(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
カラーフィルム基板と、該カラーフィルム基板に対向して設けられるアレイ基板とを含む液晶表示パネルであって、
前記アレイ基板は、
ガラス基板と、素子層と、配向膜層と、絶縁層とを含み、
前記素子層は、前記ガラス基板の上方に設けられ、前記素子層内には薄膜トランジスタが設けられ、
前記配向膜層は、液晶分子を特定の方向に配向させるために用いられ、前記配向膜層は、前記カラーフィルム基板に近接する前記アレイ基板の表面に位置し、
前記絶縁層は、前記配向膜層と前記素子層との間に位置し、且つ少なくとも一部の領域が前記配向膜層に隣接し、前記配向膜層のＵＶ光に対する屈折率は、前記絶縁層のＵＶ光に対する屈折率より高く、
前記素子層と前記ガラス基板との間には、第１層の紫外線保護層及び第２層の紫外線保護層が前記ガラス基板側から順次に設けられ、
前記配向膜層と前記絶縁層は共に、外部から前記配向膜層へ照射される紫外線から該液晶表示パネルを保護する紫外線保護層を兼ね、
前記第１層の紫外線保護層のＵＶ光に対する屈折率は、前記第２層の紫外線保護層のＵＶ光に対する屈折率より高い、ことを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項２】
前記液晶表示パネルは、前記アレイ基板と前記カラーフィルム基板とを突き合わせて固定するためのシーラントをさらに含み、
前記シーラントに対して光硬化処理を行う際に、前記ＵＶ光は、前記アレイ基板のガラス基板側から入射し、前記第１層の紫外線保護層及び前記第２層の紫外線保護層はいずれも前記素子層と前記ガラス基板との間に位置する、ことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パネル。
【請求項３】
前記アレイ基板はバッファ層をさらに含み、前記バッファ層は、前記ガラス基板と前記素子層との間に位置し、
前記バッファ層は、多層構造であり、前記第１層の紫外線保護層及び前記第２層の紫外線保護層を含む、ことを特徴とする請求項１または２に記載の液晶表示パネル。
【請求項４】
前記バッファ層は、第１窒化珪素層、酸化珪素層、及び第２窒化珪素層を含み、前記第１窒化珪素層および前記第２窒化珪素層のうち、前記ガラス基板に近接する層は第１層の紫外線保護層であり、それに対してガラス基板から離隔する層は第２層の紫外線保護層である、ことを特徴とする請求項３に記載の液晶表示パネル。
【請求項５】
前記アレイ基板は、
前記ガラス基板と前記素子層との間に位置する複数の光遮蔽シートをさらに含み、
各光遮蔽シートは、１つの薄膜トランジスタと正対して設けられ、且つ該薄膜トランジスタをカバーする、ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の液晶表示パネル。
【請求項６】
カラーフィルム基板と、該カラーフィルム基板に対向して設けられるアレイ基板とを含む液晶表示パネルであって、
前記アレイ基板は、
ガラス基板と、素子層とを含み、
前記素子層は、前記ガラス基板の上方に設けられ、前記素子層内には薄膜トランジスタが設けられ、
前記素子層の同じ側には外部から照射される紫外線から該液晶表示パネルを保護する第１層および第２層の紫外線保護層が設けられ、前記第１層の紫外線保護層のＵＶ光に対する屈折率は、前記第２層の紫外線保護層のＵＶ光に対する屈折率より高く、
前記アレイ基板は、液晶分子を特定の方向に配向させるための配向膜層をさらに含み、前記配向膜層は、前記カラーフィルム基板に近接する前記アレイ基板の表面に位置し、
前記配向膜層は、前記第1層の紫外線保護層を兼ね、
前記第２層の紫外線保護層は前記素子層と前記配向膜層との間に位置する、ことを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項７】
前記アレイ基板は、
前記配向膜層と前記素子層との間に位置し、且つ少なくとも一部の領域が前記配向膜層に隣接する絶縁層と、
前記配向膜層と前記絶縁層との間に位置する画素電極層とをさらに含み、
前記第２層の紫外線保護層は前記絶縁層である、ことを特徴とする請求項６に記載の液晶表示パネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は表示技術の分野に関し、特に液晶表示パネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
ＴＦＴ−ＬＣＤ液晶ディスプレイは、薄膜トランジスタ型液晶ディスプレイである。ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ、薄膜トランジスタ）液晶は、各画素に対して１つの半導体スイッチが設けられ、各画素をドットパルスで直接制御することができる。液晶は、表示を形成するように光源を制御するためのライトバルブとして使用され、各画素には、１つの半導体スイッチが設けられる。ＬＴＰＳ  （Ｌｏｗ  Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ  Ｐｏｌｙ−ｓｉｌｉｃｏｎ、低温ポリシリコン技術）  プロセスにおいて、半導体素子では、低温ポリシリコンをチャネル層とし、金属走査線と信号線によりスイッチ特性を実現する。しかしながら、ＬＴＰＳ製品は、高解像度及び狭いベゼルの条件下で、シーラントをより完全に硬化させるために、ベゼルの開口率が２０％に近くさらに２０％より小さくなるように徐々に低減され、対応するシーラントの硬化に必要なエネルギー及び照度は大幅に増大する必要もある。高エネルギー及び高照度のＵＶは、  セルパネル内の液晶の結合開裂、液晶パネルの画像固着（Ｉｍａｇｅ  ｓｔｉｃｋｉｎｇ）表現に影響を及ぼす。現在のＬＴＰＳ配向技術では、従来の摩擦配向方式から光配向技術へ徐々に移行し、従来の摩擦配向方式と比較して、光配向技術は、高エネルギー及び高照度のＵＶ光を使用してＴＦＴ−ＬＣＤアレイ側及びＣＦ側を照射し、配向膜は、ＵＶで照射された後配向力を形成し、液晶の初期配向能力を提供して、プレチルト角を形成する。高エネルギーのＵＶ波帯は、ＬＴＰＳ  ＴＦＴ半導体素子に回復不可能な損傷を引き起こす可能性がある。ＵＶ照射後、素子特性がドリフトして、半導体スイッチ素子が故障し、閾値電圧シフト及びＩｏｎ／Ｉｏｆｆの異常が生じる可能性がある。
【０００３】
従って、上記の課題を解決するために、新たな技術的手段を提案することが必要である。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の目的は、プロセスやコストを増大させずに、成膜条件を改善して高密度の二酸化珪素薄膜を取得し、全反射特性を利用してＵＶ照射の影響を回避し、ＵＶマスクを一つ減少でき、素子特性が影響を受けないことを保証する液晶表示パネルを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題を解決するために、本発明は以下の技術方案を提供している。
液晶表示パネルであって、前記液晶表示パネルは、カラーフィルム基板と、対向して設けられるアレイ基板とを含み、
前記アレイ基板は、
ガラス基板と、複数の光遮蔽シートと、素子層と、配向膜層と、絶縁層とを含み、
前記複数の光遮蔽シートは、前記素子層と前記ガラス基板との間に設けられ、各前記光遮蔽シートは、１つの前記薄膜トランジスタと正対して設けられ、且つ該薄膜トランジスタを完全にカバーし、
前記素子層は、前記ガラス基板の上方に設けられ、前記素子層内には薄膜トランジスタが設けられ、
前記配向膜層は、液晶分子を特定の方向に配向させるために用いられ、前記配向膜層は、前記カラーフィルム基板に近接する前記アレイ基板の表面に位置し、
前記絶縁層は、前記配向膜層と前記素子層との間に位置し、且つ少なくとも一部の領域が前記配向膜層に隣接し、前記配向膜層のＵＶ光に対する屈折率は、前記絶縁層のＵＶ光に対する屈折率より高く、
前記素子層と前記ガラス基板との間には、前記第１層の紫外線保護層及び前記第２層の紫外線保護層がさらに設けられ、
第１層の紫外線保護層はＵＶ光源に近接し、第２層の紫外線保護層はＵＶ光源から離隔し、前記第１層の紫外線保護層のＵＶ光に対する屈折率は、前記第２層の紫外線保護層のＵＶ光に対する屈折率より高い。
【０００６】
本発明は、液晶表示パネルをさらに提供する。前記液晶表示パネルは、カラーフィルム基板と、対向して設けられるアレイ基板とを含み、
前記アレイ基板は、
ガラス基板と、素子層とを含み、
前記素子層は、前記ガラス基板の上方に設けられ、前記素子層内には薄膜トランジスタが設けられ、
前記素子層の同じ側には二層の紫外線保護層が設けられ、第１層の紫外線保護層はＵＶ光源に近接し、第２層の紫外線保護層はＵＶ光源から離隔し、前記第１層の紫外線保護層のＵＶ光に対する屈折率は、前記第２層の紫外線保護層のＵＶ光に対する屈折率より高い。
【０００７】
好ましくは、前記液晶表示パネルにおいて、前記アレイ基板は、液晶分子を特定の方向に配向させるための配向膜層をさらに含み、前記配向膜層は、前記カラーフィルム基板に近接する前記アレイ基板の表面に位置し、
前記配向膜層に対して光配向処理を行う際に、前記第１層の紫外線保護層及び前記第２層の紫外線保護層はいずれも前記素子層と前記配向膜層との間に位置する。
【０００８】
好ましくは、前記液晶表示パネルにおいて、前記アレイ基板は、液晶分子を特定の方向に配向させるための配向膜層をさらに含み、前記配向膜層は、前記カラーフィルム基板に近接する前記アレイ基板の表面に位置し、
前記配向膜層に対して光配向処理を行う際に、前記第１層の紫外線保護層は前記配向膜層であり、前記第２層の紫外線保護層は前記素子層と前記配向膜層との間に位置する。
【０００９】
好ましくは、前記液晶表示パネルにおいて、前記アレイ基板は、
前記配向膜層と前記素子層との間に位置し、且つ少なくとも一部の領域が前記配向膜層に隣接する絶縁層と、
前記配向膜層と前記絶縁層との間に位置する画素電極層とをさらに含み、
前記第２層の紫外線保護層は前記絶縁層である。
【００１０】
好ましくは、前記液晶表示パネルにおいて、前記液晶表示パネルは、前記アレイ基板と前記カラーフィルム基板とを突き合わせて固定するためのシーラントをさらに含み、
前記シーラントに対して光硬化処理を行う際に、前記ＵＶ光源は、前記アレイ基板のガラス基板側から入射し、前記第１層の紫外線保護層及び前記第２層の紫外線保護層はいずれも前記素子層と前記ガラス基板との間に位置する。
【００１１】
好ましくは、前記液晶表示パネルにおいて、前記アレイ基板はバッファ層をさらに含み、前記バッファ層は、前記ガラス基板と前記素子層との間に位置し、
前記バッファ層は、多層構造であり、前記第１層の紫外線保護層及び前記第２層の紫外線保護層を含む。
【００１２】
好ましくは、前記液晶表示パネルにおいて、前記バッファ層は、第１窒化珪素層、酸化珪素層、及び第２窒化珪素層を含み、前記第１窒化珪素層および前記第２窒化珪素層のうち、ガラス基板に近接する層は第１層の紫外線保護層であり、それに対してガラス基板から離隔する層は第２層の紫外線保護層である。
【００１３】
好ましくは、前記液晶表示パネルにおいて、前記素子層と前記ガラス基板との間には複数の光遮蔽シートがさらに設けられ、各前記光遮蔽シートは、１つの前記薄膜トランジスタと正対して設けられ、且つ該薄膜トランジスタを完全にカバーする。
【００１４】
好ましくは、前記液晶表示パネルにおいて、前記アレイ基板は、配向膜層と絶縁層とをさらに含み、
前記配向膜層は、液晶分子を特定の方向に配向させるために用いられ、前記配向膜層は、前記カラーフィルム基板に近接する前記アレイ基板の表面に位置し、
前記絶縁層は、前記配向膜層と前記素子層との間に位置し、且つ少なくとも一部の領域が前記配向膜層に隣接し、前記配向膜層のＵＶ光に対する屈折率は、前記絶縁層のＵＶ光に対する屈折率より高く、
前記素子層と前記ガラス基板との間には、前記第１層の紫外線保護層及び前記第２層の紫外線保護層がさらに設けられる。
【００１５】
好ましくは、前記液晶表示パネルにおいて、前記アレイ基板は、
前記ガラス基板と前記素子層との間に位置するバッファ層をさらに含み、
前記バッファ層は、多層構造であり、前記第１層の紫外線保護層及び前記第２層の紫外線保護層を含む。
【発明の効果】
【００１６】
従来技術と比較して、本発明では、素子層の同じ側に二層の紫外線保護層が設けられ、第１層の紫外線保護層はＵＶ光源に近接し、光学的に厚い媒体であり、第２層の紫外線保護層はＵＶ光源から離隔し、光学的に薄い媒体であり、前記第１層の紫外線保護層のＵＶ光に対する屈折率は、前記第２層の紫外線保護層のＵＶ光に対する屈折率より高い。前記第１層の紫外線保護層から前記第２層の紫外線保護層に前記ＵＶ光源を照射すると、前記位置で全反射が発生して、前記素子層を保護する。それにより、本発明は、プロセスやコストを増大させずに、成膜条件を改善して高密度の二酸化珪素薄膜を取得し、全反射特性を利用してＵＶ照射の影響を回避し、ＵＶマスクを一つ減少でき、素子特性が影響されないことを保証する。
【００１７】
本発明の上記内容を更に分かり易くするために、以下において実施例を挙げ、図面と併せて詳細に説明する。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の実施例１による液晶表示パネルの構造模式図である。
【図２】本発明の実施例による素子層の構造模式図である。
【図３】本発明の実施例２による液晶表示パネルの構造模式図である。
【図４】本発明の実施例によるバッファ層の構造模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
本明細書において、用語「実施例」は、実例、例示又は例証として使用されることが意図されている。さらに、本明細書及び添付した特許請求の範囲で使用される冠詞「一」は、別段の指定がない限り、又は、前後の文脈から単数形を意図することが明らかでない限り、一般的に、一般的に、「１つ又は複数」を意味すると解釈され得る。
【００２０】
本発明の表示パネルは、例えば、ＴＦＴ−ＬＣＤ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ、薄膜トランジスタ液晶表示パネル）、ＡＭＯＬＥＤ（Ａｃｔｉｖｅ  Ｍａｔｒｉｘ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ、アクティブマトリクス有機発光ダイオードパネル）などの表示パネルであってもよい。
【００２１】
本発明の実施例では、素子層の同じ側に二層の紫外線保護層が設けられ、第１層の紫外線保護層はＵＶ光源に近接し、光学的に厚い媒体であり、第２層の紫外線保護層はＵＶ光源から離隔し、光学的に薄い媒体であり、前記第１層の紫外線保護層のＵＶ光に対する屈折率は、前記第２層の紫外線保護層のＵＶ光に対する屈折率より高い。前記第１層の紫外線保護層から前記第２層の紫外線保護層に前記ＵＶ光源を照射すると、前記位置で全反射が発生して、前記素子層を保護する。それにより、本発明は、プロセスやコストを増大させずに、成膜条件を改善して高密度の二酸化珪素薄膜を取得し、全反射特性を利用してＵＶ照射の影響を回避し、ＵＶマスクを一つ減少でき、素子特性が影響されないことを保証する。
【００２２】
本発明は液晶表示パネルを提供する。前記液晶表示パネルは、カラーフィルム基板と、対応して設けられるアレイ基板とを含む。前記アレイ基板は、ガラス基板と、前記ガラス基板の上方に設けられる素子層とを含み、前記素子層内には薄膜トランジスタが設けられる。前記素子層の同じ側には二層の紫外線保護層が設けられ、第１層の紫外線保護層はＵＶ光源に近接し、第２層の紫外線保護層はＵＶ光源から離隔し、前記第１層の紫外線保護層のＵＶ光に対する屈折率は、前記第２層の紫外線保護層のＵＶ光に対する屈折率より高い。
【００２３】
下記では、具体的な実施例を用いて、本発明の技術方案を説明する。
〈実施例１〉
【００２４】
図１は、本発明の実施例１による液晶表示パネルの構造模式図である。説明を簡単にするために、本発明の実施例に関連する部分のみが示されている。前記液晶表示パネルは、カラーフィルム基板と、対向して設けられるアレイ基板とを含む。
【００２５】
前記アレイ基板は、ガラス基板１００、素子層２００、平坦層３００、絶縁層４００、画素電極層５００、及び配向膜層６００を含む。前記素子層２００は、前記ガラス基板１００の上方に設けられる。前記平坦層３００は、前記素子層２００の上方に設けられる。絶縁層４００は、前記平坦層３００の上方に設けられ、且つ少なくとも一部の領域が前記配向膜層に隣接する。前記画素電極層５００は、絶縁層４００の上方に設けられる。配向膜層６００は、前記画素電極層５００の上方に設けられる。配向膜層６００は、液晶分子を特定の方向に配向させるために用いられる。前記配向膜層６００は、前記カラーフィルム基板に近接する前記アレイ基板の表面に位置する。
【００２６】
しかしながら、前記平坦層３００はあってもなくてもよく、平坦層３００が設けられる場合、素子層を平坦化することができることを理解すべきである。
【００２７】
本発明の一実施例として、前記配向膜層に対して光配向処理を行う際に、第１層の紫外線保護層及び第２層の紫外線保護層のいずれもが前記素子層と前記配向膜層との間に位置する。しかしながら、前記配向膜層に対して光配向処理を行う際に、前記第１層の紫外線保護層は前記配向膜層であってもよく、前記第２層の紫外線保護層は前記素子層と前記配向膜層との間に位置することを理解すべきである。
【００２８】
具体的には、絶縁層４００は窒化珪素であり、配向膜層６００は従来の配向膜材料である。製造中に、絶縁層４００及び配向膜層６００の成膜条件をそれぞれ調節することだけで、配向膜層６００の屈折率は、絶縁層４００の屈折率より著しく高くなる。屈折率がより大きな配向膜層６００は第１層の紫外線保護層として使用され、屈折率が小さい絶縁層４００は第２層の紫外線保護層として使用される。本実施例の光配向製造プロセスにおいて、ＵＶ光源は、アレイ基板の配向膜層６００に近接する側に位置し、前記ＵＶ光源は、光学的に厚い配向膜層６００から光学的に薄い絶縁層４００に照射する。光学的に厚い媒体から光学的に薄い媒体へ光が屈折されるとき、屈折角は常に入射角より大きく、９０°の屈折角に対応する入射角は臨界角と呼ばれる。入射角が臨界角より大きい場合、  光は、境界面の反対側（即ち、光学的に薄い媒体が位置する側）に入ることができないので、全反射される。
【００２９】
同じ理由で、ＵＶ光の入射方向を調整し、本実施例の光学的に厚い媒体としての配向膜層６００及び光学的に薄い媒体としての絶縁層４００を使用して、ＵＶ光を配向膜層６００と絶縁層４００の境界面で全反射させることによって、ＵＶ光がアレイ基板にさらに進入するのを防止して素子層２００を保護する。
【００３０】
本実施例では、アレイ基板における素子層の同じ側に位置する配向膜層６００と絶縁層４００をそれぞれ第１層の紫外線保護層と第２層の紫外線保護層として直接使用して、成膜条件の変更によりそれらの屈折率を調整することによって、配向膜層６００は、より大きい屈折率を有する光学的に厚い媒体になり、絶縁層４００は、配向膜層６００より小さい屈折率を有する光学的に薄い媒体になる。従って、本実施例における第１層の紫外線保護層及び第２層の紫外線保護層は、従来技術のアレイ基板の層数及び製造プロセスを増大せずに、光配向製造プロセスにおいてＴＦＴ素子層に対してより良好な保護を提供することができ、歩留まりを大幅に改善する。
【００３１】
図２は、本発明の実施例による素子層の構造模式図である。説明を簡単にするために、本発明の実施例に関連する部分のみが示されている。
【００３２】
前記素子層２００は、ゲート２０１、分離層２０２、ソースとドレイン２０３、ゲート絶縁層９０１及びチャネル層（Ｎ＋とマークされた層）を含む。ソースとドレイン２０３は、分離層２０２上のビアホールを介してチャネル層の両端にそれぞれ接続される。分離層２０２は、電気的絶縁性の窒化珪素などの材料からなり、ゲート２０１とソース・ドレイン２０３を電気的に絶縁する。ゲート２０１は走査線に接続され、ソース又はドレイン２０３はデータ線に接続される。
〈実施例２〉
【００３３】
図３は、本発明の実施例２による液晶表示パネルの構造模式図である。説明を簡単にするために、本発明の実施例に関連する部分のみが示されている。前記液晶表示パネルは、カラーフィルム基板、対向して設けられるアレイ基板、及び前記アレイ基板と前記カラーフィルム基板とを突き合わせて固定するためのシーラントを含む。
【００３４】
前記アレイ基板は、ガラス基板１００、バッファ層７００、及び素子層２００を含む。前記バッファ層７００は、前記ガラス基板１００と前記素子層２００との間に位置する。前記素子層２００には薄膜トランジスタが設けられる。
【００３５】
本発明の実施例では、前記バッファ層７００は、多層構造であり、第１層の紫外線保護層及び第２層の紫外線保護層を含む。第１層の紫外線保護層はＵＶ光源に近接し、第２層の紫外線保護層はＵＶ光源から離隔し、前記第１層の紫外線保護層のＵＶ光に対する屈折率は、前記第２層の紫外線保護層のＵＶ光に対する屈折率より高い。
【００３６】
図４に示されるように、本発明の実施例では、前記バッファ層は、第１窒化珪素層７０１、酸化珪素層７０２、及び第２窒化珪素層７０３を含み、前記第１窒化珪素層および前記第２窒化珪素層のうち、ガラス基板に近接する層は第１層の紫外線保護層であり、それに対してガラス基板から離隔する層は第２層の紫外線保護層である。
【００３７】
本発明の実施例では、第１窒化珪素層７０１及び酸化珪素層７０２の成膜条件をそれぞれ調節することによって、第１窒化珪素層７０１の屈折率は酸化珪素層７０２の屈折率より著しく高くなる。屈折率がより大きな第１窒化珪素層７０１は第１層の紫外線保護層として使用され、屈折率が小さい酸化珪素層７０２は第２層の紫外線保護層として使用される。
【００３８】
本発明の好ましい実施例として、前記素子層と前記ガラス基板との間には複数の光遮蔽シート９００がさらに設けられ、各前記光遮蔽シートは、１つの前記薄膜トランジスタと正対して設けられ、且つ該薄膜トランジスタを完全にカバーする。前記光遮蔽シート９００は、素子層２００への光の影響を回避するために、前記ガラス基板１００上に設けられる。
【００３９】
本発明の実施例では、前記シーラントに対して光硬化処理を行う際に、前記ＵＶ光源は、前記アレイ基板のガラス基板側から入射し、光遮蔽シートは直射ＵＶ光を遮断して、ＵＶ光が素子層に入射されるのを防止し、素子層２００への光の影響を防止する。しかしながら、斜めのＵＶ光も存在するため、本発明の実施例では、バッファ層が設けられ、前記バッファ層は、前記第１層の紫外線保護層及び前記第２層の紫外線保護層を含むので、第１層の紫外線保護層と前記第２層の紫外線保護層の境界面で斜めのＵＶ光が全反射されることによって、ＵＶ光がアレイ基板にさらに進入するのを防止して素子層２００を保護する。
〈実施例３〉
【００４０】
図２及び図３は、本発明の実施例３による液晶表示パネルの構造模式図である。説明を簡単にするために、本発明の実施例に関連する部分のみが示されている。前記液晶表示パネルは、カラーフィルム基板、対向して設けられるアレイ基板、及び前記アレイ基板と前記カラーフィルム基板とを突き合わせて固定するためのシーラントを含む。
【００４１】
前記アレイ基板は、ガラス基板１００、光遮蔽シート９００、バッファ層７００、素子層２００、平坦層３００、絶縁層４００、画素電極層５００、及び配向膜層６００を含む。前記光遮蔽シート９００は、素子層２００への光の影響を回避するために、前記ガラス基板１００上に設けられる。バッファ層７００は、前記光遮蔽シート９００の上方に設けられる。素子層２００は、バッファ層７００の上方に設けられる。前記平坦層３００は、前記素子層２００の上方に設けられる。絶縁層４００は、前記平坦層３００の上方に設けられ、且つ少なくとも一部の領域が前記配向膜層に隣接する。前記画素電極層５００は、絶縁層４００の上方に設けられる。配向膜層６００は、前記画素電極層５００の上方に設けられる。配向膜層６００は、液晶分子を特定の方向に配向させるために用いられる。前記配向膜層６００は、前記カラーフィルム基板に近接する前記アレイ基板の表面に位置する。
【００４２】
本実施例の光配向製造プロセスにおいて、ＵＶ光源は、アレイ基板の配向膜層６００に近接する側に位置し、前記ＵＶ光源は、光学的に厚い配向膜層６００から光学的に薄い絶縁層４００に照射する。光学的に厚い媒体から光学的に薄い媒体へ光が屈折されるとき、屈折角は常に入射角より大きく、９０°の屈折角に対応する入射角は臨界角と呼ばれる。入射角が臨界角より大きい場合、光は、境界面の反対側（即ち、光学的に薄い媒体が位置する側）に入ることができないので、全反射される。
【００４３】
同じ理由で、ＵＶ光の入射方向を調整し、本実施例の光学的に厚い媒体としての配向膜層６００及び光学的に薄い媒体としての絶縁層４００を使用して、ＵＶ光を配向膜層６００と絶縁層４００の境界面で全反射することによって、ＵＶ光がアレイ基板にさらに進入するのを防止して素子層２００を保護する。
【００４４】
本発明の実施例では、シーラントによりアレイ基板とカラーフィルム基板を位置合わせして液晶パネルセルを形成し、ＵＶ光源により前記液晶パネルセルを照射してシーラントを硬化させることによって、前記アレイ基板と前記カラーフィルム基板との信頼性の高い接続と良好な密封性能を確保する。
【００４５】
前記シーラントに対して光硬化処理を行う際に、前記ＵＶ光源は、前記アレイ基板のガラス基板側から入射し、光遮蔽シートは直射ＵＶ光を遮断して、ＵＶ光が素子層に入射されるのを防止し、素子層２００への光の影響を防止する。しかしながら、斜めのＵＶ光も存在するため、本発明の実施例では、バッファ層が設けられ、前記バッファ層は、前記第１層の紫外線保護層及び前記第２層の紫外線保護層を含むので、第１層の紫外線保護層と前記第２層の紫外線保護層の境界面で斜めのＵＶ光が全反射されることによって、ＵＶ光がアレイ基板にさらに進入するのを防止して素子層２００を保護する。
【００４６】
上述したように、本発明では、素子層の同じ側に二層の紫外線保護層が設けられ、第１層の紫外線保護層はＵＶ光源に近接し、光学的に厚い媒体であり、第２層の紫外線保護層はＵＶ光源から離隔し、光学的に薄い媒体であり、前記第１層の紫外線保護層のＵＶ光に対する屈折率は、前記第２層の紫外線保護層のＵＶ光に対する屈折率より高い。前記第１層の紫外線保護層から前記第２層の紫外線保護層に前記ＵＶ光源を照射すると、前記位置で全反射が発生して、前記素子層を保護する。それにより、本発明は、プロセスやコストを増大させずに、成膜条件を改善して高密度の二酸化珪素薄膜を取得し、全反射特性を利用してＵＶ照射の影響を回避し、ＵＶマスクを一つ減少でき、素子特性が影響されないことを保証する。
【００４７】
１つ以上の実施形態に関して本発明を図示及び説明したが、当業者は、本明細書及び添付の図面を読んで理解した上で、同等の変形及び修正を想到することができる。本発明は、このようなすべての修正及び変形を含み、特許請求の範囲のみによって限定される。特に、上記の構成要素によって実行される様々な機能に関して、そのような構成要素を記述するための用語は、構造が本明細書の例示的な実施形態における機能の開示された構造と同一でない場合であっても、該構成要素の特定の機能（例えば、それは機能的に等価である）を実行する任意の構成要素（特に指示のない限り）に対応することが意図されている。さらに、本明細書の特定の特徴は、幾つかの実施形態のうちの１つのみに関して開示されているが、そのような特徴は、例えば所与の又は特定の用途に対して望ましく、かつ有利であり得る１つまたは複数の他の実施形態と組み合わせることができる。また、用語「含む」、「有する」、「含有する」、又はそれらの変形が、具体的な実施形態又は特許請求の範囲で使用されている限り、これら用語は、用語「含む」と同様に、包括的であることが意図される。
【００４８】
上述したように、本発明は好ましい実施例を挙げたが、前記好ましい実施例は本発明を制限するものではなく、当業者にとって、本発明の主旨と範囲を逸脱しない前提で、いろんな更新と修飾を行うことができ、そのため、本発明の保護範囲は特許請求の範囲に記載されている技術特徴を基準にするべきである。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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