(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（２）
0006540690.tif 000022
〔式中、Ｒ1aはフッ素原子を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表すかまたは炭素数３〜６のシクロアルキル基を表し、Ｒ1bおよびＲ1cは各々独立してフッ素原子を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、水素原子または炭素数３〜６のシクロアルキル基を表す。〕
で示される化合物と、式（３）
0006540690.tif 000023
〔式中、Ｒ2およびＲ3は各々独立して炭素数１〜３のアルキル基を表すかまたはＲ2、Ｒ3ならびにＲ2およびＲ3が結合する窒素原子が一緒になって環を形成してもよく、ここで該環は環構成原子として酸素原子を含んでいてもよい。Ｒ6およびＲ7は各々独立して炭素数１〜３のアルコキシ基または−ＮＲaＲbを表す。ＲaおよびＲbは各々独立して炭素数１〜３のアルキル基を表すかまたはＲa、ＲbならびにＲaおよびＲbが結合する窒素原子が一緒になって環を形成してもよく、該環は環構成原子として酸素原子を含んでいてもよい。〕
で示される化合物および式（３’）
0006540690.tif 000024
〔式中、Ｒ4およびＲ5は、Ｒ4、Ｒ5ならびにＲ4およびＲ5が結合する窒素原子が一緒になって環を形成し、ここで該環は環構成原子として酸素原子を含んでいてもよい。〕
で示される２級アミンとを、ヨウ化銅の存在下で反応させて、式（４’）
0006540690.tif 000025
〔式中、Ｒ1a、Ｒ1b、Ｒ1c、Ｒ4およびＲ5は前記と同じ意味を有する。〕
で示される化合物を得る工程；
式（４’）で表される化合物を、過酸化物、過マンガン酸塩、硝酸、酸素およびオゾンからなる群より選ばれる酸化剤で酸化する工程；
上記の酸化工程での生成物を還元して、式（８）
0006540690.tif 000026
〔式中、記号は前記と同じ意味を有する。〕
で示される化合物を得る工程；および
式（８）で示される化合物をハロゲン化（塩素化、臭素化またはヨウ素化）して、式（１）
0006540690.tif 000027
〔式中、Ｘは塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表し、Ｒ1a、Ｒ1bおよびＲ1cは前記と同じ意味を有する。〕
で示される化合物を得る工程；を含む、式（１）で示される化合物の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ニトロ化合物の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＷＯ２０１３／１６２０７２には有害生物に対して防除効力を有する化合物が記載されており、２−ブロモメチル−３−メチルニトロベンゼン等の２−ハロメチルニトロベンゼンがその製造中間体として使用できることが示されている。
また、ＷＯ２０１３／１６２０７２には、２−ブロモメチル−３−メチルニトロベンゼンが、２−メチル−６−ニトロ安息香酸、水素化ホウ素ナトリウムおよびメタンスルホン酸より得られる２−ヒドロキシメチル−３−メチルニトロベンゼンと三臭化ホウ素とを反応させることにより製造できることが記載されている。（参考製造例１９および２０、第９４９−９５１頁）
【発明の概要】
【０００３】
本発明は、式（１）
0006540690.tif 000002
〔式中、Ｘは塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表し、Ｒ１ａはフッ素原子を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表すかまたは炭素数３〜６のシクロアルキル基を表し、Ｒ１ｂおよびＲ１ｃは各々独立してフッ素原子を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、水素原子または炭素数３〜６のシクロアルキル基を表す。〕
で示される化合物を工業的に有利に製造する方法を提供する。
本発明によれば後述の通り、式（２）で示される化合物と式（３）で示される化合物とを反応させて式（４）で示される化合物を得る工程、式（４）で示される化合物を酸化する工程、酸化工程での生成物を還元して式（８）で示される化合物を得る工程および式（８）で示される化合物をハロゲン化して式（１）で示される化合物を得る工程を含む製造方法により、工業的に有利に式（１）で示される化合物を製造できる。式（４）で示される化合物の中でも特に式（４’）で示される化合物は、式（２）で示される化合物と式（３）で示される化合物および式（３’）で示される２級アミンとを反応させることにより製造することもできる。
本発明は以下の通りである。
〔１〕式（２）
0006540690.tif 000003
〔式中、Ｒ１ａはフッ素原子を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表すかまたは炭素数３〜６のシクロアルキル基を表し、Ｒ１ｂおよびＲ１ｃは各々独立してフッ素原子を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、水素原子または炭素数３〜６のシクロアルキル基を表す。〕
で示される化合物と、式（３）
0006540690.tif 000004
〔式中、Ｒ２およびＲ３は各々独立して炭素数１〜３のアルキル基を表すかまたはＲ２、Ｒ３ならびにＲ２およびＲ３が結合する窒素原子が一緒になって環を形成してもよく、ここで該環は環構成原子として酸素原子を含んでいてもよい。Ｒ６およびＲ７は各々独立して炭素数１〜３のアルコキシ基または−ＮＲａＲｂを表す。ＲａおよびＲｂは各々独立して炭素数１〜３のアルキル基を表すかまたはＲａ、ＲｂならびにＲａおよびＲｂが結合する窒素原子が一緒になって環を形成してもよく、該環は環構成原子として酸素原子を含んでいてもよい。〕
で示される化合物とを反応させて、式（４）
0006540690.tif 000005
〔式中、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃ、Ｒ２およびＲ３は前記と同じ意味を有する。〕
で示される化合物を得る工程；
式（４）で表される化合物を、過酸化物、過マンガン酸塩、硝酸、酸素およびオゾンからなる群より選ばれる酸化剤で酸化する工程；
上記の酸化工程での生成物を還元して、式（８）
0006540690.tif 000006
〔式中、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂおよびＲ１ｃは前記と同じ意味を有する。〕
で示される化合物を得る工程；および
式（８）で示される化合物をハロゲン化（塩素化、臭素化またはヨウ素化）して、式（１）
0006540690.tif 000007
〔式中、Ｘは塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表し、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂおよびＲ１ｃは前記と同じ意味を有する。〕
で示される化合物を得る工程；を含む、式（１）で示される化合物の製造方法。
〔２〕式（２）
0006540690.tif 000008
〔式中、Ｒ１ａはフッ素原子を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表すかまたは炭素数３〜６のシクロアルキル基を表し、Ｒ１ｂおよびＲ１ｃは各々独立してフッ素原子を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、水素原子または炭素数３〜６のシクロアルキル基を表す。〕
で示される化合物と、式（３）
0006540690.tif 000009
〔式中、Ｒ２およびＲ３は各々独立して炭素数１〜３のアルキル基を表すかまたはＲ２、Ｒ３ならびにＲ２およびＲ３が結合する窒素原子が一緒になって環を形成してもよく、ここで該環は環構成原子として酸素原子を含んでいてもよい。Ｒ６およびＲ７は各々独立して炭素数１〜３のアルコキシ基または−ＮＲａＲｂを表す。ＲａおよびＲｂは各々独立して炭素数１〜３のアルキル基を表すかまたはＲａ、ＲｂならびにＲａおよびＲｂが結合する窒素原子が一緒になって環を形成してもよく、該環は環構成原子として酸素原子を含んでいてもよい。〕
で示される化合物および式（３’）
0006540690.tif 000010
〔式中、Ｒ４およびＲ５は、Ｒ４、Ｒ５ならびにＲ４およびＲ５が結合する窒素原子が一緒になって環を形成し、ここで該環は環構成原子として酸素原子を含んでいてもよい。〕
で示される２級アミンとを反応させて、式（４’）
0006540690.tif 000011
〔式中、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ１ｃ、Ｒ４およびＲ５は前記と同じ意味を有する。〕
で示される化合物を得る工程；
式（４’）で表される化合物を、過酸化物、過マンガン酸塩、硝酸、酸素およびオゾンからなる群より選ばれる酸化剤で酸化する工程；
上記の酸化工程での生成物を還元して、式（８）
0006540690.tif 000012
〔式中、記号は前記と同じ意味を有する。〕
で示される化合物を得る工程；および
式（８）で示される化合物をハロゲン化（塩素化、臭素化またはヨウ素化）して、式（１）
0006540690.tif 000013
〔式中、Ｘは塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表し、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂおよびＲ１ｃは前記と同じ意味を有する。〕
で示される化合物を得る工程；を含む、式（１）で示される化合物の製造方法。
〔３〕式（２）で示される化合物と、式（３）で示される化合物および式（３’）で示される２級アミンとを反応させて式（４’）で示される化合物を得る工程において、ヨウ化銅の存在下で反応させる〔２〕に記載の方法。
〔４〕式（４）または式（４’）で示される化合物を酸化剤で酸化する工程において、酸化剤が過酸化物、過マンガン酸塩または硝酸である〔１〕〜〔３〕のいずれかに記載の方法。
〔５〕式（４）または式（４’）で示される化合物の酸化反応による生成物を還元して式（８）で示される化合物を得る工程において、水素化ホウ素化合物で還元する〔１〕〜〔４〕のいずれかに記載の方法。
〔６〕式（８）で示される化合物をハロゲン化して式（１）で示される化合物を得る工程において、リンのハロゲン化物またはリンのオキシハロゲン化物でハロゲン化する〔１〕〜〔５〕のいずれかに記載の方法。
〔７〕Ｒ１ａがメチル基、Ｒ１ｂおよびＲ１ｃが水素原子である〔１〕〜〔６〕のいずれかに記載の方法。
Ｒ１ａ、Ｒ１ｂおよびＲ１ｃにおけるフッ素原子を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基とは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基およびヘキシル基等の炭素数１〜６のアルキル基ならびにトリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロｓｅｃ−ブチル基、ペルフルオロｔｅｒｔ−ブチル基、ペルフルオロペンチル基およびペルフルオロヘキシル基等の１以上の水素原子がフッ素原子で置換された炭素数１〜６のアルキル基を意味する。好ましくは、炭素数１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基およびジフルオロメチル基である。
Ｒ１ａ、Ｒ１ｂおよびＲ１ｃにおける炭素数３〜６のシクロアルキル基とは、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基またはシクロヘキシル基である。好ましくは炭素数３〜４のシクロアルキル基である。
炭素数１〜３のアルキル基とは、メチル基、エチル基、プロピル基またはイソプロピル基であり、Ｒ２、Ｒ３、ＲａおよびＲｂにおける炭素数１〜３のアルキル基としてはメチル基およびエチル基が好ましい。
炭素数１〜３のアルコキシ基とは、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基またはイソプロポキシ基であり、Ｒ６およびＲ７における炭素数１〜３のアルコキシ基としてはメトキシ基およびエトキシ基が好ましい。
Ｒ１ａは、炭素数１〜３のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。
Ｒ１ｂおよびＲ１ｃは、水素原子が好ましい。
Ｒ２、Ｒ３ならびにＲ２およびＲ３が結合する窒素原子が一緒になって環を形成する場合、Ｎ、Ｒ２およびＲ３が窒素原子を含有する５〜７員環を形成してもよく、該５〜７員環は、環構成原子として酸素原子を含んでいてもよい。このような環構造を有する−ＮＲ２Ｒ３としては例えばピロリジノ基、ピペリジノ基およびモルホリノ基が挙げられる。
好ましい−ＮＲ２Ｒ３は、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基およびピロリジノ基である。
−ＮＲａＲｂとしては、例えばジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、モルホリノ基、ピペリジノ基およびピロリジノ基が挙げられる。
Ｒ６としては、炭素数１〜３のアルコキシ基および−ＮＲａＲｂが好ましく、メトキシ基およびジメチルアミノ基がより好ましい。
Ｒ７としては、炭素数１〜３のアルコキシ基および−ＮＲａＲｂが好ましく、メトキシ基およびジメチルアミノ基がより好ましい。
Ｒ４、Ｒ５ならびにＲ４およびＲ５が結合する窒素原子は一緒になって環を形成し、Ｎ、Ｒ４およびＲ５が窒素原子を含有する５〜７員環を形成してもよく、該５〜７員環は、環構成原子として酸素原子を含んでいてもよい。このような環構造を有する−ＮＲ４Ｒ５としては例えばピロリジノ基、ピペリジノ基およびモルホリノ基が挙げられる。
−ＮＲ４Ｒ５としては、ピロリジノ基が好ましい。
先ず、式（４）で示される化合物の製造方法を説明する。
式（４）で示される化合物は、式（２）で示される化合物と式（３）で示される化合物とを反応させることにより製造される。
式（２）で示される化合物としては、２，３−ジメチルニトロベンゼン、２−メチル−３−エチルニトロベンゼン、２−メチル−３−シクロプロピルニトロベンゼン、２−メチル−３−トリフルオロメチルニトロベンゼンおよび２−メチル−３−ジフルオロメチルニトロベンゼン等が挙げられ、市販のものを用いてもよいし、公知の方法により調製したものを用いてもよい。
式（３）で示される化合物としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルミアミドジメチルアセタール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルミアミドジエチルアセタール、１−（ジメトキシメチル）ピペリジン、１−（ジエトキシメチル）ピペリジン、１−（ジメトキシメチル）ピロリジン、１−（ジエトキシメチル）ピロリジン、４−（ジメトキシメチル）モルホリン、４−（ジエトキシメチル）モリホリン、ビス（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）メトキシメタン、ジピペリジノメトキシメタン、ジピロリジノメトキシメタン、ジモルホリノメトキシメタン、トリ（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）メタン、トリピペリジノメタン、トリピロリジノメタンおよびトリモルホリノメタン等が挙げられ、市販のものを用いてもよいし、公知の方法により調製したものを用いてもよい。好ましい式（３）で示される化合物はＮ，Ｎ−ジメチルホルミアミドジメチルアセタールである。
式（３）で示される化合物の使用量は、式（２）で示される化合物１モルに対して、通常１〜１０モル、好ましくは１〜３モルの割合である。
式（２）で示される化合物と式（３）で示される化合物との反応は、通常両者を混合することにより行われ、混合に際しては溶媒を用いることができる。
溶媒としては、例えば、ヘプタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ペンタン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、アニソール、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、テトラクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類およびこれらの混合物が挙げられ、好ましくは、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドである。
溶媒の使用量は、式（２）で示される化合物１重量部に対して通常０．１〜５０重量部の割合である。
式（２）で示される化合物と式（３）で示される化合物とは、一括して混合してもよいし、いずれかの化合物を徐々に加えながら混合してもよい。
混合は、窒素雰囲気下で行われてもよい。
反応温度は、通常−２０〜２５０℃、好ましくは５０〜２００℃の範囲内である。
反応時間は、通常０．１〜７２時間、好ましくは１〜２４時間の範囲内である。
反応混合物を濃縮することにより、式（４）で示される化合物を単離することができる。単離に際して溶媒を加えて抽出することができ、また、必要に応じて塩基を加えてもよい。
塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、アンモニア等が挙げられる。溶媒としては、酢酸エチル、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン、クロロホルム、ジクロロメタン、ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、水等が挙げられる。塩基を水溶液の形態で添加する場合、濃度は通常１〜６規定である。
単離された式（４）で示される化合物は、洗浄、再結晶等で精製することができる。
式（４）で示される化合物の中でも特に式（４’）で示される化合物は、式（２）で示される化合物と式（３）で示される化合物および式（３’）で示される２級アミンとを反応させることにより製造することもできる。
式（２）で示される化合物および式（３）で示される化合物の具体例は上述の通りである。
式（３’）で示される２級アミンとしては、ピロリジン、ピペリジン、モルホリン等が挙げられる。
式（３）で示される化合物の使用量は、式（２）で示される化合物１モルに対して、通常１〜１０モル、好ましくは１〜３モルの割合であり、式（３’）で示される２級アミンの使用量は、式（２）で示される化合物１モルに対して、通常０．０５〜１０モルの割合である。
反応に際し、２級アミンと共にさらにハロゲン化銅を加えてもよい。ハロゲン化銅としては塩化銅、臭化銅およびヨウ化銅等が挙げられ、１価のハロゲン化銅が好ましい。ハロゲン化銅は、通常式（２）で表される化合物１モルに対して、０．００１〜５モルの割合で用いられる。
式（２）で示される化合物と式（３）で示される化合物および式（３’）で示される２級アミンとの反応は、通常これらを混合することにより行われ、混合に際しては溶媒を用いることができる。
溶媒の具体例および使用量は、式（２）で示される化合物と式（３）で示される化合物との反応と同じである。
混合は、窒素雰囲気下で行われてもよい。
反応温度は、通常−２０〜２５０℃、好ましくは０〜１５０℃の範囲内である。
反応時間は、通常０．１〜７２時間、好ましくは１〜２４時間の範囲内である。
反応終了後の後処理は、式（２）で示される化合物と式（３）で示される化合物との反応と同じである。
式（４）および式（４’）で示される化合物としては、２−｛２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ビニル｝−３−メチルニトロベンゼン、２−｛２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）ビニル｝−３−メチルニトロベンゼン、２−（２−ピロリジニルビニル）−３−メチルニトロベンゼン、２−（２−ピペリジニルビニル）−３−メチルニトロベンゼン、２−（２−モルホリニルビニル）−３−メチルニトロベンゼン、２−｛２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ビニル｝−３−エチルニトロベンゼン、２−｛２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）ビニル｝−３−エチルニトロベンゼン、２−（２−ピロリジニルビニル）−３−エチルニトロベンゼン、２−（２−ピペリジニルビニル）−３−エチルニトロベンゼン、２−（２−モルホリニルビニル）−３−エチルニトロベンゼン、２−｛２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ビニル｝−３−シクロプロピルニトロベンゼン、２−｛２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）ビニル｝−３−シクロプロピルニトロベンゼン、２−（２−ピロリジニルビニル）−３−シクロプロピルニトロベンゼン、２−（２−ピペリジニルビニル）−３−シクロプロピルニトロベンゼン、２−（２−モルホリニルビニル）−３−シクロプロピルニトロベンゼン、２−｛２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ビニル｝−３−トリフルオロメチルニトロベンゼン、２−｛２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）ビニル｝−３−トリフルオロメチルニトロベンゼン、２−（２−ピロリジニルビニル）−３−トリフルオロメチルニトロベンゼン、２−（２−ピペリジニルビニル）−３−トリフルオロメチルニトロベンゼンおよび２−（２−モルホリニルビニル）−３−トリフルオロメチルニトロベンゼン等が挙げられる。
次に、式（４）で示される化合物の酸化反応について説明する。式（４’）で示される化合物の酸化反応も同様に行うことができる。
酸化反応は、式（４）で示される化合物を、過酸化物、過マンガン酸塩、硝酸、酸素およびオゾンからなる群より選ばれる酸化剤で酸化することにより行われる。
過酸化物としては、過酢酸、過プロピオン酸、ｍ−クロロ過安息香酸、ジメチルジオキシラン、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド、過安息香酸、ジベンゾイルペルオキシド、ペルオキシ一硫酸カリウム（２ＫＨＳＯ５・ＫＨＳＯ４・Ｋ２ＳＯ４、Ｏｘｏｎｅ（登録商標）、ＤｕＰｏｎｔ  Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，ＵＳＡ）、過酸化水素等が挙げられる。
過マンガン酸塩としては、過マンガン酸カリウムおよび過マンガン酸ナトリウム等が挙げられる。
好ましい酸化剤は、過酸化物、過マンガン酸塩および硝酸である。
酸化剤は、通常式（４）で示される化合物１モルに対して、０．１〜５０モルの割合で用いられる。
酸化反応に際し、酸、塩基または塩を加えるのが好ましい。
酸化剤が過酸化水素の場合、酸または塩基を加えるのが好ましく、酸の具体例は、酢酸、ギ酸および硝酸であり、塩基の具体例は炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等のアルカリ金属炭酸塩、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素セシウム等のアルカリ金属炭酸水素塩および水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム等のアルカリ金属水酸化物である。また、過酸化水素／タングステン酸ナトリウムや過酸化水素／チタン含有触媒を用いることもできる。
酸化剤が過マンガン酸カリウムの場合、塩基を加えるのが好ましく、塩基の具体例は、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等のアルカリ金属炭酸塩、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素セシウム等のアルカリ金属炭酸水素塩および水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム等のアルカリ金属水酸化物である。
酸化剤が硝酸の場合、塩を加えるのが好ましく、塩の具体例は、亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウム等のアルカリ金属亜硝酸塩である。
これらの酸、塩基または塩は、通常式（４）で示される化合物１モルに対して、０．０１〜５０モルの割合で用いられる。
酸化反応は、通常溶媒中で行われる。溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類、ヘプタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ペンタン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、アニソール、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、テトラクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類、水およびこれらの混合物が挙げられる。
溶媒の使用量は、式（４）で示される化合物１重量部に対して通常０．１〜５０重量部の割合である。
酸化反応は、窒素雰囲気下で行われてもよい。
反応温度は、通常−２０〜１５０℃、好ましくは０〜１３０℃の範囲内である。
反応時間は、通常０．１〜７２時間、好ましくは１〜２４時間の範囲内である。
酸化反応により得られる生成物は、式（６ａ）
0006540690.tif 000014
〔式中、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂおよびＲ１ｃは前記と同じ意味を有する。〕
で示される化合物および／または式（６ｂ）
0006540690.tif 000015
〔式中、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂおよびＲ１ｃは前記と同じ意味を有する。〕
で示される化合物である。
反応混合物を濃縮することにより、式（６ａ）および／または式（６ｂ）で示される化合物を単離することができる。その際、必要に応じて、反応混合物に酸や塩基、塩、溶媒を添加して、単離してもよい。
酸としては、塩化水素、硫酸等が挙げられる。塩としては、硫酸水素ナトリウム、塩化アンモニウム等が挙げられる。塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、アンモニア等が挙げられる。溶媒としては、酢酸エチル、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン、クロロホルム、ジクロロメタン、ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、水等が挙げられる。酸、塩基または塩を水溶液の形態で加える場合、酸や塩基の濃度は通常１〜６規定であり、塩の濃度は通常１〜６モル／Ｌである。
単離された化合物は、洗浄、カラムクロマトグラフィー等で精製することができる。
式（６ａ）で示される化合物としては、２−メチル−６−ニトロ安息香酸、２−エチル−６−ニトロ安息香酸、２−シクロプロピル−６−ニトロ安息香酸および２−トリフルオロメチル−６−ニトロ安息香酸等が挙げられる。
式（６ｂ）で示される化合物としては、２−メチル−６−ニトロベンズアルデヒド、２−エチル−６−ニトロベンズアルデヒド、２−シクロプロピル−６−ニトロベンズアルデヒドおよび２−トリフルオロメチル−６−ニトロベンズアルデヒド等が挙げられる。
式（８）で示される化合物は、上述の酸化反応による生成物、即ち、式（６ａ）および／または式（６ｂ）で示される化合物を還元することにより製造することができる。
還元反応は、通常溶媒中で行われる。溶媒としては、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ−メチルピロリドン等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、アセトニトリル等のニトリル類、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類、水およびこれらの混合物が挙げられる。
還元剤としては、例えば、水素化ホウ素ナトリウム、ボラン、ボランテトラヒドロフラン錯体、ボランジメチルスルフィド錯体等の水素化ホウ素化合物が挙げられる。また、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウム等の水素化ホウ素塩と、硫酸、塩酸、メタンスルホン酸および三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体等の酸または硫酸ジメチルとを混合することにより発生するボランも使用できる。
還元反応には式（６ａ）および／または式（６ｂ）で示される化合物１モルに対して、還元剤が通常１〜１０モルの割合で用いられる。
反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲内である。
反応時間は通常０．１〜７２時間の範囲内である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（８）で示される化合物を単離することができる。さらに蒸留、クロマトグラフィー、再結晶等の操作で精製してもよい。
式（１）で示される化合物は、式（８）で示される化合物をハロゲン化することにより製造することができる。ここで、ハロゲン化とは、塩素化、臭素化またはヨウ素化を意味する。ハロゲン化は、式（８）で示される化合物とハロゲン化剤（塩素化剤、臭素化剤またはヨウ素化剤）とを反応させることにより行われる。
反応は、通常溶媒中で行われる。溶媒としては、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、トルエン、キシレン等の炭化水素類、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリル等のニトリル類、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸類、水およびこれらの混合物が挙げられる。
ハロゲン化剤としては、例えば、臭素、塩素、塩化スルフリル、塩化水素酸、臭化水素酸、三臭化ホウ素、三臭化リン、塩化トリメチルシリル、臭化トリメチルシリル、塩化チオニル、臭化チオニル、オキシ塩化リン、三塩化リン、五塩化リン、塩化チオニル、オキシ臭化リン、五臭化リン、三ヨウ化リン、二塩化オキサリル、二臭化オキサリル、塩化アセチル、四臭化炭素、Ｎ−ブロモスクシンイミド、塩化リチウム、ヨウ化ナトリウム、臭化アセチル等が挙げられる。好ましくは、三塩化リン、五塩化リン、三臭化リン等のリンのハロゲン化物およびオキシ塩化リン等のリンのオキシハロゲン化物が挙げられる。
ハロゲン化剤の使用量は、式（８）で示される化合物１モルに対して通常１〜１０モルの割合である。
反応を促進するため、使用するハロゲン化剤に応じて添加剤を加えてもよく、具体的には、塩化アセチルに対しては塩化亜鉛、四臭化炭素に対してはトリフェニルホスフィン、Ｎ−ブロモスクシンイミドに対してはジメチルスルフィド、ヨウ化ナトリウムに対しては三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体、臭化アセチルに対しては三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体、塩化リチウムに対してはトリエチルアミンおよび塩化メタンスルホニル、ヨウ化ナトリウムに対しては塩化アルミニウム、ヨウ化ナトリウムに対しては塩化トリメチルシリル等が挙げられる。その使用量はいずれの添加剤も、通常、式（８）で示される化合物１モルに対して、０．０１〜５モルの割合である。
反応温度は通常−２０〜１５０℃の範囲内である。
反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲内である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒で抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１）で示される化合物を単離することができる。さらに蒸留、クロマトグラフィー、再結晶等の操作で精製してもよい。
式（１）で示される化合物としては、２−クロロメチル−３−メチルニトロベンゼン、２−ブロモメチル−３−メチルニトロベンゼン、２−クロロメチル−３−エチルニトロベンゼン、２−ブロモメチル−３−エチルニトロベンゼン、２−クロロメチル−３−シクロプロピルニトロベンゼン、２−ブロモメチル−３−シクロプロピルニトロベンゼン、２−クロロメチル−３−トリフルオロメチルニトロベンゼンおよび２−ブロモメチル−３−トリフルオロメチルニトロベンゼン等が挙げられる。
【実施例】
【０００４】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。
（実施例１）
２，３−ジメチルニトロベンゼン３０ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルアミドジメチルアセタール３９．５ｇおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルアミド２００ｍＬの混合物を１７５℃で１０時間加熱した。反応混合物を濃縮して２−｛２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ビニル｝−３−メチルニトロベンゼン３８．０ｇを得た。
0006540690.tif 000016
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：２．３７（３Ｈ，ｓ），２．７９（６Ｈ，ｓ），５．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．０Ｈｚ），６．２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１４．０Ｈｚ），７．０１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．２７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．３７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）
（実施例２）
２，３−ジメチルニトロベンゼン１０ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルアミドジメチルアセタール１５．８ｇ、ピロリジン２７．２ｍＬおよびヨウ化銅（Ｉ）１．２６ｇの混合物を１００℃で１０時間加熱した。反応混合物の１Ｈ−ＮＭＲ測定により２−（２−ピロリジニルビニル）−３−メチルニトロベンゼンが収率９７％で得られたことを確認した。
0006540690.tif 000017
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：１．８９−１．９５（４Ｈ，ｍ），２．３７（３Ｈ，ｓ），３．２０−３．２４（４Ｈ，ｍ），４．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．８Ｈｚ），６．６２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．８Ｈｚ），６．９６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．２５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ）
（実施例３）
２，３−ジメチルニトロベンゼン１０ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルアミドジメチルアセタール１５．８ｇおよびピロリジン２７．２ｍＬの混合物を１００℃で１０時間加熱した。反応混合物の１Ｈ−ＮＭＲ測定により２−（２−ピロリジニルビニル）−３−メチルニトロベンゼンが収率４０％で得られたことを確認した。
（実施例４）
２−｛２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ビニル｝−３−メチルニトロベンゼン０．４ｇ、過酸化水素水溶液（３０％）１．９５ｍＬ、硝酸（６５％）０．９７ｇおよびメタノール１０ｍＬの混合物を８０℃で５時間撹拌した。反応混合物に亜硫酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和重曹水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下に濃縮して２−メチル−６−ニトロ安息香酸０．２８ｇを得た。
（実施例５）
亜硝酸ナトリウム４ｍｇと硝酸（６５％）１．６ｇとの混合物を１００℃に加熱した。この混合物中に２−｛２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ビニル｝−３−メチルニトロベンゼン０．２ｇを滴下し同じ温度で３時間攪拌した。室温に冷却した後、反応混合物に飽和食塩水を加え、酢酸エチルで抽出して２−メチル−６−ニトロ安息香酸１１６ｍｇを得た。
0006540690.tif 000018
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δ（ｐｐｍ）：２．４０（３Ｈ，ｓ），７．６１（１Ｈ，ｔｄ，Ｊ＝８．０，１．７Ｈｚ），７．７４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），７．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）
（実施例６）
２−（２−ピロリジニルビニル）−３−メチルニトロベンゼン５ｇ、過マンガン酸カリウム５．１０ｇ、炭酸カリウム４．４６ｇ、アセトニトリル８０ｍＬおよび水８０ｍＬの混合物を室温で０．５時間撹拌した。反応混合物に硫酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和重曹水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下に濃縮して２−メチル−６−ニトロベンズアルデヒド２．５ｇを得た。
0006540690.tif 000019
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：２．４８（３Ｈ，ｓ），７．５２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ），７．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），７．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），１０．３３（１Ｈ，ｓ）
（実施例７）
２−メチル−６−ニトロベンズアルデヒド１．０ｇ、テトラヒドロフラン１０ｍｌおよびメタノール１０ｍｌの混合物に水素化ホウ素ナトリウム０．３４ｇを加え、室温で１時間攪拌した。反応混合物に飽和重層水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和重曹水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下に濃縮して２−（ヒドロキシメチル）−３−メチル−１−ニトロベンゼン０．９６ｇを得た。
0006540690.tif 000020
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ：２．５６（３Ｈ，ｓ），４．７０（２Ｈ，ｓ），７．３５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），７．７１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）
（実施例８）
水素化ホウ素ナトリウム２２．８ｇとテトラヒドロフラン２４０ｍＬとの混合物を室温で１０分間攪拌した。ここに２−メチル−６−ニトロ安息香酸７５．０ｇのテトラヒドロフラン１２０ｍＬ溶液をゆっくり滴下し、滴下終了後、さらに室温で３０分間攪拌した。反応混合物を氷冷し、メタンスルホン酸２６．９ｍＬを２時間かけて加え、室温で２日間攪拌した後、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を１０％塩酸水溶液および飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮して２−（ヒドロキシメチル）−３−メチルニトロベンゼン５８．９ｇを得た。
（実施例９）
２−メチル−６−ニトロ安息香酸１００．０ｇとテトラヒドロフラン１Ｌとの混合物を氷冷し、水素化ホウ素ナトリウム４２．０ｇを加え、次いで、硫酸ジメチル１３９．３ｇを加え、室温に昇温して１８時間撹拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和重層水および飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧下に濃縮して２−（ヒドロキシメチル）−３−メチルニトロベンゼン９０．９ｇを得た。
（実施例１０）
２−（ヒドロキシメチル）−３−メチルニトロベンゼン５８．９ｇとクロロホルム６２０ｍＬとの混合物を氷冷し、ここに三臭化リン１９１．０ｇを滴下した後、室温で１５時間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下に濃縮して２−（ブロモメチル）−３−メチルニトロベンゼン７６．７ｇを得た。
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１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ（ｐｐｍ）：７．７５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．４６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．３６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２，７．５Ｈｚ），４．７２（２Ｈ，ｓ），２．５４（３Ｈ，ｓ）
【産業上の利用可能性】
【０００５】
本発明により、有害生物に対して防除効力を有する化合物の製造中間体として使用される式（１）で示される化合物を製造することができる。