(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下地と、
前記下地上に配設され、ラビング処理が施されたラビング仕様配向膜と、
前記ラビング仕様配向膜上に配設され、光配向処理が施された光配向仕様配向膜と
を備え、
前記光配向仕様配向膜の膜厚は５〜２００Åであり、
平面視にて前記ラビング仕様配向膜の外周よりも内側に、前記光配向仕様配向膜が配設されている、液晶表示装置。
【請求項２】
請求項１に記載の液晶表示装置であって、
前記光配向仕様配向膜は、前記ラビング仕様配向膜よりも薄い、液晶表示装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の液晶表示装置であって、
前記光配向仕様配向膜の固形成分の濃度は、前記ラビング仕様配向膜の前記固形成分の濃度よりも低い、液晶表示装置。
【請求項４】
（ａ）下地を準備する工程と、
（ｂ）前記下地上にラビング仕様配向膜を形成して、前記ラビング仕様配向膜にラビング処理を施す工程と、
（ｃ）前記ラビング仕様配向膜上に光配向仕様配向膜を形成して、前記光配向仕様配向膜に光配向処理を施す工程と
を備え、
前記光配向仕様配向膜の膜厚は５〜２００Åであり、
平面視にて前記ラビング仕様配向膜の外周よりも内側に、前記光配向仕様配向膜が配設されている、液晶表示装置の製造方法。
【請求項５】
請求項４に記載の液晶表示装置の製造方法であって、
前記光配向仕様配向膜は、インクジェット印刷法によって前記ラビング仕様配向膜上に形成される、液晶表示装置の製造方法。
【請求項６】
請求項４に記載の液晶表示装置の製造方法であって、
前記光配向仕様配向膜は、スプレー塗布法によって前記ラビング仕様配向膜上に形成される、液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置、及び、液晶表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、液晶表示素子に用いられるガラス基板上に配向膜やカラーフィルターなどの薄膜を形成する方法として、フレキソ印刷装置による印刷法が知られている。この印刷法では、アニロックスロールとドクターブレードとの間に液状の薄膜形成材料溶液を適下し、アニロックスロールの外周面に転写された薄膜形成材料溶液を版胴上の印刷版に転写する。そして、印刷版に転写された薄膜形成材料溶液をガラス基板の上面に転写して塗布し、このガラス基板上に塗布された薄膜形成材料溶液を加熱して硬化させ、これによってガラス基板上に薄膜を形成する。
【０００３】
この薄膜としてラビング仕様配向膜を形成してからラビング処理を施した構成では、プレチルト角が発生することによる視野角コントラスト特性の悪化や、ラビング処理によるスジ不良、ムラ不良が発生する場合がある。このような視野角コントラスト特性の悪化、ラビング処理によるスジ不良、ムラ不良の発生を同時に改善するための技術として、特許文献１には、光（ＵＶ）配向仕様配向膜に、ラビング処理及び光（ＵＶ）配向処理を施して液晶パネルを製造する方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００５−０７０７８８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、光配向仕様配向膜に光配向処理を施した場合には、配向規制力が小さいことに起因してヤキツキ特性が悪化する場合があった。
【０００６】
また、光配向仕様配向膜に、ラビング処理、光配向処理をこの順に行った場合には、光照射による配向規制力の低下、ラビング処理時の配向規制力の不足によるヤキツキ特性の悪化、配向膜の削れによる輝点不良などが発生するという問題があった。一方、光配向仕様配向膜に、光配向処理、ラビング処理をこの順に行った場合には、プレチルト角の発生による視野角コントラスト特性の悪化や、ラビング処理によるスジ不良、ムラ不良が発生するという問題があった。
【０００７】
そこで、本発明は、上記のような問題点を鑑みてなされたものであり、視野角コントラスト特性及びヤキツキ特性の良化と、ラビング処理によるスジ不良の抑制と、ムラ不良の抑制とを実現可能な技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明に係る液晶表示装置は、下地と、前記下地上に配設され、ラビング処理が施されたラビング仕様配向膜と、前記ラビング仕様配向膜上に配設され、光配向処理が施された光配向仕様配向膜とを備える。前記光配向仕様配向膜の膜厚は５〜２００Åであり、平面視にて前記ラビング仕様配向膜の外周よりも内側に、前記光配向仕様配向膜が配設されている。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、ラビング処理が施されたラビング仕様配向膜上に、光配向処理が施された光配向仕様配向膜が配設されるので、視野角コントラスト特性及びヤキツキ特性の良化と、ラビング処理によるスジ不良の抑制と、ムラ不良の抑制とを実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】実施の形態１に係る液晶表示装置が備える配向膜の断面図である。
【図２】実施の形態１に係る液晶パネルの構成を示す平面図である。
【図３】実施の形態１に係る液晶パネルの構成を示す断面図である。
【図４】実施の形態１に係る液晶パネルの製造方法を示すフローチャートである。
【図５】実施の形態１に係る液晶パネルの製造方法を説明するための図である。
【図６】実施の形態１に係る液晶パネルの製造方法を説明するための図である。
【図７】実施の形態１に係る液晶パネルの製造方法を説明するための図である。
【図８】実施の形態１に係る液晶パネルの製造方法を説明するための図である。
【図９】変形例に係る液晶表示装置が備える配向膜の断面図である。
【図１０】変形例に係る液晶パネルの製造方法を説明するための図である。
【図１１】変形例に係る液晶表示装置が備える配向膜の断面図である。
【図１２】変形例に係る液晶表示装置が備える配向膜の平面図である。
【図１３】変形例に係る液晶パネルの製造方法を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
＜実施の形態１＞
図１は、本発明の実施の形態１に係る液晶表示装置が備える配向膜の断面図である。本実施の形態１に係る基板は、下地１と、下地１上に配設されたラビング仕様配向膜２ａと、ラビング仕様配向膜２ａ上に配設された光配向仕様配向膜２ｂとを備える。ここで、ラビング仕様配向膜２ａは、下地１上に塗布形成された後に、ラビング処理が施される。光配向仕様配向膜２ｂは、ラビング仕様配向膜２ａ上に塗布形成された後に、光配向処理が施される。なお、光配向処理に用いる光には、例えば紫外線（ＵＶ：ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ）が適用される。このような構成によれば、視野角コントラスト特性及びヤキツキ特性の良化と、ラビング処理によるスジ不良の抑制と、ムラ不良の抑制との全てを満たすことができる。
【００１２】
＜液晶表示装置（液晶パネル）の構成＞
本実施の形態１に係る液晶表示装置の構成の説明として、特に主要部である液晶パネルの具体的な構成について、図２及び図３を用いて説明する。
【００１３】
図２は、液晶パネル１０の構成における表示パネル全体の構成の平面図を示しており、図３は、図２における断面線Ａ−Ｂ（一点鎖線で示される）における断面図を示したものである。なお、煩雑とならないように、これら図には、主要部以外の構成の省略や一部簡略化などを適宜行っている。以下、液晶の動作モードにＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）モードを用い、スイッチング素子に薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）を用いる液晶パネルに、本実施の形態１を適用した場合について説明する。
【００１４】
なお、後述する製造方法に関する説明部分においても詳細に説明するが、液晶パネル１０は、ＴＦＴなどのスイッチング素子と画素電極とがアレイ状に配列されたアレイ基板であるＴＦＴアレイ基板１１０と、このＴＦＴアレイ基板１１０と対向配置される対向基板であるカラーフィルター基板（ＣＦ基板）１２０とを備えている。
【００１５】
ここで、液晶パネル１０は、滴下注入（ＯＤＦ：Ｏｎｅ  Ｄｒｏｐ  Ｆｉｌｌｉｎｇ）方式により製造される。ＯＤＦ方式では、一対の基板であるＴＦＴアレイ基板１１０及びカラーフィルター基板１２０のいずれか一方の基板表面に液晶が複数の液滴として落とされた後に、当該液晶が、両方の基板間とシールパターン１３３とにより囲まれる領域内に封止される。したがって、シールパターン１３３は、図２でも示されるとおり、閉ループ形状であり、真空注入方式で製造される液晶パネルのように、液晶を注入するための開口部である注入口はシールパターン１３３に設けられておらず、別途注入口を封止するための封止材も設けられていないといった構造的な特徴を有している。本実施の形態１では、シールパターン１３３の材質には、導電性粒子を混在させた光硬化型シール剤（光硬化型樹脂）が適用されているものとして説明するが、これに限ったものではない。
【００１６】
図２の平面図では、カラーフィルター基板１２０を手前にして液晶パネルを視た図を想定している。カラーフィルター基板１２０の奥側のＴＦＴアレイ基板１１０に設けられた画素電極１１３、ＴＦＴ１１４、ゲート配線１１８及びソース配線１１９を、実際には視ることはできないので、これらを図２では想像線（二点鎖線）で示している。カラーフィルター基板１２０は、シールパターン１３３まで設けられ、画素電極１１３及びＴＦＴ１１４は、表示領域１００内に設けられる。
【００１７】
この表示領域１００の外側を額縁状に囲うように額縁領域１０１が規定される。図中では、額縁領域１０１は、表示領域１００となる点線の矩形領域を囲み、当該点線を、額縁領域１０１と表示領域１００との境界としている。なお、ここで説明した表示領域１００及び額縁領域１０１は、液晶パネル１０のＴＦＴアレイ基板１１０上、カラーフィルター基板１２０上、及び、両基板間に挟まれる領域の全てにおいて規定されているものとし、以下の説明においては、全ての表示領域１００及び額縁領域１０１について区別しないものとする。
【００１８】
上述のＴＦＴアレイ基板１１０は、透明基板であるガラス基板１１１の一方の面に、液晶を配向させることが可能な２層配向膜１１２と、２層配向膜１１２の下部に配設され液晶を駆動する電圧を印加する画素電極１１３と、画素電極１１３に電圧を供給するスイッチング素子であるＴＦＴ１１４と、ＴＦＴ１１４を覆う絶縁膜１１５と、ＴＦＴ１１４に信号を供給する配線である複数のゲート配線１１８及びソース配線１１９と、ＴＦＴ１１４に供給される信号を外部から受け入れる端子１１６と、端子１１６から入力された信号をカラーフィルター基板１２０側へ伝達するためのトランスファ電極１１７と、端子１１６から入力された信号をゲート配線１１８、ソース配線１１９及びトランスファ電極１１７へ伝達する周辺配線（図示省略）とを含んでいる。ＴＦＴアレイ基板１１０のガラス基板１１１の他方の面には、偏光板１３１が配設される。
【００１９】
ここで、図３の構成のうち２層配向膜１１２よりガラス基板１１１側の構成は、図１の下地１に相当し、２層配向膜１１２の下層の配向膜１１２ａ（ガラス基板１１１により近い側の配向膜１１２ａ）は、図１のラビング仕様配向膜２ａに相当し、２層配向膜１１２の上層の配向膜１１２ｂ（ガラス基板１１１により遠い側の配向膜１１２ｂ）は、図１の光配向仕様配向膜２ｂに相当する。
【００２０】
図２に示すように、ＴＦＴ１１４は、ＴＦＴアレイ基板１１０上の表示領域１００において、それぞれ縦横に複数本配列されたゲート配線１１８とソース配線１１９とが交差する各交差部近傍に設けられる。画素電極１１３は、ゲート配線１１８とソース配線１１９とにより囲まれる各画素領域内にマトリクス状に配設される。また、端子１１６、トランスファ電極１１７、及び、周辺配線は、額縁領域１０１に形成される。
【００２１】
上述のカラーフィルター基板１２０は、透明基板であるガラス基板１２１の一方の面に、液晶を配向させることが可能な２層配向膜１２２と、２層配向膜１２２の下部に配設された共通電極１２３と、共通電極１２３の下部に設けられるカラーフィルター１２４及びブラックマトリクス（Ｂｌａｃｋ  Ｍａｔｒｉｘ：ＢＭ）１２５とを含んでいる。なお、共通電極１２３と、ＴＦＴアレイ基板１１０の画素電極１１３との間に電界が生じることにより、液晶が駆動される。また、ブラックマトリクス１２５は、カラーフィルター１２４同士の間、または、表示領域１００の外側の額縁領域１０１を遮光するために設けられる遮光層である。カラーフィルター基板１２０のガラス基板１２１の他方の面、すなわち、カラーフィルター１２４Ｒ〜１２４Ｂ、ブラックマトリクス１２５等の設けられる面と反対側の面には、偏光板１３２が配設される。
【００２２】
ここで、図３の構成のうち２層配向膜１２２よりガラス基板１２１側の構成は、図１の下地１に相当し、２層配向膜１２２の下層の配向膜１２２ａ（ガラス基板１２１により近い側の配向膜１２２ａ）は、図１のラビング仕様配向膜２ａに相当し、２層配向膜１２２の上層の配向膜１２２ｂ（ガラス基板１２１により遠い側の配向膜１２２ｂ）は、図１の光配向仕様配向膜２ｂに相当する。
【００２３】
ＴＦＴアレイ基板１１０とカラーフィルター基板１２０とは、シールパターン１３３を介して貼り合わされており、表示領域１００に配置される柱状スペーサ１３４により予め定められた基板間隔（一定の間隔）を隔てて保持されている。なお、柱状スペーサ１３４には、形態（形状）が異なる２種類の柱状スペーサを混在して含むデュアルスペーサ構造が適用されてもよい。デュアルスペーサ構造は、具体的には、いくつかの柱状スペーサとして、対向する基板と常時当接して基板間を保持するための、相対的に高さが高いスペーサ（メインスペーサと呼ばれる）を含むとともに、他のいくつかの柱状スペーサとして、対向する基板と常時当接せずに基板間の保持に寄与しないが、外力などにより基板間の距離が縮まった際に対向する基板と当接し基板間を保持するための、相対的に高さが低いスペーサ（サブスペーサと呼ばれる）を含む構造である。
【００２４】
シールパターン１３３により密封され、柱状スペーサ１３４により保持されたカラーフィルター基板１２０とＴＦＴアレイ基板１１０との間の間隙の少なくとも表示領域１００に対応する領域に、液晶層１３０が狭持される。
【００２５】
トランスファ電極１１７と共通電極１２３とは、シールパターン１３３中に混在された導電性粒子により電気的に接続されている。なお、図示しないが、端子１１６から入力された信号が、シールパターン１３３を介して共通電極１２３に伝達される。導電性粒子としては、弾性変形可能なものが導通の安定化の点で好ましく、例えば、表面に金メッキがされた球形の樹脂を用いるとよい。
【００２６】
端子１１６のそれぞれのパッドに対しては、接続配線となるＦＦＣ（Ｆｌｅｘｉｂｌｅ  Ｆｌａｔ  Ｃａｂｌｅ）１３７を介して駆動ＩＣ（Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ  Ｃｉｒｃｕｉｔ）チップ１３５を制御するための制御信号などを発生する制御ＩＣチップなどを備える制御基板１３６が接続されている。制御基板１３６からの制御信号は、端子１１６を介して、突出部に取り付けられた駆動ＩＣチップ１３５の入力側に入力される。駆動ＩＣチップ１３５は、当該入力に応じて駆動ＩＣチップ１３５の出力側より出力信号を出力し、当該出力信号が、表示領域２００から引き出された多数の信号引き出し配線（図示省略）を介して、表示領域１００内のゲート配線１１８及びソース配線１１９、ひいてはＴＦＴ１１４に供給される。
【００２７】
なお、液晶パネル１０の製造途中（特に制御基板１３６の取り付けられる前の段階）には、制御基板１３６及び端子１１６の周辺には、液晶パネル１０の表示動作を行うための検査回路が適宜接続される。
【００２８】
ＴＦＴアレイ基板１１０及びカラーフィルター基板１２０のうち、液晶パネル１０の表示面の反対側であるＴＦＴアレイ基板１１０に対向して、光源であるバックライトユニット（図示省略）が配置される。さらに、液晶パネル１０とバックライトユニットと間には、光の偏光状態や指向性などを制御する光学シートが配置される。液晶パネル１０は、これら部材と共にフレームなどの筐体（図示省略）の中に収納され、本実施の形態１の液晶表示装置は構成される。なお、当該収納は、表示面となる表示領域１００におけるカラーフィルター基板１２０の外側の部分が筐体から露出されるように行われる。
【００２９】
以上のように構成された本実施の形態１の液晶表示装置の動作について以下簡単に説明する。例えば制御基板１３６から制御信号が入力され、駆動ＩＣチップ１３５が動作し、表示領域１００内の配線を介して信号が各画素領域に伝わる。この結果、ＴＦＴアレイ基板１１０の各画素領域に配置される画素電極１１３と、カラーフィルター基板１２０上に配置される共通電極１２３との間に予め定められた駆動電圧が加わり、駆動電圧に合わせて液晶層１３０内の液晶の分子の方向が変わる。そして、バックライトユニットの発する光が、ＴＦＴアレイ基板１１０、液晶層１３０及びカラーフィルター基板１２０を介して、各画素単位で観察者側に透過または遮断されることにより、液晶パネル１０のカラーフィルター基板１２０側の表示領域１００における表示面に映像などが表示される。
【００３０】
＜液晶表示装置の製造フロー＞
次に、本実施の形態１に係る液晶表示装置の製造方法の全体の流れについて説明する。特に、当該液晶表示装置において特徴的な組み立て工程については、図４に示すフローチャートにしたがって説明する。なお、液晶表示装置の主要部分となる液晶パネルは、通常、最終形状よりも大きなマザー基板から、液晶パネルを１枚または複数枚（多面取り）切り出して製造される。図４におけるステップＳ１〜Ｓ８及びステップＳ９途中までのプロセスは、マザー基板の状態でのプロセスである。
【００３１】
まず、ステップＳ１前の基板準備工程（図示省略）において、それぞれマザー基板状態のＴＦＴアレイ基板１１０及びカラーフィルター基板１２０を準備する。ＴＦＴアレイ基板１１０及びカラーフィルター基板１２０の製造方法については一般的な方法を用いてもよいため、以下では簡単に説明する。成膜、フォトリソグラフィー法によるパターンニング、エッチング等のパターン形成工程を繰り返し用いて、ガラス基板１１１の一方の面に、ＴＦＴ１１４や画素電極１１３、端子１１６、及び、トランスファ電極１１７を形成することにより、ＴＦＴアレイ基板１１０が製造される。また、同様の工程を用いて、ガラス基板１２１の一方の面に、カラーフィルター１２４、ブラックマトリクス１２５、及び、共通電極１２３、有機樹脂膜をパターニングして形成された柱状スペーサ１３４を形成することにより、カラーフィルター基板１２０が製造される。なお、柱状スペーサ１３４に、形態が異なる２種類（複数種類）の柱状スペーサを混在して含むデュアルスペーサ構造を適用する場合には、公知のデュアルスペーサ構造の形成方法であるハーフトーン技術を利用してこれら柱状スペーサを高さのみで作り分けるとよい。
【００３２】
続いて、図４に示す組み立て工程のフローチャートのとおり、ステップＳ１の基板洗浄工程において、画素電極１１３が形成されているＴＦＴアレイ基板１１０を洗浄する。
【００３３】
次に、ステップＳ２の２層配向膜形成工程において、ＴＦＴアレイ基板１１０の一方の面に、２層配向膜１１２の下層の配向膜１１２ａ及び上層の配向膜１１２ｂをこの順で形成する。
【００３４】
本実施の形態１ではまず、図５に示すように、矢印２１ａの方向に回転可能なアニロックスロール２１の外周面に、ディスペンサ２２から液状の配向材２２ａを適下する。アニロックスロール２１の外周面に転写された液状の配向材のうち余分な部分は、ドクターブレード２３によって除去され、除去されなかった部分は、版胴（転写ローラ）２４の外周面に選択的に配設された転写版（樹脂凸版）２４ａに転写される。そして、版胴２４が矢印２４ｂの方向に回転することによって、転写版２４ａに転写された配向材２２ａが、ステージ２５に載置されたＴＦＴアレイ基板１１０の上面に転写されて塗布される。これにより、配向材２２ａが、配向膜１１２ａ（ラビング仕様配向膜２ａ）としてＴＦＴアレイ基板１１０上に形成される。
【００３５】
なお、配向膜１１２ａ（ラビング仕様配向膜２ａ）には、例えば、ポリアミック酸溶液をＴＦＴアレイ基板１１０に印刷した後に加熱処理し、溶媒の除去及び硬化反応（脱水縮合）させることによって得ることができる熱硬化性ポリアミドが適用されてもよい。または、配向膜１１２ａ（ラビング仕様配向膜２ａ）には、例えば、ポリイミド溶液をＴＦＴアレイ基板１１０に印刷し、溶媒を乾燥させることによって得ることができる可用性ポリイミドが適用されてもよい。
【００３６】
続いて図６に示すように、ラビングローラー２６を有する一般的なラビング処理装置を用いて、塗布形成された配向膜１１２ａに対しラビング処理を行う。それから、配向膜１１２ｂ（光配向仕様配向膜２ｂ）が、配向膜１１２ａと同様にアニロックスロール２１などによって、配向膜１１２ａ上に形成される。この時の状態を図７に示す。
【００３７】
なお、配向膜１１２ｂ（光配向仕様配向膜２ｂ）には、例えば、シクロブタンテトラカルボン酸ニ無水物、その誘導体、または、芳香族ジアミンからなるポリアミック酸またはポリイミドの繰り返し構造を主成分として含むポリアミック酸またはポリイミドが適用されてもよい（例えば特許第４５０４６６５号公報）。これら材料を配向膜１１２ｂ（光配向仕様配向膜２ｂ）に適用した場合には、ＩＰＳ（In Plane Switching）（登録商標）などの横電界モードの液晶表示装置を適切に実現することができる。
【００３８】
続いて図８に示すように、下層の配向膜１１２ａと上層の配向膜１１２ｂとを含む２層配向膜１１２に対して、光２７を照射する光配向処理を実施する。この光配向処理としては、偏光を照射可能な一般的な光配向処理装置を用いることができる。なお、これら２層配向膜１１２の下層の配向膜１１２ａと上層の配向膜１１２ｂとの塗布方法については、これに限ったものではなく、製造フローに応じて、後述する変形例の塗布方法が適宜適用されてもよい。最後に、塗布形成された２層配向膜１１２の材料をホットプレートなどにより焼成処理し乾燥させることにより、２層配向膜１１２が完成する。
【００３９】
以上、ＴＦＴアレイ基板１１０に対してステップＳ１及びＳ２の工程を行う場合について説明したが、共通電極１２３が形成されているカラーフィルター基板１２０も同様である。簡単に説明すると、ステップＳ１の洗浄工程を行った後、ステップＳ２の２層配向膜材料形成工程（下層配向膜の形成、ラビング処理、上層配向膜の形成、光配向処理）を行うことにより、２層配向膜１２２を形成する。なお厳密には、カラーフィルター基板１２０上に２層配向膜１２２を形成すると、カラーフィルター基板１２０上に形成された柱状スペーサ１３４の上部も、２層配向膜１２２で覆われる。しかしながら、柱状スペーサ１３４の高さに比べて２層配向膜１２２は薄いので、図などでは、柱状スペーサ１３４上に塗布された配向膜などの図示は省略している。
【００４０】
次に、ステップＳ３において柱状スペーサ１３４の高さを測定する。本実施の形態１では柱状スペーサ１３４は、カラーフィルター基板１２０上に形成されるので、カラーフィルター基板１２０上における柱状スペーサ１３４の高さを測定すればよい。なお、２層配向膜１２２の厚さが無視できる程度に薄いのであれば、初期の柱状スペーサ１３４の高さを測定してもよい。
【００４１】
柱状スペーサ１３４の高さを測定する意義は、後でも再度説明を行うが、滴下注入（ＯＤＦ）方式で液晶を注入するにあたり、当該液晶の滴下量を決定するためである。したがって、このステップＳ３では、液晶を満たす空間の容積に関係するセルギャップを決定することとなる柱状スペーサ１３４の高さ（デュアルスペーサ構造を用いた場合にはメインスペーサの高さ）を測定する。
【００４２】
次に、ステップＳ４のシール剤塗布工程において、スクリーン印刷装置を用いて、ＴＦＴアレイ基板１１０またはカラーフィルター基板１２０の主面に、シール剤を印刷ペーストとして塗布する。シールパターン１３３となるシール剤は、液晶パネル１０の表示領域１００を囲うように塗布される。
【００４３】
次に、ステップＳ５の液晶滴下工程において、シール剤が形成された基板上のシール剤で囲まれた領域内に液晶を滴下する。この液晶の滴下量は、ステップＳ３において測定した柱状スペーサ１３４の高さに基づいて決定される。
【００４４】
次に、ステップＳ６の真空貼り合わせ工程において、マザー基板状態のＴＦＴアレイ基板１１０とカラーフィルター基板１２０とを真空状態で貼り合わせてマザーセル基板を形成する。
【００４５】
それから、ステップＳ７のＵＶ照射工程でマザーセル基板にＵＶを照射し、シール剤を仮硬化させる。その後、ステップＳ８において加熱によりアフターキュアを行い、シール剤を完全に硬化させることにより、シールパターン１３３が形成される。
【００４６】
次に、ステップＳ９のセル分断工程において、マザーセル基板をスクライブラインに沿って切断し、個々の液晶パネルに分断する。
【００４７】
分断された個々の液晶パネルに対して、ステップＳ１０の偏光板貼り付け工程、ステップＳ１１の制御基板実装工程などを実行する。以上により、図４に示す一連の製造工程が完了し、図２及び図３に示すような液晶パネル１０が完成する。
【００４８】
さらに、液晶パネル１０の反視認側となるＴＦＴアレイ基板１１０の裏面側に、位相差板などの光学フィルムを介してバックライトユニットを配設する。そして、樹脂や金属などからなるフレーム内に、液晶パネル１０及びこれら周辺部材を適宜収納することにより、本実施の形態１に係る液晶表示装置が完成する。
【００４９】
＜実施の形態１のまとめ＞
以上のような本実施の形態１に係る液晶表示装置は、ラビング処理が施されたラビング仕様配向膜２ａと、ラビング仕様配向膜２ａ上に配設され、光配向処理が施された光配向仕様配向膜２ｂとを含む２層配向膜を備える。このような構成によれば、視野角コントラスト特性が良く、ラビング処理によるスジ不良、ムラ不良が抑制されており、さらに、ヤキツキ特性も良い（静止画を一定時間表示しても、ヤキツキ不良を生じ難い）液晶表示装置を実現することができる。
【００５０】
なお、以上では、液晶の動作モードがＴＮモードの液晶パネルを用いた液晶表示装置に本実施の形態１を適用した場合について説明したが、これに限ったものではない。特に、より高いレベルで視野角コントラスト特性、配向規制力及びＡＣヤキツキ特性改善が配向膜に求められるＦＦＳ（Ｆｒｉｎｇｅ  Ｆｉｅｌｄ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式の液晶パネルを有する液晶表示装置に適用すれば、上述の効果は顕著となる。
【００５１】
＜変形例＞
実施の形態１では、光配向仕様配向膜２ｂ（配向膜１１２ｂ，１２２ｂ）の厚さと、ラビング仕様配向膜２ａ（配向膜１１２ａ，１２２ａ）の厚さとは同じであることを想定して説明したが、これに限ったものではない。図９に示すように、上層の光配向仕様配向膜２ｂは、下層のラビング仕様配向膜２ａよりも薄くてもよい。例えば、ラビング仕様配向膜２ａの膜厚は４００〜２０００Åであり、光配向仕様配向膜２ｂの膜厚は５〜２００Åである構成が想定されるが、これに限ったものではない。このような構成によれば、上層が薄いので、下層のラビング仕様配向膜２ａの配向規制力を高いレベルで維持することができる。
【００５２】
なお、実施の形態１では、アニロックスロール２１などによって光配向仕様配向膜２ｂ（配向膜１１２ｂ，１２２ｂ）を形成した。しかしこれに限ったものではなく、例えば図１０に示すように、光配向仕様配向膜２ｂとなるミスト状の材料２８が、インクジェット印刷法によってラビング仕様配向膜２ａ上に塗布されることによって、光配向仕様配向膜２ｂがラビング仕様配向膜２ａ上に形成されてもよい。このように構成した場合には、薄い光配向仕様配向膜２ｂ（配向膜１１２ｂ，１２２ｂ）を実施の形態１よりも容易に形成することができる。
【００５３】
なお、インクジェット印刷法を用いる場合には、図１１及び図１２に示されるように、平面視にてラビング仕様配向膜２ａの外周よりも内側に、光配向仕様配向膜２ｂを形成するとよい。このように構成した場合には、インクジェット印刷法のデメリットであるパターンエッジのがたつきを抑制することができる。
【００５４】
また図１３に示すように、光配向仕様配向膜２ｂとなるミスト状の材料２９が、スプレー塗布法によってラビング仕様配向膜２ａ上に塗布されることによって、光配向仕様配向膜２ｂがラビング仕様配向膜２ａ上に形成されてもよい。このように構成した場合には、薄い光配向仕様配向膜２ｂ（配向膜１１２ｂ，１２２ｂ）を実施の形態１よりも容易に形成することができる。
【００５５】
また、光配向仕様配向膜２ｂ（配向膜１１２ｂ，１２２ｂ）の固形成分の濃度は、ラビング仕様配向膜２ａ（配向膜１１２ａ，１２２ａ）の固形成分の濃度よりも低く設定されてもよい。例えば、ラビング仕様配向膜２ａの固形成分は、４〜８ｗｔ％の濃度範囲とし、光配向仕様配向膜２ｂの固形成分は、０．５〜４ｗｔ％の濃度範囲としてもよい。固形成分には、例えば、ポリアミック酸または可溶性ポリイミドが含まれる。ただし、全く同じ成分が、ラビング仕様配向膜２ａ及び光配向仕様配向膜２ｂに共通に含まれなくてもよく、ラビング仕様配向膜２ａ及び光配向仕様配向膜２ｂにおいて、共通の高分子体（ポリアミック酸またはポリイミド）の側鎖の一部において感光基の有無が異なるものが、固形成分として含まれてもよい。このような構成によれば、下層のラビング仕様配向膜２ａの配向規制力を高いレベルで維持することができる。
【００５６】
なお、本発明は、その発明の範囲内において、実施の形態を適宜、変形、省略することが可能である。
【符号の説明】
【００５７】
１  下地、２ａ  ラビング仕様配向膜、２ｂ  光配向仕様配向膜、１１２，１２２  ２層配向膜。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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