(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板と、
前記ガラス基板上に直に形成された飛散防止層と、
前記飛散防止層上に直に形成され、１層以上の有機層を有する反射防止層と、
を有する表示装置用前面板が複数個形成されてなる表示装置用前面板の多面付け基板であって、
前記飛散防止層に用いられる樹脂が、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリオールアクリレート、ポリエーテルアクリレート、およびメラミンアクリレートからなる群から選択される少なくとも一種のアクリル樹脂であり、
前記飛散防止層が、前記ガラス基板上に直にパターン状に形成されており、
前記多面付基板における切断部分には飛散防止層が形成されていないことを特徴とする表示装置用前面板の多面付け基板。
【請求項２】
前記ガラス基板は、板厚が０．１ｍｍ〜１．５ｍｍの範囲内である強化ガラス基板であり、
前記飛散防止層の厚みが、１５μｍ〜１５０μｍの範囲内であることを特徴とする請求項１に記載の表示装置用前面板の多面付け基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示装置の前面に配置される表示装置用前面板に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般に、液晶表示装置、プラズマディスプレイパネル、有機ＥＬ表示装置、電子ペーパー等の表示装置の前面には、表示装置の保護のために前面板が設けられている。前面板としては、耐衝撃性の観点から強化ガラス基板を用いることが知られている。このような表示装置においては、前面板と空気との界面の屈折率差により光の反射が起こり、視認性が低下する。そこで、前面板の最表面に反射防止フィルムや反射防止層を配置することが提案されている。
【０００３】
反射防止フィルムとしては、例えばＴＡＣフィルムやＰＥＴフィルム等の透明基材上に反射防止層を形成したものを挙げることができ、反射防止層としては、例えば高屈折率層および低屈折率層が積層されたものが挙げられる。このような反射防止フィルムは、前面板の最表面に粘着層や接着層を介して貼付される。
反射防止フィルムは前面板に貼付するだけで反射防止性を付与することができる。しかしながら、反射防止フィルムにおいては透明基材および粘着層または接着層が存在するため、光学設計が複雑になる。また、透明基材にはうねりがあるため、平坦性が低下し、表示品位が劣化する。また、反射防止フィルムを貼付する際に異物や気泡の混入等の不具合が生じ、歩留りが低下する。また、透明基材および粘着層または接着層によって、透過率が低下する。
【０００４】
一方、反射防止層を配置する場合は、強化ガラス基板上に形成可能であることから、上述の反射防止フィルムにおける問題点を解消することができる。反射防止層としては、例えばスパッタリング法や真空蒸着法等のドライプロセスにより無機膜の反射防止層を形成する技術や、特許文献１〜５に記載するように塗布により反射防止層を形成する技術が提案されている。塗布により反射防止層を形成する技術は、ドライプロセスにより無機膜の反射防止層を形成する場合に比べて、生産性が良好であり製造コストを低減することができるといった利点や、反射防止層の厚みの面内分布のばらつきが小さくすることができるといった利点を有する。
【０００５】
塗布により反射防止層を形成する場合、反射防止層を構成する低屈折率層や高屈折率層等としては、樹脂および微粒子を含有するものを用い、厚みを薄くすることが提案されている。低屈折率層や高屈折率層の形成方法としては、例えば硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化させる方法が用いられている。しかしながら、硬化性樹脂組成物中の樹脂成分の種類によっては、空気中の酸素により硬化反応が阻害される場合がある。特に、微粒子が含有されている場合や、厚みが薄い場合には、硬化反応が不十分になりやすく、密着性が低下する傾向がある。
【０００６】
ところで、前面板には、何らかの衝撃等により前面板が破損した場合に、その破片の飛散を防止する飛散防止機能を備えることが望まれている。前面板に飛散防止機能を付与する方法としては、従来から、飛散防止フィルムを前面板の表面に粘着層や接着層を介して貼付する方法が挙げられる。しかしながら、飛散防止フィルムを貼り合わせる工程は煩雑であり、また工程数が増えることにより、前面板の製造コストが増大するという問題がある。また、上述の反射防止フィルムを貼り合わせる場合と同様に、飛散防止層と前面板とを粘着層や接着層を介して貼付する場合は、前面板の光学設計の複雑化、平坦性の低下による表示品位の劣化、歩留まりの低下、透過率の低下等の問題が生じる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０１２−８８６８３号公報
【特許文献２】特開２０１２−８８６８４号公報
【特許文献３】特開２０１２−１５０４１８号公報
【特許文献４】特開２０１２−１８９９８６号公報
【特許文献５】特開２０１２−２２５９９２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は上記問題点に鑑みてなされたものであり、飛散防止機能を有し、ガラス基板に対する反射防止層の密着性が良好である表示装置用前面板を提供することを主目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するために、本発明は、ガラス基板と、上記ガラス基板上に直に形成された飛散防止層と、上記飛散防止層上に直に形成され、１層以上の有機層を有する反射防止層とを有することを特徴とする表示装置用前面板を提供する。
【００１０】
本発明によれば、飛散防止層を有することにより、本発明の表示装置用前面板に対して飛散防止機能を付与することができる。また本発明によれば、飛散防止層を介してガラス基板上に反射防止層が形成されていることにより、ガラス基板に対する反射防止層の密着性を高めることができる。
【００１１】
上記発明においては、上記飛散防止層が、上記ガラス基板上に直にパターン状に形成されていることが好ましい。飛散防止機能を有する表示装置用前面板を多面付けで形成することができるからである。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の表示装置用前面板は、飛散防止機能を有し、ガラス基板に対する反射防止層の密着性が良好であるといった作用効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の表示装置用前面板の一例を示す概略断面図である。
【図２】本発明の表示装置用前面板の他の例を示す概略平面図および断面図である。
【図３】本発明の表示装置用前面板の他の例を示す概略断面図である。
【図４】本発明の表示装置用前面板を備える表示装置の一例を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明の表示装置用前面板について詳細に説明する。
本発明の表示装置用前面板は、ガラス基板と、上記ガラス基板上に直に形成された飛散防止層と、上記飛散防止層上に直に形成され、１層以上の有機層を有する反射防止層とを有するものである。
【００１５】
ここで、「ガラス基板上に直に形成された飛散防止層」とは、ガラス基板と飛散防止層とが直に接しており、ガラス基板と飛散防止層との間に例えば接着層や粘着層、透明基材等が形成されていないことをいう。
また、「飛散防止層上に直に形成された反射防止層」とは、飛散防止層と反射防止層とが直に接しており、飛散防止層と反射防止層との間に例えば接着層や粘着層、透明基材等が形成されていないことをいう。
【００１６】
本発明の表示装置用前面板について図を用いて説明する。
図１は本発明の表示装置用前面板の一例を示す概略断面図である。図１に示すように、本発明の表示装置用前面板１は、ガラス基板２と、ガラス基板２上に直に形成された飛散防止層３と、飛散防止層３上に直に形成され、１層以上の有機層を有する反射防止層４とを有するものである。反射防止層４は、飛散防止層３上に形成された高屈折率層５と、高屈折率層５上に形成された低屈折率層６とを有している。本発明においては、高屈折率層５および低屈折率層６のいずれも有機層であることが好ましい。
【００１７】
図２（ａ）は本発明の表示装置用前面板の他の例を示す概略平面図であり、図２（ｂ）は図２（ａ）のＡ−Ａ線断面図である。本発明においては、図２（ａ）、（ｂ）に示すように、飛散防止層３をガラス基板２上に直にパターン状に形成してもよい。図２（ａ）、（ｂ）においては、多面付け前面板において、個々の表示装置用前面板に対応する領域ｘのガラス基板２上に直に飛散防止層３が形成されており、個々の表示装置用前面板に対応する領域ｘの間の切断部分ｙには飛散防止層３が形成されていない例について示している。なお、図２（ａ）においては、飛散防止層３が形成されている領域を破線で示している。また、図２（ｂ）において説明していない符号については図１と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
【００１８】
本発明によれば、飛散防止層を有することにより、本発明の表示装置用前面板に対して飛散防止機能を付与することができる。また本発明によれば、飛散防止層を介してガラス基板上に反射防止層が形成されていることにより、ガラス基板に対する反射防止層の密着性を高めることができる。
また本発明においては、飛散防止層および反射防止層はいずれもウェットプロセスにより形成可能であり、大面積であっても均一な層を容易に形成することができる。したがって、反射防止性に優れる安価な表示装置用前面板を得ることが可能である。
【００１９】
また本発明においては、飛散防止層をガラス基板上に直にパターン状に形成することができるため、本発明の表示装置用前面板を多面付けで形成することができる。
ここで、一般的に、ガラス基板上に飛散防止フィルムを密着させて貼り合わせた場合、ガラス基板および飛散防止フィルムを積層させた状態で切断することは困難である。そのため、従来においては、多面付け前面板から個々の表示装置用前面板を切断して個片化した後、個片化された表示装置用前面板に飛散防止フィルムを貼り合わせる必要があるため、製造コストが増大するという問題がある。
これに対して、本発明においては、飛散防止層をガラス基板上に直にパターン状に形成することができるため、多面付け基板における切断部分には飛散防止層が形成されないようにすることができる。また、後述するように、反射防止層は飛散防止層に比べて厚みが薄いことから、上記切断部分においてガラス基板上に直に反射防止層が形成されていたとしても、切断が可能である。
【００２０】
以下、本発明の表示装置用前面板の各構成について説明する。
【００２１】
１．飛散防止層
本発明における飛散防止層は、ガラス基板上に直に形成されるものである。また、飛散防止層は、本発明の表示装置用前面板に飛散防止機能を付与するとともに、ガラス基板に対する反射防止層の密着性を向上させるアンカー層として機能するものである。
また、本発明におけるガラス基板として、後述するソーダガラス、石英ガラス、無アルカリガラス等を用いる場合は、飛散防止層を形成することにより、ガラス基板の強度を高くすることができ、割れにくくすることができる。
【００２２】
飛散防止層は、ガラス基板上に直に形成されていればよく、ガラス基板の全域に形成されていてもよく、パターン状に形成されていてもよい。飛散防止層がパターン状に形成されている場合は、例えば、多面付け前面板における個々の表示装置用前面板に対応する領域のガラス基板上に直に飛散防止層が形成されることが好ましい。
【００２３】
飛散防止層の屈折率としては、ガラス基板の屈折率以上であることが好ましく、また飛散防止層上に形成される高屈折率層の屈折率以下であることが好ましい。また、飛散防止層の屈折率は、ガラス基板の屈折率との差が小さいあるいは高屈折率層の屈折率との差が小さいことが好ましく、例えば強化ガラス基板の屈折率との差が０．０３以内、中でも０．０１５以内あるいは高屈折率層の屈折率との差が０．０３以内、中でも０．０１５以内であることが好ましい。特に、飛散防止層の屈折率はガラス基板の屈折率との差が小さいことが好ましい。具体的には、ガラス基板が強化ガラスであって、上記強化ガラス基板の屈折率が１．５１である場合、飛散防止層の屈折率は１．４９５〜１．５２５の範囲内であることが好ましい。この場合、飛散防止層と強化ガラス基板との界面で光が反射するのを抑制することができる。
なお、飛散防止層が複数層が積層されたものである場合、飛散防止層とガラス基板との屈折率の大小関係については、ガラス基板に接する層とガラス基板との屈折率が上記の関係を満たしていればよい。また、飛散防止層と高屈折率層との屈折率の大小関係については、高屈折率層に接する層と高屈折率層との屈折率が上記の関係を満たしていればよい。
【００２４】
ここで、各部材の「屈折率」とは、波長５５０ｎｍの光に対する屈折率をいう。屈折率の測定方法は特に限定されないが、例えば、分光反射スペクトルから算出する方法、エリプソメーターを用いて測定する方法、アッベ法を挙げることができる。エリプソメーターとしてはジョバンーイーボン社製ＵＶＳＥＬが挙げられる。具体的には、テクノ・シナジー社製ＤＦ１０３０Ｒにて屈折率を測定することができる。
【００２５】
飛散防止層に用いられる樹脂としては、表示装置用前面板に飛散防止機能を付与することができ、ガラス基板および反射防止層との密着性を有し、透明性を有し、上述の屈折率を満たす飛散防止層を得ることが可能なものであれば特に限定されるものではなく、例えば、熱または紫外線や電子線等の電離放射線の照射により硬化した硬化樹脂を挙げることができる。硬化樹脂としては、例えば熱硬化樹脂、電離放射線硬化樹脂が挙げられる。
【００２６】
ここで、「電離放射線硬化樹脂」とは、電離放射線の照射により硬化した樹脂をいう。「電離放射線」とは、電磁波または荷電粒子線のうち、分子を重合あるいは架橋し得るエネルギー量子を有するものをいい、例えば、紫外線や電子線の他、Ｘ線、γ線等の電磁波、α線、イオン線等の荷電粒子線が挙げられる。
【００２７】
例えば、樹脂としては、アクリル樹脂等を用いることができ、具体的には、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリオールアクリレート、ポリエーテルアクリレート、メラミンアクリレート等が挙げられる。
【００２８】
また、飛散防止層に用いられる樹脂としては、感光性樹脂も用いることができる。感光性樹脂としては、一般的なものを用いることができ、例えばアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリ桂皮酸ビニル系樹脂、環化ゴム等の反応性ビニル基等の光反応性基を有する感光性樹脂が挙げられる。感光性樹脂は１種単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。
【００２９】
アクリル系樹脂の場合、例えばアルカリ可溶性樹脂、多官能アクリレート系モノマー、光重合開始剤、その他添加剤等を含有する感光性樹脂組成物を樹脂成分として用いることができる。
アルカリ可溶性樹脂としては、例えばベンジルメタクリレート−メタクリル酸共重合体等のメタクリル酸エステル共重合体、ビスフェノールフルオレン構造を有するエポキシアクリレート等のカルド樹脂等が挙げられる。これらは１種単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。
多官能アクリレート系モノマーとしては、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらは１種単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。
なお、本発明において、（メタ）アクリレートとは、メタクリレートまたはアクリレートのいずれかであることを意味する。
光重合開始剤としては、例えばアルキルフェノン系、オキシムエステル系、トリアジン系、チタネート系等が挙げられる。これらは１種単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。
感光性樹脂組成物は、上記の他、光増感剤、分散剤、界面活性剤、安定剤、レベリング剤等の公知の各種添加剤を含むことができる。
【００３０】
また、飛散防止層はフィラーを含有していてもよい。飛散防止層の硬度を高めることができる。フィラーとしては、無機系、有機系のいずれも用いることができる。無機系フィラーとしては、例えばシリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化亜鉛、酸化錫、酸化インジウム錫等の微粒子や、ガラスビーズ、ガラス繊維等が挙げられる。また、有機系フィラーとしては、例えば樹脂ビーズを用いることができ、具体的にはアクリルビーズ、ウレタンビーズ、ナイロンビーズ、シリコーンビーズ、シリコーンゴムビーズ、ポリカーボネートビーズ等が挙げられる。
【００３１】
フィラーの平均粒径としては、例えば５ｎｍ〜５０ｎｍの範囲内であることが好ましく、中でも５ｎｍ〜４０ｎｍの範囲内、特に５ｎｍ〜３０ｎｍの範囲内であることが好ましい。フィラーの平均粒径が上記範囲内にあれば、飛散防止層の透明性を損なうことがなく、良好なフィラーの分散状態が得られる。一方、フィラーの平均粒径が小さすぎると取り扱いが困難になり、大きすぎると硬度を高める効果が十分に得られない場合がある。なお、フィラーの平均粒径が上記範囲内にあれば、平均粒径は１次粒径および２次粒径のいずれであってもよく、またフィラーが鎖状に連なっていてもよい。
ここで、フィラーの平均粒径は、飛散防止層の断面の透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）写真により観察される粒子２０個の平均値をいう。
【００３２】
フィラーの形状は特に限定されるものではなく、例えば、球状、鎖状、針状等を挙げることができる。
【００３３】
飛散防止層における樹脂およびフィラーの含有量としては、飛散防止機能を有することができれば特に限定されず、目的とする硬度や強度、屈折率等に応じて適宜設定される。
【００３４】
また、飛散防止層は、必要に応じて、重合開始剤等の各種添加剤を含有していてもよい。
【００３５】
図３に示すように、飛散防止層３はガラス基板２とは反対側の面に凹凸を有していてもよい。これにより、飛散防止層と飛散防止層上に形成される有機層との密着性を高めることができる。凹凸の高低差やピッチとしては、飛散防止層上に形成される有機層との密着性を高めることが可能な程度であればよく、適宜調整される。凹凸は、規則的に配置されていてもよく、不規則に配置されていてもよい。
なお、図３は本発明の表示装置用前面板の他の例を示す概略断面図である。図３において説明していない符号については、上述した図１と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
【００３６】
また、本発明における飛散防止層は、単層であってもよく、複数層が積層されたものであってもよい。
【００３７】
飛散防止層の厚みとしては、所望の飛散防止機能を発揮し、ガラス基板および反射防止層との密着性を有することができれば特に限定されず、本発明の表示装置用前面板の用途、飛散防止層の材料等に応じて適宜選択することができる。飛散防止層の厚みとしては、例えば、１５μｍ〜１５０μｍの範囲内、中でも１５μｍ〜１００μｍの範囲内、特に２０μｍ〜８０μｍの範囲内であることが好ましい。飛散防止層の厚みが薄すぎると十分な飛散防止機能を付与することが困難となる可能性があるからである。また、飛散防止層の厚みが厚すぎると本発明の表示装置用前面板の透過性が低下する可能性があるからである。
【００３８】
ここで、各部材の「厚み」とは、一般的な測定方法によって得られる厚みをいう。厚みの測定方法としては、例えば、触針で表面をなぞり凹凸を検出することによって厚みを算出する触針式の方法や、分光反射スペクトルに基づいて厚みを算出する光学式の方法等を挙げることができる。具体的には、ケーエルエー・テンコール株式会社製の触針式膜厚計Ｐ−１５を用いて厚みを測定することができる。なお、厚みとして、対象となる部材の複数箇所における厚み測定結果の平均値が用いられてもよい。
【００３９】
飛散防止層の形成方法としては、ガラス基板上に飛散防止層用硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化させる方法が挙げられる。また、飛散防止層をパターン状に形成する場合は、フォトリソグラフィ法、印刷法等を挙げることができる。
なお、飛散防止層の形成方法については、「５．表示装置用前面板の製造方法」に記載するので、ここでの説明は省略する。
【００４０】
本発明においては、必要に応じて、ガラス基板の飛散防止層側とは反対側の面上に直に第２飛散防止層を形成してもよい。本発明の表示装置用前面板の飛散防止機能を補強することができる。第２飛散防止層の形成位置、材料、厚みについては、上述した飛散防止層の形成位置、材料、厚みに応じて適宜選択することができる。
【００４１】
２．反射防止層
本発明における反射防止層は、上記飛散防止層上に直に形成され、１層以上の有機層を有するものである。本発明においては、反射防止層は、少なくとも飛散防止層上に直に形成される層が有機層であればよいが、有機層のみを有するものであることが好ましい。反射防止層をウェットプロセスにより形成可能であり、大面積であっても均一な層を容易に形成することができるからである。
【００４２】
反射防止層は、１層以上の有機層を有し、有機層のみを有するものである場合としては、特に限定されるものではなく、例えば、図示しないがガラス基板よりも屈折率の低い低屈折率層を有する単層の反射防止層や、図１に例示するように飛散防止層３上に高屈折率層５および低屈折率層６が順に積層された反射防止層４、図示しないが飛散防止層上に中屈折率層、高屈折率層および低屈折率層が順に積層された反射防止層、飛散防止層上に高屈折率層、中屈折率層および低屈折率層が順に積層された反射防止層等が挙げられる。
【００４３】
以下、低屈折率層、高屈折率層および中屈折率層について説明する。
【００４４】
（１）低屈折率層
本発明における低屈折率層は、有機層であり、高屈折率層および中屈折率層よりも屈折率が低いものである。
【００４５】
低屈折率層の屈折率としては、高屈折率層および中屈折率層の屈折率よりも低く、ガラス基板の屈折率よりも低ければよい。具体的には、低屈折率層の屈折率は１．２〜１．４の範囲内であることが好ましい。
【００４６】
低屈折率層としては、上記の屈折率を満たし、透明性を有する有機層であれば特に限定されるものではなく、例えば樹脂を含有するものや、バインダー樹脂および低屈折率微粒子を含有するもの等が挙げられる。
【００４７】
低屈折率層に用いられる樹脂およびバインダー樹脂としては、上記の屈折率を満たし、透明性を有する低屈折率層を得ることが可能なものであれば特に限定されるものではなく、成膜性や膜強度等の観点から適宜選択される。例えば、樹脂およびバインダー樹脂としては、熱または紫外線や電子線等の電離放射線の照射により硬化した硬化樹脂が挙げられる。硬化樹脂としては、例えば熱硬化樹脂や電離放射線硬化樹脂が挙げられる。中でも、電離放射線硬化樹脂が好ましい。低屈折率層の表面硬度を高めることができるからである。また、電離放射線硬化樹脂としては、例えば紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂を用いることができる。中でも、紫外線硬化樹脂が好ましい。
【００４８】
具体的に、樹脂およびバインダー樹脂としては、特開２０１３−１４２８１７号公報、特開２０１２−１５０２２６号公報、特開２０１１−１７０２０８号公報、特開２００９−８６３６０号公報、特開２００８−９３４７号公報等に記載されている低屈折率層に用いられるものを挙げることができる。
樹脂およびバインダー樹脂は、フッ素を含有するフッ素系樹脂であってもよい。低屈折率層に防汚性を付与することができるからである。また、屈折率を低くすることができる。また、フッ素系樹脂は、ケイ素を含有していてもよい。
また、低屈折率層は、防汚剤を含有していてもよい。防汚剤としては、フッ素系化合物またはケイ素系化合物等を用いることができる。具体的に、防汚剤としては、特開２０１２−１５０２２６号公報等に記載されているものを挙げることができる。
【００４９】
低屈折率微粒子としては、バインダー樹脂よりも屈折率が低く、上記の屈折率を満たす低屈折率層を得ることが可能なものであれば特に限定されるものではなく、無機系、有機系のいずれも用いることができる。中でも、屈折率が低いことから、中空粒子や多孔質粒子が好ましく用いられる。中空粒子および多孔質粒子としては、例えば、多孔質シリカ粒子、中空シリカ粒子、多孔質ポリマー粒子、中空ポリマー粒子が挙げられる。
【００５０】
また、低屈折率微粒子は、表面処理されたものであってもよい。低屈折率微粒子に表面処理を施すことにより、バインダー樹脂や溶媒との親和性が向上し、低屈折率微粒子の分散が均一となり、低屈折率微粒子同士の凝集が生じにくくなるので、低屈折率層の透明性の低下や、低屈折率層用硬化性樹脂組成物の塗布性、低屈折率層用硬化性樹脂組成物の塗膜強度の低下を抑制することができる。
表面処理された低屈折率微粒子としては、例えば特開２０１３−１４２８１７号公報、特開２００８−９３４８号公報に記載されているものを挙げることができる。
【００５１】
また、低屈折率微粒子は、その表面に光硬化性基を有する反応性微粒子であってもよい。
【００５２】
具体的に、低屈折率微粒子としては、特開２０１３−１４２８１７号公報、特開２０１２−１５０２２６号公報、特開２０１１−１７０２０８号公報、特開２００９−８６３６０号公報、特開２００８−９３４７号公報等に記載されている低屈折率層に用いられるものを挙げることができる。
【００５３】
低屈折率微粒子の平均粒径としては、均一な厚みを有する低屈折率層を形成可能な程度であればよく、例えば５ｎｍ〜２００ｎｍの範囲内であることが好ましく、中でも５ｎｍ〜１００ｎｍの範囲内、特に１０ｎｍ〜８０ｎｍの範囲内であることが好ましい。低屈折率微粒子の平均粒径が上記範囲内にあれば、低屈折率層の透明性を損なうことがなく、良好な低屈折率微粒子の分散状態が得られる。なお、低屈折率微粒子の平均粒径が上記範囲内にあれば、平均粒径は１次粒径および２次粒径のいずれであってもよく、また低屈折率微粒子が鎖状に連なっていてもよい。
ここで、低屈折率微粒子の平均粒径は、低屈折率層の断面の透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）写真により観察される粒子２０個の平均値をいう。
【００５４】
低屈折率微粒子の形状は特に限定されるものではなく、例えば、球状、鎖状、針状等を挙げることができる。
【００５５】
低屈折率層におけるバインダー樹脂および低屈折率微粒子の含有量としては、低屈折率層全体としての屈折率が上記の屈折率を満たすように適宜調整される。
【００５６】
電離放射線硬化樹脂として紫外線硬化樹脂を用いる場合、低屈折率層は光重合開始剤を含有していてもよい。光重合開始剤としては、一般的なものから適宜選択することができる。
【００５７】
低屈折率層は、所望の物性に応じて各種添加剤を含有していてもよい。添加剤としては、例えば分散助剤、耐候性改善剤、耐摩耗性向上剤、重合禁止剤、架橋剤、赤外線吸収剤、接着性向上剤、酸化防止剤、レベリング剤、チクソ性付与剤、カップリング剤、可塑剤、消泡剤、充填剤等が挙げられる。
【００５８】
低屈折率層の厚みは、屈折率に応じて異なるが、可視光領域における反射を低減する観点から、５０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲内であることが好ましい。
【００５９】
低屈折率層の形成方法としては、低屈折率層用硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化させる方法が挙げられる。
なお、低屈折率層の形成方法については、「５．表示装置用前面板の製造方法」に記載するので、ここでの説明は省略する。
【００６０】
（２）高屈折率層
本発明における高屈折率層は、有機層であり、低屈折率層および中屈折率層よりも屈折率が高いものである。
【００６１】
高屈折率層の屈折率としては、低屈折率層および中屈折率層の屈折率よりも高く、ガラス基板の屈折率よりも高ければよい。なお、強化ガラス基板の屈折率は、例えば１．５１である。具体的には、高屈折率層の屈折率は１．５〜１．７の範囲内であることが好ましい。
【００６２】
高屈折率層としては、上記の屈折率を満たし、透明性を有する有機層であれば特に限定されるものではなく、例えば樹脂を含有するものや、バインダー樹脂および高屈折率微粒子を含有するもの等が挙げられる。中でも、屈折率の調整が容易であることから、高屈折率層はバインダー樹脂および高屈折率微粒子を含有することが好ましい。
【００６３】
高屈折率層に用いられるバインダー樹脂としては、上記の屈折率を満たし、透明性を有する高屈折率層を得ることが可能なものであれば特に限定されるものではなく、成膜性や膜強度等の観点から適宜選択される。中でも、バインダー樹脂は、熱または紫外線や電子線等の電離放射線の照射により硬化した硬化樹脂であることが好ましい。硬化樹脂としては、例えば熱硬化樹脂、電離放射線硬化樹脂が挙げられる。中でも、電離放射線硬化樹脂が好ましい。高屈折率層の表面硬度を高めることができるからである。また、電離放射線硬化樹脂としては、紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂を挙げることができる。中でも、紫外線硬化樹脂が好ましい。
【００６４】
具体的に、バインダー樹脂としては、特開２０１３−１４２８１７号公報、特開２０１２−１５０２２６号公報、特開２０１１−１７０２０８号公報等に記載されている高屈折率層に用いられるものを挙げることができる。
【００６５】
高屈折率微粒子としては、バインダー樹脂よりも屈折率が高く、上記の屈折率を満たす高屈折率層を得ることができるものであれば特に限定されるものではないが、中でも高屈折率微粒子の屈折率は１．５〜２．８程度であることが好ましい。
このような高屈折率微粒子としては、例えば金属酸化物微粒子を挙げることができ、具体的には酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２、屈折率：２．１０）、酸化アンチモン（Ｓｂ２Ｏ５、屈折率：２．０４）、アンチモン錫酸化物（ＡＴＯ、屈折率：１．７５〜１．９５）、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ、屈折率：１．９５〜２．００）、燐錫化合物（ＰＴＯ、屈折率：１．７５〜１．８５）、ガリウム亜鉛酸化物（屈折率：１．９０〜２．００）、β−Ａｌ２Ｏ５（屈折率：１．６３〜１．７６）、γ−Ａｌ２Ｏ５（屈折率：１．６３〜１．７６）、ＢａＴｉＯ３（屈折率：２．４）、酸化チタン（ＴｉＯ２、屈折率：２．７１）、酸化セリウム（ＣｅＯ２、屈折率：２．２０）、酸化錫（ＳｎＯ２、屈折率：２．００）、アルミニウム亜鉛酸化物（ＡＺＯ、屈折率：１．９０〜２．００）、ガリウム亜鉛酸化物（ＧＺＯ、屈折率：１．９０〜２．００）、アンチモン酸亜鉛（ＺｎＳｂ２Ｏ６、屈折率：１．９〜２．０）等が挙げられる。
【００６６】
また、高屈折率微粒子は、表面処理されたものであってもよい。高屈折率微粒子に表面処理を施すことにより、バインダー樹脂や溶媒との親和性が向上し、高屈折率微粒子の分散が均一となり、高屈折率微粒子同士の凝集が生じにくくなるので、高屈折率層の透明性の低下や、高屈折率層用硬化性樹脂組成物の塗布性、高屈折率層用硬化性樹脂組成物の塗膜強度の低下を抑制することができる。
表面処理された高屈折率微粒子としては、例えば特開２０１３−１４２８１７号公報に記載されているものを挙げることができる。
【００６７】
また、高屈折率微粒子は、その表面に光硬化性基を有する反応性微粒子であってもよい。
【００６８】
高屈折率微粒子の平均粒径としては、均一な厚みを有する高屈折率層を形成可能な程度であればよく、例えば５ｎｍ〜２００ｎｍの範囲内であることが好ましく、中でも５ｎｍ〜１００ｎｍの範囲内、特に１０ｎｍ〜８０ｎｍの範囲内であることが好ましい。高屈折率微粒子の平均粒径が上記範囲内にあれば、高屈折率層の透明性を損なうことがなく、良好な高屈折率微粒子の分散状態が得られる。なお、高屈折率微粒子の平均粒径が上記範囲内にあれば、平均粒径は１次粒径および２次粒径のいずれであってもよく、また高屈折率微粒子が鎖状に連なっていてもよい。
ここで、高屈折率微粒子の平均粒径は、高屈折率層の断面の透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）写真により観察される粒子２０個の平均値をいう。
【００６９】
高屈折率微粒子の形状は特に限定されるものではなく、例えば、球状、鎖状、針状等を挙げることができる。
【００７０】
高屈折率層におけるバインダー樹脂および高屈折率微粒子の含有量としては、高屈折率層全体としての屈折率が上記の屈折率を満たすように適宜設定される。
【００７１】
電離放射線硬化樹脂として紫外線硬化樹脂を用いる場合、高屈折率層は光重合開始剤を含有していてもよい。また、高屈折率層は、所望の物性に応じて各種添加剤を含有していてもよい。なお、光重合開始剤、各種添加剤については、上記高屈折率層と同様とすることができる。
【００７２】
高屈折率層の厚みは、屈折率に応じて異なるが、５０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲内であることが好ましい。高屈折率層の厚みが上記のように薄い場合、高屈折率層に含有されるバインダー樹脂の種類によっては空気中の酸素により硬化反応が阻害される場合がある。このような場合、密着性の低下が懸念される。これに対し本発明においては、高屈折率層の下に飛散防止層が形成されているため、高屈折率層の厚みが薄くとも密着性を確保することができる。
【００７３】
高屈折率層の形成方法としては、高屈折率層用硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化させる方法が挙げられる。
なお、高屈折率層の形成方法については、「５．表示装置用前面板の製造方法」に記載するので、ここでの説明は省略する。
【００７４】
（３）中屈折率層
本発明における中屈折率層は、有機層であり、高屈折率層よりも屈折率が低く、低屈折率層よりも屈折率が高いものである。
【００７５】
中屈折率層の屈折率としては、高屈折率層の屈折率よりも低く、低屈折率層の屈折率よりも高ければよい。具体的には、中屈折率層の屈折率は１．４〜１．６の範囲内であることが好ましい。
【００７６】
中屈折率層としては、上記の屈折率を満たし、透明性を有する有機層であれば特に限定されるものではない。具体的には、上記高屈折率層と同様の材料を用いることができる。
【００７７】
中屈折率層の厚みは、屈折率に応じて異なるが、可視光領域における反射を低減する観点から、５０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲内であることが好ましい。
【００７８】
中屈折率層の形成方法としては、中屈折率層用硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化させる方法が挙げられる。
なお、中屈折率層の形成方法については、「５．表示装置用前面板の製造方法」に記載するので、ここでの説明は省略する。
【００７９】
３．ガラス基板
本発明におけるガラス基板は、飛散防止層、および反射防止層を支持するものである。
【００８０】
ガラス基板に用いられるガラスとしては、例えば、ソーダガラス、石英ガラス、無アルカリガラス等を挙げることができる。また、ガラス基板としては、強化ガラス基板を用いることができる。本発明においては、中でも、強化ガラス基板を用いることが好ましい。
【００８１】
ここで、「強化ガラス」とは、ガラスの表面に圧縮応力層が設けられたものである。圧縮応力層は、例えばガラス中のナトリウムをカリウムに置換することにより形成される。このような圧縮応力層がガラスの表面に形成されていることにより、強化ガラス基板に何らかの衝撃が加えられた場合に強化ガラス基板が割れるのを抑制することができる。
圧縮応力層の厚みは特に限定されることはなく、要求特性に応じて適宜設定される。例えば、ガラスにある程度の強度を付与しながら、ガラスの切断性および生産性も確保される必要がある場合、圧縮応力層の厚みは約５μｍ〜１０μｍの範囲内に設定される。また、ガラスにさらに高い強度を付与することが求められる場合、圧縮応力層の厚みは、約１０μｍ〜３５μｍの範囲内に設定されてもよく、３５μｍ以上に設定されてもよい。圧縮応力層の厚みが約１０μｍ〜３５μｍの範囲内である場合は、ガラスはある程度の切断性を有している。一方、圧縮応力層の厚みが３５μｍ以上である場合は、仮にダイヤモンドカッター等の高性能の切断手段が用いられる場合であっても、ガラスを切断することが困難になる。そのため、圧縮応力層の厚みを３５μｍ以上にすることが求められる場合、所望の形状に切り出された後のガラスにイオン交換処理を施すことにより、ガラスの表面に圧縮応力層が形成されることが好ましい。
このように表面に圧縮応力層が形成されたガラスの例としては、コーニング社のＧｏｒｉｌｌａ  Ｇｌａｓｓ（ゴリラガラス）や、旭硝子社のＤｒａｇｏｎｔｒａｉｌ（ドラゴントレイル）等が挙げられる。
【００８２】
強化ガラス基板の材料としては、例えば化学強化ガラスを用いることができ、透明性や耐久性等に応じて適宜選択される。
【００８３】
ガラス基板の厚みとしては、表示装置用前面板として使用可能な程度であればよく、表示装置用前面板に求められる強度や、表示装置用前面板が使用される表示装置の寸法等に応じて適宜設定され、例えば０．１ｍｍ〜１．５ｍｍの範囲内にすることができる。
【００８４】
４．表示装置用前面板
本発明の表示装置用前面板は、図２（ａ）、（ｂ）に例示するような多面付け前面板であってもよい。飛散防止層、および反射防止層はウェットプロセスにより形成可能であることから、大面積であっても安価かつ容易に均一な層を形成することができるので、多面付けが容易である。多面付け前面板の大きさは、特に限定されるものではないが、例えば２２００ｍｍ×２５００ｍｍまでの大きさであれば適用可能である。一方、従来のように表示装置用前面板に飛散防止フィルムを貼り合わせる場合には、上記のような大型の基板には適用が困難である。
【００８５】
図４は本発明の表示装置用前面板を備える表示装置の一例を示す概略断面図である。図４に示す表示装置１０においては、表示パネル１１の観察者側に粘着層または接着層１２を介して表示装置用前面板１が貼り合わされている。表示装置用前面板１は、反射防止層４側が観察者側になり、反射防止層４側と反対側が表示パネル１１と対向するように配置されている。なお、表示装置用前面板１は、上述の図１に示すものと同様である。
【００８６】
本発明の表示装置用前面板は、例えば液晶表示装置、プラズマディスプレイパネル、有機ＥＬ表示装置、無機ＥＬ表示装置、電子ペーパー等の表示装置に用いることができる。また、本発明の表示装置用前面板の用途としては、例えばスマートフォン、携帯電話、タブレット端末、ノートパソコン、テレビ、デジタルサイネージ、ウェアラブル端末等を挙げることができる。中でも、飛散防止層および反射防止層はウェットプロセスにより形成可能であることから、大面積であっても安価かつ容易に均一な層を形成することができるので、本発明の表示装置用前面板は大面積の表示装置に好適である。特に、テレビが好ましく、大型テレビがより好ましい。
【００８７】
５．表示装置用前面板の製造方法
本発明の表示装置用前面板の製造方法としては、例えば、ガラス基板上に直に飛散防止層を形成する飛散防止層形成工程と、上記飛散防止層上に直に１層以上の有機層を有する反射防止層を形成する反射防止層形成工程とを有する方法が挙げられる。
【００８８】
ここで、「ガラス基板上に直に飛散防止層を形成する」とは、ガラス基板と飛散防止層とが直に接しており、ガラス基板と飛散防止層との間に例えば接着層や粘着層、透明基材等を形成しないことをいう。
また、「飛散防止層上に直に反射防止層を形成する」とは、飛散防止層と反射防止層とが直に接しており、飛散防止層と反射防止層との間に例えば接着層や粘着層、透明基材等を形成しないことをいう。
以下、各工程について説明する。
【００８９】
（１）飛散防止層形成工程
本発明における飛散防止層形成工程は、ガラス基板上に直に飛散防止層を形成する工程である。
飛散防止層の形成方法としては、例えばガラス基板上に直に飛散防止層用硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化させて飛散防止層を形成する方法が挙げられる。
【００９０】
飛散防止層用硬化性樹脂組成物は、例えば樹脂成分と各種添加剤と溶媒とを含有するものである。溶媒としては、各成分を溶解もしくは分散させることが可能であれば特に限定されるものではなく、適宜選択される。
【００９１】
塗布方法としては、例えば、ダイコート法、スピンコート法、ディップコート法、ロールコート法等のガラス基板の全域に飛散防止層用硬化性樹脂組成物を塗布する方法や、インクジェット法等のガラス基板上に飛散防止層用硬化性樹脂組成物を吐出する方法、グラビア印刷法、オフセット印刷法、シルクスクリーン印刷法等の印刷法等が挙げられる。
飛散防止層用硬化性樹脂組成物の塗布後は、溶媒の除去のために乾燥させてもよい。
硬化方法としては、樹脂成分の種類に応じて異なるが、例えば熱あるいは紫外線または電子線の照射が挙げられる。
【００９２】
また、表面に凹凸を有する飛散防止層を形成する場合には、例えばガラス基板上に飛散防止層用硬化性樹脂組成物を塗布し乾燥させた後、塗膜に凹凸形成用基板または凹凸形成用ロールを圧着させた状態で硬化し、凹凸形成用基板または凹凸形成用ロールを剥離する方法や、飛散防止層表面を研磨する方法が挙げられる。
【００９３】
また、飛散防止層をガラス基板上に直にパターン状に形成する場合は、例えば上述した飛散防止層用硬化性樹脂組成物を用いて、スクリーン印刷法、グラビア印刷法、インクジェット法等の印刷法を用いてパターン状に形成してもよい。また例えば、飛散防止層用感光性樹脂組成物を用いてフォトリソグラフィ法によりパターン状に形成してもよい。フォトリソグラフィ法については、一般的なパターン状の樹脂層の形成方法に用いられるものと同様とすることができる。
【００９４】
なお、飛散防止層のその他の点については、上記「１．飛散防止層」に詳しく記載したので、ここでの説明は省略する。
【００９５】
（２）反射防止層形成工程
本発明における反射防止層形成工程は、飛散防止層上に直に、１層以上の有機層を有する反射防止層を形成する工程である。本発明においては、有機層のみを有する反射防止層を形成することが好ましい。
【００９６】
反射防止層形成工程としては、例えば、飛散防止層上に直に低屈折率層を形成する低屈折率層形成工程を有する工程や、飛散防止層上に直に高屈折率層を形成する高屈折率層形成工程と、高屈折率層上に低屈折率層を形成する低屈折率層形成工程とを有する工程、飛散防止層上に直に中屈折率層を形成する中屈折率層形成工程と、中屈折率層上に高屈折率層を形成する高屈折率層形成工程と、高屈折率層上に低屈折率層を形成する低屈折率層形成工程とを有する工程、飛散防止層上に直に高屈折率層を形成する高屈折率層形成工程と、高屈折率層上に中屈折率層を形成する中屈折率層形成工程と、中屈折率層上に低屈折率層を形成する低屈折率層形成工程とを有する工程等とすることができる。
以下、反射防止層形成工程における各工程について説明する。
【００９７】
（ａ）低屈折率層形成工程
低屈折率層の形成方法としては、例えば低屈折率層用硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化させて低屈折率層を形成する方法が挙げられる。
【００９８】
低屈折率層用硬化性樹脂組成物は、例えば樹脂成分と低屈折率微粒子と各種添加剤と溶媒とを含有するものである。溶媒としては、各成分を溶解もしくは分散させることが可能であれば特に限定されるものではなく、例えば特開２０１３−１４２８１７号公報、特開２０１２−１５０２２６号公報、特開２０１１−１７０２０８号公報、特開２００９−８６３６０号公報、特開２００８−９３４７号公報等に記載されている低屈折率層の形成に用いられるものを挙げることができる。
【００９９】
塗布方法としては、飛散防止層の形成方法と同様とすることができる。
低屈折率層用硬化性樹脂組成物の塗布後は、溶媒の除去のために乾燥させてもよい。
【０１００】
硬化方法としては、樹脂成分の種類に応じて異なるが、例えば熱あるいは紫外線や電子線等の電離放射線の照射が挙げられる。硬化条件としては、例えば特開２０１３−１４２８１７号公報、特開２０１２−１５０２２６号公報等に記載されている条件を適用することができる。また、塗膜を硬化させる際には、酸素による硬化阻害を抑制するために、不活性ガス雰囲気、例えば窒素ガス雰囲気とすることが好ましい。いわゆる、窒素パージを行うことで、低屈折率層の耐擦傷性を高めることができる。
【０１０１】
また、電離放射線の照射後に、耐擦傷性や硬度を高めるために、加熱を行ってもよい。加熱温度としては、例えば５０℃〜２３０℃の範囲内とすることができる。
【０１０２】
なお、低屈折率層のその他の点については、上記「２．反射防止層  （１）低屈折率層」に詳しく記載したので、ここでの説明は省略する。
【０１０３】
（ｂ）高屈折率層形成工程
高屈折率層の形成方法としては、例えば高屈折率層用硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化させて高屈折率層を形成する方法が挙げられる。
【０１０４】
高屈折率層用硬化性樹脂組成物は、例えば樹脂成分と高屈折率微粒子と各種添加剤と溶媒とを含有するものである。溶媒としては、各成分を溶解もしくは分散させることが可能であれば特に限定されるものではなく、例えば特開２０１３−１４２８１７号公報、特開２０１２−１５０２２６号公報、特開２０１１−１７０２０８号公報等に記載されている高屈折率層の形成に用いられるものを挙げることができる。
【０１０５】
高屈折率層の形成方法は、上記低屈折率層の形成方法と同様とすることができる。
【０１０６】
飛散防止層上に高屈折率層を形成する場合には、飛散防止層形成工程および高屈折率層形成工程では、飛散防止層用硬化性樹脂組成物の塗膜上に高屈折率層用硬化性樹脂組成物を塗布した後、飛散防止層用硬化性樹脂組成物の塗膜および高屈折率層用硬化性樹脂組成物の塗膜を硬化させてもよい。すなわち、飛散防止層用硬化性樹脂組成物の塗膜が未硬化または半硬化の状態で高屈折率層用硬化性樹脂組成物を塗布してもよい。この場合、密着性が良好な飛散防止層および高屈折率層を得ることができる。
このような場合において、飛散防止層の屈折率は、高屈折率層の屈折率との差が小さいことが好ましく、例えば高屈折率層の屈折率との差が０．０３以内、中でも０．０１５以内であることが好ましい。
【０１０７】
なお、高屈折率層のその他の点については、上記「２．反射防止層  （２）高屈折率層」に詳しく記載したので、ここでの説明は省略する。
【０１０８】
（ｃ）中屈折率層形成工程
中屈折率層の形成方法としては、例えば中屈折率層用硬化性樹脂組成物を塗布し、硬化させて中屈折率層を形成する方法が挙げられる。
中屈折率層用硬化性樹脂組成物としては、上記の高屈折率層用硬化性樹脂組成物と同様とすることができる。
また、中屈折率層の形成方法は、上記低屈折率層の形成方法と同様とすることができる。
なお、中屈折率層のその他の点については、上記「２．反射防止層  （３）中屈折率層」に詳しく記載したので、ここでの説明は省略する。
【０１０９】
（ｄ）その他
本発明においては、飛散防止層上に直に上述の反射防止層を形成することができれば特に限定されないが、例えば、飛散防止層が、ガラス基板上に直にパターン状に形成されている場合は、通常、反射防止層は、飛散防止層上およびガラス基板上に直に形成される。具体的には、上述した低屈折率層用硬化性樹脂組成物、高屈折率層用硬化性樹脂組成物、中屈折率層用硬化性樹脂組成物等を飛散防止層が形成されたガラス基板上に直に塗布し、硬化させることにより、反射防止層を形成することができる。
本発明における反射防止層は、飛散防止層に比べて薄いことから、多面付け基板である場合は、切断部分においてガラス基板上に直に反射防止層が形成されている場合も、切断することができる。
【０１１０】
本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【０１１１】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明する。
【０１１２】
[参考例１〜２、実施例１〜５]
（硬化性樹脂組成物Ａの調製）
重合槽中にメタクリル酸メチル（ＭＭＡ）を６３重量部、アクリル酸（ＡＡ）を１２重量部、メタクリル酸−２−ヒドロキシエチル（ＨＥＭＡ）を６重量部、ジエチレングリコールジメチルエーテル（ＤＭＤＧ）を８８重量部仕込み、攪拌し溶解させた後、２，２′-アゾビス（２−メチルブチロニトリル）を７重量部添加し、均一に溶解させた。その後、窒素気流下、８５℃で２時間攪拌し、更に１００℃で１時間反応させた。得られた溶液に、更にメタクリル酸グリシジル（ＧＭＡ）を７重量部、トリエチルアミンを０．４重量部、及びハイドロキノンを０．２重量部添加し、１００℃で５時間攪拌し、共重合樹脂溶液（固形分５０％）を得た。
【０１１３】
次に、下記の材料を室温で攪拌、混合して硬化性樹脂組成物Ａとした。
＜硬化性樹脂組成物Ａの組成＞
・上記共重合樹脂溶液（固形分５０％）：１６重量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（サートマー社  ＳＲ３９９）：２４重量部
・オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂（油化シェルエポキシ社  エピコート１８０Ｓ７０）：４重量部
・２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン：４重量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル：５２重量部
【０１１４】
（飛散防止層の形成）
厚み０．７ｍｍの強化ガラス基板（旭硝子（株）  Ｄｒａｇｏｎｔｒａｉｌ）上に、上記硬化性樹脂組成物Ａを塗布し、フォトマスクを介して露光し、現像し、その後、１８０℃の雰囲気下に３０分間放置することにより加熱処理して、厚さ２μｍ〜５０μｍの飛散防止層を形成した。
【０１１５】
（反射防止層の形成）
反射防止層には下記の材料を用いた。
高屈折率層材  ：ＫＺ６６６１（ＪＳＲ社製、ｎ＝１．６０）
低屈折率層材  ：ＴＵ２２０５（ＪＳＲ社製、ｎ＝１．３５）
飛散防止層が形成された強化ガラス基板上にＪＳＲ社製のＫＺ６６６１をスピンコーティングし、窒素雰囲気下で露光照度３０ｍＷの高圧水銀ランプを用いて３０秒間露光し、２３０℃で２０分間熱処理して、厚さ１５０ｎｍの高屈折率層を形成した。続いて、ＪＳＲ社製のＴＵ２２０５を用いて、高屈折率層の形成と同様の工程で、高屈折率層上に厚さ１００ｎｍの低屈折率層を形成し、表示装置用前面板を得た。
【０１１６】
[比較例]
飛散防止層を形成しないこと以外は、上記参考例１〜２、および実施例１〜５と同様にして、反射防止層を形成した。
【０１１７】
［評価］
土台の上に強化ガラス基板表面を下にして置き、高さ５０ｃｍから金属球を落下させ、飛散の有無を確認した。各サンプルについて同条件で５回、評価を行った。結果を表１に示す。
【０１１８】
【表１】
0006550705.tif 000002
【０１１９】
◎：５回目の試験後も強化ガラス基板については破損されず、飛散も生じなかった。
○：５回目の試験後、強化ガラス基板については破損（亀裂）が観察されたが、飛散を生じなかった。
△：１回目の試験後においては、強化ガラス基板については破損されず、飛散も生じなかったが、２回目〜５回目の試験後に、強化ガラス基板の破損および飛散が観察された。
×：１回目の試験後に強化ガラス基板が破損して、飛散が生じた。
【０１２０】
実施例１においては、１回目の試験後においては、強化ガラス基板については破損されず、飛散も生じなかったが、２回目の試験後に強化ガラス基板の破損および飛散が観察された。また、実施例２においては、１〜４回目の試験後においては、強化ガラス基板については破損されず、飛散も生じなかったが、５回目の試験後に強化ガラス基板の破損および飛散が観察された。
【０１２１】
実施例１〜５、比較例に示すように、飛散防止層を形成した場合は、飛散防止機能を付与することが確認できた。
また、参考例１〜２に示すように、飛散防止層の厚みが薄い場合は、強化ガラス基板に追従して破損され、十分に飛散防止機能を発揮することが困難な場合があることが確認された。
【符号の説明】
【０１２２】
１  …  表示装置用前面板
２  …  ガラス基板
３  …  飛散防止層
４  …  反射防止層
５  …  高屈折率層
６  …  低屈折率層
【図１】
0006550705.tif 000003
【図２】
0006550705.tif 000004
【図３】
0006550705.tif 000005
【図４】
0006550705.tif 000006