(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
環状シロキサン及びシラノール末端ポリ（ジメチルシロキサン）をＮ−トリアルキルシリル−ビス（パーフルオロアルキルスルホニル）イミド化合物と接触させることを含む、環状シロキサンを開環重合するプロセス。
【請求項２】
Ｎ−トリアルキルシリ−ビス（パーフルオロアルキルスホニル）イミドが以下の式：
【化１】
0006602300.tif 000006
［式中、Ｒ1およびＲ2は、パーフルオロアルキルラジカルから独立に選択され、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5は、任意選択に１個以上のヘテロ原子を含む直鎖または分岐鎖アルキル、直鎖または分岐鎖アルキルから独立して選択される］のものである、請求項１に記載のプロセス。
【請求項３】
パーフルオロアルキルラジカルが、１〜１０個の炭素原子を有する直鎖または分岐鎖パーフルオロアルキルラジカルである、請求項２に記載のプロセス。
【請求項４】
パーフルオロアルキルラジカルが、−ＣＦ3、−Ｃ2Ｆ5、−Ｃ3Ｆ7、−Ｃ4Ｆ9、−Ｃ5Ｆ11、−Ｃ6Ｆ13、−Ｃ7Ｆ15、−Ｃ8Ｆ17、またはその２種以上の組み合わせから選択される、請求項２に記載のプロセス。
【請求項５】
アルキル基が、１〜１０個の炭素原子を有する直鎖または分岐鎖アルキルから選択される、請求項２〜４のいずれかに記載のプロセス。
【請求項６】
Ｒ1およびＲ2がそれぞれ−ＣＦ3であり、Ｒ3〜Ｒ5がそれぞれＣＨ3である、請求項２に記載のプロセス。
【請求項７】
Ｎ−トリアルキルシリル−ビス（パーフルオロアルキルスルホニル）イミドが、環状シロキサンの全重量に対して０．０２５重量パーセント〜５重量パーセントの量で存在する、請求項１〜６のいずれかに記載のプロセス。
【請求項８】
Ｎ−トリアルキルシリル−ビス（パーフルオロアルキルスルホニル）イミドが、環状シロキサンの全重量に対して０．１重量パーセント〜０．４重量パーセントの量で存在する、請求項１〜４のいずれかに記載のプロセス。
【請求項９】
環状シロキサンが、式（Ｒ6Ｒ7ＳｉＯ）n［式中、Ｒ6およびＲ7は、水素または８個までの炭素原子を有する置換されていてよいアルキル、アルケニル、アリール、アルカリールもしくはアラルキル基から独立して選択され、ｎは、３〜１２の値を有する整数を示す］のものである、請求項１〜８のいずれかに記載のプロセス。
【請求項１０】
環状シロキセンが、オクタメチルシクロテトラシロキサン（Ｄ４）、ヘキサメチルシクロトリシロキサン（Ｄ３）、オクタフェニルシクロテトラシロキサン、テトラメチルシクロテトラシロキサン、テトラメチルテトラビニルシクロテトラシロキサン、ヘキサメチル−１，１−ジフェニルシクロテトラシロキサン、デカメチルペンタシクロシロキサン、シクロペンタ（メチルビニル）シロキサン、シクロテトラ（フェニルメチル）シロキサン、シクロペンタメチルヒドロシロキサンまたはその２種以上の組み合わせから選択される、請求項１〜９のいずれかに記載のプロセス。
【請求項１１】
さらに１種以上の環状シロキサンを含み、ここで、さらに１種以上の環状シロキサンを含む場合、少なくとも２種の環状シロキサンが互いに異なる環の大きさである、請求項１〜１０のいずれかに記載のプロセス。
【請求項１２】
反応が末端ブロッカー材料を含む、請求項１〜１０のいずれかに記載のプロセス。
【請求項１３】
末端ブロッカー材料が、ヘキサメチルジシロキサン；オクタメチルトリシロキサン；デカメチルテトラシロキサン；ドデカメチルペンタシロキサン；テトラデカメチルヘキサシロキサン；ヘキサデカメチルヘプタシロキサン、ヒドリド置換シロキサンまたはその２種以上の組み合わせから選択される、請求項１２に記載のプロセス。
【請求項１４】
触媒を失活させることをさらに含む、請求項１〜１３のいずれかに記載のプロセス。
【請求項１５】
触媒を失活させることが、生成物を、塩基、塩基性樹脂、及びそれらの組み合わせから選ばれる触媒を中和する材料で処理することを含む、請求項１４に記載のプロセス。
【請求項１６】
反応混合物を濾過することをさらに含む、請求項１４または１５に記載のプロセス。
【発明の詳細な説明】
【関連出願の相互参照】
【０００１】
本出願は、２０１３年８月２３日に出願された米国仮出願第６１／８６９，２１８号、表題「シロキサン合成用触媒」の優先権および利益を主張し、その開示は参照によってその全体が本明細書に組み込まれる。
【技術分野】
【０００２】
本技術は、酸触媒を用いてシロキサンを形成するプロセスに関する。特に、本技術は、開環重合反応において使用され得る新規な酸材料を提供する。
【背景技術】
【０００３】
環状シロキサンは、しばしば、ポリシロキサンを形成する出発モノマーとして使用される。一般に、ポリシロキサンは、環状シロキサンの開環重合および適切な末端封鎖単位によって形成され得る。その反応は触媒の存在下に実行される。
【０００４】
環状シロキサン重合用には様々な触媒が知られている。例としては、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属アルコキシドまたはアルカリ金属水酸化物とアルコールの錯体、アルカリ金属シラノラート、およびホスホニトリルハライド（時には酸性ホスファゼンと称される）がある。そのような重合は、バルク、溶媒（無極性または極性有機溶媒など）または乳剤中で実行し得る。末端ブロック剤が、ポリマーの分子量を調節するためにおよび／または官能基を付加するために使用され得る。重合は、触媒と反応して不活性にする中和剤を使用することにより終了され得る。ほとんどの場合、触媒残渣は高分子生成物中に残り、望ましくは濾過などによって除去される。
【０００５】
固体型触媒は、開環重合によってポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）流体およびＰＤＭＳ官能性流体を合成するための触媒として用いられ得る。固体型触媒は高い触媒活性を示すが、固体廃棄物を生じる。固体廃棄物は通常焼却される。さらに、固体廃棄物は、生成物のかなりの画分を含み、それが全収率を下げ、製造費を上げ得る。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本技術は、ポリシロキサンを形成する組成物、方法、およびプロセスを提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
一態様において、本技術は、環状シロキサンをＮ−トリアルキルシリル−ビス（パーフルオロアルキルスルホニル）イミド化合物と接触させることを含む、環状シロキサンを開環重合するプロセスを提供する。
【０００８】
一実施形態において、Ｎ−トリアルキルシリル−ビス（パーフルオロアルキルスルホニル）イミドは以下の式：
【化１】
0006602300.tif 000002
［式中、Ｒ1およびＲ2は、パーフルオロアルキルラジカルから独立に選択され、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5は、任意選択に１個以上のヘテロ原子を含む直鎖または分岐鎖アルキルから独立して選択される］のものである。
【０００９】
一実施形態において、パーフルオロアルキルラジカルは、１〜１０個の炭素原子を有する直鎖または分岐鎖パーフルオロアルキルラジカルである。一実施形態において、パーフルオロアルキルラジカルは、−ＣＦ3、−Ｃ2Ｆ5、−Ｃ3Ｆ7、−Ｃ4Ｆ9、−Ｃ5Ｆ11、−Ｃ6Ｆ13、−Ｃ7Ｆ15、−Ｃ8Ｆ17、またはその２種以上の組み合わせから選択される。一実施形態において、アルキル基は、１〜１０個の炭素原子を有する直鎖または分岐鎖アルキルから選択される。一実施形態において、Ｒ1およびＲ2はそれぞれ−ＣＦ3であり、Ｒ3〜Ｒ5はそれぞれＣＨ3である。
【００１０】
一実施形態において、Ｎ−トリアルキルシリル−ビス（パーフルオロアルキルスルホニル）イミドは、環状シロキサンの全重量に対して約０．０２５重量パーセント〜約５重量パーセントの量で存在する。一実施形態において、Ｎ−トリアルキルシリル−ビス（パーフルオロアルキルスルホニル）イミドは、環状シロキサンの全重量に対して約０．１重量パーセント〜約０．４重量パーセントの量で存在する。
【００１１】
一実施形態において、環状シロキサンは、式（Ｒ6Ｒ7ＳｉＯ）n［式中、Ｒ6およびＲ7は、水素または８個までの炭素原子を有する置換されていてよいアルキル、アルケニル、アリール、アルカリールもしくはアラルキル基から独立して選択され、ｎは、３〜１２の値を有する整数を示す］のものである。
【００１２】
一実施形態において、環状シロキサンは、オクタメチルシクロテトラシロキサン（Ｄ４）、ヘキサメチルシクロトリシロキサン（Ｄ３）、オクタフェニルシクロテトラシロキサン、テトラメチルシクロテトラシロキサン、テトラメチルテトラビニルシクロテトラシロキサン、ヘキサメチル−１，１−ジフェニルシクロテトラシロキサン、デカメチルペンタシクロシロキサン、シクロペンタ（メチルビニル）シロキサン、シクロテトラ（フェニルメチル）シロキサン、シクロペンタメチルヒドロシロキサンまたはその２種以上の組み合わせから選択される。
【００１３】
一実施形態において、本プロセスは、２種以上の環状シロキサンおよび／またはシラノール末端ポリ（ジメチルシロキサン）を含み、ここで、少なくとも２種の環状シロキサンは互いに異なる環の大きさである。
【００１４】
一実施形態において、本反応は、末端ブロッカー材料を含む。
【００１５】
一実施形態において、末端ブロッカー材料は、ヘキサメチルジシロキサン；オクタメチルトリシロキサン；デカメチルテトラシロキサン；ドデカメチルペンタシロキサン；テトラデカメチルヘキサシロキサン；ヘキサデカメチルヘプタシロキサン、ヒドリド置換シロキサンまたはその２種以上の組み合わせから選択される。
【００１６】
一実施形態において、本プロセスはさらに触媒を失活させることを含む。
【００１７】
一実施形態において、触媒を失活させることは、生成物を塩基または塩基性樹脂などの触媒を中和する材料で処理すること、またはその２つ以上の組み合わせを含む。
【００１８】
一実施形態において、本プロセスは、反応混合物を濾過することをさらに含む。
【００１９】
本技術のこれらの態様および他の態様は、以下の記載を参照してさらに説明される。
【発明の詳細な説明】
【００２０】
開環重合
本技術は、一態様において、環状シロキサンを開環重合するプロセスを提供する。本プロセスは、環状シロキサンをスルホンイミドと接触させることを含む。スルホンアミドは、環状シロキサンの開環重合を触媒するのに適切である。本反応は適切な溶媒中で実行し得る。
【００２１】
一実施形態において、本技術は、触媒としてＮ−トリアルキルシリル−ビス（パーフルオロアルキルスルホニル）イミド化合物を提供する。Ｎ−トリアルキルシリル−ビス（パーフルオロアルキルスルホニル）イミドは、式（１）：
【化２】
0006602300.tif 000003
［式中、Ｒ1およびＲ2は、パーフルオロアルキルラジカルから独立に選択され、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5は、任意選択に１個以上のヘテロ原子を含む直鎖または分岐鎖アルキルラジカルから独立して選択される］の化合物であり得る。
【００２２】
パーフルオロアルキルラジカルは、１〜１０個の炭素原子を含む直鎖または分岐鎖パーフルオロアルキルラジカルであり得る。適切なパーフルオロアルキルラジカルの例としては、−ＣＦ3、−Ｃ2Ｆ5、−Ｃ3Ｆ7、−Ｃ4Ｆ9、−Ｃ5Ｆ11、−Ｃ6Ｆ13、−Ｃ7Ｆ15、−Ｃ8Ｆ17などが挙げられるが、これらに限定されない。一実施形態において、Ｒ1およびＲ2の両方は、同一の直鎖または分岐鎖パーフルオロアルキルラジカルであってよい。一実施形態において、Ｒ1およびＲ2の両方はＣＦ3であってよい。一実施形態において、Ｒ1およびＲ2は、異なる直鎖または分岐鎖パーフルオロアルキルラジカルであってよい。
【００２３】
直鎖または分岐鎖アルキルラジカルは１〜１０個の炭素原子を含み得る。適切なアルキルラジカルとしては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、イソプロピル、イソブチルなどが挙げられるが、これらに限定されない。一実施形態において、Ｒ2、Ｒ4およびＲ5は全て同一の直鎖または分岐鎖アルキルラジカルであってよい。一実施形態において、Ｒ2、Ｒ4およびＲ5は全て−ＣＨ3であってよい。一実施形態において、Ｒ2、Ｒ4およびＲ5の２つ以上は、異なる直鎖または分岐鎖アルキルラジカルであってよい。一実施形態において、Ｒ2、Ｒ4およびＲ5は、全て異なる直鎖または分岐鎖アルキルラジカルであってよい。
【００２４】
一実施形態において、Ｎ−トリアルキルシリル−ビス（パーフルオロアルキルスルホニル）イミド化合物は、式（２）：
【化３】
0006602300.tif 000004
のものである。
【００２５】
１種以上の異なるＮ−トリアルキルシリル−ビス（パーフルオロアルキルスルホニル）イミド化合物が、開環重合プロセスにおける触媒材料として使用され得る。
【００２６】
重合はバルクまたは溶媒の存在下で実行し得る。適切な溶媒としては、液体炭化水素またはシリコ−ン流体を挙げることができるが、これらに限定されない。Ｎ−トリアルキルシリル−ビス（パーフルオロアルキルスルホニル）イミド触媒は、ヘキサンもしくはヘプタンなどの炭化水素溶媒に希釈し得るか、または、ポリジオルガノシロキサンなどのシリコーン流体中に分散し得る。Ｎ−トリアルキルシリル−ビス（パーフルオロアルキルスルホニル）イミド触媒が初めにヘキサンなどの溶媒中にある場合、ヘキサンは真空下で蒸発によって除去され得、触媒はシリコーン流体中に分散して安定した透明溶液を与え得る。Ｎ−トリアルキルシリル−ビス（パーフルオロアルキルスルホニル）イミド化合物は、反応媒体に可溶であり得るのに対し、スルホン酸などの他の酸性材料は反応媒体に溶解し得ない。
【００２７】
重合反応は、周囲温度でまたは加熱下に実行し得る。一般に、加熱は、約１００℃、１１０℃、１２０℃、１５０℃、１６０℃、さらに約１８０℃まで実行し得る。一実施形態において、上記反応は約９０℃〜約１８０℃；約１００℃〜約１６０℃；さらに約１１０℃〜約１５０℃の温度で実施される。触媒は、反応をより低温かまたはより高温にて容易にし得る。本明細書および特許請求の範囲中のどこか他のところのように、ここでも、数値を組み合わせて新規かつ未開示の範囲を形成し得る。
【００２８】
重合に必要とする時間は、選択された系中の触媒の活性および所望のポリマー生成物に依存する。Ｎ−トリアルキルシリル−ビス（パーフルオロアルキルスルホニル）イミド触媒は、緩和がない場合、例えばＤ４などの環状シロキサンを高分子量ポリシロキサンガムに数時間以内に変換するほど十分に活性である。
【００２９】
重合反応の出発材料は、環状シロキサン（環式シロキサンとしても知られる）である。環状シロキサンは有用で市販の材料である。これらは、一般式（Ｒ6Ｒ7ＳｉＯ）n［式中、Ｒ6およびＲ7は、８個までの炭素原子を有するアルキル、アルケニル、アリール、アルカリールまたはアラルキル基から独立して選択され、非置換、置換いずれでもよく、ｎは、３〜１２の値を有する整数を示す］を有する。Ｒ6およびＲ7は、例えば、フッ素または塩素などのハロゲンで置換されていてよい。アルキル基は、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、トリフルオロプロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、または任意の他の適当なアルキル基であってよい。アルケニル基は、例えば、ビニル、アリル、プロペニル、ブテニル、または任意の他の適当なアルケニル基であってよい。アリールおよびアラルキル基は、例えば、フェニル、トリル、ベンゾイル、または任意の他の適当なアリールおよびアラルキル基であってよい。一実施形態において、全てのＲ6およびＲ7基の少なくとも７０％がメチルまたはフェニル基であり；全てのＲ6およびＲ7基の少なくとも７５％がメチルまたはフェニル基であり；全てのＲ6およびＲ7基の少なくとも８０％がメチルまたはフェニル基であり；全てのＲ6およびＲ7基の少なくとも８５％がメチルまたはフェニル基であり；全てのＲ6およびＲ7基の少なくとも９０％がメチルまたはフェニル基であり；さらに全てのＲ6およびＲ7基の少なくとも９５％がメチルまたはフェニル基である。一実施形態において、Ｒ6およびＲ7基は実質的に全てメチル基である。本明細書および特許請求の範囲中のどこか他のところのように、ここでも、数値を組み合わせて新規かつ未開示の範囲を形成し得る。Ｒ6、Ｒ7がメチルである場合、化合物はＤｎと称され；例えばｎが４である場合、化合物はＤ４と呼ばれる。ｎの値は３〜６であってもよく、一実施形態においてｎは４または５である。適切な環状シロキサンの例としては、オクタメチルシクロテトラシロキサン（Ｄ４）、ヘキサメチルシクロトリシロキサン（Ｄ３）、オクタフェニルシクロテトラシロキサン、テトラメチルシクロテトラシロキサン、テトラメチルテトラビニルシクロテトラシロキサン、ヘキサメチル−１，１−ジフェニルシクロテトラシロキサン、デカメチルペンタシクロシロキサン、シクロペンタ（メチルビニル）シロキサンおよびシクロテトラ（フェニルメチル）シロキサンが挙げられるが、これらに限定されない。１つの適切な市販材料は、オクタメチルシクロテトラシロキサンおよびデカメチルシクロペンタシロキサンの混合物である。
【００３０】
一実施形態において、反応混合物は、２種以上の環状シロキサンまたはシラノール末端ポリ（ジメチルシロキサン）を含む。一実施形態において、反応混合物は、異なる環の大きさの少なくとも２種の環状シロキサンの混合物を含む。一実施形態において、環状シロキサンの少なくとも１つは、ヒドリドなどから選択される１つ以上の官能基を含む。
【００３１】
反応混合物は、一般に、触媒の添加前に、いずれの溶解したＣＯ2を除去するために不活性ガス、好ましくは窒素でパージされる。極めて高速の反応であるので、反応混合物は触媒の均質分散を保証するために激しく混合される。混合が不十分であると、触媒が反応に加えられたとき、結果的にゴムのビーズ中に封入され得、次に、触媒は、ゴム粒子から拡散するのに時間がかかり、反応がより遅くなる。
【００３２】
Ｎ−トリアルキルシリル−ビス（パーフルオロアルキルスルホニル）イミド触媒は、出発環状シロキサン材料の重量に対して約０．０２５重量パーセント〜約５重量パーセント；０．０５重量パーセント〜約４重量パーセント；０．１重量パーセント〜約３重量パーセント；０．２５重量パーセント〜約２重量パーセント；さらに約０．５重量パーセント〜約１重量パーセントの量で存在し得る。一実施形態において、Ｎ−トリアルキルシリル−ビス（パーフルオロアルキルスルホニル）イミド触媒は、環状シロキサン材料の重量に対して約０．０２５重量パーセント〜約０．４重量パーセントの量で存在する。本明細書および特許請求の範囲中のどこか他のところのように、ここでも、数値を組み合わせて新規かつ未開示の範囲を形成し得る。
【００３３】
本プロセスは、触媒を失活させることをさらに含み得る。触媒を失活させることは、反応系から触媒を除去することを含み得る。触媒はまた、Ｎ−トリアルキルシリル−ビス（パーフルオロアルキルスルホニル）イミド化合物を中和する作用物質で処理することにより失活され得る。触媒を中和する適切な塩基としては、重炭酸塩（例えば重炭酸ナトリウム）、アンモニウム塩、およびイオン交換樹脂（例えば、アニオン性樹脂）が挙げられるが、これらに限定されない。上記失活操作の１つ以上が、触媒を失活させるために用いられ得ることは理解されよう。本触媒は、反応媒体中に分散した粘土粒子の濾過を必要とする他の種類の触媒に対して利点をもたらし得る。
【００３４】
失活に続いて、反応系は、要望または必要に応じて処理されて系中に存在するいずれの着色を除去し得る。そのような処理としては、セライト床に通すなどの試料の濾過、チャーコールでの処理などを含み得る。
【実施例】
【００３５】
環状シロキサンの開環重合
開環重合は、オクタメチルシクロテトラシロキサン（Ｄ４）、アルコール末端ポリ（ジメチルシロキサン）およびヘキサメチルジシロキサンの混合物を用いて、触媒としてＮ−トリメチルシリルビス（トリフルオロメタン）スルホンイミドを用いて行った。触媒は０．０５重量パーセント〜１．４重量パーセントの範囲の装填率で準備した。反応は全て窒素雰囲気下で行った。比較例には不均一触媒を用いた。実施例を以下に説明し、結果を表１に示す。
【００３６】
実施例１
オクタメチルシクロテトラシロキサン（２０グラム、０．０６７モル）、シラノール末端ポリ（ジメチルシロキサン）（８０グラム）、およびヘキサメチルジシロキサン（０．８２グラム、５．３ｍｍｏｌ）を、水冷凝縮器を取り付けた丸底フラスコに入れた。触媒であるＮ−トリメチルシリルビス（トリフルオロメタン）スルホンイミド（０．０２５グラム）を混合物に添加した。反応混合物を１６０℃に維持した油浴中で保持した。試料を定期的に取り、反応進行度をモニターするために試料の揮発分含有率を分析した。３４．８％の揮発分含有率を反応の１時間後に測定した。
【００３７】
実施例２
オクタメチルシクロテトラシロキサン（２０グラム、０．０６７モル）、シラノール末端ポリ（ジメチルシロキサン）（８０グラム）、およびヘキサメチルジシロキサン（０．８２グラム、５．３ｍｍｏｌ）を、水冷凝縮器を取り付けた丸底フラスコに入れた。触媒であるＮ−トリメチルシリルビス（トリフルオロメタン）スルホンイミド（０．０５グラム）を混合物に添加した。反応混合物を１６０℃に維持した油浴中で保持した。試料を定期的に取り、反応進行度をモニターするために試料の揮発分含有率を記録した。１４．１％の揮発分含有率を反応の１時間後に分析した。
【００３８】
実施例３
オクタメチルシクロテトラシロキサン（２０グラム、０．０６７モル）、シラノール末端ポリ（ジメチルシロキサン）（８０グラム）、およびヘキサメチルジシロキサン（０．８２グラム、５．３ｍｍｏｌ）を、水冷凝縮器を取り付けた丸底フラスコに入れた。触媒であるＮ−トリメチルシリルビス（トリフルオロメタン）スルホンイミド（０．１グラム）を混合物に添加した。反応混合物を１６０℃に維持した油浴中で保持した。試料を定期的に取り、反応進行度をモニターするために試料の揮発分含有率を記録した。１３．７％の揮発分含有率を反応の３０分後に測定した。
【００３９】
実施例４
オクタメチルシクロテトラシロキサン（２０グラム、０．０６７モル）、シラノール末端ポリ（ジメチルシロキサン）（８０グラム）、およびヘキサメチルジシロキサン（０．８２グラム、５．３ｍｍｏｌ）を、水冷凝縮器を取り付けた丸底フラスコに入れた。触媒であるＮ−トリメチルシリルビス（トリフルオロメタン）スルホンイミド（０．４グラム）を混合物に添加した。反応混合物を１６０℃に維持した油浴中で保持した。試料を定期的に取り、反応進行度をモニターするために試料の揮発分含有率を分析した。１４．５％の揮発分含有率を反応の１５分後に測定した。
【００４０】
比較例１
オクタメチルシクロテトラシロキサン（２０グラム、０．０６７モル）、シラノール末端ポリ（ジメチルシロキサン）（８０グラム）、およびヘキサメチルジシロキサン（０．８２グラム、５．３ｍｍｏｌ）を、水冷凝縮器を取り付けた丸底フラスコに入れた。酸性型触媒（０．１ｇ）を反応に使用した。反応混合物を１６０℃に維持した油浴中で保持した。試料を定期的に取り、反応進行度をモニターするために試料の揮発分含有率を分析した。１３％の揮発分含有率を反応の２時間後に測定した。
【表１】
0006602300.tif 000005
【００４１】
表１に記載の結果より、新規の酸性型触媒、例えばＮ−トリメチルシリル−ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドは、比較例の酸性型および塩基性型の触媒と比較して改善された活性を有することが分かる。０．４重量パーセントの触媒濃度により、新規の酸性型触媒１では１５分未満で平衡状態に到達したが、比較例の触媒では、平衡時間は２時間３０分であった。より速い反応とは別に、触媒としてＮ−トリメチルシリル−ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドを使用することは、比較例の酸性触媒を用いる重合後、粒子が反応媒体中に微分散され、ＰＤＭＳから分離される必要があるという事実によって支持される。これには、固形廃棄物の生成とは別に、ジメチル流体の損失につながる追加の濾過工程を必要とする。反応系でのＮ−トリメチルシリル−ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドの溶解性のために、この追加の濾過工程を回避してよい。重合後にＮ−トリメチルシリル−ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド触媒を、重炭酸ナトリウムなどの塩基を用いて失活させる。触媒を中和した後、ポリマーをセライト床に通して中和触媒を除去する。中和（１５０℃で２４時間の加熱）後、ポリマー試料に対して行った安定性試験により、明らかな重量減少は示唆されないが、これは、反応混合物から触媒が除去されることを示唆している。
【００４２】
本技術の実施形態を上に記載したが、本明細書を読んで理解すれば他者は改変および変更を思い付き得る。以下の特許請求の範囲は、改変および変更が特許請求の範囲またはその均等物の範囲内に含まれる限りそれらをすべて含むように意図される。