(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
マイクロミラーアレイの個々のマイクロミラーを目標通りに掩蔽する光学コンポーネント（３６）において、
ａ．第１方向（４０）に対して横方向に延びる少なくとも１つの光学素子（４５）と、
ｂ．前記光学素子（４５）を取り付けるフレーム（４３）と、
を備え、ｃ．前記光学素子（４５）は、中心領域において前記第１方向（４０）の方向に自由にアクセス可能であり、
ｄ．前記光学素子（４５）は、前記第１方向（４０）に対して垂直な向きの横方向（４４）に関して対向して位置する少なくとも２つの場所で、前記フレーム（４３）によって前記横方向（４４）に固定され、
ｅ．前記フレーム（４３）は、前記横方向（４４）の前記光学素子の線膨張が最大１％である場合でも、前記横方向（４４）の線膨張が０．０１％以下であるよう具現され、且つ
ｆ．前記光学素子（４５）は、線膨張が生じ得る場合に膨出又は座屈できるように前記フレーム（４３）上又は該フレーム（４３）内に配置され、
前記光学素子（４５）は、放射線不透過性領域（４１）が配置された少なくとも領域的に放射線透過性のキャリア（４６）を備えることを特徴とする光学コンポーネント。
【請求項２】
請求項１に記載の光学コンポーネント（３６）において、前記光学素子（４５）は、膜状に具現されることを特徴とする光学コンポーネント。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の光学コンポーネント（３６）において、前記光学素子（４５）は、位相及び／又は強度フィルタとして具現されることを特徴とする光学コンポーネント。
【請求項４】
請求項１〜３の何れか一項に記載の光学コンポーネント（３６）において、前記光学素子（４５）は、１μｍ〜１００μｍの範囲の幅を有するウェブ（４７）を有する格子（４６）を備えることを特徴とする光学コンポーネント。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学コンポーネント（３６）において、前記フレーム（４３）は、前記第１方向（４０）に沿って前記光学素子（４５）の厚さの１０倍以上である厚さを有することを特徴とする光学コンポーネント。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学コンポーネント（３６）において、前記フレーム（４３）は、冷却デバイス（４８）に熱的に結合されることを特徴とする光学コンポーネント。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学コンポーネント（３６）において、前記フレーム（４３）は、前記光学素子（４５）の熱容量の１０倍以上の熱容量を有することを特徴とする光学コンポーネント。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学コンポーネント（３６）において、前記フレーム（４３）は、１００Ｗ／（ｍＫ）以上の熱伝導率を有する材料を含む光学コンポーネント。
【請求項９】
ａ．多数のマイクロミラー（３９；２７、２９）を有するマイクロミラーアレイ（３７；１３、１４；２６、２８）と、
ｂ．請求項１〜８のいずれか１項に記載の光学コンポーネント（３６）と
を備えた光学アセンブリであって、
ｃ．放射線不透過性領域（４１）のそれぞれが、１つのマイクロミラー（３９；２７、２９）又は隣り合った複数のマイクロミラー（３９；２７、２９）にいずれの場合も割り当てられることを特徴とする光学アセンブリ。
【請求項１０】
請求項９に記載の光学アセンブリにおいて、前記放射線不透過性領域（４１）のそれぞれが、厳密に１つのマイクロミラー（３９；２７、２９）に割り当てられることを特徴とする光学アセンブリ。
【請求項１１】
投影露光装置（１）の照明光学ユニット（４）であって、請求項９又は１０に記載の光学アセンブリを備えた照明光学ユニット。
【請求項１２】
投影露光装置（１）の照明系（２）であって、請求項１１に記載の照明光学ユニット（４）及びＥＵＶ放射源（３）を備えた照明系。
【請求項１３】
マイクロリソグラフィ用の投影露光装置（１）であって、
ａ．請求項１１に記載の照明光学ユニット（４）と、
ｂ．投影光学ユニット（７）と
を備えたマイクロリソグラフィ用の投影露光装置。
【請求項１４】
微細構造又はナノ構造コンポーネントを製造する方法であって、
ａ．請求項１３に記載の投影露光装置（１）を用意するステップと、
ｂ．感光材料からなる層を少なくとも部分的に施した基板を用意するステップと、
ｃ．結像対象構造を有するレチクル（３０）を用意するステップと、
ｄ．前記投影露光装置（１）によって前記レチクル（３０）の少なくとも一部を前記感光層の領域に投影するステップと、
ｅ．露光された前記感光層を現像するステップと
を含む方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学コンポーネントに関する。本発明はさらに、かかるコンポーネントを備えた光学アセンブリに関する。さらに、本発明は、投影露光装置の照明光学ユニット及び照明系、並びにかかる光学アセンブリを備えた投影露光装置に関する。最後に、本発明は、微細構造又はナノ構造コンポーネントを製造する方法に関する。
【０００２】
英国特許出願第１０  ２０１３  ２１３  ８４２．３号の内容を参照により本明細書に援用する。
【背景技術】
【０００３】
光学コンポーネントを使用する際、ビーム経路内のそれらの配置が非常に重要であり得る。この場合、ビーム経路の方向の位置決めとそれに対して垂直な位置とを区別することが可能である。用途に応じて、これらの位置のいずれか一方又は両方が非常に重要であり得る。
【０００４】
例として、フィルタ及び／又は絞りの配置に関しては、ビーム経路に対して垂直な方向のその正確な位置決めが多くの場合は非常に重要である。
【０００５】
掩蔽絞り（obscuration stop：オブスキュレーション絞り）が、例えば特許文献１及び特許文献２から知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】国際公開第２００６／０６９７２５号パンフレット
【特許文献２】独国特許第１０  ２０１０  ０４０  １０８号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的は、光学コンポーネント、特に掩蔽絞りを改良することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
この目的は、請求項１の特徴によって達成される。
【０００９】
本発明の本質は、光学素子、特に掩蔽絞りのフレーム内の配置を、掩蔽絞りが第１方向に自由にアクセス可能であり、第１方向に対して垂直な方向に少なくとも領域的に（regionally）、特に縁部で（marginally）固定されるような配置にすることにある。フレームによる光学素子の固定は、膨張、特に熱膨張が生じ得る場合に第１方向に対して垂直な方向のその最大のシフト、すなわち変位を低減又は制限する。フレームでの固定によって達成可能な効果は、特に、第１方向に沿った光学素子の位置ベクトルの平面への投影が、光学素子に生じる最大長さ変化の１／４よりも大きな局所シフトをいかなる場所でも被らないことである。この場合、上記最大長さ変化は、特に光学素子の膨張の場合に非平面状、すなわち非平面、特に曲面として具現され得る光学素子の平面に沿って測定される。
【００１０】
光学素子のフレーム内の配置は、特に、第１方向に自由にアクセス可能であり、第１方向に対して垂直な第２方向に少なくとも領域的に、特に縁部で固定され、且つ第１方向及び第２方向に対して垂直に延びる第３方向に自由に移動可能である、特にフレームに固定されないような配置である。
【００１１】
光学素子は、特にフレームによって固定され、フレームは、横方向、すなわち第１方向に対して垂直な方向の光学素子の線膨張が最大１％である場合でも、横方向の線膨張が０．０１％以下、特に０．００１％以下、特に０．０００１％以下であるよう具現される。換言すれば、フレームは光学素子よりも堅い、特に光学素子よりも変形しにくい。その結果として、フレームは機械的に非常に安定している。フレームは、特に光学素子に対して機械的に安定している。フレームは、実質的に変形不可能であることが好ましい。したがって、フレームは、少なくとも固定場所において横方向の光学素子の位置を予め固定的に定める。光学素子は、特に、線膨張が生じ得る場合に膨出又は座屈できるようにフレーム上又はフレーム内に配置される。特に光学素子の中心領域は、第１方向又はその逆方向に動く、特に座屈又は膨出することができる。光学素子は、特に膜又は膜状若しくは板状の素子とすることができる。光学コンポーネントは、特に掩蔽絞りである。光学コンポーネントは、特にフィルタ、特に遮断フィルタ（blockade filter）とすることができる。光学素子のこのような薄い実施形態は、その可撓性を増加させる。光学素子は、第１方向又はその逆方向に膨出又は座屈できるように特に選択され、特に非常に薄い。
【００１２】
光学素子は、特にフィルタ、特に位相及び／又は振幅フィルタである。光学素子は、スペクトルフィルタとすることもできる。光学素子は、特に遮断フィルタとすることができる。かかるフィルタは、掩蔽又は掩蔽又は掩蔽絞りとも称する。光学素子は、回折素子又は回折特性を有する素子とすることもできる。
【００１３】
本発明の一態様によれば、光学素子は、位相及び／又は強度フィルタとして具現される。
【００１４】
光学素子は、第１方向の厚さが、特に１ｍｍ以下、特に５００μｍ以下、特に２００μｍ以下、特に１００μｍ以下、特に５０μｍ以下、特に２０μｍ以下、特に１０μｍ以下、特に１μｍ以下、特に１００ｎｍ以下、特に１０ｎｍ以下、特に５ｎｍ以下である。
【００１５】
光学素子は、耐熱性が高い。光学素子は、特に３０℃以上、特に１００℃以上、特に３００℃以上、特に５００℃以上、特に１０００℃以上の温度まで耐熱性である。
【００１６】
光学素子は、１０Ｗ／（ｍＫ）以上、特に３０Ｗ／（ｍＫ）、特に１００Ｗ／（ｍＫ）、特に２００Ｗ／（ｍＫ）、特に３００Ｗ／（ｍＫ）以上の熱伝導率を有する材料を含むことが好ましい。これらの示度は、温度０℃に関するものである。高い熱伝導率は、光学素子からフレームへの熱放散を改善する。フレームは、特に光学素子のヒートシンクを形成し得る。
【００１７】
逆に、特に光学素子の製造のためには、光学素子を熱伝導率が低い材料から製造することが有利であり得る。特にレーザ法による製造の場合、結果として光学素子の精度を向上させることができる。光学素子は、特に、１００Ｗ／（ｍＫ）以下、特に３００Ｗ／（ｍＫ）以下、特に２００Ｗ／（ｍＫ）以下の熱伝導率を有する材料を含むことができるか、又はかかる材料からなることができる。光学素子は、特に１つ又は複数のかかる材料から製造することができる。光学素子は、特に１つ又は複数のかかる材料からなることができる。光学素子は、１つ又は複数のかかる材料から構成されたキャリアを含むこともできる。光学素子について可能な材料は、例えば、銅、アルミニウム、ケイ素、窒化ケイ素、炭化ケイ素、及びダイヤモンドである。高い熱伝導率には、光学素子が、換言すればヒートシンクとして働くフレームへ熱を特に効率的に放出できるという効果がある。結果として、光学素子の過度の加熱が回避される。
【００１８】
好ましくは、光学素子は、線膨張係数が低い材料から構成される。その結果として、特に横方向の光学素子の配置の精度が高くなる。
【００１９】
本発明によれば、例えば遮断フィルタ等の掩蔽要素が、使用放射線の吸収により加熱され得ることが認識された。加熱は、上記要素の線膨張につながり得る。使用放射線の伝播方向に対して垂直な方向の光学素子の望ましくないシフトが、線膨張に起因して生じ得る。本発明によれば、横方向、すなわち使用放射線の伝播方向に対して垂直な方向で生じ得るシフトを、光学素子を２つの相互に反対側で安定フレームに締結することによって大幅に低減できることがさらに認識された。好ましくは、フレームは、周方向に延びるように、特に閉鎖的に具現される。光学素子は、特に縁部で、特に周方向に延びる、特に閉鎖された領域でフレームによって固定される。
【００２０】
本発明の一態様によれば、フレームは非常に安定しているので、光学素子の熱応力の結果として、特に光学素子の熱膨張の結果として変形し得ない、特に反り得ない。その結果として、光学素子の配置の精度が高くなる。
【００２１】
本発明の一態様によれば、光学素子は、第１方向に対して垂直な方向に、中心領域の周りに周方向に延びる領域でフレームによって固定される。その結果、周方向に延びる領域の位置は、第１方向に対して垂直な方向に固定される。したがって、光学素子は、フレームを用いて、ビーム経路内で正確に第１方向に対して垂直な方向に配置することができる。
【００２２】
本発明のさらに別の態様によれば、光学コンポーネントは、締結、接着結合、磁気力、又は静電力によって固定される。光学コンポーネントは、特に交換可能に取付けフレームに固定することができる。これは第１に、適当な光学素子の選択の融通性を高める。これは第２に、特に掩蔽要素の交換による光学コンポーネントの単純な修理と、光学系における光学コンポーネントの正確な配置とを可能にする。
【００２３】
本発明のさらに別の態様によれば、光学素子は、放射線不透過性領域を有する。光学素子は、放射線透過性領域も有することができる。光学素子は、格子状に具現することができるか、又は格子状構造を含むことができる。
【００２４】
格子は、特に交差格子として、すなわち交差格子ウェブ及び介在格子メッシュを有する格子として具現することができる。格子メッシュは、放射線不透過性領域を形成することができる。切り抜かれたメッシュが、特に放射線透過性領域を形成することができる。特に、平面構造、特に金属板又はフィルム、又は対応の基板から格子を切り抜くことが可能である。特にレーザ法を、格子の製造、特にメッシュの切抜きに用いることができる。
【００２５】
光学素子は、自立式に具現することができる。光学素子は、キャリア上に配置することができるか、又はキャリアを備えることができる。
【００２６】
本発明の一態様によれば、光学素子は、少なくとも領域的に放射線透過性のキャリアを備え、その上に放射線不透過性領域が配置される。光学素子の構造設計の融通性は、キャリア上の放射線不透過性領域の配置によって高まる。放射線不透過性領域は、特にキャリアとは異なる材料から構成することができる。
【００２７】
本発明の一態様によれば、ガラス板、特に構造化ガラス板、又は格子、特に金属、半導体、若しくはセラミック格子が、キャリアとしての役割を果たす。したがって、上述の格子自体が、光学素子を形成するか又は光学素子のキャリアとして働くことができる。
【００２８】
本発明のさらに別の態様によれば、格子は、１μｍ〜１００μｍの範囲、特に３μｍ〜３０μｍの範囲、特に５μｍ〜２０μｍの範囲の幅を有するウェブを有する。
【００２９】
光学素子は、基本状態で、特に通常の条件下で平面状に具現することができる。光学素子は、湾曲状に具現することもできる。光学素子は、第１方向の方向に、すなわちフレームによって画定された平面に対して垂直な方向に特にプリベンド（pre-bend）を有することができる。
【００３０】
さらに、光学素子に所定の屈曲場所を設けることが有利であり得る。
【００３１】
本発明のさらに別の態様によれば、フレームは、第１方向に沿って光学素子の厚さの１０倍以上である厚さを有する。フレームは、特に、光学素子の厚さの２０倍以上、特に５０倍以上、特に１００倍以上、特に１０００倍以上の第１方向に沿った厚さを有することができる。その結果として、フレームは非常に安定する。フレームは、特に光学素子に対して非常に安定している。フレームは、特に光学素子に対してできる限り変形不可能である。フレームは、フィルタの熱応力の結果として反ることがないほど十分に安定している。
【００３２】
本発明のさらに別の態様によれば、フレームは、冷却デバイスに熱的に結合される。フレームは、特にヒートシンクに結合される。熱的結合は、特に固体接続、気体界面、又は液体界面を介してもたらすことができる。換言すれば、フレームは能動的に冷却することができる。その結果として、フレームの熱膨張を低減、特に回避することができる。
【００３３】
本発明のさらに別の態様によれば、フレームは、光学素子の熱容量の１０倍以上の熱容量を有する。フレームの熱容量は、光学素子の熱容量の特に１００倍以上、特に１０００倍以上である。それにより、光学素子の加熱によってもたらされるフレームの加熱がせいぜい無視できるほど小さいことを確実にすることが可能である。換言すれば、フレームは、それ自体が光学素子のヒートシンクを構成することができる。
【００３４】
本発明のさらに別の態様によれば、フレームは、１００Ｗ／（ｍＫ）以上の熱伝導率を有する材料を含む。フレームは、特に２００Ｗ／（ｍＫ）以上、特に３００Ｗ／（ｍＫ）以上の熱伝導率を有する材料を含む。これらの示度は、温度０℃に関するものである。フレームは、特に１つ又は複数のかかる材料から製造することができる。フレームは、１つ又は複数のかかる材料からなることが好ましい。特に、銅、アルミニウム、ダイヤモンド、及び炭化ケイ素が、フレームの材料として適している。
【００３５】
好ましくは、フレームは、線膨張係数が低い材料から構成される。フレーム自体は、特に線膨張が低い。これは、適当な材料の組み合わせによっても達成することができる。
【００３６】
本発明のさらに別の目的は、光学アセンブリを改良することである。
【００３７】
この目的は、請求項１０の特徴によって達成される。
【００３８】
光学アセンブリは、特に、多数のマイクロミラーを有するマイクロミラーアレイと、上記説明に従った光学コンポーネントとを備える。
【００３９】
マイクロミラーアレイは、特に投影露光装置、特にＵＶ投影露光装置、ＤＵＶ投影露光装置、ＶＵＶ投影露光装置、又はＥＵＶ投影露光装置の、特にファセットミラーとすることができる。マイクロミラーアレイは、特に微小光学電気機械システム（ＭＯＥＭＳ）として具現される。個々の照明光線を、多数のマイクロミラーを有するかかるＭＯＥＭＳによって個別に偏向させることができる。個々の光線を有する光ビームを、照明目的で提供することができる。光学コンポーネントを用いて、どのマイクロミラーを所定の光源及び／又はさらに別のマイクロミラーアレイによって照明できるかに影響を及ぼすことが可能である。光学コンポーネントを用いて、特に、マイクロミラーアレイの個々のマイクロミラーを目標通りに遮光する（stop down）、すなわち掩蔽することが可能である。
【００４０】
本発明の一態様によれば、光学素子の放射線不透過性領域のそれぞれに厳密に１つのマイクロミラーが割り当てられる。１つ又は複数の放射線不透過性領域を、隣り合った２つ以上のマイクロミラーに割り当てられるよう具現することも可能である。
【００４１】
本発明のさらに他の目的は、投影露光装置の照明光学ユニット、投影露光装置の照明系、及び投影露光装置を改良することである。
【００４２】
これらの目的は、請求項１２〜１４の特徴によって達成される。
【００４３】
利点は、光学コンポーネントに関して上述したものから明らかである。
【００４４】
本発明のさらに別の目的は、微細構造又はナノ構造コンポーネントを製造する方法を改良することである。
【００４５】
この目的は、請求項１５の特徴によって達成される。利点は上述のものから明らかである。
【００４６】
ＵＶ放射源、約２００ｎｍ〜３００ｎｍの範囲の、特に２４８ｎｍの使用放射線を発生させるＤＵＶ放射源、約１００ｎｍ〜２００ｎｍの範囲の、特に１９３ｎｍの使用放射線を発生させるＶＵＶ放射源、又は５ｎｍ〜３０ｎｍの範囲の使用放射線を発生させるＥＵＶ放射源を備えた照明系を用いれば、本発明による光学コンポーネントの利点が特にはっきりと示される。
【００４７】
本発明の例示的な実施形態を、図面を参照して以下でより詳細に説明する。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】照明光学ユニット及び投影光学ユニットを備えたマイクロリソグラフィ用の投影露光装置を子午断面で概略的に示す。
【図２】マイクロミラーアレイ（ＭＭＡ）及びそれによって照明される瞳ファセットミラーを備えた図１に従った投影露光装置の照明光学ユニットのさらに別の実施形態を示す。
【図３】照明設定に対応する瞳ファセット照明を有する図２に従った瞳ファセットミラーの平面図を概略的に示す。
【図４】光線が掩蔽要素によって遮断される投影露光装置のビーム経路からの抜粋の図を概略的に示す。
【図５】ビーム経路内に複数の掩蔽要素を有する図４に従った図を示す。
【図６ａ】掩蔽要素の配置用の、フレーム内に配置された担持構造の図を概略的に示す。
【図６ｂ】図６ａに示す光学コンポーネントの線ＶＩｂに沿った断面を示す。
【図７ａ】多数の掩蔽要素が担持構造上に配置された図６ａに従った図を示す。
【図７ｂ】図７ａに示す光学コンポーネントの線ＶＩＩｂに沿った断面を示す。
【図８ａ】掩蔽要素を有する担持構造の熱膨張がその位置決めに及ぼす影響を説明するための概略図を示す。
【図８ｂ】掩蔽要素を有する担持構造の熱膨張がその位置決めに及ぼす影響を説明するための概略図を示す。
【発明を実施するための形態】
【００４９】
最初に、投影露光装置１及びその構成部品の一般構成を説明する。これに関する詳細については、本願の一部として全体を本願に援用する国際公開第２０１０／０４９０７６号パンフレットを参照されたい。図１は、マイクロリソグラフィ用の投影露光装置１を子午断面で概略的に示す。投影露光装置１の照明系２は、放射源３のほかに、物体平面６の物体視野５の露光のための照明光学ユニット４を有する。物体視野５は、例えばｘ／ｙアスペクト比を１３／１とした矩形又は弧状の形状を有することができる。この場合、物体視野５に配置された反射レチクル（図１には図示せず）が露光され、上記レチクルは、微細構造又はナノ構造半導体コンポーネントの製造のために投影露光装置１によって投影される構造を有する。投影光学ユニット７が、物体視野５を像平面９の像視野８に結像する役割を果たす。レチクル上の構造は、図示はしていないが特にウェーハの形態の基板の感光層に結像され、上記基板は、像平面９の像視野８の領域に配置される。露光された感光層は、続いて現像される。
【００５０】
レチクルホルダ（図示せず）によって保持されたレチクルと、ウェーハホルダ（図示せず）によって保持されたウェーハとは、投影露光装置１の動作中にｙ方向に同期走査される。投影光学ユニット７の結像スケールに応じて、レチクルをウェーハに対して逆方向に走査することも可能である。
【００５１】
放射源３は、５ｎｍ〜３０ｎｍの範囲の使用放射線を発するＥＵＶ放射源である。これは、プラズマ源、例えばＧＤＰＰ（ガス放電生成プラズマ）源又はＬＰＰ（レーザ生成プラズマ）源とすることができる。他のＥＵＶ放射源、例えばシンクロトロン又は自由電子レーザ（ＦＥＬ）に基づくものも可能である。
【００５２】
放射源３は、ＵＶ放射源、約２００ｎｍ〜３００ｎｍの範囲の、特に２４８ｎｍの使用放射線を発生させるＤＵＶ放射源、約１００ｎｍ〜２００ｎｍの範囲の、特に１９３ｎｍの使用放射線を発生させるＶＵＶ放射源とすることもできる。
【００５３】
放射源３から出る放射線１０は、コレクタ１１によって集束される。対応のコレクタが、例えば欧州特許第１  ２２５  ４８１号明細書から既知である。コレクタ１１の下流で、放射線１０は、中間焦点面１２を伝播した後に視野ファセットミラー１３に当たる。視野ファセットミラー１３は、物体平面６に対して光学的に共役である照明光学ユニット４の平面に配置される。
【００５４】
放射線１０は、使用放射線、照明光、又は結像光とも称する。
【００５５】
視野ファセットミラー１３の下流で、放射線１０は瞳ファセットミラー１４によって反射される。瞳ファセットミラー１４は、照明光学ユニット７の入射瞳平面又はこれに対して光学的に共役な平面にある。視野ファセットミラー１３及び瞳ファセットミラー１４は、以下でさらにより詳細に説明する多数の個別ミラーから構成される。この場合、個別ミラーへの視野ファセットミラー１３の細分は、単独で物体視野５の全体を照明する視野ファセットのそれぞれが、個別ミラー１つずつによって表されるようなものであり得る。代替的に、複数のかかる個別ミラーを用いて視野ファセットの少なくとも一部又は全部を構成することが可能である。視野ファセットにそれぞれ割り当てられ、且ついずれの場合も単一の個別ミラー又は複数のこのような個別ミラーによって形成され得る瞳ファセットミラー１４の瞳ファセットの構成にも、同じことが対応して当てはまる。
【００５６】
視野ファセットは、放射源３から入射した放射線１０を多数のビーム３５に分割する。ビーム３５は瞳ファセットの場所付近で又は瞳ファセットの場所で二次光源を生成する。
【００５７】
放射線１０は、２つのファセットミラー１３、１４に２５°以下の入射角で当たる。したがって、放射線１０は、垂直入射動作の範囲で２つのファセットミラーに当たる。斜入射での照射も可能である。瞳ファセットミラー１４は、投影光学ユニット７の瞳平面を構成するか又は投影光学ユニット７の瞳平面に対して光学的に共役な照明光学ユニット４の平面に配置される。瞳ファセットミラー１４と、放射線１０のビーム経路の順に示すミラー１６、１７、及び１８を有する伝達光学ユニット１５の形態の結像光学アセンブリとを用いて、視野ファセットミラー１３の視野ファセットは、相互に重畳して物体視野５に結像される。伝達光学ユニット１５の最終ミラー１８は、斜入射ミラーである。伝達光学ユニット１５は、瞳ファセットミラー１４と共に、視野ファセットミラー１３からの放射線１０を物体視野５へ伝達する連続光学ユニットとも称する。照明光１０は、複数の照明チャネルを介して放射源３から物体視野５へ誘導される。これらの照明チャネルのそれぞれに、視野ファセットミラー１３の視野ファセット及びその下流に配置された瞳ファセットミラー１４の瞳ファセットが割り当てられる。視野ファセットミラー１３及び瞳ファセットミラー１４の個別ミラーは、アクチュエータシステムによって傾斜可能とすることができ、視野ファセットへの瞳ファセットの割り当ての変化と、それに対応した照明チャネルの構成の変化とを達成することができる。これにより、物体視野５にわたる照明光１０の照明角度の分布が異なる種々の照明設定が得られる。
【００５８】
位置関係の説明を容易にするために、以下では特にグローバル直交ｘｙｚ座標系を利用する。ｘ軸は、図１において図平面に対して垂直に観察者の方へ延びる。ｙ軸は、図１において右側へ延びる。ｚ軸は、図１において上方へ延びる。
【００５９】
後続の図の中から選択した図では、ローカル直交ｘｙｚ座標系を示し、ｘ軸は、図１に示すｘ軸と平行に延び、ｙ軸は、上記ｘ軸と共に各光学素子の光学面（optical area）に延びる。
【００６０】
視野ファセットミラー１３の個別ミラーの傾斜と、それに対応した瞳ファセットミラー１４の個別ミラーへの視野ファセットミラー１３の上記個別ミラーの割り当ての変化とによって、種々の照明系を達成することができる。視野ファセットミラー１３の個別ミラーの傾斜に応じて、物体視野５への視野ファセットミラー１３の視野ファセットの結像が再度確保されるような傾斜によって、上記個別ミラーに新たに割り当てられた瞳ファセットミラー１４の個別ミラーが追跡される。
【００６１】
図２は、投影露光装置１の照明光学ユニット２４の代替的な構成を示す。図１を参照してすでに上述したものに相当するコンポーネントは、同じ参照符号を有し、再度詳述しない。
【００６２】
ＬＰＰ源として同様に具現できる放射源３から出る使用放射線１０は、第１コレクタ２５によって集光される。コレクタ２５は、放射源３を中間焦点面１２に結像するか、又は放射源３からの光を中間焦点面１２の中間焦点に集束させる放物面鏡であってもよい。コレクタ２５は、使用放射線１０がコレクタに０°に近い入射角で入射するように動作させることができる。そしてコレクタ２５は垂直入射に近い角度で動作するため、垂直入射（ＮＩ）ミラーとも称する。斜入射で動作するコレクタをコレクタ２５の代わりに用いることもできる。
【００６３】
照明光学ユニット２４の場合、使用放射線１０、すなわちＥＵＶ放射線ビームを誘導する光学アセンブリの例としてマルチミラーアレイ又はマイクロミラーアレイ（ＭＭＡ）の形態の視野ファセットミラー２６が、中間焦点面１２の下流に配置される。視野ファセットミラー２６は、微小電気機械システム（ＭＳＭＳ）として具現される。これは、行列状の配列で配置された複数の個別ミラー２７を有する。個別ミラー２７は、以下でも説明するように、アクチュエータシステムによって傾斜可能であるように設計される。概して、視野ファセットミラー２６は、約１００，０００個の個別ミラー２７を有する。個別ミラー２７のサイズに応じて、視野ファセットミラー２６は、例えば、１，０００個、５，０００個、７，０００個、又は数十万個の、例えば５００，０００個の個別ミラー２７を有することもできる。
【００６４】
ファセットミラー２６の微小電気機械システム（ＭＥＭＳ）は、微小光学電気機械システム（ＭＯＥＭＳ）とも称する。
【００６５】
スペクトルフィルタを視野ファセットミラー２６の上流に配置することができ、これは、使用放射線１０を放射源３の放射のうち投影露光に使用不可能な他の波長成分から分離する。スペクトルフィルタは図示されていない。
【００６６】
８４０Ｗのパワー及び６．５ｋＷ／ｍ２のパワー密度を有する使用放射線１０が、視野ファセットミラー２１に当たる。
【００６７】
ファセットミラー２１の個別ミラーアレイ全体は、直径５００ｍｍであり、個別ミラー２７が密集した設計である。視野ファセットがいずれの場合も１つのミラー素子のみによって表される限り、個別ミラー２７は、倍率は別として、物体視野５の形態を表す。ファセットミラー２６は、それぞれが視野ファセットを表すと共にｙ方向が約５ｍｍ及びｘ方向が約１００ｍｍの寸法を有する５００個の個別ミラー２７から形成することができる。厳密に１つの個別ミラー２７による各視野ファセットの実現の代替として、視野ファセットのそれぞれを、より小さな個別ミラー２７の群で近似させることができる。ｙ方向に約５ｍｍ及びｘ方向に約１００ｍｍの寸法を有する視野ファセットを構成できるのは、例えば、５ｍｍ×５ｍｍの寸法を有する個別ミラー２７の１×２０アレイから、０．５ｍｍ×０．５ｍｍの寸法を有する個別ミラー２７の１０×２００アレイまでである。個別ミラー２７による完全な視野ファセットアレイの面積被覆率は、７０％〜８０％であり得る。
【００６８】
使用光１０は、ファセットミラー２６の個別ミラー２７から瞳ファセットミラー２８へ反射される。瞳ファセットミラー２８は、約２，０００個の静的瞳ファセット２９を有する。瞳ファセットは、相互に並んで複数の同心リング状に配置され、最も内側のリングの瞳ファセット２９が扇形に作られ、それに直接隣接するリングの瞳ファセット２９が円環扇形（ring-sector-shaped）に作られる。瞳ファセットミラー２８の四分円において、１２個の瞳ファセット２９が、リングのそれぞれで相互に並んで存在し得る。図３に示す円環扇形のそれぞれが、さらに複数の個別ミラー２７によって形成される。
【００６９】
使用光１０は、瞳ファセット２９によって物体平面６に配置された反射レチクル３０へ反射される。図１に示す投影露光装置に関連して上述したように、投影光学ユニット７がそれに続く。
【００７０】
図１に示す照明光学ユニット４に関連して上述したように、伝達光学ユニットを、ファセットミラー２８とレチクル３０との間に再度設けることができる。
【００７１】
微細構造又はナノ構造コンポーネント、特に半導体コンポーネント、例えばマイクロチップをリソグラフィで製造するために、投影露光装置１を用いて、レチクル３０の少なくとも一部がウェーハ上の感光層の領域に結像される。スキャナ又はステッパとしての投影露光装置１の実施形態に応じて、レチクル３０及びウェーハを、スキャナ動作でｙ方向に連続して、又はステッパ動作で段階的に、時間的に同期して移動させる。
【００７２】
図３は、従来の照明設定をほぼ達成できる瞳ファセットミラー２８の瞳ファセット２９の照明を例として示す。瞳ファセットミラー２８の２つの内側瞳ファセットリングにおいて、瞳ファセット２９が１つおきに周方向に照明される。図３におけるこの交互照明図は、この照明設定の場合に実現される充填密度が輪帯照明設定の場合の１／２であることを表すことを意図したものである。均一な照度分布も同様に２つの内側瞳ファセットリングにおいて求められるが、占有密度は２分の１である。図３に示す２つの外側瞳ファセットリングは照明されない。
【００７３】
視野ファセットミラー２６の個別ミラー２７と、図１に示す照明光学ユニット４の実施形態における視野ファセットミラー１３及び瞳ファセットミラー１４の対応の構成の個別ミラーとは、使用放射線１０の波長におけるそれらの反射率を最適化するために、多層コーティングを有する。多層コーティングの温度は、投影露光装置１の動作中、４２５Ｋを超えてはならない。
【００７４】
照明光学ユニット４及び２４の個別ミラー２７は、真空排気可能チャンバ３２に収容され、その境界壁３３を図２に示す。チャンバ３２は、遮断弁３３ｂを収容した流体ライン３３ａを介して真空ポンプ３３ｃと連通する。真空排気可能チャンバ３２内の作動圧力は、数パスカル、特に３Ｐａ〜５Ｐａ（Ｈ２分圧）である。他の全ての分圧は、１×１０−７ｍｂａｒを大幅に下回る。
【００７５】
個別ミラー２７のそれぞれが、０．１ｍｍ×０．１ｍｍ、０．５ｍｍ×０．５ｍｍ、又は５ｍｍ×５ｍｍ以上の寸法を有する入射可能な（impingable）反射面３４を有し得る。反射面３４は、多層コーティングによって形成される。
【００７６】
個別ミラー２７の反射面３４は、相互に補い合って視野ファセットミラー２６の全ミラー反射面を形成する。これに対応して、反射面３４は、相互に補い合って視野ファセットミラー１３又は瞳ファセットミラー１４の全ミラー反射面も形成し得る。
【００７７】
特に使用放射線１０の一部を遮断するための遮断フィルタ３６の形態の光学コンポーネントの実施形態を、図４を参照して以下で説明する。遮断フィルタ３６は、特に、投影露光装置１のビーム経路の掩蔽を形成する。
【００７８】
遮断フィルタ３６は、特に中間焦点面１２と視野ファセットミラー１３又は２６との間のビーム経路に、又は視野ファセットミラー１３又は２６と瞳ファセットミラー１４又は２８との間のビーム経路に配置することができる。概略的な図４は、多数のマイクロミラー３９を有するマイクロミラーアレイ３７の上流のビーム経路における遮断フィルタ３６の配置を概して示す。マイクロミラーアレイ３７の詳細については、上記説明を参照されたい。
【００７９】
さらに、図４は、集束アレイ３８を概略的に示す。集束アレイ３８は省くこともできる。これは、特にＥＵＶ投影露光装置の場合、反射素子、特にファセットミラー又はコレクタによって形成することもできる。
【００８０】
図４に例として示すように、マイクロミラーアレイ３７は、不良マイクロミラー３９＊を含む。
【００８１】
ミラー３９の１つの不良（deflect）は、例えば、このミラーを制御下で傾斜させることができなくなっていることにあり得る。これには、使用放射線１０が不正確な方向に偏向されるという影響があり得る。マイクロミラー３９のそれぞれが専用の光源３によって照明される場合、不正確な方向への使用放射線１０の偏向は、不良ミラー３９＊に関連する光源のスイッチオフによって防止することができる。放射線１０が適当な光学コンポーネント、特にファセットミラーによって多数のビーム３５に分割される、共通の放射源３の場合、本発明によれば、不良マイクロミラー３９＊に関連するビーム３５＊を遮断フィルタ３６によって遮断する。
【００８２】
この目的で、遮断フィルタ３６は、使用放射線１０の伝播方向４０に関して横方向に延びる掩蔽要素４１を有する。遮断フィルタ３６の、特にその構成部品の構成を、以下でさらにより詳細に説明する。
【００８３】
図５に示す例示的な実施形態において、遮断フィルタ３６は、複数の掩蔽要素４１を含む。掩蔽要素４１は、第１に、以下でさらにより詳細に説明する格子４６の格子ウェブ４７によって具現することができる。掩蔽要素４１は、格子４６の充填メッシュ（filled meshes）４９によって形成することもできる。この点で、格子の作製のために、基板、例えば金属シート又はフィルムから放射線透過性領域を切り抜くことが可能であることを指摘する。原理上、網状基板を用意してから、掩蔽要素４１として働くことが意図されるメッシュ４９を充填することも考えられる。
【００８４】
格子ウェブ４７は、特に、迷光４２及び／又は外部光の掩蔽用の掩蔽要素４１を形成する。充填メッシュ４９は、特に、使用放射線１０の掩蔽用の掩蔽要素４１を形成する。換言すれば、掩蔽要素４１は、不良マイクロミラー３９＊に割り当てられたビーム３５＊の遮断だけでなく、迷光４２を絞る、すなわち遮断するのにも役立ち得る。
【００８５】
図５に示す例示的な実施形態において、格子４６は、自立構造として具現される。原理上、特に使用放射線１０に対して透明な材料から構成されたキャリア上に格子を配置することも可能である。
【００８６】
遮断フィルタ３６の構成を、図６ａ、図６ｂ、図７ａ、図７ｂを参照して以下でより詳細に説明する。
【００８７】
遮断フィルタ３６は、概して、フレーム４３を備えた光学コンポーネントである。フレーム４３は、掩蔽要素４１及び／又はその担持構造の配置、特に固定に役立つ。掩蔽要素４１は、概して、伝播方向４０に関して横方向に延びる光学素子４５の構成部品である。したがって、フレーム４３は、少なくとも１つの光学素子４５の取付けに役立つ。掩蔽要素４１は、使用放射線１０の伝播方向４０に関して横方向に延びる。投影露光装置におけるビーム経路とは無関係に、伝播方向４０に対応する方向を第１方向とも称する。伝播方向４０に対して垂直な平面を以下において横断面と称し、この横断面には２つの横方向４４１及び４４２が延びる。以下において、伝播方向４０に対して垂直な向きの横方向４４にも概して言及する。
【００８８】
掩蔽要素４１は、フレーム４３上又はフレーム４３内に直接固定することができる。
【００８９】
光学素子４５は、中心領域において伝播方向４０に自由にアクセス可能である。特に、フレーム４３によって囲まれた領域を中心領域とする。光学素子４５は、中心領域において伝播方向４０に変位できるようにフレーム４３に配置される。光学素子４５は、特に中心領域が膨出又は座屈し得る。
【００９０】
光学素子４５は、縁部領域においてフレーム４３によって固定される。光学素子４５は、特に周方向に延びる、好ましくは閉鎖した縁部領域においてフレーム４３によって固定される。概して、光学素子４５は、伝播方向４０に対して垂直な方向に、特に横方向４４に、横断面内で対向して位置する少なくとも２箇所でフレーム４３によって固定される。
【００９１】
光学素子４５は、膜として具現することができる。これは、１ｍｍ以下、特に５００μｍ以下、特に２００μｍ以下、特に１００μｍ以下、特に５０μｍ以下、特に２０μｍ以下、特に１０μｍ以下、特に１μｍ以下、特に１００ｎｍ以下、特に１０ｎｍ以下、特に５ｎｍ以下の厚さを有する。これは、膜状に具現することもできる。膜状実施形態は、光学素子４５の厚さが、横断面におけるその範囲、特にその最大範囲に対して小さいことを意味するとここでは理解されたい。光学素子４５の厚さ対横方向の最大範囲の比は、特に１：１００以下、特に１：１０００以下、特に１：１０４以下、特に１：１０５以下、特に１：１０６以下、特に１：１０７以下、特に１：１０８以下である。
【００９２】
光学素子４５は、板として又は板状に具現することもできる。これは、自立式に具現することができる。これは、キャリアを備えるか又はキャリアに取り付けることもできる。
【００９３】
図６ａにおいて、例として、キャリアは格子４６として具現される。格子４６は、金属格子、半導体格子、又はセラミック格子である。格子４６は、非常に狭くされることが好ましい格子ウェブ４７を含む。格子ウェブ４７は、１μｍ〜１００μｍの範囲、特に３μｍ〜３０μｍの範囲、特に５μｍ〜２０μｍの範囲の幅を特に有する。格子４６の伝播方向４０の厚さは、１ｍｍ以下、特に５００μｍ以下、特に２００μｍ以下、特に１００μｍ以下、特に５０μｍ以下、特に２０μｍ以下、特に１０μｍ以下、特に１μｍ以下、特に１００ｎｍ以下、特に１０ｎｍ以下、特に５ｎｍ以下である。その結果として、格子４６は、膜状の、特に可撓性の挙動をする。格子４６、特に格子ウェブ４７は、特に迷光及び／又は外部光の掩蔽のために、それ自体が掩蔽要素４１を形成することもできる図５参照）。換言すれば、格子４６は、それ自体が掩蔽要素４１の一部であり得る。
【００９４】
格子４６の代わりに、ガラス板、特に構造化ガラス板がキャリアとして働くこともできる。概して、キャリアは、使用放射線１０に対して放射線透過性の領域を有する。キャリアは、特に、使用放射線１０に対して放射線透過性として具現されることができる。この場合、放射線透過性は、５０％以上、特に７０％以上、特に９０％以上、特に９９％以上の透過率を意味すると理解されたい。掩蔽要素４１は、放射線不透過性領域を形成する。この場合、放射線不透過性は、５０％未満、特に３０％未満、特に１０％未満、特に１％未満、特に０．１％未満、特に０．０１％未満の透過率を意味すると理解されたい。
【００９５】
格子４６の場合、放射線不透過性領域は、充填メッシュ４９によって形成することができる。放射線透過性領域は、開放格子メッシュによって、すなわち格子４６の切抜きによって形成することができる。
【００９６】
光学素子４５は、横断面内で特に周方向に延びる領域においてフレーム４３よって安定保持される。フレーム４３により、光学素子４５は少なくとも領域的に、特に縁部で、特に横方向４４に、すなわち伝播方向４０に対して垂直な方向に固定される。
【００９７】
図６ａ及び図６ｂに示す例示的な実施形態において、格子４６はフレーム４３上又はフレーム４３内に直接配置される。したがって、放射線透過性領域の全体が、フレーム４３によって周方向に囲まれた領域全体にわたって延びる。
【００９８】
図７ａ及び図７ｂに示す例示的な実施形態において、格子４６は、閉鎖的に、すなわち放射線不透過性に具現された領域５０を縁部に含む。換言すれば、領域５０は、開放格子メッシュを有しない。領域５０は、格子４６の一部とも称する。領域５０は、格子４６の残りの部分のように膜状に具現することができる。領域５０は、放射線不透過率は別として、特に格子４６の残りの部分のように具現することができる。フィルタ３６を識別するためのＩＤ番号５５を、領域５０に装着することができる。
【００９９】
さらに、図７ａは、格子４６が、いずれの場合も放射線不透過性領域５２によって相互に分離された４つの部分領域５１を備えることを概略的に示す。横方向のその範囲は別として、放射線不透過性領域５２は、格子ウェブ４７のように具現することができる。これは、格子４６の機械的安定化に寄与し得る。これは、フレーム４３における格子４６の機械的安定化に特に寄与し得る。これは、フレーム状に具現することもできる。これは、特に伝播方向４０で格子ウェブ４７よりも大きな寸法、すなわち大きな厚さを有することができる。放射線不透過性領域５２の厚さは、格子ウェブ４７の厚さの特に２倍以上の大きさ、特に３倍以上の大きさ、特に５倍以上の大きさとすることができる。放射線不透過性領域５２は、ストリップ状に、特にるつぼ（crucible）状に具現することができる。これは、複数のストリップを含むこともでき、格子状に具現することもできる。
【０１００】
個々の部分領域５１は、モジュール式に具現された別個のマイクロミラーアレイ３７に割り当てることができる。
【０１０１】
フレーム４３は、特に周方向に閉鎖状に具現される。光学素子４５は、フレーム４３に縁部で締結される。これは、特にフレーム４３上又はフレーム４３内に固定される。固定は、光学素子４５の、特に格子４６の横方向滑りが生じ得ないように設計されることが好ましい。固定は、例えば磁気手段を含み得る。
【０１０２】
特に、強磁性格子を固定できる永久磁石をフレーム４３に配置することが可能である。磁石は、その磁化が格子４６に対して垂直に揃うよう配置される。
【０１０３】
さらに別の実施形態において、格子４６及びフレーム４３は、導電性材料から構成される。格子４６及びフレーム４３は、この場合は薄い絶縁層によって相互に分離される。格子４６を固定する目的で、格子４６とフレーム４３との間に電圧が印加される。固定は、こうして静電力によって行われる。この場合も、固定力は、横断面に対して垂直に揃えられる。
【０１０４】
代替的な実施形態において、光学素子４５は、フレーム４３に機械的に締結される。これは特に、光学素子４５、特に格子４６にトルクが作用することを防止する。これは、例えば、光学素子４５を固定するためのクランプばねを、クランプねじを締めている間に付随的に回らない、したがって表面に対して垂直な力のみを及ぼすよう具現することによって達成することができる。
【０１０５】
好ましくは、フレーム４３における光学素子４５の固定は可逆的である。光学素子４５は、特に交換可能にフレーム４３に配置される。しかしながら、光学素子４５をフレームに接着結合することも可能である。
【０１０６】
フレーム４３は、光学素子４５に対して機械的に安定して具現される。フレーム４３は、特に伝播方向４０に光学素子４５の厚さの１０倍以上、特に１００倍以上、特に１０００倍以上の厚さを有する。
【０１０７】
フレーム４３は、好ましくは異形状に（in a profiled fashion）具現することができる。その結果として、フレーム４３をさらに改良することができ、特に局所的に目標通りに設定することができる。さらに、このようにして、フレームの材料を削減することによって費用及び重量を最適化することが可能である。
【０１０８】
フレーム４３は、どの部分でも同じ剛性を有することができる。しかしながら、フレーム４３は、その寸法にわたって剛性を変えることもできる。特に、フレーム４３をコーナの領域で側縁の中心領域とは異なるよう具現することが可能である。
【０１０９】
フレーム４３は、概略的にしか図示しない冷却デバイス４８に熱的に結合されることが好ましい。これは、フレーム４３の温度を少なくともできる限り一定に保つことを可能にする。冷却デバイス４８は、この目的で制御回路を備えることができる。冷却デバイス４８に対する熱的結合は、固体接続又は気体界面若しくは液体界面によってもたらすことができる。冷却デバイス４８は、単純な蓄冷器（cold reservoir）として又はヒートシンクとして具現することもできる。
【０１１０】
フレーム４３は、フレーム４３内の温度勾配が無視できるほど小さいことを補償するのに十分大きい寸法を特に有する。
【０１１１】
フレーム４３は、光学素子４５の熱容量の１０倍以上、特に１００倍以上の熱容量を特に有する。
【０１１２】
好ましくは、フレーム４３は、１００Ｗ（ｍＫ）以上、特に２００Ｗ（ｍＫ）以上、特に３００Ｗ（ｍＫ）以上の熱伝導率を有する１つ又は複数の材料から構成される。これらの示度は、温度０℃に関するものである。フレーム４３は、１つ又は複数のかかる材料からなることができる。特に、銅、アルミニウム、ダイヤモンド、及び炭化ケイ素が、フレーム４３の材料として適している。
【０１１３】
さらに、フレーム４３は、非常に安定しているので、光学素子４５の熱応力の結果として反り得ない。フレーム４３は、横方向４４の光学素子４５の線膨張が最大１％である場合でも、横方向の線膨張が０．０１％以下、特に０．００１％以下、特に０．０００１％以下であるよう特に具現される。フレーム４３は、フレーム４３に固定された光学素子４５の縁部が熱負荷時でも固定されたままであるよう特に具現される。
【０１１４】
安定フレーム４３による光学素子４５の横方向４４の固定は、特に掩蔽要素４１の横方向４４の最大限のシフトを低減する。結果として、透過損失に対する温度の影響と、外部光の増加とを低減することができる。
【０１１５】
好ましくは、フレーム４３は熱膨張が小さい。フレーム４３は、特に、線膨張係数が低い１つ又は複数の材料から構成される。好ましくは、光学素子４５も、線膨張係数が低い材料から構成される。
【０１１６】
フレーム４３に配置された光学素子４５の機能を、図８ａ及び図８ｂを参照して以下で説明する。低温状態、すなわち室温２０℃では、掩蔽要素４１を有する格子４６が、フレーム４３に縁部で平面状に締結される（図８ａ参照）。格子４６、特に掩蔽要素４１が使用放射線１０のビーム経路に導入された場合、使用放射線１０の吸収に起因して加熱され得る。光学素子４５の加熱は、熱膨張につながる。しかしながら、光学素子４５は、フレーム４３があることで自由に膨張できないので、フィルタ材料の熱膨張に起因して機械的応力が増加する。臨界温度から始めて、上記応力が非常に大きくなるので、光学素子４５が伝播方向４０又は逆方向に膨らむ。光学素子４５の座屈をもたらす明確な所定の屈曲場所を予め定めることも可能である。伝播方向４０又はそれとは逆方向の光学素子４５の膨出又は座屈は、伝播方向４０に対して垂直な方向、特に横方向４４の掩蔽要素４１のシフトの低減をもたらす。掩蔽要素４１は、こうして、伝播方向４０に対して垂直な方向に最大限に固定されたまままとなる。
【０１１７】
光学素子４５が図８ａに示す平面状態を維持する限り、掩蔽要素４１の横方向の位置決めが実質的に不変のままであることを示すことが可能であった。さらに、フレーム４３における光学素子４５の固定及び伝播方向４０又は逆方向の光学素子４５の膨らみの結果としての、掩蔽要素４１の横方向４４の最大シフトを、片側が締結された光学素子４５と比べて５０％よりも大きく、特に６０％よりも大きく、特に７０％よりも大きく低減できることを示すことが可能であった。
【０１１８】
上述した例示的な実施形態では、光学素子４５は、遮断フィルタ３６の一部であった。しかしながら、本発明は、伝播方向４０に対して垂直な方向の最大局所シフトを低減するために、座屈し得る膜又は板からなるか又はこれを含む光学素子に概して有用である。光学素子４５は、特に位相又は振幅、すなわち強度フィルタを含むか又はそれ自体として具現することができる。光学素子４５は、スペクトルフィルタを含むか又はそれ自体として具現することもできる。
【０１１９】
フレーム４３及び光学素子４５を備えた光学コンポーネントをマイクロミラーアレイ３７と組み合わせて、光学アセンブリを形成できることが有利である。光学コンポーネントを特にファセットミラーと組み合わせて、光学アセンブリを形成することができる。好ましくは、この場合、放射線不透過性の掩蔽要素４１のそれぞれが、マイクロミラーアレイ３７の厳密に１つのマイクロミラー３９に割り当てられる。しかしながら、いずれの場合も１つ又は複数の掩蔽要素４１を隣り合って配置された2つ以上のマイクロミラー３９に割り当てることも可能である。
【０１２０】
光学コンポーネントは、取付けフレームを用いて光学系に、特に投影露光装置１の照明光学ユニット４に配置される。光学コンポーネントは、視野ファセットミラー１３と瞳ファセットミラー１４との間のビーム経路に特に配置することができる。原理上、光学コンポーネントは、放射源３と視野ファセットミラー１３との間、特に中間焦点面１２と視野ファセットミラー１３との間、又は瞳ファセットミラー１４と物体視野５との間のビーム経路に配置することもできる。複数のかかるコンポーネントを投影露光装置１の照明光学ユニット４に配置することも可能である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６ａ】
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【図６ｂ】
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【図７ａ】
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【図７ｂ】
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【図８ａ】
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【図８ｂ】
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