(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
コア基板、前記コア基板上に形成される第１の回路パターン、及び前記コア基板及び前記第１の回路パターンを貫通する貫通部を有する回路基板と、
コア絶縁層及び前記コア絶縁層上に形成される第２の回路パターンを含む微細回路構造体を有し、前記回路基板の前記貫通部に収容される連結基板と、を含み、
前記コア絶縁層の厚さは、前記コア基板の厚さよりも厚い、印刷回路基板。
【請求項２】
前記第１の回路パターンは、複数の回路層と前記複数の回路層の間に介在された絶縁層を含む、請求項１に記載の印刷回路基板。
【請求項３】
前記第１の回路パターンは、電子部品を実装するための第１のパッドを含む、請求項１または２に記載の印刷回路基板。
【請求項４】
前記微細回路構造体は、前記連結基板の一面又は両面に形成される、請求項１から３のいずれか一項に記載の印刷回路基板。
【請求項５】
前記微細回路構造体は前記連結基板の両面に形成され、前記両面の微細回路構造体はビアを介して電気的に連結される、請求項１から４のいずれか一項に記載の印刷回路基板。
【請求項６】
前記微細回路構造体は、複数の回路層と前記複数の回路層の間に介在された絶縁層を含む、請求項１から５のいずれか一項に記載の印刷回路基板。
【請求項７】
前記絶縁層は感光性絶縁層である、請求項６に記載の印刷回路基板。
【請求項８】
前記第２の回路パターンは、電子部品を連結するための信号線を含む、請求項１から７のいずれか一項に記載の印刷回路基板。
【請求項９】
前記第２の回路パターンは、電子部品を実装するための第２のパッドを含む、請求項１から８のいずれか一項に記載の印刷回路基板。
【請求項１０】
前記第２の回路パターンは、前記第１の回路パターンより小さいピッチの微細パターンを含む、請求項１から９のいずれか一項に記載の印刷回路基板。
【請求項１１】
前記回路基板及び前記連結基板上に形成されたビルドアップ絶縁層とビルドアップ回路層を含むビルドアップ層をさらに含む、請求項１から１０のいずれか一項に記載の印刷回路基板。
【請求項１２】
前記回路基板上に形成されたソルダレジスト層をさらに含む、請求項１から１１のいずれか一項に記載の印刷回路基板。
【請求項１３】
前記連結基板と前記貫通部の間に形成される充填樹脂をさらに含む、請求項１から１２のいずれか一項に記載の印刷回路基板。
【請求項１４】
前記充填樹脂はソルダレジストである、請求項１３に記載の印刷回路基板。
【請求項１５】
コア基板、前記コア基板上に形成される第１の回路パターン、及び前記コア基板及び前記第１の回路パターンを貫通する貫通部を有する回路基板と、コア絶縁層及び前記コア絶縁層上に形成される第２の回路パターンを含む微細回路構造体を有し、前記回路基板の前記貫通部に収容される連結基板と、を含む印刷回路基板と、
前記印刷回路基板の一面又は両面に搭載される電子部品と、を含み、
前記コア絶縁層の厚さは、前記コア基板の厚さよりも厚い、電子部品モジュール。
【請求項１６】
前記第２の回路パターンは、前記第１の回路パターンより小さいピッチの微細パターンを含む、請求項１５に記載の電子部品モジュール。
【請求項１７】
コア基板、前記コア基板上に形成される第１の回路パターン、及び前記コア基板及び前記第１の回路パターンを貫通する貫通部を有する回路基板を準備する段階と、
前記貫通部にコア絶縁層及び前記コア絶縁層上に形成される第２の回路パターンを含む微細回路構造体を有する連結基板を収容する段階と、を含み、
前記コア絶縁層の厚さは、前記コア基板の厚さよりも厚い、印刷回路基板の製造方法。
【請求項１８】
前記連結基板を前記貫通部に収容する段階の前に、
前記連結基板を準備する段階をさらに含み、
前記連結基板は、前記コア絶縁層の第１の側及び前記第１の側と対向する第２の側上に配置された回路パターン及び絶縁層、及び前記コア絶縁層の第１の側と第２の側を電気的に連結するビアを含む、請求項１７に記載の印刷回路基板の製造方法。
【請求項１９】
前記印刷回路基板の一面又は両面に一つ以上の電子部品を実装する段階をさらに含む、請求項１８に記載の印刷回路基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、印刷回路基板、その製造方法、及び電子部品モジュールに関する。
【背景技術】
【０００２】
最近、モバイル機器とタブレットＰＣなどの高性能化、高集積化に伴いＣＰＵ、ＧＰＵ、ＡＰなどの中核部品も高性能、高集積化している。このために、パッケージ基板においても線幅３μｍ以下の微細パターン技術を具現するための多様な技術と構造が検討されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】米国特許出願公開第２０１１／０１０３０３０号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の一目的は、反り制御が容易な印刷回路基板及びその製造方法を提供することである。
【０００５】
本発明の他の目的は、微細パターンと微細ピッチに対応することができる印刷回路基板及びその製造方法を提供することである。
【０００６】
本発明の他の目的は、複数の電子部品間（ｄｉｅ  ｔｏ  ｄｉｅ）の連結が可能なパターンを有する印刷回路基板及びその製造方法を提供することである。
【０００７】
本発明のさらに他の目的は、設計自由度を改善し、製品のサイズと層数を減らすことができる印刷回路基板及びその製造方法を提供することである。
【０００８】
本発明のさらに他の目的は、上記印刷回路基板を適用した電子部品モジュールを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の一実施例による印刷回路基板は、貫通部及び第１の回路パターンを有する回路基板と、第２の回路パターンを含む微細回路構造体を有し、上記貫通部に収容される連結基板と、を含む。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、反り制御が容易な印刷回路基板及びその製造方法を提供することができる。また、微細パターンと微細ピッチに対応することができる印刷回路基板及びその製造方法を提供することができる。また、複数の電子部品間（ｄｉｅ  ｔｏ  ｄｉｅ）の連結が可能なパターンを有する印刷回路基板及びその製造方法を提供することができる。また、設計自由度を改善し、製品のサイズと層数を減らすことができる印刷回路基板及びその製造方法を提供することができる。また、上記印刷回路基板を適用した電子部品モジュールを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の一実施例による印刷回路基板を例示する断面図である。
【図２】本発明の他の実施例による印刷回路基板を例示する断面図である。
【図３】本発明のさらに他の実施例による印刷回路基板を例示する断面図である。
【図４】本発明のさらに他の実施例による印刷回路基板を例示する断面図である。
【図５】本発明のさらに他の実施例による印刷回路基板を例示する断面図である。
【図６】本発明の一実施例による電子部品モジュールを例示する断面図である。
【図７】本発明の他の実施例による電子部品モジュールを例示する断面図である。
【図８】本発明の一実施例による電子部品モジュールの製造方法を示すフローチャートである。
【図９】本発明の一実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【図１０】本発明の一実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【図１１】本発明の一実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【図１２】本発明の一実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【図１３】本発明の一実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【図１４】本発明の一実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【図１５】本発明の一実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【図１６】本発明の一実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【図１７】本発明の一実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【図１８】本発明の一実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【図１９】本発明の一実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【図２０】本発明の一実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【図２１】本発明の一実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【図２２】本発明の一実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【図２３】本発明の他の実施例による電子部品モジュールの製造方法を示すフローチャートである。
【図２４】本発明の他の実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【図２５】本発明の他の実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【図２６】本発明の他の実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【図２７】本発明の他の実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【図２８】本発明の他の実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【図２９】本発明の他の実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【図３０】本発明の他の実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【図３１】本発明の他の実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【図３２】本発明の他の実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【図３３】本発明の他の実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【図３４】本発明の他の実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【図３５】本発明の他の実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【図３６】本発明の他の実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【図３７】本発明の他の実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【図３８】本発明の他の実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下では、添付の図面を参照して本発明の好ましい実施形態について説明する。しかし、本発明の実施形態は様々な他の形態に変形されることができ、本発明の範囲は以下で説明する実施形態に限定されない。また、本発明の実施形態は、当該技術分野で平均的な知識を有する者に本発明をより完全に説明するために提供されるものである。したがって、図面における要素の形状及び大きさなどはより明確な説明のために誇張されることがある。
【００１３】
印刷回路基板
図１は、本発明の一実施例による印刷回路基板を例示する断面図である。
【００１４】
図１を参照すると、上記印刷回路基板は、貫通部１０１を有する回路基板１００と、上記貫通部１０１に収容される連結基板１０と、を含む。
【００１５】
上記回路基板１００は、複数の回路層と上記複数の回路層を絶縁させるために上記複数の回路層の間に介在される複数の絶縁層を含む多層印刷回路基板である。例えば、上記回路基板１００としては、通常のコア基板を含むＢＧＡ基板を用いることができる。
【００１６】
上記回路基板１００はまた、層間回路層を連結させるためのブラインドビア及び貫通ビアを含む。
【００１７】
上記回路層は、電子部品などの外部製品との接続のための第１のパッド１１５、１２５を含む。
【００１８】
上記連結基板１０は、コア絶縁層１１と上記コア絶縁層１１の上面に微細回路構造体１０Ａを有し、下面に金属層１２を有する。
【００１９】
上記微細回路構造体１０Ａは、複数の回路層と、上記複数の回路層を絶縁させるために上記複数の回路層の間に介在される複数の絶縁層と、を含む。
【００２０】
上記微細回路構造体１０Ａの回路層は、上記回路基板１００の回路層に比べて小さいピッチの微細パターンを有するように形成される。
【００２１】
上記微細回路構造体１０Ａはまた、層間回路層を連結させるためのビアを含む。
【００２２】
上記微細回路構造体１０Ａの回路層は、印刷回路基板に実装される複数の電子部品を連結する信号線の機能をする回路パターンを含むことができる。
【００２３】
上記微細回路構造体１０Ａの回路層は、電子部品などの外部製品との接続のための第２のパッド４２を含む。
【００２４】
上記第２のパッド４２は、上記第１のパッド１１５、１２５より小さいピッチを有する。
【００２５】
上記金属層１２は、連結基板１０の下面に形成されて反り（ｗａｒｐａｇｅ）制御と放熱効果に寄与する。
【００２６】
上記微細回路構造体１０Ａに用いられる絶縁層としては、微細回路の形成が容易となるように感光性絶縁層を用いることができる。上記微細回路構造体１０Ａに用いられる絶縁層としては、通常の樹脂絶縁層材料より表面粗さが低い感光性絶縁層、例えば、ガラスシートを含有しない感光性絶縁層を用いることができる。
【００２７】
通常、電子部品間の連結のためにはシリコンインターポーザなどの高価な技術が必要であるが、本実施例によれば、一般の樹脂基板を用いることにより、熱膨張係数ミスマッチ（ｍｉｓｍａｔｃｈ）を最小化し密着力を向上させると共に安価なインターポーザの具現が可能となる。
【００２８】
また、連結基板において回路基板の絶縁層に比べて相対的に厚いコア絶縁層を用いることにより、反り制御が容易となる。
【００２９】
さらに、微細回路構造体を連結基板の一部に形成して新規工法の適用面積を小さくすることにより、投資費用を節減し既存のインフラを最大限に活用することができるという長所がある。
【００３０】
一方、上記回路基板１００及び微細回路構造体１０Ａに用いられる回路層には、印刷回路基板分野で回路用伝導性物質として用いられるものであればいずれのものでも制限なく適用されることができる。例えば、上記回路層は、銅（Ｃｕ）で形成されることができる。
【００３１】
また、上記連結基板１０の金属層１２は、通常の回路層と同一の物質で形成されることができる。
【００３２】
上記回路基板１００及び連結基板１０のコア絶縁層１１に用いられる絶縁層には、通常、印刷回路基板において絶縁素材として用いられる絶縁樹脂であれば特に限定されず、エポキシ樹脂のような熱硬化性樹脂、ポリイミドのような熱可塑性樹脂、又はこれらにガラス繊維又は無機フィラーのような補強材が含浸された樹脂を用いることができる。例えば、上記絶縁層は、プリプレグ、ＡＢＦ（Ａｊｉｎｏｍｏｔｏ  Ｂｕｉｌｄ−ｕｐ  Ｆｉｌｍ）及びＦＲ−４、ＢＴ（Ｂｉｓｍａｌｅｉｍｉｄｅ  Ｔｒｉａｚｉｎｅ）などの樹脂で形成されることができる。
【００３３】
上記回路基板１００と連結基板１０の間には充填樹脂１６０が形成されることができる。上記充填樹脂１６０としては、通常、印刷回路基板の層間絶縁材として用いられる物質又はソルダレジストを用いることができる。
【００３４】
さらに、上記回路基板１００及び連結基板１０の最外層上には、複数のパッド１１５、１２５を露出させる保護層として通常の液状又はフィルム型のソルダレジスト層１４０、１５０が形成されることができる。
【００３５】
上記ソルダレジスト層は、最外層の回路パターンを保護し、電気的絶縁のために形成されるものであり、外部製品と接続される最外層のパッドを露出させるために開口部が形成される。
【００３６】
上記ソルダレジスト層の開口部から露出したパッド上には表面処理層が選択的にさらに形成されることができる。
【００３７】
上記表面処理層は、当業界に公知のものであれば特に限定されず、例えば、電解金メッキ（Ｅｌｅｃｔｒｏ  Ｇｏｌｄ  Ｐｌａｔｉｎｇ）、無電解金メッキ（Ｉｍｍｅｒｓｉｏｎ  Ｇｏｌｄ  Ｐｌａｔｉｎｇ）、ＯＳＰ（Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｏｌｄｅｒａｂｉｌｉｔｙ  Ｐｒｅｓｅｒｖａｔｉｖｅ）又は無電解スズメッキ（Ｉｍｍｅｒｓｉｏｎ  Ｔｉｎ  Ｐｌａｔｉｎｇ）、無電解銀メッキ（Ｉｍｍｅｒｓｉｏｎ  Ｓｉｌｖｅｒ  Ｐｌａｔｉｎｇ）、ＤＩＧメッキ（Ｄｉｒｅｃｔ  Ｉｍｍｅｒｓｉｏｎ  Ｇｏｌｄ  Ｐｌａｔｉｎｇ）、ＨＡＳＬ（Ｈｏｔ  Ａｉｒ  Ｓｏｌｄｅｒ  Ｌｅｖｅｌｌｉｎｇ）などによって形成されることができる。
【００３８】
このような過程を経て形成されたパッドは、適用目的に応じて、ワイヤボンディング用パッド又はバンプ用パッドとして用いられるか又はハンダボールのような外部接続端子を装着するためのハンダボール用パッドとして用いられる。
【００３９】
本実施例では、第１のパッド１２５に形成された外部接続端子としてハンダボール１７０を示した。
【００４０】
図２は本発明の他の実施例による印刷回路基板を例示する断面図であり、重複する構成に関する説明は省略する。
【００４１】
図２を参照すると、上記印刷回路基板は、回路基板１００と、上記回路基板１００を貫通して位置する連結基板１０と、を含む。
【００４２】
上記連結基板１０は、コア絶縁層１１と、上記コア絶縁層１１の両面に形成された微細回路構造体１０Ａを有し、上記両面の微細回路構造体１０Ａは、上記コア絶縁層１１を貫通するビア１５を介して電気的に連結される。
【００４３】
上記微細回路構造体１０Ａは、複数の回路層と、上記複数の回路層を絶縁させるために上記複数の回路層の間に介在される複数の絶縁層と、を含む。
【００４４】
上記微細回路構造体１０Ａの回路層は、上記回路基板１００の回路層に比べて小さいピッチの微細パターンを有するように形成される。
【００４５】
上記微細回路構造体１０Ａはまた、層間回路層を連結させるためのビアを含む。
【００４６】
上記微細回路構造体１０Ａの回路層は、印刷回路基板に実装される複数の電子部品を連結する信号線の機能をする回路パターンを含むことができる。
【００４７】
上記微細回路構造体１０Ａの回路層は、電子部品などの外部製品との接続のための第２のパッド５２を含む。
【００４８】
上記第２のパッド５２は、上記第１のパッド１１５、１２５より小さいピッチを有する。
【００４９】
上記微細回路構造体１０Ａに用いられる絶縁層としては、微細回路の形成が容易となるように感光性絶縁層を用いることができる。上記微細回路構造体１０Ａに用いられる絶縁層としては、通常の樹脂絶縁層材料より表面粗さが低い感光性絶縁層、例えば、ガラスシートを含有しない感光性絶縁層を用いることができる。
【００５０】
通常、電子部品間の連結のためにはシリコンインターポーザなどの高価な技術が必要であるが、本実施例によれば、一般の樹脂基板を用いることにより、熱膨張係数ミスマッチを最小化し密着力を向上させると共に安価なインターポーザの具現が可能となる。
【００５１】
また、連結基板において回路基板の絶縁層に比べて相対的に厚いコア絶縁層を用いることにより、反り制御が容易となる。
【００５２】
また、微細回路構造体を連結基板の両面の一部に形成して新規工法の適用面積を小さくすることにより、投資費用を節減し既存のインフラを最大限に活用することができる。さらに、両面適用が可能であるため、３Ｄ積層（ｓｔａｃｋｉｎｇ）と類似した効果が得られる。
【００５３】
図３は本発明のさらに他の実施例による印刷回路基板を例示する断面図であり、重複する構成に関する説明は省略する。
【００５４】
図３を参照すると、上記印刷回路基板は、回路基板１００と、上記回路基板１００を貫通して位置する連結基板１０と、を含む。
【００５５】
上記連結基板１０は、コア絶縁層１１と上記コア絶縁層１１の上面に微細回路構造体１０Ａを有し、下面に金属層１２を有する。
【００５６】
上記回路基板１００と連結基板１０の回路層１１３、４３上にはそれぞれビルドアップ絶縁層１３０とビルドアップ回路層１３９を含む一つ以上のビルドアップ層が形成される。
【００５７】
さらに、最外層のビルドアップ回路層１３９上には、複数のパッド１３５、１３７を露出させる保護層として通常の液状又はフィルム型のソルダレジスト層２４０が形成されることができる。
【００５８】
本実施例によれば、回路基板１００と連結基板１０上に同時にビルドアップ層が形成されることにより、実際に適用される製品によってデザイン自由度を向上させることができるという長所がある。
【００５９】
図４及び図５は本発明のさらに他の実施例による印刷回路基板を例示する断面図であり、重複する構成に関する説明は省略する。
【００６０】
図４を参照すると、上記印刷回路基板は、回路基板１００と、上記回路基板１００を貫通して位置する連結基板１０と、を含む。
【００６１】
上記回路基板１００としては、通常のコアレス基板、即ち、薄板の基板を用いることができる。
【００６２】
上記連結基板１０は、コア絶縁層１１と上記コア絶縁層１１の上面に微細回路構造体１０Ａを有し、下面に金属層１２を有する。
【００６３】
図５を参照すると、上記印刷回路基板は、回路基板１００と、上記回路基板１００を貫通して位置する連結基板１０と、を含む。
【００６４】
上記回路基板１００としては、通常のコアレス基板、即ち、薄板の基板を用いることができる。
【００６５】
上記連結基板１０は、コア絶縁層１１と、上記コア絶縁層１１の両面に形成された微細回路構造体１０Ａを有し、上記両面の微細回路構造体１０Ａは、上記コア絶縁層１１を貫通するビア１５を介して電気的に連結される。
【００６６】
電子部品モジュール
図６は本発明の一実施例による電子部品モジュールを例示する断面図であり、重複する構成に関する説明は省略する。
【００６７】
図６を参照すると、上記電子部品モジュールは、印刷回路基板に搭載された電子部品５０１、５０２を含む。
【００６８】
上記印刷回路基板は、貫通部１０１を有する回路基板１００と、上記貫通部１０１に収容される連結基板１０と、を含む。
【００６９】
上記回路基板１００は、複数の回路層と、上記複数の回路層を絶縁させるために上記複数の回路層の間に介在される複数の絶縁層と、を含む多層印刷回路基板である。例えば、上記回路基板１００としては、通常のコア基板を含むＢＧＡ基板を用いることができる。
【００７０】
上記回路層は、電子部品などの外部製品との接続のための第１のパッド１１５、１２５を含む。
【００７１】
上記第１のパッド１１５上にはフリップチップボンディングによって電子部品５０１、５０２が搭載され、上記第１のパッド１２５上には外部接続端子としてハンダボール１７０が実装され、上記ハンダボール１７０を介して、例えば、メインボード（図示せず）のような外部製品と接続される。
【００７２】
上記連結基板１０は、コア絶縁層１１と上記コア絶縁層１１の上面に微細回路構造体１０Ａを有し、下面に金属層１２を有する。
【００７３】
上記微細回路構造体１０Ａは、複数の回路層と、上記複数の回路層を絶縁させるために上記複数の回路層の間に介在される複数の絶縁層と、を含む。
【００７４】
上記微細回路構造体１０Ａの回路層は、上記回路基板１００の回路層に比べて小さいピッチの微細パターンを有するように形成される。
【００７５】
上記微細回路構造体１０Ａの回路層は、印刷回路基板に実装される複数の電子部品を連結する信号線の機能をする回路パターンを含む。
【００７６】
上記微細回路構造体１０Ａの回路層は、電子部品などの外部製品との接続のための第２のパッド４２を含む。
【００７７】
上記第２のパッド４２は、上記第１のパッド１１５、１２５より小さいピッチを有する。
【００７８】
上記金属層１２は、連結基板１０の下面に形成されて反り制御と放熱効果に寄与する。
【００７９】
上記微細回路構造体１０Ａに用いられる絶縁層としては、微細回路の形成が容易となるように感光性絶縁層を用いることができる。上記微細回路構造体１０Ａに用いられる絶縁層としては、通常の樹脂絶縁層材料より表面粗さが低い感光性絶縁層、例えば、ガラスシートを含有しない感光性絶縁層を用いることができる。
【００８０】
上記電子部品５０１、５０２は、回路基板１００の第１のパッド１１５及び連結基板１０の第２のパッド４２に連結されて印刷回路基板に搭載される。
【００８１】
上記電子部品５０１、５０２は受動素子と能動素子のような多様な電子素子を含み、通常、印刷回路基板上に実装されるか又は内部に内蔵されることができる電子素子であれば特に制限なく適用可能である。
【００８２】
上記電子部品５０１、５０２は、上記微細回路構造体１０Ａに形成された信号線を介して相互に連結される。
【００８３】
通常、電子部品間の連結のためにはシリコンインターポーザなどの高価な技術が必要であるが、本実施例によれば、一般の樹脂基板を用いることにより、熱膨張係数ミスマッチ（ｍｉｓｍａｔｃｈ）を最小化し密着力を向上させると共に安価なインターポーザの具現が可能となる。
【００８４】
また、連結基板において回路基板の絶縁層に比べて相対的に厚いコア絶縁層を用いることにより、反り制御が容易となる。
【００８５】
さらに、微細回路構造体を連結基板の一部に形成して新規工法の適用面積を小さくすることにより、投資費用を節減し既存のインフラを最大限に活用することができるという長所がある。
【００８６】
図７は本発明の他の実施例による電子部品モジュールを例示する断面図であり、重複する構成に関する説明は省略する。
【００８７】
図７を参照すると、上記電子部品モジュールは、印刷回路基板に搭載された電子部品５０１、５０２、５０３を含む。
【００８８】
上記印刷回路基板は、貫通部１０１を有する回路基板１００と、上記貫通部１０１に収容される連結基板１０と、を含む。
【００８９】
上記回路基板１００は、複数の回路層と、上記複数の回路層を絶縁させるために上記複数の回路層の間に介在される複数の絶縁層と、を含む多層印刷回路基板である。例えば、上記回路基板１００としては、通常のコア基板を含むＢＧＡ基板を用いることができる。
【００９０】
上記回路層は、電子部品などの外部製品との接続のための第１のパッド１１５、１２５を含む。
【００９１】
上記第１のパッド１１５上にはフリップチップボンディングによって電子部品５０１、５０２が搭載され、上記第１のパッド１２５上には外部接続端子としてハンダボール１７０が実装され、上記ハンダボール１７０を介して、例えば、メインボード（図示せず）のような外部製品と接続される。
【００９２】
上記連結基板１０は、コア絶縁層１１と、上記コア絶縁層１１の両面に形成された微細回路構造体１０Ａを有し、上記両面の微細回路構造体１０Ａは、上記コア絶縁層１１を貫通するビア１５を介して電気的に連結される。
【００９３】
上記微細回路構造体１０Ａは、複数の回路層と、上記複数の回路層を絶縁させるために上記複数の回路層の間に介在される複数の絶縁層と、を含む。
【００９４】
上記微細回路構造体１０Ａの回路層は、上記回路基板１００の回路層に比べて小さいピッチの微細パターンを有するように形成される。
【００９５】
上記微細回路構造体１０Ａの回路層は、印刷回路基板に実装される複数の電子部品を連結する信号線の機能をする回路パターンを含む。
【００９６】
上記微細回路構造体１０Ａの回路層は、電子部品などの外部製品との接続のための第２のパッド５２を含む。
【００９７】
上記第２のパッド５２は、上記第１のパッド１１５、１２５より小さいピッチを有する。
【００９８】
上記微細回路構造体１０Ａに用いられる絶縁層としては、微細回路の形成が容易となるように感光性絶縁層を用いることができる。上記微細回路構造体１０Ａに用いられる絶縁層としては、通常の樹脂絶縁層材料より表面粗さが低い感光性絶縁層、例えば、ガラスシートを含有しない感光性絶縁層を用いることができる。
【００９９】
上記電子部品５０１、５０２は、回路基板１００の第１のパッド１１５及び連結基板１０の第２のパッド５２に連結されて印刷回路基板の上面に搭載され、上記電子部品５０３は、上記連結基板１０の第２のパッド５２に連結されて印刷回路基板の下面に搭載される。
【０１００】
上記電子部品５０１、５０２、５０３は受動素子と能動素子のような多様な電子素子を含み、通常、印刷回路基板上に実装されるか又は内部に内蔵されることができる電子素子であれば特に制限なく適用可能である。
【０１０１】
通常、電子部品間の連結のためにはシリコンインターポーザなどの高価な技術が必要であるが、本実施例によれば、一般の樹脂基板を用いることにより、熱膨張係数ミスマッチを最小化し密着力を向上させると共に安価なインターポーザの具現が可能となる。
【０１０２】
また、連結基板において回路基板の絶縁層に比べて相対的に厚いコア絶縁層を用いることにより、反り制御が容易となる。
【０１０３】
また、微細回路構造体を連結基板の両面の一部に形成して新規工法の適用面積を小さくすることにより、投資費用を節減し既存のインフラを最大限に活用することができる。さらに、両面適用が可能であるため、３Ｄ積層（ｓｔａｃｋｉｎｇ）と類似した効果が得られる。
【０１０４】
印刷回路基板／電子部品モジュールの製造方法
図８は、本発明の一実施例による電子部品モジュールの製造方法を示すフローチャートであり、図９〜図２２は、本発明の一実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【０１０５】
図８を参照すると、上記製造方法は、貫通部を有する回路基板を準備する段階Ｓ１０１と、連結基板を準備する段階Ｓ１０２と、貫通部に連結基板を収容する段階Ｓ１０３と、ソルダレジスト層を形成する段階Ｓ１０４と、素子を実装する段階Ｓ１０５と、を含む。
【０１０６】
以下、図９〜図２２に示す工程断面図を参照してそれぞれの工程を説明する。
【０１０７】
図９〜図１６を参照して、一実施例により連結基板を製造する過程を説明する。
【０１０８】
まず、図９を参照すると、両面に金属層１２を有するコア絶縁層１１を準備する。
【０１０９】
上記コア絶縁層１１には、通常、印刷回路基板において絶縁素材として用いられる絶縁樹脂であれば特に限定されず、エポキシ樹脂のような熱硬化性樹脂、ポリイミドのような熱可塑性樹脂、又はこれらにガラス繊維又は無機フィラーのような補強材が含浸された樹脂を用いることができる。例えば、上記絶縁層は、プリプレグ、ＡＢＦ（Ａｊｉｎｏｍｏｔｏ  Ｂｕｉｌｄ−ｕｐ  Ｆｉｌｍ）及びＦＲ−４、ＢＴ（Ｂｉｓｍａｌｅｉｍｉｄｅ  Ｔｒｉａｚｉｎｅ）などの樹脂で形成されることができる。
【０１１０】
上記金属層１２は、通常の回路層と同一の物質で形成されることができる。例えば、上記回路層は、銅（Ｃｕ）で形成されることができる。
【０１１１】
上記両面に金属層１２を有するコア絶縁層１１として、例えば、通常の両面銅張積層板を用いることができる。
【０１１２】
次に、図１０を参照すると、上記コア絶縁層１１の上面に所定の開口部１１０１を有するようにパターン化されたメッキレジスト層１１００を形成する。
【０１１３】
上記メッキレジスト層１１００には、通常の液状又はフィルム型のドライフィルムを用いることができる。
【０１１４】
また、図示されてはいないが、メッキレジスト層１１００を形成する前に、上記上面の金属層１２をハーフエッチング（ｈａｌｆ−ｅｔｃｈｉｎｇ）した後、無電解メッキによってシード層を形成することができる。
【０１１５】
次に、図１１を参照すると、無電解及び／又は電解金属メッキによって上記開口部１１０１に第１の回路層１３を形成する。
【０１１６】
次に、図１２を参照すると、メッキレジスト層１１００を除去し、図１３を参照すると、第１の感光性絶縁層２１を適用した後、通常の露光及び現像を含むフォトリソグラフィー工程を経てビアホールを形成する。
【０１１７】
次に、図１４を参照すると、無電解及び電解金属メッキによって第２の回路層２２を形成する。
【０１１８】
次に、図１５を参照すると、第２の感光性絶縁層３１を形成した後、第３の回路層３２を形成し、図１６を参照すると、第３の感光性絶縁層４１を形成した後、第２のパッド４２を含む第４の回路層を形成する。
【０１１９】
本実施例では、微細回路構造体の一例として４層の回路層を示したが、実際に適用される製品によって回路層の数は多様に変更可能である。また、当業界に公知の回路形成方法であれば特に限定されず、ＳＡＰ（ｓｅｍｉ  ａｄｄｉｔｉｖｅ  ｐｒｏｃｅｓｓ）、ＭＳＡＰ（ｍｏｄｉｆｉｅｄ  ｓｅｍｉ  ａｄｄｉｔｉｖｅ  ｐｒｏｃｅｓｓ）、アディティブ工法（ａｄｄｉｔｉｖｅ  ｐｒｏｃｅｓｓ）、サブトラクティブ工法（ｓｕｂｔｒａｃｔｉｖｅ  ｐｒｏｃｅｓｓ）などによって形成可能である。
【０１２０】
上記のような過程を経て、コア絶縁層１１の上面に微細回路構造体１０Ａが形成され、上記コア絶縁層１１の下面に金属層１２が形成された連結基板１０を準備する。
【０１２１】
ここで、上記下面の金属層１２は、放熱機能などの目的に応じて厚さが調節されることができる。
【０１２２】
次に、図１７を参照すると、回路基板１００として、貫通部１０１を有する印刷回路基板を準備する。
【０１２３】
上記回路基板１００は、複数の回路層と、上記複数の回路層を絶縁させるために上記複数の回路層の間に介在される複数の絶縁層と、を含む多層印刷回路基板である。上記回路基板１００としては、例えば、ＢＧＡ（ｂａｌｌ  ｇｒｉｄ  ａｒｒａｙ）用基板を用いることができる。
【０１２４】
上記回路基板１００はまた、層間回路層を連結させるためのブラインドビア及び貫通ビアを含む。
【０１２５】
上記回路層は、電子部品などの外部製品との接続のための第１のパッド１１５、１２５を有する。
【０１２６】
上記回路基板１００の貫通部１０１は、回路基板１００に連結基板１０を収容するために穿孔される領域であり、連結基板１０が容易に挿入されることができるようにそのサイズ及び形状が決定される。
【０１２７】
上記貫通部１０１の穿孔は、特に限定されず、一例として機械的ドリル加工などによって行われることができる。
【０１２８】
上記回路基板１００の上面には、最外層の第１のパッド１１５を露出させる第１のソルダレジスト層１４０が形成される。
【０１２９】
一方、本実施例では、本段階で第１のソルダレジスト層１４０が形成されることを説明したが、特にこれに限定されない。
【０１３０】
例えば、あとでキャリアフィルムを除去してから、上記回路基板と上記回路基板に収容される連結基板の上面に同時にビルドアップ層を形成した後、その上面に第１のソルダレジスト層１４０を形成してもよい。
【０１３１】
次に、図１８を参照すると、上記回路基板１００の上面にキャリアフィルム１０００を付着する。
【０１３２】
上記キャリアフィルム１０００は、回路基板１００と、あとで挿入される連結基板１０を安定して載置することができる支持台の役割をする部材であり、支持台の役割をすると共に着脱が容易な材料であれば特に制限なく適用可能である。
【０１３３】
例えば、上記キャリアフィルム１０００としては、熱を加える場合に接着力がなくなり非接着性を示す接着部材を用いることができる。この場合、基板の固定が容易であり、除去も熱処理によって容易に行うことができるという長所がある。例えば、上記熱処理の際に非接着性を示す接着剤としてはウレタン発泡テープなどがあるが、特にこれに限定されない。
【０１３４】
次に、図１９を参照すると、連結基板１０を上記回路基板１００の貫通部１０１に収容する。
【０１３５】
次に、図２０を参照すると、キャリアフィルム１０００が付着されていない回路基板１００及び連結基板１０の下面に第２のソルダレジスト層１５０を形成し、複数の第１のパッド１２５を露出させる開口部を形成する。
【０１３６】
また、図示されてはいないが、上記ソルダレジスト層を形成する前に、必要に応じて、ビルドアップ回路層及び／又はビルドアップ絶縁層を含むビルドアップ層をさらに形成することができる。
【０１３７】
また、上記ソルダレジスト層の開口部から露出した第１のパッド１２５上には、選択的に表面処理層を形成することができる。
【０１３８】
ここで、上記回路基板１００の貫通部１０１と連結基板１０の間には充填樹脂１６０が形成される。
【０１３９】
上記充填樹脂１６０は、別途の樹脂充填過程を経て形成されるか、又は上記最外層上にソルダレジスト層を形成する過程で空いた空間にソルダレジストを充填することにより形成されることができる。
【０１４０】
次に、図２１を参照すると、露出した第１のパッド１２５上に外部接続端子としてハンダボール１７０を実装する。
【０１４１】
上記のようなハンダボール１７０を介して、あとで他の電子部品、上下部パッケージ又はマザーボードのような外部製品との接続が可能である。
【０１４２】
次に、図２２を参照すると、キャリアフィルム１０００を除去し、印刷回路基板の上面に電子部品５０１、５０２を搭載する。
【０１４３】
上記電子部品５０１、５０２は、第１のパッド１１５と第２のパッド４２に接続されて搭載される。
【０１４４】
上記電子部品５０１、５０２は、上記連結基板１０の微細回路構造体１０Ａに具現された信号線によって相互に連結される。
【０１４５】
図２３は、本発明の他の実施例による電子部品モジュールの製造方法を示すフローチャートであり、図２４〜図３８は、本発明の他の実施例による電子部品モジュールの製造方法を工程順に示す工程断面図である。
【０１４６】
図２３を参照すると、上記製造方法は、貫通部を有する回路基板を準備する段階Ｓ２０１と、連結基板を準備する段階Ｓ２０２と、貫通部に連結基板を収容する段階Ｓ２０３と、ソルダレジスト層を形成する段階Ｓ２０４と、素子を実装する段階Ｓ２０５と、を含む。
【０１４７】
以下、図２４〜図３８に示す工程断面図を参照してそれぞれの工程を説明する。
【０１４８】
図２４〜図３２を参照して、他の実施例により連結基板を製造する過程を説明する。
【０１４９】
まず、図２４を参照すると、コア絶縁層１１を準備する。
【０１５０】
次に、図２５を参照すると、上記コア絶縁層１１を貫通する貫通孔１１Ａを形成する。
【０１５１】
上記貫通孔１１Ａは、例えば、コア絶縁層１１の両面をレーザードリル加工することにより形成されることができる。
【０１５２】
本実施例では、砂時計状の貫通孔を例示したが、特にこれに限定されない。
【０１５３】
次に、図２６を参照すると、無電解及び電解金属メッキによって、上記貫通孔１１Ａを含めてコア絶縁層１１の両面に第１の回路層１３を形成する。
【０１５４】
上記第１の回路層１３は、コア絶縁層１１を貫通するビア１５を含む。
【０１５５】
次に、図２７を参照すると、第１の感光性絶縁層２１を適用した後、通常の露光及び現像を含むフォトリソグラフィー工程を経てビアホールを形成する。
【０１５６】
次に、図２８を参照すると、無電解及び電解金属メッキによって第２の回路層２２を形成する。
【０１５７】
次に、図２９及び図３０を参照すると、第２の感光性絶縁層３１を形成した後、第３の回路層３２を形成し、図３１を参照すると、第３の感光性絶縁層４１を形成した後、第４の回路層４３を形成する。
【０１５８】
最後に、図３２を参照すると、第４の感光性絶縁層５１を形成した後、第２のパッド５２を含む第５の回路層を形成する。
【０１５９】
上記のような過程を経て、コア絶縁層１１の両面に微細回路構造体１０Ａが形成された連結基板１０を準備する。
【０１６０】
次に、図３３を参照すると、回路基板１００として、貫通部１０１を有する印刷回路基板を準備する。
【０１６１】
一方、本実施例では、本段階で回路基板１００に第１のソルダレジスト層１４０が形成されることを図示したが、特にこれに限定されない。
【０１６２】
例えば、あとでキャリアフィルムを除去してから、上記回路基板と上記回路基板に収容される連結基板の上面に同時にビルドアップ層を形成した後、その上面に第１のソルダレジスト層１４０を形成してもよい。
【０１６３】
次に、図３４を参照すると、上記回路基板１００の上面にキャリアフィルム１０００を付着する。
【０１６４】
次に、図３５を参照すると、連結基板１０を上記回路基板１００の貫通部１０１に収容する。
【０１６５】
次に、図３６を参照すると、キャリアフィルム１０００が付着されていない回路基板１００及び連結基板１０の下面に第２のソルダレジスト層１５０を形成し、複数の第１のパッド１２５を露出させる開口部を形成する。
【０１６６】
次に、図３７を参照すると、露出した第１のパッド１２５上に外部接続端子としてハンダボール１７０を実装する。
【０１６７】
上記のようなハンダボール１７０を介して、あとで他の電子部品、上下部パッケージ又はマザーボードのような外部製品との接続が可能である。
【０１６８】
一方、本実施例では、キャリアフィルム１０００を除去する前に第２のソルダレジスト層１５０を形成しハンダボール１７０を実装する場合を一例として説明したが、特にこれに限定されない。
【０１６９】
例えば、キャリアフィルム１０００を除去した後、第２のソルダレジスト層１５０を形成しハンダボール１７０を実装してもよい。
【０１７０】
次に、図３８を参照すると、キャリアフィルム１０００を除去し、印刷回路基板の両面に電子部品５０１、５０２、５０３を搭載する。
【０１７１】
上記電子部品５０１、５０２は、第１のパッド１１５と第２のパッド５２に接続されて印刷回路基板の上面に搭載される。
【０１７２】
上記電子部品５０１、５０２は、上記連結基板１０の微細回路構造体１０Ａに具現された信号線によって相互に連結される。
【０１７３】
また、上記電子部品５０３は、第２のパッド５２に接続されて印刷回路基板の下面に搭載される。
【０１７４】
上記複数の電子部品５０１、５０２、５０３はまた、微細回路構造体１０Ａに具現された回路パターンによって相互に連結されることができる。
【０１７５】
以上、本発明の実施形態について詳細に説明したが、本発明の権利範囲はこれに限定されず、特許請求の範囲に記載された本発明の技術的思想から外れない範囲内で多様な修正及び変形が可能であるということは、当技術分野の通常の知識を有する者には明らかである。
【符号の説明】
【０１７６】
１００  回路基板
１０１  貫通部
１１５、１２５  第１のパッド
１３０  ビルドアップ絶縁層
１３９  ビルドアップ回路層
１４０、１５０、２４０  ソルダレジスト層
１６０  充填樹脂
１７０  ハンダボール
５０１、５０２、５０３  電子部品
１０  連結基板
１０Ａ  微細回路構造体
１１  コア絶縁層
１２  金属層
１５  ビア
４２、５２  第２のパッド
【図１】
0006504665.tif 000002
【図２】
0006504665.tif 000003
【図３】
0006504665.tif 000004
【図４】
0006504665.tif 000005
【図５】
0006504665.tif 000006
【図６】
0006504665.tif 000007
【図７】
0006504665.tif 000008
【図８】
0006504665.tif 000009
【図９】
0006504665.tif 000010
【図１０】
0006504665.tif 000011
【図１１】
0006504665.tif 000012
【図１２】
0006504665.tif 000013
【図１３】
0006504665.tif 000014
【図１４】
0006504665.tif 000015
【図１５】
0006504665.tif 000016
【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
0006504665.tif 000020
【図２０】
0006504665.tif 000021
【図２１】
0006504665.tif 000022
【図２２】
0006504665.tif 000023
【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
0006504665.tif 000026
【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
0006504665.tif 000031
【図３１】
0006504665.tif 000032
【図３２】
0006504665.tif 000033
【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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【図３６】
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【図３７】
0006504665.tif 000038
【図３８】
0006504665.tif 000039