(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１−１）または（１−２）で表される化合物。
【化１】
0006586785.tif 000112
式（１−１）および（１−２）において、
Ｒ１およびＲ２は独立して、炭素数１〜１５のアルキル、炭素数１〜１４のアルコキシ、炭素数２〜１５のアルケニル、および炭素数２〜１４のアルケニルオキシであり；
式（１−１）の環Ａ１、および式（１−２）の環Ａ２は独立して、１，４−フェニレン、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた１，４−フェニレンであり、式（１−２）の環Ａ１は、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた１，４−フェニレンであるが、環Ａ１および環Ａ２の少なくとも１つは式（Ａ）で表される環であり、
【化２】
0006586785.tif 000113
Ｘ１およびＸ２は独立して水素またはフッ素であり；
Ｚ１、およびＺ２は独立して、単結合または−（ＣＨ２）２−であり、環Ａ１が式（Ａ）で表される環であるとき、Ｘ１およびＸ２が共にフッ素である場合は、Ｚ１は−（ＣＨ２）２−である。
【請求項２】
Ｒ１およびＲ２が独立して、炭素数１〜１５のアルキル、炭素数１〜１４のアルコキシ、炭素数２〜１５のアルケニル、および炭素数２〜１４のアルケニルオキシであり、
式（１−１）の環Ａ１、および式（１−２）の環Ａ２は独立して、１，４−フェニレン、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた１，４−フェニレンであり、式（１−２）の環Ａ１は、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた１，４−フェニレンであるが、環Ａ１および環Ａ２の少なくとも１つが式（Ａ）で表される環であり、Ｘ１およびＸ２が独立して水素またはフッ素であり、Ｚ１、およびＺ２が独立して、単結合または−（ＣＨ２）２−であり、環Ａ１が式（Ａ）で表される環であるとき、Ｘ１およびＸ２が共にフッ素である場合は、Ｚ１は−（ＣＨ２）２−である、請求項１に記載の化合物。
【化３】
0006586785.tif 000114
【請求項３】
式（１−１−ａ）、式（１−１−ｂ）、式（１−２−ａ）、式（１−２−ｅ）、および式（１−２−ｇ）で表される、請求項１に記載の化合物。
【化４】
0006586785.tif 000115
式（１−１−ａ）、式（１−１−ｂ）、式（１−２−ａ）、式（１−２−ｅ）、および式
（１−２−ｇ）において、
Ｒ１およびＲ２は独立して、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜９のアルコキシ、炭素数２〜１０のアルケニル、および炭素数２〜９のアルケニルオキシであり；
Ｙ１〜Ｙ4は独立して、水素またはフッ素である。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の少なくとも１つの化合物の、液晶組成物の成分としての使用。
【請求項５】
請求項１〜３のいずれかに記載の化合物を少なくとも１つ含有する液晶組成物。
【請求項６】
式（６）〜（１２）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、請求項５に記載の液晶組成物。
【化５】
0006586785.tif 000116
式（６）〜（１２）において、
Ｒ１３は、炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ2−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；
Ｒ１４は、炭素数１〜１０のアルキルであり、このアルキルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ2−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；
Ｒ１５は、水素、フッ素、炭素数１〜１０のアルキル、または炭素数２〜１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ2−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；
Ｓ１１は、水素、またはメチルであり；
Ｘ１、Ｘ２は、独立して、−ＣＦ２−、−Ｏ−、または−ＣＨＦ−であり；
環Ｄ１、環Ｄ２、環Ｄ３、および環Ｄ４は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、またはデカヒドロナフタレン−２，６−ジイルであり；
環Ｄ５および環Ｄ６は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、またはデカヒドロナフタレン−２，６−ジイルであり；
Ｚ１５、Ｚ１６、Ｚ１７、およびＺ１８は独立して、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＯＯ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、または−ＯＣＦ２ＣＨ２ＣＨ２−であり；
Ｌ１５およびＬ１６は独立して、フッ素または塩素であり；
ｊ、ｋ、ｍ、ｎ、ｐ、ｑ、ｒおよびｓは独立して、０または１であり、ｋ、ｍ、ｎおよびｐの和は、１または２であり、ｑ、ｒおよびｓの和は、０、１、２または３であり、ｔは、１、２または３である。
【請求項７】
式（１３）〜（１５）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、請求項５または６に記載の液晶組成物。
【化６】
0006586785.tif 000117
式（１３）〜（１５）において、
Ｒ１６およびＲ１７は独立して、炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ2−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；
環Ｅ１、環Ｅ２、環Ｅ３、および環Ｅ４は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン、またはピリミジン−２，５−ジイルであり；
Ｚ１９、Ｚ２０、およびＺ２１は独立して、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、または−ＣＯＯ−である。
【請求項８】
式（２）〜（４）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさら
に含有する、請求項５〜７のいずれか１項に記載の液晶組成物。
【化７】
0006586785.tif 000118
式（２）〜（４）において、
Ｒ１１は、炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−ＣＨ2−は−Ｏ−で置き換えられてもよく；
Ｘ１１は、フッ素、塩素、−ＯＣＦ3、−ＯＣＨＦ2、−ＣＦ3、−ＣＨＦ2、−ＣＨ2Ｆ、−ＯＣＦ2ＣＨＦ2、または−ＯＣＦ2ＣＨＦＣＦ3であり；
環Ｂ１、環Ｂ２、および環Ｂ３は独立して、１，４−シクロヘキシレン、少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、またはピリミジン−２，５−ジイルであり；
Ｚ１１、Ｚ１２、およびＺ１３は独立して、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ２Ｏ−、または−（ＣＨ２）４−であり；
Ｌ１１およびＬ１２は独立して、水素またはフッ素である。
【請求項９】
式（５）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、請求項５〜８のいずれか１項に記載の液晶組成物。
【化８】
0006586785.tif 000119
式（５）において、
Ｒ１２は、炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−ＣＨ2−は−Ｏ−で置き換えられてもよく；
Ｘ１２は、−Ｃ≡Ｎまたは−Ｃ≡Ｃ−Ｃ≡Ｎであり；
環Ｃ１は、１，４−シクロヘキシレン、少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられて
もよい１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、またはピリミジン−２，５−ジイルであり；
Ｚ１４は、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、または−ＣＨ２Ｏ−であり；
Ｌ１３およびＬ１４は独立して、水素またはフッ素であり；
ｉは、１、２、３、または４である。
【請求項１０】
少なくとも１つの光学活性化合物および／または重合可能な化合物をさらに含有する、請求項５〜９のいずれか１項に記載の液晶組成物。
【請求項１１】
少なくとも１つの酸化防止剤および／または紫外線吸収剤をさらに含有する、請求項５〜１０のいずれか１項に記載の液晶組成物。
【請求項１２】
請求項５〜１１のいずれか１項に記載の液晶組成物を含有する液晶表示素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶性化合物、液晶組成物および液晶表示素子に関する。さらに詳しくはアキシアル位にフッ素原子を有する１，３−ジオキサン骨格と、これに結合した環構造を有し、誘電率異方性が負である化合物、この化合物を含有する液晶組成物、およびこの組成物を含む液晶表示素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示素子は、パソコン、テレビなどのディスプレイに広く利用されている。この素子は、液晶性化合物の光学的異方性、誘電率異方性などを利用したものである。液晶表示素子の動作モードとしては、ＰＣ（phase change）モード、ＴＮ（twisted nematic）モード、ＳＴＮ（super twisted nematic）モード、ＢＴＮ（bistable twisted nematic）モード、ＥＣＢ（electrically controlled birefringence）モード、ＯＣＢ（optically compensated bend）モード、ＩＰＳ（in-plane switching）モード、ＶＡ（vertical alignment）モード、ＦＦＳ（Fringe Field Switching)モード、ＰＳＡ（Polymer sustained alignment）などのモードが知られている。
【０００３】
これらのうち、ＩＰＳモード、ＦＦＳモードおよびＶＡモードは、ＴＮモード、ＳＴＮモードなどの動作モードの欠点である視野角の狭さを改善できることが知られている。この種のモードを有する液晶表示素子では、負の誘電率異方性を有する液晶組成物が主に使われている。液晶表示素子の特性をさらに向上させるには、この組成物に含まれる液晶性化合物が、下記の（１）〜（８）で示す物性を有することが好ましい。
（１）熱、光などに対する高い安定性、
（２）高い透明点、
（３）液晶相の低い下限温度、
（４）小さな粘度（η）、
（５）適切な光学的異方性（Δｎ）、
（６）大きな負の誘電率異方性（Δε）、
（７）適切な弾性定数（Ｋ３３：ベンド弾性定数）、
（８）他の液晶性化合物との優れた相溶性。
【０００４】
液晶性化合物の物性が素子の特性に及ぼす効果は、次のとおりである。（１）のように、熱、光などに対する高い安定性を有する化合物は、素子の電圧保持率を大きくする。これによって、素子の寿命が長くなる。（２）のように、高い透明点を有する化合物は、素子の使用可能な温度範囲を広げる。（３）のように、ネマチック相、スメクチック相などのような液晶相の低い下限温度、特にネマチック相の低い下限温度を有する化合物も、素子の使用可能な温度範囲を広げる。（４）のように、粘度の小さな化合物は、素子の応答時間を短くする。
【０００５】
（５）のように、適切な光学的異方性を有する化合物は、素子のコントラストを向上する。素子の設計に応じて、大きな光学的異方性または小さな光学的異方性、すなわち適切な光学的異方性を有する化合物が必要である。素子のセルギャップを小さくすることにより応答時間を短くする場合には、大きな光学的異方性を有する化合物が適している。（６）のように大きな負の誘電率異方性を有する化合物は、素子のしきい値電圧を下げる。これによって、素子の消費電力が小さくなる。
【０００６】
（７）に関しては、大きな弾性定数を有する化合物は、素子の応答時間を短くする。小さな弾性定数を有する化合物は、素子のしきい値電圧を下げる。したがって、向上させたい特性に応じて適切な弾性定数が必要になる。（８）のように他の液晶性化合物との優れた相溶性を有する化合物が好ましい。これは、異なった物性を有する液晶性化合物を混合して、組成物の物性を調節するからである。
【０００７】
これまでに、負の誘電率異方性を有する液晶性化合物が種々合成されてきた（例えば、特許文献１および特許文献２、非特許文献１）。特許文献２および非特許文献１には、化合物（Ｃ−１）が示されている。しかし、この化合物（Ｃ−１）は、他の化合物との相溶性が十分に高くない。
0006586785.tif 000002
【０００８】
また、特許文献１には化合物（Ｃ−２）が示されている。しかし、この化合物（Ｃ−２）は、透明点が高くなく、十分に大きな負の誘電率異方性を示さない。
0006586785.tif 000003
【０００９】
このような状況から、上記の物性（１）〜（８）に関して優れた物性と適切なバランスを有する化合物、特に、他の化合物との相溶性が高く、大きな負の誘電率異方性を示す化合物の開発が望まれている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】国際公開第１９９８／０１４４１８号パンフレット
【特許文献２】特開平１１−１２２７１号公報
【非特許文献】
【００１１】
【非特許文献１】Eur. J. Org. Chem. 2006, 4819-4824
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明の第一の課題は、熱、光などに対する高い安定性、高い透明点、液晶相の低い下限温度、小さな粘度、適切な光学的異方性、大きな負の誘電率異方性、適切な弾性定数、他の液晶性化合物との優れた相溶性などの物性の少なくとも１つを充足する液晶性化合物を提供することである。特に、負の大きな誘電率異方性を有し、かつ透明点と他の化合物との相溶性が高い化合物を提供することである。第二の課題は、この化合物を含有し、ネマチック相の高い上限温度、ネマチック相の低い下限温度、小さな粘度、適切な光学的異方性、大きな負の誘電率異方性、および適切な弾性定数などの物性の少なくとも１つを充足する液晶組成物を提供することである。この課題は、少なくとも２つの物性に関して適切なバランスを有する液晶組成物を提供することである。第三の課題は、この組成物を含み、素子を使用できる広い温度範囲、短い応答時間、大きな電圧保持率、低いしきい値電圧、大きなコントラスト比、および長い寿命を有する液晶表示素子を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明は、式（１）で表される化合物、この化合物を含有する液晶組成物、およびこの組成物を含む液晶表示素子に関する。
0006586785.tif 000004
式（１）において、
Ｒ１およびＲ２は独立して、炭素数１〜１５のアルキルであり、このアルキルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ２−は−Ｏ−または−Ｓ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−（ＣＨ２）２−は−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく；
環Ａ１、環Ａ２および環Ａ３は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられたテトラヒドロピラン−２，５−ジイルであり、これらの環において少なくとも１つの−（ＣＨ２）２−は−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、環Ａ１、環Ａ２および環Ａ３の少なくとも１つは式（Ａ）で表される環であり、
0006586785.tif 000005
Ｘ１およびＸ２は独立して水素またはハロゲンであり；
Ｚ１、Ｚ２およびＺ３は独立して、単結合、−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、または−ＣＦ＝ＣＦ−であり；
ａ、ｂおよびｃは独立して、０または１であり、ａ、ｂおよびｃの和は、１、２または３である。
【００１４】
式（１）で表される化合物は、アキシアル位にフッ素原子を有する１，３−ジオキサン骨格の酸素原子側に環構造を有することにより、負の誘電率異方性が大きく、透明点が高い。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の第一の長所は、熱、光などに対する高い安定性、高い透明点、液晶相の低い下限温度、小さな粘度、適切な光学的異方性、大きな負の誘電率異方性、適切な弾性定数、他の液晶性化合物との優れた相溶性などの物性の少なくとも１つを充足する液晶性化合物を提供することである。これらの中でも特徴的な長所は、負の大きな誘電率異方性を有し、かつ透明点と他の化合物との相溶性が高い化合物を提供することである。本発明の第二の長所は、この化合物を含有し、ネマチック相の高い上限温度、ネマチック相の低い下限温度、小さな粘度、適切な光学的異方性、大きな負の誘電率異方性、および適切な弾性定数などの物性の少なくとも１つを充足する液晶組成物を提供することである。本発明の第三の長所は、この組成物を含み、素子を使用できる広い温度範囲、短い応答時間、大きな電圧保持率、低いしきい値電圧、大きなコントラスト比、および長い寿命を有する液晶表示素子を提供することである。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
この明細書における用語の使い方は次のとおりである。液晶性化合物は、ネマチック相、スメクチック相などの液晶相を有する化合物、および液晶相を有しないが液晶組成物の成分として有用な化合物の総称である。液晶性化合物、液晶組成物、液晶表示素子をそれぞれ化合物、組成物、素子と略すことがある。液晶表示素子は、液晶表示パネルおよび液晶表示モジュールの総称である。透明点は、液晶性化合物における液晶相−等方相の転移温度である。液晶相の下限温度は、液晶性化合物における固体−液晶相（スメクチック相、ネマチック相など）の転移温度である。ネマチック相の上限温度は、液晶組成物におけるネマチック相−等方相の転移温度であり、上限温度と略すことがある。ネマチック相の下限温度を下限温度と略すことがある。式（１）で表わされる化合物を化合物（１）と略すことがある。この略記は式（２）などで表される化合物にも適用することがある。式（１）、式（２）などにおいて、六角形で囲んだＡ１、Ｄ１などの記号はそれぞれ環Ａ１、環Ｄ１などに対応する。複数の環Ａ１を１つの式または異なった式に記載した。これらの化合物において、任意の２つの環Ａ１が表わす２つの基は、同一であってもよいし、または異なってもよい。このルールは、環Ａ２、Ｚ２などの記号にも適用される。また、ｌが２のときに２つとなる環Ａ１にも適用される。百分率で表した化合物の量は、組成物の全重量に基づいた重量百分率（重量％）である。
【００１７】
「少なくとも１つの“Ａ”は、“Ｂ”で置き換えられてもよい」の表現は、“Ａ”が１つのとき、“Ａ”の位置は任意であり、“Ａ”の数が２つ以上のときも、それらの位置は制限なく選択できることを意味する。「少なくとも１つのＡが、Ｂ、ＣまたはＤで置き換えられてもよい」という表現は、任意のＡがＢで置き換えられる場合、任意のＡがＣで置き換えられる場合、および任意のＡがＤで置き換えられる場合、さらに複数のＡがＢ、Ｃ、Ｄの少なくとも２つで置き換えられる場合を含むことを意味する。例えば、少なくとも１つの−ＣＨ２−が−Ｏ−または−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよいアルキルには、アルキル、アルケニル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アルコキシアルケニル、アルケニルオキシアルキルが含まれる。なお、連続する２つの−ＣＨ２−が−Ｏ−で置き換えられて、−Ｏ−Ｏ−のようになることは好ましくない。アルキルなどにおいて、メチル部分（−ＣＨ２−Ｈ）の−ＣＨ２−が−Ｏ−で置き換えられて−Ｏ−Ｈになることも好ましくない。
【００１８】
２−フルオロ−１，４−フェニレンは、下記の２つの二価基を意味する。フッ素は左向きであってもよいし、右向きであってもよい。このルールは、テトラヒドロピラン−２，５−ジイルのような、非対称な環の二価基にも適用される。
0006586785.tif 000006
【００１９】
本発明は、下記の項１〜１３に記載された内容を包含する。
【００２０】
項１．
式（１）で表される化合物。
0006586785.tif 000007
式（１）において、
Ｒ１およびＲ２は独立して、炭素数１〜１５のアルキルであり、このアルキルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ２−は−Ｏ−または−Ｓ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−（ＣＨ２）２−は−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく；
環Ａ１、環Ａ２および環Ａ３は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられたテトラヒドロピラン−２，５−ジイルであり、これらの環において少なくとも１つの−（ＣＨ２）２−は−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、環Ａ１、環Ａ２および環Ａ３の少なくとも１つは式（Ａ）で表される環であり、
0006586785.tif 000008
Ｘ１およびＸ２は独立して水素またはハロゲンであり；
Ｚ１、Ｚ２およびＺ３は独立して、単結合、−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、または−ＣＦ＝ＣＦ−であり；
ａ、ｂおよびｃは独立して、０または１であり、ａ、ｂおよびｃの和は、１、２または３である。
【００２１】
項２．  式（１−１）〜（１−３）で表される、項１に記載の化合物。
0006586785.tif 000009
式（１−１）〜（１−３）において、
Ｒ１およびＲ２は独立して、炭素数１〜１５のアルキル、炭素数１〜１４のアルコキシ、炭素数２〜１５のアルケニル、および炭素数２〜１４のアルケニルオキシであり； 
環Ａ１、環Ａ２および環Ａ３は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，４−フェニレン、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、またはジヒドロピラン−２，５−ジイルであるが、少なくとも１つは式（Ａ）で表される環であり、
0006586785.tif 000010
Ｘ１およびＸ２は独立して水素またはフッ素であり；
Ｚ１、Ｚ２およびＺ３は独立して、単結合、−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、または−ＯＣＦ２−である。
【００２２】
項３．  式（１）において、Ｒ１およびＲ２が独立して、炭素数１〜１５のアルキル、炭素数１〜１４のアルコキシ、炭素数２〜１５のアルケニル、および炭素数２〜１４のアルケニルオキシであり、環Ａ１、環Ａ２および環Ａ３が独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，４−フェニレン、少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられた１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、またはジヒドロピラン−２，５−ジイルであるが、少なくとも１つが式（Ａ）で表される環であり、Ｘ１およびＸ２が独立して水素またはフッ素であり、Ｚ１、Ｚ２およびＺ３が独立して、単結合、−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２Ｏ−、または−ＯＣＨ２−である、項１に記載の化合物。
0006586785.tif 000011
【００２３】
項４．  式（１）において、環Ａ１が式（Ａ）で表される環であるとき、Ｘ１およびＸ２が共にフッ素である場合は、Ｚ１が−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２Ｏ−、または−ＯＣＨ２−である、項１に記載の化合物。
0006586785.tif 000012
【００２４】
項５．  式（１−１−ａ）、式（１−１−ｂ）、式（１−２−ａ）〜（１−２−ｋ）、式（１−２−ｍ）、式（１−３−ａ）〜（１−３−ｋ）、および式（１−３−ｍ）〜（１−３−ｔ）で表される、項１に記載の化合物。
0006586785.tif 000013
0006586785.tif 000014
0006586785.tif 000015
式（１−１−ａ）、式（１−１−ｂ）、式（１−２−ａ）〜（１−２−ｋ）、式（１−２−ｍ）、式（１−３−ａ）〜（１−３−ｋ）、および式（１−３−ｍ）〜（１−３−ｔ）において、
Ｒ１およびＲ２は独立して、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜９のアルコキシ、炭素数２〜１０のアルケニル、および炭素数２〜９のアルケニルオキシであり； 
Ｙ１〜Ｙ６は独立して、水素またはフッ素である。
【００２５】
項６．  項１〜５のいずれかに記載の少なくとも１つの化合物の、液晶組成物の成分としての使用。
【００２６】
項７．  項１〜５のいずれかに記載の化合物を少なくとも１つ含有する液晶組成物。
【００２７】
項８．  式（６）〜（１２）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、項７に記載の液晶組成物。
0006586785.tif 000016
式（６）〜（１２）において、
Ｒ１３は、炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ2−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；
Ｒ１４は、炭素数１〜１０のアルキルであり、このアルキルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ2−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；
Ｒ１５は、水素、フッ素、炭素数１〜１０のアルキル、または炭素数２〜１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ2−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；
Ｓ１１は、水素、またはメチルであり；
Ｘ１、Ｘ２は、独立して、−ＣＦ２−、−Ｏ−、または−ＣＨＦ−であり；
環Ｄ１、環Ｄ２、環Ｄ３、および環Ｄ４は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、またはデカヒドロナフタレン−２，６−ジイルであり；
環Ｄ５および環Ｄ６は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、またはデカヒドロナフタレン−２，６−ジイルであり；
Ｚ１５、Ｚ１６、Ｚ１７、およびＺ１８は独立して、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＯＯ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、または−ＯＣＦ２ＣＨ２ＣＨ２−であり；
Ｌ１５およびＬ１６は独立して、フッ素または塩素であり；
ｊ、ｋ、ｍ、ｎ、ｐ、ｑ、ｒおよびｓは独立して、０または１であり、ｋ、ｍ、ｎおよびｐの和は、１または２であり、ｑ、ｒおよびｓの和は、０、１、２または３であり、ｔは、１、２または３である。
【００２８】
項９．  式（１３）〜（１５）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、項７または８に記載の液晶組成物。
0006586785.tif 000017
式（１３）〜（１５）において、
Ｒ１６およびＲ１７は独立して、炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ2−は−Ｏ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく；
環Ｅ１、環Ｅ２、環Ｅ３、および環Ｅ４は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン、またはピリミジン−２，５−ジイルであり；
Ｚ１９、Ｚ２０、およびＺ２１は独立して、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、または−ＣＯＯ−である。
【００２９】
項１０．  式（２）〜（４）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、項７〜９のいずれか１項に記載の液晶組成物。
0006586785.tif 000018
式（２）〜（４）において、
Ｒ１１は、炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−ＣＨ2−は−Ｏ−で置き換えられてもよく；
Ｘ１１は、フッ素、塩素、−ＯＣＦ3、−ＯＣＨＦ2、−ＣＦ3、−ＣＨＦ2、−ＣＨ2Ｆ、−ＯＣＦ2ＣＨＦ2、または−ＯＣＦ2ＣＨＦＣＦ3であり；
環Ｂ１、環Ｂ２、および環Ｂ３は独立して、１，４−シクロヘキシレン、少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、またはピリミジン−２，５−ジイルであり；
Ｚ１１、Ｚ１２、およびＺ１３は独立して、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ２Ｏ−、または−（ＣＨ２）４−であり；
Ｌ１１およびＬ１２は独立して、水素またはフッ素である。
【００３０】
項１１．  式（５）で表される化合物の群から選択される少なくとも１つの化合物をさらに含有する、項７〜１０のいずれか１項に記載の液晶組成物。
0006586785.tif 000019
式（５）において、
Ｒ１２は、炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり、このアルキルおよびアルケニルにおいて、少なくとも１つの水素はフッ素で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−ＣＨ2−は−Ｏ−で置き換えられてもよく；
Ｘ１２は、−Ｃ≡Ｎまたは−Ｃ≡Ｃ−Ｃ≡Ｎであり；
環Ｃ１は、１，４−シクロヘキシレン、少なくとも１つの水素がフッ素で置き換えられてもよい１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、またはピリミジン−２，５−ジイルであり；
Ｚ１４は、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、または−ＣＨ２Ｏ−であり；
Ｌ１３およびＬ１４は独立して、水素またはフッ素であり；
ｉは、１、２、３、または４である。
【００３１】
項１２．  少なくとも１つの光学活性化合物および／または重合可能な化合物をさらに含有する、項７〜１１のいずれか１項に記載の液晶組成物。
【００３２】
項１３．  少なくとも１つの酸化防止剤および／または紫外線吸収剤をさらに含有する、項７〜１２のいずれか１項に記載の液晶組成物。
【００３３】
項１４．  項７〜１３のいずれか１項に記載の液晶組成物を含有する液晶表示素子。
【００３４】
本発明の化合物、液晶組成物、液晶表示素子について、順に説明する。
１−１．化合物（１）
本発明の化合物（１）について説明をする。化合物（１）における末端基、環構造、結合基などの好ましい例、およびそれらの基が物性に及ぼす効果は、化合物（１）の下位式にも適用される。
0006586785.tif 000020
【００３５】
式（１）において、Ｒ１およびＲ２は独立して、炭素数１〜１５のアルキルであり、このアルキルにおいて、少なくとも１つの−ＣＨ２−は−Ｏ−または−Ｓ−で置き換えられてもよく、少なくとも１つの−（ＣＨ２）２−は−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよい。これらの基は、直鎖または分岐鎖であり、シクロヘキシルのような環状基を含まない。これらの基において分岐鎖よりも直鎖の方が好ましい。
【００３６】
アルケニルにおける−ＣＨ＝ＣＨ−の好ましい立体配置は、二重結合の位置に依存する。−ＣＨ＝ＣＨＣＨ３、−ＣＨ＝ＣＨＣ２Ｈ５、−ＣＨ＝ＣＨＣ３Ｈ７、−ＣＨ＝ＣＨＣ４Ｈ９、−Ｃ２Ｈ４ＣＨ＝ＣＨＣＨ３、および−Ｃ２Ｈ４ＣＨ＝ＣＨＣ２Ｈ５のような奇数位に二重結合をもつアルケニルにおいてはトランス配置が好ましい。−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨＣ２Ｈ５、および−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨＣ３Ｈ７のような偶数位に二重結合をもつアルケニルにおいてはシス配置が好ましい。好ましい立体配置を有するアルケニル化合物は、高い透明点または液晶相の広い温度範囲を有する。Mol. Cryst. Liq. Cryst., 1985, 131, P109およびMol. Cryst. Liq. Cryst., 1985, 131, P327、に詳細な説明がある。
【００３７】
Ｒ１およびＲ２の好ましい例は、アルキル、アルコキシ、アルケニル、およびアルケニルオキシである。Ｒ１およびＲ２のさらに好ましい例は、アルキル、アルコキシ、およびアルケニルである。Ｒ１およびＲ２の最も好ましい例は、アルキルおよびアルコキシである。
【００３８】
アルキルの例は、−ＣＨ３、−Ｃ２Ｈ５、−Ｃ３Ｈ７、−Ｃ４Ｈ９、−Ｃ５Ｈ１１、−Ｃ６Ｈ１３、−Ｃ７Ｈ１５、−Ｃ８Ｈ１７、−Ｃ９Ｈ１９、−Ｃ１０Ｈ２１、−Ｃ１１Ｈ２３、−Ｃ１２Ｈ２５、−Ｃ１３Ｈ２７、−Ｃ１４Ｈ２９、および−Ｃ１５Ｈ３１である。
【００３９】
アルコキシの例は、−ＯＣＨ３、−ＯＣ２Ｈ５、−ＯＣ３Ｈ７、−ＯＣ４Ｈ９、−ＯＣ５Ｈ１１、−ＯＣ６Ｈ１３、−ＯＣ７Ｈ１５、−ＯＣ８Ｈ１７、−ＯＣ９Ｈ１９、−ＯＣ１０Ｈ２１、−ＯＣ１１Ｈ２３、−ＯＣ１２Ｈ２５、−ＯＣ１３Ｈ２７、および−ＯＣ１４Ｈ２９である。
【００４０】
アルコキシアルキルの例は、−ＣＨ２ＯＣＨ３、−ＣＨ２ＯＣ２Ｈ５、−ＣＨ２ＯＣ３Ｈ７、−（ＣＨ２）２−ＯＣＨ３、−（ＣＨ２）２−ＯＣ２Ｈ５、−（ＣＨ２）２−ＯＣ３Ｈ７、−（ＣＨ２）３−ＯＣＨ３、−（ＣＨ２）４−ＯＣＨ３、および−（ＣＨ２）５−ＯＣＨ３である。
【００４１】
アルケニルの例は、−ＣＨ＝ＣＨ２、−ＣＨ＝ＣＨＣＨ３、−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２、−ＣＨ＝ＣＨＣ２Ｈ５、−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨＣＨ３、−（ＣＨ２）２−ＣＨ＝ＣＨ２、−ＣＨ＝ＣＨＣ３Ｈ７、−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨＣ２Ｈ５、−（ＣＨ２）２−ＣＨ＝ＣＨＣＨ３、および−（ＣＨ２）３−ＣＨ＝ＣＨ２である。
【００４２】
アルケニルオキシの例は、−ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２、−ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨＣＨ３、および−ＯＣＨ２ＣＨ＝ＣＨＣ２Ｈ５である。
【００４３】
式（１）において、環Ａ１、環Ａ２および環Ａ３は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−フェニレン、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられたテトラヒドロピラン−２，５−ジイルであり、これらの環において少なくとも１つの−（ＣＨ２）２−は−ＣＨ＝ＣＨ−で置き換えられてもよく、環Ａ１、環Ａ２および環Ａ３の少なくとも１つは式（Ａ）で表される環であり、Ｘ１およびＸ２は独立して水素またはハロゲンである。
0006586785.tif 000021
【００４４】
環Ａ１、環Ａ２および環Ａ３の好ましい例は、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、またはジヒドロピラン−２，５−ジイルであるが、少なくとも１つは式（Ａ）で表される環であり、Ｘ１およびＸ２は独立して水素またはフッ素である。１，４−シクロへキシレンには、シスおよびトランスの立体配置が存在する。高い上限温度の観点から、トランス配置が好ましい。
0006586785.tif 000022
【００４５】
少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた１，４−フェニレンの好ましい例は、環（Ａ−１）〜（Ａ−１７）である。負の大きな誘電率異方性を有するためには、環（Ａ−１）、（Ａ−５）、（Ａ−６）、（Ａ−７）、（Ａ−８）、（Ａ−９）、（Ａ−１０）、および（Ａ−１１）がより好ましい。少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた１，４−フェニレンの最も好ましい例は、環（Ａ−１）および環（Ａ−６）である。
0006586785.tif 000023
【００４６】
Ｚ１、Ｚ２およびＺ３は独立して、単結合、−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、または−ＣＦ＝ＣＦ−である。Ｚ１、Ｚ２およびＺ３の好ましい例は、単結合、−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、または−ＯＣＦ２−である。さらに好ましい例は、単結合、−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２Ｏ−、または−ＯＣＨ２−である。Ｚ１、Ｚ２およびＺ３の最も好ましい例は、単結合、−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ２Ｏ−、または−ＯＣＨ２−である。
【００４７】
環Ａ１が２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレンであるとき、Ｚ１は−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−、または−ＣＦ＝ＣＦ−であることが好ましい。
【００４８】
式（１）において、ａ、ｂおよびｃは独立して、０または１であり、ａ、ｂおよびｃの和は、１、２または３である。ａ、ｂおよびｃの好ましい組合せは、（ａ＝１、ｂ＝０、ｃ＝０）および（ａ＝１、ｂ＝１、ｃ＝０）である。
【００４９】
１−２．化合物（１）の物性
化合物（１）において、Ｒ１、Ｒ２、環Ａ１、環Ａ２、Ｚ１、およびＺ２の種類、ａおよびｂの組合せを適切に選択することによって、透明点、光学的異方性、誘電率異方性などの物性を任意に調整することが可能である。化合物の物性に大きな差異がないので、化合物（１）は、２Ｈ（重水素）、１３Ｃなどの同位体を天然存在比の量より多く含んでもよい。Ｒ１などの種類が化合物（１）の物性に及ぼす主要な効果を以下に説明する。
【００５０】
Ｒ１またはＲ２が直鎖であるときは、液晶相の温度範囲が広く、そして粘度が小さい。Ｒ１またはＲ２が分岐鎖であるときは、他の液晶性化合物との相溶性がよい。Ｒ１またはＲ２が光学活性である化合物は、キラルドーパントとして有用である。この化合物を組成物に添加することによって、液晶表示素子に発生するリバース・ツイスト・ドメイン（reverse twisted domain）を防止することができる。Ｒ１またはＲ２が光学活性でない化合物は、組成物の成分として有用である。Ｒ１またはＲ２がアルケニルであるとき、好ましい立体配置は二重結合の位置に依存する。好ましい立体配置を有するアルケニル化合物は、小さい粘度、高い上限温度または液晶相の広い温度範囲を有する。Ｒ１またはＲ２がアルコキシであるときは、高い上限温度を有する。
【００５１】
環Ａ１、環Ａ２、および環Ａ３の少なくとも１つが１，４−フェニレン、または少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた１，４−フェニレンであるときは、光学的異方性が比較的大きく、そして配向秩序パラメーター（orientational order parameter）が比較的大きい。環Ａ１、環Ａ２、および環Ａ３が、１，４−フェニレン、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた１，４−フェニレン、またはこれらの組み合わせであるときは、光学的異方性が特に大きい。環Ａ１、環Ａ２、および環Ａ３の少なくとも１つが２−フルオロ−１，４−フェニレン、２−クロロ−１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２，３−ジクロロ−１，４−フェニレン、２−クロロ−３−フルオロ−１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、またはジヒドロピラン−２，５−ジイルであるときは、負の誘電率異方性が特に大きい。
【００５２】
Ｚ１、Ｚ２およびＺ３の少なくとも１つが、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−であるときは、粘度が小さい。Ｚ１、Ｚ２およびＺ３の少なくとも１つが、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２Ｏ−、または−ＯＣＨ２−であるときは、液晶相の温度範囲が広く、そして弾性定数（Ｋ）が大きい。Ｚ１、Ｚ２およびＺ３の少なくとも１つが、単結合、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、または−ＣＦ＝ＣＦ−であるときは、透明点が高い。Ｚ１、Ｚ２およびＺ３の少なくとも１つが、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、または−ＣＦ＝ＣＦ−であるときは、光学的異方性が大きい。Ｚ１、Ｚ２およびＺ３の少なくとも１つが、−ＣＨ２Ｏ−、または−ＯＣＨ２−であるときは、負の誘電率異方性が大きい。Ｚ１、Ｚ２およびＺ３が共に、単結合、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−、または−ＯＣＨ２−であるときは、化学的安定性が高い。
【００５３】
ａ、ｂおよびｃの組合せが、（ａ＝１、ｂ＝０、ｃ＝０）、（ａ＝１、ｂ＝１、ｃ＝０）、または（ａ＝１、ｂ＝１、ｃ＝１）であり、環Ａ１、環Ａ２、および環Ａ３の少なくとも１つが、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２−クロロ−１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２，３−ジクロロ−１，４−フェニレン、２−クロロ−３−フルオロ−１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、またはジヒドロピラン−２，５−ジイルであるときは、負の誘電率異方性が大きい。
ａ、ｂおよびｃの組合せが、（ａ＝１、ｂ＝１、ｃ＝０）、または（ａ＝１、ｂ＝１、ｃ＝１）であるときは、透明点が高い。
【００５４】
１−３．好ましい化合物
好ましい化合物（１）の例として、項２に記載した化合物（１−１）〜（１−３）が挙げられる。
0006586785.tif 000024
式（１−１）〜（１−３）において、
Ｒ１およびＲ２は独立して、炭素数１〜１５のアルキル、炭素数１〜１４のアルコキシ、炭素数２〜１５のアルケニル、および炭素数２〜１４のアルケニルオキシであり； 
環Ａ１、環Ａ２および環Ａ３は独立して、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，４−フェニレン、少なくとも１つの水素がハロゲンで置き換えられた１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル、またはジヒドロピラン−２，５−ジイルであるが、少なくとも１つは式（Ａ）で表される環であり、
0006586785.tif 000025
Ｘ１およびＸ２は独立して水素またはフッ素であり；
Ｚ１、Ｚ２およびＺ３は独立して、単結合、−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＯＣＨ２−、−ＣＦ２Ｏ−、または−ＯＣＦ２−である。
【００５５】
化合物（１）において、環Ａ１が式（Ａ）で表される環であるとき、Ｘ１およびＸ２が共にフッ素である場合は、Ｚ１が−（ＣＨ２）２−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２Ｏ−、または−ＯＣＨ２−であることが好ましい。
0006586785.tif 000026
【００５６】
化合物（１）のより好ましい例は、項５に記載した化合物（１−１−ａ）、化合物（１−１−ｂ）、化合物（１−２−ａ）〜（１−２−ｋ）、化合物（１−２−ｍ）、化合物（１−３−ａ）〜（１−３−ｋ）、および化合物（１−３−ｍ）〜（１−３−ｔ）が挙げられる。
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化合物（１−１−ａ）、化合物（１−１−ｂ）、化合物（１−２−ａ）〜（１−２−ｋ）、化合物（１−２−ｍ）、化合物（１−３−ａ）〜（１−３−ｋ）、および化合物（１−３−ｍ）〜（１−３−ｔ）において、
Ｒ１およびＲ２は独立して、炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜９のアルコキシ、炭素数２〜１０のアルケニル、および炭素数２〜９のアルケニルオキシであり； 
Ｙ１〜Ｙ６は独立して、水素またはフッ素である。
【００５７】
１−４．化合物（１）の合成
化合物（１）の合成法について説明する。化合物（１）は、有機合成化学の方法を適切に組み合わせることにより合成できる。出発物に目的の末端基、環、および結合基を導入する方法は、「オーガニックシンセシス」（Organic Syntheses, John Wiley & Sons, Inc）、「オーガニック・リアクションズ」（Organic Reactions, John Wiley & Sons, Inc）、「コンプリヘンシブ・オーガニック・シンセシス」（Comprehensive Organic Synthesis, Pergamon Press）、「新実験化学講座」（丸善）などの成書に記載されている。
【００５８】
１−４−１．結合基の生成
化合物（１）における結合基を生成する方法の例は、下記のスキームのとおりである。このスキームにおいて、ＭＳＧ１（またはＭＳＧ２）は、少なくとも１つの環を有する一価の有機基である。複数のＭＳＧ１（またはＭＳＧ２）が表す一価の有機基は、同一であってもよいし、または異なってもよい。化合物（１Ａ）〜（１Ｇ）は、化合物（１）または化合物（１）の中間体に相当する。
【００５９】
0006586785.tif 000030
【００６０】
0006586785.tif 000031
【００６１】
0006586785.tif 000032
【００６２】
0006586785.tif 000033
【００６３】
0006586785.tif 000034
【００６４】
0006586785.tif 000035
【００６５】
（Ｉ）単結合の生成
アリールホウ酸（２１）と化合物（２２）を、炭酸塩、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム触媒の存在下で反応させ、化合物（１Ａ）を合成する。この化合物（１Ａ）は、化合物（２３）にｎ−ブチルリチウムを、次いで塩化亜鉛を反応させ、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム触媒の存在下で化合物（２２）を反応させても合成される。
【００６６】
（ＩＩ）−ＣＯＯ−と−ＯＣＯ−の生成
化合物（２３）にｎ−ブチルリチウムを、次いで二酸化炭素を反応させ、カルボン酸（２４）を得る。このカルボン酸（２４）と、化合物（２１）から誘導したフェノール（２５）とをＤＣＣ（１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド）とＤＭＡＰ（４−ジメチルアミノピリジン）の存在下で脱水させて−ＣＯＯ−を有する化合物（１Ｂ）を合成する。この方法によって−ＯＣＯ−を有する化合物も合成する。
【００６７】
（ＩＩＩ）−ＣＦ２Ｏ−と−ＯＣＦ２−の生成
化合物（１Ｂ）をローソン試薬で硫黄化し、化合物（２６）を得る。化合物（２６）をフッ化水素ピリジン錯体とＮＢＳ（Ｎ−ブロモスクシンイミド）でフッ素化し、−ＣＦ２Ｏ−を有する化合物（１Ｃ）を合成する。M. Kuroboshi et al., Chem. Lett., 1992，827.を参照。化合物（１Ｃ）は化合物（２６）をＤＡＳＴ（（ジエチルアミノ）サルファートリフルオリド）でフッ素化しても合成される。W. H. Bunnelle et al., J. Org. Chem. 1990, 55, 768.を参照。この方法によって−ＯＣＦ２−を有する化合物も合成する。
【００６８】
（ＩＶ）−ＣＨ＝ＣＨ−の生成
化合物（２２）をｎ−ブチルリチウム、次いでＤＭＦ（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）と反応させてアルデヒド（２７）を得る。ホスホニウム塩（２８）とカリウムｔｅｒｔ−ブトキシドを反応させて発生させたリンイリドを、アルデヒド（２７）と反応させて化合物（１Ｄ）を合成する。反応条件によってはシス体が生成するので、必要に応じて公知の方法によりシス体をトランス体に異性化する。
【００６９】
（Ｖ）−ＣＨ２ＣＨ２−の生成
化合物（１Ｄ）をパラジウム炭素触媒の存在下で水素化し、化合物（１Ｅ）を合成する。
【００７０】
（ＶＩ）−Ｃ≡Ｃ−の生成
ジクロロパラジウムとヨウ化銅の触媒存在下で、化合物（２３）に２−メチル−３−ブチン−２−オールを反応させたのち、塩基性条件下で脱保護して化合物（２９）を得る。ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウムとハロゲン化銅との触媒存在下、化合物（２９）を化合物（２２）と反応させて、化合物（１Ｆ）を合成する。
【００７１】
（ＶＩＩ）−ＣＨ２Ｏ−と−ＯＣＨ２−の生成
化合物（２７）を水素化ホウ素ナトリウムで還元して化合物（３０）を得る。これを臭化水素酸で臭素化して化合物（３１）を得る。炭酸カリウムの存在下、化合物（２５）と化合物（３１）を反応させて、化合物（１Ｇ）を合成する。この方法によって−ＯＣＨ２−を有する化合物も合成する。
【００７２】
（ＶＩＩＩ）−ＣＦ＝ＣＦ−の生成
化合物（２３）をｎ−ブチルリチウムで処理したあと、テトラフルオロエチレンを反応させて化合物（３２）を得る。化合物（２２）をｎ−ブチルリチウムで処理したあと化合物（３２）と反応させて、化合物（１Ｈ）を合成する。
【００７３】
１−４−２．環Ａ１、環Ａ２および環Ａ３の生成
１，４−シクロヘキシレン、１，４−シクロヘキセニレン、１，４−フェニレン、２−フルオロ−１，４−フェニレン、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン、テトラヒドロピラン−２，５−ジイルなどの環に関しては出発物質が市販されているか、または合成法がよく知られている。
【００７４】
１−４−３．合成例
化合物（１）を合成する方法の例は、次のとおりである。これらの化合物において、Ｒ１、Ｒ２、環Ａ１、環Ａ２、環Ａ３、Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３、ａ、ｂ、およびｃの定義は、前記の項１と同一である。
【００７５】
化合物（１）を合成する方法の例は、次のとおりである。市販されているか、または合成法がよく知られている化合物（５１）に対して水素化ナトリウム、Ｓｅｌｅｃｔｆｌｕｏｒを作用させることによって、化合物（５２）を得る。化合物（５２）に対して水素化ホウ素ナトリウムを作用させることによって、化合物（５３）を得る。化合物（５３）に対してトリエチルアミン、クロロトリメチルシランを作用させることによって、化合物（５４）を得る。また、公知の方法によって合成される化合物（５５）に対してトリメチルシリルトリフルオロメタンスルホネート、化合物（５４）を作用させることによって、化合物（１）へと導くことができる。
【００７６】
0006586785.tif 000036
【００７７】
0006586785.tif 000037
【００７８】
２．組成物（１）
本発明の液晶組成物（１）について説明をする。この組成物（１）は、少なくとも１つの化合物（１）を成分Ａとして含む。組成物（１）は、２つ以上の化合物（１）を含んでいてもよい。液晶性化合物の成分が化合物（１）のみであってもよい。組成物（１）は、化合物（１）の少なくとも１つを１〜９９重量％の範囲で含有することが、優良な物性を発現させるために好ましい。誘電率異方性が正である組成物において、化合物（１）の好ましい含有量は５〜６０重量％の範囲である。誘電率異方性が負である組成物において、化合物（１）の好ましい含有量は３０重量％以下である。組成物（１）は、化合物（１）と、本明細書中に記載しなかった種々の液晶性化合物とを含んでもよい。
【００７９】
好ましい組成物は、以下に示す成分Ｂ、Ｃ、Ｄ、およびＥから選択された化合物を含む。組成物（１）を調製するときには、例えば、化合物（１）の誘電率異方性を考慮して成分を選択することもできる。成分を適切に選択した組成物は、ネマチック相の高い上限温度、ネマチック相の低い下限温度、小さな粘度、適切な光学的異方性、大きな誘電率異方性、および適切な弾性定数を有する。
【００８０】
成分Ｂは、化合物（２）〜（４）である。成分Ｃは化合物（５）である。成分Ｄは、化合物（６）〜（１２）である。成分Ｅは、化合物（１３）〜（１５）である。これらの成分について、順に説明する。
【００８１】
成分Ｂは、右末端にハロゲンまたはフッ素含有基を有する化合物である。成分Ｂの好ましい例として、化合物（２−１）〜（２−１６）、化合物（３−１）〜（３−１１３）、化合物（４−１）〜（４−５７）を挙げることができる。
【００８２】
0006586785.tif 000038
【００８３】
0006586785.tif 000039
【００８４】
0006586785.tif 000040
【００８５】
0006586785.tif 000041
【００８６】
0006586785.tif 000042
【００８７】
0006586785.tif 000043
【００８８】
これらの化合物（成分Ｂ）において、Ｒ１１およびＸ１１の定義は、項１１記載の式（２）〜（４）と同じである。
【００８９】
成分Ｂは、誘電率異方性が正であり、熱、光などに対する安定性が非常に優れているので、ＴＦＴモード用またはＰＳＡモード用の組成物を調製する場合に用いられる。成分Ｂの含有量は、組成物の全重量に対して１〜９９重量％の範囲が適するが、好ましくは１０〜９７重量％の範囲、より好ましくは４０〜９５重量％の範囲である。この組成物は、化合物（１２）〜（１４）（成分Ｅ）をさらに添加することにより粘度を調整することができる。
【００９０】
成分Ｃは、右末端基が−Ｃ≡Ｎまたは−Ｃ≡Ｃ−Ｃ≡Ｎである化合物（５）である。成分Ｃの好ましい例として、化合物（５−１）〜（５−６４）を挙げることができる。
【００９１】
0006586785.tif 000044
【００９２】
0006586785.tif 000045
【００９３】
これらの化合物（成分Ｃ）において、Ｒ１２およびＸ１２の定義は、項１２記載の式（５）と同じである。
【００９４】
成分Ｃは、誘電率異方性が正であり、その値が大きいのでＳＴＮモード用、ＴＮモード用またはＰＳＡモード用の組成物を調製する場合に主として用いられる。この成分Ｃを添加することにより、組成物の誘電率異方性を大きくすることができる。成分Ｃは、液晶相の温度範囲を広げる、粘度を調整する、または光学的異方性を調整する、という効果がある。成分Ｃは、素子の電圧−透過率曲線の調整にも有用である。
【００９５】
ＳＴＮモード用またはＴＮモード用の組成物を調製する場合には、成分Ｃの含有量は、組成物の全重量に対して１〜９９重量％の範囲が適しているが、好ましくは１０〜９７重量％の範囲、より好ましくは４０〜９５重量％の範囲である。この組成物は、成分Ｅを添加することにより液晶相の温度範囲、粘度、光学的異方性、誘電率異方性などを調整できる。
【００９６】
成分Ｄは、化合物（６）〜（１２）である。これらの化合物は、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレンのように、ラテラル位が２つのハロゲンで置換されたベンゼン環を有する。成分Ｄの好ましい例として、化合物（６−１）〜（６−８）、化合物（７−１）〜（７−１７）、化合物（８−１）、化合物（９−１）〜（９−３）、化合物（１０−１）〜（１０−１１）、化合物（１１−１）〜（１１−３）、および化合物（１２−１）〜（１２−３）を挙げることができる。
【００９７】
0006586785.tif 000046
【００９８】
0006586785.tif 000047
【００９９】
これらの化合物（成分Ｄ）において、Ｒ１３、Ｒ１４およびＲ１５の定義は、項９記載の式（６）〜（１２）と同じである。
【０１００】
成分Ｄは、誘電率異方性が負の化合物である。成分Ｄは、主としてＶＡモード用またはＰＳＡモード用の組成物を調製する場合に用いられる。成分Ｄのうち、化合物（６）は２環化合物であるので、主として、粘度の調整、光学的異方性の調整、または誘電率異方性の調整の効果がある。化合物（７）および（８）は３環化合物であるので、上限温度を高くする、光学的異方性を大きくする、または誘電率異方性を大きくするという効果がある。化合物（９）〜（１２）は、誘電率異方性を大きくするという効果がある。
【０１０１】
ＶＡモード用またはＰＳＡモード用の組成物を調製する場合には、成分Ｄの含有量は、組成物の全重量に対して、好ましくは４０重量％以上であり、より好ましくは５０〜９５重量％の範囲である。成分Ｄを誘電率異方性が正である組成物に添加する場合は、成分Ｄの含有量が組成物の全重量に対して３０重量％以下が好ましい。成分Ｄを添加することにより、組成物の弾性定数を調整し、素子の電圧−透過率曲線を調整することが可能となる。
【０１０２】
成分Ｅは、２つの末端基がアルキルなどである化合物である。成分Ｅの好ましい例として、化合物（１３−１）〜（１３−１１）、化合物（１４−１）〜（１４−１９）、および化合物（１５−１）〜（１５−７）を挙げることができる。
【０１０３】
0006586785.tif 000048
【０１０４】
これらの化合物（成分Ｅ）において、Ｒ１６およびＲ１７の定義は、項１０記載の式（１３）〜（１５）と同じである。
【０１０５】
成分Ｅは、誘電率異方性の絶対値が小さいので、中性に近い化合物である。化合物（１３）は、主として粘度の調整または光学的異方性の調整の効果がある。化合物（１４）および（１５）は、上限温度を高くすることによってネマチック相の温度範囲を広げる効果、または光学的異方性の調整の効果がある。
【０１０６】
成分Ｅの含有量を増加させると組成物の粘度が小さくなるが、誘電率異方性が小さくなる。そこで、素子のしきい値電圧の要求値を満たす限り、含有量は多いほうが好ましい。したがって、ＶＡモード用またはＰＳＡモード用の組成物を調製する場合には、成分Ｅの含有量は、組成物の全重量に対して、好ましくは３０重量％以上、より好ましくは４０重量％以上である。
【０１０７】
組成物（１）の調製は、必要な成分を高い温度で溶解させるなどの方法により行われる。用途に応じて、この組成物に添加物を添加してよい。添加物の例は、光学活性化合物、重合可能な化合物、重合開始剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、熱安定剤、泡消剤などである。このような添加物は当業者によく知られており、文献に記載されている。
【０１０８】
組成物（１）は、少なくとも１つの光学活性化合物をさらに含有してもよい。光学活性化合物として、公知のキラルド−プ剤を添加することができる。このキラルド−プ剤は液晶分子にらせん構造を誘起して必要なねじれ角を与えることによって逆ねじれを防ぐ、という効果を有する。キラルド−プ剤の好ましい例として、下記の化合物（Ｏｐ−１）〜（Ｏｐ−１８）を挙げることができる。化合物（Ｏｐ−１８）において、環Ｊは１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり、Ｒ２４は炭素数１〜１０のアルキルである。
【０１０９】
0006586785.tif 000049
【０１１０】
組成物（１）は、このような光学活性化合物を添加して、らせんピッチを調整する。らせんピッチは、ＴＦＴモード用およびＴＮモード用の組成物であれば４０〜２００μｍの範囲に調整するのが好ましい。ＳＴＮモード用の組成物であれば６〜２０μｍの範囲に調整するのが好ましい。ＢＴＮモード用の組成物の場合は、１．５〜４μｍの範囲に調整するのが好ましい。らせんピッチの温度依存性を調整する目的で２つ以上の光学活性化合物を添加してもよい。
【０１１１】
組成物（１）は、重合可能な化合物を添加することによってＰＳＡモード用に使用することもできる。重合可能な化合物の例は、アクリレート、メタクリレート、ビニル化合物、ビニルオキシ化合物、プロペニルエーテル、エポキシ化合物（オキシラン、オキセタン）、ビニルケトンなどであり、好ましい例として、下記の化合物（Ｍ−１）〜（Ｍ−１２）を挙げることができる。重合可能な化合物は、紫外線照射などにより重合する。光重合開始剤などの適切な開始剤の存在下で重合せさてもよい。重合のための適切な条件、開始剤の適切なタイプ、および適切な量は、当業者には既知であり、文献に記載されている。
【０１１２】
化合物（Ｍ−１）〜（Ｍ−１２）において、Ｒ２０は水素またはメチルであり；ｓは０または１であり；ｔおよびｕは独立して、１〜１０の整数である。かっこに入れた記号Ｆは、水素またはフッ素を意味する。
【０１１３】
0006586785.tif 000050
【０１１４】
酸化防止剤は、大きな電圧保持率を維持するために有効である。酸化防止剤の好ましい例として、下記の化合物（ＡＯ−１）および（ＡＯ−２）；ＩＲＧＡＮＯＸ  ４１５、ＩＲＧＡＮＯＸ  ５６５、ＩＲＧＡＮＯＸ  １０１０、ＩＲＧＡＮＯＸ  １０３５、ＩＲＧＡＮＯＸ  ３１１４、およびＩＲＧＡＮＯＸ  １０９８（商品名：ＢＡＳＦ社）を挙げることができる。紫外線吸収剤は、上限温度の低下を防ぐために有効である。紫外線吸収剤の好ましい例は、ベンゾフェノン誘導体、ベンゾエート誘導体、トリアゾール誘導体などである。具体例として下記の化合物（ＡＯ−３）および（ＡＯ−４）；ＴＩＮＵＶＩＮ  ３２９、ＴＩＮＵＶＩＮ  Ｐ、ＴＩＮＵＶＩＮ  ３２６、ＴＩＮＵＶＩＮ  ２３４、ＴＩＮＵＶＩＮ  ２１３、ＴＩＮＵＶＩＮ  ４００、ＴＩＮＵＶＩＮ  ３２８、およびＴＩＮＵＶＩＮ  ９９−２（商品名：ＢＡＳＦ社）；および１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）を挙げることができる。
【０１１５】
立体障害のあるアミンのような光安定剤は、大きな電圧保持率を維持するために好ましい。光安定剤の好ましい例として、下記の化合物（ＡＯ−５）および（ＡＯ−６）；ＴＩＮＵＶＩＮ  １４４、ＴＩＮＵＶＩＮ  ７６５、およびＴＩＮＵＶＩＮ  ７７０ＤＦ（商品名：ＢＡＳＦ社）を挙げることができる。熱安定剤も大きな電圧保持率を維持するために有効であり、好ましい例としてＩＲＧＡＦＯＳ  １６８（商品名：ＢＡＳＦ社）を挙げることができる。消泡剤は、泡立ちを防ぐために有効である。消泡剤の好ましい例は、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイルなどである。
【０１１６】
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【０１１７】
化合物（ＡＯ−１）において、Ｒ２５は炭素数１〜２０のアルキル、炭素数１〜２０のアルコキシ、−ＣＯＯＲ２６、または−ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＲ２６であり；Ｒ２６は炭素数１〜２０のアルキルである。化合物（ＡＯ−２）および（ＡＯ−５）において、Ｒ２７は炭素数１〜２０のアルキルである。化合物（ＡＯ−５）において、環Ｋおよび環Ｌは１，４−シクロへキシレンまたは１，４−フェニレンであり、ｖは０、１、または２であり、Ｒ２８は水素、メチルまたはＯ・である。
【０１１８】
組成物（１）は、メロシアニン系、スチリル系、アゾ系、アゾメチン系、アゾキシ系、キノフタロン系、アントラキノン系、テトラジン系などの二色性色素を添加すれば、ＧＨ（guest host）モード用に使用することもできる。
【０１１９】
組成物（１）では、成分化合物の種類と割合とを適切に調整することによって上限温度を７０℃以上とすること、下限温度を−１０℃以下とすることができるので、ネマチック相の温度範囲が広い。したがって、この組成物を含む液晶表示素子は広い温度範囲で使用することが可能である。
【０１２０】
組成物（１）では、成分化合物の種類と割合とを適切に調整することによって、光学異方性を０．１０〜０．１３の範囲、または０．０５〜０．１８の範囲とすることができる。同様にして、誘電率異方性を−５．０〜−２．０の範囲に調整することができる。好ましい誘電率異方性は、−４．５〜−２．５の範囲である。この範囲の誘電率異方性を有する組成物（１）は、ＩＰＳモード、ＶＡモード、またはＰＳＡモードで動作する液晶表示素子に好適に使用することができる。
【０１２１】
３．液晶表示素子
組成物（１）は、ＡＭ素子への使用が可能である。さらにＰＭ素子への使用も可能である。この組成物は、ＰＣ、ＴＮ、ＳＴＮ、ＥＣＢ、ＯＣＢ、ＩＰＳ、ＦＦＳ、ＶＡ、ＰＳＡ、ＦＰＡなどのモードを有するＡＭ素子およびＰＭ素子への使用が可能である。ＴＮ、ＯＣＢ、ＩＰＳモードまたはＦＦＳモードを有するＡＭ素子への使用は特に好ましい。ＩＰＳモードまたはＦＦＳモードを有するＡＭ素子において、電圧が無印加状態での液晶分子の配列がパネル基板に対して並行あるいは垂直であってもよい。これらの素子が反射型、透過型または半透過型であってもよい。透過型の素子への使用は好ましい。非結晶シリコン−ＴＦＴ素子または多結晶シリコン−ＴＦＴ素子への使用も可能である。この組成物をマイクロカプセル化して作製したＮＣＡＰ（nematic curvilinear aligned phase）型の素子や、組成物中に三次元の網目状高分子を形成させたＰＤ（polymer dispersed）型の素子にも使用できる。
【０１２２】
組成物（１）は、負の誘電率異方性を有するので、ＶＡモード、ＩＰＳモード、またはＰＳＡモードなどの動作モードを有し、ＡＭ方式で駆動する液晶表示素子に好適に用いることができる。この組成物は、ＶＡモードを有し、ＡＭ方式で駆動する液晶表示素子に、特に好適に用いることができる。
【０１２３】
ＴＮモード、ＶＡモードなどで動作する液晶表示素子においては、電場の方向は、液晶層に対して垂直である。一方、ＩＰＳモードなどで動作する液晶表示素子においては、電場の方向は、液晶層に対して平行である。ＶＡモードで動作する液晶表示素子の構造は、K. Ohmuro, S. Kataoka, T. Sasaki and Y. Koike, SID ’97 Digest of Technical Papers, 28, 845 (1997) に報告されている。ＩＰＳモードで動作する液晶表示素子の構造は、国際公開９１／１０９３６号パンフレット（ファミリー：米国特許第５５７６８６７明細書）に報告されている。
【実施例】
【０１２４】
実施例により本発明をさらに詳しく説明する。本発明はこれら実施例によっては制限されない。
【０１２５】
１−１．化合物（１−１）の実施例
化合物（１−１）は、下記の手順により合成した。合成した化合物は、ＮＭＲ分析などの方法により同定した。化合物の物性は、下記に記載した方法により測定した。
【０１２６】
ＮＭＲ分析
測定装置は、ＤＲＸ−５００（ブルカーバイオスピン（株）社製）を用いた。１Ｈ−ＮＭＲの測定では、試料をＣＤＣｌ３などの重水素化溶媒に溶解させ、測定は、室温で、５００ＭＨｚ、積算回数１６回の条件で行った。テトラメチルシランを内部標準として用いた。１９Ｆ−ＮＭＲの測定では、ＣＦＣｌ３を内部標準として用い、積算回数２４回で行った。核磁気共鳴スペクトルの説明において、ｓはシングレット、ｄはダブレット、ｔはトリプレット、ｑはカルテット、ｑｕｉｎはクインテット、ｓｅｘはセクステット、ｍはマルチプレット、ｂｒはブロードであることを意味する。
【０１２７】
測定試料
相構造および転移温度を測定するときには、液晶性化合物そのものを試料として用いた。ネマチック相の上限温度、粘度、光学的異方性、誘電率異方性などの物性を測定するときには、化合物を母液晶に混合して調製した組成物を試料として用いた。
【０１２８】
化合物を母液晶と混合した試料を用いる場合には、次の方法で測定を行った。化合物１５重量％と母液晶８５重量％とを混合して試料を調製した。この試料の測定値から、次の式で表わされる外挿法にしたがって、外挿値を計算し、この値を記載した。〈外挿値〉＝（１００×〈試料の測定値〉−〈母液晶の重量％〉×〈母液晶の測定値〉）／〈化合物の重量％〉
【０１２９】
化合物と母液晶との割合がこの割合であっても、結晶（または、スメクチック相）が２５℃で析出する場合には、化合物と母液晶との割合を１０重量％：９０重量％、５重量％：９５重量％、１重量％：９９重量％の順に変更をしていき、結晶（または、スメクチック相）が２５℃で析出しなくなった割合で試料の物性を測定した。なお、特に断りのない限り、化合物と母液晶との割合は、１５重量％：８５重量％である。
【０１３０】
母液晶としては、下記の母液晶（ｉ）を用いた。母液晶（ｉ）の成分の割合を重量％で示す。
【０１３１】
0006586785.tif 000052
【０１３２】
測定方法
物性の測定は下記の方法で行った。これらの多くは、社団法人電子情報技術産業協会（Japan Electronics and Information Technology Industries Association；以下、ＪＥＩＴＡと略す）で審議制定されるＪＥＩＴＡ規格（ＪＥＩＴＡ・ＥＤ−２５２１Ａ）に記載された方法、またはこれを修飾した方法であった。測定に用いたＴＮ素子には、ＴＦＴを取り付けなかった。
【０１３３】
（１）相構造
偏光顕微鏡を備えた融点測定装置のホットプレート（メトラー社ＦＰ−５２型ホットステージ）に試料を置き、３℃／分の速度で加熱しながら相状態とその変化を偏光顕微鏡で観察し、相の種類を特定した。
【０１３４】
（２）転移温度（℃）
パーキンエルマー社製走査熱量計ＤＳＣ−７システム、またはＤｉａｍｏｎｄ  ＤＳＣシステムを用いて、３℃／分速度で昇降温し、試料の相変化に伴う吸熱ピーク、または発熱ピークの開始点を外挿により求め、転移温度を決定した。化合物が固体からスメクチック相、ネマチック相などの液晶相に転移する温度を「液晶相の下限温度」と略すことがある。化合物が液晶相から液体に転移する温度を「透明点」と略すことがある。
【０１３５】
結晶はＣと表した。結晶の種類の区別がつく場合は、それぞれＣ１またはＣ２と表した。スメクチック相はＳ、ネマチック相はＮと表した。スメクチック相の中で、スメクチックＡ相、スメクチックＢ相、スメクチックＣ相、またはスメクチックＦ相の区別がつく場合は、それぞれＳＡ、ＳＢ、ＳＣ、またはＳＦと表した。液体（アイソトロピック）はＩと表した。転移温度は、例えば、「Ｃ  ５０．０  Ｎ  １００．０  Ｉ」のように表記した。これは、結晶からネマチック相への転移温度が５０．０℃であり、ネマチック相から液体への転移温度が１００．０℃であることを示す。
【０１３６】
（３）低温相溶性
化合物の割合が、２０重量％、１５重量％、１０重量％、５重量％、３重量％、および１重量％となるように母液晶と化合物とを混合した試料を調製し、試料をガラス瓶に入れた。このガラス瓶を、−１０℃または−２０℃のフリーザー中に一定期間保管したあと、結晶（または、スメクチック相）が析出しているかどうか観察をした。
【０１３７】
（４）ネマチック相の上限温度（ＴＮＩまたはＮＩ；℃）
偏光顕微鏡を備えた融点測定装置のホットプレートに試料を置き、１℃／分の速度で加熱した。試料の一部がネマチック相から等方性液体に変化したときの温度を測定した。ネマチック相の上限温度を「上限温度」と略すことがある。試料が化合物と母液晶との混合物であるときは、ＴＮＩの記号で示した。試料が化合物と成分Ｂなどとの混合物であるときは、ＮＩの記号で示した。
【０１３８】
（５）ネマチック相の下限温度（ＴＣ；℃）
ネマチック相を有する試料を０℃、−１０℃、−２０℃、−３０℃、および−４０℃のフリーザー中に１０日間保管したあと、液晶相を観察した。例えば、試料が−２０℃ではネマチック相のままであり、−３０℃では結晶またはスメクチック相に変化したとき、ＴＣ≦−２０℃と記載した。ネマチック相の下限温度を「下限温度」と略すことがある。
【０１３９】
（６）粘度（バルク粘度；η；２０℃で測定；ｍＰａ・ｓ）
Ｅ型回転粘度計を用いて測定した。
【０１４０】
（７）粘度（回転粘度；γ１；２５℃で測定；ｍＰａ・ｓ）
測定は、M. Imai et al., Molecular Crystals and Liquid Crystals, Vol. 259, 37 (1995) に記載された方法に従った。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が２０μｍのＶＡ素子に試料を入れた。この素子に３０ボルト〜５０ボルトの範囲で１ボルト毎に段階的に印加した。０．２秒の無印加のあと、ただ１つの矩形波（矩形パルス；０．２秒）と無印加（２秒）の条件で印加を繰り返した。この印加によって発生した過渡電流（transient current）のピーク電流（peak current）とピーク時間（peak time）を測定した。これらの測定値とＭ．Ｉｍａｉらの論文、４０頁の計算式（８）とから回転粘度の値を得た。この計算に必要な誘電率異方性は、下記の誘電率異方性の項で測定した値を用いた。
【０１４１】
（８）光学的異方性（屈折率異方性；２５℃で測定；Δｎ）
測定は、波長５８９ｎｍの光を用い、接眼鏡に偏光板を取り付けたアッベ屈折計により行なった。主プリズムの表面を一方向にラビングしたあと、試料を主プリズムに滴下した。屈折率（ｎ‖）は偏光の方向がラビングの方向と平行であるときに測定した。屈折率（ｎ⊥）は偏光の方向がラビングの方向と垂直であるときに測定した。光学的異方性（Δｎ）の値は、Δｎ＝ｎ‖−ｎ⊥、の式から計算した。
【０１４２】
（９）誘電率異方性（Δε；２５℃で測定）
誘電率異方性の値は、Δε＝ε‖−ε⊥、の式から計算した。誘電率（ε‖およびε⊥）は次のように測定した。
１）誘電率（ε‖）の測定：よく洗浄したガラス基板にオクタデシルトリエトキシシラン（０．１６ｍＬ）のエタノール（２０ｍＬ）溶液を塗布した。ガラス基板をスピンナーで回転させたあと、１５０℃で１時間加熱した。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が４μｍであるＶＡ素子に試料を入れ、この素子を紫外線で硬化する接着剤で密閉した。この素子にサイン波（０．５Ｖ、１ｋＨｚ）を印加し、２秒後に液晶分子の長軸方向における誘電率（ε‖）を測定した。
２）誘電率（ε⊥）の測定：よく洗浄したガラス基板にポリイミド溶液を塗布した。このガラス基板を焼成した後、得られた配向膜にラビング処理をした。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が９μｍであり、ツイスト角が８０度であるＴＮ素子に試料を入れた。この素子にサイン波（０．５Ｖ、１ｋＨｚ）を印加し、２秒後に液晶分子の短軸方向における誘電率（ε⊥）を測定した。
【０１４３】
（１０）弾性定数（Ｋ１１およびＫ３３；２５℃で測定；ｐＮ）
測定には株式会社東陽テクニカ製のＥＣ−１型弾性定数測定器を用いた。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が２０μｍである垂直配向素子に試料を入れた。この素子に２０ボルトから０ボルト電荷を印加し、静電容量および印加電圧を測定した。静電容量（Ｃ）と印加電圧（Ｖ）の値を、「液晶デバイスハンドブック」（日刊工業新聞社）、７５頁にある式（２．９８）、式（２．１０１）を用いてフィッティングし、式（２．１００）から弾性定数の値を得た。
【０１４４】
（１１）しきい値電圧（Ｖｔｈ；２５℃で測定；Ｖ）
測定には大塚電子株式会社製のＬＣＤ５１００型輝度計を用いた。光源はハロゲンランプである。２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が４μｍであり、ラビング方向がアンチパラレルであるノーマリーブラックモード（normally black mode）のＶＡ素子に試料を入れ、この素子を紫外線で硬化する接着剤を用いて密閉した。この素子に印加する電圧（６０Ｈｚ、矩形波）は０Ｖから２０Ｖまで０．０２Ｖずつ段階的に増加させた。この際に、素子に垂直方向から光を照射し、素子を透過した光量を測定した。この光量が最大になったときが透過率１００％であり、この光量が最小であったときが透過率０％である電圧−透過率曲線を作成した。しきい値電圧は透過率が１０％になったときの電圧である。
【０１４５】
（１２）電圧保持率（ＶＨＲ−１；２５℃で測定；％）
測定に用いたＴＮ素子はポリイミド配向膜を有し、そして２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）は５μｍである。この素子は試料を入れたあと紫外線で硬化する接着剤で密閉した。このＴＮ素子にパルス電圧（５Ｖで６０マイクロ秒）を印加して充電した。減衰する電圧を高速電圧計で１６．７ミリ秒のあいだ測定し、単位周期における電圧曲線と横軸との間の面積Ａを求めた。面積Ｂは減衰しなかったときの面積である。電圧保持率は面積Ｂに対する面積Ａの百分率である。
【０１４６】
（１３）電圧保持率（ＶＨＲ−２；８０℃で測定；％）
測定に用いたＴＮ素子はポリイミド配向膜を有し、そして２枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）は５μｍである。この素子は試料を入れたあと紫外線で硬化する接着剤で密閉した。このＴＮ素子にパルス電圧（５Ｖで６０マイクロ秒）を印加して充電した。減衰する電圧を高速電圧計で１６．７ミリ秒のあいだ測定し、単位周期における電圧曲線と横軸との間の面積Ａを求めた。面積Ｂは減衰しなかったときの面積である。電圧保持率は面積Ｂに対する面積Ａの百分率である。
【０１４７】
原料
ソルミックス（登録商標）Ａ−１１は、エタノール（８５．５％）、メタノール（１３．４％）とイソプロパノール（１．１％）の混合物であり、日本アルコール販売（株）から入手した。
【０１４８】
［実施例１］
化合物（１−１−１）の合成
0006586785.tif 000053
【０１４９】
第１工程
窒素雰囲気下、水素化ナトリウム（３．２４ｇ）およびＴＨＦ（８０ｍｌ）を反応器に入れて、０℃に冷却した。そこへ化合物（Ｓ−１）（１０．０ｇ）のＴＨＦ（２０ｍｌ）溶液をゆっくりと加え２時間攪拌した。反応混合物を４５℃まで昇温した後、室温にて１８時間攪拌した。反応混合物を０℃まで冷却し、Ｓｅｌｅｃｔｆｌｕｏｒ（２２．７ｇ）のアセトニトリル（１００ｍｌ）懸濁液を加え２時間撹拌した後、室温まで昇温した。反応混合物を水へ注ぎ込み、水層を酢酸エチルで抽出した。合わせた有機層を水、１規定塩酸溶液、飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（容積比、ヘプタン：酢酸エチル＝４：１）で精製して、化合物（Ｓ−２）（７．７９ｇ；７２％）を得た。
【０１５０】
第２工程
窒素雰囲気下、化合物（Ｓ−２）（７．２９ｇ）、メタノール（４０ｍｌ）、およびＴＨＦ（１０ｍｌ）を反応器に入れて、室温にて攪拌した。そこへ水素化ホウ素ナトリウム（６．２６ｇ）を少しずつ加え２時間撹拌した。反応混合物を飽和塩化アンモニウム水溶液へ注ぎ込み、水層をエーテルで抽出した。合わせた有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、化合物（Ｓ−３）（２．０５ｇ；６７％）の粗生成物を得た。
【０１５１】
第３工程
窒素雰囲気下、化合物（Ｓ−３）（３．２１ｇ）、トリエチルアミン（１８．１ｍｌ）、およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（３０ｍｌ）を反応器に入れて、室温にて攪拌した。そこへクロロトリメチルシラン（８．２８ｍｌ）をゆっくりと加え１時間攪拌した。反応混合物を水へ注ぎ込み、水層をエーテルで抽出した。合わせた有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、化合物（Ｓ−４）（３．１２ｇ；６９％）の粗生成物を得た。
【０１５２】
第４工程
窒素雰囲気下、化合物（Ｓ−４）（２．８８ｇ）、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル（０．１７ｍｌ）および、ジクロロメタン（１５ｍｌ）を反応器に入れて、−７０℃に冷却した。公知の方法で合成した化合物（Ｓ−５）（１．７３ｇ）のジクロロメタン（５ｍｌ）溶液をゆっくりと加え２時間攪拌した。そこへピリジン（１．０８ｍｌ）を加えた後、室温まで昇温した。反応混合物を飽和重曹水へ注ぎ込み、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（容積比、ヘプタン：酢酸エチル＝１０：１）で精製した。さらにヘプタンと２−プロパノールとの混合溶媒（容積比、１：１）からの再結晶により精製して、アキシアル位にフッ素原子を持つ立体である化合物（１−１−１）（１．３１ｇ；４８％）を得た。
【０１５３】
化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ3）：７．４２（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ）、７．１８（ｄ，Ｊ＝８．１，２Ｈ）、５．４５（ｓ，１Ｈ）、４．２３（ｄｄ，Ｊ＝１２．６，Ｊ＝１１．６，２Ｈ）、３．８６（ｄｄ，Ｊ＝３５．１，Ｊ＝１２．６，２Ｈ）、２．５８（ｔ，Ｊ＝７．７Ｈｚ，２Ｈ）、１．６５−１．４１（ｍ，６Ｈ）、０．９８−０．８９（ｍ，６Ｈ）．
【０１５４】
化合物（１−１−１）の物性は、次のとおりであった。
転移温度：Ｃ  ８２．７  Ｉ．
上限温度（ＴNI）＝−７．４℃；光学的異方性（Δｎ）＝０．０６５７；誘電率異方性（Δε）＝−３．９８；粘度（η）＝５７．４ｍＰａ・ｓ．
【０１５５】
［実施例２］
化合物（１−１−４）の合成
0006586785.tif 000054
【０１５６】
第１工程
窒素雰囲気下、化合物（Ｓ−４）（２．４２ｇ）、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル（０．１４ｍｌ）および、ジクロロメタン（１５ｍｌ）を反応器に入れて、−７０℃に冷却した。公知の方法で合成した化合物（Ｓ−６）（１．６５ｇ）のジクロロメタン（１０ｍｌ）溶液をゆっくりと加え２時間攪拌した。そこへピリジン（０．９１ｍｌ）を加えた後、室温まで昇温した。反応混合物を飽和重曹水へ注ぎ込み、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（容積比、トルエン：酢酸エチル＝４：１）で精製した。さらにヘプタンと酢酸エチルとの混合溶媒（容積比、１：１）からの再結晶により精製して、アキシアル位にフッ素原子を持つ立体である化合物（１−１−４）（０．８６ｇ；３５％）を得た。
【０１５７】
化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ3）：７．２７（ｄｄ，Ｊ＝１０．３Ｈｚ，Ｊ＝１．９５，１Ｈ）、７．２１（ｄ，Ｊ＝８．４，１Ｈ）、６．９３（ｔ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ）、５．４０（ｓ，１Ｈ）、４．２２（ｄｄ，Ｊ＝１２．７，Ｊ＝１１．９，２Ｈ）、４．１０（ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ，２Ｈ）、３．９０−３．７７（ｍ，２Ｈ）、１．５４−１．４１（ｍ，７Ｈ）、０．９９−０．９３（ｍ，３Ｈ）．
【０１５８】
化合物（１−１−４）の物性は、次のとおりであった。なお、上限温度、光学的異方性、誘電率異方性、および粘度の測定には、化合物と母液晶との割合が５重量％：９５重量％である試料を用いた。
転移温度：Ｃ  １０７．３  Ｉ．
上限温度（ＴNI）＝２４．６℃；光学的異方性（Δｎ）＝０．１０７；誘電率異方性（Δε）＝−４．８４；粘度（η）＝７７．０ｍＰａ・ｓ．
【０１５９】
［実施例３］
化合物（１−２−１）の合成
0006586785.tif 000055
【０１６０】
第１工程
窒素雰囲気下、化合物（Ｓ−４）（４．００ｇ）、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル（０．２３ｍｌ）および、ジクロロメタン（２５ｍｌ）を反応器に入れて、−７０℃に冷却した。公知の方法で合成した化合物（Ｓ−７）（３．５２ｇ）のジクロロメタン（１５ｍｌ）溶液をゆっくりと加え２時間攪拌した。そこへピリジン（１．５０ｍｌ）を加えた後、室温まで昇温した。反応混合物を飽和重曹水へ注ぎ込み、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（容積比、ヘプタン：酢酸エチル＝１０：１）で精製した。さらにヘプタンからの再結晶により精製して、アキシアル位にフッ素原子を持つ立体である化合物（１−２−１）（０．９５ｇ；２０％）を得た。
【０１６１】
化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ3）：７．１２（ｓ，４Ｈ）、４．２５（ｄ，Ｊ＝５．７，１Ｈ）、４．０９（ｄｄ，Ｊ＝１２．５，Ｊ＝１１．７，２Ｈ）、３．６３（ｄｄ，Ｊ＝３５．３，Ｊ＝１２．６，２Ｈ）、２．６１（ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ）、２．４４（ｔｔ，Ｊ＝１２．２，Ｊ＝３．４，１Ｈ）、２．０４−１．９０（ｍ，４Ｈ）、１．７３−１．６４（ｍ，１Ｈ）、１．４９−１．３７（ｍ，６Ｈ）、１．２９−１．１８（ｍ，５Ｈ）、０．９４（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，３Ｈ）．
【０１６２】
化合物（１−２−１）の物性は、次のとおりであった。なお、上限温度、光学的異方性、誘電率異方性、および粘度の測定には、化合物と母液晶との割合が１０重量％：９０重量％である試料を用いた。
転移温度：Ｃ  １３１．４  Ｉ．
上限温度（ＴNI）＝９７．６℃；光学的異方性（Δｎ）＝０．１００；誘電率異方性（Δε）＝−３．０５；粘度（η）＝６４．２ｍＰａ・ｓ．
【０１６３】
［実施例４］
化合物（１−２−３０）の合成
0006586785.tif 000056
【０１６４】
第１工程
窒素雰囲気下、化合物（Ｓ−４）（２．２５ｇ）、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル（０．１３ｍｌ）および、ジクロロメタン（１５ｍｌ）を反応器に入れて、−７０℃に冷却した。公知の方法で合成した化合物（Ｓ−８）（２．２５ｇ）のジクロロメタン（５ｍｌ）溶液をゆっくりと加え２時間攪拌した。そこへピリジン（０．８４ｍｌ）を加えた後、室温まで昇温した。反応混合物を飽和重曹水へ注ぎ込み、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（容積比、ヘプタン：酢酸エチル＝９：１）で精製した。さらにヘプタンと酢酸エチルとの混合溶媒（容積比、１：１）からの再結晶により精製して、アキシアル位にフッ素原子を持つ立体である化合物（１−２−３０）（１．３８ｇ；４７％）を得た。
【０１６５】
化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ3）：７．６０（ｄ，Ｊ＝８．３，２Ｈ）、７．５６−７．５２（ｍ，２Ｈ）、７．１１−７．０６（ｍ，１Ｈ）、７．０２−６．９７（ｍ，１Ｈ）、５．５３（ｓ，１Ｈ）、４．２６（ｄｄ，Ｊ＝１２．５，Ｊ＝１１．７，２Ｈ）、３．８９（ｄｄ，Ｊ＝３４．９，Ｊ＝１２．７，２Ｈ）、２．７３（ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ）、１．５７−１．４３（ｍ，４Ｈ）、１．２７（ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，３Ｈ）、１．００−０．９４（ｍ，３Ｈ）．
【０１６６】
化合物（１−２−３０）の物性は、次のとおりであった。なお、上限温度、光学的異方性、誘電率異方性、および粘度の測定には、化合物と母液晶との割合が１０重量％：９０重量％である試料を用いた。
転移温度：Ｃ  １１９．３  Ｉ．
上限温度（ＴNI）＝１０９℃；光学的異方性（Δｎ）＝０．１５７；誘電率異方性（Δε）＝−４．８７；粘度（η）＝９７．５ｍＰａ・ｓ．
【０１６７】
［実施例５］
化合物（１−２−３１）の合成
0006586785.tif 000057
【０１６８】
第１工程
窒素雰囲気下、化合物（Ｓ−４）（２．１２ｇ）、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル（０．１２ｍｌ）および、ジクロロメタン（１５ｍｌ）を反応器に入れて、−７０℃に冷却した。公知の方法で合成した化合物（Ｓ−９）（２．２６ｇ）のジクロロメタン（５ｍｌ）溶液をゆっくりと加え２時間攪拌した。そこへピリジン（０．７９ｍｌ）を加えた後、室温まで昇温した。反応混合物を飽和重曹水へ注ぎ込み、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（容積比、ヘプタン：トルエン＝１：２）で精製した。さらにヘプタンと酢酸エチルとの混合溶媒（容積比、１：１）からの再結晶により精製して、アキシアル位にフッ素原子を持つ立体である化合物（１−２−３１）（１．０６ｇ；３７％）を得た。
【０１６９】
化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ3）：７．５９（ｄ，Ｊ＝８．３，２Ｈ）、７．５１（ｄｄ，Ｊ＝８．２，Ｊ＝１．５，２Ｈ）、７．０８（ｄｔ，Ｊ＝８．５，Ｊ＝２．５，１Ｈ）、６．８１−６．７５（ｍ，１Ｈ）、５．５２（ｓ，１Ｈ）、４．２６（ｄｄ，Ｊ＝１２．３，２Ｈ）、４．１６（ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，２Ｈ）、３．９５−３．８３（ｍ，２Ｈ）、１．５６−１．４４（ｍ，７Ｈ）、０．９９−０．９４（ｍ，３Ｈ）．
【０１７０】
化合物（１−２−３１）の物性は、次のとおりであった。なお、上限温度、光学的異方性、誘電率異方性、および粘度の測定には、化合物と母液晶との割合が５重量％：９５重量％である試料を用いた。
転移温度：Ｃ  １３０  Ｎ  １６７  Ｉ．
上限温度（ＴNI）＝１６３℃；光学的異方性（Δｎ）＝０．２０７；誘電率異方性（Δε）＝−６．２５；粘度（η）＝９５．６ｍＰａ・ｓ．
【０１７１】
［実施例６］
化合物（１−１−１５）の合成
0006586785.tif 000058
【０１７２】
第１工程
窒素雰囲気下、化合物（Ｓ−４）（７．５７ｇ）、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル（３．５６ｍｌ）および、ジクロロメタン（５０ｍｌ）を反応器に入れて、−７０℃に冷却した。公知の方法で合成した化合物（Ｓ−１０）（４．４４ｇ）のジクロロメタン（１０ｍｌ）溶液をゆっくりと加え２時間攪拌した。そこへピリジン（２．０７ｍｌ）を加えた。反応混合物を飽和重曹水へ注ぎ込み、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（容積比、ヘプタン：酢酸エチル＝５：１）で精製した。さらにヘプタンからの再結晶により精製して、アキシアル位にフッ素原子を持つ立体である化合物（１−１−１５）（０．３１ｇ；４．７％）を得た。
【０１７３】
化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ3）：６．８２（ｄｔ，Ｊ＝８．５，Ｊ＝２．０，１Ｈ）、６．６７−６．６２（ｍ，１Ｈ）、４．４６（ｔ，Ｊ＝５．３，１Ｈ）、４．１３−４．０４（ｍ，４Ｈ）、３．６３（ｄｄ，Ｊ＝３５．４，Ｊ＝１２．６，２Ｈ）、２．７３（ｔ，Ｊ＝７．４，２Ｈ）、１．９９−１．９３（ｍ，２Ｈ）、１．４５−１．３６（ｍ，７Ｈ）、０．９３（ｔ，Ｊ＝６．７，３Ｈ）．
【０１７４】
化合物（１−１−１５）の物性は、次のとおりであった。なお、上限温度、光学的異方性、および誘電率異方性の測定には、化合物と母液晶との割合が１０重量％：９０重量％である試料を用いた。
転移温度：Ｃ  ７４．５  （ＳＡ  ４５．８）  Ｉ．
上限温度（ＴNI）＝−２０．４℃；光学的異方性（Δｎ）＝０．０７７；誘電率異方性（Δε）＝−５．４５．
【０１７５】
［実施例７］
化合物（１−２−１８２）の合成
0006586785.tif 000059
【０１７６】
第１工程
窒素雰囲気下、化合物（Ｓ−１１）（８．００ｇ）、化合物（Ｓ−１２）（８．２７ｇ）、炭酸ナトリウム（７．４０ｇ）、酢酸パラジウム（７．８４ｍｇ）、ＳＰｈｏｓ配位子（２８．７ｍｇ）および、２−プロパノール（８０ｍｌ）を反応器に入れて攪拌し、９時間加熱還流した。反応混合物を水へ注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。合わせた有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（容積比、ヘプタン：酢酸エチル＝４：１）で精製した。さらにソルミックスからの再結晶により精製して、化合物（Ｓ−１３）（７．４９ｇ；８２％）を得た。
【０１７７】
第２工程
窒素雰囲気下、化合物（Ｓ−１３）（３．１７ｇ）およびＴＨＦ（２５ｍｌ）を反応器に入れて、−７０℃に冷却した。そこへｓ−ブチルリチウム（１．０８Ｍ  シクロヘキサン溶液、１３．４ｍｌ）をゆっくりと加え１時間攪拌した後、ヨウ素（３．８３ｇ）のＴＨＦ（７ｍｌ）溶液をゆっくりと加えた後、室温まで昇温した。反応混合物を水へ注ぎ込み、水層を酢酸エチルで抽出した。合わせた有機層を亜硫酸ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン）で精製して、化合物（Ｓ−１４）（３．７９ｇ；８１％）を得た。
【０１７８】
第３工程
窒素雰囲気下、化合物（Ｓ−１４）（４．８２ｇ）、アリルアルコール（１．６９ｍｌ）、テトラブチルアンモニウムクロリド（３．８０ｇ）、酢酸パラジウム（５５．８ｍｇ）、炭酸水素ナトリウム（３．１３ｇ）および、Ｎ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド（５０ｍｌ）を反応器に入れて、４０℃に昇温し３時間攪拌した。反応混合物を水へ注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。合わせた有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（容積比、ヘプタン：酢酸エチル＝２：１）で精製して、化合物（Ｓ−１５）（３．４３ｇ；８７％）を得た。
【０１７９】
第４工程
窒素雰囲気下、エチルトリフェニルホスホニウムブロミド（５．２０ｇ）とＴＨＦ（２０ｍｌ）を反応器に入れて、−２０℃に冷却した。そこへ、カリウムｔ−ブトキシド（１．５７ｇ）を少量ずつ加え１時間攪拌した後、化合物（Ｓ−１５）（３．７１ｇ）のＴＨＦ（２０ｍｌ）溶液をゆっくりと加え、室温まで昇温した。反応混合物を水へ注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。合わせた有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液：トルエン）で精製して、化合物（Ｓ−１６）（３．０５ｇ；８３％）を得た。
【０１８０】
第５工程
窒素雰囲気下、化合物（Ｓ−１６）（３．０５ｇ）、ギ酸（０．９３ｍｌ）および、トルエン（８ｍｌ）を反応器に入れて攪拌し、８時間加熱還流した。反応混合物を水へ注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。合わせた有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（容積比、ヘプタン：酢酸エチル＝１０：１）で精製して、化合物（Ｓ−１７）（２．１６ｇ；８２％）を得た。
【０１８１】
第６工程
窒素雰囲気下、化合物（Ｓ−４）（５．１６ｇ）、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル（１．５５ｍｌ）および、ジクロロメタン（１０ｍｌ）を反応器に入れて、−７０℃に冷却した。化合物（Ｓ−１７）（１．６７ｇ）のジクロロメタン（１０ｍｌ）溶液をゆっくりと加え２時間攪拌した。そこへピリジン（２．０７ｍｌ）を加えた。反応混合物を飽和重曹水へ注ぎ込み、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン）で精製した。さらにヘプタンとＴＨＦとの混合溶媒（容積比、１：１）からの再結晶により精製して、アキシアル位にフッ素原子を持つ立体である化合物（１−２−１８２）（０．７０ｇ；２９％）を得た。
【０１８２】
化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ3）：７．６１（ｄ，Ｊ＝８．３，２Ｈ）、７．５６−７．５３（ｍ，２Ｈ）、７．１１−７．０７（ｍ，１Ｈ）、７．００−６．９６（ｍ，１Ｈ）、５．９１−５．８２（ｍ，１Ｈ）、５．５３（ｓ，１Ｈ）、５．０９−５．００（ｍ，２Ｈ）、４．２６（ｔ，Ｊ＝１２．０，２Ｈ）、３．８９（ｄｄ，Ｊ＝３４．９，Ｊ＝１２．７，２Ｈ）、２．７９（ｔ，Ｊ＝７．６，２Ｈ）、２．４３−２．３７（ｍ，２Ｈ）、１．５６−１．４３（ｍ，４Ｈ）、０．９９−０．９５（ｍ，３Ｈ）．
【０１８３】
化合物（１−２−１８２）の物性は、次のとおりであった。なお、上限温度、光学的異方性、および誘電率異方性の測定には、化合物と母液晶との割合が５重量％：９５重量％である試料を用いた。
転移温度：Ｃ  １２７  （Ｎ  １２０）  Ｉ．
上限温度（ＴNI）＝１２２℃；光学的異方性（Δｎ）＝０．１８７；誘電率異方性（Δε）＝−３．２１．
【０１８４】
既に記載した化合物（１）の合成法および実施例１〜５に記載した合成手順に従って以下に示す化合物（１−１−１）〜（１−１−５０）、化合物（１−２−１）〜（１−２−２１１）、および化合物（１−３−１）〜（１−３−１０９）を合成できる。
【０１８５】
0006586785.tif 000060
【０１８６】
0006586785.tif 000061
【０１８７】
0006586785.tif 000062
【０１８８】
0006586785.tif 000063
【０１８９】
0006586785.tif 000064
【０１９０】
0006586785.tif 000065
【０１９１】
0006586785.tif 000066
【０１９２】
0006586785.tif 000067
【０１９３】
0006586785.tif 000068
【０１９４】
0006586785.tif 000069
【０１９５】
0006586785.tif 000070
【０１９６】
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【０１９７】
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【０１９８】
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【０１９９】
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【０２００】
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【０２０１】
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【０２０２】
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【０２０３】
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【０２０４】
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【０２０５】
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【０２０６】
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【０２０７】
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【０２０８】
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【０２０９】
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【０２１０】
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【０２１１】
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【０２１２】
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【０２１３】
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【０２１４】
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【０２１５】
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【０２１６】
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【０２１７】
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【０２１８】
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【０２１９】
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【０２２０】
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【０２２１】
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【０２２２】
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【０２２３】
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【０２２４】
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【０２２５】
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【０２２６】
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【０２２７】
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【０２２８】
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【０２２９】
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【０２３０】
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【０２３１】
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【０２３２】
0006586785.tif 000107
【０２３３】
0006586785.tif 000108
【０２３４】
［比較例１］
本発明と従来技術の比較を行うため比較化合物として、化合物（Ｃ−１）を合成した。この化合物は、特開平１１−１２２７１号公報に記載されている。
【０２３５】
比較化合物（Ｃ−１）の合成
0006586785.tif 000109
【０２３６】
第１工程
窒素雰囲気下、化合物（Ｓ−４）（２．００ｇ）、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル（０．１２ｍｌ）および、ジクロロメタン（１０ｍｌ）を反応器に入れて、−７０℃に冷却した。公知の方法で合成した化合物（Ｓ−２０）（１．２５ｇ）のジクロロメタン（５ｍｌ）溶液をゆっくりと加え２時間攪拌した。そこへピリジン（０．７５ｍｌ）を加えた後、室温まで昇温した。反応混合物を飽和重曹水へ注ぎ込み、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（容積比、ヘプタン：酢酸エチル＝２０：１）で精製した。さらにヘプタンからの再結晶により精製して、アキシアル位にフッ素原子を持つ立体である化合物（Ｃ−１）（０．１７ｇ；８．８％）を得た。
【０２３７】
化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ3）：４．１８（ｄ，Ｊ＝５．８，１Ｈ）、４．０７（ｄｄ，Ｊ＝１２．３，２Ｈ）、３．６１（ｄｄ，Ｊ＝３５．３，Ｊ＝１２．８，２Ｈ）、１．９０−１．８３（ｍ，２Ｈ）、１．７９−１．７２（ｍ，２Ｈ）、１．６１−１．５２（ｍ，１Ｈ）、１．４６−１．３５（ｍ，４Ｈ）、１．３５−１．２４（ｍ，２Ｈ）、１．２２−１．１１（ｍ，３Ｈ）、１．０５（ｄｑ，Ｊ＝１３．０，Ｊ＝３．４，２Ｈ）、０．９６−０．８０（ｍ，８Ｈ）．
【０２３８】
比較化合物（Ｃ−１）の物性は、次のとおりであった。なお、上限温度、光学的異方性、誘電率異方性、および粘度の測定には、化合物と母液晶との割合が５重量％：９５重量％である試料を用いた。
転移温度：Ｃ  １１４  Ｉ．
上限温度（ＴNI）＝２８．６℃；光学的異方性（Δｎ）＝０．０５１０；誘電率異方性（Δε）＝−４．０１；粘度（η）＝５３．３ｍＰａ・ｓ．
【０２３９】
実施例１で得られた化合物（１−１−１）と比較化合物（Ｃ−１）の物性を比較すると、化合物（１−１−１）の方が、他の液晶性化合物との相溶性が高い点で優れた化合物であることが分かった。
【０２４０】
［比較例２］
比較化合物として、化合物（Ｃ−２）を合成した。この化合物（Ｃ−２）は国際公開第１９９８／０１４４１８号パンフレットに記載されている。
【０２４１】
比較化合物（Ｃ−２）の合成
0006586785.tif 000110
【０２４２】
第１工程
窒素雰囲気下、ピコリン酸（４．５０ｇ）、ヨウ化銅（Ｉ）（３．４８ｇ）、炭酸セシウム（５９．６ｇ）および、ＴＨＦ（７５ｍｌ）を反応器に入れて、室温で攪拌した。そこへ、公知の方法で合成した化合物（Ｓ−２１）（１５．０ｇ）およびマロン酸ジエチル（１９．５ｇ）をゆっくりと加え７０℃にて６時間攪拌した。反応混合物を飽和塩化アンモニウム水溶液へ注ぎ込み、水層を酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（容積比、ヘプタン：酢酸エチル＝４：１）で精製して、化合物（Ｓ−２２）（１６．０ｇ；９４％）を得た。
【０２４３】
第２工程
窒素雰囲気下、水素化ナトリウム（３．７５ｇ）およびＴＨＦ（１００ｍｌ）を反応器に入れて、０℃に冷却した。そこへ化合物（Ｓ−２２）（１６．０ｇ）のＴＨＦ（１０ｍｌ）溶液をゆっくりと加え２時間攪拌した。反応混合物を室温まで昇温し１時間攪拌した。反応混合物を４０℃まで昇温し４時間攪拌した。反応混合物を０℃まで冷却し、Ｓｅｌｅｃｔｆｌｕｏｒ（２０．３ｇ）のアセトニトリル（１００ｍｌ）懸濁液を加え、室温まで昇温した。反応混合物を水へ注ぎ込み、水層をジエチルエーテルで抽出した。合わせた有機層を水、１規定塩酸溶液、飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（容積比、ヘプタン：酢酸エチル＝２：１）で精製して、化合物（Ｓ−２３）（１５．７ｇ；９３％）を得た。
【０２４４】
第３工程
窒素雰囲気下、化合物（Ｓ−２３）（１５．７ｇ）、メタノール（９０ｍｌ）、およびＴＨＦ（１５ｍｌ）を反応器に入れて、室温にて攪拌した。そこへ水素化ホウ素ナトリウム（１０．０ｇ）を少しずつ加え２時間撹拌した。反応混合物を氷水へ注ぎ込み、水層を酢酸エチルで抽出した。合わせた有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、化合物（Ｓ−２４）（８．６１ｇ；７６％）の粗生成物を得た。
【０２４５】
第４工程
窒素雰囲気下、化合物（Ｓ−２４）（８．６１ｇ）、トリエチルアミン（３１．１ｍｌ）、およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（５０ｍｌ）を反応器に入れて、室温にて攪拌した。そこへクロロトリメチルシラン（１４．３ｍｌ）をゆっくりと加え１時間攪拌した。反応混合物を水へ注ぎ込み、水層をトルエンで抽出した。合わせた有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、化合物（Ｓ−２５）（１４．５ｇ；１００％）の粗生成物を得た。
【０２４６】
第５工程
窒素雰囲気下、化合物（Ｓ−２５）（１４．５ｇ）、トリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル（０．６６ｍｌ）および、ジクロロメタン（９０ｍｌ）を反応器に入れて、−７０℃に冷却した。ブチルアルデヒド（４．１７ｍｌ）のジクロロメタン（２０ｍｌ）溶液をゆっくりと加え２時間攪拌した。そこへピリジン（４．２７ｍｌ）を加えた後、室温まで昇温した。反応混合物を飽和重曹水へ注ぎ込み、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。この溶液を減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（容積比、ヘプタン：酢酸エチル＝２０：１）で精製した。さらにヘプタンからの再結晶により精製して、アキシアル位にフッ素原子を持つ立体である化合物（Ｃ−２）（３．５３ｇ；３３％）を得た。
【０２４７】
化学シフトδ（ｐｐｍ；ＣＤＣｌ3）：７．２９（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，２Ｈ）、７．２１（ｄ，Ｊ＝８．２，２Ｈ）、４．６９（ｔ，Ｊ＝５．２，１Ｈ）、４．１９−４．１２（ｍ，２Ｈ）、４．０８−３．９６（ｍ，２Ｈ）、２．５９（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ）、１．７７−１．７１（ｍ，２Ｈ）、１．６８−１．５８（ｍ，２Ｈ）、１．５４−１．４４（ｍ，２Ｈ）、０．９８−０．９１（ｍ，６Ｈ）．
【０２４８】
比較化合物（Ｃ−２）の物性は、次の通りであった。
転移温度：Ｃ  ４２．６  Ｉ．
上限温度（ＴNI）＝−８１．４℃；光学的異方性（Δｎ）＝０．０２１７；誘電率異方性（Δε）＝−０．８２；粘度（η）＝４７．４ｍＰａ・ｓ．
【０２４９】
実施例１で得られた化合物（１−１−１）と比較化合物（Ｃ−２）の物性を比較すると、化合物（１−１−１）の方が、高い透明点を示し、かつ、より大きな負の誘電率異方性を示す点で優れた化合物であることが分かった。
【０２５０】
１−２．組成物（１）の実施例
実施例により本発明の液晶組成物（１）を詳細に説明する。本発明はこれらの実施例によっては制限されない。本発明は、実施例６の組成物と実施例７の組成物との混合物を含む。本発明は、実施例の組成物の少なくとも２つを混合した混合物をも含む。実施例における化合物は、下記の表１の定義に基づいて記号により表した。表１において、１，４−シクロヘキシレンに関する立体配置はトランスである。実施例において記号の後にあるかっこ内の番号は化合物の番号に対応する。（−）の記号はその他の液晶性化合物を意味する。液晶性化合物の割合（百分率）は、液晶組成物の全重量に基づいた重量百分率（重量％）である。最後に、組成物の物性値をまとめた。物性は、先に記載した方法にしたがって測定し、測定値を外挿することなくそのまま記載した。
【０２５１】
0006586785.tif 000111
【０２５２】
［実施例７］
３−Ｇ（５Ｆ）Ｂ−３                      （１−１−１）                    ５％
３−ＨＢ−Ｏ２                            （１３−５）                    １０％
５−ＨＢ−ＣＬ                            （２−２）                      １３％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                  （３−２４）                      ７％
３−ＰｙＢ（Ｆ）−Ｆ                      （２−１５）                    １０％
５−ＰｙＢ（Ｆ）−Ｆ                      （２−１５）                    １０％
３−ＰｙＢＢ−Ｆ                          （３−８０）                    １０％
４−ＰｙＢＢ−Ｆ                          （３−８０）                    １０％
５−ＰｙＢＢ−Ｆ                          （３−８０）                    １０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２                    （１５−５）                      ８％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−３                    （１５−５）                      ７％
ＮＩ＝８７．３℃；Δｎ＝０．１８１；Δε＝７．６；η＝３９．６ｍＰａ・ｓ．
【０２５３】
［実施例８］
３−Ｇ（５Ｆ）Ｂ（Ｆ）−Ｏ２               （１−１−４）                  ５％
２−ＨＢ−Ｃ                                （５−１）                      ４％
３−ＨＢ−Ｃ                                （５−１）                    １２％
３−ＨＢ−Ｏ２                              （１３−５）                  １４％
２−ＢＴＢ−１                              （１３−１０）                  ３％
３−ＨＨＢ−Ｆ                              （３−１）                      ４％
３−ＨＨＢ−１                              （１４−１）                    ８％
３−ＨＨＢ−Ｏ１                            （１４−１）                    ５％
３−ＨＨＢ−３                              （１４−１）                  １４％
３−ＨＨＥＢ−Ｆ                            （３−１０）                    ３％
５−ＨＨＥＢ−Ｆ                            （３−１０）                    ３％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ                        （３−２）                      ７％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ                        （３−２）                      ７％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ                        （３−２）                      ６％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                    （３−３）                      ５％
ＮＩ＝９５．６℃；Δｎ＝０．１００；Δε＝４．１；η＝１９．８ｍＰａ・ｓ．
【０２５４】
［実施例９］
３−Ｇ（５Ｆ）ＨＢ−２                    （１−２−１）                    ５％
５−ＨＢ−ＣＬ                            （２−２）                      １６％
３−ＨＨ−４                              （１３−１）                    １２％
３−ＨＨ−５                              （１３−１）                      ４％
３−ＨＨＢ−Ｆ                              （３−１）                      ４％
３−ＨＨＢ−ＣＬ                            （３−１）                      ３％
４−ＨＨＢ−ＣＬ                            （３−１）                      ４％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ                        （３−２）                    １０％
４−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ                        （３−２）                      ９％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ                        （３−２）                      ９％
７−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ                        （３−２）                      ８％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ                      （３−２３）                      ４％
１Ｏ１−ＨＢＢＨ−５                      （１５−１）                      ３％
５−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                  （４−６）                      ３％
３−ＨＨ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ              （４−１５）                      ３％
４−ＨＨ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ              （４−１５）                      ３％
ＮＩ＝１１０．５℃；Δｎ＝０．０８９；Δε＝３．１；η＝１８．７ｍＰａ・ｓ．
【０２５５】
［実施例１０］
３−Ｇ（５Ｆ）ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−２        （１−２−３０）                ５％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                    （３−３）                      ９％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                  （３−１５）                    ８％
４−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                  （３−１５）                    ８％
５−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                  （３−１５）                    ８％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                    （３−２４）                  ２１％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                    （３−２４）                  ２０％
３−Ｈ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                  （３−２７）                  １０％
５−ＨＨＥＢＢ−Ｆ                          （４−１７）                    ２％
３−ＨＨ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                （４−１５）                    ３％
１Ｏ１−ＨＢＢＨ−４                        （１５−１）                    ３％
１Ｏ１−ＨＢＢＨ−５                        （１５−１）                    ３％
ＮＩ＝９２．６℃；Δｎ＝０．１１６；Δε＝８．４；η＝３６．１ｍＰａ・ｓ．
【０２５６】
［実施例１１］
３−Ｇ（５Ｆ）ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （１−２−３１）                ５％
５−ＨＢ−Ｆ                                （２−２）                    １２％
６−ＨＢ−Ｆ                                （２−２）                      ９％
７−ＨＢ−Ｆ                                （２−２）                      ７％
２−ＨＨＢ−ＯＣＦ３                        （３−１）                      ５％
３−ＨＨＢ−ＯＣＦ３                        （３−１）                      ５％
４−ＨＨＢ−ＯＣＦ３                        （３−１）                      ７％
５−ＨＨＢ−ＯＣＦ３                        （３−１）                      ５％
３−ＨＨ２Ｂ−ＯＣＦ３                      （３−４）                      ４％
５−ＨＨ２Ｂ−ＯＣＦ３                      （３−４）                      ４％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−ＯＣＦ２Ｈ            （３−３）                      ４％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−ＯＣＦ３              （３−３）                      ４％
３−ＨＨ２Ｂ（Ｆ）−Ｆ                      （３−５）                      ３％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ                        （３−２３）                  １０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ                        （３−２３）                  １０％
５−ＨＢＢＨ−３                            （１５−１）                    ３％
３−ＨＢ（Ｆ）ＢＨ−３                      （１５−２）                    ３％
ＮＩ＝８８．５℃；Δｎ＝０．０９８；Δε＝３．７；η＝１８．４ｍＰａ・ｓ．
【０２５７】
［実施例１２］
３−Ｇ（５Ｆ）２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２      （１−１−１５）                ５％
５−ＨＢ−ＣＬ                              （２−２）                      ３％
７−ＨＢ（Ｆ）−Ｆ                          （２−３）                      ７％
３−ＨＨ−４                                （１３−１）                    ９％
３−ＨＨ−ＥＭｅ                            （１３−２）                  ２３％
３−ＨＨＥＢ−Ｆ                            （３−１０）                    ８％
５−ＨＨＥＢ−Ｆ                            （３−１０）                    ８％
３−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                  （３−１２）                    ８％
４−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                  （３−１２）                    ４％
４−ＨＧＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                    （３−１０３）                  ４％
５−ＨＧＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                    （３−１０３）                  ６％
２−Ｈ２ＧＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                  （３−１０６）                  ４％
３−Ｈ２ＧＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                  （３−１０６）                  ５％
５−ＧＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                    （３−１０９）                  ６％
ＮＩ＝７４．６℃；Δｎ＝０．０６４；Δε＝５．０．
【０２５８】
［実施例１３］
３−Ｇ（５Ｆ）Ｂ（Ｆ）Ｈ−Ｖ                （１−２−２１）                ５％
３−ＨＢ−Ｏ１                              （１３−５）                  １３％
３−ＨＨ−４                                （１３−１）                    ５％
３−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                （６−４）                    １２％
５−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                （６−４）                    １２％
２−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−１                （７−１）                    １０％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−１                （７−１）                    １１％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２              （７−１）                    １３％
５−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２              （７−１）                    １３％
３−ＨＨＢ−１                              （１４−１）                    ６％
【０２５９】
［実施例１４］
３−Ｇ（５Ｆ）Ｂ（Ｆ）ｄｈ−３              （１−２−６０）                ５％
２−ＨＨ−５                                （１３−１）                    ３％
３−ＨＨ−４                                （１３−１）                  １５％
３−ＨＢ−Ｏ２                              （１３−５）                  １２％
３−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２              （６−４）                    １５％
５−Ｈ２Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２              （６−４）                    １５％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３ＣＬ）−Ｏ２            （７−１２）                    ５％
２−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２              （７−７）                      ３％
３−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２              （７−７）                      ８％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２              （７−７）                      ９％
３−ＨＨＢ−１                              （１４−１）                    ３％
３−ＨＨＢ−３                              （１４−１）                    ４％
３−ＨＨＢ−Ｏ１                            （１４−１）                    ３％
【０２６０】
［実施例１５］
２−Ｇ（５Ｆ）ｃｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）−２      （１−２−４５）                ５％
２−ＨＨ−３                                （１３−１）                  １８％
３−ＨＨ−４                                （１３−１）                    ９％
１−ＢＢ−３                                （１３−８）                    ９％
３−ＨＢ−Ｏ２                              （１３−５）                    ２％
３−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                （６−３）                      ９％
５−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                （６−３）                      ６％
２−ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２          （７−５）                    １３％
３−ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２          （７−５）                    １９％
３−ＨＨＢ−１                              （１４−１）                    ５％
３−ＨＨＢ−Ｏ１                            （１４−１）                    ３％
５−Ｂ（Ｆ）ＢＢ−２                        （１４−８）                    ２％
【０２６１】
［実施例１６］
２−Ｇ（５Ｆ）ｄｈＢ（Ｆ）−２              （１−２−４８）                ５％
２−ＨＨ−３                                （１３−１）                  １６％
７−ＨＢ−１                                （１３−５）                  １０％
５−ＨＢ−Ｏ２                              （１３−５）                    ８％
３−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                （６−１）                    １５％
５−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                （６−１）                    １４％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３ＣＬ）−Ｏ２            （７−１２）                    ３％
４−ＨＨＢ（２Ｆ，３ＣＬ）−Ｏ２            （７−１２）                    ３％
５−ＨＨＢ（２Ｆ，３ＣＬ）−Ｏ２            （７−１２）                    ２％
３−ＨＨ１ＯＣｒｏ（７Ｆ，８Ｆ）−５        （１０−６）                    ４％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２                      （１５−５）                  １０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−３                      （１５−５）                  １０％
【０２６２】
［実施例１７］
３−Ｇ（５Ｆ）Ｂ−３                        （１−１−１）                  ３％
３−Ｇ（５Ｆ）Ｂ（Ｆ）−Ｏ２                （１−１−４）                  ４％
２−ＨＨ−３                                （１３−１）                    ６％
３−ＨＨ−Ｖ１                              （１３−１）                  １０％
１Ｖ２−ＨＨ−１                            （１３−１）                    ８％
１Ｖ２−ＨＨ−３                            （１３−１）                    ７％
３−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                （６−３）                      ８％
５−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                （６−３）                      ４％
３−Ｈ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２            （６−５）                      ７％
２−ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２          （７−５）                      ８％
３−ＨＨ１ＯＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２          （７−５）                    １５％
３−ＨＤｈＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２            （７−３）                      ６％
３−ＨＨＢ−１                              （１４−１）                    ３％
３−ＨＨＢ−３                              （１４−１）                    ２％
２−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）Ｂ−３                （８−１）                      ９％
ＮＩ＝７６．９℃；Δｎ＝０．１０４；Δε＝−４．３；η＝２２．８ｍＰａ・ｓ．
【０２６３】
［実施例１８］
３−Ｇ（５Ｆ）ＨＢ−２                      （１−２−１）                  ５％
１Ｖ２−ＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｃ                （５−１５）                    ６％
３−ＨＢ−Ｃ                                （５−１）                    １３％
２−ＢＴＢ−１                              （１３−１０）                １０％
５−ＨＨ−ＶＦＦ                            （１３−１）                  ３０％
３−ＨＨＢ−１                              （１４−１）                    ４％
ＶＦＦ−ＨＨＢ−１                          （１４−１）                    ８％
ＶＦＦ２−ＨＨＢ−１                        （１４−１）                  １１％
３−Ｈ２ＢＴＢ−２                          （１４−１７）                  ５％
３−Ｈ２ＢＴＢ−３                          （１４−１７）                  ４％
３−Ｈ２ＢＴＢ−４                          （１４−１７）                  ４％
ＮＩ＝８４．１℃；Δｎ＝０．１２９；Δε＝５．７；η＝１３．９ｍＰａ・ｓ．
【０２６４】
［実施例１９］
３−Ｇ（５Ｆ）ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−２          （１−２−３０）              ３％
３−Ｇ（５Ｆ）ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２        （１−２−３１）              ３％
３−ＧＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ   （４−５７）                 ５％
３−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ   （４−４７）                 ３％
４−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ   （４−４７）                 ７％
５−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ     (４−４７）                ３％
３−ＨＨ−Ｖ                                    （１３−１）              ３５％
３−ＨＨ−Ｖ１                                  （１３−１）                ７％
３−ＨＨＥＨ−５                               （１４−１３）               ３％
３−ＨＨＢ−１                                 （１４−１）                 ４％
Ｖ−ＨＨＢ−１                                 （１４−１）                 ５％
Ｖ２−ＢＢ（Ｆ）Ｂ−１                         （１４−６）                 ５％
１Ｖ２−ＢＢ―Ｆ                               （２−１）                   ３％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ           （３−９７）                 ６％
３−ＧＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ           （３−１１３）               ５％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                     （４−６）                   ３％
ＮＩ＝８６．５℃；Δｎ＝０．１１１；Δε＝７．１；η＝２０．１ｍＰａ・ｓ．
【０２６５】
［実施例２０］
３−Ｇ（５Ｆ）ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−２Ｖ          （１−２−１８２）          ２％
３−ＧＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ    （４−５７）                ５％
３−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ    （４−４７）                ３％
４−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ    （４−４７）                ５％
５−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ    （４−４７）                ３％
３−ＨＨ−Ｖ                                    （１３−１）              ４１％
３−ＨＨ−Ｖ１                                  （１３−１）                ７％
３−ＨＨＥＨ−５                                （１４−１３）              ３％
３−ＨＨＢ−１                                  （１４−１）                ４％
Ｖ−ＨＨＢ−１                                  （１４−１）                ５％
Ｖ２−ＢＢ（Ｆ）Ｂ−１                          （１４−６）                ５％
１Ｖ２−ＢＢ―Ｆ                                （２−１）                  ３％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ            （３−９７）                ６％
３−ＧＢ（Ｆ，Ｆ）ＸＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ            （３−１１３）              ５％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                      （４−６）                  ３％
ＮＩ＝８１．９℃；Δｎ＝０．１０３；Δε＝６．７；η＝１２．９ｍＰａ・ｓ．
【０２６６】
［実施例２１］
３−Ｇ（５Ｆ）ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−２Ｖ          （１−２−１８２）          ３％
３−ＨＢ−Ｏ１                                  （１３−５）              １５％
３−ＨＨ−４                                    （１３−１）                ５％
３−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                    （６−１）                １２％
５−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                    （６−１）                １１％
２−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−１                    （７−１）                １２％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−１                    （７−１）                １１％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                  （７−１）                １２％
５−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                  （７−１）                １３％
３−ＨＨＢ−１                                  （１４−１）                ６％
ＮＩ＝８７．２℃；Δｎ＝０．０９３；Δε＝−３．４；η＝３６．６ｍＰａ・ｓ．
【産業上の利用可能性】
【０２６７】
本発明の液晶性化合物は、熱、光などに対する高い安定性、高い透明点、液晶相の低い下限温度、小さな粘度、適切な光学的異方性、大きな負の誘電率異方性、適切な弾性定数、他の液晶化合物との優れた相溶性を有する。本発明の液晶組成物は、この化合物を含有し、ネマチック相の高い上限温度、ネマチック相の低い下限温度、小さな粘度、適切な光学的異方性、大きな負の誘電率異方性、および適切な弾性定数を有する。この組成物は、少なくとも２つの物性に関して適切なバランスを有する。本発明の液晶表示素子は、この組成物を含み、素子を使用できる広い温度範囲、短い応答時間、大きな電圧保持率、低いしきい値電圧、大きなコントラスト比、および長い寿命を有する。したがって、この素子は、パソコン、テレビなどのディスプレイに広く利用できる。