(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記構造式（１）で表される化合物の製造方法であって、
トレハロースにベンジル基を導入し、下記構造式４ａで表される化合物及び下記構造式４ａ’で表される化合物の少なくともいずれかを製造する工程と、
下記構造式４ａで表される化合物及び下記構造式４ａ’で表される化合物の少なくともいずれかをプレニル化し、下記構造式３ａで表される化合物及び下記構造式３ａ’で表される化合物の少なくともいずれかを製造する工程と、
下記構造式３ａで表される化合物及び下記構造式３ａ’で表される化合物の少なくともいずれかをシャープレス不斉ジヒドロキシ化し、下記構造式２ａで表される化合物及び下記構造式２ａ’で表される化合物の少なくともいずれかを製造する工程と、
下記構造式２ａで表される化合物及び下記構造式２ａ’で表される化合物の少なくともいずれかをパラジウム触媒の存在下で水素と反応させ、下記構造式（１）で表される化合物を製造する工程とを含むことを特徴とする方法。
【化１】
0006560049.tif 000091
【化２】
0006560049.tif 000092
【化３】
0006560049.tif 000093
【化４】
0006560049.tif 000094
【化５】
0006560049.tif 000095
【化６】
0006560049.tif 000096
【化７】
0006560049.tif 000097
ただし、前記構造式４ａ、前記構造式４ａ’、前記構造式３ａ、前記構造式３ａ’、前記構造式２ａ、及び前記構造式２ａ’中、Ｂｎはベンジル基を表わす。
【請求項２】
下記構造式（１）で表される化合物の製造方法であって、
トレハロースにベンジル基を導入し、下記構造式４ａ’で表される化合物を製造する工程と、
下記構造式４ａ’で表される化合物と、下記構造式Ｉで表されるエポキシドとを反応させ、下記構造式２ａ’’で表される化合物を製造する工程と、
下記構造式２ａ’’で表される化合物をパラジウム触媒の存在下で水素と反応させ、下記構造式（１）で表される化合物を製造する工程とを含むことを特徴とする方法。
【化８】
0006560049.tif 000098
【化９】
0006560049.tif 000099
【化１０】
0006560049.tif 000100
【化１１】
0006560049.tif 000101
ただし、前記構造式４ａ’、前記構造式Ｉ、及び前記構造式２ａ’’中、Ｂｎはベンジル基を表わす。
【請求項３】
下記構造式（１）で表される化合物の製造方法であって、
下記構造式２ａで表される化合物、下記構造式２ａ’で表される化合物、及び下記構造式２ａ’’で表される化合物の少なくともいずれかをパラジウム触媒の存在下で水素と反応させる工程を含むことを特徴とする方法。
【化１２】
0006560049.tif 000102
【化１３】
0006560049.tif 000103
【化１４】
0006560049.tif 000104
【化１５】
0006560049.tif 000105
ただし、前記構造式２ａ、前記構造式２ａ’、及び前記構造式２ａ’’中、Ｂｎはベンジル基を表わす。
【請求項４】
下記構造式２ａで表される化合物及び下記構造式２ａ’で表される化合物の少なくともいずれかの製造方法であって、
下記構造式３ａで表される化合物及び下記構造式３ａ’で表される化合物の少なくともいずれかをシャープレス不斉ジヒドロキシ化する工程を含むことを特徴とする方法。
【化１６】
0006560049.tif 000106
【化１７】
0006560049.tif 000107
【化１８】
0006560049.tif 000108
【化１９】
0006560049.tif 000109
ただし、前記構造式２ａ、前記構造式２ａ’、前記構造式３ａ、及び前記構造式３ａ’中、Ｂｎはベンジル基を表わす。
【請求項５】
下記構造式２ａ’’で表される化合物の製造方法であって、
下記構造式４ａ’で表される化合物と、下記構造式Ｉで表されるエポキシドとを反応させる工程を含むことを特徴とする方法。
【化２０】
0006560049.tif 000110
【化２１】
0006560049.tif 000111
【化２２】
0006560049.tif 000112
ただし、前記構造式２ａ’’、前記構造式４ａ’、及び前記構造式Ｉ中、Ｂｎはベンジル基を表わす。
【請求項６】
下記構造式３ａ及び下記構造式３ａ’のいずれかで表される化合物の製造方法であって、
下記構造式４ａで表される化合物及び下記構造式４ａ’で表される化合物の少なくともいずれかをプレニル化する工程を含むことを特徴とする方法。
【化２３】
0006560049.tif 000113
【化２４】
0006560049.tif 000114
【化２５】
0006560049.tif 000115
【化２６】
0006560049.tif 000116
ただし、前記構造式３ａ、前記構造式３ａ’、前記構造式４ａ、及び前記構造式４ａ’中、Ｂｎはベンジル基を表わす。
【請求項７】
下記構造式２ａ、下記構造式２ａ’、及び下記構造式２ａ’’のいずれかで表されることを特徴とする化合物。
【化２７】
0006560049.tif 000117
【化２８】
0006560049.tif 000118
【化２９】
0006560049.tif 000119
ただし、前記構造式２ａ、前記構造式２ａ’、及び前記構造式２ａ’’中、Ｂｎはベンジル基を表わす。
【請求項８】
下記構造式３ａ及び下記構造式３ａ’のいずれかで表されることを特徴とする化合物。
【化３０】
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【化３１】
0006560049.tif 000121
ただし、前記構造式３ａ及び前記構造式３ａ’中、Ｂｎはベンジル基を表わす。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、下記構造式（１）で表される化合物（以下、「レンツトレハロースＡ」と称することがある）の製造方法、並びに前記レンツトレハロースＡの製造方法に有用な化合物及びその製造方法に関する。
【化１】
0006560049.tif 000002
【背景技術】
【０００２】
レンツトレハロースＡは、優れた抗腫瘍作用、骨強化作用、若しくは体重増加抑制作用を有し、甘味料としても利用可能な非常に有用な化合物である（特許文献１、非特許文献１参照）。
【０００３】
従来、前記レンツトレハロースＡは、微生物による生合成により生産されてきた。しかしながら、その生産量は十分とはいえず、合成方法の更なる改良が求められているのが現状である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１４−２２７４０４号公報
【非特許文献】
【０００５】
【非特許文献１】Ｗａｄａ  Ｓ  ｅｔ  ａｌ，  Ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ  ａｎｄ  ｂｉｏｌｏｇｉｃａｌ  ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ  ｏｆ  ｌｅｎｔｚｔｒｅｈａｌｏｓｅ：  ａ  ｎｏｖｅｌ  ｔｒｅｈａｌｏｓｅ  ａｎａｌｏｇ，  Ｊ  Ａｎｔｉｂｉｏｔ  （Ｔｏｋｙｏ）．  ２０１４  Ａｐｒ；６７（４）：３１９−２２
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、効率良くレンツトレハロースＡを製造することができるレンツトレハロースＡの製造方法、並びに前記レンツトレハロースＡの製造に有用な中間体、及びその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
＜１＞  下記構造式（１）で表される化合物の製造方法であって、
トレハロースにベンジル基を導入し、下記構造式４ａで表される化合物及び下記構造式４ａ’で表される化合物の少なくともいずれかを製造する工程と、
下記構造式４ａで表される化合物及び下記構造式４ａ’で表される化合物の少なくともいずれかをプレニル化し、下記構造式３ａで表される化合物及び下記構造式３ａ’で表される化合物の少なくともいずれかを製造する工程と、
下記構造式３ａで表される化合物及び下記構造式３ａ’で表される化合物の少なくともいずれかをシャープレス不斉ジヒドロキシ化し、下記構造式２ａで表される化合物及び下記構造式２ａ’で表される化合物の少なくともいずれかを製造する工程と、
下記構造式２ａで表される化合物及び下記構造式２ａ’で表される化合物の少なくともいずれかをパラジウム触媒の存在下で水素と反応させ、下記構造式（１）で表される化合物を製造する工程とを含むことを特徴とする方法である。
【化２】
0006560049.tif 000003
【化３】
0006560049.tif 000004
【化４】
0006560049.tif 000005
【化５】
0006560049.tif 000006
【化６】
0006560049.tif 000007
【化７】
0006560049.tif 000008
【化８】
0006560049.tif 000009
ただし、前記構造式４ａ、前記構造式４ａ’、前記構造式３ａ、前記構造式３ａ’、前記構造式２ａ、及び前記構造式２ａ’中、Ｂｎはベンジル基を表わす。
＜２＞  下記構造式（１）で表される化合物の製造方法であって、
トレハロースにベンジル基を導入し、下記構造式４ａ’で表される化合物を製造する工程と、
下記構造式４ａ’で表される化合物と、下記構造式Ｉで表されるエポキシドとを反応させ、下記構造式２ａ’’で表される化合物を製造する工程と、
下記構造式２ａ’’で表される化合物をパラジウム触媒の存在下で水素と反応させ、下記構造式（１）で表される化合物を製造する工程とを含むことを特徴とする方法である。
【化９】
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【化１０】
0006560049.tif 000011
【化１１】
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【化１２】
0006560049.tif 000013
ただし、前記構造式４ａ’、前記構造式Ｉ、及び前記構造式２ａ’’中、Ｂｎはベンジル基を表わす。
＜３＞  下記構造式（１）で表される化合物の製造方法であって、
下記構造式２ａで表される化合物、下記構造式２ａ’で表される化合物、及び下記構造式２ａ’’で表される化合物の少なくともいずれかをパラジウム触媒の存在下で水素と反応させる工程を含むことを特徴とする方法である。
【化１３】
0006560049.tif 000014
【化１４】
0006560049.tif 000015
【化１５】
0006560049.tif 000016
【化１６】
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ただし、前記構造式２ａ、前記構造式２ａ’、及び前記構造式２ａ’’中、Ｂｎはベンジル基を表わす。
＜４＞  下記構造式２ａで表される化合物及び下記構造式２ａ’で表される化合物の少なくともいずれかの製造方法であって、
下記構造式３ａで表される化合物及び下記構造式３ａ’で表される化合物の少なくともいずれかをシャープレス不斉ジヒドロキシ化する工程を含むことを特徴とする方法である。
【化１７】
0006560049.tif 000018
【化１８】
0006560049.tif 000019
【化１９】
0006560049.tif 000020
【化２０】
0006560049.tif 000021
ただし、前記構造式２ａ、前記構造式２ａ’、前記構造式３ａ、及び前記構造式３ａ’中、Ｂｎはベンジル基を表わす。
＜５＞  下記構造式２ａ’’で表される化合物の製造方法であって、
下記構造式４ａ’で表される化合物と、下記構造式Ｉで表されるエポキシドとを反応させる工程を含むことを特徴とする方法である。
【化２１】
0006560049.tif 000022
【化２２】
0006560049.tif 000023
【化２３】
0006560049.tif 000024
ただし、前記構造式２ａ’’、前記構造式４ａ’、及び前記構造式Ｉ中、Ｂｎはベンジル基を表わす。
＜６＞  下記構造式３ａ及び下記構造式３ａ’のいずれかで表される化合物の製造方法であって、
下記構造式４ａで表される化合物及び下記構造式４ａ’で表される化合物の少なくともいずれかをプレニル化する工程を含むことを特徴とする方法である。
【化２４】
0006560049.tif 000025
【化２５】
0006560049.tif 000026
【化２６】
0006560049.tif 000027
【化２７】
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ただし、前記構造式３ａ、前記構造式３ａ’、前記構造式４ａ、及び前記構造式４ａ’中、Ｂｎはベンジル基を表わす。
＜７＞  下記構造式４ａ及び下記構造式４ａ’のいずれかで表される化合物の製造方法であって、
トレハロースにベンジル基を導入する工程を含むことを特徴とする方法である。
【化２８】
0006560049.tif 000029
【化２９】
0006560049.tif 000030
ただし、前記構造式４ａ及び前記構造式４ａ’中、Ｂｎはベンジル基を表わす。
＜８＞  下記構造式２ａ、下記構造式２ａ’、及び下記構造式２ａ’’のいずれかで表されることを特徴とする化合物である。
【化３０】
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【化３１】
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【化３２】
0006560049.tif 000033
ただし、前記構造式２ａ、前記構造式２ａ’、及び前記構造式２ａ’’中、Ｂｎはベンジル基を表わす。
＜９＞  下記構造式３ａ及び下記構造式３ａ’のいずれかで表されることを特徴とする化合物である。
【化３３】
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【化３４】
0006560049.tif 000035
ただし、前記構造式３ａ及び前記構造式３ａ’中、Ｂｎはベンジル基を表わす。
＜１０＞  下記構造式４ａ及び下記構造式４ａ’のいずれかで表されることを特徴とする化合物である。
【化３５】
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【化３６】
0006560049.tif 000037
ただし、前記構造式４ａ及び前記構造式４ａ’中、Ｂｎはベンジル基を表わす。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、従来における前記諸問題を解決し、前記目的を達成することができ、効率良くレンツトレハロースＡを製造することができるレンツトレハロースＡの製造方法、並びに前記レンツトレハロースＡの製造に有用な中間体、及びその製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
（構造式４ａ及び構造式４ａ’のいずれかで表される化合物、並びにその製造方法）
本発明の下記構造式４ａ及び下記構造式４ａ’のいずれかで表される化合物は、前記レンツトレハロースＡの製造に有用な中間体であり、本発明の下記構造式４ａ及び下記構造式４ａ’のいずれかで表される化合物の製造方法により好適に製造することができる。
以下、本発明の下記構造式４ａ及び下記構造式４ａ’のいずれかで表される化合物の製造方法の説明と併せて、本発明の下記構造式４ａ及び下記構造式４ａ’のいずれかで表される化合物についても説明する。
【化３７】
0006560049.tif 000038
【化３８】
0006560049.tif 000039
ただし、前記構造式４ａ及び前記構造式４ａ’中、Ｂｎはベンジル基を表わす。
【００１０】
＜構造式４ａ及び構造式４ａ’のいずれかで表される化合物の製造方法＞
前記構造式４ａ及び構造式４ａ’のいずれかで表される化合物の製造方法は、ベンジル基導入工程を少なくとも含み、必要に応じて更にその他の工程を含む。
【００１１】
−ベンジル基導入工程−
前記ベンジル基導入工程は、トレハロースにベンジル基を導入し、前記構造式４ａ及び構造式４ａ’のいずれかで表される化合物を製造する工程である。
【００１２】
前記ベンジル基導入工程としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、ベンジリデン保護処理及びベンジル基（以下、「Ｂｎ」と称することがある）保護処理を行った後、アセタールの位置選択的開裂処理を行うことが好ましい。
【００１３】
前記ベンジリデン保護処理に用いる化合物及びその量、反応条件としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
例えば、前記構造式４ａで表される化合物を主生成物として製造する場合には、前記トレハロース（６．８０ｍｍｏｌ）、ベンズアルデヒドジメチルアセタール（１当量）、及びパラトルエンスルホン酸（５ｍｏｌ％）をジメチルホルムアミドに溶解し、１００℃に加熱後、１６０ｍｍＨｇの減圧下で８時間撹拌し、更にベンズアルデヒドジメチルアセタール（１当量）を加え、１６０ｍｍＨｇの減圧下で１時間撹拌し、更にベンズアルデヒドジメチルアセタール（０．２５当量）を加え、１６０ｍｍＨｇの減圧下で４時間撹拌する処理などが挙げられる。
【００１４】
また、例えば、前記構造式４ａ’で表される化合物を主生成物として製造する場合には、前記トレハロース（１０．４ｍｍｏｌ）、ベンズアルデヒドジメチルアセタール（１．２５当量）、及びパラトルエンスルホン酸（５．０ｍｏｌ％）をジメチルホルムアミドに溶解し、２４０ｍｍＨｇの減圧下で２０時間撹拌する処理などが挙げられる。
【００１５】
前記Ｂｎ保護処理に用いる化合物及びその量、反応条件としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
例えば、前記構造式４ａで表される化合物を主生成物として製造する場合には、前記ベンジリデン保護処理後の生成物をテトラヒドロフランに溶解し、水素化ナトリウム（１０当量）、ヨウ化テトラブチルアンモニウム（７ｍｏｌ％）、臭化ベンジル（６当量）を氷冷下順次加え、室温下で４５時間撹拌する処理などが挙げられる。
【００１６】
また、例えば、前記構造式４ａ’で表される化合物を主生成物として製造する場合には、前記ベンジリデン保護処理を行った混合溶液に、水素化ナトリウム（１５当量）、ヨウ化テトラブチルアンモニウム（７ｍｏｌ％）、臭化ベンジル（９当量）を氷冷下順次加え、室温下で１２時間撹拌する処理などが挙げられる。
【００１７】
前記アセタールの位置選択的開裂処理に用いる化合物及びその量、反応条件としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
例えば、前記構造式４ａで表される化合物を主生成物として製造する場合には、前記Ｂｎ保護処理の生成物を塩化メチレンに溶解し、０℃にてトリエチルシラン（１５当量）とトリフルオロ酢酸（１５当量）とを加えそのまま３時間撹拌する処理などが挙げられる。
【００１８】
また、例えば、前記構造式４ａ’で表される化合物を主生成物として製造する場合には、前記Ｂｎ保護処理の生成物を塩化メチレンに溶解し、０℃にてトリエチルシラン（７．５当量）とトリフルオロ酢酸（７．５当量）とを加えそのまま２．５時間撹拌する処理などが挙げられる。
【００１９】
−その他の工程−
前記その他の工程としては、本発明の効果を損なわない限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、トレハロース調製工程、精製工程などが挙げられる。
前記トレハロースの調製方法としては、特に制限はなく、公知の方法を適宜選択することができる。前記トレハロースは、市販品を使用してもよい。
前記構造式４ａ及び前記構造式４ａ’のいずれかで表される化合物を精製する方法としては、特に制限はなく、公知の方法を適宜選択することができる。
【００２０】
＜構造式４ａ及び構造式４ａ’のいずれかで表される化合物＞
−構造式４ａで表される化合物−
構造式４ａで表される化合物の融点、比旋光度、１Ｈ  ＮＭＲスペクトル、１３Ｃ  ＮＭＲスペクトル、及びＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析の結果は以下の通りである。
融点  ：  １０１℃−１０３℃（ｄｅｃ．）
比旋光度  ：  ［α］２５Ｄ＝７９  （ｃ＝１．３，  ＣＨＣｌ３）
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  ：  δ７．３８−７．３３（ｍ，  ８Ｈ），  ７．３０−７．２３（ｍ，  ２２Ｈ），  ５．２３（ｄ，  Ｊ＝３．６Ｈｚ，  ２Ｈ），  ５．００（ｄ，  Ｊ＝１１．４Ｈｚ，  ２Ｈ），  ４．７９（ｄ，  Ｊ＝１１．４Ｈｚ，  ２Ｈ），  ４．６９  （ｄ，  Ｊ＝  １２．１Ｈｚ，  ２Ｈ），  ４．６３（ｄ，  Ｊ＝１２．１Ｈｚ，  ２Ｈ），  ４．５０（ｄ，  Ｊ＝１２．１Ｈｚ，  ２Ｈ），  ４．４４（ｄ，  Ｊ＝１２．１Ｈｚ，  ２Ｈ），  ４．１３−４．１０（ｍ，  ２Ｈ），  ３．８７（ｔ，  Ｊ＝９．６Ｈｚ，  ２Ｈ），  ３．５９（ｔ，  Ｊ＝９．６Ｈｚ，  ２Ｈ），  ３．５６（ｄｄ，  Ｊ＝９．６Ｈｚ，  Ｊ＝３．６Ｈｚ，  ２Ｈ），  ３．５３−３．４５（ｍ，  ４Ｈ），  ２．３８（ｂｓ，  ２Ｈ）
１３Ｃ  ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  ：  δ１３８．９，  １３８．１，  １３８．０，  １２８．７，  １２８．５，  １２８．５，  １２８．１，  １２７．９，  １２７．８，  １２７．８，  １２７．６，  ９４．３，  ８１．１，  ７９．０，  ７５．４，  ７３．７，  ７２．５，  ７０．８，  ７０．７，  ６９．３
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析  ：  ｃａｌｃｄ．  ｆｏｒ  Ｃ５４Ｈ５８Ｏ１１Ｋ  ｍ／ｚ  ９２１．３６１１  ［Ｍ＋Ｋ］＋，  ｆｏｕｎｄ  ９２１．３５９８
【００２１】
−構造式４ａ’で表される化合物−
構造式４ａ’で表される化合物の比旋光度、１Ｈ  ＮＭＲスペクトル、１３Ｃ  ＮＭＲスペクトル、及びＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析の結果は以下の通りである。
比旋光度  ：  ［α］２５Ｄ＝８８（ｃ＝１．０，  ＣＨＣｌ３）
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  ：  δ７．３７−７．２０（ｍ，  ３３Ｈ），  ７．１３−７．１１（ｍ，  ２Ｈ），  ５．２４（ｄ，  Ｊ＝３．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ５．２３（ｄ，  Ｊ＝３．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ５．００（ｄ，  Ｊ＝１１．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．９９（ｄ，  Ｊ＝１１．０Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．８６（ｄ，  Ｊ＝１１．０Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．８１（ｄ，  Ｊ＝１０．５Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．７９（ｄ，  Ｊ＝１１．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．７１−４．６４（ｍ，  ４Ｈ），  ４．５４（ｄ，  Ｊ＝１２．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．５０（ｄ，  Ｊ＝１２．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．４５（ｄ，  Ｊ＝１０．５Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．４３（ｄ，  Ｊ＝１２．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．３７（ｄ，  Ｊ＝１２．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．１７−４．１１（ｍ，  ２Ｈ），  ４．０３（ｔ，  Ｊ＝９．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．８７（ｔ，  Ｊ＝９．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．６８（ｔ，  Ｊ＝９．６Ｈｚ，  ２Ｈ），  ３．５９（ｄｄ，  Ｊ＝９．６Ｈｚ，  Ｊ＝３．２Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．５６（ｄｄ，  Ｊ＝９．８Ｈｚ，  Ｊ＝３．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．５３−３．４４（ｍ，  ３Ｈ），  ３．３６（ｄ，  Ｊ＝１０．１Ｈｚ，  １Ｈ），  ２．３８（ｄ，  Ｊ＝２．３Ｈｚ，  １Ｈ）
１３Ｃ  ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  ：  δ１３８．９，  １３８．９，  １３８．４，  １３８．２，  １３８．１，  １３８．０，  １３７．９，  １２８．６，  １２８．５，  １２８．４，  １２８．１，  １２８．０，  １２８．０，  １２７．８，  １２７．８，  １２７．８，  １２７．７，  １２７，７，  １２７．６，  １２７．６，  １２７．４，  ９４．５，  ９４．４，  ８１．９，  ８１．１，  ７９．４，  ７９．１，  ７７．７，  ７５．７，  ７５．４，  ７５．２，  ７３．７，  ７３．６，  ７２．８，  ７２．５，  ７０．９，  ７０．７，  ７０．６，  ６９．２，  ６８．２
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析  ：  ｃａｌｃｄ．  ｆｏｒ  Ｃ６１Ｈ６４Ｏ１１Ｋ  ｍ／ｚ  １１０１．４０８０  ［Ｍ＋Ｋ］＋，  ｆｏｕｎｄ  １１０１．４０６７
【００２２】
化合物が、前記構造式４ａ若しくは前記構造式４ａ’で表される構造を有するか否かは、適宜選択した各種の分析方法により確認することができ、例えば、質量分析法、紫外分光法、赤外分光法、プロトン核磁気共鳴分光法、炭素１３核磁気共鳴分光法等の分析方法などが挙げられる。なお、前記各分析方法による測定値には、多少の誤差が生じることがあるが、当業者であれば、化合物が前記構造式４ａ若しくは前記構造式４ａ’で表される構造を有することは容易に同定することが可能である。
【００２３】
（構造式３ａ及び構造式３ａ’のいずれかで表される化合物、並びにその製造方法）
本発明の下記構造式３ａ及び下記構造式３ａ’のいずれかで表される化合物は、前記レンツトレハロースＡの製造に有用な中間体であり、本発明の下記構造式３ａ及び下記構造式３ａ’のいずれかで表される化合物の製造方法により好適に製造することができる。
以下、本発明の下記構造式３ａ及び下記構造式３ａ’のいずれかで表される化合物の製造方法の説明と併せて、本発明の下記構造式３ａ及び下記構造式３ａ’のいずれかで表される化合物についても説明する。
【化３９】
0006560049.tif 000040
【化４０】
0006560049.tif 000041
ただし、前記構造式３ａ及び前記構造式３ａ’中、Ｂｎはベンジル基を表わす。
【００２４】
＜構造式３ａ及び構造式３ａ’のいずれかで表される化合物の製造方法＞
前記構造式３ａ及び前記構造式３ａ’のいずれかで表される化合物の製造方法は、プレニル化工程を少なくとも含み、必要に応じて更にその他の工程を含む。
【００２５】
−プレニル化工程−
前記プレニル化工程は、前記構造式４ａで表される化合物及び前記構造式４ａ’で表される化合物の少なくともいずれかをプレニル化し、前記構造式３ａ及び前記構造式３ａ’のいずれかで表される化合物を製造する工程である。
【００２６】
前記プレニル化に用いる化合物及びその量、反応条件としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
例えば、前記構造式３ａで表される化合物を製造する場合には、前記構造式４ａで表される化合物（０．１１９ｍｍｏｌ）をジメチルホルムアミドに溶解し、水素化ナトリウム（２．５当量）、ヨウ化テトラブチルアンモニウム（５ｍｏｌ％）、臭化プレニル（１．１当量）を氷冷下順次加え、室温で１２時間撹拌する方法などが挙げられる。
【００２７】
また、例えば、前記構造式３ａ’で表される化合物を製造する場合には、前記構造式４ａ’で表される化合物（０．１０９ｍｍｏｌ）をジメチルホルムアミドに溶解し、ヨウ化テトラブチルアンモニウム（１０ｍｏｌ％）、水素化ナトリウム（２当量）、臭化プレニル（５当量）を氷冷下順次加え、室温で１２時間撹拌する方法などが挙げられる。
【００２８】
−その他の工程−
前記その他の工程としては、本発明の効果を損なわない限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、上述した前記構造式４ａで表される化合物及び前記構造式４ａ’で表される化合物の少なくともいずれかを製造する工程、精製工程などが挙げられる。
前記構造式３ａ及び前記構造式３ａ’のいずれかで表される化合物を精製する方法としては、特に制限はなく、公知の方法を適宜選択することができる。
【００２９】
＜構造式３ａ及び構造式３ａ’のいずれかで表される化合物＞
−構造式３ａで表される化合物−
構造式３ａで表される化合物の比旋光度、１Ｈ  ＮＭＲスペクトル、１３Ｃ  ＮＭＲスペクトル、及びＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析の結果は以下の通りである。
比旋光度  ：  ［α］２５Ｄ＝８８（ｃ＝１．０，  ＣＨＣｌ３）
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  ：  δ７．３１−７．１２（ｍ，  ３０Ｈ），  ５．１９−５．１６（ｍ，  １Ｈ），  ５．１３（ｂｓ，  ２Ｈ），  ４．９３（ｄ，  Ｊ＝１１．２Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．９０（ｄ，  Ｊ＝１１．２Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．７９（ｄ，  Ｊ＝１１．２Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．７０（ｄ，  Ｊ＝１１．２Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．６２−４．５４（ｍ，  ４Ｈ），  ４．４７（ｄ，  Ｊ＝１２．２Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．４１（ｄ，  Ｊ＝１２．２Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．３６（ｄ，  Ｊ＝１２．２Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．３４（ｄ，  Ｊ＝１２．２Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．２４−４．１９（ｍ，  １Ｈ），  ４．０８−４．０３（ｍ，  ２Ｈ），  ３．９５−３．８８（ｍ，  ２Ｈ），  ３．７７（ｔ，  Ｊ＝９．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．５９（ｔ，  Ｊ＝９．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．４８−３．３９（ｍ，  ５Ｈ），  ３．３７−３．１２（ｍ，  ２Ｈ），  ２．３０（ｂｓ，  １Ｈ），  １．６２（ｓ，  ３Ｈ），  １．４６（ｓ，  ３Ｈ）
１３Ｃ  ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  ：  δ１３９．０，  １３８．９，  １３８．３，  １３８．１，  １３８．０，  １３８．０，  １３７．１，  １２８．６，  １２８．４，  １２８．０，  １２７．９，  １２７．９，  １２７．８，  １２７．７，  １２７．６，  １２７．６，  １２７．６，  １２７．５，  １２１．２，  ９４．７，  ９４．６，  ８１．８，  ８１．３，  ７９．３，  ７９．０，  ７５．６，  ７５．５，  ７３．６，  ７３．６，  ７２．８，  ７２．４，  ７０．９，  ７０．８，  ７０．５，  ６９．７，  ６９．２，  ６８．４，  ２５．９，  １８．０
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析  ：  ｃａｌｃｄ．  ｆｏｒ  Ｃ５９Ｈ６６Ｏ１１Ｋ  ｍ／ｚ  ９８９．４２３７  ［Ｍ＋Ｋ］＋，  ｆｏｕｎｄ  ９８９．４２１０
【００３０】
−構造式３ａ’で表される化合物−
構造式３ａ’で表される化合物の比旋光度、１Ｈ  ＮＭＲスペクトル、１３Ｃ  ＮＭＲスペクトル、及びＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析の結果は以下の通りである。
比旋光度  ：  ［α］２５Ｄ＝８７（ｃ＝１．６，  ＣＨＣｌ３）
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  ：  δ７．３８−７．２０（ｍ，  ３３Ｈ），  ７．１２−７．０９（ｍ，  ２Ｈ），  ５．２６−５．２４（ｍ，  １Ｈ），  ５．２１−５．２０（ｍ，  ２Ｈ），  ４．９９（ｄ，  Ｊ＝１０．８Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．９７（ｄ，  Ｊ＝１１．０Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．８６（ｄ，  Ｊ＝１０．８Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．８４（ｄ，  Ｊ＝１１．０Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．８０（ｄ，  Ｊ＝１０．５Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．７０−４．６２（ｍ，  ４Ｈ），  ４．５６（ｄ，  Ｊ＝１２．１Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．５４（ｄ，  Ｊ＝１２．２Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．４４（ｄ，  Ｊ＝１２．１Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．４３（ｄ，  Ｊ＝１０．５Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．３５（ｄ，  Ｊ＝１２．２Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．３３−４．２７（ｍ，  １Ｈ），  ４．１７−４．１３（ｍ，  ２Ｈ），  ３．９９（ｔ，  Ｊ＝９．４Ｈｚ，  ２Ｈ），  ３．９６（ｔ，  Ｊ＝９．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．６９−３．６５（ｍ，  １Ｈ），  ３．５８−３．４７（ｍ，  ５Ｈ），  ３．４１（ｄ，  Ｊ＝１０．８Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．３３（ｄ，  Ｊ＝１０．８Ｈｚ，  １Ｈ），  １．６９（ｓ，  ３Ｈ），  １．５３（ｓ，  ３Ｈ）
１３Ｃ  ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  ：  δ１３９．１，  １３９．０，  １３８．４，  １３８．４，  １３８．３，  １３８．０，  １３８．０，  １３７．２，  １２８．５，  １２８．５，  １２８．４，  １２８．４，  １２８．１，  １２８．１，  １２８．０，  １２８．０，  １２７．８，  １２７．７，  １２７．６，  １２７．６，  １２７．６，  １２７．５，  １２１．３，  ９４．８，  ８２．０，  ８１．８，  ７９．４，  ７９．４，  ７７．７，  ７７．５，  ７７．４，  ７５．８，  ７５．７，  ７５．２，  ７３．６，  ７２．８，  ７２．７，  ７０．８，  ７０．６，  ６９．７，  ６８．４，  ６８．１，  ２５．９，  １８．１
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析  ：  ｃａｌｃｄ．  ｆｏｒ  Ｃ６６Ｈ７２Ｏ１１Ｎａ  ｍ／ｚ  １０６３．４９６７  ［Ｍ＋Ｎａ］＋，  ｆｏｕｎｄ  １０６３．４９４５
【００３１】
化合物が、前記構造式３ａ若しくは前記構造式３ａ’で表される構造を有するか否かは、適宜選択した各種の分析方法により確認することができ、例えば、質量分析法、紫外分光法、赤外分光法、プロトン核磁気共鳴分光法、炭素１３核磁気共鳴分光法等の分析方法などが挙げられる。なお、前記各分析方法による測定値には、多少の誤差が生じることがあるが、当業者であれば、化合物が前記構造式３ａ若しくは前記構造式３ａ’で表される構造を有することは容易に同定することが可能である。
【００３２】
（構造式２ａ、構造式２ａ’、及び構造式２ａ’’のいずれかで表される化合物、並びにその製造方法）
本発明の下記構造式２ａ、下記構造式２ａ’、及び下記構造式２ａ’’のいずれかで表される化合物は、前記レンツトレハロースＡの製造に有用な中間体であり、本発明の、下記構造式２ａで表される化合物及び下記構造式２ａ’で表される化合物の少なくともいずれかの製造方法、若しくは下記構造式２ａ’’で表される化合物の製造方法により好適に製造することができる。
以下、本発明の下記構造式２ａで表される化合物及び下記構造式２ａ’で表される化合物の少なくともいずれかの製造方法、並びに下記構造式２ａ’’で表される化合物の製造方法の説明と併せて、本発明の下記構造式２ａ、下記構造式２ａ’、及び下記構造式２ａ’’のいずれかで表される化合物についても説明する。
【化４１】
0006560049.tif 000042
【化４２】
0006560049.tif 000043
【化４３】
0006560049.tif 000044
ただし、前記構造式２ａ、前記構造式２ａ’、及び前記構造式２ａ’’中、Ｂｎはベンジル基を表わす。
【００３３】
＜構造式２ａ及び構造式２ａ’のいずれかで表される化合物の製造方法＞
前記構造式２ａ及び構造式２ａ’のいずれかで表される化合物の製造方法は、シャープレス不斉ジヒドロキシ化工程を少なくとも含み、必要に応じて更にその他の工程を含む。
【００３４】
−シャープレス不斉ジヒドロキシ化工程−
前記シャープレス不斉ジヒドロキシ化工程は、前記構造式３ａで表される化合物及び前記構造式３ａ’で表される化合物の少なくともいずれかをシャープレス不斉ジヒドロキシ化し、前記構造式２ａ及び前記構造式２ａ’のいずれかで表される化合物を製造する工程である。
【００３５】
前記シャープレス不斉ジヒドロキシ化に用いる化合物及びその量、反応条件としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
例えば、前記構造式２ａで表される化合物を製造する場合には、前記構造式３ａで表される化合物（４５μｍｏｌ）をｔ−ブタノール、水、アセトンの混合溶媒（１：１：１）に溶解し、ＡＤ−ｍｉｘ−α（１１８ｍｇ）、ビス（ジヒドロキニニル）フタラジン（０．２５当量）、及びメタンスルホンアミド（２当量）と共に０℃にて６６時間撹拌する方法などが挙げられる。
【００３６】
また、例えば、前記構造式２ａ’で表される化合物を製造する場合には、前記構造式３ａ’で表される化合物（４５μｍｏｌ）をｔ−ブタノール、水、アセトンの混合溶媒（１：１：１）に溶解し、ＡＤ−ｍｉｘ−α（１２４ｍｇ）、ビス（ジヒドロキニニル）フタラジン（０．２５当量）、及びメタンスルホンアミド（２当量）と共に０℃にて７２時間撹拌する方法などが挙げられる。
【００３７】
−その他の工程−
前記その他の工程としては、本発明の効果を損なわない限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、上述した前記構造式３ａで表される化合物及び前記構造式３ａ’で表される化合物の少なくともいずれかを製造する工程、精製工程などが挙げられる。
前記構造式２ａ及び前記構造式２ａ’のいずれかで表される化合物を精製する方法としては、特に制限はなく、公知の方法を適宜選択することができる。
【００３８】
＜構造式２ａ及び構造式２ａ’のいずれかで表される化合物＞
−構造式２ａで表される化合物−
構造式２ａで表される化合物の比旋光度、１Ｈ  ＮＭＲスペクトル、１３Ｃ  ＮＭＲスペクトル、及びＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析の結果は以下の通りである。
比旋光度  ：  ［α］２５Ｄ＝８８（ｃ＝１．６，  ＣＨＣｌ３）
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  ：  δ７．４０−７．２２（ｍ，  ３０Ｈ），  ５．２２（ｄ，  Ｊ＝３．７Ｈｚ，  １Ｈ），  ５．２０（ｄ，  Ｊ＝３．９Ｈｚ，  １Ｈ），  ５．０３（ｄ，  Ｊ＝１１．２Ｈｚ，  １Ｈ），  ５．０２（ｄ，  Ｊ＝１１．０Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．８３（ｄ，  Ｊ＝１１．２Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．７８（ｄ，  Ｊ＝１１．０Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．７０（ｄ，  Ｊ＝１１．９Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．７０−４．６６（ｍ，  ２Ｈ），  ４．６２（ｄ，  Ｊ＝１１．９Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．５２（ｄ，  Ｊ＝１２．１Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．５１（ｄ，  Ｊ＝１２．１Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．４４（ｄ，  Ｊ＝１２．１Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．４０（ｄ，  Ｊ＝１２．１Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．１２（ｂｒ  ｄｔ，  Ｊ＝９．８Ｈｚ，  ３．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．０４（ｂｒ  ｄｔ，  Ｊ＝１０．０Ｈｚ，  ２．５Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．９５−３．９２（ｍ，  １Ｈ），  ３．９０−３．８７（ｍ，  １Ｈ），  ３．８３（ｄｄ，  Ｊ＝１０．０Ｈｚ，  ２．３Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．７３−３．６７（ｍ，  １Ｈ），  ３．６０−３．５６（ｍ，  ２Ｈ），  ３．５５−３．５３（ｍ，  １Ｈ），  ３．５１−３．４７（ｍ，  ３Ｈ），  ３．４４−３．３９（ｍ，  ２Ｈ），  ３．３３（ｄｄ，  Ｊ＝１１．０Ｈｚ，  ２．１Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．００（ｄ，  Ｊ＝３．９Ｈｚ，  １Ｈ），  ２．４４（ｄ，  Ｊ＝２．５Ｈｚ，  １Ｈ），  ２．４２（ｂｓ，  １Ｈ），  １．１０（ｓ，  ３Ｈ），  ０．９９（ｓ，  ３Ｈ）
１３Ｃ  ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  ：  δ１３８．８，  １３８．５，  １３８．１，  １３８．０，  １３７．６，  １２８．７，  １２８．５，  １２８．５，  １２８．５，  １２８．１，  １２８．０，  １２７．９，  １２７．９，  １２７．８，  １２７．８，  １２７．８，  １２７．６，  １２７．４，  ９４．４，  ９４．２，  ８１．３，  ８１．２，  ７９．６，  ７９．２，  ７８．１，  ７６．３，  ７５．７，  ７５．４，  ７３．８，  ７３．７，  ７３．７，  ７２．７，  ７２．７，  ７１．３，  ７０．９，  ７０．７，  ７０．６，  ６９．３，  ６８．５，  ２６．６，  ２４．６
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析  ：  ｃａｌｃｄ．  ｆｏｒ  Ｃ５９Ｈ６８Ｏ１３Ｎａ  ｍ／ｚ  １００７．４５５２  ［Ｍ＋Ｎａ］＋，  ｆｏｕｎｄ  １００７．４５２５
【００３９】
−構造式２ａ’で表される化合物−
構造式２ａ’で表される化合物の１Ｈ  ＮＭＲスペクトル、１３Ｃ  ＮＭＲスペクトル、及びＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析の結果は以下の通りである。
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  ：  δ７．３８−７．１３（ｍ，  ３３Ｈ），  ７．１２−７．０９（ｍ，  ２Ｈ），  ５．２０（ｄ，  Ｊ＝３．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ５．１９（ｄ，  Ｊ＝３．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ５．０２（ｄ，  Ｊ＝１０．８Ｈｚ，  １Ｈ），  ５．０１（ｄ，  Ｊ＝１０．８Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．８９（ｄ，  Ｊ＝１０．８Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．８１（ｄ，  Ｊ＝１０．５Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．７７（ｄ，  Ｊ＝１０．８Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．７２（ｄ，  Ｊ＝１２．１Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．６８−４．６１（ｍ，  ２Ｈ），  ４．６４（ｄ，  Ｊ＝１２．１Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．５４（ｄ，  Ｊ＝１２．１Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．５３（ｄ，  Ｊ＝１２．１Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．４５（ｄ，  Ｊ＝１０．５Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．４０（ｄ，  Ｊ＝１２．１Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．３７（ｄ，  Ｊ＝１２．１Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．１５（ｂｒ  ｄｔ，  Ｊ＝９．８Ｈｚ，  ３．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．１４−０６（ｍ，  ２Ｈ），  ３．９１（ｔ，  Ｊ＝９．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．８２（ｄｄ，  Ｊ＝９．４Ｈｚ，  ２．３Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．６９（ｔ，  Ｊ＝９．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．６０（ｄｄ，  Ｊ＝９．６Ｈｚ，  ３．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．５４（ｄｄ，  Ｊ＝９．４Ｈｚ，  ３．６Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．５２（ｄｄ，  Ｊ＝９．４Ｈｚ，  ３．６Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．４９（ｄｄ，  Ｊ＝９．６Ｈｚ，  ８．０Ｈｚ，  ２Ｈ），  ３．４４−３．４１（ｍ，  １Ｈ），  ３．４１−３．３９（ｍ，  １Ｈ），  ３．３７（ｄｄ，  Ｊ＝１０．８Ｈｚ，  １．８Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．３２（ｄｄ，  Ｊ＝１０．８Ｈｚ，  ２．３Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．００（ｄ，  Ｊ＝３．９Ｈｚ，  １Ｈ），  ２．４０（ｓ，  １Ｈ），  １．１０（ｓ，  ３Ｈ），  ０．９８（ｓ，  ３Ｈ）
１３Ｃ  ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  ：  δ１３８．９，  １３８．６，  １３８．４，  １３８．３，  １３８．１，  １３７．９，  １３７．７，  １２８．５，  １２８．５，  １２８．５，  １２８．１，  １２８．１，  １２８．０，  １２７．９，  １２７．９，  １２７．８，  １２７．８，  １２７．８，  １２７．８，  １２７．７，  １２７．５，  １２７．５，  ９４．６，  ９４．４，  ８２．０，  ８１．３，  ７９．６，  ７９．６，  ７８．２，  ７７．８，  ７６．３，  ７５．７，  ７５．７，  ７５．３，  ７３．８，  ７３．７，  ７３．６，  ７３．０，  ７２．６，  ７１．３，  ７０．８，  ７０．５，  ６８．５，  ６８．２，  ２６．６，  ２４．６
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析  ：  ｃａｌｃｄ．  ｆｏｒ  Ｃ６６Ｈ７４Ｏ１３Ｎａ  ｍ／ｚ  １０９７．５０２２  ［Ｍ＋Ｎａ］＋，  ｆｏｕｎｄ  １０９７．４９９９
【００４０】
化合物が、前記構造式２ａ若しくは前記構造式２ａ’で表される構造を有するか否かは、適宜選択した各種の分析方法により確認することができ、例えば、質量分析法、紫外分光法、赤外分光法、プロトン核磁気共鳴分光法、炭素１３核磁気共鳴分光法等の分析方法などが挙げられる。なお、前記各分析方法による測定値には、多少の誤差が生じることがあるが、当業者であれば、化合物が前記構造式２ａ若しくは前記構造式２ａ’で表される構造を有することは容易に同定することが可能である。
【００４１】
＜構造式２ａ’’で表される化合物の製造方法＞
前記構造式２ａ’’で表される化合物の製造方法は、エポキシド開環工程を少なくとも含み、必要に応じて更にその他の工程を含む。
【００４２】
−エポキシド開環工程−
前記エポキシド開環工程は、前記構造式４ａ’で表される化合物と、下記構造式Ｉで表されるエポキシドとを反応させ、前記構造式２ａ’’で表される化合物を製造する工程である。
【化４４】
0006560049.tif 000045
ただし、前記構造式Ｉ中、Ｂｎはベンジル基を表わす。
【００４３】
前記エポキシド開環に用いる化合物及びその量、反応条件としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
例えば、前記構造式４ａ’で表される化合物（２５．１μｍｏｌ）をジメチルホルムアミドに溶解し、水素化ナトリウム（２．５当量）、１５−ｃｒｏｗｎ−５（２．６当量）、前記構造式Ｉで表されるエポキシド（２．５当量）を氷冷下順次加え、７０℃にて１８時間撹拌する方法などが挙げられる。
【００４４】
−その他の工程−
前記その他の工程としては、本発明の効果を損なわない限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、上述した前記構造式４ａ’で表される化合物を製造する工程、精製工程などが挙げられる。
前記構造式２ａ’’で表される化合物を精製する方法としては、特に制限はなく、公知の方法を適宜選択することができる。
【００４５】
＜構造式２ａ’’で表される化合物＞
構造式２ａ’’で表される化合物の１Ｈ  ＮＭＲスペクトル、及びＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析の結果は以下の通りである。
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  ：  δ７．４１−７．２４（ｍ，  ３６Ｈ），  ７．１４−７．１１（ｍ，  ２Ｈ），  ５．２１（ｄ，  Ｊ＝３．４Ｈｚ，  ２Ｈ），  ５．０２（ｄ，  Ｊ＝１１．０Ｈｚ，  １Ｈ），  ５．００（ｄ，  Ｊ＝１０．５Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．８８（ｄ，  Ｊ＝１１．０Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．８７（ｄ，  Ｊ＝１０．５Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．８２（ｄ，  Ｊ＝１０．５Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．７１−４．６４（ｍ，  ４Ｈ），  ４．５５（ｄ，  Ｊ＝１２．１Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．４９（ｄ，  Ｊ＝１１．９Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．４７（ｄ，  Ｊ＝１０．５Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．４４−４．４２（ｍ，  ２Ｈ），  ４．４２（ｄ，  Ｊ＝１１．９Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．３７（ｄ，  Ｊ＝１２．１Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．１８−４−４．０６（ｍ，  ２Ｈ），  ４．０３（ｔ，  Ｊ＝９．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．００（ｔ，  Ｊ＝９．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．９７−３．９３（ｍ，  １Ｈ），  ３．８５（ｄｄ，  Ｊ＝１０．３Ｈｚ，  １．６Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．７５−３．６３（ｍ，  ３Ｈ），  ３．５８−３．４６（ｍ，  ５Ｈ），  ３．４２−３．３４（ｍ，  ２Ｈ），  １．１５（ｓ，  ３Ｈ），  １．１１（ｓ，  ３Ｈ）
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析  ：  ｃａｌｃｄ．  ｆｏｒ  Ｃ７３Ｈ８０Ｏ１３Ｎａ  ｍ／ｚ  １１８７．５４９１  ［Ｍ＋Ｎａ］＋，  ｆｏｕｎｄ  １１８７．５４７６
【００４６】
化合物が、前記構造式２ａ’’で表される構造を有するか否かは、適宜選択した各種の分析方法により確認することができ、例えば、質量分析法、紫外分光法、赤外分光法、プロトン核磁気共鳴分光法、炭素１３核磁気共鳴分光法等の分析方法などが挙げられる。なお、前記各分析方法による測定値には、多少の誤差が生じることがあるが、当業者であれば、化合物が前記構造式２ａ’’で表される構造を有することは容易に同定することが可能である。
【００４７】
（レンツトレハロースＡの製造方法）
本発明のレンツトレハロースＡの製造方法の態様は、前記構造式２ａで表される化合物、前記構造式２ａ’で表される化合物、及び前記構造式２ａ’’で表される化合物の少なくともいずれかを出発物質とする態様（以下、「第１の態様」と称することがある）、若しくは前記トレハロースを出発物質とする態様（以下、「第２の態様」と称することがある）である。
【００４８】
＜第１の態様＞
前記第１の態様は、脱ベンジル基工程を少なくとも含み、必要に応じて更にその他の工程を含む。
【００４９】
−脱ベンジル基工程−
前記脱ベンジル基工程は、前記構造式２ａで表される化合物、前記構造式２ａ’で表される化合物、及び前記構造式２ａ’’で表される化合物の少なくともいずれかをパラジウム触媒の存在下で水素と反応させ、レンツトレハロースＡを製造する工程である。
【００５０】
前記脱ベンジル基に用いる化合物及びその量、反応条件としては、パラジウム触媒の存在下で水素と反応させる限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
例えば、前記構造式２ａで表される化合物を用いる場合には、前記構造式２ａで表される化合物（２８．４μｍｏｌ）を２ｍＬのメタノールに溶解し、１０％  パラジウム炭素（Ｐｄ／Ｃ）を２０ｍｇ添加し、水素雰囲気化で２４時間撹拌する方法などが挙げられる。
【００５１】
また、例えば、前記構造式２ａ’で表される化合物を用いる場合には、前記構造式２ａ’で表される化合物（２８．４μｍｏｌ）を１．５ｍＬのメタノールに溶解し、ここに１０％  Ｐｄ／Ｃを１５ｍｇ添加し、水素雰囲気化で２４時間撹拌する方法などが挙げられる。
【００５２】
また、例えば、前記構造式２ａ’’で表される化合物を用いる場合には、前記構造式２ａ’’で表される化合物（７．２９μｍｏｌ）を１ｍＬのメタノールに溶解し、ここに１０％  Ｐｄ／Ｃを７．０ｍｇ添加し、水素雰囲気化で２４時間撹拌する方法などが挙げられる。
【００５３】
−その他の工程−
前記その他の工程としては、本発明の効果を損なわない限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、上述した前記構造式２ａで表される化合物、前記構造式２ａ’で表される化合物、及び前記構造式２ａ’’で表される化合物の少なくともいずれかを製造する工程、精製工程などが挙げられる。
前記レンツトレハロースＡを精製する方法としては、特に制限はなく、公知の方法を適宜選択することができる。
【００５４】
＜第２の態様＞
前記第２の態様は、プレニル化工程及びシャープレス不斉ジヒドロキシ化工程を含む態様（以下、「第２の態様−１」と称することがある）、若しくはエポキシド開環工程を含む態様（以下、「第２の態様−２」と称することがある）である。
【００５５】
＜＜第２の態様−１＞＞
前記第２の態様−１は、ベンジル基導入工程と、プレニル化工程と、シャープレス不斉ジヒドロキシ化工程と、脱ベンジル基工程とを少なくとも含み、必要に応じて更にその他の工程を含む。
【００５６】
−ベンジル基導入工程−
前記ベンジル基導入工程は、トレハロースにベンジル基を導入し、前記構造式４ａで表される化合物及び前記４ａ’で表される化合物の少なくともいずれかを製造する工程であり、上記した＜構造式４ａ及び構造式４ａ’のいずれかで表される化合物の製造方法＞における−ベンジル基導入工程−の項目に記載のものと同様である。
【００５７】
−プレニル化工程−
前記プレニル化工程は、前記構造式４ａで表される化合物及び前記構造式４ａ’で表される化合物の少なくともいずれかをプレニル化し、前記構造式３ａで表される化合物及び前記構造式３ａ’で表される化合物の少なくともいずれかを製造する工程であり、上記した＜構造式３ａ及び構造式３ａ’のいずれかで表される化合物の製造方法＞における−プレニル化工程−の項目に記載のものと同様である。
【００５８】
−シャープレス不斉ジヒドロキシ化工程−
前記シャープレス不斉ジヒドロキシ化工程は、前記構造式３ａで表される化合物及び前記構造式３ａ’で表される化合物の少なくともいずれかをシャープレス不斉ジヒドロキシ化し、前記構造式２ａで表される化合物及び前記構造式２ａ’で表される化合物の少なくともいずれかを製造する工程であり、上記した＜構造式２ａ及び構造式２ａ’のいずれかで表される化合物の製造方法＞における−シャープレス不斉ジヒドロキシ化工程−の項目に記載のものと同様である。
【００５９】
−脱ベンジル基工程−
前記脱ベンジル基工程は、前記構造式２ａで表される化合物及び前記構造式２ａ’で表される化合物の少なくともいずれかをパラジウム触媒の存在下で水素と反応させ、前記構造式（１）で表される化合物を製造する工程であり、上記した＜第１の態様＞における−脱ベンジル基工程−の項目に記載のものと同様である。
【００６０】
−その他の工程−
前記その他の工程としては、本発明の効果を損なわない限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、トレハロース調製工程、レンツトレハロースＡ精製工程などが挙げられる。
【００６１】
＜＜第２の態様−２＞＞
前記第２の態様−２は、ベンジル基導入工程と、エポキシド開環工程と、脱ベンジル基工程とを少なくとも含み、必要に応じて更にその他の工程を含む。
【００６２】
−ベンジル基導入工程−
前記ベンジル基導入工程は、トレハロースにベンジル基を導入し、前記構造式４ａ’で表される化合物を製造する工程であり、上記した＜構造式４ａ及び構造式４ａ’のいずれかで表される化合物の製造方法＞における−ベンジル基導入工程−の項目に記載のものと同様である。
【００６３】
−エポキシド開環工程−
前記エポキシド開環工程は、前記構造式４ａ’で表される化合物と、前記構造式Ｉで表されるエポキシドとを反応させ、前記構造式２ａ’’で表される化合物を製造する工程であり、上記した＜構造式２ａ’’で表される化合物の製造方法＞の−エポキシド開環工程−の項目に記載のものと同様である。
【００６４】
−脱ベンジル基工程−
前記脱ベンジル基工程は、前記構造式２ａ’’で表される化合物をパラジウム触媒の存在下で水素と反応させ、前記構造式（１）で表される化合物を製造する工程であり、上記した＜第１の態様＞における−脱ベンジル基工程−の項目に記載のものと同様である。
【００６５】
−その他の工程−
前記その他の工程としては、本発明の効果を損なわない限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、トレハロース調製工程、レンツトレハロースＡ精製工程などが挙げられる。
【００６６】
＜構造式（１）で表される化合物＞
構造式（１）で表される化合物の１Ｈ  ＮＭＲスペクトル、１３Ｃ  ＮＭＲスペクトル、及びＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析の結果は以下の通りである。
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，  ＣＤ３ＯＤ）  ：  δ５．１０（ｄ，  Ｊ＝３．８Ｈｚ，  １Ｈ），  ５．０８（ｄ，  Ｊ＝３．９Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．０２（ｄｄ，  Ｊ＝１０．５Ｈｚ，  ２．７Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．９０（ｔ，  Ｊ＝９．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．８４（ｂｒ  ｄｔ，  Ｊ＝９．４Ｈｚ，  ２．８Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．８０−３．７６（ｍ，  ５Ｈ），  ３．６７（ｄｄ，  Ｊ＝１１．７Ｈｚ，  ４．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．６６−３．６３（ｍ，  １Ｈ），  ３．５４（ｄｄ，  Ｊ＝７．８Ｈｚ，  ２．５Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．４９（ｄｄ，  Ｊ＝９．６Ｈｚ，  ３．８Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．４６（ｄｄ，  Ｊ＝９．６Ｈｚ，  ３．８Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．３１（ｔ，  Ｊ＝９．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．２８（ｔ，  Ｊ＝９．４Ｈｚ，  １Ｈ），  １．１９（ｓ，  ３Ｈ），  １．１７（ｓ，  ３Ｈ）
１３Ｃ  ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  ：  δ９５．１，  ９５．０，  ８０．４，  ７８．１，  ７４．７，  ７４．５，  ７４．４，  ７３．８，  ７３．４，  ７３．２，  ７２．８，  ７２．７，  ７１．９，  ６２．６，  ６２．１，  ２６．５，  ２５．４
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析  ：  ｃａｌｃｄ．  ｆｏｒ  Ｃ１７Ｈ３２Ｏ１３Ｎａ  ｍ／ｚ  ４６７．１７３５  ［Ｍ＋Ｎａ］＋，  ｆｏｕｎｄ  ４６７．１７２５
【００６７】
化合物が、前記構造式（１）で表される構造を有するか否かは、適宜選択した各種の分析方法により確認することができ、例えば、質量分析法、紫外分光法、赤外分光法、プロトン核磁気共鳴分光法、炭素１３核磁気共鳴分光法等の分析方法などが挙げられる。なお、前記各分析方法による測定値には、多少の誤差が生じることがあるが、当業者であれば、化合物が前記構造式（１）で表される構造を有することは容易に同定することが可能である。
【実施例】
【００６８】
以下に本発明の実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
なお、以下の実施例において、「ＰｈＣＨ（ＯＭｅ）２」はベンズアルデヒドジメチルアセタールを表し、「ｐ−ＴｓＯＨ」はパラトルエンスルホン酸を表し、「ＤＭＦ」はジメチルホルムアミドを表し、「ＢｎＢｒ」は臭化ベンジルを表し、「ＮａＨ」は水素化ナトリウムを表し、「ＴＢＡＩ」はヨウ化テトラブチルアンモニウムを表し、「ＴＨＦ」はテトラヒドロフランを表し、「Ｅｔ３ＳｉＨ」はトリエチルシランを表し、「ＴＦＡ」はトリフルオロ酢酸を表し、「ＣＨ２Ｃｌ２」は塩化メチレンを表し、「Ｂｎ」はベンジル基を表し、「（ＤＨＱ）２ＰＨＡＬ」はビス（ジヒドロキニニル）フタラジンを表し、「ＭｅＳＯ２ＮＨ２」はメタンスルホンアミドを表し、「ｔ−ＢｕＯＨ」はｔ−ブタノールを表し、「Ｐｄ／Ｃ」はパラジウム炭素を表し、「ＭｅＯＨ」はメタノールを表す。
【００６９】
（実施例１：構造式４ａで表される化合物を経由するレンツトレハロースＡの合成）
＜構造式４ａで表される化合物及び構造式４ａ’で表される化合物の合成＞
【化４５】
0006560049.tif 000046
【００７０】
１）  トレハロース（２．３３ｇ，  ６．８０ｍｍｏｌ）、ベンズアルデヒドジメチルアセタール  １．０２ｍＬ（１当量）、及びｐ−ＴｓＯＨ  ５９ｍｇ（５ｍｏｌ％）をＤＭＦ  ３０ｍＬに溶解し、１００℃に加熱した。２０分間経過した後、反応系を１６０ｍｍＨｇに減圧し、２０分間撹拌した。更に、ここにベンズアルデヒドジメチルアセタールを１．０２ｍＬ（１．０当量）加え、１６０ｍｍＨｇの減圧下で、１時間同条件で撹拌した。更に０．２５ｍＬ（０．２５当量）のベンズアルデヒドジメチルアセタールを添加し、１６０ｍｍＨｇの減圧下で４時間撹拌を継続した。反応系を室温まで冷却した後、減圧下濃縮し、トリエチルアミンを用いて中和を行った。得られた粗生成物を精製することなくそのまま次の反応に利用した。
【００７１】
２）  上記粗生成物を全量テトラヒドロフラン  ７０ｍＬに溶解し、水素化ナトリウム  ２．７２ｇ（６０％流動パラフィン分散（以下全ての水素化ナトリウムで同じ）、１０当量）、ＴＢＡＩ  １７６ｍｇ（７ｍｏｌ％）、臭化ベンジル４．８５ｍＬ（６当量）を氷冷下順次加え、室温下４５時間撹拌した。反応液を氷水（４０ｍＬ）の中に注ぎ、クエンチした後、有機層を分離した。水層をエーテル（３０ｍＬ×３）により抽出し、得た有機層を合わせて、塩酸水溶液（１Ｎ、２０ｍＬ）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（４０ｍＬ）により洗い、芒硝乾燥を行った。溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝６：１）にて精製し、ベンジル保護体  ４．８９ｇを得た。
【００７２】
３）  上記ベンジル保護体は塩化メチレン  ３００ｍＬに溶解し、０℃にてトリエチルシラン  １１．７ｍＬ（１５当量）とトリフルオロ酢酸  ５．６１ｍＬ（１５当量）とを加えそのまま３時間撹拌した。１００ｍＬの飽和ＮａＨＣＯ３水溶液を加え、５分間撹拌した後、有機層を分離し、飽和食塩水により洗った。水層を塩化メチレン  １００ｍＬにより抽出し、得た有機層を飽和食塩水により洗い、芒硝乾燥した後、溶媒を留去し、得られたクルードシロップをシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し（ヘキサン：酢酸エチル＝４：１から３：１）、構造式４ａで表される化合物（３．１１ｇ、３．５２ｍｍｏｌ、３工程で５２％）と、構造式４ａ’で表される化合物（３３７ｍｇ、０．３４６ｍｍｏｌ、３工程で５％）をそれぞれ白色紛体と無色シロップとして得た。
【００７３】
−構造式４ａで表される化合物−
構造式４ａで表される化合物の融点、比旋光度、１Ｈ  ＮＭＲスペクトル、１３Ｃ  ＮＭＲスペクトル、及びＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析の結果を以下に示す。
融点  ：  １０１℃−１０３℃（ｄｅｃ．）
比旋光度  ：  ［α］２５Ｄ＝７９  （ｃ＝１．３，  ＣＨＣｌ３）
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  ：  δ７．３８−７．３３（ｍ，  ８Ｈ），  ７．３０−７．２３（ｍ，  ２２Ｈ），  ５．２３（ｄ，  Ｊ＝３．６Ｈｚ，  ２Ｈ），  ５．００（ｄ，  Ｊ＝１１．４Ｈｚ，  ２Ｈ），  ４．７９（ｄ，  Ｊ＝１１．４Ｈｚ，  ２Ｈ），  ４．６９  （ｄ，  Ｊ＝  １２．１Ｈｚ，  ２Ｈ），  ４．６３（ｄ，  Ｊ＝１２．１Ｈｚ，  ２Ｈ），  ４．５０（ｄ，  Ｊ＝１２．１Ｈｚ，  ２Ｈ），  ４．４４（ｄ，  Ｊ＝１２．１Ｈｚ，  ２Ｈ），  ４．１３−４．１０（ｍ，  ２Ｈ），  ３．８７（ｔ，  Ｊ＝９．６Ｈｚ，  ２Ｈ），  ３．５９（ｔ，  Ｊ＝９．６Ｈｚ，  ２Ｈ），  ３．５６（ｄｄ，  Ｊ＝９．６Ｈｚ，  Ｊ＝３．６Ｈｚ，  ２Ｈ），  ３．５３−３．４５（ｍ，  ４Ｈ），  ２．３８（ｂｓ，  ２Ｈ）
１３Ｃ  ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  ：  δ１３８．９，  １３８．１，  １３８．０，  １２８．７，  １２８．５，  １２８．５，  １２８．１，  １２７．９，  １２７．８，  １２７．８，  １２７．６，  ９４．３，  ８１．１，  ７９．０，  ７５．４，  ７３．７，  ７２．５，  ７０．８，  ７０．７，  ６９．３
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析  ：  ｃａｌｃｄ．  ｆｏｒ  Ｃ５４Ｈ５８Ｏ１１Ｋ  ｍ／ｚ  ９２１．３６１１  ［Ｍ＋Ｋ］＋，  ｆｏｕｎｄ  ９２１．３５９８
【００７４】
−構造式４ａ’で表される化合物−
構造式４ａ’で表される化合物の比旋光度、１Ｈ  ＮＭＲスペクトル、１３Ｃ  ＮＭＲスペクトル、及びＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析の結果を以下に示す。
比旋光度  ：  ［α］２５Ｄ＝８８（ｃ＝１．０，  ＣＨＣｌ３）
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  ：  δ７．３７−７．２０（ｍ，  ３３Ｈ），  ７．１３−７．１１（ｍ，  ２Ｈ），  ５．２４（ｄ，  Ｊ＝３．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ５．２３（ｄ，  Ｊ＝３．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ５．００（ｄ，  Ｊ＝１１．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．９９（ｄ，  Ｊ＝１１．０Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．８６（ｄ，  Ｊ＝１１．０Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．８１（ｄ，  Ｊ＝１０．５Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．７９（ｄ，  Ｊ＝１１．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．７１−４．６４（ｍ，  ４Ｈ），  ４．５４（ｄ，  Ｊ＝１２．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．５０（ｄ，  Ｊ＝１２．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．４５（ｄ，  Ｊ＝１０．５Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．４３（ｄ，  Ｊ＝１２．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．３７（ｄ，  Ｊ＝１２．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．１７−４．１１（ｍ，  ２Ｈ），  ４．０３（ｔ，  Ｊ＝９．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．８７（ｔ，  Ｊ＝９．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．６８（ｔ，  Ｊ＝９．６Ｈｚ，  ２Ｈ），  ３．５９（ｄｄ，  Ｊ＝９．６Ｈｚ，  Ｊ＝３．２Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．５６（ｄｄ，  Ｊ＝９．８Ｈｚ，  Ｊ＝３．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．５３−３．４４（ｍ，  ３Ｈ），  ３．３６（ｄ，  Ｊ＝１０．１Ｈｚ，  １Ｈ），  ２．３８（ｄ，  Ｊ＝２．３Ｈｚ，  １Ｈ）
１３Ｃ  ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  ：  δ１３８．９，  １３８．９，  １３８．４，  １３８．２，  １３８．１，  １３８．０，  １３７．９，  １２８．６，  １２８．５，  １２８．４，  １２８．１，  １２８．０，  １２８．０，  １２７．８，  １２７．８，  １２７．８，  １２７．７，  １２７，７，  １２７．６，  １２７．６，  １２７．４，  ９４．５，  ９４．４，  ８１．９，  ８１．１，  ７９．４，  ７９．１，  ７７．７，  ７５．７，  ７５．４，  ７５．２，  ７３．７，  ７３．６，  ７２．８，  ７２．５，  ７０．９，  ７０．７，  ７０．６，  ６９．２，  ６８．２
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析  ：  ｃａｌｃｄ．  ｆｏｒ  Ｃ６１Ｈ６４Ｏ１１Ｋ  ｍ／ｚ  １１０１．４０８０  ［Ｍ＋Ｋ］＋，  ｆｏｕｎｄ  １１０１．４０６７
【００７５】
＜構造式３ａで表される化合物の合成＞
【化４６】
0006560049.tif 000047
【００７６】
前記構造式４ａで表される化合物（１０５ｍｇ、０．１１９ｍｍｏｌ）をＤＭＦ  ２ｍＬに溶解し、水素化ナトリウム  １２．０ｍｇ（２．５当量）、ＴＢＡＩ  ２．０ｍｇ（５ｍｏｌ％）、臭化プレニル  １５．１μＬ（１．１当量）を氷冷下順次加え、室温で１２時間撹拌した。メタノール  ０．１ｍＬを加え、５分間撹拌した後、蒸留水  １０ｍＬと塩化メチレン  １０ｍＬとを加えた。有機層を分離し、塩酸水溶液（１Ｎ、５ｍＬ）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（５ｍＬ）にて洗浄後、芒硝乾燥を行った。溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）にて精製し、構造式３ａで表される化合物を５０．０ｍｇ（５２．６μｍｏｌ、収率４４％）得た。なお、２７．０ｍｇ（３０．６μｍｏｌ）の原料が回収され、これを考慮した補正収率は６５％となった。
【００７７】
−構造式３ａで表される化合物−
構造式３ａで表される化合物の比旋光度、１Ｈ  ＮＭＲスペクトル、１３Ｃ  ＮＭＲスペクトル、及びＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析の結果を以下に示す。
比旋光度  ：  ［α］２５Ｄ＝８８（ｃ＝１．０，  ＣＨＣｌ３）
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  ：  δ７．３１−７．１２（ｍ，  ３０Ｈ），  ５．１９−５．１６（ｍ，  １Ｈ），  ５．１３（ｂｓ，  ２Ｈ），  ４．９３（ｄ，  Ｊ＝１１．２Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．９０（ｄ，  Ｊ＝１１．２Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．７９（ｄ，  Ｊ＝１１．２Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．７０（ｄ，  Ｊ＝１１．２Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．６２−４．５４（ｍ，  ４Ｈ），  ４．４７（ｄ，  Ｊ＝１２．２Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．４１（ｄ，  Ｊ＝１２．２Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．３６（ｄ，  Ｊ＝１２．２Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．３４（ｄ，  Ｊ＝１２．２Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．２４−４．１９（ｍ，  １Ｈ），  ４．０８−４．０３（ｍ，  ２Ｈ），  ３．９５−３．８８（ｍ，  ２Ｈ），  ３．７７（ｔ，  Ｊ＝９．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．５９（ｔ，  Ｊ＝９．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．４８−３．３９（ｍ，  ５Ｈ），  ３．３７−３．１２（ｍ，  ２Ｈ），  ２．３０（ｂｓ，  １Ｈ），  １．６２（ｓ，  ３Ｈ），  １．４６（ｓ，  ３Ｈ）
１３Ｃ  ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  ：  δ１３９．０，  １３８．９，  １３８．３，  １３８．１，  １３８．０，  １３８．０，  １３７．１，  １２８．６，  １２８．４，  １２８．０，  １２７．９，  １２７．９，  １２７．８，  １２７．７，  １２７．６，  １２７．６，  １２７．６，  １２７．５，  １２１．２，  ９４．７，  ９４．６，  ８１．８，  ８１．３，  ７９．３，  ７９．０，  ７５．６，  ７５．５，  ７３．６，  ７３．６，  ７２．８，  ７２．４，  ７０．９，  ７０．８，  ７０．５，  ６９．７，  ６９．２，  ６８．４，  ２５．９，  １８．０
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析  ：  ｃａｌｃｄ．  ｆｏｒ  Ｃ５９Ｈ６６Ｏ１１Ｋ  ｍ／ｚ  ９８９．４２３７  ［Ｍ＋Ｋ］＋，  ｆｏｕｎｄ  ９８９．４２１０
【００７８】
＜構造式２ａで表される化合物の合成＞
【化４７】
0006560049.tif 000048
【００７９】
４２．８ｍｇ（４５μｍｏｌ）の構造式３ａで表される化合物をｔ−ブタノール、水、アセトンの混合溶媒（１：１：１）に溶解し、１１８ｍｇのＡＤ−ｍｉｘ−α、８．８ｍｇの（ＤＨＱ）２ＰＨＡＬ（０．２５当量）、及びメタンスルホンアミド  ８．５ｍｇ（２当量）と共に０℃にて６６時間撹拌した。反応系は亜硫酸ナトリウムを加え０℃にて３０分間撹拌することで中和し、酢酸エチルで抽出した。有機層は飽和食塩水にて洗浄後、芒硝乾燥し、濃縮乾固した。ここで１Ｈ  ＮＭＲによりジアステレオマー比を９：１と決定した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）にて精製し、４４．５ｍｇ（４５μｍｏｌ）の構造式２ａで表される化合物を定量的に得た。
【００８０】
−構造式２ａで表される化合物−
構造式２ａで表される化合物の比旋光度、１Ｈ  ＮＭＲスペクトル、１３Ｃ  ＮＭＲスペクトル、及びＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析の結果を以下に示す。
比旋光度  ：  ［α］２５Ｄ＝８８（ｃ＝１．６，  ＣＨＣｌ３）
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  ：  δ７．４０−７．２２（ｍ，  ３０Ｈ），  ５．２２（ｄ，  Ｊ＝３．７Ｈｚ，  １Ｈ），  ５．２０（ｄ，  Ｊ＝３．９Ｈｚ，  １Ｈ），  ５．０３（ｄ，  Ｊ＝１１．２Ｈｚ，  １Ｈ），  ５．０２（ｄ，  Ｊ＝１１．０Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．８３（ｄ，  Ｊ＝１１．２Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．７８（ｄ，  Ｊ＝１１．０Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．７０（ｄ，  Ｊ＝１１．９Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．７０−４．６６（ｍ，  ２Ｈ），  ４．６２（ｄ，  Ｊ＝１１．９Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．５２（ｄ，  Ｊ＝１２．１Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．５１（ｄ，  Ｊ＝１２．１Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．４４（ｄ，  Ｊ＝１２．１Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．４０（ｄ，  Ｊ＝１２．１Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．１２（ｂｒ  ｄｔ，  Ｊ＝９．８Ｈｚ，  ３．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．０４（ｂｒ  ｄｔ，  Ｊ＝１０．０Ｈｚ，  ２．５Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．９５−３．９２（ｍ，  １Ｈ），  ３．９０−３．８７（ｍ，  １Ｈ），  ３．８３（ｄｄ，  Ｊ＝１０．０Ｈｚ，  ２．３Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．７３−３．６７（ｍ，  １Ｈ），  ３．６０−３．５６（ｍ，  ２Ｈ），  ３．５５−３．５３（ｍ，  １Ｈ），  ３．５１−３．４７（ｍ，  ３Ｈ），  ３．４４−３．３９（ｍ，  ２Ｈ），  ３．３３（ｄｄ，  Ｊ＝１１．０Ｈｚ，  ２．１Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．００（ｄ，  Ｊ＝３．９Ｈｚ，  １Ｈ），  ２．４４（ｄ，  Ｊ＝２．５Ｈｚ，  １Ｈ），  ２．４２（ｂｓ，  １Ｈ），  １．１０（ｓ，  ３Ｈ），  ０．９９（ｓ，  ３Ｈ）
１３Ｃ  ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  ：  δ１３８．８，  １３８．５，  １３８．１，  １３８．０，  １３７．６，  １２８．７，  １２８．５，  １２８．５，  １２８．５，  １２８．１，  １２８．０，  １２７．９，  １２７．９，  １２７．８，  １２７．８，  １２７．８，  １２７．６，  １２７．４，  ９４．４，  ９４．２，  ８１．３，  ８１．２，  ７９．６，  ７９．２，  ７８．１，  ７６．３，  ７５．７，  ７５．４，  ７３．８，  ７３．７，  ７３．７，  ７２．７，  ７２．７，  ７１．３，  ７０．９，  ７０．７，  ７０．６，  ６９．３，  ６８．５，  ２６．６，  ２４．６
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析  ：  ｃａｌｃｄ．  ｆｏｒ  Ｃ５９Ｈ６８Ｏ１３Ｎａ  ｍ／ｚ  １００７．４５５２  ［Ｍ＋Ｎａ］＋，  ｆｏｕｎｄ  １００７．４５２５
【００８１】
＜構造式（１）で表される化合物の合成＞
【化４８】
0006560049.tif 000049
【００８２】
２８．０ｍｇ（２８．４μｍｏｌ）の前記構造式２ａで表される化合物を２ｍＬのメタノールに溶解し、ここに１０％  パラジウム炭素（Ｐｄ／Ｃ）を２０ｍｇ添加し、水素雰囲気化２４時間撹拌した。触媒をセライト濾過にて除去の後、ろ液を濃縮乾固し、１２．６ｍｇ（２８．４μｍｏｌ）の構造式（１）で表される化合物（レンツトレハロースＡ）を定量的に得た（６工程、収率２３％）。
【００８３】
−構造式（１）で表される化合物−
構造式（１）で表される化合物の１Ｈ  ＮＭＲスペクトル、１３Ｃ  ＮＭＲスペクトル、及びＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析の結果を以下に示す。
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，  ＣＤ３ＯＤ）  ：  δ５．１０（ｄ，  Ｊ＝３．８Ｈｚ，  １Ｈ），  ５．０８（ｄ，  Ｊ＝３．９Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．０２（ｄｄ，  Ｊ＝１０．５Ｈｚ，  ２．７Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．９０（ｔ，  Ｊ＝９．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．８４（ｂｒ  ｄｔ，  Ｊ＝９．４Ｈｚ，  ２．８Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．８０−３．７６（ｍ，  ５Ｈ），  ３．６７（ｄｄ，  Ｊ＝１１．７Ｈｚ，  ４．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．６６−３．６３（ｍ，  １Ｈ），  ３．５４（ｄｄ，  Ｊ＝７．８Ｈｚ，  ２．５Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．４９（ｄｄ，  Ｊ＝９．６Ｈｚ，  ３．８Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．４６（ｄｄ，  Ｊ＝９．６Ｈｚ，  ３．８Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．３１（ｔ，  Ｊ＝９．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．２８（ｔ，  Ｊ＝９．４Ｈｚ，  １Ｈ），  １．１９（ｓ，  ３Ｈ），  １．１７（ｓ，  ３Ｈ）
１３Ｃ  ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  ：  δ９５．１，  ９５．０，  ８０．４，  ７８．１，  ７４．７，  ７４．５，  ７４．４，  ７３．８，  ７３．４，  ７３．２，  ７２．８，  ７２．７，  ７１．９，  ６２．６，  ６２．１，  ２６．５，  ２５．４
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析  ：  ｃａｌｃｄ．  ｆｏｒ  Ｃ１７Ｈ３２Ｏ１３Ｎａ  ｍ／ｚ  ４６７．１７３５  ［Ｍ＋Ｎａ］＋，  ｆｏｕｎｄ  ４６７．１７２５
【００８４】
（実施例２：構造式４ａ’で表される化合物を経由するレンツトレハロースＡの合成−１）
＜構造式４ａ’で表される化合物及び構造式４ａで表される化合物の合成＞
【化４９】
0006560049.tif 000050
【００８５】
１）  トレハロース（３．５７ｇ，  １０．４ｍｍｏｌ）、ベンズアルデヒドジメチルアセタール  ０．７８ｍＬ（０．５当量）、及びｐ−ＴｓＯＨ  ４４．８ｍｇ（２．５ｍｏｌ％）をＤＭＦ  ５０ｍＬに溶解し、１００℃に加熱した。反応系は２４０ｍｍＨｇの減圧下で１０分間撹拌した後、ここにベンズアルデヒドジメチルアセタールを０．３９ｍＬ（０．２５当量）加え、２時間同条件で撹拌した。更に０．３９ｍＬ（０．２５当量）のベンズアルデヒドジメチルアセタールを添加し、２４０ｍｍＨｇの減圧下で２．５時間撹拌を継続した。再びベンズアルデヒドジメチルアセタールを０．１９５ｍＬ（０．２５当量）加え、２４０ｍｍＨｇの減圧下で１２時間撹拌した後、更に０．１９５ｍＬ（０．２５当量）のベンズアルデヒドジメチルアセタールと、４４．８ｍｇ（２．５ｍｏｌ％）のｐ−ＴｓＯＨとを加え合計２０時間となるまで撹拌を行った。反応系を室温まで冷却した後、トリエチルアミンを用いて中和を行った。得られた混合溶液を精製することなくそのまま次の反応に利用した。
【００８６】
２）  上記混合溶液の中に水素化ナトリウム  ６．２４ｇ（１５当量）、ＴＢＡＩ  ２６８ｍｇ（７ｍｏｌ％）、臭化ベンジル  １１．１ｍＬ（９当量）を氷冷下順次加え、室温下１２時間撹拌した。反応液を氷水に注加し、塩化メチレンにて抽出、濃縮乾固して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し（ヘキサン：酢酸エチル＝８：１から５：１）、ベンジル保護体  １０．０ｇを得た。
【００８７】
３）  上記ベンジル保護体は塩化メチレン  ２５０ｍＬに溶解し、０℃にてトリエチルシラン  １２．４ｍＬ（７．５当量）とトリフルオロ酢酸  ５．９７ｍＬ（７．５当量）とを加えそのまま２．５時間撹拌した。反応系は塩化メチレンにて希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム溶液にて洗浄後、有機層を濃縮乾固した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し（ヘキサン：酢酸エチル＝６：１から３：１）、構造式４ａ’で表される化合物（４．００ｇ、４．１１ｍｍｏｌ、３工程で３９％）と構造式４ａで表される化合物（１．２６ｇ、１．４３ｍｍｏｌ、３工程で１４％）をそれぞれ無色シロップと白色紛体として得た。
【００８８】
得られた構造式４ａ’で表される化合物の比旋光度、１Ｈ  ＮＭＲスペクトル、１３Ｃ  ＮＭＲスペクトル、及びＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析の結果は、前記実施例１と同様であった。
また、得られた構造式４ａで表される化合物の融点、比旋光度、１Ｈ  ＮＭＲスペクトル、１３Ｃ  ＮＭＲスペクトル、及びＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析の結果も、前記実施例１と同様であった。
【００８９】
＜構造式３ａ’で表される化合物の合成＞
【化５０】
0006560049.tif 000051
【００９０】
前記構造式４ａ’で表される化合物（１０６ｍｇ、０．１０９ｍｍｏｌ）をＤＭＦ  ２ｍＬに溶解し、ＴＢＡＩ  ２．５ｍｇ（１０ｍｏｌ％）、水素化ナトリウム  ８．７ｍｇ（２当量）、臭化プレニル  ６２．９μＬ（５当量）を氷冷下順次加え、室温で１２時間撹拌した。メタノール  ０．１ｍＬを加え、５分間撹拌した後、蒸留水  １０ｍＬと塩化メチレン  １０ｍＬとを加えた。有機層を分離し、塩酸水溶液（１Ｍ、５ｍＬ）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（５ｍＬ）にて洗浄後、芒硝乾燥を行った。溶媒を留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）にて精製し、１１５ｍｇ（０．１０９ｍｍｏｌ）の構造式３ａ’で表される化合物を定量的に得た。
【００９１】
−構造式３ａ’で表される化合物−
構造式３ａ’で表される化合物の比旋光度、１Ｈ  ＮＭＲスペクトル、１３Ｃ  ＮＭＲスペクトル、及びＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析の結果を以下に示す。
比旋光度  ：  ［α］２５Ｄ＝８７（ｃ＝１．６，  ＣＨＣｌ３）
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  ：  δ７．３８−７．２０（ｍ，  ３３Ｈ），  ７．１２−７．０９（ｍ，  ２Ｈ），  ５．２６−５．２４（ｍ，  １Ｈ），  ５．２１−５．２０（ｍ，  ２Ｈ），  ４．９９（ｄ，  Ｊ＝１０．８Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．９７（ｄ，  Ｊ＝１１．０Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．８６（ｄ，  Ｊ＝１０．８Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．８４（ｄ，  Ｊ＝１１．０Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．８０（ｄ，  Ｊ＝１０．５Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．７０−４．６２（ｍ，  ４Ｈ），  ４．５６（ｄ，  Ｊ＝１２．１Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．５４（ｄ，  Ｊ＝１２．２Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．４４（ｄ，  Ｊ＝１２．１Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．４３（ｄ，  Ｊ＝１０．５Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．３５（ｄ，  Ｊ＝１２．２Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．３３−４．２７（ｍ，  １Ｈ），  ４．１７−４．１３（ｍ，  ２Ｈ），  ３．９９（ｔ，  Ｊ＝９．４Ｈｚ，  ２Ｈ），  ３．９６（ｔ，  Ｊ＝９．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．６９−３．６５（ｍ，  １Ｈ），  ３．５８−３．４７（ｍ，  ５Ｈ），  ３．４１（ｄ，  Ｊ＝１０．８Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．３３（ｄ，  Ｊ＝１０．８Ｈｚ，  １Ｈ），  １．６９（ｓ，  ３Ｈ），  １．５３（ｓ，  ３Ｈ）
１３Ｃ  ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  ：  δ１３９．１，  １３９．０，  １３８．４，  １３８．４，  １３８．３，  １３８．０，  １３８．０，  １３７．２，  １２８．５，  １２８．５，  １２８．４，  １２８．４，  １２８．１，  １２８．１，  １２８．０，  １２８．０，  １２７．８，  １２７．７，  １２７．６，  １２７．６，  １２７．６，  １２７．５，  １２１．３，  ９４．８，  ８２．０，  ８１．８，  ７９．４，  ７９．４，  ７７．７，  ７７．５，  ７７．４，  ７５．８，  ７５．７，  ７５．２，  ７３．６，  ７２．８，  ７２．７，  ７０．８，  ７０．６，  ６９．７，  ６８．４，  ６８．１，  ２５．９，  １８．１
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析  ：  ｃａｌｃｄ．  ｆｏｒ  Ｃ６６Ｈ７２Ｏ１１Ｎａ  ｍ／ｚ  １０６３．４９６７  ［Ｍ＋Ｎａ］＋，  ｆｏｕｎｄ  １０６３．４９４５
【００９２】
＜構造式２ａ’で表される化合物の合成＞
【化５１】
0006560049.tif 000052
【００９３】
４６．９ｍｇ（４５μｍｏｌ）の構造式３ａ’で表される化合物をｔ−ブタノール、水、アセトンの混合溶媒（１：１：１）に溶解し、１２４ｍｇのＡＤ−ｍｉｘ−α、９．２ｍｇの（ＤＨＱ）２ＰＨＡＬ（０．２５当量）、及びメタンスルホンアミド  ８．９ｍｇ（２当量）と共に０℃にて７２時間撹拌した。反応系は亜硫酸ナトリウムを加え０℃にて３０分間撹拌することで中和し、酢酸エチルで抽出した。有機層は飽和食塩水にて洗浄後、芒硝乾燥し、濃縮乾固した。ここで１Ｈ  ＮＭＲによりジアステレオマー比を９：１と決定した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）にて精製し、構造式２ａ’で表される化合物を２１．９ｍｇ（２０．４μｍｏｌ、４５％）得た。
【００９４】
−構造式２ａ’で表される化合物−
構造式２ａ’で表される化合物の１Ｈ  ＮＭＲスペクトル、１３Ｃ  ＮＭＲスペクトル、及びＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析の結果を以下に示す。
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  ：  δ７．３８−７．１３（ｍ，  ３３Ｈ），  ７．１２−７．０９（ｍ，  ２Ｈ），  ５．２０（ｄ，  Ｊ＝３．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ５．１９（ｄ，  Ｊ＝３．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ５．０２（ｄ，  Ｊ＝１０．８Ｈｚ，  １Ｈ），  ５．０１（ｄ，  Ｊ＝１０．８Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．８９（ｄ，  Ｊ＝１０．８Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．８１（ｄ，  Ｊ＝１０．５Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．７７（ｄ，  Ｊ＝１０．８Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．７２（ｄ，  Ｊ＝１２．１Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．６８−４．６１（ｍ，  ２Ｈ），  ４．６４（ｄ，  Ｊ＝１２．１Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．５４（ｄ，  Ｊ＝１２．１Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．５３（ｄ，  Ｊ＝１２．１Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．４５（ｄ，  Ｊ＝１０．５Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．４０（ｄ，  Ｊ＝１２．１Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．３７（ｄ，  Ｊ＝１２．１Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．１５（ｂｒ  ｄｔ，  Ｊ＝９．８Ｈｚ，  ３．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．１４−０６（ｍ，  ２Ｈ），  ３．９１（ｔ，  Ｊ＝９．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．８２（ｄｄ，  Ｊ＝９．４Ｈｚ，  ２．３Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．６９（ｔ，  Ｊ＝９．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．６０（ｄｄ，  Ｊ＝９．６Ｈｚ，  ３．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．５４（ｄｄ，  Ｊ＝９．４Ｈｚ，  ３．６Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．５２（ｄｄ，  Ｊ＝９．４Ｈｚ，  ３．６Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．４９（ｄｄ，  Ｊ＝９．６Ｈｚ，  ８．０Ｈｚ，  ２Ｈ），  ３．４４−３．４１（ｍ，  １Ｈ），  ３．４１−３．３９（ｍ，  １Ｈ），  ３．３７（ｄｄ，  Ｊ＝１０．８Ｈｚ，  １．８Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．３２（ｄｄ，  Ｊ＝１０．８Ｈｚ，  ２．３Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．００（ｄ，  Ｊ＝３．９Ｈｚ，  １Ｈ），  ２．４０（ｓ，  １Ｈ），  １．１０（ｓ，  ３Ｈ），  ０．９８（ｓ，  ３Ｈ）
１３Ｃ  ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  ：  δ１３８．９，  １３８．６，  １３８．４，  １３８．３，  １３８．１，  １３７．９，  １３７．７，  １２８．５，  １２８．５，  １２８．５，  １２８．１，  １２８．１，  １２８．０，  １２７．９，  １２７．９，  １２７．８，  １２７．８，  １２７．８，  １２７．８，  １２７．７，  １２７．５，  １２７．５，  ９４．６，  ９４．４，  ８２．０，  ８１．３，  ７９．６，  ７９．６，  ７８．２，  ７７．８，  ７６．３，  ７５．７，  ７５．７，  ７５．３，  ７３．８，  ７３．７，  ７３．６，  ７３．０，  ７２．６，  ７１．３，  ７０．８，  ７０．５，  ６８．５，  ６８．２，  ２６．６，  ２４．６
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析  ：  ｃａｌｃｄ．  ｆｏｒ  Ｃ６６Ｈ７４Ｏ１３Ｎａ  ｍ／ｚ  １０９７．５０２２  ［Ｍ＋Ｎａ］＋，  ｆｏｕｎｄ  １０９７．４９９９
【００９５】
＜構造式（１）で表される化合物の合成＞
【化５２】
0006560049.tif 000053
【００９６】
１８．０ｍｇ（２８．４μｍｏｌ）の構造式２ａ’で表される化合物を１．５ｍＬのメタノールに溶解し、ここに１０％  Ｐｄ／Ｃを１５ｍｇ添加し、水素雰囲気化で２４時間撹拌した。触媒をセライト濾過にて除去の後、ろ液を濃縮乾固し、９．０ｍｇ（２８．４μｍｏｌ）の構造式（１）で表される化合物（レンツトレハロースＡ）を定量的に得た（６工程、収率１８％）。
【００９７】
得られた構造式（１）で表される化合物の１Ｈ  ＮＭＲスペクトル、１３Ｃ  ＮＭＲスペクトル、及びＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析の結果は、前記実施例１と同様であった。
【００９８】
（実施例３：構造式４ａ’で表される化合物を経由するレンツトレハロースＡの合成−２）
＜構造式２ａ’’で表される化合物の合成＞
【化５３】
0006560049.tif 000054
【００９９】
前記実施例２と同様にして、構造式４ａ’で表される化合物を得た。
前記構造式４ａ’で表される化合物（２５．０ｍｇ、２５．１μｍｏｌ）をジメチルホルムアミド  １．５ｍＬに溶解し、水素化ナトリウム  ２．６ｍｇ（２．５当量）、１５−ｃｒｏｗｎ−５  １３μＬ（２．６当量）、構造式Ｉで表されるエポキシド  １２．３ｍｇ（２．５当量）を氷冷下順次加え、７０℃にて１８時間撹拌した。氷冷下でメタノール  ０．１ｍＬを加え、５分間撹拌した後、蒸留水  ８ｍＬと塩化メチレン  １０ｍＬとを加えた。有機層を分離し、塩酸水溶液（１Ｎ、４ｍＬ）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（５ｍＬ）にて洗浄後、芒硝乾燥を行った。後処理の後シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、９．０ｍｇ（７．７２μｍｏｌ）の構造式２ａ’’で表される化合物を得た（収率３０％）。
【０１００】
−構造式２ａ’’で表される化合物−
構造式２ａ’’で表される化合物の１Ｈ  ＮＭＲスペクトル、及びＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析の結果を以下に示す。
１Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，  ＣＤＣｌ３）  ：  δ７．４１−７．２４（ｍ，  ３６Ｈ），  ７．１４−７．１１（ｍ，  ２Ｈ），  ５．２１（ｄ，  Ｊ＝３．４Ｈｚ，  ２Ｈ），  ５．０２（ｄ，  Ｊ＝１１．０Ｈｚ，  １Ｈ），  ５．００（ｄ，  Ｊ＝１０．５Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．８８（ｄ，  Ｊ＝１１．０Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．８７（ｄ，  Ｊ＝１０．５Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．８２（ｄ，  Ｊ＝１０．５Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．７１−４．６４（ｍ，  ４Ｈ），  ４．５５（ｄ，  Ｊ＝１２．１Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．４９（ｄ，  Ｊ＝１１．９Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．４７（ｄ，  Ｊ＝１０．５Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．４４−４．４２（ｍ，  ２Ｈ），  ４．４２（ｄ，  Ｊ＝１１．９Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．３７（ｄ，  Ｊ＝１２．１Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．１８−４−４．０６（ｍ，  ２Ｈ），  ４．０３（ｔ，  Ｊ＝９．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ４．００（ｔ，  Ｊ＝９．４Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．９７−３．９３（ｍ，  １Ｈ），  ３．８５（ｄｄ，  Ｊ＝１０．３Ｈｚ，  １．６Ｈｚ，  １Ｈ），  ３．７５−３．６３（ｍ，  ３Ｈ），  ３．５８−３．４６（ｍ，  ５Ｈ），  ３．４２−３．３４（ｍ，  ２Ｈ），  １．１５（ｓ，  ３Ｈ），  １．１１（ｓ，  ３Ｈ）
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析  ：  ｃａｌｃｄ．  ｆｏｒ  Ｃ７３Ｈ８０Ｏ１３Ｎａ  ｍ／ｚ  １１８７．５４９１  ［Ｍ＋Ｎａ］＋，  ｆｏｕｎｄ  １１８７．５４７６
【０１０１】
＜構造式（１）で表される化合物の合成＞
【化５４】
0006560049.tif 000055
【０１０２】
８．５ｍｇ（７．２９μｍｏｌ）の構造式２ａ’’で表される化合物を１ｍＬのメタノールに溶解し、ここに１０％  Ｐｄ／Ｃを７．０ｍｇ添加し、水素雰囲気化で２４時間撹拌した。触媒をセライト濾過にて除去の後、ろ液を濃縮乾固し、２．９ｍｇ（６．５３μｍｏｌ）の構造式（１）で表される化合物（レンツトレハロースＡ）を得た（収率８９％）。なお、絶対配置既知のトレハロースから導かれる合成中間体による絶対配置既知のエポキシドの立体特異的開環反応を利用した本合成により、レンツトレハロースＡの絶対立体配置は構造式（１）で表される通り決定された。
【０１０３】
得られた構造式（１）で表される化合物の１Ｈ  ＮＭＲスペクトル、１３Ｃ  ＮＭＲスペクトル、及びＨＲＭＳ（ＥＳＩ）分析の結果は、前記実施例１と同様であった。
【０１０４】
以上の結果から、本発明の方法により、構造式（１）で表される化合物（レンツトレハロースＡ）を効率良く合成できることが示された。
【０１０５】
本発明の態様としては、例えば、以下のものなどが挙げられる。
＜１＞  下記構造式（１）で表される化合物の製造方法であって、
トレハロースにベンジル基を導入し、下記構造式４ａで表される化合物及び下記構造式４ａ’で表される化合物の少なくともいずれかを製造する工程と、
下記構造式４ａで表される化合物及び下記構造式４ａ’で表される化合物の少なくともいずれかをプレニル化し、下記構造式３ａで表される化合物及び下記構造式３ａ’で表される化合物の少なくともいずれかを製造する工程と、
下記構造式３ａで表される化合物及び下記構造式３ａ’で表される化合物の少なくともいずれかをシャープレス不斉ジヒドロキシ化し、下記構造式２ａで表される化合物及び下記構造式２ａ’で表される化合物の少なくともいずれかを製造する工程と、
下記構造式２ａで表される化合物及び下記構造式２ａ’で表される化合物の少なくともいずれかをパラジウム触媒の存在下で水素と反応させ、下記構造式（１）で表される化合物を製造する工程とを含むことを特徴とする方法である。
【化５５】
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【化５６】
0006560049.tif 000057
【化５７】
0006560049.tif 000058
【化５８】
0006560049.tif 000059
【化５９】
0006560049.tif 000060
【化６０】
0006560049.tif 000061
【化６１】
0006560049.tif 000062
ただし、前記構造式４ａ、前記構造式４ａ’、前記構造式３ａ、前記構造式３ａ’、前記構造式２ａ、及び前記構造式２ａ’中、Ｂｎはベンジル基を表わす。
＜２＞  下記構造式（１）で表される化合物の製造方法であって、
トレハロースにベンジル基を導入し、下記構造式４ａ’で表される化合物を製造する工程と、
下記構造式４ａ’で表される化合物と、下記構造式Ｉで表されるエポキシドとを反応させ、下記構造式２ａ’’で表される化合物を製造する工程と、
下記構造式２ａ’’で表される化合物をパラジウム触媒の存在下で水素と反応させ、下記構造式（１）で表される化合物を製造する工程とを含むことを特徴とする方法である。
【化６２】
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【化６３】
0006560049.tif 000064
【化６４】
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【化６５】
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ただし、前記構造式４ａ’、前記構造式Ｉ、及び前記構造式２ａ’’中、Ｂｎはベンジル基を表わす。
＜３＞  下記構造式（１）で表される化合物の製造方法であって、
下記構造式２ａで表される化合物、下記構造式２ａ’で表される化合物、及び下記構造式２ａ’’で表される化合物の少なくともいずれかをパラジウム触媒の存在下で水素と反応させる工程を含むことを特徴とする方法である。
【化６６】
0006560049.tif 000067
【化６７】
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【化６８】
0006560049.tif 000069
【化６９】
0006560049.tif 000070
ただし、前記構造式２ａ、前記構造式２ａ’、及び前記構造式２ａ’’中、Ｂｎはベンジル基を表わす。
＜４＞  下記構造式２ａで表される化合物及び下記構造式２ａ’で表される化合物の少なくともいずれかの製造方法であって、
下記構造式３ａで表される化合物及び下記構造式３ａ’で表される化合物の少なくともいずれかをシャープレス不斉ジヒドロキシ化する工程を含むことを特徴とする方法である。
【化７０】
0006560049.tif 000071
【化７１】
0006560049.tif 000072
【化７２】
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【化７３】
0006560049.tif 000074
ただし、前記構造式２ａ、前記構造式２ａ’、前記構造式３ａ、及び前記構造式３ａ’中、Ｂｎはベンジル基を表わす。
＜５＞  下記構造式２ａ’’で表される化合物の製造方法であって、
下記構造式４ａ’で表される化合物と、下記構造式Ｉで表されるエポキシドとを反応させる工程を含むことを特徴とする方法である。
【化７４】
0006560049.tif 000075
【化７５】
0006560049.tif 000076
【化７６】
0006560049.tif 000077
ただし、前記構造式２ａ’’、前記構造式４ａ’、及び前記構造式Ｉ中、Ｂｎはベンジル基を表わす。
＜６＞  下記構造式３ａ及び下記構造式３ａ’のいずれかで表される化合物の製造方法であって、
下記構造式４ａで表される化合物及び下記構造式４ａ’で表される化合物の少なくともいずれかをプレニル化する工程を含むことを特徴とする方法である。
【化７７】
0006560049.tif 000078
【化７８】
0006560049.tif 000079
【化７９】
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【化８０】
0006560049.tif 000081
ただし、前記構造式３ａ、前記構造式３ａ’、前記構造式４ａ、及び前記構造式４ａ’中、Ｂｎはベンジル基を表わす。
＜７＞  下記構造式４ａ及び下記構造式４ａ’のいずれかで表される化合物の製造方法であって、
トレハロースにベンジル基を導入する工程を含むことを特徴とする方法である。
【化８１】
0006560049.tif 000082
【化８２】
0006560049.tif 000083
ただし、前記構造式４ａ及び前記構造式４ａ’中、Ｂｎはベンジル基を表わす。
＜８＞  下記構造式２ａ、下記構造式２ａ’、及び下記構造式２ａ’’のいずれかで表されることを特徴とする化合物である。
【化８３】
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【化８４】
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【化８５】
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ただし、前記構造式２ａ、前記構造式２ａ’、及び前記構造式２ａ’’中、Ｂｎはベンジル基を表わす。
＜９＞  下記構造式３ａ及び下記構造式３ａ’のいずれかで表されることを特徴とする化合物である。
【化８６】
0006560049.tif 000087
【化８７】
0006560049.tif 000088
ただし、前記構造式３ａ及び前記構造式３ａ’中、Ｂｎはベンジル基を表わす。
＜１０＞  下記構造式４ａ及び下記構造式４ａ’のいずれかで表されることを特徴とする化合物である。
【化８８】
0006560049.tif 000089
【化８９】
0006560049.tif 000090
ただし、前記構造式４ａ及び前記構造式４ａ’中、Ｂｎはベンジル基を表わす。