(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記のタッチパネルペン（Ａ）用の筆記シートであって、該筆記シートは、カットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ  Ｂ０６０１：２００１の最大高さ粗さＲｚ０．８及び粗さ曲線の最大山高さＲｐ０．８、並びに、カットオフ値２．５ｍｍのＪＩＳ  Ｂ０６０１：２００１の算術平均粗さＲａ２．５及び十点平均粗さＲｚＪＩＳ２．５が、下記条件（１）及び（２）を満たす表面を有し、かつ該筆記シートのＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００のヘイズが下記条件（３）を満たす、タッチパネルペン用筆記シート。
０．４５≦Ｒｐ０．８／Ｒｚ０．８≦０．５８  （１）
ＲｚＪＩＳ２．５／Ｒａ２．５≦６．０  （２）
ヘイズが５．０％未満  （３）
＜タッチパネルペン（Ａ）＞
タッチパネルペンを構成するペン先及び軸の構造体の見掛けのヤング率をＥ、ペン先の直径をＤ、ペン先の単位測定区間（０．５ｍｍ）における断面曲線の算術平均高さをＰａとした際に、下記式（ｉ）から導かれるＸが５００ＭＮ／ｍ超であるタッチパネルペン。
Ｘ（ＭＮ／ｍ）＝［Ｅ×Ｄ×Ｄ］／Ｐａ  （ｉ）
【請求項２】
カットオフ値２．５ｍｍのＪＩＳ  Ｂ０６０１：１９９４の局部山頂平均間隔をＳ２．５とした際に、前記表面のＳ２．５が下記条件（４）を満たす、請求項１に記載のタッチパネルペン用筆記シート。
０．０３ｍｍ≦Ｓ２．５≦０．２５ｍｍ  （４）
【請求項３】
カットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ  Ｂ０６０１：２００１の算術平均粗さをＲａ０．８とした際に、前記表面のＲａ０．８が下記条件（５）を満たす、請求項１又は２に記載のタッチパネルペン用筆記シート。
０．０１μｍ≦Ｒａ０．８＜０．１０μｍ  （５）
【請求項４】
前記筆記シートについて、ＪＩＳ Ｋ７３７４：２００７に準拠して測定した写像性測定器の光学櫛の幅が０．１２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍ及び２．０ｍｍの透過像鮮明度をＣ０．１２５、Ｃ０．５、Ｃ１．０及びＣ２．０とした際に、Ｃ０．１２５、Ｃ０．５、Ｃ１．０及びＣ２．０の総和Ｃｓが２５０％以上である請求項１〜３の何れか１項に記載のタッチパネルペン用筆記シート。
【請求項５】
表面にシートを有するタッチパネルであって、該シートとして、請求項１〜４の何れか１項に記載のタッチパネルペン用筆記シートの前記条件（１）及び（２）を満たす側の面がタッチパネルの表面を向くように配置してなるタッチパネル。
【請求項６】
タッチパネルを有する表示装置であって、該タッチパネルが請求項５に記載のタッチパネルである表示装置。
【請求項７】
前記表示装置の表示素子の画素密度が３００ｐｐｉ以上である請求項６に記載の表示装置。
【請求項８】
カットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ  Ｂ０６０１：２００１の最大高さ粗さＲｚ０．８及び粗さ曲線の最大山高さＲｐ０．８、並びに、カットオフ値２．５ｍｍのＪＩＳ  Ｂ０６０１：２００１の算術平均粗さＲａ２．５及び十点平均粗さＲｚＪＩＳ２．５が下記条件（１）及び（２）を満たす表面を有し、
かつＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００のヘイズが下記条件（３）を満たすシートを、下記のタッチパネルペン（Ａ）用の筆記シートとして選別する、タッチパネルペン用筆記シートの選別方法。
０．４５≦Ｒｐ０．８／Ｒｚ０．８≦０．５８  （１）
ＲｚＪＩＳ２．５／Ｒａ２．５≦６．０  （２）
ヘイズが５．０％未満  （３）
＜タッチパネルペン（Ａ）＞
タッチパネルペンを構成するペン先及び軸の構造体の見掛けのヤング率をＥ、ペン先の直径をＤ、ペン先の単位測定区間（０．５ｍｍ）における断面曲線の算術平均高さをＰａとした際に、下記式（ｉ）から導かれるＸが５００ＭＮ／ｍ超であるタッチパネルペン。
Ｘ（ＭＮ／ｍ）＝［Ｅ×Ｄ×Ｄ］／Ｐａ  （ｉ）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、タッチパネルペン用筆記シート、タッチパネル及び表示装置、並びにタッチパネルペン用筆記シートの選別方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、タッチパネルは多くの携帯情報端末に搭載されるようになったこともあり、流通量が増加している。タッチパネルの表面には、種々の目的のために表面保護シートが貼着される場合がある。
【０００３】
従来主流であった抵抗膜式タッチパネルは、指やペンで繰り返し打点するような操作を行うことから、表面保護シートには高度な耐擦傷性が求められていた。
一方、現在の主流である静電容量式タッチパネルの表面保護シートには、指で操作する際の滑り性が求められている。従来の抵抗膜式は、複数個所を同時に検知できないため、画面上で指を動かすことはなかったものの、静電容量式タッチパネルは、複数個所を同時に検知可能であり、画面上で指を動かす操作が多いためである。
また、抵抗膜式及び静電容量式に共通して、タッチパネル用の表面保護シートには、指で操作した際の指紋の付着を防止したり、付着した指紋を拭取りやすくする性能が求められている。
【０００４】
上記のようなタッチパネル用の表面保護シートとしては、例えば、特許文献１〜２が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１５−１１４９３９号公報
【特許文献２】特開２０１４−１０９７１２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
静電容量式タッチパネルは、静電容量の変化を計測して触れた箇所を認識することから、接触物には一定の導電性が必要である。このため、静電容量式タッチパネルの出現当初は、指での操作性のみが検討されており、タッチパネルペンにより文字や絵を描くなどの筆記性は検討されていなかった。抵抗膜式パッチパネルにおいても、タッチパネルペンを用いた際の操作は打点が主流であり、文字や絵を描く際の筆記性は重視されていなかった。
しかし、近年、静電容量式タッチパネルや電磁誘導型タッチパネルに入力可能なタッチパネルペンが提案され始めたこと、タッチパネルペンによる文字入力や描画に対応したアプリケーションが増加してきたことから、タッチパネル用の表面保護シートには、タッチパネルペンでの良好な筆記感が求められている。
しかしながら、従来提案された特許文献１〜２のタッチパネル用の表面保護シートは、タッチパネルペンでの筆記感について何ら検討していない。
さらに、近年、表示素子は超高精細化している。このような超高精細の表示素子の解像度の低下を抑制しつつ、筆記感を良好にする表面保護シートは、特許文献１〜２等の先行技術文献では何ら検討していない。
【０００７】
本発明は、解像度の低下を抑制し、筆記感を良好にし得るタッチパネルペン用筆記シート、タッチパネル及び表示装置、並びにタッチパネルペン用筆記シートの選別方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは上記課題を解決すべく鋭意研究した結果、タッチパネルペンのペン先及び軸の構造体の硬さ（ヤング率Ｅ）、ペン先の直径Ｄ、及びペン先の粗さが筆記感に大きな影響を与えることを見出した。そして、さらに研究した結果、前記構造体のヤング率Ｅ、ペン先の直径Ｄ、及びペン先の粗さが特定の条件を満たすタッチパネルペンに対して、筆記感を良好にし得る表面形状を見出し、上記課題を解決するに至った。
本発明は、以下の［１］〜［８］のタッチパネルペン用筆記シート、タッチパネル及び表示装置、並びにタッチパネルペン用筆記シートの選別方法を提供する。
【０００９】
［１］下記のタッチパネルペン（Ａ）用の筆記シートであって、該筆記シートは、カットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ  Ｂ０６０１：２００１の最大高さ粗さＲｚ０．８及び粗さ曲線の最大山高さＲｐ０．８、並びに、カットオフ値２．５ｍｍのＪＩＳ  Ｂ０６０１：２００１の算術平均粗さＲａ２．５及び十点平均粗さＲｚＪＩＳ２．５が、下記条件（１）及び（２）を満たす表面を有し、かつ該筆記シートのＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００のヘイズが下記条件（３）を満たす、タッチパネルペン用筆記シート。
０．４５≦Ｒｐ０．８／Ｒｚ０．８≦０．５８  （１）
ＲｚＪＩＳ２．５／Ｒａ２．５≦６．０  （２）
ヘイズが５．０％未満  （３）
＜タッチパネルペン（Ａ）＞
タッチパネルペンを構成するペン先及び軸の構造体の見掛けのヤング率をＥ、ペン先の直径をＤ、ペン先の単位測定区間（０．５ｍｍ）における断面曲線の算術平均高さをＰａとした際に、下記式（ｉ）から導かれるＸが５００ＭＮ／ｍ超であるタッチパネルペン。
Ｘ（ＭＮ／ｍ）＝［Ｅ×Ｄ×Ｄ］／Ｐａ  （ｉ）
［２］カットオフ値２．５ｍｍのＪＩＳ  Ｂ０６０１：１９９４の局部山頂平均間隔をＳ２．５とした際に、前記表面のＳ２．５が下記条件（４）を満たす、上記［１］に記載のタッチパネルペン用筆記シート。
０．０３ｍｍ≦Ｓ２．５≦０．２５ｍｍ  （４）
［３］カットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ  Ｂ０６０１：２００１の算術平均粗さをＲａ０．８とした際に、前記表面のＲａ０．８が下記条件（５）を満たす、上記［１］又は［２］に記載のタッチパネルペン用筆記シート。
０．０１μｍ≦Ｒａ０．８＜０．１０μｍ  （５）
［４］前記筆記シートについて、ＪＩＳ Ｋ７３７４：２００７に準拠して測定した写像性測定器の光学櫛の幅が０．１２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍ及び２．０ｍｍの透過像鮮明度をＣ０．１２５、Ｃ０．５、Ｃ１．０及びＣ２．０とした際に、Ｃ０．１２５、Ｃ０．５、Ｃ１．０及びＣ２．０の総和Ｃｓが２５０％以上である上記［１］〜［３］の何れかに記載のタッチパネルペン用筆記シート。
【００１０】
［５］表面にシートを有するタッチパネルであって、該シートとして、上記［１］〜［４］の何れかに記載のタッチパネルペン用筆記シートの前記条件（１）及び（２）を満たす側の面がタッチパネルの表面を向くように配置してなるタッチパネル。
［６］タッチパネルを有する表示装置であって、該タッチパネルが上記［５］に記載のタッチパネルである表示装置。
［７］前記表示装置の表示素子の画素密度が３００ｐｐｉ以上である上記［６］に記載の表示装置。
［８］カットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ  Ｂ０６０１：２００１の最大高さ粗さＲｚ０．８及び粗さ曲線の最大山高さＲｐ０．８、並びに、カットオフ値２．５ｍｍのＪＩＳ  Ｂ０６０１：２００１の算術平均粗さＲａ２．５及び十点平均粗さＲｚＪＩＳ２．５が下記条件（１）及び（２）を満たす表面を有し、
かつＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００のヘイズが下記条件（３）を満たすシートを、下記のタッチパネルペン（Ａ）用の筆記シートとして選別する、タッチパネルペン用筆記シートの選別方法。
０．４５≦Ｒｐ０．８／Ｒｚ０．８≦０．５８  （１）
ＲｚＪＩＳ２．５／Ｒａ２．５≦６．０  （２）
ヘイズが５．０％未満  （３）
＜タッチパネルペン（Ａ）＞
タッチパネルペンを構成するペン先及び軸の構造体の見掛けのヤング率をＥ、ペン先の直径をＤ、ペン先の単位測定区間（０．５ｍｍ）における断面曲線の算術平均高さをＰａとした際に、下記式（ｉ）から導かれるＸが５００ＭＮ／ｍ超であるタッチパネルペン。
Ｘ（ＭＮ／ｍ）＝［Ｅ×Ｄ×Ｄ］／Ｐａ  （ｉ）
【発明の効果】
【００１１】
本発明のタッチパネルペン用筆記シート、タッチパネル及び表示装置は、解像度の低下を抑制しつつ、筆記感を良好にすることができる。また、本発明のタッチパネルペン用筆記シートの選別方法は、タッチパネルペンによる筆記試験を行わなくても、特定のタッチパネルペンの筆記感が良好であり、解像度の低下を抑制し得る筆記シートを選別することができ、筆記シートの製品設計、品質管理を効率よくすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明のタッチパネルペン用筆記シートの一実施形態を示す断面図である。
【図２】本発明のタッチパネルペン用筆記シートの他の実施形態を示す断面図である。
【図３】本発明のタッチパネルの一実施形態を示す断面図である。
【図４】本発明のタッチパネルの他の実施形態を示す断面図である。
【図５】ペン先及び軸の構造体の見掛けのヤング率Ｅの測定方法の概略図である。
【図６】タッチパネルペン（Ａ）の直径Ｄの算出方法を説明する図である。
【図７】摩擦係数の測定方法を説明する概略図である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
［タッチパネルペン用筆記シート］
本発明のタッチパネルペン用筆記シートは、下記のタッチパネルペン（Ａ）用の筆記シートであって、該筆記シートは、カットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ  Ｂ０６０１：２００１の最大高さ粗さＲｚ０．８及び粗さ曲線の最大山高さＲｐ０．８、並びに、カットオフ値２．５ｍｍのＪＩＳ  Ｂ０６０１：２００１の算術平均粗さＲａ２．５及び十点平均粗さＲｚＪＩＳ２．５が、下記条件（１）及び（２）を満たす表面を有し、かつ該筆記シートのＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００のヘイズが下記条件（３）を満たすものである。
０．４５≦Ｒｐ０．８／Ｒｚ０．８≦０．５８  （１）
ＲｚＪＩＳ２．５／Ｒａ２．５≦６．０  （２）
ヘイズが５．０％未満  （３）
＜タッチパネルペン（Ａ）＞
タッチパネルペンを構成するペン先及び軸の構造体の見掛けのヤング率をＥ、ペン先の直径をＤ、ペン先の単位測定区間（０．５ｍｍ）における断面曲線の算術平均高さをＰａとした際に、下記式（ｉ）から導かれるＸが５００ＭＮ／ｍ超であるタッチパネルペン。
Ｘ（ＭＮ／ｍ）＝［Ｅ×Ｄ×Ｄ］／Ｐａ  （ｉ）
なお、ヤング率Ｅの単位は「Ｎ／ｍ２」、ペン先の直径Ｄの単位は「ｍ」、算術平均高さＰａの単位は「ｍ」である。また、「Ｍ」は「メガ（１０６）」を意味する。
【００１４】
図１は、本発明のタッチパネルペン用筆記シート１０の一実施形態を示す断面図である。図１のタッチパネルペン用筆記シート１０は、プラスチックフィルム１の一方の面に樹脂層２を有している。図２のタッチパネルペン用筆記シート１０は、樹脂層２の単層構造となっている。
本発明のタッチパネルペン用筆記シートは、一方の表面が条件（１）及び（２）を満たしていてもよいし、両方の表面が条件（１）及び（２）を満たしていてもよい。
以下、タッチパネルペン用筆記シートのことを「筆記シート」と称する場合がある。また、以下、条件（１）及び（２）を満たす表面のことを「筆記面」と称する場合がある。
【００１５】
＜筆記面＞
本発明のタッチパネルペン用筆記シートは、少なくとも一方の表面が条件（１）及び（２）を満たすものである。
本発明では、条件（１）ではカットオフ値０．８ｍｍの粗さパラメータを用いる一方で、条件（２）ではカットオフ値２．５ｍｍの粗さパラメータを用いている。以下、この理由を説明する。
【００１６】
カットオフ値は、粗さ成分（高周波成分）と、うねり成分（低周波成分）とから構成される断面曲線から、うねり成分をカットする度合いを示す値である。言い換えると、カットオフ値は、断面曲線からうねり成分（低周波成分）をカットするフィルターの細かさを示す値である。カットオフ値が大きいと、フィルターが粗いため、うねり成分のうち大きなうねりはカットされるが、小さなうねりはカットされないこととなる。一方、カットオフ値が小さいと、フィルターが細かいため、うねり成分のほとんどがカットされることとなる。つまり、カットオフ値が小さい粗さパラメータは高周波成分の凹凸の影響が強く、カットオフ値が大きい粗さパラメータは低周波成分の凹凸の影響が強くなる。条件（１）のようなカットオフ値０．８ｍｍの粗さパラメータは、高周波成分（微小領域）の凹凸を示している。
一方、断面パラメータは、粗さ成分（高周波成分）及びうねり成分（低周波成分）の両方を含んだ凹凸であり、大きな領域の凹凸を示している。
【００１７】
本発明者らは、筆記シートの筆記感との関係について鋭意研究した。その結果、ペン先の物性が筆記感に大きく影響することを見出した。ここでいうペン先の物性とは、タッチパネルペンのペン先及び軸の構造体の硬さ（ヤング率Ｅ）、ペン先の直径Ｄ、及びペン先の粗さ（ペン先の断面曲線の算術平均高さＰａ）を元に上記式（ｉ）から算出される「Ｘ」である。Ｘが筆記感に大きく影響することは、以下のように説明できる。
まず、ヤング率Ｅは、ペン先の荷重による変形のしやすさを示す基本物性であり、ヤング率Ｅが小さいほどペン先は荷重により変形しやすい傾向となる。次に、直径Ｄの２乗は、荷重を分散する度合いを示し、直径Ｄの２乗が小さいほど荷重を分散しにくく、ペン先は荷重により変形しやすい傾向となる。つまり、「ヤング率Ｅ×直径Ｄ×直径Ｄ」が小さいほど、ペン先が変形しやすく、ペン先と筆記シートとが接触しやすいことを示している。次に、ペン先の断面曲線の算術平均高さＰａは、ペン先が筆記シートに接触する度合いを示す。具体的には、Ｐａが大きいほどペン先と筆記シートとは点接触することとなり、ペン先と筆記シートとの接触面積が少なくなる。したがって、［ヤング率Ｅ×直径Ｄ×直径Ｄ］÷Ｐａから算出される「Ｘ」の値が小さいほど、ペン先と筆記シートとが密着しやすいことを示し、筆記感に大きな影響を与えることとなる。
【００１８】
さらに本発明者らは、Ｘの値と表面形状と筆記感との関係について鋭意研究した。その結果、以下の（ａ）、（ｂ）を見出した。
（ａ）ペンを筆記シートに接触させた段階では筆記シートの表面にペン先が接地している。Ｘの値が大きい場合、ペン先は筆記シートの表面に密着しにくいため、筆記開始のきっかけは、ペン先が高周波成分（微小領域）の凸部を乗り越えることにあると考えられる。このため、書き始めの筆記感は、微小領域の凹凸（カットオフ値０．８ｍｍの粗さパラメータ）の影響が大きくなる。
（ｂ）書き始め以降の段階では、ペン先は大きな領域の凹凸表面に沿うように移動する。このため、書き始め以降の筆記感は、大きな領域の凹凸（カットオフ値２．５ｍｍの粗さパラメータ）の影響が大きくなる。
以上のように、Ｘの値が大きい場合、書き始めの筆記感は、微小領域の凹凸（カットオフ値０．８ｍｍの粗さパラメータ）の影響が大きくなる。一方、書き始め以降の筆記感は、大きな領域の凹凸（カットオフ値０．８ｍｍの粗さパラメータ）の影響が大きくなる。このため、本発明では、条件（１）ではカットオフ値０．８ｍｍの粗さパラメータを用いる一方で、条件（２）ではカットオフ値０．８ｍｍの粗さパラメータを用いている。
なお、文字を書いたり、図形を描いたりする際には、一瞬筆記を停止した後に再始動する場合が多い（例えば、筆記方向を転換する際には、通常は一瞬筆記を停止する。また、筆記箇所を移動する際にも一瞬筆記が停止する。）。本発明者らは、このような再始動の直後についても「書き始め」とみなしている。
【００１９】
条件（１）は、カットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ  Ｂ０６０１：２００１の最大高さ粗さＲｚ０．８、及びカットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ  Ｂ０６０１：２００１の粗さ曲線の最大山高さＲｐ０．８が、０．４５≦Ｒｐ０．８／Ｒｚ０．８≦０．５８を満たすことを要求している。
条件（１）のカットオフ値は０．８ｍｍである。条件（１）は高周波成分の凹凸を示しており、主として書き始めの筆記感に影響を与えるパラメータである。
【００２０】
条件（１）のＲｐ０．８／Ｒｚ０．８は、Ｒｚ（山高さの最大値と谷深さの最大値との和）中のＲｐ（山高さの最大値）の割合を示している。上述したように、ペンを筆記シートに接触させた段階では筆記シートの表面にペン先が接地している。Ｘの値が大きい場合、ペン先は筆記シートの表面に密着しにくいため、筆記開始のきっかけは、ペン先が高周波成分（微小領域）の凸部を乗り越えることにある。このため、Ｒｐ０．８／Ｒｚ０．８は書き始めの筆記感に大きな影響を与える。
本発明では、Ｒｐ０．８／Ｒｚ０．８を上記範囲内とすることにより、書き始めのペン先の摩擦抵抗が適切となり、書き始めの筆記感を良好にすることができる。また、Ｒｐ０．８／Ｒｚ０．８を上記範囲内とすることにより、筆記シートの表面にペンを静止させやすくできる。
一方、Ｒｐ０．８／Ｒｚ０．８が０．４５以下の場合、山の割合が少なすぎるため、摩擦抵抗が小さく滑った感触となり、書き始めの筆記感を良好にすることができない。なお、Ｒｐ０．８／Ｒｚ０．８が０．４５以下の場合、書き終わりにペンを静止させにくい。また、Ｒｐ０．８／Ｒｚ０．８が０．５８を超える場合、山の割合が多すぎるため引っかかりが大きくなり、書き始めの筆記感を良好にすることができない。
【００２１】
条件（１）は、０．４６≦Ｒｐ０．８／Ｒｚ０．８≦０．５７を満たすことが好ましく、０．４８≦Ｒｐ０．８／Ｒｚ０．８≦０．５６を満たすことがより好ましい。
【００２２】
条件（２）は、ＲｚＪＩＳ２．５／Ｒａ２．５が６．０以下であることを要求している。
Ｒａは粗さ曲線の平均を示す。一方、ＲｚＪＩＳは、粗さ曲線で最高の山頂から高い順に５番目までの山高さの平均と、最深の谷底から深い順に５番目までの谷深さの平均の和を示している。つまり、ＲｚＪＩＳ２．５／Ｒａ２．５は、粗さ曲線のランダム性の度合いを示スパラメータとなる。
ＲｚＪＩＳ２．５／Ｒａ２．５が条件（２）を満たさない場合、大きな領域において、極端に高い凸部、あるいは極端に低い凹部が存在することになる。このため、ＲｚＪＩＳ２．５／Ｒａ２．５が条件（２）を満たさない場合、筆記時に引っかかるような感触があり、書き始め以降の筆記感が低下してしまう。また、Ｒａが一定の値以下の場合においてＲｚＪＩＳ２．５／Ｒａ２．５が条件（２）を満たさない場合、極端に高い凸部、あるいは極端に低い凹部以外の箇所が略平坦である割合が増えるため、摩擦抵抗が低下して滑る感触となりやすい。
一方、条件（２）を満たしてＲｚＪＩＳ２．５／Ｒａ２．５が小さいことは、大きな領域の凹凸において、極端に高い凸部、あるいは極端に低い凹部が少ないことを意味する。条件（２）を満たす場合、引っかかるような感触や滑る感触が抑制され、書き始め以降の筆記感を良好にすることができる。
なお、条件（２）のパラメータとして、条件（１）のパラメータである「Ｒｐ０．８／Ｒｚ０．８」のカットオフ値を２．５ｍｍにしたパラメータを用いなかった理由は、カットオフ値を２．５ｍｍは領域が大きいため、Ｒｐ０．８／Ｒｚ０．８のような領域内の最大値を用いたパラメータでは測定領域ごとの誤差が大きすぎ、パラメータとしての信頼性が低くなるためである。
【００２３】
条件（２）は、ＲｚＪＩＳ２．５／Ｒａ２．５≦５．５を満たすことが好ましく、ＲｚＪＩＳ２．５／Ｒａ２．５≦５．０を満たすことがより好ましい。
なお、ＲｚＪＩＳ２．５／Ｒａ２．５が小さすぎる場合、筆記面の凹凸形状が規則的であるため、筆記時に違和感を受ける可能性がある。このため、ＲｚＪＩＳ２．５／Ｒａ２．５は２．０以上であることが好ましく、３．０以上であることがより好ましく、３．５以上であることがさらに好ましい。
【００２４】
＜ヘイズ＞
本発明のタッチパネルペン用筆記シートは、ＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００のヘイズが下記条件（３）を満たすものである。
ヘイズが５．０％未満  （３）
【００２５】
条件（３）を満たし、かつ上述した条件（１）及び（２）を満たすことにより、表示素子の解像度の低下を抑制しつつ、筆記感を良好にすることができる。特に、画素密度が３００ｐｐｉ以上の超高精細の表示素子の解像度の低下を抑制できる点で好適である。
【００２６】
ヘイズは３．０％以下であることが好ましく、１．０％以下であることがより好ましい。ヘイズの下限は特に限定されないが、０．１％以上であることが好ましく、０．２％以上であることがより好ましい。
ヘイズ及び後述の透過像鮮明度を測定する際は、筆記シートの筆記面とは反対側の表面から光を入射するものとする。筆記シートの両面が上記条件（１）及び（２）を満たす場合、光入射面はどちらの面であってもよい。
【００２７】
また、本発明の筆記シートは、カットオフ値２．５ｍｍのＪＩＳ  Ｂ０６０１：１９９４の局部山頂平均間隔をＳ２．５とした際に、筆記面のＳ２．５が下記条件（４）を満たすことが好ましい。
０．０３ｍｍ≦Ｓ２．５≦０．２５ｍｍ  （４）
条件（４）のカットオフ値は２．５ｍｍである。条件（４）は低周波成分の凹凸を示しており、主として書き始め以降の筆記感に影響を与えるパラメータである。条件（４）を満たすことにより、書き始め以降の摩擦抵抗が適切となり、書き始め以降の筆記感をより良好にすることができる。
条件（４）は、０．０３ｍｍ≦Ｓ２．５≦０．１５ｍｍを満たすことがより好ましく、０．０３ｍｍ≦Ｓ２．５≦０．１０ｍｍを満たすことがさらに好ましい。
なお、Ｓ２．５を０．０３ｍｍ以上とすることは、表示素子の解像度の低下の抑制につながる点で好適である。特に、画素密度が３００ｐｐｉ以上の超高精細の表示素子の解像度の低下を抑制できる点で好適である。
【００２８】
また、本発明の筆記シートの筆記面は、カットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ  Ｂ０６０１：２００１の算術平均粗さＲａ０．８が下記条件（５）を満たすことが好ましい。
０．０１μｍ≦Ｒａ０．８＜０．１０μｍ  （５）
Ｒａ０．８を上記範囲とすることにより、筆記感をより良好にすることができる。また、Ｒａ０．８を０．１０μｍ未満とすることは、表示素子の解像度が低下することを抑制できる点で好適である。特に、画素密度が３００ｐｐｉ以上の超高精細の表示素子の解像度の低下を抑制できる点で好適である。
条件（５）は、０．０１μｍ≦Ｒａ０．８≦０．０９μｍであることがより好ましく、０．０２μｍ≦Ｒａ０．８≦０．０８μｍであることがさらに好ましい。
【００２９】
また、本発明の筆記シートの筆記面は、カットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ  Ｂ０６０１：２００１の十点平均粗さＲｚＪＩＳ０．８が下記条件（６）を満たすことが好ましい。
０．０５μｍ≦ＲｚＪＩＳ０．８＜０．５０μｍ  （６）
ＲｚＪＩＳ０．８を上記範囲とすることにより、筆記感をより良好にすることができる。また、ＲｚＪＩＳ０．８を０．５０μｍ未満とすることは、表示素子の解像度が低下することを抑制できる点で好適である。特に、画素密度が３００ｐｐｉ以上の超高精細の表示素子の解像度の低下を抑制できる点で好適である。
条件（６）は、０．０５μｍ≦ＲｚＪＩＳ０．８≦０．４０μｍであることがより好ましく、０．１０μｍ≦ＲｚＪＩＳ０．８≦０．３０μｍであることがさらに好ましい。
【００３０】
さらに、本発明の筆記シートは、筆記面に対して、タッチパネルペン（Ａ）を６０度の角度で接触させた状態で固定し、該タッチパネルペン（Ａ）に垂直荷重１００ｇｆをかけながら１４ｍｍ／秒の速度で片道４０ｍｍの長さを走査した際のタッチパネルペン（Ａ）にかかる走査方向の動摩擦係数をμｋ、静摩擦係数をμｓとした際に、０．２５≦μｋ／μｓ≦０．４０の関係を満たすことが好ましい。なお、本発明において、動摩擦係数μｋは、全測定時間の動摩擦係数の平均値を意味する。静止摩擦係数は、摩擦力０から測定時間の経過に伴って、動摩擦係数以上となった最初の摩擦力のピークとする。摩擦係数の測定間隔は０．０２秒とすることが好ましい。
文字を書いたり、図形を描いたりする際には、一瞬筆記を停止した後に再始動する場合が多い（例えば、筆記方向を転換する際には、通常は一瞬筆記を停止する。また、筆記箇所を移動する際にも一瞬筆記が停止する。）。このように筆記を一瞬停止して再始動する際には、静止摩擦係数と動摩擦係数との差による影響をうけやすいが、μｋ／μｓを上記範囲とすることにより、筆記を一瞬停止して再始動する際にも思い描いた筆記が可能となる（例えば、思い通りの方向に筆記方向を転換できる）。本発明の筆記シートは、解像度の低下を抑制するために表面凹凸が少ないものである。このような表面凹凸が少ない筆記シートにおいて、ペン先が筆記シートの表面に密着しにくいタッチパネルペンを用いる場合、μｋ／μｓを上記範囲とすることが特に有効となる。
０．２５≦μｋ／μｓ≦０．４０の関係を満たすためには、上記条件（１）及び（２）満たすことが好ましく、上記条件（１）及び（２）に加えて、条件（４）〜（６）の一以上を満たすことがより好ましく、上記条件（１）、（２）、（４）〜（６）を全て満たすことがさらに好ましい。
また、上記効果をより良好にするためには、μｋ／μｓは、０．３０≦μｋ／μｓ≦０．４０の関係を満たすことがより好ましい。
【００３１】
なお、筆記面に対してタッチパネルペンを６０度以外の角度（例えば３０〜７５度の範囲の何れかの角度）で接触させた状態で固定した際にも、μｋ／μｓが上記範囲であることが好ましい。また、μｋ／μｓは、走査の速度を１４ｍｍ／秒以外の速度（例えば０．１〜１００ｍｍ／秒の範囲の何れかの速度）とした際にも、上記範囲であることが好ましい。
【００３２】
また、滑りすぎず適度な抵抗感を得る観点から、μｋ及びμｓは以下の範囲であることが好ましい。μｋは０．０６〜０．３０であることが好ましく、０．０８〜０．２８であることがより好ましく、０．０８〜０．２０であることがさらに好ましい。μｓは０．１５〜０．９５であることが好ましく、０．２０〜０．６０であることがより好ましく、０．２５〜０．５０であることがさらに好ましい。
【００３３】
図７は、μｋ及びμｓの測定方法を説明する概略図である。
図７では、タッチパネルペン２００は筆記シート１０に接触した状態で保持具８４によって固定されている。また、保持具８４の上部には重り８３を乗せるための土台８５が付属されている。土台８５上には重り８３が乗せられており、該重りによってタッチパネルペンに垂直荷重がかけられている。筆記シート１０は可動台８２上に固定されている。
摩擦係数の測定時には、タッチパネルペンが上記のように固定された状態で、可動台８２を、可動台とタッチパネルペンとの成す角の鈍角方向側（図７の左側）に所定の速度で走査する。
図７に示す測定が可能な装置としては、新東科学社製の商品名ＨＥＩＤＯＮ−１４ＤＲが挙げられる。
【００３４】
タッチパネルペンのペン先及び軸の構造体の見掛けのヤング率Ｅは、引張試験機の圧縮方向への変異及び荷重特性から算出できる。具体的には図５のように、ペン先から１０ｃｍの箇所を両側からクランプ３００で固定した軸長Ｌ、クランプ３００を介してペン軸方向に５ｇｆの垂直荷重を付加した時の変形量と、１００ｇｆの垂直荷重を付加した時の変形量の差ΔＬを変位と定義し、荷重差９５ｇｆをΔＦ、ペン先の径から求めた断面積Ｓより、下記式（ii）により算出できる。タッチパネルペン２００を押し付ける対象は、厚み３ｍｍ以上のステンレス製の板４００とする。なお、ペンを押し付ける際にペンが安定しない場合には、板の表面にペンを安定化させるための凹部を設け、該凹部の箇所にペンを接触させればよい。
σ（応力）＝ΔＦ／Ｓ
ε（歪）＝ΔＬ／Ｌ
Ｅ＝σ／ε  （ii）
【００３５】
ペン先の直径Ｄは、ペン軸に対して垂直方向側からタッチパネルペンを撮像した写真を基準として算出する。図６は、ペン軸に対して垂直方向側からタッチパネルペンを撮像した際のタッチパネルペンの外形を点線で表示したものである。図６（ａ）に示すように、該写真に対して、該写真の頂点を通り、かつ該写真からはみ出ない円を重ね合わせた際に、最大となる円の直径をペン先の直径Ｄとする。ただし、図６（ｂ）に示すように、該写真が斜面を有し、かつ該斜面のペン軸に対する角度が４０〜９０度であれば、該斜面をはみ出して該円を重ね合わせてもよい。
【００３６】
ペン先の単位測定区間（０．５ｍｍ）における断面曲線の算術平均高さＰａは、ペン先の形状をデジタルマイクロスコープで撮像し、撮像したペン先の輪郭を断面曲線と擬制し、断面曲線の平均線の方向に単位測定区間（０．５ｍｍ）の長さＬだけ抜き取り、該抜き取り部分の平均線から測定曲線までの偏差の絶対値を合計し、平均することにより算出できる。具体的には、Ｐａは以下の式（iii）から算出できる。ペン先が曲率を有する場合、曲面を直線に補正した上でＰａを算出すればよい。
デジタルマイクロスコープとしては、例えば、キーエンス社の商品名VHX-5000等を用いることができる。
【数１】
0006540483.tif 000002
なお、Ｐａと、ＪＩＳ  Ｂ０６０１：２００１の算術平均粗さＲａとは、パラメータを算出する基準が、Ｐａが断面曲線であり、Ｒａが粗さ曲線であるという点で異なっている。
【００３７】
また、本発明の筆記シートは、ＪＩＳ Ｋ７３７４：２００７に準拠して測定した写像性測定器の光学櫛の幅が０．１２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍ及び２．０ｍｍの透過像鮮明度をＣ０．１２５、Ｃ０．５、Ｃ１．０及びＣ２．０とした際に、Ｃ０．１２５、Ｃ０．５、Ｃ１．０及びＣ２．０の総和Ｃｓが２５０％以上であることが好ましく、３００％以上であることがより好ましく、３５０％以上であることがさらに好ましい。
Ｃｓを２５０％以上とすることにより、筆記シートによって表示素子の解像度が低下することを抑制できる。特に、画素密度が３００ｐｐｉ以上の超高精細の表示素子の解像度の低下を抑制できる点で好適である。Ｃｓの上限は特に限定されないが、３９９％程度である。
【００３８】
＜筆記シート全体の構成＞
本発明のタッチパネルペン用筆記シートは、少なくとも一方の表面が条件（１）及び（２）を満たしていれば、その構成は特に限定されない。
例えば、本発明のタッチパネルペン用筆記シート１０の構成としては、図１及び図２のように、樹脂層２を有し、該樹脂層２の一方の表面が条件（１）及び（２）を満たすものが挙げられる。
なお、図示しないが、樹脂層やプラスチックフィルム以外の他の層を有し、該他の層の表面が条件（１）及び（２）を満たしていてもよい。他の層としては、帯電防止層、防汚層等が挙げられる。また、図示しないが、樹脂層は２層以上から構成されていてもよい。
【００３９】
条件（１）及び（２）を満たす表面（筆記面）は、（ａ）エンボス、サンドブラスト、エッチング等の物理的又は化学的処理、（ｂ）型による成型、（ｃ）コーティング、等により形成することができる。これら方法の中では、表面形状の再現性の観点からは（ｂ）の型による成型が好適であり、生産性及び多品種対応の観点からは（ｃ）のコーティングが好適である。
【００４０】
型による成型は、条件（１）及び（２）を満たす形状と相補的な形状からなる型を作製し、当該型に樹脂層を形成する材料を流し込んだ後、型から取り出すことにより形成することができる。ここで、該材料として樹脂層を構成する材料を用い、型に該材料を流し込んだ後にプラスチックフィルムを重ね合わせ、樹脂層をプラスチックフィルムごと型から取り出せば、プラスチックフィルム上に樹脂層を有し、該樹脂層の表面が条件（１）及び（２）を満たすタッチパネルペン用筆記シートを得ることができる。また、プラスチックフィルムを用いることなく型から樹脂層をそのまま取り出したり、プラスチックフィルムを用いて型から樹脂層を取り出した後にプラスチックフィルムを剥離することにより、樹脂層単層からなり、該樹脂層の表面が条件（１）及び（２）を満たすタッチパネルペン用筆記シートを得ることができる。
型に流し込む材料として硬化性樹脂組成物（熱硬化性樹脂組成物又は電離放射線硬化性樹脂組成物）を用いる場合、型から取り出す前に硬化性樹脂組成物を硬化することが好ましい。
【００４１】
コーティングによる樹脂層の形成は、樹脂成分、粒子及び溶剤を含有してなる樹脂層形成塗布液を、グラビアコーティング、バーコーティング等の公知の塗布方法によりプラスチックフィルム上に塗布、乾燥、硬化することにより形成できる。
コーティングにより形成した樹脂層の表面形状が上述した条件を満たすようにするためには、膜厚、粒子の含有量、及び粒子の平均粒子径を後述の範囲とした第一樹脂層を形成し、該第一樹脂層上に第二樹脂層を形成することが好ましい。
【００４２】
第一樹脂層の膜厚は１．５〜１０μｍが好ましく、２〜８μｍがより好ましく、４〜７μｍがさらに好ましい。第一樹脂層及び後述の第二樹脂層の膜厚は、例えば、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）又は走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）を用いて撮影した断面の画像から２０箇所の厚みを測定し、２０箇所の値の平均値から算出できる。ＴＥＭ又はＳＴＥＭの加速電圧は１０〜３０ｋＶ、倍率は５万〜３０万倍とすることが好ましい。
【００４３】
第一樹脂層の粒子は、有機粒子及び無機粒子の何れも用いることができる。有機粒子としては、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリル−スチレン共重合体、メラミン樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ベンゾグアナミン−メラミン−ホルムアルデヒド縮合物、シリコーン、フッ素系樹脂及びポリエステル系樹脂等からなる粒子が挙げられる。無機粒子としては、シリカ、アルミナ、アンチモン、ジルコニア及びチタニア等からなる粒子が挙げられる。これら粒子の中でも、分散制御の容易さの観点から有機粒子が好適である。
第一樹脂層中の粒子の含有量は、樹脂層を形成する全固形分中の０．１〜７０質量％であることが好ましく、０．２〜６０質量％であることがより好ましく、０．５〜５０質量％であることがさらに好ましい。
【００４４】
第一樹脂層中の粒子の平均一次粒子径は、１．０μｍ以下が好ましく、０．１０μｍ以下がより好ましく、０．０１〜０．１０μｍがさらに好ましい。粒子の平均粒子径は、以下の（１）〜（３）の作業により算出できる。
（１）本発明の筆記シートを光学顕微鏡にて透過観察画像を撮像する。倍率は５００〜２０００倍が好ましい。
（２）観察画像から任意の１０個の粒子を抽出し、個々の粒子の粒子径を算出する。粒子径は、粒子の断面を任意の平行な２本の直線で挟んだとき、該２本の直線間距離が最大となるような２本の直線の組み合わせにおける直線間距離として測定される。
（３）同じサンプルの別画面の観察画像において同様の作業を５回行って、合計５０個分の粒子径の数平均から得られる値を第一樹脂層中の粒子の平均粒子径とする。
後述の第二樹脂層の粒子の平均粒子径は、まず、本発明の筆記シートの断面をＴＥＭ又はＳＴＥＭで撮像する。撮像後、上記（２）及び（３）と同様の手法を行うことにより、第二樹脂層の粒子の平均粒子径を算出できる。ＴＥＭ又はＳＴＥＭの加速電圧は１０ｋｖ〜３０ｋＶ、倍率は５万〜３０万倍とすることが好ましい。
【００４５】
第二樹脂層は、第一樹脂層の凹凸を滑らかにする層である。このため、第二樹脂層は、平均粒子径０．１０μｍ以上の粒子を含有しないことが好ましい。
第二樹脂層の膜厚は０．０１〜０．１５μｍが好ましく、０．０５〜０．１０μｍがより好ましい。
【００４６】
第二樹脂層に粒子を含有させる場合、該粒子の平均粒子径は０．１０μｍ未満が好ましく、０．０１〜０．１０μｍがより好ましい。
第二樹脂層の粒子は、第一樹脂層の粒子として例示した有機粒子、無機粒子と同様のものを用いることができる。これらの中でも反射率を低減する観点から、中空粒子が好ましく、中空シリカがより好ましい。
第二樹脂層中の粒子の含有量は、第二樹脂層を形成する全固形分中の１〜８０質量％であることが好ましく、５〜７５質量％であることがより好ましい。
【００４７】
第一樹脂層及び第二樹脂層の樹脂成分は、熱硬化性樹脂組成物又は電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことが好ましく、機械的強度をより良くする観点から、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことがより好ましく、その中でも紫外線硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことがさらに好ましい。
【００４８】
熱硬化性樹脂組成物は、少なくとも熱硬化性樹脂を含む組成物であり、加熱により、硬化する樹脂組成物である。
熱硬化性樹脂としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、尿素メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂組成物には、これら硬化性樹脂に、必要に応じて硬化剤が添加される。
【００４９】
電離放射線硬化性樹脂組成物は、電離放射線硬化性官能基を有する化合物（以下、「電離放射線硬化性化合物」ともいう）を含む組成物である。電離放射線硬化性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合基、及びエポキシ基、オキセタニル基等が挙げられる。電離放射線硬化性化合物としては、エチレン性不飽和結合基を有する化合物が好ましく、エチレン性不飽和結合基を２つ以上有する化合物がより好ましく、中でも、エチレン性不飽和結合基を２つ以上有する、多官能性（メタ）アクリレート系化合物が更に好ましい。多官能性（メタ）アクリレート系化合物としては、モノマー及びオリゴマーのいずれも用いることができる。
なお、電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のうち、分子を重合あるいは架橋し得るエネルギー量子を有するものを意味し、通常、紫外線（ＵＶ）又は電子線（ＥＢ）が用いられるが、その他、Ｘ線、γ線などの電磁波、α線、イオン線などの荷電粒子線も使用可能である。
【００５０】
多官能性（メタ）アクリレート系化合物のうち、２官能（メタ）アクリレート系モノマーとしては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡテトラエトキシジアクリレート、ビスフェノールＡテトラプロポキシジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート等が挙げられる。
３官能以上の（メタ）アクリレート系モノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸変性トリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
また、上記（メタ）アクリレート系モノマーは、分子骨格の一部を変性しているものでもよく、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、カプロラクトン、イソシアヌル酸、アルキル、環状アルキル、芳香族、ビスフェノール等による変性がなされたものも使用することができる。
【００５１】
また、多官能性（メタ）アクリレート系オリゴマーとしては、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート等のアクリレート系重合体等が挙げられる。
ウレタン（メタ）アクリレートは、例えば、多価アルコール及び有機ジイソシアネートとヒドロキシ（メタ）アクリレートとの反応によって得られる。
また、好ましいエポキシ（メタ）アクリレートは、３官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレート、２官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と多塩基酸と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレート、及び２官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等とフェノール類と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレートである。
上記電離放射線硬化性化合物は１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００５２】
電離放射線硬化性化合物が紫外線硬化性化合物である場合には、電離放射線硬化性組成物は、光重合開始剤や光重合促進剤等の添加剤を含むことが好ましい。
光重合開始剤としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、α−ヒドロキシアルキルフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンジルジメチルケタール、ベンゾイルベンゾエート、α−アシルオキシムエステル、チオキサンソン類等から選ばれる１種以上が挙げられる。
これら光重合開始剤は、融点が１００℃以上であることが好ましい。光重合開始剤の融点を１００℃以上とすることにより、筆記シートの製造過程や、タッチパネルの透明導電膜の形成過程で、残留した光重合開始剤が昇華して、製造装置や透明導電膜の汚染を防止することができる。
また、光重合促進剤は、硬化時の空気による重合阻害を軽減させ硬化速度を速めることができるものであり、例えば、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル等から選ばれる１種以上が挙げられる。
【００５３】
プラスチックフィルムは、ポリエステル、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、ポリウレタン及び非晶質オレフィン（Ｃｙｃｌｏ−Ｏｌｅｆｉｎ−Ｐｏｌｙｍｅｒ：ＣＯＰ）等の樹脂から形成することができる。
これらプラスチックフィルムの中でも、機械的強度や寸法安定性の観点からは、延伸加工、特に二軸延伸加工されたポリエステル（ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ））が好ましい。
プラスチックフィルムの厚みは、５〜２００μｍであることが好ましく、１０〜１５０μｍであることがより好ましい。
【００５４】
また、表面形状を適度に滑らかにして、筆記シートの表面形状を上述した範囲にしやすくする観点からは、樹脂層形成塗布液には、レベリング剤を含有させることが好ましい。レベリング剤は、フッ素系レベリング剤、シリコーン系レベリング剤、フッ素シリコーン共重合体系レベリング剤等が挙げられ、シリコーン系レベリング剤が好適である。レベリング剤の添加量としては、樹脂層の全固形分に対して０．０１〜１．０重量％が好ましい。
【００５５】
樹脂層塗布液の溶剤としては、一般的に使用される有機溶剤であれば問題ないが、これら溶剤の中でも、ケトン系の溶剤が好ましく、メチルエチルケトンとメチルイソブチルケトンとの混合溶剤がより好ましい。樹脂層を二層以上から構成する場合、最表面の樹脂層塗布液の溶剤としてケトン系溶剤を用いることが好ましい。ケトン系溶剤は、表面の平滑化と下地層との密着性を両立させやすいため、条件（１）及び（２）を満たす表面を形成しやすい点で好適である。
【００５６】
本発明の筆記シートは、上記式（ｉ）から導かれるＸが５００ＭＮ／ｍ超のタッチパネルペン（タッチパネルペン（Ａ））用の筆記シートとして用いることにより筆記感を良好にすることができる。
筆記感は、本発明の筆記シートを、上記式（ｉ）から導かれるＸが１，０００ＭＮ／ｍ以上のタッチパネルペン用の筆記シートとして用いた場合により良好にすることができ、上記式（ｉ）から導かれるＸが２，０００ＭＮ／ｍ以上１００，０００ＭＮ／ｍ以下のタッチパネルペン用筆記シートとして用いた場合にさらに筆記感を良好にすることができる。
【００５７】
タッチパネルペン（Ａ）のヤング率Ｅ、直径Ｄ、及び算術平均高さＰａの個々の値は、上記式（ｉ）を満たす限り特に限定されないが、概ね以下の範囲であることが好ましい。
ヤング率は０．１〜５．０ＧＰａ（１．０×１０８〜５．０×１０９Ｎ／ｍ２）であることが好ましく、０．５〜２．５ＧＰａ（５．０×１０８〜２．５×１０９Ｎ／ｍ２）であることがより好ましい。直径Ｄは０．３〜６．０ｍｍであることが好ましく、０．４〜２．０ｍｍであることがより好ましい。算術平均高さＰａは０．０１〜１０μｍであることが好ましく、０．０５〜１．０μｍであることがより好ましい。
また、タッチパネルペン（Ａ）のペン先の曲率半径は特に限定されないが、０．３〜１．５ｍｍの場合により効果を発揮しやすく、０．５〜０．８ｍｍの場合にさらに効果を発揮しやすい。
【００５８】
［タッチパネル］
本発明のタッチパネルは、表面にシートを有するタッチパネルであって、該シートとして、本発明のタッチパネルペン用筆記シートの条件（１）及び（２）を満たす側の面がタッチパネルの表面を向くように配置してなるものである。
【００５９】
タッチパネルとしては、抵抗膜式タッチパネル、静電容量式タッチパネル、インセルタッチパネル、光学式タッチパネル、超音波式タッチパネル及び電磁誘導式タッチパネル等が挙げられる。
【００６０】
抵抗膜式タッチパネル１００は、図３に示すように、導電膜３０を有する上下一対の透明基板２０の導電膜３０同士が対向するようにスペーサー４０を介して配置されてなる基本構成に、図示しない回路が接続されてなるものである。抵抗膜式タッチパネルの場合、上部透明基板２０として本発明の筆記シート１０を用い、該筆記シート１０の条件（１）及び（２）を満たす側の面がタッチパネル１００の表面を向くようにして用いる。なお、上部透明基板２０は、筆記シートに別の基材を貼り合わせた構成であってもよい。
【００６１】
静電容量式タッチパネルは、表面型及び投影型等が挙げられ、投影型が多く用いられている。投影型の静電容量式タッチパネルは、Ｘ軸電極と、該Ｘ軸電極と直交するＹ軸電極とを絶縁体を介して配置した基本構成に、回路が接続されてなるものである。該基本構成をより具体的に説明すると、１枚の透明基板上の別々の面にＸ軸電極及びＹ軸電極を形成する態様、透明基板上にＸ軸電極、絶縁体層、Ｙ軸電極をこの順で形成する態様、図４に示すように、透明基板２０上にＸ軸電極５０を形成し、別の透明基板２０上にＹ軸電極６０を形成し、接着剤層等の絶縁体層７０を介して積層する態様等が挙げられる。また、これら基本態様に、さらに別の透明基板を積層する態様が挙げられる。
静電容量式タッチパネルの場合、表面側の透明基板２０として本発明の筆記シート１０を用い、該筆記シート１０の条件（１）及び（２）を満たす側の面がタッチパネル１００の表面を向くようにして用いる。なお、表面側の透明基板２０は、筆記シートに別の基材を貼り合わせた構成であってもよい。
【００６２】
電磁誘導式タッチパネルは、磁界を発生する専用ペンを用いるタッチパネルである。電磁誘導式タッチパネルは、ペンから生じる電磁エネルギーを検出するセンサー部を少なくとも有し、さらにセンサー部上に透明基板を有する。該透明基板は多層構成であってもよい。電磁誘導式タッチパネルの場合、センサー部上に位置する透明基板のうち、最表面の透明基板として、本発明の筆記シートを用い、該筆記シートの条件（１）及び（２）を満たす側の面がタッチパネルの表面を向くようにして用いる。
インセルタッチパネルは、２枚のガラス基板に液晶を挟んでなる液晶素子の内部に、抵抗膜式、静電容量式、光学式等のタッチパネル機能を組み込んだものである。
インセルタッチパネルの場合、表面側のガラス基板に対して、本発明の筆記シートの条件（１）及び（２）を満たす側の面が表面を向くようにして貼り合わせて用いる。なお、表面側のガラス基板と、本発明の筆記シートとの間には、偏光板等の他の層を有していてもよい。
【００６３】
［表示装置］
本発明の表示装置は、タッチパネルを有する表示装置であって、該タッチパネルが本発明のタッチパネルであるものである。
【００６４】
表示素子としては、液晶表示素子、ＥＬ表示素子、プラズマ表示素子、電子ペーパー素子、インセルタッチパネル液晶表示素子等が挙げられる。表示素子が液晶表示素子、ＥＬ表示素子、プラズマ表示素子、電子ペーパー素子の場合、これらの表示素子上に本発明のタッチパネルを載置する。
本発明の表示装置は、表面を過度にあらすことなく筆記感を良好にしていることから、表示素子の解像度が損なわれることを抑制できる。特に、画素密度が３００ｐｐｉ以上の超高精細の表示素子の解像度の低下を抑制できる点で好適である。
【００６５】
［タッチパネルペン用筆記シートの選別方法］
本発明のタッチパネルペン用筆記シートの選別方法は、カットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ  Ｂ０６０１：２００１の最大高さ粗さＲｚ０．８及び粗さ曲線の最大山高さＲｐ０．８、並びに、カットオフ値２．５ｍｍのＪＩＳ  Ｂ０６０１：２００１の算術平均粗さＲａ２．５及び十点平均粗さＲｚＪＩＳ２．５が下記条件（１）及び（２）を満たす表面を有し、かつＪＩＳ Ｋ７１３６：２０００のヘイズが下記条件（３）を満たすシートを、下記のタッチパネルペン（Ａ）用の筆記シートとして選別するものである。
０．４５≦Ｒｐ０．８／Ｒｚ０．８≦０．５８  （１）
ＲｚＪＩＳ２．５／Ｒａ２．５≦６．０  （２）
ヘイズが５．０％未満  （３）
＜タッチパネルペン（Ａ）＞
タッチパネルペンを構成するペン先及び軸の構造体の見掛けのヤング率をＥ、ペン先の直径をＤ、ペン先の単位測定区間（０．５ｍｍ）における断面曲線の算術平均高さをＰａとした際に、下記式（ｉ）から導かれるＸが５００ＭＮ／ｍ超であるタッチパネルペン。
Ｘ（ＭＮ／ｍ）＝［Ｅ×Ｄ×Ｄ］／Ｐａ  （ｉ）
【００６６】
本発明のタッチパネルペン用筆記シートの選別方法では、タッチパネルペンによる筆記試験を行わなくても、上記式（ｉ）のＸが５００ＭＮ／ｍ超であるタッチパネルペン（タッチパネルペン（Ａ））の筆記感が良好であり、かつ解像度の低下を抑制し得る筆記シートを選別することができ、筆記シートの製品設計、品質管理を効率よくすることができる。
【００６７】
タッチパネルペン用筆記シートを選別する判定条件は、上記（１）〜（３）を必須条件とする。条件（１）〜（３）の判定条件は、上述した本発明の筆記シートの好適な数値範囲であることが好ましい。例えば、条件（１）の判定条件は、０．４６≦Ｒｐ０．８／Ｒｚ０．８≦０．５７であることが好ましく、０．４８≦Ｒｐ０．８／Ｒｚ０．８≦０．５６であることがより好ましい。
【００６８】
本発明のタッチパネルペン用筆記シートの選別方法では、筆記感をより良好する観点、及び表示素子の解像度の低下を抑制する観点から、以下に挙げる条件（４）〜（７）の一以上を判定条件とすることがより好ましく、（４）〜（７）の全てを判定条件とすることがさらに好ましい。
０．０３ｍｍ≦Ｓ２．５≦０．２５ｍｍ  （４）
０．０１μｍ≦Ｒａ０．８＜０．１０μｍ  （５）
０．０５μｍ≦ＲｚＪＩＳ０．８＜０．５０μｍ  （６）
Ｃｓが１００％以上２５０％未満  （７）
条件（４）〜（７）の判定条件は、上述した本発明の筆記シートの好適な数値範囲であることが好ましい。
【実施例】
【００６９】
次に、本発明を実施例により、さらに詳細に説明するが、本発明は、この例によってなんら限定されるものではない。
【００７０】
１．測定及び評価
実施例及び比較例で作製したタッチパネルペン用筆記シートについて、以下の測定及び評価を行った。結果を表１又は表２に示す。
１−１．表面形状測定
表面粗さ測定器（型番：ＳＥ−３４００／小坂研究所株式会社製）を用いて、下記の測定条件により、下記の測定項目について、タッチパネルペン用筆記シートの樹脂層側の表面形状を測定した。
＜測定条件＞
［表面粗さ検出部の触針］
小坂研究所社製の商品名ＳＥ２５５５Ｎ（先端曲率半径：２μｍ、頂角：９０度、材質：ダイヤモンド）
［表面粗さ測定器の測定条件］
・触針の送り速さ：０．５ｍｍ／ｓ
・縦倍率：２０００倍
・横倍率：１０倍
＜測定項目＞
・カットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ  Ｂ０６０１：２００１の最大高さ粗さをＲｚ０．８、カットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ  Ｂ０６０１：２００１の粗さ曲線の最大山高さをＲｐ０．８とした際のＲｐ０．８／Ｒｚ０．８
・カットオフ値２．５ｍｍのＪＩＳ  Ｂ０６０１：２００１の算術平均粗さをＲａ２．５、カットオフ値２．５ｍｍのＪＩＳ  Ｂ０６０１：２００１の算術平均粗さをＲｚＪＩＳ２．５とした際のＲｚＪＩＳ２．５／Ｒａ２．５
・カットオフ値２．５ｍｍのＪＩＳ  Ｂ０６０１：１９９４の局部山頂平均間隔Ｓ２．５
・カットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ  Ｂ０６０１：２００１の算術平均粗さＲａ０．８、カットオフ値０．８ｍｍのＪＩＳ  Ｂ０６０１：２００１の算術平均粗さＲｚＪＩＳ０．８
【００７１】
１−２．ヘイズ
ヘイズメーター（ＨＭ−１５０、村上色彩技術研究所製）を用いて、ＪＩＳ Ｋ−７１３６：２０００に従ってヘイズ（全体ヘイズ）を測定した。光入射面はプラスチックフィルム側とした。
【００７２】
１−３．透過像鮮明度
スガ試験機社製の写像性測定器（商品名：ＩＣＭ−１Ｔ）を用いて、ＪＩＳ Ｋ７３７４：２０００に従って、０．１２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１ｍｍ及び２ｍｍの巾をもつ光学くしを通した４種類の透過像鮮明度を測定し、総和Ｃｓを算出した。光入射面はプラスチックフィルム側とした。Ｃｓが２５０％以上のものは、表示素子の解像度の低下を抑制できることを示している。
【００７３】
１−４．摩擦係数
新東科学社製の商品名ＨＥＩＤＯＮ−１４ＤＲを用い、一定荷重片道の摩擦測定モードで以下の手法により静摩擦係数（μｓ）及び動摩擦係数（μｋ）を測定し、μｋ／μｓを算出した。なお、測定時の温度は２３℃とし、摩擦係数の測定間隔は０．０２秒とした。
図７に示すように、タッチパネルペン用筆記シートの樹脂層側の表面に、下記のタッチパネルペン１を６０度の角度で接触させ、保持具で固定した。保持具上部の土台に１００ｇの重りを乗せ、タッチパネルペンに垂直荷重１００ｇｆがかかるようにした。荷重をかけたまま、筆記シートを固定した可動台を、可動台とタッチパネルペンとの成す角の鈍角方向側（図７の左側）に１４ｍｍ／秒の速度で走査した。片道４０ｍｍの長さを１走査した際の該ペンにかかる走査方向の静摩擦係数（μｓ）及び動摩擦係数（μｋ）を測定した。μｋ／μｓが０．２５≦μｋ／μｓ≦０．４０のものは、静摩擦係数と動摩擦係数とのバランスが良好であり、筆記を一瞬停止して再始動した際の筆記感が良好であることを示している。
【００７４】
＜タッチパネルペン１＞
サムスン電子社製の商品名「Ｓペン  SCL24KKA」、ペン先及び軸の構造体の見掛けのヤング率：１．０ＧＰａ（１．０×１０９Ｎ／ｍ２）、ペン先の直径：０．５ｍｍ、ペン先の断面曲線の算術平均高さＰａ：０．１μｍ、上記式（ｉ）のＸ：２，５００ＭＮ／ｍ
【００７５】
１−５．筆記感
タッチパネルペン用筆記シートの樹脂層側の面と反対側の面をガラス板に貼り合わせ、上記タッチパネルペン１を用いて、筆記感を評価した。書き始め及び書き始め以降の筆記感が良好であるものを２点、書き始め及び書き始め以降の何れか一方の筆記感が良好でなかったものを１点、書き始め及び書き始め以降の何れも筆記感が良好でなかったものを０点として、２０人が評価を行った。２０人の平均点が１．６点以上のものをＡ、１．０以上１．６点未満のものをＢ、１．０点未満のものをＣとした。
【００７６】
２．タッチパネルペン用筆記シートの作製
［実施例１］
プラスチックフィルム（厚み４０μｍトリアセチルセルロース樹脂フィルム）上に、下記処方の第一樹脂層塗布液１を乾燥後の厚みが７μｍとなるように塗布、乾燥、紫外線照射して、第一樹脂層を形成した。次いで、第一樹脂層上に、下記処方の第二樹脂層塗布液１を乾燥後の厚みが０．１μｍとなるように塗布、乾燥、紫外線照射して、第二樹脂層を形成し、タッチパネルペン用筆記シートを得た。
【００７７】
＜第一樹脂層塗布液１＞
・ウレタンアクリレート                                ６０部
（荒川化学工業社製、ビームセット５７７）
・反応性シリカ                                        ４０部
（平均一次粒子径０．０５μｍ）
・光重合開始剤                                          ３部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・フッソ系レベリング剤                            ０．０１部
（ＤＩＣ社製、メガファック RS-75）
・溶剤１（メチルエチルケトン）                      ２００部
【００７８】
＜第二樹脂層塗布液１＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート                １１部
（日本化薬社製、ＫＡＹＡＲＡＤ−ＰＥＴ−３０）
・ウレタンアクリレート
（日本合成化学社製、ＵＶ１７００Ｂ）                  ４４部
・中空シリカ                                          ４５部
（平均一次粒子径５０ｎｍ）
・光重合開始剤                                          ３部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・フッソ系レベリング剤                              ０．１部
（ＤＩＣ社製、メガファック RS-75）
・溶剤１（メチルイソブチルケトン）                  １１０部
【００７９】
［実施例２］
第一樹脂層塗布液１を下記処方の第一樹脂層塗布液２に変更し、第二樹脂層塗布液１を下記処方の第二樹脂層塗布液２に変更した以外は、実施例１と同様にして、タッチパネルペン用筆記シートを得た。
【００８０】
＜第一樹脂層塗布液２＞
・ウレタンアクリレート                                ５２部
（荒川化学工業社製、ビームセット５７７）
・ジルコニア粒子                                      ４８部
（平均一次粒子径０．０５μｍ）
・光重合開始剤                                          ３部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・フッソ系レベリング剤                            ０．０１部
（ＤＩＣ社製、メガファック RS-75）
・溶剤１（メチルエチルケトン）                      ２００部
【００８１】
＜第二樹脂層塗布液２＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート                １１部
（日本化薬社製、ＫＡＹＡＲＡＤ−ＰＥＴ−３０）
・ウレタンアクリレート
（日本合成化学社製、ＵＶ１７００Ｂ）                  ２８部
・中空シリカ                                          ６１部
（平均一次粒子径５０ｎｍ）
・光重合開始剤                                          ３部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・フッソ系レベリング剤                              ０．１部
（ＤＩＣ社製、メガファック RS-75）
・溶剤１（メチルイソブチルケトン）                  １１０部
【００８２】
［実施例３］
第一樹脂層塗布液１を下記処方の第一樹脂層塗布液３に変更し、第一樹脂層の厚みを５μｍに変更し、第二樹脂層塗布液１を下記処方の第二樹脂層塗布液３に変更した以外は、実施例１と同様にして、タッチパネルペン用筆記シートを得た。
【００８３】
＜第一樹脂層塗布液３＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート            １７．９部
（日本化薬社製、ＫＡＹＡＲＡＤ−ＰＥＴ−３０）
・ウレタンアクリレート
（日本合成化学社製、ＵＶ１７００Ｂ）              ８１．２部
・フュームドシリカ                                  ０．７部
（平均一次粒子径１０ｎｍ）
・光重合開始剤                                          ３部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・シリコーン系レベリング剤                          ０．２部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製、ＴＳＦ４４６０）
・溶剤１（メチルイソブチルケトン）                      ４部
・溶剤２（トルエン）                                １８０部
・溶剤３（シクロヘキサノン）                          ３０部
・溶剤４（イソプロピルアルコール）                    ７０部
【００８４】
＜第二樹脂層塗布液３＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート                １０部
（日本化薬社製、ＫＡＹＡＲＡＤ−ＰＥＴ−３０）
・ウレタンアクリレート
（日本合成化学社製、ＵＶ１７００Ｂ）                  ４３部
・中空シリカ                                            ５部
（平均一次粒子径５０ｎｍ）
・光重合開始剤                                          ３部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・フッ素系レベリング剤                                  １部
（ＤＩＣ社製、メガファック RS-75）
・溶剤１（メチルイソブチルケトン）                  １３５部
・溶剤２（メチルエチルケトン）                      ２３２部
・溶剤３                                            １７６部
（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）
【００８５】
［比較例１］
基材を厚み６０μｍのトリアセチルセルロース樹脂フィルムに変更し、第一樹脂層塗布液１を下記処方の第一樹脂層塗布液４に変更し、第一樹脂層の厚みを１０μｍに変更し、第二樹脂層塗布液１を下記処方の第二樹脂層塗布液４に変更した以外は、実施例１と同様にして、タッチパネルペン用筆記シートを得た。
【００８６】
＜第一樹脂層塗布液４＞
・ウレタンアクリレート                              １００部
（荒川化学工業社製、ビームセット５７７）
・光重合開始剤                                          ３部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・フッソ系レベリング剤                            ０．０１部
（ＤＩＣ社製、メガファック RS-75）
・溶剤１（メチルエチルケトン）                      ２００部
【００８７】
＜第二樹脂層塗布液４＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート                １０部
（日本化薬社製、ＫＡＹＡＲＡＤ−ＰＥＴ−３０）
・ウレタンアクリレート
（日本合成化学社製、ＵＶ１７００Ｂ）                  ４０部
・中空シリカ                                          ４３部
（平均一次粒子径５０ｎｍ）
・反応性シリカ                                          ７部
（平均一次粒子径５０ｎｍ）
・光重合開始剤                                          ３部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・フッソ系レベリング剤                              ０．１部
（ＤＩＣ社製、メガファック RS-75）
・溶剤１（メチルイソブチルケトン）                  １１０部
【００８８】
［比較例２］
プラスチックフィルム（ＰＥＴフィルム、厚み８０μｍ）上に、下記処方の第一樹脂層塗布液５を乾燥後の厚みが３μｍとなるように塗布、乾燥、紫外線照射して、第一樹脂層を形成した。次いで、第一樹脂層上に、下記処方の第二樹脂層塗布液５を乾燥後の厚みが２μｍとなるように塗布、乾燥、紫外線照射して、第二樹脂層を形成し、タッチパネルペン用筆記シートを得た。
【００８９】
＜第一樹脂層塗布液５＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート                １６部
（日本化薬社製、ＫＡＹＡＲＡＤ−ＰＥＴ−３０）
・ウレタンアクリレート
（日本合成化学社製、ＵＶ１７００Ｂ）              ７２．８部
・有機粒子                                              ８部
（球状ポリアクリル−スチレン共重合体、平均粒子径５μｍ）
・不定形シリカ                                          ３部
（平均粒子径５ｎｍ）
・光重合開始剤                                          ３部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・シリコーン系レベリング剤                          ０．２部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製、ＴＳＦ４４６０）
・溶剤１（トルエン）                                  ８０部
・溶剤２（アノン）                                    ３０部
【００９０】
＜第二樹脂層塗布液５＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート                １８部
（日本化薬社製、ＫＡＹＡＲＡＤ−ＰＥＴ−３０）
・ウレタンアクリレート
（日本合成化学社製、ＵＶ１７００Ｂ）                  ８０部
・光重合開始剤                                          ３部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・シリコーン系レベリング剤                              ２部
（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製、ＴＳＦ４４６０）
・溶剤１（メチルイソブチルケトン）                  １１０部
【００９１】
【表１】
0006540483.tif 000003
【００９２】
表１の結果から明らかなように、実施例１〜３のタッチパネルペン用筆記シートは、タッチパネルペンとして上記式（ｉ）のＸの値が５００ＭＮ／ｍ超のタッチパネルペンを用いた際に、書き始めから書き終わりまでの筆記感が良好であった。また、実施例１〜３のタッチパネルペン用筆記シートは、μｋ／μｓが０．２５≦μｋ／μｓ≦０．４０であるため静摩擦係数と動摩擦係数とのバランスが良好であり、筆記を一瞬停止して再始動した際の筆記感が良好であるものであった。また、実施例１〜３のタッチパネルペン用筆記シートは、ヘイズが低く、Ｃｓが大きいため、表示素子の解像度の低下を抑制できるものであった。
【００９３】
３．タッチパネルの作製
実施例１〜３のタッチパネルペン用筆記シートの基材側の面に、厚み２０ｎｍのＩＴＯの導電性膜をスパッタリング法で形成し、上部電極板とした。次いで、厚み１ｍｍの強化ガラス板の一方の面に、厚み約２０ｎｍのＩＴＯの導電性膜をスパッタリング法で形成し、下部電極板とした。次いで、下部電極板の導電性膜を有する面に、スペーサー用塗布液として電離放射線硬化型樹脂（Dot Cure TR5903：太陽インキ社）をスクリーン印刷法によりドット状に印刷した後、高圧水銀灯で紫外線を照射して、直径５０μｍ、高さ８μｍのスペーサーを１ｍｍの間隔で配列させた。
次いで、上部電極板と下部電極板とを、導電性膜どうしを対向するように配置させ、厚み３０μｍ、幅３ｍｍの両面接着テープで縁を接着し、実施例１〜３及び比較例１〜２の抵抗膜式タッチパネルを作製した。
実施例１〜３及び比較例１〜２の抵抗膜式タッチパネルに上記タッチパネルペン１で筆記したところ、各タッチパネルペンの筆記感の評価は、表１と同様であった。
また、得られた抵抗膜式タッチパネルを、市販の超高精細液晶表示装置（画素密度３５０ｐｐｉ）上に載置して、蛍光灯照明下で画像を目視で評価したところ、実施例１〜３のタッチパネルは、超高精細の表示素子の解像度の低下を抑制できるものであった。
【００９４】
４．表示装置の作製
実施例１〜３のタッチパネルペン用筆記シートと、市販の超高精細液晶表示装置（画素密度３５０ｐｐｉ）とを、透明粘着剤を介して貼り合わせ、実施例１〜３の表示装置を作製した。なお、貼り合わせの際は、タッチパネルペン用筆記シート基材側の面が表示素子側を向くようにした。
蛍光灯照明下で得られた表示装置の映像を目視で評価したところ、実施例１〜３の表示装置は、超高精細の表示素子の解像度の低下を抑制できるものであった。
【００９５】
［参考例１〜５］
実施例１〜３及び比較例１〜２で作製したタッチパネルペン用筆記シートに対して、下記のタッチパネルペン２を用いて、上記と同様の手法で、μｋ／μｓの測定、及び筆記感の評価を行った。結果を表２に示す。
【００９６】
＜タッチパネルペン２＞
タッチペン付３色ボールペン（三菱鉛筆株式会社製、商品名：ジェットストリーム  スタイラス）、ペン先及び軸の構造体の見掛けのヤング率：０．００２ＧＰａ（２．０×１０６Ｎ／ｍ２）、ペン先の直径：５ｍｍ、ペン先の断面曲線の算術平均高さＰａ：１００μｍ、上記式（ｉ）のＸ：０．５ＭＮ／ｍ
【００９７】
【表２】
0006540483.tif 000004
【００９８】
表２の結果から、実施例１〜３のタッチパネルペン用筆記シートは、タッチパネルペンとして上記式（ｉ）のＸの値が５００ＭＮ／ｍ以下のタッチパネルペン（ペン２）を用いた際は、筆記感が良好ではない傾向があることが確認できる。また、表１及び表２の結果から、条件（１）及び（２）を満たすタッチパネルペン用筆記シートは、上記式（ｉ）のＸの値が５００ＭＮ／ｍ以下のタッチパネルペン（筆記シートに密着しやすいペン）用の筆記シートに適していない一方で、上記式（ｉ）のＸの値が５００ＭＮ／ｍ超のタッチパネルペン（筆記シートに密着しにくいペン）用の筆記シートに適していることが確認できる。
【産業上の利用可能性】
【００９９】
本発明のタッチパネルペン用筆記シート、タッチパネル及び表示装置は、解像度の低下を抑制しつつ、上記式（ｉ）のＸの値が５００ＭＮ／ｍ超のタッチパネルペンの筆記感を良好にできる点で有用である。また、本発明のタッチパネルペン用筆記シートの選別方法は、筆記シートの製品設計、品質管理を効率良くできる点で有用である。
【符号の説明】
【０１００】
１：プラスチックフィルム
２：樹脂層
１０：タッチパネルペン用筆記シート
２０：透明基板
３０：導電膜
４０：スペーサー
５０：Ｘ軸電極
６０：Ｙ軸電極
７０：絶縁体層
８２：可動台
８３：重り
８４：保持具
８５：土台
１００：タッチパネル
２００：タッチパネルペン
３００：クランプ
４００：ガラス板
【図１】
0006540483.tif 000005
【図２】
0006540483.tif 000006
【図３】
0006540483.tif 000007
【図４】
0006540483.tif 000008
【図５】
0006540483.tif 000009
【図６】
0006540483.tif 000010
【図７】
0006540483.tif 000011