(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光硬化性樹脂組成物層である異方性拡散層を少なくとも備えた、異方性光学フィルムであって、
前記異方性拡散層が、マトリックス領域と、前記異方性拡散層の一方の表面側から他方の表面側に向かって拡径していく形状を有する複数の傾斜構造体である柱状領域と、を含む構造領域を有し、
前記傾斜構造体は、
前記異方性拡散層の一方の表面側から他方の表面側に向かって配向されており、
前記構造領域の前記一方の表面側から５μｍ地点における径と前記構造領域の前記他方の表面側から５μｍ地点における径との比が、１：１．５〜１：４．０であることを特徴とする、光の入射角により拡散性が変化する異方性光学フィルム。
【請求項２】
前記傾斜構造体は、前記構造領域の前記一方の表面側から５μｍ地点における径が、０．５μｍ以上２．０μｍ未満であり、前記構造領域の前記他方の表面側から５μｍ地点における径が、２．０μｍ〜５．０μｍであることを特徴とする、請求項１に記載の異方性光学フィルム。
【請求項３】
前記傾斜構造体は、錐台状であることを特徴とする、請求項１又は２に記載の異方性光学フィルム。
【請求項４】
前記傾斜構造体は、円錐台状であることを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の異方性光学フィルム。
【請求項５】
前記異方性光学フィルムの厚みが、２０μｍ〜１００μｍであることを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに記載の異方性光学フィルム。
【請求項６】
光拡散媒体を介して光硬化性の未硬化樹脂組成物層の一面に全方向に拡散する拡散光線である光を照射することによって、前記未硬化樹脂組成物層を硬化させて異方性拡散層を形成させる硬化工程を含み、
前記光拡散媒体は、以下の方法によって測定された角度範囲の絶対値が、２°超８°以下であることを特徴とする、光の入射角により拡散性が変化する異方性光学フィルムの製造方法。
（角度範囲の求め方）
変角光度計ゴニオフォトメータ（株式会社ジェネシア製）に測定サンプルをセットし、測定サンプルに対し、光源の入射光が法線方向に対して０°となる角度に光源をセットし、受光部は測定サンプルの法線方向に対して−９０°〜＋９０°の範囲で可変させて拡散する光の強度を測定し、拡散透過率の最大値から１／１０の拡散透過率に当たる角度範囲を求める。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、入射角に応じて透過光の拡散性が変化する異方性光学フィルム及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
光拡散性を有する部材は、照明器具や建材の他、表示装置においても使用されている。この表示装置としては、例えば、液晶表示装置（ＬＣＤ）、有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ）等がある。光拡散部材の光拡散発現機構としては、表面に形成された凹凸による拡散（表面拡散）、マトリックス樹脂とその中に分散された微粒子間の屈折率差による拡散（内部拡散）、及び表面拡散と内部拡散の両方によるものが挙げられる。但し、これら光拡散部材は、一般にその拡散性能は等方的であり、入射角度を少々変化させても、その透過光の拡散特性が大きく異なることはなかった。
【０００３】
一方、一定の角度領域の入射光は強く拡散し、それ以外の角度の入射光は透過する、すなわち、入射光角度に応じて直線透過光量を変化させることが可能な、異方性光学フィルムが知られている。このような異方性光学フィルムとしては、光重合性化合物を含む組成物の硬化物からなる樹脂層の内部に、全て所定の方向Ｐに対して平行に延在する複数の棒状硬化領域の集合体を形成した異方性拡散媒体が開示されている（例えば、特許文献１を参照）。なお、以後、本明細書において、特許文献１に記載されたような、所定の方向Ｐに対して平行に延在する複数の棒状硬化領域の集合体を形成した異方性光学フィルムの構造を「ピラー構造」と称することとする。
【０００４】
かかるピラー構造の異方性光学フィルムにおいては、当該フィルムに対してその上方から下方に向けて光が入射された場合、フィルム製造工程での流れ方向（以下、「ＭＤ方向」と称する。）と、ＭＤ方向に垂直なフィルムの幅方向（以下、「ＴＤ方向」と称する。）とで、同一の拡散を示す。すなわち、ピラー構造の異方性光学フィルムでの拡散は、等方性を示す。したがって、ピラー構造の異方性光学フィルムでは、輝度の急激な変化やギラツキが生じにくい。また、ピラー構造であるため、直線透過率がルーバー構造よりも低くなる傾向にある。
【０００５】
一方、異方性光学フィルムとして、上記ピラー構造ではなく、光重合性化合物を含む組成物の硬化物からなる樹脂層の内部に、１または複数の板状硬化領域の集合体を形成した異方性光学フィルム（例えば、特許文献２を参照）を用いることで、非拡散領域における直線透過率を向上させ、拡散幅を広くすることができる。なお、以後、本明細書において、特許文献２に記載されたような、１または複数の板状硬化領域の集合体を形成した異方性光学フィルムの構造を「ルーバー構造」と称することとする。
【０００６】
かかるルーバー構造の異方性光学フィルムにおいては、当該フィルムに対してその上方から下方に向けて光が入射された場合、ＭＤ方向とＴＤ方向とで異なる拡散を示す。すなわち、ルーバー構造の異方性光学フィルムでの拡散は、異方性を示す。具体的には、例えば、ＭＤ方向で拡散領域の幅（拡散幅）がピラー構造よりも広がれば、ＴＤ方向では拡散幅がピラー構造よりも狭まる。したがって、ルーバー構造の異方性光学フィルムでは、例えば、ＴＤ方向で拡散幅が狭まった場合、ＴＤ方向で輝度の急激な変化が生じる結果、光の干渉が起きやすくギラツキが生じやすい。また、ルーバー構造であるため、直線透過率がピラー構造よりも高くなる傾向にある。
【０００７】
これらの問題点を課題として、特許文献３には、これらのピラー構造とルーバー構造の中間的な構造を有する異方性光学フィルムが開示されている。この異方性光学フィルムの構造を「ルーバーロッド構造」と称することとする。この特許文献は、ルーバーロッド構造を得る手法として、複数の柱状構造体を備えた薄板状の光重合硬化物を薄板の表面に沿って一軸方向に延伸して、柱状構造体の横断面形状を一軸方向に伸長させる方法を採用している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００５−２６５９１５号公報
【特許文献２】特許第４８０２７０７号公報
【特許文献３】特開２０１２−１１７０９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
このように、異方性光学フィルム（ライトコントロールフィルム）は、その機能や用途に応じて種々の形態の開発が行われてきた。しかしながら、このような異方性光学フィルムにおいては、拡散性に優れ、且つ、広い拡散幅を有し、更にバランスの取れた光学特性を得ることは、構造的に困難な場合があった。
【００１０】
そこで、本発明は、拡散性や拡散幅に優れた、複数の傾斜構造体である柱状領域を含む異方性光学フィルム及びその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者等は、上記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた。その結果、硬化樹脂層中に特定構造の領域を設けることにより、優れた拡散性及び拡散幅を有する異方性光学フィルムを形成可能なことを見出し、本発明を完成させた。即ち、本発明は、下記の通りである。
本発明（１）は、
異方性拡散層を少なくとも備えた、異方性光学フィルムであって、
前記異方性拡散層が、マトリックス領域と、前記異方性拡散層の一方の表面側から他方の表面側に向かって拡径していく形状を有する複数の傾斜構造体である柱状領域と、を含む構造領域を有し、
前記傾斜構造体は、
前記異方性拡散層を貫く平行方向に沿って配向されており、
前記構造領域の前記一方の表面側から５μｍ地点における径と前記構造領域の前記他方の表面側から５μｍ地点における径との比が、１：１．５〜１：４．０である
ことを特徴とする、光の入射角により拡散性が変化する異方性光学フィルムである。
本発明（２）は、
前記傾斜構造体が、前記構造領域の前記一方の表面側から５μｍ地点における径が、０．５μｍ以上２．０μｍ未満であり、前記構造領域の前記他方の表面側から５μｍ地点における径が、２．０μｍ〜５．０μｍであることを特徴とする、前記発明（１）の異方性光学フィルムである。
本発明（３）は、
前記傾斜構造体は、錐台状であることを特徴とする、前記発明（１）又は（２）の異方性光学フィルムである。
本発明（４）は、
前記傾斜構造体は、円錐台状であることを特徴とする、前記発明（１）〜（３）のいずれかの異方性光学フィルムである。
本発明（５）は、
前記異方性光学フィルムの厚みが、２０μｍ〜１００μｍであることを特徴とする、前記発明（１）〜（４）のいずれかの異方性光学フィルムである。
本発明（６）は、
光拡散媒体を介して光硬化性の未硬化樹脂組成物層の一面に光を照射することによって、前記未硬化樹脂層を硬化させて異方性拡散層を形成させる硬化工程を含み、
前記光拡散媒体は、以下の方法によって測定された角度範囲の絶対値が、２°超８°以下である
ことを特徴とする、光の入射角により拡散性が変化する異方性光学フィルムの製造方法である。
（角度範囲の求め方）
変角光度計ゴニオフォトメータ（株式会社ジェネシア製）に測定サンプルをセットし、測定サンプルに対し、光源の入射光が法線方向に対して０°となる角度に光源をセットし、受光部は測定サンプルの法線方向に対して−９０°〜＋９０°の範囲で可変させて拡散する光の強度を測定し、拡散透過率の最大値から１／１０の拡散透過率に当たる角度範囲を求める。
【００１２】
ここで、本発明における各用語の定義を説明する。
【００１３】
本発明における「光」とは、波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍまでの可視光と、波長１００ｎｍ〜４００ｎｍまでの紫外線と、を含む電磁波である。
【００１４】
「低屈折率領域」と「高屈折率領域」は、異方性光学フィルムを構成する材料の局所的な屈折率の高低差により形成される領域であって、他方に比べて屈折率が低いか高いかを示した相対的なものである。これらの領域は、異方性光学フィルムを形成する材料が硬化する際に形成される。
【００１５】
直線透過率は、異方性光学フィルムに対して入射した光の直線透過性に関し、ある入射角から入射した際に、直線方向の透過光量と、入射した光の光量との比率であり、下記式で表される。
直線透過率（％）＝（直線透過光量／入射光量）×１００
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、拡散性や拡散幅に優れた、複数の傾斜構造体である柱状領域を含む異方性光学フィルム及びその製造方法を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】図１は、（ａ）本実施形態に係る異方性光学フィルムの概念図であり、（ｂ）従来技術に係る異方性光学フィルムの概念図である。
【図２】図２は、本実施形態に係る異方性光学フィルムの概念図である。
【図３】図３は、本実施形態に係る光拡散媒体の光拡散特性の測定方法に関する概念図である。
【図４】図４は、本実施形態に係る異方性光学フィルムの拡散幅の測定方法に関する概念図である。
【図５】図５は、本実施形態に係る異方性光学フィルムの拡散幅の測定に用いるサンプル構造の一例を示す概念図である。
【図６】図６は、実施例１に係る異方性光学フィルムの断面写真である。
【図７】図７は、従来技術に係る異方性光学フィルムの断面写真である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明に係る異方性光学フィルム及びその製造方法に関して説明するが、本発明は本形態に限定されるものではない。
【００１９】
≪異方性光学フィルムの構造≫
＜全体構造＞
本形態に係る異方性光学フィルムは、異方性拡散層を少なくとも有する。
【００２０】
〔異方性拡散層〕
本形態に係る異方性拡散層の概要について、従来技術に係る異方性拡散層と対比しながら説明する。
【００２１】
本形態に係る異方性光学フィルムは、異方性拡散層（連続的な一層）として光硬化性樹脂組成物からなる層（光硬化性樹脂組成物層）を有する。光硬化性樹脂組成物層は、光（例えば紫外線）により硬化した光硬化性樹脂組成物からなる層である。そして、当該光硬化性樹脂組成物層には、その層を貫く方向に配向した複数（無数）の傾斜構造体である柱状領域が平面方向に亘って形成されている。更に、異方性拡散層中において、このような柱状領域が存在する層（異方性拡散層を、層に平行な断面で見たときに、当該断面上に柱状領域が存在する領域）を構造領域とし、このような柱状領域が存在しない層（異方性拡散層を、層に平行な断面で見たときに、当該断面上に柱状領域が存在しない領域）を無構造領域とする。尚、「柱状領域」とは、屈折率が周辺領域と僅かに異なる微小な棒状の光硬化性樹脂組成物領域を指す。また、このような「柱状領域」以外の異方性拡散層中の光硬化性樹脂組成物領域を、マトリックス領域とする。このように、柱状領域の屈折率は、マトリックス領域の屈折率と異なっていればよいが、屈折率がどの程度異なるかは特に限定されず、相対的なものである。マトリックス領域の屈折率が柱状領域の屈折率よりも低い場合、マトリックス領域は低屈折率領域となる。逆に、マトリックス領域の屈折率が柱状領域の屈折率よりも高い場合、マトリックス領域は高屈折率領域となる。
【００２２】
ここで、特に本発明における構造領域とは、異方性拡散層の最外部（例えば、後述する光照射側）の基準線（粗さ曲線の平均線）に対して略平行となる平行線を引いた際、柱状領域の全個数に対しての、当該平行線に接触している柱状体領域の個数の割合が、５０％超となる領域である。
【００２３】
次に、図１を参照しながら、本形態に係る異方性拡散層の構造の特徴を説明する。
【００２４】
図１は、本形態に係る異方性拡散層及び従来技術に係る異方性拡散層に係る、概念図である。当該図に示されるように光硬化性樹脂組成物層の層断面に着目すると、当該層断面には、その層を貫く方向に配向した複数（無数）の傾斜構造体である柱状領域が形成された、構造領域が形成されている。
【００２５】
ここで、図１（ａ）に示す本形態に係る異方性拡散層によれば、柱状領域が、異方性拡散層の一方の表面側（図面における上方側）近傍から他方の表面側（図面における下方側）近傍に向かって拡径していく形状を有する傾斜構造体となっている。他方、図１（ｂ）に示す従来技術に係る異方性拡散層は、本形態に係る異方性拡散層と同様に、マトリックス領域と、柱状領域と、を含むものであるが、柱状領域の形態が、複数の傾斜構造体となっていない｛異方性拡散層の一方の表面側（図面における上方側）近傍の径と、他方の表面側（図面における下方側）近傍の径と、構造体中の径がほぼ等しくなっている｝。
【００２６】
このように、本形態に係る異方性光学フィルムによれば、柱状領域の形態を複数の傾斜構造体とすることで、より多くの入射角の光を屈折可能となるため、拡散性に優れたものとすることができる。
【００２７】
（柱状領域）
本形態に係る異方性拡散層に含まれる柱状領域の具体的な構造としては、前述の通り、傾斜構造体となっている。ここで、傾斜構造体とは、単純な柱や棒（合同な二つの平面図形を底面及び上面として持つような構造）とは異なり、錐体に代表されるように、一方の側から他方の側に向かってその径が拡がりながら延存する形状を有する構成である。
【００２８】
（形状）
傾斜構造体の形状としては特に限定されないが、図２（ａ）に示すように、表面側近傍における形状が台状でなくとも、本発明に係る効果を奏するが、錐台状であることが好ましく、円錐台状であることがより好ましい。特に円錐台状とした場合には、円による光の拡散が発生し、ギラツキが少なくなる効果がある。
【００２９】
また、傾斜構造体としては、図２（ｂ）に示すように、その中心軸が傾斜した構造体（軸傾斜構造体）であってもよい。
【００３０】
ここで、傾斜構造体は、図２（ｃ）に示すように、その一部が、異方性拡散層の一方の表面側近傍から他方の表面側近傍に向かって縮径し、更に拡径していく構造を有していてもよい。また、図２（ｄ）に示すように、図２（ｃ）に示す、縮径及び拡径構造を有する傾斜構造体において、その中心軸が傾斜した軸傾斜構造としてもよい。更に、図２（ｅ）に示すように、異方性拡散層の一方の表面側近傍から縮径していく縮径構造部の中心軸と、異方性拡散層の他方の表面側近傍に向かって拡径していく拡径構造部の中心軸と、が一致しないように構成してもよい。
【００３１】
更に、本発明に係る異方性光学フィルムは、図２（ｆ）に示すように、無構造領域を有するものであってもよい。
【００３２】
（径）
傾斜構造体は、前述のように、構造領域の一方の表面側近傍における径が、構造領域の他方の表面側近傍における径よりも小さく、表面側から他方の表面に向かって拡径していく形状を有するよう構成されている。尚、「一方の表面側近傍」及び「他方の表面側近傍」とは、異方性拡散層の断面において、基準となる表面から、深さ５μｍの位置を示す。ここで、基準となる表面とは、構造領域の最外部となる面である（例えば、無構造領域を有する場合には構造領域と無構造領域との境界面であり、構造領域が基材又はその他の部材と接合されている場合にはその境界面である）。
【００３３】
ここで、構造領域の一方の表面側近傍における径は、０．５μｍ以上２．０μｍ未満であることが好適であり、０．５μｍ以上１．５μ未満であることがより好適である。０．５μｍ未満では透過性が低下しやすく、２．０μｍ以上では拡散性が低下しやすい。
【００３４】
合わせて、構造領域の他方の表面側近傍における径は、２．０μｍ以上５．０μｍ以下であることが好適であり、３．０μｍ以上５．０μｍ以下であることがより好適である。２．０μｍ未満では透過性が低下しやすく、５．０μｍ超では光拡散性が低下しやすい。
【００３５】
また、一方の表面側近傍における径：他方の表面側近傍における径は、１：１．５〜１：４．０であることが好適であり、１：１．５〜１：３．０であることがより好適であり、１：１．５〜１：２．０であることが更に好適である。この比率を下回ると、拡散性の向上効果が得られ難くなり、この比率を上回ると、拡散性が低下する。
【００３６】
傾斜構造体の傾斜は、後述の製造工程における光拡散媒体に添加するフィラーの添加量、形状、大きさにより適宜調整可能である。
【００３７】
（厚み）
本形態に係る異方性拡散層の厚みとしては、特に限定されないが、好適には２０〜１００μｍであり、より好適には２５〜５５μｍである。２０μｍ未満であると光拡散性が低下し、１００μｍを超えると過剰となる。
【００３８】
〔その他の層〕
異方性拡散層の一方の面に他の層を設けた異方性光学フィルムとしてもよい。他の層としては、例えば、粘着層、偏光層、光拡散層、低反射層、防汚層、帯電防止層、紫外線・近赤外線（ＮＩＲ）吸収層、ネオンカット層、電磁波シールド層などを挙げることができる。他の層を順次積層してもよい。異方性拡散層の両方の面に、他の層を積層してもよい。両方の面に積層される他の層は、同一の機能を有する層であってもよいし、別の機能を有する層であってもよい。
【００３９】
≪異方性光学フィルムの製造方法≫
本形態に係る異方性光学フィルムは、反射性基材や等方性拡散媒体上に直接塗工等により設けることも可能であるが、通常の加工技術により粘着剤や接着剤を介して貼り合せることも出来る。また、例えば、本形態に係る異方性光学フィルムと屈曲性支持体やボードとの貼り合せを行う場合等も粘着剤や接着剤を使用することが好ましい。屈曲性支持体やボード自体が反射性を有する場合は、その反射面に直接異方性光学フィルムを積層することが出来るのは言うまでもないことである。以下、まず異方性拡散層の原料を説明し、次いでその製造工程を説明する。
【００４０】
＜異方性拡散層の原料＞
〔光硬化性樹脂組成物〕
本形態の異方性拡散層を形成するのに必須な材料である光硬化性樹脂組成物は、ラジカル重合性又はカチオン重合性の官能基を有するポリマー、オリゴマー、モノマーから選択される光重合性化合物と光開始剤とから構成され、紫外線及び／又は可視光線を照射することにより重合・固化する材料である。
【００４１】
（光重合性化合物）
ラジカル重合性化合物は、主に分子中に１個以上の不飽和二重結合を含有するもので、具体的にはエポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリブタジエンアクリレート、シリコーンアクリレート等の名称で呼ばれるアクリルオリゴマーと、２―エチルヘキシルアクリレート、イソアミルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、エトキシジエチレングリコールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、イソノルボルニルアクリレート、２―ヒドロキシエチルアクリレート、２―ヒドロキシプロピルアクリレート、２―アクリロイロキシフタル酸、ジシクロペンテニルアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，６―ヘキサンジオールジアクリレート、ビスフェノールＡのＥＯ付加物ジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ＥＯ変成トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等のアクリレートモノマーが挙げられる。また、これらの化合物は、各単体で用いてもよく、複数混合して用いてもよい。尚、同様にメタクリレートも使用可能であるが、一般にはメタクリレートよりもアクリレートの方が光重合速度が速いので好ましい。
【００４２】
カチオン重合性化合物としては、分子中にエポキシ基やビニルエーテル基、オキセタン基を１個以上有する化合物が使用出来る。エポキシ基を有する化合物としては、２―エチルヘキシルジグリコールグリシジルエーテル、ビフェニルのグリシジルエーテル、ビスフェノールＡ、水添ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＡＤ、ビスフェノールＳ、テトラメチルビスフェノールＡ、テトラメチルビスフェノールＦ、テトラクロロビスフェノールＡ、テトラブロモビスフェノールＡ等のビスフェノール類のジグリシジルエーテル類、フェノールノボラック、クレゾールノボラック、ブロム化フェノールノボラック、オルトクレゾールノボラック等のノボラック樹脂のポリグリシジルエーテル類、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ブタンジオール、１，６―ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、トリメチロールプロパン、１，４―シクロヘキサンジメタノール、ビスフェノールＡのＥＯ付加物、ビスフェノールＡのＰＯ付加物等のアルキレングリコール類のジグリシジルエーテル類、ヘキサヒドロフタル酸のグリシジルエステルやダイマー酸のジグリシジルエステル等のグリシジルエステル類が挙げられる。
【００４３】
更に、３，４―エポキシシクロヘキシルメチル―３’，４’―エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、２―（３，４―エポキシシクロヘキシル―５，５―スピロ―３，４―エポキシ）シクロヘキサン―メタ―ジオキサン、ジ（３，４―エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ジ（３，４―エポキシ―６―メチルシクロヘキシルメチル）アジペート、３，４―エポキシ―６―メチルシクロヘキシル―３’，４’―エポキシ―６’―メチルシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス（３，４―エポキシシクロヘキサン）、ジシクロペンタジエンジエポキシド、エチレングリコールのジ（３，４―エポキシシクロヘキシルメチル）エーテル、エチレンビス（３，４―エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、ラクトン変性３，４―エポキシシクロヘキシルメチル―３’，４’―エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、テトラ（３，４―エポキシシクロヘキシルメチル）ブタンテトラカルボキシレート、ジ（３，４―エポキシシクロヘキシルメチル）―４，５―エポキシテトラヒドロフタレート等の脂環式エポキシ化合物も挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００４４】
ビニルエーテル基を有する化合物としては、例えばジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、ブタンジオールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ドデシルビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、プロペニルエーテルプロピレンカーボネート等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。尚ビニルエーテル化合物は、一般にはカチオン重合性であるが、アクリレートと組み合わせることによりラジカル重合も可能である。
【００４５】
またオキセタン基を有する化合物としては、１，４―ビス［（３―エチル―３―オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼン、３―エチル―３―（ヒドロキシメチル）―オキセタン等が使用できる。
【００４６】
尚、以上のカチオン重合性化合物は、各単体で用いてもよく、複数混合して用いてもよい。上記光重合性化合物は、上述に限定されるものではない。また、十分な屈折率差を生じさせるべく、上記光重合性化合物には、低屈折率化を図るために、フッ素原子（Ｆ）を導入しても良く、高屈折率化を図るために、硫黄原子（Ｓ）、臭素原子（Ｂｒ）、各種金属原子を導入しても良い。また、特表２００５−５１４４８７に開示されるように、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、酸化錫（ＳｎＯｘ）等の高屈折率の金属酸化物からなる超微粒子の表面に、アクリル基やメタクリル基、エポキシ基等の光重合性官能基を導入した機能性超微粒子を上述の光重合性化合物に添加することも有効である。
【００４７】
（光開始剤）
ラジカル重合性化合物を重合させることの出来る光開始剤としては、ベンゾフェノン、ベンジル、ミヒラーズケトン、２―クロロチオキサントン、２，４―ジエチルチオキサントン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、２，２―ジエトキシアセトフェノン、ベンジルジメチルケタール、２，２―ジメトキシ―１，２―ジフェニルエタン―１―オン、２―ヒドロキシ―２―メチル―１―フェニルプロパン―１―オン、１―ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２―メチル―１―［４―（メチルチオ）フェニル］―２―モルフォリノプロパノン―１、１―［４―（２―ヒドロキシエトキシ）―フェニル］―２―ヒドロキシ―２―メチル―１―プロパン―１―オン、ビス（シクロペンタジエニル）―ビス（２，６―ジフルオロ―３―（ピル―１―イル）チタニウム、２―ベンジル―２―ジメチルアミノ―１―（４―モルフォリノフェニル）―ブタノン―１、２，４，６―トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド等が挙げられる。また、これらの化合物は、各単体で用いてもよく、複数混合して用いてもよい。
【００４８】
またカチオン重合性化合物の光開始剤は、光照射によって酸を発生し、この発生した酸により上述のカチオン重合性化合物を重合させることが出来る化合物であり、一般的には、オニウム塩、メタロセン錯体が好適に用いられる。オニウム塩としては、ジアゾニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、ホスホニウム塩、セレニウム塩等が使用され、これらの対イオンには、ＢＦ４−、ＰＦ６−、ＡｓＦ６−、ＳｂＦ６−等のアニオンが用いられる。具体例としては、４―クロロベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、（４―フェニルチオフェニル）ジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、（４―フェニルチオフェニル）ジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス［４―（ジフェニルスルホニオ）フェニル］スルフィド―ビス―ヘキサフルオロアンチモネート、ビス［４―（ジフェニルスルホニオ）フェニル］スルフィド―ビス―ヘキサフルオロホスフェート、（４―メトキシフェニル）ジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、（４―メトキシフェニル）フェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（４―ｔ―ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ベンジルトリフェニルホスホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルセレニウムヘキサフルオロホスフェート、（η５―イソプロピルベンゼン）（η５―シクロペンタジエニル）鉄（ＩＩ）ヘキサフルオロホスフェート等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、これらの化合物は、各単体で用いてもよく、複数混合して用いてもよい。
【００４９】
（配合量、その他任意成分）
本形態において、前記光開始剤は、光重合性化合物１００重量部に対して、０．０１〜１０重量部、好ましくは０．１〜７重量部、より好ましくは０．１〜５重量部程度配合される。これは、０．０１重量部未満では光硬化性が低下し、１０重量部を超えて配合した場合には、表面だけが硬化して内部の硬化性が低下してしまう弊害、着色、柱状領域の形成の阻害を招くからである。これらの光開始剤は、通常粉体を光重合性化合物中に直接溶解して使用されるが、溶解性が悪い場合は光開始剤を予め極少量の溶剤に高濃度に溶解させたものを使用することも出来る。このような溶剤としては光重合性であることが更に好ましく、具体的には炭酸プロピレン、γ―ブチロラクトン等が挙げられる。また、光重合性を向上させるために公知の各種染料や増感剤を添加することも可能である。更に光重合性化合物を加熱により硬化させることの出来る熱硬化開始剤を光開始剤と共に併用することも出来る。この場合、光硬化の後に加熱することにより光重合性化合物の重合硬化を更に促進し完全なものにすることが期待できる。
【００５０】
本形態では、上記の光硬化性樹脂組成物を単独で、又は複数を混合した組成物を硬化させて、異方性拡散層を形成することが出来る。また、光硬化性樹脂組成物と光硬化性を有しない高分子樹脂の混合物を用いてもよい。ここで使用できる高分子樹脂としては、アクリル樹脂、スチレン樹脂、スチレン―アクリル共重合体、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、セルロース系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、塩ビ―酢ビ共重合体、ポリビニルブチラール樹脂等が挙げられる。これらの高分子樹脂と光硬化性樹脂組成物は、光硬化前は十分な相溶性を有していることが必要であるが、この相溶性を確保するために各種有機溶剤や可塑剤等を使用することも可能である。尚、光硬化性樹脂組成物としてアクリレートを使用する場合は、高分子樹脂としてはアクリル樹脂から選択することが相溶性の点で好ましい。
【００５１】
＜工程＞
異方性拡散層（異方性光学フィルム）の製造方法としては、光硬化性樹脂組成物を適当な基材フィルム上に塗布し又はシート状に設け、未硬化樹脂組成物層を形成し（塗布工程）、必要に応じ、乾燥して溶剤を揮発させた上で、この未硬化性樹脂組成物層上に光照射マスクを設け（光照射マスク接合工程）、また光照射マスク上に光拡散媒体を配置し（光拡散媒体配置工程）、更に光拡散媒体上に光源を配置して、光硬化性樹脂組成物に光を照射（硬化工程）することで、異方性光拡散層（異方性光学フィルム）を作製することが出来る。以下、各工程に関して詳述する。
【００５２】
〔塗布工程〕
基材フィルム上に未硬化状態の光硬化性樹脂組成物を塗布又はシート状に設け、未硬化樹脂組成物層を形成する。
【００５３】
ここで、光硬化性樹脂組成物を基材フィルム上に設ける手法としては、通常の塗工方式や印刷方式が適用される。具体的には、エアドクターコーティング、バーコーティング、ブレードコーティング、ナイフコーティング、リバースコーティング、トランスファロールコーティング、グラビアロールコーティング、キスコーティング、キャストコーティング、スプレーコーティング、スロットオリフィスコーティング、カレンダーコーティング、ダムコーティング、ディップコーティング、ダイコーティング等のコーティングや、グラビア印刷等の凹版印刷、スクリーン印刷等の孔版印刷等の印刷等が使用できる。また、光硬化性樹脂組成物が低粘度の場合は、例えば、異方性拡散層を形成したい縁部に沿ってディスペンサーを用いて硬化性の樹脂による隔壁を形成し、当該隔壁で囲まれた内部に未硬化状態の光硬化性樹脂組成物をキャストすればよい。
【００５４】
ここで、基材フィルムとしては後述の硬化工程等において光硬化性樹脂組成物の硬化を阻害しないものを用いれば何ら限定されず、例えば、透明ＰＥＴフィルム等のような適宜のフィルムを用いることが出来る。
【００５５】
〔光照射マスク接合工程〕
次に、塗布工程で形成された未硬化樹脂組成物層上に、光照射マスクを接合（接触）させる。以下、本工程にて用いられる光照射マスクの性質等について詳述する。
【００５６】
光照射マスクは、光硬化性樹脂組成物の硬化や形成を促進させたり、硬化時の酸素阻害を防いだり、異方性拡散の強度をコントロールする等の目的で使用される。光照射マスクの材質としては、光線が透過する透明な可撓性を有するシートであれば特に限定されないが、柱状領域をより効率良く形成させるために、光吸収性フィラー（例えば、カーボン等）をポリマーマトリックス中に分散したもので、入射光の一部は光吸収性フィラーに吸収されるが、光吸収性フィラーの存在しない開光部は光が十分に透過できるようなマスクとすることが好ましい。
【００５７】
ここで、光照射マスク接合工程としては、前述の通り、乾燥して溶剤を揮発させた上で、この未硬化樹脂組成物層上に光照射マスクを接合（接触）させればよいため、例えば、前述の隔壁を設け、基材フィルムと、隔壁と、光照射マスクと、で形成される空間内に未硬化状態の光硬化性樹脂組成物を充填する、等により、前記塗布工程と光照射マスク接合工程とを同時に行う工程等であってもよい。尚、前述のように、光照射マスクは各種の機能を奏するものであるが、光照射マスクを用いずとも異方性拡散層を製造可能であるため、光照射マスク接合工程は必須の工程ではない。
【００５８】
〔光拡散媒体配置工程〕
次に、未硬化樹脂組成物層に照射される光に適当な特性を付与するために、光拡散媒体を配置する{光拡散媒体は、未硬化樹脂組成物層の硬化用の光源と、未硬化樹脂組成物層と、の間に配置される部材である（光照射マスクを有している場合には、光照射マスク上）｝。
【００５９】
（光拡散媒体）
光拡散媒体の光拡散特性は、図３に示すように、変角光度計ゴニオフォトメータ（株式会社ジェネシア製）を用いて、光拡散媒体である測定サンプルに対し、光源の入射光が法線方向に対して０°となる角度に光源をセットし、受光部（検出器）は測定サンプルの法線方向に対して−９０°〜＋９０°の範囲で可変させて拡散する光の強度を測定した際、拡散透過率（受光強度）の最大値から１／１０の拡散透過率に当たる角度範囲の絶対値が、２°超８°以下である。光拡散媒体における、入射光の拡散範囲の角度の絶対値がこのような数値範囲から外れる場合、所望の柱状領域が形成されない。尚、この数値は、後述の硬化工程において照射する光の波長に対して測定される数値である。
【００６０】
このような性質を有する光拡散媒体としては特に限定されないが、例えば、フィラー（例えば、ポリスチレン粒子）の入った樹脂板（例えば、アクリル板）等の拡散板を挙げることができる。この場合、フィラーの添加量、形状、大きさにより、光拡散媒体の性質を調整可能である。または、フィルムの表面にホログラムの干渉波面による微細な凹凸を転写し、その構造による屈折作用又は回折作用により、入射光を一定の角度に拡散させるレンズ拡散板（ＬＳＤ、Ｌｕｍｉｎｉｔ，ＬＬＣ社製）等も適用できる。ここで、光拡散媒体は、前述のように、入射光に適当な特性を付与し、未硬化樹脂組成物層に照射するための部材である。従って、未硬化樹脂組成物層に対して前記適当な特性の光を照射可能な限り、光拡散媒体として、複数の拡散板等を組み合わせたものとしてもよい（その場合、光拡散媒体全体に対して前記の光拡散特性を測定すればよい）。また、レンチキュラーレンズを二つ組み合わせて用いる等によっても、同様の効果を奏し得る。
【００６１】
このように、本形態に係る光拡散媒体を介して光を照射することにより、未硬化樹脂組成物層に照射される光が、樹脂層に入射される直前に全方向的に拡散されるため、当該拡散された方向に沿って硬化が進行し、上方側（光入射側）と下方側（基材フィルム側）とでその径が異なる形状（例えば、錐台状）となるのである。
【００６２】
ここで、前述の通り、本発明に係る傾斜構造体としては、図２（ｂ）に示すように、その中心軸が傾斜した構造体（軸傾斜構造体）であってもよい。
【００６３】
（ヘイズ値）
光拡散媒体のヘイズ値としては、５〜３０％が好適であり、１５〜３０％がより好適である。ヘイズ値が小さすぎると、錐台状（円錐台状）の構造とし難くなり、ヘイズ値が大きすぎると、複数の傾斜構造体である柱状領域自体ができ難い。
【００６４】
尚、光拡散媒体の配置箇所としては、光照射マスクの上に直接配置してもよいし、光照射マスクの上に光照射マスクと離隔するように配置してもよい。また、光照射マスク接合工程を設けない（光照射マスクを使用しない）場合には、光拡散媒体を、未硬化樹脂組成物層の上に直接（未硬化樹脂組成物層と接触し得るように）、又は、未硬化樹脂組成物層の上に未硬化樹脂組成物層と離隔するように配置すればよい。
【００６５】
ここで、前述の通り、光照射マスク接合工程は必須の工程ではない。光照射マスク接合工程を行わない場合、光拡散媒体配置工程は、（１）光拡散媒体を未硬化樹脂組成物層と離隔するように配置する場合には、塗布工程に先んじて行うものであってもよいし、（２）光拡散媒体を未硬化樹脂組成物層の上に直接（未硬化樹脂組成物層と接触し得るように）配置する場合には、前述の隔壁を設け、基材フィルムと、隔壁と、光拡散媒体と、で形成される空間内に未硬化状態の光硬化性樹脂組成物を充填する、等により、前記塗布工程と光拡散媒体配置工程とを同時に行う工程等であってもよい。
【００６６】
〔硬化工程〕
次に、未硬化樹脂組成物層に、光拡散媒体を介して光を照射することにより、全方向に拡散する拡散光線である光が未硬化樹脂組成物層に照射され、未硬化樹脂組成物層が硬化し、複数の傾斜構造体を有する柱状領域が形成された、異方性拡散層（光硬化性樹脂組成物層）を形成する。
【００６７】
未硬化樹脂組成物層に光照射を行うための光源としては、用いる光硬化性樹脂組成物によって異なるが、紫外線硬化性の樹脂組成物を用いる場合には、通常はショートアークの紫外線発生光源が使用され、具体的には高圧水銀灯、低圧水銀灯、メタハライドランプ、キセノンランプ等が使用可能である。
【００６８】
未硬化樹脂組成物層に照射する光線は、当該未硬化樹脂組成物層を硬化可能な波長を含んでいることが必要で、紫外線硬化性の樹脂組成物を用いる場合には、通常は水銀灯の３６５ｎｍを中心とする波長の光が利用される。この波長帯を使って本形態の異方性拡散層を作製する場合、照度としては０．０１〜１００ｍＷ／ｃｍ２の範囲であることが好ましく、より好ましくは０．１〜２０ｍＷ／ｃｍ２の範囲である。照度が０．０１ｍＷ／ｃｍ２未満であると硬化に長時間を要するため、生産効率が悪くなり、１００ｍＷ／ｃｍ２超であると光硬化性樹脂組成物の硬化が速すぎて構造形成を生じず、目的の異方性拡散特性を発現できない場合があるからである。
【００６９】
ＵＶの照射時間は特に限定されないが、１０〜１８０秒間、より好ましくは３０〜１２０秒間である。その後、光拡散媒体、光照射マスク及び基材フィルムを剥離することで、本形態に係る異方性拡散層（異方性光学フィルム）を得ることができる。
【００７０】
本発明の異方性拡散層は、上述の如く光（低照度ＵＶ光）を比較的長時間照射することにより未硬化樹脂組成物層中に柱状領域が形成されることで得られるものである。そのため、このような光照射（ＵＶ照射）だけでは未反応のモノマー成分が残存して、べたつきを生じたりしてハンドリング性や耐久性に問題がある場合がある。そのような場合は、１０００ｍＷ／ｃｍ２以上の高照度の光（ＵＶ光）を追加照射して残存モノマーを重合させることが出来る。この時の光照射（ＵＶ照射）は光拡散媒体側とは逆側（反対面）から行うのが好ましい。
【００７１】
≪異方性光学フィルムの物性≫
次に、本発明に係る異方性光学フィルムの物性について説明する。
【００７２】
＜異方性光学フィルムの拡散性（ヘイズ値）＞
本発明に係る異方性光学フィルムの拡散性（ヘイズ値）は、好ましくは７５〜９５％であり、より好ましくは８５〜９５％である。尚、異方性光学フィルムの拡散性（ヘイズ値）の測定方法は、後述の方法に従う。
【００７３】
＜異方性光学フィルムの拡散幅＞
本発明に係る異方性光学フィルムの拡散幅は、好ましくは４０〜７０°であり、より好ましくは４５〜６０°である。異方性光学フィルムの拡散幅の測定方法は、後述の方法に従う。
【００７４】
≪異方性光学フィルムの用途≫
本発明に係る異方性光学フィルムは、プロジェクタースクリーン、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）、表面電界ディスプレイ（ＳＥＤ）、電子ペーパーのような表示装置に適用することができる。特に好ましくは液晶表示装置（ＬＣＤ）に用いられる。また、本形態に係る異方性光学フィルムは、接着層や粘着層を介して、所望の場所に貼り合わせて使用することもできる。更に、本形態に係る異方性光学フィルムを、透過型、反射型、または半透過型の液晶表示装置に用いることもできる。また、本発明に係る異方性光学フィルムは、樹脂層として一体的に形成されているものであるため、安価に製造可能であるのみならず、その内部に水分、ゴミ、埃等が入り込み難い構造となっており、更に構造的な欠陥が少ないことから折り曲げ等への耐久性にも優れるものと考えられる。従って、幅広い環境及び種々の用途に対して適用可能である。
【実施例】
【００７５】
以下の方法に従って、本発明の異方性光学フィルム及び比較例の異方性光学フィルムを製造した。
【００７６】
［実施例１］
厚さ１００μｍ、７６×２６ｍｍサイズのＰＥＴフィルム（東洋紡株式会社製、商品名：Ａ４１００、ヘイズ＝０．５％）を基材フィルムとして、その縁部全周に、ディスペンサーを使い硬化性樹脂で高さ１００μｍの隔壁を形成した。この隔壁の中に下記の光硬化性樹脂組成物を充填し、ＵＶ照射マスク（光照射マスク）としてヘイズが１．３％であるＰＶＡフィルムでカバーした。
・シリコーン・ウレタン・アクリレート（屈折率：１．４６０、重量平均分子量：５，８９０）２０重量部
（ＲＡＨＮ社製、商品名：００−２２５／ＴＭ１８）
・ネオペンチルグリコールジアクリレート（屈折率：１．４５０）  ３０重量部
（ダイセル・サイテック株式会社製、商品名Ｅｂｅｃｒｙｌ１４５）
・ビスフェノールＡのＥＯ付加物ジアクリレート（屈折率：１．５３６）  １５重量部
（ダイセル・サイテック株式会社製、商品名：Ｅｂｅｃｙｌ１５０）
・フェノキシエチルアクリレート（屈折率：１．５１８）  ４０重量部
（共栄社化学株式会社製、商品名：ライトアクリレートＰＯ−Ａ）
・２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン  ４重量部
（ＢＡＳＦ社製、商品名：Ｉｒｇａｃｕｒｅ６５１）
この両面をフィルムで挟まれた１００μｍの厚さの液膜を８０℃に加熱したホットプレートに載せ、ＵＶ照射マスク側からＵＶスポット光源（浜松ホトニクス株式会社製、商品名：Ｌ２８５９−０１）の落射用照射ユニットから出射される平行光線（波長３６５ｎｍの紫外線）を、照射強度５ｍＷ／ｃｍ２として、更に照射するＵＶ光の光拡散媒体として平均粒径が１μｍのポリスチレン粒子をアクリル樹脂に分散したヘイズが１５％の拡散板を介して、１分間照射して、更に、基材フィルム側から照射強度２０ｍＷ／ｃｍ２のＵＶ光を照射して、完全に硬化させた。そこから、基材フィルムおよびＵＶ照射マスクを剥がして本発明の９８μｍの厚みの図１（a）に示すような複数の傾斜構造体である柱状領域を有する実施例１の異方性光学フィルム（異方性拡散層）を得た。
本実施例で用いた光拡散媒体の光拡散特性は４°であった。
【００７７】
［実施例２］
隔壁の厚みを５０μｍとしたこと以外は実施例１と同様にして、５２μｍの厚みの異方性光学フィルムを得た。
本実施例で用いた光拡散媒体の光拡散特性は実施例１と同様に４°であった。
【００７８】
［実施例３］
隔壁の厚みを５０μｍとし、ＵＶ照射マスクとして、カーボンを分散して製膜したヘイズ１９．８％のＰＶＡフィルムを用いたこと以外は実施例１と同様にして、４９μｍの厚みの異方性光学フィルムを得た。
本実施例で用いた光拡散媒体の光拡散特性は実施例１と同様に４°であった。
【００７９】
［実施例４］
隔壁の厚みを５０μｍとし、ＵＶ照射マスクとしてカーボンを分散して製膜したヘイズ１９．８％のＰＶＡフィルムを用い、照射するＵＶ光の光拡散媒体として平均粒径が１μｍのポリスチレン粒子をアクリル樹脂に分散したヘイズが２５％の拡散板を用いたこと以外は実施例１と同様にして、５２μｍの厚みの異方性光学フィルムを得た。
本実施例で用いた光拡散媒体の光拡散特性は７°であった。
【００８０】
［実施例５］
隔壁の厚みを５０μｍとし、ＵＶ照射マスクとしてカーボンを分散して製膜したヘイズ１９．８％のＰＶＡフィルムを用い、照射するＵＶ光の光拡散媒体として2枚のレンチキュラーレンズの拡散方向を直角になるように配置したヘイズが３０％の拡散板を用いたこと以外は実施例１と同様にして、４８μｍの厚みの異方性光学フィルムを得た。
本実施例で用いた光拡散媒体の光拡散特性は８°であった。
［実施例６］
隔壁の厚みを３０μｍとし、ＵＶ照射マスクとして、カーボンを分散して製膜したヘイズ１９．８％のＰＶＡフィルムを用い、照射するＵＶ光の光拡散媒体として2枚のレンチキュラーレンズの拡散方向を直角になるように配置したヘイズが３０％の拡散板を用いたこと以外は実施例１と同様にして、２９μｍの厚みの異方性光学フィルムを得た。
本実施例で用いた光拡散媒体の光拡散特性は８°であった。
［実施例７］
隔壁の厚みを２０μｍとしたこと以外は実施例１と同様にして、２２μｍの厚みの異方性光学フィルムを得た。本実施例で用いた光拡散媒体の光拡散特性は実施例１と同様に４°であった。
【００８１】
［比較例１］
光拡散媒体を用いないこと以外は実施例１と同様にして、１０１μｍの厚みの異方性光学フィルムを得た。
照射したＵＶ光の光拡散特性は、２°であった。
【００８２】
［比較例２］
隔壁の厚みを５０μｍとし、ＵＶ照射マスクとして、カーボンを分散して製膜したヘイズ１９．８％のＰＶＡフィルムを用い、照射するＵＶ光の光拡散媒体として平均粒径が５μｍのシリカフィラーをアクリル樹脂に分散したヘイズ４０％の拡散板を用いたこと以外は実施例１と同様にして、５２μｍの厚みの異方性光学フィルムを得た。
本比較例で用いた光拡散媒体の光拡散特性は、１１°であった。
【００８３】
＜ＵＶ照射マスクおよび光拡散媒体のヘイズの測定＞
日本電色工業株式会社製のヘイズメーターＮＤＨ−２０００を用いて、ＪＩＳ  Ｋ７１３６に準拠してヘイズを測定した。
【００８４】
＜光拡散媒体の光拡散特性の測定＞
図３に示すように、光源の投光角、受光器の受光角を任意に可変できる変角光度計ゴニオフォトメータ（株式会社ジェネシア製）を用いて、実施例および比較例の光拡散媒体の評価を行った。光拡散媒体である測定サンプルに対し、光源の入射光が法線方向に対して０°となる角度に光源をセットし、受光器は測定サンプルの法線方向に対して、−９０〜＋９０°の範囲で可変させて拡散する光の強度を測定した。光拡散媒体の光拡散特性は、受光強度（拡散透過率）の最大値から１／１０の受光強度に当たる角度範囲とした。
【００８５】
＜異方性光学フィルムの拡散性（ヘイズ値）の測定＞
日本電色社工業株式会社製のヘイズメーターＮＤＨ−２０００を用いて、ＪＩＳ  Ｋ７１３６に準拠してヘイズ値を測定した。ヘイズ値が高いほど拡散性が高い異方性光学フィルムである。
【００８６】
＜異方性光学フィルムの拡散幅の測定＞
光源の投光角、受光器の受光角を任意に可変できる変角光度計ゴニオフォトメータ（株式会社ジェネシア製）を用いて、実施例および比較例の異方性光学フィルムの評価を行った。光源からの直進光を受ける位置に受光部を固定し、その間のサンプルホルダーに実施例および比較例で得られた異方性光学フィルムをセットした。図４に示すように回転軸（Ｌ）としてサンプルを回転させてそれぞれの入射角に対応する直線透過光量を測定した。この評価方法によって、どの角度の範囲で入射される光が拡散するかを評価することができる。この回転軸（Ｌ）は、図５に示されるサンプルの構造におけるC−C軸と同じ軸である（尚、図５においては、簡単のために通常のピラー構造としている）。直線透過光量の測定は、視感度フィルターを用いて可視光領域の波長（３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ）を測定した。「拡散幅」とは、最大直線透過率と最小直線透過率との中間値となる直線透過率に対する、入射光の拡散角度範囲である。
【００８７】
＜異方性光学フィルムのギラツキの評価＞
異方性光学フィルムの干渉（虹）については、透過光をさまざまな角度から目視で観察し、ギラツキ（干渉虹）の有無を評価した。
【００８８】
＜異方性光学フィルムの断面観察＞
異方性光学フィルムの断面は、ミクロトームで薄く切片化した観察用サンプルを２００倍の光学顕微鏡で観察した。観察した断面写真より、異方性光学フィルムの構造領域に対し、表面側（光照射側）から５μｍ地点及び基材側（基材フィルム貼付側）から５μｍ地点で、１００個の傾斜構造体の幅を測定し、その平均値を傾斜構造体の外径とみなした。尚、前述の通り、構造領域は、異方性拡散層の最外部の基準線（粗さ曲線の平均線）に対して略平行となる平行線を引いた際、全柱状領域の個数に対しての、当該平行線に接触している柱状体領域の個数の割合が、５０％超となる領域とした。
【００８９】
ここで、本実施例１に係る複数の傾斜構造体を有する異方性光学フィルムの断面写真を図６、従来技術に係る傾斜構造体を有しない異方性光学フィルムの断面写真を図７、として各々示す。
【００９０】
実施例および比較例における加工条件と得られた異方性光学フィルムの評価結果を表１および２に纏めた。
【００９１】
【表１】
0006542007.tif 000002
【００９２】
【表２】
0006542007.tif 000003
【００９３】
表１ないし２に示すとおり、実施例の異方性光学フィルムは、優れた拡散性と広い拡散幅とを有するのに対し、比較例の異方性光学フィルムは、狭い拡散幅を有した異方性光学フィルムとなり劣るものであった。特に実施例３の異方性光学フィルムは、ギラツキ（干渉虹）がなく、優れた拡散性と広い拡散幅とを有していた。また実施例５の異方性光学フィルムは、ギラツキはやや劣るものの、優れた拡散性と広い拡散幅とを有していた。更に実施例６の異方性光学フィルムにおいては、ギラツキはやや劣るものの、薄膜でありながら、優れた拡散性と広い拡散幅とを有していた。
【図１】
0006542007.tif 000004
【図２】
0006542007.tif 000005
【図３】
0006542007.tif 000006
【図４】
0006542007.tif 000007
【図５】
0006542007.tif 000008
【図６】
0006542007.tif 000009
【図７】
0006542007.tif 000010