(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
粉体を貯留するタンク（１０）と、
前記タンクの底に設けられ、粉体を通過させる孔（１６）を有する底板（１１）と、
前記底板の孔の下側に設けられ、前記底板側から下側に向かい外径が次第に大きくなるように形成されている傾斜部（４０）と、
前記傾斜部の下端部の外周に沿って延びる平面部（５１）、及び、前記平面部から下方へ凹む溝部（５２）を有し、前記傾斜部の外壁に沿って落下する粉体を受けるプレート（５０）と、
前記プレートに対して相対移動可能に設けられ、前記平面部および前記溝部の上に一定の高さよりも高く堆積した粉体を前記平面部の外側へ移動し、前記平面部および前記溝部に堆積した粉体を一定の高さに揃えるスクレーパ（８０，８１，８２，８３）と、
前記プレートが前記スクレーパに対して相対移動する方向（Ａ）において前記スクレーパよりも前側の位置で前記プレートの前記溝部に溜まった粉体を吸引する吸引口（７４）、および、前記吸引口から吸引された粉体を排出する排出口（７５）を有し、前記スクレーパと共に前記プレートに対して相対移動可能に設けられるエジェクタ（７２）と、を備える粉体供給装置。
【請求項２】
前記エジェクタの前記吸引口と前記スクレーパとの間で、前記プレートに対して相対移動可能、且つ、前記溝部の深さ方向に往復移動に可能に設けられ、前記溝部の断面積を調整可能な調整棒（８４）をさらに備える請求項１に記載の粉体供給装置。
【請求項３】
前記エジェクタの前記吸引口と前記調整棒との間で、前記プレートに対して相対移動可能に設けられ、前記平面部および前記溝部の上に堆積した粉体を一定の高さに揃える前側スクレーパ（８６）をさらに備える請求項２に記載の粉体供給装置。
【請求項４】
前記スクレーパは、前記スクレーパと前記プレートとが相対移動する方向に対し、斜めに設けられているものである請求項１〜３のいずれか一項に記載の粉体供給装置。
【請求項５】
前記スクレーパは、前記スクレーパと前記プレートとが相対移動する方向に複数個設けられるものであり、
前記スクレーパに対し前記プレートが移動する方向の前側に位置する所定の前記スクレーパと前記平面部との距離は、前記スクレーパに対し前記プレートが移動する方向の後側に位置する他の前記スクレーパと前記平面部との距離よりも短いものである請求項１〜４のいずれか一項に記載の粉体供給装置。
【請求項６】
前記エジェクタの前記吸引口に対し前記スクレーパとは反対側に設けられ、前記溝部に挿入されて、前記溝部の深部に堆積する粉体を前記溝部（５２）から排除する溝スクレーパ（８７）をさらに備える請求項１〜５のいずれか一項に記載の粉体供給装置。
【請求項７】
前記プレートは、円盤状に形成されたものであり、前記平面部の径方向内側に粉体を落下させる落下孔（５３）を有する請求項１〜６のいずれか一項に記載の粉体供給装置。
【請求項８】
前記エジェクタおよび前記スクレーパは、粉体排出部（７０）を構成するものであり、
前記粉体排出部は、前記プレートの周方向に複数個設けられている請求項２〜７のいずれか一項に記載の粉体供給装置。
【請求項９】
前記底板の孔の上に設けられる網部（１７）と、
前記タンクの内側で前記網部に摺接すると共に、前記網部の上を移動可能に設けられた板ばね部（２２）と、をさらに備える請求項１〜８のいずれか一項に記載の粉体供給装置。
【請求項１０】
前記底板を振動させる振動発生部（３２）をさらに備える請求項１〜９のいずれか一項に記載の粉体供給装置。
【請求項１１】
前記タンクの内側で移動可能に設けられ、前記タンク内の粉体を攪拌する攪拌棒（２６，２７）をさらに備える請求項１〜１０のいずれか一項に記載の粉体供給装置。
【請求項１２】
タンクに粉体を貯留する貯留工程（Ｓ１）と、
前記タンクの底に設けられた底板の孔から、その孔の下側に設けられた傾斜部の外壁へ粉体を落下させる落下工程（Ｓ４）と、
前記傾斜部の外壁に沿って落下してプレートの平面部および溝部の上に一定の高さよりも高く堆積した粉体をスクレーパにより前記平面部の外側へ移動し、前記平面部および前記溝部の上に堆積した粉体を一定の高さに揃える切り揃え工程（Ｓ５）と、
前記プレートとエジェクタとを相対移動し、前記プレートの前記溝部に溜まった粉体を前記エジェクタの吸引口から吸引し、排出口から排出する排出工程（Ｓ６）と、を含む粉体供給方法。
【請求項１３】
前記プレートと前記エジェクタとが相対移動する速度を調整する速度調整工程（Ｓ２）をさらに含む請求項１２に記載の粉体供給方法。
【請求項１４】
前記エジェクタの前記吸引口と前記スクレーパとの間で前記溝部の深さ方向に往復移動可能に設けられた調整棒の前記溝部に挿入される深さを調整する溝容積調整工程（Ｓ３）をさらに含む請求項１２または１３に記載の粉体供給方法。
【請求項１５】
粉体排出部は、前記エジェクタ、前記スクレーパおよび前記調整棒を含んで構成され、前記プレートの周方向に複数個設けられているものであり、
前記溝容積調整工程は、複数の前記粉体排出部が備えるそれぞれの前記調整棒が前記溝部に挿入される深さを前記調整棒ごとに調整するものである請求項１４に記載の粉体供給方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、粉体供給装置および粉体供給方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、加工対象物に粉体を供給する粉体供給装置が知られている。
特許文献１に記載の粉体供給装置は、粉体を貯留するタンクの底に設けた孔から、粉体を回転円盤に落下させ、その回転円盤の堆積面に堆積した粉体の上面を板状のカッタープレートで一定に揃えた後、その粉体を回転円盤の外周に設けた排出口から排出している。これにより、この粉体供給装置は、排出口から加工対象物に対し、粉体を連続して供給することが可能である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許第２６５３５３１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１に記載の粉体供給装置が備える回転円盤には、堆積面の径方向内側に円錐状の突起が設けられ、堆積面の径方向外側に外周ガイドが設けられている。そのため、回転円盤の堆積面に堆積した粉体は、回転円盤の回転動作と共に、堆積面、突起、外周ガイド及びカッタープレートに挟まれ、圧縮されることが考えられる。その場合、カッタープレートによって上面の高さが一定に揃えられた粉体は、その体積が一定であっても、密度にばらつきが生じるため、排出口から排出される粉体の排出量のばらつきが大きくなるおそれがある。
【０００５】
また、この粉体供給装置は、堆積面とカッタープレートの下面との距離が固定されているので、回転円盤の回転速度を調整する以外に、排出口から排出される排出量を変える手段を有していない。
さらに、この粉体供給装置は、回転円盤の外周の一か所のみに粉体の排出口が設けられている。そのため、複数の加工対象物に対して粉体を供給する場合、その複数の加工対象物の数に対応する数の粉体供給装置が必要となる。したがって、複数の粉体供給装置を備えた設備が大型化すると共に、製造コストも増大することが懸念される。
【０００６】
本発明は、上述の点に鑑みてなされたものであり、ばらつきの少ない安定した量の粉体を排出可能な粉体供給装置および粉体供給方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
第１発明の粉体供給装置は、タンク、底板、傾斜部、プレート、スクレーパおよびエジェクタを備える。タンクは、粉体を貯留する。底板は、タンクの底に設けられ、粉体を通過させる孔を有する。傾斜部は、底板の孔の下側に設けられ、底板側から下側に向かい外径が次第に大きくなるように形成されている。プレートは、傾斜部の下端部の外周に沿って延びる平面部、及び、その平面部から下方へ凹む溝部を有し、傾斜部の外壁に沿って落下する粉体を受ける。スクレーパは、プレートに対して相対移動可能に設けられ、平面部および溝部の上に一定の高さよりも高く堆積した粉体を平面部の外側へ移動し、平面部および溝部に堆積した粉体を一定の高さに揃える。エジェクタは、プレートがスクレーパに対して相対移動する方向においてスクレーパよりも前側の位置でプレートの溝部に溜まった粉体を吸引する吸引口、および、その吸引口から吸引された粉体を排出する排出口を有し、スクレーパと共にプレートに対して相対移動可能に設けられる。
【０００８】
これにより、スクレーパは、平面部および溝部の上に一定の高さよりも高く堆積した粉体を平面部の外側へ移動するので、平面部および溝部の上に堆積した粉体が圧縮されることなく、一定の高さに揃えられると共に、溝部の内側にほぼ一定の密度の粉体が留められる。したがって、粉体供給装置は、エジェクタの吸入口から吸引され、排出口から排出される粉体をばらつきの少ない安定した量にすることができる。
【０００９】
第２発明は、粉体供給方法の発明である。この粉体供給方法は、貯留工程、落下工程、切り揃え工程および排出工程を含む。貯留工程では、タンクに粉体を貯留する。落下工程では、タンクの底に設けられた底板の孔から、その孔の下側に設けられた傾斜部の外壁へ粉体を落下させる。切り揃え工程では、傾斜部の外壁に沿って落下してプレートの平面部および溝部の上に一定の高さよりも高く堆積した粉体をスクレーパにより平面部の外側へ移動し、平面部および溝部に堆積した粉体を一定の高さに揃える。排出工程では、プレートとエジェクタとを相対移動し、プレートの溝部に溜まった粉体をエジェクタの吸引口から吸引し、排出口から排出する。
【００１０】
これにより、切り揃え工程の際、スクレーパは、平面部および溝部の上に一定の高さよりも高く堆積した粉体を平面部の外側へ移動するので、平面部および溝部の上に堆積した粉体が圧縮されることなく、一定の高さに揃えられると共に、溝部の内側にほぼ一定の密度の粉体が留められる。したがって、この粉体供給方法では、排出工程において、エジェクタの吸入口から粉体を吸引し、排出口からばらつきの少ない安定した量の粉体を排出することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の一実施形態による粉体供給装置の断面図である。
【図２】図１のＩＩ−ＩＩ線の部分断面図である。
【図３】図１のＩＩＩ−ＩＩＩ線の部分断面図である。
【図４】図１のＩＶ方向の矢視図である。
【図５】図１のＶ−Ｖ線の断面図である。
【図６】図５のＶＩ−ＶＩ線の断面図である。
【図７】粉体供給装置により粉体が供給される加工対象物の模式図である。
【図８】一実施形態による粉体供給方法のフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明の実施形態を図面に基づき説明する。
（一実施形態）
本発明の一実施形態を図１〜図８に示す。本実施形態の粉体供給装置１は、例えば金属製の板材などの加工対象物２（図７参照）に対し、安定した量の粉体を連続して供給するものである。粉体供給装置１が供給する粉体として、溶射に使用されるフラックスなどが例示される。
【００１３】
図１に示すように、粉体供給装置１は、タンク１０、底板１１、傾斜部４０、プレート５０および粉体排出部７０などを備えている。
タンク１０は、筒状に形成されている。タンク１０の底には、底板１１が設けられている。タンク１０と底板１１との間には、環状の弾性部材により形成されたパッキン１２が設けられている。これにより、タンク１０は、その内側に粉体を貯留することが可能である。
タンク１０の内側には、粉体の量を検出するセンサ１３が設けられている。そのセンサ１３の信号は、制御装置１４に伝送される。制御装置１４は、タンク１０内に貯留されている粉体の量が一定量より少なくなると、粉体格納部１５からパイプ１５１を通じてタンク１０に粉体を供給する。
【００１４】
タンク１０の底に設けられた底板１１は、粉体を通過させることの可能な複数の孔１６を有する。複数の孔１６は、底板１１の下に設置される傾斜部４０の径外方向の外壁に対応する領域に設けられている。また、複数の孔１６は、底板１１の下に粉体排出部７０が設置されている場所を除いた領域に設けられている。
【００１５】
図１及び図２に示すように、底板１１の上には、網部１７が設けられている。網部１７は、底板１１の孔１６を覆うように設けられている。
タンク１０の内側には、シャフト１８が設けられている。このシャフト１８に対し、第１モータ１９の発生するトルクがベルト２０を経由して伝達されると、シャフト１８は軸周りに回転する。なお、ベルト２０を経由することなく、第１モータ１９とシャフト１８とを直結して駆動する構成としてもよい。
シャフト１８の端部には径方向に延びるアーム２１が設けられている。そのアーム２１に、板ばね部２２が取り付けられている。板ばね部２２は、アーム２１に取り付けられる取付部２３と、その取付部２３からアーム２１の回転方向後側に斜めに延びる傾斜部２４と、網部１７に対し面接触又は線接触する摺接部２５とが一体に形成されている。シャフト１８が軸周りに回転すると、板ばね部２２が有する摺接部２５は、網部１７に摺接しつつ、網部１７の上を移動する。
【００１６】
また、シャフト１８の軸方向の途中には、第１攪拌棒２６と第２攪拌棒２７とが設けられている。第１攪拌棒２６は、シャフト１８の外壁から径外方向に延びる幹部２８と、その幹部２８から外側に突出する枝部２９とを有する。第２攪拌棒２７は、シャフト１８の外壁から径外方向に延びる第１腕部３０と、その第１腕部３０の端部からタンク１０の内壁に沿って延びる第２腕部３１とを有する。シャフト１８が軸周りに回転すると、第１攪拌棒２６と第２攪拌棒２７もタンク１０の内側で回転し、タンク１０内の粉体を攪拌する。
底板１１には、タンク１０の外側の位置に、振動発生部３２が取り付けられている。振動発生部３２は、それ自身が振動することにより、底板１１を振動させることが可能である。
【００１７】
底板１１の下には、傾斜部４０が設けられている。傾斜部４０は、円錐形の頂部が軸に垂直な平面で切り取られたような形状であり、底板１１側から下側に向かい外径が次第に大きくなるように形成されている。
図１〜図３に示すように、底板１１の下には、プレート５０が設けられている。プレート５０は、円盤状に形成されており、傾斜部４０の外壁に沿って落下する粉体を受けることが可能である。プレート５０は、傾斜部４０の下端部の外周に沿って延びる平面部５１、及び、その平面部５１から下方へ凹む溝部５２を有する。溝部５２は、プレート５０の全周に亘り連続して設けられており、一定の深さ、および一定の幅に形成されている。また、プレート５０は、平面部５１の径方向内側に、周方向に延びる複数の落下孔５３を有する。落下孔５３は、プレート５０の下に設けられた回収ケース６０に、粉体を落下させることが可能である。プレート５０は、第２モータ５４の発生するトルクがベルト５５を経由して伝達されることにより、軸周りに回転する。なお、ベルト５５を経由することなく、第２モータ５４がプレート５０に直結して駆動する構成としてもよい。
【００１８】
プレート５０の下に設けられた回転羽根６１は、第２モータ５４の発生するトルクにより、プレート５０と共に回転する。回転羽根６１は、回収ケース６０に回収された粉体をポンプ通路６２に導入するものである。ポンプ通路６２には、粉体を移動することの可能なポンプ６３が設けられている。ポンプ通路６２に導入された粉体は、ポンプ６３の動作により、タンク１０内に戻される。
【００１９】
図１に示すように、粉体排出部７０は、固定金具７１によってプレート５０の下側に取り付けられている。図３に示すように、粉体排出部７０は、プレート５０の周方向に４個設けられている。なお、図３では、粉体排出部７０が設けられる位置を一点鎖線で示している。第２モータ５４の駆動によりプレート５０が回転することで、粉体排出部７０は、プレート５０に対して相対移動することとなる。なお、粉体排出部７０の個数はこれに限定するものではなく、任意に設置することが可能である。
【００２０】
図４〜図６に示すように、粉体排出部７０は、エジェクタ７２、スクレーパ８０、調整棒８４、前側スクレーパ８６および溝スクレーパ８７などにより構成されている。すなわち、粉体排出部７０を構成するエジェクタ７２、スクレーパ８０、調整棒８４、前側スクレーパ８６および溝スクレーパ８７と、プレート５０とは、相対移動可能である。
図４及び図５では、スクレーパ８０に対してプレート５０が相対移動する方向を矢印Ａによって示している。以下、その方向を「プレート移動方向Ａ」と称する。
なお、図４では、プレート５０の平面部５１と溝部５２を破線で示している。
【００２１】
エジェクタ７２は、空気が導入される吸気口７３、プレート５０の溝部５２の近傍に配置されて溝部５２に溜まった粉体を吸引する吸引口７４、および、吸気口７３から導入された空気と共に吸引口７４から吸引された粉体を排出する排出口７５を有する。
吸気口７３と排出口７５とを連通する第１流路７６１及び第２流路７６２の途中には、吸気口７３よりも流路断面積が小さいオリフィス７７が設けられている。そのオリフィス７７と吸引口７４とを第３流路７８が連通している。これにより、エジェクタ７２は、吸気口７３から第１流路７６１に導入された空気がオリフィス７７を通過する際に発生する負圧により、吸引口７４付近の粉体を吸引口７４から第３流路７８に吸引し、その粉体を第２流路７６２を経由して排出口７５から排出する。なお、エジェクタ７２の吸引口７４とプレート５０の平面部５１との距離は、第１調整つまみ７９により調整可能である。
【００２２】
スクレーパ８０は、プレート移動方向Ａにおいて、エジェクタ７２の吸引口７４よりも後側の位置に設けられている。スクレーパ８０は、プレート５０に対して相対移動することにより、平面部５１および溝部５２の上に一定の高さよりも高く堆積した粉体を平面部５１の外側へ移動し、平面部５１および溝部５２に堆積した粉体を一定の高さに揃えることが可能である。そのため、エジェクタ７２は、スクレーパ８０によって平面部５１および溝部５２の上に一定の高さに揃えられた粉体を吸引することが可能となる。
【００２３】
スクレーパ８０は、プレート移動方向Ａに複数個並んで設けられている。本実施形態では、プレート移動方向Ａの前側から順に、第１スクレーパ８１、第２スクレーパ８２、第３スクレーパ８３と称する。第１スクレーパ８１と平面部５１との距離αは、第２スクレーパ８２と平面部５１との距離βよりも短い。その第２スクレーパ８２と平面部５１との距離βは、第３スクレーパ８３と平面部５１との距離γよりも短い。即ち、複数のスクレーパ８１，８２，８３は、プレート移動方向Ａの前側に位置する所定のスクレーパが、プレート移動方向Ａの後側に位置する他のスクレーパよりも平面部５１に近くなるように設置されている。これにより、溝部５２の内側の粉体に空洞が形成されていた場合でも、溝部５２の内側の粉体を圧縮することなく、その空洞を徐々に粉体で埋めて小さくすることが可能である。
【００２４】
また、第１スクレーパ８１、第２スクレーパ８２、および、第３スクレーパ８３は、いずれもプレート移動方向Ａに対し、斜めに設けられている。これにより、スクレーパ８０は平面部５１および溝部５２の上に一定の高さよりも高く堆積した粉体を圧縮することなく、平面部５１の外側へ速やかに移動させることが可能である。なお、平面部５１の外側へ移動した粉体は、プレート５０の外周、または、落下孔５３から回収ケース６０に落下する。
【００２５】
調整棒８４は、エジェクタ７２の吸引口７４とスクレーパ８０との間に設けられている。調整棒８４は、溝部５２の深さ方向に往復移動に可能に設けられ、溝部５２の断面積を調整可能である。また、調整棒８４の幅は、溝の幅よりも十分に小さく形成されている。そのため、調整棒８４は、溝部５２に溜まった粉体を押し固めることなく、溝部５２の内側から外側へ粉体をかき出し、溝部５２内の粉体の量を調整することが可能である。なお、調整棒８４が溝部５２に挿入される深さは、第２調整つまみ８５により調整することが可能である。
【００２６】
前側スクレーパ８６は、エジェクタ７２の吸引口７４と調整棒８４との間に設けられている。前側スクレーパ８６も、プレート移動方向Ａに対し、斜めに設けられている。前側スクレーパ８６は、スクレーパ８０と同様、平面部５１および溝部５２の上に堆積した粉体を一定の高さに揃えることが可能である。したがって、調整棒８４により溝部５２から平面部５１にかき出された粉体は、前側スクレーパ８６によって一定の高さに揃えられる。
【００２７】
溝スクレーパ８７は、エジェクタ７２の吸引口７４に対しプレート移動方向Ａの前側（スクレーパ８０とは反対側）に設けられている。溝スクレーパ８７の幅は、溝の幅よりも僅かに小さく形成されている。溝スクレーパ８７は、溝部５２の深部まで挿入され、その位置で固定されている。これにより、溝スクレーパ８７は、溝部５２の深部に堆積する粉体を溝部５２から排除することが可能である。
【００２８】
上述したように、スクレーパ８０により平面部５１および溝部５２の上に一定の高さに揃えられた粉体は、エジェクタ７２の吸引口７４から吸引され、排出口７５から排出される。４個の粉体排出部７０を構成する４個のエジェクタ７２の排出口７５には、各々１本計４本のホースがそれぞれ取り付けられる。なお、粉体排出部７０の個数やホースの本数等はこれに限定するものではなく、任意に設置することが可能である。
【００２９】
図７に示すように、４本のホース４は、エジェクタ７２の排出口７５とは反対側に位置する先端部が、加工対象物２に向けて設置されている。加工対象物２が所定の方向Ｂに移動するとき、４本のホース４の先端部からその加工対象物２に対して粉体が供給される。加工対象物２に供給された粉体は、プラズマ溶射部５により加熱され、加工対象物２に吹付溶着する。
【００３０】
次に、本実施形態の粉体供給装置１を用いた粉体供給方法について、図８のフローチャートを参照して説明する。
この粉体供給方法は、貯留工程（Ｓ１）、速度調整工程（Ｓ２）、溝容積調整工程（Ｓ３）、落下工程（Ｓ４）、切り揃え工程（Ｓ５）および排出工程（Ｓ６）などを含んでいる。なお、図８に示した工程の順序は、説明の便宜上記載したに過ぎず、実際には、これらの工程は、同時に且つ継続して行われるものである。
【００３１】
まず、貯留工程（Ｓ１）では、粉体格納部１５からタンク１０に粉体を供給し、タンク１０に粉体を貯留する。
次に、速度調整工程（Ｓ２）では、第２モータ５４を制御し、プレート５０が回転する速度を調整する。
続いて、溝容積調整工程（Ｓ３）では、第２調整つまみ８５により、調整棒８４が溝部５２に挿入される深さを調整する。その深さにより、溝部５２の断面積が調整されるので、溝部５２に溜まる粉体の容積が設定される。なお、この溝容積調整工程（Ｓ３）では、４個の粉体排出部７０が備えるそれぞれの調整棒８４が溝部５２に挿入される深さを、調整棒８４ごとに調整する。これにより、４個の粉体排出部７０のそれぞれの吸引口７４に吸引される粉体の量が、吸引口７４ごとに調整される。
上述した速度調整工程（Ｓ２）と溝容積調整工程（Ｓ３）とにより、エジェクタ７２がプレート５０の溝部５２から吸引し、排出する単位時間あたりの粉体の量が設定される。
【００３２】
次に、落下工程（Ｓ４）では、第１モータ１９を駆動し、シャフト１８と共に、板ばね部２２、第１攪拌棒２６および第２攪拌棒２７を回転させる。それと共に、振動発生部３２を駆動し、底板１１を振動させる。これにより、タンク１０内の粉体は、網部１７の有する網目から板ばね部２２によって押し出され、底板１１の孔１６を通過し、傾斜部４０の外壁へ落下する。その粉体は、傾斜部４０の外壁に沿って落下し、プレート５０の平面部５１および溝部５２の上に堆積する。
【００３３】
続いて、切り揃え工程（Ｓ５）では、第２モータ５４を駆動し、粉体排出部７０に対し、プレート５０を回転させる。プレート５０の平面部５１および溝部５２の上に一定の高さよりも高く堆積した粉体を、プレート５０に対して相対回転する粉体排出部７０のスクレーパ８０により、平面部５１の外側へ移動する。これにより、平面部５１および溝部５２に堆積した粉体は、一定の高さに切り揃えられる。このとき、スクレーパ８０により平面部５１の外側へ移動された粉体は、プレート５０の外周、または、落下孔５３から回収ケース６０に落下する。
【００３４】
次に、排出工程（Ｓ６）では、エジェクタ７２の吸気口７３に空気を導入し、溝部５２に溜まった粉体を吸引口７４から吸引し、その粉体を排出口７５から空気と共に排出する。排出口７５から排出された粉体は、その排出口７５に取り付けられたホース４を通り、加工対象物２に供給される。
【００３５】
なお、上述した切り揃え工程（Ｓ５）で回収ケース６０に落下した粉体は、ポンプ６３の動作により、ポンプ通路６２を通り、タンク１０内に戻される。制御装置１４は、タンク１０内に設置されたセンサ１３の信号に基づき、タンク１０内に貯留されている粉体の量が一定量より少なくなると、粉体格納部１５からタンク１０に粉体を供給する。
【００３６】
本実施形態の粉体供給装置１は、次の作用効果を奏する。
（１）本実施形態の粉体供給装置１は、スクレーパ８０が、平面部５１および溝部５２の上に堆積した粉体を平面部５１の外側へ移動する。そのため、平面部５１および溝部５２の上に堆積した粉体が圧縮されることなく、一定の高さに揃えられると共に、溝部５２の内側にほぼ一定の密度の粉体が溜められる。したがって、粉体供給装置１は、エジェクタ７２の吸引口７４から吸引され、排出口７５から排出される粉体をばらつきの少ない安定した量にすることができる。
【００３７】
（２）本実施形態の粉体供給装置１は、溝部５２の深さ方向に往復移動に可能に設けられ、溝部５２の断面積を調整可能な調整棒８４を備える。
これにより、粉体供給装置１は、エジェクタ７２が吸引口７４から吸引され、排出口７５から排出される粉体の量を調整することができる。
【００３８】
（３）本実施形態の粉体供給装置１は、エジェクタ７２の吸引口７４と調整棒８４との間に設けられた前側スクレーパ８６を備える。
これにより、調整棒８４により溝部５２から平面部５１にかき出された粉体を、前側スクレーパ８６により一定の高さに揃えることが可能である。
【００３９】
（４）本実施形態では、スクレーパ８０が、プレート移動方向Ａに対し、斜めに設けられている。
これにより、スクレーパ８０は、平面部５１および溝部５２の上に一定の高さよりも高く堆積した粉体を圧縮することなく、平面部５１の外側へ速やかに移動することが可能である。
【００４０】
（５）本実施形態では、プレート移動方向Ａの前側に位置する所定のスクレーパ８０と平面部５１との距離は、プレート移動方向Ａの後側に位置する他のスクレーパ８０と平面部５１との距離よりも短い。
これにより、溝部５２の内側の粉体に空洞が形成されていた場合、その空洞を徐々に粉体で埋めて小さくすることが可能になる。したがって、溝部５２の内側の粉体を圧縮することなく、溝部５２の内側にほぼ一定の密度の粉体を溜めることができる。
【００４１】
（６）本実施形態の粉体供給装置１は、溝部５２の深部に堆積する粉体を溝部５２から排除する溝スクレーパ８７を備える。
これにより、エジェクタ７２の吸引口７４に吸い込まれずに溝部５２の内側に残った粉体がそこで固まってしまうことを防ぐことができる。したがって、粉体供給装置１は、エジェクタ７２の吸引口７４から吸引され、排出口７５から排出される粉体をばらつきの少ない安定した量にすることができる。
【００４２】
（７）本実施形態の粉体供給装置１は、プレート５０が、平面部５１の径方向内側に粉体を落下させる落下孔５３を有する。
これにより、平面部５１の径方向内側に粉体が溜まることが防がれる。したがって、粉体供給装置１は、スクレーパ８０により平面部５１から粉体を移動する際、その粉体が圧縮されることを抑制できる。
【００４３】
（８）本実施形態では、プレート５０の周方向に複数の粉体排出部７０が設けられている。
これにより、複数個の粉体排出部７０から、加工対象物２の複数箇所に粉体を排出することが可能である。
【００４４】
（９）本実施形態では、複数の粉体排出部７０がそれぞれ溝スクレーパ８７を備えている。
これにより、所定の粉体排出部７０のエジェクタ７２の吸引口７４に吸い込まれずに溝部５２の内側に残った粉体が、その所定の粉体排出部７０に対しプレート移動方向Ａの前側に位置する他の粉体排出部７０のエジェクタ７２の吸引口７４に吸い込まれることが防がれる。したがって、粉体供給装置１は、複数の粉体排出部７０のエジェクタ７２の吸引口７４から吸引され、排出口７５から排出される粉体を、いずれもばらつきの少ない安定した量にすることができる。
【００４５】
（１０）本実施形態では、板ばね部２２が、タンク１０の内側で網部１７に摺接すると共に、網部１７の上を移動可能に設けられる。
これにより、タンク１０内の粉体が網部１７の網目を通過することで、粉体同士が固まって落下することが防がれる。そのため、プレート５０の上にほぼ一定の密度の粉体を堆積させることが可能である。したがって、溝部５２の内側にほぼ一定の密度の粉体を溜めることが可能である。
また、網部１７の網目が細かい場合でも、板ばね部２２の動作により、網部１７の網目から底板１１の孔１６を通して、一定の安定した量の粉体を落下させることができる。
【００４６】
（１１）本実施形態の粉体供給装置１は、底板１１を振動させる振動発生部３２を備える。
これにより、底板１１の孔１６の内側で粉体同士が固まることが振動によって防がれる。したがって、網部１７の網目から底板１１の孔１６を通して、一定の安定した量の粉体を落下させることができる。
【００４７】
（１２）本実施形態の粉体供給装置１は、タンク１０内の粉体を攪拌する第１攪拌棒２６および第２攪拌棒２７を備える。
これにより、底板１１の複数箇所に設けた孔１６から落下する粉体の量のバラつきを抑制することができる。
【００４８】
本実施形態の粉体供給方法は、次の作用効果を奏する。
（１３）本実施形態の粉体供給方法では、切り揃え工程（Ｓ５）の際、スクレーパ８０が、平面部５１および溝部５２の上に堆積した粉体を平面部５１の外側へ移動する。そのため、平面部５１および溝部５２の上に堆積した粉体が圧縮されることなく、一定の高さに揃えられると共に、溝部５２の内側にほぼ一定の密度の粉体が留められる。したがって、この粉体供給方法では、排出工程（Ｓ６）において、エジェクタ７２は、吸引口７４から一定の量の粉体を吸引し、排出口７５から安定した量の粉体を排出することができる。
【００４９】
（１４）本実施形態の粉体供給方法は、プレート５０とエジェクタ７２とが相対移動する速度を調整する速度調整工程（Ｓ２）を含む。
これにより、エジェクタ７２が吸引口７４から吸引され、排出口７５から排出される粉体の量を調整することができる。
【００５０】
（１５）本実施形態の粉体供給方法は、調整棒８４が溝部５２に挿入される深さを調整する溝容積調整工程（Ｓ３）を含む。
これにより、エジェクタ７２が吸引口７４から吸引し、排出口７５から排出する粉体の量を調整することができる。
【００５１】
（１６）本実施形態の粉体供給方法は、溝容積調整工程（Ｓ３）において、複数の粉体排出部７０が備えるそれぞれの調整棒８４が溝部５２に挿入される深さを、各調整棒８４ごとに調整する。
これにより、それぞれの粉体排出部７０の排出口７５から排出される粉体の量を個別に調整することができる。
【００５２】
（他の実施形態）
（１）上述した実施形態では、粉体供給装置１は、４個の粉体排出部７０を備えるものとした。これに対し、他の実施形態では、粉体供給装置１が備える粉体排出部７０は、１個、または、任意の個数としてもよい。
【００５３】
（２）上述した実施形態では、粉体供給装置１は、粉体として溶射に使用されるフラックスを加工対象物２としての金属製の板材に供給するものとした。これに対し、他の実施形態では、粉体供給装置１は、例えば樹脂またはセラミックなどの種々の粉体を、種々の加工対象物２に供給するものとしてもよい。
【００５４】
（３）上述した実施形態では、粉体排出部７０を底板１１に固定し、その粉体排出部７０に対しプレート５０を回転する構成とした。これに対し、他の実施形態では、プレート５０を固定し、そのプレート５０の周方向に粉体排出部７０を回転する構成としてもよい。このようにしても、粉体排出部７０とプレート５０とを相対移動させることができる。
【００５５】
（４）上述した実施形態では、第１モータ１９の発生するトルクを、ベルト２０を経由してシャフト１８に伝達する構成とした。これに対し、他の実施形態では、第１モータ１９がシャフト１８に直結して駆動する構成としてもよい。
【００５６】
（５）上述した実施形態では、第２モータ５４の発生するトルクを、ベルト５５を経由してプレート５０に伝達する構成とした。これに対し、他の実施形態では、第２モータ５４がプレート５０に直結して駆動する構成としてもよい。
【００５７】
このように、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の形態で実施可能である。
【符号の説明】
【００５８】
１  ・・・粉体供給装置
１０・・・タンク
１１・・・底板
４０・・・傾斜部
５０・・・プレート
５１・・・平面部
５２・・・溝部
７２・・・エジェクタ
７４・・・吸引口
７５・・・排出口
８０・・・スクレーパ
【図１】
0006481639.tif 000002
【図２】
0006481639.tif 000003
【図３】
0006481639.tif 000004
【図４】
0006481639.tif 000005
【図５】
0006481639.tif 000006
【図６】
0006481639.tif 000007
【図７】
0006481639.tif 000008
【図８】
0006481639.tif 000009