(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁ガスが充填される接地タンクと、
前記接地タンクに支持される第１ブッシング及び第２ブッシングと、
前記第１ブッシング内に配置される第１真空インタラプタと、
前記第２ブッシング内に配置される第２真空インタラプタと、
前記第１真空インタラプタと前記第２真空インタラプタの開閉を行う絶縁操作棒と、
前記接地タンク内に設けられ、前記第１真空インタラプタの可動軸と前記第２真空インタラプタの可動軸とを電気的に接続する中間導体と、
前記接地タンク内に設けられ、前記第１真空インタラプタと前記第２真空インタラプタの開閉を行うリンク機構と、を備え、
前記第１真空インタラプタの可動軸が前記接地タンク内に延在し、前記第２真空インタラプタの可動軸が前記接地タンク内に延在し、前記第１真空インタラプタの可動軸と前記第２真空インタラプタの可動軸との角度が鋭角となるように前記接地タンクに前記第１ブッシングと前記第２ブッシングとが支持され、
前記リンク機構は、
前記接地タンク内に回転可能に支持され、前記絶縁操作棒の軸方向の動きを前記第１真空インタラプタまたは前記第２真空インタラプタの可動軸に伝達する第１リンクと、
前記絶縁操作棒の端部に回動可能に設けられ、前記絶縁操作棒から前記第１真空インタラプタまたは前記第２真空インタラプタ方向にそれぞれ延在し、前記第１リンクに接続される第２リンクと、を備えた、ことを特徴とする真空遮断器。
【請求項２】
絶縁ガスが充填される接地タンクと、
前記接地タンクに支持される第１ブッシング及び第２ブッシングと、
前記第１ブッシング内に配置される第１真空インタラプタと、
前記第２ブッシング内に配置される第２真空インタラプタと、
前記第１真空インタラプタと前記第２真空インタラプタの開閉を行う絶縁操作棒と、
前記接地タンク内に設けられ、前記第１真空インタラプタの可動軸と前記第２真空インタラプタの可動軸とを電気的に接続する中間導体と、
前記接地タンク内に設けられ、前記第１真空インタラプタと前記第２真空インタラプタの開閉を行うリンク機構と、を備え、
前記第１真空インタラプタの可動軸が前記接地タンク内に延在し、前記第２真空インタラプタの可動軸が前記接地タンク内に延在し、前記第１真空インタラプタの可動軸と前記第２真空インタラプタの可動軸との角度が鋭角となるように前記接地タンクに前記第１ブッシングと前記第２ブッシングとが支持され、
前記リンク機構は、
前記絶縁操作棒の端部に回動可能に設けられ、前記絶縁操作棒から前記第１真空インタラプタまたは前記第２真空インタラプタ方向にそれぞれ延在し、前記絶縁操作棒の軸方向の動きを前記第１真空インタラプタまたは前記第２真空インタラプタの可動軸に伝達するリンクと、
前記第１真空インタラプタまたは前記第２真空インタラプタの可動軸を軸方向に案内するガイドと、を備えた、ことを特徴とする真空遮断器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、真空遮断器に関し、特に２点切りの真空遮断器の構造に関する。
【背景技術】
【０００２】
真空遮断器（ＶＣＢ）は、主として８４ｋＶ以下の中電圧階級を中心に広く電力系統で適用されている。真空遮断器は、他の遮断器（例えば、ガス遮断器（ＧＣＢ））と比較して、遮断部の寿命が長い、地球温暖化係数の高いガス（例えば、ＳＦ6ガス）の使用量が少ない、ＳＦ6ガスの回収・再利用が容易でライフサイクルコスト（ＬＣＣ）が少ない等の利点がある。また、タンク形遮断器は、真空インタラプタ（ＶＩ）が接地層に覆われており重心が低く、従来の碍子形遮断器と比較して、変流器の取付けが可能であり、耐震性が向上する等の利点を有する。
【０００３】
近年、真空遮断器を高電圧・大容量化することで、真空遮断器の適用拡大が図られている（例えば、非特許文献１）。真空遮断器の高電圧化に対して、遮断部である真空インタラプタを２点直列に接続することで、耐電圧性を向上している（例えば、特許文献１）。
【０００４】
図７に示すように、２点切りの真空遮断器４０は、接地タンク６内に真空インタラプタ２，３が直列に配置された構造を有する。真空遮断器４０にかかる電圧は、各真空インタラプタ２，３に分担されることなる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００７−１８８７３４号公報
【特許文献２】特許第５２３６１２０号公報
【特許文献３】特開２００２−２８１６２０号公報
【非特許文献】
【０００６】
【非特許文献１】長竹和浩、外４名、「１６８ｋＶ  ４０ｋＡ  ２点切りタンク形真空遮断器の開発」、平成１７年電気学会電力・エネルギー部門大会、２００５年、Ｎｏ．３１９、ｐｐ．３８−３，３８−４
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、このような真空遮断器４０は、真空インタラプタ２，３が接地タンク６内に配置されていることから、接地タンク６の影響により、真空インタラプタ２，３が分担する電圧に偏りが生じる（例えば、８：２程度の分担比率になる場合がある）。真空インタラプタ２，３が分担する電圧に偏りが生じると、一方の真空インタラプタにかかる電圧が大きくなるため、より高い電圧に耐え得る真空インタラプタを用いることが必要となる。
【０００８】
そこで、従来の２点切りの真空遮断器４０では、各真空インタラプタ２，３に並列に分圧コンデンサ４１，４２を設け、真空インタラプタ２，３に分担される電圧の偏りを低減している。このように、分圧コンデンサ４１，４２を設けると接地タンク６形が大きくなり、真空遮断器４０が大型化することとなる。
【０００９】
上記事情に鑑み、本発明は、２点切り真空遮断器の小型化に貢献する技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成する本発明の真空遮断器は、絶縁ガスが充填される接地タンクと、接地タンクに支持される第１ブッシング及び第２ブッシングと、を有する真空遮断器であって、第１ブッシング内に第１真空インタラプタを設け、第１真空インタラプタの可動軸が接地タンク内に延在するように、第１ブッシングを接地タンクに支持し、第２ブッシング内に第２真空インタラプタを設け、第２真空インタラプタの可動軸が接地タンク内に延在するように、第２ブッシングを接地タンクに支持し、接地タンク内に、第１真空インタラプタの可動軸と第２真空インタラプタの可動軸とを電気的に接続する中間導体と、第１真空インタラプタ及び第２真空インタラプタの開閉を行うリンク機構と、を設けることを特徴としている。
【発明の効果】
【００１１】
以上の本発明によれば、２点切り真空遮断器の小型化に貢献することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の第１実施形態に係る２点切りタンク形真空遮断器の断面図である。
【図２】真空インタラプタの拡大断面図である。
【図３】（ａ）本発明の第１実施形態に係る真空遮断器のリンク機構（ガイドなし）を示す図、（ｂ）本発明の第１実施形態に係る真空遮断器のリンク機構（ガイドあり）を示す図である。
【図４】（ａ）真空インタラプタが接地タンク内にある場合の電位分布を示す図、（ｂ）真空インタラプタがブッシング内にある場合の電位分布を示す図である。
【図５】本発明の第２実施形態に係る２点切りタンク形真空遮断器の断面図である。
【図６】（ａ）本発明の第２実施形態に係る真空遮断器のリンク機構を示す図、（ｂ）本発明の第２実施形態に係る真空遮断器のリンク機構（三角リンクあり）を示す図である。
【図７】従来技術に係る真空遮断器の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本発明の実施形態に係る真空遮断器について、図面を参照しながら説明する。なお、図1及び図５に示す真空遮断器の断面図は、本発明の実施形態に係る真空遮断器の概略を示す図であり、各構成部材の寸法は説明のため誇張されたものとなっている。
【００１４】
［第１実施形態］
図１は、本発明の第１実施形態に係るタンク形真空遮断器１の断面図である。
【００１５】
真空遮断器１は、真空インタラプタ２，３と、真空インタラプタ２を包囲するブッシング４と、真空インタラプタ３を包囲するブッシング５と、ブッシング４，５を支持する接地タンク６と、を有する。
【００１６】
真空インタラプタ２は、ブッシング４の中心軸上に配置される。図２に示すように、真空インタラプタ２は、絶縁筒と金属フランジで構成された真空容器７内に一対の電極（固定電極８及び可動電極９）を収納して構成される。真空容器７内であって、固定電極８及び可動電極９を覆うように中間シールド１０が設けられる。固定電極８は固定リード２ａの一端に固定される。固定リード２ａの他端部は真空容器７の端面から延在し、ブッシング４の上端部に固定される。可動電極９は、可動リード２ｂの一端に固定される。可動リード２ｂの他端部は真空容器７の端面から接地タンク６内部方向に延在している。なお、真空容器７内であって、可動リード２ｂの挿通部にはベローズ１１が設けられており、真空容器７内を真空に保った状態で可動リード２ｂが軸方向に移動可能となっている。また、可動リード２ｂには、圧接ばね２ｃが設けられており、この圧接ばね２ｃにより可動電極９が設けられたリードが固定電極８方向に付勢される。
【００１７】
真空インタラプタ３は、ブッシング５の中心軸上に配置される。真空インタラプタ３は、真空インタラプタ２と同様の構成を有する。すなわち、図１に示すように、真空インタラプタ３は、固定リード３ａと可動リード３ｂを有する。固定リード３ａの一端は真空容器７内に設けられ、その端部に固定電極８が設けられる。固定リード３ａの他端部は真空容器７から延在し、ブッシング５の上端部に固定される。また、可動リード３ｂの一端は真空容器７内に設けられ、その端部に可動電極９が設けられる。可動リード３ｂの他端部は真空容器７から接地タンク６内部方向に延在している。なお、図示省略しているが、可動リード３ｂの内部には圧接ばね３ｃが設けられており、この圧接ばね３ｃにより可動電極９が設けられたリードが固定電極８方向に付勢される。
【００１８】
ブッシング４，５は、例えば、セラミックス等で形成された碍管である。ブッシング４は、接地タンク６に支持される。このブッシング４の内周部は接地タンク６の内周部と連通している。また、ブッシング４の上端部には、固定リード２ａと導通するブッシング端子４ａが設けられる。さらに、ブッシング４の内周部には軸受４ｂが設けられており、この軸受４ｂに可動リード２ｂが支持される。なお、ブッシング４と接地タンク６との接続部にはブッシング変流器１２が設けられる。同様に、ブッシング５は、接地タンク６に支持される。ブッシング５の内周部は接地タンク６の内周部と連通している。また、ブッシング５の上端部には、固定リード３ａと導通するブッシング端子５ａが設けられ、ブッシング５の内周部には可動リード３ｂを支持する軸受５ｂが設けられる。そして、ブッシング５と接地タンク６との接続部には、ブッシング変流器１３が設けられる。
【００１９】
接地タンク６は、接地された金属容器であり、内部に絶縁ガス（例えば、ＳＦ6ガスや乾燥空気等）が充填される。接地タンク６の内部であって対向する側部には、一対の支持碍子１４，１５が設けられる。支持碍子１４にはコンタクトケース１６が支持され、支持碍子１５にはコンタクトケース１７が支持される。コンタクトケース１６とコンタクトケース１７との間には、中間導体１８が設けられる。また、接地タンク６内であってコンタクトケース１６，１７の下方には、リンク機構ケース１９が設けられる。
【００２０】
コンタクトケース１６には、可動リード２ｂが挿通して設けられる。コンタクトケース１６の可動リード２ｂ挿通部にはリングコンタクト等の接続部（図示せず）が設けられ、コンタクトケース１６と可動リード２ｂが電気的に接続される。また、コンタクトケース１７には、可動リード３ｂが挿通して設けられる。コンタクトケース１７の可動リード３ｂ挿通部にはリングコンタクト等の接続部（図示せず）が設けられ、コンタクトケース１７と可動リード３ｂが電気的に接続される。つまり、可動リード２ｂは、コンタクトケース１６，１７及び中間導体１８を介して可動リード３ｂと電気的に接続される。
【００２１】
リンク機構ケース１９は、真空インタラプタ２，３の開閉を行うリンク機構（図示せず）を収納する。
【００２２】
リンク機構は、可動リード２ｂの端部に接続される絶縁棒２０及び可動リード３ｂの端部に接続される絶縁棒２１に連結される。リンク機構は、可動リード２ｂと可動リード３ｂを軸に沿って移動可能であるものであれば、特に限定されるものではなく、例えば、図３（ａ）に示すリンク機構２２や図３（ｂ）に示すリンク機構２３が用いられる。リンク機構２２（または、リンク機構２３）には、リンク機構２２（または、リンク機構２３）を動作させる絶縁操作棒２４の一端部が接続され、絶縁操作棒２４の他端部は接地タンク６の外部に延出して設けられる。そして、接地タンク６の外部にて、真空インタラプタ２，３の開閉動作を行う操作装置（図示せず）が３相の絶縁操作棒を駆動する相間リンクを介して絶縁操作棒２４に連結される。
【００２３】
具体的に説明すると、図３（ａ）のリンク機構２２は、第１リンク２２ａ，２２ｂと第２リンク２２ｃ，２２ｄとを有する。第１リンク２２ａの一端部はリンク機構ケース１９内に設けられたハウジング２５に回転可能に支持され、第１リンク２２ａの他端部は接続金具２６に回転可能に支持される。第２リンク２２ｃの一端部は第１リンク２２ａに回転可能に支持され、第２リンク２２ｃの他端部は絶縁操作棒２４の端部に回転可能に支持される。なお、接続金具２６の端部には絶縁棒２０の一端部が接続され、絶縁棒２０の他端部には可動リード２ｂの端部が接続される。同様に、第１リンク２２ｂの一端部はハウジング２５に回転可能に支持され、第１リンク２２ｂの他端部は接続金具２７に回転可能に支持される。第２リンク２２ｄの一端部は第１リンク２２ｂに回転可能に支持され、第２リンク２２ｄの他端部は絶縁操作棒２４の端部に回転可能に支持される。そして、接続金具２７の端部には絶縁棒２１の一端部が接続され、絶縁棒２１の他端部には可動リード３ｂの端部が接続される。
【００２４】
リンク機構２２による真空遮断器１の投入動作は、絶縁操作棒２４がハウジング２５に形成されたガイド２５ａに沿って接地タンク６内部方向（図中上方向）に移動すること行われる。すなわち、絶縁操作棒２４の移動に応じて第２リンク２２ｃが右旋回しながら上昇する。この第２リンク２２ｃの回転運動に応じて、第１リンク２２ａが可動リード２ｂを軸に沿って真空インタラプタ２方向に移動させる。その結果、真空インタラプタ２の固定電極８と可動電極９とが接続される。同様に、絶縁操作棒２４の移動に応じて、第２リンク２２ｄが左旋回しながら上昇する。そして、この第２リンク２２ｄの回転運動に応じて、第１リンク２２ｂが可動リード３ｂを軸に沿って真空インタラプタ３方向に移動させる。その結果、真空インタラプタ３の固定電極８と可動電極９とが接続される。
【００２５】
また、リンク機構２２による真空遮断器１の遮断動作は、絶縁操作棒２４がガイド２５ａに沿って接地タンク６の外部方向（図中下方向）に移動することで行われる。すなわち、投入動作と逆の動作により、可動リード２ｂが軸に沿って真空インタラプタ２から引き離される方向に移動し、真空インタラプタ２の固定電極８と可動電極９とが離隔される。同様に、可動リード３ｂが軸に沿って真空インタラプタ３から引き離される方向に移動し、真空インタラプタ３の固定電極８と可動電極９とが離隔される。
【００２６】
図３（ｂ）に示すリンク機構２３は、リンク２３ａ，２３ｂを有する。リンク２３ａの一端部は絶縁操作棒２４の端部に回転可能に支持され、リンク２３ａの他端部は接続金具２６の端部に接続される。また、リンク２３ｂの一端部は絶縁操作棒２４の端部に回転可能に支持され、リンク２３ｂの他端部は接続金具２７の端部に接続される。なお、リンク機構ケース１９内に設けられるハウジング２８にはガイド２８ａ，２８ｂが形成される。ガイド２８ａは、可動リード２ｂが軸に沿って往復運動するように、接続金具２６を案内する。同様に、ガイド２８ｂは、可動リード３ｂが軸に沿って往復運動するように接続金具２７を案内する。
【００２７】
リンク機構２３による真空遮断器１の投入動作は、絶縁操作棒２４がハウジング２８に形成されたガイド２８ｃに沿って接地タンク６の内部方向（図中上方向）に移動することにより行われる。すなわち、絶縁操作棒２４の移動に応じて、リンク２３ａが右旋回しながら上昇する。その結果、リンク２３ａが接続金具２６を押し上げ、可動リード２ｂが軸に沿って真空インタラプタ２方向に移動し、真空インタラプタ２の固定電極８と可動電極９とが接続される。同様に、絶縁操作棒２４の移動に応じて、リンク２３ｂが左旋回しながら上昇する。その結果、リンク２３ｂが接続金具２７を押し上げ、可動リード３ｂが軸に沿って真空インタラプタ３方向に移動し、真空インタラプタ３の固定電極８と可動電極９とが接続される。
【００２８】
また、リンク機構２３による真空遮断器１の遮断動作は、絶縁操作棒２４がガイド２８ｃに沿って接地タンク６の外部方向（図中下方向）に移動することで行われる。すなわち、投入動作と逆の動作により、可動リード２ｂが軸に沿って真空インタラプタ２から引き離される方向に移動し、真空インタラプタ２の固定電極８と可動電極９とが離隔される。同様に、可動リード３ｂが軸に沿って真空インタラプタ３から引き離される方向に移動し、真空インタラプタ３の固定電極８と可動電極９とが離隔される。
【００２９】
以上のような本発明の第１実施形態に係る真空遮断器１によれば、真空インタラプタ２，３をブッシング４，５内に設けることで、真空インタラプタ２，３が受ける接地の影響を低減することができる。その結果、真空インタラプタ２，３が分担する電圧の偏りを抑制することができる。このように真空インタラプタ２，３が分担する電圧の偏りを抑制することで、従来の２点切りタンク形真空遮断器で設けられていた分圧コンデンサが不要となり、真空遮断器１を小型化することができる。
【００３０】
このように、電圧分担が改善されることにより、真空遮断器１の耐電圧性能、遮断性能が向上し、遮断部の小型化、操作装置の低操作力化を図ることができる。また、部品点数を削減することにより、コストの低減及び真空遮断器１の縮小化を図ることができる。
【００３１】
また、接地のない碍子（ブッシング４）内に真空インタラプタ２を配置することで、真空インタラプタ２を接地タンク６内に配置した場合よりも真空インタラプタ２の貫通破壊に対する優位性が向上する。同様に、ブッシング５内に真空インタラプタ３を配置することで、真空インタラプタ３を接地タンク６内に配置した場合よりも真空インタラプタ３の貫通破壊に対する優位性が向上する。つまり、図４（ａ）に示すように、接地タンク６内に真空インタラプタ２（または、真空インタラプタ３）を配置した場合、セラミック沿面（すなわち、真空容器７沿面）に対して、法線方向を含むベクトルの電界が発生する（図中矢印で示す）。電界ストレスの向き（すなわち、電位分布と直角方向）は、電子の軌道を表すため、電界ストレスの向きがセラミック沿面に対して法線方向を含む場合、セラミック沿面の貫通破壊を引き起こすおそれがある。これに対して、図４（ｂ）に示すように、碍子（ブッシング４）内に真空インタラプタ２を配置した場合、電界ストレスの向きは、セラミック沿面（真空容器７沿面）に対して接線方向となる（図中矢印で示す）。その結果、真空容器７の貫通破壊に対する優位性は、接地タンク６内に真空インタラプタ２を配置した場合より、碍子（ブッシング４）内に真空インタラプタ２を配置した場合の方が非常に優れることとなる。同様に、接地タンク６内に真空インタラプタ３を配置した場合より、ブッシング５内に真空インタラプタ３を配置した場合の方が、真空容器７沿面の貫通破壊に対する優位性が非常に優れることとなる。
【００３２】
また、真空インタラプタ２の可動リード２ｂの軸と真空インタラプタ３の可動リード３ｂの軸が鋭角となるようにブッシング４，５を接地タンク６に支持すると、真空インタラプタ２，３を駆動させるリンク機構がＶ字状となり、真空インタラプタ２，３を閉じるときの可動リード２ｂ，３ｂのストロークを稼ぐことができる。その結果、固定電極８と可動電極９との接触（圧接）を確実に行うことができ、真空遮断器１の信頼性が向上する。
【００３３】
つまり、図７に示すように、真空インタラプタ２，３の可動リード２ｂ，３ｂの軸が同軸に設けられた真空遮断器４０では、真空インタラプタ２，３が閉じるにしたがって絶縁操作棒２４の移動に対する可動リード２ｂ，３ｂの移動距離が小さくなることとなる。例えば、固定電極８と可動電極９とが接続されたとき、固定電極８と可動電極９は圧接して設けられる。この圧接が不十分であると、事故電流の電磁反発力等の原因により固定電極８と可動電極９との間にアークが発生し、固定電極８及び可動電極９が損耗または溶着するおそれがある。すなわち、従来技術に係る真空遮断器４０において、固定電極８と可動電極９との接触が不十分であると、真空遮断器４０の遮断性能が損なわれるおそれがあり、固定電極８と可動電極９との接続位置を正確に位置合わせることが必要となる。これに対して、リンク機構がＶ字状であると、真空インタラプタ２，３が閉じるにしたがって絶縁操作棒２４の移動に対する可動リード２ｂ，３ｂの移動距離が小さくなる割合が少なくなり、固定電極８と可動電極９の接続時の可動リード２ｂ，３ｂのストロークを稼ぐことができる。
【００３４】
また、接地タンク６内に中間導体１８を設けることにより、中間導体１８が接地層に覆われることとなり、真空遮断器１にブッシング変流器１２，１３を設けることができる。さらに、接地タンク６を設けることで、重心が低くなり、真空遮断器１の耐震性が向上する。
【００３５】
なお、本発明の真空遮断器１では、可動リード２ｂが長くなるので、可動リード２ｂとコンタクトケース１６と導通する導体筒を真空インタラプタ２とコンタクトケース１６との間に設ける形態とすることもできる（後述の第２実施形態も同様である）。すなわち、この導体筒内であって、導体筒と同軸に可動リード２ｂ（または、可動リード２ｂの端部に接続される絶縁棒２０）を設けることで、導体筒に沿って可動リード２ｂを移動させることができ、真空遮断器１の信頼性が向上する。同様に、可動リード３ｂとコンタクトケース１７と導通する導体筒を真空インタラプタ３とコンタクトケース１７との間に設ける形態とすることもできる。
【００３６】
［第２実施形態］
本発明の第２実施形態に係るタンク形真空遮断器について、図５及び図６を参照して詳細に説明する。本発明の第２実施形態に係る真空遮断器２９は、真空インタラプタ２の可動リード２ｂと真空インタラプタ３の可動リード３ｂが平行となるように接地タンク６にブッシング４，５を設けたものである。よって、第１実施形態に係る真空遮断器１と同様の構成については同じ符号を付し、異なる部分について詳細に説明する。
【００３７】
図５に示すように、本発明の第２実施形態に係る真空遮断器２９は、真空インタラプタ２，３と、真空インタラプタ２を包囲するブッシング４と、真空インタラプタ３を包囲するブッシング５と、ブッシング４，５を支持する接地タンク６とを有する。
【００３８】
真空インタラプタ２の固定リード２ａは、ブッシング４の上端部に固定されるとともに、ブッシング端子４ａに接続される。また、真空インタラプタ２の可動リード２ｂは、接地タンク６方向に延在している。なお、図示省略しているが、可動リード２ｂの内部には圧接ばね２ｃが設けられており、この圧接ばね２ｃにより可動電極９が設けられたリードが固定電極８方向に付勢される。
【００３９】
真空インタラプタ３の固定リード３ａは、ブッシング５の上端部に固定されるとともに、ブッシング端子５ａに接続される。また、真空インタラプタ３の可動リード３ｂは、接地タンク６方向に延在している。なお、図示省略しているが、可動リード３ｂの内部には圧接ばね３ｃが設けられており、この圧接ばね３ｃにより可動電極９が設けられたリードが固定電極８方向に付勢される。
【００４０】
ブッシング４及びブッシング５は、接地タンク６に支持される。このとき、真空インタラプタ２の可動リード２ｂ及び真空インタラプタ３の可動リード３ｂが平行となるように、ブッシング４，５が接地タンク６に支持される。また、ブッシング４と接地タンク６との接続部にはブッシング変流器１２が設けられる。同様に、ブッシング５と接地タンク６との接続部にはブッシング変流器１３が設けられる。
【００４１】
接地タンク６の内部であって対向する側部には、一対の支持碍子１４，１５が設けられる。支持碍子１４と支持碍子１５との間には、コンタクトケース３０が設けられる。また、接地タンク６の内周部には、コンタクトケース３０を支持する支持部３１が設けられる。
【００４２】
コンタクトケース３０には、可動リード２ｂが挿通して設けられる。コンタクトケース３０の可動リード２ｂ挿通部には、リングコンタクト（図示せず）等の接続部が設けられ、コンタクトケース３０と可動リード２ｂが電気的に接続される。また、コンタクトケース３０には、可動リード３ｂが挿通して設けられる。コンタクトケース３０の可動リード３ｂ挿通部には、リングコンタクト（図示せず）等の接続部が設けられ、コンタクトケース３０と可動リード３ｂが電気的に接続される。すなわち、コンタクトケース３０は、実施形態１のコンタクトケース１６，１７と中間導体１８が一体となったものに相当し、可動リード２ｂが、コンタクトケース３０を介して可動リード３ｂと電気的に接続される。また、コンタクトケース３０内には、真空インタラプタ２，３の開閉を行うリンク機構（図示せず）が収納される。リンク機構には、真空インタラプタ２，３の開閉動作を行う絶縁操作棒２４の一端部が接続され、絶縁操作棒２４の他端部は、支持部３１を挿通して接地タンク６の外部に延出して設けられる。そして、接地タンク６の外部にて、真空インタラプタ２，３の開閉動作を行う操作装置（図示せず）が絶縁操作棒２４に連結される。
【００４３】
リンク機構は、可動リード２ｂと可動リード３ｂを軸に沿って移動可能であるものであれば、特に限定されるものではなく、例えば、図６（ａ）に示すリンク機構３２や図６（ｂ）に示すリンク機構３３が用いられる。
【００４４】
具体的に説明すると、図６（ａ）のリンク機構３２は、第１リンク３２ａ，３２ｂと第２リンク３２ｃとを有する。第１リンク３２ａの一端部は可動リード２ｂの端部に接続され、第１リンク３２ａの他端部は、第２リンク３２ｃの一端部に固定される。また、第１リンク３２ｂの一端部は可動リード３ｂの端部に接続され、第１リンク３２ｂの他端部は、第２リンク３２ｃの他端部に固定される。第１リンク３２ａの側部には、ガイド３４が設けられる。ガイド３４は、可動リード２ｂが軸方向に移動するように、第１リンク３２ａを案内する。同様に、第１リンク３２ｂの側部には、ガイド３５が設けられる。ガイド３５は、可動リード３ｂが軸方向に移動するように、第１リンク３２ｂを案内する。そして、第２リンク３２ｃの中央部（すなわち、第１リンク３２ａの接続部と第１リンク３２ｂの接続部の中心部）には、絶縁操作棒２４の一端部が固定される。
【００４５】
リンク機構３２による真空遮断器２９の投入動作は、絶縁操作棒２４がガイド３６に沿って接地タンク６内部方向（図中上方向）に移動すること行われる。すなわち、絶縁操作棒２４の動作に応じて、可動リード２ｂが軸に沿って真空インタラプタ２方向に移動し、真空インタラプタ２の固定電極８と可動電極９とが接続される。同様に、絶縁操作棒２４の動作に応じて、可動リード３ｂが軸に沿って真空インタラプタ３方向に移動し、真空インタラプタ３の固定電極８と可動電極９とが接続される。
【００４６】
また、リンク機構３２による真空遮断器２９の遮断動作は、絶縁操作棒２４がガイド３６に沿って接地タンク６の外部方向（図中下方向）に移動することで行われる。すなわち、投入動作と逆の動作により、可動リード２ｂが軸に沿って真空インタラプタ２から引き離される方向に移動し、真空インタラプタ２の固定電極８と可動電極９とが離隔される。同様に、可動リード３ｂが軸に沿って真空インタラプタ３から引き離される方向に移動し、真空インタラプタ３の固定電極８と可動電極９とが離隔される。
【００４７】
図６（ｂ）に示すリンク機構３３は、図６（ａ）のリンク機構３２において、第１リンク３２ａ，３２ｂと第２リンク３２ｃとの接続部に三角リンク３７，３８を設け、第２リンク３２ｃと絶縁操作棒２４との間に三角リンク３９を設けたものである。
【００４８】
リンク機構３３による真空遮断器２９の投入動作は、絶縁操作棒２４がガイド３６に沿って接地タンク６の内部方向（図中上方向）に移動すること行われる。すなわち、絶縁操作棒２４の動作に応じて、三角リンク３９が回転軸３９ａを中心に左回転し、第２リンク３２ｃが回転軸３９ａを中心に回転する。第２リンク３２ｃの回転運動に応じて、三角リンク３７が回転軸３７ａを中心に左回転し、三角リンク３７の回転運動に応じて第１リンク３２ａが真空インタラプタ２方向に移動する。その結果、可動リード２ｂが軸に沿って真空インタラプタ２方向に移動し、真空インタラプタ２の固定電極８と可動電極９とが接続される。同様に、第２リンク３２ｃの回転運動に応じて、三角リンク３８が回転軸３８ａを中心に左回転し、三角リンク３８の回転運動に応じて第１リンク３２ｂが真空インタラプタ３方向に移動する。その結果、可動リード３ｂが軸に沿って真空インタラプタ３方向に移動し、真空インタラプタ３の固定電極８と可動電極９とが接続される。
【００４９】
また、リンク機構３３による真空遮断器２９の遮断動作は、絶縁操作棒２４がガイド３６に沿って接地タンク６の外部方向（図中下方向）に移動することで行われる。すなわち、投入動作と逆の動作により、可動リード２ｂが軸に沿って真空インタラプタ２から引き離される方向に移動し、真空インタラプタ２の固定電極８と可動電極９とが離隔される。同様に、可動リード３ｂが軸に沿って真空インタラプタ３から引き離される方向に移動し、真空インタラプタ３の固定電極８と可動電極９とが離隔される。
【００５０】
以上のような本発明の第２実施形態に係る真空遮断器２９によれば、第１実施形態に係る真空遮断器１と同様に、真空遮断器２９を小型化することができる。また、電圧分担が改善されることにより、耐電圧性能、遮断性能が向上し、遮断部の小形化、操作装置の低操作力化、部品点数削減を図ることができる。さらには、貫通破壊に対する優位性が高い真空遮断器２９を得ることができる。
【００５１】
また、真空インタラプタ２，３を接地タンク６に対して垂直に配置することで、真空遮断器２９の組立性が向上する。
【００５２】
また、真空インタラプタ２の可動リード２ｂの軸と真空インタラプタ３の可動リード３ｂの軸が平行となるように真空インタラプタ２，３を設けることで、絶縁操作棒２４の移動距離に応じて、第１リンク３２ａ，３２ｂ（すなわち、可動リード２ｂ，３ｂ）が移動することとなる。その結果、第１実施形態の真空遮断器１よりもさらに、真空インタラプタ２，３を閉じるときの可動リード２ｂ，３ｂのストロークを稼ぐことができる。
【符号の説明】
【００５３】
１，２９…真空遮断器
２，３…真空インタラプタ
２ａ，３ａ…固定リード
２ｂ，３ｂ…可動リード（可動軸）
２ｃ，３ｃ…圧接ばね
４，５…ブッシング
６…接地タンク
７…真空容器
８…固定電極
９…可動電極
１０…中間シールド
１１…ベローズ
１２，１３…ブッシング変流器
１４，１５…支持碍子
１６，１７…コンタクトケース
１８…中間導体
１９…リンク機構ケース
２０，２１…絶縁棒
２２，２３，３２，３３…リンク機構
２４…絶縁操作棒
３０…コンタクトケース（中間導体）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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