(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
バインダー樹脂（Ａ）、感放射線化合物（Ｂ）、および下記一般式（１）で表される架橋剤（Ｃ）を含有してなり、
前記感放射線化合物（Ｂ）が、キノンジアジド化合物であり、
前記バインダー樹脂（Ａ）１００重量部に対する、前記架橋剤（Ｃ）の含有量が、３〜２５重量部である感放射線性樹脂組成物。
【化１０】
0006601394.tif 000012
（上記一般式（１）中、Ｒ１〜Ｒ３は、それぞれ独立して、炭素数１〜１０の炭化水素基である。）
【請求項２】
前記一般式（１）中、Ｒ１〜Ｒ３が、メチル基および／またはｎ−ブチル基である請求項１に記載の感放射線性樹脂組成物。
【請求項３】
トリアジン環構造またはグリコールウリル構造を有し、かつメチロール基およびアルコキシアルキル基からなる群より選ばれる１種以上の官能基を有する架橋剤（Ｄ）をさらに含有する請求項１または２に記載の感放射線性樹脂組成物。
【請求項４】
前記架橋剤（Ｄ）が、下記一般式（６）で表されるメラミン構造を有する化合物、および／または下記一般式（７）で表されるグアナミン構造を有する化合物である請求項３に記載の感放射線性樹脂組成物。
【化１１】
0006601394.tif 000013
（上記一般式（６）中、Ｒ９〜Ｒ１４は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していていもよいアリール基、メチロール基、またはアルコキシアルキル基であり、Ｒ９〜Ｒ１４のうち、少なくとも一つは、メチロール基、またはアルコキシアルキル基である。）
【化１２】
0006601394.tif 000014
（上記一般式（７）中、Ｒ１５〜Ｒ１８は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していていもよいアリール基、メチロール基、またはアルコキシアルキル基であり、Ｒ１５〜Ｒ１８のうち、少なくとも一つは、メチロール基、またはアルコキシアルキル基である。Ｘは、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、または置換基を有していていもよいアリール基である。）
【請求項５】
前記バインダー樹脂（Ａ）１００重量部に対する、前記架橋剤（Ｄ）の含有量が、１５〜４５重量部である請求項３または４に記載の感放射線性樹脂組成物。
【請求項６】
エポキシ化合物（Ｅ）をさらに含有する請求項１〜５のいずれかに記載の感放射線性樹脂組成物。
【請求項７】
前記バインダー樹脂（Ａ）１００重量部に対する、前記エポキシ化合物（Ｅ）の含有量が、３〜７０重量部である請求項６に記載の感放射線性樹脂組成物。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれかに記載の樹脂組成物を用いて得られる樹脂膜。
【請求項９】
請求項８に記載の樹脂膜を備える電子部品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感放射線性樹脂組成物およびこの感放射線性樹脂組成物を用いて得られる樹脂膜および電子部品に係り、さらに詳しくは、露光感度が高く、低吸水率であり、現像によるパターン形成性およびＵＶオゾン処理耐性に優れた樹脂膜を与えることができる感放射線性樹脂組成物ならびにこの感放射線性樹脂組成物を用いて得られる樹脂膜および電子部品に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示素子、集積回路素子、固体撮像素子、カラーフィルタ、薄膜トランジスタ及びブラックマトリックス等の電子部品には、その劣化や損傷を防止するための保護膜、素子や配線を有する基板の、素子や配線に由来する凹凸を平坦化するための平坦化膜、及び電気絶縁性を保つための電気絶縁膜等として種々の樹脂膜が設けられている。薄膜トランジスタ型液晶表示素子や集積回路素子等の素子には、層状に配置される複数の配線の間を絶縁するために層間絶縁膜としての樹脂膜が設けられている。また、有機ＥＬ素子は、発光体部の構成として、陽極／正孔注入輸送層／有機発光層／電子注入層／陰極を含む構成が一般的であり、この発光体部の周囲には、他の素子や配線と電気的に絶縁するため、画素分離膜（画素定義膜、素子分離膜ともいう）が設けられており、トランジスタ等のアクティブ素子と陽極との間には、平坦化膜が設けられている。従来、これらの樹脂膜を形成するための材料としては、種々の感放射線性樹脂組成物が使用されている。【０００３】
たとえば、特許文献１には、アルカリ可溶性樹脂と、トリアジン環構造を有し、かつメチロール基又はアルコキシアルキル基を有する架橋剤と、感放射線性酸発生剤と、を含有する感放射線性樹脂組成物が開示されている。特許文献１によれば、この感放射線性樹脂組成物は、絶縁性、平坦性、耐熱性、透明性および耐薬品性などの諸性能に優れていることが開示されている。【０００４】
しかしながら、この特許文献１に開示されている感放射線性樹脂組成物では、現像によるパターン形成性が必ずしも十分でなく、さらには、現像によるパターン形成後に、ＵＶオゾン処理を用いた洗浄を行った際における劣化が大きく、そのため、ＵＶオゾン処理を用いた洗浄を必要とする用途、たとえば、有機ＥＬ素子の画素分離膜用途に適さないものであった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００２−２４９６４６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、露光感度が高く、低吸水率であり、現像によるパターン形成性およびＵＶオゾン処理耐性に優れた樹脂膜を与えることができる感放射線性樹脂組成物を提供することを目的とする。また、本発明は、このような感放射線性樹脂組成物を用いて得られる樹脂膜、および該樹脂膜を備える電子部品を提供することも目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者等は、上記目的を達成するために鋭意研究した結果、バインダー樹脂に対して、感放射線化合物とともに、特定のウレタン結合含有トリアジン系化合物を特定の配合割合で配合することにより、上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成させるに至った。【０００８】
すなわち、本発明によれば、
〔１〕バインダー樹脂（Ａ）、感放射線化合物（Ｂ）、および下記一般式（１）で表される架橋剤（Ｃ）を含有してなり、前記バインダー樹脂（Ａ）１００重量部に対する、前記架橋剤（Ｃ）の含有量が、３〜２５重量部である感放射線性樹脂組成物、
【化１】
0006601394.tif 000002
（上記一般式（１）中、Ｒ１〜Ｒ３は、それぞれ独立して、炭素数１〜１０の炭化水素基である。）
〔２〕前記一般式（１）中、Ｒ１〜Ｒ３が、メチル基および／またはｎ−ブチル基である前記〔１〕に記載の感放射線性樹脂組成物、
〔３〕トリアジン環構造またはグリコールウリル構造を有し、かつメチロール基およびアルコキシアルキル基からなる群より選ばれる１種以上の官能基を有する架橋剤（Ｄ）をさらに含有する前記〔１〕または〔２〕に記載の感放射線性樹脂組成物、
〔４〕前記架橋剤（Ｄ）が、下記一般式（６）で表されるメラミン構造を有する化合物、および／または下記一般式（７）で表されるグアナミン構造を有する化合物である前記〔３〕に記載の感放射線性樹脂組成物、
【化２】
0006601394.tif 000003
（上記一般式（６）中、Ｒ９〜Ｒ１４は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していていもよいアリール基、メチロール基、またはアルコキシアルキル基であり、Ｒ９〜Ｒ１４のうち、少なくとも一つは、メチロール基、またはアルコキシアルキル基である。）
【化３】
0006601394.tif 000004
（上記一般式（７）中、Ｒ１５〜Ｒ１８は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していていもよいアリール基、メチロール基、またはアルコキシアルキル基であり、Ｒ１５〜Ｒ１８のうち、少なくとも一つは、メチロール基、またはアルコキシアルキル基である。Ｘは、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、または置換基を有していていもよいアリール基である。）
〔５〕前記バインダー樹脂（Ａ）１００重量部に対する、前記架橋剤（Ｄ）の含有量が、１５〜４５重量部である前記〔３〕または〔４〕に記載の感放射線性樹脂組成物、
〔６〕エポキシ化合物（Ｅ）をさらに含有する前記〔１〕〜〔５〕のいずれかに記載の感放射線性樹脂組成物、
〔７〕前記バインダー樹脂（Ａ）１００重量部に対する、前記エポキシ化合物（Ｅ）の含有量が、３〜７０重量部である前記〔６〕に記載の感放射線性樹脂組成物、
〔８〕前記〔１〕〜〔７〕のいずれかに記載の樹脂組成物を用いて得られる樹脂膜、ならびに、
〔９〕前記〔８〕に記載の樹脂膜を備える電子部品、
が提供される。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、露光感度が高く、低吸水率であり、現像によるパターン形成性およびＵＶオゾン処理耐性に優れた樹脂膜を与えることができる感放射線性樹脂組成物、このような感放射線性樹脂組成物を用いて得られる樹脂膜、およびこのような樹脂膜を備える電子部品を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明の感放射線性樹脂組成物は、バインダー樹脂（Ａ）、感放射線化合物（Ｂ）、および後述する一般式（１）で表される架橋剤（Ｃ）を含有してなり、前記バインダー樹脂（Ａ）１００重量部に対する、前記架橋剤（Ｃ）の含有量を、３〜２５重量部の範囲としたものである。
【００１１】
（バインダー樹脂（Ａ））
本発明で用いるバインダー樹脂（Ａ）としては、特に限定されないが、プロトン性極性基を有する環状オレフィン重合体（Ａ１）、アクリル樹脂（Ａ２）、カルド樹脂（Ａ３）、ポリシロキサン（Ａ４）またはポリイミド（Ａ５）であることが好ましく、これらの中でも、プロトン性極性基を有する環状オレフィン重合体（Ａ１）が特に好ましい。これらのバインダー樹脂（Ａ）は、それぞれ単独で用いてもよく、または２種以上を併用してもよい。
【００１２】
プロトン性極性基を有する環状オレフィン重合体（Ａ１）（以下、単に「環状オレフィン重合体（Ａ１）」とする。）としては、１または２以上の環状オレフィン単量体の重合体、または、１または２以上の環状オレフィン単量体と、これと共重合可能な単量体との共重合体が挙げられるが、本発明においては、環状オレフィン重合体（Ａ１）を形成するための単量体として、少なくともプロトン性極性基を有する環状オレフィン単量体（ａ）を用いることが好ましい。
【００１３】
ここで、プロトン性極性基とは、周期律表第１５族または第１６族に属する原子に水素原子が直接結合している原子を含む基をいう。周期律表第１５族または第１６族に属する原子のなかでも、周期律表第１５族または第１６族の第１または第２周期に属する原子が好ましく、より好ましくは酸素原子、窒素原子または硫黄原子であり、特に好ましくは酸素原子である。
【００１４】
このようなプロトン性極性基の具体例としては、水酸基、カルボキシ基（ヒドロキシカルボニル基）、スルホン酸基、リン酸基等の酸素原子を有する極性基；第一級アミノ基、第二級アミノ基、第一級アミド基、第二級アミド基（イミド基）等の窒素原子を有する極性基；チオール基等の硫黄原子を有する極性基；等が挙げられる。これらの中でも、酸素原子を有するものが好ましく、より好ましくはカルボキシ基である。 本発明において、プロトン性極性基を有する環状オレフィン樹脂に結合しているプロトン性極性基の数に特に限定はなく、また、相異なる種類のプロトン性極性基が含まれていてもよい。
【００１５】
プロトン性極性基を有する環状オレフィン単量体（ａ）（以下、適宜、「単量体（ａ）」という。）の具体例としては、２−ヒドロキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、２−メチル−２−ヒドロキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、２−カルボキシメチル−２−ヒドロキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、２−ヒドロキシカルボニル−２−メトキシカルボニルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、２−ヒドロキシカルボニル−２−エトキシカルボニルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、２−ヒドロキシカルボニル−２−プロポキシカルボニルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、２−ヒドロキシカルボニル−２−ブトキシカルボニルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、２−ヒドロキシカルボニル−２−ペンチルオキシカルボニルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、２−ヒドロキシカルボニル−２−ヘキシルオキシカルボニルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、２−ヒドロキシカルボニル−２−シクロヘキシルオキシカルボニルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、２−ヒドロキシカルボニル−２−フェノキシカルボニルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、２−ヒドロキシカルボニル−２−ナフチルオキシカルボニルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、２−ヒドロキシカルボニル−２−ビフェニルオキシカルボニルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、２−ヒドロキシカルボニル−２−ベンジルオキシカルボニルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、２−ヒドロキシカルボニル−２−ヒドロキシエトキシカルボニルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、２，３−ジヒドロキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、２−ヒドロキシカルボニル−３−メトキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、２−ヒドロキシカルボニル−３−エトキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、２−ヒドロキシカルボニル−３−プロポキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、２−ヒドロキシカルボニル−３−ブトキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、２−ヒドロキシカルボニル−３−ペンチルオキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、２−ヒドロキシカルボニル−３−ヘキシルオキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、２−ヒドロキシカルボニル−３−シクロヘキシルオキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、２−ヒドロキシカルボニル−３−フェノキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、２−ヒドロキシカルボニル−３−ナフチルオキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、２−ヒドロキシカルボニル−３−ビフェニルオキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、２−ヒドロキシカルボニル−３−ベンジルオキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、２−ヒドロキシカルボニル−３−ヒドロキシエトキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、２−ヒドロキシカルボニル−３−ヒドロキシカルボニルメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、３−メチル−２−ヒドロキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、３−ヒドロキシメチル−２−ヒドロキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、２−ヒドロキシカルボニルトリシクロ［５．２．１．０２，６］デカ−３，８−ジエン、４−ヒドロキシカルボニルテトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカ−９−エン、４−メチル−４−ヒドロキシカルボニルテトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカ−９−エン、４，５−ジヒドロキシカルボニルテトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカ−９−エン、４−カルボキシメチル−４−ヒドロキシカルボニルテトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカ−９−エン、Ｎ−（ヒドロキシカルボニルメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（ヒドロキシカルボニルエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（ヒドロキシカルボニルペンチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（ジヒドロキシカルボニルエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（ジヒドロキシカルボニルプロピル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（ヒドロキシカルボニルフェネチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（２−（４−ヒドロキシフェニル）−１−（ヒドロキシカルボニル）エチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（ヒドロキシカルボニルフェニル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド等のカルボキシ基含有環状オレフィン；２−（４−ヒドロキシフェニル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、２−メチル−２−（４−ヒドロキシフェニル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、４−（４−ヒドロキシフェニル）テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカ−９−エン、４−メチル−４−（４−ヒドロキシフェニル）テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカ−９−エン、２−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、２−ヒドロキシメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、２−ヒドロキシエチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、２−メチル−２−ヒドロキシメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、２，３−ジヒドロキシメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、２−（ヒドロキシエトキシカルボニル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、２−メチル−２−（ヒドロキシエトキシカルボニル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、２−（１−ヒドロキシ−１−トリフルオロメチル−２，２，２−トリフルオロエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、２−（２−ヒドロキシ−２−トリフルオロメチル−３，３，３−トリフルオロプロピル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、３−ヒドロキシトリシクロ［５．２．１．０２，６］デカ−４，８−ジエン、３−ヒドロキシメチルトリシクロ［５．２．１．０２，６］デカ−４，８−ジエン、４−ヒドロキシテトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカ−９−エン、４−ヒドロキシメチルテトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカ−９−エン、４，５−ジヒドロキシメチルテトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカ−９−エン、４−（ヒドロキシエトキシカルボニル）テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカ−９−エン、４−メチル−４−（ヒドロキシエトキシカルボニル）テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカ−９−エン、Ｎ−（ヒドロキシエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（ヒドロキシフェニル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、等の水酸基含有環状オレフィン等が挙げられる。これらのなかでも、得られる樹脂膜の密着性が高くなるという点より、カルボキシ基含有環状オレフィンが好ましく、４−ヒドロキシカルボニルテトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカ−９−エンが特に好ましい。これら単量体（ａ）は、それぞれ単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００１６】
環状オレフィン重合体（Ａ１）中における、単量体（ａ）の単位の含有割合は、全単量体単位に対して、好ましくは１０〜９０モル％である。単量体（ａ）の単位の含有割合が少なすぎると、耐熱性が不十分となるおそれがあり、多すぎると、環状オレフィン重合体（Ａ１）の極性溶剤への溶解性が不十分となるおそれがある。
【００１７】
また、本発明で用いる環状オレフィン重合体（Ａ１）は、プロトン性極性基を有する環状オレフィン単量体（ａ）と、これと共重合可能な単量体（ｂ）とを共重合して得られる共重合体であってもよい。このような共重合可能な単量体としては、プロトン性極性基以外の極性基を有する環状オレフィン単量体（ｂ１）、極性基を持たない環状オレフィン単量体（ｂ２）、および環状オレフィン以外の単量体（ｂ３）（以下、適宜、「単量体（ｂ１）」、「単量体（ｂ２）」、「単量体（ｂ３）」という。）が挙げられる。
【００１８】
プロトン性極性基以外の極性基を有する環状オレフィン単量体（ｂ１）としては、たとえば、Ｎ−置換イミド基、エステル基、シアノ基、酸無水物基またはハロゲン原子を有する環状オレフィンが挙げられる。
【００１９】
Ｎ−置換イミド基を有する環状オレフィンとしては、たとえば、下記一般式（２）で表される単量体、または下記一般式（３）で表される単量体が挙げられる。
【化４】
0006601394.tif 000005
（上記一般式（２）中、Ｒ４は水素原子もしくは炭素数１〜１６のアルキル基またはアリール基を表す。ｎは１ないし２の整数を表す。）
【化５】
0006601394.tif 000006
（上記一般式（３）中、Ｒ５は炭素数１〜３の２価のアルキレン基、Ｒ６は、炭素数１〜１０の１価のアルキル基、または、炭素数１〜１０の１価のハロゲン化アルキル基を表す。）
【００２０】
上記一般式（２）中において、Ｒ４は炭素数１〜１６のアルキル基またはアリール基であり、アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−ヘキサデシル基等の直鎖アルキル基；シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、シクロウンデシル基、シクロドデシル基、ノルボルニル基、ボルニル基、イソボルニル基、デカヒドロナフチル基、トリシクロデカニル基、アダマンチル基等の環状アルキル基；２−プロピル基、２−ブチル基、２−メチル−１−プロピル基、２−メチル−２−プロピル基、１−メチルブチル基、２−メチルブチル基、１−メチルペンチル基、１−エチルブチル基、２−メチルヘキシル基、２−エチルヘキシル基、４−メチルヘプチル基、１−メチルノニル基、１−メチルトリデシル基、１−メチルテトラデシル基などの分岐状アルキル基；などが挙げられる。また、アリール基の具体例としては、ベンジル基などが挙げられる。これらの中でも、耐熱性および極性溶剤への溶解性により優れることから、炭素数６〜１４のアルキル基およびアリール基が好ましく、炭素数６〜１０のアルキル基およびアリール基がより好ましい。炭素数が４以下であると極性溶剤への溶解性に劣り、炭素数が１７以上であると耐熱性に劣り、さらに樹脂膜をパターン化した場合に、熱により溶融しパターンを消失してしまうという問題がある。
【００２１】
上記一般式（２）で表される単量体の具体例としては、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−フェニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−プロピルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−ブチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−シクロヘキシルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−アダマンチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（１−メチルブチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（２−メチルブチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（１−メチルペンチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（２−メチルペンチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（１−エチルブチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（２−エチルブチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（１−メチルヘキシル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（２−メチルヘキシル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（３−メチルヘキシル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（１−ブチルペンチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（２−ブチルペンチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２,３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（１−メチルヘプチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（２−メチルヘプチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（３−メチルヘプチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（４−メチルヘプチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（１−エチルヘキシル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（２−エチルヘキシル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（３−エチルヘキシル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（１−プロピルペンチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（２−プロピルペンチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（１−メチルオクチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（２−メチルオクチル）−ビシク��［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（３−メチルオクチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（４−メチルオクチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（１−エチルヘプチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（２−エチルヘプチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（３−エチルヘプチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（４−エチルヘプチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（１−プロピルヘキシル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（２−プロピルヘキシル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（３−プロピルヘキシル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（１−メチルノニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（２−メチルノニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（３−メチルノニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（４−メチルノニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（５−メチルノニル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（１−エチルオクチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（２−エチルオクチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（３−エチルオクチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（４−エチルオクチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（１−メチルデシル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（１−メチルドデシル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（１−メチルウンデシル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（１−メチルドデシル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（１−メチルトリデシル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（１−メチルテトラデシル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（１−メチルペンタデシル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−フェニル−テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカ−９−エン−４，５−ジカルボキシイミド、Ｎ−（２，４−ジメトキシフェニル）−テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカ−９−エン−４，５−ジカルボキシイミド等が挙げられる。なお、これらは��れぞれ単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００２２】
一方、上記一般式（３）において、Ｒ５は炭素数１〜３の２価のアルキレン基であり、炭素数１〜３の２価のアルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基およびイソプロピレン基が挙げられる。これらの中でも、重合活性が良好であるため、メチレン基およびエチレン基が好ましい。
【００２３】
また、上記一般式（３）において、Ｒ６は、炭素数１〜１０の１価のアルキル基、または、炭素数１〜１０の１価のハロゲン化アルキル基である。炭素数１〜１０の１価のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ヘキシル基およびシクロヘキシル基などが挙げられる。炭素数１〜１０の１価のハロゲン化アルキル基としては、例えば、フルオロメチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ジフルオロメチル基、ジクロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基およびパーフルオロペンチル基などが挙げられる。これら中でも、極性溶剤への溶解性に優れるため、Ｒ６としては、メチル基またはエチル基が好ましい。
【００２４】
なお、上記一般式（２）、（３）で表される単量体は、たとえば、対応するアミンと、５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸無水物とのイミド化反応により得ることができる。また、得られた単量体は、イミド化反応の反応液を公知の方法で分離・精製することにより効率よく単離できる。
【００２５】
エステル基を有する環状オレフィンとしては、例えば、２−アセトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、２−アセトキシメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、２−メトキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、２−エトキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、２−プロポキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、２−ブトキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、２−シクロヘキシルオキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、２−メチル−２−メトキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、２−メチル−２−エトキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、２−メチル−２−プロポキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、２−メチル−２−ブトキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、２−メチル−２−シクロヘキシルオキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、２−（２，２，２−トリフルオロエトキシカルボニル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、２−メチル−２−（２，２，２−トリフルオロエトキシカルボニル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、２−メトキシカルボニルトリシクロ［５．２．１．０２，６］デカ−８−エン、２−エトキシカルボニルトリシクロ［５．２．１．０２，６］デカ−８−エン、２−プロポキシカルボニルトリシクロ［５．２．１．０２，６］デカ−８−エン、４−アセトキシテトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカ−９−エン、４−メトキシカルボニルテトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカ−９−エン、４−エトキシカルボニルテトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカ−９−エン、４−プロポキシカルボニルテトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカ−９−エン、４−ブトキシカルボニルテトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカ−９−エン、４−メチル−４−メトキシカルボニルテトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカ−９−エン、４−メチル−４−エトキシカルボニルテトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカ−９−エン、４−メチル−４−プロポキシカルボニルテトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカ−９−エン、４−メチル−４−ブトキシカルボニルテトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカ−９−エン、４−（２，２，２−トリフルオロエトキシカルボニル）テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカ−９−エン、４−メチル−４−（２，２，２−トリフルオロエトキシカルボニル）テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカ−９−エン等が挙げられる。
【００２６】
シアノ基を有する環状オレフィンとしては、例えば、４−シアノテトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカ−９−エン、４−メチル−４−シアノテトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカ−９−エン、４，５−ジシアノテトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカ−９−エン、２−シアノビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、２−メチル−２−シアノビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、２，３−ジシアノビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、等が挙げられる。
【００２７】
酸無水物基を有する環状オレフィンとしては、例えば、テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカ−９−エン−４，５−ジカルボン酸無水物、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボン酸無水物、２−カルボキシメチル−２−ヒドロキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン無水物、等が挙げられる。
【００２８】
ハロゲン原子を有する環状オレフィンとしては、例えば、２−クロロビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、２−クロロメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、２−（クロロフェニル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン、４−クロロテトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカ−９−エン、４−メチル−４−クロロテトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカ−９−エン等が挙げられる。
【００２９】
これら単量体（ｂ１）は、それぞれ単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００３０】
極性基を持たない環状オレフィン単量体（ｂ２）としては、ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン（「ノルボルネン」ともいう。）、５−エチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ブチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−エチリデン−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−メチリデン−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ビニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカ−３，８−ジエン（慣用名：ジシクロペンタジエン）、テトラシクロ［１０．２．１．０２，１１．０４，９］ペンタデカ−４，６，８，１３−テトラエン、テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカ−４−エン（「テトラシクロドデセン」ともいう。）、９−メチル−テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカ−４−エン、９−エチル−テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカ−４−エン、９−メチリデン−テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカ−４−エン、９−エチリデン−テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカ−４−エン、９−ビニル−テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカ−４−エン、９−プロペニル−テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカ−４−エン、ペンタシクロ［９．２．１．１３，９．０２，１０．０４，８］ペンタデカ−５，１２−ジエン、シクロブテン、シクロペンテン、シクロペンタジエン、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン、シクロオクタジエン、インデン、３ａ，５，６，７ａ−テトラヒドロ−４，７−メタノ−１Ｈ−インデン、９−フェニル−テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカ−４−エン、テトラシクロ［９．２．１．０２，１０．０３，８］テトラデカ−３，５，７，１２−テトラエン、ペンタシクロ［９．２．１．１３，９．０２，１０．０４，８］ペンタデカ−１２−エン等が挙げられる。これら単量体（ｂ２）は、それぞれ単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００３１】
環状オレフィン以外の単量体（ｂ３）の具体例としては、エチレン；プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、３−メチル−１−ブテン、３−メチル−１−ペンテン、３−エチル−１−ペンテン、４−メチル−１−ペンテン、４−メチル−１−ヘキセン、４，４−ジメチル−１−ヘキセン、４，４−ジメチル−１−ペンテン、４−エチル−１−ヘキセン、３−エチル−１−ヘキセン、１−オクテン、１−デセン、１−ドデセン、１−テトラデセン、１−ヘキサデセン、１−オクタデセン、１−エイコセン等の炭素数２〜２０のα−オレフィン；１，４−ヘキサジエン、１，５−ヘキサジエン、４−メチル−１，４−ヘキサジエン、５−メチル−１，４−ヘキサジエン、１，７−オクタジエン等の非共役ジエン、およびこれらの誘導体；等が挙げられる。これらの中でも、α−オレフィンが好ましい。これら単量体（ｂ３）は、それぞれ単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００３２】
これら単量体（ｂ１）〜（ｂ３）のなかでも、本発明の効果がより一層顕著となるという観点より、プロトン性極性基以外の極性基を有する環状オレフィン単量体（ｂ１）が好ましく、Ｎ−置換イミド基を有する環状オレフィンが特に好ましい。
【００３３】
環状オレフィン重合体（Ａ１）中における、共重合可能な単量体（ｂ）の単位の含有割合は、全単量体単位に対して、好ましくは１０〜９０モル％である。共重合可能な単量体（ｂ）の単位の含有割合が少なすぎると、環状オレフィン重合体（Ａ１）の極性溶剤への溶解性が不十分となるおそれがあり、多すぎると、耐熱性が不十分になるおそれがある。
【００３４】
なお、本発明においては、プロトン性極性基を有しない環状オレフィン系重合体に、公知の変性剤を利用してプロトン性極性基を導入することで、環状オレフィン重合体（Ａ１）としてもよい。プロトン性極性基を有しない重合体は、上述した単量体（ｂ１）および（ｂ２）のうち少なくとも一種と、必要に応じて単量体（ｂ３）とを任意に組み合わせて重合することによって得ることができる。
【００３５】
また、本発明で用いる環状オレフィン重合体（Ａ１）は、上述した単量体を開環重合させた開環重合体であってもよいし、あるいは、上述した単量体を付加重合させた付加重合体であってもよいが、本発明の効果がより一層顕著になるという点より、開環重合体であることが好ましい。
【００３６】
開環重合体は、プロトン性極性基を有する環状オレフィン単量体（ａ）および必要に応じて用いられる共重合可能な単量体（ｂ）を、メタセシス反応触媒の存在下に開環メタセシス重合することにより製造することができる。製造方法としては、たとえば、国際公開第２０１０／１１０３２３号の［００３９］〜［００７９］に記載されている方法等を用いることができる。 一方、付加重合体は、プロトン性極性基を有する環状オレフィン単量体（ａ）および必要に応じて用いられる共重合可能な単量体（ｂ）を、公知の付加重合触媒、例えば、チタン、ジルコニウムまたはバナジウム化合物と有機アルミニウム化合物とからなる触媒を用いて重合させて得ることができる。
【００３７】
また、本発明で用いる環状オレフィン重合体（Ａ１）が、開環重合体である場合には、さらに水素添加反応を行い、主鎖に含まれる炭素−炭素二重結合が水素添加された水素添加物とすることが好ましい。環状オレフィン重合体（Ａ１）が水素添加物である場合における、水素化された炭素−炭素二重結合の割合（水素添加率）は、通常５０％以上であり、耐熱性の観点から、７０％以上であるのが好ましく、９０％以上であるのがより好ましく、９５％以上であるのがさらに好ましい。
【００３８】
また、本発明で使用するアクリル樹脂（Ａ２）は、特に限定されないが、アクリル基を有するカルボン酸、アクリル基を有するカルボン酸無水物、またはエポキシ基含有アクリレート化合物およびオキセタン基含有アクリレート化合物から選ばれる少なくとも１つを必須成分とする単独重合体または共重合体が好ましい。
【００３９】
アクリル基を有するカルボン酸の具体例としては、（メタ）アクリル酸〔アクリル酸および／またはメタクリル酸の意。以下、メチル（メタ）アクリレートなども同様。〕、クロトン酸、マイレン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、グルタコン酸、フタル酸モノ−（２−（（メタ）アクリロイルオキシ）エチル）、Ｎ−（カルボキシフェニル）マレイミド、Ｎ−（カルボキシフェニル）（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。  アクリル基を有するカルボン酸無水物の具体例としては、無水マレイン酸、シトラコン酸無水物等が挙げられる。
エポキシ基含有アクリレート化合物の具体例としては、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、α−エチルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−プロピルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−ブチルアクリル酸グリシジル、アクリル酸−３，４−エポキシブチル、メタクリル酸−３，４−エポキシブチル、アクリル酸−６，７−エポキシヘプチル、メタクリル酸−６，７−エポキシヘプチル、α−エチルアクリル酸−６，７−エポキシヘプチル、アクリル酸−３，４−エポキシシクロヘキシルメチル、メタクリル酸−３，４−エポキシシクロヘキシルメチル等が挙げられる。
オキセタン基含有アクリレート化合物の具体例としては、（メタ）アクリル酸（３−メチルオキセタン−３−イル）メチル、（メタ）アクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル、（メタ）アクリル酸（３−メチルオキセタン−３−イル）エチル、（メタ）アクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）エチル、（メタ）アクリル酸（３−クロロメチルオキセタン−３−イル）メチル、（メタ）アクリル酸（オキセタン−２−イル）メチル、（メタ）アクリル酸（２−メチルオキセタン−２−イル）メチル、（メタ）アクリル酸（２−エチルオキセタン−２−イル）メチル、（１−メチル−１−オキセタニル−２−フェニル）−３−（メタ）アクリレート、（１−メチル−１−オキセタニル）−２−トリフロロメチル−３−（メタ）アクリレート、および（１−メチル−１−オキセタニル）−４−トリフロロメチル−２−（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらのうち、（メタ）アクリル酸、無水マレイン酸、（メタ）アクリル酸グリシジル、メタクリル酸−６，７−エポキシヘプチル等が好ましい。
【００４０】
アクリル樹脂（Ａ２）は、不飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸無水物およびエポキシ基含有不飽和化合物から選ばれる少なくとも一つと、その他のアクリレート系単量体またはアクリレート以外の共重合可能な単量体との共重合体であってもよい。
【００４１】
その他のアクリレート系単量体としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、アミル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート等のアルキル（メタ）アクリレート；ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート；フェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート等のフェノキシアルキル（メタ）アクリレート；２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、２−プロポキシエチル（メタ）アクリレート、２−ブトキシエチル（メタ）アクリレート、２−メトキシブチル（メタ）アクリレート等のアルコキシアルキル（メタ）アクリレート；ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート等のポリアルキレングリコール（メタ）アクリレート；シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−メチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、４−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、１ − アダマンチル（メタ）アクリレート、２−メチル−２−アダマンチル（メタ）アクリレート、２−エチル−２−アダマンチル（メタ）アクリレート、トリシクロ［５．２．１．０ 2 , 6 ］デカン−８−イル（メタ）アクリレート、トリシクロ［５．２．１．０ 2 , 6 ］−３−デセン−８−イル（メタ）アクリレート、トリシクロ［５．２．１．０ 2 , 6 ］−３−デセン−９−イル（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート等のシクロアルキル（メタ）アクリレート；フェニル（メタ）アクリレート、ナフチル（メタ）アクリレート、ビフェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、５ − テト��ヒドロフルフリルオキシカルボニルペンチル（ メタ） アクリレート、（メタ）アクリル酸ビニル、（メタ）アクリル酸アリル、（メタ）アクリル酸２−（２−ビニルオキシエトキシ）エチル、２−［トリシクロ［５．２．１．０ 2 , 6 ］デカン−８−イルオキシ］エチル（メタ）アクリレート、２−［トリシクロ［５．２．１．０ 2 , 6 ］−３−デセン−８−イルオキシ］エチル（メタ）アクリレート、２−［トリシクロ［５．２．１．０ 2 , 6 ］ −３−デセン−９−イルオキシ］エチル（メタ）アクリレート、γ−ブチロラクトン（メタ）アクリレート、マレイミド、Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−エチルマレイミド、Ｎ−ブチルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−ベンジルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−（２ ，６−ジエチルフェニル）マレイミド、Ｎ−（４−アセチルフェニル） マレイミド、Ｎ −（４−ヒドロキシフェニル） マレイミド、Ｎ−（４−アセトキシフェニル）マレイミド、Ｎ−（４−ジメチルアミノ−３，５−ジニトロフェニル）マレイミド、Ｎ−（１−アニリノナフチル−４）マレイミド、Ｎ−［４−（２−ベンズオキサゾリル）フェニル］マレイミド、Ｎ−（９−アクリジニル）マレイミド等；が挙げられる。これらのなかでも、メチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−メチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、トリシクロ［５．２．１．０ 2 , 6 ］デカン−８−イル（メタ）アクリレート、Ｎ−フェニルマレイミドおよびＮ−シクロヘキシルマレイミド等が好ましい。
【００４２】
アクリレート以外の共重合可能な単量体としては、上記アクリル基を有するカルボン酸、アクリル基を有するカルボン酸無水物またはエポキシ基含有アクリレート化合物と共重合可能な化合物ならば特に制限はないが、例えば、ビニルベンジルメチルエーテル、ビニルグリシジルエーテル、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、インデン、ビニルナフタレン、ビニルビフェニル、クロロスチレン、ブロモスチレン、クロロメチルスチレン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン、ｐ−アセトキシスチレン、ｐ−カルボキシスチレン、４−ヒドロキシフェニルビニルケトン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、（メタ）アクリルアミド、１，２−エポキシ−４−ビニルシクロヘキサン、イソブテン、ノルボルネン、ブタジエン、イソプレン等のラジカル重合性化合物が挙げられる。これらの化合物は、それぞれ単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。上記単量体の重合方法は、常法に従えばよく、例えば、懸濁重合法、乳化重合法、溶液重合法等が採用される。
【００４３】
本発明で用いるカルド樹脂（Ａ３）は、カルド構造、すなわち、環状構造を構成している４級炭素原子に二つの環状構造が結合した骨格構造、を有する樹脂である。カルド構造の一般的なものはフルオレン環にベンゼン環が結合したものである。
環状構造を構成している４級炭素原子に二つの環状構造が結合した骨格構造の具体例としては、フルオレン骨格、ビスフェノールフルオレン骨格、ビスアミノフェニルフルオレン骨格、エポキシ基を有するフルオレン骨格、アクリル基を有するフルオレン骨格等が挙げられる。
本発明で用いるカルド樹脂（Ａ３）は、このカルド構造を有する骨格がそれに結合している官能基間の反応等により重合して形成される。カルド樹脂（Ａ３）は、主鎖と嵩高い側鎖が一つの元素で繋がれた構造（カルド構造）を持ち、主鎖に対してほぼ垂直方向に環状構造を有している。
【００４４】
カルド構造の一例として、アクリレート構造を有するカルド構造の例を、下記式（４）に示す。
【化６】
0006601394.tif 000007
（上記式（４）中、ｍは０〜１０の整数である。）
【００４５】
カルド構造を有する単量体は、例えば、ビス（グリシジルオキシフェニル）フルオレン型エポキシ樹脂；ビスフェノールフルオレン型エポキシ樹脂とアクリル酸との縮合物；９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン等のカルド構造含有ビスフェノ−ル類；９，９−ビス（シアノメチル）フルオレン等の９，９−ビス（シアノアルキル）フルオレン類；９，９−ビス（３−アミノプロピル）フルオレン等の９，９−ビス（アミノアルキル）フルオレン類；等が挙げられる。
カルド樹脂（Ａ３）は、カルド構造を有する単量体を重合して得られる重合体であるが、その他の共重合可能な単量体との共重合体であってもよい。
上記単量体の重合方法は、常法に従えばよく、例えば、開環重合法や付加重合法等が採用される。
【００４６】
本発明で用いるポリシロキサン（Ａ４）としては、特に限定されないが、好ましくは下記式（５）で表されるオルガノシランの１種または２種以上を混合、反応させることによって得られる重合体が挙げられる。
（Ｒ７）ｐ−Ｓｉ−（ＯＲ８）４−ｐ    （５）
【００４７】
上記式（５）中、Ｒ７は水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数２〜１０のアルケニル基、または炭素数６〜１５のアリール基であり、複数のＲ７はそれぞれ同じであっても異なっていてもよい。なお、これらのアルキル基、アルケニル基、アリール基はいずれも置換基を有していてもよく、また置換基を有していない無置換体であってもよく、組成物の特性に応じて選択できる。アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−デシル基、トリフルオロメチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、３−グリシドキシプロピル基、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチル基、３−アミノプロピル基、３−メルカプトプロピル基、３−イソシアネートプロピル基が挙げられる。アルケニル基の具体例としては、ビニル基、３−アクリロキシプロピル基、３−メタクリロキシプロピル基が挙げられる。アリール基の具体例としては、フェニル基、トリル基、ｐ−ヒドロキシフェニル基、１−（ｐ−ヒドロキシフェニル）エチル基、２−（ｐ−ヒドロキシフェニル）エチル基、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチル基、ナフチル基が挙げられる。
【００４８】
また、上記式（５）中、Ｒ８は水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアシル基、または炭素数６〜１５のアリール基であり、複数のＲ８はそれぞれ同じであっても異なっていてもよい。なお、これらのアルキル基、アシル基はいずれも置換基を有していてもよく、また置換基を有していない無置換体であってもよく、組成物の特性に応じて選択できる。アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基が挙げられる。アシル基の具体例としては、アセチル基が挙げられる。アリール基の具体例としてはフェニル基が挙げられる。
【００４９】
さらに、上記式（５）中、ｐは０〜３の整数であり、ｐ＝０の場合は４官能性シラン、ｐ＝１の場合は３官能性シラン、ｐ＝２の場合は２官能性シラン、ｐ＝３の場合は１官能性シランとなる。
【００５０】
上記式（５）で表されるオルガノシランの具体例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラアセトキシシラン、テトラフェノキシシランなどの４官能性シラン；メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、メチルトリｎ−ブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリイソプロポキシシラン、エチルトリｎ−ブトキシシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、ｎ−ブチルトリメトキシシラン、ｎ−ブチルトリエトキシシラン、ｎ−へキシルトリメトキシシラン、ｎ−へキシルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ｐ−ヒドロキシフェニルトリメトキシシラン、１−（ｐ−ヒドロキシフェニル）エチルトリメトキシシラン、２−（ｐ−ヒドロキシフェニル）エチルトリメトキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルトリメトキシシラン、トリフルオロメチルトリメトキシシラン、トリフルオロメチルトリエトキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシランなどの３官能性シラン；ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、ジｎ−ブチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシランなどの２官能性シラン；トリメチルメトキシシラン、トリｎ−ブチルエトキシシランなどの１官能性シラン；が挙げられる。
これらのオルガノシランのうち、得られる樹脂膜の耐クラック性や硬度の点から３官能性シランが好ましく用いられる。これらのオルガノシランは単独で使用しても、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【００５１】
本発明で用いるポリシロキサン（Ａ４）は、上述のオルガノシランを加水分解および部分縮合させることにより得られる。加水分解および部分縮合には一般的な方法を用いることができる。例えば、混合物に溶媒、水、必要に応じて触媒を添加し、加熱攪拌する。攪拌中、必要に応じて蒸留によって加水分解副生物（メタノールなどのアルコール）や縮合副生物（水）を留去してもよい。
【００５２】
本発明で用いるポリイミド（Ａ５）は、テトラカルボン酸無水物とジアミンを反応させて得たポリイミド前駆体を熱処理することで得ることができる。ポリイミドを得るための前駆体としては、ポリアミド酸、ポリアミド酸エステル、ポリイソイミド、ポリアミド酸スルホンアミド等が挙げられる。
【００５３】
本発明で用いるポリイミド（Ａ５）は公知の方法によって合成される。すなわち、テトラカルボン酸二無水物とジアミンとを選択的に組み合わせ、これらをＮ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホロトリアミド、γ−ブチロラクトン、シクロペンタノン等の極性溶媒中で反応させる等、公知の方法によって合成される。
【００５４】
ジアミンを過剰に用いて重合した際、生成したポリイミド（Ａ５）の末端アミノ基にカルボン酸無水物を反応させ、末端アミノ基を保護することができる。また、テトラカルボン酸無水物を過剰に用いて重合した際、生成したポリイミド（Ａ５）の末端酸無水物基にアミン化合物を反応させ、末端酸無水物基を保護することもできる。
【００５５】
このようなカルボン酸無水物の例としてはフタル酸無水物、トリメリット酸無水物、無水マレイン酸、ナフタル酸無水物、水素化フタル酸無水物、メチル−５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸無水物、無水イタコン酸、テトラヒドロフタル酸無水物等を、アミン化合物の例としてはアニリン、２−ヒドロキシアニリン、３−ヒドロキシアニリン、４−ヒドロキシアニリン、２−エチニルアニリン、３−エチニルアニリン、４−エチニルアニリン等を挙げることができる。
【００５６】
本発明で使用されるバインダー樹脂（Ａ）の重量平均分子量（Ｍｗ）は、通常、１，０００〜１，０００，０００、好ましくは１，５００〜１００，０００、より好ましくは２，０００〜１０，０００の範囲である。
また、バインダー樹脂（Ａ）の分子量分布は、重量平均分子量／数平均分子量（Ｍｗ／Ｍｎ）比で、通常、４以下、好ましくは３以下、より好ましくは２．５以下である。
バインダー樹脂（Ａ）の重量平均分子量（Ｍｗ）や分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、テトラヒドロフラン等の溶媒を溶離液としたゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により、ポリスチレン換算値として求められる値である。
【００５７】
（感放射線化合物（Ｂ））
本発明で用いる感放射線化合物（Ｂ）としては、紫外線や電子線等の放射線の照射により、化学反応を引き起こすことのできる化合物であればよく、特に限定されないが、樹脂組成物から形成される樹脂膜のアルカリ溶解性を制御できるものが好ましく、感放射線化合物（Ｂ）としては、光酸発生剤を使用することが特に好ましい。
【００５８】
光酸発生剤としては、たとえば、アセトフェノン化合物、トリアリールスルホニウム塩、キノンジアジド化合物等のアジド化合物等が挙げられるが、アジド化合物が好ましく、キノンジアジド化合物がより好ましい。
【００５９】
キノンジアジド化合物としては、たとえば、キノンジアジドスルホン酸ハライドとフェノール性水酸基を有する化合物とのエステル化合物を用いることができる。キノンジアジドスルホン酸ハライドの具体例としては、１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロライド、１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸クロライド、１，２−ベンゾキノンジアジド−５−スルホン酸クロライド等が挙げられる。フェノール性水酸基を有する化合物の代表例としては、１，１，３−トリス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３−フェニルプロパン、４，４’−［１−［４−［１−［４−ヒドロキシフェニル］−１−メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール等が挙げられる。これら以外のフェノール性水酸基を有する化合物としては、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、トリス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１，１−トリス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）エタン、１，１，２，２−テトラキス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、ノボラック樹脂のオリゴマー、フェノール性水酸基を１つ以上有する化合物とジシクロペンタジエンとを共重合して得られるオリゴマー等が挙げられる。これらの中でも、１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロライドとフェノール性水酸基を有する化合物との縮合物が好ましく、１，１，３−トリス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３−フェニルプロパンと１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロライドとの縮合物がより好ましい。
【００６０】
また、光酸発生剤としては、上述したキノンジアジド化合物の他、オニウム塩、ハロゲン化有機化合物、α，α’−ビス（スルホニル）ジアゾメタン系化合物、α−カルボニル−α’−スルホニルジアゾメタン系化合物、スルホン化合物、有機酸エステル化合物、有機酸アミド化合物、有機酸イミド化合物等、公知のものを用いることができる。
【００６１】
感放射線化合物（Ｂ）は、１種単独で、又は２種以上の化合物を組み合わせて用いることができる。これらの中でもポジ型の感放射性樹脂組成物を調製できることからキノンジアジド化合物が好ましい。
【００６２】
本発明の感放射性樹脂組成物中における感放射線化合物（Ｂ）の含有量は、バインダー樹脂（Ａ）１００重量部に対して、好ましくは１〜１００重量部、より好ましくは５〜５０重量部、さらに好ましくは１０〜４０重量部の範囲である。感放射線化合物（Ｂ）の使用量がこの範囲にあれば、任意の基板上に形成した本発明の感放射性樹脂組成物からなる樹脂膜をパターン化する際に、放射線照射部と放射線未照射部との現像液への溶解度差が大きくなり、現像によるパターン化が容易で、かつ、放射線感度も高くなるので好適である。
【００６３】
（一般式（１）で表される架橋剤（Ｃ））
本発明の感放射線性樹脂組成物は、上述したバインダー樹脂（Ａ）、および感放射線化合物（Ｂ）に加えて、下記一般式（１）で表される架橋剤（Ｃ）を含有する。
【化７】
0006601394.tif 000008
（上記一般式（１）中、Ｒ１〜Ｒ３は、それぞれ独立して、炭素数１〜１０の炭化水素基である。）
【００６４】
本発明においては、上記一般式（１）で表される架橋剤（Ｃ）は、トリアジン環構造と、ウレタン結合とを含有する化合物であり、このような一般式（１）で表される架橋剤（Ｃ）（以下、適宜、「架橋剤（Ｃ）」とする。）を、後述する特定量配合することにより、本発明の感放射線性樹脂組成物を用いて得られる樹脂膜を、露光感度が高く、低吸水率であり、現像によるパターン形成性に優れたものとしながら、ＵＶオゾン処理耐性が向上されたものとすることができる。
【００６５】
上記一般式（１）中、Ｒ１〜Ｒ３は、それぞれ独立して、炭素数１〜１０の炭化水素基であり、好ましくは炭素数１〜８の炭化水素基であり、より好ましくは炭素数１〜６の炭化水素基である。また、Ｒ１〜Ｒ３としては、炭素数が３以上である場合には、直鎖状または分岐状のアルキル基、アルキレン基、脂環構造を有する基、芳香環を有する基のいずれであってもよいが、直鎖状のアルキル基であることが好ましい。Ｒ１〜Ｒ３の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、アリール基などが挙げられるが、ＵＶオゾン処理耐性の向上効果がより大きいという観点より、メチル基および／またはｎ−ブチル基が好ましい。架橋剤（Ｃ）は、１種単独で、又は２種以上の化合物を組み合わせて用いることができる。
【００６６】
本発明で用いる架橋剤（Ｃ）は、たとえば、トリアジンと、環状カーボネートとを用いる方法など公知の方法により合成することができるが、たとえば、商品名「サイメルＮＦ２０００」（ダイセル・オルネクス社製）など市販のものを用いてもよい。
【００６７】
本発明の感放射性樹脂組成物中における架橋剤（Ｃ）の含有量は、バインダー樹脂（Ａ）１００重量部に対して、３〜２５重量部であり、好ましくは７〜２５重量部、より好ましくは１０〜２５重量部である。架橋剤（Ｃ）の含有量が少なすぎると、ＵＶオゾン処理耐性の向上効果が得られなくなり、一方、多すぎると、現像によるパターン形成性が著しく低下してしまう。
【００６８】
（トリアジン環構造またはグリコールウリル構造を有し、かつメチロール基およびアルコキシアルキル基からなる群より選ばれる１種以上の官能基を有する架橋剤（Ｄ））
また、本発明の感放射線性樹脂組成物は、上述した各成分に加えて、トリアジン環構造またはグリコールウリル構造を有し、かつメチロール基およびアルコキシアルキル基からなる群より選ばれる１種以上の官能基を有する架橋剤（Ｄ）（以下、適宜、「架橋剤（Ｄ）」とする。）をさらに含有していることが好ましい。架橋剤（Ｄ）をさらに含有していることで、得られる樹脂膜を、吸水率がより低く、ＵＶオゾン処理耐性にさらに優れたものとすることができる。なお、アルコキシアルキル基のなかでも、メトキシブチル基やエトキシブチル基などのアルコキシブチル基や、メトキシメチル基が好ましい。さらに、得られる樹脂膜について、高い露光感度、現像残渣の抑制、低吸水量、ＵＶオゾン処理耐性といった各特性が高度にバランスされる観点より、アルコキシアルキル基のみではなく、メチロール基も含有するものが好ましい。
【００６９】
架橋剤（Ｄ）としては、トリアジン環構造またはグリコールウリル構造を有するものであるが、その添加効果をより顕著なものとすることができるという点より、下記一般式（６）で表されるメラミン構造を有する化合物、または下記一般式（７）で表されるグアナミン構造を有する化合物が好ましく、メラミン構造を有する化合物がより好ましい。
【００７０】
【化８】
0006601394.tif 000009
（上記一般式（６）中、Ｒ９〜Ｒ１４は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していていもよいアリール基、メチロール基、またはアルコキシアルキル基であり、Ｒ９〜Ｒ１４のうち、少なくとも一つは、メチロール基、またはアルコキシアルキル基である。）
【化９】
0006601394.tif 000010
（上記一般式（７）中、Ｒ１５〜Ｒ１８は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していていもよいアリール基、メチロール基、またはアルコキシアルキル基であり、Ｒ１５〜Ｒ１８のうち、少なくとも一つは、メチロール基、またはアルコキシアルキル基である。Ｘは、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、または置換基を有していていもよいアリール基である。）
【００７１】
なお、上記一般式（６）で表されるメラミン構造を有する化合物は、たとえば、メラミンに、アセトアルデヒドおよび対応するアルコールを反応させることにより得ることができ、また、上記一般式（７）で表されるグアナミン構造を有する化合物も同様の方法によって得ることができる。そのため、上記一般式（６）で表されるメラミン構造を有する化合物および上記一般式（７）で表されるグアナミン構造を有する化合物は、単一化合物ではなく混合物として得られる場合があり、たとえば、多核体が異なるものの混合物や、官能基数が異なるものの混合物になり得る。そして、多核体が異なるものの混合物である場合には、たとえば、平均重合度により混合物の多核体平均を知ることができる。
【００７２】
また、本発明で用いる架橋剤（Ｄ）は、官能基としてメチロール基、またはアルコキシアルキル基を有するものであるが、これらメチロール基、またはアルコキシアルキル基を、トリアジン環１個あたり、またはグリコールウリル構造１個あたりに平均１個以上含むものであることが好ましく、好ましくはトリアジン環１個あたり、またはグリコールウリル構造１個あたり、に平均で２〜６個有するものであることが好ましい。なお、メチロール基、またはアルコキシアルキル基の数は、たとえば、新版高分子分析ハンドブック（発行：紀伊国屋書店、１９９５年１月１２日 初版第１刷発行）に記載されているように、架橋剤（Ｄ）をジメチルスルホキシド−ｄ６（ＤＭＳＯ−ｄ６）に溶かし、プロトン核磁気共鳴スペクトル（１Ｈ ＮＭＲ）またはカーボン核磁気共鳴スペクトル（１３Ｃ ＮＭＲ）により所望の官能基のプロトンピークまたはカーボンピークから定量することにより測定することができる。
【００７３】
さらに、本発明で用いる架橋剤（Ｄ）は、たとえば、上記一般式（６）で表されるメラミン構造を有する化合物、上記一般式（７）で表されるグアナミン構造を有する化合物のように単量体であってもよいし、あるいは、これらが重合してなる重合体であってもよい。この場合における、平均重合度は、好ましくは１．３〜４．０であり、より好ましくは１．８〜３．５、さらに好ましくは２．０〜３．０である。
【００７４】
また、架橋剤（Ｄ）としては、たとえば、各社より市販されているものを用いることができ、以下のものを例示することができる。なお、以下においては、括弧内に、平均重合度を示す。また、以下において、単量体濃度とは、当該組成物中において、前記一般式（６）または一般式（７）で表される化合物が単量体のままとして存在する割合のことである。
【００７５】
すなわち、トリアジン環構造を有し、メチロール基およびアルコキシアルキル基からなる群より選ばれる１種以上の官能基を有する架橋剤（Ｄ）としては、「サイメル３７０」（２．６０）、「サイメル７７１」（２．２０）、「サイメル２７２」（２．５０）、「サイメル７０１」（１．８０）、「サイメル２６６」（１．４０）、「サイメル２６７」（１．５０）、「サイメル２８５」（１．５０）、「サイメル２３２」（１．５０）、「サイメル２３５」（１．４０）、「サイメル２１２」（１．６０）、「サイメル２５３」（１．９０）、「サイメル２５４」（２．３０）、「サイメル２３６」（１．４０）、「サイメル２３８」（１．６０）、「サイメル２７２」（２．５０）、「サイメル２０２」（２．１０）、「サイメル２０７」（２．１０）、「マイコート１０２」（１．３２）、「マイコート５０６」（２．２０）、「マイコート５０８」（２．６０）、「サイメル１１２８」（３．００）、「マイコート１３０」（１．７７）｛以上、サイテックインダストリーズ社製｝、「ニカラックＭＷ−１００ＬＭ」（単量体濃度約７５％）、「ニカラックＭＸ−７５０」（２．２０）、「ニカラックＭＸ−７５０ＬＭ」（単量体濃度約４０％）、「ニカラックＭＸ−７０６」（２．６０）｛以上、三和ケミカル社製｝などを例示することができる。
【００７６】
また、グリコールウリル構造を有し、かつメチロール基、アルコキシアルキル基からなる群より選ばれる１種以上の官能基を有する架橋剤（Ｄ）としては、「サイメル１１７０」（１．５０）、「サイメル１１７２」（２．００）{以上、サイテックインダストリーズ社製}などを例示することができる。
【００７７】
また、本発明で用いる架橋剤（Ｄ）は、金属量の少ないものが好ましく、架橋剤（Ｄ）の金属量を低減させる方法としては、たとえば、金属を低減させる処理（以降、「低金属化処理」と略記する場合がある）による方法等が挙げられる。低金属化処理の方法としては、ゼータフィルタ等のフィルタを用いたろ過による方法、低金属化処理剤を用いた方法等を挙げることができる。
【００７８】
本発明の感放射性樹脂組成物中における架橋剤（Ｄ）の含有量は、バインダー樹脂（Ａ）１００重量部に対して、好ましくは１０〜１００重量部であり、より好ましくは１５〜４５重量部、さらに好ましくは２０〜４０重量部である。架橋剤（Ｄ）の配合量を上記範囲とすることにより、架橋剤（Ｄ）の添加効果、すなわち、吸水率の低減効果およびＵＶオゾン処理耐性の向上効果をより高めることができる。
【００７９】
（エポキシ化合物（Ｅ））
また、本発明の感放射線性樹脂組成物は、上述した各成分に加えて、エポキシ化合物（Ｅ）をさらに含有していることが好ましい。エポキシ化合物（Ｅ）をさらに含有していることで、得られる樹脂膜を、現像によるパターン形成性およびＵＶオゾン処理耐性にさらに優れたものとすることができる。エポキシ化合物（Ｅ）としては、エポキシ基を有する化合物であればよく、特に限定されない。
【００８０】
エポキシ化合物（Ｅ）の具体例としては、ジシクロペンタジエンを骨格とする３官能性のエポキシ化合物（製品名「ＸＤ−１０００」、日本化薬社製）、２，２−ビス（ヒドロキシメチル）１−ブタノールの１，２−エポキシ−４−（２−オキシラニル）シクロヘキサン付加物（シクロヘキサン骨格および末端エポキシ基を有する１５官能性の脂環式エポキシ樹脂、製品名「ＥＨＰＥ３１５０」、ダイセル化学工業社製）、エポキシ化３−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸ビス（３−シクロヘキセニルメチル）修飾ε−カプロラクトン（脂肪族環状３官能性のエポキシ樹脂、製品名「エポリードＧＴ３０１」、ダイセル化学工業社製）、エポキシ化ブタンテトラカルボン酸テトラキス（３−シクロヘキセニルメチル）修飾ε−カプロラクトン（脂肪族環状４官能性のエポキシ樹脂、製品名「エポリードＧＴ４０１」、ダイセル化学工業社製）等の脂環構造を有するエポキシ化合物；
【００８１】
芳香族アミン型多官能エポキシ化合物（製品名「Ｈ−４３４」、東都化成工業社製）、クレゾールノボラック型多官能エポキシ化合物（製品名「ＥＯＣＮ−１０２０」、日本化薬社製）、フェノールノボラック型多官能エポキシ化合物（エピコート１５２、１５４、ジャパンエポキシレジン社製）、ナフタレン骨格を有する多官能エポキシ化合物（製品名ＥＸＡ−４７００、ＤＩＣ株式会社製）、鎖状アルキル多官能エポキシ化合物（製品名「ＳＲ−ＴＭＰ」、阪本薬品工業株式会社製）、多官能エポキシポリブタジエン（製品名「エポリードＰＢ３６００」、ダイセル化学工業社製）、グリセリンのグリシジルポリエーテル化合物（製品名「ＳＲ−ＧＬＧ」、阪本薬品工業株式会社製）、ジグリセリンポリグリシジルエーテル化合物（製品名「ＳＲ−ＤＧＥ」、阪本薬品工業株式会社製、ポリグリセリンポリグリシジルエーテル化合物（製品名「ＳＲ−４ＧＬ」、阪本薬品工業株式会社製）等の脂環構造を有さないエポキシ化合物；を挙げることができる。
【００８２】
本発明の感放射線性樹脂組成物中におけるエポキシ化合物（Ｅ）の含有量は、バインダー樹脂（Ａ）１００重量部に対して、好ましくは３〜７０重量部、より好ましくは４〜４５重量部、さらに好ましくは５〜２５重量部である。エポキシ化合物（Ｅ）の配合量を上記範囲とすることにより、エポキシ化合物（Ｅ）添加効果、すなわち、現像によるパターン形成性およびＵＶオゾン処理耐性の向上効果をより高めることができる。
【００８３】
（その他の配合剤）
本発明の感放射線性樹脂組成物には、さらに、溶剤が含有されていてもよい。溶剤としては、特に限定されず、樹脂組成物の溶剤として公知のもの、例えばアセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、２−ヘキサノン、３−ヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、４−ヘプタノン、２−オクタノン、３−オクタノン、４−オクタノンなどの直鎖のケトン類；ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、シクロヘキサノールなどのアルコール類；エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジオキサンなどのエーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルなどのアルコールエーテル類；ギ酸プロピル、ギ酸ブチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酪酸メチル、酪酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチルなどのエステル類；セロソルブアセテート、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテートなどのセロソルブエステル類；プロピレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルなどのプロピレングリコール類；ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテルなどのジエチレングリコール類；γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、γ−カプロラクトン、γ−カプリロラクトンなどの飽和γ−ラクトン類；トリクロロエチレンなどのハロゲン化炭化水素類；トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルアセトアミドなどの極性溶媒などが挙げられる。これらの溶剤は、単独でも２種以上を組み合わせて用いてもよい。溶剤の含有量は、バインダー樹脂（Ａ）１００重量部に対して、好ましくは１０〜１００００重量部、より好ましくは５０〜５０００重量部、さらに好ましくは１００〜１０００重量部の範囲である。なお、本発明の感放射線性樹脂組成物に溶剤を含有させる場合には、溶剤は、通常、樹脂膜形成後に除去されることとなる。
【００８４】
また、本発明の感放射線性樹脂組成物は、本発明の効果が阻害されない範囲であれば、所望により、界面活性剤、酸性化合物、カップリング剤またはその誘導体、増感剤、潜在的酸発生剤、酸化防止剤、光安定剤、消泡剤、顔料、染料、フィラー等のその他の配合剤；等を含有していてもよい。
【００８５】
界面活性剤は、ストリエーション（塗布筋あと）の防止、現像性の向上等の目的で使用される。界面活性剤の具体例としては、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類；ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアリールエーテル類；ポリオキシエチレンジラウレート、ポリオキシエチレンジステアレート等のポリオキシエチレンジアルキルエステル類等のノニオン系界面活性剤；フッ素系界面活性剤；シリコーン系界面活性剤；メタクリル酸共重合体系界面活性剤；アクリル酸共重合体系界面活性剤；等が挙げられる。
【００８６】
カップリング剤またはその誘導体は、感放射線性樹脂組成物からなる樹脂膜と、半導体素子基板を構成する半導体層を含む各層との密着性をより高める効果を有する。カップリング剤またはその誘導体としては、ケイ素原子、チタン原子、アルミニウム原子、ジルコニウム原子から選ばれる１つの原子を有し、該原子に結合したヒドロカルビルオキシ基またはヒドロキシ基を有する化合物等が使用できる。
【００８７】
カップリング剤またはその誘導体としては、例えば、
テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｉ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシランなどのテトラアルコキシシラン類、
メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ-プロピルトリエトキシシラン、ｉ−プロピルトリメトキシシラン、ｉ−プロピルトリエトキシシラン、ｎ−ブチルトリメトキシシラン、ｎ−ブチルトリエトキシシラン、ｎ−ペンチルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキシルトリメトキシシラン、ｎ−ヘプチルトリメトキシシラン、ｎ−オクチルトリメトキシシラン、ｎ−デシルトリメトキシシラン、ｐ−スチリルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、シクロヘキシルトリメトキシシラン、シクロヘキシルトリメトキシシラン、シクロヘキシルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリエトキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、２−ヒドロキシエチルトリメトキシシラン、２−ヒドロキシエチルトリエトキシシラン、２−ヒドロキシプロピルトリメトキシシラン、２−ヒドロキシプロピルトリエトキシシラン、３−ヒドロキシプロピルトリメトキシシラン、３−ヒドロキシプロピルトリエトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、３−イソシアナートプロピルトリメトキシシラン、３−イソシアナートプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、３−（メタ）アクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリルオキシプロピルトリエトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、３−エチル（トリメトキシシリルプロポキシメチル）オキセタン、３−エチル（トリエトキシシリルプロポキシメチル）オキセタン、３−トリエトキシシリル−Ｎ−（１，３−ジメチル−ブチリデン）プロピルアミン、ビス（トリエトキシシリルプロピル）テトラスルフィドなどのトリアルコキシシラン類、
ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジ−ｎ−プロピルジメトキシシラン、ジ−ｎ−プロピルジエトキシシラン、ジ−ｉ−プロピルジメトキシシラン、ジ−ｉ−プロピルジエトキシシラン、ジ−ｎ−ブチルジメトキシシラン、ジ−ｎ−ペンチルジメトキシシラン、ジ−ｎ−ペンチルジエトキシシラン、ジ−ｎ−ヘキシルジメトキシシラン、ジ−ｎ−ヘキシルジエトキシシラン、ジ−ｎ−へプチルジメトキシシラン、ジ−ｎ−ヘプチルジエトキシシラン、ジ−ｎ−オクチルジメトキシシラン、ジ−ｎ−オクチルジエトキシシラン、ジ−ｎ−シクロヘキシルジメトキシシラン、ジ−ｎ−シクロヘキシルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−メタクリルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−アクリルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−アクリルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシランなどのジアルコキシシラン類の他、
メチルトリアセチルオキシシラン、ジメチルジアセチルオキシシラン等のケイ素原子含有化合物； 
【００８８】
テトラ−ｉ−プロポキシチタン、テトラ−ｎ−ブトキシチタン、テトラキス（２−エチルヘキシルオキシ）チタン、チタニウム−ｉ−プロポキシオクチレングリコレート、ジ−ｉ−プロポキシ・ビス（アセチルアセトナト）チタン、プロパンジオキシチタンビス（エチルアセトアセテート）、トリ−ｎ−ブトキシチタンモノステアレート、ジ−ｉ−プロポキシチタンジステアレート、チタニウムステアレート、ジ−ｉ−プロポキシチタンジイソステアレート、（２−ｎ−ブトキシカルボニルベンゾイルオキシ）トリブトキシチタン、ジ−ｎ−ブトキシ・ビス（トリエタノールアミナト）チタンの他、プレンアクトシリーズ（味の素ファインテクノ株式会社製）等のチタン原子含有化合物；
アセトアルコキシアルミウムジイソプロピレート等のアルミニウム原子含有化合物；
テトラノルマルプロポキシジルコニウム、テトラノルマルブトキシジルコニウム、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート、ジルコニウムトリブトキシアセチルアセトネート、ジルコニウムものブトキシアセチルアセトネートビス（エチルアセトアセテート）、ジルコニウムジブトキシビス（エチルアセトアセテート）、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート、ジルコニウムトリブトキシステアレート等のジルコニウム原子含有化合物；が挙げられる。
【００８９】
増感剤の具体例としては、２Ｈ−ピリド−（３，２−ｂ）−１，４−オキサジン−３（４Ｈ）−オン類、１０Ｈ−ピリド−（３，２−ｂ）−１，４−ベンゾチアジン類、ウラゾール類、ヒダントイン類、バルビツール酸類、グリシン無水物類、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール類、アロキサン類、マレイミド類等が挙げられる。
【００９０】
酸化防止剤としては、通常の重合体に使用されている、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤、ラクトン系酸化防止剤等が使用できる。例えば、フェノール類として、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、ｐ−メトキシフェノール、スチレン化フェノール、ｎ−オクタデシル−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２，２’−メチレン−ビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２−ｔ−ブチル−６−（３’−ｔ−ブチル−５’−メチル−２’−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、４，４’−ブチリデン−ビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−チオ−ビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、アルキル化ビスフェノール等を挙げることができる。リン系酸化防止剤としては、亜リン酸トリフェニル、亜リン酸トリス（ノニルフェニル）、イオウ系としては、チオジプロピオン酸ジラウリル等が挙げられる。
【００９１】
光安定剤としては、ベンゾフェノン系、サリチル酸エステル系、ベンゾトリアゾール系、シアノアクリレート系、金属錯塩系等の紫外線吸収剤、ヒンダ−ドアミン系（ＨＡＬＳ）等、光により発生するラジカルを捕捉するもの等のいずれでもよい。これらのなかでも、ＨＡＬＳはピペリジン構造を有する化合物で、樹脂組成物に対し着色が少なく、安定性がよいため好ましい。具体的な化合物としては、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−4−ピペリジル）セバケート、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル／トリデシル１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、ビス（１−オクチロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート等が挙げられる。
【００９２】
本発明の感放射線性樹脂組成物の調製方法は、特に限定されず、感放射線性樹脂組成物を構成する各成分を公知の方法により混合すればよい。
混合の方法は特に限定されないが、感放射線性樹脂組成物を構成する各成分を溶剤に溶解または分散して得られる溶液または分散液を混合するのが好ましい。これにより、感放射線性樹脂組成物は、溶液または分散液の形態で得られる。
【００９３】
感放射線性樹脂組成物を構成する各成分を溶剤に溶解または分散する方法は、常法に従えばよい。具体的には、攪拌子とマグネティックスターラーを使用した攪拌、高速ホモジナイザー、ディスパー、遊星攪拌機、二軸攪拌機、ボールミル、三本ロール等を使用して行なうことができる。また、各成分を溶剤に溶解または分散した後に、例えば、孔径が０．５μｍ程度のフィルター等を用いて濾過してもよい。
【００９４】
本発明の感放射線性樹脂組成物の固形分濃度は、通常、１〜７０重量％、好ましくは５〜６０重量％、より好ましくは１０〜５０重量％である。固形分濃度がこの範囲にあれば、溶解安定性、塗布性や形成される樹脂膜の膜厚均一性、平坦性等が高度にバランスされ得る。
【００９５】
また、本発明の感放射線性樹脂組成物における、Ｎａ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｋ、Ｃａ、Ｃｒ、Ｍｎ、ＦｅおよびＮｉの含有割合は、感放射線性樹脂組成物全体に対する重量比率で、好ましくは５００ｐｐｂ未満であり、より好ましくは２００ｐｐｂ未満、特に好ましくは１００ｐｐｂ未満である。
【００９６】
（樹脂膜）
本発明の樹脂膜は、上述した本発明の感放射線性樹脂組成物を用いて得ることができる。本発明の樹脂膜としては、上述した本発明の感放射線性樹脂組成物を基材上に形成させることによって得られるものが好ましい。
【００９７】
基材としては、たとえば、プリント配線基板、シリコンウエハ基板、ソーダガラスなどのガラス基板、ポリエチレンナフタレートなどのプラスチック基板等を用いることができる。なかでも、タッチパネル構造を備えた表示装置に用いられるソーダガラス基板や、ポリエチレンナフタレート基板が好適に用いられる。
【００９８】
樹脂膜を形成する方法としては、特に限定されず、例えば、塗布法やフィルム積層法等の方法を用いることができる。
【００９９】
塗布法は、例えば、感放射線性樹脂組成物を塗布した後、加熱乾燥して溶剤を除去する方法である。感放射線性樹脂組成物を塗布する方法としては、例えば、スプレー法、スピンコート法、ロールコート法、ダイコート法、ドクターブレード法、回転塗布法、バー塗布法、スクリーン印刷法等の各種の方法を採用することができる。加熱乾燥条件は、各成分の種類や配合割合に応じて異なるが、通常、３０〜１５０℃、好ましくは６０〜１２０℃で、通常、０．５〜９０分間、好ましくは１〜６０分間、より好ましくは１〜３０分間で行なえばよい。
【０１００】
フィルム積層法は、感放射線性樹脂組成物を、樹脂フィルムや金属フィルム等のＢステージフィルム形成用基材上に塗布した後に加熱乾燥により溶剤を除去してＢステージフィルムを得、次いで、このＢステージフィルムを、積層する方法である。加熱乾燥条件は、各成分の種類や配合割合に応じて適宜選択することができるが、加熱温度は、通常、３０〜１５０℃であり、加熱時間は、通常、０．５〜９０分間である。フィルム積層は、加圧ラミネータ、プレス、真空ラミネータ、真空プレス、ロールラミネータ等の圧着機を用いて行なうことができる。
【０１０１】
樹脂膜の厚さとしては、特に限定されず、用途に応じて適宜設定すればよいが、樹脂膜が、たとえば、タッチパネル構造を備えた表示装置のタッチパネル構造部の保護膜や絶縁膜である場合には、樹脂膜の厚さは、好ましくは０．１〜１００μｍ、より好ましくは０．５〜５０μｍ、さらに好ましくは０．５〜３０μｍである。
【０１０２】
また、本発明の感放射線性樹脂組成物は、架橋剤として、上記一般式（１）で表される架橋剤（Ｃ）を少なくとも含有するものであるため、上記した塗布法またはフィルム積層法により形成した樹脂膜について、架橋反応を行なうことができる。このような架橋は、架橋剤（Ｃ）の種類に応じて適宜方法を選択すればよいが、通常、加熱により行なう。加熱方法は、例えば、ホットプレート、オーブン等を用いて行なうことができる。加熱温度は、通常、１８０〜２５０℃であり、加熱時間は、樹脂膜の面積や厚さ、使用機器等により適宜選択され、例えばホットプレートを用いる場合は、通常、５〜６０分間、オーブンを用いる場合は、通常、３０〜９０分間の範囲である。加熱は、必要に応じて不活性ガス雰囲気下で行ってもよい。不活性ガスとしては、酸素を含まず、かつ、樹脂膜を酸化させないものであればよく、例えば、窒素、アルゴン、ヘリウム、ネオン、キセノン、クリプトン等が挙げられる。これらの中でも窒素とアルゴンが好ましく、特に窒素が好ましい。特に、酸素含有量が０．１体積％以下、好ましくは０．０１体積％以下の不活性ガス、特に窒素が好適である。これらの不活性ガスは、それぞれ単独で、または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０１０３】
さらに、本発明の感放射線性樹脂組成物は、感放射線化合物（Ｂ）を含有するものであるため、本発明の感放射線性樹脂組成物を用いて形成される樹脂膜について、必要に応じて、パターン化することができる。樹脂膜をパターン化する方法としては、たとえば、パターン化前の樹脂膜を形成し、パターン化前の樹脂膜に活性放射線を照射して潜像パターンを形成し、次いで潜像パターンを有する樹脂膜に現像液を接触させることによりパターンを顕在化させる方法などが挙げられる。
【０１０４】
活性放射線としては、感放射線性樹脂組成物に含有される感放射線化合物（Ｂ）を活性化させ、感放射線性樹脂組成物のアルカリ可溶性を変化させることができるものであれば特に限定されない。具体的には、紫外線、ｇ線やｉ線等の単一波長の紫外線、ＫｒＦエキシマレーザー光、ＡｒＦエキシマレーザー光等の光線；電子線のような粒子線；等を用いることができる。これらの活性放射線を選択的にパターン状に照射して潜像パターンを形成する方法としては、常法に従えばよく、例えば、縮小投影露光装置等により、紫外線、ｇ線、ｉ線、ＫｒＦエキシマレーザー光、ＡｒＦエキシマレーザー光等の光線を所望のマスクパターンを介して照射する方法、または電子線等の粒子線により描画する方法等を用いることができる。活性放射線として光線を用いる場合は、単一波長光であっても、混合波長光であってもよい。照射条件は、使用する活性放射線に応じて適宜選択されるが、例えば、波長２００〜４５０ｎｍの光線を使用する場合、照射量は、通常１０〜１，０００ｍＪ／ｃｍ２、好ましくは５０〜５００ｍＪ／ｃｍ２の範囲であり、照射時間と照度に応じて決まる。このようにして活性放射線を照射した後、必要に応じ、樹脂膜を６０〜１３０℃程度の温度で１〜２分間程度加熱処理する。
【０１０５】
次に、パターン化前の樹脂膜に形成された潜像パターンを現像して顕在化させる。現像液としては、通常、アルカリ性化合物の水性溶液が用いられる。アルカリ性化合物としては、例えば、アルカリ金属塩、アミン、アンモニウム塩を使用することができる。アルカリ性化合物は、無機化合物であっても有機化合物であってもよい。これらの化合物の具体例としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム等のアルカリ金属塩；アンモニア水；エチルアミン、ｎ−プロピルアミン等の第一級アミン；ジエチルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン等の第二級アミン；トリエチルアミン、メチルジエチルアミン等の第三級アミン；テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、コリン等の第四級アンモニウム塩；ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルコールアミン；ピロール、ピペリジン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−エン、Ｎ−メチルピロリドン等の環状アミン類；等が挙げられる。これらアルカリ性化合物は、それぞれ単独で、または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０１０６】
アルカリ水性溶液の水性媒体としては、水；メタノール、エタノール等の水溶性有機溶剤を使用することができる。アルカリ水性溶液は、界面活性剤等を適当量添加したものであってもよい。
潜像パターンを有する樹脂膜に現像液を接触させる方法としては、例えば、パドル法、スプレー法、ディッピング法等の方法が用いられる。現像は、通常、０〜１００℃、好ましくは５〜５５℃、より好ましくは１０〜３０℃の範囲で、通常、３０〜１８０秒間の範囲で適宜選択される。
【０１０７】
このようにして目的とするパターンが形成された樹脂膜は、現像残渣を除去するために、たとえば、ＵＶオゾン処理を用いた洗浄や、リンス液を用いたリンスが行われる。
【０１０８】
本発明において、樹脂膜は、パターン化した後に、架橋反応を行なうことができる。架橋は、上述した方法にしたがって行なえばよい。
【０１０９】
（電子部品）
本発明の電子部品は、上述した本発明の樹脂膜を備えてなる。本発明の電子部品としては、特に限定されないが、各種電子部品が挙げられ、好適には、有機ＥＬ素子が挙げられ、本発明の樹脂膜は、このような有機ＥＬ素子の画素分離膜（画素定義膜、素子分離膜ともいう）用途に特に好適に用いることができる。すなわち、有機ＥＬ素子の画素分離膜は、その形成工程において、現像により樹脂膜をパターン化し、現像によるパターン形成後に、ＵＶオゾン処理を用いた洗浄を行うものであるため、吸水率が低いことに加えて、現像によるパターン形成性およびＵＶオゾン処理耐性（ＵＶオゾン処理を行った後における劣化が抑えられていること）に優れていることが求められている。これに対し、本発明の樹脂膜は、上述した本発明の感放射線性樹脂組成物を用いて得られるものであり、そのため、露光感度が高く、低吸水率であり、現像によるパターン形成性およびＵＶオゾン処理耐性に優れたものであるため、このような有機ＥＬ素子の画素分離膜用途に好適に用いることができるものである。
なお、本発明の感放射線性樹脂組成物を用いて得られる樹脂膜は、このように有機ＥＬ素子の画素分離膜用途に好適に用いることができるものであるが、有機ＥＬ素子の画素分離膜以外の用途にも、用いることができることはもちろんである。
【実施例】
【０１１０】
以下に、実施例および比較例を挙げて、本発明についてより具体的に説明する。各例中の「部」は、特に断りのない限り、重量基準である。
なお、各特性の定義および評価方法は、以下のとおりである。【０１１１】
＜露光感度＞
ＩＴＯをスパッタしたガラス基板上に、感放射線性樹脂組成物をスピンコート法により塗布し、ホットプレートを用いて１１０℃で２分間加熱乾燥（プリベーク）して、膜厚２．２μｍの樹脂膜を形成した。次いで、樹脂膜をパターニングするために、２５μｍのコンタクトホールを形成可能なマスクを用いて、５０ｍＪ／ｃｍ２から３５０ｍＪ／ｃｍ２まで露光量を変化させることにより、露光工程を行った。露光工程では、ｇ線（４３６ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ）の波長の光を発する高圧水銀ランプを用いた。次いで、２．３８重量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を用いて、２５℃で膜厚が１．７μｍとなるように時間を調整して現像処理を行ったのち、超純水で３０秒間リンスすることにより、コンタクトホールを有する樹脂膜と、ガラス基板とからなる積層体を得た。
そして、光学顕微鏡を用いて、得られた積層体のコンタクトホール部分を観察し、各露光量で露光された部分の樹脂膜のコンタクトホール径の長さをそれぞれ測定した。そして、各露光量と、対応する露光量において形成された樹脂膜のコンタクトホール径の関係から近似曲線を作成し、コンタクトホールが２５μｍとなる時の露光量を算出し、その露光量を露光感度として算出した。コンタクトホールが２５μｍとなる時の露光量が低いほど、低いエネルギーで、あるいは短い時間でパターンを形成できることができるため、好ましい。【０１１２】
＜現像パターン形成性（現像残渣）＞
上述した露光感度の評価と同様にして、積層体を作成した。その後、ＸＰＳ（アルバック・ファイ社製、「ＰＨＩ５０００  ＶｅｒｓａＰｒｏｂｅＩＩ」）を用いて、Ｘ線の照射径を１０μｍにしてコンタクトホール内部の元素分析を実施した。分析対象元素は炭素、インジウム、スズ、酸素の４元素とした。元素分析結果から、インジウムおよびスズの比率（単位：％）を算出した。このインジウムおよびスズの元素比率合計が高いほど、コンタクトホール内に残る残渣量が少ないといえ、そのため、現像パターン形成性に優れると判断できる。【０１１３】
＜吸水率・ＵＶオゾン処理耐性＞
シリコンウェハー基板上に、感放射線性樹脂組成物をスピンコート法により塗布し、ホットプレートを用いて１１０℃で２分間加熱乾燥（プリベーク）して、膜厚１．７μｍの樹脂膜を形成した。次いで、膜全面に高圧水銀ランプを有する露光装置を用いて１０００ｍＪ／ｃｍ２にて露光を行うことで、樹脂膜中に含まれる感放射線化合物を完全に分解させた。次いで、オーブンを用いて、窒素雰囲気において２３０℃で６０分間加熱することでポストベークを行い、樹脂膜とシリコンウェハー基板とからなる樹脂膜付き基板を得た。得られた樹脂膜付き基板を、基板Ａとした。
そして、得られた基板Ａの樹脂膜に対して、ＵＶオゾン洗浄装置（テクノビジョン社製、「ＵＶ−２０８」）を用いて１５分間ＵＶ光を照射した。そして、このＵＶ光照射工程により、基板Ａに形成されている樹脂膜は、ＵＶ光と、ＵＶ光の照射により生成したオゾン雰囲気に暴露されることとなり、比較的苛烈な酸化環境下に置かれることとなる。そして、このＵＶ光照射工程を経た樹脂膜付き基板を、基板Ｂとした。【０１１４】
次いで、上記にて得られた基板Ａおよび基板Ｂを１ｃｍ角に切り出し、昇温脱離ガス分析装置（電子科学株式会社製、「ＷＡ１０００Ｓ／Ｗ」）を用いてＴＤＳ法にて膜中から発生する水分量を測定した。測定に際しては、温度４０℃から測定を開始し、６０℃／分で２２０℃まで昇温させた後に、２２０℃で３０分間保持し、この間に発生した水分量の総量を測定し、測定した水分量の総量から、基板Ａおよび基板Ｂの吸水量（単位：重量ｐｐｍ）を求めた。
基板Ａの吸水量（製膜後吸水量）が低いほど、樹脂膜の吸水性が低く好ましいと評価できる。また、基板Ｂの吸水量（ＵＶオゾン処理後吸水量）が低いほど、ＵＶオゾン処理耐性に優れており、好ましいと評価できる。【０１１５】
《合成例１》
＜環状オレフィン重合体（Ａ−１）の調製＞
Ｎ−フェニル−ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド（ＮＢＰＩ）４０モル％、および４−ヒドロキシカルボニルテトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデカ−９−エン（ＴＣＤＣ）６０モル％からなる単量体混合物１００部、１，５−ヘキサジエン２．０部、（１，３−ジメシチルイミダゾリン−２−イリデン）（トリシクロヘキシルホスフィン）ベンジリデンルテニウムジクロリド（Ｏｒｇ．Ｌｅｔｔ．，第１巻，９５３頁，１９９９年  に記載された方法で合成した）０．０２部、およびジエチレングリコールエチルメチルエーテル２００部を、窒素置換したガラス製耐圧反応器に仕込み、攪拌しつつ８０℃にて４時間反応させて重合反応液を得た。【０１１６】
そして、得られた重合反応液をオートクレーブに入れて、１５０℃、水素圧４ＭＰａで、５時間攪拌して水素化反応を行い、環状オレフィン重合体（Ａ−１）を含む重合体溶液を得た。得られた環状オレフィン重合体（Ａ−１）の重合転化率は９９．７％、ポリスチレン換算重量平均分子量は７，１５０、数平均分子量は４，６９０、分子量分布は１．５２、水素添加率は、９９．７％であった。また、得られた環状オレフィン重合体（Ａ−１）の重合体溶液の固形分濃度は３４．４重量％であった。【０１１７】
《合成例２》
＜アクリル樹脂（Ａ−２）の調製＞
スチレン２０部、ブチルメタクリレート２５部、２−エチルヘキシルアクリレート２５部、メタクリル酸３０部、２，２−アゾビスイソブチロニトリル０．５部、およびプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート３００部を窒素気流中で撹拌しながら８０℃で５時間加熱した。得られた樹脂溶液をロータリーエバポレーターで濃縮し、固形分濃度３５重量％のアクリル樹脂（Ａ−２）の重合体溶液を得た。【０１１８】
《実施例１》
バインダー樹脂（Ａ）として、合成例１で得られた環状オレフィン重合体（Ａ−１）の重合体溶液２９１部（環状オレフィン重合体（Ａ−１）として１００部）、感放射線化合物（Ｂ）として、１，１，３−トリス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３−フェニルプロパン（１モル）と１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロライド（２．０モル）との縮合物（商品名「ＴＳ２００」、東洋合成工業株式会社製）３０部、架橋剤（Ｃ）として、トリス（アルコキシカルボニルアミノ）トリアジン（「サイメルＮＦ２０００」、ダイセルオルニクス社製、式（１）において、Ｒ１〜Ｒ３＝−ＣＨ３，−ｎ−Ｃ４Ｈ９である化合物）５部、エポキシ化合物（Ｅ）として、エポキシ化ブタンテトラカルボン酸テトラキス（３−シクロヘキセニルメチル）修飾ε−カプロラクトン（脂肪族環状４官能性のエポキシ樹脂、商品名「エポリードＧＴ４０１」、ダイセル化学工業社製）１０部、シリコーン系界面活性剤（商品名「ＫＰ−３４１」、信越化学工業社製）０．０３部、及び、溶剤として、エチレングリコールエチルメチルエーテル３００部を混合し、溶解させた後、孔径０．４５μｍのポリテトラフルオロエチレン製フィルターでろ過して感放射線性樹脂組成物を調製した。【０１１９】
そして、上記にて得られた樹脂組成物を用いて、上記方法にしたがって、露光感度、現像パターン形成性（現像残渣）、吸水率、およびＵＶオゾン処理耐性の各評価を行った。結果を表１に示す。【０１２０】
《実施例２，３》
トリス（アルコキシカルボニルアミノ）トリアジンの配合量を５部から１５部（実施例２）、２５部（実施例３）に、それぞれ変更した以外は、実施例１と同様にして、感放射線性樹脂組成物を調製し、同様に評価を行った。結果を表１に示す。【０１２１】
《実施例４》
エポキシ化ブタンテトラカルボン酸テトラキス（３−シクロヘキセニルメチル）修飾ε−カプロラクトンを配合しなかった以外は、実施例２と同様にして、感放射線性樹脂組成物を調製し、同様に評価を行った。結果を表１に示す。【０１２２】
《実施例５》
架橋剤（Ｄ）として、アルコキシアルキル基を含有するトリアジン環構造含有化合物（商品名「ニカラックＭＷ−１００ＬＭ」、株式会社三和ケミカル製、上記一般式（６）で示す化合物（Ｒ９〜Ｒ１４＝−ＣＨ２ＯＣＨ３）、単量体濃度約７５％）２０部をさらに配合した以外は、実施例２と同様にして、感放射線性樹脂組成物を調製し、同様に評価を行った。結果を表１に示す。【０１２３】
《実施例６》
架橋剤（Ｄ）として、メチロール基およびアルコキシアルキル基を含有するトリアジン環構造含有化合物（商品名「ニカラックＭＷ−７５０ＬＭ」、株式会社三和ケミカル製、上記一般式（６）で示す化合物（Ｒ９＝−Ｈ、Ｒ１０，Ｒ１２〜Ｒ１４＝−ＣＨ２ＯＣＨ３、Ｒ１１＝−ＣＨ２ＯＨ）、単量体濃度約４０％）１０部をさらに配合した以外は、実施例２と同様にして、感放射線性樹脂組成物を調製し、同様に評価を行った。結果を表１に示す。【０１２４】
《実施例７〜９》
メチロール基およびアルコキシアルキル基を含有するトリアジン環構造含有化合物の配合量を１０部から１５部（実施例７）、２０部（実施例８）、および５０部（実施例９）にそれぞれ変更した以外は、実施例６と同様にして、感放射線性樹脂組成物を調製し、同様に評価を行った。結果を表１に示す。【０１２５】
《実施例１０》
合成例１で得られた環状オレフィン重合体（Ａ−１）の重合体溶液２９１部（環状オレフィン重合体（Ａ−１）として１００部）の代わりに、合成例２で得られたアクリル樹脂（Ａ−２）の重合体溶液２８５部（アクリル樹脂（Ａ−２）として１００部）を使用した以外は、実施例８と同様にして、感放射線性樹脂組成物を調製し、同様に評価を行った。結果を表１に示す。【０１２６】
《比較例１，２》
トリス（アルコキシカルボニルアミノ）トリアジンの配合量を５部から２．５部（比較例１）、３０部（比較例２）に、それぞれ変更した以外は、実施例１と同様にして、感放射線性樹脂組成物を調製し、同様に評価を行った。結果を表１に示す。【０１２７】
《比較例３》
架橋剤（Ｄ）として、アルコキシアルキル基を含有するトリアジン環構造含有化合物（商品名「ニカラックＭＷ−１００ＬＭ」、株式会社三和ケミカル製）２０部をさらに配合した以外は、比較例２と同様にして、感放射線性樹脂組成物を調製し、同様に評価を行った。結果を表１に示す。【０１２８】
《比較例４》
架橋剤（Ｄ）として、メチロール基およびアルコキシアルキル基を含有するトリアジン環構造含有化合物（商品名「ニカラックＭＷ−７５０ＬＭ」、株式会社三和ケミカル製）２０部をさらに配合した以外は、比較例２と同様にして、感放射線性樹脂組成物を調製し、同様に評価を行った。結果を表１に示す。【０１２９】
《比較例５》
トリス（アルコキシカルボニルアミノ）トリアジンを配合しなかった以外は、比較例３と同様にして、感放射線性樹脂組成物を調製し、同様に評価を行った。結果を表１に示す。【０１３０】
《比較例６》
トリス（アルコキシカルボニルアミノ）トリアジンを配合しなかった以外は、実施例１と同様にして、感放射線性樹脂組成物を調製し、同様に評価を行った。結果を表１に示す。【０１３１】
【表１】
0006601394.tif 000011
なお、表１中、「ＵＶオゾン処理による吸水量の増加量」は、「ＵＶオゾン処理による吸水量の増加量」＝「ＵＶオゾン処理後吸水量」−「製膜後吸水量」である。【０１３２】
表１に示すように、バインダー樹脂（Ａ）、感放射線化合物（Ｂ）、および上記一般式（１）で表される架橋剤（Ｃ）を含有してなり、バインダー樹脂（Ａ）１００重量部に対する、架橋剤（Ｃ）の含有量を３〜２５重量部の範囲とした感放射線性樹脂組成物を用いて得られる樹脂膜は、露光感度が高く、現像残渣が抑えられ、現像パターン形成性が良好であり、しかも、吸水率が低く、ＵＶオゾン処理耐性に優れたものであった（実施例１〜１０）。【０１３３】
一方、架橋剤（Ｃ）を配合しなかった場合や、架橋剤（Ｃ）の配合量が少なすぎる場合には、得られる樹脂膜は、露光感度が低く、吸水率が高く、また、現像パターン形成性およびＵＶオゾン処理耐性にも劣るものであった（比較例１，５，６）。
また、架橋剤（Ｃ）の配合量が多すぎる場合には、得られる樹脂膜は、現像パターン形成性に劣るものとであった（比較例２〜４）。特に、比較例２，３においては、現像パターン形成性に著しく劣るものであり、現像時に樹脂膜が剥離してしまい、露光感度および現像残渣の評価をできないものであった。