(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
充填口が形成されているとともに、前記充填口を閉じるためのシールが施されるシール部位を有する輸液容器内に、前記シール前に前記充填口を介して輸液の劣化を防止するための不活性ガスを充填するためのノズルであって、
先端部及び中部を有し、前記先端部側から前記充填口を介して前記輸液容器内に挿入される筒状のノズル本体、
を備え、
前記中部は、前記ノズル本体が前記先端部側から前記充填口を介して前記輸液容器内に挿入されたときに、前記シール部位に対面しつつ前記シール部位の近傍にくるように、前記先端部から所定の間隔を空けて配置されており、
前記先端部には、ガスの第１噴出口が形成されており、
前記中部の側面には、ガスの第２噴出口が形成されている、
不活性ガス充填用ノズル。
【請求項２】
前記第１噴出口は、前記先端部の側面に形成されている、
請求項１に記載の不活性ガス充填用ノズル。
【請求項３】
前記第２噴出口は、スリットの形状である、
請求項１又は２に記載の不活性ガス充填用ノズル。
【請求項４】
前記ノズル本体は、前記第１噴出口に連通する第１ガス流路、及び、前記第１ガス流路と分離され、前記第２噴出口に連通する第２ガス流路を有する、
請求項１から３のいずれかに記載の不活性ガス充填用ノズル。
【請求項５】
請求項４に記載の不活性ガス充填用ノズルと、
前記第１噴出口及び前記第２噴出口からガスを噴出する動作を制御する噴出制御部と
を備える、
不活性ガス充填装置。
【請求項６】
前記噴出制御部は、前記第１噴出口及び前記第２噴出口からガスが同時に噴出するように制御する、
請求項５に記載の不活性ガス充填装置。
【請求項７】
前記噴出制御部は、前記第１噴出口から噴出されるガスの第１流量及び前記第２噴出口から噴出されるガスの第２流量を独立して制御する、
請求項５又は６に記載の不活性ガス充填装置。
【請求項８】
請求項１から４のいずれかに記載の不活性ガス充填用ノズルを用いて輸液入り容器を製造する方法であって、
前記輸液容器内に前記輸液を充填するステップと、
前記輸液容器内に前記輸液を充填した後、前記ノズル本体を前記先端部側から前記充填口を介して、前記中部が前記シール部位に対面する位置まで前記輸液容器内に挿入するステップと、
前記輸液容器内に前記ノズル本体が挿入されており、前記中部が前記シール部位に対面した状態で、前記第１噴出口及び前記第２噴出口からガスを同時に噴出させることにより、前記輸液容器内で不活性ガス置換を行うステップと、
前記不活性ガス置換後、前記シール部位にシールを施すステップと
を備える、
輸液入り容器の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】  本発明は、輸液容器内で不活性ガス置換を行うための不活性ガス充填用ノズル、当該ノズルを備えた不活性ガス充填装置、及び、当該ノズルを用いた輸液入り容器の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】  従来より、医療用の輸液容器内に輸液を充填するとともに、輸液の劣化を防止する目的で、当該容器内の酸素等を窒素等の不活性ガスに置換することが行われている（例えば、特許文献１）。そして、この不活性ガス置換の後に、輸液容器の所定のシール部位が熱溶着等の態様でシールされ、不活性ガスの充填に用いられた充填口が閉じられる。不活性ガスの充填時には、先端部に噴出口が形成されたノズルが上記充填口を介して輸液容器内に挿入され、当該噴出口から不活性ガスが噴出される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１１−１９５１９０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】  しかしながら、特許文献１をはじめとする従来の方法では、不活性ガスの噴出により輸液容器内において輸液の飛散が起こり、上述のシール部位に液滴が付着することがある。そして、その結果、輸液容器の充填口を閉じるべく当該シール部位が熱溶着等の態様でシールされる際に、シール不良が生じることがある。【０００５】  本発明は、輸液容器内に当該容器の充填口を介して不活性ガスを充填した後、輸液の飛散により当該容器のシール部位に付着した液滴のせいでシール不良が生じることを防止することができる不活性ガス充填用ノズル、不活性ガス充填装置、及び、当該ノズルを用いた輸液入り容器の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】  本発明の第１観点に係る不活性ガス充填用ノズルは、充填口が形成されているとともに、前記充填口を閉じるためのシールが施されるシール部位を有する輸液容器内に、前記シール前に前記充填口を介して輸液の劣化を防止するための不活性ガスを充填するためのノズルであって、筒状のノズル本体を備える。前記ノズル本体は、先端部及び中部を有し、前記先端部側から前記充填口を介して前記輸液容器内に挿入される。前記中部は、前記ノズル本体が前記先端部側から前記充填口を介して前記輸液容器内に挿入されたときに、前記シール部位の近傍にくるように、前記先端部から所定の間隔を空けて配置されている。前記先端部には、ガスの第１噴出口が形成されている。前記中部には、ガスの第２噴出口が形成されている。【０００７】  ここでは、輸液の劣化を防止するための不活性ガスを輸液容器内に充填するためのノズルが提供される。このノズルは、筒状のノズル本体を有し、ノズル本体の先端部には、ガスの噴出口（第１噴出口）が形成されている。また、ノズル本体において先端部から所定の間隔を空けて位置する中部にも、ガスの噴出口（第２噴出口）が形成されている。さらに、この中部のガスの噴出口は、ノズル本体が輸液容器内に充填口を介して挿入されたときに、当該充填口を閉じるために後にシールが施される輸液容器のシール部位の近傍にくる。すなわち、このノズルによれば、シール部位の近傍においてガスの噴出が行われる。その結果、ノズル本体の先端部の第１噴出口から噴出されるガスにより輸液容器内において輸液が飛散したとしても、当該飛散した液滴が、ノズル本体の中部の第２噴出口から噴出されるガスにより、シール部位に付着する又は付着したままになることが防止される。従って、輸液容器内に当該容器の充填口を介して不活性ガスを充填した後、輸液の飛散により当該容器のシール部位に付着した液滴のせいでシール不良が生じることを防止することができる。【０００８】  本発明の第２観点に係る不活性ガス充填用ノズルは、第１観点に係る不活性ガス充填用ノズルであって、前記第１噴出口は、前記先端部の側面に形成されている。【０００９】  ここでは、第１噴出口が、ノズル本体の先端部の側面に形成されている。すなわち、ガスが輸液の液面に向かって強く噴出されることが防止され、輸液の飛散が抑制される。その結果、液滴がシール部位に付着することがさらに防止され、シール不良がさらに防止される。【００１０】  本発明の第３観点に係る不活性ガス充填用ノズルは、第１観点又は第２観点に係る不活性ガス充填用ノズルであって、前記第２噴出口は、前記中部の側面に形成されており、スリットの形状である。【００１１】  ここでは、ノズル本体の中部の第２噴出口が、スリット状である。従って、簡易な構成でシール部位に万遍なくガスを吹き付けることができ、シール部位全体に輸液の液滴が付着することが防止される。【００１２】  本発明の第４観点に係る不活性ガス充填用ノズルは、第１観点から第３観点のいずれかに係る不活性ガス充填用ノズルであって、前記ノズル本体は、前記第１噴出口に連通する第１ガス流路、及び、前記第２噴出口に連通する第２ガス流路を有する。前記第２ガス流路は、前記第１ガス流路���分離されている。【００１３】  ここでは、第１噴出口及び第２噴出口に対し、異なるガス流路からガスが供給される。従って、第１噴出口及び第２噴出口からのガスの噴出動作を独立して制御することができる。例えば、第１噴出口及び第２噴出口において、ガスの噴出時の流量、圧力、ガスの噴出のタイミング、ガスの種類を異なるものとすることができる。【００１４】  本発明の第５観点に係る不活性ガス充填装置は、第１観点から第４観点のいずれかに係る不活性ガス充填用ノズルと、噴出制御部とを備える。前記噴出制御部は、前記第１噴出口及び前記第２噴出口からガスを噴出する動作を制御する。ここでは、第１観点と同様の効果を奏することができる。【００１５】  本発明の第６観点に係る不活性ガス充填装置は、第５観点に係る不活性ガス充填装置であって、前記噴出制御部は、前記第１噴出口及び前記第２噴出口からガスが同時に噴出するように制御する。【００１６】  ここでは、飛散した輸液の液滴がシール部位に付着する又は付着したままになることを、効率良く防止することができる。【００１７】  本発明の第７観点に係る不活性ガス充填装置は、第５観点又は第６観点に係る不活性ガス充填装置であって、前記噴出制御部は、前記第１噴出口から噴出されるガスの第１流量及び前記第２噴出口から噴出されるガスの第２流量を独立して制御する。【００１８】  ここでは、第１噴出口及び第２噴出口から異なる流量のガスを噴出することができる。すなわち、第１噴出口及び第２噴出口を介して噴出されるガスの流量を、それぞれの目的に応じて適宜制御することができる。なお、第１噴出口を介しての噴出は、主として不活性ガスを輸液容器内に供給することを目的とし、第２噴出口を介しての噴出は、主として輸液容器のシール部位への液滴の付着を防止することを目的としている。【００１９】  本発明の第８観点に係る輸液入り容器の製造方法は、第１観点から第４観点のいずれかに係る不活性ガス充填用ノズルを用いて輸液入り容器を製造する方法であって、前記輸液容器内に前記輸液を充填するステップと、前記ノズル本体を前記先端部側から前記充填口を介して前記輸液容器内に挿入するステップと、前記輸液容器内に前記ノズル本体が挿入された状態で、前記第１噴出口及び前記第２噴出口からガスを同時に噴出させることにより、前記輸液容器内で不活性ガス置換を行うステップと、前記不活性ガス置換後、前記シール部位にシールを施すステップとを備える。ここでは、第１観点と同様の効果を奏することができる。
【発明の効果】
【００２０】  本発明によれば、輸液の劣化を防止するための不活性ガスを輸液容器内に充填する際に、シール部位の近傍においてガスの噴出が行われる。その結果、ノズル本体の先端部の第１噴出口から噴出されるガスにより輸液容器内において輸液が飛散したとしても、当該飛散した液滴が、ノズル本体の中部の第２噴出口から噴出されるガスにより、シール部位に付着する又は付着したままになることが防止される。従って、輸液容器内に当該容器の充填口を介して不活性ガスを充填した後、輸液の飛散により当該容器のシール部位に付着した液滴のせいでシール不良が生じることを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本実施形態に係る輸液バッグ製造装置（不活性ガス充填装置）の構成を示す図。
【図２】（Ａ）充填口が閉じられる前の輸液バッグ（輸液容器）の側面図。（Ｂ）充填口が閉じられた後の輸液バッグ（輸液容器）の側面図。
【図３】本実施形態に係るガス供給ノズル（不活性ガス充填用ノズル）の側面図。
【図４】図３のＩＶ−ＩＶ断面図。
【図５】ガス供給ノズルが輸液バッグ内に挿入されている挿入状態を示す図。
【発明を実施するための形態】
【００２２】  以下、図面を参照しつつ、本発明に係る不活性ガス充填用ノズル、不活性ガス充填装置、及び輸液入り容器の製造方法の一実施形態について説明する。
【００２３】  ＜１．全体構成＞  図１に、本実施形態に係る不活性ガス充填用ノズルであるガス供給ノズル１０及び不活性ガス充填装置である輸液バッグ製造装置１を示す。輸液バッグ製造装置１は、図２（Ａ）に示す輸液バッグ８内に輸液とともに不活性ガス（典型的には、窒素）を充填し、その後、輸液バッグ８の充填口Ｓ１を閉じることで、図２（Ｂ）に示す輸液入りの輸液バッグ８を製造するための装置である。なお、図２において斜線で示される部位は、ヒートシールが施されている部位である。ガス供給ノズル１０は、輸液バッグ製造装置１に装着され、不活性ガスの充填に用いられる。
【００２４】  本実施形態で対象とされる輸液バッグ８は、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル等の軟質の樹脂製のシートから成形される袋状の容器である。より具体的には、輸液バッグ８は、図２（Ａ）及び（Ｂ）に示すように、２枚の矩形状のシート８０を重ねた上で、これらのシート８０の外縁部分８２にヒートシールを施すことにより成形される。ただし、輸液バッグ８の上部中央に充填口Ｓ１を規定することになる部位８１（以下、シール部位８１）には、図２（Ａ）に示す輸液の充填前の状態では、ヒートシールが施されておらず、輸液の充填後、図２（Ｂ）に示すようにヒートシールが施される。すなわち、輸液バッグ８は、輸液の充填前においては、内部空間Ｓ２と、内部空間Ｓ２に連通する充填口Ｓ１を有するバッグであり、この充填口Ｓ１を介して内部空間Ｓ２内へ輸液及び不活性ガスの充填が行われる。なお、本実施形態の説明においては、特に断らない限り、「上下方向」を図２及び図３のとおりに定義する。
【００２５】  充填口Ｓ１を介して輸液バッグ８の内部空間Ｓ２内に輸液及び不活性ガスが充填された後、輸液バッグ８のシール部位８１にヒートシールが施され、充填口Ｓ１が閉じられる。これにより、輸液バッグ８内の輸液は、空気（特に、酸素）に触れることがなく、酸化等による劣化が防止される。なお、本実施形態における輸液は、アミノ酸、脂肪、タンパク質、ビタミン等の成分を含んでおり、ガスの吹き付けにより比較的発泡し易くなっているが、他の実施形態では、他の成分を含む輸液であってもよい。以下、輸液バッグ製造装置１の構成について説明した後、ノズル１０の構成について詳細に説明する。また、輸液バッグ製造装置１により輸液入りの輸液バッグ８が製造される工程についても詳細に説明する。
【００２６】  ＜２．輸液バッグ製造装置＞  図１に示すように、輸液バッグ製造装置１は、ガス供給ノズル１０の他、液供給ノズル２０、コントローラ３０、第１ガスボンベ４１、第２ガスボンベ４２、第１ガス配管５１、第２ガス配管５２、液タンク２１、液配管２２、第１弁６１、第２弁６２、第３弁６３、バッグ把持部７０、ヒートシーラ７１、第１昇降機構７３及び第２昇降機構７４を備える。なお、第１弁６１、第２弁６２、第３弁６３、バッグ把持部７０、ヒートシーラ７１、第１昇降機構７３及び第２昇降機構７４は、コントローラ３０に接続されており、これらの各部の動作は、全てコントローラ３０により制御される。
【００２７】  ガス供給ノズル１０は、後述されるとおり、二重管の構造を有している。第１ガスボンベ４１及び第２ガスボンベ４２は、それぞれ第１ガス配管５１及び第２ガス配管５２を介して、ガス供給ノズル１０内の２つのガス流路に接続されている。第１弁６１及び第２弁６２は、それぞれ第１ガス配管５１及び第２ガス配管５２の途中に設けられており、第１ガス配管５１及び第２ガス配管５２内を流れるガスの流量を調節することができる。
【００２８】  液供給ノズル２０は、輸液バック８内への輸液の充填に用いられる。液タンク２１は、液配管２２を介して液供給ノズル２０内の液の流路に接続されている。第３弁６３は、液配管２２の途中に設けられており、液配管２２内を流れる輸液の流量を調節することができる。
【００２９】  バッグ把持部７０は、輸液バック８内への輸液及び不活性ガスの充填動作時に、バッグ７０を支持しておくための機構である。第１昇降機構７３及び第２昇降機構７４は、バッグ把持部７０により把持されている輸液バッグ８の充填口Ｓ１に対して、それぞれガス供給ノズル１０及び液供給ノズル２０を昇降させる機構である。第１昇降機構７３及び第２昇降機構７４は、例えば、上下方向に延びるガイドレールと、ガイドレール内をスライドするスライダーと、スライダーをガイドレールに沿って移動させるためのモータ等の動力源等により実現することができる。この場合、ガス供給ノズル１０及び液供給ノズル２０は、スライダーに固定される。
【００３０】  ヒートシーラ７１は、輸液バック８の分離した状態の２枚のシール部位８１を挟み込んで熱溶着する一対のヒートブロックを有する。ヒートブロックは、シール部位８１を熱溶着することが可能な温度にまで加熱される。
【００３１】  ＜３．ガス供給ノズル＞  以下、ガス供給ノズル１０の詳細な構成について説明する。ガス供給ノズル１０は、輸液バッグ８内に輸液が充填された後、不活性ガス置換を行うべく輸液バッグ８内に不活性ガスを注入するためのノズルである。ガス供給ノズル１０は、不活性ガス置換時に、その下方の先端部１２ｂ側から輸液バッグ８の充填口Ｓ１を介して輸液バッグ８内に挿入される。
【００３２】  図３は、ガス供給ノズル１０の側面図であり、説明のため、内部の形状を部分的に点線で示している。また、図４は、図３のＩＶ−ＩＶ断面図である。図３及び図４に示すとおり、ガス供給ノズル１０は、二重管の構造を有する円筒状のノズル本体１１を有しており、輸液バッグ８内へガスを供給するための２つの流路を規定している。具体的には、ノズル本体１１は、円筒状の内壁部１２と、内壁部１２の外側において内壁部１２から所定の間隔を空けて配置される円筒状の外壁部１３とを有する。これにより、ノズル本体１１内には、内壁部１２の内側面に囲まれる内側空間Ｓ３（第１ガス流路）と、内壁部１２の外側面と外壁部１３の内側面に囲まれる外側空間Ｓ４（第２ガス流路）とが形成されている。なお、図４に示すとおり、内壁部１２及び外壁部１３の断面は、本実施形態では円形状であるが、内壁部１２及び外壁部１３の少なくとも一方を四角形等の他の形状とすることもできる。
【００３３】  内側空間Ｓ３は、内壁部１２の上端部１２ａにおいて、第１ガス配管５１に連通しており、第１ガスボンベ４１から第１ガス配管５１を介してガスが供給される。同様に、外側空間Ｓ４は、外壁部１３の上端部１３ａにおいて、第２ガス配管５２に連通しており、第２ガスボンベ４２から第２ガス配管５２を介してガスが供給される。
【００３４】  外壁部１３の下端部１３ｂ（中部）は、内壁部１２の下端部１２ｂ（先端部）よりも一定の間隔Ｌ１を空けて上方に位置している。図５に示すように、この間隔Ｌ１は、ノズル本体１１が下端部１２ｂ側から輸液バッグ８の充填口Ｓ１を介して輸液バッグ８内に挿入された状態（以下、挿入状態）で、外壁部１３の下端部１３ｂが輸液バッグ８のシール部位８１の近傍（上下方向に概ね同じ位置）にくるように設計されている。なお、挿入状態とは、第１弁６１及び第２弁６２が開状態になり、第１ガスボンベ４１及び第２ガスボンベ４２から内側空間Ｓ３及び外側空間Ｓ４内へ不活性ガスの供給が行われる状態である。また、内壁部１２の下端部１２ｂの下端縁には、底面部１４が連続しているとともに、外壁部１３の下端部１３ｂの下端縁にも、底面部１５が連続している。すなわち、下端部１２ｂ，１３ｂの下端縁は、ともに閉鎖されている。
【００３５】  また、内壁部１２の下端部１２ｂの側面には、内側空間Ｓ３に連通する複数の第１噴出口Ｓ５が形成されているとともに、外壁部１３の下端部１３ｂの側面にも、外側空間Ｓ４に連通する複数の第２噴出口Ｓ６が形成されている。第１噴出口Ｓ５は、各々円形状であり、また、全て同じ形状であり、内壁部１２の下端部１２ｂの周方向に沿って等間隔に配置されている。本実施形態では、第１噴出口Ｓ５は、６つ形成されており、従って、周方向に沿って６０°間隔で配列されている。また、これらの第１噴出口Ｓ５は、上下方向に同じ位置に配列されている。一方、第２噴出口Ｓ６は、各々スリット状であり、また、全て同じ形状であり、各々外壁部１３の下端部１３ｂの周方向に沿って延びている。本実施形態では、これらのスリットＳ６は、１２本形成されている。より具体的には、周方向に９０°の幅を占めるスリットＳ６が上下方向に３段並んでおり、このような３つのスリットＳ６のセットが４セット、周方向に沿って９０°の間隔で配列されている。ただし、周方向に隣接するスリットＳ６のセットは、上下方向に互い違いの位置に配置されている。また、各セットの最上部のスリットＳ６と最下部のスリットＳ６との間隔は、シール部位８１の上下方向の高さに概ね等しい。さらに、挿入状態において、各セットの最上部のスリットＳ６はシール部位８１の上端近傍に配置され、各セットの最下部のスリットＳ６は、シール部位８１の下端近傍に配置される。
【００３６】  以上の構成により、挿入状態で第１弁６１及び第２弁６２が開状態になり、内側空間Ｓ３及び外側空間Ｓ４への不活性ガスの供給が行われると、当該不活性ガスは第１噴出口Ｓ５及び第２噴出口Ｓ６を介して輸液バッグ８内に噴出されることになる。このとき、第１噴出口Ｓ５及び第２噴出口Ｓ６がノズル本体１１の側面部に形成されているため、不活性ガスは横方向に向けて噴出される（図５の片矢印参照）。また、内側空間Ｓ３及び外側空間Ｓ４の下端は、それぞれ底面部１４及び１５により塞がれているため、不活性ガスが下方に向かって、すなわち、輸液の液面に向かって強く噴出されることはない。従って、不活性ガスの充填時に、輸液バッグ８内において輸液の飛散が抑制され、液滴がシール部位８１の内面に付着することが抑制される。特に第２噴出口Ｓ６は、スリット状であり、全体として周方向全体に亘っており、かつ、上下方向にシール部位８１の高さ方向全体に亘っているため、シール部位８１の内面に万遍なくガスが吹き付けられる。従って、第１噴出口Ｓ５及び第２噴出口Ｓ６から噴出された不活性ガスにより輸液バッグ８内において多少の輸液が飛散したとしても、第２噴出口Ｓ６から噴出される不活性ガスがシール部位８１の内面全体に吹き付けられるため、飛散した輸液の液滴がシール部位８１の内面に付着する又は付着したままとなることが防止される。よって、不活性ガスの充填後にシール部位８１にヒートシールが施される際に、シール不良が生じることが防止される。
【００３７】  ＜４．輸液バッグの製造工程＞  以下、輸液バッグ製造装置１により輸液入りの輸液バッグ８が製造される工程について詳細に説明する。
【００３８】  まず、図２（Ａ）の状態の輸液バッグ８が上流の装置で成形され、輸液バッグ製造装置１に搬送されてくる。当該輸液バッグ８は、充填口Ｓ１が上部を向いた状態でバッグ把持部７０により把持され、液供給ノズル２０及びガス供給ノズル１０の下方の充填位置にセットされる。
【００３９】  以上の状態で、第２昇降機構７４により液供給ノズル２０が下降し、輸液バッグ８の充填口Ｓ１に挿入される。そして、コントローラ３０により第３弁６３が開かれ、液タンク２１から液配管２２を介して輸液バッグ８内へ輸液が充填される。所定量の輸液の充填が終わると、コントローラ３０は、第３弁６３を閉じる。
【００４０】  その後、第２昇降機構７４により液供給ノズル２０は上昇し、続いて、第１昇降機構７３によりガス供給ノズル１０が下降し、輸液バッグ８の充填口Ｓ１に挿入される（図５参照）。そして、コントローラ３０により第１弁６１及び第２弁６２が開かれる。その結果、第１ガス配管５１及び第２ガス配管５２を介してそれぞれ第１ガスボンベ４１及び第２ガスボンベ４２から、ガス供給ノズル１０内の内側空間Ｓ３及び外側空間Ｓ４内へと不活性ガスが送られ、第１噴出口Ｓ５及び第２噴出口Ｓ６から横方向に向かって不活性ガスが噴出される。このとき、コントローラ３０は、第１弁６１及び第２弁６２の開度を独立して調整することにより、第１噴出口Ｓ５から噴出されるガスの第１流量Ｐ１及び第２噴出口Ｓ６から噴出されるガスの第２流量Ｐ２を独立して制御する。第１流量Ｐ１及び第２流量Ｐ２は、輸液バッグ８の容量、輸液の充填量、不活性ガスの充填量等の各種条件に応じて適宜設定される制御パラメータであり、輸液バッグ８の製造開始前に予め設定されている。なお、第１流量Ｐ１及び第２流量Ｐ２を制御することは、第１噴出口Ｓ５及び第２噴出口Ｓ６から噴出されるガスの圧力を制御することに等しい。
【００４１】  以上の動作により、輸液バッグ８内の酸素を含む空気が不活性ガスに置換されると、コントローラ３０は、第１弁６１及び第２弁６２を閉じる。また、本実施形態では、コントローラ３０は、第１弁６１及び第２弁６２を同時に開状態とし、また、同時に閉状態とする。なお、効率化の観点からは、第１弁６１及び第２弁６２を開状態とするタイミングが少なくとも部分的に同時とされる、すなわち、重複するようにすることが好ましいが、重複しないように制御してもよい。また、第１弁６１及び第２弁６２を閉状態とするタイミングを異なるように制御する場合には、第１弁６１を閉じた後に、第２弁６２を閉じるようにすることが好ましい。輸液の液面により近い第１噴出口Ｓ５からのガスの噴出によりシール部位８１の内面に付着した液滴を、第２噴出口Ｓ６からのガスの噴出により除去することができるからである。
【００４２】  その後、第１昇降機構７３によりガス供給ノズル１０は上昇し、続いて、ヒートシーラ７１が輸液バッグ８のシール部位８１を両側から挟み込む。これにより、シール部位８１にヒートシールが施され、充填口Ｓ１が閉じられる。その後、完成した輸液バッグ８は、バッグ把持部７０により下流の装置に受け渡される。そして、コントローラ３０は、輸液バッグ製造装置１の各部を制御することで、以上の動作を繰り返し、輸液バッグ８を連続的に製造する。
【００４３】  ＜５．特徴＞  上記実施形態では、輸液の劣化を防止するための不活性ガスを輸液バッグ８内に充填するためのガス供給ノズル１０が提供される。このノズル１０は、筒状のノズル本体１１を有し、ノズル本体１１の内壁部１２の下端部１２ｂには、ガスの噴出口（第１噴出口Ｓ５）が形成されている。また、ノズル本体１１において下端部１２ｂから所定の間隔Ｌ１を空けて位置する外壁部１３の下端部１３ｂにも、ガスの噴出口（第２噴出口Ｓ６）が形成されている。さらに、この第２噴出口Ｓ６は、ノズル本体１１が輸液バッグ８内に充填口Ｓ１を介して挿入されたときに、充填口Ｓ１を閉じるために後にシールが施される輸液バッグ８のシール部位８１の近傍にくる。すなわち、このノズル１０によれば、シール部位８１の近傍においてガスの噴出が行われる。その結果、第１噴出口Ｓ５から噴出されるガスにより輸液バッグ８内において輸液が飛散したとしても、当該飛散した液滴が、第２噴出口Ｓ６から噴出されるガスにより、シール部位８１に付着する又は付着したままになることが防止される。従って、輸液バッグ８内に当該バッグ８の充填口Ｓ１を介して不活性ガスを充填した後、輸液の飛散により当該バッグ８のシール部位８１に付着した液滴のせいでシール不良が生じることを防止することができる。
【００４４】  ＜６．変形例＞  以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて、種々の変更が可能である。例えば、以下の変更が可能である。さらに、以下の変形例の要旨は、適宜組み合わせることが可能である。
【００４５】  ＜６−１＞  上記実施形態では、バッグタイプの輸液容器（輸液バッグ８）が製造されたが、本発明は、不活性ガスの充填後にシールされるシール部位を有する限り、その他のタイプ、例えば、ボトルタイプの輸液容器の製造にも使用することができる。
【００４６】  ＜６−２＞  上記実施形態では、輸液及びガスが輸液バッグ８の同じ充填口Ｓ１を介して輸液バッグ８内に充填されたが、充填口Ｓ１がガスの充填専用とされ、充填口Ｓ１とは別に輸液の充填用の充填口が形成されている輸液容器に対しても、本発明を適用することができる。
【００４７】  ＜６−３＞  上記実施形態では、輸液バック８の２枚の対面するシール部位８１が直接接触するようにシールされたが、これらの２枚のシール部位８１の間に、ポート部材を挟み込み、シール部位８１とポート部材とをシールするようにしてもよい。この場合、輸液バッグ製造装置１は、輸液及び不活性ガスの充填後、ヒートシーラ７１によるシールを行う前に、輸液バック８の充填口Ｓ１内に挿入されるようにポート部材を搬送してくる搬送機構をさらに有することが好ましい。なお、ポート部材とは、輸液バック８の充填口Ｓ１に挿入され、輸液バック８の非使用時において輸液バック８を密封するとともに、使用時においては別のコネクタやシリンジ等の部材に接続されることで、これらの部材を介して輸液バック８の内外を液体連通させる部材である。
【００４８】  ＜６−４＞  充填口Ｓ１をシールする方法は、ヒートシール（熱溶着）に限られず、例えば、超音波シール等、シール部位８１がシールされる限り、他の方法に変更することができる。
【００４９】  ＜６−５＞  第１噴出口Ｓ５の数、配置及び形状は、上述したものに限られず、適宜変更可能である。例えば、第１噴出口Ｓ５の数は、１つであってもよいし、６つ以外の複数個であってもよい。また、第１噴出口Ｓ５が複数個形成される場合において、これらの噴出口Ｓ５が全て内壁部１２の下端部１２ｂの周方向に沿って等間隔で配置される必要はないし、及び／又は、上下方向に異なる位置に配置されてもよい。また、第１噴出口Ｓ５の形状も円形状に限られず、楕円形状、矩形状、スリット状等の任意の形状とすることができる。
【００５０】  また、以上に代えて又は加えて、第２噴出口Ｓ６の数、配置及び形状は、上述したものに限られず、適宜変更可能である。例えば、第２噴出口Ｓ６の数は、１つであってもよいし、１２個以外の複数個であってもよい。また、第２噴出口Ｓ６が複数形成される場合において、これらの噴出口Ｓ６が全て外壁部１３の下端部１３ｂの周方向に沿って上下方向に多段構成で配列される必要はないし、及び／又は、これらの噴出口Ｓ６が全体として周方向全体に亘って配置される必要もない。また、第２噴出口Ｓ６の形状もスリット状に限られず、第１噴出口Ｓ５に関して上述した態様と同様に、円形状、楕円形状、矩形状等の任意の形状とすることができる。
【００５１】  ＜６−６＞  内壁部１２の下端部１２ｂの側面に第１噴出口Ｓ５を形成することに代えて又は加えて、下端部１２ｂから底面部１４を省略してもよいし、又は底面部１４にガスの噴出口（第１噴出口）を形成してもよい。すなわち、この場合、内壁部１２の下端部１２ｂから輸液の液面に向かって下方にガスが噴出されるが、第２噴出口Ｓ６から噴出されるガスにより、シール部位８１に液滴が付着することが防止され、シール不良を防止することが可能である。
【００５２】  また、以上に代えて又は加えて、外壁部１３の下端部１３ｂの側面に第２噴出口Ｓ６を形成することに加えて、下端部１３ｂから底面部１５を省略してもよいし、又は底面部１５にガスの噴出口（第２噴出口）を形成してもよい。すなわち、この場合、外壁部１３の下端部１３ｂから液面に向かって下方にガスが噴出されるが、下端部１３ｂの側面の第２噴出口Ｓ６から噴出されるガスにより、シール部位８１に液滴が付着することが防止され、シール不良を防止することが可能である。
【符号の説明】
【００５３】１  輸液バッグ製造装置（不活性ガス充填装置）８  輸液バッグ（輸液容器）８１  シール部位１０  ガス供給ノズル（不活性ガス充填用ノズル）１１  ノズル本体１２ｂ  内壁部の下端部（先端部）１３ｂ  外壁部の下端部（中部）３０  コントローラ（噴出制御部）Ｌ１  内壁部の下端部と外壁部の下端部との間隔（先端部と中部との間隔）Ｓ１  充填口Ｓ３  内側空間（第１ガス流路）Ｓ４  外側空間（第２ガス流路）Ｓ５  第１噴出口Ｓ６  第２噴出口
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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