(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下式（３）で表される基を有する化合物と、Ｈ−Ｓｉ結合を有するケイ素化合物（４）とを、遷移金属触媒（Ｃ）および下式（Ｄ）で表される基を有する化合物の存在下に反応させて、下式（５）で表される基を有する化合物を得る、ケイ素化合物の製造方法であって、
前記式（３）で表される基を有する化合物が、ポリオキシアルキレン鎖またはポリオキシフルオロアルキレン鎖を有する化合物である、ケイ素化合物の製造方法。
−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２・・・（３）
−Ｓ（＝Ｏ）−・・・（Ｄ）
−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ≡・・・（５）
【請求項２】
前記式（Ｄ）で表される基を有する化合物が、ジメチルスルホキシドまたはテトラメチレンスルホキシドである、請求項１に記載のケイ素化合物の製造方法。
【請求項３】
前記Ｈ−Ｓｉ結合を有するケイ素化合物（４）が下式（４１）で表される化合物であり、前記式（５）で表される基が、下式（５−１）で表される基である、請求項１または２に記載のケイ素化合物の製造方法。
ＨＳｉＬｍＲｎ・・・（４１）
−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＬｍＲｎ・・・（５−１）
式中の記号は以下を示す。
Ｌ：加水分解性基。
Ｒ：１価の炭化水素基。
ｍおよびｎ：ｍは１〜３の整数であり、ｎは０〜２の整数であり、ｍ＋ｎ＝３。
【請求項４】
前記Ｌが炭素数１〜４のアルコキシ基である、請求項３に記載のケイ素化合物の製造方法。
【請求項５】
前記Ｈ−Ｓｉ結合を有するケイ素化合物（４）が、線状または環状のオルガノポリシロキサン化合物である、請求項１または２に記載のケイ素化合物の製造方法。
【請求項６】
前記式（３）で表される基を有する化合物がアリルオキシ基を有する化合物である、請求項１〜５のいずれか一項に記載のケイ素化合物の製造方法。
【請求項７】
前記式（３）で表される基を有する化合物が、前記式（３）で表される基を１〜３個有する化合物である、請求項１〜６のいずれか一項に記載のケイ素化合物の製造方法。
【請求項８】
前記式（３）で表される基を有する化合物の数平均分子量が、２００〜２０，０００である、請求項１〜７のいずれか一項に記載のケイ素化合物の製造方法。
【請求項９】
前記遷移金属触媒（Ｃ）が白金触媒である、請求項１〜８のいずれか一項に記載のケイ素化合物の製造方法。
【請求項１０】
前記遷移金属触媒（Ｃ）が、Ｐｔ／ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体またはＰｔ／テトラメチルテトラビニルシクロテトラシロキサン錯体である、請求項９に記載のケイ素化合物の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ケイ素化合物の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
末端に加水分解性シリル基を有する化合物は、分子間で反応したり基材の表面と化学結合を形成したりしやすい。そのため、該化合物は、表面処理剤や反応性接着剤等として広く使用されている。たとえば、特定の機能を有する分子の末端に加水分解性シリル基を導入した化合物を基材にコーティングすることによって、特定の機能を有する分子を基材の表面に結合させることができる。【０００３】
末端に加水分解性シリル基を導入する方法としては、原料化合物の分子の末端に２−プロペニル基（−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２、慣用名：アリル基）を導入し、次いで、２−プロペニル基が導入された化合物にヒドロシラン化合物を反応させて、ヒドロシリル化する方法が好適に用いられる。ヒドロシリル化反応は、たとえば、微量の遷移金属触媒の存在下で行われる。
原料化合物の分子の末端に２−プロペニル基を導入する方法としては、分子の末端に３−ハロプロピル基を有する化合物を脱ハロゲン化水素して、末端を２−プロペニル基とする方法；分子の末端に水酸基を持つ化合物をハロゲン化アリルと反応させて、分子の末端にアリルオキシ基（−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）を有するアリルエーテル化合物とする方法；等がある。【０００４】
ところが、ヒドロシリル化反応の選択率は、分子の末端に２−プロペニル基を有する化合物の種類等によっては必ずしも高くない。たとえば、アリルエーテル化合物のヒドロシリル化反応によれば、末端に加水分解性シリル基を有する目的の化合物が７５〜８５モル％生成するが、その際、二重結合が内部に移動した１−プロペニル基（−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ３）を有する副生物が１５〜２５モル％副生する。【０００５】
副生物の生成量が多いと、目的の化合物の製造コストが増加する。また、該化合物と副生物とを分離する工程が必要となる。一般に、低分子量の化合物の反応の場合には、目的の化合物の沸点は原料および副生物の沸点よりも充分に高くなるため、蒸留精製により、これらを分離しやすい。しかしながら、原料が高分子量の化合物である場合には、蒸留精製による分離自体が困難であるため、目的の化合物と副生物とを含む反応混合物をそのまま表面処理剤等として使用せざるを得ない。この場合、反応混合物中の副生物量が多いと、表面処理剤と基材との密着性が低下し、表面処理剤としての機能が不充分となる。【０００６】
また、たとえば１−プロぺニル基を有する副生物であるプロぺニルエーテルは、水が作用することにより、悪臭の原因となるプロピオンアルデヒドを生成する（特許文献１参照。）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特公平７−９１３８９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、簡便かつ容易な方法で、２−プロペニル基を有する化合物のヒドロシリル化反応を高選択率に行うケイ素化合物の製造方法の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、下記［１］〜［１１］の構成を有するケイ素化合物の製造方法を提供する。【００１０】
［１］下式（３）で表される基を有する化合物と、Ｈ−Ｓｉ結合を有するケイ素化合物（４）とを、遷移金属触媒（Ｃ）および下式（Ｄ）で表される基を有する化合物の存在下に反応させて、下式（５）で表される基を有する化合物を得ることを特徴とする、ケイ素化合物の製造方法。
−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２・・・（３）
−Ｓ（＝Ｏ）−・・・（Ｄ）
−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ≡・・・（５）【００１１】
［２］前記式（Ｄ）で表される基を有する化合物が、ジメチルスルホキシドまたはテトラメチレンスルホキシドである、［１］のケイ素化合物の製造方法。
［３］前記Ｈ−Ｓｉ結合を有するケイ素化合物（４）が下式（４１）で表される化合物であり、前記式（５）で表される基が、下式（５−１）で表される基である、［１］または［２］のケイ素化合物の製造方法。
ＨＳｉＬｍＲｎ・・・（４１）
−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＬｍＲｎ・・・（５−１）
式中の記号は以下を示す。
Ｌ：加水分解性基。
Ｒ：１価の炭化水素基。
ｍおよびｎ：ｍは１〜３の整数であり、ｎは０〜２の整数であり、ｍ＋ｎ＝３。【００１２】
［４］前記Ｌが炭素数１〜４のアルコキシ基である、［３］のケイ素化合物の製造方法。【００１３】
［５］前記Ｈ−Ｓｉ結合を有するケイ素化合物（４）が、線状または環状のオルガノポリシロキサン化合物である、［１］または［２］のケイ素化合物の製造方法。
［６］前記式（３）で表される基を有する化合物がアリルオキシ基を有する化合物である、［１］〜［５］のいずれかのケイ素化合物の製造方法。
［７］前記式（３）で表される基を有する化合物が、前記式（３）で表される基を１〜３個有する化合物である、［１］〜［６］のいずれかのケイ素化合物の製造方法。
［８］前記式（３）で表される基を有する化合物が、ポリオキシアルキレン鎖またはポリオキシフルオロアルキレン鎖を有する化合物である、［１］〜［７］のいずれかのケイ素化合物の製造方法。【００１４】
［９］前記式（３）で表される基を有する化合物の数平均分子量が、２００〜２０，０００である、［１］〜［８］のいずれかのケイ素化合物の製造方法。
［１０］前記遷移金属触媒（Ｃ）が白金触媒である、［１］〜［９］のいずれかのケイ素化合物の製造方法。
［１１］前記遷移金属触媒（Ｃ）が、Ｐｔ／ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体またはＰｔ／テトラメチルテトラビニルシクロテトラシロキサン錯体である、［１０］のケイ素化合物の製造方法。
【発明の効果】
【００１５】
本発明のケイ素化合物の製造方法によれば、簡便かつ容易な方法で、２−プロペニル基を有する化合物のヒドロシリル化反応を高選択率に行える。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
本明細書において、式（４１）で表される化合物を化合物（４１）と記す。他の式で表される化合物も同様に記す。また、式（Ｄ）で表される基を基（Ｄ）と記す。他の式で表される基も同様に記す。また、式（３）で表される基を有する化合物を化合物（３）と記す。他の式で表される基を有する化合物も同様に記す。
【００１７】
以下の用語の定義は、本明細書および特許請求の範囲にわたって適用される。
「加水分解性シリル基」とは、加水分解反応することによってシラノール基（Ｓｉ−ＯＨ）を形成し得る基を意味する。たとえば、式（４１）中の−ＳｉＬｍＲｎは加水分解性シリル基である。
「エーテル性酸素原子」とは、炭素−炭素原子間においてエーテル結合（−Ｏ−）を形成する酸素原子を意味する。
「フルオロアルキレン基」とは、アルキレン基の水素原子の一部またはすべてがフッ素原子に置換された基を意味し、「ペルフルオロアルキレン基」とは、アルキレン基の水素原子のすべてがフッ素原子に置換された基を意味する。
「フルオロアルキル基」とは、アルキル基の水素原子の一部またはすべてがフッ素原子に置換された基を意味し、「ペルフルオロアルキル基」とは、アルキル基の水素原子のすべてがフッ素原子に置換された基を意味する。
オキシペルフルオロアルキレン基の化学式は、その酸素原子をペルフルオロアルキレン基の右側に記載して表すものとする。オキシアルキレン基の化学式も同様である。
「有機基」とは、炭素原子を有する基である。
【００１８】
〔化合物（３）〕
化合物（３）は、下式（３）で表される基（すなわち、２−プロペニル基）を１つ以上有する。化合物（３）の有する基（３）の数に制限はなく、化合物（３）の製造の容易性、Ｈ−Ｓｉ結合を有するケイ素化合物（４）（以下、「化合物（４）」とも記す。）との反応性、本発明の方法で製造される化合物（５）の用途等に応じて決定できる。化合物（５）を表面処理剤として使用する場合、表面改質性が高い点から、化合物（３）の有する基（３）の数は３以下が好ましく、２以下が特に好ましい。反応性接着剤として使用する場合には、充分な接着性を付与できる点から、化合物（３）の有する基（３）の数は２以上が好ましく、３以上が特に好ましい。化合物（３）は、１種を使用しても、２種以上を併用してもよい。
−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２・・・（３）
【００１９】
基（３）を１つ有する化合物（３）は下式（３Ａ）で表され、基（３）を２つ有する化合物（３）は下式（３Ｂ）で表される。
ＲＡ−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２・・・（３Ａ）
ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２−ＲＢ−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２・・・（３Ｂ）
【００２０】
基（３）を３つ有する化合物（３）は、下式（３Ｃ）で表される。
【化１】
0006547629.tif 000002
【００２１】
上記式におけるＲＡ、ＲＢ、ＲＣは、その基（３）に結合する末端がエーテル性酸素原子であることが好ましい。すなわち、化合物（３）はアリルオキシ基を有する化合物であることが好ましい。同様に、化合物（３）の有する基（３）の数が４以上の場合も、化合物（３）はアリルオキシ基を４以上有する化合物であることが好ましい。
【００２２】
（化合物（３Ａ））
化合物（３Ａ）は、基（３）を１つ有するため、該化合物（３Ａ）と化合物（４）との反応により、基（５）を１つ有する化合物が生成する。たとえば、化合物（４）として、下式（４１）で表される化合物を用いた場合には、下式（５−１１）で表される化合物が生成する。
ＨＳｉＬｍＲｎ・・・（４１）
ＲＡ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＬｍＲｎ・・・（５−１１）
式中の記号は以下を示す。
Ｌ：加水分解性基。
Ｒ：１価の炭化水素基。
ｍおよびｎ：ｍは１〜３の整数であり、ｎは０〜２の整数であり、ｍ＋ｎ＝３。
【００２３】
式（３Ａ）中のＲＡは、−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２と結合した原子または１価の基であり、たとえば、水素原子、ハロゲン原子、アミノ基および１価の有機基が挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
１価の有機基としては、たとえば、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アラルキル基、複素環基等が挙げられる。アルキル基、アルケニル基およびアルキニル基は、その炭素−炭素原子間にまたはその末端に、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−Ｓ−、−ＣＯ−ＮＨ−および−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−からなる群より選ばれる１種以上を有してもよい。また、１価の有機基は、その炭素原子に結合した水素原子の一部またはすべてがハロゲン原子に置換されたハロゲン化有機基であってもよい。
【００２４】
ＲＡが１価の有機基である場合、前記のように、その結合末端はエーテル性酸素原子であることが好ましい。また、ＲＡはポリオキシアルキレン鎖やポリオキシフルオロアルキレン鎖を有していることが好ましい。ポリオキシフルオロアルキレン鎖はポリオキシペルフルオロアルキレン鎖であってもよい。
ポリオキシアルキレン鎖やポリオキシフルオロアルキレン鎖を有する化合物（３）は比較的高分子量の化合物となることが多く、後述のように、本発明はそのような比較的高分子量の化合物（３）から化合物（５）を製造する方法として適している。
【００２５】
ＲＡとしては、ＣＨ３−ＲＡ１−Ｏ−、ＣＨ３−ＲＡ１−Ｏ−（ＣｙＨ２ｙＯ）ｙ１−、ＣＨ３−ＲＡ１−、ＣＦ３−ＲＡ１−Ｏ−、ＣＦ３−ＲＡ１−Ｏ−（ＣｙＨ２ｙＯ）ｙ１−、ＣＦ３−ＲＡ１−Ｏ−（ＣσＦ２σＯ）σ１−、ＣＦ３−ＲＡ１−および下式で表される基等が好ましい。
【化２】
0006547629.tif 000003
【００２６】
ＲＡ１は、単結合または炭素数１〜３０のアルキレン基またはフルオロアルキレン基であり、アルキレン基またはフルオロアルキレン基の炭素数は、１〜２０が好ましい。ｙおよびσは１〜１０の整数であり、１〜４が好ましい。ｙ１およびσ１は１〜５００の整数であり、１〜２００が好ましい。
アルキレン基、フルオロアルキレン基は、直鎖状でも分岐状でもよい。
ｙ１が２以上のとき、（ＣｙＨ２ｙＯ）ｙ１はｙの異なる２種以上のＣｙＨ２ｙＯからなるものであってもよい。（ＣｙＨ２ｙＯ）の具体例としては、オキシエチレン基、オキシプロピレン基、オキシトリメチレン基、オキシテトラメチレン基等が挙げられる。
σ１が２以上のとき、（ＣσＦ２σＯ）σ１はσの異なる２種以上のＣσＦ２σＯからなるものであってもよい。
【００２７】
ＲＡとしては、下式（１）で表される基も好ましい。
Ａ−Ｏ−Ｑ−（ＣｂＦ２ｂＯ）ｄ−Ｘ−Ｏ−・・・（１）
式（１）中の記号は以下を示す。
Ａ：炭素数１〜２０のペルフルオロアルキル基。
Ｑ：単結合、−ＣＨ２−、−ＣＨＦ−、−Ｑ１−ＣＨ２−、−Ｑ１−ＣＨＦ−、−Ｑ１−Ｏ−ＣＨ２−、−Ｑ１−Ｏ−ＣＨＦ−、−Ｑ１−ＣＨ２−Ｏ−または−Ｑ１−ＣＨＦ−Ｏ−。
Ｑ１：炭素数１〜１０のフルオロアルキレン基、炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜１０のフルオロアルキレン基、炭素数１〜１０のアルキレン基、または炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜１０のアルキレン基。
ｂ、ｄ：ｂは１〜１０の整数であり、ｄは１〜２００の整数であり、ｄが２以上のとき、（ＣｂＦ２ｂＯ）ｄはｂの異なる２種以上のＣｂＦ２ｂＯからなるものであってもよい。
Ｘ：ＣＦ２Ｏを有しない２価の有機基。
【００２８】
ＲＡが基（１）である化合物（３Ａ）（以下、「化合物（３Ａ１）」とも記す。）と、化合物（４１）とを反応させて得られた化合物（５−１１）（以下、「化合物（５−１１ａ）」とも記す。）は、たとえば、タッチパネルの、指で触れる面を構成する部材等の基材の表面に撥水撥油性を有する表面処理層を形成するための表面処理剤として好適に使用できる。
なお、化合物（３Ａ１）は、Ａ、Ｑ、（ＣｂＦ２ｂＯ）ｄおよびＸの１つ以上が異なる２種以上の化合物の混合物であってもよい。
【００２９】
＜Ａ基＞
Ａ基は、炭素数１〜２０のペルフルオロアルキル基である。炭素数１〜２０のペルフルオロアルキル基としては、化合物（５−１１ａ）を表面処理剤に用いたときに、より耐摩擦性に優れ、繰り返し摩擦によっても撥水撥油性が低下しにくい表面処理層を形成できる点から、炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基が好ましく、炭素数１〜３のペルフルオロアルキル基が特に好ましい。ペルフルオロアルキル基は、直鎖状でも分岐状でもよく、環構造を含む置換基を有していてもよい。
Ａとしては、ＣＦ３−、ＣＦ３ＣＦ２−、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−が好ましく、ＣＦ３−、ＣＦ３ＣＦ２−、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−が特に好ましい。
【００３０】
＜Ｑ基＞
Ｑ基は、単結合、−ＣＨ２−、−ＣＨＦ−、−Ｑ１−ＣＨ２−、−Ｑ１−ＣＨＦ−、−Ｑ１−Ｏ−ＣＨ２−、−Ｑ１−Ｏ−ＣＨＦ−、−Ｑ１−ＣＨ２−Ｏ−または−Ｑ１−ＣＨＦ−Ｏ−であり、Ｑ１は、炭素数１〜１０のフルオロアルキレン基、炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜１０のフルオロアルキレン基、炭素数１〜１０のアルキレン基、または炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜１０のアルキレン基である。
フルオロアルキレン基は、ペルフルオロアルキレン基でも、水素原子を１個以上有するフルオロアルキレン基でもよい。化合物（５−１１ａ）を表面処理剤に用いたときに、形成される表面処理層の撥水撥油性がより優れる点等からは、ペルフルオロアルキレン基が好ましい。化合物（５−１１ａ）の溶媒への溶解性が優れ、表面処理層を形成するためのコーティング液中や基材の表面への塗布時における化合物（５−１１ａ）の凝集が抑制され、均一性に優れた表面処理層を形成できる点からは、水素原子を１個以上有するフルオロアルキレン基が好ましい。
【００３１】
Ｑ基としては、化合物（３Ａ１）の製造しやすさ等の点から、単結合、−ＣＨ２−、−Ｑ１−ＣＨ２−または−Ｑ１−Ｏ−ＣＨ２−が好ましい。
Ｑ１は、炭素数が１〜８であることが好ましい。−Ｑ１−ＣＨ２−におけるＱ１としては、たとえば、−ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２−または−ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２−が好ましい。−Ｑ１−Ｏ−ＣＨ２−におけるＱ１としては、−ＣＨＦＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−、−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−、−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−が好ましい。中でも耐摩擦性の点からは、Ｑ１としては、−ＣＦ２−または直鎖状であるＱ１が好ましく、直鎖状のＱ１としては、−ＣＨＦＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２−または−ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２−が好ましい。
【００３２】
＜Ａ−Ｏ−Ｑ−基＞
Ｑ基が単結合である場合のＡ−Ｏ−Ｑ−基の具体例としては、下記基が挙げられる。
ＣＦ３−Ｏ−、
ＣＦ３ＣＦ２−Ｏ−、
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−。
【００３３】
Ｑ基が−Ｑ１−Ｏ−ＣＨ２−である場合、Ａ−Ｏ−Ｑ−基の具体例としては、下記の基が挙げられる。
ＣＦ３−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−、
ＣＦ３ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−、
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−、
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−、
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−。
【００３４】
ＣＦ３−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−、
ＣＦ３ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−、
ＣＦ３−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−、
ＣＦ３ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−、
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−、
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−。
【００３５】
Ｑ基が−Ｑ１−ＣＨ２−である場合、Ａ−Ｏ−Ｑ−基の具体例としては、下記の基が挙げられる。
ＣＦ３−Ｏ−ＣＦ２−ＣＨ２−、
ＣＦ３ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２−ＣＨ２−、
ＣＦ３−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２−ＣＨ２−、
ＣＦ３ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２−ＣＨ２−、
ＣＦ３−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２−ＣＨ２−、
ＣＦ３ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２−ＣＨ２−。
【００３６】
Ｑ基が−ＣＨ２−である場合のＡ−Ｏ−Ｑ−基の具体例としては、下記の基が挙げられる。
ＣＦ３−Ｏ−ＣＨ２−、
ＣＦ３ＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−。
【００３７】
＜（ＣｂＦ２ｂＯ）ｄ＞
（ＣｂＦ２ｂＯ）ｄにおいて、ｂは１〜１０の整数であり、ｄは１〜２００の整数であり、ｄが２以上のとき、（ＣｂＦ２ｂＯ）ｄはｂの異なる２種以上のＣｂＦ２ｂＯからなるものであってもよい。
【００３８】
ｂは、化合物（５−１１ａ）を用いて形成される表面処理層に耐摩擦性、指紋汚れ除去性を充分に付与する点からは、１〜４の整数が好ましく、表面処理層に潤滑性を充分に付与する点からは、１または２が好ましい。したがって、表面処理層に耐摩擦性、指紋汚れ除去性および潤滑性を充分に付与する点からは、ｂが１〜４の整数である（ＣｂＦ２ｂＯ）ｄと、ｂが１または２である（ＣｂＦ２ｂＯ）ｄとをｂが異なる組合せで組み合わせてもよい。
ｂが２以上の場合、ＣｂＦ２ｂは直鎖状でも分岐状でもよい。表面処理層に指紋汚れ除去性、潤滑性を充分に付与する点からは、直鎖状が好ましい。
【００３９】
ｄは、化合物（５−１１ａ）を用いて形成される表面処理層に撥水撥油性を充分に付与する点からは、２以上の整数が好ましく、１０以上の整数がより好ましく、２０以上の整数が特に好ましい。化合物（５−１１ａ）の数平均分子量が大きすぎると、単位分子量当たりに存在する−ＳｉＬｍＲｎ基の数が減少し、化合物（５−１１ａ）を用いて形成する表面処理層の耐摩擦性が低下する点からは、ｄは、１５０以下の整数が好ましく、１００以下の整数がより好ましく、８０以下の整数が特に好ましい。
【００４０】
ｄが２以上のとき、（ＣｂＦ２ｂＯ）ｄは、ｂの異なる２種以上のＣｂＦ２ｂＯからなるものであってもよい。
（ＣｂＦ２ｂＯ）ｄにおいて、ｂの異なる２種以上のＣｂＦ２ｂＯが存在する場合、各ＣｂＦ２ｂＯの結合順序は限定されない。たとえば、ＣＦ２ＯとＣＦ２ＣＦ２Ｏが存在する場合、ＣＦ２ＯとＣＦ２ＣＦ２Ｏがランダムに配置されてもよく、ＣＦ２ＯとＣＦ２ＣＦ２Ｏが交互に配置されてもよく、複数のＣＦ２Ｏからなるブロックと複数のＣＦ２ＣＦ２Ｏからなるブロックが連結してもよい。
【００４１】
（ＣｂＦ２ｂＯ）としては、（ＣＦ２Ｏ）、（Ｃ２Ｆ４Ｏ）、（Ｃ３Ｆ６Ｏ）、（Ｃ４Ｆ８Ｏ）、（Ｃ５Ｆ１０Ｏ）等が挙げられる。ｂの異なる２種以上の（ＣｂＦ２ｂＯ）の組み合わせとしては、これらのうちの２種以上を任意に組み合わせたものが挙げられる。化合物（５−１１ａ）を用いて形成される表面処理層に、撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性を充分に付与する点からは、下式（８−１）〜（８−６）で表される基が好ましく、下式（８−１）で表される基、下式（８−２）で表される基、下式（８−３）で表される基または下式（８−５）で表される基が特に好ましい。
【００４２】
（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ・・・（８−１）
｛（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ１（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ２｝・・・（８−２）
｛（ＣＦ２Ｏ）ｄ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ２｝・・・（８−３）
（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｄ・・・（８−４）
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ・・・（８−５）
｛（ＣＦ２Ｏ）ｄ１（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｄ２｝・・・（８−６）
【００４３】
ｄ１およびｄ２は、いずれも１以上の整数であり、ｄ１＋ｄ２は２〜２００の整数である。また、基（８−２）において、ｄ１個の（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）およびｄ２個の（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）の結合順序は限定されない。基（８−３）および基（８−６）においても同様である。
【００４４】
これらのうち、｛（ＣＦ２Ｏ）ｄ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ２｝は、化合物（３Ａ１）の製造のしやすさ等の点から、ＣＦ２Ｏ｛（ＣＦ２Ｏ）ｄ１−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ２｝である（ただし、左側のＣＦ２Ｏが式（１）のＱに結合する。）ことが好ましい。
【００４５】
化合物（５−１１ａ）を用いて形成される表面処理層に撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性を充分に付与する点からは、ｄ１は、２以上の整数が好ましく、５以上の整数がより好ましく、１０以上の整数が特に好ましい。化合物（５−１１ａ）の数平均分子量が大きすぎると、単位分子量当たりに存在する−ＳｉＬｍＲｎ基の数が減少し、化合物（５−１１ａ）を用いて形成する表面処理層の耐摩擦性が低下する点からは、ｄ１は、１００以下の整数が好ましく、８０以下の整数がより好ましく、５０以下の整数が特に好ましい。
【００４６】
表面処理層に撥水撥油性、耐摩擦性、指紋汚れ除去性を充分に付与する点からは、ｄ２は、２以上の整数が好ましく、５以上の整数がより好ましく、１０以上の整数が特に好ましい。化合物（５−１１ａ）の数平均分子量が大きすぎると、単位分子量当たりに存在する−ＳｉＬｍＲｎ基の数が減少し、化合物（５−１１ａ）を用いて形成する表面処理層の耐摩擦性が低下する点からは、ｄ２は、１００以下の整数が好ましく、８０以下の整数がより好ましく、５０以下の整数が特に好ましい。
【００４７】
化合物（３Ａ１）は、（ＣｂＦ２ｂＯ）ｄにおけるｄの数が異なる複数種の化合物の混合物として製造されうる。この場合、混合物としてのｄの平均値は、１〜２００が好ましく、２〜１５０が特に好ましい。また、化合物（３Ａ１）は、ｄ１およびｄ２の数が異なる複数種の化合物の混合物として製造されうる。この場合、混合物としてのｄ１の平均値は、１〜１００が好ましく、ｄ２の平均値は１〜１００が好ましい。
【００４８】
＜Ｘ基＞
Ｘは、ＣＦ２Ｏを有しない２価の有機基である。Ｘとしては、たとえば、炭素数１〜６のフルオロアルキレン基、炭素数１〜６のアルキレン基が好ましい。製造の容易性の点から、水素原子を１個以上含む炭素数１〜６のフルオロアルキレン基がより好ましく、下式（６）で表される基が特に好ましい。
【００４９】
−（ＣＦ２）ａＣＦＸ１−ＣＨ２−・・・（６）
ただし、式（６）中、ａは０〜２、Ｘ１はＦまたはＣＦ３である。
【００５０】
基（６）としては、たとえば、−ＣＦ２ＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２−、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２−、−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＨ２−等が挙げられる。
【００５１】
化合物（３Ａ１）の基（３）は、分子の末端に３−ハロプロピル基を有する原料化合物を脱ハロゲン化水素して、分子の末端を２−プロペニル基とする方法；分子の末端に水酸基を持つ化合物をハロゲン化アリルと反応させて、分子の末端にアリルオキシ基（−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）を導入する方法；等で、導入される。化合物（３Ａ１）としては、市販品も使用できる。
【００５２】
（化合物（３Ａ）の好ましい態様）
化合物（３Ａ）としては、下式の化合物が好ましい。
ＣＨ３−ＲＡ１−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２、
ＣＨ３−ＲＡ１−Ｏ−（ＣｙＨ２ｙＯ）ｙ１−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２、
ＣＨ３−ＲＡ１−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２。
【００５３】
【化３】
0006547629.tif 000004
【００５４】
化合物（３Ａ）のうち、化合物（３Ａ１）としては、下式の化合物が好ましい。
Ｑが単結合である場合、以下の化合物（３１１）〜（３１３）が挙げられる。
Ａ−Ｏ−（ＣｂＦ２ｂＯ）ｄ−ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２・・・（３１１）
Ａ−Ｏ−（ＣｂＦ２ｂＯ）ｄ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２・・・（３１２）
Ａ−Ｏ−（ＣｂＦ２ｂＯ）ｄ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２・・・（３１３）
【００５５】
Ｑが−Ｑ１−Ｏ−ＣＨ２−である場合、以下の化合物（３２１）〜（３２２）、化合物（３３１）〜（３３８）が挙げられる。
Ａ−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−（ＣｂＦ２ｂＯ）ｄ−ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２・・・（３２１）
Ａ−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−（ＣｂＦ２ｂＯ）ｄ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２・・・（３２２）
【００５６】
Ａ−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−（ＣｂＦ２ｂＯ）ｄ−ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２・・・（３３１）
Ａ−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−（ＣｂＦ２ｂＯ）ｄ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２・・・（３３２）
Ａ−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−（ＣｂＦ２ｂＯ）ｄ−ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２・・・（３３３）
Ａ−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−（ＣｂＦ２ｂＯ）ｄ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２・・・（３３４）
Ａ−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−（ＣｂＦ２ｂＯ）ｄ−ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２・・・（３３５）
Ａ−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−（ＣｂＦ２ｂＯ）ｄ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２・・・（３３６）
Ａ−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−（ＣｂＦ２ｂＯ）ｄ−ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２・・・（３３７）
Ａ−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−（ＣｂＦ２ｂＯ）ｄ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２・・・（３３８）
【００５７】
Ｑが−Ｑ１−ＣＨ２−である場合、以下の化合物（３４３）〜（３４８）が挙げられる。
Ａ−Ｏ−ＣＦ２−ＣＨ２−（ＣｂＦ２ｂＯ）ｄ−ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２・・・（３４３）
Ａ−Ｏ−ＣＦ２−ＣＨ２−（ＣｂＦ２ｂＯ）ｄ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２１・・・（３４４）
Ａ−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２−ＣＨ２−（ＣｂＦ２ｂＯ）ｄ−ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２・・・（３４５）
Ａ−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２−ＣＨ２−（ＣｂＦ２ｂＯ）ｄ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２・・・（３４６）
Ａ−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２−ＣＨ２−（ＣｂＦ２ｂＯ）ｄ−ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２・・・（３４７）
Ａ−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２−ＣＨ２−（ＣｂＦ２ｂＯ）ｄ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２・・・（３４８）
【００５８】
Ｑが−ＣＨ２−である場合、以下の化合物（３４１）〜（３４２）が挙げられる。
Ａ−Ｏ−ＣＨ２−（ＣｂＦ２ｂＯ）ｄ−ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２・・・（３４１）
Ａ−Ｏ−ＣＨ２−（ＣｂＦ２ｂＯ）ｄ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２・・・（３４２）
【００５９】
（化合物（３Ｂ））
化合物（３Ｂ）は下式（３Ｂ）で表され、基（３）を２つ有する。そのため、化合物（３Ｂ）と化合物（４）との反応により、通常、基（５）を２つ有する化合物と、基（５）を１つ有する化合物とが生成する。たとえば、化合物（４）として、化合物（４１）を用いた場合には、基（５−１）を２つ有する下式（５−１２１）で表される化合物と、基（５−１）を１つ有する下式（５−１２２）で表される化合物とが生成する。化合物（５−１２１）は、化合物（３Ｂ）の２つの基（３）の両方がヒドロシリル化された化合物で、化合物（５−１２２）は、化合物（３Ｂ）の２つの基（３）のうちの一方がヒドロシリル化された化合物である。このように基（３）を複数有する化合物（３）を用いた場合には、通常、複数の基（３）の全てがヒドロシリル化された化合物と一部のみがヒドロシリル化された化合物とが生成する。
ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２−ＲＢ−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２・・・（３Ｂ）
ＲｎＬｍＳｉＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＲＢ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＬｍＲｎ・・・（５−１２１）
ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２−ＲＢ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＬｍＲｎ・・・（５−１２２）
【００６０】
式（３Ｂ）中のＲＢは、単結合、または２つの−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２と結合可能な２価の基である。２価の基は、たとえば、２価の有機基、−Ｏ−、−Ｓ−、等が挙げられる。
２価の有機基としては、たとえば、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基、アラルキレン基、複素環を有する２価の有機基等が挙げられる。アルキレン基、アルケニレン基およびアルキニレン基は、その炭素−炭素原子間にまたはその両末端もしくは片末端に、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−Ｓ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＮＨ−ＣＯ−および−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−からなる群より選ばれる２価の基の１種以上を有してもよい。また、２価の有機基は、その炭素原子に結合した水素原子の一部またはすべてがハロゲン原子によって置換されたハロゲン化有機基であってもよい。
【００６１】
ＲＢが２価の有機基である場合、前記のように、その両結合末端はエーテル性酸素原子であることが好ましい。また、ＲＢはポリオキシアルキレン鎖やポリオキシフルオロアルキレン鎖を有していることが好ましい。ポリオキシフルオロアルキレン鎖はポリオキシペルフルオロアルキレン鎖であってもよい。
ポリオキシアルキレン鎖やポリオキシフルオロアルキレン鎖を有する化合物（３）は比較的高分子量の化合物となることが多く、後述のように、本発明はそのような比較的高分子量の化合物（３）から化合物（５）を製造する方法として適している。
【００６２】
ＲＢとしては、単結合、−Ｏ−、−Ｏ−ＲＢ１−Ｏ−、−Ｏ−（ＣｙＨ２ｙＯ）ｙ１−、−Ｏ−ＲＢ１−Ｏ−（ＣｙＨ２ｙＯ）ｙ１−、ＲＢ１、−ＲＢ１−Ｏ−、−Ｏ−ＲＢ１−、−ＲＢ１−Ｏ−（ＣｙＨ２ｙＯ）ｙ１−等が好ましい。
ＲＢ１は、ＲＡ１と同じ意味（ただし、単結合を除く）を表し、好ましい態様等も同様である。ｙおよびｙ１は上記のとおりであり、好ましい態様等も上記のとおりである。
【００６３】
ＲＢとしては、下式（１０）で表される基も好ましい。
−Ｏ−Ｑ−（ＣｂＦ２ｂＯ）ｄ−Ｘ−Ｏ−・・・（１０）
式（１０）中の記号は、式（１）中の記号と同じ意味を示す。好ましい態様等も同様である。−Ｏ−Ｑ−基の具体例としては、Ｑが−ＣＨ２−である−Ｏ−ＣＨ２−が挙げられる。
【００６４】
ＲＢが基（１０）である化合物（３Ｂ）（以下、「化合物（３Ｂ１）」とも記す。）と化合物（４１）とを反応させて得られた反応混合物（以下、「混合物（５−１２ａ）」とも記す。）は、たとえば、タッチパネルの、指で触れる面を構成する部材等の基材の表面に撥水撥油性を有する表面処理層を形成するための表面処理剤として好適に使用できる。混合物（５−１２ａ）は、通常、化合物（３Ｂ１）の２つの基（３）の両方がヒドロシリル化された化合物と、一方がヒドロシリル化された化合物とを含む。
なお、化合物（３Ｂ１）は、Ｑ、（ＣｂＦ２ｂＯ）ｄおよびＸの１つ以上が異なる２種以上の化合物の混合物であってもよい。
【００６５】
化合物（３Ｂ１）の２つの基（３）は、分子の両末端に３−ハロプロピル基を有する化合物を脱ハロゲン化水素して、分子の両末端を２−プロペニル基とする方法；分子の両末端に水酸基を持つ化合物をハロゲン化アリルと反応させて、分子の両末端にアリルオキシ基（−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）を導入する方法；等で、導入される。化合物（３Ｂ１）としては、市販品も使用できる。
【００６６】
（化合物（３Ｂ）の好ましい態様）
化合物（３Ｂ）としては、下式の化合物が好ましい。
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２−Ｏ−ＲＢ１−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２、
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２−Ｏ−（ＣｙＨ２ｙＯ）ｙ１−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２、
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２−Ｏ−ＲＢ１−Ｏ−（ＣｙＨ２ｙＯ）ｙ１−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２、
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２−Ｏ−（ＣｙＨ２ｙＯ）ｙ１−ＲＢ１−Ｏ−（ＣｙＨ２ｙＯ）ｙ１−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２、
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２−ＲＢ１−ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ２。
【００６７】
化合物（３Ｂ）のうち、化合物（３Ｂ１）としては、Ｑが−ＣＨ２−である以下の化合物（３４１０）〜（３４３０）が挙げられる。
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−（ＣｂＦ２ｂＯ）ｄ−ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２・・・（３４１０）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−（ＣｂＦ２ｂＯ）ｄ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２・・・（３４２０）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−（ＣｂＦ２ｂＯ）ｄ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２・・・（３４３０）
【００６８】
（化合物（３Ｃ））
化合物（３Ｃ）は、上式（３Ｃ）で表され、基（３）を３つ有する。そのため、化合物（３Ｃ）と化合物（４）との反応により、通常、基（５）を３つ有する化合物と、基（５）を２つ有する化合物と、基（５）を１つ有する化合物が生成する。
化合物（３Ｃ）としては、たとえば、３官能アルコールから誘導される下式（３Ｃ１）で表される化合物が挙げられる。
Ｒｃ［Ｏ（ＣβＨ２βＯ）γＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２］３・・・（３Ｃ１）
式中、Ｒｃは、３価の基であり、βは１〜１０の整数、γは０〜５００の整数である。３価の基としては、３価の有機基が挙げられる。
なお、基（３）を４つ以上有する化合物としては、たとえば、多官能アルコールから誘導される下式（３Ｄ１）で表される化合物が挙げられる。
ＲＤ［Ｏ（ＣβＨ２βＯ）γＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２］δ・・・（３Ｄ１）
式中、ＲＤは、４価以上の基であり、βおよびγは上記と同じ意味を示す。δは４以上の整数であり、ＲＤの価数と同じ整数である。４価以上の基としては、４価以上の有機基が挙げられる。
【００６９】
（化合物（３）の数平均分子量）
化合物（３）の数平均分子量には制限はなく、化合物（５）の用途等に応じて選択できる。表面処理剤等に好適な化合物（５−１１ａ）または混合物（５−１２ａ）を製造する場合には、化合物（３Ａ１）および化合物（３Ｂ１）の数平均分子量は、５００〜１０，０００が好ましく、１，０００〜８，０００が特に好ましい。
また、本発明の製造方法によれば、化合物（５）を高選択率で製造できるため、化合物（４）との反応により得られた反応混合物を蒸留精製等で精製しなくても、表面処理剤等の用途にそのまま使用できる。よって、本発明の製造方法は、化合物（３）として数平均分子量が２００〜２０，０００の高分子量の化合物を用い、得られた反応混合物も高分子量であって蒸留精製自体が困難な場合において、特に有効である。
【００７０】
化合物（３）の数平均分子量（Ｍｎ）は、ＮＭＲ分析法を用い以下の方法で得られる値である。たとえば、基（１）を有する化合物（３Ａ１）または基（１０）を有する化合物（３Ｂ１）の場合には、１９Ｆ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３、内部標準：ＣＦＣｌ３）により、（ＣｂＦ２ｂＯ）ｄの繰り返し単位を同定するとともに、繰り返し単位の数を算出し、一分子あたりの（ＣｂＦ２ｂＯ）ｄの分子量の平均値を算出する。次に、１Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ３、内部標準：ＴＭＳ）により、末端基であるＡおよびＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２−の同定および定量を行い、末端基のモル数に基づいて、該化合物の数平均分子量（Ｍｎ）を算出する。
【００７１】
化合物（３Ａ１）および化合物（３Ｂ１）以外の化合物（３）については、１Ｈ−ＮＭＲにより、ＲＡ、ＲＢ、ＲＣまたはＲＤの構造を同定するとともに、末端基であるＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２−の同定および定量を行い、末端基のモル数に基づいて、該化合物の数平均分子量（Ｍｎ）を算出する。
【００７２】
〔化合物（４）〕
化合物（４）は、Ｈ−Ｓｉ結合を有するケイ素化合物である。化合物（４）は１分子中に１つのＨ−Ｓｉ結合を有していても、複数のＨ−Ｓｉ結合を有していてもよい。このような化合物としては、モノシラン化合物、直鎖状または環状のポリシラン化合物および直鎖状または環状のポリシロキサン化合物のＳｉ原子の一部または全てに水素原子が結合したＨ−Ｓｉ結合を有するケイ素化合物が挙げられる。Ｈ−Ｓｉ結合を有するポリシラン化合物やポリシロキサン化合物としては、ケイ素原子に結合した有機基を有する、オルガノポリシラン化合物やオルガノポリシロキサン化合物が好ましい。
化合物（４）としては、下式（４１）で表されるヒドロシラン化合物、下式（４２）で表される環状オルガノヒドロポリシロキサン化合物および下式（４３）で表される線状オルガノヒドロポリシロキサン化合物が好ましい。
【００７３】
ＨＳｉＬｍＲｎ・・・（４１）
【００７４】
【化４】
0006547629.tif 000005
式（４２）中、＊と＊とは結合して環を形成している。
【００７５】
【化５】
0006547629.tif 000006
【００７６】
式（４１）、下式（４２）および下式（４３）中の記号は以下を示す。
式中の記号は以下を示す。
Ｌ：加水分解性基。
Ｒ：１価の炭化水素基。
Ｒ１１〜Ｒ１３およびＲ２１〜Ｒ２７：それぞれ独立に１価の炭化水素基。
ＲＨ：水素原子または１価の炭化水素基。
ｍおよびｎ：ｍは１〜３の整数であり、ｎは０〜２の整数であり、ｍ＋ｎ＝３。
ｐおよびｑ：ｐは１〜１０の整数であり、ｑは０〜９の整数であり、ｐ＋ｑは３〜１０の整数。
ｒおよびｓ：ｒは１〜１００の整数であり、ｓは０〜１，０００の整数であり、ｒ＋ｓは１〜１，０００の整数。
化合物（４）は１種を使用しても、２種以上を使用してもよい。
【００７７】
（化合物（４１））
Ｌとしては、アルコキシ基、ハロゲン原子、アシル基、イソシアナート基等が挙げられる。アルコキシ基としては、炭素数１〜４のアルコキシ基が好ましい。
Ｌは、工業的な製造が容易な点から、炭素数１〜４のアルコキシ基またはハロゲン原子が好ましい。ハロゲン原子としては、ＲＡについて例示したハロゲン原子が挙げられ、塩素原子が特に好ましい。
Ｌは、塗布時のアウトガスが少なく、製造される化合物（５−１）の保存安定性に優れる点で、炭素数１〜４のアルコキシ基が好ましい。アルコキシ基がエトキシ基であると、化合物（５−１）の長期の保存安定性が優れる。アルコキシ基がメトキシ基であると、化合物（５−１）を表面処理剤として用いた場合、基材への塗布後の反応時間が短くなる。
【００７８】
ｍは、２または３が好ましく、３が特に好ましい。分子中にＬが複数存在することにより、Ｌが加水分解して生成するシラノール基と基材の表面との結合がより強固になるとともに、基材表面上で隣接する化合物（１）が相互に結合することにより強固な表面処理層を形成すると考えられる。
ｍが２以上である場合、１分子中に存在する複数のＬは互いに同じでも異なっていてもよい。原料の入手容易性や製造が簡便な点で、互いに同じであることが好ましい。
【００７９】
Ｒとしては、アルキル基、シクロアルキル基等の１価の飽和炭化水素基、フェニル基、アルケニル基または２−プロペニル基等が挙げられる。１価の炭化水素基としては、１価の飽和炭化水素基およびフェニル基が特に好ましい。１価の飽和炭化水素基の炭素数は１〜６が好ましく、１〜３がより好ましく、１〜２が特に好ましい。
Ｒは、合成の簡便性の点から、炭素数が１〜６のアルキル基が好ましく、炭素数が１〜３のアルキル基がより好ましく、炭素数が１〜２のアルキル基が特に好ましい。
【００８０】
ｎは、０〜２の整数であり、ｍ＋ｎ＝３である。ｎは０または１（ｍが３または２）が好ましく、ｎが０（ｍが３）であることが特に好ましい。ｎが０または１（ｍが３または２）であると、Ｌが加水分解して生成するシラノール基と基材の表面との結合や基材表面上で隣接するケイ素化合物間でシロキサン結合が形成されやすい。
【００８１】
−ＳｉＬｍＲｎとしては、−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、−ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２、−Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３、−ＳｉＣｌ３、−Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ３）３、−Ｓｉ（ＮＣＯ）３が挙げられる。工業的な製造における取扱いやすさから、−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、−ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２、−Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３が好ましい。
【００８２】
化合物（４１）と化合物（３）との反応において、化合物（４１）は、化合物（３）の有する基（３）に対するモル比が０．９５〜２０であることが好ましく、０．９８〜５が特に好ましい。上記範囲の下限値以上であれば、化合物（５−１）がより高選択率で得られやすい。また、ヒドロシリル化反応の反応速度が優れる。上記範囲の上限値以下であれば、化合物（４１）の使用量を抑制しつつ、化合物（５−１）を高選択率で得ることができる。
【００８３】
（化合物（４２））
Ｒ１１〜Ｒ１３は、それぞれ独立に１価の炭化水素基であり、たとえば、Ｒとして示したものであり、好ましい態様も同様である。Ｒ１１〜Ｒ１３は、それぞれ同じ炭化水素基であっても、異なる炭化水素基であってもよく、同じ炭化水素基であることが好ましい。
ｐは、１〜８の整数が好ましく、１〜５の整数が特に好ましい。ｑは０〜７の整数が好ましく、０〜４の整数が特に好ましい。ｐ＋ｑは３〜８の整数が好ましく、３〜６の整数が特に好ましい。該範囲であると、入手が容易であり、なかでもｐが４でｑが０の下式（４−３）で表される化合物が好ましい。
【００８４】
【化６】
0006547629.tif 000007
【００８５】
化合物（４２）と化合物（３）との反応により、下式（５−２）で表される基が生成する。
【化７】
0006547629.tif 000008
式（５−２）中、＊と＊とは結合して環を形成している。
ｐ、ｑ、Ｒ１１〜Ｒ１３は上記と同じである。ｔはｐ以下の整数（すなわち、ｐ−ｔは０または正の整数。）である。
【００８６】
化合物（４２）と化合物（３）との反応において、化合物（４２）の有するＨ−Ｓｉ結合の、化合物（３）の有する基（３）に対するモル比は、目的に応じて任意に調整できる。たとえば、該モル比を１以上にすることで、Ｈ−Ｓｉ結合を残存させることができ、上式（５−２）で表される基（ただし、ｐ＞ｔ。）を有する化合物を得ることが可能となる。そして、残存した（ｐ−ｔ）個のＨ−Ｓｉ結合と、化合物（３）以外の−ＣＨ＝ＣＨ２基を有する化合物（α）とを反応させることもできる。たとえば、Ｈ−Ｓｉ結合が複数個残存している場合、該Ｈ−Ｓｉ結合に対して、−ＣＨ＝ＣＨ２基と−ＳｉＬｍＲｎ基とを有する化合物（α）を反応させてヒドロシリル化することで、−ＳｉＬｍＲｎ基を複数有する化合物を製造できる。このような化合物（α）としては、たとえば、ＣＨ２＝ＣＨＳｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＨ２＝ＣＨＳｉ（ＣＨ３）（ＯＣＨ３）２、ＣＨ２＝ＣＨＳｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３、ＣＨ２＝ＣＨＳｉＣｌ３、ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３等が挙げられる。
【００８７】
（化合物（４３））
Ｒ２１〜Ｒ２７は、それぞれ独立に１価の炭化水素基であり、たとえば、Ｒとして示したものであり、好ましい態様も同様である。Ｒ２１〜Ｒ２７は、それぞれ同じ炭化水素基であっても、異なる炭化水素基であってもよく、同じ炭化水素基であることが好ましい。
ＲＨは水素原子または１価の炭化水素基であり、１価炭化水素基としては、たとえば、Ｒとして示したものであり、好ましい態様も同様である。
ｒは１〜５０の整数が好ましく、１〜２０の整数が特に好ましい。ｓは０〜５００の整数が好ましく、０〜２００の整数が特に好ましい。ｒ＋ｓは１〜５００の整数が好ましく、１〜２００の整数が特に好ましい。該範囲であると原料の入手容易性や製造が簡便である。
【００８８】
化合物（４３）と化合物（３）の反応により、たとえば、ＲＨが水素原子でない場合、下式（５−３）で表される基が生成する。
【化８】
0006547629.tif 000009
ｒ、ｓ、Ｒ２１〜Ｒ２７は上記と同じである。εはｒ以下の整数（すなわち、ｒ−εは０または正の整数。）である。
【００８９】
化合物（４３）と化合物（３）の反応において、化合物（４３）の有するＨ−Ｓｉ結合の、化合物（３）の有する基（３）に対するモル比は、目的に応じて任意に調整できる。たとえば、該モル比を１以上にすることで、Ｈ−Ｓｉ結合を残存させることができ、上式（５−３）で表される基（ただし、ｒ＞ε。）を有する化合物を得ることが可能となる。そして、残存した（ｒ−ε）個のＨ−Ｓｉ結合と、化合物（３）以外の−ＣＨ＝ＣＨ２基を有する上述の化合物（α）とを反応させることもできる。たとえば、Ｈ−Ｓｉ結合が複数個残存している場合、該Ｈ−Ｓｉ結合に対して、化合物（α）を反応させてヒドロシリル化することで、−ＳｉＬｍＲｎ基を複数有する化合物を製造できる。
【００９０】
なお、化合物（４３）中のＲＨが水素原子である場合、化合物（４３）中の２つのＳｉ−ＲＨ結合の１つ以上に対して、化合物（３）が反応する場合もある。
【００９１】
〔遷移金属触媒（Ｃ）〕
遷移金属触媒（Ｃ）としては、第８〜１０族遷移金属触媒が好ましく、なかでも、白金（Ｐｔ）触媒、ルテニウム（Ｒｕ）触媒、ロジウム（Ｒｈ）触媒が好ましい。後述の化合物（Ｄ）と併用することにより、化合物（５）がより高選択率で得られやすい点から、白金触媒が特に好ましい。なお、第８〜１０族とは、ＩＵＰＡＣ無機化学命名法改訂版（１９８９年）による族番号である。
白金触媒としては、Ｐｔ／ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体、Ｐｔ／テトラメチルテトラビニルシクロテトラシロキサン錯体、塩化白金酸、酸化白金等が挙げられる。後述の化合物（Ｄ）と併用することにより、化合物（５）がより高選択率で得られやすい点から、Ｐｔ／ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体およびＰｔ／テトラメチルテトラビニルシクロテトラシロキサン錯体のいずれかが好ましい。
【００９２】
遷移金属触媒（Ｃ）の使用量は、化合物（３）に対する質量比が、０．０１〜１，０００ｐｐｍであることが好ましく、１〜１００ｐｐｍであることが特に好ましい。上記範囲内であれば適度な反応条件で反応が進行し、触媒に起因する着色も少ない。
【００９３】
（化合物（Ｄ））
化合物（Ｄ）は、下式（Ｄ）で表される基を有する。
−Ｓ（＝Ｏ）−・・・（Ｄ）
化合物（Ｄ）は、テトラメチレンスルホキシド（以下、「ＴＭＳＯ」とも記す。）、ジメチルスルホキシド（以下、「ＤＭＳＯ」とも記す。）等のスルホキシド化合物である。
化合物（Ｄ）は１種を使用しても、２種以上を使用してもよい。
該化合物（Ｄ）を遷移金属触媒（Ｃ）と併用することにより、化合物（５）が高選択率で得られる。
【００９４】
化合物（Ｄ）はドナー数が大きい。ドナー数は、溶媒パラメータの一つであり、電子（対）供与性の尺度である。ドナー数が大きい化合物ほど、電子（対）供与性が大きく、配位能力が高いことを示す。ドナー数が大きい化合物（Ｄ）を遷移金属触媒（Ｃ）と併用すると、遷移金属触媒（Ｃ）中の遷移金属に化合物（Ｄ）が配位し、そのため、化合物（３）の遷移金属への配位が制御されるものと考えられる。その結果、目的の化合物（５）が選択的に得られやすいものと考えられる。
ドナー数は、化合物とＳｂＣｌ５とが１：１付加体を形成するときの熱量であり、種々の化合物のドナー数、ドナー数の算出方法等は、たとえば、下記参考文献（１）および（２）等に開示されている。（１）Ｐｕｒｅ＆Ａｐｐｌ．Ｃｈｅｍ．，Ｖｏｌ．４１，Ｎｏ．３，ｐｐ．２９１−３２６，１９７５。（２）Ｐｕｒｅ＆Ａｐｐｌ．Ｃｈｅｍ．，Ｖｏｌ．５８，Ｎｏ．８，ｐｐ．１１５３−１１６１，１９８６。
【００９５】
化合物（Ｄ）の使用量は、化合物（３）の１００質量部に対して、０．００１〜１，０００質量部であることが好ましく、０．０１〜１０質量部が特に好ましい。上記範囲内であれば、化合物（５）がより高選択率で得られやすい。
遷移金属触媒（Ｃ）と化合物（Ｄ）の使用量の質量比率（化合物（Ｄ）：遷移金属触媒（Ｃ））は、１０：１〜１０，０００：１が好ましく、２０：１〜１，０００：１が特に好ましい。上記範囲内であれば、化合物（５）がより高選択率で得られやすい。
【００９６】
〔ヒドロシリル化反応〕
遷移金属触媒（Ｃ）および化合物（Ｄ）の存在下における、化合物（３）と化合物（４）とのヒドロシリル化反応は、たとえばポリオレフィン、含フッ素樹脂等の樹脂製容器、ガラス製容器、ＳＵＳ等の金属製容器、または含フッ素樹脂等で被覆したライニング容器等を用いて行う。
反応温度は、反応が充分に進行し、副生物の生成が抑制される点から、０〜１００℃が好ましく、２０〜５０℃が特に好ましい。反応時間は、１〜１００時間が好ましく、２〜２０時間が特に好ましい。反応圧力は−０．０１〜１ＭＰａＧが好ましく、０〜０．１ＭＰａＧがより好ましい。「ＭＰａＧ」における「Ｇ」はゲージ圧を示す。
【００９７】
（溶媒）
ヒドロシリル化反応は溶媒の存在下で行っても、非存在下で行ってもよい。溶媒の存在下で行う場合、溶媒としては、有機溶媒が好ましい。有機溶媒は、フッ素系有機溶媒であっても非フッ素系有機溶媒であってもよく、両溶媒を用いてもよい。
フッ素系有機溶媒としては、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物、フルオロアルキルエーテル、フッ素化アルキルアミン、フルオロアルコール等が挙げられる。
フッ素化アルカンとしては、炭素数４〜８の化合物が好ましい。市販品としては、たとえばＣ６Ｆ１３Ｈ（ＡＣ−２０００：製品名、旭硝子社製）、Ｃ６Ｆ１３Ｃ２Ｈ５（ＡＣ−６０００：製品名、旭硝子社製）、Ｃ２Ｆ５ＣＨＦＣＨＦＣＦ３（バートレル：製品名、デュポン社製）等が挙げられる。
フッ素化芳香族化合物としては、たとえばヘキサフルオロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン、ペルフルオロトルエン、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン、１，４−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン等が挙げられる。
フルオロアルキルエーテルとしては、炭素数４〜１２の化合物が好ましい。市販品としては、たとえばＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｈ（ＡＥ−３０００：製品名、旭硝子社製）、Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３（ノベック−７１００：製品名、３Ｍ社製）、Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５（ノベック−７２００：製品名、３Ｍ社製）、Ｃ６Ｆ１３ＯＣＨ３（ノベック−７３００：製品名、３Ｍ社製）等が挙げられる。
フッ素化アルキルアミンとしては、たとえばペルフルオロトリプロピルアミン、ペルフルオロトリブチルアミン等が挙げられる。
フルオロアルコールとしては、たとえば２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール、２，２，２−トリフルオロエタノール、ヘキサフルオロイソプロパノール等が挙げられる。
【００９８】
フッ素系有機溶媒としては、化合物（３）と他の化合物との相溶性等の点で、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物、フルオロアルキルエーテルからなる群から選択される少なくとも１種の含フッ素有機溶媒を使用することが好ましい。
【００９９】
非フッ素系有機溶媒としては、水素原子および炭素原子のみからなる化合物と、水素原子、炭素原子および酸素原子のみからなる化合物が好ましく、炭化水素系有機溶媒、ケトン系有機溶媒、エーテル系有機溶媒、エステル系有機溶媒が挙げられる。
炭化水素系有機溶媒としては、ヘキサン、へプタン、シクロヘキサン等が好ましい。
ケトン系有機溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等が好ましい。
エーテル系有機溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラエチレングリコールジメチルエーテル等が好ましい。
エステル系有機溶媒としては、酢酸エチル、酢酸ブチル等が好ましい。
非フッ素系有機溶媒としては、化合物（３）と他の化合物との相溶性等の点で、炭化水素系有機溶媒が特に好ましい。
溶媒の使用量は、化合物（３）の１００質量部に対する質量比が、０．１〜１０，０００質量部が好ましく、１〜１，０００質量部が特に好ましい。上記範囲内であれば、各化合物を相溶化させる効果があり、反応条件を穏やかにすることができる。
【０１００】
以上のように、２−プロペニル基を有する化合物（３）とＳｉ−Ｈ結合を有するケイ素化合物（４）とを、遷移金属触媒（Ｃ）および化合物（Ｄ）の存在下に反応させる本発明のケイ素化合物の製造方法によれば、簡便かつ容易な方法で、化合物（３）のヒドロシリル化反応を高選択率で行うことができ、化合物（５）を高選択率で得ることができる。また、二重結合が内部に移動した１−プロペニル基を有する副生物の生成を低く抑えることができる。
そのため、化合物（３）が高分子量の化合物であって、蒸留精製等による目的の化合物と副生物との分離が困難な場合において、反応混合物を精製せずにそのまま、必要に応じて溶媒等の他の成分と混合して表面処理剤等として使用した場合でも、充分な機能を発揮できる。また、１−プロぺニル基を有する副生物の生成に起因する悪臭の問題も抑制できる。
【実施例】
【０１０１】
以下に実施例を用いて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
以下、「％」は特に断りのない限り「質量％」である。
例２、３、１６、１８、２０、２２、２４、２６、２８、３０、３２、３３、３５、３６、３８、３９、４１、４２、４４、４５、４７、４８は実施例、例１、４〜１５、１７、１９、２１、２３、２５、２７、２９、３１、３４、３７、４０、４３、４６は比較例である。
なお、以下、含フッ素有機溶媒Ｃ６Ｆ１３Ｈを「ＡＣ−２０００」（製品名、旭硝子社製）、含フッ素有機溶媒Ｃ６Ｆ１３Ｃ２Ｈ５を「ＡＣ−６０００」（製品名、旭硝子社製）と記す。【０１０２】
〔化合物（３）〕
化合物（３）として、以下の化合物（３−１）〜（３〜４）、化合物（３−６）〜（３−１２）および混合物（３−５）を用いた。【０１０３】
〔製造例１：化合物（３−１）の製造〕
国際公開第２００９／００８３８０号の例１の方法で下記化合物（３−１ａ）を得た。
ＣＦ３−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ−ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ・・・（３−１ａ）
化合物（３−１ａ）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：１．９（１Ｈ）、３．９（２Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５６．２（３Ｆ）、−８１．４（２Ｆ）、−８９．５（２６Ｆ）、−９１．４（２Ｆ）。
単位数ｄの平均値：７。
数平均分子量：１，０００。【０１０４】
２００ｍＬの２つ口ナスフラスコ内に、化合物（３−１ａ）の５０．０ｇ、硫酸水素テトラブチルアンモニウムの２．１ｇ、臭化アリルの１８．０ｇ、および３０％水酸化ナトリウム水溶液の２６．４ｇを加え、６０℃で８時間撹拌した。反応終了後、ＡＣ−２０００の５０ｇを加え、希塩酸水溶液で１回洗浄し、有機相を回収した。回収した有機相をシリカゲルカラムに通し、回収した溶液をエバポレータで濃縮し、化合物（３−１）の５０．２ｇ（収率９６．５％）を得た。
ＣＦ３−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ−ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ２・・・（３−１）
化合物（３−１）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：３．８（２Ｈ）、４．１（２Ｈ）、５．２〜５．３（２Ｈ）、５．９（１Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５６．３（３Ｆ）、−７８．３（２Ｆ）、−８９．５（２６Ｆ）、−９１．５（２Ｆ）。
単位数ｄの平均値：７。
化合物（３−１）の数平均分子量：１，０００。【０１０５】
〔製造例２：化合物（３−２）の製造〕
国際公開第２０１３／１２１９８６号の例７の方法で下記化合物（３−２）を得た。
ＣＦ３−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ１−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ２・・・（３−２）
化合物（３−２ａ）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：３．８（２Ｈ）、４．１（２Ｈ）、５．２（２Ｈ）、５．９（１Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５６．２（３Ｆ）、−８４．１（５４Ｆ）、−８９．３（５４Ｆ）、−９１．４（２Ｆ）、−１２０．５（２Ｆ）、−１２６．６（５２Ｆ）、−１２８．６（２Ｆ）。
単位数ｄ１の平均値：１３。
単位数ｄ２の平均値：１。
化合物（３−２）の数平均分子量：４，７００。【０１０６】
〔製造例３：化合物（３−３）の製造〕
１００ｍＬの２つ口ナスフラスコ内に、下記化合物（３−３ａ）（ＦＬＵＯＲＯＬＩＮＫ  Ｄ４０００：製品名、ソルベイソレクシス社製）の３０．０ｇ、硫酸水素テトラブチルアンモニウムの０．６４ｇ、臭化アリルの４．５ｇ、および３０％水酸化ナトリウム水溶液の６．０ｇを加え、６０℃で８時間撹拌した。反応終了後、ＡＣ−２０００の３０ｇを加え、希塩酸水溶液で１回洗浄し、有機相を回収した。回収した有機相をシリカゲルカラムに通し、回収した溶液をエバポレータで濃縮し、化合物（３−３）の２９．７ｇ（収率９７．１％）を得た。
ＨＯ−ＣＨ２−ＣＦ２Ｏ｛（ＣＦ２Ｏ）ｄ１−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ２｝−ＣＦ２ＣＨ２−ＯＨ  ・・・（３−３ａ）
ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＦ２Ｏ｛（ＣＦ２Ｏ）ｄ１−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ２｝−ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ２・・・（３−３）
化合物（３−３）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：３．７（４Ｈ）、４．１（４Ｈ）、５．２〜５．３（４Ｈ）、５．９（２Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５２．３〜−５５．７（４２Ｆ）、−７８．１（２Ｆ）、−８０．２（２Ｆ）、−８９．４〜−９１．１（８４Ｆ）。
単位数（ｄ１−１）の平均値：２１。
単位数ｄ２の平均値：２１。
化合物（３−３）の数平均分子量：４，１００。【０１０７】
〔製造例４：化合物（３−４）の製造〕
３００ｍＬの３つ口フラスコに、２０％ＫＯＨ水溶液の２．９ｇ、ｔｅｒｔ−ブチルアルコールの３３ｇ、１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンの１１０ｇ、化合物（３−３ａ）の２２０ｇを入れ、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＦ＝ＣＦ２の１４．６ｇを加えた。窒素雰囲気下、４０℃で２０時間撹拌した。希塩酸水溶液で１回洗浄し、有機相を回収し、エバポレータで濃縮することによって、粗生成物（ａ）の２３３ｇを得た。粗生成物（ａ）をＡＣ−２０００の１１５ｇで希釈し、シリカゲルカラムクロマトグラフィに展開して分取した。展開溶媒としては、ＡＣ−２０００、ＡＣ−２０００／ＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｈ（ＡＥ−３０００：製品名、旭硝子社製）（質量比１／２）、ＡＥ−３０００／アセトン（質量比２／１）を順に用いた。各フラクションについて、末端基の構造および構成単位の単位数（ｄ１、ｄ２）の平均値を１Ｈ−ＮＭＲおよび１９Ｆ−ＮＭＲの積分値から求めた。これにより、粗生成物（ａ）中には化合物（３−４ａ）、化合物（３−４ｂ）および化合物（３−３ａ）がそれぞれ、５０モル％、２５モル％および２５モル％含まれていたことがわかった。また、化合物（３−４ａ）の１０５．１ｇ（収率４４．８％）が得られた。
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−（ＣＦ２Ｏ）｛（ＣＦ２Ｏ）ｄ１−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ２｝−ＣＦ２ＣＨ２−ＯＨ・・・（３−４ａ）
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−（ＣＦ２Ｏ）｛（ＣＦ２Ｏ）ｄ１−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ２｝−ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＦ２ＣＨＦ−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２−ＣＦ３・・・（３−４ｂ）
化合物（３−４ａ）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：３．９（２Ｈ）、４．２（２Ｈ）、５．８〜６．０（１Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５２．４〜−５５．８（４２Ｆ）、−７８．８（１Ｆ）、−８０．８（１Ｆ）、−８１．４（１Ｆ）、−８２．２（３Ｆ）、−８３．５（１Ｆ）、−８５．３〜−８８．２（２Ｆ）、−８９．４〜−９１．１（８６Ｆ）、−１３０．５（２Ｆ）、−１４５．１（１Ｆ）。
単位数（ｄ１−１）の平均値：２１。
単位数ｄ２の平均値：２１。
化合物（３−４ａ）の数平均分子量：４，３００。
化合物（３−４ｂ）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：４．２（４Ｈ）、５．８〜６．０（２Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５２．４〜−５５．８（４２Ｆ）、−７８．８（２Ｆ）、−８０．７（２Ｆ）、−８２．２（６Ｆ）、−８５．３〜−８８．２（４Ｆ）、−８９．４〜−９１．１（８８Ｆ）、−１３０．５（４Ｆ）、−１４５．１（２Ｆ）。
単位数（ｄ１−１）の平均値：２１。
単位数ｄ２の平均値：２１。
化合物（３−４ｂ）の数平均分子量：４，５００。【０１０８】
１００ｍＬの２つ口ナスフラスコ内に、化合物（３−４ａ）の５２．０ｇ、硫酸水素テトラブチルアンモニウムの０．５２ｇ、臭化アリルの４．４ｇ、および３０％水酸化ナトリウム水溶液の６．５ｇを加え、６０℃で８時間撹拌した。反応終了後、ＡＣ−２０００の５０ｇを加え、希塩酸水溶液で１回洗浄し、有機相を回収した。回収した有機相をシリカゲルカラムに通し、回収した溶液をエバポレータで濃縮し、化合物（３−４）の５２．４ｇ（収率９９．９％）を得た。
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−（ＣＦ２Ｏ）｛（ＣＦ２Ｏ）ｄ１−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ２｝−ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ２・・・（３−４）
化合物（３−４）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：３．７（２Ｈ）、４．１（２Ｈ）、４．２（２Ｈ）、５．２〜５．３（２Ｈ）、５．８〜６．０（２Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５２．３〜−５５．７（４２Ｆ）、−７８．１（１Ｆ）、−７８．７（１Ｆ）、−８０．２（１Ｆ）、−８０．７（１Ｆ）、−８２．２（３Ｆ）、−８５．４〜−８８．２（２Ｆ）、−８９．４〜−９１．１（８６Ｆ）、−１３０．５（２Ｆ）、−１４５．１（１Ｆ）。
単位数（ｄ１−１）の平均値：２１。
単位数ｄ２の平均値：２１。
化合物（３−４）の数平均分子量：４，３００。【０１０９】
〔製造例５：混合物（３−５）の合成〕
１００ｍＬの２つ口ナスフラスコ内に、製造例４で得た粗生成物（ａ）の２６．０ｇ、硫酸水素テトラブチルアンモニウムの０．２６ｇ、臭化アリルの２．２ｇ、および３０％水酸化ナトリウム水溶液の３．３ｇを加え、６０℃で８時間撹拌した。反応終了後、ＡＣ−２０００の３０ｇを加え、希塩酸水溶液で１回洗浄し、有機相を回収した。回収した有機相をシリカゲルカラムに通し、回収した溶液をエバポレータで濃縮し、混合物（３−５）の２６．１ｇ（収率９９．０％）を得た。
混合物（３−５）は、化合物（３−３）、化合物（３−４）および化合物（３−４ｂ）の２５：５０：２５（モル％）混合物である。【０１１０】
〔製造例６：化合物（３−６）の合成〕
１００ｍＬのナスフラスコに、化合物（３−４ａ）の３０．０ｇ、フッ化ナトリウム粉末の０．９ｇ、ジクロロペンタフルオロプロパン（ＡＫ−２２５：製品名、旭硝子社製）の３０ｇを取り入れ、ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＦの３．５ｇを加えた。窒素雰囲気下、５０℃で２４時間撹拌した。加圧ろ過器でフッ化ナトリウム粉末を除去した後、過剰のＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＦとＡＫ−２２５を減圧留去した。得られた粗生成物をＡＣ−２０００で希釈し、シリカゲルカラムに通し、回収した溶液をエバポレータで濃縮し、化合物（３−６ｄ）の３１．８ｇ（収率９８．８％）を得た。
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２Ｏ−ＣＨ２−（ＣＦ２Ｏ）｛（ＣＦ２Ｏ）ｄ１−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ２｝−ＣＦ２ＣＨ２−ＯＣ（＝Ｏ）ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３・・・（３−６ｄ）
化合物（３−６ｄ）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：４．２（２Ｈ）、４．７（２Ｈ）、５．８〜６．０（１Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５２．４〜−５５．８（４２Ｆ）、−７８．８〜−８８．２（１７Ｆ）、−８９．４〜−９１．１（８６Ｆ）、−１３０．３（２Ｆ）、−１３０．５（２Ｆ）、−１３２．５（１Ｆ）、−１４５．１（１Ｆ）。
単位数（ｄ１−１）の平均値：２１。
単位数ｄ２の平均値：２１。
化合物（３−６ｄ）の数平均分子量：４，５００。【０１１１】
オートクレーブ（ニッケル製、内容積１Ｌ）を用意し、オートクレーブのガス出口に、２０℃に保持した冷却器、ＮａＦペレット充填層、および０℃に保持した冷却器を直列に設置した。また０℃に保持した冷却器から凝集した液をオートクレーブに戻す液体返送ラインを設置した。
オートクレーブにＣｌＣＦ２ＣＦＣｌＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｃｌ（以下、「ＣＦＥ−４１９」とも記す。）の７５０ｇを投入し、２５℃に保持しながら撹拌した。オートクレーブに窒素ガスを２５℃で１時間吹き込んだ後、２０％フッ素ガスを、２５℃、流速２．０Ｌ／時間で１時間吹き込んだ。次いで、２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブに、化合物（３−６ｄ）の３１．０ｇをＣＦＥ−４１９の１２４ｇに溶解した溶液を、４．３時間かけて注入した。
次いで、２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブの内圧を０．１５ＭＰａ（ゲージ圧）まで加圧した。オートクレーブ内に、ＣＦＥ−４１９中に０．０５ｇ／ｍＬのベンゼンを含むベンゼン溶液の４ｍＬを、２５℃から４０℃にまで加熱しながら注入し、オートクレーブのベンゼン溶液注入口を閉めた。１５分撹拌した後、再びベンゼン溶液の４ｍＬを、４０℃を保持しながら注入し、注入口を閉めた。同様の操作をさらに３回繰り返した。ベンゼンの注入総量は０．１７ｇであった。
さらに、２０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、１時間撹拌を続けた。次いで、オートクレーブ内の圧力を大気圧にして、窒素ガスを１時間吹き込んだ。オートクレーブの内容物をエバポレータで濃縮し、化合物（３−６ｃ）の３１．１ｇ（収率９８．５％）を得た。
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）｛（ＣＦ２Ｏ）ｄ１−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ２｝ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３・・・（３−６ｃ）
化合物（３−６ｃ）のＮＭＲスペクトル；
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５２．４〜−５５．７（４２Ｆ）、−７８．８〜−８８．１（１１Ｆ）、−８９．４〜−９１．１（９６Ｆ）、−９１．５（２Ｆ）、−１３０．３（２Ｆ）、−１３０．５（２Ｆ）、−１３２．５（１Ｆ）。
単位数（ｄ１−１）の平均値：２１。
単位数ｄ２の平均値：２１。
化合物（３−６ｃ）の数平均分子量：４，６００。【０１１２】
ＰＦＡ製丸底フラスコに、化合物（３−６ｃ）の３０．０ｇおよびＡＫ−２２５の６０ｇを入れた。氷浴で冷却しながら撹拌し、窒素雰囲気下、メタノールの２．０ｇを滴下漏斗からゆっくり滴下した。窒素でバブリングしながら１２時間撹拌した。反応混合物をエバポレータで濃縮し、化合物（３−６ｂ）の２７．６ｇ（収率９８．８％）を得た。
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）｛（ＣＦ２Ｏ）ｄ１−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ２｝−ＣＦ２Ｃ（＝Ｏ）ＯＣＨ３・・・（３−６ｂ）。
化合物（３−６ｂ）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：３．９（３Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５２．４〜−５５．８（４２Ｆ）、−８２．２（３Ｆ）、−８９．４〜−９１．１（９２Ｆ）、−１３０．５（２Ｆ）。
単位数（ｄ１−１）の平均値：２１。
単位数ｄ２の平均値：２１。
化合物（３−６ｂ）の数平均分子量：４，３００。【０１１３】
１００ｍＬの３つ口ナスフラスコ中にて、塩化リチウムの０．１８ｇをエタノールの１８．３ｇに溶解させた。これに、化合物（３−６ｂ）の２５．０ｇを加えて氷浴で冷却しながら、水素化ホウ素ナトリウムの０．７５ｇをエタノールの２２．５ｇに溶解した溶液をゆっくり滴下した。その後、氷浴を取り外し、室温までゆっくり昇温しながら撹拌を続けた。室温で１２時間撹拌後、液性が酸性になるまで塩酸水溶液を滴下した。ＡＣ−２０００の２０ｍＬを添加し、水で１回、飽和食塩水で１回洗浄し、有機相を回収した。回収した有機相をエバポレータで濃縮し、化合物（３−６ａ）の２４．６ｇ（収率９９．０％）を得た。
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）｛（ＣＦ２Ｏ）ｄ１−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ２｝−ＣＦ２ＣＨ２ＯＨ・・・（３−６ａ）。
化合物（３−６ａ）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：３．９（２Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５２．４〜−５５．７（４２Ｆ）、−８１．４（１Ｆ）、−８２．２（３Ｆ）、−８３．４（１Ｆ）、−８９．４〜−９１．１（９０Ｆ）、−１３０．５（２Ｆ）。
単位数（ｄ１−１）の平均値：２１。
単位数ｄ２の平均値：２１。
化合物（３−６ａ）の数平均分子量：４，２００。【０１１４】
１００ｍＬの２つ口ナスフラスコ内に、化合物（３−６ａ）の２０．０ｇ、硫酸水素テトラブチルアンモニウムの０．２１ｇ、臭化アリルの１．７６ｇ、および３０％水酸化ナトリウム水溶液の２．６ｇを加え、６０℃で８時間撹拌した。反応終了後、ＡＣ−２０００の２０ｇを加え、希塩酸水溶液で１回洗浄し、有機相を回収した。回収した有機相をシリカゲルカラムに通し、回収した溶液をエバポレータで濃縮し、化合物（３−６）の１９．８ｇ（収率９８．２％）を得た。
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）｛（ＣＦ２Ｏ）ｄ１−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ２｝−ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２・・・（３−６）。
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）｛（ＣＦ２Ｏ）ｄ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｄ２−２｝−ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２・・・（３−６）。
化合物（３−６）のＮＭＲスペクトル；
１Ｈ−ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＴＭＳ）  δ（ｐｐｍ）：３．７（２Ｈ）、４．１（２Ｈ）、５．２〜５．３（２Ｈ）、５．９（１Ｈ）。
１９Ｆ−ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒：ＣＤＣｌ３、基準：ＣＦＣｌ３）  δ（ｐｐｍ）：−５２．３〜−５５．７（４２Ｆ）、−７８．１（１Ｆ）、−８０．１（１Ｆ）、−８２．１（３Ｆ）、−８９．４〜−９１．１（９４Ｆ）、−１３０．５（２Ｆ）。
単位数（ｄ１−１）の平均値：２１。
単位数ｄ２の平均値：２１。
化合物（３−６）の数平均分子量：４，３００。【０１１５】
化合物（３−７）：ｎ−ブチルアリルエーテル。
化合物（３−８）：グリシジルアリルエーテル。
化合物（３−９）：ＣＨ３Ｏ−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｙ１−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２、単位数ｙ１の平均値：１０、数平均分子量：５１０。（ユニオックスＰＫＡ−５００９：製品名、日本油脂社製）。
化合物（３−１０）：ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２Ｏ−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｙ１−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２、単位数ｙ１の平均値：１０、数平均分子量：５４０。（ユニオックスＡＡ−４８０Ｒ：製品名、日本油脂社製）。
化合物（３−１１）：ＣＨ２＝ＣＨＣＨ２Ｏ−（Ｃ３Ｈ６Ｏ）ｙ１−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２、単位数ｙ１の平均値：５０、数平均分子量：３，０００。（ユニセーフＰＫＡ−５０１８：製品名、日本油脂社製）。
化合物（３−１２）：１−オクテン。【０１１６】
〔化合物（４）〕
化合物（４）として、以下の化合物を用いた。
化合物（４−１）：ＨＳｉ（ＯＣＨ３）３。
化合物（４−２）：ＨＳｉ（ＣＨ３）（ＯＣＨ３）２。
化合物（４−３）：上式（４−３）で表される化合物。【０１１７】
〔遷移金属触媒（Ｃ）〕
遷移金属触媒（Ｃ）として、以下の化合物を用いた。
化合物（Ｃ１）：Ｐｔ／ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体（２．０％キシレン溶液）。
化合物（Ｃ２）：Ｐｔ／テトラメチルテトラビニルシクロテトラシロキサン錯体（１．８％ビニルメチルシクロテトラシロキサン溶液）。【０１１８】
〔化合物（Ｄ）〕
化合物（Ｄ）として、以下の化合物を用いた。
ＤＭＳＯ：ジメチルスルホキシド。
ＴＭＳＯ：テトラメチレンスルホキシド。【０１１９】
〔化合物（Ｄα）〕
化合物（Ｄ）の比較として、以下の化合物（Ｄα）を用いた。
ＨＭＰＡ：ヘキサメチルホスホルアミド。
ＤＭＦ：Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド。
ピリジン。
テトラメチル尿素。
アセトン。
トルエン。
ヘキサン。
メタノール。
ＴＨＦ：テトラヒドロフラン。
ＮＭＦ：Ｎ−メチルホルムアミド。
トリエチルアミン。【０１２０】
〔有機溶媒（Ｅ）〕
有機溶媒（Ｅ）として、以下の化合物を用いた。
含フッ素有機溶媒（Ｅ１）：ＡＣ−２０００。
含フッ素有機溶媒（Ｅ２）：ＡＣ−６０００。
非フッ素有機溶媒（Ｅ３）：トルエン。【０１２１】
〔例１〜４８〕
ＰＰ製サンプル瓶またはＰＦＡ製フラスコに、表１〜２に示す仕込み量の化合物（３）、化合物（４）、遷移金属触媒（Ｃ）、化合物（Ｄ）または化合物（Ｄα）および有機溶媒（Ｅ）と攪拌子とを入れ、密閉して、表１〜２に示す反応条件で反応させた。なお、本明細書において、「室温」とは、２０〜３０℃である。
反応終了後の反応混合物の１Ｈ−ＮＭＲ分析によって、反応の転化率および選択率を算出した。結果を表１および表２に示す。【０１２２】
なお、遷移金属触媒（Ｃ１）および遷移金属触媒（Ｃ２）は、上述のとおり、溶液として添加している。表１および表２中の遷移金属触媒（Ｃ）の記載に関して、「ｍｇ（溶液）」とは、溶液としての質量を意味し、「μｇ（触媒）」とは、遷移金属触媒の正味量を意味する。
また、転化率および選択率は、以下を意味する。
転化率：化合物（３）から化合物（５）および１−プロペニル基（−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ３）を有する副生物（シス体とトランス体を含む。）が生成するにあたり、基（５）と１−プロペニル基との合計のモル数を、基（３）も含めたモル数で割った値を百分率で表した数値。
選択率：基（５）のモル数を、基（５）と１−プロペニル基の合計のモル数で割った値を百分率で表した数値。【０１２３】
【表１】
0006547629.tif 000010
【０１２４】
【表２】
0006547629.tif 000011
【０１２５】
例２、３、１６、１８、２０、２２、２４、２６、２８、３０、３２、３３、３５、３６、３８、３９、４１、４２、４４、４５、４７、４８では、基（５）を有する化合物が高選択率で得られた。
【産業上の利用可能性】
【０１２６】
本発明の製造方法によれば、タッチパネルの、指で触れる面を構成する部材等の基材の表面に撥水撥油性を付与する表面処理等に好適に用いることができるケイ素化合物を簡便かつ容易な方法で、高選択率に製造できる。
なお、２０１３年１２月１３日に出願された日本特許出願２０１３−２５８４１４号および日本特許出願２０１３−２５８４１５号の明細書、特許請求の範囲および要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。