(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
非金属材料を含有し互いに反対側に位置する二つの面を有する絶縁部材と、
前記絶縁部材の前記二つの面間を貫通する導電線材と、
前記二つの面のうち一方の面に前記導電線材を囲むように設けられた第１の金属含有層と、
前記第１の金属含有層の直径より大きい直径を有し、前記第１の金属含有層に対向し前記導電線材を囲むとともに前記第１の金属含有層との対向面に第２の金属含有層を有し前記非金属材料を含有する非金属ワッシャと、
前記第１の金属含有層と前記非金属ワッシャとの間で前記第１の金属含有層と前記非金属ワッシャにそれぞれ接し、前記導電線材を囲む接合材と、
を備え、
前記非金属ワッシャの径方向において、前記非金属ワッシャと前記接合材とが接する長さが前記第１の金属含有層と前記接合材とが接する長さより長いことを特徴とする電流導入端子。
【請求項２】
非金属材料を含有し互いに反対側に位置する二つの面を有する絶縁部材と、
前記絶縁部材の前記二つの面間を貫通する導電線材と、
前記二つの面のうち一方の面に前記導電線材を囲むように設けられた第１の金属含有層と、
前記第１の金属含有層に対向し前記導電線材を囲むとともに前記第１の金属含有層との対向面に第２の金属含有層を有し前記非金属材料を含有する非金属ワッシャと、
前記第１の金属含有層と前記非金属ワッシャとの間で前記第１の金属含有層と前記非金属ワッシャにそれぞれ接する間隙と、前記非金属ワッシャの前記絶縁部材との対向面とは反対側の面と、に配置され前記導電線材を囲む接合材と、
を備え、
前記非金属ワッシャの径方向において、前記非金属ワッシャと前記接合材とが接する長さが前記第１の金属含有層と前記接合材とが接する長さより長いことを特徴とする電流導入端子。
【請求項３】
前記非金属ワッシャの直径は、前記第１の金属含有層の直径より大きいことを特徴とする請求項２に記載の電流導入端子。
【請求項４】
前記非金属ワッシャは、前記第１の金属含有層よりも前記接合材との濡れ性が高いことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の電流導入端子。
【請求項５】
前記第１の金属含有層は、連続膜で構成されることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の電流導入端子。
【請求項６】
前記接合材は、前記非金属ワッシャと前記導電線材の間にも位置していることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の電流導入端子。
【請求項７】
前記接合材は、前記絶縁部材と前記導電線材の間にも位置していることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の電流導入端子。
【請求項８】
前記非金属ワッシャは、前記絶縁部材の前記一方の面の側に位置することを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の電流導入端子。
【請求項９】
請求項１乃至８のいずれか１項に記載の電流導入端子と、
前記導電線材に電気的に接続され、加熱により電子を放出する電子放出部と、
を有することを特徴とする電子銃。
【請求項１０】
請求項９に記載の電子銃を備える陰極と、
前記電子銃に対向するターゲットを備える陽極と、
前記陰極と前記陽極との間に位置し、前記陰極及び前記陽極と共に密閉された内部空間を形成する絶縁管と、
を備えることを特徴とするＸ線発生管。
【請求項１１】
前記電流導入端子の前記絶縁部材が前記内部空間の側、前記非金属ワッシャが外部側に位置していることを特徴とする請求項１０に記載のＸ線発生管。
【請求項１２】
互いに反対側に位置する二つの面を有する絶縁部材と、
前記絶縁部材の前記二つの面間を貫通する導電線材と、
前記二つの面のうち一方の面に前記導電線材を囲むように設けられた金属含有層と、
前記金属含有層の直径より大きい直径を有し、前記金属含有層に対向し前記導電線材を囲むワッシャと、
前記金属含有層と前記ワッシャとの間で前記金属含有層と前記ワッシャにそれぞれ接し、前記導電線材を囲む接合材と、
を備え、
前記ワッシャの径方向において、前記ワッシャと前記接合材とが接する長さが前記金属含有層と前記接合材とが接する長さより長く、前記ワッシャは前記金属含有層よりも前記接合材との濡れ性が高いことを特徴とする電流導入端子。
【請求項１３】
互いに反対側に位置する二つの面を有する絶縁部材と、
前記絶縁部材の前記二つの面間を貫通する導電線材と、
前記二つの面のうち一方の面に前記導電線材を囲むように設けられた金属含有層と、前記金属含有層に対向し前記導電線材を囲むワッシャと、
前記金属含有層と前記ワッシャとの間で前記金属含有層と前記ワッシャにそれぞれ接する間隙と、前記ワッシャの前記絶縁部材との対向面とは反対側の面と、に配置され前記導電線材を囲む接合材と、
を備え、
前記ワッシャの径方向において、前記ワッシャと前記接合材とが接する長さが前記金属含有層と前記接合材とが接する長さより長く、前記ワッシャは前記金属含有層よりも前記接合材との濡れ性が高いことを特徴とする電流導入端子。
【請求項１４】
前記ワッシャの直径は、前記金属含有層の直径より大きいことを特徴とする請求項１３に記載の電流導入端子。
【請求項１５】
前記ワッシャは、金属ワッシャ又は前記金属含有層との対向面に金属含有層を有する非金属ワッシャであることを特徴とする請求項１２乃至１４のいずれか１項に記載の電流導入端子。
【請求項１６】
前記金属含有層は、連続膜で構成されることを特徴とする請求項１２乃至１５のいずれか１項に記載の電流導入端子。
【請求項１７】
前記接合材は、前記ワッシャと前記導電線材の間にも位置していることを特徴とする請求項１２乃至１６のいずれか１項に記載の電流導入端子。
【請求項１８】
前記接合材は、前記絶縁部材と前記導電線材の間にも位置していることを特徴とする請求項１２乃至１７のいずれか１項に記載の電流導入端子。
【請求項１９】
前記ワッシャは、前記絶縁部材の前記一方の面の側に位置することを特徴とする請求項１２乃至１８のいずれか１項に記載の電流導入端子。
【請求項２０】
請求項１２乃至１９のいずれか１項に記載の電流導入端子と、
前記導電線材に電気的に接続され、加熱により電子を放出する電子放出部と、
を有することを特徴とする電子銃。
【請求項２１】
請求項２０に記載の電子銃を備える陰極と、
前記電子銃に対向するターゲットを備える陽極と、
前記陰極と前記陽極との間に位置し、前記陰極及び前記陽極と共に密閉された内部空間を形成する絶縁管と、
を備えることを特徴とするＸ線発生管。
【請求項２２】
前記電流導入端子の前記絶縁部材が前記内部空間の側、前記ワッシャが外部側に位置していることを特徴とする請求項２１に記載のＸ線発生管。
【請求項２３】
請求項１０、１１、２１、２２のいずれか１項に記載のＸ線発生管と、
前記Ｘ線発生管から放出され、被検体を透過したＸ線を検出するＸ線検出器と、前記Ｘ線発生管と前記Ｘ線検出器とを連携制御する制御装置と、
を有することを特徴とするＸ線撮影装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、真空外囲器内外を電気的に接続するのに用いられる電流導入端子、該電流導入端子を備えた電子銃、該電子銃を備えたＸ線発生管及び該Ｘ線発生管を備えたＸ線撮影装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
真空外囲器内外を電気的に接続する電流導入端子は、真空外囲器内部に設置した素子の駆動やヒーター類の加熱のための電流の供給の際に使用される。このような電流導入端子は、例えば医療機器、非破壊検査装置等に適用可能なＸ線発生管に用いられている。Ｘ線発生管は、電子銃と、重金属などからなるターゲットとを内包する。電子銃は、電子ビームを制御するための電極、電子を放出する電子放出部を駆動するためのヒーター、電流導入端子等を備えている。また、電流導入端子は、Ｘ線発生管を構成する真空外囲器の一部として構成されているために、真空気密性と耐熱性が必要とされる。電流導入端子は、導電線材と真空外囲器とを電気的に絶縁するため、絶縁部材に導電線材を貫通させた構造となっている。このため、絶縁部材と導電線材間の真空気密性を持たせる必要がある。この手法として、接合材を用いて真空気密性を付与する手法が用いられている。電流導入端子として、例えば特許文献１に開示された従来技術が挙げられる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】アメリカ特許第５９９４９７５号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記接合材を用いて真空気密性を付与する手法では、接合材の固化に伴う収縮に起因する応力により絶縁部材にクラックが生じ、真空気密性を維持できなくなる場合があった。
【０００５】
本発明は、上記接合材に起因する、絶縁部材に加わる応力を低減し、絶縁部材のクラック発生を抑制し、電流導入端子及びこれを用いた装置の信頼性を向上させることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、上記課題を解決するために、
非金属材料を含有し互いに反対側に位置する二つの面を有する絶縁部材と、
前記絶縁部材の前記二つの面間を貫通する導電線材と、
前記二つの面のうち一方の面に前記導電線材を囲むように設けられた第１の金属含有層と、
前記第１の金属含有層の直径より大きい直径を有し、前記第１の金属含有層に対向し前記導電線材を囲むとともに前記第１の金属含有層との対向面に第２の金属含有層を有し前記非金属材料を含有する非金属ワッシャと、
前記第１の金属含有層と前記非金属ワッシャとの間で前記第１の金属含有層と前記非金属ワッシャにそれぞれ接し、前記導電線材を囲む接合材と、
を備え、
前記非金属ワッシャの径方向において、前記非金属ワッシャと前記接合材とが接する長さが前記第１の金属含有層と前記接合材とが接する長さより長いことを特徴とする電流導入端子を提供するものである。
また、本発明は、非金属材料を含有し互いに反対側に位置する二つの面を有する絶縁部材と、
前記絶縁部材の前記二つの面間を貫通する導電線材と、
前記二つの面のうち一方の面に前記導電線材を囲むように設けられた第１の金属含有層と、
前記第１の金属含有層に対向し前記導電線材を囲むとともに前記第１の金属含有層との対向面に第２の金属含有層を有し前記非金属材料を含有する非金属ワッシャと、
前記第１の金属含有層と前記非金属ワッシャとの間で前記第１の金属含有層と前記非金属ワッシャにそれぞれ接する間隙と、前記非金属ワッシャの前記絶縁部材との対向面とは反対側の面と、に配置され前記導電線材を囲む接合材と、
を備え、
前記非金属ワッシャの径方向において、前記非金属ワッシャと前記接合材とが接する長さが前記第１の金属含有層と前記接合材とが接する長さより長いことを特徴とする電流導入端子を提供するものである。
さらに、本発明は、互いに反対側に位置する二つの面を有する絶縁部材と、
前記絶縁部材の前記二つの面間を貫通する導電線材と、
前記二つの面のうち一方の面に前記導電線材を囲むように設けられた金属含有層と、
前記金属含有層の直径より大きい直径を有し、前記金属含有層に対向し前記導電線材を囲むワッシャと、
前記金属含有層と前記ワッシャとの間で前記金属含有層と前記ワッシャにそれぞれ接し、前記導電線材を囲む接合材と、
を備え、
前記ワッシャの径方向において、前記ワッシャと前記接合材とが接する長さが前記金属含有層と前記接合材とが接する長さより長く、前記ワッシャは前記金属含有層よりも前記接合材との濡れ性が高いことを特徴とする電流導入端子を提供するものである。
またさらに、本発明は、互いに反対側に位置する二つの面を有する絶縁部材と、
前記絶縁部材の前記二つの面間を貫通する導電線材と、
前記二つの面のうち一方の面に前記導電線材を囲むように設けられた金属含有層と、前記金属含有層に対向し前記導電線材を囲むワッシャと、
前記金属含有層と前記ワッシャとの間で前記金属含有層と前記ワッシャにそれぞれ接する間隙と、前記ワッシャの前記絶縁部材との対向面とは反対側の面と、に配置され前記導電線材を囲む接合材と、
を備え、
前記ワッシャの径方向において、前記ワッシャと前記接合材とが接する長さが前記金属含有層と前記接合材とが接する長さより長く、前記ワッシャは前記金属含有層よりも前記接合材との濡れ性が高いことを特徴とする電流導入端子を提供するものである。
【０００７】
また、本発明は、
上記電流導入端子と、前記導電線材に電気的に接続された電子放出部又は電子放出部を加熱する加熱部の少なくともいずれか一方とを有することを特徴とする電子銃、
上記電子銃を備える陰極と、前記電子銃に対向するターゲットを備える陽極と、前記陰極と前記陽極との間において前記陰極と前記陽極とに接続される絶縁管とを備えることを特徴とするＸ線発生管、及び、
上記Ｘ線発生管と、前記Ｘ線発生管から放出され、被検体を透過したＸ線を検出するＸ線検出装置と、前記Ｘ線発生管と前記Ｘ線検出装置とを連携制御する制御装置とを有することを特徴とするＸ線撮影装置を提供するものでもある。
【発明の効果】
【０００８】
本発明は、前記ワッシャの径方向における接合材と接する長さを、金属含有層よりワッシャを大きくすることによって、接合材に起因する絶縁部材に加わる応力を低減し、絶縁部材のクラック発生を抑制し、真空気密性を向上させるものである。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】（ａ）は本発明の第１の実施形態に係る電流導入端子の断面図、（ｂ）及び（ｃ）は絶縁部材とワッシャの位置関係の説明図である。
【図２】図１における破線部分の拡大図である。
【図３】図１における破線部分の拡大図を用いた、第１の実施形態での応力発生状態の説明図である。
【図４】本発明の第２の実施形態に係る電流導入端子の断面図である。
【図５】本発明の第３の実施形態に係る電流導入端子の断面図である。
【図６】本発明の第４の実施形態に係る電流導入端子の断面図である。
【図７】（ａ）は本発明に係るＸ線発生管の断面図、（ｂ）は本発明に係る電子銃の断面図である。
【図８】本発明に係るＸ線発生管を用いた本発明に係るＸ線撮影装置を説明する図である。
【図９】特許文献１の電流導入端子の断面図である。
【図１０】図９における破線部分の拡大図を用いた、特許文献１の電流導入端子の応力発生状態の説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
＜第１の実施形態＞
本発明の第１の実施形態を、図１を用いて説明する。図１（ａ）に示される電流導入端子１０１は、絶縁部材１０２、導電線材１０３、金属含有層１０４、ワッシャ１０５、接合材１０６で構成されている。絶縁部材１０２は、互いに反対側に位置する２つの面を有している。絶縁部材１０２は、上記２つの面間に導電線材１０３を貫通させ、この導電線材１０３を保持している。金属含有層１０４は、一方の面の導電線材１０３の周側を囲む領域に設けられている。ワッシャ１０５は、一方の面の側において、金属含有層１０４に対向し、導電線材１０３の周側を囲んで設けられている。接合材１０６は、電流導入端子１０１の導電線材１０３が貫通した構造における真空気密性を確保し、導電線材１０３、ワッシャ１０５及び絶縁部材１０２を互いに固定するために、絶縁部材１０２とワッシャ１０５の間に配置されている。接合材１０６は、金属含有層１０４とワッシャ１０５との間で、金属含有層１０４とワッシャ１０５にそれぞれ接し、導電線材１０３の周側を囲んで設けられている。また、接合材１０６の内周側は導電線材１０３に密着している。
【００１１】
本発明においては、ワッシャ１０５の径方向において、ワッシャ１０５と接合材１０６とが接する長さが金属含有層１０４と接合材１０６とが接する長さより長くなっている。この構成を採用していることにより、接合材１０６に起因する、絶縁部材１０２に加わる応力が減少し、絶縁部材１０２のクラック発生を低減させることができる。効果の理由については後述する。なお、図面では１本の導電線材１０３の付近のみを示しているが、通常、絶縁部材１０２には、必要な耐電圧を確保できる間隔を開けて複数の導電線材１０３が貫通して配置される。また、金属含有層１０４、ワッシャ１０５及び接合材１０６は、各導電線材１０３毎に分けて配置されるものである。なお、１０７〜１０９はそれぞれ接触面を示しており、１０７は金属含有層１０４と接合材１０６の接触面、１０８はワッシャ１０５と接合材１０６の接触面、１０９は絶縁部材１０２と金属含有層１０４の接触面である。
【００１２】
絶縁部材１０２とワッシャ１０５は、図１（ｂ）に示すように、絶縁部材１０２を真空側に位置させ、ワッシャ１０５を大気側に位置させる配置とすることができる。真空側と大気側とは、本発明の電流導入端子１０１を用いて図７に示すＸ線発生管７０１を構成した場合における内部空間７１０側とその外部側をいう。図１（ｂ）に示す絶縁部材１０２とワッシャ１０５の配置とする場合、絶縁部材１０２が、Ｘ線発生管７０１の内部空間７１０を形成する容器の構造部材に気密かつ強固に接続される。内部空間７１０は真空雰囲気（減圧雰囲気）で、外部は大気圧雰囲気である。内部空間７１０とその外部間の差圧がワッシャ１０５（及び導電線材１０３）を、容器の構造部材への絶縁部材１０２の接合部へ押し付けるように働く。このため、この接合部の接合強度の安定性を向上させる点で有利である。
【００１３】
絶縁部材１０２とワッシャ１０５は、図１（ｃ）に示すように、絶縁部材１０２を大気側に位置させ、ワッシャ１０５を真空側に位置させる配置とすることもできる。図１(ｃ)の配置の場合。絶縁部材１０２とワッシャ１０５を接合する接合材１０６が、図７に示すＸ線発生管７０１における内部空間７１０に配置されるため、接合材１０６の腐食抑制等の化学的安定性の点で有利である。なお、例えば図８で説明するＸ線発生装置８０２で用いる絶縁性液体８１２は、その純度の管理が比較的容易である。このＸ線発生装置８０２のＸ線発生管７０１のように、絶縁性液体８１２に浸漬される場合、絶縁性液体８１２の純度を適切に管理することで接合材１０６の化学的安定性を保つことができる。このため、接合部の機械的強度の安定性の重視する場合には、図１（ｂ）の形態とすることが好ましい。
【００１４】
絶縁部材１０２を構成する絶縁性を有する素材としては、例えば金属酸化物、金属窒化物等を用いることができ、例えばアルミナ、ジルコニア、窒化けい素等のセラミックス等から選択可能である。コスト、加工性からは、セラミックス素材の一つであるアルミナが好適に用いられる。絶縁部材１０２と導電線材１０３は、電流導入端子１０１の接合材１０６による接合後の絶縁部材１０２の残留応力を減らすために、熱膨張率が同等又は近い素材で構成することが好ましい。例えば、絶縁部材１０２としてアルミナを用いた場合、アルミナと熱膨張率が近いコバールを導電線材１０３として用いることにより、電流導入端子１０１の接合材１０６による接合後の絶縁部材１０２の残留応力を減らすことができる。絶縁部材１０２の厚さは、導電線材１０３を固定できればよく、３ｍｍ以上１０ｍｍ以下を用いることができ、より好ましくは、４ｍｍ以上７ｍｍ以下である。絶縁部材１０２は、通常、複数の導電線材１０３を貫通させて保持する。絶縁部材１０２の直径は、所望の本数の導電線材１０３を配置した時に、各導電線材１０３の間の耐電圧を確保できる絶縁部材１０２の大きさが得られるものであればよい。例えば、Ｘ線発生管に用いる電子銃の絶縁部材１０２の場合、導電線材１０３の本数によっても異なるが、１５ｍｍ以上２５ｍｍ以下が望ましい。
【００１５】
導電線材１０３を構成する素材は、真空内外を電気的に接続可能な導電材料から選択される。この材料としては、例えば銅、銀、ステンレス、真鍮、タングステン、コバール等から選択可能である。導電線材１０３の直径は、絶縁部材１０２を通して、内部と外部の通電が取れればよいが、例えば電流導入端子１０１を電子銃に用いる場合、電子銃のハンドリングや製造のしやすさ等から、０．２ｍｍ以上１．５ｍｍ以下が望ましい。
【００１６】
金属含有層１０４は、接合材１０６の濡れ性を向上させる目的で設けられる。金属含有層１０４は、同じ絶縁部材１０２に配置される複数の導電線材１０３毎に分けて配置される。金属含有層１０４の形成手段は、連続膜からなるデポジション、イオン打ちこみ等があり、特に、金属含有ペーストを塗布した後に焼成して焼き付け層を形成するメタライズ法が好適である。メタライズ用の金属材料としては、Ｔｉを含む金属やＭｏ−Ｍｎ等が好適に用いられ、メタライズ用の金属材料を絶縁部材１０２の所望の領域に塗工し、その後、不活性化雰囲気で焼成することで金属含有層１０４を形成することができる。金属含有層１０４の厚さは、組成によっても異なるが、概ね０．１〜５μｍが好ましい。
【００１７】
ワッシャ１０５は、同じ絶縁部材１０２に配置される複数の導電線材１０３毎に分けて配置される。ワッシャ１０５の構成材料としては、金属、金属酸化物、金属炭化物、金属窒化物等のセラミックスを用いることができる。金属の場合、コバール、銅、鉄、ステンレス等を用いることができる。セラミックスの場合、アルミナ、ジルコニア、炭化ケイ素等、導電性の有無にかかわらず、所定の強度を有するものを用いることができる。ワッシャ１０５の厚さは、接合材１０６や絶縁部材１０２からの応力を受けるため、所定の強度が必要で、材料によっても異なるが、０．２ｍｍ以上が望ましい。厚さの上限は、強度の観点からはないが、大型化やコストアップ等の問題から、２．０ｍｍ以下が望ましい。より好ましくは、０．５ｍｍ以上１．５ｍｍ以下である。ワッシャ１０５の直径は、金属含有層１０４より大きいことが望ましく、また、中央の開口部を除いて、気密性を保つためには幅１．０ｍｍ以上が望ましい。特性上、この幅に制限はないが、多数の導電線材１０３を配置するためには、実質的に３．０ｍｍ以下が望ましい。また、強度と真空気密性の観点から厚さと直径のアスペクト比が１／２〜１／２０であることが望ましく、より好ましくは、１／５〜１／１０である。
【００１８】
絶縁部材１０２とワッシャ１０５は、電流導入端子１０１の接合材形成後の残留応力を減らすために、熱膨張率が同等又は近い素材で構成することが好ましい。例えば、絶縁部材１０２としてアルミナを用いた場合、ワッシャ１０５にアルミナと熱膨張率が近いコバールを用いると、電流導入端子１０１の接合材形成後の残留応力を減らすことができ、好適に用いられる。また、絶縁部材１０２にアルミナを用いた場合、ワッシャ１０５にはアルミナもしくは、アルミナを含有するセラミックスをより好適に用いることができる。
【００１９】
接合材１０６には、例えば金、銀、銅、錫等を含有する合金からなるろう材を使用することができる。接合材１０６は、ワッシャ１０５や金属含有層１０４の組成に応じて、適宜、選択することができる。ろう材によるろう付けは、固体のろう材料をろう付け箇所に設置し、所定の温度に設定して、一旦ろう材料を溶融させた後、室温に戻した際にそれぞれの材料表面との間を接合させる手法である。接合材と１０６としてろう材を用いる場合、接合材１０６の厚さは、５０μｍ以上５００μｍ以下が望ましく、好適には、８０μｍ以上２００μｍである。接合材１０６は、所望の厚さ、面積になるように、固体の状態で金属含有層１０４とワッシャ１０５の間に配置し、不活性雰囲気下で溶融させることで接合することができる。
【００２０】
接合材１０６の金属含有層１０４とワッシャ１０５に対する濡れの状態を、図２を用いて説明する。図２では、金属含有層１０４の濡れ性よりワッシャ１０５の濡れ性を良くしている。濡れ性の表現方法として接触角を測定する方法があるが、ここでは、濡れ性を接合材１０６の固化後の状態で規定する。接合材１０６は、図２に破線で示す接合材表面２０４で表わされるように、ワッシャ１０５側の接合材先端部（応力集中点Ｂ）２０１と、金属含有層１０４側の接合材先端部２０２とを結んだ直線２０３から、凝固時に僅かに収縮し、内側に入り込んでいる。しかし、この収縮は僅かであるため、実質的に、直線２０３で近似できる。角度θ１は、金属含有層１０４のワッシャ１０５との対向面と直線２０３との交差角、角度θ２は、ワッシャ１０５の金属含有層１０４との対向面と直線２０３との交差角である。ここで、角度θ１＞角度θ２のため、濡れ性は、ワッシャ１０５の方が良い。濡れ性は、材質や僅かな酸化状態、表面の凹凸などにより容易に変化させることができる。
【００２１】
次に、特許文献１の技術と対比しながら本発明の効果について説明する。
【００２２】
特許文献１の電流導入端子を示す図９において、電流導入端子９０１は、絶縁部材９０２、ピン９０３、金属含有層９０４、接合材９０５で構成されている。ここで、特許文献１のピン９０３は、本実施形態の図１の導電線材１０３とワッシャ１０５を一体化させた部材と見なすことができる。なお、特許文献１では接合材９０５は明示されていないが、金属含有層９０４と同様の長さで接合材９０５を補充して配置した図としている。
【００２３】
図１０は、本発明との技術的差異を説明するために、図９の破線で囲った部分を拡大して示したものである。図１０におけるピン９０３は、図１のワッシャ１０５に相当する、ピン９０３のワッシャ部である。以下、図１０における９０３が示す部材を「ピン（ワッシャ部）」と記載する。また、１００５は絶縁部材９０２の応力集中点（応力集中点Ｃ）、１００６はピン（ワッシャ部）９０３の応力集中点（応力集中点Ｄ）を示す。
【００２４】
図１０に示される応力１００１は、絶縁部材９０２がピン（ワッシャ部）９０３から受ける、絶縁部材９０２の応力集中点Ｃ１００５における応力、応力１００２は、絶縁部材９０２が接合材９０５から受ける、応力集中点Ｃ１００５における応力を示している。また、応力１００３は、ピン（ワッシャ部）９０３が絶縁部材９０２から受ける、応力集中点Ｄ１００６における応力、応力１００４は、ピン（ワッシャ部）９０３が接合材９０５から受ける、応力集中点Ｄ１００６における応力を示している。応力１００１は、絶縁部材９０２のピン（ワッシャ部）９０３との対向面に対して垂直方向であり、応力１００２は、絶縁部材９０２のピン（ワッシャ部）９０３との対向面に対して平行方向である。また、応力１００３は、ピン（ワッシャ部）９０３の絶縁部材９０２との対向面に対して垂直方向であり、応力１００４は、ピン（ワッシャ部）９０３の絶縁部材９０２との対向面に対して平行方向である。この図１０で示される各応力１００１，１００２，１００３，１００４は、接合材９０５を溶融させてから固化させて、金属含有層９０４とピン（ワッシャ部）９０３を接合した後の固化時の残留応力として発現する。金属含有層９０４は、０．１〜５μｍ程度と薄いため、応力集中点Ｃ１００５は、絶縁部材９０２の表面に発生する。応力１００１，１００３のベクトルの向きは、接合材９０５のピン（ワッシャ部）９０３及び金属含有層９０４に対する濡れ方で決まる。
【００２５】
絶縁部材９０２にクラックが生じることによる気密性の信頼性低下は、前述したような絶縁部材９０２表面の残留応力（引っ張り応力）に起因する。
【００２６】
次に、本実施形態の効果を、図３を用いて説明する。図３は、図１の破線で囲った部分の拡大図で、図１０と対比した説明図である。図３において、３０５は、直線２０３を絶縁部材１０２の方向に延長した時の絶縁部材１０２のワッシャ１０５との対向面との交点（応力集中点Ａ）である。図３において、応力３０１は、絶縁部材１０２がワッシャ１０５から受ける、応力集中点Ａ３０５における応力、応力３０２は、絶縁部材１０２が接合材１０６から受ける、応力集中点Ａ３０５における応力を示している。応力成分３０１ｘは、絶縁部材１０２がワッシャ１０５より受ける応力３０１のＸ方向の応力成分で、絶縁部材１０２のワッシャ１０５との対向面に対して平行な方向の成分である。応力３０３は、ワッシャ１０５が絶縁部材１０２から受ける、応力集中点Ｂ２０１における応力、応力３０４は、ワッシャ１０５が接合材１０６から受ける、応力集中点Ｂ２０１における応力を示している。応力成分３０３ｘは、ワッシャ１０５が絶縁部材１０２より受ける応力３０３のＸ方向の応力成分で、応力３０３の、ワッシャ１０５の絶縁部材１０２との対向面に対して平行な成分である。図３で示される応力３０１，３０３を示すベクトルの向きは、接合材１０６の金属含有層１０４とワッシャ１０５に対する濡れ性により決まり、ここでは、（金属含有層１０４の濡れ性）＜（ワッシャ１０５の濡れ性）としている。
【００２７】
図３に示すように、Ａ点３０５における絶縁部材１０２の引っ張り応力は、応力３０２より応力成分３０１ｘを差し引いた値となる。したがって、特許文献１の場合と比べて応力が減じられ、絶縁部材１０２のクラック発生を低減できる。
【００２８】
＜第２の実施形態＞
図４に本発明の第２の実施形態を示す。電流導入端子１０１の構成部材は、第１の実施形態と同じであるが、ワッシャ１０５に非金属材料を用い、その絶縁部材１０２との対向面に金属含有層４０１を配置した点が異なる。本実施形態の説明において、絶縁部材１０２のワッシャ１０５との対向面（第１の実施形態における一方の面）に設けた金属含有層を第１の金属含有層１０４、ワッシャ１０５の絶縁部材１０２との対向面に設けた金属含有層を第２の金属含有層４０１とする。
【００２９】
本実施形態の場合、ワッシャ１０５の構成素材として、絶縁部材１０２と熱膨張率が近い非金属材料を用いることができる。非金属材料としては、酸化物、窒化物、炭化物等から選択することができる。例えば、アルミナ、ジルコニア、炭化ケイ素、窒化ケイ素等のセラミックスを用いることができる。
【００３０】
ワッシャ１０５は、少なくとも絶縁部材１０２と同じ非金属材料を含有することがより好ましい。第１の金属含有層１０４と第２の金属含有層４０１の組成は、同じでもよいし、異なっていてもよい。組成が異なっている場合には、第１の金属含有層１０４よりも、第２の金属含有層４０１の接合材１０６に対する濡れ性を高くすることがより好ましい。第２の金属含有層４０１は、第１の金属含有層１０４と同様な方法で形成することができる。
【００３１】
例えば、絶縁部材１０２としてアルミナを用いた場合、ワッシャ１０５の材質はアルミナを含有する非金属材料を含有する材料を選択することができ、より好ましくは、アルミナを用いることができる。これにより、第２の金属含有層４０１の濡れ性をコントロールできるとともに、ワッシャ１０５と絶縁部材１０２の熱膨張率を近づけることができるため、加熱後冷却した時に生じる応力を低減できる。
【００３２】
＜第３の実施形態＞
図５に本発明の第３の実施形態を示す。電流導入端子１０１の構成部材は、第１の実施形態と同じであるが、ワッシャ１０５の直径を、絶縁部材１０２の一方の表面に配置した金属含有層１０４の直径より大きくした点が異なる。金属含有層１０４の直径を規定することにより、金属含有層１０４と接合材１０６が接する長さを決めることができる。
【００３３】
＜第４の実施形態＞
図６に本発明の第４の実施形態を示す。電流導入端子１０１の構成部材は、第１の実施形態と同じであるが、接合材１０６の配置が異なる。具体的には、接合材１０６が、絶縁部材１０２と導電線材１０３の間と、ワッシャ１０５と導電線材１０３の間と、ワッシャ１０５の絶縁部材１０２との対向面とは反対側の導電線材１０３を囲む位置にも配置されている点が異なる。また、金属含有層１０４が、絶縁部材１０２のワッシャ１０５との対向面から、絶縁部材１０２の導電線材１０３との対向面へと連続して回り込んだ状態で設けられている点も異なる。絶縁部材１０２と導電線材１０３の間の接合材１０６は、絶縁部材１０２の導電線材１０３との対向面に設けられた金属含有層１０４と導電線材１０３とに接している。図６において、符号６０１〜６０３は、接合材１０６の一部であって、絶縁部材１０２とワッシャ１０５との間以外の領域に位置する接合材を示す。接合材６０１は絶縁部材１０２と導電線材１０３の間に配置され、接合材６０２はワッシャ１０５と導電線材１０３の間に配置され、接合材６０３はワッシャ１０５の絶縁部材１０２との対向面とは反対側の面の導電線材１０３を囲む領域に配置されている。接合材６０１、接合材６０２及び接合材６０３を全て配置することが最も好ましいが、いずれか１又は２箇所に配置することでもよい。本実施形態の構成をとることにより、クラック発生を低減できるばかりでなく、より強固な気密構造を確保することができる。
【００３４】
＜電子銃＞
図７に、本発明の電流導入端子を用いた、本発明の電子銃及びＸ線発生管の実施形態を示す。
【００３５】
図７（ｂ）は、本発明の電子銃の説明図である。電子銃７０３は、絶縁部材１０２を貫通した複数の導電線材１０３を有する。それぞれの導電線材１０３には、電子放出部７１１、加熱部７１２、第１の制御電極７１３、第２の制御電極７１４、ゲッター７１５が接続され、電子銃７０３を構成している。図７（ｂ）では、電流導入端子１０１の構成部材である、金属含有層１０４、ワッシャ１０５及び接合材１０６は省略されている。
【００３６】
図７（ｂ）は、電子放出部７１１を加熱部７１２によって加熱して電子を取り出す傍熱型の電子放出部７１１を用いた電子銃７０３を例示している。傍熱型の電子放出部７１１には、例えばタングステンにバリウムを含浸させた、含浸型カソードが好適に用いられる。加熱部７１２には、タングステンフィラメントが適用可能である。加熱部７１２に対して、導電線材１０３より電力を供給することが可能である。図示される電子放出部７１１は、傍熱型であるが、直接通電加熱するタングステンフィラメントのような直熱型も使用できる。直熱型を用いると、加熱部７１２が不要となるため、電流導入端子１０１の導電線材１０３の本数を減らすことも可能である。
【００３７】
第１の制御電極７１３は、例えば引き出し電極として機能し、図７（ａ）に示されるＸ線発生管７０１のＸ線照射のオン・オフの制御等に使用できる。
【００３８】
第２の制御電極７１４は、例えば集束電極として機能し、電子線束７０９を集束し、ターゲット７０６の所定の領域に照射する。
【００３９】
ゲッター７１５は、図７（ａ）に示されるＸ線発生管７０１内の真空度を維持するために使用される。ゲッター７１５は、例えば、加熱活性化の後にＸ線発生管７０１内のガス成分を吸着させる非蒸発型タイプや、チタン等の金属を加熱蒸発させることで形成される活性な金属蒸着面にガスを吸着させる蒸発型が適用可能である。非蒸発型のゲッターであれば、ヒーターへの電力の供給、蒸発型のゲッターであれば、金属を蒸発させるための電力の供給に導電線材１０３を使用できる。
【００４０】
また、電流導入端子１０１の導電線材１０３が、電子銃７０３の各構成物へ電気的に接続している。このため、前述した電力の供給以外に、各構成物からの信号の取り出し、図７（ａ）に示されるＸ線発生管７０１を駆動した際に陽極７０５から陰極７０２に流れる電流等を測定することも可能である。
【００４１】
＜Ｘ線発生管＞
図７に、本発明の電流導入端子１０１を用いた、本発明の電子銃及びＸ線発生管の実施形態を示す。
【００４２】
図７（ａ）は、本発明のＸ線発生管の説明図である。Ｘ線発生管７０１は、対向して配置された陽極７０５及び陰極７０２と、この陽極７０５と陰極７０２の間に位置し、両者と共に密閉された内部空間７１０形成する絶縁管７０８とを有している。Ｘ線発生管７０１は、電子銃７０３から放出された電子線束７０９をターゲット７０６に照射することによりＸ線を発生させるように構成されている。このため、ターゲット７０６と電子銃７０３は互いに対向して配置されている。電子線束７０９に含まれる電子は、陽極７０５と陰極７０２と絶縁管７０８で囲まれた内部空間７１０に形成された加速電界により、ターゲット７０６でＸ線を発生させるために必要な入射エネルギーまで加速される。
【００４３】
Ｘ線発生管７０１の内部空間７１０は、電子線束７０９の平均自由行程を確保することを目的として、真空となっている。Ｘ線発生管７０１の内部の圧力は、１０-4Ｐａ以下であることが好ましく、電子放出部７１１の寿命の観点からは、１０-6Ｐａ以下であることがより一層好ましい。係る圧力を達成するためには、予め不図示の排気管及び真空ポンプを用いて真空排気した後、排気管を封止する手段が好適に適用可能である。
【００４４】
陽極７０５は、少なくともターゲット７０６と陽極部材７０７を備え、Ｘ線発生管７０１の陽極電位を規定する電極として機能している。陽極部材７０７は導電性材料からなり、ターゲット７０６と電気的に接続されている。また、陽極部材７０７には、銅、鉄、タングステン、コバールなど金属を用いることができ、絶縁管７０８とろう材などにより接合されている。絶縁管７０８がセラミックスである場合、陽極部材７０７には線膨張係数が近いコバールを好適に用いることができる。
【００４５】
陽極部材７０７は、例えば、ターゲット７０６の周囲を、Ｘ線の照射方向に突出させることで、ターゲット７０６で発生したＸ線の照射領域を制御する機能をもたせてもよい。この場合、陽極部材７０７には、タングステン、タンタル等の重金属を含有させたものを用いることができる。
【００４６】
ターゲット７０６は、不図示のタングステン等の重金属からなるターゲット層と、ターゲット層を保持する不図示の支持基板とから構成されている。ターゲット７０６は、発生したＸ線をＸ線発生管７０１の外に取り出す透過窓の役割を担うと共に、Ｘ線発生管７０１の内部を真空に保つための、真空容器の一部としての機能も有する。
【００４７】
陰極７０２は、少なくとも電子銃７０３と陰極部材７０４とを備え、Ｘ線発生管７０１の陰極電位を規定する電極として機能している。陰極部材７０４は、銅、鉄、タングステン、コバールなど金属を用いることができ、絶縁管７０８とろう材等により接合されている。絶縁管７０８がセラミックスの場合、陰極部材７０４には線膨張係数が近いコバールを好適に用いることができる。電子銃７０３は、図７（ｂ）に示される絶縁部材１０２を、例えばろう材等により、陰極部材７０４に気密に接合することで取り付けられている。
【００４８】
絶縁管７０８は、Ｘ線発生管７０１の陰極電位に規定される陰極７０２と、陽極電位に規定される陽極７０５との間の電気的絶縁を図るために配置されている。絶縁管７０８は、ガラス材料やセラミックス材料等の絶縁性材料で構成されているが、加工性、コスト等により、アルミナが好適に用いられる。
【００４９】
＜Ｘ線発生装置およびＸ線撮影装置＞
図８に、本発明のＸ線発生管を用いたＸ線発生装置及びＸ線撮影装置の実施形態を示す。Ｘ線発生装置８０２は、Ｘ線透過窓８１０を有する収納容器８０８の内部に、Ｘ線発生管７０１及びＸ線発生管７０１を駆動するための電圧制御部８１１を備えている。
【００５０】
電圧制御部８１１により、Ｘ線発生管７０１の陰極７０２と陽極７０５［図７（ａ）参照］の間に管電圧が印加され、ターゲット７０６と電子放出部７１１［図７（ａ）及び（ｂ）参照］の間に電界が形成される。ターゲット７０６が有する不図示のターゲット層の膜厚と金属種に応じて、管電圧を適宜設定することにより、必要な線種を選択することができる。
【００５１】
Ｘ線発生管７０１及び電圧制御部８１１を収納する収納容器８０８は、容器として十分な強度を有し、かつ放熱性に優れたものが望ましく、その構成材料として、例えば真鍮、鉄、ステンレス等の金属材料が用いられる。
【００５２】
絶縁性液体８１２は、収納容器８０８内部のＸ線発生管７０１と電圧制御部８１１以外の余空間に充填されている。絶縁性液体８１２は、電気絶縁性を有する液体で、収納容器８０８内部の電気的絶縁性を維持する役割と、Ｘ線発生管７０１の冷却媒体としての役割を有する。絶縁性液体８１２としては、鉱油、シリコーン油、パーフルオロ系オイル等の電気絶縁油を用いることができる。
【００５３】
本発明のＸ線撮影装置８０１は、図８に示すように、Ｘ線発生装置８０２と、Ｘ線検出器８０３と、信号処理部８０４と、装置制御部８０５と、表示部８０６を備えている。Ｘ線撮影装置８０１は、Ｘ線発生装置８０２で発生したＸ線束８０９を、Ｘ線透過窓８１０を通して、被検体８０７に照射することにより、被検体８０７のＸ線透視画像を撮影することができる。信号処理部８０４は、Ｘ線検出器８０３からの信号処理を行う。装置制御部８０５は、Ｘ線発生装置８０２とＸ線検出器８０３を連携制御する。表示部８０６は、撮影したＸ線投資画像を表示する。
【００５４】
Ｘ線発生装置８０２は、電圧制御部８１１とＸ線発生管７０１を備えている。装置制御部８０５は、電圧制御部８１１を介してＸ線発生管７０１を作動させることでＸ線照射の制御をすると同時に、Ｘ線検出器８０３によるＸ線の検出を制御する。また、信号処理部８０４を介しＸ線検出器８０３からの信号処理も行う。Ｘ線発生装置８０２から放出され、被検体８０７を透過したＸ線は、Ｘ線検出器８０３で検出されることで、被検体８０７のＸ線透過画像が撮影される。撮影されたＸ線透過画像は表示部８０６に表示される。また、装置制御部８０５は、Ｘ線発生装置８０２の駆動において、電圧制御部８１１を介してＸ線発生管７０１に印加される電圧信号を制御して、適正な撮影条件を整える。
【実施例】
【００５５】
＜実施例１＞
本実施例では、図５に示した構成で、導電線材１０３を７本備えた電流導入端子１０１を作製し、係る電流導入端子１０１を用いて図７（ｂ）に示す電子銃７０３を作製した。まず、厚さ５．０ｍｍ、直径２０ｍｍのアルミナの絶縁部材１０２に、直径１．１ｍｍの貫通穴を７箇所開けた。穴を開けた絶縁部材１０２の一方の面の各穴の周囲に、穴の中心対して同心で、外径３ｍｍ、内径が１．２ｍｍの領域にＭｏ−Ｍｎペーストを塗工し、その後、１５００℃の真空雰囲気で焼成して、金属含有層１０４を形成した。絶縁部材１０２に設けた直径１．１ｍｍの穴の中には、コバールの直径１．０ｍｍの導電線材１０３を配置した。
【００５６】
ワッシャ１０５は、外径５ｍｍ、内径１．１ｍｍ、厚さ０．４ｍｍのコバールで作製した。ワッシャ１０５の内径部には、絶縁部材１０２の金属含有層１０４を形成した側に延出している導電線材１０３を通した。
【００５７】
次に、ワッシャ１０５と金属含有層１０４の間に接合材１０６を挟み、係る状態を不図示の冶具で固定した後、真空雰囲気中で８４０℃に保持し、接合材１０６を溶融させる高温ろう付けを行った。ここで接合材１０６は、東洋理研株式会社製のろう材「ＢＡ−１０８」（Ａｇ：７２％、Ｃｕ：２８％）を用いた。
【００５８】
本実施例の電子銃７０３用の電流導入端子１０１は、図７（ｂ）に示すように、加熱部７１２とゲッター７１５用に各２本、第１の制御電極７１３、第２の制御電極７１４、電子放出部７１１用に各１本で、合計７本の導電線材１０３を有する。
【００５９】
加熱部７１２としてタングステンヒータ、ゲッター７１５としてバリウムゲッター、第１の制御電極７１３、第２の制御電極７１４としてリング状のモリブデン、電子放出部７１１として、バリウムをタングステン焼結体に含新させた含浸型カソードを用いた。
【００６０】
これらの電子銃７０３の構成部材を、導電線材１０３に抵抗溶接し、電子銃７０３とした。なお、これらの構成部材を固定するために、不図示の支柱や、絶縁性をとるための不図示の絶縁部材を適宜配置した。
【００６１】
次に、図７（ａ）に示す、上記電子銃７０３を搭載したＸ線発生管７０１を作製した。電子銃７０３の絶縁部材１０２にはクラックの発生が無く、Ｘ線発生管７０１の真空リークに伴う不具合も生じなかった。
【００６２】
次に、図８に示す、上記Ｘ線発生管７０１を備えたＸ線発生装置８０２、このＸ線発生装置８０２を備えたＸ線撮影装置８０１を作製した。電子加速電圧１００ｋＶの設定でＸ線撮影を行ったところ、良好な撮影画像を得ることができた。
【００６３】
絶縁部材１０２、金属含有層１０４、接合材１０６、ワッシャ１０５の接合状態を観察するため、Ｘ線発生管７０１を解体し、電流導入端子１０１の絶縁部材１０２の周辺を切り出した。切り出した試料を樹脂に埋め込み、断面を出して、ＳＥＭ及び光学顕微鏡で観察した。金属含有層１０４の厚さは２．１μｍであった。接合材１０６は厚さが１２０μｍで、金属含有層１０４の端部まで接していた。また、接合材１０６は、ワッシャ１０５の端部まで接していた。実測したところ、図２の角度θ１に相当する角度は１５５°、θ２に相当する角度は２３°であった。また、ワッシャ１０５に反りが生じる等の不具合がないことも確認した。
【００６４】
＜実施例２＞
本実施例においては、実施例１に対して、以下に示す以外は同様の条件で電流導入端子１０１及び電子銃７０３を作製した。本実施例に用いたワッシャ１０５は非金属で、図４に示すように、絶縁部材１０２との対向面に、内径が１．１ｍｍ、外径が３．５ｍｍの第２の金属含有層４０１を配置した。この非金属ワッシャ１０５は、材料として絶縁部材１０２と同じアルミナを用い、第２の金属含有層４０１としては、実施例１で金属含有層（第１の金属含有層）１０４として用いたＭｏ−Ｍｎペーストとした。以上のように、非金属製のワッシャ１０５を用い、このワッシャ１０５の絶縁部材１０２との対向面に第２の金属含有層４０１を配置した以外は、実施例１と同様に電流導入端子１０１を作製した。そして、この電流導入端子１０１を使って、実施例１と同様に、図７（ａ）及び（ｂ）に示す電子銃７０３、Ｘ線発生管７０１、図８に示すＸ線発生装置８０２、Ｘ線撮影装置８０１を作製し、評価したところ、不具合は発生しなかった。
【００６５】
絶縁部材１０２、第１の金属含有層１０４、接合材１０６、ワッシャ１０５及び第２の金属含有層４０１の接合状態を観察するため、Ｘ線発生管７０１を解体し、電流導入端子１０１の絶縁部材１０２の周辺を切り出した。実施例１と同様に切り出した試料を樹脂に埋め込み、断面を出して、ＳＥＭ及び光学顕微鏡で観察した。第１の金属含有層１０４の厚さは２．５μｍであった。第２の金属含有層４０１の厚さは、２．０μｍであった。接合材１０６は厚さが１００μｍで、第１の金属含有層１０４の端部まで接していた。また、接合材１０６は、第２の金属含有層４０１の端部まで接していた。絶縁部材１０２及びワッシャ１０５のアルミナ露出部には、接合材１０６が接していなかった。実測したところ、図２の角度θ１に相当する角度は１３０°、角度θ２に相当する角度は５８°であった。また、ワッシャ１０５に反りや割れが生じる等の不具合がないことも確認した。
【符号の説明】
【００６６】
１０１：電流導入端子、１０２：絶縁部材、１０３：導電線材、１０４：金属含有層（第１の金属含有層）、１０５：ワッシャ、１０６：接合材、１０７〜１０９：接触面、２０１：接合材先端部（応力集中点Ｂ）、２０２：接合材先端部、２０３：直線、２０４：接合材表面、３０１：応力、３０１ｘ：応力成分、３０２：応力、３０３：応力、３０３ｘ：応力成分、３０４：応力、３０５：応力集中点Ａ、４０１：金属含有層（第２の金属含有層）、６０１〜６０３：接合材、７０１：Ｘ線発生管、７０２：陰極、７０３：電子銃、７０４：陰極部材、７０５：陽極、７０６：ターゲット、７０７：陽極部材、７０８：絶縁管、７０９：電子線束、７１０：内部空間、７１１：電子放出部、７１２：加熱部、７１３：第１の制御電極、７１４：第２の制御電極、７１５：ゲッター、８０１：Ｘ線撮影装置、８０２：Ｘ線発生装置、８０３：Ｘ線検出器、８０４：信号処理部、８０５：装置制御部、８０６：表示部、８０７：被検体、８０８：収納容器、８０９：Ｘ線束、８１０：Ｘ線透過窓、８１１：電圧制御部、８１２：絶縁性液体、９０１：電流導入端子、９０２：絶縁部材、９０３：導電線材、９０４：金属含有層、９０５：接合材、１００１〜１００４：応力、１００５：応力集中点Ｃ、１００６：応力集中点Ｄ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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