(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
内腔を取り囲む熱可塑性プラスチック壁と、
前記壁によって前記壁と前記内腔との間に支持される、ｘが１．８〜２．４であるＳｉＯx複合バリア皮膜又は層であって、前記複合バリア皮膜又は層の内部表面が前記内腔に面する、ＳｉＯx複合バリア皮膜又は層と、
ｘが約０．５〜約２．４及びｙが約０．６〜約３である、ＳｉＯxＣy又はＳｉＮxＣyのｐＨ保護皮膜又は層であって、前記ｐＨ保護皮膜又は層が、前記内腔に面する内部表面と、前記複合バリア皮膜又は層の前記内部表面に面する外部表面と、を有する、ｐＨ保護皮膜又は層と、を含み、
前記ｐＨ保護皮膜又は層が当該容器(総Ｓｉ／Ｓｉ溶解速度)の計算保管寿命を増加させるのに有効であり、
被覆物品クロススクラッチテープ試験法による、基材上における前記複合バリア皮膜又は層の保持の程度が、少なくとも９０％、任意選択的に少なくとも９５％、任意選択的に少なくとも９８％、任意選択的に１００％であり、
前記ｐＨ保護皮膜又は層のＦＴＩＲ吸収スペクトルが、
約１０００〜１０４０ｃｍ-1におけるＳｉ−Ｏ−Ｓｉ対称伸縮ピークの最大振幅と、
約１０６０〜約１１００ｃｍ-1におけるＳｉ−Ｏ−Ｓｉ非対称伸縮ピークの最大振幅との間において、０．７５を超え且つ多くとも１．７の比率を有する、
容器。
【請求項２】
前記容器が０．５〜５ｍｌの定格容積及び０．８〜９ｍｌの充填容積を有する、請求項１に記載の容器。
【請求項３】
前記容器がバイアル、シリンジ、予め充填したシリンジ又はカートリッジである、請求項１又は２に記載の容器。
【請求項４】
前記ＳｉＯx複合バリア皮膜が初期ＲＦ電力レベルにおける出力密度が３〜１Ｗ／ｍＬであるＰＥＣＶＤによって形成された、請求項１〜３のいずれか一項に記載の容器。
【請求項５】
前記ＳｉＯx複合バリア皮膜が最大ＲＦ電力レベルにおける出力密度が６０〜４Ｗ／ｍＬであるＰＥＣＶＤによって形成された、請求項１〜４のいずれか一項に記載の容器。
【請求項６】
前記ＳｉＯｘ複合バリア皮膜又は層がＰＥＣＶＤによって有機ケイ素単量体及び酸化性ガスから形成され、前記有機ケイ素単量体が１分子中に２〜６個のケイ素原子を有する有機シロキサンである、請求項１〜５のいずれか一項に記載の容器。
【請求項７】
前記内腔が医薬品を収容する、請求項１〜６のいずれか一項に記載の容器。
【請求項８】
前記医薬品が５〜９のｐＨを有する、請求項７に記載の容器。
【請求項９】
前記内腔と前記容器の外側との間の開口部及び前記開口部内に着座したクロージャを更に含む、請求項１〜８のいずれか一項に記載の容器。
【請求項１０】
前記容器の前記壁の少なくとも一部が環式オレフィン重合体、ポリプロピレン、又はポリエステルを含む、請求項１〜９のいずれか一項に記載の容器。
【請求項１１】
前記容器がブリスタパッケージを含む、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の容器。
【請求項１２】
前記ｐＨ保護皮膜又は層がＳｉＯxＣyを含む、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の容器。
【請求項１３】
塗布された際の前記ｐＨ保護皮膜又は層が１００〜７００ｎｍの厚さである、請求項１又は１０〜１２のいずれか一項に記載の容器。
【請求項１４】
当該容器の組立の２年後、前記医薬品に接触している前記ｐＨ保護皮膜又は層が２０〜７００ｎｍの厚さである、請求項１３に記載の容器。
【請求項１５】
８のｐＨを有する流体組成物が直接接触した場合の前記ｐＨ保護皮膜又は層の侵食の速度が、同じ条件下で同じ流体組成物が直接接触した場合の前記複合バリア皮膜又は層の侵食の速度の５％〜２０％である、請求項１又は１０〜１４のいずれか一項に記載の容器。
【請求項１６】
当該容器の組立後、少なくとも２年且つ多くとも１０年の保管寿命を有する、請求項１２〜１５のいずれか一項に記載の容器。
【請求項１７】
前記保管寿命が３℃で決定される、請求項１６に記載の容器。
【請求項１８】
前記流体組成物のｐＨが７〜８であり、前記保管寿命の終了時における前記ｐＨ保護皮膜又は層の厚さが少なくとも８０ｎｍである、請求項１６又は１７のいずれか一項に記載の容器。
【請求項１９】
前記流体組成物が、前記流体組成物との接触の４４時間あたりにｐＨ保護皮膜又は層厚さの１ｎｍ以下の速度で、あるいは、前記流体組成物との接触の２５０時間あたりにｐＨ保護皮膜又は層厚さの１ｎｍ以下の速度で前記ｐＨ保護皮膜又は層を除去する、請求項１５〜１８のいずれか一項に記載の容器。
【請求項２０】
注射用水で希釈し、濃縮硝酸でｐＨ８に調整し、０．２ｗｔ．％ポリソルベート８０界面活性剤を含有する５０ｍＭリン酸カリウム緩衝液による、前記容器からのケイ素溶解速度が１７０ｐｐｂ／日未満である、請求項１又は１２〜１９のいずれか一項に記載の容器。
【請求項２１】
前記計算保管寿命（総Ｓｉ／Ｓｉ溶解速度）が１年を超え且つ５年未満である、請求項１〜２０のいずれか一項に記載の容器。
【請求項２２】
前記ｐＨ保護層が減衰全反射（ＡＴＲ）によって測定され、
【数１】
0006488232.tif 000031
のように測定された０．１〜０．３９のＯパラメータを示す、請求項１又は１２〜２１のいずれか一項に記載の容器。
【請求項２３】
前記内腔が、
吸入麻酔薬
アリフルラン；クロロホルム；シクロプロパン；
デスフルラン（Ｓｕｐｒａｎｅ）；ジエチルエーテル；エンフルラン（Ｅｔｈｒａｎｅ）；塩化エチル；エチレン；ハロタン（Ｆｌｕｏｔｈａｎｅ）；イソフルラン（Ｆｏｒａｎｅ、Ｉｓｏｆｌｏ）；イソプロペニルビニルエーテル；メトキシフルラン；メトキシプロパン；亜酸化窒素；ロフルラン；セボフルラン（Ｓｅｖｏｒａｎｅ、Ｕｌｔａｎｅ、Ｓｅｖｏｆｌｏ）；テフルラン；トリクロロエチレン；ビニルエーテル；キセノン；
注射剤
Ａｂｌａｖａｒ（ガドホスベセット三ナトリウム注射薬）；アバレリックスデポ；アボボツリナムトキシンＡ注射薬（Ｄｙｓｐｏｒｔ）；ＡＢＴ−２６３；ＡＢＴ−８６９；ＡＢＸ−ＥＦＧ；Ａｃｃｒｅｔｒｏｐｉｎ（ソマトロピン注射薬）；Ａｃｅｔａｄｏｔｅ（アセチルシステイン注射薬）；アセタゾラミド注射薬（アセタゾラミド注射薬）；アセチルシステイン注射薬（Ａｃｅｔａｄｏｔｅ）；アクテムラ（トシリズマブ注射薬）；Ａｃｔｈｒｅｌ（注射用コルチコレリンオーバイントリフルテート）；Ａｃｔｕｍｍｕｎｅ；アクチバーゼ；注射用アシクロビル（ゾビラックス注射薬）；Ａｄａｃｅｌ；アダリムマブ；アデノスキャン（アデノシン注射薬）；アデノシン注射薬（アデノスキャン）；Ａｄｒｅｎａｃｌｉｃｋ；ＡｄｒｅＶｉｅｗ（ヨーベングアンＩ１２３静脈内使用用注射薬）；Ａｆｌｕｒｉａ；Ａｋ−Ｆｌｕｏｒ（フルオレセイン注射薬）；アウドラザイム（ラロニダーゼ）；アルグルセラーゼ注射薬（セレデース）；アルケラン注射薬（メルファランＨｃｌ注射薬）；アロプリノールナトリウム注射用（Ａｌｏｐｒｉｍ）；Ａｌｏｐｒｉｍ（アロプリノールナトリウム注射用）；アルプロスタジル；Ａｌｓｕｍａ（スマトリプタン注射薬）；ＡＬＴＵ−２３８；アミノ酸注射薬；Ａｍｉｎｏｓｙｎ；アピドラ；アプレミラストアルプロスタジルデュアルチャンバシステム（Ｄｕａｌ  Ｃｈａｍｂｅｒ  Ｓｙｓｔｅｍ）注射用（Ｃａｖｅｒｊｅｃｔ  Ｉｍｐｕｌｓｅ）；ＡＭＧ００９；ＡＭＧ０７６；ＡＭＧ１０２；ＡＭＧ１０８；ＡＭＧ１１４；ＡＭＧ１６２；ＡＭＧ２２０；ＡＭＧ２２１；ＡＭＧ２２２；ＡＭＧ２２３；ＡＭＧ３１７；ＡＭＧ３７９；ＡＭＧ３８６；ＡＭＧ４０３；ＡＭＧ４７７；ＡＭＧ４７９；ＡＭＧ５１７；ＡＭＧ５３１；ＡＭＧ５５７；ＡＭＧ６２３；ＡＭＧ６５５；ＡＭＧ７０６；ＡＭＧ７１４；ＡＭＧ７４５；ＡＭＧ７８５；ＡＭＧ８１１；ＡＭＧ８２７；ＡＭＧ８３７；ＡＭＧ８５３；ＡＭＧ９５１；アミオダロンＨＣｌ注射薬（アミオダロンＨＣｌ注射薬）；アモバルビタールナトリウム注射薬（アミタールナトリウム）；アミタールナトリウム（アモバルビタールナトリウム注射薬）；アナキンラ；Ａｎｔｉ−Ａｂｅｔａ；Ａｎｔｉ−Ｂｅｔａ７；Ａｎｔｉ−Ｂｅｔａ２０；Ａｎｔｉ−ＣＤ４；Ａｎｔｉ−ＣＤ２０；Ａｎｔｉ−ＣＤ４０；Ａｎｔｉ−ＩＦＮａｌｐｈａ；Ａｎｔｉ−ＩＬ１３；Ａｎｔｉ−ＯＸ４０Ｌ；Ａｎｔｉ−ｏｘＬＤＳ；Ａｎｔｉ−ＮＧＦ；Ａｎｔｉ−ＮＲＰ１；アリクストラ；Ａｍｐｈａｄａｓｅ（ヒアルロニダーゼ注射薬）；Ａｍｍｏｎｕｌ（フェニル酢酸ナトリウム及び安息香酸ナトリウム注射薬）；Ａｎａｐｒｏｘ；アンゼメット注射薬（メシル酸ドラセトロン注射薬）；アピドラ（インスリングルリシン［ｒＤＮＡ由来］注射薬）；Ａｐｏｍａｂ；Ａｒａｎｅｓｐ（ダルベポエチンアルファ）；アルガトロバン（アルガトロバン注射薬）；塩酸アルギニン注射薬（Ｒ−Ｇｅｎｅ１０；アリストコート；アリストスパン；三酸化ヒ素注射薬（トリセノックス）；アルチケーンＨＣｌ（Ａｒｔｉｃａｎｅ  ＨＣｌ）及びエピネフリン注射薬（Ｓｅｐｔｏｃａｉｎｅ）；アーゼラ（オファツムマブ注射薬）；Ａｓｃｌｅｒａ（ポリドカノール注射薬���；アタルレン；アタルレン−ＤＭＤ；アテノロール注射薬（テノーミンＩ．Ｖ．注射薬）；ベシル酸アトラクリウム注射薬（ベシル酸アトラクリウム注射薬）；アバスチン；アザクタム注射薬（アズトレオナム注射薬）；アジスロマイシン（ジスロマック注射薬）；アズトレオナム注射薬（アザクタム注射薬）；バクロフェン注射薬（リオレサール髄注（Ｉｎｔｒａｔｈｅｃａｌ））；静菌水（注射用静菌水）；バクロフェン注射薬（リオレサール髄注）；Ｂａｌ  ｉｎ  Ｏｉｌ  Ａｍｐｕｌｅｓ（ジメルカープロール（Ｄｉｍｅｒｃａｒｐｒｏｌ）注射薬）；ＢａｙＨｅｐＢ；ＢａｙＴｅｔ；ベナドリル；塩酸ベンダムスチン注射薬（トレアンダ）；メシル酸ベンズトロピン注射薬（コゲンチン）；ベタメタゾン懸濁注射液（Ｃｅｌｅｓｔｏｎｅ  Ｓｏｌｕｓｐａｎ）；ベキサール；バイシリンＣ−Ｒ９００／３００（ペニシリンＧベンザチン及びペニシリンＧロカイン注射薬）；ブレノキサン（ブレオマイシン硫酸塩注射薬）；ブレオマイシン硫酸塩注射薬（ブレノキサン）；ボニバ注射薬（イバンドロネートナトリウム注射薬）；ボトックスコスメティック（注射用ボツリヌストキシンＡ）；ＢＲ３−ＦＣ；Ｂｒａｖｅｌｌｅ（ウロホリトロピン注射薬）；ブレチリウム（ブレチリウムトシラート注射薬）；ブレビタールナトリウム（メトヘキシタールナトリウム注射用）；Ｂｒｅｔｈｉｎｅ；Ｂｒｉｏｂａｃｅｐｔ；ＢＴＴ−１０２３；ブピバカインＨＣｌ；バイエッタ；Ｃａ−ＤＴＰＡ（ペンテト酸カルシウム三ナトリウム注射薬）；カバジタキセル注射薬（ジェブタナ）；カフェインアルカロイド（カフェイン及び安息香酸ナトリウム注射薬）；カルシジェックス注射薬（カルシトリオール）；カルシトリオール（カルシジェックス注射薬）；塩化カルシウム（塩化カルシウム注射薬１０％）；カルシウムジナトリウムベルセネート（エデト酸カルシウム二ナトリウム注射薬）；キャンパス（アルテムツズマブ（Ａｌｔｅｍｔｕｚｕｍａｂ））；Ｃａｍｐｔｏｓａｒ注射薬（イリノテカン塩酸）；カナキヌマブ注射薬（イラリス）；カパスタット硫酸塩（Ｃａｐａｓｔａｔ  Ｓｕｌｆａｔｅ）（カプレオマイシン注射用）；カプレオマイシン注射用（カパスタット硫酸塩（Ｃａｐａｓｔａｔ  Ｓｕｌｆａｔｅ））；カーディオライト（注射用テクネチウムＴｃ９９セスタミビ用調製キット（Ｐｒｅｐ  ｋｉｔ））；カーティセル；Ｃａｔｈｆｌｏ；注射用セファゾリン及びブドウ糖（セファゾリン注射薬）；セフェピム塩酸塩；セフォタキシム；セフトリアキソン；セレザイム；Ｃａｒｎｉｔｏｒ注射薬；Ｃａｖｅｒｊｅｃｔ；Ｃｅｌｅｓｔｏｎｅ  Ｓｏｌｕｓｐａｎ；Ｃｅｌｓｉｏｒ；Ｃｅｒｅｂｙｘ（ホスフェニトインナトリウム注射薬）；セレデース（アルグルセラーゼ注射薬）；Ｃｅｒｅｔｅｃ（テクネチウムＴｃ９９ｍエキサメタジム注射薬）；セルトリズマブ；ＣＦ−１０１；クロラムフェニコールコハク酸ナトリウム（クロラムフェニコールコハク酸ナトリウム注射薬）；クロラムフェニコールコハク酸ナトリウム注射薬（クロラムフェニコールコハク酸ナトリウム）；コレスタゲル（コレセベラムＨＣＬ）；絨毛性ゴナドトロピンアルファ注射薬（Ｏｖｉｄｒｅｌ）；シムジア；シスプラチン（シスプラチン注射薬）；クロラール（クロファラビン注射薬）；クエン酸クロミフィン（Ｃｌｏｍｉｐｈｉｎｅ  Ｃｉｔｒａｔｅ）；クロニジン注射薬（Ｄｕｒａｃｌｏｎ）；コゲンチン（メシル酸ベンズトロピン注射薬）；コリスチメタート注射薬（Ｃｏｌｙ−Ｍｙｃｉｎ  Ｍ）；Ｃｏｌｙ−Ｍｙｃｉｎ  Ｍ（コリスチメタート注射薬）；Ｃｏｍｐａｔｈ；コニバプタンＨｃｌ注射薬（バプリゾール）；注射用結合型エストロゲン（プレマリン注射薬）；コパキソン；注射用コルチコレリンオーバイントリフルテート（Ａｃｔｈｒｅｌ）；コルベルト（フマル酸イブチリド注射薬）；キュビシン（ダプトマイシン注射薬）；ＣＦ−１０１；Ｃｙａｎｏｋｉｔ（注射用ヒドロキソコバラミン）；シタラビンリポソーム注射薬（デポサイト）；シアノコバラミン；サイトベン（ガンシクロビル）；Ｄ．Ｈ．Ｅ．４５；ダセツズマブ；ダコゲン（デシタビン注射薬）；ダルテパリン；ダントリウムＩＶ（注射用ダントロレンナトリウム）；注射用ダントロレンナトリウム（ダントリウムＩＶ）；ダプトマイシン注射薬（キュビシン）；ダルベポエチンアルファ；ＤＤＡＶＰ注射薬（デスモプレシン酢酸塩注射薬）；Ｄｅｃａｖａｘ；デシタビン注射薬（ダコゲン）；無水アルコール（無水アルコール注射薬）；デノスマブ注射薬（プロリア）；デラテストリル；デルエストロゲン；デルテパリンナトリウム（Ｄｅｌｔｅｐａｒｉｎ  Ｓｏｄｉｕｍ）；Ｄｅｐａｃｏｎ（バルプロ酸ナトリウム注射薬）；デポメロドール（酢酸メチルプレドニゾロン懸濁注射液）；デポサイト（シタラビンリポソーム注射薬）；デポデュール（モルヒネ硫酸塩ＸＲリポソーム注射薬）；デスモプレシン酢酸塩注射薬（ＤＤＡＶＰ注射薬）；デポエストラジオール；デポプロベラ１０４ｍｇ／ｍｌ；デポプロベラ１５０ｍｇ／ｍｌ；デポテストステロン；注射用デキスラゾキサン、静注のみ（Ｔｏｔｅｃｔ）；ブドウ糖／電解質；ブドウ糖及び塩化ナトリウム注射薬（０．９％塩化ナトリウム中ブドウ糖５％）；ブドウ糖；ジアゼパム注射薬（ジアゼパム注射薬）；ジゴキシン注射薬（ラノキシン注射薬）；ジラウジッド−ＨＰ（ヒドロモルホン塩酸注射薬）；ジメルカープロール（Ｄｉｍｅｒｃａｒｐｒｏｌ）注射薬（Ｂａｌ  ｉｎ  Ｏｉｌ  Ａｍｐｕｌｅｓ）；ジフェンヒドラミン注射薬（ベナドリル注射薬）；ジピリダモール注射薬（ジピリダモール注射薬）；ＤＭＯＡＤ；ドセタクセル注射用（タキソテール）；メシル酸ドラセトロン注射薬（アンゼメット注射薬）；ドリバックス（ドリペネム注射用）；ドリペネム注射用（ドリバックス）；ドキセルカルシフェロール注射薬（Ｈｅｃｔｏｒｏｌ注射薬）；ドキシル（ドキソルビシンＨｃｌリポソーム注射薬）；ドキソルビシンＨｃｌリポソーム注射薬（ドキシル）；Ｄｕｒａｃｌｏｎ（クロニジン注射薬）；Ｄｕｒａｍｏｒｐｈ（モルヒネ注射薬）；Ｄｙｓｐｏｒｔ（アボボツリナムトキシンＡ注射薬）；エカランチド注射薬（Ｋａｌｂｉｔｏｒ）；ＥＣ−ナプロシン（ナプロキセン）；エデト酸カルシウム二ナトリウム注射薬（カルシウムジナトリウムベルセネート）；Ｅｄｅｘ（注射用アルプロスタジル）；Ｅｎｇｅｒｉｘ；エドロホニウム注射薬（Ｅｎｌｏｎ）；エリグルスタットターテート（Ｅｌｉｇｌｕｓ���ａｔ  Ｔａｒｔａｔｅ）；エロキサチン（オキサリプラチン注射薬）；イメンド注射薬（フォサプレピタントジメグルミン注射薬）；エナラプリラート注射薬（エナラプリラート注射薬）；Ｅｎｌｏｎ（エドロホニウム注射薬）；エノキサパリンナトリウム注射薬（ラブノックス）；エオビスト（ガドキセト酸二ナトリウム注射薬）；エンブレル（エタネルセプト）；エノキサパリン；Ｅｐｉｃｅｌ；エピネフェリン（Ｅｐｉｎｅｐｈｅｒｉｎｅ）；エピペン；エピペンＪｒ．；エピラツズマブ；アービタックス；エルタペネム注射薬（Ｉｎｖａｎｚ）；エリスロポエテン（Ｅｒｙｔｈｒｏｐｏｉｅｔｅｎ）；必須アミノ酸注射薬（Ｎｅｐｈｒａｍｉｎｅ）；エストラジオールシピオネート；吉草酸エストラジオール；エタネルセプト；エキセナチド注射薬（バイエッタ）；エブロトラ（Ｅｖｌｏｔｒａ）；ファブラザイム（アダルシダーゼベータ（Ａｄａｌｓｉｄａｓｅ  ｂｅｔａ））；ファモチジン注射薬；ＦＤＧ（フルデオキシグルコースＦ１８注射薬）；フェラヘム（フェルモキシトール注射薬）；フェリデックスＩ．Ｖ．（フェルモキシデス注射可能溶液）；Ｆｅｒｔｉｎｅｘ；フェルモキシデス注射可能溶液（フェリデックスＩ．Ｖ．）；フェルモキシトール注射薬（フェラヘム）；フラジール注射薬（メトロニダゾール注射薬）；Ｆｌｕａｒｉｘ；フルダラ（リン酸フルダラビン）；フルデオキシグルコースＦ１８注射薬（ＦＤＧ）；フルオレセイン注射薬（Ａｋ−Ｆｌｕｏｒ）；フォリスチムＡＱカートリッジ（フォリトロピンベータ注射薬）；フォリトロピンアルファ注射薬（ゴナールエフＲＦＦ）；フォリトロピンベータ注射薬（フォリスチムＡＱカートリッジ）；フォロチン（プララトレキサート溶液静注用）；フォンダパリヌクス；フォルテオ（テリパラチド（ｒＤＮＡ由来）注射薬）；Ｆｏｓｔａｍａｔｉｎｉｂ；フォサプレピタントジメグルミン注射薬（イメンド注射薬）；ホスフェニトインナトリウム注射薬（ホスカビル）；ホスカビル（ホスフェニトインナトリウム注射薬）；ホスフェニトインナトリウム注射薬（Ｃｅｒｅｂｙｘ）；ホスプロポフォール二ナトリウム注射薬（Ｌｕｓｅｄｒａ）；フラグミン；フゼオン（エンフビルチド）；ＧＡ１０１；ガドベン酸メグルミン注射薬（Ｍｕｌｔｉｈａｎｃｅ）；ガドホスベセット三ナトリウム注射薬（Ａｂｌａｖａｒ）；ガドテリドール注射薬溶液（プロハンス）；カドベルセタ
ミド注射薬（ＯｐｔｉＭＡＲＫ）；ガドキセト酸二ナトリウム注射薬（エオビスト）；ガニレリクス（ガニレリクス酢酸塩注射薬）；ガーダシル；ＧＣ１００８；ＧＤＦＤ；注射用ゲムツズマブオゾガマイシン（マイロターグ）；ジェノトロピン；ゲンタマイシン注射薬；ＧＥＮＺ−１１２６３８；ゴリムマブ注射薬（シンポニー注射薬）；ゴナールエフＲＦＦ（フォリトロピンアルファ注射薬）；グラニセトロン塩酸塩（カイトリル注射薬）；ゲンタマイシン硫酸塩；グラチラマー酢酸塩；Ｇｌｕｃａｇｅｎ；グルカゴン；ＨＡＥ１；Ｈａｌｄｏｌ（ハロペリドール注射薬）；Ｈａｖｒｉｘ；Ｈｅｃｔｏｒｏｌ注射薬（ドキセルカルシフェロール注射薬）；ヘッジホッグ経路阻害薬；へパリン；ハーセプチン；ｈＧ−ＣＳＦ；ヒューマログ；ヒト成長ホルモン；ヒューマトロープ；ＨｕＭａｘ；ヒュメゴン；ヒュミラ；ヒューマリン；イバンドロネートナトリウム注射薬（ボニバ注射薬）；イブプロフェンリシン注射薬（ＮｅｏＰｒｏｆｅｎ）；フマル酸イブチリド注射薬（コルベルト）；イダマイシンＰＦＳ（イダルビシン塩酸注射薬）；イダルビシン塩酸注射薬（イダマイシンＰＦＳ）；イラリス（カナキヌマブ注射薬）；注射用イミペネム及びシラスタチン（プリマキシンＩ．Ｖ．）；イミトレックス；インコボツリナムトキシンＡ注射用（Ｘｅｏｍｉｎ）；Ｉｎｃｒｅｌｅｘ（メカセルミン［ｒＤＮＡ由来］注射薬）；インダシンＩＶ（インドメタシン注射薬）；インドメタシン注射薬（インダシンＩＶ）；Ｉｎｆａｎｒｉｘ；イノヘップ；インスリン；インスリンアスパルト［ｒＤＮＡ由来］注射薬（ＮｏｖｏＬｏｇ）；インスリングラルギン［ｒＤＮＡ由来］注射薬（ランタス）；インスリングルリシン［ｒＤＮＡ由来］注射薬（アピドラ）；インターフェロンアルファ−２ｂ、遺伝子組換え注射用（イントロンＡ）；イントロンＡ（インターフェロンアルファ−２ｂ、遺伝子組換え注射用）；Ｉｎｖａｎｚ（エルタペネム注射薬）；Ｉｎｖｅｇａ  Ｓｕｓｔｅｎｎａ（パリペリドンパルミチン酸エステル持効性懸濁注射液）；インビラーゼ（サキナビルメシル酸塩）；ヨーベングアンＩ１２３静脈内使用用注射薬（ＡｄｒｅＶｉｅｗ）；イオプロミド注射薬（Ｕｌｔｒａｖｉｓｔ）；イオベルソール注射薬（オプチレイ注射薬）；Ｉｐｌｅｘ（メカセルミンリンファバート［ｒＤＮＡ由来］注射薬）；Ｉｐｒｉｖａｓｋ；イリノテカン塩酸（Ｃａｍｐｔｏｓａｒ注射薬）；含糖酸化鉄注射薬（ヴェノファー）；Ｉｓｔｏｄａｘ（ロミデプシン注射用）；イトラコナゾール注射薬（スポラノックス注射薬）；ジェブタナ（カバジタキセル注射薬）；Ｊｏｎｅｘａ；Ｋａｌｂｉｔｏｒ（エカランチド注射薬）；ＫＣＬ  ｉｎ  Ｄ５ＮＳ（５％ブドウ糖及び塩化ナトリウム中塩化カリウム（Ｐｏｔａｓｓｉｕｍ  Ｃｈｌｏｒｉｄｅ  ｉｎ  ５％  Ｄｅｘｔｒｏｓｅ  ａｎｄ  Ｓｏｄｉｕｍ  Ｃｈｌｏｒｉｄｅ）注射薬）；ＫＣＬ  ｉｎ  Ｄ５Ｗ；ＫＣＬ  ｉｎ  ＮＳ；ケナログ１０注射薬（トリアムシノロンアセトニド懸濁注射液）；ケピバンス（パリフェルミン）；ケプラ注射薬（レベチラセタム）；ケラチノサイト；ＫＦＧ；キナーゼ阻害薬；Ｋｉｎｅｒｅｔ（アナキンラ）；Ｋｉｎｌｙｔｉｃ（ウロキナーゼ注射薬）；Ｋｉｎ��ｉｘ；クロノピン（クロナゼパム）；カイトリル注射薬（グラニセトロン塩酸塩）；ラコサミド錠及び注射薬（ビンパット）；乳酸リンゲル液；ラノキシン注射薬（ジゴキシン注射薬）；ランソプラゾール注射用（プレバシドＩ．Ｖ．）；ランタス；ロイコボリンカルシウム（ロイコボリンカルシウム注射薬）；レンテ（Ｌ）；レプチン；レベミル；リューカインサルグラモスチム（Ｌｅｕｋｉｎｅ  Ｓａｒｇｒａｍｏｓｔｉｍ）；ロイプロリド酢酸塩；レボチロキシン；レベチラセタム（ケプラ注射薬）；ラブノックス；レボカルニチン注射薬（Ｃａｒｎｉｔｏｒ注射薬）；レキスキャン（レガデノソン注射薬）；リオレサール髄注（バクロフェン注射薬）；リラグルチド［ｒＤＮＡ］注射薬（ビクトーザ）；ラブノックス（エノキサパリンナトリウム注射薬）；ルセンティス（ラニビズマブ注射薬）；Ｌｕｍｉｚｙｍｅ；ルプロン（ロイプロリド酢酸塩注射薬）；Ｌｕｓｅｄｒａ（ホスプロポフォール二ナトリウム注射薬）；Ｍａｃｉ；マグネシウム硫酸塩（マグネシウム硫酸塩注射薬）；マンニトール注射薬（マンニトールＩＶ）；マーカイン（ブピバカイン塩酸及びエピネフリン注射薬）；マキシピーム（セフェピム塩酸塩注射用）；テクネチウム注射薬のＭＤＰ多用量（Ｍｕｌｔｉｄｏｓｅ）キット（テクネチウムＴｃ９９ｍメドロナート注射薬）；メカセルミン［ｒＤＮＡ由来］注射薬（Ｉｎｃｒｅｌｅｘ）；メカセルミンリンファバート［ｒＤＮＡ由来］注射薬（Ｉｐｌｅｘ）；メルファランＨｃｌ注射薬（アルケラン注射薬）；メトトレキサート；メナクトラ；Ｍｅｎｏｐｕｒ（メノトロピンス注射薬）；メノトロピンス注射用（Ｒｅｐｒｏｎｅｘ）；メトヘキシタールナトリウム注射用（ブレビタールナトリウム）；メチルドーパート塩酸塩注射薬、溶液（メチルドーパートＨｃｌ）；メチレンブルー（メチレンブルー注射薬）；酢酸メチルプレドニゾロン懸濁注射液（デポメロドール）；ＭｅｔＭａｂ；メトクロプラミド注射薬（Ｒｅｇｌａｎ注射薬）；Ｍｅｔｒｏｄｉｎ（ウロホリトロピン注射用）；メトロニダゾール注射薬（フラジール注射薬）；Ｍｉａｃａｌｃｉｎ；ミダゾラム（ミダゾラム注射薬）；ミンパラ（シナカレト（Ｃｉｎａｃａｌｅｔ））；ミノシン注射薬（ミノサイクリン注射薬）；ミノサイクリン注射薬（ミノシン注射薬）；ミポメルセン；ミトキサントロン注射用濃縮液（ノバントロン）；モルヒネ注射薬（Ｄｕｒａｍｏｒｐｈ）；モルヒネ硫酸塩ＸＲリポソーム注射薬（デポデュール）；モルイン酸ナトリウム（モルイン酸ナトリウム注射薬）；モテサニブ；モゾビル（プレリキサフォル注射薬）；Ｍｕｌｔｉｈａｎｃｅ（ガドベン酸メグルミン注射薬）；多電解質及びブドウ糖注射薬；多電解質注射薬；マイロターグ（注射用ゲムツズマブオゾガマイシン）；マイオザイム（アルグルコシダーゼアルファ）；ナフシリン注射薬（ナフシリンナトリウム）；ナフシリンナトリウム（ナフシリン注射薬）；ナルトレキソンＸＲ注射薬（ビビトロル）；ナプロシン（ナプロキセン）；ＮｅｏＰｒｏｆｅｎ（イブプロフェンリシン注射薬）；ナンドロルデカン酸エステル（Ｎａｎｄｒｏｌ  Ｄｅｃａｎｏａｔｅ）；ネオスチグミンメチル硫酸塩（ネオスチグミンメチル硫酸塩注射薬）；ＮＥ���−ＧＡＡ；ＮｅｏＴｅｃｔ（テクネチウムＴｃ９９ｍデプレオチド注射薬）；Ｎｅｐｈｒａｍｉｎｅ（必須アミノ酸注射薬）；Ｎｅｕｌａｓｔａ（ペグフィルグラスチム）；Ｎｅｕｐｏｇｅｎ（フィルグラスチム）；ノボリン；Ｎｏｖｏｌｏｇ；ＮｅｏＲｅｃｏｒｍｏｎ；Ｎｅｕｔｒｅｘｉｎ（グルコン酸トリメトレキサート注射薬）；ＮＰＨ（Ｎ）；Ｎｅｘｔｅｒｏｎｅ（アミオダロンＨＣｌ注射薬）；ノルディトロピン（ソマトロピン注射薬）；生理食塩水（塩化ナトリウム注射薬）；ノバントロン（ミトキサントロン注射用濃縮液）；ノボリン７０／３０イノレット（７０％ＮＰＨ、ヒトインスリンイソフェン懸濁液及び３０％レギュラー、ヒトインスリン注射薬）；ＮｏｖｏＬｏｇ（インスリンアスパルト［ｒＤＮＡ由来］注射薬）；Ｎｐｌａｔｅ（ロミプロスチム）；ニュートロピン（ソマトロピン（ｒＤＮＡ由来）注射用）；ニュートロピンＡＱ；ニュートロピンデポ（ソマトロピン（ｒＤＮＡ由来）注射用）；オクトレオチド酢酸塩注射薬（サンドスタチンＬＡＲ）；オクレリズマブ；オファツムマブ注射薬（アーゼラ）；徐放性オランザピン懸濁注射液（Ｚｙｐｒｅｘａ  Ｒｅｌｐｒｅｖｖ）；Ｏｍｎｉｔａｒｇ；Ｏｍｎｉｔｒｏｐｅ（ソマトロピン［ｒＤＮＡ由来］注射薬）；オンダンセトロン塩酸注射薬（ゾフラン注射薬）；ＯｐｔｉＭＡＲＫ（カドベルセタミド注射薬）；オプチレイ注射薬（イオベルソール注射薬）；オレンシア；Ｏｓｍｉｔｒｏｌ注射薬、Ａｖｉｖａ（マンニトール注射薬、Ａｖｉｖａプラスチック容器）；Ｏｓｍｉｔｒｏｌ注射薬、Ｖｉａｆｌｅｘ（マンニトール注射薬、Ｖｉａｆｌｅｘプラスチック容器）；オステオプロテグリン（Ｏｓｔｅｏｐｒｏｔｅｇｒｉｎ）；Ｏｖｉｄｒｅｌ（絨毛性ゴナドトロピンアルファ注射薬）；オキサシリン（オキサシリン注射用）；オキサリプラチン注射薬（エロキサチン）；オキシトシン注射薬（ピトシン）；パリペリドンパルミチン酸エステル持効性懸濁注射液（Ｉｎｖｅｇａ  Ｓｕｓｔｅｎｎａ）；パミドロン酸二ナトリウム注射薬（パミドロン酸二ナトリウム注射薬）；パニツムマブ静注用（ベクティビックス）；パパベリン塩酸塩注射薬（パパベリン注射薬）；パパベリン注射薬（パパベリン塩酸塩注射薬）；副甲状腺ホルモン；パリカルシトール注射薬フリップトップ型バイアル（Ｚｅｍｐｌａｒ注射薬）；ＰＡＲＰ阻害薬；Ｐｅｄｉａｒｉｘ；ペグイントロン；ペグインターフェロン；ペグフィルグラスチム；ペニシリンＧベンザチン及びペニシリンＧプロカイン；ペンテト酸カルシウム三ナトリウム注射薬（Ｃａ−ＤＴＰＡ）；ペンテト酸亜鉛三ナトリウム注射薬（Ｚｎ−ジエチレントリアミン五酢酸）；ペプシド注射薬（ファモチジン注射薬）；Ｐｅｒｇｏｎａｌ；ペルツズマブ；フェントラミンメシル酸塩（フェントラミンメシル酸塩注射用）；サリチル酸フィゾスチグミン（サリチル酸フィゾスチグミン（注射薬））；サリチル酸フィゾスチグミン（注射薬）（サリチル酸フィゾスチグミン）；ピペラシリン及びタゾバクタム注射薬（ゾシン）；ピトシン（オキシトシン注射薬）；Ｐｌａｓｍａ−Ｌｙｔｅ１４８（多電解質注射薬）；Ｐｌａｓｍａ−Ｌｙｔｅ５６及びブドウ糖（多電解質及びブドウ糖注射薬、Ｖｉａｆｌｅｘプラスチック容器）；ＰｌａｓｍａＬｙｔｅ；プレリキサフォル注射薬（モゾビル）；ポリドカノール注射薬（Ａｓｃｌｅｒａ）；塩化カリウム；プララトレキサート溶液静注用（フォロチン）；酢酸プラムリンタイド注射薬（Ｓｙｍｌｉｎ）；プレマリン注射薬（注射用結合型エストロゲン）；注射用テクネチウムＴｃ９９セスタミビ用調製キット（Ｐｒｅｐ  ｋｉｔ）（カーディオライト）；プレバシドＩ．Ｖ．（ランソプラゾール注射用）；プリマキシンＩ．Ｖ．（注射用イミペネム及びシラスタチン）；Ｐｒｏｃｈｙｍａｌ；プロクリット；黄体ホルモン；プロハンス（ガドテリドール注射薬溶液）；プロリア（デノスマブ注射薬）；プロメタジンＨＣｌ注射薬（プロメタジン塩酸注射薬）；プロプラノロール塩酸塩注射薬（プロプラノロール塩酸塩注射薬）；グルコン酸キニジン注射薬（キニジン注射薬）；キニジン注射薬（グルコン酸キニジン注射薬）；Ｒ−Ｇｅｎｅ１０（塩酸アルギニン注射薬）；ラニビズマブ注射薬（ルセンティス）；ラニチジン塩酸塩注射薬（ザンタック注射薬）；ラプティバ；リクラスト（ゾレドロン酸注射薬）；Ｒｅｃｏｍｂｉｖａｒｉｘ  ＨＢ；レガデノソン注射薬（レキスキャン）；Ｒｅｇｌａｎ注射薬（メトクロプラミド注射薬）；レミケード；レナジェル；Ｒｅｎｖｅｌａ（炭酸セベラマー）；Ｒｅｐｒｏｎｅｘ（メノトロピンス注射用）；レトロビルＩＶ（ジドブジン注射薬）；ｒｈＡｐｏ２Ｌ／ＴＲＡＩＬ；リンゲル及び５％ブドウ糖注射薬（ブドウ糖加リンガー液（Ｒｉｎｇｅｒｓ））；リンゲル液（リンガー（Ｒｉｎｇｅｒｓ）液）；リツキサン；リツキシマブ；ロセフィン（セフトリアキソン）；ロクロニウム臭化物注射薬（Ｚｅｍｕｒｏｎ）；Ｒｏｆｅｒｏｎ−Ａ（インターフェロンアルファ−２ａ）；Ｒｏｍａｚｉｃｏｎ（フルマゼニル）；ロミデプシン注射用（Ｉｓｔｏｄａｘ）；サイゼン（ソマトロピン注射薬）；サンドスタチンＬＡＲ（オクトレオチド酢酸塩注射薬）；スクレロスチンＡｂ；Ｓｅｎｓｉｐａｒ（シナカルセト）；Ｓｅｎｓｏｒｃａｉｎｅ（ブピバカインＨＣｌ注射薬）；Ｓｅｐｔｏｃａｉｎｅ（アルチケーンＨＣｌ（Ａｒｔｉｃａｎｅ  ＨＣｌ）及びエピネフリン注射薬）；Ｓｅｒｏｓｔｉｍ  ＬＱ（ソマトロピン（ｒＤＮＡ由来）注射薬）；シンポニー注射薬（ゴリムマブ注射薬）；ナトリウム酢酸塩（ナトリウム酢酸塩注射薬）；炭酸水素ナトリウム（炭酸水素ナトリウム
５％注射薬）；乳酸ナトリウム（乳酸ナトリウム注射薬、ＡＶＩＶＡ）；フェニル酢酸ナトリウム及び安息香酸ナトリウム注射薬（Ａｍｍｏｎｕｌ）；ソマトロピン（ｒＤＮＡ由来）注射用（ニュートロピン）；スポラノックス注射薬（イトラコナゾール注射薬）；ステラーラ注射薬（ウステキヌマブ）；Ｓｔｅｍｇｅｎ；Ｓｕｆｅｎｔａ（クエン酸スフェンタニル注射薬）；クエン酸スフェンタニル注射薬（Ｓｕｆｅｎｔａ）；Ｓｕｍａｖｅｌ；スマトリプタン注射薬（Ａｌｓｕｍａ）；Ｓｙｍｌｉｎ；Ｓｙｍｌｉｎ  Ｐｅｎ；全身用ヘッジホッグ（Ｓｙｓｔｅｍｉｃ  Ｈｅｄｇｅｈｏｇ）拮抗薬；Ｓｙｎｖｉｓｃ−Ｏｎｅ（ヒラン（Ｈｙｌａｎ）Ｇ−Ｆ２０単回関節内注射薬）；タルセバ；タキソテール（ドセタクセル注射用）；テクネチウムＴｃ９９ｍ；テラバンシン注射用（ヴィバティブ）；テムシロリムス注射薬（トーリセル）；テノーミンＩ．Ｖ．注射薬（アテノロール注射薬）；テリパラチド（ｒＤＮＡ由来）注射薬（フォルテオ）；テストステロンシピオネート；テストステロンエナント酸エステル；テストステロンプロピオン酸エステル；Ｔｅｖ−Ｔｒｏｐｉｎ（ソマトロピン、ｒＤＮＡ由来、注射用）；ｔｇＡＡＣ９４；塩化タリウム；テオフィリン；チオテパ（チオテパ注射薬）；サイモグロブリン（抗胸腺細胞免疫グロブリン（ウサギ）；タイロゲン（チロトロピンアルファ注射用）；チカルシリンナトリウム及びクラブラン酸カリウムギャラクシー（Ｇａｌａｘｙ）（チメンチン注射薬）；Ｔｉｇａｎ注射薬（塩酸トリメトベンズアミド注射可能物質（ｉｎｊｅｃｔａｂｌｅ））；チメンチン注射薬（チカルシリンナトリウム及びクラブラン酸カリウムギャラクシー（Ｇａｌａｘｙ））；ＴＮＫａｓｅ；トブラマイシン注射薬（トブラマイシン注射薬）；トシリズマブ注射薬（アクテムラ）；トーリセル（テムシロリムス注射薬）；Ｔｏｔｅｃｔ（注射用デキスラゾキサン、静注のみ）；トラスツズマブ−ＤＭ１；Ｔｒａｖａｓｏｌ（アミノ酸（注射薬））；トレアンダ（塩酸ベンダムスチン注射薬）；トレルスター（トリプトレリンパモエート懸濁注射液用）；トリアムシノロンアセトニド；酢酸トリアムシノロン；トリアムシノロンヘキサアセトニド懸濁注射液（アリストスパン注射薬２０ｍｇ）；Ｔｒｉｅｓｅｎｃｅ（トリアムシノロンアセトニド懸濁注射液）；塩酸トリメトベンズアミド注射可能物質（ｉｎｊｅｃｔａｂｌｅ）（Ｔｉｇａｎ注射薬）；グルコン酸トリメトレキサート注射薬（Ｎｅｕｔｒｅｘｉｎ）；トリプトレリンパモエート懸濁注射液用（トレルスター）；Ｔｗｉｎｊｅｃｔ；Ｔｒｉｖａｒｉｓ（トリアムシノロンアセトニド懸濁注射液）；トリセノックス（三酸化ヒ素注射薬）；Ｔｗｉｎｒｉｘ；腸チフスＶｉ；Ｕｌｔｒａｖｉｓｔ（イオプロミド注射薬）；ウロホリトロピン注射用（Ｍｅｔｒｏｄｉｎ）；ウロキナーゼ注射薬（Ｋｉｎｌｙｔｉｃ）；ウステキヌマブ（ステラーラ注射薬）；ウルトラレンテ（Ｕ）；バリウム（ジアゼパム）；バルプロ酸ナトリウム注射薬（Ｄｅｐａｃｏｎ）；Ｖａｌｔｒｏｐｉｎ（ソマトロピン注射薬）；バルプロ酸ナトリウム（バルプロ酸ナトリウム注射薬）；バルプロ酸ナトリウム注射薬（バルプロ酸ナトリウム）；バプリゾール（コ��バプタンＨｃｌ注射薬）；ＶＡＱＴＡ；バソビスト（ガドホスベセット三ナトリウム静注用）；ベクティビックス（パニツムマブ静注用）；ヴェノファー（含糖酸化鉄注射薬）；ベルテポルフィン注射薬（ビスダイン）；ヴィバティブ（テラバンシン注射用）；ビクトーザ（リラグルチド［ｒＤＮＡ］注射薬）；ビンパット（ラコサミド錠及び注射薬）；ビンブラスチン硫酸塩（ビンブラスチン硫酸塩注射薬）；Ｖｉｎｃａｓａｒ  ＰＦＳ（ビンクリスチン硫酸塩注射薬）；ビクトーザ；ビンクリスチン硫酸塩（ビンクリスチン硫酸塩注射薬）；ビスダイン（ベルテポルフィン注射薬）；ビタミンＢ−１２；ビビトロル（ナルトレキソンＸＲ注射薬）；ボルベン（塩化ナトリウム中ヒドロキシエチルデンプン（Ｈｙｄｒｏｘｙｅｔｈｙｌ  Ｓｔａｒｃｈ  ｉｎ  Ｓｏｄｉｕｍ  Ｃｈｌｏｒｉｄｅ）注射薬）；ゼローダ；ゼニカル（オルリスタット）；Ｘｅｏｍｉｎ（インコボツリナムトキシンＡ注射用）；ゾレア；ザンタック注射薬（ラニチジン塩酸塩注射薬）；Ｚｅｍｐｌａｒ注射薬（パリカルシトール注射薬フリップトップ型バイアル）；Ｚｅｍｕｒｏｎ（ロクロニウム臭化物注射薬）；ゼナパックス（ダクリズマブ）；ゼバリン；ジドブジン注射薬（レトロビルＩＶ）；ジスロマック注射薬（アジスロマイシン）；Ｚｎ−ジエチレントリアミン五酢酸（ペンテト酸亜鉛三ナトリウム注射薬）；ゾフラン注射薬（オンダンセトロン塩酸注射薬）；Ｚｉｎｇｏ；ゾレドロン酸注射用（ゾメタ）；ゾレドロン酸注射薬（リクラスト）；ゾメタ（ゾレドロン酸注射用）；ゾシン（ピペラシリン及びタゾバクタム注射薬）；Ｚｙｐｒｅｘａ  Ｒｅｌｐｒｅｖｖ（徐放性オランザピン懸濁注射液）
液剤（非注射型）
エビリファイ；ＡｃｃｕＮｅｂ（アルブテロール硫酸塩吸入液）；Ａｃｔｉｄｏｓｅ  Ａｑｕａ（薬用炭懸濁液）；薬用炭懸濁液（Ａｃｔｉｄｏｓｅ  Ａｑｕａ）；アドベア；Ａｇｅｎｅｒａｓｅ経口液（アンプレナビル経口液）；Ａｋｔｅｎ（リドカイン塩酸塩眼用ゲル）；Ａｌａｍａｓｔ（ペミロラストカリウム点眼液）；アルブミン（ヒト）５％溶液（ブミネート５％）；アルブテロール硫酸塩吸入液；Ａｌｉｎｉａ；Ａｌｏｃｒｉｌ；アルファガン；Ａｌｒｅｘ；オルベスコ；アンプレナビル経口液；Ａｎａｌｐｒａｍ−ＨＣ；アルフォルモテロール酒石酸塩吸入液（Ｂｒｏｖａｎａ）；アリストスパン注射薬２０ｍｇ（トリアムシノロンヘキサアセトニド懸濁注射液）；アサコール；アズマネックス；Ａｓｔｅｐｒｏ；Ａｓｔｅｐｒｏ（アゼラスチン塩酸塩鼻用スプレー）；アトロベント鼻用スプレー（臭化イプラトロピウム鼻用スプレー）；アトロベント鼻用スプレー．０６；オーグメンチンＥＳ−６００；Ａｚａｓｉｔｅ（アジスロマイシン点眼液）；アゼライン酸（Ｆｉｎａｃｅａゲル）；アゼラスチン塩酸塩鼻用スプレー（Ａｓｔｅｐｒｏ）；Ａｚｅｌｅｘ（アゼライン酸クリーム）；エイゾプト（ブリンゾラミド懸濁性点眼液）；静菌性生理食塩水（Ｂａｃｔｅｒｉｏｓｔａｔｉｃ  Ｓａｌｉｎｅ）；平衡塩類（ｂａｌａｎｃｅｄ  ｓａｌｔ）；ベポタスチン；バクトロバン鼻腔用；バクトロバン；Ｂｅｃｌｏｖｅｎｔ；Ｂｅｎｚａｃ  Ｗ；Ｂｅｔｉｍｏｌ；ベトプティックエス；Ｂｅｐｒｅｖｅ；ビマトプロスト点眼液；Ｂｌｅｐｈ  １０（スルファセタミドナトリウム点眼液１０％）；ブリンゾラミド懸濁性点眼液（エイゾプト）；ブロムフェナク点眼液（Ｘｉｂｒｏｍ）；Ｂｒｏｍｈｉｓｔ；Ｂｒｏｖａｎａ（アルフォルモテロール酒石酸塩吸入液）；ブデソニド吸入用懸濁液（パルミコート吸入液）；Ｃａｍｂｉａ（ジクロフェナクカリウム経口液用）；Ｃａｐｅｘ；Ｃａｒａｃ；Ｃａｒｂｏｘｉｎｅ−ＰＳＥ；Ｃａｒｎｉｔｏｒ；Ｃａｙｓｔｏｎ（アズトレオナム吸入液用）；セルセプト；Ｃｅｎｔａｎｙ；Ｃｅｒｕｍｅｎｅｘ；Ｃｉｌｏｘａｎ点眼液（シプロフロキサシンＨＣＬ点眼液）；Ｃｉｐｒｏｄｅｘ；シプロフロキサシンＨＣＬ点眼液（Ｃｉｌｏｘａｎ点眼液）；クレマスチンフマル酸塩シロップ（クレマスチンフマル酸塩シロップ）；ＣｏＬｙｔｅ（ＰＥＧ電解質溶液）；Ｃｏｍｂｉｖｅｎ；コムタン；Ｃｏｎｄｙｌｏｘ；Ｃｏｒｄｒａｎ；Ｃｏｒｔｉｓｐｏｒｉｎ懸濁性点眼液；Ｃｏｒｔｉｓｐｏｒｉｎ耳用懸濁液；クロモリンナトリウム吸入液（Ｉｎｔａｌ  Ｎｅｂｕｌｉｚｅｒ溶液）；クロモリンナトリウム点眼液（Ｏｐｔｉｃｒｏｍ）；電解質加結晶アミノ酸溶液（Ｃｒｙｓｔａｌｌｉｎｅ  Ａｍｉｎｏ  Ａｃｉｄ  Ｓｏｌｕｔｉｏｎ  ｗｉｔｈ  Ｅｌｅｃｔｒｏｌｙｔｅｓ）（Ａｍｉｎｏｓｙｎ電解質）；Ｃｕｔｉｖａｔｅ；Ｃｕｖｐｏｓａ（グリコピロレート経口液）；シアノコバラミン（ＣａｌｏＭｉｓｔ鼻用スプレー）；サイクロスポリン経口液（Ｇｅｎｇｒａｆ経口液）；サイクロジル；Ｃｙｓｖｉｅｗ（ヘキサミノレブリナート塩酸塩膀胱内溶液（Ｉｎｔｒａｖｅｓｉｃａｌ  Ｓｏｌｕｔｉｏｎ））；ＤｅｒｍＯｔｉｃオイル（フルオシノロンアセトニドオイル点耳薬（Ｏｉ���  Ｅａｒ  Ｄｒｏｐｓ））；デスモプレシン酢酸塩鼻用スプレー；ＤＤＡＶＰ；Ｄｅｒｍａ−Ｓｍｏｏｔｈｅ／ＦＳ；デキサメサゾンＩｎｔｅｎｓｏｌ；ダイアニール低カルシウム；ダイアニールＰＤ；ジクロフェナクカリウム経口液用（Ｃａｍｂｉａ）；ジダノシン小児用散経口液用（ヴァイデックス）；ディフェリン；ディランチン１２５（フェニトイン経口懸濁液）；Ｄｉｔｒｏｐａｎ；ドルゾラミド塩酸塩点眼液（トルソプト）；ドルゾラミド塩酸塩−チモロールマレイン酸塩点眼液（コソプト）；ドボネックススカルプ（Ｓｃａｌｐ）（カルシポトリエン溶液）；ドキシサイクリンカルシウム経口懸濁液（ビブラマイシン経口用）；Ｅｆｕｄｅｘ；エラプレース（イデュルスルファーゼ溶液）；Ｅｌｅｓｔａｔ（エピナスチンＨＣｌ点眼液）；Ｅｌｏｃｏｎ；エピナスチンＨＣｌ点眼液（Ｅｌｅｓｔａｔ）；エピビルＨＢＶ；Ｅｐｏｇｅｎ（エポエチンアルファ）；エリスロマイシン局所用液１．５％（Ｓｔａｔｉｃｉｎ）；Ｅｔｈｉｏｄｏｌ（エチオダイズド油）；エトスクシミド経口液（ザロンチン経口液）；オイラックス；Ｅｘｔｒａｎｅａｌ（イコデキストリン腹膜透析溶液）；Ｆｅｌｂａｔｏｌ；フェリデックスＩ．Ｖ．（フェルモキシデス注射可能溶液）；Ｆｌｏｖｅｎｔ；Ｆｌｏｘｉｎ耳用薬（オフロキサシン耳科用液）；Ｆｌｏ−Ｐｒｅｄ（プレドニゾロン酢酸エステル経口懸濁液）；Ｆｌｕｏｒｏｐｌｅｘ；フルニソリド点鼻液（フルニソリド鼻用スプレー．０２５％）；フルオロメトロン懸濁性点眼液（ＦＭＬ）；フルルビプロフェンナトリウム点眼液（Ｏｃｕｆｅｎ）；ＦＭＬ；Ｆｏｒａｄｉｌ；フマル酸ホルモテロール吸入液（Ｐｅｒｆｏｒｏｍｉｓｔ）；フォサマックス；フラダンチン（ニトロフラントイン経口懸濁液）；フロキソン；ガンマガード液（静注用免疫グロブリン（ヒト）１０％）；ガントリシン（アセチルスルフイソキサゾール小児用懸濁液）；ガチフロキサシン点眼液（Ｚｙｍａｒ）；Ｇｅｎｇｒａｆ経口液（サイクロスポリン経口液）；グリコピロレート経口液（Ｃｕｖｐｏｓａ）；ハルシノニド局所用液（Ｈａｌｏｇ溶液）；Ｈａｌｏｇ溶液（ハルシノニド局所用液）；ＨＥＰ−ＬＯＣＫ  Ｕ／Ｐ（防腐剤無添加ヘパリンロック用フラッシュ液）；ヘパリンロック用フラッシュ液（Ｈｅｐｆｌｕｓｈ  １０；ヘキサミノレブリナート塩酸塩膀胱内溶液（Ｉｎｔｒａｖｅｓｉｃａｌ  Ｓｏｌｕｔｉｏｎ）（Ｃｙｓｖｉｅｗ）；酒石酸水素ヒドロコドン及びアセトアミノフェン経口液（Ｌｏｒｔａｂ  Ｅｌｉｘｉｒ）；ヒドロキノン３％局所用液（Ｍｅｌｑｕｉｎ−３局所用液）；ＩＡＰ拮抗薬；Ｉｓｏｐｔｏ；臭化イプラトロピウム鼻用スプレー（アトロベント鼻用スプレー）；イトラコナゾール経口液（スポラノックス経口液）；ケトロラクトロメタミン点眼液（Ａｃｕｌａｒ  ＬＳ）；カレトラ；ラノキシン；レクシヴァ；ロイプロリド酢酸塩デポー懸濁液用（ルプロンデポ１１．２５ｍｇ）；レボベタキソロール塩酸塩懸濁性点眼液（ベタキソン）；レボカルニチン錠、経口液、無糖（Ｃａｒｎｉｔｏｒ）；レボフロキサシン点眼液０．５％（Ｑｕｉｘｉｎ）；リドカインＨＣｌ無菌液（キシロカインＭＰＦ無菌液）；Ｌｏｋ  Ｐａｋ（ヘパリンロック用フラッシュ液）；ロラゼパムＩｎｔｅｎｓｏｌ；Ｌｏｒｔａｂ  Ｅｌｉｘｉｒ（酒石酸水素ヒドロコドン及びアセトアミノフェン経口液）；Ｌｏｔｅｍａｘ（エタボン酸ロテプレドノール懸濁性点眼液）；エタボン酸ロテプレドノール懸濁性点眼液（Ａｌｒｅｘ）；低カルシウム腹膜透析溶液（ダイアニール低カルシウム）；ルミガン（ビマトプロスト点眼液０．０３％緑内障用）；ルプロンデポ１１．２５ｍｇ（ロイプロリド酢酸塩デポー懸濁液用）；メゲストロール酢酸塩経口懸濁液（メゲストロール酢酸塩経口懸濁液）；ＭＥＫ阻害薬；Ｍｅｐｒｏｎ；Ｍｅｓｎｅｘ；メスチノン；メサラミン注腸剤（Ｒｅｃｔａｌ  Ｓｕｓｐｅｎｓｉｏｎ  Ｅｎｅｍａ）（Ｒｏｗａｓａ）；Ｍｅｌｑｕｉｎ−３局所用液（ヒドロキノン３％局所用液）；ＭｅｔＭａｂ；メチルドーパートＨｃｌ（メチルドーパート塩酸塩注射薬、溶液）；Ｍｅｔｈｙｌｉｎ経口液（メチルフェニデートＨＣｌ経口液５ｍｇ／５ｍＬ及び１０ｍｇ／５ｍＬ）；酢酸メチルプレドニゾロン懸濁注射液（デポメロドール）；メチルフェニデートＨＣｌ経口液５ｍｇ／５ｍＬ及び１０ｍｇ／５ｍＬ（Ｍｅｔｈｙｌｉｎ経口液）；コハク酸メチルプレドニゾロンナトリウム（ソルメドロール）；メチプラノロール点眼液（Ｏｐｔｉｐｒａｎｏｌｏｌ）；Ｍｉｇｒａｎａｌ；Ｍｉｏｃｈｏｌ−Ｅ（アセチルコリン塩化物眼内溶液（Ｉｎｔｒａｏｃｕｌａｒ  Ｓｏｌｕｔｉｏｎ））；Ｍｉｃｒｏ−Ｋ液体懸濁液用（塩化カリウム徐放製剤液体懸濁液用）；ミノシン（ミノサイクリン塩酸経口懸濁液）；ナサコート；ネオマイシン硫酸塩及びポリミキシンＢ硫酸塩及びヒドロコルチゾン；ネパフェナク懸濁性点眼液（ネバナック）；ネバナック（ネパフェナク懸濁性点眼液）；ニトロフラントイン経口懸濁液（フラダンチン）；Ｎｏｘａｆｉｌ（ポサコナゾール経口懸濁液）；ニスタチン（経口）（ニスタチン経口懸濁液）；ニスタチン経口懸濁液（ニスタチン（経口））；Ｏｃｕｆｅｎ（フルルビプロフェンナトリウム点眼液）；オフロキサシン点眼液（オフロキサシン点眼液）；オフロキサシン耳科用液（Ｆｌｏｘｉｎ耳用薬）；オロパタジン塩酸点眼液（Ｐａｔａｄａｙ）；Ｏｐｔｉｃｒｏｍ（クロモリンナトリウム点眼液）；Ｏｐｔｉｐｒａｎｏｌｏｌ（メチプラノロール点眼液）；パタノール；Ｐｅｄｉａｐｒｅｄ；ＰｅｒｉｏＧａｒｄ；フェニトイン経口懸濁液（ディランチン１２５）；Ｐｈｉｓｏｈｅｘ；ポサコナゾール経口懸濁液（Ｎｏｘａｆｉｌ）；塩化カリウム徐放製剤液体懸濁液用（Ｍｉｃｒｏ−Ｋ液体懸濁液用）；Ｐａｔａｄａｙ（オロパタジン塩酸点眼液）；Ｐａｔａｎａｓｅ鼻用スプレー（オロパタジン塩酸鼻用スプレー）；ＰＥＧ電解質溶液（ＣｏＬｙｔｅ）；ペミロラストカリウム点眼液（Ａｌａｍａｓｔ）；Ｐｅｎｌａｃ（シクロピロクス局所用液）；ＰＥＮＮＳＡＩＤ（ジクロフェナクナトリウム局所用液）；Ｐｅｒｆｏｒｏｍｉｓｔ（フマル酸ホルモテロール吸入液）；腹膜透析溶液；フェニレフリン塩酸塩点眼液（ネオシネフリン）；フォスフォリンアイオダイド（エコチオパートヨウ化物点眼液用）；ポドフィロックス（ポドフィロックス局所用液）；Ｐｒｅｄ  Ｆｏｒｔｅ（プレドニゾロン酢酸エステル懸濁性点眼液）；プララトレキサート溶液静注��（フォロチン）；Ｐｒｅｄ  Ｍｉｌｄ；Ｐｒｅｄｎｉｓｏｎｅ  Ｉｎｔｅｎｓｏｌ；プレドニゾロン酢酸エステル懸濁性点眼液（Ｐｒｅｄ  Ｆｏｒｔｅ）；プレバシド；ＰｒｉｓｍａＳｏｌ溶液（滅菌血液濾過（Ｓｔｅｒｉｌｅ  Ｈｅｍｏｆｉｌｔｒａｔｉｏｎ）血液濾過透析溶液（Ｈｅｍｏｄｉａｆｉｌｔｒａｔｉｏｎ  Ｓｏｌｕｔｉｏｎ））；プロエアー；Ｐｒｏｇｌｙｃｅｍ；プロハンス（ガドテリドール注射薬溶液）；塩酸プロパラカイン点眼液（Ａｌｃａｉｎｅ）；Ｐｒｏｐｉｎｅ；パルミコート；プルモザイム；Ｑｕｉｘｉｎ（レボフロキサシン点眼液０．５％）；ＱＶＡＲ；ラパミューン；レベトール；Ｒｅｌａｃｏｎ−ＨＣ；ロタリックス（経口生ロタウイルスワクチン懸濁液）；経口生ロタウイルスワクチン懸濁液（ロタリックス）；Ｒｏｗａｓａ（メサラミン注腸剤（Ｒｅｃｔａｌ  Ｓｕｓｐｅｎｓｉｏｎ  Ｅｎｅｍａ））；サブリル（ビガバトリン経口液）；サクロシダーゼ経口液（Ｓｕｃｒａｉｄ）；サンディミュン；Ｓｅｐｒａ；Ｓｅｒｅｖｅｎｔ  Ｄｉｓｋｕｓ；ソルコーテフ（ヒドロコルチゾンコハク酸エステルナトリウム）；ソルメドロール（コハク酸メチルプレドニゾロンナトリウム）；スピリーバ；スポラノックス経口液（イトラコナゾール経口液）；Ｓｔａｔｉｃｉｎ（エリスロマイシン局所用液１．５％）；スタレボ；Ｓｔａｒｌｉｘ；滅菌血液濾過（Ｓｔｅｒｉｌｅ  Ｈｅｍｏｆｉｌｔｒａｔｉｏｎ）血液濾過透析溶液（Ｈｅｍｏｄｉａｆｉｌｔｒａｔｉｏｎ  Ｓｏｌｕｔｉｏｎ）（ＰｒｉｓｍａＳｏｌ溶液）；Ｓｔｉｍａｔｅ；スクラルファート（カラファート懸濁液）；スルファセタミドナトリウム点眼液１０％（Ｂｌｅｐｈ  １０；Ｓｙｎａｒｅｌ点鼻液（子宮内膜症用酢酸ナファレリン点鼻液）；Ｔａｃｌｏｎｅｘ  Ｓｃａｌｐ（カルシポトリエン及びジプロピオン酸ベタメタゾン局所懸濁液（Ｔｏｐｉｃａｌ  Ｓｕｓｐｅｎｓｉｏｎ））；タミフル；トービイ；ＴｏｂｒａＤｅｘ；Ｔｏｂｒａｄｅｘ  ＳＴ（トブラマイシン／デキサメサゾン懸濁性点眼液０．３％／０．０５％）；トブラマイシン／デキサメサゾン懸濁性点眼液０．３％／０．０５％（Ｔｏｂｒａｄｅｘ  ＳＴ）；チモロール；Ｔｉｍｏｐｔｉｃ；トラバタンズ；トレプロスチニル吸入液（Ｔｙｖａｓｏ）；トルソプト（ドルゾラミド塩酸塩点眼液）；Ｔｙｖａｓｏ（トレプロスチニル吸入液）；ベントリン；ブイフェンド；ビブラマイ
シン経口用（ドキシサイクリンカルシウム経口懸濁液）；ヴァイデックス（ジダノシン小児用散経口液用）；ビガバトリン経口液（サブリル）；Ｖｉｏｋａｓｅ；ビラセプト；ビラミューン；ビタミンＫ１（ビタミンＫ１の流体コロイド溶液）；ボルタレン眼科用薬（ジクロフェナクナトリウム点眼液）；ザロンチン経口液（エトスクシミド経口液）；ザイアジェン；ザイボックス；Ｚｙｍａｒ（ガチフロキサシン点眼液）；Ｚｙｍａｘｉｄ（ガチフロキサシン点眼液）
薬物分類
５α還元酵素阻害薬；５−アミノサリチル酸塩；５ＨＴ３受容体拮抗薬；アダマンタン抗ウイルス薬；副腎皮質ステロイド；副腎皮質ホルモン阻害薬；アドレナリン作動性気管支拡張薬；高血圧性緊急疾患用薬剤；肺高血圧症用薬剤；アルドステロン受容体拮抗薬；アルキル化薬；αアドレナリン受容体拮抗薬；αグルコシダーゼ阻害薬；代替薬；殺アメーバ薬；アミノグリコシド；アミノペニシリン類；アミノサリチル酸塩；アミリン類似体；鎮痛薬配合剤；鎮痛薬；アンドロゲン及びアナボリックステロイド；アンジオテンシン変換酵素阻害薬；アンジオテンシンＩＩ阻害薬；肛門直腸製剤；食欲抑制薬；制酸薬；駆虫薬；抗血管原性眼用薬；抗ＣＴＬＡ−４モノクローナル抗体；感染症薬；抗アドレナリン作動薬、中枢作用型；抗アドレナリン作動薬、末梢作用型；抗アンドロゲン薬；抗狭心症薬；抗不整脈薬；抗喘息薬配合剤；抗生物質／抗腫瘍薬；抗コリン性制吐剤；抗コリン性抗パーキンソン薬；抗コリン性気管支拡張薬；抗コリン性変時性薬（ａｎｔｉｃｈｏｌｉｎｅｒｇｉｃ  ｃｈｒｏｎｏｔｒｏｐｉｃ  ａｇｅｎｔｓ）；抗コリン作動薬／鎮痙薬；凝固阻止剤；抗痙攣薬；抗うつ薬；抗糖尿病薬；抗糖尿病薬配合剤；止瀉薬；抗利尿ホルモン；解毒薬；制吐薬／抗暈眩薬；抗真菌薬；抗ゴナドトロピン薬；痛風治療薬；抗ヒスタミン薬；高脂血症用薬；高脂血症用配合剤；降圧配合剤；尿酸降下薬；抗マラリア薬；抗マラリア薬配合剤；抗マラリア薬キノリン類；代謝拮抗薬；抗片頭痛薬；抗腫瘍性解毒剤；抗腫瘍性インターフェロン；抗腫瘍性モノクローナル抗体；抗腫瘍薬；抗パーキンソン薬；抗血小板薬；抗緑膿菌ペニシリン系薬；抗乾癬薬；抗精神病薬；抗リウマチ薬；防腐薬及び殺菌薬；抗甲状腺薬；抗毒素及び抗蛇毒素；抗結核薬；抗結核薬配合剤；鎮咳薬；抗ウイルス薬；抗ウイルス配合剤；抗ウイルスインターフェロン；抗不安薬、鎮静薬、及び催眠薬；アロマターゼ阻害薬；非定型抗精神病薬；アゾ−ル抗真菌薬；細菌性ワクチン；バルビツール酸系抗痙攣薬；バルビツール薬；ＢＣＲ−ＡＢＬチロシンナーゼ阻害薬；ベンゾジアゼピン系抗痙攣薬；ベンゾジアゼピン；βアドレナリン遮断薬；βラクタマーゼ阻害薬；胆汁酸金属イオン封鎖剤；生物学的製剤；ビスホスホネート製剤；骨吸収阻害薬；気管支拡張薬配合剤；気管支拡張薬；カルシトニン；カルシウムチャネル遮断薬；カルバメート系抗痙攣薬；カルバペネム；炭酸脱水酵素阻害抗痙攣薬；炭酸脱水酵素阻害薬；心緊張薬（ｃａｒｄｉａｃ  ｓｔｒｅｓｓｉｎｇ  ａｇｅｎｔｓ）；心選択性β遮断薬；心血管作動薬；カテコールアミン；ＣＤ２０モノクローナル抗体；ＣＤ３３モノクローナル抗体；ＣＤ５２モノクローナル抗体；中枢神経系薬；セファロスポリン；耳垢水；キレート剤；ケモカイン受容体拮抗薬；クロライドチャネルアクチベーター；コレステロール吸収阻害薬；コリン作動薬；コリン作動性筋興奮薬；コリンエステラーゼ阻害薬；中枢興奮薬；凝固調整剤；コロニー刺激因子；避妊薬；副腎皮質刺激ホルモン；クマリン類及びインダンジオン類；ｃｏｘ−２阻害薬；充血除去薬；外皮用薬；診断的放射性医薬品；ジベンザゼピン系抗痙攣薬；消化酵素；ジペプチジルペプチダーゼ４阻害薬；利尿薬；ドパミン作用性抗���ーキンソン薬；アルコール依存性に使用される薬物；エキノカンジン；ＥＧＦＲ阻害薬；エストロゲン受容体拮抗薬；エストロゲン；去痰薬；第Ｘａ因子阻害剤；脂肪酸誘導体抗痙攣薬；フィブリン酸誘導体；第１世代セファロスポリン；第４世代セファロスポリン；機能性腸疾患薬；胆石可溶化薬（ｇａｌｌｓｔｏｎｅ  ｓｏｌｕｂｉｌｉｚｉｎｇ  ａｇｅｎｔｓ）；ＧＡＢＡ類似体；ＧＡＢＡ再取り込み阻害薬；ＧＡＢＡトランスアミナーゼ阻害薬；胃腸薬；全身麻酔薬；尿生殖路薬（ｇｅｎｉｔｏｕｒｉｎａｒｙ  ｔｒａｃｔ  ａｇｅｎｔｓ）；胃腸刺激薬；グルココルチコイド；グルコース上昇剤（ｇｌｕｃｏｓｅ  ｅｌｅｖａｔｉｎｇ  ａｇｅｎｔｓ）；グリコペプチド系抗生物質；糖タンパク質血小板阻害薬（ｇｌｙｃｏｐｒｏｔｅｉｎ  ｐｌａｔｅｌｅｔ  ｉｎｈｉｂｉｔｏｒｓ）；グリシルシクリン類；ゴナドトロピン放出ホルモン；ゴナドトロピン放出ホルモン拮抗薬；ゴナドトロピン；Ｉ群抗不整脈薬；ＩＩ群抗不整脈薬；ＩＩＩ群抗不整脈薬；ＩＶ群抗不整脈薬；Ｖ群抗不整脈薬；成長ホルモン受容体遮断薬；成長ホルモン；ヘリコバクターピロリ除菌薬；Ｈ２拮抗薬；造血幹細胞モビライザー（ｍｏｂｉｌｉｚｅｒ）；へパリン拮抗薬；へパリン；ＨＥＲ２阻害薬；植物製品；ヒストン脱アセチル化酵素阻害薬；ホルモン補充療法；ホルモン；ホルモン／抗腫瘍薬；ヒダントイン系抗痙攣薬；違法（ストリート）薬物；免疫グロブリン；免疫薬；免疫抑制薬；インポテンス薬；インビボ診断生物学的製剤；インクレチンミメティクス；吸入感染症薬（ｉｎｈａｌｅｄ  ａｎｔｉ−ｉｎｆｅｃｔｉｖｅｓ）；吸入コルチコステロイド；強心薬；インスリン；インスリン様増殖因子；インテグラーゼ鎖移転阻害薬；インターフェロン；静脈内栄養製品（ｉｎｔｒａｖｅｎｏｕｓ  ｎｕｔｒｉｔｉｏｎａｌ  ｐｒｏｄｕｃｔｓ）；ヨード造影剤；イオン化ヨード造影剤；鉄製品；ケトライド類；緩下薬；鎮癩薬；ロイコトリエン調整剤；リンコマイシン誘導体；脂質化グリコペプチド；局所注射麻酔薬；ループ利尿薬；肺表面活性剤；リンパ管染色剤；リソソーム酵素；マクロライド誘導体；マクロライド類；磁気共鳴イメージング造影剤；肥満細胞安定化剤；医療ガス；メグリチニド類；代謝薬；メチルキサンチン類；ミネラルコルチコイド；ミネラル及び電解質；その他薬剤；その他鎮痛薬；その他抗生物質；その他抗痙攣薬；その他抗うつ薬；その他抗糖尿病薬；その他制吐剤；その他抗真菌薬；その他高脂血症用薬；その他抗マラリア薬；その他抗腫瘍薬；その他抗パーキンソン薬；その他抗精神病薬；その他抗結核薬；その他抗ウイルス薬；その他抗不安薬、鎮静薬及び催眠薬；その他生物学的製剤；その他骨吸収阻害薬；その他心血管作動薬；その他中枢神経系薬；その他凝固調整剤；その他利尿薬；その他尿生殖路薬；その他ＧＩ薬；その他ホルモン；その他代謝薬；その他眼用薬；その他耳用薬；その他呼吸薬；その他性ホルモン；その他局所薬；その他未分類薬；その他腟用薬（ｖａｇｉｎａｌ  ａｇｅｎｔｓ）；有糸分裂阻害薬；モノアミン酸化酵素阻害薬；モノクローナル抗体；口及び咽喉製品（ｍｏｕｔｈ  ａｎｄ  ｔｈｒｏａｔ  ｐｒｏｄｕｃｔｓ）；ｍＴＯＲ阻害薬；ｍＴＯＲキナーゼ阻害薬���粘液溶解薬；マルチキナーゼ阻害薬；筋弛緩薬；散瞳薬麻薬性鎮痛薬配合剤；麻薬性鎮痛薬；鼻用感染症薬；鼻用抗ヒスタミン薬及び充血除去薬；鼻用潤滑剤及び灌注剤；鼻用製剤；鼻用ステロイド；天然ペニシリン系薬；ノイラミニダーゼ阻害薬；神経筋遮断薬；次世代セファロスポリン；ニコチン酸誘導体；硝酸薬；ＮＮＲＴＩｓ；非心選択性β遮断薬；非ヨード造影剤；非イオン性ヨード造影剤；非スルホニル尿素；非ステロイド性抗炎症薬；ノルエピネフィリン再取り込み阻害薬；ノルエピネフィリン−ドパミン再取り込み阻害薬；ヌクレオシド系逆転写酵素阻害薬（ＮＲＴＩｓ）；栄養補助食品；栄養製品；眼用麻酔薬；眼用感染症薬；眼用抗炎症薬；眼用抗ヒスタミン薬及び充血除去薬；眼用診断用薬；眼用緑内障薬；眼用潤滑剤及び灌注剤；眼用製剤；眼用ステロイド；感染症薬追加眼用ステロイド；眼外科薬（ｏｐｈｔｈａｌｍｉｃ  ｓｕｒｇｉｃａｌ  ａｇｅｎｔｓ）；経口栄養補助食；耳用麻酔薬；耳用感染症薬；耳用製剤；耳用ステロイド；感染症薬追加耳用ステロイド；オキサゾリジンジオン系抗痙攣薬；上皮小体ホルモン及び類似体；ペニシリナーゼ耐性ペニシリン；ペニシリン系薬；末梢性オピオイド受容体拮抗薬；末梢性血管拡張薬；末梢作用型抗肥満薬；フェノチアジン制吐剤；フェノチアジン系抗精神病薬；フェニルピペラジン系抗うつ薬；血漿増量剤；血小板凝集阻害薬；血小板刺激剤；ポリエン類；カリウム保持性利尿薬；プロバイオティクス；黄体ホルモン受容体調節薬；プロゲスチン；プロラクチン阻害薬；プロスタグランジンＤ２拮抗薬；タンパク分解酵素阻害薬；プロトンポンプ阻害薬；ソラレン類；精神治療薬；精神治療用複合剤（ｐｓｙｃｈｏｔｈｅｒａｐｅｕｔｉｃ  ｃｏｍｂｉｎａｔｉｏｎｓ）；プリンヌクレオシド；ピロリジン抗痙攣薬；キノロン剤；造影剤；放射線補助剤（ｒａｄｉｏｌｏｇｉｃ  ａｄｊｕｎｃｔｓ）；放射線剤；放射線共役剤（ｒａｄｉｏｌｏｇｉｃ  ｃｏｎｊｕｇａｔｉｎｇ  ａｇｅｎｔｓ）；放射性医薬品；ＲＡＮＫリガンド阻害薬；遺伝子組換えヒトエリスロポエチン；レニン阻害薬；呼吸薬；呼吸吸入薬製品（ｒｅｓｐｉｒａｔｏｒｙ  ｉｎｈａｌａｎｔ  ｐｒｏｄｕｃｔｓ）；リファマイシン誘導体；サリチル酸塩；硬化剤；第２世代セファロスポリン；選択的エストロゲン受容体調節薬；選択的セロトニン再取り込み阻害薬；セロトニン−ノルエピネフィリン再取り込み阻害薬；セロトニン作動性神経腸調節薬；性ホルモン複合剤；性ホルモン；骨格筋弛緩薬複合剤；骨格筋弛緩薬；禁煙薬；ソマトスタチン及びソマトスタチン類似体；殺精子剤；スタチン；滅菌洗浄溶液（ｓｔｅｒｉｌｅ  ｉｒｒｉｇａｔｉｎｇ  ｓｏｌｕｔｉｏｎｓ）；ストレプトミセス誘導体；スクシンイミド抗痙攣薬；スルホンアミド；スルホニル尿素；合成排卵誘発剤；四環系抗うつ薬；テトラサイクリン；治療用放射性医薬品；サイアザイド系利尿薬；チアゾリジンジオン類；チオキサンテン；第３世代セファロスポリン；トロンビン阻害剤；血栓溶解薬；甲状腺剤；陣痛抑制薬；局所座瘡薬；局所薬；局所麻酔薬；局所感染症薬；局所抗生物質；局所抗真菌薬；局所抗ヒスタミン薬；局所抗乾癬薬；局所抗ウイルス薬；局所収斂薬；局所排膿促進薬；局所脱色剤；局所皮膚軟化薬；局所角質溶解薬；局所ステロイド；感染症薬追加局所ステロイド；トキソイド；トリアジン抗痙攣薬；三環系抗うつ薬；三官能性モノクローナル抗体；腫瘍壊死因子（ＴＮＦ）阻害薬；チロシンナーゼ阻害薬；超音波造影剤；上気道用複合剤（ｕｐｐｅｒ  ｒｅｓｐｉｒａｔｏｒｙ  ｃｏｍｂｉｎａｔｉｏｎｓ）；尿素抗痙攣薬（ｕｒｅａ  ａｎｔｉｃｏｎｖｕｌｓａｎｔｓ）；尿路感染症薬；尿路鎮痙薬；尿ｐＨ調整剤；子宮収縮薬；ワクチン；混合ワクチン；腟抗感染薬；膣坐剤；血管拡張薬；バソプレッシン拮抗薬；昇圧薬；ＶＥＧＦ／ＶＥＧＦＲ阻害薬；ウイルス性ワクチン；関節内補充薬；ビタミンミネラル複合体；ビタミン
診断試験
１７−ヒドロキシプロゲステロン；ＡＣＥ（アンジオテンシンＩ変換酵素）；アセトアミノフェン；酸性ホスファターゼ；副腎皮質刺激ホルモン；活性凝固時間；活性化プロテインＣ耐性；副腎皮質刺激ホルモン（ＡＣＴＨ）；アラニンアミノトランスフェラーゼ（ＡＬＴ）；アルブミン；アルドラーゼ；アルドステロン；アルカリフォスファターゼ；アルカリフォスファターゼ（ＡＬＰ）；α１−抗トリプシン；α−フェトプロテイン；α−フェトプロティエン（ｆｅｔｏｐｒｏｔｉｅｎ）；アンモニアレベル；アミラーゼ；ＡＮＡ（抗核アントボディ（ａｎｔｉｎｕｃｌｅａｒ  ａｎｔｂｏｄｉｅｓ））；ＡＮＡ（抗核抗体）；アンジオテンシン変換酵素（ＡＣＥ）；アニオンギャップ；抗カルジオリピン抗体；抗カルジオリピンアンティブボディ（ａｎｔｉｖｂｏｄｉｅｓ）（ＡＣＡ）；抗セントロメア抗体；抗利尿ホルモン；抗ＤＮＡ；抗デオキシリボヌクレアーゼＢ；抗グリアジン抗体；抗糸球体基底膜抗体；抗ＨＢｃ（Ｂ型肝炎コア抗体；抗ＨＢｓ（Ｂ型肝炎表面抗体；抗リン脂質抗体；抗ＲＮＡポリメラーゼ；抗スミス（Ｓｍ）抗体；抗平滑筋抗体；抗ストレプトリジンＯ価（ＡＳＯ）；抗トロンビンＩＩＩ；抗Ｘａ活性；抗Ｘａアッセイ；アポリポタンパク；ヒ素；アスパラギン酸アミノトランスフェラーゼ（ＡＳＴ）；Ｂ１２；塩基好性白血球；β２−ミクログロブリン；β−ヒドロキシブチレート；Ｂ−ＨＣＧ；ビリルビン；直接ビリルビン；間接ビリルビン；総ビリルビン；出血時間；血液ガス（動脈性）；血液尿素窒素（ＢＵＮ）；ＢＵＮ；ＢＵＮ（血液尿素窒素）；ＣＡ１２５；ＣＡ１５−３；ＣＡ１９−９；カルシトニン；カルシウム；カルシウム（イオン化）；一酸化炭素（ＣＯ）；癌胎児性抗原（ＣＥＡ）；全血球計算（ＣＢＣ）；ＣＥＡ；ＣＥＡ（癌胎児性抗原）；セルロプラスミン；ＣＨ５０クロライド（ＣＨ５０Ｃｈｌｏｒｉｄｅ）；コレステロール；ＨＤＬコレステロール；血栓溶解時間；血餅退縮時間；ＣＭＰ；ＣＯ2；寒冷凝集素；補体第３成分；銅；副腎皮質刺激ホルモン放出ホルモン（ＣＲＨ）刺激試験；コルチゾル；コートロシン刺激試験；Ｃペプチド；ＣＰＫ（総）；ＣＰＫ−ＭＢ；Ｃ反応性タンパク；クレアチニン；クレアチニンキナーゼ（ＣＫ）；クリオグロブリン；ＤＡＴ（直接抗グロブリン試験）；Ｄダイマー；デキタメタゾン抑制試験；ＤＨＥＡ−Ｓ；希釈ラッセルクサリ蛇毒；楕円赤血球；好酸球；赤血球沈降速度（ＥＳＲ）；エストラジオール；エストリオール；エタノール；エチレングリコール；ユーグロブリン溶解；第Ｖ因子ライデン；第ＶＩＩＩ因子インヒビター；第ＶＩＩＩ因子レベル；フェリチン；フィブリン体分解産物；フィブリノーゲン；葉酸塩；葉酸塩（血清；ナトリウム分画排泄率（ＦＥＮＡ）；ＦＳＨ（卵胞刺激因子）；ＦＴＡ−ＡＢＳ；γグルタミルトランスフェラーゼ（ＧＧＴ）；ガストリン；ＧＧＴＰ（γグルタミルトランスフェラーゼ）；グルコース；成長ホルモン；ハプトグロビン；ＨＢｅＡｇ（Ｂ型肝炎ｅ抗原）；ＨＢｓ−Ａｇ（Ｂ型肝炎表面抗原）；ヘリコバクターピロリ；ヘマトクリット；ヘマトクリット（ＨＣＴ）；ヘモグロビン；ヘモグロビンＡ１Ｃ；ヘモグロビン電気泳動；Ａ型肝炎抗体；Ｃ型肝炎抗体；ＩＡＴ（間接抗���ロブリン試験）；免疫固定法（ＩＦＥ）；鉄；乳酸脱水素酵素（ＬＤＨ）；乳酸（乳酸塩）；ＬＤＨ；ＬＨ（ルーティナイジング（Ｌｅｕｔｉｎｉｚｉｎｇ）ホルモン；リパーゼ；ループス抗凝固因子；リンパ球；マグネシウム；ＭＣＨ（平均赤血球ヘモグロビン量；ＭＣＨＣ（平均赤血球ヘモグロビン濃度）；ＭＣＶ（平均赤血球容積）；マロン酸メチル；単球；ＭＰＶ（平均血小板容積）；ミオグロビン；好中球；上皮小体ホルモン（ＰＴＨ）；リン；血小板（ｐｌｔ）；カリウム；プレアルブミン；プロラクチン；前立腺特異抗原（ＰＳＡ）；タンパク質Ｃ；タンパク質Ｓ；ＰＳＡ（前立腺特異抗原）；ＰＴ（プロトロンビン時間）；ＰＴＴ（部分トロンボプラスチン時間）；ＲＤＷ（赤血球分布幅）；レニン；レンニン；網状赤血球数；網状赤血球；リウマチ因子（ＲＦ）；血沈速度；血清グルタミン酸ピルビン酸トランスアミナーゼ（ＳＧＰＴ；血清タンパク電気泳動（ＳＰＥＰ）；ナトリウム；Ｔ３レジン摂取率（Ｔ３ＲＵ）；フリーＴ４；トロンビン時間；甲状腺刺激ホルモン（ＴＳＨ）；チロキシン（Ｔ４）；全鉄結合能（ＴＩＢＣ）；総タンパク；トランスフェリン；トランスフェリン飽和剤；トリグリセリド（ＴＧ）；トロポニン；尿酸；ビタミンＢ１２；白血球（ＷＢＣ）；ウィダール試験
からなる群より選択される物質を含む流体組成物を収容する、請求項１〜２２のいずれか一項に記載の容器。
【請求項２４】
前記内腔に医薬品を導入するステップを含む、請求項１〜２３のいずれか一項に記載の容器の使用方法。
【請求項２５】
前記医薬品が５〜９のｐＨを有する、請求項２４に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被覆表面の技術分野に関し、例えば、保管又は他の流体との接触用の薬剤パッケージ又は他の容器の内部表面に関する。適切な流体の例は、食品、生物学的に活性の化合物又は体液、例えば、製薬材料、血液及び他の多くを含む。本発明は、また、薬剤パッケージ又は他の容器に関し、また、薬剤パッケージ又は他の容器の内側又は内部表面を被覆するための方法に関する。本発明は、また、より全般的には、パッケージ又は容器以外のデバイス、例えば、カテーテルを含む医療デバイスに関する。
【０００２】
本開示は、また、薬剤パッケージ又は他の容器、例えば、製剤保管及び送達、静脈穿刺及び他の医療試料採集並びに他の目的のために使用される複数の同一薬剤パッケージ又は他の容器を加工するための改良された方法に関する。このような薬剤パッケージ又は他の容器はこれら目的において多数が使用されるため、製造が比較的経済的でなければならないが、保管及び使用においても非常に信頼性の高いものでなければならない。
【背景技術】
【０００３】
保管又は他の流体との接触用の薬剤パッケージ又は他の容器、例えば、バイアル及びプレフィルドシリンジの製造における重要なことの１つは、薬剤パッケージ又は他の容器の内容が望ましくは相当な保管寿命を有することである。この保管寿命の間、薬剤パッケージ又は他の容器に充填された物質を酸素などの大気ガスから分離することが重要である。また、そのような物質を、それを含む容器壁から、又は薬剤パッケージ又は他の容器壁に塗布されたバリア皮膜又は層、又は他の機能層から分離し、薬剤パッケージ又は他の容器壁、バリア皮膜又は層、又は他の機能層から充填済み内容に、又はその逆に物質が浸出することを回避することも重要となりうる。
【０００４】
これら薬剤パッケージ又は他の容器の多くは安価であり大量に使用されることから、特定用途においては、製造コストを極端に高い水準まで増加させることなく必要な保管寿命を確実に得るのに有用となろう。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の非限定的な態様は、内腔を取り囲む熱可塑性プラスチック壁を含む容器である。壁は、壁と内腔との間に、ｘが１．８〜２．４であるＳｉＯｘ複合バリア皮膜又は層と、ｘが約０．５〜約２．４及びｙが約０．６〜約３である、ＳｉＯxＣy又はＳｉＮxＣyのｐＨ保護皮膜又は層と、を支持する。ｐＨ保護皮膜又は層は、内腔に面する内部表面と、複合バリア皮膜又は層の内部表面に面する外部表面と、を有する。ｐＨ保護皮膜又は層は容器(総Ｓｉ／Ｓｉ溶解速度)の計算保管寿命を増加させるのに有効である。被覆物品クロススクラッチテープ試験法による、基材上における複合バリア皮膜又は層の保持の程度は少なくとも９０％である。
【図面の簡単な説明】
【０００６】
【図１】本開示の一実施形態による、被覆ステーション内の容器保持器の概略断面図である。
【図２】図１の断面線Ａ−Ａに沿って切った断面図である。
【図３】シリンジバレル及び他の薬剤パッケージ又は他の容器を処理するための、図１に類似する別の実施形態の図である。
【図４】図３の処理容器の拡大詳細図である。
【図５】薬剤パッケージ又は他の容器を処理するためのアセンブリの概略図である。アセンブリは先行する図のいずれにおいても装置とともに使用可能である。
【図６】複合バリア皮膜又は層上に被覆され、更にはＣＯＣ基材上に被覆された本発明による滑性及び／又はｐＨ保護皮膜又は層のＴＥＭ画像を示す。
【図７】ＣＯＣ基材上に被覆された複合バリア皮膜又は層のＴＥＭ画像を示す。
【図８】複合バリア層と、ｐＨ保護皮膜又は層と、滑性層とが設けられ、充填及び閉鎖されて薬剤パッケージを提供するプレフィルドシリンジの組立図である。
【図９】複合バリア層と、ｐＨ保護皮膜又は層と、任意選択的に滑性層とが設けられたバイアルの形態の薬剤パッケージの概略図である。
【図１０】複合バリア層と、ｐＨ保護皮膜又は層とが設けられたブリスタパッケージの形態の薬剤パッケージの概略図である。
【図１１】Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の対称伸縮モード（１０００〜１０４０ｃｍ-1）及び非対称伸縮モード（１０６０〜１１００ｃｍ-1）における吸光度を示すＦＴＩＲ吸光度スペクトルである。
【図１２】Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の対称伸縮モード（１０００〜１０４０ｃｍ-1）及び非対称伸縮モード（１０６０〜１１００ｃｍ-1）における吸光度を示すＦＴＩＲ吸光度スペクトルである。
【図１３】Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の対称伸縮モード（１０００〜１０４０ｃｍ-1）及び非対称伸縮モード（１０６０〜１１００ｃｍ-1）における吸光度を示すＦＴＩＲ吸光度スペクトルである。
【図１４】Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の対称伸縮モード（１０００〜１０４０ｃｍ-1）及び非対称伸縮モード（１０６０〜１１００ｃｍ-1）における吸光度を示すＦＴＩＲ吸光度スペクトルである。
【図１５】米国特許第８，０６７，０７０号明細書の図５から加筆されたＦＴＩＲ振幅対波数プロットである。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
図面では以下の参照符号を使用する。
【０００８】
【表１】
0006488232.tif 000002
【０００９】
【表２】
0006488232.tif 000003
【００１０】
定義の項
本発明の文脈においては、以下の定義及び略語を使用する。
【００１１】
ＲＦは高周波である。
【００１２】
用語「少なくとも（ａｔ  ｌｅａｓｔ）」は、本発明の文脈においては、同用語に続く整数と「等しいかそれを超える（ｅｑｕａｌ  ｏｒ  ｍｏｒｅ）」ことを意味する。「を含む（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」という語は他の要素又はステップを排除するものではなく、また、不定冠詞「ａ」又は「ａｎ」は別段の定めがなければ複数形を排除するものではない。パラメータ範囲が示される場合、範囲の限界として提供するパラメータ値及び前記範囲内にあるパラメータの全ての値を開示することを意図する。
【００１３】
例えば、処理ステーション又は処理デバイスに対する「第１」及び「第２」又は類似の言及は、存在する最小数の処理ステーション又はデバイスを意味するものであり、必ずしも処理ステーション及びデバイスの順序又は総数を示すものとは限らない。これら用語は、処理ステーション又は各々のステーションにおいて実施される特定の処理の数を限定するものではない。
【００１４】
明細書及び特許請求の範囲において、ＰＥＣＶＤ前駆体、気体反応物又はプロセスガス及びキャリアガスの供給量は「標準体積（ｓｔａｎｄａｒｄ  ｖｏｌｕｍｅｓ）」で表される場合がある。チャージガス又は他の一定量のガスの標準体積は、（実際の送達温度及び圧力を考慮しない）標準温度及び圧力において占める一定量のガスの体積である。標準体積は異なる体積の単位を使用して測定することができるが、それでもなお本開示及び特許請求の範囲の範囲内とされうる。例えば、同じ一定量のガスを、標準立方センチメートルの数値、標準立方メートルの数値、又は標準立方フィートの数値として表すことができる。標準体積もまた異なる標準温度及び圧力を使用して定義することができるが、それでもなお本開示及び特許請求の範囲の範囲内とされうる。例えば、標準温度が０℃、標準圧力が７６０Ｔｏｒｒ（従来のまま）である可能性も、標準温度が２０℃、標準圧力が１Ｔｏｒｒである可能性もある。しかし、特定の場合においてどのような標準を使用したとしても、２つ以上の異なるガスの相対体積を特定のパラメータを明示せずに比較する場合、特に明示しない限りは、各ガスに対して同じ体積、標準温度及び標準圧力の単位が使用される。
【００１５】
本明細書においては、ＰＥＣＶＤ前駆体、気体反応物又はプロセスガス及びキャリアガスの対応する供給速度は単位時間あたりの標準体積で表される。例えば、実施例において、流量は標準立方センチメートル／分として表され、ｓｃｃｍと略される。他のパラメータと同様、秒又は時間などの他の時間単位を使用できるが、２つ以上のガスの流量を比較する場合、特に明記されない限りは一貫したパラメータが使用される。
【００１６】
「容器」は、本発明の文脈においては、少なくとも１つの開口部と、内側又は内部表面を画定する壁とを備えた任意の種類の容器とされうる。基材は内腔を有する容器の内側壁とされうる。本発明は特定の容量の薬剤パッケージ又は他の容器に必ずしも限定されるわけではないが、内腔が０．５〜５０ｍＬ、任意選択的に、１〜１０ｍＬ、任意選択的に、０．５〜５ｍＬ、任意選択的に、１〜３ｍＬの空隙容量を有する薬剤パッケージ又は他の容器が企図される。基材表面は、少なくとも１つの開口部及び内側又は内部表面を有する容器の内側又は内部表面の一部又は全てとされうる。
【００１７】
試料管（１つの開口部）又はシリンジバレル（２つの開口部）の開口部のような１つ又は２つの開口部が好適である。容器が２つの開口部を有する場合、それらは同じ又は異なる大きさのものとされうる。１つより多い開口部がある場合、１つの開口部は本発明によるＰＥＣＶＤ被覆方法のガス注入用に使用することができる一方で、もう一方の開口部はキャップが嵌められるか開放されるかのいずれかである。本発明による容器は、例えば、血液又は尿などの生物学的流体を採集又は保管するための試料管、生物学的に活性の化合物又は組成物、例えば、薬剤又は薬剤組成物を保管又は送達するためのシリンジ（又はその一部、例えば、シリンジバレル）、生物学的材料又は生物学的に活性の化合物又は組成物を保管するためのバイアル、管、例えば、生物学的材料又は生物学的に活性の化合物又は組成物を輸送するためのカテーテル、又は流体を保持するための、例えば、生物学的材料又は生物学的に活性の化合物又は組成物を保持するためのキュベットとすることができる。
【００１８】
容器はあらゆる形状のものとすることができ、その開端部の少なくとも１つに隣接する、実質的に円筒状の壁を有する容器が好適である。一般に、例えば、試料管又はシリンジバレル内のように容器の内部壁は円筒状の形状である。試料管及びシリンジ又はそれらの部品（例えば、シリンジバレル）が企図される。
【００１９】
この明細書全体を通して使用されるｗ、ｘ、ｙ、及びｚの値は、式ＳｉwＯxＣyＨz又は本明細書におけるその等価であるＳｉＯxＣyと同様に、分子中の原子の数又は種類を限定するものではなく、（例えば、皮膜又は層の）比率又は実験式と理解すべきである。例えば、分子組成Ｓｉ4Ｏ4Ｃ8Ｈ24を有するオクタメチルシクロテトラシロキサンは、分子式のｗ、ｘ、ｙ、及びｚそれぞれを最大公約数である４で割ることにより得た以下の実験式、Ｓｉ1Ｏ1Ｃ2Ｈ6で記載されうる。ｗ、ｘ、ｙ及びｚの値は、また、整数に限定されない。例えば、（非環式）オクタメチルトリシロキサンの分子組成Ｓｉ3Ｏ2Ｃ8Ｈ24はＳｉ1Ｏ0.67Ｃ2.67Ｈ8に可約である。また、本明細書においては、ＳｉＯxＣyＨzはＳｉＯxＣyに等しい（すなわち、ｗは１に等しく設定され、水素の量はあるとしても報告されない）。ＳｉＯxＣyの存在を示すために水素の存在をいかなる比率においても示す必要はない。
【００２０】
本発明による「滑性及び／又はｐＨ保護皮膜」は、下地表面又は層を層に接触する流体組成物から保護する（ｐＨ保護皮膜又は層）（この明細書の別の場所においてより広範に定義される）皮膜又は層である。本滑性及び／又はｐＨ保護皮膜は、任意選択的に、本明細書中に定義される実験組成物ＳｉwＯxＣyＨz（又はその等価のＳｉＯxＣy）による組成物を有しうる。それは、概して、ｗが１、ｘが約０．５〜約２．４、ｙが約０．６〜約３の原子比率ＳｉwＯxＣy（又はその等価のＳｉＯxＣy）を有する。
【００２１】
原子比率はＸＰＳ（Ｘ線光電子分光法）によって特定されうる。ＸＰＳによって測定されないＨ原子を考慮すると、皮膜又は層は、したがって、一態様においては、例えば、式ＳｉwＯxＣyＨz（又はその等価ＳｉＯxＣy）を有しても良く、式中、ｗは１、ｘは約０．５〜約２．４、ｙは約０．６〜約３、及びｚは約２〜約９である。一般に、そのような皮膜又は層は、したがって、炭素と酸素とケイ素の１００％に正規化した３６％〜４１％の炭素を含む。
【００２２】
ここで、いくつかの実施形態を示す添付の図面を参照して本発明をより詳細に説明する。しかしながら、本発明は多くの異なる形態で具現化することができ、ここで説明する実施形態に限定されるものと解釈すべきではない。むしろ、これら実施形態は本発明の例であり、特許請求の範囲の文言により示される全範囲を有する。全体にわたり同様の数は同様の要素又は対応する要素を意味する。以下の開示は、特定の実施形態に特に限定されない限りは全実施形態に関連する。
【００２３】
図を参照すると、容器又は方法の任意の実施形態においては、容器は、いくつかの非限定的な例として、任意の構成、例えば、管８０、バイアル２２８、ブリスタパッケージ２３０、シリンジ２５２、シリンジバレル２５０、プレフィルドシリンジ（図８）、カートリッジ、試料管８０、又は真空血液試料管において提供されうる。これらタイプの容器のいずれも本開示においては代わりに容器８０と呼ばれる。
【００２４】
容器８０又は方法の任意の実施形態においては、容器８０は、任意選択的に、０．２〜５０ｍｌ．、任意選択的に２〜５０ｍｌ．、任意選択的に２〜２０ｍｌ．、任意選択的に２〜６ｍｌ．、任意選択的に３〜５ｍｌ．、任意選択的に０．２５〜２０ｍｌ．、任意選択的に０．５〜５ｍｌ．、任意選択的に１〜２ｍｌ．の定格容積（製造者の報告による、収容及び送達するためにそれが慣例的に使用される流体の最大体積）を有しうる。
【００２５】
容器８０又は方法の任意の実施形態においては、容器８０は、任意選択的に、０．３〜７５ｍｌ．、任意選択的に３〜７５ｍｌ．、任意選択的に３〜３０ｍｌ．、任意選択的に４〜９ｍｌ．、任意選択的に４〜８ｍｌ．、任意選択的に０．４〜３５ｍｌ．、任意選択的に０．８〜９ｍｌ．、任意選択的に１．７〜３．５ｍｌ．の充填容積（栓をした容器８０の、ヘッドスペースを含む全体容積）を有する。
【００２６】
容器８０又は方法の任意の実施形態においては、容器８０は、任意選択的に、内腔２１２を取り囲む熱可塑性プラスチック壁２１４を含む。「熱可塑性プラスチック」は、明示的に、ガラス又は石英材料（その一例はホウケイ酸ガラスである）、有機熱可塑性樹脂、及び樹脂組成物を含むと定義される。壁はｘが１．８〜２．４であるＳｉＯx複合バリア皮膜又は層２８８を壁と内腔との間において支持する。ＳｉＯx複合バリア皮膜又は層２８８はＰＥＣＶＤによって有機ケイ素単量体及び酸化性ガスから形成される。
【００２７】
容器８０の任意の実施形態においては、ＳｉＯx複合バリア皮膜又は層２８８は、任意選択的に、少なくとも結合段階及び堆積段階において形成されうる。
【００２８】
容器８０又は方法の任意の実施形態においては、基材は、任意選択的に、ＳｉＯx結合段階及び堆積段階前にプラズマによりアブレーションされる。アブレーションにより基材表面を粗化し、プラズマ中の炭素及び水素に加え、皮膜形成に関与する有機物質をプラズマ中に導入する。アブレーションは複合バリア皮膜又は層２８８が結合及び堆積し始め、堆積条件下で容易にアブレーションされない表面が残ると終了すると考えられる。
【００２９】
容器８０又は方法の任意の実施形態においては、ＳｉＯx複合バリア皮膜又は層２８８は、有機ケイ素単量体、酸化性ガス及びキャリアガスを含むガス供給物からＰＥＣＶＤによって形成されうる。（本明細書での使用においては、「キャリアガス」には希釈ガスも含まれる。）
【００３０】
容器８０又は方法の任意の実施形態においては、有機ケイ素単量体は、また、有機シロキサン、有機シラン、有機シロキサザン（ｏｒｇａｎｏｓｉｌｏｘａｚａｎｅ）、有機シラザン又はこれらの２つ以上の組み合わせを含みうる前駆体供給物として公知である。容器８０又は方法の任意の実施形態においては、ガス供給物は、任意選択的に、１〜６個のケイ素原子を有する直鎖又は分岐シロキサン、単環シロキサン、多環シロキサン、ポリシルセスキオキサン、単環シラザン、多環シラザン、ポリシルセスキアザン、シラトラン、シルクアシラトラン、シルプロアトラン、アザシラトラン、アザシルクアシアトラン、アザシルプロアトラン又はこれら前駆体のいずれか２つ以上の組み合わせを含みうる。複合バリア皮膜又は層２８８は、任意選択的に、単環シロキサン、多環シロキサン、ポリシルセスキオキサン、シラトラン、シルクアシラトラン、シルプロアトラン又はこれら前駆体のいずれか２つ以上の組み合わせを含む前駆体供給物のＰＥＣＶＤによって塗布されうる。
【００３１】
容器８０又は方法の任意の実施形態においては、酸化性ガスは二原子酸素、Ｏ2を含みうる。任意選択的に、酸化性ガスは過酸化水素、Ｈ2Ｏ2を含む。任意選択的に、酸化性ガスはオゾン、Ｏ3を含む。任意選択的に、酸化性ガスは水、Ｈ2Ｏを含む。
【００３２】
容器８０又は方法の任意の実施形態においては、キャリアガスは使用されるか否かのいずれかとされうる。使用される場合、用いられるＰＥＣＶＤ条件下において、キャリアガスは任意選択的に不活性ガスを含む。容器８０又は方法の任意の実施形態においては、キャリアガスは任意選択的に希ガスを含む。容器８０又は方法の任意の実施形態においては、キャリアガスは任意選択的にヘリウムを含む。容器８０又は方法の任意の実施形態においては、キャリアガスは任意選択的にネオンを含む。容器８０又は方法の任意の実施形態においては、キャリアガスは任意選択的にアルゴンを含む。容器８０又は方法の任意の実施形態においては、キャリアガスは任意選択的にクリプトンを含む。容器８０又は方法の任意の実施形態においては、キャリアガスは任意選択的にキセノンを含む。これらガスの任意の２つ以上の混合物もまた用いられうる。
【００３３】
容器８０又は方法の任意の実施形態においては、結合段階時の、ｓｃｃｍにおける有機ケイ素単量体と酸化性ガスの供給比率は２．５〜１０とされうる。堆積段階時の、有機ケイ素単量体と酸化性ガスの供給比率は０．１〜０．０５とされうる。
【００３４】
本開示によるＰＥＣＶＤに使用されるプラズマは、従来、高周波（ＲＦ）エネルギ又はマイクロ波エネルギの使用により発生させることができる。ＳｉＯx複合バリア皮膜又は層２８８は、任意選択的に、２０〜４Ｗの初期電力レベル（例えば、ＲＦ電力レベル）及び３００〜３０Ｗの最大ＲＦ電力レベルで形成されうる。容器８０又は方法の任意の実施形態においては、初期ＲＦ電力レベルにおける出力密度は、任意選択的に、３〜１Ｗ／ｍｌとされうる。容器８０又は方法の任意の実施形態においては、最大ＲＦ電力レベルにおける出力密度は３０〜４Ｗ／ｍｌである。
【００３５】
管８０、バイアル２２８、ブリスタパッケージ２３０、シリンジ２５２、シリンジバレル２５０又はカートリッジなどの容器の任意の実施形態においては、この明細書に記載されている物品変形／テープ試験法による、基材上における複合バリア皮膜又は層２８８の保持の程度は、任意選択的に、少なくとも９５％とされうる。
【００３６】
管８０、バイアル２２８、ブリスタパッケージ２３０、シリンジ２５２、シリンジバレル２５０又はカートリッジなどの容器８０の任意の実施形態においては、この明細書に記載されている被覆物品クロススクラッチテープ試験法による、基材上における複合バリア皮膜又は層２８８の保持の程度は、任意選択的に、少なくとも９０％、任意選択的に少なくとも９５％、任意選択的に少なくとも９８％、任意選択的に１００％とされうる。
【００３７】
管８０、バイアル２２８、ブリスタパッケージ２３０、シリンジ２５２、シリンジバレル２５０又はカートリッジなどの容器の任意の実施形態においては、高解像のＸ線光電子分光器（ＸＰＳ）は、任意選択的に、複合バリア皮膜又は層２８８と、壁又は基材との間に界面の存在を示す。界面は、任意選択的に、Ｏ3−Ｓｉ−Ｃ共有結合とＳｉＯ4結合の比率として少なくとも１モル％のＯ3−Ｓｉ−Ｃ共有結合、少なくとも２モル％のＯ３−Ｓｉ−Ｃ共有結合を有する。
【００３８】
管８０、バイアル２２８、ブリスタパッケージ２３０、シリンジ２５２、シリンジバレル２５０又はカートリッジなどの容器８０の任意の実施形態においては、結合エネルギ（ｅＶ）をＳｉＯ4結合の結合エネルギと比較して低下させるために、界面は、任意選択的にＳｉ  ２ｐ化学シフトを有する。
【００３９】
別の実施形態は容器８０を作製する方法である。方法の任意の実施形態においては、内腔を取り囲む熱可塑性プラスチック壁が提供されうる。ｘが１．８〜２．４であるＳｉＯx複合バリア皮膜又は層２８８が熱可塑性プラスチック壁に塗布される。複合バリア皮膜又は層２８８は壁によって壁と内腔との間に支持される。複合バリア皮膜又は層２８８はＰＥＣＶＤによって有機ケイ素単量体及び酸化性ガスから塗布される。
【００４０】
容器８０又は方法の任意の実施形態においては、ＲＦ電力レベルは、任意選択的に、パルスされない。これは堆積の始めから終わりまで間断なく印加されることを意味する。別のオプションとして、しかしながら、単一の複合バリア皮膜又は層２８８を単一の容器８０上に堆積する間、ＲＦ電力レベルは定期的にパルスすることもオン及びオフにすることもできる。パルス式ＲＦ電力レベルを使用するこの種の堆積は時としてプラズマインパルス化学気相成長として公知である。
【００４１】
方法の任意の実施形態においては、複合バリア皮膜又は層２８８は、任意選択的に、物品変形／テープ試験法によって測定された、少なくとも９５体積％の、基材上における保持の程度を有しうる。容器８０又は方法の任意の実施形態においては、物品変形／テープ試験法による、基材上における複合バリア皮膜又は層２８８の保持の程度は、任意選択的に少なくとも９６体積％、任意選択的に少なくとも９７体積％、任意選択的に少なくとも９８体積％、任意選択的に少なくとも９９体積％、任意選択的に１００体積％である。容器８０又は方法の任意の実施形態においては、物品変形／テープ試験法は、任意選択的に軸方向変形を使用して実施されるが、その代わりに、任意選択的に、直径方向変形を使用して実施されうる。
【００４２】
方法の任意の実施形態においては、複合バリア皮膜又は層２８８は、任意選択的に、被覆物品クロススクラッチテープ試験法による、少なくとも９０％の基材上における保持の程度を有しうる。被覆物品クロススクラッチテープ試験法による、基材上における複合バリア皮膜又は層２８８の保持の程度は、任意選択的に少なくとも９１体積％、任意選択的に少なくとも９２体積％、任意選択的に少なくとも９３体積％、任意選択的に少なくとも９４体積％、任意選択的に少なくとも９５体積％、任意選択的に少なくとも９６体積％、任意選択的に少なくとも９７体積％、任意選択的に少なくとも９８体積％、任意選択的に少なくとも９９体積％、任意選択的に１００体積％である。任意の実施形態における１つのオプションとして、被覆物品クロススクラッチテープ試験法はＸ字スクラッチパターンを使用して実施されうる。任意の実施形態における別のオプションとして、被覆物品クロススクラッチテープ試験法は矩形のスクラッチパターンを使用して実施されうる。
【００４３】
高解像のＸ線光電子分光器（ＸＰＳ）は、任意選択的に複合バリア皮膜又は層２８８と、基材との間に、Ｏ3−Ｓｉ−Ｃ共有結合とＳｉＯ4結合の比率として、少なくとも２モル％のＯ3−Ｓｉ−Ｃ共有結合、任意選択的に少なくとも３モル％のＯ3−Ｓｉ−Ｃ共有結合、任意選択的に少なくとも４モル％のＯ3−Ｓｉ−Ｃ共有結合、任意選択的に少なくとも５モル％のＯ3−Ｓｉ−Ｃ共有結合、任意選択的に少なくとも６モル％のＯ3−Ｓｉ−Ｃ共有結合、任意選択的に少なくとも７モル％のＯ3−Ｓｉ−Ｃ共有結合、任意選択的に少なくとも８モル％のＯ3−Ｓｉ−Ｃ共有結合、任意選択的に少なくとも９モル％のＯ3−Ｓｉ−Ｃ共有結合、任意選択的に少なくとも１０モル％のＯ3−Ｓｉ−Ｃ共有結合、任意選択的に少なくとも１１モル％のＯ3−Ｓｉ−Ｃ共有結合、任意選択的に少なくとも少なくとも１２モル％のＯ3−Ｓｉ−Ｃ共有結合、任意選択的に少なくとも１３モル％のＯ3−Ｓｉ−Ｃ共有結合、任意選択的に少なくとも１４モル％のＯ3−Ｓｉ−Ｃ共有結合、任意選択的に少なくとも１５モル％のＯ3−Ｓｉ−Ｃ共有結合、任意選択的に少なくとも１６モル％のＯ3−Ｓｉ−Ｃ共有結合、任意選択的に少なくとも１７モル％のＯ3−Ｓｉ−Ｃ共有結合、任意選択的に少なくとも１８モル％のＯ3−Ｓｉ−Ｃ共有結合、任意選択的に少なくとも１９モル％のＯ3−Ｓｉ−Ｃ共有結合、任意選択的に少なくとも２０モル％のＯ3−Ｓｉ−Ｃ共有結合を有する界面の存在を示す。容器８０又は方法の任意の実施形態の界面は、任意選択的に、Ｏ3−Ｓｉ−Ｃ共有結合とＳｉＯ4結合の比率として、多くとも２５モル％のＯ3−Ｓｉ−Ｃ共有結合、あるいは多くとも２０モル％のＯ3−Ｓｉ−Ｃ共有結合、あるいは多くとも１５モル％のＯ3−Ｓｉ−Ｃ共有結合、あるいは多くとも１０モル％のＯ3−Ｓｉ−Ｃ共有結合を有する。
【００４４】
方法の任意の実施形態においては、複合バリア皮膜又は層２８８は、任意選択的に、高解像のＸ線光電子分光器（ＸＰＳ）を使用して測定した場合、結合エネルギ（ｅＶ）をＳｉＯ4結合の結合エネルギと比較して低下させるためにＳｉ  ２ｐ化学シフトを有しうる。容器８０又は方法の任意の実施形態においては、高解像のＸ線光電子分光器（ＸＰＳ）は、任意選択的に、複合バリア皮膜又は層２８８と基材との間に、ＳｉＯ4結合の結合エネルギと比較して少なくとも０．２ｅＶのＳｉ２ｐピークの広がりを有する界面の存在を示す。
【００４５】
複合バリア皮膜又は層２８８は、任意選択的に、酸素、二酸化炭素又は他のガスが容器に入ることを防止するため及び／又は製薬材料がパッケージ壁内に又はパッケージ壁を通じて浸出することを防止するため、プラズマ化学気相成長法（ＰＥＣＶＤ）又は他の化学気相成長法によって薬剤パッケージの容器、特に、熱可塑性プラスチックパッケージに堆積せることができる。
【００４６】
本明細書に定義される任意の実施形態の複合バリア皮膜又は層は（特定の例において明記されない限り）任意選択的に、米国特許第７，９８５，１８８号明細書に示されるＰＥＣＶＤによって塗布される皮膜又は層である。
【００４７】
複合バリア皮膜又は層２８８は、ｘが１．５〜２．４であるＳｉＯxを含むか、ｘが１．５〜２．４であるＳｉＯxから本質的になり、２〜１０００ｎｍの厚さである。ＳｉＯxの複合バリア皮膜又は層２８８は、内腔２１２に面する内部表面２２０と、壁２１４物品表面２５４に面する外部表面２２２と、を有する。複合バリア皮膜又は層２８８は、非被覆容器２５０と比較すると内腔２１２への大気ガスの進入を低減するのに有効である。１つの好適なバリア組成物は、例えば、ｘが２．３のものである。例えば、任意の実施形態の２８８などの複合バリア皮膜又は層は、少なくとも２ｎｍ、又は少なくとも４ｎｍ、又は少なくとも７ｎｍ、又は少なくとも１０ｎｍ、又は少なくとも２０ｎｍ、又は少なくとも３０ｎｍ、又は少なくとも４０ｎｍ、又は少なくとも５０ｎｍ、又は少なくとも１００ｎｍ、又は少なくとも１５０ｎｍ、又は少なくとも２００ｎｍ、又は少なくとも３００ｎｍ、又は少なくとも４００ｎｍ、又は少なくとも５００ｎｍ、又は少なくとも６００ｎｍ、又は少なくとも７００ｎｍ、又は少なくとも８００ｎｍ、又は少なくとも９００ｎｍの厚さで塗布されうる。複合バリア皮膜又は層は、１０００ｎｍ以下、又は多くとも９００ｎｍ、又は多くとも８００ｎｍ、又は多くとも７００ｎｍ、又は多くとも６００ｎｍ、又は多くとも５００ｎｍ、又は多くとも４００ｎｍ、又は多くとも３００ｎｍ、又は多くとも２００ｎｍ、又は多くとも１００ｎｍ、又は多くとも９０ｎｍ、又は多くとも８０ｎｍ、又は多くとも７０ｎｍ、又は多くとも６０ｎｍ、又は多くとも５０ｎｍ、又は多くとも４０ｎｍ、又は多くとも３０ｎｍ、又は多くとも２０ｎｍ、又は多くとも１０ｎｍ、又は多くとも５ｎｍの厚さとされうる。２０〜２００ｎｍ、任意選択的に２０〜３０ｎｍの範囲が考えられる。上に記載した最小厚さのいずれか１つに加え、上に記載した最大厚さの任意の１つに等しい又はそれを超えるものを含む特定の厚さ範囲が特に考えられる。
【００４８】
ＳｉＯx又は他の複合バリア皮膜又は層の厚さは、例えば、透過電子顕微鏡法（ＴＥＭ）によって測定することができ、その組成はＸ線光電子分光器（ＸＰＳ）によって測定することができる。本明細書中に記載されるプライマー皮膜又は層は、プラスチック又はガラス製の種々の薬剤パッケージ又は他の容器、例えば、プラスチック管、バイアル及びシリンジに塗布されうる。
【００４９】
充填済み薬剤パッケージ又は他の容器２１０において、複合バリア皮膜又は層２８６が熱可塑性プラスチック壁２１４の内側又は内部表面２２０と流体２１８との間に配置されるように、ＳｉＯxの複合バリア皮膜又は層２８８は熱可塑性プラスチック壁２１４にプラズマ化学気相成長法（ＰＥＣＶＤ）によって直接的又は間接的に塗布される。
【００５０】
この明細書の別の場所で記載されるように、ここで定義されたＳｉＯｘなどの特定のバリア皮膜又は層は、特に複合バリア皮膜又は層が内容に直に接触する場合、被覆容器の特定の比較的高いｐＨを有する内容による攻撃の結果、６か月未満でバリア改善度が測定可能な程度低下するという特徴を有することが判明した。この課題についてはこの明細書に記載されるｐＨ保護皮膜又は層を使用して対処されうる。
【００５１】
ｐＨ保護皮膜又は層
本発明者は、ＳｉＯxの一部のバリア層又は皮膜は一部の流体組成物、例えば、約５を超えるｐＨを有する水性組成物によって浸食又は溶解されることを見出した。化学気相成長によって塗布される皮膜は非常に薄くなりうる（厚さ数十〜数百ナノメートル）ため、比較的遅い速度の浸食であっても製品パッケージの所望の保管寿命よりも短い時間でバリア層の有効性を排除又は低減する可能性がある。これは流体薬剤組成物においては特に問題であるが、その理由は、それらの多くが血液及び他のヒト又は動物の体液のｐＨと同様のおよそ７のｐＨを有するか、より広範には５〜９の範囲内であるためである。製剤のｐＨが高くなるほどそれはＳｉＯx皮膜をより急速に侵食又は溶解する。
【００５２】
本発明者は、更に、環状又は非環状シロキサン前駆体から形成された特定のＳｉＯxＣy又はＳｉＮxＣyのｐＨ保護皮膜（このｐＨ保護皮膜はかなりの有機成分を有する）は、流体組成物に曝露された場合に急速に侵食せず、実際、流体組成物が５〜９の範囲内におけるより高いｐＨを有する場合にはよりゆっくりと侵食又は溶解することを見出した。例えば、ｐＨ８においては、前駆体オクタメチルシクロテトラシロキサン、すなわちＯＭＣＴＳから作製されたｐＨ保護皮膜の溶解速度は非常に遅い。したがって、これらＳｉＯxＣy又はＳｉＮxＣyのｐＨ保護皮膜を、ＳｉＯxのバリア層を被覆するために使用することができ、それを薬剤パッケージ内の流体組成物から保護することによってバリア層の利点を保持する。
【００５３】
本発明は以下の理論の精度に依存するものではないが、効果的なＳｉＯxＣyｐＨ保護皮膜の材料特性と、米国特許第７，９８５，１８８号明細書及び国際出願ＰＣＴ／ＵＳ１１／３６０９７号明細書に記載されている効果的な滑性層の材料特性は場合によっては類似するため、本明細書の特定実施例、米国特許第７，９８５，１８８号明細書又は国際出願ＰＣＴ／ＵＳ１１／３６０９７号明細書に記載されている滑性層の特性を有する皮膜は、また、特定の場合においては、パッケージのバリア層を保護するため、及びその逆のための機能する並びにｐＨ保護皮膜と考えられる。
【００５４】
ここで企図される１つの特定のタイプの滑性及び／又はｐＨ保護皮膜は、本開示に記載される１つ又は複数の環状シロキサン及びシラザンから作製される。本発明は以下の理論の精度に依存するものではないが、直鎖シロキサン前駆体又は直鎖シラザン前駆体、例えば、ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）から堆積させたＳｉＯxＣy又はＳｉＮxＣy皮膜は、かなりの量の本来の前駆体断片及び少量の有機成分を含有すると考えられる。このようなＳｉＯxＣy又はＳｉＮxＣy皮膜はわずかな水混和性又は膨潤性を有するため、それらへの水溶液による攻撃を可能にする。環状シロキサン前駆体又は直鎖シラザン前駆体、例えば、オクタメチルシクロテトラシロキサン（ＯＭＣＴＳ）から堆積させたＳｉＯxＣy又はＳｉＮxＣy皮膜は、より完全な（ｉｎｔａｃｔ）環式シロキサン環及び前駆体構造の繰り返し単位のより長い列を含むと考えられる。これら皮膜は、ナノ多孔性であるが構造化されており且つ疎水性であると考えられ、また、これら特性はそれらのｐＨ保護皮膜としての成功に寄与すると考えられる。これは、例えば、米国特許第７，９０１，７８３号明細書に示されている。
【００５５】
任意選択的に、ｐＨ保護皮膜又は層２８６は、それぞれ前に定義した、ＳｉwＯxＣyＨz（又はその等価のＳｉＯxＣy）又はＳｉwＮxＣyＨz又はその等価のＳｉＮxＣy）からなりうる、ＳｉwＯxＣyＨz（又はその等価のＳｉＯxＣy）又はＳｉwＮxＣyＨz又はその等価のＳｉＮxＣy）を含みうる、又はＳｉwＯxＣyＨz（又はその等価のＳｉＯxＣy）又はＳｉwＮxＣyＨz又はその等価のＳｉＮxＣy）から本質的になりうる。Ｓｉ：Ｏ：Ｃ又はＳｉ：Ｎ：Ｃの原子比率はＸＰＳ（Ｘ線光電子分光法）によって特定されうる。Ｈ原子を考慮すると、ｐＨ保護皮膜又は層は、したがって、一態様においては、例えば、式ＳｉwＯxＣyＨz又はその等価のＳｉＯxＣyを有してもよく、式中、ｗは１、ｘは約０．５〜約２．４、ｙは約０．６〜約３、及びｚは約２〜約９である。
【００５６】
あるいは、ｐＨ保護皮膜又は層は、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）によって特定される、炭素、酸素及びケイ素の１００％に正規化した炭素５０％未満及びケイ素２５％超の原子濃度を有しうる。あるいは、原子濃度は炭素２５〜４５％、ケイ素２５〜６５％、及び酸素１０〜３５％である。あるいは、原子濃度は、炭素３０〜４０％、ケイ素３２〜５２％及び酸素２０〜２７％である。あるいは、原子濃度は炭素３３〜３７％、ケイ素３７〜４７％及び酸素２２〜２６％である。ｐＨ保護皮膜又は層の厚さは、例えば１０ｎｍ〜１０００ｎｍ；あるいは１００ｎｍ〜７００ｎｍ；あるいは３００ｎｍ〜６００ｎｍとされうる。
【００５７】
別のオプションとして、有機ケイ素前駆体の合計式と比較して原子比率Ｃ：Ｏが増加されうる及び／又は原子比率Ｓｉ：Ｏが低減されうる合計式を特徴としうるｐＨ保護皮膜又は層が考えられる。
【００５８】
ｐＨ保護皮膜又は層２８６は、一般に、完成物品において、複合バリア皮膜又は層２８８と、流体２１８との間に配置されている。ｐＨ保護皮膜又は層２８６は熱可塑性プラスチック壁２１４によって支持されている。
【００５９】
ｐＨ保護皮膜又は層２８６は、任意選択的に、複合バリア皮膜又は層２８８を、流体２１８による攻撃の結果、少なくとも６か月の期間少なくとも実質的に溶解しない状態に維持するのに有効である。
【００６０】
ｐＨ保護皮膜又は層は、Ｘ線反射率（ＸＲＲ）によって特定される、１．２５〜１．６５ｇ／ｃｍ3、あるいは１．３５〜１．５５ｇ／ｃｍ3、あるいは１．４〜１．５ｇ／ｃｍ3、あるいは１．４〜１．５ｇ／ｃｍ3、あるいは１．４４〜１．４８ｇ／ｃｍ3の密度を有しうる。任意選択的に、有機ケイ素化合物はオクタメチルシクロテトラシロキサンとすることができ、ｐＨ保護皮膜又は層は同じＰＥＣＶＤ反応条件下で有機ケイ素化合物としてＨＭＤＳＯから作製されたｐＨ保護皮膜又は層の密度よりも高くされうる密度を有しうる。
【００６１】
ｐＨ保護皮膜又は層は、任意選択的に、ｐＨ保護皮膜又は層に接触する化合物又は組成物の成分の沈殿を防止又は低減することができ、特に、非被覆表面及び／又はＨＭＤＳＯを前駆体として使用したバリア被覆表面と比較してインスリン沈殿又は血液凝固を防止又は低減しうる。
【００６２】
不動態化層又はｐＨ保護皮膜又は層２８６は、任意選択的に、減衰全反射（ＡＴＲ）によって測定された０．４未満のＯパラメータを示し、Ｏパラメータは以下のように測定される。
【数１】
0006488232.tif 000004
【００６３】
Ｏパラメータは、最も広くは０．４〜０．９のＯパラメータ値を請求する米国特許第８，０６７，０７０号明細書において定義される。図２２に示すように、Ｏパラメータは、ＦＴＩＲ振幅対波数プロットを物理的に分析し、上記式の分子及び分母を見出すことから測定されうる。図２２は、波数及び吸光度スケールを補間し、１２５３ｃｍ-1における０．０４２４の吸光度及び１０００〜１１００ｃｍ-1における０．０８の最大吸光度を得、計算されたＯパラメータの０．５３を得たことを示すことが注釈されること以外は米国特許第８，０６７，０７０号明細書の図５と同じである。Ｏパラメータは、また、デジタル波数対吸光度データから測定されうる。
【００６４】
米国特許第８，０６７，０７０号明細書では、双方がともに非環状シロキサンであるＨＭＤＳＯ及びＨＭＤＳＮのみによる実験に依拠し、その請求されるＯパラメータ範囲が優れたｐＨ保護皮膜又は層を提供すると主張する。驚くべきことに、本発明者は、ＰＥＣＶＤ前駆体が環状シロキサン、例えば、ＯＭＣＴＳである場合、ＯＭＣＴＳを使用した米国特許第８，０６７，０７０号明細書において請求された範囲外のＯパラメータが、米国特許第８，０６７，０７０号明細書においてＨＭＤＳＯを用いて得られるものよりも良好な結果を提供することを見出した。
【００６５】
あるいは図１９〜２１の実施形態においては、Ｏパラメータは、０．１〜０．３９、又は０．１５〜０．３７、又は０．１７〜０．３５の値を有する。
【００６６】
流体２１８が直接接触した場合のｐＨ保護皮膜又は層２８６の侵食、溶解又は浸出（関連する概念の異なる名称）の速度は、流体２１８が直接接触した場合の複合バリア皮膜又は層２８８の侵食の速度よりも低い。
【００６７】
ｐＨ保護皮膜又は層２８６は、薬剤パッケージ又は他の容器２１０の保管寿命の間、少なくとも、バリア皮膜がバリアとして機能することを可能にするほど十分な時間、流体２１８を複合バリア皮膜又は層２８８から分離するのに有効である。
【００６８】
本発明者は、更に、環式ポリシロキサン前駆体から形成されたＳｉＯxＣy又はＳｉＮxＣyの特定のｐＨ保護皮膜又は層（このｐＨ保護皮膜又は層はかなりの有機成分を有する）は、流体に曝露された場合に急速に侵食せず、実際には、流体が５〜９の範囲内のより高いｐＨを有する場合によりゆっくりと侵食又は溶解することを見出した。例えば、ｐＨ８においては、前駆体オクタメチルシクロテトラシロキサン、すなわちＯＭＣＴＳから作製されたｐＨ保護皮膜又は層の溶解速度は非常に遅い。ＳｉＯxＣy又はＳｉＮxＣyのこれらｐＨ保護皮膜又は層は、したがって、ＳｉＯｘのバリア層を被覆するために使用することができ、それを薬剤パッケージ内の流体から保護することによってバリア層の利点を保持する。ＳｉＯｘ層を容器内に保管された内容から保護するためｐＨ保護層はＳｉＯｘ層の少なくとも一部の上に塗布されるが、そうでなければ内容はＳｉＯｘ層に接触するであろう。
【００６９】
本発明は以下の理論の精度に依存するものではないが、更に、この開示に記載されるように、侵食を回避するのに有効なｐＨ保護皮膜又は層は環状シロキサン類及びシラザンから作製されうると考えられる。環状シロキサン又は直鎖シラザン前駆体、例えば、オクタメチルシクロテトラシロキサン（ＯＭＣＴＳ）から堆積されるＳｉＯxＣy又はＳｉＮxＣy皮膜は、完全な（ｉｎｔａｃｔ）環状シロキサン環及び前駆体構造の繰り返し単位のより長い列を含むと考えられる。これら皮膜はナノ多孔性であるが構造化されており且つ疎水性であると考えられ、また、これら特性はそれらのｐＨ保護皮膜又は層としての成功に寄与すると考えられる。これは、例えば、米国特許第７，９０１，７８３号明細書に示されている。
【００７０】
ＳｉＯxＣy又はＳｉＮxＣy皮膜は、また、直鎖シロキサン又は直鎖シラザン前駆体、例えば、ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）又はテトラメチルジシロキサン（ＴＭＤＳＯ）から堆積されうる。
【００７１】
任意選択的に、任意の実施形態のｐＨ保護皮膜又は層２８６のＦＴＩＲ吸光度スペクトルは、通常、約１０００〜１０４０ｃｍ-1に位置するＳｉ−Ｏ−Ｓｉ対称伸縮ピークの最大振幅と、通常、約１０６０〜約１１００ｃｍ-1に位置するＳｉ−Ｏ−Ｓｉ非対称伸縮ピークの最大振幅との間において０．７５を超える比率を有する。あるいは、任意の実施形態においては、この比率は、多くとも１．７とされうる。本発明の別の実施形態として、ここで記載した任意の最小比率はここで記載した任意の最大比率と組み合わせることができる。
【００７２】
任意選択的に、任意の実施形態のｐＨ保護皮膜又は層２８６においては、注射用水で希釈され、濃縮硝酸でｐＨ８に調整され、０．２ｗｔ．％ポリソルベート８０界面活性剤を含有し（溶解試薬の変化を回避するために薬剤のない状態で測定した）、４０℃である５０ｍＭリン酸カリウム緩衝液によるケイ素溶解速度は１７０ｐｐｂ／日未満とされうる。（ポリソルベート８０は、例えば、Ｔｗｅｅｎ（登録商標）−８０としてＵｎｉｑｅｍａ  Ａｍｅｒｉｃａｓ  ＬＬＣ，Ｗｉｌｍｉｎｇｔｏｎ  Ｄｅｌａｗａｒｅから入手可能な一般的な製剤の原料である。）
【００７３】
任意選択的に、任意の実施形態のｐＨ保護皮膜又は層２８６においては、ケイ素溶解速度は、１６０ｐｐｂ／日未満、又は１４０ｐｐｂ／日未満、又は１２０ｐｐｂ／日未満、又は１００ｐｐｂ／日未満、又は９０ｐｐｂ／日未満、又は８０ｐｐｂ／日未満である。任意選択的に、任意の実施形態においては、ケイ素溶解速度は、１０ｐｐｂ／日超、又は２０ｐｐｂ／日超、又は３０ｐｐｂ／日超、又は４０ｐｐｂ／日超、又は５０ｐｐｂ／日超、又は６０ｐｐｂ／日超である。任意の実施形態のｐＨ保護皮膜又は層２８６においては、ここで記載した任意の最低速度はここで記載した任意の最大速度と組み合わせることができる。
【００７４】
任意選択的に、任意の実施形態のｐＨ保護皮膜又は層２８６においては、容器から８のｐＨを有する試験組成物への溶解時のｐＨ保護皮膜又は層及びバリア皮膜の総ケイ素含有量は、６６ｐｐｍ未満、又は６０ｐｐｍ未満、又は５０ｐｐｍ未満、又は４０ｐｐｍ未満、又は３０ｐｐｍ未満、又は２０ｐｐｍ未満である。
【００７５】
本発明者は、ここで記載したｐＨ保護皮膜又は層の動作理論を以下に記載する。本発明は、この理論の精度にもこの理論の使用によって予測可能な実施形態にも限定されるものではない。
【００７６】
ＳｉＯｘバリア層の溶解速度は層内のＳｉＯ結合に依存すると考えられる。酸素結合部位（シラノール）が溶解速度を増加させると考えられる。
【００７７】
ＯＭＣＴＳベースのｐＨ保護皮膜又は層はＳｉＯｘバリア層のシラノール部位と結合してＳｉＯｘ表面を「治癒」又は不動態化するため、溶解速度を大幅に低減すると考えられる。この仮説においては、ＯＭＣＴＳ層の厚さは保護の主要手段ではなく、主要手段はＳｉＯｘ表面の不動態化である。この明細書に記載されるように、ｐＨ保護皮膜又は層はｐＨ保護皮膜又は層の架橋結合密度を増加させることにより改良されうると考えられる。
【００７８】
薬剤パッケージ
多くの共通の特徴を有する本発明の３つの実施形態は図８〜１０の実施形態である。それら共通の特徴のいくつかは以下の通りであり、多くの場合、共通の参照符号又は名称によって示される。各実施形態の特徴の性質は本明細書に後述する通りとされうる。
【００７９】
図８〜１０の薬剤パッケージ２１０は、それぞれ、容器と、流体組成物２１８と、複合バリア皮膜又は層２８８（あるいは、結合皮膜又は層プラス複合バリア皮膜又は層と記載される）と、ｐＨ保護皮膜２８６と、を含む。容器２５０は、少なくとも一部が熱可塑性プラスチック材料製の壁２１４によって画定される内腔２１２を有する。
【００８０】
壁２１４は、内腔２１２に面する内部表面２５４と、外部表面２１６とを有する。
【００８１】
流体組成物２１８は内腔２１２内に収容されており、５〜９のｐＨを有する。
【００８２】
流体組成物２１８が直接接触した場合のｐＨ保護皮膜２８６の侵食の速度は流体組成物２１８が直接接触した場合の複合バリア皮膜又は層２８８の侵食の速度よりも低い。
【００８３】
ｐＨ保護皮膜２８６は流体組成物２１８を複合バリア皮膜又は層２８８から分離するのに有効である。
【００８４】
任意選択的に、図８〜１０の実施形態のいずれも、容器２５０の壁２１４の少なくとも一部が、ポリマー、例えば、ポリオレフィン（例えば、環式オレフィン重合体、環式オレフィン共重合体又はポリプロピレン）、ポリエステル、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、又はこれらのいずれかの任意の組み合わせ又は共重合体を含む／から本質的になるという共通の特徴を有する。
【００８５】
任意選択的に、図８の実施形態においては、容器２５０はシリンジバレル２５０を含む。
【００８６】
任意選択的に、図９の実施形態においては、容器２５０はバイアルを含む。
【００８７】
任意選択的に、図１０の実施形態においては、容器２５０はブリスタパッケージを含む。
【００８８】
任意選択的に、図８〜１０の実施形態のいずれにおいても、流体組成物２１８は、５〜９のｐＨを有する。
【００８９】
任意選択的に、図８〜１０の実施形態のいずれにおいても、流体組成物２１８は、２０℃であり、７６０ｍｍＨｇの圧力と定義される海面大気圧の液体である。
【００９０】
任意選択的に、図８〜１０の実施形態のいずれにおいても、流体組成物２１８は水性の液体である。
【００９１】
任意選択的に、図８〜１０の実施形態のいずれにおいても、８のｐＨを有する流体組成物２１８が直接接触した場合のｐＨ保護皮膜２８６の侵食の速度は、同じ条件下で同じ流体組成物２１８が直接接触した場合の複合バリア皮膜又は層２８８の侵食の速度の２０％未満、任意選択的に１５％未満、任意選択的に１０％未満、任意選択的に７％未満、任意選択的に５％〜２０％、任意選択的に５％〜１５％、任意選択的に５％〜１０％、任意選択的に５％〜７％である。
【００９２】
任意選択的に、図８〜１０の実施形態のいずれにおいても、ｐＨ保護皮膜２８６は複合バリア皮膜又は層２８８と少なくとも同一領域を占める。
【００９３】
任意選択的に、図８〜１０の実施形態のいずれにおいても、薬剤パッケージ２１０は薬剤パッケージ２１０の組立後、少なくとも１年、あるいは少なくとも２年の保管寿命を有しうる。
【００９４】
任意選択的に、図８〜１０の実施形態のいずれにおいても、保管寿命は、３℃で測定される。
【００９５】
任意選択的に、図８〜１０の実施形態のいずれにおいても、流体組成物２１８は、流体組成物２１８との接触の４４時間あたりに滑性及び／又はｐＨ保護皮膜厚さの１ｎｍ以下（毎年２００ｎｍ）、あるいは、流体組成物２１８との接触の８８時間あたりに滑性及び／又はｐＨ保護皮膜厚さの１ｎｍ以下（毎年１００ｎｍ）、あるいは、流体組成物２１８との接触の１７５時間あたりに滑性及び／又はｐＨ保護皮膜厚さの１ｎｍ以下（毎年５０ｎｍ）、あるいは、流体組成物２１８との接触の２５０時間あたりに滑性及び／又はｐＨ保護皮膜厚さの１ｎｍ以下（毎年３５ｎｍ）、あるいは、流体組成物２１８との接触の３５０時間あたりに滑性及び／又はｐＨ保護皮膜厚さの１ｎｍ以下（毎年２５ｎｍ）の速度でｐＨ保護皮膜２８６を除去する。ｐＨ保護皮膜の剥離の速度は既知の期間流体組成物に曝露させた試料のＴＥＭにより特定されうる。
【００９６】
流体組成物
任意選択的に、図８〜１０のいずれかの実施形態においては、流体組成物２１８は、
吸入麻酔薬
アリフルラン；クロロホルム；シクロプロパン；
デスフルラン（Ｓｕｐｒａｎｅ）；ジエチルエーテル；エンフルラン（Ｅｔｈｒａｎｅ）；塩化エチル；エチレン；ハロタン（Ｆｌｕｏｔｈａｎｅ）；イソフルラン（Ｆｏｒａｎｅ、Ｉｓｏｆｌｏ）；イソプロペニルビニルエーテル；メトキシフルラン；メトキシプロパン；亜酸化窒素；ロフルラン；セボフルラン（Ｓｅｖｏｒａｎｅ、Ｕｌｔａｎｅ、Ｓｅｖｏｆｌｏ）；テフルラン；トリクロロエチレン；ビニルエーテル；キセノン；
注射剤
Ａｂｌａｖａｒ（ガドホスベセット三ナトリウム注射薬）；アバレリックスデポ；アボボツリナムトキシンＡ注射薬（Ｄｙｓｐｏｒｔ）；ＡＢＴ−２６３；ＡＢＴ−８６９；ＡＢＸ−ＥＦＧ；Ａｃｃｒｅｔｒｏｐｉｎ（ソマトロピン注射薬）；Ａｃｅｔａｄｏｔｅ（アセチルシステイン注射薬）；アセタゾラミド注射薬（アセタゾラミド注射薬）；アセチルシステイン注射薬（Ａｃｅｔａｄｏｔｅ）；アクテムラ（トシリズマブ注射薬）；Ａｃｔｈｒｅｌ（注射用コルチコレリンオーバイントリフルテート）；Ａｃｔｕｍｍｕｎｅ；アクチバーゼ；注射用アシクロビル（ゾビラックス注射薬）；Ａｄａｃｅｌ；アダリムマブ；アデノスキャン（アデノシン注射薬）；アデノシン注射薬（アデノスキャン）；Ａｄｒｅｎａｃｌｉｃｋ；ＡｄｒｅＶｉｅｗ（ヨーベングアンＩ１２３静脈内使用用注射薬）；Ａｆｌｕｒｉａ；Ａｋ−Ｆｌｕｏｒ（フルオレセイン注射薬）；アウドラザイム（ラロニダーゼ）；アルグルセラーゼ注射薬（セレデース）；アルケラン注射薬（メルファランＨｃｌ注射薬）；アロプリノールナトリウム注射用（Ａｌｏｐｒｉｍ）；Ａｌｏｐｒｉｍ（アロプリノールナトリウム注射用）；アルプロスタジル；Ａｌｓｕｍａ（スマトリプタン注射薬）；ＡＬＴＵ−２３８；アミノ酸注射薬；Ａｍｉｎｏｓｙｎ；アピドラ；アプレミラストアルプロスタジルデュアルチャンバシステム（Ｄｕａｌ  Ｃｈａｍｂｅｒ  Ｓｙｓｔｅｍ）注射用（Ｃａｖｅｒｊｅｃｔ  Ｉｍｐｕｌｓｅ）；ＡＭＧ００９；ＡＭＧ０７６；ＡＭＧ１０２；ＡＭＧ１０８；ＡＭＧ１１４；ＡＭＧ１６２；ＡＭＧ２２０；ＡＭＧ２２１；ＡＭＧ２２２；ＡＭＧ２２３；ＡＭＧ３１７；ＡＭＧ３７９；ＡＭＧ３８６；ＡＭＧ４０３；ＡＭＧ４７７；ＡＭＧ４７９；ＡＭＧ５１７；ＡＭＧ５３１；ＡＭＧ５５７；ＡＭＧ６２３；ＡＭＧ６５５；ＡＭＧ７０６；ＡＭＧ７１４；ＡＭＧ７４５；ＡＭＧ７８５；ＡＭＧ８１１；ＡＭＧ８２７；ＡＭＧ８３７；ＡＭＧ８５３；ＡＭＧ９５１；アミオダロンＨＣｌ注射薬（アミオダロンＨＣｌ注射薬）；アモバルビタールナトリウム注射薬（アミタールナトリウム）；アミタールナトリウム（アモバルビタールナトリウム注射薬）；アナキンラ；Ａｎｔｉ−Ａｂｅｔａ；Ａｎｔｉ−Ｂｅｔａ７；Ａｎｔｉ−Ｂｅｔａ２０；Ａｎｔｉ−ＣＤ４；Ａｎｔｉ−ＣＤ２０；Ａｎｔｉ−ＣＤ４０；Ａｎｔｉ−ＩＦＮａｌｐｈａ；Ａｎｔｉ−ＩＬ１３；Ａｎｔｉ−ＯＸ４０Ｌ；Ａｎｔｉ−ｏｘＬＤＳ；Ａｎｔｉ−ＮＧＦ；Ａｎｔｉ−ＮＲＰ１；アリクストラ；Ａｍｐｈａｄａｓｅ（ヒアルロニダーゼ注射薬）；Ａｍｍｏｎｕｌ（フェニル酢酸ナトリウム及び安息香酸ナトリウム注射薬）；Ａｎａｐｒｏｘ；アンゼメット注射薬（メシル酸ドラセトロン注射薬）；アピドラ（インスリングルリシン［ｒＤＮＡ由来］注射薬）；Ａｐｏｍａｂ；Ａｒａｎｅｓｐ（ダルベポエチンアルファ）；アルガトロバン（アルガトロバン注射薬）；塩酸アルギニン注射薬（Ｒ−Ｇｅｎｅ１０；アリストコート；アリストスパン；三酸化ヒ素注射薬（トリセノックス）；アルチケーンＨＣｌ（Ａｒｔｉｃａｎｅ  ＨＣｌ）及びエピネフリン注射薬（Ｓｅｐｔｏｃａｉｎｅ）；アーゼラ（オファツムマブ注射薬）；Ａｓｃｌｅｒａ（ポリドカノール注射薬���；アタルレン；アタルレン−ＤＭＤ；アテノロール注射薬（テノーミンＩ．Ｖ．注射薬）；ベシル酸アトラクリウム注射薬（ベシル酸アトラクリウム注射薬）；アバスチン；アザクタム注射薬（アズトレオナム注射薬）；アジスロマイシン（ジスロマック注射薬）；アズトレオナム注射薬（アザクタム注射薬）；バクロフェン注射薬（リオレサール髄注（Ｉｎｔｒａｔｈｅｃａｌ））；静菌水（注射用静菌水）；バクロフェン注射薬（リオレサール髄注）；Ｂａｌ  ｉｎ  Ｏｉｌ  Ａｍｐｕｌｅｓ（ジメルカープロール（Ｄｉｍｅｒｃａｒｐｒｏｌ）注射薬）；ＢａｙＨｅｐＢ；ＢａｙＴｅｔ；ベナドリル；塩酸ベンダムスチン注射薬（トレアンダ）；メシル酸ベンズトロピン注射薬（コゲンチン）；ベタメタゾン懸濁注射液（Ｃｅｌｅｓｔｏｎｅ  Ｓｏｌｕｓｐａｎ）；ベキサール；バイシリンＣ−Ｒ９００／３００（ペニシリンＧベンザチン及びペニシリンＧロカイン注射薬）；ブレノキサン（ブレオマイシン硫酸塩注射薬）；ブレオマイシン硫酸塩注射薬（ブレノキサン）；ボニバ注射薬（イバンドロネートナトリウム注射薬）；ボトックスコスメティック（注射用ボツリヌストキシンＡ）；ＢＲ３−ＦＣ；Ｂｒａｖｅｌｌｅ（ウロホリトロピン注射薬）；ブレチリウム（ブレチリウムトシラート注射薬）；ブレビタールナトリウム（メトヘキシタールナトリウム注射用）；Ｂｒｅｔｈｉｎｅ；Ｂｒｉｏｂａｃｅｐｔ；ＢＴＴ−１０２３；ブピバカインＨＣｌ；バイエッタ；Ｃａ−ＤＴＰＡ（ペンテト酸カルシウム三ナトリウム注射薬）；カバジタキセル注射薬（ジェブタナ）；カフェインアルカロイド（カフェイン及び安息香酸ナトリウム注射薬）；カルシジェックス注射薬（カルシトリオール）；カルシトリオール（カルシジェックス注射薬）；塩化カルシウム（塩化カルシウム注射薬１０％）；カルシウムジナトリウムベルセネート（エデト酸カルシウム二ナトリウム注射薬）；キャンパス（アルテムツズマブ（Ａｌｔｅｍｔｕｚｕｍａｂ））；Ｃａｍｐｔｏｓａｒ注射薬（イリノテカン塩酸）；カナキヌマブ注射薬（イラリス）；カパスタット硫酸塩（Ｃａｐａｓｔａｔ  Ｓｕｌｆａｔｅ）（カプレオマイシン注射用）；カプレオマイシン注射用（カパスタット硫酸塩（Ｃａｐａｓｔａｔ  Ｓｕｌｆａｔｅ））；カーディオライト（注射用テクネチウムＴｃ９９セスタミビ用調製キット（Ｐｒｅｐ  ｋｉｔ））；カーティセル；Ｃａｔｈｆｌｏ；注射用セファゾリン及びブドウ糖（セファゾリン注射薬）；セフェピム塩酸塩；セフォタキシム；セフトリアキソン；セレザイム；Ｃａｒｎｉｔｏｒ注射薬；Ｃａｖｅｒｊｅｃｔ；Ｃｅｌｅｓｔｏｎｅ  Ｓｏｌｕｓｐａｎ；Ｃｅｌｓｉｏｒ；Ｃｅｒｅｂｙｘ（ホスフェニトインナトリウム注射薬）；セレデース（アルグルセラーゼ注射薬）；Ｃｅｒｅｔｅｃ（テクネチウムＴｃ９９ｍエキサメタジム注射薬）；セルトリズマブ；ＣＦ−１０１；クロラムフェニコールコハク酸ナトリウム（クロラムフェニコールコハク酸ナトリウム注射薬）；クロラムフェニコールコハク酸ナトリウム注射薬（クロラムフェニコールコハク酸ナトリウム）；コレスタゲル（コレセベラムＨＣＬ）；絨毛性ゴナドトロピンアルファ注射薬（Ｏｖｉｄｒｅｌ）；シムジア；シスプラチン（シスプラチン注射薬）；クロラール（クロファラビン注射薬）；クエン酸クロミフィン（Ｃｌｏｍｉｐｈｉｎｅ  Ｃｉｔｒａｔｅ）；クロニジン注射薬（Ｄｕｒａｃｌｏｎ）；コゲンチン（メシル酸ベンズトロピン注射薬）；コリスチメタート注射薬（Ｃｏｌｙ−Ｍｙｃｉｎ  Ｍ）；Ｃｏｌｙ−Ｍｙｃｉｎ  Ｍ（コリスチメタート注射薬）；Ｃｏｍｐａｔｈ；コニバプタンＨｃｌ注射薬（バプリゾール）；注射用結合型エストロゲン（プレマリン注射薬）；コパキソン；注射用コルチコレリンオーバイントリフルテート（Ａｃｔｈｒｅｌ）；コルベルト（フマル酸イブチリド注射薬）；キュビシン（ダプトマイシン注射薬）；ＣＦ−１０１；Ｃｙａｎｏｋｉｔ（注射用ヒドロキソコバラミン）；シタラビンリポソーム注射薬（デポサイト）；シアノコバラミン；サイトベン（ガンシクロビル）；Ｄ．Ｈ．Ｅ．４５；ダセツズマブ；ダコゲン（デシタビン注射薬）；ダルテパリン；ダントリウムＩＶ（注射用ダントロレンナトリウム）；注射用ダントロレンナトリウム（ダントリウムＩＶ）；ダプトマイシン注射薬（キュビシン）；ダルベポエチンアルファ；ＤＤＡＶＰ注射薬（デスモプレシン酢酸塩注射薬）；Ｄｅｃａｖａｘ；デシタビン注射薬（ダコゲン）；無水アルコール（無水アルコール注射薬）；デノスマブ注射薬（プロリア）；デラテストリル；デルエストロゲン；デルテパリンナトリウム（Ｄｅｌｔｅｐａｒｉｎ  Ｓｏｄｉｕｍ）；Ｄｅｐａｃｏｎ（バルプロ酸ナトリウム注射薬）；デポメロドール（酢酸メチルプレドニゾロン懸濁注射液）；デポサイト（シタラビンリポソーム注射薬）；デポデュール（モルヒネ硫酸塩ＸＲリポソーム注射薬）；デスモプレシン酢酸塩注射薬（ＤＤＡＶＰ注射薬）；デポエストラジオール；デポプロベラ１０４ｍｇ／ｍｌ；デポプロベラ１５０ｍｇ／ｍｌ；デポテストステロン；注射用デキスラゾキサン、静注のみ（Ｔｏｔｅｃｔ）；ブドウ糖／電解質；ブドウ糖及び塩化ナトリウム注射薬（０．９％塩化ナトリウム中ブドウ糖５％）；ブドウ糖；ジアゼパム注射薬（ジアゼパム注射薬）；ジゴキシン注射薬（ラノキシン注射薬）；ジラウジッド−ＨＰ（ヒドロモルホン塩酸注射薬）；ジメルカープロール（Ｄｉｍｅｒｃａｒｐｒｏｌ）注射薬（Ｂａｌ  ｉｎ  Ｏｉｌ  Ａｍｐｕｌｅｓ）；ジフェンヒドラミン注射薬（ベナドリル注射薬）；ジピリダモール注射薬（ジピリダモール注射薬）；ＤＭＯＡＤ；ドセタクセル注射用（タキソテール）；メシル酸ドラセトロン注射薬（アンゼメット注射薬）；ドリバックス（ドリペネム注射用）；ドリペネム注射用（ドリバックス）；ドキセルカルシフェロール注射薬（Ｈｅｃｔｏｒｏｌ注射薬）；ドキシル（ドキソルビシンＨｃｌリポソーム注射薬）；ドキソルビシンＨｃｌリポソーム注射薬（ドキシル）；Ｄｕｒａｃｌｏｎ（クロニジン注射薬）；Ｄｕｒａｍｏｒｐｈ（モルヒネ注射薬）；Ｄｙｓｐｏｒｔ（アボボツリナムトキシンＡ注射薬）；エカランチド注射薬（Ｋａｌｂｉｔｏｒ）；ＥＣ−ナプロシン（ナプロキセン）；エデト酸カルシウム二ナトリウム注射薬（カルシウムジナトリウムベルセネート）；Ｅｄｅｘ（注射用アルプロスタジル）；Ｅｎｇｅｒｉｘ；エドロホニウム注射薬（Ｅｎｌｏｎ）；エリグルスタットターテート（Ｅｌｉｇｌｕｓ���ａｔ  Ｔａｒｔａｔｅ）；エロキサチン（オキサリプラチン注射薬）；イメンド注射薬（フォサプレピタントジメグルミン注射薬）；エナラプリラート注射薬（エナラプリラート注射薬）；Ｅｎｌｏｎ（エドロホニウム注射薬）；エノキサパリンナトリウム注射薬（ラブノックス）；エオビスト（ガドキセト酸二ナトリウム注射薬）；エンブレル（エタネルセプト）；エノキサパリン；Ｅｐｉｃｅｌ；エピネフェリン（Ｅｐｉｎｅｐｈｅｒｉｎｅ）；エピペン；エピペンＪｒ．；エピラツズマブ；アービタックス；エルタペネム注射薬（Ｉｎｖａｎｚ）；エリスロポエテン（Ｅｒｙｔｈｒｏｐｏｉｅｔｅｎ）；必須アミノ酸注射薬（Ｎｅｐｈｒａｍｉｎｅ）；エストラジオールシピオネート；吉草酸エストラジオール；エタネルセプト；エキセナチド注射薬（バイエッタ）；エブロトラ（Ｅｖｌｏｔｒａ）；ファブラザイム（アダルシダーゼベータ（Ａｄａｌｓｉｄａｓｅ  ｂｅｔａ））；ファモチジン注射薬；ＦＤＧ（フルデオキシグルコースＦ１８注射薬）；フェラヘム（フェルモキシトール注射薬）；フェリデックスＩ．Ｖ．（フェルモキシデス注射可能溶液）；Ｆｅｒｔｉｎｅｘ；フェルモキシデス注射可能溶液（フェリデックスＩ．Ｖ．）；フェルモキシトール注射薬（フェラヘム）；フラジール注射薬（メトロニダゾール注射薬）；Ｆｌｕａｒｉｘ；フルダラ（リン酸フルダラビン）；フルデオキシグルコースＦ１８注射薬（ＦＤＧ）；フルオレセイン注射薬（Ａｋ−Ｆｌｕｏｒ）；フォリスチムＡＱカートリッジ（フォリトロピンベータ注射薬）；フォリトロピンアルファ注射薬（ゴナールエフＲＦＦ）；フォリトロピンベータ注射薬（フォリスチムＡＱカートリッジ）；フォロチン（プララトレキサート溶液静注用）；フォンダパリヌクス；フォルテオ（テリパラチド（ｒＤＮＡ由来）注射薬）；Ｆｏｓｔａｍａｔｉｎｉｂ；フォサプレピタントジメグルミン注射薬（イメンド注射薬）；ホスフェニトインナトリウム注射薬（ホスカビル）；ホスカビル（ホスフェニトインナトリウム注射薬）；ホスフェニトインナトリウム注射薬（Ｃｅｒｅｂｙｘ）；ホスプロポフォール二ナトリウム注射薬（Ｌｕｓｅｄｒａ）；フラグミン；フゼオン（エンフビルチド）；ＧＡ１０１；ガドベン酸メグルミン注射薬（Ｍｕｌｔｉｈａｎｃｅ）；ガドホスベセット三ナトリウム注射薬（Ａｂｌａｖａｒ）；ガドテリドール注射薬溶液（プロハンス）；カドベルセタ
ミド注射薬（ＯｐｔｉＭＡＲＫ）；ガドキセト酸二ナトリウム注射薬（エオビスト）；ガニレリクス（ガニレリクス酢酸塩注射薬）；ガーダシル；ＧＣ１００８；ＧＤＦＤ；注射用ゲムツズマブオゾガマイシン（マイロターグ）；ジェノトロピン；ゲンタマイシン注射薬；ＧＥＮＺ−１１２６３８；ゴリムマブ注射薬（シンポニー注射薬）；ゴナールエフＲＦＦ（フォリトロピンアルファ注射薬）；グラニセトロン塩酸塩（カイトリル注射薬）；ゲンタマイシン硫酸塩；グラチラマー酢酸塩；Ｇｌｕｃａｇｅｎ；グルカゴン；ＨＡＥ１；Ｈａｌｄｏｌ（ハロペリドール注射薬）；Ｈａｖｒｉｘ；Ｈｅｃｔｏｒｏｌ注射薬（ドキセルカルシフェロール注射薬）；ヘッジホッグ経路阻害薬；へパリン；ハーセプチン；ｈＧ−ＣＳＦ；ヒューマログ；ヒト成長ホルモン；ヒューマトロープ；ＨｕＭａｘ；ヒュメゴン；ヒュミラ；ヒューマリン；イバンドロネートナトリウム注射薬（ボニバ注射薬）；イブプロフェンリシン注射薬（ＮｅｏＰｒｏｆｅｎ）；フマル酸イブチリド注射薬（コルベルト）；イダマイシンＰＦＳ（イダルビシン塩酸注射薬）；イダルビシン塩酸注射薬（イダマイシンＰＦＳ）；イラリス（カナキヌマブ注射薬）；注射用イミペネム及びシラスタチン（プリマキシンＩ．Ｖ．）；イミトレックス；インコボツリナムトキシンＡ注射用（Ｘｅｏｍｉｎ）；Ｉｎｃｒｅｌｅｘ（メカセルミン［ｒＤＮＡ由来］注射薬）；インダシンＩＶ（インドメタシン注射薬）；インドメタシン注射薬（インダシンＩＶ）；Ｉｎｆａｎｒｉｘ；イノヘップ；インスリン；インスリンアスパルト［ｒＤＮＡ由来］注射薬（ＮｏｖｏＬｏｇ）；インスリングラルギン［ｒＤＮＡ由来］注射薬（ランタス）；インスリングルリシン［ｒＤＮＡ由来］注射薬（アピドラ）；インターフェロンアルファ−２ｂ、遺伝子組換え注射用（イントロンＡ）；イントロンＡ（インターフェロンアルファ−２ｂ、遺伝子組換え注射用）；Ｉｎｖａｎｚ（エルタペネム注射薬）；Ｉｎｖｅｇａ  Ｓｕｓｔｅｎｎａ（パリペリドンパルミチン酸エステル持効性懸濁注射液）；インビラーゼ（サキナビルメシル酸塩）；ヨーベングアンＩ１２３静脈内使用用注射薬（ＡｄｒｅＶｉｅｗ）；イオプロミド注射薬（Ｕｌｔｒａｖｉｓｔ）；イオベルソール注射薬（オプチレイ注射薬）；Ｉｐｌｅｘ（メカセルミンリンファバート［ｒＤＮＡ由来］注射薬）；Ｉｐｒｉｖａｓｋ；イリノテカン塩酸（Ｃａｍｐｔｏｓａｒ注射薬）；含糖酸化鉄注射薬（ヴェノファー）；Ｉｓｔｏｄａｘ（ロミデプシン注射用）；イトラコナゾール注射薬（スポラノックス注射薬）；ジェブタナ（カバジタキセル注射薬）；Ｊｏｎｅｘａ；Ｋａｌｂｉｔｏｒ（エカランチド注射薬）；ＫＣＬ  ｉｎ  Ｄ５ＮＳ（５％ブドウ糖及び塩化ナトリウム中塩化カリウム（Ｐｏｔａｓｓｉｕｍ  Ｃｈｌｏｒｉｄｅ  ｉｎ  ５％  Ｄｅｘｔｒｏｓｅ  ａｎｄ  Ｓｏｄｉｕｍ  Ｃｈｌｏｒｉｄｅ）注射薬）；ＫＣＬ  ｉｎ  Ｄ５Ｗ；ＫＣＬ  ｉｎ  ＮＳ；ケナログ１０注射薬（トリアムシノロンアセトニド懸濁注射液）；ケピバンス（パリフェルミン）；ケプラ注射薬（レベチラセタム）；ケラチノサイト；ＫＦＧ；キナーゼ阻害薬；Ｋｉｎｅｒｅｔ（アナキンラ）；Ｋｉｎｌｙｔｉｃ（ウロキナーゼ注射薬）；Ｋｉｎ��ｉｘ；クロノピン（クロナゼパム）；カイトリル注射薬（グラニセトロン塩酸塩）；ラコサミド錠及び注射薬（ビンパット）；乳酸リンゲル液；ラノキシン注射薬（ジゴキシン注射薬）；ランソプラゾール注射用（プレバシドＩ．Ｖ．）；ランタス；ロイコボリンカルシウム（ロイコボリンカルシウム注射薬）；レンテ（Ｌ）；レプチン；レベミル；リューカインサルグラモスチム（Ｌｅｕｋｉｎｅ  Ｓａｒｇｒａｍｏｓｔｉｍ）；ロイプロリド酢酸塩；レボチロキシン；レベチラセタム（ケプラ注射薬）；ラブノックス；レボカルニチン注射薬（Ｃａｒｎｉｔｏｒ注射薬）；レキスキャン（レガデノソン注射薬）；リオレサール髄注（バクロフェン注射薬）；リラグルチド［ｒＤＮＡ］注射薬（ビクトーザ）；ラブノックス（エノキサパリンナトリウム注射薬）；ルセンティス（ラニビズマブ注射薬）；Ｌｕｍｉｚｙｍｅ；ルプロン（ロイプロリド酢酸塩注射薬）；Ｌｕｓｅｄｒａ（ホスプロポフォール二ナトリウム注射薬）；Ｍａｃｉ；マグネシウム硫酸塩（マグネシウム硫酸塩注射薬）；マンニトール注射薬（マンニトールＩＶ）；マーカイン（ブピバカイン塩酸及びエピネフリン注射薬）；マキシピーム（セフェピム塩酸塩注射用）；テクネチウム注射薬のＭＤＰ多用量（Ｍｕｌｔｉｄｏｓｅ）キット（テクネチウムＴｃ９９ｍメドロナート注射薬）；メカセルミン［ｒＤＮＡ由来］注射薬（Ｉｎｃｒｅｌｅｘ）；メカセルミンリンファバート［ｒＤＮＡ由来］注射薬（Ｉｐｌｅｘ）；メルファランＨｃｌ注射薬（アルケラン注射薬）；メトトレキサート；メナクトラ；Ｍｅｎｏｐｕｒ（メノトロピンス注射薬）；メノトロピンス注射用（Ｒｅｐｒｏｎｅｘ）；メトヘキシタールナトリウム注射用（ブレビタールナトリウム）；メチルドーパート塩酸塩注射薬、溶液（メチルドーパートＨｃｌ）；メチレンブルー（メチレンブルー注射薬）；酢酸メチルプレドニゾロン懸濁注射液（デポメロドール）；ＭｅｔＭａｂ；メトクロプラミド注射薬（Ｒｅｇｌａｎ注射薬）；Ｍｅｔｒｏｄｉｎ（ウロホリトロピン注射用）；メトロニダゾール注射薬（フラジール注射薬）；Ｍｉａｃａｌｃｉｎ；ミダゾラム（ミダゾラム注射薬）；ミンパラ（シナカレト（Ｃｉｎａｃａｌｅｔ））；ミノシン注射薬（ミノサイクリン注射薬）；ミノサイクリン注射薬（ミノシン注射薬）；ミポメルセン；ミトキサントロン注射用濃縮液（ノバントロン）；モルヒネ注射薬（Ｄｕｒａｍｏｒｐｈ）；モルヒネ硫酸塩ＸＲリポソーム注射薬（デポデュール）；モルイン酸ナトリウム（モルイン酸ナトリウム注射薬）；モテサニブ；モゾビル（プレリキサフォル注射薬）；Ｍｕｌｔｉｈａｎｃｅ（ガドベン酸メグルミン注射薬）；多電解質及びブドウ糖注射薬；多電解質注射薬；マイロターグ（注射用ゲムツズマブオゾガマイシン）；マイオザイム（アルグルコシダーゼアルファ）；ナフシリン注射薬（ナフシリンナトリウム）；ナフシリンナトリウム（ナフシリン注射薬）；ナルトレキソンＸＲ注射薬（ビビトロル）；ナプロシン（ナプロキセン）；ＮｅｏＰｒｏｆｅｎ（イブプロフェンリシン注射薬）；ナンドロルデカン酸エステル（Ｎａｎｄｒｏｌ  Ｄｅｃａｎｏａｔｅ）；ネオスチグミンメチル硫酸塩（ネオスチグミンメチル硫酸塩注射薬）；ＮＥ���−ＧＡＡ；ＮｅｏＴｅｃｔ（テクネチウムＴｃ９９ｍデプレオチド注射薬）；Ｎｅｐｈｒａｍｉｎｅ（必須アミノ酸注射薬）；Ｎｅｕｌａｓｔａ（ペグフィルグラスチム）；Ｎｅｕｐｏｇｅｎ（フィルグラスチム）；ノボリン；Ｎｏｖｏｌｏｇ；ＮｅｏＲｅｃｏｒｍｏｎ；Ｎｅｕｔｒｅｘｉｎ（グルコン酸トリメトレキサート注射薬）；ＮＰＨ（Ｎ）；Ｎｅｘｔｅｒｏｎｅ（アミオダロンＨＣｌ注射薬）；ノルディトロピン（ソマトロピン注射薬）；生理食塩水（塩化ナトリウム注射薬）；ノバントロン（ミトキサントロン注射用濃縮液）；ノボリン７０／３０イノレット（７０％ＮＰＨ、ヒトインスリンイソフェン懸濁液及び３０％レギュラー、ヒトインスリン注射薬）；ＮｏｖｏＬｏｇ（インスリンアスパルト［ｒＤＮＡ由来］注射薬）；Ｎｐｌａｔｅ（ロミプロスチム）；ニュートロピン（ソマトロピン（ｒＤＮＡ由来）注射用）；ニュートロピンＡＱ；ニュートロピンデポ（ソマトロピン（ｒＤＮＡ由来）注射用）；オクトレオチド酢酸塩注射薬（サンドスタチンＬＡＲ）；オクレリズマブ；オファツムマブ注射薬（アーゼラ）；徐放性オランザピン懸濁注射液（Ｚｙｐｒｅｘａ  Ｒｅｌｐｒｅｖｖ）；Ｏｍｎｉｔａｒｇ；Ｏｍｎｉｔｒｏｐｅ（ソマトロピン［ｒＤＮＡ由来］注射薬）；オンダンセトロン塩酸注射薬（ゾフラン注射薬）；ＯｐｔｉＭＡＲＫ（カドベルセタミド注射薬）；オプチレイ注射薬（イオベルソール注射薬）；オレンシア；Ｏｓｍｉｔｒｏｌ注射薬、Ａｖｉｖａ（マンニトール注射薬、Ａｖｉｖａプラスチック容器）；Ｏｓｍｉｔｒｏｌ注射薬、Ｖｉａｆｌｅｘ（マンニトール注射薬、Ｖｉａｆｌｅｘプラスチック容器）；オステオプロテグリン（Ｏｓｔｅｏｐｒｏｔｅｇｒｉｎ）；Ｏｖｉｄｒｅｌ（絨毛性ゴナドトロピンアルファ注射薬）；オキサシリン（オキサシリン注射用）；オキサリプラチン注射薬（エロキサチン）；オキシトシン注射薬（ピトシン）；パリペリドンパルミチン酸エステル持効性懸濁注射液（Ｉｎｖｅｇａ  Ｓｕｓｔｅｎｎａ）；パミドロン酸二ナトリウム注射薬（パミドロン酸二ナトリウム注射薬）；パニツムマブ静注用（ベクティビックス）；パパベリン塩酸塩注射薬（パパベリン注射薬）；パパベリン注射薬（パパベリン塩酸塩注射薬）；副甲状腺ホルモン；パリカルシトール注射薬フリップトップ型バイアル（Ｚｅｍｐｌａｒ注射薬）；ＰＡＲＰ阻害薬；Ｐｅｄｉａｒｉｘ；ペグイントロン；ペグインターフェロン；ペグフィルグラスチム；ペニシリンＧベンザチン及びペニシリンＧプロカイン；ペンテト酸カルシウム三ナトリウム注射薬（Ｃａ−ＤＴＰＡ）；ペンテト酸亜鉛三ナトリウム注射薬（Ｚｎ−ジエチレントリアミン五酢酸）；ペプシド注射薬（ファモチジン注射薬）；Ｐｅｒｇｏｎａｌ；ペルツズマブ；フェントラミンメシル酸塩（フェントラミンメシル酸塩注射用）；サリチル酸フィゾスチグミン（サリチル酸フィゾスチグミン（注射薬））；サリチル酸フィゾスチグミン（注射薬）（サリチル酸フィゾスチグミン）；ピペラシリン及びタゾバクタム注射薬（ゾシン）；ピトシン（オキシトシン注射薬）；Ｐｌａｓｍａ−Ｌｙｔｅ１４８（多電解質注射薬）；Ｐｌａｓｍａ−Ｌｙｔｅ５６及びブドウ糖（多電解質及びブドウ糖注射薬、Ｖｉａｆｌｅｘプラスチック容器）；ＰｌａｓｍａＬｙｔｅ；プレリキサフォル注射薬（モゾビル）；ポリドカノール注射薬（Ａｓｃｌｅｒａ）；塩化カリウム；プララトレキサート溶液静注用（フォロチン）；酢酸プラムリンタイド注射薬（Ｓｙｍｌｉｎ）；プレマリン注射薬（注射用結合型エストロゲン）；注射用テクネチウムＴｃ９９セスタミビ用調製キット（Ｐｒｅｐ  ｋｉｔ）（カーディオライト）；プレバシドＩ．Ｖ．（ランソプラゾール注射用）；プリマキシンＩ．Ｖ．（注射用イミペネム及びシラスタチン）；Ｐｒｏｃｈｙｍａｌ；プロクリット；黄体ホルモン；プロハンス（ガドテリドール注射薬溶液）；プロリア（デノスマブ注射薬）；プロメタジンＨＣｌ注射薬（プロメタジン塩酸注射薬）；プロプラノロール塩酸塩注射薬（プロプラノロール塩酸塩注射薬）；グルコン酸キニジン注射薬（キニジン注射薬）；キニジン注射薬（グルコン酸キニジン注射薬）；Ｒ−Ｇｅｎｅ１０（塩酸アルギニン注射薬）；ラニビズマブ注射薬（ルセンティス）；ラニチジン塩酸塩注射薬（ザンタック注射薬）；ラプティバ；リクラスト（ゾレドロン酸注射薬）；Ｒｅｃｏｍｂｉｖａｒｉｘ  ＨＢ；レガデノソン注射薬（レキスキャン）；Ｒｅｇｌａｎ注射薬（メトクロプラミド注射薬）；レミケード；レナジェル；Ｒｅｎｖｅｌａ（炭酸セベラマー）；Ｒｅｐｒｏｎｅｘ（メノトロピンス注射用）；レトロビルＩＶ（ジドブジン注射薬）；ｒｈＡｐｏ２Ｌ／ＴＲＡＩＬ；リンゲル及び５％ブドウ糖注射薬（ブドウ糖加リンガー液（Ｒｉｎｇｅｒｓ））；リンゲル液（リンガー（Ｒｉｎｇｅｒｓ）液）；リツキサン；リツキシマブ；ロセフィン（セフトリアキソン）；ロクロニウム臭化物注射薬（Ｚｅｍｕｒｏｎ）；Ｒｏｆｅｒｏｎ−Ａ（インターフェロンアルファ−２ａ）；Ｒｏｍａｚｉｃｏｎ（フルマゼニル）；ロミデプシン注射用（Ｉｓｔｏｄａｘ）；サイゼン（ソマトロピン注射薬）；サンドスタチンＬＡＲ（オクトレオチド酢酸塩注射薬）；スクレロスチンＡｂ；Ｓｅｎｓｉｐａｒ（シナカルセト）；Ｓｅｎｓｏｒｃａｉｎｅ（ブピバカインＨＣｌ注射薬）；Ｓｅｐｔｏｃａｉｎｅ（アルチケーンＨＣｌ（Ａｒｔｉｃａｎｅ  ＨＣｌ）及びエピネフリン注射薬）；Ｓｅｒｏｓｔｉｍ  ＬＱ（ソマトロピン（ｒＤＮＡ由来）注射薬）；シンポニー注射薬（ゴリムマブ注射薬）；ナトリウム酢酸塩（ナトリウム酢酸塩注射薬）；炭酸水素ナトリウム（炭酸水素ナトリウム
５％注射薬）；乳酸ナトリウム（乳酸ナトリウム注射薬、ＡＶＩＶＡ）；フェニル酢酸ナトリウム及び安息香酸ナトリウム注射薬（Ａｍｍｏｎｕｌ）；ソマトロピン（ｒＤＮＡ由来）注射用（ニュートロピン）；スポラノックス注射薬（イトラコナゾール注射薬）；ステラーラ注射薬（ウステキヌマブ）；Ｓｔｅｍｇｅｎ；Ｓｕｆｅｎｔａ（クエン酸スフェンタニル注射薬）；クエン酸スフェンタニル注射薬（Ｓｕｆｅｎｔａ）；Ｓｕｍａｖｅｌ；スマトリプタン注射薬（Ａｌｓｕｍａ）；Ｓｙｍｌｉｎ；Ｓｙｍｌｉｎ  Ｐｅｎ；全身用ヘッジホッグ（Ｓｙｓｔｅｍｉｃ  Ｈｅｄｇｅｈｏｇ）拮抗薬；Ｓｙｎｖｉｓｃ−Ｏｎｅ（ヒラン（Ｈｙｌａｎ）Ｇ−Ｆ２０単回関節内注射薬）；タルセバ；タキソテール（ドセタクセル注射用）；テクネチウムＴｃ９９ｍ；テラバンシン注射用（ヴィバティブ）；テムシロリムス注射薬（トーリセル）；テノーミンＩ．Ｖ．注射薬（アテノロール注射薬）；テリパラチド（ｒＤＮＡ由来）注射薬（フォルテオ）；テストステロンシピオネート；テストステロンエナント酸エステル；テストステロンプロピオン酸エステル；Ｔｅｖ−Ｔｒｏｐｉｎ（ソマトロピン、ｒＤＮＡ由来、注射用）；ｔｇＡＡＣ９４；塩化タリウム；テオフィリン；チオテパ（チオテパ注射薬）；サイモグロブリン（抗胸腺細胞免疫グロブリン（ウサギ）；タイロゲン（チロトロピンアルファ注射用）；チカルシリンナトリウム及びクラブラン酸カリウムギャラクシー（Ｇａｌａｘｙ）（チメンチン注射薬）；Ｔｉｇａｎ注射薬（塩酸トリメトベンズアミド注射可能物質（ｉｎｊｅｃｔａｂｌｅ））；チメンチン注射薬（チカルシリンナトリウム及びクラブラン酸カリウムギャラクシー（Ｇａｌａｘｙ））；ＴＮＫａｓｅ；トブラマイシン注射薬（トブラマイシン注射薬）；トシリズマブ注射薬（アクテムラ）；トーリセル（テムシロリムス注射薬）；Ｔｏｔｅｃｔ（注射用デキスラゾキサン、静注のみ）；トラスツズマブ−ＤＭ１；Ｔｒａｖａｓｏｌ（アミノ酸（注射薬））；トレアンダ（塩酸ベンダムスチン注射薬）；トレルスター（トリプトレリンパモエート懸濁注射液用）；トリアムシノロンアセトニド；酢酸トリアムシノロン；トリアムシノロンヘキサアセトニド懸濁注射液（アリストスパン注射薬２０ｍｇ）；Ｔｒｉｅｓｅｎｃｅ（トリアムシノロンアセトニド懸濁注射液）；塩酸トリメトベンズアミド注射可能物質（ｉｎｊｅｃｔａｂｌｅ）（Ｔｉｇａｎ注射薬）；グルコン酸トリメトレキサート注射薬（Ｎｅｕｔｒｅｘｉｎ）；トリプトレリンパモエート懸濁注射液用（トレルスター）；Ｔｗｉｎｊｅｃｔ；Ｔｒｉｖａｒｉｓ（トリアムシノロンアセトニド懸濁注射液）；トリセノックス（三酸化ヒ素注射薬）；Ｔｗｉｎｒｉｘ；腸チフスＶｉ；Ｕｌｔｒａｖｉｓｔ（イオプロミド注射薬）；ウロホリトロピン注射用（Ｍｅｔｒｏｄｉｎ）；ウロキナーゼ注射薬（Ｋｉｎｌｙｔｉｃ）；ウステキヌマブ（ステラーラ注射薬）；ウルトラレンテ（Ｕ）；バリウム（ジアゼパム）；バルプロ酸ナトリウム注射薬（Ｄｅｐａｃｏｎ）；Ｖａｌｔｒｏｐｉｎ（ソマトロピン注射薬）；バルプロ酸ナトリウム（バルプロ酸ナトリウム注射薬）；バルプロ酸ナトリウム注射薬（バルプロ酸ナトリウム）；バプリゾール（コ��バプタンＨｃｌ注射薬）；ＶＡＱＴＡ；バソビスト（ガドホスベセット三ナトリウム静注用）；ベクティビックス（パニツムマブ静注用）；ヴェノファー（含糖酸化鉄注射薬）；ベルテポルフィン注射薬（ビスダイン）；ヴィバティブ（テラバンシン注射用）；ビクトーザ（リラグルチド［ｒＤＮＡ］注射薬）；ビンパット（ラコサミド錠及び注射薬）；ビンブラスチン硫酸塩（ビンブラスチン硫酸塩注射薬）；Ｖｉｎｃａｓａｒ  ＰＦＳ（ビンクリスチン硫酸塩注射薬）；ビクトーザ；ビンクリスチン硫酸塩（ビンクリスチン硫酸塩注射薬）；ビスダイン（ベルテポルフィン注射薬）；ビタミンＢ−１２；ビビトロル（ナルトレキソンＸＲ注射薬）；ボルベン（塩化ナトリウム中ヒドロキシエチルデンプン（Ｈｙｄｒｏｘｙｅｔｈｙｌ  Ｓｔａｒｃｈ  ｉｎ  Ｓｏｄｉｕｍ  Ｃｈｌｏｒｉｄｅ）注射薬）；ゼローダ；ゼニカル（オルリスタット）；Ｘｅｏｍｉｎ（インコボツリナムトキシンＡ注射用）；ゾレア；ザンタック注射薬（ラニチジン塩酸塩注射薬）；Ｚｅｍｐｌａｒ注射薬（パリカルシトール注射薬フリップトップ型バイアル）；Ｚｅｍｕｒｏｎ（ロクロニウム臭化物注射薬）；ゼナパックス（ダクリズマブ）；ゼバリン；ジドブジン注射薬（レトロビルＩＶ）；ジスロマック注射薬（アジスロマイシン）；Ｚｎ−ジエチレントリアミン五酢酸（ペンテト酸亜鉛三ナトリウム注射薬）；ゾフラン注射薬（オンダンセトロン塩酸注射薬）；Ｚｉｎｇｏ；ゾレドロン酸注射用（ゾメタ）；ゾレドロン酸注射薬（リクラスト）；ゾメタ（ゾレドロン酸注射用）；ゾシン（ピペラシリン及びタゾバクタム注射薬）；Ｚｙｐｒｅｘａ  Ｒｅｌｐｒｅｖｖ（徐放性オランザピン懸濁注射液）
液剤（非注射型）
エビリファイ；ＡｃｃｕＮｅｂ（アルブテロール硫酸塩吸入液）；Ａｃｔｉｄｏｓｅ  Ａｑｕａ（薬用炭懸濁液）；薬用炭懸濁液（Ａｃｔｉｄｏｓｅ  Ａｑｕａ）；アドベア；Ａｇｅｎｅｒａｓｅ経口液（アンプレナビル経口液）；Ａｋｔｅｎ（リドカイン塩酸塩眼用ゲル）；Ａｌａｍａｓｔ（ペミロラストカリウム点眼液）；アルブミン（ヒト）５％溶液（ブミネート５％）；アルブテロール硫酸塩吸入液；Ａｌｉｎｉａ；Ａｌｏｃｒｉｌ；アルファガン；Ａｌｒｅｘ；オルベスコ；アンプレナビル経口液；Ａｎａｌｐｒａｍ−ＨＣ；アルフォルモテロール酒石酸塩吸入液（Ｂｒｏｖａｎａ）；アリストスパン注射薬２０ｍｇ（トリアムシノロンヘキサアセトニド懸濁注射液）；アサコール；アズマネックス；Ａｓｔｅｐｒｏ；Ａｓｔｅｐｒｏ（アゼラスチン塩酸塩鼻用スプレー）；アトロベント鼻用スプレー（臭化イプラトロピウム鼻用スプレー）；アトロベント鼻用スプレー．０６；オーグメンチンＥＳ−６００；Ａｚａｓｉｔｅ（アジスロマイシン点眼液）；アゼライン酸（Ｆｉｎａｃｅａゲル）；アゼラスチン塩酸塩鼻用スプレー（Ａｓｔｅｐｒｏ）；Ａｚｅｌｅｘ（アゼライン酸クリーム）；エイゾプト（ブリンゾラミド懸濁性点眼液）；静菌性生理食塩水（Ｂａｃｔｅｒｉｏｓｔａｔｉｃ  Ｓａｌｉｎｅ）；平衡塩類（ｂａｌａｎｃｅｄ  ｓａｌｔ）；ベポタスチン；バクトロバン鼻腔用；バクトロバン；Ｂｅｃｌｏｖｅｎｔ；Ｂｅｎｚａｃ  Ｗ；Ｂｅｔｉｍｏｌ；ベトプティックエス；Ｂｅｐｒｅｖｅ；ビマトプロスト点眼液；Ｂｌｅｐｈ  １０（スルファセタミドナトリウム点眼液１０％）；ブリンゾラミド懸濁性点眼液（エイゾプト）；ブロムフェナク点眼液（Ｘｉｂｒｏｍ）；Ｂｒｏｍｈｉｓｔ；Ｂｒｏｖａｎａ（アルフォルモテロール酒石酸塩吸入液）；ブデソニド吸入用懸濁液（パルミコート吸入液）；Ｃａｍｂｉａ（ジクロフェナクカリウム経口液用）；Ｃａｐｅｘ；Ｃａｒａｃ；Ｃａｒｂｏｘｉｎｅ−ＰＳＥ；Ｃａｒｎｉｔｏｒ；Ｃａｙｓｔｏｎ（アズトレオナム吸入液用）；セルセプト；Ｃｅｎｔａｎｙ；Ｃｅｒｕｍｅｎｅｘ；Ｃｉｌｏｘａｎ点眼液（シプロフロキサシンＨＣＬ点眼液）；Ｃｉｐｒｏｄｅｘ；シプロフロキサシンＨＣＬ点眼液（Ｃｉｌｏｘａｎ点眼液）；クレマスチンフマル酸塩シロップ（クレマスチンフマル酸塩シロップ）；ＣｏＬｙｔｅ（ＰＥＧ電解質溶液）；Ｃｏｍｂｉｖｅｎ；コムタン；Ｃｏｎｄｙｌｏｘ；Ｃｏｒｄｒａｎ；Ｃｏｒｔｉｓｐｏｒｉｎ懸濁性点眼液；Ｃｏｒｔｉｓｐｏｒｉｎ耳用懸濁液；クロモリンナトリウム吸入液（Ｉｎｔａｌ  Ｎｅｂｕｌｉｚｅｒ溶液）；クロモリンナトリウム点眼液（Ｏｐｔｉｃｒｏｍ）；電解質加結晶アミノ酸溶液（Ｃｒｙｓｔａｌｌｉｎｅ  Ａｍｉｎｏ  Ａｃｉｄ  Ｓｏｌｕｔｉｏｎ  ｗｉｔｈ  Ｅｌｅｃｔｒｏｌｙｔｅｓ）（Ａｍｉｎｏｓｙｎ電解質）；Ｃｕｔｉｖａｔｅ；Ｃｕｖｐｏｓａ（グリコピロレート経口液）；シアノコバラミン（ＣａｌｏＭｉｓｔ鼻用スプレー）；サイクロスポリン経口液（Ｇｅｎｇｒａｆ経口液）；サイクロジル；Ｃｙｓｖｉｅｗ（ヘキサミノレブリナート塩酸塩膀胱内溶液（Ｉｎｔｒａｖｅｓｉｃａｌ  Ｓｏｌｕｔｉｏｎ））；ＤｅｒｍＯｔｉｃオイル（フルオシノロンアセトニドオイル点耳薬（Ｏｉ���  Ｅａｒ  Ｄｒｏｐｓ））；デスモプレシン酢酸塩鼻用スプレー；ＤＤＡＶＰ；Ｄｅｒｍａ−Ｓｍｏｏｔｈｅ／ＦＳ；デキサメサゾンＩｎｔｅｎｓｏｌ；ダイアニール低カルシウム；ダイアニールＰＤ；ジクロフェナクカリウム経口液用（Ｃａｍｂｉａ）；ジダノシン小児用散経口液用（ヴァイデックス）；ディフェリン；ディランチン１２５（フェニトイン経口懸濁液）；Ｄｉｔｒｏｐａｎ；ドルゾラミド塩酸塩点眼液（トルソプト）；ドルゾラミド塩酸塩−チモロールマレイン酸塩点眼液（コソプト）；ドボネックススカルプ（Ｓｃａｌｐ）（カルシポトリエン溶液）；ドキシサイクリンカルシウム経口懸濁液（ビブラマイシン経口用）；Ｅｆｕｄｅｘ；エラプレース（イデュルスルファーゼ溶液）；Ｅｌｅｓｔａｔ（エピナスチンＨＣｌ点眼液）；Ｅｌｏｃｏｎ；エピナスチンＨＣｌ点眼液（Ｅｌｅｓｔａｔ）；エピビルＨＢＶ；Ｅｐｏｇｅｎ（エポエチンアルファ）；エリスロマイシン局所用液１．５％（Ｓｔａｔｉｃｉｎ）；Ｅｔｈｉｏｄｏｌ（エチオダイズド油）；エトスクシミド経口液（ザロンチン経口液）；オイラックス；Ｅｘｔｒａｎｅａｌ（イコデキストリン腹膜透析溶液）；Ｆｅｌｂａｔｏｌ；フェリデックスＩ．Ｖ．（フェルモキシデス注射可能溶液）；Ｆｌｏｖｅｎｔ；Ｆｌｏｘｉｎ耳用薬（オフロキサシン耳科用液）；Ｆｌｏ−Ｐｒｅｄ（プレドニゾロン酢酸エステル経口懸濁液）；Ｆｌｕｏｒｏｐｌｅｘ；フルニソリド点鼻液（フルニソリド鼻用スプレー．０２５％）；フルオロメトロン懸濁性点眼液（ＦＭＬ）；フルルビプロフェンナトリウム点眼液（Ｏｃｕｆｅｎ）；ＦＭＬ；Ｆｏｒａｄｉｌ；フマル酸ホルモテロール吸入液（Ｐｅｒｆｏｒｏｍｉｓｔ）；フォサマックス；フラダンチン（ニトロフラントイン経口懸濁液）；フロキソン；ガンマガード液（静注用免疫グロブリン（ヒト）１０％）；ガントリシン（アセチルスルフイソキサゾール小児用懸濁液）；ガチフロキサシン点眼液（Ｚｙｍａｒ）；Ｇｅｎｇｒａｆ経口液（サイクロスポリン経口液）；グリコピロレート経口液（Ｃｕｖｐｏｓａ）；ハルシノニド局所用液（Ｈａｌｏｇ溶液）；Ｈａｌｏｇ溶液（ハルシノニド局所用液）；ＨＥＰ−ＬＯＣＫ  Ｕ／Ｐ（防腐剤無添加ヘパリンロック用フラッシュ液）；ヘパリンロック用フラッシュ液（Ｈｅｐｆｌｕｓｈ  １０；ヘキサミノレブリナート塩酸塩膀胱内溶液（Ｉｎｔｒａｖｅｓｉｃａｌ  Ｓｏｌｕｔｉｏｎ）（Ｃｙｓｖｉｅｗ）；酒石酸水素ヒドロコドン及びアセトアミノフェン経口液（Ｌｏｒｔａｂ  Ｅｌｉｘｉｒ）；ヒドロキノン３％局所用液（Ｍｅｌｑｕｉｎ−３局所用液）；ＩＡＰ拮抗薬；Ｉｓｏｐｔｏ；臭化イプラトロピウム鼻用スプレー（アトロベント鼻用スプレー）；イトラコナゾール経口液（スポラノックス経口液）；ケトロラクトロメタミン点眼液（Ａｃｕｌａｒ  ＬＳ）；カレトラ；ラノキシン；レクシヴァ；ロイプロリド酢酸塩デポー懸濁液用（ルプロンデポ１１．２５ｍｇ）；レボベタキソロール塩酸塩懸濁性点眼液（ベタキソン）；レボカルニチン錠、経口液、無糖（Ｃａｒｎｉｔｏｒ）；レボフロキサシン点眼液０．５％（Ｑｕｉｘｉｎ）；リドカインＨＣｌ無菌液（キシロカインＭＰＦ無菌液）；Ｌｏｋ  Ｐａｋ（ヘパリンロック用フラッシュ液）；ロラゼパムＩｎｔｅｎｓｏｌ；Ｌｏｒｔａｂ  Ｅｌｉｘｉｒ（酒石酸水素ヒドロコドン及びアセトアミノフェン経口液）；Ｌｏｔｅｍａｘ（エタボン酸ロテプレドノール懸濁性点眼液）；エタボン酸ロテプレドノール懸濁性点眼液（Ａｌｒｅｘ）；低カルシウム腹膜透析溶液（ダイアニール低カルシウム）；ルミガン（ビマトプロスト点眼液０．０３％緑内障用）；ルプロンデポ１１．２５ｍｇ（ロイプロリド酢酸塩デポー懸濁液用）；メゲストロール酢酸塩経口懸濁液（メゲストロール酢酸塩経口懸濁液）；ＭＥＫ阻害薬；Ｍｅｐｒｏｎ；Ｍｅｓｎｅｘ；メスチノン；メサラミン注腸剤（Ｒｅｃｔａｌ  Ｓｕｓｐｅｎｓｉｏｎ  Ｅｎｅｍａ）（Ｒｏｗａｓａ）；Ｍｅｌｑｕｉｎ−３局所用液（ヒドロキノン３％局所用液）；ＭｅｔＭａｂ；メチルドーパートＨｃｌ（メチルドーパート塩酸塩注射薬、溶液）；Ｍｅｔｈｙｌｉｎ経口液（メチルフェニデートＨＣｌ経口液５ｍｇ／５ｍＬ及び１０ｍｇ／５ｍＬ）；酢酸メチルプレドニゾロン懸濁注射液（デポメロドール）；メチルフェニデートＨＣｌ経口液５ｍｇ／５ｍＬ及び１０ｍｇ／５ｍＬ（Ｍｅｔｈｙｌｉｎ経口液）；コハク酸メチルプレドニゾロンナトリウム（ソルメドロール）；メチプラノロール点眼液（Ｏｐｔｉｐｒａｎｏｌｏｌ）；Ｍｉｇｒａｎａｌ；Ｍｉｏｃｈｏｌ−Ｅ（アセチルコリン塩化物眼内溶液（Ｉｎｔｒａｏｃｕｌａｒ  Ｓｏｌｕｔｉｏｎ））；Ｍｉｃｒｏ−Ｋ液体懸濁液用（塩化カリウム徐放製剤液体懸濁液用）；ミノシン（ミノサイクリン塩酸経口懸濁液）；ナサコート；ネオマイシン硫酸塩及びポリミキシンＢ硫酸塩及びヒドロコルチゾン；ネパフェナク懸濁性点眼液（ネバナック）；ネバナック（ネパフェナク懸濁性点眼液）；ニトロフラントイン経口懸濁液（フラダンチン）；Ｎｏｘａｆｉｌ（ポサコナゾール経口懸濁液）；ニスタチン（経口）（ニスタチン経口懸濁液）；ニスタチン経口懸濁液（ニスタチン（経口））；Ｏｃｕｆｅｎ（フルルビプロフェンナトリウム点眼液）；オフロキサシン点眼液（オフロキサシン点眼液）；オフロキサシン耳科用液（Ｆｌｏｘｉｎ耳用薬）；オロパタジン塩酸点眼液（Ｐａｔａｄａｙ）；Ｏｐｔｉｃｒｏｍ（クロモリンナトリウム点眼液）；Ｏｐｔｉｐｒａｎｏｌｏｌ（メチプラノロール点眼液）；パタノール；Ｐｅｄｉａｐｒｅｄ；ＰｅｒｉｏＧａｒｄ；フェニトイン経口懸濁液（ディランチン１２５）；Ｐｈｉｓｏｈｅｘ；ポサコナゾール経口懸濁液（Ｎｏｘａｆｉｌ）；塩化カリウム徐放製剤液体懸濁液用（Ｍｉｃｒｏ−Ｋ液体懸濁液用）；Ｐａｔａｄａｙ（オロパタジン塩酸点眼液）；Ｐａｔａｎａｓｅ鼻用スプレー（オロパタジン塩酸鼻用スプレー）；ＰＥＧ電解質溶液（ＣｏＬｙｔｅ）；ペミロラストカリウム点眼液（Ａｌａｍａｓｔ）；Ｐｅｎｌａｃ（シクロピロクス局所用液）；ＰＥＮＮＳＡＩＤ（ジクロフェナクナトリウム局所用液）；Ｐｅｒｆｏｒｏｍｉｓｔ（フマル酸ホルモテロール吸入液）；腹膜透析溶液；フェニレフリン塩酸塩点眼液（ネオシネフリン）；フォスフォリンアイオダイド（エコチオパートヨウ化物点眼液用）；ポドフィロックス（ポドフィロックス局所用液）；Ｐｒｅｄ  Ｆｏｒｔｅ（プレドニゾロン酢酸エステル懸濁性点眼液）；プララトレキサート溶液静注��（フォロチン）；Ｐｒｅｄ  Ｍｉｌｄ；Ｐｒｅｄｎｉｓｏｎｅ  Ｉｎｔｅｎｓｏｌ；プレドニゾロン酢酸エステル懸濁性点眼液（Ｐｒｅｄ  Ｆｏｒｔｅ）；プレバシド；ＰｒｉｓｍａＳｏｌ溶液（滅菌血液濾過（Ｓｔｅｒｉｌｅ  Ｈｅｍｏｆｉｌｔｒａｔｉｏｎ）血液濾過透析溶液（Ｈｅｍｏｄｉａｆｉｌｔｒａｔｉｏｎ  Ｓｏｌｕｔｉｏｎ））；プロエアー；Ｐｒｏｇｌｙｃｅｍ；プロハンス（ガドテリドール注射薬溶液）；塩酸プロパラカイン点眼液（Ａｌｃａｉｎｅ）；Ｐｒｏｐｉｎｅ；パルミコート；プルモザイム；Ｑｕｉｘｉｎ（レボフロキサシン点眼液０．５％）；ＱＶＡＲ；ラパミューン；レベトール；Ｒｅｌａｃｏｎ−ＨＣ；ロタリックス（経口生ロタウイルスワクチン懸濁液）；経口生ロタウイルスワクチン懸濁液（ロタリックス）；Ｒｏｗａｓａ（メサラミン注腸剤（Ｒｅｃｔａｌ  Ｓｕｓｐｅｎｓｉｏｎ  Ｅｎｅｍａ））；サブリル（ビガバトリン経口液）；サクロシダーゼ経口液（Ｓｕｃｒａｉｄ）；サンディミュン；Ｓｅｐｒａ；Ｓｅｒｅｖｅｎｔ  Ｄｉｓｋｕｓ；ソルコーテフ（ヒドロコルチゾンコハク酸エステルナトリウム）；ソルメドロール（コハク酸メチルプレドニゾロンナトリウム）；スピリーバ；スポラノックス経口液（イトラコナゾール経口液）；Ｓｔａｔｉｃｉｎ（エリスロマイシン局所用液１．５％）；スタレボ；Ｓｔａｒｌｉｘ；滅菌血液濾過（Ｓｔｅｒｉｌｅ  Ｈｅｍｏｆｉｌｔｒａｔｉｏｎ）血液濾過透析溶液（Ｈｅｍｏｄｉａｆｉｌｔｒａｔｉｏｎ  Ｓｏｌｕｔｉｏｎ）（ＰｒｉｓｍａＳｏｌ溶液）；Ｓｔｉｍａｔｅ；スクラルファート（カラファート懸濁液）；スルファセタミドナトリウム点眼液１０％（Ｂｌｅｐｈ  １０；Ｓｙｎａｒｅｌ点鼻液（子宮内膜症用酢酸ナファレリン点鼻液）；Ｔａｃｌｏｎｅｘ  Ｓｃａｌｐ（カルシポトリエン及びジプロピオン酸ベタメタゾン局所懸濁液（Ｔｏｐｉｃａｌ  Ｓｕｓｐｅｎｓｉｏｎ））；タミフル；トービイ；ＴｏｂｒａＤｅｘ；Ｔｏｂｒａｄｅｘ  ＳＴ（トブラマイシン／デキサメサゾン懸濁性点眼液０．３％／０．０５％）；トブラマイシン／デキサメサゾン懸濁性点眼液０．３％／０．０５％（Ｔｏｂｒａｄｅｘ  ＳＴ）；チモロール；Ｔｉｍｏｐｔｉｃ；トラバタンズ；トレプロスチニル吸入液（Ｔｙｖａｓｏ）；トルソプト（ドルゾラミド塩酸塩点眼液）；Ｔｙｖａｓｏ（トレプロスチニル吸入液）；ベントリン；ブイフェンド；ビブラマイ
シン経口用（ドキシサイクリンカルシウム経口懸濁液）；ヴァイデックス（ジダノシン小児用散経口液用）；ビガバトリン経口液（サブリル）；Ｖｉｏｋａｓｅ；ビラセプト；ビラミューン；ビタミンＫ１（ビタミンＫ１の流体コロイド溶液）；ボルタレン眼科用薬（ジクロフェナクナトリウム点眼液）；ザロンチン経口液（エトスクシミド経口液）；ザイアジェン；ザイボックス；Ｚｙｍａｒ（ガチフロキサシン点眼液）；Ｚｙｍａｘｉｄ（ガチフロキサシン点眼液）
薬物分類
５α還元酵素阻害薬；５−アミノサリチル酸塩；５ＨＴ３受容体拮抗薬；アダマンタン抗ウイルス薬；副腎皮質ステロイド；副腎皮質ホルモン阻害薬；アドレナリン作動性気管支拡張薬；高血圧性緊急疾患用薬剤；肺高血圧症用薬剤；アルドステロン受容体拮抗薬；アルキル化薬；αアドレナリン受容体拮抗薬；αグルコシダーゼ阻害薬；代替薬；殺アメーバ薬；アミノグリコシド；アミノペニシリン類；アミノサリチル酸塩；アミリン類似体；鎮痛薬配合剤；鎮痛薬；アンドロゲン及びアナボリックステロイド；アンジオテンシン変換酵素阻害薬；アンジオテンシンＩＩ阻害薬；肛門直腸製剤；食欲抑制薬；制酸薬；駆虫薬；抗血管原性眼用薬；抗ＣＴＬＡ−４モノクローナル抗体；感染症薬；抗アドレナリン作動薬、中枢作用型；抗アドレナリン作動薬、末梢作用型；抗アンドロゲン薬；抗狭心症薬；抗不整脈薬；抗喘息薬配合剤；抗生物質／抗腫瘍薬；抗コリン性制吐剤；抗コリン性抗パーキンソン薬；抗コリン性気管支拡張薬；抗コリン性変時性薬（ａｎｔｉｃｈｏｌｉｎｅｒｇｉｃ  ｃｈｒｏｎｏｔｒｏｐｉｃ  ａｇｅｎｔｓ）；抗コリン作動薬／鎮痙薬；凝固阻止剤；抗痙攣薬；抗うつ薬；抗糖尿病薬；抗糖尿病薬配合剤；止瀉薬；抗利尿ホルモン；解毒薬；制吐薬／抗暈眩薬；抗真菌薬；抗ゴナドトロピン薬；痛風治療薬；抗ヒスタミン薬；高脂血症用薬；高脂血症用配合剤；降圧配合剤；尿酸降下薬；抗マラリア薬；抗マラリア薬配合剤；抗マラリア薬キノリン類；代謝拮抗薬；抗片頭痛薬；抗腫瘍性解毒剤；抗腫瘍性インターフェロン；抗腫瘍性モノクローナル抗体；抗腫瘍薬；抗パーキンソン薬；抗血小板薬；抗緑膿菌ペニシリン系薬；抗乾癬薬；抗精神病薬；抗リウマチ薬；防腐薬及び殺菌薬；抗甲状腺薬；抗毒素及び抗蛇毒素；抗結核薬；抗結核薬配合剤；鎮咳薬；抗ウイルス薬；抗ウイルス配合剤；抗ウイルスインターフェロン；抗不安薬、鎮静薬、及び催眠薬；アロマターゼ阻害薬；非定型抗精神病薬；アゾ−ル抗真菌薬；細菌性ワクチン；バルビツール酸系抗痙攣薬；バルビツール薬；ＢＣＲ−ＡＢＬチロシンナーゼ阻害薬；ベンゾジアゼピン系抗痙攣薬；ベンゾジアゼピン；βアドレナリン遮断薬；βラクタマーゼ阻害薬；胆汁酸金属イオン封鎖剤；生物学的製剤；ビスホスホネート製剤；骨吸収阻害薬；気管支拡張薬配合剤；気管支拡張薬；カルシトニン；カルシウムチャネル遮断薬；カルバメート系抗痙攣薬；カルバペネム；炭酸脱水酵素阻害抗痙攣薬；炭酸脱水酵素阻害薬；心緊張薬（ｃａｒｄｉａｃ  ｓｔｒｅｓｓｉｎｇ  ａｇｅｎｔｓ）；心選択性β遮断薬；心血管作動薬；カテコールアミン；ＣＤ２０モノクローナル抗体；ＣＤ３３モノクローナル抗体；ＣＤ５２モノクローナル抗体；中枢神経系薬；セファロスポリン；耳垢水；キレート剤；ケモカイン受容体拮抗薬；クロライドチャネルアクチベーター；コレステロール吸収阻害薬；コリン作動薬；コリン作動性筋興奮薬；コリンエステラーゼ阻害薬；中枢興奮薬；凝固調整剤；コロニー刺激因子；避妊薬；副腎皮質刺激ホルモン；クマリン類及びインダンジオン類；ｃｏｘ−２阻害薬；充血除去薬；外皮用薬；診断的放射性医薬品；ジベンザゼピン系抗痙攣薬；消化酵素；ジペプチジルペプチダーゼ４阻害薬；利尿薬；ドパミン作用性抗���ーキンソン薬；アルコール依存性に使用される薬物；エキノカンジン；ＥＧＦＲ阻害薬；エストロゲン受容体拮抗薬；エストロゲン；去痰薬；第Ｘａ因子阻害剤；脂肪酸誘導体抗痙攣薬；フィブリン酸誘導体；第１世代セファロスポリン；第４世代セファロスポリン；機能性腸疾患薬；胆石可溶化薬（ｇａｌｌｓｔｏｎｅ  ｓｏｌｕｂｉｌｉｚｉｎｇ  ａｇｅｎｔｓ）；ＧＡＢＡ類似体；ＧＡＢＡ再取り込み阻害薬；ＧＡＢＡトランスアミナーゼ阻害薬；胃腸薬；全身麻酔薬；尿生殖路薬（ｇｅｎｉｔｏｕｒｉｎａｒｙ  ｔｒａｃｔ  ａｇｅｎｔｓ）；胃腸刺激薬；グルココルチコイド；グルコース上昇剤（ｇｌｕｃｏｓｅ  ｅｌｅｖａｔｉｎｇ  ａｇｅｎｔｓ）；グリコペプチド系抗生物質；糖タンパク質血小板阻害薬（ｇｌｙｃｏｐｒｏｔｅｉｎ  ｐｌａｔｅｌｅｔ  ｉｎｈｉｂｉｔｏｒｓ）；グリシルシクリン類；ゴナドトロピン放出ホルモン；ゴナドトロピン放出ホルモン拮抗薬；ゴナドトロピン；Ｉ群抗不整脈薬；ＩＩ群抗不整脈薬；ＩＩＩ群抗不整脈薬；ＩＶ群抗不整脈薬；Ｖ群抗不整脈薬；成長ホルモン受容体遮断薬；成長ホルモン；ヘリコバクターピロリ除菌薬；Ｈ２拮抗薬；造血幹細胞モビライザー（ｍｏｂｉｌｉｚｅｒ）；へパリン拮抗薬；へパリン；ＨＥＲ２阻害薬；植物製品；ヒストン脱アセチル化酵素阻害薬；ホルモン補充療法；ホルモン；ホルモン／抗腫瘍薬；ヒダントイン系抗痙攣薬；違法（ストリート）薬物；免疫グロブリン；免疫薬；免疫抑制薬；インポテンス薬；インビボ診断生物学的製剤；インクレチンミメティクス；吸入感染症薬（ｉｎｈａｌｅｄ  ａｎｔｉ−ｉｎｆｅｃｔｉｖｅｓ）；吸入コルチコステロイド；強心薬；インスリン；インスリン様増殖因子；インテグラーゼ鎖移転阻害薬；インターフェロン；静脈内栄養製品（ｉｎｔｒａｖｅｎｏｕｓ  ｎｕｔｒｉｔｉｏｎａｌ  ｐｒｏｄｕｃｔｓ）；ヨード造影剤；イオン化ヨード造影剤；鉄製品；ケトライド類；緩下薬；鎮癩薬；ロイコトリエン調整剤；リンコマイシン誘導体；脂質化グリコペプチド；局所注射麻酔薬；ループ利尿薬；肺表面活性剤；リンパ管染色剤；リソソーム酵素；マクロライド誘導体；マクロライド類；磁気共鳴イメージング造影剤；肥満細胞安定化剤；医療ガス；メグリチニド類；代謝薬；メチルキサンチン類；ミネラルコルチコイド；ミネラル及び電解質；その他薬剤；その他鎮痛薬；その他抗生物質；その他抗痙攣薬；その他抗うつ薬；その他抗糖尿病薬；その他制吐剤；その他抗真菌薬；その他高脂血症用薬；その他抗マラリア薬；その他抗腫瘍薬；その他抗パーキンソン薬；その他抗精神病薬；その他抗結核薬；その他抗ウイルス薬；その他抗不安薬、鎮静薬及び催眠薬；その他生物学的製剤；その他骨吸収阻害薬；その他心血管作動薬；その他中枢神経系薬；その他凝固調整剤；その他利尿薬；その他尿生殖路薬；その他ＧＩ薬；その他ホルモン；その他代謝薬；その他眼用薬；その他耳用薬；その他呼吸薬；その他性ホルモン；その他局所薬；その他未分類薬；その他腟用薬（ｖａｇｉｎａｌ  ａｇｅｎｔｓ）；有糸分裂阻害薬；モノアミン酸化酵素阻害薬；モノクローナル抗体；口及び咽喉製品（ｍｏｕｔｈ  ａｎｄ  ｔｈｒｏａｔ  ｐｒｏｄｕｃｔｓ）；ｍＴＯＲ阻害薬；ｍＴＯＲキナーゼ阻害薬���粘液溶解薬；マルチキナーゼ阻害薬；筋弛緩薬；散瞳薬麻薬性鎮痛薬配合剤；麻薬性鎮痛薬；鼻用感染症薬；鼻用抗ヒスタミン薬及び充血除去薬；鼻用潤滑剤及び灌注剤；鼻用製剤；鼻用ステロイド；天然ペニシリン系薬；ノイラミニダーゼ阻害薬；神経筋遮断薬；次世代セファロスポリン；ニコチン酸誘導体；硝酸薬；ＮＮＲＴＩｓ；非心選択性β遮断薬；非ヨード造影剤；非イオン性ヨード造影剤；非スルホニル尿素；非ステロイド性抗炎症薬；ノルエピネフィリン再取り込み阻害薬；ノルエピネフィリン−ドパミン再取り込み阻害薬；ヌクレオシド系逆転写酵素阻害薬（ＮＲＴＩｓ）；栄養補助食品；栄養製品；眼用麻酔薬；眼用感染症薬；眼用抗炎症薬；眼用抗ヒスタミン薬及び充血除去薬；眼用診断用薬；眼用緑内障薬；眼用潤滑剤及び灌注剤；眼用製剤；眼用ステロイド；感染症薬追加眼用ステロイド；眼外科薬（ｏｐｈｔｈａｌｍｉｃ  ｓｕｒｇｉｃａｌ  ａｇｅｎｔｓ）；経口栄養補助食；耳用麻酔薬；耳用感染症薬；耳用製剤；耳用ステロイド；感染症薬追加耳用ステロイド；オキサゾリジンジオン系抗痙攣薬；上皮小体ホルモン及び類似体；ペニシリナーゼ耐性ペニシリン；ペニシリン系薬；末梢性オピオイド受容体拮抗薬；末梢性血管拡張薬；末梢作用型抗肥満薬；フェノチアジン制吐剤；フェノチアジン系抗精神病薬；フェニルピペラジン系抗うつ薬；血漿増量剤；血小板凝集阻害薬；血小板刺激剤；ポリエン類；カリウム保持性利尿薬；プロバイオティクス；黄体ホルモン受容体調節薬；プロゲスチン；プロラクチン阻害薬；プロスタグランジンＤ２拮抗薬；タンパク分解酵素阻害薬；プロトンポンプ阻害薬；ソラレン類；精神治療薬；精神治療用複合剤（ｐｓｙｃｈｏｔｈｅｒａｐｅｕｔｉｃ  ｃｏｍｂｉｎａｔｉｏｎｓ）；プリンヌクレオシド；ピロリジン抗痙攣薬；キノロン剤；造影剤；放射線補助剤（ｒａｄｉｏｌｏｇｉｃ  ａｄｊｕｎｃｔｓ）；放射線剤；放射線共役剤（ｒａｄｉｏｌｏｇｉｃ  ｃｏｎｊｕｇａｔｉｎｇ  ａｇｅｎｔｓ）；放射性医薬品；ＲＡＮＫリガンド阻害薬；遺伝子組換えヒトエリスロポエチン；レニン阻害薬；呼吸薬；呼吸吸入薬製品（ｒｅｓｐｉｒａｔｏｒｙ  ｉｎｈａｌａｎｔ  ｐｒｏｄｕｃｔｓ）；リファマイシン誘導体；サリチル酸塩；硬化剤；第２世代セファロスポリン；選択的エストロゲン受容体調節薬；選択的セロトニン再取り込み阻害薬；セロトニン−ノルエピネフィリン再取り込み阻害薬；セロトニン作動性神経腸調節薬；性ホルモン複合剤；性ホルモン；骨格筋弛緩薬複合剤；骨格筋弛緩薬；禁煙薬；ソマトスタチン及びソマトスタチン類似体；殺精子剤；スタチン；滅菌洗浄溶液（ｓｔｅｒｉｌｅ  ｉｒｒｉｇａｔｉｎｇ  ｓｏｌｕｔｉｏｎｓ）；ストレプトミセス誘導体；スクシンイミド抗痙攣薬；スルホンアミド；スルホニル尿素；合成排卵誘発剤；四環系抗うつ薬；テトラサイクリン；治療用放射性医薬品；サイアザイド系利尿薬；チアゾリジンジオン類；チオキサンテン；第３世代セファロスポリン；トロンビン阻害剤；血栓溶解薬；甲状腺剤；陣痛抑制薬；局所座瘡薬；局所薬；局所麻酔薬；局所感染症薬；局所抗生物質；局所抗真菌薬；局所抗ヒスタミン薬；局所抗乾癬薬；局所抗ウイルス薬；局所収斂薬；局所排膿促進薬；局所脱色剤；局所皮膚軟化薬；局所角質溶解薬；局所ステロイド；感染症薬追加局所ステロイド；トキソイド；トリアジン抗痙攣薬；三環系抗うつ薬；三官能性モノクローナル抗体；腫瘍壊死因子（ＴＮＦ）阻害薬；チロシンナーゼ阻害薬；超音波造影剤；上気道用複合剤（ｕｐｐｅｒ  ｒｅｓｐｉｒａｔｏｒｙ  ｃｏｍｂｉｎａｔｉｏｎｓ）；尿素抗痙攣薬（ｕｒｅａ  ａｎｔｉｃｏｎｖｕｌｓａｎｔｓ）；尿路感染症薬；尿路鎮痙薬；尿ｐＨ調整剤；子宮収縮薬；ワクチン；混合ワクチン；腟抗感染薬；膣坐剤；血管拡張薬；バソプレッシン拮抗薬；昇圧薬；ＶＥＧＦ／ＶＥＧＦＲ阻害薬；ウイルス性ワクチン；関節内補充薬；ビタミンミネラル複合体；ビタミン
診断試験
１７−ヒドロキシプロゲステロン；ＡＣＥ（アンジオテンシンＩ変換酵素）；アセトアミノフェン；酸性ホスファターゼ；副腎皮質刺激ホルモン；活性凝固時間；活性化プロテインＣ耐性；副腎皮質刺激ホルモン（ＡＣＴＨ）；アラニンアミノトランスフェラーゼ（ＡＬＴ）；アルブミン；アルドラーゼ；アルドステロン；アルカリフォスファターゼ；アルカリフォスファターゼ（ＡＬＰ）；α１−抗トリプシン；α−フェトプロテイン；α−フェトプロティエン（ｆｅｔｏｐｒｏｔｉｅｎ）；アンモニアレベル；アミラーゼ；ＡＮＡ（抗核アントボディ（ａｎｔｉｎｕｃｌｅａｒ  ａｎｔｂｏｄｉｅｓ））；ＡＮＡ（抗核抗体）；アンジオテンシン変換酵素（ＡＣＥ）；アニオンギャップ；抗カルジオリピン抗体；抗カルジオリピンアンティブボディ（ａｎｔｉｖｂｏｄｉｅｓ）（ＡＣＡ）；抗セントロメア抗体；抗利尿ホルモン；抗ＤＮＡ；抗デオキシリボヌクレアーゼＢ；抗グリアジン抗体；抗糸球体基底膜抗体；抗ＨＢｃ（Ｂ型肝炎コア抗体；抗ＨＢｓ（Ｂ型肝炎表面抗体；抗リン脂質抗体；抗ＲＮＡポリメラーゼ；抗スミス（Ｓｍ）抗体；抗平滑筋抗体；抗ストレプトリジンＯ価（ＡＳＯ）；抗トロンビンＩＩＩ；抗Ｘａ活性；抗Ｘａアッセイ；アポリポタンパク；ヒ素；アスパラギン酸アミノトランスフェラーゼ（ＡＳＴ）；Ｂ１２；塩基好性白血球；β２−ミクログロブリン；β−ヒドロキシブチレート；Ｂ−ＨＣＧ；ビリルビン；直接ビリルビン；間接ビリルビン；総ビリルビン；出血時間；血液ガス（動脈性）；血液尿素窒素（ＢＵＮ）；ＢＵＮ；ＢＵＮ（血液尿素窒素）；ＣＡ１２５；ＣＡ１５−３；ＣＡ１９−９；カルシトニン；カルシウム；カルシウム（イオン化）；一酸化炭素（ＣＯ）；癌胎児性抗原（ＣＥＡ）；全血球計算（ＣＢＣ）；ＣＥＡ；ＣＥＡ（癌胎児性抗原）；セルロプラスミン；ＣＨ５０クロライド（ＣＨ５０Ｃｈｌｏｒｉｄｅ）；コレステロール；ＨＤＬコレステロール；血栓溶解時間；血餅退縮時間；ＣＭＰ；ＣＯ2；寒冷凝集素；補体第３成分；銅；副腎皮質刺激ホルモン放出ホルモン（ＣＲＨ）刺激試験；コルチゾル；コートロシン刺激試験；Ｃペプチド；ＣＰＫ（総）；ＣＰＫ−ＭＢ；Ｃ反応性タンパク；クレアチニン；クレアチニンキナーゼ（ＣＫ）；クリオグロブリン；ＤＡＴ（直接抗グロブリン試験）；Ｄダイマー；デキタメタゾン抑制試験；ＤＨＥＡ−Ｓ；希釈ラッセルクサリ蛇毒；楕円赤血球；好酸球；赤血球沈降速度（ＥＳＲ）；エストラジオール；エストリオール；エタノール；エチレングリコール；ユーグロブリン溶解；第Ｖ因子ライデン；第ＶＩＩＩ因子インヒビター；第ＶＩＩＩ因子レベル；フェリチン；フィブリン体分解産物；フィブリノーゲン；葉酸塩；葉酸塩（血清；ナトリウム分画排泄率（ＦＥＮＡ）；ＦＳＨ（卵胞刺激因子）；ＦＴＡ−ＡＢＳ；γグルタミルトランスフェラーゼ（ＧＧＴ）；ガストリン；ＧＧＴＰ（γグルタミルトランスフェラーゼ）；グルコース；成長ホルモン；ハプトグロビン；ＨＢｅＡｇ（Ｂ型肝炎ｅ抗原）；ＨＢｓ−Ａｇ（Ｂ型肝炎表面抗原）；ヘリコバクターピロリ；ヘマトクリット；ヘマトクリット（ＨＣＴ）；ヘモグロビン；ヘモグロビンＡ１Ｃ；ヘモグロビン電気泳動；Ａ型肝炎抗体；Ｃ型肝炎抗体；ＩＡＴ（間接抗���ロブリン試験）；免疫固定法（ＩＦＥ）；鉄；乳酸脱水素酵素（ＬＤＨ）；乳酸（乳酸塩）；ＬＤＨ；ＬＨ（ルーティナイジング（Ｌｅｕｔｉｎｉｚｉｎｇ）ホルモン；リパーゼ；ループス抗凝固因子；リンパ球；マグネシウム；ＭＣＨ（平均赤血球ヘモグロビン量；ＭＣＨＣ（平均赤血球ヘモグロビン濃度）；ＭＣＶ（平均赤血球容積）；マロン酸メチル；単球；ＭＰＶ（平均血小板容積）；ミオグロビン；好中球；上皮小体ホルモン（ＰＴＨ）；リン；血小板（ｐｌｔ）；カリウム；プレアルブミン；プロラクチン；前立腺特異抗原（ＰＳＡ）；タンパク質Ｃ；タンパク質Ｓ；ＰＳＡ（前立腺特異抗原）；ＰＴ（プロトロンビン時間）；ＰＴＴ（部分トロンボプラスチン時間）；ＲＤＷ（赤血球分布幅）；レニン；レンニン；網状赤血球数；網状赤血球；リウマチ因子（ＲＦ）；血沈速度；血清グルタミン酸ピルビン酸トランスアミナーゼ（ＳＧＰＴ；血清タンパク電気泳動（ＳＰＥＰ）；ナトリウム；Ｔ３レジン摂取率（Ｔ３ＲＵ）；フリーＴ４；トロンビン時間；甲状腺刺激ホルモン（ＴＳＨ）；チロキシン（Ｔ４）；全鉄結合能（ＴＩＢＣ）；総タンパク；トランスフェリン；トランスフェリン飽和剤；トリグリセリド（ＴＧ）；トロポニン；尿酸；ビタミンＢ１２；白血球（ＷＢＣ）；ウィダール試験
からなる群から選択される要素又は２つ以上の要素の組み合わせを含む。
【００９７】
いくつかの例として、流体組成物２１８は、吸入麻酔薬、薬物又は診断検査材料とされうる。これら流体組成物２１８のいずれかは、注射可能物質、吸入することが可能な、又はそうでなければ患者に導入することが可能な揮散物質とされうる。
【００９８】
特に図８の実施形態においては、薬剤パッケージ２１０はシリンジである。シリンジはシリンジバレル２５０及びプランジャ２５８を含みうる。壁２１４はシリンジバレル２５０の少なくとも一部を画定しうる。プランジャ２５８は、シリンジの、シリンジバレル２５０に対して相対的に摺動する部品とされうる。用語「シリンジ」は、しかしながら、カートリッジ、「ペン」型注射器、及び１つ又は複数の他の構成要素と組み立てられて機能的なシリンジを提供するようになっている他の種類のバレル又はリザーバを含むよう広く定義される。「シリンジ」は、また、オートインジェクタなどの、内容を分与するための機構を提供する関連物品を含むよう広く定義される。
【００９９】
図８〜１０によって示される本発明の別の態様は、壁２１４と、流体組成物２１８と、複合バリア皮膜又は層２８８と、ｐＨ保護皮膜２８６と、を含む、薬剤パッケージ又は他の容器２１０のいずれかなどの物品である。
【０１００】
流体組成物２１８が直接接触した場合のｐＨ保護皮膜２８６の侵食、溶解又は浸出（関連概念の異なる名称）の速度は、流体組成物２１８が直接接触した場合の複合バリア皮膜又は層２８８の侵食の速度よりも低い。
【０１０１】
ｐＨ保護皮膜２８６は、薬剤パッケージ又は他の容器２１０の保管寿命の間、少なくとも、バリア皮膜がバリアとして機能することを可能にするほど十分な時間、複合バリア皮膜又は層２８８から流体組成物２１８を分離するのに有効である。
【０１０２】
図８〜１０の任意の実施形態は、ｐＨ保護皮膜の内側表面の近傍に塗布された更なる皮膜を更に任意選択的に含みうる。更なる皮膜は、熱可塑性プラスチック壁の内部表面に面する外部表面と、内腔に面する内側表面と、を有する。
【０１０３】
実施例から分かるように、ケイ素溶解速度は、容器からその内容に浸出される総ケイ素を決定することによって測定され、ｐＨ保護皮膜２８６、滑性層２８７、複合バリア皮膜又は層２８８、又は存在する他の物質から由来するケイ素間において区別するものではない。
【０１０４】
任意選択的に、図８〜１０の任意の実施形態においては、容器からｐＨ８の試験組成物への溶解時のｐＨ保護皮膜及びバリア皮膜の総ケイ素含有量は、６６ｐｐｍ未満、又は６０ｐｐｍ未満、又は５０ｐｐｍ未満、又は４０ｐｐｍ未満、又は３０ｐｐｍ未満、又は２０ｐｐｍ未満である。
【０１０５】
任意選択的に、図８〜１０の任意の実施形態においては、パッケージの計算保管寿命（総Ｓｉ／Ｓｉ溶解速度）は、６か月超、又は１年超、又は１８か月超、又は２年超、又は２年半超、又は３年超、又は４年超、又は５年超、又は１０年超、又は２０年超である。任意選択的に、図８〜１０の任意の実施形態においては、パッケージの計算保管寿命（総Ｓｉ／Ｓｉ溶解速度）は６０年未満である。
【０１０６】
図８〜１０の本発明の別の実施形態として、ここで記載した任意の最低時間はここで記載した任意の最大時間と組み合わせることができる。
【０１０７】
ＰＥＣＶＤ装置及びｐＨ保護被覆のための方法
ＳｉＯx、ＳｉＯxＣy又はＳｉＮxＣyの、９０などのバリア又は滑性皮膜又は層を、容器８０（図１）又はバイアルなどの基材に塗布するための適切な方法及び装置については、例えば、米国特許第７，９８５，１８８号明細書又は段落［００２］において引用した欧州出願に、皮膜又は層を形成するのに有効な条件下で記載されている。
【０１０８】
ｐＨ保護皮膜を堆積させるため、例えば以下の標準体積比率を有する前駆体供給物又はプロセスガスが用いられうる。
・０．５〜１０標準体積、任意選択的に、１〜６標準体積、任意選択的に、２〜４標準体積、任意選択的に、６以下の標準体積、任意選択的に、２．５以下の標準体積、任意選択的に、１．５以下の標準体積、任意選択的に、１．２５以下の標準体積の前駆体、例えば、ＯＭＣＴＳ又は任意の実施形態の他の前駆体の１つ。
・０〜１００標準体積、任意選択的に、１〜８０標準体積、任意選択的に、５〜１００標準体積、任意選択的に、１０〜７０標準体積の任意の実施形態のキャリアガス。
・０．１〜１０標準体積、任意選択的に、０．１〜２標準体積、任意選択的に、０．２〜１．５標準体積、任意選択的に、０．２〜１標準体積、任意選択的に、０．５〜１．５標準体積、任意選択的に、０．８〜１．２標準体積の酸化剤。
【０１０９】
別の実施形態は上記プロセスによって作製される種類のｐＨ保護皮膜又は層である。
【０１１０】
別の実施形態は、基材を画定する表面によって画定される内腔を含む容器８０（図１）などの容器である。バリア層を溶解から保護するため、ｐＨ保護皮膜又は層が基材の少なくとも一部上に存在し、通常、ＳｉＯxバリア層上に堆積される。ｐＨ保護皮膜又は層は前に定義されたプロセスによって作製される。
【０１１１】
更に別の実施形態は、図５に示される装置２８（又は図１〜４に示される装置などの、任意の他の示される被覆装置）などの、ｐＨ保護皮膜又は層を基材に塗布するための化学気相成長装置である。
【０１１２】
ここで図５を参照すると、適切な化学気相成長装置が示される。
【０１１３】
図８を参照すると、更に別の実施形態は、プランジャ２５８と、バレル２５０と、内側又は内部表面２６４上のｐＨ保護皮膜又は層と、を含む２５２などのシリンジである。バレル２５０は容器であり、容器内腔２７４を画定し、且つ摺動のためプランジャ２５８を受容する内側又は内部表面２６４を有する。容器内側又は内部表面２６４は基材である。ｐＨ保護皮膜又は層は、化学気相成長によって基材２６４、プランジャ２５８、又はその両方に塗布されうる。このｐＨ保護皮膜又は層に加えて、シリンジは、１つ又は複数の他の皮膜又は層、例えば、ＳｉＯx複合バリア皮膜又は層を含んでもよい。前記更なる皮膜又は層は滑性及び／又は複合バリア皮膜又は層の下、すなわちシリンジのバレルのより近傍に配置されてもよい。
【０１１４】
ＰＥＣＶＤによるｐＨ保護皮膜又は層用の前駆体
複合バリア皮膜又は層及びｐＨ保護層用の有機ケイ素前駆体はＰＥＣＶＤに有用な以下の前駆体のいずれかを含みうる。本発明のＰＥＣＶＤによるｐＨ保護皮膜又は層用の前駆体は有機金属前駆体として広く定義される。有機金属前駆体は、本明細書においては、有機残渣、例えば、炭化水素、アミノカーボン（ａｍｉｎｏｃａｒｂｏｎ）又はオキシカーボン（ｏｘｙｃａｒｂｏｎ）残渣を有する、周期表の第ＩＩＩ族及び／又は第ＩＶ族の金属元素の包含（ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｄｉｎｇ）化合物と定義される。本明細書において定義される有機金属化合物は、ケイ素又は他の第ＩＩＩ族／第ＩＶ族金属原子に直接結合した、又は任意選択的に、酸素又は窒素原子を介して結合した有機部分を有する任意の前駆体を含む。周期表の第ＩＩＩ族の関連元素は、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム、スカンジウム、イットリウム、及びランタンであり、アルミニウム及びホウ素が好適である。周期表の第ＩＶ族の関連元素は、ケイ素、ゲルマニウム、スズ、鉛、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、及びトリウムであり、ケイ素及びスズが好適である。他の揮発性有機化合物も考えられる。しかしながら、本発明の実施には有機ケイ素化合物が好適である。
【０１１５】
有機ケイ素前駆体が考えられる。「有機ケイ素前駆体」は、この明細書全体において、最も広くは、以下の結合の少なくとも１つを有する化合物と定義される。
【化１】
0006488232.tif 000005
【０１１６】
すぐ上に記載した第１の構造は、酸素原子及び有機炭素原子（有機炭素原子は少なくとも１個の水素原子と結合した炭素原子である）に結合した四価ケイ素原子である。すぐ上に記載した第２の構造は、−ＮＨ−結合及び有機炭素原子（有機炭素原子は少なくとも１個の水素原子に結合した炭素原子である）に結合した四価ケイ素原子である。任意選択的に、有機ケイ素前駆体は、直鎖シロキサン、単環シロキサン、多環シロキサン、ポリシルセスキオキサン、直鎖シラザン、単環シラザン、多環シラザン、ポリシルセスキアザン、及びこれら前駆体のいずれか２つ以上の組み合わせからなる群から選択される。また、直前の２つの式内にはないが前駆体として考えられるのはアルキルトリメトキシシランである。
【０１１７】
酸素含有前駆体（ｏｘｙｇｅｎ−ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ  ｐｒｅｃｕｒｓｏｒ）（例えば、シロキサン）を使用する場合、疎水性又は潤滑ｐＨ保護皮膜又は層を形成する条件下でＰＥＣＶＤにより形成される代表的な予測実験組成物は、定義の項に定義されるように、ＳｉwＯxＣyＨz又はその等価のＳｉＯxＣyである一方で、複合バリア皮膜又は層を形成する条件下でＰＥＣＶＤにより形成される代表的な予測実験組成物はＳｉＯxであり、この式におけるｘは約１．５〜約２．４である。窒素含有前駆体（ｎｉｔｒｏｇｅｎ−ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ  ｐｒｅｃｕｒｓｏｒ）（例えば、シラザン）を使用する場合、予測組成物はＳｉw*Ｎx*Ｃy*Ｈz*である。すなわち、定義の項に明記されるように、ＳｉwＯxＣyＨz又はその等価のＳｉＯxＣyにおいては、ＯはＮに置換され、Ｈの指数はＯと比べてより高い原子価のＮ（２ではなく３に適応される。後者の適応は、全般的に、シロキサンにおいては、そのアザ対応物（ａｚａ  ｃｏｕｎｔｅｒｐａｒｔ）の対応する指数に対するｗ、ｘ、ｙ及びｚの比率に従う。本発明の特定の態様においては、Ｓｉw*Ｎx*Ｃy*Ｈz*（又はその等価のＳｉＮx*Ｃy*）であり、ｗ*、ｘ*、ｙ*、及びｚ*がシロキサン対応物のｗ、ｘ、ｙ及びｚと同様に定義されるが、これは水素原子数の任意の偏差のためである。
【０１１８】
上記実験式を有する前駆体出発物質の１つの種類は、直鎖シロキサン、例えば、以下の式を有する物質である。
【化２】
0006488232.tif 000006
式中、各Ｒは、アルキル基、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ビニル、アルキン又はその他から独立して選択され、ｎは１、２、３、４又はそれ以上、任意選択的に、２以上である。考えられる直鎖シロキサンのいくつかの例は、
ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）、
オクタメチルトリシロキサン、
デカメチルテトラシロキサン、
ドデカメチルペンタシロキサン、
又はこれらの２つ以上の組み合わせである。上記構造において−ＮＨ−を酸素原子に置換された類似シラザン類もまた、類似ｐＨ保護皮膜又は層の作製に有用である。考えられる直鎖シラザンのいくつかの例は、オクタメチルトリシラザン、デカメチルテトラシラザン、又はこれら２つ以上の組み合わせである。
【０１１９】
本文脈における好適な出発物質のうち、別の種類の前駆体出発物質は単環シロキサンであり、例えば、以下の構造式を有する物質である。
【化３】
0006488232.tif 000007
式中、Ｒは、線状構造のものと同様に定義され、「ａ」は３〜約１０、又は類似単環シラザン類である。企図されるヘテロ置換及び未置換単環シロキサン類及びシラザン類のいくつかの例には、以下を含む。
１，３，５−トリメチル−１，３，５−トリス（３，３，３−トリフルオロプロピル）メチル］シクロトリシロキサン、
２，４，６，８−テトラメチル−２，４，６，８−テトラビニルシクロテトラシロキサン、
ペンタメチルシクロペンタシロキサン、
ペンタビニルペンタメチルシクロペンタシロキサン、
ヘキサメチルシクロトリシロキサン、
ヘキサフェニルシクロトリシロキサン、
オクタメチルシクロテトラシロキサン（ＯＭＣＴＳ）、
オクタフェニルシクロテトラシロキサン、
デカメチルシクロペンタシロキサン
ドデカメチルシクロヘキサシロキサン、
メチル（３，３，３−トリフルオロプロプル）シクロシロキサン、
以下のような環式オルガノシラザンもまた考えられる。
オクタメチルシクロテトラシラザン、
１，３，５，７−テトラビニル−１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシラザンヘキサメチルシクロトリシラザン、
オクタメチルシクロテトラシラザン、
デカメチルシクロペンタシラザン、
ドデカメチルシクロヘキサシラザン、又は
これらのいずれか２つ以上の組み合わせ。
【０１２０】
本文脈における好適な出発物質のうち、別の種類の前駆体出発物質は多環シロキサンであり、例えば以下の構造式のうちの１つを有する物質である。
【化４】
0006488232.tif 000008
式中、Ｙは酸素又は窒素とすることができ、Ｅはケイ素であり、Ｚは水素原子又は有機置換基であり、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ビニル、アルキン又はその他などのアルキル基である。各Ｙが酸素である場合、各々の構造は、左から右に、シラトラン、シルクアシラトラン、シルプロアトランである。Ｙが窒素である場合、各々の構造は、アザシラトラン、アザシルクアシアトラン、アザシルプロアトランである。
【０１２１】
本文脈における好適な出発物質のうち、別の種類の多環シロキサン前駆体出発物質は、実験式ＲＳｉＯ1.5及び以下の構造式を有するポリシルセスキオキサンである。
【化５】
0006488232.tif 000009
式中、各Ｒは水素原子又は有機置換基であり、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ビニル、アルキン、又はその他などのアルキル基である。この種の２つの市販物質は、各ＲがメチルであるＳＳＴ−ｅＭ０１ポリ（メチルシルセスキオキサン）及びＲ群の９０％がメチル、１０％が水素原子であるＳＳＴ−３ＭＨ１．１ポリ（メチル−ヒドリドシルセスキオキサン）である。この物質は、例えば、テトラヒドロフランの１０％溶液において入手可能である。これら２つ以上の組み合わせもまた考えられる。考えられる前駆体の他の例は、各Ｙが酸素、Ｚがメチルであるメチルシラトラン（ＣＡＳ番号２２８８−１３−３）、メチルアザシラトラン、各Ｒが任意選択的にメチルとされうるポリ（メチルシルセスキオキサン）（例えば、ＳＳＴ−ｅＭ０１ポリ（メチルシルセスキオキサン））、Ｒ群の９０％がメチル、１０％が水素原子であるＳＳＴ−３ＭＨ１．１ポリ（メチル−ヒドリドシルセスキオキサン）（例えば、ＳＳＴ−３ＭＨ１．１ポリ（メチル−ヒドリドシルセスキオキサン））、又はこれらのいずれか２つ以上の組み合わせである。
【０１２２】
上記構造において−ＮＨ−を酸素原子に置換した類似ポリシルセスキアザンもまた、類似ｐＨ保護皮膜又は層の作製に有用である。考えられるポリシルセスキアザンの例は、各Ｒがメチルであるポリ（メチルシルセスキアザン）、及びＲ群の９０％がメチル、１０％が水素原子であるポリ（メチル−ヒドリドシルセスキアザンである。これらの２つ以上の組み合わせもまた考えられる。
【０１２３】
本発明による複合バリア皮膜又は層用に特に考えられる前駆体の１つは直鎖シロキサン、例えばＨＭＤＳＯである。本発明による滑性皮膜又は層及びｐＨ保護皮膜又は層用に特に考えられる前駆体の１つは環状シロキサン、例えば、オクタメチルシクロテトラシロキサン（ＯＭＣＴＳ）である。
【０１２４】
ＯＭＣＴＳ又は他の環状シロキサン分子は他のシロキサン材料と比べていくつかの利点をもたらすと考えられる。第１に、その環状構造によって（ＨＭＤＳＯから調整されたｐＨ保護皮膜又は層と比べて）より低密度のｐＨ保護皮膜又は層が生じる。この分子は、また、選択的なイオン化を可能にするため、ｐＨ保護皮膜又は層の最終構造及び化学組成をプラズマ電力の印加により直接制御することができる。他の有機ケイ素分子は容易にイオン化（破壊する）ため、分子の元の構造を保持することがより困難である。
【０１２５】
本発明によるＰＥＣＶＤ方法のいずれにおいても、塗布するステップは、任意選択的に、前駆体を蒸発させ、それを基材の近傍に提供することによって実施されうる。例えば、ＯＭＣＴＳは、通常、ＯＭＣＴＳをＰＥＣＶＤ装置に適用する前にそれを約５０℃に加熱することによって蒸発させる。
【０１２６】
環式有機ケイ素前駆体、特に、単環有機ケイ素前駆体（本明細書の別の場所に記載される単環前駆体など）、特に、ＯＭＣＴＳは、ｐＨ保護皮膜又は層を得るのに特に好適である。
【０１２７】
ＰＥＣＶＤ反応混合物の他の成分及びｐＨ保護皮膜又は層の成分比率
概して、ｐＨ保護皮膜又は層においては、Ｏ2は、有機ケイ素化合物量よりも１桁未満多い量（例えば、流量ｓｃｃｍによって表されうる）において存在しうる。対照的に、複合バリア皮膜又は層を実現するため、Ｏ2の量は、通常、有機ケイ素前駆体の量よりも少なくとも１桁多い。特に、ｐＨ保護皮膜又は層の有機ケイ素前駆体とＯ2の体積比（ｓｃｃｍ）は、０．１：１〜１０：１の範囲内、任意選択的に、０．３：１〜８：１の範囲内、任意選択的に、０．５：１〜５：１の範囲内、任意選択的に、１：１〜３：１とされうる。表１〜３に記載される体積比における前駆体及びＯ2の存在はｐＨ保護皮膜又は層を実現するのに特に好適とされうる。
【０１２８】
本発明の一態様においては、反応混合物中にキャリアガスはなく、本発明の別の態様においては、キャリアガスはある。好適なキャリアガスは、例えば、アルゴン、ヘリウム、及びネオン及びキセノンなどの他の希ガスである。キャリアガスが反応混合物中に存在する場合、それは、通常、有機ケイ素前駆体の体積を超える体積（ｓｃｃｍ）において存在する。例えば、有機ケイ素前駆体とキャリアガスの比率は、１：１〜１：５０、任意選択的に、１：５〜１：４０、任意選択的に、１：１０〜１：３０とされうる。キャリアガスの１つの機能は、基材に付着せず主として排出ガスとともに除去される粉末反応生成物の代わりに、プラズマ中における反応物を希釈し、基材上における皮膜の形成を促進することである。
【０１２９】
アルゴンガスの添加により滑性及び／又はｐＨ保護性能が向上することから（以下の実施例を参照）、アルゴンの存在下における分子の更なるイオン化が滑性の付与に寄与すると考えられる。分子のＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合は高い結合エネルギを有し、それにＳｉ−Ｃが続き、Ｃ−Ｈ結合が最も弱い。滑性及び／又はｐＨ保護はＣ−Ｈ結合の一部が壊れた場合に得られると思われる。これにより、構造が成長する際にその連結（架橋）を可能にする。酸素（アルゴンとともに）の添加はこのプロセスを強化すると理解されている。少量の酸素もまた、他の分子が結合することができるＣ−Ｏ結合を提供することができる。Ｃ−Ｈ結合の破壊と酸素の添加の組み合わせを全て低圧及び低電力で実施すると、滑性を提供する一方で、安定（ｓｏｌｉｄ）な化学構造となる。
【０１３０】
実施形態のいずれにおいても、プロセスガスの好適な組み合わせの１つには、酸化性ガスとしての酸素及びキャリアガスとしてのアルゴンの存在下における、前駆体としてのオクタメチルシクロテトラシロキサン（ＯＭＣＴＳ）又は別の環状シロキサンを含む。この理論の正確性に拘束されるものではないが、本発明者は、以下の理由から、この特定の組み合わせが有効であると考える。Ｏ2、Ｎ2Ｏ又は別の酸化性ガス及び／又はキャリアガスの存在、特に、キャリアガス、例えば希ガス、例えばアルゴン（Ａｒ）の存在により、結果として生成されるｐＨ保護皮膜又は層が改良されると考えられる。
【０１３１】
前駆体ガス、酸素及びキャリアガスのいくつかの非網羅的な代替的選択肢及び好適な比率を以下に記載する。
ＯＭＣＴＳ：０．５〜５．０ｓｃｃｍ
酸素：０．１〜５．０ｓｃｃｍ
アルゴン：１．０〜２０ｓｃｃｍ
【０１３２】
ｐＨ保護皮膜又は層を形成するためのＰＥＣＶＤ装置
本明細書に記載されるバリア、滑性及びｐＨ保護層を提供するために、米国特許第７，９８５，１８８号明細書に記載されている低圧ＰＥＣＶＤ法を使用することができる。そのプロセスの簡潔な概要を以下に記載する。
【０１３３】
本発明の実施に好適なＰＥＣＶＤ装置は、容器保持器と、内部電極と、外部電極と、電源と、を含む。容器保持器に配置された容器は、任意選択的に真空室とされうるプラズマ反応室を画定する。任意選択的に、真空源、反応ガス源、ガス供給物又はこれらの２つ以上の組み合わせが供給されうる。任意選択的に、ポートに着座した容器の内部に、又はポートに配置された容器の内部からガスを移送するための、必ずしも真空源を含まないガス排出部が提供され、密閉された室を画定する。
【０１３４】
ＰＥＣＶＤ装置は大気圧ＰＥＣＶＤのために使用されうる。この場合、プラズマ反応室は真空室として機能する必要はない。
【０１３５】
図１及び図２を参照すると、容器保持器５０は、容器ポートに配置された容器内にガスを運ぶためのガス注入ポート１０４を含む。ガス注入ポート１０４は、例えば、プローブ１０８がガス注入ポート１０４を通じて挿入されると円筒状プローブ１０８に配置されうる少なくとも１つのＯリング１０６、又は連続する２つのＯリング又は連続する３つのＯリングによって提供される摺動シールを有しうる。プローブ１０８はその先端部１１０にあるガス送達ポートまで延在するガス注入導管とされうる。示される実施形態の先端部１１０は１つ又は複数のＰＥＣＶＤ反応物及び他の前駆体供給物又はプロセスガスを提供するために容器８０内に深く挿入されうる。
【０１３６】
図５は、例えば、示される全ての実施形態において使用可能な皮膜又は層用ステーション２８の更なる任意の詳細を示す。皮膜又は層用ステーション２８は、また、圧力センサ１５２に通じるその真空ライン５７６内に主要真空バルブ５７４を有しうる。手動バイパスバルブ５７８がバイパスライン５８０内に提供される。ベントバルブ５８２がベント４０４における流れを制御する。
【０１３７】
ＰＥＣＶＤガス又は前駆体源１４４を出る流れは、主要反応物供給ライン５８６を通過する流れを調整する主要反応ガスバルブ５８４によって制御される。ガス源１４４の１つの構成要素は、有機ケイ素液体リザーバ５８８である。リザーバ５８８の内容は有機ケイ素毛管ライン５９０を通じて出される。有機ケイ素毛管ライン５９０は、所望の流量を提供するのに適した長さで提供される。有機ケイ素蒸気の流れは有機ケイ素締切弁５９２によって制御される。大気圧（及びその変動）に依存しない反復可能な有機ケイ素液体の送達を確立するため、液体リザーバ５８８のヘッドスペース６１４に、圧力源６１６から、圧力ライン６１８によってヘッドスペース６１４に連結された加圧空気などの圧力、例えば、０〜１５ｐｓｉ（０〜７８ｃｍ．Ｈｇ）の範囲内の圧力が印加される。リザーバ５８８は密閉され、毛管連結部６２０は、純粋な（ｎｅａｔ）有機ケイ素液体（ヘッドスペース６１４の加圧ガスではない）のみが毛管チューブ５９０内を流れることを確実とするためにリザーバ５８８の底部にある。有機ケイ素液体は、任意選択的に、有機ケイ素液体を蒸発させて有機ケイ素蒸気を形成することが必要又は所望であれば周囲温度を超えて加熱することができる。この加熱を実現するため、ｐＨ保護皮膜又は層用装置は、有利には、前駆体リザーバの出口からシリンジへのガス注入口の可能な限り近傍までの、加熱された送達ラインを含みうる。例えば、ＯＭＣＴＳを供給する際には予熱が有用である。
【０１３８】
酸素タンク５９４から酸素供給ライン５９６を通じて酸素が提供される。酸素供給ライン５９６は質量流量制御器５９８によって制御され、酸素締切弁６００が設けられている。
【０１３９】
キャリアガスが使用される場合、キャリアガスはキャリアガス源６０２から得られ、導管６０４を通過し、キャリアガス締切弁６０６によって制御され、主要反応物供給ライン５８６に送られ、そこでＰＥＣＶＤガス供給物の他の成分と混合される。
【０１４０】
特に図１を参照すると、処理ステーション２８は、処理中、容器８０内にプラズマを発生させるための電界を提供するための高周波電源１６２によって供給される電極１６０を含みうる。この実施形態においては、プローブ１０８は、また、電気的に伝導性であるとともに接地されており、このため、容器８０内においてカウンタ電極を提供する。あるいは、任意の実施形態においては、外部電極１６０は接地することができ、プローブ１０８は電源１６２に直接接続されている。
【０１４１】
図１の実施形態においては、外部電極１６０は図１及び図２に示されるような略円筒状、又は図１（図２は図１の断面線Ａ−Ａに沿って切った断面の一実施形態である）に示されるような略Ｕ字形の長尺状のチャネルのいずれかとされうる。示される実施形態のそれぞれは１６４及び１６６などの１つ又は複数の側壁と、任意選択的に、容器８０の周囲に近接して配置された上端部１６８と、を有する。
【０１４２】
図３及び図４を参照すると、両端が開いているシリンジバレルなどの容器にＰＥＣＶＤ皮膜を塗布するためのＰＥＣＶＤプロセスの特定の適応について記載されている。
【０１４３】
図３及び図４は、２９０で全体的に示される、処理される略管状容器２５０の制限開口部２９４の内側又は内部表面２９２、例えば、シリンジバレル２５０の制限前部開口部２９４をＰＥＣＶＤによって被覆又は層状にするための方法及び装置を示す。前に記載したプロセスは、制限開口部２９４を処理容器２９６に連結することによって、及び任意選択的に特定の他の変更を行うことによって変更される。
【０１４４】
処理される略管状容器２５０は、外部表面２９８と、内腔３００を画定する内側又は内側又は内部表面２５４と、内径を有するより大きな開口部３０２と、内側又は内部表面２９２によって画定され、より大きな開口部３０２の内径よりも小さな内径を有する制限開口部２９４と、を含む。
【０１４５】
処理容器２９６は内腔３０４と処理容器開口部３０６とを有し、処理容器開口部３０６は、任意選択的に、唯一の開口部であるが、他の実施形態においては、任意選択的に処理中に閉じられる第２開口部が提供されうる。処理される容器２５０の内腔３００と処理容器内腔との間に制限開口部２９４を介した連通を設けるために、処理容器開口部３０６は処理される容器２５０の制限開口部２９４と連結されている。
【０１４６】
処理される容器２５０の内腔３００及び処理容器２９６の内腔３０４内に少なくとも部分真空が引かれる。ＰＥＣＶＤ反応物が流され、ガス源１４４から第１開口部３０２を通過し、その後、処理される容器２５０の内腔３００を通過して、その後、制限開口部２９４を通過し、その後、処理容器２９６の内腔３０４に入る。
【０１４７】
ＰＥＣＶＤ反応物は、内部通路３１０と、基端部３１２と、先端部３１４と、先端側開口部３１６と、を有する略管状内部電極３０８を提供することにより、容器２５０のより大きな開口部３０２を通じて導入されうる。別の実施形態においては、先端部３１４の近傍にあり、内部通路３１０に連通する複数の先端側開口部が提供されうる。電極３０８の先端部は処理される容器２５０のより大きな開口部３０２の近傍に又はその中に配置されうる。反応ガスは電極３０８の先端側開口部３１６を通じ、処理される容器２５０の内腔３００に供給されうる。ＰＥＣＶＤ反応物が、初めにＰＥＣＶＤ反応物が導入される前に引かれた真空よりも高い圧力で提供される程度まで、反応物は制限開口部２９４を流れ、その後、内腔３０４に入る。
【０１４８】
プラズマ３１８は、制限開口部２９４の近傍において、ＰＥＣＶＤ反応生成物の皮膜又は層を制限開口部２９４の内側又は内部表面２９２に堆積させるのに有効な条件下で発生させる。
【０１４９】
ｐＨ保護皮膜又は層の塗布のための特定のＰＥＣＶＤ条件が以下に提供される。
【０１５０】
皮膜厚さの測定
ｐＨ保護皮膜又は層、複合バリア皮膜又は層、滑性皮膜又は層及び／又はこれら層の任意の２つ以上の複合物などのＰＥＣＶＤ皮膜又は層の厚さは、例えば、透過電子顕微鏡法（ＴＥＭ）によって測定されうる。滑性及び／又はｐＨ保護皮膜又は層の例示的なＴＥＭ画像が図６に示される。ＳｉＯ2複合バリア皮膜又は層の例示的なＴＥＭ画像は図７に示される。
【０１５１】
ＴＥＭは、例えば、以下のように実施されうる。２方向の断面を取る（ｃｒｏｓｓ−ｓｅｃｔｉｏｎｉｎｇ  ｉｎ  ｔｗｏ  ｗａｙｓ）集束イオンビーム（ＦＩＢ）用に試料が用意されうる。いずれの試料も、Ｋ５７５Ｘ  Ｅｍｉｔｅｃｈ  ｐＨ保護皮膜又は層用システムを使用し、炭素の薄層（厚さ５０〜１００ｎｍ）でまず被覆され、その後、スパッタリングされた白金の皮膜又は層（厚さ５０〜１００ｎｍ）で被覆されうる。あるいは、試料はｐＨ保護スパッタＰｔ層（ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ  ｓｐｕｔｔｅｒｅｄ  Ｐｔ  ｌａｙｅｒ）で直接被覆されうる。被覆された試料はＦＥＩ  ＦＩＢ２００  ＦＩＢシステム内に配置されうる。３０ｋＶガリウムイオンビームを対象の領域上にラスターする間、白金の追加皮膜又は層が有機金属ガスの注入によってＦＩＢ堆積されうる。各試料の対象の領域は、シリンジバレルの長さの半分の位置になるように選択されうる。長さ約１５μｍ（「マイクロメートル」）、幅２μｍ及び深さ１５μｍの寸法の薄い断面はダイ表面からその場でＦＩＢリフトアウト法を使用して抽出されうる。この断面は２００メッシュ銅製ＴＥＭグリッドにＦＩＢ堆積した白金を使用して取り付けられうる。幅約８μｍの寸法の、各断面内の１つ又は２つの窓はＦＥＩ  ＦＩＢのガリウムイオンビームを使用して電子透かしになるまで薄くされうる。
【０１５２】
用意した試料の断面画像分析は透過電子顕微鏡（ＴＥＭ）又は走査透過電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）のいずれか又は両方を利用して実施することができる。全画像化データはデジタル方式で記録されうる。ＳＴＥＭ画像化では、薄箔のグリッドをＳＴＥＭ専用のＨｉｔａｃｈｉ  ＨＤ２３００に移動する。走査透過電子画像は原子番号コントラストモード（ＺＣ）及び透過電子モード（ＴＥ）において適切な倍率で取得されうる。以下の機器設定が使用されうる。
【０１５３】
【表３】
0006488232.tif 000010
【０１５４】
ＴＥＭ分析では、試料グリッドはＨｉｔａｃｈｉ  ＨＦ２０００透過電子顕微鏡に移動されうる。透過電子画像は適切な倍率で取得されうる。画像取得時に使用される関連機器設定は以下に記載するものとされうる。
【０１５５】
【表４】
0006488232.tif 000011
【０１５６】
付着性の測定
複合バリア皮膜又は層の、基材への付着の程度を測定するために以下の方法を使用することができる。重要となる基準は以下の通りである。
（１）ＡＳＴＭ  Ｄ３３５９−０９「テープ試験による付着性を測定するための標準試験法（Ｓｔａｎｄａｒｄ  Ｔｅｓｔ  Ｍｅｔｈｏｄｓ  ｆｏｒ  Ｍｅａｓｕｒｉｎｇ  Ａｄｈｅｓｉｏｎ  ｂｙ  Ｔａｐｅ  Ｔｅｓｔ）」
（２）Ｂ９０５−００「機械化テープ試験による金属皮膜及び無機皮膜の付着性を評価するための標準法（Ｓｔａｎｄａｒｄ  Ｔｅｓｔ  Ｍｅｔｈｏｄｓ  ｆｏｒ  Ａｓｓｅｓｓｉｎｇ  ｔｈｅ  Ａｄｈｅｓｉｏｎ  ｏｆ  Ｍｅｔａｌｌｉｃ  ａｎｄ  Ｉｎｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｏａｔｉｎｇｓ  ｂｙ  ｔｈｅ  Ｍｅｃｈａｎｉｚｅｄ  Ｔａｐｅ  Ｔｅｓｔ）」
【０１５７】
（Ａ１）被覆物品の変形／テープ試験法
０３２２  本明細書において使用される本方法においては、ＳｉＯｘ被覆物品に変形力を印加して皮膜に応力をかけ、その後、粘着テープによる皮膜の剥離の程度が評価される。
【０１５８】
試料準備
円筒状部分を有する被覆バイアル、シリンジバレル、カートリッジ又は他の物品を物品の各端部において切断し、均一な一定の内径（ＩＤ）の開放式シリンダとした。非円筒状又は異なるＩＤの部分は廃棄される。切断は熱線カッターで実施した。適宜、清浄で乾燥した圧縮空気（シリンダの被覆された内側と物理的接触すべきではない）による、存在しうる任意の粒子の慎重な除去を実施した。
【０１５９】
試料変形
バイアル、シリンジバレル、カートリッジ又は他の物品から得られる均一に被覆されたシリンダは、Ｉｎｓｔｒｏｎ（登録商標）応力ひずみ材料試験機内に、（ａ）開端部が垂直であり、Ｉｎｓｔｒｏｎ（登録商標）ステンレス板が円形の開放縁端に接触している軸方向変形姿勢（ａｘｉａｌ  ｄｅｆｏｒｍａｔｉｏｎ  ｏｒｉｅｎｔａｔｉｏｎ）（「上下変形（ｔｏｐ  ｄｏｗｎ  ｄｅｆｏｒｍａｔｉｏｎ）」としても公知である）、又は（ｂ）その開端部が水平であり、Ｉｎｓｔｒｏｎ（登録商標）ステンレス板がシリンダの２つの平行な対向する長さに接触している直径方向変形姿勢（ｄｉａｍｅｔｒｉｃ  ｄｅｆｏｒｍａｔｉｏｎ  ｏｒｉｅｎｔａｔｉｏｎ）（「側方変形」としても公知である）、のいずれかにおいて配置される。特に明記されない限り、特許請求の範囲に明記される試験法においては軸方向変形が用いられる。
【０１６０】
プラスチックの成分、型条件及びシリンダ厚さに応じて圧縮変形力が印加されるが、力はシリンダの任意の不可逆的な物理的変形又は破壊を生じるレベルを超えるべきではない。特許請求の範囲に列挙される熱可塑性プラスチックコンテナの軸方向試験においては、３５０ｌｂ．（１５８Ｋｇ）の圧縮力が用いられる。別の試験における直径方向変形では、同じ圧縮力が印加される。側方圧縮又は直径方向変形が選択される場合、型の列に対し、ステンレス板上におけるシリンダの再現可能な接触位置を確立すべきである。
【０１６１】
テープ適用：半シリンダ法（Ｈａｌｆ  Ｃｙｌｉｎｄｅｒ  Ａｐｐｒｏａｃｈ）
シリンダは試料準備セクションにおいて適用されたものと同じ切断方法を使用して長手方向に半分に切断される。
【０１６２】
シリンダの湾曲した性質のため、被覆された内壁表面への均一な気泡のないテープの接着を容易にするためには狭いテープ片が必要である。Ｓｃｏｔｃｈブランドの片面粘着テープを、３ミリメートルの幅及びシリンダ全長より約６ミリメートル長い長さに切断する。粘着テープ部分は、テープの各端部から約３ミリメートルから、壁に触れることなく、長いハンドルを有するニードルノーズピンセット又はマイクロ止血鉗子によって固定する。テープが軸方向に延びて、その端部がシリンダの各開端部を越えて等しく配置されると、テープは湾曲した被覆内壁に接触する。小さな鉛筆消しゴムヘッド又は半球状端部を有する３ミリメートルステンレスロッドを、その後、クランプ間においてテープ表面上を上下に動かし、テープ下の任意の気泡を除去する。テープに均一な力を加えることが重要である。
【０１６３】
テープが内壁に均一に接着されるとクランプは取り外すことができるが、前に固定された端部が壁に付着しないようにする。
【０１６４】
テープ除去
（テープを引きはがす時間、速度及び角度の詳細については参考文献２、ｐ．３（段落７．４）を参照）。以下に記載されるように、本明細書において実施される試験においては、９０  ｏ  のテープ引きはがしを使用した。
【０１６５】
９０°テープ引きはがし
壁表面に貼り付けたテープの対向自由端を、前にテープ適用セクションにおいて使用した単一のニードルノーズピンセット又はマイクロ止血鉗子で固定し、続いて、固定されたテープ端部を９０°の角度で（接着されたテープに対して垂直に）均一に引きはがし、テープを除去した。均一な速度のテープ引きはがし除去を提供するため、Ｉｎｓｔｒｏｎ（登録商標）垂直運動バー（ｖｅｒｔｉｃａｌ  ｍｏｔｉｏｎ  ｂａｒ）に取り付けられたクランプが使用されうる。
【０１６６】
付着性評価
皮膜厚さ特定（ライン走査）
Ｌａｙｅｒ  Ｅｘｐｌｏｒｅｒ  ＵＴ機器（ｗｗｗ．ｒａｐ−ｉｄ．ｃｏｍ）又は同等の干渉式厚さ測定デバイスを使用し、接着テープの位置を二分する軸方向線に沿ってテープ適用前後の皮膜厚さを測定した。テープ引きはがし後対テープ接着前の面積（皮膜厚さｘ走査の長さ）の差の減少が皮膜付着の程度の測定値である。これはテープ引きはがし後に保持された元の皮膜のパーセントとして示される。
【０１６７】
（Ａ２）被覆物品クロススクラッチ／テープ試験法
（関連する場合は参考文献１及び２の段落が以下に続く）
【０１６８】
全般
本明細書において使用されるこの方法においては、ＳｉＯｘ被覆物品の皮膜をひっかいて皮膜に応力を加え、その後、粘着テープによる皮膜の剥離の程度が評価される。
【０１６９】
試料準備
上述のように、被覆バイアル、シリンジバレル又はカートリッジを物品の各端部において切断し、且つ軸方向面に沿って半分に切断し、均一な一定の内径（ＩＤ）の半シリンダとした。
【０１７０】
Ｘ字スクラッチパターン
特定のクレームに明記されるようにＸ字スクラッチパターンが選択される場合、ステンレス製デンタルピックを使用し、半シリンダの内側が被覆された壁表面上に「Ｘ」を描く。Ｘの形は均等な形状であり、配置された一対のスクラッチが軸方向に長尺のパターンを形成する。２つのスクラッチの間の小さい方の角度は３０°〜４０°の均一な値である。
【０１７１】
半シリンダのクロスカット
特定のクレームに明記される、又は参考文献２の段落１０（ｐ．３）に記載されるように、矩形のスクラッチパターンが選択される場合、鋭利な剃刃、メス、ナイフ又は他の切削デバイスを使用し、シリンダの内側が被覆された壁表面上に「四角形のクロスカット」を入れる。
【０１７２】
テープ適用
半シリンダ法（Ｈａｌｆ  Ｃｙｌｉｎｄｅｒ  Ａｐｐｒｏａｃｈ）
テープは上述のように適用されるが、スクラッチに重なるように配置される。Ｘ字スクラッチパターンを用いる場合、テープは、Ｘの中央がテープの周方向中央に位置合わせされた状態で軸方向に延在するように配置される。矩形のスクラッチパターンを用いる場合、テープは、テープがスクラッチパターン上に周方向中央に位置合わせされた状態で軸方向に延在するように配置される。
【０１７３】
テープ除去
（テープを引きはがす時間、速度及び角度の詳細については参考文献２、ｐ．３（段落７．４）を参照）
【０１７４】
９０°テープ引きはがし
壁表面に貼り付けたテープの対向自由端を単一クランプで固定し、続いて、固定されたテープ端部を９０°の角度で（接着されたテープに対して垂直に）均一に引きはがし、テープを除去した。均一な速度のテープ引きはがし除去を提供するためにクランプはＩｎｓｔｒｏｎ（登録商標）垂直運動バーに取り付けられる。
【０１７５】
付着性評価
皮膜厚さ特定（ライン走査）
Ｌａｙｅｒ  Ｅｘｐｌｏｒｅｒ  ＵＴ機器（ｗｗｗ．ｒａｐ−ｉｄ．ｃｏｍ）又は同等の干渉式厚さ測定デバイスを使用し、接着テープの位置を二分する線に沿ってテープ適用前後の皮膜厚さ（しかし双方ともｘ字カット又はクロスカットを入れた後）を測定した。テープ引きはがし後対テープ接着前の面積（皮膜厚さｘ走査の長さ）の差の減少が皮膜付着の程度の測定値である。これはテープ引きはがし後に保持された元の皮膜のパーセントとして示されうる。
【０１７６】
（Ｂ１）Ａ１及びＡ２付着性評価法を使用した、ＣＯＰ５ミリリットル（ｍｉｌｌｉｌｔｅｒ）バイアル対比較ホウケイ酸ガラスバイアル上における、本発明のＳｉＯｘバリア皮膜の付着性能。
【０１７７】
本明細書における、シリンジバレル内部をＳｉＯxで被覆するためのプロトコルに記載されている、確立されたＳｉＯx被覆手順を使用し、５ミリリットル（ｍｉｌｌｉｌｔｅｒ）の射出ブロー成形されたバイアル（ＳｉＯ2医薬製品）及びホウケイ酸ガラス製５ミリリットルバイアル（Ｓｃｈｏｔｔ）を複合バリア皮膜又は層で被覆した。
０３４３Ａ１及びＡ２付着性評価法を用いて付着性結果（表４）を得た。
【０１７８】
（Ｂ２）Ａ１及びＡ２付着性評価法を使用した、ＣＯＰ  ５ミリリットル（ｍｉｌｌｉｌｔｅｒ）バイアル対比較ホウケイ酸ガラスバイアル上における、本発明の二層被覆された（ＳｉＯｘバリア及びｐ−ＯＭＣＴＳ  ｐＨ保護）皮膜の付着性能。
【０１７９】
本明細書において、シリンジバレル内部をＳｉＯxで被覆するためのプロトコルに前述した、確立されたＳｉＯx被覆手順を使用し、５ミリリットル（ｍｉｌｌｉｌｔｅｒ）の射出ブロー成形されたバイアル（ＳｉＯ2医薬製品）及びホウケイ酸ガラス製５ミリリットルバイアル（Ｓｃｈｏｔｔ）を標準的ＳｉＯｘ複合バリア皮膜又は層及び標準的ｐＨ保護皮膜又は層で被覆した。
【０１８０】
Ａ１及びＡ２付着性評価法を用いて付着性結果（表４）を得た。
【０１８１】
（Ｂ３）Ａ１及びＡ２付着性評価法を使用した、ＣＯＰ１ミリリットル（ｍｉｌｌｉｌｔｅｒ）の長いステーキドニードルシリンジバレル対比較ホウケイ酸ガラスシリンジバレル上における、本発明のＳｉＯｘバリア皮膜の付着性能。
【０１８２】
本明細書における、シリンジバレル内部をＳｉＯxで被覆するためのプロトコルを使用し、１ミリリットル（ｍｉｌｌｉｌｔｅｒ）の射出ブロー成形されたステーキドニードルシリンジバレル（ＳｉＯ2医薬製品）及びホウケイ酸ガラス製シリンジバレル（Ｂｅｃｔｏｎ−Ｄｉｃｋｅｎｓｏｎ社製、シリコーン油はヘキサンで事前に除去した）を標準的ＳｉＯｘ被覆手順下で被覆した。
【０１８３】
Ａ１及びＡ２付着性評価法を用いて付着性結果（表４）を得た。
【０１８４】
（Ｂ４）Ａ１及びＡ２付着性評価法を使用した、熱可塑性プラスチックバイアル対比較ホウケイ酸ガラスバイアル上における、本発明の二層被覆された（ＳｉＯｘ複合バリア皮膜又は層及びｐ−ＯＭＣＴＳ  ｐＨ保護皮膜又は層）皮膜の付着性能。
【０１８５】
本明細書における、シリンジバレル内部をＳｉＯｘで被覆するためのプロトコルを使用し、１ｍＬ（ミリリットル）の射出ブロー成形されたステーキドニードルシリンジバレル（ＳｉＯ2医薬製品）及びホウケイ酸ガラス製シリンジバレル（Ｂｅｃｔｏｎ−Ｄｉｃｋｅｎｓｏｎ社製、シリコーン油は事前にヘキサンで除去した）を本明細書に示すようにＳｉＯｘ複合バリア皮膜又は層及びｐＨ保護皮膜又は層のプロトコル下で被覆した。
【０１８６】
Ａ１及びＡ２付着性評価法を用いて付着性結果（表５）を予測した。
【０１８７】
ＩＶ．任意の実施形態のＲＦ電力
前駆体は、１０ｋＨｚ〜２．４５ＧＨｚ、代替的には約１３〜約１４ＭＨｚの周波数において駆動する電極によって前駆体の近傍を励起することにより形成されたプラズマと接触させることができる。
【０１８８】
前駆体は、任意選択的に１０ｋＨｚ〜３００ＭＨｚ未満、任意選択的に１〜５０ＭＨｚ、更に任意選択的に１０〜１５ＭＨｚの周波数、任意選択的に１３．５６ＭＨｚの高周波で駆動する電極によって前駆体の近傍を励起することにより形成されたプラズマと接触させることができる。
【０１８９】
前駆体は、プラズマ量の１０Ｗ／ｍｌ未満、あるいはプラズマ量の６Ｗ／ｍｌ〜０．１Ｗ／ｍｌ、あるいはプラズマ量の５Ｗ／ｍｌ〜０．１Ｗ／ｍｌ、あるいはプラズマ量の４Ｗ／ｍｌ〜０．１Ｗ／ｍｌ、あるいはプラズマ量の２Ｗ／ｍｌ〜０．２Ｗ／ｍｌ、あるいは１０Ｗ／ｍｌ〜５０Ｗ／ｍｌ、任意選択的に２０Ｗ／ｍｌ〜４０Ｗ／ｍｌの電力密度が供給された電極によって前駆体の近傍を励起することにより形成されたプラズマと接触させることができる。
【０１９０】
プラズマは、反応混合物を電磁エネルギ、あるいはマイクロ波エネルギで励起させることによって形成されうる。
【実施例】
【０１９１】
シリンジバレルを形成及び被覆するための基本プロトコル
後の実施例において試験される薬剤パッケージ又は他の容器は個々の実施例に特に定めのない限りは以下の例示的なプロトコルに従い形成及び被覆した。以下の基本プロトコルに記載される特定のパラメータ値、例えば、電力及び気体反応物又はプロセスガス流は典型的な値である。これら典型的な値と比較してパラメータ値に変化があった場合、これは後の実施例において示される。気体反応物又はプロセスガスのタイプ及び組成にも同様のことが適用される。
【０１９２】
シリンジバレル内部をＳｉＯxで被覆するためのプロトコル
シリンジバレル内部をＳｉＯx複合バリア皮膜又は層で被覆するため、全般的に米国特許第７，９８５，１８８号明細書に記載されている装置及びプロトコルを、以下のように変更を加え、使用することができる。
【０１９３】
シリンジバレル内部をＯＭＣＴＳｐＨ保護皮膜で被覆するためのプロトコル
前に示したように、ＳｉＯxの複合バリア皮膜又は層で既に内部が被覆されているシリンジバレルは、実施例に記載するような特定の例において変更した条件を用いること以外は、全般的に滑性皮膜又は層を塗布するための米国特許第７，９８５，１８８号明細書のプロトコルに従い、前に示したｐＨ保護皮膜で更に内部が被覆される。ここで記載する条件はＣＯＣシリンジバレル用であり、他の材料から作製されたシリンジバレル用に適宜変更することができる。シリンジバレルの基部にある突き当てシーリング（ｂｕｔｔ  ｓｅａｌｉｎｇ）によりシリンジバレルを保持するため、全体として図３及び図４に示されるような装置が使用される。更に、シリンジバレルの端部を封止するキャップが提供される（図３に示される）。
【０１９４】
シリンジバレルは、延在するプローブ又はカウンタ電極１０８上において密封位置に慎重に移動され、プラズマスクリーンに押し付けられる。プラズマスクリーンはプローブ又はカウンタ電極１０８の周りにぴったりと嵌合し良好な電気接触を確実とする。プローブ又はカウンタ電極１０８はＲＦ整合ネットワークのケーシングに接地される。
【０１９５】
ガス送達ポート１１０は、排出用の手動ボールバルブ又は類似の装置と、熱電対圧力計と、真空ポンピングラインに連結されたバイパスバルブとに連結される。加えて、ガスシステムはガス送達ポート１１０に連結され、気体反応物又はプロセスガス、オクタメチルシクロテトラシロキサン（ＯＭＣＴＳ）（又は特定の例において報告される特定の気体反応物又はプロセスガス）が（プロセス圧力下で）ガス送達ポート１１０を通してシリンジバレルの内部に流れることを可能にする。
【０１９６】
ガスシステムは、ＯＭＣＴＳを約１００℃まで加熱する、市販されている加熱式質量流量気化システム（ｈｅａｔｅｄ  ｍａｓｓ  ｆｌｏｗ  ｖａｐｏｒｉｚａｔｉｏｎ  ｓｙｓｔｅｍ）を含む。加熱式質量流量気化システムは、液体オクタメチルシクロテトラシロキサン（Ａｌｆａ  Ａｅｓａｒ（登録商標）品番Ａ１２５４０、９８％）に連結される。ＯＭＣＴＳ流量は特定の例において報告される特定の有機ケイ素前駆体流に合わせて設定される。蒸発したＯＭＣＴＳ流の凝縮がこのポイントを越えて発生しないようにするため、ガス流はそれが処理のためにＣＯＣシリンジバレルの内部に流れていないときにはポンピングラインに分流される。
【０１９７】
シリンジバレルが配置されると、真空ポンプバルブは容器保持器５０及びＣＯＣシリンジバレルの内部に対して開かれる。真空ポンプ及びブロワが真空ポンプシステムに含まれる。ポンピングシステムは、気体反応物又はプロセスガスが指示された速度で流れている間、ＣＯＣシリンジバレルの内部の圧力を１００ｍＴｏｒｒ未満に低下することを可能にする。
【０１９８】
ベース真空レベルが達成されると、容器保持器５０アセンブリは電極１６０アセンブリ内に移動する。ガス流（ＯＭＣＴＳ蒸気）がガス送達ポート１１０内に流される（３方弁をポンピングラインからガス送達ポート１１０に調節することによって。ＣＯＣシリンジバレル内部の圧力は、ポンピングラインの真空を制御するバルブの近辺に配置された静電容量型圧力計（ＭＫＳ）によって測定した場合、約１４０ｍＴｏｒｒである。ＣＯＣシリンジバレル圧力に加え、ガス送達ポート１１０及びガスシステム内部の圧力もまたガスシステムに連結された熱電対真空計によって測定される。この圧力は、通常、６Ｔｏｒｒ未満である。
【０１９９】
ガスがＣＯＣシリンジバレルの内部に流れると、ＲＦ電源がオンにされ、その一定の電力レベルにされる。６００ワットＲＦ電源が（１３．５６ＭＨｚで）特定の例に示される一定の電力レベルで使用される。ＲＦ電源は、プラズマの複素インピーダンス（容器内で形成される）をＲＦ電源の出力インピーダンスに整合させるオートマッチ（ａｕｔｏ  ｍａｔｃｈ）に接続される。進行波電力（ｆｏｒｗａｒｄ  ｐｏｗｅｒ）は記載した通りであり、反射波電力（ｒｅｆｌｅｃｔｅｄ  ｐｏｗｅｒ）は０ワットである。このため、定格電力が容器の内部に送達される。ＲＦ電源は、実験室タイマ及び１０秒（又は特定の例において定められた異なる時間）に設定された電源オン時間によって制御される。
【０２００】
ＲＦ電力を開始すると、容器の内部の内側に均一なプラズマが提供される。プラズマはＲＦ電力がタイマによって遮断されるまでの、ｐＨ保護皮膜又は層の全時間にわたり維持される。プラズマはｐＨ保護皮膜又は層を容器の内部に生成する。
【０２０１】
ｐＨ保護皮膜の後、ガス流は真空ラインに再度分流され、真空バルブは閉じられる。その後、ベントバルブが開かれ、ＣＯＣシリンジバレルの内部を大気圧（約７６０Ｔｏｒｒ）に戻す。（容器保持器５０アセンブリを電極１６０アセンブリから出した後）処理後の容器はその後容器保持器５０アセンブリから慎重に取り外される。
【０２０２】
ｐＨ保護皮膜又は層をバイアルに塗布するため、全般的に図１のもののような装置を使用する以外は同様のプロトコルが使用される。
【０２０３】
総ケイ素測定のためのプロトコル
このプロトコルは、容器壁全体に存在するケイ素皮膜の総量を特定するために使用される。溶液又は成分とガラスとの間の接触を回避するよう留意し、ある供給量の０．１Ｎ水酸化カリウム（ＫＯＨ）水溶液を用意する。使用される水は精製水で、１８ＭΩ品質である。特に定めのない限りは測定にＰｅｒｋｉｎ  Ｅｌｍｅｒ  Ｏｐｔｉｍａ  Ｍｏｄｅｌ  ７３００ＤＶ  ＩＣＰ−ＯＥＳ機器が使用される。
【０２０４】
試験される各デバイス（バイアル、シリンジ、チューブ等）並びにそのキャップ及びクリンプ（バイアルの場合）又は他のクロージャを空〜０．００１ｇにおいて計量し、その後、ＫＯＨ溶液で完全に充填し（ヘッドスペースなしで）、キャップを嵌め、クリンプし、０．００１ｇ以下において再計量した。温浸ステップにおいては、４０℃の超音波処理水浴中に各バイアルが最低８〜１０時間配置される。温浸ステップはケイ素皮膜を容器壁からＫＯＨ溶液中に定量的に除去するために実施される。この温浸ステップ後、バイアルは超音波処理水浴から取り出され、室温まで冷却される。バイアルの内容は１５ｍｌＩＣＰチューブに移動される。ＩＣＰ／ＯＥＳの実施手順に従い、各溶液の総Ｓｉ濃度がＩＣＰ／ＯＥＳによって実施される。
【０２０５】
総Ｓｉ濃度はＫＯＨ溶液中のＳｉの１０億分率として報告される。この濃度は、温浸ステップが使用され、それが除去される前に容器壁上にあったケイ素皮膜の総量を示す。
【０２０６】
総Ｓｉ濃度は、また、ＳｉＯxバリア層が塗布され、ＳｉＯxＣy第２層（例えば、滑性層又はｐＨ保護皮膜もしくは層）がその後塗布され、ＳｉＯxＣy層だけの総ケイ素濃度を知りたい場合のように、容器上の全ケイ素層よりも少数の層について特定することができる。この特定は、２セットの容器を用意し、その１つのセットにはＳｉＯx層のみを塗布し、そのもう一方のセットには同じＳｉＯx層、続いてＳｉＯxＣy層又は関心のある他の層を塗布することによって実施される。各セットの容器の総Ｓｉ濃度は上に記載したのと同じ手法で特定される。２つのＳｉ濃度間の差がＳｉＯxＣy第２層の総Ｓｉ濃度である。
【０２０７】
容器中の溶解したケイ素を測定するためのプロトコル
実施例のいくつかにおいては、例えば、試験溶液の溶解速度を評価するために、試験溶液によって容器の壁から溶解したケイ素の量が１０億分率（ｐｐｂ）で決定される。この溶解したケイ素の特定は、試験条件下でＳｉＯx及び／又はＳｉＯxＣy皮膜又は層が提供された容器内に試験溶液を保管し、その後、溶液のサンプルを容器から除去し、サンプルのＳｉ濃度を試験することによって実施される。試験は、総ケイ素測定のためのプロトコルと同じ手法で実施されるが、そのプロトコルの温浸ステップの代わりに、このプロトコルに記載されるような容器内における試験溶液の保管が使用される。総Ｓｉ濃度は試験溶液中のＳｉの１０億分率として報告される。
【０２０８】
平均溶解速度を特定するためのプロトコル
実施例において報告される平均溶解速度は以下のように特定される。既知の総総ケイ素測定値を有する一連の試験容器に、総ケイ素測定のためのプロトコルにおいてバイアルにＫＯＨ溶液を充填する手法と類似の手法で所望の試験溶液を充填する。（試験溶液は、本実施例で用いられるような生理的に不活性の試験溶液とすることも、薬剤パッケージを形成するために容器内に保管されることを意図した生理的に活性な製剤とすることもできる）。試験溶液は各々の容器内にいくつかの異なる時間量の間保管され、その後、各保管時間おける試験溶液中のＳｉ濃度を１０億分率で分析する。各々の保管時間及びＳｉ濃度は、その後、プロットされる。プロットを分析し、最急勾配を有する実質的に線形の点の列を求める。
【０２０９】
溶解量（ｐｐｂ  Ｓｉ）対日数のプロットでは時間とともに勾配が減少する。Ｓｉ層は試験溶液によって完全に温浸されているため溶解速度は平坦にならないと考えられる。
【０２１０】
表２のＰＣ１９４試験データにおいては、最小二乗線形回帰プログラムを使用し、各実験プロットのうち最初の５つの標本値群に合致する線形プロットを求めることにより溶解対時間のデータの線形プロットを作成する。その後、各線形プロットの勾配が決定され、試験に適用可能な平均溶解速度を示すものとして、単位時間あたりの試験溶液中に溶解したＳｉの１０億分率で報告される。
【０２１１】
計算保管寿命を特定するためのプロトコル
以下の実施例において報告される計算保管寿命値は、総ケイ素測定のためのプロトコル及び平均溶解速度を特定するためのプロトコルにそれぞれ記載したように特定された総ケイ素測定値及び平均溶解速度の外挿によって決定される。示された保管条件下において、ＳｉＯxＣyｐＨ保護皮膜は皮膜が完全に除去されるまで平均溶解速度で除去されると想定される。したがって、容器の総ケイ素測定値を溶解速度によって除算すると、試験溶液がＳｉＯxＣy皮膜を完全に溶解するのに要する時間が得られる。この期間は計算保管寿命として報告される。市販保管寿命の計算とは異なり、安全率は計算されない。その代わり、計算保管寿命は計算破損時間である。
【０２１２】
ｐｐｂ  Ｓｉ対時間のプロットでは時間とともに勾配が減少するため、比較的短い測定時間から比較的長い計算保管寿命への外挿は、実際に得られる計算保管寿命を低く見積もる傾向にある「最悪ケース」の試験（“ｗｏｒｓｔ  ｃａｓｅ”ｔｅｓｔ）であると考えられると理解すべきである。
【０２１３】
実施例１〜２
シリンジサンプルは以下のように作製した。ＣＯＣシリンジバレルを形成するためのプロトコルに従い、ＣＯＣ８００７延伸バレルシリンジを作製した。ＣＯＣシリンジバレル内部をＳｉＯxで被覆するためのプロトコルに従い、ＳｉＯxバリア皮膜又は層をシリンジのいくつかに塗布する。ＣＯＣシリンジバレル内部をＯＭＣＴＳ滑性皮膜で被覆するためのプロトコルに従い、滑性及び／又はｐＨ保護皮膜又は層をＳｉＯxで被覆されたシリンジに塗布し、以下のように変更を加える。ＯＭＣＴＳはその低い揮発性のため気化器から供給した。アルゴンキャリアガスを使用した。プロセス条件は以下のように設定した。
・ＯＭＣＴＳ：３ｓｃｃｍ
・アルゴンガス：６５ｓｃｃｍ
・電力：６ワット
・時間：１０秒
【０２１４】
これら実施例に従い作製される滑性皮膜は、複合バリア皮膜又は層が設けられているが滑性皮膜又は層は設けられていない類似の容器と比べて容器の保管寿命を増加させるためのｐＨ保護皮膜又は層としても機能する。
【０２１５】
実施例３〜５
シリンジサンプルは以下のように作製する。ＣＯＣシリンジバレルを形成するためのプロトコルに従い、ＣＯＣ  ８００７延伸バレルシリンジを作製した。ＣＯＣシリンジバレル内部をＳｉＯxで被覆するためのプロトコルに従い、ＳｉＯx皮膜又は層をシリンジバレルに塗布する。ＣＯＣシリンジバレル内部をＯＭＣＴＳで被覆するためのプロトコルに従い、滑性及び／又はｐＨ保護皮膜又は層をＳｉＯxで被覆されたシリンジに塗布し、以下のように変更を加える。表６に示すアルゴンキャリアガス及び酸素を使用する。プロセス条件は以下のように示すように設定する。
・ＯＭＣＴＳ−３ｓｃｃｍ（使用される場合）
・アルゴンガス−７．８ｓｃｃｍ（使用される場合）
・酸素  ０．３８ｓｃｃｍ（使用される場合）
・電力−３ワット
・電源オン時間−１０秒
【０２１６】
実施例３及び４のシリンジはこれら条件下で用意する。実施例５のシリンジは、滑性及び／又はｐＨ保護皮膜又は層がないこと以外はこれら条件下で調製する。
【０２１７】
実施例３〜５のシリンジを、また、容器中の溶解したケイ素を測定するためのプロトコルを使用して試験し、総抽出可能レベル（有機ケイ素化合物ベースＰＥＣＶＤｐＨ保護皮膜又は層の抽出を示す）を特定し、この例に示すように変更を加えるとともに補足する。
【０２１８】
ケイ素は塩水温浸（ｓａｌｉｎｅ  ｗａｔｅｒ  ｄｉｇｅｓｔｉｏｎ）を使用して抽出する。エラストマー製の先端材料から物質が抽出することを防止するため各シリンジプランジャの先端をＰＴＦＥテープで被覆し、その後、シリンジバレル基部内に挿入する。シリンジバレルに、２ミリリットルの０．９％水性の生理食塩水を、シリンジのルアーチップを通じて挿入した皮下針により充填する。生理食塩水を収容及び送達するために多くのプレフィルドシリンジが使用されることから、これは抽出性物質に適した試験である。ルアーチップは適切な直径を有する一片のＰＴＦＥビーディングとともに差し込まれる。シリンジをＰＴＦＥ試験台にルアーチップを上向きにした状態でセットし、オーブン内に５０℃で７２時間配置する。
【０２１９】
その後、静的又は動的モードのいずれかを使用して生理食塩水をシリンジバレルから除去する。表６に示す静的モードにおいては、シリンジプランジャを試験台から取り外し、シリンジ内の流体を容器内に移す。表６に示す動的モードにおいては、ルアーチップシールを取り外し、プランジャを押下して流体をシリンジバレル内に通し、内容を容器内に排出する。いずれの場合においても、各シリンジバレルから得られる流体を１８．２ＭΩ−ｃｍ脱イオン水を使用して５０ｍｌの体積にし、更に、分析中におけるナトリウムバックグラウンド（ｓｏｄｉｕｍ  ｂａｃｋｇｒｏｕｎｄ）を最小にするために２倍希釈する。ＣＶＨバレルは２ミリリットルを収容し、市販バレルは２．３２ミリリットルを収容する。
【０２２０】
次に、容器中の溶解したケイ素を測定するためのプロトコルを使用し、各シリンジから回収した流体を抽出可能ケイ素に関して試験する。使用した機器はＣｅｔａｃ  ＡＳＸ−５２０オートサンプラを備えたＰｅｒｋｉｎ  Ｅｌｍｅｒ  Ｅｌａｎ  ＤＲＣ  ＩＩである。以下のＩＣＰ−ＭＳ条件を用いる。
・噴霧器：Ｑｕａｒｔｚ  Ｍｅｉｎｈａｒｄｔ
・噴霧室：Ｃｙｃｌｏｎｉｃ
・ＲＦ（高周波）電力：１５５０ワット
・アルゴン（Ａｒ）流：１５．０Ｌ／分
・補助Ａｒ流：１．２Ｌ／分
・噴霧器ガス流：０．８８Ｌ／分
・積分時間：８０秒
・走査モード：ピークホッピング（ｐｅａｋ  ｈｏｐｐｉｎｇ）
・ＣｅＯ（ｍ／ｚ１５６：＜２％としてのセリウムのＲＰｑ（ＲＰｑは拒絶パラメータ（ｒｅｊｅｃｔｉｏｎ  ｐａｒａｍｅｔｅｒ））
【０２２１】
実施例５〜７のシリンジから得た水性希釈物の一定分量を注入し、Ｓｉに関して１リットルあたりマイクログラムの濃度単位において分析する。類似の試験に基づくこの試験の予想結果を表６に示す。結果は定量的でないが、それらは、滑性及び／又はｐＨ保護皮膜又は層からの抽出性物質が、ＳｉＯxバリア皮膜又は層のみの抽出性物質に比べて明らかに高いわけではないことは示している。また、静的モードは動的モードに比べて大幅に少ない抽出性物質を生じたが、これは予想通りであった。
【０２２２】
比較実施例６：ＳｉＯx皮膜の溶解対ｐＨ
ここで変更を加えるもの以外の、容器中の溶解したケイ素を測定するためのプロトコルは以下の通りである。試験溶液、ｐＨ３、６、７、８、９及び１２の５０ｍＭ緩衝溶液を用意する。調査されるｐＨ値を提供するのに適切なｐＫａ値を有する緩衝液を選択する。ｐＨ３、７、８及び１２についてはリン酸カリウム緩衝液を選択し、ｐＨ６についてはクエン酸ナトリウム緩衝液を使用し、ｐＨ９についてはトリス緩衝液を選択する。３ｍｌの各試験溶液をホウケイ酸ガラス５ｍｌ薬剤バイアル及びＳｉＯxで被覆された５ｍｌ熱可塑性プラスチック薬剤バイアル内に配置する。バイアルは全て、標準的な、被覆されたストッパで閉じられ、圧着される。バイアルをストレージ内に２０〜２５℃で配置し、誘導結合プラズマ分光計（ＩＣＰ）により、異なる保管時間の、バイアル内に収容された溶液中のＳｉ含有量を１０億分率（ｐｐｂ）重量において分析するため、種々の時点において出す。
【０２２３】
ガラス溶解の速度を監視するためにここで変更を加えるもの以外は平均溶解速度Ｓｉ含有量を特定するためのプロトコルを使用する。各ｐＨ条件におけるホウケイ酸ガラス又はＳｉＯx皮膜の溶解の平均速度を特定するためにデータをプロットする。
【０２２４】
ｐｐｂにおけるＳｉ溶解の速度は、除去されたＳｉの総重量を特定し、その後、溶液に曝露したバイアル表面（１１．６５ｃｍ2）量の表面積計算及びＳｉＯxの密度の２．２ｇ／ｃｍ3を使用することにより、Ｓｉ溶解速度における予測厚さ（ｎｍ）に変換する。皮膜の予測初期厚さは、ｐＨ５において約３６ｎｍ、ｐＨ６において約８０ｎｍ、ｐＨ７において約２３０ｎｍ、ｐＨ７．５において約４００ｎｍ、ｐＨ８において約７５０ｎｍ、及びｐＨ９において約２６００ｎｍである。
【０２２５】
皮膜厚さは、医薬品及びバイオテクノロジー製品における典型的でない過酷な場合の状況を表す。大部分のバイオテクノロジー製品及び多くの医薬製品は冷却された状態で保管され、いずれも室温を超える温度での保管は通常推奨されない。一般的な経験則として、他の全ての条件が同じであれば、保管の温度が低くなるほど必要な厚さが低減される。
【０２２６】
この試験に基づき以下の結論に達した。第１に、ＳｉＯx皮膜又はガラス中の溶解Ｓｉの量はｐＨが増加するにつれて指数関数的に増加する。第２に、８未満のｐＨにおいてＳｉＯx皮膜はホウケイ酸ガラスよりもゆっくりと溶解する。ＳｉＯx皮膜は、経時的に、線形の、単相性（ｍｏｎｏｐｈａｓｉｃ）の溶解を示し、その一方で、ホウケイ酸ガラスは溶液への曝露の早期において、よりゆっくりとした線形の溶解の後に、より急速な溶解を示す傾向にある。これは、ＳｉＯx皮膜の均一な組成に対し、形成プロセス中、いくらかの塩及び要素がホウケイ酸に表面蓄積することに起因する可能性がある。この結果は、８未満のｐＨにおいてガラスの溶解を低減するためにＳｉＯx皮膜をホウケイ酸ガラスバイアルの壁に設けることの有用性を付随的に示唆する。第３に、製剤が保管されるバイアルのための、ＰＥＣＶＤが塗布されたバリア皮膜は、少なくとも製剤がバリア皮膜と著しく相互作用する場合においては、特定の製剤及び提案された保管条件に適合させること（又はその逆）が必要である。
【０２２７】
実施例７
滑性層を、そのｐＨ保護皮膜としての機能性について試験するために、ＳｉＯx皮膜＋ＯＭＣＴＳ滑性層で被覆された容器について実験を実施した。容器は、環式オレフィンコポリマー（ＣＯＣ、Ｔｏｐａｓ（登録商標）６０１３Ｍ−０７）を含む５ｍＬバイアル（バイアルには、通常、５ｍＬまで製品が充填され、キャップが嵌められている場合の、ヘッドスペースなしでのそれら容量は約７．５ｍＬである）である。
【０２２８】
６０個の容器のそれら内部表面をＳｉＯx皮膜で被覆した。ＳｉＯx皮膜は、バイアルを被覆するのに好適な機器が使用されること以外は、上に説明した、チューブ内側をＳｉＯxで被覆するためのプロトコルに従い、ＨＭＤＳＯ前駆体ガスを使用して、プラズマ化学気相成長（ＰＥＣＶＤ）法で作製した。以下の条件が使用される。
・ＨＭＤＳＯ流量：０．４７ｓｃｃｍ
・酸素流量：７．５ｓｃｃｍ
・ＲＦ電力：７０ワット
・被覆時間：１２秒（２秒のＲＦ電力ランプアップ時間を含む）
【０２２９】
次に、ＳｉＯx皮膜のものと同じ皮膜装置を使用すること以外は、上に説明した、ＣＯＣシリンジバレル内部をＯＭＣＴＳ滑性皮膜で被覆するためのプロトコルに従い、ＳｉＯxで被覆されたバイアルのＳｉＯx上を、ＰＥＣＶＤ法でＯＭＣＴＳ前駆体ガスを使用して作製したＳｉＯxＣy皮膜で被覆した。したがって、シリンジを被覆するためのプロトコルにおいて特別な適応は使用されない。以下の条件が使用される。
・ＯＭＣＴＳ流量：２．５ｓｃｃｍ
・アルゴン流量：１０ｓｃｃｍ
・酸素流量：０．７ｓｃｃｍ
・ＲＦ電力：３．４ワット
・被覆時間：５秒
【０２３０】
８つのバイアルを選択し、上に説明した総ケイ素測定のためのプロトコルを使用して、ＰＥＣＶＤ皮膜（ＳｉＯx＋ＳｉＯxＣy）の総堆積量をＰｅｒｋｉｎ  Ｅｌｍｅｒ  Ｏｐｔｉｍａ  Ｍｏｄｅｌ  ７３００ＤＶ  ＩＣＰ−ＯＥＳ機器により特定した。この測定は、両皮膜中のケイ素の総量を特定するものであり、ＳｉＯx皮膜とＳｉＯxＣy皮膜とをそれぞれ区別するものではない。結果を表７に示す。
【０２３１】
以下の研究においては、この実施例に特に明記されない限り、平均溶解速度を特定するためのプロトコルに従う。ｐＨの溶解速度に対する効果を試験するため、残りの実験では、それぞれｐＨ４及びｐＨ８の２つの緩衝ｐＨ試験溶液を使用する。両試験溶液は、リン酸カリウムを緩衝液として使用し、注射用水（ＷＦＩ）で希釈した（０．１ｕｍ滅菌済、濾過済）５０ｍＭ緩衝液である。ｐＨは濃縮硝酸でｐＨ４又は８にそれぞれ調整した。
【０２３２】
２５本のバイアルにおいては、各バイアルに７．５ｍｌの、ｐＨ４の緩衝試験溶液を充填し、別の２５本のバイアルにおいては、各バイアルに７．５ｍｌの、ｐＨ４の緩衝試験溶液を充填した（充填レベルはバイアルの上部まででありヘッドスペースはないことに留意されたい）。バイアルは、予洗したブチルストッパ及びアルミニウムクリンプを使用して閉じた。各ｐＨのバイアルは２つの群に分けた。１２本のバイアルを含む各ｐＨの１つの群を４℃で保管し、１３本のバイアルの第２の群を２３℃で保管する。
【０２３３】
バイアルは、１日目、３日目、６日目、及び８日目に試料採取する。この実施例において特に明記されない限りは、容器中の溶解したケイ素を測定するためのプロトコルを使用する。分析結果は各バイアルの緩衝試験溶液中のケイ素の１０億分率に基づき報告する。平均溶解速度を特定するためのプロトコルにおいては、溶解速度は上述のように１日あたりの１０億分率の観点から計算する。各々の保管温度における結果は表８に示す。
【０２３４】
ｐＨ８及びｐＨ４におけるＯＭＣＴＳベース皮膜のＳｉ溶解対時間の観察では、ｐＨ４の速度は室温条件において高くなることを示す。したがって、ｐＨ４の速度は、溶解するであろう初期皮膜の量を考慮した上で、保管寿命の終了時に適切な厚さの皮膜を残すには初めにどれほどの材料を塗布する必要があるかを特定するために使用される。この計算の結果は表９に示す。
【０２３５】
この計算に基づくと、３年の計算保管寿命を達成するにはＯＭＣＴＳ滑性層を約２．５倍厚くする必要がある（試験された皮膜の全質量を示す１４，３７１ｐｐｂの溶解に対し、３３９４５ｐｐｂの溶解となる）。
【０２３６】
実施例８
表１０に示すように、上記の比較実施例６及び実施例７の結果が比較されうる。「滑性層」とは、実施例７において言及したＳｉＯxＣyの皮膜である。
【０２３７】
このデータは、ＳｉＯxＣy皮膜も被覆されたバイアルにおいては、ｐＨ８において、ＳｉＯxのケイ素溶解速度のみが２桁超減少することを示す。
【０２３８】
同様の加速させた溶解条件下で実施したいくつかの異なる実験のデータによる別の比較を表１１に示す。
【０２３９】
行Ａ（ＯＭＣＴＳ皮膜を有するＳｉＯx）と行Ｃ（ＯＭＣＴＳ皮膜のないＳｉＯx）の比較では、ｐＨ８においては、ＯＭＣＴＳ滑性層もまた、ＳｉＯx皮膜に対する効果的なｐＨ保護皮膜又は層であることを示す。ＯＭＣＴＳ皮膜では、１日目の溶解速度が２５０４ｕｇ／Ｌ（本明細書では「ｕ」又はμ又はギリシャ文字「ｍｕ」は同一であり、「マイクロ」の略語である）から１６５ｕｇ／Ｌに減少した。このデータは、また、ＨＭＤＳＯベースのＳｉwＯxＣy（又はその等価のＳｉＯxＣy）オーバーコート（行Ｄ）では、ＯＭＣＴＳベースのＳｉwＯxＣy（又はその等価のＳｉＯxＣy）オーバーコート（行Ａ）よりもかなり高い溶解速度になったことを示す。このデータは、線状前駆体に対し、環式前駆体を使用することによりかなりの利点が得られることを示す。
【０２４０】
実施例９
表１に列挙した試料１〜６は実施例６に記載されるように用意する。更なる詳細は以下の通りである。
【０２４１】
環式オレフィン共重合体（ＣＯＣ）樹脂を射出成形して５ｍｌバイアルのバッチを形成する。シリコンチップを両面粘着テープによってバイアルの内部壁に接着する。バイアル及びチップはプラズマ化学気相成長（ＰＥＣＶＤ）によって２層皮膜で被覆する。第１層は本開示に定義されるバリア皮膜又は層特性を備えたＳｉＯxを含み、第２層はＳｉＯxＣyｐＨ保護皮膜又は層である。
【０２４２】
ＯＭＣＴＳ、アルゴン及び酸素を含む前駆体混合ガスを各バイアル内部に導入する。バイアル内部のガスを高周波（１３．５６ＭＨｚ）電源ｉにより容量結合電極間において励起する。単位ｓｃｃｍにおけるモノマー流量（Ｆm）、単位ｓｃｃｍにおける酸素流量（Ｆo）、ｓｃｃｍにおけるアルゴン流量、及び単位ワットにおける電力（Ｗ）を表１に示す。
【０２４３】
ｋＪ／ｋｇの単位における複合パラメータ（ｃｏｍｐｏｓｉｔｅ  ｐａｒａｍｅｔｅｒ）Ｗ／ＦＭは、プロセスパラメータＷ、Ｆm、Ｆo及び個々のガス種のｇ／モルにおける分子量Ｍから計算される。Ｗ／ＦＭは重合ガスの単位質量あたりエネルギ入カと定義される。重合ガスは、モノマー及び酸素などであるがそれらに限定されない、成長する皮膜に組み込まれる種と定義される。非重合ガス（ｎｏｎ−ｐｏｌｙｍｅｒｉｚｉｎｇ  ｇａｓｅｓ）は、対照的に、アルゴン、ヘリウム及びネオンなどであるがそれらに限定されない、成長する皮膜に組み込まれることのない種である。
【０２４４】
この試験においては、高Ｗ／ＦＭにおけるＰＥＣＶＤ処理によってより高いモノマーフラグメンテーション（ｍｏｎｏｍｅｒ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ）が発生し、より高い架橋結合密度を有する有機シロキサン皮膜を生成したと考えられる。これに対し、低いＷ／ＦＭにおけるＰＥＣＶＤ処理によって、より低いモノマーフラグメンテーションが発生し、比較的低い架橋結合密度を有する有機シロキサン皮膜を生成したと考えられる。
【０２４５】
異なる皮膜間における、試料２、３、５及び６の相対的な架橋結合密度を、ＦＴＩＲ吸光度スペクトルを測定することによって比較した。試料２、３、５及び６のスペクトルを図１１〜１４に提供する。各スペクトルにおいて、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の対称伸縮モード（１０００〜１０４０ｃｍ-1）におけるピーク吸光度に対する非対称伸縮モード（１０６０〜１１００ｃｍ-1）におけるピーク吸光度の比率を測定し、全て表１に示すようにこれら２つの測定値の比率を計算する。各々の比率は複合パラメータＷ／ＦＭに対して線形相関を有することが判明している。
【０２４６】
定性的関係（シリコンチップに塗布した場合に皮膜が油性（光沢があり、しばしば虹色の光彩を伴う）に見えるか非油性（光沢がない）に見えるか）もまた、表１のＷ／ＦＭ値と相関することが判明している。表１において確認されるように、低いＷ／ＦＭ値で堆積させた油性外観の皮膜（ｏｉｌｙ  ａｐｐｅａｒｉｎｇ  ｃｏａｔｉｎｇｓ）は、それらのより低い対称／非対称比率によって特定されるように、より高いＷ／ＦＭ及びより高い架橋結合密度で堆積させた非油性皮膜と比べてより低い架橋結合密度を有すると考えられる。この一般的な経験則から唯一除外されるのは表１の試料２である。試料２の皮膜はそれが薄すぎて見えないことから非油性の外観を呈すると考えられる。したがって、表１において試料２の油性観察は報告されない。赤外線スペクトルをチップ及びサンプル皮膜に透過させ、非被覆ヌルチップ（ｎｕｌｌ  ｃｈｉｐ）の透過を減じた、透過モードにおけるＦＴＩＲによってチップを分析した。
【０２４７】
下地ＳｉＯx皮膜を高いｐＨ及び温度の水溶液から保護する、高いＷ／ＦＭ値で作製した非油性有機シロキサン層が好適であるが、この理由は、表１において類似の実験に基づき予想されるように、それらが低いＳｉ溶解及び長い保管寿命を提供するからである。例えば、油性皮膜における大幅に短い保管寿命及び高い溶解速度とは対照的に、非油性皮膜においてはｐＨ８及び４０℃のバイアルの内容による計算ケイ素溶解は低減され、結果的な保管寿命はある場合においては１３８１日、別の場合においては１１４７日であった。計算保管寿命は実施例９において示したように特定される。計算保管寿命は、また、有機シロキサンｐＨ保護皮膜におけるＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の対称伸縮モードと非対称伸縮モードの比率に線形に相関する。
【０２４８】
試料６は特に試料５と比較されうる。有機シロキサン、ｐＨ保護皮膜を表１の試料６のプロセス条件に従い堆積させる。皮膜を高Ｗ／ＦＭで堆積させる。これにより、０．９５８の高い予想Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ対称／非対称比率を有する非油性皮膜が形成され、結果的に、８４．１ｐｐｂ／日の低い溶解速度（平均溶解速度を特定するためのプロトコルによって測定した）及び１１４７日の長い保管寿命（計算保管寿命を特定するためのプロトコルによって測定した）となる。対称Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉピーク吸光度と比べると比較的類似している非対称Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉピーク吸光度を示すこの皮膜のＦＴＩＲスペクトルを図１４に示す。これは高い架橋結合密度の皮膜を示すものであり、ｐＨ保護及び長い保管寿命において好適な特性である。
【０２４９】
有機シロキサンｐＨ保護皮膜を表１の試料５のプロセス条件に従い堆積させた。皮膜は中程度のＷ／ＦＭで堆積させた。これにより、０．６７３の低いＳｉ−Ｏ−Ｓｉ対称／非対称比率を有する油性皮膜が形成され、結果的に、２３６．７ｐｐｂ／日の高い溶解速度（平均溶解速度を特定するためのプロトコルに準ずる）及び２７１日のより短い保管寿命（計算保管寿命を特定するためのプロトコルに準ずる）になることが予想される。この皮膜のＦＴＩＲスペクトルは対称Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉピーク吸光度と比べると比較的高い非対称Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉピーク吸光度を示す。これは低い架橋結合密度の皮膜を示すものであり、ｐＨ保護及び長い保管寿命においては好ましくない特性であると考えられる。
【０２５０】
試料２は特に試料３と比較されうる。ｐＨ保護皮膜を表１の試料２のプロセス条件に従い堆積させる。皮膜は低Ｗ／ＦＭで堆積させる。これにより、０．５８２の低いＳｉ−Ｏ−Ｓｉ対称／非対称比率を示す皮膜を生じることが予想され、結果的に、１７４ｐｐｂ／日の高い溶解速度及び１０７日の短い保管寿命になる。この皮膜のＦＴＩＲスペクトルは、対称Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉピーク吸光度と比較すると比較的高い非対称Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉピーク吸光度を示す。これは低い架橋結合密度の皮膜を示すものであり、ｐＨ保護及び長い保管寿命においては好ましくない特性である。
【０２５１】
有機シロキサン、ｐＨ保護皮膜を表１の試料３のプロセス条件に従い堆積させた。皮膜は高Ｗ／ＦＭで堆積させた。これにより、０．９４７の高いＳｉ−Ｏ−Ｓｉ対称／非対称比率を有する非油性皮膜が形成され、結果的に、７９．５ｐｐｂ／日の予測された低いＳｉ溶解速度（平均溶解速度を特定するためのプロトコルに準ずる）及び１３８１日の長い保管寿命（計算保管寿命を特定するためのプロトコルに準ずる）になる。この皮膜のＦＴＩＲスペクトルは、対称Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉピーク吸光度と比べると比較的類似する非対称Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉピーク吸光度を示す。これは高い架橋結合密度の皮膜を示すものであり、ｐＨ保護及び長い保管寿命において好適な特性である。
【０２５２】
実施例１０
この実施例及び表２（異なるバリア皮膜又は層に関する類似の研究に基づく予想結果が表にされている）に示すように変更を加え、実施例７と同様の実験を実施した。１００本の５ｍＬＣＯＰバイアルを作製し、試料ＰＣ１９４ではｐＨ保護皮膜又は層のみを塗布したこと以外は上述のようにＳｉＯxバリア層及びＯＭＣＴＳベースのｐＨ保護皮膜又は層で被覆した。表２に報告されるように、バイアルの表面から抽出され、全ｐＨ保護皮膜を除去する皮膜量を再度１０億分率において測定した。
【０２５３】
この例では、いくつかの異なる皮膜溶解条件が用いられる。溶解のために使用した試験溶液は、０．０２又は０．２ｗｔ．％いずれかのポリソルベート８０界面活性剤、並びに８のｐＨを維持するための緩衝液を含有する。溶解試験は２３℃又は４０℃のいずれかにおいて実施される。
【０２５４】
複数のシリンジに各試験溶液を充填し、示した温度で保管し、抽出プロファイル及び抽出されたケイ素の量を特定するためにいくつかの間隔をおいて分析する。長期に及んだ保管時間の平均溶解速度を、その後、平均溶解速度を特定するためのプロトコルに従って得たデータを外挿することによって計算する。類似の実験を基にした予想結果は上述の通りに計算し、表２に示す。特に注目すべきは、表２に示すように、ＰＣ１９４ｐＨ保護皮膜又は層によって充填済みパッケージの非常に長い計算保管寿命が提供されたことである。
ｐＨ８、０．０２ｗｔ．％ポリソルベート８０界面活性剤、２３℃での保管に基づくと、２１０４５日（５７年超）、
ｐＨ８、０．２ｗｔ．％ポリソルベート８０界面活性剤、２３℃での保管に基づくと、３８７６８日（１００年超）、
ｐＨ８、０．０２ｗｔ．％ポリソルベート８０界面活性剤、４０℃での保管に基づくと、８１８４日（２２年超）、及び、
ｐＨ８、０．２ｗｔ．％ポリソルベート８０界面活性剤、４０℃での保管に基づくと、１４７３２日（４０年超）。
【０２５５】
表２を参照すると、最長計算保管寿命は１５０ワットのＲＦ電力レベル及び対応する高Ｗ／ＦＭ値の使用に対応する。使用する電力レベルが高くなるほどｐＨ保護皮膜又は層の架橋結合密度が高くなると考えられる。
【０２５６】
実施例１１
ＲＦ電力レベルの継続的な増加の、ｐＨ保護皮膜又は層のＦＴＩＲ吸光度スペクトルに対する影響を示す、実施例１０のものに類似する更なる一連の実験を実施した。結果を表３に示す。表３では、いずれの場合においても、通常、約１０００〜１０４０ｃｍ-1に位置するＳｉ−Ｏ−Ｓｉ対称伸縮ピークの最大振幅と、通常、約１０６０〜約１１００ｃｍ-1に位置するＳｉ−Ｏ−Ｓｉ非対称伸縮ピークの最大振幅との間において０．７５を超える対称／非対称比率を示す。したがって、特に定めのない限り比較可能な条件下における対称／非対称比率は、２０Ｗの電力レベルにおいては０．７９、４０、６０又は８０Ｗの電力レベルにおいては１．２１又は１．２２、１００ワットにおいては１．２６である。
【０２５７】
表３の１５０ワットのデータは他のデータとは幾分異なる条件下でとったものであり、上に記載した２０〜１００ワットのデータと直接比較することはできない。表３の試料６及び８のＦＴＩＲデータはバイアルの上部からとったものであり、表３の試料７及び９のＦＴＩＲデータはバイアルの下部からとったものである。また、表３の試料８及び９においては、ＯＭＣＴＳの量が試料６及び７に比べて半分に削減されている。表３の試料６及び７と試料８及び９との比較によって示されるように、１５０Ｗの電力レベルを維持する一方で酸素レベルを低減すると対称／非対称比率が更に上昇することが予想される。
【０２５８】
他の条件が同等であれば、対称／非対称比率を増加させると、５を超えるｐＨを有する物質が充填された容器の保管寿命は増加すると考えられる。
【０２５９】
表１２は、表３に概要を示した実験の、算出されたＯパラメータ及びＮパラメータ（米国特許第８，０６７，０７０号明細書に定義された）を示す。表１２に示すように、０．１３４〜０．３４３の範囲のＯパラメータ及び０．４０８〜０．６２３の範囲のＮパラメータは全て米国特許第８，０６７，０７０号明細書において請求された範囲外である。
【０２６０】
実施例１２〜１４
３つの異なるｐＨ保護皮膜又は層を用いた実施例１２〜１４のシリンジサンプルを、表１３に示すもの以外は実施例３〜５と同じ手法で作製した。
【０２６１】
実施例１２は、ＯＭＣＴＳ、酸素及びキャリアガスを用いた３成分のｐＨ保護皮膜又は層を有するものであった。実施例１３は、ＯＭＣＴＳ及び酸素を用いるがキャリアガスは用いない２成分のｐＨ保護皮膜又は層を有するものであった。実施例１４は、１成分のｐＨ保護皮膜又は層（ＯＭＣＴＳのみ）を有するものであった。
【０２６２】
これら実施例に従い作製されたｐＨ保護皮膜又は層は、また、複合バリア皮膜又は層が設けられているがｐＨ保護皮膜又は層は設けられていない類似の容器と比較して容器の保管寿命を増加させるためのｐＨ保護皮膜又は層として機能すると考えられる。
【０２６３】
実施例１５〜１７
実施例１２〜１４においては、実施例１５〜１７で前駆体としてＨＭＤＳＯを使用したこと以外は、ＯＭＣＴＳ前駆体ガスを使用する実施例１５〜１７を繰り返した。結果を表１４に示す。これら実施例に従い作製された皮膜は、ｐＨ保護皮膜又は層として、並びに複合バリア皮膜又は層が設けられているがｐＨ保護皮膜又は層は設けられていない類似の容器と比較して容器の保管寿命を増加させるためのｐＨ保護皮膜又は層としても機能すると考えられる。
【０２６４】
実施例１８〜２３
これら実施例においては０５１２ＯＭＣＴＳｐＨ保護皮膜又は層を、上記機器を用いて、示される特定のプロセス条件（表１８）で１ミリリットルＣＯＣ  ６０１３成形シリンジバレル上に塗布した。
【０２６５】
表１６に示すように、実施例１８、１９及び２０に類似する条件下で作製した姉妹試料（ｓｉｓｔｅｒ  ｓａｍｐｌｅ）の実施例２１、２２及び２３に対して更なる試験を実施した。
【０２６６】
これら実施例に従い製作されるｐＨ保護皮膜又は層は、複合バリア皮膜又は層が設けられているがｐＨ保護皮膜又は層は設けられていない類似の容器と比較して容器の保管寿命を増加させるためのｐＨ保護皮膜又は層として機能するとも考えられる。
【０２６７】
実施例２４：ｐＨ保護皮膜又は層抽出性物質
シリンジからのケイ素抽出性物質を、容器中の溶解したケイ素を測定するためのプロトコルに記載されるようにＩＣＰ−ＭＳ分析を使用して測定した。シリンジを静的状況及び動的状況の両方において評価した。以下のように変更を加えた、容器中の溶解したケイ素を測定するためのプロトコルにより試験手順を説明する。
・シリンジに２ｍｌの０．９％生理食塩水を充填する。
・シリンジを台に配置し、５０℃で７２時間保管する。
・７２時間後、溶解したケイ素について生理食塩水試験を行う。
・シリンジを通じて生理食塩水を排出する前及び後に溶解したケイ素を測定する。
【０２６８】
シリコン油被覆ガラスシリンジ並びにｐＨ保護被覆及びＳｉＯx被覆ＣＯＣシリンジから抽出可能なケイ素レベルを表１７に示す。ＩＣＰ−ＭＳ総ケイ素測定の精度は＋／−３％である。
【０２６９】
滑性及び／又はｐＨ保護測定の概要
表１８は、上記ＯＭＣＴＳ  ｐＨ保護皮膜又は層の概要を示す。
【０２７０】
本発明を図面及び前述の記載において詳細に示し且つ説明したが、そのような説明及び記載は例証的又は例示的であり、限定的でないとみなされる。本発明は開示した実施形態に限定されるものではない。図面、開示及び添付の特許請求の範囲の研究により、当業者及び請求される発明を実施する者であれば、開示した実施形態の他の変形形態を理解し、且つ実施することができる。特許請求の範囲においては、「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」という語は他の要素又はステップを排除するものではなく、不定冠詞「ａ」又は「ａｎ」は複数形を排除するものではない。特定の方策が互いに異なる従属請求項に述べられているという単なる事実は、これら方策の組み合わせを有利に使用できないことを示すものではない。特許請求の範囲におけるいかなる参照符号も範囲を限定するものと解釈されるべきではない。
【０２７１】
【表５】
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【０２７２】
【表６】
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【０２７３】
【表７】
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【０２７４】
【表８】
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【０２７５】
【表９】
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【０２７６】
【表１０】
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【０２７７】
【表１１】
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【０２７８】
【表１２】
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【０２７９】
【表１３】
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【０２８０】
【表１４】
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【０２８１】
【表１５】
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【０２８２】
【表１６】
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【０２８３】
【表１７】
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【０２８４】
【表１８】
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【０２８５】
【表１９】
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【０２８６】
【表２０】
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【０２８７】
【表２１】
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【０２８８】
【表２２】
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【０２８９】
【表２３】
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【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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