(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも、支持体、第１の硬化層および第２の硬化層を前記順に有し、
前記第１の硬化層が、（メタ）アクリル基を有する重合性化合物１と、同一分子内にエポキシ基と（メタ）アクリル基を有し、かつ、前記重合性化合物１とは異なる重合性化合物２と、を含有する第１の硬化層形成用硬化性組成物から形成され、
前記第２の硬化層が、同一分子内に少なくとも２つの（メタ）アクリル基を有する重合性化合物３を含有する第２の硬化層形成用硬化性組成物から形成され、
前記第１の硬化層形成用硬化性組成物に含まれる重合性化合物中、前記重合性化合物２の含有量が５１質量％以上であるハードコートフィルム。
【請求項２】
前記第２の硬化層形成用硬化性組成物に含まれる重合性化合物中、エポキシ基を有する重合性化合物の含有量が２０質量％以下である、請求項１に記載のハードコートフィルム。
【請求項３】
前記第２の硬化層形成用硬化性組成物中、無機粒子の含有量が２０質量％以下である請求項１または２に記載のハードコートフィルム。
【請求項４】
前記第２の硬化層形成用硬化性組成物が、含フッ素化合物を含有する請求項１〜３のいずれか１項に記載のハードコートフィルム。
【請求項５】
前記含フッ素化合物が、（メタ）アクリル基を有する請求項４に記載のハードコートフィルム。
【請求項６】
前記重合性化合物２が有するエポキシ基が、脂環式エポキシ基である請求項１〜５のいずれか１項に記載のハードコートフィルム。
【請求項７】
前記第１の硬化層の表面に前記第２の硬化層が位置する、請求項１〜６のいずれか１項に記載のハードコートフィルム。
【請求項８】
前記支持体の一方の側に、液晶性化合物を含有する光学異方性層が積層されている請求項１〜７のいずれか１項に記載のハードコートフィルム。
【請求項９】
前記支持体の膜厚が５０μｍ〜４００μｍである請求項１〜８のいずれか１項に記載のハードコートフィルム。
【請求項１０】
支持体上に、（メタ）アクリル基を有する重合性化合物１と、同一分子内にエポキシ基と（メタ）アクリル基を有し、かつ前記重合性化合物１とは異なる重合性化合物２と、を含有する第１の硬化層形成用硬化性組成物を用いて、第１の硬化層を形成すること、
第１の硬化層の上に、同一分子内に少なくとも２つの（メタ）アクリル基を有する重合性化合物３を含有する第２の硬化層形成用硬化性組成物を用いて、第２の硬化層を形成することを含み、
前記第２の硬化層は、前記支持体、前記第１の硬化層、前記第２の硬化層の順となるように形成し、
前記第１の硬化層形成用硬化性組成物に含まれる重合性化合物中、前記重合性化合物２の含有量が５１質量％以上であるハードコートフィルムの製造方法。
【請求項１１】
前記第１の硬化層の表面に、前記第２の硬化層を形成する、請求項１０に記載のハードコートフィルムの製造方法。
【請求項１２】
（メタ）アクリル基を有する重合性化合物１と、同一分子内にエポキシ基と（メタ）アクリル基を有し、かつ前記重合性化合物１とは異なる重合性化合物２と、を含有する第１の硬化層形成用硬化性組成物；および、
同一分子内に少なくとも２つの（メタ）アクリル基を有する重合性化合物３を含有する第２の硬化層形成用硬化性組成物；
を含み、
前記第１の硬化層形成用硬化性組成物に含まれる重合性化合物中、前記重合性化合物２の含有量が５１質量％以上である、キット。
【請求項１３】
請求項１〜９のいずれか１項に記載のハードコートフィルムと、偏光子とを有する偏光板。
【請求項１４】
請求項１〜９のいずれか１項に記載のハードコートフィルムを有する、画像表示装置の前面板。
【請求項１５】
請求項１４に記載の前面板と、画像表示素子とを有する画像表示装置。
【請求項１６】
前記画像表示素子が液晶表示素子である、請求項１５に記載の画像表示装置。
【請求項１７】
前記画像表示素子が有機エレクトロルミネッセンス表示素子である、請求項１５に記載の画像表示装置。
【請求項１８】
前記画像表示素子がインセルタッチパネル表示素子である、請求項１５〜１７のいずれか１項に記載の画像表示装置。
【請求項１９】
前記画像表示素子がオンセルタッチパネル表示素子である、請求項１５〜１７のいずれか１項に記載の画像表示装置。
【請求項２０】
請求項１４に記載の前面板を有する抵抗膜式タッチパネル。
【請求項２１】
請求項１４に記載の前面板を有する静電容量式タッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ハードコートフィルム、ハードコートフィルムの製造方法、キット、偏光板、画像表示装置の前面板、画像表示装置、抵抗膜式タッチパネルおよび静電容量式タッチパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
画像表示装置の前面板、特に、タッチパネルの前面板等の高い耐久性が求められる用途には、従来、化学強化ガラス等のガラスが主に用いられていた。一方、プラスチックは、ガラスと比べて、軽量であり、割れにくく、薄くできるといった利点を有する。そのため近年、ガラスが主に用いられていた用途において、ガラス代替材料としてプラスチックの有用性が注目されている。特に、支持体の上に硬化層を有するハードコートフィルムをガラス代替材料として用いることが検討されている。
ここで、タッチパネルの表面に用いられるハードコートフィルムについては、表面の耐擦性が重要視されている。
【０００３】
一方、特許文献１には、透明プラスチック基板の少なくとも一方の面に硬化樹脂被膜層を設けたハードコートフィルムもしくはシートであって、基板上に、第１のハードコート層と、第２のハードコート層とを上記順に形成した２層構成から成る硬化樹脂被膜層を設けたハードコートフィルムもしくはシートが記載されている。
【０００４】
特許文献２には、透明基板の表面に、耐擦傷性層及び反射防止層が基板表面側から上記順に形成されてなり、耐擦傷性層は、分子内に少なくとも２つのラジカル重合性官能基を有する化合物５０〜９９質量部と、分子内にカチオン重合性官能基及びラジカル重合性官能基を有する化合物１〜５０質量部とを含む組成物が硬化したものであり、反射防止層は、分子内にカチオン重合性官能基を有する化合物と、シリカ粒子とを含む組成物が硬化したものである積層体が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０００−７１３９２号公報
【特許文献２】特開２００６−９８４４４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記特許文献について、本発明者が検討を行ったところ、上記特許文献１では、各層の密着性が不十分であることが分かった。一方、特許文献２では、打抜き性が劣ることが分かった。さらに、密着性や打抜き性を向上させようとすると、耐擦性が劣る場合があることが分かった。
本発明は、かかる課題を解決することを目的とするものであって、高い耐擦性を維持しつつ、各層の密着性が高く、かつ、打抜き性に優れたハードコートフィルム、ならびに、ハードコートフィルムの製造方法、キット、偏光板、画像表示装置の前面板、画像表示装置、抵抗膜式タッチパネルおよび静電容量式タッチパネルを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは上記課題を解決するために検討した結果、２層以上の硬化層を設け、かつ、上記硬化層の少なくとも一層に、同一分子内にカチオン重合性基とラジカル重合性基を有する重合性化合物を多く配合すること等により、上記課題を解決しうることを見出した。具体的には、下記手段＜１＞により、好ましくは、＜２＞〜＜２１＞により、上記課題は解決された。
＜１＞少なくとも、支持体、第１の硬化層および第２の硬化層を上記順に有し、
上記第１の硬化層が、ラジカル重合性基を有する重合性化合物１と、同一分子内にカチオン重合性基とラジカル重合性基を有し、かつ、上記重合性化合物１とは異なる重合性化合物２と、を含有する第１の硬化層形成用硬化性組成物から形成され、
上記第２の硬化層が、同一分子内に少なくとも２つのラジカル重合性基を有する重合性化合物３を含有する第２の硬化層形成用硬化性組成物から形成され、
上記第１の硬化層形成用硬化性組成物に含まれる重合性化合物中、上記重合性化合物２の含有量が５１質量％以上であるハードコートフィルム。
＜２＞上記第２の硬化層形成用硬化性組成物に含まれる重合性化合物中、カチオン重合性基を有する重合性化合物の含有量が２０質量％以下である、＜１＞に記載のハードコートフィルム。
＜３＞上記第２の硬化層形成用硬化性組成物中、無機粒子の含有量が２０質量％以下である＜１＞または＜２＞に記載のハードコートフィルム。
＜４＞上記第２の硬化層形成用硬化性組成物が、含フッ素化合物を含有する＜１＞〜＜３＞のいずれかに記載のハードコートフィルム。
＜５＞上記含フッ素化合物が、ラジカル重合性基を有する＜４＞に記載のハードコートフィルム。
＜６＞上記重合性化合物２が有するカチオン重合性基が、エポキシ基である＜１＞〜＜５＞のいずれかに記載のハードコートフィルム。
＜７＞上記重合性化合物２が有するカチオン重合性基が、脂環式エポキシ基である＜１＞〜＜５＞のいずれかに記載のハードコートフィルム。
＜８＞上記第１の硬化層の表面に上記第２の硬化層が位置する、＜１＞〜＜７＞のいずれかに記載のハードコートフィルム。
＜９＞支持体の一方の側に、液晶性化合物を含有する光学異方性層が積層されている＜１＞〜＜８＞のいずれかに記載のハードコートフィルム。
＜１０＞前記支持体の膜厚が５０μｍ〜４００μｍである＜１＞〜＜９＞のいずれか１項に記載のハードコートフィルム。
＜１１＞支持体上に、ラジカル重合性基を有する重合性化合物１と、同一分子内にカチオン重合性基とラジカル重合性基を有し、かつ上記重合性化合物１とは異なる重合性化合物２と、を含有する第１の硬化層形成用硬化性組成物を用いて、第１の硬化層を形成すること、
第１の硬化層の上に、同一分子内に少なくとも２つのラジカル重合性基を有する重合性化合物３を含有する第２の硬化層形成用硬化性組成物を用いて、第２の硬化層を形成することを含み、
上記第２の硬化層は、上記支持体、上記第１の硬化層、上記第２の硬化層の順となるように形成し、
上記第１の硬化層形成用硬化性組成物に含まれる重合性化合物中、上記重合性化合物２の含有量が５１質量％以上であるハードコートフィルムの製造方法。
＜１２＞上記第１の硬化層の表面に、上記第２の硬化層を形成する、＜１１＞に記載のハードコートフィルムの製造方法。
＜１３＞ラジカル重合性基を有する重合性化合物１と、同一分子内にカチオン重合性基とラジカル重合性基を有し、かつ上記重合性化合物１とは異なる重合性化合物２と、を含有する第１の硬化層形成用硬化性組成物；および、
同一分子内に少なくとも２つのラジカル重合性基を有する重合性化合物３を含有する第２の硬化層形成用硬化性組成物；
を含み、
上記第１の硬化層形成用硬化性組成物に含まれる重合性化合物中、上記重合性化合物２の含有量が５１質量％以上である、キット。
＜１４＞＜１＞〜＜１０＞のいずれかに記載のハードコートフィルムと、偏光子とを有する偏光板。
＜１５＞＜１＞〜＜１０＞のいずれかに記載のハードコートフィルムを有する、画像表示装置の前面板。
＜１６＞＜１５＞に記載の前面板と、画像表示素子とを有する画像表示装置。
＜１７＞上記画像表示素子が液晶表示素子である、＜１６＞に記載の画像表示装置。
＜１８＞上記画像表示素子が有機エレクトロルミネッセンス表示素子である、＜１６＞に記載の画像表示装置。
＜１９＞上記画像表示素子がインセルタッチパネル表示素子である、＜１６＞〜＜１８＞のいずれかに記載の画像表示装置。
＜２０＞上記画像表示素子がオンセルタッチパネル表示素子である、＜１６＞〜＜１８＞のいずれかに記載の画像表示装置。
＜２１＞＜１５＞に記載の前面板を有する抵抗膜式タッチパネル。
＜２２＞＜１５＞に記載の前面板を有する静電容量式タッチパネル。
【発明の効果】
【０００８】
本発明により、高い耐擦性を維持しつつ、各層の密着性が高く、かつ、打抜き性に優れたハードコートフィルム、ならびに、ハードコートフィルムの製造方法、キット、偏光板、画像表示装置の前面板、画像表示装置、抵抗膜式タッチパネルおよび静電容量式タッチパネルを提供可能になった。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明のハードコートフィルムの構成を示す断面概略図である。
【図２】静電容量式タッチパネルの一実施形態を示す断面概略図である。
【図３】タッチパネル用導電フィルムの概略図である。
【図４】図３における第１電極１１と第２電極２１との交差部を示す概略図である。
【図５】図３におけるアクティブエリアＳ１内における第１導電層８が有してもよい第１ダミー電極１１Ａの一実施形態を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明について説明する。なお、本明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
本明細書において、「（メタ）アクリル基」は、「アクリル基およびメタクリル基のいずれか一方または双方」の意味で使用される。（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリロイル基なども同様である。
【００１１】
本明細書において、全固形分とは、組成物の全組成から溶媒を除いた成分の総質量をいう。
本明細書において硬化層とは、少なくとも硬化性化合物を含む組成物から形成され、かつ表面の鉛筆硬度が２Ｈ以上である層をいうものとする。
【００１２】
ハードコートフィルム
本発明のハードコートフィルムは、少なくとも、支持体、第１の硬化層および第２の硬化層を上記順に有し、上記第１の硬化層が、ラジカル重合性基を有する重合性化合物１と、同一分子内にカチオン重合性基とラジカル重合性基を有し、かつ、上記重合性化合物１とは異なる重合性化合物２と、を含有する第１の硬化層形成用硬化性組成物から形成され、上記第２の硬化層が、同一分子内に少なくとも２つのラジカル重合性基を有する重合性化合物３を含有する第２の硬化層形成用硬化性組成物から形成され、上記第１の硬化層形成用硬化性組成物に含まれる重合性化合物中、上記重合性化合物２の含有量が５１質量％以上であることを特徴とする。
このような構成とすることにより、高い耐擦性を維持しつつ、打抜き性に優れ、かつ、各層の密着性を向上させることができる。さらに、鉛筆硬度を高めることもできる。
【００１３】
上記構成により、高い耐擦性を維持しつつ、打抜き性に優れ、かつ、各層の密着性が向上したハードコートフィルムが得られる理由については、未だ定かではないが、本発明者らは以下のように推測している。すなわち、第２の硬化層を、同一分子内に少なくとも２つのラジカル重合性基を有する重合性化合物３を用いて形成したことにより、高い耐擦性を付与できた。その一方で、第１の硬化層を、同一分子内にカチオン重合性基とラジカル重合性基を有する重合性化合物２を用いて形成したことにより、第１の硬化層に衝撃吸収性が付与され、その結果、ハードコートフィルム全体として高い耐擦性は維持しつつ、打抜き性が向上したと考えられる。また、重合性化合物２を用いることによって、第１の硬化層と第２の硬化層の間に化学結合が形成され易くなって、その結果、第１の硬化層と第２の硬化層の密着性を向上させることができたと考えられる。
これに対し、上記特許文献１に記載のハードコートフィルムは、第１の硬化層に同一分子内にカチオン重合性基とラジカル重合性基を有する重合性化合物を含んでいないため、密着性が劣る。また、特許文献２に記載の積層体は、第１の硬化層に含まれる、同一分子内にカチオン重合性基とラジカル重合性基を有する重合性化合物の含有量が低いため、打抜き性が劣る。
さらに、本発明では、第２の硬化層に同一分子内に少なくとも２つのラジカル重合性化合物３を含有することによって、鉛筆硬度を高めることも可能である。
以下、本発明のハードコートフィルムの好ましい態様について説明する。
【００１４】
＜構成＞
本発明のハードコートフィルムは、図１に示すように、少なくとも、支持体１Ａ、第１の硬化層２Ａ、および第２の硬化層３Ａを上記順に有する。
図１では、支持体１Ａの表面に、第１の硬化層が位置しているが、必ずしも、支持体１Ａの表面に第１の硬化層が位置している必要はなく、間に他の層を有していてもよい。同様に、第１の硬化層の表面に、第２の硬化層が位置している必要はなく、間に他の層を有していても良い。第１の硬化層と第２の硬化層の密着性を高める観点からは、第１の硬化層の表面に第２の硬化層が位置する、すなわち、両層は、膜面の少なくとも一部において接している方が好ましい。他の層の詳細については、後述する。
【００１５】
また、第１の硬化層および第２の硬化層は、それぞれ、１層であっても、２層以上であってもよいが、１層が好ましい。
さらに、詳細を後述するとおり、本発明のハードコートフィルムをタッチパネルに用いる場合、上記第２の硬化層が画像表示素子の前面側となるようにハードコートフィルムを配置することが好ましいが、ハードコートフィルム表面の耐擦性、打抜き性を優れたものにするためには、上記第２の硬化層がハードコートフィルムの表面側、特に、最表面に配置されることが好ましい。
【００１６】
＜支持体＞
本発明で用いる支持体は、特に定めるものではなく、公知のフィルムを用いることができる。
支持体としては、樹脂フィルムが好ましい。樹脂フィルムとしては、アクリル系樹脂フィルム、ポリカーボネート（ＰＣ）系樹脂フィルム、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）系樹脂フィルム、ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）系樹脂フィルム、ポリオレフィン系樹脂フィルム、ポリエステル系樹脂フィルム、および、アクリロニトリルブタジエンスチレン共重合体フィルムを挙げることができ、アクリル系樹脂フィルム、トリアセチルセルロース系樹脂フィルム、ポリエチレンテレフタラート系樹脂フィルムおよびポリカーボネート系樹脂フィルムが好ましい。
尚、アクリル系樹脂フィルムとは、アクリル酸エステルおよびメタクリル酸エステルからなる群から選択される１種以上の化合物から形成される重合体または共重合体の樹脂フィルムをいう。アクリル系樹脂フィルムの例としては、ポリメタクリル酸メチル樹脂（ＰＭＭＡ）フィルムが挙げられる。
【００１７】
本発明で用いる支持体は、単層でも、２層以上からなる積層フィルムであってもよく、２層以上の積層フィルムが好ましい。
積層フィルムの積層数は、２〜１０層が好ましく、２〜５層がより好ましく、２層または３層がさらに好ましい。本発明で用いる支持体は、３層以上の場合、外層と外層以外の層（コア層等）とは、組成が異なるフィルムであることが好ましい。また、外層同士は、同じ組成のフィルムであることが好ましい。
【００１８】
本発明で用いる積層フィルムである支持体として、上記樹脂フィルムの積層フィルムが例示される。
本発明で用いる積層フィルムである支持体の一実施形態として、少なくとも１層のアクリル系樹脂フィルムおよび少なくとも１層のポリカーボネート系樹脂フィルムを有する積層フィルムが例示され、アクリル系樹脂フィルム、ポリカーボネート系樹脂フィルム、アクリル系樹脂フィルムを上記順に有する積層フィルムが好ましい。
【００１９】
支持体は、市販品を用いても良いし、公知の製膜方法により製造してもよい。
市販の支持体としては、例えば、テクノロイＣ１０１、テクノロイＣ００１（いずれもエスカーボシート（株）製）、ＡＷ−１０（Ｗａｖｅｌｏｃｋ社製）などを用いることができる。
【００２０】
支持体は、樹脂に加えて、公知の添加剤等の他の成分の１種以上を任意に含むこともできる。そのような任意に含まれ得る成分の一例としては、紫外線吸収剤を挙げることができる。紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾトリアゾール化合物およびトリアジン化合物を挙げることができる。ここでベンゾトリアゾール化合物とは、ベンゾトリアゾール環を有する化合物であり、具体例としては、例えば特開２０１３−１１１８３５号公報の段落００３３に記載されている各種ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤を挙げることができる。トリアジン化合物とは、トリアジン環を有する化合物であり、具体例としては、例えば特開２０１３−１１１８３５号公報の段落００３３に記載されている各種トリアジン系紫外線吸収剤を挙げることができる。樹脂フィルム中の紫外線吸収剤の含有量は、例えばフィルムに含まれる樹脂１００質量部に対して０．１〜１０質量部程度であるが、特に限定されるものではない。また、紫外線吸収剤については、特開２０１３−１１１８３５号公報の段落００３２も参照できる。なお、本明細書における紫外線とは２００〜３８０ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する光をいうものとする。
【００２１】
支持体の膜厚は、５０μｍ以上が好ましく、７０μｍ以上がより好ましく、７５μｍ以上がさらに好ましく、８０μｍ以上が特に好ましい。上記膜厚を５０μｍ以上とすることにより、鉛筆硬度と打鍵耐性をより向上させることができる。一方、上記膜厚の上限値は特に定めるものではないが、４００μｍ以下が好ましく、３５０μｍ以下がより好ましく、３００μｍ以下がさらに好ましい。
また、支持体が少なくとも外層とコア層を有するものである場合、上記外層の膜厚の実施形態の一例としては、それぞれ独立に、１５μｍ以上６０μｍ未満である。また、上記外層の膜厚の実施形態の他の一例は、３μｍ以上６０μｍ未満である。
【００２２】
＜第１の硬化層、第１の硬化層形成用硬化性組成物＞
本発明の第１の硬化層は、第１の硬化層形成用硬化性組成物から形成される。
第１の硬化層形成用硬化性組成物は、ラジカル重合性基を有する重合性化合物１と、同一分子内にカチオン重合性基とラジカル重合性基を有し、かつ重合性化合物１とは異なる重合性化合物２とを含有し、第１の硬化層形成用硬化性組成物に含まれる重合性化合物中、重合性化合物２の含有量が５１質量％以上である。
【００２３】
＜＜重合性化合物１＞＞
本発明で用いる重合性化合物１は、ラジカル重合性基を有する。本発明で用いる、重合性化合物１は、重合性化合物２と異なる化合物である。すなわち、本発明で用いる重合性化合物１は、同一分子内にカチオン重合性基とラジカル重合性基を有する化合物以外の重合性化合物である。
重合性化合物１は、高分子（例えば、重量平均分子量２０００以上）であっても、低分子（例えば、分子量２０００未満）であってもよいが、低分子であることが好ましい。低分子の重合性化合物１を用いることにより、ラジカル重合性基以外の部位が少なくなり、ハードコートフィルムの鉛筆硬度をより効果的に高めることができる。具体的には、重合性化合物１の分子量は、１５００以下であることが好ましく、１２００以下であることがより好ましく、１０００以下であることがさらに好ましい。上記分子量の下限値については、重合性化合物１の分子量は、１００以上であることが好ましく、１２０以上であることがより好ましい。このような範囲とすることにより、第１の硬化層形成時に、重合性化合物１が揮発するのをより効果的に抑制できる。
【００２４】
重合性化合物１が有するラジカル重合性基の数は、１つであってもよいが、同一分子内に２つ以上が好ましく、３つ以上がより好ましく、４つ以上がさらに好ましく、６つ以上が特に好ましい。重合性化合物１が有するラジカル重合性基の数を同一分子内に２つ以上とすることにより、鉛筆硬度および密着性をより効果的に向上させることができる。重合性化合物１が有するラジカル重合性基の数の上限は特に定めるものではないが、同一分子内に１０以下であっても、本発明の効果を十分に達成する。
重合性化合物１が有するラジカル重合性基としては、スチリル基および（メタ）アクリル基が好ましく、（メタ）アクリル基がより好ましく、（メタ）アクリロイルオキシ基がさらに好ましい。（メタ）アクリル基は、メタクリル基が好ましい。
【００２５】
重合性化合物１は、（メタ）アクリレート系化合物が好ましく用いられる。（メタ）アクリレート系化合物としては、本発明の技術分野において用いられる高硬度の硬化物を形成する化合物を広く採用できる。
【００２６】
（メタ）アクリレート系化合物としては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステルが挙げられる。
多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステルとしては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド（ＥＯ）変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド（ＰＯ）変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレートおよびカプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられる。
【００２７】
また、上記（メタ）アクリレート系化合物としては、上記（メタ）アクリロイル基と共にウレタン結合を一分子中に１つ以上含む化合物（ウレタン（メタ）アクリレート）であることも好ましい。
上記ウレタン（メタ）アクリレートの市販品としては、特に限定されるものではないが、例えば、共栄社化学社製ＵＡ−３０６Ｈ、ＵＡ−３０６Ｉ、ＵＡ−３０６Ｔ、ＵＡ−５１０Ｈ、ＵＦ−８００１Ｇ、ＵＡ−１０１Ｉ、ＵＡ−１０１Ｔ、ＡＴ−６００、ＡＨ−６００、ＡＩ−６００、新中村化学社製Ｕ−４ＨＡ、Ｕ−６ＨＡ、Ｕ−６ＬＰＡ、ＵＡ−３２Ｐ、Ｕ−１５ＨＡ、ＵＡ−１１００Ｈ、日本合成化学工業社製紫光ＵＶ−１４００Ｂ、同ＵＶ−１７００Ｂ、同ＵＶ−６３００Ｂ、同ＵＶ−７５５０Ｂ、同ＵＶ−７６００Ｂ、同ＵＶ−７６０５Ｂ、同ＵＶ−７６１０Ｂ、同ＵＶ−７６２０ＥＡ、同ＵＶ−７６３０Ｂ、同ＵＶ−７６４０Ｂ、同ＵＶ−６６３０Ｂ、同ＵＶ−７０００Ｂ、同ＵＶ−７５１０Ｂ、同ＵＶ−７４６１ＴＥ、同ＵＶ−３０００Ｂ、同ＵＶ−３２００Ｂ、同ＵＶ−３２１０ＥＡ、同ＵＶ−３３１０ＥＡ、同ＵＶ−３３１０Ｂ、同ＵＶ−３５００ＢＡ、同ＵＶ−３５２０ＴＬ、同ＵＶ−３７００Ｂ、同ＵＶ−６１００Ｂ、同ＵＶ−６６４０Ｂ、同ＵＶ−２０００Ｂ、同ＵＶ−２０１０Ｂ、同ＵＶ−２２５０ＥＡを挙げることができる。また、日本合成化学工業社製紫光ＵＶ−２７５０Ｂ、共栄社化学社製ＵＬ−５０３ＬＮ、大日本インキ化学工業社製ユニディック１７−８０６、同１７−８１３、同Ｖ−４０３０、同Ｖ−４０００ＢＡ、ダイセル・オルネクス社製ＥＢ−１２９０Ｋ、トクシキ製ハイコープＡＵ−２０１０、同ＡＵ−２０２０等も挙げられる。
【００２８】
ウレタン（メタ）アクリレートの具体例として、下記例示化合物Ａ−１〜Ａ−８も好ましい。
【００２９】
【化１】
0006486308.tif 000002
【００３０】
【化２】
0006486308.tif 000003
【００３１】
重合性化合物１が、ウレタン結合を有さない、（メタ）アクリレート系化合物である場合、以下のものも例示できる。ただし本発明は、下記例示化合物に限定されるものではない。
ポリエチレングリコール２００ジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール３００ジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール４００ジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール６００ジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性エチレングリコールジ（メタ）アクリレート（市販品として、例えば長瀬産業製デナコールＤＡ−８１１等）、ポリプロピレングリコール２００ジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール４００ジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール７００ジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド（ＥＯ；Ｅｔｈｙｌｅｎｅ  Ｏｘｉｄｅ）・プロピレンオキシド（ＰＯ；Ｐｒｏｐｙｌｅｎｅ  Ｏｘｉｄｅ）ブロックポリエーテルジ（メタ）アクリレート（市販品として、例えば日本油脂製ブレンマーＰＥＴシリーズ等）、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ  ＥＯ  付加型ジ（メタ）アクリレート（市販品として、例えば東亞合成製Ｍ−２１０、新中村化学工業製ＮＫエステルＡ−ＢＰＥ−２０等）、水添ビスフェノールＡ  ＥＯ付加型ジ（メタ）アクリレート（新中村化学工業製ＮＫエステルＡ−ＨＰＥ−４等）、ビスフェノールＡ  ＰＯ付加型ジ（メタ）アクリレート（市販品として、例えば共栄社化学製ライトアクリレートＢＰ−４ＰＡ等）、ビスフェノールＡ  エピクロルヒドリン付加型ジ（メタ）アクリレート（市販品として、例えばダイセル・オルネクス製エピクリル１５０等）、ビスフェノールＡ  ＥＯ・ＰＯ付加型ジ（メタ）アクリレート（市販品として、例えば東邦化学工業製ＢＰ−０２３−ＰＥ等）、ビスフェノールＦ  ＥＯ付加型ジ（メタ）アクリレート（市販品として、例えば東亞合成製アロニックスＭ−２０８等）、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、およびそのエピクロルヒドリン変性品、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、およびそのカプロラクトン変性品、１，４−  ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレートモノステアレート、トリメチロールプロパンアクリル酸・安息香酸エステル、イソシアヌル酸ＥＯ変性ジ（メタ）アクリレート（市販品として、例えば東亞合成製アロニックスＭ−２１５等）等の２官能（メタ）アクリレート化合物。
【００３２】
トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、およびそのＥＯ、ＰＯもしくはエピクロルヒドリン変性品、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、およびそのＥＯ、ＰＯもしくはエピクロルヒドリン変性品、イソシアヌル酸ＥＯ変性トリ（メタ）アクリレート（市販品として、例えば東亞合成製アロニックスＭ−３１５等）、トリス（メタ）アクリロイルオキシエチルフォスフェート、フタル酸水素−（２，２，２−トリ−（メタ）アクリロイルオキシメチル）エチル、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、およびそのＥＯ、ＰＯもしくはエピクロルヒドリン変性品等の３官能（メタ）アクリレート化合物；ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、およびそのＥＯ、ＰＯもしくはエピクロルヒドリン変性品、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等の４官能（メタ）アクリレート化合物；ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、およびそのＥＯ、ＰＯもしくはエピクロルヒドリン、脂肪酸、アルキル変性品等の５官能（メタ）アクリレート化合物；ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、およびそのＥＯ、ＰＯもしくはエピクロルヒドリン、脂肪酸、アルキル変性品、ソルビトールヘキサ（メタ）アクリレート、およびそのＥＯ、ＰＯもしくはエピクロルヒドリン、脂肪酸、アルキル変性品等の６官能（メタ）アクリレート化合物。
【００３３】
また、重合性化合物１である（メタ）アクリレート系化合物として、重量平均分子量が２００以上１０００未満のポリエステル（メタ）アクリレートまたはエポキシ（メタ）アクリレートも好ましい。
市販品では、ポリエステル（メタ）アクリレートとして、荒川化学工業製の商品名ビームセット７００シリーズ、すなわちビームセット７００（６官能）、ビームセット７１０（４官能）、ビームセット７２０（３官能）等が挙げられる。
【００３４】
また、重合性化合物１である（メタ）アクリレート系化合物の具体例としては、上記以外の３つ以上の（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレート系化合物も好ましい形態として挙げられる。
３つ以上の（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレート系化合物の例としては、下記例示化合物Ａ−９〜Ａ−１１を挙げることもできる。
【００３５】
【化３】
0006486308.tif 000004
【００３６】
３つ以上の（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレート系化合物の例としては、特開２００７−２５６８４４号公報の段落００９６に示されている例示化合物も挙げることができる。
さらに、３つ以上の（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレート系化合物の具体化合物として、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ、同ＤＰＨＡ−２Ｃ、同ＰＥＴ−３０、同ＴＭＰＴＡ、同ＴＰＡ−３２０、同ＴＰＡ−３３０、同ＲＰ−１０４０、同Ｔ−１４２０、同Ｄ−３１０、同ＤＰＣＡ−２０、同ＤＰＣＡ−３０、同ＤＰＣＡ−６０、同ＧＰＯ−３０３、大阪有機化学工業（株）製Ｖ＃４００、Ｖ＃３６０９５Ｄ等のポリオールと（メタ）アクリル酸のエステル化物を挙げることができる。また紫光ＵＶ−１４００Ｂ、同ＵＶ−１７００Ｂ、同ＵＶ−６３００Ｂ、同ＵＶ−７５５０Ｂ、同ＵＶ−７６００Ｂ、同ＵＶ−７６０５Ｂ、同ＵＶ−７６１０Ｂ、同ＵＶ−７６２０ＥＡ、同ＵＶ−７６３０Ｂ、同ＵＶ−７６４０Ｂ、同ＵＶ−６６３０Ｂ、同ＵＶ−７０００Ｂ、同ＵＶ−７５１０Ｂ、同ＵＶ−７４６１ＴＥ、同ＵＶ−３０００Ｂ、同ＵＶ−３２００Ｂ、同ＵＶ−３２１０ＥＡ、同ＵＶ−３３１０ＥＡ、同ＵＶ−３３１０Ｂ、同ＵＶ−３５００ＢＡ、同ＵＶ−３５２０ＴＬ、同ＵＶ−３７００Ｂ、同ＵＶ−６１００Ｂ、同ＵＶ−６６４０Ｂ、同ＵＶ−２０００Ｂ、同ＵＶ−２０１０Ｂ、同ＵＶ−２２５０ＥＡ、同ＵＶ−２７５０Ｂ（日本合成化学（株）製）、ＵＬ−５０３ＬＮ（共栄社化学（株）製）、ユニディック１７−８０６、同１７−８１３、同Ｖ−４０３０、同Ｖ−４０００ＢＡ（大日本インキ化学工業（株）製）、ＥＢ−１２９０Ｋ、ＥＢ−２２０、ＥＢ−５１２９、ＥＢ−１８３０，ＥＢ−４３５８（ダイセル・オルネクス（株）製）、ハイコープＡＵ−２０１０、同ＡＵ−２０２０（（株）トクシキ製）、アロニックスＭ−１９６０（東亞合成（株）製）、アートレジンＵＮ−３３２０ＨＡ，ＵＮ−３３２０ＨＣ，ＵＮ−３３２０ＨＳ、ＵＮ−９０４，ＨＤＰ−４Ｔなどの３官能以上のウレタンアクリレート化合物、アロニックスＭ−８１００，Ｍ−８０３０，Ｍ−９０５０（東亞合成（株）製）、ＫＢＭ−８３０７（ダイセルサイテック（株）製）の３官能以上のポリエステル化合物なども好適に使用することができる。
【００３７】
さらに、本発明では、重合性化合物１が、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートおよびジエチレングリコールジ（メタ）アクリレートから選択される少なくとも１種であることが好ましい。これらの市販品としては、後述する実施例で述べるものが例示される。
重合性化合物１は１種でも、２種以上でもよいが、２種以上のブレンド形態として、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートおよびジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの組み合わせが例示される。
【００３８】
第１の硬化層形成用硬化性組成物に含まれる重合性化合物中、重合性化合物１の含有量は４９質量％以下であり、４５質量％以下が好ましく、３５質量％以下であってもよい。４９質量％以下とすることにより、打抜き性をより効果的に向上させることができる。上記重合性化合物１の含有量の下限値は、５質量％以上が好ましく、８質量％以上がより好ましく、１０質量％以上が更に好ましく、２５質量％以上がより更に好ましい。５質量％以上とすることにより、密着性および鉛筆硬度をより効果的に向上させることができる。
重合性化合物１は、第１の硬化層形成用硬化性組成物中に１種のみ含まれていても良いし、２種以上含まれていても良い。２種以上含まれている場合、その合計量が上記範囲となることが好ましい。
【００３９】
＜＜重合性化合物２＞＞
本発明で用いる重合性化合物２は、同一分子内にカチオン重合性基とラジカル重合性基を有し、かつ重合性化合物１とは異なる重合性化合物である。カチオン重合性基とラジカル重合性基を有する重合性化合物を用いることにより、打抜き性および密着性を向上させることができる。
重合性化合物２は、低分子であることが好ましく、具体的には、分子量が１００００未満であることが好ましい。低分子の重合性化合物２を用いることにより、カチオン重合性基やラジカル重合性基以外の部位が少なくなり、ハードコートフィルムの打抜き性および密着性をより効果的に高めることができる。具体的には、重合性化合物２の分子量は、４００以下であることが好ましく、３００以下であることがより好ましく、２５０以下であることがさらに好ましい。上記重合性化合物２の分子量の下限値は、１００以上であることが好ましく、１２０以上であることがより好ましい。このような範囲とすることにより、第１の硬化層形成時に、重合性化合物２が揮発するのをより効果的に抑制できる。
【００４０】
重合性化合物２において、一分子中のカチオン重合性基の数は、多いことが好ましく、１〜１０であることがより好ましい。一分子中のラジカル重合性基の数は、多いことが好ましく、１〜１０であることがより好ましい。重合性化合物２において、一分子中のカチオン重合性基の数に対する、ラジカル重合性基の数の比（カチオン重合性基の数／ラジカル重合性基の数）は、０．５〜２．０であることが好ましく、０．８〜１．２であることがより好ましい。このような範囲とすることにより、打抜き性、密着性および耐擦性をバランスよく向上させることができる。
【００４１】
重合性化合物２が有するカチオン重合性基は、（オキセタン基およびエポキシ基）が好ましく、エポキシ基がより好ましく、脂環式エポキシ基がさらに好ましい。脂環式エポキシ基に含まれる脂環構造としては、例えば、シクロ環、ジシクロ環、トリシクロ環構造を挙げることができ、具体例としては、ジシクロペンタニル環、シクロヘキサン環等を挙げることができる。
重合性化合物２が有するラジカル重合性基としては、スチリル基および（メタ）アクリル基が好ましく、（メタ）アクリル基がより好ましく、（メタ）アクリロイルオキシ基がさらに好ましい。（メタ）アクリル基は、メタクリル基が好ましい。
【００４２】
重合性化合物２としては、同一分子内に１つの脂環式エポキシ基と１つのラジカル重合性基とを有することが好ましい。
重合性化合物２は、また、下記一般式（１）で表される化合物であることが更に好ましい。
【００４３】
【化４】
0006486308.tif 000005
【００４４】
一般式（１）中、Ｒは単環式炭化水素、又は架橋炭化水素を表し、Ｌは単結合又は２価の連結基を表し、Ｑはラジカル重合性基を表す。
【００４５】
一般式（１）中のＲが単環式炭化水素の場合、脂環式炭化水素であることが好ましく、中でも炭素数４〜１０の脂環基がより好ましく、炭素数５〜７の脂環基がさらに好ましく、炭素数６の脂環基が特に好ましい。具体的にはシクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基およびシクロヘプチル基が好ましく、シクロヘキシル基が特に好ましい。
一般式（１）中のＲが架橋炭化水素の場合、２環系架橋（ｂｉｃｙｃｌｏ環）および３環系架橋（ｔｒｉｃｙｃｌｏ環）が好ましく、炭素数５〜２０の架橋炭化水素が挙げられ、ノルボルニル基、ボルニル基、イソボルニル基、トリシクロデシル基、ジシクロペンテニル基、ジシクロペンタニル基、トリシクロペンテニル基、およびトリシクロペンタニル基、アダマンチル基および低級アルキル基置換アダマンチル基等が挙げられる。
Ｌが２価の連結基を表す場合、２価の脂肪族炭化水素基が好ましい。２価の脂肪族炭化水素基の炭素数は、１〜６が好ましく、１〜３がより好ましく、１がさらに好ましい。２価の脂肪族炭化水素基としては、直鎖状、分岐状又は環状のアルキレン基が好ましく、直鎖状又は分岐状のアルキレン基がより好ましく、直鎖状のアルキレン基が更に好ましい。
Ｑが表すラジカル重合性基としては、上述したラジカル重合性基と同義であり好ましい範囲も同様である。
【００４６】
重合性化合物２の具体的な例としては、特開平１０−１７６１４号公報の段落００１５に記載の脂環式エポキシ基含有（メタ）アクリレートや、下記一般式（１Ａ）又は（１Ｂ）で表される化合物を挙げることができる。中でも、下記一般式（１Ａ）又は（１Ｂ）で表される化合物がより好ましく、分子量が低い下記一般式（１Ａ）で表される化合物が更に好ましい。なお、下記一般式（１Ａ）で表される化合物はその異性体も好ましい。下記一般式（１Ａ）の式中Ｌ2は炭素数１〜６の２価の脂肪族炭化水素基を表し、炭素数１〜３がより好ましく、炭素数１（すなわち、重合性化合物２がエポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレートであること）が、打抜き性を効果的に改善する観点から更に好ましい。
【００４７】
【化５】
0006486308.tif 000006
【００４８】
一般式（１Ａ）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｌ2は炭素数１〜６の２価の脂肪族炭化水素基を表す。
【００４９】
【化６】
0006486308.tif 000007
【００５０】
一般式（１Ｂ）中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｌ2は炭素数１〜３の２価の脂肪族炭化水素基を表す。
【００５１】
一般式（１Ａ）および（１Ｂ）中のＬ2の２価の脂肪族炭化水素基としては、炭素数１〜６であり、炭素数１〜３がより好ましく、炭素数１が更に好ましい。２価の脂肪族炭化水素基としては、直鎖状、分岐状又は環状のアルキレン基が好ましく、直鎖状又は分岐状のアルキレン基がより好ましく、直鎖状のアルキレン基が更に好ましい。
特に、本発明では、重合性化合物２が、グリシジル（メタ）アクリレートおよびエポキシシクロヘキシルメチルメタクリレートから選択される少なくとも１種であることが好ましい。
【００５２】
重合性化合物２は、公知の方法で合成することができる。
また、重合性化合物２は、市販品として入手することも可能である。上記市販品としては、ダイセル製サイクロマーＭ１００、共栄社化学社製の商品名ライトエステルＧ、日本化成製の４ＨＢＡＧＥ、昭和高分子製の商品名ＳＰシリーズ、例えばＳＰ−１５０６、５００、ＳＰ−１５０７、４８０、ＶＲシリーズ、例えばＶＲ−７７、新中村化学工業製の商品名ＥＡ−１０１０／ＥＣＡ、ＥＡ−１１０２０、ＥＡ−１０２５、ＥＡ−６３１０／ＥＣＡ等が挙げられる。
【００５３】
第１の硬化層形成用硬化性組成物に含まれる重合性化合物中、重合性化合物２の含有量は５１質量％以上であり、好ましくは５５質量％以上であり、より好ましくは６５質量％以上である。このような範囲とすることにより、打抜き性に優れたハードコートフィルムが得られる。上記重合性化合物２の含有量の上限値は、９９質量％以下が好ましく、９２質量％以下がより好ましく、９０質量％以下がさらに好ましく、８０質量％以下であってもよい。
重合性化合物２は、第１の硬化層形成用硬化性組成物中に１種のみ含まれていても良いし、２種以上含まれていても良い。２種以上含まれている場合、その合計量が上記範囲となることが好ましい。
【００５４】
＜＜他の重合性化合物＞＞
第１の硬化層形成用硬化性組成物は、重合性化合物１とも重合性化合物２とも異なる他の重合性化合物を有していてもよい。
上記他の重合性化合物は、カチオン重合性基を有する重合性化合物であることが好ましい。上記カチオン重合性基としては、重合性化合物２で述べたカチオン重合性基と同義であり、好ましい範囲も同様である。特に、本発明では、他の重合性化合物として、カチオン重合性基を含む、含窒素複素環含有化合物が好ましい。このような化合物を用いることにより、支持体と第１の硬化層の密着性をより効果的に向上させることができる。含窒素複素環としては、イソシアヌレート環（後述の例示化合物Ｂ−１〜Ｂ−３に含まれる含窒素複素環）およびグリコールウリル環（後述の例示化合物Ｂ−１０に含まれる含窒素複素環）からなる群から選ばれる含窒素複素環が例示され、イソシアヌレート環がより好ましい。他の重合性化合物が有するカチオン性基の数は、１〜１０が好ましく、２〜５がより好ましい。また、他の重合性化合物として、カチオン重合性基と含窒素複素環構造を有する重合性化合物を用いる場合、支持体は、アクリル系樹脂フィルムを含む支持体が好ましい。このような構成とすることにより、支持体と第１の硬化層の密着性がより向上する傾向にある。
以下に、他の重合性化合物の具体例として例示化合物Ｂ−１〜Ｂ−１０を示すが、本発明は以下の具体例に限定されるものではない。
【００５５】
【化７】
0006486308.tif 000008
【００５６】
【化８】
0006486308.tif 000009
【００５７】
【化９】
0006486308.tif 000010
【００５８】
他の重合性化合物として、市販品を用いてもよい。例えば、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート（例えば、ユニオンカーバイト社製ＵＶＲ６１０５、ＵＶＲ６１１０およびダイセル製セロキサイド（ＣＥＬＬＯＸＩＤＥ）２０２１Ｐ等の市販品）、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート（例えば、ユニオンカーバイト社製ＵＶＲ６１２８）、ビニルシクロヘキセンモノエポキサイド（例えば、ダイセル製セロキサイド２０００）、ε−カプロラクトン変性３，４−エポキシシクロヘキシルメチル３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート（例えば、ダイセル製セロキサイド２０８１）等を挙げることができる。
【００５９】
第１の硬化層形成用硬化性組成物が、上記他の重合性化合物（特に、カチオン重合性基を有する重合性化合物）を含有する場合、その含有量は、第１の硬化層形成用硬化性組成物に含まれる全重合性化合物の、２０質量％以下であることが好ましく、１５質量％以下であることがより好ましく、１０質量％以下が特に好ましく、５質量％以下がより特に好ましい。含有する場合の上記含有量の下限値としては、１質量％以上が好ましく、３質量％以上がより好ましい。
第１の硬化層形成用硬化性組成物は、上記他の重合性化合物を、１種のみ含んでいても良いし、２種以上含んでいても良い。２種以上含まれている場合、その合計量が上記範囲となることが好ましい。
また、本発明では、第１の硬化層形成用硬化性組成物に、上記他の重合性化合物を実質的に含まない構成とすることもできる。実質的に含まないとは、例えば、第１の硬化層形成用硬化性組成物に含まれる全重合性化合物の、１質量％未満をいい、０質量％が好ましい（以下、「実質的に含まない」について同じ）。
【００６０】
＜＜無機粒子＞＞
第１の硬化層形成用硬化性組成物は、無機粒子を含有することも好ましい。無機粒子を含むことにより、鉛筆硬度を向上させる効果がより効果的に達成される。
第１の硬化層形成用硬化性組成物に用いることができる無機粒子としては特に制限はない。例えば、シリカ粒子、ジルコニア粒子やアルミナ粒子を挙げることができ、シリカ粒子が好ましい。
無機粒子として市販品を用いてもよく、例えば、ＭＥＫ−ＡＣ−２１４０Ｚ（日産化学工業製）を用いることができる。
第１の硬化層形成用硬化性組成物が、無機粒子を含む場合の含有量は、第１の硬化層形成用硬化性組成物の固形分の、２０質量％以下が好ましく、１７質量％以下がより好ましい。上記含有量の下限値は、１質量％以上が好ましく、７質量％以上がより好ましい。
また、本発明では、高い表面硬度を発現する主要因が第２の硬化層であるため第１の硬化層が柔軟でも表面硬度を維持できるので、第１の硬化層形成用硬化性組成物に、実質的に無機粒子を含まない構成とすることもできる。
【００６１】
＜＜重合開始剤＞＞
第１の硬化層形成用硬化性組成物は、重合開始剤を含むことが好ましい。重合開始剤は、光重合開始剤であっても、熱重合開始剤であってもよい。
重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤およびカチオン重合開始剤が挙げられる。ラジカル重合開始剤を配合することにより、ラジカル重合性基の重合反応を促進することができ、カチオン重合開始剤を配合することにより、カチオン重合性基の重合反応を促進することができる。
第１の硬化層形成用硬化性組成物は、ラジカル重合開始剤およびカチオン重合開始剤の少なくとも一方を含むことが好ましく、ラジカル重合開始剤およびカチオン重合開始剤の両方を含むことがより好ましい。
以下、重合開始剤について、順次説明する。
【００６２】
＜＜＜ラジカル重合開始剤＞＞＞
ラジカル重合開始剤はラジカル光重合開始剤であることが好ましい。
ラジカル光重合開始剤としては、光照射により活性種としてラジカルを発生できるものであればよく、公知のラジカル光重合開始剤を、何ら制限なく用いることができる。具体例としては、ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−２−モルホリノ（４−チオメチルフェニル）プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−［４−（１−メチルビニル）フェニル］プロパノンオリゴマー、２−ヒロドキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン等のアセトフェノン類；１，２−オクタンジオン、１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）等のオキシムエステル類；ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン類；ベンゾフェノン、オルト−ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４′−メチル−ジフェニルサルファイド、３，３′，４，４′−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン、４−ベンゾイル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−［２−（１−オキソ−２−プロペニルオキシ）エチル］ベンゼンメタナミニウムブロミド、（４−ベンゾイルベンジル）トリメチルアンモニウムクロリド等のベンゾフェノン類；２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン、２−（３−ジメチルアミノ−２−ヒドロキシ）−３，４−ジメチル−９Ｈ−チオキサントン−９−オンメソクロリド等のチオキサントン類；２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド等のアシルフォスフォンオキサイド類；等が挙げられる。また、ラジカル光重合開始剤の助剤として、トリエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、４，４′−ジメチルアミノベンゾフェノン（ミヒラーケトン）、４，４′−ジエチルアミノベンゾフェノン、２−ジメチルアミノエチル安息香酸、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸（ｎ−ブトキシ）エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシル、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン等を併用してもよい。
以上のラジカル光重合開始剤および助剤は、公知の方法で合成可能であり、市販品として入手も可能である。
ラジカル光重合開始剤の市販品としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）１８４（１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、α−ヒドロキシアルキルフェノン系のラジカル光重合開始剤、ＢＡＳＦ製）を挙げることができる。
【００６３】
ラジカル重合開始剤の含有量は、ラジカル重合性化合物の重合反応（ラジカル重合）を良好に進行させる範囲で適宜調整すればよく、特に限定されるものではない。上記含有量は、第１の硬化層形成用硬化性組成物の固形分中、好ましくは１〜８質量％、より好ましくは３〜５質量％である。
また、ラジカル重合開始剤は、１種のみ含んでいても良いし、２種以上含んでいても良い。２種以上含む場合、合計量が上記範囲となることが好ましい。
【００６４】
＜＜＜カチオン重合開始剤＞＞＞
カチオン重合開始剤はカチオン光重合開始剤であることが好ましい。
カチオン光重合開始剤としては、光照射により活性種としてカチオンを発生できるものであればよく、公知のカチオン光重合開始剤を、何ら制限なく用いることができる。具体例としては、公知のスルホニウム塩、アンモニウム塩、ヨードニウム塩（例えばジアリールヨードニウム塩）、トリアリールスルホニウム塩、ジアゾニウム塩、イミニウム塩などが挙げられる。より具体的には、例えば、特開平８−１４３８０６号公報の段落００５０〜００５３に示されている式（２５）〜（２８）で表されるカチオン光重合開始剤、特開平８−２８３３２０号公報の段落００２０にカチオン重合触媒として例示されているもの等を挙げることができ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、カチオン光重合開始剤は、公知の方法で合成可能であり、市販品としても入手可能である。市販品としては、例えば、日本曹達社製ＣＩ−１３７０、ＣＩ−２０６４、ＣＩ−２３９７、ＣＩ−２
６２４、ＣＩ−２６３９、ＣＩ−２７３４、ＣＩ−２７５８、ＣＩ−２８２３、ＣＩ−２８５５およびＣＩ−５１０２等、ローディア社製ＰＨＯＴＯＩＮＩＴＩＡＴＯＲ２０４７等、ユニオンカーバイト社製ＵＶＩ−６９７４、ＵＶＩ−６９９０、サンアプロ社製ＣＰＩ−１０Ｐ等を挙げることができる。
【００６５】
カチオン光重合開始剤としては、光重合開始剤の光に対する感度、化合物の安定性等の点からは、ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、イミニウム塩が好ましい。また、耐候性の点からは、ヨードニウム塩が最も好ましい。
【００６６】
ヨードニウム塩系のカチオン光重合開始剤の具体的な市販品としては、例えば、東京化成社製Ｂ２３８０、みどり化学社製ＢＢＩ−１０２、和光純薬工業社製ＷＰＩ−１１３、和光純薬工業社製ＷＰＩ−１２４、和光純薬工業社製ＷＰＩ−１６９、和光純薬工業社製ＷＰＩ−１７０、東洋合成化学社製ＤＴＢＰＩ−ＰＦＢＳを挙げることができる。
【００６７】
また、カチオン光重合開始剤として使用可能なヨードニウム塩化合物の具体例としては、下記化合物ＰＡＧ−１、ＰＡＧ−２を挙げることもできる。
【００６８】
【化１０】
0006486308.tif 000011
【００６９】
【化１１】
0006486308.tif 000012
【００７０】
第１の硬化層形成用硬化性組成物に用いられるカチオン重合開始剤の含有量は、カチオン重合性化合物の重合反応（カチオン重合）を良好に進行させる範囲で適宜調整すればよく、特に限定されるものではない。上記カチオン重合開始剤の含有量は、第１の硬化層形成用硬化性組成物の固形分中、好ましくは５質量％以下、より好ましくは３質量％以下、さらに好ましくは２質量％以下である。上記含有量の下限値は、第１の硬化層形成用硬化性組成物の固形分中、好ましくは０．５質量％以上、より好ましくは１質量％以上である。
また、カチオン重合開始剤は、１種のみ含んでいても良いし、２種以上含んでいても良い。２種以上含む場合、合計量が上記範囲となることが好ましい。
【００７１】
＜＜溶媒＞＞
第１の硬化層形成用硬化性組成物は、溶媒を含むことが好ましい。溶媒としては、有機溶媒が好ましく、有機溶媒の１種または２種以上を任意の割合で混合して用いることができる。有機溶媒の具体例としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ｎ−ブタノール、ｉ−ブタノール等のアルコール類；アセトン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；エチルセロソルブ等のセロソルブ類；トルエン、キシレン等の芳香族類；プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等の酢酸エステル類；ジアセトンアルコール等が挙げられる。これらの中でも、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンおよび酢酸メチルが好ましく、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンおよび酢酸メチルを任意の割合で混合して用いることがより好ましい。このような構成とすることにより、耐擦性、打抜き性および密着性により優れたハードコートフィルムが得られる。
【００７２】
第１の硬化層形成用硬化性組成物中の溶媒量は、上記組成物の塗布適性を確保できる範囲で適宜調整することができる。例えば、重合性化合物および光重合開始剤の合計量１００質量部に対して、溶媒を５０〜５００質量部とすることができ、好ましくは８０〜２００質量部とすることができる。
また、第１の硬化層形成用硬化性組成物の固形分は、１０〜９０質量％であることが好ましく、５０〜８０質量％であることがより好ましく、６５〜７５質量％であることが特に好ましい。
【００７３】
＜＜第１の硬化層の他の材料＞＞
その他、第１の硬化層は、必要に応じて、公知の添加剤の１種以上を任意に含むことができる。そのような添加剤としては、防汚剤、表面調整剤、レベリング剤、重合禁止剤等を挙げることができる。それらの詳細については、例えば特開２０１２−２２９４１２号公報の段落００３２〜００３４を参照でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、光重合性組成物に一般に使用され得る各種添加剤を用いることができる。第１の硬化層または第１の硬化層形成用硬化性組成物への各種添加剤の添加量は適宜調整すればよく、特に限定されるものではない。
【００７４】
＜＜レベリング剤＞＞
レベリング剤としては、含フッ素ポリマーが好ましく用いられる。例えば、特許５１７５８３１号に記載されているフルオロ脂肪族基含有ポリマーが挙げられる。またフルオロ脂肪族基含有ポリマーを構成する、一般式（１）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの含有量が全重合単位の５０質量％以下のフルオロ脂肪族基含有ポリマーをレベリング剤として用いることもできる。
【００７５】
＜＜防汚剤＞＞
防汚剤の詳細については、後述する第２の硬化層形成用硬化性組成物で述べる防汚剤を採用でき、好ましい範囲も同様である。
第１の硬化層形成用硬化性組成物が、防汚剤を含有する場合の含有量は、第１の硬化層形成用硬化性組成物の固形分の０．０１〜７質量％が好ましく、０．０５〜５質量％がより好ましく、０．１〜２質量％がさらに好ましい。
第１の硬化層形成用硬化性組成物は、防汚剤を、１種のみ含んでいても良いし、２種以上含んでいても良い。２種以上含まれている場合、その合計量が上記範囲となることが好ましい。
また、第１の硬化層形成用硬化性組成物は、防汚剤を実質的に含まない構成とすることもできる。
【００７６】
＜＜第１の硬化層の膜厚＞＞
第１の硬化層の膜厚は、特に定めるものではないが、５μｍ以上が好ましく、１０μｍ以上がより好ましい。５μｍ以上とすることにより、鉛筆硬度をより効果的に高めること
が可能になる。一方、第１の硬化層の膜厚の上限値は、６０μｍ以下が好ましく、５０μｍ以下がより好ましく、４５μｍ以下がさらに好ましく、３０μｍ以下が一層好ましく、２５μｍ以下がより一層好ましい。６０μｍ以下とすることにより、打抜き性をより効果的に向上させることができる。
【００７７】
＜第２の硬化層、第２の硬化層形成用硬化性組成物＞
本発明の第２の硬化層は、第２の硬化層形成用硬化性組成物から形成される。
第２の硬化層形成用硬化性組成物は、同一分子内に少なくとも２つのラジカル重合性基を有する重合性化合物３を含有する。
【００７８】
＜＜重合性化合物３＞＞
重合性化合物３は、同一分子内に少なくとも２つのラジカル重合性基を有する。
重合性化合物３が有するラジカル重合性基の数は、３つ以上が好ましく、４つ以上がより好ましく、６つ以上がさらに好ましい。重合性化合物３が有するラジカル重合性基の数を同一分子内に２つ以上とすることにより、耐擦性および密着性をより効果的に向上させることができる。重合性化合物３が有するラジカル重合性基の数の上限は特に定めるものではないが、同一分子内に１０以下であっても、本発明の効果を十分に達成する。
重合性化合物３が有するラジカル重合性基としては、スチリル基および（メタ）アクリル基が好ましく、（メタ）アクリル基がより好ましく、（メタ）アクリロイルオキシ基がさらに好ましい。（メタ）アクリル基は、メタクリル基が好ましい。
重合性化合物３は、高分子（例えば、重量平均分子量２０００以上）であっても、低分子（例えば、分子量２０００未満）であってもよいが、低分子であることが好ましい。低分子を用いることにより、ラジカル重合性基以外の部位が少なくなり、ハードコートフィルムの鉛筆硬度をより効果的に高めることができる。具体的には、重合性化合物３の分子量は、１５００以下であることが好ましく、１２００以下であることがより好ましく、２５０以下であることがさらに好ましい。上記分子量の下限値については、重合性化合物３の分子量は、１００以上であることが好ましく、１２０以上であることがより好ましい。このような範囲とすることにより、第２の硬化層形成時に、重合性化合物３が揮発するのをより効果的に抑制できる。
重合性化合物３の具体例としては、（メタ）アクリレート系化合物が挙げられ、上述の重合性化合物１で例示した（メタ）アクリレート系化合物がより好ましい。
本発明では、特に、重合性化合物１と重合性化合物３が同じ化合物であることが好ましい。同じ化合物を用いることにより、第１の硬化層と第２の硬化層の界面でのなじみが良くなり、第１の硬化層と第２の硬化層の密着性をより効果的に向上させることができる。
【００７９】
重合性化合物３の含有量は、第２の硬化層形成用硬化性組成物に含まれる重合性化合物中、７０質量％以上が好ましく、より好ましくは７５質量％以上、特に好ましくは８０質量％以上、一層好ましくは９０質量％以上、より一層好ましくは９５質量％以上である。このような範囲とすることにより、耐擦性をより向上させることができる。また、上記含有量の上限値は、特に制限はなく、１００質量％以下とすることができる。
第２の硬化層形成用硬化性組成物は、重合性化合物３を、１種のみ含んでいても良いし、２種以上含んでいても良い。２種以上含まれている場合、その合計量が上記範囲となることが好ましい。
【００８０】
＜＜他の重合性化合物＞＞
第２の硬化層形成用硬化性組成物は、重合性化合物３以外の他の重合性化合物を含有してもよい。他の重合性化合物としては、第１の硬化層形成用硬化性組成物に配合される重合性化合物２や、組成物に配合してもよい他の重合性化合物を採用できる。さらに、他の重合性化合物としては、カチオン重合性基を有する重合性化合物であることが好ましい。カチオン重合性基を有する重合性化合物は、第１の硬化層形成用硬化性組成物に配合しても良いカチオン重合性基を有する重合性化合物を採用することができ、好ましい範囲も同様である。
【００８１】
第２の硬化層形成用硬化性組成物が、上記他の重合性化合物（特に、カチオン重合性基を有する重合性化合物）を含有する場合の含有量は、第２の硬化層形成用硬化性組成物に含まれる全重合性化合物の、２０質量％以下であることが好ましく、１５質量％以下であることがより好ましく、１０質量％以下が特に好ましく、５質量％以下がより特に好ましい。含有する場合の上記含有量の下限値としては、１質量％以上が好ましく、３質量％以上がより好ましい。
第２の硬化層形成用硬化性組成物は、上記他の重合性化合物を、１種のみ含んでいても良いし、２種以上含んでいても良い。２種以上含まれている場合、その合計量が上記範囲となることが好ましい。
また、本発明では、第２の硬化層形成用硬化性組成物に、上記他の重合性化合物を実質的に含まない構成とすることもできる。
【００８２】
＜＜無機粒子＞＞
第２の硬化層形成用硬化性組成物は、無機粒子を含んでいても良い。無機粒子は、第１の硬化層形成用硬化性組成物に配合しても良い無機粒子を用いることができ、好ましい範囲も同様である。
第２の硬化層形成用硬化性組成物が、無機粒子を含む場合の含有量は、第２の硬化層形成用硬化性組成物の固形分の、２０質量％以下が好ましく、１７質量％以下がより好ましい。上記含有量の下限値は、１質量％以上が好ましく、７質量％以上がより好ましい。
特に、本発明では、第２の硬化層形成用硬化性組成物に、無機粒子を実質的に含まない構成とすることもできる。
【００８３】
＜＜重合開始剤＞＞
第２の硬化層形成用硬化性組成物は、重合開始剤を含むことが好ましく、ラジカル重合開始剤を含むことが好ましい。重合開始剤は、光重合開始剤であっても、熱重合開始剤であってもよい。
第２の硬化層形成用硬化性組成物に用いられるラジカル重合開始剤としては、第１の硬化層形成用硬化性組成物に用いてもよいラジカル重合開始剤を採用することができ、好ましい範囲も同様である。
第２の硬化層形成用硬化性組成物が重合性化合物としてカチオン重合性化合物を含む場合は、カチオン重合開始剤を含むことも好ましい。
第２の硬化層形成用硬化性組成物に用いられるカチオン重合開始剤は、第１の硬化層形成用硬化性組成物に用いてもよいカチオン重合開始剤を採用でき、好ましい範囲も同様である。
【００８４】
第２の硬化層形成用硬化性組成物に用いられるカチオン重合開始剤の含有量は、カチオン重合性化合物の重合反応（カチオン重合）を良好に進行させる範囲で適宜調整すればよく、特に限定されるものではない。上記含有量は、第２の硬化層形成用硬化性組成物の固形分中、好ましくは５質量％以下、より好ましくは３質量％以下、さらに好ましくは２質量％以下である。上記含有量の下限値は、第２の硬化層形成用硬化性組成物の固形分中、好ましくは０．５質量％以上、より好ましくは１質量％以上である。
また、カチオン重合開始剤は、１種のみ含んでいても良いし、２種以上含んでいても良い。２種以上含む場合、合計量が上記範囲となることが好ましい。
【００８５】
＜＜防汚剤＞＞
第２の硬化層または第２の硬化層形成用硬化性組成物は、防汚剤を含有することが好ましい。防汚剤を含むことにより、指紋や汚れの付着を低減し、また、付着した汚れの拭き取りを容易にすることができる。また、表面のすべり性を向上させる事により耐擦性をより向上させることも可能になる。
防汚剤は、含フッ素化合物を含有することが好ましい。含フッ素化合物は、パーフルオロポリエーテル基および重合性基（好ましくは、ラジカル重合性基）を有することが好ましく、パーフルオロポリエーテル基および重合性基を有し、かつ重合性基を一分子中に複数有することがさらに好ましい。このような構成とすることにより、耐擦性改良という効果をより効果的に発揮させることができる。
尚、本明細書では、防汚剤が、重合性基を有する場合であっても、上記重合性化合物１〜３および上記他の重合性化合物には該当しないものとして扱う。
上記含フッ素化合物は、モノマー、オリゴマーおよびポリマーのいずれであってもよいが、オリゴマー（含フッ素オリゴマー）であることが好ましい。
【００８６】
本発明で用いることができる防汚剤については、上記の他、特開２０１２−０８８６９９号公報の段落００１２〜０１０１に記載の材料を用いることができ、この公報の内容は本明細書に組み込まれる。
以上説明した防汚剤としては、公知の方法で合成したものを用いてもよく、市販品を用いてもよい。市販品としては、ＤＩＣ社製のＲＳ−９０、ＲＳ−７８などを好ましく用いることができる。
【００８７】
第２の硬化層形成用硬化性組成物が、防汚剤を含有する場合の含有量は、第２の硬化層形成用硬化性組成物の固形分の０．０１〜７質量％が好ましく、０．０５〜５質量％がより好ましく、０．１〜２質量％がさらに好ましい。
第２の硬化層形成用硬化性組成物は、防汚剤を、１種のみ含んでいても良いし、２種以上含んでいても良い。２種以上含まれている場合、その合計量が上記範囲となることが好ましい。
また、第２の硬化層形成用硬化性組成物は、防汚剤を実質的に含まない構成とすることもできる。
【００８８】
＜＜溶媒＞＞
第２の硬化層形成用硬化性組成物は、溶媒を含むことが好ましい。第２の硬化層形成用硬化性組成物に用いられる溶媒は、第１の硬化層形成用硬化性組成物に用いられる溶媒を用いることができ、好ましい範囲も同様である。
第２の硬化層形成用硬化性組成物中の溶媒量は、上記組成物の塗布適性を確保できる範囲で適宜調整することができる。例えば、重合性化合物および光重合開始剤の合計量１００質量部に対して、溶媒を好ましくは５０〜５００質量部含み、より好ましくは８０〜２００質量部含む。
また、第２の硬化層形成用硬化性組成物の固形分は、１０〜９０質量％であることが好ましく、５０〜８０質量％であることがより好ましく、６５〜７５質量％であることが特に好ましい。
【００８９】
＜＜第２の硬化層の他の材料＞＞
その他、第２の硬化層または第２の硬化層形成用硬化性組成物は、公知の添加剤の１種以上を任意に含むことができる。そのような添加剤としては、表面調整剤、レベリング剤、重合禁止剤等を挙げることができる。それらの詳細については、例えば特開２０１２−２２９４１２号公報の段落００３２〜００３４を参照できる。ただしこれらに限らず、重合性組成物に一般に使用され得る各種添加剤を用いることができる。また、第２の硬化層形成用硬化性組成物への各種添加剤の添加量は適宜調整すればよく、特に限定されるものではない。
【００９０】
＜＜第２の硬化層の膜厚＞＞
第２の硬化層の膜厚は、特に定めるものではないが、０．０５μｍ以上が好ましく、０．０８μｍ以上がより好ましく、０．１μｍ以上がさらに好ましく、１μｍ以上がよりさらに好ましく、３μｍ以上であってもよい。０．０５μｍ以上とすることにより、鉛筆硬度および耐擦性をより効果的に高めることが可能になる。一方、第２の硬化層の膜厚の上限値は、４０μｍ以下が好ましく、３０μｍ以下がより好ましく、２０μｍ以下がさらに好ましく、１５μｍ以下がよりさらに好ましく、８μｍ以下であってもよい。４０μｍ以下とすることにより、打抜き性をより効果的に向上させることができる。
【００９１】
＜任意の層＞
ハードコートフィルムは、支持体と第１の硬化層および第２の硬化層に加え、任意に１層以上の他の層を有してもよい。他の層としては、特に、限定されるものではないが、例えば、上記第１の硬化層および第２の硬化層以外の他の硬化層、反射防止層、易接着層、加飾層、後述の１／４波長位相差板に用いられる光学異方性層を有してもよい。他の層の詳細については、例えば特許第５０４８３０４号公報の段落００６９〜００９１等を参照でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
【００９２】
＜＜反射防止層＞＞
ハードコートフィルムが反射防止フィルムとして用いられる場合、第２の硬化層またはその他の硬化層などの硬化層の表面に１層または複数の反射防止層を積層することも好ましい態様である。ここで、本明細書では高屈折率層、中屈折率層、低屈折率層を総称して反射防止層と総称して呼ぶことがある。以下に本発明に好ましく用いることができる反射防止層の構成を示す。
【００９３】
イ：支持体／第１の硬化層／第２の硬化層／低屈折率層
ロ：支持体／第１の硬化層／第２の硬化層／高屈折率層／低屈折率層
ハ：支持体／第１の硬化層／第２の硬化層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
【００９４】
ハードコートフィルムは、硬化層の上に、直接または他の層を介して低屈折率層を有することが好ましい。
低屈折率層の好ましい態様については、特開２００９−２０４７２５号公報の００７７〜０１０２段落に記載があり、この公報の内容は本明細書に組み込まれる。
本発明のハードコートフィルムには、低屈折率層と硬化層の間に屈折率の高い層（高屈折率層、中屈折率層）を設け、反射防止性を高めることができる。なお、高屈折率層、中屈折率層、低屈折率層の「高」、「中」、「低」とは層相互の相対的な屈折率の大小関係を表す。また、支持体との関係で言えば屈折率は、支持体＞低屈折率層、高屈折率層＞支持体の関係を満たすことが好ましい。
高屈折率層の好ましい態様については、特開２００９−２０４７２５号公報の０１０３〜０１１２段落に記載があり、この公報の内容は本明細書に組み込まれる。
【００９５】
―低屈折率層―
低屈折率層を構成する材料としては、高屈折率層を構成する材料よりも低屈折率な材料、例えば、酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）、二酸化ケイ素（ＳｉＯ2）、不定比性の酸化ケイ素（ＳｉＯ2-X，０≦Ｘ＜１）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ2）、およびそれらの混合物等が挙げられ、なかでも酸化ケイ素が好ましい。
【００９６】
低屈折率層の屈折率は、１．３５以上１．５以下であることが好ましい。上記低屈折率層の屈折率の下限値は、１．３８以上であることがより好ましく、１．４７以下であることがさらに好ましい。また、低屈折率層の光学膜厚は、設計波長λ０を５００ｎｍとしたときに、０．４４λ０以下であることが好ましく、０．３５λ０以下であることがより好ましく、０．１４λ０以下であることがさらに好ましい。
【００９７】
―高屈折率層―
高屈折率層を構成する材料としては、低屈折率層を構成する材料よりも高屈折率な材料、例えば、五酸化タンタル（Ｔａ2Ｏ5）や五酸化ニオブ（Ｎｂ2Ｏ5）、チタン酸ランタン（ＬａＴｉＯ3）、酸化ハフニウム（ＨｆＯ2）、酸化チタン（ＴｉＯ2）、酸化クロム（Ｃｒ2Ｏ3）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ）、硫化亜鉛（ＺｎＳ）、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、およびそれらの混合物等が挙げられる。
【００９８】
高屈折率層の屈折率は、１．７以上２．５以下であることが好ましく、１．８以上２．２以下であることがより好ましい。また、高屈折率層の光学膜厚は、設計波長λ０を５００ｎｍとしたときに、０．０３６λ０以上０．５４λ０以下であることが好ましく、０．０７２λ０以上０．４３λ０以下であることがより好ましい。
【００９９】
低屈折率層、および高屈折率層を成膜する方法は特に限定されず、ウェットコーティング法およびドライコーティング法が例示されるが、膜厚の均一な薄膜を形成し得ること、およびナノメートルレベルの薄膜の膜厚の調整が容易であることから、真空蒸着、ＣＶＤ（chemical vapor deposition）、スパッタ、電子線蒸等のドライコーティング法が好ましく、スパッタ、および電子線蒸着がより好ましい。
【０１００】
ハードコートフィルムの製造方法
本発明のハードコートフィルムの製造方法は、支持体上に、ラジカル重合性基を有する重合性化合物１と、同一分子内にカチオン重合性基とラジカル重合性基を有し、かつ上記重合性化合物１とは異なる重合性化合物２と、を含有する第１の硬化層形成用硬化性組成物を用いて、第１の硬化層を形成すること、上記第１の硬化層の上に、同一分子内に少なくとも２つのラジカル重合性基を有する重合性化合物３を含有する第２の硬化層形成用硬化性組成物を用いて、第２の硬化層を形成することを含み、上記第２の硬化層は、上記支持体、上記第１の硬化層、上記第２の硬化層の順となるように形成し、上記第１の硬化層形成用硬化性組成物に含まれる重合性化合物中、上記重合性化合物２の含有量が５１質量％以上であることを特徴とする。このような構成とすることにより、耐擦性、打抜き性および密着性に優れたハードコートフィルムが得られる。さらに、得られるハードコートフィルムの鉛筆硬度も高くすることができる。
第１の硬化層形成用硬化性組成物、および、第２の硬化層形成用硬化性組成物は、ぞれぞれ、上述の第１の硬化層形成用硬化性組成物、および、第２の硬化層形成用硬化性組成物と同義であり、好ましい範囲も同様である。
【０１０１】
＜第１の硬化層の形成＞
本発明のハードコートフィルムの製造方法は、ラジカル重合性基を有する重合性化合物１と、同一分子内にカチオン重合性基とラジカル重合性基を有し、かつ上記重合性化合物１とは異なる重合性化合物２と、を含有する第１の硬化層形成用硬化性組成物を用いて、第１の硬化層を形成することを含む。
【０１０２】
＜＜調製＞＞
第１の硬化層形成用硬化性組成物は、第１の硬化層形成用硬化性組成物を構成する各種成分を同時に、または任意の順序で順次混合することにより調製することができる。調製方法は特に限定されるものではなく、調製には公知の撹拌器等を用いることができる。
【０１０３】
＜＜積層＞＞
上記のようにして調製した第１の硬化層形成用硬化性組成物を、支持体の表面に、または接着剤層、粘着剤層および易接着層等の他の層を介して、積層することにより、第１の硬化層を形成することができる。本発明では、支持体の表面に第１の硬化層を形成することが好ましい。
積層方法としては特に制限はなく公知の方法を採用できるが、塗布であることが好ましい。塗布は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ダイコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法等の公知の塗布方法により行うことができる。塗布量は、所望の膜厚の第１の硬化層を形成可能な量に調整すればよい。塗布時の搬送速度に制限はないが、例えば１０〜５０ｍ／分とすることができる。
尚、第１の硬化層は、２種以上の異なる組成の第１の硬化層形成用組成物を同時または逐次に積層することにより２層以上（例えば２層〜５層程度）の積層構造の硬化層として形成することもできる。また、第１の硬化層と第２の硬化層を同時に積層してもよい。
【０１０４】
＜＜硬化＞＞
第１の硬化層は、第１の硬化層形成用硬化性組成物を硬化して形成することが好ましい。硬化方法としては特に制限はなく、光重合処理や熱重合処理を行う方法が挙げられるが、本発明では光重合処理であることが好ましい。光重合処理を行う場合、以下の態様が好ましい。
第１の硬化層形成用硬化性組成物に対して光重合処理（光照射）を行うことにより、ラジカル重合性基およびカチオン重合性基の重合反応が、それぞれラジカル光重合開始剤、カチオン光重合開始剤の作用を受け開始し進行する。照射する光の波長は、用いる重合性化合物および重合開始剤の種類に応じて決定すればよい。光照射のための光源としては、１５０〜４５０ｎｍ波長帯域の光を発する高圧水銀ランプ、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカルランプ、無電極放電ランプ、発光ダイオード（ＬＥＤ）等を挙げることができる。また、光照射量は、通常、１０〜３０００ｍＪ／ｃｍ2の範囲であり、好ましくは２０〜１５００ｍＪ／ｃｍ2の範囲である。光照射量がこの範囲にできる限り、ランプ出力や照度は特に制限はない。また、光照射は窒素パージ下で行うことが好ましく、酸素濃度０．１体積％以下で行うことがより好ましい。
特に、第１の硬化層形成用硬化性組成物中のラジカル重合性基を有する重合性化合物の一部が未反応の状態で、第２の硬化層形成用硬化性組成物を設けることが好ましい。このような構成とすることにより、第１の硬化層と第２の硬化層の密着性がより向上する傾向にあり好ましい。
さらに、第１の硬化層形成用硬化性組成物と第２の硬化層形成用硬化性組成物の硬化は同時に行っても良い。すなわち、第１の硬化層形成用硬化性組成物と第２の硬化層形成用硬化性組成物を同時または逐次に塗布した後、一度に硬化してもよい。
【０１０５】
＜＜乾燥＞＞
硬化の前および後の一方または両方において、第１の硬化層形成用硬化性組成物または第１の硬化層に対して、必要に応じて乾燥処理を行ってもよい。乾燥処理は、温風の吹き付け、加熱炉内への配置、加熱炉内での搬送等により行うことができる。加熱温度は、溶媒を乾燥除去できる温度に設定すればよく、特に限定されるものではない。例えば４０〜８０℃で１００〜２００秒で乾燥することができる。ここで加熱温度とは、温風の温度または加熱炉内の雰囲気温度をいうものとする。
【０１０６】
＜第２の硬化層の形成＞
本発明のハードコートフィルムの製造方法は、第１の硬化層の上に、同一分子内に少なくとも２つのラジカル重合性基を有する重合性化合物３を含有する第２の硬化層形成用硬化性組成物を用いて、第２の硬化層を形成することを含む。第２の硬化層は、上記支持体、上記第１の硬化層、上記第２の硬化層の順となるように形成する。第２の硬化層は、第１の硬化層の表面に形成してもよいし、他の層を介して形成してもよい。好ましくは、第１の硬化層の表面に形成する態様である。
その他、第２の硬化層の形成における好ましい態様は、第１の硬化層の形成の好ましい態様と同様である。
【０１０７】
＜ハードコートフィルムの加工＞
本発明のハードコートフィルムは、加工して、各種用途に用いられる。
加工には、例えば、製造されたハードコートフィルムを巻き取ってロール形状のハードコートフィルムにすることも含まれる。
また、本発明のハードコートフィルムは打抜き性が良好であるため、製造されたハードコートフィルムを、打抜き刃を用いて打抜き（型抜き、とも言う）して所望の形状にしてもよい。所望の形状としては、例えば、偏光板、液晶表示装置、タッチパネルなどの形状が挙げられる。打抜きは、打抜き刃を本発明のハードコートフィルムの第２の硬化層側から入れて第１の硬化層および支持体の順で通過させる方法であることが好ましい。本発明では、打抜き刃を第２の硬化層側から入れて打抜きをすることにより、特に本発明のハードコートフィルムを良好に打抜きすることができる。
打抜き刃を入れる方向は、第２の硬化層の膜面に対して９０°±１０°の方向であることが好ましく、９０°±３°の方向であることがより好ましく、９０°±１°の方向であることがさらに好ましい。
打抜きに用いる型抜き機としては特に制限はないが、アマダ社製手動プレス機トルクパックプレスＴＰシリーズなどを好ましく用いることができる。打抜きは、１０〜４０℃、相対湿度３０〜８０％で行うことが好ましく、２０〜３０℃、相対湿度５０〜７０％で行うことがより好ましい。
【０１０８】
キット
本発明のキットは、ラジカル重合性基を有する重合性化合物１と、同一分子内にカチオン重合性基とラジカル重合性基を有し、かつ上記重合性化合物１とは異なる重合性化合物２と、を含有する第１の硬化層形成用硬化性組成物；および、同一分子内に少なくとも２つのラジカル重合性基を有する重合性化合物３を含有する第２の硬化層形成用硬化性組成物；を含み、上記第１の硬化層形成用硬化性組成物に含まれる重合性化合物中、上記重合性化合物２の含有量が５１質量％以上であることを特徴とする。
本発明のキットにおける第１の硬化層形成用硬化性組成物および第２の硬化層形成用硬化性組成物を用いることにより、本発明のハードコートフィルムを容易に製造することができる。
本発明のキットにおける第１の硬化層形成用硬化性組成物および第２の硬化層形成用硬化性組成物は、それぞれ、ハードコートフィルムにおける第１の硬化層形成用硬化性組成物および第２の硬化層形成用硬化性組成物を用いることができ、好ましい範囲も同様である。
【０１０９】
ハードコートフィルムを含む物品
本発明のハードコートフィルムを含む物品としては、家電業界、電気電子業界、自動車業界、住宅業界をはじめとする様々な産業界において耐擦性を向上することが求められる各種物品を挙げることができる。具体例としては、タッチセンサ、タッチパネル、液晶表示装置等の画像表示装置、自動車の窓ガラス、住居の窓ガラス、等を挙げることができる。これら物品に、好ましくは表面保護フィルムとして本発明のハードコートフィルムを設けることにより、耐擦性に優れた物品を提供することが可能となる。本発明のハードコートフィルムは、画像表示装置用の前面板に用いられるハードコートフィルムとして好ましく用いられ、タッチパネルの画像表示素子の前面板に用いられるハードコートフィルムであることがより好ましい。
本発明のハードコートフィルムを用いることができるタッチパネルは特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、表面型静電容量式タッチパネル、投影型静電容量式タッチパネル、抵抗膜式タッチパネルなどが挙げられる。詳細については、後述する。
なお、タッチパネルとは、いわゆるタッチセンサを含むものとする。タッチパネルにおけるタッチパネルセンサー電極部の層構成が、２枚の透明電極を貼合する貼合方式、１枚の基板の両面に透明電極を具備する方式、片面ジャンパーあるいはスルーホール方式あるいは片面積層方式のいずれでもよい。
【０１１０】
＜画像表示装置＞
本発明の画像表示装置は、本発明のハードコートフィルムを有する前面板と、画像表示素子とを有する画像表示装置である。
画像表示装置としては、液晶表示装置（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ；ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、陰極管表示装置およびタッチパネルのような画像表示装置に用いることができる。
液晶表示装置としては、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ−Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＴＳＴＮ（Ｔｒｉｐｌｅ  Ｓｕｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）型、マルチドメイン型、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、ＩＰＳ（Ｉｎ  Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）型、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  ＣｏｍｐｅｎｓａｔｅｄＢｅｎｄ）型等が挙げられる。
画像表示装置は、脆性が改良されハンドリング性に優れ、表面平滑性やシワによる表示品位を損なう事が無く、湿熱試験時の光漏れを低減できることが好ましい。
すなわち、本発明の画像表示装置は、画像表示素子が液晶表示素子であることが好ましい。液晶表示素子を有する画像表示装置としては、ソニーエリクソン社製、エクスペリアＰなどを挙げることができる。
【０１１１】
本発明の画像表示装置は、画像表示素子が有機エレクトロルミネッセンス（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ；ＥＬ）表示素子であることも好ましい。
有機エレクトロルミネッセンス表示素子は、公知技術を、何ら制限なく適用することができる。有機エレクトロルミネッセンス表示素子を有する画像表示装置としては、ＳＡＭＳＵＮＧ社製、ＧＡＬＡＸＹ  ＳＩＩなどを挙げることができる。
【０１１２】
本発明の画像表示装置は、画像表示素子がインセル（Ｉｎ−Ｃｅｌｌ）タッチパネル表示素子であることも好ましい。インセルタッチパネル表示素子とは、タッチパネル機能を画像表示素子セル内に内蔵したものである。
インセルタッチパネル表示素子は、例えば、特開２０１１−７６６０２号公報、特開２０１１−２２２００９号公報等の公知技術を、何ら制限なく適用することができる。インセルタッチパネル表示素子を有する画像表示装置としては、ソニーエリクソン社製、エクスペリアＰなどを挙げることができる。
【０１１３】
また、本発明の画像表示装置は、画像表示素子がオンセル（Ｏｎ−Ｃｅｌｌ）タッチパネル表示素子であることも好ましい。オンセルタッチパネル表示素子とは、タッチパネル機能を画像表示素子セル外に配置したものである。
オンセルタッチパネル表示素子は、例えば、特開２０１２−８８６８３号公報等の公知技術を、何ら制限なく適用することができる。オンセルタッチパネル表示素子を有する画像表示装置としては、ＳＡＭＳＵＮＧ社製、ＧＡＬＡＸＹ  ＳＩＩなどを挙げることができる。
【０１１４】
＜＜タッチパネル＞＞
本発明のハードコートフィルムは、支持体の第１の硬化層および第２の硬化層が配置された側とは反対側の面にタッチセンサーフィルムを貼り合わせてタッチセンサを含むタッチパネルとして用いることができる。
タッチセンサーフィルムとしては特に制限はないが、導電層が形成された導電性フィルムであることが好ましい。
導電性フィルムは、任意の支持体の上に導電層が形成された導電性フィルムであることが好ましい。
【０１１５】
導電層の材料としては特に制限されるものではなく、例えば、インジュウム・スズ複合酸化物（Indium Tin Oxide；ＩＴＯ）、スズ酸化物およびスズ・チタン複合酸化物（Antimony Tin Oxide；ＡＴＯ）、銅、銀、アルミニウム、ニッケル、クロムやこれらの合金などがあげられる。
導電層は、電極パターンであることが好ましい。また、透明電極パターンであることも好ましい。電極パターンは透明導電材料層をパターニングしたものでもよく、不透明な導電材料の層をパターン形成したものでもよい。
【０１１６】
透明導電材料としてはＩＴＯやＡＴＯなどの酸化物、銀ナノワイヤ、カーボンナノチューブ、導電性高分子等を用いることができる。
【０１１７】
不透明な導電材料の層としては例えば金属層が挙げられる。金属層としては導電性を持った金属であれば使用可能であり、銀、銅、金、アルミニウム等が好適に用いられる。金属層は単体の金属や合金であってもよく、金属粒子が結着材により結着されたものでもよい。又、必要に応じて、金属表面に対し黒化処理や防錆処理が適用される。金属を用いる場合は、実質透明なセンサー部と周辺の配線部を一括形成することが可能である。
【０１１８】
導電層が、複数の金属細線を含むことが好ましい。
金属細線が銀または銀を含む合金からなることが好ましい。金属細線が銀または銀を含む合金からなる導電層としては特に制限は無く、公知の導電層を用いることができる。例えば、特開２０１４−１６８８８６号公報の段落００４０〜００４１に記載の導電層を用いることが好ましく、この公報の内容は本明細書に組み込まれる。
金属細線が銅または銅を含む合金からなることも好ましい。上記合金は、特に制限は無く、公知の導電層を用いることができる。例えば、特開２０１５−４９８５２号公報の段落００３８〜００５９に記載の導電層を用いることが好ましく、この公報の内容は本明細書に組み込まれる。
【０１１９】
導電層が酸化物からなることも好ましい。導電層が酸化物からなる場合、酸化物が酸化スズを含有する酸化インジウムまたはアンチモンを含有する酸化スズからなることがより好ましい。導電層が酸化物からなる導電層としては特に制限は無く、公知の導電層を用いることができる。例えば、特開２０１０−２７２９３号公報の段落００１７〜００３７に記載の導電層を用いることが好ましく、この公報の内容は本明細書に組み込まれる。
【０１２０】
これらの構成の導電層の中でも、導電層が、複数の金属細線を含み、金属細線がメッシュ状もしくはランダム状に配置されていることが好ましく、金属細線がメッシュ状に配置されていることがより好ましい。その中でも、金属細線がメッシュ状に配置されており、金属細線が銀または銀を含む合金からなることが特に好ましい。
タッチセンサーフィルムは、両面に導電層を有することも好ましい。
【０１２１】
タッチセンサーフィルムの好ましい態様については、特開２０１２−２０６３０７号公報の段落００１６〜００４２に記載があり、この公報の内容は本明細書に組み込まれる。
【０１２２】
＜＜抵抗膜式タッチパネル＞＞
本発明の抵抗膜式タッチパネルは、本発明の前面板を有する抵抗膜式タッチパネルである。
抵抗膜式タッチパネルは、導電性膜を有する上下１対の基板の導電性膜同士が対向するようにスペーサーを介して配置された基本構成からなるものである。なお抵抗膜式タッチパネルの構成は公知であり、本発明では公知技術を何ら制限なく適用することができる。
【０１２３】
＜＜静電容量式タッチパネル＞＞
本発明の静電容量式タッチパネルは、本発明の前面板を有する静電容量式タッチパネルである。
静電容量式タッチパネルの方式としては、表面型静電容量式、投影型静電容量式等が挙げられる。投影型の静電容量式タッチパネルは、Ｘ軸電極と、Ｘ電極と直交するＹ軸電極とを絶縁体を介して配置した基本構成からなる。具体的態様としては、Ｘ電極およびＹ電極が、１枚の基板上の別々の面に形成される態様、１枚の基板上にＸ電極、絶縁体層、Ｙ電極を上記順で形成する態様、１枚の基板上にＸ電極を形成し、別の基板上にＹ電極を形成する態様（この態様では、２枚の基板を貼り合わせた構成が上記基本構成となる）等が挙げられる。なお静電容量式タッチパネルの構成は公知であり、本発明では公知技術を何ら制限なく適用することができる。
【０１２４】
図２に、静電容量式タッチパネルの実施形態の構成の一例を示す。タッチパネル２は表示装置と組み合わせて使用される。表示装置は図２の表示装置側に配置されて使用される。図２において、視認側とは、タッチパネルの操作者が表示装置の画像を視認する側を示す。本発明のハードコートフィルム（図２中、符号３で表す）は、第１の硬化層（図示しない）側とは反対側の支持体（図示しない）表面上に、タッチパネル用導電フィルム１を透明な粘着剤４により接合して用いられる。タッチパネル用導電フィルム１は、可撓性の透明絶縁基板５の両面上にそれぞれ導電部材６Ａ（第１導電層８）および導電部材６Ｂ（第２導電層９）を有している。導電部材６Ａおよび導電部材６Ｂは、それぞれ後述するタッチパネルとしての電極、周辺配線、外部接続端子、コネクタ部とを少なくとも構成する。
また、図２に示すように、平坦化または、導電部材６Ａおよび６Ｂを保護する目的で、導電部材６Ａおよび導電部材６Ｂを覆うように透明な保護層７Ａおよび保護層７Ｂが配置されていてもよい。
ハードコートフィルム３には、後述する周辺領域Ｓ２を遮光する加飾層を形成してもよい。
透明絶縁基板５の材質としては、例えば、ガラス、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）、ＣＯＰ（シクロオレフィンポリマー）、ＣＯＣ（シクロオレフィンポリマー）、ＰＣ（ポリカーボネート）等が使用できる。また、透明絶縁基板５の厚さは２０〜２００μｍが好ましい。
粘着剤４としては、光学透明粘着シート（Optical Clear Adhesive）または光学透明粘着樹脂（Optical Clear Resin）が使用できる。粘着剤４の好ましい膜厚は１０〜１００μｍである。光学透明粘着シートとしては、例えば３Ｍ社製の８１４６シリーズが好ましく使用できる。粘着剤４の比誘電率の好ましい値は４．０〜６．０であり、より好ましくは５．０〜６．０である。
保護層７Ａおよび保護層７Ｂとしては、例えば、ゼラチン、アクリル樹脂、ウレタン樹脂等の有機膜、および、二酸化シリコン等の無機膜を使用できる。膜厚としては、１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下が好ましい。比誘電率は、２．５〜４．５が好ましい。
保護層７Ａおよび保護層７Ｂ中のハロゲン不純物の濃度は、５０ｐｐｍ以下であることが好ましく、ハロゲン不純物は含有しないことがより好ましい。この態様によれば、導電部材６Ａおよび導電部材６Ｂの腐食を抑制できる。
【０１２５】
図３に示されるように、タッチパネル用導電フィルム１には、透明なアクティブエリアＳ１が区画されると共に、アクティブエリアＳ１の外側に周辺領域Ｓ２が区画されている。
アクティブエリアＳ１内には、透明絶縁基板５の表面（第１面）上に形成された第１導電層８と透明絶縁基板５の裏面（第２面）上に形成された第２導電層９とが互いに重なるように配置されている。なお、第１導電層８および第２導電層９は、透明絶縁基板５を介して、互いに絶縁された状態で配置されている。
透明絶縁基板５の表面上の第１導電層８により、それぞれ第１の方向Ｄ１に沿って延び且つ第１の方向Ｄ１に直交する第２の方向Ｄ２に並列配置された複数の第１電極１１が形成され、透明絶縁基板５の裏面上の第２導電層９により、それぞれ第２の方向Ｄ２に沿って延び且つ第１の方向Ｄ１に並列配置された複数の第２電極２１が形成されている。
これら複数の第１電極１１および複数の第２電極２１は、タッチパネル２の検出電極を構成するものである。第１電極１１および第２電極２１の電極幅は１〜５ｍｍが好ましく、電極間ピッチは３〜６ｍｍであることが好ましい。
【０１２６】
一方、周辺領域Ｓ２における透明絶縁基板５の表面上に、複数の第１電極１１に接続された複数の第１周辺配線１２が形成され、透明絶縁基板５の縁部に複数の第１外部接続端子１３が配列形成されると共に、それぞれの第１電極１１の両端に第１コネクタ部１４が形成されている。第１コネクタ部１４に、対応する第１周辺配線１２の一端部が接続され、第１周辺配線１２の他端部は、対応する第１外部接続端子１３に接続されている。
同様に、周辺領域Ｓ２における透明絶縁基板５の裏面上に、複数の第２電極２１に接続された複数の第２周辺配線２２が形成され、透明絶縁基板５の縁部に複数の第２外部接続端子２３が配列形成されると共に、それぞれの第２電極２１の両端に第２コネクタ部２４が形成されている。第２コネクタ部２４に、対応する第２周辺配線２２の一端部が接続され、第２周辺配線２２の他端部は、対応する第２外部接続端子２３に接続されている。
タッチパネル用導電フィルム１は、透明絶縁基板５の表面上に第１電極１１、第１周辺配線１２、第１外部接続端子１３および第１コネクタ部１４を含む導電部材６Ａを有すると共に、透明絶縁基板５の裏面上に第２電極２１、第２周辺配線２２、第２外部接続端子２３および第２コネクタ部２４を含む導電部材６Ｂを有する。
【０１２７】
図３において、第１電極１１と第１周辺配線１２とは、第１コネクタ部１４を介して接続されているが、第１コネクタ部１４を設けずに第１電極１１と第１周辺配線１２とを直接接続する構成でもよい。また、同じく第２コネクタ部２４を設けずに第２電極２１と第２周辺配線２２とを直接接続する構成でもよい。
第１コネクタ部１４および第２コネクタ部２４を設けることで、電極と周辺配線との接続箇所での電気的導通を良くすることができる効果がある。特に、電極と周辺配線の材料が異なる場合は、第１コネクタ部１４および第２コネクタ部２４を設けることが好ましい。第１コネクタ部１４および第２コネクタ部２４の幅は、それぞれ接続される電極の幅の１/３以上、電極の幅以下であることが好ましい。第１コネクタ部１４および第２コネクタ部２４の形状はベタ膜形状でもよいし、国際公開ＷＯ２０１３／０８９０８５号公報に示されているような枠形状、またはメッシュ形状でもよい。
第１周辺配線１２および第２周辺配線２２の配線幅は１０μｍ以上２００μｍ以下であり、最小配線間隔（最小配線間距離）は２０μｍ以上１００μｍ以下であることが好ましい。
各周辺配線は、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等からなる保護絶縁膜で覆ってもよい。保護絶縁膜を設けることにより、周辺配線のマイグレーション、錆び等を防止できる。なお、周辺配線の腐食を引きこす可能性があるので、絶縁膜中にはハロゲン不純物を含有しないことが好ましい。保護絶縁膜の膜厚は１〜２０μｍが好ましい。
タッチパネル用導電フィルム１をタッチパネルとして使用する場合、第１外部接続端子１３と第２外部接続端子２３とは異方性導電フィルム（Anisotropic Conductive Film）を介してフレキブル配線基板（Flexible Printed Circuits）と電気的に接続される。フレキシブル配線基板は、駆動機能と位置検出機能とを有するタッチパネル制御基板に接続される。
第１外部接続端子１３と第２外部接続端子２３はフレキシブル配線基板との電気接続性を良くする目的で、第１周辺配線１２および第２周辺配線２２の配線幅より大きい端子幅で形成される。具体的には、第１外部接続端子１３と第２外部接続端子２３の端子幅は０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下が好ましく、端子長さは０．５ｍｍ以上２．０ｍｍ以下が好ましい。
【０１２８】
なお、透明絶縁基板５は、第１面、および、第１面と対向する第２面を有する基板に該当し、第１面（表面）上に第１導電層８が配置され、第２面（裏面）上に第２導電層９が配置される。なお、図２では、透明絶縁基板５と第１導電層８および第２導電層９とが直接接している形状で示しているが、透明絶縁基板５と第１導電層８および第２導電層９との間に、密着強化層、下塗層、ハードコート層、光学調整層等の機能層を一層以上形成することもできる。
【０１２９】
図４に、第１電極１１と第２電極２１との交差部を示す。透明絶縁基板５の表面上に配置された第１電極１１は、第１金属細線１５からなるメッシュパターンＭ１により形成されており、透明絶縁基板５の裏面上に配置された第２電極２１も、第２金属細線２５からなるメッシュパターンＭ２により形成されている。そして、第１電極１１と第２電極２１との交差部において、視認側から見たときに、第１金属細線１５と第２金属細線２５とが互いに交差するように配置されている。なお、図４では、第１金属細線１５と第２金属細線２５との区別を分かりやすくするために、第２金属細線２５を点線で示しているが、実際は第１金属細線１５と同様に接続された線で形成されている。
メッシュパターンの形状としては、図４のような同一のメッシュ（定形セル）が繰り返し配置されたパターンが好ましく、メッシュの形状はひし形が特に好ましいが、平行四辺形、正方形、長方形等の四角形でも良く、正六角形や他の多角形であっても良い。ひし形の場合、そのひし形の狭角角度は２０°以上７０°以下であることが表示装置の画素とのモアレ低減の観点から好ましい。メッシュの中心間距離（メッシュピッチ）は１００〜６００μｍであることが視認性の観点から好ましい。第１金属細線１５からなるメッシュパターンＭ１と第２金属細線２５からなるメッシュパターンＭ２が同一形状であることが好ましい。さらに、図４のように、第１金属細線１５からなるメッシュパターンＭ１と第２金属細線２５からなるメッシュパターンＭ２とを、メッシュピッチ半分相当の距離だけずらして配置し、視認側からはメッシュピッチが半分になるメッシュパターンを形成するように配置することが、視認性の観点から好ましい。別の形態としては、メッシュの形状はランダムなパターン、または特開２０１３−２１４５４５号公報に示されているようなひし形の定形セルのピッチに１０％程度のランダム性を付与するような、定形セル形状にある一定のランダム性を付与したセミランダム形状であっても良い。
また、互いに隣り合う第１電極１１の間、互いに隣り合う第２電極２１の間に、それぞれ第１金属細線１５、第２金属細線２５で形成された電極と絶縁されたダミーメッシュパターンを有していてもよい。ダミーメッシュパターンは、電極を形成するメッシュパターンと同一のメッシュ形状で形成することが好ましい。
【０１３０】
タッチパネル２と表示装置とを貼り合わせる方法は、透明な粘着剤を用いて直接貼り合わせる方式（ダイレクトボンディング方式）、または、両面テープを用いてタッチパネル２と表示装置との周辺のみを貼り合わせる方式（エアギャップ方式）があるが、どちらの方式でもよい。タッチパネル２と表示装置とを貼り合わせる際には、導電部材６Ｂ上または保護層７Ｂ上に別途保護フィルムを設けてもよい。保護フィルムは、例えばハードコート付きＰＥＴフィルム（厚み２０〜１５０μｍ）が使用され、光学透明粘着シート（Optical Clear Adhesive）を用いて、導電部材６Ｂ上または保護層７Ｂ上に貼り付けられる構成を採用できる。
ダイレクトボンディング方式に使用される透明な粘着剤は前述の透明な粘着剤４と同じく、光学透明粘着シート（Optical Clear Adhesive）または光学透明粘着樹脂（Optical Clear Resin）が使用でき、好ましい膜厚として１０μｍ以上１００μｍ以下である。光学透明粘着シートとしては、例えば同じく３Ｍ社製の８１４６シリーズが好ましく使用できる。ダイレクトボンディング方式に使用される透明な粘着剤の比誘電率は、前述の透明な粘着剤４の比誘電率より小さいものを使用することがタッチパネル２の検出感度を向上させる点で好ましい。ダイレクトボンディング方式に使用される透明な粘着剤の比誘電率の好ましい値は、２．０〜３．０である。
【０１３１】
また、本発明の効果がより優れる点で、第１金属細線１５の視認側の表面、および、第２金属細線２５の視認側の表面のそれぞれの可視光反射率は５％以下であることが好ましい。さらに、１％未満であることがより好ましい。可視光反射率は本範囲にすることにより、メッシュ見え低減やヘイズ低減を効果的にできる。
上記可視光反射率の測定方法としては、以下のようにして測定する。先ず、日本分光社製紫外可視分光光度計Ｖ６６０（１回反射測定ユニットＳＬＭ−７２１）を使用し、測定波長３５０ｎｍから８００ｎｍ、入射角５度で反射スペクトルを測定する。なお、アルミ蒸着平面鏡の正反射光をベースラインとする。得られた反射スペクトルからＸＹＺ表色系Ｄ６５光源２度視野のＹ値（等色関数ＪＩＳ Ｚ９７０１−１９９９）を、日本分光社製色彩計算プログラムを用いて計算し、可視光反射率とする。
【０１３２】
第１金属細線１５および第２金属細線２５を構成する材料としては、銀、アルミニウム、銅、金、モリブデン、クロム等の金属およびそれらの合金を用いることができ、これらを単層または積層体として用いることができる。金属細線のメッシュ見えおよびモアレの低減の観点から、第１金属細線１５および第２金属細線２５の線幅は０．５μｍ以上５μｍ以下であることが好ましい。第１金属細線１５および第２金属細線２５は、直線、折線、曲線、または、波線形状でもよい。また、第１金属細線１５および第２金属細線２５の膜厚は、抵抗値の観点から０．１μｍ以上であり、斜め方向からの視認性の観点から３μｍ以下であることが好ましい。より好ましい膜厚としては、金属細線の線幅に対して１／２以下であることが、斜め方向からの視認性の観点およびパターニング加工性の観点からより好ましい。さらに、第１金属細線１５および第２金属細線２５の可視光反射率低減の為、第１金属細線１５および第２金属細線２５の視認側に黒化層を設けてもよい。
第１金属細線１５を構成する材料で、第１電極１１、第１周辺配線１２、第１外部接続端子１３および第１コネクタ部１４を含む導電部材６Ａを形成することができる。よって、第１電極１１、第１周辺配線１２、第１外部接続端子１３および第１コネクタ部１４を含む導電部材６Ａはすべて同じ金属で同じ厚みで形成され、同時形成することができる。
第２電極２１、第２周辺配線２２、第２外部接続端子２３および第２コネクタ部２４を含む導電部材６Ｂに関しても同様である。
【０１３３】
第１電極１１と第２電極２１のシート抵抗は０．１Ω／□以上２００Ω／□以下であることが好ましく、特に投影型静電容量式タッチパネルに使用する場合は１０Ω／□以上１００Ω／□以下であることが好ましい。
【０１３４】
なお、図５に示されるように、アクティブエリアＳ１内における透明絶縁基板５の表面上に配置されている第１導電層８は、複数の第１電極１１の間にそれぞれ配置された複数の第１ダミー電極１１Ａを有していてもよい。これらの第１ダミー電極１１Ａは、複数の第１電極１１から絶縁されており、第１電極１１と同様に、多数の第１セルＣ１で構成された第１メッシュパターンＭ１を有している。
なお、第１電極１１と隣接する第１ダミー電極１１Ａとは、連続的な第１メッシュパターンＭ１に沿って配置された金属細線に幅５μｍ以上３０μｍ以下の断線を設けることにより、電気的に絶縁している。図５は、第１電極１１と隣接する第１ダミー電極１１Ａとの境界線のみに断線を形成した形状であるが、第１ダミー電極１１Ａ内の第１セルＣ１の辺の全てに、または部分的に断線を形成してもよい。
また、図示しないが、アクティブエリアＳ１内における透明絶縁基板５の裏面上に配置されている第２導電層９は、複数の第２電極２１の間にそれぞれ配置された複数の第２ダミー電極を有していてもよい。これらの第２ダミー電極は、複数の第２電極２１から絶縁されており、第２電極２１と同様に、多数の第２セルＣ２で構成された第２メッシュパターンＭ２を有している。
なお、第２電極２１と隣接する第２ダミー電極とは、連続的な第２メッシュパターンＭ２に沿って配置された金属細線に幅５μｍ以上３０μｍ以下の断線を設けることにより、電気的に絶縁している。第２電極２１と隣接する第１ダミー電極との境界線のみに断線を形成した形状でもよいが、第２ダミー電極内の第２セルＣ２の辺の全てに、または部分的に断線を形成してもよい。
【０１３５】
上述したように、タッチパネル用導電フィルム１は、透明絶縁基板５の表面上に第１電極１１、第１周辺配線１２、第１外部接続端子１３および第１コネクタ部１４を含む導電部材６Ａを形成すると共に、透明絶縁基板５の裏面上に第２電極２１、第２周辺配線２２、第２外部接続端子２３および第２コネクタ部２４を含む導電部材６Ｂを形成することにより製造される。
このとき、第１電極１１は、第１メッシュパターンＭ１に沿って第１金属細線１５が配置された第１導電層８からなり、第２電極２１は、第２メッシュパターンＭ２に沿って第２金属細線２５が配置された第２導電層９からなり、第１導電層８と第２導電層９とが透明絶縁基板５を挟んで図３のようにアクティブエリアＳ１内で互いに重なるように配置されるものとする。
これら導電部材６Ａおよび導電部材６Ｂの形成方法は、特に限定されるものではない。例えば、特開２０１２−１８５８１３号公報の［００６７］〜［００８３］、特開２０１４−２０９３３２号公報の［０１１５］〜［０１２６］、または、特開２０１５−５４９５号公報の［０２１６］〜［０２１５］に記載されているように感光性ハロゲン化銀塩を含有する乳剤層を有する感光材料を露光し、現像処理を施すことによって、導電部材６Ａおよび６Ｂを形成することができる。
【０１３６】
また、透明絶縁基板５の表面および裏面に、それぞれ金属薄膜を形成し、各金属薄膜にレジストをパターン状に印刷するか、または、全面塗布したレジストを露光し、現像することでパターン化して、開口部の金属をエッチングすることにより、これらの導電部材を形成することもできる。さらに、これ以外にも、導電部材を構成する材料の微粒子を含むペーストを透明絶縁基板５の表面および裏面に印刷してペーストに金属めっきを施す方法、導電部材を構成する材料の微粒子を含むインクを用いたインクジェット法を用いる方法、導電部材を構成する材料の微粒子を含むインクをスクリーン印刷で形成する方法、透明絶縁基板５に溝を形成し、その溝に導電インクを塗布する方法、マイクロコンタクト印刷パターニング法等を用いることができる。
【０１３７】
なお、上記では、透明絶縁基板５の表面上に第１電極１１、第１周辺配線１２、第１外部接続端子１３および第１コネクタ部１４を含む導電部材６Ａを配置すると共に、透明絶縁基板５の裏面上に第２電極２１、第２周辺配線２２、第２外部接続端子２３および第２コネクタ部２４を含む導電部材６Ｂを配置しているが、これに限るものではない。
例えば、透明絶縁基板５の一方の面側に、導電部材６Ａと導電部材６Ｂが層間絶縁膜を介して配置される構成とすることもできる。
さらに、２枚基板の構成とすることもできる。すなわち、第１透明絶縁基板の表面上に導電部材６Ａを配置し、第２透明絶縁基板の表面上に導電部材６Ｂを配置し、これら第１透明絶縁基板および第２透明絶縁基板を、光学透明粘着シート（Optical Clear Adhesive）を用いて貼り合わせて使用することもできる。
さらに、透明絶縁基板５を用いずに、図２に示したハードコートフィルム３の表面上に導電部材６Ａと導電部材６Ｂが層間絶縁膜を介して配置される構成としてもよい。
【０１３８】
静電容量式タッチパネルの電極パターンの形状としては、図３に示す、所謂バーアンドストライプの電極パターン形状以外にも、例えば国際公開ＷＯ２０１０／０１２１７９号公報の図１６に開示されているダイヤモンドパターン、国際公開ＷＯ２０１３／０９４７２８号公報の図７または図２０に開示されている電極パターン形状にも適用できることはもちろんのこと、他の形状の静電容量式タッチパネルの電極パターンにも適用できる。
また、ＵＳ２０１２／０２６２４１４号公報等に開示されている交差部がない電極構成のように検出電極が基板の片側にしかない構成のタッチパネルにも適用できる。
さらに、タッチパネルは他の機能フィルムとの組合せとの使用も可能である、特開２０１４−１３２６４号公報に開示されている高レタレーション値を有する基板を用いたニジムラを防止する画像品位向上用機能フィルム、特開２０１４−１４２４６２号公報に開示されているタッチパネルの電極の視認性改善の為の円偏光板との組合せ等も可能である。
【０１３９】
＜偏光板＞
本発明のハードコートフィルムは、支持体の第１の硬化層および第２の硬化層が配置された側とは反対側の面に偏光子を有する偏光板として用いることができる。
より具体的には、偏光子とその両側に配置された保護フィルムとからなる偏光板の、その保護フィルムの一方又は両方として、本発明のハードコートフィルムを用いることができる。本発明のハードコートフィルムを用いることにより、脆性が改良されハンドリング性に優れ、表面平滑性やシワによる表示品位を損なう事が無く、湿熱試験時の光漏れを低減する事ができる偏光板を提供可能になる。
【０１４０】
一方の保護フィルムとして本発明のハードコートフィルムを用い、他方の保護フィルムには、通常のセルロースアセテートフィルムを用いてもよい。この場合、その他方の保護フィルムには、溶液製膜法で製造され、かつ１０〜１００％の延伸倍率でロールフィルム形態における幅方向に延伸したセルロースアセテートフィルムを用いることが好ましい。
【０１４１】
また、偏光子の２枚の保護フィルムのうち、本発明のハードコートフィルム以外のフィルムが、光学異方性層を含んでなる光学補償層を有する光学補償フィルムであることも好ましい態様である。光学補償フィルム（位相差フィルム）は、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができる
が、視野角を広げるという点では、特開２００１−１０００４２号公報に記載されている光学補償フィルムが好ましい。
【０１４２】
偏光子には、ヨウ素系偏光子、２色性染料を用いる染料系偏光子やポリエン系偏光子がある。ヨウ素系偏光子および染料系偏光子は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。
また偏光子としては、公知の偏光子や、偏光子の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光子から切り出された偏光子を用いてもよい。偏光子の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光子は以下の方法により作製される。
すなわち、連続的に供給されるポリビニルアルコール系フィルムなどのポリマーフィルムの両端を保持手段により保持しつつ張力を付与して延伸して、少なくともフィルム幅方向に１．１〜２０．０倍に延伸する。その後、フィルム両端の保持装置の長手方向進行速度差が３％以内で、フィルム両端を保持する工程の出口におけるフィルム搬送方向とフィルムの実質延伸方向とのなす角が２０〜７０°傾斜するように、フィルム搬送方向を、フィルム両端を保持させた状態で屈曲させてなる延伸方法によって製造することができる。特にフィルム両端を保持する工程の出口におけるフィルム搬送方向とフィルムの実質延伸方向とのなす角を４５°傾斜させてなる延伸方法が、生産性の観点から好ましく用いられる。
【０１４３】
ポリマーフィルムの延伸方法については、特開２００２−８６５５４号公報の段落００２０〜００３０に詳しい記載がある。
【０１４４】
＜位相差板＞
本発明のハードコートフィルムは、例えば特許第５７０３１８７号に公報に記載されているように、ハードコートフィルムと、上記支持体の一方の上に液晶性化合物を含む組成物をから形成された光学異方性層を有する位相差板として用いられてもよい。光学異方性層が積層される支持体の面には特に制限はないが、硬化層が積層された側とは逆側に積層されることが好ましい。支持体と液晶性化合物を含有する光学異方性層の間には液晶化合物の配向を制御するための配向膜が設けられていてもよい。光学異方性層が積層されたハードコートフィルムの光学特性は、特に規定されるものではないが、５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅが５〜３００ｎｍが好ましく、１０〜２５０ｎｍがより好ましく、８０〜２００ｎｍがさらに好ましい。また、以下に定義されるＮｚ値が０〜２．０であることが好ましく、０．１〜１．６であることが更に好ましく、０．１〜０．９であることが特に好ましい（ここでＮｚ値＝０．５＋Ｒｔｈ／Ｒｅで表され、Ｒｔｈは厚み方向のレターデーションである。これら光学特性の測定方法は後述する）。特に１／４波長位相差板を想定した時には、Ｒｅが８０〜２００ｎｍでＮｚ値が０．１〜０．９が好ましく、Ｒｅが１００〜１５０ｎｍでＮｚ値が０．１〜０．９であるのがさらに好ましい。
【０１４５】
＜１／４波長位相差板＞
本発明のハードコートフィルムは、１／４波長位相差板に用いても良い。１／４波長位相差板は、偏光子から出射された直線偏光を円偏光に変換することができるため、例えば視認者が偏光サングラスを着用している場合の視認性を良好にすることができる。１／４波長位相差板は、公知の方法で作製しても、１／４波長位相差機能を有する市販の樹脂フィルムをそのまま用いても、もしくは市販の樹脂フィルムに延伸処理等を施して１／４波長位相差機能を持たせたものを用いても良い。ハードコートフィルムの支持体表面と、光学異方性層が積層されたフィルムを、粘着材で貼り合せ、フィルム部分だけ剥離することでハードコートフィルム上へ光学異方性層を付与してもよい。また、１／４波長位相差板は、例えば、特許第４８６６６３８号公報に記載されているように、任意の支持体上に液晶性化合物を含む硬化性組成物を塗布して作製してもよい。１／４波長位相差板は、ハードコートフィルムの支持体表面のうち、第１の硬化層および第２の硬化層が形成されていない側の表面に設けても、第２の硬化層の表面に設けてもよい。
【実施例】
【０１４６】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されない。混合比については、特記しない限り質量比を意味する。また、以下に記載の工程は、特記しない限り、室温下で行った。ここで室温とは、２５℃の範囲の温度である。
【０１４７】
＜重量平均分子量・数平均分子量の測定＞
オリゴマーおよびポリマーのように繰り返し単位を有する多量体の重量平均分子量・数平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー（Gel Permeation Chromatography；ＧＰＣ）によりポリスチレン換算で測定した。具体的な測定条件としては、以下の測定条件を挙げることができる。
ＧＰＣ装置：ＨＬＣ−８１２０（東ソー製）
カラム：ＴＳＫ  ｇｅｌ  Ｍｕｌｔｉｐｏｒｅ  ＨＸＬ−Ｍ（東ソー製、７．８ｍｍ（内径）×３０．０ｃｍ）
溶離液：テトラヒドロフラン
【０１４８】
実施例１〜３２および比較例１〜３
１．支持体（膜厚８０μｍ、ＴＡＣ）の作製
外層／コア層／外層の３層のセルロースアシレートの積層フィルムを、以下の方法により作製した。
【０１４９】
（１）コア層セルロースアシレートドープの調製
下記の組成物をミキシングタンクに投入して撹拌し、コア層セルロースアシレートドープを調製した。
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
コア層セルロースアシレートドープ
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
・アセチル置換度２．８８、重量平均分子量２６００００のセルロースアセテート
１００質量部
・下記構造のフタル酸エステルオリゴマーＡ
１０質量部
・下記式Ｉで表される化合物（Ａ−１）
４質量部
・下記式ＩＩで表される紫外線吸収剤（ＢＡＳＦ社製）      ２．７質量部
・光安定剤（ＢＡＳＦ社製、ＴＩＮＵＶＩＮ１２３）      ０．１８質量部
・Ｎ−アルケニルプロピレンジアミン３酢酸（ナガセケムテックス製、テークランＤＯ）
０．０２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）                        ４３０質量部
・メタノール（第２溶媒）                                  ６４質量部
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
【０１５０】
使用した化合物を以下に示す。
フタル酸エステルオリゴマーＡ（重量平均分子量：７５０）
【化１２】
0006486308.tif 000013
【０１５１】
下記式Ｉで表される化合物（Ａ−１）
式Ｉ：
【０１５２】
【化１３】
0006486308.tif 000014
【０１５３】
式ＩＩで表される紫外線吸収剤式ＩＩ：
【０１５４】
【化１４】
0006486308.tif 000015
【０１５５】
（２）外層セルロースアシレートドープの調製
上記のコア層セルロースアシレートドープ９０質量部に下記の無機粒子含有組成物を１０質量部加え、外層セルロースアシレートドープ溶液を調製した。
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
無機粒子含有組成物
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
平均一次粒径２０ｎｍのシリカ粒子                          ２質量部
（日本アエロジル製ＡＥＲＯＳＩＬ  Ｒ９７２）
メチレンクロライド（第１溶媒）                          ７６質量部
メタノール（第２溶媒）                                  １１質量部
コア層セルロースアシレートドープ                          １質量部
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
【０１５６】
（３）支持体（ＴＡＣ）の作製
外層セルロースアシレートドープがコア層セルロースアシレートドープの両側に配されるように、外層セルロースアシレートドープ、コア層セルロースアシレートドープ、および外層セルロースアシレートドープの３種を、流延口から表面温度２０℃のドラム上に同時に流延した。得られた流延膜の残留溶媒量を約２０質量％にした後、ドラムから剥ぎ取った。次いで、得られたフィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、溶媒残留量が３〜１５質量％のフィルムを、横方向に１．１８倍延伸しつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、更に乾燥し、厚さが８０μｍ（外層／コア層／外層＝３μｍ／７４μｍ／３μｍ）である樹脂フィルムを作製した。得られた樹脂フィルムを、ＴＡＣ支持体とし、下記表３にＴＡＣと記載した。
【０１５７】
２．支持体（膜厚１２０μｍ、１５０μｍ、３００μｍ）の作製
上記と同様の方法で、但し、それぞれ厚さが１２０μｍ（外層／コア層／外層＝３μｍ／１１４μｍ／３μｍ）、１５０μｍ（外層／コア層／外層＝３μｍ／１４４μｍ／３μｍ）、３００μｍ（外層／コア層／外層＝３μｍ／２９４μｍ／３μｍ）となるように調整し、ＴＡＣ支持体を作製した。
【０１５８】
３．支持体（ＰＭＭＡ／ＰＣ／ＰＭＭＡ）の作製
住友化学製のアクリル系樹脂（商品名スミペックスＥＸ）のペレットを押出径６５ｍｍの１軸押出機に、住化スタイロンポリカーボネート製のポリカーボネート系樹脂（商品名カリバー３０１−１０）を押出径４５ｍｍの１軸押出機に、それぞれ投入して溶融し、マルチマニホールド方式にて溶融積層一体化させ、乾燥後の各層の膜厚が３５μｍ／２３０μｍ／３５μｍとなるよう制御して、設定温度２６０℃のＴ型ダイスを介して押出した。得られるフィルム状物を１対の金属製ロールの間に挟み込んで成形することにより、厚さが３００μｍである、アクリル系樹脂フィルム／ポリカーボネート系樹脂フィルム／アクリル系樹脂フィルムの３層構成からなる樹脂フィルム（ＰＭＭＡ／ＰＣ／ＰＭＭＡ）を作製した。
【０１５９】
４．支持体（ＰＥＴ）の作製
（１）易接着層形成用の組成物の調製
（１−１）ポリエステル系樹脂の調製
下記組成の重合性化合物を共重合したポリエステル系樹脂のスルホン酸系水分散体を得た。
（酸成分）テレフタル酸／イソフタル酸／５−ソジウムスルホイソフタル酸／／（ジオール成分）エチレングリコール／ジエチレングリコール＝４４／４６／１０／／８４／１６（モル比）
【０１６０】
（１−２）架橋剤（イソシアネート系化合物Ａ）の調製
撹拌器、温度計、還流冷却管、窒素吹き込み管を取り付けた４ツ口フラスコ（反応器）内を窒素雰囲気にし、ここに、ＨＤＩ（ヘキサメチレンジイソシアネート）１０００質量部、３価アルコールであるトリメチロールプロパン（分子量１３４）２２質量部を仕込み、反応器内の反応液温度を９０℃に保持しながら１時間撹拌し、ウレタン化を行った。その後、反応液温度を６０℃に保持し、イソシアヌレート化触媒トリメチルベンジルアンモニウム・ハイドロオキサイドを加え、イソシアヌレートの転化率が４８％になった時点でリン酸を添加し反応を停止した。次いで、反応液を濾過した後、未反応のＨＤＩを薄膜蒸留装置により除去した。
得られたイソシアネート系化合物ａの２５℃における粘度は２５，０００ｍＰａ・ｓ、イソシアネート基含有量は１９．９質量％、数平均分子量は１０８０、イソシアネート基平均数は５．１であった。ＮＭＲ（Nuclear Magnetic Resonance）測定により、ウレタン結合、アロファネート結合、イソシアヌレート結合の存在を確認した。
撹拌器、温度計、還流冷却管、窒素吹き込み管、滴下ロートを取り付けた４ツ口フラスコ（反応器）内を窒素雰囲気にし、ここに、上記で得られたイソシアネート系化合物ａ  １００質量部、数平均分子量４００のメトキシポリエチレングリコール４２．３質量部、
ジプロピレングリコールジメチルエーテル７６．６質量部を仕込み、反応液温度８０℃で６時間保持した。その後、反応液温度を６０℃に冷却し、マロン酸ジエチル７２質量部、ナトリウムメチラートの２８質量％メタノール溶液０．８８質量部を添加し、４時間保持した後、２−エチルヘキシルアシッドホスフェート０．８６質量部を添加した。次いで、ジイソプロピルアミン４３．３質量部を添加し、反応液温度７０℃で５時間保持した。この反応液をガスクロマトグラフで分析し、ジイソプロピルアミンの反応率が７０％であることを確認し、イソシアネート系化合物Ａを得た（固形分濃度７０質量％、有効ＮＣＯ基質量５．３質量％）。
【０１６１】
（１−３）易接着層形成用の組成物の調製
ケン化度７７％、重合度６００のカルボン酸変性ポリビニルアルコール樹脂（クラレ社製）５７．６質量部、上記で作製したポリエステル系樹脂２８．８質量部（固形分）、上記で作製したイソシアネート系化合物Ａ  ４．０質量部、有機スズ系化合物（第１工業製薬製エラストロンＣａｔ・２１）０．７質量部、平均一次粒径８０ｎｍのシリカゾル８．１質量部を混合し、固形分が８．９質量部になるよう水で希釈し、易接着層形成用の組成物を調製した。
【０１６２】
（２）ＰＥＴフィルムの作製
（２−１）原料ポリエステル１の調製
以下に示すように、テレフタル酸およびエチレングリコールを直接反応させて水を留去し、エステル化した後、減圧下で重縮合を行う直接エステル化法を用いて、連続重合装置により原料ポリエステル１（Ｓｂ触媒系ＰＥＴ）を得た。
（２−１−１）エステル化反応
高純度テレフタル酸４．７トンとエチレングリコール１．８トンを９０分かけて混合してスラリー形成させ、３８００ｋｇ／ｈの流量で連続的に第１エステル化反応槽に供給した。更に３酸化アンチモンのエチレングリコール溶液を連続的に供給し、撹拌下、反応槽内温度２５０℃、平均滞留時間約４．３時間で反応を行なった。このとき、３酸化アンチモンはＳｂ添加量が元素換算値で１５０質量ｐｐｍ（mass parts per million）となるように連続的に添加した。
この反応物を第２エステル化反応槽に移送し、撹拌下、反応槽内温度２５０℃で、平均滞留時間で１．２時間反応させた。第２エステル化反応槽には、酢酸マグネシウムのエチレングリコール溶液と、リン酸トリメチルのエチレングリコール溶液を、Ｍｇ添加量およびＰ添加量が元素換算値でそれぞれ６５質量ｐｐｍ、３５質量ｐｐｍになるように連続的に供給した。
（２−１−２）重縮合反応
上記で得られたエステル化反応生成物を連続的に第１重縮合反応槽に供給し、撹拌下、反応温度２７０℃、反応槽内圧力２０ｔｏｒｒ（２．６７×１０-4ＭＰａ、１Ｔｏｒｒは約１３３．３２２４Ｐａ）で、平均滞留時間約１．８時間で重縮合させた。
更に、第２重縮合反応槽に移送し、撹拌下、反応槽内温度２７６℃、反応槽内圧力５ｔｏｒｒ（６．６７×１０-4ＭＰａ）で滞留時間約１．２時間の条件で反応（重縮合）させた。
次いで、更に第３重縮合反応槽に移送し、反応槽内温度２７８℃、反応槽内圧力１．５ｔｏｒｒ（２．０×１０-4ＭＰａ）で、滞留時間１．５時間の条件で反応（重縮合）させ、反応物（ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ））を得た。
（２−１−３）原料ポリエステル１の調製
次に、得られた反応物を、冷水にストランド状に吐出し、直ちにカッティングしてポリエステルのペレット＜断面：長径約４ｍｍ、短径約２ｍｍ、長さ：約３ｍｍ＞を作製した。得られたポリマーは、ＩＶ（Intrinsic Viscosity；固有粘度）＝０．６３ｄＬ／ｇであった。このポリマーを原料ポリエステル１とした。
【０１６３】
（２−２）原料ポリエステル２の調製
乾燥させた紫外線吸収剤（２，２’−（１，４−フェニレン）ビス（４Ｈ−３，１−ベンズオキサジン−４−オン））１０質量部、原料ポリエステル１（ＩＶ＝０．６３ｄＬ／ｇ）９０質量部を混合し、混練押出機を用い、原料ポリエステル１の作製と同様にしてペレット化して、紫外線吸収剤を含有する原料ポリエステル２を得た。
【０１６４】
（２−３）ＰＥＴフィルムの作製
３層構成（第Ｉ層／第ＩＩ層／第ＩＩＩ層）のポリエステル系樹脂フィルム（積層フィルム）を、以下の方法で作製した。
以下に示す第ＩＩ層用組成物を、含水率が２０質量ｐｐｍ以下となるまで乾燥させた後、直径５０ｍｍの１軸混練押出機のホッパーに投入し、押出機で３００℃に溶融することにより、第Ｉ層と第ＩＩＩ層との間に位置する第ＩＩ層を形成するための樹脂溶融物を調製した。
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
第ＩＩ層用組成物
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
原料ポリエステル１                                          ９０質量部
紫外線吸収剤（２，２’−（１，４−フェニレン）ビス（４Ｈ−３，１−ベンズオキサジン−４−オン））１０質量部を含有した原料ポリエステル２      １０質量部
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
原料ポリエステル１を、含水率が２０質量ｐｐｍ以下となるまで乾燥させた後、直径３０ｍｍの１軸混練押出機のホッパーに投入し、押出機で３００℃に溶融することにより、第Ｉ層および第ＩＩＩ層を形成するための樹脂溶融物を調製した。
これらの２種の樹脂溶融物を、それぞれギアポンプ、濾過器（孔径２０μｍ）に通した後、２種３層合流ブロックにて、第ＩＩ層用押出機から押出された樹脂溶融物が内部の層に、第Ｉ層用および第ＩＩＩ層用押出機から押出された樹脂溶融物が外層になるように積層し、幅１２０ｍｍのダイよりシート状に押し出した。
ダイから押出した溶融樹脂シートを、表面温度２５℃に設定された冷却キャストドラム上に押出し、静電印加法を用い冷却キャストドラムに密着させた。冷却キャストドラムに対向配置された剥ぎ取りロールを用いて、冷却後のフィルムをドラムから剥離し、未延伸フィルムを得た。このとき、第Ｉ層、第ＩＩ層、第ＩＩＩ層の厚みの比は１０：８０：１０となるように各押出機の吐出量を調整した。
未延伸フィルムを、加熱されたロール群および赤外線ヒーターを用いて、フィルム表面温度が９５℃になるように加熱し、その後周速差のあるロール群でフィルムの搬送方向から垂直方向に４．０倍延伸して、厚さが３００μｍである樹脂フィルム（積層フィルム）を得た。
【０１６５】
（３）易接着層付き樹脂フィルムの作製
上記で作製した樹脂フィルムの片面に、５００Ｊ／ｍ2の処理量でコロナ放電処理を実施した。その後、リバースロール法にて、コロナ放電処理面に上記で作製した易接着層形成用の組成物を乾燥後の厚さが０．１μｍになるように調整しながら塗布し、易接着層付き樹脂フィルムを作製した。得られた易接着層付き樹脂フィルムをＰＥＴ支持体とし、下記表３にＰＥＴと記載した。
【０１６６】
５．ハードコートフィルムの作製
下記表１または表２に示す、第１の硬化層形成用硬化性組成物Ａ−１〜Ａ−１２および第２の硬化層形成用硬化性組成物Ｂ−１〜Ｂ−９のいずれかを使用し、以下に示す方法で第１の硬化層および第２の硬化層を形成し、実施例１〜３２および比較例１〜３のハードコートフィルムを作製した。
ハードコートフィルムの作製における各工程の詳細と、使用した化合物の説明を以下に示す。
【０１６７】
（５−１）硬化層形成用組成物を含むキットの作製
下記表１に示す組成で各成分を添加し、孔径１０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して第１の硬化層形成用硬化性組成物Ａ−１〜Ａ−１２を調製した。下記表２に示す組成で各成分を添加し、孔径１０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して第２の硬化層形成用硬化性組成物Ｂ−１〜Ｂ−９を調製した。
下記表３に示した組み合わせで、第１の硬化層形成用硬化性組成物Ａ−１〜Ａ−１２の１種と、第２の硬化層形成用硬化性組成物Ｂ−１〜Ｂ−９の１種を組み合わせて、キットとした。
【０１６８】
【表１】
0006486308.tif 000016
【０１６９】
【表２】
0006486308.tif 000017
【０１７０】
上記表１および表２における％は、質量％を意味している。上記表において、溶媒以外の成分（固形分）については、固形分の合計量が１００質量％となるように示している。また、溶媒は、溶媒の合計量が１００質量％となるように示している。さらに、上記表１および２における「固形分」は、組成物の固形分の濃度を示している。
第１の硬化層形成用硬化性組成物および第２の硬化層形成用硬化性組成物に使用した化合物と、表１〜３に記載した各化合物の略称を以下に示す。
【０１７１】
＜重合性化合物＞
ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（ラジカル重合性基の数は５つ、カチオン重合性基はなし）とジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ラジカル重合性基の数は６つ）の混合物（日本化薬製）
ＡＴＭＭＴ：ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ラジカル重合性基の数は４つ、カチオン重合性は有さず）（新中村化学工業製）
ＰＥＴＡ：ペンタエリスリトールトリアクリレート（ラジカル重合性基の数は３つ、カチオン重合性基は有さず）（新中村化学工業製）、
２Ｇ：ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート（ラジカル重合性基の数は２つ、カチオン重合性基は有さず）（新中村化学工業製、ＮＫエステル２Ｇ）
ＩＡＡ：イソアミルアクリレート（ラジカル重合性基の数は１つ、カチオン重合性基は有さず）（共栄社化学社製、ライトアクリレートＩＡＡ）
【０１７２】
サイクロマー：３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート（ダイセル製、サイクロマーＭ１００）（ラジカル重合性基の数は１つ、カチオン重合性基の数は１つ）
ライトエステルＧ：グリシジルメタクリレート（ラジカル重合性基の数は１つ、カチオン重合性基の数は１つ）（共栄社化学社製）
４ＨＢＡＧＥ：４−ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル（ラジカル重合性基の数は１つ、カチオン重合性基の数は１つ）（日本化成製）
【０１７３】
ＣＥＬ２０２１Ｐ：３’，４’−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート（ラジカル重合性基は有さず、カチオン重合性基の数は１つ）（ダイセル製、セロキサイド２０２１Ｐ）
【０１７４】
＜無機粒子＞
ＭＥＫ−ＡＣ−２１４０Ｚ：（オルガノシリカゾル、粒子径１０〜１５ｎｍ）、（日産化学工業製）
【０１７５】
＜重合開始剤＞
ラジカル光重合開始剤Ｉｒｇ１８４（ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、α−ヒドロキシアルキルフェノン系のラジカル光重合開始剤、ＢＡＳＦ製）
カチオン光重合開始剤ＰＡＧ−１（以下に示すヨードニウム塩化合物であるカチオン光重合開始剤）
【化１５】
0006486308.tif 000018
【０１７６】
＜含フッ素化合物＞
ＲＳ−９０：防汚剤、ＤＩＣ製、ラジカル重合性基を有する含フッ素オリゴマー
Ｆ−５５５：防汚剤、ＤＩＣ製、ラジカル重合性基を有さない含フッ素オリゴマー
Ｐ−１１２：レベリング剤、特許５１７５８３１号［００５３］段落に記載の化合物Ｐ−１１２
【０１７７】
＜溶媒＞
メチルエチルケトンメチルイソブチルケトン酢酸メチル
【０１７８】
（５−２）第１の硬化層の形成
下記表３に示した支持体の一方の表面上に、第１の硬化層形成用硬化性組成物を塗布し、硬化させて第１の硬化層を形成した。易接着層を有する支持体には、支持体の易接着層表面に第１の硬化層形成用硬化性組成物を塗布した。
塗布および硬化の方法は、具体的には、次の通りとした。特開２００６−１２２８８９号公報の実施例１記載のスロットダイを用いたダイコート法で、搬送速度３０ｍ／分の条件で第１の硬化層形成用硬化性組成物を塗布し、雰囲気温度６０℃で１５０秒間乾燥した。その後、更に窒素パージ下、酸素濃度約０．１体積％で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス製）を用いて、照度２０ｍＷ／ｃｍ2、照射量３０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して、第１の硬化層形成用硬化性組成物を硬化させて第１の硬化層を形成した後、巻き取りを行った。
【０１７９】
（５−３）第２の硬化層の形成
支持体上に第１の硬化層を形成した積層体を巻き出し上記第１の硬化層の表面に、第２の硬化層形成用硬化性組成物を塗布し、第１の硬化層の形成と同じ条件で、乾燥および硬化して第２の硬化層を形成し、ハードコートフィルムを作製した。
【０１８０】
実施例３３
＜位相差板の作製＞
特開２０１５−１８７７１７号公報の実施例４に記載の配向膜を使用した以外、特開２０１５−１８７７１７号公報の実施例１に準じて作製した、第１光学異方性層（Ｈ）が積層された位相差板の透明支持体の面と、実施例１４で作製したハードコートフィルムの支持体の面とを、粘着剤を用いて貼り合せ、同時に剥離性支持体を配向膜と第１光学異方性層（Ｈ）との間で剥離させ、第１光学異方性層（Ｈ）が積層されたハードコートフィルムを作製した。上記第１光学異方性層（Ｈ）が積層されたハードコートフィルムの、第１光学異方性層（Ｈ）が塗設された面と、特開２０１５−１８７７１７号公報の実施例４に準じて作製した第２光学異方性層（Ｑ）が積層された位相差板の光学異方性層の面とを粘着剤を用いて貼り合せ、同時に剥離性支持体を配向膜と第２光学異方性層（Ｈ）との間で剥離させた。このようにして、ハードコートフィルム、第１光学異方性層（Ｈ）、第２光学異方性層（Ｑ）が、この順で積層された１／４波長位相差板を作製した。なお、第１光学異方性層（Ｈ）の遅相軸と第２光学異方性層（Ｑ）の遅相軸がなす角度が、３０°となるように積層した。
【０１８１】
評価
作製した各実施例および比較例のハードコートフィルムを、下記評価方法によって評価した。評価結果を下記表３に示した。
【０１８２】
＜膜厚＞
各実施例および比較例のハードコートフィルムを、ミクロトームで切削して断面を切り出し、約３質量％の四酸化オスミウム水溶液で１晩染色したのち、再度表面を切り出して、断面をＳＥＭ（Scanning Electron Microscope、走査型電子顕微鏡）を用いて観察した。
【０１８３】
＜鉛筆硬度＞
ＪＩＳ（ＪＩＳは、Japanese Industrial Standards（日本工業規格）である）  Ｋ  ５４００に従い鉛筆硬度評価を行った。
各実施例および比較例のハードコートフィルムを、温度２５℃、相対湿度６０％で２時間調湿した後、第２の硬化層の表面の異なる５箇所について、ＪＩＳ  Ｓ  ６００６に規定するＨ〜９Ｈの試験用鉛筆を用いて４．９Ｎの荷重にて引っ掻いた。その後、目視で傷が認められる箇所が０〜２箇所であった鉛筆の硬度のうち、最も硬度の高い鉛筆硬度を評価結果とした。
鉛筆硬度は、「Ｈ」の前に記載される数値が高いほど、硬度が高く好ましい。
【０１８４】
＜耐擦性＞
ラビングテスターを用いて、温度２５℃、相対湿度６０％の環境下で、評価対象（ハードコートフィルム）と接触するテスターの擦り先端部（１ｃｍ×１ｃｍ）にスチールウール（日本スチールウール製、Ｎｏ．０）を巻いて動かないようバンド固定し、各実施例および比較例のハードコートフィルムの、第２の硬化層の表面を以下の条件で擦った。
移動距離（片道）：１３ｃｍ、こすり速度：１３ｃｍ／秒、荷重：１０００ｇ、先端部接触面積：１ｃｍ×１ｃｍ。
試験後の各実施例および比較例のハードコートフィルムの第２の硬化層とは逆側の面に油性黒インキを塗り、反射光で目視観察して、スチールウールと接触していた部分に傷が入ったときの擦り回数を計測し、以下の基準で評価した。
Ａ：１００００回擦っても傷が付かない。
Ｂ：１０００回擦っても傷が付かないが、１０００回を超え１００００回擦る間に傷が付く。
Ｃ：１００回擦っても傷が付かないが、１００回を超え１０００回擦る間に傷が付く。
Ｄ：１０回擦っても傷が付かないが、１０回を超え１００回擦る間に傷が付く。
Ｅ：１０回擦る間に傷が付き、実用上問題があった。
【０１８５】
＜打抜き性＞
各実施例および比較例のハードコートフィルムを、温度２５℃、相対湿度６０％で２時間調湿した。その後、打抜き刃が第２の硬化層側から入って支持体側へ出るように、型抜き機（アマダ社製手動プレス機トルクパックプレスＴＰシリーズ）を用いて、直径２ｍｍの穴の打抜きした。打抜き刃を入れる方向は、第２の硬化層の面に対して９０°の方向とした。打抜き後のハードコートフィルムの第１の硬化層側、および、第２の硬化層側の端部を光学顕微鏡で観察し、以下の基準で評価した。
Ａ：第２の硬化層側の端部に割れは認められない。
Ｂ：第２の硬化層側の端部に割れが認められるが、割れの長さが５０μｍ未満であり、
実用上問題なかった。
Ｃ：第２の硬化層側の端部に割れが認められるが、割れの長さが５０μｍ以上１００μｍ未満であり、実用上問題がなかった。
Ｄ：第２の硬化層側の端部に割れが認められ、割れの長さが１００μｍ以上、２００μｍ未満であり、実用上問題がなかった。
Ｅ：第２の硬化層側の端部に割れが認められ、割れの長さが２００μｍ以上であり、実用上問題があった。
【０１８６】
＜密着性＞
ＪＩＳ  Ｋ  ５６００−５−６−１に記載のクロスカット法にて評価を行った。すなわち、実施例および比較例のハードコートフィルムの、第２の硬化層表面側から第１の硬化層の内部まで到達する切込みを入れて、１ｍｍ間隔の碁盤目を１００個作製した。その後、セロハンテープ（ニチバン（株）製）を第２の硬化層表面に貼ったあとに剥離し、１００個の碁盤目のうち剥離した膜片の数を数えて以下のように評価した。
Ａ：膜片の剥離が碁盤目１００個のいずれにも起こらない。
Ｂ：膜片の剥離が起こらない碁盤目が９０〜９９個である。
Ｃ：膜片の剥離が起こらない碁盤目が９０個未満であり、実用上問題があった。
【０１８７】
＜打鍵耐久＞
ガラス板（Ｃｏｒｎｉｎｇ社製、商品名：イーグル ＸＧ、厚み１ｍｍ）と、各積層体の第２の硬化層が形成されている側の表面とは反対側の表面とを、厚み２０μｍの粘着剤（綜研化学ＳＫ−２０５７）を介してゴムローラーで２ｋｇの荷重を掛けながら貼り合わせた。温度２５℃、相対湿度６０％で２時間調湿した後、打鍵試験機（株式会社ＹＳＣ製）を用いて、第２の硬化層の上方から入力ペン（ペン先材料はポリアセタール、Ｒ＝０．８ｍｍ、ワコム株式会社製）を押し当て(打鍵速度：２回／分、荷重：２５０ｇ)、以下の基準で評価した。
＜評価基準＞
Ａ：５００００回を超えて打鍵しても凹みが発生しなかった
Ｂ：打鍵回数１００００回を超え５００００回押し当てる間に凹みが発生した。
Ｃ：打鍵回数１０００回を超え１００００回押し当てる間に凹みが発生した。
Ｄ：打鍵回数１００回を超え１０００回押し当てる間に凹みが発生した。
Ｅ：打鍵回数１００回押し当てる間に凹みが発生した。
【０１８８】
【表３】
0006486308.tif 000019
【０１８９】
表３において、重合性化合物の含有量は、各硬化性組成物に含まれる重合性化合物１〜３、および、その比較用化合物の合計量を１００質量％としたときの、各重合性化合物の割合を示している。また、膜厚の単位は、μｍである。
上記表３より、本発明のハードコートフィルムは、耐擦性、打抜き性および密着性が良好であることがわかった。
これに対し、第１の硬化層形成用硬化性組成物に含まれる重合性化合物中の、重合性化合物２の含有量が本発明で規定する下限値を下回る場合（比較例１）、打抜き性が劣っていた。また、第２の硬化層形成用硬化性組成物が、重合性化合物３を含まない場合（比較例２）、代わりにラジカル重合性基を１つ有する重合性化合物を含有していても、耐擦性が劣ることが分かった。さらに、第１の硬化層形成用硬化性組成物が、重合性化合物２を含有しない場合（比較例３）、代わりにカチオン重合性基のみを有する重合性化合物を含有していても、密着性が悪いことがわかった。
【０１９０】
６．静電容量式タッチパネルの作製
（６−１）
実施例８のハードコートフィルムの支持体の、第１の硬化層が配置された側とは反対側の面に、特開２０１３−２０６４４４号公報の段落００１６〜段落００４０に記載の方法で、同公報の段落００２６〜段落００３５に記載のフィルムセンサーをタッチセンサーフィルムとして用いて貼合し、静電容量式タッチパネルを作製した。この静電容量式タッチパネルは、実施例８のハードコートフィルムおよびフィルムセンサーの積層体を画像表示素子用の前面板として有する。
【０１９１】
（６−２）
以下の方法により、静電容量式タッチパネルを作製した。
【０１９２】
（ハロゲン化銀乳剤の調製）
１５℃、ｐＨ４．５に保たれた下記１液に、下記の２液および３液の各々９０％に相当する量を攪拌しながら同時に２０分間にわたって加え、０．１６μｍのハロゲン化銀粒子を形成した。続いて下記４液および５液を同時に８分間にわたって加え、さらに、下記の２液および３液の残りの１０％の量を同時に２分間にわたって加え、粒子サイズを０．２１μｍまで成長させた。さらに、ヨウ化カリウム０．１５ｇを加え、５分間熟成し粒子形成を終了した。
【０１９３】
１液：
水                                        ７５０ｍｌ
ゼラチン                                    ８．６ｇ
塩化ナトリウム                                  ３ｇ
１，３−ジメチルイミダゾリジン−２−チオン  ２０ｍｇ
ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム            １０ｍｇ
クエン酸                                    ０．７ｇ
２液：
水                                        ３００ｍｌ
硝酸銀                                      １５０ｇ
３液：
水                                        ３００ｍｌ
塩化ナトリウム                                １５ｇ
臭化カリウム                                  ３２ｇ
ヘキサクロロイリジウム（ＩＩＩ）酸カリウム
（０．００５％ＫＣｌ  ２０％水溶液）        ８ｍｌ
ヘキサクロロロジウム酸アンモニウム
（０．００１％ＮａＣｌ  ２０％水溶液）  １０ｍｌ
４液：
水                                        １００ｍｌ
硝酸銀                                        ５０ｇ
５液：
水                                        １００ｍｌ
塩化ナトリウム                                １３ｇ
臭化カリウム                                  １１ｇ
黄血塩                                        ５ｍｇ
【０１９４】
その後、常法に従い、得られたハロゲン化銀乳剤をフロキュレーション法によって水洗した。具体的には、ハロゲン化銀乳剤の温度を３５℃に下げた後、硫酸を用いてハロゲン化銀粒子が沈降するまでｐＨを下げた（ｐＨ２１±０．２の範囲であった）。次に、上澄み液を約３リットル除去した（第一水洗）。さらに３リットルの蒸留水を加えてから、ハロゲン化銀粒子が沈降するまで硫酸を加えた。再度、上澄み液を３リットル除去した（第二水洗）。第二水洗と同じ操作をさらに１回繰り返した（第三水洗）。このようにして水洗を行った。水洗後のハロゲン化銀乳剤をｐＨ６．４、ｐＡｇ７．５に調整し、ゼラチン２５ｇ、ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム１０ｍｇ、ベンゼンチオスルフィン酸ナトリウム３ｍｇ、チオ硫酸ナトリウム１５ｍｇおよび塩化金酸１０ｍｇを加え、５５℃にて最適感度を得るように化学増感を施し、安定剤として１，３，３ａ，７−テトラアザインデン１００ｍｇ、防腐剤としてプロキセル（商品名、ＩＣＩ  Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製）１００ｍｇを加えた。最終的に得られたハロゲン化銀乳剤は、沃化銀を０．０８モル％含み、塩臭化銀の比率を塩化銀７０モル％、臭化銀３０モル％とする、平均粒子径０．２２μｍ、変動係数９％のヨウ塩臭化銀立方体粒子乳剤であった。
【０１９５】
（感光性層形成用組成物の調製）
上記乳剤に１，３，３ａ，７−テトラアザインデン１．２×１０-4モル／モルＡｇ、ハイドロキノン１．２×１０-2モル／モルＡｇ、クエン酸３．０×１０-4モル／モルＡｇ、２，４−ジクロロ−６−ヒドロキシ−１，３，５−トリアジンナトリウム塩０．９０ｇ／モルＡｇを添加し、クエン酸を用いてｐＨを５．６に調整して、塗布液を得た。
上記塗布液が含有するゼラチンに対して、以下で例示した（Ｐ−１）で表されるポリマー（Ｐ−１）とジアルキルフェニルＰＥＯ硫酸エステルからなる分散剤を含有するポリマーラテックス（分散剤／ポリマーの質量比が２．０／１００＝０．０２）を、ポリマー／ゼラチン（質量比）＝０．５／１になるように、上記塗布液に添加した。
さらに、架橋剤としてＥＰＯＸＹ  ＲＥＳＩＮ  ＤＹ  ０２２（商品名：ナガセケムテックス社製）を添加した。なお、架橋剤の添加量は、後述する感光性層中における架橋剤の量が０．０９ｇ／ｍ2となるように調整した。
以上のようにして、感光性層形成用組成物を調製した。
なお、ポリマー（Ｐ−１）は、特許第３３０５４５９号および特許第３７５４７４５号を参照して合成した。
【化１６】
0006486308.tif 000020
【０１９６】
（感光性層の形成）
透明絶縁基板（厚み１５μｍのポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）フィルム）にコロナ放電処理を施した後、透明絶縁基板の両面に、下塗層として厚み０．０５μｍの上記ポリマーラテックスを塗布した。さらに下塗層上に光学濃度が約１．０で現像液のアルカリにより脱色する染料を含む上記ポリマーラテックスとゼラチンの混合物［混合質量比（ポリマー／ゼラチン）は２／１］からなるアンチハレーション層（厚み１．０μｍ）を設けた。上記アンチハレーション層の上に、上記感光性層形成用組成物を塗布し、さらに上記ポリマーラテックスとゼラチンとを混合した保護層形成用組成物を塗布して、厚み０．１５μｍの保護層を設け、両面に感光性層が形成された透明絶縁基板を得た。なお、保護層形成用組成物のポリマーとゼラチンとの混合質量比（ポリマー／ゼラチン）は０．１／１であった。透明絶縁基板の両面に感光性層が形成されたフィルムをフィルムＡとする。形成された感光性層は、銀量６．０ｇ／ｍ2、ゼラチン量０．９ｇ／ｍ2であった。
【０１９７】
（露光現像工程）
上記フィルムＡの両面に、それぞれ導電部材のパターンに対応したフォトマスクを介し、高圧水銀ランプを光源とした平行光を用いて露光を行った。露光後、下記の現像液で現像し、さらに定着液（商品名：ＣＮ１６Ｘ用Ｎ３Ｘ−Ｒ、富士フイルム社製）を用いて現像処理を行った。さらに、純水でリンスし、乾燥することで、両面にＡｇ線からなる導電部材とゼラチン層とが形成された樹脂基板を得た。ゼラチン層はＡｇ線間に形成されていた。得られたフィルムをフィルムＢとする。
なお、第１金属細線１５および第２金属細線２５の線幅を４．０μｍ、第１メッシュパターンＭ１および第２メッシュパターンＭ２がひし形定形パターン（開口部形状が狭角角度６０°であるひし形で、かつ、開口部の一辺の長さ５００μｍ）となるようにした。
そして、第１メッシュパターンＭ１に沿って第１金属細線１５が配置された第１導電層８と第２メッシュパターンＭ２に沿って第２金属細線２５が配置された第２導電層９とを透明なアクティブエリアＳ１内に重なるように配置して、図３に示したようなタッチパネル用導電フィルム１を作製した。
第１電極１１の電極幅を４．０ｍｍ、電極ピッチを５．０ｍｍとし、第２電極２１の電極幅を２．０ｍｍ、電極ピッチを５．０ｍｍとし、第１周辺配線１２および第２周辺配線２２の配線幅を３０μｍ、最小配線間距離を２０μｍとし、第１電極１１間および第２電極２１間には図５のようにダミー電極を用いたパターンを採用した。なお、電極とダミー電極との境界部には１０μｍの断線部を形成し、電極とダミー電極とを電気的に絶縁させた。
【０１９８】
（現像液の組成）
現像液１リットル（Ｌ）中に、以下の化合物が含まれる。
ハイドロキノン                    ０．０３７ｍｏｌ／Ｌ
Ｎ−メチルアミノフェノール        ０．０１６ｍｏｌ／Ｌ
メタホウ酸ナトリウム              ０．１４０ｍｏｌ／Ｌ
水酸化ナトリウム                  ０．２１０ｍｏｌ／Ｌ
臭化ナトリウム                    ０．０３１ｍｏｌ／Ｌ
メタ重亜硫酸カリウム              ０．１８７ｍｏｌ／Ｌ
【０１９９】
（加熱工程）
上記フィルムＢに対して、１２０℃の過熱蒸気槽に１３０秒間静置して、加熱処理を行った。加熱処理後のフィルムをフィルムＣとする。
【０２００】
（ゼラチン分解処理）
フィルムＣを、タンパク質分解酵素（ナガセケムテックス社製ビオプラーゼＡＬ−１５ＦＧ）の水溶液（タンパク質分解酵素の濃度：０．５質量％、液温：４０℃）に１２０秒浸漬した。フィルムＣを水溶液から取り出し、温水（液温：５０℃）に１２０秒間浸漬し、洗浄した。ゼラチン分解処理後のフィルムをフィルムＤとする。
【０２０１】
（カレンダ処理）
カレンダ処理用のマット部材として、算術平均粗さ（Ｒａ）＝０．２８μｍ、凹凸の平均間隔（Ｓｍ）＝１．８７μｍの表面形状を有するステンレス板を使用し、表面が鏡面加工された金属ローラーと樹脂製のローラーの組み合わせによるカレンダ装置を使用して、ジャッキ圧１１．４ＭＰａの圧力をかけ、１２０ｍｍ／分の速度で搬送して、フィルムＤに対して、カレンダ処理を行った。カレンダ処理を行ったフィルムをフィルムＥとする。
【０２０２】
（加熱処理）
フィルムＥを、１２０℃の過熱蒸気槽に１３０秒間静置して、加熱処理を行った。加熱処理後のフィルムをフィルムＦとする。
【０２０３】
上記で得られたフィルムＦの一方の面上（トップ面）に３Ｍ社製ＯＣＡ（＃８１４６−３：７５μｍ厚）、実施例８のハードコートフィルムを、実施例８のハードコートフィルムの第１の硬化層が配置された側とは反対側の面が、フィルムＦのトップ面と向かい合うように、この順に積層した。さらに、フィルムＦの他方の面上（ボトム面）に３Ｍ社製ＯＣＡ（＃８１４６−４：１００μｍ厚）を介し、フィルムＦのボトム面が液晶ディスプレイのリア偏光板と向かい合わせになるように積層して、静電容量式タッチパネルを作製した。
【０２０４】
７−ａ．画像表示素子の前面板の作製１
実施例８のハードコートフィルムの第２の硬化層の上に、下記の方法で調製した低屈折率層用塗布液を、特開２００３−２１１０５２号公報の図１に記載されたスロットダイコーターを用いて、低屈折率層の乾燥膜厚が１００ｎｍになるようにウエット塗布し、６０℃で５０秒間乾燥した。その後、さらに窒素パージにより、酸素濃度１００体積ｐｐｍ以下の雰囲気下で２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照射量４００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射し、低屈折率層を形成した。その後、得られた積層体（支持体、第１の硬化層、第２の硬化層および低屈折率層の積層体）を巻き取り、画像表示素子用の前面板を作製した。
【０２０５】
（７−１）低屈折率層用塗布液の調製
（７−１−１）ゾル液ａの調製
撹拌器、還流冷却管を備えた反応器に、メチルエチルケトン１２０質量部、アクリロキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製、ＫＢＭ−５１０３）１００質量部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート３質量部を加え混合した。次いで、ここにイオン交換水３０質量部を加え、６０℃で４時間反応させた。その後、室温まで冷却して、ゾル液ａを得た。ゾル液ａの重量平均分子量は１８００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、重量平均分子量が１０００〜２００００の成分は１００質量％であった。ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかったことを確認した。
【０２０６】
（７−１−２）中空シリカ粒子分散液（Ａ−１）の調製
特開２００２−７９６１６号公報の調製例４に記載の、粒子サイズ約４０〜５０ｎｍ、シェル厚６〜８ｎｍ、屈折率１．３１の中空シリカ粒子を、固形分濃度２０質量％となるよう主溶媒イソプロピルアルコールで分散させて、中空シリカ粒子ゾルを調製した。中空シリカ粒子ゾル５００質量部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製、ＫＢＭ−５１０３）３０質量部、およびジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート（ホープ製薬（株）製、ケロープＥＰ−１２）１．５質量部を加えて混合した。その後に、さらにイオン交換水９質量部を加え、６０℃で８時間反応させた。得られた反応液を室温まで冷却した後、アセチルアセトン１．８部を添加して、中空シリカ粒子分散液（Ａ−１）を得た。得られた中空シリカ粒子分散液（Ａ−１）の固形分濃度は１８質量％、溶媒乾燥後の屈折率は１．３１であった。
【０２０７】
（７−１−３）低屈折率層用塗布液（ＬＬ−１）の調製
メチルエチルケトン１００質量部に対して、特開２００４−４５４６２号公報の段落００４３に記載の含フッ素共重合体（Ｐ−３）（重量平均分子量約５００００）４４．０質量部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）６．０質量部、末端メタクリレート基含有シリコーン（Ｇｅｌｅｓｔ社製、ＲＭＳ−０３３）３．０質量部、ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７（ＢＡＳＦ製）３．０質量部を加えて溶解した。その後に中空シリカ粒子分散液（Ａ−１）を１９５質量部（シリカおよびその表面処理剤を固形分として３９．０質量部）、ゾル液ａ１７．２質量部（固形分として５．０質量部）を添加した。この分散液を、塗布液全体の固形分濃度が６質量％になり、シクロヘキサンとメチルエチルケトンの比率が質量比で１０対９０になるようにシクロヘキサンおよびメチルエチルケトンで希釈して、低屈折率層用塗布液（ＬＬ−１）を調製した。低屈折率層用塗布液（ＬＬ−１）を塗布して得られる塗布膜の硬化後の屈折率は１．３８であった。
【０２０８】
７−ｂ．画像表示素子の前面板の作製２
実施例８のハードコートフィルムを、マグネトロンスパッタリング装置のチャンバー内に、第２の硬化層がむき出しになるように配置した。ＳｉＯ2をスパッタリングすることにより、第２の硬化層上に低屈折率層１（屈折率：１．４７、厚み：２０ｎｍ）を形成した。さらに、Ｎｂ2Ｏ5をスパッタリングすることにより、低屈折率層１上に高屈折率層１（屈折率：２．３３、厚み：１７ｎｍ）を形成した。さらに、ＳｉＯ2をスパッタリングすることにより、高屈折率層１上に低屈折率層２（屈折率：１．４７、厚み：４２ｎｍ）を形成した。さらに、Ｎｂ2Ｏ5をスパッタリングすることにより、低屈折率層２上に高屈折率層２（屈折率：２．３３、厚み：３０ｎｍ）を形成した。さらに、ＳｉＯ2をスパッタリングすることにより、高屈折率層２上に低屈折率層３（屈折率：１．４７、厚み：１１０ｎｍ）を形成し、得られた積層体（支持体、第１の硬化層、第２の硬化層、低屈折率層および高屈折率層の積層体）を巻き取り、画像表示素子用の前面板を作製した。
【０２０９】
８．偏光板の作製
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士フイルム（株）製）を、１．５ｍｏｌ／Ｌ、５５℃のＮａＯＨ水溶液中に２分間浸漬した後に中和および水洗した。ポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して偏光子を作製した。作製した偏光子の片面に、水洗後のトリアセチルセルロースフィルムを接着した。偏光子のもう一方の面に、実施例１〜３２のハードコートフィルムの支持体の、第１の硬化層が配置された側とは反対側の面を各々貼り合わせて、偏光板１０１〜１３２を作製した。
【０２１０】
９．インセルタッチパネル表示素子を有する画像表示装置の作製
市販の液晶表示装置（ソニーエリクソン社製、エクスペリアＰ）に組み込まれているインセルタッチパネル表示素子である液晶表示素子を準備した。このインセルタッチパネル表示素子の上に、偏光板１０８を、厚み２０μｍの接着剤層を介して貼り合わせて、インセルタッチパネル表示素子を有する画像表示装置を作製した。
【０２１１】
１０．オンセルタッチパネル表示素子を有する画像表示装置の作製
市販の有機ＥＬ表示装置（ＳＡＭＳＵＮＧ社製、ＧＡＬＡＸＹ  ＳＩＩ）に組み込まれているオンセルタッチパネル表示素子である有機エレクトロルミネッセンス表示素子を準備した。このオンセルタッチパネル表示素子の上に、偏光板１０８を、厚み２０μｍの接着剤層を介して貼り合わせて、オンセルタッチパネル表示素子を有する画像表示装置を作製した。
【符号の説明】
【０２１２】
１Ａ：支持体
２Ａ：第１の硬化層
３Ａ：第２の硬化層
１：タッチパネル用導電フィルム
２：タッチパネル
３：ハードコートフィルム
４：粘着剤
５：透明絶縁基板
６Ａ、６Ｂ：導電部材
７Ａ、７Ｂ：保護層
８：第１導電層
９：第２導電層
１１Ａ：第１ダミー電極
１１：第１電極
１２：第１周辺配線
１３：第１外部接続端子
１４：第１コネクタ部
１５：第１金属細線
２１：第２電極
２２：第２周辺配線
２３：第２外部接続端子
２４：第２コネクタ部
２５：第２金属細線
Ｃ１：第１セル
Ｃ２：第２セル
Ｄ１：第１の方向
Ｄ２：第２の方向
Ｍ１：第１メッシュパターン
Ｍ２：第２メッシュパターン
Ｓ１：アクティブエリア
Ｓ２：周辺領域
【図１】
0006486308.tif 000021
【図２】
0006486308.tif 000022
【図３】
0006486308.tif 000023
【図４】
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【図５】
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