(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
アモルファス合金薄帯が積層されてなり、前記アモルファス合金薄帯の幅方向の一端面及び他端面と、前記アモルファス合金薄帯の積層方向に対して直交する内周面及び外周面と、前記一端面の一部を起点とし前記幅方向を深さ方向とする穴と、を有する積層体を備え、
前記穴の深さが、前記一端面と前記他端面との距離に対し、３０％〜７０％であり、
前記穴は、前記アモルファス合金薄帯と前記アモルファス合金薄帯との間隔が部分的に押し広げられることにより形成されており、
前記積層体の厚さ（ｍｍ）をＴとし、アモルファス合金磁心の占積率（％）をＬＦとしたときに、前記穴の幅が、数式〔Ｔ×（１００−ＬＦ）／１００〕によって算出される値未満であるアモルファス合金磁心。
【請求項２】
前記一端面の側から見たときに、前記穴の中心と前記積層体の厚さ方向の中心線との最短距離が、前記積層体の厚さに対し、１０％以下である請求項１に記載のアモルファス合金磁心。
【請求項３】
前記一端面の側から見たときに、前記穴の全体が、前記一端面において、前記内周面の長手方向の一端から他端までの範囲に相当する範囲に含まれる請求項１又は請求項２に記載のアモルファス合金磁心。
【請求項４】
前記一端面の側から見たときに、前記穴の中心と前記積層体の長手方向の中心線との最短距離が、前記積層体の長手方向長さに対し、２０％以下である請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載のアモルファス合金磁心。
【請求項５】
前記穴の幅が、１．５ｍｍ以上である請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載のアモルファス合金磁心。
【請求項６】
前記穴の幅が、３．５ｍｍ以下である請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載のアモルファス合金磁心。
【請求項７】
前記穴の長さが、１．５ｍｍ〜３５ｍｍである請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載のアモルファス合金磁心。
【請求項８】
前記穴が、温度測定手段挿入用の穴である請求項１〜請求項７のいずれか１項に記載のアモルファス合金磁心。
【請求項９】
更に、前記積層体の前記一端面の少なくとも一部を被覆するとともに前記穴を閉塞する樹脂層を備える請求項１〜請求項８のいずれか１項に記載のアモルファス合金磁心。
【請求項１０】
アモルファス合金薄帯が積層されてなり、前記アモルファス合金薄帯の幅方向の一端面及び他端面と、前記アモルファス合金薄帯の積層方向に対して直交する内周面及び外周面と、を有する積層体を準備する積層体準備工程と、
前記アモルファス合金薄帯と前記アモルファス合金薄帯との間隔を部分的に押し広げることにより、前記積層体の前記一端面を起点とし、前記幅方向を深さ方向とする穴を形成する穴形成工程と、
を有し、
前記穴の深さが、前記一端面と前記他端面との距離に対し、３０％〜７０％であり、
前記積層体の厚さ（ｍｍ）をＴとし、アモルファス合金磁心の占積率（％）をＬＦとしたときに、前記穴の幅が、数式〔Ｔ×（１００−ＬＦ）／１００〕によって算出される値未満であるアモルファス合金磁心の製造方法。
【請求項１１】
更に、前記穴形成工程後の積層体に対し、前記穴の内部の温度を測定しながら熱処理を施す熱処理工程を有する請求項１０に記載のアモルファス合金磁心の製造方法。
【請求項１２】
更に、前記熱処理工程後の積層体の前記一端面の少なくとも一部を被覆するとともに前記穴を閉塞する樹脂層を形成する樹脂層形成工程を有する請求項１１に記載のアモルファス合金磁心の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、アモルファス合金磁心及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
アモルファス合金は、優れた磁気特性を有することから、電力配電用トランス、電子・電気回路用トランスなどの磁心（コア）の材料として採用されている。
アモルファス合金製の磁心（以下、「アモルファス合金磁心」という）は、珪素鋼板（電磁鋼板）製の磁心と比較して、無負荷時の電流の損失を約１／３に抑えられることから、近年の省エネルギー化に適合する磁心として期待されている。【０００３】
アモルファス合金磁心の作製に用いられるアモルファス合金薄帯（アモルファス合金リボン）は、一般に単ロール法により、回転する銅合金製の冷却ロール上に、合金溶湯をノズルから吐出し、急冷することによって、製造される。【０００４】
アモルファス合金磁心について適正な磁気特性を得るためには、アモルファス合金薄帯を積層させてアモルファス合金磁心を作製した後、熱処理を行うことが多い。
例えば、特開２００７−２３４７１４号公報には、アモルファス合金磁心の熱処理温度と、アモルファス合金磁心の鉄損（コアロス）やＨｃ（保磁力）と、の関係について開示されている。
また、特表２００１−５１０５０８号公報には、アモルファス合金磁心の熱処理温度と、アモルファス合金磁心の皮相電力と、の関係について開示されている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上述したように、アモルファス合金磁心に対して適正な磁気特性を付与するためには、アモルファス合金磁心に対し、適正な熱処理条件で熱処理を施すことが重要である。
しかし、従来のアモルファス合金磁心では、熱処理条件の適正化が困難または煩雑であるという問題があった。その理由は、熱処理中において、磁心の内部の温度プロファイルと、磁心の表面の温度プロファイルと、が一致しないことが多いためである。このため、従来は、熱処理条件と実際に得られた磁気特性との関係を確認しながら熱処理条件の調整を繰り返すことにより、最終的な熱処理条件を決定することが多かった。【０００６】
本発明は上記に鑑みなされたものであり、以下の目的を達成することを課題とする。
即ち、本発明の目的は、熱処理条件の適正化が容易なアモルファス合金磁心及びその製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するための具体的手段は以下のとおりである。
＜１＞  アモルファス合金薄帯が積層されてなり、前記アモルファス合金薄帯の幅方向の一端面及び他端面と、前記アモルファス合金薄帯の積層方向に対して直交する内周面及び外周面と、前記一端面の一部を起点とし前記幅方向を深さ方向とする穴と、を有する積層体を備えるアモルファス合金磁心。
＜２＞  前記一端面の側から見たときに、前記穴の中心と前記積層体の厚さ方向の中心線との最短距離が、前記積層体の厚さに対し、１０％以下である＜１＞に記載のアモルファス合金磁心。
＜３＞  前記一端面の側から見たときに、前記穴の全体が、前記一端面において、前記内周面の長手方向の一端から他端までの範囲に相当する範囲に含まれる＜１＞又は＜２＞に記載のアモルファス合金磁心。
＜４＞  前記一端面の側から見たときに、前記穴の中心と前記積層体の長手方向の中心線との最短距離が、前記積層体の長手方向長さに対し、２０％以下である＜１＞〜＜３＞のいずれか１項に記載のアモルファス合金磁心。
＜５＞  前記穴の深さが、前記一端面と前記他端面との距離に対し、３０％〜７０％である＜１＞〜＜４＞のいずれか１項に記載のアモルファス合金磁心。
＜６＞  前記穴の幅が、１．５ｍｍ以上である＜１＞〜＜５＞のいずれか１項に記載のアモルファス合金磁心。
＜７＞  前記積層体の厚さ（ｍｍ）をＴとし、アモルファス合金磁心の占積率（％）をＬＦとしたときに、前記穴の幅が、数式〔Ｔ×（１００−ＬＦ）／１００〕によって算出される値未満である＜１＞〜＜６＞のいずれか１項に記載のアモルファス合金磁心。
＜８＞  前記穴の幅が、３．５ｍｍ以下である＜１＞〜＜７＞のいずれか１項に記載のアモルファス合金磁心。
＜９＞  前記穴の長さが、１．５ｍｍ〜３５ｍｍである＜１＞〜＜８＞のいずれか１項に記載のアモルファス合金磁心。
＜１０＞  前記穴が、温度測定手段挿入用の穴である＜１＞〜＜９＞のいずれか１項に記載のアモルファス合金磁心。
＜１１＞  更に、前記積層体の前記一端面の少なくとも一部を被覆するとともに前記穴を閉塞する樹脂層を備える＜１＞〜＜１０＞のいずれか１項に記載のアモルファス合金磁心。【０００８】
＜１２＞  アモルファス合金薄帯が積層されてなり、前記アモルファス合金薄帯の幅方向の一端面及び他端面と、前記アモルファス合金薄帯の積層方向に対して直交する内周面及び外周面と、を有する積層体を準備する積層体準備工程と、前記積層体の前記一端面を起点とし、前記幅方向を深さ方向とする穴を形成する穴形成工程と、を有するアモルファス合金磁心の製造方法。
＜１３＞  更に、前記穴形成工程後の積層体に対し、前記穴の内部の温度を測定しながら熱処理を施す熱処理工程を有する＜１２＞に記載のアモルファス合金磁心の製造方法。
＜１４＞  更に、前記熱処理工程後の積層体の前記一端面の少なくとも一部を被覆するとともに前記穴を閉塞する樹脂層を形成する樹脂層形成工程を有する＜１３＞に記載のアモルファス合金磁心の製造方法。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、熱処理条件の適正化が容易なアモルファス合金磁心及びその製造方法が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】第１実施形態に係る磁心（積層体）の概略斜視図である。
【図２】第１実施形態に係る磁心（積層体）の概略平面図である。
【図３】図２の部分拡大図である。
【図４】第１実施形態に係る磁心（積層体）の概略側面図である。
【図５】第１実施形態に係る磁心の変形例の概略斜視図である。
【図６】第１実施形態に係る磁心の変形例の概略側面図である。
【図７】第２実施形態に係る磁心（積層体）の概略斜視図である。
【図８】実施例１において、熱処理開始からの経過時間（分（min））と、磁心の温度及び炉の温度と、の関係を示すグラフである。
【図９】図８の部分拡大図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明のアモルファス合金磁心及びその製造方法について詳細に説明する。
本明細書において、「〜」を用いて示された数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を意味する。
本明細書において、「ｒｐｍ」は、round per minuteの略である。
本明細書において、「工程」との用語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の目的が達成されれば、本用語に含まれる。
【００１２】
＜アモルファス合金磁心＞
本発明のアモルファス合金磁心（以下、単に「磁心」や「コア」ともいう）は、アモルファス合金薄帯（以下、単に「薄帯」や「リボン」ともいう）が積層されてなり、前記アモルファス合金薄帯の幅方向の一端面及び他端面と、前記アモルファス合金薄帯の積層方向に対して直交する内周面及び外周面と、前記一端面の一部を起点とし前記幅方向を深さ方向とする穴と、を有する積層体を備える。
本発明の磁心（コア）は、必要に応じ、上記積層体以外の部材（後述の樹脂層、珪素鋼板等）を備えていてもよい。
【００１３】
従来のアモルファス合金磁心では、熱処理条件の適正化が困難または煩雑であるという問題があった。その理由は、熱処理中において、磁心の内部の温度プロファイルと、磁心の表面の温度プロファイルと、が一致しないことが多いためである。このため、従来は、熱処理条件と実際に得られた磁気特性との関係を確認しながら熱処理条件の調整を繰り返すことにより、最終的な熱処理条件を決定することが多かった。
【００１４】
上記問題に関し、本発明の磁心は、上記穴を有しているため、熱電対や温度センサーなどの温度測定手段（以下、「熱電対等」ともいう）を上記穴に挿入することにより、磁気特性を付与するための熱処理中において、磁心の内部の温度プロファイルを正確に測定することができる。そして磁心の内部の温度プロファイルを確認しながら、熱処理条件を容易に調整（適正化）することができる。
従って、本発明の磁心では、熱処理条件の適正化を容易に行うことができる。
本発明の磁心によれば、例えば、異なるサイズの磁心に対し共通する熱処理条件を決定する場合や、同一の熱処理炉内で複数の磁心を熱処理するための熱処理条件を決定する場合においても、個々の磁心の内部の温度プロファイルを確認しながら、熱処理条件を容易に調整（適正化）することができる。
【００１５】
本発明の磁心は、熱処理前の磁心であってもよいし、熱処理後の磁心であってもよい。
本発明の磁心が熱処理前の磁心である場合には、後に施される熱処理の条件（熱処理条件）の適正化を容易に行えるという効果が奏される。
本発明の磁心が熱処理後の磁心である場合には、熱処理条件の適正化が容易な、穴が設けられている磁心を用いて製造できるという効果が奏される。
【００１６】
また、穴が設けられている本発明の磁心において、熱処理後に積層体を変形させて穴を塞ごうとすると、新たに歪みが生じて磁気特性が劣化する。このため、本発明の磁心における穴は、熱処理後においても穴として残留させるのが良い。
【００１７】
本発明の磁心における穴は、磁心表面との温度差が大きい位置に設けることが好ましい。磁心表面との温度差が大きい位置は、例えば、熱伝導を考慮したシミュレーション等によって求めることができる。
以下、本発明の磁心の好ましい態様（穴の位置の好ましい態様など）について説明する。
【００１８】
本発明の磁心は、前記一端面の側から見たときに、前記穴の中心と前記積層体の厚さ方向の中心線（例えば、図２中の中心線Ｃ１）との最短距離が、前記積層体の厚さに対し、１０％以下であることが好ましい。
要するに、上記穴は、積層体の厚さ方向の中心またはその近傍に設けることが好ましい。
これにより、磁心内部における、磁心表面（例えば、外周面及び内周面）との温度差が大きい箇所の温度を測定できるので、熱処理条件の適正化がより容易となる。
【００１９】
本明細書中において、積層体の厚さ方向とは、薄帯の厚さ方向、言い換えれば、薄帯の積層方向を指す。
即ち、積層体の厚さは、積層された薄帯の総厚（即ち、薄帯の積層厚）（例えば、図２中の厚さＴ１）を指す。
【００２０】
また、本発明の磁心は、前記一端面の側から見たときに、前記穴の全体が、前記一端面において、前記内周面の長手方向の一端から他端までの範囲に相当する範囲（例えば、図２中、斜線で示した範囲Ｘ１）に含まれることが好ましい。
ここで、「一端面において、内周面の長手方向の一端から他端までの範囲に相当する範囲」とは、一端面において、内周面の長手方向の一端を通り且つこの長手方向に対して直交する直線から、内周面の長手方向の他端を通り且つこの長手方向に対して直交する直線までの範囲を指す。
また、本発明の磁心は、前記一端面の側から見たときに、前記穴の中心と前記積層体の長手方向の中心線（例えば、図２中の中心線Ｃ２）との最短距離が、前記積層体の長手方向長さ（例えば、図２中の長辺長さＬ１）に対し、２０％以下（より好ましくは１０％以下、更に好ましくは５％以下）であることも好ましい。
【００２１】
また、本発明の磁心は、前記穴の深さ（例えば、図４中の深さＤｈ）が、前記一端面と前記他端面との距離（例えば、図４中の距離Ｄ１）に対し、３０％〜７０％であることが好ましい。
要するに、上記穴の底は、前記一端面と前記他端面との中間点又はその近傍に存在することが好ましい。
これにより、磁心内部における、磁心表面（具体的には一端面及び他端面）との温度差が大きい箇所の温度を測定できるので、熱処理条件の適正化がより容易となる。
【００２２】
また、本発明の磁心は、前記穴の幅が、１．５ｍｍ以上であることが好ましい。
これにより、穴に熱電対等を挿入することがより容易となる。更に、熱電対等を穴から抜き取る際の摩擦をより低減できる。
【００２３】
なお、本明細書中において、穴の幅とは、一端面側からみたときの穴の最大幅（穴の幅方向長さの最大値；例えば、図３中の幅Ｗｈ）を意味する。
上記積層体において、穴の幅は、穴の、積層体の厚さ方向の長さに相当することが好ましい（例えば、図２参照）。
【００２４】
また、本発明の磁心は、前記積層体の厚さ（ｍｍ）をＴとし、アモルファス合金磁心の占積率（％）をＬＦとしたときに、前記穴の幅が、数式〔Ｔ×（１００−ＬＦ）／１００〕によって算出される値未満であることが好ましい。
数式〔Ｔ×（１００−ＬＦ）／１００〕によって算出される値は、前記内周面と前記外周面との間に含まれる、薄帯間の空隙の幅の総和となっている。
穴の幅が数式〔Ｔ×（１００−ＬＦ）／１００〕によって算出される値未満であることにより、穴を設けることによる薄帯の変形量を、薄帯間の空隙によって吸収できる。このため、穴を設けることによる積層体の外形（外周面及び内周面、以下同じ。）の変形を抑制することができる。
上記穴の幅は、穴を設けることによる積層体の外形の変形をより抑制する観点から、数式〔（Ｔ×（１００−ＬＦ）／１００）／２〕によって算出される値未満であることが好ましい。
【００２５】
また、本発明の磁心は、前記穴の幅が、３．５ｍｍ以下であることが好ましく、３．０ｍｍ以下であることがより好ましい。
穴の幅が３．５ｍｍ以下であることにより、穴を設けることによる積層体の外形の変形を抑制することができる。
【００２６】
穴の幅は、１．５ｍｍ〜３．５ｍｍが更に好ましく、１．５ｍｍ〜３．０ｍｍが更に好ましく、２．０ｍｍ〜３．０ｍｍが特に好ましい。
【００２７】
また、本発明の磁心は、前記穴の長さが、１．５ｍｍ〜３５ｍｍであることが好ましい。
穴の長さが、１．５ｍｍ以上であると、穴に熱電対等を挿入することがより容易となる。更に、熱電対等を穴から抜き取る際の摩擦をより低減できる。
一方、穴の長さが、３５ｍｍ以下であると、穴を設けることによる磁心の磁気特性の低下をより抑制できる。
穴の長さは、５ｍｍ〜３５ｍｍがより好ましく、１０ｍｍ〜３０ｍｍが特に好ましい。
【００２８】
なお、本明細書中において、穴の長さとは、一端面側からみたときの穴の最大長さ（穴の長手方向長さの最大値；例えば、図３中の長さＬｈ）を意味する。
また、言うまでもないが、本明細書中において、穴の長さ及び穴の幅は、穴の長さ≧穴の幅の関係を満たす。
【００２９】
また、上述したとおり、穴は、温度測定手段（熱電対等）挿入用の穴であることが好ましい。
これにより、熱処理条件の適正化がより容易となる。
【００３０】
また、本発明の磁心において、積層体の厚さ（薄帯の積層厚）は、１０ｍｍ〜３００ｍｍが好ましく、１０ｍｍ〜２００ｍｍがより好ましい。
また、本発明の製造方法において、積層体の占積率は、８５％以上であることが好ましい。積層体の占積率の上限は、理想的には１００％であるが、上限は９５％であってもよく、また、９０％であってもよい。
ここで、占積率（％）は、薄帯の厚さ、薄帯の積層数、及び積層体の厚さ（例えば、図２中の厚さＴ１）に基づいて求められる値を指す。
【００３１】
また、本発明の磁心は、更に、前記積層体の前記一端面の少なくとも一部を被覆するとともに前記穴を閉塞する樹脂層を備えることが好ましい。
かかる樹脂層により、一端面（特に、薄帯の積層方向の凹凸）を平坦化できる。更に、穴の形成過程で穴の内部にアモルファス合金の破砕粉が生じた場合であっても、上記樹脂層により、穴から破砕粉の飛散を抑制できる。
ここでいう樹脂層は、穴の入り口を塞いでいれば十分である。樹脂層が穴の入り口を塞いでいれば、前記破砕粉の飛散は抑制される。即ち、必ずしも穴全体（穴の全容積）が樹脂で充填されている必要はない。
【００３２】
また、本発明の磁心は、積層体の内周面（即ち、最内周の薄帯の内周面）の更に内側に、内周面に接する珪素鋼板（以下、「内周面側珪素鋼板」ともいう）を備えていてもよい。内周面の更に内側に珪素鋼板を備えた形態は、磁心の強度を向上できる、磁心の形状を保持し易い、等の利点を有する。
また、磁心は、積層体の外周面（即ち、最外周の薄帯の外周面）の更に外側に、外周面に接する珪素鋼板（以下、「外周面側珪素鋼板」ともいう）を備えていてもよい。外周面の更に外側に珪素鋼板を備えた形態は、磁心の強度を向上できる、磁心の形状を保持し易い、等の利点を有する。
これらの珪素鋼板は、無方向性珪素鋼板であってもよいし、方向性珪素鋼板であってもよい。
これらの珪素鋼板の厚さには特に制限はなく、一般的な珪素鋼板の厚さが挙げられる。  これらの珪素鋼板の厚さは、０．２ｍｍ〜０．４ｍｍが好ましい。
【００３３】
以下、図面の参照し、本発明の磁心の実施形態について説明するが、本発明は以下の実施形態に限定されることはない。また、各図面に共通の要素については、同一の符号を付すことがあり、重複した説明を省略することがある。
【００３４】
（第１実施形態）
本発明の第１実施形態に係る磁心は、「単相コア」（または「単相二脚コア」）と呼ばれる磁心に分類されるものである。
図１は、本発明の第１実施形態に係る磁心（積層体）の概略斜視図であり、図２は、第１実施形態に係る磁心（積層体）の概略平面図であり、図４は、第１実施形態に係る磁心（積層体）の概略側面図である。
図１及び図４に示すように、第１実施形態に係る磁心である積層体１０は、アモルファス合金薄帯が積層されてなるものであり（積層構造は不図示）、アモルファス合金薄帯の幅方向Ｗ１についての一端面１２及び他端面１４と、アモルファス合金薄帯の積層方向に対して直交する内周面１６及び外周面１８と、を有する矩形の環状形状（筒状形状）の積層体である。積層体１０において、オーバーラップ部３０は、個々の薄帯の長手方向両端部がオーバーラップしている部分である。
【００３５】
なお、ここでいう「矩形」には、４つの角が丸まっていない形状には限定されず、積層体１０のように４つの角が丸まっている（曲率半径を有する）形状も含まれる。
また、本発明における積層体の形状は、矩形の環状形状（筒状形状）には限定されず、楕円形（円形も含む）の環状形状（筒状形状）であってもよい。
【００３６】
積層体１０には、一端面１２の一部を起点とし、幅方向Ｗ１を深さ方向とする穴２０が設けられている。
この穴２０に熱電対等を差し込んだ状態で積層体１０を熱処理することにより、熱処理の過程において、穴２０の内部（即ち、積層体の内部）の温度プロファイルを正確に測定することができる。これにより、熱処理条件の適正化を容易に行うことができる。
【００３７】
図３は、図２の部分拡大図であり、穴２０を拡大して表した図である。
図２及び図３に示すように、穴２０の形状は、薄帯の長手方向を長手方向とし、長手方向中央部が膨らみ、かつ、長手方向両端部が尖った形状となっている。但し、本発明の穴の形状は穴２０の形状に限定されることはなく、楕円形状（円形状を含む）、ひし形状、矩形状等、どのような形状であってもよい。
【００３８】
また、図２及び図３に示すように、積層体１０において、穴２０は、積層体の厚さ方向（厚さＴ１の方向）の中心線Ｃ１上に設けられている。
中心線Ｃ１上の位置は、積層体１０の外周面１８及び内周面１６から最も離れた位置であり、外周面１８及び内周面１６との温度差が大きい箇所である。この位置に穴２０を設けることが、積層体１０内部（即ち、磁心内部）の温度を測定する上で、特に効果的である。この位置に穴２０を設けることにより、熱処理の過程において、積層体１０内部（即ち、磁心内部）の温度プロファイルを正確に測定することができる。これにより、熱処理条件の適正化がより容易となる。
但し、穴２０は、必ずしも中心線Ｃ１上に設けられる必要はない。例えば、穴２０の中心Ｐ１と中心線Ｃ１との最短距離が、前記積層体の厚さＴ１に対し、１０％以下（好ましくは５％以下）であれば、穴２０を中心線Ｃ１上に設けた場合とほぼ同様の効果が得られる。
【００３９】
また、図２及び図３に示すように、積層体１０において、穴２０は、積層体１０の長手方向の中心線Ｃ２上に設けられている。
中心線Ｃ２上の位置は、積層体１０の長手方向（長辺方向）の両端から最も離れた位置であり、この両端との温度差が大きい箇所である。この位置に穴２０を設けることも、積層体１０内部（即ち、磁心内部）の温度を測定する上で特に効果的である。この位置に穴２０を設けることにより、熱処理の過程において、積層体１０内部（即ち、磁心内部）の温度プロファイルを正確に測定することができる。これにより、熱処理条件の適正化がより容易となる。
なお、穴２０は、必ずしも中心線Ｃ２上に設けられる必要はないが、一端面１２の側から見たときに、穴２０の全体が、一端面１２において、内周面１６の長手方向の一端から他端までの範囲に相当する範囲（図２中、斜線で示した範囲Ｘ１）に含まれることが好ましい。また、穴２０の中心Ｐ１と中心線Ｃ２との最短距離は、積層体１０の長辺長さＬ１（積層体１０の長手方向長さ）に対し、２０％以下（より好ましくは１０％以下、更に好ましくは５％以下）であることも好ましい。
【００４０】
また、図４に示すように、穴２０の深さＤｈは、一端面１２と他端面１４との距離Ｄ１（言い換えれば、薄帯の幅）の半分（５０％）となっている。距離Ｄ１の５０％の位置は、積層体１０の一端面１２及び他端面１４から最も離れた位置であり、これら一端面１２及び他端面１４との温度差が大きい箇所である。穴２０の深さＤｈをこの深さとすることも、積層体１０内部（即ち、磁心内部）の温度を測定する上で特に効果的である。穴２０の深さＤｈを上記深さとすることにより、熱処理の過程において、積層体１０内部（即ち、磁心内部）の温度プロファイルを正確に測定することができる。これにより、熱処理条件の適正化がより容易となる。
但し、穴２０の深さＤｈは、必ずしも距離Ｄ１の５０％である必要はない。例えば、穴２０の深さＤｈが、距離Ｄ１の３０％〜７０％（より好ましくは４０％〜６０％）であれば、深さＤｈを距離Ｄ１の５０％とした場合とほぼ同様の効果が得られる。
【００４１】
また、一端面１２側からみた穴２０の幅（図３中、穴の幅Ｗｈ）には特に制限はないが、幅Ｗｈは、前述のとおり１．５ｍｍ以上であることが好ましい。
また、幅Ｗｈは、前述のとおり、数式〔Ｔ×（１００−ＬＦ）／１００〕によって算出される値未満（より好ましくは、数式〔（Ｔ×（１００−ＬＦ）／１００）／２〕によって算出される値未満）であることが好ましい。
なお、これらの数式中のＴ（積層体の厚さ）は、第１実施形態では厚さＴ１であり、後述の第２実施形態では厚さＴ１１である。
また、幅Ｗｈは、前述のとおり、３．５ｍｍ以下であることが好ましく、３．０ｍｍ以下であることがより好ましい。
【００４２】
また、一端面１２側からみた穴２０の長さ（図３中、穴の長さＬｈ）には特に制限はないが、穴の長さＬｈは、前述のとおり、１．５ｍｍ〜３５ｍｍが好ましく、５ｍｍ〜３５ｍｍがより好ましく、１０ｍｍ〜３０ｍｍが特に好ましい。
【００４３】
なお、積層体１０では、一端面１２を起点とする穴が１つのみ設けられているが、本発明における積層体はこの形態には限定されない。また、積層体における穴の数は、２つ以上であってもよい。積層体には、一端面を起点とする穴だけでなく、他端面を起点とする穴が設けられていてもよい。
【００４４】
また、積層体１０の厚さＴ１は、１０ｍｍ〜３００ｍｍが好ましく、１０ｍｍ〜２００ｍｍが好ましく、２０ｍｍ〜１５０ｍｍがより好ましく、４０ｍｍ〜１００ｍｍが特に好ましい。
また、積層体１０の長辺長さＬ１（長手方向の長さ）は、２５０ｍｍ〜１４００ｍｍが好ましく、２６０ｍｍ〜４５０ｍｍがより好ましい。
また、積層体１０の短辺長さＬ２（長手方向と直交する方向の長さ）は、８０ｍｍ〜８００ｍｍが好ましく、１６０ｍｍ〜２５０ｍｍが好ましい。
【００４５】
積層体１０におけるアモルファス合金薄帯の材質には特に制限はなく、Ｆｅ基アモルファス合金、Ｎｉ基アモルファス合金、ＣｏＣｒ基アモルファス合金等、公知のアモルファス合金を用いることができる。
公知のアモルファス合金としては、例えば、国際公開第２０１３／１３７１１７号の段落００４４〜００４９に記載されている、Ｆｅ基アモルファス合金、Ｎｉ基アモルファス合金、ＣｏＣｒ基アモルファス合金等が挙げられる。
【００４６】
本発明におけるアモルファス合金薄帯の材質としては、Ｆｅ基アモルファス合金が特に好ましい。
上記Ｆｅ基アモルファス合金としては、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｂ系アモルファス合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｂ−Ｃ系アモルファス合金がより好ましい。
上記Ｆｅ−Ｓｉ−Ｂ系アモルファス合金としては、２原子％〜１３原子％のＳｉ及び８原子％〜１６原子％のＢを含有し、残部が実質的にＦｅ及び不可避不純物である組成を有する系の合金が好ましい。
また、上記Ｆｅ−Ｓｉ−Ｂ−Ｃ系アモルファス合金としては、２原子％〜１３原子％のＳｉ、８原子％〜１６原子％のＢ、及び３原子％以下のＣを含有し、残部がＦｅ及び不可避不純物である組成を有する系の合金が好ましい。
いずれの系においても、Ｓｉが１０原子％以下であり且つＢが１７原子％以下である場合が、飽和磁束密度Ｂｓが高い点で好ましい。また、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｂ−Ｃ系アモルファス合金薄帯では、Ｃを多く加え過ぎると、経年変化が大きくなるため、Ｃの量は０．５原子％以下が好ましい。
【００４７】
また、アモルファス合金薄帯の厚さ（薄帯一枚の厚さ）は、１５μｍ〜４０μｍが好ましく、２０μｍ〜３０μｍがより好ましく、２３μｍ〜２７μｍが特に好ましい。
薄帯の厚さが１５μｍ以上であると、薄帯の機械的強度を保持できる点、及び占積率が高くなり、積層した場合の層数が少なくなる点で有利である。
また、薄帯の厚さが４０μｍ以下であると、渦電流損が小さく抑えられる点、及び積層の磁心を加工した際の曲げ歪を小さくできる点、更にアモルファス相を安定的に得やすい点で有利である。
【００４８】
また、アモルファス合金薄帯の幅（薄帯の長手方向と直交する方向の長さ）は、１５ｍｍ〜２５０ｍｍが好ましい。
薄帯の幅が１５ｍｍ以上であると、大容量の磁心が得られやすい。
また、薄帯の幅が２５０ｍｍ以下であると、幅方向において板厚の均一性の高い薄帯が得られやすい。
中でも、薄帯の幅は、大容量で実用的な磁心を得る観点から、５０ｍｍ〜２２０ｍｍがより好ましく、１００ｍｍ〜２２０ｍｍが更に好ましく、１３０ｍｍ〜２２０ｍｍが更に好ましい。中でも、薄帯の幅としては、標準的に使用されている薄帯の幅である、１４２±１ｍｍ、１７０±１ｍｍ、２１３±１ｍｍが特に好ましい。
【００４９】
アモルファス合金薄帯の製造は、例えば、液体急冷法（単ロール法、双ロール法、遠心法等）等の公知の方法により行うことができる。中でも、単ロール法は、製造設備が比較的単純で、かつ安定製造が可能な製造法であって、優れた工業生産性を有する。
単ロール法によるアモルファス合金薄帯の製造方法については、例えば、特許第３４９４３７１号公報、特許第３５９４１２３号公報、特許第４２４４１２３号公報、特許第４５２９１０６号公報、国際公開第２０１３／１３７１１７号の記載を適宜参照できる。
【００５０】
また、第１実施形態に係る磁心は、積層体１０以外の部材を備えていてもよい。
例えば、第１実施形態に係る磁心は、積層体１０と、上述した内周面側珪素鋼板（最内周の薄帯の内周面に接する珪素鋼板）及び上述した外周面側珪素鋼板（最外周の薄帯の外周面に接する珪素鋼板）の少なくとも一方と、の複合体を備えていてもよい。
【００５１】
また、図５及び図６に示すように、第１実施形態に係る磁心は、積層体の一端面の少なくとも一部を被覆するとともに穴を閉塞する樹脂層を備えることが好ましい。
図５は、第１実施形態の変形例に係る磁心の概略斜視図であり、図６は、この変形例に係る磁心の概略側面図である。
図５及び図６に示すように、変形例に係る磁心１１は、上述した積層体１０の一端面１２の一部を被覆する樹脂層４０Ａを備えている。樹脂層４０Ａは、穴２０の入り口を閉塞している。
この変形例に係る磁心１１は、さらに、積層体１０の他端面１４の一部にも、樹脂層４０Ｂを備えている。
樹脂層４０Ａ及び樹脂層４０Ｂは、積層体の一端面及び他端面を保護する機能、積層体の一端面及び他端面を平坦化する機能、等を有する層である。樹脂層４０Ａ及び樹脂層４０Ｂは、オーバーラップ部３０以外の領域の一部に設けられている。
但し、樹脂層は、オーバーラップ部を含めた一端面全体、オーバーラップ部を含めた他端面全体に設けられていてもよい。
【００５２】
樹脂層４０Ａ及び樹脂層４０Ｂのうち、穴２０の入り口を閉塞する樹脂層４０Ａは、穴２０の内部から生じる金属粉の飛散を防止する機能も有している。
【００５３】
樹脂層に含有される樹脂としては、耐熱性、電気絶縁性、接着性等の観点から、エポキシ樹脂が特に好ましい。
樹脂層は、例えば、樹脂及び溶媒を含有する樹脂組成物を塗布することにより、形成することができる。
【００５４】
（第２実施形態）
本発明の第２実施形態に係る磁心は、「三相コア」（または「三相三脚コア」）と呼ばれる磁心に分類されるものである。
図７は、本発明の第２実施形態に係る磁心（積層体）の概略斜視図である。
図７に示すように、第２実施形態に係る磁心である積層体１００も、アモルファス合金薄帯が積層されてなるものであり（積層構造は不図示）、積層体１０と同様に、アモルファス合金薄帯の幅方向についての一端面１１２及び他端面１１４と、外周面１１８と、を有する矩形の積層体である。
但し、積層体１００は、内周面を２つ（内周面１１６Ａ及び内周面１１６Ｂ）を有している点で、積層体１０とは異なる。
積層体１００の構造は、積層体１０のような単相コアを２つ並べ、これらの周りを薄帯の束で取り囲んだ構造となっている。積層体１００は、２つの単相コアの部分にオーバーラップ部１３２及び１３４をそれぞれ有し、周りを取り囲む薄帯の束の部分にオーバーラップ部１３６を有している。
【００５５】
積層体１００にも、一端面１１２の一部を起点とし、薄帯の幅方向を深さ方向とする穴１２０及び穴１２２が設けられている。
これらの穴が設けられていることにより、積層体１０の場合と同様に、熱処理条件の適正化を容易に行うことができる。
なお、穴１２０及び１２２のいずれか一方は、省略されていてもよい。
【００５６】
積層体１００における穴（穴１２０及び１２２）の好ましい態様（形状、位置、深さ、大きさ等）については、積層体１０の好ましい態様を適宜参照できる。
また、積層体１００にも、前述の樹脂層４０Ａ、４０Ｂのような樹脂層が設けられていてもよい。
【００５７】
積層体１００の厚さＴ１１は、１０ｍｍ〜３００ｍｍが好ましく、１０ｍｍ〜２００ｍｍがより好ましく、２０ｍｍ〜２００ｍｍが更に好ましく、４０ｍｍ〜２００ｍｍが特に好ましい。
積層体１００の一辺の長さ（長さＬ１１、長さＬ１２）は、１８０ｍｍ〜１３８０ｍｍが好ましく、４６０ｍｍ〜５００ｍｍがより好ましい。
【００５８】
その他、積層体１００の好ましい態様や変形例は、積層体１０の好ましい態様や変形例と同様である。
【００５９】
本発明の磁心を製造する方法としては、以下で説明する本発明の磁心の製造方法が好適である。
【００６０】
＜アモルファス合金磁心の製造方法＞
本発明のアモルファス合金磁心の製造方法（以下、「本発明の製造方法」ともいう）は、アモルファス合金薄帯が積層されてなり、前記アモルファス合金薄帯の幅方向の一端面及び他端面と、前記アモルファス合金薄帯の積層方向に対して直交する内周面及び外周面と、を有する積層体を準備する積層体準備工程と、前記積層体の前記一端面を起点とし、前記幅方向を深さ方向とする穴を形成する穴形成工程と、を有する。
本発明の製造方法によれば、内部の温度を測定するための穴を有し、熱処理条件の適正化が容易なアモルファス合金磁心を作製することができる。
【００６１】
以下、本発明の製造方法の各工程について説明する。
【００６２】
＜積層体準備工程＞
積層体準備工程は、薄帯が積層されてなり、薄帯の幅方向の一端面及び他端面と、薄帯の積層方向に対して直交する内周面及び外周面と、を有する積層体を準備する工程である。
本工程で準備する積層体は、本発明の製造方法によって製造されるアモルファス合金磁心の主たる構成部材である。
本工程は便宜的な工程であり、積層体を製造する工程であってもよいし、既に製造された積層体を単に準備する工程であってもよい。
【００６３】
また、積層体準備工程は、積層体と、前述した内周面側珪素鋼板及び外周面側珪素鋼板の少なくとも一方と、の複合体を準備する工程であってもよい。
【００６４】
上記積層体や上記複合体を製造する方法については、公知のアモルファス合金磁心の製造方法を適用することができる。
なお、アモルファス合金磁心の製造方法やアモルファス合金磁心の構造については、例えば、日立金属株式会社のホームページ中の”省エネルギー変圧器用アモルファスコアの特長と磁気特性”（インターネット＜ＵＲＬ：http://www.hitachi-metals.co.jp/products/infr/en/pdf/hj-b13-a.pdf＞）を参照することができる。
【００６５】
＜穴形成工程＞
穴形成工程は、積層体の一端面（薄帯の幅方向の一端面）を起点とし、幅方向（薄帯の幅方向）を深さ方向とする穴を形成する工程である。
穴を形成する方法には特に限定はないが、磁心の磁気特性への影響を低減する観点から、積層体の一端面から棒状部材を差し込む方法によって形成する方法が好ましい。この方法では、差し込まれた棒状部材により、薄帯と薄帯との間隔が部分的に押し広げられることによって穴が形成される。
棒状部材の形状としては、尖った先端部を有する棒形状が好適である。この態様では、積層体の一端面に対し、尖った先端部の側から棒状部材を差し込むことができるので、薄帯間の一部を押し広げ易い（即ち、穴を形成し易い）。
棒状部材の材質としては、剛性が高い材質が好ましく、例えば、金属、セラミックス等が挙げられる。
棒状部材の径は、形成しようとする穴の大きさを考慮して適宜選択できるが、例えば、３ｍｍ〜７ｍｍが挙げられる。
【００６６】
＜熱処理工程＞
本発明の製造方法は、更に、前記穴形成工程後の積層体に対し、前記穴の内部の温度を測定しながら熱処理を施す熱処理工程を有することが好ましい。
これにより、熱処理条件の適正化がより容易となる。
【００６７】
穴の内部（即ち、磁心の内部）の温度の測定は、前述のとおり、熱電対等の温度測定手段を用いて行うことができる。
熱電対としては、シース型熱電対が好適である。
熱電対の径は、穴の幅を考慮し、適宜選択できる。
【００６８】
熱処理は、公知の熱処理炉を用いて行うことができる。
熱処理条件は、薄帯の材質、目的とする磁気特性の程度などを考慮し、適宜設定できる。
【００６９】
熱処理条件として、穴の内部（即ち、磁心の内部）の最高到達温度が、３００℃を超えてアモルファス合金の結晶化開始温度よりも１５０℃低い温度ｔｐ以下の範囲である条件が挙げられる。
最高到達温度が３００℃を超えると、薄帯の歪みを除去し易く、また、磁心に優れた磁気特性を付与し易い。
最高到達温度が温度ｔｐ以下であると、薄帯のアモルファス状態を維持しやすく、また、優れた磁気特性が得られやすい。
また、最高到達温度は、３００℃を超えて３７０℃以下としてもよく、３１０℃以上３７０℃以下としてもよい。
【００７０】
ここで、アモルファス合金の結晶化開始温度とは、アモルファス合金薄帯を、示差走査熱量計（ＤＳＣ）で、室温から２０℃／分の条件で昇温した際の発熱開始温度として測定されるものである。
【００７１】
また、熱処理条件としては、上述した好ましい最高到達温度での保持時間が、１時間〜６時間である条件がより好ましい。
上記状態での保持時間が１時間以上であると、磁心ごとの磁気特性のバラツキを抑制できる。
上記状態での保持時間が６時間以下であると、薄帯のアモルファス状態を維持しやすい。
【００７２】
＜樹脂層形成工程＞
本発明の製造方法は、更に、前記熱処理工程後の積層体の前記一端面の少なくとも一部を被覆するとともに前記穴を閉塞する樹脂層を形成する樹脂層形成工程を有することが好ましい。
穴形成工程において穴の内部にアモルファス合金の破砕粉が生じた場合であっても、上記樹脂層により、穴からの破砕粉の飛散を抑制できる。
【００７３】
樹脂層は、例えば、樹脂（好ましくはエポキシ樹脂）及び溶媒を含有する樹脂組成物を塗布することにより、形成することができる。樹脂組成物としては、２液混合型の樹脂組成物を用いることもできる。
【００７４】
本発明の製造方法は、上記以外のその他の工程を有していてもよい。その他の工程としては、アモルファス合金磁心の製造工程として公知の工程が挙げられる。
【実施例】
【００７５】
以下、本発明の実施例を示すが、本発明は以下の実施例に制限されるものではない。【００７６】
＜アモルファス合金薄帯の作製＞
単ロール法により、厚さ２５μｍ、幅１７０ｍｍの長尺状のアモルファス合金薄帯を連続鋳造により作製した。
作製したアモルファス合金薄帯の組成は、Ｆｅ８１．７Ｓｉ２Ｂ１６Ｃ０．３（添え字は、各元素の原子％を表す）である。【００７７】
＜アモルファス合金磁心（コア）の作製＞
上記アモルファス合金薄帯を用いて磁心（コア）を作製した。
磁心（コア）の構成は、内周面側珪素鋼板、上述の積層体１０、及び外周面側珪素鋼板の複合体の構成とした。以下、詳細を説明する。
まず、上記アモルファス合金薄帯を長手方向長さ７００ｍｍに切断した第１合金薄帯を、３０枚準備した。
更に、上記アモルファス合金薄帯を第１合金薄帯の長手方向長さよりも５．５ｍｍ長い長手方向長さとなるように切断した第２合金薄帯を、３０枚準備した。
同様にして、上記アモルファス合金薄帯を第ｎ合金薄帯の長手方向長さよりも５．５ｍｍ長い長手方向長さとなるように切断した第ｎ＋１合金薄帯を、それぞれ３０枚ずつ準備した（ここで、ｎは２〜８４の整数である）。
更に、長手方向長さ１３００ｍｍに切断した方向性珪素鋼板（板厚０．２７ｍｍ、板幅１７０ｍｍ）を準備した。【００７８】
次に、第１〜第８５合金薄帯（それぞれ３０枚）をこの順序で積み重ね、更に、第８５合金薄帯の側に上記方向性珪素鋼板を重ねた。この時、方向性珪素鋼板の幅方向の両端部及び各合金薄帯（合計２５５０枚）の両端部が重なるように積み重ねた。【００７９】
次に、各合金薄帯及び方向性珪素鋼板の位置が動かないように固定した状態のまま、第１合金薄帯３０枚を、これらの長手方向両端部が１５ｍｍ〜２５ｍｍオーバーラップするように環状（トロイダル形状）に曲げた。
次に、第２合金薄帯３０枚を長手方向両端部が１５ｍｍ〜２５ｍｍオーバーラップするように環状に曲げた。
この操作を、第３〜第８４合金薄帯（各々３０枚）についても順次同様にして行った。
次に、第８５合金薄帯３０枚を、長手方向両端部が１０ｍｍ〜２０ｍｍオーバーラップするように環状に曲げた。
次に、最外周となる方向性珪素鋼板を、環状に曲げた第８５合金薄帯３０枚に沿うように、かつ、長手方向両端部がオーバーラップするように環状に曲げ、オーバーラップした長手方向両端部を耐熱テープで固定した。このとき、方向性珪素鋼板がオーバーラップする位置は、第８５合金薄帯３０枚の長手方向両端部が１０〜２０ｍｍオーバーラップする位置とした。
最後に、環状に曲げた第１〜第８４合金薄帯の環の径を、第８５合金薄帯に沿うように広げ、第１〜第８４合金薄帯が全て１０〜２０ｍｍオーバーラップするようにした。
以上により、薄帯が積層されてなる環状の積層体と外周面側珪素鋼板との複合体である、環状の磁心（コア）を得た。【００８０】
得られた環状（トロイダル形状）の磁心を、図１に示すような矩形環状の形状となるように成形治具を用いて成形し固定した。この時、磁心の最内周（第１合金薄帯側）に、内周面側珪素鋼板として、矩形環状の方向性珪素鋼板（板厚０．２７ｍｍ、板幅１７０ｍｍ）をはめ込んだ。【００８１】
以上により、磁心外周の長辺長さ（磁心の長手方向長さ）が４１８ｍｍ、磁心外周の短辺長さ（磁心の長手方向と直交する方向の長さ）が２３６ｍｍである、矩形環状の磁心を得た。
この磁心において、積層体の積層方向の厚さ（図２中の厚さＴ１）と、内周面側珪素鋼板の厚さと、外周面側珪素鋼板の厚さと、の合計は７３ｍｍであった。【００８２】
次に、成形治具によって固定された状態の上記磁心の一端面（磁心の、合金薄帯の幅方向の一端面）の長辺部分における、長辺長さの中心線上（長辺長さを二等分する位置；図２中の中心線Ｃ２上）であり、かつ、積層方向の中心線上（内周面及び外周面から等距離の位置；図２中の中心線Ｃ１上）である位置に、尖った先端部を有する直径５ｍｍ金属棒を磁心の一端面に対して垂直方向に差し込んだ。これにより、薄帯と薄帯との間隔を部分的に押し広げ、熱電対挿入用の穴を形成した。この穴の深さは、８５ｍｍ（薄帯の幅の半分）とした。また、この穴は、上記一端面の側から見たときに、穴の全体が、上記一端面において、内周面の長手方向の一端から他端までの範囲に相当する範囲（図２中、斜線で示した範囲Ｘ１）に含まれている。
以上により、穴が形成された磁心（以下、「コア１」とする）を得た。【００８３】
上述したコア１の作製と同様にして、コアをさらに３つ作製した（以下、「コア２」、「コア３」、及び「コア４」とする）。【００８４】
次に、コア１〜４の各々について、上記金属棒が差し込まれたままの状態で、穴に直径１．６ｍｍのシース型熱電対を差し込み、その後、上記金属棒を抜いた。【００８５】
＜熱処理＞
シース型熱電対が差し込まれ、かつ、成形治具によって固定された状態のコア１〜４を、一つの熱処理炉に入れた。熱処理炉としては、上部に加熱用のヒーターを備え、かつ、内部を空気循環する機構を備えた熱処理炉を用いた。
次に、コア１〜４のそれぞれに熱電対によって穴の内部の温度を測定しながら、コア１〜４について同時に熱処理を行った。
上記熱処理は、各磁心の閉磁路方向に磁束が発生するように各磁心の中心（内周の中心）に導線を配置し、１８００Ａの直流電流を流すことで磁場を発生させ、磁場中で行った。【００８６】
上記熱処理の条件は、下記ステップ１〜ステップ４の操作を順次行う条件とした（後述の図８及び図９参照）。
・ステップ１  …  炉内を空気循環し、炉温３４０℃狙いで昇温し、全ての磁心において、磁心内部の温度（熱電対による測定温度。以下同じ。）が３１０℃以上となった段階でステップ２に移行した。
・ステップ２  …  炉内を空気循環したまま、炉温３３０℃狙いで降温し、全ての磁心において、磁心内部の温度（熱電対による測定温度。以下同じ。）が３１５℃以上となった段階でステップ３に移行した。
・ステップ３  …  炉温３２０℃狙いで降温し、７０分間保持した。
・ステップ４  …  炉温０℃狙いで降温し、ファンを用いて炉内に空気を送った。全ての磁心において、磁心内部の温度が２００℃以下となった段階で、熱処理を終了し、熱処理炉の扉を開き、熱処理炉からコア１〜４を取り出した。【００８７】
熱処理炉からコア１〜４を取り出した後、コア１〜４の各々から熱電対を抜き取った。
コア１〜４において、熱電対の抜き取った後の穴の幅（図３中の幅Ｗｈ）は２．５ｍｍであり、上記穴の長さ（図３中の長さＬｈ）は２０ｍｍであった。【００８８】
＜樹脂塗布硬化＞
コア１の上記一端面の一部（穴を含む領域）にエポキシ樹脂組成物１を塗布し、硬化させてエポキシ樹脂層を形成した。その後、成形治具を取り外した。
エポキシ樹脂組成物としては、明電ケミカル株式会社製の２液混合型のエポキシ樹脂組成物１を用いた。
ここで、エポキシ樹脂組成物１は、下記組成のＡ液及び下記組成のＢ液から構成されている。エポキシ樹脂組成物１において、Ａ液とＢ液との混合質量比（Ａ液：Ｂ液）は、１００：２３であり、Ａ液とＢ液との混合後の粘度（２５℃）は４５Ｐａ・ｓであり、チキソトロピーインデックス値（Ｔ．Ｉ．値）は１．９である。【００８９】
−Ａ液の組成−
Ａ液の組成は、下記成分を合計で１００質量％となるように調整した組成である。
・半固形エポキシ樹脂（CAS No.25068-38-6）  …  ２５〜３５質量％
・側鎖型エポキシ樹脂（CAS No.36484-54-5）  …  ３５〜４５質量％
・シリカ（CAS No.14808-60-7）              …  ２５〜３５質量％
・顔料ほか（CAS No.67762-90-7, 13463-67-7, 1333-86-4）
…  ５質量％未満【００９０】
−Ｂ液の組成（合計で１００質量％）−
・変性脂肪族ポリアミン（CAS No.39423-51-3他）  …  ８１質量％
・イソホロンジアミン（CAS No.2855-13-2）       …  １９質量％【００９１】
＜磁気特性の評価＞
次に、上記のエポキシ樹脂層が形成されたコア１に、１次巻線として断面積２ｍｍ２の導線を１０ターン巻き、２次巻線として上記導線を２ターン巻いて、巻き磁心を得た。
得られた巻き磁心について、１．４Ｔ６０Ｈｚでのコアロス（Ｗ／ｋｇ）及び皮相電力（ＶＡ／ｋｇ）を評価した。
その結果、コアロスは０．２６Ｗ／ｋｇであり、皮相電力は０．４８ＶＡ／ｋｇであった。
このように、上述した条件の熱処理により、コア１に対して良好な磁気特性が付与された。【００９２】
図８は、上記熱処理の条件における、熱処理開始からの経過時間（分（min））と、磁心の温度及び炉の温度との関係を示すグラフであり、図９は、図８の部分拡大図である。
図８及び図９において、コア１〜４は、それぞれ、コア１〜４の内部の温度（熱電対による測定温度）を示し、炉１〜３は、熱処理炉内の３点の温度である。
図８及び図９に示すように、上記熱処理の過程において、コア１〜４の内部の温度のプロファイルはほぼ一致していることが確認された。従って、コア２〜４においても、コア１と同様に、良好な磁気特性を付与するための適正な熱処理が施されたことが確認された。
以上の結果から、コアに熱電対挿入用の穴を設けることにより、コア内部の温度を測定しながら熱処理条件を調整できるという効果、即ち、熱処理条件の最適化を容易に行うことができるという効果が期待される。【００９３】
＜他形状のコア（コア１１）の作製及び評価＞
次に、コア１〜４とは他形状のコア１１の作製及び評価を行った。以下、詳細を示す。
アモルファス合金薄帯の幅、外周側珪素鋼板の板幅、及び内周側珪素鋼板の板幅をそれぞれ１４２ｍｍとし、磁心外周の長辺長さ（磁心の長手方向長さ）を３０２ｍｍとし、磁心外周の短辺長さ（磁心の長手方向と直交する方向の長さ）１６４ｍｍとし、薄帯の枚数を調整することにより積層体の積層方向の厚さ（図２中の厚さＴ１）と内周面側珪素鋼板の厚さと外周面側珪素鋼板の厚さとの合計を５３ｍｍとしたこと以外はコア１の作製と同様にして、コア１１を作製した。
作製されたコア１１について、樹脂塗布硬化におけるエポキシ樹脂組成物の種類を変更したこと以外はコア１と同様にして、熱処理、樹脂塗布硬化、及び磁気特性の評価を行った。【００９４】
コア１１に対する樹脂塗布硬化では、明電ケミカル株式会社製の２液混合型のエポキシ樹脂組成物２を用いた。
エポキシ樹脂組成物２は、下記組成のＡ液及び下記組成のＢ液から構成されている。エポキシ樹脂組成物２において、Ａ液とＢ液との混合質量比（Ａ液：Ｂ液）は、１００：２５であり、Ａ液とＢ液との混合後の粘度（２５℃）は５１Ｐａ・ｓであり、チキソトロピーインデックス値（Ｔ．Ｉ．値）が２．７である。【００９５】
−Ａ液の組成−
Ａ液の組成は、下記成分を合計で１００質量％となるように調整した組成である。
・半固形エポキシ樹脂（CAS No.25068-38-6）  …  ２５〜３５質量％
・側鎖型エポキシ樹脂（CAS No.36484-54-5）  …  ４０〜５０質量％
・シリカ（CAS No.14808-60-7）              …  ２０〜３０質量％
・顔料ほか（CAS No.67762-90-7, 13463-67-7, 1333-86-4）
…  ５質量％未満【００９６】
−Ｂ液の組成（合計で１００質量％）−
・変性脂肪族ポリアミン（CAS No.39423-51-3他）  …  ８１質量％
・イソホロンジアミン（CAS No.2855-13-2）       …  １９質量％【００９７】
磁気特性の評価の結果、コア１１において、コアロスは０．２６Ｗ／ｋｇであり、皮相電力は０．４８ＶＡ／ｋｇであった。
以上のように、コア１に対する熱処理条件は、サイズが異なるコア１１に対しても適正な条件であることが確認された。【００９８】
日本国特許出願２０１４−１９７３４５の開示はその全体が参照により本明細書に取り込まれる。
本明細書に記載された全ての文献、特許出願、及び技術規格は、個々の文献、特許出願、及び技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に参照により取り込まれる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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