(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
マグネシウムまたはその合金を溶融させる溶融炉と、
前記溶融炉から供給されるマグネシウムまたはその合金の溶湯を冷却し、連続鋳造する一対のロールからなる双ロールと、を備え、
前記一対のロール間のギャップの上に、前記溶湯を溜める筒状の溶湯溜めが設けられ、
前記溶融炉と前記溶湯溜めとの間に、前記溶湯を前記溶湯溜めに供給する溶湯供給管が
設けられ、
前記溶湯供給管は、その吐出口が前記溶湯溜めに溜められた溶湯の湯面より下方に位置していることを特徴とする連続鋳造装置。
【請求項２】
前記溶湯溜めに溜められた溶湯の押し出し圧力を制御する溶湯圧制御手段が設けられていることを特徴とする請求項１に記載の連続鋳造装置。
【請求項３】
前記溶湯溜めの上に該溶湯溜めに連通する筒状のタワー部が接続され、
前記溶湯圧制御手段は、前記溶湯供給管によって前記溶湯溜めに供給する溶湯の量を調整し、溶湯の湯面を前記タワー部内にて昇降させる溶湯供給装置によって構成されていることを特徴とする請求項２記載の連続鋳造装置。
【請求項４】
前記溶湯溜めの上に該溶湯溜めに連通する筒状のタワー部が接続され、
前記溶湯圧制御手段は、前記タワー部内の前記溶湯の湯面の上方に不活性ガスを導入し、該タワー部内の溶湯の押し出し圧力を調整する不活性ガス供給装置によって構成されていることを特徴とする請求項２記載の連続鋳造装置。
【請求項５】
前記溶湯溜めには、該溶湯溜め内の溶湯の前記双ロールへの流れを整える整流装置が設けられていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の連続鋳造装置。
【請求項６】
前記一対のロール間の上で、かつ、前記溶湯溜めの下に、該溶湯溜めから供給される溶湯を前記一対のロール間のギャップに案内する案内孔を有するチャンバーブロックが、設けられており、
前記チャンバーブロックは、前記一対のロールとの間に隙間をあけて該一対のロールに対して非接触で配置されていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の連続鋳造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、連続鋳造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、非鉄金属の連続鋳造技術として、例えば特許文献１、特許文献２、特許文献３には、易反応性金属であるマグネシウムの合金の、薄板の製造技術が開示されている。特許文献１には、ロールを鉛直方向に配置した水平鋳造の技術が開示されている。特許文献２には、一対の第１ロール間で鋳造された板材に、少なくとも一対の第２ロールによって圧力を加え、圧延して所定の厚さのマグネシウム系金属薄板を製造する技術が開示されている。特許文献３には、連続鋳造を行う装置全体をチャンバー（容器）に入れて雰囲気制御する技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１２−１９３４１２号公報
【特許文献２】特開２００８−３０７５４２号公報
【特許文献３】特開２００３−２６６１５０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、非鉄金属の連続鋳造において、特に易反応性金属であるマグネシウム系の材料の双ロール連続鋳造、及び溶湯直接圧延では、鋳造前の液体状態における材料表面の酸化物や大気中の成分と結合した不純物が製品品質を低下させる要因となるため、鋳造前の液体材料（溶湯）の外気との反応防止が強く望まれている。また、液体材料が順次ロールと接触して冷却され凝固するので、得られる薄板の品質を所定の品質以上に維持するためにはロールへの熱伝達を均一化する必要があり、従って液体材料のロールへの押し付け圧力を精密に制御することも重要になっている。
【０００５】
しかしながら、特許文献１の技術では、溶解炉以外で液面が多く存在するため、大気中の成分と溶融金属とが反応した不純物が発生し、製品品質の低下が懸念される。また、ロールが鉛直方向に配置された水平鋳造であるため、液体材料のロールへの接触圧力が上ロールと下ロールとで異なることにより、液体材料のロールへの押し付け圧力を精密に制御するのが困難である。
特許文献２の技術でも、特に液体材料の液面を無くす工夫がないため表面の反応による製品品質の低下が懸念される。また、ロールに対する液体材料の押し付け圧力を制御する機能も有していないので、鋳造に伴って溶融金属の湯面が変化すると、その伝熱効果も変化して製品品質が低下してしまう。
特許文献３では、反応防止のために装置全体をチャンバーに入れて雰囲気制御を行っているため、設備が巨大となり、また大きな空間の雰囲気を制御するため雰囲気置換設備も大がかりとなり、従って設備コストが増大してしまう。
【０００６】
本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、設備コストを増大させることなく、液体材料（溶湯）の反応物がロール間に供給されるのを防止した連続鋳造装置を提供することを第１の目的としている。また、ロールに対する液体材料（溶湯）の押し付け圧力を精密に制御できるようにした連続鋳造装置を提供することを第２の目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の連続鋳造装置は、易反応性非鉄金属またはその合金を溶融させる溶融炉と、上記溶融炉から供給される易反応性非鉄金属またはその合金の溶湯を冷却し、連続鋳造する一対のロールからなる双ロールと、を備え、上記一対のロール間のギャップの上に、上記溶湯を溜める筒状の溶湯溜めが設けられ、上記溶融炉と上記溶湯溜めとの間に、上記溶湯を上記溶湯溜めに供給する溶湯供給管が設けられ、上記溶湯供給管は、その吐出口が上記溶湯溜めに溜められた溶湯の湯面より下方に位置させられていることを特徴とする。
【０００８】
また、上記連続鋳造装置においては、上記溶湯溜めに溜められた溶湯の押し出し圧力を制御する溶湯圧制御手段が設けられていることを特徴とする。
【０００９】
また、上記連続鋳造装置においては、上記溶湯溜めの上に該溶湯溜めに連通する筒状のタワー部が接続され、上記溶湯圧制御手段は、上記溶湯供給管によって上記溶湯溜めに供給する溶湯の量を調整し、溶湯の湯面を上記タワー部内にて昇降させる溶湯供給装置によって構成されていることを特徴とする。
【００１０】
また、上記連続鋳造装置においては、上記溶湯溜めの上に該溶湯溜めに連通する筒状のタワー部が接続され、上記溶湯圧制御手段は、上前記タワー部内の前記溶湯の湯面の上方に不活性ガスを導入し、該タワー部内の溶湯の押し出し圧力を調整する不活性ガス供給装置によって構成されていることを特徴とする。
【００１１】
また、上記連続鋳造装置において、上記溶湯溜めには、該溶湯溜め内の溶湯の上記双ロールへの流れを整える整流装置（整流板、または分流箱など）が設けられていることを特徴とする。
【００１２】
また、上記連続鋳造装置においては、上記一対のロール間の上で、かつ、上記溶湯溜めの下に、該溶湯溜めから供給される溶湯を上記一対のロール間のギャップに案内する案内孔を有するチャンバーブロックが、設けられており、上記チャンバーブロックは、上記一対のロールとの間に隙間をあけて該一対のロールに対して非接触で配置されていることを特徴とする。
【００１３】
また、上記連続鋳造装置においては、上記易反応性非鉄金属がマグネシウムであることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の連続鋳造装置によれば、溶融炉から溶湯供給管によって送られてきた溶湯を、溶湯溜めに溜められた溶湯の湯面より下方に位置させられた吐出口から溶湯溜め内に供給するので、反応が起こり易い湯面をそのままにして湯面を形成している溶湯がロール間に流れて連続鋳造に供されることを防止することができる。よって、設備コストを増大させることなく、液体材料（溶湯）の反応物がロール間に供給されるのを防止して得られる連続鋳造製品の品質低下を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明に係る連続鋳造装置の第１実施形態を模式的に示す側面図である。
【図２】双ロールの平面図である。
【図３】図１の要部断面図である。
【図４】溶湯溜めの平面図である。
【図５】本発明に係る連続鋳造装置の第２実施形態を模式的に示す側面図である。
【図６】図５の要部断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、図面を参照して本発明の連続鋳造装置を詳しく説明する。なお、以下の図面においては、各部材を認識可能な大きさとするため、各部材の縮尺を適宜変更している。
図１は、本発明に係る連続鋳造装置の第１実施形態を模式的に示す側面図であり、図１中符号１は連続鋳造装置である。この連続鋳造装置１は、易反応性非鉄金属またはその合金を溶融させる溶融炉２と、溶融炉２から供給される易反応性非鉄金属またはその合金の溶湯を冷却し、連続鋳造する一対のロール３ａからなる双ロール３と、双ロール３上に配置された溶湯溜め４と、溶湯溜め４の上に配置されたタワー部５と、を備えて構成されている。
【００１７】
溶融炉２は、連続鋳造の対象となる易反応性非鉄金属またはその合金を溶融させる炉であり、溶融対象となる材料の融点を超える温度に加熱できる加熱装置（図示せず）を有している。また、溶融炉２には、その内部を気密に閉塞する蓋部２ａが設けられている。そして、溶融した易反応性非鉄金属またはその合金、すなわち溶湯が酸素（空気）に接して反応するのを防止するため、溶融炉２にはその内部に不活性ガスを供給し、充填させる不活性ガス供給装置６が接続されている。
【００１８】
不活性ガス供給装置６は、不活性ガス供給源７と第１不活性ガス供給管８とを有しており、不活性ガス供給源７から供給される不活性ガスを、第１不活性ガス供給管８によって溶融炉２内の溶湯５０の湯面５０ａより上に供給する。このように溶湯５０の湯面５０ａを不活性ガスで覆うことにより、溶湯５０は酸素（空気）と接触し、反応するのが防止されている。
【００１９】
また、溶融炉２にはその蓋部２ａに溶湯供給管９が接続されており、溶融炉２は溶湯供給管９を介して溶湯５０を導出し、双ロール３上の溶湯溜め４に送るように構成されている。溶湯供給管９は、蓋部２ａを貫通して設けられ、その吸入口９ａが、溶融炉２における溶湯５０の湯面５０ａより充分下に配置されている。これによって溶湯供給管９には、湯面５０ａやその近傍に位置していない溶湯５０、すなわち酸素（空気）に触れることで形成される反応物が含まれない溶湯５０が、吸入される。
【００２０】
本実施形態では、溶湯供給管９に溶湯５０を流入させ、双ロール３上の溶湯溜め４に送る溶湯供給装置として、上記の不活性ガス供給装置６が用いられる。不活性ガス供給装置６によって溶融炉２内の溶湯５０の湯面５０ａを加圧することで、溶湯供給管９の吸入口９ａに溶湯５０を流入させ、溶湯溜め４に送ることができる。なお、溶融炉２内の溶湯５０を溶湯供給管９により溶湯溜め４に送る溶湯供給装置としては、不活性ガス供給装置６に代えて、例えば電動モータを有する公知の圧送ポンプによって形成してもよい。
【００２１】
不活性ガス供給装置６の不活性ガス供給源７としては、６フッ化硫黄（ＳＦ６）やアルゴン（Ａｒ）などの不活性ガスを貯留するガスシリンダーやガスタンクと、必要に応じて設けられる圧送ポンプとによって形成される。
【００２２】
双ロール３は、一対のロール３ａを水平且つ同一高さで所定のギャップを有して近接した状態に配置している。
【００２３】
また、双ロール３には、その平面図である図２に示すように、ロール長手方向の端面にそれぞれ堰１２が設けられている。これら堰１２は、一対のロール３ａ間のギャップ上に供給される溶湯５０が、鋳造方向以外に流れ出ないようにシールしている。
【００２４】
なお、双ロール３の下流側には、一対のロール３ａによって連続鋳造された板材を巻き取る巻取機（図示せず）が設けられている。
【００２５】
溶湯溜め４は、双ロール３を構成する一対のロール３ａ間の上、すなわち一対のロール３ａ間のギャップとその近傍の直上に配置されたもので、図１の要部断面図である図３に示すように溶湯５０を溜めて流下させるため貫通孔１３を有した筒状のものである。ここで、この溶湯溜め４は、溶湯溜め４の平面図である図４に示すように、その平面視形状が、ロール３ａの回転軸Ｏ方向に沿う方向を長辺とし、この長辺に直交する方向を短辺とする矩形に形成されている。平面視形状における長辺の長さは、ロール３ａの回転軸方向の長さとほぼ等しい長さに形成されている。平面視形状における短辺の長さは、ロール３ａの径や回転速度等によって適宜に決められる。
【００２６】
溶湯溜め４には、図３に示すようにその一方の長辺側の側面に、溶湯供給管９が貫通して接続されている。溶湯供給管９は、その先端部が下方に向くように湾曲して形成されており、さらに先端にヘッダー１４が設けられている。ヘッダー１４は、図４に示すように貫通孔１３の開口形状に対応して長細く形成されている。このように溶湯供給管９の先端部に貫通孔１３の開口形状に対応したヘッダー１４を設けておくことにより、貫通孔１３の全域に溶湯５０を均等に供給することができる。溶湯溜め４やタワー部５、冷却装置１９などは、その場所で金属が凝固しないように加熱コイルや伝熱線などで加熱して液体の状態を保持するようにしている。ロール３ａだけが溶融金属に対して温度が低くて凝固させる構造である。
【００２７】
また、このようにして供給された溶湯５０が双ロール３側へ均等に流れるように、本実施形態では貫通孔１３内に、その短辺方向に沿って平板状の整流板５３が鉛直方向に立てられて複数設置されている。これにより、ヘッダー１４から供給された溶湯５０は、整流板５３によって流れが整えられることで双ロール３側へ均等に流れ落ちる。
【００２８】
溶湯溜め４の上には、タワー部５が配設されている。タワー部５は、溶湯溜め４と同じ平面視矩形状の筒部１５と、バッファー部１６とから形成されている。筒部１５は、その平面視形状が矩形で、溶湯溜め４より高さが充分に高く形成された筒体であり、溶湯溜め４と同じ平面視形状の貫通孔１７を有している。貫通孔１７は、溶湯溜め４の貫通孔１３と同じ開口形状に形成されて、この貫通孔１３に連通し、かつ連続して配置されている。従って、溶湯溜め４に溜められた溶湯５０は、その湯面５０ｂが溶湯溜め４の貫通孔１３を上昇して、筒部１５の貫通孔１７内まで達している。
【００２９】
バッファー部１６は、筒部１５の上端に配置されて、筒部１５の貫通孔１７の上端側開口を気密に塞ぐもので、内部に筒部１５の貫通孔１７に連通する空間部１８を有している。バッファー部１６は、短辺方向の長さ、すなわちロール３ａの回転軸Ｏと直交する方向の長さが、筒部１５より長く形成されており、従って空間部１８の平面視した面積は、貫通孔１７の平面視した面積より大きくなっている。これにより、溶湯溜め４に供給されて溜められた溶湯５０の量が急激に増加し、その湯面５０ｂが急上昇しても、溶湯５０がバッファー部１６の空間部１８内に流入することで湯面５０ｂの急上昇が抑えられるようになっている。
【００３０】
また、バッファー部１６には、その上蓋１６ａに第２不活性ガス供給管１１が接続している。第２不活性ガス供給管１１は、図１に示した不活性ガス供給源７に接続されて、不活性ガス供給源７から供給された不活性ガスをバッファー部１６の空間部１８内に送る。空間部１８内に送られてきた不活性ガスは筒部１５の貫通孔１７に位置する溶湯５０の湯面５０ｂを覆うことにより、溶湯５０は酸素（空気）と接触し、反応するのが防止されている。また、バッファー部１６の上蓋１６ａには圧力制御弁５６が設けられており、これによってバッファー部１６内の圧、すなわち溶湯５０の湯面５０ｂ上の内圧が調整可能になっている。さらに、バッファー部１６の上蓋１６ａには圧力計５７が設けられており、これによってバッファー部１６内の圧（溶湯５０の湯面５０ｂ上の内圧）が検出可能になっている。
【００３１】
なお、第２不活性ガス供給管１１と不活性ガス供給源７とを有してなる不活性ガス供給装置６により、溶湯溜め４に溜められた溶湯５０の圧を制御することができる。
また、上述した第１不活性ガス供給管８と不活性ガス供給源７とを有してなる溶湯供給装置（不活性ガス供給装置６）によっても、溶湯溜め４に溜められた溶湯５０の圧を制御することができる。このような第１不活性ガス供給管８と不活性ガス供給源７とを有してなる溶湯供給装置（不活性ガス供給装置６）と、第２不活性ガス供給管１１と不活性ガス供給源７とを有してなる不活性ガス供給装置６とのいずれか一方、あるいは両方により、溶湯溜め４に溜められた溶湯５０の圧を制御する本発明に係る溶湯圧制御手段が構成される。
【００３２】
本実施形態では、図３に示すように溶湯溜め４の下で、一対のロール３ａ間のギャップ上に、冷却装置１９が配設されている。冷却装置１９は、四角筒体であり、貫通孔２０を有している。貫通孔２０は溶湯溜め４の貫通孔１３に連通し、かつ連続して配置されている。従って、溶湯溜め４に溜められた溶湯５０は、溶湯溜め４の貫通孔１３を流れ落ちて冷却装置１９の貫通孔２０を通り、一対のロール３ａ間のギャップ上に供されるようになっている。
【００３３】
冷却装置１９は、一対のロール３ａの周面に対して僅かな隙間をあけて配置されている。溶湯５０（半凝固物５１）は冷却装置１９で冷却されて半凝固化された後、直ちに一対のロール３ａの周面にて冷却されるため、ほとんど外気（酸素）に触れることなく、従って反応することなく、連続鋳造される。ただし、一対のロール３ａ上での反応を防止するため、上記の不活性ガス供給源７から第３の不活性ガス供給管（図示せず）を介して不活性ガスを一対の堰１２間に供給し、一対のロール３ａのギャップ上を不活性雰囲気にしてもよい。このようにギャップ上を不活性雰囲気にすることにより、冷却装置１９を流れ出た半凝固物５１がギャップ上にて反応するのを確実に防止することができる。
【００３４】
第２不活性ガス供給管１１と不活性ガス供給源７とを有してなる不活性ガス供給装置６を溶湯圧制御手段として機能させる場合には、第２不活性ガス供給管１１によってバッファー部１６内に供給する不活性ガスの量を調整する。これにより、バッファー部１６内の圧、すなわち溶湯５０の湯面５０ｂ上の内圧を制御し、この内圧が加えられる溶湯溜め４内の溶湯５０の圧を制御することができる。このような内圧の制御は、バッファー部１６に設けた圧力計５７及び圧力制御弁５６を利用することによって精度良く行うことができる。従って、一対のロール３ａの周面に対する溶湯５０（半凝固物５１）の押し付け圧力を精密に制御することができる。
【００３５】
また、第１不活性ガス供給管８と不活性ガス供給源７とを有してなる溶湯供給装置（不活性ガス供給装置６）を溶湯圧制御手段として機能させる場合には、第１不活性ガス供給管８によって溶融炉２に供給する不活性ガスの量を調整し、溶湯供給管９を介して溶湯溜め４に送る溶湯５０の量を制御する。これにより、タワー部５内での溶湯５０の湯面５０ｂを昇降させ、タワー部５、溶湯溜め４、及び冷却装置１９内に溜められた溶湯５０の水頭圧を制御することができる。従って、一対のロール３ａの周面に対する溶湯５０（半凝固物５１）の押し付け圧力を精密に制御することができる。
【００３６】
このような構成の連続鋳造装置１によって連続鋳造を行うには、まず、溶融炉２内においてマグネシウム合金を溶融させる。そして、得られた溶湯５０を溶湯供給管９によって溶湯溜め４の貫通孔１３内に供給する。溶湯供給管９によって溶湯溜め４に供給される溶湯５０は、流れ落ちる溶湯５０よりも多く供給することにより、その湯面５０ｂに位置するように溜める。これにより、溶湯供給管９の吐出口９ｂは溶湯５０の湯面５０ｂより下方に位置することとなり、溶融炉２から溶湯供給管９によって気密な状態で送られてきた溶湯５０は、反応が起こり易い湯面５０ｂを形成する溶湯５０をそのまま湯面５０ｂまたはその近傍に残して、湯面５０ｂより下方に流入し、貫通孔１３を通って冷却装置１９に流れ落ちる。
【００３７】
このようにして溶湯溜め４内に溶湯５０を供給した際、上述の溶湯圧制御手段、すなわち第１不活性ガス供給管８と不活性ガス供給源７とを有してなる溶湯供給装置（不活性ガス供給装置６）、または第２不活性ガス供給管１１と不活性ガス供給源７とを有してなる不活性ガス供給装置６により、溶湯溜め４に溜められた溶湯５０の圧を制御する。これにより、上述したように一対のロール３ａの周面に対する半凝固物５１の押し付け圧力が、予め設定された高圧に精密に制御される。また、溶湯５０の湯面５０ｂがタワー部５の筒部１５内に位置させられているので、溶湯溜め４に溜められた溶湯５０に対して充分に大きい水頭圧がかかっており、従って半凝固物５１の押し付け圧力が大きく変動することなく安定している。
【００３８】
冷却装置１９に流れ落ちた溶湯５０は、冷却管等によって冷却され、かつ、撹拌されることにより、半凝固化される。そして、形成された半凝固物５１は周回する一対のロール３ａ間のギャップに案内される。このようにしてギャップに案内された溶湯５０（半凝固物５１）は、精密に制御された押し付け圧力でロール３ａの周面に押し出され、ロール３ａ間のギャップを通ることにより、凝固して連続鋳造され、板材に形成される。従って、得られた板材を巻き取り、その後両サイドの耳部をカットして所望寸法に形成することにより、製品、または半製品としての板材が得られる。
【００３９】
本実施形態の連続鋳造装置１によれば、溶融炉２から溶湯供給管９によって送られてきた溶湯５０を、溶湯溜め４に溜められた溶湯５０の湯面５０ｂより下方に位置させられた吐出口９ｂから溶湯溜め４内に供給するので、反応が起こり易い湯面５０ｂをそのままにして湯面５０ｂを形成している溶湯５０がロール３ａ間に流れて連続鋳造に供されることを防止することができる。よって、比較的簡易な構成であるため、溶湯５０（液体材料）の反応物がロール３ａ間に供給されるのを防止して得られる連続鋳造製品の品質低下を防止することができる。
【００４０】
特に、反応性が高いマグネシウムやその合金の連続鋳造をした場合にも、その反応を確実に防止できるため、軽くて強度が高いマグネシウム系板材を、良好な品質で製造することができる。
【００４１】
また、溶湯圧制御手段を設けているので、溶湯圧制御手段によって溶湯溜め４に溜められた溶湯５０の押し出し圧力を制御することにより、冷却装置１９を流れ出た半凝固物５１の、一対のロール３ａの周面への押し付け圧力を制御することができる。従って、この押し付け圧力を予め設定した高圧にして加圧鋳造することで、ロール３ａから溶湯５０への熱伝達率を高めて冷却効率を向上させ、さらに、この熱伝達率をロール３ａの周面全体で均等にし、凝固を均等に起こして製品品質のむらをより少なくすることができる。
【００４２】
上記溶湯圧制御手段として、溶湯供給管９によって溶湯溜め４に供給する溶湯５０の量を調整し、溶湯５０の湯面５０ｂをタワー部５内にて昇降させる溶湯供給装置を用いた場合には、溶湯５０の水頭圧を良好に制御することができるため、一対のロール３ａの周面に対する半凝固物５１の押し付け圧力を精密に制御することができる。
【００４３】
上記溶湯圧制御手段として、タワー部５内の溶湯５０の湯面５０ｂの上方に不活性ガスを導入し、該タワー部５内の溶湯５０の押し出し圧力を調整する不活性ガス供給装置６を用いた場合には、第２不活性ガス供給管１１によって供給する不活性ガスの量を調整することにより、溶湯５０の湯面５０ｂ上の内圧を制御することができ、これによって内圧が加えられる溶湯溜め４内の溶湯５０の押し出し圧力を制御することができる。従って、一対のロール３ａの周面に対する半凝固物５１の押し付け圧力を精密に制御することができる。
【００４４】
また、溶湯溜め４に整流板５３を設けているので、ヘッダー１４から供給された溶湯５０の流れを整えて双ロール３側へ均等に流すことができ、従って得られる板材の品質むらを防止することができる。
【００４５】
また、一対のロール３ａ間の上に、溶湯５０を冷却する冷却装置１９を設けているので、冷却装置１９で予備冷却した半凝固物５１を一対のロール３ａからなる双ロール３へ確実に流し込むことができ、従って例えば幅広の板材についてもその連続鋳造を容易に行うことができる。
【００４６】
次に、本発明に係る連続鋳造装置の第２実施形態を説明する。図５は、本発明に係る連続鋳造装置の第２実施形態を模式的に示す側面図であり、図５中符号３０は連続鋳造装置である。この連続鋳造装置３０が図１に示した連続鋳造装置１と異なるところは、双ロール３からの溶湯５０の漏れ出しを防止するために、堰１２に代えてチャンバーブロック３１を設けた点にある。
【００４７】
チャンバーブロック３１は、双ロール３を構成する一対のロール３ａ、ロール３ａ間の上に配置されたもので、その平面視形状が矩形に形成された筒体である。従って、チャンバーブロック３１にも、図６に示すように溶湯溜め４の貫通孔１３や冷却装置１９の貫通孔２０と同じ平面視形状の案内孔３２が形成されている。
【００４８】
このチャンバーブロック３１は、一対のロール３ａ、ロール３ａとの間に隙間をあけてこれらロール３ａに対して非接触で配置されている。そして、この非接触が維持された状態で冷却装置１９に固定されている。
【００４９】
案内孔３２は、冷却装置１９の貫通孔２０と同じ開口形状に形成されて、この貫通孔２０に連通し、かつ連続して配置されている。従って、溶湯溜め４に溜められ、冷却装置１９を通って半凝固化された溶湯５０（半凝固物５１）は、チャンバーブロック３１の案内孔３２を流れ落ちて一対のロール３ａ間のギャップ上に供されるようになっている。
【００５０】
図５に示すようにチャンバーブロック３１の側板部３１ａ、すなわちロール３ａの回転軸Ｏ方向における両端面に平行に配置されてチャンバーブロック３１の平面視形状における短辺を形成する側板部３１ａは、その下側がロール３ａの周面に沿って狭まるように形成され、下端が一対のロール３ａ間のギャップに近接して配置されている。
【００５１】
チャンバーブロック３１の側板部３１ａ、側板部３１ｂは、その下端面、すなわちロール３ａの周面に対向する面が隙間をあけてロール３ａ上に配置されている。これにより、上述したようにチャンバーブロック３１は、一対のロール３ａに対して非接触で配置されている。チャンバーブロック３１とロール３ａとの間の隙間は、この隙間によってチャンバーブロック３１とロール３ａとの間のシール性が充分に確保されるように形成される。
【００５２】
このような構成の連続鋳造装置３０によって連続鋳造を行う場合、特に溶湯５０を一対のロール３ａ間のギャップに案内するチャンバーブロック３１を、これらロール３ａとの間に隙間をあけてロール３ａに対して非接触で配置しているので、例えば第１実施形態のように堰１２をロール３ａの端面に設けることで堰１２が消耗したり、ロール３ａ自体が消耗するといったことが防止される。また、堰１２をロール３ａの端面に設けることでこれらの間に不純物や気泡を巻き込み易くなり、得られる板材４０の品質が低下してしまう、といったおそれも無くなる。
【００５３】
従って、本実施形態の連続鋳造装置３０によれば、チャンバーブロック３１と一対のロール３ａとの間のシール構造を、これらチャンバーブロック３１や一対のロール３ａの摩耗による消耗を生じさせることなく形成できるので、易反応性非鉄金属やその合金を安定した品質で生産性を低下させることなく連続鋳造することができる。
【００５４】
なお、本発明は上記実施形態に限定されることなく、本発明の主旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。
例えば、上記実施形態では双ロール３を、一対のロール３ａ、ロール３ａが水平且つ同一高さに配置されるように構成したが、一対のロールを、鉛直方向の上下に配置してもよく、段違いに斜めに配置してもよい。
【００５５】
また、上記実施形態では溶湯溜め４の下に冷却装置１９を配置し、冷却装置１９により溶湯５０を予備冷却して半凝固化し、ロール３ａ間に供するようにしたが、冷却装置１９を介することなく、溶湯溜め４から直接、又はチャンバーブロック３１を介して溶湯５０をロール３ａ間に供するようにしてもよい。その場合には、連続鋳造装置の装置構成を簡易にして装置コストを低減することができる。
【００５６】
また、上記実施形態の連続鋳造装置では、特にマグネシウム合金の連続鋳造に適用するものとしたが、本発明の連続鋳造装置はマグネシウム合金以外の易反応性非鉄金属またはその合金の連続鋳造にも好適に用いられる。
【符号の説明】
【００５７】
１、３０…連続鋳造装置、２…溶融炉、３…双ロール、３ａ…ロール、４…溶湯溜め、５…タワー部、６…不活性ガス供給装置（溶湯供給装置）、７…不活性ガス供給源、８…第１不活性ガス供給管、９…溶湯供給管、１１…第２不活性ガス供給管、１５…筒部、１６…バッファー部、１９…冷却装置、３１…チャンバーブロック、３２…案内孔、５０…溶湯、５０ａ…湯面、５０ｂ…湯面
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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