(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
テープ状の基材を、容器に収容された超電導原料溶液に浸漬させて引き上げることにより、前記基材の表面に前記溶液を付着させる工程を有する酸化物超電導線材の製造方法であって、
前記容器内には、前記溶液中で回転自在な回転体が配置され、
前記回転体の外周には、前記基材を前記容器の内壁から離間させつつ、当該基材を前記溶液に浸漬させる方向から引き上げる方向に案内する案内溝が形成され、
前記回転体の外周面と前記容器の内壁とが近接して配置され、
前記基材の表面に前記溶液を付着させる工程では、前記基材が、前記容器の外方から前記溶液中に配置される前記回転体の外周の前記案内溝に掛けられており、前記溶液に浸漬した前記基材を、前記回転体の外周の前記案内溝と前記容器の内壁とで形成される排出口を介して前記溶液から引き上げる、
酸化物超電導線材の製造方法。
【請求項２】
前記回転体の外周には、前記案内溝が複数並んで配置され、
前記溶液に浸漬した複数の前記基材を、前記各案内溝と前記容器の内壁とで形成される前記各排出口を介して前記溶液から引き上げる、
請求項１に記載の酸化物超電導線材の製造方法。
【請求項３】
テープ状の基材を超電導原料溶液に浸漬させて引き上げることにより、前記基材の表面に前記溶液を付着させるための酸化物超電導線材の製造装置であって、
前記溶液を収容する容器と、
前記容器内に配置され前記容器内の前記溶液中で回転自在な回転体とを備え、
前記回転体の外周には、前記基材を前記容器の内壁から離間させつつ、当該基材を前記容器内の前記溶液に浸漬させる方向から引き上げる方向に案内する案内溝が形成され、
前記回転体の外周面と前記容器の内壁とが近接して配置され、
前記回転体の外周の前記案内溝と前記容器の内壁とで、前記溶液に浸漬した前記基材を排出する排出口が形成されている、
酸化物超電導線材の製造装置。
【請求項４】
前記回転体の外周には、前記案内溝が複数並んで配置され、
前記各案内溝と前記容器の内壁とで、前記溶液に浸漬した前記基材を排出する複数の排出口が形成されている、
請求項３に記載の酸化物超電導線材の製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、酸化物超電導線材の製造方法及び製造装置に関し、特に酸化物中間層が形成された金属基材上に、ＭＯＤ(Metal-organic Deposition)法を用いて超電導層を形成する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、ＭＯＤ法を用いて超電導層を形成することが提案されている（特許文献１，２参照）。ＭＯＤ法は、先ず、酸化物中間層が形成されたテープ状の基材を、超電導原料溶液（有機金属塩を有機溶媒に溶解させたもの）に浸し、この基材を超電導原料溶液から引き上げること（いわゆるディップコート法）により、基材の表面に超電導膜を付着させる。次に、仮焼成及び本焼成を行うことにより、酸化物超電導層を形成する。ＭＯＤ法は、非真空中でも長尺の基材に連続的に酸化物超電導層を形成できるので、ＰＬＤ(Pulse Laser Deposition)法やＣＶＤ(Chemical Vapor Deposition)法等の気相法よりも、プロセスが簡単で低コスト化が可能であることから、注目されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００４−３３５７１８号公報
【特許文献２】特開２００３−３０８７４６号公報
【特許文献３】特開２０１１−１７０９９８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、ＭＯＤ法において、酸化物中間層が形成されたテープ状の基材を、容器内に貯留した超電導原料溶液内に浸した後で引き上げる際に、容器の形状によっては、基材の端部（エッジ部）が容器の内壁に接触した状態で移動する可能性がある。
【０００５】
これにより、移動する基材の端部によって容器の内壁が削られてしまい、削られた内壁の異物が、引き上げる基材の表面に付着してしまうという問題が発生する。
【０００６】
表面に異物が付着した状態の基材に対して仮焼及び本焼が行われると、基材の表面に形成される超電導層は、異物の存在によって超電導層が配向成長されず、製造される酸化物超電導線材として所望の超電導特性を得ることができない。
【０００７】
本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、所望の超電導特性を得るだけでなく、基材上に均一な超電導膜を形成できる酸化物超電導線材の製造方法及び製造装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の酸化物超電導線材の製造方法の一つの態様は、
テープ状の基材を、容器に収容された超電導原料溶液に浸漬させて引き上げることにより、前記基材の表面に前記溶液を付着させる工程を有する酸化物超電導線材の製造方法であって、
前記容器内には、前記溶液中で回転自在な回転体が配置され、
前記回転体の外周には、前記基材を前記容器の内壁から離間させつつ、当該基材を前記溶液に浸漬させる方向から引き上げる方向に案内する案内溝が形成され、
前記回転体の外周面と前記容器の内壁とが近接して配置され、
前記基材の表面に前記溶液を付着させる工程では、前記基材が、前記容器の外方から前記溶液中に配置される前記回転体の外周の前記案内溝に掛けられており、前記溶液に浸漬した前記基材を、前記回転体の外周の前記案内溝と前記容器の内壁とで形成される排出口を介して前記溶液から引き上げるようにした。
【０００９】
本発明の酸化物超電導線材の製造装置の一つの態様は、
テープ状の基材を超電導原料溶液に浸漬させて引き上げることにより、前記基材の表面に前記溶液を付着させるための酸化物超電導線材の製造装置であって、
前記溶液を収容する容器と、
前記容器内に配置され前記容器内の前記溶液中で回転自在な回転体とを備え、
前記回転体の外周には、前記基材を前記容器の内壁から離間させつつ、当該基材を前記容器内の前記溶液に浸漬させる方向から引き上げる方向に案内する案内溝が形成され、
前記回転体の外周面と前記容器の内壁とが近接して配置され、
前記回転体の外周の前記案内溝と前記容器の内壁とで、前記溶液に浸漬した前記基材を排出する排出口が形成されている構成を採る。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、所望の超電導特性を得るだけでなく、基材上に均一な超電導層を形成でき、超電導層を備える超電導線材の通電性（超電導特性Ｊｃ）の向上を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明に係る一実施の形態の酸化物超電導線材の製造方法で用いられる製造装置の要部構成を模式的に示す分解斜視図
【図２】容器内に配置された回転体の正面を示す製造装置の正面部分断面図
【図３】図２のＡ−Ａ線矢視断面図
【図４】本発明に係る一実施の形態の制御装置を用いて製造される酸化物超電導線材の要部構造を模式的に示す図
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。
【００１３】
図１は、本発明に係る一実施の形態の製造方法で用いられる製造装置の要部構成を模式的に示す分解斜視図であり、図２は、容器内に配置された回転体の正面を示す製造装置の正面部分断面図であり、図３は、回転体の案内溝を示す図であり、回転体の案内溝を示す図である。なお、図１から図３に図示する白抜きの細矢印は、基材２０の移動方向（走行方向と同意）を示す。
【００１４】
製造装置１は、超電導原料溶液２を収容する容器３と、容器３内に配置されるとともに、外周に基材２０が掛けられる回転体４と、回転体４を支持する支持腕部５とを有する。回転体４は、図２及び図３に示すように超電導原料溶液２内に配置されて使用されるが、図１では、回転体４を容器３内から外した状態で示している。
【００１５】
製造装置１は、所謂、超電導原料溶液２の塗布装置としての機能を有する。製造装置１は、回転体４を介して回転体４に掛けられたテープ状の基材２０を超電導原料溶液２に浸漬し、引き上げる。これにより、製造装置１は、テープ状の基材２０の表面に、延在方向に沿って超電導原料溶液２を付着させる。
【００１６】
超電導原料溶液２は、基材２０に付着した後、焼成によって、ＲＥＢａｙＣｕ３Ｏｚ系（ＲＥは、Ｙ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ及びＨｏから選択された１種以上の元素を示し、ｙ≦２及びｚ＝６．２〜７である。）の高温超電導薄膜となる。
【００１７】
具体的には、超電導原料溶液２は、ＲＥ（ＲＥは、Ｙ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｅｕ、ＧｄおよびＨｏから選択された１種以上の元素を示す）、Ｂａ及びＣｕを含む有機金属錯体溶液（混合溶液）を含む有機金属錯体溶液である。ここでは、超電導原料溶液２として、イットリウム（Ｙ）のトリフルオロ酢酸塩（Ｙ−ＴＦＡ）、バリウム（Ｂａ）のトリフルオロ酢酸塩（Ba-TFA）及び銅（Ｃｕ）のナフテン酸塩を、Ｙ：Ｂａ：Ｃｕのモル比が１：ｂ：３（但し、ｂ＜２）で混合したものを用いた。なお、このような超電導原料溶液２としては、下記（ａ）〜（ｄ）の溶液を用いることが好ましい。
（ａ）ＲＥを含む有機金属錯体溶液：ＲＥを含むトリフルオロ酢酸塩、ナフテン酸塩、オクチル酸塩、レブリン酸塩、ネオデカン酸塩、酢酸塩のいずれか１種以上を含む溶液である。特に、ＲＥを含むトリフルオロ酢酸塩溶液であることが望ましい。
（ｂ）Ｂａを含む有機金属錯体溶液：Ｂａを含むトリフルオロ酢酸塩の溶液である。
（ｃ）Ｃｕを含む有機金属錯体溶液：Ｃｕを含むナフテン酸塩、オクチル酸塩、レブリン酸塩、ネオデカン酸塩、酢酸塩のいずれか１種以上を含む溶液である。
（ｄ）Ｂａと親和性の大きい金属を含む有機金属錯体溶液：Ｚｒ、Ｓｎ、Ｃｅ、Ｔｉ、Ｈｆ、Ｎｂから選択された少なくとも１種以上の金属を含むトリフルオロ酢酸塩、ナフテン酸塩、オクチル酸塩、レブリン酸塩、ネオデカン酸塩、酢酸塩のいずれか１種以上を含む溶液である。超電導原料溶液２は、少なくとも（ａ）、（ｂ）、（ｃ）の溶液を含む混合溶液であることが望ましい。
【００１８】
容器３は、超電導原料溶液２を収容すれば、どのように形成されてもよい。容器３は、ここでは、上方に開口して形成されている。容器３は、超電導原料溶液２の供給装置（図示省略）に接続されており、内部の超電導原料溶液２が減少すれば、補充可能に構成されている。
【００１９】
回転体４は、円柱状に形成され（円筒状に形成されてもよい）、外周に案内溝４２を有する。回転体４は、容器３内に配置される。回転体４は、両端面に配置される支持腕部５により、水平に配置される回転軸４４を中心に回転自在に支持されている。回転体４は、ここでは、回転軸４４を中心に周方向に回転自在である。回転体４は、耐薬品性に優れた材料により形成され、ここでは、テフロン（登録商標）等のフッ素樹脂製の回転体４である。これにより、回転体４自体から超電導原料溶液２への汚染が無くなる。また、テフロンは、摩擦係数の小さい物質であるので、使用後の洗浄や超電導原料溶液の拭き取り（例えばエタノールでの拭き取り）等が簡便になる。このように、回転体４の洗浄が容易になるので、超電導原料溶液２の種類を変更する際に、洗浄残りによる超電導原料溶液の汚染を防止できる。
【００２０】
案内溝４２は、テープ状の基材２０を、容器３の内壁３２から離間させつつ、基材２０を浸漬する方向から基材２０を引き上げる方向に案内する。案内溝４２は、超電導原料溶液２に浸漬して引き上げる基材の移動方向に沿って延在するように配置される。ここでは、案内溝４２は、回転体４の周方向に沿って設けられており、超電導原料溶液２に上方から下方に向けて浸漬される基材２０の移動方向（走行方向）を、浸漬する向きとは逆の向きの方向である上方（超電導原料溶液２からの引き上げ方向）に向けて転換させている。
【００２１】
案内溝４２は、ここでは、案内溝の対向する両側壁を形成する円盤状のガイド部４６の間に、ガイド部４６よりも外径が小さく、且つ、ガイド部４６と同軸心の円柱状の走行部４７を設けることにより形成される。走行部４７の外周面が、案内溝４２の底面となる。この走行部４７の外周面（底面）の軸方向の長さが案内溝４２の幅Ｗ１となる。ガイド部４６及び走行部４７は一体的に形成されるが円柱体の外面を溝状に切り欠くことで案内溝４２を外周に備える回転体４を構成してもよい。
【００２２】
案内溝４２は、ここでは、回転体４の外周面に複数本、回転軸方向に所定間隔を空けて並べて配置されている。なお、本実施の形態では回転体４の外周面に複数の案内溝を設けた構成としたが、これに限らない。外周面に１本の案内溝４２を設けても良く、２本、４本以上の案内溝４２を設けて良い。
【００２３】
本実施の形態では、案内溝４２は、回転体４の外周に複数本設けられることによって、複数の案内溝４２内の基材２０を、同時に、超電導原料溶液２に浸漬できる。すなわち、製造装置１では、複数の案内溝４２内に配置される基材２０のそれぞれに対して、同時に、超電導原料溶液２を塗布可能に構成されている。
なお、基材２０は、図示しない少なくとも離間するリール間に架け渡されており、これら一対のリール間でマルチターンされており、一つの基材２０が、回転体４の案内溝４２のそれぞれの内部に配置されている。
【００２４】
このように回転体４の外周に複数の案内溝４２を設けた場合、一本の長尺の基材２０を、それぞれの案内溝４２に通すことによって、所謂、マルチターンさせることができる。これにより、製造装置１と、図示しない焼成装置とを用いて、超電導原料溶液を塗布した後、仮焼成する工程を繰り返し行い、塗布膜を所定の厚みにすることが可能となっている。なお、本実施の形態では、回転体４に、案内溝４２を、回転軸４４方向に３本設けた構成としたが、１本、２本設けてもよく、４本以上設けてもよい。例えば、案内溝４２を１２本設けることよって、一本の基材２０に対し、マルチターンで最大１２回の焼成を繰り返し行うことができ、基材２０上に好適な厚みの超電導層を形成できる。
【００２５】
図２に示すように、案内溝の幅（走行部４７の外周面の回転軸４４方向の長さ）Ｗ１は、線材の幅Ｗ２にクリアランスを加えた幅である。すなわち、案内溝４２の幅Ｗ１は、基材２０の幅Ｗ２よりも広い幅である。また、案内溝４２の深さは、基材２０の厚みより深い長さである。これにより、案内溝４２内を基材２０が移動する際に、案内溝４２から基材２０が外れにくくなる。
【００２６】
また、外周面における案内溝同士の間隔は、案内溝内の基材が引き上げられる際に、それぞれの基材に付着する溶液のメニスカスが接触しない間隔となっている。
【００２７】
回転体４と容器３とは、容器３内に回転体４を配置した際に、回転体４の上面が、超電導原料溶液２の液面よりも下方に位置するように構成される。
【００２８】
すなわち、容器３は、回転体４を収容して、超電導原料溶液２内に完全に浸かった状態となる容量を有する。
【００２９】
回転体４は、容器３内に略隙間無く収容される大きさであることが望ましい。すなわち、回転体４の端面の直径は、容器の収容空間の横の長さと略同一の長さであり、容器の深さは回転体４の端面の直径よりも長い。また、回転体４の回転軸方向の長さは、容器において水平に延びる縦の長さと略同じかそれよりも長い。特に、回転体４は、容器３に収容された際に、当該回転体４の外周面に対して容器３の横方向（回転軸４４と直交する水平方向）で離間して対向する内壁３２（正背面方向で対向する内壁３２）のそれぞれに近接配置されるようになっている。
【００３０】
これにより、回転体４の案内溝４２と、それに対向する内壁３２とで、引き上げられる基材を排出する排出口３４を構成し、この排出口３４は、基材に近接した領域で囲むように形成される。
【００３１】
基材２０について、本実施の形態の制御装置１を用いて製造される酸化物超電導線材を参照して説明する。
【００３２】
図４は、本発明に係る一実施の形態の制御装置を用いて製造される酸化物超電導線材の要部構造を模式的に示す図である。
【００３３】
図４に示す酸化物超電導線材６０は、基材２０と、基材２０上に成膜された超電導層２３と、安定化層２４とを有する。
【００３４】
基材２０は、基板２１と、中間層２２とから構成される。
【００３５】
テープ状の基板２１は、例えば、ニッケル（Ｎｉ）、ニッケル合金、又はステンレス鋼などである。この金属製の基板２１は、ここでは、結晶粒無配向・耐熱高強度金属基板であり、Ｎｉ−Ｗ系、Ｎｉ−Ｃｒ系など（具体的には、Ｎｉ−Ｃｒ−Ｆｅ−Ｍｏ系のハステロイ（登録商標）Ｂ、Ｃ、Ｘ等）、Ｗ−Ｍｏ系、Ｆｅ−Ｃｒ系（例えば、オーステナイト系ステンレス）、Ｆｅ−Ｎｉ系（例えば、非磁性の組成系のもの）等の材料に代表される立方晶系のビッカース硬度（Ｈｖ）＝１５０以上の非磁性の合金である。基板２１の厚さは、例えば、０．１［ｍｍ］以下が好ましい。
【００３６】
中間層２２は、例えば基板２１からの元素の拡散が超電導層２３に及ぶのを防止するための第１の中間層（拡散防止層）と、超電導層２３の結晶を一定の方向に配向させるための第２の中間層（配向層）など、複数の中間層を有する。中間層２２は、１層以上の何層で構成されてもよい。例えば、中間層２２は、金属基板２１上に、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）層、ガリウムドープ酸化亜鉛層（Ｇｄ２Ｚｒ２Ｏ７：ＧＺＯ）、或いはイットリウム安定化ジルコニア（ＹＳＺ）等による第１層、Ｙ２Ｏ３又はＬａＭｎＯ３等の層である第２層、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）等から成る第３層、酸化ランタンマンガン（ＬａＭｎＯ３）等の層である第４層、酸化セリウム（ＣｅＯ２）層である第５層を、順に積層することで構成する。第１層及び第２層は、スパッタリング法で成膜される。なお、中間層２２を構成する各層（１〜４層）の厚みは、例えば、約１０００［ｎｍ］である。
【００３７】
中間層２２上には、超電導層２３が形成される。安定化層２４は、超電導層２３上に形成される。なお、安定化層２４は、銀、金、白金等の貴金属、あるいはそれらの合金であり低抵抗の金属である。この安定化層２４は、超電導層２３の直上にスパッタ法等により形成される。この安定化層２４によって、超電導層２３が金、銀などの貴金属、あるいはそれらの合金以外の材料と直接的な接触による反応によって引き起こす性能低下を防止する。これに加えて、安定化層２４は、事故電流や交流通電により発生した熱を分散して発熱による破壊・性能低下を防止する。
【００３８】
このように構成される製造装置１の回転体４の外周には、上述のように基板２１上に中間層２２が形成されたテープ状の基材２０が掛けられる。すなわち、回転体４の外周の案内溝４２内に、基材２０は配置される。
【００３９】
回転体４は、超電導原料溶液２を溜める容器３内で、回転体４の上面が超電導原料溶液２の液面よりも下の位置に位置される。つまり回転体４は、超電導原料溶液２に完全に浸かった状態で容器３内に配置される。これにより、基材２０は、容器３内の超電導原料溶液２に浸漬されて、超電導原料溶液２内で案内溝４２内を走行して引き上げられる。基材２０が案内溝４２を走行する際、回転体４にも基材２０の移動方向への力が作用するが、回転体４は、回転自在に支持されているので、回転体４自体も回転（矢印Ｒ方向に回転）する。これにより、案内溝４２内を通る基材２０は、案内溝４２内で摩擦を発生させることなく、超電導原料溶液２から引き上げられる。
【００４０】
基材２０と容器３の摩擦が発生すると、基材２０と容器３との接触部分で双方の少なくとも一方が削られ、削り屑が発生する。基材２０には削り屑を含む超電導原料溶液２が塗布されることになり、超電導原料溶液の塗布の均一性が著しく低下し、所望の特性を得ることができず、歩留まりが悪くなる。これに対して、本実施の形態では、基材２０に超電導原料溶液２を塗布する際に、基材２０に摩擦が発生しないので、削り屑の発生を防止して、超電導原料溶液２の塗布の均一性を向上できる。
【００４１】
基材２０が、超電導原料溶液２の液面から引き上げられる際には、回転体４が回転しながら、容器３の内壁３２と案内溝４２とで形成される排出口３４を介して引き上げられる。これにより、基材２０は、排出口３４を画成する部位（案内溝４２の内壁および容器３の内壁３２）に近接した状態で、排出口３４から引き上げることができる。よって、幅広の排出口から引き上げる場合と異なり、排出口内における超電導原料溶液２が揮発しにくく、揮発を出来るだけ防止でき、超電導原料溶液２の粘度変化を低減させることができるため、均一な膜厚で超電導原料溶液２を塗布できる。
【００４２】
均一性の高い超電導原料溶液２の膜は、その後、仮焼成および本焼成されることによって、超電導特性Ｊｃ（臨界電流密度）の高い超電導層２３となる。なお、基材２０の厚みは薄い方が、コイルとして円筒状に巻いて円筒状に形成しやすい。
【実施例】
【００４３】
上記製造装置１を用いて、金属基板２１上に中間層２２を製膜してなる厚み１００［μｍ］、幅１０［ｍｍ］、長さ１４０［ｍ］の基材２０上に、超電導原料溶液を所定厚になるように塗布・焼成を行って実施例１の超電導線材６０を生成した。具体的には、図１〜図３に示す容器３内の案内溝４２を介して上記寸法の基材２０を、容器３の内壁３２から離間させつつ、基材２０を超電導原料溶液２に浸漬する方向から、引き上げる方向に案内して引き上げることにより、基材２０に超電導原料溶液２を塗布した。この後、仮焼成、超電導原料溶液２の塗布を適宜繰り返した後で本焼成を施し、超電導線材６０を製造した。なお、このときの製造装置１の案内溝４２の深さは、１０［ｍｍ］であり、幅２０［ｍｍ］とした。このように製造された超電導線材の超電導特性Ｊｃ（臨界電流密度）を長手方向の両端部（１０［ｍ］の部分と、１３０［ｍ］の部分）および中央部（７０［ｍ］の部分）とで測定した。
【００４４】
すると、１０［ｍ］、７０［ｍ］、１３０［ｍ］のそれぞれの箇所でのＪｃは、ＭＡ/ｃｍ２であり、全てにおいて優れた超電導特性となった。これに対して、特許文献３に示すような内部に超電導原料溶液を貯留したＵ字状のチューブを用いて酸化物超電導線材を製造した。具体的には、超電導原料溶液を貯留したＵ字状のチューブ内に、実施例１で用いた基材２０と同様の基材を走行させて引き上げて、基材２０に超電導原料溶液を塗布して比較例１の超電導線材を製造した。
【００４５】
このように製造された比較例１の超電導線材の超電導特性Ｊｃ（臨界電流密度）を長手方向の両端部（１０［ｍ］の部分と、１３０［ｍ］の部分）および中央部（７０［ｍ］の部分）とで測定すると、Ｊｃが小さい箇所があった。実施例１と比較例１とを比較検討した結果、実施例１では、長手方向のどの箇所であっても同様の超電導特性Ｊｃを有し、超電導層が均一に塗布されていると考えられる。比較例１では、超電導層が均一に塗布されていなかったので、所望の超電導特性が得られない超電導線材となったと考えられる。
【００４６】
以上、本発明の実施の形態について説明した。なお、以上の説明は本発明の好適な実施の形態の例証であり、本発明の範囲はこれに限定されない。つまり、上記装置の構成や各部分の形状についての説明は一例であり、本発明の範囲においてこれらの例に対する様々な変更や追加が可能であることは明らかである。
【産業上の利用可能性】
【００４７】
本発明に係る酸化物超電導線材の製造方法および製造装置は、基材上に均一な超電導膜を形成できる酸化物超電導線材の製造方法を有し、ＭＯＤ法により超電導層の成膜を行う超電導線材の製造に用いることができる。
【符号の説明】
【００４８】
１  製造装置
２  超電導原料溶液
３  容器
４  回転体
５  支持腕部
２０  基材
２１  基板
２２  中間層
２３  超電導層
２４  安定化層
３２  内壁
３４  排出口
４２  案内溝
４４  回転軸
４６  ガイド部
４７  走行部
６０  酸化物超電導線材
【図１】
0006599262.tif 000002
【図２】
0006599262.tif 000003
【図３】
0006599262.tif 000004
【図４】
0006599262.tif 000005