧することができる。
【００１３】
そして、上述したような絶縁処理装置で製造される絶縁処理物として、電圧発生装置又は高周波発生装置を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の実施形態に係る絶縁処理装置の一例を示す概略構成図。
【図２】本発明に係る絶縁処理物の製造方法の一例を説明するフローチャート。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明の実施形態について図面を用いて説明する。なお、本発明は、以下に説明するような実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の態様が含まれる。
【００１６】
図１は、本発明の実施形態に係る絶縁処理装置の一例を示す概略構成図である。
絶縁処理装置１は、真空容器１０と、ロータリーポンプ（真空ポンプ）６０と、真空容器１０内とロータリーポンプ６０とを連結する排気管５３と、絶縁体収納容器４０と、真空容器１０内と絶縁体収納容器４０内とを連結する絶縁体導入管５１と、排気管５３と外部とを連結する空気導入管５５と、絶縁体導入管５１中に形成された絶縁体導入管バルブ５２と、排気管５３中に形成された排気管バルブ５４と、空気導入管５５中に形成された空気導入管バルブ５６とを備える。
【００１７】
真空容器１０は、直方体形状（例えば３０ｃｍ×３０ｃｍ×２０ｃｍ）の筐体１１と、筐体１１内の圧力を検出する圧力センサ１２とを備え、筐体１１には扉（図示せず）と内部空間を観察するためのビューポート１３とが形成されている。このような真空容器１０によれば、使用者等によって筐体１１の扉が開かれることにより、絶縁体層形成前の高電圧発生装置Ａ’が所定位置に配置されるようになっている。
【００１８】
絶縁体収納容器４０は、絶縁体が収容されるための筐体４１と、残量センサ４２と、加圧機構４３とを備える。そして、筐体４１の底面と絶縁体導入管５１の一端部とが連結されている。このような絶縁体収納容器４０によれば、使用者等によって筐体４１内に液体状の絶縁体が収容され、真空容器１０内が真空引きされた後に絶縁体導入管バルブ５２が開放されると、筐体４１内に収容された絶縁体が負圧により絶縁体導入管５１を通って真空容器１０の筐体１１内の所定位置（ケース２０内部）に導かれるようになっている。このとき、液体状の絶縁体の粘度が高く筐体１１内に引き込みにくい場合には、絶縁体を絶縁体導入管５１に導くための加圧機構４３によって押し込むことになる。
【００１９】
残量センサ４２は、筐体４１内に収容されている絶縁体の量を検出するものである。そして、残量センサ４２は、絶縁体残量が所定値以下になったことを検知したときには、真空容器１０の筐体１１内への空気の流入を防止するために、絶縁体導入管バルブ５２を自動的に閉止するようになっている。
また、筐体４１内面の表面粗さは、絶縁体を流し込んだときに空気を巻き込まないように、滑らかなものとなっていることが好ましい。
【００２０】
ここで、上述した絶縁処理装置１により、回路基板３０上に絶縁体層が形成された高電圧発生装置（絶縁処理物）Ａを製造する製造方法について、図２のフローチャートを参照しつつ説明する。
まず、ステップＳ１０１の処理において、使用者は、真空容器１０の筐体１１の扉を開いて絶縁体層形成前の高電圧発生装置（被絶縁体）Ａ’を所定位置に配置する。
【００２１】
次に、ステップＳ１０２の処理において、使用者は、全てのバルブ（絶縁体導入管バルブ５２、排気管バルブ５４、空気導入管バルブ５６）を閉止する。
次に、ステップＳ１０３の処理において、使用者は、絶縁体収納容器４０の筐体４１内に液体状の絶縁体を収容する。当該絶縁体としては、例えばエポキシ樹脂、シリコン樹脂、ウレタン樹脂等が挙げられる。
【００２２】
次に、ステップＳ１０４の処理において、使用者は、排気管バルブ５４を開放し、ロータリーポンプ６０を作動させる。これにより、真空容器１０の筐体１１内は真空引きされる。
次に、ステップＳ１０５の処理において、使用者は、圧力センサ１２の圧力値が所定値（例えば１Ｐａ等）以下になったことを確認して、絶縁体導入管バルブ５２を開放する（ポッティング工程開始）。これにより、液体状の絶縁体がケース２０内部に流し込まれる。
【００２３】
次に、ステップＳ１０６の処理において、使用者は、ビューポート１３で真空容器１０の筐体１１内を観察して、所定量の絶縁体がケース２０内部に流し込まれたことを確認し、絶縁体導入管バルブ５２を閉止する（ポッティング工程終了）。
次に、ステップＳ１０７の処理において、使用者は、排気管バルブ５４を閉止する。
【００２４】
次に、ステップＳ１０８の処理において、使用者は、ロータリーポンプ６０の駆動を停止して空気導入管バルブ５６を開放する。
次に、ステップＳ１０９の処理において、使用者は、排気管バルブ５４を開放し、真空容器１０の筐体１１内を空気によりパージする。
【００２５】
最後に、ステップＳ１１０の処理において、使用者は、真空容器１０の筐体１１の扉を開いて高電圧発生装置Ａを取り出す。そして、高電圧発生装置Ａの絶縁体層を常温又は加熱により硬化させる（硬化工程）。
【００２６】
以上のように、本発明の絶縁処理装置１によれば、回路基板３０上に気泡が存在しない絶縁体層を形成することができる。そして、これにより製品の歩留まり及び絶縁性能の向上を実現して高電圧発生装置Ａ等の被絶縁体のリップル・ノイズの低減や安定度を向上させることができる。また、残量センサ４２の設置により、真空容器１０内への空気の流入を防止することができる。
【００２７】
＜他の実施形態＞
（１）上述した絶縁処理装置１では、使用者が各バルブ（絶縁体導入管バルブ５２、排気管バルブ５４、空気導入管バルブ５６）を操作する構成としたが、圧力センサ１２等で検出された数値等に基づいて各バルブをコンピュータが自動的に開閉制御するような構成としてもよい。
【００２８】
（２）上述した実施形態では、高電圧発生装置Ａの製造方法について説明したが、これに代えて高周波発生装置等を製造するようにしてもよい。
【産業上の利用可能性】
【００２９】
本発明は、回路基板上等に絶縁体層を形成するための絶縁処理装置等に利用することができる。
【符号の説明】
【００３０】
１  絶縁処理装置
１０  真空容器
４０  絶縁体収納容器
５１  絶縁体導入管
５２  絶縁体導入管バルブ
５３  排気管
５４  排気管バルブ
６０  ロータリーポンプ（真空ポンプ）
【図１】
0006550941.tif 000002
【図２】
0006550941.tif 000003