(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
仮支持体と、
前記仮支持体上に配置され、ヘキサアリールビイミダゾール系化合物から選ばれる重合開始剤、重合性化合物、下記一般式（Ｉ）で表される化合物、下記一般式（ＩＩ）で表される化合物、及びバインダーを含む感光性樹脂層と、
を有する転写フィルム。
【化１】
0006557418.tif 000021
一般式（Ｉ）中、Ａは、芳香族環残基又は複素環残基を表し、Ｘは、酸素原子、硫黄原子、又はＮ−（Ｒ３）を表す。Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、又は一価の非金属原子団を表し、ＡとＲ１、及びＲ２とＲ３は、それぞれ、脂肪族性又は芳香族性の環を形成するために結合されてもよい。
【化２】
0006557418.tif 000022
一般式（ＩＩ）中、Ｘは、水素原子、又は一価の有機基を表し、Ｒは、水酸基、メトキシ基、−Ｏ−Ｍ＋を表し、Ｍはアルカリ金属を表す。
【請求項２】
前記感光性樹脂層は、更に、顔料を含む請求項１に記載の転写フィルム。
【請求項３】
前記顔料が、黒色顔料である請求項２に記載の転写フィルム。
【請求項４】
前記仮支持体と前記感光性樹脂層との間に、酸素遮断層を有する請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の転写フィルム。
【請求項５】
前記重合性化合物が重合性モノマーであり、前記感光性樹脂層中における前記バインダーに対する前記重合性モノマーの質量比が、０．７０未満である請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の転写フィルム。
【請求項６】
タッチパネルの加飾に用いられる請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の転写フィルム。
【請求項７】
透明な基材シートと、前記基材シートの少なくとも一方面に配置された電極パターンと、前記電極パターンに接続された引き回し配線と、前記電極パターンを覆って積層されたオーバーコート層と、を備えたフィルムセンサーの少なくとも一方の表面に、請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載の転写フィルムの感光性樹脂層を転写して加飾層を形成する工程を有するフィルムセンサーの製造方法。
【請求項８】
前記感光性樹脂層が転写される前記表面は、前記引き回し配線の少なくとも一部の領域及び前記オーバーコート層の少なくとも一部の領域を含む請求項７に記載のフィルムセンサーの製造方法。
【請求項９】
透明な基材シートと、
前記基材シートの少なくとも一方面に配置された電極パターンと、
前記電極パターンに接続された引き回し配線と、
前記電極パターンを覆って積層されたオーバーコート層と、
を備えたフィルムセンサーであり、前記フィルムセンサーの少なくとも一方の表面に、請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載の転写フィルムの転写層である感光性樹脂層の硬化物を加飾層として有するフィルムセンサー。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、転写フィルム、フィルムセンサー、及びフィルムセンサーの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、電子機器（例えば、携帯電話、カーナビゲーション、パーソナルコンピュータ、券売機、銀行の端末など）には、液晶装置などの表面にタブレット型の入力装置が配置されている。液晶装置などに配置された入力装置には、液晶装置の画像表示領域に表示された指示画像を参照しながら、指示画像が表示されている箇所に指又はタッチペンなどを触れることで、指示画像に対応する情報の入力が行えるものがある。そして、電子機器の液晶表示窓には、液晶表示窓を保護するために、透明なガラス基板の裏面周縁部に黒色の枠状遮光層が形成されたカバーガラスが取り付けられている。【０００３】
上記した電子機器には、入力装置としてタッチパネルが使用されることが多い。タッチパネルの方式としては、近年、指先で画面を叩く、弾く、摘むという操作で画像を拡大又は縮小させるマルチタッチ機能をそなえ、視認性及び耐久性に優れる観点から、静電容量方式が注目されている。そして、静電容量方式のタッチパネルにおいては、センサー部の薄型化に対する要求が高く、例えば特開２０１２−１３３５９７号公報に開示されている静電容量方式のフィルムセンサーを用い、フィルムセンサーがカバーガラスの裏面に貼り合わされたカバーガラス一体型センサーの市場の拡大が予測される。
特開２０１２−１３３５９７号公報に開示されているカバーガラス一体型センサーは、ガラス基板の裏面周縁部にスクリーン印刷膜からなる第一の枠状遮光層が形成された電子機器表示窓のカバーガラスと、表面周縁部にカラーレジスト材料の露光現像物からなる第二の枠状遮光層が形成され、カバーガラスの裏面に貼り合わせられた静電容量方式のフィルムセンサーと、を備えたものである。【０００４】
ところが、例えば、特開２０１２−１３３５９７号公報においてカラーレジスト材料をそのまま用いようとすると、硬化に必要な感度が不足しやすく、しかも露光現像後の熱処理温度が比較的低い（例えば１３０℃〜１７０℃）場合には熱処理による硬化促進も期待できない。【０００５】
一方、レジストパターンの形成方法としては、マスクパターンを用いることなく、レジストパターンを直接描画する、いわゆる直接描画露光法が注目されている。
直接描画露光法では、例えばレーザ光を照射して描画するため、高い生産性と高い解像度でのパターン形成性とが実現可能と考えられている。そして、近年、波長４０５ｎｍのレーザ光を発振する長寿命で高出力の窒化ガリウム系青色レーザが光源として実用化されるに至っている。直接描画露光法において、窒化ガリウム系青色レーザのような短波長のレーザ光を利用することで、従来は製造が困難であった高密度パターンの形成が可能になることが期待される。短波長のレーザ光を利用した直接描画露光法として、Ｔｅｘａｓ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社が提唱するＤＬＰ（Ｄｉｇｉｔａｌ Ｌｉｇｈｔ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ）システムを応用した方法がＢａｌｌ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ社によって提案されており、既に露光装置として実用化されつつある。【０００６】
更に、例えば、特開２００５−２１５１４２号公報、国際公開第２００５／０２９１８８号及び特表２００８−５０９９６７号公報において、上記のような短波長のレーザ光として青色レーザ等を活性光線として用いた直接描画露光法を利用してパターンを形成するための感光性樹脂組成物として提案されている技術がある。【０００７】
上記のほか、例えば、特許第５０７５４５０号公報において、レーザ光で直接描画した際に高い感度が得られる技術として、エチレン性不飽和結合含有化合物、アルカリ可溶性バインダー、増感色素Ｃ−１、ヘキサアリールビイミダゾール系の重合開始剤Ｄ−１、及びチオール系の連鎖移動剤Ｅ−１を含有する光重合性組成物を用いたネガ型の平版印刷版原版も開示されている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、感光性樹脂組成物を３９０ｎｍ以上４４０ｎｍ未満の波長領域にピーク波長を有する光を照射してパターン像を形成する場合、所望パターンの形成に必要とされる感度が得られにくく、殊にレーザ光（特に波長４０５ｎｍの青色系レーザ光）を照射してパターン像を形成する際の感度は著しく低下する傾向にある。【０００９】
光に対する感度を改善するため、例えば、特許第５０７５４５０号公報のようにチオール系の連鎖移動剤を用いる技術が提案されているが、チオール系の化合物を用いた組成物は、パターンに近隣する位置に銅配線等が配設されたタッチパネル等では金属配線を変色させる場合がある。【００１０】
本発明の一実施形態は、３９０ｎｍ以上４４０ｎｍ未満の波長領域にピーク波長を有する光（特にレーザ光、更には波長４０５ｎｍのレーザ光（青色系レーザ光））を直接描画露光法により照射してパターンを形成する場合に、パターン形成に必要な感度が得られ、かつ、被転写体における金属部位（例えば銅等の金属配線）の変色が抑制される転写フィルムを提供する。
本発明の他の一実施形態は、解像度に優れ、金属部位（例えば銅等の金属配線）の変色が抑制されたフィルムセンサー及びフィルムセンサーの製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本開示には、以下の態様が含まれる。
＜１＞  仮支持体と、仮支持体上に配置され、ヘキサアリールビイミダゾール系化合物から選ばれる重合開始剤、重合性化合物、下記一般式（Ｉ）で表される化合物、下記一般式（ＩＩ）で表される化合物、及びバインダーを含む感光性樹脂層と、を有する転写フィルムである。【００１２】
【化１】
0006557418.tif 000002
【００１３】
【化２】
0006557418.tif 000003
【００１４】
一般式（Ｉ）において、Ａは、無置換でも置換基を有してもよい芳香族環残基又は無置換でも置換基を有してもよい複素環残基を表し、Ｘは、酸素原子、硫黄原子、又はＮ−（Ｒ３）を表す。Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立に、水素原子又は一価の非金属原子団を表し、ＡとＲ１、及びＲ２とＲ３は、それぞれ、脂肪族性又は芳香族性の環を形成するために結合されてもよい。
一般式（ＩＩ）において、Ｘは、水素原子、又は一価の有機基を表し、Ｒは、水酸基、メトキシ基、−Ｏ−Ｍ＋を表し、Ｍはアルカリ金属を表す。【００１５】
＜２＞  感光性樹脂層は、更に、顔料を含む＜１＞に記載の転写フィルムである。
＜３＞  顔料が、黒色顔料である＜２＞に記載の転写フィルムである。
＜４＞  仮支持体と感光性樹脂層との間に、酸素遮断層を有する＜１＞〜＜３＞のいずれか１つに記載の転写フィルムである。
＜５＞  重合性化合物が重合性モノマーであり、感光性樹脂層中におけるバインダー（Ｂ）に対する重合性モノマー（Ｍ）の質量比（Ｍ／Ｂ比）が、０．７０未満である＜１＞〜＜４＞のいずれか１つに記載の転写フィルムである。
＜６＞  タッチパネルの加飾に用いられる＜１＞〜＜５＞のいずれか１つに記載の転写フィルムである。【００１６】
＜７＞  透明な基材シートと、基材シートの少なくとも一方面に配置された電極パターンと、電極パターンに接続された引き回し配線と、電極パターンを覆って積層されたオーバーコート層と、を備えたフィルムセンサーの少なくとも一方の表面に、＜１＞〜＜６＞のいずれか１つに記載の転写フィルムの感光性樹脂層を転写して加飾層を形成する工程を有するフィルムセンサーの製造方法である。
＜８＞  感光性樹脂層が転写される、フィルムセンサーの少なくとも一方の表面は、引き回し配線の少なくとも一部の領域及びオーバーコート層の少なくとも一部の領域を含む＜７＞に記載のフィルムセンサーの製造方法である。
＜９＞  透明な基材シートと、基材シートの少なくとも一方面に配置された電極パターンと、電極パターンに接続された引き回し配線と、電極パターンを覆って積層されたオーバーコート層と、を備えたフィルムセンサーであり、フィルムセンサーの少なくとも一方の表面に、＜１＞〜＜６＞のいずれか１つに記載の転写フィルムの転写層である感光性樹脂層の硬化物を加飾層として有するフィルムセンサーである。
【発明の効果】
【００１７】
本発明の一実施形態によれば、３９０ｎｍ以上４４０ｎｍ未満の波長領域にピーク波長を有する光（特にレーザ光、更には波長４０５ｎｍのレーザ光（青色系レーザ光））を直接描画露光法により照射してパターンを形成する場合に、パターン形成に必要な感度が得られ、かつ、被転写体における金属部位（例えば銅等の金属配線）の変色が抑制される転写フィルムが提供される。
また、本発明の他の一実施形態によれば、解像度に優れ、金属部位（例えば銅等の金属配線）の変色が抑制されたフィルムセンサー及びフィルムセンサーの製造方法が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】図１は、フィルムセンサーの一例を示す概略図である。
【図２】図２は、前面板一体型センサーの前面板の一例を示す概略図である。
【図３】図３は、前面板一体型センサーの構成の一例を示す断面概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、本発明の一実施形態に係る転写フィルム、並びに、この転写フィルムを用いたフィルムセンサー及びフィルムセンサーの製造方法について詳細に説明する。
なお、以下において、代表的な実施形態及び具体例に基づいて説明するが、本発明の一実施形態は以下に示す実施形態及び具体例に限定されるものではない。
【００２０】
本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書中の「工程」の用語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても、その工程の所期の目的が達成されれば本用語に含まれる。
【００２１】
本明細書において、「（メタ）アクリル」は、アクリル及びメタクリルの両方を包含する概念で用いられる語であり、「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイル及びメタクリロイルの両方を包含する概念として用いられる語である。
【００２２】
＜転写フィルム＞
本発明の一実施形態の転写フィルムは、仮支持体と、仮支持体上に配置され、ヘキサアリールビイミダゾール系化合物から選ばれる重合開始剤（以下、「ヘキサアリールビイミダゾール系重合開始剤」ともいう。）、重合性化合物、以下に示す一般式（Ｉ）で表される化合物、以下に示す一般式（II）で表される化合物、及びバインダーを含む感光性樹脂層と、有している。本発明の一実施形態の転写フィルムは、仮支持体上に、感光性樹脂層のほか、更に、熱可塑性樹脂層及び中間層である機能層等の他の層を有していてもよい。
【００２３】
例えばタッチパネル等に設けられているパターン像には、画像の精細さ及びアライメント精度等の観点から、パターンに高い解像度が求められ、かつ、低コスト化に対する要求もある。従来のマスク露光によってパターン形成する方法では、解像度及びマスクコスト削減の点で改善の余地が残されている。そのため、３９０ｎｍ以上４４０ｎｍ未満の波長領域にピーク波長を有するレーザ光を利用した露光方式が期待されるが、上記した例えば、特開２００５−２１５１４２号公報、国際公開第２００５／０２９１８８号、特表２００８−５０９９６７号公報及び特許第５０７５４５０号公報に記載の感光性樹脂組成物又は光重合性組成物を用い、マスク露光方式に代替して、ただ単に３９０ｎｍ以上４４０ｎｍ未満の波長領域にピーク波長を有するレーザ光によるレーザ露光方式を適用しようとすると、パターン形成に必要とされる感度を保持し得ない場合がある。良好な感度を確保する技術の１つとして、例えば、特許第５０７５４５０号公報に記載のようなチオール系の連鎖移動剤を用いる技術が提案されている。しかし、例えばタッチパネルのように、パターンに近隣する位置に銅配線等が配設される場合、チオール系の化合物を用いた組成物は、金属配線を変色させる場合がある。
【００２４】
そのため、本発明の一実施形態に係る転写フィルムでは、感度の改善をチオール系化合物によって図るのではなく、特定の成分構成、具体的には、ヘキサアリールビイミダゾール系重合開始剤と、重合性モノマーと、特定構造を有する増感色素（一般式（Ｉ）で表される化合物）と、特定構造を有するカルボン酸系化合物（一般式（II）で表される化合物）と、を含有する成分構成とすることで、３９０ｎｍ以上４４０ｎｍ未満の波長領域にピーク波長を有する光（特にレーザ光）を直接描画露光法により照射する露光方式での露光感度が改善され、かつ、金属配線（例えば銅配線）の変色も防ぐことができる。
また、転写フィルムの経時安定性にも優れたものとなる。
【００２５】
以下、転写材料における感光性樹脂層及び仮支持体について説明する。
【００２６】
−感光性樹脂層−
本発明の一実施形態の転写フィルムは、仮支持体の上に感光性樹脂層を有する。
感光性樹脂層は、ヘキサアリールビイミダゾール系化合物から選ばれる重合開始剤、重合性化合物、一般式（Ｉ）で表される化合物、一般式（II）で表される化合物、及びバインダーを含み、必要に応じて、更に、他の成分を含んでいてもよい。
【００２７】
（重合開始剤）
感光性樹脂層は、ヘキサアリールビイミダゾール系化合物から選ばれる重合開始剤（ヘキサアリールビイミダゾール系重合開始剤）の少なくとも一種を含有する。重合開始剤は、光、熱、増感色素からのエネルギー移動などの作用をうけて、化学変化を生じ、ラジカルを生成する化合物である。
【００２８】
下記重合性モノマーの重合反応を起こさせる重合開始剤として、ヘキサアリールビイミダゾール系化合物を選択することで、組成中の他の成分、特に後述の一般式（Ｉ）で表される増感色素及び一般式（II）で表されるカルボン酸系化合物と相俟って、３９０ｎｍ以上４４０ｎｍ未満の波長領域にピーク波長を有するレーザ光（特に波長４０５ｎｍのレーザ光（青色系レーザ光））を照射した際、優れた感度が得られ、ひいては解像度に優れたパターンを形成することができる。
【００２９】
ヘキサアリールビイミダゾール系化合物とは、分子中にヘキサアリールビイミダゾール構造を有する化合物を指す。
ヘキサアリールビイミダゾール系化合物の中では、感度に対する向上効果により優れる点で、下記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物が好ましい。
【００３０】
【化３】
0006557418.tif 000004
【００３１】
一般式（ＩＩＩ）において、複数のＲは、それぞれ独立に、水素原子又は一価の置換基を表す。
【００３２】
Ｒにおける一価の置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、フェニル基、フェノキシ基、ベンジル基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、ニトロ基などが挙げられる。中でも、一価の置換基は、水酸基、ハロゲン原子、アルキル基、又はアルコキシ基であることが好ましく、ハロゲン原子であることがより好ましい。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられ、塩素原子が好ましい。
アルキル基としては、炭素数１〜４のアルキル基が好ましく、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ｔ−ブチル基等が挙げられる。
アルコキシ基としては、炭素数１〜４のアルコキシ基が好ましく、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基等が挙げられる。
上記のうち、Ｒとしては、水素原子又はハロゲン原子であることが特に好ましい。
【００３３】
ヘキサアリールビイミダゾール系化合物の具体例としては、特公昭４５−３７３７７号又は特公昭４４−８６５１６号の各公報に記載のロフィンダイマー類、例えば２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ｍ−メトキシフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ，ｏ’−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−ニトロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−メチルフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（ｏ−トリフルオロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。
【００３４】
感光性樹脂層は、重合開始剤として、ヘキサアリールビイミダゾール系化合物を単独で含有する態様でもよいし、ヘキサアリールビイミダゾール系化合物に加えて他の重合開始剤を含有する態様であってもよい。
他の重合開始剤としては、例えば、α−アミノアルキルフェノン系化合物、トリハロメチル化合物、カルボニル化合物、有機過酸化物、アゾ系化合物、アジド化合物、メタロセン化合物、有機ホウ素化合物、ジスルホン化合物、オキシムエステル化合物、オニウム塩化合物、鉄アレーン錯体等が挙げられる。中でも、α−アミノアルキルフェノン系化合物、及びオキシムエステル化合物が好適である。
【００３５】
具体的には、他の重合開始剤として、１，２−オクタンジオン−１−［４−（フェニルチオ）−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］（商品名：イルガキュア（ＩＲＧＡＣＵＲＥ）ＯＸＥ−０１、ＢＡＳＦ社製）の他、エタン−１−オン，［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−１−（０−アセチルオキシム）商品名：イルガキュア（ＩＲＧＡＣＵＲＥ）ＯＸＥ−０２、ＢＡＳＦ社製）、２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルホリニル）フェニル］−１−ブタノン（商品名：イルガキュア（ＩＲＧＡＣＵＲＥ）３７９ＥＧ、ＢＡＳＦ社製）、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン（商品名：イルガキュア（ＩＲＧＡＣＵＲＥ）９０７、ＢＡＳＦ社製）、２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン（商品名：イルガキュア（ＩＲＧＡＣＵＲＥ）１２７、ＢＡＳＦ社製）、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１（商品名：イルガキュア（ＩＲＧＡＣＵＲＥ）３６９、ＢＡＳＦ社製）、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン（商品名：イルガキュア（ＩＲＧＡＣＵＲＥ）１１７３、ＢＡＳＦ社製）、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（商品名：イルガキュア（ＩＲＧＡＣＵＲＥ）１８４、ＢＡＳＦ社製）、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン（商品名：イルガキュア（ＩＲＧＡＣＵＲＥ）６５１、ＢＡＳＦ社製）、オキシムエステル系重合開始剤（商品名：Ｌｕｎａｒ  ６、ＤＫＳＨジャパン社製）、２，４−ジエチルチオキサントン（カヤキュアＤＥＴＸ−Ｓ、日本化薬社製）、フルオレンオキシム系重合開始剤（ＤＦＩ−０９１、ＤＦＩ−０２０、ダイトーケミックス社製）等が挙げられる。
上記のほか、例えば、特開２００７−１７１４０６号、特開２００７−２０６２１６号、特開２００７−２０６２１７号、特開２００７−２２５７０１号、特開２００７−２２５７０２号、特開２００７−３１６５８２号、特開２００７−３２８２４３号等の各公報に記載の重合開始剤を好ましく用いることができる。
【００３６】
ヘキサアリールビイミダゾール系化合物は、一種単独で用いるほか二種以上を併用してもよい。
ヘキサアリールビイミダゾール系化合物の感光性樹脂層中における含有量としては、感光性樹脂層の全固形分質量に対して、０．０１質量％〜２０質量％が好ましく、０．１質量％〜１５質量％がより好ましく、更に好ましくは１．０質量％〜１０質量％である。
ヘキサアリールビイミダゾール系化合物の感光性樹脂層中における含有量が０．０１質量％以上であると、上記波長範囲のレーザ光を照射した際の感度が良好になる。ヘキサアリールビイミダゾール系化合物の感光性樹脂層中における含有量が２０質量％以下であると、保存安定性の点で有利である。
また、ヘキサアリールビイミダゾール系化合物と他の重合開始剤とを併用する場合、重合開始剤の全質量中に占めるヘキサアリールビイミダゾール系化合物の含有比率としては、感度の向上効果の観点で、５０質量％〜９９質量％の範囲が好ましく、６０質量％〜９５質量％の範囲がより好ましい。
【００３７】
（一般式（Ｉ）で表される化合物）
感光性樹脂層は、一般式（Ｉ）で表される化合物の少なくとも一種を含有する。一般式（Ｉ）で表される化合物は、増感色素として機能することができる。一般式（Ｉ）で表される化合物は、３９０ｎｍ以上４４０ｎｍ以下の波長領域に吸収極大を有していることが好ましい。
一般式（Ｉ）で表される化合物を含むことで、組成中の他の成分、特に既述のヘキサアリールビイミダゾール系重合開始剤及び後述の一般式（II）で表されるカルボン酸系化合物と相俟って、３９０ｎｍ以上４４０ｎｍ未満の波長領域にピーク波長を有するレーザ光（特に波長４０５ｎｍのレーザ光（青色系レーザ光））を照射した際、優れた感度が得られ、ひいては解像度に優れたパターンを形成することができる。
【００３８】
【化４】
0006557418.tif 000005
【００３９】
一般式（Ｉ）において、Ａは、芳香族環残基又は複素環残基を表し、Ｘは、酸素原子、硫黄原子、又はＮ−（Ｒ３）を表す。Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、又は一価の非金属原子団を表し、ＡとＲ１、及びＲ２とＲ３は、それぞれ、脂肪族性又は芳香族性の環を形成するために結合されてもよい。
【００４０】
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３における一価の非金属原子団は、置換もしくは非置換のアルキル基、置換もしくは非置換のアルケニル基、置換もしくは非置換のアリール基、置換もしくは非置換の芳香族複素環残基、置換もしくは非置換のアルコキシ基、置換もしくは非置換のアルキルチオ基、又はヒドロキシ基が好適に挙げられる。
【００４１】
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３における好ましいアルキル基の例としては、炭素数が１から２０までの直鎖状、分岐状、又は環状のアルキル基を挙げることができる。アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１−メチルブチル基、イソヘキシル基、２−エチルヘキシル基、２−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、２−ノルボルニル基を挙げることができる。
中でも、炭素数１から１２までの直鎖状アルキル基、炭素数３から１２までの分岐状アルキル基、及び炭素数５から１０までの環状アルキル基がより好ましい。
【００４２】
置換アルキル基の置換基としては、水素原子を除く一価の非金属原子団及びハロゲン原子が挙げられる。一価の非金属原子団の好ましい例としては、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、Ｎ−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、Ｎ’−アルキルウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアルキルウレイド基、Ｎ’−アリールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアリールウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ’−アリールウレイド基、Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ’−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ’−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、
【００４３】
アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基（−ＳＯ３Ｈ）及びその共役塩基基（以下、スルホナト基ともいう。）、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−アルキルスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルフィナモイル基、Ｎ−アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルフィナモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルファモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルファモイル基、ホスフォノ基（−ＰＯ３Ｈ２）及びその共役塩基基（以下、ホスフォナト基ともいう。）、ジアルキルホスフォノ基（−ＰＯ３（ａｌｋｙｌ）２）、ジアリールホスフォノ基（−ＰＯ３（ａｒｙｌ）２）、アルキルアリールホスフォノ基（−ＰＯ３（ａｌｋｙｌ）（ａｒｙｌ））、モノアルキルホスフォノ基（−ＰＯ３Ｈ（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基（以下、アルキルホスフォナト基ともいう。）、モノアリールホスフォノ基（−ＰＯ３Ｈ（ａｒｙｌ））及びその共役塩基基（以下、アリールホスフォナト基ともいう。）、ホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ３Ｈ２）及びその共役塩基基（以下、ホスフォナトオキシ基ともいう。）、ジアルキルホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ３（ａｌｋｙｌ）２）、ジアリールホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ３（ａｒｙｌ）２）、アルキルアリールホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ３（ａｌｋｙｌ）（ａｒｙｌ））、モノアルキルホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ３Ｈ（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基（以下、アルキルホスフォナトオキシ基ともいう。）、モノアリールホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ３Ｈ（ａｒｙｌ））及びその共役塩基基（以下、アリールフォスホナトオキシ基ともいう。）、シアノ基、ニトロ基、アリール基、ヘテロアリール基、アルケニル基、アルキニル基、等が挙げられる。
また、ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子（−Ｆ）、臭素原子（−Ｂｒ）、塩素原子（−Ｃｌ）、ヨウ素原子（−Ｉ）等が挙げられる。
【００４４】
上記の置換基としてのアルキル基の具体例としては、既述のアルキル基を挙げることができる。
上記の置換基としてのアリール基の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、メチルアミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシフェニルカルボニル基、フェノキシカルボニルフェニル基、Ｎ−フェニルカルバモイルフェニル基、フェニル基、シアノフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、ホスフォノフェニル基、ホスフォナトフェニル基等を挙げることができる。
【００４５】
上記の置換基としてのアルケニル基の例としては、ビニル基、１−プロペニル基、１−ブテニル基、シンナミル基、２−クロロ−１−エテニル基、等が挙げられる。
上記の置換基としてのアルキニル基の例としては、エチニル基、１−プロピニル基、１−ブチニル基、トリメチルシリルエチニル基等が挙げられる。
上記の置換基としてのアシル基（Ｇ１ＣＯ−）におけるＧ１としては、水素原子、並びに上記のアルキル基及びアリール基を挙げることができる。
【００４６】
上記の置換基のうち、より好ましい置換基は、ハロゲン原子（例えば−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｉ）、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、アシルオキシ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、アシルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル基、スルホ基、スルホナト基、スルファモイル基、Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルファモイル基、ホスフォノ基、ホスフォナト基、ジアルキルホスフォノ基、ジアリールホスフォノ基、モノアルキルホスフォノ基、アルキルホスフォナト基、モノアリールホスフォノ基、アリールホスフォナト基、ホスフォノオキシ基、ホスフォナトオキシ基、アリール基、アルケニル基が挙げられる。
【００４７】
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、上記において例示したアルキル基、アルケニル基、アリール基、芳香族複素環残基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ヒドロキシ基、又はハロゲン原子とアルキレン基とが結合された基であってもよい。基中のアルキレン基としては、前述の炭素数１から２０までのアルキル基から水素原子を一つ除いた二価の有機基を挙げることができる。好ましいアルキレン基としては、炭素数１から１２までの直鎖状アルキレン基、炭素数３から１２までの分岐状アルキレン基、及び炭素数５から１０までの環状アルキレン基を挙げることができる。
【００４８】
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３における置換アルキル基の具体例としては、クロロメチル基、ブロモメチル基、２−クロロエチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノキシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメチル基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、Ｎ−シクロヘキシルカルバモイルオキシエチル基、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシエチル基、アセチルアミノエチル基、Ｎ−メチルベンゾイルアミノプロピル基、２−オキソエチル基、２−オキソプロピル基、カルボキシプロピル基、メトキシカルボニルエチル基、アリルオキシカルボニルブチル基、クロロフェノキシカルボニルメチル基、カルバモイルメチル基、Ｎ−メチルカルバモイルエチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイルメチル基、Ｎ−（メトキシフェニル）カルバモイルエチル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スルホフェニル）カルバモイルメチル基、スルホブチル基、スルホナトブチル基、スルファモイルブチル基、Ｎ−エチルスルファモイルメチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルプロピル基、Ｎ−トリルスルファモイルプロピル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスフォノフェニル）スルファモイルオクチル基、ホスフォノブチル基、ホスフォナトヘキシル基、ジエチルホスフォノブチル基、ジフェニルホスフォノプロピル基、メチルホスフォノブチル基、メチルホスフォナトブチル基、トリルホスフォノヘキシル基、トリルホスフォナトヘキシル基、ホスフォノオキシプロピル基、ホスフォナトオキシブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル基、１−メチル−１−フェニルエチル基、ｐ−メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、１−プロペニルメチル基、２−ブテニル基、２−メチルアリル基、２−メチルプロペニルメチル基、２−プロピニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、等を挙げることができる。
【００４９】
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３における好ましいアルケニル基の例としては、ビニル基、１−プロペニル基、１−ブテニル基、シンナミル基、２−クロロ−１−エテニル基、等が挙げられる。なお、置換アルケニル基の置換基の例としては、前述のアルキル基、置換アルキル基、及び置換アルキル基における置換基を挙げることができる。
【００５０】
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３における好ましいアリール基の具体例としては、フェニル基、２個又は３個のベンゼン環が縮合した縮合環基（例えば、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基）、ベンゼン環と５員環とが縮合した縮合環基（例えばインデニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基）を挙げることができる。中でも、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。
【００５１】
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３における置換アリール基の具体例としては、前述のアリール基の環を形成する炭素原子に、置換基として水素原子を除く一価の非金属原子団を有する基が挙げられる。置換アリール基の好ましい置換基の例としては、前述のアルキル基、置換アルキル基、及び置換アルキル基における置換基を挙げることができる。
置換アリール基の好ましい具体例としては、ビフェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、フルオロフェニル基、クロロメチルフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、メトキシエトキシフェニル基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニル基、メチルチオフェニル基、トリルチオフェニル基、エチルアミノフェニル基、ジエチルアミノフェニル基、モルホリノフェニル基、アセチルオキシフェニル基、ベンゾイルオキシフェニル基、Ｎ−シクロヘキシルカルバモイルオキシフェニル基、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシフェニル基、アセチルアミノフェニル基、Ｎ−メチルベンゾイルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、アリルオキシカルボニルフェニル基、クロロフェノキシカルボニルフェニル基、カルバモイルフェニル基、Ｎ−メチルカルバモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイルフェニル基、Ｎ−（メトキシフェニル）カルバモイルフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スルホフェニル）カルバモイルフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、スルファモイルフェニル基、Ｎ−エチルスルファモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルフェニル基、Ｎ−トリルスルファモイルフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスフォノフェニル）スルファモイルフェニル基、ホスフォノフェニル基、ホスフォナトフェニル基、ジエチルホスフォノフェニル基、ジフェニルホスフォノフェニル基、メチルホスフォノフェニル基、メチルホスフォナトフェニル基、トリルホスフォノフェニル基、トリルホスフォナトフェニル基、アリル基、１−プロペニルメチル基、２−ブテニル基、２−メチルアリルフェニル基、２−メチルプロペニルフェニル基、２−プロピニルフェニル基、２−ブチニルフェニル基、３−ブチニルフェニル基、等を挙げることができる。    
【００５２】
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３における好ましい芳香族複素環残基としては、窒素、酸素、及び硫黄原子の少なくとも一つを有する単環もしくは多環の芳香族環を有する基が挙げられる。
好ましい芳香族複素環残基の例としては、チオフェン、チアスレン、フラン、ピラン、イソベンゾフラン、クロメン、キサンテン、フェノキサジン、ピロール、ピラゾール、イソチアゾール、イソオキサゾール、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、インドリジン、イソインドリジン、インドイール、インダゾール、プリン、キノリジン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キナゾリン、シノリン、プテリジン、カルバゾール、カルボリン、フェナンスリン、アクリジン、ペリミジン、フェナンスロリン、フタラジン、フェナルザジン、フェノキサジン、フラザン、フェノキサジン等に由来の基が挙げられる。
上記の基は、さらにベンゾ縮環してもよく、また、置換基を有していてもよい。    
【００５３】
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３における好ましいアルコキシ基の例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、フェノキシ基、ベンジルオキシ基等が挙げられる。また、置換アルコキシ基の置換基としては、前述のアルキル基、置換アルキル基、及び置換アルキル基における置換基を挙げることができる。
【００５４】
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３における好ましいアルキルチオ基の例としては、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、ペンチルチオ、ヘプチルチオ等が挙げられる。また、置換アルキルチオ基の置換基としては、前述のアルキル基、置換アルキル基、及び置換アルキル基における置換基を挙げることができる。
【００５５】
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３における好ましいハロゲン原子の例としては、フッ素原子（−Ｆ）、臭素原子（−Ｂｒ）、塩素原子（−Ｃｌ）、ヨウ素原子（−Ｉ）等が挙げられる。
【００５６】
一般式（Ｉ）中のＡにおける芳香族環残基又は複素環残基は、無置換でも置換基を有していてもよい。芳香族環残基は、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３における「置換もしくは非置換のアリール基」と同義であり、具体例及び好ましい態様も同様である。また、複素環残基は、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３における「置換もしくは非置換の芳香族複素環残基」と同義であり、具体例及び好ましい態様も同様である。
【００５７】
一般式（Ｉ）で表される化合物（増感色素）は、特許第５０７５４５０号公報に記載の酸性核又は活性メチレン基を有する酸性核と置換又は非置換の芳香族環又は複素環との縮合反応によって得られ、例えば特公昭５９−２８３２９号公報の記載を参照して合成することができる。    
【００５８】
以下、一般式（Ｉ）で表される化合物の好ましい具体例（Ｄ１〜Ｄ７６）を示す。なお、酸性核と塩基性核を結ぶ２重結合による異性体については限定されるものではない。
【００５９】
【化５】
0006557418.tif 000006
【００６０】
【化６】
0006557418.tif 000007
【００６１】
【化７】
0006557418.tif 000008
【００６２】
【化８】
0006557418.tif 000009
【００６３】
【化９】
0006557418.tif 000010
【００６４】
【化１０】
0006557418.tif 000011
【００６５】
【化１１】
0006557418.tif 000012
【００６６】
一般式（Ｉ）で表される化合物は、一種単独で用いるほか二種以上を併用してもよい。
一般式（Ｉ）で表される化合物の感光性樹脂層中における含有量としては、感光性樹脂層の全固形分質量に対して、０．０１質量％〜２０質量％が好ましく、０．１質量％〜１５質量％がより好ましく、更に好ましくは０．２質量％〜１０質量％である。
一般式（Ｉ）で表される化合物の感光性樹脂層中における含有量が０．０１質量％以上であると、上記波長範囲のレーザ光を照射した際の感度が良好になる。一般式（Ｉ）で表される化合物の感光性樹脂層中における含有量が２０質量％以下であると、保存安定性の点で有利である。
【００６７】
（一般式（ＩＩ）で表される化合物）
感光性樹脂層は、一般式（ＩＩ）で表される化合物の少なくとも一種を含有する。一般式（ＩＩ）で表される化合物は、カルボキシ基、カルボン酸エステル基、又はカルボン酸塩基を有するカルボン酸系化合物であり、連鎖移動剤として機能することができる。
【００６８】
一般式（ＩＩ）で表される化合物を含むことで、組成中の他の成分、特に既述のヘキサアリールビイミダゾール系重合開始剤及び一般式（Ｉ）で表される化合物と相俟って、３９０ｎｍ以上４４０ｎｍ未満の波長領域にピーク波長を有するレーザ光（特に波長４０５ｎｍのレーザ光（青色系レーザ光））を照射した際、優れた感度が得られ、ひいては解像度に優れたパターンを形成することができる。
また、一般的に使用されるチオール系の連鎖移動剤を含む際に生じやすい金属腐食に対する懸念が小さく、例えば、パターンに近隣する位置に銅配線等が配設されたタッチパネル等における銅配線等の金属の変色が抑制される。
さらに、一般式（ＩＩ）で表される化合物は、チオール系の連鎖移動剤に比べ、現像性が良好であり、殊に炭酸ナトリウム等の弱酸の塩を現像主薬とする現像液を用いた場合の溶解性にも優れる利点がある。
【００６９】
【化１２】
0006557418.tif 000013
【００７０】
一般式（ＩＩ）において、Ｘは、水素原子、又は一価の有機基を表し、Ｒは、水酸基、メトキシ基、−Ｏ−Ｍ＋を表し、Ｍはアルカリ金属を表す。
【００７１】
Ｘにおける一価の有機基としては、カルボキシ基又はアルキル基を表す。
アルキル基としては、無置換又は置換基を有する総炭素数１〜１０のアルキル基が挙げられ、例えば、無置換のアルキル基、カルボキシアルキル基、アニリノカルボニルアルキル基等が挙げられる。
【００７２】
無置換のアルキル基としては、炭素数１〜１０のアルキル基が挙げられ、例えば、メチル基、エチル基、ｔ−プロピル基、ｔ−ブチル基等が含まれる。
カルボキシアルキル基としては、総炭素数２〜９のカルボキシアルキル基が挙げられ、例えば、カルボキシメチル基、カルボキシエチル基、カルボキシプロピル基、カルボキシブチル基、カルボキシシクロヘキシル基、カルボキシフェニル基、カルボキシベンジル基等が含まれる。
アニリノカルボニルアルキル基としては、総炭素数２〜９のアニリノカルボニルアルキル基が挙げられ、例えば、アニリノカルボニルメチル基、アニリノカルボニルエチル基、アニリノカルボニルプロピル基、アニリノカルボニルブチル基、アニリノカルボニルシクロヘキシル基、アニリノカルボニルフェニル基、アニリノカルボニルベンジル基等が含まれる。
【００７３】
上記の中でも、Ｘとしては、水素原子、総炭素数２〜９のカルボキシアルキル基、又は総炭素数２〜９のアニリノカルボニルアルキル基が好ましい。
【００７４】
Ｒにおける「−Ｏ−Ｍ＋」中のＭは、アルカリ金属を表し、例えば、リチウム（Ｌｉ）、ナトリウム（Ｎａ）、カリウム（Ｋ）等が含まれる。
「−Ｏ−Ｍ＋」としては、例えば、−Ｏ−Ｎａ＋、−Ｏ−Ｋ＋等を挙げることができる。
【００７５】
以下、一般式(ＩＩ)で表される化合物の具体例を示す。但し、本開示においては、以下に示す化合物に制限されるものではない。
【００７６】
【化１３】
0006557418.tif 000014
【００７７】
一般式（ＩＩ）で表される化合物は、一種単独で用いるほか、二種以上を組み合わせて併用してもよい。
一般式（ＩＩ）で表される化合物の感光性樹脂層中における含有量としては、感光性樹脂層の全固形分質量に対して、０．１質量％〜３０質量％が好ましく、０．２５質量％〜２５質量％がより好ましく、更に好ましくは０．５質量％〜１０質量％である。
一般式（ＩＩ）で表される化合物の感光性樹脂層中における含有量が０．１質量％以上であると、感度の向上効果により優れたものとなる。また、一般式（ＩＩ）で表される化合物の感光性樹脂層中における含有量が３０質量％以下であると、保存安定性により優れたものとなる。
【００７８】
（重合性化合物）
感光性樹脂層は、重合性化合物の少なくとも一種を含有する。
重合性化合物は、重合性基を少なくとも１つ有する化合物であり、重合性基としては、例えば、エチレン性不飽和基（エチレン性不飽和二重結合）、エポキシ基などが挙げられる。中でも、重合性化合物としては、エチレン性不飽和二重結合を有する化合物が好ましく、（メタ）アクリロイル基を有する化合物がより好ましい。更には、重合性化合物として、エチレン性不飽和二重結合（より好ましくは（メタ）アクリロイル基）を有する重合性モノマーが好ましい。
【００７９】
エチレン性不飽和基を有する化合物としては、特許第４０９８５５０号公報の段落００２３〜００２４に記載の重合性化合物、並びに、トリシクロデカンジオールジメタノールジアクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート及びトリシクロデカンジオールジメタノールジアクリレート等の２官能の（メタ）アクリル系モノマー；ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート）、ジペンタエリスリトール（ペンタ／ヘキサ）アクリレート、及びトリペンタエリスリトールオクタアクリレート等の、少なくとも５つのエチレン性不飽和基を有する重合性モノマー；ウレタン（メタ）アクリレート化合物等のウレタン系モノマー；が好適に挙げられる。
重合性化合物としては、感度の観点から、少なくとも２つのエチレン性不飽和基を有する重合性モノマーが好ましく、少なくとも５つのエチレン性不飽和基を有する重合性モノマーがより好ましい。
【００８０】
重合性化合物は、平均分子量が２００〜３０００であることが好ましく、２５０〜２６００であることがより好ましく、２８０〜２２００であることが特に好ましい。
重合性化合物の平均分子量は、化合物の化学式より算出される値である。
【００８１】
重合性化合物は、一種のみを単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて併用してもよい。
感度の観点からは、二種以上を組み合わせて併用する態様が好ましい。具体的には、少なくとも５つのエチレン性不飽和基を有する重合性化合物と２官能の重合性化合物とを組み合わせて併用する態様が好ましい。
【００８２】
少なくとも５つのエチレン性不飽和基を有する重合性化合物の感光性樹脂層中における含有比率としては、重合性化合物の全質量に対して、１０質量％〜９０質量％の範囲が好ましく、１５質量％〜８０質量％の範囲がより好ましく、２０質量％〜７０質量％の範囲がさらに好ましい。
また、２官能の重合性化合物の感光性樹脂層中における含有比率としては、重合性化合物の全質量に対して、１０質量％〜９０質量％の範囲が好ましく、２０質量％〜８５質量％の範囲がより好ましく、３０質量％〜８０質量％の範囲がさらに好ましい。
【００８３】
重合性化合物の感光性樹脂層中における含有量としては、良好な感度と硬化後のパターンの強度の観点から、感光性樹脂層の全固形分質量に対して、５質量％〜６５質量％の範囲が好ましく、１０質量％〜５０質量％の範囲がより好ましい。
【００８４】
また、感光性樹脂層中における、後述するバインダーに対する重合性化合物の含有比率（重合性化合物の含有量／バインダーの含有量）としては、０．１〜２の範囲が好ましく、０．２〜１．５の範囲がより好ましく、０．３〜１の範囲が更に好ましい。
【００８５】
（バインダー）
感光性樹脂層は、バインダーの少なくとも一種を含有する。
感光性樹脂層に含有するバインダーは、露光後の現像時に所望の現像液に対して溶解性を有するバインダーが好ましく、公知のバインダーから適宜選択することができる。中でも、バインダーとしては、アルカリ溶液に溶解し得るアルカリ可溶性樹脂が好ましい。
【００８６】
アルカリ可溶性樹脂としては、（メタ）アクリル酸に由来する構造単位と（メタ）アクリル酸エステルに由来する構造単位とを有するアクリル系ポリマーが好ましい。アクリル系ポリマーとしては、下記式（Ａ）で表される構造単位と、下記式（Ｂ）で表される構造単位と、を有するポリマーが好ましい。
式（Ａ）中、Ｒは、水素原子又はメチル基を表す。
式（Ｂ）中、Ｒは、水素原子又はメチル基を表し、Ｚは、炭素数１〜１８の一価の有機基を表す。
【００８７】
【化１４】
0006557418.tif 000015
【００８８】
式（Ａ）で表される構造単位のアクリル系ポリマーにおける含有比率は、３質量％〜４０質量％が好ましく、５質量％〜３５質量％が好ましい。また、式（Ｂ）で表される構造単位のアクリル系ポリマーにおける含有比率は、６０質量％〜９７質量％が好ましい。
式（Ａ）で表される構造単位は、１種類でもよいし複数種類でもよい。また、式（Ｂ）で表される構造単位は、１種類でもよいし複数種類でもよい。
アクリル系ポリマーは、式（Ａ）で表される構造単位及び式（Ｂ）で表される構造単位以外の構造単位を更に有していてもよい。
【００８９】
上記のほか、例えば、特開２０１１−９５７１６号公報の段落００２５に記載のポリマー、及び特開２０１０−２３７５８９号公報の段落００３３〜００５２に記載のポリマー等を挙げることができる。
例えば、パターン端部における欠け又は凸凹等（いわゆるエッジラフネス）を抑制する観点から、カルボキシル基を有するバインダーが好ましく、カルボキシル基を有し、かつ、酸価が５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のバインダーがより好ましく、カルボキシル基を有し、かつ、酸価が６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のバインダーがさらに好ましく、カルボキシル基を有し、かつ、酸価が６５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上のバインダーが特に好ましい。
バインダーの酸価は、日本工業規格Ｋ００７０（１９９２年）に規定の中和滴定法により求めることができる。
【００９０】
バインダーの具体例としては、ベンジルメタクリレート／メタクリル酸のランダム共重合体、シクロヘキシルメタクリレート／メチルメタクリレート／メタクリル酸共重合体のグリシジルメタクリレート付加物、アリルメタクリレート／メタクリル酸の共重合体、ベンジルメタクリレート／メタクリル酸／ヒドロキシエチルメタクリレートの共重合体等が挙げられる。
【００９１】
バインダーの含有量は、既述の「重合性化合物の含有量／バインダーの含有量」の比を満たす範囲で適宜選択すればよい。
【００９２】
感光性樹脂層において、バインダー（Ｂ）に対する重合性モノマー（Ｍ）の質量比（Ｍ／Ｂ比）としては、０．７０未満であることが好ましい。Ｍ／Ｂ比が０．７未満であることは、バインダー量に対するモノマー量の比率が低いことを示しており、Ｍ／Ｂ比が０．７未満であることにより、転写時に剥離する保護フィルムの剥離性に優れる。また、重合性モノマーの含有量が少なくなり過ぎると硬化性の低下を招くため、Ｍ／Ｂ比は０．２以上であることが好ましい。
Ｍ／Ｂ比としては、０．６未満であることがより好ましく、０．５以下であることが更に好ましい。
【００９３】
バインダーの重量平均分子量（Ｍｗ）には特に制限はないが、４０００〜２０００００が好ましく、４５００〜１０００００がより好ましく、５０００〜６００００が特に好ましい。
本明細書において、重量平均分子量（Ｍｗ）の測定は、下記の条件にて、ゲル透過クロマトグラフ（ＧＰＣ）により行うことができる。検量線は、東ソー（株）製の「標準試料ＴＳＫ  ｓｔａｎｄａｒｄ，ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ」：「Ｆ−４０」、「Ｆ−２０」、「Ｆ−４」、「Ｆ−１」、「Ａ−５０００」、「Ａ−２５００」、「Ａ−１０００」、「ｎ−プロピルベンゼン」の８サンプルから作製する。
<条件>
・ＧＰＣ：ＨＬＣ（登録商標）−８０２０ＧＰＣ（東ソー（株）製）
・カラム：ＴＳＫｇｅｌ（登録商標）、Ｓｕｐｅｒ  ＭｕｌｔｉｐｏｒｅＨＺ−Ｈ（東ソー（株）製、４．６ｍｍＩＤ×１５ｃｍ）を３本
・溶離液：ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）
・試料濃度：０．４５質量％
・流速：０．３５ｍｌ／ｍｉｎ
・サンプル注入量：１０μｌ
・測定温度：４０℃
・検出器：示差屈折計（ＲＩ）
【００９４】
（顔料）
感光性樹脂層は、更に、顔料の少なくとも一種を含むことが好ましい。顔料としては、所望とする色相に合わせて適宜選択すればよく、黒色顔料、白色顔料、黒色及び白色以外の有彩色の顔料の中から選択することができる。中でも、黒色系のパターンを形成する場合には、顔料として黒色顔料が好適に選択される。
【００９５】
黒色顔料としては、本発明の効果を損なわない範囲であれば、公知の黒色顔料（有機顔料又は無機顔料等）を適宜選択することができる。中でも、光学濃度の観点から、黒色顔料としては、例えば、カーボンブラック、酸化チタン、チタンカーバイド、酸化鉄、酸化チタン、黒鉛などが好適に挙げられ、特にカーボンブラックは好ましい。カーボンブラックとしては、表面抵抗の観点から、表面の少なくとも一部が樹脂で被覆されたカーボンブラックが好ましい。
【００９６】
黒色顔料（好ましくはカーボンブラック）は、分散液の形態で用いられることが好ましい。
分散液は、黒色顔料と顔料分散剤とをあらかじめ混合して得られる混合物を、有機溶媒（又はビヒクル）に加えて分散機で分散させることによって調製されるものでもよい。顔料分散剤は、顔料及び溶媒に応じて選択すればよく、例えば市販の分散剤を使用することができる。なお、ビヒクルとは、分散液とした場合に顔料を分散させている媒質の部分を指し、液状であり、黒色顔料を分散状態で保持するバインダー成分と、バインダー成分を溶解及び希釈する溶媒成分（有機溶媒）と、を含む。
【００９７】
分散機としては、特に制限はなく、例えば、ニーダー、ロールミル、アトライター、スーパーミル、ディゾルバ、ホモミキサー、サンドミル等の公知の分散機が挙げられる。更に、機械的摩砕により摩擦力を利用して微粉砕してもよい。分散機及び微粉砕については、「顔料の事典」（朝倉邦造著、第一版、朝倉書店、２０００年、４３８頁、３１０頁）の記載を参照することができる。
【００９８】
黒色顔料の粒子径は、分散安定性の観点から、数平均粒径で０．００１μｍ以上０．１μｍ以下の範囲が好ましく、０．０１μｍ〜０．０８μｍの範囲がより好ましい。
ここで、粒径とは、電子顕微鏡で撮影した顔料粒子の写真像から顔料粒子の面積を求め、顔料粒子の面積と同面積の円を考えた場合の円の直径を指し、数平均粒径は、任意の１００個の粒子について上記の粒径を求め、求められた１００個の粒径を平均して得られる平均値である。
【００９９】
黒色顔料以外の顔料として、白色顔料については、特開２００５−７７６５号公報の段落００１５及び０１１４に記載の白色顔料を用いることができる。具体的には、白色顔料のうち、無機顔料としては、酸化チタン、酸化亜鉛、リトポン、軽質炭酸カルシウム、ホワイトカーボン、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、硫酸バリウムが好ましく、酸化チタン、酸化亜鉛がより好ましく、酸化チタンが更に好ましい。無機顔料としては、ルチル型又はアナターゼ型の酸化チタンが更に好ましく、ルチル型の酸化チタンが特に好ましい。
また、酸化チタンの表面は、シリカ処理、アルミナ処理、チタニア処理、ジルコニア処理、又は有機物処理が施されていてもよく、二つ以上の処理が施されてもよい。これにより、酸化チタンの触媒活性が抑制され、耐熱性及び褪光性等が改善される。
加熱後の感光性樹脂層の厚みを薄くする観点から、酸化チタンの表面への表面処理としては、アルミナ処理及びジルコニア処理の少なくとも一方が好ましく、アルミナ処理及びジルコニア処理の両方が特に好ましい。
【０１００】
また、転写性の観点から、感光性樹脂層は、黒色顔料及び白色顔料以外の有彩色の顔料を更に含有していることが好ましい。有彩色の顔料を含有する場合、有彩色の顔料は、感光性樹脂層中に良好に分散されていることが望ましく、かかる観点から粒径は０．１μｍ以下が好ましく、０．０８μｍ以下がより好ましい。
有彩色の顔料としては、例えば、ビクトリア・ピュアーブルーＢＯ（Ｃｏｌｏｒ  Ｉｎｄｅｘ（以下Ｃ．Ｉ．）４２５９５）、オーラミン（Ｃ．Ｉ．４１０００）、ファット・ブラックＨＢ（Ｃ．Ｉ．２６１５０）、モノライト・エローＧＴ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・エロー１２）、パーマネント・エローＧＲ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・エロー１７）、パーマネント・エローＨＲ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・エロー８３）、パーマネント・カーミンＦＢＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１４６）、ホスターバームレッドＥＳＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・バイオレット１９）、パーマネント・ルビーＦＢＨ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１１）、ファステル・ピンクＢスプラ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド８１）、モナストラル・ファースト・ブルー（Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５）、モノライト・ファースト・ブラックＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブラック１）及びカーボン、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド９７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１４９、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１６８、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１８０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１９２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２１５、Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー６０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー６４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・バイオレット２３等が挙げられる。中でも、好ましいくは、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７７である。
【０１０１】
顔料の含有量としては、感光性樹脂層の全固形分質量に対して、３質量％を超えて４０質量％以下の範囲が好ましく、３質量％を超えて３５質量％以下の範囲がより好ましく、５質量％を超えて３５質量％以下の範囲が更に好ましく、１０質量％以上３５質量％以下の範囲が最も好ましい。
【０１０２】
黒色顔料以外の顔料（白色顔料及び有彩色の顔料）を含有する場合、黒色顔料に対して３０質量％以下であることが好ましく、１質量％〜２０質量％であることがより好ましく、３質量％〜１５質量％であることが更に好ましい。
【０１０３】
（他の成分）
感光性樹脂層は、上記した成分以外に、他の成分として更に、上記以外の他の重合開始剤、金属酸化抑制剤、溶剤等、及び各種添加剤を含んでいてもよい。
【０１０４】
−金属酸化抑制剤−
感光性樹脂層は、金属酸化抑制剤を含むことができる。金属酸化抑制剤を含むことで、金属の配線等（電極パターンや取り回し配線）が表面処理され、配線等の保護が可能になる。
金属酸化抑制剤としては、分子内に窒素原子を含む芳香環を有する化合物が好ましく、「窒素原子を含む芳香環」がイミダゾール環、トリアゾ−ル環、テトラゾール環、チアジアゾール環、及びこれらと他の芳香環との縮合環からなる群より選ばれる少なくとも一つの環である場合がより好ましい。更には、「窒素原子を含む芳香環」がイミダゾール環又はイミダゾール環と他の芳香環との縮合環である化合物がより好ましい。好ましい金属酸化抑制剤としては、イミダゾール、ベンズイミダゾール、テトラゾール、メルカプトチアジアゾール、及びベンゾトリアゾールが例示され、イミダゾール、ベンズイミダゾール及びベンゾトリアゾールがより好ましい。
感光性樹脂層が金属酸化抑制剤を含有する場合、金属酸化抑制剤の感光性樹脂層中における含有量としては、感光性樹脂層の全固形分質量に対して、０．１質量％〜２０質量％が好ましく、０．５質量％〜１０質量％がより好ましく、１質量％〜５質量％が更に好ましい。
【０１０５】
−溶剤−
感光性樹脂層は、感光性樹脂層の固形分を溶剤に溶解させた感光性樹脂層形成用組成物を塗布して形成されることが好ましい。感光性樹脂層形成用組成物は、溶剤を含む。溶剤は、一種単独で含まれるほか、二種以上を組み合わせて併用されてもよい。
溶剤としては、特に制限はなく、例えば、エステル、エーテル、ケトン、芳香族炭化水素等の化合物が挙げられる。具体例として、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、酢酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、２−ヘプタノン、シクロヘキサノン、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート（エチルカルビトールアセテート）、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート（ブチルカルビトールアセテート）、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、及びメチルエチルケトン等が挙げられる。
また、必要に応じて、沸点が１８０℃〜２５０℃である有機溶剤（高沸点溶剤）を含むことができる。高沸点溶剤としては、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、３，５，５−トリメチル−２−シクロヘキセン−１−オン、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコール−ｎ−プロピルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジエチルエーテル、２−エチルヘキシルアセテート、３−メトキシ−３−メチルブチルアセテート、γ−ブチロラクトン、トリプロピレングリコールメチルエチルアセテート、ジプロピレングリコール−ｎ−ブチルアセテート、プロピレングリコールフェニルエーテルアセテート、１，３−ブタンジオールジアセテート等が挙げられる。
溶剤としては、多価アルコール誘導体である溶剤とケトンである溶剤とを含む態様が好ましい。
【０１０６】
感光性樹脂層形成用組成物の粘度（２５℃）は、塗布性の観点から、１ｍＰａ・ｓ〜５０ｍＰａ・ｓが好ましく、２ｍＰａ・ｓ〜４０ｍＰａ・ｓがより好ましく、３ｍＰａ・ｓ〜３０ｍＰａ・ｓが特に好ましい。
粘度は、例えば、ＶＩＳＣＯＭＥＴＥＲ ＴＶ−２２（ＴＯＫＩ  ＳＡＮＧＹＯ  ＣＯ．ＬＴＤ製）を用いて測定する。
【０１０７】
感光性樹脂層形成用組成物の表面張力（２５℃）は、塗布性の観点から、５ｍＮ／ｍ〜１００ｍＮ／ｍが好ましく、１０ｍＮ／ｍ〜８０ｍＮ／ｍがより好ましく、１５ｍＮ／ｍ〜４０ｍＮ／ｍが特に好ましい。  表面張力は、例えば、Ａｕｔｏｍａｔｉｃ  Ｓｕｒｆａｃｅ  Ｔｅｎｓｉｏｍｅｔｅｒ  ＣＢＶＰ−Ｚ（協和界面科学（株）製）を用いて測定する。
【０１０８】
感光性樹脂層形成用組成物の固形分含有量としては、感光性樹脂層形成用組成物の全量に対し、２質量％〜８０質量％が好ましく、３質量％〜５０質量％がより好ましく、５質量％〜４０質量％が特に好ましい。
【０１０９】
−添加剤−
添加剤としては、例えば、特許第４５０２７８４号公報の段落００１７及び特開２００９−２３７３６２号公報の段落００６０〜００７１に記載の界面活性剤、特許第４５０２７８４号公報の段落００１８に記載の熱重合防止剤（重合禁止剤ともいう。好ましくはフェノチアジン）、並びに、特開２０００−３１０７０６号公報の段落００５８〜００７１に記載のその他の添加剤が挙げられる。
【０１１０】
−不純物−
感光性樹脂層の現像性向上や保存安定性向上、装置汚染防止等の観点から、感光性樹脂層中の不純物の含有量は少ないことが好ましい。
不純物の具体例としては、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、鉄、マンガン、銅、アルミニウム、チタン、クロム、コバルト、ニッケル、亜鉛、スズ、又はこれらのイオン、遊離ハロゲンやハロゲン化物イオンなどが挙げられる。
不純物の感光性樹脂組成物中における含有量は、質量基準で、１０００ｐｐｍ以下が好ましく、５００ｐｐｍ以下がより好ましく、１００ｐｐｍ以下がさらに好ましい。特に金属不純物については、１００ｐｐｂ
以下が特に好ましい。下限は特に定められるものではないが、現実的に減し得る限界又は測定限界の観点から、質量基準で、１０ｐｐｔ以上又は１００ｐｐｔ以上とすることができる。
不純物を減らす方法としては、バインダー及び添加剤の原料として不純物を含まない原料を使用すること、感光性樹脂層の調合及び製膜時に不純物が混入しないようにすること、及び不純物が混入した場合には洗浄すること等により、不純物の量を上記範囲内とすることができる。
不純物は、例えば、ＩＣＰ（Ｉｎｄｕｃｔｉｖｅｌｙ  Ｃｏｕｐｌｅｄ  Ｐｌａｓｍａ）発光分光分析法、原子吸光分光法などの公知の方法で定量することができる。
【０１１１】
また、感光性樹脂層は、ベンゼン、ホルムアルデヒド、トリクロロエチレン、１，３−ブタジエン、四塩化炭素、クロロホルム、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ヘキサン、エピクロロヒドリン等の化合物の含有量が少ないことが好ましい。これら化合物の感光性樹脂層中における含有量としては、質量基準で、５００ｐｐｍ以下が好ましく、１０ｐｐｍ以下がより好ましく、１ｐｐｍ以下がさらに好ましい。また、下限は特に定めるものではないが、現実的に減し得る限界及び測定限界の観点から、質量基準で、０．１ｐｐｂ以上とすることができ、１ｐｐｂ以上とすることもできる。 
【０１１２】
〜膜厚〜
転写フィルムの感光性樹脂層の厚みとしては、貼り合わせ後の意匠性の点で、０．５μｍ〜１０μｍが好ましく、１．０μｍ〜８．０μｍがより好ましく、１．５μｍ〜５．０μｍが更に好ましい。
【０１１３】
−仮支持体−
本発明の一実施形態の転写フィルムは、仮支持体を有している。
仮支持体としては、可撓性を有する材料を用いた樹脂フィルムを用いることができる。仮支持体の例としては、シクロオレフィンコポリマーフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム等が挙げられ、中でも、ハンドリングの点で、ＰＥＴフィルムが好ましい。
【０１１４】
仮支持体は、透明性を有してもよく、染料化ケイ素、アルミナゾル、クロム塩、ジルコニウム塩などを含有してもよい。また、仮支持体には、特開２００５−２２１７２６号公報に記載の方法などによって導電性が付与されてもよい。
【０１１５】
−その他の層−
本発明の一実施形態の転写フィルムは、仮支持体と感光性樹脂層との間に、熱可塑性樹脂層及び機能層をさらに有していてもよい。また、感光性樹脂層の表面には、感光性樹脂層を保護するための保護フィルムが設けられてもよい。
【０１１６】
（熱可塑性樹脂層）
熱可塑性樹脂層は、転写時における感光性樹脂層の被転写面に対する密着を良化することができる。熱可塑性樹脂層は、少なくとも熱可塑性樹脂を含有し、熱可塑性樹脂の例として、特開平５−７２７２４号公報に記載の有機高分子物質が好適に挙げられる。中でも、ヴイカーＶｉｃａｔ法（具体的には、アメリカ材料試験法エーエステーエムデーＡＳＴＭＤ１２３５によるポリマー軟化点測定法）による軟化点が約８０℃以下の有機高分子物質より選ばれる樹脂が好ましい。
【０１１７】
熱可塑性樹脂の例としては、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、エチレンと酢酸ビニル又はそのケン化物等とのエチレン共重合体、エチレンとアクリル酸エステル又はそのケン化物等とのエチレン共重合体、ポリ塩化ビニル、塩化ビニルと酢酸ビニル又はそのケン化物等との塩化ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデン共重合体、ポリスチレン、スチレンと（メタ）アクリル酸エステル又はそのケン化物等とのスチレン共重合体、ポリビニルトルエン、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステル又はそのケン化物等とのビニルトルエン共重合体、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等との（メタ）アクリル酸エステル共重合体、酢酸ビニル共重合体ナイロン、共重合ナイロン、Ｎ−アルコキシメチル化ナイロン、Ｎ−ジメチルアミノ化ナイロン等のポリアミド樹脂などの有機高分子が挙げられる。
【０１１８】
熱可塑性樹脂層の乾燥厚みとしては、２μｍ〜３０μｍが一般的であり、５μｍ〜２０μｍが好ましく、７μｍ〜１６μｍが特に好ましい。
【０１１９】
（機能層）
本発明の一実施形態の転写フィルムは、仮支持体と感光性樹脂層との間に、機能層を有することが好ましい。機能層を有することで、複数の塗布層の塗布時、及び塗布後の保存時における成分の混合を防止することができる。
【０１２０】
機能層としては、特開平５−７２７２４号公報に「分離層」として記載の、酸素遮断機能のある酸素遮断層を有していることが好ましい。酸素遮断層を有することで、露光時の感度が向上し、露光機の時間負荷が減り、かつ、生産性が向上する。
酸素遮断層としては、低い酸素透過性を示し、水又はアルカリ水溶液に分散又は溶解するものが好ましく、公知のものの中から適宜選択することができる。
酸素遮断層は、樹脂成分を少なくとも含み、溶剤及び界面活性剤を含んでもよい。樹脂成分としては、公知のものから適宜選択でき、例えば、カルボキシアルキルセルロースの水溶性塩、水溶性セルロースエーテル化合物、カルボキシアルキル澱粉の水溶性塩、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、ポリアクリル酸の水溶性塩、ゼラチン、エチレンオキサイド重合体、澱粉からなる群の水溶性塩、スチレン／マレイン酸の共重合体、マレイネート樹脂等が挙げられる。
好ましい酸素遮断層は、ポリビニルアルコール及びポリビニルピロリドンを含む層である。更には、ポリビニルアルコールは、鹸化率が８０％以上であることが好ましい。
樹脂成分の酸素遮断層中における含有量としては、酸素遮断層の全固形分質量に対して、５０質量％以上１００質量％以下が好ましい。
また、酸素遮断層は、樹脂成分に加え、各種界面活性剤、有機溶剤等の溶媒等の他の成分を含んでいてもよい。
【０１２１】
機能層の乾燥厚みとしては、０．２μｍ〜５μｍが一般的であり、０．５μｍ〜３μｍが好ましく、１μｍ〜２．５μｍが特に好ましい。
【０１２２】
（保護フィルム）
本発明の一実施形態の転写フィルムは、感光性樹脂層の表面に保護フィルムを更に有することが好ましい。保護フィルムとしては、特開２００６−２５９１３８号公報の段落００８３〜００８７及び００９３に記載の保護フィルムが挙げられる。
【０１２３】
本発明の一実施形態の転写フィルムは、タッチパネルの加飾用に好適に使用することができる。転写フィルムの感光性樹脂層は、既述のように、チオール系化合物を含有せずに、３９０ｎｍ以上４４０ｎｍ未満の波長領域にピーク波長を有するレーザ光（特に波長４０５ｎｍのレーザ光（青色系レーザ光））に対して高感度を示し、優れた解像度のパターンを形成しやすい。また、ヘキサアリールビイミダゾール系重合開始剤と、重合性モノマーと、特定構造を有する増感色素と、特定構造を有するカルボン酸系化合物と、を含有する成分構成とし、チオール系化合物を含有しないので、タッチパネルの銅配線等の金属の腐食による変色を回避することができる。
【０１２４】
〜転写フィルムの製造方法〜
本発明の一実施形態の転写フィルムは、特開２００６−２５９１３８号公報の段落００９４〜００９８に記載の硬化性転写材料の作製方法に準じて作製することができる。本発明の一実施形態の転写フィルムは、以下に示す転写フィルムの製造方法によって好適に製造される。
【０１２５】
転写フィルムの製造は、仮支持体上に感光性樹脂層を形成する工程を有する態様が好ましい。また、転写フィルムの製造は、仮支持体上に感光性樹脂層を形成する前に、熱可塑性樹脂層を形成する工程を有することが好ましい。
【０１２６】
転写フィルムの製造は、熱可塑性樹脂層を形成する工程の後に、熱可塑性樹脂層と感光性樹脂層との間に機能層（好ましくは酸素遮断層）を形成する工程を有することが好ましい。機能層を有する転写フィルムを製造する場合、仮支持体上に、熱可塑性樹脂及び必要に応じて添加剤を溶解した溶解液（熱可塑性樹脂層用塗布液）を塗布し、乾燥させて熱可塑性樹脂層を形成した後、形成された熱可塑性樹脂層上に熱可塑性樹脂層を溶解しない溶剤に樹脂及び必要に応じて添加剤を含めて調製した調製液（機能層用塗布液）を塗布し、乾燥させて機能層（好ましくは酸素遮断層）を積層し、さらに機能層上に更に、機能層を溶解しない溶剤を用いて調製した感光性樹脂層用塗布液を塗布し、乾燥させて感光性樹脂層を積層することによって、転写フィルムを好適に製造することができる。
【０１２７】
＜フィルムセンサー＞
本発明の一実施形態のフィルムセンサーは、透明な基材シートと、基材シートの少なくとも一方面（片面又は両面）に配置された電極パターンと、電極パターンに接続された引き回し配線と、電極パターンを覆って積層されたオーバーコート層と、を備えたフィルムセンサーである。本実施形態では、フィルムセンサーの少なくとも一方の表面（片面又は両面）に、加飾層として、既述した本発明の一実施形態に係る転写フィルムの転写層である感光性樹脂層の硬化物を有している。
なお、基材シートが「透明」であるとは、ＵＶ−１８００（島津製作所製）などの紫外可視分光光度計を用い、空気をＢｌａｎｋとして透過率測定を行った際に５５０ｎｍの透過率が５０％以上である性質を有しているこという。
【０１２８】
本発明の一実施形態のフィルムセンサーは、既述の転写シートの感光性樹脂層がパターニングされて転写された画像を加飾層として有しているので、加飾層の解像度に優れたものである。
【０１２９】
本発明の一実施形態のフィルムセンサーの一例を示す概略図を図３に示す。また、フィルムセンサーの上に配置される前面板の一例を図２に示す。前面板一体型センサーの構成の一例を示す断面概略図を図１に示す。フィルムセンサー上に前面板が配置された前面板一体型センサーは、フィルムセンサー４３と前面板１との間に加飾層２が、粘着材５１を介して配置されたものである。
図３に示すフィルムセンサーは、基材シート１Ａの両方の表面にそれぞれ透明膜１１が配置されている。基材シート１Ａの表面のうち、図２に示すような前面板が積層される側に、電極パターン４、遮光性導電膜９、オーバーコート層７、引き回し配線６、及び加飾層４５が配置されている。また、基材シート１Ａの表面のうち、図２に示すような前面板が積層される側とは反対側に、電極パターン３、遮光性導電膜９、オーバーコート層７、及び引き回し配線６が配置されている。
【０１３０】
フィルムセンサーは、本発明の一実施形態の転写フィルムの感光性樹脂層を転写して形成された加飾層４５（フィルムセンサーの加飾層）を有している。
本発明の一実施形態の転写フィルムを用いることで、転写フィルムから感光性樹脂層を、引き回し配線６とオーバーコート層７とに跨って貼り付け（ラミネート）を行う場合でも、真空ラミネーターなどの設備を用いずに、簡易な工程でマスク部分境界に泡の発生を抑えながらラミネートすることができる。
加飾層は、枠状の加飾層であることが好ましい。すなわち、本発明の一実施形態のフィルムセンサーでは、画像表示装置の中央部に位置する画像表示部分（電子機器表示窓）を枠状に囲むように加飾層が設けられることが好ましい。フィルムセンサーの加飾層の好ましい態様としては、特許第５０２０５８０号公報に記載の枠状遮光層と同様の態様を挙げることができる。
なお、フィルムセンサーの加飾層４５の厚みの好ましい範囲は、転写フィルムの感光性樹脂層の厚みの範囲と同様である。
【０１３１】
フィルムセンサーの構成、並びにフィルムセンサーの材料（加飾層、基材シート、透明膜、電極パターン、引き回し配線、遮光性導電膜、オーバーコート層等）の詳細及び好ましい態様については、国際公開第２０１６／０８８６０９号の段落００４２〜００７６の記載を参照することができる。
【０１３２】
＜フィルムセンサーの製造方法＞
本発明の一実施形態のフィルムセンサーは、既述のように基材シートと電極パターンと引き回し配線とオーバーコート層と加飾層とを備えたフィルムセンサーの製造が可能な方法であれば、製造方法は特に制限されないが、好ましくは、フィルムセンサーの少なくとも一方の表面に、既述した本発明の一実施形態に係る転写フィルムの感光性樹脂層を転写して加飾層を形成する工程を有する方法（本発明の一実施形態のフィルムセンサーの製造方法）により製造される。
なお、フィルムセンサーの製造方法におけるフィルムセンサーは、透明な基材シートと、基材シートの少なくとも一方面に配置された電極パターンと、電極パターンに接続された引き回し配線と、電極パターンを覆って積層されたオーバーコート層と、を備えている。
【０１３３】
−加飾層を形成する工程−
加飾層を形成する工程は、フィルムセンサーの少なくとも一方の表面に、既述した本発明の一実施形態の転写フィルムの感光性樹脂層を転写し、加飾層を形成する。
加飾層を形成する場合、本発明の一実施形態の転写フィルムを用い、前述のフィルムセンサーのオーバーコート層の表面に転写フィルムの感光性樹脂層の表面を接触させて積層体とし、仮支持体を剥離して感光性樹脂層を転写することで、加飾層を形成することが好ましい。
【０１３４】
フィルムセンサーを製造するにあたっては、感光性樹脂層が転写されるフィルムセンサーの一方の表面に、引き回し配線の少なくとも一部の領域及びオーバーコート層の少なくとも一部の領域を含むことが好ましい。引き回し配線の少なくとも一部の領域及びオーバーコート層の少なくとも一部の領域を含む場合、信頼性確保できる点で好ましい。
また、転写フィルムが保護フィルムを有している場合は、加飾層を形成する工程の前に、あらかじめ転写フィルムから保護フィルムを除去して感光性樹脂層を露出させる工程（保護フィルム除去工程）を有していることが好ましい。
【０１３５】
−露光工程、現像工程−
フィルムセンサーの製造方法では、少なくとも転写フィルムの感光性樹脂層を露光する露光工程と、露光された少なくとも感光性樹脂層を現像する現像工程と、を有することが好ましい。
露光工程、現像工程、及び他の工程の例については、特開２００６−２３６９６号公報の段落００３５〜００５１に記載の方法を適用することができる。
【０１３６】
露光工程では、転写フィルムの感光性樹脂層等を露光する。
具体的には、露光工程において、仮支持体上の感光性樹脂層の所望とする領域に、３９０ｎｍ以上４４０ｎｍ未満の波長領域にピーク波長を有する特定波長光（特にレーザ光）を照射し、照射部分を硬化させて硬化パターンを形成する。この場合、感光性樹脂層の上に仮支持体が存在する場合、仮支持体が透明性の基材である場合は、そのまま特定波長光（特にレーザ光）を照射することができ、仮支持体が特定波長光（特にレーザ光）に対して遮光性を示す場合は、仮支持体を除去した後に特定波長光（特にレーザ光）を感光性樹脂層に照射する。
一方、感光性樹脂層を基板上に直接形成した場合にも、そのまま特定波長光（特にレーザ光）を照射することができる。また、感光性樹脂層の表面に機能層として厚み０．５μｍ〜３０μｍの酸素遮断膜を形成した後、感光性樹脂層上の酸素遮断層の上方から特定波長光（特にレーザ光）を照射することもできる。
【０１３７】
露光工程において、感光性樹脂層に光を照射する方法としては、レーザ直接描画露光法及びＤＬＰ（Ｄｉｇｉｔａｌ Ｌｉｇｈｔ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ）露光法等の直接描画露光法によって感光性樹脂層の所望とする領域に３９０ｎｍ以上４４０ｎｍ未満の波長領域にピーク波長を有する特定波長光（特にレーザ光）を照射し、照射部を硬化させる方法が挙げられる。 
【０１３８】
本発明の一実施形態の転写フィルムは、３９０ｎｍ以上４４０ｎｍ未満の波長領域にピーク波長（最大発光強度）を有する光（特に波長４０５ｎｍの単色光）を照射することによりパターンを形成するために用いられる。 
【０１３９】
３９０ｎｍ以上４４０ｎｍ未満の波長領域にピーク波長を有する光としては、３９０ｎｍ以上４４０ｎｍ未満のレーザ光を発振する半導体レーザを光源とする光が挙げられる。このような半導体レーザとしては、窒化ガリウム系の青色レーザを好適に用いることができる。特に、直接描画露光法でパターン形成することが容易である点で、半導体レーザを光源として用いることが好ましい。また、日立ビアメカニクス社製の「ＤＥ−１ＡＨ」（商品名）等のデジタルダイレクト露光機を用いてもよい。
【０１４０】
また、半導体レーザの代替評価として、高圧水銀灯等の水銀灯を光源とする光のうち波長３６５ｎｍ以下の光を９９．５％以上カットした活性光線（例えばｈ線）を、３９０ｎｍ以上４４０ｎｍ未満の波長領域にピーク波長を有する光として用いることができる。
波長３６５ｎｍ以下の光をカットするためのフィルタとしては、シグマ光機社製のシャープカットフィルタ「ＳＣＦ−１００Ｓ−３９Ｌ」（製品名）、朝日分光社製の分光フィルタ「ＨＧ０４０５」（製品名）などが挙げられる。
波長３６５ｎｍ以下の光がカットされた活性光線を適用する場合、活性光線を感光性樹脂層の所望とする領域に照射する方法としては、アートワークと呼ばれるネガマスクパターン又はポジマスクパターンを通して活性光線を画像様に照射し、照射部を硬化する方法が挙げられる。
【０１４１】
露光量としては、通常は５ｍＪ／ｃｍ２〜２００ｍＪ／ｃｍ２程度であり、好ましくは１０ｍＪ／ｃｍ２〜１００ｍＪ／ｃｍ２程度である。
【０１４２】
現像工程は、光照射された感光性樹脂層等を現像する工程である。
現像工程は、パターン様に光照射された感光性樹脂層等を現像液によってパターン現像する狭義の意味の現像工程である。
【０１４３】
現像は、現像液を用いて行うことができる。
現像に用いる現像液は、特に制限されず、特開平５−７２７２４号公報に記載の現像液などの公知の現像液を用いることができる。現像液としては、アルカリ性水溶液を用いることが好ましい。
アルカリ性水溶液に含有され得るアルカリ性化合物としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、コリン（２−ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド）、等が挙げられる。
アルカリ性水溶液の２５℃におけるｐＨとしては、８〜１３が好ましく、９〜１２がより好ましく、１０〜１２が特に好ましい。
アルカリ性水溶液中におけるアルカリ性化合物の含有量は、アルカリ性水溶液全量に対し、０．０５質量％〜５質量％が好ましく、０．１質量％〜３質量％がより好ましい。
【０１４４】
現像液は、水に対して混和性を有する有機溶媒を含有してもよい。
有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、及びＮ−メチルピロリドンを挙げることができる。
有機溶媒の濃度は、０．１質量％〜３０質量％が好ましい。
現像液は、公知の界面活性剤を含んでもよい。界面活性剤の濃度は０．０１質量％〜１０質量％が好ましい。現像液の液温度は２０℃〜４０℃が好ましい。
【０１４５】
現像の方式としては、パドル現像、シャワー現像、シャワー＆スピン現像、ディップ現像等のいずれでもよい。ここで、シャワー現像について説明すると、露光後の感光性樹脂層等に現像液をシャワーにより吹き付けることにより、未硬化部分を除去することができる。また、現像後に洗浄剤などをシャワーにより吹き付け、ブラシなどで擦りながら、現像残渣を除去することが好ましい。現像液の液温度は２０℃〜４０℃が好ましく、また、現像液のｐＨは８〜１３が好ましい。
【０１４６】
−熱処理−
本発明の一実施形態のフィルムセンサーの製造方法は、フィルムセンサーを１３０℃〜１７０℃の温度で熱処理する工程（ポストベーク工程）を含むことが好ましい。このような温度で熱処理することによって、フィルム基材にあらかじめ電極パターン、引き回し配線、遮光性導電膜、及びオーバーコート層などが形成された後に加飾層を形成するフィルムセンサーの製造方法においても、他の部材に悪影響を与えずに熱処理することが可能である。
【０１４７】
熱処理時の熱処理温度としては、１４０℃〜１６０℃が好ましく、１４０℃〜１５０℃がより好ましい。
また、熱処理時の熱処理時間としては、熱処理温度にもよるが、１分〜６０分が好ましく、１０分〜６０分がより好ましく、２０分〜５０分が更に好ましい。
【０１４８】
上記のほか、フィルムセンサーの製造方法の詳細及び好ましい態様については、国際公開第２０１６／０８８６０９号の段落００７７〜０１２５の記載を参照することができる。
【実施例】
【０１４９】
以下、本発明の実施形態を実施例により更に具体的に説明する。但し、本発明の実施形態は、その主旨を越えない限り、以下に示す実施例に限定されるものではなく、実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、及び処理手順等も、本発明の主旨を超えない限りにおいて適宜変更することができる。
なお、特に断りのない限り、「部」は質量基準である。また、表１中の「−」は、その成分を含有していないことを示す。【０１５０】
（実施例１）
＜感光性樹脂層形成用組成物の調製＞
下記表１に示すように、下記組成中の各成分を撹拌しながら混合することで、感光性樹脂層形成用組成物を調製した。【０１５１】
<感光性樹脂層形成用組成物の組成>
−顔料分散液−
・以下に示す黒色顔料分散液  …  ２６１．０部
−モノマー−
・Ａ−ＮＯＤ−Ｎ（２官能モノマー、新中村化学工業（株））…  ３．２６部
・Ａ−ＤＣＰ（２官能モノマー、新中村化学工業（株））…  ９．７９部
・８ＵＸ−０１５Ａ（１５官能モノマー、大成ファインケミカル（株））…６．５２部
・Ａ−ＤＰＨ（６官能モノマー、新中村化学工業（株））…  ２．１７部
−バインダー−
・ポリマー１  …  １１２．２部
（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸（＝７０／３０［質量基準での共重合比］）共重合体、重量平均分子量（Ｍｗ）＝５０００、固形分量＝４０．５質量％）
−重合開始剤−
・Ｂ−ＣＩＭ（下記構造のヘキサアリールビイミダゾール系化合物）…  ９．４５部
（２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、保土谷化学工業（株））
−増感色素−
・下記構造Ａで表される化合物（一般式（Ｉ）で表される化合物）…  ５．４０部
−カルボン酸系化合物−
・下記構造Ｃで表される化合物（一般式（ＩＩ）で表される化合物）…  ２．０３部
−溶剤−
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート  …  １８３．７部
（ＭＭＰＧ−Ａｃ）
・メチルエチルケトン  …  ４０４．２部
（ＭＥＫ）
−界面活性剤−
・Ｆ−７８４−Ｆ  …  ０．２６部
（メガファック（登録商標）Ｆ−７８４−Ｆ、ＤＩＣ（株））【０１５２】
【化１５】
0006557418.tif 000016
【０１５３】
【化１６】
0006557418.tif 000017
【０１５４】
−−黒色顔料分散液の調製−−
以下の組成になるようにカーボンブラック、分散剤、ポリマー及び溶剤を混合し、３本ロールとビーズミルを用いて黒色顔料分散物を調製した。
<黒色顔料分散液の組成>
・樹脂被覆カーボンブラック  …  １３．１質量％
（特許第５３２０６５２号公報の段落００３６〜００４２の記載に従って作製）
・下記構造の分散剤１  …  ０．６５質量％
・ポリマー  …  ６．７２質量％
（ベンジルメタクリレート／メタクリル酸（＝７２／２８［モル比］）ランダム
共重合体、重量平均分子量：３．７万）
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート  …  ７９．５３質量％【０１５５】
【化１７】
0006557418.tif 000018
【０１５６】
＜転写フィルムの作製＞
仮支持体として、厚み３８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを準備した。
この仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、下記処方Ｈ１からなる熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布し、乾燥させて熱可塑性樹脂層を形成した。次いで、熱可塑性樹脂層の上に下記処方Ｐ１からなる機能層用塗布液を塗布し、乾燥させて、機能層として酸素遮断層を形成した。更に、形成した酸素遮断層の上に、上記した方法で調製した感光性樹脂層形成用組成物を塗布し、乾燥させて感光性樹脂層を形成した。【０１５７】
以上のようにして、仮支持体の上に、乾燥厚みが８．０μｍの熱可塑性樹脂層と、乾燥厚みが１．１μｍの酸素遮断層と、乾燥厚みが２．６μｍの感光性樹脂層と、順に積層し、感光性樹脂層の表面にさらに保護フィルム（厚み１６μｍポリエチレンテレフタレートフィルム）を圧着して、保護フィルム／感光性樹脂層／機能層（酸素遮断膜）／熱可塑性樹脂層／仮支持体の積層構造を有する転写フィルムを作製した。【０１５８】
〜熱可塑性樹脂層用塗布液：処方Ｈ１〜
・メチルエチルケトン  …  ５７５．３部
・メチルメタクリレート／メタクリル酸／メタクリル酸のグリシジルメタクリレート付加物／シクロヘキシルメタクリレート共重合体  …  １７９．４部
（共重合比［モル比］＝２．０／２６．５／２０．０／５１．５、重量平均分子量（Ｍｗ）＝２．９万）
・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体  …  １６２．８部
（共重合組成比［モル比］＝７０．０／３０．０、重量平均分子量（Ｍｗ）＝３．０万）
・Ａ−ＤＣＰ（２官能モノマー、新中村化学工業（株））…  ４７．７部
・８ＵＸ−０１５Ａ（１５官能モノマー、大成ファインケミカル（株））…２３．８部
・ＴＯ−２３４９（５〜６官能モノマー、東亞合成（株））…  ７．９４部
・フッ素系界面活性剤  …  １．１３部
（固形分３０質量％のメチルイソブチルケトン溶液、メガファック（登録商標）Ｆ５５１、ＤＩＣ（株））【０１５９】
〜機能層用塗布液：処方Ｐ１〜
・ＰＶＡ２０５  …  ３２．２部
（ポリビニルアルコール、（株）クラレ、鹸化度＝８８％、重合度５５０）
・ポリビニルピロリドン  …  １４．９部
（Ｋ−３０、アイエスピー・ジャパン社製）
・フッ素系界面活性剤  …  ０．０１部
（固形分１００質量％、メガファック（登録商標）Ｆ４４４、ＤＩＣ（株））
・蒸留水  …  ３８１部
・メタノール  …  ５７２部【０１６０】
＜フィルムセンサーの作製＞
ロールから巻き出した厚さ２００μｍの無色ポリエステルフィルムを透明な基材シートとして用意し、基材シートの片面にインジウムスズ酸化物からなる透明導電膜（第一の電極パターン用又は第二の電極パターン用の導電膜）をスパッタリング法で２００ｎｍの厚みで形成した。次いで、透明導電膜の上に、遮光性導電膜用の導電膜及び引き回し配線用の導電膜として厚み５００ｎｍの銅膜をスパッタリング法で形成し、導電性フィルムを用意した。
次いで、一組の導電性フィルムを、透明粘着材を用いてラミネートし、両面にそれぞれ透明導電膜、遮光性導電膜用の導電膜、及び引き回し配線用の導電膜が積層された積層体を作製した。
その後、炭酸ソーダ１質量％液で現像が可能なネガタイプのアクリル系感光層を備えたドライフィルムレジストを用い、厚み１０ｎｍの第一フォトレジスト層を前述の積層体の両面の全面に各々形成し、オモテ側にはＸ方向の電極パターンを有するマスクを載置し、ウラ側にはＹ方向の電極パターンを有するマスクを載置して、メタルハライドランプによって表裏両面を同時に露光し、その後、炭酸ソーダ１％液に浸して現像処理を施した。【０１６１】
次いで、塩化第二鉄のエッチング液でパターン化された第一フォトレジスト層が積層されていない部分のインジウムスズ酸化物膜及び銅膜を同時にエッチング除去した。その結果、透明な基材シートの中央窓部のオモテ面には、Ｘ方向の第二の電極パターン及び遮光性導電膜の積層体が、遮光性導電膜を露出させて形成された。透明な基材シートの中央窓部のウラ側には、Ｙ方向の第一の電極パターン及び遮光性導電膜の積層体が、遮光性導電膜を露出させて形成された。中央窓部を囲む外枠部には、第一の電極パターン（又は第二の電極パターン）、遮光性導電膜、かつ、平均線幅２０μｍの電極パターンに接続された引き回し配線として用いられる細線引き回しパターンの積層体が、引き回し配線を表裏両面に露出させて形成された。【０１６２】
次に、第一フォトレジスト層の剥離後、炭酸ソーダ１質量％液で現像が可能なネガタイプのアクリル系感光層を備えたドライフィルムレジストを用い、厚み１０ｎｍの第二フォトレジスト層を両面の全面に各々形成し、その上にオモテ側及びウラ側の端子部を除く外枠部にマスクを載置して、メタルハライドランプによって表裏両面を同時に露光し、その後、炭酸ソーダ１質量％液に浸して現像処理を施した。【０１６３】
続いて、酸性雰囲気下で過酸化水素水に浸すと、中央窓部に露出していた銅膜である遮光性導電膜がエッチング除去され、銅膜の下に形成されていたインジウムスズ酸化物膜である第一の電極パターン又は第二の電極パターンのみが残った。【０１６４】
第二フォトレジスト層を剥離した後、オーバーコート用のドライフィルムレジストを用いて第三フォトレジスト層を両面の全面に各々形成し、その上に端子部を除く外枠部にマスクを載置して、メタルハライドランプによって表裏両面を同時に露光し、炭酸ソーダ１質量％液に浸して現像した。これにより、電極パターンを覆うオーバーコート層を形成した。【０１６５】
次に、実施例１の転写フィルムを用い、転写フィルムの厚み２．６μｍの感光性樹脂層を第四フォトレジスト層として引き回し配線の少なくとも一部の領域及びオーバーコート層の少なくとも一部の領域を含む表面の全面に転写した。その上にマスクを載置し、メタルハライドランプによって第四フォトレジスト層を表面だけ露光し、炭酸ソーダ１質量％液に浸して現像処理を施した。その後、オーブンにて１４５℃で３０分間加熱し、第四フォトレジスト層を硬化させた。残存した黒色の第四フォトレジスト層を枠状の加飾層とした。【０１６６】
そして、一個分のフィルムセンサーを切り出し、得られたフィルムセンサーを実施例１のフィルムセンサーとした。なお、実施例１のフィルムセンサーは、図１に示すフィルムセンサーの概略図から透明膜１１を除いた構成である。遮光性導電膜９の一部は、引き回し配線６と同じ部材となっている。【０１６７】
＜前面板一体型センサーの作製＞
透明な前面板として、厚み０．７ｍｍのホウケイ酸系ガラスからなるガラス基板を用意した。透明な前面板の裏面周縁部に、黒色インキを用いてスクリーン印刷にて厚み７μｍの第二の加飾層を形成してカバーガラスを得た。
実施例１のフィルムセンサーをカバーガラスの裏面に透明粘着材にて貼り合わせて、第二の加飾層が透明な前面板とフィルムセンサーの加飾層との間に配置された、カバーガラス一体型センサーとした。得られたカバーガラス一体型センサーを、実施例１のカバーガラス一体型センサーとした。
実施例１のカバーガラス一体型センサーは、フィルムセンサーの加飾層の内縁が、透明な前面板の第二の加飾層の内縁よりも０．１ｍｍだけ中央側に位置しており、透明な前面板の法線方向から観察した場合に第二の加飾層の正射影がフィルムセンサーの加飾層の少なくとも一部の領域に重なっていた。また、透明な前面板であるガラス基板のウラ面と、フィルムセンサーの加飾層と、の間の距離は２５μｍであった。 
なお、実施例１の前面板一体型センサーは、図３に示す前面板一体型センサーの概略図から透明膜１１を除いた構成である。遮光性導電膜９の一部は、引き回し配線６と同じ部材となっている。【０１６８】
〔画像表示装置（タッチパネル）の作製〕
特開２００９−４７９３６号公報に記載の方法で製造した液晶表示素子と、上記で作製した実施例１のカバーガラス一体型センサーと、を貼り合せ、公知の方法により静電容量型入力装置である実施例１の画像表示装置を作製した。実施例１の画像表示装置は、実施例１のカバーガラス一体型センサーを構成要素として備えている。
実施例１の画像表示装置は、前面板を通してみる表示画面の輪郭がシャープであり、視認性に優れ、かつ、表示画面を囲う部分に外観的な一体感のあるものであった。【０１６９】
（実施例２〜実施例８、比較例１〜４）
実施例１において、感光性樹脂層形成用組成物の組成を下記表１に示すように変更したこと以外は、実施例１と同様にして、１１種の感光性樹脂層形成用組成物を調製し、転写フィルムを作製した。作製した転写フィルムを用い、更に、実施例１と同様にして、フィルムセンサー、前面板一体型センサー、及び画像表示装置（タッチパネル）を作製した。【０１７０】
なお、下記表１中に示す成分の詳細は、以下の通りである。
−重合開始剤−
・ＯＸＥ−０２
（１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］―エタノン−１−（Ｏ−アセチルオキシム）
；商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥＯＸＥ−０２、ＢＡＳＦ社製）
−増感色素−
・下記構造Ｂで表される化合物（一般式（Ｉ）で表される化合物）
・下記構造のＮＢＣＡ
−カルボン酸系化合物−
・下記構造Ｄで表される化合物（一般式（ＩＩ）で表される化合物）
−チオール系化合物−
・下記構造Ｅで表される化合物【０１７１】
【化１８】
0006557418.tif 000019
【０１７２】
＜評価＞
実施例及び比較例の各々で作製した転写フィルム及び転写フィルムを用いて作製した加飾パターンに対して、各種の評価を行った。評価結果は、下記表１に示す。【０１７３】
（１．感度）
各転写フィルムから保護フィルムを剥離し、感光性樹脂層が露出した転写フィルムを、感光性樹脂層の表面と、銅箔が積層された透明な基材シートであるポリエチレンテレフタレートフィルム（ジオマテック社製；以下、銅箔付ＰＥＴフィルムともいう。）の銅箔の表面と、が接するように、銅箔付ＰＥＴフィルムに圧着して積層体を得た。この場合の圧着条件は、以下の通りである。
<条件>
・銅箔付ＰＥＴフィルムの温度：４０℃
・ゴムローラー温度：１１０℃
・線圧：３Ｎ／ｃｍ
・搬送速度２ｍ／分【０１７４】
次いで、露光マスクを用意し、レーザ露光を想定して以下の代用試験を行った。
具体的には、１５段ステップタブレット（富士フイルムイメージングシステム（株））、及び波長４０５±１０ｎｍの光を選択的に透過する光学フィルター（水銀輝線用バンドパスフィルターＨＢ０４０５、朝日分光（株））を準備し、得られた積層体の仮支持体側から順に１５段ステップタブレットと光学フィルターとを設置し、１５段ステップタブレットと仮支持体との間の距離を１２５μｍに設定した。そして、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機（日立ハイテク電子エンジニアリング（株））を用い、仮支持体を介して露光量１００ｍＪ／ｃｍ２でｈ線を照射し、１５段ステップタブレット及び光学フィルターを通して感光性樹脂層を露光した。
その後、積層体から仮支持体を、感光性樹脂層と酸素遮断層との界面にて剥離した。剥離された仮支持体には、機能層（酸素遮断膜）及び熱可塑性樹脂層が残っている。露出した感光性樹脂層を、温度３０℃の炭酸ソーダ１質量％水溶液にて６０秒間現像処理した。現像処理後の銅箔付ＰＥＴフィルムに超高圧洗浄ノズルから超純水を噴射することで残渣を除去した。引き続き、エアを吹きかけて銅箔付ＰＥＴフィルム上の水分を除去した。
以上のようにして、銅箔付ＰＥＴフィルム上に形成された、ステップタブレット状の硬化膜の段数を測定し、感光性樹脂組成物の光感度を評価する指標とした。
光感度は、ステップタブレットの段数を指標とし、ステップタブレットの段数が高いほど感度が高いことを示す。【０１７５】
（２．非露光部における銅箔の変色）
上記の「（１．感度）」の評価にて得られた、ステップタブレット状の硬化膜を有する銅箔付ＰＥＴフィルムに対し、１４５℃で３０分間加熱処理（ポストベーク）を施した。加熱処理前後での非露光部における銅箔の変色（銅色から茶色ないし茶褐色への変色）を目視及び光学顕微鏡にて観察し、下記の評価基準にしたがって評価した。なお、評価基準におけるランクＡ〜Ｂが実用上許容される範囲であり、ランクＡであることが好ましい。
〈評価基準〉
Ａ：目視で変色が確認できず、かつ、光学顕微鏡でも変色が確認できない。
Ｂ：目視で変色が確認できないが、光学顕微鏡で若干変色が確認できる。
Ｃ：目視で変色が確認でき、かつ、光学顕微鏡でも変色が確認できる。【０１７６】
（３．保護フィルムの剥離性）
各転写フィルムから保護フィルムを剥離する際の剥がれ方を観察し、以下の評価基準にしたがって評価した。なお、評価基準におけるランクＡ〜Ｃが実用上許容される範囲である。
〈評価基準〉
Ａ：保護フィルムを剥離する際、音なく保護フィルムのみを剥離できる。
Ｂ：保護フィルムを剥離する際、僅かに音を伴うが、保護フィルムのみを剥離できる。
Ｃ：保護フィルムを剥離する際、大きな音を伴うが、保護フィルムのみを剥離できる。
Ｄ：保護フィルムを剥離した後、保護フィルムに感光性樹脂層が残る。【０１７７】
【表１】
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【０１７８】
表１に示す結果から、以下のことが分かる。
（１）実施例１〜８の転写フィルムでは、重合性化合物に加え、ヘキサアリールビイミダゾール系化合物、特定構造の増感色素、及び特定構造のカルボン酸系化合物を含む感光性樹脂層を有するので、いずれも感度が高く、非露光部における銅箔の変色も抑えられた。
なお、実施例８は、重合開始剤、増感色素、及びカルボン酸系化合物の種類や含有量が同等である例えば実施例１〜３等に比べ、感度が良好であるが、これは黒色顔料を含まないために感光性樹脂層での光吸収が少ないことが感度の良化に大きく寄与しているためと考えられる。【０１７９】
（２）比較例１〜３の転写フィルムでは、感光性樹脂層がヘキサアリールビイミダゾール系化合物、特定構造の増感色素、又はカルボン酸系化合物のうち少なくとも１つを含有しないので、感度又は非露光部における銅箔の変色のいずれかが低下した。特にカルボン酸系化合物を含まず、チオール系化合物を用いた比較例４では、非露光部における銅箔の変色が著しく発生した。【０１８０】
（３）Ｍ／Ｂ比の低い実施例では、保護フィルムの剥離性に優れており、Ｍ／Ｂ比が０．７以上となる実施例７では、実用上は許容範囲ではあるものの、大きな剥離音を伴う程度にまで悪化した。そして、Ｍ／Ｂ比が同程度に高い比較例４では、さらに保護フィルムに感光性樹脂層が残る程度に悪化した。【０１８１】
２０１６年７月１５日に出願された日本国特許出願２０１６−１４０７２８号の開示はその全体が参照により本明細書に取り込まれる。
本明細書に記載された全ての文献、特許出願、及び技術規格は、個々の文献、特許出願、及び技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書に参照により取り込まれる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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