(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
非磁性支持体の一方の表面側に強磁性粉末および結合剤を含む磁性層を有し、他方の表面側に非磁性粉末および結合剤を含むバックコート層を有する磁気テープであって、
前記磁性層の表面において測定される中心線平均表面粗さＲａは、１．８ｎｍ以下であり、
前記磁性層の表面において振り子粘弾性試験により求められる対数減衰率は、０．０５０以下であり、
前記バックコート層は、脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選択される成分の一種以上を含み、かつ
前記バックコート層の表面において光電子取り出し角１０度で行われるＸ線光電子分光分析により得られるＣ１ｓスペクトルにおけるＣ−Ｈピーク面積率から算出されるＣ−Ｈ由来Ｃ濃度は、３５原子％以上である、磁気テープ。
【請求項２】
前記対数減衰率は、０．０１０以上０．０５０以下である、請求項１に記載の磁気テープ。
【請求項３】
前記対数減衰率は、０．０１０以上０．０３５以下である、請求項１または２に記載の磁気テープ。
【請求項４】
前記Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度は、３５原子％以上６０原子％以下である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の磁気テープ。
【請求項５】
前記中心線平均表面粗さＲａは、１．２ｎｍ以上１．８ｎｍ以下である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の磁気テープ。
【請求項６】
前記非磁性支持体と前記磁性層との間に、非磁性粉末および結合剤を含む非磁性層を有する、請求項１〜５のいずれか１項に記載の磁気テープ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気テープに関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気記録媒体にはテープ状のものとディスク状のものがあり、データストレージ用途には、テープ状の磁気記録媒体、即ち磁気テープが主に用いられている。磁気テープへの信号の記録再生は、通常、磁気テープをドライブ内で走行させ、磁気テープの磁性層表面を磁気ヘッド（以下、単に「ヘッド」とも記載する。）と接触させ摺動させることにより行われる。
【０００３】
磁気記録分野では、電磁変換特性の向上が常に求められている。この点に関し、例えば特許文献１には、磁性層の表面平滑性を向上することにより、電磁変換特性に優れる磁気記録媒体が得られることが記載されている（例えば特許文献１の段落００２０および０１７８参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１０−４９７３１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
磁気テープの磁性層の表面平滑性を高めることは、磁気テープの磁性層表面とヘッドとの間の間隔（スペーシング）を狭めて電磁変換特性を向上するための有効な手段である。
【０００６】
また、特許文献１の段落００２１に記載されているように、非磁性支持体の磁性層を有する表面側とは反対の表面側にバックコート層を設けることも、近年広く行われている。
【０００７】
ところで、磁気テープ等の記録媒体に記録されるデータは、アクセス頻度（再生頻度）に応じて、ホットデータ、ウォームデータ、コールドデータと呼ばれる。アクセス頻度は、ホットデータ、ウォームデータ、コールドデータの順に低くなり、コールドデータは１０年以上の長期（例えば数十年）にわたって記録媒体に記録されたまま保管されることが通常である。このようなコールドデータを記録し保管するための記録媒体は、アーカイブ（ａｒｃｈｉｖｅ）用記録媒体と呼ばれる。アーカイブ用記録媒体には、上記の長期保管の前後ともに、記録媒体に記録されたデータを再生する際、優れた電磁変換特性を発揮することが望まれる。
【０００８】
近年の情報量の飛躍的な増大や各種情報のデジタル化に伴い、アーカイブ用記録媒体に記録し保管されるコールドデータのデータ量も増大しているため、アーカイブ用記録媒体の需要はますます高まっている。そこで本発明者らは、磁気テープをアーカイブ用記録媒体に適用することを検討した。しかるに、かかる検討の中で、非磁性支持体の磁性層を有する表面側とは反対の表面側にバックコート層を有し、かつ電磁変換特性向上のために磁性層表面の表面平滑性を高めた磁気テープには、長期保管相当の加速試験後に、加速試験前と比べて電磁変換特性が大きく低下してしまうという課題があることが判明した。
【０００９】
そこで本発明の目的は、非磁性支持体の磁性層を有する表面側とは反対の表面側にバックコート層を有し、かつ長期保管の前後ともに優れた電磁変換特性を発揮することができる、アーカイブ用記録媒体として好適な磁気テープを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、以下の磁気テープ：
非磁性支持体の一方の表面側に強磁性粉末および結合剤を含む磁性層を有し、他方の表面側に非磁性粉末および結合剤を含むバックコート層を有する磁気テープであって、
磁性層の表面において測定される中心線平均表面粗さＲａ（以下、「磁性層側Ｒａ」とも記載する。）は、１．８ｎｍ以下であり、
磁性層の表面において振り子粘弾性試験により求められる対数減衰率（以下、「磁性層側対数減衰率」または「対数減衰率」とも記載する。）は、０．０５０以下であり、
バックコート層は、脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選択される成分の一種以上を含み、かつ
バックコート層の表面において光電子取り出し角１０度で行われるＸ線光電子分光分析により得られるＣ１ｓスペクトルにおけるＣ−Ｈピーク面積率から算出されるＣ−Ｈ由来Ｃ濃度（以下、「バックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度」または「Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度」とも記載する。）は、３５原子％以上である、磁気テープ、
を新たに見出した。上記磁気テープは、アーカイブ用記録媒体のデータ保管相当の長期保管の前後ともに、優れた電磁変換特性を発揮することができる。
この点に関する本発明者らの推察は、後述する。
【００１１】
一態様では、上記対数減衰率は、０．０１０以上０．０５０以下である。
【００１２】
一態様では、上記対数減衰率は、０．０１０以上０．０３５以下である。
【００１３】
一態様では、上記Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度は、３５原子％以上６０原子％以下である。
【００１４】
一態様では、上記磁性層側Ｒａは、１．２ｎｍ以上１．８ｎｍ以下である。
【００１５】
一態様では、上記磁気テープは、非磁性支持体と磁性層との間に、非磁性粉末および結合剤を含む非磁性層を有する。
【発明の効果】
【００１６】
本発明の一態様によれば、非磁性支持体の磁性層を有する表面側とは反対の表面側にバックコート層を有し、長期保管の前後ともに優れた電磁変換特性を発揮することができる、アーカイブ用記録媒体として好適な磁気テープを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】対数減衰率の測定方法の説明図である。
【図２】対数減衰率の測定方法の説明図である。
【図３】対数減衰率の測定方法の説明図である。
【図４】磁気テープ製造工程の具体的態様の一例（工程概略図）を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
本発明の一態様は、非磁性支持体の一方の表面側に強磁性粉末および結合剤を含む磁性層を有し、他方の表面側に非磁性粉末および結合剤を含むバックコート層を有し、磁性層の表面において測定される中心線平均表面粗さＲａは１．８ｎｍ以下であり、磁性層の表面において振り子粘弾性試験により求められる対数減衰率は０．０５０以下であり、バックコート層は脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選択される成分の一種以上を含み、かつバックコート層の表面において光電子取り出し角１０度で行われるＸ線光電子分光分析により得られるＣ１ｓスペクトルにおけるＣ−Ｈピーク面積率から算出されるＣ−Ｈ由来Ｃ濃度は３５原子％以上である磁気テープに関する。
以下、上記磁気テープについて、更に詳細に説明する。以下の記載には、本発明者らの推察が含まれる。かかる推察によって本発明は限定されるものではない。また、以下では、図面に基づき例示的に説明することがある。ただし、例示される態様に本発明は限定されるものではない。
【００１９】
［磁性層側Ｒａ］
上記磁気テープの磁性層表面において測定される中心線平均表面粗さＲａ（磁性層側Ｒａ）は、１．８ｎｍ以下である。これにより、上記磁気テープは、優れた電磁変換特性を発揮することができる。更に、優れた電磁変換特性を長期保管前後ともに得るために、上記磁気テープにおいて、磁性層側対数減衰率およびバックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度を、それぞれ上記範囲とする。この点の詳細は後述する。電磁変換特性の更なる向上の観点からは、磁気テープ表面粗さＲａは、１．７ｎｍ以下であることが好ましく、１．６ｎｍ以下であることが更に好ましく、１．５ｎｍ以下であることが一層好ましい。また、磁性層側Ｒａは、例えば１．２ｎｍ以上または１．３ｎｍ以上であることができる。ただし、電磁変換特性向上の観点からは磁性層側Ｒａは低いことが好ましいため、上記例示した範囲を下回ってもよい。
【００２０】
本発明および本明細書において、磁気テープの磁性層の表面において測定される中心線平均表面粗さＲａ（磁性層側Ｒａ）とは、原子間力顕微鏡（Ａｔｏｍｉｃ  Ｆｏｒｃｅ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ；ＡＦＭ）により面積４０μｍ×４０μｍの領域で測定される値とする。測定条件の一例としては、下記の測定条件を挙げることができる。後述の実施例に示す中心線平均表面粗さＲａは、下記測定条件下での測定によって求めた値である。本発明および本明細書において、磁気テープの「磁性層（の）表面」とは、磁気テープの磁性層側表面と同義である。また、磁気テープの「バックコート層（の）表面」とは、磁気テープのバックコート層側表面と同義である。
ＡＦＭ（Ｖｅｅｃｏ社製Ｎａｎｏｓｃｏｐｅ４）により磁気テープの磁性層表面の面積４０μｍ×４０μｍの領域を測定する。スキャン速度（探針移動速度）は４０μｍ／秒、分解能は５１２ｐｉｘｅｌ×５１２ｐｉｘｅｌとする。
【００２１】
磁性層側Ｒａは、公知の方法により制御することができる。例えば、磁性層に含まれる各種粉末（例えば、強磁性粉末、磁性層に任意に含まれ得る非磁性フィラー等）のサイズ、磁気テープの製造条件等により磁性層側Ｒａは変わり得るため、これらを調整することにより、磁性層側Ｒａが１．８ｎｍ以下の磁気テープを得ることができる。
【００２２】
本発明者らは、磁性層側Ｒａを１．８ｎｍ以下とすることは、電磁変換特性向上のために有効であるものの、このことが長期保管後の電磁変換特性低下を引き起こしていると考えている。詳しくは、以下の通りである。
磁気テープは、磁気テープカートリッジ内に、リールに巻き取られた状態で収容される。磁気テープへのデータ（磁気信号）の記録は、磁気テープカートリッジをドライブにセットし、磁気テープカートリッジ内で磁気テープを走行させて、磁気テープの磁性層表面を磁気ヘッドと接触させ摺動させることにより行われる。コールドデータが記録された磁気テープは、こうして記録が行われた後に再びリールに巻き取られ磁気テープカートリッジに収容された状態で、例えば１０年以上、長期保管される。長期保管中、リールに巻き取られた状態の磁気テープでは、磁性層表面とバックコート層表面とが接触した状態にある。この保管期間は、通常のデータバックアップのためにデータが記録媒体に保管される期間よりはるかに長期間である。このようなきわめて長期間、磁性層表面とバックコート層表面とが接触し続けると、磁性層の表面状態が、バックコート層の影響を受けて変化してしまうと考えられる。バックコート層の影響によってもたらされる磁性層の表面状態の変化は、例えば、バックコート層の表面形状が磁性層表面に転写されること等によりもたらされるのではないかと本発明者らは推察している。ただし推察に過ぎず、詳細は明らかではない。そして、こうして発生する磁性層の表面状態の変化が、長期保管後の電磁変換特性低下を引き起こしていると、本発明者らは考えている。
以上の点に関して本発明者らは、長期保管中の磁性層表面とバックコート層表面との密着力を低下させることを考えた。密着力が低下すれば、磁性層の表面状態にバックコート層が影響を及ぼすことを軽減することができ、その結果、長期保管後の電磁変換特性の低下を抑制できるのではないかと考えたものである。そして更に検討を重ねた結果、磁性層側対数減衰率およびバックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度をそれぞれ上記範囲とすることにより、磁性層側Ｒａが１．８ｎｍ以下であり、非磁性支持体の磁性層を有する表面側とは反対の表面側にバックコート層を有する磁気テープにおいて、長期保管後の電磁変換特性の低下を抑制することが可能となった。
以下に、磁性層側対数減衰率およびバックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度について、更に説明する。
【００２３】
［磁性層側対数減衰率］
上記磁気テープの磁性層の表面において振り子粘弾性試験により求められる対数減衰率は、０．０５０以下である。このことが、磁性層側Ｒａが１．８ｎｍ以下であり、かつ非磁性支持体の磁性層を有する表面側とは反対の表面側にバックコート層を有する上記磁気テープが、長期保管前後ともに優れた電磁変換特性を発揮すること、中でも、長期保管後の電磁変換特性低下を抑制することに寄与すると、本発明者らは推察している。長期保管後の電磁変換特性の低下をより一層抑制する観点から、磁性層側対数減衰率は、０．０４５以下であることが好ましく、０．０４０以下であることがより好ましく、０．０３５以下であることが更に好ましい。一方、長期保管後の電磁変換特性の低下を抑制する観点からは、磁性層側対数減衰率は低いほど好ましいため、下限値は特に限定されるものではない。一例として、磁性層側対数減衰率は、例えば０．０１０以上、または０．０１５以上であることができる。ただし対数減衰率は、上記の例示した値を下回ってもよい。対数減衰率を調整するための手段の具体的態様は、後述する。
【００２４】
本発明および本明細書において、磁性層側対数減衰率とは、以下の方法により求められる値とする。
図１〜図３は、対数減衰率の測定方法の説明図である。以下、これら図面を参照し対数減衰率の測定方法を説明する。ただし、図示された態様は例示であって、本発明を何ら限定するものではない。
測定対象の磁気テープから、測定用試料１００を切り出す。切り出した測定用試料１００を、振り子粘弾性試験機内の試料ステージ１０１において、基板１０３上に測定面（磁性層表面）を上方に向けて載置し、目視で確認できる明らかなしわが入っていない状態で、固定用テープ１０５等で固定する。
測定用試料１００の測定面上に、質量１３ｇの振り子付円柱型シリンダエッジ１０４（直径４ｍｍ）を、シリンダエッジの長軸方向が測定用試料１００の長手方向と平行になるように載せる。こうして測定用試料１００の測定面に、振り子付円柱型シリンダエッジ１０４を載せた状態（上方から見た状態）の一例を、図１に示す。図１に示す態様では、ホルダ兼温度センサー１０２が設置され、基板１０３の表面温度をモニタリングできる構成になっている。ただし、この構成は必須ではない。なお測定用試料１００の長手方向とは、図１に示す態様では図中に矢印によって示した方向であり、測定用試料を切り出した磁気テープにおける長手方向をいう。また、本明細書に記載の「平行」等の角度に関する記載には、本発明が属する技術分野において許容される誤差の範囲を含むものとする。例えば、厳密な角度±１０°未満の範囲内であることを意味し、厳密な角度との誤差は、５°以下であることが好ましく、３°以下であることがより好ましい。また、振り子１０７（図２参照）としては、金属、合金等のマグネットに吸着される性質を有する材料製の振り子を用いる。
測定用試料１００を載置した基板１０３の表面温度を５℃／ｍｉｎ以下（５℃／ｍｉｎ以下であれば任意の昇温速度でよい。）の昇温速度で昇温して８０℃として、振り子運動を、振り子１０７とマグネット１０６との吸着を解除することにより開始（初期振動を誘起）させる。振り子運動している振り子１０７の状態（横から見た状態）の一例が、図２である。図２に示す態様では、振り子粘弾性試験機内で、試料ステージ下方に配置されたマグネット（電磁石）１０６への通電を停止して（スイッチをオフにして）吸着を解除することにより振り子運動を開始し、電磁石への通電を再開して（スイッチをオンにして）振り子１０７をマグネット１０６に吸着させることにより振り子運動を停止させる。振り子運動中、図２に示すように、振り子１０７は振幅を繰り返す。振り子が振幅を繰り返している間、振り子の変位を変位センサー１０８によりモニタリングして得られる結果から、変位を縦軸に取り、経過時間を横軸に取った変位−時間曲線を得る。変位−時間曲線の一例を、図３に示す。図３では、振り子１０７の状態と変位−時間曲線との対応が模式的に示されている。一定の測定間隔で、静止（吸着）と振り子運動とを繰り返し、１０分以上（１０分以上であれば任意の時間でよい。）経過した後の測定間隔において得られた変位−時間曲線を用いて、対数減衰率Δ（無単位）を、下記式から求め、この値を磁気テープの磁性層表面の対数減衰率とする。１回の吸着の吸着時間は１秒以上（１秒以上であれば任意の時間でよい。）とし、吸着終了から次の吸着開始までの間隔は６秒以上（６秒以上であれば任意の時間でよい。）とする。測定間隔とは、吸着開始から次の吸着開始までの時間の間隔である。また、振り子運動を行う環境の湿度は、相対湿度４０〜７０％の範囲であれば任意の相対湿度でよい。
【００２５】
【数１】
0006556100.tif 000002
【００２６】
変位−時間曲線において、変位が極小から再び極小になるまでの間隔を、波の一周期とする。ｎを、測定間隔中の変位−時間曲線に含まれる波の数とし、Ａｎを、ｎ番目の波における極小変位と極大変位との差とする。図３では、ｎ番目の波の変位が極小から再び極小になるまでの間隔を、Ｐｎ（例えば１番目の波についてはＰ１、２番目についてはＰ２、３番目についてはＰ３）と表示している。対数減衰率の算出には、ｎ番目の波の次に現れる極小変位と極大変位との差（上記式中、Ａｎ＋１、図３に示す変位−時間曲線ではＡ４）も用いるが、極大以降に振り子１０７が静止（吸着）している部分は波の数のカウントには用いない。また、極大変位以前に振り子１０７が静止（吸着）している部分も、波の数のカウントには用いない。したがって、図３に示す変位−時間曲線では、波の数は３つ（ｎ＝３）である。なお本発明および本明細書における対数減衰率とは、アーカイブ用記録媒体のデータ保管相当の長期保管またはかかる長期保管に相当する加速試験を経ていない磁気テープにおいて測定される値である。この点は、磁性層側Ｒａおよびバックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度についても同様である。
【００２７】
上記対数減衰率に関して、本発明者らは、以下のように考えている。ただし下記は推察に過ぎず、本発明を何ら限定するものではない。
本発明者らは、磁性層表面とバックコート層表面との密着力には、長期保管中に磁性層表面に遊離する粘着性成分が影響を及ぼすと推察している。詳しくは、磁性層表面とバックコート層表面との密着力は、上記粘着性成分の量が多いほど強くなり、上記粘着性成分の量が少ないほど弱くなると推察される。
以上の点に関し、上記方法により測定される対数減衰率は、長期保管中に磁性層表面に遊離する粘着性成分の量の指標になり得る値であると、本発明者らは考えている。詳しくは、上記対数減衰率の値は、上記粘着性成分の量が多いほど大きくなり、上記粘着性成分の量が少ないほど小さくなると考えられる。そして、上記磁気テープにおいて、磁性層側対数減衰率を０．０５０以下とすることが、長期保管後に電磁変換特性が低下することを抑制することに寄与すると、本発明者らは推察している。上記粘着性成分の詳細は明らかではない。ただし本発明者らは、結合剤として用いられる樹脂に由来する可能性があると推察している。詳しくは、次の通りである。
結合剤としては、詳細を後述するように各種樹脂を用いることができる。樹脂とは、２つ以上の重合性化合物の重合体（ホモポリマーおよびコポリマーを包含する。）であり、分子量が平均分子量を下回る成分（以下、「低分子量結合剤成分」と記載する。）も通常含まれる。このような低分子量結合剤成分が、長期保管中に磁性層表面に多く遊離するほど、磁性層表面とバックコート層表面との密着力は強くなってしまうと、本発明者らは考えている。上記の低分子量結合剤成分は粘着性を有すると考えられ、上記方法により求められる対数減衰率が、長期保管中に磁性層表面に遊離する粘着性成分の量の指標になるのではないかと、本発明者らは推察している。なお、一態様では、磁性層は、強磁性粉末および結合剤に加えて、硬化剤を含む磁性層形成用組成物を、非磁性支持体上に直接または他の層を介して塗布し、硬化処理を施し形成される。ここでの硬化処理により、結合剤と硬化剤とを硬化反応（架橋反応）させることができる。ただし、理由は定かではないが、低分子量結合剤成分は、硬化反応の反応性に乏しいのではないかと本発明者らは考えている。このため、低分子量結合剤成分は磁性層に留まり難く磁性層から遊離しやすいことが、長期保管中に磁性層表面に低分子量結合剤成分が遊離しやすい理由の１つではないかと、本発明者らは推察している。
ただし以上は本発明者らの推察であって、本発明を何ら限定するものではない。
【００２８】
［バックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度］
上記磁気テープのバックコート層の表面において光電子取り出し角１０度で行われるＸ線光電子分光分析により得られるＣ１ｓスペクトルにおけるＣ−Ｈピーク面積率から算出されるＣ−Ｈ由来Ｃ濃度（バックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度）は、３５原子％以上である。このことも、磁性層側Ｒａが１．８ｎｍ以下であり、かつ非磁性支持体の磁性層を有する表面側とは反対の表面側にバックコート層を有する上記磁気テープが、長期保管前後ともに優れた電磁変換特性を発揮すること、中でも、長期保管後の電磁変換特性低下を抑制することに寄与すると、本発明者らは推察している。長期保管後の電磁変換特性の低下をより一層抑制する観点から、バックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度は、４０原子％以上であることが好ましく、４５原子％以上であることがより好ましく、５０原子％以上であることが更に好ましい。一方、長期保管後の電磁変換特性の低下を抑制する観点からは、バックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度は高いほど好ましいため、上限値は特に限定されるものではない。一例として、バックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度は、例えば７０原子％以下、または６０原子％以下であることができる。ただしバックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度は、上記の例示した値を上回ってもよい。バックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度を調整するための手段の具体的態様は、後述する。
【００２９】
バックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度は、Ｘ線光電子分光分析を行い求められる。Ｘ線光電子分光分析は、一般にＥＳＣＡ（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ  ｆｏｒ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ａｎａｌｙｓｉｓ）またはＸＰＳ（Ｘ−ｒａｙ  Ｐｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ）とも呼ばれる分析法である。以下において、Ｘ線光電子分光分析を、ＥＳＣＡとも記載する。ＥＳＣＡは、測定対象試料表面にＸ線を照射すると光電子が放出されることを利用する分析法であり、測定対象試料の表層部の分析法として広く用いられている。ＥＳＣＡによれば、測定対象の試料表面における分析により取得されるＸ線光電子分光スペクトルを用いて定性分析および定量分析を行うことができる。試料表面から分析位置までの深さ（以下、「検出深さ」とも記載する。）と光電子取り出し角（ｔａｋｅ−ｏｆｆ  ａｎｇｌｅ）との間には、一般に次の式：検出深さ≒電子の平均自由行程×３×ｓｉｎθ、が成立する。式中、検出深さは、Ｘ線光電子分光スペクトルを構成する光電子の９５％が発生する深さであり、θは光電子取り出し角である。上記の式から、光電子取り出し角が小さいほど試料表面からの深さが浅い部分が分析でき、光電子取り出し角が大きいほど深い部分が分析できることがわかる。そして光電子取り出し角１０度でのＥＳＣＡによって行われる分析では、通常、試料表面から深さ数ｎｍ程度のごく表層部が分析位置になる。したがって、磁気テープのバックコート層表面において、光電子取り出し角１０度でＥＳＣＡによって行われる分析によれば、バックコート層表面から深さ数ｎｍ程度のごく表層部の組成分析を行うことができる。
上記のＣ−Ｈ由来Ｃ濃度とは、ＥＳＣＡによって行われる定性分析により検出される全元素の合計（原子基準）１００原子％に対して、Ｃ−Ｈ結合を構成している炭素原子Ｃが占める割合である。上記磁気テープは、バックコート層に、脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選ばれる成分の一種以上を含む。これら成分の一種以上をバックコート層に含む磁気テープのバックコート層表面において、光電子取り出し角１０度でＥＳＣＡによって行われる分析により得られるＣ−Ｈ由来Ｃ濃度は、バックコート層のごく表層部における上記成分（脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選ばれる成分の一種以上）の存在量の指標になるものであると、本発明者らは考えている。詳しくは、次の通りである。
ＥＳＣＡによって行われる分析により得られるＸ線光電子分光スペクトル（横軸：結合エネルギー、縦軸：強度）の中で、Ｃ１ｓスペクトルは、炭素原子Ｃの１ｓ軌道のエネルギーピークに関する情報を含んでいる。かかるＣ１ｓスペクトルにおいて、結合エネルギー２８４．６ｅＶ付近に位置するピークが、Ｃ−Ｈピークである。このＣ−Ｈピークは、有機化合物のＣ−Ｈ結合の結合エネルギーに由来するピークである。脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選ばれる成分の一種以上を含むバックコート層のごく表層部では、Ｃ−Ｈピークの主要構成成分が脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選ばれる成分であると本発明者らは推察している。そのため、上記のＣ−Ｈ由来Ｃ濃度を先に記載したように存在量の指標とすることができると本発明者らは考えている。詳しくは、バックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度の値は、バックコート層のごく表層部に存在する脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選ばれる成分の量が多いほど大きくなり、上記の量が少ないほど小さくなると考えられる。本発明者らは、長期保管中の磁性層表面とバックコート層表面との密着力を低下させるためには、バックコート層のごく表層部に、脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選ばれる成分を多量に存在させることが有効であると考えている。これにより、バックコート層の表面自由エネルギーを低下させることができ、その結果、長期保管中の磁性層表面とバックコート層表面との密着力を低下させることができると、本発明者らは推察している。そして、上記磁気テープにおいて、バックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度を３５原子％以上とすることが、長期保管後に電磁変換特性が低下することを抑制することに寄与すると、本発明者らは推察している。
【００３０】
先に記載した通り、バックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度は、ＥＳＣＡを用いる分析により求められる値である。分析を行う領域は、磁気テープのバックコート層表面の任意の位置の３００μｍ×７００μｍの面積の領域とする。ＥＳＣＡによって行われるワイドスキャン測定（パスエネルギー：１６０ｅＶ、スキャン範囲：０〜１２００ｅＶ、エネルギー分解能：１ｅＶ／ｓｔｅｐ）により定性分析を実施する。次いで、定性分析により検出された全元素のスペクトルをナロースキャン測定（パスエネルギー：８０ｅＶ、エネルギー分解能：０．１ｅＶ、スキャン範囲：測定するスペクトルの全体が入るように元素毎に設定。）により求める。こうして得られた各スペクトルにおけるピーク面積から、各元素の原子濃度（ａｔｏｍｉｃ  ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｉｏｎ、単位：原子％）を算出する。ここでＣ１ｓスペクトルのピーク面積から炭素原子の原子濃度（Ｃ濃度）も算出される。
更に、Ｃ１ｓスペクトルを取得する（パスエネルギー：１０ｅＶ、スキャン範囲：２７６〜２９６ｅＶ、エネルギー分解能：０．１ｅＶ／ｓｔｅｐ）。取得したＣ１ｓスペクトルを、ガウス−ローレンツ複合関数（ガウス成分７０％、ローレンツ成分３０％）を用いる非線形最小二乗法によってフィッティング処理し、Ｃ１ｓスペクトルにおけるＣ−Ｈ結合のピークをピーク分離し、分離されたＣ−ＨピークのＣ１ｓスペクトルに占める割合（ピーク面積率）を算出する。算出されたＣ−Ｈピーク面積率を、上記のＣ濃度に掛けることにより、Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度を算出する。
以上の処理を磁気テープのバックコート層表面の異なる位置において３回行って得られた値の算術平均を、バックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度とする。また、以上の処理の具体的態様を、後述の実施例に示す。
【００３１】
以上説明したバックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度を上記範囲内に調整するための好ましい手段としては、詳細を後述するように、バックコート層形成工程において冷却工程を実施することを挙げることができる。ただし上記磁気テープは、かかる冷却工程を経て製造されたものに限定されるものではない。
【００３２】
以下、上記磁気テープについて、更に詳細に説明する。
【００３３】
［磁性層］
＜強磁性粉末＞
磁性層は、強磁性粉末および結合剤を含む。強磁性粉末としては、磁気テープ等の磁気記録媒体の磁性層において強磁性粉末として通常用いられる各種粉末を使用することができる。強磁性粉末として平均粒子サイズの小さいものを使用することは、磁気テープの記録密度向上の観点から好ましい。この点から、強磁性粉末としては、平均粒子サイズが５０ｎｍ以下の強磁性粉末を用いることが好ましい。一方、磁化の安定性の観点からは、強磁性粉末の平均粒子サイズは１０ｎｍ以上であることが好ましい。
【００３４】
上記強磁性粉末の平均粒子サイズは、透過型電子顕微鏡を用いて、以下の方法により測定される値とする。
強磁性粉末を、透過型電子顕微鏡を用いて撮影倍率１０００００倍で撮影し、総倍率５０００００倍になるように印画紙にプリントして強磁性粉末を構成する粒子の写真を得る。得られた粒子の写真から目的の粒子を選びデジタイザーで粒子の輪郭をトレースし粒子（一次粒子）のサイズを測定する。一次粒子とは、凝集のない独立した粒子をいう。
以上の測定を、無作為に抽出した５００個の粒子について行う。こうして得られた５００個の粒子の粒子サイズの算術平均を、強磁性粉末の平均粒子サイズとする。上記透過型電子顕微鏡としては、例えば日立製透過型電子顕微鏡Ｈ−９０００型を用いることができる。また、粒子サイズの測定は、公知の画像解析ソフト、例えばカールツァイス製画像解析ソフトＫＳ−４００を用いて行うことができる。
本発明および本明細書において、強磁性粉末、およびその他の粉末についての平均粒子サイズとは、特記しない限り、上記方法により求められる平均粒子サイズをいうものとする。後述の実施例に示す平均粒子サイズの測定は、透過型電子顕微鏡として日立製透過型電子顕微鏡Ｈ−９０００型、画像解析ソフトとしてカールツァイス製画像解析ソフトＫＳ−４００を用いて行った。
【００３５】
粒子サイズ測定のために磁性層から強磁性粉末等の試料粉末を採取する方法としては、例えば特開２０１１−０４８８７８号公報の段落００１５に記載の方法を採用することができる。
【００３６】
本発明および本明細書において、強磁性粉末等の粉末を構成する粒子のサイズ（以下、「粒子サイズ」と言う）は、上記の粒子写真において観察される粒子の形状が、
（１）針状、紡錘状、柱状（ただし、高さが底面の最大長径より大きい）等の場合は、粒子を構成する長軸の長さ、即ち長軸長で表され、
（２）板状または柱状（ただし、厚さまたは高さが板面または底面の最大長径より小さい）の場合は、その板面または底面の最大長径で表され、
（３）球形、多面体状、不特定形等であって、かつ形状から粒子を構成する長軸を特定できない場合は、円相当径で表される。円相当径とは、円投影法で求められるものを言う。
【００３７】
また、粉末の平均針状比は、上記測定において粒子の短軸の長さ、即ち短軸長を測定し、各粒子の（長軸長／短軸長）の値を求め、上記５００個の粒子について得た値の算術平均を指す。ここで、短軸長とは、上記粒子サイズの定義で（１）の場合は、粒子を構成する短軸の長さを、同じく（２）の場合は、厚さまたは高さを各々指し、（３）の場合は、長軸と短軸の区別がないから、（長軸長／短軸長）は、便宜上１とみなす。
そして、粒子の形状が特定の場合、例えば、上記粒子サイズの定義（１）の場合、平均粒子サイズは平均長軸長であり、同定義（２）の場合、平均粒子サイズは平均板径であり、平均板状比とは、（最大長径／厚さまたは高さ）の算術平均である。同定義（３）の場合、平均粒子サイズは、平均直径（平均粒径、平均粒子径ともいう）である。
【００３８】
強磁性粉末の好ましい具体例としては、強磁性六方晶フェライト粉末を挙げることができる。強磁性六方晶フェライト粉末の平均粒子サイズ（平均板径）は、高密度記録化と磁化の安定性の観点から、１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることが好ましく、２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることがより好ましい。強磁性六方晶フェライト粉末の詳細については、例えば、特開２０１１−２２５４１７号公報の段落００１２〜００３０、特開２０１１−２１６１４９号公報の段落０１３４〜０１３６、特開２０１２−２０４７２６号公報の段落００１３〜００３０を参照できる。
【００３９】
強磁性粉末の好ましい具体例としては、強磁性金属粉末を挙げることもできる。強磁性金属粉末の平均粒子サイズ（平均長軸長）は、高密度記録化と磁化の安定性の観点から、１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることが好ましく、２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることがより好ましい。強磁性金属粉末の詳細については、例えば特開２０１１−２１６１４９号公報の段落０１３７〜０１４１、特開２００５−２５１３５１号公報の段落０００９〜００２３を参照できる。
【００４０】
磁性層における強磁性粉末の含有量（充填率）は、好ましくは５０〜９０質量％の範囲であり、より好ましくは６０〜９０質量％の範囲である。磁性層の強磁性粉末以外の成分は少なくとも結合剤であり、任意に一種以上の添加剤が含まれ得る。磁性層において強磁性粉末の充填率が高いことは、記録密度向上の観点から好ましい。
【００４１】
＜結合剤、硬化剤＞
上記磁気テープは塗布型磁気テープであって、磁性層に、強磁性粉末とともに結合剤を含む。結合剤とは、一種以上の樹脂である。結合剤としては、塗布型磁気記録媒体の結合剤として通常使用される各種樹脂を用いることができる。例えば、結合剤としては、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、塩化ビニル樹脂、スチレン、アクリロニトリル、メチルメタクリレート等を共重合したアクリル樹脂、ニトロセルロース等のセルロース樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルキラール樹脂等から選ばれる樹脂を単独で用いるか、または複数の樹脂を混合して用いることができる。これらの中で好ましいものはポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、セルロース樹脂、および塩化ビニル樹脂である。これらの樹脂は、ホモポリマーでもよく、コポリマー（共重合体）でもよい。これらの樹脂は、後述する非磁性層および／またはバックコート層においても結合剤として使用することができる。以上の結合剤については、特開２０１０−２４１１３号公報の段落００２８〜００３１を参照できる。結合剤として使用される樹脂の平均分子量は、重量平均分子量として、例えば１０，０００以上２００，０００以下であることができる。本発明および本明細書における重量平均分子量とは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって測定された値をポリスチレン換算して求められる値である。測定条件としては、下記条件を挙げることができる。後述の実施例に示す重量平均分子量は、下記測定条件によって測定された値をポリスチレン換算して求めた値である。
ＧＰＣ装置：ＨＬＣ−８１２０（東ソー社製）
カラム：ＴＳＫ ｇｅｌ Ｍｕｌｔｉｐｏｒｅ ＨＸＬ−Ｍ（東ソー社製、７．８ｍｍＩＤ(Ｉｎｎｅｒ  Ｄｉａｍｅｔｅｒ)×３０．０ｃｍ）
溶離液：テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）
【００４２】
また、上記結合剤として使用可能な樹脂とともに硬化剤を使用することもできる。硬化剤は、一態様では加熱により硬化反応（架橋反応）が進行する化合物である熱硬化性化合物であることができ、他の一態様では光照射により硬化反応（架橋反応）が進行する光硬化性化合物であることができる。硬化剤は、磁性層形成工程の中で硬化反応が進行することにより、少なくとも一部は、結合剤等の他の成分と反応（架橋）した状態で磁性層に含まれ得る。好ましい硬化剤は、熱硬化性化合物であり、ポリイソシアネートが好適である。ポリイソシアネートの詳細については、特開２０１１−２１６１４９号公報の段落０１２４〜０１２５を参照できる。硬化剤は、磁性層形成用組成物中に、結合剤１００．０質量部に対して例えば０〜８０．０質量部、磁性層等の各層の強度向上の観点からは好ましくは５０．０〜８０．０質量部の量で使用することができる。
【００４３】
＜添加剤＞
磁性層には、強磁性粉末および結合剤が含まれ、必要に応じて一種以上の添加剤が含まれていてもよい。添加剤としては、一例として、上記の硬化剤が挙げられる。また、磁性層に含まれ得る添加剤としては、非磁性フィラー、潤滑剤、分散剤、分散助剤、防黴剤、帯電防止剤、酸化防止剤、カーボンブラック等を挙げることができる。添加剤は、所望の性質に応じて市販品を適宜選択して使用することができる。例えば、潤滑剤として、後述する脂肪酸、脂肪酸アミド等の公知の潤滑剤の一種以上を使用することができる。
【００４４】
以下、添加剤の一態様である非磁性フィラーについて説明する。ただし、本発明は下記態様に限定されるものではない。非磁性フィラーとは、非磁性粉末と同義である。また、本発明および本明細書において、非磁性粉末とは、複数の非磁性粒子の集合を意味するものとする。集合とは、集合を構成する粒子が直接接触している態様に限定されず、結合剤、添加剤等が、粒子同士の間に介在している態様も包含される。なお粒子との語が、粉末を表すために用いられることもある。以上の点は、本発明および本明細書における各種粉末についても、同様とする。
【００４５】
磁性層には、一種または二種以上の非磁性フィラーが含まれることが好ましい。非磁性フィラーとしては、磁性層表面に適度に突出する突起を形成する突起形成剤として機能することができる非磁性フィラー（以下、「突起形成剤」と記載する。）、および研磨剤として機能することができる非磁性フィラー（以下、「研磨剤」と記載する。）を挙げることができる。突起形成剤は、磁性層表面の摩擦特性制御に寄与し得る成分である。上記磁気テープの磁性層には、突起形成剤および研磨剤の少なくとも一方が含まれることが好ましく、両方が含まれることが好ましい。
【００４６】
突起形成剤としては、一般に突起形成剤として使用される各種非磁性フィラーを用いることができる。これらは、無機物質であっても有機物質であってもよい。一態様では、摩擦特性の均一化の観点からは、突起形成剤の粒度分布は、分布中に複数のピークを有する多分散ではなく、単一ピークを示す単分散であることが好ましい。単分散粒子の入手容易性の点からは、非磁性フィラーは無機物質の粉末であることが好ましい。無機物質の粉末としては、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物等の粉末を挙げることができ、無機酸化物の粉末であることが好ましい。突起形成剤は、より好ましくはコロイド粒子であり、更に好ましくは無機酸化物コロイド粒子である。また、単分散粒子の入手容易性の観点からは、無機酸化物コロイド粒子を構成する無機酸化物は二酸化ケイ素（シリカ）であることが好ましい。無機酸化物コロイド粒子は、コロイダルシリカ（シリカコロイド粒子）であることがより好ましい。コロイド粒子については、平均粒子サイズは、特開２０１１−０４８８７８号公報の段落００１５に平均粒径の測定方法として記載されている方法により求められる値とする。また、他の一態様では、突起形成剤は、カーボンブラックであることも好ましい。
【００４７】
突起形成剤の平均粒子サイズは、例えば３０〜３００ｎｍであり、好ましくは４０〜２００ｎｍである。
【００４８】
一方、研磨剤としては、磁性層の研磨剤として通常使用される物質であるアルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、炭化ケイ素、ボロンカーバイド（Ｂ４Ｃ）、ＳｉＯ２、ＴｉＣ、酸化クロム（Ｃｒ２Ｏ３）、酸化セリウム、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、酸化鉄、ダイヤモンド等の粉末を挙げることができ、中でもα−アルミナ等のアルミナ粉末および炭化ケイ素粉末が好ましい。また、研磨剤の粒子サイズに関しては、粒子サイズの指標である比表面積として、例えば１４ｍ２／ｇ以上、好ましくは１６ｍ２／ｇ以上、より好ましくは１８ｍ２／ｇ以上である。また、研磨剤の比表面積は、例えば４０ｍ２／ｇ以下であることができる。なお比表面積とは、窒素吸着法（ＢＥＴ（Ｂｒｕｎａｕｅｒ−Ｅｍｍｅｔｔ−Ｔｅｌｌｅｒ）１点法とも呼ばれる。）により求められる値であって、一次粒子について測定する値とする。以下において、かかる方法により求められる比表面積を、ＢＥＴ比表面積とも記載する。
【００４９】
また、突起形成剤および研磨剤が、それらの機能をより良好に発揮することができるという観点から、磁性層における突起形成剤の含有量は、好ましくは強磁性粉末１００．０質量部に対して、１．０〜４．０質量部であり、より好ましくは１．５〜３．５質量部である。一方、研磨剤については、磁性層における含有量は、好ましくは強磁性粉末１００．０質量部に対して１．０〜２０．０質量部であり、より好ましくは３．０〜１５．０質量部であり、更に好ましくは４．０〜１０．０質量部である。
【００５０】
なお、研磨剤を含む磁性層に使用され得る添加剤の一例としては、特開２０１３−１３１２８５号公報の段落００１２〜００２２に記載の分散剤を、研磨剤の分散性を向上するための分散剤として挙げることができる。
【００５１】
［非磁性層］
次に非磁性層について説明する。上記磁気テープは、非磁性支持体上に直接磁性層を有していてもよく、非磁性支持体上に少なくとも一層の他の層を介して磁性層を有していてもよい。かかる他の層は、好ましくは、非磁性粉末と結合剤を含む非磁性層である。非磁性層に使用される非磁性粉末は、無機物質でも有機物質でもよい。また、カーボンブラック等も使用できる。無機物質としては、例えば金属、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物等が挙げられる。これらの非磁性粉末は、市販品として入手可能であり、公知の方法で製造することもできる。その詳細については、特開２０１１−２１６１４９号公報の段落０１４６〜０１５０を参照できる。非磁性層に使用可能なカーボンブラックについては、特開２０１０−２４１１３号公報の段落００４０〜００４１も参照できる。非磁性層における非磁性粉末の含有量（充填率）は、好ましくは５０〜９０質量％の範囲であり、より好ましくは６０〜９０質量％の範囲である。
【００５２】
非磁性層の結合剤、添加剤等のその他詳細は、非磁性層に関する公知技術が適用できる。また、例えば、結合剤の種類および含有量、添加剤の種類および含有量等に関しては、磁性層に関する公知技術も適用できる。
【００５３】
上記磁気テープの非磁性層には、非磁性粉末とともに、例えば不純物として、または意図的に、少量の強磁性粉末を含む実質的に非磁性な層も包含されるものとする。ここで実質的に非磁性な層とは、この層の残留磁束密度が１０ｍＴ以下であるか、保磁力が７．９６ｋＡ／ｍ（１００Ｏｅ）以下であるか、または、残留磁束密度が１０ｍＴ以下であり、かつ保磁力が７．９６ｋＡ／ｍ（１００Ｏｅ）以下である層をいうものとする。非磁性層は、残留磁束密度および保磁力を持たないことが好ましい。
【００５４】
［バックコート層］
＜脂肪酸、脂肪酸アミド＞
上記磁気テープは、脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選ばれる成分の一種以上をバックコート層に含む。バックコート層には、脂肪酸および脂肪酸アミドの一方のみが含まれていてもよく、両方が含まれていてもよい。先に記載したように、これら成分がバックコート層のごく表層部に多量に存在することが、上記磁気テープにおいて、長期保管後の電磁変換特性低下を抑制することに寄与すると、本発明者らは考えている。
【００５５】
脂肪酸としては、例えば、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、ベヘン酸、エルカ酸、エライジン酸等を挙げることができ、ステアリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸が好ましく、ステアリン酸がより好ましい。脂肪酸は、金属塩等の塩の形態でバックコート層に含まれていてもよい。
脂肪酸アミドとしては、各種脂肪酸のアミド、例えば、ラウリン酸アミド、ミリスチン酸アミド、パルミチン酸アミド、ステアリン酸アミド等を挙げることができる。
脂肪酸と脂肪酸の誘導体（アミドおよび後述のエステル等）については、脂肪酸誘導体の脂肪酸由来部位は、併用される脂肪酸と同様または類似の構造を有することが好ましい。例えば、一例として、脂肪酸としてステアリン酸を用いる場合にステアリン酸アミドやステアリン酸エステルを使用することは好ましい。
【００５６】
脂肪酸含有量は、バックコート層に含まれる非磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０．１〜１０.０質量部であり、好ましくは１．０〜７．０質量部である。なおバックコート層に二種以上の異なる脂肪酸が含まれる場合、含有量とは、それらの合計含有量をいうものとする。この点は、本発明および本明細書において、特記しない限り、他の成分の含有量についても同様とする。また、本発明および本明細書において、特記しない限り、ある成分は、一種のみ用いてもよく二種以上用いてもよい。
【００５７】
バックコート層中の脂肪酸アミド含有量は、バックコート層に含まれる非磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０．１〜３.０質量部であり、好ましくは  ０．１〜１．０質量部である。
【００５８】
＜脂肪酸エステル＞
以上説明した脂肪酸および脂肪酸アミドは、潤滑剤として機能し得る成分である。一方、脂肪酸エステルも潤滑剤として機能し得る成分である。バックコート層には、脂肪酸エステルが含まれていてもよく、含まれていなくてもよい。脂肪酸エステルは、一般に磁気テープの走行耐久性を向上することに寄与する潤滑剤と言われているため、例えば耐傷性向上のために、バックコート層に脂肪酸エステルが含まれていてもよい。
脂肪酸エステルとしては、上記の各種脂肪酸のエステル、例えば、ミリスチン酸ブチル、パルミチン酸ブチル、ステアリン酸ブチル（ブチルステアレート）、ネオペンチルグリコールジオレエート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンジステアレート、ソルビタントリステアレート、オレイン酸オレイル、ステアリン酸イソセチル、ステアリン酸イソトリデシル、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸イソオクチル、ステアリン酸アミル、ステアリン酸ブトキシエチル等を挙げることができる。
【００５９】
脂肪酸エステル含有量は、バックコート層に含まれる非磁性粉末１００．０質量部あたり、例えば０〜１０.０質量部であり、好ましくは１．０〜７．０質量部である。
【００６０】
以上説明した脂肪酸、脂肪酸アミドおよび脂肪酸エステルからなる群から選ばれる成分の一種以上は、バックコート層以外の層に含まれていてもよい。例えば磁性層および／または非磁性層に、上記成分の一種以上が含まれていてもよい。その場合の各成分の含有量については、非磁性層に関して、上記のバックコート層に含まれる非磁性粉末に対する含有量を、非磁性層に含まれる非磁性粉末に関する含有量と読み替えて適用することができる。磁性層に関しては、非磁性粉末に対する含有量を、強磁性粉末に対する含有量と読み替えて適用することができる。
【００６１】
バックコート層の非磁性粉末については、非磁性層の非磁性粉末に関する上記記載を参照できる。バックコート層の非磁性粉末としては、カーボンブラックと、カーボンブラック以外の非磁性粉末と、のいずれか一方または両方を使用することができる。カーボンブラックを用いるか、カーボンブラックとカーボンブラック以外の非磁性粉末とを併用することが好ましい。カーボンブラック以外の非磁性粉末としては、非磁性無機粉末を挙げることができる。具体例としては、α−酸化鉄等の酸化鉄、二酸化チタン等のチタン酸化物、酸化セリウム、酸化スズ、酸化タングステン、ＺｎＯ、ＺｒＯ２、ＳｉＯ２、Ｃｒ２Ｏ３、α−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、ゲータイト、コランダム、窒化珪素、チタンカーバイド、酸化マグネシウム、窒化ホウ素、二硫化モリブデン、酸化銅、ＭｇＣＯ３、ＣａＣＯ３、ＢａＣＯ３、ＳｒＣＯ３、ＢａＳＯ４、炭化珪素、炭化チタン等の非磁性無機粉末を挙げることができる。好ましい非磁性無機粉末は、非磁性無機酸化物粉末であり、より好ましくはα−酸化鉄および酸化チタンであり、更に好ましくはα−酸化鉄である。
【００６２】
カーボンブラック以外の非磁性粉末の形状は、針状、球状、多面体状、板状等のいずれの形状でもよい。これら非磁性粉末の平均粒子サイズは、０．００５〜２．００μｍの範囲であることが好ましく、０．０１〜０．２０μｍの範囲であることが更に好ましい。また、非磁性粉末のＢＥＴ比表面積は、１〜１００ｍ２／ｇの範囲であることが好ましく、より好ましくは５〜７０ｍ２／ｇ、更に好ましくは１０〜６５ｍ２／ｇの範囲である。一方、カーボンブラックの平均粒子サイズは、例えば５〜８０ｎｍの範囲であり、好ましくは１０〜５０ｎｍ、さらに好ましくは１０〜４０ｎｍの範囲である。バックコート層における非磁性粉末の含有量（充填率）については、非磁性層における非磁性粉末の含有量（充填率）に関する上記記載を参照できる。また、非磁性粉末全量１００．０質量部に対するカーボンブラック含有量は、例えば１０．０〜１００．０質量部の範囲とすることができる。非磁性粉末全量をカーボンブラックとしてもよい。また、非磁性粉末全量を、カーボンブラック以外の非磁性粉末としてもよい。
【００６３】
［非磁性支持体］
次に、非磁性支持体（以下、単に「支持体」とも記載する。）について説明する。非磁性支持体としては、二軸延伸を行ったポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミド、ポリアミドイミド、芳香族ポリアミド等の公知のものが挙げられる。これらの中でもポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、およびポリアミドが好ましい。これらの支持体には、あらかじめコロナ放電、プラズマ処理、易接着処理、熱処理等を行ってもよい。
【００６４】
［各種厚み］
上記磁気テープの非磁性支持体および各層の厚みについては、非磁性支持体の厚みは、好ましくは３．００〜６．００μｍであり、より好ましくは３．００〜４．５０μｍである。
磁性層の厚みは、用いる磁気ヘッドの飽和磁化量、ヘッドギャップ長、記録信号の帯域等に応じて最適化することができる。磁性層の厚みは、一般には１０ｎｍ〜１５０ｎｍであり、高密度記録化の観点から、好ましくは２０ｎｍ〜１２０ｎｍであり、更に好ましくは３０ｎｍ〜１００ｎｍである。磁性層は少なくとも一層あればよく、磁性層を異なる磁気特性を有する２層以上に分離してもかまわず、公知の重層磁性層に関する構成が適用できる。２層以上に分離する場合の磁性層の厚みとは、これらの層の合計厚みとする。
非磁性層の厚みは、例えば０．０１〜３．００μｍであり、０．０５〜２．００μｍであることが好ましく、０．０５〜１．５０μｍであることが更に好ましい。
バックコート層の厚みは、０．９０μｍ以下であることが好ましく、０．１０〜０．７０μｍであることが更に好ましい。
【００６５】
磁気テープの各層および非磁性支持体の厚みは、公知の膜厚測定法により求めることができる。一例として、例えば、磁気テープの厚み方向の断面を、イオンビーム、ミクロトーム等の公知の手法により露出させた後、露出した断面において走査型電子顕微鏡によって断面観察を行う。断面観察において厚み方向の１箇所において求められた厚み、または無作為に抽出した２箇所以上の複数箇所、例えば２箇所、において求められた厚みの算術平均として、各種厚みを求めることができる。または、各層の厚みは、製造条件から算出される設計厚みとして求めてもよい。
【００６６】
［製造工程］
＜各層形成用組成物の調製＞
磁性層、非磁性層またはバックコート層を形成するための組成物は、先に説明した各種成分とともに、通常、溶媒を含む。溶媒としては、一般に塗布型磁気記録媒体製造のために使用される各種有機溶媒を挙げることができる。中でも、塗布型磁気記録媒体に通常使用される結合剤の溶解性の観点からは、磁性層形成用組成物には、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン、テトラヒドロフラン等のケトン溶媒の一種以上が含まれることが好ましい。磁性層形成用組成物における溶媒量は特に限定されるものではなく、通常の塗布型磁気記録媒体の磁性層形成用組成物と同様にすることができる。磁性層形成用組成物に含まれる溶媒全量に対してケトン溶媒が占める割合（質量基準）は、例えば５０質量％以上、６０質量％以上、７０質量％以上、８０質量％以上、または９０質量％以上であり１００質量％であってもよい。
また、バックコート層形成用組成物等の各層形成用組成物に含まれ得る溶媒についても、上記記載を適用することができる。
【００６７】
各層を形成するための組成物を調製する工程は、通常、少なくとも混練工程、分散工程、およびこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程を含む。個々の工程はそれぞれ２段階以上に分かれていてもかまわない。本発明で用いられるすべての原料は、どの工程の最初または途中で添加してもかまわない。また、個々の原料を２つ以上の工程で分割して添加してもかまわない。例えば、磁性層形成用組成物の調製においては、研磨剤と強磁性粉末とを別分散することが好ましい。混練工程ではオープンニーダ、連続ニーダ、加圧ニーダ、エクストルーダ等の強い混練力をもつニーダを使用することが好ましい。これらの混練処理の詳細については特開平１−１０６３３８号公報および特開平１−７９２７４号公報に記載されている。また、各層形成用組成物を分散させるためには、ガラスビーズおよび／またはその他の分散ビーズを用いることができる。このような分散ビーズとしては、高比重の分散ビーズであるジルコニアビーズ、チタニアビーズ、およびスチールビーズが好適である。これら分散ビーズの粒径（ビーズ径）と充填率は最適化して用いることができる。分散機は公知のものを使用することができる。
【００６８】
＜磁性層形成工程、バックコート層形成工程＞
上記磁気テープは、磁性層形成工程およびバックコート層形成工程を少なくとも含む製造方法により製造することができる。磁性層形成工程において、磁性層は、磁性層形成用組成物を、非磁性支持体上に直接塗布するか、または好ましくは非磁性層形成用組成物と逐次もしくは同時に重層塗布することにより形成することができる。各層形成のための塗布の詳細については、特開２０１０−２３１８４３号公報の段落００６６を参照できる。
【００６９】
好ましい一態様では、磁性層形成工程は、強磁性粉末、結合剤、硬化剤および溶媒を含む磁性層形成用組成物を非磁性支持体上に直接または他の層を介して塗布することにより塗布層を形成する塗布工程、上記塗布層を加熱処理により乾燥させる加熱乾燥工程、ならびに、上記塗布層に硬化処理を施す硬化工程を含むことができる。磁性層形成工程は、  塗布工程と加熱乾燥工程との間に、上記塗布層を冷却する冷却工程を含むことが好ましく、加熱乾燥工程と硬化工程との間に、上記塗布層表面をバーニッシュ（ｂｕｒｎｉｓｈ）処理するバーニッシュ処理工程を含むことが好ましい。
【００７０】
上記の磁性層形成工程の中で冷却工程およびバーニッシュ処理工程を実施することは、磁性層側対数減衰率を０．０５０以下とするための好ましい手段と本発明者らは考えている。詳しくは、次の通りである。
塗布工程と加熱乾燥工程との間に磁性層形成用組成物の塗布層を冷却する冷却工程を行うことは、長期保存中に磁性層表面から遊離する粘着性成分を、上記塗布層の表面および／または表面近傍の表層部分に局在させることに寄与するのではないかと、本発明者らは推察している。これは、加熱乾燥工程前に上記塗布層を冷却することにより、加熱乾燥工程における溶媒揮発時に粘着性成分が上記塗布層の表面および／または表層部分に移行しやすくなるためではないかと、本発明者らは推察している。ただし、その理由は明らかではない。そして、粘着性成分が表面および／または表層部分に局在した上記塗布層の表面をバーニッシュ処理することにより、粘着性成分を除去することができると、本発明者らは考えている。こうして粘着性成分を除去した後に硬化工程を行うことが、対数減衰率を０．０５０以下にすることにつながると、本発明者らは推察している。ただし、以上は推察に過ぎず、本発明を何ら限定するものではない。
【００７１】
一方、バックコート層は、非磁性支持体の磁性層が形成された（または形成される）表面とは反対の表面上に形成される。好ましくは、バックコート層は、バックコート層形成用組成物を非磁性支持体表面上に塗布することにより塗布層を形成する塗布工程、形成した塗布層を加熱処理により乾燥させる加熱乾燥工程を経て形成することができる。上記のバックコート層形成のための塗布工程を、脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選ばれる成分の一種以上を含むバックコート層形成用組成物を用いて行い、かつ塗布工程と加熱乾燥工程との間に、バックコート層形成用組成物の塗布層を冷却する冷却工程を行うことは、脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選ばれる成分の一種以上を含むバックコート層を有する磁気テープにおいて、バックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度を３５原子％以上に調整するために好ましい。これは、加熱乾燥工程前にバックコート層形成用組成物の塗布層を冷却することにより、加熱乾燥工程における溶媒揮発時に上記成分（脂肪酸および／または脂肪酸アミド）がバックコート層表面に移行しやすくなるためではないかと、本発明者らは推察している。ただし推察に過ぎず、本発明を何ら限定するものではない。
【００７２】
即ち、バックコート層形成工程は、脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選ばれる成分の一種以上、非磁性粉末、結合剤ならびに溶媒を含むバックコート層形成用組成物を非磁性支持体表面上に塗布することにより塗布層を形成する塗布工程、上記塗布層を加熱処理により乾燥させる加熱乾燥工程、を含み、かつ塗布工程と加熱乾燥工程との間に上記塗布層を冷却する冷却工程を更に含むことが好ましい。
【００７３】
＜磁気テープの製造方法の具体的態様＞
以下、一例として、上記磁気テープの製造方法の具体的態様を、図４に基づき説明する。ただし本発明は、下記具体的態様に限定されるものではない。
【００７４】
図４は、非磁性支持体の一方の表面側に非磁性層と磁性層とをこの順に有し、他方の表面側にバックコート層を有する磁気テープを製造する工程の具体的態様を示す工程概略図である。図４に示す態様では、非磁性支持体（長尺フィルム）を、送り出し部から送り出し、巻き取り部で巻き取る操作を連続的に行い、かつ図４に示されている各部または各ゾーンにおいて塗布、乾燥、配向等の各種処理を行うことにより、走行する非磁性支持体上の一方の表面側に非磁性層および磁性層を逐次重層塗布により形成し、他方の表面側にバックコート層を形成することができる。かかる製造方法は、磁性層形成工程に冷却ゾーンを含み、バックコート層形成工程に冷却ゾーンを含み、かつ硬化処理前にバーニッシュ処理工程を含む点以外は、塗布型磁気記録媒体の製造のために通常行われる製造方法と同様にすることができる。
【００７５】
送り出し部から送り出された非磁性支持体上には、第一の塗布部において、非磁性層形成用組成物の塗布が行われる（非磁性層形成用組成物の塗布工程）。
【００７６】
上記塗布工程後、第一の加熱処理ゾーンでは、塗布工程で形成された非磁性層形成用組成物の塗布層を加熱することにより、塗布層を乾燥させる（加熱乾燥工程）。加熱乾燥工程は、非磁性層形成用組成物の塗布層を有する非磁性支持体を加熱雰囲気中に通過させることにより行うことができる。ここでの加熱雰囲気の雰囲気温度は、例えば６０〜１４０℃程度とすることができる。ただし、溶媒を揮発させて塗布層を乾燥させることができる温度とすればよく、上記範囲に限定されるものではない。また任意に、加熱した気体を塗布層表面に吹き付けてもよい。以上の点は、後述する第二加熱処理ゾーンにおける加熱乾燥工程および第三の加熱処理ゾーンにおける加熱乾燥工程についても、同様である。
【００７７】
次に、第二の塗布部において、第一の加熱処理ゾーンにて加熱乾燥工程を行い形成された非磁性層上に、磁性層形成用組成物が塗布される（磁性層形成用組成物の塗布工程）。
【００７８】
上記塗布工程後、冷却ゾーンにおいて、塗布工程で形成された磁性層形成用組成物の塗布層が冷却される（冷却工程）。例えば、非磁性層上に磁性層形成用組成物の塗布層を形成した非磁性支持体を冷却雰囲気中に通過させることにより、冷却工程を行うことができる。冷却雰囲気の雰囲気温度は、好ましくは−１０℃〜０℃の範囲とすることができ、より好ましくは−５℃〜０℃の範囲とすることができる。冷却工程を行う時間（例えば、塗布層の任意の部分が冷却ゾーンに搬入されてから搬出されるまでの時間（以下において、「滞在時間」ともいう。））は特に限定されるものではない。滞在時間を長くするほど対数減衰率の値は小さくなる傾向があるため、０．０５０以下の磁性層側対数減衰率を実現できるように、必要に応じて予備実験を行う等して調整することが好ましい。なお冷却工程では、冷却した気体を塗布層表面に吹き付けてもよい。
【００７９】
その後、磁性層形成用組成物の塗布層が湿潤状態にあるうちに、配向ゾーンにおいて塗布層中の強磁性粉末の配向処理が行われる。配向処理については、特開２０１０−２３１８４３号公報の段落００６７を参照できる。
【００８０】
配向処理後の塗布層は、第二の加熱処理ゾーンにおいて加熱乾燥工程に付される。
【００８１】
次いで、第三の塗布部において、非磁性支持体の非磁性層および磁性層が形成された表面側とは反対の表面側の面に、バックコート層形成用組成物が塗布されて塗布層が形成される（バックコート層形成用組成物の塗布工程）。
【００８２】
上記塗布工程後、冷却ゾーンにおいて、塗布工程で形成されたバックコート層形成用組成物の塗布層が冷却される（冷却工程）。例えば、バックコート層形成用組成物の塗布層を形成した非磁性支持体を冷却雰囲気中に通過させることにより、冷却工程を行うことができる。冷却雰囲気の雰囲気温度は、好ましくは−１０℃〜０℃の範囲とすることができ、より好ましくは−５℃〜０℃の範囲とすることができる。冷却工程を行う時間（例えば、塗布層の任意の部分が冷却ゾーンに搬入されてから搬出されるまでの時間（滞在時間））は特に限定されるものではない。長くするほどバックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度が高くなる傾向があるため、３５原子％以上のバックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度が実現できるように、必要に応じて予備実験を行う等して調整することが好ましい。ここでの冷却工程でも、冷却した気体を塗布層表面に吹き付けてもよい。
【００８３】
その後、第三の加熱処理ゾーンにおいて、冷却工程後の塗布層を加熱処理し乾燥させる。
【００８４】
こうして、非磁性支持体の一方の表面側に、非磁性層上に加熱乾燥された磁性層形成用組成物の塗布層を有し、他方の表面側にバックコート層を有する磁気テープを得ることができる。ここで得られた磁気テープは、この後に、後述する各種処理を施した後に、製品磁気テープとなる。
【００８５】
得られた磁気テープは、巻き取り部に巻き取られた後に、製品磁気テープのサイズに裁断（スリット）される。スリットは、公知の裁断機を用いて行うことができる。
【００８６】
スリットされた磁気テープは、磁性層形成用組成物に含まれている硬化剤の種類に応じた硬化処理（加熱、光照射等）を行う前に、加熱乾燥された磁性層形成用組成物の塗布層の表面をバーニッシュ処理する（加熱乾燥工程と硬化工程との間のバーニッシュ処理工程）。このバーニッシュ処理により、冷却ゾーンにおいて冷却されて塗布層表面および／または表層部分に移行した粘着性成分を除去できることが、上記の対数減衰率を０．０５０以下にすることにつながると、本発明者らは推察している。ただし推察に過ぎず、本発明を何ら限定するものではない。
【００８７】
バーニッシュ処理は、部材（例えば研磨テープ、または研削用ブレード、研削用ホイール等の研削具）により処理対象の表面を擦る処理であり、塗布型磁気記録媒体製造のために公知のバーニッシュ処理と同様に行うことができる。ただし、冷却工程および加熱乾燥工程を経た後、硬化工程前の段階でバーニッシュ処理を行うことは、従来行われていなかった。これに対し、上記段階でバーニッシュ処理を行うことにより、磁性層側対数減衰率を０．０５０以下にすることができる。この点は、本発明者らによって新たに見出された。
【００８８】
バーニッシュ処理は、好ましくは、研磨テープによって処理対象の塗布層表面を擦る（研磨する）ことおよび研削具によって処理対象塗布層表面を擦る（研削すること）の一方または両方を行うことにより、実施することができる。磁性層形成用組成物が研磨剤を含む場合には、この研磨剤よりモース硬度の高い研磨剤を少なくとも一種含む研磨テープを用いることが好ましい。研磨テープとしては、市販品を用いてもよく、公知の方法で作製した研磨テープを用いてもよい。また、研削具としては、固定式ブレード、ダイヤモンドホイール、回転式ブレード等の公知の研削用ブレード、研削用ホイール等を用いることができる。また、研磨テープおよび／または研削具によって擦られた塗布層表面をワイピング材によって拭き取るワイピング（ｗｉｐｉｎｇ）処理を行ってもよい。好ましい研磨テープ、研削具、バーニッシュ処理およびワイピング処理の詳細については、特開平６−５２５４４号公報の段落００３４〜００４８、図１および同公報実施例を参照できる。バーニッシュ処理を強化するほど、磁性層側対数減衰率の値は小さくなる傾向がある。バーニッシュ処理は、研磨テープに含まれる研磨剤として高硬度な研磨剤を用いるほど強化することができ、研磨テープ中の研磨剤量を増やすほど強化することができる。また、研削具として高硬度な研削具を用いるほど強化することができる。バーニッシュ処理条件に関しては、処理対象の塗布層表面と部材（例えば研磨テープまたは研削具）との摺動速度を早くするほど、バーニッシュ処理を強化することができる。上記摺動速度は、部材を移動させる速度および処理対象の磁気テープを移動させる速度の一方または両方を速くすることにより、速くすることができる。
【００８９】
上記のバーニッシュ処理（バーニッシュ処理工程）後、磁性層形成用組成物の塗布層に硬化処理を施す。図４に示す態様では、磁性層形成用組成物の塗布層は、バーニッシュ処理後、硬化処理前に、表面平滑化処理が施される。表面平滑化処理は、カレンダ処理によって行うことが好ましい。カレンダ処理の詳細は、例えば特開２０１０−２３１８４３号公報の段落００２６を参照できる。カレンダ処理を強化するほど、磁気テープ表面を平滑化することができる。即ち、磁性層側Ｒａの値を小さくすることができる。カレンダ処理は、カレンダロールの表面温度（カレンダ温度）を高くするほど、および／または、カレンダ圧力を大きくするほど、強化することができる。
【００９０】
その後、磁性層形成用組成物の塗布層に、この塗布層に含まれる硬化剤の種類に応じた硬化処理を施す（硬化工程）。硬化処理は、加熱処理、光照射等の上記塗布層に含まれる硬化剤の種類に応じた処理によって行うことができる。硬化処理条件は特に限定されるものではなく、塗布層形成に用いた磁性層形成用組成物の処方、硬化剤の種類、塗布層の厚み等に応じて適宜設定すればよい。例えば、硬化剤としてポリイソシアネートを含む磁性層形成用組成物を用いて塗布層を形成した場合には、硬化処理は加熱処理であることが好ましい。なお磁性層以外の層に硬化剤が含まれる場合、その層の硬化反応も、ここでの硬化処理により進行させることもできる。または別途、硬化工程を設けてもよい。なお硬化工程後に、更にバーニッシュ処理を行ってもよい。
【００９１】
以上により、本発明の一態様にかかる磁気テープを得ることができる。ただし上記の製造方法は例示である。磁性層側対数減衰率、バックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度および磁性層側Ｒａを調整するためには、他の任意の手段を用いることもでき、そのような手段を用いて製造された磁気テープも、磁性層側対数減衰率、バックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度および磁性層側Ｒａがそれぞれ上記範囲である限り、本発明に包含される。
【００９２】
なおカーボンブラックは、カーボンブラック以外の各種非磁性粉末と比べて、脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選ばれる成分を吸着し難い傾向があると考えらえる。したがって、バックコート層に含まれる非磁性粉末の中で、カーボンブラックが占める割合が高いほど、脂肪酸および脂肪酸アミドからなる群から選ばれる成分がバックコート層の層内部から表層部へ移行し易くなり、バックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度が高まる傾向があると推察される。この点から、バックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度の制御手段としては、バックコート層の非磁性粉末にカーボンブラックが占める割合を調整することを挙げることもできる。
【００９３】
以上説明した本発明の一態様にかかる磁気テープは、磁気テープカートリッジに収容され、情報を磁気信号として記録し、保管し、再生するために用いることができる。磁気テープカートリッジでは、一般に、カートリッジ本体内部に磁気テープがリールに巻き取られた状態で収容されている。リールは、カートリッジ本体内部に回転可能に備えられている。磁気テープカートリッジとしては、カートリッジ本体内部にリールを１つ具備する単リール型の磁気テープカートリッジ、カートリッジ本体内部にリールを２つ具備する双リール型の磁気テープカートリッジが広く用いられている。単リール型の磁気テープカートリッジは、磁気テープへのデータ（磁気信号）の記録および／または再生のためにドライブ（磁気記録再生装置）に装着されると、磁気テープカートリッジから磁気テープが引き出されてドライブ側のリールに巻き取られる。磁気テープカートリッジから巻き取りリールまでのテープ搬送経路には、磁気ヘッドが配置されている。磁気テープカートリッジ側のリール（供給リール）とドライブ側のリール（巻き取りリール）との間で、磁気テープの送り出しと巻き取りが行われる。この間、磁気ヘッドと磁気テープの磁性層表面とが接触（摺動）することにより、磁気信号の記録および／または再生が行われる。これに対し、双リール型の磁気テープカートリッジは、供給リールと巻き取りリールの両リールが、磁気テープカートリッジ内部に具備されている。本発明の一態様にかかる磁気テープは、単リール型および双リール型のいずれの磁気テープカートリッジに収容されてもよい。磁気テープカートリッジの構成は公知である。
【００９４】
アーカイブ用の磁気テープは、データ（磁気信号）が記録された後、磁気テープカートリッジ内でリールに巻かれた状態で長期保管される。本発明の一態様にかかる磁気テープは、磁性層の表面平滑性に優れるため優れた電磁変換特性を発揮することができ、かつ長期保管後の電磁変換特性低下の抑制が可能である。
【実施例】
【００９５】
以下に、本発明を実施例に基づき説明する。但し、本発明は実施例に示す態様に限定されるものではない。以下に記載の「部」、「％」の表示は、特に断らない限り、「質量部」、「質量％」を示す。
【００９６】
［実施例１〜９、比較例１〜９］
１．アルミナ分散物の調製
アルファ化率約６５％、ＢＥＴ比表面積２０ｍ２／ｇのアルミナ粉末（住友化学社製ＨＩＴ−８０）１００．０部に対し、３．０部の２，３−ジヒドロキシナフタレン（東京化成社製）、極性基としてＳＯ３Ｎａ基を有するポリエステルポリウレタン樹脂（東洋紡社製ＵＲ−４８００（極性基量：８０ｍｅｑ／ｋｇ））の３２％溶液（溶媒はメチルエチルケトンとトルエンの混合溶媒）を３１．３部、溶媒としてメチルエチルケトンとシクロヘキサノン１：１（質量比）の混合溶液５７０．０部を混合し、ジルコニアビーズ存在下で、ペイントシェーカーにより５時間分散させた。分散後、メッシュにより分散液とビーズとを分け、アルミナ分散物を得た。
【００９７】
２．磁性層形成用組成物処方
（磁性液）
強磁性六方晶バリウムフェライト粉末                            １００．０部
平均粒子サイズ：２１ｎｍ
ＳＯ３Ｎａ基含有ポリウレタン樹脂                                １４．０部
重量平均分子量：７０，０００、ＳＯ３Ｎａ基：０．２ｍｅｑ／ｇ
シクロヘキサノン                                              １５０．０部
メチルエチルケトン                                            １５０．０部
（研磨剤液）
上記１．で調製したアルミナ分散物                                  ６．０部
（シリカゾル）
コロイダルシリカ                                                  ２．０部
平均粒子サイズ：１００ｎｍ                                  
メチルエチルケトン                                                １．４部
（その他成分）
ステアリン酸                                                      ２．０部
ステアリン酸アミド                                                ０．２部  
ブチルステアレート                                                ２．０部
ポリイソシアネート（日本ポリウレタン社製コロネート（登録商標）Ｌ）２．５部
（仕上げ添加溶媒）
シクロヘキサノン                                              ２００．０部
メチルエチルケトン                                            ２００．０部
【００９８】
３．非磁性層形成用組成物処方
非磁性無機粉末：α−酸化鉄                                    １００．０部
平均粒子サイズ（平均長軸長）：０．１５μｍ
平均針状比：７
ＢＥＴ比表面積：５２ｍ２／ｇ
カーボンブラック                                                ２０．０部
平均粒子サイズ：２０ｎｍ  
塩化ビニル共重合体                                              １３．０部
ＳＯ３Ｎａ基含有ポリウレタン樹脂                                  ９．０部
重量平均分子量：７０，０００、ＳＯ３Ｎａ基：０．２ｍｅｑ／ｇ
フェニルホスホン酸                                                ３．０部
ステアリン酸                                                      ２．０部
ステアリン酸アミド                                                ０．２部
ブチルステアレート                                                ２．０部
シクロヘキサノン                                              ３００．０部
メチルエチルケトン                                            ３００．０部
【００９９】
４．バックコート層形成用組成物処方
非磁性無機粉末：α−酸化鉄                                      ８０．０部
平均粒子サイズ（平均長軸長）：０．１５μｍ
平均針状比：７
ＢＥＴ比表面積：５２ｍ２／ｇ
カーボンブラック                                                ２０．０部
平均粒子サイズ:２０ｎｍ
塩化ビニル共重合体                                              １３．０部
ＳＯ３Ｎａ基含有ポリウレタン樹脂                                  ６．０部
フェニルホスホン酸                                                ３．０部
メチルエチルケトン                                            １５５．０部
ステアリン酸                                                      ２．０部
ステアリン酸アミド                                                ０．２部
ブチルステアレート                                                ２．０部
ポリイソシアネート                                                ５．０部
シクロヘキサノン                                              ３５５．０部
【０１００】
５．各層形成用組成物の調製
磁性層形成用組成物を、以下の方法により作製した。上記磁性液を、各成分をバッチ式縦型サンドミルを用いて２４時間分散（ビーズ分散）することにより調製した。分散ビーズとしては、ビーズ径０．１ｍｍのジルコニアビーズを使用した。上記サンドミルを用いて、調製した磁性液および上記研磨剤液を他の成分（シリカゾル、その他成分および仕上げ添加溶媒）と混合し５分間ビーズ分散した後、バッチ型超音波装置（２０ｋＨｚ、３００Ｗ）で０．５分間処理（超音波分散）を行った。その後、０．５μｍの平均孔径を有するフィルタを用いてろ過を行い磁性層形成用組成物を作製した。
非磁性層形成用組成物を、以下の方法により作製した。潤滑剤（ステアリン酸、ステアリン酸アミドおよびブチルステアレート）、シクロヘキサノンならびにメチルエチルケトンを除いた各成分を、バッチ式縦型サンドミルを用いて２４時間分散して分散液を得た。分散ビーズとしては、ビーズ径０．１ｍｍのジルコニアビーズを使用した。その後、得られた分散液に残りの成分を添加し、ディゾルバーで攪拌した。こうして得られた分散液を０．５μｍの平均孔径を有するフィルタを用いてろ過し非磁性層形成用組成物を作製した。
バックコート層形成用組成物を、以下の方法により作製した。潤滑剤（ステアリン酸、ステアリン酸アミドおよびブチルステアレート）、ポリイソシアネートならびにシクロヘキサノンを除いた各成分をオープンニーダにより混練および希釈した後、横型ビーズミル分散機により、ビーズ径１ｍｍのジルコニアビーズを用い、ビーズ充填率８０体積％、ローター先端周速１０ｍ／秒で、１パス滞留時間を２分とし、１２パスの分散処理を行った。その後、得られた分散液に残りの成分を添加し、ディゾルバーで攪拌した。こうして得られた分散液を１μｍの平均孔径を有するフィルタを用いてろ過しバックコート層形成用組成物を作製した。
【０１０１】
６．磁気テープの作製
図４に示す具体的態様により磁気テープを作製した。詳しくは、次の通りとした。
厚み４．５０μｍのポリエチレンナフタレート製支持体を送り出し部から送り出し、一方の表面に、第一の塗布部において乾燥後の厚みが０．４０μｍになるように上記５．で調製した非磁性層形成用組成物を塗布し、第一の加熱処理ゾーン（雰囲気温度１００℃）にて乾燥させて塗布層を形成した。
その後、第二の塗布部において乾燥後の厚みが６０ｎｍになるように上記５．で調製した磁性層形成用組成物を非磁性層上に塗布し塗布層を形成した。形成した塗布層が湿潤状態にあるうちに雰囲気温度０℃に調整した冷却ゾーンに表５に示す滞在時間で通過させて冷却工程を行い、更に配向ゾーンにおいて磁場強度０．３Ｔの磁場を垂直方向に印加し垂直配向処理を行った後、その後に雰囲気温度１００℃の第二の加熱処理ゾーン（雰囲気温度１００℃）にて乾燥させた。
その後、第三の塗布部において、上記ポリエチレンナフタレート製支持体の非磁性層および磁性層を形成した表面とは反対の表面に、乾燥後の厚みが０．６０μｍになるように 上記５．で調製したバックコート層形成用組成物を塗布して塗布層を形成し、形成した塗布層が湿潤状態にあるうちに雰囲気温度０℃に調整した冷却ゾーンに表５に示す滞在時間で通過させて冷却工程を行った。その後、第三の加熱処理ゾーン（雰囲気温度１００℃）にて上記塗布層を乾燥させた。
こうして得られた磁気テープを１／２インチ（０．０１２７メートル）幅にスリットした後、磁性層形成用組成物の塗布層表面のバーニッシュ処理およびワイピング処理を行った。バーニッシュ処理およびワイピング処理は、特開平６−５２５４４号公報の図１に記載の構成の処理装置において、研磨テープとして市販の研磨テープ（富士フイルム社製商品名ＭＡ２２０００、研磨剤：ダイヤモンド／Ｃｒ２Ｏ３／ベンガラ）を使用し、研削用ブレードとして市販のサファイヤブレード（京セラ社製、幅５ｍｍ、長さ３５ｍｍ、先端角度６０度）を使用し、ワイピング材として市販のワイピング材（クラレ社製商品名ＷＲＰ７３６）を使用して行った。処理条件は、特開平６−５２５４４号公報の実施例１２における処理条件を採用した。
上記バーニッシュ処理およびワイピング処理後、金属ロールのみから構成されるカレンダロールで、速度８０ｍ／分、線圧３００ｋｇ／ｃｍ（２９４ｋＮ／ｍ）、および表５に示すカレンダロールの表面温度にてカレンダ処理（表面平滑化処理）を行った。
その後、雰囲気温度７０℃の環境で３６時間硬化処理（加熱処理）を行い磁気テープを得た。
表５中、磁性層形成工程の冷却ゾーン滞在時間の欄に「未実施」と記載されている比較例では、磁性層形成工程に冷却ゾーンを含まない製造工程により磁気テープを作製した。
表５中、バックコート層形成工程の冷却ゾーン滞在時間の欄に「未実施」と記載されている比較例では、バックコート層形成工程に冷却ゾーンを含まない製造工程により磁気テープを作製した。
表５中、磁性層形成工程の硬化工程前バーニッシュ処理の欄に「未実施」と記載され、硬化工程後バーニッシュ処理の欄に「実施」と記載されている比較例では、上記硬化処理を実施する前の工程ではバーニッシュ処理およびワイピング処理を行わず、上記硬化処理を実施した後に上記バーニッシュ処理およびワイピング処理を行い、磁気テープを作製した。
以上の工程により、実施例１〜９および比較例１〜９の各磁気テープを作製した。作製した磁気テープを、下記評価に付した。
【０１０２】
［評価方法］
１．磁性層側Ｒａ
原子間力顕微鏡（ＡＦＭ、Ｖｅｅｃｏ社製Ｎａｎｏｓｃｏｐｅ４）を用い、測定面積４０μｍ×４０μｍの範囲を測定し、磁気テープの磁性層表面において、中心線平均表面粗さＲａを求めた。スキャン速度（探針移動速度）は４０μｍ／秒、分解能は５１２ｐｉｘｅｌ×５１２ｐｉｘｅｌとした。
【０１０３】
２．磁性層側対数減衰率
測定装置として、株式会社エー・アンド・ディー製剛体振り子型物性試験器ＲＰＴ−３０００Ｗ（振り子：真鍮製、基板：ガラス基板、基板昇温速度５℃／ｍｉｎ）を用いて、先に記載した方法により実施例および比較例の各磁気テープの磁性層表面の対数減衰率を求めた。実施例および比較例の各磁気テープから切り出した測定用試料は、約３ｃｍ×約５ｃｍのサイズのガラス基板上に、固定用テープ（東レ・デュポン製カプトンテープ）で図３に示すように４箇所を固定し載置した。吸着時間を１秒間かつ測定間隔を７〜１０秒とし、８６回目の測定間隔について変位−時間曲線を作成し、この曲線を用いて対数減衰率を求めた。測定は、相対湿度約５０％の環境下にて行った。
【０１０４】
３．バックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度
以下の方法により、実施例および比較例の各磁気テープから切り出した測定用試料のバックコート層表面（測定領域：３００μｍ×７００μｍ）においてＥＳＣＡ装置を用いてＸ線光電子分光分析を行い、分析結果からバックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度を算出した。
【０１０５】
（分析および算出方法）
下記（１）〜（３）の測定は、いずれも表１に示す測定条件にて行った。
【０１０６】
【表１】
0006556100.tif 000003
【０１０７】
（１）ワイドスキャン測定
測定用試料のバックコート層表面においてＥＳＣＡ装置によりワイドスキャン測定（測定条件：表２参照）を行い、検出された元素の種類を調べた（定性分析）。
【０１０８】
【表２】
0006556100.tif 000004
【０１０９】
（２）ナロースキャン測定
上記（１）で検出された全元素について、ナロースキャン測定（測定条件：表３参照）を行った。装置付属のデータ処理用ソフトウエア（Ｖｉｓｉｏｎ２．２．６）を用いて、各元素のピーク面積から検出された各元素の原子濃度（単位：原子％）を算出した。ここでＣ濃度も算出した。
【０１１０】
【表３】
0006556100.tif 000005
【０１１１】
（３）Ｃ１ｓスペクトルの取得
表４に記載の測定条件にてＣ１ｓスペクトルを取得した。取得したＣ１ｓスペクトルについて、装置付属のデータ処理用ソフトウエア（Ｖｉｓｉｏｎ２．２．６）を用いて試料帯電に起因するシフト（物理シフト）の補正を行った後、同ソフトウエアを用いてＣ１ｓスペクトルのフィッティング処理（ピーク分離）を実施した。ピーク分離にはガウス−ローレンツ複合関数（ガウス成分７０％、ローレンツ成分３０％）を用い、非線形最小二乗法によりＣ１ｓスペクトルのフィッティングを行い、Ｃ１ｓスペクトルに占めるＣ−Ｈピークの割合（ピーク面積率）を算出した。算出されたＣ−Ｈピーク面積率を、上記（２）で求めたＣ濃度に掛けることにより、Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度を算出した。
【０１１２】
【表４】
0006556100.tif 000006
【０１１３】
以上の処理を測定用試料のバックコート層表面の異なる位置において３回行い得られた値の算術平均を、バックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度とした。
【０１１４】
４．長期保管相当加速試験前後の電磁変換特性（ＳＮＲ（Ｓｉｇｎａｌ−ｔｏ−Ｎｏｉｓｅ−Ｒａｔｉｏ））
実施例および比較例の各磁気テープについて、長期保管相当加速試験の前後でＳＮＲ測定を行うため、２つのテープ試料を準備した。一方のテープ試料は、長期保管相当加速試験を実施せずにＳＮＲ測定に用いた。他方のテープ試料は、長期保管相当加速試験後にＳＮＲ測定に用いた。長期保管相当加速試験は、全長１０００ｍのテープ試料を、リールに巻き取った状態で温度４０℃相対湿度８０％の環境下に５日間保管することにより行った。この加速試験は、室温（２０〜２５℃程度）環境での１０年以上の保管に相当する。
電磁変換特性（ＳＮＲ）は、ヘッドを固定した１／２インチ（０．０１２７メートル）リールテスターを用いて以下の方法により測定した。
ヘッド／テープ相対速度を５．５ｍ／秒とし、記録はＭＩＧ（Ｍｅｔａｌ−Ｉｎ−Ｇａｐ）ヘッド（ギャップ長０．１５μｍ、トラック幅１．０μｍ）を使い、記録電流は各テープ試料の最適記録電流に設定した。再生ヘッドには素子厚み１５ｎｍ、シールド間隔０．１μｍおよびリード幅０．５μｍのＧＭＲ（Ｇｉａｎｔ−Ｍａｇｎｅｔｏｒｅｓｉｓｔｉｖｅ）ヘッドを用いた。３５０ＫＦｃｉの線記録密度で記録を行い、再生信号をシバソク社製のスペクトラムアナライザーで測定した。信号は、テープ試料の走行開始後に信号が十分に安定した部分を使用した。キャリア信号の出力値と、スペクトル全帯域の積分ノイズとの比をＳＮＲ（Ｂｒｏａｄｂａｎｄ−ＳＮＲ；ＢＢ−ＳＮＲ）とした。
ＳＮＲは、比較例１の加速試験前のＳＮＲを基準（０ｄＢ）としたときの相対値として、表５に示す。上記方法により測定される加速試験前のＳＮＲが１．０ｄＢ以上であり、かつＳＮＲ低下量（加速試験後ＳＮＲ−加速試験前ＳＮＲ）が−０．５ｄＢ以内であれば、アーカイブ用記録媒体に望まれる優れた電磁変換特性を示す磁気テープと判断することができる。
【０１１５】
以上の結果を、表５に示す。
【０１１６】
【表５】
0006556100.tif 000007
【０１１７】
表５に示す結果から、実施例の磁気テープは、アーカイブ用記録媒体のデータ保管に相当する長期保管相当の加速試験前に高いＳＮＲを示し、かかる加速試験後にもＳＮＲの低下が少なく高いＳＮＲを示すことが確認できる。
【０１１８】
［参考試験：バックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度に対する脂肪酸および脂肪酸アミドの寄与の確認］
（１）実施例１と同様の方法で磁気テープ（テープ試料）を２つ作製した。一方のテープ試料は上記ＥＳＣＡ装置を用いて測定を行った後、もう一方のテープ試料は未測定の状態で、溶媒抽出を行った（溶媒：メタノール）。
抽出により得られた溶液中の脂肪酸、脂肪酸アミドおよび脂肪酸エステル量をガスクロマトグラフ分析により定量したところ、脂肪酸（ステアリン酸）および脂肪酸アミド（ステアリン酸アミド）は、２つのテープ試料で定量値の違いはほぼ見られなかった。一方、脂肪酸エステル（ブチルステアレート）は、測定後のテープ試料での定量値は、未測定のテープ試料での定量値と比べて大幅に低い値であった。これは、脂肪酸エステルが、ＥＳＣＡ装置において測定中に測定対象試料が配置される真空チャンバーにおいて揮発してしまうためと考えられる。
以上の結果から、ＥＳＣＡを用いた分析により求められるバックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度には、脂肪酸エステルは影響を及ぼさないと判断することができる。
（２）バックコート層形成用組成物に含まれる成分の中で、溶媒を除く有機化合物は、ステアリン酸、ステアリン酸アミド、ブチルステアレート、塩化ビニル共重合体、ポリウレタン樹脂およびフェニルホスホン酸である。これら成分の中で、ブチルステアレートは、上記（１）の結果から、バックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度には影響を及ぼさないと判断することができる。
次に、以下の方法により、バックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度への塩化ビニル共重合体、ポリウレタン樹脂およびフェニルホスホン酸の影響を確認した。
実施例１で用いた塩化ビニル共重合体、ポリウレタン樹脂およびフェニルホスホン酸について、上記と同様の方法によりＣ１ｓスペクトルを取得し、取得したスペクトルについて先に記載した処理により結合エネルギー２８６ｅＶ付近に位置するピークおよびＣ−Ｈピークをそれぞれピーク分離した。分離した各ピークがＣ１ｓスペクトルに占める割合（ピーク面積率）を算出し、結合エネルギー２８６ｅＶ付近に位置するピークとＣ−Ｈピークとのピーク面積比を算出した。
次いで、実施例１で取得したＣ１ｓスペクトルにおいて、先に記載した処理により結合エネルギー２８６ｅＶ付近に位置するピークをピーク分離した。塩化ビニル共重合体、ポリウレタン樹脂およびフェニルホスホン酸は、Ｃ１ｓスペクトルにおいて、結合エネルギー２８６ｅＶ付近に位置するピークを有するのに対し、脂肪酸（ステアリン酸）および脂肪酸アミド（ステアリン酸アミド）は、上記位置にピークを有さない。したがって、実施例１で取得したＣ１ｓスペクトルにおける結合エネルギー２８６ｅＶ付近に位置するピークは、塩化ビニル共重合体、ポリウレタン樹脂およびフェニルホスホン酸に由来すると判断することができる。そこで、このピークを利用し、上記で算出したピーク面積比から、実施例１で取得したＣ１ｓスペクトルのＣ−Ｈピークにおける塩化ビニル共重合体、ポリウレタン樹脂およびフェニルホスホン酸の寄与分を算出したところわずか１０％程度であった。この結果から、実施例１で取得したＣ１ｓスペクトルのＣ−Ｈピークの多く（９０％程度）が、脂肪酸（ステアリン酸）および脂肪酸アミド（ステアリン酸アミド）に由来すると判断することができる。
【０１１９】
以上の結果から、バックコート層側Ｃ−Ｈ由来Ｃ濃度が、脂肪酸および脂肪酸アミドの存在量の指標になり得ることが実証された。
【産業上の利用可能性】
【０１２０】
本発明は、アーカイブ用記録媒体として用いられる磁気テープの技術分野において有用である。
【図１】
0006556100.tif 000008
【図２】
0006556100.tif 000009
【図３】
0006556100.tif 000010
【図４】
0006556100.tif 000011