(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ビーム輸送部から輸送された粒子線ビームの位置ずれを検出する位置モニタと、
前記位置モニタにより前記粒子線ビームの位置ずれが検出されたときに前記粒子線ビームの照射を中断するインターロック装置と、
前記粒子線ビームの軸の位置及び角度を測定する対をなすスクリーンモニタと、
前記スクリーンモニタにより測定された前記粒子線ビームの軸の位置及び角度を示す信号に基づいて磁場を調整して前記粒子線ビームの軸を調整する補正電磁石と、
前記粒子線ビームを照射対象に照射するビーム走査電磁石と、を備え、
前記対をなすスクリーンモニタの一方を治療室外に設置し、かつ前記スクリーンモニタの他方および前記位置モニタを前記治療室内に設置したことを特徴とする粒子線ビーム調整装置。
【請求項２】
前記粒子線ビームの軸の調整時に、前記治療室内の照射対象に達する前記粒子線ビームを停止させるビームブロックを有することを特徴とする請求項１に記載の粒子線ビーム調整装置。
【請求項３】
前記ビームブロックは、前記治療室内に設置した前記スクリーンモニタの前記粒子線ビームの輸送方向下流側に設置されていることを特徴とする請求項２に記載の粒子線ビーム調整装置。
【請求項４】
前記ビームブロックの前記粒子線ビームの輸送方向下流側に、前記粒子線ビームの停止点を変化させるレンジシフタが設置されていることを特徴とする請求項２又は３に記載の粒子線ビーム調整装置。
【請求項５】
前記対をなすスクリーンモニタは、真空ダクト内に収納されていることを特徴とする請求項１ないし４のいずれか一項に記載の粒子線ビーム調整装置。
【請求項６】
前記対をなすスクリーンモニタ及び前記ビームブロックは、前記粒子線ビームが輸送されるビームラインに対して挿入及び退避可能に構成したことを特徴とする請求項２に記載の粒子線ビーム調整装置。
【請求項７】
ビーム輸送部から輸送された粒子線ビームの軸のずれを、治療室内に設置された位置モニタによって検出するビーム位置ずれ検出工程と、
前記ビーム位置ずれ検出工程で前記粒子線ビームの軸のずれを検出したときに、前記粒子線ビームの照射を中断するインターロック工程と、
前記粒子線ビームの軸の位置及び角度を、治療室外に設置された一方のスクリーンモニタと前記治療室内に設置された他方のスクリーンモニタとで測定する測定工程と、
前記測定工程で測定された前記粒子線ビームの軸の位置及び角度に基づいて磁場を調整して前記粒子線ビームの軸を調整するビーム軸調整工程と、
を有することを特徴とする粒子線ビーム調整方法。
【請求項８】
前記粒子線ビームを走査するビーム走査電磁石を消磁するビーム走査電磁石消磁工程をさらに有することを特徴とする請求項７に記載の粒子線ビーム調整方法。
【請求項９】
粒子線ビームを生成するビーム生成部と、
前記粒子線ビームの出射を制御するビーム出射制御装置と、
前記粒子線ビームを治療室の照射対象まで輸送するビーム輸送部と、
前記ビーム輸送部から輸送された粒子線ビームの位置ずれを検出する位置モニタと、
前記位置モニタにより前記粒子線ビームの位置ずれが検出されたときに前記粒子線ビームの照射を中断するインターロック装置と、
前記粒子線ビームの軸の位置及び角度を測定する対をなすスクリーンモニタと、
前記スクリーンモニタにより測定された前記粒子線ビームの軸の位置及び角度を示す信号に基づいて磁場を調整して前記粒子線ビームの軸を調整する補正電磁石と、
前記粒子線ビームを照射対象に照射するビーム走査電磁石と、を備え、
前記対をなすスクリーンモニタの一方を前記治療室外に設置し、かつ前記スクリーンモニタの他方および前記位置モニタを前記治療室内に設置したことを特徴とする粒子線照射装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、照射対象に対して炭素又は陽子等の粒子線ビームの軌道を調整する粒子線ビーム調整装置及び方法、この粒子線ビーム調整装置を用いた粒子線治療装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、粒子線治療装置は、炭素又は陽子等の粒子線ビーム（以下、単にビームともいう。）をがん患者の患部に照射するために利用されている。現在使用されている粒子線照射方法には、ビームの径をがん患者の患部サイズ以上に拡大する拡大ビーム法がある。この拡大ビーム法は、厳密には３次元的に患部形状に正確に合致させることができないので、患部の周囲の正常細胞への影響を小さくするには限界がある。【０００３】
そこで、粒子線治療のさらに進んだ照射方法として、患者の体内患部を３次元格子状に仮想的に切り分けて照射を行うスキャニング照射法の運用が進められている。このスキャニング照射法には、例えばスポットスキャニング照射法と呼ばれる３次元照射法がある。このスポットスキャニング照射法は、次のようにして各スポット（点）の照射を行っている。【０００４】
患部における、あるスポットに対して予め決められた線量を照射すると、スキャニング制御装置は、線量モニタから線量満了信号を得てスポット切替指令信号を出力する。このスポット切替指令信号に基づいてビーム出射制御装置は、ビームの出射を停止する。【０００５】
同時に、ビームを走査する照射野形成電磁石に励磁電流を流すための電磁石電源は、次の照射スポットの座標に対応した電流値の設定を開始する。上記スキャニング制御装置は、上記電磁石電源の電流値の設定の完了信号を取得すると、上記ビーム出射制御装置に対してビーム開始命令信号を出力し、次のスポットに対して照射が開始される。これを順次繰り返して、１つの照射スライスに対する治療部位の照射を行う。【０００６】
そして、１つの照射スライスに対する照射が終了すると、ビームの出射を一旦停止し、加速器から出射するビームのエネルギーを変更するか、あるいはレンジシフタと呼ばれる飛程調整装置を制御することにより、ビーム進行方向のビーム停止軌道（スライス）を変更する。このようにスキャニング照射とスライス切替を順次行っていくことで、治療部位全域にわたるビーム照射を行う。【０００７】
ところで、上記スキャニング照射法において、正しい位置にビームが照射されていることを確認するため、照射ポートには位置モニタが配備されている。万一、上記照射野形成電磁石に励磁電流を流す電磁石電源の電流設定異常や、ビーム輸送方向において上流側の加速器から下流側のスキャニング照射装置までのビーム軌道ずれ等が発生すると、予め決められた照射軌道と、上記位置モニタで測定された軌道とが相違することになる。この場合には、上記スキャニング制御装置内に設けられた位置モニタ制御装置からインターロック信号（非常停止信号）が出力され、治療照射は中断される。【０００８】
ビームの軌道ずれが生じる要因としては、例えば加速器から治療室にビームを輸送する経路の電磁石の磁場変化がある。このような磁場変化が生じると、ビームが正しい軌道で輸送されてこなくなり、結果的に治療ビームとしての品質を確保することができないという不具合がある。【０００９】
スキャニング照射法を用いる粒子線治療装置の運用としては、毎朝、照射ビームの設定エネルギー毎に、ビームの軌道を確認しながらビームを操作するための操作装置の設定値を補正し、その日の治療に使用するビーム品質の確認を行っている。【００１０】
具体的には、ビーム軌道上において蛍光膜を形成したスクリーンモニタを、所定の距離を離して一対配置している。これらのスクリーンモニタの出力値から算出したビーム軌道のずれ量（ビーム軌道ずれのない理想的な中心軌道からのずれ量）に基づいて補正電磁石の電流値を調整することで、ビーム軌道の補正を実施している。【００１１】
また、ビームを操作するための操作装置の設定値が同じであったとしても、例えば午前中のビーム軌道のずれ量と午後におけるビーム軌道のずれ量とが温度変化等により同じであるとは限らない。そのため、照射開始時又は照射中に位置モニタでビーム位置異常を検知すると、治療照射を完了できないことが起こり得る。【００１２】
さらに、特許文献１に記載された技術は、照射ノズル上流側のビームの通過位置を検出する第１ビーム位置モニタと、照射ノズル下流側のビームの通過位置を検出する第２ビーム位置モニタを設けたものである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１３】
【特許文献１】特開２００３−２８２３００号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
ところで、上述したスキャニング照射法を用いた粒子線治療装置では、一対のスクリーンモニタが治療室外に配置されており、患者に対する軌道から距離が離れた軌道でビーム軌道の補正を実施していたため、一対のスクリーンモニタの距離に対して、下流側スクリーンモニタと患者の距離が大きくなってしまい、得られるビーム軌道精度に限界がある。その結果、温度等の環境の変化によってビーム軌道がさらにずれた場合に位置モニタでそのずれを検知して治療照射の中断が起こる可能性が高くなっていた。【００１５】
また、治療照射中に位置モニタがビームの位置ずれを検知した場合、治療中断時に患者を照射位置から退避させることなく、ビーム軌道の補正を行うには、まず治療室のビーム導入口に、このビーム導入口を塞ぐような大きさのビームブロックを設置している。【００１６】
そして、上記ビームブロックのビーム輸送方向上流側に、上記スクリーンモニタを一対配置している。この場合、上記スクリーンモニタは、所定の距離を離して配置しないと、ビーム軸のずれを正確に確認することができない。【００１７】
上記のように大きなビームブロックのビーム輸送方向上流側に一対のスクリーンモニタを配置した場合には、装置全体の大きさの制約から上記一対のスクリーンモニタを所定の距離を離して配置することができなくなる場合がある。そのため、ビーム軸のずれを正確に確認することができなくなり、ビーム軸のずれを高精度に調整することができないという問題がある。【００１８】
実施形態が解決しようとする課題は、ビーム軌道の精度を向上させることが可能な粒子線ビーム調整装置及び方法、粒子線治療装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
上記目的を達成するために、実施形態に係る粒子線ビーム調整装置は、ビーム輸送部から輸送された粒子線ビームの位置ずれを検出する位置モニタと、前記位置モニタにより前記粒子線ビームの位置ずれが検出されたときに前記粒子線ビームの照射を中断するインターロック装置と、前記粒子線ビームの軸の位置及び角度を測定する対をなすスクリーンモニタと、前記スクリーンモニタにより測定された前記粒子線ビームの軸の位置及び角度を示す信号に基づいて磁場を調整して前記粒子線ビームの軸を調整する補正電磁石と、前記粒子線ビームを照射対象に照射するビーム走査電磁石と、を備え、前記対をなすスクリーンモニタの一方を治療室外に設置し、かつ前記スクリーンモニタの他方および前記位置モニタを前記治療室内に設置したことを特徴とする。
【００２１】
実施形態に係る粒子線ビーム調整方法は、ビーム輸送部から輸送された粒子線ビームの軸のずれを、治療室内に設置された位置モニタによって検出するビーム位置ずれ検出工程と、前記ビーム位置ずれ検出工程で前記粒子線ビームの軸のずれを検出したときに、前記粒子線ビームの照射を中断するインターロック工程と、前記粒子線ビームの軸の位置及び角度を、治療室外に設置された一方のスクリーンモニタと前記治療室内に設置された他方のスクリーンモニタとで測定する測定工程と、前記測定工程で測定された前記粒子線ビームの軸の位置及び角度に基づいて磁場を調整して前記粒子線ビームの軸を調整するビーム軸調整工程と、を有することを特徴とする。
【００２２】
実施形態に係る粒子線治療装置は、粒子線ビームを生成するビーム生成部と、前記粒子線ビームの出射を制御するビーム出射制御装置と、前記粒子線ビームを治療室の照射対象まで輸送するビーム輸送部と、前記ビーム輸送部から輸送された粒子線ビームの位置ずれを検出する位置モニタと、前記位置モニタにより前記粒子線ビームの位置ずれが検出されたときに前記粒子線ビームの照射を中断するインターロック装置と、前記粒子線ビームの軸の位置及び角度を測定する対をなすスクリーンモニタと、前記スクリーンモニタにより測定された前記粒子線ビームの軸の位置及び角度を示す信号に基づいて磁場を調整して前記粒子線ビームの軸を調整する補正電磁石と、前記粒子線ビームを照射対象に照射するビーム走査電磁石と、を備え、前記対をなすスクリーンモニタの一方を前記治療室外に設置し、かつ前記スクリーンモニタの他方および前記位置モニタを前記治療室内に設置したことを特徴とする。
【発明の効果】
【００２３】
実施形態によれば、ビーム軌道の精度を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】実施形態を適用した粒子線治療装置の全体構成を示す概略平面図である。
【図２】図１の照射装置部及びその関連装置の構成を示すブロック図である。
【図３】実施形態において一対のスクリーンモニタを示す説明図である。
【図４】図３のスクリーンモニタを用いてビーム軌道調整方法を示す説明図である。
【図５】実施形態においてビーム軌道を補正するための手順を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下に、実施形態に係る加速器のビーム調整装置、このビーム調整装置を用いた粒子線治療装置について、図面を参照して説明する。
【００２６】
図１は実施形態を適用した粒子線治療装置の全体構成を示す概略平面図である。図２は図１の照射装置部及びその関連装置の構成を示すブロック図である。
【００２７】
図１に示すように、本実施形態の粒子線治療装置は、ビーム生成部１０、ビーム出射制御部２０、ビーム輸送部３０、本実施形態の主要な構成機器を有する照射装置部４０、及び治療室５０を備えている。ビーム生成部１０は、図示しないイオン源、ビーム入射系１１及び円形加速器１２を有する。
【００２８】
図２に示すように、照射装置部４０は、水平用補正電磁石５１、水平用補正電磁石電源５１ａ、垂直用補正電磁石５２、垂直用補正電磁石電源５２ａ、スクリーンモニタ６１、電源・モニタ制御装置６０、ビーム走査電磁石としての水平用照射野形成電磁石７１、水平用照射野形成電磁石電源７１ａ、ビーム走査電磁石としての垂直用照射野形成電磁石７２、垂直用照射野形成電磁石電源７２ａ、スキャニング照射制御装置７０、インターロック装置９５を備えている。
【００２９】
照射装置部４０は、治療室５０内に設置された照射ポート９０を有している。照射ポート９０内には、真空ダクト８０が設置されている。この真空ダクト８０内には、スクリーンモニタ６２が設置されている。
【００３０】
また、照射ポート９０内には、位置モニタ９１、ビームブロック９２、リッジフィルタ９３、及びレンジシフタ９４が設置されている。位置モニタ９１は、位置モニタ制御装置９１ａを介してインターロック装置９５と電気的に接続されている。
【００３１】
スクリーンモニタ６１，６２は、対をなしている。スクリーンモニタ６１，６２は、ビーム軸の調整中にのみビームライン内に挿入され、治療照射時はビームライン内から退避する。したがって、スクリーンモニタ６１，６２は、ビームライン内に対して図示しない駆動機構により進退可能に構成されている。
【００３２】
スクリーンモニタ６１，６２は、ビーム軸調整中にビーム位置を測定するためのものであり、一対とすることでビーム軌道（ビーム位置及びビーム角度）を求めることができる。スクリーンモニタ６１，６２により測定されたビーム位置及びビーム角度を示す信号は、電源・モニタ制御装置６０に出力される。
【００３３】
水平用補正電磁石５１及び垂直用補正電磁石５２は、スクリーンモニタ６１，６２により測定されたビーム位置及びビーム角度を示す信号に基づいて、磁場を調整してビーム軸を照射対象としての患者の患部の照射座標基準点（以下、アイソセンターという。）９６に合わせるための電磁石である。水平用補正電磁石５１及び垂直用補正電磁石５２は、水平用及び垂直用のそれぞれに対して個別に対応する水平用補正電磁石電源５１ａ及び垂直用補正電磁石電源５２ａの電流値を調整することで磁場を変化させる。
【００３４】
照射野形成電磁石は、水平用照射野形成電磁石７１及び垂直用照射野形成電磁石７２の一対で構成され、これら水平用照射野形成電磁石７１及び垂直用照射野形成電磁石７２は、スクリーンモニタ６１，６２間に配置されている。水平用照射野形成電磁石７１及び垂直用照射野形成電磁石７２は、治療照射時に患部形状に合致させてビームを二次元に走査するための電磁石である。水平用照射野形成電磁石７１及び垂直用照射野形成電磁石７２には、それぞれ対応する水平用照射野形成電磁石電源７１ａ、垂直用照射野形成電磁石電源７２ａから電流が供給される。
【００３５】
位置モニタ９１は、治療照射中に走査されたビーム位置を検出し、予め設定された位置から有意なずれがあったか否かを監視するためのものである。有意なずれが認められた場合は、位置モニタ制御装置９１ａを通してインターロック装置９５にインターロック信号を出力する。
【００３６】
リッジフィルタ９３は、ビームの深さ方向分布を照射スライスの間隔に合わせて調整するためのものである。リッジフィルタ９３は、アルミニウム等の金属からバー状の棒をほぼ三角形状に形成し、横方向に並べられたものが使用される。
【００３７】
レンジシフタ９４は、ビームエネルギー、すなわちビームの体内停止位置の深さを変化させるためのものである。レンジシフタ９４は、アクリル等の材質にて作製され、複数の厚さの板から構成される。これら複数の厚さの板の組み合わせを変えることで、ビーム停止点を変化させることができる。
【００３８】
ビームブロック９２は、スクリーンモニタ６１，６２と同様にビームライン内に対して駆動機構９７により挿入・退避可能に構成されている。ビームブロック９２は、ビーム軸の調整中にビームライン内に挿入することで、ビームを停止させ、アイソセンター９６までビームが到達しないようにする。ここで、位置モニタ９１によりビーム位置を検出し、有意なずれが認められた場合には、インターロック装置９５にインターロック信号が出力され、このインターロック装置９５は、駆動機構９７に作動信号を出力する。この駆動機構９７が作動することで、ビームブロック９２は、ビームライン内に挿入される。また、ビームブロック９２は、治療照射時に駆動機構９７が作動してビームライン内から退避する。
【００３９】
次に、本実施形態の加速器の動作について説明する。
【００４０】
まず、ビーム生成部１０における上記イオン源は、ビームを生成する。ビーム入射系１１は、生成されたビームを加速可能なエネルギーレベルまで加速する。この加速されたビームは、円形加速器１２に入射する。
【００４１】
次いで、円形加速器１２に入射したビームは、予め設定された設定回数繰り返して周回入射される。この周回入射が終了した後にビームをがん治療に必要なエネルギーまでさらに加速する。
【００４２】
そして、ビームの加速終了後、そのビームはビーム出射制御部２０により出射軌道から取り出され、ビーム輸送部３０により照射装置部４０に輸送される。この照射装置部４０により照射対象であるアイソセンター９６に照射されてがん治療に用いられる。
【００４３】
次に、本実施形態のビーム軸調整の動作について説明する。
【００４４】
図示しない駆動機構を作動させてビームライン上にスクリーンモニタ６１，６２を挿入するとともに、駆動機構９７を作動させてビームライン上にビームブロック９２を挿入する。また、一対の水平用照射野形成電磁石７１及び垂直用照射野形成電磁石７２には、それぞれ対応する水平用照射野形成電磁石電源７１ａ、垂直用照射野形成電磁石電源７２ａから消磁のための電流パターンにて電流が供給されて、それぞれの磁場をほぼゼロにする。この状態でビームを照射装置部４０まで導入し、それぞれのスクリーンモニタ６１，６２でビーム軸位置を検出する。これを図３及び図４に基づいて説明する。
【００４５】
図３は実施形態において一対のスクリーンモニタを示す説明図である。図４は図３のスクリーンモニタを用いてビーム軌道調整方法を示す説明図である。
【００４６】
図３に示すように、それぞれのスクリーンモニタ６１，６２内の蛍光膜に映ったビーム外形を図示しないＣＣＤカメラで観測し、その画像を解析してビーム中心とモニタ中心とのずれ量Ｘ１，Ｘ２を算出する。
【００４７】
これらのずれ量Ｘ１，Ｘ２が予め設定された閾値を超えた場合、ずれ量Ｘ１，Ｘ２から電源・モニタ制御装置６０にて水平用補正電磁石電源５１ａ及び垂直用補正電磁石電源５２ａの電流補正量を求め、その補正された電流値信号を水平用補正電磁石電源５１ａ及び垂直用補正電磁石電源５２ａに出力する。ここで、上記閾値とは、治療を行うために許容されるビーム軸のずれ量である。
【００４８】
これにより、水平用補正電磁石５１及び垂直用補正電磁石５２は、磁場を変化させることで、ビーム軸をアイソセンター９６に合わせることができる。
【００４９】
ところで、上記ＣＣＤカメラの分解能、ビームライン上に設置されたスクリーンモニタ６１，６２のアライメントエラー（設置位置のずれ）が存在する以上、スクリーンモニタ６１，６２で観測しながらビーム軌道を調整する精度には限界がある。
【００５０】
そのため、本実施形態のように、スクリーンモニタ６２を患部に近づけることは、粒子線治療装置の性能ともいえるビーム軌道の精度を向上させることに繋がる。具体的には、本実施形態では、ビーム輸送方向に対して下流側のスクリーンモニタ６２を治療室５０内に配置することで、２つのスクリーンモニタ６１，６２間の距離を十分にとることができる。また、下流側のスクリーンモニタ６２をアイソセンター９６に接近させることができる。
【００５１】
このように本実施形態では、２つのスクリーンモニタ６１，６２間の距離を十分にとることができるため、ビーム軸のずれを正確に確認することができ、延いてはビーム軌道の精度を向上させることができる。
【００５２】
また、下流側のスクリーンモニタ６２をアイソセンター９６に接近させることができるため、アイソセンター９６に対するビーム軌道の精度を一段と向上させることができる。
【００５３】
さらに、これらスクリーンモニタ６１，６２を真空ダクト８０内に収納することで、真空領域を極力アイソセンター９６付近まで近づけることができ、大気中をビームが長距離にわたって輸送されることがなくなり、ビームの散乱を抑制することができる。これにより、治療照射時に細いビームで患部を照射することができる。
【００５４】
そして、ビーム軸の調整時は、ビーム輸送方向に対して下流の患部側へのビーム漏洩を抑えるため、照射ポート９０内にビームブロック９２を設置している。これにより、ビーム軌道の補正を実施する際には、ビームブロック９２がビームライン上に挿入され、ビームを遮蔽する（通常の治療時は、ビーム軌道上から退避している）。
【００５５】
ビームブロック９２は、ビーム軌道の調整時に照射するビームを遮蔽し、ビーム輸送方向に対して下流側の患部に被爆の影響を及ぼさない最適な厚さに設計されている。このため、万一、治療照射中に位置モニタ９１がビームの位置ずれを検知した場合でも、治療中断時に患者を照射位置から退避させることなく、以下の手順でビーム軌道の補正を行うことができる。
【００５６】
図５は実施形態においてビーム軌道を補正するための手順を示すフローチャートである。
【００５７】
なお、予め患者を治療室５０内に設置された治療台に載せた後、患者を位置決めしておく。
【００５８】
まず、ビームの照射を開始する（ステップＳ１）。そして、ステップＳ２で位置モニタ９１によりビームの位置ずれを検知するまでビームを照射する。ビームの位置ずれを検知した場合（ステップＳ２：Ｙｅｓ）には、ステップＳ３に進み、インターロック装置９５を作動させる。すると、インターロック装置９５は、インターロック信号を出力し、ビームの照射を中断する（ステップＳ４）。
【００５９】
次いで、図示しない駆動機構を作動させてビームライン上にスクリーンモニタ６１，６２を挿入するとともに、駆動機構９７を作動させてビームライン上にビームブロック９２を挿入する（ステップＳ５）。
【００６０】
さらに、ステップＳ６でビーム軸の調整を行う。ビーム軸の調整処理は、上記のような状態でビームを照射装置部４０まで導入し、それぞれのスクリーンモニタ６１，６２でビーム軸位置を検出する。スクリーンモニタ６１，６２で検出したビームのずれ量を示す信号が電源・モニタ制御装置６０に出力される。この電源・モニタ制御装置６０は、水平用補正電磁石電源５１ａ及び垂直用補正電磁石電源５２ａの電流補正量を求め、その補正された電流値信号を水平用補正電磁石電源５１ａ及び垂直用補正電磁石電源５２ａに出力して設定する。これにより、水平用補正電磁石５１及び垂直用補正電磁石５２は、磁場を変化させてビーム軸の調整を行う。
【００６１】
そして、ビーム軸の調整が終了した場合（ステップＳ７：Ｙｅｓ）には、ステップＳ８に進む。ステップＳ８では、再度図示しない駆動機構を作動させてビームライン上からスクリーンモニタ６１，６２を退避させるとともに、駆動機構９７を作動させてビームライン上からビームブロック９２を退避させ、ビーム軌道の補正を終了し、ビームの照射を再開する。
【００６２】
なお、照射途中で照射を停止した場合、水平用照射野形成電磁石７１及び垂直用照射野形成電磁石７２には、残磁場が残っている場合がある。よって、ステップＳ５とステップＳ６の間には、水平用照射野形成電磁石７１及び垂直用照射野形成電磁石７２の消磁を行うステップを挿入するのが適している。この消磁の一例としては、水平用照射野形成電磁石電源７１ａ、垂直用照射野形成電磁石電源７２ａより消磁のために定義された電流パターンを流すことにより行うことができる。
【００６３】
ところで、一般の粒子線治療装置では、患者の被爆を回避するために一旦、患者が治療台から降りる必要があった。しかし、本実施形態では、ビームブロック９２によりビームを遮蔽し、患者の被曝を回避することができるので、患者は治療台から降りる必要がなくなる。そのため、がん治療のためのビームの照射を短時間で再開することができ、患者の負担を大幅に低減させることができる。
【００６４】
また、本実施形態では、ビームの遮蔽を実施している際にも位置モニタ９１でビームの監視を行えるように、ビームブロック９２は、位置モニタ９１の下流側に配置しているため、ビーム軌道を位置モニタ９１と下流側のスクリーンモニタ６２の双方で確認（クロスチェック）することができる。このため、ビーム位置の信頼性を高めることができる。
【００６５】
さらに、本実施形態では、ビームブロック９２の下流側にレンジシフタ９４を配置し、ビームの遮蔽時にレンジシフタ９４を全挿入することで、ビームの遮蔽効果をさらに向上させることができる。
【００６６】
そして、本実施形態では、治療室５０内に配置したスクリーンモニタ６２は、真空ダクト８０内に格納されており、位置モニタ９１の直上流まで真空を確保することを可能としたため、粒子線ビームの散乱の影響を小さくすることができ、ビームの品質も確保することが可能である。
【００６７】
このようにスポット照射法において、ビーム自体の性能向上は、そのまま治療効果に現れるため、本実施形態によれば、ビーム軌道の調整精度、ビーム中断後の再開までの操作性、及び治療ビームの品質を向上させることが可能となる。
【００６８】
（その他の実施形態）
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更、組み合わせを行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると同様に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。
【００６９】
例えば、上記実施形態では、治療照射中に位置モニタ９１がビームの位置ずれを検知した場合、治療中断時に患者を照射位置から退避させることなく、ビーム軌道の補正を行うために、ビームブロック９２をビームラインに挿入するようにしたが、患者を照射位置から退避させれば、ビームブロック９２が不要になる。
【符号の説明】
【００７０】
１０…ビーム生成部、１１…ビーム入射系、１２…円形加速器、２０…ビーム出射制御部、３０…ビーム輸送部、４０…照射装置部、５０…治療室、５１…水平用補正電磁石、５１ａ…水平用補正電磁石電源、５２…垂直用補正電磁石、５２ａ…垂直用補正電磁石電源、６０…電源・モニタ制御装置、６１…スクリーンモニタ、６２…スクリーンモニタ、７０…スキャニング照射制御装置、７１…水平用照射野形成電磁石（ビーム走査電磁石）、７１ａ…水平用照射野形成電磁石電源、７２…垂直用照射野形成電磁石（ビーム走査電磁石）、７２ａ…垂直用照射野形成電磁石電源、８０…真空ダクト、９０…照射ポート、９１…位置モニタ、９１ａ…位置モニタ制御装置、９２…ビームブロック、９３…リッジフィルタ、９４…レンジシフタ、９５…インターロック装置、９６…アイソセンター（照射対象）、９７…駆動機構
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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