(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ケースの洗浄方法であって、
前記ケースは、
天板部と、該天板部の周縁から下方に延びるように設けられた周壁部を有し、該天板部と該周壁部から構成される空間に収容物が納められる蓋部と、
前記収容物を保持する底部と、
を有しており、
前記洗浄方法は、
大気中において、気体が天側から地側に向かって流れる環境、または、気体が作業者に対し奥側から手前側に向かって流れる環境の下で、
前記蓋部の前記天板部を天側に配し、前記天板部と前記周壁部から構成される空間の開口部を地面側に配し、
前記ケースの前記蓋部を、前記底部と分離した開放状態で振動させる工程を有することを特徴とする、ケースの洗浄方法。
【請求項２】
前記ケースの前記蓋部を、前記底部と分離した開放状態で振動させる工程において、排気を行うことを特徴とする、請求項１に記載のケースの洗浄方法。
【請求項３】
前記ケースの前記蓋部を前記底部と分離した開放状態で振動させる工程の前に、前記蓋部を液体により洗浄する工程を有することを特徴とする、請求項１または請求項２に記載のケースの洗浄方法。
【請求項４】
前記ケースの前記蓋部を、前記底部と分離した開放状態で振動させる工程において、
または、前記ケースの前記蓋部を、前記底部と分離した開放状態で振動させる工程の前後において、
イオン化させたクリーンエアーを、前記蓋部の内部に吹き付けることを特徴とする、請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載のケースの洗浄方法。
【請求項５】
前記ケースの前記蓋部を、前記底部と分離した開放状態で振動させる工程において、前記蓋部を、９．８ｍ／ｓ2以上４９ｍ／ｓ2以下の加速度で振動させることを特徴とする、請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載のケースの洗浄方法。
【請求項６】
前記収容物が、フォトマスク、マスクブランクス、インプリント用テンプレート、ガラス基板、ウェハのいずれかであることを特徴とする、請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載のケースの洗浄方法。
【請求項７】
前記ケースの蓋部及び底部には、標準機械的インターフェースＳＭＩＦ（Ｓｔａｎｄａｒｄ  Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ  Ｉｎｔｅｒｆａｃｅ）機構が組み込まれていることを特徴とする、請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載のケースの洗浄方法。
【請求項８】
ケースの洗浄装置であって、
前記ケースは、
天板部と、該天板部の周縁から下方に延びるように設けられた周壁部を有し、該天板部と該周壁部から構成される空間に収容物を納める蓋部と、
前記収容物を保持する底部と、
を有しており、
前記洗浄装置は、
前記蓋部を保持する蓋部保持機構と、
前記蓋部保持機構が装着された振動機構を、
備えており、
大気中において、気体が天側から地側に向かって流れる環境、または、気体が作業者に対し奥側から手前側に向かって流れる環境の下で、
前記蓋部の前記天板部を天側に配し、前記天板部と前記周壁部から構成される空間の開口部を地面側に配し、
前記蓋部保持機構により、前記底部と分離した開放状態の前記蓋部を保持し、前記振動機構による振動を前記蓋部に与えることを特徴とする、ケースの洗浄装置。
【請求項９】
排気機構を、さらに備えることを特徴とする、請求項８に記載のケースの洗浄装置。
【請求項１０】
イオン化エアーガンを、さらに備えることを特徴とする、請求項８または請求項９に記載のケースの洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ケースの洗浄方法、および、ケースの洗浄装置に関し、特に、フォトマスク、マスクブランクス、インプリント用テンプレート、ガラス基板、ウェハ等の精密部品を収容するケースの洗浄方法および洗浄装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスや、半導体デバイスを製造する際に用いられるフォトマスク、マスクブランクス、インプリント用テンプレート、ガラス基板、ウェハ等の精密部品は、異物の付着を防ぐために、一般的に、クリーンルーム内で扱われる。そして、クリーンルーム内の装置に搬送する際や保管する際には、これらの精密部品を、専用のケース内に収容することも行われている（例えば、特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００１−５３１３６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記のような専用のケースは、通常、使用前に、純水、温水、または薬液等により、洗浄される。
しかしながら、従来手法による異物除去処理では不十分であり、ケース内に残留する異物が、収容物である精密部品に付着してしまうという問題があった。
また、上記のような、液体を用いた洗浄では、洗浄後に乾燥工程が不可欠であり、この乾燥工程において新たな異物がケース内に付着し、この異物がケースから離脱して、収容物である精密部品に付着してしまうという問題があった。
【０００５】
本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、従来の液体を用いた洗浄による異物除去処理では除去しきれない異物に対しても効果的にケース内を洗浄でき、ケース内に収容されるフォトマスク、マスクブランクス、インプリント用テンプレート、ガラス基板、ウェハ等の精密部品に異物が付着してしまうことを抑制することが可能な、ケースの洗浄方法、および、ケースの洗浄装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の請求項１に係る発明は、ケースの洗浄方法であって、前記ケースは、天板部と、該天板部の周縁から下方に延びるように設けられた周壁部を有し、該天板部と該周壁部から構成される空間に収容物が納められる蓋部と、前記収容物を保持する底部と、を有しており、前記洗浄方法は、大気中において、気体が天側から地側に向かって流れる環境、または、気体が作業者に対し奥側から手前側に向かって流れる環境の下で、前記蓋部の前記天板部を天側に配し、前記天板部と前記周壁部から構成される空間の開口部を地面側に配し、前記ケースの前記蓋部を、前記底部と分離した開放状態で振動させる工程を有することを特徴とする、ケースの洗浄方法である。
【０００７】
また、本発明の請求項２に係る発明は、前記ケースの前記蓋部を、前記底部と分離した開放状態で振動させる工程において、排気を行うことを特徴とする、請求項１に記載のケースの洗浄方法である。
【０００８】
また、本発明の請求項３に係る発明は、前記ケースの前記蓋部を、前記底部と分離した開放状態で振動させる工程の前に、前記蓋部を液体により洗浄する工程を有することを特徴とする、請求項１または請求項２に記載のケースの洗浄方法である。
【０００９】
また、本発明の請求項４に係る発明は、前記ケースの前記蓋部を、前記底部と分離した開放状態で振動させる工程において、または、前記ケースの前記蓋部を、前記底部と分離した開放状態で振動させる工程の前後において、イオン化させたクリーンエアーを、前記蓋部の内部に吹き付けることを特徴とする、請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載のケースの洗浄方法である。
【００１０】
また、本発明の請求項５に係る発明は、前記ケースの前記蓋部を、前記底部と分離した開放状態で振動させる工程において、前記蓋部を、９．８ｍ／ｓ2以上４９ｍ／ｓ2以下の加速度で振動させることを特徴とする、請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載のケースの洗浄方法である。
【００１１】
また、本発明の請求項６に係る発明は、前記収容物が、フォトマスク、マスクブランクス、インプリント用テンプレート、ガラス基板、ウェハのいずれかであることを特徴とする、請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載のケースの洗浄方法である。
【００１２】
また、本発明の請求項７に係る発明は、前記ケースの蓋部及び底部には、標準機械的インターフェースＳＭＩＦ（Ｓｔａｎｄａｒｄ  Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ  Ｉｎｔｅｒｆａｃｅ）機構が組み込まれていることを特徴とする、請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載のケースの洗浄方法である。
【００１３】
また、本発明の請求項８に係る発明は、ケースの洗浄装置であって、前記ケースは、天板部と、該天板部の周縁から下方に延びるように設けられた周壁部を有し、該天板部と該周壁部から構成される空間に収容物を納める蓋部と、前記収容物を保持する底部と、を有しており、前記洗浄装置は、前記蓋部を保持する蓋部保持機構と、前記蓋部保持機構が装着された振動機構を、備えており、大気中において、前記蓋部保持機構により、前記底部と分離した開放状態の前記蓋部を保持し、前記振動機構による振動を前記蓋部に与えることを特徴とする、ケースの洗浄装置である。
【００１４】
また、本発明の請求項９に係る発明は、排気機構を、さらに備えることを特徴とする、請求項８に記載のケースの洗浄装置である。
【００１５】
また、本発明の請求項１０に係る発明は、イオン化エアーガンを、さらに備えることを特徴とする、請求項８または請求項９に記載のケースの洗浄装置である。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、従来の液体を用いた洗浄による異物除去処理では除去しきれない異物に対しても効果的にケース内を洗浄できる。それゆえ、ケース内に収容されるフォトマスク、マスクブランクス、インプリント用テンプレート、ガラス基板、ウェハ等の精密部品に異物が付着してしまうことを、より効果的に抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の洗浄方法の対象となるケースの一例について示す図
【図２】本発明に係るケースの洗浄装置の一例について示す図
【図３】本発明に係るケースの洗浄装置の他の例について示す図
【図４】加速度計測結果について示す図
【図５】本発明に係るケースの洗浄方法の評価結果について示す図
【発明を実施するための形態】
【００１８】
＜ケース＞
まず、本発明の洗浄方法の対象となるケースについて説明する。
図１は、本発明の洗浄方法の対象となるケースの一例について示す図である。ここで、図１（ａ）は、収容物４０を収容し、蓋部２０と底部３０を係合させた状態のケース１０を示し、図１（ｂ）は、蓋部２０と底部３０を分離した状態を示す。なお、図１（ｂ）においては、収容物４０は省略している。
【００１９】
図１（ａ）、（ｂ）に示すように、ケース１０は、主たる構成要素として、蓋部２０と底部３０を有している。
蓋部２０は、天板部２１と、天板部２１の周縁から下方（図中のＺ方向と逆の方向）に延びるように設けられた周壁部２２を有しており、天板部２１と周壁部２２から構成される空間に収容物４０が納められる。
底部３０は、底部本体３１と、底部本体３１の上に設けられた収容物保持部３２を有し、収容物保持部３２によって、収容物４０の周縁の一部が下側及び側面側から保持される。
収容物４０としては、異物の付着を嫌う製品及び部品を挙げることができ、特に、フォトマスク、マスクブランクス、インプリント用テンプレート、ガラス基板、ウェハ等の精密部品を、好適に挙げることができる。
【００２０】
天板部２１の平面形態は、収容物４０の形態にもよるが、例えば、収容物４０がフォトマスクやマスクブランクス、またはその製造中間品である場合は、通常、略四角形である。この場合、開口部２３の平面形態も、略四角形になる。
同様に、底部３０の平面形態も、収容物４０の形態にもよるが、例えば、収容物４０がフォトマスクやマスクブランクス、またはその製造中間品である場合は、通常、略四角形である。
【００２１】
ケース１０は、蓋部２０と底部３０を係合させた状態で密閉状態になるものであるが、蓋部２０と底部３０のいずれか、若しくはその両方には、ケース１０内に気体を供給するための給気孔や、ケース１０内から気体を排出するための排気孔が設けられていても良い。
例えば、不活性ガスをケース１０内に充填することで、収容物４０の化学的な経時変化を抑制できるからである。
【００２２】
また、蓋部２０は、収容物４０を上方から押圧するピンを有していても良い。このようなピンを有することで、収容物４０を収容し、蓋部２０と底部３０を係合させた際に、収容物４０が、ケース１０内で移動したり、収容物保持部３２から浮き上がったりすることを、より効果的に防止できるからである。
【００２３】
また、ケース１０の蓋部２０及び底部３０には、標準機械的インターフェースＳＭＩＦ（Ｓｔａｎｄａｒｄ  Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ  Ｉｎｔｅｒｆａｃｅ）機構が組み込まれていることが好ましい。ケース１０の蓋部２０を底部３０と分離した開放状態にして、底部３０に保持されている収容物４０を各種装置に移動させることを自動化でき、この収容物４０の装置への移動過程において異物が混入することを、抑制できるからである。
【００２４】
なお、上記の「標準機械的インターフェースＳＭＩＦ機構が組み込まれていること」とは、標準機械的インターフェースＳＭＩＦシステムに適合した、蓋部と底部のロック機構及び取外し機構を備えていることを意味する。
【００２５】
＜ケースの洗浄方法、および、ケースの洗浄装置＞
次に、本発明に係るケースの洗浄方法、および、ケースの洗浄装置について説明する。
図２は、本発明に係るケースの洗浄装置の一例について示す図である。
【００２６】
本発明に係るケースの洗浄方法は、上記のケース１０のように、天板部２１と天板部２１の周縁から下方に延びるように設けられた周壁部２２を有し、天板部２１と周壁部２２から構成される空間に収容物４０が納められる蓋部２０と、収容物４０を保持する底部３０と、を有するケースを洗浄する方法であって、大気中において、気体が天側から地側に向かって流れる環境、または、気体が作業者に対し奥側から手前側に向かって流れる環境の下で、蓋部２０の天板部２１を天側（図中のＺ方向）に配し、天板部２１と周壁部２２から構成される空間の開口部を地面側（図中のＺ方向とは反対方向）に配し、蓋部２０を、底部３０と分離した開放状態で、振動させる工程を有するものである。
そして、本発明に係るケースの洗浄装置は、上記の本発明に係るケースの洗浄方法に用いられる装置である。
【００２７】
例えば、図２に示すように、洗浄装置１００は、蓋部２０を保持する蓋部保持機構１１０と、蓋部保持機構１１０が装着された振動機構１２０を備えており、大気中において、蓋部保持機構１１０により、底部３０（図示せず）と分離した開放状態の蓋部２０を保持し、振動機構１２０による振動を蓋部２０に与えて、蓋部２０の内部に付着した異物、および、蓋部２０の天板部２１と周壁部２２から構成される空間に存在する異物を除去するものである。
【００２８】
より詳しくは、図２に示す洗浄装置１００において、蓋部保持機構１１０は、蓋部２０を保持する蓋部保持部１１１と、蓋部保持部１１１が設けられた支柱部１１２を有しており、蓋部保持部１１１が支柱部１１２の上方（図中のＺ方向）に設けられていることにより、蓋部２０を中空に保持することができる。
支柱部１１２は、その下面（底面）側が振動機構１２０のステージ１２１に装着されており、ステージ１２１は、振動部１２２に連結されており、振動発生部１２３による振動部１２２の振動が、ステージ１２１、支柱部１１２、蓋部保持部１１１を介して蓋部２０に与えられる。
【００２９】
ここで、蓋部２０を洗浄装置１００に保持させる際には、蓋部２０の天板部２１を天側（図中のＺ方向）に配し、天板部２１と周壁部２２から構成される空間の開口部２３を地面側に配することが好ましい。重力の影響によって、異物を、蓋部２０の内部から、より排出しやすくなるからである。
さらに、気体が天側から地側に向かって流れる環境、または、気体が作業者に対し奥側から手前側に向かって流れる環境の下で、蓋部２０を、底部３０と分離した開放状態で振動させることにより、蓋部２０の内部から排出された異物が、再び蓋部２０の内部に付着する不具合を防ぐことができる。
【００３０】
なお、「気体が天側から地側に向かって流れる環境」とは、いわゆる「ダウンフロー」の環境を意味し、例えば、半導体製造工場のクリーンルームのように、ＨＥＰＡ（High Efficiency Particulate Air）フィルターを通過した気体が天井から吹き出され、地面側に向かって流れる環境を挙げることができる。また、クリーンブースやクリーンベンチを用いて、局所的に「気体が天側から地側に向かって流れる環境」を作り出しても良い。
また、「気体が作業者に対し奥側から手前側に向かって流れる環境」は、例えば図２に示す洗浄装置１００を、クリーンブースやクリーンベンチ内に配置し、洗浄装置１００の背面側に設けられたＨＥＰＡフィルターを通過した気体が、洗浄装置１００の背面側から前面側、換言すれば、作業者に対して奥側から手前側に向かって流れるようにすることで、このような環境とすることができる。
【００３１】
また、洗浄装置１００はイオン化エアーガン１３０を、備えていても良い。
ケース１０の蓋部２０を、底部３０と分離した開放状態で振動させる工程において、または、ケース１０の蓋部２０を、底部３０と分離した開放状態で振動させる工程の前後において、イオン化させたクリーンエアー１３１を、蓋部２０の内部に吹き付けることにより、異物を蓋部２０の内部から、より排出しやすくなるからである。
【００３２】
また、図示はしないが、洗浄装置１００は排気機構を、さらに備えていても良い。
ケース１０の蓋部２０を、底部３０と分離した開放状態で振動させる工程において、排気を行うことにより、蓋部２０の内部から排出された異物が、蓋部２０の内部に戻ってしまうことを、より効果的に抑制できるからである。
【００３３】
図３は、本発明に係るケースの洗浄装置の他の例について示す図である。本発明においては、図３に示すように、振動機構２２０は蓋部２０の上方（図中のＺ方向）に配置される物であっても良い。
例えば、図３に示す洗浄装置２００において、蓋部保持機構２１０は、蓋部２０を保持する蓋部保持部２１１と、蓋部保持部２１１が設けられた支柱部２１２を有しており、蓋部保持部２１１が支柱部２１２の下方に設けられていることにより、蓋部２０を中空に保持している。
支柱部２１２は、その上面側が振動機構２２０のステージ２２１の下面に装着されており、ステージ２２１は、その上方で振動部２２２に連結されており、振動発生部２２３による振動部２２２の振動が、ステージ２２１、支柱部２１２、蓋部保持部２１１を介して蓋部２０に与えられる。
【００３４】
ここで、蓋部２０を洗浄装置２００に保持させる際には、上記の洗浄装置１００と同様に、蓋部２０の天板部２１を天側（図中のＺ方向）に配し、天板部２１と周壁部２２から構成される空間の開口部２３を地面側に配することが好ましい。重力の影響によって、異物を、蓋部２０の内部から、より排出しやすくなるからである。
さらに、気体が天側から地側に向かって流れる環境、または、気体が作業者に対し奥側から手前側に向かって流れる環境の下で、蓋部２０を、底部３０と分離した開放状態で振動させることにより、蓋部２０の内部から排出された異物が、再び蓋部２０の内部に付着する不具合を防ぐことができる。
【００３５】
また、洗浄装置２００も、イオン化エアーガン２３０を備えていても良い。
ケース１０の蓋部２０を、底部３０と分離した開放状態で振動させる工程において、または、ケース１０の蓋部２０を、底部３０と分離した開放状態で振動させる工程の前後において、イオン化させたクリーンエアー２３１を、蓋部２０の内部に吹き付けることにより、異物を蓋部２０の内部から、より排出しやすくなるからである。
特に、洗浄装置２００においては、振動機構２２０のステージ２２１が蓋部２０の上方にあるため、蓋部２０の下方には、イオン化エアーガン１３０の配備を阻害するものが無い点、好ましい。
【００３６】
また、図示はしないが、洗浄装置２００も、排気機構を、さらに備えていても良い。
ケース１０の蓋部２０を、底部３０と分離した開放状態で振動させる工程において、排気を行うことにより、蓋部２０の内部から排出された異物が、蓋部２０の内部に戻ってしまうことを、より効果的に抑制できるからである。
特に、洗浄装置２００においては、振動機構２２０のステージ２２１が蓋部２０の上方にあるため、蓋部２０の直下に排気機構を設けることができる点、好ましい。
【００３７】
本発明において、振動発生部１２３、２２３は、１Ｇ以上５Ｇ以下（すなわち、９．８ｍ／ｓ2以上４９ｍ／ｓ2以下）の加速度で蓋部２０を振動させることができるものであることが好ましい。加速度計測試験の結果、ケース１０を搬送、保管する際に、ケース１０に与えられる加速度の範囲は、通常、１Ｇ以上５Ｇ以下（９．８ｍ／ｓ2以上４９ｍ／ｓ2以下）であったからである。
【００３８】
図４は、ケース１０を搬送、保管する際に、ケース１０に与えられる加速度を計測した結果について示す図である。ここで、図４（ａ）はケース１０をゆっくり置いた場合に受ける加速度、図４（ｂ）はケース１０を普通に置いた場合に受ける加速度、図４（ｃ）はケース１０を持って歩行した場合に受ける加速度、図４（ｄ）はケース１０を落とした場合（高さ５ｃｍ）に受ける加速度を、それぞれ示す。いずれも、Ｘ軸は時間（秒）を、Ｙ軸は加速度（Ｇ）を示す。
【００３９】
図４（ａ）〜（ｃ）に示すように、ケース１０を搬送、保管する際の通常の作業において、ケース１０に与えられる加速度の範囲は５Ｇ（４９ｍ／ｓ2）以下であること、および、歩行時には０．５Ｇ〜１Ｇ（４．９ｍ／ｓ2〜９．８ｍ／ｓ2）の加速度が継続的に与えられることが判明した。
【００４０】
なお、図４（ｄ）においては、１６Ｇ（１５７ｍ／ｓ2）を超える加速度になるが、ケース１０を落とすようなことは、ケース１０を搬送、保管する際の通常の作業ではなく、この数値は、あくまで参考値である。
【００４１】
それゆえ、本発明の洗浄方法において、蓋部２０に与える加速度は、１Ｇ以上５Ｇ以下（９．８ｍ／ｓ2以上４９ｍ／ｓ2以下）の範囲であることが好ましい。
【００４２】
例えば、本発明の洗浄方法で蓋部２０に与える振動が、通常の作業においてケース１０に与えられる加速度よりも小さい加速度の場合（例えば、９．８ｍ／ｓ2未満の場合）、蓋部２０内部に付着した異物を除去することが不十分になり、本発明の洗浄後、収容物４０を収容して蓋部２０と底部３０を係合して密閉したケース１０を搬送する際に、この搬送作業の振動により蓋部２０内部に付着していた異物が離脱して、収容物４０に付着してしまうおそれがあるからである。
【００４３】
また、４９ｍ／ｓ2よりも大きな加速度は、通常の作業においてケース１０に与えらないため、本発明の洗浄においても、この通常の作業においてケース１０に与えられる加速度の最大値以下の範囲として良い。
本発明において、この加速度の範囲で洗浄された蓋部２０であれば、本発明の洗浄後、収容物４０を収容して蓋部２０と底部３０を係合して密閉したケース１０を搬送した際に、通常の搬送作業の振動により、蓋部２０内部に付着していた異物が離脱して、収容物４０に付着してしまう事態は、原則、生じないと言えるからである。
一方、通常の作業においてケース１０に与えられる加速度よりも過度に大きい加速度を、本発明の洗浄に用いる場合は、この洗浄工程においてケース１０の蓋部２０を破損してしまうおそれがあるため、好ましくない。
【００４４】
本発明の洗浄方法は、ケース１０の蓋部２０を、底部３０と分離した開放状態で振動させる工程の前に、蓋部２０を液体により洗浄する工程を有することが好ましい。
言い換えれば、本発明の洗浄方法における、ケース１０の蓋部２０を、底部３０と分離した開放状態で振動させる工程は、液体を用いた洗浄によって、蓋部２０を洗浄した後に行うことが好ましい。
液体による洗浄では除去しきれなかった異物の除去を、振動させことで除去することができ、ケースをより清浄な状態とすることができるからである。
ここで、洗浄用の液体としては、純水、温純水など、従来の手法で用いられるものであれば用いることができる。薬液を含んでいても良い。また、洗浄液には超音波をかけても良い。
蓋部２０の液体による洗浄の方法としては、蓋部２０を洗浄液に浸漬させる方法、または、洗浄液を高圧で吹き付ける方法、などが挙げられる。なお、底部３０も同様に洗浄液にて洗浄しておいても良い。
その後、蓋部２０を乾燥させる。乾燥後、洗浄液による洗浄でも除去しきれなかった異物や、乾燥時に新たに付着した異物を、ケース１０の蓋部２０を底部３０と分離した開放状態で振動させる工程で除去する。
【００４５】
以上、本発明に係るケースの洗浄方法、および、ケースの洗浄装置について、それぞれの実施形態を説明したが、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一の構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなる場合であっても本発明の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【００４６】
以下、実施例を用いて、本発明をさらに具体的に説明する。
【００４７】
（実施例１）
図１に示す構成を備えたケース１０を準備し、従来と同様の手法により、温水洗浄を施し、乾燥させたケース１０の蓋部２０を、底部３０と分離した開放状態で、図２に示す構成を備えた洗浄装置１００の蓋部保持機構１１０に保持し、大気中において、気体が天側から地側に向かって流れる環境の下で、１．５Ｇ〜２Ｇ（１４．７ｍ／ｓ2〜１９．６ｍ／ｓ2）で１分間振動させた。
その後、蓋部２０を洗浄装置１００から外し、底部３０と係合させて密閉状態とし、ケース１０内の異物の計測を行った。
なお、底部３０の洗浄は、従来と同様の温水洗浄及び乾燥を施したものとした。
異物の計測は、小型の計測器をケース１０内に配置し、計測対象を０．５μｍ以上の異物とし、１０分間測定した。結果を図５に示す。
【００４８】
（比較例１）
実施例１における蓋部２０の振動による洗浄を行わないこと以外は、実施例１と同様にして比較例１の洗浄を行い、異物の計測を行った。
より詳しくは、図１に示す構成を備えたケース１０を準備し、従来と同様の手法により、温水洗浄を施し、乾燥させた蓋部２０と底部３０を、係合させて密閉状態とし、ケース１０内の異物の計測を行った。
異物の計測は、小型の計測器をケース１０内に配置し、計測対象を０．５μｍ以上の異物とし、１０分間測定した。結果を図５に示す。
【００４９】
（評価）
実施例１及び比較例１の異物計測の測定結果を図５に示す。ここで、図５においては、比較例１における異物の計測数を１００％として、比較例１における異物の計測数に対する実施例１における異物の計測数を、百分率で示している。
図５に示すように、従来の洗浄方法のみを施した比較例１に比べ、従来の洗浄方法に加えて、本発明の洗浄方法を施した実施例１においては、６７％も異物を減らすことができた。
【符号の説明】
【００５０】
１０  ケース
２０  蓋部
３０  底部
４０  収容物
２１  天板部
２２  周壁部
２３  開口部
３１  底部本体
３２  収容物保持部
１００、２００  洗浄装置
１１０、２１０  蓋部保持機構
１１１、２１１  蓋部保持部
１１２、２１２  支柱部
１２０、２２０  振動機構
１２１、２２１  ステージ
１２２、２２２  振動部
１２３、２２３  振動発生部
１３０、２３０  イオン化エアーガン
１３１、２３１  クリーンエアー
【図１】
0006601200.tif 000002
【図２】
0006601200.tif 000003
【図３】
0006601200.tif 000004
【図４】
0006601200.tif 000005
【図５】
0006601200.tif 000006