(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
１種又は２種以上の一般式（１）で表される化合物と１種又は２種以上の一般式（２）で表される化合物と塩基と添加剤を用い、添加剤として、ポリアミン類、ポリエーテルアミン類、ポリエーテル類又はポリエステル類を使用する一般式（３）で表される化合物の製造方法。
【化１】
0006540993.tif 000017
（一般式（１）における、Ｒ１１は、水素原子、炭素原子数炭素原子数１から８のアルキル基、炭素原子数炭素原子数１から８のアルコキシル基、炭素原子数炭素原子数２から８のアルケニル基又は炭素原子数炭素原子数２から８のアルケニルオキシル基を表し、基中の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−はそれぞれ独立的に−Ｏ−に置換されても良く、また、基中に存在する１個又は２個以上の水素原子はそれぞれ独立的にハロゲンに置換されても良く、
Ａ１１は、（ａ）  シクロヘキサン−１，４−ジイル基（この基中に存在する１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は−Ｏ−に置き換えられてもよい。）
（ｂ）  １，４−フェニレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置き換えられてもよい。）
（ｃ）  １，４−シクロヘキセニレン基、１，４−ビシクロ（２．２．２）オクチレン基、ピペリジン−１，４−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基及び１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基からなる群より選ばれる基を表し、上記の基（ａ）、基（ｂ）又は基（ｃ）中の水素原子はそれぞれ独立してハロゲンで置換されていても良く、
Ｚ１１は単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、
ｎ１１は０〜１０の自然数を表すが、ｎ１１が２〜１０を表す場合に複数存在するＡ１１は同一であっても異なっていてもよく、ｎ１１が２〜１０を表す場合に複数存在するＺ１１は同一であっても異なっていてもよく、ｎ１１が０を表す場合にＲ１１は水素原子を表すことはなく、
Ｓｐ１１は単結合又は炭素原子数１〜２０のアルキレン基を表し、基中の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−はそれぞれ独立的に−Ｏ−に置換されても良く、また、基中に存在する１個又は２個以上の水素原子はそれぞれ独立的にハロゲンに置換されても良く、
一般式（２）における、Ｒ２１は水素原子又は一般式（４）で表される置換基を表し、Ｒ２２は一般式（５）で表される置換基を表し、
【化２】
0006540993.tif 000018
（一般式（４）及び（５）における、Ｒ４１及びＲ５１はそれぞれ独立して、一般式（１）におけるＲ１１と同じ意味を表し、Ａ４１及びＡ５１はそれぞれ独立して、一般式（１）におけるＡ１１と同じ意味を表し、Ｚ４１及びＺ５１はそれぞれ独立して、一般式（１）におけるＺ１１と同じ意味を表し、ｎ４１及びｎ５１はそれぞれ独立して、一般式（１）におけるｎ１１と同じ意味を表し、Ｓｐ４１及びＳｐ５１はそれぞれ独立して、一般式（１）におけるＳｐ１１と同じ意味を表す。）
Ｒ２３は芳香環を表し、
一般式（３）における、Ｒ１１は、一般式（１）におけるＲ１１と同一の置換基を表し、Ａ１１は、一般式（１）におけるＡ１１と同一の置換基を表し、Ｚ１１は、一般式（１）におけるＺ１１と同一の置換基を表し、ｎ１１は、一般式（１）におけるｎ１１と同一の自然数を表し、Ｓｐ１１は、一般式（１）におけるＳｐ１１と同一の自然数を表し、Ｒ２１は、一般式（２）におけるＲ２１と同一の置換基を表し、Ｒ２２は、一般式（２）におけるＲ２２と同一の置換基を表す。）
【請求項２】
塩基として、アミン、アミド、カルバメート、イミド、スルホンアミド、グアニジン、ヒドラゾン、ヒドラジド、ヒドラジン、複素環アミン、それらの塩、炭酸塩、金属ヒドリド、金属アルコキシド又はアルキル金属類を使用する請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
溶媒として、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、１，２−ジクロロエチレン、１，１，２，２−テトラクロロエタン、トリクロロエチレン、１−クロロブタン、二硫化炭素、アセトン、アセトニトリル、ベンゾニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ジエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ｏ−ジクロロベンゼン、キシレン、ｏ−キシレン、ｐ−キシレン、ｍ−キシレン、クロロベンゼン、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソアミル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、酢酸ペンチル、酢酸メチル、酢酸２−メトキシエチル、ヘキサメチルリン酸トリアミド、トリス（ジメチルアミノ）ホスフィン、シクロヘキサノン、１，４−ジオキサン、スチレン、テトラクロロエチレン、テトラヒドロフラン、ピリジン、１−メチル−２−ピロリジノン、１，１，１−トリクロロエタン、トルエン、ヘキサン、ペンタン、シクロヘキサン、シクロペンタン、ヘプタン、ベンゼン、メチルイソブチルケトン、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、メチルエチルケトン、メチルシクロヘキサノン、メチルブチルケトン、ジエチルケトン、ガソリン、コールタールナフサ、石油エーテル、石油ナフサ、石油ベンジン及びテレビン油を単独又は混合して使用する請求項１又は２に記載の製造方法。
【請求項４】
一般式（１）で表される化合物及び一般式（２）で表される化合物共存下に塩基を加える請求項１〜３のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項５】
製造温度が−７０℃から０℃である請求項１〜４のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項６】
一般式（２）におけるＲ２１が水素原子である請求項１〜５のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項７】
一般式（１）における一般式（１−１）で表される置換基の炭素原子数が３個以上である請求項１〜６に記載の製造方法。
【化３】
0006540993.tif 000019
（Ｒ１１、Ａ１１、Ｚ１１、ｎ１１及びＳｐ１１は一般式（１）におけるＲ１１、Ａ１１、Ｚ１１、ｎ１１及びＳｐ１１と同じ意味を表す。）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は立体選択的なアルケンの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
１，２−２置換エチレンには２種類の異性体が存在するが、１，２−２置換エチレンを製造すると２種の異性体の混合物として得られる。１，２−２置換エチレンの２種の異性体（Ｅ体、Ｚ体）はその構造の差異により、物性値が異なる。特に液晶組成物の成分として１，２−２置換エチレンを使用する場合には、Ｚ体は添加した液晶組成物の液晶性を大きく低下させるため、Ｚ体を除去し使用する必要がある。
【０００３】
このため、Ｚ体を多く含むような製造工程を採用した場合、その後の精製工程で、多くのＺ体を破棄することとなり効率的ではない。
【０００４】
例えば、（Ｅ）−１，２−ビス（シクロヘキシル）エチレン誘導体は液晶組成物の粘度を低減させるために有用である（非特許文献１、特許文献１）。その製造法については、幾つかが知られている(特許文献１、特許文献２及び非特許文献２参照)。しかしながら、これらの製造方法は必ずしも実用的なものではない。例えば特許文献１及び特文献２では、Ｚ体を過酸化物で酸化し、次いでジブロモトリフェニルホスホランで臭素化した後、亜鉛で還元することによってＥ体を得ているが、その収率は低い。また、非特許文献２では、１，２−ビス（トランス−４−アルキルシクロヘキシル）エタン−１，２−ジケトンをジヒドラゾンとし、これを１，２−ビス（トランス−４−アルキルシクロヘキシル）アセチレンに変換した後、これを還元することによってＥ−１，２−ビス（シクロヘキシル）エチレン誘導体を得ているが、毒性の高いヒドラジン及びヘキサメチルりん酸トリアミド（ＨＭＰＴ）を用いている他、発火性の金属リチウムを用いており、実用的なものではない。また、それら製造法のＥ体の選択率は十分であるとはいえず、更なる改良が求められていた。
【０００５】
また、Ｅ体及びＺ体の混合物を得た後に、ベンゼンスルフィン酸等により異性化し、精製することによりＥ体を得る方法も知られている（特許文献３）が、この方法では、異性化の工程が必要となる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平６−９２９２４
【特許文献２】ＷＯ９４／２０４４３
【特許文献３】特開２００３−２８６２７９
【非特許文献】
【０００７】
【非特許文献１】液晶  第１ 巻  第一号  （１９９７ 年）
【非特許文献２】Ｃｈｍｉｋｅｒ−Ｚｅｉｔｕｎｇ，  １０４，  ｐ ２６９（１９８０年）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本願発明が解決しようとする課題は、効率的で立体選択的なアルケンの製造方法を提供するとともに有用な反応中間体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本願発明者は上記課題を解決するために鋭意検討した結果本願発明の完成に至った。
【００１０】
１種又は２種以上の一般式（１）で表される化合物と１種又は２種以上の一般式（２）で表される化合物と塩基を用いることにより、一般式（３）で表される化合物を高効率で立体選択的に製造することができる。併せて、該製造方法における重要中間体である一般式（２）で表される化合物を得た。
【００１１】
【化１】
0006540993.tif 000002
【００１２】
（一般式（１）における、Ｒ１１は、水素原子、炭素原子数炭素原子数１から８のアルキル基、炭素原子数炭素原子数１から８のアルコキシル基、炭素原子数炭素原子数２から８のアルケニル基又は炭素原子数炭素原子数２から８のアルケニルオキシル基を表し、基中の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−はそれぞれ独立的に−Ｏ−に置換されても良く、また、基中に存在する１個又は２個以上の水素原子はそれぞれ独立的にハロゲンに置換されても良く、
Ａ１１は、（ａ）  シクロヘキサン−１，４−ジイル基（この基中に存在する１個の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−は−Ｏ−に置き換えられてもよい。）
（ｂ）  １，４−フェニレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置き換えられてもよい。）
（ｃ）  １，４−シクロヘキセニレン基、１，４−ビシクロ（２．２．２）オクチレン基、ピペリジン−１，４−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイル基、デカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基及び１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基からなる群より選ばれる基を表し、上記の基（ａ）、基（ｂ）又は基（ｃ）中の水素原子はそれぞれ独立してハロゲンで置換されていても良く、
Ｚ１１は単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−又は−Ｃ≡Ｃ−を表し、
ｎ１１は０〜１０の自然数を表すが、ｎ１１が２〜１０を表す場合に複数存在するＡ１１は同一であっても異なっていてもよく、ｎ１１が２〜１０を表す場合に複数存在するＺ１１は同一であっても異なっていてもよく、ｎ１１が０を表す場合にＲ１１は水素原子を表すことはなく、
Ｓｐ１１は単結合又は炭素原子数１〜２０のアルキレン基を表し、基中の−ＣＨ２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ２−はそれぞれ独立的に−Ｏ−に置換されても良く、また、基中に存在する１個又は２個以上の水素原子はそれぞれ独立的にハロゲンに置換されても良く、
一般式（２）における、Ｒ２１は水素原子又は一般式（４）で表される置換基を表し、Ｒ２２は一般式（５）で表される置換基を表し、
【００１３】
【化２】
0006540993.tif 000003
【００１４】
（一般式（４）及び（５）における、Ｒ４１及びＲ５１はそれぞれ独立して、一般式（１）におけるＲ１１と同じ意味を表し、Ａ４１及びＡ５１はそれぞれ独立して、一般式（１）におけるＡ１１と同じ意味を表し、Ｚ４１及びＺ５１はそれぞれ独立して、一般式（１）におけるＺ１１と同じ意味を表し、ｎ４１及びｎ５１はそれぞれ独立して、一般式（１）におけるｎ１１と同じ意味を表し、Ｓｐ４１及びＳｐ５１はそれぞれ独立して、一般式（１）におけるＳｐ１１と同じ意味を表す。）
Ｒ２３は芳香環を表し、
一般式（３）における、Ｒ１１は、一般式（１）におけるＲ１１と同一の置換基を表し、Ａ１１は、一般式（１）におけるＡ１１と同一の置換基を表し、Ｚ１１は、一般式（１）におけるＺ１１と同一の置換基を表し、ｎ１１は、一般式（１）におけるｎ１１と同一の自然数を表し、Ｓｐ１１は、一般式（１）におけるＳｐ１１と同一の自然数を表し、Ｒ２１は、一般式（２）におけるＲ２１と同一の置換基を表し、Ｒ２２は、一般式（２）におけるＲ２２と同一の置換基を表す。）
【発明の効果】
【００１５】
本発明の製造方法により、効率的な製造が困難であったＥ−１，２−２置換エチレンの実用的な製造が可能となった。また、本願発明の製造方法により製造される化合物を含有する組成物は樹脂、オイル、オイルフィルター、油脂、インキ、医薬品、化粧品、洗剤、液晶材料、農薬、ポリマー、樹脂、顔料、染料、粘着剤接着剤、印刷物、食品、光学異方体、表示素子又は電子デバイスの用途に有用である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
一般式（１）における、Ｒ１１は、反応過程において目的の化合物を与えるものであれば特に制限は無いが、合成の容易さの観点及び液晶材料に使用する場合には液晶性の観点から、炭素原子数１から８のアルキル基、炭素原子数１から８のアルコキシル基、炭素原子数２から８のアルケニル基又は炭素原子数２から８のアルケニルオキシル基が好ましく、本発明の製造物である一般式（３）で表される化合物のネマチック相の安定性の観点からは、炭素原子数は５以下であることが好ましく、スメクチック相の安定性の観点からは炭素原子数６以上であることが好ましく、直鎖状であることが好ましい。
【００１７】
Ａ１１は、反応過程において目的の化合物を与えるものであれば特に制限は無いが、下記の構造であることがより好ましく、
【００１８】
【化３】
0006540993.tif 000004
【００１９】
下記の構造であることが更に好ましい。
【００２０】
【化４】
0006540993.tif 000005
【００２１】
Ｚ１１は反応過程において目的の化合物を与えるものであれば特に制限は無いが、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−又は−ＣＦ２Ｏ−が好ましく、本発明の製造方法の収率に重点を置く場合には、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＯＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−又は−ＣＦ２Ｏ−が好ましい。
【００２２】
ｎ１１は反応過程において目的の化合物を与えるものであれば特に制限は無いが、本発明の製造方法を溶媒を用いた均一系で行う場合には、一般式（１）で表される化合物の溶媒に対する溶解度の関係から、４以下が好ましく、３以下が好ましい。一般式（３）の立体選択性を向上させるには１以上であることが好ましい。ｎ１１が２〜１０を表す場合にはＺ１１は少なくとも１つ以上が単結合であることが好ましく、存在するＺ１１のうち１つを除きすべてが単結合であることが好ましく、すべてが単結合であることが好ましい。
【００２３】
Ｓｐ１１は反応過程において目的の化合物を与えるものであれば特に制限は無く、単結合及び炭素原子数１〜２０のアルキレン基が好ましく、単結合及び炭素原子数１〜８のアルキレン基が好ましく、単結合及び炭素原子数１〜４のアルキレン基が好ましく、単結合及び炭素原子数１〜２のアルキレン基が好ましい。
【００２４】
一般式（２）で表される化合物中、Ｒ２２はＲ２１と比較して嵩高い置換基である。このＲ２１とＲ２２の嵩高さの相違により、特定の立体構造を有する一般式（３）で表される化合物を製造することができる。
【００２５】
一般式（２）における、Ｒ２１は、反応過程において目的の化合物を与えるものであれば特に制限は無く、水素原子又は一般式（４）で表される置換基であることが好ましい。しかし、一般式（２）で表される当該化合物の合成の容易さの観点、一般式（３）で表される化合物の立体選択性及び液晶材料に使用する場合には液晶性の観点から、水素原子であることがより好ましい。
【００２６】
Ｒ２１が一般式（４）で表される置換基である場合には、ｎ４１は０から２であることが好ましく、０又は１であることが好ましく、０であることが好ましい。Ｓｐ４１、Ａ４１、Ｚ４１及びＲ４１は一般式（１）におけるＡ１１、Ｚ１１及びＲ１１と同様な置換基が好ましいが、Ｒ４１は特に炭素原子数１から８のアルキル基がより好ましい。
【００２７】
一般式（２）における、Ｒ２２は、一般式（５）で表される置換基であることが好ましい。しかし、一般式（２）で表される当該化合物の合成の容易さの観点から、一般式（５）で表される置換基におけるｎ５１は０から２であることが好ましく、０又は１であることが好ましく、０であることが好ましい。Ｓｐ５１、Ａ５１、Ｚ５１及びＲ５１は一般式（１）におけるＡ１１、Ｚ１１及びＲ１１と同様な置換基が好ましいが、Ｒ５１は特に炭素原子数１から８のアルキル基がより好ましい。
【００２８】
一般式（２）における、Ｒ２３は芳香環であることが好ましいが、収率の観点から、ベンゼン環、アルキルベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環がより好ましい。さらに一般式（２）で表される当該化合物の合成の容易さ及び経済性の観点から、Ｒ２３はフェニル基、１，４−フェニレン基であることがより好ましい。また、Ｒ２３は置換基上の水素原子がハロゲン等に置換していてもよいが、反応性の観点から無置換であることが好ましい。
【００２９】
本明細書において、同じ意味を表しとは、両置換基が同一の化学構造を有していても有していなくてもよいが、同一の選択肢から選ばれる置換基であることを意味しており、同一の置換基を表しとは同一の化学構造を有する置換基であることを意味する。
【００３０】
塩基としては、アミン、アミド、カルバメート、イミド、スルホンアミド、グアニジン、ヒドラゾン、ヒドラジド、ヒドラジン、複素環アミン、それらの塩、炭酸塩、金属ヒドリド、金属アルコキシド又はアルキル金属類が好ましい。特に収率の観点から、金属ヒドリド、金属アルコキシド、ヒドラジド塩で、ｐＫａ１５．０以上の塩基性を有し、かつ求核性の少ない塩基がより好ましい。例えば、リチウムジイソプロピルアミド、水素化ナトリウム、ｔｅｒｔ−ブトキシカリウム、カリウムヘキサメチルジシラジド、リチウムヘキサメチルジシラジド、リチウムテトラメチルピペリジン等が挙げられる。また、塩基は一種類のみを用いても、二種類以上を用いても良い。
【００３１】
反応溶媒としては、反応過程において目的の化合物を与えるものであれば特に制限は無いが、具体的にはクロロホルム、四塩化炭素、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、１，２−ジクロロエチレン、１，１，２，２−テトラクロロエタン、トリクロロエチレン、１−クロロブタン、二硫化炭素、アセトン、アセトニトリル、ベンゾニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ジエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ｏ−ジクロロベンゼン、キシレン、ｏ−キシレン、ｐ−キシレン、ｍ−キシレン、クロロベンゼン、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソアミル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、酢酸ペンチル、酢酸メチル、酢酸２−メトキシエチル、ヘキサメチルリン酸トリアミド、トリス（ジメチルアミノ）ホスフィン、シクロヘキサノン、１，４−ジオキサン、スチレン、テトラクロロエチレン、テトラヒドロフラン、ピリジン、１−メチル−２−ピロリジノン、１，１，１−トリクロロエタン、トルエン、ヘキサン、ペンタン、シクロヘキサン、シクロペンタン、ヘプタン、ベンゼン、メチルイソブチルケトン、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、メチルエチルケトン、メチルシクロヘキサノン、メチルブチルケトン、ジエチルケトン、ガソリン、コールタールナフサ、石油エーテル、石油ナフサ、石油ベンジン、テレビン油等が挙げられる。収率の観点から、活性プロトンを持たないものが好ましく、例えば、炭化水素類、エーテル類、ホルムアミド類、スルホキシド類、ニトリル類が挙げられる。特にＥ／Ｚの観点から、添加剤を使用する際は非極性の溶媒が望ましく、具体的にはトルエン、ヘキサン、ペンタン、シクロヘキサン、シクロペンタン、ヘプタン、ベンゼン等が挙げられる。また、製造工程や精製工程の易化の観点から、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチル、トリエチレングリコールジメチルエーテル又はテトラエチレングリコールジメチル等を用いても良い。
【００３２】
添加剤としては、金属カチオンの捕捉性が高いもの、具体的には、ポリアミン類、ポリエーテルアミン類、ポリエーテル類、ポリエステル類が好ましい。特に、収率とＥ／Ｚと経済性の観点から、ポリエーテル類がより好ましく、具体的にはエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチル、トリエチレングリコールジメチルエーテル又はテトラエチレングリコールジメチル等が挙げられる。
【００３３】
製造温度は、−７０℃から０℃が好ましく、その際の反応剤の添加順序は、塩基を作用させることで一般式（２）の化合物を活性化させ、その後基質（１）を反応させられる順序であれば他に制限は無い。しかし作業の効率性及び経済性の観点から、−６０℃から０℃が好ましく、−５０℃から０℃が好ましく、−４０℃から０℃が好ましく、−３０℃から０℃が好ましく、−２０℃から０℃が好ましい。
【００３４】
各反応剤を添加する順番は、塩基に一般式（１）及び一般式（２）で示される化合物を添加する、あるいは一般式（１）及び一般式（２）で示される化合物に塩基を添加する添加順序がより好ましい。この際にこれらを溶媒とともに使用することが好ましい。
【００３５】
さらに、−２０℃から０℃のような比較的高温で製造を行う場合であって、一般式（１）で表される化合物がα位に脱プロトン化可能な水素原子を有するアルデヒドである場合は、収率の観点から、一般式（１）及び一般式（２）で示される化合物に塩基を添加する添加順序がより好ましい。
【実施例】
【００３６】
以下、実施例を挙げて本発明を更に記述するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。以下の実施例及び比較例の組成物における「％」は『質量％』を意味する。水素圧は、大気圧を０ＭＰａとした場合の圧力を意味する。以下に本願発明の製法及び比較例の製法によって製造した化合物について記述するが、わかりやすくするために、本願発明の製法によって製造した化合物を（３−１）のように末尾に数字のみを付記し、比較例の製法によって製造した化合物を（３−１ａ）のように末尾にアルファベットを付記する。
【００３７】
化合物の純度はＧＣ又はＵＰＬＣによって分析した。分析条件は以下の通りである。
（ＧＣ分析条件）
カラム：Ａｇｉｌｅｎｔ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ，Ｊ＆Ｗ  Ｃｏｌｕｍｎ  ＤＢ−１ＨＴ，１５ｍ×０．２５ｍｍ×０．１０μｍ
温度プログラム：１００℃（１分間）−（２０℃／分間）−２５０℃−（１０℃／分間）−３８０℃−（７℃／分間）−４００℃（２．６４分間）
注入口温度：３５０℃
検出器温度：４００℃
（ＵＰＬＣ分析条件）
カラム：Ｗａｔｅｒｓ  ＡＣＱＵＩＴＹ  ＵＰＬＣ  ＢＥＨ  Ｃ１８，２．１×１００ｍｍ，１．７μｍ
溶出溶媒：アセトニトリル／水（９０：１０）
流速：０．５ｍＬ／ｍｉｎ
検出器：ＵＶ，２１０ｎｍ
カラムオーブン：４０℃
（実施例１）  式（３−１）で表される化合物の製造
ＴＤＡ−１の製造
【００３８】
【化５】
0006540993.tif 000006
【００３９】
撹拌装置及び温度計を備えた反応容器に，アルゴン雰囲気下，５−（エチルスルホニル）−１−フェニル−１Ｈ−テトラゾール（２−１）（６５．５ｍｇ，０．２７５ｍｍｏｌ）及びトリス（２−（２−メトキシエトキシ）エチル）アミン（ＴＤＡ−１）（５５．０ μＬ，０．１７２ｍｍｏｌ）をトルエン（１４０μＬ）に溶解し，撹拌しながら−７０℃まで冷却した．続いてカリウムヘキサメチルジシラジド（１１％トルエン溶液，約０．５ｍｏｌ／Ｌ）（６００μＬ，０．３００ｍｍｏｌ）を加えて５分間撹拌した後に，トルエン（１３５μＬ）に溶解した，４−（（４−エトキシ−２，３−ジフルオロフェノキシ）メチル）シクロヘキサン−１−カルバルデヒド（１−１）（７４．６ｍｇ，０．２５０ｍｍｏｌ）を加え，さらに３０分撹拌した．室温まで加温し，さらに２時間撹拌した後に，過剰量の飽和塩化アンモニウム水溶液の加えて反応を停止し，ガスクロマトグラフィーにて分析したところ，１−エトキシ−２,３−ジフルオロ−４−（（４−（プロペン−１−イル）シクロヘキシル）メトキシ）ベンゼン（３−１）（転化率８７％、Ｅ／Ｚ＝９７：３）の生成が確認された．
（実施例２）滴下順序及び反応温度を変更した、式（３−１）で表される化合物の製造
【００４０】
【化６】
0006540993.tif 000007
【００４１】
撹拌装置及び温度計を備えた反応容器に，アルゴン雰囲気下，４−（（４−エトキシ−２，３−ジフルオロフェノキシ）メチル）シクロヘキサン−１−カルバルデヒド（１−１）（５００ｍｇ，１．６８ｍｍｏｌ），５−（エチルスルホニル）−１−フェニル−１Ｈ−テトラゾール（２−１）（４３８ｍｇ， １．８４ｍｍｏｌ）及びトリス（２−（２−メトキシエトキシ）エチル）アミン（ＴＤＡ−１）（３７０μＬ，１．１６ｍｍｏｌ）をトルエン（１．８ｍＬ）に溶解し，撹拌しながら−２０℃まで冷却した．続いて同反応温度下にてカリウムヘキサメチルジシラジド（１１％トルエン溶液，約０．５ｍｏｌ／Ｌ）（４．００ｍＬ，２．０１ｍｍｏｌ）を滴下し，さらに１時間撹拌した．室温まで加温した後に，過剰量の飽和塩化アンモニウム水溶液の加えて反応を停止し，ガスクロマトグラフィーにて分析したところ，１−エトキシ−２,３−ジフルオロ−４−（（４−（プロペン−１−イル）シクロヘキシル）メトキシ）ベンゼン（３−１）（転化率９１％、Ｅ／Ｚ＝９８：２）の生成が確認された．
（実施例３）添加剤を変更した、式（３−１）で表される化合物の製造
【００４２】
【化７】
0006540993.tif 000008
【００４３】
撹拌装置及び温度計及を備えた反応容器に，アルゴン雰囲気下，４−（（４−エトキシ−２，３−ジフルオロフェノキシ）メチル）シクロヘキサン−１−カルバルデヒド（１−１）（５００ｍｇ，１．６８ｍｍｏｌ），５−（エチルスルホニル）−１−フェニル−１Ｈ−テトラゾール（２−１）（５２２ｍｇ， ２．１８ ｍｍｏｌ） 及びトリエチレングリコールジメチルエーテル（６０５μＬ，２．３２ｍｍｏｌ）をトルエン（１．８ｍＬ）に溶解し，撹拌しながら−２０℃まで冷却した．続いて同反応温度下にてカリウムヘキサメチルジシラジド（１１％トルエン溶液，約０．５ｍｏｌ／Ｌ）（４．４０ｍＬ，２．１８ｍｍｏｌ）を滴下し，さらに１時間撹拌した．室温まで加温した後に，過剰量の飽和塩化アンモニウム水溶液の加えて反応を停止し，ガスクロマトグラフィーにて分析したところ，１−エトキシ−２,３−ジフルオロ−４−（（４−（プロペン−１−イル）シクロヘキシル）メトキシ）ベンゼン（３−１）（転化率９４％、Ｅ／Ｚ＝９８：２）の生成が確認された．有機層を分取し，これを水（１０ｍＬ）、続いて飽和食塩水（１０ｍＬ）にて洗浄した後、硫酸ナトリウムを用いて乾燥した．乾燥した混合物を減圧下濃縮し，カラムクロマトグラフィー（シリカゲル１ｇ， ヘキサン１０ｍＬ溶解液，ヘキサン３０ｍＬ追い出し）にて精製後，濃縮し，再結晶を２回実施することで，目的物（４２７ｍｇ，Ｅ／Ｚ＝１００：０，回収率８２％）が得られた．
（実施例４）添加剤未使用、式（３−１）で表される化合物の製造
【００４４】
【化８】
0006540993.tif 000009
【００４５】
撹拌装置及び温度計及を備えた反応容器に，アルゴン雰囲気下，５−（エチルスルホニル）−１−フェニル−１Ｈ−テトラゾール（２−１）（６５．５ｍｇ， ０．２７５ｍｍｏｌ）をトルエン（１４０μＬ）に溶解し，撹拌しながら−７０℃まで冷却した．続いてカリウムヘキサメチルジシラジド（１１％トルエン溶液，約０．５ｍｏｌ／Ｌ）（６００μＬ，０．３００ｍｍｏｌ）を加えて５分間撹拌した後に，トルエン（１３５μＬ）に溶解した，４−（（４−エトキシ−２，３−ジフルオロフェノキシ）メチル）シクロヘキサン−１−カルバルデヒド（１−１）（７４．６ｍｇ，０．２５０ｍｍｏｌ）を加え，さらに３０分撹拌した．室温まで加温し，さらに２時間撹拌した後に，過剰量の飽和塩化アンモニウム水溶液の加えて反応を停止し，ガスクロマトグラフィーにて分析したところ，１−エトキシ−２,３−ジフルオロ−４−（（４−（プロペン−１−イル）シクロヘキシル）メトキシ）ベンゼン（３−１）（転化率５５％、Ｅ／Ｚ＝５６：４４）の生成が確認された．
（実施例５）式（３−２）で表される化合物の製造
【００４６】
【化９】
0006540993.tif 000010
【００４７】
撹拌装置及び温度計を備えた反応容器に，アルゴン雰囲気下，化合物（１−２）（１００ ｍｇ，０．２８５ ｍｍｏｌ），５−（エチルスルホニル）−１−フェニル−１Ｈ−テトラゾール（２−１）（７４．８ ｍｇ， ０．３１４ ｍｍｏｌ）及びトリス（２−（２−メトキシエトキシ）エチル）アミン（ＴＤＡ−１）（６３．０ μＬ，０．１９７ ｍｍｏｌ）をトルエン（３２０μＬ）に溶解し，撹拌しながら−４０℃まで冷却した．続いて同反応温度下にてカリウムヘキサメチルジシラジド（１１％トルエン溶液，約０．５ｍｏｌ／Ｌ）（６２８μＬ，０．３１４ｍｍｏｌ）を滴下し，さらに１時間撹拌した．室温まで加温した後に，過剰量の飽和塩化アンモニウム水溶液の加えて反応を停止し，ガスクロマトグラフィーにて分析したところ，目的物（３−２）（転化率９０％、Ｅ／Ｚ＝９２：８）の生成が確認された．
（実施例６）式（３−３）で表される化合物の製造
【００４８】
【化１０】
0006540993.tif 000011
【００４９】
撹拌装置及び温度計を備えた反応容器に，アルゴン雰囲気下，化合物（１−３）（１００ ｍｇ，０．４７６ ｍｍｏｌ），５−（エチルスルホニル）−１−フェニル−１Ｈ−テトラゾール（２−１）（１２５ ｍｇ， ０．５２４ ｍｍｏｌ）及びテトラエチレングリコールジメチルエーテル（１１５ μＬ，０．５２４ ｍｍｏｌ）をトルエン（５３０μＬ）に溶解し，撹拌しながら−４０℃まで冷却した．続いて同反応温度下にてカリウムヘキサメチルジシラジド（１１％トルエン溶液，約０．５ｍｏｌ／Ｌ）（１．０５ｍＬ，０．５２４ｍｍｏｌ）を滴下し，さらに１時間撹拌した．室温まで加温した後に，過剰量の飽和塩化アンモニウム水溶液の加えて反応を停止し，ガスクロマトグラフィーにて分析したところ，目的物（３−３）（転化率９３％、Ｅ／Ｚ＝９６：４）の生成が確認された．
（実施例７）式（２−１）で表される化合物の製造
【００５０】
【化１１】
0006540993.tif 000012
【００５１】
撹拌装置及び温度計を備えた反応容器に，アルゴン雰囲気下，化合物（２−１ａ）（１４．９ｇ，８３．３ｍｍｏｌ）と炭酸カリウム（１７．３ｇ，１２５ｍｍｏｌ）をアセトン（６０ｍＬ）に溶解させ，２５℃下撹拌した．反応容器を氷浴に浸し，ヨウ化エチル（１５．６ｇ，１００ｍｍｏｌ）を滴下し，さらに２５℃下，１時間撹拌した．反応溶液を減圧下濃縮し，トルエン（２００ｍＬ）及び水（２００ｍＬ）を加え，有機層と水層に分けた後，有機層を飽和食塩水（２００ｍＬ）で洗浄し，硫酸ナトリウムで乾燥した．得られた溶液を減圧下濃縮すると，オイル状無色残渣（２−１ｂ）（１４．４ｇ，純度９９．８％）が得られた．
撹拌装置及び温度計を備えた反応容器に，アルゴン雰囲気下，化合物（２−１ｂ）（１６．３ｇ，７９．２ｍｍｏｌ）をエタノール（１６０ｍＬ）に溶解させ，室温下撹拌した．あらかじめ七モリブデン酸六アンモニウム四水和物（９．７８ｇ，７．９２ｍｍｏｌ）を３５％過酸化水素水（７８．４ｇ）に溶解させたものを調製しておき，これを反応容器内に滴下した．滴下開始直後，発熱したために，氷浴で２５℃程度に冷却しながら２時間撹拌した．１０％亜硫酸ナトリウム水溶液（２００ｍＬ）をゆっくり加え，２０分間室温下撹拌した後，分層させ，水層から酢酸エチル（２００ｍＬ）で抽出し，有機層を合わせ，飽和食塩水（２００ｍＬ）で洗浄し，硫酸ナトリウムで乾燥した．得られた溶液をシリカゲル（１６ｇ）を詰めたカラムを通過させ，さらに酢酸エチル（５００ｍＬ）で追い出し，溶液を減圧下濃縮すると，粗精製物（２４．０ｇ）が得られた．ヘキサン及び酢酸エチルで再結晶を行うことで，目的化合物（２−１）（１７．９ｇ，純度９９．９％）が得られた．
（実施例８）式（２−２）で表される化合物の製造
【００５２】
【化１２】
0006540993.tif 000013
【００５３】
（化合物２−２ｄ）の合成
撹拌装置及び温度計を備えた反応容器に，アルゴン雰囲気下，化合物（２−２ｃ）（３０．０ｇ，９９．９ｍｍｏｌ）とピリジン（９．９０ｍＬ，１２０ｍｍｏｌ）をトルエン（１２０ｍＬ）に溶解させ，氷冷しながら撹拌した．これにメタンスルホニルクロリド（９．３２ｍＬ，１２０ｍｍｏｌ）を滴下し，常温まで昇温させ，３時間撹拌した．その後，再び氷冷し，飽和炭酸水素ナトリウム（２４０ｍＬ）を加え，さらに３０分間撹拌した．室温まで昇温し，分層した水層からトルエン（２４０ｍＬ）で抽出した後，有機層を合わせ，飽和食塩水（２４０ｍＬ）で洗浄し，硫酸ナトリウムで乾燥した．これを減圧下濃縮したところ，目的物（２−２ｄ）（３４．８ｇ，９２．０ｍｍｏｌ）が得られた．
（化合物２−２）の合成
撹拌装置及び温度計を備えた反応容器に，アルゴン雰囲気下，化合物（２−２ａ）（１４．９ｇ，８３．３ｍｍｏｌ）と炭酸カリウム（１７．３ｇ，１２５ｍｍｏｌ）をアセトン（６０ｍＬ）に溶解させ，２５℃下撹拌した．反応容器を氷浴に浸し，アセトン（１００ｍＬ）に溶解させた化合物（２−２ｄ）（３４．８ｇ，９２．０ｍｍｏｌ）を滴下し，さらに２５℃下，５時間撹拌した．反応溶液を減圧下濃縮し，トルエン（２００ｍＬ）及び水（２００ｍＬ）を加え，有機層と水層に分けた後，有機層を飽和食塩水（２００ｍＬ）で洗浄し，硫酸ナトリウムで乾燥した．得られた溶液を減圧下濃縮すると，無色結晶の残渣（２−２ｂ）（３７．３ｇ，純度９９．８％）が得られた．
撹拌装置及び温度計を備えた反応容器に，アルゴン雰囲気下，化合物（２−２ｂ）（３７．３ｇ，８１．０ｍｍｏｌ）をエタノール（４００ｍＬ）に溶解させ，室温下撹拌した．あらかじめ七モリブデン酸六アンモニウム四水和物（１０．０ｇ，８．１０ｍｍｏｌ）を３５％過酸化水素水（８０．１ｇ）に溶解させたものを調製しておき，これを反応容器内に滴下した．滴下開始直後，発熱したために，氷浴で２５℃程度に冷却しながら２時間撹拌した．１０％亜硫酸ナトリウム水溶液（２００ｍＬ）をゆっくり加え，２０分間室温下撹拌した後，分層させ，水層から酢酸エチル（２００ｍＬ）で抽出し，有機層を合わせ，飽和食塩水（２００ｍＬ）で洗浄し，硫酸ナトリウムで乾燥した．得られた溶液をシリカゲル（４０ｇ）を詰めたカラムを通過させ，さらに酢酸エチル（８００ｍＬ）で追い出し，溶液を減圧下濃縮すると，粗精製物（３３．０ｇ）が得られた．ヘキサン及び酢酸エチルで再結晶を行うことで，目的化合物（２−２）（２８．２ｇ，純度９９．２％）が得られた．
（実施例９）式（３−１）で表される化合物の製造
【００５４】
【化１３】
0006540993.tif 000014
【００５５】
撹拌装置及び温度計を備えた反応容器に，アルゴン雰囲気下，アセトアルデヒド（２１．０ｍｇ，０．４７６ ｍｍｏｌ），化合物（２−２）（１２５ ｍｇ， ０．５２４ ｍｍｏｌ）及びテトラエチレングリコールジメチルエーテル（１１５ μＬ，０．５２４ ｍｍｏｌ）をトルエン（５３０μＬ）に溶解し，撹拌しながら−４０℃まで冷却した．続いて同反応温度下にてカリウムヘキサメチルジシラジド（１１％トルエン溶液，約０．５ｍｏｌ／Ｌ）（１．０５ｍＬ，０．５２４ｍｍｏｌ）を滴下し，さらに１時間撹拌した．室温まで加温した後に，過剰量の飽和塩化アンモニウム水溶液の加えて反応を停止し，ガスクロマトグラフィーにて分析したところ，目的物（３−１）（転化率８９％、Ｅ／Ｚ＝９７：３）の生成が確認された．
（実施例１０）式（３−４）で表される化合物の製造
【００５６】
【化１４】
0006540993.tif 000015
【００５７】
撹拌装置及び温度計及を備えた反応容器に，アルゴン雰囲気下，化合物（１−４）（３８６ｍｇ，１．６８ｍｍｏｌ），５−（エチルスルホニル）−１−フェニル−１Ｈ−テトラゾール（２−１）（５２２ｍｇ， ２．１８ｍｍｏｌ） 及びトリエチレングリコールジメチルエーテル（６０５μＬ，２．３２ｍｍｏｌ）をトルエン（１．８ｍＬ）に溶解し，撹拌しながら−２０℃まで冷却した．続いて同反応温度下にてカリウムヘキサメチルジシラジド（１１％トルエン溶液，約０．５ｍｏｌ／Ｌ）（４．４０ｍＬ，２．１８ｍｍｏｌ）を滴下し，さらに１時間撹拌した．室温まで加温した後に，過剰量の飽和塩化アンモニウム水溶液の加えて反応を停止し，ガスクロマトグラフィーにて分析したところ，化合物（３−４）（転化率９６％、Ｅ／Ｚ＝９８：２）の生成が確認された．
（比較例１）特許文献３記載の製造方法による式（３−１）で表される化合物の製造
【００５８】
【化１５】
0006540993.tif 000016
【００５９】
エチルトリフェニルホスホニウムブロマイド（２７７ｇ，７４６ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（７００ｍＬ）に溶解し，撹拌装置及び温度計及を備えた反応容器中，窒素雰囲気下−１０ ℃にて撹拌した．その後，ｔｅｒｔ−ブトキシカリウム（８０．３ｇ，７１５ｍｍｏｌ）を加えて，続いてＴＨＦ（７００ｍＬ）に溶解した，４−（（４−エトキシ−２，３−ジフルオロフェノキシ）メチル）シクロヘキサン−１−カルバルデヒド（１−１）（１８６ｇ，６２２ｍｍｏｌ）を滴下した．滴下後室温まで加温し，２時間撹拌した後，水を少量加え，反応溶液の色が脱色されたのを確認した．得られた混合物を減圧下濃縮し，ヘキサン／トルエン／次亜塩素酸ナトリウム／水／メタノール（３５０ｍＬ／８０ｍＬ／４５ｍＬ／２５０ｍＬ／５２０ｍＬ）にて抽出し，水／メタノール（２００ｍＬ／４００ｍＬ）で洗浄し，続いて水（４００ｍＬ）にて洗浄後，減圧下濃縮した．得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル１８０ｇ，ヘキサン／トルエン（４／１））にて精製し，得られた溶液を減圧下濃縮したところ，１−エトキシ−２，３−ジフルオロ−４−（（４−（プロペン−１−イル）シクロヘキシル）メトキシ）ベンゼン（３−１ａ）（１７４ｇ，収率８９％，Ｅ／Ｚ＝９：９１）が得られた．
撹拌装置及び温度計及を備えた反応容器中，窒素雰囲気下，得られた化合物（３−１ａ）（１７４ｇ, ５５９ｍｍｏｌ）及びベンゼンスルフィン酸ナトリウム（４．６０ｇ，２８．０ｍｍｏｌ）及び１０％ 塩酸（２１．１ｇ，５５．９ｍｍｏｌ）をトルエン（６８０ｍＬ）に溶解し，８５℃で２時間撹拌した．反応溶液をガスクロマトグラフィーにて分析したところ，化合物（３−１）（Ｅ／Ｚ＝８２：１８）が生成していることが確認された．これに飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（５００ｍＬ）を加え，さらに１時間撹拌した後，有機層を分取し，これを水（５００ｍＬ）にて洗浄した．得られた混合物を減圧下濃縮し，カラムクロマトグラフィー（シリカゲル２００ｇ， ヘキサン６００ｍＬ溶解液，ヘキサン１５００ｍＬ追い出し）にて精製後，濃縮し，再結晶を１２回実施することで，化合物（３−１）（６８．３ｇ，Ｅ／Ｚ＝９９．８５：０．１５，回収率４２％）が得られた．
この製造方法では、反応終了後の立体選択性が低いため、Ｅ体の純度を高めるためには再結晶を繰り返す必要があり、回収率が大きく低下した。