(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス板と、
前記ガラス板の主表面の少なくとも片方に形成されている、低反射コーティングと、
を有する低反射コーティング付き基板であって、
前記低反射コーティングは、中実な球状で平均粒径が８０〜１５０ｎｍであるシリカ微粒子が、シリカを主成分とするバインダによって固定されてなる多孔質膜であって、
前記バインダは、アルミニウム化合物をさらに含み、
前記低反射コーティングにおける成分の含有率が、質量％表示で、
前記シリカ微粒子                            ５５〜７０％
前記バインダにおけるシリカ                  ２５〜４０％
前記アルミニウム化合物をＡｌ2Ｏ3に換算して  ２〜７％
であり、
前記低反射コーティングの膜厚が８０〜８００ｎｍであり、
前記低反射コーティングを基板に施すことにより得られる透過率ゲインが２．５％以上であり、
前記ガラス板において、前記低反射コーティングが形成されている前記主表面は、該低反射コーティングが形成されていない状態で、５．１％以上の平均反射率（波長域３８０〜８５０ｎｍにおける平均反射率）を有し、
前記ガラス板において、前記低反射コーティングが形成されている前記主表面の最表面における酸化錫の濃度が、３．５〜２４質量％である、
低反射コーティング付き基板。
ここで、透過率ゲインは、波長域３８０〜８５０ｎｍにおける平均透過率に関し、前記低反射コーティングを施す前の前記ガラス板の平均透過率に対する、前記低反射コーティング付き基板の平均透過率の増分、である。
【請求項２】
前記シリカ微粒子の平均粒径が１００ｎｍを超え、１５０ｎｍ以下である、
請求項１に記載の低反射コーティング付き基板。
【請求項３】
前記バインダにおけるシリカが、前記低反射コーティングを形成するためのコーティング液に添加された、加水分解性シリコン化合物または加水分解性シリコン化合物の加水分解物に由来し、
該加水分解性シリコン化合物が、下記式（Ｉ）に示す化合物を含む、
請求項１に記載の低反射コーティング付き基板。
ＳｉＸ4    （Ｉ）
ここで、Ｘは、アルコキシル基、アセトキシ基、アルケニルオキシ基、アミノ基及びハロゲン原子から選ばれる少なくとも１つである。
【請求項４】
前記加水分解性シリコン化合物が、テトラアルコキシシランである、
請求項３に記載の低反射コーティング付き基板。
【請求項５】
前記アルミニウム化合物が、前記低反射コーティングを形成するためのコーティング液に添加された、ハロゲン化アルミニウムに由来する、
請求項１に記載の低反射コーティング付き基板。
【請求項６】
前記ハロゲン化アルミニウムが、塩化アルミニウムである、
請求項５に記載の低反射コーティング付き基板。
【請求項７】
前記低反射コーティング付き基板において、波長域３８０〜８５０ｎｍにおける平均透過率に関し、
ＪＩＳ  Ｃ８９１７：２００５付属書４に規定する塩水噴霧試験を施した後の平均透過率に対する、該塩水噴霧試験を施す前の平均透過率の差の絶対値が０．１５％以下である、
請求項１に記載の低反射コーティング付き基板。
【請求項８】
前記ガラス板は、フロート法によって製造されたフロート板ガラスであり、
前記低反射コーティングは、前記ガラス板の主表面のうち、フロート法による製造時にフロートバスに接していた主表面上に形成されている、
請求項１に記載の低反射コーティング付き基板。
【請求項９】
前記低反射コーティングが前記ガラス板の片方の主表面に形成されており、
前記ガラス板の前記低反射コーティングが形成されている前記主表面とは反対側の主表面に、透明導電膜が形成されている、
請求項１に記載の低反射コーティング付き基板。
【請求項１０】
前記ガラス板において、前記低反射コーティングが形成されている前記主表面の最表面における酸化錫の濃度が、５〜１８質量％である、
請求項１に記載の低反射コーティング付き基板。
【請求項１１】
前記ガラス板において、前記低反射コーティングが形成されている前記主表面の最表面における酸化錫の濃度が、６〜１８質量％である、
請求項１に記載の低反射コーティング付き基板。
【請求項１２】
前記低反射コーティングにおいて、前記アルミニウム化合物の含有率が、前記アルミニウム化合物をＡｌ2Ｏ3に換算して、５．２質量％以上７質量％以下である、
請求項１に記載の低反射コーティング付き基板。
【請求項１３】
請求項１に記載の低反射コーティング付き基板の製造方法であって、
前記低反射コーティングを形成するためのコーティング液を、前記基板に塗布した後の加熱工程において、
前記基板の表面が経験する最高温度が３５０℃以下であり、
前記基板の表面が２００℃以上の温度にある時間が５分以下である、
低反射コーティング付き基板の製造方法。
【請求項１４】
請求項１に記載の低反射コーティング付き基板の製造方法であって、
前記低反射コーティングを形成するためのコーティング液を、前記基板に塗布した後の加熱工程において、
前記基板の表面が経験する最高温度が２５０℃以下であり、
前記基板の表面が１００℃以上の温度にある時間が２分以下である、
低反射コーティング付き基板の製造方法。
【請求項１５】
前記コーティング液が塩化アルミニウムを含む、
請求項１３又は１４に記載の低反射コーティング付き基板の製造方法。
【請求項１６】
光電変換装置であって、
請求項１〜１２のいずれか一項に記載の低反射コーティング付き基板を含み、
前記低反射コーティングが形成されている前記主表面に光が入射する、光電変換装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、低反射コーティング、該低反射コーティングを備えた低反射コーティング付き基板および光電変換装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ガラス、セラミックなどの基材の表面には、その基材の用途における機能改善を目的として、光をより多く透過させるため、または反射による眩惑を防止するために、低反射コーティングが形成される。【０００３】
低反射コーティングは、車両用ガラス、ショーウィンドウまたは光電変換装置に用いるガラス板などに利用される。光電変換装置の一種であるいわゆる薄膜型太陽電池では、下地膜、透明導電膜、アモルファスシリコンなどからなる光電変換層および裏面薄膜電極を順次積層したガラス板を用いるが、低反射コーティングはこれら積層した主表面とは対向する主表面、つまり太陽光が入射する側の主表面に形成される。このように太陽光の入射側に低反射コーティングが形成された太陽電池では、より多くの太陽光が光電変換層または太陽電池素子に導かれ、その発電量が向上することになる。【０００４】
最もよく用いられる低反射コーティングは、真空蒸着法、スパッタリング法、化学蒸着法（ＣＶＤ法）などによる誘電体膜であるが、シリカ微粒子などの微粒子を含む微粒子含有膜が低反射コーティングとして用いられることもある。微粒子含有膜は、微粒子を含むコーティング液を、ディッピング法、フローコート法、スプレー法などによって透明基体上に塗布することにより成膜される。【０００５】
例えば、特開２０１４−０３２２４８号公報（特許文献１）には、表面凹凸を有するガラス板に、微粒子とバインダ前駆体とを含むコーティング液をスプレー法により塗布し、これに４００℃で乾燥後６１０℃で８分間の焼成工程を実施することにより形成された光電変換装置用カバーガラスが開示されている。このカバーガラスに施された低反射コーティングによって、波長３８０〜１１００ｎｍの光の平均透過率を少なくとも２．３７％向上させることができる。【０００６】
さらに、特表２０１３−５３７８７３号公報（特許文献２）には、テトラエトキシシラン、アルミニウムアセチルアセトネート、コロイドシリカを含むゾルを浸漬被覆法によりガラス板に付着させ、６８０℃１８０秒間の熱処理を行なうことで被覆されたガラス基板が開示されている。このガラス基板に施された低反射コーティングによって、波長３００〜１１００ｎｍの光の平均透過率を２．５％向上させることができる。【０００７】
また、特開２０１４−０１５５４３号公報（特許文献３）には、平均一次粒子径より分散粒子径が大きく、形状係数とアスペクト比が１よりある程度以上大きいコロイダルシリカと、テトラアルルコキシシラン、硝酸アルミニウムを含むコーティング組成物をスピンコーターを用いて塗布し、１００℃１分間の乾燥工程による被膜付きシリコン基板が開示されている。この被膜による光の平均透過率の向上については記載がないが、この被膜は１．４０以下の屈折率を有する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２０１４−０３２２４８号公報
【特許文献２】特表２０１３−５３７８７３号公報
【特許文献３】特開２０１４−０１５５４３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ところで、低反射コーティングの効果について、透過率ゲインと呼ばれる性能が重要である。透過率ゲインとは、透過率、例えば所定の波長範囲の平均透過率に関し、低反射コーティングを施すことによる透過率の増分のことである。具体的には、基板に該コーティングを施した際の透過率から、該コーティングを施す前のそれを差し引いた値として求める。【００１０】
たとえば、光電変換装置にガラス板が用いられ、その光入射側表面に低反射コーティングが施される場合、透過率ゲインが高いほど、そのガラス板を透過する光線量が増加し、光電変換装置の効率が向上する。しかしながら、特許文献１に記載のカバーガラスや、特許文献２に記載のガラス基板は、透過率ゲインをさらに向上させる余地があった。【００１１】
一方、ガラス板を用いた光電変換装置を製造する際、ガラス板にあらかじめ低反射コーティングを施したものを用いて光電変換装置を製造することが行われてきた。しかし、この方法では、施された低反射コーティングが、光電変換装置の製造工程において意図せず破損・汚損したり、低反射特性が劣化したりすることがあった。【００１２】
本発明は、かかる事情に鑑み、低反射コーティングを施していないガラス板を用いて光電変換装置を製造した後、その光電変換装置への光が入射する表面に施すのに適した低反射コーティングを提供することを目的とする。さらに、本発明は、そのような低反射コーティングを備えた低反射コーティング付き基板および光電変換装置を提供することも目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明は、基板の主表面の少なくとも片方に施され得る低反射コーティングにおいて、
前記低反射コーティングは、中実な球状で平均粒径が８０〜１５０ｎｍであるシリカ微粒子が、シリカを主成分とするバインダによって固定されてなる多孔質膜であって、
前記バインダはアルミニウム化合物をさらに含み、
前記低反射コーティングにおける成分の含有率が、質量％表示で、
前記シリカ微粒子                            ５５〜７０％
前記バインダにおけるシリカ                  ２５〜４０％
前記アルミニウム化合物をＡｌ2Ｏ3に換算して  ２〜７％
であり、
前記低反射コーティングの膜厚が８０〜８００ｎｍであり、
前記低反射コーティングを基板に施すことにより得られる透過率ゲインが２．５％以上である、低反射コーティングを提供する。ここで、透過率ゲインは、波長域３８０〜８５０ｎｍにおける平均透過率に関し、前記低反射コーティングを施す前の前記基板の平均透過率に対する、前記低反射コーティングを施した前記基板の平均透過率の増分、として定義する。【００１４】
また、本発明は、
ガラス板と、
前記ガラス板の主表面の少なくとも片方に形成されている、上記本発明の低反射コーティングと、
を有する低反射コーティング付き基板を提供する。【００１５】
また、本発明は、
ガラス板を備えた光電変換装置であって、
前記ガラス板の光が入射する主表面に、上記本発明の低反射コーティングが形成されている、光電変換装置を提供する。
【発明の効果】
【００１６】
本発明の低反射コーティングは、所定の範囲の平均粒径を有する中実なシリカ微粒子と、シリカを主成分とするバインダとを、所定の含有率で含むので、透過率ゲインが２．５％以上である。さらに本発明の低反射コーティングのバインダはアルミニウム化合物を所定の含有率で含むので、本発明の低反射コーティングは、コーティング液を基板に塗布したのちの加熱工程において高温での処理を行なうことなく、高い耐塩水噴霧性を有する。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】実施例１で得た低反射コーティング付き基板を電界放射型走査型電子顕微鏡（ＦＥ−ＳＥＭ）で観察した結果を示す図である。
【図２】参考例１〜９の低反射コーティング付き基板において、低反射コーティングを施す前のガラス板の一方の主表面の平均反射率と、そのガラス板の主表面に低反射コーティングを施した後の、低反射コーティング面における反射率ロスおよび透過率ゲインとの関係を示すグラフである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
本発明の低反射コーティングは、中実な球状のシリカ微粒子が、シリカを主成分とするバインダによって固定されてなる多孔質膜からなる。前記バインダは、アルミニウム化合物をさらに含む。前記多孔質膜、すなわち低反射コーティングは、物理的厚さが８０〜８００ｎｍであり、好ましくは１００ｎｍを超え５００ｎｍ以下であり、より好ましくは１００ｎｍを超え１５０ｎｍ以下である。【００１９】
前記シリカ微粒子は、平均粒径が８０〜１５０ｎｍであり、好ましくは１００ｎｍを超え１５０ｎｍ以下の略球状の一次粒子である。シリカは有機ポリマ材料より硬度が高く、屈折率が比較的低いため、バインダとシリカ微粒子からなる多孔質層の見かけの屈折率をさらに低減することができる。さらに、シリカからなる略球形で粒径がよく揃った一次粒子は、商業的スケールで低コストで生産されており、量・質・コスト的な入手性に優れるからである。ここで、シリカ微粒子の「平均粒径」とは、レーザー回折式粒度分布測定法により測定した粒度分布において、体積累積が５０％に相当する粒径（Ｄ５０）を意味する。  【００２０】
前記バインダに含まれるアルミニウム化合物は、前記低反射コーティングを形成するためのコーティング液に添加されたハロゲン化アルミニウムに由来することが好ましく、好ましいハロゲン化アルミニウムは塩化アルミニウムである。【００２１】
前記低反射コーティングにおけるアルミニウム化合物の含有率は、アルミニウム化合物をＡｌ2Ｏ3に換算して、２〜７質量％であり、５〜７質量％であることが好ましい。【００２２】
低反射コーティングに上記の含有率でアルミニウム化合物が含有されることによって、低反射コーティングの塩水噴霧に対する耐久性が増加する。含有率が２質量％より少ない場合、前記塩水噴霧耐久性が劣化し、一方、７質量％を超える場合、低反射コーティングの透過率ゲインが低下する。【００２３】
さらに、コーティング液に添加するハロゲン化アルミニウムが塩化アルミニウムである場合には、前記した塩水噴霧耐久性を増加させる効果は、塗布後の熱処理がより緩やかな条件で発現する。具体的には、コーティング液の塗布後の加熱工程（乾燥・硬化工程）において、コーティング液を塗布した基板の表面が経験する最高温度が３５０℃以下、かつ該基板表面温度が２００℃以上の温度にある時間が５分以下である、好ましくは基板の表面が経験する最高温度が２５０℃以下、かつ該基板表面温度が１００℃以上の温度にある時間が２分以下である低温条件においても、該塩水噴霧試験を施す前の平均透過率の差の絶対値が０．１５％以下である塩水噴霧耐久性に優れたコーティングを得ることができる。【００２４】
前記低反射コーティングにおける前記シリカ微粒子の含有率は、５５〜７０質量％であり、６０〜７０質量％であることが好ましい。前記バインダにおけるシリカの含有率は、２５〜４０質量％であり、３０〜４０質量％であることが好ましい。【００２５】
前記低反射コーティングにおける前記シリカ微粒子と、バインダにおけるシリカの含有比（シリカ微粒子：バインダにおけるシリカ）は、質量比で表わして７０：３０〜３０：７０の範囲であり、好ましくは７０：３０〜６０：４０の範囲である。前記シリカ微粒子の含有比が大きくなるほど本発明の低反射コーティングの反射率ゲインを大きくすることができる。前記シリカ微粒子間や該微粒子と透明基板との間の空隙が大きくなるからである。しかし、シリカ微粒子の含有比が限度を超えて大きい場合、本発明の低反射コーティングの耐久性が劣化する。前記バインダにおいてシリカは前記シリカ微粒子間や該微粒子と透明基板との間を接着する働きがあるが、前記シリカ微粒子の含有比が大きすぎると、その効果が乏しくなるからである。他方、前記シリカ微粒子の含有比が限度を超えて小さくなると、前述の空隙が小さくなりすぎるため、本発明の低反射コーティングの反射率ゲインが低下してしまう。【００２６】
バインダにおけるシリカの供給源としては、シリコンアルコキシドに代表される加水分解性シリコン化合物を用いることができる。シリコンアルコキシドとしては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシランを例示できる。これら加水分解性シリコン化合物は、いわゆるゾルゲル法により加水分解及び縮重合してバインダとすればよい。【００２７】
加水分解性シリコン化合物の加水分解は、適宜実施することができるが、前記のシリカ微粒子が存在する溶液中で実施することが好ましい。その微粒子の表面に存在するシラノール基と、シリコンアルコキシドなど加水分解性シリコン化合物が加水分解して生成したシラノール基との縮重合反応が促進され、シリカ微粒子の結合力向上に寄与するバインダの割合が高まるためである。具体的には、シリカ微粒子を含む溶液を撹拌しながら、加水分解触媒及びシリコンアルコキシドを順次添加することにより、コーティング液を調製することが好ましい。【００２８】
なお、前記加水分解触媒には酸・塩基いずれを用いることもできるが、酸、特に塩酸、硝酸、硫酸およびリン酸等の無機酸を用いることが好ましく、塩酸を用いることがさらに好ましい。塩基性より酸性の方が、シリカ微粒子の分散性がよく、またコーティング液の安定性にも優れるからである。さらに、塩酸由来の塩素イオンは、コーティング液中での塩素イオンの濃度を高めるため、前述したコーティング液に添加した塩化アルミニウムがもたらす効果をより促進するからである。【００２９】
これにより、本発明の低反射コーティングにおいては、透過率ゲインを２．５％以上、好ましくは２．６％以上、さらには２．７％以上、とすることができるとともに、前述の優れた塩水噴霧耐久性を示す。【００３０】
本発明の低反射コーティングは、コーティング液を塗布・乾燥・硬化させて形成することができる。これらコーティング液を供給する方法には、公知の任意の方法、例えばスピンコーティング、ロールコーティング、バーコーティング、ディップコーティング、スプレーコーティングなど、を用いることができるが、スプレーコーティングは量産性の点で優れ、ロールコーティングやバーコーティングが量産性に加えて塗膜外観の均質性の点でより適している。【００３１】
本発明の低反射コーティングを好適に施すことができる基板は、コーティングを施していないガラス板であってよい。例えば、ガラス板と、該ガラス板の主表面の少なくとも片方に形成されている本発明の低反射コーティングとを有する低反射コーティング付き基板の提供が可能である。このガラス板は、その主表面の算術平均粗さＲａがたとえば１ｎｍ以下、好ましくは０．５ｎｍ以下の平滑性を有するフロート板ガラスであってもよい。ここで算術平均粗さＲａは、ＪＩＳ  Ｂ０６０１−１９９４に規定された値である。【００３２】
一方で、ガラス板は、その表面に凹凸を有する型板ガラスであってもよく、その凹凸の平均間隔Ｓｍは０．３ｍｍ以上、さらに０．４ｍｍ以上、特に０．４５ｍｍ以上であることが好ましく、２．５ｍｍ以下、さらに２．１ｍｍ以下、特に２．０ｍｍ以下、とりわけ１．５ｍｍ以下であることが好ましい。ここで、平均間隔Ｓｍは、粗さ曲線が平均線と交差する点から求めた山谷一周期の間隔の平均値を意味する。さらには型板ガラス板の表面凹凸は、上記範囲の平均間隔Ｓｍとともに、０．５μｍ〜１０μｍ、特に１μｍ〜８μｍの最大高さＲｙを有することが好ましい。ここで平均間隔Ｓｍと最大高さＲｙは、ＪＩＳ（日本工業規格）  Ｂ０６０１−１９９４に規定された値である。【００３３】
なお、ガラス板は、通常の型板ガラスや建築用板ガラスと同様の組成であってよいが、着色成分を極力含まないことが好ましい。ガラス板において、代表的な着色成分である酸化鉄の含有率は、Ｆｅ2Ｏ3に換算して、０．０６質量％以下、特に０．０２質量％以下が好適である。【００３４】
本発明の低反射コーティングをガラス板の主表面に施すことによる反射率の減少、すなわち本発明の低反射コーティングによる反射率改善の効果は、該主表面の波長域３８０〜８５０ｎｍにおける平均反射率が高いほど、より高く得られる。例えば、波長域３８０〜８５０ｎｍにおける平均反射率が５．１％以上である主表面を有するガラス板を用い、該主表面に本発明の低反射コーティングを施すことにより、２．５％以上の透過率ゲインを実現しやすくなる。さらに、該主表面の平均反射率が５．２％以上、好ましくは５．３％以上を満たすことにより、２．７％以上の透過率ゲインを実現しやすくなる。【００３５】
上記のような高い平均反射率を有する主表面を有するガラス板は、例えば、該主表面における酸化錫の濃度を制御することによって実現できる。例えば、該主表面の最表面における酸化錫の濃度が３．５〜２４質量％、好ましくは３．５〜２１質量％、より好ましくは５〜１８質量％、特に好ましくは６〜１８質量の範囲内であるガラス板によれば、上記のような高い平均反射率を実現し得る。【００３６】
ガラス板がフロート法によって製造されるフロート板ガラスである場合、フロート法による製造時にフロートバス（熔融錫）に接していたガラス板の表面には、フロートバスから錫が拡散している。そこで、ガラス板の表面に侵入する錫の量を、フロートバスにおける製造条件によって制御することにより、所望の反射率を有する主表面を有するガラス板を製造することができる。例えば、溶融錫の成分の調整は、溶融錫の微量を酸化する程度の酸化性ガスを、溶融錫浴中に混入させることと、鉄成分を溶融錫中に含ませることで行うことができる。また、溶融錫浴中は、窒素ガスと水素ガスとが供給されて還元性雰囲気が保たれているが、溶融錫浴のガス圧力を調整することによって、大気中の酸素を混入させて、溶融錫浴中に微量の酸化性ガスを供給することができる。また、水素ガスの濃度を微量調節することにより、溶融錫浴中に供給する酸化性ガスの供給量を調節することもできる。  【００３７】
このように、フロート板ガラスをガラス板として用いる場合は、ガラス板の主表面のうち、フロート法による製造時にフロートバスに接していた主面上に本発明の低反射コーティングを施すことが好ましい。これにより、本発明の低反射コーティングによる反射率改善の高い効果が得られ、その結果、より高い透過率ゲインを実現できる。なお、ここでは、反射率が高い主表面を有するガラス板の一例として、該主表面における酸化錫濃度が制御されたガラス板について説明したが、これに限定されず、他の公知の方法によってガラス板表面の反射率が高められたガラス板を用いてもよい。【００３８】
本発明の低反射コーティングを好適に施すことができる基板は、透明導電膜付きガラス基板であってよい。この透明導電膜付きガラス基板は、たとえば上述の何れかのガラス板の一方の主表面に、透明導電膜を有するものであって、ガラス板の主表面に、１層以上の下地層、例えばフッ素ドープ酸化錫を主成分とする透明導電層が順に積層されているものである。
【実施例】
【００３９】
以下、実施例により、本発明をさらに詳細に説明する。まず、各実施例、各比較例において、基板上に形成した低反射コーティングの各特性の評価方法を説明する。【００４０】
（透過特性）
分光光度計（ＵＶ−３１００ＰＣ、株式会社島津製作所製）を用い、低反射コーティングの形成前後における基板（本実施例ではガラス板）の透過率曲線（透過スペクトル）をそれぞれ測定した。平均透過率は、波長３８０〜８５０ｎｍにおける透過率を平均化して算出した。低反射コーティングを施した基板の平均透過率の、該低反射コーティングを施す前の基板の平均透過率に対する増分を透過率ゲインとした。【００４１】
（ＳＥＭ観察）
コーティングを電界放射型走査型電子顕微鏡（Ｓ−４５００、株式会社日立製作所製）によって観察した。また、コーティングの３０°斜め上方からの断面におけるＦＥ−ＳＥＭ写真から、測定点５点でのコーティングの厚みの平均値を、コーティングの厚みとした。【００４２】
（耐アルカリ性評価）
得られた低反射コーティング付き基板の耐アルカリ性を、以下の方法により評価した。低反射コーティング付き基板を、温度６０℃、水酸化カルシウム飽和水溶液に３時間浸漬した。浸漬前後の透過率を前述の分光光度計により測定し、それらの差の絶対値によって耐アルカリ性を評価した。【００４３】
（耐塩水性評価）
得られた低反射コーティングの耐塩水性を評価するため、塩水噴霧試験（ソルトスプレイテスト）を実施した。基板上に施した低反射コーティングについて前述の平均透過率を測定し、その後ＪＩＳ  Ｃ８９１７：２００５付属書４に準拠する条件で塩水噴霧を行なった後に平均透過率を測定し、塩水噴霧前後の平均透過率の差の絶対値を耐塩水性とした。具体的には、塩水噴霧は、温度３５℃、濃度５質量％のＮａＣｌ水溶液をミスト状にして９６時間噴霧した。【００４４】
（プレッシャクッカテスト）
得られた低反射コーティングの耐湿性を評価するため、促進試験としてプレッシャクッカテストを実施した。基板上に施した低反射コーティングを、温度１３０℃、２気圧、湿度１００％に設定した試験槽内に１時間保持し、印加した圧力を解除したのち槽内から取り出して室温まで放冷する工程からなる試験サイクルを、２サイクル施すことにより本発明でのプレッシャクッカテストとした。この試験を施す前と施した後での平均透過率をそれぞれ測定し、平均透過率の差の絶対値を、プレッシャクッカテストによる耐湿性の評価とした。【００４５】
（実施例１）
＜コーティング液の調製＞
シリカ微粒子分散液（クォートロンＰＬ−７、平均粒径１２５ｎｍの略球状の一次粒子、固形分濃度２３重量％、扶桑化学工業株式会社製）２８．３質量部、１−メトキシ−２−プロパノール（溶媒）５８．６質量部、１Ｎ塩酸（加水分解触媒）１質量部を撹拌混合し、さらに撹拌しながらテトラエトキシシラン（正珪酸エチル、多摩化学工業株式会社製）  １２．１重量部を添加し、引き続き４０℃に保温しながら８時間撹拌してテトラエトキシシランを加水分解し、原液Ａを得た。【００４６】
原液Ａにおいて、シリカ微粒子をＳｉＯ2に換算した質量と、バインダに含まれる酸化ケイ素成分をＳｉＯ2に換算した質量の比は、６５：３５であり、ＳｉＯ2に換算した固形分濃度は１０ｗｔ％である。【００４７】
前述の原液Ａ７０．０ｇ、プロピレングリコール（溶媒）２．０ｇ、１−メトキシ−２−プロパノール（溶媒）２６．３ｇ、塩化アルミニウム水溶液（ＡｌＣｌ3として濃度４７．６ｗｔ％。塩化アルミニウム６水和物、試薬グレード、シグマアルドリッチ社製を脱イオン水に溶解）１．７ｇを撹拌混合し、コーティング液Ａ１を得た。コーティング液Ａ１において、ケイ素の酸化物（シリカ微粒子とテトラアルコキシシランに由来）をＳｉＯ2に換算した固形分濃度は７．０ｗｔ％であり、ＳｉＯ2に換算したケイ素の酸化物を１００質量部としたときのＡｌ2Ｏ3に換算したアルミニウム化合物は５質量部であった。【００４８】
＜低反射コーティングの形成＞
実施例１では、透明導電膜付きガラス板の片側の主表面に低反射コーティングを形成して、低反射コーティング付き基板を得た。このガラス板は、通常のソーダライムシリケート組成からなり、オンラインＣＶＤ法を用い、片方の主表面に透明導電層を含む透明導電膜が形成されており、厚み３．２ｍｍの日本板硝子株式会社製である。このガラス板を２００×３００ｍｍに切断し、アルカリ溶液（アルカリ性洗浄液  ＬＢＣ−１、レイボルド株式会社製）に浸漬して超音波洗浄機を用いて洗浄し、脱イオン水で水洗したのち常温で乾燥させて低反射コーティングを形成するためのガラス板とした。低反射コーティングを施す前のこのガラス板の透過特性を前述のとおり評価したところ、平均透過率８０．０％であった。【００４９】
実施例１においては、ロールコーターを用い、前述のガラス板の透明導電膜が施されていない側の主表面にコーティング液Ａ１を塗布した。なお、このとき塗布液の膜厚が１〜５μｍになるようにした。次いでこのガラス板に塗布したコーティング液を、熱風で乾燥・硬化させた。この熱風乾燥は、ベルト搬送式の熱風乾燥装置を用い、熱風の設定温度を３００℃、熱風吐出ノズルとガラス板との間の距離を５ｍｍ、搬送速度を０．５ｍ／分に設定し、２回往復してノズルの下を４回通過させることで行なった。このとき、コーティング液が塗布されたガラス板が熱風に触れている時間は１４０秒であり、ガラス板のコーティング液が塗布されたガラス面における最高到達温度は１９９℃だった。乾燥・硬化後のガラス板は室温まで放冷し、ガラス板に低反射コーティングを施した。【００５０】
こうして得た低反射コーティングについて、前述の各特性を評価した。その結果を表１に示す。また、低反射コーティング付き基板の断面をＦＥ−ＳＥＭを用いて観察した結果を図１に示す。【００５１】
（実施例２）
＜コーティング液の調製＞
コーティング液において、シリカ微粒子をＳｉＯ2に換算した質量と、バインダに含まれる酸化ケイ素成分をＳｉＯ2に換算した質量の比（以下、「微粒子：バインダ比」という）は６５：３５であり、ケイ素の酸化物（上記シリカ微粒子をＳｉＯ2に換算した質量と、バインダに含まれる酸化ケイ素成分をＳｉＯ2に換算した質量）を１００質量部としたときのアルミニウム化合物（以下、「アルミニウム化合物の含有率」という）が３質量部となるように、前述の塩化アルミニウム水溶液と前述の溶媒とを変更したこと以外は前述のコーティング液Ａ１と同じとして、コーティング液Ａ２を調製した。コーティング液Ａ２において、ケイ素の酸化物の固形分濃度は７．０ｗｔ％であった。【００５２】
＜低反射コーティングの形成＞
実施例２では、前述のコーティング液Ａ２を用いた以外は実施例１と同じ手順で、低反射コーティングを施し、前述の各特性を評価した。その結果を表１に示す。【００５３】
（実施例３）
＜コーティング液の調製＞
コーティング液において、微粒子：バインダ比が６５：３５であり、アルミニウム化合物の含有率が７質量部となるように、前述の塩化アルミニウム水溶液と前述の溶媒とを変更したこと以外は前述のコーティング液Ａ１と同じとして、コーティング液Ａ３を調製した。コーティング液Ａ３において、ケイ素の酸化物の固形分濃度は７．０ｗｔ％であった。【００５４】
＜低反射コーティングの形成＞
実施例３では、前述のコーティング液Ａ３を用いた以外は実施例１と同じ手順で、低反射コーティングを施し、前述の各特性を評価した。その結果を表１に示す。【００５５】
（実施例４）
＜コーティング液の調製＞
原液Ａと同様の手順で微粒子：バインダ比が７０：３０となるように作製した原液を用いたこと、さらに、アルミニウム化合物の含有率が５．５質量部となるように、前述の塩化アルミニウム水溶液を変更したこと以外は、前述のコーティング液Ａ１と同じ方法でコーティング液Ａ４を調製した。コーティング液Ａ４において、ケイ素の酸化物の固形分濃度は７．０ｗｔ％であった。【００５６】
＜低反射コーティングの形成＞
実施例４では、前述のコーティング液Ａ４を用いた以外は実施例１と同じ手順で、低反射コーティングを施し、前述の各特性を評価した。その結果を表１に示す。【００５７】
（実施例５）
＜コーティング液の調製＞
原液Ａと同様の手順で微粒子：バインダ比が６０：４０となるように作製した原液を用いたこと、さらに、アルミニウム化合物の含有率が５質量部となるように、前述の塩化アルミニウム水溶液を変更したこと以外は、前述のコーティング液Ａ１と同じ方法でコーティング液Ａ５を調製した。コーティング液Ａ５において、ケイ素の酸化物の固形分濃度は７．０ｗｔ％であった。【００５８】
＜低反射コーティングの形成＞
実施例５では、前述のコーティング液Ａ５を用いた以外は実施例１と同じ手順で、低反射コーティングを施し、前述の各特性を評価した。その結果を表１に示す。【００５９】
（実施例６）
＜乾燥・硬化後のエージング処理＞
実施例１の低反射コーティングに対し、エージング処理を行なった。このエージング処理は、７０℃に設定した電気炉中に、低反射コーティングを７日間保持し、その後室温まで放冷することで行なった。このエージング処理は、本発明の低反射コーティングが施されたガラス板を備えた光電変換装置が、設置され太陽光により発電している際に、低反射コーティングが経験する温度履歴に相当する。【００６０】
エージング処理後の低反射コーティングに対し、前述の各特性を評価した。その結果を表１に示す。【００６１】
（比較例１）
＜コーティング液の調製＞
コーティング液において、微粒子：バインダ比は、６５：３５であり、アルミニウム化合物の含有率が０となるように、前述の塩化アルミニウム水溶液を変更したこと以外は前述のコーティング液Ａ１と同じとして、コーティング液Ｂ１を調製した。コーティング液Ｂ１において、ケイ素の酸化物の固形分濃度は７．０ｗｔ％であった。【００６２】
＜低反射コーティングの形成＞
比較例１では、前述のコーティング液Ｂ１を用いた以外は実施例１と同じ手順で、低反射コーティングを施し、前述の各特性を評価した。その結果を表１に示す。【００６３】
（比較例２）
＜コーティング液の調製＞
コーティング液において、微粒子：バインダ比は、６５：３５であり、アルミニウム化合物の含有率が１質量部となるように、前述の塩化アルミニウム水溶液を変更したこと以外は前述のコーティング液Ａ１と同じとして、コーティング液Ｂ２を調製した。コーティング液Ｂ２において、ケイ素の酸化物の固形分濃度は７．０ｗｔ％であった。【００６４】
＜低反射コーティングの形成＞
比較例２では、前述のコーティング液Ｂ２を用いた以外は実施例１と同じ手順で、低反射コーティングを施し、前述の各特性を評価した。その結果を表１に示す。【００６５】
（比較例３）
＜コーティング液の調製＞
コーティング液において、微粒子：バインダ比は、６５：３５であり、アルミニウム化合物の含有率が１０質量部となるように、前述の塩化アルミニウム水溶液を変更したこと以外は前述のコーティング液Ａ１と同じとして、コーティング液Ｂ３を調製した。コーティング液Ｂ３において、ケイ素の酸化物の固形分濃度は７．０ｗｔ％である。【００６６】
＜低反射コーティングの形成＞
比較例３では、前述のコーティング液Ｂ３を用いた以外は実施例１と同じ手順で、低反射コーティングを施し、前述の各特性を評価した。その結果を表１に示す。【００６７】
（比較例４）
＜コーティング液の調製＞
実施例１と同じテトラエトキシシラン２０．６質量部、硝酸アルミニウム水溶液（Ａｌ（ＮＯ3）3として濃度１０ｗｔ％。硝酸アルミニウム９水和物、試薬グレード、シグマアルドリッチ社製）２．１５質量部、エタノール７８．０質量部を混合し、４０℃に保温しながら８時間撹拌してテトラエトキシシランを加水分解し、原液Ｄを得た。原液Ｄにおいて、テトラアルコキシシランをＳｉＯ2に換算した固形分は５．９ｗｔ％であり、硝酸アルミニウムをＡｌ2Ｏ3に換算した固形分は０．１ｗｔ％であった。【００６８】
前述の原液Ｄ１０．６ｇ、実施例１と同じシリカ微粒子分散液２７．６ｇ、２−プロパノール６１．７ｇを撹拌混合し、コーティング液Ｄ４を得た。【００６９】
コーティング液Ｄ４において、ケイ素の酸化物（シリカ微粒子とテトラアルコキシシランに由来）をＳｉＯ2に換算した固形分濃度は７．０ｗｔ％であり、微粒子：バインダ比は、９１：９であり、アルミニウム化合物の含有率は０．１５質量部であった。【００７０】
このコーティング液Ｄ４は、特許文献１の実施例１と比較し、水系溶媒で調製され、ロールコーターでの塗布に適した固形分濃度を有する点で異なるが、シリカ微粒子：テトラアルコキシシラン由来のＳｉＯ2：硝酸アルミニウムを換算したＡｌ2Ｏ3の質量比が同じであった。【００７１】
＜低反射コーティングの形成＞
比較例４では、前述のコーティング液Ｄ４を用いた以外は実施例１と同じ手順で、低反射コーティングを施し、前述の各特性を評価した。その結果を表１に示す。【００７２】
（比較例５）
＜コーティング液の調製＞
実施例１と同じシリカ微粒子分散液３０．３質量部、エチルセロソルブ（溶媒）５８．１質量部、１Ｎ塩酸（加水分解触媒）１質量部、を撹拌混合し、さらに撹拌しながら実施例１と同じテトラエトキシシラン１０．４重量部を添加し、引き続き４０℃に保温しながら８時間撹拌してテトラエトキシシランを加水分解し、原液Ｅを得た。【００７３】
原液Ｅにおいて、微粒子:バインダ比は、７０：３０であり、ＳｉＯ2に換算した固形分濃度は１０ｗｔ％であった。【００７４】
前述の原液Ｅ７．０ｇ、プロピレングリコール（溶媒）８３．８ｇ、オキシ塩化ジルコニウム８水和物（試薬特級、関東化学株式会社製）９．２ｇを撹拌混合し、コーティング液Ｅ５を得た。【００７５】
コーティング液Ｅ５において、ケイ素の酸化物（シリカ微粒子とテトラアルコキシシランに由来）をＳｉＯ2に換算した固形分濃度は７．０ｗｔ％であり、ＳｉＯ2に換算したケイ素の酸化物を１００質量部としたときのＺｒＯ2に換算したジルコニウム化合物は５質量部であった。【００７６】
このコーティング液Ｅ５は、特許文献１の実施例１３と比較し、ロールコーターでの塗布に適した固形分濃度を有し、界面活性剤を含まない点で異なるが、シリカ微粒子：テトラアルコキシシラン由来のＳｉＯ2：ジルコニウム化合物を換算したＺｒＯ2の質量比が同じであった。【００７７】
＜低反射コーティングの形成＞
比較例５では、前述のコーティング液Ｅ５を用いた以外は実施例１と同じ手順で、低反射コーティングを施し、前述の各特性を評価した。その結果を表１に示す。【００７８】
（比較例６）
＜コーティング液の調製＞
前述の原液Ｅ７．０ｇ、プロピレングリコール（溶媒）６３．０ｇ、チタンテトラアセチルアセトネート（固形分濃度６５ｗｔ％の２−プロパノール溶液、オルガチックスＴＣ−４０１、株式会社マツモト交商製）３０．０ｇを撹拌混合し、コーティング液Ｅ６を得た。【００７９】
コーティング液Ｅ６において、ケイ素の酸化物（シリカ微粒子とテトラアルコキシシランに由来）をＳｉＯ2に換算した固形分濃度は７．０ｗｔ％であり、ＳｉＯ2に換算したケイ素の酸化物を１００質量部としたときのＴｉＯ2に換算したチタン化合物は５質量部であった。【００８０】
このコーティング液Ｅ６は、特許文献２の実施例１５と比較し、ロールコーターでの塗布に適した固形分濃度を有し、界面活性剤を含まない点で異なるが、シリカ微粒子：テトラアルコキシシラン由来のＳｉＯ2：チタン化合物を換算したＴｉＯ2の質量比が同じであった。【００８１】
＜低反射コーティングの形成＞
比較例６では、前述のコーティング液Ｅ６を用いた以外は実施例１と同じ手順で、低反射コーティングを施し、前述の各特性を評価した。その結果を表１に示す。【００８２】
（比較例７）
＜乾燥・硬化後のエージング処理＞
比較例１の低反射コーティングに対し、実施例６と同じエージング処理を行なった。エージング処理後の低反射コーティングに対し、前述の各特性を評価した。その結果を表１に示す。【００８３】
実施例１〜５が示すとおり、熱風乾燥による硬化のみによる低反射コーティングは、２．５％以上、実施例４においては２．９９％の極めて高い透過率ゲインと、０．１５％以下、実施例５においては塩水噴霧試験前後で平均透過率の変化が０．０５％の極めて高い塩水噴霧耐久性とを得ることができた。また、耐アルカリ性試験前後で平均透過率の変化が０．６％以下の高い耐アルカリ性と、プレッシャクッカテスト前後での平均透過率の変化が０．２％以下の高い耐湿性とを示した。【００８４】
さらに、実施例６が示すとおり、熱風乾燥による硬化の後、エージングを施した低反射コーティングは、塩水噴霧試験前後で平均透過率が変化しないという極めて優れた塩水噴霧耐久性を示した。また、耐アルカリ性および耐湿性についても、エージングにより改善が見られた。【００８５】
このことは、光電変換装置に施された本発明の低反射率コーティングは、光電変換装置が設置され太陽光が照射される状態に置かれたのち比較的短期間の間に、コーティングが形成されたときよりも塩水噴霧耐久性・耐アルカリ性および耐湿性の改善が促進されることを意味している。【００８６】
一方、低反射コーティングにおけるアルミニウム化合物の含有率が２質量％未満である比較例１および２は、塩水噴霧試験前後で透過率の変化が０．１５％を超えるため、塩水噴霧耐久性に劣る。また耐湿性もプレッシャクッカテスト前後での平均透過率の変化が０．６％以上であり、耐湿性に劣る。【００８７】
また、比較例３は、アルミニウム化合物の含有率が７質量％を超えるので、透過率ゲインが２．４％と低く、低反射特性が損なわれている。また、塩水噴霧耐久性・耐アルカリ性・耐湿性にも劣る。【００８８】
比較例４は、低反射コーティングにおけるアルミニウム化合物がコーティング液に含有させた硝酸アルミニウムに由来し、また低反射コーティングにおけるアルミニウム化合物の含有率が２質量％未満であるので、塩水噴霧耐久性に劣り、また、耐アルカリ性や耐湿性が劣悪である。【００８９】
比較例５および６は、低反射コーティングにはアルミニウム化合物に代わって各々酸化ジルコニウムおよび酸化チタンが含有されているので、塩水噴霧耐久性に劣り、耐湿性にも劣る。酸化ジルコニウムや酸化チタンはこれらの耐久性を向上させる成分として知られているが、低温での乾燥・硬化においてはこのような効果が得られない。【００９０】
さらに、比較例５および６は、透過率ゲインが各々２．４％，２．３％と低く、低反射特性が損なわれている。【００９１】
比較例７はエージングをしない比較例１と比較して塩水噴霧耐久性が改善されるが、依然として０．１５％以上であり、充分な塩水噴霧耐久性が得られておらず、耐湿性も不満足である。【００９２】
【表１】
0006560210.tif 000002
【００９３】
［参考例］
低反射コーティングが形成されていないガラス板の表面の反射率の違いによって、低反射コーティングが形成されることによる透過率ゲインの変化を確認するために、参考例として、異なる表面反射率を有する複数種のガラス板に、同じコーティング液を用いて低反射コーティングが形成された低反射コーティング付き基板を準備した。【００９４】
まず、片方の主表面側における酸化錫濃度が異なることにより該主表面の反射率が異なる複数のガラス板を準備した。【００９５】
参考例１で用いたガラス板は、日本板硝子株式会社が製造した透明導電膜付きガラス板であり、通常のソーダライムシリケート組成からなり、オンラインＣＶＤ法を用い、片方の主表面に透明導電層を含む透明導電膜が形成されており、厚みは３．２ｍｍであった。参考例１における低反射コーティングは、透明導電膜付きガラス板としての透過率を改善しており、低反射コーティングを施す前のこの透明導電膜付きガラス板の透過特性を前述の通り評価したところ、平均透過率８３．６４％だった。【００９６】
参考例２〜５で用いたガラス板もまた、日本板硝子株式会社が製造した透明導電膜付きガラス板であり、透明導電膜は参考例１のものと同等であるが、フロートバスにおける酸化錫濃度、フロートバス雰囲気の調節により、透明導電膜が形成されていない主表面側における酸化錫濃度が異なるように製造されたものであった。なお、ガラス組成は通常のソーダライムシリケート組成からなり、ガラス板の厚みは３．２ｍｍであった。これらのガラス板の平均透過率は、約８０％だった。【００９７】
参考例６および８で用いたガラス板は、日本板硝子株式会社によるフロート板ガラスであり、厚み３．２ｍｍであって、通常のソーダライムシリケート組成からなるが、どちらの主表面にも透明導電膜が形成されていないものであった。フロートバスに接していたガラス板の主表面を低反射コーティングを施す主表面としたものを参考例６とし、フロートバスに接していなかったガラス板の主表面を低反射コーティングを施す主表面としたものを参考例８とした。表２に示すとおり、フロートバスに接していなかったガラス板の主表面（参考例８）においては、酸化スズは検出されなかった。これらのガラス板の平均透過率は、約９０％だった。【００９８】
参考例７および９で用いたガラス板も、日本板硝子株式会社による厚み３．２ｍｍの、ソーダライムシリケート組成の、どちらの主表面にも透明導電膜が形成されていないフロート板ガラスであった。フロートバスに接していたガラス板の主表面を低反射コーティングを施す主表面としたものを参考例７とし、フロートバスに接していなかったガラス板の主表面を低反射コーティングを施す主表面としたものを参考例９とした。表２に示すとおり、フロートバスに接していなかったガラス板の主表面（参考例９）においては、酸化スズは検出されなかった。これらのガラス板の平均透過率は、参考例６および８のガラス板よりも高く、約９０．８％だった。【００９９】
参考例１〜９のガラス板は、実施例１と同様に、切断・洗浄・乾燥させて低反射コーティングを形成するためのガラス板とした。【０１００】
低反射コーティングを施す前の参考例１〜９のガラス板の透過特性を、前述のとおり評価した。また、ガラス板の低反射コーティングが施される主表面について、波長域３８０〜８５０ｎｍにおける平均反射率と、最表面での酸化錫濃度も測定した。【０１０１】
平均反射率は、分光光度計（ＵＶ−３１００ＰＣ、株式会社島津製作所製）を用い、入射角８°での反射率曲線(反射スペクトル)を測定し、３８０〜８５０ｎｍにおける反射率を平均して算出した。なお、反射スペクトルの測定に際し、あらかじめ入射側と反対側の主表面が反射率測定に影響を及ぼさないように処置した。具体的には、透明導電膜付きガラス板の透明導電膜がない側に低反射コーティングを施す場合は、その透明導電膜をサンドブラストを用いて除去した後、黒色塗料を塗布した。また、透明導電膜が形成されていないガラス板の場合は、入射側と反対側の主表面に黒色塗料を塗布した。【０１０２】
最表面の酸化錫濃度は、電子線プローブマイクロアナライザ（ＥＰＭＡ）とそれに装着した波長分散型Ｘ線検出器（ＷＤＸ）を用いて測定した。具体的には、ＥＰＭＡ（ＪＸＡ８６００、日本電子株式会社製）によるＷＤＸ分析（加速電圧：１５ｋＶ、試料電流：２．５×１０-7Ａ、スキャンスピード：６μｍ／分、分光結晶：ＰＥＴ）で行った。【０１０３】
各ガラス板の片方の主表面（平均反射率および酸化錫濃度を測定した主表面）に、実施例１と同じコーティング液Ａ１を用いて、実施例１と同じ手順で低反射コーティングを施した。得られた参考例１〜９の低反射コーティング付き基板について、低反射コーティング表面における平均反射率をガラス板の平均反射率と同様の方法で測定すると共に、前述の透過特性を評価した。【０１０４】
表２に、低反射コーティング付き基板の平均透過率（コーティング後の透過率）、および該低反射コーティングを施す前のガラス板の平均透過率に対する増分としての透過率ゲイン、並びに低反射コーティングを施す前のガラス板の平均反射率、および低反射コーティングを施す前のガラス板の平均反射率に対する低反射コーティング付き基板の平均反射率の減少（反射率ロス）を示す。【０１０５】
【表２】
0006560210.tif 000003
【０１０６】
低反射コーティングを施す前のガラス板の一方の主表面の平均反射率（コーティング前の反射率）と、そのガラス板の主表面に低反射コーティングを施した後の低反射コーティングの面の平均反射率の減少（反射率ロス）および透過率ゲインとの関係は、図２に示すとおりである。【０１０７】
この結果から、低反射コーティングが施される前のガラス板の平均反射率が高いほど、反射率ロスが大きくなり、その結果、高い透過率ゲインが得られることが確認された。【０１０８】
また、参考例１〜９の結果から、参考例１〜５の透明導電膜つきガラス板を用いた低反射コーティング付き基板の場合は、透過率ゲインは反射率ロスの８０％弱程度、参考例６〜９のフロート板ガラスを用いた低反射コーティング付き基板の場合は、透過率ゲインは反射率ロスの９０％程度であると判断できる。【０１０９】
したがって、平均反射率の減少が約３．１５％以上であれば、２．５％以上の透過率ゲインを実現しやすくなると考えられる。図２によれば、３．１５％以上の反射率の減少は、平均反射率５．１％以上のガラス板の表面によって実現できる。すなわち、反射率５．１％以上を有するガラス板に対して本発明の低反射コーティングを施すことにより、２．５％以上の透過率ゲインを実現しやすくなると考えられる。
【産業上の利用可能性】
【０１１０】
本発明によれば、硬化温度が低温であるにも拘わらず、高い透過率ゲインを示し、かつ塩水噴霧耐久性に優れた低反射コーティングを提供できる。
【図１】
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【図２】
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