(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶接装置の溶接ワイヤ送給及びプロセスガス供給のための装置であって、
該装置は、溶接ワイヤチャンネル（４）を備えたワイヤ送給ノズル（１）と、ワイヤ送給ノズル（１）に分離可能に結合されたノズル基部（２）と、ノズル基部（２）と分離可能に又は固定的に結合されかつ溶接ワイヤチャンネル（６）を備えた外殻（３）と、該外殻（３）は溶接ワイヤ送給装置と結合可能に構成されており、プロセスガスチャンネル（９）を備えたプロセスガス供給装置とを有し、該プロセスガス供給装置は、プロセスガス貯蔵器と接続可能に構成されており、
プロセスガス供給装置のプロセスガスチャンネル（９）は、少なくとも部分的に外殻（３）の内部に配されており、かつ、ノズル基部（２）は、プロセスガスチャンネル（９）に接続する複数の孔を備えており、これらの孔は、ワイヤ送給ノズル（１）の溶接ワイヤチャンネル（４）に対し平行に又は±５°の鋭角をなしてワイヤ送給ノズル（１）の周囲に配置されており、
ノズル基部（２）は、ワイヤ送給ノズル（１）を有する端部（１４）の方向においてシリンダ状に構成されており、ノズル基部の内部に設けられた孔（７）はノズル基部（２）の表面に形成された溝（１５）に延出する、
装置。
【請求項２】
請求項１に記載の装置において、
溝（１５）は、ノズル基部の長軸線（１１）に対し直角をなす断面において円セグメント状に構成され、該円セグメントの半径は孔（７）の半径に相当する、
装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の装置において、
複数の孔（７）は、溶接ワイヤチャンネル（４）に対し同心的にないし同心楕円的に延在する円ないし楕円上に配置されている、
装置。
【請求項４】
請求項１〜３の何れかに記載の装置において、
プロセスガスチャンネル（１２）とワイヤ送給チャンネル（１３）を有するソケット（１０）が設けられ、ソケット（１０）には外殻（３）が受容され、ソケット（１０）は溶接ワイヤ送給装置及びプロセスガス貯蔵器のための接続要素（５、８）を有する、
装置。
【請求項５】
請求項１〜４の何れかに記載の装置において、
外殻のプロセスガスチャンネル（９）と該プロセスガスチャンネル（９）に接続するノズル基部の複数の孔（７）は、その周囲に対しプロセスガス気密的に互いに接続している、
装置。
【請求項６】
請求項１〜５の何れかに記載の装置において、
外殻（３）は、外殻管として構成されている、
装置。
【請求項７】
請求項１〜６の何れかに記載の装置において、
ノズル基部（２）は、少なくとも３つの孔（７）を有し、これらの孔（７）はすべてが同じ半径を有する、
装置。
【請求項８】
請求項６に記載の装置において、
複数の孔（７）は、ノズル基部（２）の長軸線（１１）を中心として回転対称的に配置されている、
装置。
【請求項９】
請求項１〜８の何れかに記載の装置を有する溶接装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、請求項１の上位概念部（前置部）に記載の溶接装置の溶接ワイヤ送給及びプロセスガス供給のための装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
溶接装置の溶接ワイヤ送給及びプロセスガス供給のためこの種の装置は各種の態様で既知である。一般的には、当該装置は、溶接ワイヤチャンネルを備えたワイヤ送給ノズルを有し、ワイヤ送給ノズルはノズル基部（ノズル受容部材：Duesenstock）に分離可能に結合されている。一方、ノズル基部は、外殻に分離可能に結合されており、外殻は、溶接ワイヤチャンネルを備えておりかつ溶接ワイヤ送給装置に結合されている。更に、この種の装置は、一般的には少なくとも１つのプロセスガスチャンネルを有するプロセスガス供給装置を有し、このプロセスガス供給装置は、プロセスガス貯蔵器に接続されている。この場合、一般的に、プロセスガス供給装置はガスノズルを備えているが、このガスノズルは、ノズル基部の上方に配置されるため、プロセスガスはノズル基部の上方において直接放出される。プロセスガスは、主として、溶接の際に発生する溶接煙（Schweissschmauch）を吹き飛ばすために用いられる。不活性ガスがプロセスガスとして使用される場合、プロセスガスによって鐘状（の輪郭形状）の保護ガスも生成されるため、非常に良好な溶接結果を達成することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】ＪＰ−Ｈ０１−０９５８８７Ａ
【特許文献２】ＵＳ５，３１３，０４６
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
そのワイヤ送給ノズルがその溶接ワイヤチャンネルの周りに同心的に配置された８つの孔を備えた溶接装置がＪＰ−Ｈ０１−０９５８８７Ａから既知である。これらの孔によって、プロセスガスは溶接部位ないし溶接領域に導かれる。このようなガスの案内によって、プロセスガスは、溶接プロセス中、溶接ワイヤの周りで同心的に噴き流されることができるため、プロセスガスは、溶接プロセス中、溶接ワイヤの周囲をその全周にわたって流動し、このプロセスガスによって、場合によって発生し得る溶接煙も効果的に吹き飛ばされる。しかしながら、プロセスガス供給のためのこのような孔（複数）を消耗品として構成されたワイヤ送給ノズルに設けることは、技術的に要求が厳しい。ワイヤ送給ノズルは溶接装置と比べて耐用時間が極めて短いため、溶接装置を運転するためには、このようなワイヤ送給ノズルを多数製造し、備蓄しなければならない。この場合、ガス供給のための孔（複数）を有するこのようなワイヤ送給ノズルの製造は技術的に要求が厳しいだけではなく、それに加えて更に、エネルギ及びコストの要求の増大も避けることができないため、エコロジーの観点からも経済的な観点からも満足な結果が得られないことに留意すべきである。更に、溶接プロセス中のガス供給は、加熱されたワイヤ送給ノズルを介して供給中に既に、非常に大きな温度に曝されているため、溶接領域ないし溶接部位におけるガス供給の均一性も、高温のワイヤ送給ノズルによって生成し得るプロセスガスの流動のために、好適ではない。
【０００５】
更に、請求項１の上位概念部（前置部）に記載の溶接装置の溶接ワイヤ送給及びプロセスガス供給のための装置は、ＵＳ５，３１３，０４６から既知であるが、この装置は、同様に、プロセスガスの満足のできる均一な供給を保証することはできない。なぜなら、プロセスガスを案内するその孔（複数）の配置のために、不均一性を回避することができないからである。
【０００６】
それゆえ、本発明の課題は、溶接部位ないし溶接領域に対し溶接ワイヤの周りにプロセスガスの均一な供給を可能にする溶接装置の溶接ワイヤ送給及びプロセスガス供給のための装置を提供することである。更に、溶接装置の製造及び運転はエコロジーの観点からも経済的観点からも好適化されることが望まれる。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
この課題は、請求項１の特徴部に記載の特徴を有する装置によって解決される。即ち、本発明の一視点により、溶接装置の溶接ワイヤ送給及びプロセスガス供給のための装置が提供される。該装置は、溶接ワイヤチャンネルを備えたワイヤ送給ノズルと、ワイヤ送給ノズルに分離可能に結合されたノズル基部と、ノズル基部と分離可能に又は固定的に結合されかつ溶接ワイヤチャンネルを備えた外殻と、該外殻は溶接ワイヤ送給装置と結合可能に構成されており、プロセスガスチャンネルを備えたプロセスガス供給装置とを有し、該プロセスガス供給装置は、プロセスガス貯蔵器と接続可能に構成されており、
プロセスガス供給装置のプロセスガスチャンネルは、少なくとも部分的に外殻の内部に配されており、かつ、ノズル基部は、プロセスガスチャンネルに接続する複数の孔を備えており、これらの孔は、ワイヤ送給ノズルの溶接ワイヤチャンネルに対し平行に又は±５°の鋭角をなしてワイヤ送給ノズルの周囲に配置されており、
ノズル基部は、ワイヤ送給ノズルを有する端部の方向においてシリンダ状に構成されており、ノズル基部の内部に設けられた孔はノズル基部の表面に形成された溝に延出する。
本発明の更なる形態は従属請求項に見出される。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
溶接装置の溶接ワイヤ送給及びプロセスガス供給のための本発明の装置は、溶接ワイヤチャンネルを備えたワイヤ送給ノズルと、該ワイヤ送給ノズルに分離可能に結合されたノズル基部（ノズル受容部材）を有する。更に、本発明の装置は、ノズル基部と分離可能に又は固定的に結合されかつ溶接ワイヤチャンネルを備えた外殻（プロフィール部材：Profil）を有し、外殻は溶接ワイヤ送給装置と結合可能に構成されている。更に、本発明の装置は、プロセスガスチャンネルを備えたプロセスガス供給装置を有し、プロセスガス供給装置は、プロセスガス貯蔵器と接続可能に構成されている。本装置は、本発明に応じ、プロセスガス供給装置のプロセスガスチャンネルは、少なくとも部分的に外殻の内部に配されており、かつ、ノズル基部は、プロセスガスチャンネルに接続する（連通する）複数の孔を備えており、これらの孔は、ワイヤ送給ノズルの溶接ワイヤチャンネルに対し平行に又は±５°の鋭角をなしてワイヤ送給ノズルの周囲に配置されている。プロセスガス供給装置のプロセスガスチャンネルは、単独のチャンネルとして構成可能であるが、これに限定されず、ノズル基部に設けられた孔（複数）にプロセスガスを供給する複数の個別チャンネルとしても構成可能である。同様に溶接部位ないし溶接領域の領域において溶接ワイヤの周囲にプロセスガスの可及的に均一な分配を可能にするために、ノズル基部は、ワイヤ送給ノズルを有する端部の方向において（即ち、ノズル基部の軸線を中心として）シリンダ状に構成されており、ノズル基部の内部に設けられた孔（複数）はノズル基部の表面に形成された溝（複数）に延出する（延びて連通する）。かくして、プロセスガスは、ワイヤ送給ノズルに流出する前に既に、ノズル基部の周囲に均一に分布することができるが、最早ノズル基部からワイヤ送給ノズルの前方に直接的に流出しないことが達成される。
【０００９】
更に、溝（複数）はノズル基部の長軸線に対し直角をなす断面において円セグメント状に構成され、該円セグメントの半径が孔（複数）の半径に相当すると有利であることが本発明により明らかとなった。これによっても、溶接部位ないし溶接領域の領域における溶接ワイヤの周りでのプロセスガスの均一性が再び好ましい態様で保証されるが、このような溝は、既知の製造方法によって、技術的に簡単かつ確実に製造することができる。
【００１０】
本装置の本発明に応じた形態によって、溶接部位ないし溶接領域へのプロセスガス供給は、ワイヤ送給ノズルのそば又は内部では形成されない（実行されない）ため、プロセスガスは、溶接中、溶接部位ないし溶接領域に流出する前に、高温状態にあるワイヤ送給ノズルによって、不必要に加熱されることは最早ない。かくして、プロセスガスの熱的に引き起こされる流動は最小化されるため、プロセスガスは、溶接ワイヤの周りでとりわけ均一に溶接部位ないし溶接領域に案内されることができる。その際、溶接継ぎ目に関し非常に良好な結果が達成されることが示された。
【００１１】
有利には、溝（複数）は、ノズル基部のシリンダ状端部の表面において、ノズル基部の内部の孔（複数）の開口部からシリンダ状端部の長軸線方向の全長にわたって延在する。この場合、溝（複数）の横断面は、その長軸線方向の全長にわたって一定であることが可能である。尤も、溝（複数）の横断面は、孔（複数）から離隔する方向に向かって縮小又は拡大することも可能である。かくして、プロセスガスがこれらの溝の内部において孔（複数）からの流出後更に導かれると同時に、これらの溝の上方（ノズル基部の半径方向外方）においてノズル基部の周りでのプロセスガスの一様かつ均一な分布が形成されることが、何れにせよ、保証される。かくして、プロセスガスは、溶接ワイヤの周りでとりわけ均一に分布されて、溶接部位ないし溶接領域に導かれる。
【００１２】
溶接部位ないし溶接領域への溶接ワイヤの周りでのとりわけ均一ないし一様な供給を可能にするためには、ノズル基部の内部の孔（複数）は、ワイヤ送給ノズルの溶接ワイヤチャンネルに対し同心的にないし同心楕円的に（elliptisch）延在する円ないし楕円上に配置されていると有利であることが判明した。
【００１３】
更に、本発明の他の一実施形態において、プロセス（ガス）チャンネルとワイヤ送給チャンネルを有するソケット（ブロック部材）が設けられ、該ソケットに外殻が受容され、かつ、該ソケットが溶接ワイヤ送給装置のための接続要素とプロセスガス貯蔵器のための接続要素を有すると、有利であることが判明した。この形態によって、ありうるすべての溶接プロセスに本発明を適用することが可能になる。なぜなら、本発明の装置が結合可能であるためには、その際使用される溶接装置は対応する接続要素を有しているだけでよいからである。
【００１４】
高温によって引き起こされるプロセスガスの意図しない流動が溶接領域に妨害的に作用しないようにするために、更に、外殻のプロセスガスチャンネルとこれに接続する（連通する）ノズル基部の孔（複数）は、その周囲に対しプロセスガス気密的に互いに接続（連通）していると有利であることが判明した。
【００１５】
かくして、プロセスガスの不所望の流出は回避される。このため、プロセスガスは、ノズル基部の孔（複数）を介してのみ、本発明の装置から流出することができる。その限りにおいて、溶接部位ないし溶接領域におけるプロセスガスの均一性の連続性が保証される。
【００１６】
本発明の更なる思想に応じ、外殻（プロフィール部材：Profil）は外殻（プロフィール）管（Profilrohr）として構成される。外殻管として構成されたこの種の外殻は、簡単な態様で、本発明の装置の更なる部分と結合（ないし接続）することができる。更に、このような外殻管では簡単な態様で、外殻管にプロセスガスチャンネルとワイヤ送給チャンネルを設けることができる。
【００１７】
プロセスガスが溶接ワイヤの周りでとりわけ一様に分布できるために、本発明に応じ、更に、ノズル基部は、少なくとも３つの、有利には６つの、とりわけ有利には８つの孔を有し、これらの孔は有利にはすべてが同じ半径を有する。
【００１８】
複数の孔がノズル基部の長軸線を中心として回転対称的に配置される本発明の形態も同じ方向を目指している。ここで、回転対称的とは、ノズル基部を所定の角度だけ回転したとき、その回転前後の複数の孔の配置は完全に合同であることであると理解すべきものである。かくして、孔が３つの場合、これらの孔は夫々１２０°だけ互いに対しずらされて配置されることになるであろう。同様に、孔が４つの場合は９０°、６つの場合は６０°、８つの場合は４５°だけ互いに対しずらされて配置されることになる。
【００１９】
最後に、溶接装置も、とりわけレーザ溶接装置及び／又は半田付け装置（Loetvorrichtung）も、何れか１つの請求項に記載の装置によって保護されることが望まれている。
【００２０】
本発明の更なる目的、利点、特徴及び適用可能性は、図面を用いた実施例についての以下の説明から明らかになる。その際、（文言で）説明される及び／又はビジュアル的に図示されるすべての特徴（複数）は、それら自体又はそれらの任意の有意な組み合わせが、特許請求の範囲（各請求項）又は請求項の参照引用（Rueckbeziehung）におけるそれらの関係とは独立に、本発明の対象を構成する。
なお、特許請求の範囲に付記した図面参照符号は専ら発明の理解を助けるためのものであり、本発明を図示の態様に限定することを意図していない。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の装置の一実施例の平面図。
【図２】図１の矢視Ａ−Ａ断面における図１の実施例。
【図３】図１の矢視Ｂ−Ｂ断面における図１の実施例。
【図４】図１の実施例のノズル基部（ノズル受容部材）（Duesenstock）の部分断面図。
【図５】図４の矢視Ｃ−Ｃ断面における図４のノズル基部。
【実施例】
【００２２】
図１〜図３に、溶接装置の溶接ワイヤ送給及びプロセスガス供給のための本発明の装置の一実施例を種々異なる方法で示す。該装置の本質的要素は図１にとりわけ良好に見出すことができ、他方、図２及び図３には個々の要素自体の構造が明確に示されている。
【００２３】
溶接装置の溶接ワイヤ送給及びプロセスガス供給のための装置は、外殻管として構成された外殻３を有する。外殻３は、一方では、当該装置を溶接ワイヤ送給装置及びプロセスガス貯蔵器と結合するための結合要素５及び８を有するソケット（ブロック部材）１０に結合されている。他方では、外殻管として構成された外殻３は、その他方の端部に、ワイヤ送給ノズル１が嵌め込まれるノズル基部（ノズル受容部材）２を有する。
【００２４】
とりわけ図２から見出されるように、ソケット１０は、一方ではプロセスガス貯蔵器のための接続要素８内に延在しかつ他方では外殻管として構成された外殻３のプロセスガスチャンネル（複数）９に移行する（接続する）プロセスガスチャンネル１２を有する。
【００２５】
更に、ソケット１０は、装置全体の長軸線１１に関し一方ではワイヤ送給装置のための接続要素５が、他方では外殻管として構成された外殻３の溶接ワイヤチャンネル６が配されているワイヤ送給チャンネル１３を有する。外殻管として構成された外殻３は、ソケット１０の反対側のその端部に、接続（結合）要素１７を備えたノズル基部２が配される開口を有する。
【００２６】
ノズル基部２は、本装置のワイヤ送給ノズル１が配される開口（中心孔）１６を有する。ワイヤ送給ノズル１は溶接ワイヤチャンネル４を有し、かくして、溶接ワイヤは、ワイヤ送給装置から、ワイヤ送給装置のための接続要素５及びソケット１０のワイヤ送給チャンネル１３、外殻管３の溶接ワイヤチャンネル６を介して、ワイヤ送給ノズル１の溶接ワイヤチャンネル４内に案内されることができる。溶接ワイヤは、ワイヤ送給ノズル１の溶接ワイヤチャンネル４から外に延出し、溶接装置による相応のエネルギの入力に応じ、溶接継ぎ目（シーム）を形成しつつ、溶接されるべき要素ないし部材（複数）を互いに結合する。
【００２７】
溶接プロセス中、プロセスガスは、プロセスガス貯蔵器から、プロセスガス貯蔵器のための接続要素８、ソケット１０のプロセスガスチャンネル１２並びに外殻管として構成された外殻３のプロセスガスチャンネル（複数）９及びノズル基部２の孔（複数）７を介して、溶接部位ないし溶接領域に供給される。
【００２８】
ここで、外殻管３のプロセスガスチャンネル（複数）９がノズル基部２の孔（複数）７と作用的に（実効的に）接触（接続）（Wirkkontakt）した状態にあることを、とりわけ図３に示した切断面から明確に見出すことができる。なお、図３においては、外殻３の４つの（円弧状に配された）プロセスガスチャンネル９を介して視認可能なノズル基部２の孔７は４つのみである。
【００２９】
尤も、とりわけ図５から見出すことができるように、ノズル基部２は、この実施例では、長軸線１１を中心として同心的に（konzentrisch）配置された８つの孔７を有する。この場合、外殻３のプロセスガスチャンネル（複数）９は、これらが、ノズル基部２の接続要素１７の結合領域において、ノズル基部２の８つのすべての孔７にプロセスガスを供給できるように構成されている。
【００３０】
図４は、本装置のノズル基部２を部分切欠断面図で示す。とりわけ、図４においては、ノズル基部２がワイヤ送給ノズル１を有する端部１４の方向において（即ち、長軸線１１を中心として）シリンダ状に構成されており、ノズル基部２の内部に設けられた孔（複数）７がノズル基部２の表面に形成された溝（複数）１５に延出（連通）していることを、明確に見出すことができる。この場合、ノズル基部２のシリンダ状端部１４の表面上の溝（複数）１５は、ノズル基部２の内部の孔（複数）７の開口部からシリンダ状端部１４の長軸線方向の全長にわたって延在する。この実施例では、溝（複数）１５の断面（形状）は、その長軸方向の全長にわたって一定である。尤も、本書において図示しない他の一実施例においては、この断面（形状）は、孔（複数）７の開口部から離隔する方向に向かって縮小又は拡大するよう構成されることも可能である。かくして、プロセスガスが孔（複数）からの放出後これらの溝１５の内部において更に案内されると同時に、これらの溝１５の上方（半径方向外方）においては、ノズル基部２の周りでのプロセスガスの一様かつ均一な分布が形成されることが、何れにせよ、保証される。かくして、プロセスガスは、溶接ワイヤの周囲でとりわけ均一に分布された状態で、溶接部位ないし溶接領域に供給される。
【００３１】
更に、孔（複数）７がワイヤ送給ノズル１の溶接ワイヤチャンネル４に対し平行に延伸していることも見出すことができる。とりわけ図１及び図２から見出すことができるように、ワイヤ送給ノズル１の溶接ワイヤチャンネル４（の中心軸線）は、本装置ないしノズル基部２の長軸線１１に正確に位置している。尤も、本書において図示しない他の一実施例においては、孔（複数）７は、ワイヤ送給ノズル１の溶接ワイヤチャンネル４に対し鋭角をなすようにワイヤ送給ノズル１の周囲に配されることも可能である。
【００３２】
ノズル基部２の孔（複数）７の、従って溝（複数）１５の回転対称的かつ同心的配置によって、プロセスガス供給チャンネル９及び１２を介して供給されるプロセスガスは、溶接部位ないし溶接領域に対する溶接中、とりわけ均一に溶接ワイヤの周りに案内される。かくして、溶接プロセス中、溶接部位ないし溶接領域において、とりわけ均一なプロセスガス分布状況（ないし流れ状態：Prozessgasverhaeltnisse）が形成され、その結果、溶接ワイヤのとりわけ良好な溶接特性を達成することができる。
【００３３】
以下に、本発明の好ましい実施の形態を付記する。
（形態１）溶接装置の溶接ワイヤ送給及びプロセスガス供給のための装置が提供される。 該装置は、溶接ワイヤチャンネルを備えたワイヤ送給ノズルと、ワイヤ送給ノズルに分離可能に結合されたノズル基部と、ノズル基部と分離可能に又は固定的に結合されかつ溶接ワイヤチャンネルを備えた外殻を有し、外殻は溶接ワイヤ送給装置と結合可能に構成されており、
プロセスガス供給装置のプロセスガスチャンネルは、少なくとも部分的に外殻の内部に配されており、かつ、ノズル基部は、プロセスガスチャンネルに接続する複数の孔を備えており、これらの孔は、ワイヤ送給ノズルの溶接ワイヤチャンネルに対し平行に又は±５°の鋭角をなしてワイヤ送給ノズルの周囲に配置されており、
ノズル基部は、ワイヤ送給ノズルを有する端部の方向においてシリンダ状に構成されており、ノズル基部の内部に設けられた孔はノズル基部の表面に形成された溝に延出する。
（形態２）上記の装置において、溝は、ノズル基部の長軸線に対し直角をなす断面において円セグメント状に構成され、該円セグメントの半径は孔の半径に相当することが好ましい。
（形態３）上記の装置において、複数の孔は、溶接ワイヤチャンネルに対し同心的にないし同心楕円的に延在する円ないし楕円上に配置されていることが好ましい。
（形態４）上記の装置において、プロセスガスチャンネルとワイヤ送給チャンネルを有するソケットが設けられ、ソケットには外殻が受容され、ソケットは溶接ワイヤ送給装置及びプロセスガス貯蔵器のための接続要素を有することが好ましい。
（形態５）上記の装置において、外殻のプロセスガスチャンネルと該プロセスガスチャンネルに接続するノズル基部の複数の孔は、その周囲に対しプロセスガス気密的に互いに接続していることが好ましい。
（形態６）上記の装置において、外殻は、外殻管として構成されていることが好ましい。
（形態７）上記の装置において、ノズル基部は、少なくとも３つの、有利には６つの、とりわけ有利には８つの孔を有し、これらの孔は有利にはすべてが同じ半径を有することが好ましい。
（形態８）上記の装置において、複数の孔は、有利にはノズル基部の長軸線を中心として回転対称的に配置されていることが好ましい。
（形態９）形態１〜８の何れかの装置を有する、とりわけレーザ溶接装置及び／又は半田付け装置等の、溶接装置も有利に提供される。
【符号の説明】
【００３４】
１      ワイヤ送給ノズル
２      ノズル基部（Duesenstock）
３      外殻（プロフィール部材）
４      溶接ワイヤチャンネル
５      接続要素
６      溶接ワイヤチャンネル
７      孔
８      接続要素
９      プロセスガスチャンネル
１０    ソケット
１１    長軸線
１２    プロセスガスチャンネル
１３    ワイヤ送給チャンネル
１４    端部
１５    溝
１６    開口
１７    接続（結合）要素
Ａ−Ａ  切断面
Ｂ−Ｂ  切断面
Ｃ−Ｃ  切断面
【図１】
0006550133.tif 000002
【図２】
0006550133.tif 000003
【図３】
0006550133.tif 000004
【図４】
0006550133.tif 000005
【図５】
0006550133.tif 000006