(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部の基板を処理するように構成された、処理チャンバであって、前記基板が前記処理チャンバ内に受け入れられ、前記処理チャンバから取り出されることを可能とするように構成された側開口部と処理ガス注入口と排気口とを有する処理チャンバ、及び
前記排気口を密封するように構成され、且つ前記処理チャンバの内部のガス流パターンを調整するために前記排気口に対して、Ｘ、Ｙ、及びＺ方向に移動するように構成されるバルブ
を備える処理チャンバガス流制御装置。
【請求項２】
前記バルブに連結され、且つ前記バルブを前記Ｘ、Ｙ、及びＺ方向に移動させるように構成される複数のアクチュエータを更に備える、請求項１に記載の処理チャンバガス流制御装置。
【請求項３】
前記複数のアクチュエータが、前記バルブを前記Ｘ及びＹ方向に移動させるように構成される少なくとも１つの回転式アクチュエータを含み、又は、前記バルブを前記Ｚ方向に移動させるように構成される少なくとも１つの線形アクチュエータを含む、請求項２に記載の処理チャンバガス流制御装置。
【請求項４】
前記バルブを前記Ｘ、Ｙ、及びＺ方向に移動させるように構成される複数のアクチュエータ、
前記複数のアクチュエータに連結される支持アームアセンブリ、及び
前記複数のアクチュエータのうちの１つ及び前記バルブに連結され、且つ前記排気口の中心と回転の軸との間のオフセットを調整するように構成されるスライド部材
を更に備える、請求項１に記載の処理チャンバガス流制御装置。
【請求項５】
前記バルブを前記Ｚ方向に移動させるように構成される複数の線形アクチュエータ、
前記バルブを前記Ｘ及びＹ方向に移動させるように構成される回転式アクチュエータ、及び
複数の回転可能なジョイントアームであって、そのそれぞれが、前記バルブ及び前記複数の線形アクチュエータのそれぞれに連結され、前記複数の回転可能なジョイントアームのうちの１つが前記回転式アクチュエータに連結される、複数の回転可能なジョイントアーム
を更に備える、請求項１に記載の処理チャンバガス流制御装置。
【請求項６】
アクチュエータ及びアームを更に備え、前記アームが、前記バルブの中心からオフセットされた位置において前記バルブに回転可能に連結される第１の端部、及び前記アクチュエータに回転可能に連結される第２の端部を有し、前記アームが、前記第２の端部におけるカップリングを介して、前記Ｚ方向に移動するように構成される、請求項１に記載の処理チャンバガス流制御装置。
【請求項７】
内部の基板を処理するように構成された処理チャンバであって、排気口と、前記基板が前記処理チャンバ内に受け入れられ、前記処理チャンバから取り出されることを可能とするように構成された側開口部とを有する処理チャンバ、
前記処理チャンバに連結され、且つ処理ガスを前記処理チャンバ内に導くように構成される処理ガス注入口、及び
前記排気口を密封するように構成され、且つ前記処理チャンバの内部のガス流パターンを調整するために前記排気口に対して、Ｘ、Ｙ、及びＺ方向に移動するように構成されるバルブ
を備える、電子デバイス製造システム。
【請求項８】
前記バルブに連結され、且つ前記バルブを前記Ｘ、Ｙ、及びＺ方向に移動させるように構成される少なくとも１つのアクチュエータを更に備え、前記処理ガス注入口及び前記排気口が、それぞれ、前記処理チャンバの対向する側にある、請求項７に記載の電子デバイス製造システム。
【請求項９】
前記バルブを前記Ｘ、Ｙ、及びＺ方向に移動させるように構成される複数のアクチュエータ、
前記複数のアクチュエータに連結される支持アームアセンブリ、及び
前記複数のアクチュエータのうちの１つ及び前記バルブに連結され、且つ前記排気口の中心と回転の軸との間のオフセットを調整するように構成されるスライド部材
を更に備える、請求項７に記載の電子デバイス製造システム。
【請求項１０】
前記バルブを前記Ｚ方向に移動させるように構成される複数の線形アクチュエータ、
前記バルブを前記Ｘ及びＹ方向に移動させるように構成される回転式アクチュエータ、及び
複数の回転可能なジョイントアームであって、そのそれぞれが、前記バルブ及び前記複数の線形アクチュエータのそれぞれに連結され、前記複数の回転可能なジョイントアームのうちの１つが前記回転式アクチュエータに連結される、複数の回転可能なジョイントアーム
を更に備える、請求項７に記載の電子デバイス製造システム。
【請求項１１】
アクチュエータ及びアームを更に備え、前記アームが、前記バルブの中心からオフセットされた位置において前記バルブに回転可能に連結される第１の端部、及び前記アクチュエータに回転可能に連結される第２の端部を有し、前記アームが、前記第２の端部におけるカップリングを介して、前記Ｚ方向に移動するように構成される、請求項７に記載の電子デバイス製造システム。
【請求項１２】
処理チャンバの内部の処理ガスの流れを調整する方法であって、
処理チャンバを設けることであって、前記処理チャンバは、処理ガス注入口と排気口と基板が前記処理チャンバ内に受け入れられ、前記処理チャンバから取り出されることを可能とするように構成された側開口部とを備える、処理チャンバを設けることと、
前記排気口を密封するように構成され、且つ前記排気口に対して、Ｘ、Ｙ、及びＺ方向に移動するように構成されるバルブを設けること、並びに
前記Ｘ、Ｙ、及びＺ方向のうちの１つ又は複数の方向に前記バルブを移動させることによって、前記処理チャンバ内のガス流パターンを調整すること
を含む方法。
【請求項１３】
前記調整することが、前記バルブに連結されている１つ又は複数のアクチュエータを作動させて、前記バルブを前記Ｘ、Ｙ、及びＺ方向のうちの１つ又は複数の方向に移動させることを含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記バルブを前記Ｘ及びＹ方向のうちの１つ又は複数の方向に移動させるように構成される１つ又は複数の回転式アクチュエータを設けること、又は、前記バルブを前記Ｚ方向に移動させるように構成される１つ又は複数の線形アクチュエータを設けることを更に含む、請求項１２に記載の方法。
【請求項１５】
前記排気口の中心と回転の軸との間のオフセットを調整することを更に含む、請求項１２に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
関連出願
［０００１］本出願は、２０１３年１１月２６日出願の「ＰＲＯＣＥＳＳ  ＣＨＡＭＢＥＲ  ＡＰＰＡＲＡＴＵＳ，  ＳＹＳＴＥＭＳ，  ＡＮＤ  ＭＥＴＨＯＤＳ  ＦＯＲ  ＣＯＮＴＲＯＬＬＩＮＧ  Ａ  ＧＡＳ  ＦＬＯＷ  ＰＡＴＴＥＲＮ」（代理人整理番号２１３６３／ＵＳＡ）と題する米国特許出願番号１４／０９１，１１１号への優先権を主張し、その内容は、あらゆる目的のために参照により本明細書に組み込まれている。
【０００２】
［０００２］本発明は、概して、電子デバイスの製造に関し、より具体的には、処理チャンバ内の処理ガスの流れを制御するためのバルブ装置、システム、及び方法に関する。
【背景技術】
【０００３】
［０００３］従来型の電子デバイス製造システムは、例えば、ガス抜き、予洗浄又は洗浄、堆積（例えば、化学気相堆積（ＣＶＤ）、物理的気相堆積（ＰＶＤ）、及び／又は原子層堆積）、コーティング、酸化、窒化、エッチング（例えば、プラズマエッチング）等を含む、任意の数の基板処理を実行するよう構成された１つ又は複数の処理チャンバを含み得る。基板は、半導体ウエハ、ガラスプレート又はパネル、及び／又は電子デバイス或いは回路構成要素を作るために使用される他のワークピースであり得る。基板は、スリットバルブを介して、処理チャンバの内外へ移送し得る。一旦、基板が処理チャンバ内に適切に位置決めされると、スリットバルブが閉じる場合があり、基板の処理が開始する場合がある。処理の一部として、特定の処理ガスが処理チャンバ内に導入され得る。一部の条件の下では、処理チャンバ内のガスの流れが均一ではない場合があり、それによって、望ましくない不均一な処理（例えば、不均一なエッチング、堆積、及び／又は同様なもの）に至る場合がある。複数の流入導管及びバルブを使用するなど、処理チャンバ内のガス流を制御する様々な方法が知られている。しかしながら、このようなガス流制御システムは、複雑で高価になる傾向があり、しかも不均一なガスの流れに対して適切に対処できない場合がある。
【０００４】
［０００４］したがって、処理チャンバ内のガス流パターン（例えば、ガス流量及び均一性）を調整するための、改善された装置、システム、及び方法が望まれる。
【発明の概要】
【０００５】
［０００５］第１の態様によれば、処理チャンバガス流制御装置が提供される。処理チャンバガス流制御装置は、内部の基板を処理するように構成され、排気口を有する処理チャンバ、及び排気口を密封するように構成され、且つ処理チャンバの内部のガス流パターンを調整するために排気口に対して、Ｘ、Ｙ、及びＺ方向に移動するように構成されるバルブを備える。
【０００６】
［０００６］第２の態様によれば、電子デバイス製造システムが提供される。電子デバイス製造システムは、内部の基板を処理するように構成され、且つ排気口を有する処理チャンバ、処理チャンバに連結され、且つ処理ガスを処理チャンバ内に導くように構成される処理ガス注入口、及び排気口を密封するように構成され、且つ処理チャンバの内部のガス流パターンを調整するために排気口に対して、Ｘ、Ｙ、及びＺ方向に移動するように構成されるバルブを備える。
【０００７】
［０００７］第３の態様によれば、処理チャンバの内部の処理ガスの流れを調整する方法が提供される。この方法は、排気口を有する処理チャンバを設けること、排気口を密封するように構成され、且つ排気口に対して、Ｘ、Ｙ、及びＺ方向に移動するように構成されるバルブを設けること、並びにＸ、Ｙ、及びＺ方向のうちの１つ又は複数の方向にバルブを移動させることによって、処理チャンバ内のガス流パターンを調整することを含む。
【０００８】
［０００８］本発明の実施形態の更に他の態様、特徴、及び利点は、以下の詳細な説明から容易に明らかになる場合があり、本発明を実行するために企図されるベストモードを含む、数々の例示的な実施形態及び実装形態が説明且つ図示されている。本発明は、他の実施形態及び異なる実施形態を更に含んでもよく、その幾つかの詳細は、すべて本発明の範囲から逸脱しない限り、様々な側面で修正してもよい。したがって、図面及び説明は、本質的に例示的であるとみなすべきであり、限定的であるとみなすべきではない。本発明は、本発明の範囲に含まれるすべての修正例、同等物、及び代替例を含む。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
［０００９］以下で説明されている図面は、例示のみを目的としており、必ずしも縮尺に合っているわけではない。これらの図面は、本開示の範囲を何らか限定することは、意図されていない。
【図１】実施形態に係る、Ｘ、Ｙ、及びＺ方向に移動するように構成されるバルブを有する処理チャンバガス流制御装置を含む電子デバイス製造システムの断面側面図を示す。
【図２Ａ】実施形態に係る、第１の処理チャンバガス流制御装置の簡略斜視図を示す。
【図２Ｂ】実施形態に係る、第１の処理チャンバガス流制御装置の簡略斜視図を示す。
【図２Ｃ】実施形態に係る、第１の処理チャンバガス流制御装置の簡略化上面図を示す。
【図２Ｄ】実施形態に係る、第１の処理チャンバガス流制御装置の簡略断面図を示す。
【図２Ｅ】実施形態に係る、第１の処理チャンバガス流制御装置の分解斜視図を示す。
【図３Ａ】実施形態に係る、第２の処理チャンバガス流制御装置の簡略斜視図を示す。
【図３Ｂ】実施形態に係る、第２の処理チャンバガス流制御装置の簡略上面図を示す。
【図３Ｃ】実施形態に係る、第２の処理チャンバガス流制御装置の簡略断面側面図を示す。
【図４Ａ】実施形態に係る、第３の処理チャンバガス流制御装置の簡略斜視図を示す。
【図４Ｂ】実施形態に係る、第３の処理チャンバガス流制御装置の簡略上面図を示す。
【図４Ｃ】実施形態に係る、第３の処理チャンバガス流制御装置の簡略断面側面図を示す。
【図４Ｄ】実施形態に係る、第３の処理チャンバガス流制御装置の概略側面図を示す。
【図５Ａ−Ｄ】実施形態に係る、Ｘ及び／又はＹ方向における排気口バルブの例示的な移動の簡略上面図を示す。
【図５Ｅ−Ｆ】実施形態に係る、Ｚ及びＸ方向における排気口バルブの例示的な移動の簡略断面側面図を示す。
【図６】実施形態に係る、処理チャンバの内部の処理ガスの流れを調整する方法のフロー図を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
［００１８］これより、添付の図面に示される本開示の例示的な実施形態を詳細に参照する。可能な限り、同じ部分又は類似部分を参照するため、図面全体にわたって、同じ参照番号が使用される。
【００１１】
［００１９］電子デバイス製造システムは、処理チャンバ内で圧力制御部を用いて、処理又は他のパラメータの変化量を制御する。既知の処理チャンバガス流制御装置は、処理ガス注入口を典型的に含み、処理ガス注入口を介して処理ガスがチャンバに供給され得る。処理ガス注入口は、処理チャンバの上部に位置してもよい。ガス排気口は、通常、例えば処理チャンバの底部など、処理ガス注入口の反対側の処理チャンバの側面上に位置する。ターボポンプなどの適切なポンプが、排気口に隣接して、又は排気口の下方に位置してもよい。既知の処理チャンバガス流制御装置は、典型的に、排気口に対して直線状に進退運動（例えば、本明細書でＺ方向と規定される、底部の排気口に対する上下方向）することによって、排気口を密封及び開口することができる排気口バルブを含む。Ｚ方向における排気口バルブの位置調整は、チャンバの圧力の調節及び／又は全体的なガス流量の制御のために用いられてもよい。しかしながら、このような処理チャンバガス流制御装置は、処理チャンバの内部の望ましくない不均一なガス流パターンを経験し得る。このような不均一なガス流パターンによって、不規則な処理又はその他の問題（不規則な堆積、不規則なエッチングなど）がもたらされ得る。
【００１２】
［００２０］１つ又は複数の実施形態に係る処理チャンバガス流制御装置は、処理チャンバの内部のガス流パターンの制御を改善するために提供されてもよい。このような処理チャンバガス流制御装置は、処理チャンバの排気口を密封し、排気口に対してＸ、Ｙ、及びＺ方向に移動するように構成される排気口バルブを含んでもよい。Ｘ、Ｙ、及びＺ方向における排気口バルブの移動によって、バルブと排気口との間に様々な大きさ及び位置の開口が生じてもよい。この開口は、処理チャンバの内部のガス流パターンを調整するために使用してもよい。つまり、Ｘ、Ｙ、及びＺ方向のうちの１つ又は複数の方向におけるバルブの選択された移動を通して排気口の開口の大きさ及び位置を変動させることによって、処理チャンバの内部のガス流パターンを望むように変化させたり、調整したりすることができる。図面で示され、以下でより詳細に説明されるように、Ｘ及びＹ方向は、排気口に対して平行な面であると規定される一方で、Ｚ方向は、排気口に対して垂直であると規定される。
【００１３】
［００２１］一態様では、処理チャンバガス流制御のための装置は、複数のアクチュエータ、複数のアクチュエータに連結される支持アームアセンブリ、及び複数のアクチュエータのうちの１つ及び排気口バルブに連結され、排気口の中心と回転の軸との間のオフセットを調整するように構成されるスライド部材を含んでもよい。この構成によって、排気口バルブが処理チャンバの排気口に対してＸ、Ｙ及び／又はＺ方向に移動することが可能になり得る。
【００１４】
［００２２］別の態様では、処理チャンバガス流制御のための装置は、排気口バルブをＺ方向に移動させるように構成される複数の線形アクチュエータ、排気口バルブをＸ及びＹ方向に移動させるように構成される少なくとも１つの回転式アクチュエータ、及び複数の回転可能なジョイントアームであって、そのそれぞれが、排気口バルブ及び複数の線形アクチュエータのそれぞれに連結される、複数の回転可能なジョイントアームを含んでもよい。複数の回転可能なジョイントアームのうちの１つは、回転式アクチュエータに連結されてもよい。この構成によって、バルブが処理チャンバの排気口に対してＸ、Ｙ及び／又はＺ方向に移動することが可能になり得る。
【００１５】
［００２３］更なる態様では、処理チャンバガス流制御のための装置は、バルブの中心からオフセットされた位置で排気口バルブに回転可能に連結される第１の端部、及びアクチュエータに回転可能に連結される第２の端部を有するアームを含んでもよい。このアームは、第２の端部でカップリングを介してＺ方向に直線状に移動するように構成されてもよく、且つ、第１の端部及び第２の端部における回転運動と共に、処理チャンバの排気口に対して、Ｘ、Ｙ及び／又はＺ方向にバルブを移動させるように構成されてもよい。
【００１６】
［００２４］処理チャンバの内部の処理ガスの流れを調整する方法を含む、以上の様々な態様、並びに他の態様を図示且つ説明する例示的な実施形態の更なる詳細は、図１から６に関連して以下でより詳細に説明される。
【００１７】
［００２５］図１は、１つ又は複数の実施形態に係る電子デバイス製造システム１００を示す。電子デバイス製造システム１００は、単一の基板又は同時に２つ以上の基板を処理するよう構成されてもよい。基板は、半導体ウエハ、ガラスプレート又はパネル、並びに／或いは、電子デバイス及び／又は回路構成要素を作るために使用される他のワークピースであってもよい。ガス抜き、洗浄又は予洗浄、堆積（化学気相堆積（ＣＶＤ）、物理的気相堆積（ＰＶＤ）、又は原子層堆積）、コーティング、酸化、窒化、エッチング（例えばプラズマエッチング）などの１つ又は複数の基板処理は、電子デバイス製造システム１００内で実行されてもよい。他の処理は、代替的に又は追加的に幾つかの実施形態で実行されてもよい。
【００１８】
［００２６］電子デバイス製造システム１００は、上部１０１Ｔ、側壁１０１Ｓ、及び底部１０１Ｂを含み得るハウジング１０１を含んでもよい。上部１０１Ｔ、底部１０１Ｂ、及び側壁１０１Ｓは、ハウジング１０１の内部の処理チャンバ１０２を少なくとも部分的に画定する。上部１０１Ｔは、処理ガス注入口１０３を含んでもよく、底部１０１Ｂは、ガス排気口１１３を含んでもよい。処理チャンバ１０２は、（点線で示される）基板１０５を受け入れるように構成されてもよい。基板１０５は、ペデスタル１０４などの支持構造体の上に配置されてもよく、さもなければ支持構造体に対して支持されてもよい。リフトピンなどの他の種類の基板支持構造体を使用してもよい。従来的には、基板１０５は、スリットバルブ１１０又は他の似たような開閉する密封部材を介して、側開口部１０９を通して、処理チャンバ１０２内に受け入れられたり、取り出されたりし得る。幾つかの実施形態では、処理チャンバ１０２は、真空圧力で作動してもよい。ガス排気口１１３に接続された１つ又は複数のポンプ１１１（例えば、１つ又は複数のターボポンプ）の動作によって、真空が処理チャンバ１０２内に供給されてもよい。
【００１９】
［００２７］処理ガス注入口１０３は、処理チャンバ１０２の上部に位置してもよく、１つ又は複数の処理ガスを処理チャンバ１０２内に導くように構成される１つ又は複数の注入通路を有してもよい。幾つかの実施形態では、処理ガス注入口１０３は、中心領域１０６Ｃ、及び中心領域１０６Ｃを囲む外側環状領域１０６Ａを含んでもよい。ガス供給部１０８から受け取ったガスは、領域１０６Ａ及び１０６Ｃに供給されてもよい。処理チャンバ１０２の内部の流れの分布を少なくとも部分的に一様にするため、ガス流量を中央領域１０６Ｃと外側環状領域１０６Ａとの間で調整してもよい。側部ガス注入口を含む、その他の種類のガス注入口を使用してもよい。
【００２０】
［００２８］ガス排気口１１３は、排気口バルブ１１４を受け入れるように構成され得るバルブシート１１２を含んでもよい。排気口バルブ１１４は、ガス排気口１１３を密封するように構成されてもよい。つまり、排気口バルブ１１４の移動によって、排気口１１３を開閉させることができ、それには、排気口１１３の完全な気密密封１１３が含まれる。排気口バルブ１１４は、例えば、ステンレス鋼などの任意の適切な高温剛性材料から構築され得る単一部品のディスク形状構造であってもよい。他の適切な材料を使用してもよい。
【００２１】
［００２９］幾つかの実施形態では、排気口バルブ１１４及びバルブシート１１２は、図１で示されるように、比較的円錐形の密封面を有してもよい。バルブ１１４上の円錐角１１４Ａは、約０度と９０度の間であってもよく、又は幾つかの実施形態では、約５度と４５度の間であってもよい。バルブシート１１２上の円錐角は、円錐角１１４Ａとほぼ同じであってもよく、幾つかの実施形態では、円錐角１１４Ａと微妙に異なってもよい。エラストマーシールは、密封面のうちの一方又は両方の上に設けられてもよい。図１で示されるように、シールは、ハウジングの底部１０１Ｂ上に設けられてもよい。シールは、例えば、Ｇｒｅｅｎｅ，  Ｔｗｅｅｄ  ＆  Ｃｏｍｐａｎｙから入手可能なＣＨＥＭＲＡＺ（登録商標）などのパーフルオロエラストマーのような高温エラストマー材料であってもよい。他の材料を使用してもよい。
【００２２】
［００３０］排気口バルブ１１４は、ガス排気口１１３及びバルブシート１１２に対して、Ｘ、Ｙ、及びＺ方向のうちの１つ又は複数の方向に移動するように構成されてもよい。Ｘ、Ｙ、及び／又はＺ方向における排気口バルブ１１４の様々な運動によって、バルブシート１１２に対するバルブ１１４の周辺の様々な位置において、バルブ１１４とバルブシート１１２との間で様々な大きさの開口が生じ得る。このような開口部の面積及び径方向位置を変化させることによって、処理チャンバ１０２の内部のガス流パターンを調整してもよい。例えば、排気口１１３の一方の側でバルブ１１４とバルブシート１１２との間で比較的小さな間隙が存在する一方で、バルブ１１４とバルブシート１１２との間で比較的大きな間隙が存在するようにバルブ１１４を排気口１１３の別の側に移動させることは、より大きな間隙を通してガスが増流する結果となり得る。このことにより、より大きな間隙に最も近い径方向領域において、ペデスタル１０４の周りで比較的高い処理ガスの流れをもたらし得る。バルブシート１１２に対するバルブ１１４のこのような運動は、処理チャンバ１０２の内部のガス流パターンに対して様々な調整を行うために用いられてもよい。
【００２３】
［００３１］不均一な処理について１つ又は複数の処理された基板１０５を検討することによって、ガス流パターンを調整する必要があると判断される場合がある。不均一な処理を特定したら、バルブ１１４とバルブシート１１２との間で適切な大きさと位置の開口部をつくるため、バルブ１１４の適切な運動を選択してもよく、それにより、不均一が補正されるか、又は少なくとも減少され得る。幾つかの実施形態では、処理チャンバ１０２は、処理チャンバ１０２の内部のガス流パターンに関するデータを提供するように構成される１つ又は複数の圧力センサ又は流量センサを含んでもよい。このようなデータは、次いで、バルブシート１１２に対するバルブ１１４の位置について必要とされる調整を行うために使用されてもよい。
【００２４】
［００３２］幾つかの実施形態では、処理チャンバ１０２の内部の全体的な処理ガス流量（「伝導率」と呼ばれ得る）は、バルブシート１１２に対するバルブ１１４の高さを上げ下げする（又は距離を増加又は減少させる）こと（すなわち、本明細書で使用されているＺ方向で）によって制御し得る。例えば、バルブ１１４とバルブシート１１２との間の間隙は、処理チャンバ１０２内の処理ガス流量を増加させるために拡大してよく、又は、処理ガス流量を減少させるために縮小させてもよい。
【００２５】
［００３３］ガス排気口１１３及びバルブシート１１２に対する排気口バルブ１１４の運動は、複数のアクチュエータ（例えば、アクチュエータ１１５Ａ及び１１５Ｂ）の動作など、任意の適切な手段によって達成され得る。複数のアクチュエータは、バルブ１１４をＸ及び／又はＹ方向に移動させるように構成される少なくとも１つの回転式アクチュエータ（例えば、モータ）、及びバルブ１１４をＺ方向に移動させるように構成される少なくとも１つの線形アクチュエータを含んでもよい。幾つかの実施形態では、複数のアクチュエータは、均等間隔の増分で、例えば、３つのアクチュエータを有する実施形態では１２０度の増分などでバルブ１１４の周りに配置されてもよい。
【００２６】
［００３４］図１で示されるように、排気口バルブ１１４は、バルブ支持機構１１６に連結されてもよく、複数のアクチュエータ（例えば、アクチュエータ１１５Ａ及び１１５Ｂ）は、バルブ支持機構１１６に連結されてもよい。バルブ支持機構１１６は、アクチュエータに取り付けられ、且つ／或いは、アクチュエータからの直線及び／又は回転運動を排気口バルブ１１４へ伝達することを促進するように構成される任意の適切な機械部材であり得るカップリング１１８を含んでもよい。幾つかの実施形態では、ハウジングの底部１０１Ｂとカップリング１１８との間の密封は、適切なフレキシブル金属ベローズ又は他の適切な密封部材によって提供されてもよい。バルブ支持機構１１６の様々な実施形態は、図２Ａ−４Ｄに関連して以下で説明される。代替的に又は追加的に、他の適切な種類のバルブ支持機構、且つ／或いは、本明細書で示され且つ説明されたアクチュエータとは異なる数及び／又は種類のアクチュエータを使用してもよい。
【００２７】
［００３５］コントローラ１２０は、複数のアクチュエータ（例えば、アクチュエータ１１５Ａ及び１１５Ｂ）と連結してもよく、複数のアクチュエータを制御するように作動してもよい。それにより、バルブ支持機構１１６が、排気口バルブ１１４を排気口１１３及びバルブシート１１２に対するＸ、Ｙ、及び／又はＺ方向のうちの任意の１つ又は複数の方向に動かす。この態様では、処理チャンバ１０２内の処理ガス流の伝達度及び／又は処理ガス流の均一性の制御がもたらされてもよい。幾つかの実施形態では、コントローラ１２０は、更に、電子デバイス製造システム１００の中の且つそれを通る基板の処理及び移送の一部又は全てを制御し得る。コントローラ１２０は、例えば、汎用コンピュータであってもよく、且つ／又は、マイクロプロセッサ又は他の適切なＣＰＵ（中央処理ユニット）、複数のアクチュエータ及び電子デバイス製造システム１００の他の態様を制御し得るソフトウェアルーチンを記憶するメモリ、入出力周辺機器、及びサポート回路（例えば、電源、クロック回路、ロボット駆動回路、キャッシュ、及び／又はそれらの同等物）を含んでもよい。
【００２８】
［００３６］図２Ａ−Ｄは、処理チャンバガス流制御装置２００の第１の例示的な実施形態を示す。装置２００は、処理チャンバ２０２（図２Ａ、２Ｃ、及び２Ｄでは、その下方ハウジング部２０１Ｌのみが示されている）を含んでもよい。処理チャンバ２０２は、スリットバルブ又はその他の適切な密封部材を受け入れるように構成される側開口部２０９を含んでもよい。処理チャンバ２０２は、バルブシート２１２及びガス排気口２１３（図２Ｄ）を更に含んでもよい。バルブシート２１２は、ガス排気口２１３を完全に密封するための排気口バルブを受け入れるように構成されてもよい。
【００２９】
［００３７］装置２００は、排気口バルブ２１４、複数のアクチュエータ２１５Ａ−Ｅ、及びバルブ支持機構２１６を更に含んでもよい。排気口バルブ２１４は、排気口２１３を密封するように構成され、且つ処理チャンバ２０２の内部のガス流パターンを調整するため、排気口２１３に対してＸ、Ｙ、及びＺ方向に移動するように構成されてもよい。複数のアクチュエータ２１５Ａ−Ｅは、排気口バルブ２１４をＸ、Ｙ、及びＺ方向に移動するように構成されてもよい。バルブ支持機構２１６は、複数のカップリング２１８Ａ−Ｃ、支持アームアセンブリ２１９、支持ブラケット２２２、及びスライド部材２２４を含んでもよい。支持アームアセンブリ２１９は、それぞれのカップリング２１８Ａ−Ｃを介して、アクチュエータ２１５Ａ−Ｃに連結されてもよい。アクチュエータ２１５Ａ−Ｃは、排気口バルブ２１４をＺ方向に移動させるように構成される線形アクチュエータであってもよい。アクチュエータ２１５Ｄは、支持ブラケット２２２及びスライド部材２２４に連結される線形アクチュエータであってもよい。スライド部材２２４は、一組の線形ガイド２３２を介して支持ブラケット２２２に連結されてもよく、排気口バルブ２１４の中心からオフセットされた位置で排気口バルブ２１４に連結されてもよい。線形アクチュエータ２１５Ｄは、矢印２３３によって示されているように、又は、図２Ｃで方向付けられているＹ方向に、Ｘ−Ｙ面において直線状に排気口バルブ２１４を移動させるように構成されてもよい。より具体的には、線形アクチュエータ２１５Ｄは、線形ガイド２３２に沿って、バルブ２１４に取り付けられているスライド部材２２４を移動させるように構成されてもよい。このスライド部材２２４の移動は、排気口２１３の中心と回転軸Ｒ２２５との間のオフセットを調整するために用いられてもよい。アクチュエータ２１５Ｅは、軸Ｒ２２５の周りで排気口バルブ２１４を回転させるように構成される回転式アクチュエータであってもよい。アクチュエータ２１５Ｅは、回転可能なボールねじ（図示せず）を介して、支持アームアセンブリ２１９及び支持ブラケット２２２に連結されてもよい。
【００３０】
［００３８］処理チャンバ２０２内のガス流パターンを調整するため、線形アクチュエータ２１４Ａ−Ｃは、排気口バルブ２１４を排気口２１３から離れるようにＺ方向に所望の距離移動させてもよく、それにより、排気口バルブ３１４とバルブシート３１２との間で径方向にＺ方向で均等な開口部が生じる。任意選択的に、アクチュエータ２１５Ｄは、バルブ２１４とバルブシート２１２との間のＸ−Ｙ面における開口部の大きさを調整するため、Ｘ−Ｙ面におけるバルブ２１４の位置を所望の距離直線的に調整してもよい。アクチュエータ２１５Ｅは、次いで、バルブ２１４を軸Ｒ２２５の周りで回転させ、バルブ２１４とバルブシート２１２との間のＸ−Ｙ面における開口部の径方向位置を調整する。（Ｘ方向及び／又はＹ方向におけるバルブの移動及び開口部の例に関しては、図５Ａ−５Ｄを参照。）ここで生じた開口部によって、処理チャンバ２０２内のガス流パターンを所望するように調整する結果となり得る。コントローラ、例えば、コントローラ１２０は、複数のアクチュエータ２１５Ａ−Ｅを駆動させて、排気口バルブ２１４を所望のＸ、Ｙ、及び／又はＺ方向に移動させるように連結され、構成されてもよい。
【００３１】
［００３９］代替的な実施形態では、バルブ支持機構２１６は、位置決めされて、処理チャンバ２０２の下方及び／又は外部の排気口バルブ２１４に連結されてもよい。このような実施形態では、バルブ支持機構２１６も処理チャンバ２０２の下方及び／又は外部にあってもよい。
【００３２】
［００４０］図３Ａ−Ｃは、処理チャンバガス流制御装置３００の第２の例示的な実施形態を示す。装置３００は、処理チャンバ３０２（下方ハウジング部３０１Ｌのみが示されている）を含んでもよい。処理チャンバ３０２は、スリットバルブ又はその他の適切な密封部材を受け入れるように構成される側開口部３０９を含んでもよい。処理チャンバ３０２は、バルブシート３１２及びガス排気口３１３（図３Ｃ）を更に含んでもよい。バルブシート３１２は、ガス排気口３１３を完全に密封するための排気口バルブを受け入れるように構成されてもよい。
【００３３】
［００４１］装置３００は、排気口バルブ３１４、複数のアクチュエータ（図３Ｃではアクチュエータ３１５Ａ及び３１５Ｂのみが示されている）、及びバルブ支持機構３１６を更に含んでもよい。排気口バルブ３１４は、排気口３１３を密封するように構成され、且つ処理チャンバ３０２の内部のガス流パターンを調整するために排気口３１３に対してＸ、Ｙ、及びＺ方向に移動するように構成されてもよい。複数のアクチュエータは、排気口バルブ３１４をＺ方向（図３Ｃ）に移動させるように構成される複数の線形アクチュエータ（例えば、アクチュエータ３１５Ａ及び３１５Ｂ）を含んでもよく、排気口バルブ３１４をＸ及びＹ方向（図３Ｂ）に移動させるように構成される少なくとも１つの回転式アクチュエータ（例えば、アクチュエータ３１５Ａ又は１つ又は複数の他のアクチュエータ）を含んでもよい。複数のアクチュエータは、本明細書で説明されるように直線及び回転運動をもたらすように構成される任意の適切な数のモータ及び／又はデバイスを含んでもよい。
【００３４】
［００４２］バルブ支持機構３１６は、複数のカップリング３１８Ａ−Ｃ、及び複数の回転可能なジョイントアーム３１９Ａ−Ｃのそれぞれを含んでもよい。複数の回転可能なジョイントアーム３１９Ａ−Ｃは、それぞれのカップリング３１８Ａ−Ｃを介して、それぞれ、排気口バルブ３１４及び複数の線形アクチュエータ（例えば、アクチュエータ３１５Ａ及び３１５Ｂ）のうちのそれぞれに連結されてもよい。回転可能なジョイントアーム３１９Ａは、カップリング３１８Ａ又は別の適切なカップリングを介して、少なくとも１つの回転式アクチュエータ（例えば、アクチュエータ３１５Ａであり得る）に連結されてもよい。カップリング３１８Ａ−Ｃは、それぞれ、複数のアクチュエータに連結される任意の適切な機械部材であってもよく、本明細書に記載されているように、複数のアクチュエータからの直線及び／又は回転運動を回転可能なジョイントアーム３１９Ａ−Ｃに伝達するように構成されてもよい。
【００３５】
［００４３］幾つかの実施形態では、３つのアクチュエータ（例えば、アクチュエータ３１５Ａ及び３１５Ｂ）は、それぞれの回転可能なジョイントアーム３１９Ａ−Ｃに連結される線形アクチュエータであってもよく、排気口バルブ３１４をＺ方向に移動させるように構成されてもよい（図３Ｃ）。排気口バルブ３１４をＺ方向に移動させるため、他の実施形態では、異なる数の線形アクチュエータを使用してもよい。
【００３６】
［００４４］幾つかの実施形態では、アクチュエータ３１５Ａは、更に、回転可能なジョイントアーム３１９Ａに連結され、且つ軸Ｒ３２５の周りの第１の回転運動を回転可能なジョイントアーム３１９Ａの第１のアームセクション３１２Ａにもたらすように構成される回転式アクチュエータであってもよい。第１の回転運動は、時計回り及び／又は反時計周り方向であってもよい。代替的に、別個の回転式アクチュエータ（図示せず）が、第１の回転運動をもたらすために回転可能なジョイントアーム３１９Ａに連結されてもよい。
【００３７】
［００４５］幾つかの実施形態では、アクチュエータ３１５Ａ又は第２の回転式アクチュエータ（図示せず）は、回転可能なジョイントアーム３１９Ａに連結され、且つ軸Ｒ３２６の周りの第２の独立回転運動を回転可能なジョイントアーム３１９Ａの第２のアームセクション３２３Ａにもたらすように構成されてもよい。第２の回転運動は、時計周り及び／又は反時計周り方向であってもよい。幾つかの実施形態では、回転可能なジョイントアーム３１９Ａは、軸Ｒ３２６の周りの第２のアームセクション３２３Ａの第２の独立回転を駆動させるため、軸Ｒ３２５と軸Ｒ３２６の間に構成される第１のアームセクション３２１Ａ内のプーリ機構を有してもよい。このプーリ機構は、図４Ｃのアーム４１９に関連して以下で説明されるプーリ機構と同じように動作し、構成されてもよい。軸Ｒ３２５の周りから軸Ｒ３２６の周りへ回転運動を伝達する他の適切な機構を使用してもよい。
【００３８】
［００４６］軸Ｒ３２５及び／又は軸Ｒ３２６の周りの回転可能なアーム３１９Ａの回転運動は、排気口バルブ３１４が様々なＸ及び／又はＹ方向に移動するにつれて、回転可能なアーム３１９Ａとの従属型又は押し引き型の関係で、回転可能なジョイントアーム３１９Ｂ及び３１９Ｃをその回転可能なジョイントの周りで駆動させてもよい。
【００３９】
［００４７］処理チャンバ３０２内のガス流パターンを調整するため、排気口バルブ３１４を排気口３１３から離れるようにＺ方向に所望の距離移動させてもよく、それにより、排気口バルブ３１４とバルブシート３１２との間で径方向に均等な開口部が生じる。排気口バルブ３１４のＺ方向の運動は、それぞれのカップリング３１８Ａ−Ｃに連結される３つの線形アクチュエータ（例えば、アクチュエータ３１５Ａ及び３１５Ｂを含む）によってもたらされ得る。次いで、アクチュエータ３１５Ａ及び／又は１つ又は複数の別個の回転可能なアクチュエータによって、回転可能なジョイントアーム３１９Ａの第１のアームセクション３２１Ａが、軸Ｒ３２５の周りを所望の回数回転し、且つ／或いは、回転可能なジョイントアーム３１９Ａの第２のアームセクション３２３Ａが軸Ｒ３２６の周りを所望の回数回転する。これにより、排気口バルブ３１４がＸ及び／又はＹ方向で所望する距離移動することができ、排気口バルブ３１４とバルブシート３１２との間で特定の大きさと径方向位置の開口部が生じる。（Ｘ方向及び／又はＹ方向におけるバルブの移動及び開口部の例に関しては、図５Ａ−５Ｄを参照。）ここで生じた開口部によって、処理チャンバ３０２内のガス流パターンを所望するように調整する結果となり得る。コントローラ、例えば、コントローラ１２０は、複数のアクチュエータ（例えば、アクチュエータ３１５Ａ及び３１５Ｂを含む）を駆動させて、排気口バルブ３１４を所望のＸ、Ｙ、及び／又はＺ方向に移動させるように連結され、構成されてもよい。
【００４０】
［００４８］図４Ａ−Ｄは、処理チャンバガス流制御装置４００の第３の例示的な実施形態を示す。装置４００は、処理チャンバ４０２（下方ハウジング部４０１Ｌのみが示されている）を含んでもよい。処理チャンバ４０２は、スリットバルブ又はその他の適切な密封部材を受け入れるように構成される側開口部４０９を含んでもよい。処理チャンバ４０２は、バルブシート４１２及びガス排気口４１３を更に含んでもよい（図４Ｃ）。バルブシート４１２は、ガス排気口４１３を完全に密封するための排気口バルブを受け入れるように構成されてもよい。
【００４１】
［００４９］装置４００は、排気口バルブ４１４、アクチュエータ４１５、及びバルブ支持機構４１６を更に含んでもよい。排気口バルブ４１４は、排気口４１３を密封するように構成され、且つ処理チャンバ４０２の内部のガス流パターンを調整するため、排気口４１３に対してＸ、Ｙ、及びＺ方向に移動するように構成されてもよい。アクチュエータ４１５は、直線運動並びに第１及び第２の独立回転運動をもたらすように構成される任意の適切な数のモータ及び／又はデバイスであってもよい。例えば、図４Ｄで示されるように、アクチュエータ４１５は、線形アクチュエータ４１５Ｌ並びに第１及び第２の回転式アクチュエータ４１５Ｒ１及び４１５Ｒ２を含んでもよく、又はそれらを代表してもよい。バルブ支持機構４１６は、カップリング４１８Ａ及び４１８Ｂ並びにアーム４１９を含んでもよい。第１及び第２のカップリング４１８Ａ及び４１８Ｂは、アクチュエータ４１５に連結され、且つ本明細書に記載されているように、アクチュエータ４１５からの直線運動及び回転運動をアーム４１９に伝達するように構成される任意の適切な機械部材であってもよい。
【００４２】
［００５０］アーム４１９は、バルブ４１４の中心Ｃ４３０からオフセットされた位置で排気口バルブ４１４に回転可能に連結される第１の端部４１９Ａを有してもよい。アーム４１９は、オフセット軸Ｒ４２５の周りでバルブ４１４を回転させるように構成されてもよい（例示的なバルブの運動に関しては図５Ａ−Ｄを参照）。アーム４１９は、カップリング４１８Ａ及び４１８Ｂを介して、アクチュエータ４１５に回転可能に連結される第２の端部４１９Ｂを有してもよく、アーム４１９は、線形アクチュエータ４１５Ｌ並びにカップリング４１８Ａ及び４１８Ｂを介してＺ方向に移動するように構成される。アーム４１９は、更に、回転式アクチュエータ４１５Ｒ１及びカップリング４１８Ａを介して、Ｘ及びＹ方向に軸Ｒ４２７の周りで回転するように構成されてもよい。
【００４３】
［００５１］幾つかの実施形態では、アーム４１９は、回転式アクチュエータ４１５Ｒ２からの軸Ｒ４２７の周りの回転運動を軸Ｒ４２５の周りの回転運動に伝達するように構成される、図４Ｄに示されるプーリ機構を含んでもよい。アーム４１９は、第１のプーリ４３２、第２のプーリ４３４、並びに第１のプーリ４３２及び第２のプーリ４３４に接続されるベルト４３６を含んでもよい。第１のプーリ４３２は、カップリング４１８Ｂに連結されてもよく、次いで回転式アクチュエータ４１５Ｒ２に連結されてもよい。第１のプーリ４３２が軸Ｒ４２７の周りを回転するにつれて、ベルト４３６は、第２のプーリ４３４を軸Ｒ４２５の周りで回転させる。
【００４４】
［００５２］軸Ｒ４２５の周りのアーム４１９の回転運動と軸Ｒ４２７の周りの排気口バルブ４１４の回転運動との組み合わせにより、図５Ａ−Ｄに示されるように、排気口バルブ４１４が、様々なＸ及びＹ方向に移動することが可能となり、様々な大きさと位置の開口部が生じる。コントローラ、例えば、コントローラ１２０は、アクチュエータ４１５（例えば、アクチュエータ４１５Ｒ１、４１５Ｒ２、及び４１５Ｌ）を駆動させて、排気口バルブ４１４を所望のＸ、Ｙ、及び／又はＺ方向に移動させるように連結され、構成されてもよい。
【００４５】
［００５３］図５Ａ−Ｆは、処理チャンバガス流制御装置２００、３００、及び／又は４００のうちの任意の１つが実行するように構成され得る、処理チャンバの底部５０１Ｂの中の排気口５１３及びバルブシート５１２に対する、Ｘ、Ｙ、及び／又はＺ方向での排気口バルブ５１４の例示の運動を示す。例えば、図５Ａは、排気口バルブ５１４を、排気口５１３及びバルブシート５１２に対して閉じている位置又はＺ方向（図５Ｅで示されるように）で移動している位置のいずれかの位置で示す。排気口バルブ５１４は、バルブ５１４の中心Ｃ５３０からオフセットされた、軸Ｒ５２５の周りの径方向経路Ｐ５２５を介して、Ｘ及び／又はＹ方向に移動するように構成されてもよい。径方向経路Ｐ５２５の半径は、軸Ｒ５２５と中心Ｃ５３０との間の距離Ｄであってもよい。径方向経路Ｐ５２５は、例えば、オフセット軸Ｒ４２５と装置４００の中心Ｃ４３０によって生じる径方向経路に類似し得る。バルブシート５１２と処理チャンバの底部５０１Ｂから離れるのに十分な距離Ｚ方向に移動した後、排気口バルブ５１４は、径方向経路Ｐ５２５の周りを回転することによって、図５Ｂ及び５Ｆに示されるようにＸ方向にポイント５３８まで移動してもよい。これにより、排気口開口部５１３Ｂが生じ得る。同様に、図５Ｃ及び５Ｆで示されるような、ポイント５４０に至る径方向経路Ｐ５２５の周りの排気口バルブ５１４の回転によって、排気口開口部５１３Ｃが生じ得る。更に、図５Ｄ及び５Ｆに示されるように、ポイント５４２に至る径方向経路Ｐ５２５の周りの排気口バルブ５１４の回転によって、排気口開口部５１３Ｄが生じ得る。他の開口部も可能である。径方向経路Ｐ５２５の周りの排気口バルブ５１４の回転によって生じ得る様々な開口部によって、処理チャンバ内のガス流パターンを所望するように調整することが可能になり得る。
【００４６】
［００５４］図６は、１つ又は複数の実施形態に係る、処理チャンバの内部の処理ガスの流れを調整する方法６００を示す。プロセスブロック６０２では、方法６００は、排気口を有する処理チャンバを設けることを含んでもよい。幾つかの実施形態では、処理チャンバは、例えば、図１−４Ｃで示される、それぞれの排気口１１３ー４１３を有する処理チャンバ１０２−４０２のうちの任意の１つであってもよい。
【００４７】
［００５５］プロセスブロック６０４では、排気口を密封するように構成され、且つ排気口に対してＸ、Ｙ、及びＺ方向に移動するように構成されるバルブが設けられてもよい。例えば、幾つかの実施形態では、バルブは、図１ー５Ｄで示されるように、バルブ１１４−５１４のうちの任意の１つであってもよい。
【００４８】
［００５６］プロセスブロック６０６では、方法６００は、バルブをＸ、Ｙ、及びＺ方向のうちの１つ又は複数の方向に移動させることによって、処理チャンバ内のガス流パターンを調整することを含んでもよい。例えば、幾つかの実施形態では、図５ＢーＤに示されるように、処理チャンバ内のガス流パターンは、排気口バルブ５１４を移動させることによって調整されてもよい。
【００４９】
［００５７］方法６００の以上のプロセスブロックは、図示且つ説明されている順番及び順序に限定されない順番及び順序で実行又は実施されてもよい。例えば、幾つかの実施形態では、プロセスブロック６０４は、プロセスブロック６０２の前、或いは、プロセスブロック６０２と同時に実行されてもよい。
【００５０】
［００５８］当業者であれば、本明細書に記載の発明の実施形態は、広範囲の実用性及び用途が可能であることを容易に理解するべきである。本明細の記載以外の本発明の多くの実施形態及び適応例、並びに、多くの変形例、修正例、及び同等の構成は、本発明の実体又は範囲から離れることなく、本発明及び本発明の以上の記載から、明白であり、或いは、合理的に示唆される。例えば、本明細書では電子デバイス製造システムの処理チャンバ内で使用されていると説明されているが、本発明の１つ又は複数の実施形態に係る処理チャンバガス流制御装置は、ガスの流れを受け入れ、且つ排気口を有する任意の適切なチャンバ又は構造体と使用されてもよい。したがって、本発明が特定の実施形態に関連して本明細書で詳細に説明されたが、本開示は、例示のみであり、本発明の実施例を提示し、本発明の完全且つ可能な開示を提供するために作成されているに過ぎないことを理解するべきである。本開示は、本発明を開示の特定の装置、デバイス、アセンブリ、システム、又は方法に限定することを意図しておらず、逆に、本発明の範囲に含まれるすべての修正例、均等物、及び代替物を網羅することを意図している。
また、本願は以下に記載する態様を含む。
（態様１）
内部の基板を処理するように構成され、排気口を有する処理チャンバ、及び
前記排気口を密封するように構成され、且つ前記処理チャンバの内部のガス流パターンを調整するために前記排気口に対して、Ｘ、Ｙ、及びＺ方向に移動するように構成されるバルブ
を備える処理チャンバガス流制御装置。
（態様２）
前記バルブに連結され、且つ前記バルブを前記Ｘ、Ｙ、及びＺ方向に移動させるように構成される複数のアクチュエータを更に備える、態様１に記載の処理チャンバガス流制御装置。
（態様３）
前記複数のアクチュエータが、前記バルブを前記Ｘ及びＹ方向に移動させるように構成される少なくとも１つの回転式アクチュエータを含み、又は、前記バルブを前記Ｚ方向に移動させるように構成される少なくとも１つの線形アクチュエータを含む、態様２に記載の処理チャンバガス流制御装置。
（態様４）
前記バルブを前記Ｘ、Ｙ、及びＺ方向に移動させるように構成される複数のアクチュエータ、
前記複数のアクチュエータに連結される支持アームアセンブリ、及び
前記複数のアクチュエータのうちの１つ及び前記バルブに連結され、且つ前記排気口の中心と回転の軸との間のオフセットを調整するように構成されるスライド部材
を更に備える、態様１に記載の処理チャンバガス流制御装置。
（態様５）
前記バルブを前記Ｚ方向に移動させるように構成される複数の線形アクチュエータ、
前記バルブを前記Ｘ及びＹ方向に移動させるように構成される回転式アクチュエータ、及び
複数の回転可能なジョイントアームであって、そのそれぞれが、前記バルブ及び前記複数の線形アクチュエータのそれぞれに連結され、前記複数の回転可能なジョイントアームのうちの１つが前記回転式アクチュエータに連結される、複数の回転可能なジョイントアーム
を更に備える、態様１に記載の処理チャンバガス流制御装置。
（態様６）
アクチュエータ及びアームを更に備え、前記アームが、前記バルブの中心からオフセットされた位置において前記バルブに回転可能に連結される第１の端部、及び前記アクチュエータに回転可能に連結される第２の端部を有し、前記アームが、前記第２の端部におけるカップリングを介して、前記Ｚ方向に移動するように構成される、態様１に記載の処理チャンバガス流制御装置。
（態様７）
内部の基板を処理するように構成され、且つ排気口を有する処理チャンバ、
前記処理チャンバに連結され、且つ処理ガスを前記処理チャンバ内に導くように構成される処理ガス注入口、及び
前記排気口を密封するように構成され、且つ前記処理チャンバの内部のガス流パターンを調整するために前記排気口に対して、Ｘ、Ｙ、及びＺ方向に移動するように構成されるバルブ
を備える、電子デバイス製造システム。
（態様８）
前記バルブに連結され、且つ前記バルブを前記Ｘ、Ｙ、及びＺ方向に移動させるように構成される少なくとも１つのアクチュエータを更に備え、前記処理ガス注入口及び前記排気口が、それぞれ、前記処理チャンバの対向する側にある、態様７に記載の電子デバイス製造システム。
（態様９）
前記バルブを前記Ｘ、Ｙ、及びＺ方向に移動させるように構成される複数のアクチュエータ、
前記複数のアクチュエータに連結される支持アームアセンブリ、及び
前記複数のアクチュエータのうちの１つ及び前記バルブに連結され、且つ前記排気口の中心と回転の軸との間のオフセットを調整するように構成されるスライド部材
を更に備える、態様７に記載の電子デバイス製造システム。
（態様１０）
前記バルブを前記Ｚ方向に移動させるように構成される複数の線形アクチュエータ、
前記バルブを前記Ｘ及びＹ方向に移動させるように構成される回転式アクチュエータ、及び
複数の回転可能なジョイントアームであって、そのそれぞれが、前記バルブ及び前記複数の線形アクチュエータのそれぞれに連結され、前記複数の回転可能なジョイントアームのうちの１つが前記回転式アクチュエータに連結される、複数の回転可能なジョイントアーム
を更に備える、態様７に記載の電子デバイス製造システム。
（態様１１）
アクチュエータ及びアームを更に備え、前記アームが、前記バルブの中心からオフセットされた位置において前記バルブに回転可能に連結される第１の端部、及び前記アクチュエータに回転可能に連結される第２の端部を有し、前記アームが、前記第２の端部におけるカップリングを介して、前記Ｚ方向に移動するように構成される、態様７に記載の電子デバイス製造システム。
（態様１２）
処理チャンバの内部の処理ガスの流れを調整する方法であって、
排気口を有する処理チャンバを設けること、
前記排気口を密封するように構成され、且つ前記排気口に対して、Ｘ、Ｙ、及びＺ方向に移動するように構成されるバルブを設けること、並びに
前記Ｘ、Ｙ、及びＺ方向のうちの１つ又は複数の方向に前記バルブを移動させることによって、前記処理チャンバ内のガス流パターンを調整すること
を含む方法。
（態様１３）
前記調整することが、前記バルブに連結されている１つ又は複数のアクチュエータを作動させて、前記バルブを前記Ｘ、Ｙ、及びＺ方向のうちの１つ又は複数の方向に移動させることを含む、態様１２に記載の方法。
（態様１４）
前記バルブを前記Ｘ及びＹ方向のうちの１つ又は複数の方向に移動させるように構成される１つ又は複数の回転式アクチュエータを設けること、又は、前記バルブを前記Ｚ方向に移動させるように構成される１つ又は複数の線形アクチュエータを設けることを更に含む、態様１２に記載の方法。
（態様１５）
前記排気口の中心と回転の軸との間のオフセットを調整することを更に含む、態様１２に記載の方法。
【図１】
0006513089.tif 000002
【図２Ａ】
0006513089.tif 000003
【図２Ｂ】
0006513089.tif 000004
【図２Ｃ】
0006513089.tif 000005
【図２Ｄ】
0006513089.tif 000006
【図２Ｅ】
0006513089.tif 000007
【図３Ａ】
0006513089.tif 000008
【図３Ｂ】
0006513089.tif 000009
【図３Ｃ】
0006513089.tif 000010
【図４Ａ】
0006513089.tif 000011
【図４Ｂ】
0006513089.tif 000012
【図４Ｃ】
0006513089.tif 000013
【図４Ｄ】
0006513089.tif 000014
【図５Ａ−Ｄ】
0006513089.tif 000015
【図５Ｅ−Ｆ】
0006513089.tif 000016
【図６】
0006513089.tif 000017