(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
灌漑用液体を流通させるチューブの内壁面における、前記チューブの内外を連通する吐出口に対応する位置に接合されて前記チューブ内の前記灌漑用液体を前記吐出口から定量的に前記チューブ外に吐出するためのエミッタであって、
前記灌漑用液体を取り入れるための取水部と、
前記取水部に取り入れられた前記灌漑用液体を減圧させながら流す減圧流路を形成するための減圧流路部と、
前記減圧流路から供給された前記灌漑用液体の流量を、前記チューブ内の前記灌漑用液体の圧力に応じて制御するための吐出量調整部と、
前記吐出量調整部から供給された前記灌漑用液体を収容するための、前記吐出口に面するべき吐出部と、を有し、
前記吐出量調整部は、
前記減圧流路と前記吐出部とを連通するための孔と、
前記孔の開口部を囲み、前記開口部から傾斜する凸周面または前記開口部に向けて傾斜する凹周面で構成されている弁座部と、
前記弁座部の表面に形成され、前記弁座部を横断し、前記弁座部の表面からの深さが前記弁座部の頂縁側から底縁側に向けて少なくとも前記弁座部の底縁部で漸次浅くなる溝と、
可撓性を有し、前記チューブ内の前記灌漑用液体の圧力が設定値以上であるときに前記頂縁から前記底縁に向けて漸次密着可能な位置に前記弁座部に対して非接触に配置されているフィルムと、を有する
エミッタ。
【請求項２】
前記凸周面または前記凹周面は、その傾斜角が前記頂縁から前記底縁にかけて断続的に変化する周面で構成されている、請求項１に記載のエミッタ。
【請求項３】
前記凸周面または前記凹周面は、その傾斜角が前記頂縁から前記底縁にかけて連続して変化する周曲面で構成されている、請求項１に記載のエミッタ。
【請求項４】
前記溝の底面は、前記弁座部の前記頂縁側から前記底縁側に向けて傾斜する部分を含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載のエミッタ。
【請求項５】
前記減圧流路部の一部または全部を迂回して前記取水部と前記吐出量調整部の上流側とを連通するバイパス流路を形成するためのバイパス流路部をさらに有し、
前記バイパス流路部は、前記チューブ内の前記灌漑用液体の圧力を受けた前記フィルムが前記バイパス流路を塞ぐように密着可能なさらなる弁座部を含む、
請求項１〜４のいずれか一項に記載のエミッタ。
【請求項６】
前記バイパス流路部は、前記さらなる弁座部に供給された前記灌漑用液体を前記吐出量調整部の上流側に案内するための案内溝をさらに含む、請求項５に記載のエミッタ。
【請求項７】
前記バイパス流路部は、前記灌漑用液体を減圧させながら前記さらなる弁座部に向けて流すさらなる減圧流路を形成するためのさらなる減圧流路部をさらに含む、請求項５または６に記載のエミッタ。
【請求項８】
前記取水部は、前記チューブ内に対して開口するスリットを含むスクリーン部を有する、請求項１〜７のいずれか一項に記載のエミッタ。
【請求項９】
前記吐出部は、前記吐出口からの異物の侵入を防止するための侵入防止部を有する、請求項１〜８のいずれか一項に記載のエミッタ。
【請求項１０】
可撓性を呈する樹脂材料で一体的に成形されている、請求項１〜９のいずれか一項に記載のエミッタ。
【請求項１１】
灌漑用液体を吐出するための吐出口を有するチューブと、
前記チューブの内壁面の前記吐出口に対応する位置に接合している、請求項１〜１０のいずれか一項に記載のエミッタと、
を有する、点滴灌漑用チューブ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、エミッタおよび当該エミッタを有する点滴灌漑用チューブに関する。
【背景技術】
【０００２】
以前から、植物の栽培方法の一つとして点滴灌漑法が知られている。点滴灌漑法とは、植物が植えられている土壌上に点滴灌漑用チューブを配置し、点滴灌漑用チューブから土壌へ、水や液体肥料などの灌漑用液体を滴下する方法である。近年、点滴灌漑法は、灌漑用液体の消費量を最小限にすることが可能であるため、特に注目されている。
【０００３】
点滴灌漑用チューブは、通常、灌漑用液体が吐出される複数の貫通孔が形成されたチューブと、各貫通孔から灌漑用液体を吐出するための複数のエミッタ（「ドリッパ」とも言われる）を有する。また、エミッタの種類としては、チューブの内壁面に接合して使用されるエミッタ（例えば、特許文献１参照）と、チューブに外側から突き刺して使用されるエミッタとが知られている。
【０００４】
特許文献１には、チューブの内壁面に接合されるエミッタが記載されている。特許文献１に記載のエミッタは、灌漑用液体を取り入れるための取水口を有する第１部材と、灌漑用液体を排出するための排出口を有する第２部材と、第１部材および第２部材の間に配置された膜部材とを有する。第１部材の内側には、取水口を取り囲むように配置された弁座部と、減圧流路の一部となる減圧溝とが形成されている。膜部材には、減圧溝の下流端に対応する位置に貫通孔が形成されている。
【０００５】
第１部材、膜部材および第２部材を積層することで、減圧流路が形成されるとともに、膜部材が弁座部に接触して取水口を閉塞する。また、取水口から排出口まで、灌漑用液体が流れる流路が形成される。
【０００６】
特許文献１に記載のエミッタでは、チューブ内の灌漑用液体の圧力が所定の圧力以上となった場合に、取水口を閉塞している膜部材が灌漑用液体によって押し込まれて、灌漑用液体がエミッタ内に流入するようになっている。エミッタ内に流入した灌漑用液体は、減圧流路により減圧されて定量的に排出口から排出される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０１０−０４６０９４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、特許文献１に記載のエミッタを使用した点滴灌漑用チューブでは、チューブ内の灌漑用液体の圧力が所定の圧力以上にならないと、灌漑用液体がエミッタ内に流入しない。このため、チューブ内における灌漑用液体の圧力が極めて低い場合に上記エミッタは機能しないことがある。よって、灌漑用液体をチューブに送るための送液ポンプ近傍のエミッタは適切に機能するが、送液ポンプから離れた位置に配置されたエミッタは適切に機能しないおそれがある。したがって、灌水する位置によって上記エミッタからの灌漑用液体の吐出量が変化し、灌水可能距離が制限されることがある。
【０００９】
また、特許文献１に記載のエミッタでは、灌漑用液体の圧力が上記の所定の圧力からさらに高まると灌漑用液体の吐出量も増加し、上記エミッタからの灌漑用液体の吐出量が所望の流量を超えることがある。このように、灌漑用液体の圧力が高まった場合の上記吐出量の制御の観点から、特許文献１に記載のエミッタには検討の余地が残されている。
【００１０】
本発明の目的は、低圧の灌漑用液体であっても灌漑用液体を定量的に吐出でき、かつ灌漑用液体の圧力が高まった場合の灌漑用液体の吐出量の変動を抑制可能なエミッタおよび点滴灌漑用チューブを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は、灌漑用液体を流通させるチューブの内壁面における、前記チューブの内外を連通する吐出口に対応する位置に接合されて前記チューブ内の前記灌漑用液体を前記吐出口から定量的に前記チューブ外に吐出するためのエミッタであって、前記灌漑用液体を取り入れるための取水部と、前記取水部に取り入れられた前記灌漑用液体を減圧させながら流す減圧流路を形成するための減圧流路部と、前記減圧流路から供給された前記灌漑用液体の流量を、前記チューブ内の前記灌漑用液体の圧力に応じて制御するための吐出量調整部と、前記吐出量調整部から供給された前記灌漑用液体を収容するための、前記吐出口に面するべき吐出部と、を有し、前記吐出量調整部は、前記減圧流路と前記吐出部とを連通するための孔と、前記孔の開口部を囲み、前記開口部から傾斜する凸周面または前記開口部に向けて傾斜する凹周面で構成されている弁座部と、前記弁座部の表面に形成され、前記弁座部を横断し、前記弁座部の表面からの深さが前記弁座部の頂縁側から底縁側に向けて少なくとも前記弁座部の底縁部で漸次浅くなる溝と、可撓性を有し、前記チューブ内の前記灌漑用液体の圧力が設定値以上であるときに前記頂縁から前記底縁に向けて漸次密着可能な位置に前記弁座部に対して非接触に配置されているフィルムと、を有するエミッタ、を提供する。
【００１２】
また、本発明は、灌漑用液体を吐出するための吐出口を有するチューブと、前記チューブの内壁面の前記吐出口に対応する位置に接合している上記のエミッタと、を有する点滴灌漑用チューブ、を提供する。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、低圧の灌漑用液体であっても灌漑用液体を定量的に吐出でき、かつ灌漑用液体の圧力が高まった場合の灌漑用液体の吐出量の変動を抑制可能なエミッタおよび点滴灌漑用チューブを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】図１Ａは、本発明の第１の実施の形態に係る点滴灌漑用チューブの軸に沿う方向の断面図であり、図１Ｂは、上記点滴灌漑用チューブの軸に垂直な方向の断面図である。
【図２】図２Ａは、上記第１の実施の形態に係るエミッタの平面図であり、図２Ｂは、当該エミッタの正面図であり、図２Ｃは、当該エミッタの右側面図である。
【図３】図３Ａは、上記第１の実施の形態に係るエミッタのフィルムが接合する前の平面図であり、図３Ｂは、当該エミッタのフィルムが接合する前の底面図である。
【図４】図４Ａは、上記第１の実施の形態におけるエミッタ本体の、図３ＡにおけるＡ−Ａ線に沿う断面を示す図であり、図４Ｂは、当該エミッタ本体の、図３ＡにおけるＢ−Ｂ線に沿う断面を示す図であり、図４Ｃは、当該エミッタ本体の、図３ＡにおけるＣ−Ｃ線に沿う断面を示す図である。
【図５】図５Ａは、上記第１の実施の形態におけるエミッタ本体の、図３ＡにおけるＤ−Ｄ線に沿う断面を示す図であり、図５Ｂは、当該エミッタ本体の、図３ＢにおけるＥ−Ｅ線に沿う断面を示す図である。
【図６】図６Ａは、上記第１の実施の形態に係る外液圧が十分に低い場合におけるエミッタの、図３ＡにおけるＣ−Ｃ線に沿う断面の一部を概略的に示す図であり、図６Ｂは、外液圧が第１の設定値以上の場合における上記エミッタの、図３ＡにおけるＣ−Ｃ線に沿う断面の一部を概略的に示す図である。
【図７】図７Ａは、上記第１の実施の形態に係る外液圧が第２の設定値以上の場合におけるエミッタの、図３ＡにおけるＣ−Ｃ線に沿う断面の一部を模式的に示す図であり、図７Ｂは、外液圧が第３の設定値以上の場合における上記エミッタの、図３ＡにおけるＣ−Ｃ線に沿う断面の一部を模式的に示す図であり、図７Ｃは、外液圧が第４の設定値以上の場合における上記エミッタの、図３ＡにおけるＣ−Ｃ線に沿う断面の一部を模式的に示す図である。
【図８】図８Ａは、本発明の第２の実施の形態における吐出量調整部の平面図であり、図８Ｂは、当該吐出量調整部の図８ＡにおけるＢ−Ｂ線に沿う断面を示す図である。
【図９】図９Ａは、本発明の第３の実施の形態における吐出量調整部の平面図であり、図９Ｂは、当該吐出量調整部の図９ＡにおけるＢ−Ｂ線に沿う断面を示す図である。
【図１０】図１０Ａは、本発明の第４の実施の形態における吐出量調整部の平面図であり、図１０Ｂは、当該吐出量調整部の図１０ＡにおけるＢ−Ｂ線に沿う断面を示す図である。
【図１１】図１１Ａは、本発明の第５の実施の形態における吐出量調整部の平面図であり、図１１Ｂは、当該吐出量調整部の図１１ＡにおけるＢ−Ｂ線に沿う断面を示す図である。
【図１２】図１２Ａは、本発明の第６の実施の形態における吐出量調整部の平面図であり、図１２Ｂは、当該吐出量調整部の図１２ＡにおけるＢ−Ｂ線に沿う断面を示す図である。
【図１３】図１３Ａは、本発明の第７の実施の形態における吐出量調整部の平面図であり、図１３Ｂは、当該吐出量調整部の図１３ＡにおけるＢ−Ｂ線に沿う断面を示す図であり、図１３Ｃは、当該吐出量調整部の図１３ＡにおけるＣ−Ｃ線に沿う断面を示す図である。
【図１４】図１４Ａは、本発明の第８の実施の形態における吐出量調整部の平面図であり、図１４Ｂは、当該吐出量調整部の図１４ＡにおけるＢ−Ｂ線に沿う断面を示す図であり、図１４Ｃは、当該吐出量調整部の図１４ＡにおけるＣ−Ｃ線に沿う断面を示す図である。
【図１５】図１５Ａは、本発明の第９の実施の形態における吐出量調整部の平面図であり、図１５Ｂは、当該吐出量調整部の図１５ＡにおけるＢ−Ｂ線に沿う断面を示す図であり、図１５Ｃは、当該吐出量調整部の図１５ＡにおけるＣ−Ｃ線に沿う断面を示す図である。
【図１６】図１６Ａは、本発明の第１０の実施の形態における吐出量調整部の平面図であり、図１６Ｂは、当該吐出量調整部の図１６ＡにおけるＢ−Ｂ線に沿う断面を示す図である。
【図１７】図１７Ａは、外液圧が第１の設定値以上の場合における、上記第１０の実施の形態に係るエミッタを図３Ａで示すＣ−Ｃ線で切断したときの当該エミッタの断面の一部を模式的に示す図であり、図１７Ｂは、外液圧が第２の設定値以上の場合における、上記エミッタを図３Ａで示すＣ−Ｃ線で切断したときの当該エミッタの断面の一部を模式的に示す図であり、図１７Ｃは、外液圧が第３の設定値以上の場合における、上記エミッタを図３Ａで示すＣ−Ｃ線で切断したときの当該エミッタの断面の一部を模式的に示す図であり、図１７Ｄは、外液圧が第４の設定値以上の場合における、上記エミッタを図３Ａで示すＣ−Ｃ線で切断したときの当該エミッタの断面の一部を模式的に示す図である。
【図１８】図１８Ａは、本発明の第１１の実施の形態における吐出量調整部の平面図であり、図１８Ｂは、当該吐出量調整部の図１８ＡにおけるＢ−Ｂ線に沿う断面を示す図である。
【図１９】図１９Ａは、本発明の第１２の実施の形態における吐出量調整部の平面図であり、図１９Ｂは、当該吐出量調整部の図１９ＡにおけるＢ−Ｂ線に沿う断面を示す図である。
【図２０】図２０Ａは、本発明の第１３の実施の形態における吐出量調整部の平面図であり、図２０Ｂは、当該吐出量調整部の図２０ＡにおけるＢ−Ｂ線に沿う断面を示す図である。
【図２１】図２１Ａは、本発明の第１４の実施の形態における吐出量調整部の平面図であり、図２１Ｂは、当該吐出量調整部の図２１ＡにおけるＢ−Ｂ線に沿う断面を示す図である。
【図２２】図２２Ａは、本発明の第１５の実施の形態における吐出量調整部の平面図であり、図２２Ｂは、当該吐出量調整部の図２２ＡにおけるＢ−Ｂ線に沿う断面を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
［第１の実施の形態］
以下、本発明に係る第１の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。
【００１６】
図１Ａは、本発明の第１の実施の形態に係る点滴灌漑用チューブ１００の軸に沿う方向における断面図であり、図１Ｂは、点滴灌漑用チューブ１００の軸に垂直な方向における断面図である。点滴灌漑用チューブ１００は、図１Ａおよび図１Ｂに示されるように、チューブ１１０およびエミッタ１２０を有する。
【００１７】
チューブ１１０は、灌漑用液体を流すための管である。チューブ１１０の材料は、特に限定されない。本実施の形態では、チューブ１１０の材料は、ポリエチレンである。チューブ１１０の軸方向に垂直な断面形状および断面積は、チューブ１１０の内部にエミッタ１２０を配置可能な範囲から適宜に決めることができる。チューブ１１０の管壁には、チューブ１１０の軸方向において所定の間隔（例えば、２００〜５００ｍｍ）で灌漑用液体を吐出するための複数の吐出口１１２が形成されている。吐出口１１２の開口部の直径は、灌漑用液体を所望の流量で吐出可能な範囲から適宜に決めることができ、例えば、１．５ｍｍである。チューブ１１０の内壁面の吐出口１１２に対応する位置には、エミッタ１２０がそれぞれ接合される。
【００１８】
エミッタ１２０は、エミッタ本体１３０の凸曲面でチューブ１１０の内壁面に接合している。チューブ１１０へのエミッタ１２０の接合方法には、例えば公知の方法が採用され、当該接合方法の例には、エミッタ１２０またはチューブ１１０を構成する樹脂材料の溶着、融着、および、接着剤による接着、が含まれる。なお、通常、吐出口１１２は、チューブ１１０とエミッタ１２０とを接合した後に形成されるが、接合前に形成されてもよい。
【００１９】
図２Ａは、エミッタ１２０の平面図であり、図２Ｂは、エミッタ１２０の正面図であり、図２Ｃは、エミッタ１２０の右側面図である。エミッタ１２０は、図２Ａから図２Ｃに示されるように、エミッタ本体１３０と、フィルム１４０とを有する。エミッタ本体１３０は、チューブ１１０の内壁面に沿う上記凸曲面（「底面」とも言う）と、その反対側に位置する平面（「上面」とも言う）と、これらの面に形成された凹部および貫通孔とによって構成されている。
【００２０】
エミッタ１２０の大きさおよび形状は、所期の機能を発現可能な範囲において適宜に決めることができる。たとえば、エミッタ１２０の平面形状は、四隅がＲ面取りされた略矩形であり、エミッタ１２０の長辺方向の長さは、２５ｍｍであり、エミッタ１２０の短辺方向の長さは８ｍｍであり、エミッタ１２０の高さは２．５ｍｍである。
【００２１】
図３Ａは、フィルム１４０が接合する前のエミッタ１２０の平面図であり、図３Ｂは、フィルム１４０が接合する前のエミッタ１２０の底面図である。また、図４Ａは、エミッタ本体１３０の、図３ＡのＡ−Ａ線に沿う断面を示す図であり、図４Ｂは、エミッタ本体１３０の、図３ＡのＢ−Ｂ線に沿う断面を示す図であり、図４Ｃは、エミッタ本体１３０の、図３ＡのＣ−Ｃ線に沿う断面を示す図である。さらに、図５Ａは、エミッタ本体１３０の、図３ＡのＤ−Ｄ線に沿う断面を示す図であり、図５Ｂは、エミッタ本体１３０の、図３ＢのＥ−Ｅ線に沿う断面を示す図である。
【００２２】
エミッタ１２０は、図３Ａおよび図３Ｂに示されるように、可撓性を呈する樹脂材料で一体的に成形されている。たとえば、フィルム１４０は、エミッタ本体１３０における一側縁に、ヒンジ部１４１を介してエミッタ本体１３０と一体的に配置されている。フィルム１４０は、ヒンジ部１４１を中心に回動させることによって、上記吐出量調整部および弁座部を覆う位置に配置される。フィルム１４０の厚さは、例えば０．３ｍｍである。
【００２３】
上記のエミッタ本体１３０およびフィルム１４０の一体成形品は、例えば射出成形によって作製される。当該樹脂材料は、エミッタ本体１３０およびフィルム１４０に成形したときに所期の可撓性を呈する樹脂材料であり、その例には、ポリエチレン、ポリプロピレンおよびシリコーンが含まれる。また、上記樹脂材料は、ゴム弾性を有する工業用材料であってもよく、その例には、エラストマーおよびゴムが含まれる。
【００２４】
エミッタ本体１３０は、チューブ１１０内の灌漑用液体を取り入れるための取水部と、当該取水部に取り入れられた灌漑用液体を減圧させながら流す減圧流路を形成するための減圧流路部と、上記減圧流路から供給された灌漑用液体の流量を、チューブ１１０内の灌漑用液体の圧力（単に「外液圧」とも言う）に応じて制御するための吐出量調整部と、上記減圧流路部の下流側の一部を迂回して上記取水部と上記吐出量調整部の上流側とを連通するバイパス流路を形成するためのバイパス流路部と、上記吐出量調整部から供給された灌漑用液体を収容するための、吐出口１１２に面するべき吐出部と、を有する。
【００２５】
上記取水部は、スクリーン部と、当該スクリーン部を通過した灌漑用液体が供給されるスリット１５１と、スリット１５１を通過した灌漑用液体を収容する、エミッタ１２０内の灌漑用液体の流路の一部を形成するための凹部１５２と、を有する。
【００２６】
上記スクリーン部は、上記上面に形成された微細な凹凸であり、大まかには、エミッタ本体１３０の長手方向における上記上面の一端側の縁に沿う、その平面形状が略Ｕ字型の第１の外溝と、当該第１の外溝とエミッタ本体１３０の側方とを連通する第２の外溝と、エミッタ本体１３０の短手方向における中心部から当該短手方向に沿って第１の外溝まで延出する第３の外溝とによって構成されている。第２の外溝は、エミッタ本体１３０の上面の縁に沿う複数の凸部を形成し、第３の外溝は、エミッタ本体１３０の短手方向における中心部から第１の外溝まで延出し、長手方向に並列する細長な複数の凸部を形成している。上記凸部の平面形状における角部は、いずれも適宜に面取りされている。
【００２７】
スリット１５１は、複数の上記第２の外溝に跨がって上記長手方向に沿って形成されており、上記第２の外溝に開口している。凹部１５２は、エミッタ本体１３０の上記底面に形成されており、その平面形状は、上記長手方向に沿って細長の略矩形である。凹部１５２の底にはスリット１５１が開口している。すなわち、スリット１５１は、上記第２の外溝と凹部１５２とを連通している。
【００２８】
上記減圧流路部は、凹部１５２に連なる第１減圧流路部１６１と、エミッタ本体１３０の一端側に配置され、第１減圧流路部１６１に連なる、エミッタ１２０内の灌漑用液体の流路の一部を形成するための凹部１６２と、凹部１６２に連なる第２減圧流路部１６３と、を含む。
【００２９】
第１減圧流路部１６１は、上記底面の一側部に形成された、その平面形状がジグザグ形状の溝である。当該ジグザグ形状は、例えば、第１減圧流路部１６１の両側面から略三角柱形状の凸部が上記長手方向に沿って交互に配置された形状である。当該凸部は、平面視したときに、当該凸部の突端が上記両側面間の中心軸を超えないように配置されている。たとえば、第１減圧流路部１６１の長さは６．５ｍｍであり、第１減圧流路部１６１の深さは０．５ｍｍであり、第１減圧流路部１６１の流路の幅（対向する凸部における対向する側面間の距離）は０．５ｍｍである。
【００３０】
凹部１６２は、上記底面に形成された、その平面形状がエミッタ１２０の短手方向に細長の略矩形の凹部１６２である。凹部１６２の深さは、例えば０．５ｍｍであり、凹部１６２の幅は、例えば１．０ｍｍである。
【００３１】
第２減圧流路部１６３は、エミッタ本体１３０の長手方向に沿って、上記底面の中央部に配置されている。第２減圧流路部１６３は、第１減圧流路部１６１と同様に形成されている。第２減圧流路部１６３の長さは、例えば１３ｍｍである。第２減圧流路部１６３の先端には、孔１６４が開口している。
【００３２】
上記吐出量調整部は、上記上面に形成された円柱状の凹部１７１と、凹部１７１の底面から起立する円柱状の凸部１７２と、凸部１７２の中心に開口し、吐出部に面なる孔１７３と、孔１７３の開口部に向けて傾斜する凹周面で構成されている第１弁座部１７４と、第１弁座部１７４を横切って形成されている溝１７５と、を有する。
【００３３】
また、上記吐出量調整部は、フィルム１４０を含む。フィルム１４０は、可撓性を有し、第１弁座部１７４に対して非接触にかつ密着可能に配置されている。凹部１７１の底には孔１６４が開口している。すなわち、孔１６４は、第２減圧流路部１６３と凹部１７１とを連通している。
【００３４】
第１弁座部１７４は、最も外側に第１傾斜角を有する第１斜面部１７４ａと、第１斜面部１７４ａの内周側に隣接する第２傾斜角を有する第２斜面部１７４ｂと、第２斜面部１７４ｂの内周側に隣接する第３傾斜角を有する第３斜面部１７４ｃとによって構成されている。第１傾斜角から第３傾斜角は、この順で大きくなり、たとえば、第１傾斜角は７°であり、第２傾斜角は１５°であり、第３傾斜角は３０°である。このように、第１弁座部１７４は、その頂縁からその底縁にかけてその傾斜角が断続的に変化する周面で構成されている。なお、「傾斜角」とは、孔１７３の軸に直交する平面に対して上記斜面部がなす角度である。
【００３５】
溝１７５は、一定の幅と平らな底面とを有している。ここで、「平らな」とは、孔１７３の軸に直交する方向に沿うことを言う。このように、溝１７５は、第１弁座部１７４の表面に、第１弁座部１７４を横断し、かつ第１弁座部１７４の頂縁から底縁に向けて漸次浅くなるように形成されている。溝１７５の幅は、例えば０．４ｍｍである。また、溝１７５の深さは、最深部（第１弁座部１７４の外周縁（頂縁））で０．３ｍｍであり、最浅部（第１弁座部１７４の内周縁（底縁））で０．０７ｍｍである。
【００３６】
上記バイパス流路部は、エミッタ本体１３０の底面側には、凹部１６２に連なる第３減圧流路部１８１と、第３減圧流路部１８１に連なる、連絡流路を形成するための溝１８２と、を含む。第３減圧流路部１８１は、エミッタ本体１３０の他側部に、上記長手方向に沿って形成されている。第３減圧流路部１８１は、第１減圧流路部１６１と同様に形成されている。第３減圧流路部１８１の長さは、例えば１４．５ｍｍである。
【００３７】
溝１８２は、第３減圧流路部１８１の先端に連なっており、溝１８２の底から起立する複数の円柱状の突起１８３を含む。溝１８２の先端部には、孔１８４が開口している。
【００３８】
上記バイパス流路部は、エミッタ本体１３０の上面側には、当該上面から窪んで形成されている第２弁座部１８５と、案内溝１８６とを有する。第２弁座部１８５は、その平面形状が円形のすり鉢状の窪みである。第２弁座部１８５は、その外縁が凹部１７１と接している。第２弁座部１８５は、底面を有し、当該底面は、その平面形状が円形の平面である。このように、第２弁座部１８５は、エミッタ本体１３０の上記上面から上記底面までの深さを有し、第２弁座部１８５の当該深さは、エミッタ本体１３０の上記上面から第１突条１７４の頂部までの深さよりも浅い。上記底面には、孔１８４が開口している。すなわち、孔１８４は、溝１８２と第２弁座部１８５とを連通している。
【００３９】
案内溝１８６は、上記底面の外縁に連なり、第２弁座部１８５と凹部１７１とを連通している。案内溝１８６の幅は一定であり、例えば０．６ｍｍである。案内溝１８６のエミッタ本体１３０の上面からの深さは、一定であり、第２弁座部１８５の深さと同じである。
【００４０】
上記吐出部は、エミッタ本体１３０の底面に形成された凹部１９１と、凹部１９１の底面から起立する主突条１９２および副突条１９３と、を有する。凹部１９１の平面形状は略矩形である。凹部１９１の縁部における、エミッタ本体１３０の短手方向の中央部には、孔１７３が開口している。すなわち、孔１７３は凹部１７１と凹部１９１とを連通している。
【００４１】
主突条１９２および副突条１９３は、いずれも、エミッタ本体１３０の底面からの凹部１９１の深さと同じ高さを有する。主突条１９２は、凹部１９１の側面からエミッタ本体１３０の短手方向に沿って延出し、エミッタ本体１３０の長手方向に沿って見たとき孔１７３と重なる位置に配置されている。副突条１９３は、主突条１９２の先端と凹部１９１の側面との間であってそのいずれにも非接触の位置に配置されている。
【００４２】
なお、エミッタ本体１３０の上面には、肉抜き用の凹部１９９が形成されている。
【００４３】
エミッタ１２０は、ヒンジ部を軸にフィルム１４０を回動させ、エミッタ本体１３０の上記上面に接合させることにより構成される。エミッタ本体１３０へのフィルム１４０の接合方法には、公知の種々の方法を採用することができ、その例には、フィルム１４０の溶着、融着、および接着剤による接着が含まれる。エミッタ本体１３０へのフィルム１４０の接合により、上記吐出量調整部における凹部１７１および上記バイパス流路部における第２弁座部１８５は、それらの上端縁でそれぞれフィルム１４０によって塞がれ、灌漑用液体の流路となる空間を形成する。以後、フィルム１４０における凹部１７１を塞ぐ部分を第１ダイヤフラム部１４２（図２Ａ参照）とも言い、フィルム１４０における第２弁座部１８５を塞ぐ部分を第２ダイヤフラム部１４３（図２Ａ参照）とも言う。
【００４４】
なお、ヒンジ部１４１は、エミッタ本体１３０にフィルム１４０を接合させた後にエミッタ１２０から切り離してもよい。また、フィルム１４０は、エミッタ本体１３０とは別の部材であってもよく、このような別体のフィルム１４０をエミッタ本体１３０に接合させることによってエミッタ１２０を構成してもよい。
【００４５】
エミッタ１２０は、例えばチューブ１１０の成形時に所望の位置に融着させることによって、チューブ１１０の内壁面における所定の位置に配置することができる。こうして、点滴灌漑用チューブ１００が構成される。エミッタ１２０がチューブ１１０の内壁面に接合されることにより、エミッタ本体１３０の上記底面がチューブ１１０で塞がれる。その結果、上記取水部における凹部１５２は、スリット１５１を通過した灌漑用液体が収容される、エミッタ１２０内の灌漑用液体の流路の一部となる。
【００４６】
また、上記減圧流路部における第１減圧流路部１６１、凹部１６２および第２減圧流路部１６３は、上記取水部に取り入れられた灌漑用液体を減圧させながら上記吐出量調整部へ流すための減圧流路となる。また、上記バイパス流路部における第３減圧流路部１８１は、上記取水部に取り入れられた灌漑用液体を減圧させながら第２弁座部１８５に流すためのさらなる減圧流路となり、上記バイパス流路部における溝１８２は、当該さらなる減圧流路と第２弁座部１８５とを連通する連絡流路となり、こうして、上記バイパス流路部は、上記減圧流路部の下流側の一部を迂回して上記取水部と上記吐出量調整部の上流側とを連通するバイパス流路となる。
【００４７】
さらに、上記吐出部における凹部１９１は、上記吐出量調整部から供給された灌漑用液体を収容するための空間を形成し、主突条１９２および副突条１９３は、その頂部がチューブ１１０と接合して、吐出口１１２からの異物の侵入を防止するための侵入防止部となる。なお、上記吐出量調整部の凸部１７２における孔１７３は、凹部１７１および孔１６４を介して、当該減圧流路と上記吐出部とを連通している。
【００４８】
次に、点滴灌漑用チューブ１００における灌漑用液体の流れを大まかに説明する。まず、チューブ１１０内に灌漑用液体が送液される。灌漑用液体の例には、水、液体肥料、農薬およびこれらの混合液が含まれる。点滴灌漑用チューブ１００へ送液される灌漑用液体は、例えば、点滴灌漑法の簡易な実施の観点およびチューブ１１０およびエミッタ１２０の破損を防止する観点から、０．１ＭＰａ以下の圧力でチューブ１１０に供給される。
【００４９】
チューブ１１０内の灌漑用液体は、上記スクリーン部における上記第１から第３の外溝を通り、エミッタ１２０内に供給される。灌漑用液体中の浮遊物は、上記スクリーン部における凹凸によって捕集され、このような浮遊物が除去された灌漑用液体がスリット１５１を通過する。
【００５０】
なお、上記第１から第３の外溝の形状を、深くなるほど幅広になる形状に形成して、上記凹凸をいわゆるウェッジワイヤー構造によって構築すると、エミッタ１２０への灌漑用液体の取り込みによる液体の圧力損失をより抑制することが可能である。
【００５１】
エミッタ１２０内に供給された灌漑用液体は、第１減圧流路部１６１による減圧流路を減圧しながら通過する。そして、当該灌漑用液体は、一方では第２減圧流路部１６３による減圧流路を減圧しながら通過して孔１６４を介して上記吐出量調整部の凹部１７１に供給され、他方では第３減圧流路部１８１によるさらなる減圧流路を減圧しながら通過し、上記連絡通路および孔１８４を介して第２弁座部１８５に供給される。
【００５２】
上記吐出量調整部における凹部１７１に供給された灌漑用液体は、凹部１７１を満たし、凸部１７２上の第１弁座部１７４を超え、また溝１７５を通り、孔１７３を通って上記吐出部に供給される。他方、第２弁座部１８５に供給された灌漑用液体は、案内溝１８６を通り、凹部１７１に供給され、最終的に孔１７３を通って上記吐出部に供給される。
【００５３】
上記吐出部に供給された灌漑用液体は、凹部１９１に開口しているチューブ１１０の吐出口からチューブ１１０の外へ吐出される。
【００５４】
次に、上記外液圧による上記バイパス流路および上記吐出量調整部における灌漑用液体の流量の制御を説明する。図６Ａは、外液圧が十分に低い場合におけるエミッタ１２０の、図３ＡのＣ−Ｃ線に沿う断面の一部を概略的に示す図であり、図６Ｂは、外液圧が第１の設定値以上の場合におけるエミッタ１２０の、図３ＡのＣ−Ｃ線に沿う断面の一部を概略的に示す図である。また、図７Ａは、外液圧が第２の設定値以上の場合におけるエミッタ１２０の図３ＡのＣ−Ｃ線に沿う断面の一部を模式的に示す図であり、図７Ｂは、外液圧が第３の設定値以上の場合におけるエミッタ１２０の図３ＡのＣ−Ｃ線に沿う断面の一部を模式的に示す図であり、図７Ｃは、外液圧が第４の設定値以上の場合におけるエミッタ１２０の図３ＡにおけるＣ−Ｃ線に沿う断面の一部を模式的に示す図である。
【００５５】
外液圧が十分に低い場合（例えば０．０１ＭＰａの場合）では、第１ダイヤフラム部１４２および第２ダイヤフラム部１４３は、いずれも、撓まないか、あるいはわずかに撓み、図６Ａに示されるように、吐出量調整部の凸部１７２および孔１７３、ならびにバイパス流路の孔１８４のいずれもが開いている。よって、吐出量調整部の凹部１７１には、減圧流路からの灌漑用液体と、バイパス流路からの灌漑用液体の両方が供給され、孔１７３から吐出部に供給され、吐出口１１２から吐出される。バイパス流路からの灌漑用液体は、第２弁座部１８５から案内溝１８６を通って円滑に凹部１７１に供給される。外液圧が高まると、フィルム１４０の第１ダイヤフラム部１４２および第２ダイヤフラム部１４３は、外液圧を受けて徐々に撓み、凸部１７２および第２弁座部１８５に接近していく。
【００５６】
外液圧が第１の設定値（例えば０．０３ＭＰａ）まで高まると、第１ダイヤフラム部１４２および第２ダイヤフラム部１４３は、いずれもより大きく撓む。上記バイパス流路では、第２弁座部１８５は、吐出量調整部の第１弁座部１７４よりも浅い位置にあるので、第２ダイヤフラム部１４３は、図６Ｂに示されるように、第２弁座部１８５に密着し、孔１８４は第２ダイヤフラム部１４３によって塞がれる。このため、バイパス流路が閉じられ、バイパス流路から凹部１７１への灌漑用液体の供給が停止する。よって、凹部１７１には、減圧流路からの灌漑用液体のみが供給され、吐出口１１２からは、減圧流路から供給される量の灌漑用液体のみが吐出される。
【００５７】
上記吐出量調整部では、第１ダイヤフラム部１４２は、図６Ｂに示されるように、第１弁座部１７４に接近するが非接触である。よって、外液圧が第１の設定値の場合は、前述したように、バイパス流路が塞がれることによる灌漑用液体の流量の調整のみが行われる。外液圧が第１の設定値からさらに高まると、減圧流路における灌漑用液体の流量が増加し、第１ダイヤフラム部１４２と第１弁座部１７４との間から孔１７３に流入する灌漑用液体の流量が増加する。
【００５８】
外液圧が第２の設定値（例えば０．０５ＭＰａ）まで高まると、第１ダイヤフラム部１４２はより大きく撓み、また、第１弁座部１７４において、第１斜面部１７４ａは最も高い位置にあることから、第１ダイヤフラム部１４２は、図７Ａに示されるように、第１弁座部１７４の第１斜面部１７４ａに密着し、溝１７５は、溝１７５および第１ダイヤフラム部１４２に囲まれた流路（以下、「微細流路」とも言う）を形成する。凹部１７２内の灌漑用液体は、当該微細流路を通り、孔１７３に到達する。
【００５９】
第１斜面部１７４ａは、孔１７３に向けて下方に傾斜していることから、第１ダイヤフラム部１４２は、外液圧が高まるに連れて、第１斜面部１７４ａにより一層密着し、上記微細流路は徐々に長くなり、その孔１７３側の開口部は徐々に狭くなる。このように、外液圧が第２の設定値以上になると、上記吐出量調整部からの灌漑用液体の流量は、上記微細流路の開口面積に応じた流量に制御され、最終的に吐出口１１２からは、上記開口面積に応じた流量の灌漑用液体のみが吐出される。
【００６０】
ところで、上記外液圧が上記第２の設定値からさらに高まると、エミッタ１２０に取り入れられる灌漑用液体の量が増え、凹部１７１への灌漑用液体の流量が増え、孔１７３に流入すべき灌漑用液体の量が増える。一方で、上記微細流路の開口面積は、外液圧の増加および第１斜面部１７４ａの第１傾斜角に応じた速度で減少する。その結果、外液圧の上昇による灌漑用液体の流量の増加は、第１斜面部１７４ａにおける上記微細流路の開口面積の減少による灌漑用液体の流量の減少によって相殺される。したがって、外液圧が第２の設定値からさらに上昇しても、孔１７３に供給される灌漑用液体の流量が所期の流量に保たれ、よって、灌漑用液体は、当該所期の流量で吐出口１１２から吐出される。
【００６１】
外液圧が第３の設定値（例えば０．１６ＭＰａ）まで高まると、第１ダイヤフラム部１４２は、さらに大きく撓み、図７Ｂに示されるように、第１弁座部１７４に密着する。第１弁座部１７４の表面には溝１７５が形成されていることから、凹部１７１中の灌漑用液体は、溝１７５を経て孔１７３に到達する。吐出量調整部からの灌漑用液体の流量は、第１ダイヤフラム部１４２によって塞がれている溝１７５の開口面積に応じて溝１７５を通過可能な量に調整され、最終的に吐出口１１２からは、溝１７５を通過する量の灌漑用液体のみが吐出される。
【００６２】
外液圧が第３の設定値からさらに高まると、上記微細流路はさらに長くなり、上記微細流路の開口面積はさらに小さくなる。第２斜面部１７４ｂの第２傾斜角は、第１斜面部１７４ａの第１傾斜角よりも大きいので、上記開口面積の減少速度もより大きくなる。その結果、外液圧のさらなる上昇による灌漑用液体の流量の増加は、第２斜面部１７４ｂにおける上記微細流路の開口面積のさらなる減少による灌漑用液体の流量の減少によって相殺される。したがって、外液圧が第３の設定値からさらに上昇しても、孔１７３に供給される灌漑用液体の流量が所期の流量に保たれ、よって、灌漑用液体は、当該所期の流量で吐出口１１２から吐出される。
【００６３】
外液圧が第４の設定値（例えば０．２ＭＰａ）まで高まると、第１ダイヤフラム部１４２は、第１弁座部１７４に向けてより一層押され、図７Ｃに示されるように、第３斜面部１７４ｃにさらに密着する。そして、外液圧が第４の設定値からさらに高まると、上記微細流路はさらに長くなり、上記微細流路の開口面積はさらに小さくなる。第３斜面部１７４ｃの第３傾斜角は、第２斜面部１７４ｂの第２傾斜角よりもさらに大きいので、上記開口面積の減少速度もさらに大きくなる。その結果、外液圧のさらなる上昇による灌漑用液体の流量の増加は、第３斜面部１７４ｃにおける上記微細流路の開口面積のさらなる減少による灌漑用液体の流量の減少によって相殺される。したがって、外液圧が第４の設定値からさらに上昇しても、孔１７３に供給される灌漑用液体の流量が所期の流量に保たれ、よって、灌漑用液体は、当該所期の流量で吐出口１１２から吐出される。
【００６４】
第１ダイヤフラム部１４２が第３斜面部１７４ｃの全体に密着すると、上記微細流路の開口面積は最小となる。このように、弁座部とは、フィルムが外液圧によって密着可能な部分である。その後、外液圧がさらに高まると、減圧流路における灌漑用液体の流量がさらに増加し、上記微細流路を通過する灌漑用液体の流量は漸次微増する。
【００６５】
このように、エミッタ１２０は、圧力が十分に低い灌漑用液体であれば、バイパス流路および減圧流路の両方を通過する量で吐出口１１２から吐出し、圧力が十分に高い灌漑用液体であれば、溝１７５を通過する量のみで吐出口１１２から吐出する。上記微細流路の開口面積は、第１ダイヤフラム部１４２が第１斜面部１７４ａに密着する場合では第１傾斜角に応じた速度で、第２斜面部１７４ｂに密着する場合では第２傾斜角に応じた速度で、そして、第３斜面部１７４ｃに密着する場合では第３傾斜角に応じた速度で、それぞれ減少する。このように、エミッタ１２０は、外液圧の上昇に伴う灌漑用液体の流量の増加を、吐出量調整部において三回、バイパス流路を含めると四回抑制する機構を有する。よって、エミッタ１２０は、より高い外液圧まで灌漑用液体の吐出量を所望の量に調整することができる。
【００６６】
以上の説明から明らかなように、エミッタ１２０は、チューブ１１０の内壁面における吐出口１１２に対応する位置に接合されてチューブ１１０内の灌漑用液体を吐出口１１２から定量的にチューブ１１０外に吐出するためのエミッタである。そして、チューブ１１０内の灌漑用液体を取り入れるための取水部と、取水部に取り入れられた灌漑用液体を減圧させながら流す減圧流路を形成するための減圧流路部と、減圧流路から供給された灌漑用液体の流量を、チューブ１１０内の灌漑用液体の圧力に応じて制御するための吐出量調整部と、吐出量調整部から供給された灌漑用液体を収容するための、吐出口１１２に面するべき吐出部と、を有する。さらに、上記吐出量調整部は、上記減圧流路と上記吐出部とを連通するための孔１７３と、孔１７３の開口部を囲み、当該開口部に向けて傾斜する凹周面で構成されている第１弁座部１７４と、第１弁座部１７４の表面に形成され、第１弁座部１７４を横断し、第１弁座部１７４の表面からの深さが第１弁座部１７４の頂縁から底縁に向けて漸次浅くなる溝１７５と、可撓性を有するとともに外液圧が設定値以上であるときに上記頂縁から上記底縁に向けて漸次密着可能な位置に第１弁座部１７４に対して非接触に配置されているフィルム１４０と、を有する。よって、低圧の灌漑用液体であっても灌漑用液体を定量的に吐出でき、かつ灌漑用液体の圧力が高まった場合の灌漑用液体の吐出量の変動を抑制可能である。
【００６７】
また、上記凹周面が、その傾斜角が上記頂縁から上記底縁にかけて傾斜角が断続的に変化する周面で構成されていることは、高圧時の灌漑用液体の流量を抑制する観点およびそのような流量の調整機構を簡易に構築する観点からより一層効果的である。
【００６８】
また、エミッタ１２０が、減圧流路部の一部または全部を迂回して取水部と吐出量調整部の上流側とを連通するバイパス流路を形成するためのバイパス流路部をさらに有し、当該バイパス流路部が、チューブ１１０内の灌漑用液体の圧力を受けたフィルム１４０がバイパス流路を塞ぐように密着可能な第２弁座部１８５を含むことは、低圧時における灌漑用液体の吐出量を多くする観点からより一層効果的である。
【００６９】
また、バイパス流路部が、第２弁座部１８５に供給された灌漑用液体を上記吐出量調整部の上流側に案内するための案内溝１８６をさらに含むことは、バイパス流路から吐出量調整部へ灌漑用液体を円滑に供給する観点からより一層効果的である。
【００７０】
また、バイパス流路部が、灌漑用液体を減圧させながら第２弁座部１８５に向けて流すさらなる減圧流路を形成するためのさらなる減圧流路部（第３減圧流路部１８１）をさらに含むことは、より高い外液圧の灌漑用液体の吐出に適用させる観点からより一層効果的である。
【００７１】
また、上記取水部が、チューブ１１０内に対して開口するスリット１５１を含む上記スクリーン部を有することは、灌漑用液体中の浮遊物によるエミッタ１２０内部の流路の目詰まりを防止する観点からより一層効果的である。
【００７２】
また、上記吐出部が、吐出口１１２からの異物の侵入を防止するための侵入防止部を有することは、当該異物の侵入によるエミッタ１２０内部の流路の閉塞およびエミッタ１２０の破損を防止する観点からより一層効果的である。
【００７３】
また、エミッタ１２０が可撓性を呈する樹脂材料で一体的に成形されていることは、組み立て精度が高まり、また組み立てが容易になることから、エミッタ１２０の生産性を高める観点からより一層効果的である。
【００７４】
また、点滴灌漑用チューブ１００は、灌漑用液体を吐出するための吐出口１１２を有するチューブ１１０と、チューブ１１０の内壁面の吐出口１１２に対応する位置に接合しているエミッタ１２０とを有する。よって、低圧の灌漑用液体であっても灌漑用液体を定量的に吐出でき、かつ灌漑用液体の圧力が高まった場合の灌漑用液体の吐出量の変動を抑制可能である。
【００７５】
［第２の実施の形態］
本発明の第２の実施の形態に係るエミッタ２２０を図８Ａおよび図８Ｂに示す。図８Ａは、エミッタ２２０のエミッタ本体２３０における吐出量調整部の平面図であり、図８Ｂは、当該吐出量調整部の図８ＡにおけるＢ−Ｂ線に沿う断面を示す図である。エミッタ２２０は、図８Ａおよび図８Ｂに示されるように、その底面が平らな溝１７５に代えて溝２７５を有する以外は、エミッタ１２０と実質的に同様に構成されている。溝２７５の底面は、二段の平面とそれを繋げるテーパ面とから構成されている。すなわち、溝２７５の底面は、最も外側かつ最も低い位置の第１平面２７５ａと、第１平面２７５ａから上方に傾斜しているテーパ面２７５ｂと、テーパ面２７５ｂに連なる第２平面２７５ｃとから構成されている。
【００７６】
エミッタ２２０は、溝２７５と第１ダイヤフラム部１４２とが形成する微細流路の漸次伸長に伴う当該微細流路の開口面積の減少の度合いが、エミッタ１２０におけるそれに比べてより大きい。よって、エミッタ２２０は、第１の実施の形態の効果に加えて、高圧時における灌漑用液体の吐出量を抑制する観点からより一層効果的である。
【００７７】
［第３の実施の形態］
本発明の第３の実施の形態に係るエミッタ３２０を図９Ａおよび図９Ｂに示す。図９Ａは、エミッタ３２０のエミッタ本体３３０における吐出量調整部の平面図であり、図９Ｂは、当該吐出量調整部の図９ＡにおけるＢ−Ｂ線に沿う断面を示す図である。エミッタ３２０は、図９Ａおよび図９Ｂに示されるように、第１弁座部１７４に代えて単一のテーパ面で構成されている第１弁座部３７４を有する以外は、エミッタ１２０と実質的に同様に構成されている。第１弁座部３７４は、その断面形状が、第１弁座部３７４の頂縁（外縁）側から底縁（孔１７３）側に向けて下方に傾斜する直線となるテーパ面で形成されている。
【００７８】
エミッタ３２０は、溝１７５と第１ダイヤフラム部１４２とが形成する微細流路の漸次伸長に伴う当該微細流路の開口面積の減少の度合いが一定である。よって、エミッタ３２０は、第１弁座部１７４による高圧時の灌漑用液体の流量を抑制する効果を除いて第１の実施の形態の効果と同じ効果を奏し、加えて、上記吐出量調整部を簡易に構築する観点からさらに一層効果的である。
【００７９】
［第４の実施の形態］
本発明の第４の実施の形態に係るエミッタ４２０を図１０Ａおよび図１０Ｂに示す。図１０Ａは、エミッタ４２０のエミッタ本体４３０における吐出量調整部の平面図であり、図１０Ｂは、当該吐出量調整部の図１０ＡにおけるＢ−Ｂ線に沿う断面を示す図である。エミッタ４２０は、図１０Ａおよび図１０Ｂに示されるように、第１弁座部１７４に代えて単一の周曲面で構成されている第１弁座部４７４を有する以外は、エミッタ１２０と実質的に同様に構成されている。第１弁座部４７４は、その断面形状が、当該断面形状における接線が孔１７３の軸に直交する面となす角を傾斜角としたときに、当該傾斜角が第１弁座部４７４の頂縁（外縁）側から底縁（孔１７３）側に向けて漸次増加する楕円弧となる周曲面で形成されている。
【００８０】
エミッタ４２０は、溝１７５と第１ダイヤフラム部１４２とが形成する微細流路の漸次伸長に伴う当該微細流路の開口面積の減少の変化がより円滑である。よって、エミッタ４２０は、第１の実施の形態の効果と同じ効果を奏し、加えて、上記吐出量調整部による吐出量の調整の変動を抑制する観点からより一層効果的である。
【００８１】
［第５の実施の形態］
本発明の第５の実施の形態に係るエミッタ５２０を図１１Ａおよび図１１Ｂに示す。図１１Ａは、エミッタ５２０のエミッタ本体５３０における吐出量調整部の平面図であり、図１１Ｂは、当該吐出量調整部の図１１ＡにおけるＢ−Ｂ線に沿う断面を示す図である。エミッタ５２０は、図１１Ａおよび図１１Ｂに示されるように、溝１７５に代えてテーパ状の底面を有する溝５７５を有する以外は、エミッタ３２０と実質的に同様に構成されている。溝５７５の底面は、その断面形状が凸部１７２の外（凹部１７１）側から内（孔１７３）側に向けて上方に傾斜する直線となるテーパ面で形成されている。
【００８２】
エミッタ５２０は、溝５７５と第１ダイヤフラム部１４２とが形成する微細流路の漸次伸長に伴う当該微細流路の開口面積の減少の度合いを、エミッタ３２０のそれに比べてより大きくすることができる。よって、エミッタ５２０は、第３の実施の形態の効果と同様の効果を奏し、加えて、高圧時における灌漑用液体の吐出量を抑制する観点からより一層効果的である。
【００８３】
［第６の実施の形態］
本発明の第６の実施の形態に係るエミッタ６２０を図１２Ａおよび図１２Ｂに示す。図１２Ａは、エミッタ６２０のエミッタ本体６３０における吐出量調整部の平面図であり、図１２Ｂは、当該吐出量調整部の図１２ＡにおけるＢ−Ｂ線に沿う断面を示す図である。エミッタ６２０は、図１２Ａおよび図１２Ｂに示されるように、溝６７５を有する以外は、エミッタ４２０と実質的に同様に構成されている。溝６７５の底面は、その断面形状が、当該断面形状における接線が孔１７３の軸に直交する面となす角を傾斜角としたときに、当該傾斜角が凸部１７２の外（凹部１７１）側から内（孔１７３）側に向けて漸次増加する楕円弧となる曲面で形成されている。
【００８４】
エミッタ６２０は、溝６７５と第１ダイヤフラム部１４２とが形成する微細流路の漸次伸長に伴う当該微細流路の開口面積の減少の変化をより円滑、かつより大きくすることができる。よって、エミッタ６２０は、第４の実施の形態の効果と同じ効果を奏し、加えて、高圧時における灌漑用液体の吐出量を円滑に抑制する観点からより一層効果的である。
【００８５】
［第７の実施の形態］
本発明の第７の実施の形態に係るエミッタ７２０を図１３Ａから図１３Ｃに示す。図１３Ａは、エミッタ７２０のエミッタ本体７３０における吐出量調整部の平面図であり、図１３Ｂは、当該吐出量調整部の図１３ＡにおけるＢ−Ｂ線に沿う断面を示す図であり、図１３Ｃは、当該吐出量調整部の図１３ＡにおけるＣ−Ｃ線に沿う断面を示す図である。エミッタ７２０は、図１３Ａから図１３Ｃに示されるように、溝７７５を有する以外は、エミッタ３２０と実質的に同様に構成されている。溝７７５は、孔１７３側から外方に向けて拡がる扇型の平面形状を有している。溝７７５の底面は平らであり、溝７７５の断面形状は矩形である。
【００８６】
エミッタ７２０は、溝７７５と第１ダイヤフラム部１４２とが形成する微細流路の漸次伸長に伴う当該微細流路の開口面積の減少の度合いを、エミッタ３２０のそれに比べてより大きくすることができ、エミッタ５２０のそれに比べてもさらに大きくすることができる。よって、エミッタ７２０は、第５の実施の形態の効果と同様の効果を奏し、加えて、高圧時における灌漑用液体の吐出量を抑制する観点からさらに一層効果的である。
【００８７】
［第８の実施の形態］
本発明の第８の実施の形態に係るエミッタ８２０を図１４Ａから図１４Ｃに示す。図１４Ａは、エミッタ８２０のエミッタ本体８３０における吐出量調整部の平面図であり、図１４Ｂは、当該吐出量調整部の図１４ＡにおけるＢ−Ｂ線に沿う断面を示す図であり、図１４Ｃは、当該吐出量調整部の図１４ＡにおけるＣ−Ｃ線に沿う断面を示す図である。エミッタ８２０は、図１４Ａから図１４Ｃに示されるように、溝８７５を有する以外は、エミッタ３２０と実質的に同様に構成されている。溝８７５は、その断面形状が台形である。当該台形は、等脚台形であり、その下底が短く、その上底が長い。また、溝８７５の底面は平らである。
【００８８】
エミッタ８２０は、樹脂成形における溝８７５からの型抜きがより容易である。よって、エミッタ８２０は、第３の実施の形態の効果と同様の効果を奏し、加えて、生産性が高い観点および溝８７５の寸法安定性に優れる観点からより一層効果的である。
【００８９】
［第９の実施の形態］
本発明の第９の実施の形態に係るエミッタ９２０を図１５Ａから図１５Ｃに示す。図１５Ａは、エミッタ９２０のエミッタ本体９３０における吐出量調整部の平面図であり、図１５Ｂは、当該吐出量調整部の図１５ＡにおけるＢ−Ｂ線に沿う断面を示す図であり、図１５Ｃは、当該吐出量調整部の図１５ＡにおけるＣ−Ｃ線に沿う断面を示す図である。エミッタ９２０は、図１５Ａから図１５Ｃに示されるように、溝９７５を有する以外は、エミッタ３２０と実質的に同様に構成されている。溝９７５は、その底面の平面形状は矩形であり、その上端の平面形状は孔１７３側から外方に向けて拡がる扇型である。
【００９０】
より詳しくは、溝９７５は、溝９７５の側壁のそれぞれが、孔１７３側では直立し、外縁側ほど傾斜し、溝９７５の平面形状がそれぞれ孔１７３側から外方に向けて拡がる扇型となった形状を有している。溝９７５の断面形状は、孔１７３側で矩形であり、それより外方では上記等脚台形である。当該等脚台形は、孔１７３側から外方に向かうに連れて、下底が一定だが上底が漸次長くなる。
【００９１】
エミッタ９２０は、溝９７５と第１ダイヤフラム部１４２とが形成する微細流路の漸次伸長に伴う当該微細流路の開口面積の減少の度合いを、エミッタ３２０のそれに比べてより大きくすることができる。また、エミッタ９２０は、樹脂成形における溝９７５からの型抜きがより容易である。よって、エミッタ９２０は、第３の実施の形態の効果と同様の効果を奏し、加えて、高圧時における灌漑用液体の吐出量を抑制する観点、生産性が高い観点および溝９７５の寸法安定性に優れる観点からより一層効果的である。
【００９２】
上記の説明から明らかなように、上記溝の底面は、第２、第５および第６の実施の形態に示されるように、上記溝が少なくとも上記第１弁座部の底縁部において漸次浅くなる範囲において、当該溝の平面形状における上記第１弁座部の頂縁側から底縁側に向けて上方に傾斜する部分をさらに含んでいてもよいし、あるいは当該傾斜する部分と平面部との両方をさらに含んでいてもよい。
【００９３】
また、上記第１弁座部は、第３、第５および第７から第９の実施の形態に示されるように、単一のテーパ面から形成されていてもよい。さらに、上記第１弁座部は、第４および第６の実施の形態に示されるように、その傾斜角が上記頂縁から上記底縁にかけて連続して変化する周曲面で構成されていてもよい。さらには、上記溝の平面形状は、第７および第９の実施の形態に示されるように、上記第１ダイヤフラム部の密着による上記微細流路の漸次伸長にしたがって上記微細流路の開口面積が漸次減少する形状であってもよい。また、上記溝の断面形状は、第８および第９の実施の形態に示されるように、上方に向けて拡がる形状を含んでいてもよい。
【００９４】
［第１０の実施の形態］
本発明の第１０の実施の形態に係るエミッタ１０２０を図１６Ａおよび図１６Ｂに示す。図１６Ａは、エミッタ１０２０のエミッタ本体１０３０における吐出量調整部の平面図であり、図１６Ｂは、当該吐出量調整部の図１６ＡにおけるＢ−Ｂ線に沿う断面を示す図である。エミッタ１０２０は、第１弁座部１７４および溝１７５に代えて第１弁座部１０７４および溝１０７５を有する以外は、エミッタ１２０と同様に構成されている。
【００９５】
第１弁座部１０７４は、孔１７３の開口部を囲み、当該開口部から下方に傾斜する凸周面で構成されている。第１弁座部１０７４は、最も外側に第１傾斜角を有する第１斜面部１０７４ａと、第１斜面部１０７４ａの内周側に隣接する第２傾斜角を有する第２斜面部１０７４ｂと、第２斜面部１０７４ｂの内周側に隣接する第３傾斜角を有する第３斜面部１０７４ｃとによって構成されている。第１傾斜角から第３傾斜角は、この順で小さくなり、たとえば、第１傾斜角は２８°であり、第２傾斜角は１３°であり、第３傾斜角は５°である。このように、第１弁座部１０７４は、その頂縁からその底縁にかけてその傾斜角が断続的に変化する周面で構成されている。
【００９６】
溝１０７５は、一定の幅と平らな底面とを有しており、第１弁座部１０７４の表面に、第１弁座部１０７４を横断し、かつ第１弁座部１０７４の頂縁（孔１７３）から底縁（凸部１７２の外縁）に向けて漸次浅くなるように形成されている。溝１０７５の幅は、例えば０．４ｍｍである。また、溝１０７５の深さは、最深部（上記頂縁）で０．３ｍｍであり、最浅部（上記底縁）で０．１ｍｍである。
【００９７】
次に、上記吐出量調整部における灌漑用液体の流量の調整について、より詳しく説明する。図１７Ａは、外液圧が第１の設定値以上の場合における、エミッタ１０２０を図３Ａで示すＣ−Ｃ線で切断したときのエミッタ１０２０の断面の一部を模式的に示す図であり、図１７Ｂは、外液圧が第２の設定値以上の場合における、エミッタ１０２０を図３Ａで示すＣ−Ｃ線で切断したときのエミッタ１０２０の断面の一部を模式的に示す図であり、図１７Ｃは、外液圧が第３の設定値以上の場合における、エミッタ１０２０を図３Ａで示すＣ−Ｃ線で切断したときのエミッタ１０２０の断面の一部を模式的に示す図であり、図１７Ｄは、外液圧が第４の設定値以上の場合における、エミッタ１０２０を図３Ａで示すＣ−Ｃ線で切断したときのエミッタ１０２０の断面の一部を模式的に示す図である。
【００９８】
上記吐出量調整部は、第１弁座部１０７４の形態が異なるが、第１の実施の形態の吐出量調整部と同様の機構で灌漑用液体の吐出量を調整する。すなわち、外液圧が上記第１の設定値まで高まった場合では、前述したように、第１ダイヤフラム部１４２は、図１７Ａに示されるように、第１弁座部１０７４に接近するが非接触である。よって、外液圧が第１の設定値の場合は、前述したように、バイパス流路が塞がれることによる灌漑用液体の流量の調整のみが行われる。外液圧が第１の設定値からさらに高まると、減圧流路における灌漑用液体の流量が増加し、第１ダイヤフラム部１４２と第１弁座部１０７４との間から孔１７３に流入する灌漑用液体の流量が増加する。
【００９９】
外液圧が上記第２の設定値まで高まると、第１ダイヤフラム部１４２はより大きく撓み、また、第１弁座部１０７４において第３斜面部１０７４ｃは最も高い位置にあることから、第１ダイヤフラム部１４２は、図１７Ｂに示されるように、第１弁座部１０７４の第３斜面部１０７４ｃに密着し、溝１０７５は、溝１０７５および第１ダイヤフラム部１４２に囲まれた微細流路を形成する。凹部１７２内の灌漑用液体は、当該微細流路を通り、孔１７３に到達する。
【０１００】
第３斜面部１０７４ｃは、凸部１７２の外縁に向けて下方に傾斜していることから、第１ダイヤフラム部１４２は、外液圧が高まるに連れて、第３斜面部１０７４ｃにより一層密着し、上記微細流路は徐々に長くなり、その外縁側の開口部は徐々に狭くなる。このように、外液圧が第２の設定値以上になると、上記吐出量調整部からの灌漑用液体の流量は、上記微細流路の開口面積に応じた流量に制御され、最終的に吐出口１１２からは、上記開口面積に応じた流量の灌漑用液体のみが吐出される。
【０１０１】
上記外液圧が上記第２の設定値からさらに高まると、エミッタ１２０に取り入れられる灌漑用液体の量が増え、凹部１７１への灌漑用液体の流量が増え、孔１７３に流入すべき灌漑用液体の量が増える。一方で、上記微細流路の開口面積は、外液圧の上昇および第３斜面部１０７４ｃの第３傾斜角に応じた速度で減少する。その結果、外液圧の上昇による灌漑用液体の流量の増加は、第３斜面部１０７４ｃにおける上記微細流路の開口面積の減少による灌漑用液体の流量の減少によって相殺される。したがって、外液圧が第２の設定値からさらに上昇しても、孔１７３に供給される灌漑用液体の流量が所期の流量に保たれ、よって、灌漑用液体は、当該所期の流量で吐出口１１２から吐出される。
【０１０２】
外液圧が上記第３の設定値まで高まると、第１ダイヤフラム部１４２は、第１弁座部１０７４に向けてさらに押され、図１７Ｃに示されるように、第２斜面部１０７４ｂにさらに密着する。そして、外液圧が第３の設定値からさらに高まると、上記微細流路はさらに長くなり、上記微細流路の開口面積はさらに小さくなる。第２斜面部１０７４ｂの第２傾斜角は、第３斜面部１０７４ｃの第３傾斜角よりも大きいので、上記開口面積の減少速度もより大きくなる。その結果、外液圧のさらなる上昇による灌漑用液体の流量の増加は、第２斜面部１０７４ｂにおける上記微細流路の開口面積のさらなる減少による灌漑用液体の流量の減少によって相殺される。したがって、外液圧が第３の設定値からさらに上昇しても、孔１７３に供給される灌漑用液体の流量が所期の流量に保たれ、よって、灌漑用液体は、当該所期の流量で吐出口１１２から吐出される。
【０１０３】
外液圧が上記第４の設定値まで高まると、第１ダイヤフラム部１４２は、第１弁座部１０７４に向けてより一層押され、図１７Ｄに示されるように、第１斜面部１０７４ａにさらに密着する。そして、外液圧が第４の設定値からさらに高まると、上記微細流路はさらに長くなり、上記微細流路の開口面積はさらに小さくなる。第１斜面部１０７４ａの第１傾斜角は、第２斜面部１０７４ｂの第２傾斜角よりもさらに大きいので、上記開口面積の減少速度もさらに大きくなる。その結果、外液圧のさらなる上昇による灌漑用液体の流量の増加は、第１斜面部１０７４ａにおける上記微細流路の開口面積のさらなる減少による灌漑用液体の流量の減少によって相殺される。したがって、外液圧が第４の設定値からさらに上昇しても、孔１７３に供給される灌漑用液体の流量が所期の流量に保たれ、よって、灌漑用液体は、当該所期の流量で吐出口１１２から吐出される。
【０１０４】
第１ダイヤフラム部１４２が第１斜面部１０７４ａの全体に密着すると、上記微細流路の開口面積は最小となる。その後、外液圧がさらに高まると、減圧流路における灌漑用液体の流量がさらに増加し、上記微細流路を通過する灌漑用液体の流量は漸次微増する。
【０１０５】
このように、エミッタ１０２０は、エミッタ１２０と同様に、圧力が十分に低い灌漑用液体であれば、バイパス流路および減圧流路の両方を通過する量で吐出口１１２から吐出し、圧力が十分に高い灌漑用液体であれば、溝１０７５を通過する量のみで吐出口１１２から吐出する。上記微細流路の開口面積は、第１ダイヤフラム部１４２が第３斜面部１０７４ｃに密着する場合では第３傾斜角に応じた速度で、第２斜面部１０７４ｂに密着する場合では第２傾斜角に応じた速度で、そして、第１斜面部１０７４ａに密着する場合では第１傾斜角に応じた速度で、それぞれ減少する。このように、エミッタ１０２０は、外液圧の上昇に伴う灌漑用液体の流量の増加を、吐出量調整部において三回、バイパス流路を含めると四回抑制する機構を有する。よって、エミッタ１０２０は、より高い外液圧まで灌漑用液体の吐出量を所望の量に調整することができる。
【０１０６】
以上の説明から明らかなように、エミッタ１０２０もまた、第１の実施の形態の効果と同様の効果を奏する。
【０１０７】
［第１１の実施の形態］
本発明の第１１の実施の形態に係るエミッタ１１２０を図１８Ａおよび図１８Ｂに示す。図１８Ａは、エミッタ１１２０のエミッタ本体１１３０における吐出量調整部の平面図であり、図１８Ｂは、当該吐出量調整部の図１８ＡにおけるＢ−Ｂ線に沿う断面を示す図である。エミッタ１１２０は、図１８Ａおよび図１８Ｂに示されるように、溝１０７５に代えて溝１１７５を有する以外は、エミッタ１０２０と実質的に同様に構成されている。溝１１７５の底面は、三段の平面とそれを繋げるテーパ面とから構成されている。すなわち、溝１１７５の底面は、最も外側かつ最も高い位置の第１平面１１７５ａと、第１平面１１７５ａから下方に傾斜している第１テーパ面１１７５ｂと、第１テーパ面１１７５ｂに連なる第２平面１１７５ｃと、第２平面１１７５ｃから下方に傾斜している第２テーパ面１１７５ｄと、第２テーパ面１１７５ｄに連なる第３平面１１７５ｅと、から構成されている。
【０１０８】
エミッタ１１２０は、溝１１７５と第１ダイヤフラム部１４２とが形成する微細流路の漸次伸長に伴う当該微細流路の開口面積の減少の度合いが、エミッタ１０２０におけるそれに比べてより大きい。よって、エミッタ１１２０は、第１０の実施の形態の効果に加えて、高圧時における灌漑用液体の吐出量を抑制する観点からより一層効果的である。
【０１０９】
［第１２の実施の形態］
本発明の第１２の実施の形態に係るエミッタ１２２０を図１９Ａおよび図１９Ｂに示す。図１９Ａは、エミッタ１２２０のエミッタ本体１２３０における吐出量調整部の平面図であり、図１９Ｂは、当該吐出量調整部の図１９ＡにおけるＢ−Ｂ線に沿う断面を示す図である。エミッタ１２２０は、図１９Ａおよび図１９Ｂに示されるように、第１弁座部１０７４に代えて単一のテーパ面で構成されている第１弁座部１２７４を有する以外は、エミッタ１０２０と実質的に同様に構成されている。第１弁座部１２７４は、その断面形状が第１弁座部１２７４の頂縁（孔１７３）側から底縁（外縁）側に向けて下方に傾斜する直線となるテーパ面で形成されている。
【０１１０】
エミッタ１２２０は、溝１０７５と第１ダイヤフラム部１４２とが形成する微細流路の漸次伸長に伴う当該微細流路の開口面積の減少の度合いが一定である。よって、エミッタ１２２０は、第１弁座部１０７４による高圧時の灌漑用液体の流量を抑制する効果を除いて第１０の実施の形態の効果と同じ効果を奏し、加えて、上記吐出量調整部を簡易に構築する観点からさらに一層効果的である。
【０１１１】
［第１３の実施の形態］
本発明の第１３の実施の形態に係るエミッタ１３２０を図２０Ａおよび図２０Ｂに示す。図２０Ａは、エミッタ１３２０のエミッタ本体１３３０における吐出量調整部の平面図であり、図２０Ｂは、当該吐出量調整部の図２０ＡにおけるＢ−Ｂ線に沿う断面を示す図である。エミッタ１３２０は、図２０Ａおよび図２０Ｂに示されるように、第１弁座部１０７４に代えて単一の周曲面で構成されている第１弁座部１３７４を有する以外は、エミッタ１０２０と実質的に同様に構成されている。第１弁座部１３７４は、その断面形状が、当該断面形状における接線を傾斜角としたときに、当該傾斜角が第１弁座部１３７４の頂縁（孔１７３）側から底縁（外縁）側に向けて漸次増加する楕円弧となる周曲面で形成されている。
【０１１２】
エミッタ１３２０は、溝１０７５と第１ダイヤフラム部１４２とが形成する微細流路の漸次伸長に伴う当該微細流路の開口面積の減少の変化がより円滑である。よって、エミッタ１３２０は、第１０の実施の形態の効果と同じ効果を奏し、加えて、上記吐出量調整部による吐出量の調整の変動を抑制する観点からより一層効果的である。
【０１１３】
［第１４の実施の形態］
本発明の第１４の実施の形態に係るエミッタ１４２０を図２１Ａおよび図２１Ｂに示す。図２１Ａは、エミッタ１４２０のエミッタ本体１４３０における吐出量調整部の平面図であり、図２１Ｂは、当該吐出量調整部の図２１ＡにおけるＢ−Ｂ線に沿う断面を示す図である。エミッタ１４２０は、図２１Ａおよび図２１Ｂに示されるように、溝１０７５に代えてテーパ状の底面を有する溝１４７５を有する以外は、エミッタ１２２０と実質的に同様に構成されている。溝１４７５の底面は、その断面形状が凸部１７２の外（凹部１７１）側から内（孔１７３）側に向けて下方に傾斜する直線となるテーパ面で形成されている。
【０１１４】
エミッタ１４２０は、溝１４７５と第１ダイヤフラム部１４２とが形成する微細流路の漸次伸長に伴う当該微細流路の開口面積の減少の度合いを、エミッタ１２２０のそれに比べてより大きくすることができる。よって、エミッタ１４２０は、第１２の実施の形態の効果と同様の効果を奏し、加えて、高圧時における灌漑用液体の吐出量を抑制する観点からより一層効果的である。
【０１１５】
［第１５の実施の形態］
本発明の第１５の実施の形態に係るエミッタ１５２０を図２２Ａおよび図２２Ｂに示す。図２２Ａは、エミッタ１５２０のエミッタ本体１５３０における吐出量調整部の平面図であり、図２２Ｂは、当該吐出量調整部の図２２ＡにおけるＢ−Ｂ線に沿う断面を示す図である。エミッタ１５２０は、図２２Ａおよび図２２Ｂに示されるように、溝１５７５を有する以外は、エミッタ１３２０と実質的に同様に構成されている。溝１５７５の底面は、その断面形状が、当該断面形状における接線が孔１７３の軸に直交する面となす角を傾斜角としたときに、当該傾斜角が凸部１７２の外（凹部１７１）側から内（孔１７３）側に向けて漸次減少する楕円弧となる曲面で形成されている。
【０１１６】
エミッタ１５２０は、溝１５７５と第１ダイヤフラム部１４２とが形成する微細流路の漸次伸長に伴う当該微細流路の開口面積の減少の変化をより円滑、かつより大きくすることができる。よって、エミッタ１５２０は、第１３の実施の形態の効果と同じ効果を奏し、加えて、高圧時における灌漑用液体の吐出量を円滑に抑制する観点からより一層効果的である。
【０１１７】
上記の説明から明らかなように、上記溝の底面は、第１１、第１４および第１５の実施の形態に示されるように、上記溝が少なくとも上記第１弁座部の底縁部において漸次浅くなる範囲において、当該溝の平面形状における上記第１弁座部の頂縁側から底縁側に向けて上方に傾斜する部分をさらに含んでいてもよいし、あるいは当該傾斜する部分と平面部との両方をさらに含んでいてもよい。また、上記第１弁座部は、第１２および第１４の実施の形態に示されるように、単一のテーパ面から形成されていてもよい。さらに、上記第１弁座部は、第１３および第１５の実施の形態に示されるように、その傾斜角が上記頂縁から上記底縁にかけて連続して変化する周曲面で構成されていてもよい。
【０１１８】
また、第１０から第１５の実施の形態は、例えば第８の実施の形態に示されるように、上記溝の断面形状が上方に向けて拡がる形状を含んでいてもよい。この場合、第８の実施の形態と同様に、生産性および寸法安定性の向上効果がさらに得られる。
【０１１９】
また、前述の実施の形態では、第１弁座部の傾斜角が一定である形態、三段階で変化する形態、および連続して変化する形態を示したが、上記傾斜角は、当該第１弁座部を製造可能な範囲において適宜に設定可能であり、例えば、二段階、四段階またはそれ以上の段数で変化してもよい。
【０１２０】
また、前述の実施の形態では、上記微細流路が長くなるに連れて第１弁座部または溝の底面における傾斜角がより大きくなる形態を示したが、これらの傾斜角が変化する第１弁座部および溝は、上記吐出量調整部を製造可能な範囲において適宜に設計可能であり、例えば、上記微細流路が長くなるに連れて当該傾斜角が小さくなる形態であってもよいし、第一弁座部の傾斜角は漸増または漸減し、溝の底面の傾斜角は漸減または漸増する形態であってもよい。
【０１２１】
また、前述の実施の形態は、いずれも上記バイパス流路を含むが、本発明に係るエミッタは、上記バイパス流路を有していなくてもよい。当該エミッタは、外液圧が十分に低い場合に、バイパス流路から凹部１７１へ灌漑用液体が供給されない以外は、前述の実施の形態と同様に灌漑用液体の吐出量を上記吐出量調整部によって調整する。よって、バイパス流路を有さないエミッタおよびそれを有する点滴灌漑用チューブは、低圧時における灌漑用液体の吐出量を多くする効果を除き、前述の実施の形態の効果と同じ効果を奏する。
【産業上の利用可能性】
【０１２２】
本発明によれば、滴下すべき液体の圧力によって適切な速度での液体の滴下が可能なエミッタを簡易に提供することが可能である。したがって、点滴灌漑や耐久試験などの、長期の滴下を要する技術分野への上記エミッタの普及および当該技術分野のさらなる発展が期待される。
【符号の説明】
【０１２３】
１００  点滴灌漑用チューブ
１１０  チューブ
１１２  吐出口
１２０、２２０、３２０、４２０、５２０、６２０、７２０、８２０、９２０、１０２０、１１２０、１２２０、１３２０、１４２０、１５２０  エミッタ
１３０、２３０、３３０、４３０、５３０、６３０、７３０、８３０、９３０、１０３０、１１３０、１２３０、１３３０、１４３０、１５３０  エミッタ本体
１４０  フィルム
１４１  ヒンジ部
１４２  第１ダイヤフラム部
１４３  第２ダイヤフラム部
１５１  スリット
１５２、１６２、１７１、１９１、１９９  凹部
１６１  第１減圧流路部
１６３  第２減圧流路部
１６４、１７３、１８４  孔
１７２、凸部
１７４、３７４、４７４、１０７４、１２７４、１３７４  第１弁座部
１７４ａ、１０７４ａ  第１斜面部
１７４ｂ、１０７４ｂ  第２斜面部
１７４ｃ、１０７４ｃ  第３斜面部
１７５、１８２、２７５、５７５、６７５、７７５、８７５、９７５、１０７５、１１７５、１４７５、１５７５  溝
１８１  第３減圧流路部
１８３  突起
１８５  第２弁座部
１８６  案内溝
１９２  主突条
１９３  副突条
２７５ａ、１１７５ａ  第１平面
２７５ｂ  テーパ面
２７５ｃ、１１７５ｃ  第２平面
１１７５ｂ  第１テーパ面
１１７５ｄ  第２テーパ面
１１７５ｅ  第３平面
【図１】
0006532757.tif 000002
【図２】
0006532757.tif 000003
【図３】
0006532757.tif 000004
【図４】
0006532757.tif 000005
【図５】
0006532757.tif 000006
【図６】
0006532757.tif 000007
【図７】
0006532757.tif 000008
【図８】
0006532757.tif 000009
【図９】
0006532757.tif 000010
【図１０】
0006532757.tif 000011
【図１１】
0006532757.tif 000012
【図１２】
0006532757.tif 000013
【図１３】
0006532757.tif 000014
【図１４】
0006532757.tif 000015
【図１５】
0006532757.tif 000016
【図１６】
0006532757.tif 000017
【図１７】
0006532757.tif 000018
【図１８】
0006532757.tif 000019
【図１９】
0006532757.tif 000020
【図２０】
0006532757.tif 000021
【図２１】
0006532757.tif 000022
【図２２】
0006532757.tif 000023