(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ハウジングと、
該ハウジング内に配置された分離膜と
を有し、
被処理流体が供給され、該分離膜を透過した流体が取り出される分離膜モジュールにおいて、
分離膜透過性ガスを主成分とする乾燥用ガスを該分離膜モジュール内に供給する分離膜乾燥手段を備え、
前記分離膜はゼオライト膜であり、前記乾燥用ガスは炭酸ガスを主成分とすることを特徴とする分離膜モジュール。
【請求項２】
請求項１において、前記乾燥用ガスは、分離膜モジュールの膜分離処理により炭酸ガスが濃縮されて生成したガスであることを特徴とする分離膜モジュール。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の分離膜モジュールの運転方法であって、
分離膜モジュールの起動時に前記乾燥用ガスによって分離膜を乾燥することを特徴とする分離膜モジュールの運転方法。
【請求項４】
請求項３において、分離膜モジュールに供給される被処理ガスを脱水処理することを特徴とする分離膜モジュールの運転方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は溶液や混合気体等の流体から一部の成分を分離するために用いられる分離膜モジュールと、その運転方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
溶液又は混合気体中の成分を分離するための機器として分離膜モジュールが知られている。この分離膜モジュールに用いる管状分離膜は、管状の多孔質セラミック支持体と、該支持体の外周面に設けられたゼオライト等からなる多孔質の分離膜とを有する。溶液や混合気体等の流体から特定の成分を分離するためには、溶液の流体を分離膜エレメントの一方（外面）に接触させて、もう一方（内面）を減圧することにより、特定の成分を気化させ分離する方法や、溶液を気化させて気体状態で分離膜に接触させて、非接触面側を減圧して特定成分を分離する方法、加圧状態の混合気体を分離膜に接触させて特定の成分を分離する方法などが知られている（特許文献１，２）。
【０００３】
ゼオライト膜に水分が付着すると、ゼオライト膜の分離性能が低下する。特許文献３には、ゼオライト膜を電気ヒータで加熱することにより、スタートアップ時における蒸気の凝縮を防止することが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１３−３９５４６号公報
【特許文献２】特開２０１１−１５２５０７号公報
【特許文献３】特開２００９−３９６５４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献３の分離膜モジュールによれば、ゼオライト膜を電気ヒータで加熱することにより、ゼオライト膜に付着した水を除去すること、すなわち、ゼオライト膜を乾燥させることができる。
【０００６】
しかしながら、特許文献３では、すべての管状ゼオライト膜に沿って電気ヒータを設置することが必要となり、コスト高になる。また、ゼオライト膜の点検、補修等の作業が著しく面倒なものとなる。
【０００７】
本発明は、分離膜を極めて容易に乾燥することができる分離膜モジュールと、その運転方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の分離膜モジュールは、ハウジングと、該ハウジング内に配置された分離膜とを有し、被処理流体が供給され、該分離膜を透過した流体が取り出される分離膜モジュールにおいて、分離膜透過性ガスを主成分とする乾燥用ガスを該分離膜モジュール内に供給する分離膜乾燥手段を備えたことを特徴とするものである。
【０００９】
本発明の一態様では、分離膜はゼオライト膜であり、乾燥用ガスは炭酸ガスを主成分とする。
【００１０】
本発明の分離膜モジュールの膜乾燥方法は、かかる分離膜モジュールの運転方法であって、分離膜モジュールの起動時に乾燥用ガスによって分離膜を乾燥するものである。なお、起動後は、被処理ガスを脱水処理することが好ましい。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の分離膜モジュールにあっては、分離膜透過性ガスを主成分とする乾燥用ガスを分離膜モジュール内に供給して分離膜を乾燥処理する。分離膜透過性ガスが分離膜を透過することにより、分離膜に付着していた水が透過ガスに伴われて分離膜から除去され、分離膜が乾燥される。これにより、分離膜の分離性能が向上する。
【００１２】
この膜乾燥処理は、分離膜モジュールの起動時に行われることが好ましいが、運転途中で行ってもよい。運転中は、分離膜モジュールに供給される被処理ガスを脱水処理することにより、分離膜への水の付着を防止することが好ましい。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】実施の形態に係る分離膜モジュールの本体部分のハウジング軸心線方向に沿う断面図である。
【図２】図１のII−II線断面図である。
【図３】図１のIII−III線断面図である。
【図４】エンド管及び支持板の拡大断面図である。
【図５】分離膜モジュールのフロー図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
図１〜５を参照して、本発明の一実施の形態に係る分離膜モジュールについて説明する。
【００１５】
この分離膜モジュール１は、筒軸心方向を上下方向とした円筒状ハウジング２と、ハウジング２の軸心線と平行方向に配置された複数の管状分離膜（この実施の形態ではゼオライト膜）３と、ハウジング２内の下部に設けられた支持板５と、ハウジング２の下端に取り付けられたボトムカバー６Ａ及び上端に取り付けられたトップカバー６Ｂと、支持板５と平行にハウジング２内の下部及び上部にそれぞれ配置された第１のバッフル（整流板）７及び第２のバッフル（整流板）８等を有する。第１のバッフル７は支持板５の上側に配置されている。
【００１６】
この実施の形態では、ハウジング２の下端及び上端側とボトムカバー６Ａ及びトップカバー６Ｂの外周縁にそれぞれ外向きのフランジ２ａ，２ｂ，６ｂ，６ｃが設けられ、ボルト（図示略）によってこれらが固定されている。支持板５の周縁部は、ハウジング２の内周面に周設された支持座２ｔに支持されている。支持板５の下面外周部と支持座２ｔの上面との間にシール部材が介在されている。
【００１７】
この実施の形態では、管状分離膜３の下端にエンド管４が連結され、管状分離膜３の上端にエンドプラグ２０が連結されている。なお、図１〜３では、管状分離膜は７本のみ示されているが、実際は図４のように多数本設けられている。また、２本以上の管状分離膜３がジョイント管（図示略）によって連結された管状分離膜連結体とされていてもよい。
【００１８】
ハウジング２の下部の外周面に被処理流体の流入口９が設けられ、上部の外周面に非透過流体の流出口１０が設けられている。流入口９は、支持板５と第１のバッフル７との間の室１１に臨むように設けられている。流出口１０は、第２のバッフル８の上側の室１２に臨むように設けられている。バッフル７，８間は膜分離を行うための主室１３となっている。
【００１９】
底部の支持板５から複数のロッド１４が立設され、該ロッド１４にバッフル７，８が支持されている。ロッド１４の下端には雄ねじが刻設されており、支持板５の雌ねじ穴に螺着されている。バッフル７，８はロッド１４に外嵌された鞘管１４Ａ，１４Ｂ（図４）によって所定高さに支持されている。鞘管１４Ａは、支持板５とバッフル７との間に配置されている。鞘管１４Ｂは、バッフル７，８間に配置されている。バッフル８は、鞘管１４Ｂの上端面に載設され、ロッド１４の上端に螺着されたナットによって固定されている。バッフルの数はこの実施の形態に限定されるものではなく、３枚以上のバッフルを使用してもよい。
【００２０】
バッフル７，８の外周面とハウジング２の内周面との間には、Ｏリング、Ｖパッキン、Ｃリングなどのシール部材を介在させてもよい。
【００２１】
各バッフル７，８には、管状分離膜３を挿通させるための円形の挿通孔７ａ，８ａが設けられており、管状分離膜３、エンド管４及びエンドプラグ２０の連結体が各挿通孔７ａ，８ａに挿通されている。挿通孔７ａ，８ａの口径は、管状分離膜３、エンド管４及びエンドプラグ２０の直径（外径）よりも大きく、挿通孔７ａ，８ａの内周面と、エンド管４及びエンドプラグ２０の外周面との間に全周にわたって間隙があいている。
【００２２】
支持板５の上面側には、管状分離膜３に連結されたエンド管４の下端が差し込まれた差込穴５ａが設けられている。差込穴５ａは、円柱形であり、支持板５の上面から厚み方向の途中まで延在している。差込穴５ａの穴底は、小孔５ｂと大孔５ｃとを介して支持板５の下側の流出室１６に臨んでいる。
【００２３】
各エンド管４の管孔４ａは、小孔５ｂ及び大孔５ｃを介して、ボトムカバー６Ａと支持板５との間の流出室１６に連通している。ボトムカバー６Ａには、分離された透過流体の取出口６ａが設けられている。
【００２４】
図示は省略するが、エンド管４の下端近傍の外周面に溝が周設され、フッ素ゴム、フッ素樹脂などよりなるＯリングが装着されている。また、エンド管４の下端面にもエンド管４の管孔４ａと同心状の溝が周設され、Ｏリングが装着されている。これらのＯリングが差込穴の内周面と差込穴５ａの穴底面に密着することによりエンド管４の外面と差込穴５ａとの間のシールが行われる。なお、エンド管４の外周面のＯリングと下端面のＯリングとは、いずれか一方のみが設けられてもよい。
【００２５】
図５の通り、エンド管４の上端部は小径部４ｇとなっており、管状分離膜３の下部に差し込まれている。この小径部４ｇの外周面に周設された溝にＯリングが装着されている。また、管状分離膜３の下端面とエンド管４の段差面との間にもＯリングが介在されている。エンド管４と管状分離膜３の接続部は、上記のようなＯリングを使用せず、熱収縮チューブを用いることでシールしてもよいし、Ｏリングを使用した上にさらに熱収縮チューブを用いてもよい。
【００２６】
管状分離膜３の上端にエンドプラグ２０が連結されている。エンドプラグ２０は円柱状またはこれの一部を削った形状であり、管状分離膜３の上端を封止している。エンドプラグ２０の下端には、管状分離膜３内に差し込まれた小径部が設けられている。エンドプラグ２０と管状分離膜３との間はＯリングによってシールされている。また、エンドプラグ２０と管状分離膜３は、Ｏリングを使用せず、熱収縮チューブを用いることでシールしてもよいし、Ｏリングを使用した上にさらに熱収縮チューブを用いてもよい。
【００２７】
なお、エンドプラグ２０の重量軽減を図るために、エンドプラグ２０の上端面から凹所２０ｖが凹設されている。凹所２０ｖの底部とエンドプラグ２０の側周面とを連通するドレン抜き孔を設けてもよい。
【００２８】
この実施の形態では、管状分離膜３の上端側にエンドプラグ２０を配置しているので、管状分離膜３、エンドプラグ２０、及びエンド管４に対し、それらの端面同士が押し付けられる方向に荷重がかかっている。
【００２９】
ただし、本発明では、エンド管４及び支持板５を管状分離膜３の上端側に配置し、エンドプラグ２０を管状分離膜３の下端側に配置してもよい。この場合、エンドプラグ２０を上方に付勢するためのスプリング等の付勢部材を設けることにより、管状分離膜３、エンドプラグ２０、及びエンド管４に対し、それらの端面同士が押し付けられる方向に荷重を加えることが好ましい。
【００３０】
この実施の形態では、管状分離膜３、エンド管４及びエンドプラグ２０の連結体の該エンド管４の下端部を、支持板５に設けた差込穴５ａに差し込んで管状分離膜３、エンド管４及びエンドプラグ２０の連結体を支持板５に立設する。差込穴５ａにエンド管４の下端部を差し込むだけでエンド管４と支持板５とを気密ないし液密状に容易に連結することができる。また、差込穴５ａが円柱形であるので、支持板５に差込穴５ａを穿設する作業は容易であり、支持板５の製作も容易である。従って、分離膜モジュールの製作工期の短縮及び製作コストの低減を図ることができる。
【００３１】
この分離膜モジュール１には管状分離膜３を乾燥させるために、ハウジング２内に分離膜透過性ガスを主成分とする乾燥用ガスの供給手段が設けられている。
【００３２】
図５は、その一例を示すフロー図である。流入口９には、水蒸気分離器２９を通過した被処理ガスの供給配管３０が接続され、弁３１が設けられている。非透過流体の流出口１０には、非透過流体の流出用配管４０が接続され、弁４１が設けられている。透過流体の取出口６ａには透過流体取出配管５０が接続され、弁５１が設けられている。弁５１よりも上流側において、配管５０から分取配管５２が分岐しており、弁５３及び昇圧ポンプ５４を介してリザーバタンク５５の導入口に接続されている。リザーバタンク５５の流出口は配管５６及び弁５７，５８を介して前記配管３０のうち弁３１よりも下流側に接続されている。なお、配管５６の弁５７，５８間には、炭酸ガスガスボンベ６０が配管６１及び弁６２を介して接続されている。
【００３３】
このように構成された分離膜モジュール１において、通常運転時は、弁３１，４１，５１を開とし、弁５３，５７，５８，６２を閉とする。被処理流体は水蒸気吸着器２９で水蒸気が除去された後、配管３０及び流入口９を通ってハウジング２の室１１内に導入され、バッフル７の挿通孔７ａの内周面とエンド管４の外周面との間の間隙を通って主室１３に流入し、主室１３を通った後、バッフル８の挿通孔８ａとエンドプラグ２０との間隙を通って室１２に流出する。主室１３を流れる間に被処理流体の一部の成分が管状分離膜３を透過して管状分離膜３内から流出室１６及び取出口６ａを介して配管５０に流出する。透過しなかった流体は、流出口１０から配管４０へ流出する。
【００３４】
この実施の形態では、被処理ガスが炭酸ガスを含む。炭酸ガスはゼオライト製管状分離膜３を透過し、炭酸ガスを主成分とするガスが配管５０へ流れる。
【００３５】
運転の適宜の時期に、弁５３を開くと共にポンプ５４を作動させ、炭酸ガスを主成分とするガスを昇圧してリザーバタンク５５に導入する。リザーバタンク５５内の圧力が規定圧力に達した後、弁５３を閉とし、ポンプ５４を停止し、炭酸ガスを主成分とするガスをリザーバタンク５５に貯めておく。圧力は通常０．１ＭＰａＧ以上、１．０ＭＰａＧ以下に設定することが望ましい。昇圧するポンプには制約はないが、異物やオイルが混入しないポンプを用いることが好ましい。
【００３６】
分離膜モジュール１の起動時には、弁５１，５７，５８を開、弁３１，４１を閉とし、リザーバタンク５５内の炭酸ガスを主成分とするガスをハウジング２内に供給する。これにより、ガス中の炭酸ガスがゼオライト製管状分離膜３を透過し、付着していた水分が除去される。すなわち、分離膜３に付着していた水分は、分離膜３を透過する炭酸ガス流によって蒸発したり、膜の２次側へ移動したりすることにより分離膜３から速やかに除去され、分離膜が乾燥され、分離性能が回復する。また、弁５７，５８，５９を開、弁３１，４１、５１を閉とし、膜を透過して水分を多く含有する炭酸ガスを、弁５９より大気にパージしてもよい。乾燥の完了は、炭酸ガスの供給時間で管理する方法や、透過してくるガス中の水分濃度を測定し、規定値以下になったことで確認する方法がある。また、乾燥時に分離膜３に供給するガスは、ヒーター７０により、加熱することで乾燥をより促進することができる。ヒーター出口側のガス温度は、通常２０℃以上、望ましくは３５℃以上、より好ましくは５０℃以上である。
【００３７】
なお、リザーバタンク５５内に炭酸ガスを主成分とするガスが貯留されていないときには、炭酸ガスボンベ６０から炭酸ガスをハウジング２内に供給し、分離膜３の乾燥を行う。分離膜３の乾燥終了後は通常運転に移行する。
【００３８】
主室１３内の流れと管状分離膜３内の流れは並流であっても、向流であっても差し支えなく、被処理流体の流入口９と流出口１０とは入れ替えても差し支えない。
【００３９】
分離膜モジュール１は、図１のようにトップカバー６Ｂ側を上にして使用してもよく、またボトムカバー６Ａ側を上にして使用しても差し支えない。また、ボトムカバー６Ａとトップカバー６Ｂを結ぶ方向が略水平方向となるように、分離膜モジュール１を横置きに設置して使用しても差し支えない。
【００４０】
この実施の形態では、管状分離膜３を平行に多数本配列設置しており、膜面積が大きいので、効率良く膜分離が行われる。
【００４１】
この実施の形態では、管状分離膜３の上下両端に連結されたエンド管４とエンドプラグ２０がそれぞれバッフル７，８の挿通孔７ａ，８ａに差し込まれている。そのため、管状分離膜３が振動ないし揺動してエンド管４及びエンドプラグ２０が挿通孔７ａ，８ａの内周面に当接してもゼオライト膜が損傷することがなく、長期にわたって安定して運転を行うことができる。
【００４２】
本発明の分離膜モジュールは、流体量、あるいは目的の分離度、濃縮度によって連結して使用することができる。流体量が多い場合または目的の分離度・濃縮度が高く１つのモジュールでは処理が十分できない場合には出口から出た流体をさらにもう一つのモジュールの入口に入るように配管を接続して使用することが好ましい。また分離度、濃縮度に応じてさらに連結して目的の分離度・濃縮度とすることができる。
【００４３】
本発明の分離膜モジュールを並列に設置して流体を分岐してガスを供給してもよい。この時さらに並列したそれぞれのモジュールに直列でモジュールを設置することもできる。並列としたモジュールを直列とする場合、供給ガス量が直列方向に低下し線速が低下するので、適宜線速を保つように並列の設置数を減少させることが好ましい。
【００４４】
モジュールを直列に配置する場合の透過した成分はモジュール毎に排出しても良く、モジュール間を連結して集合させて排出しても良い。
【００４５】
以下、本発明の分離膜モジュールを構成する各部材の好適な材料等について説明する。
【００４６】
水蒸気分離器２９としては、ケーシング内にゼオライト、シリカゲルなどの水蒸気吸収剤を収容したものが好適であるが、冷却方式によって水蒸気を凝縮させる凝縮器なども用いることができる。
【００４７】
エンド管４及びエンドプラグ２０の材料としては金属、セラミックス、樹脂など、流体を透過させないものが例示されるが、これに限定されない。バッフル７，８及びジョイント管１７の材質は、通常、ステンレスなどの金属材料であるが、分離条件における耐熱性と供給、透過成分に対する耐性があれば特に限定されず、用途によっては、樹脂材料など他の材質に変更可能である。
【００４８】
管状分離膜３は、好ましくは、管状の多孔質支持体と、該多孔質支持体の外周面に形成された無機分離膜としてのゼオライト膜とを有する。この管状の多孔質支持体の材質としては、シリカ、α−アルミナ、γ−アルミナ、ムライト、ジルコニア、チタニア、イットリア、窒化珪素、炭化珪素などを含むセラミックス焼結体や金属焼結体の無機多孔質支持体が挙げられる。その中でもアルミナ、シリカ、ムライトのうち少なくとも１種を含む無機多孔質支持体が好ましい。多孔質支持体表面が有する平均細孔径は特に制限されるものではないが、細孔径が制御されているものが好ましく、通常０．０２μｍ以上、好ましくは０．０５μｍ以上、さらに好ましくは０．１μｍ以上であり、通常２０μｍ以下、好ましくは１０μｍ以下、さらに好ましくは５μｍ以下の範囲が好ましい。
【００４９】
多孔質支持体の表面においてゼオライトを結晶化させゼオライト膜を形成させる。
ゼオライト膜を構成する主たるゼオライトは、通常、酸素６−１０員環構造を有するゼオライトを含み、好ましくは酸素６−８員環構造を有するゼオライトを含む。
【００５０】
ここでいう酸素ｎ員環を有するゼオライトのｎの値は、ゼオライト骨格を形成する酸素とＴ元素で構成される細孔の中で最も酸素の数が大きいものを示す。例えば、ＭＯＲ型ゼオライトのように酸素１２員環と８員環の細孔が存在する場合は、酸素１２員環のゼオライトとみなす。
【００５１】
酸素６−１０員環構造を有するゼオライトの一例を挙げれば、ＡＥＩ、ＡＥＬ、ＡＦＧ、ＡＮＡ、ＢＲＥ、ＣＡＳ、ＣＤＯ、ＣＨＡ、ＤＡＣ、ＤＤＲ、ＤＯＨ、ＥＡＢ、ＥＰＩ、ＥＳＶ、ＥＵＯ、ＦＡＲ、ＦＲＡ、ＦＥＲ、ＧＩＳ、ＧＩＵ、ＧＯＯ、ＨＥＵ、ＩＭＦ、ＩＴＥ、ＩＴＨ、ＫＦＩ、ＬＥＶ、ＬＩＯ、ＬＯＳ、ＬＴＮ、ＭＡＲ、ＭＥＰ、ＭＥＲ、ＭＥＬ、ＭＦＩ、ＭＦＳ、ＭＯＮ、ＭＳＯ、ＭＴＦ、ＭＴＮ、ＭＴＴ、ＭＷＷ、ＮＡＴ、ＮＥＳ、ＮＯＮ、ＰＡＵ、ＰＨＩ、ＲＨＯ、ＲＲＯ、ＲＴＥ、ＲＴＨ、ＲＵＴ、ＳＧＴ、ＳＯＤ、ＳＴＦ、ＳＴＩ、ＳＴＴ、ＴＥＲ、ＴＯＬ、ＴＯＮ、ＴＳＣ、ＴＵＮ、ＵＦＩ、ＶＮＩ、ＶＳＶ、ＷＥＩ、ＹＵＧ等がある。
【００５２】
ゼオライト膜は、ゼオライトが単独で膜となったものでも、前記ゼオライトの粉末をポリマーなどのバインダー中に分散させて膜の形状にしたものでも、各種支持体上にゼオライトを膜状に固着させたゼオライト膜複合体でもよい。ゼオライト膜は、一部アモルファス成分などが含有されていてもよい。
【００５３】
ゼオライト膜の厚さとしては、特に制限されるものではないが、通常、０．１μｍ以上であり、好ましくは０．６μｍ以上、さらに好ましくは１．０μｍ以上である。また通常１００μｍ以下であり、好ましくは６０μｍ以下、さらに好ましくは２０μｍ以下の範囲である。
【００５４】
ただし、本発明はゼオライト膜以外の分離膜を有した管状分離膜を用いてもよい。
【００５５】
管状分離膜３の外径は、好ましくは３ｍｍ以上、より好ましくは６ｍｍ以上、さらに好ましくは１０ｍｍ以上、好ましくは２０ｍｍ以下、より好ましくは１８ｍｍ以下、さらに好ましくは１６ｍｍ以下である。外径が小さすぎると管状分離膜の強度が十分でなく壊れやすくなることがあり、大きすぎるとモジュール当りの膜面積が低下する。
【００５６】
管状分離膜３のうちゼオライト膜で覆われた部分の長さは好ましくは２０ｃｍ以上、好ましくは２００ｃｍ以下である。
【００５７】
本発明の分離膜モジュールにおいて、管状分離膜は、単管式でも多管式でもよく、通常１〜３０００本、特に５０〜１５００本配置され、管状分離膜同士の最短距離は、２ｍｍ〜１０ｍｍとなるように配置されることが好ましい。ハウジングの大きさ、管状分離膜の本数は処理する流体量によって適宜変更されるものである。なお、管状分離膜はジョイント管１７によって連結されなくてもよい。
【００５８】
本発明の分離膜モジュールにおいて、分離または濃縮の対象となる被処理流体としては、分離膜によって分離または濃縮が可能な複数の成分からなる気体または液体の混合物であれば特に制限はなく、如何なる混合物であってもよいが、気体の混合物に使用することが好ましい。
【００５９】
分離または濃縮にはパーベーパレーション法（浸透気化法）、ベーパーパーミエーション法（蒸気透過法）と呼ばれる分離または濃縮方法を用いることができる。パーベーパレーション法は、液体の混合物をそのまま分離膜に導入する分離または濃縮方法であるため、分離または濃縮を含むプロセスを簡便なものにすることができる。
【００６０】
本発明において、分離または濃縮の対象となる混合物が、複数の成分からなる気体の混合物である場合、気体の混合物としては、例えば、二酸化炭素、酸素、窒素、水素、メタン、エタン、エチレン、プロパン、プロピレン、ノルマルブタン、イソブタン、１−ブテン、２-ブテン、イソブテン、トルエンなどの芳香族系化合物、六フッ化硫黄、ヘリウム、一酸化炭素、一酸化窒素、水などから選ばれる少なくとも１種の成分を含むものが挙げられる。これらの気体成分からなる混合物のうち、パーミエンスの高い気体成分は、分離膜を透過し分離され、パーミエンスの低い気体成分は供給ガス側に濃縮される。従って、上記説明では、被処理ガスを炭酸ガス含有ガスとされていたが、被処理ガス中の分離膜透過性成分は炭酸ガス以外であってもよい。
【符号の説明】
【００６１】
１  分離膜モジュール
２  ハウジング
３  管状分離膜
４  エンド管
５  支持板
５ａ  差込穴
５ｃ  大孔
６Ａ  ボトムカバー
６Ｂ  トップカバー
６ａ  取出口
７，８  バッフル
７ａ，８ａ  挿通孔
９  流入口
１０  流出口
１１，１２  室
１３  主室
１４  ロッド
１６  流出室
２０  エンドプラグ
２９  水蒸気分離器
３０，４０，５０，５２，５６，６１  配管
３１，４１，５１，５３，５７，５８，５９，６２  弁
５４  ポンプ
５５  リザーバタンク
６０  炭酸ガスボンベ
７０  ヒーター
【図１】
0006500499.tif 000002
【図２】
0006500499.tif 000003
【図３】
0006500499.tif 000004
【図４】
0006500499.tif 000005
【図５】
0006500499.tif 000006