(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下のいずれかの式で示される化合物またはその製薬上許容される塩。
【化１】
0006579549.tif 000146
（式中、Ｒ３Ａ、Ｒ３ＢおよびＲ４Ａは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキルカルボニル、置換もしくは非置換のアルケニルカルボニル、置換もしくは非置換のアルキニルカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環チオ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環チオ、置換もしくは非置換の芳香族複素環チオ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環チオ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アミノ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アミノ、置換もしくは非置換の芳香族複素環アミノ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アミノ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環カルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環カルボニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環カルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環カルボニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルカルボニル、置換もしくは非置換のアミノ、または置換もしくは非置換のカルバモイル；
Ｒ３Ｃは、それぞれ独立して、水素、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基；または、
Ｒ３ＡおよびＲ３Ｂは一緒になってオキソを形成してもよい；
Ｒ３ＡおよびＲ４Ａは、隣接原子と一緒になって、置換もしくは非置換の単環性炭素環、または置換もしくは非置換の単環性複素環を形成してもよく、該炭素環または複素環はさらに縮合されていてもよい；
Ｒ３ＣおよびＲ４Ａは、隣接原子と一緒になって、置換もしくは非置換の単環性複素環を形成してもよく、該複素環はさらに縮合されていてもよい；
Ｒ３ＡおよびＲ３Ｂは、隣接原子と一緒になって、置換もしくは非置換のスピロ環を形成してもよく、該スピロ環はさらに縮合されていてもよい；
Ｔ１環は、置換もしくは非置換の単環性炭素環、または置換もしくは非置換の単環性複素環であり、（１）該炭素環または複素環は、他の置換もしくは非置換の炭素環または置換もしくは非置換の複素環と縮合していてもよく、および／または（２）該炭素環または複素環を構成する互いに隣接しない２個の原子は、置換もしくは非置換のアルキレン、置換もしくは非置換のアルケニレン、または置換もしくは非置換のアルキニレンにより架橋されていてもよい；
Ｒ１は、ハロゲン、シアノ、ニトロまたは−Ｘ1−Ｒ１１であり、
Ｘ1は、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ１２−、−ＣＯ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＲ１２−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＲ１２−、−ＮＲ１２−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＲ１２−ＣＯ−ＮＲ１３−、−ＮＲ１２−ＳＯ２−または−ＳＯ２−ＮＲ１２−であり、
Ｒ１１は、水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換の炭素環式基、または置換もしくは非置換の複素環式基であり、
Ｒ１２およびＲ１３は、それぞれ独立して、水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニルまたは置換もしくは非置換のアルキニルであり、
Ｘ1が−ＮＲ１２−、−ＣＯ−ＮＲ１２−または−ＳＯ２−ＮＲ１２−の場合は、Ｒ１１とＲ１２が隣接する窒素原子と一緒になって置換もしくは非置換の複素環式基を形成しても良く、
Ｘ1が−ＮＲ1２−ＣＯ−ＮＲ1３−の場合は、Ｒ1１とＲ1３が隣接する窒素原子と一緒になって置換もしくは非置換の複素環式基を形成しても良く、
Ｒ１は、Ｔ１環の円孤上の炭素原子または窒素原子と一緒になって、置換もしくは非置換の単環性炭素環、または置換もしくは非置換の単環性複素環を形成してもよく、該炭素環または複素環はさらに縮合されていてもよい；
Ｒ２は、それぞれ独立して、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、置換もしくは非置換のシクロアルキルオキシ、または置換もしくは非置換のシクロアルケニルオキシ；
ｎは、１または２；
Ｒ３は、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルケニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルケニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルケニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルケニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキニル、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキニル；
Ｒ４は、水素またはカルボキシ保護基）
【請求項２】
Ｔ１環が、以下のいずれかの構造である、請求項１記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【化２】
0006579549.tif 000147
（式中、
Ａ１はＣ；
Ａ５は、Ｃ、ＣＨ、またはＮ；
Ａ６はＣ；
破線は、単結合の存在または非存在を示し、隣接する破線が同時に存在することはない；
Ｒａは、水素、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換の炭素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基、−ＣＯＲａ１、−ＳＯＲａ２、または−ＳＯ２Ｒａ３（Ｒａ１、Ｒａ２、およびＲａ３は、それぞれ独立して、水素、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換の炭素環式基、または置換もしくは非置換の複素環式基）；
ｍは、０〜５の整数；
Ｌは、−ＳＯ２−、−ＳＯ−、−ＣＯ−、または−ＣＲｂＲｃ−；
ＲｂおよびＲｃは、それぞれ独立して、水素、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換の炭素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基、またはＲｂおよびＲｃは一緒になってオキソを形成していてもよい）
【請求項３】
Ｔ１環が、以下のいずれかの構造である、請求項１記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【化３】
0006579549.tif 000148
（式中、各記号はそれぞれ独立して、請求項２と同意義。）
【請求項４】
以下のいずれかの式で示される、請求項１記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【化４】
0006579549.tif 000149
【化５】
0006579549.tif 000150
【化６】
0006579549.tif 000151
【化７】
0006579549.tif 000152
【化８】
0006579549.tif 000153
【化９】
0006579549.tif 000154
【化１０】
0006579549.tif 000155
【化１１】
0006579549.tif 000156
【化１２】
0006579549.tif 000157
【化１３】
0006579549.tif 000158
【化１４】
0006579549.tif 000159
【化１５】
0006579549.tif 000160
（式中、各記号はそれぞれ独立して、請求項１及び請求項２と同意義。）
【請求項５】
Ｒ１がアルキルである、請求項１〜４のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【請求項６】
ｎが１、Ｒ２がアルキルオキシである、請求項１〜４のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【請求項７】
Ｒ４が、水素である、請求項１〜４のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【請求項８】
Ｒ３が、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基である、請求項１〜４のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【請求項９】
Ｒ１がアルキル；ｎが１、Ｒ２がアルキルオキシ；Ｒ４が水素；Ｒ３が置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基である、請求項１〜４のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【請求項１０】
Ｒ１がアルキル；ｎが１、Ｒ２がアルキルオキシ；Ｒ４が水素；Ｒ３が、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基；ｍが１〜３の整数；ＲｂおよびＲｃがそれぞれ独立して水素またはアルキルである、請求項２〜４のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【請求項１１】
以下の式で示される、請求項１記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【化１６】
0006579549.tif 000161
（式中、Ｒ１がアルキル；ｎが１、Ｒ２がアルキルオキシ；Ｒ４が水素；Ｒ３が置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基または置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、Ｒ３Ａが水素、Ｒ４Ａが置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、Ｔ１環が置換もしくは非置換の単環性複素環）
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩を含有する、医薬組成物。
【請求項１３】
抗ウイルス剤である、請求項１２記載の医薬組成物。
【請求項１４】
抗ＨＩＶ剤である、請求項１２記載の医薬組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、抗ウイルス作用を有する新規化合物、更に詳しくは、抗ＨＩＶ薬に関する。
【背景技術】
【０００２】
ウイルスのなかでも、レトロウイルスの一種であるヒト免疫不全ウイルス（Ｈｕｍａｎ  Ｉｍｍｕｎｏｄｅｆｉｃｉｅｎｃｙ  Ｖｉｒｕｓ、以下ＨＩＶと略す）は、後天性免疫不全症候群（Ａｃｑｕｉｒｅｄ  ｉｍｍｕｎｏｄｅｆｉｃｉｅｎｃｙ  ｓｙｎｄｒｏｍｅ、以下エイズ（ＡＩＤＳ）と略す）の原因となることが知られている。そのエイズの治療薬としては、これまでのところ逆転写酵素阻害剤（ＡＺＴ、３ＴＣ等）、プロテアーゼ阻害剤（インディナビル等）、およびインテグラーゼ阻害剤（ラルテグラビル等）が主流であるが、腎臓障害等の副作用や耐性ウイルスの出現等の問題が判明しており、それらとは異なる作用メカニズムを有する抗ＨＩＶ薬の開発が期待されている。【０００３】
また、エイズの治療においては、耐性ウイルスが容易に出現するという理由から、現在、多剤併用療法が効果的であると報告されている。抗ＨＩＶ薬としては、逆転写酵素阻害剤、プロテアーゼ阻害剤、インテグラーゼ阻害剤の３種が臨床で使用されているが、同じ作用メカニズムを有する薬剤はしばしば交叉耐性を示し、または付加的な効果を示すに過ぎず、異なった作用メカニズムの抗ＨＩＶ薬の開発が要望されている。【０００４】
ベンゼンやピリジン等の６員環母核またはそれらの縮合環上にカルボキシアルキル型側鎖を有する抗ＨＩＶ薬が、特許文献１〜３２、３６に記載されている。特に、特許文献２８（ＷＯ２０１３／１５９０６４）、特許文献２９（ＷＯ２０１２／１４５７２８）等には、５員ヘテロ環と縮合したベンゼン誘導体が記載されている。また特許文献１６（ＷＯ２０１２／１４０２４３）、特許文献３６（ＷＯ２０１４／０５７１０３）には、種々の置換基を有するベンゼン誘導体が記載されている。また５員環母核にカルボキシアルキル型側鎖を有する抗ＨＩＶ薬が、特許文献３３〜３５に記載されている。しかし、いずれの文献にも、本発明の３環性化合物は記載されていない。
また最近のインテグラーゼ阻害剤等の抗ＨＩＶ薬に関する特許が非特許文献１に紹介されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】ＷＯ２００７／１３１３５０
【特許文献２】ＷＯ２００９／０６２２８５
【特許文献３】ＷＯ２００９／０６２２８８
【特許文献４】ＷＯ２００９／０６２２８９
【特許文献５】ＷＯ２００９／０６２３０８
【特許文献６】ＷＯ２０１０／１３００３４
【特許文献７】ＷＯ２０１０／１３０８４２
【特許文献８】ＷＯ２０１１／０１５６４１
【特許文献９】ＷＯ２０１１／０７６７６５
【特許文献１０】ＷＯ２０１２／０３３７３５
【特許文献１１】ＷＯ２０１２／００３４９７
【特許文献１２】ＷＯ２０１２／００３４９８
【特許文献１３】ＷＯ２０１２／０６５９６３
【特許文献１４】ＷＯ２０１２／０６６４４２
【特許文献１５】ＷＯ２０１２／１０２９８５
【特許文献１６】ＷＯ２０１２／１４０２４３
【特許文献１７】ＷＯ２０１３／０１２６４９
【特許文献１８】ＷＯ２０１３／００２３５７
【特許文献１９】ＷＯ２０１３／０２５５８４
【特許文献２０】ＷＯ２０１３／０４３５５３
【特許文献２１】ＷＯ２０１３／０７３８７５
【特許文献２２】ＷＯ２０１３／０６２０２８
【特許文献２３】ＷＯ２０１３／１０３７２４
【特許文献２４】ＷＯ２０１３／１０３７３８
【特許文献２５】ＷＯ２０１３／１２３１４８
【特許文献２６】ＷＯ２０１３／１３４１１３
【特許文献２７】ＷＯ２０１３／１３４１４２
【特許文献２８】ＷＯ２０１３／１５９０６４
【特許文献２９】ＷＯ２０１２／１４５７２８
【特許文献３０】ＷＯ２０１３／１５７６２２
【特許文献３１】ＷＯ２０１４／００９７９４
【特許文献３２】ＷＯ２０１４／０２８３８４
【特許文献３３】ＷＯ２０１２／１３７１８１
【特許文献３４】ＷＯ２０１４／０５３６６５
【特許文献３５】ＷＯ２０１４／０５３６６６
【特許文献３６】ＷＯ２０１４／０５７１０３
【非特許文献１】Expert. Opin. Ther. Patents (2014)24(6)
【０００６】
なお、本出願人によって３環性ベンゼン誘導体に関するＨＩＶ複製阻害剤が特許出願されている（WO2014/119636、PCT/JP2015/059569）。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的は、抗ウイルス活性を有する新規化合物を提供することである。本発明は、好ましくは、ＨＩＶ複製阻害作用を有する抗ＨＩＶ薬を提供する。より好ましくは、従来の抗ＨＩＶ薬とは基本骨格が異なり、またＨＩＶの変異株や耐性株にも有効な新規の抗ＨＩＶ薬を提供する。さらに本発明は、それらの合成中間体や製法も提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは鋭意検討した結果、新規な３環性インドール誘導体がＨＩＶ複製阻害剤として有用であることを見出した。さらに、本発明化合物およびそれらを含有する医薬が、抗ウイルス薬（例：抗レトロウイルス薬、抗ＨＩＶ薬、抗ＨＴＬＶ−１（Ｈｕｍａｎ  Ｔ  ｃｅｌｌ  ｌｅｕｋｅｍｉａ  ｖｉｒｕｓ  ｔｙｐｅ  １：ヒトＴ細胞白血病ウイルス１型）薬、抗ＦＩＶ（Ｆｅｌｉｎｅ  ｉｍｍｕｎｏｄｅｆｉｃｉｅｎｃｙ  ｖｉｒｕｓ  ：ネコエイズウイルス）薬、抗ＳＩＶ（Ｓｉｍｉａｎ  ｉｍｍｕｎｏｄｅｆｉｃｉｅｎｃｙ  ｖｉｒｕｓ  ：サルエイズウイルス）薬）、特に抗ＨＩＶ薬、抗ＡＩＤＳ薬、またはその関連疾患の治療薬等として有用であることを見出し、以下に示す本発明を完成した。
なお、本発明の３環性インドール誘導体とは、インドールのＮがＣ、Ｏ、またはＳ等に変換された化合物やピロール環上に種々のヘテロ原子を有する化合物またはそれらの種々の誘導体を包含する。【０００９】
本発明は以下の（１）〜（４６）に関する。
（１）以下の式（Ｉ）で示される化合物またはその製薬上許容される塩。
【化１】
0006579549.tif 000002
（式中、
Ａ１は、Ｃ、ＣＲ１Ａ、またはＮ；
Ａ２は、Ｃ、ＣＲ２Ａ、またはＮ；
Ａ３は、ＣＲ３Ａ、ＣＲ３ＡＲ３Ｂ、Ｎ、ＮＲ３Ｃ、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、またはＳＯ２；
Ａ４は、ＣＲ４Ａ、ＣＲ４ＡＲ４Ｂ、Ｎ、ＮＲ４Ｃ、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、またはＳＯ２；
Ａ５は、Ｃ、ＣＲ５Ａ、またはＮ；
Ａ６は、Ｃ、ＣＲ６Ａ、またはＮ；
Ｒ１Ａ、Ｒ２Ａ、Ｒ３Ａ、Ｒ３Ｂ、Ｒ４Ａ、Ｒ４Ｂ、Ｒ５Ａ、およびＲ６Ａは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキルカルボニル、置換もしくは非置換のアルケニルカルボニル、置換もしくは非置換のアルキニルカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環チオ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環チオ、置換もしくは非置換の芳香族複素環チオ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環チオ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アミノ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アミノ、置換もしくは非置換の芳香族複素環アミノ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アミノ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環カルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環カルボニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環カルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環カルボニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルカルボニル、置換もしくは非置換のアミノ、または置換もしくは非置換のカルバモイル；
Ｒ３ＣおよびＲ４Ｃは、それぞれ独立して、水素、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基；または、
Ｒ３ＡおよびＲ３Ｂは一緒になってオキソを形成してもよく、Ｒ４ＡおよびＲ４Ｂは一緒になってオキソを形成してもよい；
Ｒ３ＡおよびＲ４Ａは、隣接原子と一緒になって、置換もしくは非置換の単環性炭素環、または置換もしくは非置換の単環性複素環を形成してもよく、該炭素環または複素環はさらに縮合されていてもよい；
Ｒ３ＡおよびＲ４Ｃは、隣接原子と一緒になって、置換もしくは非置換の単環性複素環を形成してもよく、該複素環はさらに縮合されていてもよい；
Ｒ３ＣおよびＲ４Ａは、隣接原子と一緒になって、置換もしくは非置換の単環性複素環を形成してもよく、該複素環はさらに縮合されていてもよい；
Ｒ３ＣおよびＲ４Ｃは、隣接原子と一緒になって、置換もしくは非置換の単環性複素環を形成してもよく、該複素環はさらに縮合されていてもよい；
Ｒ３ＡおよびＲ３Ｂは、隣接原子と一緒になって、置換もしくは非置換のスピロ環を形成してもよく、該スピロ環はさらに縮合されていてもよい；
Ｒ４ＡおよびＲ４Ｂは、隣接原子と一緒になって、置換もしくは非置換のスピロ環を形成してもよく、該スピロ環はさらに縮合されていてもよい；
Ｒ４Ｂは、Ｔ１環の円孤上の原子と一緒になって、置換もしくは非置換の単環性炭素環、または置換もしくは非置換の単環性複素環を形成してもよく、該炭素環または複素環はさらに縮合されていてもよい；
Ｒ４Ｃは、Ｔ１環の円孤上の原子と一緒になって、置換もしくは非置換の単環性複素環を形成してもよく、該複素環はさらに縮合されていてもよい；
破線は、単結合の存在または非存在を示し、隣接する破線が同時に存在することはなく、
１、２、３位の炭素原子は、ｓｐ２炭素である；
Ｔ１環は、置換もしくは非置換の単環性炭素環、または置換もしくは非置換の単環性複素環であり、（１）該炭素環または複素環は、他の置換もしくは非置換の炭素環または置換もしくは非置換の複素環と縮合していてもよく、および／または（２）該炭素環または複素環を構成する互いに隣接しない２個の原子は、置換もしくは非置換のアルキレン、置換もしくは非置換のアルケニレン、または置換もしくは非置換のアルキニレンにより架橋されていてもよい；
Ｒ１は、ハロゲン、シアノ、ニトロまたは−Ｘ1−Ｒ１１であり、
Ｘ1は、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ１２−、−ＣＯ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＲ１２−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＲ１２−、−ＮＲ１２−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＲ１２−ＣＯ−ＮＲ１３−、−ＮＲ１２−ＳＯ２−または−ＳＯ２−ＮＲ１２−であり、
Ｒ１１は、水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換の炭素環式基、または置換もしくは非置換の複素環式基であり、
Ｒ１２およびＲ１３は、それぞれ独立して、水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニルまたは置換もしくは非置換のアルキニルであり、
Ｘ1が−ＮＲ１２−、−ＣＯ−ＮＲ１２−または−ＳＯ２−ＮＲ１２−の場合は、Ｒ１１とＲ１２が隣接する窒素原子と一緒になって置換もしくは非置換の複素環式基を形成しても良く、
Ｘ1が−ＮＲ1２−ＣＯ−ＮＲ1３−の場合は、Ｒ1１とＲ1３が隣接する窒素原子と一緒になって置換もしくは非置換の複素環式基を形成しても良く、
Ｒ１は、Ｔ１環の円孤上の炭素原子または窒素原子と一緒になって、置換もしくは非置換の単環性炭素環、または置換もしくは非置換の単環性複素環を形成してもよく、該炭素環または複素環はさらに縮合されていてもよい；
Ｒ２は、それぞれ独立して、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、置換もしくは非置換のシクロアルキルオキシ、または置換もしくは非置換のシクロアルケニルオキシ；
ｎは、１または２；
Ｒ３は、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルケニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルケニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルケニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルケニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキニル、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキニル；
Ｒ４は、水素またはカルボキシ保護基）
（１’）以下の式（Ｉ）’で示される化合物またはその製薬上許容される塩。
【化２】
0006579549.tif 000003
（式中、
Ａ１は、Ｃ、ＣＲ１Ａ、またはＮ；
Ａ２は、Ｃ、ＣＲ２Ａ、またはＮ；
Ａ３は、ＣＲ３Ａ、ＣＲ３ＡＲ３Ｂ、Ｎ、ＮＲ３Ｃ、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、またはＳＯ２；
Ａ４は、ＣＲ４Ａ、ＣＲ４ＡＲ４Ｂ、Ｎ、ＮＲ４Ｃ、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、またはＳＯ２；
Ａ５は、Ｃ、ＣＲ５Ａ、またはＮ；
Ｒ１Ａ、Ｒ２Ａ、Ｒ３Ａ、Ｒ３Ｂ、Ｒ４Ａ、Ｒ４Ｂ、およびＲ５Ａは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基チオ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基チオ、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基チオ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基チオ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基アミノ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基アミノ、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基アミノ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基アミノ、置換もしくは非置換のカルボニル、または置換もしくは非置換のカルバモイル；
Ｒ３ＣおよびＲ４Ｃは、それぞれ独立して、水素、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基；または、
Ｒ３ＡおよびＲ３Ｂは一緒になってオキソを形成してもよく、Ｒ４ＡおよびＲ４Ｂは一緒になってオキソを形成してもよい；
Ｒ３ＡおよびＲ４Ａは、隣接原子と一緒になって、置換もしくは非置換の単環性炭素環、または置換もしくは非置換の単環性複素環を形成してもよく、該炭素環または複素環はさらに縮合されていてもよい；
Ｒ３ＡおよびＲ４Ｃは、隣接原子と一緒になって、置換もしくは非置換の単環性複素環を形成してもよく、該複素環はさらに縮合されていてもよい；
Ｒ３ＣおよびＲ４Ａは、隣接原子と一緒になって、置換もしくは非置換の単環性複素環を形成してもよく、該複素環はさらに縮合されていてもよい；
Ｒ３ＣおよびＲ４Ｃは、隣接原子と一緒になって、置換もしくは非置換の単環性複素環を形成してもよく、該複素環はさらに縮合されていてもよい；
Ｒ３ＡおよびＲ３Ｂは、隣接原子と一緒になって、置換もしくは非置換のスピロ環を形成してもよく、該スピロ環はさらに縮合されていてもよい；
Ｒ４ＡおよびＲ４Ｂは、隣接原子と一緒になって、置換もしくは非置換のスピロ環を形成してもよく、該スピロ環はさらに縮合されていてもよい；
Ｒ４Ｂは、Ｔ１環の円孤上の原子と一緒になって、置換もしくは非置換の単環性炭素環、または置換もしくは非置換の単環性複素環を形成してもよく、該炭素環または複素環はさらに縮合されていてもよい；
Ｒ４Ｃは、Ｔ１環の円孤上の原子と一緒になって、置換もしくは非置換の単環性複素環を形成してもよく、該複素環はさらに縮合されていてもよい；
破線は、単結合の存在または非存在を示し、隣接する破線が同時に存在することはない；
Ｔ１環は、置換もしくは非置換の単環性炭素環、または置換もしくは非置換の単環性複素環であり、（１）該炭素環または複素環は、他の置換もしくは非置換の炭素環または置換もしくは非置換の複素環と縮合していてもよく、および／または（２）該炭素環または複素環を構成する互いに隣接しない２個の原子は、置換もしくは非置換のアルキレン、置換もしくは非置換のアルケニレン、または置換もしくは非置換のアルキニレンにより架橋されていてもよい；
Ｒ１は、ハロゲン、シアノ、ニトロまたは−Ｘ1−Ｒ１１であり、
Ｘ1は、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ１２−、−ＣＯ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＲ１２−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＲ１２−、−ＮＲ１２−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＲ１２−ＣＯ−ＮＲ１３−、−ＮＲ１２−ＳＯ２−または−ＳＯ２−ＮＲ１２−であり、
Ｒ１１は、水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換の炭素環式基、または置換もしくは非置換の複素環式基であり、
Ｒ１２およびＲ１３は、それぞれ独立して、水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニルまたは置換もしくは非置換のアルキニルであり、
Ｘ1が−ＮＲ１２−、−ＣＯ−ＮＲ１２−または−ＳＯ２−ＮＲ１２−の場合は、Ｒ１１とＲ１２が隣接する窒素原子と一緒になって置換もしくは非置換の複素環式基を形成しても良く、
Ｘ1が−ＮＲ1２−ＣＯ−ＮＲ1３−の場合は、Ｒ1１とＲ1３が隣接する窒素原子と一緒になって置換もしくは非置換の複素環式基を形成しても良い；
Ｒ２は、それぞれ独立して、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、置換もしくは非置換のシクロアルキルオキシ、または置換もしくは非置換のシクロアルケニルオキシ；
ｎは、１または２；
Ｒ３は、水素、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、または非環式基；
Ｒ４は、水素またはカルボキシ保護基）
（１’’）以下の式（Ｉ）’で示される化合物またはその製薬上許容される塩。
【化３】
0006579549.tif 000004
（式中、
Ａ１は、Ｃ、ＣＲ１Ａ、またはＮ；
Ａ２は、Ｃ、ＣＲ２Ａ、またはＮ；
Ａ３は、ＣＲ３Ａ、ＣＲ３ＡＲ３Ｂ、Ｎ、ＮＲ３Ｃ、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、またはＳＯ２；
Ａ４は、ＣＲ４Ａ、ＣＲ４ＡＲ４Ｂ、Ｎ、ＮＲ４Ｃ、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、またはＳＯ２；
Ａ５は、Ｃ、ＣＲ５Ａ、またはＮ；
Ｒ１Ａ、Ｒ２Ａ、Ｒ３Ａ、Ｒ３Ｂ、Ｒ４Ａ、Ｒ４Ｂ、およびＲ５Ａは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、ヒドロキシ、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキルカルボニル、置換もしくは非置換のアルケニルカルボニル、置換もしくは非置換のアルキニルカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基チオ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基チオ、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基チオ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基チオ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基アミノ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基アミノ、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基アミノ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基アミノ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環カルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環カルボニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環カルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環カルボニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルカルボニル、または置換もしくは非置換のカルバモイル；
Ｒ３ＣおよびＲ４Ｃは、それぞれ独立して、水素、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基；または、
Ｒ３ＡおよびＲ３Ｂは一緒になってオキソを形成してもよく、Ｒ４ＡおよびＲ４Ｂは一緒になってオキソを形成してもよい；
Ｒ３ＡおよびＲ４Ａは、隣接原子と一緒になって、置換もしくは非置換の単環性炭素環、または置換もしくは非置換の単環性複素環を形成してもよく、該炭素環または複素環はさらに縮合されていてもよい；
Ｒ３ＡおよびＲ４Ｃは、隣接原子と一緒になって、置換もしくは非置換の単環性複素環を形成してもよく、該複素環はさらに縮合されていてもよい；
Ｒ３ＣおよびＲ４Ａは、隣接原子と一緒になって、置換もしくは非置換の単環性複素環を形成してもよく、該複素環はさらに縮合されていてもよい；
Ｒ３ＣおよびＲ４Ｃは、隣接原子と一緒になって、置換もしくは非置換の単環性複素環を形成してもよく、該複素環はさらに縮合されていてもよい；
Ｒ３ＡおよびＲ３Ｂは、隣接原子と一緒になって、置換もしくは非置換のスピロ環を形成してもよく、該スピロ環はさらに縮合されていてもよい；
Ｒ４ＡおよびＲ４Ｂは、隣接原子と一緒になって、置換もしくは非置換のスピロ環を形成してもよく、該スピロ環はさらに縮合されていてもよい；
Ｒ４Ｂは、Ｔ１環の円孤上の原子と一緒になって、置換もしくは非置換の単環性炭素環、または置換もしくは非置換の単環性複素環を形成してもよく、該炭素環または複素環はさらに縮合されていてもよい；
Ｒ４Ｃは、Ｔ１環の円孤上の原子と一緒になって、置換もしくは非置換の単環性複素環を形成してもよく、該複素環はさらに縮合されていてもよい；
破線は、単結合の存在または非存在を示し、隣接する破線が同時に存在することはない；
Ｔ１環は、置換もしくは非置換の単環性炭素環、または置換もしくは非置換の単環性複素環であり、（１）該炭素環または複素環は、他の置換もしくは非置換の炭素環または置換もしくは非置換の複素環と縮合していてもよく、および／または（２）該炭素環または複素環を構成する互いに隣接しない２個の原子は、置換もしくは非置換のアルキレン、置換もしくは非置換のアルケニレン、または置換もしくは非置換のアルキニレンにより架橋されていてもよい；
Ｒ１は、ハロゲン、シアノ、ニトロまたは−Ｘ1−Ｒ１１であり、
Ｘ1は、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ１２−、−ＣＯ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＲ１２−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＲ１２−、−ＮＲ１２−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＲ１２−ＣＯ−ＮＲ１３−、−ＮＲ１２−ＳＯ２−または−ＳＯ２−ＮＲ１２−であり、
Ｒ１１は、水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換の炭素環式基、または置換もしくは非置換の複素環式基であり、
Ｒ１２およびＲ１３は、それぞれ独立して、水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニルまたは置換もしくは非置換のアルキニルであり、
Ｘ1が−ＮＲ１２−、−ＣＯ−ＮＲ１２−または−ＳＯ２−ＮＲ１２−の場合は、Ｒ１１とＲ１２が隣接する窒素原子と一緒になって置換もしくは非置換の複素環式基を形成しても良く、
Ｘ1が−ＮＲ1２−ＣＯ−ＮＲ1３−の場合は、Ｒ1１とＲ1３が隣接する窒素原子と一緒になって置換もしくは非置換の複素環式基を形成しても良い；
Ｒ２は、それぞれ独立して、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、置換もしくは非置換のシクロアルキルオキシ、または置換もしくは非置換のシクロアルケニルオキシ；
ｎは、１または２；
Ｒ３は、水素、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、または非環式基；
Ｒ４は、水素またはカルボキシ保護基）
【００１０】
（２）以下のいずれかの式で示される、上記（１）、（１’）もしくは（１’’）記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【化４】
0006579549.tif 000005
（式中、各記号はそれぞれ独立して、上記（１）、（１’）または（１’’）と同意義）
（３）以下の１）〜３）の少なくとも１つの条件を満たす、上記（１）、（１’）、（１’’）もしくは（２）に記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
１）Ａ３が、Ｎ、ＮＲ３Ｃ、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、またはＳＯ２。
２）Ａ４が、Ｎ、ＮＲ４Ｃ、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、またはＳＯ２。
３）Ａ５が、Ｎ。
（４）Ａ３がＣＲ３Ａ；Ａ４がＣＲ４Ａ；Ａ５がＮである、上記（１）、（１’）、（１’’）もしくは（２）に記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
（５）Ａ３がＮまたはＮＲ３Ｃ；Ａ４がＣＲ４Ａ；Ａ５がＣである、上記（１）、（１’）、（１’’）もしくは（２）に記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
（６）Ａ３がＮまたはＮＲ３Ｃ；Ａ４がＣＲ４Ａ；Ａ５がＣまたはＮである、上記（１）、（１’）、（１’’）もしくは（２）に記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
（７）Ａ３がＯまたはＳ；Ａ４がＣＲ４ＡまたはＮ；Ａ５がＣである、上記（１）、（１’）、（１’’）もしくは（２）に記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
（８）以下の式（Ｉ−Ａ）で示される、上記（１）、（１’）、もしくは（１’’）記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【化５】
0006579549.tif 000006
（式中、各記号はそれぞれ独立して、上記（１）、（１’）または（１’’）と同意義）
（９）以下のいずれかの式で示される、上記（８）記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【化６】
0006579549.tif 000007
（式中、各記号はそれぞれ独立して、上記（１）、（１’）または（１’’）と同意義）
（１０）以下の式（Ｉ−Ｂ）で示される、上記（１）、（１’）もしくは（１’’）記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【化７】
0006579549.tif 000008
（式中、各記号はそれぞれ独立して、上記（１）、（１’）または（１’’）と同意義）
（１１）以下のいずれかの式で示される、上記（１０）記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【化８】
0006579549.tif 000009
（式中、各記号はそれぞれ独立して、上記（１）、（１’）または（１’’）と同意義）
（１２）以下の式（Ｉ−Ｃ）で示される、上記（１）、（１’）もしくは（１’’）記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【化９】
0006579549.tif 000010
（式中、各記号はそれぞれ独立して、上記（１）、（１’）または（１’’）と同意義）
（１３）以下のいずれかの式で示される、上記（１２）記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【化１０】
0006579549.tif 000011
（式中、各記号はそれぞれ独立して、上記（１）、（１’）または（１’’）と同意義）
【００１１】
（１４）Ｔ１環が、以下のいずれかの構造である、上記（１）、（１’）、（１’’）、（２）〜（１３）のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【化１１】
0006579549.tif 000012
（式中、
Ａ１、Ａ５およびＡ６は、上記（１）、（１’）または（１’’）と同意義；
Ｒａは、水素、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換の炭素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基、−ＣＯＲａ１、−ＳＯＲａ２、または−ＳＯ２Ｒａ３（Ｒａ１、Ｒａ２、およびＲａ３は、それぞれ独立して、水素、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換の炭素環式基、または置換もしくは非置換の複素環式基）；
ｍは、０〜５の整数；
Ｌは、−ＳＯ２−、−ＳＯ−、−ＣＯ−、または−ＣＲｂＲｃ−；
ＲｂおよびＲｃは、それぞれ独立して、水素、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換の炭素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基、またはＲｂおよびＲｃは一緒になってオキソを形成していてもよい）
（１４’）Ｔ１環が、以下のいずれかの構造である、上記（１’）または（１’’）、（２）〜（１３）のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【化１２】
0006579549.tif 000013
（式中、
Ａ１およびＡ５は、上記（１’）または（１’’）と同意義；
Ｒａは、水素、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換の炭素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基、−ＣＯＲａ１、−ＳＯＲａ２、または−ＳＯ２Ｒａ３（Ｒａ１、Ｒａ２、およびＲａ３は、それぞれ独立して、水素、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換の炭素環式基、または置換もしくは非置換の複素環式基）；
ｍは、０〜５の整数；
Ｌは、−ＳＯ２−、−ＳＯ−、−ＣＯ−、または−ＣＲｂＲｃ−；
ＲｂおよびＲｃは、それぞれ独立して、水素、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換の炭素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基、またはＲｂおよびＲｃは一緒になってオキソを形成していてもよい）
（１５）Ｔ１環が、以下のいずれかの構造である、上記（１）、（１’）、（１’’）、（２）〜（１３）のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【化１３】
0006579549.tif 000014
（１５’）Ｔ１環が、以下のいずれかの構造である、上記（１’）、（１’’）、（２）〜（１３）のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【化１４】
0006579549.tif 000015
（１６）以下のいずれかの式で示される、上記（１）、（１’）もしくは（１’’）記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【化１５】
0006579549.tif 000016
【化１６】
0006579549.tif 000017
【化１７】
0006579549.tif 000018
【化１８】
0006579549.tif 000019
【化１９】
0006579549.tif 000020
【化２０】
0006579549.tif 000021
【化２１】
0006579549.tif 000022
【化２２】
0006579549.tif 000023
【化２３】
0006579549.tif 000024
【化２４】
0006579549.tif 000025
【化２５】
0006579549.tif 000026
【化２６】
0006579549.tif 000027
（式中、各記号は前記と同意義）
（１７）以下のいずれかの式で示される、上記（１）、（１’）もしくは（１’’）記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【化２７】
0006579549.tif 000028
【化２８】
0006579549.tif 000029
【化２９】
0006579549.tif 000030
【化３０】
0006579549.tif 000031
【化３１】
0006579549.tif 000032
【化３２】
0006579549.tif 000033
【化３３】
0006579549.tif 000034
【化３４】
0006579549.tif 000035
【化３５】
0006579549.tif 000036
（式中、各記号は前記と同意義）
（１８）以下のいずれかの式で示される、上記（１）、（１’）もしくは（１’’）記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【化３６】
0006579549.tif 000037
【化３７】
0006579549.tif 000038
【化３８】
0006579549.tif 000039
【化３９】
0006579549.tif 000040
【化４０】
0006579549.tif 000041
【化４１】
0006579549.tif 000042
（１９）Ｔ１環が上記（１５）に記載の式（Ｔ１−２−１）、（Ｔ１−２−２）または（Ｔ１−２−３）で示される構造である、上記（８）〜（１３）のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
（２０）Ｒ１がアルキルである、上記（１）、（１’）、（１’’）、（２）〜（１９）のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
（２１）ｎが１、Ｒ２がアルキルオキシである、上記（１）、（１’）、（１’’）、（２）〜（１９）のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
（２２）Ｒ４が、水素である、上記（１）、（１’）、（１’’）、（２）〜（１９）のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
（２３）Ｒ３が、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基である、上記（１）、（１’）、（１’’）、（２）〜（１９）のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
（２４）Ｒ１がアルキル；ｎが１、Ｒ２がアルキルオキシ；Ｒ４が水素；Ｒ３が置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基である、上記（１）、（１’）、（１’’）、（２）〜（１９）のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
（２５）Ｒ１がアルキル；ｎが１、Ｒ２がアルキルオキシ；Ｒ４が水素；Ｒ３が、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基；ｍが０〜３の整数；ＲｂおよびＲｃがそれぞれ独立して水素またはアルキルである、上記（１４）〜（１９）のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【００１２】
（２６）以下の式で示される、（１）、（１’）もしくは（１’’）記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【化４２】
0006579549.tif 000043
（式中、Ｒ１がアルキル；ｎが１、Ｒ２がアルキルオキシ；Ｒ４が水素；Ｒ３が置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基または置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、Ｒ３Ａが水素、Ｒ４Ａが置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、Ｔ１環が置換もしくは非置換の単環性複素環）
化合物（Ｉ−Ａ−１）は、好ましくは前記（１６）の記載の化合物（Ｉ−Ａ−１−１）〜（Ｉ−Ａ−１−５）であり、より好ましくは以下の（２７）〜（３１）に記載の化合物である。
（２７）以下の式で示される、上記（２６）記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【化４３】
0006579549.tif 000044
（式中、Ｒ１がアルキル；ｎが１、Ｒ２がアルキルオキシ；Ｒ４が水素；Ｒ３が置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基または置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、Ｒ３Ａが水素、Ｒ４Ａが置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、ｍが１、ＲｂおよびＲＣが水素、Ｒａが水素またはアルキル）
（２８）以下の式で示される、上記（２６）記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【化４４】
0006579549.tif 000045
（式中、Ｒ１がアルキル；ｎが１、Ｒ２がアルキルオキシ；Ｒ４が水素；Ｒ３が置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基または置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、Ｒ３Ａが水素、Ｒ４Ａが置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、ｍが１、Ｒｂがそれぞれ独立して水素またはアルキル、ＲＣが水素、Ｒａ３がアルキル）
（２９）以下の式で示される、上記（２６）記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【化４５】
0006579549.tif 000046
（式中、Ｒ１がアルキル；ｎが１、Ｒ２がアルキルオキシ；Ｒ４が水素；Ｒ３が置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基または置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、Ｒ３Ａが水素、Ｒ４Ａが置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、ｍが１、Ｒａが水素またはアルキル）
（３０）以下の式で示される、上記（２６）記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【化４６】
0006579549.tif 000047
（式中、Ｒ１がアルキル；ｎが１、Ｒ２がアルキルオキシ；Ｒ４が水素；Ｒ３が置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基または置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、Ｒ３Ａが水素、Ｒ４Ａが置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、ｍが１、Ｒａ１が水素またはアルキル）
（３１）以下の式で示される、上記（２６）記載の化合物またはその製薬上許容される塩。
【化４７】
0006579549.tif 000048
（式中、Ｒ１がアルキル；ｎが１、Ｒ２がアルキルオキシ；Ｒ４が水素；Ｒ３が置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基または置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、Ｒ３Ａが水素、Ｒ４Ａが置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、ｍが１、Ｒａ１が水素またはアルキル）
（３２）上記（１）、（１’）、（１’’）、（２）〜（３１）のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩を含有する、医薬組成物。
（３３）抗ウイルス作用を有する、上記（３２）記載の医薬組成物。
（３４）抗ＨＩＶ作用を有する、上記（３２）記載の医薬組成物。
（３５）上記（１）、（１’）、（１’’）、（２）〜（３１）のいずれかに記載の化合物、またはその製薬上許容される塩を投与することを特徴とする、ＨＩＶ感染症の治療または予防方法。
（３６）ＨＩＶ感染症の治療または予防剤を製造するための、上記（１）、（１’）、（１’’）、（２）〜（３１）のいずれかに記載の化合物、またはその製薬上許容される塩の使用。
（３７）ＨＩＶ感染症の治療または予防するための、上記（１）、（１’）、（１’’）、（２）〜（３１）のいずれかに記載の化合物、またはその製薬上許容される塩。
【００１３】
（３８）上記（１）、（１’）、（１’’）、（２）〜（３１）のいずれかに記載の化合物、またはその製薬上許容される塩を含有する、経口投与のための医薬組成物。
（３９）錠剤、散剤、顆粒剤、カプセル剤、丸剤、フィルム剤、懸濁剤、乳剤、エリキシル剤、シロップ剤、リモナーデ剤、酒精剤、芳香水剤、エキス剤、煎剤またはチンキ剤である、（３８）記載の医薬組成物。
（４０）糖衣錠、フィルムコーティング錠、腸溶性コーティング錠、徐放錠、トローチ錠、舌下錠、バッカル錠、チュアブル錠、口腔内崩壊錠、ドライシロップ、ソフトカプセル剤、マイクロカプセル剤または徐放性カプセル剤である、（３９）記載の医薬組成物。
（４１）上記（１）、（１’）、（１’’）、（２）〜（３１）のいずれかに記載の化合物、またはその製薬上許容される塩を含有する、非経口投与のための医薬組成物。
（４２）経皮、皮下、静脈内、動脈内、筋肉内、腹腔内、経粘膜、吸入、経鼻、点眼、点耳または膣内投与のための、（４１）記載の医薬組成物。
（４３）注射剤、点滴剤、点眼剤、点鼻剤、点耳剤、エアゾール剤、吸入剤、ローション剤、注入剤、塗布剤、含嗽剤、浣腸剤、軟膏剤、硬膏剤、ゼリー剤、クリーム剤、貼付剤、パップ剤、外用散剤または坐剤である、（４１）または（４２）記載の医薬組成物。
（４４）上記（１）、（１’）、（１’’）、（２）〜（３１）のいずれかに記載の化合物、またはその製薬上許容される塩を含有する、小児用または高齢者用の医薬組成物。
（４５）上記（１）、（１’）、（１’’）、（２）〜（３１）のいずれかに記載の化合物、またはその製薬上許容される塩と、逆転写酵素阻害剤、プロテアーゼ阻害剤、インテグラーゼ阻害剤、またはその他の抗ＨＩＶ薬との組み合わせからなる医薬組成物。
（４６）上記（１）、（１’）、（１’’）、（２）〜（３１）のいずれかに記載の化合物、またはその製薬上許容される塩を含有する、逆転写酵素阻害剤、プロテアーゼ阻害剤、インテグラーゼ阻害剤、またはその他の抗ＨＩＶ薬との併用療法のための医薬組成物。
本発明は更に以下の発明を提供する。
上記化合物またはその製薬上許容される塩をヒトに投与することを特徴とする、ウイルス感染症（例：ＨＩＶ感染症）の治療または予防方法。
ウイルス感染症（例：ＨＩＶ感染症）の治療または予防のための上記化合物またはその製薬上許容される塩。
【発明の効果】
【００１４】
本発明化合物は、ウイルス、特にＨＩＶ（例：ＨＩＶ−１）やその変異ウイルス、耐性ウイルスに対して複製阻害活性を有する。よって、ウイルス感染症（例：エイズ）等の予防または治療に有用である。また本発明は、抗ウイルス剤の合成中間体を提供する。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下に本明細書において用いられる各用語の意味を説明する。各用語は特に断りのない限り、単独で用いられる場合も、または他の用語と組み合わせて用いられる場合も、同一の意味で用いられる。
【００１６】
「ハロゲン」とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、およびヨウ素原子を包含する。特にフッ素原子、および塩素原子が好ましい。
【００１７】
「アルキル」とは、炭素数１〜１５、好ましくは炭素数１〜１０、より好ましくは炭素数１〜６、さらに好ましくは炭素数１〜４の直鎖または分枝状の炭化水素基を包含する。例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｎ−ヘキシル、イソヘキシル、ｎ−へプチル、イソヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル等が挙げられる。
「アルキル」の好ましい態様として、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチルが挙げられる。さらに好ましい態様として、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｔｅｒｔ−ブチルが挙げられる。
【００１８】
「アルケニル」とは、任意の位置に１以上の二重結合を有する、炭素数２〜１５、好ましくは炭素数２〜１０、より好ましくは炭素数２〜６、さらに好ましくは炭素数２〜４の直鎖または分枝状の炭化水素基を包含する。例えば、ビニル、アリル、プロペニル、イソプロペニル、ブテニル、イソブテニル、プレニル、ブタジエニル、ペンテニル、イソペンテニル、ペンタジエニル、ヘキセニル、イソヘキセニル、ヘキサジエニル、ヘプテニル、オクテニル、ノネニル、デセニル、ウンデセニル、ドデセニル、トリデセニル、テトラデセニル、ペンタデセニル等が挙げられる。
「アルケニル」の好ましい態様として、ビニル、アリル、プロペニル、イソプロペニル、ブテニルが挙げられる。
【００１９】
「アルキニル」とは、任意の位置に１以上の三重結合を有する、炭素数２〜１０、好ましくは炭素数２〜８、さらに好ましくは炭素数２〜６、さらに好ましくは炭素数２〜４の直鎖または分枝状の炭化水素基を包含する。例えば、エチニル、プロピニル、ブチニル、ペンチニル、ヘキシニル、ヘプチニル、オクチニル、ノニニル、デシニル等を包含する。これらはさらに任意の位置に二重結合を有していてもよい。
「アルキニル」の好ましい態様として、エチニル、プロピニル、ブチニル、ペンチニルが挙げられる。
【００２０】
「アルキレン」とは、炭素数１〜１５、好ましくは炭素数１〜１０、より好ましくは炭素数１〜６、さらに好ましくは炭素数１〜４の直鎖または分枝状の２価の炭化水素基を包含する。例えば、メチレン、エチレン、トリメチレン、プロピレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン等が挙げられる。
【００２１】
「アルケニレン」とは、任意の位置に１以上の二重結合を有する、炭素数２〜１５、好ましくは炭素数２〜１０、より好ましくは炭素数２〜６、さらに好ましくは炭素数２〜４の直鎖または分枝状の２価の炭化水素基を包含する。例えば、ビニレン、プロペニレン、ブテニレン、ペンテニレン等が挙げられる。
【００２２】
「アルキニレン」とは、任意の位置に１以上の三重結合を有する、炭素数２〜１５、好ましくは炭素数２〜１０、より好ましくは炭素数２〜６、さらに好ましくは炭素数２〜４の直鎖または分枝状の２価の炭化水素基を包含する。これらはさらに任意の位置に二重結合を有していてもよい。例えば、エチニレン、プロピニレン、ブチニレン、ペンチニレン、ヘキシニレン等が挙げられる。
【００２３】
「炭素環」とは、単環または２環以上の環式炭化水素を意味し、縮合環、スピロ環および架橋式環を含む。縮合環、スピロ環および架橋式環の環構成原子は、ヘテロ原子を含んでいても良い。「単環性炭素環」は、単環の炭素環を意味し、芳香族炭素環および非芳香族炭素環を包含する。
単環の芳香族炭素環としては、ベンゼン環が挙げられる。
単環の非芳香族炭素環としては、炭素数３〜１６が好ましく、より好ましくは炭素数３〜１２、さらに好ましくは炭素数４〜８である。例えば、シクロアルカン、シクロアルケン等が挙げられる。
「シクロアルカン」としては、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、シクロノナン等が挙げられる。
「シクロアルケン」としては、シクロプロペン、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロヘキサジエン等が挙げられる。
【００２４】
「複素環」とは、Ｏ、ＳおよびＮから任意に選択される同一または異なるヘテロ原子を環内に１以上、好ましくは１〜４個有する、単環または２環以上の環を意味し、縮合環、スピロ環および架橋式環を含む。縮合環、スピロ環および架橋式環の環構成原子は、ヘテロ原子を含んでいなくてもよい。「単環性複素環」は、単環の複素環を意味し、芳香族複素環および非芳香族複素環を包含する。２環以上の複素環は、単環または２環以上の複素環に、上記「炭素環」が縮合したものも包含する。複素環は、好ましくは５〜７員または８〜１２員である。
単環の芳香族複素環としては、５〜６員の芳香族複素環が挙げられる。
単環の非芳香族複素環としては、５〜１０員の非芳香族複素環が挙げられる。
【００２５】
「炭素環」および「複素環」は、以下のように架橋式環またはスピロ環を形成する環も包含する。「架橋式環」とは、環を構成する互いに隣接しない２個の原子がアルキレン、アルケニレン、アルキニレン等により架橋されている構造を有する環を意味する。
【化４８】
0006579549.tif 000049
【００２６】
「炭素環式基」とは、単環または２環以上の環式炭化水素基を意味し、縮合環式基、スピロ環式基および架橋式環式基を含む。炭素環式基は、芳香族炭素環式基および非芳香族炭素環式基を包含する。
【００２７】
「複素環式基」とは、Ｏ、ＳおよびＮから任意に選択される同一または異なるヘテロ原子を環内に１以上、好ましくは１〜４個有する、単環または２環以上の環式基を意味し、縮合環式基、スピロ環式基および架橋式環式基を含む。縮合環式基、スピロ環式基および架橋式環式基の環構成原子は、ヘテロ原子を含んでいなくてもよい。複素環式基は、芳香族複素環式基および非芳香族複素環式基を包含する。２環以上の複素環式基は、単環または２環以上の複素環式基に、上記「炭素環」が縮合したものも包含する。複素環式基は、好ましくは５〜７員または８〜１２員である。
【００２８】
「芳香族炭素環」とは、単環または２環以上の、環状芳香族炭化水素を包含する。例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環等が挙げられる。
「芳香族炭素環」の一つの態様として、ベンゼン環、ナフタレン環が挙げられる。別の態様として、ベンゼン環が挙げられる。
【００２９】
「芳香族炭素環式基」とは、単環または２環以上の、芳香族炭化水素基を意味する。例えば、フェニル、ナフチル、アントリル、フェナントリル等が挙げられる。
「芳香族炭素環式基」の好ましい態様として、フェニルが挙げられる。
【００３０】
「非芳香族炭素環」とは、単環または２環以上の、環状飽和炭化水素または環状非芳香族不飽和炭化水素を包含する。２環以上の「非芳香族炭素環」は、単環または２環以上の非芳香族炭素環に、上記「芳香族炭素環」における環が縮合したものも包含する。
さらに、「非芳香族炭素環」は、以下のように架橋している環、またはスピロ環を形成する環も包含する。
【化４９】
0006579549.tif 000050
単環の非芳香族炭素環としては、炭素数３〜１６が好ましく、より好ましくは炭素数３〜１２、さらに好ましくは炭素数３〜８である。例えば、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、シクロノナン、シクロデカン、シクロプロペン、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロヘキサジエン等が挙げられる。
２環以上の非芳香族炭素環としては、例えば、インダン、インデン、アセナフタレン、テトラヒドロナフタレン、フルオレン等が挙げられる。
【００３１】
「非芳香族炭素環式基」とは、単環または２環以上の、非芳香族飽和炭化水素基または非芳香族不飽和炭化水素基を意味する。２環以上の非芳香族炭素環式基は、単環または２環以上の非芳香族炭素環式基に、上記「芳香族炭素環式基」における環が縮合したものも包含する。
さらに、「非芳香族炭素環式基」は、以下のように架橋している基、またはスピロ環を形成する基も包含する。
【化５０】
0006579549.tif 000051
単環の非芳香族炭素環式基としては、炭素数３〜１６が好ましく、より好ましくは炭素数３〜１２、さらに好ましくは炭素数４〜８である。例えば、シクロアルキル、シクロアルケニル等が挙げられる。
「シクロアルキル」としては、炭素数３〜１０が好ましく、より好ましくは炭素数３〜７であり、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル等が挙げられる。
「シクロアルケニル」としては、シクロプロペニル、シクロブテニル、シクロペンテニル、シクロヘキセニル、シクロヘプテニル、シクロヘキサジエニル等が挙げられる。
２環以上の非芳香族炭素環式基としては、例えば、インダニル、インデニル、アセナフチル、テトラヒドロナフチル、フルオレニル、ジヒドロインデニル等が挙げられる。
【００３２】
「芳香族複素環」とは、酸素原子、硫黄原子および窒素原子から任意に選択される同一または異なるヘテロ原子を環内に１以上有する、単環または２環以上の、芳香族環を包含する。
２環以上の「芳香族複素環」は、単環または２環以上の芳香族複素環に、上記「芳香族炭素環」における環が縮合したものも包含する。
単環の芳香族複素環としては、５〜８員が好ましく、より好ましくは５員または６員である。例えば、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、トリアゾール、トリアジン、テトラゾール、フラン、チオフェン、イソオキサゾール、オキサゾール、オキサジアゾール、イソチアゾール、チアゾール、チアジアゾール等が挙げられる。
２環の芳香族複素環としては、例えば、インドリン、イソインドリン、インダゾリン、インドリジン、キノリン、イソキノリン、シンノリン、フタラジン、キナゾリン、ナフチリジン、キノキサリン、プリン、プテリジン、ベンズイミダゾール、ベンズイソオキサゾール、ベンズオキサゾール、ベンズオキサジアゾール、ベンゾイソチアゾール、ベンゾチアゾール、ベンゾチアジアゾール、ベンゾフラン、イソベンゾフラン、ベンゾチオフェン、ベンゾトリアゾール、イミダゾピリジン、トリアゾロピリジン、イミダゾチアゾール、ピラジノピリダジン、オキサゾロピリジン、チアゾロピリジン等が挙げられる。
３環以上の芳香族複素環としては、例えば、カルバゾール、アクリジン、キサンテン、フェノチアジン、フェノキサチイン、フェノキサジン、ジベンゾフラン等が挙げられる。
【００３３】
「芳香族複素環式基」とは、Ｏ、ＳおよびＮから任意に選択される同一または異なるヘテロ原子を環内に１以上有する、単環または２環以上の、芳香族環式基を意味する。
２環以上の芳香族複素環式基は、単環または２環以上の芳香族複素環式基に、上記「芳香族炭素環式基」における環が縮合したものも包含する。
単環の芳香族複素環式基としては、５〜１０員が好ましく、より好ましくは５員または６員である。例えば、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニル、トリアゾリル、トリアジニル、テトラゾリル、フリル、チエニル、イソオキサゾリル、オキサゾリル、オキサジアゾリル、イソチアゾリル、チアゾリル、チアジアゾリル等が挙げられる。
２環の芳香族複素環式基としては、８〜１８員が好ましく、例えば、インドリル、イソインドリル、インダゾリル、インドリジニル、キノリニル、イソキノリニル、シンノリニル、フタラジニル、キナゾリニル、ナフチリジニル、キノキサリニル、プリニル、プテリジニル、ベンズイミダゾリル、ベンズイソオキサゾリル、ベンズオキサゾリル、ベンズオキサジアゾリル、ベンズイソチアゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾチアジアゾリル、ベンゾフリル、イソベンゾフリル、ベンゾチエニル、ベンゾトリアゾリル、イミダゾピリジル、トリアゾロピリジル、イミダゾチアゾリル、ピラジノピリダジニル、オキサゾロピリジル、チアゾロピリジル等が挙げられる。
３環以上の芳香族複素環式基としては、１１〜２６員が好ましく、例えば、カルバゾリル、アクリジニル、キサンテニル、フェノチアジニル、フェノキサチイニル、フェノキサジニル、ジベンゾフリル等が挙げられる。
【００３４】
「非芳香族複素環」とは、酸素原子、硫黄原子および窒素原子から任意に選択される同一または異なるヘテロ原子を環内に１以上有する、単環または２環以上の、環状非芳香族環を包含する。
２環以上の「非芳香族複素環」は、単環または２環以上の非芳香族複素環に、上記「芳香族炭素環」、「非芳香族炭素環」、および／または「芳香族複素環」におけるそれぞれの環が縮合したものも包含する。
さらに、「非芳香族複素環」は、以下のように架橋している環、またはスピロ環を形成する環も包含する。
【化５１】
0006579549.tif 000052
単環の非芳香族複素環としては、３〜８員が好ましく、より好ましくは５員または６員である。例えば、ジオキサン、チイラン、オキシラン、オキセタン、オキサチオラン、アゼチジン、チアン、チアゾリジン、ピロリジン、ピロリン、イミダゾリジン、イミダゾリン、ピラゾリジン、ピラゾリン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、チオモルホリン、ジヒドロピリジン、テトラヒドロピリジン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジヒドロチアゾリン、テトラヒドロチアゾリン、テトラヒドロイソチアゾリン、ジヒドロオキサジン、ヘキサヒドロアゼピン、テトラヒドロジアゼピン、テトラヒドロピリダジン、ヘキサヒドロピリミジン、ジオキソラン、ジオキサジン、アジリジン、ジオキソリン、オキセパン、チオラン、チアジン等が挙げられる。
２環以上の非芳香族複素環としては、例えば、インドリン、イソインドリン、クロマン、イソクロマン等が挙げられる。
【００３５】
「非芳香族複素環式基」とは、Ｏ、ＳおよびＮから任意に選択される同一または異なるヘテロ原子を環内に１以上有する、単環または２環以上の、非芳香族環式基を意味する。
２環以上の非芳香族複素環式基は、単環または２環以上の非芳香族複素環式基に、上記「芳香族炭素環式基」、「非芳香族炭素環式基」、および／または「芳香族複素環式基」におけるそれぞれの環が縮合したものも包含する。
さらに、「非芳香族複素環式基」は、以下のように架橋している基、またはスピロ環を形成する基も包含する。
【化５２】
0006579549.tif 000053
単環の非芳香族複素環式基としては、３〜８員が好ましく、より好ましくは５員または６員である。例えば、ジオキサニル、チイラニル、オキシラニル、オキセタニル、オキサチオラニル、アゼチジニル、チアニル、チアゾリジニル、ピロリジニル、ピロリニル、イミダゾリジニル、イミダゾリニル、ピラゾリジニル、ピラゾリニル、ピペリジル、ピペラジニル、モルホリニル、モルホリノ、チオモルホリニル、チオモルホリノ、ジヒドロピリジル、テトラヒドロピリジル、テトラヒドロフリル、テトラヒドロピラニル、ジヒドロチアゾリル、テトラヒドロチアゾリル、テトラヒドロイソチアゾリル、ジヒドロオキサジニル、ヘキサヒドロアゼピニル、テトラヒドロジアゼピニル、テトラヒドロピリダジニル、ヘキサヒドロピリミジニル、ジオキソラニル、ジオキサジニル、アジリジニル、ジオキソリニル、オキセパニル、チオラニル、チイニル、チアジニル等が挙げられる。
２環以上の非芳香族複素環式基としては、例えば、インドリニル、イソインドリニル、クロマニル、イソクロマニル、ジヒドロベンゾフリル、ベンゾジオキソリル、ベンゾジオキサニル、ベンゾモルホリニル等が挙げられる。
【００３６】
「ヒドロキシアルキル」とは、１以上のヒドロキシ基が、上記「アルキル」の炭素原子に結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、ヒドロキシメチル、１−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシエチル、１−ヒドロキシプロピル、２−ヒドロキシプロピル、１，２−ヒドロキシエチル等が挙げられる。
「ヒドロキシアルキル」の好ましい態様として、ヒドロキシメチルが挙げられる。
【００３７】
「アルキルオキシ」とは、上記「アルキル」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ｎ−ブチルオキシ、ｔｅｒｔ−ブチルオキシ、イソブチルオキシ、ｓｅｃ−ブチルオキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、へキシルオキシ等が挙げられる。
「アルキルオキシ」の好ましい態様として、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ｔｅｒｔ−ブチルオキシが挙げられる。
【００３８】
「アルケニルオキシ」とは、上記「アルケニル」が酸素原子に結合した基を意味する。
例えば、ビニルオキシ、アリルオキシ、１−プロペニルオキシ、２−ブテニルオキシ、２−ペンテニルオキシ、２−ヘキセニルオキシ、２−ヘプテニルオキシ、２−オクテニルオキシ等が挙げられる。
【００３９】
「アルキニルオキシ」とは、上記「アルキニル」が酸素原子に結合した基を意味する。
例えば、エチニルオキシ、１−プロピニルオキシ、２−プロピニルオキシ、２−ブチニルオキシ、２−ペンチニルオキシ、２−ヘキシニルオキシ、２−ヘプチニルオキシ、２−オクチニルオキシ等が挙げられる。
【００４０】
「ハロアルキル」とは、１以上の上記「ハロゲン」が上記「アルキル」に結合した基を意味する。例えば、モノフルオロメチル、モノフルオロエチル、モノフルオロプロピル、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル、モノクロロメチル、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、２，２，２−トリフルオロエチル、２，２，２−トリクロロエチル、１，２−ジブロモエチル、１，１，１−トリフルオロプロパン−２−イル等が挙げられる。
「ハロアルキル」の好ましい態様として、トリフルオロメチル、トリクロロメチルが挙げられる。
【００４１】
「ハロアルキルオキシ」とは、上記「ハロアルキル」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、モノフルオロメトキシ、モノフルオロエトキシ、トリフルオロメトキシ、トリクロロメトキシ、トリフルオロエトキシ、トリクロロエトキシ等が挙げられる。
「ハロアルキルオキシ」の好ましい態様として、トリフルオロメトキシ、トリクロロメトキシが挙げられる。
【００４２】
「アルキルオキシアルキル」とは、上記「アルキルオキシ」が上記「アルキル」に結合した基を意味する。例えば、メトキシメチル、メトキシエチル、エトキシメチル等が挙げられる。
【００４３】
「アルキルオキシアルキルオキシ」とは、上記「アルキルオキシ」が上記「アルキルオキシ」に結合した基を意味する。例えば、メトキシメトキシ、メトキシエトキシ、エトキシメトキシ、エトキシエトキシ等が挙げられる。
【００４４】
「アルキルカルボニル」とは、上記「アルキル」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、メチルカルボニル、エチルカルボニル、プロピルカルボニル、イソプロピルカルボニル、ｔｅｒｔ−ブチルカルボニル、イソブチルカルボニル、ｓｅｃ−ブチルカルボニル、ペンチルカルボニル、イソペンチルカルボニル、へキシルカルボニル等が挙げられる。
「アルキルカルボニル」の好ましい態様として、メチルカルボニル、エチルカルボニル、ｎ−プロピルカルボニルが挙げられる。
【００４５】
「アルケニルカルボニル」とは、上記「アルケニル」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、エチレニルカルボニル、プロペニルカルボニル等が挙げられる。
【００４６】
「アルキニルカルボニル」とは、上記「アルキニル」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、エチニルカルボニル、プロピニルカルボニル等が挙げられる。
【００４７】
「モノアルキルアミノ」とは、上記「アルキル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子１個と置き換わった基を意味する。例えば、メチルアミノ、エチルアミノ、イソプロピルアミノ等が挙げられる。
「モノアルキルアミノ」の好ましい態様として、メチルアミノ、エチルアミノが挙げられる。
【００４８】
「ジアルキルアミノ」とは、上記「アルキル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子２個と置き換わった基を意味する。２個のアルキル基は、同一でも異なっていてもよい。例えば、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−イソプロピル−Ｎ−エチルアミノ等が挙げられる。
「ジアルキルアミノ」の好ましい態様として、ジメチルアミノ、ジエチルアミノが挙げられる。
【００４９】
「アルキルスルホニル」とは、上記「アルキル」がスルホニル基に結合した基を意味する。例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、イソプロピルスルホニル、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニル、イソブチルスルホニル、ｓｅｃ−ブチルスルホニル等が挙げられる。
「アルキルスルホニル」の好ましい態様として、メチルスルホニル、エチルスルホニルが挙げられる。
【００５０】
「アルケニルスルホニル」とは、上記「アルケニル」がスルホニル基に結合した基を意味する。例えば、エチレニルスルホニル、プロペニルスルホニル等が挙げられる。
【００５１】
「アルキニルスルホニル」とは、上記「アルキニル」がスルホニル基に結合した基を意味する。例えば、エチニルスルホニル、プロピニルスルホニル等が挙げられる。
【００５２】
「モノアルキルカルボニルアミノ」とは、上記「アルキルカルボニル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子１個と置き換わった基を意味する。例えば、メチルカルボニルアミノ、エチルカルボニルアミノ、プロピルカルボニルアミノ、イソプロピルカルボニルアミノ、ｔｅｒｔ−ブチルカルボニルアミノ、イソブチルカルボニルアミノ、ｓｅｃ−ブチルカルボニルアミノ等が挙げられる。
「モノアルキルカルボニルアミノ」の好ましい態様としては、メチルカルボニルアミノ、エチルカルボニルアミノが挙げられる。
【００５３】
「ジアルキルカルボニルアミノ」とは、上記「アルキルカルボニル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子２個と置き換わった基を意味する。２個のアルキルカルボニル基は、同一でも異なっていてもよい。例えば、ジメチルカルボニルアミノ、ジエチルカルボニルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルカルボニルアミノ等が挙げられる。
「ジアルキルカルボニルアミノ」の好ましい態様として、ジメチルカルボニルアミノ、ジエチルカルボニルアミノが挙げられる。
【００５４】
「モノアルキルスルホニルアミノ」とは、上記「アルキルスルホニル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子１個と置き換わった基を意味する。例えば、メチルスルホニルアミノ、エチルスルホニルアミノ、プロピルスルホニルアミノ、イソプロピルスルホニルアミノ、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニルアミノ、イソブチルスルホニルアミノ、ｓｅｃ−ブチルスルホニルアミノ等が挙げられる。
「モノアルキルスルホニルアミノ」の好ましい態様としては、メチルスルホニルアミノ、エチルスルホニルアミノが挙げられる。
【００５５】
「ジアルキルスルホニルアミノ」とは、上記「アルキルスルホニル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子２個と置き換わった基を意味する。２個のアルキルスルホニル基は、同一でも異なっていてもよい。例えば、ジメチルスルホニルアミノ、ジエチルスルホニルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルスルホニルアミノ等が挙げられる。
「ジアルキルカルボニルアミノ」の好ましい態様として、ジメチルスルホニルアミノ、ジエチルスルホニルアミノが挙げられる。
【００５６】
「アルキルイミノ」とは、上記「アルキル」がイミノ基の窒素原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、メチルイミノ、エチルイミノ、ｎ−プロピルイミノ、イソプロピルイミノ等が挙げられる。
【００５７】
「アルケニルイミノ」とは、上記「アルケニル」がイミノ基の窒素原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、エチレニルイミノ、プロペニルイミノ等が挙げられる。
【００５８】
「アルキニルイミノ」とは、上記「アルキニル」がイミノ基の窒素原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、エチニルイミノ、プロピニルイミノ等が挙げられる。
【００５９】
「アルキルカルボニルイミノ」とは、上記「アルキルカルボニル」がイミノ基の窒素原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、メチルカルボニルイミノ、エチルカルボニルイミノ、ｎ−プロピルカルボニルイミノ、イソプロピルカルボニルイミノ等が挙げられる。
【００６０】
「アルケニルカルボニルイミノ」とは、上記「アルケニルカルボニル」がイミノ基の窒素原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、エチレニルカルボニルイミノ、プロペニルカルボニルイミノ等が挙げられる。
【００６１】
「アルキニルカルボニルイミノ」とは、上記「アルキニルカルボニル」がイミノ基の窒素原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、エチニルカルボニルイミノ、プロピニルカルボニルイミノ等が挙げられる。
【００６２】
「アルキルオキシイミノ」とは、上記「アルキルオキシ」がイミノ基の窒素原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、メチルオキシイミノ、エチルオキシイミノ、ｎ−プロピルオキシイミノ、イソプロピルオキシイミノ等が挙げられる。
【００６３】
「アルケニルオキシイミノ」とは、上記「アルケニルオキシ」がイミノ基の窒素原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、エチレニルオキシイミノ、プロペニルオキシイミノ等が挙げられる。
【００６４】
「アルキニルオキシイミノ」とは、上記「アルキニルオキシ」がイミノ基の窒素原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、エチニルオキシイミノ、プロピニルオキシイミノ等が挙げられる。
【００６５】
「アルキルカルボニルオキシ」とは、上記「アルキルカルボニル」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、メチルカルボニルオキシ、エチルカルボニルオキシ、プロピルカルボニルオキシ、イソプロピルカルボニルオキシ、ｔｅｒｔ−ブチルカルボニルオキシ、イソブチルカルボニルオキシ、ｓｅｃ−ブチルカルボニルオキシ等が挙げられる。
「アルキルカルボニルオキシ」の好ましい態様としては、メチルカルボニルオキシ、エチルカルボニルオキシが挙げられる。
【００６６】
「アルケニルカルボニルオキシ」とは、上記「アルケニルカルボニル」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、エチレニルカルボニルオキシ、プロペニルカルボニルオキシ等が挙げられる。
【００６７】
「アルキニルカルボニルオキシ」とは、上記「アルキニルカルボニル」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、エチニルカルボニルオキシ、プロピニルカルボニルオキシ等が挙げられる。
【００６８】
「アルキルスルホニルオキシ」とは、上記「アルキルスルホニル」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、メチルスルホニルオキシ、エチルスルホニルオキシ、プロピルスルホニルオキシ、イソプロピルスルホニルオキシ、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニルオキシ、イソブチルスルホニルオキシ、ｓｅｃ−ブチルスルホニルオキシ等が挙げられる。
「アルキルスルホニルオキシ」の好ましい態様としては、メチルスルホニルオキシ、エチルスルホニルオキシが挙げられる。
【００６９】
「アルケニルスルホニルオキシ」とは、上記「アルケニルスルホニル」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、エチレニルスルホニルオキシ、プロペニルスルホニルオキシ等が挙げられる。
【００７０】
「アルキニルスルホニルオキシ」とは、上記「アルキニルスルホニル」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、エチニルスルホニルオキシ、プロピニルスルホニルオキシ等が挙げられる。
【００７１】
「アルキルオキシカルボニル」とは、上記「アルキルオキシ」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、メチルオキシカルボニル、エチルオキシカルボニル、プロピルオキシカルボニル、イソプロピルオキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル、イソブチルオキシカルボニル、ｓｅｃ−ブチルオキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、イソペンチルオキシカルボニル、へキシルオキシカルボニル等が挙げられる。
「アルキルオキシカルボニル」の好ましい態様としては、メチルオキシカルボニル、エチルオキシカルボニル、プロピルオキシカルボニルが挙げられる。
【００７２】
「アルケニルオキシカルボニル」とは、上記「アルケニルオキシ」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、エチレニルオキシカルボニル、プロペニルオキシカルボニル等が挙げられる。
【００７３】
「アルキニルオキシカルボニル」とは、上記「アルキニルオキシ」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、エチニルオキシカルボニル、プロピニルオキシカルボニル等が挙げられる。
【００７４】
「アルキルスルファニル」とは、上記「アルキル」がスルファニル基の硫黄原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、メチルスルファニル、エチルスルファニル、ｎ−プロピルスルファニル、イソプロピルスルファニル等が挙げられる。
【００７５】
「アルケニルスルファニル」とは、上記「アルケニル」がスルファニル基の硫黄原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、エチレニルスルファニル、プロペニルスルファニル等が挙げられる。
【００７６】
「アルキニルスルファニル」とは、上記「アルキニル」がスルファニル基の硫黄原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、エチニルスルファニル、プロピニルスルファニル等が挙げられる。
【００７７】
「アルキルスルフィニル」とは、上記「アルキル」がスルフィニル基に結合した基を意味する。例えば、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、ｎ−プロピルスルフィニル、イソプロピルスルフィニル等が挙げられる。
【００７８】
「アルケニルスルフィニル」とは、上記「アルケニル」がスルフィニル基に結合した基を意味する。例えば、エチレニルスルフィニル、プロペニルスルフィニル等が挙げられる。
【００７９】
「アルキニルスルフィニル」とは、上記「アルキニル」がスルフィニル基に結合した基を意味する。例えば、エチニルスルフィニル、プロピニルスルフィニル等が挙げられる。
【００８０】
「モノアルキルカルバモイル」とは、上記「アルキル」がカルバモイル基の窒素原子と結合している水素原子１個と置き換わった基を意味する。例えば、メチルカルバモイル、エチルカルバモイル等が挙げられる。
【００８１】
「ジアルキルカルバモイル」とは、上記「アルキル」がカルバモイル基の窒素原子と結合している水素原子２個と置き換わった基を意味する。２個のアルキル基は、同一でも異なっていてもよい。例えば、ジメチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル等が挙げられる。
【００８２】
「モノアルキルスルファモイル」とは、上記「アルキル」がスルファモイル基の窒素原子と結合している水素原子１個と置き換わった基を意味する。例えば、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイルモイル等が挙げられる。
【００８３】
「ジアルキルスルファモイル」とは、上記「アルキル」がスルファモイル基の窒素原子と結合している水素原子２個と置き換わった基を意味する。２個のアルキル基は、同一でも異なっていてもよい。例えば、ジメチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル等が挙げられる。
【００８４】
「トリアルキルシリル」とは、上記「アルキル」３個がケイ素原子に結合している基を意味する。３個のアルキルは同一でも異なっていてもよい。例えば、トリメチルシリル、トリエチルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル等が挙げられる。
【００８５】
「芳香族炭素環アルキル」、「非芳香族炭素環アルキル」、「芳香族複素環アルキル」、および「非芳香族複素環アルキル」、「芳香族炭素環アルキルオキシ」、「非芳香族炭素環アルキルオキシ」、「芳香族複素環アルキルオキシ」、および「非芳香族複素環アルキルオキシ」、
「芳香族炭素環アルキルスルファニル」、「非芳香族炭素環アルキルスルファニル」、「芳香族複素環アルキルスルファニル」、および「非芳香族複素環アルキルスルファニル」、
「芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル」、「非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル」、「芳香族複素環アルキルオキシカルボニル」、および「非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル」、「芳香族炭素環アルキルオキシアルキル」、「非芳香族炭素環アルキルオキシアルキル」、「芳香族複素環アルキルオキシアルキル」、および「非芳香族複素環アルキルオキシアルキル」、ならびに「芳香族炭素環アルキルアミノ」、「非芳香族炭素環アルキルアミノ」、「芳香族複素環アルキルアミノ」、および「非芳香族複素環アルキルアミノ」のアルキル部分も上記「アルキル」と同様である。
【００８６】
「芳香族炭素環アルキル」またはアラルキルとは、１以上の上記「芳香族炭素環式基」で置換されているアルキルを意味する。例えば、ベンジル、フェネチル、フェニルプロピニル、ベンズヒドリル、トリチル、ナフチルメチル、以下に示される基
【化５３】
0006579549.tif 000054
等が挙げられる。
「芳香族炭素環アルキル」の好ましい態様としては、ベンジル、フェネチル、ベンズヒドリルが挙げられる。
【００８７】
「非芳香族炭素環アルキル」とは、１以上の上記「非芳香族炭素環式基」で置換されているアルキルを意味する。また、「非芳香族炭素環アルキル」は、アルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」で置換されている「非芳香族炭素環アルキル」も包含する。例えば、シクロプロピルメチル、シクロブチルメチル、シクロペンチルメチル、シクロへキシルメチル、以下に示される基
【化５４】
0006579549.tif 000055
等が挙げられる。
【００８８】
「芳香族複素環アルキル」とは、１以上の上記「芳香族複素環式基」で置換されているアルキルを意味する。また、「芳香族複素環アルキル」は、アルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」および／または「非芳香族炭素環式基」で置換されている「芳香族複素環アルキル」も包含する。例えば、ピリジルメチル、フラニルメチル、イミダゾリルメチル、インドリルメチル、ベンゾチオフェニルメチル、オキサゾリルメチル、イソキサゾリルメチル、チアゾリルメチル、イソチアゾリルメチル、ピラゾリルメチル、イソピラゾリルメチル、ピロリジニルメチル、ベンズオキサゾリルメチル、以下に示される基
【化５５】
0006579549.tif 000056
等が挙げられる。
【００８９】
「非芳香族複素環アルキル」とは、１以上の上記「非芳香族複素環式基」で置換されているアルキルを意味する。また、「非芳香族複素環アルキル」は、アルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」、「非芳香族炭素環式基」および／または「芳香族複素環式基」で置換されている「非芳香族複素環アルキル」も包含する。例えば、テトラヒドロピラニルメチル、モルホリニルエチル、ピペリジニルメチル、ピペラジニルメチル、以下に示される基
【化５６】
0006579549.tif 000057
等が挙げられる。
【００９０】
「芳香族炭素環アルキルオキシ」とは、１以上の上記「芳香族炭素環式基」で置換されているアルキルオキシを意味する。例えば、ベンジルオキシ、フェネチルオキシ、フェニルプロピニルオキシ、ベンズヒドリルオキシ、トリチルオキシ、ナフチルメチルオキシ、以下に示される基
【化５７】
0006579549.tif 000058
等が挙げられる。
【００９１】
「非芳香族炭素環アルキルオキシ」とは、１以上の上記「非芳香族炭素環式基」で置換されているアルキルオキシを意味する。また、「非芳香族炭素環アルキルオキシ」は、アルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」で置換されている「非芳香族炭素環アルキルオキシ」も包含する。例えば、シクロプロピルメチルオキシ、シクロブチルメチルオキシ、シクロペンチルメチルオキシ、シクロへキシルメチルオキシ、以下に示される基
【化５８】
0006579549.tif 000059
等が挙げられる。
【００９２】
「芳香族複素環アルキルオキシ」とは、１以上の上記「芳香族複素環式基」で置換されているアルキルオキシを意味する。また、「芳香族複素環アルキルオキシ」は、アルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」および／または「非芳香族炭素環式基」で置換されている「芳香族複素環アルキルオキシ」も包含する。例えば、ピリジルメチルオキシ、フラニルメチルオキシ、イミダゾリルメチルオキシ、インドリルメチルオキシ、ベンゾチオフェニルメチルオキシ、オキサゾリルメチルオキシ、イソキサゾリルメチルオキシ、チアゾリルメチルオキシ、イソチアゾリルメチルオキシ、ピラゾリルメチルオキシ、イソピラゾリルメチルオキシ、ピロリジニルメチルオキシ、ベンズオキサゾリルメチルオキシ、以下に示される基
【化５９】
0006579549.tif 000060
等が挙げられる。
【００９３】
「非芳香族複素環アルキルオキシ」とは、１以上の上記「非芳香族複素環式基」で置換されているアルキルオキシを意味する。また、「非芳香族複素環アルキルオキシ」は、アルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」、「非芳香族炭素環式基」および／または「芳香族複素環式基」で置換されている「非芳香族複素環アルキルオキシ」も包含する。例えば、テトラヒドロピラニルメチルオキシ、モルホリニルエチルオキシ、ピペリジニルメチルオキシ、ピペラジニルメチルオキシ、以下に示される基
【化６０】
0006579549.tif 000061
等が挙げられる。
【００９４】
「芳香族炭素環アルキルスルファニル」とは、１以上の上記「芳香族炭素環式基」で置換されているアルキルスルファニルを意味する。例えば、ベンジルスルファニル、フェネチルスルファニル、フェニルプロピニルスルファニル、ベンズヒドリルスルファニル、トリチルスルファニル、ナフチルメチルスルファニル等が挙げられる。
【００９５】
「非芳香族炭素環アルキルスルファニル」とは、１以上の上記「非芳香族炭素環式基」で置換されているアルキルスルファニルを意味する。また、「非芳香族炭素環アルキルスルファニル」は、アルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」で置換されている「非芳香族炭素環アルキルスルファニル」も包含する。例えば、シクロプロピルメチルスルファニル、シクロブチルメチルスルファニル、シクロペンチルメチルスルファニル、シクロへキシルメチルスルファニル等が挙げられる。
【００９６】
「芳香族複素環アルキルスルファニル」とは、１以上の上記「芳香族複素環式基」で置換されているアルキルスルファニルを意味する。また、「芳香族複素環アルキルスルファニル」は、アルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」および／または「非芳香族炭素環式基」で置換されている「芳香族複素環アルキルスルファニル」も包含する。例えば、ピリジルメチルスルファニル、フラニルメチルスルファニル、イミダゾリルメチルスルファニル、インドリルメチルスルファニル、ベンゾチオフェニルメチルスルファニル、オキサゾリルメチルスルファニル、イソキサゾリルメチルスルファニル、チアゾリルメチルスルファニル、イソチアゾリルメチルスルファニル、ピラゾリルメチルスルファニル、イソピラゾリルメチルスルファニル、ピロリジニルメチルスルファニル、ベンズオキサゾリルメチルスルファニル等が挙げられる。
【００９７】
「非芳香族複素環アルキルスルファニル」とは、１以上の上記「非芳香族複素環式基」で置換されているアルキルスルファニルを意味する。また、「非芳香族複素環アルキルスルファニル」は、アルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」、「非芳香族炭素環式基」および／または「芳香族複素環式基」で置換されている「非芳香族複素環アルキルスルファニル」も包含する。例えば、テトラヒドロピラニルメチルスルファニル、モルホリニルエチルスルファニル、ピペリジニルメチルスルファニル、ピペラジニルメチルスルファニル等が挙げられる。
【００９８】
「芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル」とは、１以上の上記「芳香族炭素環式基」で置換されているアルキルオキシカルボニルを意味する。例えば、ベンジルオキシカルボニル、フェネチルオキシカルボニル、フェニルプロピニルオキシカルボニル、ベンゾヒドリルオキシカルボニル、トリチルオキシカルボニル、ナフチルメチルオキシカルボニル、以下に示される基
【化６１】
0006579549.tif 000062
等が挙げられる。
【００９９】
「非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル」とは、１以上の上記「非芳香族炭素環式基」で置換されているアルキルオキシカルボニルを意味する。また、「非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル」は、アルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」で置換されている「非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル」も包含する。例えば、シクロプロピルメチルオキシカルボニル、シクロブチルメチルオキシカルボニル、シクロペンチルメチルオキシカルボニル、シクロへキシルメチルオキシカルボニル、以下に示される基
【化６２】
0006579549.tif 000063
等が挙げられる。
【０１００】
「芳香族複素環アルキルオキシカルボニル」とは、１以上の上記「芳香族複素環式基」で置換されているアルキルオキシカルボニルを意味する。また、「芳香族複素環アルキルオキシカルボニル」は、アルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」および／または「非芳香族炭素環式基」で置換されている「芳香族複素環アルキルオキシカルボニル」も包含する。例えば、ピリジルメチルオキシカルボニル、フラニルメチルオキシカルボニル、イミダゾリルメチルオキシカルボニル、インドリルメチルオキシカルボニル、ベンゾチオフェニルメチルオキシカルボニル、オキサゾリルメチルオキシカルボニル、イソキサゾリルメチルオキシカルボニル、チアゾリルメチルオキシカルボニル、イソチアゾリルメチルオキシカルボニル、ピラゾリルメチルオキシカルボニル、イソピラゾリルメチルオキシカルボニル、ピロリジニルメチルオキシカルボニル、ベンズオキサゾリルメチルオキシカルボニル、以下に示される
【化６３】
0006579549.tif 000064
等が挙げられる。
【０１０１】
「非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル」とは、１以上の上記「非芳香族複素環式基」で置換されているアルキルオキシカルボニルを意味する。また、「非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル」は、アルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」、「非芳香族炭素環式基」および／または「芳香族複素環式基」で置換されている「非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル」も包含する。例えば、テトラヒドロピラニルメチルオキシ、モルホリニルエチルオキシ、ピペリジニルメチルオキシ、ピペラジニルメチルオキシ、以下に示される基
【化６４】
0006579549.tif 000065
等が挙げられる。
【０１０２】
「芳香族炭素環アルキルオキシアルキル」とは、１以上の上記「芳香族炭素環式基」で置換されているアルキルオキシアルキルを意味する。例えば、ベンジルオキシメチル、フェネチルオキシメチル、フェニルプロピニルオキシメチル、ベンゾヒドリルオキシメチル、トリチルオキシメチル、ナフチルメチルオキシメチル、以下に示される基
【化６５】
0006579549.tif 000066
等が挙げられる。
【０１０３】
「非芳香族炭素環アルキルオキシアルキル」とは、１以上の上記「非芳香族炭素環式基」で置換されているアルキルオキシアルキルを意味する。また、「非芳香族炭素環アルキルオキシアルキル」は、非芳香族炭素環が結合しているアルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」で置換されている「非芳香族炭素環アルキルオキシアルキル」も包含する。例えば、シクロプロピルメチルオキシメチル、シクロブチルメチルオキシメチル、シクロペンチルメチルオキシメチル、シクロへキシルメチルオキシメチル、以下に示される基
【化６６】
0006579549.tif 000067
等が挙げられる。
【０１０４】
「芳香族複素環アルキルオキシアルキル」とは、１以上の上記「芳香族複素環式基」で置換されているアルキルオキシアルキルを意味する。また、「芳香族複素環アルキルオキシアルキル」は、芳香族複素環が結合しているアルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」および／または「非芳香族炭素環式基」で置換されている「芳香族複素環アルキルオキシアルキル」も包含する。例えば、ピリジルメチルオキシメチル、フラニルメチルオキシメチル、イミダゾリルメチルオキシメチル、インドリルメチルオキシメチル、ベンゾチオフェニルメチルオキシメチル、オキサゾリルメチルオキシメチル、イソキサゾリルメチルオキシメチル、チアゾリルメチルオキシメチル、イソチアゾリルメチルオキシメチル、ピラゾリルメチルオキシメチル、イソピラゾリルメチルオキシメチル、ピロリジニルメチルオキシメチル、ベンズオキサゾリルメチルオキシメチル、以下に示される基
【化６７】
0006579549.tif 000068
等が挙げられる。
【０１０５】
「非芳香族複素環アルキルオキシアルキル」とは、１以上の上記「非芳香族複素環式基」で置換されているアルキルオキシアルキルを意味する。また、「非芳香族複素環アルキルオキシ」は、非芳香族複素環が結合しているアルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」、「非芳香族炭素環式基」および／または「芳香族複素環式基」で置換されている「非芳香族複素環アルキルオキシアルキル」も包含する。例えば、テトラヒドロピラニルメチルオキシメチル、モルホリニルエチルオキシメチル、ピペリジニルメチルオキシメチル、ピペラジニルメチルオキシメチル、以下に示される基
【化６８】
0006579549.tif 000069
等が挙げられる。
【０１０６】
「芳香族炭素環アルキルアミノ」とは、上記「芳香族炭素環アルキル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子１個または２個と置き換わった基を意味する。例えば、ベンジルアミノ、フェネチルアミノ、フェニルプロピニルアミノ、ベンゾヒドリルアミノ、トリチルアミノ、ナフチルメチルアミノ、ジベンジルアミノ等が挙げられる。
【０１０７】
「非芳香族炭素環アルキルアミノ」とは、上記「非芳香族炭素環アルキル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子１個または２個と置き換わった基を意味する。例えば、シクロプロピルメチルアミノ、シクロブチルメチルアミノ、シクロペンチルメチルアミノ、シクロへキシルメチルアミノ等が挙げられる。
【０１０８】
「芳香族複素環アルキルアミノ」とは、上記「芳香族複素環アルキル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子１個または２個と置き換わった基を意味する。例えば、ピリジルメチルアミノ、フラニルメチルアミノ、イミダゾリルメチルアミノ、インドリルメチルアミノ、ベンゾチオフェニルメチルアミノ、オキサゾリルメチルアミノ、イソキサゾリルメチルアミノ、チアゾリルメチルアミノ、イソチアゾリルメチルアミノ、ピラゾリルメチルアミノ、イソピラゾリルメチルアミノ、ピロリジニルメチルアミノ、ベンズオキサゾリルメチルアミノ等が挙げられる。
【０１０９】
「非芳香族複素環アルキルアミノ」とは、上記「非芳香族複素環アルキル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子１個または２個と置き換わった基を意味する。例えば、テトラヒドロピラニルメチルアミノ、モルホリニルエチルアミノ、ピペリジニルメチルアミノ、ピペラジニルメチルアミノ等が挙げられる。
【０１１０】
「芳香族炭素環オキシ」、「芳香族炭素環アミノ」、「芳香族炭素環カルボニル」、「芳香族炭素環オキシカルボニル」、「芳香族炭素環カルボニルアミノ」、「芳香族炭素環スルファニル」、および「芳香族炭素環スルホニル」の「芳香族炭素環」部分も、上記「芳香族炭素環式基」と同様である。
「芳香族炭素環オキシ」とは、「芳香族炭素環」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、フェニルオキシ、ナフチルオキシ等が挙げられる。
「芳香族炭素環アミノ」とは、「芳香族炭素環」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子１個または２個と置き換わった基を意味する。例えば、フェニルアミノ、ナフチルアミノ等が挙げられる。
「芳香族炭素環カルボニル」とは、「芳香族炭素環」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、フェニルカルボニル、ナフチルカルボニル等が挙げられる。
「芳香族炭素環オキシカルボニル」とは、上記「芳香族炭素環オキシ」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、フェニルオキシカルボニル、ナフチルオキシカルボニル等が挙げられる。
「芳香族炭素環カルボニルアミノ」とは、上記「芳香族炭素環カルボニル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子１個または２個と置き換わった基を意味する。例えば、フェニルカルボニルアミノ、ナフチルカルボニルアミノ等が挙げられる。
「芳香族炭素環スルファニル」とは、「芳香族炭素環」がスルファニル基の硫黄原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、フェニルスルファニル、ナフチルスルファニル等が挙げられる。
「芳香族炭素環スルホニル」とは、「芳香族炭素環」がスルホニル基に結合した基を意味する。例えば、フェニルスルホニル、ナフチルスルホニル等が挙げられる。
【０１１１】
「非芳香族炭素環オキシ」、「非芳香族炭素環アミノ」、「非芳香族炭素環カルボニル」、「非芳香族炭素環オキシカルボニル」、「非芳香族炭素環カルボニルアミノ」、「非芳香族炭素環スルファニル」、および「非芳香族炭素環スルホニル」の「非芳香族炭素環」部分も、上記「非芳香族炭素環式基」と同様である。
「非芳香族炭素環オキシ」とは、「非芳香族炭素環」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、シクロプロピルオキシ、シクロヘキシルオキシ、シクロへキセニルオキシ等が挙げられる。
「非芳香族炭素環アミノ」とは、「非芳香族炭素環」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子１個または２個と置き換わった基を意味する。例えば、シクロプロピルアミノ、シクロヘキシルアミノ、シクロへキセニルアミノ等が挙げられる。
「非芳香族炭素環カルボニル」とは、「非芳香族炭素環」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、シクロプロピルカルボニル、シクロヘキシルカルボニル、シクロへキセニルカルボニル等が挙げられる。
「非芳香族炭素環オキシカルボニル」とは、上記「非芳香族炭素環オキシ」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、シクロプロピルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、シクロへキセニルオキシカルボニル等が挙げられる。
「非芳香族炭素環カルボニルアミノ」とは、上記「非芳香族炭素環カルボニル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子１個または２個と置き換わった基を意味する。例えば、シクロプロピルカルボニルアミノ、シクロヘキシルカルボニルアミノ、シクロへキセニルカルボニルアミノ等が挙げられる。
「非芳香族炭素環スルファニル」とは、「非芳香族炭素環」がスルファニル基の硫黄原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、シクロプロピルスルファニル、シクロヘキシルスルファニル、シクロヘキセニルスルファニル等が挙げられる。
「非芳香族炭素環スルホニル」とは、「非芳香族炭素環」がスルホニル基に結合した基を意味する。例えば、シクロプロピルスルホニル、シクロヘキシルスルホニル、シクロヘキセニルスルホニル等が挙げられる。
【０１１２】
「芳香族複素環オキシ」、「芳香族複素環アミノ」、「芳香族複素環カルボニル」、「芳香族複素環オキシカルボニル」、「芳香族複素環カルボニルアミノ」、「芳香族複素環スルファニル」、および「芳香族複素環スルホニル」の「芳香族複素環」部分も、上記「芳香族複素環式基」と同様である。
「芳香族複素環オキシ」とは、「芳香族複素環」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、ピリジルオキシ、オキサゾリルオキシ等が挙げられる。
「芳香族複素環アミノ」とは、「芳香族複素環」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子１個または２個と置き換わった基を意味する。例えば、ピリジルアミノ、オキサゾリルアミノ等が挙げられる。
「芳香族複素環カルボニル」とは、「芳香族複素環」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、ピリジルカルボニル、オキサゾリルカルボニル等が挙げられる。
「芳香族複素環オキシカルボニル」とは、上記「芳香族複素環オキシ」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、ピリジルオキシカルボニル、オキサゾリルオキシカルボニル等が挙げられる。
「芳香族複素環カルボニルアミノ」とは、上記「芳香族複素環カルボニル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子１個または２個と置き換わった基を意味する。例えば、ピリジルカルボニルアミノ、オキサゾリルカルボニルアミノ等が挙げられる。
「芳香族複素環スルファニル」とは、「芳香族複素環」がスルファニル基の硫黄原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、ピリジルスルファニル、オキサゾリルスルファニル等が挙げられる。
「芳香族複素環スルホニル」とは、「芳香族複素環」がスルホニル基に結合した基を意味する。例えば、ピリジルスルホニル、オキサゾリルスルホニル等が挙げられる。
【０１１３】
「非芳香族複素環オキシ」、「非芳香族複素環アミノ」、「非芳香族複素環カルボニル」、「非芳香族複素環オキシカルボニル」、「非芳香族複素環カルボニルアミノ」、「非芳香族複素環スルファニル」、および「非芳香族複素環スルホニル」の「非芳香族複素環」部分も、上記「非芳香族複素環式基」と同様である。
「非芳香族複素環オキシ」とは、「非芳香族複素環」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、ピペリジニルオキシ、テトラヒドロフリルオキシ等が挙げられる。
「非芳香族複素環アミノ」とは、「非芳香族複素環」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子１個と置き換わった基を意味する。例えば、ピペリジニルアミノ、テトラヒドロフリルアミノ等が挙げられる。
「非芳香族複素環カルボニル」とは、「非芳香族複素環」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、ピペリジニルカルボニル、テトラヒドロフリルカルボニル等が挙げられる。
「非芳香族複素環オキシカルボニル」とは、上記「非芳香族複素環オキシ」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、ピペリジニルオキシカルボニル、テトラヒドロフリルオキシカルボニル等が挙げられる。
「非芳香族複素環カルボニルアミノ」とは、上記「非芳香族複素環カルボニル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子１個または２個と置き換わった基を意味する。例えば、ピペリジニルカルボニルアミノ、テトラヒドロフリルカルボニルアミノ等が挙げられる。
「非芳香族複素環スルファニル」とは、「非芳香族複素環」がスルファニル基の硫黄原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、ピペリジニルスルファニル、テトラヒドロフリルスルファニル等が挙げられる。
「非芳香族複素環スルホニル」とは、「非芳香族複素環」がスルホニル基に結合した基を意味する。例えば、ピペリジニルスルホニル、テトラヒドロフリルスルホニル等が挙げられる。
【０１１４】
「置換もしくは非置換のアルキル」、「置換もしくは非置換のアルケニル」、「置換もしくは非置換のアルキニル」、「置換もしくは非置換のハロアルキル」、「置換もしくは非置換のアルキルオキシ」、「置換もしくは非置換のアルケニルオキシ」、「置換もしくは非置換のアルキニルオキシ」、「置換もしくは非置換のハロアルキルオキシ」、「置換もしくは非置換のアルキルカルボニル」、「置換もしくは非置換のアルケニルカルボニル」、「置換もしくは非置換のアルキニルカルボニル」、「置換もしくは非置換のモノアルキルアミノ」、「置換もしくは非置換のジアルキルアミノ」、「置換もしくは非置換のアルキルスルホニル」、「置換もしくは非置換のアルケニルスルホニル」、「置換もしくは非置換のアルキニルスルホニル」、「置換もしくは非置換のモノアルキルカルボニルアミノ」、「置換もしくは非置換のジアルキルカルボニルアミノ」、「置換もしくは非置換のモノアルキルスルホニルアミノ」、「置換もしくは非置換のジアルキルスルホニルアミノ」、「置換もしくは非置換のアルキルイミノ」、「置換もしくは非置換のアルケニルイミノ」、「置換もしくは非置換のアルキニルイミノ」、「置換もしくは非置換のアルキルカルボニルイミノ」、「置換もしくは非置換のアルケニルカルボニルイミノ」、「置換もしくは非置換のアルキニルカルボニルイミノ」、「置換もしくは非置換のアルキルオキシイミノ」、「置換もしくは非置換のアルケニルオキシイミノ」、「置換もしくは非置換のアルキニルオキシイミノ」、「置換もしくは非置換のアルキルカルボニルオキシ」、「置換もしくは非置換のアルケニルカルボニルオキシ」、「置換もしくは非置換のアルキニルカルボニルオキシ」、置換もしくは非置換のアルキルスルホニルオキシ」、「置換もしくは非置換のアルケニルスルホニルオキシ」、「置換もしくは非置換のアルキニルスルホニルオキシ」、「置換もしくは非置換のアルキルオキシカルボニル」、「置換もしくは非置換のアルケニルオキシカルボニル」、「置換もしくは非置換のアルキニルオキシカルボニル」、「置換もしくは非置換のアルキルスルファニル」、「置換もしくは非置換のアルケニルスルファニル」、「置換もしくは非置換のアルキニルスルファニル」、「置換もしくは非置換のアルキルスルフィニル」、「置換もしくは非置換のアルケニルスルフィニル」、「置換もしくは非置換のアルキニルスルフィニル」、「置換もしくは非置換のモノアルキルカルバモイル」、「置換もしくは非置換のジアルキルカルバモイル」、「置換もしくは非置換のモノアルキルスルファモイル」、「置換もしくは非置換のジアルキルスルファモイル」、「置換もしくは非置換のアルキレン」、「置換もしくは非置換のアルケニレン」および「置換もしくは非置換のアルキニレン」等の置換基としては、次の置換基が挙げられる。任意の位置の炭素原子が次の置換基から選択される１以上の同一または異なる、好ましくは１〜４個の、より好ましくは１〜３個の基と結合していてもよい。
置換基：ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、ホルミル、ホルミルオキシ、スルファニル、スルフィノ、スルホ、チオホルミル、チオカルボキシ、ジチオカルボキシ、チオカルバモイル、シアノ、ニトロ、ニトロソ、アジド、ヒドラジノ、ウレイド、アミジノ、グアニジノ、トリアルキルシリル、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、ハロアルキルオキシ、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルスルホニルオキシ、アルケニルスルホニルオキシ、アルキニルスルホニルオキシ、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルスルファニル、アルケニルスルファニル、アルキニルスルファニル、アルキルスルフィニル、アルケニルスルフィニル、アルキニルスルフィニル、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換のイミノ、置換もしくは非置換のカルバモイル、置換もしくは非置換のスルファモイル置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環カルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環カルボニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環カルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環カルボニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルスルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルスルファニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルスルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルスルファニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルファニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環スルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルホニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルホニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環スルホニル、および置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルホニル。
【０１１５】
「置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環式基」、および「置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基」、「置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ」、および「置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシ」、「置換もしくは非置換の芳香族炭素環アミノ」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アミノ」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環アミノ」、および「置換もしくは非置換の非芳香族複素環アミノ」、「置換もしくは非置換の芳香族炭素環カルボニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環カルボニル」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環カルボニル」、および「置換もしくは非置換の非芳香族複素環カルボニル」、「置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシカルボニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシカルボニル」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシカルボニル」、および「置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシカルボニル」、
「置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルファニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルファニル」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環スルファニル」、および「置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルファニル」、ならびに「置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルホニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルホニル」、「置換もしくは非置換の芳香族複素環スルホニル」、および「置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルホニル」の「芳香族炭素環」、「非芳香族炭素環」、「芳香族複素環」、および「非芳香族複素環」の環上、ならびに「炭素環」および「複素環」の環上の置換基としては、次の置換基が挙げられる。環上の任意の位置の原子が次の置換基から選択される１以上の同一または異なる、好ましくは１〜４個の、より好ましくは１〜３個の基と結合していてもよい。
置換基：ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、ホルミル、ホルミルオキシ、スルファニル、スルフィノ、スルホ、チオホルミル、チオカルボキシ、ジチオカルボキシ、チオカルバモイル、シアノ、ニトロ、ニトロソ、アジド、ヒドラジノ、ウレイド、アミジノ、グアニジノ、トリアルキルシリル、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、ハロアルキルオキシ、アルキルオキシアルキル、アルキルオキシアルキルオキシ、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルスルホニルオキシ、アルケニルスルホニルオキシ、アルキニルスルホニルオキシ、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルスルファニル、アルケニルスルファニル、アルキニルスルファニル、アルキルスルフィニル、アルケニルスルフィニル、アルキニルスルフィニル、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換のイミノ、置換もしくは非置換のカルバモイル、置換もしくは非置換のスルファモイル置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環カルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環カルボニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環カルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環カルボニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルスルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルスルファニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルスルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルスルファニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシアルキル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシアルキル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシアルキル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシアルキル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルファニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環スルファニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルファニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環スルホニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルホニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環スルホニル、および置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルホニル。
【０１１６】
また、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基」および「置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基」は、「オキソ」で置換されている場合も包含する。
【化６９】
0006579549.tif 000070
さらに、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基」および「置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基」は、以下のようにアルキレン、アルケニレン、もしくはアルキニレンにより架橋、または他の環、例えばシクロアルカン、シクロアルケン、シクロアルキン、オキシラン、オキセタン、チイラン等と共にスピロ環が形成されている場合も包含する。
【化７０】
0006579549.tif 000071
【０１１７】
上記、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシ」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環カルボニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環カルボニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシカルボニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシカルボニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキル」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシ」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシ」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルスルファニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルスルファニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシアルキル」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシアルキル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルファニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルファニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族炭素環スルホニル」、「置換もしくは非置換の非芳香族複素環スルホニル」、「置換もしくは非置換の炭素環」および「置換もしくは非置換の複素環」の非芳香族炭素環、および非芳香族複素環部分も上記と同様に「オキソ」で置換されていてもよい。
【０１１８】
「置換もしくは非置換のアミノ」とは、次の置換基から選択される１または２の基で置換されていてもよいアミノを包含する。
置換基：ヒドロキシ、シアノ、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルキニル、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、ハロアルキルオキシ、ハロアルケニルオキシ、ハロアルキニルオキシ、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、ハロアルキルカルボニル、ハロアルケニルカルボニル、ハロアルキニルカルボニル、アルキルスルホニル、ハロアルキルスルホニル、置換若しくは非置換のカルバモイル、置換もしくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換若しくは非置換の芳香族炭素環式基、置換若しくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換若しくは非置換の芳香族複素環式基、置換若しくは非置換の非芳香族複素環式基、置換若しくは非置換の芳香族炭素環アルキル、置換若しくは非置換の非芳香族炭素環アルキル、置換若しくは非置換の芳香族複素環アルキル、置換若しくは非置換の非芳香族複素環アルキル、置換若しくは非置換の芳香族炭素環カルボニル、置換若しくは非置換の非芳香族炭素環カルボニル、置換若しくは非置換の芳香族複素環カルボニル、置換若しくは非置換の非芳香族複素環カルボニル、置換若しくは非置換の芳香族炭素環カルバモイル、置換若しくは非置換の非芳香族炭素環カルバモイル、置換若しくは非置換の芳香族複素環カルバモイル、置換若しくは非置換の非芳香族複素環カルバモイル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、および置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル。
「置換もしくは非置換のアミノ」の一つの態様として、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、エチルアミノ、ジエチルアミノ、エチルメチルアミノ、シクロプロピルアミノ、シクロヘキシルアミノ、ベンジルアミノ、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、メチルスルホニルアミノ、テトラヒドロピラニルアミノ、テトラヒドロフラニルアミノ、モルホリノアミノ、モルホリニルアミノ、ピペリジニルアミノ、ピペラジニルアミノ等が挙げられる。異なる態様として、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、エチルメチルアミノ、ジエチルアミノ、アセチルアミノ、メチルスルホニルアミノ、テトラヒドロピラニルアミノ、テトラヒドロフラニルアミノ、モルホリノアミノ、ピペリジニルアミノ等が挙げられる。
【０１１９】
「置換もしくは非置換のイミノ」とは、次の置換基から選択される１の基で置換されていてもよいイミノを包含する。
置換基：ヒドロキシ、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルキニル、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、ハロアルキルオキシ、ハロアルケニルオキシ、ハロアルキニルオキシ、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、ハロアルキルカルボニル、ハロアルケニルカルボニル、ハロアルキニルカルボニル、アミノ、アルキルアミノ、ハロアルキルアミノ、置換若しくは非置換の芳香族炭素環式基、置換若しくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換若しくは非置換の芳香族複素環式基、および置換若しくは非置換の非芳香族複素環式基。
「置換もしくは非置換のイミノ」の一つの態様として、イミノ、メチルイミノ、エチルイミノ、シクロプロピルイミノ、シクロヘキシルイミノ、アセチルイミノ、テトラヒドロピラニルイミノ、テトラヒドロフラニルイミノ、モルホリノイミノ、モルホリニルイミノ、ピペリジニルイミノ、ピペラジニルイミノ等が挙げられる。
【０１２０】
「置換もしくは非置換のカルバモイル」とは、次の置換基から選択される１または２の基で置換されていてもよいカルバモイルを包含する。
置換基：ヒドロキシ、シアノ、アミノ、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルキニル、ヒドロキシアルキル、アルキルアミノ、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、アルキルスルホニル、アルキルカルボニルアミノ、アルケニルカルボニルアミノ、置換若しくは非置換の芳香族炭素環式基、置換若しくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換若しくは非置換の芳香族複素環式基、置換若しくは非置換の非芳香族複素環式基、置換若しくは非置換の芳香族炭素環アルキル、置換若しくは非置換の非芳香族炭素環アルキル、置換若しくは非置換の芳香族複素環アルキル、および置換若しくは非置換の非芳香族複素環アルキル。
「置換もしくは非置換のカルバモイル」の一つの態様として、カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル、Ｎ−ｎ−プロピルアミノカルバモイル、Ｎ−イソプロピルカルバモイル、Ｎ−モルホリノカルバモイル、Ｎ−テトラヒドロフラニルカルバモイル、Ｎ−ピペリジルカルバモイル、Ｎ−テトラヒドロピラニルカルバモイル、Ｎ−ベンジルカルバモイル、Ｎ−アセチルカルバモイル、Ｎ−メチルスルホニルカルバモイル、Ｎ−（２，２，２−トリフルオロエチル）カルバモイル、Ｎ−（２−ヒドロキシ−１−メチルエチル）カルバモイル等が挙げられる。異なる態様として、カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−ｎ−プロピルアミノカルバモイル、Ｎ−イソプロピルカルバモイル、Ｎ−モルホリノカルバモイル、Ｎ−テトラヒドロフラニルカルバモイル、Ｎ−ピペリジルカルバモイル、Ｎ−テトラヒドロピラニルカルバモイル、Ｎ−メチルスルホニルカルバモイル、Ｎ−（２，２，２−トリフルオロエチル）カルバモイル、Ｎ−（２−ヒドロキシ−１−メチルエチル）カルバモイル等が挙げられる。
【０１２１】
「置換もしくは非置換のスルファモイル」とは、次の置換基から選択される１または２の基で置換されていてもよいアミノスルホニルを包含する。
置換基：アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルキニル、ヒドロキシアルキル、アルキルカルボニル、置換若しくは非置換の芳香族炭素環式基、置換若しくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換若しくは非置換の芳香族複素環式基、置換若しくは非置換の非芳香族複素環式基、置換若しくは非置換の芳香族炭素環アルキル、置換若しくは非置換の非芳香族炭素環アルキル、置換若しくは非置換の芳香族複素環アルキル、および置換若しくは非置換の非芳香族複素環アルキル。
「置換もしくは非置換のスルファモイル」の一つの態様として、スルファモイル、Ｎ−メチルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルスルファモイル、Ｎ−ｎ−プロピルアミノスルファモイル、Ｎ−イソプロピルスルファモイル、Ｎ−モルホリノスルファモイル、Ｎ−テトラヒドロフラニルスルファモイル、Ｎ−ピペリジルスルファモイル、Ｎ−テトラヒドロピラニルスルファモイル、Ｎ−ベンジルスルファモイル、Ｎ−アセチルスルファモイル、Ｎ−メチルスルホニルスルファモイル等が挙げられる。異なる態様として、スルファモイル、Ｎ−メチルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル、Ｎ−ｎ−プロピルアミノスルファモイル、Ｎ−イソプロピルスルファモイル、Ｎ−モルホリノスルファモイル、Ｎ−テトラヒドロフラニルスルファモイル、Ｎ−ピペリジルスルファモイル、Ｎ−テトラヒドロピラニルスルファモイル、Ｎ−メチルスルホニルスルファモイル等が挙げられる。
【０１２２】
「非環式基」とは、好ましくは水素以外であり、置換もしくは非置換のアルキル、
置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルコキシ、置換もしくは非置換のアルキルアミノ、置換もしくは非置換のアルキルチオが例示される。置換もしくは非置換の置換基としては、置換基群Ａから選択される、同一または異なる１〜４個、好ましくは１〜２個の基が例示される。該非環式基は、母核のベンゼン環との結合原子が環構成原子の一部でなければよく、該結合原子に任意の環が結合していてもよい。
置換基群Ａ：置換基群Ｂで置換されていてもよいアリール、置換基群Ｂで置換されていてもよいシクロアルキル、または置置換基群Ｂで置換されていてもよい複素環式基（好ましくは５〜７員）。
置換基群Ｂ：ハロゲン、ヒドロキシ、アルキルまたはアルキルオキシ。
【０１２３】
本発明は、以下の化合物（Ｉ）または（Ｉ）’に包含される種々の化合物を提供する。
【化７１】
0006579549.tif 000072
化合物（Ｉ）または（Ｉ）’は、[６＋５]員の縮合環にＴ１で示される環が縮合した３環性構造を基本骨格として有する。該基本骨格上には、主活性である抗ＨＩＶ複製阻害作用に悪影響を及ぼさない限りにおいて種々の置換基が存在し得、またさらに縮合環等が形成されていてもよい。
化合物（Ｉ）の好ましい態様としては、化合物（Ｉ）’が挙げられる。
各基の好ましい態様を以下に示す。
Ｒ１は、ハロゲン、シアノ、ニトロまたは−Ｘ1−Ｒ１１である。
Ｘ1は、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ１２−、−ＣＯ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＲ１２−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＲ１２−、−ＮＲ１２−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＲ１２−ＣＯ−ＮＲ１３−、−ＮＲ１２−ＳＯ２−または−ＳＯ２−ＮＲ１２−であり、
Ｒ１１は、水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換の炭素環式基、または置換もしくは非置換の複素環式基であり、
Ｒ１２およびＲ１３は、それぞれ独立して、水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニルまたは置換もしくは非置換のアルキニルであり、
Ｘ1が−ＮＲ１２−、−ＣＯ−ＮＲ１２−または−ＳＯ２−ＮＲ１２−の場合は、Ｒ１１とＲ１２が隣接する窒素原子と一緒になって置換もしくは非置換の複素環式基を形成しても良く、
Ｘ1が−ＮＲ1２−ＣＯ−ＮＲ1３−の場合は、Ｒ1１とＲ1３が隣接する窒素原子と一緒になって置換もしくは非置換の複素環式基を形成しても良い。
Ｒ１は、好ましくは、水素原子、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニルであり、より好ましくは、水素原子またはアルキル、更に好ましくは炭素数１〜６または炭素数１〜４の直鎖または分枝状のアルキル、特に好ましくはメチルである。Ｒ１における「置換もしくは非置換」の置換基としては、ヒドロキシ、アルコキシ、ハロゲン、ハロゲン化アルキル、ハロゲン化アルコキシ、アミノ、アルキルアミノ等が例示される。
Ｒ２は、それぞれ独立して、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、置換もしくは非置換のシクロアルキルオキシ、または置換もしくは非置換のシクロアルケニルオキシである。好ましくは、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシであり、より好ましくは置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシであり、特に好ましくはアルキルオキシである。アルキルオキシは、好ましくは、炭素数１〜６または炭素数１〜４の直鎖または分枝状のアルキルオキシ、より好ましくはｔ−ブチルオキシである。Ｒ２における「置換もしくは非置換」の置換基としては、ヒドロキシ、アルコキシ、ハロゲン、ハロゲン化アルキル、ハロゲン化アルコキシ、アミノ、アルキルアミノ等が例示される。
ｎは、１または２であり、好ましくは１である。
【０１２４】
ｎが１の場合、Ｒ２は好ましくは以下の立体構造をとる。
【化７２】
0006579549.tif 000073
Ｒ３は、水素、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、または非環式基である。好ましくは、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、より好ましくは置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基である。これらの環上の置換基としては、以下のＲ３１〜Ｒ３５が例示される。
Ｒ３は、好ましくは、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基または非芳香族環式基であり、好ましくは５〜７員であるが、縮合されていてもよく、架橋構造を有していてもよい。縮合環部分は、５〜１０員で、単環でも２環性でも良い。置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基としては、以下の式で示されるベンゼン環が例示される。
【化７３】
0006579549.tif 000074
Ｒ３１、Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ３４およびＲ３５は、それぞれ独立して、好ましくは、水素原子、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、アルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシハロアルキル、ハロアルキルオキシ、カルボキシ、カルバモイル、またはアルキルアミノであり、より好ましくは、水素原子、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、アルキルまたはアルキルオキシであり、さらに好ましくは、水素、フルオロ、クロロ、ブロモ、ヒドロキシ、アミノ、メチル、エチルまたはメチルオキシであり、特に好ましくは、水素、ハロゲン、ヒドロキシ、メチルまたはエチルである。
またＲ３１とＲ３２、Ｒ３２とＲ３３、Ｒ３３とＲ３４ならびにＲ３４とＲ３５は、それぞれ独立して、隣接する原子と一緒になって置換もしくは非置換の芳香族炭素環、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環、置換もしくは非置換の芳香族複素環または置換もしくは非置換の非芳香族複素環を形成していても良い。これらの環は、好ましくは５〜８員、より好ましくは５員または６員であり、６員がより好ましい。またＲ３１、Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ３４およびＲ３５における互いに隣接していない２個の基は一緒になって架橋構造を形成してもよい。架橋構造としては、置換もしくは非置換のアルキレン、置換もしくは非置換のアルケニレンが例示される。「置換もしくは非置換」の置換基は好ましくは、アルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、ハロゲン、ハロゲン化アルキル、アミノ、アルキルアミノ、ヒドロキシ、オキソ、カルボキシ、カルバモイルまたはフェニルであり、より好ましくは、ハロゲン、アルキル、アルコキシ、アミノ、ヒドロキシおよび／またはオキソであり、さらに好ましくは、メチル、エチル、Ｆ，Ｂｒ，アミノ、ヒドロキシ等である。
Ｒ３は、より好ましくは、１〜２個の炭素環または複素環（例：５〜７員環）と縮合していてもよい、フェニルまたは非芳香族炭素環であり、より好ましくは以下に例示される環式基である。該炭素環、複素環、フェニル、非芳香族炭素環、または以下の環式基上には、同一または異なる１〜４個の置換基（例：ハロゲン、ヒドロキシ、アルコキシ、アミノ、モノまたはジアルキルアミノ、アルキル、ハロゲン化アルキル、ヒドロキシアルキル、アミノアルキル、オキソ、シアノ）が存在していてもよい。
Ｒ３の非環式基は、好ましくは水素以外であり、置換もしくは非置換のアルキル、
置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルコキシ、置換もしくは非置換のアルキルアミノ、置換もしくは非置換のアルキルチオが例示される。置換もしくは非置換の置換基としては、前記の置換基群Ａから選択される、同一または異なる１〜４個、好ましくは１〜２個の基が例示される。該非環式基は、母核のベンゼン環との結合原子が環構成原子の一部でなければよく、該結合原子に任意の環が結合していてもよい。Ｒ３における非環式基は、より好ましくは、アルケニル、シクロアルキルアルキル、シクロアルキルオキシ等である。
Ｒ３における非環式基の別の態様は、アルケニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルケニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルケニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルケニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルケニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキニル、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキニルであり、より好ましくは、アルケニル、シクロアルキルアルケニル等である。置換もしくは非置換の置換基としては、前記の置換基群Ａから選択される、同一または異なる１〜４個、好ましくは１〜２個の基が例示される。
【０１２５】
Ｒ３は、さらに好ましくは、以下の基である。
【化７４】
0006579549.tif 000075
【化７５】
0006579549.tif 000076
【化７６】
0006579549.tif 000077
またＲ３は、化合物（Ｉ）または（Ｉ）’の母核であるベンゼン環との結合部位がＮ原子である環状アミン、好ましくは飽和の環状アミンであってもよい。該環状アミンは、置換、縮合および/または架橋されていてもよい５〜７員複素環であり、環構成原子としてＯ原子および／またはＳ原子が含まれていてもよい。置換基として好ましくは、アルキル、シクロアルキル、オキソ、ヒドロキシ、ハロゲン、アルコキシ等である。該環状アミンとしては、以下が例示される。
【化７７】
0006579549.tif 000078
またＲ３は、以下に例示されるような、環内に２重結合を１または２本有する置換または非置換の非芳香族炭素環式基、環内に２重結合を１または２本有する置換または非置換の非芳香族複素環式基であってもよい。該炭素環式基または該複素環式基は、好ましくは５〜７員である。置換基として好ましくは、アルキル、シクロアルキル、オキソ、ヒドロキシ、ハロゲン、アルコキシ等である。
【化７８】
0006579549.tif 000079
さらにＲ３は以下の群から選択されてもよい。
【化７９】
0006579549.tif 000080
【０１２６】
化合物（Ｉ）または（Ｉ）’の異性体の一態様は、Ｒ３の環の向きによって特定される立体異性体を包含するが、本発明はそれらのすべての異性体およびラセミ体を包含する。
Ｒ４は、水素、カルボキシ保護基または、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基等であるが、好ましくは、水素である。Ｒ４が水素以外の化合物であって、加水分解やカルボキシ保護基の脱保護反応によって、水素に変換される化合物は、特に合成中間体としても有用である。またＲ４が水素以外の化合物であって、体内で水素に変換され得る化合物は、プロドラッグとしても有用である。カルボキシ保護基として好ましくはアルキル（例：メチル、エチル、ｔ−ブチル）、アラルキル（例：ベンジル）が例示され、より好ましくは炭素数１〜４のアルキルである。
Ａ１は、Ｃ、ＣＲ１Ａ、またはＮであるが、好ましくはＣまたはＮ、より好ましくはＣである。
Ａ２は、Ｃ、ＣＲ２Ａ、またはＮであるが、好ましくはＣである。
Ａ３は、ＣＲ３Ａ、ＣＲ３ＡＲ３Ｂ、Ｎ、ＮＲ３Ｃ、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、またはＳＯ２であるが、好ましくはＣＲ３Ａである。Ｒ３Ａは好ましくは、水素またはアルキル、より好ましくは水素または炭素数１〜６のアルキルである。
Ａ４は、ＣＲ４Ａ、ＣＲ４ＡＲ４Ｂ、Ｎ、ＮＲ４Ｃ、Ｏ、Ｓ、ＳＯ、またはＳＯ２であるが、好ましくはＣＲ４Ａである。Ｒ４Ａは好ましくは、水素、アルキル、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換のカルバモイル、置換もしくは非置換のフェニル、または置換もしくは非置換の複素環式基（例：４〜６員環）である。置換もしくは非置換のアミノの置換基としては、アルキル、ハロゲン化アルキル、カルバモイル、アルキルカルバモイル、アルキルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、置換基群Ａで置換されてもよい芳香族炭素環式基、置換基群Ａで置換されてもよい非芳香族炭素環式基、置換基群Ａで置換されてもよい芳香族複素環式基、置換基群Ａで置換されてもよい非芳香族複素環式基、置換基群Ａで置換されてもよい芳香族炭素環アルキル、置換基群Ａで置換されてもよい非芳香族炭素環アルキル、置換基群Ａで置換されてもよい芳香族複素環アルキル、置換基群Ａで置換されてもよい非芳香族複素環アルキル、置換基群Ａで置換されてもよい芳香族炭素環アルキルカルボニル、置換基群Ａで置換されてもよい非芳香族炭素環アルキルカルボニル、置換基群Ａで置換されてもよい芳香族複素環アルキルカルボニル、置換基群Ａで置換されてもよい非芳香族複素環アルキルカルボニル、置換基群Ａで置換されてもよい芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、置換基群Ａで置換されてもよい非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、置換基群Ａで置換されてもよい芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、置換基群Ａで置換されてもよい非芳香族複素環アルキルオキシカルボニルが例示される。置換もしくは非置換のフェニルまたは複素環式基の置換基としては、置換基群Ａ：アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、ヒドロキシ、アルコキシアルキル、ヒドロキシアルキル、ハロゲン、ハロゲン化アルキル、ハロゲン化アルコキシ、アミノ、アルキルアミノ、アミノアルキル、カルバモイル、アルキルカルバモイル、ベンジル、ハロゲン化ベンジルが例示される。
Ｒ４Ａはより好ましくは、水素、アルキル、置換もしくは非置換のフェニル、または置換もしくは非置換の複素環式基（例：４〜６員環）である。置換もしくは非置換の置換基としては、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、ヒドロキシ、アルコキシアルキル、ヒドロキシアルキル、ハロゲン、ハロゲン化アルキル、ハロゲン化アルコキシ、アミノ、アルキルアミノ、アミノアルキル、カルバモイル、アルキルカルバモイル、ベンジル、ハロゲン化ベンジルが例示される。
Ａ５は、Ｃ、ＣＲ５Ａ、またはＮであるが、好ましくはＮまたはＣである。
Ａ６は、Ｃ、ＣＲ６Ａ、またはＮであるが、好ましくはＮまたはＣであり、さらに好ましくはＣである。
Ａ１からＡ５において、好ましくは、Ｎ原子は最大３個までである。
Ｒ１Ａ、Ｒ２Ａ、Ｒ３Ａ、Ｒ３Ｂ、Ｒ４Ａ、Ｒ４Ｂ、Ｒ５Ａ、およびＲ６Ａは、それぞれ独立して、水素、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、ホルミル、ホルミルオキシ、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキルカルボニル、置換もしくは非置換のアルケニルカルボニル、置換もしくは非置換のアルキニルカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環チオ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環チオ、置換もしくは非置換の芳香族複素環チオ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環チオ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アミノ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アミノ、置換もしくは非置換の芳香族複素環アミノ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アミノ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環カルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環カルボニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環カルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環カルボニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環アルキルカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環アルキルカルボニル、置換もしくは非置換のアミノ、置換もしくは非置換のカルバモイル、からなる群から選択される。
また、Ｒ３ＡおよびＲ３Ｂは一緒になってオキソを形成してもよく、Ｒ４ＡおよびＲ４Ｂは一緒になってオキソを形成してもよい。
置換もしくは非置換の置換基としては、アルキル、アルコキシ、ヒドロシキ、ハロゲン、ハロゲン化アルキル、ハロゲン化アルコキシ、アミノ、アルキルアミノ、置換もしくは非置換のフェニル（置換基の例：アルキル、アルコキシ、ヒドロキシ、ハロゲン）、置換もしくは非置換のフェニルオキシ（置換基の例：アルキル、アルコキシ、ヒドロキシ、ハロゲン）、置換もしくは非置換のベンジルオキシ（置換基の例：アルキル、アルコキシ、ヒドロキシ、ハロゲン）、および置換もしくは非置換の複素環式基（例：４〜６員、（置換基の例：アルキル、アルコキシ、ヒドロキシ、ハロゲン、複素環式基））から選択される、同一または異なる１〜４個、好ましくは１〜２個の置換基が例示される。
Ｒ１Ａ、Ｒ２Ａ、Ｒ３Ａ、Ｒ３Ｂ、Ｒ４Ａ、Ｒ４Ｂ、およびＲ５Ａは、好ましくは、それぞれ独立して、水素、アルキル、置換もしくは非置換のフェニル、または置換もしくは非置換の複素環式基（例：４〜６員環）である。置換もしくは非置換の置換基としては、好ましくはアルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、ヒドロシキ、アルコキシアルキル、ヒドロキシアルキル、ハロゲン、ハロゲン化アルキル、ハロゲン化アルコキシ、アミノ、アルキルアミノ、カルバモイル、アルキルカルバモイル、ベンジル、ハロゲン化ベンジル、フェニル、ハロゲン化フェニル、複素環式基、アルキル複素環式基が例示される。
Ｒ６Ａは、好ましくは、水素である。
Ｒ１Ａ、Ｒ２Ａ、Ｒ３Ａ、Ｒ３Ｂ、Ｒ４Ａ、Ｒ４Ｂ、およびＲ５Ａの例は、以下の基を包含する。特に好ましくは、Ｒ４Ａが以下の基である。
【化８０】
0006579549.tif 000081
Ｒ３ＣおよびＲ４Ｃは、それぞれ独立して、水素、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、または置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基であるが、好ましくは、それぞれ独立して、水素またはアルキルである。置換もしくは非置換の置換基としては、好ましくはアルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、ヒドロシキ、アルコキシアルキル、ヒドロキシアルキル、ハロゲン、ハロゲン化アルキル、ハロゲン化アルコキシ、アミノ、アルキルアミノ、カルバモイル、アルキルカルバモイル、ベンジル、ハロゲン化ベンジルが例示される。
Ｒ３ＡおよびＲ４Ａは、隣接原子と一緒になって、置換もしくは非置換の単環性炭素環、または置換もしくは非置換の単環性複素環を形成してもよく、該炭素環または複素環はさらに縮合されていてもよい。例えば、化合物（Ｉ）は以下の構造で示される。
【化８１】
0006579549.tif 000082
（式中、Ｔ２環は、置換もしくは非置換の単環性炭素環、または置換もしくは非置換の単環性複素環であり、該炭素環または複素環はさらに縮合されていてもよい。）
Ｒ３ＡおよびＲ４Ｃは、隣接原子と一緒になって、置換もしくは非置換の単環性複素環を形成してもよく、該複素環はさらに縮合されていてもよい。例えば、化合物（Ｉ）は以下の構造で示される。
【化８２】
0006579549.tif 000083
（式中、Ｔ２環は、置換もしくは非置換の単環性複素環であり、該複素環はさらに縮合されていてもよい。）
Ｒ３ＣおよびＲ４Ａは、隣接原子と一緒になって、置換もしくは非置換の単環性複素環を形成してもよく、該複素環はさらに縮合されていてもよい。例えば、化合物（Ｉ）は以下の構造で示される。
【化８３】
0006579549.tif 000084
（式中、Ｔ２環は、置換もしくは非置換の単環性複素環であり、該複素環はさらに縮合されていてもよい。）
Ｒ３ＣおよびＲ４Ｃは、隣接原子と一緒になって、置換もしくは非置換の単環性複素環を形成してもよく、該複素環はさらに縮合されていてもよい。例えば、化合物（Ｉ）は以下の構造で示される。
【化８４】
0006579549.tif 000085
（式中、Ｔ２環は、置換もしくは非置換の単環性複素環であり、該複素環はさらに縮合されていてもよい。）
上記いずれかのＴ２環の好ましい態様は、以下に例示される。
【化８５】
0006579549.tif 000086
（式中、星印は、母核との結合部位を示し、ＣまたはＮ原子が存在する。）
Ｒ３ＡおよびＲ３Ｂは、隣接原子と一緒になって、置換もしくは非置換のスピロ環を形成してもよく、該スピロ環はさらに縮合されていてもよい。例えば、化合物（Ｉ）は以下の構造で示される。
【化８６】
0006579549.tif 000087
（式中、Ｔ３環は、置換もしくは非置換の単環性炭素環、または置換もしくは非置換の単環性複素環であり、該炭素環または複素環はさらに縮合されていてもよい。）
Ｒ４ＡおよびＲ４Ｂは、隣接原子と一緒になって、置換もしくは非置換のスピロ環を形成してもよく、該スピロ環はさらに縮合されていてもよい。例えば、化合物（Ｉ）は以下の構造で示される。
【化８７】
0006579549.tif 000088
（式中、Ｔ４環は、置換もしくは非置換の単環性炭素環、または置換もしくは非置換の単環性複素環であり、該炭素環または複素環はさらに縮合されていてもよい。）
Ｒ４Ｂは、Ｔ１環の円孤上の炭素原子または窒素原子と一緒になって、置換もしくは非置換の単環性炭素環、または置換もしくは非置換の単環性複素環を形成してもよく、該炭素環または複素環はさらに縮合されていてもよい。例えば、化合物（Ｉ）は以下の構造で示される。
【化８８】
0006579549.tif 000089
（式中、Ｔ５環は、置換もしくは非置換の単環性炭素環、または置換もしくは非置換の単環性複素環であり、該炭素環または複素環はさらに縮合されていてもよい。）
Ｒ４Ｃは、Ｔ１環の円孤上の炭素原子または窒素原子と一緒になって、置換もしくは非置換の単環性複素環を形成してもよく、該複素環はさらに縮合されていてもよい。例えば、化合物（Ｉ）は以下の構造で示される。
【化８９】
0006579549.tif 000090
（式中、Ｔ６環は、置換もしくは非置換の単環性複素環であり、該複素環はさらに縮合されていてもよい。）
上記Ｔ２〜Ｔ６環が存在する各化合物において、（Ａ１，Ａ２）は好ましくは、（Ｃ，Ｃ）、（Ｃ，Ｎ）または（Ｎ，Ｃ）である。Ａ５は好ましくは、ＮまたはＣである。
Ｒ１は、Ｔ１環の円孤上の炭素原子または窒素原子と一緒になって、置換もしくは非置換の単環性炭素環、または置換もしくは非置換の単環性複素環を形成してもよく、該炭素環または複素環はさらに縮合されていてもよい。例えば、化合物（Ｉ）は以下の構造で示される。
【化９０】
0006579549.tif 000091
（式中、Ｔ７環は、置換もしくは非置換の単環性炭素環、または置換もしくは非置換の単環性複素環であり、該炭素環または複素環はさらに縮合されていてもよい。）
化合物（Ｉ）および（Ｉ）’において、破線は、単結合の存在または非存在を示し、隣接する破線が同時に存在することはなく、１、２、３位の炭素原子は、ｓｐ２炭素である。好ましい態様の一つでは、Ａ１Ａ２間、およびＡ３Ａ４間に破線が結合する。
Ｒ３からパラ位に存在するＴ１環の構成原子は、炭素原子である。
Ｔ１環は、好ましくは置換もしくは非置換の５〜１２員環、より好ましくは５〜１０員環である。Ｔ１環は、さらに好ましくは５〜８員環である。Ｔ１環は好ましくは、複素環、より好ましくは非芳香族複素環であり、該複素環の構成原子として好ましくは、１〜２個のＮ原子を含有するか、または１〜２個のＮ原子および１個のＳ原子を含有する。
Ｔ２環は、好ましくは置換もしくは非置換の５〜１２員環、より好ましくは５〜１０員環であり、さらに好ましくは５〜８員の複素環である。
Ｔ３環およびＴ４環は、それぞれ独立して、好ましくは置換もしくは非置換の３〜９員環、より好ましくは５〜７員の非芳香族炭素環または非芳香族複素環である。
Ｔ５環およびＴ６環は、それぞれ独立しては、好ましくは置換もしくは非置換の５〜２０員環、より好ましくは５〜１５員、さらに好ましくは５〜１０員環である。
Ｔ７環は、好ましくは置換もしくは非置換の５〜１２員環、より好ましくは５〜１０員環であり、さらに好ましくは５〜８員の複素環である。
Ｔ１環、Ｔ２環、Ｔ３環、Ｔ４環、Ｔ５環、Ｔ６環、およびＴ７環における単環性炭素環または単環性複素環は、それぞれ独立して、さらに縮合されている場合、該縮合環としては好ましくは、置換もしくは非置換の５〜１２員環、より好ましくは５〜１０員環、さらに好ましくは５〜８員の単環性の炭素環または複素環が例示される。該単環性炭素環または単環性複素環上の置換基としては、それぞれ独立して、オキソ、ヒドロキシ、ハロゲン、アミノ、アルキルアミノ、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、−ＣＯＲａ１、−ＳＯＲａ２、−ＳＯ２Ｒａ３（Ｒａ１、Ｒａ２、およびＲａ３は、それぞれ独立して、水素、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換の炭素環式基、または置換もしくは非置換の複素環式基、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換のアルケニルオキシ、置換もしくは非置換のアルキニルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基オキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基オキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基オキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基チオ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基チオ、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基チオ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基チオ、置換もしくは非置換のアルキルカルボニル、置換もしくは非置換のアルケニルカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基カルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基カルボニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基カルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基カルボニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基オキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基オキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基オキシカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基オキシカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基チオカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基チオカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基チオカルボニル、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基チオカルボニル、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基カルボニルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基カルボニルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基カルボニルオキシ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基カルボニルオキシ、置換もしくは非置換の芳香族炭素環式基アミノ、置換もしくは非置換の非芳香族炭素環式基アミノ、置換もしくは非置換の芳香族複素環式基アミノ、置換もしくは非置換の非芳香族複素環式基アミノ、ホルミル、および置換もしくは非置換のカルバモイル、置換もしくは非置換のホルミルアルキル、置換もしくは非置換のカルバモイルアルキル、または後記Ｒａ、Ｒｂ、およびＲｃからなる群から選択される同一または異なる１〜４個、好ましくは１〜２個の置換基が例示される。置換もしくは非置換の置換基としては、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、ヒドロシキ、アルコキシアルキル、ヒドロシキアルキル、ハロゲン、ハロゲン化アルキル、ハロゲン化アルコキシ、アミノ、アルキルアミノ、置換もしくは非置換のフェニル（置換基の例：アルキル、アルコキシ、ヒドロキシ、ハロゲン）、置換もしくは非置換のフェニルオキシ（置換基の例：アルキル、アルコキシ、ヒドロキシ、ハロゲン）、置換もしくは非置換のベンジルオキシ（置換基の例：アルキル、アルコキシ、ヒドロキシ、ハロゲン）、置換もしくは非置換の複素環式基（例：４〜６員、（置換基の例：アルキル、アルコキシ、ヒドロキシ、ハロゲン））、置換もしくは非置換の複素環式基アルキル、置換もしくは非置換の複素環式基オキシ、および置換もしくは非置換の複素環式基アミノから選択される、同一または異なる１〜４個、好ましくは１〜２個の置換基が例示される。
Ｔ１環における単環性の炭素環または複素環を構成する互いに隣接しない２個の原子は、置換もしくは非置換のアルキレン、置換もしくは非置換のアルケニレンまたは置換もしくは非置換のアルキニレンにより架橋されていてもよい。アルキレン、アルケニレンまたはアルキニレン上の置換基としては、メチル、エチル、ハロゲン、ヒドロキシ、アルコキシ、ハロゲン化アルキル、ハロゲン化アルコキ、アミノ、メチルアミノ、カルバモイル、フェニル等が例示される。
【０１２７】
Ｔ１環は、好ましくは以下に例示される構造を包含する。
【化９１】
0006579549.tif 000092
Ｔ１環は、より好ましくは（Ｔ１−１）または（Ｔ１−２）である。
Ｒａは、水素、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換の炭素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基、−ＣＯＲａ１、−ＳＯＲａ２、または−ＳＯ２Ｒａ３（Ｒａ１、Ｒａ２、およびＲａ３は、それぞれ独立して、水素、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換の炭素環式基、または置換もしくは非置換の複素環式基）である。置換もしくは非置換の置換基としては、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、ヒドロキシ、アルコキシアルキル、ヒドロキシアルキル、ハロゲン、ハロゲン化アルキル、ハロゲン化アルコキシ、アミノ、アルキルアミノ、アミノアルキル、カルバモイル、アルキルカルバモイル、ベンジル、ハロゲン化ベンジルが例示される。Ｒａは、好ましくは水素、炭素数１〜６のアルキル、フェニル、５〜７員複素環式基、−ＣＯＲａ１、または−ＳＯ２Ｒａ３である。Ｒａ１、Ｒａ２、およびＲａ３は、それぞれ独立して好ましくは、水素、炭素数１〜６のアルキル、フェニル、または５〜７員複素環式基である。
ｍは、０〜５の整数、好ましくは１〜３の整数である。
Ｌは、−ＳＯ２−、−ＳＯ−、−ＣＯ−、または−ＣＲｂＲｃ−であり、好ましくは、−ＳＯ２−、−ＣＯ−、または−ＣＨ２−である。
ＲｂおよびＲｃは、それぞれ独立して、好ましくは水素、置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、置換もしくは非置換のアルキルオキシ、置換もしくは非置換の炭素環式基、置換もしくは非置換の複素環式基、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、アルキルアミノ、置換もしくは非置換のカルバモイルであり、ＲｂおよびＲｃは一緒になってオキソを形成していてもよい。置換もしくは非置換の置換基としては、ハロゲン、ヒドロキシ、アルコキシ、ハロゲン化アルキル、ハロゲン化アルコキシ、アミノ、アルキルアミノ、カルバモイル、アルキルカルバモイル、フェニル、ハロゲン化フェニル、複素環式基（例：５〜７員）が例示される。
ＲｂおよびＲｃは、それぞれ独立して好ましくは、オキソまたは炭素数１〜６のアルキルである。
Ｔ１環は、より好ましくは以下に例示される構造を包含する。
【化９２】
0006579549.tif 000093
（式中、Ａ１は好ましくはＣ、Ａ５は好ましくはＮまたはＣであり、その他の記号の好ましい態様は前記の通りである。）
【０１２８】
化合物（Ｉ）は、Ｒ１〜Ｒ４およびｎに関する前記の好ましい態様、Ａ１〜Ａ６に関する前記の好ましい態様、ならびにＴ１〜Ｔ７環に関する前記の好ましい態様の任意の組合せからなる化合物を包含する。
化合物（Ｉ）のより好ましい態様は、前記化合物（Ｉ−Ａ）、（Ｉ−Ｂ）および（Ｉ−Ｃ）を包含する。
化合物（Ｉ−Ａ）の好ましい態様は、前記化合物（Ｉ−Ａ−１）、（Ｉ−Ａ−２）、
（Ｉ−Ａ−３）、（Ｉ−Ａ−４）、（Ｉ−Ａ−５）、（Ｉ−Ａ−６）、（Ｉ−Ａ−５’）、（Ｉ−Ａ−６’）、（Ｉ−Ａ−７）、（Ｉ−Ａ−８）、（Ｉ−Ａ−９）、および（Ｉ−Ａ−１０）を包含し、より好ましくは化合物（Ｉ−Ａ−１）、（Ｉ−Ａ−３）、（Ｉ−Ａ−４）、（Ｉ−Ａ−５）、および（Ｉ−Ａ−８）であり、さらに好ましくは化合物（Ｉ−Ａ−１−１）、（Ｉ−Ａ−１−２）、（Ｉ−Ａ−１−３）、（Ｉ−Ａ−１−４）、（Ｉ−Ａ−１−５）、（Ｉ−Ａ−２−１）、（Ｉ−Ａ−２−２）、（Ｉ−Ａ−２−３）、（Ｉ−Ａ−２−４）、（Ｉ−Ａ−３−１）、（Ｉ−Ａ−３−２）、（Ｉ−Ａ−３−３）、（Ｉ−Ａ−３−４）、（Ｉ−Ａ−４−１）、（Ｉ−Ａ−４−２）、（Ｉ−Ａ−４−３）、（Ｉ−Ａ−４−４）、（Ｉ−Ａ−５−１）、（Ｉ−Ａ−５−２）、（Ｉ−Ａ−５−３）、（Ｉ−Ａ−５−４）、（Ｉ−Ａ−６−１）、（Ｉ−Ａ−６−２）、（Ｉ−Ａ−６−３）、（Ｉ−Ａ−６−４）、（Ｉ−Ａ−５’−１）、（Ｉ−Ａ−５’−２）、（Ｉ−Ａ−５’−３）、（Ｉ−Ａ−５’−４）、（Ｉ−Ａ−６’−１）、（Ｉ−Ａ−６’−２）、（Ｉ−Ａ−６’−３）、（Ｉ−Ａ−６’−４）、（Ｉ−Ａ−７−１）、（Ｉ−Ａ−７−２）、（Ｉ−Ａ−７−３）、（Ｉ−Ａ−７−４）、（Ｉ−Ａ−８−１）、（Ｉ−Ａ−８−２）、（Ｉ−Ａ−８−３）、（Ｉ−Ａ−８−４）、（Ｉ−Ａ−９−１）、（Ｉ−Ａ−９−２）、（Ｉ−Ａ−９−３）、（Ｉ−Ａ−９−４）、（Ｉ−Ａ−１０−１）、（Ｉ−Ａ−１０−２）、（Ｉ−Ａ−１０−３）、および（Ｉ−Ａ−１０−４）である。特に好ましくは、化合物（Ｉ−Ａ−１−１）、（Ｉ−Ａ−１−２）、（Ｉ−Ａ−１−３）、（Ｉ−Ａ−１−４）、（Ｉ−Ａ−１−５）である。
これらの化合物における各記号や置換基の好ましい態様は前記の通りである。
化合物（Ｉ−Ｂ）の好ましい態様は、前記化合物（Ｉ−Ｂ−１）、（Ｉ−Ｂ−２）、
（Ｉ−Ｂ−３）、（Ｉ−Ｂ−４）、（Ｉ−Ｂ−５）、（Ｉ−Ｂ−６）、（Ｉ−Ｂ−７）、（Ｉ−Ｂ−８）、および（Ｉ−Ｂ−９）を包含し、より好ましくは化合物（Ｉ−Ｂ−３）および（Ｉ−Ｂ−４）であり、さらに好ましくは化合物（Ｉ−Ｂ−１−１）、（Ｉ−Ｂ−１−２）、（Ｉ−Ｂ−１−３）、（Ｉ−Ｂ−１−４）、（Ｉ−Ｂ−２−１）、（Ｉ−Ｂ−２−２）、（Ｉ−Ｂ−２−３）、（Ｉ−Ｂ−２−４）、（Ｉ−Ｂ−３−１）、（Ｉ−Ｂ−３−２）、（Ｉ−Ｂ−３−３）、（Ｉ−Ｂ−３−４）、（Ｉ−Ｂ−４−１）、（Ｉ−Ｂ−４−２）、（Ｉ−Ｂ−４−３）、（Ｉ−Ｂ−４−４）、（Ｉ−Ｂ−５−１）、（Ｉ−Ｂ−５−２）、（Ｉ−Ｂ−５−３）、（Ｉ−Ｂ−５−４）、（Ｉ−Ｂ−６−１）、（Ｉ−Ｂ−６−２）、（Ｉ−Ｂ−６−３）、（Ｉ−Ｂ−６−４）、（Ｉ−Ｂ−７−１）、（Ｉ−Ｂ−７−２）、（Ｉ−Ｂ−７−３）、（Ｉ−Ｂ−７−４）、（Ｉ−Ｂ−８−１）、（Ｉ−Ｂ−８−２）、（Ｉ−Ｂ−８−３）、（Ｉ−Ｂ−８−４）、（Ｉ−Ｂ−９−１）、（Ｉ−Ｂ−９−２）、（Ｉ−Ｂ−９−３）、および（Ｉ−Ｂ−９−４）である。
これらの化合物における各記号や置換基の好ましい態様は前記の通りである。
化合物（Ｉ−Ｃ）の好ましい態様は、前記化合物（Ｉ−Ｃ−１）、（Ｉ−Ｃ−２）、
（Ｉ−Ｃ−３）、（Ｉ−Ｃ−４）、（Ｉ−Ｃ−５）および（Ｉ−Ｃ−６）を包含し、より好ましくは化合物（Ｉ−Ｃ−１−１）、（Ｉ−Ｃ−１−２）、（Ｉ−Ｃ−１−３）、（Ｉ−Ｃ−１−４）、（Ｉ−Ｃ−２−１）、（Ｉ−Ｃ−２−２）、（Ｉ−Ｃ−２−３）、（Ｉ−Ｃ−２−４）、（Ｉ−Ｃ−３−１）、（Ｉ−Ｃ−３−２）、（Ｉ−Ｃ−３−３）、（Ｉ−Ｃ−３−４）、（Ｉ−Ｃ−４−１）、（Ｉ−Ｃ−４−２）、（Ｉ−Ｃ−４−３）、（Ｉ−Ｃ−４−４）、（Ｉ−Ｃ−５−１）、（Ｉ−Ｃ−５−２）、（Ｉ−Ｃ−５−３）、（Ｉ−Ｃ−５−４）、（Ｉ−Ｃ−６−１）、（Ｉ−Ｃ−６−２）、（Ｉ−Ｃ−６−３）、および（Ｉ−Ｃ−６−４）である。これらの化合物における各記号や置換基の好ましい態様は前記の通りである。
さらに本発明は、上記の好ましい化合物において、Ｔ１環部分が前記式（Ｔ１−２−１）、（Ｔ１−２−２）、（Ｔ１−２−３）、（Ｔ１−３）または（Ｔ１−４）で示される構造である化合物も包含し、これらの化合物における各記号や置換基の好ましい態様は前記の通りである。
本発明化合物は、強いＨＩＶ複製阻害作用を有する。さらに好ましくは、医薬品として有用な各種の体内動態および／または安全性等に優れている。これらのプロフィールは、好ましくは、例えば環上のヘテロ原子の種類や位置、環上の置換基の種類や位置等の工夫によって顕著に改善されている。
本発明化合物は、全ての可能な異性体、好ましくは立体異性体（例：ケト−エノール異性体、イミン−エナミン異性体、ジアステレオ異性体、アトロプ異性体、光学異性体、回転異性体等）、ラセミ体またはそれらの混合物を含む。これらの異性体は、多くの場合、例えば光学分割、晶析、クロマト分離等により容易に分離可能であるが、便宜上、同一の平面構造式で表示される場合もある。またクロマト分離の場合には、ピーク時間（ＲＴ）で区別可能である。
本発明化合物の一つ以上の水素、炭素および／または他の原子は、それぞれ水素、炭素および／または他の原子の同位体で置換され得る。そのような同位体の例としては、それぞれ２Ｈ、３Ｈ、１１Ｃ、１３Ｃ、１４Ｃ、１５Ｎ、１８Ｏ、１７Ｏ、３１Ｐ、３２Ｐ、３５Ｓ、１８Ｆ、１２３Ｉおよび３６Ｃｌのように、水素、炭素、窒素、酸素、リン、硫黄、フッ素、ヨウ素および塩素が包含される。式（Ｉ）で示される化合物は、そのような同位体で置換された化合物も包含する。該同位体で置換された化合物は、医薬品としても有用であり、式（Ｉ）で示される化合物のすべての放射性標識体を包含する。また該「放射性標識体」を製造するための「放射性標識化方法」も本発明に包含され、代謝薬物動態研究、結合アッセイにおける研究および／または診断のツールとして有用である。
本発明化合物の放射性標識体は、当該技術分野で周知の方法で調製できる。例えば、トリチウム標識化合物は、トリチウムを用いた触媒的脱ハロゲン化反応によって、トリチウムを導入することで調製できる。この方法は、適切な触媒、例えばＰｄ／Ｃの存在下、塩基の存在下または非存在下で、本発明化合物が適切にハロゲン置換された前駆体とトリチウムガスとを反応させることを包含する。他のトリチウム標識化合物を調製するための適切な方法としては、文書Ｉｓｏｔｏｐｅｓ  ｉｎ  ｔｈｅ  Ｐｈｙｓｉｃａｌ  ａｎｄ  Ｂｉｏｍｅｄｉｃａｌ  Ｓｃｉｅｎｃｅｓ，Ｖｏｌ．１，Ｌａｂｅｌｅｄ  Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ  （Ｐａｒｔ  Ａ），Ｃｈａｐｔｅｒ  ６  （１９８７年）を参照にできる。１４Ｃ−標識化合物は、１４Ｃ炭素を有する原料を用いることによって調製できる。
本発明化合物の製薬上許容される塩としては、アルカリ金属（例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム等）、アルカリ土類金属（例えば、カルシウム、バリウム等）、マグネシウム、遷移金属（例えば、亜鉛、鉄等）、アンモニア、有機塩基（例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、メグルミン、ジエタノールアミン、エチレンジアミン、ピリジン、ピコリン、キノリン等）およびアミノ酸との塩、または無機酸（例えば、塩酸、硫酸、硝酸、炭酸、臭化水素酸、リン酸、ヨウ化水素酸等）、および有機酸（例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸、クエン酸、乳酸、酒石酸、シュウ酸、マレイン酸、フマル酸、マンデル酸、グルタル酸、リンゴ酸、安息香酸、フタル酸、アスコルビン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸等）との塩が挙げられる。特に塩酸、硫酸、リン酸、酒石酸、メタンスルホン酸との塩等が挙げられる。これらの塩は、通常行われる方法によって形成させることができる。
本発明化合物またはその製薬上許容される塩は、溶媒和物（例えば、水和物等）および／または結晶多形を形成する場合があり、本発明はそのような各種の溶媒和物および結晶多形も包含する。「溶媒和物」は、任意の数の溶媒分子（例えば、水分子等）と配位していてもよい。
【０１２９】
本発明化合物は、例えば、下記に示す一般的合成法によって製造することができる。また、抽出、精製等は、通常の有機化学の実験で行う処理を行えばよい。
本発明化合物の合成は、当該分野において公知の手法を参酌しながら実施することができる。本発明は、以下の一般的合成法における中間体および最終化合物も提供する。各化合物における置換基等の種類、好ましい態様は前記の通りである。
（一般的合成法）
化合物（Ｉ）は、文献公知の化合物や市販試薬等を用いて、当業者に周知の反応を適宜組合せることにより合成可能である。好ましくは、ハロゲン等の脱離基、ニトロ基、（置換）アミノ基、（保護）アミノ基、アルキル基、（保護）ヒドロキシ基、エステル基等を有する、ベンゼン誘導体やピリジン誘導体を出発原料とし、縮合環形成反応、側鎖形成反応、還元反応、酸化反応、加水分解反応、フリーデルクラフト反応、カップリング反応、保護反応、脱保護反応等を適宜行えば良い。また６員母核上の各置換基（Ｒ３，−Ｃ（Ｒ２）ｎ−ＣＯＯＲ４、Ｒ１）は、出発原料の化合物に存在していてもよいし、またはＴ１環を形成後に導入されてもよい。
反応溶媒としては、例えば、ＤＭＦ、ＴＨＦ、ジオキサン、ＤＭＥ、テトラヒドロフラン、アセトン、アセトニトリル、アルコール（例：メタノール、エタノール）、酢酸エチル、ＤＭＳＯ、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トルエン、クロロホルム、ベンゼン、トルエン、キシレン、水またはこれらから選択される混合溶媒を適宜使用することができる。塩基としては、例えば、ピリジン、ルチジン、トリエチルアミン、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸セシウム、水素化ナトリウム、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン等を適宜使用することができる。
［１］Ｔ１環の形成反応
Ｔ１環は、好ましくはそれぞれ２環性のベンゼン誘導体やピリジン誘導体を合成した後、形成される。Ｔ１環がＴ１−１である場合を例に説明すると、化合物（Ｉ）またはその中間体を包含する化合物（Ｉ−Ｘ）は、例えば以下の工程を経て合成できる。当該反応は、例えばＷＯ２００４／０９４４３０号に記載の方法に準じて行える。
【化９３】
0006579549.tif 000094
（式中、Ｒは、化合物（Ｉ）におけるＲ３、−Ｃ（Ｒ２）ｎＣＯＯＲ４、Ｒ１、およびこれらの組合せ、ならびにこれらの基を導入できる置換基からなる群から選択される１〜３個の基を表す；Ｘ１は、脱離基（例：ハロゲン原子）もしくはアルデヒド基、またはＸ１は隣接する１つの（ＣＲｂＲｃ）と一緒になってオレフィンもしくはアセチレンを表す；Ｘ２は脱離基（例：ハロゲン原子）；その他の記号は前記と同意義）
化合物（Ｉ−Ｘ）は、化合物（Ｉ）である場合、以下の式で示される。
【化９４】
0006579549.tif 000095
【０１３０】
上記反応は、詳細には以下の通りである。
（１）ＬがＣ＝ＯもしくはＳＯ２の場合
（工程１）
化合物（ＩＩ）と化合物（ＩＶ）を、塩基（例：ピリジン）および必要に応じて適切な試薬（例：DMAP）存在下、溶媒（例：ジクロロメタン）中、適切な温度（例：０〜１００°Ｃ、好ましくは室温）で、適切な時間（例：数分〜数十時間）反応させることにより化合物（ＩＩＩ）を得ることができる。
（工程２）
Ａ５がＮの場合：化合物（ＩＩＩ）を、脱プロトン化剤（例：水素化ナトリウム）存在下、溶媒（例：DMF）中、適切な温度（例：０〜１５０°Ｃ、好ましくは約１００°Ｃ）で反応させることにより、化合物（Ｉ−Ｘ）を得ることができる。
Ａ５がＣの場合：例えば、Ｘ１-(ＣＲｂＲｃ)-がＣｌ-Ｃ(Ｏ)-である化合物（ＩＩＩ）に、ルイス酸（例：塩化アルミニウム、チタンテトライソプロポキシド（IV））存在下で分子内フリーデルクラフト反応を行うことにより、化合物（Ｉ−Ｘ）を得ることができる。
（２）Ｌが−（ＣＲｂＲＣ）−の場合
（２−１）Ａ５がＮの場合：工程１では、化合物（ＩＩ）を塩基（例：炭酸セシウム）存在下、溶媒（例：DMF）中、適切な温度（例：０〜１００°Ｃ、好ましくは室温）で反応させる。工程２では、化合物（ＩＩＩ）を必要に応じて脱プロトン化剤（例：水素化ナトリウム）存在下、適切な温度（例：室温〜１００°Ｃ）で反応させることにより化合物（Ｉ−Ｘ）を得ることができる。
（２−２）Ａ５がＣの場合：工程１では、好ましくは、Ｒａが−ＣＯＲａ１、−ＳＯＲａ２、または−ＳＯ２Ｒａ３である化合物（ＩＩ）を、塩基（例：炭酸セシウム）存在下、溶媒（例：DMF、アセトニトリル）中、適切な温度（例：０〜１００°Ｃ、好ましくは室温）で反応させることにより、化合物（ＩＩＩ）を得る。工程２では、例えば、Ｘ１-(ＣＲｂＲｃ)-がＣｌ-Ｃ(Ｏ)-である化合物（ＩＩＩ）に、ルイス酸（例：塩化アルミニウム、塩化チタン（IV））を用いた分子内フリーデルクラフト反応を行うことにより、化合物（Ｉ−Ｘ）を得ることができる。
［２］化合物（Ｉ−Ａ−１）の合成
【化９５】
0006579549.tif 000096
（式中、Ｘはそれぞれ独立してハロゲンなどの脱離基；その他の記号は前記と同意義）
（工程１）
化合物a1と化合物a2を、フィッシャー（Fischer）のインドール合成法に準じて反応させることにより化合物a3が得られる。
（工程２）
化合物a3を還元することにより化合物a4が得られる。
還元は、好ましくは、鉄粉と塩化アンモニウムを、もしくは塩化スズ（II）をエタノール中で加熱還流することで行われる。
（工程３）
化合物a4を、前記［１］Ｔ１環の形成反応に付すことにより化合物a5が得られる。
（工程４）
化合物a5に、例えばボロン試薬（Ｒ３−ボロン酸）を、遷移金属試薬と配位子（例：Pd2(dba)3／RuPhos）および塩基（例：炭酸ナトリウム）存在下、溶媒（例：ジオキサンと水の混合液）中、適切な温度（例：加熱還流）で反応させることにより、化合物a6が得られる。
（工程５）
化合物a6に、例えばNBSを、溶媒（例：DMF、ジクロロメタン）中、好ましくは氷冷下から室温で反応させることにより化合物a7が得られる。
（工程６）
化合物a7と化合物a8を、例えばメチル基を有するシリルエノールエーテルのカップリング反応(Journal of the American Chemical Society, 2004, 126, 5182-5191.)に準じて反応させることにより、化合物a9が得られる。
（工程７）
化合物a9を、塩基（例：水酸化ナトリウム）存在下、溶媒（例：THF、メタノールと水の混合液）中、適切な温度（例：約５０°Ｃ）で反応させることにより、化合物（Ｉ−Ａ−１）が得られる。化合物（Ｉ−Ａ−１）は、当業者周知の方法により種々のカルボン酸等価体やカルボン酸誘導体に変換することもできる。
［２−１］化合物（Ｉ−Ａ−１）型の別法
【化９６】
0006579549.tif 000097
（式中、各記号は前記と同意義）
（工程１）
化合物a10をＤＭＦ、ＤＭＡ、ＴＨＦ、ジオキサン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、トリｔ−ブチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリフェニルホスフィンなどのホスフィンとジベンジリデンアセトンパラジウム、酢酸パラジウム、ジクロロビストリフェニルホスフィンパラジウムなどの触媒とフッ化亜鉛とシリルエノールエーテルを加え、５０℃〜１５０℃、好ましくは７０℃〜１３０℃で、０．１時間〜８時間、好ましくは０．５時間〜２時間で反応させることにより、化合物a11を得ることができる。
（工程２）
化合物a11を酢酸、塩酸、硫酸等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、亜鉛、鉄、塩化スズ等の還元剤を加え、−２０℃から８０℃、好ましくは０℃〜６０℃で、０．１時間〜８時間、好ましくは０．５時間〜２時間で反応させることにより、化合物a12を得ることができる。または化合物a11をメタノール、酢酸エチル、酢酸等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、Ｐｄ／Ｃ、Ｐｄ（ＯＨ）２、Ｒａｎｅｙ−Ｎｉなどの触媒を加え、水素雰囲気下、−３０℃〜８０℃、好ましくは０℃〜５０℃で、０．１時間〜８時間、好ましくは０．５〜２時間で反応させることにより、化合物a12を得ることができる。
（工程３）
化合物a12をジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、臭素やＮＢＳなどの臭素化剤を加え、−５０℃〜５０℃、好ましくは−３０℃〜３０℃で、０．１時間〜４時間、好ましくは０．５時間〜１時間で反応させることにより、化合物a13を得ることができる。
（工程４）
化合物a13をＤＭＦ、ＤＭＡ、ＴＨＦ、ジオキサン、水等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、Ｋ２ＣＯ３、Ｎａ２ＣＯ３、Ｋ３ＰＯ４などの塩基の水溶液と市販もしくは公知の方法で合成したボロン酸、またはボロン酸エステルとＰｄＣｌ２（ｄｔｂｐｆ）、Ｐｄ（ＰＰｈ３）４、ＰｄＣｌ２（ｄｐｐｆ）などの触媒を加え、５０℃〜１５０℃、好ましくは７０℃〜１３０℃で、０．１時間〜８時間、好ましくは０．５〜２時間で反応させることにより、化合物a14を得ることができる。
（工程５）
工程３と同様の方法で化合物a15を得ることができる。
（工程６）
化合物a15をジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、ｍＣＰＢＡ，過酢酸などの酸化剤を加え、０℃〜１２０℃、好ましくは３０℃〜９０℃で、０．１時間〜１０時間、好ましくは０．５時間〜４時間で反応させることにより、化合物a16を得ることができる。
（工程７）
化合物a16をトルエン、ＤＭＦ、ＤＭＡ、ＴＨＦ、ジオキサン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、ＢＩＮＡＰ、ｘａｎｔｐｈｏｓなどのホスフィンとジベンジリデンアセトンパラジウム、酢酸パラジウムなどの触媒と炭酸セシウム、炭酸カリウムなどの塩基とアセトアミドを加え、５０℃〜１５０℃、好ましくは７０℃〜１３０℃で、０．１時間〜８時間、好ましくは０．５時間〜２時間で反応させることにより、化合物a17を得ることができる。
（工程８）
化合物a17をメタノール、エタノール等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、炭酸セシウム、炭酸カリウムなどの塩基を加え、５０℃〜１５０℃、好ましくは７０℃〜１３０℃で、０．１時間〜１０時間、好ましくは０．５時間〜４時間で反応させることにより、化合物a18を得ることができる。
（工程９）
化合物a18をメタノール、エタノール等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、ヨウ素やＮＩＳなどのヨウ素化剤を加え、−５０℃〜５０℃、好ましくは−３０℃〜３０℃で、０．１時間〜４時間、好ましくは０．５時間〜１時間で反応させることにより、化合物a19を得ることができる。
（工程１０）
化合物a19をＤＭＦ、ＤＭＡ、ＴＨＦ、ジオキサン等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、Ｅｔ３Ｎ, ＤＩＰＥＡなどの塩基と市販もしくは公知の方法で合成した置換アルキンとＰｄＣｌ２（ＰＰｈ３）４、Ｐｄ（ＰＰｈ３）４、ＰｄＣｌ２（ｄｐｐｆ）などの触媒を加え、５０℃〜１５０℃、好ましくは７０℃〜１３０℃で、０．１時間〜８時間、好ましくは０．５〜２時間で反応させることにより、化合物a20を得ることができる。
（工程１１）
化合物a20をＤＭＦ, ＴＨＦ等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、ｔ-ＢｕＯＫ、炭酸カリウムなどの塩基を加え、-２０℃〜８０℃、好ましくは０℃〜６０℃で、０．１時間〜４時間、好ましくは０．５時間〜１時間で反応させることにより、化合物a21を得ることができる。
（工程１２）
工程２と同様の方法で化合物a22を得ることができる。
（工程１３）
化合物a22をジクロロメタン、ＤＭＦ、ＤＭＡ等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、炭酸セシウム、ピリジン、Ｅｔ３Ｎ等の塩基とヨウ化メチル、ＭｓＣｌ, ＡｃＣｌ, ＭｅＮＣＯ等の市販もしくは公知の方法で合成したアルキル化剤、スルホニル化剤、酸クロライド、イソシアネートを加え、−５０℃〜５０℃、好ましくは−３０℃〜３０℃で、０．１時間〜４時間、好ましくは０．５時間〜１時間で反応させることにより、化合物a23を得ることができる。
（工程１４）
化合物a23をＤＭＦ、ＤＭＡ、ＴＨＦ等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、炭酸セシウム、炭酸カリウムなどの塩基と1,2-ジブロモエタン、1,3-ジブロモプロパン、クロロアセチルクロライド、クロロメチルスルホニルクロライド等の市販もしくは公知の方法で合成したアルキル化剤や酸クロライドやスルホニルクロライド等を加え、-2０℃〜8０℃、好ましくは０℃〜６０℃、０．１時間〜８時間、好ましくは０．５時間〜２時間で反応させることにより、化合物a24を得ることができる。
（工程１５）
化合物a24をメタノール、ＴＨＦ、ジオキサンなどの溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液、水酸化リチウム水溶液などの塩基を加え、１０℃〜１１０℃、好ましくは３０℃〜９０℃で、０．１時間〜８時間、好ましくは、０．５時間〜１時間反応させることにより、化合物（Ｉ−Ａ−１’）を得ることができる。
［２−２］化合物（Ｉ−Ａ−１）型の別法
【化９７】
0006579549.tif 000098
（式中、Ｒ２’は置換もしくは非置換のアルキル、置換もしくは非置換のアルケニル、置換もしくは非置換のアルキニル、または置換もしくは非置換の非芳香族炭素環；その他の記号は前記と同意義）
（工程１）
化合物（Ｉ−Ａ−１’）の合成における工程１に準じて行うことができる。
（工程２）
化合物a26をＴＨＦ−水混合溶媒中、過酸化水素水と水酸化リチウム水溶液の混合液を加え、−２０℃〜１０℃、好ましくは−１０℃〜１０℃で、０．１時間〜５時間、好ましくは０．１時間〜１時間反応させてカルボン酸体を得ることができる。得られたカルボン酸体を、ＤＭＦ、ＤＭＥ、ＴＨＦ等の溶媒中、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムなどの塩基とベンジルブロマイド、ヨウ化メチルなどのハロゲン化アルキルを加え、０℃〜１００℃好ましくは２０℃〜５０℃で、０．５時間から２４時間、好ましくは１時間から５時間反応させることにより化合物a27を得ることができる。またはジフェニルジアゾメタン／ジエチルエーテル溶液等を添加してエステル化することにより、化合物a27を得ることができる
（工程３−１６）
化合物（Ｉ−Ａ−１’）の合成における工程２、３、９、６、７、８、９、１０、１１、１２、１３、１４、４、１５に準じて行うことができる。
【０１３１】
［２−３］化合物（Ｉ−Ａ−１）型の別法
【化９８】
0006579549.tif 000099
（式中、Ｒ３’およびＲ３’’は、隣接する窒素原子と一緒になって非芳香族複素環を形成する；その他の記号は前記と同意義）
（工程１）
無溶媒条件下、もしくはＤＭＳＯ、ＤＭＦ、アセトニトリル、メタノールやブタノール等の溶媒中において化合物a36にアンモニウム、環状アミンと、炭酸カリウム、トリエチルアミン、エチルジイソプロピルアミンやｔ−ブトキシカリウム等の塩基を加え、０℃〜２００℃、好ましくは５０℃〜１５０℃、１時間〜７２時間、好ましくは１時間〜２４時間反応させることによって化合物a41を得ることができる。
（工程２）
化合物（Ｉ−Ａ−１’）の合成における工程１２、１３、１４、１５に準じて行うことができる。
【０１３２】
［２−４］化合物（Ｉ−１）型の別法
【化９９】
0006579549.tif 000100
（式中、各記号は前記と同意義）
（工程１）
化合物a42をヘキサン、ＴＨＦ、ＤＭＦ等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、４，４‘-ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２，２’−ビピリジンとビスピナコールジボロンと１，５−シクロオクタジエンメトキシイリジウム等のイリジウム触媒を加え、５０℃〜１５０℃、好ましくは７０℃〜１３０℃で、０．１時間〜８時間、好ましくは０．５〜２時間で反応させることにより、化合物a43を得ることができる。
（工程２）
化合物a43をＤＭＦ、ＤＭＡ、ＴＨＦ、ジオキサン、水等の溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、Ｋ２ＣＯ３、Ｎａ２ＣＯ３、Ｋ３ＰＯ４などの塩基の水溶液とアルケニルハライド、アリールハライド、アルキルハライドとＰｄＣｌ２（ｄｔｂｐｆ）、Ｐｄ（ＰＰｈ３）４、ＰｄＣｌ２（ｄｐｐｆ）などの触媒を加え、５０℃〜１５０℃、好ましくは７０℃〜１３０℃で、０．１時間〜８時間、好ましくは０．５〜２時間で反応させることにより、化合物a44を得ることができる。
（工程３）
化合物a44をメタノール、ＴＨＦ、ジオキサンなどの溶媒中、またはそれらの混合溶媒中、水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液、水酸化リチウム水溶液などの塩基を加え、１０℃〜１１０℃、好ましくは３０℃〜９０℃で、０．１時間〜８時間、好ましくは、０．５時間〜１時間反応させることにより、化合物（Ｉ−Ａ−１’’）を得ることができる。
【０１３３】
［３］化合物（Ｉ−Ａ−３）の合成
【化１００】
0006579549.tif 000101
（式中、各記号は前記と同意義）
（式中、Pgはヒドロキシ保護基（例：SEM基、ベンジル基）；Pg’はアミノ保護基（例：Ac）； Xは脱離基（例：Ｉ、Ｂｒ）；Ｒはカルボキシ保護基；その他の記号は前記と同意義）
（工程１）
化合物a41と化合物a42を、薗頭カップリング反応に付すことにより、化合物a43を得ることができる。
（工程２）
化合物a43を、塩基（例：TBAF、tert-ブトキシカリウム）存在下、溶媒（例：THF）中、適切な温度（例：０〜１００°Ｃ、好ましくは約７０°Ｃ）で反応させることにより、化合物a44を得ることができる。
（工程３）
化合物a44に、Ｒ３Ａを有するアルキル化剤（例：Ｒ３Ａがメチル基の場合はヨウ化メチル）を、塩基（例：炭酸セシウム）存在下、溶媒（例：アセトニトリル）中、適切な温度（例：室温から約６０°Ｃ）で反応させることにより、化合物a45を得ることができる。
（工程４）
化合物a45を、塩基（例：水酸化ナトリウム）存在下、溶媒（例：THF、メタノールと水の混合液）中、適切な温度（例：室温から約５０°Ｃ）で反応させることにより、エステル基が加水分解されてカルボキシル基に変換される。その後、続けて例えばDPPAなどを用いたクルチウス（Curtius）反応によりカルボキシル基をアミノ基へ変換することにより、化合物a46を得ることができる。
（工程５）
化合物a46を、前記［１］Ｔ１環の形成反応に付すことにより化合物a47を得ることができる。
（工程６）
化合物a47とハロゲン化剤（例：NIS）を、溶媒（例：DMF、ジクロロメタン）中、適切な温度（例：氷冷下から還流下）で反応させることにより化合物a48を得ることができる。
（工程７）
化合物a48とＲ１−Ｍ（例：Ｒ１−ボロン酸）を、カップリング反応に用いられる適切な遷移金属と配位子（例：Pd2(dba)3、RuPhos）と塩基（例：リン酸カリウム）存在下、溶媒（例：ジオキサン）中、適切な温度（例：約５０°Ｃから還流下）で反応させることにより化合物a49を得ることができる。
（工程８）
化合物a49のヒドロキシ保護基を脱保護した後、化合物（Ｉ−Ａ−７）の合成における工程４に準じた反応を行った後、化合物（Ｉ−Ａ−１）の合成における工程６に準じた反応を行うことにより、化合物a50を得ることができる。
（工程９）
化合物a50とハロゲン化剤（例：NIS）を、溶媒（例：DMF、ジクロロメタン）中、適切な温度（例：氷冷下から還流下）で反応させることにより化合物a51を得ることができる。
（工程１０）
化合物（Ｉ−Ａ−１）の合成における工程４、７に準じて行うことができる。
【０１３４】
［４］化合物（Ｉ−Ａ−４）の合成
【化１０１】
0006579549.tif 000102
（式中、Ｒはアルキル等；その他の記号は前記と同意義）
（工程１）
化合物a52を、例えば Journal of Organic Chemistry, 2013, 78(17), 8217-8231.に記載の方法に準じて反応させることにより、化合物a53を得ることができる。
（工程２）
化合物a53とＲ４Ａ-ＣＨＯを、例えば Angewandte Chemie, International Edition, 2012, 51(46), 11589-11593.に記載の方法に準じて反応させることにより、化合物a54を得ることができる。
（工程３）
例えば、化合物（Ｉ−Ｂ−５）の合成における工程４、５に準じて行うことができる。
（工程４）
化合物a55とハロゲン化剤（例：NIS）を、溶媒（例：DMF、ジクロロメタン）中、適切な温度（例：氷冷下から還流下）で反応させることにより化合物a56を得ることができる。
（工程５）
化合物（Ｉ−Ａ−１）の合成における工程６、７に準じて行うことができる。
［５］化合物（Ｉ−Ａ−７）の合成
【化１０２】
0006579549.tif 000103
（式中、各記号は前記と同意義）
（工程１）
化合物a57とハロゲン化剤（例：NIS）を、溶媒（例：DMF、ジクロロメタン）中、適切な温度（例：氷冷下から還流下）で反応させることにより化合物a58を得ることができる。
（工程２）
化合物a58と化合物a59を薗頭カップリング反応に付すことにより、化合物a60を得ることができる。
（工程３）
化合物a60を遷移金属（例：パラジウムや銅）触媒存在下、溶媒（例：ジオキサン、ＴＨＦ、トルエン）中、好ましくは室温から加熱還流下で反応させることにより、化合物a61を得ることができる。
（工程４）
化合物a61とトリフルオロメタンスルホン酸無水物を、塩基（例：ピリジン）存在下、溶媒（例：ジクロロメタン）中、適切な温度（例：氷冷下）で反応させることにより、化合物a62を得ることができる。
（工程５−６）
化合物（Ｉ−Ａ−１）の合成における工程６、２に準じて行うことができる。
（工程７）
前記［１］のＴ１環の形成反応に準じて行うことができる。
（工程８）
化合物（Ｉ−Ａ−１）の合成における工程５、４、７に準じて行うことができる。
【０１３５】
［６］化合物（Ｉ−Ａ−８）の合成
【化１０３】
0006579549.tif 000104
（式中、各記号は前記と同意義）
（工程１）
化合物a66にメチルチオ基を導入することにより化合物a67を得ることができる。反応条件としては、１）ジメチルスルフィドの遷移金属によるカップリング反応(Tetrahedron Letters, 2006, 47(29), 5059-5062.)や、２）チオ酢酸塩と遷移金属によるカップリング反応でのチオフェノール生成と続くメチル化剤でのメチル化(Beilstein Journal of Organic Chemistry, 2013, 9, 467-475.)が例示される。
（工程２）
化合物（Ｉ−Ａ−１）の合成における工程６に準じて行うことができる。
（工程３）
化合物a68とハロゲン化剤（例：NIS）を、溶媒（例：DMF、ジクロロメタン）中、適切な温度（例：氷冷下から還流下）で反応させることにより化合物a69を得ることができる。
（工程４）
化合物a69と化合物a70を薗頭カップリング反応に付すことにより、化合物a71を得ることができる。
（工程５）
化合物a71に対して、Journal of Organic Chemistry, 2002, 67(6), 1905-1909.に記載の方法に準じ、ハロニウムカチオン経由でのチアゾール環形成と接触還元による脱ハロゲンを行うことにより、化合物a72を得ることができる。
（工程６）
化合物（Ｉ−Ａ−７）の合成における工程６〜１０に準じて行うことができる。
［７］化合物（Ｉ−Ｂ−１）の合成
【化１０４】
0006579549.tif 000105
（式中、各記号は前記と同意義）
（工程１）
化合物b1と化合物b2を、例えば Journal of Heterocycle Chemistry, 2013, 50(3), 638-644.に記載の方法に準じて反応させることにより、化合物b3を得ることができる。
（工程２）
化合物（Ｉ−Ａ−１）の合成における工程４に準じて行うことができる。
（工程３）
化合物（Ｉ−Ｂ−５）の合成における工程２，３に準じて行うことができる。
（工程４）
化合物（Ｉ−Ａ−１）の合成における工程２、続けてＴ１環の形成反応、および化合物（Ｉ−Ａ−１）の合成における工程７に準じて行うことができる。
【０１３６】
［８］化合物（Ｉ−Ｂ−４）の合成
【化１０５】
0006579549.tif 000106
（式中、各記号は前記と同意義）
（工程１）
化合物（１）、Ｘ−ＮＨ２（Ｘは脱離基（例：ArSO3-、(O2N)２PhO-）およびＲ４Ａ基を有するアセチレンを、Bioorganic & Medicinal Chemistry Letters, 2013, 23(19), 5311-5316.に記載の方法に準じて反応させることにより、化合物（２）を得ることができる。Pg（：ヒドロキシ保護基）は、好ましくはベンジルである。
（工程２）
前記Ｔ１環の形成反応に準じて行うことができる。
（工程３）
化合物（Ｉ−Ａ−１）の合成における工程６に準じて行うことができる。
（工程４）
ヒドロキシ保護基（Ｐｇ）を脱保護した後、化合物（Ｉ−Ａ−７）の合成における工程４、化合物（Ｉ−Ａ−１）の合成における工程４、７に準じて行うことができる。
［９］化合物（Ｉ−Ｂ−５）の合成
【化１０６】
0006579549.tif 000107
（式中、各記号は前記と同意義）
（工程１）
化合物b10を例えば、ＷＯ２００４／０４６１３３号に記載の方法に準じて反応させることにより、化合物b11を得ることができる。
（工程２）
ヒドロキシ保護基（Ｐｇ）を脱保護した後、化合物（Ｉ−Ａ−７）の合成における工程４に準じて反応を行えばよい。
（工程３）
化合物（Ｉ−Ａ−１）の合成における工程６に準じて行うことができる。
（工程４）
化合物b13を、塩基（例：水酸化ナトリウム）存在下、溶媒（例：THF、メタノールと水の混合液）中、適切な温度（例：室温から約５０°Ｃ）で反応させることにより、エステル基が加水分解されてカルボキシル基に変換される。その後、続けて例えばDPPAなどを用いたクルチウス（Curtius）反応によりカルボキシル基をアミノ基へ変換することにより、化合物b14を得ることができる。
（工程５）
前記Ｔ１環の形成反応に準じて行うことができる。
（工程６）
化合物（Ｉ−Ａ−１）の合成における工程７に準じて行うことができる。
【０１３７】
［１０］化合物（Ｉ−Ｃ−５）の合成
【化１０７】
0006579549.tif 000108
（式中、各記号は前記と同意義）
（工程１）
化合物c1と化合物c2を、例えばJournal of Medicinal Chemistry, 1987, 30(11), 2047-51.に記載の方法に準じて、溶媒（例：エタノール）中、適切な温度（例：室温から還流下）で反応させることにより、化合物c3を得ることができる。
（工程２）
例えば、ＷＯ２００６／０３６８１６号に記載の方法に準じて、化合物c3とジフェニルイミンを、カップリング反応に適切な遷移金属と配位子と塩基と溶媒（例：酢酸パラジウムとBINAPと炭酸セシウムとトルエン）を用い、適切な温度（例：約１００°Ｃから還流下）にて反応させる。次に、アミノ基からのジフェニルメチル基の脱保護を酸性条件下（例：希塩酸）、溶媒（例：THF）中、適切な温度（例：室温から還流下）にて行うことにより、化合物c4を得ることができる。
（工程３）
前記Ｔ１環の形成反応に準じて行うことができる。
（工程４）
化合物c5とハロゲン化剤（例：NIS）を、溶媒（例：DMF、ジクロロメタン）中、適切な温度（例：氷冷下から還流下）で反応させることにより化合物c6を得ることができる。
（工程５）
化合物（Ｉ−Ａ−１）の合成における工程５に準じて行うことができる。
（工程６）
化合物（Ｉ−Ｂ−５）の合成における工程２、３に準じて行うことができる。
（工程７）
化合物（Ｉ−Ａ−１）の合成における工程７に準じて行うことができる。
上記製法により得られる最終化合物は、当業者に周知の化学修飾を行うことによってさらに別の本発明化合物に変換できる。各反応前後において官能基（例：ヒドロキシ、アミノ、カルボキシ）が存在する場合、所望により当業者に周知の反応によって、官能基に対する保護または脱保護反応を行っても良い（参考：Organic Synthesis, written by T. W. Greene, John Wiley & Sons Inc. (1991)。
【０１３８】
本発明化合物は、ＨＩＶ複製阻害作用を有するため、エイズ等、ウイルス感染症の治療剤および／または予防剤として有用である。
本発明化合物のＨＩＶ複製阻害作用は、例えば、後記試験例１において、好ましくは、ＥＣ５０値が１００ｎＭ以下、より好ましくは５０ｎＭ以下、さらに好ましくは２０ｎＭ以下、特に好ましくは１０ｎＭ以下である。同作用の評価としては、ＥＣ９０値も使用可能である。また好ましい化合物では、ウイルス変異耐性が強い。またより好ましい化合物では、Ｃ２４／ＥＣ５０値が高い（Ｃ２４：投与２４時間後の血中濃度）。
本発明化合物は、さらに好ましくは、下記いずれかあるいは全ての優れた特徴を有している。
ａ）ＣＹＰ酵素（例えば、ＣＹＰ１Ａ２、ＣＹＰ２Ｃ９、ＣＹＰ２Ｃ１９、ＣＹＰ２Ｄ６、ＣＹＰ３Ａ４等）に対する阻害作用が弱い。
ｂ）高い血中濃度やバイオアベイラビリティー、適度なクリアランス等良好な薬物動態を示す。
ｃ）代謝安定性が高い。
ｄ）ＣＹＰ酵素（例えば、ＣＹＰ３Ａ４）に対し、本明細書に記載する測定条件の濃度範囲内で不可逆的阻害作用を示さない。
ｅ）変異原性を有さない。
ｆ）心血管系のリスクが低い。
ｇ）高い溶解性を示す。
ｈ）耐性ウイルスに対しても強い薬効を示す。
I）水溶液中での安定性が高い。  
ｊ）光安定性が高く、および／または光毒性を有さないか低い。
ｋ）耐性ウイルスを発現しにくい。
本発明の医薬組成物は、経口的、非経口的のいずれの方法でも投与することができる。非経口投与の方法としては、経皮、皮下、静脈内、動脈内、筋肉内、腹腔内、経粘膜、吸入、経鼻、点眼、点耳、膣内投与等が挙げられる。
経口投与の場合は常法に従って、内用固形製剤（例えば、錠剤、散剤、顆粒剤、カプセル剤、丸剤、フィルム剤等）、内用液剤（例えば、懸濁剤、乳剤、エリキシル剤、シロップ剤、リモナーデ剤、酒精剤、芳香水剤、エキス剤、煎剤、チンキ剤等）等の通常用いられるいずれの剤型に調製して投与すればよい。錠剤は、糖衣錠、フィルムコーティング錠、腸溶性コーティング錠、徐放錠、トローチ錠、舌下錠、バッカル錠、チュアブル錠または口腔内崩壊錠であってもよく、散剤および顆粒剤はドライシロップであってもよく、カプセル剤は、ソフトカプセル剤、マイクロカプセル剤または徐放性カプセル剤であってもよい。
非経口投与の場合は、注射剤、点滴剤、外用剤（例えば、点眼剤、点鼻剤、点耳剤、エアゾール剤、吸入剤、ローション剤、注入剤、塗布剤、含嗽剤、浣腸剤、軟膏剤、硬膏剤、ゼリー剤、クリーム剤、貼付剤、パップ剤、外用散剤、坐剤等）等の通常用いられるいずれの剤型でも好適に投与することができる。注射剤は、Ｏ／Ｗ、Ｗ／Ｏ、Ｏ／Ｗ／Ｏ、Ｗ／Ｏ／Ｗ型等のエマルジョンであってもよい。
本発明化合物の有効量にその剤型に適した賦形剤、結合剤、崩壊剤、滑沢剤等の各種医薬用添加剤を必要に応じて混合し、医薬組成物とすることができる。さらに、該医薬組成物は、本発明化合物の有効量、剤型および／または各種医薬用添加剤を適宜変更することにより、小児用、高齢者用、重症患者用または手術用の医薬組成物とすることもできる。小児用医薬組成物は、１２歳または１５歳未満の患者に投与するのが好ましい。また、小児用医薬組成物は、出生後２７日未満、出生後２８日〜２３か月、２歳〜１１歳または１２歳〜１６歳若しくは１８歳の患者に投与されうる。高齢者用医薬組成物は、６５歳以上の患者に投与するのが好ましい。
本発明の医薬組成物の投与量は、患者の年齢、体重、疾病の種類や程度、投与経路等を考慮した上で設定することが望ましいが、経口投与する場合、通常０．０５〜１００ｍｇ／ｋｇ／日であり、好ましくは０．１〜１０ｍｇ／ｋｇ／日の範囲内である。非経口投与の場合には投与経路により大きく異なるが、通常０．００５〜１０ｍｇ／ｋｇ／日であり、好ましくは０．０１〜１ｍｇ／ｋｇ／日の範囲内である。これを１日１回〜数回に分けて投与すれば良い。
本発明化合物は、該化合物の作用の増強または該化合物の投与量の低減等を目的として、逆転写酵素阻害剤、プロテアーゼ阻害剤、インテグラーゼ阻害剤、その他の抗ＨＩＶ薬等（以下、併用薬剤と略記する）と組み合わせて用いることができる。この際、本発明化合物と併用薬剤の投与時期は限定されず、これらを投与対象に対し、同時に投与してもよいし、時間差をおいて投与してもよい。さらに、本発明化合物と併用薬剤とは、それぞれの活性成分を含む２種類の製剤として投与されてもよいし、両方の活性成分を含む単一の製剤として投与されてもよい。  
併用薬剤の投与量は、臨床上用いられている用量を基準として適宜選択することができる。また、本発明化合物と併用薬剤の配合比は、投与対象、投与ルート、対象疾患、症状、組み合わせ等により適宜選択することができる。例えば、投与対象がヒトである場合、本発明化合物１重量部に対し、併用薬剤を０．０１〜１００重量部用いればよい。
また、本発明化合物は、遺伝子治療の分野において、ＨＩＶやＭＬＶをもとにしたレトロウイルスベクターを用いる際に、目的の組織以外にレトロウイルスベクターの感染が広がるのを防止するために使用することができる。特に、試験管内で細胞等にベクターを感染しておいてから体内にもどすような場合に、本発明化合物を事前に投与しておくと、体内での余計な感染を防ぐことができる。
逆転写酵素阻害剤としては、例えば、ＡＺＴ、３ＴＣ、ジダノシン、ザルシタビン、サニルブジン、アバカビル、テノホビル、エムトリシタビン、ネビラビン、エファビレンツ、カプラビリン、エトラビリン、デラビルジン等が挙げられる。
プロテアーゼ阻害剤としては、例えば、インディナビル、リトナビル、サキナビル、ネルフィナビル、アンプレナビル、アタナザビル、ロピナビル、ホスアンプレナビル、ダルナビル、アタザナビル、ブレカナビル、ティプラナビル等が挙げられる。
インテグラーゼ阻害剤としては、例えば、ラルテグラビル、エルビテグラビル、ＪＴＫ−６５６、ドルテグラビル（Ｓ−３４９５７２）、Ｓ−２６５７４４等が挙げられる。
その他の抗ＨＩＶ薬としては、例えば、マラビロク、ビクリビロク等の侵入阻害剤、エンフュビルタイド、シフュビルタイド、アルブビルタイド等の融合阻害剤等が挙げられる。
【０１３９】
以下に実施例および参考例、ならびに試験例を挙げて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらにより限定されるものではない。
（LC/MS測定条件）  
（１）カラム：ＡＣＱＵＩＴＹ  ＵＰＬＣ（登録商標）ＢＥＨ  Ｃ１８  （１．７μｍ  ｉ．ｄ．２．１ｘ５０ｍｍ）（Ｗａｔｅｒｓ）
流速：０．８  ｍＬ／分；ＵＶ検出波長：２５４ｎｍ；
移動相：［Ａ］０．１％ギ酸含有水溶液、［Ｂ］０．１％ギ酸含有アセトニトリル溶液
３．５分間で５％−１００％溶媒［Ｂ］のリニアグラジエントを行った後、０．５分間、１００％溶媒［Ｂ］を維持した。
（２）カラム：Ｓｈｉｍ−ｐａｃｋ  ＸＲ−ＯＤＳ  （２．２μｍ、ｉ．ｄ．５０ｘ３．０ｍｍ）  （Ｓｈｉｍａｄｚｕ）
流速：１．６  ｍＬ／分；ＵＶ検出波長：２５４ｎｍ；
移動相：［Ａ］０．１％ギ酸含有水溶液、［Ｂ］０．１％ギ酸含有アセトニトリル溶液
グラジェント：３分間で１０％−１００％溶媒［Ｂ］のリニアグラジエントを行い、０．５分間、１００％溶媒［Ｂ］を維持した。
（３）カラム：Ｓｈｉｍ−ｐａｃｋ  ＸＲ−ＯＤＳ  （２．２μｍ、ｉ．ｄ．５０ｘ３．０ｍｍ）  （Ｓｈｉｍａｄｚｕ）
流速：１．６  ｍＬ／分；ＵＶ検出波長：２５４ｎｍ；
移動相：［Ａ］０．１％ギ酸含有水溶液、［Ｂ］０．１％ギ酸含有アセトニトリル溶液
グラジェント：８分間で１０％−１００％溶媒［Ｂ］のリニアグラジエントを行い、０．５分間、１００％溶媒［Ｂ］を維持した。
（４）カラム：ＡＣＱＵＩＴＹ ＵＰＬＣ（登録商標）ＢＥＨ  Ｃ１８  （１．７μｍ  ｉ．ｄ．２．１ｘ５０ｍｍ）（Ｗａｔｅｒｓ）
流速：０．８  ｍＬ／分；ＵＶ検出波長：２５４ｎｍ；
移動相：［Ａ］０．１％ギ酸含有水溶液、［Ｂ］０．１％ギ酸含有アセトニトリル溶液
グラジェント：９．５分間で５％−１００％溶媒［Ｂ］のリニアグラジエントを行った後、０．５分間、１００％溶媒［Ｂ］を維持した。
（略語）
Ａｃ：アセチル
ｎ−Ｂｕ：ｎ−ブチル
ｔ−Ｂｕ：ｔｅｒｔ−ブチル
ＢＩＮＡＰ：2,2'-ビス（ジフェニルホスフィノ）-1,1'-ビナフチル
Ｂｎ：ベンジル
ＤＭＡ：Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド
ＤＭＥ：ジメトキシエタン
ＤＭＦ：Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
ＤＣＭ：ジクロロメタン
ＤＭＡＰ：Ｎ,Ｎ-ジメチル-4-アミノピリジン
ＤＭＳＯ：ジメチルスルホキシド
ＤＰＰＡ：ジフェニルリン酸アジド
ｄｐｐｆ：１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン
ｄｐｐｐ：１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン
ｄｔｂｐｆ：１，１’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィノフェロセン
Ｅｔ：エチル
Ｆｍｏｃ：９−フルオレニルメチルオキシカルボニル
Ｍｅ：メチル
Ｍｓ：メチルスルホニル
ＮＢＳ：Ｎ−ブロモスクシンイミド
ＮＣＳ：Ｎ−クロロスクシンイミド
ＮＩＳ：Ｎ−ヨードスクシンイミド
Ｐｈ：フェニル
Ｐｄ２（ｄｂａ）３：トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)
ＳＥＭ：２−（トリメチルシリル）エトキシメチル
ＴＢＡＦ：フッ化テトラ-n-ブチルアンモニウム
ＴＢＳ：ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル
ＴＨＦ：テトラヒドロフラン
Ｔｆ：トリフルオロメタンスルホニル
ＴＦＡ：トリフルオロ酢酸
ＴＭＳ：トリメチルシリル
Ｔｓ：ｐ−トルエンスルホニル
ＲｕＰｈｏｓ：２-ジシクロヘキシルフォスフィノ-２',６'-ジイソプロポキシ-１,１'-ビフェニル
【０１４０】
（参考例１）
【化１０８】
0006579549.tif 000109
第１工程
化合物i１（７．０ｇ、３４．６ｍｍｏｌ）のメタノール（７０ｍＬ）溶液に、無水酢酸（３．６０ｍＬ、３８．１ｍｍｏｌ）を滴下し、０．５時間還流した。反応液を減圧濃縮し、得られた残渣を酢酸エチルに溶かして、有機層を水と食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮し、化合物i２（８．３２２ｇ、収率９８％）を得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 2.13 (s, 3H), 2.28 (s, 3H), 5.42 (brs, 1H), 6.95 (brs, 1H), 7.09 (s,1H), 7.60 (s, 1H). 
LC/MS (ESI):m/z = 243.95, 245.95 [M+H]+.
第２工程
化合物i２（８．３２２ｇ、３４．１ｍｍｏｌ）のアセトニトリル（４２ｍＬ）懸濁液に、炭酸セシウム（１３．３３ｇ、４０．９ｍｍｏｌ）とヨウ化メチル（２．３ｍＬ、３６．８ｍｍｏｌ）を加え、０．５時間還流した。室温に冷却後、反応液に水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を炭酸ナトリウム水溶液、水、食塩水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧濃縮し、化合物i３（８．６８ｇ、収率９９％）を得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 2.15 (s, 3H), 2.31 (s, 3H), 3.78 (s, 3H), 6.97 (brs, 1H), 7.55 (s, 1H). 
LC/MS (ESI):m/z = 257.95, 259.95 [M+H]+.
第３工程
化合物i３（８．６８ｇ、３３．６ｍｍｏｌ）の濃硫酸（８６ｍＬ）溶液に、食塩氷冷下、濃硝酸（２．２５ｍＬ、３５．３ｍｍｏｌ）の濃硫酸（４．６ｍＬ）溶液を滴下し、室温で０．５時間撹拌した。反応液を氷水に注ぎ、析出物をろ取して水で洗い、クロロホルムに溶かして、水で洗浄した。得られたクロロホルム溶液を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル−クロロホルム）により精製し、化合物i４（３．８７ｇ、収率３８％）を得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 2.19 (s, 3H), 2.37 (s, 3H), 3.82 (s, 3H), 8.10 (brs, 1H), 8.36 (s, 1H). 
LC/MS (ESI):m/z = 302.95, 304.90 [M+H]+.
第４工程
化合物i４（３．８７ｇ、１２．７７ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（３０ｍＬ）とメタノール（１５ｍＬ）溶液に、２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（１２．８ｍＬ、２５．５ｍｍｏｌ）を加えて、３時間還流した。反応液を室温に冷却後、塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を塩化アンモニウム水溶液、水、食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮し、化合物i５（３．３５ｇ、収率１００％）を得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 2.41 (s, 3H), 3.75 (s, 3H), 4.83 (brs, 2H), 6.92 (s, 1H). 
LC/MS (ESI):m/z = 260.95, 262.95 [M+H]+.
第５工程
化合物i５（３．３３ｇ、１２．７５ｍｍｏｌ）のエタノール（３３ｍＬ）溶液に硫酸銀（６．２１ｇ、１９．９３ｍｍｏｌ）を加えた後、氷冷下、ヨウ素（４．８５ｇ、１９．１４ｍｍｏｌ）を加え、室温下で７．５時間撹拌した。反応液に重曹水を注意深く加えた後、酢酸エチルを加えて撹拌し、不溶物をろ過で除いた。得られたろ液をチオ硫酸ナトリウム水溶液、重曹水、食塩水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮し、化合物i６の粗生成物（５．０６ｇ）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 386.85, 388.80 [M+H]+.
第６工程
化合物i６（４．９４ｇ、１２．７７ｍｍｏｌ）の酢酸（５０ｍＬ）懸濁液に、無水酢酸（２６．４ｍＬ、２８１ｍｍｏｌ）を加え、終夜加熱還流した。反応液に水（２００ｍＬ）を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水と食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮した。得られた残渣をＴＨＦ（２０ｍＬ）とメタノール（２０ｍＬ）に溶かし、炭酸ナトリウム水溶液（２ｍｍｏｌ／Ｌ、２０ｍＬ）を加えて５０℃で１．５時間加熱撹拌した。反応液を室温に冷却後、クエン酸水溶液を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層をクエン酸水溶液と食塩水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮し、化合物i７の粗生成物（５．５４ｇ）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 428.85, 430.85 [M+H]+.
第７工程  
化合物i７（５．４８ｇ、１２．７７ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（１６５ｍＬ）懸濁液をドライアイス―アセトン浴で冷却して、３臭化ホウ素（１ｍｏｌ／Ｌ  ジクロロメタン溶液、３８．３ｍＬ、３８．３ｍｍｏｌ）を滴下後、室温に昇温しながら終夜撹拌した。反応液に氷冷下で重曹水を加え、不溶物をセライトろ過で除いた。ろ液を重曹水で抽出した後、クロロホルムで洗浄した。水層をクエン酸水溶液でｐＨ５へ中和した後、酢酸エチルで抽出して、有機層を水と食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮して、茶色固形物の残渣（１．７３ｇ）を得た。洗浄に用いたクロロホルム層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮し、茶色アモルファスの残渣（１．２９ｇ）を得た。
両残渣をあわせて（３．０２ｇ）、ＴＨＦ（６０ｍＬ）に溶かし、氷冷下、ジイソプロピルエチルアミン（２．０４ｍＬ、１１．６４ｍｍｏｌ）、トリメチルシリルエトキシメトキシクロリド（１．７４ｍＬ、９．７８ｍｍｏｌ）を加えて１時間撹拌した。反応液に塩化アンモニウム水溶液と酢酸エチルを加えて撹拌した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を塩化アンモニウム水溶液、水と食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル―クロロホルム）で精製し、化合物i８（２．３７ｇ、収率６０％）を得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 0.04 (s, 9H), 1.00 (t, 2H, J = 8.5 Hz), 2.18 (s, 3H), 2.29 (s, 3H), 3.91 (t, 2H, J = 8.5 Hz), 5.14 (s, 2H), 6.96 (brs, 1H).
LC/MS (ESI):m/z = 544.95, 546.95 [M+H]+.
（参考例２）
【化１０９】
0006579549.tif 000110
第１工程
化合物i９（１０ｇ、４６．３ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（１００ｍＬ）溶液に、ＺｎＦ２（１４．３６ｇ、１３９ｍｍｏｌ）、ｔ−Ｂｕ３Ｐ（２．２４ｍＬ、９．２６ｍｍｏｌ）、Ｐｄ（ｄｂａ）２（２．６６ｇ、４．６３ｍｍｏｌ）、（Ｚ）−（（２−（ｔ−ブトキシ）−１−メトキシビニル）オキシ）トリメチルシラン（３０．３ｇ、１３９ｍｍｏｌ）を加え、１００℃で窒素雰囲気下１時間攪拌した。反応液に水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物i１０の粗生成物（１６．１ｇ）を得た。
第２工程
粗生成物i１０（１６．１ｇ）の酢酸（１６０ｍＬ）溶液に、氷冷下Ｚｎ（３０．３ｇ、４６３ｍｍｏｌ）を加え室温で１時間攪拌した。反応液を濾過し、ろ液を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物i１１（１０．７４ｇ、２工程収率９２％）を得た。
1H-NMR (CDCl3)δ：1.22(s, 9H), 2.21(s, 3H), 3.66(s, 3H), 5.22(s, 1H), 6.64(d, 1H, J=7.3Hz), 6.97-7.04(m. 2H).
第３工程
化合物i１１（１０．７ｇ、４２．６ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（１００ｍＬ）溶液にＮＢＳ（７．２ｇ、４０．４ｍｍｏｌ）を氷冷下加え室温で１０分間攪拌した。反応液に重曹水、チオ硫酸ナトリウム水溶液を加え酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物i１２（１２．０ｇ、収率９０％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 330.95 [M+H]+.
第４工程
化合物i１２（１１．９ｇ、３６ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（１２０ｍＬ）溶液に、２ｍｏｌ／Ｌ炭酸カリウム水溶液（５４．1ｍＬ、１０８ｍｍｏｌ）、ｐ−トリルボロン酸（７．３５ｇ、５４．１ｍｍｏｌ）、ＰｄＣｌ２（ｄｔｂｐｆ）（２．３５ｇ、３．６ｍｍｏｌ）を加え１００℃で窒素雰囲気下攪拌した。反応液に水を加え酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物i１３（１０．８ｇ、収率８８％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 342.15 [M+H]+.
第５工程
化合物i１３（１０．７ｇ、３１．３ｍｍｏｌ）を、参考例２、第３工程と同様に反応を行い、化合物i１４（１２．８ｇ、収率９７％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 420.10 [M+H]+.
第６工程
化合物i１４（７．５ｇ、１７．８４ｍｍｏｌ）のジクロロエタン（８０ｍＬ）溶液に氷冷下、ｍ−ＣＰＢＡ（１７．６ｇ、７１．４ｍｍｏｌ）を加え、２時間還流した。反応液に重曹水、チオ硫酸ナトリウム水溶液を加えクロロホルムで抽出し、有機層を水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物i１５（５.８１ｇ、収率７２％）を得た。
1H-NMR (CDCl3)δ：0.89(s, 9H), 2.36(s, 3H), 2.43(s, 3H), 3.78(s, 3H), 5.26(s, 1H), 7.24-7.27(m, 4H), 7.40(s, 1H).
第７工程
化合物i１５（６．２ｇ、１３．７７ｍｍｏｌ）のトルエン（６０ｍＬ）溶液に、炭酸セシウム（１３．４６ｇ、４１．３ｍｍｏｌ）、アセトアミド（２．４４ｇ、４１．３ｍｍｏｌ）、ＢＩＮＡＰ（８５７ｍｇ、１．３８ｍｍｏｌ）、酢酸パラジウム（３０９ｍｇ、１．３８ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下２時間還流した。反応溶液を濾過し、ろ液を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物i１６（３．５７ｇ、収率６１％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 451.20 [M+Na]+.
第８工程
化合物i１６（３．５ｇ、８．１７ｍｍｏｌ）のメタノール（３５ｍＬ）溶液に、炭酸カリウム（５．６４ｇ、４０．８ｍｍｏｌ）を加え５時間還流した。反応液に水を加えクロロホルムで抽出し、有機層を水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧濃縮し、得られた残渣をジイソプロピルエーテルで洗浄し、化合物i１７（２．８９ｇ、収率９２％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 409.15 [M+Na]+.
第９工程
化合物i１７（２．８ｇ、７．２５ｍｍｏｌ）のエタノール（３０ｍＬ）溶液に、氷冷下、硝酸銀（２．４６ｇ、１４．４９ｍｍｏｌ）、ヨウ素（３．６８ｇ、１４．４９ｍｍｏｌ）を加え室温で２．５時間攪拌した。不溶物を濾過し、ろ液に重曹水、チオ硫酸ナトリウム水溶液を加え酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物i１８（３．５１ｇ、収率９５％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 535.00 [M+Na]+.
（参考例３）
【化１１０】
0006579549.tif 000111
第１工程
化合物i１９のＤＭＦ（２０ｍＬ）溶液に、１−イソプロピルピペラジン（４．８５ｍＬ、３４．２ｍｍｏｌ）を加え６０℃で１時間攪拌した。反応液に水を加え酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル）で精製し、化合物i２０（２．５４ｇ、収率７４％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 303.20 [M+H]+.
第２工程
化合物i２０のメタノール溶液に、水酸化カリウムを加え、室温で３０分間攪拌した。反応液を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル）で精製し、化合物i２１（１．１７ｇ、収率６１％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 231.05 [M+H]+.
【０１４１】
（実施例１）
【化１１１】
0006579549.tif 000112
第１工程
化合物i８（１．４１ｇ、２．５９ｍｍｏｌ）、PdCl2(PPh3)2（１８２ｍｇ、０．２５９ｍｍｏｌ）、ヨウ化銅（Ｉ）（７４ｍｇ、０．３８８ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（２８ｍＬ）懸濁液に、窒素雰囲気下、エチニルベンゼン（５６８μＬ、５．１７ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（１．７９ｍＬ、１２．９３ｍｍｏｌ）、ヨウ化テトラブチルアンモニウム（１．４３ｇ、３．８８ｍｍｏｌ）を加えて、６０℃で終夜加熱撹拌した。反応液を酢酸エチルで希釈した後、クエン酸水溶液を加えて撹拌し、酢酸エチルで抽出した。有機層をクエン酸水溶液、水、食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥して、減圧濃縮した。
得られた残渣のジクロロメタン（２０ｍＬ）溶液に、ジイソプロピルエチルアミン（５４２μＬ、３．１０ｍｍｏｌ）を加えた後、氷冷下、トリメチルシリルエトキシメトキシクロリド（４８１μＬ、２．７１ｍｍｏｌ）を加えて、室温下２．５時間撹拌した。反応液に塩化アンモニウム水溶液を加えてクロロホルムで抽出した後、有機層を食塩水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥させて減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル―クロロホルム）で精製して、化合物１（９１０ｍｇ、収率６８％）を得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 0.05 (s, 9H), 1.01 (t, 2H, J = 8.5 Hz), 2.21 (s, 3H), 2.38 (s, 3H), 3.93 (t, 2H, J = 8.5 Hz), 5.16 (s, 2H), 7.39-7.42 (m, 3H), 7.53-7.56 (m, 2H).
LC/MS (ESI):m/z = 519.10, 521.10 [M+H]+.
第２工程
化合物１（９１０ｍｇ、１．７５ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２０ｍＬ）溶液に、臭化テトラブチルアンモニウム／ＴＨＦ溶液（１ｍｏｌ／Ｌ、４．４ｍＬ）を加え、７０℃で２時間加熱撹拌した。反応液を室温に冷却した後、塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を水と食塩水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧濃縮して、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル―ヘキサン）で精製して、化合物２（４３１ｍｇ、収率５２％）を得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 0.06 (s, 9H), 1.01-1.08 (m, 2H), 2.81 (s, 3H), 3.96-4.02 (m, 2H), 5.16 (s, 2H), 6.92 (d, 1H, J = 2.5 Hz), 7.38-7.43 (m, 1H), 7.50 (t, 2H, J = 7.6 Hz), 7.72 (d, 2H, J = 7.5 Hz), 10.03 (s, 1H).  
LC/MS (ESI):m/z = 477.00, 479.05 [M+H]+.
第３工程
６−クロマニルボロン酸（５８ｍｇ、０．３２４ｍｍｏｌ）、Ｐｄ２（ｄｂａ）３（７．９ｍｇ、８．６３μｍｏｌ）、ＲｕＰｈｏｓ（１２ｍｇ、２６μｍｏｌ）、リン酸カリウム（１８３ｍｇ、０．８６３ｍｍｏｌ）に窒素雰囲気下、化合物２（１０３ｍｇ、０．２１６ｍｇ）のジオキサン（１ｍＬ）溶液を加え、マイクロ波照射下、１２０°Ｃで５０分間加熱撹拌した。反応液を酢酸エチルで希釈し、塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を水と食塩水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧乾燥して、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル―ヘキサン）で精製して、化合物３（９２．４ｍｇ、収率８１％）を得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 0.00 (s, 9H), 0.83 (t, 2H, J = 8.5 Hz), 2.07-2.12 (m, 2H), 2.83 (s, 3H), 2.89 (t, 2H, J = 6.3 Hz), 3.49 (t, 2H, J = 8.5 Hz), 4.28 (t, 2H, J = 5.0 Hz), 4.67 (s, 2H), 6.77 (d, 1H, J = 1.8 Hz), 6.94 (d, 1H, J = 8.3 Hz), 7.32 (s, 1H), 7.34-7.40 (m, 2H), 7.41-7.49 (m, 2H), 7.68 (d, 2H, J = 7.7 Hz), 10.10 (s, 1H).  
LC/MS (ESI):m/z = 531.25 [M+H]+.
第４工程
化合物３（１２１ｍｇ、０．２２８ｍｍｏｌ）を、実施例３、第４工程と同様に反応を行い、化合物４（１１４ｍｇ、収率８６％）を得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 2.05-2.13 (m, 2H), 2.85-2.90 (m, 5H), 4.26-4.31 (m, 2H), 6.83 (s, 1H), 6.96 (d, 1H, J = 8.5 Hz), 7.22-7.31 (m, 2H), 7.38-7.43 (m, 1H), 7.48 (t, 2H, J = 7.4 Hz), 7.69 (d, 2H, J = 7.5 Hz), 10.18 (s, 1H).  
LC/MS (ESI):m/z = 533.10 [M+H]+.
第５工程
化合物４（１１３ｍｇ、０．２１２ｍｍｏｌ）を、実施例３の第５工程と同様に反応を行い、化合物５（９０ｍｇ、収率８０％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 529.15 [M+H]+.
第６工程
化合物５（５６ｍｇ、０．１０６ｍｍｏｌ）と塩化スズ（ＩＩ）（１００ｍｇ、０．５３ｍｍｏｌ）のエタノール（５ｍＬ）懸濁液を、窒素雰囲気下、６時間加熱還流した。反応液を室温に冷却した後、重曹水と酢酸エチルを加えて撹拌し、セライト濾過した。ろ液を酢酸エチルで抽出し、有機層を水と食塩水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧濃縮して、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル―ヘキサン）で精製して、化合物６（３０．４ｍｇ、収率５７％）を得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 2.05-2.11 (m, 2H), 2.25 (s, 3H), 2.72-2.93 (m, 2H), 3.54 (br s, 2H), 3.71 (d, 3H, J = 9.3 Hz), 4.27 (t, 2H, J = 5.0 Hz), 5.43 (d, 1H, J = 7.0 Hz), 6.48 (s, 1H), 6.88 (dd, 1H, J = 8.1, 5.3 Hz), 7.13-7.30 (m, 3H), 7.35-7.41 (m, 2H), 7.58-7.63 (m, 2H), 8.30 (s, 1H).  
LC/MS (ESI):m/z = 499.20 [M+H]+.
第７工程
化合物６（２０ｍｇ、４０μｍｏｌ）のジクロロメタン（１ｍＬ）溶液に、ピリジン（８．１１μＬ、０．１０ｍｍｏｌ）、ＤＭＡＰ（０．５ｍｇ、４μｍｏｌ）を加えた後、クロロメタンスルホニルクロリド（４．７４μＬ、５２μｍｏｌ）を加え、室温下終夜撹拌した。反応液にクエン酸水溶液を加えて撹拌した後、ジクロロメタンで抽出して、有機層を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル―ヘキサン）で精製して、化合物７（２２．７ｍｇ、収率９３％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 611.15, 613.15 [M+H]+.
第８工程
化合物７（２２．７ｍｇ、３７μｍｏｌ）のＤＭＡ溶液に窒素雰囲気下、水素化ナトリウム（６０％油懸濁物、８．９ｍｇ、０．２３ｍｍｏｌ）を加え、１００°Ｃで加熱撹拌した。反応液を室温に冷却して、クエン酸水溶液を加えて撹拌後、ジクロロメタンで抽出し、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（メタノール―クロロホルム）で精製して、化合物Ｉ−３（２０．２ｍｇ、７４％）を得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 0.95 (s, 9H), 1.26 (t, 2H, J = 7.0 Hz), 2.35 (d, 3H, J = 3.6 Hz), 2.87 (t, 2H, J = 6.1 Hz), 4.27 (t, 2H, J = 5.0 Hz), 4.90-4.97 (m, 1H), 5.23-5.34 (m, 1H), 5.63 (s, 1H), 6.39 (d, 1H, J = 6.3 Hz), 6.91 (t, 1H, J = 9.0 Hz), 7.18 (t, 1H, J = 8.2 Hz), 7.27-7.45 (m, 7H), 10.15 (s, 1H).  
LC/MS (ESI):m/z = 561.15 [M+H]+.
【０１４２】
（実施例２）
【化１１２】
0006579549.tif 000113
第１工程
化合物８（１０ｇ、４２．７ｍｍｏｌ）のエタノール（５０ｍＬ）懸濁液に氷冷下、ヒドラジン一水和物（６．２３ｍＬ、１２８ｍｍｏｌ）を加えて、室温下終夜撹拌した。析出物をろ取し、洗液で洗浄して、化合物９の粗生成物（１０．２０ｇ）を得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 2.46 (s, 3H), 3.70 (s, 2H), 6.73 (s, 1H), 7.63 (s, 1H), 7.80 (br s, 1H).  
LC/MS (ESI):m/z = 245.80, 247.85 [M+H]+.
第２工程
化合物９（３．６８ｇ、１５．０ｍｍｏｌ）に氷冷下、プロピオフェノン（２．３９ｍＬ、１８ｍｍｏｌ）、トリフルオロ酢酸（２３ｍＬ、２９９ｍｍｏｌ）を加え、封管中１２０℃で３０分間加熱撹拌した。反応液に水とヘキサンを加え、析出物をろ取し、ヘキサンで洗浄し、得られた固体をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル―ヘキサン）で精製して、化合物１０（２．４４ｇ、収率４７％）を得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 2.65 (s, 3H), 2.79 (s, 3H), 7.43-7.49 (m, 1H), 7.50-7.59 (m, 4H), 9.97 (s, 1H).  
LC/MS (ESI):m/z = 344.90, 346.90 [M+H]+.
第３工程
化合物１０（１．００ｇ、２．９０ｍｍｏｌ）のエタノール（２００ｍＬ）懸濁液に鉄粉（１．９４ｇ、３４．８ｍｍｏｌ）と塩化アンモニウム（６．２０ｇ、１１６ｍｍｏｌ）を加え、７時間還流撹拌した。反応液を室温に冷却した後、セライト濾過して、残渣を酢酸エチルと水で洗浄した。ろ液と洗浄液を合わせて、酢酸エチルで抽出した後、有機層を食塩水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮した。
得られた残渣のジクロロメタン（１８０ｍＬ）溶液に、ピリジン（５８６μＬ、７．２４ｍｍｏｌ）を加え、氷冷下、メタンスルホン酸無水物（５５５ｍｇ、３．１９ｍｍｏｌ）を加え、室温下で１．５時間撹拌した。反応液に塩化アンモニウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥して減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル―ヘキサン）で精製し、化合物１１（７９２ｍｇ、収率７０％）を得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 2.42 (3H, s), 2.64 (3H, s), 3.00 (3H, s), 6.08 (1H, s), 7.17 (1H, s), 7.39 (1H, t, J = 7.0 Hz), 7.48 (2H, t, J = 7.5 Hz), 7.55 (2H, d, J = 7.5 Hz), 9.12 (1H, s).  
LC/MS (ESI):m/z = 392.90, 394.90 [M+H]+.
第４工程
化合物１１（４９３ｍｇ、１．２５ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（５ｍＬ）溶液に、炭酸セシウム（１．２２５ｇ、３．７６ｍｍｏｌ）と１，３−ジブロモプロパン（１６５μＬ、１．６３ｍｍｏｌ）を加え、室温下１０時間撹拌した。反応液に塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を塩化アンモニウム水溶液、重曹水、水、食塩水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮して得られた残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル―クロロホルム）で精製して、化合物１２（４７６ｍｇ、収率８８％）を得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 1.87-1.99 (m, 1H), 2.14-2.24 (m, 1H), 2.44 (s, 6H), 3.14 (s, 3H), 3.62-3.71 (m, 1H), 3.78-3.86 (m, 1H), 4.19 (dt, 1H, J = 15.0, 7.5 Hz), 4.49 (t, 1H, J = 12.8 Hz), 7.16 (s, 1H), 7.35 (d, 2H, J = 7.4 Hz), 7.42 (t, 1H, J = 7.1 Hz), 7.49 (t, 2H, J = 7.4 Hz).  
LC/MS (ESI):m/z = 433.00, 434.95 [M+H]+.  
第５工程
化合物１２（１００ｍｇ、０．２３１ｍｍｏｌ）、p-トリルボロン酸（４１ｍｇ、０．３０ｍｍｏｌ）、Ｐｄ２（ｄｂａ）３（５．３ｍｇ、５．８ｍｍｏｌ）、ＲｕＰｈｏｓ（１６．２ｍｇ、０．０３５ｍｍｏｌ）にジオキサン（２ｍＬ）と炭酸ナトリウム水溶液（２ｍｏｌ／Ｌ、４６２μＬ、０．９２３ｍｍｏｌ）を加えて、マイクロ波照射下１２°Ｃで１５分間加熱撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した後、有機層を水と食塩水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥して減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン）で精製し、化合物１３（９３ｍｇ、収率９１％）を得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 1.75 (s, 3H), 1.96-2.08 (m, 1H), 2.20-2.29 (m, 1H), 2.42 (s, 3H), 2.50 (s, 3H), 3.18 (s, 3H), 3.69-3.78 (m, 1H), 3.79-3.87 (m, 1H), 4.25 (dt, 1H, J = 15.0, 7.5 Hz), 4.54 (t, 1H, J = 12.5 Hz), 6.84 (s, 1H), 7.21 (d, 2H, J = 7.8 Hz), 7.32-7.37 (m, 4H), 7.39 (d, 1H, J = 6.4 Hz), 7.43-7.49 (m, 2H).  
LC/MS (ESI):m/z = 445.10 [M+H]+.  
第６工程
化合物１３（４６ｍｇ、０１０３ｍｍｏｌ）を、参考例２の第３工程と同様に反応を行い、化合物１４（３３ｍｇ、収率６１％）を得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 1.45 (s, 3H), 1.54 (s, 3H), 1.92-2.04 (m, 1H), 2.15-2.26 (m, 1H), 2.44 (s, 3H), 2.61 (s, 3H), 3.16 (s, 3H), 3.68-3.77 (m, 1H), 3.77-3.85 (m, 1H), 4.31 (dt, 1H, J = 15.0, 7.5 Hz), 4.51 (t, 1H, J = 12.8 Hz), 7.19 (t, 1H, J = 8.0 Hz), 7.24 (d, 2H, J = 8.3 Hz), 7.31 (d, 2H, J = 7.3 Hz), 7.38 (t, 1H, J = 6.5 Hz), 7.44 (t, 2H, J = 7.5 Hz).   
LC/MS (ESI):m/z = 523.10, 525.10 [M+H]+.  
第７工程
化合物１４（３３ｍｇ、０．０６３ｍｍｏｌ）を、実施例３の第５工程と同様に反応を行い、化合物１５をジアステレオマー混合物（２４．４ｍｇ、収率６６％）の黄色アモルファスとして得た。該混合物は分離可能だが、室温下で異性化するため、ジアステレオマー混合物のまま次工程へと導いた。
両ジアステレオマー：LC/MS (ESI):m/z = 589.25 [M+H]+.  
第８工程
化合物１５（３３ｍｇ、０．０５６ｍｍｏｌ）を、実施例３の第８工程と同様に反応を行い、化合物Ｉ−５をジアステレオマー混合物（１３．４ｍｇ、収率４２％）の白色固体として得た。該混合物は分離可能だが、室温下で異性化するため、ジアステレオマー混合物のまま目的物とした。
両ジアステレオマー：LC/MS (ESI):m/z = 575.20 [M+H]+.  
【０１４３】
（実施例３）  
【化１１３】
0006579549.tif 000114
第１工程  
化合物i８（５００ｍｇ、０．９１７ｍｍｏｌ）のアセトニトリル（１０ｍＬ）溶液に、炭酸セシウム（４１８ｍｇ、１．２８ｍｍｏｌ）と臭化アリル（９５μＬ、１．１ｍｍｏｌ）を加えて室温下で終夜撹拌した。反応液に塩化アンモニウム水溶液を加え撹拌した後、クロロホルムで抽出し、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル―ヘキサン）で精製し、化合物１６（３９８ｍｇ、収率７４％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 585.00, 586.95 [M+H]+.
第２工程
化合物１６（１．３５４ｇ、２．３１３ｍｍｏｌ）のアセトニトリル（２７ｍＬ）懸濁液に、ジイソプロピルエチルアミン（１．２ｍＬ、６．９４ｍｍｏｌ）とテトラキストリフェニルフホスフィンパラジウム（１３４ｍｇ、０．１１６ｍｍｏｌ）を加え、室温下６日間撹拌した。反応液に塩化アンモニウム水溶液を加えて、酢酸エチルで抽出した後、有機層を塩化アンモニウム水溶液、水と食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮して、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル―ヘキサン）で精製し、化合物１７（５６２ｍｇ、収率５３％）を得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 0.04 (s, 9H), 1.02 (t, 2H, J = 8.5 Hz), 2.46 (s, 3H), 2.53 (s, 3H), 2.58 (s, 3H), 3.95 (t, 2H, J = 8.5 Hz), 5.12 (s, 2H), 7.24 (s, 1H).  
LC/MS (ESI):m/z = 935.05, 937.05, 939.055 [2M+Na]+.
第３工程
化合物１７（２０２ｍｇ、０．４４２ｍｍｏｌ）、（５−メチルクロマン−６−イル）ボロン酸（１７０ｍｇ、０．８８３ｍｍｏｌ）、PdCl2(dtbpf)（８．６ｍｇ、０．０１３ｍｍｏｌ）、ジオキサン（３ｍＬ）、炭酸ナトリウム水溶液（２ｍｏｌ／Ｌ、０．８８ｍＬ、１．７７ｍｍｏｌ）の懸濁液を窒素雰囲気化封管して、マイクロ波照射下１５０℃で３０分間加熱撹拌した。反応液に塩化アンモニウム水溶液と酢酸エチルを加えて、セライト濾過し、ろ液を酢酸エチルで抽出した。有機層を塩化アンモニウム水溶液、重曹水、食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮して、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル―ヘキサン）で精製し、化合物１８（７８ｍｇ、収率３７％）を得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 0.02 (s, 9H), 0.83-0.86 (m, 2H), 1.61 (s, 3H), 1.93 (s, 3H), 2.10-2.15 (m, 2H), 2.73 (t, 2H, J = 6.4 Hz), 2.81 (s, 3H), 3.30-3.43 (m, 2H), 4.22 (t, 2H, J = 5.1 Hz), 4.68 (dd, 2H, J = 9.6, 5.2 Hz), 6.76 (d, 1H, J = 8.4 Hz), 6.98 (d, 1H, J = 8.3 Hz), 7.02 (s, 1H), 9.66 (brs, 1H).
LC/MS (ESI):m/z = 481.10 [M-H]-.
第４工程
化合物１８（１１７ｍｇ、０．２４２ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１ｍＬ）とメタノール（１ｍＬ）の溶液に塩酸(２ｍｏｌ／Ｌ、０．２４ｍＬ、０．４８５ｍｍｏｌ)を加え、６０℃で１時間撹拌した。反応液に水を加えてクロロホルムで抽出した。有機層を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(クロロホルム)で精製して、固体（７７ｍｇ）を得た。
得られた固体（７７ｍｇ）のジクロロメタン（２ｍＬ）溶液にピリジン（０．１４１ｍＬ、０．５６８ｍｍｏｌ）を加えた後、氷冷下でトリフルオロメタンスルホン酸無水物（０．１１ｍＬ、０．６５６ｍｍｏｌ）を加えて室温下で４時間撹拌した。反応液に塩化アンモニウム水溶液を加えて撹拌した後、ジクロロメタンで抽出し、減圧濃縮して得た残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル―ヘキサン）で精製して、化合物１９（１０４ｍｇ、収率９８％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 485.00 [M+H]+.
第５工程
化合物１９（４９ｍｇ、０．１０１ｍｍｏｌ）、Ｐｄ２（ｄｂａ）３（１４ｍｇ、０．０１５ｍｍｏｌ）、ＲｕＰｈｏｓ（４３ｍｇ、０．０９１ｍｍｏｌ）、フッ化亜鉛（ＩＩ）（５２ｍｇ、０．５０６ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（２ｍＬ）懸濁液に、((2-(t-ブトキシ)-1-メトキシビニル)オキシ)トリメチルシラン（１７７ｍｇ、０．８０９ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下、１３０°Ｃで６時間撹拌した。反応液を室温に冷却した後、塩化アンモニウム水溶液とクロロホルムを加え、クロロホルムで抽出し減圧濃縮して、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル―ヘキサン）で精製して、化合物２０（４１ｍｇ、収率８４％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 479.10 [M-H]-.
第６工程  
化合物２０（７６ｍｇ、０．１５８ｍｍｏｌ）のエタノール懸濁液に、塩化アンモニウム（１６９ｍｇ、３．１６ｍｍｏｌ）と鉄粉（７１ｍｇ、１．２７ｍｍｏｌ）を加えて、４時間還流撹拌した。反応液をセライト濾過し、酢酸エチルと水で残渣を洗浄した後、ろ液を合わせて、酢酸エチルで抽出した。有機層を食塩水で洗浄して無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧濃縮して残渣を得た。
得られた残渣をジクロロメタン溶液にして、ピリジン（０．０３８４ｍＬ、０．４７５ｍｍｏｌ）を加えた後、氷冷下、メタンスルホン酸無水物（３５．８ｍｇ、０．２０６ｍｍｏｌ）を加えて室温下で１時間撹拌した。反応液に塩化アンモニウム水溶液を加え、ジクロロメタンで抽出し、減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル―ヘキサン）で精製し、化合物２１（４２．５ｍｇ、収率５１％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 527.10 [M-H]-.
第７工程  
化合物２１（３１ｍｇ、０．０５９ｍｍｏｌ）と炭酸セシウム（８６ｍｇ、２６４ｍｍｏｌ）のＤＭＦ懸濁液に、１，２−ジブロモエタン（９．６μＬ、０．１１１ｍｍｏｌ）を加え、室温下１９時間撹拌した。反応液に塩化アンモニウム水溶液を加えクロロホルムで抽出し、有機層を減圧濃縮して得られた残渣を、シリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル―ヘキサン）で精製して、化合物２２（３０．７ｍｇ、収率９４％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 555.25 [M+H]+.
第８工程  
化合物２２（３０ｍｇ、０．０５４ｍｍｏｌ）のＴＨＦとメタノール（各０．３ｍＬ）の溶液に、水酸化ナトリウム水溶液（２ｍｏｌ／Ｌ、０．５４ｍＬ、１．０８ｍｍｏｌ）を加え、６５℃で９．５時間加熱撹拌した。反応液を室温に冷却した後、塩化アンモニウム水溶液とクロロホルムを加えて撹拌し、クロロホルムで抽出し、減圧濃縮して得られた残渣を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム）で精製し、目的化合物のアトロプ異性体混合物（２７，４ｍｇ、収率９３％）をとして得た。該混合物を分取ＴＬＣで分離して、化合物Ｉ−６を単一の化合物（４．７ｍｇ）として得た。
1H-NMR (CDCl3)δ: 0.79-0.89 (m, 1H), 1.12 (s, 9H), 1.47 (s, 3H), 1.98 (s, 3H), 2.07-2.13 (m, 2H), 2.45 (br s, 3H), 2.66-2.75 (m, 2H), 2.98 (s, 3H), 3.51 (br s, 1H), 4.20 (t, 2H, J = 4.9 Hz), 4.37 (br s, 2H), 5.33 (s, 1H), 6.69 (d, 1H, J = 8.4 Hz), 6.71 (s, 1H), 6.97-7.02 (m, 1H), 9.92 (br s, 1H).
LC/MS (ESI):m/z = 539.15 [M-H]-.
（実施例４）
【化１１４】
0006579549.tif 000115
第１工程
化合物i１８（１ｇ、１．９５ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（１０ｍＬ）溶液に、Ｅｔ３Ｎ（０．８１２ｍＬ、５．８６ｍｍｏｌ）、２−クロロ−４−エチニルピリジン（８０６ｍｇ、５．８６ｍｍｏｌ）、ヨウ化銅（３７．２ｍｇ、０．１９５ｍｍｏｌ）、ＰｄＣｌ２（ＰＰｈ３）２（１３７ｍｇ、０．１９５ｍｍｏｌ）を加え、１００℃で窒素雰囲気下１時間攪拌した。反応液に水を加え酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物２３（５７４ｍｇ、収率５６％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 522.20 [M+H]+.
第２工程
化合物２３（５７０ｍｇ、１．０９ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（６ｍＬ）溶液に、炭酸カリウムを（１．５１ｇ、１０．９２ｍｍｏｌ）加え１００℃で６時間攪拌した。反応液に水を加え酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物２４（４１３ｍｇ、収率７３％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 522.15 [M+H]+.
第３工程
化合物２４（４２０ｍｇ、０．８０５ｍｍｏｌ）の酢酸（４ｍＬ）溶液に、氷冷下Ｚｎ（３１６ｍｇ、２．８２ｍｍｏｌ）を加え室温で１時間攪拌した。反応液を濾過し、ろ液を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物２５（３８８ｍｇ、収率９８％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 492.2 [M+H]+.
第４工程
化合物２５（３７５ｍｇ、０．７６２ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（４ｍＬ）溶液に、ピリジン（０．１２３ｍＬ、１．５２４ｍｍｏｌ）、メタンスルホン酸無水物（１９９ｍｇ、１．１４３ｍｍｏｌ）を加え室温で１０分間攪拌した。反応液に塩化アンモニウム水溶液を加えクロロホルムで抽出し、有機層を水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物２６（３９７ｍｇ、収率９１％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 570.15 [M+H]+.
第５工程
化合物２６（３４０ｍｇ、０．５９６ｍｍｏｌ）を実施例３の第７工程と同様に反応を行い、化合物２７（３４８ｍｇ、収率９８％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 596.05 [M+H]+.
第６工程
化合物２７（１００ｍｇ、０．１６８ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（１ｍＬ）溶液に、２ｍｏｌ／Ｌ炭酸カリウム水溶液（０．２５２ｍＬ、０．５０３ｍｍｏｌ）、（１−メチル−１Ｈ−インダゾール−５−イル）ボロン酸（４４．３ｍｇ、０．２５２ｍｍｏｌ）、ＰｄＣｌ２（ｄｔｂｐｆ）（１０．９３mｇ、０．０１７ｍｍｏｌ）を加え、１００℃で窒素雰囲気下攪拌した。反応液に水を加え酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物２８（１１６ｍｇ、収率１００％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 692.30 [M+H]+.
第７工程
化合物２８（１１６ｍｇ、０．１６８ｍｍｏｌ）を、実施例３の第８工程と同様に反応を行い、化合物Ｉ−８（１０５ｍｇ、収率９２％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 678.30 [M+H] +.
1H-NMR (CDCl3)δ：0.95(s, 9H), 2.47(s, 3H), 2.49(s, 3H), 3.25(s, 3H), 3.42(br,1H ), 4.12(s, 3H), 4.31(br, 2H), 4.82(br, 1H), 5.57(s, 1H), 6.60(s, 1H), 7.20-7.52(m, 5H), 7.68-7.70(m, 1H), 7.85(br, 1H), 8.05-8.14(m, 1H), 8.36(br, 1H), 8.68-8.75(m, 1H).
（実施例５）
【化１１５】
0006579549.tif 000116
第１工程
化合物i１２（３０ｇ、９１ｍｍｏｌ）のエタノール（３００ｍＬ）溶液に氷冷下、硝酸銀（３０．９ｇ、１８２ｍｍｏｌ）、ヨウ素（４６．１ｇ、１８２ｍｍｏｌ）を加え室温で４時間攪拌した。不溶物を濾過し、ろ液に重曹水、チオ硫酸ナトリウム水溶液を加えクロロホルムで抽出し、有機層を水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物２９（２４．４６ｇ、収率５９％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 455.90 [M+H]+
第２工程
化合物２９（２３．１ｇ、５０．６ｍｍｏｌ）を、参考例２の第６工程と同様に反応を行い、化合物３０（１５．０ｇ、収率６１％）を得た。
1H-NMR (CDCl3)δ:1.22(s, 9H), 2.37(s, 3H), 3.71(s, 3H), 5.77(s, 1H), 7.98(s, 1H)
第３工程
化合物３０（１５．５ｇ、３１．９ｍｍｏｌ）を、参考例２の第７工程と同様に反応を行い、化合物３１（４．２ｇ、収率３２％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 438.95 [M+Na]+
第４工程
化合物３１（６ｇ、１４．３８ｍｍｏｌ）を、参考例２の第８工程と同様に反応を行い、化合物３２（２．６ｇ、収率４８％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 374.95 [M+H]+
第５工程
化合物３２（３.６ｇ、９．５９ｍｍｏｌ）を、参考例２の第９工程と同様に反応を行い、化合物３３（４．５ｇ、収率９４％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 499.10 [M-H]-
第６工程
化合物３３（１ｇ、１．９９ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（１０ｍＬ）溶液にＥｔ３Ｎ（１．１１ｍＬ、７．９８ｍｍｏｌ）、５−（４−ｅｔｈｙｎｙｌｐｙｒｉｄｉｎ−２−ｙｌ）−１−ｍｅｔｈｙｌ−１Ｈ−ｉｎｄａｚｏｌe（１．４０ｇ、５．９９ｍｍｏｌ）、ヨウ化銅（３８．０ｍｇ、０．２０ｍｍｏｌ）、ＰｄＣｌ２（ＰＰｈ３）２（１４０ｍｇ、０．２０ｍｍｏｌ）を加え、１００℃で窒素雰囲気下１時間攪拌した。反応液に水を加え酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物３４（１．１１ｇ、収率９２％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 606.15 [M+H]+
第７工程
化合物３４（２．７ｇ、４．４５ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２７ｍＬ）溶液に、１ｍｏｌ／Ｌ―ＴＢＡＦ・ＴＨＦ溶液（６．６８ｍＬ、６．６８ｍｍｏｌ）を加え、加熱還流下、１時間攪拌した。反応液に水を加え酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物３５（２．３５ｇ、収率８７％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 606.15 [M+H]+
第８工程
化合物３５（２．４ｇ、３．９６ｍｍｏｌ）のエタノール（２４ｍＬ）、水（８ｍＬ）溶液に、塩化アンモニウム（２．１１ｇ、３９．６ｍｍｏｌ）、鉄（１．１１ｇ、１９．８ｍｍｏｌ）を加え加熱還流下、１．５時間攪拌した。反応液を濾過し、ろ液に水を加えクロロホルムで抽出し、有機層を水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム―メタノール）で精製し、化合物３６（２．１４ｇ、収率９４％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 576.10 [M+H]+
第９工程
化合物３６（１．６１ｇ、２．７９ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（１６ｍＬ）溶液にピリジン（０．４５２ｍＬ、５．５９ｍｍｏｌ）、クロロアセチルクロライド（０．３３３ｍＬ、４．１９ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分間攪拌した。反応液に水を加え、得られた固体を濾過し、化合物３７（１．９６ｇ、収率１０７％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 652.00 [M+H]+
第１０工程
化合物３７（１．８２ｇ、２．７９ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（２０ｍＬ）溶液に、水素化ナトリウム（２７９ｍｇ、６．９７ｍｍｏｌ）を加え、室温で２時間攪拌した。反応液に２ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加え酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム―メタノール）で精製し、化合物３８（５２８ｍｇ、収率３１％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 616.00 [M+H]+
第１１工程
化合物３８（１．３２ｇ、２．１４ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１４ｍＬ）溶液に、１ｍｏｌ／Ｌ―ボラン・ＴＨＦ溶液（６．４２ｍＬ、６．４２ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気、加熱還流下２時間攪拌した。反応液にメタノール、２ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加え酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物３９（８００ｍｇ、収率６２％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 602.05 [M+H]+
第１２工程
化合物３９（２００ｍｇ、０．３３２ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（２ｍＬ）溶液に、炭酸カリウム（９２ｍｇ、０．６６４ｍｍｏｌ）、ヨウ化メチル（０．０４２ｍＬ、０．６６４ｍｍｏｌ）を加え、６０℃で１時間攪拌した。反応液に水を加え酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物４０（１２６ｍｇ、収率６２％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 616.05 [M+H]+
第１３工程
化合物４０（１２０ｍｇ、０．１９５ｍｍｏｌ）を、参考例２の第５工程と同様に反応を行い、化合物４１（１２２ｍｇ、収率９９％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 628.20 [M+H]+
第１４工程
化合物４１（１２０ｍｇ、０．１９１ｍｍｏｌ）を、実施例３の第８工程と同様に反応を行い、化合物Ｉ−３０（６８．２ｍｇ、収率５８％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 614.15 [M+H]+
1H-NMR (CDCl3)δ:0.94(s, 9H), 2.45(s, 3H), 2.49(s, 3H), 2.89(s, 3H), 3.36-3.53(m, 2H), 4.12(s, 3H), 4.23-4.33(m, 1H), 4.36-4.46(m, 1H), 5.61(s, 1H), 6.58(s, 1H), 7.28-7.47(m, 4H), 7.49(d, 2H, J =8.6Hz), 7.66(d, 1H, J =7.3Hz), 7.89(s, 1H), 8.07(s, 1H), 8.11(d, 1H, J =8.6Hz), 8.36(s, 1H), 8.71(d, 1H, J =5.1Hz)
【０１４４】
（実施例６）
【化１１６】
0006579549.tif 000117
第１工程  
化合物３３（１．００ｇ、２．００ｍｍｏL）のＤＭＦ（１０．０ｍＬ）溶液に、プロパルギルアルコール（０．２３９ｍL、４．００ｍｍｏL）、トリエチルアミン（０．５５４ｍL、４．００ｍｍｏL）、ビストリフェニルホスフィンパラジウムジクロリド（１４０ｍｇ、０．２００ｍｍｏL）とヨウ化第一銅（７６．０ｍｇ、０．４００ｍｍｏL）を加え、窒素雰囲気下、６０℃で２０時間撹拌した。反応液を室温まで冷却し、氷水と飽和塩化アンモニウム水溶液に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物４２（６４３ｍｇ、収率７４．９％）を得た。
MS(ESI) m/z：429.0 [M+H]+
第２工程
化合物４２（６４０ｍｇ、１．４９ｍｍｏL）のジクロロメタン（６．４０ｍＬ）溶液に、二酸化マンガン（６４８ｍｇ、７．４５ｍｍｏL）を加え、４０℃で９時間撹拌した。反応液を室温まで冷却、セライトろ過し、ろ液を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物４３（５６２ｍｇ、収率８８．２％）を得た。
MS(ESI) m/z：424.9 [M-H]-
第３工程
化合物４３（４６０ｍｇ、１．０８ｍｍｏL）と２−メチル−２−ブテン（１．１４ｍL、１０．８ｍｍｏL）のジオキサン（４．００ｍＬ）と水（０．７５ｍL）の混合溶液に、氷浴で冷却下、リン酸二水素ナトリウム（３１０ｍｇ、２．５８ｍｍｏL）と８０％亜塩素酸ナトリウム（１４６ｍｇ、１．２９ｍｍｏL）を加え、室温で４０分間攪拌した。反応液を氷水と飽和塩化アンモニウム水溶液に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮し、得られた残渣を６０℃で減圧乾燥し、粗化合物４４（４８５ｍｇ）を得た。
MS(ESI) m/z：443.0 [M+H]+
第４工程
粗化合物４４（３８９ｍｇ、０．８７８ｍｍｏL）のＴＨＦ（３．８９ｍＬ）溶液に、塩水浴で冷却下、Ｎ−メチルモルホリン（０．２８９ｍＬ、２．６３ｍｍｏL）、クロロ炭酸イソブチル（０．１１５ｍＬ、０．８７８ｍｍｏL）を加え、同温で１０分間撹拌した。反応液に、３、３−ジメチルブタン−１−アミン（０．１７０ｍＬ、１．３２ｍｍｏL）を加え、さらに同温で２０分間撹拌した。反応液を氷水と２ｍｏL/Ｌ塩酸水溶液に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製し、化合物４５（２７１ｍｇ、収率５８．７％）を得た。
MS(ESI) m/z：526.1 [M+H]+
第５工程
化合物４５（２６９ｍｇ、０．５１１ｍｍｏL）を、実施例５の第７工程と同様に反応を行い、化合物４６（２３１ｍｇ、収率８５．９％）を得た。
MS(ESI) m/z：526.1 [M+H]+
第６工程
化合物４６（２２９ｍｇ、０．４３５ｍｍｏL）を、実施例３の第６、７工程と同様に反応を行い、化合物４７（２０８ｍｇ、３工程収率７９．６％）を得た。
MS(ESI) m/z：617.1 [M+NH4]+
第７工程
化合物４７（２２３ｍｇ、０．３７１ｍｍｏL）を、参考例２の第５工程と同様に反応を行い、化合物４８（１９９ｍｇ、収率８７．６％）を得た。
MS(ESI) m/z：612.2 [M+H]+
第８工程
化合物４８（１９７ｍｇ、０．３２２ｍｍｏL）を、実施例３の第８工程と同様に反応を行い、化合物Ｉ−３１（１７３ｍｇ、収率８９．９％）を得た。
MS(ESI) m/z：598.2 [M+H]+
【０１４５】
（実施例７）
【化１１７】
0006579549.tif 000118
第１工程
化合物３３（５ｇ、９．９８ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（５０ｍＬ）溶液に、Ｅｔ３Ｎ（５．５３ｍＬ、３９．９ｍｍｏｌ）、トリメチルシリルアセチレン（４．２３ｍＬ、２９．９ｍｍｏｌ）、ヨウ化銅（１９０ｍｇ、０．９９ｍｍｏｌ）、ＰｄＣｌ２（ＰＰｈ３）２（７００ｍｇ、０．９９ｍｍｏｌ）を加え、１００℃で窒素雰囲気下１時間攪拌した。反応液に水を加え酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物４９（４．０ｇ、収率８５％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 396.8[脱ＴＭＳ体+H]+
第２工程
化合物４９（４ｇ、８．４８ｍｍｏｌ）を、実施例５の第７工程と同様に反応を行い、化合物５０（２．３７ｇ、収率７０％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 396.9 [M-H]-
第３工程
化合物５０（２．３７ｇ、５．９４ｍｍｏｌ）を、実施例５の第８工程と同様に反応を行い、化合物５１（１．８９ｇ、収率８６％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 369.00 [M+H]+
第４工程
化合物５１（１．８９ｇ、５．１２ｍｍｏｌ）を、実施例５の第９工程と同様に反応を行い、化合物５２（２．２３ｇ、収率９８％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 444.90 [M+H]+
第５工程  
化合物５２（７５０ｍｇ、１．６８ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（７．５ｍＬ）溶液に、氷冷下、水素化ナトリウム（２０２ｍｇ、３．３７ｍｍｏｌ）、ヨウ化ナトリウム（５０４ｍｇ、３．３７ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分間攪拌した。反応液を２ｍｏｌ／Ｌ塩酸に氷冷下加え酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物５３（５７６ｍｇ、収率８４％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 430.85 [M+Na]+
第６工程  
化合物５３（８９６ｍｇ、２．１９ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（９ｍＬ）溶液に、２ｍｏｌ／Ｌ炭酸カリウム水溶液（３．２８ｍＬ、６．５７ｍｍｏｌ）、ｐ−トリルボロン酸（４４６ｍｇ、３．２８ｍｍｏｌ）、ＰｄＣｌ２（ｄｔｂｐｆ）（１４３ｍｇ、０．２１９ｍｍｏｌ）を加え１００℃で窒素雰囲気下１時間攪拌した。反応液に水を加え酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物５４（７５９ｍｇ、収率８２％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 442.95 [M+Na]+
第７工程  
化合物５４（３５０ｍｇ、０．８３２ｍｍｏｌ）を、実施例５の第１１工程と同様に反応を行い、化合物５５（２５０ｍｇ、収率７４％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 407.05 [M+H]+
第８工程
化合物５５（２５０ｍｇ、０．６１５ｍｍｏｌ）を、実施例５の第１２工程と同様に反応を行い、化合物５６（２２２ｍｇ、収率８６％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 421.05 [M+H]+
第９工程  
化合物５６（４０ｍｇ、０．０９５ｍｍｏｌ）を、実施例３の第８工程と同様に反応を行い、化合物Ｉ−３６（２２ｍｇ、収率５７％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 407.90 [M+H]+
1H-NMR (CDCl3) δ:0.91(s, 9H), 2.43(s, 3H), 2.45(s, 3H), 2.79(s, 3H), 3.39-3.46(m, 2H), 4.07-4.15(2H, m), 5.61(1H, s), 6.19(1H, d, J=3.0Hz), 6.99(1H, d, J=3.0Hz), 7.26-7.27(2H, m), 7.41(1H, d, J=7.5Hz), 7.60(1H, d, J=7.5Hz), 10.0(1H, brs)
【０１４６】
（実施例８）
【化１１８】
0006579549.tif 000119
第１工程
化合物３３（２．５ｇ、４．９９ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２５ｍＬ）溶液に、氷冷下水素化ナトリウム（５９９ｍｇ、１５．０ｍｍｏｌ）を加え室温で窒素雰囲気下１０分間攪拌した。続いてカルボニルジイミダゾール（２．４３ｇ、１５．０ｍｍｏｌ）を加え室温で１時間攪拌し、２８％アンモニア水溶液（３．３７ｍＬ、４９．９ｍｍｏｌ）を加え室温で２時間攪拌した。反応液に２ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加えクロロホルムで抽出し、有機層を水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物５７（２．２ｇ、収率８１％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 541.90 [M-H]-
第２工程
化合物５７（１．８８ｇ、３．４５ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（１９ｍＬ）溶液に、ＤＢＵ（１．０４ｍＬ、６．９１ｍｍｏｌ）ヨウ化銅（６．５８ｇ、３４．５ｍｍｏｌ）を加え８０℃で窒素雰囲気下３．５時間攪拌した。不溶物をセライト濾過し、ろ液に２ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加え酢酸エチルで抽出し、有機層を水で洗浄して、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン―酢酸エチル）で精製し、化合物５８（１．１９ｇ、収率８３％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 414.00 [M-H]-
第３工程
化合物５８（１．２８ｇ、３．０８ｍｍｏｌ）を、実施例５の第８工程と同様に反応を行い、化合物５９（１．１７ｇ、収率９９％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 384.00 [M-H]-
第４工程  
化合物５９（１．１５ｇ、２．９８ｍｍｏｌ）を、実施例５の第９工程と同様に反応を行い、化合物６０（２．２３ｇ、収率９８％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 461.95 [M-H]-
第５工程  
化合物６０（１．１２ｇ、２．４２ｍｍｏｌ）を、実施例５の第１０工程と同様に反応を行い、化合物６１（５７６ｍｇ、収率８４％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 424.00 [M-H]-
第６工程  
化合物６１（１８５ｍｇ、０．４３４ｍｍｏｌ）を、実施例７の第６工程と同様に反応を行い、化合物６２（１６５ｍｇ、収率８７％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 436.10 [M-H]-
第７工程  
化合物６２（１６５ｍｇ、０．３７７ｍｍｏｌ）を、実施例５の第１１工程と同様に反応を行い、化合物６３（１３８ｍｇ、収率８６％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 424.00 [M+H]+
第８工程  
化合物６３（３０ｍｇ、０．０７１ｍｍｏｌ）を、実施例３の第８工程と同様に反応を行い、Ｉ−３７（２２ｍｇ、収率５７％）を得た。
LC/MS (ESI):m/z = 408.15 [M-H]-
1H-NMR (CDCl3) δ:0.93(9H, s), 2.17(3H, s), 2.42(3H, s), 3.52-3.64(2H, m), 3.93-3.98(2H, m), 5.30(1H, s), 5.43(1H, s), 7.15-7.31(3H, m), 7.51(1H, d, J=7.6Hz) 
【０１４７】
上記実施例や一般合成法に記載の方法に従い、市販の化合物または上記中間体から以下の化合物を合成した。
表中、「Comp. No.」は化合物番号、「Struct」は化学構造式、「Ms cond.」は上記LC/MS（液体クロマトグラフィー／質量分析）の測定条件、「RT(min)」はリテンションタイム（分）を表す。
【表１】
0006579549.tif 000120
【表２】
0006579549.tif 000121
【表３】
0006579549.tif 000122
【表４】
0006579549.tif 000123
【表５】
0006579549.tif 000124
【表６】
0006579549.tif 000125
【表７】
0006579549.tif 000126
【０１４８】
【表８】
0006579549.tif 000127
【０１４９】
【表９】
0006579549.tif 000128
【０１５０】
本発明はさらに以下の化合物を提供する。
（実施例Ｘ１）
【化１１９】
0006579549.tif 000129
【化１２０】
0006579549.tif 000130
【化１２１】
0006579549.tif 000131
式中、各置換基は、それぞれ独立して以下から選択される。
【化１２２】
0006579549.tif 000132
【化１２３】
0006579549.tif 000133
【０１５１】
（実施例Ｘ２）
【化１２４】
0006579549.tif 000134
【化１２５】
0006579549.tif 000135
式中、Ｒ３は、それぞれ独立して以下から選択される。
【化１２６】
0006579549.tif 000136
【０１５２】
（実施例Ｘ３）
【化１２７】
0006579549.tif 000137
式中、Ｒ３はそれぞれ独立して以下から選択される。
【化１２８】
0006579549.tif 000138
式中、Ｒ３ＡおよびＲ４Ａは一緒になって、それぞれ独立して、以下に示す２価の基を形成する。即ち、これらの基は、Ｒ３ＡおよびＲ４Ａの隣接原子と一緒になって、本発明化合物のＴ２環を形成する。
【化１２９】
0006579549.tif 000139
本発明は更に以下の化合物を提供する。
（実施例Ｘ４）
【化１３０】
0006579549.tif 000140
【化１３１】
0006579549.tif 000141
【化１３２】
0006579549.tif 000142
【化１３３】
0006579549.tif 000143
【０１５３】
以下に、本発明化合物の生物試験例を記載する。
試験例１  ＨＩＶ複製阻害試験  
ＨＩＶ（ＨＴＬＶ−ＩＩＩＢ株）持続感染ヒトＴ細胞株Ｍｏｌｔ−４  ｃｌｏｎｅ８を、１０％牛胎児血清添加ＲＰＭＩ−１６４０培地で培養し、上清を濾過してウイルスの力価を測定し、−８０°Ｃで保存した。一方、各抗ヒト免疫不全ウイルス活性物質を上記の培養培地で所定の濃度になるように希釈し、９６ウエルマイクロプレートに５０μＬずつ分注した。ついで、ＭＴ−４細胞浮遊液を１００μＬ（２．５×１０４細胞）ずつ分注し、更に上記ＨＩＶ含有上清を上記の培養培地で希釈したものを５０μｌ（６０ｐｆｕ（ｐｌａｑｕｅ  ｆｏｒｍｉｎｇ  ｕｎｉｔ））ずつ加えた。
炭酸ガス培養器内で３７°Ｃ、４日間培養した後、すべてのウエルに３−（４，５−ジメチルチアゾール−２−イル）−２，５−ジフェニルテトラゾリウムブロマイド（ＭＴＴ）５ｍｇ／ｍＬ）、ＰＢＳを３０μＬずつ加え、更に１時間培養した。このとき、生存する細胞はＭＴＴを還元してフォルマザンを析出するので、すべてのウエルから細胞上清を１５０μＬずつ取り除き、代わりに１５０μＬの溶解液（１０％トリトンＸ−１００および０．４％（ｖ／ｖ）ＨＣｌ添加イソプロパノール）を加え、プレートミキサーで振とうしてフォルマザンを溶出した。マイクロリーダーを用いてフォルマザンをＯＤ  ５６０ｎｍと６９０ｎｍ（参照波長）で測定し、結果を被対照と比較した。ウイルスによる細胞障害を５０％抑制する化合物濃度をＥＣ５０とした。
（結果）
【表１０】
0006579549.tif 000144
【表１１】
0006579549.tif 000145
試験例２  ＣＹＰ阻害試験
市販のプールドヒト肝ミクロソームを用いて、ヒト主要ＣＹＰ５分子種（ＣＹＰ１Ａ２、２Ｃ９、２Ｃ１９、２Ｄ６、３Ａ４）の典型的基質代謝反応として７−エトキシレゾルフィンのＯ−脱エチル化（ＣＹＰ１Ａ２）、トルブタミドのメチル−水酸化（ＣＹＰ２Ｃ９）、メフェニトインの４’−水酸化（ＣＹＰ２Ｃ１９）、デキストロメトルファンのＯ脱メチル化（ＣＹＰ２Ｄ６）、テルフェナジンの水酸化（ＣＹＰ３Ａ４）を指標とし、それぞれの代謝物生成量が本発明化合物によって阻害される程度を評価した。
反応条件は以下のとおり：基質、０．５μｍｏｌ／Ｌ  エトキシレゾルフィン（ＣＹＰ１Ａ２）、１００μｍｏｌ／Ｌ  トルブタミド（ＣＹＰ２Ｃ９）、５０μｍｏｌ／Ｌ  Ｓ−メフェニトイン（ＣＹＰ２Ｃ１９）、５μｍｏｌ／Ｌ  デキストロメトルファン（ＣＹＰ２Ｄ６）、１μｍｏｌ／Ｌ  テルフェナジン（ＣＹＰ３Ａ４）；反応時間、１５分；反応温度、３７°Ｃ；酵素、プールドヒト肝ミクロソーム０．２ｍｇ  タンパク質／ｍＬ；本発明化合物濃度、１、５、１０、２０μｍｏｌ／Ｌ（４点）。
９６穴プレートに反応溶液として、５０ｍｍｏｌ／Ｌ  Ｈｅｐｅｓ緩衝液中に各５種の基質、ヒト肝ミクロソーム、本発明化合物を上記組成で加え、補酵素であるＮＡＤＰＨを添加して、指標とする代謝反応を開始した。３７°Ｃ、１５分間反応した後、メタノール／アセトニトリル＝１／１（Ｖ／Ｖ）溶液を添加することで反応を停止した。３０００ｒｐｍ、１５分間の遠心後、遠心上清中のレゾルフィン（ＣＹＰ１Ａ２代謝物）を蛍光マルチラベルカウンタで定量し、トルブタミド水酸化体（ＣＹＰ２Ｃ９代謝物）、メフェニトイン４’水酸化体（ＣＹＰ２Ｃ１９代謝物）、デキストロルファン（ＣＹＰ２Ｄ６代謝物）、テルフェナジンアルコール体（ＣＹＰ３Ａ４代謝物）をＬＣ／ＭＳ／ＭＳで定量した。
薬物を溶解した溶媒であるＤＭＳＯのみを反応系に添加したものをコントロール（１００％）とし、残存活性（％）を算出し、濃度と抑制率を用いて、ロジスティックモデルによる逆推定によりＩＣ５０を算出した。
（結果）
化合物Ｎｏ．Ｉ−３４：５種  ＞２０μｍｏｌ／Ｌ
試験例３−１  ＣＹＰ３Ａ４蛍光ＭＢＩ試験
ＣＹＰ３Ａ４蛍光ＭＢＩ試験は、代謝反応による本発明化合物のＣＹＰ３Ａ４阻害の増強を調べる試験である。ＣＹＰ３Ａ４酵素（大腸菌発現酵素）により７−ベンジルオキシトリフルオロメチルクマリン（７−ＢＦＣ）が脱ベンジル化されて、蛍光を発する代謝物７−ハイドロキシトリフルオロメチルクマリン（７−ＨＦＣ）が生じる。７−ＨＦＣ生成反応を指標としてＣＹＰ３Ａ４阻害を評価した。
反応条件は以下のとおり：基質、５．６μｍｏｌ／Ｌ  ７−ＢＦＣ；プレ反応時間、０または３０分；反応時間、１５分；反応温度、２５°Ｃ（室温）；ＣＹＰ３Ａ４含量（大腸菌発現酵素）、プレ反応時６２．５ｐｍｏｌ／ｍＬ、反応時６．２５ｐｍｏｌ／ｍＬ（１０倍希釈時）；本発明化合物濃度、０．６２５、１．２５、２．５、５、１０、２０μｍｏｌ／Ｌ（６点）。
９６穴プレートにプレ反応液としてＫ−Ｐｉ緩衝液（ｐＨ７．４）中に酵素、本発明化合物溶液を上記のプレ反応の組成で加え、別の９６穴プレートに基質とＫ−Ｐｉ緩衝液で１／１０希釈されるようにその一部を移行し、補酵素であるＮＡＤＰＨを添加して指標とする反応を開始し（プレ反応無）、所定の時間反応後、アセトニトリル／０．５ｍｏｌ／Ｌ  Ｔｒｉｓ（トリスヒドロキシアミノメタン）＝４／１（Ｖ／Ｖ）を加えることによって反応を停止した。また残りのプレ反応液にもＮＡＤＰＨを添加しプレ反応を開始し（プレ反応有）、所定時間プレ反応後、別のプレートに基質とＫ−Ｐｉ緩衝液で１／１０希釈されるように一部を移行し指標とする反応を開始した。所定の時間反応後、アセトニトリル／０．５ｍｏｌ／Ｌ  Ｔｒｉｓ（トリスヒドロキシアミノメタン）＝４／１（Ｖ／Ｖ）を加えることによって反応を停止した。それぞれの指標反応を行ったプレートを蛍光プレートリーダーで代謝物である７−ＨＦＣの蛍光値を測定した。（Ｅｘ＝４２０ｎｍ、Ｅｍ＝５３５ｎｍ）
本発明化合物を溶解した溶媒であるＤＭＳＯのみを反応系に添加したものをコントロール（１００％）とし、本発明化合物をそれぞれの濃度添加したときの残存活性（％）を算出し、濃度と抑制率を用いて、ロジスティックモデルによる逆推定によりＩＣ５０を算出した。ＩＣ５０値の差が５μｍｏｌ／Ｌ以上の場合を（＋）とし、３μｍｏｌ／Ｌ以下の場合を（−）とした。
【０１５４】
試験例３−２  ＣＹＰ３Ａ４（ＭＤＺ）ＭＢＩ試験
本発明化合物のＣＹＰ３Ａ４阻害に関して代謝反応による増強からＭｅｃｈａｎｉｓｍ  ｂａｓｅｄ  ｉｎｈｉｂｉｔｉｏｎ（ＭＢＩ）能を評価する試験である。プールドヒト肝ミクロソームを用いてミダゾラム（ＭＤＺ）の１−水酸化反応を指標としてＣＹＰ３Ａ４阻害を評価した。
反応条件は以下のとおり：基質、１０μｍｏｌ／Ｌ  ＭＤＺ；プレ反応時間、０または３０分；反応時間、２分；反応温度、３７℃；プールドヒト肝ミクロソーム、プレ反応時０．５ｍｇ／ｍＬ、反応時０．０５ｍｇ／ｍＬ（１０倍希釈時）；本発明化合物プレ反応時の濃度、１、５、１０、２０μｍｏｌ／Ｌ（４点）。
９６穴プレートにプレ反応液としてＫ−Ｐｉ緩衝液（ｐＨ７．４）中にプールドヒト肝ミクロソーム、本発明化合物溶液を上記のプレ反応の組成で加え、別の９６穴プレートに基質とＫ−Ｐｉ緩衝液で１／１０希釈されるようにその一部を移行し、補酵素であるＮＡＤＰＨを添加して指標とする反応を開始し（プレ反応無）、所定の時間反応後、メタノール／アセトニトリル＝１／１（Ｖ／Ｖ）溶液を加えることによって反応を停止した。また残りのプレ反応液にもＮＡＤＰＨを添加しプレ反応を開始し（プレ反応有）、所定時間プレ反応後、別のプレートに基質とＫ−Ｐｉ緩衝液で１／１０希釈されるように一部を移行し指標とする反応を開始した。所定の時間反応後、メタノール／アセトニトリル＝１／１（Ｖ／Ｖ）溶液を加えることによって反応を停止した。それぞれの指標反応を行ったプレートを３０００ｒｐｍ、１５分間の遠心後、遠心上清中の１−水酸化ミダゾラム  をＬＣ／ＭＳ／ＭＳで定量した。
本発明化合物を溶解した溶媒であるＤＭＳＯのみを反応系に添加したものをコントロール（１００％）とし、本発明化合物をそれぞれの濃度添加したときの残存活性（％）を算出し、濃度と阻害率を用いて、ロジスティックモデルによる逆推定によりＩＣを算出した。「プレ反応開始時のＩＣ値／プレ反応開始３０分後のＩＣ値」を、Ｓｈｉｆｔｅｄ  ＩＣ値とし、Ｓｈｉｆｔｅｄ  ＩＣが１．５以上の場合を（＋）、Ｓｈｉｆｔｅｄ  ＩＣが１．０以下の場合を（−）とした。
（結果）
化合物Ｎｏ．Ｉ−３４：（−）
試験例４  代謝安定性試験
市販のプールドヒト肝ミクロソームと本発明化合物を一定時間反応させ、反応サンプルと未反応サンプルの比較により残存率を算出し、本発明化合物が肝で代謝される程度を評価した。
ヒト肝ミクロソーム０．５ｍｇタンパク質／ｍＬを含む０．２ｍＬの緩衝液（５０ｍｍｏｌ／Ｌ  Ｔｒｉｓ−ＨＣｌ  ｐＨ７．４、１５０ｍｍｏｌ／Ｌ  塩化カリウム、１０ｍｍｏｌ／Ｌ  塩化マグネシウム）中で、１ｍｍｏｌ／Ｌ  ＮＡＤＰＨ存在下で３７°Ｃ、０分あるいは３０分間反応させた（酸化的反応）。反応後、メタノール／アセトニトリル＝１／１（ｖ／ｖ）溶液の１００μＬに反応液５０μＬを添加、混合し、３０００ｒｐｍで１５分間遠心した。その遠心上清中の本発明化合物をＬＣ／ＭＳ／ＭＳにて定量し、反応後の本発明化合物の残存量を０分反応時の化合物量を１００％として計算した。なお、加水分解反応はＮＡＤＰＨ非存在下で、グルクロン酸抱合反応はＮＡＤＰＨに換えて５ｍｍｏｌ／Ｌ  ＵＤＰ−グルクロン酸の存在下で反応を行い、以後同じ操作を実施した。
（結果）酸化的反応における、化合物濃度０．５μｍｏｌ／Ｌでの残存率を示す。
化合物Ｎｏ．Ｉ−３４：＞９９．９％
試験例５  溶解性試験
本発明化合物の溶解度は、１％ＤＭＳＯ添加条件下で決定した。ＤＭＳＯにて１０ｍｍｏｌ／Ｌ化合物溶液を調製し、本発明化合物溶液６μＬをｐＨ６．８人工腸液（０．２ｍｏｌ／Ｌ  リン酸二水素カリウム試液  ２５０ｍＬに０．２ｍｏｌ／Ｌ  ＮａＯＨ試液１１８ｍＬ、水を加えて１０００ｍＬとした）５９４μＬに添加した。２５°Ｃで１６時間静置させた後、混液を吸引濾過した。濾液をメタノール／水＝１／１（Ｖ／Ｖ）にて２倍希釈し、絶対検量線法によりＨＰＬＣまたはＬＣ／ＭＳ／ＭＳを用いて濾液中濃度を測定した。
（結果）
化合物Ｎｏ．Ｉ−１７：＞５０μｍｏｌ／Ｌ
試験例６  Ｆｌｕｃｔｕａｔｉｏｎ  Ａｍｅｓ  Ｔｅｓｔ
本発明化合物の変異原性を評価した。
凍結保存しているネズミチフス菌（Ｓａｌｍｏｎｅｌｌａ  ｔｙｐｈｉｍｕｒｉｕｍ  ＴＡ９８株、ＴＡ１００株）２０μＬを１０ｍＬ液体栄養培地（２．５％  Ｏｘｏｉｄ  ｎｕｔｒｉｅｎｔ  ｂｒｏｔｈ  Ｎｏ．２）に接種し３７°Ｃにて１０時間、振盪前培養する。ＴＡ９８株は９ｍＬの菌液を遠心（２０００×ｇ、１０分間）して培養液を除去した。９ｍＬのＭｉｃｒｏ  Ｆ緩衝液（Ｋ２ＨＰＯ４：３．５ｇ／Ｌ、ＫＨ２ＰＯ４：１ｇ／Ｌ、（ＮＨ４）２ＳＯ４：１ｇ／Ｌ、クエン酸三ナトリウム二水和物：０．２５ｇ／Ｌ、ＭｇＳＯ４・７Ｈ２０：０．１ｇ／Ｌ）に菌を懸濁し、１１０ｍＬのＥｘｐｏｓｕｒｅ培地（ビオチン：８μｇ／ｍＬ、ヒスチジン：０．２μｇ／ｍＬ、グルコース：８ｍｇ／ｍＬを含むＭｉｃｒｏＦ緩衝液）に添加した。ＴＡ１００株は３．１６ｍＬ菌液に対しＥｘｐｏｓｕｒｅ培地１２０ｍＬに添加し試験菌液を調製した。本発明化合物ＤＭＳＯ溶液（最高用量５０ｍｇ／ｍＬから２〜３倍公比で数段階希釈）、陰性対照としてＤＭＳＯ、陽性対照として非代謝活性化条件ではＴＡ９８株に対しては５０μｇ／ｍＬの４−ニトロキノリン−１−オキシドＤＭＳＯ溶液、ＴＡ１００株に対しては０．２５μｇ／ｍＬの２−（２−フリル）−３−（５−ニトロ−２−フリル）アクリルアミドＤＭＳＯ溶液、代謝活性化条件ではＴＡ９８株に対して４０μｇ／ｍＬの２−アミノアントラセンＤＭＳＯ溶液、ＴＡ１００株に対しては２０μｇ／ｍＬの２−アミノアントラセンＤＭＳＯ溶液それぞれ１２μＬと試験菌液５８８μＬ（代謝活性化条件では試験菌液４９８μＬとＳ９  ｍｉｘ  ９０μＬの混合液）を混和し、３７°Ｃにて９０分間、振盪培養する。本発明化合物を暴露した菌液４６０μＬを、Ｉｎｄｉｃａｔｏｒ培地（ビオチン：８μｇ／ｍＬ、ヒスチジン：０．２μｇ／ｍＬ、グルコース：８ｍｇ／ｍＬ、ブロモクレゾールパープル：３７．５μｇ／ｍＬを含むＭｉｃｒｏＦ緩衝液）２３００μＬに混和し５０μＬずつマイクロプレート４８ウェル／用量に分注し、３７°Ｃにて３日間、静置培養した。アミノ酸（ヒスチジン）合成酵素遺伝子の突然変異によって増殖能を獲得した菌を含むウェルは、ｐＨ変化により紫色から黄色に変色するため、１用量あたり４８ウェル中の黄色に変色した菌増殖ウェルを計数し、陰性対照群と比較して評価する。変異原性が陰性のものを（−）、陽性のものを（＋）として示した。
（結果）
化合物Ｎｏ．Ｉ−３０：（−）
試験例７  ＢＡ試験
経口吸収性の検討実験材料と方法
（１）使用動物：マウスあるいはＳＤラットを使用した。
（２）飼育条件：マウスあるいはＳＤラットは、固形飼料および滅菌水道水を自由摂取させた。
（３）投与量、群分けの設定：経口投与、静脈内投与を所定の投与量により投与した。以下のように群を設定した。（化合物ごとで投与量は変更有）
経口投与  １〜３０ｍｇ／ｋｇ（ｎ＝２〜３）
静脈内投与  ０．５〜１０ｍｇ／ｋｇ（ｎ＝２〜３）
（４）投与液の調製：経口投与は溶液または懸濁液として投与した。静脈内投与は可溶化して投与した。
（５）投与方法：経口投与は、経口ゾンデにより強制的に胃内に投与した。静脈内投与は、注射針を付けたシリンジにより尾静脈から投与した。
（６）評価項目：経時的に採血し、血漿中本発明化合物濃度をＬＣ／ＭＳ／ＭＳを用いて測定した。
（７）統計解析：血漿中本発明化合物濃度推移について、非線形最小二乗法プログラムＷｉｎＮｏｎｌｉｎ（登録商標）を用いて血漿中濃度‐時間曲線下面積（ＡＵＣ）を算出し、経口投与群と静脈内投与群のＡＵＣから本発明化合物のバイオアベイラビリティ（ＢＡ）を算出した。
（結果）
化合物Ｎｏ．Ｉ−３０：４５．２％
試験例８  ｈＥＲＧ試験
本発明化合物の心電図ＱＴ間隔延長リスク評価を目的として、ｈｕｍａｎ  ｅｔｈｅｒ−ａ−ｇｏ−ｇｏ  ｒｅｌａｔｅｄ  ｇｅｎｅ  （ｈＥＲＧ）チャンネルを発現させたＨＥＫ２９３細胞を用いて、心室再分極過程に重要な役割を果たす遅延整流Ｋ＋電流（ＩＫｒ）への本発明化合物の作用を検討した。
全自動パッチクランプシステム（ＰａｔｃｈＸｐｒｅｓｓ  ７０００Ａ、ＡｘｏｎＩｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ  Ｉｎｃ．）を用い、ホールセルパッチクランプ法により、細胞を−８０ｍＶの膜電位に保持した後、＋４０ｍＶの脱分極刺激を２秒間、さらに−５０ｍＶの再分極刺激を２秒間与えた際に誘発されるＩＫｒを記録した。発生する電流が安定した後、本発明化合物を目的の濃度で溶解させた細胞外液（ＮａＣｌ：１３５  ｍｍｏｌ／Ｌ、ＫＣｌ：５．４  ｍｍｏｌ／Ｌ、ＮａＨ２ＰＯ４：０．３ｍｍｏｌ／Ｌ、ＣａＣｌ２・２Ｈ２Ｏ：１．８ｍｍｏｌ／Ｌ、ＭｇＣｌ２・６Ｈ２Ｏ：１ｍｍｏｌ／Ｌ、グルコース：１０ｍｍｏｌ／Ｌ、ＨＥＰＥＳ（４−（２−ｈｙｄｒｏｘｙｅｔｈｙｌ）−１−ｐｉｐｅｒａｚｉｎｅｅｔｈａｎｅｓｕｌｆｏｎｉｃ  ａｃｉｄ、４−（２−ヒドロキシエチル）−１−ピペラジンエタンスルホン酸）：１０ｍｍｏｌ／Ｌ、ｐＨ＝７．４）を室温条件下で、１０分間細胞に適用させた。得られたＩＫｒから、解析ソフト（ＤａｔａＸｐｒｅｓｓ  ｖｅｒ．１、Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ  Ｄｅｖｉｃｅｓ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）を使用して、保持膜電位における電流値を基準に最大テール電流の絶対値を計測した。さらに、本発明化合物適用前の最大テール電流に対する阻害率を算出し、媒体適用群（０．１％ジメチルスルホキシド溶液）と比較して、本発明化合物のＩＫｒへの影響を評価した。
（結果）化合物濃度５μｍｏｌ／Ｌでの阻害率を示す。
化合物Ｎｏ．Ｉ−３０：１１．７％
試験例９  粉末溶解度試験
適当な容器に本発明化合物を適量入れ、各容器にＪＰ−１液（塩化ナトリウム２．０ｇ、塩酸７．０ｍＬに水を加えて１０００ｍＬとした）、ＪＰ−２液（ｐＨ６．８のリン酸塩緩衝液５００ｍＬに水５００ｍＬを加えた）、２０ｍｍｏｌ／Ｌ  タウロコール酸ナトリウム（ＴＣＡ）／ＪＰ−２液（ＴＣＡ１．０８ｇにＪＰ−２液を加え１００ｍＬとした）を２００μＬずつ添加した。試験液添加後に全量溶解した場合には、適宜、本発明化合物を追加した。密閉して３７°Ｃで１時間振とう後に濾過し、各濾液１００μＬにメタノール１００μＬを添加して２倍希釈を行った。希釈倍率は、必要に応じて変更した。気泡および析出物がないかを確認し、密閉して振とうした。絶対検量線法によりＨＰＬＣを用いて本発明化合物を定量した。
（結果）
化合物Ｎｏ．Ｉ−３４：ＪＰ−１液；＞１０００μｇ／ｍＬ、ＪＰ−２液；０．６０３μｇ／ｍＬ、２０ｍｍｏｌ／Ｌ  ＴＣＡ／ＪＰ−２液＞１０００μｇ／ｍＬ
試験例１０  光溶血試験
本発明化合物を目的の濃度で溶解させ、マイクロプレート上において、ヒツジ脱繊維血から調製した０．１〜０．０００８％濃度の赤血球浮遊液（２．５ｖ／ｖ％）と混合し、紫外線蛍光ランプ（ＧＬ２０ＳＥランプ、三共電気およびＦＬ２０Ｓ―ＢＬＢランプ、パナソニック）を用いてＵＶＡおよびＵＶＢ領域での光照射（１０  Ｊ／ｃｍ２、２９０〜４００ｎｍ）を行った。光照射終了後の混合液を採取し、遠心を行った。遠心後の上清を採取しマイクロプレートに移した後、上清の吸光度（５４０または６３０ｎｍ）を測定、吸光度を基にした判定を行った。５４０および６３０ｎｍでの吸光度は、それぞれ生体膜損傷（光溶血率％）および脂質膜過酸化（メトヘモグロビン産生）の指標とした。光溶血率が１０％未満であり、６３０ｎｍでの吸光度の変化量が０．０５未満の場合を（−）とし、光溶血率が１０％以上であり、６３０ｎｍでの吸光度の変化量が０．０５以上の場合を（＋）とした。
（結果）
化合物Ｎｏ．Ｉ−１７：（−）
【産業上の利用可能性】
【０１５５】
本発明に係る化合物は、エイズ等、ウイルス感染症の治療または予防剤、またはその中間体として有用である。