(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
上面に開口部を有し、前記開口部を通じてノズルを収容するノズル収容部であって、前記開口部から底面に近づくほど細くなるように形成された前記ノズル収容部と、
前記ノズル収容部内の底面に設けられた円柱状の排出流路であって、前記ノズル収容部内に収められた前記ノズルから排出された処理液を少なくとも排出し、内径が前記ノズルのノズル吐出口の直径よりも大きく形成された前記排出流路と、
前記ノズル収容部内の側面に設けられた第１吐出口を有し、前記第１吐出口からノズル洗浄液を供給する第１供給部と、
前記排出流路に設けられ、前記ノズル収容部から流れて前記排出流路を通過する前記ノズル洗浄液の排出流量を調整する排出流量調整部と、を備え、
前記排出流量調整部は、前記排出流路内の側面に設けられた第２吐出口を有し、前記第２吐出口から前記排出流路内に、前記排出流路の中心軸を外して前記ノズル洗浄液を供給する第２供給部であることを特徴とするノズル待機装置。
【請求項２】
請求項１に記載のノズル待機装置において、
前記第１吐出口は、内側を向いたリング状のスリットで構成されていることを特徴とするノズル待機装置。
【請求項３】
請求項２に記載のノズル待機装置において、
前記第１供給部は、リング状の扁平な水平流路を備え、
前記水平流路の内周端の開口が前記第１吐出口を構成していることを特徴とするノズル待機装置。
【請求項４】
請求項１から３のいずれかに記載のノズル待機装置において、
前記第１供給部は、前記第１吐出口に前記ノズル洗浄液を送るための洗浄液流路であって、前記ノズル収容部が形成されたブロックと同じブロックに形成された前記洗浄液流路と、開閉動作を行う弁体を有して前記洗浄液流路を開閉する開閉弁と、前記洗浄液流路と連通する穴部と、を更に備え、
前記穴部には、前記洗浄液流路を前記弁体で遮断するための弁座が設けられていると共に、前記弁体が進退移動可能になるように前記開閉弁が配置されており、
前記開閉弁は、前記穴部の弁座に前記弁体を着座させることで、前記洗浄液の流通を遮断させる一方、前記穴部の弁座から弁体を離すことで、前記洗浄液を流通させることを特徴とするノズル待機装置。
【請求項５】
請求項４に記載のノズル待機装置において、
前記ノズル収容部は、複数設けられており、
前記ノズル収容部の各々に対して、前記排出流路、前記開閉弁を含む前記第１供給部、および前記排出流量調整部が少なくとも設けられていることを特徴とするノズル待機装置。
【請求項６】
請求項１から５のいずれかに記載のノズル待機装置において、
前記ノズル収容部は、下部が逆円錐状に形成されていることを特徴とするノズル待機装置。
【請求項７】
基板に対して処理液を吐出するノズルと、
前記ノズルを待機させるノズル待機装置とを備え、
前記ノズル待機装置は、
上面に開口部を有し、前記開口部を通じてノズルを収容するノズル収容部であって、前記開口部から底面に近づくほど細くなるように形成された前記ノズル収容部と、
前記ノズル収容部内の底面に設けられた円柱状の排出流路であって、前記ノズル収容部内に収められた前記ノズルから排出された処理液を少なくとも排出し、内径が前記ノズルのノズル吐出口の直径よりも大きく形成された前記排出流路と、
前記ノズル収容部内の側面に設けられた第１吐出口を有し、前記第１吐出口からノズル洗浄液を供給する第１供給部と、
前記排出流路に設けられ、前記ノズル収容部から流れて前記排出流路を通過する前記ノズル洗浄液の排出流量を調整する排出流量調整部とを備え、
前記排出流量調整部は、前記排出流路内の側面に設けられた第２吐出口を有し、前記第２吐出口から前記排出流路内に、前記排出流路の中心軸を外して前記ノズル洗浄液を供給する第２供給部であることを特徴とする基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体基板、液晶表示用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板等の基板に対して処理液を吐出するノズルを待機させるノズル待機装置およびそれを備えた基板処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
基板処理装置として、例えば塗布装置がある。塗布装置は、基板を保持しつつ基板を回転させる保持回転部と、塗布液を吐出する複数のノズルとを備えている。複数のノズルは各々、待機ポットで待機している。ノズル移動機構（ロボット）は、待機ポットで待機中の複数のノズルのうち、いずれか１つのノズルを把持し、把持したノズルを基板の上方に移動させる。そして、塗布装置は、基板に対してノズルから塗布液を塗布する。塗布後、ノズルは、ノズル移動機構により、待機ポットに戻される。
【０００３】
図１１は、従来の待機ポットを示す図である。待機ポット１３１は、ディスペンス部１３５と溶剤吸引部１３６とを備えている（例えば、特許文献１，２参照）。ディスペンス部１３５は、ダミーディスペンスまたはプリディスペンス（以下、代表して「ダミーディスペンス」と呼ぶ）を実行させ、かつ、ノズル１０３を待機させるものである。一方、溶剤吸引部１３６は、ノズル１０３の先端内部に溶剤を吸引させるものである。また、塗布装置が１０個のノズル１０３を備えている場合、図１２のように、待機ポット１３１は、１つのディスペンス部１３５と１つの溶剤吸引部１３６とが１０セット並んで配置された構成となっている。
【０００４】
図１１，図１２の待機ポット１３１は、次のような問題がある。ダミーディスペンスの時にはディスペンス部１３５に、あるいは、溶剤の吸引時には溶剤吸引部１３６にノズル１０３を移動させる必要がある。更に、溶剤吸引部１３６にノズル１０３を移動させる場合、上述のノズル移動機構は、溶剤の吸引を実行するノズル１０３を把持するので、その間、別のノズル１０３を把持して基板に対して塗布液を塗布することができない。
【０００５】
これらに対し、特許文献３には、１つの洗浄室において、ダミーディスペンスおよび溶剤の吸引を行い、各々の動作においてノズルを移動する必要がなくなる待機ユニットが提案されている。すなわち、特許文献３の待機ユニットは、円筒部と、円筒部の下端に連通し、下方に向かって狭小となるテーパ状の漏斗部とを有する洗浄室を備えている。洗浄室の漏斗部の下端には、更に、連通路が設けられており、連通路を通ってレジスト液や溶剤を排出できるように構成されている。洗浄室に収容されたノズルにより、ダミーディスペンスを行い、また、同じ洗浄室内において、レジスト液の乾燥防止のために溶剤を吸引して、ノズルの先端内部に溶剤層を形成している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１１−２３３９０７号公報
【特許文献２】特開２０１０−１０３１３１号公報
【特許文献３】特開２０１２−２３５１３２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、これらの従来装置は、次のような問題がある。すなわち、図１２のように、従来の待機ポット１３１は、１０個の溶剤吸引部１３６に対して、溶剤の供給およびその停止を行う開閉弁Ｖを１つ備えている。そのため、全ての溶剤吸引部１３６に溶剤を供給している。すなわち、１本のノズル１０３に溶剤吸引するために、その他の９つの溶剤吸引部１３６にも溶剤を供給している。これにより、溶剤の消費量が多くなる問題が生じている。また、全ての溶剤吸引部１３６に対して均等に溶剤を供給する必要があるので、溶剤を供給するために待機ポット１３１に設けられる流路の構造が複雑となり、構造の簡素化が望まれる。
【０００８】
また、溶剤吸引の際に、ノズルの先端部外周が溶剤に浸されるので、ノズルの先端部外周が付加的に洗浄されるのであるが、汚れがひどい場合は、ノズルに汚れが残る。そのため、洗い残しを無くすことが望まれる。
【０００９】
また、ノズルの汚れにより、図１１に示した溶剤吸引部１３６の溶剤排出流路１３８が詰まる可能性がある。これに対し、特許文献３のように、ダミーディスペンスと溶剤吸引を同じ位置で行う場合、ダミーディスペンスのために排出流路の内径が大きく設定されるので、汚れで排出流路が詰まる可能性が低くなる。しかしながら、溶剤吸引のための溶剤が溜めにくいという別異の問題が生じる。
【００１０】
これに対し、特許文献３では、洗浄室に２つの流入部（下側流入部と上側流入部）が設けられている。下側流入部は、洗浄室の漏斗部の傾斜面に設けられ、また、上側流入部は、漏斗部より上の円筒部の内周面に設けられている。溶剤吸引の際、２つの流入部から溶剤を供給して、洗浄室内に溶剤を溜めている。しかしながら、下側流入口が漏斗部の傾斜面に設けられていると、溶剤が漏斗部の傾斜面に沿って渦状に流れ、漏斗部の斜面に沿ってせり上がる。溶剤が渦状に流れてせり上がると、溶剤が溢れ出す可能性があり、また、溶剤が溢れなくても、洗浄室に溜まる溶剤が不安定になり易く、ノズルの先端内部に溶剤を吸引することが難しいという問題がある。
【００１１】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、ノズル洗浄液の消費量を抑え、また、ノズルの先端内部にノズル洗浄液を容易に吸引できるノズル待機装置および基板処理装置を提供することを目的する。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、本発明に係るノズル待機装置は、上面に開口部を有し、前記開口部を通じてノズルを収容するノズル収容部であって、前記開口部から底面に近づくほど細くなるように形成された前記ノズル収容部と、前記ノズル収容部内の底面に設けられた円柱状の排出流路であって、前記ノズル収容部内に収められた前記ノズルから排出された処理液を少なくとも排出し、内径が前記ノズルのノズル吐出口の直径よりも大きく形成された前記排出流路と、前記ノズル収容部内の側面に設けられた第１吐出口を有し、前記第１吐出口からノズル洗浄液を供給する第１供給部と、前記排出流路に設けられ、前記ノズル収容部から流れて前記排出流路を通過する前記ノズル洗浄液の排出流量を調整する排出流量調整部と、を備え、前記排出流量調整部は、前記排出流路内の側面に設けられた第２吐出口を有し、前記第２吐出口から前記排出流路内に、前記排出流路の中心軸を外して前記ノズル洗浄液を供給する第２供給部であることを特徴とするものである。
【００１３】
本発明に係るノズル待機装置によれば、上面の開口部を通じてノズルを収容するノズル収容部は、開口部から底面に近づくほど細くなるように形成されている。第１供給部は、ノズル収容部内の側面に設けられた第１吐出口を有し、第１吐出口からノズル洗浄液を供給する。また、ノズル収容部内の底面には、円柱状の排出流路が設けられている。排出流路は、ノズル収容部内に収められたノズルから吐出された処理液を少なくとも排出する。そのため、排出流路は、排出流路の内径がノズルのノズル吐出口の直径よりも大きくなるように設定されるので、ノズルから吐出された処理液が排出流路から円滑に排出される。その結果、ノズル収容部に処理液が付着しにくくなる。一方、ノズル収容部から流れて排出流路を通過するノズル洗浄液の排出流量を調整する排出流量調整部が、排出流路に設けられている。そのため、ノズル洗浄液が排出流路を流通するときに排出流量調整部が排出流量を調整することにより、排出流路の内径がノズル吐出口の直径より大きく設定されているにも拘わらず、ノズル洗浄液を安定してノズル収容部に貯留でき、それにより、ノズルの先端内部にノズル洗浄液を容易に吸引できる。
【００１５】
例えば、第２吐出口が、上面の開口部から底面に近づくほど細くなるように形成されたノズル収容部内の傾斜面に設けられていると仮定する。この場合、ノズル洗浄液が傾斜面を渦状に流れてせり上がる。これにより、ノズル洗浄液がノズル収容部から溢れる可能性がある。また、ノズル洗浄液をノズル収容部に安定して貯留できなくなる。しかしながら、第２吐出口から円柱状の排出流路の中心軸を外してノズル洗浄液が供給されるので、排出流路でノズル洗浄液が渦状に流れるのであるが、排出流路が円柱状であるので、内面に沿ってせり上がることがなくなる。また、第２吐出口から供給されたノズル洗浄液が排出流路内で渦状に流れることにより、第１吐出口からノズル収容部内に供給された洗浄液が排出流路内を流通するのが妨げられる。その結果、ノズル収容部にノズル洗浄液を安定して貯留できる。
【００１６】
また、上述のノズル待機装置において、前記第１吐出口は、内側を向いたリング状のスリットで構成されていることが好ましい。これにより、ノズル収容部に収容されたノズルの全周に向けて洗浄液を均一に供給することができ、ノズルの洗い残しを低減できる。
【００１７】
また、上述のノズル待機装置において、前記第１供給部は、リング状の扁平な水平流路を備え、前記水平流路の内周端の開口が前記第１吐出口を構成していることが好ましい。水平流路では、外周端から内周端の第１吐出口に向けてノズル洗浄液が流れる。この際、水平流路は、リング状の扁平な流路であるので、外周端から内周端に向かうほど、水平流路は絞られる。これにより、第１吐出口に向けてノズル洗浄液が流れにくくなり、ノズル洗浄液が水平流路に沿って周方向に回り込む。そのため、第１吐出口からノズルに向けて均等に溶剤を供給することができる。また、第１吐出口がスリット状であるので、勢いのある洗浄液をノズルに供給することができる。
【００１８】
また、上述のノズル待機装置において、前記第１供給部は、前記第１吐出口に前記ノズル洗浄液を送るための洗浄液流路であって、前記ノズル収容部が形成されたブロックと同じブロックに形成された前記洗浄液流路と、開閉動作を行う弁体を有して前記洗浄液流路を開閉する開閉弁と、前記洗浄液流路と連通する穴部と、を更に備え、前記穴部には、前記洗浄液流路を前記弁体で遮断するための弁座が設けられていると共に、前記弁体が進退移動可能になるように前記開閉弁が配置されており、前記開閉弁は、前記穴部の弁座に前記弁体を着座させることで、前記洗浄液の流通を遮断させる一方、前記穴部の弁座から弁体を離すことで、前記洗浄液を流通させることが好ましい。
【００１９】
これにより、洗浄液流路と連通する穴部には、弁座が設けられ、開閉弁が配置される。また、弁座は、開閉弁と別体であり、ノズル収容部が形成されたブロックと同じブロックに形成された穴部に設けられている。そのため、ノズル待機装置が複数のノズル収容部を備える場合、弁体と弁座を備える一般的な開閉弁よりもコンパクトに構成できる。
【００２０】
また、上述のノズル待機装置において、前記ノズル収容部は、複数設けられており、前記ノズル収容部の各々に対して、前記排出流路、前記開閉弁を含む前記第１供給部、および前記排出流量調整部が少なくとも設けられていることが好ましい。これにより、複数のノズルを待機でき、複数のノズル収容部で上述の効果が得られる。例えば、ノズル収容部の各々に対して開閉弁を設けることで、開閉弁を備えたノズル待機装置の構成をコンパクトにできる。また、ノズル収容部ごとに設けられた開閉弁により、選択的に洗浄液を供給することができる。複数のノズル収容部の中のノズル洗浄を行う必要なノズル収容部にだけ洗浄液を供給するので、洗浄液の消費量を抑制できる。また、溶剤流路の構造の複雑さが緩和される。
【００２１】
また、上述のノズル待機装置において、前記ノズル収容部は、下部が逆円錐状に形成されていることが好ましい。例えば、ノズル収容部内の底面が凹状の半球面で形成されているとする。この場合、ノズルの洗浄後、その半球面に処理液として例えばレジスト液が残ってしまった場合に、ノズル洗浄液として例えば溶剤を供給しても、レジスト液が除去されずに残りやすい。ノズル収容部の下部が逆円錐状に形成されていることで、レジスト液で汚れてしまっても、レジスト液残りを抑えることができる。そのため、ノズル収容部内の清浄度を保ちやすくできる。
【００２２】
また、本発明に係る基板処理装置は、基板に対して処理液を吐出するノズルと、前記ノズルを待機させるノズル待機装置とを備え、前記ノズル待機装置は、上面に開口部を有し、前記開口部を通じてノズルを収容するノズル収容部であって、前記開口部から底面に近づくほど細くなるように形成された前記ノズル収容部と、前記ノズル収容部内の底面に設けられた円柱状の排出流路であって、前記ノズル収容部内に収められた前記ノズルから排出された処理液を少なくとも排出し、内径が前記ノズルのノズル吐出口の直径よりも大きく形成された前記排出流路と、前記ノズル収容部内の側面に設けられた第１吐出口を有し、前記第１吐出口からノズル洗浄液を供給する第１供給部と、前記排出流路に設けられ、前記ノズル収容部から流れて前記排出流路を通過する前記ノズル洗浄液の排出流量を調整する排出流量調整部とを備え、前記排出流量調整部は、前記排出流路内の側面に設けられた第２吐出口を有し、前記第２吐出口から前記排出流路内に、前記排出流路の中心軸を外して前記ノズル洗浄液を供給する第２供給部であることを特徴とするものである。
【００２３】
本発明に係る基板処理装置によれば、基板に対して処理液を吐出するノズルと、ノズルを待機させるノズル待機装置とを備えている。ノズル待機装置において、上面の開口部を通じてノズルを収容するノズル収容部は、開口部から底面に近づくほど細くなるように形成されている。第１供給部は、ノズル収容部内の側面に設けられた第１吐出口を有し、第１吐出口からノズル洗浄液を供給する。また、ノズル収容部内の底面には、円柱状の排出流路が設けられている。排出流路は、ノズル収容部内に収められたノズルから吐出された処理液を少なくとも排出する。そのため、排出流路は、排出流路の内径がノズルのノズル吐出口の直径よりも大きくなるように設定されるので、ノズルから吐出された処理液が排出流路から円滑に排出される。その結果、ノズル収容部に処理液が付着しにくくなる。一方、ノズル収容部から流れて排出流路を通過するノズル洗浄液の排出流量を調整する排出流量調整部が、排出流路に設けられている。そのため、ノズル洗浄液が排出流路を流通するときに排出流量調整部が排出流量を調整することにより、排出流路の内径がノズル吐出口の直径より大きく設定されているにも拘わらず、ノズル洗浄液を安定してノズル収容部に貯留でき、それにより、ノズルの先端内部にノズル洗浄液を容易に吸引できる。
例えば、第２吐出口が、上面の開口部から底面に近づくほど細くなるように形成されたノズル収容部内の傾斜面に設けられていると仮定する。この場合、ノズル洗浄液が傾斜面を渦状に流れてせり上がる。これにより、ノズル洗浄液がノズル収容部から溢れる可能性がある。また、ノズル洗浄液をノズル収容部に安定して貯留できなくなる。しかしながら、第２吐出口から円柱状の排出流路の中心軸を外してノズル洗浄液が供給されるので、排出流路でノズル洗浄液が渦状に流れるのであるが、排出流路が円柱状であるので、内面に沿ってせり上がることがなくなる。また、第２吐出口から供給されたノズル洗浄液が排出流路内で渦状に流れることにより、第１吐出口からノズル収容部内に供給された洗浄液が排出流路内を流通するのが妨げられる。その結果、ノズル収容部にノズル洗浄液を安定して貯留できる。
【発明の効果】
【００２４】
本発明に係るノズル待機装置および基板処理装置によれば、上面の開口部を通じてノズルを収容するノズル収容部は、開口部から底面に近づくほど細くなるように形成されている。第１供給部は、ノズル収容部内の側面に設けられた第１吐出口を有し、第１吐出口からノズル洗浄液を供給する。また、ノズル収容部内の底面には、円柱状の排出流路が設けられている。排出流路は、ノズル収容部内に収められたノズルから吐出された処理液を少なくとも排出する。そのため、排出流路は、排出流路の内径がノズルのノズル吐出口の直径よりも大きくなるように設定されるので、ノズルから吐出された処理液が排出流路から円滑に排出される。その結果、ノズル収容部に処理液が付着しにくくなる。一方、ノズル収容部から流れて排出流路を通過するノズル洗浄液の排出流量を調整する排出流量調整部が、排出流路に設けられている。そのため、ノズル洗浄液が排出流路を流通するときに排出流量調整部が排出流量を調整することにより、排出流路の内径がノズル吐出口の直径より大きく設定されているにも拘わらず、ノズル洗浄液を安定してノズル収容部に貯留でき、それにより、ノズルの先端内部にノズル洗浄液を容易に吸引できる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】実施例に係る塗布装置の概略構成図である。
【図２】実施例に係る塗布装置の平面図である。
【図３】待機ポットの構成を示す縦断面図である。
【図４】ノズル収容部、第１吐出口および円筒状流路を斜め上から見た縦断面図である。
【図５】排出流路および第２吐出口を示す横断面図である。
【図６】溶剤の供給系を示す図である。
【図７】（ａ）は、ダミーディスペンスを説明するための図であり、（ｂ）は、第１吐出口および第２吐出口から溶剤を供給するときの動作を説明するための図であり、（ｃ）は、第１吐出口から溶剤を供給する動作を説明するための平面図であり、（ｄ）は、ノズルに溶剤を吸引する動作を説明するための図であり、（ｅ）は、溶剤を吸引した後のノズルの状態を示す図である。
【図８】変形例に係る待機ポットの縦断面図である。
【図９】（ａ）は、図８のピンチバルブと排出管を示す横断面図であり、（ｂ）は、（ａ）の他の変形例に係るダイアフラム弁と排出流路を示す横断面図である。
【図１０】変形例に係る待機ポットを示す斜視図である。
【図１１】従来の待機ポットの構成を示す縦断面図である。
【図１２】従来の待機ポットと溶剤の供給系を示す図である。
【実施例】
【００２６】
以下、図面を参照して本発明の実施例を説明する。図１は、実施例に係る塗布装置の概略構成図であり、図２は、実施例に係る塗布装置の平面図である。
【００２７】
＜塗布装置１の構成＞
図１、図２を参照する。塗布装置１は、略水平姿勢で基板Ｗを保持して回転させる保持回転部２と、基板Ｗに対して塗布液を吐出するノズル３と、ノズル３を移動させるノズル移動機構５とを備えている。塗布液は、基板Ｗ上に塗膜を形成するためのものである。塗布液は、フォトレジスト液、SOG（Spin on glass coating）液、SOD(Spin on dielectric coating)液、ポリイミド樹脂液等が用いられる。なお、塗布液は、本発明の処理液に相当する。
【００２８】
保持回転部２は、例えば真空吸着により基板Ｗの裏面を保持するスピンチャック７と、スピンチャック７を略垂直方向の回転軸ＡＸ周りに回転させる、モータ等で構成された回転駆動部９とを備えている。保持回転部２の周りには、基板Ｗの側方を囲うように、上下に移動可能なカップ１１が設けられている。なお、図２のように、保持回転部２は、複数（例えば２つ）設けられている。
【００２９】
ノズル３には、塗布液供給源１３から塗布液配管１５を通じて塗布液が供給される。塗布液配管１５には、サックバック弁ＳＶと開閉弁Ｖ１とポンプＰ１が介在している。開閉弁Ｖ１は塗布液の供給とその停止を行い、サックバック弁ＳＶは開閉弁Ｖ１の動作と組み合わせて、ノズル３内の塗布液等を吸引し、また、吸引した塗布液等を押し出す。ポンプＰ１は塗布液をノズル３に送り出す。なお、ノズル３は、支持ブロック１７に着脱可能に支持されている。
【００３０】
ノズル３は、図２のように、例えば１０個（複数）設けられている。ノズル３には、各々、上述の塗布液供給源１３、塗布液配管１５、開閉弁Ｖ１、サックバック弁ＳＶおよびポンプＰ１等が設けられている。なお、ノズル３は、１０個以外でもよい。
【００３１】
ノズル移動機構５は、１０個のノズル３のうちのいずれか１つを把持して、把持したノズル３を、例えば、後述する待機ポット３１から基板Ｗの上方に移動させる。ノズル移動機構５は、図２のように、ノズル３を把持する把持部２１と、把持部２１を第１方向（Ｘ方向）に水平移動させる第１水平移動部２３とを備えている。また、ノズル移動機構５は、第１方向と略直交する第２方向（Ｙ方向）に把持部２１を水平移動させる第２水平移動部２５と、把持部２１を上下方向（Ｚ方向）に移動させる上下移動部２７とを備えている。
【００３２】
本実施例において、例えば、把持部２１は、第１水平移動部２３により第１方向に移動可能に支持されている。第１水平移動部２３は、上下移動部２７により上下方向に移動可能に支持されている。そして、上下移動部２７は、第２水平移動部２５により第２方向に移動可能に支持されている。把持部２１、第１水平移動部２３、第２水平移動部２５および上下移動部２７は、モータおよびガイド部（例えばガイドレール）、あるいはエアシリンダおよびガイド部などで構成されている。なお、ノズル移動機構５は、第１水平移動部２３および第２水平移動部２５の少なくともいずれかに代えて、水平多関節アームを備えていてもよい。
【００３３】
また、ノズル３は、不使用時に、待機ポット３１に待機される。待機ポット３１は、ノズル３から塗布液を吐出したり（ダミーディスペンス）、ノズル３内に溶剤を吸引したりするように構成されている。待機ポット３１は、ノズル３と同数の例えば１０個設けられている。１０個の待機ポット３１は、図２のように、待機ポット移動機構３３に取り付けられており、１０個の待機ポット３１全体が２つの保持回転部２が配置されたＸ方向に沿って移動できるように構成されている。待機ポット移動機構３３は、支持ブロック、モータおよびガイド部等で構成されている。なお、待機ポット３１は、本発明のノズル待機装置に相当する。
【００３４】
〔待機ポット３１〕
待機ポット３１の具体的構成を説明する。待機ポット３１には、ノズル洗浄液として、例えばシンナーなどの溶剤が供給される。まず、図３を参照して、待機ポット３１の構成を説明する。
【００３５】
待機ポット３１は、図３のように、ノズル３を収容するノズル収容部３５と、ノズル収容部３５内の底面に設けられた略円柱状の排出流路３７と、排出流路３７を通じて回収された廃液を回収する流路である廃液回収部３９とを備えている。
【００３６】
ノズル収容部３５は、上面に開口部３５ａを有し、開口部３５ａを通じてノズル３を収容および取り出しするものである。また、ノズル収容部３５は、開口部３５ａから底面に近づくほど細くなるように形成されている。例えば、ノズル収容部３５は、収容されたノズル３の先端部の外周に対応する下部３５ｂが略逆円錐状に形成されており、また、上部３５ｃが略円柱状に形成されている。ノズル収容部３５は、横断面が、円、楕円または多角形を含む略円形で形成されている。
【００３７】
一方、排出流路３７は、ノズル収容部３５に収容されたノズル３から吐出された塗布液および、ノズル収容部３５に供給された溶剤を排出するものである。排出流路３７の内径Ｄ１は、ノズル３のノズル吐出口３ａの直径Ｄ２よりも大きく形成されている。また、排出流路３７は、円柱状に形成されている。円柱は、直円柱である。円柱の底面から上面にかけて流路断面積は同じであり、逆円錐や逆円錐台のように、側面が傾いていない。また、円柱の円形は、円、楕円または多角形を含む略円形であってもよい。なお、排出流路３７とノズル収容部３５の略円形の横断面の中心軸Ｃが同じ（同軸）である。
【００３８】
また、待機ポット３１は、第１供給部４１と第２供給部４２を備えている。第１供給部４１は、ノズル収容部３５内の側面に設けられた第１吐出口４３を有し、この第１吐出口４３からノズル収容部３５に溶剤を供給する。第１吐出口４３は、ノズル３の外周面に向けて溶剤を供給するものである。一方、第２供給部４２は、排出流路３７内の側面に設けられた第２吐出口４４を有する。第２供給部４２は、この第２吐出口４４から排出流路３７に溶剤を供給することにより排出流路３７内に渦流を発生させる。第２供給部４２は、この渦流によって排出流路３７の流通性、即ち、ノズル収容部３５内に供給された溶剤の排出流量を調整するものである。なお、第２供給部４２は、本発明の排出流量調整部に相当する。
【００３９】
図４は、ノズル収容部３５、第１吐出口４３および円筒状流路４６を斜め上から見た縦断面図である。第１吐出口４３は、内側を向いたリング状のスリットで構成されている。これにより、ノズル収容部３５に収容されたノズル３の全周に向けて溶剤を均一に供給することができる。
【００４０】
また、第１供給部４１は、リング状の扁平な水平流路４５と、円筒状（またはリング状）の円筒状流路（またはリング状流路）４６とを備えている。水平流路４５の内周端の開口が第１吐出口４３を構成している。円筒状流路４６は、水平流路４５の外周部と連通している。
【００４１】
水平流路４５では、外周端から内周端の第１吐出口４３に向けて、すなわちリング状の水平流路４５の半径方向に沿って、ノズル洗浄液が流れる。この際、水平流路４５は、リング状の扁平な流路であるので、外周端の円筒状流路４６から内周端の第１吐出口４３に向かうほど、水平流路４５は絞られる。すなわち、水平流路４５の外周側よりも内周側において、リング状（または円筒状）に切り出した縦断面積が小さいので、水平流路４５は絞られる。これにより、第１吐出口４３に向けてノズル洗浄液が流れにくくなり、ノズル洗浄液が水平流路４５に沿って周方向に回り込む。そのため、第１吐出口４３からノズル３に向けて均等に溶剤を供給することができる。また、第１吐出口４３がスリット状であるので、ノズル３に溶剤を勢いよく供給することができる。
【００４２】
また、水平流路４５は、円筒状流路４６の上部内側の出口（連通部）と連通している。円筒状流路４６は、水平流路４５との連通部よりも下から溶剤を流入させるように構成されている。円筒状流路４６に溶剤が流入されると、溶剤は、円筒状流路４６の下から上に向けて充填するように流れる。下から上に向けて溶剤が流れながら、円筒状に沿って周方向にも溶剤が回り込む。そのため、水平流路４５に溶剤を均等に送ることができる。それにより、更に、第１吐出口４３からノズル３の外周面に向けて均等に溶剤を供給することができる。なお、円筒状流路４６は、本実施例では、下から上に向けて流しているが、水平流路４５のように、外周端から内周端の第１吐出口４３に向けて水平方向に溶剤を流すようなリング状流路であってもよい。また、円筒状流路４６に対して、水平流路４５の入口（連通部）の流路（流路の断面積）を絞ってもよい。そして、水平流路４５によって更に流路を絞るようにしてもよい。
【００４３】
図５は、排出流路３７および第２吐出口４４を示す横断面図である。第２吐出口４４は、図５のように、排出流路３７の略円形の横断面の中心軸Ｃに向けないように設けられている。例えば、第２吐出口４４は、排出流路３７の中心軸Ｃを外して、排出流路３７の略円形の接線方向に向けて設けられている。また、図３の縦断面図において、第２吐出口４４は、略水平方向に向くように設けられている。
【００４４】
第２供給部４２は、図５のように、第２吐出口４４から排出流路３７内に、排出流路３７の中心軸Ｃを外して溶剤を供給する。これにより、図５の矢印のように、排出流路３７の側面に沿って溶剤が渦を巻くように流れる。なお、図５では、溶剤が反時計回りに流れるように構成されているが、時計回りに流れるように構成してもよい。
【００４５】
図３に戻る。第１吐出口４３および第２吐出口４４には、溶剤流路４７（４７ａ，４７ｂ、４７ｃ）および共有流路４９を通じて溶剤が送られる。溶剤流路４７の途中には、開閉弁５１が設けられており、開閉弁５１は溶剤流路４７を開閉する。共有流路４９は、待機ポット３１が複数の場合に、複数の待機ポット３１で共有する流路である。また、溶剤流路４７ａは、２つの溶剤流路４７ｂ，４７ｃに分岐している。溶剤流路４７ｂは、第１吐出口４３の手前の円筒状流路４６に接続される。なお、溶剤流路４７ｂは、更に分岐して円筒状流路４６と接続してもよい。これにより、リング状のスリットで構成された第１吐出口４３から更に均等に溶剤を供給できる。一方、溶剤流路４７ｃは、第２吐出口４４に接続される。
【００４６】
なお、第１供給部４１は、第１吐出口４３、水平流路４５、円筒状流路４６、溶剤流路４７ａ，４７ｂ、共有流路４９および開閉弁５１を備えている。一方、第２供給部４２は、第２吐出口４４、溶剤流路４７ａ，４７ｃ、共有流路４９および開閉弁５１を備えている。また、第１供給部４１および第２供給部４２は、溶剤流路４７ａ、共有流路４９および開閉弁５１を共有する。溶剤流路４７は、本発明の洗浄液流路に相当する。
【００４７】
次に、図３を参照して開閉弁５１とその周囲の構成を説明する。待機ポット３１の第１供給部４１および第２供給部４２は、第１吐出口４３に溶剤を送るための溶剤流路４７ａ，４７ｂと、第２吐出口４４に溶剤を送るための溶剤流路４７ａ，４７ｃと、開閉動作を行う弁体５３を有して溶剤流路４７を開閉する開閉弁５１とを備えている。本実施例では、開閉弁５１の開閉動作で、第１供給部４１と第２供給部４２による溶剤の供給およびその停止が共通して行われる。
【００４８】
更に、本実施例では、溶剤流路４７ａ，４７ｂ，４７ｃ（溶剤流路４７ａと２つの溶剤流路４７ｂ，４７ｃとの間）には、溶剤流路４７ａ，４７ｂ，４７ｃと連通する穴部５５が介在して設けられている。穴部５５には、溶剤流路４７ａ，４７ｂ，４７ｃを弁体５３で遮断するための、弁体５３を受ける弁座５７が設けられていると共に、弁体５３が進退移動可能になるように開閉弁５１が配置されている。開閉弁５１は、穴部５５の弁座５７に弁体５３を着座させることで、溶剤の流通を遮断させる一方、穴部５５の弁座５７から弁体５３を離すことで、溶剤を流通させる。そのため、例えば１０個の待機ポット３１を並べて配置させる場合、弁体と弁座を備える一般的な開閉弁よりもコンパクトに構成できる。
【００４９】
なお、穴部５５は、開閉弁５１により塞がれているので、穴部５５から外へ溶剤が漏れないように構成される。また、図３において、弁座５７は、溶剤流路４７ａと連通するために流入口５９が形成された穴部５５の面と同じ面に形成されている。溶剤流路４７ａの流入口５９および弁座５７は、弁体５３と対向配置されており、図３において、弁体５３が横移動することで、溶剤流路４７ａと２つの溶剤流路４７ｂ，４７ｃとの間を遮断したり、流通させたりすることができる。
【００５０】
図６は、待機ポット３１へ溶剤を供給する供給系を示す図である。開閉弁５１は、１０個（複数）の待機ポット３１の各々に設けられている。これにより、必要な待機ポット３１のみに溶剤を供給できる。そのため、従来のように、１０個の待機ポット全てに溶剤を同時に供給していた場合のように、各待機ポットへ均等に溶剤を供給するために複雑な流路を設けなくてもよい。また、従来に比べて、溶剤の消費量を抑制できる。
【００５１】
また、図６において、待機ポット３１の共有流路４９には、溶剤供給源６１から溶剤配管６３を通じて溶剤が供給される。溶剤配管６３には、ポンプＰ２と開閉弁Ｖ２が介在している。開閉弁Ｖ２は、溶剤の供給とその停止を行うが流量調整が行えるようになっていてもよい。ポンプＰ２は、待機ポット３１の共有流路４９に溶剤を送り出す。なお、開閉弁５１，Ｖ１，Ｖ２は、エア、ソレノイドまたはモータで駆動される。また、開閉弁５１，Ｖ２は、図６において、ノーマルクローズ式の開閉弁であるが、例えば、ノーマルオープン式などその他の形式の開閉弁であってもよい。
【００５２】
図１に戻る。塗布装置１は、中央演算処理装置（ＣＰＵ）などで構成された制御部７１と、塗布装置１を操作するための操作部７３とを備えている。制御部７１は、塗布装置１の各構成を制御する。操作部７３は、液晶モニタなどの表示部と、ＲＯＭ（Read-only Memory）、ＲＡＭ（Random-Access Memory）、およびハードディスク等の記憶部と、キーボード、マウス、および各種ボタン等の入力部とを備えている。記憶部には、塗布処理の各種条件等が記憶されている。
【００５３】
制御部７１は、例えば、次のような制御を実行する。すなわち、制御部７１は、ノズル収容部３５にノズル３が収容された状態で、ノズル３から塗布液を吐出させ、また、ノズル収容部３５に供給された溶剤をノズル３の先端内部に吸引させる。また、制御部７１は、第２吐出口４４から溶剤を供給させながら、第１吐出口４３から溶剤を供給させる。また、制御部７１は、ポンプＰ２、開閉弁Ｖ２および各待機ポット３１の開閉弁５１も制御する。
【００５４】
なお、待機ポット３１は、図３のように、１つまたは複数のブロックに一定の形状を作ることで構成されている。本実施例では、待機ポット３１は、３つのブロック（本体ブロック８１、スペーサブロック８３、および載置ブロック８５）で構成されている。本体ブロック８１には、ノズル収容部３５、排出流路３７、廃液回収部３９、第１吐出口４３、第２吐出口４４、水平流路４５、円筒状流路４６、溶剤流路４７、共有流路４９、穴部５５、弁座５７等が形成されている。スペーサブロック８３は、ノズル収容部３５、第１吐出口４３、水平流路４５および円筒状流路４６が形成されている。載置ブロック８５には、ノズル収容部３５が形成されている。なお、例えば、リング状のスリットで構成される第１吐出口４３は、本体ブロック８１とスペーサブロック８３とを組み合わせて構成される。なお、本体ブロック８１は、複数で分割して構成されていてもよい。
【００５５】
また、溶剤流路４７は、ノズル収容部３５が形成された本体ブロック８１と同じ本体ブロック８１に形成されている。上述のように、溶剤流路４７には、溶剤流路４７と連通する穴部５５が介在して設けられている。穴部５５内には、溶剤流路４７をダイアフラム４６で遮蔽するための弁座５７が設けられている。なお、本体ブロック８１が本発明のブロックに相当する。
【００５６】
＜塗布装置１の動作＞
次に、塗布装置１の動作について説明する。まず、ノズル３から塗布液を吐出する動作について説明する。
【００５７】
図２のように、保持回転部２Ａは、基板ＷＡを保持している。また、１０個の待機ポット３１には、１０本のノズル３が待機される。ノズル移動機構５は、１０本のノズル３のうち、任意の１つのノズル３を選択して把持する。把持されたノズル３は、ノズル移動機構５により、上下方向（Ｚ方向）および水平方向（ＸＹ方向）に移動されて、待機ポット３１から例えば基板ＷＡの上方に移動される。
【００５８】
予め設定された塗布条件で基板ＷＡ上にノズル３から塗布液を吐出させ、また、保持回転部２は、所定のタイミングや回転速度で基板ＷＡを回転する。なお、図１において、ポンプＰ１は稼働している。制御部７１は、開閉弁Ｖ１を開いた状態にしつつ、サックバック弁ＳＶでノズル３の先端内部に吸引した塗布液を押し出すことにより、ノズル３から基板ＷＡ上に塗布液を吐出する。処理液の吐出を停止する場合、制御部７１は、開閉弁Ｖ１を閉じた状態にしつつ、サックバック弁ＳＶでノズル３の先端内部の塗布液を吸い込む。
【００５９】
塗布液の吐出後、ノズル移動機構５は、基板ＷＡの上方から、次に塗布する基板ＷＢの上方にノズル３を移動させる。このノズル３の移動の際に、他のノズル３と交換する場合など、待機ポット３１を経由して基板ＷＢの上方に移動させてもよい。塗布液が吐出された基板ＷＡは、次の工程の装置に搬送されて、代わりに未処理の基板Ｗが搬送される。また、基板ＷＡから基板ＷＢの上方にノズル３を移動する前に、保持回転部２Ｂには、未処理の基板Ｗ２が搬送されている。基板Ｗへの塗布液の吐出は、２つの保持回転部２Ａ，２Ｂの間で交互に行われる。
【００６０】
次に、ノズル３が待機中の待機ポット３１の動作について説明する。図３を参照する。
【００６１】
塗布処理を行わないノズル３は、待機ポット３１に待機される。待機ポット３１で待機中のノズル３は、ノズル３内に残留している塗布液が乾燥固化するのを防止するため、定期的にダミーディスペンスが行われる。しかしながら、ダミーディスペンスの回数が多いと塗布液を浪費する。そのため、ノズル３の先端内部に溶剤を吸引して、その溶剤でノズル３の先端部に蓋をすることによりノズル３内の塗布液の乾燥固化を防止し、ダミーディスペンスの回数を減らしている。
【００６２】
ダミーディスペンスを行う場合、制御部７１は、ノズル収容部３５に収められたノズル３から塗布液を吐出させる。吐出された塗布液は、図７（ａ）のように、排出流路３７を通り、廃液回収部３９に回収される。
【００６３】
一方、ノズル３に溶剤を吸引させる場合、制御部７１は、第２吐出口４４から溶剤を吐出させながら、第１吐出口４３から溶剤を供給させる。図６において、ポンプＰ２は稼働しており、開閉弁Ｖ２は、溶剤配管６３を開いた状態にして、待機ポット３１の共有流路４９に溶剤を送っている。１０個の待機ポット３１の各々には、開閉弁５１が設けられている。閉状態の１０個の開閉弁５１のうち、例えば左端の開閉弁５１Ａを開状態にする。
【００６４】
開閉弁５１Ａ（図３では符号５１）を開状態にすると、図３のように、共有流路４９および溶剤流路４７ａを経て穴部５５から２つの溶剤流路４７ｂ，４７ｃに分岐してノズル収容部３５および排出流路３７の両方に溶剤が送られる。
【００６５】
溶剤流路４７ｂの溶剤は、円筒状流路４６に送られて、更に、水平流路４５、第１吐出口４３の順番に送られる。図３、図４のように、水平流路４５はリング状の扁平な流路であり、外周端から内周端の第１吐出口４３に向かうほど、水平流路４５は絞られる。そのため、第１吐出口４３への溶剤が流れにくくなり、溶剤が円筒状流路４６に沿って周方向に回り込む。そのため、第１吐出口４３からノズル３の外周面に向けて均等に溶剤を供給することができる。
【００６６】
また、円筒状流路４６は、水平流路４５との連通部より下から溶剤が流入される。溶剤は、円筒状流路４６の下から上に向けて充填するように流れる。下から上に向けて溶剤が流れながら、円筒状流路４６に沿って周方向にも溶剤が回り込む。そのため、水平流路４５に向けて溶剤を均等に送ることができる。それにより、更に、第１吐出口４３からノズル３の外周面に向けて均等に溶剤を供給することができる。
【００６７】
また、第１吐出口４３は、リング状のスリットで構成されているので、図７（ｂ）、図７（ｃ）のように、ノズル３の全周に向けて均等に溶剤を供給でき、これにより、洗浄残りを低減させることができる。
【００６８】
一方、溶剤流路４７ｃの溶剤は、第２吐出口４４に送られる。第２吐出口４４は、図５のように、円柱状の排出流路３７の横断面では、排出流路３７の中心軸Ｃを外して溶剤を供給するように構成されている。すなわち、第２吐出口４４は、図５のように、排出流路３７の横断面の略円形に沿って溶剤が流れるように構成されている。これにより、排出流路３７において、溶剤が渦状に流れる。
【００６９】
渦状に流れた第２吐出口４４からの溶剤が蓋となり、第１吐出口４３からノズル収容部３５に供給された溶剤が排出流路３７を流通しにくくなる。これにより、第１吐出口４３からノズル収容部３５に供給された溶剤が排出流路３７を通って流れる溶剤の排出量を減少できる。略円柱状の排出流路３７に溶剤を供給することで、ノズル収容部３５の逆円錐状の部分を溶剤がせり上がることがないので、不安定な状態とならずに溶剤をノズル収容部３５に溜めることができる。
【００７０】
ノズル３の洗浄は、第１吐出口４３および第２吐出口４４から溶剤を予め設定された時間供給して行われる。この際、ノズル収容部３５から溶剤が排出されつつ、ノズル収容部３５には、溶剤が溜められる。ノズル３の洗浄後、新鮮な溶剤が溜められた状態で、ノズル３の先端内部に溶剤を吸引する。例えば、溶剤を供給しながら、新鮮な溶剤に置き換えてもよい。また、ノズル３の洗浄後、一旦、溶剤供給を停止して、溶剤の一部または全部を排出した後、ノズル収容部３５に新鮮な溶剤を溜めてもよい。例えば、第２吐出口４４に連通する溶剤流路４７ｃが穴部５５に接続する位置を、溶剤流路４７ｂが接続する位置よりも、弁体５３の後退位置側にずらせて設ける。そして、弁体５３の外周面で溶剤流路４７ｂ、４７ｃの開口部を個別に開閉させるように構成する。具体的には、ノズル３を洗浄するときは、溶剤流路４７ｂだけが開放する位置で弁体５３を止める。そうすると第１吐出口４３から供給された溶剤はノズル３の外周面を洗浄した後に排出流路３７を通って円滑に排出される。その後、弁体５３をさらに後退させて溶剤流路４７ｃも開放する。そうすると第２吐出口４４から溶剤が排出流路３７に供給されることにより排出流路３７の排出流量が制限される。その結果、第１吐出口４３から供給された清浄な溶剤がノズル収容部３５に溜められる。
【００７１】
ノズル収容部３５に溜められた溶剤は、図１のサックバック弁ＳＶを制御することにより、図７（ｄ）のように、ノズル３の先端内部に吸引させる。なお、溶剤の吸引後は、開閉弁５１を制御して、開閉弁５１を閉じた状態にする。これにより、第１吐出口４３および第２吐出口４４からの溶剤の供給が停止され、ノズル収容部３５に溜められた溶剤は、排出流路３７を通じて排出される（図７（ｅ）参照）。なお、図７（ａ）〜図７（ｅ）において、符号Ｌ１は塗布液を示し、符号Ｌ２は溶剤を示し、そして、符号Ｌ３は、空気などの気体を示す。
【００７２】
本実施例によれば、上面の開口部３５ａを通じてノズル３を収容するノズル収容部３５は、開口部３５ａから底面に近づくほど細くなるように形成されている。第１供給部４１は、ノズル収容部３５内の側面に設けられた第１吐出口４３を有し、第１吐出口４３からノズル洗浄液を供給する。また、ノズル収容部３５内の底面には、円柱状の排出流路３７が設けられている。排出流路３７は、ノズル収容部３５内に収められたノズル３から吐出された塗布液を少なくとも排出する。そのため、排出流路３７は、排出流路３７の内径Ｄ１がノズル３のノズル吐出口３ａの直径Ｄ２よりも大きくなるように設定されるので、ノズル３から吐出された塗布液が排出流路３７から円滑に排出される。その結果、ノズル収容部３５に塗布液が付着しにくくなる。一方、ノズル収容部３５から流れて排出流路３７を通過する溶剤の排出流量を調整する排出流量調整部としての第２供給部４２が、排出流路３７に設けられている。そのため、溶剤が排出流路３７を流通するときに第２供給部４２が排出流量を調整することにより、排出流路３７の内径Ｄ１がノズル吐出口３ａの直径Ｄ２より大きく設定されているにも拘わらず、溶剤を安定してノズル収容部３５に貯留でき、それにより、ノズル３の先端内部に溶剤を容易に吸引できる。
【００７３】
また、第２供給部４２は、排出流路３７内の側面に設けられた第２吐出口４４を有し、第２吐出口４４から排出流路３７内に、排出流路３７の中心軸Ｃを外して溶剤を供給する。例えば、第２吐出口４４が、上面の開口部３５ａから底面に近づくほど細くなるように形成されたノズル収容部３５内の傾斜面に設けられていると仮定する。この場合、溶剤が傾斜面を渦状に流れてせり上がり、これにより、ノズル収容部３５から溢れる可能性があり、また、ノズル収容部３５に安定して貯留できなくなる。しかしながら、第２供給部４２は、第２吐出口４４から円柱状の排出流路３７の中心軸Ｃを外して溶剤が供給されるので、排出流路３７で溶剤が渦状に流れるのであるが、排出流路３７が円柱状であるので、内面に沿ってせり上がることがなくなる。排出流路３７に形成された溶剤の渦状の流れは、第１吐出口４３からノズル収容部３５に供給された溶剤が排出流路３７を流通するのを制限する。その結果、第１吐出口４３からノズル収容部３５に供給された溶剤をノズル収容部３５に安定して貯留できる。
【００７４】
また、待機ポット３１において、第１供給部４１は、第１吐出口４３に溶剤を送るための溶剤流路４７であって、ノズル収容部３５が形成された本体ブロック８１と同じ本体ブロック８１に形成された溶剤流路４７と、開閉動作を行う弁体５３を有して溶剤流路４７を開閉する開閉弁５１と、を更に備えている。溶剤流路４７ａ，４７ｂ，４７ｃ（溶剤流路４７ａと２つの溶剤流路４７ｂ，４７ｃとの間）には、溶剤流路４７ａ，４７ｂ，４７ｃと連通する穴部５５が介在して設けられている。穴部５５には、溶剤流路４７ａ，４７ｂ，４７ｃを弁体５３で遮断するための、弁体５３を受ける弁座５７が設けられていると共に、弁体５３が進退移動可能なように開閉弁５１が配置されている。開閉弁５１は、穴部５５の弁座５７に弁体５３を着座させることで、溶剤の流通を遮断させる一方、穴部５５の弁座５７から弁体５３を離すことで、溶剤を流通させる。
【００７５】
これにより、溶剤流路４７ａ，４７ｂ，４７ｃに介在して設けられた穴部５５には、弁座５７が設けられ、また、開閉弁５１が配置される。また、弁座５７は、開閉弁５１と別体であり、ノズル収容部３５が形成された本体ブロック８１と同じ本体ブロック８１に形成された穴部５５に設けられている。そのため、待機ポット３１が複数のノズル収容部３５を備える場合、弁体と弁座を備える一般的な開閉弁よりもコンパクトに構成できる。
【００７６】
また、待機ポット３１において、ノズル収容部３５は、下部３５ｂが逆円錐状に形成されている。例えば、ノズル収容部３５内の底面が凹状の半球面で形成されているとする。この場合、ノズル３の洗浄後、その半球面にレジスト液が残ってしまった場合に、溶剤を供給しても、レジスト液が除去されずに残りやすい。ノズル収容部３５の下部３５ｂが逆円錐状に形成されていることで、レジスト液で汚れてしまっても、レジスト液残りを抑えることができる。そのため、ノズル収容部３５内の清浄度を保ちやすくできる。
【００７７】
本発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。
【００７８】
（１）上述した実施例では、１つの開閉弁５１を開いた状態にすると、第１吐出口４３および第２吐出口４４の両方から溶剤が供給されていた。この点、例えば、待機ポット３１にスペースがあれば、開閉弁５１を２つ設けて個々に溶剤を供給するようにしてもよい。
【００７９】
（２）上述した実施例では、待機ポット３１は、排出流路３７に設けられ、ノズル収容部３５から流れて排出流路３７を通過する溶剤の排出流量を調整する排出流量調整部として、第２供給部４２を備えていた。例えば、排出流量調整部として、機械的に排出流量を調整するものであってもよい。
【００８０】
すなわち、排出流量調整部は、図８のように、排出流路３７の一部または全部を囲う排出管９１と、排出管９１を横方向で挟んで排出管９１を変形させるピンチバルブ９３とを備えている。図２の制御部７１は、ノズル３に溶剤を吸引する場合には、ピンチバルブ９３により、排出管９１を変形させて、塗布液を排出するときの排出流量よりも溶剤の排出流量を減らしながら、開閉弁５１を開いて、第１吐出口４３からノズル収容部３５に溶剤を供給する。
【００８１】
ピンチバルブ９３により排出管９１を変形し始めるタイミングは、開閉弁５１で開き始めるタイミングと同じであってもよいし、その前後であってもよい。ピンチバルブ９３は、図９（ａ）のように、可動部９３ａと、可動部９３ａをエア、ソレノイドまたはモータで駆動する駆動部９３ｂと、可動部９３ａと対向する対向部９３ｃとを備えている。なお、駆動部９３ｂと対向部９３ｃは連結されている。
【００８２】
なお、ピンチバルブ９３は、排出管９１を左右均等に変形させるために、挟み込む方向に固定せず移動可能に本体ブロック８１に設けられていてもよい。また、ピンチバルブ９３の挟み込む方向も固定させて、可動部９３ａに直接押された排出管９１の左部分を変形させてもよい。
【００８３】
また、排出管９１とピンチバルブ９３に代えて、図９（ｂ）のように、ダイアフラム弁９５を備えてもよい。ダイアフラム弁９５で排出流路３７を通過する溶剤の排出流量を調整する。具体的な構成を説明する。排出流路３７には、排出流路３７と連通する穴部９４が設けられている。穴部９４にダイアフラム弁９５が配置される。ダイアフラム弁９５は、例えば、排出流量を調整するダイアフラム９５ａと、ダイアフラム９５ａを移動させて排出流路３７の横断面の面積を変える可動部９５ｂと、可動部９５ｂをエア、ソレノイドまたはモータで駆動する駆動部９５ｃとを備えている。この場合も同様に、図１の制御部７１は、ダイアフラム弁９５により、排出流路３７の横断面の面積を変えて、塗布液を排出するときの排出流量よりも溶剤の排出流量を減らしながら、開閉弁５１を開いて、第１吐出口４３からノズル収容部３５に溶剤を供給する。
【００８４】
（３）上述した実施例および各変形例では、塗布装置１は、複数（例えば１０個）の待機ポット３１を備えていたが、待機ポット３１は、１つであってもよい。この場合、待機ポット３１は、１つのノズル収容部３５を備えている。また、ノズル３は１本であるので、ノズル３は、ノズル移動機構５に取り付けられていてもよい。
【００８５】
また、１つの待機ポット９７は、図１０のように、１０本のノズル３を収容するため１０個のノズル収容部３５を有していてもよい。すなわち、この例は、１０個の待機ポット３１を一体的にして１つの待機ポット９７としている。この場合、１０個のノズル収容部３５の各々に対して、排出流路３７、第１供給部４１、および第２供給部４２が少なくとも設けられている。なお、第１供給部４１と第２供給部４２は、開閉弁５１を含んでいる。
【００８６】
これにより、複数のノズル３を待機でき、複数のノズル収容部３５で上述の効果が得られる。例えば、ノズル収容部３５の各々に対して開閉弁５１を設けていることで、開閉弁５１を備えた待機ポット９７の構成をコンパクトにできる。また、ノズル収容部３５ごとに設けられた開閉弁５１により、選択的に溶剤を供給することができる。複数（１０個）のノズル収容部３５の中のノズル洗浄を行う必要なノズル収容部３５にだけ溶剤を供給するので、溶剤の消費量を抑制できる。また、溶剤流路４７の構造の複雑さが緩和される。
【００８７】
（４）上述した実施例および各変形例では、基板処理装置として、基板Ｗに対して塗布液を塗布する塗布装置１として説明したが、例えば、現像装置であってもよい。現像装置は、基板Ｗに対して現像液（またはリンス液）を吐出するノズルを備えている。なお、現像液およびリンス液は、本発明の処理液に相当する。現像液を吐出するノズルは、待機ポット３１でノズルがノズル洗浄液で洗浄され、場合により、そのノズルの先端内部にノズル洗浄液を吸引して、図７（ｅ）のように、ノズル洗浄液で蓋をする。ノズル洗浄液として純水（ＤＩＷ：脱イオン水）が用いられる。
【００８８】
（５）上述した実施例および各変形例では、第１吐出口４３は、リング状のスリットで構成されていた。必要に応じて、例えば、ノズル収容部３５に収容されたノズル３の囲うようにノズル収容部３５内の側面に複数個の吐出口が設けられていてもよい。
【００８９】
（６）上述した実施例および各変形例では、第１吐出口４３は、１つのリング状のスリットで構成されていたが、これと同じ効果があれば、次のように構成してもよい。例えば、１つのリング状のスリットは、Ｃ状である略リング状であってもよい。また、２つまたは２つ以上のスリットでリング状に構成されていてもよい。
【００９０】
（７）上述した実施例および各変形例では、１０個（複数）の待機ポット３１の１０個の開閉弁５１のうち、いずれか１つの開閉弁５１を開いた状態にしたが、１０個の待機ポット３１において、溶剤の供給量が均等であれば、複数（全数を含む）の開閉弁５１を同時に開いた状態にしてもよい。また、開閉弁５１は、通過する流量の調整機能を有していてもよい。この調整機能は、開閉弁５１に設けられたネジ調整部を操作者が調整するものであってもよいし、操作者が入力した電気信号で調整するものであってもよい。
【符号の説明】
【００９１】
１        …  塗布装置
３        …  ノズル
３１，９７  …  待機ポット
３５      …  ノズル収容部
３７      …  排出流路
４３      …  第１吐出口
４４      …  第２吐出口
４５      …  水平流路
４６      …  円筒状流路
４７（４７ａ，４７ｂ，４７ｃ）  …  溶剤流路
５１      …  開閉弁
５３      …  弁体
５５      …  穴部
５７      …  弁座
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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