(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
重合性液晶化合物を含む液晶位相差層形成用組成物から形成された液晶位相差層と、
高分子フィルムを延伸して形成された位相差フィルムからなる位相差層と、
二色性色素及び重合性液晶化合物を含む偏光層形成用組成物から形成された偏光層と
が、この順で設けられていて、
前記位相差層は１／２波長板であり、
前記液晶位相差層は、１／４波長板であり、
前記位相差層の遅相軸に対する前記液晶位相差層の遅相軸のなす角度のうち、小さい角度（ＡＧ２）と、
前記位相差層の遅相軸に対する前記偏光層の吸収軸あるいは透過軸のなす角度のうち、小さい角度（ＡＧ３）とが、
(1)ＡＧ２が６０°であり、ＡＧ３が−１５°である組み合わせである
か、または
(2)ＡＧ２が９０°であり、ＡＧ３が−２２．５°である組み合わせであり、
前記液晶位相差層と前記位相差層との間に第１配向層が設けられており、
前記位相差層と前記偏光層との間に第２配向層が設けられている
円偏光板。
【請求項２】
前記位相差層が、高分子フィルムを一軸延伸して形成された位相差フィルムからなる請求項１に記載の円偏光板。
【請求項３】
前記偏光層形成用組成物に含まれる前記重合性液晶化合物がスメクチック相の液晶状態を示す化合物である請求項１記載の円偏光板。
【請求項４】
前記偏光層が、Ｘ線回折測定においてブラッグピークが得られるものである請求項１〜請求項３のいずれか記載の円偏光板。
【請求項５】
液晶位相差層が、重合性液晶化合物を含む液晶位相差層形成用組成物を、第１配向層に塗布して形成されたものである請求項４に記載の円偏光板。
【請求項６】
偏光層が、二色性色素を含む偏光層形成用組成物を、第２配向層に塗布して形成されたものである請求項４又は請求項５に記載の円偏光板。
【請求項７】
前記第１配向層及び／又は前記第２配向層が、光誘起型配向性材料を含む配向層形成用組成物から形成されたものである請求項４〜請求項６のいずれかに記載の円偏光板。
【請求項８】
請求項１〜請求項７のいずれかに記載の円偏光板を製造する方法であり、
以下の準備工程、液晶位相差層形成工程及び偏光層形成工程を有する円偏光板の製造方法。
準備工程：高分子フィルムを延伸して形成され、１／２波長板である位相差フィルムを準備する工程；
液晶位相差層形成工程：該位相差フィルムの一方の面に、予め配向層を形成し、その上に重合性液晶化合物を含む液晶位相差層形成用組成物を塗布し、塗布された液晶位相差層形成用塗布膜から、１／４波長板である液晶位相差層を形成する工程；
偏光層形成工程：該位相差フィルムの他方の面に、予め配向層を設け、その上に二色性色素を含む偏光層形成用組成物を塗布し、塗布された偏光層形成用塗布膜から偏光層を形成する工程。
【請求項９】
請求項１〜請求項７のいずれか記載の円偏光板と表示素子とを備える表示装置。
【請求項１０】
液晶セル、有機ＥＬ素子又はタッチパネルを表示素子として備える請求項９記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、円偏光板及びその製造方法などに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置に用いられる広帯域円偏光板（円偏光板）は通常、ヨウ素で染色したポリビニルアルコールからなる偏光フィルムと、１／２波長板及び１／４波長板とを例えば、１／２波長板及び１／４波長板の遅相軸と、偏光フィルムの吸収軸とのなす角が各々１５°及び７５°になるように粘着剤又は接着剤を介して貼合して積層させることで製造されている。しかしながら、かかる円偏光板は、その総厚みが厚くなることが避けられず、より薄型化が求められる現在の表示装置に用いる円偏光板には不向きである。そこで貼合による積層を回避し、偏光フィルム、１／２波長板又は１／４波長板のいずれかを塗工方法により形成して、薄型の円偏光板を製造しようとする試みがなされている。
【０００３】
例えば、特許文献１には、サーモトロピック液晶性あるいはリオトロピック液晶性の物質を用いて形成させた偏光子と、位相差層（正波長分散性フィルム）とを積層した円偏光板が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００９−２５１２８８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、前記特許文献１記載の円偏光板は、本発明者の検討によれば、円偏光板としての反射防止性能が不十分であることが判明した。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は以下の発明を含む。
〔１〕重合性液晶化合物を含む液晶位相差層形成用組成物から形成された液晶位相差層と、
高分子フィルムを延伸して形成された位相差フィルムからなる位相差層と、
二色性色素を含む偏光層形成用組成物から形成された偏光層と
が、この順で設けられている円偏光板。
〔２〕前記偏光層形成用組成物が、さらに重合性液晶化合物を含む〔１〕記載の円偏光板。
〔３〕前記偏光層形成用組成物に含まれる前記重合性液晶化合物がスメクチック相の液晶状態を示す化合物である〔２〕記載の円偏光板。
〔４〕前記位相差層が１／２波長板であり、かつ前記液晶位相差層が１／４波長板である〔１〕〜〔３〕のいずれか記載の円偏光板。
〔５〕前記偏光層が、Ｘ線回折測定においてブラッグピークが得られるものである〔１〕〜〔４〕のいずれか記載の円偏光板。
〔６〕前記液晶位相差層と前記位相差層との間に第１配向層が設けられており、
かつ前記位相差層と前記偏光層との間に第２配向層が設けられている〔１〕〜〔５〕のいずれか記載の円偏光板。
〔７〕液晶位相差層が、重合性液晶化合物を含む液晶位相差層形成用組成物を、第１配向層に塗布して形成されたものである〔６〕に記載の円偏光板。
〔８〕偏光層が、二色性色素を含む偏光層形成用組成物を、第２配向層に塗布して形成されたものである〔６〕又は〔７〕に記載の円偏光板。
〔９〕前記第１配向層及び／又は前記第２配向層が、光誘起型配向性材料を含む配向層形成用組成物から形成されたものである〔６〕〜〔８〕のいずれかに記載の円偏光板。
〔１０〕以下の準備工程、液晶位相差層形成工程及び偏光層形成工程を有する円偏光板の製造方法。
準備工程：高分子フィルムを延伸して形成された位相差フィルムを準備する工程；
液晶位相差層形成工程：該位相差フィルムの一方の面に、重合性液晶化合物を含む液晶位相差層形成用組成物を塗布し、塗布された液晶位相差層形成用塗布膜から液晶位相差層を形成する工程；
偏光層形成工程：該位相差フィルムの他方の面に、二色性色素を含む偏光層形成用組成物を塗布し、塗布された偏光層形成用塗布膜から偏光層を形成する工程。
〔１１〕〔１〕〜〔９〕のいずれか記載の円偏光板と表示素子とを備える表示装置。
〔１２〕液晶セル、有機ＥＬ素子又はタッチパネルを表示素子として備える〔１１〕記載の表示装置。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、薄型で反射防止性能に優れた円偏光板、当該円偏光板の製造方法及び当該円偏光板を供えた表示装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明の円偏光板の断面構成を表す模式図である。
【図２】本発明の円偏光板の連続的製造方法の一例を表す模式図である。
【図３】本発明の円偏光板を用いたＥＬ表示装置の断面構成を表す模式図である。
【図４】本発明の円偏光板を用いたＥＬ表示装置の断面構成を表す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
＜円偏光板＞
本発明の円偏光板（以下、場合により「本円偏光板」という。）は、
重合性液晶化合物を含む液晶位相差層形成用組成物から形成された液晶位相差層と、
高分子フィルムを延伸して形成された位相差フィルムからなる位相差層と、
二色性色素を含む偏光層形成用組成物から形成された偏光層と
が、この順で設けられていることを特徴とする。このような本円偏光板の構成において、前記位相差相は１／２波長板であり、前記液晶位相差層が１／４波長板であることが好ましい。まず、本円偏光板の製造方法について説明する。
【００１０】
図１は本円偏光板の構成を表す模式図である。図１（Ａ１）の構成は、液晶位相差層２と、位相差層１と、偏光層３とがこの順で設けられた本円偏光板１００に係る。
図１（Ａ２）の構成は、本円偏光板の好ましい構成であり、液晶位相差層２と位相差層１との間に配向層２Ａが、偏光層３と位相差層１との間に配向層３Ａがそれぞれ、さらに設けられた本円偏光板１００に係る。
【００１１】
＜本円偏光板の製造方法（以下、場合により「本製造方法」という。）＞
本円偏光板の製造方法は通常、以下の準備工程、液晶位相差層形成工程及び偏光層形成工程を有する。
準備工程：高分子フィルムを延伸して形成された位相差フィルムを準備する工程；
液晶位相差層形成工程：該位相差フィルムの一方の面に、重合性液晶化合物を含む液晶位相差層形成用組成物を塗布し、塗布された液晶位相差層形成用塗布膜から液晶位相差層を形成する工程；
偏光層形成工程：該位相差フィルムの他方の面に、重二色性色素を含む偏光層形成用組成物を塗布し、塗布された偏光層形成用塗布膜から偏光層を形成する工程。
【００１２】
準備工程：
本製造方法の準備工程で準備される位相差フィルムは、高分子フィルムを延伸して形成されたものである。当該高分子フィルムは、光、特に可視光を透過し得る透明性を有するフィルムであることが好ましい。透明性とは、波長３８０〜７８０ｎｍに渡る光線に対しての透過率が８０％以上となる特性をいう。かかる高分子フィルムを構成する高分子としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマーなどのポリオレフィン；環状オレフィン系樹脂；ポリビニルアルコール；ポリエチレンテレフタレート；ポリメタクリル酸エステル；ポリアクリル酸エステル；トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース及びセルロースアセテートプロピオネートなどのセルロースエステル；ポリエチレンナフタレート；ポリカーボネート；ポリスルホン；ポリエーテルスルホン；ポリエーテルケトン；ポリフェニレンスルフィド及びポリフェニレンオキシドなどが挙げられる。入手の容易性や、透明性がより高い点から、セルロースエステル、環状オレフィン系樹脂、ポリカーボネートから構成される高分子フィルムが好ましい。
【００１３】
中でも、位相差性を制御し易いという点で、環状オレフィン系樹脂から構成される高分子フィルム（以下、環状オレフィン系樹脂フィルムということがある。）が特に好ましい。
【００１４】
環状オレフィン系樹脂は、市場から容易に入手できる。市販の環状オレフィン系樹脂としては、“Ｔｏｐａｓ”［Ｔｉｃｏｎａ社（独）］；“アートン”［ＪＳＲ（株）］；“ゼオノア（ＺＥＯＮＯＲ）”及び“ゼオネックス（ＺＥＯＮＥＸ）”［日本ゼオン（株）］；“アペル”［三井化学（株）製］などが挙げられる。このような環状オレフィン系樹脂を例えば、溶剤キャスト法や溶融押出法などの公知の製膜手段により製膜して、フィルム（環状オレフィン系樹脂フィルム）とすることができる。また、すでにフィルムの形態で市販されている環状オレフィン系樹脂フィルムも用いることができる。このような市販の環状オレフィン系樹脂フィルムとしては例えば、“エスシーナ”及び“ＳＣＡ４０”［積水化学工業（株）］；“ゼオノアフィルム”［オプテス（株）］；“アートンフィルム”［ＪＳＲ（株）］などが挙げられる。
【００１５】
環状オレフィン系樹脂は、ノルボルネンや多環ノルボルネン系モノマーなどの環状オレフィンの重合体又は共重合体等から構成されるものである。当該環状オレフィンの重合体又は共重合体は部分的に、開環部を含んでいてもよく、また、水素添加したものでもよい。さらに、当該環状オレフィン系樹脂は、透明性を著しく損なわない点や、著しく吸湿性を増大させない点で例えば、環状オレフィンと、鎖状オレフィンやビニル化芳香族化合物（スチレンなど）との共重合体であってもよい。また、環状オレフィン系樹脂は、その分子内に極性基が導入されていてもよい。
【００１６】
前記鎖状オレフィンとしては、エチレン及びプロピレンなどが挙げられる。また、前記ビニル化芳香族化合物としては、スチレン、α−メチルスチレン及びアルキル置換スチレンなどが挙げられる。前記共重合体における、環状オレフィンに由来する構造単位の含有割合は、環状オレフィン系樹脂の全構造単位に対して、通常５０モル％以下であり、好ましくは、１５〜５０モル％である。環状オレフィン系樹脂が、環状オレフィンと、鎖状オレフィンと、ビニル化芳香族化合物とから得られる三元共重合体である場合、鎖状オレフィン由来の構造単位の含有割合は、環状オレフィン系樹脂の全構造単位に対して、通常５〜８０モル％であり、ビニル化芳香族化合物由来の構造単位の含有割合は、通常５〜８０モル％である。このような三元共重合体の環状オレフィン系樹脂は、該環状オレフィン系樹脂を製造する際に、高価な環状オレフィンの使用量を比較的少なくすることができるという利点がある。
【００１７】
高分子フィルムから位相差フィルムを製造する方法としては、高分子フィルムを延伸する方法が挙げられる。延伸する方法としては、例えば、以下のような方法が挙げられる。
高分子フィルムがロールに巻き取られているロール（巻き取り体）を準備し、かかる巻き取り体から、高分子フィルムを連続的に巻き出し、巻き出された高分子フィルムを加熱炉へと搬送する。
加熱炉の設定温度は、通常、高分子フィルムのガラス転移温度（℃）〜［ガラス転移温度＋１００］（℃）の範囲とし、好ましくは、ガラス転移温度（℃）〜［ガラス転移温度＋５０］（℃）の範囲とする。
当該加熱炉において、高分子フィルムの進行方向へ、又は進行方向と直交する方向へ延伸する際に、搬送方向や張力を調整し任意の角度に傾斜をつけて、一軸又は二軸の延伸を行う。
延伸の倍率は、通常１.１〜６倍であり、好ましくは１.１〜３.５倍である。
また、斜め方向に延伸する方法としては、連続的に配向軸を所望の角度に傾斜させることができるものであれば、特に限定されず、公知の延伸方法が採用できる。このような延伸方法としては例えば、特開昭５０−８３４８２号公報や特開平２−１１３９２０号公報に記載の方法を挙げることができる。
【００１８】
延伸倍率は、高分子フィルムを構成する樹脂の配向複屈折性に応じて決定すればよい。
配向により生じた複屈折Δｎと延伸後の厚みｄを掛け算した値であるリタデーション値が波長５５０ｎｍを基準として、２００〜３２０ｎｍの範囲であれば、得られた位相差フィルムは、１／２波長板として使用できる。
かかる、１／２波長板は本偏光板の位相差層として好ましい。
【００１９】
高分子フィルムの厚みは、実用的な取扱いができる程度の重量である点、及び、十分な透明性が確保できる点で、薄い方が好ましいが、薄すぎると強度が低下し、加工性に劣る傾向がある。高分子フィルムの適当な厚みは、通常、５〜３００μmであり、好ましくは２０〜２００μmであり、さらに好ましくは２０〜１００μｍである。延伸後の位相差フィルムの厚みは、延伸前の高分子フィルムの厚みや延伸倍率によって決定される。
【００２０】
液晶位相差層形成工程：
液晶位相差層は、重合性液晶化合物を含む液晶位相差層形成用組成物から形成されたものであり、好ましくは、前記位相差フィルム上に液晶位相差層形成用組成物を塗布することにより得られる液晶位相差層形成用塗布膜から形成されるものである。
液晶位相差層形成用組成物に含まれる重合性液晶化合物としては例えば、式（Ｉ）、式（ＩＩ）、式（ＩＩＩ）、式（ＩＶ）、式（Ｖ）及び式（ＶＩ）でそれぞれ表される化合物が挙げられる。
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-A14-B16-E12-B17-P12  （Ｉ）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-A14-F11              （ＩＩ）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-E12-B17-P12          （ＩＩＩ）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-F11                      （ＩＶ）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-E12-B17-P12                  （Ｖ）
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-F11                                （ＶＩ）
（式中、Ｐ１１及びＰ１２は、重合性基を表わす。
Ａ１１〜Ａ１４は、２価の脂環式炭化水素基または２価の芳香族炭化水素基を表わす。
該２価の脂環式炭化水素基および２価の芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６アルコキシ基、シアノ基またはニトロ基で置換されていてもよく、該炭素数１〜６のアルキル基および該炭素数１〜６アルコキシ基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。また、２価の脂環式炭化水素基を構成する−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＲ５０−に置き換わってもよい。Ｒ５０は、炭素数１〜６のアルキル基又はフェニル基である。
Ｂ１１及びＢ１７は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ１６−、−ＮＲ１６−ＣＯ−、−ＣＯ−、−ＣＳ−または単結合を表わす。Ｒ１６は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表わす。
Ｂ１２〜Ｂ１６は、それぞれ独立に、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１６−、−ＮＲ１６−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣＨ２−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＲａ＝ＣＲｂ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＲａ＝Ｎ−又は単結合を表す。Ｒａ及びＲｂは、互いに独立に、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｅ１１及びＥ１２は、炭素数１〜２０のアルカンジイル基を表わし、該アルカンジイル基に含まれる水素原子は、炭素数１〜５のアルコキシ基で置換されていてもよく、該アルコキシ基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。また、該アルカンジイル基を構成する−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−または−ＣＯ−に置き換わっていてもよい。
Ｆ１１は、水素原子、炭素数１〜１３のアルキル基、炭素数１〜１３のアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、ジメチルアミノ基、ヒドロキシ基、メチロール基、ホルミル基、スルホ基（−ＳＯ３Ｈ）、カルボキシ基、炭素数１〜１０のアルコキシカルボニル基又はハロゲン原子を表し、該アルキル基及びアルコキシ基に含まれる−ＣＨ２−は、−Ｏ−に置き換っていてもよい。］
【００２１】
Ａ１１〜Ａ１４で表される２価の芳香族炭化水素基および２価の脂環式炭化水素基の炭素数は、３〜１８の範囲であることが好ましく、５〜１２の範囲であることがより好ましく、５または６であることが特に好ましい。Ａ１１としては、シクロヘキサン−１，４−ジイル基、１，４−フェニレン基が好ましい。
【００２２】
Ｅ１１及びＥ１２で表される炭素数１〜２０のアルカンジイル基としては、直鎖状の炭素数１〜１２のアルカンジイル基が好ましい。炭素数１〜１２のアルカンジイル基を構成する−ＣＨ２−は、−Ｏ−に置き換っていてもよい。
具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン−１，３−ジイル基、ブタン−１，４−ジイル基、ペンタン−１，５−ジイル基、へキサン−１，６−ジイル基、へプタン−１，７−ジイル基、オクタン−１，８−ジイル基、ノナン−１，９−ジイル基、デカン−１，１０−ジイル基、ウンデカン−１，１１−ジイル基およびドデカン−１，１２−ジイル基等の炭素数１〜１２の直鎖状アルカンジイル基；−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−および−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−等が挙げられる。
【００２３】
Ｐ１１及びＰ１２で示される重合性基としては、重合反応がし易いという点で、ラジカル重合性基またはカチオン重合性基が好ましく、取り扱いが容易な上、重合性液晶化合物の製造自体も容易であることから、重合性基は、下記の式（Ｐ−１１）〜式（Ｐ−１５）で表わされる基であることが好ましい。
0006540762.tif 000002
［式（Ｐ−１１）〜（Ｐ−１５）中、
Ｒ１７〜Ｒ２１はそれぞれ独立に、炭素数１〜６のアルキル基または水素原子を表わす。］
【００２４】
式（Ｐ−１１）〜式（Ｐ−１３）で表わされる基の具体例としては、下記式（Ｐ−１６）〜式（Ｐ−２０）で表わされる基が挙げられる。
0006540762.tif 000003
【００２５】
Ｐ１１は、式（Ｐ−１４）〜式（Ｐ−２０）で表わされる基であることが好ましく、ビニル基、ｐ−スチルベン基、エポキシ基またはオキセタニル基がより好ましい。
Ｐ１１−Ｂ１１−で表わされる基が、アクリロイルオキシ基またはメタアクリロイルオキシ基であることがさらに好ましい。
【００２６】
重合性液晶化合物の具体例としては、液晶便覧（液晶便覧編集委員会編、丸善（株）平成１２年１０月３０日発行）の「３．８．６  ネットワーク（完全架橋型）」、「６．５．１  液晶材料  ｂ．重合性ネマチック液晶材料」に記載された化合物の中で重合性基を有する化合物が挙げられる。液晶位相差層形成用組成物に含まれる重合性液晶化合物として、異なる複数種の重合性液晶化合物を併用してもよい。  
【００２７】
液晶位相差層形成用組成物に含まれる重合性液晶化合物の具体例としては、たとえば以下の式（Ｉ−１）〜式（Ｉ−４）、式（ＩＩ−１）〜式（ＩＩ−４）、式（ＩＩＩ−１）〜式（ＩＩＩ−２６）、式（ＩＶ−１）〜式（ＩＶ−１９）、式（Ｖ−１）〜式（Ｖ−２）、式（ＶＩ−１）〜式（ＶＩ−６）でそれぞれ表される化合物等が挙げられる。ただし、式中ｋ1及びｋ2は、２〜１２の整数を表す。これらの重合性液晶化合物は、合成が容易であり、また、入手が容易であるため好ましい。
0006540762.tif 000004
【００２８】
0006540762.tif 000005
【００２９】
0006540762.tif 000006
【００３０】
0006540762.tif 000007
【００３１】
0006540762.tif 000008
【００３２】
0006540762.tif 000009
【００３３】
0006540762.tif 000010
【００３４】
0006540762.tif 000011
【００３５】
液晶位相差層形成用組成物は、は重合性液晶化合物を溶解する溶剤を含む。
該溶剤としては、重合性液晶化合物に対する溶解性が十分で、且つ、重合性液晶化合物の重合反応に対して不活性なものが選ばれる。このような溶剤としては例えば、水；メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル及びプロピレングリコールモノメチルエーテルなどのアルコール溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン又はプロピレングリコールメチルエーテルアセテート及び乳酸エチルなどのエステル溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン及びメチルイソブチルケトンなどのケトン溶剤；ペンタン、ヘキサン及びヘプタンなどの脂肪族炭化水素溶剤；トルエン及びキシレンなどの芳香族炭化水素溶剤；アセトニトリルなどのニトリル溶剤；テトラヒドロフラン及びジメトキシエタンなどのエーテル溶剤；クロロホルム及びクロロベンゼンなどの塩素置換炭化水素溶媒；などが挙げられる。これらの溶剤は、単独でもよいし、組み合わせてもよい。
【００３６】
液晶位相差層形成用組成物における重合性液晶化合物の含有割合は、液晶位相差層形成用組成物の固形分に対して、通常１〜７０質量％であり、好ましくは１０〜４０質量％である。重合性液晶化合物の含有割合が上記範囲内であれば、塗工する際に、いわゆる液ダレが発生したり、得られた液晶位相差層にムラが発生したりしないため好ましい。ここでいう固形分とは、液晶位相差層形成用組成物から溶剤を除いた成分の合計量のことをいう。なお、複数種の重合性液晶化合物が該液晶位相差層形成用組成物に含有される場合、その合計含有割合が前記の範囲であればよい。
【００３７】
液晶位相差層形成用組成物は、重合開始剤を含有すると好ましい。重合開始剤は、重合性液晶化合物の重合反応を開始し得る化合物である。重合開始剤としては、低温条件下で、重合反応を開始できる点で、光重合開始剤が好ましい。具体的には、光の作用により活性ラジカル又は酸を発生する化合物が光重合開始剤として用いられる。当該光重合開始剤の中でも、光の作用により活性ラジカルを発生するものがより好ましい。
【００３８】
重合開始剤としては、例えばベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物、アルキルフェノン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物、トリアジン化合物、ヨードニウム塩及びスルホニウム塩などが挙げられる。
【００３９】
ベンゾイン化合物としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル及びベンゾインイソブチルエーテルなどが挙げられる。
【００４０】
ベンゾフェノン化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン及び２，４，６−トリメチルベンゾフェノンなどが挙げられる。
【００４１】
アルキルフェノン化合物としては、例えば、ジエトキシアセトフェノン、２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルチオフェニル）プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１，２−ジフェニル−２，２−ジメトキシエタン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル〕プロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン及び２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパン−１−オンのオリゴマーなどが挙げられる。
【００４２】
アシルホスフィンオキサイド化合物としては、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド及びビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイドなどが挙げられる。
【００４３】
トリアジン化合物としては、例えば、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシナフチル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシスチリル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（５−メチルフラン−２−イル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（フラン−２−イル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン及び２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（３，４−ジメトキシフェニル）エテニル〕−１，３，５−トリアジンなどが挙げられる。
【００４４】
光重合開始剤は、市販のものを用いることもできる。市販の光重合開始剤としては、”イルガキュア（Ｉｒｇａｃｕｒｅ）９０７”、”イルガキュア１８４”、”イルガキュア６５１”、”イルガキュア８１９”、”イルガキュア２５０”、”イルガキュア３６９”（チバ・ジャパン（株））；”セイクオールＢＺ”、”セイクオールＺ”、”セイクオールＢＥＥ”（精工化学（株））；”カヤキュアー（ｋａｙａｃｕｒｅ）ＢＰ１００”（日本化薬（株））；”カヤキュアーＵＶＩ−６９９２”（ダウ社製）；”アデカオプトマーＳＰ−１５２”、”アデカオプトマーＳＰ−１７０”（（株）ＡＤＥＫＡ）；”ＴＡＺ−Ａ”、”ＴＡＺ−ＰＰ”（日本シイベルヘグナー社）；及び”ＴＡＺ−１０４”（三和ケミカル社）などが挙げられる。
【００４５】
液晶位相差層形成用組成物から液晶位相差層を形成するには、位相差フィルムからなる位相差層に、液晶位相差層形成用組成物を塗布して液晶位相差層形成用塗布膜を形成する。この場合、位相差フィルム上の位相差層を形成しようとする面には、予め配向層を形成し、その上に液晶位相差層を形成するのが好ましい。位相差フィルムに形成された配向層上に、液晶位相差層形成用組成物を塗布して液晶位相差層形成用塗布膜を形成すると、当該配向層の作用により、所望の遅相軸を有する液晶位相差層を形成することができる。
【００４６】
前記配向層は、液晶位相差層形成用組成物を塗布するなどにより溶解しない程度の溶剤耐性を有すると好ましい。また、液晶位相差層形成用組成物から形成された液晶位相差層形成用塗布膜から溶剤を除去したり、当該塗布膜中の重合性液晶化合物を所望の方向に配向させたりするための加熱処理に対して耐熱性を有すると好ましい。
【００４７】
配向層に含まれる配向性ポリマーとしては、例えば分子内にアミド結合を有するポリアミドやゼラチン類、分子内にイミド結合を有するポリイミド及びその加水分解物であるポリアミック酸、ポリビニルアルコール、アルキル変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリオキサゾール、ポリエチレンイミン、ポリスチレン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸又はポリアクリル酸エステル類等のポリマーを挙げることができる。
中でも、ポリビニルアルコールが好ましい。配向性ポリマーは、単独で用いてもよいし、組み合わせて用いてもよい。
【００４８】
配向性ポリマーを、溶剤に溶解した配向層形成用組成物として、位相差フィルムに塗布することにより、位相差フィルムに配向層を形成することができる。配向層形成用組成物が含む溶剤としては例えば、上記液晶位相差層形成用組成物が含む溶剤として例示したものの中から、配向性ポリマーを十分溶解するものが挙げられる。
【００４９】
配向層形成用組成物としては、市販のものを使用することもできる。市販の配向層形成用組成物としては、サンエバー（登録商標、日産化学工業（株）製）、オプトマー（登録商標、ＪＳＲ（株）製）などが挙げられる。
【００５０】
位相差フィルムに配向層を形成する方法としては、例えば位相差フィルム上に、配向層形成用組成物を塗布し、その後、アニールする方法が挙げられる。このようにして得られる配向層の厚さは、通常１０ｎｍ〜１００００ｎｍであり、好ましくは１０ｎｍ〜１０００ｎｍである。
【００５１】
配向層に対して配向規制力を付与するために、必要に応じてラビングを行うこと（ラビング法）ができる。配向規制力を付与することにより重合性液晶化合物を所望の方向に配向させることができる。
【００５２】
ラビング法により配向規制力を付与する方法としては、例えばラビング布が巻きつけられ、回転しているラビングロールを準備し、位相差フィルム上に配向層形成用の塗布膜が形成された積層体をステージに載せて、回転しているラビングロールに向けて搬送することで、該配向層形成用の塗布膜と、回転しているラビングロールとを接触させる方法が挙げられる。
【００５３】
また、配向層は、光照射により配向規制力を生じる光誘起型配向性材料からも形成される（以下、光誘起型配向性材料に光照射して形成された配向層を、光配向層ということがある）。光誘起型配向性材料から光配向誘起層を形成し、偏光（好ましくは、偏光ＵＶ）を照射し、光配向誘起層に配向規制力を付与することにより配向層は形成される。従って、照射する偏光の方向を選択することにより、自由に重合性液晶化合物の配向方向を制御できるため、より好ましい。光誘起型配向性材料は、光反応性基を有するポリマー又はモノマーを含む。以下、光誘起型配向性材料と、溶剤とを含む配向層形成用組成物を、光配向層形成用組成物ということがある。光反応性基とは、光を照射すること（光照射）により液晶配向能を生じる基をいう。具体的には、光を照射することで生じる分子の配向誘起又は異性化反応、二量化反応、光架橋反応、あるいは光分解反応のような、液晶配向能の起源となる光反応を生じるものである。当該光反応性基の中でも、二量化反応又は光架橋反応を利用したものが、配向性に優れ、偏光層形成時の液晶状態を保持する点で好ましい。以上のような反応を生じうる光反応性基としては、不飽和結合、特に二重結合を有するものが好ましく、炭素−炭素二重結合（Ｃ＝Ｃ結合）、炭素−窒素二重結合（Ｃ＝Ｎ結合）、窒素−窒素二重結合（Ｎ＝Ｎ結合）、及び炭素−酸素二重結合（Ｃ＝Ｏ結合）からなる群より選ばれる少なくとも一つを有する光反応性基が特に好ましい。
【００５４】
Ｃ＝Ｃ結合を有する光反応性基としては例えば、ビニル基、ポリエン基、スチルベン基、スチルバゾ−ル基、スチルバゾリウム基、カルコン基及びシンナモイル基などが挙げられる。Ｃ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、芳香族シッフ塩基及び芳香族ヒドラゾンなどの構造を有する基が挙げられる。Ｎ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基及びホルマザン基などや、アゾキシベンゼンを基本構造とするものが挙げられる。Ｃ＝Ｏ結合を有する光反応性基としては、ベンゾフェノン基、クマリン基、アントラキノン基及びマレイミド基などが挙げられる。これらの基は、アルキル基、アルコキシ基、アリ−ル基、アリルオキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、スルホン酸基及びハロゲン化アルキル基などの置換基を有していてもよい。
中でも、光二量化反応しうる光反応性基が好ましく、シンナモイル基及びカルコン基が、光配向に必要な偏光照射量が比較的少なく、かつ、熱安定性や経時安定性に優れる光配向層が得られやすいため好ましい。さらにいえば、光反応性基を有するポリマーとしては、当該ポリマー側鎖の末端部が桂皮酸構造となるようなシンナモイル基を有するものが特に好ましい。
【００５５】
光配向層形成用組成物の溶剤としては、上記液晶位相差層形成用組成物が含む溶剤として例示したものの中から、光誘起型配向性材料を十分溶解するものが挙げられる。
【００５６】
光配向層形成用組成物に対する、光反応性基を有するポリマー又はモノマーの濃度は、当該光反応性基を有するポリマー又はモノマーの種類や製造しようとする光配向層の厚みによって適宜調節できるが、固形分濃度で表して、少なくとも０．２質量％とすることが好ましく、０．３〜１０質量％の範囲が特に好ましい。また、光配向層の特性が著しく損なわれない範囲で、該光配向層形成用組成物には、ポリビニルアルコ−ルやポリイミドなどの高分子材料や光増感剤が含まれていてもよい。
【００５７】
位相差フィルム上に、配向層形成用組成物又は光配向層形成用組成物を塗布する方法としては、スピンコ−ティング法、エクストルージョン法、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、バーコーティング法及びアプリケータ法などの塗布法や、フレキソ法などの印刷法などの公知の方法が採用される。
【００５８】
位相差フィルム上に、光配向層形成用組成物を塗布して形成された光配向誘起層から光配向層を形成する方法としては、例えば、以下の方法が挙げられる。
まず、光配向層形成用組成物を塗布して得られた塗布膜をアニール処理することで、当該塗布膜に含まれる溶剤を除去する。かかるアニール処理における温度及び時間は、光配向層形成用組成物に含まれる溶剤などの種類に応じて適切な条件が採用される。
【００５９】
アニール処理後の光配向誘起層に、偏光（好ましくは、偏光ＵＶ）を照射することによって配向規制力を付与することができる。このような偏光照射によって所望の配向方向に配向規制力を有する配向層が得られる。本発明においては、基板である位相差フィルムの遅相軸に対して水平でも垂直でもない方向に偏光照射する必要があり、位相差フィルムの遅相軸に対して実質的に６０°あるいは−６０°の方向に照射するのが好ましい。
【００６０】
かくして形成された配向層の厚みは、本円偏光板の総厚みが後述する範囲を著しく超えないようにして定められるが、通常１０〜１０００ｎｍである。かかる配向層の厚みは、配向層形成用組成物を塗布することにより形成された塗布膜の厚みによりコントロールすることができる。配向層の厚みは、干渉膜厚計やレーザー顕微鏡あるいは触針式膜厚計の測定で求められる。
【００６１】
続いて、形成された配向層上に液晶位相差層形成用組成物を塗布する。塗布方法としては、配向層形成用組成物の塗布方法として例示したものと同じものが挙げられる。
【００６２】
次に、配向層上に塗布して形成された液晶位相差層形成用塗布膜に含まれる溶媒を乾燥除去することにより、乾燥被膜が形成される。乾燥方法としては例えば、自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥及び減圧乾燥法などが挙げられる。
【００６３】
続いて、乾燥被膜に光を照射して乾燥被膜中の重合性液晶化合物を重合して液晶位相差層を形成する。乾燥被膜に照射する光は、当該乾燥被膜に含まれる重合性液晶化合物の種類又は重合開始剤の種類、及びその量に応じて適宜、可視光、紫外光、レーザー光又は活性電子線から選択される。これらのうち、重合反応の進行をコントロールし易い点や、光重合に係る装置として当分野で広範に用いられているものが使用できるという点で、紫外光が好ましい。よって、紫外光によって、重合できるように、前記液晶位相差層形成用組成物に含有される重合性液晶化合物及び光重合開始剤の種類を選択する。
【００６４】
かくして形成された液晶位相差層の厚みは、本円偏光板の総厚みが後述する範囲を著しく超えないようにして定められるが、通常０．５〜５．０μｍである。かかる液晶位相差層の厚みは、液晶位相差層形成用組成物を塗布することにより形成される液晶位相差層形成用塗布膜の厚みや重合性液晶化合物の複屈折率を制御することによりコントロールすることができる。
【００６５】
偏光層形成工程：
次に、液晶位相差層と位相差フィルムとが積層された積層体、好ましくは、液晶位相差層と、配向層と、位相差フィルムとが積層された積層体の位相差フィルム側（すなわち、液晶位相差層が設けられた面と反対の面）に偏光層を形成する。
【００６６】
まずは、偏光層形成に用いる偏光層形成用組成物について説明する。該偏光層形成用組成物は二色性色素を含む。二色性色素とは、分子の長軸方向における吸光度と、短軸方向における吸光度とが異なる性質を有する色素をいう。このような性質を有するものであれば、二色性色素は、染料であっても顔料であってもよく、複数種の化合物の混合物であってもよい。
【００６７】
前記二色性色素としては、３００〜７００ｎｍの範囲に極大吸収波長（λＭＡＸ）を有するものが好ましい。このような二色性色素としては、例えば、アクリジン色素、オキサジン色素、シアニン色素、ナフタレン色素、アゾ色素及びアントラキノン色素などが挙げられるが、中でもアゾ色素が好ましい。アゾ色素としては、モノアゾ色素、ビスアゾ色素、トリスアゾ色素、テトラキスアゾ色素及びスチルベンアゾ色素などが挙げられ、好ましくはビスアゾ色素及びトリスアゾ色素である。
【００６８】
アゾ色素としては、例えば、式（１）で表される化合物（以下、場合により「化合物（１）」という。）が挙げられる。
Ａ１（−Ｎ＝Ｎ−Ａ２）ｐ−Ｎ＝Ｎ−Ａ３        （１）
［式（１）中、
Ａ１及びＡ３は、互いに独立に、置換基を有していてもよいフェニル基、置換基を有していてもよいナフチル基又は置換基を有していてもよい１価の複素環基を表す。Ａ２は、置換基を有していてもよいｐ−フェニレン基、置換基を有していてもよいナフタレン−１，４−ジイル基又は置換基を有していてもよい２価の複素環基を表す。ｐは１〜４の整数を表す。ｐが２以上の整数である場合、複数のＡ２は互いに同一でも異なっていてもよい。］
【００６９】
１価の複素環基としては、キノリン、チアゾール、ベンゾチアゾール、チエノチアゾール、イミダゾール、ベンゾイミダゾール、オキサゾール及びベンゾオキサゾールなどの複素環化合物から１個の水素原子を除いた基が挙げられる。複素環化合物から２個の水素原子を除いた基が、２価の複素環基に該当し、かかる複素環化合物の具体例は、上述のとおりである。
【００７０】
Ａ１及びＡ３におけるフェニル基、ナフチル基及び１価の複素環基、並びにＡ２におけるｐ−フェニレン基、ナフタレン−１，４−ジイル基及び２価の複素環基が任意に有する置換基としては、炭素数１〜４のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基及びブトキシ基などの炭素数１〜４のアルコキシ基；トリフルオロメチル基などの炭素数１〜４のフッ化アルキル基；シアノ基；ニトロ基；ハロゲン原子；アミノ基、ジエチルアミノ基及びピロリジノ基などの置換又は無置換アミノ基（置換アミノ基とは、炭素数１〜６のアルキル基を１つ又は２つ有するアミノ基、あるいは２つの置換アルキル基が互いに結合して炭素数２〜８のアルカンジイル基を形成しているアミノ基を意味する。無置換アミノ基は、−ＮＨ２である。）が挙げられる。
【００７１】
化合物（１）のなかでも、以下の式（１−１）〜式（１−６）でそれぞれ表される化合物が好ましい。
0006540762.tif 000012
［式（１−１）〜（１−６）中、
Ｒ１〜Ｒ20は、互いに独立に、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、置換又は無置換のアミノ基（置換アミノ基及び無置換アミノ基の定義は前記のとおり）、塩素原子又はトリフルオロメチル基を表す。
ｎ１〜ｎ４は、互いに独立に０〜３の整数を表す。
ｎ１が２以上である場合、複数のＲ２は互いに同一でも異なっていてもよく、
ｎ２が２以上である場合、複数のＲ６は互いに同一でも異なっていてもよく、
ｎ３が２以上である場合、複数のＲ９は互いに同一でも異なっていてもよく、
ｎ４が２以上である場合、複数のＲ14は互いに同一でも異なっていてもよい。］
【００７２】
前記偏光層形成用組成物は、二色性色素のほかに、好ましくは重合性液晶化合物を含む。重合性液晶化合物の定義は、液晶位相差層形成用組成物に含まれる重合性液晶化合物と同じであるが、偏光層形成用組成物に含まれる重合性液晶化合物はスメクチック相の液晶状態を示すものが好ましく、高次スメクチック相の液晶状態を示すものがさらに好ましい。
【００７３】
高次スメクチック相とは、スメクチックＢ相、スメクチックＤ相、スメクチックＥ相、スメクチックＦ相、スメクチックＧ相、スメクチックＨ相、スメクチックＩ相、スメクチックＪ相、スメクチックＫ相及びスメクチックＬ相であり、中でも、スメクチックＢ相、スメクチックＦ相及びスメクチックＩ相がより好ましい。重合性液晶化合物が示すスメクチック液晶相がこれらの高次スメクチック相であると、配向秩序度のより高い偏光層を形成できることから、とりわけ好ましい。また、このように配向秩序度の高い偏光膜はＸ線回折測定においてヘキサチック相やクリスタル相といった高次構造由来のブラッグピークが得られるものである。当該ブラッグピークとは、分子配向の面周期構造に由来するピークであり、本発明の偏光層形成用組成物によれば、周期間隔が３．０〜５．０Åである本偏光膜を得ることができる。
【００７４】
重合性液晶化合物としては、液晶位相差層形成用組成物が含む重合性液晶化合物と同一のものが挙げられる。好ましくは、式（２）で表される化合物（以下、場合により「化合物（２）」という）が挙げられる。化合物（２）は、スメクチック相の液晶状態を示し易いため好ましい。
Ｕ１−Ｖ１−Ｗ１−Ｘ１−Ｙ１−Ｘ２−Ｙ２−Ｘ３−Ｗ２−Ｖ２−Ｕ２    （２）
［式（２）中、
Ｘ１、Ｘ２及びＸ３は、互いに独立に、置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基又は置換基を有していてもよいシクロヘキサン−１，４−ジイル基を表す。ただし、Ｘ１、Ｘ２及びＸ３のうち少なくとも１つは、置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基である。置換基を有していてもよいシクロへキサン−１，４−ジイル基を構成する−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＲ−に置き換わっていてもよい。Ｒは、炭素数１〜６のアルキル基又はフェニル基である。
Ｙ１及びＹ２は、互いに独立に、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯＯ−、単結合、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＲａ＝ＣＲｂ−、−Ｃ≡Ｃ−又は−ＣＲａ＝Ｎ−を表す。Ｒａ及びＲｂは、互いに独立に、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｕ１は、水素原子又は重合性基を表す。
Ｕ２は、重合性基を表す。
Ｗ１及びＷ２は、互いに独立に、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯＯ−を表す。
Ｖ１及びＶ２は、互いに独立に、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基を構成する−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＨ−に置き換わっていてもよい。］
【００７５】
化合物（２）において、上述のように、Ｘ１、Ｘ２及びＸ３のうち、少なくも２つが、置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基であることが好ましい。
置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基は、無置換であることが好ましい。置換基を有していてもよいシクロへキサン−１，４−ジイル基は、置換基を有していてもよいトランス−シクロへキサン−１，４−ジイル基であることが好ましく、置換基を有していてもよいトランス−シクロへキサン−１，４−ジイル基は無置換であることがより好ましい。
【００７６】
置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基又は前記シクロへキサン−１，４−ジイル基が任意に有する置換基としては、メチル基、エチル基及びブチル基などの炭素数１〜４のアルキル基；シアノ基；ハロゲン原子などが挙げられる。
【００７７】
化合物（２）のＹ１は、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＯＯ−又は単結合であると好ましく、Ｙ２は、−ＣＨ２ＣＨ２−又は−ＣＨ２Ｏ−であると好ましい。
【００７８】
Ｕ２は、重合性基である。Ｕ１は、水素原子又は重合性基であり、好ましくは重合性基である。Ｕ１及びＵ２は、ともに重合性基であると好ましく、ともに光重合性基であるとより好ましい。光重合性基とは、後述する光重合開始剤から発生した活性ラジカルや酸などによって重合反応に関与し得る基のことをいう。光重合性基を有する重合性液晶化合物を用いると、より低温条件下で化合物（２）を重合できる点でも有利である。
【００７９】
化合物（２）において、Ｕ１及びＵ２の重合性基は互いに異なっていてもよいが、同じ種類の基であることが好ましい。重合性基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、１−クロロビニル基、イソプロペニル基、４−ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。
【００８０】
Ｖ１及びＶ２が表す置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルカンジイル基における、炭素数１〜２０のアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−１，３−ジイル基、ブタン−１，３−ジイル基、ブタン−１，４−ジイル基、ペンタン−１，５−ジイル基、ヘキサン−１，６−ジイル基、ヘプタン−１，７−ジイル基、オクタン−１，８−ジイル基、デカン−１，１０−ジイル基、テトラデカン−１，１４−ジイル基及びイコサン−１，２０−ジイル基などが挙げられる。Ｖ１及びＶ２は、好ましくは炭素数２〜１２のアルカンジイル基であり、より好ましくは炭素数６〜１２のアルカンジイル基である。
置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルカンジイル基が任意に有する置換基としては、シアノ基及びハロゲン原子などを挙げることができるが、該アルカンジイル基は、無置換であることが好ましく、無置換且つ直鎖状のアルカンジイル基であることがより好ましい。
【００８１】
Ｗ１及びＷ２は、互いに独立に、好ましくは単結合又は−Ｏ−である。
【００８２】
化合物（２）としては、式（２−１）〜式（２−２３）でそれぞれ表される化合物などが挙げられる。かかる化合物（２）の具体例が、シクロヘキサン−１，４−ジイル基を有する場合、そのシクロヘキサン−１，４−ジイル基は、トランス体であることが好ましい。
【００８３】
0006540762.tif 000013
【００８４】
0006540762.tif 000014
【００８５】
0006540762.tif 000015
【００８６】
0006540762.tif 000016
【００８７】
偏光層形成用組成物が含む重合性液晶化合物は、単独又は組み合わせてもよい。組み合わせる場合、少なくとも１種が化合物（２）であると好ましい。
重合性液晶化合物を２種組み合わせる場合の混合比としては、通常、１：９９〜５０：５０であり、好ましくは５：９５〜５０：５０であり、より好ましくは１０：９０〜５０：５０である。
偏光層形成用組成物の重合は、予め偏光層形成用組成物に含まれる重合性液晶化合物の相転移温度を求め、その相転移温度を下回る温度条件で、該重合性液晶化合物が重合するように、重合性液晶化合物以外の成分を調整して実施する。なお、偏光層形成用組成物に、２種以上の重合性液晶組成物の混合物を用いる場合にも、当該２種以上の重合性液晶化合物の混合物の相転移温度を求めた後、同様に実施する。
【００８８】
例示した化合物（２）の中でも、それぞれ、式（２−２）、式（２−３）、式（２−４）、式（２−６）、式（２−７）、式（２−８）、式（２−１３）、式（２−１４）及び式（２−１５）で表される化合物が好ましい。これらの重合性液晶化合物は、２種以上を混合することで、相転移温度を下回る温度条件下で、すなわち高次のスメクチック相の液晶状態を十分に保持したままで、重合することができる。より具体的には、これらの重合性液晶化合物は、７０℃以下、好ましくは６０℃以下の温度条件下で、高次のスメクチック相の液晶状態を十分に保持したまま重合することができる。
【００８９】
偏光層形成用組成物における重合性液晶化合物の含有割合は、偏光層形成用組成物の固形分に対して、７０〜９９．９質量％が好ましく、９０〜９９．９質量％がより好ましい。重合性液晶化合物の含有割合が上記範囲内であれば、重合性液晶化合物の配向性が高くなる傾向がある。ここで、固形分とは、偏光層形成用組成物から溶剤を除いた成分の合計量のことをいう。
【００９０】
偏光層形成用組成物に含まれる重合性液晶化合物は、例えば、Ｌｕｂ  eｔ  aｌ.  Ｒｅｃｌ．Ｔｒａｖ．Ｃｈｉｍ．Ｐａｙｓ−Ｂａｓ，１１５,  ３２１−３２８（１９９６）、又は特許第４７１９１５６号に記載の公知方法で製造される。
【００９１】
偏光層形成用組成物は、好ましくは溶剤を含む。
溶剤には、重合性液晶化合物及びに二色性色素を完全に溶解し得る溶剤が好ましく、また、重合性液晶化合物の重合反応に不活性な溶剤であることが好ましく、その具体例としては、上記液晶位相差層形成用組成物が含む溶剤と同様のものが挙げられる。
【００９２】
溶剤の含有量は、前記偏光層形成用組成物の総量に対して５０〜９８質量％が好ましい。換言すると、偏光層形成用組成物における固形分は、２〜５０質量％が好ましい。
【００９３】
偏光層形成用組成物は、レベリング剤を含むと好ましい。該レベリング剤とは、偏光層形成用組成物の流動性を調整し、偏光層形成用組成物を塗布して得られる偏光層形成用塗布膜をより平坦にする機能を有するものであり、界面活性剤などを挙げることができる。
好ましいレベリング剤としては、ポリアクリレート化合物を主成分とするレベリング剤及びフッ素原子含有化合物を主成分とするレベリング剤等が挙げられる。
【００９４】
ポリアクリレート化合物を主成分とするレベリング剤としては、”ＢＹＫ−３５０”、”ＢＹＫ−３５２”、”ＢＹＫ−３５３”、”ＢＹＫ−３５４”、”ＢＹＫ−３５５”、”ＢＹＫ−３５８Ｎ”、”ＢＹＫ−３６１Ｎ”、”ＢＹＫ−３８０”、”ＢＹＫ−３８１”及び”ＢＹＫ−３９２”［ＢＹＫ  Ｃｈｅｍｉｅ社］などが挙げられる。
【００９５】
フッ素原子含有化合物を主成分とするレベリング剤としては、”メガファックＲ−０８”、同”Ｒ−３０”、同”Ｒ−９０”、同”Ｆ−４１０”、同”Ｆ−４１１”、同”Ｆ−４４３”、同”Ｆ−４４５”、同”Ｆ−４７０”、同”Ｆ−４７１”、同”Ｆ−４７７”、同”Ｆ−４７９”、同”Ｆ−４８２”及び同”Ｆ−４８３”［ＤＩＣ（株）］；”サーフロンＳ−３８１”、同”Ｓ−３８２”、同”Ｓ−３８３”、同”Ｓ−３９３”、同”ＳＣ−１０１”、同”ＳＣ−１０５”、”ＫＨ−４０”及び”ＳＡ−１００”［ＡＧＣセイミケミカル（株）］；”Ｅ１８３０”、”Ｅ５８４４”［（株）ダイキンファインケミカル研究所］；”エフトップＥＦ３０１”、同”ＥＦ３０３”、同”ＥＦ３５１”及び同”ＥＦ３５２”［三菱マテリアル電子化成（株）］などが挙げられる。
【００９６】
偏光層形成用組成物がレベリング剤を含む場合、その含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．３質量部以上５質量部以下であり、好ましくは０．５質量部以上３質量部以下である。レベリング剤の含有量が前記の範囲内であると、重合性液晶化合物を水平配向させることが容易であり、かつ得られる偏光膜がより平滑となる傾向がある。重合性液晶化合物に対するレベリング剤の含有量が前記の範囲を超えると、得られる偏光層にムラが生じやすい傾向がある。なお、該偏光層形成用組成物は、レベリング剤を２種類以上含んでもよい。
【００９７】
偏光層形成用組成物は、重合開始剤を含有すると好ましい。重合開始剤は、重合性液晶化合物の重合反応を開始し得る化合物である。重合開始剤としては、低温条件下で、重合反応を開始できる点で、光重合開始剤が好ましい。具体的には、光の作用により活性ラジカル又は酸を発生する化合物が光重合開始剤として用いられる。当該光重合開始剤の中でも、光の作用により活性ラジカルを発生するものがより好ましい。
【００９８】
重合開始剤としては、液晶位相差層形成用組成物が含む重合開始剤と同様のものが挙げられる。
【００９９】
偏光層形成用組成物が重合開始剤を含有する場合、その含有量は、偏光層形成用組成物に含まれる重合性液晶化合物の種類及びその量に応じて適宜調節できるが、重合性液晶化合物の合計１００質量部に対する重合開始剤の含有量は、通常０．１〜３０質量部であり、好ましくは０．５〜１５質量部であり、より好ましくは０．５〜８質量部である。重合性開始剤の含有量が、この範囲内であれば、重合性液晶化合物の配向を乱すことなく重合させることができるため好ましい。
【０１００】
偏光層形成用組成物が光重合開始剤を含む場合、該偏光層形成用組成物には光増感剤を含んでもよい。光増感剤としては、例えば、キサントン及びチオキサントンなどのキサントン化合物（例えば、２，４−ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントンなど）；アントラセン及びアルコキシ基含有アントラセン(例えば、ジブトキシアントラセンなど)などのアントラセン化合物；フェノチアジン及びルブレンなどが挙げられる。
【０１０１】
偏光層形成用組成物が光重合開始剤及び光増感剤を含有するものである場合、当該偏光層形成用組成物に含有される重合性液晶化合物の重合反応はより促進される。かかる光増感剤の含有量は、併用する光重合開始剤及び重合性液晶化合物の種類及びその量に応じて適宜調節できるが、重合性液晶化合物の合計１００質量部に対して、通常０．１〜３０質量部であり、好ましくは０．５〜１０質量部であり、より好ましくは０．５〜８質量部である。
【０１０２】
偏光層形成用組成物は、重合性液晶化合物の重合反応を安定的に進行させるために、重合禁止剤を含んでもよい。重合禁止剤により、重合性液晶化合物の重合反応の進行度合いをコントロールすることができる。
【０１０３】
重合禁止剤としては、例えばハイドロキノン、アルコキシ基含有ハイドロキノン、アルコキシ基含有カテコール（例えば、ブチルカテコールなど）、ピロガロール、２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジニルオキシラジカルなどのラジカル補足剤；チオフェノール類；β−ナフチルアミン類及びβ−ナフトール類などが挙げられる。
【０１０４】
偏光層形成用組成物が重合禁止剤を含む場合、その含有量は、併用する重合性液晶化合物の種類及びその量、並びに光増感剤の使用量などに応じて適宜調節できるが、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．１〜３０質量部であり、好ましくは０．５〜１０質量部であり、より好ましくは０．５〜８質量部である。重合禁止剤の含有量が、上記範囲内であれば、偏光層形成用組成物に含有される重合性液晶化合物の配向を乱すことなく重合させることができるため好ましい。
【０１０５】
偏光層形成用組成物における二色性色素の含有量は、当該二色性色素の種類などに応じて適宜調節できるが、重合性液晶化合物の合計１００質量部に対して、通常０．１質量部以上５０質量部以下であり、好ましくは０．１質量部以上２０質量部以下であり、より好ましくは０．１質量部以上１５質量部以下である。二色性色素の含有量が、この範囲内であれば、重合性液晶化合物の配向を乱すことなく、当該重合性液晶化合物を重合させることができるため好ましい。
【０１０６】
続いて、偏光層形成用組成物を用いて位相差フィルム上、好ましくは配向層上に偏光層を形成する方法について説明する。
【０１０７】
まず位相差フィルム上に、偏光層形成用組成物を塗布して偏光層形成用塗布膜を形成する。この場合、位相差フィルム上の偏光層を形成しようとする面には、予め配向層を設けておくと好ましい。かかる配向層の形成方法としては、液晶位相差層形成の説明で述べた、配向層の形成方法と同じ方法が挙げられる。偏光層と位相差フィルムとの間に設ける配向層は、液晶位相差層と位相差フィルムとの間に設ける配向層と同じく、光配向層が好ましい。偏光層と位相差フィルムとの間に設ける配向層の厚みは、本円偏光板の総厚みが後述する範囲を著しく超えないようにして定められるが、通常１０〜１０００ｎｍである。
本発明においては、基板である位相差フィルムの遅相軸に対して水平でも垂直でも無いように偏光照射する必要があり、位相差フィルムの遅相軸に対して実質的に１５°あるいは−１５°の方向に照射するのが好ましい。
【０１０８】
配向層上に偏光層形成用組成物を塗布する方法としては、配向層形成用組成物の塗布方法として例示したものと同じ方法が挙げられる。  
【０１０９】
次に、偏光層形成用塗布膜に含まれる重合性液晶化合物が重合しない条件で溶剤を乾燥除去することにより、乾燥被膜が形成される。乾燥方法としては、例えば自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥及び減圧乾燥法等が挙げられる。続いて、乾燥被膜に含まれる重合性液晶組成物の液晶状態をネマチック相にした後、当該ネマチック相をスメクチック相に転移させると好ましい。このようにネマチック相を経由してスメクチック相を形成するためには、例えば、乾燥被膜に含まれる重合性液晶化合物がネマチック相の液晶状態に相転移する温度以上に加熱し、次いで該重合性スメクチック液晶化合物がスメクチック相の液晶状態を示す温度まで冷却するといった方法が採用される。
【０１１０】
乾燥被膜中の重合性液晶化合物をスメクチック液晶状態としたり、ネマチック液晶状態を経由してスメクチック液晶状態としたりする場合、該重合性液晶化合物の相転移温度を測定することで、液晶状態を制御する条件（加熱条件）を容易に求めることができる。
【０１１１】
次に、重合性液晶化合物の重合工程について説明する。ここでは、偏光層形成用組成物に光重合開始剤を含有させ、乾燥被膜中の重合性液晶化合物の液晶状態をスメクチック相にした後、このスメクチック相の液晶状態を保持したまま、該重合性液晶化合物を光重合させる方法について詳述する。光重合において、乾燥被膜に照射する光としては、当該乾燥被膜に含まれる光重合開始剤の種類、又は重合性液晶化合物の種類（特に、重合性液晶化合物が有する重合性基の種類）及びその量に応じて適宜、可視光、紫外光及びレーザー光からなる群より選択される光や活性電子線によって行うことができる。これらのうち、重合反応の進行をコントロールし易い点や、光重合に係る装置として当分野で広範に用いられているものが使用できるという点で、紫外光が好ましい。よって、紫外光によって、光重合できるように、前記偏光層形成用組成物に含有される重合性液晶化合物や光重合開始剤の種類を選択しておくと好ましい。また、重合させる際には、紫外光照射とともに適当な冷却手段により、乾燥被膜を冷却することで重合温度をコントロールすることもできる。このような冷却手段の採用により、より低温で重合性液晶化合物の重合を実施できれば、位相差フィルムに比較的耐熱性が低いものを用いたとしても、適切に偏光層を形成できるという利点もある。なお、光重合の際、マスキングや現像を行うなどによって、パターニングされた偏光層を得ることもできる。
【０１１２】
以上のような光重合を行うことにより、前記重合性液晶化合物は、スメクチック相、好ましくは、すでに例示したような高次のスメクチック相の液晶状態を保持したまま重合し、偏光層が形成される。重合性液晶化合物がスメクチック相の液晶状態を保持したまま重合して得られる偏光層は、前記二色性色素の作用にも伴い、従来のホストゲスト型偏光層、すなわち、ネマチック相の液晶状態を保持したままで重合性液晶化合物などを重合させて得られる偏光層と比較してはるかに偏光性能が高いという利点がある。さらに、二色性色素やリオトロピック液晶のみを塗布したものと比較して、強度に優れるという利点がある。
【０１１３】
かくして形成された偏光層の厚みは、本円偏光板の総厚みが後述する範囲を著しく超えないようにして定められるが例えば、０．５μｍ以上１０μｍ以下の範囲が好ましく、１μｍ以上５μｍ以下がさらに好ましい。
【０１１４】
以上、説明した本製造方法により本円偏光板を製造することができるが、ここで説明した本製造方法において、液晶位相差層形成工程及び偏光層形成工程の順番は逆にしてもよい。ここまで説明してきた本製造方法は、準備工程、液晶位相差層形成工程及び偏光層形成工程をこの順で実施する方法によるものであるが、準備工程、偏光層形成工程及び液晶位相差層形成工程をこの順で実施したとしても、本円偏光板を得ることができる。この場合の各工程の条件などはすでに説明したとおりである。
【０１１５】
以上、本発明における円偏光板の製造方法の概要を説明したが、商業的に本円偏光板を製造する際には、連続的に本偏光板を製造できる方法が求められる。このような連続的製造方法の好適な例としてはＲｏｌｌｔｏＲｏｌｌ形式による方法（以下、場合により「連続的な本製造方法」という。）が挙げられる。
【０１１６】
連続的な本製造方法の一実施態様としては、例えば、
（ｉ）位相差フィルムが巻芯に巻き取られているロールを準備する工程；
（ｉｉ）該ロールから、該位相差フィルムを連続的に送り出す工程；
（ｉｉｉ）該位相差フィルム上に配向層形成用組成物を塗布し、該位相差フィルム上に第一配向層を連続的に形成する工程；
（ｉｖ）（ｉｉｉ）で形成された第一配向層上に液晶位相差層形成用組成物を塗布し、第一配向層上に連続的に液晶位相差層を形成する工程；
（ｖ）該位相差フィルムの該液晶位相差層を形成した面の反対の面に、配向層形成用組成物を塗布し、該位相差フィルム上に第二配向層を連続的に形成する工程；
（ｖｉ）（ｖ）で形成された第二配向層上に偏光層形成用組成物を塗布し、第二配向層上に連続的に偏光層を形成し、本円偏光板を得る工程；
（ｖｉｉ）連続的に得られた本円偏光板を第２の巻芯に巻き取り、第２ロールを得る工程。
以下、この連続的な本製造方法を、図２を参照して説明するが、同図において、（ｉｉｉ）及び（ｖ）に該当する配向層の形成については詳細を省略する。
【０１１７】
まず、（ｉ）において位相差フィルムが巻き取られているロール２１０を準備する。
（ｉｉ）は第１ロール２１０から位相差フィルム１１０を連続的に巻き出し、（ｉｉｉ）で位相差フィルムの片面に、第一配向層を形成（図示はしない）して、片面に配向層が形成された第１積層体１２０が得られる。
【０１１８】
続いて、（ｉｖ）では、（ｉｉｉ）で形成された第一配向層上に液晶位相差層が形成される。具体的には、塗布装置２１１Ａを用いて液晶位相差層形成用組成物を塗布して、該配向層上に液晶位相差層形成用塗布膜を形成する。形成された前記塗布膜は位相差フィルムとともに、乾燥装置２１２Ａを通過して、溶剤などが除去される。さらに、光照射装置２１３Ａにより光照射を行い、位相差層と、液晶位相差層とが設けられた第２積層体１４０が得られる。
【０１１９】
続いて、（ｖ）では、第２積層体１４０の液晶位相差層が設けられた面と反対の面に、第二配向層を形成（図示はしない）して、第二配向層が形成された第３積層体１５０が得られる。
【０１２０】
（ｖ）で得られた第３積層体１５０の第二配向層上に、（ｖｉ）において偏光層が形成される。具体的には、塗布装置２１１Ｂを用いて偏光層形成用組成物を塗布して、第二配向層上に偏光層形成用塗布膜を形成する。形成された前記塗布膜は位相差フィルムとともに、乾燥装置２１２Ｂを通過して、溶剤などが除去される。さらに、光照射装置２１３Ｂにより光照射を行い、液晶位相差層と、位相差層と、偏光層とがこの順で設けられた本円偏光板１００が得られる。
【０１２１】
得られた本円偏光板１００を、第２の巻芯に巻き取り、第２ロール２２０が得られる。
【０１２２】
本円偏光板の総厚みは、薄型化が求められる表示装置に適したものとなる。かかる総厚みは、通常２０〜２００μｍであり、２０〜１００μｍであると好ましい。
【０１２３】
かくして得られる本円偏光板１００は、さらに本円偏光板の用途に応じて所望の寸法に裁断された表示装置の部材として使用される。
【０１２４】
好ましい本円偏光板は、液晶位相差層、位相差層及び偏光層の遅相軸などのなす角度をコントロールする。
図１を参照して本円偏光板１００の好ましい態様を示す。本円偏光板１００において、位相差層１は１／２波長板として機能するものであり、且つ、液晶位相差層は１／４波長板として機能するものであると好ましい。そして、位相差層１（１／２波長板）の遅相軸に対する液晶位相差層２（１／４波長板）の遅相軸のなす角度のうち、小さい角度（ＡＧ２）と、位相差層１（１／２波長板）の遅相軸に対する偏光層３の吸収軸あるいは透過軸のなす角度のうち、小さい角度（ＡＧ３）はそれぞれ以下のような組み合わせであると好ましい。
・ＡＧ２が実質的に６０°であり、ＡＧ３が実質的に−１５°である組み合わせ
・ＡＧ２が実質的に９０°であり、ＡＧ３が実質的に−２２．５°である組み合わせ
【０１２５】
本円偏光板は、さまざまな表示装置に用いることができる。表示装置とは、表示素子を有する装置であり、発光源として発光素子又は発光装置を含む。表示装置としては、例えば、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置、無機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置、電子放出表示装置（例えば電場放出表示装置（ＦＥＤ）、表面電界放出表示装置（ＳＥＤ））、電子ペーパー（電子インクや電気泳動素子を用いた表示装置、プラズマ表示装置、投射型表示装置（例えばグレーティングライトバルブ（ＧＬＶ）表示装置、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）を有する表示装置）及び圧電セラミックディスプレイなどが挙げられる。液晶表示装置は、透過型液晶表示装置、半透過型液晶表示装置、反射型液晶表示装置、直視型液晶表示装置及び投写型液晶表示装置などのいずれをも含む。これらの表示装置は、２次元画像を表示する表示装置であってもよいし、３次元画像を表示する立体表示装置であってもよい。特に有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置又は無機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置の表示装置に有効に用いることができる。
【０１２６】
本円偏光板を備えた表示装置の一例として、ＥＬ表示装置（以下、場合により「本ＥＬ表示装置」という。）を、図３を参照して説明する。本ＥＬ表示装置３０は、画素電極３５が形成された基板３３上に、発光源である有機機能層３６、及びカソード電極３７が積層されたものである。基板３３を挟んで有機機能層３６と反対側に、本円偏光板１００が配置される。画素電極３５にプラスの電圧、カソード電極３７にマイナスの電圧を加え、画素電極３５及びカソード電極３７間に直流電流を印加することにより、有機機能層３６が発光する。発光源である有機機能層３６は、電子輸送層、発光層及び正孔輸送層などからなる。有機機能層３６から出射した光は、画素電極３５、層間絶縁膜３４、基板３３、本円偏光板１００を通過する。有機機能層３６を有する有機ＥＬ表示装置について説明するが、無機機能層を有する無機ＥＬ表示装置にも適用してもよい。
【０１２７】
本ＥＬ表示装置３０を製造するには、まず、基板３３上に薄膜トランジスタ４０を所望の形状に形成する。そして層間絶縁膜３４を成膜し、次いで画素電極３５をスパッタ法で成膜し、パターニングする。その後、有機機能層３６を積層する。
【０１２８】
次いで、基板３３の薄膜トランジスタ４０が設けられている面の反対の面に、本円偏光板１００を設ける。その場合には、本円偏光板１００の位相差層２が、基板３３側になるように配置される。
【０１２９】
次に、本ＥＬ表示装置３０の本円偏光板１００以外の部材について簡単に説明する。
【０１３０】
基板３３としては、サファイアガラス基板、石英ガラス基板、ソーダガラス基板及びアルミナなどのセラミック基板；銅などの金属基板；プラスチック基板などが挙げられる。
図示はしないが、基板３３上に熱伝導性膜を形成してもよい。熱伝導性膜としては、ダイヤモンド薄膜（ＤＬＣなど）などが挙げられる。画素電極３５を反射型とする場合は、基板３３とは反対方向へ光が出射する。したがって、透明材料だけでなく、ステンレスなどの非透過材料を用いることができる。基板は単一で形成されていてもよく、複数の基板を接着剤で貼り合わせて積層基板として形成されていていてもよい。また、これらの基板は、板状のものに限定するものではなく、フィルムであってもよい。
【０１３１】
薄膜トランジスタ４０としては例えば、多結晶シリコントランジスタなどを用いればよい。薄膜トランジスタ４０は、画素電極３５の端部に設けられ、その大きさは１０〜３０μｍ程度である。なお、画素電極３５の大きさは２０μｍ×２０μｍ〜３００μｍ×３００μｍ程度である。
【０１３２】
基板３３上には、薄膜トランジスタ４０の配線電極が設けられている。配線電極は抵抗が低く、画素電極３５と電気的に接続して抵抗値を低く抑える機能があり、一般的にはその配線電極は、Ａｌ、Ａｌ及び遷移金属（ただしＴｉを除く）、Ｔｉ又は窒化チタン（ＴｉＮ）のいずれか１種又は２種以上を含有するものが使われる。
【０１３３】
薄膜トランジスタ４０と画素電極３５との間には層間絶縁膜３４が設けられる。層間絶縁膜３４は、ＳｉＯ２などの酸化ケイ素、窒化ケイ素などの無機系材料をスパッタや真空蒸着で成膜したもの、ＳＯＧ（スピン・オン・グラス）で形成した酸化ケイ素層、フォトレジスト、ポリイミド及びアクリル樹脂などの樹脂系材料の塗膜など、絶縁性を有するものであればいずれであってもよい。
【０１３４】
層間絶縁膜３４上に、リブ４１を形成する。リブ４１は、画素電極３５の周辺部（隣接画素間）に配置されている。リブ４１の材料としては、アクリル樹脂及びポリイミド樹脂などが挙げられる。リブ４１の厚みは、好ましくは１．０μｍ以上３．５μｍであり、より好ましくは１．５μｍ以上２．５μｍ以下である。
【０１３５】
次に、透明電極である画素電極３５と、発光源である有機機能層３６と、カソード電極３７とからなるＥＬ素子について説明する。有機機能層３６は、それぞれ少なくとも１層のホール輸送層及び発光層を有し、例えば、電子注入輸送層、発光層、正孔輸送層及び正孔注入層を順次有する。
【０１３６】
画素電極３５としては、例えば、ＩＴＯ（錫ドープ酸化インジウム）、ＩＺＯ（亜鉛ドープ酸化インジウム）、ＩＧＺＯ、ＺｎＯ、ＳｎＯ２及びＩｎ２Ｏ３などが挙げられるが、特にＩＴＯやＩＺＯが好ましい。画素電極３５の厚さは、ホール注入を十分行える一定以上の厚さを有すればよく、１０〜５００ｎｍ程度とすることが好ましい。
画素電極３５は、蒸着法（好ましくはスパッタ法）により形成することができる。スパッタガスとしては、特に制限するものではなく、Ａｒ、Ｈｅ、Ｎｅ、Ｋｒ及びＸｅなどの不活性ガス、あるいはこれらの混合ガスを用いればよい。
【０１３７】
カソード電極３７の構成材料としては例えば、Ｋ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｍｇ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ａｌ、Ａｇ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚｎ及びＺｒなどの金属元素が用いられればよいが、電極の作動安定性を向上させるためには、例示した金属元素から選ばれる２成分又は３成分の合金系を用いることが好ましい。合金系としては、例えばＡｇ・Ｍｇ（Ａｇ：１〜２０ａｔ％）、Ａｌ・Ｌｉ（Ｌｉ：０．３〜１４ａｔ％）、Ｉｎ・Ｍｇ（Ｍｇ：５０〜８０ａｔ％）及びＡｌ・Ｃａ（Ｃａ：５〜２０ａｔ％）などが好ましい。
カソード電極３７は、蒸着法及びスパッタ法などにより形成される。カソード電極３７の厚さは、０．１ｎｍ以上、好ましくは１〜５００ｎｍ以上であることが好ましい。
【０１３８】
正孔注入層は、画素電極３５からの正孔の注入を容易にする機能を有し、正孔輸送層は、正孔を輸送する機能及び電子を妨げる機能を有し、電荷注入層や電荷輸送層とも称される。
発光層の厚さ、正孔注入層と正孔輸送層とを併せた厚さ、及び電子注入輸送層の厚さは特に限定されず、形成方法によっても異なるが、５〜１００ｎｍ程度とすることが好ましい。正孔注入層や正孔輸送層には、各種有機化合物を用いることができる。正孔注入輸送層、発光層及び電子注入輸送層の形成には、均質な薄膜が形成できる点で真空蒸着法を用いることができる。
【０１３９】
発光源である有機機能層３６としては、１重項励起子からの発光（蛍光）を利用するもの、３重項励起子からの発光（燐光）を利用するもの、１重項励起子からの発光（蛍光）を利用するものと３重項励起子からの発光（燐光）を利用するものとを含むもの、有機物によって形成されたもの、有機物によって形成されたものと無機物によって形成されたものとを含むもの、高分子の材料、低分子の材料、高分子の材料と低分子の材料とを含むものなどを用いることができる。ただし、これに限定されず、ＥＬ素子用として公知の様々なものを用いた有機機能層３６を、本ＥＬ表示装置３０に用いることができる。
【０１４０】
カソード電極３７と封止フタ３９との空間には乾燥剤３８を配置する。これは、有機機能層３６は湿度に弱いためである。乾燥剤３８により水分を吸収し有機機能層３６の劣化を防止する。
【０１４１】
図４は、本ＥＬ表示装置３０の別態様の断面構成を表す概略図である。この本ＥＬ表示装置３０は、薄膜封止膜４２を用いた封止構造を有し、アレイ基板の反対面からも出射光を得ることができる。
薄膜封止膜４２としては電解コンデンサのフィルムにＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）を蒸着したＤＬＣ膜を用いることが好ましい。ＤＬＣ膜は水分浸透性が極めて悪いという特性があり、防湿性能が高い。また、ＤＬＣ膜などをカソード電極３７の表面に直接蒸着して形成してもよい。また、樹脂薄膜と金属薄膜とを多層に積層して、薄膜封止膜４１を形成してもよい。
【０１４２】
本円偏光板１００を備えた本ＥＬ表示装置は、本円偏光板１００が極めて優れた反射防止性能を有するので、明所で観察する際に黒表示の着色が無く、表示装置としての特性に優れたものとなる。
【実施例】
【０１４３】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。例中の「％」及び「部」は、特記ない限り、質量％及び質量部である。
【０１４４】
実施例１
〔液晶位相差層形成用組成物（１）の調製〕
下記の成分を混合し、８０℃で１時間攪拌することで、液晶位相差層形成用組成物（１）を得た。
重合性液晶化合物；商品名  ＬＣ−２４２  ＢＡＳＦ社製          １００部
0006540762.tif 000017
重合開始剤；
２−メチル−１−[４−(メチルチオ)フェニル]−２−モリフォリノプロパン−１−オン
（イルガキュア９０７；チバ スペシャルティケミカルズ社製）           ３部
溶剤；シクロペンタノン                                        ２５０部
【０１４５】
〔光配向層形成用組成物（１）の調製〕
下記の成分を混合し、８０℃で１時間攪拌することで、光配向層形成用組成物（１）を得た。
光誘起型配向性材料；                                                ５部
0006540762.tif 000018
溶剤；シクロペンタノン                                          ９５部
【０１４６】
〔偏光層形成用組成物（１）の調製〕
下記の成分を混合し、８０℃で１時間攪拌することで、二色性色素を含有する偏光層形成用組成物を得た。
重合性液晶化合物；
化合物（２−６）                              ７５部
0006540762.tif 000019
化合物（２−７）                              ２５部
0006540762.tif 000020
二色性色素；
二色性色素（１−１−１）                    ２．５部
0006540762.tif 000021
二色性色素（１−１−２）                    ２．５部
0006540762.tif 000022
二色性色素（１−３−１）                    ２．５部
0006540762.tif 000023
重合開始剤；
２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン（イルガキュア３６９；チバ スペシャルティケミカルズ社製）          ６部
レベリング剤；
ポリアクリレート化合物（ＢＹＫ−３６１Ｎ；ＢＹＫ−Ｃｈｅｍｉｅ社製）
１．５部
溶剤；シクロペンタノン                                          ２５０部
【０１４７】
〔相転移温度の測定〕
偏光層形成用組成物（１）をガラス上に塗布・乾燥してサンプルを作製し、偏光顕微鏡によるテクスチャー観察によって相転移温度を確認した。偏光層形成用組成物（１）から得られた乾燥被膜は、１４０℃まで昇温後、降温時において、１０８℃でネマチック相に相転移し、１０１℃でスメクチックＡ相に相転移し、７６℃でスメクチックＢ相へ相転移した。
【０１４８】
〔本円偏光板の製造〕
１．第二配向層の形成
位相差フィルムには、環状オレフィン系樹脂の一軸延伸フィルムである１／２波長板（ゼオノアフィルム、日本ゼオン株式会社、面内位相差値Ｒo：２７０ｎｍ）を用いた。
該位相差フィルム上に、光配向層形成用組成物（１）をバーコート法により塗布し、６０℃の乾燥オーブンにて１分間加熱乾燥した。得られた光配誘起層に偏光ＵＶを照射し、光配向層を形成した。偏光ＵＶは、ＵＶ照射装置（ＳＰＯＴ  ＣＵＲＥ  ＳＰ−７；ウシオ電機株式会社製）を用いて、波長３６５ｎｍで測定した強度が１００ｍＪの条件で照射した。また、偏光ＵＶの偏光方向は位相差フィルムからなる位相差層の遅相軸に対して１５°となるように行った。
【０１４９】
２．偏光層の形成
第二配向層上に、偏光層形成用組成物（１）をバーコート法により塗布し、１２０℃の乾燥オーブンにて１分間加熱乾燥した後、室温まで冷却して乾燥被膜を得た。ＵＶ照射装置（ＳＰＯＴ  ＣＵＲＥ  ＳＰ−７；ウシオ電機株式会社製）を用いて、露光量１２００ｍＪ／ｃｍ２（３６５ｎｍ基準）の紫外線を、得られた乾燥被膜に照射し、偏光層を形成し、偏光層付き位相差フィルム（１）を得た。この際の偏光層の厚さをレーザー顕微鏡（オリンパス株式会社製  ＯＬＳ３０００）により測定したところ、１．９μｍであった。
【０１５０】
３．第一配向層の形成
得られた偏光層付き位相差フィルム（１）の偏光層とは反対の面上に、光配向層形成用組成物（１）をバーコート法により塗布し、６０℃の乾燥オーブン中で１分間加熱乾燥した。その後、得られた光配向誘起層に偏光ＵＶを照射処理して光配向層を形成した。偏光ＵＶは、上記第二配向層と同様の条件で照射した。偏光ＵＶの偏光方向は位相差フィルムからなる位相差層の遅相軸に対して６０°（この際、偏光膜の吸収軸は−１５°）となるように行った。
【０１５１】
４．位相差層の形成
第一配向層上に、液晶位相差層形成用組成物（１）をバーコート法により塗布し、５０℃の乾燥オーブンにて１分間加熱乾燥した後、室温まで冷却して乾燥被膜を得た。ＵＶ照射装置（ＳＰＯＴ  ＣＵＲＥ  ＳＰ−７；ウシオ電機株式会社製）を用いて、露光量５００ｍＪ／ｃｍ２（３６５ｎｍ基準）の紫外線を、得られた乾燥被膜に照射し、液晶位相差層を形成し、本円偏光板（１）を得た。この際の位相差層の厚さをレーザー顕微鏡（オリンパス株式会社製  ＯＬＳ３０００）により測定したところ、１．０μｍであった。本円偏光板（１）の総厚みを接触式膜厚計により測定したところ、４６μｍであった。
【０１５２】
〔本円偏光板（１）の評価〕
１．Ｘ線回折測定
本円偏光板（１）の偏光層に対して、Ｘ線回折装置Ｘ’Ｐｅｒｔ ＰＲＯ ＭＰＤ（スペクトリス株式会社製）を用いてＸ線回折測定を行った。ターゲットとしてＣｕを用いてＸ線管電流４０ｍＡ、Ｘ線管電圧４５ｋＶの条件で発生したＸ線を固定発散スリット１／２°を介してラビング方向（予め、偏光層下にある配向層のラビング方向を求めておく。
）から入射させ、走査範囲２θ＝４．０〜４０．０°の範囲で２θ＝０．０１６７１°ステップで走査して測定を行った結果、２θ＝２０．１２°付近にピーク半価幅（ＦＷＨＭ）＝約０．２９°のシャープな回折ピーク（ブラッグピーク）が得られた。また、配向垂直方向からの入射でも同等な結果を得た。ピーク位置から求めた秩序周期（ｄ）は約４．４Åであり、高次スメクチック相を反映した構造を形成していることがわかった。
【０１５３】
２．反射率の測定
本円偏光板（１）の有用性を確認するため、以下のようにして反射率を測定した。作製した本円偏光板（１）の液晶位相差層側と反射板（鏡面アルミニウム板）とを粘着剤を用いて貼合して測定サンプルを準備した。
分光光度計（島津製作所株式会社製  ＵＶ−３１５０）を用いて、波長４００から７００ｎｍの範囲の光を２ｎｍステップで測定サンプルに対し法線方向１２°から入射し、反射した光の反射率を測定した。本円偏光板（１）を貼合せずに反射板のみを配置して測定した際の反射率を１００％として比較したところ、４００から７００ｎｍの範囲の光は、いずれの波長でも１〜１０％程度であり、可視光全域に渡って十分な反射防止特性が得られた。
【０１５４】
実施例２
実施例１と同様にして、位相差フィルムの一方の面に光配向層（偏光ＵＶの偏光方向は位相差フィルムの遅相軸に対して６０°）を形成し、その光配向層上に液晶位相差層を形成した。その後、液晶位相差付き位相差フィルムの液晶位相差と反対の面上に、光配向層（偏光ＵＶの偏光方向は位相差フィルムの遅相軸に対して１５°）を形成し、その光配向層上にさらに偏光層を形成して本円偏光板（２）を作製した。
本円偏光板（２）の総厚みを接触式膜厚計により測定したところ、４６μｍであった。
本円偏光板（２）を実施例１と同様にして反射板に粘着剤を用いて貼合して反射率を測定したところ、４００から７００ｎｍの範囲の光は、いずれの波長でも１〜１０％程度であり、可視光全域に渡って十分な反射防止特性が得られた。  
【０１５５】
比較例１
位相差フィルムとして、環状オレフィン系樹脂の一軸延伸フィルムである１／４波長板（ゼオノアフィルム、日本ゼオン株式会社、面内位相差値Ｒo：１３８ｎｍ）を用い、実施例１と同様にして、位相差フィルムの一方の面に光配向層（偏光ＵＶの偏光方向は位相差フィルムの遅相軸に対して４５°）を形成し、その光配向層上にさらに偏光層を形成して円偏光板（３）を作製した。
円偏光板（３）を実施例１と同様にして、反射板に粘着剤を用いて貼合して反射率を測定したところ、５００〜６００ｎｍの光は、１〜１０％程度の良好な反射率であった。しかし、４００〜５００ｎｍならびに６００〜７００nmの光は、反射率１０％以上であり、反射光が青紫色を呈し、十分な反射防止機能が得られなかった。
【０１５６】
参考例１
偏光板としてヨウ素−ＰＶＡ偏光板（スミカラン  住友化学株式会社製  厚み１０５μｍ）を吸収軸が０°となるように１００×１００ｍｍの小片に切り出し、実施例１で用いた１／２波長板を遅相軸が１５°となるように１００×１００ｍｍの小片に切り出し、比較例１で用いた１／４波長板を遅相軸が７５°となるように１００×１００ｍｍの小片に切り出し、各々のフィルムを偏光板＋１／２波長板＋１／４波長板となるようにアクリル系粘着剤（膜厚２５μｍ）を用いて枚葉貼合して円偏光板（４）を作製した。
円偏光板（４）を、実施例１と同様にして反射板に粘着剤を用いて貼合して反射率を測定したところ、４００から７００ｎｍの範囲の光は、いずれの波長でも１〜１０％程度であり、可視光全域に渡って十分な反射防止特性が得られた。しかし、その総厚を接触式膜厚計により測定したところ２４０μｍであり、本円偏光板（１）の約５倍の厚みであった。
【産業上の利用可能性】
【０１５７】
本発明の円偏光板（本円偏光板）は、有機ＥＬ表示装置などに有用である。
【符号の説明】
【０１５８】
１        位相差層
２        液晶位相差層
２Ａ      配向層
３        偏光層
３Ａ      配向層
１００    本円偏光板
１１０    位相差フィルム
１２０    第１積層体
１４０    第２積層体
１５０    第３積層体
２１０    第１ロール      ２１０Ａ    巻芯
２２０    第２ロール      ２２０Ａ    巻芯
２１１Ａ，２１１Ｂ    塗布装置
２１２Ａ，２１２Ｂ    乾燥装置
２１３Ａ  光照射装置
２１３Ｂ  光照射装置
３００    補助ロール
３０  ＥＬ表示装置
３３  基板
３４  層間絶縁膜
３５  画素電極
３６  有機機能層
３７  カソード電極
３８  乾燥剤
３９  封止フタ
４０  薄膜トランジスタ
４１  リブ
４２  薄膜封止膜
【図１】
0006540762.tif 000024
【図２】
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【図３】
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【図４】
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