(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
搬送経路において連続的に搬送される長尺のフィルムの表面の一部の領域ＲＨに凹凸構造を付与する工程（Ａ）、及び
前記搬送経路において、前記フィルムの前記凹凸構造の高さを測定する工程（Ｂ）
を含む、凹凸構造付きフィルムの製造方法であって、
前記工程（Ｂ）が、前記領域ＲＨにおける、フィルム厚み方向におけるフィルム表面の高さＨと、前記領域ＲＨの外の領域ＲＬにおける、フィルム厚み方向におけるフィルム表面の高さＬとを、固定された計測器により計測し、その差（Ｈ−Ｌ）を計算することを含み、
前記高さＨは、支持ロールにより支持されて搬送されるフィルムの、前記領域ＲＨにおける、当該支持ロールの表面を基準とした高さであり、
前記高さＬは、支持ロールにより支持されて搬送されるフィルムの、前記領域ＲＬにおける、当該支持ロールの表面を基準とした高さである、製造方法。
【請求項２】
前記高さＨの計測は、
前記領域ＲＨ内における所定の幅の領域ＷＡに亘りフィルム幅方向に整列して分布する複数の測定点においてフィルム厚み方向におけるフィルム表面の高さを測定し、得られた複数の測定値群ＤＨに基づく計算により高さＨを求めることを含み、
前記高さＬの計測は、
前記領域ＲＬ内において、所定の幅の領域ＷＢに亘りフィルム幅方向に整列して分布する複数の測定点においてフィルム厚み方向におけるフィルム表面の高さを測定し、得られた複数の測定値群ＤＬに基づく計算により高さＬを求めることを含む、請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
前記高さＨを求めるための前記測定値群ＤＨに基づく計算が、前記測定値群ＤＨの平均を求め、これを前記高さＨとする計算であり、
前記高さＬを求めるための前記測定値群ＤＬに基づく計算が、前記測定値群ＤＬの平均を求め、これを前記高さＬとする計算である、請求項２に記載の製造方法。
【請求項４】
一つの前記領域ＷＡにおける測定点の個数がＮＨであり、
一つの前記領域ＷＢにおける測定点の個数がＮＬであり、
前記高さＨを求めるための前記測定値群ＤＨに基づく計算が、前記測定値群ＤＨのうち、上位ＸＨ個の測定値の平均を求め、これを高さＨとする計算であり、
前記高さＬを求めるための前記測定値群ＤＬに基づく計算が、前記測定値群ＤＬのうち、上位ＸＬ個の測定値の平均を求め、これを高さＬとする計算であり、
前記ＸＨが、２以上ＮＨ／２以下の範囲内で設定される個数であり、
前記ＸＬが、２以上ＮＬ以下の範囲内で設定される個数である、請求項２に記載の製造方法。
【請求項５】
前記差（Ｈ−Ｌ）の値の一つを求めるための前記高さＨの測定位置と前記高さＬの測定位置とが、フィルム幅方向に整列した位置である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項６】
前記高さＨを測定する前記計測器と、前記高さＬを測定する前記計測器とが、同一の装置である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項７】
前記領域ＲＨ、前記領域ＷＡ及び前記領域ＷＢが、前記フィルムの長尺方向に連続して延長する帯状の領域であり、前記領域ＷＡ及び前記領域ＷＢは幅方向に離隔し、前記領域ＷＡと前記領域ＷＢとの間隔は、搬送される前記フィルムの蛇行の幅より広い、請求項２〜６のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項８】
前記領域ＲＨ、前記領域ＷＡ及び前記領域ＷＢが、前記フィルムの長尺方向に連続して延長する帯状の領域であり、前記領域ＷＡ及び前記領域ＷＢは幅方向に離隔し、前記領域ＷＡと前記領域ＷＢとの間隔は、前記領域ＷＡの幅及び前記領域ＷＢの幅の平均よりも狭い、請求項２〜７のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項９】
前記工程（Ｂ）が複数回行われ、その周期が０．１秒以下である、請求項１〜８のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１０】
前記工程（Ｂ）において測定された高さの値に基づいて、前記工程（Ａ）において付与される凹凸構造の高さをフィードバック制御する工程（Ｃ）をさらに含む、請求項１〜９のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１１】
前記工程（Ｂ）の下流において、前記凹凸構造付きフィルムを巻回しフィルムロールとする工程（Ｄ）をさらに含み、
前記工程（Ａ）において、前記凹凸構造を、前記フィルムロールの巻内側ほど高さが高く、巻外側ほど高さが低くなるよう付与する、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１２】
前記領域ＲＨが、フィルム縁部の領域である、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の製造方法。
【請求項１３】
搬送経路において連続的に搬送される、表面の一部の領域ＲＨに凹凸構造を有する長尺のフィルムの、前記凹凸構造の高さを測定する測定方法であって、
前記領域ＲＨにおける、フィルム厚み方向におけるフィルム表面の高さＨと、前記領域ＲＨの外の領域ＲＬにおける、フィルム厚み方向におけるフィルム表面の高さＬとを、固定された計測器により計測し、その差（Ｈ−Ｌ）を計算することを含み、
前記高さＨは、支持ロールにより支持されて搬送されるフィルムの、前記領域ＲＨにおける、当該支持ロールの表面を基準とした高さであり、
前記高さＬは、支持ロールにより支持されて搬送されるフィルムの、前記領域ＲＬにおける、当該支持ロールの表面を基準とした高さである、測定方法。
【請求項１４】
前記高さＨの計測は、
前記領域ＲＨ内における所定の幅の領域ＷＡに亘りフィルム幅方向に整列して分布する複数の測定点においてフィルム厚み方向におけるフィルム表面の高さを測定し、得られた複数の測定値群ＤＨに基づく計算により高さＨを求めることを含み、
前記高さＬの計測は、
前記領域ＲＬ内において、所定の幅の領域ＷＢに亘りフィルム幅方向に整列して分布する複数の測定点においてフィルム厚み方向におけるフィルム表面の高さを測定し、得られた複数の測定値群ＤＬに基づく計算により高さＬを求めることを含む、請求項１３に記載の測定方法。
【請求項１５】
前記高さＨを求めるための前記測定値群ＤＨに基づく計算が、前記測定値群ＤＨの平均を求め、これを前記高さＨとする計算であり、
前記高さＬを求めるための前記測定値群ＤＬに基づく計算が、前記測定値群ＤＬの平均を求め、これを前記高さＬとする計算である、請求項１４に記載の測定方法。
【請求項１６】
一つの前記領域ＷＡにおける測定点の個数がＮＨであり、
一つの前記領域ＷＢにおける測定点の個数がＮＬであり、
前記高さＨを求めるための前記測定値群ＤＨに基づく計算が、前記測定値群ＤＨのうち、上位ＸＨ個の測定値の平均を求め、これを高さＨとする計算であり、
前記高さＬを求めるための前記測定値群ＤＬに基づく計算が、前記測定値群ＤＬのうち、上位ＸＬ個の測定値の平均を求め、これを高さＬとする計算であり、
前記ＸＨが、２以上ＮＨ／２以下の範囲内で設定される個数であり、
前記ＸＬが、２以上ＮＬ以下の範囲内で設定される個数である、請求項１４に記載の測定方法。
【請求項１７】
前記差（Ｈ−Ｌ）の値の一つを求めるための前記高さＨの測定位置と前記高さＬの測定位置とが、フィルム幅方向に整列した位置である、請求項１３〜１６のいずれか１項に記載の測定方法。
【請求項１８】
前記高さＨを測定する前記計測器と、前記高さＬを測定する前記計測器とが、同一の装置である、請求項１３〜１７のいずれか１項に記載の測定方法。
【請求項１９】
前記領域ＲＨ、前記領域ＷＡ及び前記領域ＷＢが、前記フィルムの長尺方向に連続して延長する帯状の領域であり、前記領域ＷＡ及び前記領域ＷＢは幅方向に離隔し、前記領域ＷＡと前記領域ＷＢとの間隔は、搬送される前記フィルムの蛇行の幅より広い、請求項１４〜１８のいずれか１項に記載の測定方法。
【請求項２０】
前記領域ＲＨ、前記領域ＷＡ及び前記領域ＷＢが、前記フィルムの長尺方向に連続して延長する帯状の領域であり、前記領域ＷＡ及び前記領域ＷＢは幅方向に離隔し、前記領域ＷＡと前記領域ＷＢとの間隔は、前記領域ＷＡの幅及び前記領域ＷＢの幅の平均よりも狭い、請求項１４〜１９のいずれか１項に記載の測定方法。
【請求項２１】
前記計測が複数回行われ、その周期が０．１秒以下である、請求項１３〜２０のいずれか１項に記載の測定方法。
【請求項２２】
前記領域ＲＨが、フィルム縁部の領域である、請求項１３〜２１のいずれか１項に記載の測定方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、凹凸構造付きフィルムを製造する方法に関する。本発明はまた、凹凸構造付きフィルムの凹凸構造の高さを測定する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、光学フィルムなどのフィルムを製造する場合、ある程度の量をまとめて長尺状に製造し、このフィルムを巻回してフィルムロールとして保存することが行われている。
【０００３】
フィルムの製造において、種々の目的で、フィルムの面の一部の領域に凹凸構造を付与することが知られている。例えば、長尺のフィルムを巻回する際のフィルムの取り扱い性の向上のため、フィルムの端部に凹凸構造を付与することが知られている。このような凹凸構造は、ナールとも呼ばれることがあり、このような凹凸構造を付与する処理は、ナーリング処理等の名称で呼ばれる。ナーリング処理の具体的な操作の例としては、フィルムに凹凸構造を有する型を当接する方法、フィルムに厚みを有する層を印刷によって付与する方法、及びフィルムにレーザー光を照射することにより凹凸構造を形成する方法といった各種の方法が知られている。フィルムを巻回してロール体とするのに先立ち、フィルムの表面にかかる凹凸構造を設けて凹凸構造付きフィルムとすることにより、ロール体中のフィルム間の摩擦による傷の発生、フィルムのブロッキング（ロール体において、重なったフィルムの面が付着する現象）等の不所望な現象が低減され、フィルムの取り扱い性を向上させることができる。
【０００４】
高品質なフィルムの効率的な製造を行う上では、搬送経路上で連続的に搬送されるフィルムの凹凸構造の高さを連続的に測定することが求められる。例えば、フィルムへ付与する凹凸構造は、その効果を均一に発現する等の目的で、その高さを所定の目標値からの偏差が少ない範囲に制御することが求められる。特に、製造フィルムが光学的な用途に用いられるフィルムの場合、その光学的性質を良好に保つことが求められるため、ナールの高さを精密に制御することが求められることがある。この場合、凹凸構造の高さを連続的に測定し、精密な品質管理を行ったり、測定結果を凹凸構造付与の工程にフィードバックしたりすることが求められる。
【０００５】
搬送されるフィルムの凹凸構造の高さを連続的に測定する方法としては、フィルムの搬送経路において、凹凸構造が設けられた領域とそれ以外の領域におけるフィルム厚み方向におけるフィルム表面の高さを、トラバース即ちフィルム幅方向に往復する計測器により測定し、その測定値に基づいて凹凸構造の高さを計算することが知られている（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００３−１１４１０８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
特許文献１に記載されるトラバースによる測定では、凹凸構造の高さの測定の精度が低く、光学フィルムのフィルムロールに付与するナール等、精密な高さ制御が求められる凹凸構造の高さの測定には不十分であるという問題点がある。
【０００８】
従って、本発明の目的は、搬送されるフィルムにおける凹凸構造の高さ測定を精密に行いうる、凹凸構造の高さの測定方法、及び精密な凹凸構造の高さの測定により、高品質な凹凸構造付きフィルムを効率的に製造しうる、凹凸構造付きフィルムの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者は、上述した課題を解決するべく検討した結果、トラバースによる測定に代えて、搬送経路において固定された計測器を用いることにより、上記課題を解決しうることを見出した。本発明は、かかる知見に基づき完成された。
すなわち、本発明によれば、下記〔１〕〜〔２２〕が提供される。
【００１０】
〔１〕  搬送経路において連続的に搬送される長尺のフィルムの表面の一部の領域ＲＨに凹凸構造を付与する工程（Ａ）、及び
前記搬送経路において、前記フィルムの前記凹凸構造の高さを測定する工程（Ｂ）
を含む、凹凸構造付きフィルムの製造方法であって、
前記工程（Ｂ）が、前記領域ＲＨにおける、フィルム厚み方向におけるフィルム表面の高さＨと、前記領域ＲＨの外の領域ＲＬにおける、フィルム厚み方向におけるフィルム表面の高さＬとを、固定された計測器により計測し、その差（Ｈ−Ｌ）を計算することを含む製造方法。
〔２〕  前記高さＨの計測は、
前記領域ＲＨ内における所定の幅の領域ＷＡに亘りフィルム幅方向に整列して分布する複数の測定点においてフィルム厚み方向におけるフィルム表面の高さを測定し、得られた複数の測定値群ＤＨに基づく計算により高さＨを求めることを含み、
前記高さＬの計測は、
前記領域ＲＬ内において、所定の幅の領域ＷＢに亘りフィルム幅方向に整列して分布する複数の測定点においてフィルム厚み方向におけるフィルム表面の高さを測定し、得られた複数の測定値群ＤＬに基づく計算により高さＬを求めることを含む、〔１〕に記載の製造方法。
〔３〕  前記高さＨを求めるための前記測定値群ＤＨに基づく計算が、前記測定値群ＤＨの平均を求め、これを前記高さＨとする計算であり、
前記高さＬを求めるための前記測定値群ＤＬに基づく計算が、前記測定値群ＤＬの平均を求め、これを前記高さＬとする計算である、〔２〕に記載の製造方法。
〔４〕  一つの前記領域ＷＡにおける測定点の個数がＮＨであり、
一つの前記領域ＷＢにおける測定点の個数がＮＬであり、
前記高さＨを求めるための前記測定値群ＤＨに基づく計算が、前記測定値群ＤＨのうち、上位ＸＨ個の測定値の平均を求め、これを高さＨとする計算であり、
前記高さＬを求めるための前記測定値群ＤＬに基づく計算が、前記測定値群ＤＬのうち、上位ＸＬ個の測定値の平均を求め、これを高さＬとする計算であり、
前記ＸＨが、２以上ＮＨ／２以下の範囲内で設定される個数であり、
前記ＸＬが、２以上ＮＬ以下の範囲内で設定される個数である、〔２〕に記載の製造方法。
〔５〕  前記差（Ｈ−Ｌ）の値の一つを求めるための前記高さＨの測定位置と前記高さＬの測定位置とが、フィルム幅方向に整列した位置である、〔１〕〜〔４〕のいずれか１項に記載の製造方法。
〔６〕  前記高さＨを測定する前記計測器と、前記高さＬを測定する前記計測器とが、同一の装置である、〔１〕〜〔５〕のいずれか１項に記載の製造方法。
〔７〕  前記領域ＲＨ、前記領域ＷＡ及び前記領域ＷＢが、前記フィルムの長尺方向に連続して延長する帯状の領域であり、前記領域ＷＡ及び前記領域ＷＢは幅方向に離隔し、前記領域ＷＡと前記領域ＷＢとの間隔は、搬送される前記フィルムの蛇行の幅より広い、〔２〕〜〔６〕のいずれか１項に記載の製造方法。
〔８〕  前記領域ＲＨ、前記領域ＷＡ及び前記領域ＷＢが、前記フィルムの長尺方向に連続して延長する帯状の領域であり、前記領域ＷＡ及び前記領域ＷＢは幅方向に離隔し、前記領域ＷＡと前記領域ＷＢとの間隔は、前記領域ＷＡの幅及び前記領域ＷＢの幅の平均よりも狭い、〔２〕〜〔７〕のいずれか１項に記載の製造方法。
〔９〕  前記工程（Ｂ）が複数回行われ、その周期が０．１秒以下である、〔１〕〜〔８〕のいずれか１項に記載の製造方法。
〔１０〕  前記工程（Ｂ）において測定された高さの値に基づいて、前記工程（Ａ）において付与される凹凸構造の高さをフィードバック制御する工程（Ｃ）をさらに含む、〔１〕〜〔９〕のいずれか１項に記載の製造方法。
〔１１〕  前記工程（Ｂ）の下流において、前記凹凸構造付きフィルムを巻回しフィルムロールとする工程（Ｄ）をさらに含み、
前記工程（Ａ）において、前記凹凸構造を、前記フィルムロールの巻内側ほど高さが高く、巻外側ほど高さが低くなるよう付与する、〔１〕〜〔１０〕のいずれか１項に記載の製造方法。
〔１２〕  前記領域ＲＨが、フィルム縁部の領域である、〔１〕〜〔１１〕のいずれか１項に記載の製造方法。
〔１３〕  搬送経路において連続的に搬送される、表面の一部の領域ＲＨに凹凸構造を有する長尺のフィルムの、前記凹凸構造の高さを測定する測定方法であって、
前記領域ＲＨにおける、フィルム厚み方向におけるフィルム表面の高さＨと、前記領域ＲＨの外の領域ＲＬにおける、フィルム厚み方向におけるフィルム表面の高さＬとを、固定された計測器により計測し、その差（Ｈ−Ｌ）を計算することを含む測定方法。
〔１４〕  前記高さＨの計測は、
前記領域ＲＨ内における所定の幅の領域ＷＡに亘りフィルム幅方向に整列して分布する複数の測定点においてフィルム厚み方向におけるフィルム表面の高さを測定し、得られた複数の測定値群ＤＨに基づく計算により高さＨを求めることを含み、
前記高さＬの計測は、
前記領域ＲＬ内において、所定の幅の領域ＷＢに亘りフィルム幅方向に整列して分布する複数の測定点においてフィルム厚み方向におけるフィルム表面の高さを測定し、得られた複数の測定値群ＤＬに基づく計算により高さＬを求めることを含む、〔１３〕に記載の測定方法。
〔１５〕  前記高さＨを求めるための前記測定値群ＤＨに基づく計算が、前記測定値群ＤＨの平均を求め、これを前記高さＨとする計算であり、
前記高さＬを求めるための前記測定値群ＤＬに基づく計算が、前記測定値群ＤＬの平均を求め、これを前記高さＬとする計算である、〔１４〕に記載の測定方法。
〔１６〕  一つの前記領域ＷＡにおける測定点の個数がＮＨであり、
一つの前記領域ＷＢにおける測定点の個数がＮＬであり、
前記高さＨを求めるための前記測定値群ＤＨに基づく計算が、前記測定値群ＤＨのうち、上位ＸＨ個の測定値の平均を求め、これを高さＨとする計算であり、
前記高さＬを求めるための前記測定値群ＤＬに基づく計算が、前記測定値群ＤＬのうち、上位ＸＬ個の測定値の平均を求め、これを高さＬとする計算であり、
前記ＸＨが、２以上ＮＨ／２以下の範囲内で設定される個数であり、
前記ＸＬが、２以上ＮＬ以下の範囲内で設定される個数である、〔１４〕に記載の測定方法。
〔１７〕  前記差（Ｈ−Ｌ）の値の一つを求めるための前記高さＨの測定位置と前記高さＬの測定位置とが、フィルム幅方向に整列した位置である、〔１３〕〜〔１６〕のいずれか１項に記載の測定方法。
〔１８〕  前記高さＨを測定する前記計測器と、前記高さＬを測定する前記計測器とが、同一の装置である、〔１３〕〜〔１７〕のいずれか１項に記載の測定方法。
〔１９〕  前記領域ＲＨ、前記領域ＷＡ及び前記領域ＷＢが、前記フィルムの長尺方向に連続して延長する帯状の領域であり、前記領域ＷＡ及び前記領域ＷＢは幅方向に離隔し、前記領域ＷＡと前記領域ＷＢとの間隔は、搬送される前記フィルムの蛇行の幅より広い、〔１４〕〜〔１８〕のいずれか１項に記載の測定方法。
〔２０〕  前記領域ＲＨ、前記領域ＷＡ及び前記領域ＷＢが、前記フィルムの長尺方向に連続して延長する帯状の領域であり、前記領域ＷＡ及び前記領域ＷＢは幅方向に離隔し、前記領域ＷＡと前記領域ＷＢとの間隔は、前記領域ＷＡの幅及び前記領域ＷＢの幅の平均よりも狭い、〔１４〕〜〔１９〕のいずれか１項に記載の測定方法。
〔２１〕  前記計測が複数回行われ、その周期が０．１秒以下である、〔１３〕〜〔２０〕のいずれか１項に記載の測定方法。
〔２２〕  前記領域ＲＨが、フィルム縁部の領域である、〔１３〕〜〔２１〕のいずれか１項に記載の測定方法。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の測定方法によれば、搬送されるフィルムにおける凹凸構造の高さ測定を精密に行いうる。また、本発明の凹凸構造付きフィルムの製造方法によれば、精密な凹凸構造の高さの測定により、高品質な凹凸構造付きフィルムを効率的に製造しうる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】図１は、本発明の製造方法の一実施形態を概略的に示す側面図である。
【図２】図２は、図１に示す実施形態における支持ロール３１の近傍を概略的に示す斜視図である。
【図３】図３は、図２における計測器４０Ａの受光器４２Ａにより取得された画像の例を示す概略図である。
【図４】図４は、図２における計測器４０Ｂの受光器４２Ｂにより取得された画像の例を示す概略図である。
【図５】図５は、図２におけるフィルム１２の領域Ｆを拡大して示す平面図である。
【図６】図６は、図５と同様のフィルム１２の領域Ｆを、従来技術による測定方法で測定する態様を説明する平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、実施形態及び例示物等を示して本発明について詳細に説明するが、本発明は以下に示す実施形態及び例示物等に限定されるものではなく、本発明の特許請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施してもよい。以下の説明において、本発明の方法を実施するための部材の構成要素の方向が「平行」とは、本発明の効果を著しく損なわない範囲内（例えば±５°）での誤差を含んでいてもよい。また、「長尺」のフィルムとは、フィルムの幅に対して、５倍以上の長さを有するものをいい、好ましくは１０倍若しくはそれ以上の長さを有し、具体的にはロール状に巻き取られて保管又は運搬される程度の長さを有するものをいう。
【００１４】
〔１．概要〕
本発明の凹凸構造付きフィルムの製造方法は、搬送経路において連続的に搬送される長尺のフィルムの表面の一部の領域ＲＨに凹凸構造を付与する工程（Ａ）、及び搬送経路において、フィルムの凹凸構造の高さを測定する工程（Ｂ）を含む。
【００１５】
図１は、本発明の製造方法の一実施形態を概略的に示す側面図であり、図２は、図１に示す実施形態における支持ロール３１の近傍を概略的に示す斜視図である。この例において、凹凸構造付与前のフィルムのロール等の任意のフィルム供給手段（不図示）から供給されたフィルム１１は、搬送方向Ａ１に搬送される。製造ラインにおけるフィルムの流れ方向は、ＭＤ方向（ｍａｃｈｉｎｅ  ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ）とも呼ばれ、通常は搬送される長尺のフィルムの長手方向と平行である。さらに、ＭＤ方向に垂直で且つ搬送されるフィルム面に平行な方向はＴＤ方向（ｔｒａｖｅｒｓｅ  ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ）とも呼ばれ、通常は搬送される長尺のフィルムの幅方向と一致する。
【００１６】
〔２．工程（Ａ）〕
図１に示す例では、フィルム１１は凹凸構造付与装置２０へ搬送され、ここで、工程（Ａ）が行われる。図１に示す例では、凹凸構造付与装置２０は、凹凸構造を有するロール２１と、ゴムロール２２とを備え、これらによりフィルム１１を挟むことによりフィルム１１に凹凸構造１３を付与し、凹凸構造付きフィルム１２を形成する。但し本発明における工程（Ａ）を行う装置は、この例に限られず、凹凸構造を付与しうる任意の装置としうる。また、本願の各図は概略的な図であるため、凹凸構造１３はフィルム１２の寸法に比して大きく且つ疎に設けられた状態で示しているが、実際に製造されるフィルムにおける凹凸構造は、これらの図面で図示されるものより小さいものとしうるし、またより密に設けうる。
【００１７】
この例では、図２に示される通り、凹凸構造１３が付与された領域ＲＨは、フィルム１２の両方の幅方向端部１２Ｅに近接した縁部の、フィルムの長尺方向に連続して延長する帯状の領域であり、その間の凹凸構造１３が付与されていない領域を領域ＲＬとしている。凹凸構造付与装置２０において凹凸構造１３が付与されたフィルム１２は、続いて、支持ロール３１へ搬送され、ここで、工程（Ｂ）が行われる。
【００１８】
〔３．工程（Ｂ）、及び本発明の測定方法〕
本発明の製造方法の工程（Ｂ）、及び本発明の測定方法では、領域ＲＨにおける、フィルム厚み方向におけるフィルム表面の高さＨと、領域ＲＨの外の領域ＲＬにおける、フィルム厚み方向におけるフィルム表面の高さＬとを、固定された計測器により計測する。
【００１９】
図１及び図２の例では、フィルム１２は、支持ロール３１により支持され、その周面に沿って曲げられた搬送経路に沿って搬送され、ここで工程（Ｂ）が行われる。このように、搬送経路上の支持ロールの周面により支持された位置において測定を行うことにより、フィルム１２のばたつきにより発生しうる測定誤差を低減することができる。
【００２０】
工程（Ｂ）を行う計測器４０は、矢印４４及び４５方向に測定用の光を投光する投光器４１、投光器４１により投光された光を受光する受光器４２、及びこれらを支持する支持台４３を含む。支持台４３は、製造装置に支持具（不図示）により固定されており、従って、測定器４０は、搬送経路において固定された状態において、搬送されるフィルム１２の測定を行う。計測器４０は、必要に応じてコントローラ（不図示）と接続し、計測器４０により得られた情報をコントローラーで解析することにより、測定を行いうる。
【００２１】
図２に示す通り、この例では、計測器として、領域ＲＨにおける測定を行うための計測器４０Ａと、領域ＲＬにおける測定を行うための計測器４０Ｂの２つの計測器を用いている。図２においては、図示の便宜ため、計測器の支持台は省略している。また、図２に示す通りフィルム１２の両方の縁部に領域ＲＨを設ける場合、両方の領域において工程（Ｂ）を行いうるが、図２においては、図示の便宜のため、図中手前側の領域ＲＨの測定を行う装置のみを示している。
【００２２】
測定の操作において、計測器４０Ａの投光器４１Ａから矢印４４Ａ及び４５Ａ方向に投光された光は、受光器４２Ａで受光され、これにより、支持ロール３１で支持されているフィルム１２の領域ＲＨを観察する。一方、計測器４０Ｂの投光器４１Ｂから矢印４４Ｂ及び４５Ｂ方向に投光された光は、受光器４２Ｂで受光され、これにより、支持ロール３１で支持されているフィルム１２の領域ＲＬを観察する。
【００２３】
図２の例において示す通り、計測器４０Ａ及び４０Ｂは、好ましくは２次元寸法測定器の測定ヘッドである。本願において２次元寸法測定器とは、測定対象の２次元の画像を取得し、当該画像内の測定対象の位置を解析することにより、観察される測定対象の外形の寸法の測定を行う装置である。２次元寸法測定器の例としては、２次元寸法測定器  ＴＭ−３０００シリーズの測定ヘッドであるＴＭ−００６、ＴＭ−０４０、及びＴＭ−０６５（いずれも株式会社キーエンス社製）が挙げられる。また、好ましい態様において、高さＨの計測は、領域ＲＨ内における所定の幅の領域ＷＡに亘りフィルム幅方向に整列して分布する複数の測定点においてフィルム厚み方向におけるフィルム表面の高さを測定し、得られた複数の測定値群ＤＨに基づく計算により高さＨを求めることを含み、高さＬの計測は、領域ＲＬ内において、所定の幅の領域ＷＢに亘りフィルム幅方向に整列して分布する複数の測定点においてフィルム厚み方向におけるフィルム表面の高さを測定し、得られた複数の測定値群ＤＬに基づく計算により高さＬを求めることを含む。
【００２４】
２次元寸法測定器を用いたこのような測定の例を、図３及び図４を参照して説明する。図３は、図２における計測器４０Ａの受光器４２Ａにより取得された画像の例を示す概略図であり、図４は、図２における計測器４０Ｂの受光器４２Ｂにより取得された画像の例を示す概略図である。
【００２５】
図３において、画像４６Ａは、支持ロール３１により支持されて搬送されるフィルム１２の領域ＲＨ内における外形を観察した画像となる。また、画像４６Ａは、その上下方向がフィルム厚み方向に対応し、その左右方向が支持ロール３１の軸３Ｘと平行な方向に対応する。画像４６Ａにおいては、線５１Ａ及び５２Ａの間に所定の幅の領域ＷＡが設定される。このような画像４６Ａにより示される情報により、領域ＷＡ内の複数の位置における、フィルム厚み方向におけるフィルム表面の高さを同時に検出することができる。領域ＷＡ内において、フィルム１２の表面は、凹凸構造１３の頂部１３Ｔ及び斜面１３Ｓ、並びに凹凸構造１３の間の領域１３Ｓ等の様々な状態を有した外形として観察される。このように観察される領域ＷＡ内の複数の測定点において、フィルム表面の高さを検出して複数の測定値を求め、これを測定値群ＤＨとしうる。
高さＨを求めるための、測定値群ＤＨに基づく計算は、特に限定されず、高さＨの増減が実際の凹凸構造の高さの増減を反映するような、任意の計算を設定しうる。例えば、単に測定値群ＤＨの算術平均を求め、これを高さＨとしうる。この場合、高さＨとして、線５３Ａで示される、平均の高さの位置を求めることができる。
高さＨを求めるための、測定値群ＤＨに基づく計算の他の例としては、測定値群ＤＨのうち、上位ＸＨ個の測定値の平均を求め、これを高さＨとする計算が挙げられる。ここで個数ＸＨは、２個以上で、且つ、一つの前記領域ＷＡにおける測定点の個数ＮＨ以下の任意の値に設定しうる。好ましくは、ＸＨは、２以上ＮＨ／２以下の範囲内で設定しうる。より具体的には、測定点の個数ＮＨが１００個である場合、ＸＨは、好ましくは２以上５０以下の範囲で設定しうる。この例において、例えばＸＨを１０と設定した場合は、測定値群ＤＨのうち、最も高い測定値、２番目に高い測定値、３番目に高い測定値、・・・・及び１０番目に高い測定値の平均を求め、これを高さＨとする。ＸＨの値は、計算される高さＨが凹凸構造の高さを反映されるような値を適宜選択して設定しうる。
【００２６】
一方図４において、画像４６Ｂは、支持ロール３１により支持されて搬送されるフィルム１２の領域ＲＬ内における外形を観察した画像となる。画像４６Ａと同様画像４６Ｂにおいても、その上下方向がフィルム厚み方向に対応し、その左右方向が支持ロール３１の軸３Ｘと平行な方向に対応する。画像４６Ｂにおいては、線５１Ｂ及び５２Ｂの間に所定の幅の領域ＷＢが設定される。このような画像４６Ｂにより示される情報により、領域ＷＢ内の複数の位置における、フィルム厚み方向におけるフィルム表面の高さを同時に検出して複数の測定値を求め、これを測定値群ＤＬとしうる。
高さＬを求めるための、測定値群ＤＬに基づく計算は、特に限定されず、高さＬの増減が実際のフィルム表面の高さの増減を反映するような、任意の計算を設定しうる。例えば、単に測定値群ＤＬの算術平均を求め、これを高さＬとしうる。この場合、高さＬとして、線５３Ｂで示される、平均の高さの位置を求めることができる。
高さＬを求めるための、測定値群ＤＬに基づく計算の他の例としては、測定値群ＤＬのうち、上位ＸＬ個の測定値の平均を求め、これを高さＬとする計算が挙げられる。ここで個数ＸＬは、２個以上で、且つ、一つの前記領域ＷＡにおける測定点の個数ＮＬ以下の任意の値に設定しうる。個数ＸＬは、個数ＸＨと同じ値に設定してもよく、個数ＸＨとは異なる別の値を設定してもよい。ＸＬの値は、計算される高さＬがフィルム表面の高さを反映されるような値を適宜選択して設定しうる。
【００２７】
領域ＷＡにおける一つの高さＨの測定、及び領域ＷＢにおける一つの高さＬの測定において、複数の測定点において測定を行う場合、測定点の数の上限は、測定器の解像度に依存し、当該解像度において測定しうる測定点の数が上限となる。当該上限以下において、多数の測定点における測定を行うと、より信頼性の高い測定を行うことができる。一方測定点を少なくすることにより、情報処理の負荷を低減させることができる。一つの高さＨの測定又は一つの高さＬの測定における測定点の数は、好ましくは２個以上、より好ましくは５個以上であり、一方好ましくは１０００個以下、より好ましくは５００個以下である。
【００２８】
画像４６Ａにおいて線５３Ａで示される位置、及び画像４６Ｂにおいて線５３Ｂで示される位置が、フィルム高さ方向のどの位置であるかを、支持ロール３１の表面の位置等の共通の基準に基づいて決定することにより、当該基準からフィルム表面までの距離として、高さＨ及びＬを求めることができる。例えば、画像４６Ａにおいて観察される支持ロール３１の表面３１Ｓから線５３Ａで示される位置までの高さを高さＨとし、画像４６Ｂにおいて観察される支持ロール３１の表面３１Ｓから線５３Ｂで示される位置までの高さを高さＬとしうる。このように計算された高さＨ及びＬから、その差（Ｈ−Ｌ）を計算しうる。
【００２９】
画像４６Ａ及び画像４６Ｂのような一の画像において、複数の測定点における高さを求めることにより、フィルム幅方向に整列して分布する複数の測定点における測定を行うことができる。測定点がフィルム幅方向に整列するとは、複数の測定点がいずれも、フィルム幅方向に対して平行な一本の線上に位置することをいう。ただし、フィルム長尺方向に０．２１ｍｍ程度の誤差があってもよい。また、例えば、測定点の整列方向（図５の例であれば、線５３Ａ−１〜５３Ａ−８のそれぞれの延長方向）が、フィルム幅方向に対して完全に平行でなく、３°程度の誤差があってもよい。
【００３０】
領域ＲＨ、領域ＷＡ及び領域ＷＢは、フィルムの長尺方向に連続して延長する帯状の領域としうる。さらに、領域ＷＡ及び領域ＷＢは幅方向に離隔した領域としうる。また、差（Ｈ−Ｌ）の値の一つを求めるための高さＨの測定位置と高さＬの測定位置とは、フィルム幅方向に整列した位置であることが好ましい。また、工程（Ｂ）は複数回行なうことができる。
【００３１】
このような測定の具体例を、図５を参照して説明する。図５は、図２におけるフィルム１２の領域Ｆを拡大して示す平面図である。図５において、凹凸構造１３が付与された領域ＲＨは、線６１及び６２で囲まれた領域であり、領域ＲＬは、線６２より、フィルム幅方向の内側（図中左側）の領域である。図３及び図４において示した、線５１Ａ及び５２Ａの間の複数の測定点が分布する領域ＷＡ並びに線５１Ｂ及び５２Ｂの間の複数の測定点が分布する領域ＷＢは、図５においても同一の符号を付して示している。図５に示す通り、領域ＷＡ及び領域ＷＢは、フィルムの長尺方向に連続して延長する帯状の領域である。さらに、領域ＷＡ及び領域ＷＢは幅方向に離隔し、その間隔は矢印ＷＣで示される。
【００３２】
図５において、線５３Ａ−１〜５３Ａ−８のそれぞれは、１回の高さＨの測定における複数の測定点の位置が、フィルム表面においてフィルム幅方向に整列して分布する位置を示している。例えば、線５３Ａ−１の一方の端部から他方の端部までの間に、１回の高さＨの測定における複数の測定点の位置が分布する。同様に、線５３Ｂ−１〜５３Ｂ−８のそれぞれは、１回の高さＬの測定における複数の測定点の位置が、フィルム表面においてフィルム幅方向に整列して分布する位置を示している。線５３Ａ−１と線５３Ｂ−１とは、フィルム幅方向に整列している。同様に、線５３Ａ−２、線５３Ａ−３、・・・は、それぞれ、線５３Ｂ−２、線５３Ｂ−３、・・・と、フィルム幅方向に整列している。
【００３３】
このような配置の測定点において、線５３Ａ−１で測定した高さＨと、線５３Ｂ−１で測定した高さＬとの差を求めることにより、フィルム幅方向に整列した位置における差（Ｈ−Ｌ）の値の一つを求めることができる。同様に、線５３Ａ−２で測定した高さＨと線５３Ｂ−２で測定した高さＬとの差、線５３Ａ−３で測定した高さＨと線５３Ｂ−３で測定した高さＬとの差、線５４Ａ−３で測定した高さＨと線５４Ｂ−３で測定した高さＬとの差、・・・をそれぞれ求めることにより、フィルム幅方向に整列した位置における差（Ｈ−Ｌ）の値の一つずつを求めることができる。このような測定は、計測器４０Ａと計測器４０Ｂとの測定のタイミングを同期させることにより行いうる。
【００３４】
但し、本発明はこれに限られず、計測器４０Ａと計測器４０Ｂとの測定のタイミングは同期していなくてもよい。例えば、計測器４０Ａの測定の周期と、計測器４０Ｂの測定の周期とを同じ値に設定し、且つ測定開始のタイミングのみを揃えた状態で、複数回の測定を行いうる。この場合、例えば、１番目の測定で得られたＨの値と１番目の測定で得られたＬの値との差、２番目の測定で得られたＨの値と２番目の測定で得られたＬの値との差、３番目の測定で得られたＨの値と３番目の測定で得られたＬの値との差、・・・を順次求めることにより、差（Ｈ−Ｌ）の値の一つずつを求めることができる。この場合、差（Ｈ−Ｌ）の値の一つを求めるための高さＨの測定位置と高さＬの測定位置とは、フィルム長さ方向に、１０ｍｍ程度のずれがあってもよい。
【００３５】
上に説明した工程（Ｂ）を採用することによる本発明の効果を、図６に示す従来技術との対比により説明する。図６は、図５と同様のフィルム１２の領域Ｆを、従来技術による測定方法で測定する態様を説明する平面図である。図６に示す従来技術による測定方法では、ある点におけるフィルムの高さを測定することができる測定装置を、線６３から線６４までの間をトラバース即ち幅方向に往復するよう駆動させることにより測定を行っており、従って、フィルム面上における測定点は、フィルム幅方向に対して斜めの線６９上に整列する。この例では、例えば線６１と６２との間の領域における複数の測定点の平均値と、線６２から６４までの領域及び線６１から６３までの領域における複数の測定点の平均値との差を求めることにより、凹凸構造１３の高さを求めることができる。
【００３６】
しかしながら、図６に示すトラバースによる測定を行った場合、計測器を駆動させることにより、計測器の位置が意図しない変動（例えば振動等）を来す場合がある。そのような意図しない変動により、測定結果には誤差が生じうる。これに対して、本発明における工程（Ｂ）では、高さＨ及び高さＬのいずれをも、固定された計測器により計測するため、計測器を駆動させる操作を行わない。その結果、計測器の駆動に基づく、意図しない変動による誤差を低減することができる。このような効果は、フィルムを高速で搬送させる場合等、測定を迅速に行う必要がある場合に特に有利である。したがって、本発明によれば、凹凸構造の高さをより精密に把握しながらも効率的な生産を行うことが可能となる。
【００３７】
また、搬送経路において搬送されるフィルムの厚み方向の位置は、搬送による運動のために変動しうる。例えば、支持ロール３１上のフィルム１２は、常に支持ロール３１の周面上に密接した状態で搬送されるとは限らず、一時的に支持ロール３１の周面から浮き上がることがある。また、支持ロール３１の軸３Ｘが偏心している場合、支持ロール３１の回転により、搬送されるフィルム１２の、フィルム厚み方向の位置が変動しうる。そのような場合において、図６に示すトラバースによる測定を行った場合、測定結果に誤差が生じうる。これに対して、本発明における工程（Ｂ）において、差（Ｈ−Ｌ）の値の一つを求めるための高さＨの測定位置と高さＬの測定位置とがフィルム幅方向に整列した位置であると、これらの測定を同時に行うこととなり、そのようなフィルムの厚み方向の位置の変動に基づく測定値の変動が、差を求めることにより相殺され、その結果、そのような変動による誤差を低減することができる。
【００３８】
また、搬送経路において搬送されるフィルムは、その幅方向に蛇行することがある。即ち、搬送経路上のある位置において、連続的に搬送されるフィルムを観察した場合、フィルムの位置が、幅方向に変動することがある。その場合において、領域ＲＨがフィルムの長尺方向に連続して延長する帯状の領域である場合は、領域ＲＨが通過する位置も幅方向に変動しうる。ここで、領域ＷＡ及び領域ＷＢが幅方向に離隔していることにより、かかる蛇行のため一時的に領域ＷＡが領域ＲＨから外れた位置になったり、領域ＷＢが領域ＲＨに重なったりすることを低減することができる。そのため、好ましい態様において、領域ＷＡと領域ＷＢとの間隔（図５において矢印ＷＣで示される間隔）は、搬送される前記フィルムの蛇行の幅より広いことが好ましい。フィルムの蛇行の幅は、実際にフィルムを搬送し、搬送されるフィルムの位置を観察することにより求めることができる。
【００３９】
一方で、領域ＷＡと領域ＷＢとの間隔が広すぎると、上で述べた、フィルムの一時的な浮き上がりや支持ロールの偏心等に基づくフィルムの厚み方向の位置の変動が、領域ＷＡと領域ＷＢとで相違する度合いが大きくなり、その結果、高さＨ及びＬを同時に測定することによりかかる変動が相殺される割合が低減しうる。そのため、領域ＷＡと領域ＷＢとの間隔（図５において矢印ＷＣで示される間隔）は、所定以下の狭い間隔であることが好ましい。具体的には、上述のようにフィルムが蛇行した場合でも領域ＷＡが領域ＲＨから外れた位置になったり、領域ＷＢが領域ＲＨに重なったりすることがない程度に近接していることが好ましく、領域ＷＡと領域ＷＢとの間隔は、領域ＷＡの幅及び領域ＷＢの幅の平均よりも狭いことが好ましい。
【００４０】
また、図６に示すトラバースによる測定を行った場合、凹凸構造の高さを、多数の測定値の平均値として求める場合、フィルムの長尺方向の長い領域において測定を行った結果に基づく平均値を求めることになる。これに対して、本発明における工程（Ｂ）において、高さＨを領域ＷＡに亘りフィルム幅方向に整列して分布する複数の測定点における測定値の平均として求め、高さＬを領域ＷＢに亘りフィルム幅方向に整列して分布する複数の測定点における測定値の平均として求めることにより、フィルムの長尺方向のより短い領域における測定で多数の測定値に基づく平均値を求めることができ、その結果、凹凸構造の高さの変動をより迅速に把握することができる。
【００４１】
工程（Ｂ）において、測定位置の、フィルム長尺方向のピッチ（図５において、矢印ＰＡ及びＰＢで示される）を狭くすることにより、工程（Ａ）で形成される凹凸構造の高さの変動をより迅速に把握することができる。工程（Ｂ）を短い周期で繰り返して複数回行うことにより、測定位置のピッチを狭くすることができる。具体的には例えば、工程（Ｂ）の周期は、好ましくは０．１秒以下、より好ましくは０．０１秒以下としうる。
【００４２】
本発明の製造方法におけるフィルムの搬送速度は、遅い程短いピッチの測定を容易に行うことができるが、一方、早い程効率的な生産が可能となる。好ましい搬送速度は、例えば５ｍ／分〜２００ｍ／分である。より好ましくは１０ｍ／分〜１００ｍ／分である。
【００４３】
上に説明した実施形態では、高さＨを測定する計測器と、高さＬを測定する計測器として、別々の計測器４０Ａ及び４０Ｂを用いている。しかしながら、本発明の製造方法はこれに限られず、例えば高さＨを測定する計測器と、高さＬを測定する計測器とを、同一の装置とすることができる。具体的には、領域ＷＡと領域ＷＢとを一つの画像において観察しうる計測器を用い、一つの画像内において領域ＷＡと領域ＷＢとを観察することにより、そのような同一の装置による測定を行いうる。そのような同一の装置による測定を行うことにより、計測器４０Ａと計測器４０Ｂとの測定のタイミングの同期を、より正確に行うことができ、その結果、差（Ｈ−Ｌ）の値の一つを求めるための高さＨの測定位置と高さＬの測定位置とのフィルム幅方向の整列を、より正確に達成しうる。
【００４４】
〔４．工程（Ｃ）〕
本発明の製造方法は、工程（Ｂ）において測定された高さの値に基づいて、工程（Ａ）において付与される凹凸構造の高さをフィードバック制御する工程（Ｃ）をさらに含みうる。
本願における凹凸構造の高さのフィードバック制御とは、工程（Ｂ）において測定された測定値と、凹凸構造の高さの目標値との偏差を小さくする制御である。具体的には、工程（Ｂ）において測定された測定値が凹凸構造の高さの目標値より大きい場合は工程（Ａ）において付与される凹凸構造の高さを小さくするよう制御し、工程（Ｂ）において測定された測定値が凹凸構造の高さの目標値より小さい場合は工程（Ａ）において付与される凹凸構造の高さを大きくするよう制御する。かかるフィードバック制御は、工程（Ｂ）で得られた測定値に基づき工程（Ａ）を行う装置を手動で調整して行うこともでき、工程（Ｂ）で得られた測定値に基づいて工程（Ａ）を行う装置を自動で調整して行うこともできる。
【００４５】
Ｈ及びＬが領域ＷＡ及びＷＢ内の複数の測定値の平均値である場合、差（Ｈ−Ｌ）の値は、例えばフィルム１２の平坦な面から凹凸構造頂部（図３における頂部１３Ｔ）までの高さよりは、低い値として算出される。しかしながらこのような場合であっても、かかる差（Ｈ−Ｌ）の値は、凹凸構造頂部の高さとも相関するので、凹凸構造の高さのフィードバック制御に有効に用いうる。
【００４６】
差（Ｈ−Ｌ）の目標値は、所望の高さの凹凸構造が得られるよう適宜設定しうる。例えば、凹凸構造として、長尺のフィルムを巻回する際のフィルムの取り扱い性の向上のためのナールを形成する場合、差（Ｈ−Ｌ）の目標値は、例えば３〜１００μｍの範囲内、好ましくは５〜５０μｍの範囲内において適宜設定しうる。
【００４７】
工程（Ａ）において付与される凹凸構造の高さは、工程（Ａ）において用いる凹凸構造付与装置の操作条件を適宜変更することにより調整しうる。例えば、凹凸構造付与装置として、図１に示すような凹凸構造を有するロール２１とゴムロール２２とを備える装置２０を用いる場合、これらによりフィルム１１を挟む圧力を変更することにより、凹凸構造１３の高さを調整しうる。
【００４８】
他に、凹凸構造付与装置として、例えばフィルムに厚みを有する層を印刷によって付与する装置を用いる場合は、印刷の条件を変更して凹凸構造を構成する印刷層の厚みを変更することにより、凹凸構造の高さを調整しうる。また例えばレーザーにより凹凸構造を付与する装置を用いる場合は、レーザー出力を変更することにより、凹凸構造の高さを調整しうる。
【００４９】
〔５．工程（Ｄ）〕
本発明の製造方法は、工程（Ｂ）の下流において、凹凸構造付きフィルムを巻回しフィルムロールとする工程（Ｄ）をさらに含みうる。そのようなロールを形成することにより、本発明の製造方法により製造された凹凸構造付きフィルムを容易に保存及び輸送することが可能となる。
【００５０】
このようなフィルムロールを形成する場合、工程（Ａ）において、凹凸構造を、フィルムロールの巻内側（即ちフィルムロールの芯に近い部分）ほど高さが高く、巻外側（即ちフィルムロールの芯から遠い部分）ほど高さが低くなるよう付与することが好ましい。一般にフィルムロールにおいては、中心に近い部分ほど、フィルムの面間に働く圧力が高くなるため、巻内側ほど高さが高く、巻外側ほど高さが低い凹凸構造を付与することにより、ナールとして均一に機能する凹凸構造とすることができる。
【００５１】
このようなフィルムロールは、具体的には、連続的な凹凸構造付きフィルムの製造の開始直後には高い凹凸構造を付与し、その後順次凹凸構造を低くしていくよう、凹凸構造の高さを制御し、そのように凹凸構造を付与したフィルムを巻回することにより製造しうる。本発明の製造方法によれば、工程（Ｂ）において精密な凹凸構造の高さ測定を容易に行うことができるので、そのような態様の凹凸構造を有するフィルムロールを容易に得ることができる。
【００５２】
〔６．凹凸構造付きフィルムの用途〕
本発明の製造方法で製造される凹凸構造付きフィルムの用途は、特に限定されず、当該フィルムにおける凹凸構造の機能も、特に限定されない。凹凸構造付きフィルムの好ましい例としては、光学フィルムが挙げられる。また、当該光学フィルムにおける凹凸構造の好ましい例としては、フィルムを巻回する際のフィルムの取り扱い性の向上のためのナールとして機能するものが挙げられる。そのようなナールは、図２及び図５に示す例のように、フィルム縁部に施されたナールとしうる。このようなナールを施すことにより、凹凸構造付きフィルムを巻回しフィルムロールとした際に、ナールが施されていない部分における摩擦による傷の発生、フィルムのブロッキング等の不所望な現象が低減され、光学フィルムとしての凹凸構造付きフィルムを、品質を維持しながら容易に保存及び輸送することができる。
【００５３】
〔７．変形例〕
本発明の製造方法及び本発明の測定方法は、上に具体的に述べた例に限られず、これに様々な変更を施したものとしうる。
例えば、図２及び図５に示した例では、領域ＲＨの外の領域ＲＬとしては、領域ＲＨよりもフィルム幅方向内側の領域を設定したが、本発明はこれに限られず、領域ＲＨよりもフィルム幅方向内側の領域を領域ＲＬとしてもよい。但し、領域ＲＨよりもフィルム幅方向内側の領域の方が、搬送されるフィルムの厚み方向の位置の変動が少なく、こちらを領域ＲＬとした方が、より正確な測定を行いうる。
【００５４】
また例えば、図２及び図５に示した例では、領域ＲＨはフィルムの両縁部においてフィルムの長尺方向に連続して延長する帯状の領域としたが、本発明はこれに限られず、領域ＲＨはフィルムの片方の縁部のみに設けてもよく、フィルムの中央部に設けてもよい。また、必要に応じて、フィルムの長尺方向において不連続な部分があってもよい。
【００５５】
また例えば、図１〜図５に示した例では、計測器として２次元寸法測定器の測定ヘッドを用いたが、本発明はこれに限られず、例えば２次元寸法測定器に代えて、立体の３次元形状を連続的に測定しうる３次元寸法計測器を用いてもよい。
【００５６】
また、本発明の製造方法において、工程（Ｃ）及び（Ｄ）は任意である。工程（Ｃ）を行わない場合は、例えば単に凹凸構造の高さが目標値内におさまったものだけを選別して最終製品とすることができる。
【００５７】
〔８．フィルムの形状〕
本発明の測定方法及び製造方法に供するフィルムの寸法は、特に限定されず、製品として所望される任意の寸法としうる。フィルムの厚みは、好ましくは１〜１０００μｍ、より好ましくは５μｍ〜３００μｍ、さらにより好ましくは１０μｍ〜１５０μｍとしうる。また、フィルムの幅は、好ましくは７００〜２５００ｍｍ、より好ましくは１０００ｍｍ〜２２００ｍｍ、さらにより好ましくは１２００ｍｍ〜２０００ｍｍ。フィルムの長さは、長尺である限り特に限定されず、例えば１０〜１００００ｍとしうる。
【００５８】
凹凸構造付きフィルムの凹凸構造の寸法も、特に限定されず、製品として所望される任意の寸法としうる。例えば、凹凸構造の高さの平均値を０．０１〜１０００μｍとしうる。
【００５９】
〔９．フィルムの材料〕
本発明の測定方法及び製造方法に供するフィルムの材料は、特に限定されず、各種のフィルムを用いうる。フィルムは、延伸フィルムであってもよく、未延伸フィルムであってもよい。
【００６０】
凹凸構造付きフィルムを光学フィルムとして使用する場合には、フィルムは、光学部材としての機能を発揮する観点から、通常は高い透明性を有していることが好ましい。具体的には、フィルムの全光線透過率は、８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。ここで、全光線透過率は、ＪＩＳ  Ｋ７１０５に準拠して、日本電色工業社製「濁度計  ＮＤＨ−２０００」を用いて、５箇所測定し、それから求めた平均値である。
【００６１】
また、凹凸構造付きフィルムを光学フィルムとして使用する場合には、フィルムは、通常、ヘイズが小さいことが好ましい。具体的には、フィルムのヘイズは、好ましくは５％以下、より好ましくは３％以下、特に好ましくは２％以下である。ヘイズを低い値とすることにより、凹凸構造付きフィルムから切り出したフィルム片を表示装置に組み込んだ場合に、その表示装置の表示画像の鮮明性を高めることができる。ここで、ヘイズは、日本電色工業社製の濁度計「ＮＤＨ２０００」を用いて測定できる。
【００６２】
本発明に用いるフィルムは通常、各種の重合体を含む、熱可塑性樹脂の層を１層以上備えるフィルムである。かかる重合体としては、炭化水素重合体、（メタ）アクリル重合体およびポリエステル等が挙げられる。
【００６３】
本発明の製造方法に供するフィルムは、炭化水素重合体を含むことが好ましい。「炭化水素重合体を含む」フィルムには、炭化水素重合体を含む樹脂の層を１層以上備えるフィルム、及び炭化水素重合体を含む樹脂の層の１層以上と、その他の層を１層以上とを備えるフィルムの両方が含まれる。
【００６４】
炭化水素重合体とは、重合体の繰り返し単位の少なくとも一部が、炭化水素基である重合体をいう。炭化水素重合体中の、繰り返し単位である炭化水素基の割合は、使用目的に応じて適宜選択しうるが、好ましくは５５重量％以上、さらに好ましくは７０重量％以上、特に好ましくは９０重量％以上である。
【００６５】
炭化水素重合体としては、脂環式構造含有重合体が好ましい。脂環式構造含有重合体とは、重合体の繰り返し単位中に脂環式構造を有する重合体であり、主鎖に脂環式構造を有する重合体、及び、側鎖に脂環式構造を有する重合体のいずれであってもよい。中でも、機械的強度、耐熱性などの観点から、主鎖に脂環式構造を含有する重合体が好ましい。
【００６６】
脂環式構造としては、例えば、飽和脂環式炭化水素（シクロアルカン）構造、不飽和脂環式炭化水素（シクロアルケン、シクロアルキン）構造などが挙げられる。中でも、機械強度、耐熱性などの観点から、シクロアルカン構造及びシクロアルケン構造が好ましく、中でもシクロアルカン構造が特に好ましい。
【００６７】
脂環式構造を構成する炭素原子数は、一つの脂環式構造あたり、好ましくは４個以上、より好ましくは５個以上であり、好ましくは３０個以下、より好ましくは２０個以下、特に好ましくは１５個以下の範囲であるときに、機械強度、耐熱性、及びフィルムの成形性が高度にバランスされ、好適である。
【００６８】
脂環式構造含有重合体中の脂環式構造を有する繰り返し単位の割合は、使用目的に応じて適宜選択しうるが、好ましくは５５重量％以上、さらに好ましくは７０重量％以上、特に好ましくは９０重量％以上である。脂環式構造含有重合体中の脂環式構造を有する繰り返し単位の割合がこの範囲にあると、フィルムの透明性および耐熱性の観点から好ましい。
【００６９】
脂環式構造含有重合体としては、例えば、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、ビニル脂環式炭化水素系重合体、及び、これらの水素化物等を挙げることができる。これらの中で、ノルボルネン系重合体は、透明性と成形性が良好なため、好適に用いることができる。
【００７０】
ノルボルネン系重合体としては、例えば、ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体、若しくはノルボルネン構造を有する単量体と他の単量体との開環共重合体、又はそれらの水素化物；ノルボルネン構造を有する単量体の付加重合体、若しくはノルボルネン構造を有する単量体と他の単量体との付加共重合体、又はそれらの水素化物；等を挙げることができる。これらの中で、ノルボルネン構造を有する単量体の開環（共）重合体水素化物は、透明性、成形性、耐熱性、低吸湿性、寸法安定性、軽量性などの観点から、特に好適に用いることができる。「（共）重合体」とは、重合体及び共重合体のことをいう。
【００７１】
ノルボルネン構造を有する単量体としては、例えば、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン（慣用名：ノルボルネン）、トリシクロ［４．３．０．１２，５］デカ−３，７−ジエン（慣用名：ジシクロペンタジエン）、７，８−ベンゾトリシクロ［４．３．０．１２，５］デカ−３−エン（慣用名：メタノテトラヒドロフルオレン）、テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］ドデカ−３−エン（慣用名：テトラシクロドデセン）、およびこれらの化合物の誘導体（例えば、環に置換基を有するもの）などを挙げることができる。ここで、置換基としては、例えばアルキル基、アルキレン基、極性基などを挙げることができる。また、これらの置換基は、同一または相異なって、複数個が環に結合していてもよい。ノルボルネン構造を有する単量体は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【００７２】
極性基の種類としては、例えば、ヘテロ原子、またはヘテロ原子を有する原子団などが挙げられる。ヘテロ原子としては、例えば、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ケイ素原子、ハロゲン原子などが挙げられる。極性基の具体例としては、カルボキシル基、カルボニルオキシカルボニル基、エポキシ基、ヒドロキシル基、オキシ基、エステル基、シラノール基、シリル基、アミノ基、ニトリル基、スルホン酸基などが挙げられる。
【００７３】
ノルボルネン構造を有する単量体と開環共重合可能な他の単量体としては、例えば、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテンなどのモノ環状オレフィン類およびその誘導体；シクロヘキサジエン、シクロヘプタジエンなどの環状共役ジエンおよびその誘導体；などが挙げられる。ノルボルネン構造を有する単量体と開環共重合可能な他の単量体は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【００７４】
ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体、およびノルボルネン構造を有する単量体と共重合可能な他の単量体との開環共重合体は、例えば、単量体を公知の開環重合触媒の存在下に重合又は共重合することにより得ることができる。
【００７５】
ノルボルネン構造を有する単量体と付加共重合可能な他の単量体としては、例えば、エチレン、プロピレン、１−ブテンなどの炭素数２〜２０のα−オレフィンおよびこれらの誘導体；シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセンなどのシクロオレフィンおよびこれらの誘導体；１，４−ヘキサジエン、４−メチル−１，４−ヘキサジエン、５−メチル−１，４−ヘキサジエンなどの非共役ジエン；などが挙げられる。これらの中でも、α−オレフィンが好ましく、エチレンがより好ましい。ノルボルネン構造を有する単量体と付加共重合可能な他の単量体は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【００７６】
ノルボルネン構造を有する単量体の付加重合体、およびノルボルネン構造を有する単量体と共重合可能な他の単量体との付加共重合体は、例えば、単量体を公知の付加重合触媒の存在下に重合又は共重合することにより得ることができる。
【００７７】
単環の環状オレフィン系重合体としては、例えば、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン等の単環を有する環状オレフィン系モノマーの付加重合体を挙げることができる。
【００７８】
環状共役ジエン系重合体としては、例えば、１，３−ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等の共役ジエン系モノマーの付加重合体を環化反応して得られる重合体；シクロペンタジエン、シクロヘキサジエン等の環状共役ジエン系モノマーの１，２−または１，４−付加重合体；およびこれらの水素化物；などを挙げることができる。
【００７９】
ビニル脂環式炭化水素重合体としては、例えば、ビニルシクロヘキセン、ビニルシクロヘキサン等のビニル脂環式炭化水素系モノマーの重合体およびその水素化物；スチレン、α−メチルスチレン等のビニル芳香族炭化水素系モノマーを重合してなる重合体に含まれる芳香環部分を水素化してなる水素化物；ビニル脂環式炭化水素系モノマー、またはビニル芳香族炭化水素系モノマーとこれらビニル芳香族炭化水素系モノマーに対して共重合可能な他のモノマーとのランダム共重合体若しくはブロック共重合体等の共重合体の、芳香環の水素化物；等を挙げることができる。前記のブロック共重合体としては、例えば、ジブロック共重合体、トリブロック共重合体またはそれ以上のマルチブロック共重合体、並びに傾斜ブロック共重合体等を挙げることもできる。
【００８０】
炭化水素重合体の分子量は使用目的に応じて適宜選定されるが、溶媒としてシクロヘキサンを用いて（但し、試料がシクロヘキサンに溶解しない場合にはトルエンを用いてもよい）ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーで測定したポリイソプレンまたはポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）で、通常１０，０００以上、好ましくは１５，０００以上、より好ましくは２０，０００以上であり、通常１００，０００以下、好ましくは８０，０００以下、より好ましくは５０，０００以下である。重量平均分子量がこのような範囲にあるときに、フィルムの機械的強度および成型加工性が高度にバランスされ好適である。
【００８１】
炭化水素重合体の分子量分布（重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ））は通常１．２以上、好ましくは１．５以上、更に好ましくは１．８以上であり、通常３．５以下、好ましくは３．０以下、更に好ましくは２．７以下である。凹凸構造付きフィルムを光学フィルムとして使用する場合、炭化水素重合体の分子量分布が３．５を超えると低分子成分が増すため緩和時間の短い成分が増加し、一見同じ面内レターデーションＲｅを有するフィルムであっても高温暴露時の緩和が短時間で大きくなることが推定され、フィルムの安定性が低下するおそれがある。一方、分子量分布が１．２を下回るようなものは炭化水素重合体の生産性の低下とコスト増につながりうる。
【００８２】
炭化水素重合体のガラス転移温度は、使用目的に応じて適宜選択しうるが、好ましくは１３０℃以上、より好ましくは１３５℃以上であり、好ましくは１５０℃以下、より好ましくは１４５℃以下である。ガラス転移温度が１３０℃を下回ると高温下における耐久性が悪化する可能性があり、１５０℃を上回るものは耐久性は向上するが通常の延伸加工が困難となる可能性がある。
【００８３】
フィルムを構成する樹脂の層は、本発明の効果を著しく損なわない限り、脂環式構造含有重合体等の重合体に加えて、それ以外の任意成分を含んでいてもよい。任意成分の例を挙げると、顔料、染料等の着色剤；蛍光増白剤；分散剤；熱安定剤；光安定剤；紫外線吸収剤；耐電防止剤；酸化防止剤；滑剤；などの添加剤が挙げられる。なお、任意成分は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。ただし、フィルムを構成する樹脂の層は、脂環式構造含有重合体等の重合体を、一般的には約５０％〜１００％、または約７０％〜１００％含むことが好ましい。
【００８４】
本発明に用いるフィルムは、樹脂を公知のフィルム成形法で成形することによって得られる。フィルム成形法としては、例えば、キャスト成形法、押出成形法、インフレーション成形法などが挙げられる。中でも、溶剤を使用しない溶融押出法の方が、残留揮発成分量を効率よく低減させることができ、地球環境や作業環境の観点、及び製造効率に優れる観点から好ましい。溶融押出法としては、ダイスを用いるインフレーション法などが挙げられるが、生産性や厚さ精度に優れる点でＴダイを用いる方法が好ましい。得られた樹脂の層は、そのまま本発明の製造方法に供するフィルムとして用いることができる。または、得られた樹脂の層の表面上に、任意に易滑層、帯電防止層等の任意の層を形成し、これを本発明に用いるフィルムとすることもできる。
【実施例】
【００８５】
以下、実施例を示して本発明について具体的に説明するが、本発明は以下に示す実施例に限定されるものではなく、本発明の特許請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施してもよい。以下に述べる操作は、特に断らない限り、常温常圧の環境において行った。
【００８６】
＜実施例１＞
（１−１．フィルムの調製）
脂環式構造含有重合体樹脂（日本ゼオン社製「ＺＥＯＮＯＲ」；ガラス転移温度１３５℃）のペレットを、空気を流通させた熱風乾燥器を用いて７０℃で２時間乾燥した後、直径６５ｍｍのスクリューを備えた樹脂溶融混練機を有するＴダイ式フィルム溶融押出し成形機を使用し、溶融樹脂温度２７０℃、Ｔダイの幅１５００ｍｍの成形条件で、厚さ２０μｍ、幅１２００ｍｍ、長さ４０００ｍのフィルムを調製した。
【００８７】
（１−２．工程（Ａ）：凹凸構造の付与）
図１〜図４に概略的に示す装置を用いて、凹凸構造を付与する工程（Ａ）及び凹凸構造の高さを測定する工程（Ｂ）を行った。
（１−１）で調製したフィルム１２を、凹凸構造付与装置２０に、搬送速度２５ｍ／分で搬送した。フィルム１２の両端の縁部の領域ＲＨに、凹凸構造を有するロール２１を押し当てること、フィルムに凹凸構造を転写し、凹凸構造を付与し、凹凸構造付きフィルムを得た。領域ＲＨの幅は１５ｍｍとし、その間の領域ＲＬの幅は１１６０ｍｍとした。
【００８８】
（１−３．工程（Ｂ）：凹凸構造の高さの測定）
（１−２）で得られた凹凸構造付きフィルムを、支持ロール３１に導き、固定された計測器４０Ａ及び４０Ｂを用いて、フィルム表面の領域ＲＨ内の領域ＷＡの平均高さＨ及び領域ＲＬ内の領域ＷＢの平均高さＬを計測した。計測器としては、それぞれ、２次元寸法測定器ＴＭ−０４０（測定ヘッド）を用いた。それぞれの測定器で取得した情報は、それぞれの測定器に一台ずつ接続したコントローラー（商品名「ＴＭ−３０００」、株式会社キーエンス社製）にて解析し、高さＨ及びＬを求め、さらにそれらの差（Ｈ−Ｌ）を計算した。計測の具体的な手順は、下記の通りである。
【００８９】
（ｉ）領域ＷＡの平均高さＨの１回の測定においては、線５１Ａ及び５２Ａの間の幅４ｍｍの領域において、フィルム幅方向に一列に整列して等間隔に分布する１００個の測定点においてフィルム厚み方向におけるフィルム表面の高さを測定し、得られた複数の測定値の平均を計算して高さＨとした。
【００９０】
（ｉｉ）  領域ＷＢの平均高さＢの１回の測定においては、線５１Ｂ及び５２Ｂの間の幅５ｍｍの領域において、フィルム幅方向に一列に整列して等間隔に分布する１００個の測定点においてフィルム厚み方向におけるフィルム表面の高さを測定し、得られた複数の測定値の平均を計算して高さＬとした。領域ＷＡと領域ＷＢとの間隔（図５における矢印ＷＣで示される距離に対応）は、１０ｍｍとした。
【００９１】
（ｉｉｉ）  一つのＨの測定値と、一つのＬの測定値とから、差（Ｈ−Ｌ）を求めた。
【００９２】
（ｉｖ）  （ｉ）〜（ｉｉｉ）を、周期０．０１秒で繰り返し、フィルム１２を４０００ｍに亘り測定した。計測器４０Ａによる測定及び計測器４０Ｂによる測定は特に同期させなかった。但し、測定開始のタイミングは同時とし、１番目の測定で得られたＨの値と１番目の測定で得られたＬの値との差、２番目の測定で得られたＨの値と２番目の測定で得られたＬの値との差、３番目の測定で得られたＨの値と３番目の測定で得られたＬの値との差、・・・を順次求めることにより、差（Ｈ−Ｌ）の値の一つずつを求めた。差（Ｈ−Ｌ）の値の一つを求めるための高さＨの測定位置と高さＬの測定位置とは、フィルム長さ方向に、最大１０ｍｍずれていた。フィルム搬送速度は工程（Ａ）と同じく２５ｍ／分とした。その結果、９６００００個の、（Ｈ−Ｌ）の測定値を得た。
【００９３】
（１−４．工程（Ｄ））
工程（Ｂ）の下流において、凹凸構造付きフィルムを巻回しフィルムロールとした。
【００９４】
（１−５．評価）
（１−３）で得られた９６００００個の（Ｈ−Ｌ）の値の標準偏差σを求めたところ１．７μｍであった。
【００９５】
＜実施例２＞
測定対象として、実施例１の工程（１−４）で得られたフィルムロールから繰り出したフィルムを用いたこと、及び（１−３）（ｉ）の線５１Ａ及び５２Ａの間の領域の幅、及び（ｉｉ）の線５１Ｂ及び５２Ｂの間の領域の幅を２ｍｍに変更したこと以外は、実施例１の（１−３）〜（１−５）と同様にして、フィルム１２を４０００ｍに亘り測定し、標準偏差を求めた。その結果、標準偏差σは１．８μｍであった。
【００９６】
＜実施例３〜４＞
（１−３）（ｉ）の線５１Ａ及び５２Ａの間の領域の幅、及び（ｉｉ）の線５１Ｂ及び５２Ｂの間の領域の幅を、０．５ｍｍ（実施例３）又は８ｍｍ（実施例４）に変更した他は、実施例２と同様にして、フィルム１２を４０００ｍに亘り測定し、標準偏差を求めた。その結果、標準偏差σは実施例３は１．９μｍ、実施例４は１．６μｍであった。
【００９７】
＜実施例５＞
以下の点以外は、実施例２と同様にして、フィルム１２を４０００ｍに亘り測定し、標準偏差を求めた。
・（１−３）（ｉ）の線５１Ａ及び５２Ａの間の領域の幅、及び（ｉｉ）の線５１Ｂ及び５２Ｂの間の領域の幅は、実施例１と同じく５ｍｍとする一方、計測器４０Ａによる測定及び計測器４０Ｂによる測定を、外部入力信号により同期させ、その結果、差（Ｈ−Ｌ）の値の個々を求めるための高さＨの測定位置と高さＬの測定位置とが、フィルム幅方向に整列した位置となるようにした。
その結果、標準偏差σは１．４μｍであった。
【００９８】
＜実施例６＞
以下の点以外は、実施例５と同様にして、フィルム１２を４０００ｍに亘り測定し、標準偏差を求めた。
・（１−３）において、高さＨを測定する計測器と、高さＬを測定する計測器とを、同一の装置とした。即ち、領域ＷＡ及び領域ＷＢを、一台の計測器（２次元寸法測定器測定ヘッド、商品名「ＴＭ−０４０」、株式会社キーエンス社製）で観察し、取得した情報を、一台のコントローラー（商品名「ＴＭ−３０００」、株式会社キーエンス社製）にて解析し、領域ＷＡにおける高さＨ及び領域ＷＢにおける高さＬ、ならびにこれらの差（Ｈ−Ｌ）を計算した。したがって、差（Ｈ−Ｌ）の値の個々を求めるための高さＨの測定位置と高さＬの測定位置とが、実施例５よりさらに正確に、フィルム幅方向に整列した位置となった。
その結果、標準偏差σは１．３μｍであった。
【００９９】
＜実施例７＞
領域ＷＡと領域ＷＢとの間隔を３ｍｍに変更した他は、実施例６と同様にして、フィルム１２を４０００ｍに亘り測定し、標準偏差を求めた。その結果、標準偏差σは１．１μｍであった。
【０１００】
＜比較例１＞
凹凸構造の高さを、領域ＲＨ及びＲＬの両方にわたりトラバースする計測器を用いて、実施例１〜７で測定に供した凹凸構造付きフィルム１２を４０００ｍに亘り測定した。
凹凸構造付きフィルムを、支持ロール３１に導き、フィルム表面の領域ＲＨ及びその外側の領域のフィルム表面の高さを、フィルム幅方向にトラバースする計測器を用いて計測した。計測器としては、寸法測定器（商品名「ＬＳ−９０３０」、株式会社キーエンス社製）を用い、当該測定器をトラバースさせながら、周期０．０１秒で繰り返し測定を行った。フィルム面上における測定点の軌跡は、図６に示す斜めの線６９に示す通りとした。トラバースの振幅（図６中の線６３〜６４間の距離）は３０ｍｍとし、領域ＲＨからフィルム縁部側へのトラバースの距離（図６中の線６１〜６３間の距離）は７．５ｍｍとし、領域ＲＨからフィルム中央部側へのトラバースの距離（図６中の線６２〜６４間の距離）は７．５ｍｍとした。トラバースの一往復の周期は５秒(１２ｍｍ／ｓｅｃ)とした。また、凹凸構造付きフィルムの搬送速度は実施例と同様２５ｍ／分とした。
【０１０１】
その結果、９６００００個の、フィルム表面の高さの測定値を得た。１回の片道のトラバースにおけるこれらの測定値の組（即ち、計測器が線６３の位置から線６４の位置へ移動する間の測定値の組、又は計測器が線６４の位置から線６３の位置へ移動する間の測定値の組）のうち、線６１と６２との間の測定値の平均Ｈ’と、線６２と６４との間及び線６１と６３との間の測定値の平均Ｌ’とを求め、これらの差（Ｈ’−Ｌ’）を計算した。得られた３８４０個の（Ｈ’−Ｌ’）の値の標準偏差σを求めたところ３．１μｍであった。
【０１０２】
実施例１〜７及び比較例１の結果を、表１にまとめて示す。
【０１０３】
【表１】
0006455198.tif 000002
【０１０４】
実施例１〜７及び比較例１においては、同じ一本の凹凸構造付きフィルムのロールを測定対象として測定を行っているため、測定の精密度が同じであれば、同じ標準偏差の値が得られるべきところ、標準偏差の値は、上に示した通り様々であった。本願発明の製造方法における工程（Ｂ）を採用した実施例１〜７における測定結果の標準偏差は、比較例１に比べて、小さい値となった。特に、高さＨと高さＬとの測定の同期を行った実施例５では、標準偏差σが小さく、さらに、一台の計測器で測定を行った実施例６〜７ではさらに標準偏差σが小さく、さらに、一台の計測器で測定を行った上測定位置の間隔を３ｍｍに狭めた実施例７では、特に小さい標準偏差σが得られた。
【符号の説明】
【０１０５】
１１：フィルム
１２：凹凸構造付きフィルム
１２Ｅ：フィルムの幅方向端部
１３：凹凸構造
１３Ｔ：凹凸構造の頂部
１３Ｓ：凹凸構造の斜面
１３Ｓ：凹凸構造の間の領域
２０：凹凸構造付与装置
２１：凹凸構造を有するロール
２２：ゴムロール
３１：支持ロール
３１Ｓ：支持ロールの表面
３Ｘ：支持ロールの軸
４０：計測器
４０Ａ：領域ＲＨにおける測定を行うための計測器
４０Ｂ：領域ＲＬにおける測定を行うための計測器
４１：投光器
４２：受光器
４３：支持台
４６Ａ：画像
４６Ｂ：画像
ＲＨ：凹凸構造が付与された領域
ＲＬ：凹凸構造が付与されていない領域
【図１】
0006455198.tif 000003
【図２】
0006455198.tif 000004
【図３】
0006455198.tif 000005
【図４】
0006455198.tif 000006
【図５】
0006455198.tif 000007
【図６】
0006455198.tif 000008