(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
広帯域光放射ソース（ＬＢＳ）と、
基準光学アーム（ＲＡ）と、
サンプルを走査する可動走査手段（Ｍ）であって、前記走査手段（Ｍ）の位置に対応する前記サンプルの一部分を照射するために前記ソースにより発射された光放射を受け、前記サンプルの表面に衝突する放射を生成し、前記サンプルから後方散乱放射を収集するように適合された可動走査手段（Ｍ）と、
前記基準アーム（ＲＡ）と前記走査手段（Ｍ）とにより収集された前記放射の再結合から生じる信号のスペクトルを再構成するように適合された少なくとも１つのセンサを有する信号検出アーム（ＭＡ）と、
前記ソース（ＬＢＳ）から前記走査手段及び前記基準アーム（ＲＡ）への、かつ、前記走査手段及び前記基準アーム（ＲＡ）から前記検出アーム（ＭＡ）への前記放射の通過を可能にするように適合されたビームスプリッタ手段と、
前記スペクトルを前記照射されたサンプルの部分の反射率プロファイルに変換し、それぞれがサンプルの部分に対応するとともにさらに前記走査手段の移動により得られる多くのプロファイルを並置することにより前記サンプルの像を生成するように適合された制御及び処理ユニット（ＣＵＰ）と、を備える光干渉断層撮影システムであって、
前記制御及び処理ユニットは、前記検出アーム（ＭＡ）内の前記センサの露出時間、及び、その結果として前記走査手段（Ｍ）により収集される前記信号の強度が、前記サンプルの表面に衝突する前記放射と前記衝突点における前記サンプルの表面の法線との角度が増加させられる、サンプルの表面の部分の照射に対応して走査位置が取られるにつれて次第に増加するように、前記露出時間を制御するように構成される、システム。
【請求項２】
前記サンプルの表面は曲面であり、
前記制御手段は、前記走査手段（Ｍ）により収集される前記信号の強度が、前記衝突する放射と前記反射された放射との方向分離が曲率により増加させられるサンプルの部分の照射に対応する位置において増加させられるように構成される、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記走査手段（Ｍ）は、前記曲面の対称の中心に位置合わせされるように適合された軸を中心として傾斜可能であり、
前記衝突する放射と前記反射された放射との方向分離が曲率により増加させられる前記サンプルの部分は、前記中心に対して累進的に遠く離されたサンプルの部分である、請求項２に記載のシステム。
【請求項４】
前記制御手段は、前記サンプルの表面に衝突する前記放射と前記衝突点における前記サンプルの表面の法線との角度が増加する走査位置が前記サンプルの部分に対応して取られるにつれて前記走査手段（Ｍ）の速度が次第に低下するように前記走査手段（Ｍ）を移動させるように適合される、請求項１〜３のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項５】
前記制御手段は、前記サンプルの表面に衝突する前記放射と前記衝突点における前記サンプルの表面の法線との角度が増加する走査位置が前記サンプルの部分に対応して取られるにつれて前記ソースにより発射される前記放射の強度を次第に増加するように適合される、請求項１〜４のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項６】
前記制御手段は、少なくとも前記走査手段（Ｍ）が、検査対象の前記サンプルの予備走査に基づいて制御されるように構成される、請求項１〜５のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項７】
検査対象の前記サンプルの形状に関する情報を得るように適合された角膜測定手段を備え又はそれに関連付けられ、
前記制御手段は、少なくとも前記走査手段（Ｍ）が前記角膜測定手段により得られる前記サンプルの形状に関する前記情報に基づいて制御されるように構成される、請求項１〜５のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項８】
前記制御手段は、少なくとも前記走査手段（Ｍ）が、走査工程毎に前記走査の前の工程から適応的に取り出された情報に基づき、前記サンプルの表面に衝突する放射と前記衝突点における前記サンプルの表面の法線とのなす角度を評価することにより制御されるように構成される、請求項１〜５のいずれか１項に記載のシステム。
【請求項９】
光干渉断層撮影方法であって、
サンプルは、その表面の広帯域光放射衝突部分に追随する後方散乱放射を収集することにより走査され、
センサは、光学基準アームと前記走査とにより収集された前記放射の再結合から生じる信号のスペクトルを再構成し、
前記スペクトルは、前記サンプルの部分の反射率プロファイルに変換され、
前記サンプルの像は、それぞれがサンプルの部分に対応する多くのプロファイルを並置することにより生成され、前記走査が走査速度で部分から部分へと進むにつれて得られ、
前記信号スペクトルの前記再構成において、前記センサの露出時間、及び、その結果として前記走査により収集された前記信号の強度は、前記サンプルの表面に衝突する前記放射と前記衝突点における前記サンプルの表面の法線との角度が増加させられる、サンプルの表面の部分内で前記走査が行われるにつれて次第に増加する、方法。
【請求項１０】
前記サンプルの表面は曲面であり、
前記走査手段（Ｍ）により収集される前記信号の強度は、前記衝突する放射と前記反射された放射との方向分離が曲率により増加させられるサンプルの部分の前記照射に対応する位置において増加させられる、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記走査速度は、前記走査が、前記サンプルの表面に衝突する前記放射と前記衝突点における前記サンプルの表面の法線との角度が増加するサンプルの部分内で行われるにつれて次第に低下する、請求項９又は１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記光放射の強度は、前記走査が、前記サンプルの表面に衝突する前記放射と前記衝突点における前記サンプルの表面の法線との角度が増加するサンプルの部分内で行われるにつれて次第に増加させられる、請求項９〜１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
少なくとも前記走査速度は、検査対象の前記サンプルの予備走査に基づいて制御される、請求項９〜１２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
少なくとも前記走査速度は、角膜測定手段により得られる前記サンプルの形状に関する情報に基づいて制御される、請求項９〜１２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】
少なくとも前記走査速度は、走査工程毎に前記走査の前の工程から適応的に取り出された情報に基づき、前記サンプルの表面に衝突する前記放射と前記衝突点における前記サンプルの表面の法線とのなす角度を評価することにより制御される、請求項９〜１２のいずれか１項に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
技術分野
本発明は、人体、特に、眼の内部構造を撮像するための機器の分野に関し、より具体的には、最適化光干渉断層撮影方法及びその関連システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
背景技術
位相分散光干渉断層撮影（phase-variance optical coherence tomography）とも呼ばれる光干渉断層撮影（ＯＣＴ：Optical coherence tomography）は、最も強力かつ広く普及した生医学撮像技術の１つであり、医学のいくつかの分野において用途を有する。眼科分野は同技術の開発と最適化とに著しく寄与してきた。
【０００３】
この技術では、観測対象サンプル／器官の構造に関係するいかなる情報も、サンプル／器官自体内の様々な光学特性を示す領域から反射及び／又は後方散乱される放射から導出される。
【０００４】
ＯＣＴ技術は、１μｍ〜数μｍの分解能を有する２次元又は３次元モデルの生成を可能にする。形態学的研究を可能にすることに加えて、ＯＣＴは、例えば流量（ドップラ効果による）及び複屈折（偏向変化による）などの解析対象サンプルの他の生物学的特性を明らかにし得る。
【０００５】
ＯＣＴは低コヒーレンス干渉法にその基礎を有する。ＯＣＴシステムの光学的設定はマイケルソン干渉計に基づいており、ＯＣＴシステムの動作モードは、使用される放射ソースのタイプと検出技術とに依存して判断される。現在、ＯＣＴ機器において使用される２つの主要な方式がある。
【０００６】
いわゆる時間領域ＯＣＴ（ＴＤ−ＯＣＴ：Time-Domain OCT）では、サンプルの反射率プロファイルは、サンプル光学アームから来る放射とその経路が一定の時間間隔内に修正される基準光学アームから来る放射とを干渉させることによって取得される。基準光学アームの移動により、反射を生じたサンプル部材の距離を測定する。
【０００７】
逆に、フーリエ領域ＯＣＴ（ＦＤ−ＯＣＴ：Fourier Domain OCT）は、広いスペクトル帯内の、サンプルアームから来る放射と基準光学アームから来る放射との干渉に起因するスペクトル縞を基準光学アーム内の部材の機械的併進の必要無しに１工程で記録する。様々なサンプル部材の距離の測定結果は、干渉計信号（interferogram signal）を処理することにより得られる。
【０００８】
上記第２の技術は、可動部品の存在を低減するという点で第１のものよりはるかに高速であり、また、高画質をもたらす信号対雑音比の観点で利点を有する。
【０００９】
第２のＦＤ−ＯＣＴ技術は次の２つの主実施形態に従って適用され得る。
−広帯域放射ソースと線型センサ（線型走査カメラ）によりその強度を測定する分光計とを使用することによりスペクトルを得るスペクトル領域ＯＣＴ（ＳＤ−ＯＣＴ：Spectral Domain OCT）、
−上記ソースにより発射された波長を非常に高速度で変化させることにより個々の放射線検出器によりスペクトルを得る掃引ソースＯＣＴ（ＳＳ−ＯＣＴ：Swept Source OCT）。
【００１０】
本発明の基礎となる基礎概念を明確にするために、以下ではＳＤ−ＯＣＴタイプの構成に言及するが、明白な調整により、当業者は、示される技術を、上に参照した他の構成とその公知の変形態様とに容易に拡張し得る。
【００１１】
次に、従来のＳＤ−ＯＣＴ構成に関する図１を特に参照すると、システムは、
−広帯域放射ソースＬＢＳと、
−レンズ系Ｌ２及びミラーＭｒｅｆを含む基準光学アームＲＡと、
−走査系を含み、レンズ系Ｌ１及びミラー及びアクチュエータシステムＭからなるサンプルアームＳＡであって、その像が生成されその後方散乱放射が収集されるサンプルのストリップを照射する（軸方向）ことを可能にする、サンプルアームＳＡと、
−分光計Ｓｐｅｃを有する信号検出アームＭＡであって、基準アームＲＡから来る放射とサンプルアームＳＡから来る放射との干渉から生じる信号のスペクトルを解析することを可能にし、照射されたサンプルのストリップに対応する干渉信号のスペクトルを検知する線型センサを含む信号検出アームＭＡと、
−ソースＬＢＳからの放射のサンプルアームＳＡと基準アームＲＡとへの通過とこれらアームから検出アームＭＡへの通過とを可能にするように構成されたビームスプリッタＢＳと、
−機械的及び電子的部品を好適に制御するとともに、文献で公知の多くのアルゴリズムの１つによりスペクトルから、像が生成されるサンプルストリップの反射率プロファイルを導出する制御及び処理ユニットＣＵＰと、を備える。
【００１２】
広帯域光放射ソースＬＢＳは、基準アームＲＡと、その反対側に撮像対象サンプルが配置されるサンプルアームＳＡと、へ送られる。基準アームＲＡ内の放射は、ミラーＭＲｅｆにより反射され、ビームスプリッタＢＳを通って検知アームＭＡへ送られる。同様に、サンプルアームＳＡ内の放射は、照射されたサンプル部分から後方散乱され、ビームスプリッタＢＳを通って検知アームＭＡに到達する。従って、基準アームＲＡとサンプルアームＳＡとから来る２つの光波は、検出アームＭＡに干渉し続け、分光計Ｓｐｅｃは干渉信号のスペクトル（インターフェログラム）を線型センサ上に再構成する。
【００１３】
上記スペクトルは、文献で公知のアルゴリズムの１つにより、照射されたサンプル部分の反射率プロファイルに変換される。複数のストリップに関し反射率プロファイルを測定することが可能であれば、断面像が得られる。このような断面像から、サンプル形状に関係する測定結果が得られる。例えば眼の場合（図２の例示を参照）、眼前部が観測されれば、高度計的プロファイルと、角膜と水晶体と虹彩の表面の曲率と、が得られる。様々なサンプル断面に関係する多くの像が捕捉されれば、サンプルの３次元モデルを生成することも可能かもしれない。
【００１４】
ＳＳ−ＯＣＴ技術による構成を使用すると判断すれば、当業者は、広帯域ソースを時間と共に非常に迅速に変更され得る発射波長を有するソースで、検出分岐の分光計を単一検出チャネル放射線検出器で置換し得る。この場合、出力信号スペクトルは、ソースにより発射される波長を変更して波長毎に検出器により測定される強度を連続的に格納することにより構築される。
【００１５】
従って、眼前部の断面の像を得るために、線型走査が通常は行われ、得られた情報は最後に１つの単一画像に処理される。次に図３を参照すると、２次元走査のためのただ１つのミラーＭの使用を仮定すれば、走査は、サンプルアーム内のミラーの傾斜、従ってレンズＯから来る照明ビームの左右位置を変化させることにより得られる。ミラーが位置Ｍ’にあると、照明ビームＲ’は走査空間の中央部を照射し、サンプルのその部分内の構造の検出を可能にする。ミラーが位置Ｍ’’にあると、照明ビームＲ’’は走査空間の下部を照射する。ミラーが位置Ｍ’’’にあると、照明ビームＲ’’’は走査空間の上部を照射する。
【００１６】
照射された組織部分は、その微細構造とその不連続面の配向とに依存する強度の角度散乱により、放射の一部を後方散乱させる。一般的に、ローブとも呼ばれるこのような散乱は、一様にならなく、反射方向に強度ピークを有し、上記面の法線と比較して照明の方向に対称的であり、外周方向の強度が低下する。測定のために実際に収集される放射は、照明の方向の反対方向へ正確に後方散乱される。計測器へ戻るこのような放射は干渉計のサンプルアームを通過し、検知アーム内で、分光計分岐上の基準アームから来る放射と干渉することになる。
【００１７】
図４を観測すると、観測されるサンプルが眼の場合と同様に著しい曲率を有すれば、走査が角膜頂ＣＶから離れれば離れるほど後方散乱パワーは入射方向でより低くなるということに留意されたい。これは、後方散乱エネルギーの大部分が、反射方向に偏移され入射方向から離れ、従って失われ、計測器による検出には利用できないからである。上記図は、どのようにして入射角（入射半径Ｉｎｃ１又はＩｎｃ２と角膜前面の法線Ｎｏｒｍ１又はＮｏｒｍ２との角度）の増加がまた、反射角と従って反射パワー（Ｒｅｆ１又はＲｅｆ２）の偏移とを、計測器が戻り信号を検知するのに役立たない方向に増加させるかを明確に示す。
【００１８】
しかしながら、入射パワーの一部はローブのその他の方向に散乱され、その中には、前方向経路に対向するものもある。実際、計測器により収集されるパワーの低下は走査が中心から周囲へ行くにつれて観測される。
【００１９】
この問題に対処するために、Rahul Yadavらの論文"Scanning system design for large scan depth anterior segment optical coherence tomography"-OPTICS LETTERS Vol.35,No.11/June 1,2010は、走査ビームが角膜へほぼ垂直に（換言すれば低入射角で）達することを可能にする凹面鏡及びレンズからなる走査系の特定の構成を示唆する。これは、計測器方向に後方散乱される放射の量を確実に増加させ、信号対雑音比の増加につながる。
【００２０】
しかしながら、いくつかの著しい欠点も見出される。第１に、このシステムは、非古典的な形状のレンズ及びミラーの使用を想定するので複雑で高価であり、さらに、様々な部材が精確な角度で空間的に配置されなければならず、これは位置合わせを非常に厳しくかつ困難にし得る。さらに、上記システムは、特に、患者の不快感を軽減するように極広い作動距離が選択される場合に非常に嵩張ることがあり、及び／又は、他の一体化機器と上に説明した機器との共存が必要である。
【発明の概要】
【００２１】
発明の概要
本出願人は、部品を構成することが高価及び／又は困難な複合体の使用に関係する欠点を含むことなく、逆に嵩張りのいかなる著しい増加も伴わなく、また患者の診察を不快なものにしない比較的単純な構造的及び機能的な干渉を有する結果を得ることにより、上に概説した問題に効果的に対処する解決策を発見した。
【００２２】
本発明によれば、光干渉断層撮影システム及び方法は添付の特許請求の範囲の請求項１及び９で言及される基本的特徴を有する。
【００２３】
要約すると、その像が再構成されるサンプルであって傾斜変動（例えば、必ずしもではないが著しい曲率）を有する面を有するサンプルを所与として、本発明の基礎をなす概念は、古典的光学構成に著しい変形を導入すること無しに各走査位置における戻り信号のエネルギー量を一定にし、これによりコストとアセンブリ複雑性とを低減するとともにはるかに長い作動距離を使用することを可能にする。そのために、高入射角に対応する走査位置において収集される信号の強度が増加させられる。このようにして、周辺走査位置において信号振幅を増加させることができ、従って、得られる像の品質を改善することが可能である。
【００２４】
本発明の一態様では、ミラーＭは、周辺走査工程に対応する位置（すなわち、当該サンプル面に衝突する放射と衝突点における面自体の法線との角度が中央部における走査工程より大きい位置であって、同時に、中央部における走査より周辺走査に対応する位置において分光計センサがより長い時間検出アームＭＡ内の信号を収集できるようにする位置）に長時間残される（再び、上記２次元走査の単一ミラーのより単純な方式に従って）。このようにして、周辺領域からセンサにより受け取られるエネルギーは、現在照射されている眼ストリップにおける後方散乱パワーの量に適応化され得る。
【００２５】
本発明の別の（代替的であるが前述の態様にも関連付けられ得る）態様では、ソースＬＢＳにより発射される放射の強度は、特に走査が中央（角膜頂領域）から周辺領域へ移動するにつれてソースにより発射される放射を増加することにより、変更される。
【００２６】
本発明に係る光干渉断層撮影方法及びシステムの特徴及び利点は、添付図面を参照して非限定例により報告されるその実施形態の以下の説明から明白になる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】ＳＤ−ＯＣＴ構成の代表的なスキームである。
【図２】個別走査ストリップをＯＣＴシステムに整合させることにより再構成された眼の完全な断面像を示す。
【図３】ＯＣＴシステムのサンプルアーム上の走査動作の概略図である。
【図４】中央又は周辺位置に応じて眼に当たる走査ビームの様々な偏差を示す図である。
【図５】本発明による、センサの露出のための走査ミラーの駆動傾斜と駆動タイミングの例をグラフの形式で提供する。
【図６】時間、従って観測対象眼に対する走査ミラーの位置の関数としての光源の強度の変化を表す曲線をグラフの形式で示す。
【図７】角膜測定器を組み込んだＯＣＴ構成の代表的な方式である。
【図８】二重ＬＥＤ冠を有する図７の構成の角膜測定器の正面概略図である。
【図９】発光リングを有する図７の構成の角膜測定器の正面概略図である。
【図１０】図７の構成に組み込まれ得るPlacidoディスクベースのトポグラファの正面図である。
【図１１】本発明によるシステムに使用され得る角膜の傾斜線形推定法のグラフ的指標により眼の断面像を示す。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
発明の詳細な説明
添付図面を参照し、かつ、システムの一般的アーキテクチャに関して導入部において既に開示されたものに基づいて、説明の簡単化のため、本発明に係るＯＣＴシステムのミラー系は、２次元走査用の１つのミラーＭだけを含むということを仮定するが、以下の仮定は、当業者により３次元走査用の２つ以上のミラーに容易に拡張され得る。当然、著しい曲率を有するサンプルをスクリーニングし撮像するＯＣＴシステムの主に人間の眼上に位置決めした使用についても言及される。
【００２９】
本発明の一態様によれば、特に図５を参照すると、ミラーＭの運動は、ミラーＭが、眼の中央部の走査工程に対応する位置に所定の短時間そして周辺走査に対応する位置（すなわち、角膜頂から遠い）に長時間留まれるようにするパターンを有する制御波形（眼の周辺−中央−周辺方向のミラーの回転を提供する一周期の時間の関数としての駆動モータの電源電圧）により、電子的に駆動される。結局（そして逆に）、センサの露出時間の開始と終了とを判断する法則が導出される（同図５の下のグラフ）。露出時間は実際、１回の中央走査に対して短く（タイミング図の線の濃密化部）、周辺走査に対して長い。
【００３０】
従って、一般的に、走査が角膜頂から両方向に離れるにつれて、停止時間は走査ビーム（従ってミラーＭ）の当該位置（角膜頂に対する走査ストリップの位置又は距離を判断する位置）において増加する。このようにして、走査が眼の中央領域からその周辺へ行くにつれて後方散乱信号の損失の増加が補償される。
【００３１】
図５に示す走査ミラーＭを制御するための及びセンサの露出時間を調整するための２つの可能な波形は一例である。先に述べたように、ミラーの角度位置が電圧下で制御され得るということと、ミラーＭの駆動モータに時間的に連続的に印可されるこの電圧にミラーの角度位置が直接比例するということとを仮定する。センサの露出時間はパルス列により調整され得、連続パルス間の距離がセンサの露出時間を決定するということも仮定する。当業者は当然、この例を、システムが２つ以上のミラーからなるとともにミラーの位置決め及びセンサの露出のための命令が上に仮定されたものとは異なる状況へと拡張しうる。
【００３２】
図５の上のグラフは、傾斜が時間とともに変化することを明確に示す。すなわち傾斜は、ミラーが個別走査ストリップ上に長時間停止しなければならない場合には小さく、ミラーが短時間停止する場合には、大きい。特に、傾斜は、入射角が広い場合に周辺領域が走査されると、低減され、停止時間従ってセンサ上の信号の露出時間は長い。
【００３３】
同図の下のグラフは、上のグラフのミラーの駆動傾斜に対応するセンサタイマのパルス列を示す。２つのパルス間の間隔は、センサの露出時間を増加させる必要がある場合には（すなわち、ミラーＭがサンプル戻り信号のパワー低減を補償するようにゆっくり動く周辺領域内では）、大きい。
【００３４】
ミラーＭの駆動波形とセンサの露出タイマとは、発見的考察により予め判断され得る、又は、観測対象サンプルの事前走査のおかげで最適に見積もられ得る。従って、ミラーＭの運動とセンサの露出とが事前走査自体の評価のおかげで検査対象サンプルの構造に適応化される時間的に精確かつ最適な走査が事前走査に続き得る。
【００３５】
走査ミラーの制御傾斜とセンサの露出時間との可能な実現は、制御信号と任意の波形を有する曲線とを構築するように好適にプログラム可能であるデジタル可変電圧発生器により行われ得る。次に、そのために適応化された形状に基づいて生成されたデジタル傾斜は、ミラーの位置決め制御がアナログであれば、ディジタルアナログ変換器（ＤＡＣ）によりアナログ波形に変換され得る、又は、制御がデジタル波形により発生されれば、直接ディジタルアナログ変換器（ＤＡＣ）へ送られ得る。デジタル可変電圧発生器は、出力電圧値に対応する一組の可能な２進データに属するその入力に存在する２値データムに比例する出力電圧値を生成する。発生させるべき波形が２進データという意味で、ディジタルフォーマット形式で格納された書き込み可能メモリのデジタル波形を同発生器へ提供することにより、傾斜従って走査の反復発生は、同発生器自体を連続的に再プログラムする必要無しに容易に実施され得る。
【００３６】
本発明の別の態様によると、高入射角が存在する走査位置において収集される信号の強度は、強度の調整を可能にするように実際に選択され得るソースＬＢＳ（例えばスーパールミネセンスダイオード）により発射された放射の強度を増加することにより増加させられる。この動作モードは、先の動作モードを排除せず、逆にそれを組み込み得る。
【００３７】
図６のグラフに定性的に表されるように、サンプルに衝突する放射の強度は、サンプルの中央領域（顕著には、その像が生成される眼により後方反射及び／又は後方散乱される放射のより大きな強度が利用可能である角膜頂領域）を走査する際には低下するが周辺走査工程においてより高くなるように徐々に変化する。図６は、実際、時間変動に基づくソース発射曲線の例を示す（時間は、順番に眼の周辺領域から中央領域へそして周辺領域へ戻るミラーの通過に対応する）。曲線パターンと時間スケールとは単に目安である。曲線パターンと時間スケールとは使用されるソースと特定用途により必要とされる時間とに適応化されなければならない。
【００３８】
この場合でも、ソース発射曲線は、発見的考察に基づき予め判断されて得る、又は、観測対象サンプルの事前走査のおかげで推定され得る。走査ミラーの可変速度運動、センサの露出時間の変化、及び／又は、ソース放射の強度の変化が制御される法則を評価する事前走査方法は、検査時間が十分に長ければ（例えば、個々の眼断面の走査が必要な場合）、成功裡に使用され得る。
【００３９】
逆に、眼の検査の高速性が必要とされれば（例えば、信頼できる３次元再構成を妨げ得る眼の動きを回避するために数百ミリ秒内に数十の断面が捕捉される場合）、前述の法則の判断は、許容し難い応答遅れを回避できるようにする様々な方法に従って行われ得る。
【００４０】
このような方法の１つは、平均的な眼の形状の評価、従って統計に基づく法則の判断を想定する。
【００４１】
より複雑かつ精確な方法は、ＯＣＴ走査を開始する前に検査対象サンプル（特に眼）の傾斜及び高度測量（slope and altimetry measurement）に基づき法則を判断することである。そうするために、本発明の別の実施形態によると、１つの古典的ＯＣＴ方式が、角膜前面の形状を評価するために必要な手段と結合され得る。眼科器の分野における従来技術をそれ自体が構成するこのような手段は実際には、光学系Ｌ１の周囲に配置されると角膜により反射される又は角膜自体により投射される光標的からなる。それらの反射像又は投射は眼の前面の観察チャネルにより収集され、文献で公知のアルゴリズムに従って処理される。
【００４２】
この点に関し、図７は、角膜前面の形状（正確にはサンプルアームＳＡ上の）を評価するために必要な手段と、角膜測定器Ｋと、レンズＬ１とビームスプリッタＢＳ１と光学系Ｌ２とセンサＳ１とを含む前面観察チャネルとを一体化した本発明による、ＯＣＴシステムのアーキテクチャに対する可能な修正を示す。
【００４３】
上記標的／目印は、反射を活用したい場合は光学系の最外レンズＬ１の周囲に配置され、その例として、
−複数の光点（例えば二重ＬＥＤ冠）（図８）と、
−発光リング（図９）と、
−一連の発光リング又は実際のPlacidoディスク（図１０）と、が挙げられ得る。
【００４４】
先の解決策のそれぞれに関し、反射又は投射された標的の像から角膜の形状を計算するアルゴリズム、すなわちその高度測量術は文献で公知である。このような手段がＯＣＴ走査前に使用されれば、これらから、各走査位置における検査対象角膜の局所傾斜を最適なやり方で導出することが可能であり、従って制御則（ミラー駆動、センサ露出、ソース放射強度の）を好適に適合化することが可能である。
【００４５】
上に報告した角膜測定器解決策はいずれにしても一例を表すだけであり、タスクに適応化された唯一の解決策と考えるべきではない。一般的に、角膜上の反射又は投射が前面観察チャネルにより収集される像から、様々な形状とサイズを有する標的を使用することが可能であり、文献で公知のアルゴリズムにより必要な形態学的情報を導出することが可能である。
【００４６】
ＯＣＴ走査に付される眼に最適な制御則を推測する本発明による別の方法は、走査と同時に（すなわち、既に行われた各走査工程に基づき勾配情報を適応的に更新することにより）角膜の傾斜の評価結果を提供する。
【００４７】
さらに詳細には、図１１を参照すると、最後に捕捉された像の一部分（すなわち現在の捕捉部分）のインターフェログラムは、当業者に知られた概念又は当業者にとって明白な概念に従ってその反射率プロファイルに変換される。また、それ自体知られた技術に基づき、現在の走査位置において走査ビームにより衝突された面（特に角膜前面）の位置を判断することにより反射率プロファイルのピークが特定される。このような位置は格納される。先の情報が少なくとも２つの連続走査Ｐｋ−１とＰｋとにおいて収集されると、測定対象面の局所傾斜を推定することが可能である。従ってこのような傾斜から、続く走査位置Ｐｋ＋１に関係する走査ミラーの制御、センサの露出時間、ソース放射の強度のすべてを判断するための信頼できる予測を導出することが可能である。
【００４８】
２つの先行する走査だけが考慮されれば、図１１のように線形則に基づき前述のパラメータを推定することが可能である。さらに、３つ以上の先行する走査が考慮されれば、推定は非線形則（例えば、２次以上の多項式則）に従い得る。
【００４９】
本発明は、可能な例示的実施形態を参照してこれまで説明された。本明細書において開示されたものと異なり追加部品／機能が組み込まれた光学的構成全体にもかかわらず添付の特許請求の範囲の保護の範囲に入り得る他の実施形態が存在し得るということを理解しなければならない。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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