(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）ポリブチレンテレフタレート樹脂１００質量部に対し、（Ｂ）臭素系難燃剤５〜５０質量部、（Ｃ）三酸化アンチモン３〜１５質量部および（Ｄ）硼酸金属塩０．３〜４．０質量部を含有し、（Ｃ）三酸化アンチモンと（Ｄ）硼酸金属塩の質量比（Ｃ／Ｄ）が２．２〜２０の範囲にあることを特徴とするポリブチレンテレフタレート系樹脂組成物。
【請求項２】
（Ｃ）三酸化アンチモンがマスターバッチとして配合される請求項１に記載のポリブチレンテレフタレート系樹脂組成物。
【請求項３】
（Ｄ）硼酸金属塩中のアルカリ金属及び／又はアルカリ土類金属の含有量が２，０００質量ｐｐｍ以下である請求項１または２に記載のポリブチレンテレフタレート系樹脂組成物。
【請求項４】
（Ｄ）硼酸金属塩の平均粒子径が４μｍ以上である請求項１〜３のいずれか１項に記載のポリブチレンテレフタレート系樹脂組成物。
【請求項５】
（Ｄ）硼酸金属塩が硼酸亜鉛である請求項１〜４のいずれか１項に記載のポリブチレンテレフタレート系樹脂組成物。
【請求項６】
さらに、含フッ素樹脂を含有する場合、その含有量が１質量％を超えない請求項１〜５のいずれか１項に記載のポリブチレンテレフタレート系樹脂組成物。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載のポリブチレンテレフタレート系樹脂組成物を成形してなる成形体。
【請求項８】
成形体のコア部において、（Ｃ）三酸化アンチモンが、（Ａ）ポリブチレンテレフタレート樹脂マトリックス中に分散して存在する（Ｂ）臭素系難燃剤相中に存在するモルフォロジーを有する請求項７に記載の成形体。
【請求項９】
（Ｄ）硼酸金属塩の少なくとも一部が（Ｂ）臭素系難燃剤相に接しているモルフォロジーを有する請求項７または８に記載の成形体。
【請求項１０】
（Ｂ）臭素系難燃剤がポリ臭素化ベンジル（メタ）アクリレート系難燃剤を含む請求項７〜９のいずれか１項に記載の成形体。
【請求項１１】
成形体が、金属接点・端子を有する電気電子機器部品である請求項７〜１０のいずれか１項に記載の成形体。
【請求項１２】
成形体が、コネクター用部品、リレー用部品、スイッチ用部品、ブレーカー用部品、電磁開閉器用部品及び端子台用部品からなる群より選ばれるものである請求項７〜１１のいずれか１項に記載の成形体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ポリブチレンテレフタレート系樹脂組成物及び成形体に関するものであり、詳しくは、寸法安定性、難燃性および耐トラッキング特性を高いレベルでバランスさせ、さらに耐金型腐食性、レーザー印字性と樹脂組成物製造時のフィード性にも優れたポリブチレンテレフタレート系樹脂組成物及びそれを成形してなる成形体に関する。
【背景技術】
【０００２】
ポリブチレンテレフタレート樹脂は、機械的強度、耐薬品性及び電気絶縁性等に優れており、また優れた耐熱性、成形性、リサイクル性を有していることから、電気電子機器部品、自動車部品その他の電装部品、機械部品等に広く用いられている。
【０００３】
電気電子機器分野では、電気的負荷による発火に対する安全性の確保のため、電気的特性の一つである耐トラッキング性に優れていることが必要である。
そして、近年、電気電子機器部品や電装部品は、機器自体の小型化高密度化が急速に進行しており、その結果、絶縁距離が小さくなり、これら部品（成形品）の耐トラッキング性等への要求スペックはますます厳しくなってきている。
【０００４】
絶縁材料は、通電中に装置から発生した熱により乾燥し帯電するため、絶縁材料の表面には埃が付着しやすい傾向がある。そのため、その絶縁材料から形成される部品は、装置停止中にその表面に埃が付着しやすく、その埃が空気中の水分を吸収し、吸収された水分により材料の表面抵抗が低下し、漏洩電流が増加する。一般に、電気部品は多かれ少なかれこのような状況にさらされており、絶縁材料の耐トラッキング特性が重視されている。
電気電子機器部品では、米国アンダーライターズ・ラボラトリーズ社の比較トラッキング指数（ＣＴＩ：Ｃｏｍｐａｒａｔｉｖｅ  Ｔｒａｃｋｉｎｇ  Ｉｎｄｅｘ）等の要求事項を満たさねばならず、ＣＴＩがＰＬＣ２レベル（２５０Ｖ≦ＣＴＩ＜４００Ｖ）を満足することが最近では要求される。
【０００５】
耐トラッキング性の改良を試みた材料としては、例えば、特許文献１には、熱可塑性ポリエステル樹脂、α−オレフィンとα，β−不飽和酸のグリシジルエステルからなるオレフィン系共重合体を含む樹脂組成物が開示されており、必要に応じて、慣用の難燃剤、タルク、カオリン、シリカ等の充填剤、ガラス繊維等の繊維状充填剤を添加してもよいことが記載されており、特許文献２には、ポリブチレンテレフタレート樹脂、臭素系難燃剤、アンチモン系難燃助剤、フッ化エチレン系重合体、ポリオレフィン及びケイ酸金属塩系充填剤とガラス繊維からなる樹脂組成物が記載されている。
また、特許文献３には、熱可塑性ポリエステル樹脂、圧縮微粉タルク、ハロゲン化ベンジル（メタ）アクリレート系難燃剤からなる樹脂組成物が開示されており、必要に応じて、繊維状強化剤を添加してもよいことが記載されている。
しかしながら、これらの樹脂組成物は、いずれも、耐トラッキング性は十分ではなく、また、反りも大きく、機械的強度の点でも必ずしも満足できるものではなかった。
【０００６】
また、電気電子機器部品等は、近年の著しい部品の小型化薄肉化の進展に伴い、薄肉での高度の難燃性が求められており、ＵＬ−９４で規定する垂直燃焼ランクＶ−０を達成することが要望されている。ポリブチレンテレフタレート樹脂を難燃化するには、通常、臭素系難燃剤や酸化アンチモン化合物等が配合されるが、これらは熱可塑性ポリエステル樹脂の耐トラッキング性等の電気特性を低下させる傾向にある。また難燃剤にはポリテトラフルオロエチレン等の滴下防止剤を併用することがよく行われるが、滴下防止剤は成形品の寸法安定性を悪化させ、反りを生じさせやすい。
【０００７】
難燃剤として臭素系難燃剤を含む樹脂材料を用いた場合の問題点として、腐食性ガスの発生がある。特に、コネクター用部品、リレー用部品等の金属接点・端子を有する電気電子機器部品を製造した場合は、通電時等の熱により金属腐食性ガスが発生し、金属接点や端子が腐食し、導通不良等が発生するといった問題があり、近年これらの部品には、より高い耐金属腐食性も求められつつある。
【０００８】
さらに、機器部品には、通常、製造会社名や銘柄名、品番、製造ロットナンバー等を明示するための印字が施され、最近では印字速度の速いレーザーマーキングが多用されている。特に部品の小型化などから、より鮮明な印字特性が要求され、且つ印字速度の向上による生産性向上の観点から、レーザー印字性に優れた樹脂組成物が求められている。
【０００９】
このように電気電子機器部品等においては、寸法安定性、難燃性、耐トラッキング特性、耐金属腐食性及びレーザー印字性に優れることが必要とされてきているが、上述したとおり、ポリブチレンテレフタレート樹脂に何らかの添加剤を添加して何らかの性能を向上させようとすると、他の性能に問題が起きる場合が多い。そのため、上記性能を全て満たすようなポリブチレンテレフタレート樹脂組成物は未だ得られていないのが実情である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開平７−１９６８５９号公報
【特許文献２】特開平１０−６７９２５号公報
【特許文献３】特開平１０−１５８４８６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明の目的（課題）は、上記事情に鑑み、寸法安定性、難燃性、耐トラッキング性を高いレベルでバランス良く有し、さらに耐金型腐食性、レーザー印字性及び樹脂組成物製造時のフィード性にも優れたポリブチレンテレフタレート系樹脂材料を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者らは、鋭意検討を行った結果、ポリブチレンテレフタレート樹脂に、臭素系難燃剤、三酸化アンチモンおよび硼酸金属塩を特定の量で、しかも三酸化アンチモンと硼酸金属塩の質量比が特定の量比で含有することにより、寸法安定性、難燃性、耐トラッキング性、耐金型腐食性、樹脂組成物製造時のフィード性、さらにレーザー印字性を高いレベルでバランス良く達成できることを見出し、本発明を完成するに到達した。
本発明は、以下のとおりである。
【００１３】
［１］（Ａ）ポリブチレンテレフタレート樹脂１００質量部に対し、（Ｂ）臭素系難燃剤５〜５０質量部、（Ｃ）三酸化アンチモン３〜１５質量部および（Ｄ）硼酸金属塩０．３〜１０質量部を含有し、（Ｃ）三酸化アンチモンと（Ｄ）硼酸金属塩の質量比（Ｃ／Ｄ）が１〜２０の範囲にあることを特徴とするポリブチレンテレフタレート系樹脂組成物。
［２］（Ｃ）三酸化アンチモンがマスターバッチとして配合される上記［１］に記載のポリブチレンテレフタレート系樹脂組成物。
［３］（Ｄ）硼酸金属塩中のアルカリ金属及び／又はアルカリ土類金属の含有量が２，０００質量ｐｐｍ以下である上記［１］または［２］に記載のポリブチレンテレフタレート系樹脂組成物。
［４］（Ｄ）硼酸金属塩の平均粒子径が４μｍ以上である上記［１］〜［３］のいずれかに記載のポリブチレンテレフタレート系樹脂組成物。
［５］（Ｄ）硼酸金属塩が硼酸亜鉛である上記［１］〜［４］のいずれかに記載のポリブチレンテレフタレート系樹脂組成物。
［６］さらに、含フッ素樹脂を含有する場合、その含有量が１質量％を超えない上記［１］〜［５］のいずれかに記載のポリブチレンテレフタレート系樹脂組成物。
［７］上記［１］〜［６］のいずれかに記載のポリブチレンテレフタレート系樹脂組成物を成形してなる成形体。
［８］成形体のコア部において、（Ｃ）三酸化アンチモンが、（Ａ）ポリブチレンテレフタレート樹脂マトリックス中に分散して存在する（Ｂ）臭素系難燃剤相中に存在するモルフォロジーを有する上記［７］に記載の成形体。
［９］（Ｄ）硼酸金属塩の少なくとも一部が（Ｂ）臭素系難燃剤相に接しているモルフォロジーを有する上記［７］または［８］に記載の成形体。
［１０］（Ｂ）臭素系難燃剤がポリ臭素化ベンジル（メタ）アクリレート系難燃剤を含む上記［７］〜［９］のいずれかに記載の成形体。
［１１］成形体が、金属接点・端子を有する電気電子機器部品である上記［７］〜［１０］のいずれかに記載の成形体。
［１２］成形体が、コネクター用部品、リレー用部品、スイッチ用部品、ブレーカー用部品、電磁開閉器用部品及び端子台用部品からなる群より選ばれるものである上記［７］〜［１１］のいずれかに記載の成形体。
【発明の効果】
【００１４】
本発明のポリブチレンテレフタレート系樹脂組成物は、寸法安定性、難燃性および耐トラッキング特性を高いレベルでバランスさせ、さらに耐金型腐食性、レーザー印字性と樹脂組成物製造時のフィード性にも優れる。
このため、本発明のポリブチレンテレフタレート系樹脂組成物は、電気電子機器用の絶縁部品として、例えば、電子電気機器部品の筐体、コネクター、リレー、スイッチ、ブレーカー、電磁開閉器、端子台、センサー、アクチュエーター、ターミナルスイッチ等に特に好適に使用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】実施例２で得た成形品のコア部の走査型電子顕微鏡写真である。
【図２】図１の拡大写真である。
【図３】実施例における反り性の評価のために使用した箱型成形体の斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
本発明のポリブチレンテレフタレート系樹脂組成物は、（Ａ）ポリブチレンテレフタレート樹脂１００質量部に対し、（Ｂ）臭素系難燃剤５〜５０質量部、（Ｃ）三酸化アンチモン３〜１５質量部および（Ｄ）硼酸金属塩０．３〜１０質量部を含有し、（Ｃ）三酸化アンチモンと（Ｄ）硼酸金属塩の質量比（Ｃ／Ｄ）が１〜２０の範囲にあることを特徴とする。
【００１７】
以下、本発明の内容について詳細に説明する。
以下に記載する各構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様や具体例に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様や具体例に限定して解釈されるものではない。なお、本願明細書において、「〜」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
【００１８】
［（Ａ）ポリブチレンテレフタレート樹脂］
本発明の樹脂組成物に用いる（Ａ）ポリブチレンテレフタレート樹脂は、テレフタル酸単位及び１，４−ブタンジオール単位がエステル結合した構造を有するポリエステル樹脂であって、ポリブチレンテレフタレート樹脂（ホモポリマー）の他に、テレフタル酸単位及び１，４−ブタンジオール単位以外の、他の共重合成分を含むポリブチレンテレフタレート共重合体や、ホモポリマーと当該共重合体との混合物を含む。
【００１９】
（Ａ）ポリブチレンテレフタレート樹脂は、テレフタル酸以外のジカルボン酸単位を含んでいてもよいが、他のジカルボン酸の具体例としては、イソフタル酸、オルトフタル酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸、２，５−ナフタレンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、ビフェニル−２，２’−ジカルボン酸、ビフェニル−３，３’−ジカルボン酸、ビフェニル−４，４’−ジカルボン酸、ビス（４，４’−カルボキシフェニル）メタン、アントラセンジカルボン酸、４，４’−ジフェニルエーテルジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸類、１，４−シクロへキサンジカルボン酸、４，４’−ジシクロヘキシルジカルボン酸等の脂環族ジカルボン酸類、および、アジピン酸、セバシン酸、アゼライン酸、ダイマー酸等の脂肪族ジカルボン酸類等が挙げられる。
【００２０】
ジオール単位としては、１，４−ブタンジオールの外に他のジオール単位を含んでいてもよいが、他のジオール単位の具体例としては、炭素原子数２〜２０の脂肪族又は脂環族ジオール類、ビスフェノール誘導体類等が挙げられる。具体例としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，５−ペンタンジオール、１，６−へキサンジオール、ネオペンチルグリコール、デカメチレングリコール、シクロヘキサンジメタノ一ル、４，４’−ジシクロヘキシルヒドロキシメタン、４，４’−ジシクロヘキシルヒドロキシプロパン、ビスフェノ一ルＡのエチレンオキシド付加ジオール等が挙げられる。更に、グリセリン、トリメチロールプロパン等のトリオールも挙げられる。
【００２１】
（Ａ）ポリブチレンテレフタレート樹脂は、テレフタル酸と１，４−ブタンジオールとを重縮合させたポリブチレンテレフタレート単独重合体が好ましいが、また、カルボン酸単位として、前記のテレフタル酸以外のジカルボン酸１種以上および／又はジオール単位として、前記１，４−ブタンジオール以外のジオール１種以上を含むポリブチレンテレフタレート共重合体であってもよい。（Ａ）ポリブチレンテレフタレート樹脂は、機械的性質、耐熱性の観点から、ジカルボン酸単位中のテレフタル酸の割合が、好ましくは７０モル％以上であり、より好ましくは９０モル％以上である。同様に、ジオール単位中の１，４−ブタンジオールの割合が、好ましくは７０モル％以上であり、より好ましくは９０モル％以上である。
【００２２】
また、上記のような二官能性モノマー以外に、分岐構造を導入するためトリメリット酸、トリメシン酸、ピロメリット酸、ペンタエリスリトール、トリメチロールプロパン等の三官能性モノマーや分子量調節のため脂肪酸等の単官能性化合物を少量併用することもできる。
【００２３】
（Ａ）ポリブチレンテレフタレート樹脂は、テレフタル酸を主成分とするジカルボン酸成分又はこれらのエステル誘導体と、１，４−ブタンジオールを主成分とするジオール成分を、回分式又は通続式で溶融重合させて製造することができる。また、溶融重合で低分子量のポリブチレンテレクタレート樹脂を製造した後、さらに窒素気流下又は減圧下固相重合させることにより、重合度（又は分子量）を所望の値まで高めることもできる。
（Ａ）ポリブチレンテレフタレート樹脂は、テレフタル酸を主成分とするジカルボン酸成分と１，４−ブタンジオールを主成分とするジオール成分とを、連続式で溶融重縮合する製造法で得られたものが好ましい。
【００２４】
エステル化反応を遂行する際に使用される触媒は、従来から知られているものであってよく、例えば、チタン化合物、錫化合物、マグネシウム化合物、カルシウム化合物等を挙げることができる。これらの中で特に好適なものは、チタン化合物である。エステル化触媒としてのチタン化合物の具体例としては、例えば、テトラメチルチタネート、テトライソプロピルチタネート、テトラブチルチタネート等のチタンアルコラート、テトラフェニルチタネート等のチタンフェノラート等を挙げることができる。
【００２５】
（Ａ）ポリブチレンテレフタレート樹脂は、共重合により変性したポリブチレンテレフタレート樹脂であってもよいが、その具体的な好ましい共重合体としては、ポリアルキレングリコール類、特にはポリテトラメチレングリコールを共重合したポリエステルエーテル樹脂や、ダイマー酸共重合ポリブチレンテレフタレート樹脂、イソフタル酸共重合ポリブチレンテレフタレート樹脂が挙げられる。なお、これらの共重合体は、共重合量が、ポリブチレンテレフタレート樹脂全セグメント中の１モル％以上、５０モル％未満のものをいう。中でも、共重合量が好ましくは２〜５０モル％、より好ましくは３〜４０モル％、特に好ましくは５〜２０モル％である。
（Ａ）ポリブチレンテレフタレート樹脂として共重合体を用いる場合は、中でも、ポリテトラメチレングリコールを共重合したポリエステルエーテル樹脂を用いることが好ましい。共重合中のテトラメチレングリコール成分の割合は３〜４０質量％であることが好ましく、５〜３０質量％がより好ましく、１０〜２５質量％がさらに好ましい。このような共重合割合とすることにより、流動性、靱性、耐トラッキング性が向上しやすい傾向にあり好ましい。
【００２６】
（Ａ）ポリブチレンテレフタレート樹脂は、末端カルボキシル基量は、適宜選択して決定すればよいが、通常、６０ｅｑ／ｔｏｎ以下であり、５０ｅｑ／ｔｏｎ以下であることが好ましく、３０ｅｑ／ｔｏｎ以下であることがさらに好ましい。５０ｅｑ／ｔｏｎを超えると、樹脂組成物の溶融成形時にガスが発生しやすくなる。末端カルボキシル基量の下限値は特に定めるものではないが、ポリブチレンテレフタレート樹脂の製造の生産性を考慮し、通常、１０ｅｑ／ｔｏｎである。
【００２７】
なお、ポリブチレンテレフタレート樹脂の末端カルボキシル基量は、ベンジルアルコール２５ｍＬにポリアルキレンテレフタレート樹脂０．５ｇを溶解し、水酸化ナトリウムの０．０１モル／ｌベンジルアルコール溶液を用いて滴定により測定する値である。末端カルボキシル基量を調整する方法としては、重合時の原料仕込み比、重合温度、減圧方法などの重合条件を調整する方法や、末端封鎖剤を反応させる方法等、従来公知の任意の方法により行えばよい。
【００２８】
（Ａ）ポリブチレンテレフタレート樹脂の固有粘度は、０．５〜２ｄｌ／ｇであるのが好ましい。成形性及び機械的特性の点からして、０．６〜１．５ｄｌ／ｇの範囲の固有粘度を有するものがより好ましい。固有粘度が０．５ｄｌ／ｇより低いものを用いると、得られる樹脂組成物が機械強度の低いものとなりやすい。また２ｄｌ／ｇより高いものでは、樹脂組成物の流動性が悪くなり成形性が悪化する場合がある。
なお、（Ａ）ポリブチレンテレフタレート樹脂の固有粘度は、テトラクロロエタンとフェノールとの１：１（質量比）の混合溶媒中、３０℃で測定する値である。
【００２９】
［（Ｂ）臭素系難燃剤］
本発明のポリブチレンテレフタレート系樹脂組成物は（Ｂ）臭素系難燃剤を含有する。（Ｂ）臭素系難燃剤としては各種のものが使用出来る。この様な臭素系難燃性としては、芳香族系化合物が挙げられ、具体的には例えば、ポリペンタブロモベンジルアクリレート等のポリ臭素化ベンジル（メタ）アクリレート、ポリブロモフェニレンエーテル、臭素化ポリスチレン、テトラブロモビスフェノールＡのエポキシオリゴマー等の臭素化エポキシ化合物、Ｎ，Ｎ’−エチレンビス（テトラブロモフタルイミド）（ＥＢＴＰＩ）等の臭素化イミド化合物、臭素化ポリカーボネート等が挙げられる。
【００３０】
中でも熱安定性の良好な点より、ポリペンタブロモベンジルアクリレート等のポリ臭素化ベンジル（メタ）アクリレート、テトラブロモビスフェノールＡのエポキシオリゴマー等の臭素化エポキシ化合物、臭素化ポリスチレン、臭素化ポリカーボネートが好ましく、後述の好ましいモルフォロジーの観点から、ポリ臭素化ベンジル（メタ）アクリレートを含む臭素系難燃剤を使用することがより好ましい。
ポリ臭素化ベンジル（メタ）アクリレート系難燃剤含む場合、（Ｂ）臭素系難燃剤中のポリ臭素化ベンジル（メタ）アクリレート系難燃剤の含有割合は、７０質量％以上であることが好ましく、８０質量％以上であることがより好ましく、９０質量％以上であることがさらに好ましく、（Ｂ）臭素系難燃剤の全てがポリ臭素化ベンジル（メタ）アクリレート系難燃剤であることが最も好ましい。
【００３１】
ポリ臭素化ベンジル（メタ）アクリレートとしては、臭素原子を含有するベンジル（メタ）アクリレートを単独で重合、又は２種以上を共重合、もしくは他のビニル系モノマーと共重合させることによって得られる重合体であることが好ましく、該臭素原子は、ベンゼン環に付加しており、付加数はベンゼン環１個あたり１〜５個、中でも４〜５個付加したものであることが好ましい。
【００３２】
該臭素原子を含有するベンジルアクリレートとしては、ペンタブロムベンジルアクリレート、テトラブロムベンジルアクリレート、トリブロムベンジルアクリレート、又はそれらの混合物等が挙げられる。また、臭素原子を含有するベンジルメタクリレートとしては、上記したアクリレートに対応するメタクリレートが挙げられる。
【００３３】
臭素原子を含有するベンジル（メタ）アクリレートと共重合させるために使用される他のビニル系モノマーとしては、具体的には例えば、アクリル酸や、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、ベンジルアクリレートのようなアクリル酸エステル類；メタクリル酸や、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、ベンジルメタクリレートのようなメタクリル酸エステル類；スチレン、アクリロニトリル、フマル酸、マレイン酸のような不飽和カルボン酸又はその無水物；酢酸ビニル、塩化ビニル等が挙げられる。
【００３４】
これらは通常、臭素原子を含有するベンジル（メタ）アクリレートに対して等モル量以下、中でも０．５倍モル量以下で用いることが好ましい。
【００３５】
また、ビニル系モノマーとしては、キシレンジアクリレート、キシレンジメタクリレート、テトラブロムキシレンジアクリレート、テトラブロムキシレンジメタクリレート、ブタジエン、イソプレン、ジビニルベンゼン等を使用することもでき、これらは通常、臭素原子を含有するベンジルアクリレート又はベンジルメタクリレートに対し、０．５倍モル量以下が使用できる。
【００３６】
ポリ臭素化ベンジル（メタ）アクリレートとしては、ペンタブロモベンジルポリアクリレートが、高臭素含有量であること、電気絶縁特性（耐トラッキング特性）が高い観点で好ましい。
【００３７】
臭素化エポキシ化合物としては、具体的には、テトラブロモビスフェノールＡエポキシ化合物に代表されるビスフェノールＡ型臭素化エポキシ化合物が挙げられる。
【００３８】
臭素化エポキシ化合物の分子量は任意であり、適宜選択して決定すればよいが、好ましくは、質量平均分子量（Ｍｗ）で３，０００〜１００，０００であり、中でも分子量が高い方が好ましく、具体的にはＭｗとして１０，０００〜８０，０００、中でも１３，０００〜７８，０００、更には１５，０００〜７５，０００、特に１８，０００〜７０，０００であることが好ましく、この範囲内に於いても分子量の高いものが好ましい。
臭素化エポキシ化合物は、そのエポキシ当量が３，０００〜４０，０００ｇ／ｅｑであることが好ましく、中でも４，０００〜３５，０００ｇ／ｅｑが好ましく、特に１０，０００〜３０，０００ｇ／ｅｑであることが好ましい。
【００３９】
また、臭素化エポキシ化合物系難燃剤として臭素化エポキシオリゴマーを併用することもできる。この際、例えばＭｗが５，０００以下のオリゴマーを０〜５０質量％程度用いることで、難燃性、離型性および流動性を適宜調整することができる。臭素化エポキシ化合物における臭素原子含有量は任意だが、十分な難燃性を付与する上で、通常１０質量％以上であり、中でも２０質量％以上、特に３０質量％以上であることが好ましく、その上限は６０質量％、中でも５５質量％以下であることが好ましい。
【００４０】
臭素化ポリカーボネート系難燃剤としては、具体的には例えば、臭素化ビスフェノールＡ、特にテトラブロモビスフェノールＡから得られる、臭素化ポリカーボネートであることが好ましい。その末端構造は、フェニル基、４−ｔ−ブチルフェニル基や２，４，６−トリブロモフェニル基等が挙げられ、特に、末端基構造に２，４，６−トリブロモフェニル基を有するものが好ましい。
【００４１】
臭素化ポリカーボネート系難燃剤における、カーボネート繰り返し単位数の平均は適宜選択して決定すればよいが、通常、２〜３０である。カーボネート繰り返し単位数の平均が小さいと、溶融時に（Ａ）ポリブチレンテレフタレート樹脂の分子量低下を引き起こす場合がある。逆に大きすぎても溶融粘度が高くなり、成形体内の分散不良を引き起こし、成形体外観、特に光沢性が低下する場合がある。よってこの繰り返し単位数の平均は、中でも３〜１５、特に３〜１０であることが好ましい。
【００４２】
臭素化ポリカーボネート系難燃剤の分子量は任意であり、適宜選択して決定すればよいが、好ましくは、粘度平均分子量で１，０００〜２０，０００、中でも２，０００〜１０，０００であることが好ましい。
【００４３】
上記臭素化ビスフェノールＡから得られる臭素化ポリカーボネート系難燃剤は、例えば、臭素化ビスフェノールＡとホスゲンとを反応させる通常の方法で得ることができる。末端封鎖剤としては芳香族モノヒドロキシ化合物が挙げられ、これはハロゲン又は有機基で置換されていてもよい。
【００４４】
臭素化ポリスチレンとしては、好ましくは、下記一般式（１）で示される繰り返し単位を含有する臭素化ポリスチレンが挙げられる。
【化１】
0006449038.tif 000002
（式（１）中、ｔは１〜５の整数であり、ｎは繰り返し単位の数である。）
【００４５】
臭素化ポリスチレンとしては、ポリスチレンを臭素化するか、または、臭素化スチレンモノマーを重合することによって製造するかのいずれであってもよいが、臭素化スチレンを重合したものは遊離の臭素（原子）の量が少ないので好ましい。
なお、前記一般式（１）において、臭素化ベンゼンが結合したＣＨ基はメチル基で置換されていてもよい。また、臭素化ポリスチレンは、他のビニルモノマーが共重合された共重合体であってもよい。この場合のビニルモノマーとしてはスチレン、α−メチルスチレン、アクリロニトリル、アクリル酸メチル、ブタジエンおよび酢酸ビニル等が挙げられる。また、臭素化ポリスチレンは単一物あるいは構造の異なる２種以上の混合物として用いてもよく、単一分子鎖中に臭素数の異なるスチレンモノマー由来の単位を含有していてもよい。
【００４６】
臭素化ポリスチレンの具体例としては、例えば、ポリ（４−ブロモスチレン）、ポリ（２−ブロモスチレン）、ポリ（３−ブロモスチレン）、ポリ（２，４−ジブロモスチレン）、ポリ（２，６−ジブロモスチレン）、ポリ（２，５−ジブロモスチレン）、ポリ（３，５−ジブロモスチレン）、ポリ（２，４，６−トリブロモスチレン）、ポリ（２，４，５−トリブロモスチレン）、ポリ（２，３，５−トリブロモスチレン）、ポリ（４−ブロモ−α−メチルスチレン）、ポリ（２，４−ジブロモ−α−メチルスチレン）、ポリ（２，５−ジブロモ−α−メチルスチレン）、ポリ（２，４，６−トリブロモ−α−メチルスチレン）およびポリ（２，４，５−トリブロモ−α−メチルスチレン）等が挙げられ、ポリ（２，４，６−トリブロモスチレン）、ポリ（２，４，５−トリブロモスチレン）および平均２〜３個の臭素基をベンゼン環中に含有するポリジブロモスチレン、ポリトリブロモスチレンが特に好ましく用いられる。
【００４７】
臭素化ポリスチレンは、上記一般式（１）における繰り返し単位の数ｎ（平均重合度）が３０〜１，５００であることが好ましく、より好ましくは１５０〜１，０００、特に３００〜８００のものが好適である。平均重合度が３０未満ではブルーミングが発生しやすく、一方１，５００を超えると、分散不良を生じやすく、機械的性質が低下しやすい。また、臭素化ポリスチレンの質量平均分子量（Ｍｗ）としては、５，０００〜５００，０００であることが好ましく、１０，０００〜５００，０００であることがより好ましく、１０，０００〜３００，０００であることがさらに好ましく、１０，０００〜７０，０００であることが特に好ましい。
特に、上記したポリスチレンの臭素化物の場合、質量平均分子量（Ｍｗ）は５０，０００〜７０，０００であることが好ましく、重合法による臭素化ポリスチレンの場合、質量平均分子量（Ｍｗ）は１０，０００〜３０，０００程度であることが好ましい。なお、質量平均分子量（Ｍｗ）は、ＧＰＣ測定による標準ポリスチレン換算の値として求めることができる。
【００４８】
臭素化ポリスチレンは、臭素濃度が５２〜７５質量％であることが好ましく、５６〜７０質量％であることがより好ましく、５７〜６７質量％であることがさらに好ましい。臭素濃度をこのような範囲とすることにより、難燃性を良好に保つことが容易である。
【００４９】
臭素化イミド化合物としては、下記一般式（２）で表されるものが好ましい。
【化２】
0006449038.tif 000003
（一般式（２）中、Ｄはアルキレン基、アルキルエーテル基、ジフェニルスルフォン基、ジフェニルケトン基あるいはジフェニルエーテル基を示す。ｉは１〜４の整数である。）
【００５０】
上記一般式（２）で示される臭素化フタルイミド化合物としては、例えばＮ，Ｎ’−（ビステトラブロモフタルイミド）エタン、Ｎ，Ｎ’−（ビステトラブロモフタルイミド）プロパン、Ｎ，Ｎ’−（ビステトラブロモフタルイミド）ブタン、Ｎ，Ｎ’−（ビステトラブロモフタルイミド）ジエチルエーテル、Ｎ，Ｎ’−（ビステトラブロモフタルイミド）ジプロピルエーテル、Ｎ，Ｎ’−（ビステトラブロモフタルイミド）ジブチルエーテル、Ｎ，Ｎ’−（ビステトラブロモフタルイミド）ジフェニルスルフォン、Ｎ，Ｎ’−（ビステトラブロモフタルイミド）ジフェニルケトン、Ｎ，Ｎ’−（ビステトラブロモフタルイミド）ジフェニルエーテル等が挙げられる。
【００５１】
臭素化イミド化合物としては、上記一般式（２）において、Ｄがアルキレン基であるものが好ましく、特に好ましくは、下記一般式（３）で示される臭素化フタルイミド化合物である。
【化３】
0006449038.tif 000004
（一般式（３）中、ｉは１〜４の整数である。）
中でも、上記式（３）におけるｉが４である、Ｎ，Ｎ’−エチレンビス（テトラブロモフタルイミド）が好ましい。
【００５２】
臭素化イミド化合物は、臭素濃度が５２〜７５質量％であることが好ましく、５６〜７３質量％であることがより好ましく、５７〜７０質量％であることがさらに好ましい。臭素濃度をこのような範囲とすることにより、レーザーマーキング性及び難燃性を良好に保つことが容易である。
【００５３】
（Ｂ）臭素系難燃剤の含有量は、（Ａ）ポリブチレンテレフタレート樹脂１００質量部に対し、５〜５０質量部であり、好ましくは７質量部以上、より好ましくは１０質量部以上であり、好ましくは４５質量部以下、より好ましくは４０質量部以下、さらに好ましくは３５質量部以下である。（Ｂ）臭素系難燃剤の含有量が少なすぎると樹脂組成物の難燃性が不十分となり、逆に多すぎても機械的特性、離型性の低下や難燃剤のブリードアウトの問題が生ずる。
【００５４】
［（Ｃ）三酸化アンチモン］
本発明のポリブチレンテレフタレート系樹脂組成物は、（Ｃ）三酸化アンチモンを含有する。アンチモン化合物としては、三酸化アンチモン（Ｓｂ２Ｏ３）、五酸化アンチモン（Ｓｂ２Ｏ５）およびアンチモン酸ナトリウム等が挙げられるが、本発明ではこれらの中でも三酸化アンチモンを含有する。
【００５５】
（Ｃ）三酸化アンチモンは、樹脂組成物中の（Ｂ）臭素系難燃剤由来の臭素原子と、（Ｃ）三酸化アンチモン中のアンチモン原子の質量割合が、両者の合計で３〜２５質量％となるように配合することが好ましく、４〜２２質量％であることがより好ましく、１０〜２０質量％であることがさらに好ましい。３質量％未満であると難燃性が低下する傾向にあり、２５質量％を超えると機械的強度が低下する傾向にある。また、臭素原子とアンチモン原子の質量比（Ｂｒ／Ｓｂ）は、０．３〜５であることが好ましく、０．３〜４であることがより好ましい。このような範囲とすることにより、難燃性が発現しやすい傾向にあり好ましい。
【００５６】
本発明においては、（Ｃ）三酸化アンチモンは、熱可塑性樹脂、好ましくは（Ａ）ポリブチレンテレフタレート樹脂とのマスターバッチとして配合することが好ましい。これにより、（Ｃ）三酸化アンチモンが、（Ａ）ポリブチレンテレフタレート樹脂相に存在しやすくなり、溶融混練、成形加工時の熱安定性が良好となり、耐衝撃性の低下が抑えられ、さらに、難燃性、耐衝撃性のばらつきが少なくなる傾向となる。
マスターバッチ中の（Ｃ）三酸化アンチモンの含有量は２０〜９０質量％であることが好ましい。（Ｃ）三酸化アンチモンが２０質量％未満の場合は、難燃剤マスターバッチ中のアンチモン化合物の割合が少なく、これを配合する（Ａ）ポリブチレンテレフタレート樹脂への難燃性向上効果が小さくなりやすい。一方、（Ｃ）三酸化アンチモンが９０質量％を超える場合は、（Ｃ）三酸化アンチモンの分散性が低下しやすく、これを（Ａ）ポリブチレンテレフタレート樹脂に配合すると樹脂組成物の難燃性が不安定になり、またマスターバッチ製造時の作業性が低下しやすく、例えば、押出機を使用して製造する際に、ストランドが安定せず、切れやすい等の問題が発生しやすいため好ましくない。
マスターバッチ中の（Ｃ）三酸化アンチモンの含有量は、好ましくは２０〜８５質量％であり、より好ましくは２５〜８０質量％である。
【００５７】
（Ｃ）三酸化アンチモンの含有量は、（Ａ）ポリブチレンテレフタレート樹脂１００質量部に対し、３〜１５質量部であり、好ましくは４質量部以上、より好ましくは５質量部以上であり、好ましくは１３質量部以下、より好ましくは１０質量部以下である。上記下限値を下回ると難燃性が低下する。また、上記上限値を上回ると、結晶化温度が低下し離型性が悪化したり、耐衝撃性等の機械的物性が低下する。
【００５８】
（Ｄ）硼酸金属塩
本発明の樹脂組成物は（Ｄ）硼酸金属塩を、（Ａ）ポリブチレンテレフタレート樹脂１００質量部に対し、０．３〜１０質量部含有し、かつ（Ｃ）三酸化アンチモンと（Ｄ）硼酸金属塩の含有量の質量比（Ｃ／Ｄ）が１〜２０の範囲にあることを特徴とする。（Ｄ）硼酸金属塩をこのような量と質量比で含有することで、難燃性、反り性、耐トラッキング性（ＣＴＩ）の全てを高いレベルでバランスさせることが可能となり、また、レーザー印字性にも優れる。Ｃ／Ｄ比は好ましくは２〜１８、より好ましくは４〜１６である。
【００５９】
（Ｄ）硼酸金属塩を形成する硼酸としては、オルト硼酸、メタ硼酸等の非縮合硼酸；ピロ硼酸、四硼酸、五硼酸及び八硼酸等の縮合硼酸；並びに塩基性硼酸等が好ましい。これらと塩を形成する金属はアルカリ金属でもよいが、中でもアルカリ土類金属、遷移金属、周期律表２Ｂ族金属等の多価金属が好ましい。また、（Ｄ）硼酸金属塩は水和物であることが好ましい。
【００６０】
（Ｄ）硼酸金属塩としては、非縮合硼酸金属塩、縮合硼酸金属塩があり、非縮合硼酸金属塩としては、オルト硼酸カルシウム、メタ硼酸カルシウム等のアルカリ土類金属硼酸塩；オルト硼酸マンガン、メタ硼酸銅等の遷移金属硼酸塩；メタ硼酸亜鉛、メタ硼酸カドミウム等の周期律表２Ｂ族金属の硼酸塩などが挙げられる。これらのなかではメタ硼酸塩が好ましい。
【００６１】
縮合硼酸塩としては、四硼酸三マグネシウム、ピロ硼酸カルシウム等のアルカリ土類金属硼酸塩；四硼酸マンガン、二硼酸ニッケル等の遷移金属硼酸塩；四硼酸亜鉛、四硼酸カドミウム等の周期律表２Ｂ族金属の硼酸塩等が挙げられる。塩基性硼酸塩としては塩基性硼酸亜鉛、塩基性硼酸カドミウム等の周期律表２Ｂ族金属の塩基性硼酸塩等が挙げられる。またこれらの硼酸塩に対応する硼酸水素塩（例えばオルト硼酸水素マンガン等）も使用できる。
【００６２】
本発明に用いる（Ｄ）硼酸金属塩としては、アルカリ土類金属または周期律表２Ｂ族金属の塩、例えば硼酸亜鉛類や硼酸カルシウム類を用いるのが好ましい。硼酸亜鉛類には、硼酸亜鉛（２ＺｎＯ・３Ｂ２Ｏ３）や硼酸亜鉛・３．５水和物（２ＺｎＯ・３Ｂ２Ｏ３・３．５Ｈ２Ｏ）等が含まれ、硼酸カルシウム類には硼酸カルシウム無水物（２ＣａＯ・３Ｂ２Ｏ３）等が含まれる。硼酸カルシウム類としては、コレマナイト（主に硼酸カルシウムからなる無機化合物であり、通常、化学式２ＣａＯ・３Ｂ２Ｏ３・５Ｈ２Ｏで表される水和物）を用いてもよい。
これら硼酸亜鉛類や硼酸カルシウム類の中でも特に水和物が好ましい。
【００６３】
上記の中でも、（Ｄ）硼酸金属塩は、硼酸金属塩中のアルカリ金属及び／又はアルカリ土類金属の含有量が２，０００質量ｐｐｍ以下であるものが、滞留熱安定性の点から好ましい。アルカリ金属及びアルカリ土類金属としては、Ｋ、Ｎａ、Ｃａ、Ｍｇ等がその例として挙げられるが、これらの中でもＫ及び／又はＣａの含有量が２，０００質量ｐｐｍ以下であるものが好ましく、より好ましくは１，５００質量ｐｐｍ以下、さらに好ましくは１，０００質量ｐｐｍ以下、中でも８００質量ｐｐｍ以下のものが好ましい。
硼酸金属塩中のアルカリ金属及び／又はアルカリ土類金属の含有量は、蛍光Ｘ線分析により測定することができる。
【００６４】
また、ポリブチレンテレフタレート系樹脂組成物の製造に用いる（Ｄ）硼酸金属塩は、平均粒子径が４μｍ以上であることが好ましく、６μｍ以上であることがより好ましく、８μｍ以上であることがさらに好ましい。平均粒子径の上限は、好ましくは３０μｍ、より好ましくは２０μｍ、さらに好ましくは１５μｍである。（Ｄ）硼酸金属塩の平均粒子径が４μｍ未満であると、燃焼時間が長くなり難燃性が低下したり、耐トラッキング性、耐加水分解性が低下する傾向となる等好ましくない。一方、平均粒子径が３０μｍを超えると、機械的物性が低下したり、表面外観が著しく損なう場合があり好ましくない。なお、（Ｄ）硼酸金属塩の平均粒子径は、レーザー回折法により測定されるメジアン径（Ｄ５０）をいう。
【００６５】
さらに、（Ｄ）硼酸金属塩は、シランカップリング剤等の表面処理剤によって、表面処理されたものを用いてもよい。表面処理剤としては、従来公知の任意のものを使用でき、具体的には、例えばシランカップリング剤としては、アミノシラン系、エポキシシラン系、アリルシラン系、ビニルシラン系等の表面処理剤が挙げられる。
【００６６】
これらの中では、アミノシラン系表面処理剤が好ましい。アミノシラン系カップリング剤としては、具体的には例えば、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン及びγ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシランが、好ましい例として挙げられる。
【００６７】
（Ｄ）硼酸金属塩の表面処理剤としては、本発明の効果を損ねない範囲であれば、上記シランカップリング剤等の表面処理剤に、他の成分、具体的には例えば、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、帯電防止剤、潤滑剤及び撥水剤等を含んでいてもよい。
【００６８】
この様な表面処理剤による表面処理方法としては、表面処理剤により予め表面処理してもよく、又は本発明のポリエステル樹脂組成物を調製の際に、未処理の硼酸金属塩とは別に、表面処理剤を添加して表面処理することもできる。
【００６９】
（Ｄ）硼酸金属塩の含有量は、（Ａ）ポリブチレンテレフタレート樹脂１００質量部に対し、０．３〜１０質量部であるが、０．５質量部以上が好ましく、７質量部以下が好ましく、５質量部以下であることがより好ましい。
【００７０】
［含フッ素樹脂］
本発明のポリブチレンテレフタレート系樹脂組成物には、燃焼性改良のため滴下防止剤を含有させることも好ましく、滴下防止剤としては、含フッ素樹脂、代表的にはポリテトラフルオロエチレン系樹脂（ＰＴＦＥ）が挙げられる。
しかし、難燃性を向上させるために、難燃助剤として含フッ素樹脂を含有すると、特に薄肉の成形体においては、反りが発生する等、寸法安定性に劣る傾向にあることが判明した。そして、この寸法安定性の問題は、含フッ素樹脂の含有量が多くなると顕著になる傾向にあるため、本発明においては、含フッ素樹脂を多く含まないことが好ましく、含フッ素樹脂を含有する場合は、その含有量が１質量％を超えないことが好ましく、より好ましくは０．５質量％以上、中でも０．３質量％以上、とりわけ０．１質量％以上、特には０．０５質量％以上の量で含有しないことが好ましい。
【００７１】
本発明のポリブチレンテレフタレート系樹脂組成物は、硼酸金属塩を特定の量で、かつ、三酸化アンチモンと特定の割合で含有することにより、含フッ素樹脂を実質的に含有することなしで、薄肉でもＶ−０レベルの高い難燃性を有し、かつ寸法安定性および耐トラッキング性を高いレベルで達成することができるという特徴を有する。
なお、本発明において、含フッ素樹脂を実質的に含有しないとは、具体的にはポリブチレンテレフタレート系樹脂組成物が含フッ素樹脂を１質量％を超える量で含有しないことを意味し、より好ましくは０．５質量％以上、中でも０．３質量％以上、とりわけ０．１質量％以上、特には０．０５質量％以上の量で含有しないことをいう。
【００７２】
［安定剤］
本発明のポリブチレンテレフタレート系樹脂組成物は、さらに安定剤を含有することが、熱安定性改良や、機械的強度、透明性及び色相の悪化を防止する効果を有するという点で好ましい。安定剤としては、リン系安定剤およびフェノール系安定剤が好ましい。
リン系安定剤としては、亜リン酸、リン酸、亜リン酸エステル、リン酸エステル等が挙げられ、中でもホスファイト、ホスホナイトが好ましい。
【００７３】
ホスファイトとしては、例えば、トリフェニルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、ジラウリルハイドロジェンホスファイト、トリエチルホスファイト、トリデシルホスファイト、トリス（２−エチルヘキシル）ホスファイト、トリス（トリデシル）ホスファイト、トリステアリルホスファイト、ジフェニルモノデシルホスファイト、モノフェニルジデシルホスファイト、ジフェニルモノ（トリデシル）ホスファイト、テトラフェニルジプロピレングリコールジホスファイト、テトラフェニルテトラ（トリデシル）ペンタエリスリトールテトラホスファイト、水添ビスフェノールＡフェノールホスファイトポリマー、ジフェニルハイドロジェンホスファイト、４，４’−ブチリデン−ビス（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルジ（トリデシル）ホスファイト）、テトラ（トリデシル）４，４’−イソプロピリデンジフェニルジホスファイト、ビス（トリデシル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジラウリルペンタエリスリトールジホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、トリス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、水添ビスフェノールＡペンタエリスリトールホスファイトポリマー、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト、ビス（２，４−ジクミルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト等が挙げられる。
【００７４】
また、ホスホナイトとしては、テトラキス（２，４−ジ−ｉｓｏ−プロピルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｎ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，３’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３，３’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，６−ジ−ｉｓｏ−プロピルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，６−ジ−ｎ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，３’−ビフェニレンジホスホナイト、およびテトラキス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３，３’−ビフェニレンジホスホナイトなどが挙げられる。
【００７５】
また、ホスフェートとしては、例えば、メチルアシッドホスフェート、エチルアシッドホスフェート、プロピルアシッドホスフェート、イソプロピルアシッドホスフェート、ブチルアシッドホスフェート、ブトキシエチルアシッドホスフェート、オクチルアシッドホスフェート、２−エチルヘキシルアシッドホスフェート、デシルアシッドホスフェート、ラウリルアシッドホスフェート、ステアリルアシッドホスフェート、オレイルアシッドホスフェート、ベヘニルアシッドホスフェート、フェニルアシッドホスフェート、ノニルフェニルアシッドホスフェート、シクロヘキシルアシッドホスフェート、フェノキシエチルアシッドホスフェート、アルコキシポリエチレングリコールアシッドホスフェート、ビスフェノールＡアシッドホスフェート、ジメチルアシッドホスフェート、ジエチルアシッドホスフェート、ジプロピルアシッドホスフェート、ジイソプロピルアシッドホスフェート、ジブチルアシッドホスフェート、ジオクチルアシッドホスフェート、ジ−２−エチルヘキシルアシッドホスフェート、ジオクチルアシッドホスフェート、ジラウリルアシッドホスフェート、ジステアリルアシッドホスフェート、ジフェニルアシッドホスフェート、ビスノニルフェニルアシッドホスフェート等が挙げられる。
リン系安定剤は、１種が含有されていてもよく、２種以上が任意の組み合わせ及び比率で含有されていても良い。
【００７６】
フェノール系安定剤の具体例としては、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、チオジエチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、Ｎ，Ｎ’−ヘキサン−１，６−ジイルビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオナミド］、２，４−ジメチル−６−（１−メチルペンタデシル）フェノール、ジエチル［［３，５−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシフェニル］メチル］ホスフォエート、３，３’，３’’，５，５’，５’’−ヘキサ−ｔｅｒｔ−ブチル−ａ，ａ’，ａ’’−（メシチレン−２，４，６−トリイル）トリ−ｐ−クレゾール、４，６−ビス（オクチルチオメチル）−ｏ−クレゾール、エチレンビス（オキシエチレン）ビス［３−（５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ｍ−トリル）プロピオネート］、ヘキサメチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオン，２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−（４，６−ビス（オクチルチオ）−１，３，５−トリアジン−２−イルアミノ）フェノール等が挙げられる。
【００７７】
なかでも、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネートが好ましい。
なお、フェノール系安定剤は、１種が含有されていてもよく、２種以上が任意の組み合わせ及び比率で含有されていても良い。
【００７８】
安定剤の含有量は、（Ａ）ポリブチレンテレフタレート樹脂１００質量部に対して、通常０．００１質量部以上、好ましくは０．０１質量部以上であり、また、通常１．５質量部以下、好ましくは１質量部以下である。０．００１質量部未満では安定剤としての効果が不十分であり、成形時の分子量の低下や色相悪化が起こりやすく、また１．５質量部を超えると、過剰量となりシルバーの発生や、色相悪化が更に起こりやすくなる傾向がある。
【００７９】
［離型剤］
本発明のポリブチレンテレフタレート系樹脂組成物は、更に、離型剤を含有することが好ましい。離型剤としては、ポリエステル樹脂に通常使用される既知の離型剤が利用可能であるが、中でも、離型性に優れるという点で、ポリオレフィン系化合物、脂肪酸エステル系化合物及びシリコーン系化合物から選ばれる１種以上の離型剤が好ましい。
【００８０】
ポリオレフィン系化合物としては、パラフィンワックス及びポリエチレンワックスから選ばれる化合物が挙げられ、中でも、質量平均分子量が、７００〜１０，０００、更には９００〜８，０００のものが好ましい。
【００８１】
脂肪酸エステル系化合物としては、グリセリン脂肪酸エステル類、ソルビタン脂肪酸エステル類等の脂肪酸エステル類やその部分鹸化物などが挙げられ、中でも、炭素数１１〜２８、好ましくは炭素数１７〜２１の脂肪酸で構成されるモノ又はジ脂肪酸エステルが好ましい。具体的には、グリセリンモノステアレート、グリセリンモノベヘネート、グリセリンジベヘネート、グリセリン−１２−ヒドロキシモノステアレート、ソルビタンモノベヘネート等が挙げられる。
【００８２】
また、シリコーン系化合物としては、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂との相溶性などの点から、変性されている化合物が好ましい。変性シリコーンオイルとしては、ポリシロキサンの側鎖に有機基を導入したシリコーンオイル、ポリシロキサンの両末端及び／又は片末端に有機基を導入したシリコーンオイルなどが挙げられる。導入される有機基としては、エポキシ基、アミノ基、カルボキシル基、カルビノール基、メタクリル基、メルカプト基、フェノール基などが挙げられ、好ましくはエポキシ基が挙げられる。変性シリコーンオイルとしては、ポリシロキサンの側鎖にエポキシ基を導入したシリコーンオイルが特に好ましい。
【００８３】
離型剤の含有量は、（Ａ）ポリブチレンテレフタレート樹脂１００質量部に対して、０．０５〜２質量部であることが好ましい。０．０５質量部未満であると、溶融成形時の離型不良により表面性が低下する傾向があり、一方、２質量部を超えると、樹脂組成物の練り込み作業性が低下し、また成形品表面に曇りが見られる場合がある。離型剤の含有量は、好ましくは０．０７〜１．５質量部、更に好ましくは０．１〜１．０質量部である。
【００８４】
［強化充填材］
本発明のポリブチレンテレフタレート系樹脂組成物は、更に、強化充填材を含有することも好ましい。
強化充填材としては、常用のプラスチック用無機充填材を用いることができる。好ましくはガラス繊維、炭素繊維、玄武岩繊維、ウォラストナイト、チタン酸カリウム繊維などの繊維状の充填材を用いることができる。また炭酸カルシウム、酸化チタン、長石系鉱物、クレー、有機化クレー、ガラスビーズなどの粒状または無定形の充填材；タルクなどの板状の充填材；ガラスフレーク、マイカ、グラファイトなどの鱗片状の充填材を用いることもできる。
なかでも、レーザー光透過性、機械的強度、剛性および耐熱性の点からガラス繊維を用いるのが好ましい。
【００８５】
強化充填材は、カップリング剤等の表面処理剤によって、表面処理されたものを用いることがより好ましい。表面処理剤が付着したガラス繊維は、耐久性、耐湿熱性、耐加水分解性、耐ヒートショック性に優れるので好ましい。
【００８６】
表面処理剤としては、従来公知の任意のものを使用でき、具体的には、例えば、アミノシラン系、エポキシシラン系、アリルシラン系、ビニルシラン系等のシラン系カップリング剤が好ましく挙げられる。
これらの中では、アミノシラン系表面処理剤が好ましく、具体的には例えば、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン及びγ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシランが好ましい例として挙げられる。
【００８７】
また、表面処理剤として、ノボラック型等のエポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型のエポキシ樹脂等も好ましく挙げられる。中でもノボラック型エポキシ樹脂が好ましい。
シラン系表面処理剤とエポキシ樹脂は、それぞれ単独で用いても複数種で用いてもよく、両者を併用することも好ましい。
【００８８】
ガラス繊維は、寸法安定性、レーザー光透過性の点から、断面における長径と短径の比が１．５〜１０である異方断面形状を有するガラス繊維であることも好ましい。
断面形状は、断面が長方形又は長円形のものであり、また長径／短径比が２．５〜８、更には３〜６の範囲にあるものが好ましい。長径をＤ２、短径をＤ１、平均繊維長をＬとするとき、アスペクト比（（Ｌ×２）／（Ｄ２＋Ｄ１））が１０以上であることが好ましい。このようにこのような扁平状のガラス繊維を使用すると、成形品の反りが抑制され、特に箱型の溶着体を製造する場合に効果的である。
【００８９】
強化充填材の含有量は、（Ａ）ポリブチレンテレフタレート樹脂１００質量部に対し、０〜１００質量部であることが好ましい。強化充填材の含有量が１００質量部を上回ると、流動性やレーザー透過性が低下するので好ましくない。強化充填材のより好ましい含有量は、５〜９０質量部であり、より好ましくは１５〜８０質量部、さらに好ましくは３０〜８０質量部、特には４０〜７０質量部である。
【００９０】
［カーボンブラック］
本発明のポリブチレンテレフタレート系樹脂組成物は、成形品を黒色等の所望の色調にする目的で、カーボンブラックを含有することも好ましい。
カーボンブラックは、その種類、原料種、製造方法に制限はなく、ファーネスブラック、チャンネルブラック、アセチレンブラック、ケッチェンブラック等のいずれをも使用することができる。その数平均粒径には特に制限はないが、５〜６０ｎｍ程度であることが好ましい。
【００９１】
カーボンブラックの含有量は、（Ａ）ポリブチレンテレフタレート樹脂１００質量部に対し、好ましくは０．１〜２．０質量部、より好ましくは０．３〜１．０質量部である。
【００９２】
なお、カーボンブラックは、予めカーボンブラックを高濃度で含有するマスターバッチとして配合することが、樹脂組成物製造時のハンドリング性、樹脂組成物における均一分散性を高める上で好ましい。この場合、カーボンブラックのマスターバッチに用いる樹脂としては、（Ａ）成分であるポリブチレンテレフタレート樹脂であってもよく、（Ａ）成分以外の樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、スチレン系樹脂、ポリエチレン樹脂等であってもよい。高濃度のカーボンブラックを分散させ易く、マスターバッチ化が容易な点からは、（Ａ）ポリブチレンテレフタレート樹脂を用いることが好ましい。
【００９３】
カーボンブラックマスターバッチのカーボンブラック濃度は、通常１０〜５０質量％程度である。
【００９４】
［エラストマー］
本発明のポリブチレンテレフタレート系樹脂組成物は、更に、エラストマーを含有することも好ましい。
本発明で用いるエラストマーとしては、ポリブチレンテレフタレート樹脂に配合してその耐衝撃性を改良するのに用いられている熱可塑性エラストマーを用いればよく、例えばゴム性重合体やゴム性重合体にこれと反応する化合物を共重合させたものを用いる。エラストマーのガラス転移温度は０℃以下、特に−２０℃以下であるのが好ましい。
【００９５】
エラストマーの具体例としては、例えばポリブタジエン、ポリイソプレン、ジエン系共重合体（スチレン・ブタジエン共重合体、アクリロニトリル・ブタジエン共重合体、アクリル・ブタジエンゴム等）、エチレンと炭素数３以上のα−オレフィンとの共重合体（エチレン・プロピレン共重合体、エチレン・ブテン共重合体、エチレン・オクテン共重合体等）、エチレンと不飽和カルボン酸エステルとの共重合体（エチレン・メタクリレート共重合体、エチレン・ブチルアクリレート共重合体等）、エチレンと脂肪族ビニル化合物との共重合体、エチレンとプロピレンと非共役ジエンとのターポリマー、アクリルゴム（ポリブチルアクリレート、ポリ（２−エチルヘキシルアクリレート）、ブチルアクリレート・２−エチルヘキシルアクリレート共重合体等）、シリコーン系ゴム（ポリオルガノシロキサンゴム、ポリオルガノシロキサンゴムとポリアルキル（メタ）アクリレートゴムとからなるＩＰＮ型複合ゴム）等が挙げられる。これらは１種を単独で用いても２種以上を併用してもよい。
尚、本発明において（メタ）アクリレートはアクリレートとメタクリレートを意味し、（メタ）アクリル酸はアクリル酸とメタクリル酸を意味する。
【００９６】
またエラストマーの他の例としては、ゴム性重合体に単量体化合物を重合した共重合体が挙げられる。この単量体化合物としては例えば、芳香族ビニル化合物、シアン化ビニル化合物、（メタ）アクリル酸エステル化合物、（メタ）アクリル酸化合物等が挙げられる。また、グリシジル（メタ）アクリレート等のエポキシ基含有（メタ）アクリル酸エステル化合物；マレイミド、Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド等のマレイミド化合物；マレイン酸、フタル酸、イタコン酸等のα，β−不飽和カルボン酸化合物やそれらの無水物（例えば無水マレイン酸等）も挙げられる。これらの単量体化合物は単独で用いることも２種以上を併用することもできる。
【００９７】
エラストマーは、アクリル及び／又はブタジエン成分を含有するエラストマーが好ましく、ブタジエン系及び／又はアクリル系ゴム性重合体にこれと反応する単量体化合物を共重合させたものが好ましい。
アクリル及び／又はブタジエン成分を含有する耐衝撃性改良剤の具体例としては、例えばアクリロニトリル・ブタジエン共重合体、アクリル・ブタジエンゴム、また、これらゴム性重合体に単量体化合物を重合した共重合体が挙げられる。この単量体化合物としては例えば、芳香族ビニル化合物、シアン化ビニル化合物、（メタ）アクリル酸エステル化合物、（メタ）アクリル酸化合物等が挙げられる。また、グリシジル（メタ）アクリレート等のエポキシ基含有（メタ）アクリル酸エステル化合物；マレイミド、Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド等のマレイミド化合物；マレイン酸、フタル酸、イタコン酸等のα，β−不飽和カルボン酸化合物やそれらの無水物（例えば無水マレイン酸等）も挙げられる。これらの単量体化合物は単独で用いることも２種以上を併用することもできる。
【００９８】
アクリル及び／又はブタジエン成分を含有するエラストマーは、耐衝撃性改良の点から、コア／シェル型グラフト共重合体タイプのものが好ましく、ブタジエン成分含有ゴム及び／又はアクリル成分含有ゴム性重合体をコア層とし、その周囲にアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、芳香族ビニル化合物から選ばれる単量体を共重合して形成されたシェル層からなる、コア／シェル型グラフト共重合体が特に好ましい。
【００９９】
コア／シェル型グラフト共重合体の例としては、ブチルアクリレート−メチルメタクリレート共重合体、ブタジエン−メチルメタクリレート・スチレン共重合体、シリコーン・アクリル−メチルメタクリレート共重合体、メチルメタクリレート−ブタジエン−スチレン重合体（ＭＢＳ）、メチルメタクリレート−アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン重合体（ＭＡＢＳ）、メチルメタクリレート−ブタジエン重合体（ＭＢ）、メチルメタクリレート−アクリル・ブタジエンゴム共重合体、メチルメタクリレート−アクリル・ブタジエンゴム−スチレン共重合体等が挙げられる。これらのゴム性重合体は、１種を単独で用いても２種以上を併用してもよい。これらの中でも、コア、シェルともにアクリル酸エステルであるアクリル系コア／シェル型のエラストマーが、耐衝撃性、耐熱老化性、耐光性の点から好ましい。
【０１００】
アクリル及び／又はブタジエン成分を含有するエラストマー中のアクリル及び／又はブタジエン成分の含有量は、好ましくは５０〜９５質量％、より好ましくは６０〜９０質量％、さらに好ましくは７０〜８５質量％ある。アクリル及び／又はブタジエン成分の含有量が５０質量％未満であると、耐衝撃性に劣る傾向となり、９０質量％を超えると、難燃性や耐候性が悪化する傾向となるため好ましくない。
【０１０１】
エラストマーの平均粒子径は、５μｍ以下であることが好ましく、３μｍ以下がより好ましく、２μｍ以下であることがさらに好ましく、１μｍ以下が特に好ましく、５００ｎｍ以下が最も好ましい。また、下限は通常１００ｎｍであり、好ましくは１５０ｎｍ、より好ましくは２００ｎｍ、さらに好ましくは２５０ｎｍである。このような平均粒子径のエラストーを使用することにより、耐衝撃性、耐湿熱性、離型性等の成形性が良好となる傾向にあり好ましい。なお、エラストマーの平均粒子径とは、モルフォロジー観察結果について、エラストマー分散相の２００個以上の最大径を測定し、それらを算術平均して求められる値をいう。
【０１０２】
エラストマーの含有量は、（Ａ）ポリブチレンテレフタレート樹脂１００質量部に対し、２〜２０質量部であることが好ましい。エラストマーの含有量が２質量部未満では、耐衝撃性の改良効果が小さくなる傾向にあり、２０質量部を超えると耐熱老化性や剛性、さらには流動性、難燃性が低下する場合がある。エラストマーの含有量は４質量部以上がより好ましく、５質量部以上がさらに好ましく、１６質量部以下がより好ましく、１３質量部以下がさらに好ましく、１０質量部以下が特に好ましい。
【０１０３】
［その他成分］
本発明のポリブチレンテレフタレート系樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で、更に種々の添加剤を含有していても良い。このような添加剤としては、紫外線吸収剤、染顔料、蛍光増白剤、帯電防止剤、防曇剤、滑剤、アンチブロッキング剤、流動性改良剤、可塑剤、分散剤、抗菌剤等が挙げられる。
【０１０４】
また、本発明におけるポリブチレンテレフタレート系樹脂組成物には、上記した樹脂以外の熱可塑性樹脂を、本発明の効果を損わない範囲で含有することができる。
その他の熱可塑性樹脂としては、具体的には、例えば、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリアミド樹脂、ポリフェニレンオキサイド樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリフェニレンサルファイドエチレン樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリエーテルケトン樹脂、ポリオレフィン樹脂等が挙げられる。
【０１０５】
［樹脂組成物成形体のモルフォロジー］
本発明のポリエステル樹脂組成物の成形体は、好ましくは、成形体のコア部において、（Ｃ）三酸化アンチモンが、（Ａ）ポリブチレンテレフタレート樹脂マトリックス中に分散して存在する（Ｂ）臭素系難燃剤相中に存在するモルフォロジーを有する。また、さらに、（Ｄ）硼酸金属塩の少なくとも一部が（Ｂ）臭素系難燃剤相に接しているモルフォロジーを有することが好ましい。
【０１０６】
成形体のモルフォロジーの観察は、光学顕微鏡、ＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）、ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）などにより成形体断面を観察することで測定でき、好ましくは、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）により観察される。
具体的には、ＳＥＭ／ＥＤＳ分析装置を用い、成形体断面のコア部（深さ２０μｍ未満の表層部を除く部分で、断面の中心部、樹脂組成物流動方向に垂直な断面。）を、１．５〜５ｋＶの加速電圧下で、倍率１，５００〜３０，０００倍の反射電子像により観察される。
【０１０７】
図１は、そのモルフォロジーの一例を示すものであって、本発明の実施例２で得られた成形体のコア部のＳＥＭ／ＥＤＳ分析による反射電子像の写真（倍率３，０００倍）である。図２は、図１の拡大写真（倍率１０，０００倍）である。
図１中、連続相（マトリックス相）を構成しているのは（Ａ）ポリブチレンテレフタレート樹脂であり、その中に薄い色で島状に存在しているのが（Ｂ）臭素系難燃剤（図１ではペンタブロモベンジルポリアクリレート）の分散相であり、その分散相の中に、やや白くなった部分が見えるが、これが（Ｃ）三酸化アンチモンであり、（Ｂ）臭素系難燃剤の分散相中に存在していることが確認される。
【０１０８】
また、図１、２において、上記した（Ｂ）臭素系難燃剤相に接して存在しているやや黒いものは（Ｄ）硼酸金属塩（図１、２においては硼酸亜鉛）である。このように、好ましくは（Ｄ）硼酸金属塩は、その少なくとも一部が（Ｂ）臭素系難燃剤相に接している状態で存在するモルフォロジーを有することが好ましい。そして、より好ましくは（Ｄ）硼酸金属塩粒子数の６０％以上が、さらに好ましくは７０％以上が、特に好ましくは８０％以上が、中でも９０％以上の硼酸金属塩粒子が（Ｂ）臭素系難燃剤相に接していることが、難燃性、耐トラッキング性向上の点から好ましい。
【０１０９】
（Ａ）ポリブチレンテレフタレート樹脂が燃焼する際には、（Ｂ）臭素系難燃剤は（Ｃ）三酸化アンチモンと反応し、その反応生成物が、（Ａ）ポリブチレンテレフタレート樹脂に発生した活性ラジカルを捕捉したり、気相中の酸素を遮断する効果を発揮するため、難燃性が向上すると考えられる。また、（Ｄ）硼酸金属塩も（Ｃ）三酸化アンチモンと同様の機構で、難燃助剤効果を発揮すると考えられる。このような理由から、（Ｃ）三酸化アンチモンと（Ｄ）硼酸金属塩は、（Ｂ）臭素系難燃剤の近傍に存在し、より反応しやすい状態となっていることがよいと考えられ、本発明の成形体が上記のようなモルフォロジーを有することによって、樹脂組成物の難燃性をより高めることが可能となったと推定される。
【０１１０】
このような（Ｂ）臭素系難燃剤のコア部における分散相の平均径は、１０μｍ以下であることが好ましく、９μｍ以下であることがより好ましく、８μｍ以下であることがさらに好ましく、７μｍ以下であることが特に好ましい。下限は好ましくは０．３μｍ、より好ましくは０．５μｍ、さらに好ましくは１μｍである。
また、コア部における（Ｂ）臭素系難燃剤分散相中に存在している（Ｃ）三酸化アンチモンの分散平均径は、４μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは３μｍ以下、特には２μｍ以下である。下限は好ましくは０．１μｍ、より好ましくは０．３μｍ、さらに好ましくは０．５μｍである。
さらに（Ｄ）硼酸金属塩のコア部における分散平均径は、４μｍ以上であることが好ましく、６μｍ以上であることがより好ましく、８μｍ以上であることがさらに好ましい。上限は通常３０μｍ、好ましくは２０μｍ、より好ましくは１５μｍである。
このような分散平均径とすることにより、難燃性、耐トラッキング性、機械的物性が良好となりやすい傾向となり好ましい。
【０１１１】
（Ｂ）臭素系難燃剤分散相の径や（Ｃ）三酸化アンチモンの粒径等は、反射電子像で得られた像に対し、コントラストを強調あるいは、明暗の調整または両方の調整を像に施すことにより読み取ることができる。
（Ｂ）臭素系難燃剤分散相の分散径や（Ｃ）三酸化アンチモンの粒子径は、５０個以上の分散径や粒子径を測定し、算術平均して算出される。分散相、粒子が円状でない場合は、最長径と最短径を測定し、平均値をその分散相、粒子の平均径とする。
【０１１２】
ポリ臭素化ベンジル（メタ）アクリレート系難燃剤、特にペンタブロモベンジルポリアクリレートは、ペンダント型構造の難燃剤であり、ベンゼン環に臭素原子が集中して結合しており、さらに１つのベンゼン環に５つの臭素原子が存在しているので、他の臭素系難燃剤に比べて電子吸引性が強いと考えられる。そのために、活性の高い（Ｃ）三酸化アンチモンが（Ｂ）臭素系難燃剤分散相に取り込まれやすく、（Ｃ）三酸化アンチモンが（Ｂ）臭素系難燃剤相に存在しやすくなる。また、ペンタブロモベンジルポリアクリレートのＳＰ値は２６．０であり、（Ａ）ポリブチレンテレフタレート樹脂のＳＰ値２３．４よりも大きい。そのために、（Ｃ）三酸化アンチモンが（Ｂ）臭素系難燃剤相に取り込まれやすくなるとも考えられる。
さらに、上記したポリ臭素化ベンジル（メタ）アクリレート系難燃剤の強い電子吸引性のために、（Ｄ）硼酸金属塩（硼酸亜鉛）をも吸引し、（Ｄ）硼酸金属塩が（Ｂ）臭素系難燃剤相に接しやすいくなると考えられる。
【０１１３】
なお、ＳＰ値は、実験によって求めることもできるが、計算によって求めることもできる。計算によってＳＰ値を求める方法は幾つか提案されているが、本明細書においては、、フェドアーズの「Ｒ．Ｆ．Ｆｅｄｏｒｓ，Ｐｏｙｍｅｒ  Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ  ａｎｄ  Ｓｃｉｅｎｃｅ，Ｆｅｂｒｕａｒｙ，１９７４，Ｖｏｌ．１４，Ｎｏ．２，１４７−１５４）」に記載に基づき、分子構造からＳＰ値を算出することとする。フェドアーズの方法では、下記式（Ｉ）に従ってＳＰ値が算出される。
ＳＰ値（δ）＝（ΣΔＥ／ΣΔＶ）１／２［（ｃａｌ／ｃｍ３）１／２］・・（Ｉ）
但し、ΔＥは、物質に含まれる原子又は原子団の蒸発エネルギー（ｃａｌ／ｍｏｌ）を示し、ΔＶは、該原子又は原子団のモル容積（ｃｍ３／ｍｏｌ）を示す。
【０１１４】
［樹脂組成物の製造方法］
本発明のポリブチレンテレフタレート系樹脂組成物を製造する方法としては、ポリブチレンテレフタレート樹脂組成物調製の常法に従って行うことができる。通常は各成分及び所望により添加される種々の添加剤を一緒にしてよく混合し、次いで一軸又は二軸押出機で溶融混練する。また各成分を予め混合することなく、ないしはその一部のみを予め混合し、フィーダーを用いて押出機に供給して溶融混練し、本発明の樹脂組成物を調製することもできる。さらには、ポリブチレンテレフタレート樹脂の一部に他の成分の一部を配合したものを溶融混練してマスターバッチを調製し、次いでこれに残りのポリブチレンテレフタレート樹脂や他の成分を配合して溶融混練してもよい。なお、強化充填材としてガラス繊維等の繊維状のものを用いる場合には、押出機のシリンダー途中のサイドフィーダーから供給することも好ましい。
【０１１５】
また、前述したように、（Ｃ）三酸化アンチモンはあらかじめマスターバッチ化したものを用いることが、溶融混練、成形加工時等の熱安定性や、難燃性、耐衝撃性のばらつきの点において、好ましい。マスターバッチ化する方法は、特に制限はないが、熱可塑性樹脂、好ましくはポリブチレンテレフタレート樹脂と三酸化アンチモンを、二軸押出機等の混練機で溶融混練する方法が挙げられる。さらに、マスターバッチ化の際には、必要に応じて安定剤等の各種の添加剤を配合することもできる。
【０１１６】
（Ｃ）三酸化アンチモンをマスターバッチとして配合する場合、（Ａ）ポリブチレンテレフタレート樹脂、（Ｂ）臭素系難燃剤および（Ｄ）硼酸金属塩と（Ｃ）三酸化アンチモンのマスターバッチ、必要により他の添加剤は、それぞれ所望の割合で押出機等の混練機にフィードされる。押出機としてはダイノズルが設けられた単軸又は二軸の押出機が使用される。
【０１１７】
この際、三酸化アンチモンマスターバッチは、他の原料とは別に設けた専用のフィーダーから押出機に供給することが好ましい。三酸化アンチモンマスターバッチは、他の難燃剤や添加剤と混合して同じフィーダーから供給するのではなく、独立した専用のフィーダーから供給することが、分級が抑制され、難燃性、耐衝撃性が良好となり、ばらつきも少ない点から好ましい。
三酸化アンチモンマスターバッチを専用のフィーダーから供給する場合は、押出機のホッパーに、専用のフィーダーから他の原料と同時にフィードしてもよいし、押出機の途中にフィードしてもよい。押出機の途中にフィードする場合は、ニーディングゾーンよりもホッパー側にフィードすることが好ましい。
【０１１８】
また、本発明においては、（Ｄ）硼酸金属塩を含有することにより、溶融混練の際のフィード性が良好となる。特に、（Ｄ）硼酸金属塩は、粉状の成分、例えば、粉状の（Ｂ）臭素系難燃剤や（Ｃ）三酸化アンチモン等の粉状の添加剤成分と、予めブレンドして用いることが好ましい。ブレンドする方法はいずれの方法でもよく、各種のブレンダーやミキサー等を使用して各成分をブレンドすればよい。このように予備ブレンドして用いることにより、溶融混練時のフィード性をより向上させることができる。
【０１１９】
押出機に上記の各成分をフィードする際は、粉状の成分と、ペレット状等の粉状ではない成分とを、別々のフィーダーからフィードすることが好ましい。粗目状の場合は、粉状用のフィーダー、ペレット状用のフィーダーとは別のフィーダーから独立してフィードすることも好ましいが、粉状成分とプリブレンドして粉状用のフィーダーからフィードしてもよい。また、（Ｃ）三酸化アンチモンをマスターバッチとして用いる場合は、ポリブチレンテレフタレート樹脂ペレットと、比重の大きい三酸化アンチモンマスターバッチペレットとを、別々のフィーダーからフィードすることが分級抑制の観点から好ましい。
より具体的には、（ｉ）ポリブチレンテレフタレート樹脂ペレット、（ｉｉ）三酸化アンチモンマスターバッチペレット、（ｉｉｉ）（Ｄ）硼酸金属塩、粉状の（Ｂ）臭素系難燃剤及び必要に応じて配合されるその他の粉状の添加剤成分の予備ブレンド物を、それぞれ別々のフィーダーからフィードすることがより好ましい。また、ガラス繊維等の繊維状の強化充填材は、押出機の途中からサイドフィードすることが好ましい。本発明においては、（ｉｉｉ）粉状の予備ブレンド物中に（Ｄ）硼酸金属塩が存在することにより、粉状成分の流動性が向上し、フィード性がより向上する傾向となる。
【０１２０】
押出機に供給後は、溶融混錬し、ダイノズルから樹脂組成物を押出してストランド状とした後に、冷却、切断して熱可塑性樹脂組成物の成形体（ペレット）が製造される。
この際、溶融混練機としては、二軸押出機を用いることが好ましい。中でも、スクリューの長さＬ（ｍｍ）と同スクリューの直径Ｄ（ｍｍ）の比であるＬ／Ｄが、１０＜（Ｌ／Ｄ）＜１５０の関係を満足することが好ましく、１５＜（Ｌ／Ｄ）＜１００を満足することがより好ましい。かかる比が１０以下では、ポリブチレンテレフタレート樹脂と三酸化アンチモンや臭素系難燃剤が微分散しにくく、逆に１５０以上でも臭素系難燃剤の熱劣化が著しくなり、遊離化合物によるガスの問題が発生したり、熱劣化することにより樹脂組成物の機械的強度が低下する傾向があり好ましくない。
【０１２１】
また、溶融混練時の樹脂組成物の溶融温度は１８０〜３５０℃であることが好ましく、１９０〜３２０℃であることがより好ましい。溶融温度が１８０℃未満では、溶融不十分となり、未溶融ゲルが多発しやすく、逆に３５０℃を超えると、樹脂組成物が熱劣化し、着色しやすくなる等好ましくない。
【０１２２】
溶融混練時のスクリュー回転数は、１００〜１，５００ｒｐｍであることが好ましく、１２０〜１，０００ｒｐｍがより好ましい。スクリュー回転数が１００ｒｐｍ未満であると、アンチモン化合物が微分散しにくい傾向にあり、逆に１，５００ｒｐｍを超えても、三酸化アンチモンが凝集し、微分散しない傾向となり好ましくない。また、吐出量は５〜５，０００ｋｇ／ｈｒであることが好ましく、１０〜３，０００ｋｇ／ｈｒがより好ましい。吐出量が５ｋｇ／ｈｒ未満であると、三酸化アンチモンの分散性が低下する傾向にあり５，０００ｋｇ／ｈｒを超えても、三酸化アンチモンの再凝集により、分散性が低下する傾向となり好ましくない。
【０１２３】
［成形体モルフォロジーの好ましい制御法］
本発明の成形体は、前記したような特異なモルフォロジー構造を有することによって、難燃性、耐トラッキング性、機械的物性により優れた成形体となる。
本発明の樹脂組成物成形体の製造に用いるポリブチレンテレフタレート系樹脂組成物は、押出機等の溶融混練機を用いた溶融混練法により製造することが好ましいが、ポリブチレンテレフタレート系樹脂組成物の原料各成分を混合して、単に混練するだけでは、本発明で規定するモルフォロジー構造を安定して形成することは難しく、特別の方法により混練することが推奨される。
以下に、本発明で規定するモルフォロジー構造を安定して形成するための好ましい製造方法について、説明する。
【０１２４】
（Ａ）ポリブチレンテレフタレート樹脂と（Ｂ）臭素系難燃剤、（Ｃ）三酸化アンチモン及び（Ｄ）硼酸金属塩を所定の割合で混合後、ダイノズルが設けられた単軸又は二軸の押出機に供給後、溶融混錬し、ダイノズルから樹脂組成物を押出してストランド状とした後に、切断してペレットを製造する。
この際、溶融混練機としては、二軸押出機を用いることが好ましい。中でも、スクリューの長さＬ（ｍｍ）と同スクリューの直径Ｄ（ｍｍ）の比であるＬ／Ｄが、１５＜（Ｌ／Ｄ）＜１００の関係を満足することが好ましく、２０＜（Ｌ／Ｄ）＜８０を満足することがより好ましい。かかる比が１５以下では、（Ｃ）三酸化アンチモンが（Ｂ）臭素系難燃剤相に取り込まれにくくなり、逆に１００以上でも、（Ｂ）臭素系難燃剤の熱劣化が著しく、（Ｃ）三酸化アンチモンが（Ｂ）臭素系難燃剤相に取り込まれにくくなる傾向がある等好ましくない。
ダイノズルの形状も特に限定されないが、ペレット形状の点で、直径１〜１１ｍｍの円形ノズルが好ましく、直径２〜８ｍｍの円形ノズルがより好ましい。
【０１２５】
また、押出機等の溶融混練機に原材料を供給する際には、溶融混練前に（Ｂ）臭素系難燃剤、（Ｃ）三酸化アンチモン及び（Ｄ）硼酸亜鉛を予めブレンドし、この予備ブレンド物を、（Ａ）ポリブチレンテレフタレート樹脂とは別に設けたフィーダーから押出機等の溶融混練機へ供給することが好ましい。このような供給方法を採用することにより、（Ｂ）臭素系難燃剤の分散相に（Ｃ）三酸化アンチモンが取り込まれやすく、さらにその近傍に（Ｄ）硼酸金属塩が存在するモルフォロジーを形成しやすく、難燃性、耐トラッキング性、機械的物性により優れた樹脂組成物が得られやすく好ましい。
【０１２６】
また、溶融混練時の樹脂組成物の溶融温度は２００〜３３０℃であることが好ましく、２２０〜３１５℃であることがより好ましい。溶融温度が２２０℃未満では、溶融不十分となり、未溶融ゲルが多発しやすく、逆に３３０℃を超えると、樹脂組成物が熱劣化し、着色しやすくなる等好ましくない。
【０１２７】
溶融混練時のスクリュー回転数は、５０〜１，２００ｒｐｍであることが好ましく、８０〜１，０００ｒｐｍがより好ましい。スクリュー回転数が５０ｒｐｍ未満であると、（Ｃ）三酸化アンチモンが臭素系難燃剤相中に分散されにくくなる傾向にあり、１，２００ｒｐｍを超えると（Ｃ）三酸化アンチモンが凝集し、それを内部に含む（Ｂ）臭素系難燃剤の分散相が肥大化する場合があり好ましくない。また、吐出量は１０〜２，０００ｋｇ／ｈｒであることが好ましく、１５〜１，８００ｋｇ／ｈｒがより好ましい。吐出量が１０ｋｇ／ｈｒ未満であると、（Ｃ）三酸化アンチモンが凝集し、それを内部に含む（Ｂ）臭素系難燃剤の分散相が肥大化する傾向にあり、２，０００ｋｇ／ｈｒを超えると、（Ｃ）三酸化アンチモンが（Ｂ）臭素系難燃剤相に取り込まれにくい傾向となる等好ましくない。
【０１２８】
ダイノズルにおける樹脂組成物のせん断速度は、５０〜１０，０００ｓｅｃ−１であることが好ましく、７０〜５，０００ｓｅｃ−１であることがより好ましく、１００〜１，０００ｓｅｃ−１であることがさらに好ましい。せん断速度が１０，０００ｓｅｃ−１を超えると、（Ｃ）三酸化アンチモンが（Ｂ）臭素系難燃剤相に存在しにくく、逆に５０ｓｅｃ−１未満でも、（Ｃ）三酸化アンチモンが（Ｂ）臭素系難燃剤相に存在しにくい傾向がある等好ましくない。かかるせん断速度は、一般的に樹脂組成物の吐出量とダイノズルの断面の形状より決定されるものであり、例えば、ダイノズルの断面が円形の時は、γ＝４Ｑ／πｒ３により算出することができる。ここで、γはせん断速度（ｓｅｃ−１）、Ｑはダイノズル１本当たりの樹脂組成物の吐出量（ｃｃ／ｓｅｃ）、ｒはダイノズル断面の半径（ｃｍ）をそれぞれ表す。
【０１２９】
ダイノズルからストランド状に押し出された樹脂組成物は、ペレタイザー等により切断しペレット形状とするが、本発明においては、切断時のストランドの表面温度が好ましくは３０〜１５０℃、より好ましくは３５〜１３５℃、さらに好ましくは４０〜１１０℃、特に好ましくは４５〜１００℃となるようにストランドを冷却することが好ましい。通常空冷、水冷等の方法により冷却されるが、冷却効率の点で、水冷することが好ましい。かかる水冷にあたっては、水を入れた水槽中にストランドを通して冷却すればよく、水温と冷却時間を調整することにより、所望のストランド表面温度とすることができる。このようにして製造されたペレットの形状は、円柱状の場合は径が好ましくは１〜９ｍｍ、より好ましくは２〜８ｍｍ、さらに好ましくは３〜６ｍｍ、長さが好ましくは１〜１１ｍｍ、より好ましくは２〜８ｍｍ、さらに好ましくは３〜６ｍｍである。
【０１３０】
また、本発明においては、上記ダイノズルにおけるせん断速度γ（ｓｅｃ−１）と上記ストランド切断時のストランドの表面温度Ｔ（℃）との関係が、
１．５×１０３＜（γ・Ｔ）＜１．５×１０６
の関係を満足することにより、（Ｃ）三酸化アンチモンが（Ｂ）臭素系難燃剤相中に存在しやすく、電気絶縁性、靱性、難燃性が向上する傾向にあり好ましい。（γ・Ｔ）の値が１．５×１０３以下の場合は、（Ｃ）三酸化アンチモンが（Ｂ）臭素系難燃剤に取り込まれにくく、また、樹脂組成物の各成分の分散不良により成形品表面が肌荒れ現象を起こしやすく、機械的特性、難燃性、絶縁特性等が安定しない傾向がある。また、逆に１．５×１０６以上となる場合は、（Ｃ）三酸化アンチモンが（Ｂ）臭素系難燃剤に存在しにくくなったり、（Ｃ）三酸化アンチモンが凝集し、それを内部に含む（Ｂ）臭素系難燃剤の分散相が肥大化し、靱性が低下する場合があるので好ましくない。（γ・Ｔ）の下限は３．３×１０３であることがより好ましく、上限は９．５×１０５であることがより好ましい。
（γ・Ｔ）の値を上記の範囲に調整するためには、上記のせん断速度とストランドの表面温度を調整すればよい。
【０１３１】
本発明においては、上記の好ましい条件を単独でも、また複数を組み合わせて適用することにより、本発明で規定するモルフォロジー構造を有するポリエステル樹脂組成物を製造することができるが、中でも、（γ・Ｔ）の値が上記式を満たすような製造条件を採用することが効果的である。
【０１３２】
このようなポリブチレンテレフタレート系樹脂組成物の製造方法を採用することにより、上記したモルフォロジー構造を有するポリエステル組成物成形体を安定して製造することが容易となる。しかし、上記したモルフォロジー構造を有するポリエステル組成物成形体を製造する方法は、かかる方法に限られるものではなく、上記した好ましいモルフォロジー構造が得られる限り、他の方法を用いてもよい。
【０１３３】
また、上記したモルフォロジー構造を有する成形体を安定して形成しやすくするには、以下の１）〜５）の方法・条件を適用したポリブチレンテレフタレート系樹脂組成物を用いて成形体を製造することも好ましい。
１）（Ｂ）臭素系難燃剤として、ポリ臭素化ベンジル（メタ）アクリレート系難燃剤を含む、特には、ペンタブロモベンジルポリアクリレートを含む難燃剤を使用する。前記したように、ベンゼン環に臭素原子が集中して結合しており、さらに１つのベンゼン環に５つの臭素原子が存在しているので、他の臭素系難燃剤に比べて電子吸引性が強いと考えられる。そのために、活性の高い（Ｃ）三酸化アンチモンが（Ｂ）臭素系難燃剤分散相に取り込まれやすく、（Ｃ）三酸化アンチモンが（Ｂ）臭素系難燃剤相に存在しやすくなる。また、ペンタブロモベンジルポリアクリレートのＳＰ値は２６．０であり、（Ａ）ポリブチレンテレフタレート樹脂のＳＰ値２３．４よりも大きい。そのために、（Ｃ）三酸化アンチモンが（Ｂ）臭素系難燃剤相に取り込まれやすくなるとも考えられる。
さらに、上記したポリ臭素化ベンジル（メタ）アクリレート系難燃剤の強い電子吸引性のために、（Ｄ）硼酸金属塩（硼酸亜鉛）をも吸引し、（Ｄ）硼酸金属塩が（Ｂ）臭素系難燃剤相に接しやすいくなると考えられる。
（Ｂ）臭素系難燃剤としては、より好ましくは（Ｂ）臭素系難燃剤中の７０質量％以上がポリ臭素化ベンジル（メタ）アクリレート系難燃剤であり、さらに好ましくは８０質量％以上、特に好ましくは９０質量％以上、最も好ましくは（Ｂ）臭素系難燃剤の全てがポリ臭素化ベンジル（メタ）アクリレート系難燃剤である。このようにすることで、（Ｃ）三酸化アンチモンが（Ｂ）臭素系難燃剤相中に存在しやすくなり、さらに、（Ｄ）硼酸金属塩も（Ｂ）臭素系難燃剤相に接しやすくなる。
【０１３４】
２）（Ｄ）硼酸金属塩として硼酸亜鉛を用いることにより、（Ｂ）臭素系難燃剤相により接しやすくなる。
また、（Ｄ）硼酸金属塩中のアルカリ金属及び／又はアルカリ土類金属の含有量が２，０００質量ｐｐｍ以下であるものを用いることにより、硼酸金属塩が（Ｂ）臭素系難燃剤相により接しやすくなる。
（Ｄ）硼酸金属塩の平均粒子径が４μｍ以上であるもさらに好ましい。このような平均粒子径の硼酸金属塩を用いることにより、硼酸金属塩のより多くの部分が（Ｂ）臭素系難燃剤相と接しやすくなる。
【０１３５】
３）（Ｃ）三酸化アンチモンを、（Ａ）ポリブチレンテレフタレート樹脂とのマスターバッチとして配合する。これにより、上記した好ましいモルフォロジー構造を安定して形成しやすくなる。
【０１３６】
４）（Ｂ）臭素系難燃剤中の不純物である塩素化合物の含有量を、通常０．３質量％以下、好ましくは０．２質量％以下、より好ましくは０．１５質量％以下、さらには０．０８質量％以下、特には０．０３質量％以下とすることが好ましい。このように制御することにより、上記した好ましいモルフォロジー構造を安定して形成しやすくなる。
不純物である塩素化合物は、クロロベンゼン、塩素化スチレン、塩素化ビスフェノール化合物等であり、例えば（Ｂ）臭素系難燃剤がポリ臭素化ベンジル（メタ）アクリレートの場合はクロロベンゼンであり、クロロベンゼンが上記量以上存在すると、本発明の好ましいモルフォロジー構造を安定して形成しにくくなる。なお、塩素化合物含有量は、２７０℃×１０分間に加熱により発生したガスを、ガスクロマトグラフィー法により分析し、デカン換算の値として定量することができる。
【０１３７】
５）ポリブチレンテレフタレート系樹脂組成物中の遊離の臭素、塩素、硫黄の量を特定量以下にすることも、好ましいモルフォロジー構造を安定して形成しやすくする上で有効である。遊離の臭素の量は、８００質量ｐｐｍ以下とすることが好ましく、７００質量ｐｐｍ以下がより好ましく、６５０質量ｐｐｍ以下がさらに好ましく、４８０質量ｐｐｍ以下が特に好ましい。また、含有量を０質量ｐｐｍまでに除去することは、経済性を度外視するような精製を必要とするので、その下限量は、通常１質量ｐｐｍであり、好ましくは５質量ｐｐｍであり、より好ましくは１０質量ｐｐｍである。
遊離の塩素の量は、５００質量ｐｐｍ以下とすることが好ましく、３５０質量ｐｐｍ以下がより好ましく、２００質量ｐｐｍ以下がさらに好ましく、１５０質量ｐｐｍ以下が特に好ましい。なお、樹脂組成物中の塩素含有量は、塩素がどの様な状態・形態で樹脂組成物中に存在しているかは限定されない。塩素は、使用する原料、添加剤、触媒、重合雰囲気、樹脂の冷却水等、種々の環境より混入するので、それらの混入量の総計を、５００質量ｐｐｍ以下と制御することが好ましい。
また、遊離の硫黄の量は、２５０質量ｐｐｍ以下とすることが好ましいく、２００質量ｐｐｍ以下がより好ましく、１５０質量ｐｐｍ以下がさらに好ましく、１００質量ｐｐｍ以下が特に好ましい。なお、樹脂組成物中の硫黄含有量は、硫黄がどの様な状態・形態で樹脂組成物中に存在しているかは限定されない。硫黄は、使用する原料、添加剤、触媒、重合雰囲気等、種々の環境より混入するので、それらの混入量の総計を、２５０質量ｐｐｍ以下と制御することが好ましい。
【０１３８】
なお、ポリブチレンテレフタレート系樹脂組成物中の遊離臭素、塩素、硫黄の含有量は、燃焼イオンクロマトグラフィー法により測定することができる。具体的には、三菱化学アナリテック社製「ＡＱＦ−１００型」の自動試料燃焼装置を用い、アルゴン雰囲気下、２７０℃、１０分の条件で樹脂組成物を加熱し、発生した臭素、塩素、硫黄の量を、日本ダイオネクス社製「ＩＣＳ−９０」を用いて定量することにより求めることができる。
【０１３９】
特に、上記したような理由で、上記１）〜３）の方法を採用することが、上記した好ましいモルフォロジーを形成しやすく、それにより、本発明の難燃性、耐トラッキング性、機械的物性といった効果が顕著となると考えられる。
【０１４０】
上記した１）〜５）の方法・条件は、これを単独でも、また複数を組み合わせて適用することも好ましく、また前記したポリブチレンテレフタレート系樹脂組成物の製造条件と組み合わせて適用することでもより可能となる。
【０１４１】
［成形体］
本発明のポリブチレンテレフタレート系樹脂組成物は、通常、任意の形状に成形して成形体として用いる。この成形体の形状、模様、色、寸法等に制限はなく、その成形体の用途に応じて任意に設定すればよい。
成形体の製造方法は、特に限定されず、ポリブチレンテレフタレート系樹脂組成物について一般に採用されている成形法を任意に採用できる。その例を挙げると、射出成形法、超高速射出成形法、射出圧縮成形法、二色成形法、ガスアシスト等の中空成形法、断熱金型を使用した成形法、急速加熱金型を使用した成形法、発泡成形（超臨界流体も含む）、インサート成形、ＩＭＣ（インモールドコーティング成形）成形法、押出成形法、シート成形法、熱成形法、回転成形法、積層成形法、プレス成形法、ブロー成形法等が挙げられ、中でも射出成形法が好ましい。
【０１４２】
射出成形において、上記した好ましいモルフォロジー構造を有する成形体とするためには、例えば、射出成形機のスクリュー構成、スクリューやシリンダー内壁の加工、ノズル径、金型構造等の成形機条件の選択、可塑化、計量、射出時等の成形条件の調整、成形材料への他成分の添加等、種々の方法が挙げられる。特に、可塑化、計量、射出時の条件として、例えば、シリンダー温度、背圧、スクリュー回転数、射出速度等を調整することが好ましい。例えば、シリンダー温度を調整する場合は、好ましくは２３０〜２８０℃、より好ましくは２４０〜２７０℃に設定する。背圧を調整する場合は、好ましくは２〜１５ＭＰａ、より好ましくは４〜１０ＭＰａに設定する。スクリュー回転数を調整する場合は、好ましくは２０〜３００ｒｐｍ、より好ましくは２０〜２５０ｒｐｍに設定する。射出速度を調整する場合は、好ましくは５〜１，０００ｍｍ／ｓｅｃ、より好ましくは１０〜９００ｍ／ｓｅｃ、さらに好ましくは２０〜８００ｍｍ／ｓｅｃ、３０〜５００ｍｍ／ｓｅｃに設定することが好ましい。
【０１４３】
本発明のポリブチレンテレフタレート系樹脂組成物は、寸法安定性、難燃性および耐トラッキング特性の全てを高いレベル有し、さらに耐金型腐食性、レーザー印字性にも優れ、また樹脂組成物製造時のフィード性が良いので、各種の用途に広く採用することができ、電気機器、電子機器あるいはそれ等の絶縁性部品として特に好適である。
絶縁性部品としては、金属接点、銅版等と組み合わせることにより、リレー、スイッチ、コネクター、ターミナルスイッチ、センサー、アクチュエーター、マイクロスイッチ、マイクロセンサーおよびマイクロアクチュエーター等の有接点電気電子機器部品や電気電子機器の筐体等を好ましく挙げることができる。
【実施例】
【０１４４】
以下、実施例を示して本発明について更に具体的に説明する。ただし、本発明は以下の実施例に限定して解釈されるものではない。
なお、以下の説明において［部］とは、特に断りのない限り、質量基準に基づく「質量部」を表す。
以下の実施例および比較例において、使用した成分は、以下の表１の通りである。
【０１４５】
【表１】
0006449038.tif 000005
【０１４６】
＜三酸化アンチモンマスターバッチの製造＞
なお、上記（Ｃ２）の三酸化アンチモンマスターバッチ（「ＭＢ１」）は、以下の方法で製造した。
予め１２０℃で３時間熱風乾燥した、ポリブチレンテレフタレート樹脂（三菱エンジニアリングプラスチックス社製、商品名ノバデュラン（登録商標）５０２０、固有粘度１．２０ｄｌ／ｇと、同ノバデュラン５００８、固有粘度０．８５ｄｌ／ｇの１：１混合物）３０質量部と、三酸化アンチモン（鈴裕化学社製、商品名：ＡＴ３−ＣＮ）７０質量部を、噛み合い型同方向２軸スクリュー式押出機（日本製鋼所社製「ＴＥＸ４４αＩＩ」、スクリュー径４７ｍｍ、Ｌ／Ｄ＝５５．２）に３００ｋｇ／ｈｒにて供給した。
押出機のバレル設定温度を、Ｃ１〜Ｃ１５を２６０℃、ダイを２５０℃、スクリュー回転数を２３０ｒｐｍとし、ノズル数１０穴（円形（φ４ｍｍ）、長さ１．５ｃｍ）、せん断速度（γ）１０１２ｓｅｃ−１の条件下で溶融混練した。なお、押出した直後のストランド温度は２９０℃であった。
溶融混練後、ダイノズルから樹脂組成物を押出してストランド状とした後に冷却し、切断して、ポリブチレンテレフタレート樹脂と三酸化アンチモンとが混練された、三酸化アンチモンを７０質量％含有するマスターバッチ（以下、「ＭＢ１」という。）を得た。
【０１４７】
（実施例１〜４、比較例１〜５）
表１に記載の各成分の中、（Ｂ１）、（Ｃ１）、（Ｄ１）または（Ｄ２）、（ＤＸ１）〜（ＤＸ３）、（Ｅ）及び（Ｆ）成分を、表２、表４に記載の割合（全て質量部）で予めブレンダーでブレンドした（ブレンド物１）。また（Ａ１）、（Ａ２）及び（Ｈ）成分についても、表２、表４に記載の割合（全て質量部）で予めブレンダーでブレンドした（ブレンド物２）。
得られたブレンド物１とブレンド物２とを、それぞれ独立した２つ専用のフィーダーから、表２、表４に示される割合（全て質量部）となるようにホッパーへ供給し、これを３０ｍｍのベントタイプ二軸押出機（日本製鋼所社製、二軸押出機「ＴＥＸ３０α」）を使用し、（Ｇ）ガラス繊維はホッパーから７番目のサイドフィーダーより供給し、押出機のバレル設定温度Ｃ１〜Ｃ１５を２７０℃、ダイを２６０℃、吐出８０ｋｇ／ｈｒ、スクリュー回転数２８０ｒｐｍ、ノズル数５穴（円形（φ４ｍｍ）、長さ１．５ｃｍ）、せん断速度（γ）６６４ｓｅｃ−１の条件にて溶融混練し、ストランドに押し出した。押出した直後のストランド温度は２８１℃であった。
押出されたストランドを、温度を４０〜８０℃の範囲に調整した水槽に導入して冷却した。ストランド表面温度（Ｔ）は、赤外線温度計で測定される温度で１１０℃まで冷却され（γ・Ｔ＝７．３×１０４）、ペレタイザーに挿入してカッティングして、ポリブチレンテレフタレート樹脂組成物のペレットを得た。
【０１４８】
（実施例５〜１０）
表１に記載の各成分の中、（Ｂ１）〜（Ｂ５）、（Ｄ１）、（Ｅ）及び（Ｆ）成分を表２に記載の割合（全て質量部）で予めブレンダーでブレンドした（ブレンド物１）。また、（Ａ１）、（Ａ２）及び（Ｈ）成分についても、表２に記載の割合（全て質量部）で予めブレンダーでブレンドした（ブレンド物２）。得られたブレンド物１、ブレンド物２、（Ｃ２）三酸化アンチモンマスターバッチ（ＭＢ１）を、それぞれ独立した３つの専用のフィーダーから、表２に示される割合（全て質量部）となるようにホッパーへ供給し、これを３０ｍｍのベントタイプ二軸押出機（日本製鋼所社製、二軸押出機「ＴＥＸ３０α」）を使用し、ガラス繊維はホッパーから７番目のサイドフィーダーより供給し、押出機バレル設定温度Ｃ１〜Ｃ１５を２７０℃、ダイを２５０℃、吐出８０ｋｇ／ｈｒ、スクリュー回転数２８０ｒｐｍ、ノズル数５穴（円形（φ４ｍｍ）、長さ１．５ｃｍ）、せん断速度（γ）６６４ｓｅｃ−１の条件にて溶融混練し、ストランドに押し出した。押出した直後のストランド温度は２７４℃であった。
押出されたストランドを、温度を４０〜８０℃の範囲に調整した水槽に導入して冷却した。ストランド表面温度（Ｔ）は、赤外線温度計で測定される温度で９５℃まで冷却され（γ・Ｔ＝６．３×１０４）、ペレタイザーに挿入してカッティングして、ポリブチレンテレフタレート樹脂組成物のペレットを得た。
【０１４９】
（実施例１１〜１８）
表１に記載の各成分の中、（Ｂ１）または（Ｂ２）、（Ｃ１）、（Ｄ２）または（Ｄ３）、（Ｅ）及び（Ｆ）成分を表３に記載の割合（全て質量部）で予めブレンダーでブレンドした（ブレンド物１）。また、（Ａ１）、（Ａ２）成分についても、表３に記載の割合（全て質量部）で予めブレンダーでブレンドした（ブレンド物２）。得られたブレンド物１とブレンド物２とを、それぞれ独立した２つの専用のフィーダーから、表３に示される割合（全て質量部）となるようにホッパーへ供給し、これを３０ｍｍのベントタイプ二軸押出機（日本製鋼所社製、二軸押出機「ＴＥＸ３０α」）を使用し、ガラス繊維はホッパーから７番目のサイドフィーダーより供給し、バレル設定温度Ｃ１〜Ｃ１５を２７０℃、ダイを２８０℃、吐出８０ｋｇ／ｈｒ、スクリュー回転数２８０ｒｐｍ、ノズル数５穴（円形（φ４ｍｍ）、長さ１．５ｃｍ）、せん断速度（γ）６６４ｓｅｃ−１の条件にて溶融混練し、ストランドに押し出した。押出した直後のストランド温度は２９０℃であった。
押出されたストランドを、温度を４０〜８０℃の範囲に調整した水槽に導入して冷却した。ストランド表面温度（Ｔ）は、赤外線温度計で測定される温度で１２０℃まで冷却され（γ・Ｔ＝８．０×１０４）、ペレタイザーに挿入してカッティングして、ポリブチレンテレフタレート樹脂組成物のペレットを得た。
【０１５０】
得られたペレットの特性は、特記したもの以外は、射出成形機（日本製鋼所社製、Ｊ−８５ＡＤ）を用いて、シリンダー温度２５５℃、金型温度８０℃、射出圧力１５０ＭＰａ、射出保圧時間１５ｓｅｃ、冷却時間１５ｓｅｃ、射出速度６５ｍｍ／ｓｅｃ、背圧５ＭＰａ、スクリュー回転数１００ｒｐｍの条件で射出成形した以下の試験片について、評価した。なお、成形に際して、樹脂組成物ペレットはその直前まで１２０℃にて６〜８時間乾燥した。
【０１５１】
＜評価方法＞
評価方法は、以下のとおりである。
【０１５２】
・燃焼性（ＵＬ９４）試験：
厚み０．３８ｍｍ及び１．５ｍｍの垂直燃焼試験片を射出成形して得られた燃焼試験片を用い、ＵＬ９４規格に準じ難燃性の評価を行った。１．５ｍｍ厚の試験片での評価では、合計の燃焼時間（単位：秒）も測定した。
【０１５３】
・シャルピー衝撃強度のばらつき：
ＩＳＯ試験片（厚さ４．０ｍｍ）を射出成形し、試験片から厚さ４．０ｍｍのノッチ付試験片を作製し、１０本の試験片に対して、ＩＳＯ１７９規格に準拠してノッチ付きシャルピー衝撃強度（単位：ｋＪ／ｍ２）を測定し、その際のシャルピー衝撃強度のばらつきを標準偏差値で評価した。
【０１５４】
・比較トラッキング指数試験（ＣＴＩ）ＰＬＣ２：
試験片（厚さ３ｍｍ、大きさ６０ｍｍ×６０ｍｍの平板）について、国際規格ＩＥＣ６０１１２に定める試験法によりＣＴＩを決定した。ＣＴＩは固体電気絶縁材料の表面に電界が加わった状態で湿潤汚染されたとき、１００Ｖから６００Ｖの間の２５Ｖ刻みの電圧におけるトラッキングに対する対抗性を示すものであり、数値が高いほど良好であることを意味する。
ＣＴＩが、ＰＬＣ２レベル（２５０Ｖ≦ＣＴＩ＜４００Ｖ）を満足するものを「○」、満足しないものを「×」と判定した。
【０１５５】
・成形収縮率：
縦１００ｍｍ、横１００ｍｍ、厚み２ｍｍの平板をフィルムゲート金型により成形し、流れの直角方向の成形収縮率（ＴＤ、単位：％）及び流れ方向の成形収縮率（ＭＤ、単位：％）をそれぞれ測定し、ＴＤ方向収縮率をＴＤ方向収縮率とＭＤ方向収縮率の和で割った収縮率比［ＴＤ／（ＴＤ＋ＭＤ）］を求めた。収縮率比が小さいほど寸法安定性が良好であることを示す。
【０１５６】
・フィード性：
前記ポリブチレンテレフタレート樹脂組成物ペレット製造終了後の押出機ホッパー内壁について、付着物の有無を目視で観察した。ホッパー内壁に原料の粉状物の付着がない場合を「○」、ブレンド物１のフィード性があまり良くなく、ホッパー内壁に粉状物の付着が確認され分級しているおそれがあるものを「△」、ブレンド物１のフィード性が悪く、ホッパー内壁に粉状物の付着が多く確認され分級しているおそれがあるものを「×」として、押出生産性の評価を行った。
【０１５７】
・反り量：
得られたペレットを、１２０℃で６〜８時間乾燥した後、住友重機械工業社製「型式ＳＥ−５０Ｄ」射出成形機を使用し、シリンダー温度２５０℃、金型温度８０℃の条件で、図３に示す直方体状の箱型成形体を成形した。
図３は、反り性の評価のために使用した箱型成形体の斜視図であり、底面を下にした状態を示す。箱型成形体は、横２５ｍｍ、縦３０ｍｍ、高さ２５ｍｍ、肉厚は底面が１ｍｍ、その他の側面は０．５ｍｍである。ゲートは長径２．０ｍｍ、短径１．５ｍｍの略楕円形の１点ゲートで、図３の手前側の側面の中央のサブマリンゲート（図３中、ＧＡＴＥ）である。
【０１５８】
成形後の成形品を箱底面が下になるよう置き、図３中の奥側の側面が箱の内側方向に内反りした際の奥側側面の頂部の内反り長さＬを測定（単位：ｍｍ）した。
この値が小さい程、成形品の内反り量が小さいため寸法精度が良いことを示す。
【０１５９】
・レーザー印字性：
評価用試験片としては、１００ｍｍ×１００ｍｍ×２ｍｍ厚みの平板状成形品を用いた。ＳＵＮＸ社製「レーザーマーカー  ＬＰ−Ｚ１３０」を用い、レーザー発振方式はファイバー方式にて、レーザーパワー：１００、印字パルス周期：５０μｓ、線幅：０．０７ｍｍ、塗り潰し間隔：０．０３５ｍｍ、重ね印字回数：１回の条件で、上記平板状成形品に２０ｍｍ×２０ｍｍの正方形を塗りつぶすようにレーザーマーキングを施した。レーザーマーキングに際し、そのスキャンスピードは５，０００ｍｍ／ｓｅｃにて行った。
レーザー印字性の判定は、レーザー印字処理を施した試験片を目視にて観察し、次の判断基準に基づき◎、○、△、×のランクに分けた。
◎：極めて、鮮明な印字が成されており、良好。
○：鮮明な印字が成されており、容易に認識が可能。
△：印字の認識は可能。
×：全く印字が成されてない、若しくは印字の認識が困難である。
【０１６０】
・耐金型腐食性
得られたペレットを、窒素雰囲下で２６５℃の溶融状態とし、大きさ３×１０×１０ｍｍの鋼材（ＳＫＤ１１）を溶融状態の樹脂組成物に１８時間浸漬させて、鋼材の腐食具合を目視で観察した。
鋼材の腐食がそれほど進行しておらず、鋼材表面に光沢が残っているものを「○」、鋼材の腐食が著しく、光沢が確認されないものを「×」として評価した。
【０１６１】
・モルフォロジー観察
前記燃焼性試験の垂直燃焼試験片と同様の成形条件で燃焼試験用試験片（厚さ０．７５ｍｍ）を成形し、そのコア部（試験片断面の中心部の、樹脂組成物流動方向に平行な断面）から、Ｌｅｉｃａ社製「ＵＣ７」を用い、ダイヤモンドナイフで厚さ２００ｎｍの超薄切片を切り出した。得られた超薄切片を、四酸化ルテニウムで１２０分染色後、日立ハイテク社製走査型電子顕微鏡「ＳＵ８０２０」を用い、加速電圧１．５〜５ｋＶの条件で、ＳＥＭ観察した。なお、各成分の同定のために、必要に応じてＥＤＳ分析（堀場製作所社製「ＥＭＡＸ８０ｍｍ２」、１０ｋＶ、エミッション電流２０μＡ）も行った。
【０１６２】
得られたＳＥＭ写真とＥＤＳ分析結果をもとに、以下の評価を行った。
ｉ）（Ｃ）三酸化アンチモンが（Ｂ）臭素系難燃剤相中に存在しているか否かを確認した。
（Ｂ１）ＦＲ１０２５相中に存在している場合は「Ｂ１」、
（Ａ）ポリブチレンテレフタレート樹脂マトリックス中に存在している場合は「Ａ」
と記載した。
ｉｉ）（Ｄ）硼酸金属塩が（Ｂ）臭素系難燃剤相に接しているか否かを確認した。
（Ｂ）臭素系難燃剤相に接している場合を「○」、
（Ｂ）臭素系難燃剤相に接していない場合を「×」
と表に記載した。
【０１６３】
以上の評価結果を、以下の表２〜４に示す。
【０１６４】
【表２】
0006449038.tif 000006
【０１６５】
【表３】
0006449038.tif 000007
【０１６６】
【表４】
0006449038.tif 000008
【０１６７】
上記表２〜４の結果から明らかなとおり、実施例の樹脂組成物は、寸法安定性、難燃性および耐トラッキング特性の全てを高いレベル有し、さらに耐金型腐食性、レーザー印字性にも優れ、また樹脂組成物製造時のフィード性が良いことが分かる。特に、三酸化アンチモンをマスターバッチとして配合した実施例５〜１０は、シャルピー衝撃強度のばらつきが他の実施例よりも小さく、より優れた樹脂組成物であることがわかる。
また、臭素系難燃剤としてポリ臭素化ベンジル（メタ）アクリレート系難燃剤を使用した場合は、他の臭素系難燃剤を使用した場合に比べて、１．５ｍｍ厚の合計燃焼時間が短く難燃性により優れることがわかる。
さらに、硼酸金属塩として平均粒子径４μｍ以上のものを用いることにより、１．５ｍｍ厚の合計燃焼時間が短く難燃性により優れ、また、レーザー印字性もより優れることがわかる。
一方、表４の比較例においては、上記の全ての点に優れるものではないことが分かる。
硼酸金属塩を含有しない比較例１は難燃性がＶ−２と悪く、フィード性、耐金属腐食性も悪く、レーザー印字性も劣る。臭素系難燃剤を増量した比較例２は、難燃性はＶ−０達成可能であるが、硼酸金属塩を含有しないため、耐トラッキング性がＰＬＣ２ランクに未達であり、フィード性、耐金属腐食性も悪く、レーザー印字性も劣る。
さらに、硼酸金属塩のかわりに、その他の難燃助剤を配合（比較例３〜５）しても、難燃性Ｖ−０、耐トラッキング性ＰＬＣ２ランクに未達であり、耐金属腐食性が悪く、フィード性、レーザー印字性も劣る結果となった。
【産業上の利用可能性】
【０１６８】
本発明のポリブチレンテレフタレート系樹脂組成物は、寸法安定性、難燃性および耐トラッキング特性の全てを高いレベル有し、さらに耐金型腐食性、レーザー印字性にも優れ、また樹脂組成物製造時のフィード性が良いので、各種の用途に広く採用することができ、電気機器、電子機器あるいはそれ等の絶縁性部品として特に好適に利用できる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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