(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
積層体と、
前記積層体の前記透明基材における前記第１の機能層が形成されている面とは反対側の面に形成された偏光素子と
を備える、偏光板であって、
前記積層体が、透明基材と、第１の機能層と、第２の機能層とをこの順で備え、
前記第２の機能層の表面が、前記積層体の表面をなし、
前記第１の機能層が、非架橋性フッ素含有化合物と、バインダ樹脂とを含み、
前記第２の機能層が、微粒子と、架橋性ケイ素含有化合物と、架橋性フッ素含有化合物と、硬化性樹脂前駆体とを少なくとも含む第２の機能層用組成物の硬化物からなる層である、偏光板。
【請求項２】
前記第１の機能層が、前記透明基材と前記第２の機能層との間に、かつ前記積層体の厚み方向に複数存在している、請求項１に記載の偏光板。
【請求項３】
前記微粒子が、中空シリカ微粒子である、請求項１に記載の偏光板。
【請求項４】
前記第１の機能層が、前記第２の機能層に接している、請求項１に記載の偏光板。
【請求項５】
画像表示装置であって、
表示素子と、
前記表示素子よりも観察者側に配置された請求項１〜４のいずれか一項に記載の偏光板と
を備える、画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、積層体、偏光板、および画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
床材や電化製品等の表面には、耐擦傷性や防汚性を得るために積層体が配置されることがある（特許文献１参照）。耐擦傷性を得るためには積層体の表面の滑り性も重要であり、現在、積層体の最上層に、滑り性を向上させるためのケイ素含有化合物や防汚性を得るためのフッ素含有化合物を含ませることがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００４−２２５４５６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、積層体の表面における耐擦傷性や防汚性は充分ではなく、現在、更なる耐擦傷性および防汚性の向上が求められている。特に積層体の最上層に中空シリカ微粒子等の微粒子を含ませた場合には、微粒子の存在が原因で、ケイ素含有化合物やフッ素含有化合物が積層体の表面に析出（ブリードアウト）しにくく、耐擦傷性や防汚性が向上しにくい。ここで、積層体の滑り性は最上層の表面に存在するケイ素含有化合物の量で決まり、また防汚性は最上層の表面に存在するフッ素含有化合物の量で決まるので、耐擦傷性および防汚性の更なる向上を図るためには、如何に最上層の表面にケイ素含有化合物やフッ素含有化合物を多く存在させるかが重要なポイントとなる。この点に関し、更なる耐擦傷性や防汚性の向上のために、積層体の最上層に対し、ケイ素含有化合物やフッ素含有化合物の添加量を増やせば、最上層の表面にケイ素含有化合物やフッ素含有化合物を多く存在させることができるとも考えられるが、ケイ素含有化合物やフッ素含有化合物の添加量を増やした場合、ある程度の添加量までは耐擦傷性や防汚性は向上するものの、添加量を増やしたとしてもそれ以上耐擦傷性や防汚性は向上せず、結果として所望の耐擦傷性や防汚性を得ることができない。
【０００５】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものである。すなわち、優れた耐擦傷性および防汚性を得ることが可能な積層体、ならびにこの積層体を備えた偏光板および画像表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一の態様によれば、透明基材と、第１の機能層と、第２の機能層とをこの順で備える積層体であって、前記第２の機能層の表面が、前記積層体の表面をなし、前記第１の機能層が、非架橋性フッ素含有化合物と、バインダ樹脂とを含み、前記第２の機能層が、微粒子と、架橋性ケイ素含有化合物と、架橋性フッ素含有化合物と、硬化性樹脂前駆体とを少なくとも含む第２の機能層用組成物の硬化物からなる層である、積層体が提供される。
【０００７】
本発明の他の態様によれば、上記の積層体と、前記積層体の前記透明基材における前記第１の機能層が形成されている面とは反対側の面に形成された偏光素子とを備えることを特徴とする、偏光板が提供される。
【０００８】
本発明の他の態様によれば、画像表示装置であって、表示素子と、前記表示素子よりも観察者側に配置された積層体とを備える、画像表示装置が提供される。
【０００９】
本発明の他の態様によれば、画像表示装置であって、表示素子と、前記表示素子よりも観察者側に位置する上記の偏光板とを備え、前記偏光板は、前記低屈折率層の前記表面が前記画像表示装置の観察者側の表面となるように配置される、画像表示装置が提供される。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の一の態様の積層体、他の態様の偏光板および他の態様の画像表示装置によれば、第１の機能層が非架橋性フッ素化合物を含み、第２の機能層が、微粒子と、架橋性ケイ素含有化合物と、架橋性フッ素含有化合物と、硬化性樹脂前駆体とを含む第２の機能層用組成物を塗布し、硬化させることにより形成された層であるので、架橋性ケイ素含有化合物および架橋性フッ素含有化合物が第２の機能層の表面に析出（ブリードアウト）しやすい。このため、微粒子が存在していても、第２の機能層の表面に架橋性ケイ素含有化合物および架橋性フッ素含有化合物を多く存在させることができる。これにより、優れた耐擦傷性および防汚性を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】実施形態に係る積層体の概略構成図である。
【図２】実施形態に係る偏光板の概略構成図である。
【図３】実施形態に係る表示パネルの一例である液晶パネルの概略構成図である。
【図４】実施形態に係る画像表示装置の一例である液晶ディスプレイの概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明の実施形態に係る積層体、偏光板、表示パネル、および画像表示装置について、図面を参照しながら説明する。本明細書において、「積層体」には、「積層フィルム」、「積層シート」や「積層板」等と呼ばれる部材も含まれる。また、本明細書において、「重量平均分子量」は、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等の溶媒に溶解して、従来公知のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法によるポリスチレン換算により得られる値である。図１は、本実施形態に係る積層体の概略構成図である。
【００１３】
＜＜＜積層体＞＞＞
図１に示される積層体１０は、透明基材１１と、第１の機能層１２、１３と、第２の機能層１４とをこの順で備えている。図１に示される積層体１０は、反射防止フィルムとして機能するものであるが、何らかの部材や装置の表面に配置されるものであれば、用途は特に限定されない。
【００１４】
「機能層」とは、積層体において、何らかの機能を発揮することを意図された単層であり、具体的には、例えば、ハードコート性、反射防止性、帯電防止性、耐擦傷性、または防汚性等の機能を発揮するための層が挙げられる。第１の機能層の機能は特に限定されないが、第２の機能層は少なくとも耐擦傷性および防汚性の機能を有するものである。
【００１５】
第１の機能層は、１層であってもよいが、より確実にリフトアップ効果を得る観点から積層体の厚み方向に複数（２層以上）存在していることが好ましい。第１の機能層が複数存在する場合、第１の機能層は、後述する非架橋性フッ素含有化合物およびバインダ樹脂を含んでいれば、他の成分がそれぞれ異なっていてもよい。本実施の形態では、第１の機能層１２、１３が透明基材１１と第２の機能層１４との間に存在している。なお、第１の機能層１２が設けられていれば、第１の機能層１３が設けられていなくともよく、また、第１の機能層１３が設けられていれば、第１の機能層１２が設けられていなくともよい。後述するように第１の機能層１２はハードコート層として機能するものであり、また第１の機能層１３は高屈折率層として機能するものであるので、第１の機能層１３が設けられていない場合、第１の機能層１２と第２の機能層１４との間に、非架橋性フッ素含有化合物を含まない高屈折率層を設けてもよく、また第１の機能層１２が設けられていない場合、第１の機能層が非架橋性フッ素含有化合物を含まないハードコート層を設けてもよい。
【００１６】
第１の機能層は第２の機能層に接触していることが好ましいが、第２の機能層は必ずしも第１の機能層に直接接触していなくともよい。例えば、第１の機能層と第２の機能層の間に、少なくとも非架橋性フッ素含有化合物を含まない第３の機能層が配置されていてもよい。
【００１７】
積層体１０においては、第２の機能層１４側から測定した反射Ｙ値が０．３％未満となっていることが好ましい。上記反射Ｙ値は、映り込みをより抑制する観点から０．１５％以下であることがより好ましく、０．１％以下であることが更に好ましい。
【００１８】
反射Ｙ値は、ＪＩＳ  Ｚ８７２２に準拠するものである。反射Ｙ値は、例えば、島津製作所株式会社製のＭＰＣ３１００等の分光光度計を用いて、積層体における低屈折率層側から入射角度５度の光を照射し、積層体で反射された正反射方向の反射光を受光して、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの波長範囲の反射率を測定し、その後、人間が目で感じる明度として換算するソフトウェア（例えば、ＭＰＣ３１００に内蔵されたソフトウェア）によって算出することができる。本明細書において、「入射角度５度の光」とは、積層体のフィルム面の法線方向を０度としたとき、前記法線方向に対して５度傾いた光を意味する。「フィルム面」とは、対象となる積層体を全体的かつ大局的に見た場合におけるその平面方向と一致する面のことを言うものとする。なお、反射Ｙ値を測定する場合、積層体の裏面反射を防止するため、予め透明基材における第１の機能層が形成されている面とは反対側の面に黒テープを貼ることが好ましい。
【００１９】
積層体１０においては、第２の機能層１４の表面１４Ａに対し、スチールウールを用いて荷重を加えながら１０往復擦る耐スチールウール試験を行った場合、第２の機能層１４の表面１４Ａに傷が確認されない最大荷重が２００ｇ／ｃｍ２以上となっていることが好ましい。この最大荷重は、３００ｇ／ｃｍ２以上であることがより好ましい。耐スチールウール試験においては、♯００００番（製品名「ボンスター」、日本スチールウール株式会社製）のスチールウールを用いる。
【００２０】
白濁感を抑制する観点から、積層体１０の全ヘイズ値は０．５％以下であることが好ましく、０．３％以下であることがより好ましい。全ヘイズの下限は、０．２％以上とすることが可能である。全ヘイズ値は、ヘイズメーター（ＨＭ−１５０、村上色彩技術研究所製）を用いてＪＩＳ  Ｋ７１３６に準拠した方法により測定することができる。
【００２１】
＜＜透明基材＞＞
透明基材１１としては、光透過性を有すれば特に限定されないが、例えば、セルロースアシレート基材、シクロオレフィンポリマー基材、ポリカーボネート基材、アクリレート系ポリマー基材、ポリエステル基材、またはガラス基材が挙げられる。
【００２２】
セルロースアシレート基材としては、例えば、セルローストリアセテート基材、セルロースジアセテート基材が挙げられる。シクロオレフィンポリマー基材としては、例えばノルボルネン系モノマーおよび単環シクロオレフィンモノマー等の重合体からなる基材が挙げられる。
【００２３】
ポリカーボネート基材としては、例えば、ビスフェノール類（ビスフェノールＡ等）をベースとする芳香族ポリカーボネート基材、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート等の脂肪族ポリカーボネート基材等が挙げられる。
【００２４】
アクリレート系ポリマー基材としては、例えば、ポリ（メタ）アクリル酸メチル基材、ポリ（メタ）アクリル酸エチル基材、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸ブチル共重合体基材等が挙げられる。
【００２５】
ポリエステル基材としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートの少なくとも１種を構成成分とする基材等が挙げられる。
【００２６】
ガラス基材としては、例えば、ソーダライムシリカガラス、ホウ珪酸塩ガラス、無アルカリガラス等のガラス基材が挙げられる。
【００２７】
これらの中でも、リタデーションに優れ、かつ偏光子との接着が容易であることからセルロースアシレート基材が好ましく、さらにセルロースアシレート基材の中でもトリアセチルセルロース基材（ＴＡＣ基材）が好ましい。トリアセチルセルロース基材は、可視光域３８０〜７８０ｎｍにおいて、平均光透過率を５０％以上とすることが可能な光透過性基材である。トリアセチルセルロース基材の平均光透過率は７０％以上、更に８５％以上であることが好ましい。
【００２８】
なお、トリアセチルセルロース基材としては、純粋なトリアセチルセルロース以外に、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートの如くセルロースとエステルを形成する脂肪酸として酢酸以外の成分も併用した物であってもよい。また、これらトリアセチルセルロースには、必要に応じて、ジアセチルセルロース等の他のセルロース低級脂肪酸エステル、或いは可塑剤、紫外線吸收剤、易滑剤等の各種添加剤が添加されていてもよい。
【００２９】
リタデーションおよび耐熱性に優れる面からはシクロオレフィンポリマー基材が好ましく、また機械特性および耐熱性の面からはポリエステル基材が好ましい。
【００３０】
透明基材１１の厚みは、特に限定されないが、５μｍ以上１００μｍ以下とすることが可能であり、透明基材１１の厚みの下限はハンドリング性等の観点から１５μｍ以上が好ましく、２５μｍ以上がより好ましい。透明基材１１の厚みの上限は薄膜化の観点から８０μｍ以下であることが好ましい。
【００３１】
＜＜第１の機能層＞＞
第１の機能層１２、１３は、非架橋性フッ素含有化合物と、バインダ樹脂とを含む層である。上記したように、第１の機能層の機能としては特に限定されないが、第１の機能層としてはハードコート層または高屈折率層として機能するものが好ましい。本実施形態に係る積層体１０の第１の機能層１２はハードコート層として機能するものであり、第１の機能層１３は高屈折率層として機能するものである。
【００３２】
ハードコート層は、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４（１９９９）で規定される鉛筆硬度試験（４．９Ｎ荷重）で「Ｈ」以上の硬度を有する層である。第１の機能層１２の鉛筆硬度を「Ｈ」以上とすることにより、第１の機能層１２の硬さを第２の機能層１４の表面に十分に反映させることができ、耐久性を向上させることができる。なお、第１の機能層１２上に形成する第１の機能層１３との密着性、靱性およびカールの防止の観点から、第１の機能層１２の表面の鉛筆硬度の上限は４Ｈ程度程とすることが好ましい。
【００３３】
第１の機能層１２の膜厚は１μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましい。第１の機能層１２の膜厚がこの範囲であれば、所望の硬度を得ることができるとともに、第１の機能層の薄膜化を図ることができる。第１の機能層１２の膜厚は、断面顕微鏡観察により測定することができる。
【００３４】
第１の機能層１２の膜厚の下限は、第１の機能層の割れを抑制する観点から、８μｍ以下であることがより好ましい。また、第１の機能層の薄膜化を図る一方で、カールの発生を抑制する観点から、第１の機能層１２の膜厚は０．５μｍ以上５．０μｍ以下であることがさらに好ましい。
【００３５】
第１の機能層１２の屈折率は、１．５０以上１．６０以下であってもよい。第１の機能層１２の屈折率の下限は、１．５２以上であってもよく、第１の機能層１２の屈折率の上限は、１．５６以下であってもよい。透明基材１１と第１の機能層１２との屈折率差は、干渉縞の発生を抑制する観点から、０．１０以内とすることが好ましく、０．０６以内とすることがより好ましい。
【００３６】
第１の機能層１２の屈折率は、単独の層を形成した後、アッベ屈折率計（アタゴ社製  ＮＡＲ−４Ｔ）やエリプソメータによって測定できる。また、積層体１０となった後に屈折率を測定する方法としては、第１の機能層１２をカッターなどで削り取り、粉状態のサンプルを作製し、ＪＩＳ  Ｋ７１４２（２００８）Ｂ法（粉体または粒状の透明材料用）に従ったベッケ法（屈折率が既知のカーギル試薬を用い、前記粉状態のサンプルをスライドガラスなどに置き、そのサンプル上に試薬を滴下し、試薬でサンプルを浸漬する。その様子を顕微鏡観察によって観察し、サンプルと試薬の屈折率が異なることによってサンプル輪郭に生じる輝線（ベッケ線）が目視で観察できなくなる試薬の屈折率を、サンプルの屈折率とする方法）を用いることができる。
【００３７】
上記したように、第１の機能層１２は、非架橋性フッ素含有化合物と、バインダ樹脂とを含んでいるが、その他、微粒子を含んでいてもよい。
【００３８】
＜非架橋性フッ素含有化合物＞
第１の機能層１２中における非架橋性フッ素含有化合物の機能としては特に限定されないが、例えば、非架橋性フッ素含有化合物はレベリング剤として機能するものである。非架橋性フッ素含有化合物としては、重量平均分子量が１０，０００〜５０，０００の化合物が好ましい。このような非重合性フッ素含有化合物の市販品としては、例えば、ＤＩＣ社製のF568やF477が挙げられる。
【００３９】
第１の機能層用組成物における非架橋性フッ素含有化合物の含有量は、硬化性樹脂前駆体１００質量部に対して、０．０１質量部以上５質量部以下であることが好ましい。非架橋性フッ素含有化合物の含有量をこの範囲内にすることにより、第１の機能層１２の表面の平坦性を充分に確保することができる。
【００４０】
＜バインダ樹脂＞
バインダ樹脂は、硬化性樹脂前駆体の硬化物（重合物、架橋物）を含むものである。本明細書における「硬化性樹脂前駆体」とは、樹脂前駆体が光硬化性や熱硬化性を有し、光硬化または熱硬化によって樹脂となる樹脂前駆体を意味する。樹脂は、硬化性樹脂前駆体の硬化物の他、溶剤乾燥型樹脂を含んでいてもよい。光硬化性を有する光硬化性樹脂前駆体は、光重合性官能基を少なくとも１つ有するものである。本明細書における、「光重合性官能基」とは、光照射により重合反応し得る官能基である。光重合性官能基としては、例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性二重結合が挙げられる。なお、本明細書における「（メタ）アクリロイル基」とは、「アクリロイル基」および「メタクリロイル基」の両方を含む意味である。また、光硬化性樹脂前駆体を硬化させる際に照射される光としては、可視光線、並びに紫外線、Ｘ線、電子線、α線、β線、およびγ線のような電離放射線が挙げられる。熱硬化性を有する熱硬化性樹脂前駆体は、熱重合性官能基を少なくとも１つ有するものである。
【００４１】
光硬化性樹脂前駆体としては、光重合性モノマー、光重合性オリゴマー、または光重合性ポリマーが挙げられ、これらを適宜調整して、用いることができる。光硬化性樹脂前駆体としては、光重合性モノマーと、光重合性オリゴマーまたは光重合性ポリマーとの組み合わせが好ましい。
【００４２】
（光重合性モノマー）
光重合性モノマーは、重量平均分子量が１０００未満のものである。光重合性モノマーとしては、光重合性官能基を２つ（すなわち、２官能）以上有する多官能モノマーが好ましい。
【００４３】
２官能以上のモノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレート、ポリエステルトリ（メタ）アクリレート、ポリエステルジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールジ（メタ）アクリレート、ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレート、アダマンチルジ（メタ）アクリレート、イソボロニルジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレートや、これらをＰＯ、ＥＯ等で変性したものが挙げられる。
【００４４】
これらの中でも硬度が高い第１の機能層を得る観点から、ペンタエリスリトールトリアクリレート(ＰＥＴＡ）、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＴＡ）、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（ＤＰＰＡ）等が好ましい。
【００４５】
（光重合性オリゴマー）
光重合性オリゴマーは、重量平均分子量が１０００以上１００００未満のものである。光重合性オリゴマーとしては、２官能以上の多官能オリゴマーが好ましい。多官能オリゴマーとしては、ポリエステル（メタ）アクリレート、 ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル−ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリオール（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート、イソシアヌレート（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００４６】
（光重合性ポリマー）
光重合性ポリマーは、重量平均分子量が１００００以上のものであり、重量平均分子量としては１００００以上８００００以下が好ましく、１００００以上４００００以下がより好ましい。重量平均分子量が８００００を超える場合は、粘度が高いため塗工適性が低下してしまい、得られる光学積層体の外観が悪化するおそれがある。上記多官能ポリマーとしては、ウレタン（メタ）アクリレート、イソシアヌレート（メタ）アクリレート、ポリエステル−ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００４７】
熱硬化性樹脂前駆体としては、特に限定されず、例えば、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等のそれぞれの前駆体を挙げることができる。
【００４８】
溶剤乾燥型樹脂は、熱可塑性樹脂等、塗工時に固形分を調整するために添加した溶剤を乾燥させるだけで、被膜となるような樹脂である。溶剤乾燥型樹脂を添加した場合、第１の機能層１２を形成する際に、塗液の塗布面の被膜欠陥を有効に防止することができる。溶剤乾燥型樹脂としては特に限定されず、一般に、熱可塑性樹脂を使用することができる。
【００４９】
熱可塑性樹脂としては、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂及びゴム又はエラストマー等を挙げることができる。
【００５０】
熱可塑性樹脂は、非結晶性で、かつ有機溶媒（特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒）に可溶であることが好ましい。特に、透明性や耐候性という観点から、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体（セルロースエステル類等）等が好ましい。
【００５１】
＜微粒子＞
微粒子は、無機微粒子、有機微粒子、またはこれらの混合物であってもよい。無機微粒子としては、例えば、シリカ（ＳｉＯ２）微粒子、アルミナ微粒子、チタニア微粒子、酸化スズ微粒子、アンチモンドープ酸化スズ（略称；ＡＴＯ）微粒子、酸化亜鉛微粒子等の無機酸化物微粒子が挙げられる。
【００５２】
有機微粒子としては、例えば、プラスチック微粒子を挙げることができる。プラスチック微粒子としては、具体例としては、ポリスチレン微粒子、メラミン樹脂微粒子、アクリル微粒子、アクリル−スチレン共重合体微粒子、シリコーン微粒子、ベンゾグアナミン微粒子、ベンゾグアナミン・ホルムアルデヒド縮合微粒子、ポリカーボネート微粒子、ポリエチレン微粒子等が挙げられる。
【００５３】
第１の機能層１２を形成するためには、まず、透明基材１１の表面に、少なくとも非架橋性フッ素含有化合物および硬化性樹脂前駆体を含む第１の機能層用組成物を塗布する。次いで、塗膜状の第１の機能層用組成物を乾燥させるために加熱されたゾーンに搬送し、各種の公知の方法で第１の機能層用組成物を乾燥させ溶剤を蒸発させる。その後、塗膜状の第１の機能層用組成物に紫外線等の光を照射しおよび／または熱を加えて、硬化性樹脂前駆体を硬化（重合、架橋）させることにより第１の機能層用組成物を硬化させて、第１の機能層１２を形成する。
【００５４】
第１の機能層用組成物を塗布する方法としては、スピンコート、ディップ法、スプレー法、スライドコート法、バーコート法、ロールコート法、グラビアコート法、ダイコート法等の公知の塗布方法が挙げられる。
【００５５】
第１の機能層用組成物を硬化させる際の光として、紫外線を用いる場合には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等から発せられる紫外線等が利用できる。また、紫外線の波長としては、１９０〜３８０ｎｍの波長域を使用することができる。電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、又は直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。
【００５６】
第１の機能層用組成物には、非架橋性フッ素含有化合物および硬化性樹脂前駆体の他、必要に応じて、上記微粒子、上記熱可塑性樹脂、溶剤、重合開始剤を添加してもよい。さらに、ハードコート層用組成物には、ハードコート層の硬度を高くする、硬化収縮を抑える、屈折率を制御する等の目的に応じて、従来公知の分散剤、界面活性剤、帯電防止剤、シランカップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、難燃剤、紫外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤、易滑剤等を添加していてもよい。
【００５７】
＜溶剤＞
溶剤としては、例えば、アルコール（例、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ベンジルアルコール、ＰＧＭＥ、エチレングリコール）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、ジアセトンアルコール、シクロヘプタノン、ジエチルケトン等）、エーテル類（１，４−ジオキサン、ジオキソラン、ジイソプロピルエーテルジオキサン、テトラヒドロフラン等）、脂肪族炭化水素類（ヘキサン等）、脂環式炭化水素類（シクロヘキサン等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン等）、ハロゲン化炭素類（ジクロロメタン、ジクロロエタン等）、エステル類（蟻酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、乳酸エチル等）、セロソルブ類（メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（ジメチルスルホキシド等）、アミド類（ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等）等が例示でき、これらの混合物であってもよい。
【００５８】
＜重合開始剤＞
重合開始剤は、光照射により分解されて、ラジカルを発生して光硬化性樹脂前駆体の重合（架橋）を開始または進行させる成分である。
【００５９】
重合開始剤は、光照射によりラジカル重合を開始させる物質を放出することが可能であれば特に限定されない。重合開始剤としては、特に限定されず、公知のものを用いることができ、具体例には、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類、プロピオフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、アシルホスフィンオキシド類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、例えば、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホスフィン等が挙げられる。
【００６０】
上記重合開始剤としては、上記バインダ樹脂がラジカル重合性不飽和基を有する樹脂系の場合は、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等を単独又は混合して用いることが好ましい。
【００６１】
第１の機能層用組成物における重合開始剤の含有量は、光硬化性樹脂前駆体１００質量部に対して、０．５質量部以上１０．０質量部以下であることが好ましい。重合開始剤の含有量をこの範囲内にすることにより、ハードコート性能が充分に保つことができ、かつ硬化阻害を抑制できる。
【００６２】
第１の機能層用組成物中における原料の含有割合（固形分）としては特に限定されないが、通常は５質量％以上７０質量％以下が好ましく、２５質量％以上６０質量％以下とすることがより好ましい。
【００６３】
第１の機能層１３は、第１の機能層１２と第２の機能層１４との間に設けられた層であり、第１の機能層１２と第２の機能層１４に接している。
【００６４】
第１の機能層１３の屈折率は、１．５０以上２．００以下であってもよい。第１の機能層１３の屈折率の下限は、１．６０以上であってもよく、第１の機能層１３の屈折率の上限は、１．７５以下であってもよい。第１の機能層１３の屈折率は、上記第１の機能層１２の屈折率と同様の方法によって測定することができる。第１の機能層１２と第１の機能層１３との屈折率差は、０．０５以上０．２５以下であってもよい。
【００６５】
第１の機能層１３の膜厚は、２００ｎｍ以下となっていることが好ましい。第３の機能層１３の膜厚の下限は、４０ｎｍ以上であることが好ましく、５０ｎｍ以上であることがより好ましい。第１の機能層１３の膜厚の上限は、１７０ｎｍ以下であることが好ましく、１６０ｎｍ以下であることがより好ましい。
【００６６】
第１の機能層１３は、上述したように、非架橋性フッ素含有化合物と、バインダ樹脂とを含んでいるが、第１の機能層１３は、高屈折率層として機能するので、その他、高屈折率微粒子を含んでいる。
【００６７】
＜非架橋性フッ素含有化合物＞
非架橋性フッ素含有化合物としては、第１の機能層１２で述べた非架橋性フッ素含有化合物と同様のものを用いることができる。
【００６８】
＜バインダ樹脂＞
第１の機能層１３を構成するバインダ樹脂は特に制限されることがないが、表面硬度を高くする観点から、第１の機能層１２で述べた熱硬化性樹脂前駆体及び／又は光硬化性樹脂前駆体の硬化物からなるバインダ樹脂であることが好ましく、中でも光硬化性樹脂前駆体の硬化物であるバインダ樹脂であることがより好ましい。
【００６９】
＜高屈折率微粒子＞
高屈折率微粒子としては、金属酸化物微粒子が挙げられる。金属酸化物微粒子としては、具体的には、例えば、酸化チタン（ＴｉＯ２、屈折率：２．３〜２．７）、酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５、屈折率：２．３３）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２、屈折率：２．１０）、酸化アンチモン（Ｓｂ２Ｏ５、屈折率：２．０４）、酸化スズ（ＳｎＯ２、屈折率：２．００）、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ、屈折率：１．９５〜２．００）、酸化セリウム（ＣｅＯ２、屈折率：１．９５）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ、屈折率：１．９０〜２．００）、ガリウムドープ酸化亜鉛（ＧＺＯ、屈折率：１．９０〜２．００）、アンチモン酸亜鉛（ＺｎＳｂ２Ｏ６、屈折率：１．９０〜２．００）、酸化亜鉛（ＺｎＯ、屈折率：１．９０）、酸化イットリウム（Ｙ２Ｏ３、屈折率：１．８７）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ、屈折率：１．７５〜１．８５）、リンドープ酸化スズ（ＰＴＯ、屈折率：１．７５〜１．８５）、等が挙げられる。これらの中でも、屈折率の観点から、酸化ジルコニウムが好ましい。
【００７０】
第１の機能層１３は、例えば、第１の機能層１２の形成方法と同様の方法によって形成することが可能である。具体的には、まず、第１の機能層１２の表面に、少なくとも高屈折率微粒子と硬化性樹脂前駆体と非架橋性フッ素含有化合物と溶剤を含む第１の機能層用組成物を塗布する。
【００７１】
＜溶剤＞
第１の機能層用組成物に用いる溶剤としては、第１の機能層１２で述べた溶剤と同様のものを用いることができる。
【００７２】
次いで、塗膜状の第１の機能層用組成物を乾燥させるために加熱されたゾーンに搬送し、各種の公知の方法で第１の機能層用組成物を乾燥させて、溶剤を蒸発させる。その後、塗膜状の第１の機能層用組成物に紫外線等の光を照射しおよび／または熱を加えて、硬化性樹脂前駆体を重合（架橋）させることにより第１の機能層用組成物を硬化させて、第１の機能層１３を形成することができる。
【００７３】
＜＜第２の機能層＞＞
第２の機能層は、少なくとも耐擦傷性および防汚性を有する層である。本実施形態に係る積層体１０の第２の機能層１４は、第１の機能層１２、１３よりも低い屈折率を有する低屈折率層としても機能する。具体的には、第２の機能層１４の屈折率は、１．２０以上１．５０以下であってもよい。第２の機能層１４の屈折率の上限は、１．４９以下であってもよく、１．３２以下であってもよい。第２の機能層１４の屈折率は、上記第１の機能層１２の屈折率と同様の方法によって測定することができる。第２の機能層１４と第１の機能層１３との屈折率差は、０．１０以上０．２５以下であってもよい。
【００７４】
第２の機能層１４の表面１４Ａは、積層体１０の表面１０Ａをなしている。「積層体の表面」とは、積層体の透明基材側の面とは反対側の面を意味し、「第２の機能層の表面」とは、第２の機能層の第１の機能層側の面とは反対側の面を意味する。
【００７５】
第２の機能層１４の膜厚は、１２０ｎｍ以下となっていることが好ましい。第２の機能層１４の膜厚の下限は、７０ｎｍ以上であることが好ましく、７５ｎｍ以上であることがより好ましい。第２の機能層１４の膜厚の上限は、１１０ｎｍ以下であることが好ましく、１００ｎｍ以下であることがより好ましい。
【００７６】
第２の機能層１４は、第１の機能層１３上に塗布された第２の機能層用組成物の硬化物からなる層である。第２の機能層用組成物は、微粒子、架橋性ケイ素含有化合物、架橋性フッ素含有化合物、および硬化性樹脂前駆体を含む。さらに溶剤を第２の機能層用組成物に本発明の効果を阻害しない範囲で適宜含ませることができる。第２の機能層１４は、第２の機能層用組成物を第１の機能層１２上に塗布し、乾燥させ、その後硬化させることによって、形成することができる。具体的には、まず、第１の機能層１３上に、第２の機能層用組成物を塗布する。次いで、塗膜状の第２の機能層用組成物を乾燥させるために加熱されたゾーンに搬送し、各種の公知の方法で第２の機能層用組成物を乾燥させ溶剤を蒸発させる。その後、塗膜状の第２の機能層用組成物に紫外線等の光を照射しおよび／または熱を加えて、硬化性樹脂前駆体を硬化（重合、架橋）させることにより第２の機能層用組成物を硬化させて、第２の機能層１４を形成することができる。
【００７７】
第２の機能層１４を構成する架橋性ケイ素含有化合物および架橋性フッ素含有化合物は、少なくとも第２の機能層１４の表面１４Ａに存在している。架橋性ケイ素含有化合物および架橋性フッ素含有化合物が第２の機能層の表面に存在しているか否かは、Ｘ線光電子分光分析装置（ＸＰＳ）によって確認できる。架橋性ケイ素含有化合物および架橋性フッ素含有化合物は、第２の機能層１４の表面１４Ａの他、第２の機能層の内部に存在していてもよい。
【００７８】
＜微粒子＞
微粒子としては、特に限定されないが、中空シリカ微粒子が好ましく、中空シリカ微粒子の中でも、６５ｎｍ以上８５ｎｍ以下の平均一次粒径を有する中空シリカ微粒子が好ましい。中空シリカ微粒子の平均一次粒径は、断面電子顕微鏡（ＴＥＭ、ＳＴＥＭ等の透過型で倍率が５万倍以上のものが好ましい）の画像から、画像処理ソフトウェアを用いて求められる値である。中空シリカ微粒子の平均一次粒径の下限は６８ｎｍ以上であってもよく、また７０ｎｍ以上であってもよい。中空シリカ微粒子の平均一次粒径の上限は８２ｎｍ以下であってもよく、８０ｎｍ以下であってもよい。平均一次粒径を６５ｎｍ以上８５ｎｍ以下の中空シリカ微粒子が好ましいとしたのは、中空シリカ微粒子の平均一次粒径がこの範囲であると、低反射率化を実現した場合に、より優れた滑り性および防汚性が得られるからであり、また中空シリカ微粒子の空隙比率がそれほど大きくならず、所望の硬度が得られ、また第２の機能層の膜厚が１００ｎｍ程度の場合には、中空シリカ微粒子の一部が低屈折率層から突き出てしまうおそれもないので、第２の低屈折率層が白濁するおそれもなく、また耐スチールウール試験時に、スチールウールが低屈折率層から突き出た中空シリカ微粒子に引っ掛かり、傷が生じてしまうおそれもないからである。
【００７９】
中空シリカ微粒子としては、表面に光重合性官能基を有していることが好ましい。このような表面に光重合性官能基を有するシリカ微粒子は、シランカップリング剤等によってシリカ微粒子を表面処理することによって作成することができる。シリカ微粒子の表面をシランカップリング剤で処理する方法としては、シリカ微粒子にシランカップリング剤をスプレーする乾式法や、シリカ微粒子を溶剤に分散させてからシランカップリング剤を加えて反応させる湿式法等が挙げられる。
【００８０】
＜架橋性ケイ素含有化合物＞
架橋性ケイ素含有化合物は、滑り性を向上させて耐擦傷性を向上させるためのものである。架橋性ケイ素含有化合物は、架橋基として上記で説明した光重合性官能基を有している。このような架橋性ケイ素含有化合物を用いることにより、第２の機能層用組成物の硬化時に架橋性ケイ素含有化合物とバインダ樹脂を構成する硬化性樹脂前駆体とが架橋して、バインダ樹脂と架橋した架橋性ケイ素含有化合物が得られる。したがって、第２の機能層の状態においては、架橋性ケイ素含有化合物はバインダ樹脂と架橋している。
【００８１】
架橋性ケイ素含有化合物は、フッ素を含んでいてもよい。架橋性ケイ素含有化合物の市販品としては、例えば、信越化学株式会社製のX22-164EやＤＩＣ社製のRS-55等が挙げられる。なお、X22-164Eはフッ素を含まない架橋性ケイ素含有化合物であり、RS-55はフッ素を含む架橋性ケイ素含有化合物である。
【００８２】
架橋性ケイ素含有化合物の中でも、重量平均分子量が２，０００〜３０，０００の架橋性ケイ素含有化合物が好ましい。重量平均分子量が２，０００〜３０，０００の架橋性ケイ素含有化合物を用いることにより、後述するリフトアップ効果を確実に得ることができる。
【００８３】
中空シリカ微粒子とバインダ樹脂を構成する硬化性樹脂前駆体との合計量と、架橋性ケイ素含有化合物との配合割合は、重量基準で９５：５〜８５：１５であることが好ましい。この範囲が好ましいとしたのは、架橋性ケイ素含有化合物の割合が上記範囲内であると、滑り性がより向上するので、耐スチールウール性がより向上し、また塗工ムラを引き起こすおそれもないからである。
【００８４】
＜架橋性フッ素含有化合物＞
架橋性フッ素含有化合物は、防汚性を向上させるためのものである。架橋性フッ素含有化合物は、架橋基として上記で説明した光重合性官能基を有している。このような架橋性フッ素含有化合物を用いることにより、第２の機能層用組成物の硬化時に架橋性フッ素含有化合物とバインダ樹脂を構成する硬化性樹脂前駆体とが架橋して、バインダ樹脂と架橋した架橋性フッ素含有化合物が得られる。したがって、第２の機能層の状態においては、架橋性フッ素含有化合物はバインダ樹脂と架橋している。
【００８５】
架橋性フッ素含有化合物は、ケイ素を含んでいてもよい。ただし、上記架橋性ケイ素含有化合物がフッ素を含み、かつ架橋性フッ素含有化合物がケイ素を含む場合、架橋性フッ素含有化合物は、架橋性ケイ素含有化合物よりもケイ素原子に対するフッ素原子の割合（F/Si）が高い傾向がある。
【００８６】
架橋性フッ素含有化合物の中でも、重量平均分子量が２，０００〜３０，０００の架橋性フッ素含有化合物が好ましい。重量平均分子量が２，０００〜３０，０００の架橋性フッ素含有化合物を用いることにより、後述するリフトアップ効果を確実に得ることができる。
【００８７】
架橋性フッ素含有化合物の市販品としては、例えば、ダイキン社製のオプツールＤＡＣ、共栄社化学社製のLINC-3A-MI20（トリアクリロイルヘプタデカフルオロノネニルペンタエリスリトール）やLINC-102A（１，２−ジアクリロキシメチルパーフルオロシクロヘキサン）等のLINCシリーズや、ソルベイソレクシス社製のFluorolinkシリーズ、ＤＩＣ社製のRS-71等が挙げられる。
【００８８】
中空シリカ微粒子とバインダ樹脂を構成する硬化性樹脂前駆体との合計量と、フッ素含有化合物との配合割合（重量基準）は、９５：５〜８５：１５であることが好ましい。この範囲が好ましいとしたのは、架橋性フッ素含有化合物の割合が上記範囲内であると、防汚性がより向上し、また耐擦傷性の低下や塗工ムラを引き起こすおそれもないからである。
【００８９】
＜硬化性樹脂前駆体＞
第２の機能層１４のバインダ樹脂となる硬化性樹脂前駆体としては、特に限定されないが、熱硬化性樹脂前駆体及び／又は光硬化性樹脂前駆体が好ましく、中でも光硬化性樹脂前駆体がより好ましい。
【００９０】
熱硬化性樹脂前駆体としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、尿素メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂等のそれぞれの前駆体が挙げられる。熱硬化性樹脂前駆体を硬化させる際には、硬化剤を用いてもよい。
【００９１】
光硬化性樹脂前駆体としては、特に限定されないが、光重合性モノマー、オリゴマー、ポリマーを用いることができる。１官能の光重合性モノマーとしては、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等が挙げられる。また、２官能以上の光重合性モノマーとしては、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、これらの化合物をエチレンオキサイド、ポリエチレンオキサイド等で変性した化合物等が挙げられる。
【００９２】
また、硬化性樹脂前駆体として、硬化性フッ素樹脂前駆体を用いてもよい。硬化性樹脂前駆体として硬化性フッ素樹脂前駆体を用いることにより、更なる低屈折率化を図ることができる。「硬化性フッ素樹脂前駆体」とは、フッ素樹脂前駆体が硬化性を有し、硬化によってフッ素樹脂となるフッ素樹脂前駆体を意味する。硬化性フッ素樹脂前駆体は、表面改質剤としての架橋性フッ素含有化合物よりも低い官能基当量を有することが好ましい。
【００９３】
また、硬化性フッ素樹脂前駆体は、硬度低下を抑制する観点から、側鎖よりも主鎖にフッ素原子を多く含むことが好ましいと考えられる。一方、表面改質剤としての架橋性フッ素含有化合物は、ブリードアウトしやすく、また防汚性を高めるために主鎖よりも側鎖にフッ素原子を多く含むことが好ましいと考えられる。
【００９４】
硬化性フッ素樹脂前駆体としては、例えば、下記式（１）の硬化性フッ素樹脂前駆体が挙げられる。
【化１】
0006460471.tif 000002
式中、Ｒｆ１は、少なくとも炭素原子およびフッ素原子を含み、酸素原子および／または水素原子を含んでいてもよい、鎖状または環状の（ｍ＋ｎ）価のフッ化炭化水素基を表す。Ｒｆ２は、それぞれ独立して、少なくとも炭素原子およびフッ素原子を含み、酸素原子および／または水素原子を含んでもよい、鎖状または環状の２価のフッ化炭化水素基を表す。Ｑは重合性基を表す。ｍおよびｎは、それぞれ独立して、０以上の整数（ただし、ｍ＋ｎ≧２）を表す。
【００９５】
Ｒｆ１における水素原子数／フッ素原子数は１／４以下であることが好ましく、１／９以下であることがより好ましく、水素原子を実質的に含まないことが特に好ましい。Ｒｆ１の具体例を下記式（２）〜（１１）に示すが、Ｒｆ１はこれに限定されない。
【化２】
0006460471.tif 000003
【００９６】
Ｒｆ２としては、炭素数１〜１２の直鎖状または分岐鎖状のパーフルオロアルキレン基が好ましい。パーフルオロアルキレン基としては、例えば、ジフルオロメチレン基（−ＣＦ２−）、パーフルオロメチルメチレン基（−ＣＦ（ＣＦ３）−）、パーフルオロエチルメチレン基（−ＣＦ（ＣＦ２ＣＦ３）−）、パーフルオロエチレン基（−ＣＦ２ＣＦ２−）、パーフルオロプロピレン基（−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−）等が挙げられる。これらの中でも、パーフルオロエチレン基が好ましい。
【００９７】
Ｑとしては、ラジカル、カチオン、又は縮重合性の基であることが好ましく、−ＣＯＣ（Ｒ０）＝ＣＨ２、アリル基、エポキシアルキレン基、−（ＣＨ２）ｘＳｉ（ＯＷ）３、−（ＣＨ２）ｙＮＣＯまたは−（ＣＨ２）ｚＣＮであることがより好ましい。ここで、Ｒ０は水素原子、ハロゲン原子または置換基を有していてもよいアルキル基を表し、Ｗはアルコキシ基または水酸基を表し、ｘ、ｙおよびｚはそれぞれ１以上の整数を表し、３個のＷは互いに異なってもよい。Ｒ０におけるアルキル基の置換基としてはどのような置換基でも構わないが、ハロゲン原子が好ましい。ｎが２以上のときは、複数のＱは同一でもあってもよいが、異なっていてもよい。
【００９８】
上記式（１）で示される硬化性フッ素樹脂前駆体においては、フッ素含有率がこのフッ素含有化合物の分子量の３５質量％以上であることが好ましく、３５質量％以上７０質量％以下であることがより好ましく、３７質量％以上６０質量％以下であることが最も好ましい。
【００９９】
上記式（１）で表される硬化性フッ素樹脂前駆体は、下記式（１Ａ）で表される化合物であることが好ましい。
【化３】
0006460471.tif 000004
式中、Ｒｆ１、Ｒｆ２、ｍおよびｎはそれぞれ上記式（１）と同じ意味であり、Ｒは水素原子、フッ素原子、メチル基またはトリフルオロメチル基を表し、これらの中でもＲは水素原子であることが好ましい。
【０１００】
上記式（１）で示される硬化性フッ素樹脂前駆体の具体例を以下に示すが、これに限定されない。
【０１０１】
【化４】
0006460471.tif 000005
【０１０２】
【化５】
0006460471.tif 000006
【０１０３】
【化６】
0006460471.tif 000007
【０１０４】
【化７】
0006460471.tif 000008
【０１０５】
【化８】
0006460471.tif 000009
【０１０６】
【化９】
0006460471.tif 000010
【０１０７】
これらの中でも、低屈折率および良好な耐スチールウール性を得る観点から、上記式（２５）で示される化合物が好ましい。
【０１０８】
また、硬化性フッ素樹脂前駆体としては、上記式（１）の他に、下記式（３３）〜（３６）で表される硬化性フッ素樹脂前駆体または下記式（３７）で表される群より選択される少なくとも１種のセグメントを有する硬化性フッ素樹脂前駆体が挙げられる。
【化１０】
0006460471.tif 000011
【０１０９】
【化１１】
0006460471.tif 000012
式（３７）中、ｘ、ｙはＦまたは（ＣＦ２）０〜１０ＣＦ３を表す。
【０１１０】
＜溶剤＞
第２の機能層用組成物に用いる溶剤としては、第１の機能層用組成物に用いる溶剤と同様の溶剤を用いることができる。
【０１１１】
第１の機能層１２、１３が非架橋性フッ素含有化合物を含み、かつ第２の機能層用組成物が架橋性ケイ素含有化合物、架橋性フッ素含有化合物、硬化性樹脂前駆体、および溶剤を含むので、耐擦傷性および防汚性を顕著に向上させることができる。この理由は定かではないが、以下のように推測される。非架橋性フッ素含有化合物が第１の機能層中に存在した状態で、第２の機能層用組成物の塗膜を第１の機能層上に形成すると、例えば、第２の機能層用組成物の溶剤が第１の機能層に浸透することによって、第１の機能層中の非架橋性フッ素含有化合物が溶出し、第２の機能層用組成物の塗膜に入り込む。そして、第２の機能層用組成物の塗膜中に入り込んだ非架橋性フッ素含有化合物によって、この塗膜中の架橋性ケイ素含有化合物および架橋性フッ素含有化合物が第２の機能層用組成物の塗膜の表面付近まで押し上げられる（リフトアップ効果）。これにより、中空シリカ微粒子が存在していたとしても、架橋性ケイ素含有化合物および架橋性フッ素含有化合物がこの塗膜の表面により析出するようになるので、優れた耐擦傷性および防汚性を得ることができる。なお、第２の機能層用組成物に非架橋性フッ素含有化合物を加えることも考えられるが、第２の機能層用組成物に非架橋性フッ素含有化合物を加えると、非架橋性フッ素含有化合物が第２の機能層の表面に析出してしまい、耐擦傷性および防汚性が低下してしまうので、このような手法を採ることもできない。また、第１の機能層に含まれる非架橋性フッ素含有化合物の代わりに、架橋性フッ素含有化合物を用いることも考えられるが、架橋性フッ素含有化合物では第１の機能層の硬化時に第１の機能層中のバインダ樹脂と架橋してしまうので、第１の機能層から溶出しにくく、その結果、リフトアップ効果を期待できない。さらに、第１の機能層に含まれる非架橋性フッ素含有化合物の代わりに、非架橋性フッ素非含有ケイ素含有化合物を用いることも考えられるが、非架橋性フッ素非含有ケイ素含有化合物を用いた場合には、理由は定かではないが、架橋性ケイ素含有化合物および架橋性フッ素含有化合物が第２の機能層の表面に析出しにくい。
【０１１２】
多量の架橋性ケイ素含有化合物および架橋性フッ素含有化合物を第２の機能層に添加すると、積層体の全ヘイズ値が上昇し、白濁感が生じることがある。これに対し、本実施形態によれば、非架橋性フッ素含有化合物による架橋性ケイ素含有化合物および架橋性フッ素含有化合物の押し上げによって耐擦傷性および防汚性を向上させるので、多量の架橋性ケイ素含有化合物および架橋性フッ素含有化合物を必要としない。このため、積層体１０の全ヘイズ値を０．５％以下とすることができ、その結果、白濁感が生じにくい。
【０１１３】
本実施形態によれば、第２の機能層１４の中空シリカ微粒子として、平均一次粒径が６５ｎｍ以上８５ｎｍ以下の中空シリカ微粒子を用いているので、積層体１０の低反射率化を実現することができるとともに更に優れた耐擦傷性および防汚性を得ることができる。すなわち、第２の機能層の中空シリカ微粒子として、平均一次粒径が６５ｎｍ以上８５ｎｍ以下の中空シリカ微粒子を用いた場合、平均一次粒径が６０ｎｍ以下の中空シリカ微粒子を用いた場合に比べて、少ない量で反射率を低下させることができる。一方、第２の機能層中の平均一次粒径が６５ｎｍ以上８５ｎｍ以下の中空シリカ微粒子は、平均一次粒径が６０ｎｍ以下の中空シリカ微粒子を用いる場合に比べて、少ない量で済むので、第２の機能層の形成時に架橋性ケイ素含有化合物が第２の機能層の表面に析出（ブリードアウト）しやすい。このため、第２の機能層の表面に架橋性ケイ素含有化合物をより多く存在させることができる。また、中空シリカ微粒子は空隙を有しているので、中空シリカ微粒子の強度はさほど高くなく、さらに第２の機能層中に中空シリカ微粒子が多量に存在すると、第２の機能層中のバインダ樹脂の量が減ってしまう。したがって、第２の機能層中に中空シリカ微粒子が多量に存在すると、第２の機能層の硬度が低下してしまう。これに対し、平均一次粒径が６５ｎｍ以上８５ｎｍ以下の中空シリカ微粒子を用いた場合、平均一次粒径が６０ｎｍ以下の中空シリカ微粒子を用いた場合に比べて、第２の機能層中の中空シリカ微粒子の量を低減でき、また第２の機能層中のバインダ樹脂の量を増やすことができる。このため、第２の機能層の硬度を高めることができる。これにより、第２の機能層の表面に対し、♯００００番のスチールウールを用いて荷重を加えながら１０往復擦る耐スチールウール試験を行った場合に、第２の機能層の表面に傷が確認されない最大荷重を２００ｇ／ｃｍ２以上とすることができる。また、上記したように、第２の機能層中の平均一次粒径が６５ｎｍ以上８５ｎｍ以下の中空シリカ微粒子は、平均一次粒径が６０ｎｍ以下の中空シリカ微粒子を用いる場合に比べて、少ない量で済むので、第２の機能層の形成時にフッ素含有化合物が第２の機能層の表面に析出しやすい。このため、低屈折率層の表面にフッ素含有化合物をより多く存在させることができるので、防汚性を向上させることができる。これにより、低反射率化を実現でき、かつ更に優れた耐擦傷性および防汚性を得ることができる。
【０１１４】
本実施形態によれば、第２の機能層１４が、平均一次粒径が６５ｎｍ以上８５ｎｍ以下の中空シリカ微粒子を含むので、低屈折率層の表面に可視光の波長よりも十分に小さい凹凸を形成することができる。これにより、モスアイ（蛾の目）構造の積層体と同様の反射防止効果も期待できる。
【０１１５】
＜＜＜偏光板＞＞＞
積層体１０は、例えば、偏光板に組み込んで使用することができる。図２は本実施形態に係る積層体を組み込んだ偏光板の概略構成図である。図２に示されるように偏光板２０は、積層体１０と、偏光素子２１と、保護フィルム２２とを備えている。偏光素子２１は、透明基材１１における第１の機能層１２が形成されている面とは反対側の面に形成されている。保護フィルム２２は、偏光素子２１の積層体１０が設けられている面とは反対側の面に設けられている。保護フィルム２２は位相差フィルムであってもよい。
【０１１６】
偏光素子２１としては、例えば、ヨウ素等により染色し、延伸したポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等が挙げられる。積層体１０と偏光素子２１とを積層する際には、予め光透過性基材１１に鹸化処理を施すことが好ましい。鹸化処理を施すことによって、接着性が良好になり帯電防止効果も得ることができる。
【０１１７】
＜＜＜液晶パネル＞＞＞
積層体１０や偏光板２０は、表示パネルに組み込んで使用することができる。図３は本実施形態に係る積層体を組み込んだ表示パネルの一例である液晶パネルの概略構成図である。
【０１１８】
図３に示される液晶パネル３０は、光源側（バックライトユニット側）から観察者側に向けて、トリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣフィルム）等の保護フィルム３１、偏光素子３２、位相差フィルム３３、透明粘着層３４、表示素子３５、透明粘着層３６、位相差フィルム３７、偏光素子２１、積層体１０の順に積層された構造を有している。表示パネル２０は、表示素子２５と、表示素子２５よりも観察者側に配置された積層体２９とを備えていればよく、保護フィルム２１等は備えていなくともよい。
【０１１９】
表示素子２５は液晶表示素子である。ただし、表示パネルが液晶パネルでない場合、例えば、表示パネルが有機ＥＬパネルの場合には、表示素子は有機ＥＬ表示素子となる。液晶表示素子は、２枚のガラス基材間に、液晶層、配向膜、電極層、カラーフィルタ等を配置したものである。
【０１２０】
＜＜＜画像表示装置＞＞＞
積層体１０、偏光板２０、液晶パネル３０は、画像表示装置に組み込んで使用することができる。画像表示装置としては、例えば液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）、タッチパネル、タブレットＰＣ、電子ペーパー等が挙げられる。図４は本実施形態に係る積層体を組み込んだ画像表示装置の一例である液晶ディスプレイの概略構成図である。
【０１２１】
図４に示される画像表示装置４０は、バックライトユニット４１と、バックライトユニット４１よりも観察者側に配置された、積層体１０を備える液晶パネル３０とから構成されている。バックライトユニット４１としては、公知のバックライトユニットが使用できる。
【実施例】
【０１２２】
本発明を詳細に説明するために、以下に実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらの記載に限定されない。なお、下記の「固形分１００％換算値」とは、溶剤希釈品中の固形分を１００％としたときの値である。
【０１２３】
＜ハードコート層用組成物の調製＞
まず、下記に示す組成となるように各成分を配合して、ハードコート層用組成物を得た。
（ハードコート層用組成物１）
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ」、日本化薬社製）：１００質量部
・重合開始剤（製品名「イルガキュア１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：４質量部
・非架橋性フッ素含有化合物（製品名「Ｆ５６８」、ＤＩＣ社製）：０．１質量部（固形分１００％換算値）
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１２０質量部
【０１２４】
（ハードコート層用組成物２）
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ」、日本化薬社製）：１００質量部
・重合開始剤（製品名「イルガキュア１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：４質量部
・非架橋性フッ素含有化合物（製品名「Ｆ５６８」、ＤＩＣ社製）：０．３質量部（固形分１００％換算値）
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１２０質量部
【０１２５】
（ハードコート層用組成物３）
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ」、日本化薬社製）：１００質量部
・重合開始剤（製品名「イルガキュア１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：４質量部
・非架橋性フッ素含有化合物（製品名「Ｆ５６８」、ＤＩＣ社製）：０．５質量部（固形分１００％換算値）
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１２０質量部
【０１２６】
（ハードコート層用組成物４）
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ」、日本化薬社製）：１００質量部
・重合開始剤（製品名「イルガキュア１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：４質量部
・非架橋性フッ素含有化合物（製品名「Ｆ４７７」、ＤＩＣ社製）：０．１質量部（固形分１００％換算値）
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１２０質量部
【０１２７】
（ハードコート層用組成物５）
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ」、日本化薬社製）：１００質量部
・重合開始剤（製品名「イルガキュア１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：４質量部
・非架橋性フッ素含有化合物（製品名「Ｆ５５６」、ＤＩＣ社製）：０．１質量部
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１２０質量部
【０１２８】
（ハードコート層用組成物６）
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ」、日本化薬社製）：１００質量部
・重合開始剤（製品名「イルガキュア１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：４質量部
・非架橋性フッ素含有化合物（製品名「Ｆ５５８」、ＤＩＣ社製）：０．１質量部
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１２０質量部
【０１２９】
（ハードコート層用組成物７）
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ」、日本化薬社製）：１００質量部
・重合開始剤（製品名「イルガキュア１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：４質量部
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１２０質量部
【０１３０】
（ハードコート層用組成物８）
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ」、日本化薬社製）：１００質量部
・重合開始剤（製品名「イルガキュア１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：４質量部
・非架橋性フッ素非含有ケイ素含有化合物（製品名「ＫＰ１１２」、信越化学社製）：０．１質量部
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１２０質量部
【０１３１】
（ハードコート層用組成物９）
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ」、日本化薬社製）：１００質量部
・重合開始剤（製品名「イルガキュア１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：４質量部
・非架橋性フッ素非含有ケイ素含有化合物（製品名「ＫＰ３４１」、信越化学社製）：０．１質量部
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１２０質量部
【０１３２】
＜高屈折率層用組成物の調製＞
下記に示す組成となるように各成分を配合して、高屈折率層用組成物を得た。
（高屈折率層用組成物１）
・五酸化アンチモン微粒子（平均一次粒径２０ｎｍ）：４００質量部（固形分１００％換算値）
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ」、日本化薬社製）：１００質量部
・重合開始剤（製品名「イルガキュア１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：４質量部
・非架橋性フッ素含有化合物（製品名「Ｆ５６８」、ＤＩＣ社製）：１５質量部（固形分１００％換算）
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１６０００質量部
【０１３３】
（高屈折率層用組成物２）
・五酸化アンチモン微粒子（平均一次粒径２０ｎｍ）：４００質量部（固形分１００％換算値）
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ」、日本化薬社製）：１００質量部
・重合開始剤（製品名「イルガキュア１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：４質量部
・非架橋性フッ素含有化合物（製品名「Ｆ４７７」、ＤＩＣ社製）：１５質量部（固形分１００％換算値）
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１６０００質量部
【０１３４】
（高屈折率層用組成物３）
・五酸化アンチモン微粒子（平均一次粒径２０ｎｍ）：４００質量部（固形分１００％換算値）
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ」、日本化薬社製）：１００質量部
・重合開始剤（製品名「イルガキュア１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：４質量部
・非架橋性フッ素含有化合物（製品名「Ｆ５５６」、ＤＩＣ社製）：１５質量部
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１６０００質量部
【０１３５】
（高屈折率層用組成物４）
・五酸化アンチモン微粒子（平均一次粒径２０ｎｍ）：４００質量部（固形分１００％換算値）
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ」、日本化薬社製）：１００質量部
・重合開始剤（製品名「イルガキュア１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：４質量部
・非架橋性フッ素含有化合物（製品名「Ｆ５５８」、ＤＩＣ社製）：１５質量部
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１６０００質量部
【０１３６】
（高屈折率層用組成物５）
・五酸化アンチモン微粒子（平均一次粒径２０ｎｍ）：４００質量部（固形分１００％換算値）
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ」、日本化薬社製）：１００質量部
・重合開始剤（製品名「イルガキュア１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：４質量部
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１６０００質量部
【０１３７】
（高屈折率層用組成物６）
・五酸化アンチモン微粒子（平均一次粒径２０ｎｍ）：４００質量部（固形分１００％換算値）
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ」、日本化薬社製）：１００質量部
・重合開始剤（製品名「イルガキュア１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：４質量部
・非架橋性フッ素非含有ケイ素含有化合物（製品名「ＫＰ１１２」、信越化学社製）：１５質量部
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１６０００質量部
【０１３８】
（高屈折率層用組成物７）
・五酸化アンチモン微粒子（平均一次粒径２０ｎｍ）：４００質量部（固形分１００％換算値）
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ」、日本化薬社製）：１００質量部
・重合開始剤（製品名「イルガキュア１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：４質量部
・非架橋性フッ素非含有ケイ素含有化合物（製品名「ＫＰ３４１」、信越化学社製）：１５質量部
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：１６０００質量部
【０１３９】
＜低屈折率層用組成物の調製＞
下記に示す組成となるように各成分を配合して、低屈折率層用組成物を得た。
（低屈折率層用組成物１）
・中空シリカ微粒子（平均一次粒径７５ｎｍ）：１５０質量部（固形分１００％換算値）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ  ＰＥＴ−３０」、日本化薬社製）：２０質量部
・硬化性フッ素含有ポリマー（製品名「オプスターＪＮ３５」、ＪＳＲ社製）：８０質量部（固形分１００％換算値）
・重合開始剤（製品名「イルガキュア１２７」、ＢＡＳＦジャパン社製）：４質量部
・架橋性ケイ素含有化合物（製品名「Ｘ２２−１６４Ｅ」、信越化学社製）：１５質量部
・架橋性フッ素含有化合物（製品名「オプツールＤＡＣ」、ダイキン社製）：２５質量部（固形分１００％換算値）
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：８０００質量部
【０１４０】
（低屈折率層用組成物２）
・中空シリカ微粒子（平均一次粒径７５ｎｍ）：１５０質量部（固形分１００％換算値）
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（製品名「ＫＡＹＡＲＡＤ  ＰＥＴ−３０」、日本化薬社製）：２０質量部
・硬化性フッ素含有ポリマー（製品名「オプスターＪＮ３５」、ＪＳＲ社製）：８０質量部（固形分１００％換算値）
・重合開始剤（製品名「イルガキュア１２７」、ＢＡＳＦジャパン社製）：４質量部
・架橋性ケイ素含有化合物（製品名「Ｘ２２−１６４Ｅ」、信越化学社製）：３０質量部
・架橋性フッ素含有化合物（製品名「オプツールＤＡＣ」、ダイキン社製）：５０質量部（固形分１００％換算値）
・メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）：８０００質量部
【０１４１】
＜実施例１＞
透明基材としての厚さ４０μｍのトリアセチルセルロース基材（製品名「ＫＣ４ＵＡＷ」、コニカミノルタ社製）を準備し、トリアセチルセルロース基材の片面に、上記ハードコート用組成物１を塗布し、塗膜を形成した。次いで、形成した塗膜に対して、０．２ｍ／ｓの流速で７０℃の乾燥空気を１５秒間流通させた後、さらに１０ｍ／ｓの流速で７０℃の乾燥空気を３０秒間流通させて乾燥させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させ、紫外線を窒素雰囲気（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）下にて積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を硬化させることにより、屈折率が１．５２および膜厚が８μｍのハードコート層を形成した。次いで、ハードコート層上に、上記高屈折率層用組成物１を塗布し、塗膜を形成した。そして、形成した塗膜を、４０℃で１分間乾燥させた後、窒素雰囲気（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）下にて、積算光量１００ｍＪ／ｃｍ２で紫外線照射を行って硬化させて、屈折率が１．６３および膜厚が１５０ｎｍの高屈折率層を形成した。次いで、高屈折率層上に、低屈折率層用組成物１を塗布し、塗膜を形成した。そして、形成した塗膜を、４０℃で１分間乾燥させた後、窒素雰囲気（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）下にて、積算光量１００ｍＪ／ｃｍ２で紫外線照射を行って硬化させて、屈折率が１．２９および膜厚が１００ｎｍの低屈折率層を形成した。これにより、実施例１に係る積層体を作製した。
【０１４２】
＜実施例２＞
実施例２においては、ハードコート層用組成物１に代えてハードコート層用組成物２を用いてハードコート層を形成した以外は、実施例１と同様にして、積層体を作製した。
【０１４３】
＜実施例３＞
実施例３においては、ハードコート層用組成物１に代えてハードコート層用組成物３を用いてハードコート層を形成した以外は、実施例１と同様にして、積層体を作製した。
【０１４４】
＜実施例４＞
実施例４においては、ハードコート層用組成物１に代えてハードコート層用組成物４を用いてハードコート層を形成し、かつ高屈折率層用組成物１に代えて高屈折率層用組成物２を用いて高屈折率層を形成した以外は、実施例１と同様にして、積層体を作製した。
【０１４５】
＜実施例５＞
実施例５においては、ハードコート層用組成物１に代えてハードコート層用組成物５を用いてハードコート層を形成し、かつ高屈折率層用組成物１に代えて高屈折率層用組成物３を用いて高屈折率層を形成した以外は、実施例１と同様にして、積層体を作製した。
【０１４６】
＜実施例６＞
実施例６においては、ハードコート層用組成物１に代えてハードコート層用組成物６を用いてハードコート層を形成し、かつ高屈折率層用組成物１に代えて高屈折率層用組成物４を用いて高屈折率層を形成した以外は、実施例１と同様にして、積層体を作製した。
【０１４７】
＜実施例７＞
実施例７においては、ハードコート層用組成物１に代えてハードコート層用組成物７を用いてハードコート層を形成した以外は、実施例１と同様にして、積層体を作製した。
【０１４８】
＜実施例８＞
実施例８においては、高屈折率層用組成物１に代えて高屈折率層用組成物５を用いて高屈折率層を形成した以外は、実施例１と同様にして、積層体を作製した。
【０１４９】
＜比較例１＞
比較例１においては、ハードコート層用組成物１に代えてハードコート層用組成物７を用いてハードコート層を形成し、かつ高屈折率層用組成物１に代えて高屈折率層用組成物５を用いて高屈折率層を形成した以外は、実施例１と同様にして、積層体を作製した。
【０１５０】
＜比較例２＞
比較例２においては、ハードコート層用組成物１に代えてハードコート層用組成物７を用いてハードコート層を形成し、高屈折率層用組成物１に代えて高屈折率層用組成物５を用いて高屈折率層を形成し、かつ低屈折率層用組成物１に代えて低屈折率層用組成物２を用いて低屈折率層を形成した以外は、実施例１と同様にして、積層体を作製した。
【０１５１】
＜比較例３＞
比較例３においては、ハードコート層用組成物１に代えてハードコート層用組成物８を用いてハードコート層を形成し、かつ高屈折率層用組成物１に代えて高屈折率層用組成物６を用いて高屈折率層を形成した以外は、実施例１と同様にして、積層体を作製した。
【０１５２】
＜比較例４＞
比較例４においては、ハードコート層用組成物１に代えてハードコート層用組成物９を用いてハードコート層を形成し、かつ高屈折率層用組成物１に代えて高屈折率層用組成物７を用いて高屈折率層を形成した以外は、実施例１と同様にして、積層体を作製した。
【０１５３】
＜比較例５＞
比較例５においては、高屈折率層用組成物１に代えて高屈折率層用組成物６を用いて高屈折率層を形成した以外は、実施例１と同様にして、積層体を作製した。
【０１５４】
＜比較例６＞
比較例６においては、高屈折率層用組成物１に代えて高屈折率層用組成物７を用いて高屈折率層を形成した以外は、実施例１と同様にして、積層体を作製した。
【０１５５】
＜耐擦傷性評価＞
実施例および比較例に係る積層体の低屈折率層の表面（積層体の表面）を、スチールウール♯００００（製品名「ボンスター」、日本スチールウール株式会社製）を用い、荷重２００ｇ／ｃｍ２を加えながら、速度１００ｍｍ／秒で１０往復擦った後、それぞれのトリアセチルセルロース基材におけるハードコート層が形成されている面とは反対側の面に黒いテープを貼り、傷の有無を３波長蛍光ランプ下での目視により評価した。評価基準は以下の通りとした。
○：傷が無かった。
△：傷が数本あった。
×：傷が多数あった。
【０１５６】
＜防汚性評価＞
指紋に対する防汚性評価
実施例および比較例に係る積層体の低屈折率層の表面（積層体の表面）に、それぞれ、指紋を付着させた後、旭化成株式会社製のベンコットＭ−３で拭取り、拭取りやすさを目視にて確認した。評価基準は以下の通りとした。
◎：指紋が容易または比較的容易に拭取れた。
○：指紋を拭き取ることはできたが、容易ではなかった。
×：指紋を拭取ることができなかった。
【０１５７】
＜反射Ｙ値測定＞
実施例および比較例に係る積層体について、分光光度計（ＭＰＣ３１００、島津製作所株式会社製）を用いて、反射Ｙ値を測定した。具体的には、それぞれのフィルムにおける低屈折率層の表面側から入射角度５度の光を照射し、それぞれのフィルムで反射された正反射方向の反射光を受光して、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの波長範囲の反射率を測定し、その後、人間が目で感じる明度として換算するソフトウェア（例えば、ＭＰＣ３１００に内蔵されたソフトウェア）によって反射Ｙ値を算出した。なお、反射Ｙ値の測定は、トリアセチルセルロース基材におけるハードコート層が形成されている面とは反対側の面（裏面）に黒テープ（寺岡製作所製）を貼り付けた状態で行った。
【０１５８】
以下、結果を表１に示す。
【表１】
0006460471.tif 000013
【０１５９】
表１に示されるように、比較例１〜６においては、ハードコート層や高屈折率層に非架橋性フッ素含有化合物を含んでいなかったので、低屈折率層に架橋性ケイ素含有化合物および架橋性フッ素含有化合物が含まれていたとしても、耐擦傷性および防汚性に劣っていた。これに対し、実施例１〜８においては、ハードコート層および／または高屈折率層に非架橋性フッ素含有化合物を含んでいたので、耐擦傷性および防汚性が良好であった。これは、低屈折率層形成時に架橋性ケイ素含有化合物および架橋性フッ素含有化合物が非架橋性フッ素含有化合物によってリフトアップされ、架橋性ケイ素含有化合物および架橋性フッ素含有化合物が低屈折率層の表面に多く存在したためであると考えられる。
【符号の説明】
【０１６０】
１０…積層体
１０Ａ…表面
１１…透明基材
１２…第１の機能層
１３…第１の機能層
１４…第２の機能層
１４Ａ…表面
２０…偏光板
２１…偏光素子
３０…液晶表示パネル
４０…画像表示装置
【図１】
0006460471.tif 000014
【図２】
0006460471.tif 000015
【図３】
0006460471.tif 000016
【図４】
0006460471.tif 000017