(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子線を照射する電子線源と、電子検出器とを備えた電子顕微鏡の試料室内に配置されるＸ線像撮像用ユニットであって、
前記電子線が照射されることによりＸ線を発生するＸ線ターゲット部と、
試料を透過した前記Ｘ線が入射されることによりＸ線像を生成するＸ線撮像部と、
前記Ｘ線ターゲット部と前記Ｘ線撮像部との間に位置し、前記試料が配置される試料台部と、
前記試料台部を支持する試料支持体と、
前記Ｘ線ターゲット部を支持するターゲット支持体と、
を備え、
少なくとも前記試料台部と前記試料支持体との間には、弾性部材が配置され、
前記試料台部は、前記Ｘ線ターゲット部に接触したとき前記Ｘ線ターゲット部の傾斜に沿うように傾斜可能に、前記弾性部材を介して支持される、
Ｘ線像撮像用ユニット。
【請求項２】
前記弾性部材が複数配置される、請求項１に記載のＸ線像撮像用ユニット。
【請求項３】
単一の前記弾性部材が配置される、請求項１に記載のＸ線像撮像用ユニット。
【請求項４】
前記弾性部材の側面の少なくとも一部を包囲する包囲部材を有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載のＸ線像撮像用ユニット。
【請求項５】
前記Ｘ線ターゲット部と前記試料との間の距離を規定するためのスペーサ部を有する、請求項１〜４のいずれか一項に記載のＸ線像撮像用ユニット。
【請求項６】
前記試料台部は、
前記試料が配置される試料配置面と、
前記試料配置面よりも前記Ｘ線ターゲット部側に位置し、前記Ｘ線ターゲット部と前記試料との間の距離を規定するための突出部と、
をさらに有する、請求項１〜４のいずれか一項に記載のＸ線像撮像用ユニット。
【請求項７】
前記弾性部材は、金属材料からなるバネ材である、請求項１〜６のいずれか一項に記載のＸ線像撮像用ユニット。
【請求項８】
前記弾性部材は、樹脂製である、請求項１〜６のいずれか一項に記載のＸ線像撮像用ユニット。
【請求項９】
前記弾性部材は、前記試料台部と前記試料支持体との間のみに配置される、請求項１〜８のいずれか一項に記載のＸ線像撮像用ユニット。
【請求項１０】
前記Ｘ線ターゲット部と前記ターゲット支持体との間には、別の弾性部材が配置され、
前記Ｘ線ターゲット部は、前記別の弾性部材を介して支持される、請求項１〜９のいずれか一項に記載のＸ線像撮像用ユニット。
【請求項１１】
電子線を照射する電子線源と、
前記電子線が照射されることによりＸ線を発生するＸ線ターゲット部と、
試料を透過した前記Ｘ線が入射されることによりＸ線像を生成するＸ線撮像部と、
前記Ｘ線ターゲット部と前記Ｘ線撮像部との間に位置し、前記試料が配置される試料台部と、
前記試料台部を支持する試料支持体と、
前記Ｘ線ターゲット部を支持するターゲット支持体と、
を備え、
少なくとも前記試料台部と前記試料支持体との間には、弾性部材が配置され、
前記試料台部は、前記Ｘ線ターゲット部に接触したとき前記Ｘ線ターゲット部の傾斜に沿うように傾斜可能に、前記弾性部材を介して支持される
Ｘ線顕微鏡。
【請求項１２】
電子検出器をさらに備える、請求項１１に記載のＸ線顕微鏡。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、Ｘ線像撮像用ユニット及びＸ線顕微鏡に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）等の電子顕微鏡において、試料の電子線像を取得する機能以外の機能が付加されたものが知られている。例えば下記特許文献１には、電子線が照射されることによりＸ線を発生するＸ線ターゲットと、このＸ線が入射されることによりＸ線像を生成するＸ線撮像部とを有するＳＥＭが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００５−２２２８１７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記特許文献１に記載のＳＥＭでは、電子線の照射方向において、Ｘ線ターゲット及びＸ線撮像部の間の距離ｂとＸ線ターゲット及び試料の間の距離ａとの比率（ｂ／ａ）が、撮像されるＸ線像の倍率に相当する。Ｘ線像の倍率を上げるためには、試料をＸ線ターゲットに近づけることによって距離ａを小さくすることが一般的である。つまり、試料とＸ線ターゲットとが互いに密着したときに、理論上の最大倍率となる。
【０００５】
ここで、ＳＥＭの構成部材及び構成機構の加工精度や組立精度上、Ｘ線ターゲットと、試料が配置される試料台との間において、意図せず一方が他方に対して傾斜した状態になることがある。この場合、試料とＸ線ターゲットとを近づけていき、例えば試料台の端部のみが先にＸ線ターゲットやその支持部等と接した状態となると、それ以上の試料とＸ線ターゲットとの接近が妨げられてしまう。そのため、試料とＸ線ターゲットとの間に隙間があったとしても、それ以上接近させることができない。したがって、Ｘ線像の最大倍率が制限されてしまうことになる。
【０００６】
本発明は、より高倍率なＸ線像を取得可能なＸ線像撮像用ユニット及びＸ線顕微鏡を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係るＸ線像撮像用ユニットは、電子線を照射する電子線源と、電子検出器とを備えた電子顕微鏡の試料室内に配置され、電子線が照射されることによりＸ線を発生するＸ線ターゲット部と、試料を透過したＸ線が入射されることによりＸ線像を生成するＸ線撮像部と、Ｘ線ターゲット部とＸ線撮像部との間に位置し、試料が配置される試料台部と、試料台部を支持する試料支持体と、Ｘ線ターゲット部を支持するターゲット支持体と、を備え、試料台部と試料支持体との間、及びＸ線ターゲット部とターゲット支持体との間の少なくとも一方には、弾性部材が配置され、試料台部及びＸ線ターゲット部の少なくとも一方は、弾性部材を介して支持される。
【０００８】
このＸ線像撮像用ユニットでは、試料台部と試料支持体との間、及びＸ線ターゲット部とターゲット支持体との間の少なくとも一方には、弾性部材が配置されており、試料台部及びＸ線ターゲット部の少なくとも一方は、弾性部材を介して支持される。これにより、Ｘ線ターゲット部と試料台部とにおいて、一方が他方に対して傾斜して支持されており、例えば試料台部の端部のみが先にＸ線ターゲット部やターゲット支持体に当接した場合であっても、試料台部及びＸ線ターゲット部の少なくとも一方が他方の傾斜に沿うように弾性部材が変形する。この弾性部材の変形により、例えば試料台部の端部のみが先にＸ線ターゲット部やターゲット支持体に当接した後でも、試料台部に配置された試料とＸ線ターゲット部とをさらに近づけることができる。したがって、電子線の照射方向におけるＸ線ターゲット部と試料との距離の最小値をより小さくできるので、より高倍率なＸ線像を取得可能である。
【０００９】
また、弾性部材が複数配置されてもよい。この場合、複数の弾性部材による安定した支持ができる。
【００１０】
また、単一の弾性部材が配置されてもよい。この場合、簡易な構造の弾性部材による支持ができる。
【００１１】
また、弾性部材の側面の少なくとも一部を包囲する包囲部材を有してもよい。この場合、包囲部材によって弾性部材の変形状態を制御することができる。
【００１２】
また、Ｘ線ターゲット部と試料との間の距離を規定するためのスペーサ部を有してもよい。この場合、スペーサ部の高さを設定することにより、Ｘ線像の最大倍率を所望の値に設定することができる。
【００１３】
また、試料台部は、試料が配置される試料配置面と、試料配置面よりもＸ線ターゲット部側に位置し、Ｘ線ターゲット部と試料との間の距離を規定するための突出部とをさらに有してもよい。この場合、試料配置面に対する突出部の高さを設定することにより、Ｘ線像の最大倍率を所望の値に設定することができる。
【００１４】
また、弾性部材は、金属材料からなるバネ材であってもよい。この場合、Ｘ線による弾性部材の劣化が低減され、当該弾性部材による安定した弾性を得ることが可能になる。
【００１５】
また、弾性部材は、樹脂製であってもよい。この場合、例えばバネ材よりも厚さを小さく設定することができる。
【００１６】
また、試料支持体は、試料台部と試料支持体との間に配置されてもよい。この場合、試料台部とＸ線ターゲット部やターゲット支持体とが互いに当接した場合であっても、Ｘ線の焦点のずれの発生を抑制しつつ、試料をＸ線ターゲット部に近づけることができる。
【００１７】
また、ターゲット支持体は、Ｘ線ターゲット部とターゲット支持体との間に配置されてもよい。この場合、試料台部とＸ線ターゲット部やターゲット支持体とが互いに当接した場合であっても、試料台上の試料におけるＸ線像取得可能領域の位置の変化を抑制しつつ、試料をＸ線ターゲット部に近づけることができる。
【００１８】
本発明に係るＸ線顕微鏡は、電子線を照射する電子線源と、電子線が照射されることによりＸ線を発生するＸ線ターゲット部と、試料を透過したＸ線が入射されることによりＸ線像を生成するＸ線撮像部と、Ｘ線ターゲット部とＸ線撮像部との間に位置し、試料が配置される試料台部と、試料台部を支持する試料支持体と、Ｘ線ターゲット部を支持するターゲット支持体と、を備え、試料台部と試料支持体との間、及びＸ線ターゲット部とターゲット支持体との間の少なくとも一方には、弾性部材が配置され、試料台部及びＸ線ターゲット部の少なくとも一方は、弾性部材を介して支持される。
【００１９】
このＸ線顕微鏡では、試料台部と試料支持体との間、及びＸ線ターゲット部とターゲット支持体との間の少なくとも一方には、弾性部材が配置されており、試料台部及びＸ線ターゲット部の少なくとも一方は、弾性部材を介して支持される。これにより、Ｘ線ターゲット部と試料台部とにおいて、一方が他方に対して傾斜して支持されており、例えば試料台部の端部のみが先にＸ線ターゲット部やターゲット支持体と当接した場合であっても、試料台部及びＸ線ターゲット部の少なくとも一方が他方の傾斜に沿うように弾性部材が変形する。この弾性部材の変形により、例えば試料台部の端部のみが先にＸ線ターゲット部やターゲット支持体に当接した後でも、試料台部に配置された試料とＸ線ターゲット部とをさらに近づけることができる。したがって、電子線の照射方向におけるＸ線ターゲット部と試料との距離の最小値をより小さくできるので、より高倍率なＸ線像を取得可能である。
【００２０】
また、Ｘ線顕微鏡は、電子検出器をさらに備えていてもよい。この場合、Ｘ線顕微鏡は、Ｘ線像のみならず、電子線像をも取得することができる。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、より高倍率なＸ線像を取得可能なＸ線像撮像用ユニット及びＸ線顕微鏡を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】図１は、第１実施形態に係るＸ線像撮像用ユニットが設けられた電子顕微鏡の概略断面図である。
【図２】図２は、第１実施形態に係る電子顕微鏡の使用方法の一例を説明するためのフローチャートである。
【図３】図３（ａ），（ｂ）は、比較例に係るＸ線ターゲット及び試料台の概略断面図である。
【図４】図４（ａ），（ｂ）は、第１実施形態に係るＸ線ターゲット及び試料台の概略断面図である。
【図５】図５は、第１変形例の試料台部を説明するための概略断面図である。
【図６】図６（ａ）は、第１変形例の試料台部の斜視図である。図６（ｂ）は、第２変形例の試料台部の斜視図である。
【図７】図７（ａ）は、第３変形例の試料台部を説明するための概略断面図であり、図７（ｂ）は、第３変形例の試料台部の概略平面図である。
【図８】図８（ａ）は、第４変形例の試料台部を説明するための図であり、図８（ｂ）は、図８（ａ）のVIIIｂ-VIIIｂ線に沿った矢視部分断面図である。
【図９】図９（ａ）は、Ｘ線発生部が当接する前の第５変形例を説明するための試料支持体の概略断面図である。図９（ｂ）は、Ｘ線発生部が当接した後の第５変形例の試料支持体の概略断面図である。
【図１０】図１０（ａ）は、Ｘ線発生部が当接する前の第６変形例を説明するための試料支持体の概略断面図である。図１０（ｂ）は、Ｘ線発生部が当接した後の第６変形例の試料支持体の概略断面図である。
【図１１】図１１（ａ）は、第７変形例の試料支持体の一部の斜視図である。図１１（ｂ），（ｃ）は、第７変形例の試料支持体を示す概略断面図である。
【図１２】図１２（ａ）は、第８変形例のＸ線ターゲットを説明するための概略断面図である。図１２（ｂ）は、第９変形例のＸ線ターゲットの概略断面図である。
【図１３】図１３は、第２実施形態に係るＸ線像撮像用ユニットが設けられた電子顕微鏡の概略断面図である。
【図１４】図１４は、第２実施形態に係る電子顕微鏡の使用方法の一例を説明するためのフローチャートである。
【図１５】図１５は、第３実施形態に係るＸ線顕微鏡の概略断面図である。
【図１６】図１６は、第４実施形態に係るＸ線顕微鏡の概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、以下の説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には、同一符号を用いることとし、重複する説明は省略する。
【００２４】
（第１実施形態）
図１は、第１実施形態に係るＸ線像撮像用ユニット１０が設けられた電子顕微鏡１の概略断面図である。図１に示されるように、電子顕微鏡１は、試料室２内部に設置された試料Ｓに電子線を走査させることにより、電子線像を取得する走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）である。この電子顕微鏡１の試料室２内には、Ｘ線像を撮像するためのＸ線像撮像用ユニット１０（詳細は後述する）が着脱可能に設けられている。電子顕微鏡１にＸ線像撮像用ユニット１０が設置されている場合、当該電子顕微鏡１は、電子線像のモードとＸ線像のモードとを切り替えることができる。すなわち、電子顕微鏡１は、試料Ｓの電子線像及びＸ線像を取得することができる。なお、以下では試料Ｓに対して略垂直方向に電子線を照射する際の電子線の照射軸に沿った方向を方向Ｄ１とする。また、方向Ｄ１に対して直交する平面において、互いに直交する任意の方向をそれぞれ方向Ｄ２，Ｄ３とする。
【００２５】
電子顕微鏡１の筐体１ａ内には、試料室２と、試料Ｓに電子線Ｅを照射する電子線源３と、電子線源３から照射された電子線Ｅを収束させる電子レンズ４と、電子線Ｅを走査する際に用いる電子線偏向部（図示せず）と、電子線Ｅの照射により試料Ｓから発生する二次電子を検出する電子検出器５と、Ｘ線像撮像用ユニット１０が設置されるステージ６とが設けられている。電子検出器５と、ステージ６とは、試料室２内に設けられる。
【００２６】
電子レンズ４には、例えば収束レンズに加えて、対物レンズ及び電子線Ｅを絞る絞り部材等が含まれてもよい。ステージ６は、Ｘ線像撮像用ユニット１０を方向Ｄ２，Ｄ３に移動可能に設けられる。筐体１ａを構成する壁の一部には、試料室２内部を観察できるビューポート２ａが設けられている。このビューポート２ａは、例えばガラスによって形成されており、試料室２内の試料Ｓの位置等を目視するために設けられる。
【００２７】
Ｘ線像撮像用ユニット１０は、筐体１１と、筐体１１上部に取り付けられるＸ線発生部１２と、Ｘ線発生部１２を方向Ｄ２又は方向Ｄ３に移動させるターゲット移動装置１３と、試料Ｓが配置される試料支持機構１４と、試料支持機構１４を支持するユニット内ステージ１５と、試料Ｓを透過したＸ線Ｒが入射されることによりＸ線像を生成するイメージセンサ（Ｘ線撮像部）１６と、イメージセンサ１６を冷却する冷却装置１７とを有している。
【００２８】
ユニット内ステージ１５、イメージセンサ１６、及び冷却装置１７は、それぞれケーブルＣ１〜Ｃ３を介して制御部１８に接続されている。冷却装置１７に含まれる水冷ジャケット１７ａは、水冷パイプＰを介して水冷装置１９に接続されている。これらの制御部１８及び水冷装置１９は、Ｘ線像撮像用ユニット１０に取り付けられる部材であり、電子顕微鏡１の筐体１ａの外側に設けられている。ケーブルＣ１〜Ｃ３及び水冷パイプＰは、試料室２を構成する壁の一部に設けられた真空導入部２ｂから試料室２内に導入されている。
【００２９】
筐体１１は、例えばステンレス等によって形成されている。筐体１１の一部は、電子検出器５による試料Ｓの二次電子の検出を阻害しないよう開放されている。筐体１１は、この開放された部分を閉じるための蓋部を別途有してもよい。
【００３０】
Ｘ線発生部１２は、電子線Ｅが照射されることによりＸ線Ｒを発生するＸ線ターゲット（Ｘ線ターゲット部）２１と、Ｘ線ターゲット２１を支持するターゲット支持体２２とを有している。Ｘ線ターゲット２１は、透過型ターゲットである。ターゲット支持体２２は、ターゲット移動装置１３に取り付けられている。
【００３１】
ターゲット移動装置１３は、例えば電動モータを有しており、この電動モータの駆動によりＸ線発生部１２を移動させる。このターゲット移動装置１３によるＸ線発生部１２の移動によって、Ｘ線発生部１２を電子線Ｅの照射領域から退避させることで電子顕微鏡１の電子線像撮像のモードとＸ線像撮像のモードとを切り替えたり、電子線Ｅの入射位置に対するＸ線ターゲット２１の位置を変更したりすることができる。ターゲット移動装置１３は、電子検出器５による試料Ｓの二次電子の検出を阻害しないように配置される。
【００３２】
試料支持機構１４は、方向Ｄ１においてＸ線発生部１２とイメージセンサ１６との間に位置しており、試料Ｓが配置される試料台部３１と、試料台部３１を支持する試料支持体３２と、試料台部３１と試料支持体３２との間に配置された複数のバネ材（弾性部材）３５とを有し、試料台部３１はバネ材３５を介して試料支持体３２に支持される。試料台部３１は、例えば円盤形状を有している。試料台部３１には、複数の脚部３３が取り付けられている。この脚部３３は、例えば試料台部３１を三点で支持するように取り付けられる。試料台部３１における試料Ｓが配置される部分は、Ｘ線Ｒを透過する部材によって構成される。あるいは、Ｘ線Ｒを通過させるための開口部が当該部分に形成されている。試料支持体３２は、ステンレス製の基部３４を有し、基部３４上には、複数の脚部３３をそれぞれ支持する複数のバネ材３５が配置されるとともに、バネ材３５の側面を包囲する包囲部材３６が固定されている。試料台部３１は、複数のバネ材３５を介して支持される。このバネ材３５は、例えば金属材料からなるコイル状の部材であり、方向Ｄ１に沿って押圧されることにより変形するものである。また、包囲部材３６は、その内部空間にバネ材３５の全体を収容するような筒状部材であり、例えばバネ材３５と比較して非常に変形しにくい部材である。
【００３３】
ユニット内ステージ１５は、制御部１８による制御によって試料支持機構１４を方向Ｄ１に沿って移動させるステージである。ユニット内ステージ１５により、Ｘ線発生部１２と試料支持機構１４（試料Ｓ）との間の距離を任意に調節できる。ここで、方向Ｄ１において、Ｘ線発生部１２及びイメージセンサ１６の間の距離ｂとＸ線発生部１２及び試料Ｓの間の距離ａとの比率（ｂ／ａ）が、撮像されるＸ線像の倍率に相当する。制御部１８によるユニット内ステージ１５の制御によって試料支持機構１４（試料Ｓ）をＸ線発生部１２に近づけることで、電子線像及びＸ線像の倍率を上げることができる。また、制御部１８によるユニット内ステージ１５の制御によって試料支持機構１４をＸ線発生部１２から遠ざけることで、電子線像及びＸ線像の倍率を下げることができる。
【００３４】
イメージセンサ１６は、試料Ｓを透過したＸ線Ｒが入射されることにより当該試料ＳのＸ線像を生成するセンサである。イメージセンサ１６として、例えば電荷結合素子（ＣＣＤ：Charge Coupled Device）等の半導体素子が用いられる。イメージセンサ１６は、ケーブルＣ２を介して制御部１８に接続されており、ステージ６に固定されている。制御部１８は、イメージセンサ１６から得られた信号に基づいて、Ｘ線画像を生成することができる。
【００３５】
冷却装置１７は、イメージセンサ１６の下部に設けられている。この冷却装置１７は、例えば水冷ジャケット１７ａと、ペルチェ素子１７ｂとを有する。ペルチェ素子１７ｂは、ケーブルＣ３を介して接続される制御部１８によって制御される。
【００３６】
図２は、第１実施形態に係る電子顕微鏡１の使用方法の一例を説明するためのフローチャートである。図２に示されるように、例えば下記に示されるステップにて、電子顕微鏡１を用いることができる。
【００３７】
まず、試料Ｓを試料室２内に設置されたＸ線像撮像用ユニット１０の試料支持機構１４上に導入すると共に、試料室２内の空気を排気する（ステップＳ１）。これにより、試料Ｓが導入された試料室２内を真空状態にする。
【００３８】
次に、電子線源３から出射される電子線Ｅの焦点を試料Ｓに調整した後、試料Ｓの電子線像観察を行い、それに基づいて、Ｘ線像の撮像領域を決定する（ステップＳ２）。試料Ｓの電子線像観察時には、電子線像を取得及び撮像してもよい。
【００３９】
次に、ターゲット移動装置１３によるＸ線発生部１２の移動によって、Ｘ線ターゲット２１を電子線Ｅの軸上に配置し（ステップＳ３）、電子線Ｅの焦点をＸ線ターゲット２１に合わせる（ステップＳ４）。そして、所定の倍率（第１の倍率）におけるＸ線像を撮像する（ステップＳ５）。
【００４０】
次に、上記Ｘ線撮像領域内にて第１の倍率よりも高倍率のＸ線像を撮像する場合（ステップＳ６：Ｙｅｓ）、ユニット内ステージ１５を制御することにより、試料支持機構１４をＸ線発生部１２に近づける（ステップＳ７）。ステップＳ７では、例えばビューポート２ａから試料ＳとＸ線発生部１２とを目視により観察しながら、試料支持機構１４とＸ線発生部１２との間の距離を調整する。第１実施形態におけるステップＳ７では、試料ＳがＸ線発生部１２に密着するまで試料支持機構１４をＸ線発生部１２に近づける。この場合、試料台部３１を支持する複数のバネ材３５の一部又は全部が基準面ＢＳより押し込まれることにより、試料ＳがＸ線発生部１２に良好に密着する（後述する図４（ａ），（ｂ）を参照）。
【００４１】
試料支持機構１４をＸ線発生部１２に十分に近づけた後、第１の倍率よりも高倍率の第２の倍率にてＸ線像を撮像する（ステップＳ８）。ステップＳ８の終了後、試料支持機構１４をＸ線発生部１２から遠ざける（ステップＳ９）。ステップＳ９では、例えばビューポート２ａから試料ＳとＸ線発生部１２とを目視により観察しながら、試料支持機構１４とＸ線発生部１２との間の距離を調整する。
【００４２】
次に、Ｘ線撮像領域内にて第１の倍率よりも高倍率のＸ線像を撮像しない場合（ステップＳ６：Ｎｏ）、又はステップＳ９の実行後、ターゲット移動装置１３によるＸ線発生部１２の移動によって、Ｘ線ターゲット２１を電子線Ｅの照射領域外に配置する（ステップＳ１０）。
【００４３】
ステップＳ１０の実行後、試料Ｓの他の領域を観察する場合（ステップＳ１１：Ｙｅｓ）、改めて上記ステップＳ２を行う。ステップＳ１０の実行後、試料Ｓの他の領域を観察しない場合（ステップＳ１１：Ｎｏ）、試料室２を大気開放すると共に試料Ｓを当該試料室２から取り出す（ステップＳ１２）。
【００４４】
ステップＳ１２の実行後、試料Ｓと異なる試料の観察を行う場合（ステップＳ１３：Ｙｅｓ）、改めて上記ステップＳ１を行う。ステップＳ１２の実行後、試料Ｓと異なる試料の観察を行わない場合（ステップＳ１３：Ｎｏ）、試料室２の排気を行い（ステップＳ１４）、電子顕微鏡１の動作を終了する。
【００４５】
以上に説明した、第１実施形態のＸ線像撮像用ユニット１０を用いた電子顕微鏡１によって得られる効果について説明する。図３（ａ），（ｂ）は、比較例に係るＸ線発生部１２及び試料台１１４の概略断面図である。図４（ａ），（ｂ）は、第１実施形態に係るＸ線発生部１２及び試料支持機構１４の概略断面図である。図３（ａ），（ｂ）に示されるように、比較例の試料台１１４は弾性部材を有しておらず、試料台部３１は複数の脚部１３３を介して基部３４に取り付けられている。図３（ａ）に示されるように、Ｘ線発生部１２及び試料台１１４の加工精度や組立精度上、Ｘ線ターゲット２１（Ｘ線ターゲット２１を支持するターゲット支持体２２）と試料台部３１とにおいて、一方が他方に対して傾斜した状態になることがある。この場合、試料台１１４をＸ線発生部１２に近づけると、例えば試料台部３１の端部３１ａが先にターゲット支持体２２に接する状態となる。この場合、図３（ｂ）に示されるように、試料台部３１上の試料ＳとＸ線ターゲット２１との間に隙間があったとしても、それ以上は近づけることができず、撮像可能なＸ線像の最大倍率が制限されてしまうことになる。
【００４６】
これに対して、第１実施形態に係るＸ線像撮像用ユニット１０内の試料支持機構１４は、図４（ａ），（ｂ）に示されるように、弾性部材である複数のバネ材３５を有しており、試料台部３１が当該バネ材３５を介して支持されている。なお、このＸ線発生部１２と接触していない通常状態において、全てのバネ材３５の試料台部３１側端部を含む平面を基準面ＢＳとする。図４（ａ）に示されるように、例えばＸ線ターゲット２１（ターゲット支持体２２）が試料台部３１に対して傾斜しており、試料支持機構１４をＸ線発生部１２に近づける。これにより、試料台部３１の端部３１ａが先にターゲット支持体２２に当接する場合であっても、図４（ｂ）に示されるように、試料台部３１がターゲット支持体２２（Ｘ線ターゲット２１）の傾斜に沿うようにバネ材３５が変形する。具体的には、図４（ｂ）に示されるように、試料台部３１とターゲット支持体２２とが互いに接触することにより一部のバネ材３５が縮む（つまり、バネ材３５の試料台部３１側端部が基準面ＢＳよりも押し込まれるように変形する）ことで、試料台部３１がターゲット支持体２２（Ｘ線ターゲット２１）の傾斜に沿うように傾斜する。これにより、Ｘ線ターゲット２１に対する試料Ｓの傾きが調整され、互いに平行な状態になり、Ｘ線ターゲット２１と試料Ｓとをより接近させることができる。なお、脚部３３のバネ材３５側端部である先端３３ａは、包囲部材３６のＸ線発生部１２側の端部３６ａに設けられた開口を介して包囲部材３６内に収容され、バネ材３５と接触している。そして、先端３３ａに、端部３６ａに設けられた開口の径よりも大きな拡径部を設けることで、先端３３ａが包囲部材３６から抜けてしまうことを抑制している。なお、試料台部３１とターゲット支持体２２とを、ごく軽く接触させた段階では、一部のバネ材３５は縮むが、他のバネ材３５は縮まない場合がある。その際、縮まなかったバネ材３５に対応する先端３３ａは、むしろ通常状態よりも浮き上がった配置になる場合があり、拡径部がないと先端３３ａが包囲部材３６から抜けてしまう可能性もある。また、複数のバネ材３５を、基準面ＢＳよりも押し込まれた状態とすることで、試料Ｓの複数点において、バネ材３５の応力によって試料ＳがＸ線ターゲット２１に押し付けられるため、試料ＳをＸ線ターゲット２１に密着するように近づけることができる。
【００４７】
このようなバネ材３５の変形により、試料台部３１の端部３１ａ及びターゲット支持体２２が互いに当接した後であっても、試料台部３１に配置された試料ＳをＸ線ターゲット２１にさらに近づけることができる。これにより、試料ＳとＸ線ターゲット２１との間の距離は、ユニット内ステージ１５の可動範囲の中で任意に設定でき、図４（ｂ）に示されるように、試料ＳをＸ線ターゲット２１に密着させることができる。したがって、Ｘ線像撮像用ユニット１０を有する電子顕微鏡１では、方向Ｄ１におけるＸ線ターゲット２１と試料Ｓとの距離の最小値を比較例よりも小さくできるので、より高倍率なＸ線像を取得可能である。加えて、試料台部３１と試料支持体３２との間に弾性部材であるバネ材３５を有することにより、Ｘ線ターゲット２１の配置条件を変えることなく、試料Ｓ側の傾斜調整のみでＸ線ターゲット２１と試料Ｓとが近接可能になる。これにより、試料台部３１とターゲット支持体２２とが互いに当接した場合であっても、Ｘ線Ｒの焦点のずれの発生を抑制しつつ、試料ＳをＸ線ターゲット２１に近づけることができる。
【００４８】
また、試料台部３１は脚部３３を介してバネ材３５に支持される形で試料支持体３２に固定される。このため、試料ＳとＸ線ターゲット２１とが互いに接触していない場合には、試料台部３１に対する外部（例えば筐体１ａ等）の振動の影響を、バネ材３５によって低減することができる。
【００４９】
また、上記の通り試料支持体３２は、バネ材３５を複数有している。この場合、複数のバネ材３５による試料台部３１の安定した支持ができる。さらに、試料ＳとＸ線ターゲット２１とをより密着させることができる。
【００５０】
また、試料支持体３２は、バネ材３５の側面の少なくとも一部を包囲する包囲部材３６に有してもよい。この場合、包囲部材３６によってバネ材３５の変形状態を制御することができる。
【００５１】
また、バネ材３５は、金属材料からなってもよい。この場合、Ｘ線によるバネ材３５の劣化が低減され、当該バネ材３５による安定した弾性を得ることが可能になる。
【００５２】
また、上記の通り試料台部３１と試料支持体３２との間にバネ材３５のような弾性部材を有することにより、試料台部３１とターゲット支持体２２とが互いに当接した場合であっても、Ｘ線Ｒの焦点のずれの発生を抑制しつつ、試料ＳをＸ線ターゲット２１に近づけることができる。なお、試料台部３１とターゲット支持体２２との間の接触に限らず、試料台部３１または脚部３３と、Ｘ線ターゲット２１、ターゲット支持体２２及びターゲット支持体２２を保持する部材のいずれかとが、先に接触してしまう場合でも同様の効果を得ることができる。
【００５３】
図５は、第１変形例の試料台部３１Ａを説明するための概略断面図であり、図６（ａ）は、第１変形例の試料台部３１Ａの斜視図である。図６（ｂ）は、第２変形例の試料台部３１Ｂの斜視図である。図５及び図６（ａ）に示されるように、試料支持機構１４Ａにおける試料台部３１Ａの試料Ｓが配置される側の主面３１ｂには、複数のスペーサ部３７が設けられている。複数のスペーサ部３７は、例えば略円柱形状を有しており、金属、ＳＵＳ等の合金、又は樹脂（例えばポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）樹脂）等によって構成されている。複数のスペーサ部３７は、Ｘ線ターゲット２１と試料Ｓとの間の距離を規定するために設けられている。よって、複数のスペーサ部３７の方向Ｄ１に沿った高さは、互いに略同一に設定される。このように複数のスペーサ部３７の高さを設定することにより、Ｘ線像の最大倍率を所望の値に容易に設定することができる。また、複数のスペーサ部３７によって試料台部３１Ａ上の試料ＳがＸ線ターゲット２１等に接触することが抑制される。なお、試料台部３１Ａの主面３１ｂに設けられるスペーサ部３７は、複数に限らず、単数でもよい。例えば、図６（ｂ）に示されるように、試料台部３１Ｂにおける主面３１ｂ上のスペーサ部３８は、試料Ｓの周囲を囲む略円筒形状を有してもよい。
【００５４】
図７（ａ）は、第３変形例の試料台部３１Ｃを説明するための概略断面図であり、図７（ｂ）は、第３変形例の試料台部３１Ｃの概略平面図である。図７（ａ），（ｂ）に示されるように、試料台部３１Ｃの主面３１ｂに設けられるスペーサ部３７Ａは、例えば金属製又は合金製のバンプでもよい。この場合、スペーサ部３７Ａの高さを図５，６に示されるスペーサ部３７，３８よりも低く設定することができ、Ｘ線像の最大倍率をスペーサ部３７，３８よりも上げることができる。試料台部３１Ｃにおいて試料Ｓが配置され得る領域の一部には、開口部３１ｄが形成されている。
【００５５】
図８（ａ）は、第４変形例の試料台部３１Ｄを説明するための図であり、図８（ｂ）は、図８（ａ）のVIIIｂ-VIIIｂ線に沿った端面図である。図８（ａ），（ｂ）に示されるように、試料台部３１Ｄとスペーサとして機能する突出部３７Ｂとは一体形成されている。例えば、シリコン基板をエッチングすることにより、試料Ｓが配置される試料配置面３９と、複数の突出部３７Ｂとを形成する。複数の突出部３７Ｂは、例えば略円柱形状を有しており、Ｘ線ターゲット２１と試料Ｓとの間の距離を規定するために設けられている。複数の突出部３７ＢにおけるＸ線ターゲット２１側の頂面（当接面）３７Ｂ１は、Ｘ線発生部１２に当接するための面である。試料台部３１Ｃにおける試料配置面３９と重なる一部には、Ｘ線を通過させるための開口部３９ａが設けられている。この場合であっても、試料配置面３９に対する突出部３７Ｂの高さを設定することにより、図５，６に示される試料台部３１Ａと同等の効果を奏する。
【００５６】
図９（ａ）は、Ｘ線発生部１２が当接する前の第５変形例を説明するための概略断面図である。図９（ｂ）は、Ｘ線発生部１２が当接した後の第５変形例の概略断面図である。図９（ａ），（ｂ）に示されるように、第５変形例は、基部３４上に配置された、単一の弾性部材であるバネ材３５Ａを有する。このバネ材３５Ａは、バネ材３５と同様に金属材料からなるコイル状部材である。同じく基部３４上には、バネ材３５Ａの側面を包囲する包囲部材３６Ａが固定されている。包囲部材３６Ａは、その内部空間にバネ材３５Ａの全体を収容するような筒状部材であり、例えばバネ材３５Ａと比較して非常に変形しにくい部材である。このようなバネ材３５ＡをＸ線像撮像用ユニット１０に用いた場合であっても、第１実施形態と同等の効果を奏する。また、簡易な構造のバネ材３５Ａによる試料台部３１の支持ができる。
【００５７】
図１０（ａ）は、Ｘ線発生部１２が当接する前の第６変形例を説明するための概略断面図である。図１０（ｂ）は、Ｘ線発生部１２が当接した後の第６変形例の概略断面図である。図１０（ａ），（ｂ）に示されるような複数のバネ材３５Ｂを有してもよい。バネ材３５Ｂは、包囲部材３６Ｂの端部３６ａと脚部３３の先端３３ａの拡径部との間に設けられる引きバネである。この場合、図１０（ｂ）に示されるように、例えば試料ＳがＸ線発生部１２に方向Ｄ１に沿って押圧された場合、バネ材３５Ｂの弾性により伸長し、試料Ｓはバネ材３５Ｂの応力によりＸ線ターゲット２１に押し付けられる。これにより、Ｘ線ターゲット２１に対する試料Ｓの傾きが調整され、互いに平行な状態になる。このようなバネ材３５ＢをＸ線像撮像用ユニット１０に用いた場合であっても、第１実施形態と同等の効果を奏する。
【００５８】
図１１（ａ）は、第７変形例の一部の斜視図である。図１１（ｂ），（ｃ）は、第７変形例を示す概略断面図である。図１１（ａ），（ｂ）に示されるように、第１実施形態のバネ材３５の代わりに、基部３４上に固定された樹脂製（例えばニトリルゴム（ＮＢＲ）等）の弾性部材３５Ｃを有していてもよい。弾性部材３５Ｃは、例えばＯ−リング等の環状部材である。試料台部３１は、図１１（ｂ）に示されるように、弾性部材３５Ｃに接着固定されていてもよく、図１１（ｃ）に示されるように、弾性部材３５Ｃの側面を包囲するための包囲部材３６Ｃによって固定されていてもよい。このような弾性部材３５Ｃを用いることによって、例えばバネ材３５よりも方向Ｄ１における厚さを小さく設定することができる。また、弾性部材３５Ｃを所望の形状に容易かつ安価に成形できる。
【００５９】
図１２（ａ）は、第８変形例のＸ線発生部１２Ａを説明するための概略断面図である。図１２（ｂ）は、第９変形例のＸ線発生部１２Ｂの概略断面図である。図１２（ａ）に示されるように、Ｘ線発生部１２Ａにおける試料支持機構１４側には、スペーサ部４０が設けられてもよい。スペーサ部４０は、例えば略円柱形状を有しており、金属、ＳＵＳ等の合金、又は樹脂（例えばポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）樹脂）等によって構成されている。この場合であっても、Ｘ線像の最大倍率を所望の値に容易に設定することができる。また、図１２（ｂ）に示されるように、Ｘ線発生部１２Ｂには、複数のＸ線ターゲット２１が設けられており、これらのＸ線ターゲット２１のそれぞれの周囲にスペーサ部４０Ａ，４０Ｂがそれぞれ設けられてもよい。複数のスペーサ部４０Ａ，４０Ｂは、それぞれ方向Ｄ１における高さが異なっている。この場合、電子線Ｅの軸上に配置されるＸ線ターゲット２１を変更することによって、Ｘ線像の最大倍率を所望の値に容易に変更することができる。
【００６０】
（第２実施形態）
以下では、第２実施形態に係るＸ線像撮像用ユニット１０Ａが設けられた電子顕微鏡１Ａについて説明する。第２実施形態の説明において第１実施形態と重複する記載は省略し、第１実施形態と異なる部分を記載する。つまり、技術的に可能な範囲において、第２実施形態に第１実施形態の記載を適宜用いてもよい。
【００６１】
図１３は、第２実施形態に係るＸ線像撮像用ユニット１０Ａが設けられた電子顕微鏡１Ａの概略断面図である。図１３に示されるように、電子顕微鏡１ＡのＸ線像撮像用ユニット１０Ａは、筐体１１と、筐体１１上部に取り付けられるＸ線発生部１２Ｃと、Ｘ線発生部１２Ａを方向Ｄ２又は方向Ｄ３に移動させるターゲット移動装置１３と、試料Ｓが配置される試料台１１４と、試料台１１４を支持するユニット内ステージ１５と、イメージセンサ１６と、冷却装置１７とを有している。
【００６２】
Ｘ線発生部１２Ｃは、Ｘ線ターゲット２１と、ターゲット支持体２２Ａとを有する。ターゲット支持体２２Ａは、ターゲット移動装置１３の駆動により方向Ｄ２または方向Ｄ３に沿って移動する移動部４１と、移動部４１に取り付けられる基部４２と、基部４２の試料台１１４側の主面に設けられる複数のバネ材（弾性部材）４３と、バネ材４３の側面を包囲する包囲部材４４と、Ｘ線ターゲット２１を支持するターゲット支持部４５とを有する。
【００６３】
複数のバネ材４３は、第１実施形態のバネ材３５と同様に金属材料から構成されたコイル状部材であって、包囲部材４４は、第１実施形態の包囲部材３６と同様の材料から構成される。ターゲット支持部４５は、バネ材４３を介して基部４２に支持されている。具体的には、ターゲット支持部４５は、バネ材４３によって基部４２から吊り下げられている。
【００６４】
図１４は、第２実施形態に係る電子顕微鏡１Ａの使用方法の一例を説明するためのフローチャートである。図１４に示されるように、第２実施形態では、第１実施形態と異なり、ステップＳ７とステップＳ８との間にステップＳ２１が含まれている。ステップＳ２１が含まれていること以外は、第１実施形態と同様の使用方法にて第２実施形態の電子顕微鏡１Ａを用いることができる。なお、ステップＳ７では、ターゲット支持部４５を支持する複数のバネ材４３が押し込まれることにより、試料ＳがＸ線ターゲット２１に密着する。
【００６５】
ステップＳ２１は、ステップＳ７後に電子線Ｅの焦点位置をＸ線ターゲット２１に再調整するステップである。第２実施形態ではＸ線発生部１２Ｃに弾性部材であるバネ材４３が設けられているので、試料ＳとＸ線ターゲット２１とが互いに密着する際にＸ線ターゲット２１が傾斜し、電子線Ｅの焦点がＸ線ターゲット２１からずれることがある。このため、第２実施形態では、ステップＳ７とステップＳ８との間にステップＳ２１が含まれる。
【００６６】
このような第２実施形態のＸ線像撮像用ユニット１０Ａを用いた場合であっても、第１実施形態と同様に方向Ｄ１におけるＸ線ターゲット２１と試料Ｓとの距離の最小値をより小さくできるので、より高倍率なＸ線像を取得可能である。また、ターゲット支持体２２Ａが弾性部材であるバネ材４３を有することにより、試料台部３１とターゲット支持体２２Ａとが互いに当接した場合であっても、試料台１１４上の試料ＳにおけるＸ線像取得可能領域の位置の変化を抑制しつつ、試料ＳをＸ線ターゲット２１に近づけることができる。
【００６７】
（第３実施形態）
以下では、第３実施形態に係る電子線像取得機能を有するＸ線顕微鏡１Ｂについて説明するが、実質的な機能に関しては第１，第２実施形態における電子顕微鏡と相違はない。そのため、第３実施形態の説明において第１，第２実施形態と重複する記載は省略し、第１，第２実施形態と異なる部分を記載する。つまり、技術的に可能な範囲において、第３実施形態に第１，第２実施形態の記載を適宜用いてもよい。
【００６８】
図１５は、第３実施形態に係るＸ線顕微鏡１Ｂの概略断面図である。図１５に示されるように、Ｘ線顕微鏡１Ｂの筐体１ａ内には、試料室２と、電子線源３と、電子レンズ４と、電子検出器５と、電子線Ｅが照射されることによりＸ線Ｒを発生するＸ線発生部５１と、試料Ｓが配置される試料支持機構５２と、試料支持機構５２を支持するステージ５３と、試料Ｓを透過したＸ線Ｒが入射されることによりＸ線像を生成するイメージセンサ５４と、イメージセンサ５４を支持するパイプ５５とが設けられている。電子検出器５と、Ｘ線発生部５１と、試料支持機構５２と、ステージ５３と、イメージセンサ５４と、パイプ５５とは、試料室２内に設けられている。Ｘ線発生部５１は、第１実施形態のＸ線発生部１２と同一でよく、Ｘ線ターゲット２１とターゲット支持体２２とを有する。また、イメージセンサ５４は方向Ｄ１においてＸ線発生部５１とステージ５３との間に配置され、第１実施形態のイメージセンサ１６と同一でよい。
【００６９】
Ｘ線顕微鏡１Ｂの筐体１ａ外には、Ｘ線発生部５１を方向Ｄ２又は方向Ｄ３に移動させる導入器５６と、パイプ５５内に液体窒素を供給する液体窒素タンク５７と、イメージセンサ５４から得られた信号に基づいてＸ線像を撮像するカメラ筐体５８とが設けられる。導入器５６によるＸ線発生部５１の移動によって、Ｘ線顕微鏡１ＢのＸ線像撮像のモードと電子線像撮像のモードとを切り替えることができる。液体窒素タンク５７からパイプ５５内に液体窒素が供給されることによって、当該パイプ５５に支持されるイメージセンサ５４が冷却される。よって、パイプ５５はヒートパイプとして機能する。
【００７０】
試料支持機構５２は、ステージ５３に装着される複数の柱部６１と、柱部６１のＸ線発生部５１側の端部に取り付けられる試料支持体６２と、試料支持体６２に支持されると共に試料Ｓが配置される試料台部６３と、試料台部６３と試料支持体６２との間に配置された複数のバネ材（弾性部材）６５とを有し、試料台部６３はバネ材６５を介して試料支持体６２に支持される。試料支持機構５２が複数の柱部６１を有することにより、試料支持体６２は、Ｘ線発生部５１とイメージセンサ５４との間に位置する。試料台部６３は、第１実施形態の試料台部３１と同一でよい。試料支持機構５２は、ステージ５３が駆動されることにより、試料室２内を方向Ｄ１〜Ｄ３に沿って移動する。
【００７１】
試料支持体６２は、複数の柱部６１に取り付けられる基部６４を有し、基部６４上には、試料台部６３を支持する複数のバネ材（弾性部材）６５が配置されるとともに、バネ材６５の側面を包囲する包囲部材６６が固定されている。よって、試料台部６３は、複数のバネ材６５を介して支持されている。基部６４、バネ材６５及び包囲部材６６は、それぞれ第１実施形態の基部３４、バネ材３５及び包囲部材３６と同一でよい。
【００７２】
以上に説明した第３実施形態のＸ線顕微鏡１Ｂにおいては、第１実施形態と同様の効果を奏する。
【００７３】
（第４実施形態）
以下では、第４実施形態に係る電子線像取得機能を有するＸ線顕微鏡１Ｃについて説明する。第４実施形態の説明において第１〜第３実施形態と重複する記載は省略し、第１〜第３実施形態と異なる部分を記載する。つまり、技術的に可能な範囲において、第４実施形態に第１〜第３実施形態の記載を適宜用いてもよい。
【００７４】
図１６は、第４実施形態に係るＸ線顕微鏡１Ｃの概略断面図である。図１６に示されるように、Ｘ線顕微鏡１Ｃの試料室２内には、電子検出器５と、Ｘ線発生部７１と、試料台７２と、ステージ５３と、イメージセンサ５４と、パイプ５５とが設けられている。試料台７２における試料支持体７３には、弾性部材が設けられていない。したがって、試料台部７４は、基部７５に固定されている。
【００７５】
Ｘ線発生部７１は、Ｘ線ターゲット２１と、ターゲット支持体８１とを有する。ターゲット支持体８１は、導入器５６に取り付けられる移動部８２と、移動部８２に取り付けられる基部８３と、基部８３の試料台７２側の主面に設けられる複数のバネ材（弾性部材）８４と、バネ材８４の側面を包囲する包囲部材８５と、Ｘ線ターゲット２１を支持するターゲット支持部８６とを有する。
【００７６】
複数のバネ材８４は、第２実施形態のバネ材４３と同様に金属材料から構成されたコイル状部材であり、包囲部材８５は、第１実施形態の包囲部材４４と同様の材料から構成される。ターゲット支持部８６は、バネ材８４を介して基部８３に支持されている。具体的には、ターゲット支持部８６は、バネ材８４によって基部８３から吊り下げられている。
【００７７】
以上に説明した第４実施形態のＸ線顕微鏡１Ｃにおいては、第２実施形態と同様の効果を奏する。
【００７８】
本発明によるＸ線像撮像用ユニット及びＸ線顕微鏡は、上述した実施形態に限られるものではなく、他に様々な変形が可能である。例えば、上記実施形態及び変形例を適宜組み合わせてもよい。例えば、第３実施形態に記載された試料台部を、第１実施形態の第１〜第４変形例の試料台部に置換してもよい。また、第３実施形態に記載されたＸ線ターゲットを、第１実施形態の第８又は第９変形例のＸ線ターゲットに置換してもよい。また、第１実施形態に記載されたＸ線発生部１２を第２実施形態のＸ線発生部１２Ｃに置換してもよい。すなわち、Ｘ線ターゲットと試料台部との両方に弾性部材が取り付けられてもよい。また、第３実施形態および第４実施形態においては、電子検出器５を持たない、通常のＸ線顕微鏡であってもよい。
【００７９】
また、第１実施形態の第４変形例の試料台部において、複数の突出部の代わりに、試料配置面を有する窪み部が形成されていてもよい。この場合、試料配置面以外の試料台部のＸ線ターゲットと対向する表面は、Ｘ線発生部に当接するための面（当接面）であってもよい。
【００８０】
また、第１実施形態に係る包囲部材は、必ずしも弾性部材の側面を全て包囲していなくてもよく、当該弾性部材の側面の少なくとも一部を包囲していてもよい。第１実施形態の第７変形例の弾性部材は、中空形状を有してもよいし、球状形状でもよい。弾性部材が球状形状の場合、当該弾性部材は、対応する脚部と基部とに接着してもよい。
【符号の説明】
【００８１】
１，１Ａ…電子顕微鏡、１Ｂ，１Ｃ…Ｘ線顕微鏡、２…試料室、３…電子線源、４…電子レンズ、５…電子検出器、６，５３…ステージ、１０，１０Ａ…Ｘ線像撮像用ユニット、１１…筐体、１２，１２Ａ〜１２Ｃ，５１，７１…Ｘ線発生部、１３…ターゲット移動装置、１４，１４Ａ，５２…試料支持機構、１５…ユニット内ステージ、１６，５４…イメージセンサ（Ｘ線撮像部）、２１…Ｘ線ターゲット（Ｘ線ターゲット部）、２２，２２Ａ，８１…ターゲット支持体、３１，３１Ａ〜３１Ｃ，６３…試料台部、３２，６２…試料支持体、３４…基部、３５，３５Ａ，３５Ｂ，４３，６５，８４…バネ材（弾性部材）、３５Ｃ…弾性部材、３６，３６Ａ，４４，６６，８５…包囲部材、３７，３７Ａ，３８，４０，４０Ａ，４０Ｂ…スペーサ部、３７Ｂ…突出部、３７Ｂ１…頂面（当接面）、３９…試料配置面、Ｄ１〜Ｄ３…方向、Ｅ…電子線、Ｒ…Ｘ線、Ｓ…試料。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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