(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画素が配置された基板と、
前記基板上に前記各画素別に形成された第１電極と、
前記基板上に前記各画素を区切り、前記第１電極を露出する開口部を有する画素定義膜と、
前記第１電極上に形成された電荷注入層と、
前記電荷注入層上に前記画素定義膜の開口部の内側から前記画素定義膜の上面まで延長されるように形成され、前記画素定義膜の上面に延長された部分に複数の溝が形成された表面処理層と、
前記表面処理層上に形成された電荷輸送層と、
前記電荷輸送層上に形成された発光層と、
前記発光層上に形成された第２電極と、
を含むことを特徴とする発光表示装置。
【請求項２】
前記複数の溝は前記表面処理層が形成された画素の発光色と異なる発光色を放出する隣接した画素に向かう第１方向に沿って前記開口部の少なくとも一側に位置することを特徴とする請求項１に記載の発光表示装置。
【請求項３】
前記複数の溝は前記第１方向と交差する第２方向に延長された略直線形状を有することを特徴とする請求項２に記載の発光表示装置。
【請求項４】
前記複数の溝の幅は前記隣接した画素に行くほど大きくなることを特徴とする請求項２に記載の発光表示装置。
【請求項５】
前記複数の溝の幅の各々は同一であることを特徴とする請求項２に記載の発光表示装置。
【請求項６】
前記複数の溝は、前記第１方向と、前記第１方向と交差する第２方向と、の間で斜線形状を有することを特徴とする請求項２に記載の発光表示装置。
【請求項７】
前記複数の溝は格子形状を有することを特徴とする請求項２に記載の発光表示装置。
【請求項８】
前記複数の画素は一列に配列され、同じ発光色を放出する画素を含み、
前記表面処理層は前記画素単位で配置されるように形成されることを特徴とする請求項２に記載の発光表示装置。
【請求項９】
前記電荷輸送層が、前記表面処理層に倣って積層されていることを特徴とする請求項１に記載の発光表示装置。
【請求項１０】
複数の画素が配置された基板と、
前記基板上に前記各画素別に形成された第１電極と、
前記基板上に前記各画素を区切り、前記第１電極を露出する開口部を有する画素定義膜と、
前記第１電極上に形成された第１共通層と、
前記第１共通層上に前記画素定義膜の開口部の内側から前記画素定義膜の上面まで延長されるように形成され、前記画素定義膜の上面に延長された部分に複数の溝が形成された表面処理層と、
前記表面処理層上に形成された発光層と、
前記発光層上に形成された第２電極と、
を含むことを特徴とする発光表示装置。
【請求項１１】
前記複数の溝は、前記表面処理層が形成された画素の発光色と異なる発光色を放出する隣接した画素に向かう第１方向に沿って前記開口部の少なくとも一側に位置することを特徴とする請求項１０に記載の発光表示装置。
【請求項１２】
前記複数の溝は、前記第１方向と交差する第２方向に延長された略直線形状を有することを特徴とする請求項１１に記載の発光表示装置。
【請求項１３】
前記複数の溝は、前記第１方向と、前記第１方向と交差する第２方向の間で斜線形状を有することを特徴とする請求項１１に記載の発光表示装置。
【請求項１４】
前記複数の溝は格子形状を有することを特徴とする請求項１１に記載の発光表示装置。
【請求項１５】
前記複数の画素は一列に配列され、同じ発光色を放出する画素を含み、
前記表面処理層は、前記画素単位で配置されるように形成されることを特徴とする請求項１１に記載の発光表示装置。
【請求項１６】
前記発光層は前記表面処理層に倣って積層されることを特徴とする請求項１０に記載の発光表示装置。
【請求項１７】
前記複数の画素が配置された基板上に前記各画素別に第１電極を形成する段階と、
前記基板上に前記各画素を区切り、前記第１電極を露出する開口部を有する画素定義膜を形成する段階と、
前記第１電極上に電荷注入層を形成する段階と、
前記電荷注入層上に前記画素定義膜の開口部の内側から前記画素定義膜の上面まで延長され、前記画素定義膜の上面に延長された部分に複数の溝を有する表面処理層を形成する段階と、
前記表面処理層上に電荷輸送層を形成する段階と、
前記電荷輸送層上に発光層を形成する段階と、
前記発光層上に第２電極を形成する段階と、
を含むことを特徴とする発光表示装置の製造方法。
【請求項１８】
前記電荷輸送層を形成する段階は、前記画素定義膜の開口部の内側に電荷輸送層溶液を提供する過程と、前記電荷輸送層溶液を乾燥させる過程を含み、
前記発光層を形成する段階は、前記画素定義膜の開口部の内側に発光層溶液を提供する過程と、前記発光層溶液を乾燥させる過程を含むことを特徴とする請求項１７に記載の発光表示装置の製造方法。
【請求項１９】
前記電荷輸送層溶液と前記発光層溶液は同じ溶媒を含むことを特徴とする請求項１８に記載の発光表示装置の製造方法。
【請求項２０】
前記電荷注入層と前記発光層はインクジェットプリント方法またはノズルプリント方法によって形成されることを特徴とする請求項１７に記載の発光表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、発光表示装置及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
画像表示装置のうち有機発光表示装置は、自発光型表示素子として視野角が広く、かつコントラストに優れるだけではなく、応答速度が速いという長所を有するため、次世代表示装置として注目をあびている。
【０００３】
有機発光表示装置は、陽極と陰極との間に有機発光物質を含む有機発光層を備えている。これらの電極に陽極及び陰極電圧が各々印加されることによって陽極から注入された正孔（ｈｏｌｅ）が正孔注入層及び正孔輸送層を経由して有機発光層に移動し、電子は陰極から電子注入層と電子輸送層を経由して有機発光層に移動し、有機発光層で電子と正孔が再結合される。このような再結合により励起子（ｅｘｉｔｏｎ）が生成され、この励起子が励起状態から基底状態に変化することによって有機発光層が発光されることによって画像が表示される。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
有機発光表示装置は、画素別に形成される陽極を露出するように開口部を有する画素定義膜を含み、例えば、この画素定義膜の開口部を介して露出する陽極上に正孔注入層、正孔注入層上に正孔輸送層、正孔輸送層上に有機発光層、有機発光層上に電子輸送層、電子輸送層上に電子注入層、電子注入層上に形成された陰極が形成される。このうち、正孔輸送層と有機発光層はインクジェットプリント方法またはノズルプリント方法などにより形成される。
【０００５】
他方、陽極上には正孔輸送層溶液の湿潤性を良くするため、親液性を有する表面処理層が形成される。
【０００６】
しかし、正孔輸送層溶液を表面処理層に吐出するとき、吐出圧力と吐出速度などによっては、意図せず隣接した画素方向に広がってしまい、正孔輸送層が意図しない隣接した画素の一部分にまで形成されてしまうことがある。この場合、有機発光層も正孔輸送層上で隣接した画素の一部分にまで形成されてしまい、隣接した画素の間で異なる発光色を放出する有機発光層が互いに重なる形態に形成されてしまうことになる。
【０００７】
このため、発光表示装置が駆動するとき、意図しない混色が発生し、表示品質が低下してしまうという問題がある。
【０００８】
本発明が解決しようとする課題は、このような意図しない混色が発生することを防止し、表示品質が向上した発光表示装置を提供することにある。
【０００９】
本発明が解決しようとする他の課題は、混色が発生することを防止し、表示品質が向上した発光表示装置の製造方法を提供することにある。
【００１０】
本発明の課題は、上述の技術的課題に制限されず、後述の記載から当業者が理解可能な他の技術的課題に対しても、適用可能である。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の一実施形態に係る発光表示装置は、複数の画素が配置された基板と、基板上に各画素別に形成された第１電極と、基板上に各画素を区切り、第１電極を露出する開口部を有する画素定義膜と、第１電極上に形成された電荷注入層と、電荷注入層上に画素定義膜の開口部の内側から画素定義膜の上面まで延長されるように形成され、画素定義膜の上面に延長された部分に複数の溝が形成された表面処理層と、表面処理層上に形成された電荷輸送層と、電荷輸送層上に形成された発光層と、発光層上に形成された第２電極と、を含む。
【００１２】
本発明の一実施形態に係る発光表示装置において、複数の溝は、表面処理層が形成された画素の発光色と異なる発光色を放出する隣接した画素に向かう第１方向に沿って開口部の少なくとも一側に位置してもよい。
【００１３】
本発明の一実施形態に係る発光表示装置において、複数の溝は、第１方向と交差（たとえば、垂直）する第２方向に延長された略直線形状を有してもよい。
【００１４】
本発明の一実施形態に係る発光表示装置において、複数の溝の幅は、隣接した画素に行くほど大きくなってもよい。
【００１５】
本発明の一実施形態に係る発光表示装置において、複数の溝の幅は、同じでもよい。
【００１６】
本発明の一実施形態に係る発光表示装置において、複数の溝は、第１方向と、第１方向と交差（たとえば、垂直）する第２方向との間で斜線形状を有してもよい。
【００１７】
本発明の一実施形態に係る発光表示装置において、複数の溝は格子形状を有してもよい。
【００１８】
本発明の一実施形態に係る発光表示装置において、複数の画素は、一列に配列され、同じ発光色を放出する画素を含み、表面処理層は画素単位で配置されるように形成されてもよい。
【００１９】
本発明の一実施形態に係る発光表示装置において、電荷輸送層は、表面処理層に倣って積層してもよい。
【００２０】
本発明の一実施形態に係る発光表示装置において、課題を達成するための本発明の他の実施形態による発光表示装置は、複数の画素が配置された基板と、基板上に各画素別に形成された第１電極と、基板上に各画素を区切り、第１電極を露出する開口部を有する画素定義膜と、第１電極上に形成された第１共通層と、第１共通層上に画素定義膜の開口部の内側から画素定義膜の上面まで延長されるように形成され、画素定義膜の上面に延長された部分に複数の溝が形成された表面処理層と、表面処理層上に形成された発光層と、発光層上に形成された第２電極と、を含む。
【００２１】
本発明の一実施形態に係る発光表示装置において、複数の溝は、表面処理層が形成された画素の発光色と異なる発光色を放出する隣接した画素に向かう第１方向に沿って開口部の少なくとも一側に位置してもよい。
【００２２】
本発明の一実施形態に係る発光表示装置において、複数の溝は、第１方向と交差（たとえば、垂直）する第２方向に延長された略直線形状を有してもよい。
【００２３】
本発明の一実施形態に係る発光表示装置において、複数の溝は、第１方向と、第１方向と交差（たとえば、垂直）する第２方向との間で斜線形状を有してもよい。
【００２４】
本発明の一実施形態に係る発光表示装置において、複数の溝は格子形状を有してもよい。
【００２５】
本発明の一実施形態に係る発光表示装置において、複数の画素は一列に配列され、同じ発光色を放出する画素を含み、表面処理層は画素単位で配置されるように形成されてもよい。
【００２６】
本発明の一実施形態に係る発光表示装置において、発光層は表面処理層に倣って積層してもよい。
【００２７】
本発明の一実施形態に係る発光表示装置の製造方法は、複数の画素が配置された基板上に各画素別に第１電極を形成する段階と、基板上に各画素を区切り、第１電極を露出する開口部を有する画素定義膜を形成する段階と、第１電極上に電荷注入層を形成する段階と、電荷注入層上に画素定義膜の開口部の内側から画素定義膜の上面まで延長され、画素定義膜の上面に延長された部分に複数の溝を有する表面処理層を形成する段階と、表面処理層上に電荷輸送層を形成する段階と、電荷輸送層上に発光層を形成する段階と、発光層上に第２電極を形成する段階と、を含む。
【００２８】
本発明の一実施形態に係る発光表示装置の製造方法において、電荷輸送層を形成する段階は、画素定義膜の開口部の内側に電荷輸送層溶液を提供する過程と、電荷輸送層溶液を乾燥させる過程を含み、発光層を形成する段階は、画素定義膜の開口部の内側に発光層溶液を提供する過程と、発光層溶液を乾燥させる過程を含んでもよい。
【００２９】
本発明の一実施形態に係る発光表示装置の製造方法において、電荷輸送層溶液と発光層溶液は同じ溶媒を含んでもよい。
【００３０】
本発明の一実施形態に係る発光表示装置の製造方法において、電荷注入層と発光層はインクジェットプリント方法またはノズルプリント方法によって形成されてもよい。
【００３１】
その他実施形態の具体的な内容は詳細な説明及び図面に含まれている。
【発明の効果】
【００３２】
本発明の実施形態によれば、少なくとも次のような効果がある。
【００３３】
本発明の一実施形態に係る発光表示装置は、複数の溝により外周に凹凸が形成された表面処理層を備えることでインクジェットプリント方法またはノズルプリント方法によって第１電荷輸送層溶液が表面処理層の外側に離脱することを防ぎ、異なる発光色を放出する画素方向に広がって第１電荷輸送層が意図しない隣接した画素の一部分にまで形成されることを防止できる。
【００３４】
したがって、本発明の一実施形態に係る発光表示装置は、第１電荷輸送層に形成された発光層が意図しない隣接した画素の一部分にまで形成され、隣接した画素ＰＸの間で異なる発光色を放出する発光層が互いに重なる形態に形成されることを防止することによって、駆動時に意図しない混色が表示され、表示品質が低下することを防止できる。
【００３５】
本発明による効果は、以上で例示された内容によって制限されず、さらに多様な効果が本明細書内に含まれている。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】本発明の一実施形態に係る発光表示装置の画素を示す概略的な平面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ線に沿って切断した部分の断面図である。
【図３】図２の表面処理層の平面図である。
【図４】図３の表面処理層に第１電荷輸送層溶液を吐出する過程を示す断面図である。
【図５】図４の第１電荷輸送層溶液が乾燥されて形成された第１電荷輸送層の断面図である。
【図６】本発明の一実施形態に係る表面処理層を示す平面図である。
【図７】本発明の一実施形態に係る表面処理層を示す平面図である。
【図８】本発明の一実施形態に係る表面処理層を示す平面図である。
【図９】本発明の一実施形態に係る表面処理層を示す平面図である。
【図１０】本発明の一実施形態に係る表面処理層を示す平面図である。
【図１１】本発明の一実施形態に係る表面処理層を示す平面図である。
【図１２】本発明の一実施形態に係る表面処理層を示す平面図である。
【図１３】本発明の一実施形態に係る発光表示装置の断面図である。
【図１４】本発明の一実施形態に係る発光表示装置の断面図である。
【図１５】本発明の一実施形態に係る発光表示装置の断面図である。
【図１６】本発明の一実施形態に係る発光表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【図１７】本発明の一実施形態に係る発光表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【図１８】本発明の一実施形態に係る発光表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【図１９】本発明の一実施形態に係る発光表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【図２０】本発明の一実施形態に係る発光表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【図２１】本発明の一実施形態に係る発光表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【図２２】本発明の一実施形態に係る発光表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【図２３】本発明の一実施形態に係る発光表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【図２４】本発明の一実施形態に係る発光表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３７】
本発明の効果及び特徴、これらを実施する方法は添付する図面と共に詳細に後述する実施形態において明確になるであろう。しかし、本発明は、以下で開示する実施形態に限定されるものではなく、互いに異なる多様な形態で実現されるものであり、本実施形態は、単に本発明の開示を完全にし、本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者に発明の範疇を知らせるために提供されるものであり、本発明は、請求項の範囲によってのみ定義される。
【００３８】
素子（ｅｌｅｍｅｎｔｓ）または層が他の素子または層の「上（ｏｎ）」と指称された場合、他の素子の真上にまたは中間に他の層または他の素子を介在する場合のすべてを含む。明細書全体において、同一の参照符号は同一の構成要素を指称する。
【００３９】
第１、第２などが多様な素子、構成要素を叙述するために使用されるが、これら素子、構成要素はこれらの用語によって制限されないことはいうまでもない。これらの用語は、単に一つ構成要素を他の構成要素と区別するために使用するものである。したがって、以下で言及される第１構成要素は本発明の技術的思想内で第２構成要素でもよいことは勿論である。
【００４０】
以下、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。
【００４１】
図１は、本発明の一実施形態に係る発光表示装置の画素を示す概略的な平面図である。図２は、図１のＡ−Ａ線に沿って切断した部分の断面図である。
【００４２】
図１及び図２を参照すると、本発明の一実施形態に係る発光表示装置１００は、基板１０５、第１電極１１０、画素定義膜１２０、第１電荷注入層１３０、表面処理層１４０、第１電荷輸送層１５０、発光層１６０、第２電荷輸送層１７０、第２電荷注入層１８０及び第２電極１９０を含む。各部材は図２のＺ方向に順次に積層される。
【００４３】
基板１０５は、画像を表示する複数の画素ＰＸが定義される表示領域ＤＡと、表示領域ＤＡの外側に位置する非表示領域ＮＤＡを含む。複数の画素ＰＸは赤色を放出する赤色画素Ｒ、緑色を放出する緑色画素Ｇ、および青色を放出する青色画素Ｂを含んでもよい。図１では、Ｙ方向に同じ発光色を放出する画素ＰＸが一列に配列され、Ｘ方向に異なる発光色を放出する画素ＰＸが交互に配列される場合を示しているが、本発明はこのような配列に限定されない。
【００４４】
一方、同じ発光色を放出する画素ＰＸが一列に配列される場合、第１電荷輸送層１５０及び発光層１６０をインクジェットプリント方法またはノズルプリント方法を利用して形成するとき、第１電荷輸送層溶液（図４の１５０ａ）及び発光層溶液を一方向に吐出できるため、吐出工程が容易である。インクジェットプリント方法は所望する位置にプリントしようとする溶液をインクの水滴形態に落とす方法である。そして、ノズルプリント方法はプリントしようとする溶液を所望する位置を含むラインに沿って流れるようにする方法である。
【００４５】
基板１０５は絶縁基板を含んでもよい。絶縁基板は透明な二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）を主成分とする透明材質のガラス材で形成されてもよい。いくつかの実施形態で、絶縁基板は不透明材質を含むか、プラスチック材質を含む。さらに、絶縁基板はフレキシブル基板でもよい。
【００４６】
図面に示していないが、基板１０５は絶縁基板上に形成された他の構造物をさらに含んでもよい。他の構造物の例としては、配線、電極、絶縁膜などが挙げられる。いくつかの実施形態で、基板１０５は絶縁基板上に形成された複数の薄膜トランジスタを含んでもよい。複数の薄膜トランジスタのうち少なくとも一部のドレイン電極は第１電極１１０と電気的に接続できる。薄膜トランジスタは、非晶性シリコン、多結晶シリコン、または単結晶シリコンなどを含むアクティブ領域を含んでもよい。他の実施形態で、薄膜トランジスタは酸化物半導体で形成されたアクティブ領域を含んでもよい。
【００４７】
第１電極１１０は基板１０５上に各画素ＰＸ別に形成される。第１電極１１０は、薄膜トランジスタのドレイン電極に印加された信号を受けて発光層１６０に正孔を提供する陽極または電子を提供する陰極でもよい。第１電極１１０は透明電極または反射電極として使用されてもよい。第１電極１１０が透明電極として使用されるとき、ＩＴＯ（酸化インジウム薄膜）、ＩＺＯ（インジウム亜鉛酸化物）、ＺｎＯ（酸化亜鉛）、またはＩｎ２Ｏ３（三酸化二インジウム）で形成される。また、第１電極１１０が反射電極として使用されるとき、Ａｇ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｎｄ、Ｉｒ、Ｃｒ及びこれらの化合物などで反射膜を形成した後、その上にＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺｎＯまたはＩｎ２Ｏ３を形成してもよい。第１電極１１０は、たとえばフォトリソグラフィー工程により形成されるが、これに限定されない。
【００４８】
画素定義膜１２０は基板１０５上に各画素ＰＸを区切り、第１電極１１０を露出する開口部ＯＰを有する。これによって、画素定義膜１２０は開口部ＯＰを介して第１電極１１０上に第１電荷注入層１３０が形成されるようにする。画素定義膜１２０は絶縁物質を含む。具体的には、画素定義膜１２０は、ベンゾシクロブテン（Ｂｅｎｚｏ  Ｃｙｃｌｏ  Ｂｕｔｅｎｅ、ＢＣＢ）、ポリイミド（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ、ＰＩ）、ポリアミド（ｐｏｌｙａｍｉｄｅ、ＰＡ）、アクリル樹脂及びフェノール樹脂などから選択された少なくとも一つの有機物質を含む。また、他の例として、画素定義膜１２０はシリコン窒化物などのような無機物質を含む。画素定義膜１２０は、たとえばフォトリソグラフィー工程により形成されるが、これに限定されない。
【００４９】
本発明に係る一実施形態において、画素定義膜１２０は第１電荷輸送層１５０がインクジェットプリント方法またはノズルプリント方法を利用して形成されるとき、画素定義膜１２０に対する第１電荷輸送層溶液（図４の１５０ａ）の接触角と表面処理層１４０に対する第１電荷輸送層溶液（図４の１５０ａ）の接触角が異なるようにするようにする絶縁物質で形成されてもよい。具体的には、画素定義膜１２０は画素定義膜１２０に対する第１電荷輸送層溶液（図４の１５０ａ）の接触角が表面処理層１４０に対する第１電荷輸送層溶液（図４の１５０ａ）の接触角より大きくすることができる絶縁物質で形成されてもよい。例えば、画素定義膜１２０は画素定義膜１２０に対する第１電荷輸送層溶液（図４の１５０ａ）の接触角が４０°以上になるようにする絶縁物質で形成されてもよい。
【００５０】
第１電荷注入層１３０は画素定義膜１２０の開口部ＯＰにより露出する第１電極１１０上に形成され、画素定義膜１２０をすべて覆うように形成されてもよい。第１電荷注入層１３０は第１電極１２０から正孔を提供される正孔注入層または電子を提供される電子注入層でもよい。本実施形態では、第１電荷注入層１３０が正孔注入層である場合を例示的に説明する。第１電荷注入層１３０は第１電極１１０と第１電荷輸送層１５０との間のエネルギー障壁を低くする緩衝層であって、第１電極１１０から提供される正孔が第１電荷輸送層１５０に容易に注入されるようにする役割を果たす。第１電荷注入層１３０は、有機化合物、例えばＭＴＤＡＴＡ（４、４’、４''−ｔｒｉｓ（３−ｍｅｔｈｙｌｐｈｅｎｙｌｐｈｅｎｙｌａｍｉｎｏ）ｔｒｉｐｈｅｎｙｌａｍｉｎｅ）、ＣｕＰｃ（ｃｏｐｐｅｒ  ｐｈｔｈａｌｏｃｙａｎｉｎｅ）またはＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ（ｐｏｌｙ（３、４−ｅｔｈｙｌｅｎｅｄｉｏｘｙｔｈｉｐｈｅｎｅ、ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ  ｓｕｌｆｏｎａｔｅ）などを含むが、これに限定されない。第１電荷注入層１３０は、たとえばスリットコーティングにより形成されるが、これに限定されない。
【００５１】
表面処理層１４０は第１電荷注入層１３０上に各画素ＰＸ別に形成される。具体的には、表面処理層１４０は第１電荷注入層１３０上に画素定義膜１２０の開口部ＯＰの内側から画素定義膜１２０の上面まで延長されるように形成され、画素定義膜１２０の上面に延長された部分に複数の溝ｇ１を有するように形成される。表面処理層１４０は、たとえばフォトリソグラフィー工程により形成されるが、これに限定されない。
【００５２】
表面処理層１４０は第１電荷輸送層溶液（図４の１５０ａ）に対して画素定義膜１２０より親液性を有するように、すなわち表面処理層１４０に対する第１電荷輸送層溶液（図４の１５０ａ）の接触角が画素定義膜１２０に対する第１電荷輸送層溶液（図４の１５０ａ）の接触角より小さくする導電性プライマ（ｐｒｉｍｅｒ）で形成される。例えば、表面処理層１４０は表面処理層１４０に対する第１電荷輸送層溶液（図４の１５０ａ）の接触角が２０°以下である導電性プライマ（ｐｒｉｍｅｒ）で形成されてもよい。この場合、複数の画素ＰＸにインクジェットプリント方法またはノズルプリント方法を利用して第１電荷輸送層溶液（図４の１５０ａ）を画素定義膜１２０の開口部ＯＰの内部の表面処理層１４０上に吐出するとき、表面処理層１４０に対する第１電荷輸送層溶液（図４の１５０ａ）の湿潤性が高く、第１電荷輸送層溶液（図４の１５０ａ）が露出した画素定義膜１２０の上面に広がらず、該当画素内に安定的に閉じ込められ得、第１電荷輸送層１５０が表面処理層１４０上に均一に形成されてもよい。湿潤性が高いという意味は、液体が固体表面に広く広がって接触する程度が高いという意味である。表面処理層１４０についてさらに詳細な説明は後述する。
【００５３】
第１電荷輸送層１５０は表面処理層１４０上に形成される。第１電荷輸送層１５０は複数の溝ｇ１を有する表面処理層１４０に倣って積層させてもよい。第１電荷輸送層１５０は表面処理層１４０の溝ｇ１を少なくとも部分的に埋め込む。
【００５４】
第１電荷輸送層１５０は第１電荷注入層１３０から表面処理層１４０により正孔を提供される正孔輸送層または電子を提供される電子輸送層でもよい。本実施形態では、第１電荷輸送層１３０が正孔輸送層である場合を例に挙げて説明する。第１電荷輸送層１５０は第１電荷注入層１３０から表面処理層１４０を介して提供される正孔を発光層１６０に伝達する役割を果たす。このような第１電荷輸送層１５０は有機化合物、例えば、ＴＰＤ（Ｎ、Ｎ'−ｄｉｐｈｅｎｙｌ−Ｎ、Ｎ'−ｂｉｓ（３−ｍｅｔｈｙｌｐｈｅｎｙｌ）−１、１'−ｂｉ−ｐｈｅｎｙｌ−４、４'−ｄｉａｍｉｎｅ）またはＮＰＢ（Ｎ、Ｎ'−ｄｉ（ｎａｐｈｔｈａｌｅｎ−１−ｙｌ）−Ｎ、Ｎ'−ｄｉｐｈｅｎｙｌ−ｂｅｎｚｉｄｉｎｅ）などを含むが、これに限定されない。第１電荷輸送層１５０は、たとえばインクジェットプリント方法またはノズルプリント方法を利用して形成されるが、これに限定されない。
【００５５】
発光層１６０は第１電荷輸送層１５０上に形成される。発光層１６０は第１電極１１０から提供される正孔と第２電極１９０から提供される電子を再結合させて光を放出する。より詳細に説明すると、発光層１６０に正孔及び電子が提供されると、正孔及び電子が結合してエクシトンを形成し、このようなエクシトンが励起状態から基底状態に変化しながら光を放出させる。このような発光層１６０は赤色を放出する赤色発光層、緑色を放出する緑色発光層、および青色を放出する青色発光層を含んでもよい。発光層１６０は、たとえばインクジェットプリント方法またはノズルプリント方法を利用して形成されるが、これに限定されない。
【００５６】
赤色発光層は一つの赤色発光物質を含んでもよいし、ホストと赤色ドーパントを含んで形成されてもよい。赤色発光層のホストとして、たとえば、Ａｌｑ３、ＣＢＰ（４、４'−Ｎ、Ｎ'−ｄｉｃａｒｂａｚｏｌ−ｂｉｐｈｅｎｙｌ）、ＰＶＫ（ｐｌｏｙ（ｎ−ｖｉｎｙｌｃａｒｂａｘｏｌ））、ＡＤＮ（９、１０−Ｄｉ（ｎａｐｈｔｈｙｌ−２−ｙｌ）ａｎｔｈｒａｃｅ）、ＴＣＴＡ、ＴＰＢＩ（１、３、５−ｔｒｉｓ（Ｎ−ｐｈｅｎｙｌｂｅｎｚｉｍｉｄａｚｏｌ−２−ｙｌ）ｂｅｎｚｅｎｅ）、ＴＢＡＤＮ（３−ｔｅｒｔ−ｂｕｔｙｌ−９、１０−ｄｉ（ｎａｐｈｔｈ−２−ｙｌ）ａｎｔｈｒａｃｅｎｅ）、Ｅ３、ＤＳＡ（ｄｉｓｔｙｒｙｌａｒｙｌｅｎｅ）などが使用されるが、これに限定されない。そして、赤色ドーパントとして、、たとえばＰｔＯＥＰ、Ｉｒ（ｐｉｑ）３、Ｂｔｐ２Ｉｒ（ａｃａｃ）などを利用できるが、これに限定されない。
【００５７】
緑色発光層は一つの緑色発光物質を含んだり、ホストと緑色ドーパントを含んで形成されてもよい。緑色発光層のホストとしては、赤色発光層のホストを使用してもよい。そして、緑色ドーパントとして、、たとえばＩｒ（ｐｐｙ）３、Ｉｒ（ｐｐｙ）２（ａｃａｃ）、Ｉｒ（ｍｐｙｐ）３などを利用することができるが、これに限定されない。
【００５８】
青色発光層は一つの青色発光物質を含んだり、ホストと青色ドーパントを含んで形成されてもよい。青色発光層のホストとしては赤色発光層のホストを使用してもよい。そして、青色ドーパントとして、、たとえばＦ２Ｉｒｐｉｃ、（Ｆ２ｐｐｙ）２Ｉｒ（ｔｍｄ）、Ｉｒ（ｄｆｐｐｚ）３、ｔｅｒ−ｆｌｕｏｒｅｎｅ、ＤＰＡＶＢｉ（４、４'−ｂｉｓ（４−ｄｉｐｈｅｎｙｌａｍｉｎｏｓｔｙｒｙｌ）ｂｉｐｈｅｎｙｌ）、ＴＢＰｅ（２、５、８、１１−ｔｅｔｒａ−ｔｉ−ｂｕｔｙｌ  ｐｈｅｒｙｌｅｎｅ）などを利用できるが、これに限定されない。
【００５９】
第２電荷輸送層１７０は発光層１６０上に形成され、第２電極１９０から第２電荷注入層１８０を介して電子を提供される電子輸送層または正孔を提供される正孔輸送層でもよい。本実施形態では、第２電荷輸送層１７０が電子輸送層である場合を例に挙げて説明する。第２電荷輸送層１７０は第２電極１９０から第２電荷注入層１８０を介して提供された電子を発光層１６０に伝達する役割を果たす。このような第２電荷輸送層１７０は有機化合物、例えば、Ｂｐｈｅｎ（４、７−ｄｉｐｈｅｎｙｌ−１、１０−ｐｈｅｎａｎｔｈｒｏｌｉｎｅ））、ＢＡｌｑ、Ａｌｑ３（Ｔｒｉｓ（８−ｑｕｉｎｏｌｉｎｏｒａｔｅ）ａｌｕｍｉｎｕｍ）、Ｂｅｂｑ２（ｂｅｒｙｌｌｉｕｍｂｉｓ（ｂｅｎｚｏｑｕｉｎｏｌｉｎ−１０−ｏｌａｔｅ）、ＴＰＢＩなどの材料を使用することができ、これに限定されない。第２電荷輸送層１７０は、たとえば蒸着工程などにより形成されるが、これに限定されない。
【００６０】
第２電荷注入層１８０は第２電荷輸送層１７０上に形成され、第２電極１９０から電子を提供される電子注入層または正孔を提供される正孔注入層でもよい。本実施形態では、第２電荷注入層１８０が電子注入層である場合を例に挙げて説明する。第２電荷注入層１８０は第２電荷輸送層１７０と第２電極１９０との間のエネルギー障壁を低くする緩衝層として第２電極１９０から提供される電子が第２電荷輸送層１７０に容易に注入されるようにする役割を果たす。このような第２電荷注入層１８０は、例えば、ＬｉＦまたはＣｓＦなどで形成されるが、これに限定されない。第２電荷注入層１８０は、たとえば蒸着工程などにより形成されるが、これに限定されない。
【００６１】
第２電極１９０は第２電荷注入層１８０上に形成され、発光層１６０に電子を提供する陰極または正孔を提供する陽極でもよい。第２電極１９０も第１電極１１０と同様に透明電極または反射電極として使用してもよい。第２電極１９０は、たとえば蒸着工程などにより形成されるが、これに限定されない。
【００６２】
図面に示していないが、発光表示装置１００は第２電極１９０の上部に配置される封止基板をさらに含んでもよい。封止基板は絶縁基板を含む。画素定義膜１２０上の第２電極１９０と封止基板との間にはスペーサを配置してもよい。本発明の他のいくつかの実施形態において、封止基板は省略してもよい。この場合、絶縁物質を含む封止膜が全体構造物を覆って保護できる。
【００６３】
次に、表面処理層１４０についてさらに詳細に説明する。
【００６４】
図３は、図２の表面処理層の平面図である。図４は、図３の表面処理層に第１電荷輸送層溶液を吐出する過程を示す断面図である。図５は、図４の電荷輸送層溶液が乾燥して形成された第１電荷輸送層の断面図である。
【００６５】
図３を参照すると、表面処理層１４０は少なくとも一側部に複数の溝ｇ１を有するように形成され、複数の溝ｇ１は画素定義膜の開口部の少なくとも一側に配置されてもよい。一側部または一側の方向は表面処理層１４０が形成される該当画素ＰＸの発光色と異なる発光色を放出する隣接した画素ＰＸを向かう第１方向Ｄ１でもよい。例えば、赤色を放出する赤色画素Ｒと緑色を放出する緑色画素Ｇが隣接する場合、赤色画素Ｒに形成される表面処理層１４０は赤色画素Ｇが配置された方向の一側部に複数の溝ｇ１を有する。図３では、一画素ＰＸを基準に両側部に異なる発光色を放出する画素ＰＸが配置される場合を例に挙げており、複数の溝ｇ１が表面処理層１４０の両側部に形成される場合を示している。
【００６６】
複数の溝ｇ１は、隣接した画素ＰＸを向かう第１方向Ｄ１と交差（たとえば、垂直）する第２方向Ｄ２に延長された略直線形状を有してもよい。このような複数の溝ｇ１は表面処理層１４０の外周に凹凸を形成する。これによって、表面処理層１４０は複数の溝ｇ１を介して第１電荷輸送層溶液１５０ａを例えば、ノズルプリント方法を利用して吐出装置１０から表面処理層１４０へ吐出させるとき、表面処理層１４０の外周に対する第１電荷輸送層溶液１５０ａの接触角を増加させ、第１電荷輸送層溶液１５０ａが表面処理層１４０の外側に離脱することを防ぎ、第１電荷輸送層溶液１５０ａを複数の溝ｇ１に閉じ込めることができる。
【００６７】
すなわち、表面処理層１４０は複数の溝ｇ１を介して第１電荷輸送層溶液１５０ａが吐出装置１０から吐出されるとき、吐出圧力と吐出速度などによって表面処理層１４０の外側に広がって行く力Ｆに対する抵抗力を増加させ、第１電荷輸送層溶液１５０ａが表面処理層１４０の外側に離脱することを防ぎ、第１電荷輸送層溶液１５０ａを複数の溝ｇ１に閉じ込めることができる。これによって、第１電荷輸送層溶液１５０ａが隣接した画素ＰＸ、例えば、異なる発光色を放出する画素ＰＸ方向に流れ、意図しない隣接した画素ＰＸの一部分まで広がることを防止できる。
【００６８】
複数の溝ｇ１のそれぞれの幅（ｗ１、ｗ２、ｗ３）は隣接した画素ＰＸに行くほど大きくなる。この場合、複数の溝ｇ１は表面処理層１４０の外周に対する第１電荷輸送層溶液１５０ａの接触角の増加が急激に行われることを防止し、第１電荷輸送層溶液１５０ａを表面処理層１４０上に広い面積に広がるようにすることができる。これによって、表面処理層１４０上に吐出された第１電荷輸送層溶液１５０ａが乾燥され、図５に示すように第１電荷輸送層１５０が形成されるとき、第１電荷輸送層１５０が表面処理層１４０上に広い面積で形成される。
【００６９】
一方、第１電荷輸送層溶液１５０ａが乾燥して形成された第１電荷輸送層１５０は、図５に示すように表面処理層１４０とピンニング点（ｐｉｎｎｉｎｇ  ｐｏｉｎｔ）（Ｐ）を形成する。この場合、第１電荷輸送層溶液１５０ａの溶媒と同じ溶媒を含む発光層溶液がインクジェットプリント方法またはノズルプリント方法によって第１電荷輸送層１５０上に吐出され、乾燥して形成される発光層１６０がピンニング点（Ｐ）に合わせて形成される。すなわち、発光層１６０の周囲が第１電荷輸送層１５０の外周と一致する。
【００７０】
図６から図１２は、表面処理層の多様な実施形態を示す平面図である。
【００７１】
図６は、表面処理層１４０ａが少なくとも一側部に格子形状を有する複数の溝ｇ２を有するように形成されることを例示する。複数の溝ｇ２は隣接した画素ＰＸに向かう第１方向Ｄ１と交差（たとえば、垂直）する第２方向Ｄ２に延長された略直線形状を有する第１溝ｇ２１と、第１方向Ｄ１に延長された略直線形状を有する第２溝ｇ２２が交差（たとえば、直交）して形成される。ここで、第１溝ｇ２１の幅は第１方向Ｄ１に行くほど大きくなる。
【００７２】
複数の溝ｇ２は吐出装置１０を移動させ、第１電荷輸送層溶液を表面処理層１４０ａに吐出するとき、第１電荷輸送層溶液が表面処理層１４０ａの外側に広がって行く力Ｆが第１方向Ｄ１と、第１方向Ｄ１と第２方向Ｄ２との間の対角線方向に発生するとき、第１電荷輸送層溶液が第１方向Ｄ１だけでなく、対角線方向に離脱することを効果的に防止できる。
【００７３】
図７は、表面処理層１４０ｂが少なくとも一側部に斜線形状を有する複数の溝ｇ３を有するように形成される場合を例示する。複数の溝ｇ３は隣接した画素ＰＸを向かう第１方向Ｄ１と、第１方向Ｄ１と交差（たとえば、垂直）する第２方向Ｄ２との間に斜線形状を有するように形成されることを例示する。ここで、複数の溝ｇ３のそれぞれの幅は同じでもよい。
【００７４】
複数の溝ｇ３も吐出装置１０を移動させ、第１電荷輸送層溶液を表面処理層１４０ｂに吐出するとき、第１電荷輸送層溶液が表面処理層１４０ｂの外側に広がって行く力Ｆが第１方向Ｄ１と、第１方向Ｄ１と第２方向Ｄ２との間の対角線方向に発生するとき、第１方向Ｄ１だけではなく、対角線方向に離脱することを効果的に防止できる。
【００７５】
図８は、表面処理層１４０ｃが一側部と他側部において互いに異なる方向の斜線形状を有する複数の溝ｇ４を有するように形成される場合を例示する。すなわち、複数の溝ｇ４は隣接した画素ＰＸを向かう第１方向Ｄ１と、第１方向Ｄ１と交差（たとえば、垂直）する第２方向Ｄ２との間に第１斜線形状を有する第１溝ｇ４１と、第２方向Ｄ２を中心に第１斜線形状と対称の第２斜線形状を有する第２溝ｇ４２を含む。
【００７６】
第１斜線形状は、吐出装置１０を移動させ、第１電荷輸送層溶液を表面処理層１４０ｃに吐出するとき、第１電荷輸送層溶液が表面処理層１４０ｃの外側に広がって行く力Ｆが表面処理層１４０ｃの一側で第１方向Ｄ１と第２方向Ｄ２との間の対角線方向に発生するとき、対角線方向と交差（たとえば、直交）する形態の斜線形状である。これによって、第１斜線形状を有する第１溝ｇ４１は第１電荷輸送層溶液が表面処理層１４０ｃの一側部で第１方向Ｄ１と第２方向Ｄ２の間の対角線方向に離脱することを効果的に防止できる。
【００７７】
第２斜線形状は、吐出装置１０を移動させ、第１電荷輸送層溶液を表面処理層１４０ｃに吐出するとき、第１電荷輸送層溶液が表面処理層１４０ｃの外側に広がって行く力Ｆが表面処理層１４０ｃの他側部で第１方向Ｄ１と第２方向Ｄ２との間の対角線方向に発生するとき、対角線方向と交差（たとえば、直交）する形態の斜線形状である。これによって、第２斜線形状を有する第２溝ｇ４２は、第１電荷輸送層溶液が表面処理層１４０ｃの他側部で第１方向Ｄ１と第２方向Ｄ２との間の対角線方向に離脱することを効果的に防止できる。
【００７８】
複数の溝ｇ３は吐出装置１０を移動させ、第１電荷輸送層溶液を表面処理層１４０ｃに吐出するとき、第１電荷輸送層溶液が表面処理層１４０ｃの外側に広がって行く力Ｆが第１方向Ｄ１と第２方向Ｄ２との間の対角線方向に発生するとき、第１電荷輸送層溶液が互いに異なる対角線方向に離脱することを効果的に防止できる。
【００７９】
図９は、表面処理層１４０ｄが少なくとも一側部に斜線形状の第１溝ｇ５１と斜線形状の第２溝ｇ５２が交差（たとえば、直交）する格子形状を有する複数の溝ｇ５を有するように形成される場合を例示する。
【００８０】
複数の溝ｇ５は吐出装置１０の移動開始点が変わっても第１電荷輸送層溶液が第１方向Ｄ１だけではなく、第１方向Ｄ１と第２方向Ｄ２との間の対角線方向に離脱することを効果的に防止できる。
【００８１】
図１０は、表面処理層１４０ｅが少なくとも一側部に同じ幅を有する複数の溝ｇ６を有するように形成される場合を例示する。複数の溝ｇ６を有する表面処理層１４０ｅは形成空間において制限がある場合、例えば、隣接した画素ＰＸ間のピッチが微細な場合に適用する場合に有利である。
【００８２】
図１１は、表面処理層１４０ｆが一列に配列され、同じ発光色を放出する画素ＰＸ単位で形成される場合を例示する。例えば、表面処理層１４０ｆは少なくとも二つの画素ＰＸ以上の単位で形成され、図３の表面処理層１４０より大きいサイズを有するが、表面処理層１４０と同じ形態で異なる発光色を放出する隣接した画素ＰＸに向かう第１方向Ｄ１と交差（たとえば、垂直）する第２方向Ｄ２に延長された複数の溝ｇ７を有するように形成される。表面処理層１４０ｆはフォトリソグラフィー工程により形成するとき、パターニング工程を容易にすることができる。
【００８３】
図１２は、表面処理層１４０ｇがこれらの全ての側部に複数の溝ｇ８を有するように形成される場合を例示する。複数の溝ｇ８は図３の表面処理層１４０の複数の溝ｇ１と同じ形態で形成される。複数の溝ｇ８は、一画素ＰＸを基準に四方に異なる発光色を放出する画素ＰＸが配置される場合において、第１電荷輸送層溶液をインクジェットプリント方法により表面処理層１４０ｇ上に吐出させるとき、第１電荷輸送層溶液が表面処理層１４０ｇの四方に離脱することを防止できる。
【００８４】
本発明の一実施形態に係る発光表示装置は、複数の溝（ｇ１〜ｇ８）により外周に凹凸が形成される表面処理層（１４０、１４０ａ〜１４０ｇ）を備えることによって、インクジェットプリント方法またはノズルプリント方法によって第１電荷輸送層溶液１５０ａを表面処理層（１４０、１４０ａ〜１４０ｇ）に吐出するとき、吐出圧力と吐出速度などによって、第１電荷輸送層溶液１５０ａが表面処理層１４０の外側に広がって行く力Ｆに対する抵抗力を増加させ、第１電荷輸送層溶液１５０ａが表面処理層１４０の外側に離脱することを防ぐことができる。
【００８５】
本実施形態に係る発光表示装置は、第１電荷輸送層溶液１５０ａが隣接した画素ＰＸ、例えば、異なる発光色を放出する画素ＰＸ方向に広がって第１電荷輸送層１５０が意図しない隣接した画素ＰＸの一部分にまで形成されることを防止できる。
【００８６】
したがって、本実施形態に係る発光表示装置は、第１電荷輸送層１５０上で発光層１６０が隣接した画素ＰＸの一部分にまで形成され、隣接した画素ＰＸの間で異なる発光色を放出する発光層が互いに重なる形態で形成されることを防止することによって、駆動するとき意図しない混色が表示され、表示品質が低下することを防止できる。
【００８７】
図１３は、本発明の他の実施形態に係る発光表示装置の断面図である。
【００８８】
図１３を参照すると、本発明の他の実施形態に係る発光表示装置２００は、図２の発光表示装置１００とは第１電荷輸送層２５０及び発光層２６０だけが異なり、同様の構成を有する。したがって、本発明の他の実施形態に係る発光表示装置２００では第１電荷輸送層２５０及び発光層２６０についてのみ説明する。
【００８９】
第１電荷輸送層２５０は図２の第１電荷輸送層１５０と類似している。ただし、第１電荷輸送層２５０は表面処理層１４０上に表面処理層１４０の外周まで形成されず、複数の溝ｇ１の一部分に収容された形で形成される。このような構造は、第１電荷輸送層２５０を形成するため、第１電荷輸送層溶液をインクジェットプリント方法またはノズルプリント方法によって表面処理層１４０上に吐出するとき、吐出圧力が低い場合、表面処理層１４０の外周まで広がらないことによって形成されてもよい。
【００９０】
発光層２６０は図２の発光層１６０と類似する。ただし、発光層２６０は第１電荷輸送層２５０上に形成され、表面処理層１４０の外周まで延長されるように形成される。このような構造は発光層溶液の溶媒が第１電荷輸送層溶液の溶媒と同じ場合、表面処理層１４０が第１電荷輸送層溶液１５０ａだけでなく、発光層溶液に対しても親液性を有することによって形成されてもよい。
【００９１】
他方、図面に示していないが、表面処理層１４０の複数の溝ｇ１には図６から図１２に示す複数の溝（ｇ２〜ｇ７）が設けられてもよい。
【００９２】
本発明の他の実施形態に係る発光表示装置２００は、発光表示装置１００のように少なくとも一側に複数の溝ｇ１を有する表面処理層１４０を備えることによって、第１電荷輸送層２５０上で発光層２６０が隣接した画素ＰＸの一部分にまで形成され、隣接した画素ＰＸの間で異なる発光色を放出する発光層が互いに重なる形態で形成されることを防止することによって、駆動するとき意図しない混色が表示され、表示品質が低下することを防止できる。
【００９３】
図１４は、本発明のまた他の実施形態に係る発光表示装置の断面図である。
【００９４】
図１４を参照すると、本発明のまた他の実施形態に係る発光表示装置３００は、図２の発光表示装置１００と比べると、第１電荷輸送層３５０及び発光層３６０だけが異なり、同様の構成を有する。これによって、本発明のまた他の実施形態に係る発光表示装置３００では第１電荷輸送層３５０及び発光層３６０についてのみ説明する。
【００９５】
第１電荷輸送層３５０は図２の第１電荷輸送層１５０と類似する。ただし、第１電荷輸送層３５０は表面処理層１４０上に形成されるが、複数の溝ｇ１の間の表面処理層１４０上には形成されない。すなわち、複数の溝ｇ１部分で第１電荷輸送層３５０の高さが複数の溝ｇ１の高さ以下でもよい。このような構造は第１電荷輸送層３５０を形成するため、第１電荷輸送層溶液をインクジェットプリント方法またはノズルプリント方法によって表面処理層１４０上に吐出後に乾燥するとき表面処理層１４０の複数の溝ｇ１の部分で第１電荷輸送層溶液の乾燥が多く行われることによって形成される。
【００９６】
発光層３６０は図２の発光層１６０と類似する。ただし、発光層３６０は第１電荷輸送層３５０上に形成され、表面処理層１４０の複数の溝ｇ１の部分で表面処理層１４０と接触する。このような構造は、発光層溶液の溶媒が第１電荷輸送層溶液の溶媒と同じである場合、表面処理層１４０が第１電荷輸送層溶液１５０ａだけではなく、発光層溶液に対しても親液性を有することによって形成される。
【００９７】
他方、図面に示していないが、表面処理層１４０の複数の溝ｇ１には図６〜図１２に示す複数の溝（ｇ２〜ｇ７）が設けられてもよい。
【００９８】
上記のように本発明のまた他の実施形態に係る発光表示装置３００は、発光表示装置１００のように少なくとも一側に複数の溝ｇ１を有する表面処理層１４０を備えることによって、第１電荷輸送層３５０上で発光層３６０が隣接した画素ＰＸの一部分にまで形成され、隣接した画素ＰＸの間で異なる発光色を放出する発光層が互いに重なる形態で形成されることを防止することによって、駆動するとき意図しない混色が表示され、表示品質が低下することを防止できる。
【００９９】
図１５は、本発明のまた他の実施形態に係る発光表示装置の断面図である。
【０１００】
図１５を参照すると、本発明のまた他の実施形態に係る発光表示装置４００は、基板１０５、第１電極１１０、画素定義膜４２０、第１共通層４３０、表面処理層４４０、発光層４５０、第２共通層４６０及び第２電極４７０を含む。
【０１０１】
基板１０５及び第１電極１１０については前の実施形態で詳細に説明したので、重複する説明は省略する。
【０１０２】
画素定義膜４２０は図２の画素定義膜１２０と類似する。ただし、画素定義膜４２０は発光層４５０がインクジェットプリント方法またはノズルプリント方法を利用して形成されるとき、画素定義膜４２０に対する発光層溶液の接触角と表面処理層４４０に対する発光層溶液の接触角が異なるようにする絶縁物質で形成されてもよい。具体的には、画素定義膜４２０は画素定義膜４２０に対する発光層溶液の接触角が表面処理層４４０に対する発光層溶液の接触角より大きくする絶縁物質で形成されてもよい。例えば、画素定義膜４２０は画素定義膜４２０に対する発光層溶液の接触角が４０°以上になるようにする絶縁物質で形成されてもよい。
【０１０３】
第１共通層４３０は画素定義膜４２０の開口部ＯＰを介して露出する第１電極１１０上に形成され、画素定義膜４２０をすべて覆うように形成されてもよい。第１共通層４３０は第１電荷注入層を含む。第１電荷注入層は第１電極１１０に接触する。また、第１共通層４３０は第１電荷注入層上に配置された第１電荷輸送層をさらに含んでもよい。第１電荷注入層及び第１電荷輸送層は、図２の第１電荷注入層１３０及び第１電荷輸送層１４０と同じ物質で形成されてもよい。
【０１０４】
表面処理層４４０は少なくとも一側部に複数の溝ｇ１を有し、図２の表面処理層１４０と類似する。ただし、表面処理層４４０は発光層溶液に対して画素定義膜４２０より親液性を有するように、すなわち表面処理層４４０に対する発光層溶液の接触角が画素定義膜４２０に対する発光層溶液の接触角より小さくする導電性プライマ（ｐｒｉｍｅｒ）で形成されてもよい。例えば、表面処理層４４０は表面処理層４４０に対する発光層溶液の接触角が２０°以下の導電性プライマ（ｐｒｉｍｅｒ）で形成されてもよい。この場合、複数の画素ＰＸにインクジェットプリント方法またはノズルプリント方法を利用して発光層溶液を画素定義膜４２０の開口部ＯＰの内部の表面処理層４４０上に吐出するとき、表面処理層４４０に対する発光層溶液の湿潤性が高いため、発光層溶液が露出された画素定義膜４２０の上面に広がらず、該当画素内に安定的に閉じ込められ得、発光層４５０が表面処理層４４０上に均一に形成されてもよい。
【０１０５】
発光層４５０は図２の発光層１６０と類似する。ただし、発光層４５０は表面処理層４４０上に形成される。発光層４５０は凹凸を形成する複数の溝ｇ１を有する表面処理層４４０に倣って形成されてもよい積層されてもよい。発光層４５０は表面処理層４４０の溝ｇ１を少なくとも部分的に埋め込む。
【０１０６】
発光層４５０は表面処理層４４０上に直接形成されるため、発光層４５０を形成するため、発光層溶液をノズルプリント方法を利用して表面処理層４４０に吐出させるとき、表面処理層４４０の外周に対する発光層溶液の接触角が増加し、発光層溶液が表面処理層４４０の外側に離脱することを防止し、表面処理層４４０の複数の溝ｇ１に閉じ込めむことができる。
【０１０７】
第２共通層４６０は発光層４５０上に形成される。第２共通層４６０は第２電荷輸送層を含む。第２電荷輸送層は発光層４６０に接触する。また、第２共通層４３０は第２電荷輸送層上に配置された第２電荷注入層をさらに含んでもよい。第２電荷輸送層及び第２電荷注入層は図２の第２電荷輸送層１７０及び第２電荷注入層１８０と同じ物質で形成されてもよい。
【０１０８】
第２電極４７０は図２の第２電極１９０と同一である。したがって、重複する説明は省略する。
【０１０９】
一方、図面に示していないが、表面処理層４４０の複数の溝ｇ１には図６から図１２に示す複数の溝（ｇ２〜ｇ７）を設けてもよい。
【０１１０】
上記のように、本発明のまた他の実施形態に係る発光表示装置４００は、発光表示装置１００のように少なくとも一側に複数の溝ｇ１を有する表面処理層４４０を備えることによって、表面処理層４４０上で発光層４５０が隣接した画素ＰＸの一部分にまで形成され、隣接した画素ＰＸの間で異なる発光色を放出する発光層が互いに重なる形態で形成されることを防止することによって、駆動するとき意図しない混色が表示され、表示品質が低下することを防止できる。
【０１１１】
以下、前述した本発明の多様な実施形態に係る発光表示装置を製造するための例示的な方法について説明する。
【０１１２】
図１６〜図２４は、本発明の一実施形態に係る発光表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【０１１３】
図１６を参照すると、複数の画素（図１のＰＸ）が配置された基板１０５上に各画素別に第１電極１１０を形成する。第１電極１１０は基板１０５上に透明電極物質または反射物質を蒸着し、パターニングして形成されてもよい。
【０１１４】
図１７を参照すると、基板上に各画素（図１のＰＸ）を区切り、第１電極１１０を露出する開口部ＯＰを有する画素定義膜１２０を形成する。画素定義膜１２０は第１電極１１０を覆うように基板１０５の全面に蒸着方法を利用して絶縁物質を蒸着し、蒸着された絶縁物質をパターニングして形成されてもよい。
【０１１５】
他方、画素定義膜１２０は第１電荷輸送層１５０がインクジェットプリント方法またはノズルプリント方法を利用して形成されるとき、画素定義膜１２０に対する第１電荷輸送層溶液（図２０の１５０ａ）の接触角と表面処理層（図１９の１４０）に対する第１電荷輸送層溶液（図２０の１５０ａ）の接触角が異なるようにすることができる絶縁物質で形成されてもよい。例えば、画素定義膜１２０は画素定義膜１２０に対する第１電荷輸送層溶液（図２０の１５０ａ）の接触角が４０°以上になるようにする絶縁物質で形成されてもよい。
【０１１６】
続いて、図１８を参照すると、第１電極１１０上に第１電荷注入層１３０を形成する。第１電荷注入層１３０はスリットコーティングなどを利用して第１電極１１０だけではなく、画素定義膜１２０の全面に形成される。
【０１１７】
続いて、図１９を参照すると、第１電荷注入層１３０上に画素定義膜１２０の開口部ＯＰの内側から上面まで延長されるが、画素定義膜１２０の上面に延長された部分に複数の溝ｇ１を有する表面処理層１４０を形成する。表面処理層１４０はフォトリソグラフィー工程を利用して形成される。表面処理層１４０は図３に示す形状に形成される。もちろん、表面処理層１４０の複数の溝ｇ１は図６から図１３に示す複数の溝（ｇ２〜ｇ８）として形成されてもよい。
【０１１８】
他方、表面処理層１４０は第１電荷輸送層溶液（図４の１５０ａ）に対して画素定義膜１２０より親液性を有するように、すなわち表面処理層１４０に対する第１電荷輸送層溶液（図４の１５０ａ）の接触角が画素定義膜１２０に対する第１電荷輸送層溶液（図４の１５０ａ）の接触角より小さくする導電性プライマ（ｐｒｉｍｅｒ）で形成される。例えば、表面処理層１４０は表面処理層１４０に対する第１電荷輸送層溶液（図４の１５０ａ）の接触角が２０°以下である導電性プライマ（ｐｒｉｍｅｒ）で形成される。この場合、複数の画素ＰＸにインクジェットプリント方法またはノズルプリント方法を利用して第１電荷輸送層溶液（図４の１５０ａ）を画素定義膜１２０の開口部ＯＰの内部の表面処理層１４０上に吐出するとき、表面処理層１４０に対する第１電荷輸送層溶液（図４の１５０ａ）の湿潤性が高いため、第１電荷輸送層溶液（図４の１５０ａ）が露出した画素定義膜１２０の上面に広がらず、該当画素内に安定的に閉じ込められ得、第１電荷輸送層１４０が表面処理層１４０上に均一に形成される。
【０１１９】
図２０及び図２１を参照すると、表面処理層１４０上に第１電荷輸送層１５０を形成する。
【０１２０】
図２０を参照すると、インクジェットプリント方法またはノズルプリント方法によって吐出装置１０から第１電荷輸送層溶液１５０ａを吐出し、画素定義膜１２０の開口部ＯＰ内側に提供する。このとき、第１電荷輸送層溶液１５０ａが吐出圧力と吐出速度などによって表面処理層１４０の外側に広がって行く力Ｆが大きいため、第１電荷輸送層溶液１５０ａが表面処理層１４０の外周から離脱される。しかし、表面処理層１４０は外周に凹凸を形成する複数の溝ｇ１を介して力Ｆに対する抵抗力を増加させ、第１電荷輸送層溶液１５０ａが表面処理層１４０の外側に離脱することを防ぎ、第１電荷輸送層溶液１５０ａを複数の溝ｇ１に閉じ込めることができる。
【０１２１】
また、図２１を参照すると、第１電荷輸送層溶液１５０ａを乾燥させ、表面処理層１４０上に表面処理層１４０とピンニング点（Ｐ）を形成する第１電荷輸送層１５０を形成する。第１電荷輸送層１５０は複数の溝ｇ１を有する表面処理層１４０に倣って積層させてもよい。
【０１２２】
続いて、図２２及び図２３を参照すると、第１電荷輸送層１５０上に発光層１６０を形成する。
【０１２３】
図２２を参照すると、インクジェットプリント方法またはノズルプリント方法によって吐出装置２０から発光層溶液１６０ａを吐出し、画素定義膜１２０の開口部ＯＰの内側に提供する。このとき、発光層溶液１６０ａは図２０の第１電荷輸送層溶液１５０ａと同じ溶媒を含んでもよい。この場合、第１電荷輸送層１５０が発光層溶液１６０ａに対して親液性を有し得、発光層溶液１６０ａが第１電荷輸送層１５０に吐出するとき、第１電荷輸送層１５０の外側である露出された画素定義膜１２０の上面に離脱することが防止される。
【０１２４】
そして、図２３を参照すると、発光層溶液１６０ａを乾燥させ、第１電荷輸送層１５０上に発光層１６０を形成する。
【０１２５】
続いて、図２４を参照すると、発光層１６０上に第２電荷輸送層１７０、第２電荷注入層１８０及び第２電極１９０を形成する。第２電荷輸送層１７０、第２電荷注入層１８０及び第２電極１９０は蒸着工程により形成されてもよい。
【０１２６】
図面に示していないが、本発明の一実施形態に係る発光表示装置の製造方法は、第２電極１９０の上部に封止基板を配置する段階をさらに含んでもよい。また、本発明の一実施形態に係る発光表示装置の製造方法は、第２電極１９０と封止基板の間にスペーサを配置する段階をさらに含んでもよい。封止基板を配置することやスペーサを配置する多様な方法は公知であるから、詳細な説明は省略する。
【０１２７】
以上、添付する図面を参照して本発明の実施形態について説明したが、本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者は、本発明のその技術的思想や必須の特徴を変更せず、他の具体的な形態で実施されてもよいことを理解できるであろう。したがって、上記実施形態はすべての面において示的なものであり、限定的なものではないと理解しなければならない。
【符号の説明】
【０１２８】
１００、２００、３００、４４０：発光表示装置
１０５：基板
１１０：第１電極
１２０：画素定義膜
１３０：第１電荷注入層
１４０、１４０ａ、１４０ｂ、１４０ｃ、１４０ｄ、１４０ｅ、１４０ｆ、１４０ｇ：表面処理層
１５０：第１電荷輸送層
１６０、４５０：発光層
１７０：第２電荷輸送層
１８０：第２電荷注入層
１９０、４７０：第２電極
４３０：第１共通層
４６０：第２共通層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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