(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のカメラおよび少なくとも一つのプロジェクタを有する三次元計測システムを校正する方法であって、：
少なくとも二つのセットの補正行列を生成するフル校正を各カメラ／プロジェクタペアに対して実施する工程と；
続いて、全セット未満の補正行列を変化させる更新された校正を各カメラ／プロジェクタペアに対して実施する工程と；を含み、
フル校正が第一のセットの補正行列および第二のセットの補正行列を生成し、更新された校正が第二のセットの補正行列を変化させずに第一のセットの補正行列を変化させ、
フル校正を実施する工程が、パターンが目標上に投影され、目標が複数の異なる高さに位置付けられるにつれ、各カメラが投影されたパターンの画像を取得するプロジェクタ校正を実施する工程を包含する方法。
【請求項２】
更新された校正がフル校正よりも頻繁に実施される、請求項１記載の方法。
【請求項３】
第一のセットの補正行列が比較的短い時間間隔を経てドリフトする校正補正を包含する、請求項１記載の方法。
【請求項４】
短い時間間隔が二日未満である、請求項３記載の方法。
【請求項５】
第二のセットの補正行列が少なくとも数カ月の期間を経てドリフトする校正補正を包含する、請求項１記載の方法。
【請求項６】
補正行列のセットが三つの直交する方向の補正を包含する、請求項１記載の方法。
【請求項７】
フル校正を実施する工程がカメラ校正を実施する工程を包含し、カメラの各々が多数の異なる、公知の高度において、よく特徴付けられた校正目標の画像を取得する、請求項１記載の方法。
【請求項８】
カメラによって取得された画像がカメラ画素空間と物理的な空間との間の幾何学変換を確立するために解析される、請求項７記載の方法。
【請求項９】
プロジェクタ校正の間に取得された画像がカメラ画素空間とソース−パターン空間との間の幾何学変換を確立するために解析される、請求項１記載の方法。
【請求項１０】
各カメラ／プロジェクタペアに対する全体校正を生じさせるために、フル校正がカメラおよびプロジェクタ変換の組み合わせを包含する、請求項１記載の方法。
【請求項１１】
複数のプロジェクタおよび少なくとも一つのカメラを有する三次元計測システムを校正する方法であって、：
少なくとも二つのセットの補正行列を有するフル校正を各カメラ／プロジェクタペアに対して実施する工程と；
続いて、全セット未満の補正行列を変化させる更新された校正を各カメラ／プロジェクタペアに対して実施する工程と；を含み、
フル校正を実施する工程が、パターンが目標上に投影され、目標が複数の異なる高さに位置付けられるにつれ、各カメラが投影されたパターンの画像を取得するプロジェクタ校正を実施する工程を包含する方法。
【請求項１２】
三次元光学画像取得システムであって、：
各々が異なる視点から計測空間を見るように構成された複数のカメラと；
パターンを計測空間上に投影するように構成された少なくとも一つのプロジェクタと；
少なくとも第一のセットの補正値および第二のセットの補正値を生成するために複数のカメラおよび少なくとも一つのプロジェクタのフル校正を実施するように構成されたコントローラとを含み；
フル校正が、パターンが目標上に投影され、目標が複数の異なる高さに位置付けられるにつれ、各カメラが投影されたパターンの画像を取得する少なくとも一つのプロジェクタ校正を実施することを包含し、；
コントローラが各カメラ／プロジェクタペアに対しての校正更新を実施するように構成され、各カメラ／プロジェクタペアに対して行われる校正更新が、フル校正の後に行われ、第二のセットの補正値を変化させずに第一のセットの補正値に影響を与えるシステム。
【請求項１３】
第一のおよび第二のセットの補正値がシステムメモリに保存される、請求項１２記載のシステム。
【請求項１４】
第一のおよび第二のセットの補正値が校正更新の完了後に入手された三次元計測を補正するためにアクセスされる、請求項１３記載のシステム。
【請求項１５】
第一のおよび第二のセットの補正値がそれぞれ第一のおよび第二の補正行列である、請求項１２記載のシステム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
関連出願の相互参照
本出願は、２０１４年１２月２２日に出願され、その内容が全体として参照によって本明細書に組み込まれた米国仮特許出願第６２／０９５，３２９号を基礎とし、利益を主張する。
【０００２】
著作権留保
本特許文書の開示内容の一部分は、著作権保護の対象である資料を含有する。著作権所有者は、特許商標庁特許ファイルまたは記録に見られるとおりの特許文書または特許開示内容の何人による複写再現に対しても異議を唱えないが、さもなければ何であれ全著作権権利を留保する。
【０００３】
発明の背景
面または物体に対して高精度三次元情報を自動的に入手することは、多くの産業およびプロセスにとって不可欠である。例として、エレクトロニクス組立産業では、回路基板上の電子部品に対する高精度三次元情報は、部品が正しく置かれたか否かを判定するために使用されることができる。さらに、三次元情報は、正しい量のはんだペーストが回路基板上の正しい位置に蒸着されていることを確かにするために、部品取り付け前の回路基板上に蒸着するはんだペーストの検査においても有効である。なおもさらに、三次元情報は、半導体ウェーハおよびフラットパネルディスプレイの検査においても有効である。最後に、そのような三次元情報の高精度が向上するにつれ、それは、多様なさらなる産業および適用にとって有効になりつつある。しかし、三次元情報取得の高精度が向上するにつれ、軽度のシステム障害の様々な原因を補正することは、ますます重要になっている。三次元を入手するためのシステムの校正は、したがって、一層重要になりつつある。
【０００４】
三次元構造光計測センサのための校正プロセスは、レンズ幾何学的ひずみ、傾斜／キーストン効果、回転誤差および視程誤差を包含する通常の光学非理想特性のために、プロジェクタおよびカメラを補正する。これらの非理想特性の一部は、時間を経ても感知しうるほどに変化せず、計測精度に影響を与えることはない。しかし、センサ校正の後で、他の非理想特性は、分〜日の時間期間を経て感知しうるほどドリフトすることができ、計測性能に影響を与える。例として、視程は、環境変化からの熱膨張に起因して感知しうるほど変化することができる。
【０００５】
高度化されて、三次元センサを正確に校正し、通常、高精度機器、例えば、モーションシステムおよび校正アーチファクトを必要とする方法が存在する。校正アーチファクトの必要な画像を取得し、それらを解析することは、比較的時間がかかることでもある。
【０００６】
発明の概要
複数のカメラおよび少なくとも一つのプロジェクタを有する三次元計測システムを校正する方法が提供される。方法は、各カメラ／プロジェクタペアに対してフル校正を実施する工程を包含し、フル校正が少なくとも二つのセットの補正行列を生成する。続いて、更新された校正は、各カメラ／プロジェクタペアに対して実施される。更新された校正は、全セット未満の補正行列を変化させる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】本発明の実施態様に従ったフル校正を実施するための方法のフロー図である。
【図２】本発明の実施態様に従ったフル校正プロセスを図示する模式図である。
【図３Ａ】本発明の実施態様に従ったチェッカーボードパターンおよび二つのハーフトーン円を包含するカメラ校正目標を示す。
【図３Ｂ】図３Ａの詳細な部分を示す。
【図４】本発明の実施態様に従ったＺ位置が記録される計測範囲内のカメラ校正目標の数個の個別のＺ位置の模式図である。
【図５】本発明の実施態様に従った投影校正目標である。
【図６】本発明の実施態様に従った一連の正弦波干渉縞パターンが投影される複数のＺ位置の模式図である。
【図７】本発明の実施態様に従ったプロジェクタ校正目標上に投影された基準パターンの模式図である。
【図８】本発明の実施態様に従った校正を更新する方法のフロー図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
図示する実施態様を実施するための形態
本明細書に記載された様々な実施態様に従って、通常の非理想特性を補正し、高速ランタイム処理を容易にし、校正ドリフトを計測するために続いて適用されることができる基準データのセットを生成する、正確なフル校正プロセスが提供される。このフル校正は、時間がかかる一方で、それが時間を経ても感知しうるほどに変化しない非理想特性を補正するため、一度または少なくともたまにのみ実施される必要がある。ここでもまた本明細書に記載された実施態様に従って、校正ドリフトの量を計測し、必要とされる場合、時間を経てドリフトすることが予想されるフル校正のそれらの部分のみを更新する、校正更新プロセスが提供される。校正更新プロセスは、実施が比較的速やかなプロセスであり、比較的簡易な校正アーチファクトのみを必要とする。
【０００９】
各カメラ／プロジェクタペアに対して、フル校正プロセスは、その後、計測プロセスの間に適用される各Ｘ、ＹおよびＺ方向への二つのセットの補正を生成する。第一のセットの補正は、より短い時間間隔、例として、分または一両日のオーダーを経てドリフトし得る校正補正を包含する。第二のセットの補正は、より長い時間間隔、例として、数カ月のオーダーを経てドリフトし得る、または、まったくドリフトしない校正補正を包含する。これらの第一のセットの補正は、校正更新プロセスによって更新されるものであり、第二のセットの補正は、後続のフル校正の間にのみ更新される。
【００１０】
図１は、図２に示す三次元計測システムのフル校正を実施するための方法のフロー図である。三次元計測システムを描写する後続の図が図２に表示された全部品を示さない場合がある一方で、そのような欠落がそのような部品が存在しないことを示すものではない点に留意されたい。むしろ、そのような図は、記載の見やすさのために簡潔化されている。
【００１１】
方法１００は、カメラ校正が実施されるブロック１０２で始まる。カメラ１１８、１２０、１２２および１２４を校正する工程は、よく特徴付けられた校正目標１１４の画像を入手する工程（図２に示す）を包含し、校正が望まれる異なる高さ（ｚ）位置の範囲に校正目標１１４が位置する（図４に示す）一方で、画像が取得される。それらの画像は、コントローラ１２６またはカメラ画素空間と物理的な空間との間の幾何学変換を確立するための他の好適な処理論理によって解析される。次に、ブロック１０４では、パターンが同じ目標１１４またはもう一つの目標のいずれか上に投影され、各カメラがｚ範囲を通してパターンの画像を撮る、プロジェクタ校正が実施される。それらの画像は、コントローラ１２６またはカメラ画素空間とソース−パターン空間との間の幾何学変換を確立するための他の好適な処理論理によって解析される。ブロック１０４は、システムの各プロジェクタ１２８に対して繰り返される。図２に示す例では、単一のプロジェクタ１２８が示されることに留意されたい。次に、ブロック１０６では、プロセスは反転し、コントローラ１２６または他の好適な処理論理は、カメラおよびプロジェクタ変換を組み合わせて、各カメラ／プロジェクタペアに対して全体校正を生じさせる。したがって、二つのカメラおよび四つのプロジェクタがある場合、各プロジェクタ／カメラペアにつき一つのセットになる、八つのセットのフル校正データがあることになるであろう。次に、ブロック１０８では、基準パターンは、目標上に投影される。基準パターンの例は、図７に示される。ブロック１１０では、各カメラ１１８、１２０、１２２および１２４は、基準パターンの画像を取得する。それらの画像は、ブロック１１２では、コントローラ１２６またはカメラ画素空間と基準パターン空間との間の幾何学変換を判定するための他の好適な処理論理によって解析される。
【００１２】
ブロック１０２に関して記載されたカメラ校正プロセスの間に、画像は、コントローラ１２６または画素空間と物理的な空間との間の幾何学変換を確立するための他の好適な処理論理によって解析される。この解析の間に、校正目標１１４のＸ、Ｙ座標と、カメラ画素座標αおよびβと、目標位置Ｚとの間の関係は、数式１によって記載されることができる：
【数１】
0006602867.tif 000002
【００１３】
Ｘ、Ｙ座標は、よく特徴付けられた校正目標１１４（例えばリトグラフでパターン化されたチェッカーボードまたはダイヤモンドパターン）から正確にわかり、校正目標のＺ位置が例として、エンコーダを持つ高精度移動ステージを使用して正確にわかり、ｆ１（・）が任意の３変数関数である。
【００１４】
ブロック１０４に関して記載されたプロジェクタ校正プロセスの間に、一連のパターンは、目標上に投影され、カメラは、ｚ範囲を通してパターンの画像を取得する。例として、０、１２０および２４０度の位相を持つ三つの正弦波パターンは、各Ｚ位置において目標上に投影されることができる。図６を参照されたい。カメラ画像は、コントローラ１２６または画素空間とプロジェクタパターン空間との間の幾何学変換を確立するために標準的な三つの画像位相回復技術を使用して各画素において位相を計算するための他の好適な処理論理によって解析される。この解析の間に、目標上の正弦波パターンの計算された位相φと、カメラ画素座標αおよびβと、目標位置Ｚとの間の関係は、数式２によって記載されることができる：
【数２】
0006602867.tif 000003
【００１５】
校正目標のＺ位置は、例として、エンコーダを持つ高精度移動ステージを使用して正確にわかり、ｆ２（・）が任意の３変数関数である。
【００１６】
各カメラ画素に対するＸ、Ｙ、Ｚ座標を再構成するランタイムプロセスの間、数式３および４：
【数３】
0006602867.tif 000004
【数４】
0006602867.tif 000005
【００１７】
は、Ｚが独立変数でありながら、その上未知のものでもあるため、再構成のために扱いにくい。その代わりに、関数は、数式５の形態で提供される必要がある：
【数５】
0006602867.tif 000006
【００１８】
実際の再構成を容易にする重要な見識は、所与の校正画像の任意の画素に対するものであり、関数形態についての任意の仮定なしで数（Ｘ、Ｙ、Ｚ、α、β、φ）を対応させることが可能になる。そのような六つ一組の好適に大きいセットから、好適な適合関数である３変数多項式で、回帰によって独立および従属変数を再割り当てすることができる。したがって、以下によって高さＺを算出する：
【数６】
0006602867.tif 000007
ここで、ラップ高さが位相φｃから高さＺまでの公称スケーリングであり、補正された位相が以下であり：
【数７】
0006602867.tif 000008
補正された横位置ＸおよびＹが以下による：
【数８】
0006602867.tif 000009
【数９】
0006602867.tif 000010
【００１９】
Ｐ（・）、Ｑ１（・）およびＱ２（・）は、回帰によって見つけられた３変数多項式である。回帰は、コントローラ１２６のメモリ１３０またはランタイムにおける後の適用のための任意の他の好適なメモリに保存された結果で校正時間において一度行われることができる。
【００２０】
この手法には数個の効果がある。一つの効果は、テレセントリック性が有効ひとみ高さの決定に依存するプロセスではそうであるのに、特異点を引き起こすことも取り扱いにおいて特例を必要とすることもない点である。その代わりに、対応させた補正係数は、非常に小さいまたはゼロである。もう一つの効果は、ひとみひずみが自動的にモデル化され、説明される点である。その上もう一つの効果は、修正が乗算および加算のみを使用して適用されることができる点であり、除算または反復を必要としないため、ハイスピード処理を容易にする。
【００２１】
校正更新プロセスを容易にするために、フル校正プロセスは、各Ｘ、ＹおよびＺ方向に対する二つのセットの補正および基準データのセットを生成する。正弦波位相シフトパターンが再構成のために使用されるとき、その後、Ｚ位置は、補正された位相に直接比例する。一つの実施態様では、第一のセットの位相補正は、基準平面に対しての公称最適焦点（Ｚ＝０）でのオフセット補正であり、第二のセットの位相補正は、干渉縞方向および視野にわたる三角形分割角度の変化を説明するスケーリング要素である。第一のセットのＸ補正は、公称最適焦点（Ｚ＝０）でのオフセット補正であり、第二のセットの補正は、可動範囲を通してＸシフトを特徴付ける。同様にＹ補正については、第一のセットのＹ補正は、公称最適焦点（Ｚ＝０）でのオフセット補正であり、第二のセットの補正は、可動範囲を通してＹシフトを特徴付ける。また、フル校正プロセスは、校正更新プロセスの間に使用される数セットの基準データを生成する。
より具体的には、補正された位相φｃは、数式１０によって計算される
【数１０】
0006602867.tif 000011
【００２２】
φｃ、ｄφ０、φ、ｄφｃ／ｄφはすべて、画像のサイズを一致させる二次元行列である。画像のサイズを一致させるとは、行列が画像の画素と同じ数の要素を有することを意味する。したがって、先に示された例では、各々が画像の画素と同じ数の要素を有する四つの異なる行列がある。第一の位相補正行列ｄφ０は、画像の各画素座標（α，β）に対するＺ＝０におけるフラット基準面に対する位相オフセットである。φ行列の各要素は、位相シフト方法によって生成されたその画素位置における公称位相である。第二の位相補正行列ｄφｃ／ｄφは、干渉縞方向および視野内の三角形分割角度変化に対する各画素のラップ高さを補正する無単位行列である。φ°ｄφｃ／ｄφは、アダマール積とも呼ばれる、二つの行列の要素ごとの積である。
各画素における高さは、その後、数式１１によって付与される。
【数１１】
0006602867.tif 000012
各画素に対する補正されたＸ位置は、数式１２によって計算される：
【数１２】
0006602867.tif 000013
【００２３】
ここで、Ｘ、Ｘｎｏｍ、ｄＸ０、φ、ｄＸ／ｄφはすべて、画像のサイズを一致させる二次元行列である。Ｘｎｏｍ行列の各要素は、画素座標および公称分解能に基づく公称Ｘ画像座標である。第一のＸ補正行列ｄＸ０は、Ｚ＝０での幾何学的ひずみを補正する画像の各画素座標（α，β）に対するＸオフセットである。第二のＸ補正行列ｄＸ／ｄφは、公称位相の関数として横シフトを特徴付ける。φ°ｄＸ／ｄφは、二つの行列の要素ごとの積である。
【００２４】
各画素に対する補正されたＹ座標は、数式１３に記述されるように、Ｘ補正と類似のプロセスによって計算される：
【数１３】
0006602867.tif 000014
【００２５】
ここで、Ｙ、Ｙｎｏｍ、ｄＹ０、φ、ｄＹ／ｄφはすべて、画像のサイズを一致させる二次元行列である。Ｙｎｏｍ行列の各要素は、画素座標および公称分解能に基づく公称Ｙ画像座標である。第一のＹ補正行列ｄＹ０は、Ｚ＝０での幾何学的ひずみを補正する画像の各画素座標（α，β）に対するＹオフセットである。第二のＹ補正行列ｄＹ／ｄφは、公称位相の関数として横シフトを特徴付ける。φ°ｄＹ／ｄφは、二つの行列の要素ごとの積である。
【００２６】
フル校正プロセスは、さらに図２に関して説明される。各カメラ１１８、１２０、１２２および１２４は、注意深く特徴付けられたカメラ校正目標１１４を撮像する。カメラ校正目標１１４上のパターンは、チェッカーボードパターン（例えば図示された例のようなもの）、ダイヤモンドパターンであることができ、カメラ校正目標１１４の座標系を明確に確立するために、基準マークもカメラ校正目標１１４上にパターン化されることができる。一つの実施態様では、カメラ校正目標は、その座標系を確立するために、ハーフトーンパターンを包含する。
【００２７】
図３Ａは、チェッカーボードパターンおよびチェッカーボードパターン内の二つのハーフトーン円を包含するカメラ校正目標の例を示す。円は、カメラのすべてに対して共通の座標系を確立する。
【００２８】
図３Ｂは、図３Ａの詳細な部分を示す。各カメラ画像は、コントローラ１２６または各カメラ画素座標（α，β）に対する校正目標フィーチャの（Ｘ，Ｙ）位置を判定するための他の好適な処理論理によって解析される。カメラ校正目標１１４のＺ位置は、メモリ１３０または他の好適な記憶装置に記録もされる。このプロセスは、図４に示すようにカメラ校正目標１１４が三次元センサの計測範囲内の数個の個別のＺ位置に位置付けられるにつれ、繰り返される。
【００２９】
プロジェクタ１２８を校正するために、カメラ校正目標１１４は、図５に示すようにプロジェクタ校正目標によって交換されることができる。プロジェクタ校正目標の各Ｚ位置において、一連の正弦波干渉縞は、図６に示すように各カメラによって投影され、撮像される。各カメラからの画像は、コントローラ１２６または各画素座標（α，β）において位相を計算するための他の好適な処理論理によって解析される。
【００３０】
校正更新プロセスに対する基準データは、その後、図７に示すようにＺ＝０に位置するプロジェクタ校正目標上に基準パターンを投影することによって生成される。基準パターン画像は、基準パターン座標系において、各カメラ画素に対する投影された基準パターンフィーチャの位置を判定するために、解析される。基準パターン座標系は、物理的なＸ，Ｙ座標系を共有すると仮定されるが、投影光学のひずみに起因して、わずかにゆがめられる場合がある。基準パターン座標系において、各画像で、各画素に対するＸオフセットを付与する基準Ｘ補正行列ｄＸ０，ｒｅｆは、その後、各カメラ画像に対して生成される。同様に、基準パターン座標系において、各画像で、各画素に対するＹオフセットを付与する基準Ｙ補正行列ｄＹ０，ｒｅｆは、各カメラ画像に対して生成される。図２〜６には一つのプロジェクタのみが示されているものの、三次元センサシステムは、他の実施態様では、一つより多いプロジェクタを有することができる。それらの実施態様では、第一のおよび第二のセットのＸ、Ｙおよび位相補正行列ならびに基準ＸおよびＹ補正行列は、各カメラ／プロジェクタペアに対して生成される。
【００３１】
もう一つの実施態様では、同じ目標は、カメラ校正およびプロジェクタ校正の両方に対して使用される。カメラ校正に対しては、目標は、カメラ校正パターンを見るための拡散背面照明によって照らされることができる。この目標の面は、わずかに粗くされることもでき、それは、プロジェクタによって正面から照らされるとき、光を拡散的に散乱させる。
【００３２】
フル校正プロセスの完了後、校正更新プロセスは、校正更新目標の相対位置をセンサの公称最適焦点Ｚ＝０に調節することによって、必要とされるときはいつでも比較的速やかに実施されることができる。図８は、本発明の実施態様に従った校正を更新する方法のフロー図である。方法２００は、校正更新目標が最適焦点の位置に位置付けられるブロック２０２で始まる。一つの実施態様では、校正更新目標は、好ましくは平坦な面である。ブロック２０４では、フル校正プロセスの間に基準Ｘおよび基準Ｙ補正行列を生成するために使用されたものと同じ基準パターンは、校正更新目標上に投影される。ブロック２０６では、ＸおよびＹ補正行列は、更新される。より詳細には、基準パターン座標系において、各画像で、各画素に対するＸオフセットを付与する更新Ｘ補正行列ｄＸ０，ｕｐｄは、各カメラ画像に対して生成される。同様に、基準パターン座標系において、各画像で、各画素に対するＹオフセットを付与する更新Ｙ補正行列ｄＹ０，ｕｐｄは、各カメラ画像に対して生成される。ブロック２０８では、フル校正プロセスで使用されたものと同じ特性を持つ正弦波干渉縞のセットは、その後、校正更新目標上に投影される。ブロック２１０では、位相補正行列ｄφ０，ｕｐｄは、その後、計算される。各カメラに対する第一のセットの補正行列は、その後、ブロック２１２では、以下の関係によって更新される
【数１４】
0006602867.tif 000015
【数１５】
0006602867.tif 000016
【数１６】
0006602867.tif 000017
【００３３】
ここで、ｄＸ０，ｆｕｌｌ、ｄＹ０，ｆｕｌｌは、それぞれ、フル校正プロセスの間に生成された第一のセットのＸおよびＹ補正行列である。差行列（ｄＸ０，ｕｐｄ−ｄＸ０，ｒｅｆ）および（ｄＸ０，ｕｐｄ−ｄＸ０，ｒｅｆ）は、校正ドリフトの測度である。たとえ投影光学による基準パターンの一部のひずみがある場合でも、同じひずみは、フル校正および校正更新プロセスの間に存在し、基準と更新補正行列との差を取ることによってキャンセルされる。これらの差行列の残差が十分に低い場合、その後、第一のセットの補正行列は、フル校正プロセスの間に生成されたものに留まる：
ｄＸ０＝ｄＸ０，ｆｕｌｌ
ｄＹ０＝ｄＹ０，ｆｕｌｌ
ｄφ０＝ｄφ０，ｆｕｌｌ
ここで、ｄφ０，ｆｕｌｌは、フル校正プロセスの間に生成された第一の位相補正行列である。
【００３４】
第一のおよび第二のセットの校正補正を提供するフル校正プロセスが開示された。第一のセットの補正を更新する簡易な校正更新プロセスが開示された。より一般的な感覚では、校正更新プロセスは、フル校正の一部分のみを更新する。具体的なパターンがカメラ、プロジェクタ、基準および更新校正に対して開示されたものの、本発明は、それらの具体的なパターンに限定されない。
【図１】
0006602867.tif 000018
【図２】
0006602867.tif 000019
【図３Ａ】
0006602867.tif 000020
【図３Ｂ】
0006602867.tif 000021
【図４】
0006602867.tif 000022
【図５】
0006602867.tif 000023
【図６】
0006602867.tif 000024
【図７】
0006602867.tif 000025
【図８】
0006602867.tif 000026