(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
行及び列に配置された画素領域であって、前記画素領域の少なくとも１つが、
電極上に配置された疎水性層部分と、
前記電極と電気的に接触している薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）と、を含む前記画素領域と、
前記少なくとも１つの画素領域の前記ＴＦＴのドレインまたはソースと電気的に接触する制御回路であって、
前記少なくとも１つの画素領域を駆動して特定のグレースケールを表示するための命令を受け取り、
少なくとも部分的に前記特定のグレースケールに基づく駆動電圧を前記ＴＦＴの前記ドレインまたは前記ソースに供給し、
大きさが前記特定のグレースケールに少なくとも部分的に基づいているリセット電圧パルスを前記ＴＦＴの前記ドレインまたは前記ソースに供給するよう構成される前記制御回路と、
前記制御回路によってアクセス可能であり、前記特定のグレースケールと前記リセット電圧パルスの対応する大きさとを含む少なくとも１つのルックアップテーブルを記憶するよう構成されるメモリと、
を備える、エレクトロウェッティング表示装置。
【請求項２】
前記少なくとも１つのルックアップテーブルが、駆動電圧の値及び複数のリセット電圧パルスの対応する大きさを含む、請求項１に記載のエレクトロウェッティング表示装置。
【請求項３】
各々が、前記画素領域の少なくとも１つのＴＦＴの（ｉ）ソースまたは（ｉｉ）ドレインと電気的に接触する複数のデータ線と、
各々が、前記画素領域の少なくとも１つのＴＦＴのゲートに電気的に接触する複数のゲート線と、
をさらに備える、請求項１に記載のエレクトロウェッティング表示装置。
【請求項４】
前記画素領域の１つが、前記複数のデータ線の１のデータ線及び前記複数のゲート線の１のゲート線と電気的に接触しており、前記制御回路が、（ｉ）前記データ線を介して前記画素領域の１つの前記ＴＦＴにソース信号を、また、（ｉｉ）前記ゲート線を介して前記画素領域の１つの前記ＴＦＴにゲート信号を提供することができる、請求項３に記載のエレクトロウェッティング表示装置。
【請求項５】
前記制御回路が、前記エレクトロウェッティング表示装置によって表示された画像のための前記複数のデータラインのうちの特定のデータライン上の少なくとも前記画素領域の１つの各々に印加されるグレースケール値に少なくとも部分的に基づいて、前記特定のデータライン上の電圧を増加または減少させることが可能である、請求項３に記載のエレクトロウェッティング表示装置。
【請求項６】
前記リセット電圧パルスが、約０．５ミリ秒から約２．０ミリ秒の範囲の幅を有する、請求項１に記載のエレクトロウェッティング表示装置。
【請求項７】
前記リセットパルスが方形パルスを含む、請求項１に記載のエレクトロウェッティング表示装置。
【請求項８】
前記制御回路が、前記リセット電圧パルスを供給する前に、少なくとも１つの画素を駆動するための最大駆動電圧を供給するよう構成される、請求項１に記載のエレクトロウェッティング表示装置。
【請求項９】
エレクトロウェッティング表示装置を操作するための方法であって、
画素のグレースケール値を受け取ることと、
前記画素に位置する薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）のゲートにゲートラインを介してゲート電圧を印加して前記ＴＦＴをスイッチングさせて前記画素をアクティブ状態または非アクティブ状態にすることと、
前記グレースケール値に少なくとも部分的に基づく大きさを有する駆動電圧を前記画素の前記ＴＦＴのソースまたはドレインに印加することと、
ルックアップテーブル内のグレースケール及びリセット電圧の対応する値に基づいて前記リセット電圧パルスの前記大きさを決定することと、
少なくとも部分的に前記グレースケール値に基づく大きさを有する、前記駆動電圧を置換するためのリセット電圧パルスを印加することと、
を含む前記方法。
【請求項１０】
前記リセット電圧パルスの大きさが、前記駆動電圧の前記大きさに少なくとも部分的にさらに基づく、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記リセット電圧パルスを印加することが、前記ＴＦＴの前記ソースまたは前記ドレインに電気的に接続された第１の電極と前記画素の第２の電極との間に配置された電解質溶液の両端にリセット電圧を生成することを含み、前記第２の電極が前記画素に隣接する他の画素に電気的に接続されている、請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
前記画素の前記ＴＦＴが第１の支持板に配置され、前記第２の電極が前記第１の支持板に面する第２の支持板に配置され、前記電解液が前記第１の支持板と前記第２の支持板との間に配置される、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記リセット電圧パルスが、約０．５ミリ秒から約２．０ミリ秒の範囲の幅を有する方形パルスを含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１４】
前記リセット電圧パルスを印加する前に、前記画素を駆動するための最大駆動電圧を印加することをさらに含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１５】
前記リセット電圧パルスが、１．０ミリ秒未満の幅を有する方形パルスを含む、請求項９に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
関連出願の相互参照
本出願は、２０１５年６月３０日に出願された、米国特許出願第１４／７８８，５２８に対する優先権を主張する。その全体の内容は、参照により本明細書に組み込まれている。
【背景技術】
【０００２】
電子ディスプレイは、電子書籍（「ｅＢｏｏｋ」）リーダー、携帯電話、スマートフォン、ポータブル・メディア・プレーヤー、タブレットコンピュータ、ウェアラブルコンピュータ、ラップトップコンピュータ、ネットブック、デスクトップコンピュータ、テレビ、電化製品、ホームエレクトロニクス、自動車エレクトロニクス、拡張現実デバイス等の多くの種類の電子デバイスに見出される。電子ディスプレイは、関連するデバイスの種類及び目的に応じて、ユーザ・インターフェース、デバイスの動作ステータス、デジタル・コンテンツ・アイテム等の各種の情報を提示し得る。ディスプレイの外観及び品質は、電子デバイス及び電子デバイス上に提示されるコンテンツによるユーザの体験に影響を与え得る。したがって、ユーザ体験及び満足度を高めるための方法を見つけることが、引き続き優先事項である。さらに、増加したマルチメディアの使用は、モバイル用途に利用可能なコンテンツがより広範になり、デバイスの移植性が引き続き高い優先度であるため、表示装置の設計、パッケージング、及び製造に対して高い要求を課している。
【０００３】
エレクトロウェッティングディスプレイは、例えば、不透明なオイル等の液体を保持する画素壁によって個々に縁取られた画素アレイを含む。各画素を通る光の透過は、電子的に画素内の液体の位置を制御することによって調整可能である。エレクトロウェッティングディスプレイの解像度及び品質は、いくつか例を挙げると、エレクトロウェッティングディスプレイの材料層の光透過率または光反射率及び画素サイズ等のいくつかの要因に依存し得る。
【０００４】
詳細な説明は、添付の図面を参照して説明される。図面において、参照番号の左端の数字（複数可）は、参照番号が最初に現れる図を特定している。異なる図面における同じ参照番号の使用は、類似または同一の項目または機能を示す。
【図面の簡単な説明】
【０００５】
【図１】いくつかの実施形態による、エレクトロウェッティング表示装置の一部の断面図を示す。
【図２】様々な実施形態による、時間の関数としてのエレクトロウェッティング画素の光スループットのプロットである。
【図３】様々な実施形態による、エレクトロウェッティング画素の回路の概略回路図である。
【図４】様々な実施形態による、エレクトロウェッティング画素の時間の関数としてのリセット電圧パルスの一部のプロットである。
【図５】様々な実施形態による、エレクトロウェッティング画素の駆動電圧の関数としてのエレクトロウェッティング画素の相対白色領域のプロットである。
【図６】様々な実施形態による、エレクトロウェッティング表示装置のエレクトロウェッティング画素アレイの一部の概略回路図である。
【図７】様々な実施形態による、エレクトロウェッティング表示装置のためのコントローラのブロック図である。
【図８】様々な例示的な実施形態による、エレクトロウェッティング表示装置を操作するためのプロセスのフロー図である。
【図９】いくつかの実施形態による、表示装置を組み込み得る例示的な電子デバイスを示す。
【発明を実施するための形態】
【０００６】
本明細書に記載の様々な実施形態では、電子デバイスは、コンテンツ及びその他の情報を提示するためのエレクトロウェッティングディスプレイを含む。いくつかの例では、電子デバイスは、タッチ入力を検出するためのエレクトロウェッティングディスプレイの一番上にある積層タッチセンサ構成要素、エレクトロウェッティングディスプレイを明るくするためのフロントライトまたはバックライト構成要素、及び／またはカバー層構成要素等の、エレクトロウェッティングディスプレイに関連する１つまたは複数の構成要素を含み得て、アンチグレア特性、反射防止特性、耐指紋特性、耐クラック特性、等を含み得る。本明細書に記載の様々な実施形態は、本明細書に記載のエレクトロウェッティングディスプレイ及びその他の機能のためのこれらの構成要素を含む電子デバイスを操作するための技術を含む。
【０００７】
いくつかの実施形態では、エレクトロウェッティングディスプレイは、第１の支持板及び第２の支持板ならびにそれらの間に挟まれた複数の画素領域を含む。本明細書においては、別段の指示がない限り、エレクトロウェッティングディスプレイの視認側は、第１の支持板または第２の支持板のいずれかを含むディスプレイの側に限定されない。個々の画素領域は、第１の支持板上の１つまたは複数の疎水性層または表面、第２の流体、及び第１の流体を少なくとも部分的に取り囲む第２の流体を含んでもよい。例えば、第１の流体はオイルであり得て、第２の流体は電解液であり得る。疎水性層は、疎水性非晶質フルオロポリマー（ＡＦ１６００（登録商標））を備えてもよい。本明細書において、「ｈｙｄｒｏｐｈｏｂｉｃ（疎水性）」の用語は、他の材料または層に対して疎水性である材料または層を示すために用いられる。例えば、層の疎水性は比較的高くてもよいが、疎水性層は１００％疎水性である必要はない。「ｈｙｄｒｏｐｈｏｂｉｃ  ｍａｔｅｒｉａｌ（疎水性材料）」または「ｈｙｄｒｏｐｈｏｂｉｃ  ｌａｙｅｒ（疎水性層）」は様々な状況または条件によって変化し得る。各画素領域は第１の板上に配置された第１の電極（例えば、画素電極）を含んでもよいが、第２の支持板上に配置されてもよい（またはされなくてもよい）第２の電極は、複数の画素領域に重複してもよい。本明細書において、「ｄｉｓｐｏｓｅｄ  ｏｎ（上に配置される）」は、中間層の可能性を含む（例えば、「ｄｉｓｐｏｓｅｄ  ｏｎ（上に配置される）」は、「ｄｉｒｅｃｔｌｙ  ｏｎ（上に直接）」を意味する必要はない）。
【０００８】
エレクトロウェッティング表示装置はまた、リセットパルスを、以後「ｐｉｘｅｌｓ（画素）」と称され、第２の電極層に接続された複数の画素領域に提供する制御回路を含んでもよい。制御回路はこのようなリセットパルスの振幅を調整し、画素の駆動特性を修正してもよい。このような調整は、個々の画素の特定の反射率（または透過率）に応じて、少なくとも部分的に所望のグレースケール値に基づいてもよい。このように、制御回路は、以下に詳細に記すように、いくつかのグレースケールのいずれかに画素を駆動してもよい。
【０００９】
リセットパルスは通常、エレクトロウェッティング流体の逆流により生じる画素によって表示された画像の品質（例えば、明るさ、コントラスト等）への悪影響を低減するためにエレクトロウェッティング画素に印加されてもよい。例えばこのような逆流により、例えば所望の第１の表示状態が維持される期間である表示期間中の表示状態の安定性が低下し得る。この場合第１の表示状態は、収縮されるかまたは部分的に収縮されて、光がエレクトロウェッティング画素を通じて透過する（またはそこから反射する）ことを可能にする第１の流体（例えば、エレクトロウェッティングオイル）に対応する。第１の表示状態に対応する第１の信号レベルがこの期間中にエレクトロウェッティング素子に印加されるとしても、例えば、光がエレクトロウェッティング画素を通じて透過する（またはそこから反射する）ことを妨げる不アクティブ状態の場合に、収縮された、または部分的に収縮された第１の流体は逆流して、画素の下地電極層上に層を形成する傾向にある。逆流率は少なくとも部分的に、第１の流体の特性に依存する。逆流により、エレクトロウェッティング画素の表示状態に望ましくない変化がもたらされ、表示装置の画像の品質が低減する。
【００１０】
第１の表示状態の表示期間中のリセットパルスの印加により、エレクトロウェッティング画素がリセットされ、逆流が妨害される。リセットパルスはエレクトロウェッティング画素の瞬時表示状態に影響し得るため、リセットパルスの持続時間は、第１の表示状態に対応する第１の信号レベル持続時間よりも比較的短い。例えば、リセットパルスの持続時間は、表示装置の視聴者が認識できないほど十分に短くてもよい。特定の例では、リセットパルスの持続時間は約５％のデューティサイクルで約１ミリ秒であってもよいが、特許請求する主題ではそのように限定されない。
【００１１】
いくつかの実施形態では、エレクトロウェッティング表示装置等の表示装置は、一般に、アクティブ・マトリクス・アドレス方式によって動作するように構成された画素（例えば、サブ画素）のアレイを含む透過型、反射型または半透過型のディスプレイであり得る。例えば、エレクトロウェッティング素子の行及び列は、複数のデータ線及びゲート線の電圧レベルを制御することによって動作する。このようにして、表示装置は、光を透過、反射または遮断する特定の画素を選択することによって画像を生成し得る。画素は、各画素に含まれる（例えば、スイッチとして使用される）トランジスタに電気的に接続されたデータ線及びゲート線の行及び列を介してアドレス指定されて（例えば、選択されて）もよい。トランジスタは、光が画素を効率よく通過（または表示画素から反射）することを可能にするために、各画素の領域の比較的小さい部分を占める。例えば、トランジスタは反射型ディスプレイ内のリフレクタの下に位置してもよい。本明細書では、画素（例えば、画素領域）は、特に明記しない限り、エレクトロウェッティング表示装置の２つ以上のサブ画素を含む単一のサブ画素または画素を備えてもよい。このような画素またはサブ画素は、画素を通過する光透過量及び／または素子からの反射量を直接制御するように個別に動作可能なディスプレイの最小の光透過性、反射性または半透過性素子であり得る。例えば、いくつかの実施様態では、画素は、（例えば、ＰｅｎＴｉｌｅ（登録商標）のレイアウトにあるように）赤色サブ画素、緑色サブ画素、青色サブ画素、及び白色画素を含む画素であってもよい。その他の実施様態では、画素は最小の構成要素であってもよく、例えば、画素はいかなるサブ画素も含まない。
【００１２】
エレクトロウェッティングディスプレイは、基板及び天板等の２枚の支持板の間に挟まれた画素及び／またはサブ画素を備える画素のアレイを含む。例えば、基板は、天板（第２の支持板）と連携して、支持板との間に、オイル、電解液及び画素壁を含む画素を含む第１の支持板であってもよい。支持板は、ガラス、プラスチック（例えば、ＰＭＭＡまたはその他のアクリル等の透明熱可塑性樹脂）、金属、半導体材料、またはその他の透明な材料を含み得て、例えば、剛性材料または可撓性材料で作られ得る。
【００１３】
画素は、第１の支持板上に構築された様々な材料の層を含む。１つのこのような層は、フルオロポリマー（例えば、Ｔｅｆｌｏｎ（登録商標）ＡＦ１６００（登録商標））のような疎水性層であってもよい。
【００１４】
本明細書において、例示的な実施形態は、第１の支持板と第２の支持板との間に挟まれた画素のアレイを備えた、反射型エレクトロウェッティングディスプレイを示す。第１の支持板は不透明であり得るが、第２の支持板は透明であり得る。本明細書では、素子または材料を「ｔｒａｎｓｐａｒｅｎｔ（透明）」であると説明することは、画素または材料に入射する光の比較的大きな部分を、素子または材料が透過し得ることを意味する。例えば、透明な基板または層が、その表面に入射する光の７０％または８０％より多くの光を透過し得るが、特許請求の範囲に記載された主題はこの点について限定されない。
【００１５】
透明な第２の支持板は、ガラスまたは、プラスチック、石英、半導体等のいくつかの透明材料のうちのいずれかを備え得るが、特許請求の範囲に記載された主題はこの点について限定されない。また、例示的な実施形態を説明する便宜のために本明細書中で使用されるように、第２の支持板は、（反射型）エレクトロウェッティングディスプレイの画素の視認を生じるものである。他の実施形態において、エレクトロウェッティングディスプレイの支持板及び他の素子のこのような配向及び位置決めは、透過型エレクトロウェッティングディスプレイの場合のように、少なくとも部分的に逆になってもよい。特許請求の範囲に記載された主題はこの点について限定されない。
【００１６】
画素壁は、個々の画素で、不透明または有色のオイル等の電気的に非導電性及び／または非極性であり得る第１の流体を少なくとも保持する。支持板の間に形成された空洞は、極性であり、導電性であっても導電性でなくてもよく、水とエチルアルコールの混合物等の水溶液または、塩化カリウム水の溶液等の塩溶液であってもよい、第１の流体（例えば、画素壁によって保持される第１の流体）及び第２の流体（例えば、電解質溶液であると見なす）で満たされている。第２の流体は、透明であり得るが、着色され得るか、光吸収性であり得る。第２の流体は、少なくとも部分的には第１の流体と混ざらない。
【００１７】
いくつかの実施形態では、個々の反射型エレクトロウェッティング画素は、エレクトロウェッティング画素の第１の支持板上の反射層、反射層に隣接した透明電極層、及び電極層上に配置された疎水性層を含み得る。いくつかの例示的な実施態様では、電極層は、反射層として作用してもよい。本明細書において、「ｄｉｓｐｏｓｅｄ  ｏｎ（上に配置される）」は、中間層の可能性を含む。各画素の画素壁、疎水性層、及び透明な第２の支持板は、電解液及び電解質溶液と混ざらない、光吸収性または不透明な液体を含む液体領域を少なくとも部分的に囲む。本明細書に記載されているように、「ｏｐａｑｕｅ（不透明な）」液体は、観察者に対して黒色または着色されて見える液体を説明するために使用される。例えば、黒色不透明の液体は、電磁放射線の可視領域において、波長の広域スペクトル（例えば、赤色、緑色、青色のスペクトルを含む）を強く吸収する。いくつかの実施様態では、不透明な液体は非極性オイルである。
【００１８】
不透明な液体は、液体領域内に配置される。以下で詳細に説明するように、下部疎水性層上の不透明な液体の被覆領域は、電子的に調整可能であり、各画素の下部の反射材料に到達する、反射型エレクトロウェッティングディスプレイ上の入射光の量に影響を及ぼす。
【００１９】
第１の支持板を第２の上を覆う支持板と機械的に接続するか、または第１の支持板と第２の支持板との間に分離を形成するスペーサグリッド及びエッジシールは、エレクトロウェッティングディスプレイの機械的完全性に寄与する。例えば、エッジシールは、エレクトロウェッティング画素のアレイの周囲に沿って配置され、第１の支持板と第２の上側支持板との間の（例えば、第１及び第２の）流体の保持に寄与し得る。
【００２０】
いくつかの実施形態では、本明細書に記載の表示装置は、例えば、制御基板上に存在し得る１つまたは複数のプロセッサ及び１つまたは複数のコンピュータ・メモリを含むシステムの一部を含み得る。ディスプレイ・ソフトウェアは、外部光源（例えば、周囲光）から受光される光、または表示装置の光ガイドから出力結合される光を調節するために、１つまたは複数のメモリに記憶し得て、１つまたは複数のプロセッサで動作可能であり得る。例えば、ディスプレイ・ソフトウェアは、少なくとも部分的に、画像またはビデオ・データを表す電子信号に基づいて、エレクトロウェッティングディスプレイの個々の画素の光学的特性を調節するプロセッサによって実行可能なコードを含み得る。コードは、プロセッサが、エレクトロウェッティングディスプレイの層上の、層全体にわたる、または層内の電気信号（例えば、電圧、電流、電界等）を制御することで、画素の光学的特性を調節させ得る。
【００２１】
図１は、いくつかの実施形態による、いくつかのエレクトロウェッティング画素１００を示す反射型エレクトロウェッティング表示装置の一部の断面図である。上述の３つのエレクトロウェッティング画素が示されているが、エレクトロウェッティング表示装置は、任意の数（通常、数千または数百万等の非常に多数）のエレクトロウェッティング画素を含み得る。電極層１０２は第１の支持板１０４上に形成され、各エレクトロウェッティング画素内に１つまたは複数の個々の電極を備えてもよい。
【００２２】
様々な実施形態では、電極層１０２は、例えば、アクティブ・マトリクス・アドレスを使用して、エレクトロウェッティング画素１００を選択または選択解除するように切り替えられる任意の数の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）（図示せず）に接続され得る。ＴＦＴは、支持（ただし、非導電性）基板面または基板上の活性半導体層の薄膜ならびに誘電体層及び金属接触を含む特定のタイプの電界効果トランジスタであり、例えば、ガラスまたはいくつかのその他の透明または不透明な材料のうちのいずれかであり得る。
【００２３】
いくつかの実施様態では、バリア層１０６は、第１の支持板１０４上にも形成された疎水性層１０８から電極層１０２を少なくとも部分的に分離し得る。いくつかの実施様態では、疎水生層１０８は、デラウェア州ウィルミントンに本拠を置くデュポン社製ＡＦ１６００（登録商標）等のいくつかの種類のフルオロポリマーのいずれかを含み得る。疎水性層１０８は、例えば、隣接する材料の濡れ性に影響を与えるいくつかの撥水性材料のいずれかであり得る。
【００２４】
画素壁１１０は、疎水性層１０８上にパターン化されたエレクトロウェッティング画素グリッドを形成する。画素壁１１０は、例えば、エポキシベースのネガ型フォトレジストＳＵ−８等のフォトレジスト材料を含み得る。パターン化されたエレクトロウェッティング画素グリッドは、エレクトロウェッティング画素のアレイを形成する行と列を備える。例えば、エレクトロウェッティング画素は、約５０から５００ミクロンの範囲の幅及び長さを有し得る。いくつかの実施様態では、画素壁は、疎水性層の上に存在する必要はない。例えば、画素壁は、（図１に示さない）電極層上に直接存在しなくてもよい。
【００２５】
例えば、約１から１０ミクロンの範囲の厚さ（例えば、深さ、高さ）を有し得る第１の流体１１２が疎水性層１０８を覆う。第１の流体１１２は、パターン化されたエレクトロウェッティング画素グリッドの画素壁１１０によって仕切られる。外側リム１１４は、画素壁１１０と同じ材料を備え得る。電解液等の第２の流体１１６は、パターン化されたエレクトロウェッティング画素グリッドの第１の流体１１２及び画素壁１１０を覆う。第１の流体１１２及び第２の流体１１６が実質的に混合されないように、また、いくつかの例では、互いに一切混合されないように、第１の流体は少なくとも部分的に第２の流体と混ざらない。本明細書では、物質が実質的に溶液を形成しない場合、物質は互いに混ざらない。第２の流体１１６は透明であることが好ましいが、着色されるか吸収性であってもよい。第１の流体１１２は非極性であり、例えばヘキサデカンまたは（シリコン）オイルのようなアルカンであってもよい。
【００２６】
第２の支持板１１８が第２の流体１１６を覆い、エッジシール１２０がエレクトロウェッティング画素アレイ上に第２の流体１１６を維持する。支持板１１８は、一部が図１に示されるエッジシール１２０及びスペーサグリッド１２２によって支持されてもよい。スペーサグリッドアレイ１２２は、画素１００のアレイを覆って実質的に延在し得る。例えば、スペーサグリッド１２２の一部は、画素壁１１０の上部１２４から第２の支持板１１８まで延在する。
【００２７】
反射型エレクトロウェッティング表示装置は、エレクトロウェッティング表示装置により形成された画像を見ることができる視認面１２８及び、背面１３０を有する。第２の支持板１１８は視認面１２８に面し、第１の支持板１０４は背面１３０に面する。エレクトロウェッティング表示装置は、いくつか例を挙げると、アクティブ・マトリクス駆動型ディスプレイ・タイプまたはパッシブ・マトリクス駆動型ディスプレイであり得る。
【００２８】
分離ブロック１３２は、電極層１０２に沿った導電率の不連続性を表す。例えば、電極層１０２の第１の部分１３４は、各部分１３４、１３６、及び１３８がそれぞれの画素領域に接続されるように、電気的に絶縁されるか、または電極層１０２の第２の部分１３６及び第３の部分１３８から分離され得る。電極層１０２は、図に示すように、エレクトロウェッティング表示装置の表示領域の縁部まで延びる必要はない。
【００２９】
いくつかの実施形態では、エレクトロウェッティング画素は、第２の支持板プレート１１８、１つ以上のカラーフィルタ（図示せず）、またはブラックマトリクス（図示せず）上に配置された第２の電極１４０を含むことができる。第２の支持板上の電極は、例えば、いくつかの回路構成のいずれかを形成するようにパターン化されてもされなくてもよい。
【００３０】
疎水性層１０８は、第１の支持板１０４上に配置され、エレクトロウェッティング表面領域を生成する。疎水特性は、第１の流体１１２が第２の流体１１６よりも疎水性層１０８の表面に対してより高い濡れ性を有するので、第１の流体１１２を第１の支持板１０４に優先的に付着させる。濡れ性は、固体の表面に対する流体の相対的親和性に関係する。濡れ性は、親和性が増すにつれて増加し、流体と固体との間に形成され、関心流体の内部で測定される接触角によって測定され得る。例えば、このような接触角は、９０°を超える接触角の相対的な非濡れ性から、接触角が０°の場合の濡れ性を完成させるために増加し得、この場合、流体は、固体の表面上に膜を形成する傾向がある。
【００３１】
第１の流体１１２は、光学スペクトルの少なくとも一部を吸収する。第１の流体１１２は、光スペクトルの一部に対して透過性であり、カラーフィルタを形成する。この目的のために、流体は、例えば、顔料粒子または染料の添加によって着色され得る。あるいは、第１の流体１１２は、着色または黒色（例えば、光学スペクトルの実質的にすべての部分を吸収する）または反射することができる。疎水性層１０８は、透明であっても有色であってもよい。反射層は、可視スペクトル全体を反射して、層を白色またはその一部に見せ、色をつくることができる。
【００３２】
エレクトロウェッティング画素１００（例えば、電極層１０２と第２の電極１４０との間）に電圧が印加されると、エレクトロウェッティング画素１００はアクティブ状態になる。静電気力は、第２の流体１１６を電極層１０２に向かって移動させ、それによって第１の流体１１２を疎水性層１０８の領域から疎水性層１０８の領域を囲む画素壁１１０に液滴状に移動させる。そのような変位作用は、エレクトロウェッティング画素１００の疎水性層１０８の表面から第１の流体１１２を少なくとも部分的に開放する。
【００３３】
エレクトロウェッティング画素１００を横切る電圧がゼロまたはゼロに近い値の非活性信号レベルに戻されると、エレクトロウェッティング画素１００は非アクティブ状態に戻り、第１の流体１１２は疎水性層１０８を覆うように戻る。このようにして、第１の流体１１２は、各エレクトロウェッティング画素１００において電気的に制御可能な光スイッチを形成する。もちろん、エレクトロウェッティング表示装置のこのような詳細は単なる例であり、特許請求の範囲に記載された主題はこの点に限定されない。
【００３４】
図２は、様々な実施形態による、時間の関数としてのエレクトロウェッティング素子１００の光スループットのプロット２００である。エレクトロウェッティング画素１００は、透過型または反射型のエレクトロウェッティングディスプレイに組み込まれてもよく、光スループットは、エレクトロウェッティングディスプレイのこのようなタイプの透過または反射をそれぞれ示す。ここで、スループットは、疎水性層１０８に到達する光の量を指し、光はその後、例えば、第１の支持板上の層または第１の支持板から反射され得るか、または層及び第１の支持板１０４を透過し得る。
【００３５】
プロット２００は、第１の流体１１２の逆流が、エレクトロウェッティング画素１００を通る光スループットにどのように影響し得るかを示す。第１の表示期間において、時間Ｔ１の前に、電極層１０２と第２の電極１４０との間に印加される電圧Ｖはゼロであり、エレクトロウェッティング画素１００は非アクティブ状態であり、光スループットはゼロである。時間Ｔ１において、電極層１０２と第２の電極１４０との間に印加される電圧Ｖは、非ゼロアクティブ信号レベルに設定され、エレクトロウェッティング画素１００がアクティブ状態になる。例えば、電圧Ｖは、図３に示すように、ＴＦＴ３０６のドレインの電圧であってもよい。静電気力によって第２の流体１１６が疎水性層１０８に移動し、第１の流体１１２が疎水性層１０８の領域から疎水性層１０８の領域を取り囲む画素壁１１０に液滴状に移動する。したがって、第１の流体１１２は、疎水性層１０８の表面を覆い、光の処理量は、時間Ｔ２において透過レベルＴｍａｘまで増大する。
【００３６】
電圧Ｖの印加中または印加後に、第１の流体１１２は次第に疎水性層１０８を覆うように徐々に逆流し、それによってエレクトロウェッティング画素１００の光スループットを低下させる。逆流による光スループットの低下は、プロット２００の下り傾斜部分２０２によって示される。部分２０２、したがって光のスループットは、経時的に減少し続ける。時間Ｔ３では、逆流の影響を打ち消すためにリセットパルスが印加される。リセットパルスは、一時的に逆流を中断し、画素領域にわたって第１の流体運動を誘発する。リセットパルスの後、対応するグレーレベルのデータ電圧を表示期間の持続時間にわたって画素に印加することができる。リセットパルスは、エレクトロウェッティングディスプレイの画像の観察者に対してフリッカを生成しないように、十分に短い。その後、光のスループットはＴｍａｘまで増大してもよい。
【００３７】
対照的に、リセットパルスがなければ、素子の透過はプロット２００の斜めの破線２０４に従ったであろう。しかしながら、リセットパルスを用いると、素子の透過をＴｍａｘに戻すことができる。リセットパルスの効果については、透過動作中のエレクトロウェッティング素子を参照して説明するが、反射動作するエレクトロウェッティング素子についても同様に説明することができ、それによって素子の表示状態が透過によってではなく反射によって表される。
【００３８】
いくつかの特定の実施形態では、リセットパルスの持続時間は、約０．５ミリ秒から約２ミリ秒までの範囲内であってもよく、表示期間の持続時間は、約２０ミリ秒であってもよい。リセットパルスは、観察者がこれらの影響を知覚する必要がない程度に逆流の影響を低減することができる。上述のように、リセットパルスは、エレクトロウェッティングディスプレイの画像の観察者に対してフリッカを生成しないように、十分に短い。
【００３９】
図３は様々な実施形態による、表示装置のエレクトロウェッティング画素の回路３００の概略回路図である。回路３００は、エレクトロウェッティング素子３００の光学部分を含む画素部分３０２を含む。ここで、図１に示す実施例を参照する。図１に示すように、例えば、このような光学部分は、第１及び第２の流体１１２及び１１６と、電極層１０２及び第２の電極１４０の部分とを含む。光学部分の電気的表現が画素部分３０２に示されている。例えば、キャパシタンスＣｐｉｘｅｌは、複数の誘電体層スタックと、画素部３０２の２つの電極（例えば、電極層１０２及び第２電極１４０の画素電極）との間の流体によって形成されるキャパシタンスを表す。流体１１２及び１１６の様々な状態（例えば、構成）は、変動するキャパシタンスを生じ得る。Ｃｓｔｏｒａｇｅは画素部３０２に含まれる蓄積容量を表す。Ｒｅｌは、第２の流体１１６（例えば、電解質）の電気抵抗を表す。Ｖｐｉｘｅｌは共通電圧に対する画素部３０２の電圧である。例えば、共通電圧は、電源線３０４上にあってもよい。いくつかの実施形態では、Ｖｐｉｘｅｌは、とりわけ、そのようなエレクトロウェッティング素子の行及び列のアレイからエレクトロウェッティング素子３００を選択するために使用されるＴＦＴ３０６のソースの電圧でもある。
【００４０】
いくつかの実施形態では、画素部３０２は、電子回路、プロセッサによって実行可能なコード、またはそれらの組み合わせを備えてもよいリセットコントローラ（例えば、図７に示す７０２等）に電気的に接続される。例えば、リセットコントローラは、図１に示される第２の電極１４０のような上部電極に電気的に接続されてもよい。図１に示す電極層１０２の一部のような下部電極（例えば、底部支持板上のＴＦＴの一部）は、蓄積容量Ｃｓｔｏｒａｇｅを含む。表示装置は、特定のエレクトロウェッティング素子を選択するためのゲート線３０８と、選択されたエレクトロウェッティング素子を電気的に駆動するためのデータ線３１０の列とを含む。ゲート線３０８及びデータ線３１０は、支持板（例えば、第１支板１０４）上の導電トレースを備えてもよい。ゲート線３０８は、エレクトロウェッティング素子３００を選択または選択解除するためにＴＦＴ３０６のゲートに電気的に接続される。データ線３１０は、ＴＦＴ３０６のドレインに電気的に接続されている。ＴＦＴ３０６のソースは画素部３０２に電気的に接続されている。他の実施形態では、異なるタイプのＴＦＴ（例えば、ｎ型またはｐ型）を使用して、本明細書の説明の例でソース及びドレインを逆にすることができる。特許請求の範囲に記載された主題はこの点について限定されない。また、実施形態は、導電線（例えば、３０８及び３１０）の行及び列を有するものとして本明細書で説明される。しかしながら、記述は、そのような記述の性質に影響を与えることなく、「行」と「列」との間の切り替えを含むことができる。特許請求の範囲に記載された主題はこの点について限定されない。
【００４１】
図４は様々な実施形態による、エレクトロウェッティング画素のための時間の関数としてのリセットパルス４００の一部のプロットである。例えば、リセットパルス４００は、図３を参照して、リセットコントローラ３０８によって画素部３０２に印加されてもよい。リセットパルスは、例えば、Ｖｔａｒｇｅｔの目標振幅及び約１ミリ秒のパルス幅を有する方形パルスである。このような場合、Ｔ１とＴ３との間の時間間隔は、例えば１０マイクロ秒のようなパルス幅のごく一部であってもよい。Ｔ１からＴ３までの時間範囲は、リセットパルス４００の印加に対する過渡応答を含む。図示された例では、リセットパルス４００は時間Ｔ１において印加され始め、時間Ｔ２までに立ち上がりエッジを含む。続いて、リセットパルスは、時間Ｔ２から時間Ｔ３まで（例えば、少なくともおよそＲＣ（抵抗−キャパシタンス）時定数に対応する）減衰する。
【００４２】
リセットパルス４００の様々な部分が特定される。（例えば、ワードライン（複数可）で発生し得る）アンダーチャージ効果は、部分４０２における電圧に寄与する傾向がある。例えば、画素部分３０２の固有キャパシタンス及び抵抗（例えば、Ｃｐｉｘｅｌ及びＲｅｌ）は、適用されたリセットパルス４００に対するピクセル部分の応答に影響を及ぼすＲＣ時定数と関連付けられる。そのような効果の１つは、目標振幅電圧を有するリセットパルス４００が、電圧差４０４によってＶｔａｒｇｅｔに達しないことである。
【００４３】
電圧キックバック（例えば、少なくとも部分的に画素部分３０２内の固有キャパシタンスに基づく）効果は、部分４０６における電圧に寄与する傾向がある。Ｒ−電解質効果、例えば図３の「Ｒｅｌ」は、部分４０８における電圧に寄与する傾向がある。画素キャパシタンス及びＴＦＴ漏洩（例えば、ＴＦＴ３０６）は、部分４１０における電圧に寄与する傾向がある。例えば、ＴＦＴ３０６はドレイン−ゲート（Ｄ−Ｇ）及びソース−ゲート（Ｓ−Ｇ）電流漏洩を経験することがある。
【００４４】
このような影響の結果として、リセットパルス４００の定常振幅は、電圧Ｖｄｉｆｆによって、Ｖｔａｒｇｅｔ未満であってもよい。数値例の場合、Ｖｔａｒｇｅｔは約１０ボルトであってもよく、Ｖｄｉｆｆは約３．６ボルトであってもよいが、特許請求の範囲に記載された主題はこの点について限定されない。
【００４５】
図５は、様々な実施形態による、エレクトロウェッティング画素の駆動電圧の関数としての、１００等のエレクトロウェッティング画素の相対白色領域（例えば、光スループットに寄与するエレクトロウェッティング画素の領域）のプロット５００である。例えば、このような駆動電圧は、図３に示すデータ線３１０を介して表示制御回路（図５には図示せず）によって印加されてもよい。記載された実施形態では、画素の駆動電圧は負である。しかしながら、他の実施形態では、交流（ＡＣ）で動作している間、駆動電圧は正でもよいし、正と負の両方であってもよい。特許請求の範囲に記載された主題は、そのような駆動方式に限定されない。
【００４６】
プロット５００は、初期曲線部分５０２及び動作曲線部分５０４を含むヒステリシス曲線を含む。このようなヒステリシス曲線は、一般に、エレクトロウェッティング画素を駆動する白色領域と電圧との間の電気光学的関係を示す。動作サイクルの開始時に、例えば、実質的にゼロボルトで始まる駆動電圧は、遷移電圧Ｖ１まで負に増加し得る。この電圧では、画素の（例えば、反射領域）光学面（例えば白色領域）を均一に覆うオイルが収縮して光学面を露光し、画素の白色領域を露出させる。駆動電圧が増加し続けると、オイルはますます収縮し、画素の相対的な白色領域の露出量が増加する。初期曲線部分５０２は、駆動電圧が最大駆動電圧Ｖ２に達するまでの相対的な白色領域と駆動電圧との間の関係を表す。
【００４７】
初期曲線部分５０２は、駆動電圧がＶ２に達するとその後に動作曲線部分５０４に遷移することができる。続いて、動作曲線部分５０４に沿った駆動電圧を、画素の相対的な白色領域に対応する所望のグレーレベルを与える特定の値に変化させることによって、画素を動作させることができる。例えば、相対的な白色領域ＷＡｇｒｅｙに対応する特定のグレー値を与えるには、画素は、図５に示す駆動電圧Ｖｇｒｅｙにおいて動作されてもよい。
【００４８】
駆動電圧は、特定のグレーレベルを与えるために特定の値に維持されてもよいが、上記のように、リセットパルスが周期的に画素に印加されてもよい。このようなリセットパルスの間、例えば、画素に印加される電圧は、動作曲線部分５０４に沿ってＶｇｒｅｙから実質的にゼロボルトまで達した後、リセットパルスの終わりにＶｇｒｅｙに戻ってもよい。このようなサイクルは、ＷＡｇｒｅｙが画素によって表示される期間に繰り返されてもよい。しかしながら、少なくとも部分的には、図４について上述した効果（例えば、低電圧、電圧キックバック、Ｒ−電解質、ならびに画素容量及びＴＦＴ漏洩）に起因し、リセットパルス中に画素に印加される電圧はゼロボルトを達成しないことがある。代わりに、リセットパルス中の電圧は数ボルトだけオフセット５０６を受けることがある。例えば、そのようなオフセットは、図４に示すＶｄｉｆｆに対応してもよい。
【００４９】
そのような電圧オフセットの１つの帰結は、駆動電圧のより低い範囲でのグレーレベルの解像度の低下である。例えば、プロット５００において、Ｖ３は電圧オフセット５０６に対応する。駆動電圧のより低い範囲５０８は、Ｖ３で終わる動作曲線部分５０４の比較的急な勾配を含む。表示に利用可能なグレースケール値の数は、動作曲線部分５０４の勾配が増加するにつれて減少する傾向がある。
【００５０】
様々な実施形態では、画素の固有の物理的特性による影響を緩和するために、リセットパルスオフセットをリセットパルスに加えることができる。このようなリセットパルスオフセットの量は、後述するように、画素によって与えられるグレーレベルに少なくとも部分的に基づくことができる。
【００５１】
リセットパルスへのアドオンでリセットパルスを変更することによってグレースケールレベルを生成するために、画素内のオイルの動きは、ピクセルに印加された電圧が期待される流体応答を保証するのに役立つように、非飽和領域にあると推定することができる。（非飽和領域は、ヤングリップマン方程式が電圧接触角プロットを満たす場所である）。そのような場合、流体運動はヤング・リップマン方程式によって予測することができる。
【数１】
0006490251.tif 000002
、      式１
【００５２】
ここで、Θは（見掛けの）接触角である場合、Θ０は静止時の流体システム（例えば、オイル）の初期接触角であり、ε０は真空の誘電率、εｒは比誘電率、ｄはオイル厚さ、γＬＶはオイルの表面張力、Ｖは画素に印加される電圧である。
【００５３】
エレクトロウェッティングポイント（ＥＷｐ）に関して、流体運動は、少なくとも部分的に次の関係式に応じて動作してもよい。
ＥＷｐ＝Ｖ２／ｄε、      式２
【００５４】
ここで、ｄε＝ｄ／εｒ、である。この例では、一定の誘電体厚さ（ｄε）及び実質的に一定のオイル厚さ（したがって、画素の光学表面を横切る白色領域（ＷＡ）の変化はない）も考慮に入れる。オイル厚さは、ディスプレイの反射率に直接関係している可能性があり、どのようなグレーレベルが画素の視聴者によって知覚されるかに影響を及ぼす可能性がある。一例として、誘電体の厚さ（ｄε）が３０ｎｍ、駆動電圧が２５ボルト、白色領域（ＷＡ）が７０％の場合、画素は２０％の反射率（Ｒ）を有することができる。このような例の条件及び値に基づいて、以下の表１の例に示すように、いくつかの画素パラメータを含む表を決定することができる。
【表１】
0006490251.tif 000003
【００５５】
例えば、表１は、画素の６４のグレースケールを考慮する。例えば、表１は、利用可能な６４のグレースケールを有するディスプレイのための値を提供するために使用されてもよい。表１は、少なくとも部分的に、図５に示される動作曲線部分５０４等のエレクトロウェッティング画素の電気光学的曲線（ＥＯＣ）に基づく。
【００５６】
表１のような値の表は、予めプログラムされたリセット電圧レベルに加えられる電圧オフセットを決定するアルゴリズムを使用して値を計算することによって生成することができる。表１に示された値はリセット電圧用であるが、オフセット電圧値もまた代わりに使用されてもよい。
【００５７】
表１のような値の表は、例えば、電圧コントローラによってアクセス可能なルックアップテーブルとして表示装置のメモリに格納することができる。例えば、表１を参照すると、電圧コントローラは、２０の目標グレースケール値に対して７ボルトのリセットパルスを供給することができ、これは６０％の反射率に対応する。このようにして、リセットパルスオフセットが画素動作に含まれない場合に比べて、電圧コントローラはより多くのグレースケールを生成することができる。
【００５８】
図６は様々な実施形態による、エレクトロウェッティング表示装置６００の画素アレイの一部の概略回路図である。エレクトロウェッティング表示装置６００は、マトリクスの行と列に配置された複数のエレクトロウェッティング素子６０２を含む。例えば、エレクトロウェッティング表示装置６００は、エレクトロウェッティング素子６０２の数百または数千のこのような行及び列を含むことができる。エレクトロウェッティング素子６０２は、図３に示すエレクトロウェッティング素子３００と類似であってもよいし、同じであってもよい。分かり易くするために、図３に示すＣｓｔｏｒａｇｅのような各エレクトロウェッティング画素の蓄積容量は、図６には含まれていない。エレクトロウェッティング素子６０２は、ゲートラインＧ０、Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３．．．の列、データラインＤ０、Ｄ１、Ｄ２、Ｄ３．．．の列と、リセット電圧ラインＶｃｏｍの行とにマトリクス状に電気的に接続される。Ｖｃｏｍ線は行として示されているが、Ｖｃｏｍ線は代わりに列または他の任意の構成で整列されてもよく、特許請求の範囲に記載された主題はそれに限定されない。ゲート線、データ線、及びリセット電圧線は、図６の線６０４及び６０６によって表される複数の導体（例えば、ワイヤ、導電トレース等）に電気的に接続される。線６０４及び６０６を介してコントローラ６０８によって電気信号（例えば、波形、電圧レベル等）がゲート線、データ線及びリセット電圧線に供給される。具体的には、リセット電圧線は、図４に示すリセットパルス４００のようなリセットパルスを画素６０２に供給することができる。上述したように、そのようなリセットパルスの振幅は、少なくとも部分的に、各画素の所望のグレースケールに基づくことができる。
【００５９】
コントローラ６０８は、いくつか例を挙げると、プロセッサ、ＣＰＵ、またはＡＳＩＣであってもよい。コントローラ６０８の機能は、ソフトウェア、ハードウェア、またはその両方によって実現することができる。コントローラ６０８は、例えば、データ線の電圧を増加または減少させることによって、またリセット信号を生成することによって、エレクトロウェッティング素子６０２の光透過に影響を及ぼすことができる。
【００６０】
具体的には、個々のエレクトロウェッティング素子６０２は、（ｉ）ソース信号をＴＦＴ（例えば、ＴＦＴ３０６）に供給するためのデータ線の１つに、（ｉｉ）ゲート信号をＴＦＴに供給するためのゲート線の１つに、また、（ｉｉｉ）個々のエレクトロウェッティング素子６０２にリセット電圧を供給するためのリセット電圧線の１つに電気的に接続される。
【００６１】
図７は、様々な実施形態による、エレクトロウェッティング表示装置７００のためのコントローラのブロック図である。例えば、コントローラ７００は、図６に示されるコントローラ６０８と同じまたは類似であってもよい。コントローラ７００は、とりわけ、リセット制御ブロック７０２及び表示制御ブロック７０４を含む。リセット制御ブロック７０２及び表示制御ブロック７０４は、２つの別個のブロックとして示されているが、単一のパッケージ内の個別の電気回路または複数の回路、１つまたは複数のプロセッサによって実行可能なコード、またはそれらの任意の組み合わせであってもよい。例えば、リセット制御ブロック７０２は、ロジック回路及び／またはコードを実行するためのプロセッサを備えてもよい。
【００６２】
リセット制御ブロック７０２は、エレクトロウェッティング表示装置の電極層（例えば、図１に示す電極層１０２）と電気的に接触していてもよい。いくつかの実施態様では、リセット制御ブロック７０２は、出力ポート７０６を介して電極層に電気的に接続することができ、そこからリセットパルスをコントローラ７００からのエレクトロウェッティングディスプレイデバイスに提供することができる。電極層を介して、リセット制御ブロック７０２は、図６に示すエレクトロウェッティング素子６０２の行及び列等のエレクトロウェッティング表示装置の個々の画素にリセットパルスを提供することができる。
【００６３】
いくつかの特定の実施形態では、第１の電極（例えば、図１に示す第１の電極１０２）とエレクトロウェッティング画素の第２の電極との間の電圧差が負の値である場合、エレクトロウェッティング表示装置の画素はオン状態であってもよい。一方、エレクトロウェッティング画素の第１の電極と第２の電極との間の電圧差がゼロである場合、エレクトロウェッティング画素はオフ状態であってもよい。上述の実施形態のような負電圧駆動の例では、オン状態の負の値は、特定のグレースケール値に対して約−３０ボルトであり、オフ状態はゼロボルトであり得る。ＡＣ電圧駆動の例では、オン状態の負の値は約−１５ボルトであり、オン状態の正の値は約１５ボルトである。もちろん、そのような電圧値は単なる例であり、特許請求の範囲に記載された主題はそれに限定されない。
【００６４】
リセットパルスは、エレクトロウェッティング画素の状態にかかわらず、エレクトロウェッティングピクセルの第１の電極から第２の電極への電圧をゼロに少なくとも一時的に設定することができる。いくつかの実施態様では、リセットパルスは、いくつか例を挙げると、方形パルス、鋸歯パルスまたは三角パルスであってもよい。
【００６５】
表示制御ブロック７０４は、図６に示すように、ゲート線Ｇ０、Ｇ１、Ｇ２．．．及びデータ線Ｄ０、Ｄ１、Ｄ２．．．等のゲート線及びデータ線と電気的に接触していてもよい。ゲート線及びデータ線は、エレクトロウェッティング表示装置の個々の画素に電気的に接続する。いくつかの実施形態では、表示制御ブロック７０４は、コントローラ７００からのエレクトロウェッティング表示装置に制御信号が供給される出力ポート７０８を介して、ゲートライン及びデータラインに電気的に接続されてもよい。
【００６６】
図８は、様々な例示的な実施形態による、エレクトロウェッティング表示装置を操作するためのプロセス８００のフロー図である。例えば、このようなエレクトロウェッティング表示装置は、図１及び３にそれぞれ示されるエレクトロウェッティング素子１００または３０２を含み得る。プロセス８００は、例えばコントローラ７００または１つもしくは複数のプロセッサ（例えば、図９に示すプロセッサ（複数可）９１０）によって実行されてもよい。プロセス８００は、コントローラ７００によって実行されるものとして説明される。
【００６７】
ブロック８０２において、コントローラ７００は、ピクセルのグレースケール値を受け取る。例えば、このようなグレー値は、エレクトロウェッティング表示装置によって表示される画像のための画素の所望の反射率と関連していてもよい。ブロック８０４において、コントローラ７００は、画素（例えば、３０２）内に配置されたＴＦＴ（例えば、ＴＦＴ３０６）のゲートにゲート線（例えば、ゲート線３０８）を介してゲート電圧を印加してＴＦＴを切り替え、画素をアクティブ状態または非アクティブ状態にしてもよい。特に、ＴＦＴのゲートに印加されるゲート電圧は、エレクトロウェッティング画素を選択するために、個々のエレクトロウェッティング画素内に位置するＴＦＴを切り替える。例えば、表示制御ブロック７０４は、出力ポート７０８を介してＴＦＴのゲートに供給される電気信号を生成することができる。特定の実施態様では、ＴＦＴのゲートを接地電圧から比較的高い（例えば、約５ボルト）電圧に設定して、ＴＦＴを導電状態（例えば、ＴＦＴをスイッチングする）にすることができる。
【００６８】
ブロック８０６において、コントローラ７００は、画素のＴＦＴのソースまたはドレインに駆動電圧を印加することができる。駆動電圧は、グレースケール値に少なくとも部分的に基づく大きさを有することができる。ブロック８０８において、コントローラ７００は、リセット電圧パルスを印加して、駆動電圧を置き換えることができる。駆動電圧は、グレースケール値に少なくとも部分的に基づく大きさを有することができる。例えば、リセット電圧は、エレクトロウェッティング表示装置の電解質溶液（例えば、図１に示す第２の流体１１６）を横切っていてもよいが、特許請求の範囲に記載された主題はそれに限定されない。
【００６９】
図９は、上述した表示装置のいずれかを組み込むことができる例示的な電子デバイス９００を示す。デバイス９００は、ディスプレイを有する任意のタイプの電子装置を含むことができる。例えば、デバイス９００は、モバイル電子デバイス（例えば、電子ブックリーダー、タブレットコンピューティングデバイス、ラップトップコンピュータ、スマートフォンまたは他の多機能通信デバイス、携帯情報端末、ウェアラブルコンピューティングデバイス、自動車ディスプレイ等）であってもよい。あるいは、デバイス９００は、非モバイル電子デバイス（例えば、コンピュータディスプレイ、テレビ等）であってもよい。また、図９は、電子デバイス９００のいくつかの例示的な構成要素を示しているが、デバイス９００は、オペレーティングシステム、システムバス、入力／出力構成要素等のような他の従来の構成要素も含むことができることを理解されたい。さらに、テレビまたはコンピュータモニタの場合のような他の例では、電子デバイス９００は、図示された構成要素のサブセットのみを含むことができる。
【００７０】
電子デバイス９００の具体的な実装に関係なく、デバイス９００は、ディスプレイ９０２及び対応するディスプレイコントローラ９０４を含む。ディスプレイ９０２は、電子ペーパーディスプレイ、反射型または透過型ＬＣＤディスプレイ等のいくつかの例では、反射または透過型ディスプレイを表すことができる。電子ペーパーディスプレイは、紙の上の普通のインクの外観をほぼ模倣するディスプレイ技術のアレイを表す。従来のバックライト付きディスプレイとは対照的に、電子ペーパーディスプレイは通常、通常の紙と同様に光を反射する。さらに、電子ペーパーディスプレイは、しばしば双安定であり、ディスプレイに電力がほとんどまたは全く供給されない場合でも、これらのディスプレイがテキストまたは他のレンダリングされた画像を保持することができることを意味する。本明細書に記載された実施態様で使用され得るディスプレイ９０２のいくつかの例には、双安定ＬＣＤディスプレイ、干渉変調器ディスプレイ等の微小電気機械システム（ＭＥＭＳ）ディスプレイ、コレステリックディスプレイ、電気泳動ディスプレイ、電気流体画素ディスプレイ、エレクトロウェッティングディスプレイ、フォトニックインクディスプレイ、ジリコンディスプレイ等を含む。他の実施形態において、または他のタイプの装置９００の場合、ディスプレイ９０２は、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、発光ダイオードディスプレイ、有機発光ダイオードディスプレイ等のアクティブディスプレイであってもよい。したがって、本明細書の実装形態は、特定の表示技術に限定されない。
【００７１】
一実施形態様では、ディスプレイは、表面に対して流体の表面張力を変化させるために印加電圧を用いるエレクトロウェッティングディスプレイを備える。例えば、そのようなエレクトロウェッティングディスプレイは、図１に示された画素アレイ１００を含むことができるが、特許請求の範囲に記載された主題はこの点に限定されない。エレクトロウェッティングディスプレイのエレクトロウェッティング画素の一部に電圧を印加することにより、表面の湿潤特性を改質して、表面がますます親水性になるようにすることができる。エレクトロウェッティングディスプレイの一例として、ディスプレイの個々の画素に電圧が印加されている場合、着色油膜を収縮させることによって表面張力の変化が光スイッチとして働く。電圧が存在しない場合、着色されたオイルは画素内で連続的な膜を形成し、したがって、ディスプレイのユーザは色を見ることができる。一方、画素に電圧が印加されると、着色されたオイルが移動し、画素が透明になる。ディスプレイの複数のピクセルが独立して作動する場合、ディスプレイはカラーまたはグレースケール画像を提示することができる。画素は、透過型、反射型、透過型または透過型／反射型（半透過型）ディスプレイの基礎を形成することができる。さらに、画素は、小さい画素寸法を使用しながら、高いスイッチング速度（例えば、数ミリ秒のオーダー）に応答することができる。したがって、本明細書のエレクトロウェッティングディスプレイは、ビデオコンテンツを表示する等の用途に適している可能性がある。
【００７２】
当然のことながら、いくつかの異なる例が示されているが、本明細書に記載の反射型ディスプレイは、その例が上に提供されている任意の他のタイプの電子ペーパー技術または反射型ディスプレイ技術を含むことができる。さらに、上述した例のいくつかは、黒、白、及び様々なグレーの色調をレンダリングするものとして説明されているが、記載された技術は、カラー画素をレンダリングすることができる反射ディスプレイに等しく適用されることを理解されたい。したがって、用語「ｗｈｉｔｅ（白）」、「ｇｒａｙ（グレー）」及び「ｂｌａｃｋ（黒）」は、カラーディスプレイを使用する実装において様々な程度の色を指してもよい。例えば、画素が赤色カラーフィルタを含む場合、画素の「グレー」値はピンクの色合いに対応し、画素の「黒」値はカラーフィルタの最も暗い赤色に対応する。さらに、本明細書のいくつかの例が反射型ディスプレイの環境で説明されているが、他の例では、ディスプレイ９０２は、その例が上述されているバックライト付きディスプレイを表すことができる。
【００７３】
ディスプレイ９０２を含むことに加えて、図９は、デバイス９００のいくつかの例が、タッチセンサ構成要素９０６及びタッチコントローラ９０８を含むことができることを示す。いくつかの例では、少なくとも１つのタッチセンサ構成要素９０６がディスプレイ９０２上に存在するか、またはディスプレイ９０２上に積み重ねられて、タッチセンシティブディスプレイ（例えば、電子ペーパータッチセンシティブディスプレイ）を形成する。したがって、ディスプレイ９０２は、タッチ入力に応じて、またはタッチ入力に対応して、ユーザタッチ入力及びレンダリングコンテンツの両方を受け入れることができる。いくつかの例として、タッチセンサ構成要素９０６は、静電容量式タッチセンサ、力感応抵抗（ＦＳＲ）、補間力感応抵抗（ＩＦＳＲ）センサ、または任意の他のタイプのタッチセンサを備えてもよい。いくつかの例では、タッチセンサ構成要素９０６は、タッチを検出することができるとともに、これらのタッチの圧力または力の量を決定することができる。
【００７４】
図９はさらに、電子装置９００が、１つまたは複数のプロセッサ９１０及び１つまたは複数のコンピュータ可読媒体９１２と、ディスプレイ９０２を点灯させるためのフロントライト構成要素９１４（バックライト付きディスプレイの場合にはバックライト構成要素とすることができる）、カバーガラスまたはカバーシートのようなカバー層構成要素９１６、１つまたは複数の通信インターフェース９１８、及び１つまたは複数の電源９２０を含むことができることを示す。通信インターフェース９１８は、セルラネットワーク、無線、ＷｉＦｉネットワーク、短距離ネットワーク（例えば、Ｂｌｕｅｔｏｏｔｈ（登録商標））、赤外線（ＩＲ）等の様々なネットワークへの有線及び無線接続の両方をサポートすることができる。
【００７５】
電子デバイス９００の構成により、コンピュータ可読媒体９１２（及び全体を通して説明される他のコンピュータ可読媒体）は、コンピュータ記憶媒体の一例であり、揮発性及び不揮発性メモリを含むことができる。したがって、コンピュータ可読媒体９１２は、ＲＡＭ、ＲＯＭ、ＥＥＰＲＯＭ、フラッシュメモリ、もしくは他のメモリ技術、またはコンピュータ可読命令、プログラム、アプリケーション、メディアアイテム、及び／または電子デバイス９００によってアクセスされ得るデータ等を格納するために使用され得る任意の他の媒体を含むことができるが、それに限定されない。
【００７６】
コンピュータ可読媒体９１２は、プロセッサ９１０上で実行可能な任意の数の機能構成要素、ならびにコンテンツアイテム９２２及びアプリケーション９２４を格納するために使用されてもよい。したがって、コンピュータ可読媒体９１２は、ｅＢｏｏｋ、オーディオブック、歌、動画、静止画像等の１つまたは複数のコンテンツアイテム９２２を格納するオペレーティングシステム及びストレージデータベースを含むことができる。電子デバイス９００のコンピュータ可読媒体９１２は、コンテンツアイテムをデバイス９００上にレンダリングするための１つまたは複数のコンテンツプレゼンテーションアプリケーションを格納することもできる。これらのコンテンツプレゼンテーションアプリケーションは、コンテンツアイテム９２２に応じて様々なアプリケーション９２４として実装することができる。例えば、コンテンツプレゼンテーションアプリケーションは、テキスト電子書籍、オーディオブックまたは歌を再生するためのオーディオプレーヤ、動画を再生するためのビデオプレーヤ等をレンダリングするための電子ブックリーダアプリケーションであってもよい。
【００７７】
いくつかの例では、電子デバイス９００は、デバイス９００のディスプレイ（及びディスプレイスタックまたはディスプレイアセンブリ内の他の構成要素）を保護するためにカバー（図９には図示せず）に結合することができる。一例では、カバーは、デバイス９００の後部を覆うバックフラップと、ディスプレイ９０２及びスタック内の他の構成要素を覆うフロントフラップとを含むことができる。デバイス９００及び／またはカバーは、カバーが開いているかどうか（すなわち、フロントフラップがディスプレイ及び他の構成要素の上にない場合）を検出するセンサ（例えば、ホール効果センサ）を含むことができる。カバーが開いている場合、センサはフロントライト構成要素９１４に信号を送信し、これに応答して、フロントライト構成要素９１４はディスプレイ９０２を照らすことができる。一方、カバーが閉じている場合、フロントライト構成要素９１４は、カバーが閉じていることを示す信号を受信し、これに応答してフロントライト構成要素９１４がオフになることがある。
【００７８】
さらに、フロントライト構成要素９１４によって放射される光の量は変化し得る。例えば、ユーザがカバーを開けると、フロントライトからの光が徐々に完全な照明に増加する。いくつかの例では、デバイス９００は、周囲光センサ（図９には図示せず）を含み、フロントライト構成要素９１４の照射量は、周辺光センサによって検出された周囲光の量に少なくとも部分的に基づいてよい。例えば、周囲光センサが暗室等のような比較的少ない周囲光を検出する場合、フロントライト構成要素９１４はより暗くなり得る。周囲光センサが特定の範囲内の周囲光を検出する場合には明るくなり得る。周囲光センサが、例えば直射日光のような比較的大量の周辺光を検出する場合には、より暗くなるか、または消灯することができる。
【００７９】
さらに、ディスプレイ９０２の設定は、フロントライト構成要素９１４がオンであるかオフであるかに応じて、またはフロントライト構成要素９１４によって提供される光の量に基づいて変化してもよい。例えば、電子デバイス９００は、ライトがオンである場合と比較してライトがオフである場合、より大きなデフォルトフォントまたはより大きいコントラストを実現することができる。いくつかの例では、電子装置９００は、光がオンである場合、光がオフである場合のコントラスト比の特定の定義されたパーセンテージ内にあるディスプレイのコントラスト比を維持する。
【００８０】
上述のように、タッチセンサ構成要素９０６は、ディスプレイ９０２の上に存在する容量性タッチセンサを備えることができる。いくつかの例では、タッチセンサ構成要素９０６は、カバー層構成要素９１６上に形成されるか、またはカバー層構成要素９１６と一体化されてもよい。他の例では、タッチセンサ構成要素９０６は、ディスプレイアセンブリのスタック内の別個の構成要素であってもよい。フロントライト構成要素９１４は、タッチセンサ構成要素９０６の上または下に存在してもよい。いくつかの例では、タッチセンサ構成要素９０６またはフロントライト構成要素９１４のいずれかが、ディスプレイ９０２の保護シート９２６の上面に結合される。一例として、フロントライト構成要素９１４は、導光シート及び光源（図９には図示せず）を含むことができる。導光シートは、基板（例えば、ＰＭＭＡまたは他のアクリル等の透明熱可塑性樹脂）、光源からディスプレイ９０２に向かって光を伝搬するように機能するラッカーの層に形成されたラッカーの層及び複数の格子要素を含むことができ、ディスプレイ９０２を照らす。
【００８１】
カバー層構成要素９１６は、電子デバイス９００に入射する周辺光のグレアまたは反射の少なくとも１つを低減するように機能する外層を有する透明な基板またはシートを含むことができる。いくつかの例では、カバー層構成要素９１６は、ベースポリエステルまたはポリカーボネートを含むハードコートされたポリエステル及び／またはポリカーボネートフィルムを含み、その結果、耐引掻性である化学的に結合したＵＶ硬化した硬質表面コーティングが得られる。いくつかの例では、フィルムは、得られるフィルムが所定の閾値（例えば、少なくとも３Ｈの鉛筆に耐性のある硬度等級）より大きい硬度等級を含むように添加剤を用いて製造することができる。このような耐引掻性がなければ、デバイスはより容易に傷つけられ、ユーザは反射ディスプレイの上部に分散された光からの傷を知覚することができる。いくつかの例では、保護シート９２６は、外面上に同様のＵＶ硬化したハードコーティングを含むことができる。カバー層構成要素９１６は、ディスプレイ９０２の別の構成要素または保護シート９２６に結合することができる。カバー層構成要素９１６は、いくつかの例では、電子デバイス９００に入射するＵＶ光からスタックの下部の構成要素を保護するために、ＵＶフィルタ、ＵＶ吸収色素等を含んでもよい。さらに他の例では、カバー層構成要素９１６は、防眩コーティング及び／または反射防止コーティングを有する高強度ガラスのシートを含むことができる。
【００８２】
ディスプレイ９０２は、画像表示構成要素９２８を覆う保護シート９２６を含む。例えば、ディスプレイ９０２は、保護シート９２６をディスプレイ９０２の上側または画像閲覧側の外面として有するように予め組み立てられてもよい。したがって、保護シート９２６は、画像表示構成要素９２８と一体であってもよく、画像表示構成要素９２８の上にあってもよい。保護シート９２６は、保護シート９２６を介して、ディスプレイ９０２の画像表示構成要素９２８上に提示された画像をユーザが見ることができるように、光学的に透明であってもよい。
【００８３】
いくつかの例では、保護シート９２６は、厚さが２５から２００マイクロメートルの範囲の透明ポリマーフィルムであってもよい。いくつかの例として、保護シートは、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）またはポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等の透明ポリエステル、またはポリカーボネートまたはアクリル等の他の好適な透明ポリマーフィルムまたはシートであってもよい。いくつかの例では、保護シート９２６の外面は、上述のハードコーティング等のコーティングを含むことができる。例えば、保護シート９２６をディスプレイ９０２の画像表示構成要素９２８と組み立てる前または後に、ハードコートを保護シート９２６の外面に塗布してもよい。いくつかの例では、ハードコートは、保護シート９２６上のハードコートを硬化させるため等の組成物中に光開始剤または他の反応性種を含むことができる。さらに、いくつかの例では、保護シート９２６は、ＵＶ光吸収色素で染色されてもよく、または他のＵＶ吸収処理で処理されてもよい。例えば、カットオフまたは閾値波長以下のＵＶ光が保護シート９２６によって少なくとも部分的に吸収され、それによって画像表示構成要素９２８をＵＶ光から保護するように、保護シートを特定のＵＶカットオフを有するように処理することができる。
【００８４】
本明細書のいくつかの実装態様によれば、上述の構成要素のうちの１つ以上は、流体光学的に透明な接着剤（ＬＯＣＡ）を使用してディスプレイ９０２に結合されてもよい。例えば、フロントライト構成要素９１４の導光部分がディスプレイ９０２に結合されると仮定する。導光は、保護シート９２６の外側または上面にＬＯＣＡを配置することによってディスプレイ９０２に結合されてもよい。ＬＯＣＡが角（複数可）及び／または保護シートの周辺の少なくとも一部に到達する場合、ＵＶ硬化は、ＬＯＣＡの角及び／または周囲の部分で実行されてもよい。その後、残りのＬＯＣＡをＵＶ硬化させ、フロントライト構成要素９１４をＬＯＣＡに結合することができる。角（複数可）及び／または周囲を最初に硬化させることにより、本技術は、残りのＬＯＣＡの障壁を効果的に作り出し、また、ＬＯＣＡ層の空隙の形成を防止し、それによってフロントライト構成要素９１４の有効性を高める。他の実施態様では、ＬＯＣＡは、保護シート９２６の中心付近に配置され、ＬＯＣＡの上にフロントライト構成要素９１４を配置することによって、保護シート９２６の上面の周囲に向かって外側に押圧され得る。次いで、ＬＯＣＡは、フロントライト構成要素９１４にＵＶ光を向けることによって硬化され得る。上述したように、また以下にさらに説明するように、ＬＯＣＡ及び／または保護シート９２６の変色を防止するために、保護シートの表面処理等の様々な技術を使用することができる。
【００８５】
なお、図９は、いくつかの例示的な構成要素を示すが、電子デバイス９００は、追加の特徴または機能を有することができる。例えば、装置９００は、例えば、磁気ディスク、光ディスク、またはテープ等の追加のデータ記憶装置（取外し可能及び／または取外し不可能）を含むこともできる。追加のデータ記憶媒体は、制御ボード内に存在してもよく、コンピュータ可読命令、データ構造、プログラムモジュール、または他のデータ等の情報を格納するための任意の方法または技術で実装される揮発性及び不揮発性の取り外し可能及び固定の媒体を含むことができる。さらに、デバイス９００内に存在するとして説明された機能のいくつかまたはすべては、いくつかの実装において、デバイス９００から遠隔に存在することができる。これらの実装では、デバイス９００は、通信インターフェース９１８を利用して、この機能と通信し、この機能を利用することができる。
【００８６】
本主題は、構造的特徴及び／または方法論的行為に特有の言語で説明されているが、添付の特許請求の範囲で定義される本主題が必ずしも上述の特定の特徴または行為に限定されないことを理解されたい。むしろ、特定の特徴及び動作は、請求項を実施する例示的な形態として開示される。
【００８７】
当業者であれば、上記の説明に対する事実上無制限の数のバリエーションが可能であり、実施例及び添付の図面は、単に１つまたは複数の実施例を説明するに過ぎないことを理解するであろう。
【００８８】
特許請求の範囲に記載の主題から逸脱することなく、様々な他の修正がなされ得、等価物が置換され得ることが、当業者によって理解される。さらに、本明細書に記載された中心概念から逸脱することなく、特許請求の範囲に記載の主題の教示に特定の状況を適応させるために、多くの修正が行われてもよい。したがって、特許請求の範囲は、開示された特定の実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された主題は、添付の特許請求の範囲及びその等価物の範囲内に含まれるすべての実施形態も含み得る。
【００８９】
上記の詳細な説明では、特許請求の範囲に記載された主題の完全な理解を提供するために、多数の特定の詳細が述べられている。しかしながら、特許請求の範囲に記載された主題がこれらの具体的な詳細なしに実施することができることは、当業者には理解されるであろう。他の例では、特許請求の範囲に記載された主題を不明瞭にしないために、当業者によって知られる方法、装置、またはシステムは詳細には記載されていない。
【００９０】
本明細書を通じて、「ｏｎｅ  ｅｍｂｏｄｉｍｅｎｔ（一実施形態）」または「ａｎ  ｅｍｂｏｄｉｍｅｎｔ（実施形態）」は、特定の実施形態に関連して説明される特定の特徴、構造、または特性が、特許請求される主題の少なくとも１つの実施形態に含まれ得ることを意味し得る。したがって、本明細書を通して様々な場所における「ｉｎ  ｏｎｅ  ｅｍｂｏｄｉｍｅｎｔ（一実施形態では）」または「ａｎ  ｅｍｂｏｄｉｍｅｎｔ（実施形態）」という表現の出現は、必ずしも同じ実施形態または記載された特定の１つの特定の実施形態を参照することを意図するものではない。さらに、説明した特定の特徴、構造、または特性は、１つまたは複数の実施形態において様々な方法で組み合わせることができることを理解されたい。一般的に、もちろん、これらの問題及びその他の問題は、特定の使用状況によって異なる場合がある。したがって、記述の特定の文脈またはこれらの用語の使用法は、その文脈のために引き出される推論に関する有用な指針を提供し得る。
【００９１】
条項
１．複数の画素領域であって、前記複数の画素領域の少なくとも１つの画素領域が、
疎水性層部分と、
疎水性層部分上に配置されたオイルであって、少なくとも１つの画素領域によって生成されるグレースケールが少なくとも部分的に、前記オイルによって覆われた前記疎水性層部分の領域に基づく、前記疎水性層部分上に配置された前記オイルと、
薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）と、を含む前記複数の画素領域と、
少なくとも１つの画素領域のＴＦＴの（ｉ）ソースまたは（ｉｉ）ドレインの一方と電気的に接触するデータ線と、
前記少なくとも１つの画素領域の前記ＴＦＴのゲートと電気的に接触するゲート線と、
前記ＴＦＴの前記ドレインまたは前記ソースと電気的に接触し、前記少なくとも１つの画素領域の前記ＴＦＴに駆動電圧を印加する駆動制御回路であって、前記駆動電圧により、前記少なくとも１つの画素領域が特定のグレースケールを生成するように、前記疎水性層部分の特定の領域が前記オイルに覆われる、前記駆動制御回路と、
前記ＴＦＴの前記ドレインまたは前記ソースと電気的に接触し、前記ＴＦＴの前記ドレインまたは前記ソースに周期的なリセット電圧パルスを供給して、前記オイルの逆流を減少させるリセット制御回路であって、前記リセット電圧パルスの大きさが特定のグレースケールに少なくとも部分的に基づいている、前記リセット制御回路と、を備える、エレクトロウェッティング表示装置。
【００９２】
２．前記リセット制御回路によってアクセス可能なメモリデバイスをさらに備え、グレースケールのルックアップテーブル及びリセット電圧パルスの対応する大きさを記憶する、条項１に記載のエレクトロウェッティング表示装置。
【００９３】
３．前記リセット制御回路は、前記ルックアップテーブルから検索された値に少なくとも部分的に基づいて、前記リセット電圧パルスをある大きさで印加するように構成されている、条項２に記載のエレクトロウェッティング表示装置。
【００９４】
４．前記リセット電圧パルスが、前記少なくとも１つのピクセル領域の前記ＴＦＴに印加される前記駆動電圧の幅の１０％未満の幅を有する方形パルスをそれぞれ含む、条項１に記載のエレクトロウェッティング表示装置。
【００９５】
５．行及び列に配置された画素領域であって、前記画素領域の少なくとも１つが、
電極上に配置された疎水性層部分と、
前記電極と電気的に接触している薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）と、を含む前記画素領域と、
前記少なくとも１つの画素領域の前記ＴＦＴのドレインまたはソースと電気的に接触する制御回路であって、
前記少なくとも１つの画素領域を駆動して特定のグレースケールを表示するための命令を受け取り、
少なくとも部分的に前記特定のグレースケールに基づく駆動電圧を前記ＴＦＴの前記ドレインまたは前記ソースに供給し、
大きさが前記特定のグレースケールに少なくとも部分的に基づいているリセット電圧パルスを前記ＴＦＴの前記ドレインまたは前記ソースに供給するよう構成される前記制御回路と、を備える、エレクトロウェッティング表示装置。
【００９６】
６．前記制御回路によってアクセス可能であり、前記特定のグレースケールと前記リセット電圧パルスの対応する大きさとを含む少なくとも１つのルックアップテーブルを記憶するメモリをさらに備える、条項５に記載のエレクトロウェッティング表示装置。
【００９７】
７．前記制御回路によってアクセス可能であり、駆動電圧の値及び複数のリセット電圧パルスの対応する大きさとを含む少なくとも１つのルックアップテーブルを記憶するメモリをさらに備える、条項５に記載のエレクトロウェッティング表示装置。
【００９８】
８．前記画素領域の各々の前記ＴＦＴの（ｉ）前記ソースまたは（ｉｉ）前記ドレインと電気的に接触するデータ線と、
前記画素領域の各々の前記ＴＦＴのゲートに電気的に接触するゲート線と、をさらに備える、条項５に記載のエレクトロウェッティング表示装置。
【００９９】
９．前記画素領域の各々が前記データ線及び前記ゲート線と電気的に接触しており、前記制御回路が、（ｉ）前記データ線を介して前記ＴＦＴにソース信号を、また、（ｉｉ）前記ゲート線を介して前記ＴＦＴにゲート信号を提供することができる、条項８に記載のエレクトロウェッティング表示装置。
【０１００】
１０．前記リセット制御回路が、前記エレクトロウェッティング表示装置によって表示された画像のための特定のデータライン上の前記画素領域の各々に印加されるグレースケール値に少なくとも部分的に基づいて、前記データラインの特定の１つの上の電圧を増加または減少させることが可能である、条項８に記載のエレクトロウェッティング表示装置。
【０１０１】
１１．前記リセット電圧パルスが、約０．５から約２．０ミリ秒の範囲の幅を有する、条項５に記載のエレクトロウェッティング表示装置。
【０１０２】
１２．前記リセットパルスが方形パルスを含む、条項５に記載のエレクトロウェッティング表示装置。
【０１０３】
１３．エレクトロウェッティング表示装置を操作するための方法であって、
画素のグレースケール値を受け取ることと、
前記画素に位置する薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）のゲートにゲートラインを介してゲート電圧を印加して前記ＴＦＴをスイッチングさせて前記画素をアクティブ状態または非アクティブ状態にすることと、
前記グレースケール値に少なくとも部分的に基づく大きさを有する駆動電圧を前記画素の前記ＴＦＴの前記ソースまたは前記ドレインに印加することと、
少なくとも部分的に前記グレースケール値に基づく大きさを有する、前記駆動電圧を置換するためのリセット電圧パルスを印加することと、を含む前記方法。
【０１０４】
１４．前記リセット電圧パルスが、前記駆動電圧の前記大きさに少なくとも部分的にさらに基づく大きさを有する、条項１３に記載の方法。
【０１０５】
１５．ルックアップテーブル内のグレースケール及びリセット電圧の対応する値に基づいて前記リセット電圧パルスの前記大きさを決定することをさらに含む、条項１３に記載の方法。
【０１０６】
１６．前記リセット電圧パルスを提供することが、前記ＴＦＴの前記ソースまたは前記ドレインに電気的に接続された第１の電極と前記ピクセルの第２の電極との間に配置された電解質溶液の両端にリセット電圧を生成することを含み、前記第２の電極が前記画素に隣接する他の画素に電気的に接続されている、条項１３に記載の方法。
【０１０７】
１７．前記画素の前記ＴＦＴが第１の支持板に配置され、前記第２の電極が前記第１の支持板に面する第２の支持板に配置され、前記電解液が前記第１の支持板と前記第２の支持板との間に配置される、条項１６に記載の方法。
【０１０８】
１８．前記リセット電圧パルスが、約０．５から約２．０ミリ秒の範囲の幅を有する方形パルスを含む、条項１３に記載の方法。
【０１０９】
１９．前記リセット電圧パルスが、１．０ミリ秒未満の幅を有する方形パルスを含む、条項１３に記載の方法。
【０１１０】
２０．前記リセット電圧パルスを印加する前に、前記画素を駆動する駆動電圧の値を全開状態に印加することをさらに含む、条項１３に記載の方法。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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