(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１板状体を保持する第１保持手段と、
第２板状体を、その一方主面を前記第１板状体の一方主面と近接対向させた状態で保持する第２保持手段と、
前記第２板状体の前記一方主面と反対の他方主面に沿って延設され、前記他方主面に当接して前記第２板状体を前記第１板状体に押し付けながら前記他方主面に沿って移動するローラ部材と、
前記ローラ部材を前記他方主面に対して離当接移動させるための駆動力を発生する駆動力発生手段と、
前記駆動力発生手段の負荷を検出する検出手段と、
前記ローラ部材を前記他方主面に沿って移動させる移動手段と、
前記移動手段が前記ローラ部材の移動を開始した後、前記駆動力発生手段の負荷が一定となるように、前記駆動力発生手段の出力を制御する制御手段と
を備え、
前記ローラ部材が前記第２板状体に離間対向する状態から、前記駆動力発生手段が前記ローラ部材を前記第２板状体に向かって移動させて前記第２板状体に当接させ、
前記検出手段により検出される前記駆動力発生手段の負荷が予め定められた閾値に達したときに、前記移動手段が前記ローラ部材の移動を開始し、
前記閾値は、前記ローラ部材が前記第１板状体に前記第２板状体を押し付けながら移動する際の前記駆動力発生手段の負荷の大きさより小さい値である転写装置。
【請求項２】
前記駆動力発生手段は、前記ローラ部材と前記第２板状体との間隔が第１間隔である第１位置から前記間隔が前記第１間隔より小さい第２間隔である第２位置まで前記ローラ部材を第１速度で前記第２板状体に向けて移動させ、前記第２位置に到達すると前記ローラ部材を前記第１速度より低速の第２速度で移動させる請求項１に記載の転写装置。
【請求項３】
第１板状体を保持する第１保持手段と、
第２板状体を、その一方主面を前記第１板状体の一方主面と近接対向させた状態で保持する第２保持手段と、
前記第２板状体の前記一方主面と反対の他方主面に沿って延設され、前記他方主面に当接して前記第２板状体を前記第１板状体に押し付けながら前記他方主面に沿って移動するローラ部材と、
前記ローラ部材を前記他方主面に対して離当接移動させるための駆動力を発生する駆動力発生手段と、
前記駆動力発生手段の負荷を検出する検出手段と、
前記ローラ部材を前記他方主面に沿って移動させる移動手段と
を備え、
前記ローラ部材が前記第２板状体に離間対向する状態から、前記駆動力発生手段が前記ローラ部材を前記第２板状体に向かって移動させて前記第２板状体に当接させ、
前記検出手段により検出される前記駆動力発生手段の負荷が予め定められた閾値に達した後に、前記移動手段が前記ローラ部材の移動を開始し、
前記駆動力発生手段は、前記ローラ部材と前記第２板状体との間隔が第１間隔である第１位置から前記間隔が前記第１間隔より小さい第２間隔である第２位置まで前記ローラ部材を第１速度で前記第２板状体に向けて移動させ、前記第２位置に到達すると前記ローラ部材を前記第１速度より低速の第２速度で移動させる転写装置。
【請求項４】
前記駆動力発生手段が回転力を発生するモータであり、前記検出手段が前記モータの負荷トルクを検出する請求項１ないし３のいずれかに記載の転写装置。
【請求項５】
前記第２保持手段は、前記他方主面の中央部を開放した状態で前記第２板状体の周縁部を保持する請求項１ないし４のいずれかに記載の転写装置。
【請求項６】
前記第２保持手段は、前記一方主面を上向きにした水平姿勢に前記第２板状体を保持する請求項１ないし５のいずれかに記載の転写装置。
【請求項７】
前記第１保持手段は、前記第１板状体の前記一方主面と反対の他方主面に当接する平坦な当接面を有する請求項１ないし６のいずれかに記載の転写装置。
【請求項８】
前記ローラ部材の表面が弾性体により形成されている請求項１ないし７のいずれかに記載の転写装置。
【請求項９】
２枚の板状体を当接させて、一方の前記板状体の一方主面に担持された被転写物を他方の前記板状体の一方主面に転写する転写方法において、
前記２枚の板状体である第１板状体と第２板状体とを、前記一方主面同士を近接対向させて保持する保持工程と、
前記第２板状体の前記一方主面と反対の他方主面に沿って延設されたローラ部材を前記他方主面に当接させ、駆動力発生手段が発生する駆動力により前記ローラ部材により前記第２板状体を前記第１板状体に押し付ける初期当接工程と、
前記ローラ部材により前記第２板状体を前記第１板状体に押し付けながら、前記ローラ部材を前記他方主面に沿って移動させる移動工程と
を備え、
前記初期当接工程では、前記駆動力発生手段の負荷を検出し、検出される前記駆動力発生手段の負荷が予め定められた閾値に達したときに、前記移動工程が開始され、
前記移動工程では、前記駆動力発生手段の負荷が一定となるように、前記駆動力発生手段の出力が制御され、
前記閾値は、前記移動工程において前記ローラ部材が前記第１板状体に前記第２板状体を押し付けながら移動する際の前記駆動力発生手段の負荷の大きさより小さい値である転写方法。
【請求項１０】
前記ローラ部材と前記第２板状体との間隔が第１間隔である第１位置から前記間隔が前記第１間隔より小さい第２間隔である第２位置まで前記ローラ部材を第１速度で前記第２板状体に向けて移動させ、前記第２位置に到達すると前記ローラ部材を前記第１速度より低速の第２速度で移動させる請求項９に記載の転写方法。
【請求項１１】
２枚の板状体を当接させて、一方の前記板状体の一方主面に担持された被転写物を他方の前記板状体の一方主面に転写する転写方法において、
前記２枚の板状体である第１板状体と第２板状体とを、前記一方主面同士を近接対向させて保持する保持工程と、
前記第２板状体の前記一方主面と反対の他方主面に沿って延設されたローラ部材を前記他方主面に当接させ、駆動力発生手段が発生する駆動力により前記ローラ部材により前記第２板状体を前記第１板状体に押し付ける初期当接工程と、
前記ローラ部材により前記第２板状体を前記第１板状体に押し付けながら、前記ローラ部材を前記他方主面に沿って移動させる移動工程と
を備え、
前記初期当接工程では、前記駆動力発生手段の負荷を検出し、検出される前記駆動力発生手段の負荷が予め定められた閾値に達した後に、前記移動工程が開始され、
前記ローラ部材と前記第２板状体との間隔が第１間隔である第１位置から前記間隔が前記第１間隔より小さい第２間隔である第２位置まで前記ローラ部材を第１速度で前記第２板状体に向けて移動させ、前記第２位置に到達すると前記ローラ部材を前記第１速度より低速の第２速度で移動させる転写方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、２枚の板状体を当接させて、一方の板状体から他方の板状体に被転写物を転写する転写装置および転写方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ガラス基板や半導体基板などの板状体にパターンや薄膜を形成する技術として、２枚の板状体を互いに当接させて、一方の板状体の主面に担持されたパターンや薄膜等の被転写物を他方の板状体に転写するものがある。例えば本願出願人が先に開示した特許文献１に記載の技術では、表面にパターンを担持するブランケットと基板とを対向配置し、長尺のローラ部材によりブランケットを押し上げて基板に当接させる。そして、ブランケットを押し上げながらローラ部材がブランケットに沿って移動することにより、パターンがブランケットから基板に転写される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１４−１４４６２８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
このようにローラ部材を用いた押し付けにより２枚の板状体を当接させる技術では、各部材の弾性等に起因して、ローラ部材が一の板状体を押し上げてから２枚の板状体の間に一定かつ均等な押圧力が作用するまでには時間遅れが不可避的に生じる。一方、転写を良好に進行させるためには、板状体が一定の押圧力で押圧された状態でローラ部材が移動する必要がある。そのため、ローラ部材が板状体に当接してから板状体の表面に沿った移動を開始するまでの間に一定の待ち時間を設ける必要があり、このことが転写処理のスループットを低下させる原因となり得る。というのは、押圧が不十分な状態でローラ部材が移動開始すると両板状体の間に気泡が挟まれるなどの不具合が生じ得るため、これを確実に回避し、また各部材の特性ばらつきにも対応するためには、相当に長い待ち時間を設けておく必要があるからである。
【０００５】
このことから、上記の待ち時間を最適化して処理のスループットを向上させることが望まれるが、上記従来技術ではこの問題が考慮されておらず、上記要求に応えることのできる構成とはなっていなかった。
【０００６】
この発明は上記課題に鑑みなされたものであり、２枚の板状体を当接させて被転写物を転写する転写装置および転写方法において、ローラ部材が板状体に当接してから移動を開始するまでの時間を最適化して、転写処理のスループットを向上させることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
この発明にかかる転写装置は、上記目的を達成するため、第１板状体を保持する第１保持手段と、第２板状体を、その一方主面を前記第１板状体の一方主面と近接対向させた状態で保持する第２保持手段と、前記第２板状体の前記一方主面と反対の他方主面に沿って延設され、前記他方主面に当接して前記第２板状体を前記第１板状体に押し付けながら前記他方主面に沿って移動するローラ部材と、前記ローラ部材を前記他方主面に対して離当接移動させるための駆動力を発生する駆動力発生手段と、前記駆動力発生手段の負荷を検出する検出手段と、前記ローラ部材を前記他方主面に沿って移動させる移動手段と、前記移動手段が前記ローラ部材の移動を開始した後、前記駆動力発生手段の負荷が一定となるように、前記駆動力発生手段の出力を制御する制御手段とを備え、前記ローラ部材が前記第２板状体に離間対向する状態から、前記駆動力発生手段が前記ローラ部材を前記第２板状体に向かって移動させて前記第２板状体に当接させ、前記検出手段により検出される前記駆動力発生手段の負荷が予め定められた閾値に達したときに、前記移動手段が前記ローラ部材の移動を開始し、前記閾値は、前記ローラ部材が前記第１板状体に前記第２板状体を押し付けながら移動する際の前記駆動力発生手段の負荷の大きさより小さい値である。
【０００８】
また、この発明にかかる転写方法は、上記目的を達成するため、２枚の板状体を当接させて、一方の前記板状体の一方主面に担持された被転写物を他方の前記板状体の一方主面に転写する転写方法において、前記２枚の板状体である第１板状体と第２板状体とを、前記一方主面同士を近接対向させて保持する保持工程と、前記第２板状体の前記一方主面と反対の他方主面に沿って延設されたローラ部材を前記他方主面に当接させ、駆動力発生手段が発生する駆動力により前記ローラ部材により前記第２板状体を前記第１板状体に押し付ける初期当接工程と、前記ローラ部材により前記第２板状体を前記第１板状体に押し付けながら、前記ローラ部材を前記他方主面に沿って移動させる移動工程とを備え、前記初期当接工程では、前記駆動力発生手段の負荷を検出し、検出される前記駆動力発生手段の負荷が予め定められた閾値に達したときに、前記移動工程が開始され、前記移動工程では、前記駆動力発生手段の負荷が一定となるように、前記駆動力発生手段の出力が制御され、前記閾値は、前記移動工程において前記ローラ部材が前記第１板状体に前記第２板状体を押し付けながら移動する際の前記駆動力発生手段の負荷の大きさより小さい値である。
【０００９】
上記のように構成された発明では、ローラ部材を第２板状体に当接させて第１板状体へ押し付けるための駆動力を発生する駆動力発生手段の負荷が検出され、その検出結果に基づいてローラ部材の移動開始タイミングが決定される。ローラ部材が第２板状体に接近し当接する過程においては、駆動力発生手段の負荷は概ね一定かつ比較的軽い。一方、ローラ部材が第２板状体に当接し、第２板状体を押し上げて第１板状体に押し付ける過程では、駆動力発生手段の負荷が次第に増大する。第２板状体が第１板状体に対し一定の押圧力で押圧されているとき、駆動力発生手段の負荷も一定の大きさとなる。
【００１０】
このことから、次第に増加する駆動力発生手段の負荷が所定値となったことを以って第１板状体と第２板状体との押圧力が所望の大きさとなったと推定することが可能である。したがって、ローラ部材が第１板状体と第２板状体とを押し付けて移動する際の駆動力発生手段の負荷の大きさに応じて適宜の閾値を予め設定しておき、駆動力発生手段の負荷が当該閾値に達した後にローラ部材の移動を開始するようにすれば、押圧力不足に起因する転写の不具合を確実に防止してローラ部材を移動させることができる。また、必要以上の待ち時間を設ける必要がなく、待ち時間を最適化して転写処理のスループットを向上させることが可能となる。
【発明の効果】
【００１１】
上記のように、本発明によれば、第２板状体に対しローラ部材を接近させるための駆動力を発生する駆動力発生手段の負荷が所定の閾値以上となった後に、ローラ部材の移動が開始される。このため、転写の不具合を防止しながら、ローラ部材が移動開始するまでの待ち時間を最適化して転写処理のスループット向上を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】この発明にかかる転写装置の一実施形態を模式的に示す側面図である。
【図２】この転写装置の主要部の構成を示す図である。
【図３】転写ローラブロックを示す図である。
【図４】この転写装置による転写処理を示すフローチャートである。
【図５】転写処理の過程における各部の位置を模式的に示す第１の図である。
【図６】転写処理の過程における各部の位置を模式的に示す第２の図である。
【図７】転写処理の動作を示すタイミングチャートである。
【図８】転写ローラとブランケットとの初期接触段階を説明する図である。
【図９】トルク制御の利点を説明する図である。
【図１０】ローラユニットの変形例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
図１はこの発明にかかる転写装置の一実施形態を模式的に示す側面図である。また、図２はこの転写装置の主要部の構成を示す図である。各図における方向を統一的に示すために、図１に示すようにＸＹＺ直交座標軸を設定する。ここでＸＹ平面が水平面、Ｚ軸が鉛直軸を表す。より詳しくは、（＋Ｚ）方向が鉛直上向き方向を表している。
【００１４】
この転写装置１は、図示しないメインフレームに上ステージブロック２、下ステージブロック３および転写ローラブロック４が取り付けられた構造を有している。また、転写装置１は上記以外に、予め記憶された処理プログラムに従い装置各部を制御して所定の動作を実行する制御ユニット９を有している。
【００１５】
最初に装置１の全体構成を説明する。なお、上ステージブロック２および下ステージブロック３の細部の構造については、例えば前記した特許文献１（特開２０１４−１４４６２８号公報）に記載されたものを用いることが可能であり、ここではその概要のみを説明する。
【００１６】
転写装置１は、下ステージブロック３により保持されたブランケットＢＬと、上ステージブロック２により保持された版ＰＰまたは基板ＳＢとを互いに当接させることでパターン形成を行う装置である。この装置１によるパターン形成プロセスは、より具体的には以下の通りである。まず、パターン形成材料が一様に塗布されたブランケットＢＬに対して、形成すべきパターンに対応して作成された版ＰＰを当接させることにより、ブランケットＢＬに担持された塗布層をパターニングする（パターニング処理）。そして、こうしてパターニングされたブランケットＢＬと基板ＳＢとを当接させることで、ブランケットＢＬに担持されたパターンを基板ＳＢに転写する（転写処理）。これにより、基板ＳＢに所望のパターンが形成される。
【００１７】
このように、この転写装置１は基板ＳＢに所定のパターンを形成するパターン形成プロセスにおけるパターニング処理および転写処理の両方に使用することが可能であるが、これらの処理の一方のみを受け持つ態様で用いられてもよい。また、ブランケットＢＬに担持された薄膜を基板ＳＢに転写する目的にも使用可能である。以下、ブランケットＢＬ表面に形成されたパターンまたは薄膜を基板ＳＢに転写する転写処理を前提として装置の構成および動作について説明するが、基板ＳＢを版ＰＰに読み換えることにより、パターニング処理における動作も説明される。
【００１８】
上ステージブロック２は、下面が平坦な基板保持面２１ａとなった上ステージ２１を備えている。上ステージ２１は、Ｙ方向に延びる梁部材２２の下部に取り付けられて、梁部材２２により基板保持面２１ａが水平姿勢となるように保持されている。梁部材２２は、Ｙ方向に離隔して配置された１対のステージ昇降機構２３，２３により鉛直方向（Ｚ方向）に昇降自在に保持されている。これにより、上ステージ２１はＺ方向に移動可能となっている。
【００１９】
この実施形態では、ステージ昇降機構２３の一例としてボールねじ機構が用いられるが、これに限定されるものではない。ステージ昇降機構２３は、支持部材２３１，２３２によりメインフレームに対し回転自在に支持されたボールねじ２３３と、これを回転させるモータ２３４と、ボールねじ２３３に取り付けられたナット部２３５とを備えている。ボールねじ２３３とモータ２３４とはカップリング２３６を介して連結されている。モータ２３４は制御ユニット９に設けられたステージ昇降制御部９１によって制御され、ステージ昇降制御部９１からの制御信号に応じてモータ２３４が回転することで上ステージ２１が昇降する。
【００２０】
図には現れないが、上ステージ２１の下面（基板保持面）２１ａには吸着溝または吸着孔が設けられており、制御ユニット９に設けられた吸着制御部９２から負圧が必要に応じて供給される。これにより、上ステージ２１は、基板保持面２１ａに当接する基板ＳＢの上面を吸着保持することができる。基板保持面２１ａの平面サイズは保持すべき基板ＳＢのサイズより少し小さく形成されている。
【００２１】
このように構成された上ステージブロック２により、基板ＳＢが水平姿勢に保持される。基板ＳＢは、パターンまたは薄膜が転写されるべき被転写面が下向きとなるように装置１に搬入される。また、ステージ昇降機構２３が上ステージ２１を昇降させることにより、次に説明する下ステージに保持されるブランケットＢＬと基板ＳＢとの間のギャップが規定の値に調整される。
【００２２】
下ステージブロック３は、上ステージ２１の下方に配置され、中央部に開口部３１１が設けられ上面が平坦かつ水平なブランケット保持面３１ａとなった下ステージ３１を備えている。下ステージ３１は複数の支柱３２により支持されている。下ステージ３１の平面サイズは保持すべきブランケットＢＬのサイズより大きく、また開口部３１１の開口サイズは基板ＳＢの平面サイズより大きい。これにより、ブランケットＢＬはその周縁部のみが下ステージ３１に当接し、中央部は下面が開放された状態で、下ステージ３１に保持される。下ステージ３１の上面（ブランケット保持面）３１ａのうちブランケットＢＬと当接する領域に、吸着溝３１２が設けられている。吸着溝３１２には制御ユニット９の吸着制御部９２から負圧が必要に応じて供給される。これにより、ブランケットＢＬが下ステージ３１上に吸着保持される。ブランケットＢＬは、基板ＳＢに転写すべきパターンまたは薄膜を担持する担持面を上向きにして水平姿勢に保持される。
【００２３】
下ステージ３１を保持する支柱３２は図示を省略するアライメントステージに取り付けられており、制御ユニット９に設けられたアライメント制御部９３がアライメントステージを駆動することにより、下ステージ３１が水平面（ＸＹ平面）内で移動する。これにより、上ステージ２１に保持された基板ＳＢと下ステージ３１に保持されたブランケットＢＬとの水平方向における相対位置が最適化される。
【００２４】
下ステージブロック３はさらに、Ｘ方向に間隔を空けて向かい合うように設けられた１対の昇降ハンドユニット３３，３４を備えている。昇降ハンドユニット３３と昇降ハンドユニット３４とは、ＹＺ平面に対して互いに対称な形状を有しているが、これらの構造は基本的に同一である。
【００２５】
昇降ハンドユニット３３は、下ステージ３１の開口部３１１に臨んでＹ方向に沿って順に設けられた複数本（ここでは一例として４本）の昇降ハンド３３１，３３２，３３３，３３４と、これらの昇降ハンドを個別に昇降させる駆動部３３５とを備えている。同様に、昇降ハンドユニット３４は、下ステージ３１の開口部３１１に臨んでＹ方向に沿って順に設けられた昇降ハンド３４１，３４２，３４３，３４４と、これらの昇降ハンドを個別に昇降させる駆動部３４５とを備えている。駆動部３３５，３４５は制御ユニット９に設けられたハンド昇降制御部９４により制御されており、ハンド昇降制御部９４からの制御信号に応じて各昇降ハンドの鉛直方向位置を個別に制御する。
【００２６】
各昇降ハンドは、その上面が下ステージ３１の基板保持面３１ａと同一平面となる位置に位置決めされることで、下面が開放された状態で下ステージ３１に保持されるブランケットＢＬの中央部下面を補助的に支持する。これにより、ブランケットＢＬの撓みを抑えて平坦に支持することができる。また、必要に応じて下方に退避することで、次に説明する転写ローラの走行との干渉を回避する。
【００２７】
転写ローラブロック４は、下ステージ３１の下方でメインフレームに固定され、Ｙ方向に延びるガイドレール４１と、ガイドレール４１に沿って設けられたボールねじ機構４２と、ボールねじ機構４２のナット部４２５に取り付けられたローラユニット４３とを備えている。
【００２８】
図３は転写ローラブロックを示す図である。より具体的には、図３（ａ）は転写ローラブロック４の構造を示す斜視図であり、図３（ｂ）は転写ローラブロック４と昇降ハンドユニット３３，３４との位置関係を示す図である。転写ローラブロック４では、ガイドレール４１に沿ってボールねじ機構４２が設けられている。より具体的には、ガイドレール４１の両端近傍に設けられた支持部材４２１，４２２によりボールねじ４２３が支持されており、ボールねじ４２３はカップリング４２６を介してモータ４２４により回転される。ボールねじ４２３にはナット部４２５が取り付けられている。モータ４２４が回転することにより、ナット部４２５ガイドレール４１に沿ってＹ方向に水平移動する。
【００２９】
ナット部４２５に取り付けられたローラユニット４３は、Ｘ方向を長手方向とするローラ形状に形成された転写ローラ４３１を備えている。転写ローラ４３１は、支持部材４３２により、Ｘ方向と平行な回転軸周りに回転自在に支持されている。転写ローラ４３１の表面は弾性体、例えばゴム素材により形成されており、Ｘ方向における転写ローラ４３１の長さは基板ＳＢのＸ方向長さよりも長い。
【００３０】
またナット部４２５には、転写ローラ４３１を昇降させるローラ昇降機構としてのボールねじ機構が取り付けられている。より具体的には、ナット部４２５から上方に延びるフレームに対してボールねじ４３４が回転自在に支持されており、ボールねじ４３４にナット部４３５が取り付けられている。ボールねじ４３４は鉛直方向を軸方向として支持され、カップリング４３７を介してモータ４３６により連結されてモータ４３６により回転駆動される。すなわち、モータ４３６がボールねじ４３４を回転させることで、ナット部４３５が鉛直方向に昇降移動する。これらのボールねじ４３４、ナット部４３５およびモータ４３６、カップリング４３７が一体としてボールねじ機構を構成する。
【００３１】
ナット部４３５から延びるアームに支持部材４３２が取り付けられている。なおアームと支持部材４３２とは一体形成されていてもよい。モータ４３６がボールねじ４３４を回転させることで、ナット部４３５とともに転写ローラ４３１が昇降移動する。これにより、転写ローラ４３１が、下ステージ３１に保持されたブランケットＢＬの下面に対し接近および離間移動する。すなわち、当該ボールねじ機構（ボールねじ４３４、ナット部４３５、モータ４３６およびカップリング４３７）がローラ昇降機構として機能する。モータ４３６は、制御ユニット９に設けられたローラ昇降制御部９５により制御される。
【００３２】
このような構成を有するローラユニット４３は、モータ４２４の回転によりＹ方向に移動する。モータ４２４は制御ユニット９に設けられたローラ走行制御部９７により制御されている。ローラ走行制御部９７からの制御信号に応じてモータ４２４が回転すると、ボールねじ機構４２のナット部４２５がガイドレール４１に沿ってＹ方向に移動し、ナット部４２５の移動に伴ってローラユニット４３が移動する。その結果、ローラユニット４３に設けられた転写ローラ４３１が、ブランケットＢＬ下面に沿ってＹ方向に走行する。このように、ガイドレール４１およびボールねじ機構４２は、転写ローラ４３１をＹ方向に走行させるローラ走行機構としての機能を有する。
【００３３】
このように、転写ローラ４３１は、ローラ昇降機構によるＺ方向の昇降動作と、ローラ走行機構によるＹ方向の走行動作とが可能となっている。転写ローラ４３１（ローラユニット４３）がＹ方向に走行するとき、昇降ハンドユニット３３，３４に設けられた各昇降ハンド３３１等とローラユニット４３との干渉は以下のようにして回避されている。なお、以下では昇降ハンドユニット３３，３４に設けられた１対の昇降ハンド３３１，３４１とローラユニット４３との位置関係を例として説明するが、他の昇降ハンドについても同様である。
【００３４】
図３（ｂ）に示すように、ローラユニット４３は、転写ローラ４３１が下ステージ３１に保持されたブランケットＢＬの下面に沿うように、Ｙ方向に移動する。Ｘ方向において、対向配置された昇降ハンド３３１，３４１の先端同士は離隔しており、これらの間隙を通ってローラユニット４３のローラ昇降機構（ボールねじ４３４、ナット部４３５およびモータ４３６）が走行する。したがって、ローラ昇降機構と昇降ハンド３３１，３４１との干渉は構造的に回避されている。
【００３５】
一方、昇降ハンド３３１，３４１がブランケットＢＬ下面に当接または近接した状態では、これらの昇降ハンド３３１，３４１と、転写ローラ４３１および支持部材４３２との接触が生じ得る。この問題に対しては、昇降ハンド３３１，３４１が一体的に、その上面が支持部材４３２の下面よりも下方位置となるまで下降することにより対応する。すなわち、ローラユニット４３のＹ方向への走行に同期して、昇降ハンドユニット３３，３４が各昇降ハンド３３１等を順次下方へ退避させる。これにより、転写ローラ４３１および支持部材４３２は昇降ハンド３３１等の上部を通過することとなり、ローラユニット４３と昇降ハンド３３１等との干渉が回避される。
【００３６】
図１に戻って、転写装置１の構成の説明を続ける。ローラ走行機構を構成するモータ４３６にはトルク検出部４３８が接続されている。トルク検出部４３８はモータ４３６にかかる負荷トルクを直接または間接に検出するものであり、その検出方式は任意である。例えばモータ４３６に内蔵されたトルクセンサを用いてもよく、またモータ４３６に流入する電流量からモータ４３６の発生トルクを求めるようにしてもよい。
【００３７】
トルク検出部４３８から出力されるトルク検出信号は、制御ユニット９に設けられたトルク判定部９６に入力される。後述するように、トルク判定部９６はトルク検出値に基づきローラ昇降制御部９５およびローラ走行制御部９７を制御することで、ローラユニット４３の動作をモータ４３６の負荷トルクに応じて制御する。
【００３８】
次に、上記のように構成された転写装置１による転写処理について説明する。前述の通り、ここではブランケットＢＬから基板ＳＢにパターンまたは薄膜を転写する転写処理について説明するが、基板ＳＢを版ＰＰに読み換えることにより、パターニング処理における動作も説明される。
【００３９】
図４はこの転写装置による転写処理を示すフローチャートである。また、図５および図６は転写処理の過程における各部の位置を模式的に示す図である。また図７は転写処理の動作を示すタイミングチャートである。
【００４０】
転写処理では、最初に、パターンまたは薄膜を転写されるべき基板ＳＢが装置に搬入され、上ステージ２１にセットされる（ステップＳ１０１）。上ステージ２１は、パターンまたは薄膜が転写される被転写面を下向きにして基板ＳＢを吸着保持する。続いて、基板ＳＢに転写すべきパターンまたは薄膜を担持するブランケットＢＬが装置に搬入され、下ステージ３１にセットされる（ステップＳ１０２）。下ステージ３１は、パターンまたは薄膜を担持する担持面を上向きにしてブランケットＢＬを吸着保持する。
【００４１】
次に、装置各部が所定の初期位置に位置決めされる（ステップＳ１０３）。図５（ａ）は各部の初期位置を示している。上ステージ２１および下ステージ３１は、基板ＳＢとブランケットＢＬとが所定のギャップを隔てて平行に対向し、かつ水平方向にはブランケットＢＬに担持されたパターンＰＴまたは薄膜と基板ＳＢとが予め定められた位置関係となるように位置決めされる。また、昇降ハンド３３１等はその上面が下ステージ３１の上面と同一平面となる位置まで上昇し、ブランケットＢＬの下面に当接してブランケットＢＬを水平姿勢に支持する。ローラユニット４３は、Ｙ方向における基板ＳＢの一方端部の直下位置で、かつ転写ローラ４３１がブランケットＢＬの下面から十分に下方へ退避した退避位置に位置決めされる。
【００４２】
この状態から転写ローラ４３１が上昇してブランケットＢＬの下面に当接する。具体的には、図７に示すように、時刻Ｔ０においてローラ昇降機構を構成するモータ４３６が作動して、転写ローラ４３１を、退避位置よりも上方であってブランケットＢＬ下面より僅かに下方の接触前位置まで所定の第１速度Ｖ１で上昇させる（ステップＳ１０４）。このときのモータ制御は位置制御または速度制御とされる。この時点（図７における時刻Ｔ１）では、転写ローラ４３１の上端はブランケットＢＬに接触していない。
【００４３】
転写ローラ４３１が接触前位置まで到達すると（図７の時刻Ｔ１）、モータ４３６の回転が減速され、転写ローラ４３１の上昇速度が第１速度Ｖ１より低速の第２速度Ｖ２に変更される（ステップＳ１０５）。これにより、転写ローラ４３１が低速でさらに上昇して、その上端がブランケットＢＬ下面に接触する（図７の時刻Ｔ２）。
【００４４】
遅くとも上昇速度が第２速度Ｖ２に変更される時点までに、トルク検出部４３８によるトルク検出が開始される（ステップＳ１０６）。図７に示すように、トルク検出部４３８により検出されるモータ４３６の負荷トルクは、転写ローラ４３１がブランケットＢＬに当接するまでは比較的小さな一定値を示し、転写ローラ４３１がブランケットＢＬに当接する時刻Ｔ２以降、次第に上昇する。このようにして随時トルク検出が行われ、トルク検出値が所定の閾値Ｔｔｈに到達するまで（ステップＳ１０７）、転写ローラ４３１の上昇が継続される。
【００４５】
転写ローラ４３１がブランケットＢＬ下面に当接した後も上昇を続けることにより、図５（ｂ）に示すように、ブランケットＢＬが転写ローラ４３１により押し上げられ、最終的にはブランケットＢＬ上面が基板ＳＢの下面に当接する。これにより、ブランケットＢＬ上面に担持されたパターンまたは薄膜ＰＴが基板ＳＢに密着する。さらに転写ローラ４３１がブランケットＢＬを押し上げることで、パターンまたは薄膜ＰＴが基板ＳＢに押し付けられる。こうしてパターンまたは薄膜ＰＴが基板ＳＢに転写される。パターンまたは薄膜ＰＴを基板ＳＢに良好に転写するために、転写ローラ４３１が一定の押圧力でブランケットＢＬを基板ＳＢに押圧することが必要とされる。
【００４６】
図７に示すように、転写ローラ４３１は退避位置から接触前位置までは比較的高速で上昇する一方、接触前位置を通過すると比較的低速でブランケットＢＬに向けて上昇する。転写ローラ４３１とブランケットＢＬとが接触しない接触前位置までは位置制御または速度制御により比較的高速で転写ローラ４３１を上昇させることで、転写ローラ４３１を退避位置から接触前位置まで移動させるのに要する時間を短くすることができる。また、接触前位置以降では上昇速度を低下させることで、転写ローラ４３１が勢いよくブランケットＢＬに衝突したり、ブランケットＢＬや基板ＳＢを過剰な押圧力で押圧してしまうという問題が回避される。このように上昇速度を２段階とすることで、処理時間を短縮しつつ転写処理を適正に進行させることができる。
【００４７】
転写ローラ４３１がブランケットＢＬに当接してこれを押し上げ、さらに基板ＳＢに当接させる過程においては、モータ４３６の負荷トルクは次第に増加してゆく。トルク検出値が閾値Ｔｔｈに達すると（ステップＳ１０７においてＹＥＳ、図７の時刻Ｔ３）、モータ４３６の制御がトルク制御に変更される（ステップＳ１０８）。これ以後はモータ４３６の負荷トルクが一定の目標値Ｔｔｇｔとなるように、ローラ昇降制御部９５はトルク判定部９６からの出力に基づいてモータ４３６を制御する。これにより、ブランケットＢＬと基板ＳＢとの間の押圧力を一定に維持することができる。
【００４８】
また、時刻Ｔ３またはこれ以降において、ローラ走行機構を構成するモータ４２４がオンとなり、転写ローラ４３１のＹ方向への走行が開始される（ステップＳ１０９）。これにより、転写ローラ４３１がブランケットＢＬの下面に当接して従動回転しながらＹ方向へ走行する。
【００４９】
図５（ｃ）および図６（ａ）に示すように、転写ローラ４３１がブランケットＢＬを基板ＳＢに押し付けながらＹ方向に移動することで、パターンまたは薄膜ＰＴを介してブランケットＢＬと基板ＳＢとが密着する領域がＹ方向に広がってゆく。こうしてパターンまたは薄膜ＰＴが順次基板ＳＢに転写される（転写処理）。転写ローラ４３１は、ブランケットＢＬを一定の押圧力で押圧することのできる押圧位置まで上昇し、この状態でＹ方向に走行する。
【００５０】
このとき、昇降ハンド機構３３，３４は、走行するローラユニット４３との干渉を避けるために、昇降ハンド３３１（３４１），３３２（３４２），３３３（３４３），３３４（３４４）をローラユニット４３の移動に伴って順次下降させてゆく。
【００５１】
転写ローラ４３１が基板ＳＢの他方端部直下の終了位置に到達するまで（ステップＳ１１０）、ローラユニット４３の走行が継続される。これにより、基板ＳＢ全体がブランケットＢＬに当接し、基板ＳＢへのパターンまたは薄膜ＰＴの転写が完了する。この時点でローラユニット４３の移動が停止され、図６（ｃ）に示すように、ローラユニット４３がブランケットＢＬから離間して下方へ退避する（ステップＳ１１１）。こうして密着されたブランケットＢＬと基板ＳＢとが一体的に搬出されて（ステップＳ１１２）、この転写装置１における転写処理は終了する。
【００５２】
次に、トルク検出値に対して定めた閾値Ｔｔｈの意味について説明する。この閾値Ｔｔｈは、ローラ走行機構が作動してローラユニット４３がＹ方向に走行開始するタイミングを規定するために設定される。すなわち、この実施形態では、トルク検出部４３８により検出されるモータ４３６の負荷トルクが閾値Ｔｔｈに達した後にローラユニット４３の走行が開始される。これは、以下に説明するように、転写ローラ４３１がブランケットＢＬに接触し始める初期接触段階において、転写ローラ４３１によるブランケットＢＬへの押圧力がＸ方向において一定となってからローラユニット４３の走行が開始されるようにするためである。
【００５３】
図８は転写ローラとブランケットとの初期接触段階を説明する図である。図８（ａ）に誇張して示すように、転写ローラ４３１は、Ｘ方向における中央部が端部に比べてブランケットＢＬ側に僅かに突出するように、上に凸の弓なりに支持部材４３２に支持されている。これは、初期接触段階において転写ローラ４３１により押し上げられるブランケットＢＬと基板ＳＢとの当接が、Ｘ方向の中央部から始まり端部に広がってゆくようにすることで、ブランケットＢＬと基板ＳＢとの間（より正確には、ブランケットＢＬに担持されたパターンまたは薄膜ＰＴと基板ＳＢとの間）に気泡が入り込むのを防止するためである。
【００５４】
初期接触段階において転写ローラ４３１は、図８（ａ）に示すようにＸ方向における中央部付近からブランケットＢＬに当接し始める。そして、転写ローラ４３１の上昇につれて当接範囲が両端部に向けて広がり、最終的には、図８（ｂ）に示すようにＸ方向の全域において均等にブランケットＢＬを押圧する。
【００５５】
ブランケットＢＬ下面において比較的早い段階で転写ローラ４３１に当接する中央部の点Ｐａと、これより後で転写ローラ４３１に当接する端部近傍の点Ｐｂとの間で、転写ローラ４３１から受ける押圧力（面圧）を比較する。図８（ｃ）に示すように、点Ｐａにおいては面圧の上昇が比較的早いタイミングで始まり、時間とともに当接範囲が広がることで一定値に近づくのに対し、点Ｐｂにおいては、面圧上昇の立ち上がりおよび一定値への漸近がより遅れる。
【００５６】
Ｘ方向においてブランケットＢＬに均等な面圧を与えた状態で転写ローラ４３１の走行を開始させるためには、端部近傍の点Ｐｂにおける面圧が十分に上昇するのを待つ必要がある。しかしながら、Ｚ方向における転写ローラ４３１の位置や転写ローラ４３１の上昇速度からこのタイミングを見極めることは難しい。特に、転写ローラ４３１やブランケットＢＬの表面が弾性を有する場合、押圧力がブランケットＢＬと基板ＳＢとの当接箇所まで伝達されるのに時間遅れがあるため、転写ローラ４３１が押圧位置に到達してから面圧が均等化されるまでのタイミングを把握することがさらに困難となる。
【００５７】
簡易的には、転写ローラが押圧位置に到達してから走行を開始するまでに比較的長い時間間隔をおくことで、面圧が均等化されるようにすることは可能である。しかしながら、このことは処理の待ち時間を増大させスループットを低下させる要因となる。また、ブランケットＢＬや基板ＳＢの厚さのばらつきに起因して、面圧が適正値とならない場合もあり得る。
【００５８】
一方、転写ローラ４３１を昇降させる駆動力を発生するモータ４３６の負荷トルクに着目すると、点Ｐａへの押圧が開始され、点Ｐｂまで面圧が均等化されるまでの過程において、負荷トルクは上昇を続けている。このことから、点Ｐｂにおける面圧が所定値に達するときのモータ４３６の負荷トルクの値を予め求めておけば、負荷トルクの検出値から点Ｐｂに所定の面圧が加わるタイミングを知ることが可能となる。すなわち、負荷トルクの検出値に基づいて転写ローラ４３１の走行開始タイミングを決めることにより、ブランケットＢＬと基板ＳＢとの間に均等な押圧力を与えた状態で転写ローラ４３１の走行を開始することができる。
【００５９】
トルク検出値の閾値Ｔｔｈについては、このように初期接触段階においてブランケットＢＬの端部Ｐｂに十分な押圧力が与えられるときのモータ４３６の負荷トルクの大きさとして、予め実験的に定められる。そのため、この転写装置１では、初期接触段階においてブランケットＢＬと基板ＳＢとの間に均等な押圧力を与えた状態で転写ローラ４３１の走行を開始することができる。これにより、転写品質を良好にすることができる。また、トルク検出値が閾値Ｔｔｈに達した後、速やかに転写ローラ４３１の走行を開始するようにすれば、無駄な待ち時間を短縮し、処理のスループットを向上させることができる。
【００６０】
トルク検出値が閾値Ｔｔｈに達して以降、モータ４３６はトルク制御される。負荷トルクが一定となるようにモータ４３６が制御されることで、ブランケットＢＬおよび基板ＳＢに過剰な押圧力が印加されるのを防止することができる。なお、トルク検出値が閾値Ｔｔｈに達する前にトルク制御が開始されるようにしてもよく、例えば図７に点線矢印で示したように、転写ローラ４３１が接触前位置に達する時刻Ｔ１にトルク制御が開始されてもよい。このようにすると、負荷トルクが閾値Ｔｔｈに近づくまでは比較的高速で転写ローラ４３１が上昇することになり、転写ローラ４３１の走行が開始されるまでの時間をさらに短縮することも可能である。
【００６１】
一方、本実施形態のように、接触前位置以降の転写ローラ４３１の上昇速度を低速とした場合には、制御系のオーバーシュートに起因する過剰な押圧力の印加を防止することができる。この場合にも、トルク検出値が閾値Ｔｔｈに達した時点で遅滞なくトルク制御を行うことで、以後の押圧力を一定に維持することが可能となる。
【００６２】
トルク制御における目標値Ｔｔｇｔは、ブランケットＢＬと基板ＳＢとの間に所定の押圧力を与えるために必要なトルク値として設定される。目標値Ｔｔｇｔと閾値Ｔｔｈとは同一値であってもよく、また閾値Ｔｔｈが目標値Ｔｔｇｔより少し小さな値として設定されてもよい。例えば、ブランケットＢＬと基板ＳＢとの間の押圧力に幾らかのオーバーシュートが許容される系では、目標値Ｔｔｇｔと閾値Ｔｔｈとを同一とすることができる。一方、オーバーシュートが許容されない系では、閾値Ｔｔｈを目標値Ｔｇｔより少し小さく、例えば目標値Ｔｇｔの９０％とすることができる。
【００６３】
また、転写ローラ４３１の走行中にもモータ４３６をトルク制御することにより、次のような利点が得られる。
【００６４】
図９はトルク制御の利点を説明する図である。図９（ａ）に示すように、ブランケットＢＬの下面が平坦でなく、Ｚ方向に位置が変動して波打っているケースを考える。このようなケースは、上ステージ２１の基板保持面２１ａの平面度、基板ＳＢおよびブランケットＢＬの厚みのばらつきや反り等に起因して現実的に起こり得るものである。このようなケースにおいて、転写ローラ４３１の高さ（Ｚ方向位置）を一定に維持する位置制御では、図９（ｂ）に点線で示すように、このような位置変動に追随することができず、結果的に押圧力が変動してしまう。
【００６５】
これに対して、トルク制御を行った場合、図９（ｂ）に実線で示すように、転写ローラ４３１の高さはブランケットＢＬの位置変動に対応して変化するものの、トルク検出値が一定となるようにモータ４３６が制御されることにより押圧力は一定に維持される。これにより、ブランケットＢＬと基板ＳＢとが一定の押圧力で押圧されて、ブランケットＢＬから基板ＳＢへのパターン等の転写を良好に進行させることができる。このことは、位置制御を行う形態と比べて上ステージ２１に要求される加工精度が低くて済むことを意味し、装置コストの低減を図る上でも有利である。
【００６６】
以上のように、この実施形態の転写装置１では、ブランケットＢＬを押し上げて基板ＳＢに当接させる転写ローラ４３１を昇降させるための駆動力を発生するモータ４３６の負荷トルクが検出される。そして、その検出結果に基づいて、ブランケットＢＬに沿った転写ローラ４３１の走行開始タイミングが決定される。具体的には、ブランケットＢＬの押し上げに伴って増加するトルク検出値が予め定められた閾値Ｔｔｈ以上となったときに、転写ローラ４３１の走行が開始されるように制御される。閾値Ｔｔｈは、初期接触段階において転写ローラ４３１からブランケットＢＬに与えられる押圧力（面圧）がＸ方向において略一定となるときの負荷トルクの値として予め定められている。
【００６７】
そのため、転写ローラ４３１からブランケットＢＬに対し均等かつ十分な押圧力が印加された状態で転写ローラ４３１の走行を開始させることができ、転写品質を良好に維持することができる。また、無駄な待ち時間を省いて、処理のスループットを向上させることができる。
【００６８】
以上説明したように、上記実施形態においては、基板ＳＢが本発明の「第１板状体」に相当し、その下面が「一方主面」、上面が「他方主面」に相当している。また、ブランケットＢＬが本発明の「第２板状体」に相当し、その上面が「一方主面」、下面が「他方主面」に相当している。また、パターンまたは薄膜ＰＴが本発明の「被転写物」に相当している。
【００６９】
また、上記実施形態では、上ステージ２１が本発明の「第１保持手段」として機能しており、基板保持面２１ａが本発明の「当接面」に相当している。また、下ステージ３１が本発明の「第２保持手段」として機能している。また、転写ローラ４３１が本発明の「ローラ部材」として機能し、モータ４３６が本発明の「駆動力発生手段」および「モータ」として機能している。また、トルク検出部４３８が本発明の「検出手段」として機能している。また、ローラ走行機構を構成するガイドレール４１およびボールねじ機構４２が一体として、本発明の「移動手段」として機能している。
【００７０】
また、この実施形態においては、転写ローラ４３１の退避位置が本発明の「第１位置」に相当し、接触前位置が本発明の「第２位置」に相当する。そして、図７において、退避位置とブランケット下面との間隔Ｄ１が本発明の「第１間隔」に相当し、接触前位置とブランケット下面との間隔Ｄ２が本発明の「第２間隔」に相当している。
【００７１】
また、図４に示す転写処理において、ステップＳ１０１、Ｓ１０２が本発明の「保持工程」に相当し、ステップＳ１０３〜Ｓ１０７が本発明の「初期当接工程」に相当している。そして、ステップＳ１０９〜Ｓ１１１が本発明の「移動工程」に相当する。
【００７２】
なお、本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。例えば、本発明の「駆動力発生手段」として機能するモータ４３６の負荷トルクをトルク検出部４３８により検出しているが、駆動力発生手段の負荷の大きさを検出する手段としてはこれに限定されない。例えば次のようにしてもよい。
【００７３】
図１０はローラユニットの２つの変形例を示す図である。これらの変形例では、トルク検出部４３８によりモータ４３６の負荷トルクを検出するのに代えて、転写ローラ４３１がブランケットＢＬを押圧する際の圧力を検出する手段が設けられている。なお、図１０において、図１に示す上記実施形態のローラユニット４３と同一または相当する構成には同一符号を付して説明を省略する。また、下記以外の構成は上記実施形態と同様であるため説明を省略する。
【００７４】
図１０（ａ）に示す第１の変形例では、転写ローラ４３１を支持する支持部材４３２とローラ昇降機構のナット部４３５との間に圧力センサ４４１が配置される。また、図１０（ｂ）に示す第２の変形例では、ローラ昇降機構のフレーム４３３とローラ走行機構のナット部４２５との間に圧力センサ４４２が配置される。これらの圧力センサ４４１，４４２の出力は、制御ユニット９に設けられる圧力判定部９８に入力される。圧力判定部９８は、上記実施形態のトルク判定部９６に代えて設けられるものであり、圧力センサ４４１，４４２からの出力に基づきローラ昇降制御部９５およびローラ走行制御部９７を制御する。
【００７５】
これらの変形例では、圧力センサ４４１，４４２により検出される圧力の大きさによってモータ４３６の負荷量が表される。これらの構成によっても、初期接触段階においてブランケットＢＬに均等な面圧が印加されるときの圧力センサ４４１，４４２の検出値を予め求めて閾値を設定しておき、転写ローラ４３１の上昇に伴い増加する圧力検出値が当該閾値に達したときに転写ローラ４３１の走行を開始することで、上記実施形態と同様の効果を得ることができる。これらの態様では、圧力センサ４４１，４４２が本発明の「検出手段」として機能することになる。
【００７６】
また、上記実施形態における「駆動力発生手段」は回転力を発生するモータであるが、転写ローラ４３１を昇降駆動させるための駆動力の発生源はこのような回転モータに限定されない。基準信号に基づきその出力を適宜に調整することのできる種々の動力源を、本発明の「駆動力発生手段」として用いることができる。例えばリニアモータを用いることが可能である。
【００７７】
また、上記実施形態では、転写ローラ４３１がブランケットＢＬに向けて上昇する際、上昇速度を２段階に変更しているが、このことは必須の要件ではない。例えば、転写ローラ４３１が接触前位置に到達した段階でトルク制御を行うようにすれば、特に上昇速度を制御する必要はない。また、速度制限を設けたトルク制御を行うようにしてもよい。また、転写ローラ４３１がブランケットＢＬに当接したことを検知する手段が設けられている場合には、トルク制御の開始タイミングを転写ローラ４３１がブランケットＢＬに当接する時刻Ｔ２としてもよい。
【００７８】
また、上記実施形態はブランケットＢＬに担持されたパターン等の被転写物を基板ＳＢに転写する転写装置であるが、本発明の技術思想は、このようなパターン等を転写する転写装置に限定されず、例えばパターン等を介さず２枚の板状体を貼り合わせる技術にも適用可能である。
【００７９】
以上、具体的な実施形態を例示して説明してきたように、この発明では、例えば、駆動力発生手段が回転力を発生するモータであり、検出手段がモータの負荷トルクを検出する構成であってもよい。モータの回転運動を変換機構により適宜の方向の運動に変換することで、モータの回転力を駆動力としてローラ部材の昇降が可能である。モータの負荷トルクを検出する種々の方法が確立されており、このような技術を利用して、ローラ部材の移動開始タイミングを最適化することができる。
【００８０】
また例えば、移動手段がローラ部材の移動を開始した後、駆動力発生手段の負荷が一定となるように、駆動力発生手段の出力が制御される構成であってもよい。負荷の大きさが一定となるように駆動力発生手段の出力を制御することで、第２板状体に対し一定の押圧力でローラ部材を押圧することができる。これにより、第１板状体と第２板状体とが互いに一定の押圧力で押圧され、押圧力の変動に起因する転写不良を防止して、被転写物の転写を良好に行うことができる。
【００８１】
また例えば、駆動力発生手段は、ローラ部材と第２板状体との間隔が第１間隔である第１位置から間隔が第１間隔より小さい第２間隔である第２位置までローラ部材を第１速度で前記第２板状体に向けて移動させ、第２位置に到達するとローラ部材を第１速度より低速の第２速度で移動させる構成であってもよい。ローラ部材が第２板状体に当接するときには、ローラ部材が第２板状体に勢いよく衝突するのを防止するために、比較的低速でローラ部材を移動させる必要がある。一方、第２板状体との間隔が比較的大きい段階では比較的高速でローラ部材を移動させることで、ローラ部材が第２板状体に当接するまでの時間を短縮することができる。このようにローラ部材の速度を切り替えることで、短時間でローラ部材を第２板状体に当接させ、しかも第２板状体への衝突を回避することができる。
【００８２】
また例えば、第２保持手段は、第２板状体の他方主面の中央部を開放した状態で第２板状体の周縁部を保持する構成であってもよい。こうすることで、ローラ部材が第２板状体の他方主面に当接して移動する間も、第２保持手段により第２板状体を保持しておくことができる。その結果、第２板状体の姿勢を適正に保持して転写を良好に行うことが可能となる。
【００８３】
また例えば、第２保持手段は、第２板状体の一方主面を上向きにした水平姿勢に第２板状体を保持する構成であってもよい。この場合、ローラ部材が第２板状体の下面（他方主面）に当接し、第２板状体を押し上げて第１板状体に当接させることとなる。ローラ部材の当接を受けるために下面側が開放されることにより、第２板状体が下向きに撓むことがあり得るが、第１板状体との間隔が広がる方向に撓むため、第１板状体と第２板状体とが不測の接触をすることはない。したがって、不測の接触による転写不良の発生を防止することができ、また予め設定される第１板状体と第２板状体との間隔を小さくすることができるので、転写時の第１板状体と第２板状体との位置ずれも抑えることができ、転写の位置精度を向上させることができる。
【００８４】
また例えば、第１保持手段は、第１板状体の一方主面と反対の他方主面に当接する平坦な当接面を有する構成であってもよい。第１板状体は第２板状体を介してローラ部材から押圧を受ける。第１板状体を平坦面に当接させておくことにより、ローラ部材からの押圧によって第１板状体が撓むのを防止して、転写を良好に進行させることができる。
【００８５】
また例えば、ローラ部材の表面が弾性体により形成されていてもよい。このような構成によれば、ローラ部材の弾性により第２板状体に均等な押圧力を与えることができる。ただし、その弾性に起因して、ローラ部材が押し付けられてから押圧力が均等化されるまでの時間遅れが生じる。このような場合に本発明を適用することで、押圧力が均等化されてからローラ部材の移動を開始させることができる。
【産業上の利用可能性】
【００８６】
この発明は、ガラス基板や半導体基板などの各種基板にパターンや薄膜等の被転写物を転写する処理に対して好適に適用可能である。
【符号の説明】
【００８７】
１  転写装置
２１  上ステージ（第１保持手段）
２１ａ  基板保持面（当接面）
３１  下ステージ（第２保持手段）
４１  ガイドレール（移動手段）
４２  ボールねじ機構（移動手段）
４３  ローラユニット
４３１  転写ローラ（ローラ部材）
４３６  モータ（駆動力発生手段、モータ）
４３８  トルク検出部（検出手段）
４４１，４４２  圧力センサ（検出手段）
ＢＬ  ブランケット（第２板状体）
ＰＴ  パターンまたは薄膜（被転写物）
ＳＢ  基板（第１板状体）
Ｓ１０１、Ｓ１０２  保持工程
Ｓ１０３〜Ｓ１０７  初期当接工程
Ｓ１０９〜Ｓ１１１  移動工程
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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