(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ブランケット上に塗布したインクからインクの不要部分を除く除去凸版の洗浄装置であって、
第一の凹部を有し、前記第一の凹部が前記除去凸版に対向するとともに、前記除去凸版を覆うように設置されるチャンバと、
第二の凹部を有し、前記第二の凹部が前記除去凸版に対向するように前記第一の凹部内に配置されるカバーと、
前記第一の凹部内に配置され、かつ先端部が前記第二の凹部内に配置され、除去凸版からインクの不要部分を除く版洗浄手段として、前記先端部から前記除去凸版表面に洗浄液を噴出する洗浄ノズルと、
洗浄排液を浄化・再生する浄化手段として、クロスフロー式限外ろ過装置を用いて洗浄後のインクを含む洗浄排液から固形物を除去して洗浄排液を浄化・再生する固形物除去手段と、
を備える、
洗浄装置。
【請求項２】
先端が前記第二の凹部内に配置された吸引ノズルをさらに備える、
請求項１に記載の洗浄装置。
【請求項３】
前記第一の凹部内に配置されたエアナイフをさらに備える、
請求項２に記載の洗浄装置。
【請求項４】
請求項１に記載の洗浄装置を用いて行う、ブランケット上に塗布したインクからインクの不要部分を除く除去凸版の洗浄に供した洗浄排液の浄化方法であって、
前記固形物除去手段を用いて洗浄後のインクを含む洗浄排液から固形物を除去して洗浄排液を浄化・再生する固形物除去工程を有する、
浄化方法。
【請求項５】
前記インクが金属を含むことを特徴とする請求項４に記載の浄化方法。
【請求項６】
前記ブランケットが、反転オフセット印刷によりフレキシブルデバイスを製造する際に用いられることを特徴とする請求項４または５に記載の浄化方法。
【請求項７】
請求項１に記載の洗浄装置を用いて行う、ブランケット上に塗布したインクからインクの不要部分を除く除去凸版の洗浄方法であって、
前記除去凸版表面に洗浄ノズルを用いて洗浄液を噴出することにより、前記除去凸版表面上のインクを除去する版洗浄工程と、
前記固形物除去手段により、前記版洗浄工程で排出された洗浄排液を浄化・再生する洗浄液浄化工程と、
を備える、
洗浄方法。
【請求項８】
前記洗浄装置が、前記除去凸版上のインクを乾燥・固化する送風乾燥手段を有し、
前記版洗浄工程の前に、前記送風乾燥手段により前記除去凸版上のインクを乾燥・固化する乾燥工程をさらに備える、請求項７に記載の洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、洗浄排液浄化方法、版洗浄方法および版洗浄装置に係り、フレキシブルデバイスにおける反転オフセット印刷用の除去凸版の洗浄に用いて好適な技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
情報技術の目覚しい発展により、現在ではノート型パソコンや携帯情報端末などでの情報の送受信が頻繁に行われている。近い将来、場所を選ばずに情報をやり取りできるユビキタス社会が来るであろうことは周知の事実である。そのような社会においては、より軽量、薄型の情報端末が望まれる。
【０００３】
現在、前記情報端末に用いられるトランジスタの主流はシリコン系（Ｓｉ系）であるが、その製造方法としては、シリコンをスパッタやＣＶＤ等のドライ法で成膜した後、フォトリソグラフィー技術を用いて前記トランジスタをパターニングする方法が一般的である。
【０００４】
近年では、低コスト化、フレキシビリティ化などの観点から、印刷技術による前記トランジスタのパターニングが注目されている。印刷技術を用いることで、フォトリソグラフィーよりも装置や製造上のコストが下がり、また、真空や高温プロセスを必要としないことから、エネルギー負荷の低減が達成され、さらにはプラスチックに代表されるフレキシブル基材へのパターニングも可能となるなどのメリットが挙げられる。
【０００５】
しかしながら、印刷法はフォトリソグラフィー法と比較すると、概して解像性が悪く微細なパターニングが課題である。これに対し、微細パターン形成に対応する印刷方法として反転オフセット印刷法がある(特許文献１参照）。
【０００６】
反転オフセット印刷法は、シリコンブランケット上にインキの塗布面を形成し、非画線部（画像のインキの付かない部分）が凸となる除去凸版を上記塗布面に押圧して凸部分に付着させ、且つシリコンブランケット上のベース面から凸部分のインキを除去し、ベース面に残ったインキを基板等被印刷体面に転写するものである。
【０００７】
前記反転オフセット印刷法は、インキを除去する工程で不要な部分を除去凸版へ転写させるため、連続で印刷を行っていくためには、印刷毎に除去凸版上に付着したインクを洗浄、除去する必要がある。
【０００８】
例えば特許文献２では粘着テープを用いて除去凸版上に付着したインク塗膜を取り除く方法がとられている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２０００−２８９３２０号公報
【特許文献２】特許第４８２６１０９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかし、特許文献２記載の方法では付着したインク塗膜を完全に取り除くことは困難である上、価格の高い粘着テープを使い捨てるため、コスト面で不利である。
【００１１】
そこで、洗浄液を用いた洗浄、除去方法が考えられるが、洗浄後にインク成分を含む多量の洗浄排液を生じ、環境負荷の増大を伴うことが問題となっている。また、前記洗浄排液を回収、貯蔵するための槽が必要となるため、装置の大型化を伴うことも問題となっている。
【００１２】
そのため、回収した前記洗浄排液を浄化、精製して洗浄液として再生し、循環再利用することが考えられるが、洗浄液の純度が除去凸版の清浄度に大きく影響を与えるため、再生した洗浄液の純度が低下した場合に、前記版上に一部のインク成分が残留したり、再付着するなどして、前記除去凸版の清浄度が大幅に低下し、印刷によるパターニングに欠陥が生じることが問題となっている。
【００１３】
特に、前記反転オフセット印刷法によりトランジスタの微細パターンを形成する場合、前記除去凸版の清浄度が低いと、トランジスタの電極細線に断線や不適切な結合によるショートが生じるなど、トランジスタの性能を低下させる恐れがある。
【００１４】
また連続的に印刷を繰り返す場合、浄化、精製による洗浄液の高純度化が達成されないと、該洗浄液の純度低下の蓄積により、印刷パターン欠陥が印刷毎に増大して大幅な生産性低下と排液量増加に伴う環境負荷の増大に繋がることが問題となっている。
【００１５】
本発明は、上記の事情に鑑みてなされたもので、版上に付着したインクの洗浄性に優れ、かつ、洗浄液の浄化を可能とし、この再利用により廃棄液量が削減できて環境負荷を低減させることが可能な洗浄排液浄化方法、版洗浄方法および版洗浄装置を提供可能とするという目的を達成しようとするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明の第一の態様は、ブランケット上に塗布したインクからインクの不要部分を除く除去凸版の洗浄装置である。
この洗浄装置は、第一の凹部を有し、第一の凹部が除去凸版に対向するとともに、除去凸版を覆うように設置されるチャンバと、第二の凹部を有し、第二の凹部が除去凸版に対向するように第一の凹部内に配置されるカバーと、第一の凹部内に配置され、かつ先端部が第二の凹部内に配置され、除去凸版からインクの不要部分を除く版洗浄手段として、先端部から除去凸版表面に洗浄液を噴出する洗浄ノズルと、洗浄排液を浄化・再生する浄化手段として、クロスフロー式限外ろ過装置を用いて洗浄後のインクを含む洗浄排液から固形物を除去して洗浄排液を浄化・再生する固形物除去手段とを有する。
【００１７】
本発明の洗浄装置は、固形物除去手段を有することにより、極めて環境負荷の高い金属微粒子を含む可能性のあるインクの洗浄廃液において、固形物を除去可能とし、洗浄排液を浄化・再生することができる。
【００２０】
本発明の前記インクが金属を含むことにより、フレキシブルデバイスにおける反転オフセット印刷用の除去凸版の洗浄に対応することが可能となる。
【００２１】
本発明の第二の態様は、本発明の洗浄装置を用いて行う、ブランケット上に塗布したインクからインクの不要部分を除く除去凸版の洗浄に供した洗浄排液の浄化方法である。
この浄化方法は、固形物除去手段を用いて洗浄後のインクを含む洗浄排液から固形物を除去して洗浄排液を浄化・再生する固形物除去工程を有する。
本発明の第三の態様は、本発明の洗浄装置を用いて行う、ブランケット上に塗布したインクからインクの不要部分を除く除去凸版の洗浄方法である。
この洗浄方法は、除去凸版表面に洗浄ノズルを用いて洗浄液を噴出することにより、除去凸版表面上のインクを除去する版洗浄工程と、固形物除去手段により、版洗浄工程で排出された洗浄排液を浄化・再生する洗浄液浄化工程とを備える。
【００２２】
本発明は、前記版洗浄工程の前に、前記除去凸版上のインクを送風により乾燥・固化する乾燥工程を含むことにより、版洗浄工程におけるインクの除去を好適におこなうことが可能となる。
【発明の効果】
【００２５】
本発明によれば、除去凸版表面に付着したインクの洗浄性を向上させるとともに、洗浄排液の浄化・再生を可能として、最終的に廃棄する液量を削減可能として環境負荷を低減可能な廃液浄化方法、版洗浄方法および版洗浄装置を提供可能とすることができるという効果を奏することが可能となる。
【００２６】
また、版上に付着したインクを熱風により乾燥、固化させることにより、版上のインクの洗浄、除去がさらに容易となり、前記廃液浄化工程の負荷がさらに低減できる。
【００２７】
また、印刷工程時間内に廃液の浄化、すなわち洗浄液としての再生が効率的に実施できるため、再生されない廃液を貯蔵するための大規模な廃液回収槽を必要とせず、装置の小型化が達成できる。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本発明に係る洗浄排液浄化方法、版洗浄方法および版洗浄装置の第１実施形態における版洗浄装置を示す模式図である。
【図２】本発明に係る版洗浄装置の第１実施形態における版洗浄手段を示す模式側断面図である。
【図３】本発明に係る版洗浄装置の第１実施形態における版洗浄手段を示す模式平断面図である。
【図４】本発明に係る版洗浄方法の第１実施形態における版洗浄方法を示す工程図である。
【図５】本発明に係る版洗浄方法の第１実施形態におけるろ過を説明する模式図である。
【図６】本発明に係る版洗浄方法の第１実施形態におけるろ過を説明する模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
以下、本発明に係る洗浄排液浄化方法、版洗浄方法および版洗浄装置の第１実施形態を、図面に基づいて説明する。
図１は、本実施形態における版洗浄装置を示す斜視図であり、図において、符号１は、版洗浄装置である。
【００３０】
本実施形態に係る版洗浄装置１は、図１に示すように、フレキシブルデバイスを製造する際に用いられるブランケット上に塗布したインクからインクの不要部分を除く除去凸版の洗浄装置とされて、除去凸版からインクの不要部分を除く版洗浄手段１０と、洗浄排液を浄化・再生する浄化手段２０とを有するものとされる。
【００３１】
図２は、本実施形態における版洗浄手段を示す側断面図であり、図３は、本実施形態における版洗浄手段を示す平断面図である。
版洗浄手段１０は、版ステージを有する印刷機上に設置して用いられるものとされ、図２，図３に示すように、平板状の除去凸版Ｗを、除去凸版Ｗの主面が水平面Ｓに平行になるように保持する版ステージ１１と、第一の凹部１６が形成され、第一の凹部１６が除去凸版Ｗに対向するとともに、除去凸版Ｗを覆うように設置されるチャンバ（蓋部）１５と、チャンバ１５の縁部に設けられたパッキン（封止部）２１と、第一の凹部１６内に配置された洗浄ノズル２５、吸引ノズル３０、及びエアナイフ（空気噴出ノズル）３５と、版ステージ１０に対して洗浄ノズル２５を移動させるための移動機構４０と、チャンバ１５に設けられた洗浄液排出口５０と、第二の凹部５６が形成され第一の凹部１６内に配置されたカバー５５と、移動機構４０を制御する制御部６０とを備えている。なお、図においては、説明の便宜のため、吸引ノズル３０及びエアナイフ３５を示していなく、カバー５５を２点鎖線で示している。ここで、水平面Ｓに平行な水平方向Ｘ、及び、水平面Ｓに平行であって水平方向Ｘに直交する直交方向（交差方向）Ｙをそれぞれ規定する。
【００３２】
除去凸版Ｗは、シリコンウェハーや石英ガラス、無アルカリガラス、青板ガラス、ＳＵＳ（ステンレス鋼）や銅、ニッケル等の金属や樹脂により構成される。除去凸版Ｗの表面はクロム等の金属をメッキしてもよく、シリカやダイヤモンドライクカーボン等の気相製膜をしても良い。
除去凸版Ｗの図示しない溝部は、モールディングやエレクトロフォーミング、フォトリソによるウェットエッチング／ドライエッチング、サンドブラスト、レーザー描画等で形成することができる。これらの除去凸版Ｗの中でも、ガラスをウェットエッチングで加工したものが広く用いられている。この理由は、加工が比較的容易であり、かつ、大面積、高解像度、高精度、凹凸形状がシャープなためである。一方で、ガラス製の除去凸版Ｗは物理的に脆弱なために、ドクターやブラシを使った接触式洗浄方法を用いると欠けや傷等の問題が生じる。このような除去凸版Ｗに対しては、スプレー等の非接触式洗浄方法を用いることが好ましい。版Ｗの向きを分かりやすくするために、説明の便宜上、上面に指標Ｗ１を示している。
【００３３】
本発明の版洗浄装置１により除去される対象となるのは、除去凸版Ｗに付着した伝導性のインクである。このインクは、反転印刷用に調製されたインクであれば特に限定はないが、一例として銀、銅、ニッケル、亜鉛などの金属微粒子や、二酸化珪素、チタン酸バリウム、酸化亜鉛などの金属酸化物微粒子、フタロシアニン、キナクリドン、ジケトピロロピロールなどの有機顔料微粒子を含むインクを挙げることができる。または、金属ナノ粒子を含むインクを用いることができる。金属ナノ粒子は、金、銀、銅、白金、パラジウム、ニッケル、コバルト、鉄、アルミニウム、マンガンの金属からなるナノ粒子、または、金、銀、銅、白金、パラジウム、ニッケル、コバルト、鉄、アルミニウム、マンガン、モリブデンの金属から選択される２種類以上の金属からなる合金でもよい。用いる金属の平均粒径は、インクへの分散性の点から５０ｎｍ以下であることが好ましい。粒子の安定した製造の点から、金属の平均粒径が１０ｎｍ以上３０ｎｍ以下であるものが一般的に用いられる。
【００３４】
このインクでは、金属ナノ粒子等の粒子の径が小さくなるのにしたがって粒子の表面エネルギーが大きくなり、粒子同士の凝集と版への付着力が強くなる。また、反転オフセット印刷法では乾燥したインクを版上から除去する必要があるが、金属ナノ粒子のようなナノオーダーの粒子は一度乾燥すると、そのままでは、溶媒への再分散が難しくなる。そのため、洗浄液に浸漬するだけでは洗浄効果は得られず、インクを版から剥がしたり削ったりする物理的な作用が有効である。
【００３５】
版からインクを除去するために、水等の洗浄液のみを版に噴霧する１流体スプレー（ノズル）と、空気等の気体と洗浄液とを混合した混合流体を版に噴霧する２流体スプレーとが知られている。２流体スプレーは１流体スプレーと比較して、高速な流体の衝突により局所的な高圧が発生し、高いせん断流れや対象物の振動等を誘起して対象を剥がす効果が大きい。２流体スプレーは水流が強いので、再付着防止効果が著しい。この点で、金属ナノ粒子の除去には、２流体スプレーによる洗浄が有効である。
【００３６】
エレクトロニクス用途の電気回路を印刷法で形成する場合には、前記のような金属ナノ粒子を用いることが多い。数１００μｍの液滴を基板に打ち当てる１流体スプレー洗浄や、マイクロメートルオーダーの構造体で基板を擦るブラシ洗浄やスポンジ洗浄と比較して、２流体スプレーによる洗浄方式は、金属ナノ粒子等の微細な粒子の除去に適している。
【００３７】
版ステージ１１は、ステンレス鋼等で平板状に形成され、主面が水平面Ｓに平行になるように保持される。版ステージ１１は、図示しない軌道に沿って水平面Ｓに平行に移動可能とされる。版ステージ１１は、図示はしないが、上面部に除去凸版Ｗを吸着して固定するための吸着機構として真空吸着機構や静電吸着機構を備える。除去凸版Ｗは、版ステージ１１の上面に保持される。
【００３８】
チャンバ１５は、例えば、ステンレス鋼等で、外形が直方体で１つの面が開口する形状に形成されている。この開口及びチャンバ１５の内部空間で、第一の凹部１６を構成する。チャンバ１５は、版ステージ１１、すなわち版ステージ１１に保持された除去凸版Ｗに対して近接離脱できるように、鉛直方向に動作が可能である。パッキン２１は、公知の構成のものを適宜選択して用いることができる。パッキン２１は、チャンバ１５の開口の縁部に全周にわたり設けられている。パッキン２１は、除去凸版Ｗ又は版ステージ１１と、チャンバ１５との間を水密に封止する。これにより、水の飛沫等の漏出防止がなされている。なお、除去凸版Ｗの外周に当て板を設置し、この当て板にパッキン２１を接触させてもよい。
【００３９】
洗浄ノズル２５はインク除去効率の観点から、洗浄液を高圧にして版表面に噴霧できるものが好ましく、２流体ノズル、４流体ノズル、高圧ジェットノズルなどの公知公用の加圧式ノズルが用いられるが、これらに限定されるものではない。洗浄ノズルの一例として、株式会社いけうち社製２流体ノズル、スプレーイングシステムジャパン株式会社製高圧スプレーノズルＭＥＧシリーズなどを挙げることができる。
【００４０】
または、洗浄ノズル２５は筒状に形成され、空気と洗浄液とを混合した混合流体を除去凸版Ｗに噴霧する。ここで言う筒状とは、洗浄ノズル２５の軸線に直交する平面による断面が、円形の縁部の形状だけでなく、楕円形、矩形等の多角形の縁部の形状であるものも含む意味である。本実施形態では複数の洗浄ノズル２５が、直交方向Ｙに互いに間隔を置いて並べられた状態で備えられている。洗浄ノズル２５は、負荷圧力と洗浄液の腐蝕性、温度から、次の材質を選択することができる。ステンレス、黄銅、チタン、タングステン合金等の金属や、塩化ビニル、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリアミド、フッ素樹脂、ポリフェニレンサルファイド、ウレタン、エポキシ、ＡＢＳ樹脂等の樹脂や、アルミナ、窒化ケイ素、炭化ケイ素等のセラミックや、サファイヤ、ルビー、ダイヤモンド、グラファイト等の素材を用いることができる。
【００４１】
それぞれの洗浄ノズル２５の先端部（端部）２６に設けられた開口は、スリット状に形成されている。洗浄ノズル２５の開口は、除去凸版Ｗに対向する。洗浄ノズル２５から噴霧されるスプレーの吐出断面形状は、フラット、円環、円錐等が選択できる。除去凸版Ｗに対するスプレーの打力を大きくするためには、吐出断面積を小さくする方がよい。インクの洗浄ムラを抑制するためには、版ステージ１１に対して洗浄ノズル２５が移動する方向と直交する方向、すなわち直交方向Ｙにスプレーパターンを配置しなければならない。この場合、吐出断面積の小さい洗浄ノズル２５を用いると、多数の洗浄ノズル２５を並べて用いる必要がある。上記のことを鑑みると、水平方向Ｘに対してスプレーパターンが扁平した（スプレーパターンの直交方向Ｙの長さよりも水平方向Ｘの長さの方が短い）、フラット形状やスリットノズル型を用いることが好ましい。
【００４２】
洗浄ノズル２５は、２流体スプレーとされて、液体の圧力と気体の圧力とを調整することができ、この場合、ターンダウン比が大きいのに対し、一方で、１流体スプレーの噴霧量は、流体に作用する圧力の平方根に比例するため、噴霧量は動力の制限を受け、噴霧量のターンダウン比が小さい。これより、２流体スプレーとされる洗浄ノズル２５では、洗浄性と省液化といったトレードオフの要求に対しても、動力を変更することなく調整がしやすい。
【００４３】
洗浄ノズル２５に供給される空気は、圧縮装置６５で予め大気圧以上に加圧されるとともに、洗浄液貯留槽７７から洗浄ノズル２５に供給される洗浄液は、加圧装置（ポンプ）６９で予め大気圧以上に加圧される。これら加圧された空気、洗浄液は互いに異なる配管を通して洗浄ノズル２５に供給される。気体と洗浄液とを混合させる気液混合方式は、内部混合型、内気型もしくは外気型の外部混合型、衝突型を選択することができる。洗浄液の圧力は、０．２ＭＰａ（パスカル）から０．５ＭＰａ、気体の圧力は０．３ＭＰａから１．０ＭＰａを選択することができる。洗浄ノズル２５からスプレーが広がる噴霧角度は、２０°から１３０°を選択することができる。噴霧角度が大きすぎると、打力が落ちるために好ましくない。洗浄ノズル２５の先端から除去凸版Ｗまでの距離である噴霧距離は、３０ｍｍから１００ｍｍを選択できる。噴霧距離が長過ぎると、打力が落ちるため都合が悪い。洗浄ノズル２５の直交方向Ｙのピッチは、噴霧角度と噴霧距離とに基づいて、スプレーパターンの途切れがないように設定する。
【００４４】
洗浄ノズル２５は、図２に示すように、その開口が洗浄ノズル２５における水平方向Ｘの一方側Ｘ１に位置するとともに、水平方向Ｘの一方側Ｘ１に向かうにしたがって洗浄ノズル２５が除去凸版Ｗに近づくように配置されている。洗浄ノズル２５の中心軸線と水平面Ｓとのなす角度である仰角α１は、３０°以上９０°以下が好ましく、６０°以上８０°以下がより好ましい。仰角α１を小さくしすぎると、打力が小さくなるために好ましくない。除去凸版Ｗに衝突した後の流れを作って速やかに排水するために、洗浄ノズル２５の軸線が水平面Ｓに対して若干傾斜していることが好ましい。洗浄ノズル２５にチルト角をつけて洗浄ノズル２５を配置しても良い。洗浄ノズル２５にチルト角を付けた際の、それぞれの洗浄ノズル２５が噴霧した混合流体が除去凸版Ｗに衝突したときの形状である衝突スプレーパターンとしては、直交方向Ｙに隣り合う洗浄ノズル２５の衝突スプレーパターンが、互いに離間することなく連なる。このように、洗浄ノズル２５にチルト角をつけることで、衝突スプレーパターンＰ間の隙間をなくして洗浄ムラを抑制できる。
【００４５】
前記洗浄ノズル２５を用いて除去凸版Ｗ表面に噴霧する洗浄液に関しては、インクを除去できる液体であれば特に限定はないが、環境負荷の低い液体が好ましく、一例として水、中性洗剤を含有する水、エタノールやアセトンなどの水溶性有機溶剤を含有する水を挙げることができる。また噴霧する洗浄液の温度に関しても、特に限定はないが洗浄液が水を主成分とする場合は５℃から９０℃の範囲が好ましく、さらに好ましくは２５℃から８０℃の範囲を挙げることができる。
【００４６】
送風乾燥手段６１は、洗浄ノズル２５によって洗浄液を噴きつけインクの除去をおこなう前に除去凸版Ｗ上のインクを乾燥、固化するために、送風をおこなう機構とされ、特に、熱風機構とされ、送風ノズル６２および送風機構６３とを有することができる。
送風乾燥手段６１は、除去凸版Ｗ表面に熱風を送風する機構であれば特に限定されるものではないが、噴霧ノズル方式、バーナー式、扇風式などを挙げることができ、これらの熱風送風機構を具備する各種公知公用の装置を用いることができる。
【００４７】
送風乾燥手段６１による熱風の送風に用いる気体には特に限定はないが、特に除去凸版Ｗ上に残留するインクに可燃物を含む場合は、窒素、アルゴンガスなどの不活性気体を用いることが好ましい。また熱風の温度は乾燥させる前記インク成分に応じて適宜設定すればよく、特に限定はないが、好ましくは４０℃から２００℃、さらに好ましくは６０℃から１５０℃の範囲を挙げることができる。熱風温度が４０℃以上であれば前記インク成分の乾燥を十分促進することができ、２００℃以下であれば前記除去凸版Ｗの熱による変形を抑制することができる。
【００４８】
前記熱風の送風速度に関しても特に限定はなく、除去凸版Ｗの大きさや印刷時間に応じて適宜設定することができるが、乾燥効率の観点から毎分１Ｌから１００Ｌの範囲が好ましい。
【００４９】
吸引ノズル３０及びエアナイフ３５も、所定の方向に延びる筒状に形成されている。吸引ノズル３０及びエアナイフ３５は、洗浄ノズル２５と同一の材料で形成することができる。吸引ノズル３０の先端部（端部）３１に設けられた開口３２、及び、エアナイフ３５の先端部３６に設けられた開口３７は、それぞれ除去凸版Ｗに対向する。吸引ノズル３０は、鉛直方向にほぼ沿うように配置されている。吸引ノズル３０は、図示はしないブロワ等の吸引器に接続されている。吸引ノズル３０と吸引器との間には、気体と液体とを分離するミストセパレータが設けられている。
【００５０】
吸引ノズル３０は開口３２から、前述の混合流体等を吸引する。エアナイフ３５は、洗浄ノズル２５に対する吸引ノズル３０とは反対側に配置されている。エアナイフ３５は開口３７から空気を噴出する。エアナイフ３５が空気を噴出しているときの空気の吹き出し方向がそろうように、エアナイフ３５の軸線が水平面Ｓに対して若干傾斜するようにエアナイフ３５を配置してもよい。この例では、エアナイフ３５はノズル２５とほぼ平行となるように配置され、除去凸版Ｗに対して傾斜している。洗浄後の除去凸版Ｗの乾燥は、エアナイフ３５で液切りをしながら乾燥させることができる。吸引ノズル３０が吸引した混合流体等は、洗浄液排出口５０へと送られて排出される。
【００５１】
洗浄液排出口５０はチャンバ１５を貫通し、第一の凹部１６及びチャンバ１５の外部とそれぞれ連通する。洗浄液排出口５０は、チャンバ１５の任意の箇所に設置できるが、洗浄ノズル２５から噴出する混合流体の下流側（水平方向Ｘの一方側Ｘ１）のチャンバ１５の側壁の下部に設けることが好ましい。洗浄ノズル２５に対して版ステージ１１を水平方向Ｘの両側に移動させる場合、洗浄液排出口５０はチャンバ１５の水平方向Ｘの両側に設けても片側に設けても構わないが、洗浄液が除去凸版Ｗ上に滞留しないようにすることが重要である。混合流体が噴霧される勢いが強いと、その勢いで洗浄液自身が除去凸版Ｗの外側へ排出される。しかし、一旦勢いが弱くなった洗浄液がチャンバ１５の側壁にぶつかって、再び除去凸版Ｗの上に戻ってくる場合が有る。洗浄液排出口５０を備えることで、混合流体が噴出される勢いも用いて効果的に洗浄液を排出することができる。なお、除去凸版Ｗの外側へ排出された洗浄液が、再び除去凸版Ｗの上へ戻る逆流を防止する機構を備えるとなお好ましい。
【００５２】
洗浄ノズル２５から噴霧された洗浄液が除去凸版Ｗの上に長時間滞留すると、洗浄液中に含まれるインクが除去凸版Ｗに再付着する問題が起こる。インクの汚れが除去凸版Ｗに再付着すると往々にして元のインクよりも除去が困難になるために、噴霧された洗浄液は極力速やかに除去凸版Ｗの上から除く必要がある。除去凸版Ｗの上の洗浄液を除去する吸引ノズル３０と洗浄液排出口５０とを用いることによって、洗浄液を除去凸版Ｗの上から速やかに排出し、インクが除去凸版Ｗに再付着することを防止できる。本実施形態では、チャンバ１５の天面に排気口５２を備えることが好ましい。排気口５２は、チャンバ１５を貫通し第一の凹部１６及びチャンバ１５の外部とそれぞれ連通する。このように構成することで、チャンバ１５内に飛散した洗浄液を、排気口５２を通してチャンバ１５外部に除去し、各ノズル２５、３０、３５やチャンバ１５の内面に、洗浄液の液滴が付着するのを抑えることができる。したがって、洗浄液により再び除去凸版Ｗが汚染されるのを抑制することができる。
【００５３】
カバー５５は、チャンバ１５と同一の材料で、外形が直方体で下方の面が開口する形状に形成されている。カバー５５は第二の凹部５６が除去凸版Ｗに対向する、すなわち下方に向かって開口するように配置される。カバー５５には、洗浄ノズル２５及び吸引ノズル３０が挿通される。第二の凹部５６内には、洗浄ノズル２５の先端部２６、及び吸引ノズル３０の先端部３１が配置される。
【００５４】
移動機構４０は、図３に示すように、版ステージ１１に対してノズル２５、３０、３５を一体に接続する連結部材４５を、水平方向Ｘ、直交方向Ｙ、及び、鉛直方向に平行な軸線周りの回転方向θに移動させる水平アクチュエータ４１、直交アクチュエータ４２、及び、回転アクチュエータ４３を備えている。各アクチュエータ４１、４２、４３としては、モータ、カムやギア等を組み合わせた公知の構成のものを用いることができる。アクチュエータ４１、４２、４３によるノズル２５、３０、３５の移動量は不図示のセンサにより検出される。センサの検出結果は、制御部６０に送信される。移動機構４０は通常、チャンバ１５に取り付けられるが、取り付け位置については特に問わない。
【００５５】
浄化手段２０は、洗浄排液を浄化・再生するものとされ、図１に示すように、洗浄排出液回収槽７１と、固形物除去手段７２と、有機物除去手段７３と、イオン除去手段７４と、精密ろ過手段７５と、再生洗浄液貯留槽７６と、洗浄液貯留槽７７と、洗浄液再生検出手段７８と、を有する。
【００５６】
洗浄排出液回収槽７１は、洗浄液排出口５０から排出された洗浄排出液を貯留するものとされ、排液循環ポンプＰを介して固形物除去手段７２に接続されている。
【００５７】
固形物除去手段７２は、クロスフロー式限外ろ過装置を用いて洗浄後のインクを含む洗浄排液から固形物を除去して洗浄排液を浄化・再生するものとされ、洗浄排出液中のインク成分由来の固形物を洗浄液貯留槽７７側へ透過させず、有機物除去手段７３への透過液７２ａと微粒子（固形物）を含有する濃縮液７２ｂとに分離する。濃縮液２０は洗浄排出液回収槽７１へ送られる。
なお、固形物除去手段７２の上流側に、さらに、ろ過手段７２ｃを設けることもできる。
【００５８】
本実施形態における固形物除去手段７２において、用いることができる限外ろ過装置はクロスフロー式限外ろ過装置であれば特に限定はないが、ポリエーテルスルホンや酢酸セルロースの中空糸状限外ろ過膜を多数束ねた中空糸モジュールや、限外ろ過膜の平膜を巻物状に配したスパイラルモジュールを挙げることができる。
【００５９】
ここで一般に、クロスフロー式ろ過では、図６に示すように、ろ過膜Ｆ表面に対して加圧した処理液Ｆ０を矢印Ｆ８に示すように透過させる際に、矢印Ｆ２に示すように、ろ過膜Ｆ表面に対して加圧した処理液Ｆ０を平行に流通させるものである。
これに対し、全ろ過式では、図５に示すように、ろ過膜Ｆ表面に対して矢印Ｆ８に示すように透過させる際に、加圧した処理液Ｆ０を、矢印Ｆ１に示すように、ろ過膜Ｆ表面に対して垂直に流通させるものである。全ろ過式に比べて、クロスフロー式ろ過では、ろ過膜Ｆ表面への固形物Ｆ３の堆積を抑制することができるので、安定的なろ過、精製が可能となる。
【００６０】
本実施形態における固形物除去手段７２において、用いることができるクロスフロー式限外ろ過装置の一例として、ダイセンメンブレンシステムズ株式会社製ＭＯＬＳＥＰシリーズやクラレアクア株式会社製キャラクターシリーズあるいは室町ケミカル株式会社製デザールシリーズなどを挙げることができる。
【００６１】
固形物除去手段７２において、クロスフロー式限外ろ過装置に用いられる限外ろ過膜の孔径には特に限定はないが、インクに含まれる固形物の粒子径に応じて選択すればよく、例えば粒子径２０ｎｍのナノ銀含有導電性インクを含む廃液から該ナノ銀微粒子を除去する場合は少なくとも孔径が２０ｎｍ以下、好ましくは１０ｎｍ以下の孔径を有する限外ろ過膜から成る限外ろ過装置を選定するとよく、画分子量３００００の場合、孔径は３-５nm程度とすることができる。
【００６２】
固形物除去手段７２において、クロスフロー式限外ろ過装置によりインク成分を含む洗浄排液を処理することにより、インク成分由来の固形物を含む濃縮液７２ｂと、限外ろ過装置の限外ろ過膜を透過した固形物を含まない透過液７２ａに分離することができる。固形物を含む濃縮液７２ｂは洗浄排出液回収槽７１に循環することにより、濃縮液７２ｂが限外ろ過装置により連続的にろ過精製されるため、濃縮液７２ｂ中の固形物を濃縮して、最終的に廃棄する液量を大幅に低減することができる。また銀インクなどの有価成分を含有するインクを含む廃液を限外ろ過装置で濃縮することにより、廃液中の有価成分の分離回収が極めて容易とすることができる。
【００６３】
有機物除去手段７３は、固形物除去手段７２からの透過液７２ａを、活性炭を用いて洗浄排液中の有機物を除去して洗浄排液を浄化・再生するものとされる。
固形物除去手段７２のクロスフロー式限外ろ過装置で処理して固形物を除去した透過液７２ａを、さらに有機物除去手段７３としての活性炭充填装置で処理することにより、透過液７２ａ中に溶解、あるいは分散している洗浄排液中のインク由来成分を吸着除去することができる。この活性炭充填装置で除去できるインク由来成分の一例として、ノニオン性界面活性剤、ポリマーなどの有機化合物を挙げることができる。
【００６４】
イオン除去手段７４は、イオン交換樹脂を用いて洗浄排液中のイオンを除去して洗浄排液を浄化・再生するものとされる。
固形物除去手段７２および有機物除去手段７３で処理して固形物を除去しインク由来成分を吸着除去した透過液をさらに、イオン除去手段７４のイオン交換樹脂充填装置で処理することにより、透過液中に溶解している廃液中のイオン性物質、塩類を除去することができる。これらのインク由来の成分の一例として、塩化物イオン、硝酸イオン、硫酸イオン、およびこれらの陰イオンやカルシウムイオン、マグネシウムイオン、さらにインク成分由来の各種陽イオンを挙げることができる。
【００６５】
精密ろ過手段７５は、前段のイオン交換樹脂からのイオン交換樹脂片（樹脂固形物）が流出した場合に、その固形物を除去できればよく、精密ろ過膜の材質に関しては特に限定はなく、公知公用のものを使用することができ、一例としてポリプロピレン、ポリスルホン、酢酸セルロース、ポリビニリデンフロライド、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエーテルスルホン製の各種ろ過膜を挙げることができる。またろ過膜の孔径に関しては精密ろ過膜として一般に用いられている０．１ｕｍ〜数十ｕｍの範囲にある各種孔径のろ過膜を用いることができる。なお、精密ろ過手段７５を設けないこともできる。
【００６６】
再生洗浄液貯留槽７６は、精密ろ過手段７５を用いて洗浄排液中のインク由来成分を除去した透過液を一時貯留するものとされる。なお、再生洗浄液貯留槽７６を設けずに、精密ろ過手段７５から排出された処理液が直接洗浄液貯留槽７７に流入するようにすることもできる。
【００６７】
洗浄液再生検出手段７８は、再生洗浄液貯留槽７６の下流位置に設けられ、再生洗浄液貯留槽７６から排出された液において、インク由来成分が充分除去されているかどうかを検出するものとされる。洗浄液再生検出手段７８によって、インク由来成分が充分除去されていないことが検出された場合には、再生洗浄液貯留槽７６から排出される液が洗浄液貯留槽７７に流入しないように、弁を閉じるように制御信号が出力される。
洗浄液再生検出手段７８としては、インクの固形物由来の着色を検出評価する手段、導電率計でインクのイオン成分の濃度を検出評価する手段とすることができる。
【００６８】
なお、再生洗浄液貯留槽７６は、バルブを介して洗浄排出液回収槽７１から固形物除去手段７２へと至る管路に接続されており、再生洗浄液貯留槽７６内に貯留された再生洗浄液を浄化する場合には、固形物除去手段７２へと再生洗浄液を送ることが可能となっている。
【００６９】
洗浄液貯留槽７７は、ポンプ６９を介して、洗浄液を高圧にして洗浄ノズル２５に供給可能とされている。
なお、洗浄液貯留槽７７は、バルブを介して洗浄排出液回収槽７１から固形物除去手段７２へと至る管路に接続されており、洗浄液貯留槽７７内に貯留された洗浄液を浄化する場合には、固形物除去手段７２へと洗浄液を送ることが可能となっている。
【００７０】
版洗浄手段１０において除去凸版Ｗを洗浄し、インク由来成分を含有した洗浄排液は、浄化手段２０で処理されることで浄化・再生して洗浄液貯留槽７７に送り、洗浄液として再利用することができる。
【００７１】
固形物除去手段７２における工程は、クロスフロー式限外ろ過装置で容易かつ迅速に透過液７２ａと濃縮液７２ｂとに分離可能であり、印刷工程時間内に洗浄排液浄化処理を完了させることができる。さらに透過液７２ａを活性炭充填装置７３、イオン交換樹脂充填装置７４で処理することにより、洗浄液としてさらに高純度化することができ、連続印刷回数を増大させることができる。
【００７２】
次に、以上のように構成された版洗浄装置１の版洗浄について説明する。
図４は、反転オフセット印刷法について示した工程図である。
【００７３】
反転オフセット印刷法においては、剥離性表面を有するブランケットＢ１に、インクを塗布してインク塗膜Ｂ２を形成した後、インクを構成する溶剤の少なくとも一部を蒸発させ、ブランケットＢ１表面にインク塗膜Ｂ２ａを形成（インク塗膜形成工程）し、そのインク塗膜Ｂ２ａの形成されたブランケットＢ１ｂを除去凸版Ｗに密着させてパターンに不要な部分Ｂ２ｃを除去（除去工程）した後、ブランケットＢ１ｃを被印刷基材Ｂ５に密着させてインク塗膜Ｂ２ｂを被印刷基材Ｂ５に転写することで、目的とするパターンを有する印刷物Ｂ１ｄを得る（転写工程）。
【００７４】
前記除去工程により、インクが付着した除去凸版Ｗが発生する。
【００７５】
連続的に印刷物を製造するためには、次の印刷までに除去凸版Ｗ上の凸部分に付着したインクＢ２ｃの全てを除去する必要がある。ここで除去凸版Ｗ上にインクが残留すると、次回以降の印刷において適切な除去や転写が実施できず、印刷物にパターン欠陥を生じる恐れがある。
本実施形態では、図１〜図３に示すように、洗浄ノズル２５を用いて洗浄液をインクが付着した除去凸版Ｗに噴きつけることにより、除去凸版Ｗの凸部分に付着したインクを除去する。この工程を版洗浄工程とする。
【００７６】
以下では、版ステージ１０に対する洗浄ノズル２５の移動について記載するが、洗浄ノズル２５と一体となって吸引ノズル３０、エアナイフ３５及び連結部材４５も移動する。
【００７７】
本実施形態の版洗浄装置１は、凸部にインクが転写された除去凸版Ｗの洗浄に用いる。版洗浄手段１０においては、使用後の除去凸版Ｗを固定した版ステージ１１を、所定の洗浄位置に移動させる。版ステージ１１に保持された版Ｗに対してチャンバ１５を下降させて、版ステージ１１又は除去凸版Ｗとパッキン２１との間を水密に封止（密閉）する。チャンバ１５とパッキン２１とを用いることによって、洗浄液の漏洩や飛沫を防ぎ、製品不良や装置故障を防ぐことができる。
【００７８】
ここで、必要に応じて洗浄ノズル２５から洗浄液を噴きつける前に、送風乾燥手段６１の熱風機構を用いて、除去凸版Ｗ上のインクを乾燥、固化する。
【００７９】
洗浄ノズル２５から、空気と水とを混合した混合流体を噴霧している間に、制御部６０は、移動機構４０の水平アクチュエータ４１を駆動させて、矢印Ａ１で示すように版ステージ１１に対して洗浄ノズル２５を水平方向Ｘの一方側Ｘ１に相対的に移動させる。
【００８０】
このとき、制御部６０は、洗浄ノズル２５が混合流体を除去凸版Ｗに噴霧する位置が、除去凸版Ｗの水平方向Ｘの他方側Ｘ２から水平方向Ｘの一方側Ｘ１に移動するように、移動機構４０により版ステージ１１に対して洗浄ノズル２５を移動させる。すなわち、除去凸版Ｗに対して洗浄ノズル２５が移動する方向である水平方向Ｘの一方側Ｘ１に洗浄ノズル２５の先端部２６が向くように、洗浄ノズル２５が傾斜している。このように構成することで、洗浄ノズル２５から噴霧する混合流体により、除去凸版Ｗにおける既に洗浄された部分に洗浄液が流れるのが防止される。
カバー５５の第二の凹部５６内には洗浄ノズル２５の先端部２６及び吸引ノズル３０の先端部３１が配置される。したがって、洗浄ノズル２５の開口２７から噴霧された混合流体は、第二の凹部５６の内面に当たり上方にはいきにくい。このようにして、除去凸版Ｗを水平方向Ｘの全長にわたり洗浄する。
【００８１】
制御部６０は直交アクチュエータ４２を駆動させて、版ステージ１１に対する洗浄ノズル２５の直交方向Ｙの位置を直交方向Ｙに隣り合う洗浄ノズル２５のピッチの半分だけずらす。水平アクチュエータ４１を駆動させて、版ステージ１１に対して洗浄ノズル２５を水平方向Ｘの他方側Ｘ２に移動させる。このようにして、除去凸版Ｗを水平方向Ｘの全長にわたり洗浄し、製品の品質の低下を招く不要なインクを除去する。除去凸版Ｗの上に残った洗浄液を吸引ノズル３０で除去したのちに、エアナイフ３５で液切りと乾燥を行う。除去凸版Ｗに対してチャンバ１５を上昇させて、除去凸版Ｗからチャンバ１５を離脱させて洗浄が完了する。なお、吸引ノズル３０による吸引動作は、この例のように洗浄ノズル２５による噴霧の終了後に行ってもよいが、洗浄ノズル２５で混合流体を噴霧している最中にも行うことが、洗浄液の飛散を抑える点で好ましい。
【００８２】
本実施形態の版洗浄手段１０によれば、カバー５５の第二の凹部５６内には洗浄ノズル２５の先端部２６及び吸引ノズル３０の先端部３１が配置される。したがって、除去凸版Ｗからインクを除去するときに、洗浄ノズル２５から噴霧された混合流体が第二の凹部５６の内面に当たるため、洗浄液の飛散を抑制することができる。各ノズル２５、３０、３５やチャンバ１５の内面に、洗浄液の液滴が付着するのを抑えることができる。除去凸版Ｗに洗浄液含む混合流体を強力に噴霧する物理的作用により、インクを除去凸版Ｗの表面から剥離することができる。また、洗浄する除去凸版Ｗをチャンバ１５で密閉するため、強力な２流体スプレーを使用したときに洗浄液が飛散して製品や製造機器の汚染を防止することができる。
【００８３】
本実施形態の版洗浄手段１０では印刷機上で版の洗浄を行ったため、版を取り外して洗浄する従来の機側洗浄と比較して、印刷後すぐに洗浄するので、洗浄しやすく、毎回同じ版を用いるので、版のパターンバラつきがなく、印刷物のライン／スペースの寸法精度が良く、毎回同じ版を用いるので、版の厚さのバラつきがなく、印刷ごとの印圧の変動がなく印刷精度（長寸法精度）が良く、１枚の版で印刷できるので、製版コストが低く、版を版ステージから取り外さないため、印刷精度（長寸法精度）が良いというメリットが得られた。
【００８４】
本実施形態の版洗浄手段１０では、洗浄液排出口５０から排出された洗浄排出液は、洗浄排出液回収槽７１に回収され、排液循環ポンプＰにより、浄化手段２０に送られる。
【００８５】
浄化手段２０においては、固形物除去手段７２に設置したクロスフロー式限外ろ過装置により、洗浄排液中のインク成分由来の固形物を有機物除去手段７３側へ透過させず、再生洗浄液貯留槽７６側への透過液７２ａと微粒子を含有する濃縮液７２ｂとに分離する。濃縮液７２ｂは洗浄排出液回収槽７１へ送る。
【００８６】
固形物除去手段７２のクロスフロー式限外ろ過装置によりインク成分を含む廃液を処理することにより、インク成分由来の固形物を含む濃縮液７２ｂと該限外ろ過装置の限外ろ過膜を透過した固形物を含まない透過液７２ａに分離することができる。固形物を含む濃縮液７２ｂが洗浄排出液回収槽７１と固形物除去手段７２との間を循環することにより、濃縮液および洗浄排液が限外ろ過装置により連続的にろ過精製されるため、濃縮液および洗浄排液中の固形物を濃縮して、最終的な廃液量を大幅に低減することができる。また銀インクなどの有価成分を含有するインクを含む廃液を濃縮して、有価成分の分離回収を容易にすることができる。
【００８７】
固形物除去手段７２で処理して固形物を除去した透過液７２ａは、有機物除去手段７３における活性炭充填装置で処理することにより、透過液中に溶解、あるいは分散している廃液中のインク由来成分を吸着除去する。
【００８８】
有機物除去手段７３で処理してインク由来成分を吸着除去した処理液は、さらに、イオン除去手段７４のイオン交換樹脂充填装置で処理することにより、透過液中に溶解している廃液中のイオン性物質、塩類を除去する。
【００８９】
イオン除去手段７４で処理した処理液は、精密ろ過手段７５を介して、再生洗浄液貯留槽７６に貯留される。再生洗浄液貯留槽７６に貯溜された処理液は、洗浄液再生検出手段７８によって、浄化処理状態を検出されて、洗浄液貯留槽７７と送られ、版洗浄手段１０へと供給されて再利用される。洗浄液再生検出手段７８によって、再生洗浄液貯留槽７６から供給された処理液（再生洗浄液）が所定の基準に満たない場合には、バルブを介して固形物除去手段７２へと再生洗浄液を送るようになっている。
【００９０】
本実施形態の浄化手段２０においては、送風乾燥手段６１によって、次の版洗浄工程におけるインクの除去を好適におこなうことを可能とするとともに、版洗浄手段１０によって、除去凸版Ｗからインクの不要部分を除くとともに、固形物除去手段７２のクロスフロー式限外ろ過装置を用いて洗浄後のインクを含む洗浄排液から固形物を除去した後に、有機物除去手段７３の活性炭を用いて洗浄排液中の有機物を除去した後に、イオン除去手段７４のイオン交換樹脂を用いて洗浄排液中のイオンを除去することにより、固形物、有機物を除去した後にイオンを除去可能として、排出された洗浄排液を浄化・再生することで、除去凸版Ｗからインクの不要部分を効率よく除去するとともに、排出された洗浄排液を浄化して、洗浄排液を再利用可能とすることができ、最終的に廃棄する液量を削減して環境負荷を低減させることが可能となる。
【実施例】
【００９１】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲は以下の実施例に限定されるものではない。
【００９２】
＜実施例１＞
（印刷準備）
ブランケットとしては、約１２０μｍ厚みのポリエステルフィルムに２００μｍ厚みのシリコーンゴムを積層した３３０ｍｍ×４７０ｍｍ角のものを用いた。インクとしては銀ナノ粒子分散導電性インク（銀の固形分として１５％)を用いた。また、被印刷基材として３００ｍｍ×４００ｍｍ角で１．１ｍｍ厚みのガラス板を使用した。
【００９３】
（印刷工程（インク塗膜形成、除去、および転写工程））
１）  前記ブランケットに前記導電性インクをスリットダイコーターにより塗布した後、室温で６０秒間、乾燥後、前記ブランケット上にインク塗膜を形成した。
【００９４】
２）  インク塗膜が形成されたブランケットをウェットエッチング法により、線幅が４０μｍ、長さが３０ｃｍ、深さ８μｍの線状のパターン（以下、細線）が６００本、３００μｍ間隔で平行に形成された除去凸版に均一に密着させ、該除去凸版凸部に密着した前記インク塗膜をブランケットから除去することにより、前記細線が形成されたインク塗膜をブランケット上に得た。
【００９５】
３）  ブランケット上の前記細線が形成されたインク塗膜を、前記ガラス板上に均一に密着させることで、前記インク塗膜をブランケットからガラス板に転写し、前記細線が形成された印刷物を得た。この間に要した時間は約４分であった。
【００９６】
（版洗浄工程）
続いて、前記インク塗膜が付着した除去凸版に、株式会社いけうち製２流体ノズルＶＶＥＡ６０２０Ｓ３０３を用いて洗浄水を噴霧し、前記除去凸版上のインクを除去した。ここで前記洗浄液には５０℃に温度調整された洗浄液供給槽に貯蔵した２０Ｌのイオン交換水（導電率０．５μＳ／ｃｍ）を用い、前記２流体ノズルに供給する圧縮空気の圧力は０．７ＭＰａ、洗浄水の水量は毎分６Ｌで前記除去凸版上を約４０秒かけて３往復することにより、除去凸版表面を洗浄した。さらに版上に残留する洗浄水を、エアナイフを用いて送風乾燥し、前記除去凸版の再生を完了した。この間に要した時間は約２分であった。
【００９７】
続いて、前記版洗浄で生じた約４Ｌの洗浄排液を洗浄排出液回収槽７１に回収し、循環ポンプ６９により、固形物除去手段７２としてのダイセン・メンブレン・システムズ株式会社製クロスフロー式限外ろ過モジュールＭＯＬＳＥＰ ＦＡ０３−ＦＣ−ＦＵＳ０３８２（分画分子量３００００）に送り、濃縮液７２ｂと透過液７２ａとに分離した。濃縮液は洗浄排出液回収槽７１に再送液し、前記限外ろ過モジュールで循環処理した。透過液７２ａは洗浄液供給槽（洗浄液貯留槽）７７に送液し、再利用可能な洗浄液とした。洗浄排出液の浄化処理は約４分で完了した。
【００９８】
前記印刷工程および版洗浄工程を２０回連続して繰り返して、前記細線が形成された印刷物を作製した。なお、この間、前記洗浄液１０Ｌは一度も入れ替えることなく、前記限外ろ過モジュールで浄化、精製して、洗浄液として繰り返し使用した。
【００９９】
（洗浄液の浄化度評価）
版洗浄に使用した洗浄液の純度を版洗浄工程後に、笠原理化工業株式会社製の色度計ＴＣＲ−５Ｚ、およびＥＵＴＥＣＨ ＩＮＳＴＲＵＭＥＮＴＳ社製の導電率計ＣｙＢｅｒＳｃａｎ ＣＯＮ４００を用いて毎回、検査した。前記色度計でインクの固形物由来の着色を評価し、前記導電率計でインクのイオン成分の濃度を評価した。
その結果を表１に示す。
【０１００】
【表１】
0006493797.tif 000002
表１に示すように、２０回の連続印刷で洗浄液の着色は全く見られなかった。
【０１０１】
＜実施例２＞
実施例１と同様に、（印刷準備）（印刷工程（インク塗膜形成、除去、および転写工程））をおこなった。
【０１０２】
版洗浄工程において、前記クロスフロー式限外ろ過モジュールで固形物を除去した後、オルガノ株式会社製イオン交換樹脂充填装置Ｇ−１０Ｃで処理して透過液を得る以外は、実施例１と同様にして、印刷、版洗浄、排液浄化を２０回繰り返し、排液の浄化度評価、印刷物の細線のパターン精度評価を実施した。
その結果を表２に示す。
【０１０３】
【表２】
0006493797.tif 000003
表２に示すように、洗浄液の着色および導電率の増大が見られず、断線数は１個以下、断線率は細線６００本に対して２０回連続平均で０．０２５％、ショートは発生せず、無欠陥品の歩留まりは８５％であった。
【０１０４】
＜実施例３＞
実施例１と同様に、（印刷準備）（印刷工程（インク塗膜形成、除去、および転写工程））をおこなった。
【０１０５】
版洗浄工程において、除去凸版上のインクに温度８０℃の窒素を毎分２０Ｌの風量で送風乾燥し、しかる後に３５℃の水を毎分４Ｌ、エア圧０．５ＭＰａで２流体ノズルを用いて版上のインクを除去する以外は実施例１と同様にして、印刷、版洗浄、排液浄化を２０回繰り返し、排液の浄化度評価、印刷物の細線のパターン精度評価を実施した。
その結果を表３に示す。
【０１０６】
【表３】
0006493797.tif 000004
表３に示すように、断線数は１個以下、断線率は細線６００本に対して２０回連続平均で０．０１７％、ショートは発生せず、無欠陥品の歩留まりは９０％であった。また排液浄化に要する時間は約３分であった。
＜実施例４＞
実施例１と同様に、（印刷準備）（印刷工程（インク塗膜形成、除去、および転写工程））をおこなった。
【０１０７】
版洗浄工程において、除去凸版上のインクに温度１００℃の窒素を毎分２０Ｌの風量で送風乾燥し、しかる後に３０℃の水を毎分３Ｌ、エア圧０．４ＭＰａで２流体ノズルを用いて版上のインクを除去する以外は実施例３と同様にして、印刷、版洗浄し、イオン交換樹脂充填装置で処理した透過液をさらにアドバンテック東洋製活性炭カートリッジフィルターＴＣＣ−ＷＨ−Ｓ０ＣＰで処理する以外は、実施例２と同様に排液浄化して、印刷、版洗浄、廃液浄化を２０回繰り返し、排液の浄化度評価、印刷物の細線のパターン精度評価を実施した。
その結果を表４に示す。
【０１０８】
【表４】
0006493797.tif 000005
表４に示すように、洗浄液の着色および導電率の増大が見られず、断線数は１個以下、断線率は細線６００本に対して２０回連続平均で０．００８％、ショートは発生せず、無欠陥品の歩留まりは９５％であった。また排液浄化に要する時間は約３分であった。
【０１０９】
＜比較例１＞
実施例１と同様に、（印刷準備）（印刷工程（インク塗膜形成、除去、および転写工程））をおこなった。
【０１１０】
版洗浄工程において、クロスフロー式限外ろ過モジュールに替えて、アドバンテック東洋株式会社製精密ろ過膜ＴＣＲ−０２０（ろ過精度：０．２μｍ）を用いる以外は、実施例１と同様にして、印刷、版洗浄、排液浄化を実施したところ、印刷毎に洗浄液の着色が増大し、印刷３回目で導電率が測定限界を超え、印刷４回目で色度が測定限界を超えたため、連続印刷を中止した。
その結果を表５に示す。
【０１１１】
【表５】
0006493797.tif 000006
表５に示すように、また印刷物の細線のパターン精度も極めて低く、断線およびショート数は印刷４回目でそれぞれ３５個、２１１個と多数検出された。
【０１１２】
＜比較例２＞
実施例１と同様に、（印刷準備）（印刷工程（インク塗膜形成、除去、および転写工程））をおこなった。
【０１１３】
版洗浄工程において、クロスフロー式限外ろ過モジュールに替えて、アドバンテック東洋株式会社製精密ろ過膜ＴＣＦ−０１０（ろ過精度：０．１μｍ）を用いる以外は、実施例３と同様にして、印刷、版洗浄、排液浄化を実施したところ、印刷毎に洗浄液の着色が増大し、印刷４回目で導電率が測定限界を超えた。印刷６回目の排液浄化で精密ろ過膜が閉塞したため、連続印刷を中止した。
その結果を表６に示す。
【０１１４】
【表６】
0006493797.tif 000007
表６に示すように、また印刷物の細線のパターン精度も極めて低く、断線およびショート数は印刷６回目でそれぞれ３２個、１０８個と多数検出された。
【産業上の利用可能性】
【０１１５】
本発明の活用例として、フレキシブルデバイスにおける反転オフセット印刷用の除去凸版の洗浄に活用することが可能である。
【符号の説明】
【０１１６】
１…版洗浄装置
１０…版洗浄手段
１１…版ステージ
２０…浄化手段
２５…洗浄ノズル
３０…吸引ノズル
３５…エアナイフ（空気噴出ノズル）
５０…洗浄液排出口
６１…送風乾燥手段
６２…送風ノズル
６３…送風機構
６９…ポンプ
６５…圧縮装置
６９…洗浄液供給ポンプ
７１…洗浄排出液回収槽
７２…固形物除去手段
７２ａ…透過液
７２ｂ…濃縮液
７２ｃ…ろ過手段
７３…有機物除去手段
７４…イオン除去手段
７５…精密ろ過手段
７６…再生洗浄液貯留槽
７７…洗浄液貯留槽
７８…洗浄液再生検出手段
Ｂ１，Ｂ１ａ，Ｂ１ｂ，Ｂ１ｃ…ブランケット
Ｂ１ｄ…印刷物
Ｂ２，Ｂ２ａ，Ｂ２ｂ，Ｂ２ｃ…インク塗膜
Ｂ５…被印刷基材
Ｆ…限外ろ過膜（ろ材）
Ｆ０…処理液（インク含有排液）
Ｆ１，Ｆ２…透過液の流れ
Ｆ３…インクの固形物
Ｆ８…透過液の流れ方向
Ｐ…排液循環ポンプ
Ｗ…除去凸版
【図１】
0006493797.tif 000008
【図２】
0006493797.tif 000009
【図３】
0006493797.tif 000010
【図４】
0006493797.tif 000011
【図５】
0006493797.tif 000012
【図６】
0006493797.tif 000013