(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部でターゲットにレーザ光が照射されると極端紫外光が生成されるチャンバと、
前記チャンバの内部に前記ターゲットを供給するターゲット供給部と、
ターゲット回収部とを備え、
前記ターゲット回収部は、
前記ターゲット供給部によって供給され前記レーザ光が照射されなかった前記ターゲットを衝突させるフィルタと、
前記ターゲットとの接触角が９０°以下の材料で形成され、前記フィルタを通過した前記ターゲットを衝突させて破壊する受面と、
を備え、
前記フィルタは、金属箔によって形成され、
前記フィルタは複数設けられ、
前記複数のフィルタは、前記ターゲットの進行経路に対して傾斜して配置され、
前記フィルタの傾斜方向は、複数のフィルタごとで異なる
極端紫外光生成装置。
【請求項２】
前記フィルタは、前記ターゲットが前記ターゲット回収部の外へ飛散することを抑止する
請求項１に記載の極端紫外光生成装置。
【請求項３】
前記フィルタは、前記ターゲットの運動エネルギーを低減する
請求項１に記載の極端紫外光生成装置。
【請求項４】
前記金属箔は、アルミホイルである
請求項１に記載の極端紫外光生成装置。
【請求項５】
前記金属箔の厚さは、２０μｍ〜１００μｍである
請求項１に記載の極端紫外光生成装置。
【請求項６】
前記金属箔には、ガスを通過させる開口が設けられている
請求項１に記載の極端紫外光生成装置。
【請求項７】
内部でターゲットにレーザ光が照射されると極端紫外光が生成されるチャンバと、
前記チャンバの内部に前記ターゲットを供給するターゲット供給部と、
ターゲット回収部とを備え、
前記ターゲット回収部は、
前記ターゲット供給部によって供給され前記レーザ光が照射されなかった前記ターゲットを衝突させるフィルタと、
前記ターゲットとの接触角が９０°以下の材料で形成され、前記フィルタを通過した前記ターゲットを衝突させて破壊する受面と、
を備え、
前記フィルタは、繊維部材によって形成されており、
前記繊維部材は、弾性を有する複数の繊維束で構成され、
前記繊維束は１または複数の繊維の束である
極端紫外光生成装置。
【請求項８】
前記繊維束の直径は、ドロップレットの形状を有する前記ターゲットの直径より小さく形成される
請求項７に記載の極端紫外光生成装置。
【請求項９】
前記複数の繊維束において、前記ターゲットの進行方向から視たときに隣り合う前記繊維束同士の間隔は、前記ターゲットの直径より大きく構成される
請求項７に記載の極端紫外光生成装置。
【請求項１０】
前記複数の繊維束のそれぞれは、前記繊維束の一端を固定端とし、他の一端を自由端と
する片持ち梁構造にて構成される
請求項７に記載の極端紫外光生成装置。
【請求項１１】
前記複数の繊維束のそれぞれは、前記自由端が重力方向に撓むよう構成される
請求項１０に記載の極端紫外光生成装置。
【請求項１２】
前記繊維束は、炭素繊維で構成される
請求項７に記載の極端紫外光生成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、極端紫外（ＥＵＶ）光を生成するための装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、半導体プロセスの微細化に伴って、半導体プロセスの光リソグラフィにおける転写パターンの微細化が急速に進展している。次世代においては、７０ｎｍ〜４５ｎｍの微細加工、さらには３２ｎｍ以下の微細加工が要求されるようになる。このため、例えば３２ｎｍ以下の微細加工の要求に応えるべく、波長１３ｎｍ程度の極端紫外（ＥＵＶ）光を生成する極端紫外（ＥＵＶ）光生成装置と縮小投影反射光学系（Reduced Projection Reflective Optics）とを組み合わせた露光装置の開発が期待されている。【０００３】
ＥＵＶ光生成装置としては、ターゲット物質にレーザ光を照射することによって生成されるプラズマを用いたＬＰＰ（Laser Produced Plasma：レーザ励起プラズマ）方式の装置と、放電によって生成されるプラズマを用いたＤＰＰ（Discharge Produced Plasma）方式の装置と、軌道放射光を用いたＳＲ（Synchrotron Radiation）方式の装置との３種類の装置が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】米国特許第７８７２２４５号
【特許文献２】米国特許第８１３８４８７号
【特許文献３】米国特許出願公開第２０１２／０２０５５５９号
【概要】
【０００５】
本開示の第１の観点に係る極端紫外光生成装置は、内部でターゲットにレーザ光が照射されると極端紫外光が生成されるチャンバと、前記チャンバの内部に前記ターゲットを供給するターゲット供給部と、前記ターゲット供給部によって供給され前記レーザ光が照射されなかった前記ターゲットを、前記ターゲットとの接触角が９０°以下の受面で受けて回収容器内に回収するターゲット回収部と、を備えてもよい。
【０００６】
本開示の第２の観点に係る極端紫外光生成装置は、内部でターゲットにレーザ光が照射されると極端紫外光が生成されるチャンバと、前記チャンバの内部に前記ターゲットを供給するターゲット供給部と、前記ターゲット供給部によって供給され前記レーザ光が照射されなかった前記ターゲットを通過させるフィルタが設けられたターゲット回収部と、を備えてもよい。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
本開示のいくつかの実施形態を、単なる例として、添付の図面を参照して以下に説明する。
【図１】図１は、例示的なＬＰＰ方式のＥＵＶ光生成システムの構成を概略的に示す。
【図２】図２は、ターゲット生成装置を含むＥＵＶ光生成装置の構成を示す。
【図３】図３は、ターゲット回収部の構成を示す。
【図４】図４は、ターゲット生成制御部におけるターゲット供給処理を説明するためのフローチャートを示す。
【図５】図５は、第１実施例のターゲット回収部の構成を示す。
【図６】図６は、ターゲットが受け部材の受面に衝突するときの様子を説明するための図を示す。
【図７】図７は、溶融スズに対する各種材料の接触角を示す。
【図８】図８は、第２実施例のターゲット回収部の構成を示す。
【図９Ａ】図９Ａは、ターゲットが図８に示すフィルタを通過する前の様子を説明するための図を示す。
【図９Ｂ】図９Ｂは、ターゲットが図８に示すフィルタを通過するときの様子を説明するための図を示す。
【図９Ｃ】図９Ｃは、ターゲットが図８に示すフィルタに通過した後の飛散物の様子を説明するための図を示す。
【図１０】図１０は、第３実施例のターゲット回収部の構成を示す。
【図１１】図１１は、第４実施例のターゲット回収部の構成を示す。
【図１２】図１２は、第５実施例のターゲット回収部の構成を示す。
【図１３Ａ】図１３Ａは、第６実施例のターゲット回収部に含まれるフィルタの構成を示す。
【図１３Ｂ】図１３Ｂは、図１３ＡにおけるＡ方向から視た図であってフィルタに予め通過孔が設けられていない場合を示す。
【図１３Ｃ】図１３Ｃは、図１３ＡにおけるＡ方向から視た図であってフィルタに予め通過孔が設けられている場合を示す。
【図１４Ａ】図１４Ａは、第７実施例のターゲット回収部に含まれるフィルタの構成を示す。
【図１４Ｂ】図１４Ｂは、図１４ＡにおけるＡ１方向から視た図を示す。
【図１４Ｃ】図１４Ｃは、図１４ＡにおけるＡ２方向から視た図を示す。
【図１４Ｄ】図１４Ｄは、図１４ＡにおけるＡ３方向から視た図を示す。
【図１４Ｅ】図１４Ｅは、図１４ＡにおけるＡ４方向から視た図を示す。
【図１５Ａ】図１５Ａは、ターゲットが図１４Ａに示すフィルタに衝突して通過したときの様子を説明するための図を示す。
【図１５Ｂ】図１５Ｂは、ターゲットが図１４Ａに示すフィルタに衝突せずに通過したときの様子を説明するための図を示す。
【図１５Ｃ】図１５Ｃは、ターゲットが図１４Ａに示すフィルタを通過した後の飛散物の様子を説明するための図を示す。
【図１６Ａ】図１６Ａは、第８実施例のターゲット回収部に含まれるフィルタの構成を示す。
【図１６Ｂ】図１６Ｂは、図１６ＡにおけるＡ方向から視た図を示す。
【図１７Ａ】図１７Ａは、第９実施例のターゲット回収部に含まれるフィルタの構成を示す。
【図１７Ｂ】図１７Ｂは、図１７ＡにおけるＡ方向から視た図を示す。
【図１８Ａ】図１８Ａは、第１０実施例のターゲット回収部に含まれるフィルタの構成を示す。
【図１８Ｂ】図１８Ｂは、図１８ＡにおけるＡ方向から視た図を示す。
【図１９Ａ】図１９Ａは、フィルタの設置形態についての他の例１を示す。
【図１９Ｂ】図１９Ｂは、フィルタの設置形態についての他の例２を示す。
【図１９Ｃ】図１９Ｃは、フィルタの設置形態についての他の例３を示す。
【図２０】図２０は、各制御部のハードウェア環境におけるブロック図を示す。
【実施形態】
【０００８】
〜内容〜
１．概要
２．用語の説明
３．ＥＵＶ光生成システムの全体説明
３．１  構成
３．２  動作
４．ターゲット回収部を含むＥＵＶ光生成装置
４．１  構成
４．２  動作
４．３  課題
５．第１実施形態のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収部
５．１  ターゲット回収部の第１実施例
６．第２実施形態のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収部
６．１  ターゲット回収部の第２実施例
６．２  ターゲット回収部の第３実施例
６．３  ターゲット回収部の第４実施例
６．４  ターゲット回収部の第５実施例
７．第３実施形態のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収部
７．１  ターゲット回収部の第６実施例
７．２  ターゲット回収部の第７実施例
７．３  ターゲット回収部の第８実施例
７．４  ターゲット回収部の第９実施例
７．５  ターゲット回収部の第１０実施例
８．フィルタの設置形態についての他の例
９．その他
９．１  各制御部のハードウェア環境
９．２  その他の変形例
【０００９】
以下、本開示の実施形態について、図面を参照しながら詳しく説明する。以下に説明される実施形態は、本開示のいくつかの例を示すものであって、本開示の内容を限定するものではない。また、各実施形態で説明される構成及び動作の全てが本開示の構成及び動作として必須であるとは限らない。なお、同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。
【００１０】
［１．概要］
本開示は、以下の実施形態を少なくとも開示し得る。
【００１１】
本開示におけるＥＵＶ光生成装置１は、内部でターゲット２７にパルスレーザ光３３が照射されるとＥＵＶ光２５２が生成されるチャンバ２と、チャンバ２の内部にターゲット２７を供給するターゲット供給部２６と、ターゲット供給部２６によって供給されパルスレーザ光３３が照射されなかったターゲット２７を、ターゲット２７との接触角が９０°以下の受面Ｓで受けて回収容器２８１内に回収するターゲット回収部２８と、を備えてもよい。
よって、本開示におけるＥＵＶ光生成装置１は、パルスレーザ光３３が照射されなかったターゲット２７を回収するとき、当該ターゲット２７の飛散物２７４がターゲット回収部２８の外部に飛散することを抑止し得る。
【００１２】
本開示におけるＥＵＶ光生成装置１は、内部でターゲット２７にパルスレーザ光３３が照射されるとＥＵＶ光２５２が生成されるチャンバ２と、チャンバ２の内部にターゲット２７を供給するターゲット供給部２６と、ターゲット供給部２６によって供給されパルスレーザ光３３が照射されなかったターゲット２７を通過させるフィルタ２８８が設けられたターゲット回収部２８と、を備えてもよい。
よって、本開示におけるＥＵＶ光生成装置１は、パルスレーザ光３３が照射されなかったターゲット２７を回収するとき、当該ターゲット２７の飛散物２７４がターゲット回収部２８の外部に飛散することを抑止し得る。
【００１３】
［２．用語の説明］
「ターゲット」は、チャンバに導入されたレーザ光の被照射物である。レーザ光が照射されたターゲットは、プラズマ化してＥＵＶ光を放射する。
「ドロップレット」は、チャンバ内へ供給されたターゲットの一形態である。
【００１４】
［３．ＥＵＶ光生成システムの全体説明］
［３．１  構成］
図１に、例示的なＬＰＰ方式のＥＵＶ光生成システムの構成を概略的に示す。
ＥＵＶ光生成装置１は、少なくとも１つのレーザ装置３と共に用いられてもよい。本願においては、ＥＵＶ光生成装置１及びレーザ装置３を含むシステムを、ＥＵＶ光生成システム１１と称する。図１に示し、かつ、以下に詳細に説明するように、ＥＵＶ光生成装置１は、チャンバ２、ターゲット供給部２６を含んでもよい。チャンバ２は、密閉可能であってもよい。ターゲット供給部２６は、例えば、チャンバ２の壁を貫通するように取り付けられてもよい。ターゲット供給部２６から供給されるターゲット物質の材料は、スズ、テルビウム、ガドリニウム、リチウム、キセノン、又は、それらの内のいずれか２つ以上の組合せを含んでもよいが、これらに限定されない。
【００１５】
チャンバ２の壁には、少なくとも１つの貫通孔が設けられていてもよい。その貫通孔には、ウインドウ２１が設けられてもよく、ウインドウ２１をレーザ装置３から出力されるパルスレーザ光３２が透過してもよい。チャンバ２の内部には、例えば、回転楕円面形状の反射面を有するＥＵＶ集光ミラー２３が配置されてもよい。ＥＵＶ集光ミラー２３は、第１及び第２の焦点を有し得る。ＥＵＶ集光ミラー２３の表面には、例えば、モリブデンと、シリコンとが交互に積層された多層反射膜が形成されていてもよい。ＥＵＶ集光ミラー２３は、例えば、その第１の焦点がプラズマ生成領域２５に位置し、その第２の焦点が中間集光点（ＩＦ）２９２に位置するように配置されるのが好ましい。ＥＵＶ集光ミラー２３の中央部には貫通孔２４が設けられていてもよく、貫通孔２４をパルスレーザ光３３が通過してもよい。
【００１６】
ＥＵＶ光生成装置１は、ＥＵＶ光生成制御部５、ターゲットセンサ４等を含んでもよい。ターゲットセンサ４は、撮像機能を有してもよく、ターゲット２７の存在、軌跡、位置、速度等を検出するよう構成されてもよい。
【００１７】
また、ＥＵＶ光生成装置１は、チャンバ２の内部と露光装置６の内部とを連通させる接続部２９を含んでもよい。接続部２９内部には、アパーチャ２９３が形成された壁２９１が設けられてもよい。壁２９１は、そのアパーチャ２９３がＥＵＶ集光ミラー２３の第２の焦点位置に位置するように配置されてもよい。
【００１８】
さらに、ＥＵＶ光生成装置１は、レーザ光進行方向制御部３４、レーザ光集光ミラー２２、ターゲット２７を回収するためのターゲット回収部２８等を含んでもよい。レーザ光進行方向制御部３４は、レーザ光の進行方向を規定するための光学素子と、この光学素子の位置、姿勢等を調整するためのアクチュエータとを備えてもよい。
【００１９】
［３．２  動作］
図１を参照すると、レーザ装置３から出力されたパルスレーザ光３１は、レーザ光進行方向制御部３４を経て、パルスレーザ光３２としてウインドウ２１を透過してチャンバ２内に入射してもよい。パルスレーザ光３２は、少なくとも１つのレーザ光経路に沿ってチャンバ２内を進み、レーザ光集光ミラー２２で反射されて、パルスレーザ光３３として少なくとも１つのターゲット２７に照射されてもよい。
【００２０】
ターゲット供給部２６は、ターゲット２７をチャンバ２内部のプラズマ生成領域２５に向けて出力するよう構成されてもよい。ターゲット２７には、パルスレーザ光３３に含まれる少なくとも１つのパルスが照射されてもよい。パルスレーザ光が照射されたターゲット２７はプラズマ化し、そのプラズマからＥＵＶ光２５１が、他の波長の光の放射に伴って放射され得る。ＥＵＶ光２５１は、ＥＵＶ集光ミラー２３によって選択的に反射されてもよい。ＥＵＶ集光ミラー２３によって反射されたＥＵＶ光２５２は、中間集光点２９２で集光され、露光装置６に出力されてもよい。なお、１つのターゲット２７に、パルスレーザ光３３に含まれる複数のパルスが照射されてもよい。
【００２１】
ＥＵＶ光生成制御部５は、ＥＵＶ光生成システム１１全体の制御を統括するよう構成されてもよい。ＥＵＶ光生成制御部５は、ターゲットセンサ４によって撮像されたターゲット２７のイメージデータ等を処理するよう構成されてもよい。また、ＥＵＶ光生成制御部５は、例えば、ターゲット２７が出力されるタイミング制御及びターゲット２７の出力方向等の制御の内の少なくとも１つを行ってもよい。更に、ＥＵＶ光生成制御部５は、例えば、レーザ装置３の発振タイミングの制御、パルスレーザ光３２の進行方向の制御、パルスレーザ光３３の集光位置の制御の内の少なくとも１つを行ってもよい。上述の様々な制御は単なる例示に過ぎず、必要に応じて他の制御が追加されてもよい。
【００２２】
［４．ターゲット回収部を含むＥＵＶ光生成装置］
［４．１  構成］
図２及び図３を用いて、ターゲット生成装置７及びターゲット回収部２８を含むＥＵＶ光生成装置１の構成について説明する。
図２は、ターゲット生成装置７を含むＥＵＶ光生成装置１の構成を示す。図３は、ターゲット回収部２８の構成を示す。
図２では、ＥＵＶ光生成装置１のチャンバ２から露光装置６に向かってＥＵＶ光２５２を導出する方向をＺ軸とする。Ｘ軸及びＹ軸は、Ｚ軸に直交し、且つ、互いに直交する軸とする。以降の図面でも図２の座標軸と同様とする。
【００２３】
ＥＵＶ光生成装置１のチャンバ２は、例えば、中空の球形状又は筒形状に形成されてもよい。筒形状のチャンバ２の中心軸方向は、ＥＵＶ光２５２を露光装置６へ導出する方向であってもよい。
【００２４】
筒形状のチャンバ２の側面部には、チャンバ２外からチャンバ２内へターゲット２７を供給するためのターゲット供給孔２ａが設けられてもよい。チャンバ２が中空の球形状であれば、ターゲット供給孔２ａは、チャンバ２の壁部であってウインドウ２１及び接続部２９の設置されていない位置に設けられてもよい。
【００２５】
チャンバ２の内部には、レーザ光集光光学系２２ａと、ＥＵＶ集光光学系２３ａと、ターゲット回収部２８と、プレート２２５と、プレート２３５とを備えてもよい。
【００２６】
プレート２３５は、チャンバ２の内側面に固定されてもよい。プレート２３５の中央には、その厚さ方向にパルスレーザ光３３が通過可能な孔２３５ａが設けられてもよい。孔２３５ａの開口方向は、図１における貫通孔２４及びプラズマ生成領域２５を通る軸と同一方向であってもよい。
プレート２３５の一方の面には、ＥＵＶ集光光学系２３ａが設けられてもよい。
プレート２３５の他方の面には、図示しない３軸ステージを介してプレート２２５が設けられてもよい。
【００２７】
プレート２３５の一方の面に設けられたＥＵＶ集光光学系２３ａは、ＥＵＶ集光ミラー２３と、ホルダ２３１とを含んでもよい。
ホルダ２３１は、ＥＵＶ集光ミラー２３を保持してもよい。ＥＵＶ集光ミラー２３を保持するホルダ２３１は、プレート２３５に固定されてもよい。
【００２８】
プレート２３５の他方の面に設けられたプレート２２５は、３軸ステージによって位置及び姿勢を変更可能であってもよい。
プレート２２５には、レーザ光集光光学系２２ａが設けられてもよい。
【００２９】
レーザ光集光光学系２２ａは、レーザ光集光ミラー２２と、ホルダ２２３と、ホルダ２２４とを含んでもよい。
レーザ光集光ミラー２２は、軸外放物面ミラー２２１及び平面ミラー２２２を含んでもよい。
【００３０】
ホルダ２２３は、軸外放物面ミラー２２１を保持してもよい。軸外放物面ミラー２２１を保持するホルダ２２３は、プレート２２５に固定されてもよい。
ホルダ２２４は、平面ミラー２２２を保持してもよい。平面ミラー２２２を保持するホルダ２２４は、プレート２２５に固定されてもよい。
【００３１】
軸外放物面ミラー２２１は、チャンバ２の底面部に設けられたウインドウ２１及び平面ミラー２２２とそれぞれ対向して配置されてもよい。
平面ミラー２２２は、孔２３５ａ及び軸外放物面ミラー２２１とそれぞれ対向して配置されてもよい。
軸外放物面ミラー２２１及び平面ミラー２２２の位置及び姿勢は、プレート２２５の位置及び姿勢が変更されることに伴って調整され得る。当該調整は、軸外放物面ミラー２２１及び平面ミラー２２２に入射したパルスレーザ光３２の反射光であるパルスレーザ光３３が、プラズマ生成領域２５で集光するように実行され得る。
【００３２】
ターゲット回収部２８は、チャンバ２の側面側に設けられていてもよい。
ターゲット回収部２８は、チャンバ２内にドロップレット２７１として出力されたターゲット２７の進行経路であるターゲット進行経路２７２の延長線上に配置されてもよい。
ターゲット回収部２８は、図３に示すように、回収容器２８１と、温度調節機構２８２とを含んでもよい。
なお、回収容器２８１及び温度調節機構２８２の詳細な構成については、図３を用いて後述する。
【００３３】
また、チャンバ２の外部には、レーザ光進行方向制御部３４と、ＥＵＶ光生成制御部５と、ターゲット生成装置７とを備えてもよい。
【００３４】
レーザ光進行方向制御部３４は、チャンバ２の底面部に設けられたウインドウ２１とレーザ装置３との間に設けられていてもよい。
レーザ光進行方向制御部３４は、高反射ミラー３４１及び高反射ミラー３４２と、ホルダ３４３及びホルダ３４４とを含んでもよい。
【００３５】
ホルダ３４３は、高反射ミラー３４１を保持してもよい。ホルダ３４４は、高反射ミラー３４２を保持してもよい。
ホルダ３４３及びホルダ３４４は、ＥＵＶ光生成制御部５に接続された図示しないアクチュエータによって位置及び姿勢を変更可能であってもよい。
【００３６】
高反射ミラー３４１は、パルスレーザ光３１が出射されるレーザ装置３の出射口及び高反射ミラー３４２とそれぞれ対向して配置されてもよい。
高反射ミラー３４２は、チャンバ２のウインドウ２１及び高反射ミラー３４１とそれぞれ対向して配置されてもよい。
高反射ミラー３４１及び高反射ミラー３４２の位置及び姿勢は、ＥＵＶ光生成制御部５によりホルダ３４３及びホルダ３４４の位置及び姿勢が変更されることに伴って調整され得る。当該調整は、高反射ミラー３４１及び高反射ミラー３４２に入射したパルスレーザ光３１の反射光であるパルスレーザ光３２が、チャンバ２の底面部に設けられたウインドウ２１を透過するように実行され得る。
【００３７】
ＥＵＶ光生成制御部５は、レーザ装置３との間で制御信号の送受を行い、レーザ装置３の動作を制御してもよい。
ＥＵＶ光生成制御部５は、レーザ光進行方向制御部３４及びレーザ光集光光学系２２ａのそれぞれのアクチュエータとの間で各々制御信号の送受を行ってもよい。それにより、ＥＵＶ光生成制御部５は、パルスレーザ光３１〜３３の進行方向及び集光位置を調整してもよい。
ＥＵＶ光生成制御部５は、ターゲット生成装置７の後述するターゲット生成制御部７４との間で制御信号の送受を行い、ターゲット生成装置７の動作を制御してもよい。
なお、ＥＵＶ光生成制御部５のハードウェア構成については、図２０を用いて後述する。
【００３８】
ターゲット生成装置７は、チャンバ２の側面側に設けられていてもよい。
ターゲット生成装置７は、ターゲット供給部２６と、ヒータ７１１と、ヒータ電源７１２と、圧力調節器７２１、配管７２２と、ガスボンベ７２３と、ピエゾ素子７３１と、ピエゾ電源７３２と、ターゲット生成制御部７４とを備えてもよい。
【００３９】
ターゲット供給部２６は、タンク２６１と、ノズル２６２とを含んでもよい。
タンク２６１は、中空の筒形状に形成されてもよい。中空のタンク２６１の内部には、ターゲット２７が収容されてもよい。
ターゲット２７を収容するタンク２６１の少なくとも内面は、ターゲット２７と反応し難い材料で構成されてもよい。ターゲット２７と反応し難い材料は、例えば、炭化珪素、酸化珪素、酸化アルミニウム、モリブデン、タングステン、タンタルのいずれかであってもよい。
【００４０】
ノズル２６２は、筒形状のタンク２６１の底面部に設けられていてもよい。ノズル２６２は、チャンバ２のターゲット供給孔２ａを通してチャンバ２の内部に配置されてもよい。ターゲット供給孔２ａは、ターゲット供給部２６が設置されることで塞がれ得る。それにより、チャンバ２の内部は大気と隔絶され得る。
ノズル２６２の内部は、ターゲット２７と反応し難い材料で構成されてもよい。
【００４１】
パイプ状のノズル２６２の一端は、中空のタンク２６１に固定されてもよい。パイプ状のノズル２６２の他端には、図示しないノズル孔が設けられていてもよい。ノズル２６２の一端側にあるタンク２６１がチャンバ２の外部に位置し、ノズル２６２の他端側にあるノズル孔がチャンバ２の内部に位置してもよい。ノズル２６２の中心軸方向の延長線上には、チャンバ２の内部にあるプラズマ生成領域２５及びターゲット回収部２８が位置してもよい。タンク２６１、ノズル２６２、及びチャンバ２は、その内部が互いに連通してもよい。
ノズル孔は、溶融したターゲット２７をチャンバ２内へジェット状に噴出するような形状で形成されてもよい。
【００４２】
ヒータ７１１は、筒形状のタンク２６１の外側側面部に固定されてもよい。タンク２６１に固定されたヒータ７１１は、タンク２６１を加熱してもよい。ヒータ７１１は、ヒータ電源７１２と接続されてもよい。
ヒータ電源７１２は、ヒータ７１１に電力を供給してもよい。ヒータ７１１に電力を供給するヒータ電源７１２は、ターゲット生成制御部７４と接続されてもよい。ヒータ電源７１２は、ヒータ７１１への電力供給をターゲット生成制御部７４によって制御されてもよい。
【００４３】
筒形状のタンク２６１の外側側面部には、図示しない温度センサが固定されてもよい。タンク２６１に固定された温度センサは、ターゲット生成制御部７４と接続されてもよい。温度センサは、タンク２６１の温度を検出し、検出信号をターゲット生成制御部７４に出力してもよい。ターゲット生成制御部７４は、温度センサから出力された検出信号に基づいて、タンク２６１内の温度が目標温度になるようヒータ７１１へ供給する電力を制御してもよい。それにより、タンク２６１内の温度は、目標温度に調節され得る。
【００４４】
配管７２２は、筒形状のタンク２６１の底面部であってノズル２６２の反対側と、圧力調節器７２１とを連結してもよい。配管７２２は、タンク２６１を含むターゲット供給部２６と圧力調節器７２１とを連通させ得る。
配管７２２は、図示しない断熱材等で覆われてもよい。配管７２２には、図示しないヒータが設置されてもよい。配管７２２内の温度は、ターゲット供給部２６のタンク２６１内の温度と同じ温度に保たれてもよい。
【００４５】
ガスボンベ７２３は、ヘリウム、アルゴン等の不活性ガスが充填されていてもよい。
ガスボンベ７２３は、圧力調節器７２１を介して、タンク２６１内に不活性ガスを給気してもよい。
【００４６】
圧力調節器７２１は、上述のように、筒形状のタンク２６１の底面部であってノズル２６２とは反対側に配管７２２を介して設けられてもよい。
圧力調節器７２１は、給気及び排気用の電磁弁や圧力センサ等を内部に含んでもよい。圧力調節器７２１は、圧力センサを用いてタンク２６１内の圧力を検出してもよい。
圧力調節器７２１は、ガスボンベ７２３に連結されてもよい。圧力調節器７２１は、ガスボンベ７２３に充填された不活性ガスを、タンク２６１内に給気してもよい。
圧力調節器７２１は、図示しない排気ポンプに連結されてもよい。圧力調節器７２１は、排気ポンプを動作させて、タンク２６１内のガスを排気してもよい。
圧力調節器７２１は、タンク２６１内にガスを給気又はタンク２６１内のガスを排気することによって、タンク２６１内の圧力を加圧又は減圧し得る。
【００４７】
圧力調節器７２１は、ターゲット生成制御部７４と接続されてもよい。圧力調節器７２１は、検出した圧力の検出信号をターゲット生成制御部７４に出力してもよい。圧力調節器７２１には、ターゲット生成制御部７４から出力された制御信号が入力されてもよい。
ターゲット生成制御部７４から出力される制御信号は、圧力調節器７２１から出力された検出信号に基づいて、タンク２６１内の圧力が目標圧力になるよう圧力調節器７２１の動作を制御するための制御信号であってもよい。
圧力調節器７２１は、ターゲット生成制御部７４の制御信号に基づいてタンク２６１内にガスを給気又はタンク２６１内のガスを排気してもよい。それにより、タンク２６１内の圧力は、目標圧力に調節され得る。
【００４８】
ピエゾ素子７３１は、パイプ状のノズル２６２の外側側面部に固定されてもよい。ノズル２６２に固定されたピエゾ素子７３１は、ノズル２６２に振動を与えてもよい。ノズル２６２に振動を与えるピエゾ素子７３１は、ピエゾ電源７３２と接続されてもよい。
ピエゾ電源７３２は、ピエゾ素子７３１に電力を供給してもよい。ピエゾ素子７３１に電力を供給するピエゾ電源７３２は、ターゲット生成制御部７４と接続されてもよい。ピエゾ電源７３２には、ターゲット生成制御部７４から出力された制御信号が入力されてもよい。
ターゲット生成制御部７４から出力される制御信号は、ピエゾ電源７３２が所定波形でピエゾ素子７３１に電力を供給するための制御信号であってもよい。
ピエゾ電源７３２は、ターゲット生成制御部７４の制御信号に基づいてピエゾ素子７３１に電力を供給してもよい。ピエゾ素子７３１は、所定波形に応じてノズル２６２に振動を与えてもよい。それにより、ノズル２６２からジェット状に噴出したターゲット２７の流れには定在波が与えられ、当該ターゲット２７が周期的に分離され得る。分離されたターゲット２７は、自己の表面張力によって自由界面を形成してドロップレット２７１を形成し得る。
【００４９】
ターゲット生成制御部７４は、ＥＵＶ光生成制御部５との間で制御信号の送受を行い、ターゲット生成装置７全体の動作を統括的に制御してもよい。
ターゲット生成制御部７４は、ヒータ電源７１２に制御信号を出力して、ヒータ電源７１２及びヒータ７１１の動作を制御してもよい。
ターゲット生成制御部７４は、圧力調節器７２１に制御信号を出力して、圧力調節器７２１及びガスボンベ７２３の動作を制御してもよい。
ターゲット生成制御部７４は、ピエゾ電源７３２に制御信号を出力して、ピエゾ電源７３２及びピエゾ素子７３１の動作を制御してもよい。
ターゲット生成制御部７４は、温度調節機構２８２に含まれる後述の温度制御部２８２ｄに制御信号を出力して、温度調節機構２８２の動作を制御してもよい。
なお、ターゲット生成制御部７４のハードウェア構成については、図２０を用いて後述する。
【００５０】
図３を用いて、ターゲット回収部２８の構成について説明する。
上述のように、ターゲット回収部２８は、回収容器２８１と、温度調節機構２８２とを含んでもよい。
【００５１】
回収容器２８１は、チャンバ２内にドロップレット２７１として出力されたターゲット２７を回収する容器であってもよい。このターゲット２７は、ターゲット供給部２６によってプラズマ生成領域２５に供給されたターゲット２７のうち、パルスレーザ光３３が照射されなかったターゲット２７であってもよい。
すなわち、回収容器２８１は、ターゲット供給部２６によって供給されたターゲット２７のうちＥＵＶ光２５１の生成に寄与しなかったターゲット２７を回収してもよい。
回収容器２８１に回収されたターゲット２７を「回収ターゲット２７３」ともいう。
【００５２】
回収容器２８１は、筒形状に形成されてもよい。筒形状の回収容器２８１の中心軸は、ターゲット進行経路２７２と一致してもよい。回収容器２８１の開口部２８１ａは、ターゲット供給部２６及びプラズマ生成領域２５と対向してもよい。回収容器２８１の底面部２８１ｂは、チャンバ２の壁２ｂの内面側に位置してもよい。回収容器２８１の側面部２８１ｃは、底面部２８１ｂから開口部２８１ａに向って延びるように設けられてもよい。
回収容器２８１は、ターゲット２７を開口部２８１ａから内部に導入し、当該ターゲット２７を、底面部２８１ｂ及び側面部２８１ｃで形成される空間に貯留してもよい。回収容器２８１は、チャンバ２の内部でターゲット２７を回収し得る。
【００５３】
温度調節機構２８２は、回収容器２８１内の温度を調節してもよい。
温度調節機構２８２は、ヒータ２８２ａと、ヒータ電源２８２ｂと、温度センサ２８２ｃと、温度制御部２８２ｄとを含んでもよい。
【００５４】
ヒータ２８２ａは、回収容器２８１の外表面を覆うように設けられてもよい。ヒータ２８２ａは、底面部２８１ｂ及び側面部２８１ｃの外表面に固定されてもよい。回収容器２８１に固定されたヒータ２８２ａは、回収容器２８１を加熱してもよい。ヒータ２８２ａは、ヒータ電源２８２ｂと接続されてもよい。
ヒータ電源２８２ｂは、ヒータ２８２ａに電力を供給してもよい。ヒータ２８２ａに電力を供給するヒータ電源２８２ｂは、温度制御部２８２ｄと接続されてもよい。ヒータ電源２８２ｂは、ヒータ２８２ａへの電力供給を温度制御部２８２ｄによって制御されてもよい。
【００５５】
温度センサ２８２ｃは、回収容器２８１の底面部２８１ｂや側面部２８１ｃに固定されてもよい。温度センサ２８２ｃは、底面部２８１ｂや側面部２８１ｃの内部に埋め込まれて固定されもよい。温度センサ２８２ｃは、底面部２８１ｂや側面部２８１ｃの内側表面に固定され、回収ターゲット２７３と直に接していてもよい。
温度センサ２８２ｃは、温度制御部２８２ｄと接続されてもよい。温度センサ２８２ｃは、回収容器２８１の温度を検出し、検出信号を温度制御部２８２ｄに出力してもよい。
【００５６】
温度制御部２８２ｄには、温度センサ２８２ｃから出力された検出信号が入力されてもよい。温度制御部２８２ｄは、ターゲット生成制御部７４と接続されてもよい。温度制御部２８２ｄは、温度センサ２８２ｃから出力された検出信号をターゲット生成制御部７４に出力してもよい。温度制御部２８２ｄには、ターゲット生成制御部７４から出力された制御信号が入力されてもよい。
ターゲット生成制御部７４から出力される制御信号は、温度センサ２８２ｃから出力された検出信号に基づいて、回収容器２８１内の温度が目標温度になるようヒータ電源２８２ｂの動作を制御するための制御信号であってもよい。当該制御信号には、回収容器２８１内の温度を目標温度にするための温度設定値が含まれてもよい。
温度制御部２８２ｄは、ターゲット生成制御部７４の制御信号に含まれる温度設定値に応じて、ヒータ電源２８２ｂからヒータ２８２ａへ供給する電力を制御してもよい。それにより、回収容器２８１内の温度は、目標温度に調節され得る。
【００５７】
目標温度は、ターゲット２７の融点以上の温度であってもよい。ターゲット２７がスズであれば、目標温度は、例えば２３２℃以上２７０℃未満の温度であってもよい。或いは、目標温度は、２７０℃以上の温度であってもよい。目標温度に調節された回収容器２８１では、回収ターゲット２７３を溶融させ得る。
【００５８】
［４．２  動作］
図４を用いて、ターゲット生成装置７を含むＥＵＶ光生成装置１の動作の概要について説明する。
図４は、ターゲット生成制御部７４におけるターゲット供給処理を説明するためのフローチャートを示す。
ターゲット生成制御部７４は、ＥＵＶ光生成制御部５から出力されたターゲット生成装置７の起動信号が入力されると、以下の処理を行ってもよい。
【００５９】
ステップＳ１において、ターゲット生成制御部７４は、ターゲット生成装置７の初期設定を行ってもよい。
ターゲット生成制御部７４は、ターゲット生成装置７の各構成部を起動し、各構成部の動作チェックを行ってもよい。そして、ターゲット生成制御部７４は、各構成部を初期化して初期設定値を設定してもよい。
【００６０】
特に、ターゲット生成制御部７４は、タンク２６１内の圧力が真空状態に近い圧力値となるように、圧力調節器７２１の初期圧力設定値を設定してもよい。真空状態に近い圧力値は、例えば１ｈＰａ程度であってもよい。
タンク２６１内に存在するターゲット２７と反応しやすいガスは、ターゲット２７が溶融する前に排気され得る。この際、ガスボンベ７２３から不活性ガスをタンク２６１内に数回給気して、タンク２６１内のパージ動作を行うようにしてもよい。
【００６１】
更に、ターゲット生成制御部７４は、ターゲット２７の温度がターゲット２７の融点以上の値となるよう、ヒータ７１１の初期温度設定値を設定してもよい。ヒータ７１１の初期温度設定値は、例えば２３２℃以上２７０℃未満の温度であってもよい。
【００６２】
更に、ターゲット生成制御部７４は、ターゲット２７を回収したときに回収ターゲット２７３の温度がターゲット２７の融点以上の値となるように、温度制御部２８３ｄを介してヒータ２８２ａの初期温度設定値を設定してもよい。ヒータ２８２ａの初期温度設定値は、例えば２３２℃以上２７０℃未満の温度であってもよい。
【００６３】
ステップＳ２において、ターゲット生成制御部７４は、ＥＵＶ光生成制御部５よりターゲット生成信号が入力されたか否かを判定してもよい。
ターゲット生成信号は、チャンバ２内のプラズマ生成領域２５へのターゲットの供給をターゲット生成装置７に実行させるための制御信号であってもよい。
ターゲット生成制御部７４は、ターゲット生成信号が入力されるまで待機してもよい。ターゲット生成制御部７４は、タンク２６１内の温度がターゲット２７の融点以上の所定範囲内で維持されるように、ヒータ７１１による加熱を継続して制御してもよい。ターゲット生成制御部７４は、回収容器２８１内の温度がターゲット２７の融点以上の所定範囲内で維持されるように、ヒータ２８２ａによる加熱を継続して制御してもよい。
ターゲット生成制御部７４は、ターゲット生成信号が入力されたと判定されたならば、ステップＳ３に移行してもよい。
【００６４】
ステップＳ３において、ターゲット生成制御部７４は、タンク２６１の温度を確認してもよい。ターゲット生成制御部７４は、温度設定値を適宜修正し、ヒータ７１１による加熱を制御してもよい。タンク２６１に収容されたターゲット２７は、その融点以上に加熱され得る。加熱されたターゲット２７は、溶融し得る。
【００６５】
ステップＳ４において、ターゲット生成制御部７４は、回収容器２８１の温度を確認してもよい。ターゲット生成制御部７４は、温度制御部２８２ｄを介して温度設定値を適宜修正し、ヒータ２８２ａによる加熱を制御してもよい。回収容器２８１に回収された回収ターゲット２７３は、その融点以上に加熱され得る。加熱された回収ターゲット２７３は、溶融し得る。
【００６６】
ステップＳ５において、ターゲット生成制御部７４は、ピエゾ電源７３２を介してピエゾ素子７３１に電力を供給してもよい。
ピエゾ素子７３１は、ノズル２６２に振動を与え得る。溶融したターゲット２７がノズル孔から噴出されていれば、溶融したターゲット２７がノズル２６２の振動によって分離されて、ドロップレット２７１が形成され得る。
なお、ターゲット生成制御部７４は、ピエゾ素子７３１へ所定波形の電力が供給されるようにピエゾ電源７３２の動作を制御してもよい。
この所定波形は、ドロップレット２７１が所定の生成周波数で生成されるような波形であってもよい。所定の生成周波数は、例えば５０ｋＨｚ〜１００ｋＨｚであってもよい。
【００６７】
ステップＳ６において、ターゲット生成制御部７４は、タンク２６１内の圧力がターゲット供給可能な圧力となる圧力設定値を圧力調節器７２１に設定してもよい。圧力調節器７２１は、設定された圧力設定値となるようにタンク２６１内の圧力を制御してもよい。
ターゲット供給可能な圧力は、溶融状態のターゲット２７が一定量でノズル孔から噴出すると共に、プラズマ生成領域２５に所定速度で到達するような圧力であってもよい。所定速度は、例えば６０ｍ／ｓ〜１００ｍ／ｓであってもよい。
タンク２６１に収容された溶融状態のターゲット２７は加圧され得る。加圧されたターゲット２７は、タンク２６１からノズル２６２に向かって流れ、ノズル孔から一定量で噴出され得る。一定量で噴出されたターゲット２７は、ピエゾ素子７３１から一定周期で振動が与えられ、一定周期で均一なドロップレット２７１が形成され得る。形成されたドロップレット２７１は、チャンバ２内に出力され得る。形成されたドロップレット２７１の直径は、例えば２０μｍ〜３０μｍであってもよい。
【００６８】
ＥＵＶ光生成制御部５は、ドロップレット２７１がプラズマ生成領域２５に到達するのに同期してパルスレーザ光３３がプラズマ生成領域２５を照射するように、レーザ装置３におけるパルスレーザ光３１の出力タイミングを制御してもよい。
プラズマ生成領域２５に照射されたパルスレーザ光３３は、プラズマ生成領域２５に到達したドロップレット２７１を照射し得る。パルスレーザ光３３が照射されたドロップレット２７１は、プラズマ化されＥＵＶ光２５１を生成し得る。
【００６９】
また、パルスレーザ光３３が照射されなかったドロップレット２７１は、プラズマ生成領域２５を通過してターゲット進行経路２７２を進行し、ターゲット回収部２８に到達し得る。ターゲット回収部２８に到達したドロップレット２７１は、回収容器２８１の開口部２８１ａから入射して、回収容器２８１内に貯留され得る。このとき、回収容器２８１の温度は、ターゲット２７の融点以上の所定範囲内で維持されていてもよい。このため、回収容器２８１に入射したドロップレット２７１は、溶融した状態で回収ターゲット２７３として回収容器２８１内に貯留され得る。
【００７０】
ステップＳ７において、ターゲット生成制御部７４は、ＥＵＶ光生成制御部５よりターゲット生成停止信号が入力されたか否かを判定してもよい。
ターゲット生成停止信号は、プラズマ生成領域２５へのターゲットの供給をターゲット生成装置７に停止させるための制御信号であってもよい。
ターゲット生成制御部７４は、ターゲット生成停止信号が入力されたと判定されなければ、ステップＳ３に移行してもよい。一方、ターゲット生成制御部７４は、ターゲット生成停止信号が入力されたと判定されたならば、本処理を終了してもよい。
【００７１】
［４．３  課題］
ＥＵＶ光生成装置１は、ターゲット２７を複数のドロップレット２７１としてプラズマ生成領域２５に供給し得る。ＥＵＶ光生成装置１は、プラズマ生成領域２５に到達したターゲット２７にパルスレーザ光３３を照射し、当該ターゲット２７をプラズマ化してＥＵＶ光２５１を生成し得る。
しかし、ＥＵＶ光生成装置１は、プラズマ生成領域２５に到達したターゲット２７に対して一部にはパルスレーザ光３３を照射しないことがあり得る。パルスレーザ光３３が照射されなかったターゲット２７は、ターゲット回収部２８によって回収され得る。
パルスレーザ光３３が照射されなかったターゲット２７がターゲット回収部２８に回収されるとき、当該ターゲット２７は、回収容器２８１の開口部２８１ａから回収容器２８１の内部に入射し得る。
【００７２】
このとき、入射したターゲット２７は、図３に示すように、回収容器２８１に貯留された回収ターゲット２７３の液面２７３ａに衝突し得る。液面２７３ａを形成する溶融状態の回収ターゲット２７３は、衝突したターゲット２７の衝撃力によって飛沫となり、飛散物２７４として跳ね上がることがあり得る。
跳ね上がった飛散物２７４は、開口部２８１ａを通過してターゲット回収部２８の外部に向かって飛散し得る。
【００７３】
溶融状態の回収ターゲット２７３が貯留されていない場合も、回収容器２８１に入射したターゲット２７は、底面部２８１ｂ又は側面部２８１ｃに衝突し得る。底面部２８１ｂ又は側面部２８１ｃに衝突したターゲット２７は、底面部２８１ｂ又は側面部２８１ｃの表面で破壊されると共に飛散物２７４となって跳ね上がることがあり得る。底面部２８１ｂ又は側面部２８１ｃの表面をターゲット２７に濡れ難い材料でコートしても、破壊されたターゲット２７は飛散物２７４となって跳ね上がることがあり得る。
跳ね上がった飛散物２７４は、開口部２８１ａを通過してターゲット回収部２８の外部に向かって飛散し得る。
【００７４】
飛散物２７４は、直径が数μｍ程度の微粒子であり得る。飛散物２７４は、チャンバ２内に設けられた各種光学系に付着し、その性能を低下させ得る。特に、チャンバ２内に設けられたＥＵＶ集光ミラー２３に飛散物２７４が付着すると、ＥＵＶ集光ミラー２３の反射率が低下し得る。ＥＵＶ集光ミラー２３の反射率が低下すると、ＥＵＶ光２５１の出力が低下して問題となり得る。
よって、ターゲット回収部２８の外部に飛散物２７４を飛散させることなく、パルスレーザ光３３が照射されなかったターゲット２７を効率的に回収し得る技術が望まれている。
【００７５】
［５．第１実施形態のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収部］
図５〜図７を用いて、第１実施形態のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収部２８について説明する。
第１実施形態のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収部２８は、ターゲット２７を回収する際、ターゲット回収部２８に入射したターゲット２７の軌道を変化させてもよい。同時に、第１実施形態のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収部２８は、入射したターゲット２７がターゲット回収部２８の衝突位置で反射して跳ね上がることを抑制してもよい。
第１実施形態のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収部２８の実施態様を、第１実施例として説明する。図２及び図３に示したターゲット回収部２８と同様の構成については説明を省略する。
【００７６】
［５．１  ターゲット回収部の第１実施例］
図５〜図７を用いて、第１実施例のターゲット回収部２８の構成について説明する。
図５は、第１実施例のターゲット回収部２８の構成を示す。図６は、ターゲットが受け部材２８３ａの受面Ｓに衝突するときの様子を説明するための図を示す。図７は、溶融スズに対する各種材料の接触角を示す。
第１実施例のターゲット回収部２８は、図５に示すように、回収容器２８１と、温度調節機構２８２と、受け部２８３と、抑止部２８４とを含んでもよい。
図５に示す第１実施例のターゲット回収部２８の構成において、図３に示したターゲット回収部２８と同一の構成については説明を省略する。
【００７７】
図５に示す回収容器２８１の構成は、図３に示した回収容器２８１の構成と同一であってもよい。
図５に示す温度調節機構２８２の構成は、図３に示した温度調節機構２８２の構成と同一であってもよい。
【００７８】
受け部２８３は、ターゲット回収部２８に入射したターゲット２７を受けてもよい。受け部２８３は、回収容器２８１の内部に設けられてもよい。受け部２８３は、回収容器２８１と一体的に形成された抑止部２８４の内部に設けられてもよい。
受け部２８３は、受け部材２８３ａと、支持部材２８３ｂとを含んでもよい。
【００７９】
支持部材２８３ｂは、受け部材２８３ａを回収容器２８１に対して着脱可能に固定してもよい。支持部材２８３ｂは、受け部材２８３ａと一体的に形成されてもよい。
【００８０】
支持部材２８３ｂの温度は、ターゲット２７の融点以上の所定範囲内に維持されてもよい。
上述のように、回収容器２８１内の温度は、温度調節機構２８２によってターゲット２７の融点以上の所定範囲内に維持されてもよい。回収容器２８１に固定された支持部材２８３ｂは、回収容器２８１からの熱伝導等によって伝熱され、ターゲット２７の融点以上の所定範囲内の温度に維持され得る。支持部材２８３ｂに固定された受け部材２８３ａも、支持部材２８３ｂからの熱伝導によって伝熱され、ターゲット２７の融点以上の所定範囲内の温度に維持され得る。
【００８１】
受け部材２８３ａは、ターゲット回収部２８に入射したターゲット２７を、衝突させて当該ターゲット２７を受けてもよい。受け部材２８３ａは、ターゲット回収部２８に入射したターゲット２７を受ける面である受面Ｓを含んでもよい。
【００８２】
受け部材２８３ａの受面Ｓは、ターゲット進行経路２７２の延長線上に位置してもよい。受面Ｓは、ターゲット供給部２６及びプラズマ生成領域２５と対向して配置されてもよい。受面Ｓは、ターゲット進行経路２７２に対し、所定の傾斜角度で傾斜して配置されてもよい。受面Ｓの傾斜角度は、受面Ｓに入射したターゲット２７の受面Ｓでの衝突により発生する飛散物２７４がターゲット回収部２８の外部に飛散しないような角度であってもよい。受面Ｓは、所定の傾斜角度で傾斜して配置されることにより、ターゲット回収部２８に入射したターゲット２７の軌道を変化させ得る。
なお、受け部材２８３ａの受面Ｓにターゲット２７が衝突するときの様子については、図６を用いて後述する。
【００８３】
受け部材２８３ａの受面Ｓは、コーティング材２８７ａでコートされてもよい。コーティング材２８７ａは、液体であるターゲット２７との接触角が９０°以下の材料であってもよい。コーティング材２８７ａがコートされた受面Ｓは、ターゲット回収部２８に入射したターゲット２７に対して濡れ易くなり得る。
一方、受面Ｓを含む受け部材２８３ａの温度は、上述のように、少なくともターゲット２７の融点以上の所定範囲内の温度に維持され得る。
このため、受面Ｓに入射したターゲット２７の一部は、受面Ｓに衝突してドロップレット２７１の形態が破壊された後、溶融状態のまま受面Ｓ上を濡らし得る。当該ターゲット２７によって濡れた状態となった受面Ｓ上には、ターゲット２７の液膜２７５が形成され得る。
なお、受面Ｓにターゲット２７が衝突した後の様子については、図６を用いて後述する。コーティング材２８７ａの詳細については、図７を用いて後述する。
【００８４】
抑止部２８４は、受け部２８３で受けたターゲット２７がターゲット回収部２８の外部に飛散することを抑止してもよい。
図５に示す抑止部２８４は、受面Ｓに入射したターゲット２７の受面Ｓでの衝突により発生した飛散物２７４が、ターゲット回収部２８の外部に飛散することを抑止してもよい。
抑止部２８４は、回収容器２８１の一部として回収容器２８１と一体的に形成されてもよい。
抑止部２８４は、筒形状に形成されてもよい。筒形状の抑止部２８４の中心軸は、回収容器２８１の中心軸と一致してもよい。筒形状の抑止部２８４は、回収容器２８１の開口部２８１ａの周縁を基端として、先端が、ターゲット供給部２６及びプラズマ生成領域２５に向かって延びるように形成されてもよい。筒形状の抑止部２８４の内径は、ターゲット供給部２６及びプラズマ生成領域２５に向かうに従って縮小するように形成されてもよい。
【００８５】
抑止部２８４の内周面は、ターゲット供給部２６及びプラズマ生成領域２５に向かうに従って内径が小さくなるテーパ面２８４ｂであってもよい。
テーパ面２８４ｂは、回収容器２８１の底面部２８１ｂ又は側面部２８１ｃと対向してもよい。
テーパ面２８４ｂは、受け部材２８３ａの受面Ｓと対向してもよい。ターゲット進行経路２７２に対するテーパ面２８４ｂの傾斜角度は、ターゲット進行経路２７２に対する受面Ｓの傾斜角度以上であってもよい。テーパ面２８４ｂは、受け部材２８３ａの受面Ｓと平行であってもよい。
テーパ面２８４ｂは、受面Ｓに入射したターゲット２７の飛散物２７４を、底面部２８１ｂ側に更に反射し得る。それにより、当該飛散物２７４は、ターゲット回収部２８の外部に飛散されなくなり得る。
【００８６】
ターゲット供給部２６側に位置する抑止部２８４の先端には、開口部２８４ａが設けられてもよい。開口部２８４ａの直径は、ターゲット２７の直径よりも十分に大きくてもよい。開口部２８４ａの直径は、例えば３０ｍｍであってもよい。
開口部２８４ａは、ターゲット回収部２８に入射したターゲット２７を、受け部２８３の受け部材２８３ａに導入し得る。
【００８７】
抑止部２８４の外周面には、温度調節機構２８２のヒータ２８２ａが固定されていてもよい。抑止部２８４内の温度は、温度調節機構２８２によってターゲット２７の融点以上の所定範囲内に維持されてもよい。
【００８８】
図６を用いて、受け部材２８３ａの受面Ｓにターゲット２７が衝突するときの様子について説明する。
ターゲット回収部２８に入射したターゲット２７は、受面Ｓの法線方向に対して入射角度θで入射すると、受面Ｓに衝突し得る。
受面Ｓにターゲット２７が衝突したとき、ターゲット２７は受面Ｓに対し衝撃力を与え得る。このとき、受面Ｓは、当該衝撃力の反作用力をターゲット２７に与え得る。この反作用力により、受面Ｓに衝突したターゲット２７は、ドロップレット２７１の形態が破壊され得る。破壊されたターゲット２７は、受面Ｓで反射されて飛散する飛散物２７４と、受面Ｓ上を覆う液膜２７５とに分かれ得る。
【００８９】
受面Ｓで反射されて飛散する飛散物２７４は、複数の微粒子からなる。
複数の微粒子からなる飛散物２７４は、ターゲット２７の入射角度θに等しい反射角度θの方向を中心軸とする円錐状の広がりをもって飛散し得る。この飛散物２７４は、図５に示すように、抑止部２８４のテーパ面２８４ｂにて底面部２８１ｂ側に更に反射され得る。テーパ面２８４ｂにて反射された飛散物２７４は、回収容器２８１に到達し得る。
【００９０】
受面Ｓのターゲット進行経路２７２に対する傾斜角度は、ターゲット２７の入射角度θが０°＜θ＜９０°となるような角度であってもよい。
受面Ｓに衝突したターゲット２７に働く上記反作用力における受面Ｓの法線方向成分Ｒｎは、当該ターゲット２７が受面Ｓで反射されて飛散物２７４として飛散する際の駆動力となり得る。すなわち、上記反作用力における受面Ｓの法線方向成分Ｒｎは、ターゲット２７の受面Ｓでの衝突により発生する飛散物２７４の量及び飛散速度を規定し得る。
ターゲット２７の入射角度θが０°＜θ＜９０°であるとき、上記反作用力における受面Ｓの法線方向成分Ｒｎは、θ＝０°であるときと比較して低減され得る。このため、ターゲット２７の入射角度θが０°＜θ＜９０°であると、ターゲット２７の受面Ｓでの衝突により発生する飛散物２７４の量及び飛散速度が抑制され得る。それにより、飛散物２７４がターゲット回収部２８の外部に飛散することを抑止し得る。
【００９１】
また、仮にターゲット２７の入射角度θがθ＝０°となるよう受面Ｓの傾斜角度を設定すると、受面Ｓはターゲット進行経路２７２に対して直交し得る。このため、ターゲット２７の受面Ｓでの衝突により発生した飛散物２７４は、抑止部２８４が備えるテーパ面２８４ｂで反射され難くなり得る。よって、当該飛散物２７４は、開口部２８４ａを通過してターゲット回収部２８の外部に飛散し得る。
【００９２】
また、仮にターゲット２７の入射角度θがθ＝９０°となるよう受面Ｓの傾斜角度を設定すると、受面Ｓはターゲット進行経路２７２に対して平行となり得る。このため、ターゲット回収部２８に入射したターゲット２７は、受面Ｓで受けられることなく、回収ターゲット２７３の液面２７３ａに衝突し得る。液面２７３ａを形成する回収ターゲット２７３は、衝突したターゲット２７の衝撃力によって飛沫となり、飛散物２７４として跳ね上がり得る。跳ね上がった飛散物２７４は、開口部２８４ａを通過してターゲット回収部２８の外部に飛散し得る。
【００９３】
このように、受面Ｓのターゲット進行経路２７２に対する傾斜角度は、ターゲット２７の入射角度θが０°＜θ＜９０°となるような角度であることが好ましい。
【００９４】
更に好適には、受面Ｓのターゲット進行経路２７２に対する傾斜角度は、ターゲット２７の入射角度θが４５°＜θ＜９０°となるような角度であってもよい。
このとき、上記反作用力における受面Ｓの法線方向成分Ｒｎは、更に低減され得る。このため、ターゲット２７の受面Ｓでの衝突により発生する飛散物２７４の量及び飛散速度が更に抑制され得る。それにより、飛散物２７４がターゲット回収部２８の外部に飛散することを抑止し得る。
また、このとき、受面Ｓのターゲット進行経路２７２に対する傾斜角度は、更に鋭角となり得る。このため、受面Ｓでの衝突により発生した飛散物２７４は、回収容器２８１の底面部２８１ｂ側に向かって飛散し易くなり得る。そして、当該飛散物２７４は、抑止部２８４が備えるテーパ面２８４ｂの底面部２８１ｂ側で反射され易くなり得る。テーパ面２８４ｂの底面部２８１ｂ側で反射された飛散物２７４は、回収容器２８１に到達し易くなり得る。それにより、飛散物２７４がターゲット回収部２８の外部に飛散することを一層抑止し得る。
【００９５】
一方、受面Ｓ上を覆う液膜２７５は、上述のように、受面Ｓでの衝突により破壊されたターゲット２７が溶融状態のまま受面Ｓ上を濡らすことによって形成され得る。
液膜２７５は、その表面張力によって受面Ｓに新たに入射したターゲット２７の衝撃力を緩和すると共に当該新たに入射したターゲット２７を捕獲し得る。それにより、受面Ｓに新たに入射したターゲット２７に働く上記反作用力は低減され得る。上記反作用力における受面Ｓの法線方向成分Ｒｎも低減され得る。このため、当該新たに入射したターゲット２７の受面Ｓでの衝突により発生する飛散物２７４の量及び飛散速度は抑制され得る。それにより、飛散物２７４がターゲット回収部２８の外部に飛散することを抑止し得る。
加えて、液膜２７５は、当該新たに入射したターゲット２７が受面Ｓで衝突することによって飛散物２７４が発生したとしても、その表面張力によって当該飛散物２７４を捕獲し得る。このため、当該新たに入射したターゲット２７の受面Ｓでの衝突により発生する飛散物２７４の量及び飛散速度は、抑制され得る。それにより、飛散物２７４がターゲット回収部２８の外部に飛散することを抑止し得る。
【００９６】
液膜２７５は、捕獲したターゲット２７を溶融し、液膜２７５内に蓄積し得る。捕獲したターゲット２７の蓄積によって液膜２７５の体積が増加すると、当該液膜２７５に働く重力が増加し得る。
その後、液膜２７５は、自身に働く重力の増加により、受面Ｓ上に留まることができなくなり得る。すると、液膜２７５の一部は、底面部２８１ｂ側に流れ落ちていき、回収容器２８１に到達し得る。
【００９７】
図７を用いて、コーティング材２８７ａの詳細について説明する。
図７は、溶融スズに対する各種材料の接触角を示す表である。図７の表は、「ぬれ技術ハンドブック〜基礎・測定評価・データ〜」（監修：石井淑夫、小石眞純、角田光雄、発行所：株式会社テクノシステム）に基づいている。
一般に、接触角αが０°＜α≦９０°の範囲にある状態は浸漬濡れという。このとき、固体は液体に濡れ易い。浸漬濡れでは、固体は液体に浸漬して浸み込み易い。
一方、接触角αが９０°＜α≦１８０°の範囲にある状態は付着濡れという。このとき、固体は液体に濡れ難い。付着濡れでは、固体表面に接触した液体は重力方向に移動し易い。
【００９８】
ターゲット２７は、スズであってもよい。ターゲット回収部２８に入射するターゲット２７は、ドロップレット２７１の形態を成す溶融スズであってもよい。
受け部材２８３ａの受面Ｓにコートするコーティング材２８７ａは、溶融スズに濡れ易い材料であってもよい。溶融スズに濡れ易い材料とは、ターゲット２７との接触角が９０°以下の材料であってもよい。
【００９９】
ターゲット２７との接触角が９０°以下の材料は、例えば図７に示すように、アルミニウム、銅、ステンレス、シリコン、ニッケル、チタン、真空加熱処理を施したモリブデンであり得る。モリブデンは、真空加熱処理を施すと、表面の吸着層や酸化物層が除去され、溶融スズが濡れ易くなり得る。
【０１００】
なお、ターゲット２７との接触角が９０°以下の材料は、受け部材２８３ａの受面Ｓにコートするコーティング材２８７ａとして用いることに限定されない。ターゲット２７との接触角が９０°以下の材料は、受け部材２８３ａ自体の構成材料として用いてもよい。
また、受面Ｓのターゲット２７との接触角を９０°以下にする手段は、コーティング材２８７ａをコートすることに限定されない。例えば、受面Ｓのターゲット２７との接触角を９０°以下にする手段は、受面Ｓに表面処理を施すことであってもよい。
【０１０１】
上記構成により、第１実施例のターゲット回収部２８では、ターゲット回収部２８に入射したターゲット２７が受け部材２８３ａの受面Ｓに衝突し得る。受面Ｓに衝突したターゲット２７は破壊されて、受面Ｓで反射されて飛散する飛散物２７４と、受面Ｓ上を覆う液膜２７５とに分かれ得る。
受面Ｓで反射されて飛散する飛散物２７４は、抑止部２８４のテーパ面２８４ｂにて底面部２８１ｂ側に更に反射され得る。テーパ面２８４ｂにて反射された飛散物２７４は、回収容器２８１に到達し得る。
一方、受面Ｓ上を覆う液膜２７５は、その表面張力によって、新たに入射したターゲット２７を捕獲して内部に蓄積し得る。液膜２７５は、体積が増加すると自身の重力によって受面Ｓで留まることができなくなり得る。そして、液膜２７５の一部は、底面部２８１ｂ側に流れ落ちていき、回収容器２８１に到達し得る。
よって、第１実施例のターゲット回収部２８は、飛散物２７４がターゲット回収部２８の外部に飛散することを抑止しながら、入射したターゲット２７を効率的に回収し得る。
【０１０２】
［６．第２実施形態のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収部］
図８〜図１２を用いて、第２実施形態のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収部２８について説明する。
第２実施形態のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収部２８は、ターゲット２７を回収する際、ターゲット回収部２８に入射したターゲット２７の軌道を変化させてもよい。同時に、第２実施形態のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収部２８は、入射したターゲット２７がターゲット回収部２８の衝突位置で反射して跳ね上がることを抑制してもよい。同時に、第２実施形態のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収部２８は、入射したターゲット２７がターゲット回収部２８の衝突位置で反射する前にターゲット２７の運動エネルギーを低減してもよい。
第２実施形態のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収部２８の実施態様を、第２〜第５実施例として説明する。図２及び図３に示したターゲット回収部２８、並びに図５〜図６に示した第１実施例のターゲット回収部２８と同様の構成については説明を省略する。
【０１０３】
［６．１  ターゲット回収部の第２実施例］
図８を用いて、第２実施例のターゲット回収部２８の構成について説明する。
図８は、第２実施例のターゲット回収部の構成を示す。
第２実施例のターゲット回収部２８は、図８に示すように、回収容器２８１と、温度調節機構２８２と、受け部２８３と、抑止部２８４と、筒部２８５と、フィルタ２８８とを含んでもよい。
【０１０４】
図８に示す温度調節機構２８２の構成は、図５に示した温度調節機構２８２の構成と同様であってもよい。
図８に示す受け部２８３の構成は、図５に示した受け部２８３の構成と同様であってもよい。
図８に示す抑止部２８４の構成は、図５に示した抑止部２８４の構成と同様であってもよい。
【０１０５】
図８に示す回収容器２８１は、チャンバ２の外部に配置されてもよい。
回収容器２８１のその他の構成は、図５に示した回収容器２８１の構成と同様であってもよい。
【０１０６】
筒部２８５は、ターゲット回収部２８に入射したターゲット２７を、回収容器２８１の開口部２８１ａ又は抑止部２８４の開口部２８４ａに導いてもよい。
筒部２８５は、チャンバ２の内部に配置されてもよい。筒部２８５は、抑止部２８４及び回収容器２８１と一体的に形成されてもよい。
筒部２８５は、筒形状に形成されてもよい。筒形状の筒部２８５の中心軸は、回収容器２８１の中心軸及びターゲット進行経路２７２と一致してもよい。筒形状の筒部２８５は、抑止部２８４の開口部２８４ａの周縁を基端として、先端が、ターゲット供給部２６及びプラズマ生成領域２５に向かって延びるように形成されてもよい。
【０１０７】
ターゲット供給部２６側に位置する筒部２８５の先端には、開口部２８５ａが設けられてもよい。開口部２８５ａの直径は、抑止部２８４の開口部２８４ａの直径と同一であってもよい。
開口部２８５ａは、ターゲット回収部２８に入射したターゲット２７を、開口部２８４ａに導入し得る。開口部２８４ａに導入されたターゲット２７は、受け部２８３の受け部材２８３ａに受けられ得る。
【０１０８】
筒部２８５の外周面には、温度調節機構２８２のヒータ２８２ａが固定されていてもよい。筒部２８５内の温度は、温度調節機構２８２によってターゲット２７の融点以上の所定範囲内に維持されてもよい。
【０１０９】
フィルタ２８８は、ターゲット回収部２８に入射したターゲット２７を通過させてもよい。フィルタ２８８は、当該ターゲット２７がフィルタ２８８に衝突しフィルタ２８８を貫通することによって、ターゲット２７を通過させてもよい。
なお、ターゲット回収部２８に入射したターゲット２７がフィルタ２８８を通過するときの様子については、図９Ａ〜図９Ｃを用いて後述する。
【０１１０】
フィルタ２８８は、筒部２８５の内周面に保持されてもよい。フィルタ２８８は、受け部材２８３ａの受面Ｓよりもターゲット供給部２６及びプラズマ生成領域２５側に位置し得る。フィルタ２８８は、ターゲット進行経路２７２の延長線上に位置し得る。
フィルタ２８８は、ターゲット供給部２６及びプラズマ生成領域２５と対向して配置されてもよい。フィルタ２８８は、受け部材２８３ａの受面Ｓと対向して配置されてもよい。
フィルタ２８８は、円板形状に形成されてもよい。円板形状のフィルタ２８８の中心軸は、筒部２８５の中心軸と一致してもよい。
【０１１１】
フィルタ２８８は、多孔質金属板や金網で形成されていてもよい。
多孔質金属板や金網は、ターゲット２７と反応し易い材料を用いて形成されていてもよい。それにより、ターゲット２７がフィルタ２８８に衝突したときにターゲット２７によって貫通され易くなり得る。
多孔質金属板は、例えばセルメット（登録商標）であってもよい。多孔質金属板は、例えばニッケルやニッケルクロム合金等の材料を用いて形成されてもよい。
金網は、例えばエキスパンドメタルであってもよい。金網は、例えば、アルミニウム、ニッケル、ステンレス、銅等の材料を用いて形成されてもよい。
【０１１２】
フィルタ２８８を形成する多孔質金属板や金網は、多数の開孔を有してもよい。多孔質金属板や金網の開孔率は、ターゲット回収部２８に入射したターゲット２７が、多孔質金属板や金網の非開孔部に多数回衝突しないような開孔率であってもよい。多孔質金属板や金網の開孔率は、例えば９０％であってもよい。ここで、開孔率は、ターゲット２７の入射方向に垂直な面の面積に対する開孔の総面積の比率であってもよい。
多孔質金属板や金網で形成されたフィルタ２８８の厚さは、ターゲット回収部２８に入射したターゲット２７が貫通可能な厚さであってもよい。当該フィルタ２８８の厚さは、例えば直径２０μｍのターゲット２７が６０ｍ／ｓでフィルタ２８８に衝突する場合、１００μｍ程度であってもよい。
【０１１３】
フィルタ２８８の温度は、ターゲット２７の融点以上の所定範囲内に維持されてもよい。
上述のように、筒部２８５内の温度は、温度調節機構２８２によってターゲット２７の融点以上の所定範囲内に維持されてもよい。筒部２８５内に保持されたフィルタ２８８は、筒部２８５からの熱伝導等によって伝熱され、ターゲット２７の融点以上の所定範囲内の温度に維持され得る。
【０１１４】
また、フィルタ２８８は、上述のように、多数の開孔を有する多孔質金属板や金網で形成されてもよい。このため、チャンバ２内のガスを排気するとき、回収容器２８１内のガスは、圧力変動によるフィルタ２８８の変形等の問題を引き起こすことなく、フィルタ２８８の開孔を通じてチャンバ２へ流出され得る。そして、回収容器２８１からチャンバ２へ流出されたガスは、排気され得る。このとき、飛散物２７４は、フィルタ２８８によって捕獲され得る。
【０１１５】
図９Ａ〜図９Ｃを用いて、ターゲット回収部２８に入射したターゲット２７がフィルタ２８８を通過するときの様子について説明する。
図９Ａは、ターゲット２７が図８に示すフィルタ２８８を通過する前の様子を説明するための図を示す。図９Ｂは、ターゲット２７が図８に示すフィルタ２８８を通過するときの様子を説明するための図を示す。図９Ｃは、ターゲット２７が図８に示すフィルタ２８８に通過した後の飛散物２７４の様子を説明するための図を示す。
図９Ａに示すように、ターゲット回収部２８に入射したターゲット２７は、受け部材２８３ａの受面Ｓに衝突する前にフィルタ２８８に衝突し得る。
【０１１６】
上述のように、フィルタ２８８の厚さは、ターゲット２７が貫通可能な厚さであってもよい。加えて、フィルタ２８８の開孔率は、ターゲット２７がフィルタ２８８の非開孔部に多数回衝突しない程の大きい開孔率であってもよい。加えて、フィルタ２８８は、ターゲット２７と反応し易い材料を用いて形成されていてもよい。加えて、フィルタ２８８の温度は、ターゲット２７の融点以上の所定範囲内に維持されてもよい。
このため、図９Ｂに示すように、フィルタ２８８に衝突したターゲット２７は、非開孔部で破壊されて飛散物２７４を発生したり、フィルタ２８８内で留まったりすることなく、フィルタ２８８を貫通し得る。
このとき、ターゲット２７は、フィルタ２８８に衝突し貫通することによって、その運動エネルギーが低減され得る。フィルタ２８８が複数枚設けられていると、ターゲット２７の運動エネルギーを低減する効果は向上され得る。
【０１１７】
その後、フィルタ２８８を貫通したターゲット２７は、受け部材２８３ａの受面Ｓに衝突し得る。図６を用いて説明したように、受面Ｓに衝突したターゲット２７の一部は、飛散物２７４を発生し得る。
このとき、ターゲット２７の運動エネルギーが低減されているため、受面Ｓでの衝突により発生する飛散物２７４の量及び飛散速度は、一層抑制され得る。
【０１１８】
その後、受面Ｓでの衝突により発生した飛散物２７４は、その大部分が抑止部２８４で反射されて回収容器２８１の底面部２８１ｂ側に到達し、その一部分が筒部２８５に向かって飛散し得る。
このとき、ターゲット２７の運動エネルギーが低減されているため、受面Ｓでの衝突により発生した飛散物２７４のうち筒部２８５に向かって飛散する割合は、低減され得る。それでも極一部の飛散物２７４は、筒部２８５に向かって飛散し得る。
しかしながら、図９Ｃに示すように、筒部２８５に向かって飛散する飛散物２７４は、フィルタ２８８によって捕獲され得る。フィルタ２８８が複数枚設けられていると、飛散物２７４を捕獲する効果は向上され得る。
【０１１９】
なお、ターゲット２７によって既に貫通されたフィルタ２８８に対し、新たなターゲット２７が入射し得る。このとき、新たに入射したターゲット２７は、従前のターゲット２７によって形成された貫通孔を通ってフィルタ２８８を通過し得る。従前のターゲット２７によって形成された貫通孔を通るターゲット２７は、その運動エネルギーが低減されないことがあり得る。
この場合であっても、飛散物２７４の大部分は、抑止部２８４で反射されて回収容器２８１に回収され得る。極一部の筒部２８５に向かって飛散する飛散物２７４も、フィルタ２８８によって捕獲され得る。
【０１２０】
上記構成により、第２実施例のターゲット回収部２８は、第１実施例のターゲット回収部２８と同様の作用効果を奏し得る。
更に、第２実施例のターゲット回収部２８は、ターゲット回収部２８に入射したターゲット２７が、フィルタ２８８を介して、受け部材２８３ａの受面Ｓに衝突し得る。
このため、ターゲット２７が受面Ｓに衝突する際には、ターゲット２７の運動エネルギーが低減され得る。よって、受面Ｓでの衝突により発生する飛散物２７４の量及び飛散速度は、一層抑制され得る。
これに加えて、第２実施例のターゲット回収部２８は、受面Ｓでの衝突により発生する飛散物２７４の一部が筒部２８５に向かって飛散した場合であっても、当該飛散物２７４をフィルタ２８８によって捕獲し得る。
よって、第２実施例のターゲット回収部２８は、第１実施例のターゲット回収部２８に比べて、飛散物２７４がターゲット回収部２８の外部に飛散すること一層抑止し得る。
【０１２１】
［６．２  ターゲット回収部の第３実施例］
図１０を用いて、第３実施例のターゲット回収部２８の構成について説明する。
図１０は、第３実施例のターゲット回収部の構成を示す。
第３実施例のターゲット回収部２８は、図１０に示すように、回収容器２８１と、温度調節機構２８２と、受け部２８３と、抑止部２８４と、筒部２８５と、フィルタ２８８とを含んでもよい。
図１０に示す第３実施例のターゲット回収部２８の構成において、図８に示した第２実施例のターゲット回収部２８と同様の構成については説明を省略する。
【０１２２】
図１０に示す温度調節機構２８２の構成は、図８に示した温度調節機構２８２の構成と同様であってもよい。
図１０に示す受け部２８３の構成は、図８に示した受け部２８３の構成と同様であってもよい。
図１０に示すフィルタ２８８の構成は、図８に示したフィルタ２８８の構成と同様であってもよい。
【０１２３】
図１０に示す回収容器２８１は、その内周面がコーティング材２８７ａによってコートされていてもよい。或いは、回収容器２８１の内周面は、ターゲット２７との接触角を９０°以下とする表面処理が施されていてもよい。それにより、飛散物２７４が回収容器２８１の内周面に衝突した際、飛散物２７４は当該内周面を濡らし得る。このため、回収容器２８１の内周面での衝突により発生する飛散物２７４の量及び飛散速度は、抑制され得る。
回収容器２８１のその他の構成は、図８に示した回収容器２８１の構成と同様であってもよい。
【０１２４】
図１０に示す抑止部２８４は、その内周面であるテーパ面２８４ｂがコーティング材２８７ａによってコートされていてもよい。或いは、テーパ面２８４ｂは、ターゲット２７との接触角を９０°以下とする表面処理が施されていてもよい。それにより、飛散物２７４がテーパ面２８４ｂに衝突した際、飛散物２７４はテーパ面２８４ｂを濡らし得る。このため、テーパ面２８４ｂでの衝突により発生する飛散物２７４の量及び飛散速度は、抑制され得る。
抑止部２８４のその他の構成は、図８に示した抑止部２８４の構成と同様であってもよい。
【０１２５】
図１０に示す筒部２８５は、その内径がターゲット供給部２６及びプラズマ生成領域２５に向かうに従って拡大するように形成されてもよい。
筒部２８５の内周面は、ターゲット供給部２６及びプラズマ生成領域２５に向かうに従って内径が大きくなるテーパ面２８５ｂであってもよい。
テーパ面２８５ｂは、ターゲット供給部２６及びプラズマ生成領域２５と対向してもよい。
テーパ面２８５ｂは、受け部材２８３ａの受面Ｓと対向してもよい。ターゲット進行経路２７２に対するテーパ面２８５ｂの傾斜角度は、ターゲット進行経路２７２に対する受面Ｓの傾斜角度以下であってもよい。
テーパ面２８５ｂは、ターゲット進行経路２７２から外れてターゲット回収部２８に入射したターゲット２７を、底面部２８１ｂ側にある抑止部２８４の開口部２８４ａに向かって反射し得る。それにより、ターゲット進行経路２７２から外れてターゲット回収部２８に入射したターゲット２７は、抑止部２８４の開口部２８４ａに導かれ得る。
【０１２６】
筒部２８５のテーパ面２８５ｂは、コーティング材２８７ａでコートされていてもよい。或いは、テーパ面２８５ｂは、ターゲット２７との接触角を９０°以下とする表面処理が施されていてもよい。それにより、ターゲット進行経路２７２から外れてターゲット回収部２８に入射したターゲット２７がテーパ面２８５ｂに衝突した際、当該ターゲット２７はテーパ面２８５ｂを濡らし得る。このため、テーパ面２８５ｂでの衝突により発生する飛散物２７４の量及び飛散速度は、抑制され得る。
筒部２８５のその他の構成は、図８に示した筒部２８５の構成と同様であってもよい。
【０１２７】
上記構成により、第３実施例のターゲット回収部２８は、第２実施例のターゲット回収部２８と同様の作用効果を奏し得る。
更に、第３実施例のターゲット回収部２８によれば、ターゲット進行経路２７２から外れて入射したターゲット２７が、筒部２８５のテーパ面２８５ｂに衝突し得る。テーパ面２８５ｂに衝突したターゲット２７は破壊され得る。破壊されたターゲット２７は、抑止部２８４の開口部２８４ａに向かって反射され得ると共にテーパ面２８５ｂを濡らし得る。
このため、ターゲット進行経路２７２から外れてターゲット回収部２８に入射したターゲット２７であっても、回収容器２８１に回収され得る。加えて、当該ターゲット２７のテーパ面２８５ｂでの衝突により発生する飛散物２７４の量及び飛散速度も、抑制され得る。
よって、第３実施例のターゲット回収部２８は、第２実施例のターゲット回収部２８に比べて、飛散物２７４がターゲット回収部２８の外部に飛散することを抑止しながら、入射したターゲット２７を一層効率的に回収し得る。
【０１２８】
［６．３  ターゲット回収部の第４実施例］
図１１を用いて、第４実施例のターゲット回収部２８の構成について説明する。
図１１は、第４実施例のターゲット回収部の構成を示す。
第４実施例のターゲット回収部２８は、図１１に示すように、回収容器２８１と、温度調節機構２８２と、受け部２８３と、抑止部２８４と、筒部２８５と、フィルタ２８８とを含んでもよい。
図１１に示す第４実施例のターゲット回収部２８の構成において、図１０に示した第３実施例のターゲット回収部２８と同様の構成については説明を省略する。
【０１２９】
図１１に示す回収容器２８１の構成は、図１０に示した回収容器２８１の構成と同様であってもよい。
図１１に示す温度調節機構２８２の構成は、図１０に示した温度調節機構２８２の構成と同様であってもよい。
図１１に示す筒部２８５の構成は、図１０に示した筒部２８５の構成と同様であってもよい。
図１１に示すフィルタ２８８の構成は、図１０に示したフィルタ２８８の構成と同様であってもよい。
【０１３０】
図１１に示す受け部２８３は、図１０に示した受け部２８３のように、回収容器２８１及び抑止部２８４とは別体の部材である受け部材２８３ａ及び支持部材２８３ｂによって構成されていなくてもよい。図１１に示す受け部２８３は、回収容器２８１及び抑止部２８４と一体的に形成されてもよい。
受け部２８３は、その受面Ｓが、回収容器２８１の側面部２８１ｃの内周面の一部から内側に向かって突出するように形成されてもよい。受け部２８３は、抑止部２８４が回収容器２８１の一部として一体的に形成されているときは、当該抑止部２８４の内周面の一部から内側に向かって突出するように形成されてもよい。
【０１３１】
図１１に示す抑止部２８４のテーパ面２８４ｂは、抑止部２８４が回収容器２８１の一部として形成されているときは、抑止部２８４の内周面の受け部２８３が形成されていない部分に形成されてもよい。
【０１３２】
図１１に示す受け部２８３及び抑止部２８４は、少なくとも当該受け部２８３の受面Ｓ及び当該抑止部２８４のテーパ面２８４ｂを内壁面とする管路を形成していてもよい。当該管路は、筒部２８５と回収容器２８１とを連通させる管路であってもよい。当該管路は、入射したターゲット２７を、その内壁面で複数回衝突させた後に、回収容器２８１へ導入してもよい。
【０１３３】
ターゲット２７及び飛散物２７４が壁面に複数回衝突されると、ターゲット２７及び飛散物２７４は、その運動エネルギーが一層低減され得る。このため、衝突により発生する飛散物２７４の量及び飛散速度は、一層抑制され得る。
同時に、ターゲット２７及び飛散物２７４が壁面に複数回衝突されると、ターゲット２７及び飛散物２７４は、更に細かく破壊され得る。ターゲット２７及び飛散物２７４が細かく破壊されると、ターゲット２７及び飛散物２７４が回収ターゲット２７３の液面２７３ａに衝突する際の衝撃力は弱くなり得る。このため、回収ターゲット２７３が飛沫となり、飛散物２７４として跳ね上がる現象は発生し難くなり得る。
受け部２８３及び抑止部２８４のその他の構成は、図１０に示した受け部２８３及び抑止部２８４の構成と同様であってもよい。
【０１３４】
上記構成により、第４実施例のターゲット回収部２８は、第３実施例のターゲット回収部２８と同様の作用効果を奏し得る。
更に、第４実施例のターゲット回収部２８では、ターゲット２７を、管路の内壁面を形成する受け部２８３の受面Ｓ及び抑止部２８４のテーパ面２８４ｂで多数回衝突させた後に、回収容器２８１へ導入し得る。
よって、第４実施例のターゲット回収部２８は、第３実施例のターゲット回収部２８に比べて、飛散物２７４がターゲット回収部２８の外部に飛散することを一層抑止し得る。
加えて、第４実施例のターゲット回収部２８は、第３実施例のターゲット回収部２８に比べて、部品点数が少なくて済み、且つ、簡易な構造であるため、低コスト化を図り得る。
【０１３５】
［６．４  ターゲット回収部の第５実施例］
図１２を用いて、第５実施例のターゲット回収部２８の構成について説明する。
図１２は、第５実施例のターゲット回収部の構成を示す。
第５実施例のターゲット回収部２８を備えるＥＵＶ光生成装置１は、ＥＵＶ光生成装置１のチャンバ２から露光装置６に向かってＥＵＶ光２５２を導出する方向であるＺ方向を、水平方向に対して傾斜させてもよい。このため、チャンバ２は、その中心軸方向が水平方向に対して傾斜するように設けられてもよい。チャンバ２の側面部に設けられたターゲット供給部２６は、ノズル２６２の中心軸方向が重力方向に対して傾斜するように設けられてもよい。ターゲット進行経路２７２は、重力方向に対して傾斜され得る。
第５実施例のターゲット回収部２８は、図１２に示すように、回収容器２８１と、温度調節機構２８２と、受け部２８３と、抑止部２８４と、筒部２８５と、配管２８６と、フィルタ２８８とを含んでもよい。
図１２に示す第５実施例のターゲット回収部２８の構成において、図１０に示した第３実施例のターゲット回収部２８と同様の構成については説明を省略する。
【０１３６】
図１２に示す温度調節機構２８２の構成は、図１０に示した温度調節機構２８２の構成と同様であってもよい。
【０１３７】
図１２に示す回収容器２８１は、その中心軸方向が重力方向に平行となるように配置されていてもよい。
回収容器２８１のその他の構成は、図１０に示した回収容器２８１の構成と同様であってもよい。
【０１３８】
図１２に示す筒部２８５は、その中心軸方向がターゲット進行経路２７２と一致するように配置されていてもよい。筒部２８５の中心軸方向は、重力方向に対して傾斜し得る。
筒部２８５は、配管２８６の端部を基端として、先端が、ターゲット供給部２６及びプラズマ生成領域２５に向かって延びるように形成されてもよい。
筒部２８５は、ターゲット回収部２８に入射したターゲット２７を、配管２８６を介して抑止部２８４の開口部２８４ａに導いてもよい。筒部２８５は、当該ターゲット２７のテーパ面２８５ｂでの衝突により発生した飛散物２７４を、配管２８６を介して開口部２８４ａに導いてもよい。
筒部２８５のその他の構成は、図１０に示したガイド部２８５の構成と同様であってもよい。
【０１３９】
配管２８６は、回収容器２８１と筒部２８５とを連結してもよい。
配管２８６は、チャンバ２の外部に配置されてもよい。
配管２８６の外周面には、温度調節機構２８２のヒータ２８２ａが固定されていてもよい。配管２８６内の温度は、温度調節機構２８２によってターゲット２７の融点以上の所定範囲内に維持されてもよい。
【０１４０】
配管２８６は、筒部２８５の開口部２８５ａとは反対側の端部を基端として、先端が、回収容器２８１の一部として形成された抑止部２８４に向かって延びるように形成されてもよい。筒部２８５を基端として延びる配管２８６は、ターゲット進行経路２７２の延長線上で屈曲されて、先端が抑止部２８４に向かって延びるように形成されていてもよい。配管２８６は、回収容器２８１及び抑止部２８４と筒部２８５とを連通させ得る。
配管２８６の屈曲部は、ターゲット進行経路２７２の延長線と、回収容器２８１及び抑止部２８４の中心軸の延長線との交点に位置してもよい。
配管２８６の屈曲部は、配管受け部２８６ａを含んでもよい。
【０１４１】
配管受け部２８６ａは、フィルタ２８８を介して入射したターゲット２７を受けてもよい。配管受け部２８６ａは、当該ターゲット２７を、受面Ｓで衝突させることによって受けてもよい。
配管受け部２８６ａの受面Ｓは、ターゲット供給部２６及びプラズマ生成領域２５と対向して配置されてもよい。配管受け部２８６ａの受面Ｓは、受け部２８３の後述する受面Ｐと対向して配置されていてもよい。
抑止部２８４の開口部２８４ａと対向して配置されてもよい。
配管受け部２８６ａの受面Ｓは、ターゲット進行経路２７２の延長線上に位置してもよい。受面Ｓは、ターゲット進行経路２７２に対し、所定の傾斜角度で傾斜して配置されてもよい。受面Ｓの傾斜角度は、受面Ｓでの衝突により発生する飛散物２７４が、ターゲット回収部２８の外部に飛散しないような角度であってもよい。受面Ｓのターゲット進行経路２７２に対する傾斜角度は、ターゲット２７の入射角度θが０°＜θ＜９０°となるような角度であってもよい。更に好適には、受面Ｓのターゲット進行経路２７２に対する傾斜角度は、ターゲット２７の入射角度θが４５°＜θ＜９０°となるような角度であってもよい。
よって、配管受け部２８６ａの受面Ｓは、フィルタ２８８を介して入射したターゲット２７が受面Ｓに衝突した際、当該ターゲット２７の大部分を、受け部２８３の受面Ｐに向かって反射し得る。
【０１４２】
配管受け部２８６ａの受面Ｓは、コーティング材２８７ａでコートされていてもよい。或いは、配管受け部２８６ａの受面Ｓは、ターゲット２７との接触角を９０°以下とする表面処理が施されていてもよい。受面Ｓ以外の配管２８６の内周面も、コーティング材２８７ａのコートや当該表面処理が施されていてもよい。
よって、配管受け部２８６ａの受面Ｓは、フィルタ２８８を介して入射したターゲット２７が受面Ｓに衝突した際、当該ターゲット２７の一部によって濡れ得る。このため、受面Ｓは、受面Ｓでの衝突により発生する飛散物２７４の量及び飛散速度を、抑制し得る。
【０１４３】
図１２に示す受け部２８３は、配管受け部２８６ａの受面Ｓで反射されたターゲット２７又は飛散物２７４を受けてもよい。
受け部２８３の受け部材２８３ａは、配管受け部２８６ａの受面Ｓで反射されたターゲット２７又は飛散物２７４を、受面Ｐで衝突させることによって受けてもよい。
受け部２８３のその他の構成は、図１０に示した受け部２８３の構成と同一であってもよい。
【０１４４】
図１２に示す抑止部２８４は、受面Ｐでの衝突により発生した飛散物２７４が、ターゲット回収部２８の外部に飛散することを抑止してもよい。
抑止部２８４は、回収容器２８１の開口部２８１ａの周縁を基端として、先端が、回収容器２８１の中心軸方向である反重力方向に向かって延びるように形成されてもよい。抑止部２８４の先端は、配管２８６の端部に接続されてもよい。
抑止部２８４のその他の構成は、図１０に示した抑止部２８４の構成と同一であってもよい。
【０１４５】
上記構成により、第５実施例のターゲット回収部２８は、第３実施例のターゲット回収部２８と同様の作用効果を奏し得る。
更に、第５実施例のターゲット回収部２８では、フィルタ２８８を介して入射したターゲット２７を、受面Ｓ及び受面Ｐで複数回衝突させた後に、回収容器２８１へ導入し得る。
また、第５実施例のターゲット回収部２８では、回収容器２８１と筒部２８５とを配管２８６によって連結することで、回収容器２８１からターゲット回収部２８の外部までの経路を長くし得ると共に複雑化し得る。
よって、第５実施例のターゲット回収部２８は、第３実施例のターゲット回収部２８に比べて、飛散物２７４がターゲット回収部２８の外部に飛散することを一層抑止し得る。
加えて、第５実施例のターゲット回収部２８は、重力方向に対して傾斜したターゲット進行経路２７２を通って入射したターゲット２７や、当該ターゲット進行経路２７２から外れて入射したターゲット２７を、外部に飛散させることなく回収し得る。
【０１４６】
［７．第３実施形態のＥＵＶ光生成装置が備えるターゲット回収部］
図１３Ａ〜図１９Ｃを用いて、第３実施形態のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収部２８について説明する。
第３実施形態のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収部２８は、フィルタ２８８の構成のみが第２実施形態と異なり、フィルタ２８８以外の構成は第２実施形態と同様であってもよい。
第３実施形態のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収部２８の実施態様を、第６〜第１０実施例として説明する。第２実施形態のターゲット回収部２８、すなわち図８〜図１２に示した第２〜第５実施例のターゲット回収部２８と同様の構成については説明を省略する。
【０１４７】
［７．１  ターゲット回収部の第６実施例］
図１３Ａ〜図１３Ｃを用いて、第６実施例のターゲット回収部２８に含まれるフィルタ２８８の構成について説明する。
図１３Ａは、第６実施例のターゲット回収部２８に含まれるフィルタ２８８の構成を示す。図１３Ｂは、図１３ＡにおけるＡ方向から視た図であってフィルタ２８８に予め通過孔２８８ｂが設けられていない場合を示す。図１３Ｃは、図１３ＡにおけるＡ方向から視た図であってフィルタ２８８に予め通過孔２８８ｂが設けられている場合を示す。
なお、図１３ＡにおけるＡ方向は、ターゲット進行経路２７２に沿って入射するターゲット２７の進行方向であり得る。
【０１４８】
第６実施例のターゲット回収部２８に含まれるフィルタ２８８は、金属箔によって形成されてもよい。
金属箔は、例えばアルミホイルであってもよい。金属箔の厚さは、例えば２０μｍ〜１００μｍ程度であってもよい。
金属箔で形成されたフィルタ２８８は、ターゲット回収部２８に入射したターゲット２７が通過する際に、当該ターゲット２７によって貫通されてもよい。当該フィルタ２８８に衝突し貫通したターゲット２７は、その運動エネルギーが低減され得る。
【０１４９】
金属箔で形成されたフィルタ２８８には、図１３Ｂに示すように、排気孔２８８ａが形成されてもよい。
排気孔２８８ａは、チャンバ２内のガスを排気するとき、回収容器２８１内のガスをチャンバ２へ流出させるための貫通孔であってもよい。
これにより、チャンバ２内のガスを排気するとき、回収容器２８１内のガスは、圧力変動によるフィルタ２８８の変形等の問題を引き起こすことなく、排気孔２８８ａを通じてチャンバ２へ流出され得る。そして、回収容器２８１からチャンバ２へ流出されたガスは、排気され得る。このとき、飛散物２７４は、フィルタ２８８によって捕獲され得る。
【０１５０】
金属箔で形成されたフィルタ２８８は、図１３Ａに示すように、筒部２８５に複数枚設けられてもよい。
排気孔２８８ａは、複数のフィルタ２８８のそれぞれに形成されてもよい。
複数のフィルタ２８８のそれぞれに形成された各排気孔２８８ａの位置は、それぞれターゲット進行経路２７２と交差しない位置であってフィルタ２８８の周縁部であってもよい。各排気孔２８８ａの位置は、ターゲット２７の進行方向から視たときに、複数のフィルタ２８８ごとで異なってもよい。各排気孔２８８ａの位置は、図１３Ａに示すように、隣り合うフィルタ２８８同士で、ターゲット２７の進行方向から視たときに異なってもよい。これにより、回収容器２８１からターゲット回収部２８の外部までの経路を長くし得ると共に複雑化し得る。
これにより、フィルタ２８８は、飛散物２７４を捕獲し易くなり得る。飛散物２７４は、ターゲット回収部２８の外部に飛散し難くなり得る。
【０１５１】
金属箔で形成されたフィルタ２８８には、図１３Ｃに示すように、通過孔２８８ｂが予め形成されてもよい。
通過孔２８８ｂは、ターゲット回収部２８に入射したターゲット２７がフィルタ２８８を貫通する位置に予め形成された貫通孔であってもよい。
これにより、ターゲット回収部２８に入射したターゲット２７は、フィルタ２８８を通過する際に、フィルタ２８８と衝突せずに通過し得る。このため、当該ターゲット２７のフィルタ２８８との衝突によって飛散物２７４が発生する可能性は、殆ど無くなり得る。
【０１５２】
通過孔２８８ｂは、複数のフィルタ２８８のそれぞれに形成されてもよい。
複数のフィルタ２８８のそれぞれに形成された各通過孔２８８ｂの位置は、それぞれターゲット進行経路２７２と交差する位置であってもよい。
【０１５３】
なお、複数のフィルタ２８８のそれぞれには、図１３Ｂに示すように、それぞれ通過孔２８８ｂが形成されていなくてもよい。
この場合であっても、上述のように、ターゲット２７はフィルタ２８８を貫通して通過し得るため、当該ターゲット２７のフィルタ２８８との衝突により発生する飛散物２７４の量は、極めて抑制され得る。
更に、この場合、ターゲット進行経路２７２の延長線上に通過孔２８８ｂが位置するように位置合わせを行う必要がないため、位置合わせの工数増加は抑制され得る。
フィルタ２８８のその他の構成は、図８〜図１２に示したフィルタ２８８の構成と同様であってもよい。
【０１５４】
［７．２  ターゲット回収部の第７実施例］
図１４Ａ〜図１４Ｅを用いて、第７実施例のターゲット回収部２８に含まれるフィルタ２８８の構成について説明する。
図１４Ａは、第７実施例のターゲット回収部２８に含まれるフィルタ２８８の構成を示す。図１４Ｂは、図１４ＡにおけるＡ１方向から視た図を示す。図１４Ｃは、図１４ＡにおけるＡ２方向から視た図を示す。図１４Ｄは、図１４ＡにおけるＡ３方向から視た図を示す。図１４Ｅは、図１４ＡにおけるＡ４方向から視た図を示す。
なお、図１４ＡにおけるＡ１〜Ａ４方向は、ターゲット進行経路２７２に沿って入射するターゲット２７の進行方向であり得る。
【０１５５】
第７実施例のターゲット回収部２８に含まれるフィルタ２８８は、繊維部材によって形成されてもよい。繊維部材で形成されたフィルタ２８８は、ターゲット２７が衝突したときに貫通されない。
１つのフィルタ２８８を形成する１つの繊維部材は、弾性を有する複数の繊維束で構成されていてもよい。１つの繊維束は、１又は複数の繊維の束であってもよい。当該繊維束は、例えば炭素繊維で構成されてもよい。１つの繊維束の直径は、ドロップレット２７１の形状を有するターゲット２７の直径よりも小さくてもよい。１つの繊維束の直径は、例えば１０μｍ程度であってもよい。
１つの繊維部材を構成する複数の繊維束において、ターゲット２７の進行方向から視たときに隣り合う繊維束同士の間隔は、ターゲット２７の直径より十分に大きくてもよい。当該隣り合う繊維束同士の間隔は、例えば１００μｍ程度であってもよい。
ターゲット回収部２８に入射したターゲット２７が、フィルタ２８８を通過するときの様子については、図１５Ａ〜図１５Ｃを用いて後述する。
【０１５６】
１つの繊維部材を構成する複数の繊維束は、ターゲット２７の進行方向から視たとき、図１４Ａ〜図１４Ｅに示すように、筒部２８５の内周面の一部を基端として、先端が、それぞれ同じ方向に並行して延びるように形成されてもよい。当該複数の繊維束の各先端が延びる方向は、内側径方向であってターゲット進行経路２７２と交差する方向であってもよい。当該複数の繊維束の各先端は、筒部２８５の内周面に固定されなくてもよい。
すなわち、複数の繊維束のそれぞれは、その基端を固定端とし、その先端を自由端とする片持ち梁構造にて筒部２８５の内周面に固定されてもよい。複数の繊維束のそれぞれは、図１４Ａに示すように、その先端が重力方向に撓み得る。
【０１５７】
言い換えると、フィルタ２８８を形成する繊維部材の一方の端部は、筒部２８５の内周面に固定されて固定端を成し、他方の端部は、筒部２８５の内周面に固定されずに自由端を成してもよい。そして、自由端を成す繊維部材の端部は、重力方向に撓み得る。
重力方向に撓んだフィルタ２８８の他方の端部は、筒部２８５の内周面との間に隙間を形成し得る。当該隙間は、図１４Ｂ〜図１４Ｅに示すように、上述の排気孔２８８ａとして機能し得る。すなわち、フィルタ２８８は、排気孔２８８ａを含み得る。
【０１５８】
繊維部材で形成されたフィルタ２８８は、図１４Ａに示すように、筒部２８５に複数枚設けられてもよい。
排気孔２８８ａは、複数のフィルタ２８８のそれぞれに含まれてもよい。
複数のフィルタ２８８のそれぞれに含まれる各排気孔２８８ａの位置は、それぞれターゲット進行経路２７２と交差しない位置であってフィルタ２８８の周縁部であってもよい。各排気孔２８８ａの位置は、ターゲット２７の進行方向から視たときに、複数のフィルタ２８８ごとで異なってもよい。各排気孔２８８ａの位置は、図１４Ｂ〜図１４Ｅに示すように、ターゲット進行経路２７２に沿って入射するターゲット２７の進行方向が進むに従い、筒部２８５の周方向に順次回転させた位置であってもよい。
各排気孔２８８ａの位置を上述のように順次回転させると、各排気孔２８８ａの位置は、隣り合うフィルタ２８８同士で、ターゲット２７の進行方向から視たときに異なり得る。加えて、回収容器２８１からターゲット回収部２８の外部までの経路を長くし得ると共に複雑化し得る。
これにより、フィルタ２８８は、飛散物２７４を捕獲し易くなり得る。飛散物２７４は、ターゲット回収部２８の外部に飛散し難くなり得る。
【０１５９】
図１５Ａ〜図１５Ｃを用いて、ターゲット回収部２８に入射したターゲット２７が、繊維部材で形成されたフィルタ２８８を通過するときの様子について説明する。
図１５Ａは、ターゲット２７が図１４Ａに示すフィルタ２８８に衝突して通過したときの様子を説明するための図を示す。図１５Ｂは、ターゲット２７が図１４Ａに示すフィルタ２８８に衝突せずに通過したときの様子を説明するための図を示す。図１５Ｃは、ターゲット２７が図１４Ａに示すフィルタ２８８に通過した後の飛散物２７４の様子を説明するための図を示す。
【０１６０】
上述のように、繊維部材で形成されたフィルタ２８８は、筒部２８５の内周面に固定されていない自由端の端部は撓み得る。加えて、ターゲット２７の進行方向から視たときに隣り合う繊維束同士の間隔は、ターゲット２７の直径より十分に大きくてもよい。
【０１６１】
このため、図１５Ａに示すように、繊維部材で形成されたフィルタ２８８にターゲット２７が衝突すると、フィルタ２８８は、貫通されずに、ターゲット２７の進行方向側である回収容器２８１側に撓み得る。回収容器２８１側に撓んだフィルタ２８８は、当該フィルタ２８８に衝突したターゲット２７を跳ね返すことなく回収容器２８１側に導き得る。
よって、フィルタ２８８に衝突したターゲット２７は、フィルタ２８８で破壊されて飛散物２７４を発生したり、フィルタ２８８内で留まったりすることなく、フィルタ２８８を通過し得る。
このとき、ターゲット２７は、繊維部材で形成されたフィルタ２８８が撓むことによって、その運動エネルギーが低減され得る。フィルタ２８８が複数枚設けられていると、ターゲット２７の運動エネルギーを低減する効果は向上され得る。
【０１６２】
その後、フィルタ２８８を通過したターゲット２７は、図９Ａ〜図９Ｃを用いて説明したように、例えば図８に示す受面Ｓへの衝突等を経て破壊され、その極一部が飛散物２７４として筒部２８５に向かって飛散し得る。
しかしながら、図１５Ｃに示すように、筒部２８５に向かって飛散する飛散物２７４は、フィルタ２８８によって捕獲され得る。フィルタ２８８が複数枚設けられていると、飛散物２７４を捕獲する効果は向上され得る。
【０１６３】
なお、ターゲット回収部２８に入射したターゲット２７は、図１５Ｂに示すように、フィルタ２８８に衝突せずにフィルタ２８８を通過することがあり得る。フィルタ２８８に衝突せずに通過したターゲット２７は、その運動エネルギーが低減されないことがあり得る。
この場合であっても、飛散物２７４の大部分は、例えば図８に示す抑止部２８４で反射されて回収容器２８１に回収され得る。極一部の筒部２８５に向かって飛散する飛散物２７４も、フィルタ２８８によって捕獲され得る。
フィルタ２８８のその他の構成は、図８〜図１２に示したフィルタ２８８の構成と同様であってもよい。
【０１６４】
［７．３  ターゲット回収部の第８実施例］
図１６Ａ及び図１６Ｂを用いて、第８実施例のターゲット回収部２８に含まれるフィルタ２８８の構成について説明する。
図１６Ａは、第８実施例のターゲット回収部２８に含まれるフィルタ２８８の構成を示す。図１６Ｂは、図１６ＡにおけるＡ方向から視た図を示す。
なお、図１６ＡにおけるＡ方向は、ターゲット進行経路２７２に沿って入射するターゲット２７の進行方向であり得る。
【０１６５】
第８実施例のターゲット回収部２８に含まれるフィルタ２８８は、図１４Ａ〜図１４Ｅに示したフィルタ２８８と同様に、繊維部材によって形成されてもよい。
但し、当該繊維部材を構成する複数の繊維束が、ターゲット２７の進行方向から視たとき、図１６Ｂに示すように、筒部２８５の内周面全域を基端として、先端が、それぞれ筒部２８５の内径中心に向かって延びるように形成されてもよい。
【０１６６】
繊維部材を構成する複数の繊維束は、片持ち梁構造にて筒部２８５の内周面に固定されてもよい。当該複数の繊維束の各基端は、筒部２８５の内周面に固定されて固定端を成してもよい。複数の繊維束の各先端は、筒部２８５の内周面に固定されずに自由端を成してもよい。自由端を成す各先端は、重力方向に撓み得る。
【０１６７】
当該複数の繊維束の各基端は、図１６Ｂに示すように、それぞれ間隔を開けて、筒部２８５の内周面全域に亘って固定されてもよい。それにより、チャンバ２内のガスを排気するとき、回収容器２８１内のガスは、複数の繊維束同士の間隔を通じてチャンバ２内へ流出され得る。そして、回収容器２８１からチャンバ２へ流出されたガスは、排気され得る。このとき、飛散物２７４は、複数の繊維束で構成された繊維部材によって捕獲され得る。
また、当該複数の繊維束の各先端は、図１６Ａ及び図１６Ｂに示すように、それぞれ筒部２８５の内径中心で接すると共にそれぞれ重力方向に撓んでもよい。それにより、ターゲット回収部２８に入射したターゲット２７は、フィルタ２８８に衝突し、運動エネルギーが低減されてフィルタ２８８を通過し得る。
【０１６８】
また、フィルタ２８８は、図１６Ａに示すように、筒部２８５に複数枚設けられてもよい。フィルタ２８８に含まれる上記複数の繊維束同士の間隔は、ターゲット２７の進行方向から視たときに、複数のフィルタ２８８ごとで異なる位置にあってもよい。複数のフィルタ２８８のそれぞれに含まれる各間隔は、隣り合うフィルタ２８８同士で、ターゲット２７の進行方向から視たときに異なる位置にあってもよい。それにより、回収容器２８１からターゲット回収部２８の外部までの経路を長くし得ると共に複雑化し得る。
フィルタ２８８のその他の構成は、図１４Ａ〜図１４Ｅに示したフィルタ２８８の構成と同様であってもよい。
【０１６９】
［７．４  ターゲット回収部の第９実施例］
図１７Ａ及び図１７Ｂを用いて、第９実施例のターゲット回収部２８に含まれるフィルタ２８８の構成について説明する。
図１７Ａは、第９実施例のターゲット回収部２８に含まれるフィルタ２８８の構成を示す。図１７Ｂは、図１７ＡにおけるＡ方向から視た図を示す。
なお、図１７ＡにおけるＡ方向は、ターゲット進行経路２７２に沿って入射するターゲット２７の進行方向であり得る。
【０１７０】
第９実施例のターゲット回収部２８に含まれるフィルタ２８８は、カーテン部材によって形成されてもよい。カーテン部材で形成されたフィルタ２８８は、ターゲット２７が衝突したときに貫通されない。
カーテン部材は、弾性を有するシートであってもよい。
フィルタ２８８を形成するカーテン部材は、片持ち梁構造にて筒部２８５の内周面に固定されてもよい。
フィルタ２８８を形成するカーテン部材の一方の端部は、筒部２８５の内周面に固定されて固定端を成し、他方の端部は、筒部２８５の内周面に固定されずに自由端を成してもよい。自由端を成すカーテン部材の端部は、図１７Ａに示すように、重力方向に撓み得る。それにより、ターゲット回収部２８に入射したターゲット２７は、フィルタ２８８に衝突し、運動エネルギーが低減されてフィルタ２８８を通過し得る。
重力方向に撓んだフィルタ２８８の他方の端部は、筒部２８５の内周面との間に隙間を形成し得る。当該隙間は、図１７Ｂに示すように、上述の排気孔２８８ａとして機能し得る。すなわち、フィルタ２８８は、排気孔２８８ａを含み得る。
【０１７１】
カーテン部材で形成されたフィルタ２８８は、図１７Ａに示すように、筒部２８５に複数枚設けられてもよい。
排気孔２８８ａは、複数のフィルタ２８８のそれぞれに含まれてもよい。
複数のフィルタ２８８のそれぞれに含まれる各排気孔２８８ａの位置は、それぞれターゲット進行経路２７２と交差しない位置であってフィルタ２８８の周縁部であってもよい。各排気孔２８８ａの位置は、隣り合うフィルタ２８８同士で、ターゲット２７の進行方向から視たときに同じ位置であってもよい。
なお、複数のフィルタ２８８の各カーテン部材は、ターゲット２７の進行方向が進むに従い各排気孔２８８ａの大きさが順次大きくなるように、形成されてもよい。
【０１７２】
フィルタ２８８を形成するカーテン部材は、シート形状に形成されているため、例えば図１４Ａに示したフィルタ２８８を形成する繊維部材よりも、高い弾性を有し得る。カーテン部材で形成されたフィルタ２８８では、ターゲット２７が衝突したときの撓み量が、繊維部材で形成されたフィルタ２８８よりも小さくなり得る。ターゲット２７が衝突したときの撓み量が小さいと、フィルタ２８８に衝突したターゲット２７は、回収容器２８１側に落下し難い。よって、カーテン部材で形成されたフィルタ２８８は、繊維部材で形成されたフィルタ２８８よりも、フィルタ２８８に衝突したターゲット２７が回収容器２８１側に落下し難いという特徴があり得る。特に、複数のフィルタ２８８が設けられていると、ターゲット２７の進行方向の下流側にあるフィルタ２８８で、当該特徴が顕著になり得る。
【０１７３】
そこで、上述のように、各排気孔２８８ａの位置を、隣り合うフィルタ２８８同士で、ターゲット２７の進行方向から視たときに同じ位置とすることで、フィルタ２８８に衝突したターゲット２７を回収容器２８１側に落下させ易くなり得る。
フィルタ２８８のその他の構成は、図１４Ａ〜図１４Ｅに示したフィルタ２８８の構成と同様であってもよい。
【０１７４】
［７．５  ターゲット回収部の第１０実施例］
図１８Ａ及び図１８Ｂを用いて、第１０実施例のターゲット回収部２８に含まれるフィルタ２８８の構成について説明する。
図１８Ａは、第１０実施例のターゲット回収部２８に含まれるフィルタ２８８の構成を示す。図１８Ｂは、図１８ＡにおけるＡ方向から視た図を示す。
なお、図１８ＡにおけるＡ方向は、ターゲット進行経路２７２に沿って入射するターゲット２７の進行方向であり得る。
【０１７５】
第１０実施例のターゲット回収部２８に含まれるフィルタ２８８は、図１７Ａ及び図１７Ｂに示したフィルタ２８８と同様に、カーテン部材によって形成されてもよい。
但し、フィルタ２８８を形成するカーテン部材は、フレーム２８８ｃを介して筒部２８５の内周面に固定されてもよい。
また、第１０実施例のターゲット回収部２８に含まれるフィルタ２８８を形成するカーテン部材は、図１７Ａ及び図１７Ｂに示したフィルタ２８８を形成するカーテン部材よりも剛性が低くてもよい。
【０１７６】
フレーム２８８ｃは、棒状に形成されてもよい。
シート形状のカーテン部材の一方の端部は、棒状のフレーム２８８ｃの長手方向に沿って接着されてもよい。カーテン部材が接着されたフレーム２８８ｃは、筒部２８５の内周面に固定されてもよい。カーテン部材が接着されたフレーム２８８ｃは、その長手方向がターゲット進行経路２７２に垂直な方向となるように、筒部２８５の内周面に固定されてもよい。カーテン部材が接着されたフレーム２８８ｃは、ターゲット進行経路２７２と交差しない位置となるように、筒部２８５の内周面に固定されてもよい。
カーテン部材のフレーム２８８ｃに接着された一方の端部は、固定端を成し得る。カーテン部材の他方の端部は、自由端を成し得る。
【０１７７】
フレーム２８８ｃを介して筒部２８５に固定されたカーテン部材は、図１８Ａに示すように、重力方向に垂れ下がり得る。このとき、カーテン部材は、剛性が低いことから、その表面に曲面を形成して垂れ下がり得る。曲面を形成して垂れ下がったカーテン部材は、当該曲面にてターゲット進行経路２７２と交差し得る。それにより、ターゲット回収部２８に入射したターゲット２７は、フィルタ２８８に衝突し、運動エネルギーが低減されてフィルタ２８８を通過し得る。
【０１７８】
フィルタ２８８は、図１８Ａに示すように、筒部２８５に複数枚設けられてもよい。
複数のフィルタ２８８のそれぞれに含まれる各フレーム２８８ｃは、それぞれ間隔を開けて、筒部２８５の内周面に固定されてもよい。それにより、チャンバ２内のガスを排気するとき、回収容器２８１内のガスは、複数のフレーム２８８ｃ同士の間隔を通じてチャンバ２内へ流出され得る。そして、回収容器２８１からチャンバ２へ流出されたガスは、排気され得る。このとき、飛散物２７４は、曲面を形成して垂れ下がったカーテン部材によって捕獲され得る。
フィルタ２８８のその他の構成は、図１７Ａ及び図１７Ｂに示したフィルタ２８８の構成と同様であってもよい。
【０１７９】
［８．フィルタの設置形態についての他の例］
図１９Ａ〜図１９Ｃを用いて、フィルタ２８８の設置形態についての他の例について説明する。
図１９Ａは、フィルタの設置形態についての他の例１を示す。図１９Ｂは、フィルタの設置形態についての他の例２を示す。図１９Ｃは、フィルタの設置形態についての他の例３を示す。
【０１８０】
図８〜図１２に示した多孔質金属板や金網で形成されたフィルタ２８８は、図１９Ａに示すように、ターゲット進行経路２７２に対して傾斜して設置されてもよい。
ターゲット進行経路２７２に対するフィルタ２８８の傾斜角度は、例えば４５°であってもよい。
【０１８１】
ターゲット回収部２８に入射するターゲット２７の中には、通常よりも運動エネルギーが低いターゲット２７が有り得る。特に、ターゲット生成の開始時や停止時などは、通常よりも運動エネルギーが低いターゲット２７がターゲット回収部２８に入射することがあり得る。運動エネルギーが低いターゲット２７が多孔質金属板等で形成されたフィルタ２８８に衝突すると、当該ターゲット２７はフィルタ２８８を貫通できないことがあり得る。フィルタ２８８を貫通できなかったターゲット２７は、フィルタ２８８の表面で反射されたり、フィルタ２８８の表面で破壊されて飛散物２７４を発生したりする場合があり得る。当該ターゲット２７や飛散物２７４は、ターゲット回収部２８の外に飛散し得る。
【０１８２】
フィルタ２８８をターゲット進行経路２７２に対して傾斜して設置すると、フィルタ２８８を貫通できなかったターゲット２７は、フィルタ２８８の表面で回収容器２８１側に反射され得る。このため、フィルタ２８８を貫通できなかったターゲット２７又はその飛散物２７４が、ターゲット回収部２８の外に飛散することを抑止し得る。
【０１８３】
図１３Ａ〜図１３Ｃに示した金属箔で形成されたフィルタ２８８も、多孔質金属板や金網で形成されたフィルタ２８８と同様、図１９Ｂに示すように、ターゲット進行経路２７２に対して傾斜して設置されてもよい。
ターゲット進行経路２７２に対するフィルタ２８８の傾斜角度は、例えば４５°であってもよい。
これにより、フィルタ２８８を貫通できなかったターゲット２７は、フィルタ２８８の表面で回収容器２８１側に反射され、当該ターゲット２７又はその飛散物２７４が、ターゲット回収部２８の外に飛散することを抑止し得る。
【０１８４】
なお、複数のフィルタ２８８をターゲット進行経路２７２に対して傾斜して設置する場合、フィルタ２８８の傾斜方向は、複数のフィルタ２８８ごとで異なってもよい。例えば、図１９Ｃに示すように、複数のフィルタ２８８の各傾斜方向は、隣り合うフィルタ２８８同士で異なってもよい。
図１９Ｃでは、金属箔で形成された複数のフィルタ２８８に関する設置形態を示しているが、多孔質金属板や金網で形成された複数のフィルタ２８８においても同様の設置形態を適用してもよい。
また、図１９Ａ〜図１９Ｃに示した設置形態は、図１４Ａ〜図１６Ｂに示した繊維部材で形成されたフィルタ２８８や、図１７Ａ〜図１８Ｂに示したカーテン部材で形成されたフィルタ２８８の設置形態にも適用し得る。
【０１８５】
［９．その他］
［９．１  各制御部のハードウェア環境］
当業者は、汎用コンピュータまたはプログラマブルコントローラにプログラムモジュールまたはソフトウェアアプリケーションを組み合わせて、ここに述べられる主題が実行されることを理解するだろう。一般的に、プログラムモジュールは、本開示に記載されるプロセスを実行できるルーチン、プログラム、コンポーネント、データストラクチャー等を含む。
【０１８６】
図２０は、開示される主題の様々な側面が実行され得る例示的なハードウェア環境を示すブロック図である。図２０の例示的なハードウェア環境１００は、処理ユニット１０００と、ストレージユニット１００５と、ユーザインターフェイス１０１０と、パラレルＩ／Ｏコントローラ１０２０と、シリアルＩ／Ｏコントローラ１０３０と、Ａ／Ｄ、Ｄ／Ａコンバータ１０４０とを含んでもよいが、ハードウェア環境１００の構成は、これに限定されない。
【０１８７】
処理ユニット１０００は、中央処理ユニット（ＣＰＵ）１００１と、メモリ１００２と、タイマ１００３と、画像処理ユニット（ＧＰＵ）１００４とを含んでもよい。メモリ１００２は、ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）とリードオンリーメモリ（ＲＯＭ）とを含んでもよい。ＣＰＵ１００１は、市販のプロセッサのいずれでもよい。デュアルマイクロプロセッサや他のマルチプロセッサアーキテクチャが、ＣＰＵ１００１として使用されてもよい。
【０１８８】
図２０におけるこれらの構成物は、本開示において記載されるプロセスを実行するために、相互に接続されていてもよい。
【０１８９】
動作において、処理ユニット１０００は、ストレージユニット１００５に保存されたプログラムを読み込んで、実行してもよい、また、処理ユニット１０００は、ストレージユニット１００５からプログラムと一緒にデータを読み込んでもよい、また、処理ユニット１０００は、ストレージユニット１００５にデータを書き込んでもよい。ＣＰＵ１００１は、ストレージユニット１００５から読み込んだプログラムを実行してもよい。メモリ１００２は、ＣＰＵ１００１によって実行されるプログラムおよびＣＰＵ１００１の動作に使用されるデータを、一時的に保管する作業領域であってもよい。タイマ１００３は、時間間隔を計測して、プログラムの実行に従ってＣＰＵ１００１に計測結果を出力してもよい。ＧＰＵ１００４は、ストレージユニット１００５から読み込まれるプログラムに従って、画像データを処理し、処理結果をＣＰＵ１００１に出力してもよい。
【０１９０】
パラレルＩ／Ｏコントローラ１０２０は、ＥＵＶ光生成制御部５、レーザ光進行方向制御部３４、ターゲット生成制御部７４、及び温度制御部２８２ｄ等の、処理ユニット１０００と通信可能なパラレルＩ／Ｏデバイスに接続されてもよく、処理ユニット１０００とそれらパラレルＩ／Ｏデバイスとの間の通信を制御してもよい。シリアルＩ／Ｏコントローラ１０３０は、ヒータ電源７１２、ヒータ電源２８２ｂ、ピエゾ電源７３２、及び圧力調節器７２１等の、処理ユニット１０００と通信可能なシリアルＩ／Ｏデバイスに接続されてもよく、処理ユニット１０００とそれらシリアルＩ／Ｏデバイスとの間の通信を制御してもよい。Ａ／Ｄ、Ｄ／Ａコンバータ１０４０は、アナログポートを介して、温度センサ、圧力センサ、真空計各種センサ、ターゲットセンサ４、及び温度センサ２８２ｃ等のアナログデバイスに接続されてもよく、処理ユニット１０００とそれらアナログデバイスとの間の通信を制御したり、通信内容のＡ／Ｄ、Ｄ／Ａ変換を行ってもよい。
【０１９１】
ユーザインターフェイス１０１０は、操作者が処理ユニット１０００にプログラムの停止や、割込みルーチンの実行を指示できるように、処理ユニット１０００によって実行されるプログラムの進捗を操作者に表示してもよい。
【０１９２】
例示的なハードウェア環境１００は、本開示におけるＥＵＶ光生成制御部５、レーザ光進行方向制御部３４、ターゲット生成制御部７４、及び温度制御部２８２ｄの構成に適用されてもよい。当業者は、それらのコントローラが分散コンピューティング環境、すなわち、通信ネットワークを介して繋がっている処理ユニットによってタスクが実行される環境において実現されてもよいことを理解するだろう。本開示において、ＥＵＶ光生成制御部５、レーザ光進行方向制御部３４、ターゲット生成制御部７４、及び温度制御部２８２ｄは、イーサネットやインターネットといった通信ネットワークを介して互いに接続されてもよい。分散コンピューティング環境において、プログラムモジュールは、ローカルおよびリモート両方のメモリストレージデバイスに保存されてもよい。
【０１９３】
［９．２  その他の変形例］
コーティング材２８７ａは、ターゲット２７との接触角が９０°以下の材料であって、且つ、ターゲット２７が衝突したときの衝撃を吸収する材料であってもよい。或いは、コーティング材２８７ａは、ターゲット２７が衝突したときの衝撃を吸収する材料の上にターゲット２７との接触角が９０°以下の材料を積層した部材と置き換えてもよい。
また、コーティング材２８７ａは、ターゲット２７との接触角が９０°以下の材料であり、且つ、ターゲット２７と反応し難い材料であってもよい。
【０１９４】
図８に示す第２実施例のターゲット回収部２８は、抑止部２８４、回収容器２８１、筒部２８５の内周面にコーティング材２８７ａがコートされてもよい。
このとき、ターゲット回収部２８は、抑止部２８４、回収容器２８１、筒部２８５の内周面の必ずしも全てが、コーティング材２８７ａでコートされていなくてもよい。ターゲット回収部２８は、ターゲット２７又は飛散物２７４が衝突する領域だけがコーティング材２８７ａでコートされてもよい。このことは、図１０〜図１２に示す第３〜第５実施例のターゲット回収部２８においても同様であり得る。
【０１９５】
図１２に示す第５実施例のターゲット回収部２８は、配管受け部２８６ａの受面Ｓを備えるため、受け部２８３を設けなくてもよい。
【０１９６】
上記で説明した実施形態は、変形例を含めて、各実施例同士や各実施形態同士で互いの技術を適用し得ることは、当業者には明らかであろう。
【０１９７】
例えば、図１３Ａ〜図１９Ｃに示す第３実施形態のＥＵＶ光生成装置１に含まれるフィルタ２８８は、図８〜図１２に示す第２実施形態のＥＵＶ光生成装置１が備えるターゲット回収部２８に適用し得る。
また、図８〜図１２に示す第２実施形態のＥＵＶ光生成装置１に含まれるフィルタ２８８においても、図１３Ｂ及び図１３Ｃに示した排気孔２８８ａや通過孔２８８ｂが形成されてもよい。
【０１９８】
上記の説明は、制限ではなく単なる例示を意図したものである。従って、添付の特許請求の範囲を逸脱することなく本開示の実施形態に変更を加えることができることは、当業者には明らかであろう。
【０１９９】
本明細書及び添付の特許請求の範囲全体で使用される用語は、「限定的でない」用語と解釈されるべきである。例えば、「含む」又は「含まれる」という用語は、「含まれるものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。「有する」という用語は、「有するものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。また、本明細書、及び添付の特許請求の範囲に記載される不定冠詞「１つの」は、「少なくとも１つ」又は「１又はそれ以上」を意味すると解釈されるべきである。
【符号の説明】
【０２００】
１                  …ＥＵＶ光生成装置
２                  …チャンバ
２６                …ターゲット供給部
２７                …ターゲット
２８                …ターゲット回収部
２８１              …回収容器
２８８              …フィルタ
５                  …ＥＵＶ光生成制御部
Ｓ                  …受面
【図１】
0006577871.tif 000002
【図２】
0006577871.tif 000003
【図３】
0006577871.tif 000004
【図４】
0006577871.tif 000005
【図５】
0006577871.tif 000006
【図６】
0006577871.tif 000007
【図７】
0006577871.tif 000008
【図８】
0006577871.tif 000009
【図９Ａ】
0006577871.tif 000010
【図９Ｂ】
0006577871.tif 000011
【図９Ｃ】
0006577871.tif 000012
【図１０】
0006577871.tif 000013
【図１１】
0006577871.tif 000014
【図１２】
0006577871.tif 000015
【図１３Ａ】
0006577871.tif 000016
【図１３Ｂ】
0006577871.tif 000017
【図１３Ｃ】
0006577871.tif 000018
【図１４Ａ】
0006577871.tif 000019
【図１４Ｂ】
0006577871.tif 000020
【図１４Ｃ】
0006577871.tif 000021
【図１４Ｄ】
0006577871.tif 000022
【図１４Ｅ】
0006577871.tif 000023
【図１５Ａ】
0006577871.tif 000024
【図１５Ｂ】
0006577871.tif 000025
【図１５Ｃ】
0006577871.tif 000026
【図１６Ａ】
0006577871.tif 000027
【図１６Ｂ】
0006577871.tif 000028
【図１７Ａ】
0006577871.tif 000029
【図１７Ｂ】
0006577871.tif 000030
【図１８Ａ】
0006577871.tif 000031
【図１８Ｂ】
0006577871.tif 000032
【図１９Ａ】
0006577871.tif 000033
【図１９Ｂ】
0006577871.tif 000034
【図１９Ｃ】
0006577871.tif 000035
【図２０】
0006577871.tif 000036