(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワークに機能液の液滴を吐出して描画する液滴吐出装置であって、
液滴吐出位置に配置された前記ワークに対して、液滴を吐出する液滴吐出ヘッドと、
前記ワークを載置するワークステージと、
前記ワークステージを移動させることにより、前記液滴吐出ヘッドと前記ワークを、主走査方向、前記主走査方向に直交する方向及び回転方向に相対的に移動させるワーク移動機構と、
前記ワーク移動機構による、前記ワークステージの主走査方向への移動量を検出する移動量検出機構と、
前記ワークの主走査方向における前記液滴吐出ヘッドの上流側における、移動中の前記ワークの上面に予め形成された基準マークを検出するマーク検出ユニットと、
前記ワークが前記主走査方向に沿って所定の距離移動したときに前記移動量検出機構で検出される移動量に基づいて、前記基準マークの位置を推定するマーク位置推定部と、
前記ワークが前記所定の距離移動したときに前記マーク検出ユニットにより検出された前記基準マークの位置と、前記ワークが前記所定の距離移動したときに前記マーク位置推定部で推定される前記基準マークの位置との差分を検出し、検出した差分に基づいて、前記液滴吐出位置における前記ワークと前記液滴吐出ヘッドとの差分をなくすように前記ワーク移動機構による前記ワークステージの移動速度を制御するワーク移動制御部と、を有することを特徴とする、液滴吐出装置。
【請求項２】
前記基準マークは、前記液滴吐出ヘッドから吐出された液滴を着弾させる着弾領域を規定するように形成されたバンク、または前記着弾領域の外部に形成された識別記号であることを特徴とする、請求項１に記載の液滴吐出装置。
【請求項３】
前記ワーク上には、前記着弾領域が複数形成され、
前記ワーク移動制御部は、前記各着弾領域ごとに、前記液滴吐出位置における前記ワークと前記液滴吐出ヘッドとの差分をなくすように前記ワーク移動機構による前記ワークステージの移動速度を制御することを特徴とする、請求項２に記載の液滴吐出装置。
【請求項４】
前記マーク検出ユニットによる前記基準マークの検出は所定の周期で行われ、
前記マーク検出ユニットと前記液滴吐出ヘッドとの間の距離は、前記基準マークを検出する周期の間に前記ワークステージが移動する距離のｎ倍（ｎ＝正の整数）に設定されており、
前記液滴吐出位置における前記ワークと前記液滴吐出ヘッドとの差分をなくすように前記ワーク移動機構による前記ワークステージの移動速度を制御することは、前記マーク検出ユニットで前記基準マークの検出を行った後の（ｎ−１）回目の前記基準マークの検出と、ｎ回目の前記基準マークの検出と、の間に行われることを特徴とする、請求項３に記載の液滴吐出装置。
【請求項５】
前記ワークの主走査方向における前記液滴吐出ヘッドの下流側に配置された撮像部をさらに有し、
前記ワークには、液滴により所定のパターンが描画される着弾領域が形成され、
前記ワーク移動制御部は、
前記液滴吐出位置における前記ワークと前記液滴吐出ヘッドとの差分をなくした状態で、前記着弾領域の外部の予め定められた所定の位置に対して前記液滴吐出ヘッドから液滴を吐出し、
前記撮像部で撮像された撮像画像に基づいて、前記液滴吐出ヘッドから吐出された液滴の位置を特定し、
前記特定された液滴の位置と、前記着弾領域の外部の予め定められた所定の位置とのずれ量を算出し、
次回以降の前記液滴吐出ヘッドからの液滴の吐出において、当該算出されたずれ量に基づいて、前記液滴吐出位置における前記ワークと前記液滴吐出ヘッドとの差分をなくすように前記ワーク移動機構による前記ワークステージの移動速度を制御することを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に液滴吐出装置。
【請求項６】
ワークを主走査方向に移動させるワーク移動機構を備えた液滴吐出装置を用いて、ワークに機能液の液滴を吐出して描画する液滴吐出方法であって、
前記ワーク移動機構により主走査方向に沿って前記ワークを液滴吐出ヘッドに向けて移動させる際の、当該ワークの移動量を移動量検出機構により検出し、
前記ワークの主走査方向における前記液滴吐出ヘッドの上流側における、移動中の前記ワークの上面に予め形成された基準マークを検出し、
前記ワークが前記主走査方向に沿って所定の距離移動したときに前記移動量検出機構により検出される移動量に基づいて、前記基準マークの位置を推定し、
前記ワークが前記所定の距離移動したときに検出された前記基準マークの位置と、前記ワークが前記所定の距離移動したときに前記移動量検出機構により検出される移動量に基づいて推定される前記基準マークの位置との差分を検出し、検出した差分に基づいて、前記液滴吐出ヘッドから前記ワークに液滴を吐出する液滴吐出位置における、前記ワークと前記液滴吐出ヘッドとの差分をなくすように前記ワーク移動機構による前記ワークの移動速度を制御することを特徴とする、液滴吐出方法。
【請求項７】
前記基準マークは、前記液滴吐出ヘッドから吐出された液滴を着弾させる着弾領域を規定するように形成されたバンク、または前記着弾領域の外部に形成された識別記号であることを特徴とする、請求項６に記載の液滴吐出方法。
【請求項８】
前記ワーク上には、前記着弾領域が複数形成され、
前記液滴吐出位置における前記ワークと前記液滴吐出ヘッドとの差分をなくすように前記ワーク移動機構による前記ワークの移動速度を制御することは、前記各着弾領域ごとに行われることを特徴とする、請求項７に記載の液滴吐出方法。
【請求項９】
前記液滴吐出ヘッドの上流側における前記基準マークの検出は所定の周期で行われ、
前記基準マークを検出する位置と前記液滴吐出ヘッドとの間の距離は、前記基準マークを検出する周期の間に前記ワークが移動する距離のｎ倍（ｎ＝正の整数）に設定されており、
前記液滴吐出位置における前記ワークと前記液滴吐出ヘッドとの差分をなくすように前記ワーク移動機構による前記ワークの移動速度を制御することは、前記基準マークの検出を行った後の（ｎ−１）回目に行われる前記基準マークの検出と、ｎ回目に行われる前記基準マークの検出と、の間に行われることを特徴とする、請求項８に記載の液滴吐出方法。
【請求項１０】
前記ワークには、液滴により所定のパターンが描画される着弾領域が形成されており、
前記液滴吐出位置における前記ワークと前記液滴吐出ヘッドとの差分をなくした状態で、前記着弾領域の外部の予め定められた所定の位置に対して前記液滴吐出ヘッドから液滴を吐出し、
前記ワークの主走査方向における前記液滴吐出ヘッドの下流側において、前記着弾領域の外部の予め定められた所定の位置に対して吐出された液滴の位置を検出し、
前記検出された液滴の位置と、前記着弾領域の外部の予め定められた所定の位置とのずれ量を算出し、
次回以降の前記液滴吐出ヘッドからの液滴の吐出において、当該算出されたずれ量に基づいて、前記液滴吐出位置における前記ワークと前記液滴吐出ヘッドとのと前記液滴吐出ヘッドとの差分をなくすように前記ワーク移動機構による前記ワークの移動速度を制御することを特徴とする、請求項６〜９のいずれか一項に液滴吐出方法。
【請求項１１】
請求項６〜１０のいずれか一項に記載の液滴吐出方法を液滴吐出装置によって実行させるように、当該液滴吐出装置のコンピュータ上で動作するプログラム。
【請求項１２】
請求項１１に記載のプログラムを格納した読み取り可能なコンピュータ記憶媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ワークに機能液の液滴を吐出して描画する液滴吐出装置、当該液滴吐出装置を用いた液滴吐出方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、機能液を使用してワークに描画を行う装置として、当該機能液を液滴にして吐出するインクジェット方式の液滴吐出装置が知られている。液滴吐出装置は、例えば有機ＥＬ装置、カラーフィルタ、液晶表示装置、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ装置）、電子放出装置（ＦＥＤ装置、ＳＥＤ装置）等の電気光学装置（フラットパネルディスプレイ：ＦＰＤ）を製造する際など、広く用いられている。
【０００３】
液滴吐出装置は、例えば機能液の液滴を吐出する機能液滴吐出ヘッドと、ワークを搭載するワークステージと、案内用の一対の支持ベースが延伸する方向（主走査方向）に沿ってワークステージを移動させる移動機構と、を備えている。そして、ワークステージにより機能液滴吐出ヘッドに対してワークを相対的に移動させながら、機能液滴吐出ヘッドからワーク上に予め形成されたバンクに対して機能液を吐出することで、ワークに対する描画が行われる（特許文献１）。
【０００４】
このような液滴吐出装置においては、ワーク上の所望の位置に対して正確に機能液を吐出するために、予めワークのアライメントが行われる。ワークステージは回転動作を含めて水平方向に移動自在に構成されており、ワークステージ上方に設けられたアライメント用のカメラによりワークのアライメントマークを撮像する。そして、撮像された画像に基づいてワークステージの水平方向の位置を補正することで、ワークのアライメントが行われる。その後、アライメントされたワークを予め定められた位置に移動させ、機能液滴吐出ヘッドからワークのバンク内に機能液が吐出される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１０−１９８０２８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、ワークのアライメントを行った後にワークステージを機能液滴吐出ヘッドに向けて移動させる過程でワークの姿勢ずれや、ワークステージの移動機構の機械的な精度や温度変化、経時変化といった要因により、機能液滴吐出ヘッドとワーク上のバンクとの位置関係が変化してしまう場合があるという問題があった。
【０００７】
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、液滴吐出装置の機能液滴吐出ヘッドとワーク上のバンクを高精度に位置合わせすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記の目的を達成するため、本発明は、ワークに機能液の液滴を吐出して描画する液滴吐出装置であって、液滴吐出位置に配置された前記ワークに対して、液滴を吐出する液滴吐出ヘッドと、前記ワークを載置するワークステージと、前記ワークステージを移動させることにより、前記液滴吐出ヘッドと前記ワークを、主走査方向、前記主走査方向に直交する方向及び回転方向に相対的に移動させるワーク移動機構と、前記ワーク移動機構による、前記ワークステージの主走査方向への移動量を検出する移動量検出機構と、前記ワークの主走査方向における前記液滴吐出ヘッドの上流側における、移動中の前記ワークの上面に予め形成された基準マークを検出するマーク検出ユニットと、前記ワークが前記主走査方向に沿って所定の距離移動したときに前記移動量検出機構で検出される移動量に基づいて、前記基準マークの位置を推定するマーク位置推定部と、前記ワークが前記所定の距離移動したときに前記マーク検出ユニットにより検出された前記基準マークの位置と、前記ワークが前記所定の距離移動したときに前記マーク位置推定部で推定される前記基準マークの位置との差分を検出し、検出した差分に基づいて、前記液滴吐出位置における前記ワークと前記液滴吐出ヘッドとの差分をなくすように前記ワーク移動機構による前記ワークステージの移動速度を制御するワーク移動制御部と、を有することを特徴としている。
【０００９】
本発明によれば、ワークステージの主走査方向への移動量を検出する移動量検出機構と、液滴吐出ヘッドの上流側における、ワークの上面に予め形成された基準マークを検出するマーク検出ユニットと、移動量検出機構で検出される移動量に基づいて、基準マークの位置を推定するマーク位置推定部と、を有しているので、マーク検出ユニットにより検出された基準マークの位置と、マーク位置推定部で推定される前記基準マークの位置との相関関係として、例えばマーク検出ユニットにより検出された基準マークの位置とマーク位置推定部で推定される基準マークの位置との差分を求めることができる。したがって、ワーク上のバンクと液滴吐出ヘッドとの相対的な位置関係にずれが生じていたとしても、この差分をゼロにするようにワークと液滴吐出ヘッドとの相対的な位置を補正することで、液滴吐出ヘッドからの液滴の吐出を行う前に、当該液滴吐出ヘッドとワーク上のバンクを高精度に位置合わせすることができる。
【００１１】
前記基準マークは、前記液滴吐出ヘッドから吐出された液滴を着弾させる着弾領域を規定するように形成されたバンク、または前記着弾領域の外部に形成された識別記号であってもよい。
【００１２】
前記ワーク上には、前記着弾領域が複数形成され、前記ワーク移動制御部は、前記各着弾領域ごとに、前記液滴吐出位置における前記ワークと前記液滴吐出ヘッドとの差分をなくすように前記ワーク移動機構による前記ワークステージの移動速度を制御してもよい。
【００１３】
前記マーク検出ユニットによる前記基準マークの検出は所定の周期で行われ、前記マーク検出ユニットと前記液滴吐出ヘッドとの間の距離は、前記基準マークを検出する周期の間に前記ワークステージが移動する距離のｎ倍（ｎ＝正の整数）に設定されており、前記液滴吐出位置における前記ワークと前記液滴吐出ヘッドとの差分をなくすように前記ワーク移動機構による前記ワークステージの移動速度を制御することは、前記マーク検出ユニットで前記基準マークの検出を行った後の（ｎ−１）回目の前記基準マークの検出と、ｎ回目の前記基準マークの検出と、の間に行われてもよい。
【００１４】
前記ワークの主走査方向における前記液滴吐出ヘッドの下流側に配置された撮像部をさらに有し、前記ワークには、液滴により所定のパターンが描画される着弾領域が形成され、前記ワーク移動制御部は、前記液滴吐出位置における前記ワークと前記液滴吐出ヘッドとの差分をなくした状態で、前記着弾領域の外部の予め定められた所定の位置に対して前記液滴吐出ヘッドから液滴を吐出し、前記撮像部で撮像された撮像画像に基づいて、前記液滴吐出ヘッドから吐出された液滴の位置を特定し、前記特定された液滴の位置と、前記着弾領域の外部の予め定められた所定の位置とのずれ量を算出し、次回以降の前記液滴吐出ヘッドからの液滴の吐出において、当該算出されたずれ量に基づいて、前記液滴吐出位置における前記ワークと前記液滴吐出ヘッドとの差分をなくすように前記ワーク移動機構による前記ワークステージの移動速度を制御してもよい。
【００１５】
別な観点による本発明は、ワークを主走査方向に移動させるワーク移動機構を備えた液滴吐出装置を用いて、ワークに機能液の液滴を吐出して描画する液滴吐出方法であって、前記ワーク移動機構により主走査方向に沿って前記ワークを液滴吐出ヘッドに向けて移動させる際の、当該ワークの移動量を移動量検出機構により検出し、前記ワークの主走査方向における前記液滴吐出ヘッドの上流側における、移動中の前記ワークの上面に予め形成された基準マークを検出し、前記ワークが前記主走査方向に沿って所定の距離移動したときに前記移動量検出機構により検出される移動量に基づいて、前記基準マークの位置を推定し、前記ワークが前記所定の距離移動したときに検出された前記基準マークの位置と、前記ワークが前記所定の距離移動したときに前記移動量検出機構により検出される移動量に基づいて推定される前記基準マークの位置との差分を検出し、検出した差分に基づいて、前記液滴吐出ヘッドから前記ワークに液滴を吐出する液滴吐出位置における、前記ワークと前記液滴吐出ヘッドとの差分をなくすように前記ワーク移動機構による前記ワークの移動速度を制御することを特徴としている。
【００１７】
前記基準マークは、前記液滴吐出ヘッドから吐出された液滴を着弾させる着弾領域を規定するように形成されたバンク、または前記着弾領域の外部に形成された識別記号であってもよい。
【００１８】
前記ワーク上には、前記着弾領域が複数形成され、前記液滴吐出位置における前記ワークと前記液滴吐出ヘッドとの差分をなくすように前記ワーク移動機構による前記ワークの移動速度を制御することは、前記各着弾領域ごとに行われてもよい。
【００１９】
前記液滴吐出ヘッドの上流側における前記基準マークの検出は所定の周期で行われ、前記基準マークを検出する位置と前記液滴吐出ヘッドとの間の距離は、前記基準マークを検出する周期の間に前記ワークが移動する距離のｎ倍（ｎ＝正の整数）に設定されており、前記液滴吐出位置における前記ワークと前記液滴吐出ヘッドとの差分をなくすように前記ワーク移動機構による前記ワークの移動速度を制御することは、前記基準マークの検出を行った後の（ｎ−１）回目に行われる前記基準マークの検出と、ｎ回目に行われる前記基準マークの検出と、の間に行われてもよい。
【００２０】
前記ワークには、液滴により所定のパターンが描画される着弾領域が形成されており、前記液滴吐出位置における前記ワークと前記液滴吐出ヘッドとの差分をなくした状態で、前記着弾領域の外部の予め定められた所定の位置に対して前記液滴吐出ヘッドから液滴を吐出し、前記ワークの主走査方向における前記液滴吐出ヘッドの下流側において、前記着弾領域の外部の予め定められた所定の位置に対して吐出された液滴の位置を検出し、前記検出された液滴の位置と、前記着弾領域の外部の予め定められた所定の位置とのずれ量を算出し、次回以降の前記液滴吐出ヘッドからの液滴の吐出において、当該算出されたずれ量に基づいて、前記液滴吐出位置における前記ワークと前記液滴吐出ヘッドとのと前記液滴吐出ヘッドとの差分をなくすように前記ワーク移動機構による前記ワークの移動速度を制御してもよい。
【００２１】
また別な観点による本発明によれば、前記液滴吐出方法を液滴吐出装置によって実行させるように、当該液滴吐出装置のコンピュータ上で動作するプログラムが提供される。
【００２２】
さらに別な観点による本発明によれば、前記プログラムを格納した読み取り可能なコンピュータ記憶媒体が提供される。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、液滴吐出装置の機能液滴吐出ヘッドとワーク上のバンクを高精度に位置合わせすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】第１の実施の形態にかかる液滴吐出装置の構成の概略を示す模式側面図である。
【図２】第１の実施の形態にかかる液滴吐出装置の構成の概略を示す模式平面図である。
【図３】ワーク上にバンクと基準マークが形成された状態を示す模式平面図である。
【図４】撮像画像の模式図である。
【図５】制御部の構成の概略を模式的に示すブロック図である。
【図６】ワークの位置及びずれ量を示す補正テーブルである。
【図７】ワークを液滴吐出ヘッドに向けて移動させる様子を示す説明図である。
【図８】第１の実施の形態にかかる液滴吐出装置での処理動作の説明図である。
【図９】ワークと液滴吐出ヘッドとの相対的な位置関係を時系列に表した説明図である。
【図１０】他の実施の形態にかかる液滴吐出装置の構成の概略を示す模式平面図である。
【図１１】他の実施の形態にかかるワークの表面の状態を示す模式平面図である。
【図１２】ワークの位置及びずれ量を示す表である。
【図１３】ワークの位置及びずれ量を示す表である。
【図１４】ワークに形成された基準マーク上に液滴を着弾させた状態を示す模式平面図である。
【図１５】液滴検査装置を備えた基板処理システムの構成の概略を示す平面図である。
【図１６】有機発光ダイオードの構成の概略を示す側面図である。
【図１７】有機発光ダイオードの隔壁の構成の概略を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下、添付図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。なお、以下に示す実施の形態によりこの発明が限定されるものではない。
【００２６】
＜１．第１の実施の形態＞
先ず、本発明の第１の実施の形態に係る液滴吐出装置の構成について、図１及び図２を参照して説明する。図１は、液滴吐出装置１の構成の概略を示す模式側面図である。図２は、液滴吐出装置１の構成の概略を示す模式平面図である。なお、以下においては、ワークＷの主走査方向をＸ軸方向、主走査方向に直交する副走査方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に直交する鉛直方向をＺ軸方向、Ｚ軸方向回りの回転方向をθ方向とする。
【００２７】
また、本発明で用いられるワークＷには、図３に示すように区画壁であるバンク１００が形成される。バンク１００は、例えばフォトリソグラフィー処理やエッチング処理等を行うことによって所定のパターンにパターニングされる。バンク１００には、略矩形状の開口部１０１が行方向（Ｘ軸方向）と列方向（Ｙ軸方向）に所定のピッチで複数並べて形成されている。この開口部１０１の内部は、液滴吐出装置１により吐出された液滴が着弾する着弾領域となる。なお、バンク１００には、例えば感光性ポリイミド樹脂が用いられる。
【００２８】
ワークＷの端部には、基準マーク１０２がＸ軸方向に沿って複数形成されている。基準マーク１０２は、例えばインクジェット方式の描図方法などを用いてワークＷの上面に描図されている。なお、図３では、基準マーク１０２として略十字形のマークを描図しているが、基準マーク１０２の形状は本実施の形態の内容に限定されるものではなく、例えば円形や三角形であってもよく、識別可能なものであれば任意に設定できる。また、図３ではワークＷのＹ方向負方向側の端部に基準マーク１０２が形成された状態を描図しているが、基準マーク１０２はワークＷのＹ方向正方向側の端部に形成されていてもよい。
【００２９】
液滴吐出装置１は、主走査方向（Ｘ軸方向）に延在して、ワークＷを主走査方向に移動させるＸ軸テーブル１０と、Ｘ軸テーブル１０を跨ぐように架け渡され、副走査方向（Ｙ軸方向）に延在する一対のＹ軸テーブル１１、１１とを有している。Ｘ軸テーブル１０の上面には、一対のＸ軸ガイドレール１２、１２がＸ軸方向に延伸して設けられ、各Ｘ軸ガイドレール１２には、Ｘ軸リニアモータ（図示せず）が設けられている。各Ｙ軸テーブル１１の上面には、Ｙ軸ガイドレール１３がＹ軸方向に延伸して設けられ、当該Ｙ軸ガイドレール１３には、Ｙ軸リニアモータ（図示せず）が設けられている。なお、以下の説明では、Ｘ軸テーブル１０上において、Ｙ軸テーブル１１よりＸ軸負方向側のエリアを搬入出エリアＡ１といい、一対のＹ軸テーブル１１、１１間のエリアを処理エリアＡ２といい、Ｙ軸テーブル１１よりＸ軸正方向側のエリアを待機エリアＡ３という。
【００３０】
Ｘ軸テーブル１０上には、ワークステージ２０が設けられている。一対のＹ軸テーブル１１、１１には、キャリッジユニット３０と撮像ユニット４０が設けられている。
【００３１】
ワークステージ２０は、例えば真空吸着ステージであり、ワークＷを吸着して載置する。ワークステージ２０は、当該ワークステージ２０の下面側に設けられたステージ回転機構２１によって、θ方向に回転自在に支持されている。ワークステージ２０とステージ回転機構２１は、ステージ回転機構２１の下面側に設けられたＸ軸スライダ２２に支持されている。Ｘ軸スライダ２２は、Ｘ軸ガイドレール１２に取り付けられ、当該Ｘ軸ガイドレール１２に設けられたＸ軸リニアモータによってＸ軸方向に例えば所定の速度Ｖで移動させるように構成されている。したがって、ワークＷを載置した状態でワークステージ２０をＸ軸スライダ２２によってＸ軸ガイドレール１２に沿ってＸ軸方向に移動させることで、ワークＷをＸ軸方向（主走査方向）に速度Ｖで移動させることができる。
【００３２】
なお、搬入出エリアＡ１におけるワークステージ２０の上方には、ワークステージ２０上のワークＷの基準マーク１０２を撮像するワークアライメントカメラ（図示せず）が設けられている。そして、ワークアライメントカメラで撮像された画像に基づいて、Ｘ軸スライダ２２及びステージ回転機構２１により、ワークステージ２０に載置されたワークＷのＸ軸方向及びθ方向の位置が必要に応じて補正される。これにより、ワークＷがアライメントされて所定の初期位置に設定される。
【００３３】
Ｘ軸スライダ２２は、Ｘ軸スライダ２２の移動量、即ちワークステージ２０に載置されたワークＷの移動量を検出する移動量検出機構２３を有している。移動量検出機構２３としては、例えば所定の距離移動するごとにパルス信号を発するリニアエンコーダが用いられる。移動量検出機構２３で検出された移動量に関する情報（パルス信号）は、後述する制御部１５０に入力される。
【００３４】
キャリッジユニット３０は、Ｙ軸テーブル１１において、複数、例えば１０個設けられている。各キャリッジユニット３０は、キャリッジプレート３１と、キャリッジ保持機構３２と、キャリッジ３３と、液滴吐出ヘッド３４とを有している。キャリッジ保持機構３２は、キャリッジプレート３１の下面の中央部に設けられ、当該キャリッジ保持機構３２の下端部にキャリッジ３３が着脱自在に取り付けられている。
【００３５】
キャリッジプレート３１は、Ｙ軸ガイドレール１３に取り付けられ、当該Ｙ軸ガイドレール１３に設けられた図示しないＹ軸リニアモータによってＹ軸方向に移動自在になっている。したがって、キャリッジプレート３１をＹ軸方向に移動させることにより、Ｙ軸方向に沿って、液滴吐出ヘッド３４とワークＷとを相対的に移動させることができる。なお、複数のキャリッジプレート３１を一体としてＹ軸方向に移動させることも可能である。また、Ｘ軸スライダ２２とＸ軸ガイドレール１２（Ｘ軸リニアモータ）、ステージ回転機構２１、及びキャリッジプレート３１とＹ軸ガイドレール１３（Ｙ軸リニアモータ）が、本発明においてワークＷと液滴吐出ヘッド３４とをＸ軸方向（主走査方向）、Ｙ軸方向（主走査方向に直交する方向）及び回転方向（θ方向）に相対的に移動させるワーク移動機構として機能する。
【００３６】
キャリッジ３３の下面には、複数の液滴吐出ヘッド３４がＸ軸方向及びＹ軸方向に並べて設けられている。本実施の形態では、例えばＸ軸方向に３個、Ｙ軸方向に２個、すなわち合計６個の液滴吐出ヘッド３４が設けられている。液滴吐出ヘッド３４の下面、すなわちノズル面には複数の吐出ノズル（図示せず）が形成されている。そして、当該吐出ノズルからは、液滴吐出ヘッド３４直下の液滴吐出位置に対して機能液の液滴が吐出されるようになっている。
【００３７】
撮像ユニット４０は、Ｘ軸リニアモータによってワークステージ２０をＸ方向に移動させたときの、ワークＷ上の基準マーク１０２の軌跡と、平面視において概ね重なる位置に配置される。具体的には、例えば図２に示すように、Ｙ方向の負方向側の下から２番目のキャリッジプレート３１ａの配置が、ワークＷをＷ軸方向に移動させたときの基準マーク１０２の軌跡と概ね重なっている場合、撮像ユニット４０はキャリッジプレート３１ａに設けられる。撮像ユニット４０は、キャリッジ３３（液滴吐出ヘッド２４）を挟んでＸ軸方向に対向して設けられた第１の撮像部４１と、第２の撮像部４２を有している。第１の撮像部４１及び第２の撮像部４２としては、例えばＣＣＤカメラが用いられる。第１の撮像部４１は、キャリッジ３３に対してＸ方向負方向側に配置されており、例えばキャリッジ３３とＸ軸方向に所定の距離Ｌだけ離れて配置されている。第２の撮像部４２は、キャリッジ３３に対してＸ方向正方向側に配置されている。なお、距離Ｌの設定については後述する。
【００３８】
第１の撮像部４１は、ワークＷに形成された基準マーク１０２を撮像する。第１の撮像部４１は、一対のＹ軸テーブル１１、１１のうち、Ｘ軸負方向側のＹ軸テーブル１１の側面に設けられたベース４３に支持されている。そして、ワークＷが搬入出エリアＡ１から処理エリアＡ２に向けて移動し、第１の撮像部４１の直下にワークステージ２０が案内されたときに、第１の撮像部４１は、所定の周期Ｔでワークステージ２０上に載置されたワークＷを撮像する。これにより、例えば図４に示すような、ワークＷの撮像画像Ｆを取得する。取得された撮像画像Ｆは、後述する制御部１５０に入力される。なお、第１の撮像部４１による撮像のタイミングは例えば移動量検出機構２３で検出されるパルス信号に基づいて決定され、撮像の周期Ｔは、制御部１５０において撮像画像Ｆの処理に要する時間Ｔｓよりも長く設定されている。また、図４に示す撮像画像Ｆは、ワークＷのＸ方向正方向側の端部近傍を撮像した状態を描図している。
【００３９】
第２の撮像部４２は、一対のＹ軸テーブル１１、１１のうち、Ｘ軸正方向側のＹ軸テーブル１１の側面に設けられたベース４４に支持されている。そして、第２の撮像部４２の直下にワークステージ２０が案内された際、第２の撮像部４２は、ワークステージ２０上に載置されたワークＷを撮像することにより、ワークＷの上面に着弾した液滴を撮像することができる。
【００４０】
以上の液滴吐出装置１には、制御部１５０が設けられている。制御部１５０は、例えばコンピュータであり、データ格納部（図示せず）を有している。データ格納部には、例えばワークＷに吐出される液滴を制御し、当該ワークＷに所定のパターンを描画するための描画データ（ビットマップデータ）などが格納されている。また、制御部１５０は、プログラム格納部（図示せず）を有している。プログラム格納部には、液滴吐出装置１における各種処理を制御するプログラムなどが格納されている。
【００４１】
なお、前記データや前記プログラムは、例えばコンピュータ読み取り可能なハードディスク（ＨＤ）、フレキシブルディスク（ＦＤ）、コンパクトディスク（ＣＤ）、マグネットオプティカルデスク（ＭＯ）、メモリーカードなどのコンピュータに読み取り可能な記憶媒体に記録されていたものであって、その記憶媒体から制御部１５０にインストールされたものであってもよい。
【００４２】
また、制御部１５０は、図５に示すように、第１の撮像部４１で撮像された撮像画像Ｆを処理して当該撮像画像から基準マーク１０２の位置を検出する画像処理部１６０と、ワークステージ２０上のワークＷがＸ軸方向に沿って所定の距離移動したときに、移動量検出機構２３で検出された移動量に基づいて基準マーク１０２の位置を推定するマーク位置推定部１６１と、Ｘ軸リニアモータ、ステージ回転機構２１及びＹ軸リニアモータといった、ワーク移動機構として機能する各駆動系の動作を制御するワーク移動制御部１６２を有している。
【００４３】
画像処理部１６０において撮像画像Ｆに基づき基準マーク１０２の位置を検出する際には、先ず、撮像画像Ｆを取得したときの第１の撮像部４１のＸ軸方向及びＹ軸方向の位置情報に基づいて、撮像画像Ｆの所定の位置、例えば中心位置のＸ軸方向及びＹ軸方向の座標を算出する。次いで、撮像画像Ｆの中心位置と基準マーク１０２の中心位置ＣＴとの距離を撮像画像Ｆに基づいて算出し、それにより基準マーク１０２の中心位置ＣＴのＸ座標及びＹ座標を求める。また、画像処理部１６０では、撮像画像Ｆが撮像されたときの時刻、またはワークＷが搬入出エリアＡ１の初期位置から処理エリアＡ２に向けて移動を開始してから撮像画像Ｆが撮像されるまでの時間といった、時間情報Ｍを併せて記憶しておく。これにより画像処理部１６０では、時間情報Ｍを含む、基準マーク１０２の位置情報Ｍ（Ｘ，Ｙ）が検出される。かかる場合、第１の撮像部４１と画像処理部１６０は、本発明におけるワーク検出ユニットとして機能する。
【００４４】
マーク位置推定部１６１には、ワークＷを載置したワークステージ２０が搬入出エリアＡ１の初期位置から処理エリアＡ２に向けて移動する際に移動量検出機構２３で検出される移動量の情報が、制御部１５０を介して入力されている。またマーク位置推定部１６１には、ワークＷ上に形成された基準マーク１０２のワークＷ内における位置情報（座標情報）が予め入力されている。そしてマーク位置推定部１６１では、画像処理部１６０に記憶された時間情報Ｍと移動量検出機構２３の情報に基づいて、撮像画像Ｆが撮像されたときのワークステージ２０のＸ軸方向の位置（座標）を算出する。次いで、ワークＷをアライメントしたときのワークＷとワークステージ２０との位置関係に基づいて撮像画像Ｆが撮像されたときのワークＷの位置を算出する。次いで、算出されたワークＷの位置と、基準マーク１０２のワークＷ内における位置情報Ｍ（Ｘ，Ｙ）とに基づいて、撮像画像Ｆが撮像されたときの基準マーク１０２のＸ軸方向の位置を推定する。
【００４５】
ワーク移動制御部１６２は、制御部１５０のデータ格納部に格納された描画データに基づいてワークＷ上の所定のパターンを描画するようにワーク移動機構として機能する各駆動系の動作を制御する。例えばワークステージ２０を移動させる際には、移動量検出機構２３から得られた位置情報（パルス信号）に基づいてＸ軸リニアモータに対して指令信号（パルス列）を出力して、ワークステージ２０の位置や速度を制御する。また、ワーク移動制御部１６２は、画像処理部１６０において検出された基準マーク１０２の位置情報Ｍ（Ｘ，Ｙ）と、マーク位置推定部１６１で推定された基準マーク１０２のＸ軸方向の位置との相関関係に基づいて、液滴吐出ヘッド３４直下の液滴吐出位置における、当該液滴吐出ヘッド３４とワークＷとの相対的な位置を補正するように上記の各駆動系の動作を制御する。
【００４６】
上記の相関関係に基づく、液滴吐出ヘッド３４とワークＷとの相対的な位置の補正について具体的に説明する。既述の通り、搬入出エリアＡ１においてワークＷのアライメントを行っても、ワークステージ２０を処理エリアＡ２の液滴吐出ヘッド３４に向けて移動させる過程で、ワークステージ２０を移動させる各駆動系の機械的な精度や温度変化等の要因により、液滴吐出ヘッド３４とワークＷ上のバンク１００との相対的な位置関係が、所望の状態からずれてしてしまう場合がある。かかる場合、ワークＷに対して精度よく描画を行うことができないため問題となる。
【００４７】
そこで、ワーク移動制御部１６２では、先ず画像処理部１６０において検出された基準マーク１０２のＸ軸方向の位置と、マーク位置推定部１６１で推定された基準マーク１０２のＸ軸方向の位置との差分を求める。そして、求めた差分がゼロ、または所定の閾値以内であれば、ワークステージ２０上のワークＷが所望の位置にあるものと判断される。即ち、マーク位置推定部１６１で推定される基準マーク１０２の位置は、ワークＷにずれが生じることなく搬送された場合の理論的な位置であるため、この理論的な位置と画像処理部１６０において検出された基準マーク１０２の位置とが一致すれば、ワークステージ２０上のワークＷと液滴吐出ヘッド３４との相対的な位置関係が所望の状態にあるといえる。
【００４８】
その一方、画像処理部１６０による検出位置とマーク位置推定部１６１により推定される位置との差分が所定の閾値を超えていれば、ワークＷと液滴吐出ヘッド３４との相対的な位置関係にずれが生じているものと判断される。かかる場合、第１の撮像部４１で撮像画像Ｆを取得した位置からワークＷを距離Ｌ移動させて液滴吐出位置に移動させると、ワークＷは所定の位置から上記の差分の分だけずれた位置に移動することとなる。したがってワーク移動制御部１６２は、この差分がゼロまたは所定の閾値以内となるような補正位置を算出し、この補正位置にワークステージ２０が移動するように制御することで、ワークＷと液滴吐出ヘッド３４との相対的な位置関係を補正する。なお、上記した、撮像画像Ｆの処理に要する時間Ｔｓとは、例えば第１の撮像部４１で撮像画像Ｆを生成する時間、第１の撮像部４１から制御部１５０に撮像画像Ｆを伝送する時間、画像処理部１６０で基準マーク１０２の位置情報Ｍ（Ｘ，Ｙ）を検出する時間、ワーク移動制御部１６２で補正位置を算出する時間といった、撮像画像Ｆの取得から補正位置の算出に至るまでの時間を意味している。
【００４９】
補正位置が算出されると、ワーク移動制御部１６２により、当該位置ずれが検出された基準マーク１０２が液滴吐出ヘッド３４直下の液滴吐出位置において補正位置に位置するように、ワークステージ２０（Ｘ軸リニアモータ）を制御する。なお、上述のように、第１の撮像部４１での撮像画像Ｆの取得からワーク移動制御部１６２での補正位置の算出までには所定の時間Ｔｓを要する。したがって、第１の撮像部４１とキャリッジ３３との間の距離Ｌは、速度ＶでＸ軸に沿って移動するワークステージ２０が第１の撮像部４１の直下からキャリッジ３３に設けられた液滴吐出ヘッド３４直下の液滴吐出位置まで移動するのに要する時間が、撮像画像Ｆの処理に要する時間Ｔｓよりも長くなるように設定される。即ち、距離Ｌは、時間Ｔｓの間にワークＷが移動する距離よりも長く設定されている。また距離Ｌは、撮像周期Ｔと同期する必要があるため、撮像周期Ｔの間にワークＷが移動する距離の整数倍に設定される。即ち、距離Ｌは、Ｌ＝ｎ×Ｔ×Ｖ（ｎは正の整数）を満たすように設定される。
【００５０】
この位置の補正について、図６に示す補正テーブルＡＭを用いて具体的に説明する。なお、以下では、「ｎ」を「２」とした場合、即ち、距離Ｌが撮像周期Ｔの間に進む距離の２倍であるものとして説明する。図６の「検出回数」は、所定の周期ＴでワークＷの撮像画像Ｆを取得した回数であり、例えば「ＤＡＴＡ１」は１回目の撮像を、「ＤＡＴＡ２」は２回目の撮像を意味している。図６の「ずれ量」は、ワーク移動制御部１６２で検出されたずれ量を意味している。図６では、例えばＤＡＴＡ３においてずれ量Ｌ１が検出され、ＤＡＴＡ４以降にずれ量２Ｌ１が検出されている。
【００５１】
図６の「現在位置」は、各ＤＡＴＡを取得した時点において、マーク位置推定部１６１により認識されているワークＷの位置であり、例えばワークステージ２０が予め設定された所定の位置にある場合をゼロとして表記している。例えばＤＡＴＡ５においては、−Ｌ１ずれた位置にワークＷが位置していることを意味している。「現在位置」がゼロ以外となる場合が有る理由については後述する。
【００５２】
図６の「補正位置」は、ワーク移動制御部１６２で算出された補正位置の座標を意味しており、「現在位置」から「ずれ量」を差し引いた値として求められる。例えば補正テーブルＡＭのＤＡＴＡ１及びＤＡＴＡ２で「ずれ量」が検出されないため補正位置はゼロである。また、ＤＡＴＡ３では、「現在位置」がゼロであり、「ずれ量」がＬ１であるため、「補正位置」は−Ｌ１となる。
【００５３】
そして、距離Ｌの設定にあたり「ｎ」を「２」としているので、液滴吐出位置におけるワークＷの位置の補正にあたっては、「ずれ量」が検出された撮像（ＤＡＴＡ３）から２周期遅れでワークＷが補正位置に移動するようにワークステージ２０（Ｘ軸リニアモータ）を制御する。即ち、すれ量Ｌ１をキャンセルするように、補正位置である座標−Ｌ１の位置に移動させる。このように、先行的にワークＷの位置を補正することで、何らかの原因で生じたワークＷと液滴吐出ヘッド３４との相対的な位置のずれを、液滴吐出ヘッド３４により液滴の吐出を行う前に解消することができる。
【００５４】
また、ワークＷを補正位置に移動させると、例えば補正テーブルＡＭのＤＡＴＡ５を取得する時点では、ワークＷは第１の撮像部４１との相対的な位置関係において、−Ｌ１だけずれた座標に位置することとなる。したがって、ワーク移動制御部１６２では、図６のＤＡＴＡ５に示すように「現在位置」が−Ｌ１ずれていることを記憶しておく。そして、ＤＡＴＡ５において「ずれ量」が２Ｌ１であることが検出されたとすると、この「ずれ量」は実際には−Ｌ１だけずれた位置で検出されたものであるため、「現在位置」から「ずれ量」を差し引いた「補正位置」は−３Ｌ１となる。したがって、ＤＡＴＡ５から撮像周期Ｔが２周期遅れたＤＡＴＡ７においては、補正位置である座標−３Ｌ１の位置にワークステージ２０を移動させる。なお、補正位置に移動させる際にも撮像周期Ｔは一定に維持されるので、例えばＸ軸リニアモータによるワークステージ２０の移動速度を制御することで、同一の撮像周期Ｔ内に補正位置へ移動させる。
【００５５】
なお、本実施の形態のように、「ｎ」を「２」と設定した場合、即ち距離Ｌが、撮像周期Ｔの間にワークＷが進む距離の２倍である場合には、例えば図７に実線で示すワークＷの位置において、第１の撮像部４１により撮像画像Ｆが取得されたとすると、第１の撮像部４１でのワークＷの撮像後、距離１／２Ｌだけ進む間（撮像周期１周期）、または距離１／２Ｌの位置から距離Ｌの位置まで進む間（撮像周期２周期）のいずれかにおいて、ワークステージ２０の位置をずれ量の分だけずらすことで、液滴吐出位置においてワークＷが補正位置に配置されるが、例えば図６のＤＡＴＡ３に対する補正を１周期遅れのＤＡＴＡ４の時点で行うと、ＤＡＴＡ４の現在位置が「０」ではなく「−Ｌ１」となる。したがって、補正による影響を最小限にするために、補正動作は、ずれ量が検出された基準マーク１０２が液滴吐出位置に到達する撮像周期Ｔの間において行うことが好ましい。即ち補正テーブルＡＭに示すＤＡＴＡ３の情報に基づく補正動作は、ＤＡＴＡ４取得後であってＤＡＴＡ５取得時に完了していることが好ましい。
【００５６】
そうすると、例えばＤＡＴＡ４では「現在位置」が「０」の状態で撮像画像Ｆが取得され、２周期遅れたＤＡＴＡ６においてずれ量２Ｌ１に対する補正が行われる。これにより、ＤＡＴＡ６においては「現在位置」が−２Ｌ１となり、ＤＡＴＡ３に基づく補正の影響を受ける異なく補正動作が完了する。
【００５７】
次に、以上のように構成された液滴吐出装置１を用いて行われるワーク処理について説明する。
【００５８】
先ず、搬入出エリアＡ１にワークステージ２０を配置し、搬送機構（図示せず）により液滴吐出装置１に搬入されたワークＷが当該ワークステージ２０に載置される。続いて、ワークアライメントカメラによってワークステージ２０上のワークＷのアライメントマークが撮像される。そして、当該撮像された画像に基づいて、ステージ回転機構２１により、ワークステージ２０に載置されたワークＷのθ方向の位置が補正され、ワークＷのアライメントが行われる（ステップＳ１）。また、例えばＹ軸方向への補正が必要であれば、適宜Ｙ軸リニアモータを移動させることで、ワークステージ２０とキャリッジユニット３０とのＹ軸方向に沿った相対的な位置関係が補正される。
【００５９】
その後、Ｘ軸スライダ２２によって、ワークステージ２０を搬入出エリアＡ１から処理エリアＡ２に移動させる。処理エリアＡ２では、液滴吐出ヘッド２４の下方に移動したワークＷに対して、当該液滴吐出ヘッド２４から液滴を吐出する。さらに、図８に示すようにワークＷの全面が液滴吐出ヘッド２４の下方を通過するように、ワークステージ２０をさらに待機エリアＡ３側に移動させる。そして、ワークをＸ軸方向に往復動させると共に、キャリッジユニット３０を適宜、Ｙ軸方向に移動させて、ワークＷに所定のパターンが描画される（ステップＳ２）。
【００６０】
ここで、補正テーブルＡＭに基づくワークＷ位置の補正作業について、図９を用いて説明する。図９の左右方向はＸ軸方向を表しており、縦方向は、時間の経過と共にＤＡＴＡ１を取得する位置からＤＡＴＡ７を取得する位置に移動するワークＷの様子を時系列に描図している。また、縦方向に延伸する一点鎖線間の距離は、第１の撮像部４１による撮像周期Ｔの間にワークＷが移動する距離であり、本実施の形態のように「ｎ」が「２」と設定されている場合、隣り合う一点鎖線間の距離は１／２Ｌである。また、図９に示す「撮像位置」は、第１の撮像部４１の直下でワークＷを撮像する位置を、「液滴吐出位置」は液滴吐出ヘッド３４の直下の位置をそれぞれ表しており、「撮像位置」と「液滴吐出位置」との間の距離は、上述のとおりＬである。また、図９の「理想状態」に示すワークＷは、基準マーク１０２が例えば１／２Ｌのピッチで形成されている状態を説明用に描図している。
【００６１】
図９の「理想状態」に示すワークＷのように、例えば基準マーク１０２が１／２Ｌのピッチで等間隔に形成され、この状態を維持したままワークＷが搬送されれば、液滴吐出ヘッド３４とワークＷ上のバンク１００との相対的な位置関係はずれることがないため、液滴吐出位置において良好な描画が行われる。しかしながら実際には、例えば図９のＤＡＴＡ１〜ＤＡＴＡ７に対応する位置に示すように、現実のワークＷａでは、ワークＷａそのもののうねりや、ワークステージ２０などの機械的な精度や温度変化等の要因により、ワークＷａ上のバンク１００と液滴吐出ヘッド３４との相対的な位置関係は、ワークＷａの面内において一定ではなく、図９では、それにより基準マーク１０２が等間隔に位置していない状態のワークＷａを斜線のハッチで描図している。なお、図９においては、液滴吐出位置と基準マーク１０２の中心位置とが一致していれば、ワークＷ上のバンク１００と液滴吐出ヘッド３４との相対的な位置関係が所望の状態であるものとする。
【００６２】
そして、図６に示すように、ＤＡＴＡ１からＤＡＴＡ４においては、特にワークＷａの位置の補正は行われないため、ワークＷａは例えば撮像周期Ｔごとに１／２Ｌの位置だけずれた位置に移動していく。そして、ＤＡＴＡ３において基準マーク１０２が撮像位置から例えばＸ方向の正方向側に距離Ｌ１だけずれていることが検出されるので、ＤＡＴＡ３から２周期遅れたＤＡＴＡ５においては、予め設定された所定の位置から距離Ｌ１だけＸ方向の正方向側にずれた「補正位置」にワークＷａが移動する。これにより、図９に示すように、液滴吐出位置と基準マーク１０２の中心位置を一致させることができる。なお、図９に符号Ｗｒｅｆで示す四角形の部分は、ワークＷａに対して位置の補正を行わなかったとした場合に、ワークＷａが存在することとなる位置である。
【００６３】
また、ＤＡＴＡ５においては、ワークＷａのずれ量は２Ｌ１と検出されるが、ＤＡＴＡ５はＷｒｅｆからＬ１ずれた補正位置において撮像画像Ｆが取得されるため、実際のワークＷａのずれ量は、３Ｌ１となり、図６に示すように、補正位置として−３Ｌ１が求められる。
【００６４】
そして、ＤＡＴＡ６では、ＤＡＴＡ４で算出された補正位置−２Ｌ１においてワークＷａへの液滴の吐出と撮像画像Ｆの取得が行われる。そして、ワーク移動制御部１６２では、補正位置−２Ｌ１とずれ量に基づいて補正位置−４Ｌ１が求められる。
【００６５】
ＤＡＴＡ７においては、ＤＡＴＡ５で求められた補正位置−３Ｌ１においてワークＷａへの液滴の吐出と撮像画像Ｆの取得が行われる。そして、この作業を繰り返し行い、ワークＷａに所定のパターンが描画される。
【００６６】
またこの際、第２の撮像部４２によりワークＷの上面が撮像される。撮像された画像は制御部１５０に出力され、制御部１５０では、撮像された画像に基づいて、描画状態の不良、例えば膜ムラ等が検査される。この検査結果において、描画状態が不良と判定された場合、例えば液滴吐出ヘッド２４からの液滴の吐出などがフィードバック制御される（ステップＳ３）。
【００６７】
ワークステージ２０が搬入出エリアＡ１に移動すると、描画処理が終了したワークＷが液滴吐出装置１から搬出される。続いて、次のワークＷが液滴吐出装置１に搬入される。次いで、上述したステップＳ１のワークＷのアライメントが行われ、引き続きステップＳ２、ステップＳ３が行われる。
【００６８】
以上のように各ワークＷに対してステップＳ１〜Ｓ３が行われ、一連のワーク処理が終了する。
【００６９】
以上の第１の実施の形態によれば、ワークステージ２０のＸ軸方向（主走査方向）への移動量を検出する移動量検出機構２３と、液滴吐出ヘッド３４の上流側における、ワークＷの上面の撮像画像Ｆを取得する第１の撮像部４１と、撮像画像Ｆに基づいて、基準マーク１０２を検出する画像処理部１６０と、移動量検出機構２３で検出される移動量に基づいて、基準マーク１０２の位置を推定するマーク位置推定部１６１と、を有しているので、ワーク移動制御部１６２において、検出された基準マーク１０２の位置と、マーク位置推定部１６１で推定される基準マーク１０２の位置と基づいて、両者の差分を求めることができる。そして、ワーク移動制御部１６２では、この差分が閾値以上であれば、撮像位置において検出された基準マーク１０２の位置とマーク位置推定部１６１で推定される基準マーク１０２の位置とにずれが生じていると判定し、液滴吐出位置においてずれを解消する補正位置にワークＷを移動させるように、例えばワークステージ２０の動作を制御する。その結果、液滴吐出ヘッド３４からの液滴の吐出を行う前に、液滴吐出ヘッドとワーク上のバンクを高精度に位置合わせすることができる。これにより、ワークＷ上に精度よく所定のパターンを描画することができる。
【００７０】
以上の実施の形態では、ワークステージ２０によりワークＷと液滴吐出ヘッドとのＸ軸方向及びθ方向の相対的な移動を、Ｙ軸リニアモータによりＹ軸方向の相対的な移動を制御していたが、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向及びθ方向への移動の手法については本実施の内容に限定されるものではない。例えばキャリッジプレート３１の位置を所定の位置に固定して、ワークステージ２０にＸ軸方向、Ｙ軸方向及びθ方向への移動機能を備えるようにしてもよい。また反対に、ワークステージ２０を固定して、キャリッジプレート３１にＸ軸方向、Ｙ軸方向及びθ方向への移動機能を備えるようにしてもよい。いずれの場合であっても、上述した本発明の液滴吐出方法を実現できる。
【００７１】
以上の実施の形態では、ワークＷ上に予め基準マーク１０２が形成されていたが、基準マーク１０２は必ずしも必要ではなく、例えば第１の撮像部４１で撮像した撮像画像Ｆにより、バンク１００の濃淡が識別できれば、このバンク１００の位置に基づいてワークＷの位置を検出するようにしてもよい。かかる場合、バンク１００が基準マーク１０２として機能する。
【００７２】
また、以上の実施の形態では、Ｘ軸方向にワークＷのずれが生じた場合について説明したが、Ｙ軸方向及びθ軸方向にずれが生じた場合についても、Ｘ軸方向の補正を行う場合と同様の手法を用いることで、適宜ワークＷの位置を補正することができる。即ち、本実施の形態のワーク移動制御部１６２によりずれ量を検出した後、先行制御によりワークＷの位置を補正した場合、当該補正位置における補正量をワーク移動制御部１６２に記憶しておき、補正位置において取得された撮像画像Ｆから検出される基準マーク１０２の位置に反映することで、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、θ方向にかかわらず、正確なずれ量を検出することができる。
【００７３】
なお、θ方向のずれを検出するにあたっては、例えば図１０に示すように、ワークＷのＹ軸方向正方向側にも基準マーク１０２を形成すると共に、第１の撮像部４１を有するキャリッジプレート３１ａが、追加された基準マーク１０２の軌跡上に配置される。そして、２台の第１の撮像部４１によりそれぞれ検出された基準マーク１０２のＸ軸方向及びＹ軸方向のずれに基づいて、θ方向のずれが算出される。
【００７４】
以上の実施の形態では、第１の撮像部４１による撮像周期Ｔを一定に維持し、ワークＷの移動速度を適宜制御することで、ワークＷを補正位置に移動させたが、例えばワークＷと液滴吐出ヘッド３４との相対的な位置の補正にあたっては、ワークＷの移動速度を一定に維持した状態で、液滴吐出ヘッド３４の吐出タイミングをワークＷのずれ量に基づいて変更するようにしてもよい。かかる場合、撮像周期Ｔは液滴吐出ヘッド３４の吐出のタイミングと同期するように、適宜調整される。
【００７５】
なお、以上の実施の形態では、画像処理部１６０でワークＷの上面の基準マーク１０２を検出するにあたり第１の撮像部４１を用いて撮像画像Ｆを取得したが、例えば基準マーク１０２を凹凸状に形成して、レーザ変位計のように凹凸を検出する機構に基づいて基準マーク１０２を検出するようにしてもよい。撮像部としてＣＣＤカメラを用いた場合、画像ブレを防止するためにシャッタースピードの最適化等の調整作業が必要となるが、レーザ変位計は連続的な凹凸の検出が可能であり、そのような調整作業が不要となる。そのため、例えばＸ軸方向に高速でワークＷを移動させた場合にも適切に基準マーク１０２を検出することができる。
【００７６】
また、基準マーク１０２を検出するにあたっては、例えば図１１に示すように、例えば略矩形状の基準マーク１１０を反射率の高い材料により形成すると共に所定のピッチで配列させ、高感度の光センサを用いて基準マーク１１０からの反射光をパルス信号として検出するようにしてもよい。かかる場合、エンコーダのように、光センサを用いてパルス信号を計数することにより、ワークＷの位置を把握することができる。光センサを用いた場合も、レーザ変位計を用いた場合と同様、高速でワークを移動させた場合であっても適切に基準マーク１１０を検出して、ワークＷの現在位置を把握することができる。
【００７７】
また、第１の撮像部４１として用いるカメラの形状についても、例えばワークＷのＸ軸方向が全て視野に入るような、長手のラインスキャンカメラを用いて、１度の撮像で全ての基準マーク１０２を検出することで、ワークＷのＸ軸方向の伸び縮み（温度影響）を検出し、ワーク移動制御部１６２により適宜ワークＷの位置を補正するようにしてもよい。また、長手のラインスキャンカメラを用いて、所定の周期で複数回ワークＷを撮像することにより、ワークＷのＸ軸方向の伸び縮みの分布を検出することができる。また、ワークＷの全体を撮像することで、ワークステージ２０のＸ方向の直進性を測定することができる。また、複数の基準マーク１０２のずれ量に基づいてθ方向のずれ量も検出できるので、θ方向の補正を行うにあたり、１台のラインスキャンカメラのみ設ければ足りる。
【００７８】
＜２．第２の実施の形態＞
次に、本発明の第２の実施の形態について説明する。なお、第２の実施の形態において用いられる液滴吐出装置１は、第１の実施の形態で用いられる液滴吐出装置１と同様である。
【００７９】
第１の実施の形態では、ワークＷの基準マーク１０２の位置を検出し、基準マーク１０２の位置情報に基づいて同一のワークＷに対していわゆるフィードフォワード制御を行ったが、連続して複数のワークＷを処理する際に、ワークＷのずれの傾向が各ワーク間で共通する場合がある。かかる場合、例えばＫ（Ｋは正の整数）番目のワークＷを処理した時に得られた補正用のデータをＫ＋１番目のワークＷの処理に反映するようにしてもよい。
【００８０】
具体的には、例えば図１２に示すように、ワーク移動制御部１６２ではＫ番目のワークＷにおける補正位置を、Ｋ＋１番目のワークＷの処理を行う前に予め収集する。なお、図１２では、Ｋ番目のワークＷとＫ＋１番目のワークＷの比較用にＫ番目のワークＷにおけるずれ量も表記している。
【００８１】
そして、Ｋ＋１番目のワークＷを処理するにあたっては、Ｋ＋１番目のワークＷが撮像位置に到達したときの「現在位置」を、Ｋ番目のワークＷの補正位置と一致するようにワークステージ２０を制御する。換言すれば、Ｋ＋１番目のワークＷについては、撮像位置と液滴吐出位置との間でワークＷの位置の補正を行うのではなく、予めＫ番目のワークの補正の結果を反映して、撮像位置において、撮像画像Ｆを取得する段階で既に補正作業を行っておく。
【００８２】
そうすると、例えばＫ＋１番目のワークＷにおけるずれ量とＫ番目のワークにおけるずれ量が一致する場合、ワーク移動制御部１６２で検出されるずれ量はゼロとなる。その結果、Ｋ＋１番目のワークＷにおける「補正位置」もゼロとなり、撮像位置と液滴吐出位置との間でワークＷの位置の補正を行う必要が無くなる。かかる場合、撮像位置と液滴吐出位置との間でワークＷの位置の補正を行うと、駆動系の機械的な精度やがたつきにより、撮像位置と液滴吐出位置との間でさらにワークＷの位置にずれが発生してしまう可能性があるが、Ｋ番目以前のワークＷにおいて、機械的ながたつき等の傾向を把握して、Ｋ＋１番目のワークに対してフィードフォワード制御を行うことで、そのような新たなずれを排除して、より高精度にワークＷと液滴吐出ヘッド３４との位置合わせを行うことができる。
【００８３】
なお、Ｋ番目以前のワークＷの位置情報に基づいてＫ＋１番目のワークＷの位置を補正した場合であっても、従前の傾向とは異なる要因により、撮像位置においてずれが検出される場合がある。かかる場合についても、図６に示す補正テーブルＡＭを用いた場合と同様の手法により、Ｋ＋１番目のワークＷの撮像画像Ｆに基づいて、再度ワークＷの位置を補正すればよい。
【００８４】
具体的には、例えば図１３に示すように、Ｋ番目のワークＷの位置情報に基づいてＫ＋１番目のワークＷの位置の補正を、撮像位置において行った結果、ＤＡＴＡ４においてずれ量Ｌ１が検出されたとする。この場合補正テーブルＡＭを用いた場合と同様に、ずれ量に基づいて「補正位置」を−Ｌ１と算出する。そして、撮像周期Ｔの２周期遅れのＤＡＴＡ６においては、Ｋ番目のワークＷの補正情報に基づいて既にワークＷの位置が−Ｌ１だけずれているので、「現在位置」は、Ｋ＋１番目のワークＷにおいて検出されたずれ量である−Ｌ１を加算して−２Ｌ１と求まる。また、ＤＡＴＡ６における補正位置については、ＤＡＴＡ４で補正位置が−Ｌ１と算出されているので、この補正位置の−Ｌ１にＤＡＴＡ６におけるずれ量の−Ｌ１を加算して、−２Ｌ１が求まる。即ち、図６の場合では、ＤＡＴＡ４の補正位置とＤＡＴＡ６のずれ量との差分をＤＡＴＡ６の補正位置として求める点は同じであるが、ＤＡＴＡ６の現在位置については、撮像位置において既にＫ番目のワークＷに基づく補正が行われているので、ＤＡＴＡ６における「現在位置」が図６の場合とは異なる。
【００８５】
なお、以上の実施の形態では、Ｋ番目のワークＷの処理時に得られた補正データに基づいてＫ＋１番目のワークＷのフィードフォワード制御を行ったが、Ｋ＋１番目のワークＷに対するフィードフォワード制御を行うにあたっては、必ずしもＫ番目のワークＷの補正データを用いる必要はなく、Ｋ番目以前のワークＷであれば任意に用いることができる。また、Ｋ＋１番目のワークのフィードフォワード制御に用いる、Ｋ番目以前のワークＷの補正データは、必ずしもワークＷに対して液滴吐出を行った場合の情報である必要はない。即ち、例えば液滴吐出装置１をメンテナンスする際、例えば図６に示すような補正テーブルＡＭをメンテナンス時の情報に基づいて予め作成しておき、この補正テーブルＡＭの情報をＫ番目のワークＷ情報に代えて用いてもよい。
【００８６】
なお、以上の実施の形態では、液滴吐出ヘッド３４のＸ方向正方向側に配置された第１の撮像部４１を用いて取得した撮像画像Ｆに基づいて、いわゆるフィードフォワード制御を行ったが、ワークＷ上のバンク１００と液滴吐出ヘッド３４との相対的な位置関係を補正するという観点からは、例えば液滴吐出位置においてバンク１００内に液滴を吐出した後、さらにバンク１００の外部の所定の位置に液滴を吐出し、この吐出した液滴の位置を第２の撮像部４２により検出することにより、ワークＷの位置をフィードバック制御により補正するようにしてもよい。
【００８７】
具体的には、例えば図１４に示すように、液滴吐出位置においてバンク１００内に液滴を吐出した後、バンク１００外部の予め定められた所定位置に対して液滴１２０を吐出する。なお、本実施の形態では、予め定められた所定位置は例えば基準マーク１０２の中心位置である。かかる場合、撮像位置から液滴吐出位置の間で行ったワークＷの位置の補正により、液滴吐出位置においてワークＷの位置が所望の位置になっていれば、基準マーク１０２の中心の位置と液滴１２０の中心の位置が一致する。しかしながら、例えば撮像位置から液滴吐出位置の間の距離Ｌ移動させる間に、何らかの要因によりワークＷと液滴吐出ヘッド３４との相対的な位置がずれると、基準マーク１０２と液滴１２０の中心位置にはずれが生じる。
【００８８】
したがって、例えばマーク位置推定部１６１において推定される基準マーク１０２の位置と、第２の撮像部４２により取得された撮像画像Ｆ中の液滴１２０の中心位置とのずれを、ワーク移動制御部１６２により算出する。そして、第２の撮像部４２によるｐ回目（ｐは正の整数）の撮像で得られたＤＡＴＡｐにおいてこのずれが検出された場合、ＤＡＴＡ（ｐ＋１）のタイミングの液滴吐出位置において、このずれ量をさらに反映した現在位置にワークＷを移動させることで、ワークＷと液滴吐出ヘッド３４との相対的な位置関係をより高精度に位置合わせできる。なお、ＤＡＴＡｐに基づいてＤＡＴＡ（ｐ＋１）のタイミングでワークＷと液滴吐出ヘッド３４との相対的な位置を補正するためには、第２の撮像部４２と液滴吐出ヘッド３４との間の距離は極力小さくすることが好ましく、より具体的には、ワークＷが液滴吐出位置から第２の撮像部４２による撮像位置まで移動する間の時間と、第２の撮像部４２での撮像画像Ｆの取得からワーク移動制御部１６２での補正位置の算出までに要する時間との和が、撮像周期Ｔよりも短くなるように設定される。
【００８９】
また、バンク１００内に液滴を吐出した後、上述のフィードバック制御を行うために吐出する液滴の着弾位置は、必ずしも基準マーク１０２の中心である必要はなく、撮像画像Ｆに基づいて着弾位置が特定できれば、着弾位置は任意に設定が可能である。例えば、同一の撮像画像Ｆの視野内に着弾位置と基準マーク１０２とが写っていれば、例えば画像処理部で基準マーク１０２と液滴の着弾位置との相対的な位置関係から、液滴の着弾位置を把握することができるので、液滴の着弾位置が所望の位置からずれているか否かを判定することができる。
【００９０】
＜３．液滴吐出装置の適用例＞
次に、以上のように構成された液滴吐出装置１の適用例について説明する。図１５は、液滴吐出装置１を備えた基板処理システム２００の構成の概略を示す説明図である。基板処理システム２００では、有機発光ダイオードの有機ＥＬ層が形成される。
【００９１】
先ず、有機発光ダイオードの構成の概略及びその製造方法について説明する。図１６は、有機発光ダイオード３００の構成の概略を示す側面図である。図１６に示すように有機発光ダイオード３００は、ワークＷとしてのガラス基板Ｇ上で、陽極（アノード）３１０及び陰極（カソード）３２０の間に有機ＥＬ層３３０を挟んだ構造を有している。有機ＥＬ層３３０は、陽極３１０側から順に、正孔注入層３３１、正孔輸送層３３２、発光層３３３、電子輸送層３３４及び電子注入層３３５が積層されて形成されている。
【００９２】
有機発光ダイオード３００を製造するに際しては、先ず、ガラス基板Ｇ上に陽極３１０が形成される。陽極３１０は、たとえば蒸着法を用いて形成される。なお、陽極３１０には、たとえばＩＴＯ（Indium  Tin  Oxide）からなる透明電極が用いられる。
【００９３】
その後、陽極３１０上に、図１７に示すようにバンク３４０が形成される。バンク３４０は、例えばフォトリソグラフィー処理やエッチング処理等を行うことによって所定のパターンにパターニングされる。そしてバンク３４０には、スリット状の開口部３４１が行方向（Ｘ軸方向）と列方向（Ｙ軸方向）に複数並べて形成されている。この開口部３４１の内部において、後述するように有機ＥＬ層３３０と陰極３２０が積層されて画素が形成される。なお、バンク３４０には、例えば感光性ポリイミド樹脂が用いられる。
【００９４】
その後、バンク３４０の開口部３４１内において、陽極３１０上に有機ＥＬ層３３０が形成される。具体的には、陽極３１０上に正孔注入層３３１が形成され、正孔注入層３３１上に正孔輸送層３３２が形成され、正孔輸送層３３２上に発光層３３３が形成され、発光層３３３上に電子輸送層３３４が形成され、電子輸送層３３４上に電子注入層３３５が形成される。
【００９５】
本実施の形態では、正孔注入層３３１、正孔輸送層３３２及び発光層３３３は、それぞれ基板処理システム２００において形成される。すなわち、基板処理システム２００では、インクジェット方式による有機材料の塗布処理、有機材料の減圧乾燥処理、有機材料の焼成処理が順次行われて、これら正孔注入層３３１、正孔輸送層３３２及び発光層３３３が形成される。
【００９６】
また電子輸送層３３４と電子注入層３３５は、それぞれ例えば蒸着法を用いて形成される。
【００９７】
その後、電子注入層３３５上に陰極３２０が形成される。陰極３２０は、例えば蒸着法を用いて形成される。なお、陰極３２０には、例えばアルミニウムが用いられる。
【００９８】
このようにして製造された有機発光ダイオード３００では、陽極３１０と陰極３２０との間に電圧を印可することによって、正孔注入層３３１で注入された所定数量の正孔が正孔輸送層３３２を介して発光層３３３に輸送され、また電子注入層３３５で注入された所定数量の電子が電子輸送層３３４を介して発光層３３３に輸送される。そして、発光層３３３内で正孔と電子が再結合して励起状態の分子を形成し、当該発光層３３３が発光する。
【００９９】
次に、図１５に示した基板処理システム２００について説明する。なお、基板処理システム２００で処理されるガラス基板Ｇ上には予め陽極３１０とバンク３４０が形成されており、当該基板処理システム２００では正孔注入層３３１、正孔輸送層３３２及び発光層３３３が形成される。
【０１００】
基板処理システム２００は、複数のガラス基板Ｇをカセット単位で外部から基板処理システム２００に搬入し、カセットＣから処理前のガラス基板Ｇを取り出す搬入ステーション２０１と、ガラス基板Ｇに対して所定の処理を施す複数の処理装置を備えた処理ステーション２０２と、処理後のガラス基板ＧをカセットＣ内に収納し、複数のガラス基板Ｇをカセット単位で基板処理システム２００から外部に搬出する搬出ステーション２０３とを一体に接続した構成を有している。搬入ステーション２０１、処理ステーション２０２、搬出ステーション２０３は、Ｘ軸方向にこの順で並べて配置されている。
【０１０１】
搬入ステーション２０１には、カセット載置台２１０が設けられている。カセット載置台２１０は、複数のカセットＣをＹ軸方向に一列に載置自在になっている。すなわち、搬入ステーション２０１は、複数のガラス基板Ｇを保有可能に構成されている。
【０１０２】
搬入ステーション２０１には、Ｙ軸方向に延伸する搬送路２１１上を移動可能な基板搬送体２１２が設けられている。基板搬送体２１２は、鉛直方向及び鉛直周りにも移動自在であり、カセットＣと処理ステーション２０２との間でガラス基板Ｇを搬送できる。なお、基板搬送体２１２は、例えばガラス基板Ｇを吸着保持して搬送する。
【０１０３】
処理ステーション２０２には、正孔注入層３３１を形成する正孔注入層形成部２２０と、正孔輸送層３３２を形成する正孔輸送層形成部２２１と、発光層３３３を形成する発光層形成部２２２とが、搬入ステーション２０１側からＸ軸方向にこの順で並べて配置されている。
【０１０４】
正孔注入層形成部２２０には、第１の基板搬送領域２３０と、第２の基板搬送領域２３１と、第３の基板搬送領域２３２とが、搬入ステーション２０１側からＸ軸方向にこの順で並べて配置されている。各基板搬送領域２３０、２３１、２３２はＸ軸方向に延伸して設けられ、当該基板搬送領域２３０、２３１、２３２にはガラス基板Ｇを搬送する基板搬送装置（図示せず）が設けられている。基板搬送装置は、水平方向、鉛直方向及び鉛直周りにも移動自在であり、これら基板搬送領域２３０、２３１、２３２に隣接して設けられる各装置にガラス基板Ｇを搬送できる。
【０１０５】
搬入ステーション２０１と第１の基板搬送領域２３０との間には、ガラス基板Ｇを受け渡すためのトランジション装置２３３が設けられている。同様に第１の基板搬送領域２３０と第２の基板搬送領域２３１との間、及び第２の基板搬送領域２３１と第３の基板搬送領域２３２との間にも、それぞれトランジション装置２３４、２３５が設けられている。
【０１０６】
第１の基板搬送領域２３０のＹ軸方向正方向側には、ガラス基板Ｇ（陽極３１０）上に正孔注入層３３１を形成するための有機材料を塗布する塗布装置２４０が設けられている。塗布装置２４０は、液滴吐出装置１と同様の構成を有し、塗布装置２４０では、インクジェット方式でガラス基板Ｇ上の所定の位置、すなわちバンク３４０の開口部３４１の内部に有機材料が塗布される。なお、本実施の形態の有機材料は、正孔注入層３３１を形成するための所定の材料を有機溶媒に溶解させた溶液である。
【０１０７】
第１の基板搬送領域２３０のＹ軸方向負方向側には、複数のガラス基板Ｇを一時的に収容するバッファ装置２４１が設けられている。
【０１０８】
第２の基板搬送領域２３１のＹ軸方向正方向側とＹ軸方向負方向側には、塗布装置２４０で塗布された有機材料を減圧乾燥する減圧乾燥装置２４２が複数積層されて、全部で例えば５つ設けられている。減圧乾燥装置２４２は、例えばターボ分子ポンプ（図示せず）を有し、当該ターボ分子ポンプによって内部雰囲気を例えば１Ｐａ以下まで減圧して、有機材料を乾燥するように構成されている。
【０１０９】
第３の基板搬送領域２３２のＹ軸方向正方向側には、減圧乾燥装置２４２で乾燥された有機材料を熱処理して焼成する熱処理装置２４３が複数、例えば２０段に積層されて設けられている。熱処理装置２４３は、その内部にガラス基板Ｇを載置する熱板（図示せず）を有し、当該熱板によって有機材料を焼成するように構成されている。
【０１１０】
第３の基板搬送領域２３２のＹ軸方向負方向側には、熱処理装置２４３で熱処理されたガラス基板Ｇを所定の温度、例えば常温に調節する温度調節装置２４４が複数設けられている。
【０１１１】
なお、正孔注入層形成部２２０において、これら塗布装置２４０、バッファ装置２４１、減圧乾燥装置２４２、熱処理装置２４３及び温度調節装置２４４の数や配置は、任意に選択できる。
【０１１２】
正孔輸送層形成部２２１には、第１の基板搬送領域２５０と、第２の基板搬送領域２５１と、第３の基板搬送領域２５２とが、正孔注入層形成部２２０側からＸ軸方向にこの順で並べて配置されている。各基板搬送領域２５０、２５１、２５２はＸ軸方向に延伸して設けられ、当該基板搬送領域２５０、２５１、２５２には、ガラス基板Ｇを搬送する基板搬送装置（図示せず）が設けられている。基板搬送装置は、水平方向、鉛直方向及び鉛直周りにも移動自在であり、これら基板搬送領域２５０、２５１、２５２に隣接して設けられる各装置にガラス基板Ｇを搬送できる。
【０１１３】
なお、第３の基板搬送領域２５２には後述する熱処理装置２６３及び温度調節装置２６４が隣接されて設けられており、これら各装置２６３、２６４の内部は低酸素且つ低露点雰囲気に維持される。このため、第３の基板搬送領域２５２においても、その内部が低酸素且つ低露点雰囲気に維持されている。以下の説明において、低酸素雰囲気とは大気よりも酸素濃度が低い雰囲気、例えば酸素濃度が１０ｐｐｍ以下の雰囲気をいい、また低露点雰囲気とは大気よりも露点温度が低い雰囲気、例えば露点温度が−１０℃以下の雰囲気をいう。そして、かかる低酸素且つ低露点雰囲気として、例えば窒素ガス等の不活性ガスが用いられる。
【０１１４】
正孔注入層形成部２２０と第１の基板搬送領域２５０との間、及び第１の基板搬送領域２５０と第２の基板搬送領域２５１との間には、それぞれガラス基板Ｇを受け渡すためのトランジション装置２５３、２５４が設けられている。第２の基板搬送領域２５１と第３の基板搬送領域２５２の間には、ガラス基板Ｇを一時的に収容可能なロードロック装置２５５が設けられている。ロードロック装置２５５は、内部雰囲気を切り替え可能、すなわち大気雰囲気と低酸素且つ低露点雰囲気に切り替え可能に構成されている。
【０１１５】
第１の基板搬送領域２５０のＹ軸方向正方向側には、ガラス基板Ｇ（正孔注入層３３１）上に正孔輸送層３３２を形成するための有機材料を塗布する、液滴吐出装置としての塗布装置２６０が設けられている。塗布装置２６０は、液滴吐出装置１と同様の構成を有し、塗布装置２６０では、インクジェット方式でガラス基板Ｇ上の所定の位置、すなわちバンク３４０の開口部３４１の内部に有機材料が塗布される。なお、本実施の形態の有機材料は、正孔輸送層３３２を形成するための所定の材料を有機溶媒に溶解させた溶液である。
【０１１６】
第１の基板搬送領域２５０のＹ軸方向負方向側には、複数のガラス基板Ｇを一時的に収容するバッファ装置２６１が設けられている。
【０１１７】
第２の基板搬送領域２５１のＹ軸方向正方向側とＹ軸方向負方向側には、塗布装置２６０で塗布された有機材料を減圧乾燥する減圧乾燥装置２６２が複数積層されて、全部で例えば５つ設けられている。減圧乾燥装置２６２は、例えばターボ分子ポンプ（図示せず）を有し、その内部雰囲気を例えば１Ｐａ以下まで減圧して、有機材料を乾燥するように構成されている。
【０１１８】
第３の基板搬送領域２５２のＹ軸方向正方向側には、減圧乾燥装置２６２で乾燥された有機材料を熱処理して焼成する熱処理装置２６３が複数、例えば２０段に積層されて設けられている。熱処理装置２６３は、その内部にガラス基板Ｇを載置する熱板（図示せず）を有し、当該熱板によって有機材料を焼成するように構成されている。また、熱処理装置２６３の内部は、低酸素且つ低露点雰囲気に維持されている。
【０１１９】
第３の基板搬送領域２５２のＹ軸方向負方向側には、熱処理装置２６３で熱処理されたガラス基板Ｇを所定の温度、例えば常温に調節する温度調節装置２６４が複数設けられている。温度調節装置２６４の内部は、低酸素且つ低露点雰囲気に維持されている。
【０１２０】
なお、正孔輸送層形成部２２１において、これら塗布装置２６０、バッファ装置２６１、減圧乾燥装置２６２、熱処理装置２６３及び温度調節装置２６４の数や配置は、任意に選択できる。
【０１２１】
発光層形成部２２２には、第１の基板搬送領域２７０と、第２の基板搬送領域２７１と、第３の基板搬送領域２７２とが、正孔輸送層形成部２２１側からＸ軸方向にこの順で並べて配置されている。各基板搬送領域２７０、２７１、２７２はＸ軸方向に延伸して設けられ、当該基板搬送領域２７０、２７１、２７２には、ガラス基板Ｇを搬送する基板搬送装置（図示せず）が設けられている。基板搬送装置は、水平方向、鉛直方向及び鉛直周りにも移動自在であり、これら基板搬送領域２７０、２７１、２７２に隣接して設けられる各装置にガラス基板Ｇを搬送できる。
【０１２２】
なお、第３の基板搬送領域２７２には後述する熱処理装置２８３及び温度調節装置２８４が隣接されて設けられており、これら各装置２８３、２８４の内部は低酸素且つ低露点雰囲気に維持される。このため、第３の基板搬送領域２７２においても、その内部が低酸素且つ低露点雰囲気に維持されている。
【０１２３】
正孔輸送層形成部２２１と第１の基板搬送領域２７０との間、及び第１の基板搬送領域２７０と第２の基板搬送領域２７１との間には、それぞれガラス基板Ｇを受け渡すためのトランジション装置２７３、２７４が設けられている。第２の基板搬送領域２７１と第３の基板搬送領域２７２の間、及び第３の基板搬送領域２７２と搬出ステーション２０３との間には、それぞれガラス基板Ｇを一時的に収容可能なロードロック装置２７５、２７６が設けられている。ロードロック装置２７５、２７６は、内部雰囲気を切り替え可能、すなわち大気雰囲気と低酸素且つ低露点雰囲気に切り替え可能に構成されている。
【０１２４】
第１の基板搬送領域２７０のＹ軸方向正方向側には、ガラス基板Ｇ（正孔輸送層３３２）上に発光層３３３を形成するための有機材料を塗布する、液滴吐出装置としての塗布装置２８０が例えば２つ設けられている。塗布装置２８０は、液滴吐出装置１と同様の構成を有し、塗布装置２８０では、インクジェット方式でガラス基板Ｇ上の所定の位置、すなわちバンク３４０の開口部３４１の内部に有機材料が塗布される。なお、本実施の形態の有機材料は、発光層３３３を形成するための所定の材料を有機溶媒に溶解させた溶液である。
【０１２５】
第１の基板搬送領域２７０のＹ軸方向負方向側には、複数のガラス基板Ｇを一時的に収容するバッファ装置２８１が設けられている。
【０１２６】
第２の基板搬送領域２７１のＹ軸方向正方向側とＹ軸方向負方向側には、塗布装置２８０で塗布された有機材料を減圧乾燥する減圧乾燥装置２８２が複数積層されて、全部で例えば５つ設けられている。減圧乾燥装置２８２は、例えばターボ分子ポンプ（図示せず）を有し、その内部雰囲気を例えば１Ｐａ以下まで減圧して、有機材料を乾燥するように構成されている。
【０１２７】
第３の基板搬送領域２７２のＹ軸方向正方向側には、減圧乾燥装置２８２で乾燥された有機材料を熱処理して焼成する熱処理装置２８３が複数、例えば２０段に積層されて設けられている。熱処理装置２８３は、その内部にガラス基板Ｇを載置する熱板（図示せず）を有し、当該熱板によって有機材料を焼成するように構成されている。また、熱処理装置２８３の内部は、低酸素且つ低露点雰囲気に維持されている。
【０１２８】
第３の基板搬送領域２７２のＹ軸方向負方向側には、熱処理装置２８３で熱処理されたガラス基板Ｇを所定の温度、例えば常温に調節する温度調節装置２８４が複数設けられている。温度調節装置２８４の内部は、低酸素且つ低露点雰囲気に維持されている。
【０１２９】
なお、発光層形成部２２２において、これら塗布装置２８０、バッファ装置２８１、減圧乾燥装置２８２、熱処理装置２８３及び温度調節装置２８４の数や配置は、任意に選択できる。
【０１３０】
搬出ステーション２０３には、カセット載置台２９０が設けられている。カセット載置台２９０は、複数のカセットＣをＹ軸方向に一列に載置自在になっている。すなわち、搬出ステーション２０３は、複数のガラス基板Ｇを保有可能に構成されている。
【０１３１】
搬出ステーション２０３には、Ｙ軸方向に延伸する搬送路２９１上を移動可能な基板搬送体２９２が設けられている。基板搬送体２９２は、鉛直方向及び鉛直周りにも移動自在であり、カセットＣと処理ステーション２０２との間でガラス基板Ｇを搬送できる。なお、基板搬送体２９２は、例えばガラス基板Ｇを吸着保持して搬送する。
【０１３２】
また、搬出ステーション２０３の内部は、低酸素且つ低露点雰囲気に維持されているのが好ましい。
【０１３３】
以上の基板処理システム２００には、上述した制御部１５０が設けられている。したがって、塗布装置２４０、２６０、２８０は、制御部１５０によって制御される。但し、この制御部１５０のプログラム格納部（図示せず）には、塗布装置２４０、２６０、２８０を制御するためのプログラムに加えて、基板処理システム２００におけるガラス基板Ｇの処理を制御するプログラムも格納されている。
【０１３４】
次に、以上のように構成された基板処理システム２００を用いて行われるガラス基板Ｇの処理方法について説明する。
【０１３５】
先ず、複数のガラス基板Ｇを収容したカセットＣが、搬入ステーション２０１に搬入され、カセット載置台２１０上に載置される。その後、基板搬送体２１２によって、カセット載置台２１０上のカセットＣからガラス基板Ｇが順次取り出される。
【０１３６】
カセットＣから取り出されたガラス基板Ｇは、基板搬送体２１２によって正孔注入層形成部２２０のトランジション装置２３３に搬送され、さらに第１の基板搬送領域２３０を介して塗布装置２４０に搬送される。そして塗布装置２４０では、インクジェット方式でガラス基板Ｇ（陽極３１０）上の所定の位置、すなわちバンク３４０の開口部３４１の内部に、正孔注入層３３１用の有機材料が塗布される。この塗布装置２４０における処理は、上述したステップＳ１〜Ｓ６と同様の処理である。
【０１３７】
一方、塗布装置２４０での塗布処理が終了したガラス基板Ｇは、第１の基板搬送領域２３０を介してトランジション装置２３４に搬送され、さらに第２の基板搬送領域２３１を介して減圧乾燥装置２４２に搬送される。そして減圧乾燥装置２４２では、その内部雰囲気が減圧され、ガラス基板Ｇ上に塗布された有機材料が乾燥される。
【０１３８】
次にガラス基板Ｇは、第２の基板搬送領域２３１を介してトランジション装置２３５に搬送され、さらに第３の基板搬送領域２３２を介して熱処理装置２４３に搬送される。そして熱処理装置２４３では、熱板上に載置されたガラス基板Ｇが所定の温度、例えば２８０℃に加熱され、当該ガラス基板Ｇの有機材料が焼成される。
【０１３９】
次にガラス基板Ｇは、第３の基板搬送領域２３２を介して温度調節装置２４４に搬送される。そして温度調節装置２４４では、ガラス基板Ｇが所定の温度、例えば常温に温度調節される。こうして、ガラス基板Ｇ（陽極３１０）上に正孔注入層３３１が形成される。
【０１４０】
次にガラス基板Ｇは、第３の基板搬送領域２３２を介して正孔輸送層形成部２２１のトランジション装置２５３に搬送され、さらに第１の基板搬送領域２５０を介して塗布装置２６０に搬送される。そして塗布装置２６０では、インクジェット方式でガラス基板Ｇ（正孔注入層３３１）上に、正孔輸送層３３２用の有機材料が塗布される。この塗布装置２６０における処理は、上述したステップＳ１〜Ｓ６と同様の処理である。
【０１４１】
次にガラス基板Ｇは、第１の基板搬送領域２５０を介してトランジション装置２５４に搬送され、さらに第２の基板搬送領域２５１を介して減圧乾燥装置２６２に搬送される。そして減圧乾燥装置２６２では、その内部雰囲気が減圧され、ガラス基板Ｇ上に塗布された有機材料が乾燥される。
【０１４２】
次にガラス基板Ｇは、第２の基板搬送領域２５１を介してロードロック装置２５５に搬送される。ロードロック装置２５５にガラス基板Ｇが搬入されると、その内部が低酸素且つ低露点雰囲気に切り替えられる。その後、ロードロック装置２５５の内部と、同様に低酸素且つ低露点雰囲気に維持された第３の基板搬送領域２５２の内部とが連通させられる。
【０１４３】
次にガラス基板Ｇは、第３の基板搬送領域２５２を介して熱処理装置２６３に搬送される。この熱処理装置２６３の内部も低酸素且つ低露点雰囲気に維持されている。そして熱処理装置２６３では、熱板上に載置されたガラス基板Ｇが所定の温度、例えば２００℃に加熱され、当該ガラス基板Ｇの有機材料が焼成される。
【０１４４】
次にガラス基板Ｇは、第３の基板搬送領域２５２を介して温度調節装置２６４に搬送される。この温度調節装置２６４の内部も低酸素且つ低露点雰囲気に維持されている。そして温度調節装置２６４では、ガラス基板Ｇが所定の温度、例えば常温に温度調節される。こうして、ガラス基板Ｇ（正孔注入層３３１）上に正孔輸送層３３２が形成される。
【０１４５】
次にガラス基板Ｇは、第３の基板搬送領域２５２を介して発光層形成部２２２のトランジション装置２７３に搬送され、さらに第１の基板搬送領域２７０を介して塗布装置２８０に搬送される。そして塗布装置２８０では、インクジェット方式でガラス基板Ｇ（正孔輸送層３３２）上に、発光層３３３用の有機材料が塗布される。この塗布装置２８０における処理は、上述したステップＳ１〜Ｓ６と同様の処理である。
【０１４６】
次にガラス基板Ｇは、第１の基板搬送領域２７０を介してトランジション装置２７４に搬送され、さらに第２の基板搬送領域２７１を介して減圧乾燥装置２８２に搬送される。そして減圧乾燥装置２８２では、その内部雰囲気が減圧され、ガラス基板Ｇ上に塗布された有機材料が乾燥される。
【０１４７】
次にガラス基板Ｇは、第２の基板搬送領域２７１を介してロードロック装置２７５に搬送される。ロードロック装置２７５にガラス基板Ｇが搬入されると、その内部が低酸素且つ低露点雰囲気に切り替えられる。その後、ロードロック装置２７５の内部と、同様に低酸素且つ低露点雰囲気に維持された第３の基板搬送領域２７２の内部とが連通させられる。
【０１４８】
次にガラス基板Ｇは、第３の基板搬送領域２７２を介して熱処理装置２８３に搬送される。この熱処理装置２８３の内部も低酸素且つ低露点雰囲気に維持されている。そして熱処理装置２８３では、熱板上に載置されたガラス基板Ｇが所定の温度、例えば２６０℃に加熱され、当該ガラス基板Ｇの有機材料が焼成される。
【０１４９】
次にガラス基板Ｇは、第３の基板搬送領域２７２を介して温度調節装置２８４に搬送される。この温度調節装置２８４の内部も低酸素且つ低露点雰囲気に維持されている。そして温度調節装置２８４では、ガラス基板Ｇが所定の温度、例えば常温に温度調節される。こうして、ガラス基板Ｇ（正孔輸送層３３２）上に発光層３３３が形成される。
【０１５０】
次にガラス基板Ｇは、第３の基板搬送領域２７２を介してロードロック装置２７６に搬送される。このロードロック装置２７６の内部は、低酸素且つ低露点雰囲気に維持されている。そして、ロードロック装置２７６の内部と、同様に低酸素且つ低露点雰囲気に維持された搬出ステーション２０３の内部とが連通させられる。
【０１５１】
次にガラス基板Ｇは、搬出ステーション２０３の基板搬送体２９２によってカセット載置台２９０上の所定のカセットＣに搬送される。こうして、基板処理システム２００における一連のガラス基板Ｇの処理が終了する。
【０１５２】
以上の実施の形態においても、上述した第１の実施の形態と第２の実施の形態と同様の効果を享受できる。
【０１５３】
なお、以上の実施の形態の基板処理システム２００のレイアウトは、図１５に示したレイアウトに限定されず、任意に設定できる。
【０１５４】
また、以上の実施の形態の基板処理システム２００では、正孔注入層３３１、正孔輸送層３３２及び発光層３３３を形成したが、同様に有機発光ダイオード３００の他の電子輸送層３３４と電子注入層３３５も形成するようにしてもよい。すなわち、電子輸送層３３４と電子注入層３３５に用いられる有機材料に応じて、当該電子輸送層３３４と電子注入層３３５は、それぞれインクジェット方式による有機材料の塗布処理、有機材料の減圧乾燥処理、有機材料の焼成処理を行ってガラス基板Ｇ上に形成される。そして、これら電子輸送層３３４と電子注入層３３５の塗布処理においても、液滴吐出装置１を用いてもよい。
【０１５５】
また、液滴吐出装置１の適用例として、有機発光ダイオード３００の有機ＥＬ層３３０を形成する基板処理システム２００を説明したが、液滴吐出装置１の適用例はこれに限定されない。例えばカラーフィルタ、液晶表示装置、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ装置）、電子放出装置（ＦＥＤ装置、ＳＥＤ装置）等の電気光学装置（フラットパネルディスプレイ：ＦＰＤ）を製造する際にも液滴吐出装置１を適用してもよい。また、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成、及び光拡散体形成等を製造する際にも液滴吐出装置１を適用してもよい。
【０１５６】
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施の形態について説明したが、本発明はかかる例に限定されない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【符号の説明】
【０１５７】
１      液滴吐出装置
１０    Ｘ軸テーブル
１１    Ｙ軸テーブル
１２    Ｘ軸ガイドレール
１３    Ｙ軸ガイドレール
２０    ワークステージ
２１    ステージ回転機構
２２    Ｘ軸スライダ
２３    移動量検出機構
３０    キャリッジユニット
３３    キャリッジ
３４    液滴吐出ヘッド
４０    撮像ユニット
４１    第１の撮像部
４２    第２の撮像部
１００  バンク
１０１  開口部
１０２  基準マーク
１５０  制御部
２００  基板処理システム
２４０、２６０、２８０  塗布装置
３００  有機発光ダイオード
３３０  有機ＥＬ層
３３１  正孔注入層
３３２  正孔輸送層
３３３  発光層
３３４  電子輸送層
３３５  電子注入層
Ｇ      ガラス基板
Ｗ      ワーク
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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