(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
塩類またはイオンを含む添加剤を地熱熱水の一部へ添加しながら、または前記地熱熱水の一部へ添加した後、冷却して、析出した過飽和シリカを含むシード液を得るシード形成工程と、
前記地熱熱水の別の一部と前記シード液とを混合してシリカの粒径を成長させ、その後濾過・濃縮することで、濾液および粒径が成長したシリカ粒子を含む高濃度シリカゾルを得る粒子成長・濃縮工程と、
前記濾液を逆浸透膜を用いて濾過し、濃縮塩含有液および精製水を得るＲＯ処理工程と
を備え、前記粒子成長・濃縮工程において、前記地熱熱水の別の一部を前記塩類またはイオンを含む添加剤の代わりに、および／もしくは同時に使用して、前記シード液とする共に、成長したシリカゾルに前記精製水も混合する、地熱熱水を利用したシリカの製造方法。
【請求項２】
前記濃縮塩含有液を前記添加剤として用いる、請求項１に記載のシリカの製造方法。
【請求項３】
前記添加剤が、シリカの溶解度を低下させる金属酸化物、そのイオン、および陰イオンからなる群から選ばれる少なくとも１つを含む、請求項１または２に記載のシリカの製造方法。
【請求項４】
前記添加剤が、Ｎａ、Ｃａ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｓｉ、ＣｌおよびＳＯ4からなる群から選ばれる少なくとも１つを含む、請求項１〜３のいずれかに記載のシリカの製造方法。
【請求項５】
前記粒子成長・濃縮工程において、分画分子量４０００〜１０万の範囲の限外濾過膜を用いて濾過する、請求項１〜４のいずれかに記載のシリカの製造方法。
【請求項６】
前記シード形成工程において、前記地熱熱水を、前記地熱熱水またはその採取地の温度をＸとした場合、｛Ｘ−｛（Ｘ/１００―１）×１００｝｝℃以下に冷却する、請求項１〜５のいずれかに記載のシリカの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は地熱熱水を利用したシリカの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、地熱熱水からシリカを回収したり、地熱熱水から熱を回収する際にシリカを処理したりする方法が、いくか提案されている。
このような従来法として、例えば特許文献１〜５に記載の方法が挙げられる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特公平２−７８８２号公報
【特許文献２】特公平２−１５２７９号公報
【特許文献３】特公平６−９４９５２号公報
【特許文献４】特開平８−２７６１９１号公報
【特許文献５】特開２００２−１６７２１３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、従来法では核生成、粒子成長、濃縮が同時になされるため、品質に安定性がなかった。また、シリカが凝集したり、過飽和度の制御が困難なために粒子径分布が大きくなったり、濃縮すると増粘する場合があった。また、シリカを高濃度化することは困難であった。
【０００５】
本発明は上記のような課題を解決することを目的とする。
すなわち、本発明は、核生成と粒子成長とが分離することで、シリカの粒子成長を促すために、シリカ粒子の凝集を防止し、粒径が比較的均一となり、濾過膜が閉塞し難いために濾水の通過速度の低下速度を低減でき、さらに、逆浸透膜を用いた濾過によって得られた精製水を粒子成長、濃縮工程において用いることで、塩類が低減化された高濃度のコロイダルシリカが得られるシリカの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者は上記課題を解決するため鋭意検討し、本発明を完成させた。
本発明は以下の（１）〜（６）である。
（１）塩類またはイオンを含む添加剤を地熱熱水の一部へ添加しながら、または前記地熱熱水の一部へ添加した後、冷却して、析出した過飽和シリカを含むシード液を得るシード形成工程と、
前記地熱熱水の別の一部と前記シード液とを混合してシリカの粒径を成長させ、その後濾過することで、濾液および粒径が成長したシリカ粒子を含む高濃度シリカゾルを得る粒子成長・濃縮工程と、
前記濾液を逆浸透膜を用いて濾過し、濃縮塩含有液および精製水を得るＲＯ処理工程と、
を備え、前記粒子成長・濃縮工程において、前記地熱熱水の別の一部と前記シード液と共に前記精製水も混合する、地熱熱水を利用したシリカの製造方法。
（２）前記濃縮塩含有液を前記添加剤として用いる、上記（１）に記載のシリカの製造方法。
（３）前記添加剤が、シリカの溶解度を低下させる金属酸化物、そのイオン、および陰イオンからなる群から選ばれる少なくとも１つを含む、上記（１）または（２）に記載のシリカの製造方法。
（４）前記添加剤が、Ｎａ、Ｃａ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｓｉ、ＣｌおよびＳＯ4からなる群から選ばれる少なくとも１つを含む、上記（１）〜（３）のいずれかに記載のシリカの製造方法。
（５）前記粒子成長・濃縮工程において、分画分子量４０００〜１０万の範囲の限外濾過膜を用いて濾過する、上記（１）〜（４）のいずれかに記載のシリカの製造方法。
（６）前記シード形成工程において、前記地熱熱水を、前記地熱熱水またはその採取地の温度をＸとした場合、｛Ｘ−｛（Ｘ／１００−１）×１００｝｝℃以下に冷却する、上記（１）〜（５）のいずれかに記載のシリカの製造方法。
【０００７】
［従来技術との比較］
従来プロセスでは、核生成と粒子成長が同時に起こることや塩類が多い系で濃縮されたりすることから、シリカの凝集し易く、減濾過膜の入口及び膜面にシリカが堆積して、逆洗しても除去できなくなるために、濾水の透過速度が低下し、最終的には、膜閉塞が起きる。
従って、本発明のように均一なシリカ粒子に成長すると、膜面に堆積したシリカが、逆洗で容易に除去できるために、濾水の透過速度を高く、あるいは高い状態を維持し、長期間にわたる使用に耐えられる。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、核生成と粒子成長とが分離することでシリカ粒子の成長を促し、凝集を防止し、粒径が比較的均一となり、濾過膜が閉塞し難いために濾水の通過速度を増加でき、さらに、逆浸透膜を用いた濾過によって得られた精製水を粒子成長において用いることで、塩類が低減化された高濃度のコロイダルシリカが得られるシリカの製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の製造方法の好適例を行うことができるシリカの製造装置の概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明について説明する。
本発明は、塩類またはイオンを含む添加剤を地熱熱水の一部へ添加しながら、または前記地熱熱水の一部へ添加した後、冷却して、析出した過飽和シリカを含むシード液を得るシード形成工程と、前記地熱熱水の別の一部と前記シード液とを混合してシリカの粒径を成長させ、その後濾過することで、濾液および粒径が成長したシリカ粒子を含む高濃度シリカゾルを得る粒子成長、濃縮工程と、前記濾液を逆浸透膜を用いて濾過し、濃縮塩含有液および精製水を得るＲＯ処理工程と、を備え、前記粒子成長、濃縮工程において、前記地熱熱水の別の一部と前記シード液と共に前記精製水も混合する、地熱熱水を利用したシリカの製造方法である。
このようなシリカの製造方法を、以下では「本発明の製造方法」ともいう。
【００１１】
本発明の製造方法について図１を用いて説明する。
図１は、本発明の製造方法の好適例を行うことができる、シリカの製造装置２０（以下、単に「装置２０」ともいう）である。
図１に示すように装置２０は、シードタンク１２、粒子成長タンク２２,濃縮タンク２４，２９、濾過装置２５，３０およびＲＯ膜１８を有する。
【００１２】
装置２０では、地熱熱水１を処理する。地熱熱水１は例えば従来公知のものであってよく、例えば温度が６０〜１００℃程度であり、シリカを０．０４〜０．１５質量％含み、さらにイオン（金属イオン又は陰イオン（例えば、Ｎａ、Ｃａ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｓｉ、ＣｌおよびＳＯ4））を、合計で０．０５〜１質量％含むものが挙げられる。
【００１３】
装置２０では、地熱熱水１の一部（１ａ）へ添加剤２を添加する。添加剤２は塩類またはイオン（金属イオンもしくは陰イオン）を含むものであり（もちろん両方を含んでもよい）、地熱熱水１の一部（１ａ）に含まれるシリカ成分を析出させたり、凝集させたりする機能を有する。添加剤２を添加することで地熱熱水１に含まれる塩濃度が上昇するとシリカの溶解度が下がり(シリカの過飽和度が上昇して)シリカが析出しやすくなる。
【００１４】
添加剤２はＮａ、Ｃａ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｓｉ、ＣｌおよびＳＯ4からなる群から選ばれる少なくとも１つを含むことが好ましい。このような添加剤２としてはＣａＣｌ2、
ＭｇＣｌ2、ＡｌＣｌ3、Ｔｉ（ＳＯ4）2が挙げられる。
【００１５】
また、添加剤２はアルミナゾルやカチオンシリカゾル等の無機カチオン系添加剤や、（ＣＨ3）4ＮＯＨ等の有機カチオン系添加剤であってもよい。
【００１６】
また、後述するＲＯ処理によって得られる濃縮塩含有液７を添加剤２として用いることが好ましい。この場合、添加剤を使用しないことと塩類を希釈する装置も不要なので、低コストである。また、濃縮塩含有液へ新たに添加剤を併用して行っても良い。
添加剤２は後述するＲＯ処理によって得られる濃縮塩含有液７のみであってもよいし、他の添加剤２と濃縮塩含有液７とを共に用いてもよい。
【００１７】
装置２０では、添加剤２を地熱熱水１の一部（１ａ）にフラッシュ時若しくはフラッシュの後に添加しても良い。
また、装置２０では、添加剤２を地熱熱水１の一部（１ａ）へ添加した後に冷却装置１１を用いて冷却する。
冷却装置１１は特に限定されず、例えば水冷あるいは風冷熱交換器等を用いて冷却することができる。また、冷却は冷却前の地熱熱水(地熱貯留層)１の温度（Ｘ）に対して｛Ｘ−｛（Ｘ/１００−１）×１００｝｝℃以下に冷却することが好ましい。また、冷却前の地熱熱水１の採取地の温度（Ｘ）よりも｛Ｘ−｛（Ｘ／１００−１）×１００｝｝℃以下に冷却することが好ましい。冷却することにより、シリカの過飽和度が高くなるために、シリカが液相から析出し、核として生成する。ここで予め核の役割を果たす難溶性の塩類等共存すれば、それが核となり、その核へシリカが析出しやすくなる。
【００１８】
なお、図１に示した装置２０では、添加剤２を地熱熱水１の一部（１ａ）へ添加した後に冷却装置１１を用いて冷却しているが、添加剤２を地熱熱水１の一部（１ａ）へ添加しながら、冷却装置１１を用いて冷却してもよい。
また、冷却装置１１を用いず、例えば冷却した添加剤２や濃縮塩含有液７を地熱熱水１の一部（１ａ）へ添加することで冷却することもできる。
さらに、濃縮塩含有液７は、地熱熱水１より、温度が低くなっているために、地熱熱水１の一部へ添加することで、地熱熱水の温度が低下し、シリカの過飽和度が高くなるために、シリカが液相から析出し、核として生成し易くなる。
【００１９】
上記のような添加剤２を地熱熱水１の一部（１ａ）へ添加した後（または、添加しながら）、冷却し、その後、シードタンク１２へ導入する。シードタンク１２の内部ではシリカ粒子が析出し、シードが形成される。シードタンク１２における滞留時間は０．１〜１．０時間であることが好ましい。
【００２０】
一定の滞留時間が経過した後、シードタンク１２からシード液3が排出される。
【００２１】
このようにしてシードタンク１２において、塩類またはイオンを含む添加剤を地熱熱水の一部へ添加しながら、または添加した後、冷却して、析出した過飽和シリカを含むシード液３を得るシード形成工程を行うことができる。
【００２２】
次に、シード液３は、粒子成長タンク２２へ送られる。
【００２３】
さらに、後述するＲＯ膜による処理によって得られる濃縮塩含有水７も、地熱熱水１の別の一部（１ａ）とあわせることで、シード液（３）とすることもできる。また、後述するＲＯ膜による処理によって得られる精製水６共に、合わせて濃縮タンク２９内で混合することでシリカ粒子を精製させることができる。これによって、得られる高濃度シリカゾル５におけるシリカ粒子をより安定化出来、高純度化することができる。
【００２４】
装置２０において、シード液３は粒子成長タンク２２にて地熱熱水１の一部（１ｂ）と混合される。そして、シリカ粒子の粒径が成長する。粒子成長タンク１での滞留時間は０．２５〜３．０時間であることが好ましく、１．０時間程度であることがより好ましい。
【００２５】
その後、粒子成長タンク２２の下部から排出されたシリカゾル２３は、濃縮タンクＡ（２４）へ送られる。
濃縮タンクＡ（２４）で生成されたシリカはタンクの下部から抜き出され、限外濾過装置２５にて濾過される。そして、濃縮液２６については再度、濃縮タンクＡ（２４）へ戻され濾液は、還元井２７へ排出される。
【００２６】
ゾルが濃縮された部分（２８）については、次の濃縮タンクＢ（２９）へ送られる。濃縮タンクＢ（２９）へ送られた液（２８）におけるシリカ濃度を０．５〜９質量％とすることが好ましく、２質量％程度とすることがより好ましい。
【００２７】
ここで濃縮タンクＢ（２９）では、濃縮タンクＡ（２４）から送られてきた液（２８）が貯留され、生成されたシリカはタンクの下部から抜き出され、限外濾過装置３０にて濾過される。そして、濃縮液部分３１については再度、濃縮タンクＢ（２９）へ戻される。濾液４として一部（濾液３２）は次工程（ＲＯ膜による処理）へ、残部（濾液３３）は還元井（３４）へ排出される。
【００２８】
そして、その後、濾過装置２５および３０を用いて濾過・濃縮することで、濾液４および粒径が成長したシリカ粒子を含む高濃度シリカゾル５を得ることができる。
回収された高濃度シリカゾルにおけるシリカ濃度を１０〜４０質量％とすることが好ましく、１５質量％程度とすることがより好ましい。
ここで濾過は限外濾過膜を用いることが好ましく、分画分子量４０００〜１０万の範囲の限外濾過膜を用いて濾過することがより好ましい。
【００２９】
このようにして粒子成長タンク２２、濃縮タンク２４、２９および濾過装置２５、３０において、前記地熱熱水の別の一部と前記シード液とを混合してシリカの粒径を成長させ、その後濾過・濃縮することで、粒径が成長したシリカ粒子を含む高濃度シリカゾルを得る粒子成長・濃縮工程を行うことができる。
【００３０】
次に、濾液４を逆浸透膜（ＲＯ膜）１８を用いて濾過し、濃縮塩含有液７および精製水６を得る。
逆浸透膜１８は特に限定されず、例えば従来公知の耐熱性のものを用いることができる。
【００３１】
ここで得られた精製水６は、前述のように、粒子成長・濃縮タンク２９へ導入される。
また、濃縮塩含有液７は、前述のように、添加剤２の少なくとも一部あるいはすべてとして用いられて地熱熱水１の一部（１ａ）へ添加されることが好ましい。
【００３２】
このようにして逆浸透膜１８において、濾液を逆浸透膜を用いて濾過し、濃縮塩含有液および精製水を得るＲＯ処理工程を行うことができる。
【実施例】
【００３３】
＜実施例１＞
図１に示した装置を用いて、地熱熱水１から高濃度シリカゾル５を得た。
以下に具体的に説明する。
地熱熱水１は１０００Ｌ当たり、ＳｉＯ2を５８０ｇ、塩類（Ｎａ、Ｋ、Ｃａ、Ａｌ、Ｃｌの合計量）を３０００ｇ含み、冷却された地熱水温度が９９℃のものである。（地熱貯留層温度Ｘは、２００℃）なお、地熱熱水１の組成等は、大岳地熱熱水の組成等を参考にした。
このような地熱熱水１を１０００Ｌ／Ｈｒの量で、図１に示した装置２０へ供給した。
そして、このうち１０％（１ａ：１００Ｌ／Ｈｒ）がシードタンク１２へ供給されるように調整した。また、残り（９０％：１ｂ：９００Ｌ／Ｈｒ）は、粒子成長タンク２２へ供給されるように調整した。
【００３４】
次に、シードタンク１２へ供給される地熱熱水１の一部（１ａ）へ添加剤としてＣａＣｌ2を１５０ｐｐｍとなるように添加した。また、後述する逆浸透膜１８を用いた濾過によって得た濃縮塩含有水７も供給した。
そして、大型扇風機（冷却装置１１）を用いて８０℃となるように冷却した。
添加剤２（塩濃度：約３％）が、０．６Ｌ／Ｈｒで添加され、冷却された地熱熱水１は、シードタンク１２にて滞留する。滞留時間は０．５時間である。その後、シードタンク１２から排出されたシード液３は、粒子成長タンク２２へ供給される。
【００３５】
シード液３は粒子成長タンク２２にて地熱熱水１の別の一部（１ｂ）と混合される。そして、シリカ粒子の粒径が成長する。粒子成長タンク２２での滞留時間は１．０時間である。
【００３６】
その後、濃縮タンクＡ（２４）で生成されたシリカはタンクの下部から抜き出され、限外濾過装置２５にて濾過される。濃縮タンクＡ（２４）へ戻される量（循環流量）は５ｍ3／Ｈｒ、還元井（２７）へ排出される量（濾水流量）は０．９９ｍ3／Ｈｒとした。また、粒径が成長した部分については、次の濃縮タンクＢへ送られる。濃縮タンクＢへ送られた液（シリカゾル）におけるシリカ濃度は２質量％であり、その量は９９１Ｌ／Ｈｒであった。
【００３７】
濃縮タンクＢ（２９）では、濃縮タンクＡ（２４）から送られてきた液（シリカゾル２８）が貯留され、その後、限外濾過装置３０にて濾過される。そして、濃縮液は再度、濃縮タンクＢ（２９）へ戻される。濾液４として一部（３２）は次工程であるＲＯ膜１８へ、残部（３３）は還元井（３４）へ排出される。濃縮タンクＢ（２９）へ戻される液（３１）の量（循環流量）は５ｍ3／Ｈｒとした。また、次工程へ排出される、濾液４の一部（３２）の量は５．９Ｌ／Ｈｒ、還元井（３４）へ排出される、濾液４の残部（３３）の量（濾水流量）は１．９Ｌ／Ｈｒとした。
また、粒径が成長した部分については、高濃度シリカゾル５として回収される。回収された高濃度シリカゾル５におけるシリカ濃度は１５質量％であり、その量は１．２Ｌ／Ｈｒであった。
また、濃縮タンクＢ（２９）へは、後述する逆浸透膜１８を用いた濾過によって得た精製水６も供給された。
【００３８】
濾液の一部（３２）は逆浸透膜で処理される。そして、濃縮塩含有水７と、脱塩された精製水６とに分離される。
濃縮塩含有水７は、前述のように、添加剤７の一部として地熱熱水１へ、０．６Ｌ／Ｈｒの添加量で添加した。そして、精製水６は、前述のように、濃縮タンクＢ（２９）へ、５．３Ｌ／Ｈｒの供給量で供給した。
【００３９】
このような方法で高濃度シリカゾル５を製造したが、このような製造方法における回収ゾル（高濃度シリカゾル）の安定性を評価した。評価は、高濃度シリカゾルを２００ｇガラス容器へ１５０ｇ採取し、蒸発水が揮発しないように密閉して、７０℃恒温槽へ浸漬し、１２日間浸漬して冷却した後の粘度を測定して行った。なお、恒温槽に浸漬するに際しては、シリカゾルの乾燥によるスケ−ル防止のために、恒温槽の液面より、ガラス容器内のシリカゾル液面を高くした。そして、その結果、未浸漬シリカゾルの粘度と比較して粘度変化率が３０％以内のものを「○」、３０〜１００％のものを「△」、１００％以上のものを「×」と評価した。なお、粘度は、毛細管粘度計法という方法で測定した。
各処理条件等および評価結果を第１表に示す。
【００４０】
＜実施例２＞
実施例１では、地熱熱水へ添加剤（ＣａＣｌ2）を１５０ｐｐｍとなるように添加したが、実施例２では、これを５００ｐｐｍとなるように添加し、その他については全て実施例１と同じとした処理を行い、評価を行った。
各処理条件等および評価結果を第１表に示す。
【００４１】
＜実施例３＞
実施例１では、地熱熱水へ添加剤としてＣａＣｌ2を用い、これを１５０ｐｐｍとなるように添加したが、実施例３では、添加剤としてＡｌＣｌ3を用い、これを１０ｐｐｍとなるように添加し、その他については全て実施例１と同じとした処理を行い、評価を行った。
各処理条件等および評価結果を第１表に示す。
【００４２】
＜実施例４＞
実施例１では、地熱熱水へ添加剤としてＣａＣｌ2を用い、これを１５０ｐｐｍとなるように添加したが、実施例４では、添加剤としてＴｉ（ＳＯ4）2を用い、これを３ｐｐｍとなるように添加し、その他については全て実施例１と同じとした処理を行い、評価を行った。
各処理条件等および評価結果を第１表に示す。
【００４３】
＜実施例５＞
実施例１では、地熱熱水へ添加剤としてＣａＣｌ2を用い、これを１５０ｐｐｍとなるように添加したが、実施例３では、添加剤として１０％アルミナゾルを用い、これを１００ｐｐｍとなるように添加し、その他については全て実施例１と同じとした処理を行い、評価を行った。
各処理条件等および評価結果を第１表に示す。
【００４４】
＜実施例６＞
実施例１では、地熱熱水へ添加剤としてＣａＣｌ2を用い、これを１５０ｐｐｍとなるように添加したが、実施例６では、添加剤として２０％カチオンシリカゾルを用い、これを５０ｐｐｍとなるように添加し、その他については全て実施例１と同じとした処理を行い、評価を行った。
各処理条件等および評価結果を第１表に示す。
【００４５】
＜実施例７＞
実施例１では、地熱熱水へ添加剤としてＣａＣｌ2を用い、これを１５０ｐｐｍとなるように添加したが、実施例７では、添加剤として（ＣＨ3）4ＮＯＨを用い、これを１０ｐｐｍとなるように添加し、その他については全て実施例１と同じとした処理を行い、評価を行った。
各処理条件等および評価結果を第１表に示す。
【００４６】
＜実施例８＞
実施例１では、地熱熱水へ添加剤としてＣａＣｌ2を用い、これを１５０ｐｐｍとなるように添加したが、実施例８では、添加剤を用いず、その他については全て実施例１と同じとした処理を行い、評価を行った。
各処理条件等および評価結果を第１表に示す。
【００４７】
＜比較例１＞
実施例１では、地熱熱水へ添加剤としてＣａＣｌ2を用い、これを１５０ｐｐｍとなるように添加したが、比較例１では、添加剤を用いず、さらに逆浸透膜を用いた濾過によって得た濃縮塩も供給しなかった。また、実施例１では精製水を濃縮タンクＢへ５．３Ｌ／Ｈｒの供給量で供給したが、比較例１では、これを供給しなかった。
そして、その他については全て実施例１と同じとした処理を行い、評価を行った。
各処理条件等および評価結果を第１表に示す。
【００４８】
＜比較例２＞
実施例１では、地熱熱水へ添加剤（ＣａＣｌ2）を１５０ｐｐｍとなるように添加したが、比較例２では、これを５００ｐｐｍとなるように添加したが、逆浸透膜を用いた濾過によって得た濃縮塩も供給しなかった。また、実施例１では精製水を濃縮タンクＢへ５．３Ｌ／Ｈｒの供給量で供給したが、比較例２では、これを供給しなかった。
そして、その他については全て実施例１と同じとした処理を行い、評価を行った。
各処理条件等および評価結果を第１表に示す。
【００４９】
【表１】
0006529412.tif 000002
【００５０】
実施例１〜８については、いずれも回収ゾルの安定性は良好であった。
【００５１】
比較例１は回収ゾルの安定性が△となった。これは、添加剤および濃縮塩を用いなかったため、また、精製水を濃縮タンクＢへ供給しなかったためと考えられる。
【００５２】
比較例２は回収ゾルの安定性が△となった。これは、添加剤を用いなかったため、また、精製水を濃縮タンクＢへ供給しなかったためと考えられる。
【符号の説明】
【００５３】
１、１ａ、１ｂ：地熱熱水
２：添加剤
３：シード水
４：濾液
５：高濃度シリカゾル
６：精製水
７：濃縮塩含有水
１１：冷却装置
１２：シードタンク
１８：ＲＯ膜
２０：装置
２２：粒子成長タンク
２４：濃縮タンクＡ
２５：濾過装置
２７：還元井
２９：濃縮タンクＢ
３０：濾過装置
３４：還元井
【図１】
0006529412.tif 000003