(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
主たる繰り返し単位が下記式
【化１】
0006464030.tif 000010
［式（Ａ）中、Ｒ１およびＲ２は夫々独立して、水素原子、炭素原子数１〜１０のアルキル基またはハロゲン原子を示し、ｍおよびｎは夫々独立して０〜４の整数を示す。］
で表される単位（Ａ）と下記式
【化２】
0006464030.tif 000011
［式（Ｂ）中、Ｒ３、Ｒ４は夫々独立して水素原子、炭素原子数１〜９のアルキル基またはハロゲン原子であり、ｐおよびｑは夫々独立して０〜４の整数を示す。Ｗは、単結合または下記式（Ｗ）
【化３】
0006464030.tif 000012
であり、ここにＲ５とＲ６はそれぞれ、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、炭素原子数１〜９のアルキル基、炭素原子数１〜５のアルコキシ基、炭素原子数６〜１２のアリール基、炭素原子数２〜５のアルケニル基、または炭素原子数７〜１７のアラルキル基を表す。また、Ｒ５とＲ６が結合して炭素環または複素環を形成しても良い。Ｒ７とＲ８はそれぞれ、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、炭素原子数１〜９のアルキル基、炭素原子数１〜５のアルコキシ基、または炭素原子数６〜１２アリール基を表す。Ｒ９は１〜９のアルキレン基である。ａは１〜２０の整数を表し、ｂは１〜５００の整数を表す。］
で表される単位（Ｂ）を含むポリカーボネート樹脂［Ａ］、および下記式
【化４】
0006464030.tif 000013
［式中、Ｒ１０およびＲ１１は夫々独立して、水素原子、炭素原子数１〜１０のアルキル基またはハロゲン原子を示し、Ｒ１２およびＲ１３は夫々独立して、炭素原子数１〜１０のアルキレン基を示し、ｓおよびｔは夫々独立して０〜４の整数を示し、ｒおよびｋは、夫々独立して１〜２０の整数を示す。］
で表される単位（Ｃ）を主たる繰り返し単位として含むポリカーボネート樹脂［Ｂ］を含有し、ポリカーボネート樹脂［Ａ］とポリカーボネート樹脂［Ｂ］の重量比（［Ａ］／［Ｂ］）が５／９５〜９５／５であるポリカーボネート樹脂組成物を用いた波長５５０ｎｍにおける面内位相差値Ｒｅの絶対値が２０ｎｍ以下であり、厚み方向位相差値Ｒｔｈの絶対値が５０ｎｍ以下である光学フィルム。
【請求項２】
ポリカーボネート樹脂組成物のガラス転移温度が１５０〜１９０℃である請求項１記載の光学フィルム。
【請求項３】
ポリカーボネート樹脂組成物の比粘度が０．１８〜０．３４である請求項１記載の光学フィルム。
【請求項４】
ポリカーボネート樹脂組成物にリン系酸化防止剤またはフェノール系酸化防止剤を含む請求項１記載の光学フィルム。
【請求項５】
ゲル数が１００個／ｍ２以下である請求項１記載の光学フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、耐熱性が高く、流動性が良好な、成形性に優れたポリカーボネート樹脂組成物、および透明性に優れ、位相差が低い光学フィルムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（以下、ビスフェノールＡという）にカーボネート前駆物質を反応させて得られるポリカーボネート樹脂（以下、ＰＣ−Ａという）は透明性、耐熱性、機械的特性、寸法安定性が優れているがゆえにエンジニアリングプラスチックとして多くの分野に広く使用されてきた。さらに近年その透明性を生かして光ディスク、フィルム、レンズ等の分野への光学用材料としての利用が展開されている。
しかしながら、ＰＣ−Ａからなるフィルムを透明導電性フィルム用基板に使用する場合、耐熱性が十分ではなく、使用が困難であった。
【０００３】
そこで、上記問題への対策として様々な手法が検討されている。その一つとして、ビスフェノールＡと９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレンにカーボネート前駆物質を反応させると耐熱性が高いポリカーボネート樹脂が得られることが提案され（例えば特許文献１、２参照）、そのポリカーボネート樹脂を用いてなるフィルムを位相差フィルム用、偏光板の保護フィルム用に使用することが提案されている（例えば特許文献３、４、５、６参照）。しかしながら、上記ポリカーボネート樹脂は溶融粘度が高く、溶液キャスト法での製膜に限られていた。
【０００４】
また、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレンとスピログリコールからなるポリカーボネート樹脂を溶融製膜法でフィルム化することが提案されている（特許文献７）。しかしながら、ガラス転移温度が１５０℃以上の樹脂では、熱分解温度が低いため、溶融製膜が困難で、製膜中に分解が起こり、気泡やゲルが発生する問題がある。またフィルムの強度も低く、折り曲げ特性に課題があった。
【０００５】
また、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレンとビスフェノールＡとシロキサン化合物を共重合したポリカーボネート樹脂を溶融製膜したシートが提案されている（特許文献８）。しかしながら、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレンの比率が高いため、フィルムが脆く、光学特性に関しては何ら記載がない。また、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンを含む偏光板保護フィルムが提案されているが、耐熱性が十分でなかった（特許文献９）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００４−３３１６８８号公報
【特許文献２】特開平８−１３４１９９号公報
【特許文献３】国際公開第２０００／０２６７０５号パンフレット
【特許文献４】国際公開第２００１／００９６４９号パンフレット
【特許文献５】特開２００１−２９６４２３号公報
【特許文献６】特開２００１−１９４５３０号公報
【特許文献７】特許第５１１９２５０号公報
【特許文献８】特開２０１１−８９０５０号公報
【特許文献９】特開２０１２−１０３５０７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的は、耐熱性が高く、流動性が良好な、成形性に優れたポリカーボネート樹脂組成物、および透明性に優れ、位相差が低い光学フィルムを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、鋭意研究を重ねた結果、フルオレン構造を有するビスフェノール化合物から形成される少なくとも２種のポリカーボネート樹脂をアロイ化した組成物とすることが重要であることを見出した。この現象は従来の延伸での複屈折の発生現象とは異なり、驚くべきことに非常に狭い領域の組成でのみ位相差を低減できることを究明し、耐熱性が高く、位相差が低く、流動性が良好な光学フィルムが得られることを究明した。
すなわち、本発明は、以下の通りである。
【０００９】
１．主たる繰り返し単位が下記式
【化１】
0006464030.tif 000002
［式（Ａ）中、Ｒ１およびＲ２は夫々独立して、水素原子、炭素原子数１〜１０のアルキル基またはハロゲン原子を示し、ｍおよびｎは夫々独立して０〜４の整数を示す。］
で表される単位（Ａ）と下記式
【化２】
0006464030.tif 000003
［式（Ｂ）中、Ｒ３、Ｒ４は夫々独立して水素原子、炭素原子数１〜９のアルキル基またはハロゲン原子であり、ｐおよびｑは夫々独立して０〜４の整数を示す。Ｗは、単結合または下記式（Ｗ）
【化３】
0006464030.tif 000004
であり、ここにＲ５とＲ６はそれぞれ、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、炭素原子数１〜９のアルキル基、炭素原子数１〜５のアルコキシ基、炭素原子数６〜１２のアリール基、炭素原子数２〜５のアルケニル基、または炭素原子数７〜１７のアラルキル基を表す。また、Ｒ５とＲ６が結合して炭素環または複素環を形成しても良い。Ｒ７とＲ８はそれぞれ、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、炭素原子数１〜９のアルキル基、炭素原子数１〜５のアルコキシ基、または炭素原子数６〜１２アリール基を表す。Ｒ９は１〜９のアルキレン基である。ａは１〜２０の整数を表し、ｂは１〜５００の整数を表す。］
で表される単位（Ｂ）を含むポリカーボネート樹脂［Ａ］、および下記式
【化４】
0006464030.tif 000005
［式中、Ｒ１０およびＲ１１は夫々独立して、水素原子、炭素原子数１〜１０のアルキル基またはハロゲン原子を示し、Ｒ１２およびＲ１３は夫々独立して、炭素原子数１〜１０のアルキレン基を示し、ｓおよびｔは夫々独立して０〜４の整数を示し、ｒおよびｋは、夫々独立して１〜２０の整数を示す。］
で表される単位（Ｃ）を主たる繰り返し単位として含むポリカーボネート樹脂［Ｂ］を含有し、ポリカーボネート樹脂［Ａ］とポリカーボネート樹脂［Ｂ］の重量比（［Ａ］／［Ｂ］）が５／９５〜９５／５であるポリカーボネート樹脂組成物を用いた波長５５０ｎｍにおける面内位相差値Ｒｅの絶対値が２０ｎｍ以下であり、厚み方向位相差値Ｒｔｈの絶対値が５０ｎｍ以下である光学フィルム。
【００１０】
２．ポリカーボネート樹脂組成物のガラス転移温度が１５０〜１９０℃である前項１記載の光学フィルム。
３．ポリカーボネート樹脂組成物の比粘度が０．１８〜０．３４である請求項１記載の光学フィルム。
４．ポリカーボネート樹脂組成物にリン系酸化防止剤またはフェノール系酸化防止剤を含む前項１記載の光学フィルム。
５．ゲル数が１００個／ｍ２以下である前項１記載の光学フィルム。
【発明の効果】
【００１１】
本発明のポリカーボネート樹脂組成物は、特定のポリカーボネート樹脂をアロイ化することで、耐熱性が高く、流動性が良好な、成形性に優れたポリカーボネート樹脂組成物となり、該ポリカーボネート樹脂組成物から透明性に優れ、位相差が低い光学フィルムとすることが可能となった。そのため、その奏する工業的効果は格別である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明を詳細に説明する。
＜ポリカーボネート樹脂［Ａ］＞
本発明のポリカーボネート樹脂［Ａ］は、主たる繰り返し単位が、単位（Ａ）と単位（Ｂ）とから構成される。主たる繰り返し単位とは、単位（Ａ）と（Ｂ）の合計が全繰り返し単位を基準として６０モル％以上であり、好ましくは７０モル％以上であり、より好ましくは８０モル％以上であり、さらに好ましくは９０モル％以上であり、実質的に１００モル％であることが特に好ましい。
【００１３】
（単位（Ａ））
単位（Ａ）は、前記式（Ａ）で示され、Ｒ１、Ｒ２は夫々独立して水素原子、炭素原子数１〜１０、好ましくは炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数５〜１０のシクロアルキル基、炭素原子数６〜１０のアリール基、炭素原子数７〜１０のアラルキル基、炭素原子数１〜１０のアルケニル基、またはハロゲン基（フッ素原子、塩素原子、臭素原子など）が好ましい。ｍおよびｎは夫々独立して０〜４の整数を示す。
【００１４】
具体的には、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−エチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−ｎ−プロピルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−イソプロピルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−ｎ−ブチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−ｓｅｃ−ブチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−シクロヘキシルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−フェニルフェニル）フルオレンなどから誘導されるカーボネート単位である。特に、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレンから誘導されるカーボネート単位が好ましい。
【００１５】
（単位（Ｂ））
単位（Ｂ）は、前記式（Ｂ）に示したように、芳香族構造を有するカーボネート単位である。前記式（Ｂ）中、Ｒ３、Ｒ４は、水素原子、炭素原子数１〜９のアルキル基、炭素原子数６〜１２のアリール基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、炭素原子数７〜１３のアラルキル基、またはハロゲン原子が好ましい。Ｒ３、Ｒ４は、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数６〜９のアリール基、炭素原子数２〜５のアルケニル基、炭素原子数７〜９のアラルキル基、またはハロゲン原子がより好ましく、メチル基、シクロヘキシル基またはフェニル基がさらに好ましい。ｐ、ｑはＲ３、Ｒ４がベンゼン環上に置換している数を示し、０〜４の整数である。
【００１６】
式（Ｂ）中のＷは前記式（Ｗ）で示され、Ｒ５とＲ６はそれぞれ、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、炭素原子数１〜９のアルキル基、炭素原子数１〜５のアルコキシ基、炭素原子数６〜１２のアリール基、炭素原子数２〜５のアルケニル基または炭素原子数７〜１７のアラルキル基を表す。また、Ｒ５とＲ６が結合して炭素環または複素環を形成しても良い。Ｒ７とＲ８はそれぞれ、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、炭素原子数１〜９のアルキル基、炭素原子数１〜５のアルコキシ基、または炭素原子数６〜１２アリール基を表す。Ｒ９は１〜９のアルキレン基である。ａは０〜２０の整数を表し、ｂは１〜５００の整数を表す。
【００１７】
具体的には、４，４′−ビフェノール、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン（ビスフェノールＥ）、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノールＡ）、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン（ビスフェノールＣ）、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン（ビスフェノールＺ）、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタン、α，α′−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−ｍ−ジイソプロピルベンゼン（ビスフェノールＭ）、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−４−イソプロピルシクロヘキサンなどが例示される。なかでも、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＺ、ビスフェノールＣ、ビスフェノールＥ、ビスフェノールＭが耐熱性、流動性の観点から好ましく、特にビスフェノールＡが高流動、入手容易性の観点から好ましい。これらは２種類以上併用して用いても良い。
【００１８】
（組成比）
本発明で使用されるポリカーボネート樹脂［Ａ］の組成比は、単位（Ａ）と単位（Ｂ）とのモル比（Ａ／Ｂ）が、好ましくは５／９５以上９５／５以下、より好ましくは１０／９０以上９０／１０以下、さらに好ましくは１５／８５以上８０／２０以下である。モル比（Ａ／Ｂ）が５／９５〜９５／５の範囲であるかかる組成範囲のポリカーボネート樹脂をフィルム化した場合、フィルムの耐熱性、流動性に優れ、光学用途に適したものとなり好ましい。本発明で使用されるポリカーボネート樹脂は共重合体が好ましい。なお、モル比は、日本電子社製ＪＮＭ−ＡＬ４００のプロトンＮＭＲにて測定し算出する。
【００１９】
（他の単位）
ポリカーボネート樹脂［Ａ］において、その他の共重合構成単位を誘導する化合物としては、脂肪族ジオール化合物や脂環族ジオール化合物などが挙げられる。また、テレフタル酸などの酸成分を共重合することにより、一部ポリエステルカーボネートとすることもできる。
【００２０】
＜ポリカーボネート樹脂［Ｂ］＞
本発明のポリカーボネート樹脂［Ｂ］は、主たる繰り返し単位が、単位（Ｃ）から構成される。主たる繰り返し単位とは、単位（Ｃ）が全繰り返し単位を基準として６０モル％以上であり、好ましくは７０モル％以上であり、より好ましくは８０モル％以上であり、さらに好ましくは８５モル％以上である。
【００２１】
（単位（Ｃ））
単位（Ｃ）は、前記式（Ｃ）で示される。単位（Ｃ）中、Ｒ１０およびＲ１１は夫々独立して、水素原子、炭素原子数１〜１０の芳香族基を含んでもよい炭化水素基またはハロゲン原子を示す。炭化水素基として、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数５〜１０のシクロアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、炭素数７〜１０のアラルキル基、炭素数１〜１０のアルケニル基が挙げられる。ハロゲン原子として、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられる。
【００２２】
Ｒ１２およびＲ１３は夫々独立して、炭素原子数１〜１０の芳香族基を含んでもよい炭化水素基を示す。炭化水素基は、好ましくは炭素数１〜１０のアルキレン基、さらに好ましくは炭素数１〜４のアルキレン基、より好ましくはエチレン基である。
ｒおよびｋは、それぞれ−（Ｒ１２−Ｏ）−および−（Ｏ−Ｒ１３）−の繰り返しの数を表す。ｒおよびｋは、夫々独立して、１以上の整数であり、好ましくは１〜２０の整数、さらに好ましくは１〜１２の整数、さらにより好ましくは１〜８の整数、特に好ましくは１〜４の整数、最も好ましくは１である。ｓおよびｔは、夫々独立して０〜４の整数を示す。
【００２３】
単位（Ｃ）として、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（３−ヒドロキシプロポキシ）フェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（４−ヒドロキシブトキシ）フェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−メチルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［２−（２−ヒドロキシエトキシ）−５−メチルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−エチルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−プロピルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−イソプロピルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−ｎ−ブチルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−イソブチルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−（１−メチルプロピル）フェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（３−ヒドロキシプロポキシ）−３−メチルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（４−ヒドロキシブトキシ）−３−メチルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジメチルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−２，５−ジメチルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジエチルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジプロピルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジイソプロピルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジ−ｎ−ブチルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジイソブチルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ビス（１−メチルプロピル）フェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（３−ヒドロキシプロポキシ）−３，５−ジメチルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（４−ヒドロキシブトキシ）−３，５−ジメチルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−シクロヘキシルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−フェニルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジフェニルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−ベンジルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジベンジルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−プロペニルフェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−フルオロフェニル］フルオレン、およびこれらの９，９−ビス（ヒドロキシアルコキシフェニル）フルオレンから誘導される単位が挙げられる。また、ｒおよびｋが２以上である９，９−ビス［ヒドロキシポリ（アルキレンオキシ）フェニル］フルオレン等から誘導される単位が挙げられる。
【００２４】
これらのうち、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−メチルフェニル］フルオレン｝等が好ましい。特に、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン（ＢＰＥＦ）から誘導される単位（Ｃ１）が好ましい。
【００２５】
（他の単位）
ポリカーボネート樹脂［Ｂ］において、その他の共重合構成単位を誘導する化合物としては、脂肪族ジオール化合物、脂環族ジオール化合物または芳香族ジヒドロキシ化合物から誘導されるカーボネート単位が挙げられる。芳香族ジヒドロキシ化合物としては前述した単位（Ｂ）で使用される芳香族ジヒドロキシ化合物が挙げられ、α，α’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−ｍ−ジイソプロピルベンゼン（ビスフェノールＭ）、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルスルフィド、ビスフェノールＡ、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン（ビスフェノールＣ）、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン（ビスフェノールＡＦ）、および１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）デカンなどが好ましい。
【００２６】
また、下記式（Ｄ）で表されるカーボネート単位も好ましく用いられる。
【化５】
0006464030.tif 000006
【００２７】
上記式（Ｄ）中、Ｒ１４及びＲ１５は、それぞれ独立に、直接結合、置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキレン基、置換されていてもよい炭素数４〜１０のアリーレン基、若しくは置換されていてもよい炭素数６〜１０のアラルキレン基、又は置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキレン基、置換されていてもよい炭素数４〜１０のアリーレン基及び置換されていてもよい炭素数６〜１０のアラルキレン基からなる群から選ばれる２つ以上の基が、酸素原子、置換されていてもよい硫黄原子、置換されていてもよい窒素原子若しくはカルボニル基で連結された基であり、Ｒ１６は、直接結合、置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキレン基、置換されていてもよい炭素数４〜１０のアリーレン基、又は置換されていてもよい炭素数６〜１０のアラルキレン基であり、Ｒ１７〜Ｒ１８は、それぞれ独立に、水素原子、置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基、置換されていてもよい炭素数４〜１０のアリール基、置換されていてもよい炭素数１〜１０のアシル基、置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルコキシ基、置換されていてもよい炭素数１〜１０のアリールオキシ基、置換されていてもよいアミノ基、置換基を有する硫黄原子、ハロゲン原子、ニトロ基、又はシアノ基である。ｕおよびｖは夫々独立して１〜４の整数を示し、ｗは１〜５の整数値を示す。
【００２８】
上記式（Ｄ）を誘導する化合物の具体的例として、９，９’−ジ（ヒドロキシメチル）−９，９’−ビフルオレニル、ビス（９−ヒドロキシメチルフルオレン−９−イル）メタン、１，２−ビス（９−ヒドロキシメチルフルオレン−９−イル）エタン、ビス［９−（３−ヒドロキシプロピル）−フルオレン−９−イル］メタン、ビス｛９−［２−（２−ヒドロキシエトキシ）カルボニルエチル］フルオレン−９−イル｝メタン、９，９−ビス［（９−ヒドロキシメチルフルオレン−９−イル）−メチル］フルオレン、１，２−ビス［９−（３−ヒドロキシプロピル）−フルオレン−９−イル］エタン、α，α’−ビス−（９−ヒドロキシメチルフルオレン−９−イル）−１，４−キシレン、１，２−ビス（９−ヒドロキシメチルフルオレン−９−イル）ブタン、１−ビス（９−ヒドロキシメチルフルオレン−９−イル）エタン、１，２−ビス（９−ヒドロキシフルオレン−９−イル）エタン、ビス−｛［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン−９−イル｝エタンが好ましい。
【００２９】
また、テレフタル酸などの酸成分を共重合することにより、ポリエステルカーボネートとすることもできる。
さらに、下記式（Ｅ）で表されるエステル単位も好ましく用いられる。この場合、ポリエステルカーボネートとなる。
【００３０】
【化６】
0006464030.tif 000007
【００３１】
上記式（Ｅ）中、Ｒ１４〜Ｒ１８、ｕおよびｖは上記式（Ｄ）と同義で、Ｘは脂肪族基または脂環式基または芳香族基を示す。
上記一般式（Ｅ）を誘導する化合物の具体的例として、ビス［９−（２−エトキシカルボニルエチル）フルオレン−９−イル］メタン、１，２−ビス［９−（２−エトキシカルボニルエチル）フルオレン−９−イル］エタン、１，２−ビス［９−（２−メトキシカルボニルプロピル）フルオレン−９−イル］エタン、ビス［９−（２−メトキシカルボニルエチル）フルオレン−９−イル］メタン、ビス［９−（２−フェノキシカルボニルエチル）フルオレン−９−イル］メタン、１，２−ビス［９−（２−フェノキシカルボニルエチル）フルオレン−９−イル］エタンが好ましい。
【００３２】
（ポリカーボネート樹脂の製造方法）
本発明のポリカーボネート樹脂［Ａ］およびポリカーボネート樹脂［Ｂ］は、通常のポリカーボネート樹脂を製造するそれ自体公知の反応手段、例えばジオール成分にホスゲンや炭酸ジエステルなどのカーボネート前駆物質を反応させる方法により製造される。次にこれらの製造方法について基本的な手段を簡単に説明する。
【００３３】
カーボネート前駆物質として、例えばホスゲンを使用する反応では、通常酸結合剤および溶媒の存在下に反応を行う（溶液法）。酸結合剤としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物またはピリジンなどのアミン化合物が用いられる。溶媒としては、例えば塩化メチレン、クロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素が用いられる。また反応促進のために例えば第三級アミンまたは第四級アンモニウム塩などの触媒を用いることもできる。その際、反応温度は通常０〜４０℃であり、反応時間は数分〜５時間である。本発明のポリカーボネート樹脂は、その重合反応において、末端停止剤として通常使用される単官能フェノール類を使用することができる。殊にカーボネート前駆物質としてホスゲンを使用する反応の場合、単官能フェノール類は末端停止剤として分子量調節のために一般的に使用され、また得られた芳香族ポリカーボネート樹脂は、末端が単官能フェノール類に基づく基によって封鎖されているので、そうでないものと比べて熱安定性に優れている。
【００３４】
かかる単官能フェノール類としては、芳香族ポリカーボネート樹脂の末端停止剤として使用されるものであればよい。
なお、ポリカーボネート樹脂［Ａ］は、耐熱性が高く、溶融粘度も高いため、ホスゲンを使用するホスゲンを使用した製造方法（溶液法）が好ましい。
【００３５】
カーボネート前駆物質として炭酸ジエステルを用いるエステル交換反応は、不活性ガス雰囲気下所定割合の芳香族ジヒドロキシ成分を炭酸ジエステルと加熱しながら撹拌して、生成するアルコールまたはフェノール類を留出させる方法により行われる（溶融法）。反応温度は生成するアルコールまたはフェノール類の沸点などにより異なるが、通常１２０〜３００℃の範囲である。反応はその初期から減圧にして生成するアルコールまたはフェノール類を留出させながら反応を完結させる。また、必要に応じて末端停止剤、酸化防止剤等を加えてもよい。
【００３６】
前記エステル交換反応に使用される炭酸ジエステルとしては、置換されてもよい炭素原子数６〜１２のアリール基、アラルキル基等のエステルが挙げられる。具体的には、ジフェニルカーボネート、ジトリールカーボネート、ビス（クロロフェニル）カーボネートおよびｍ−クレジルカーボネート等が例示される。なかでもジフェニルカーボネートが特に好ましい。ジフェニルカーボネートの使用量は、ジヒドロキシ化合物の合計１モルに対して、好ましくは０．９７〜１．１０モル、より好ましは１．００〜１．０６モルである。
【００３７】
また溶融重合法においては重合速度を速めるために、重合触媒を用いることができ、かかる重合触媒としては、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物、含窒素化合物、金属化合物等が挙げられる。
このような化合物としては、アルカリ金属やアルカリ土類金属の、有機酸塩、無機塩、酸化物、水酸化物、水素化物、アルコキシド、４級アンモニウムヒドロキシド等が好ましく用いられ、これらの化合物は単独もしくは組み合わせて用いることができる。
【００３８】
アルカリ金属化合物としては、具体的には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、水酸化リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸セシウム、酢酸リチウム、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、ステアリン酸セシウム、ステアリン酸リチウム、水素化ホウ素ナトリウム、安息香酸ナトリウム、安息香酸カリウム、安息香酸セシウム、安息香酸リチウム、リン酸水素２ナトリウム、リン酸水素２カリウム、リン酸水素２リチウム、フェニルリン酸２ナトリウム、ビスフェノールＡの２ナトリウム塩、２カリウム塩、２セシウム塩、２リチウム塩、フェノールのナトリウム塩、カリウム塩、セシウム塩、リチウム塩等が例示される。
【００３９】
アルカリ土類金属化合物としては、具体的に、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチウム、水酸化バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸ストロンチウム、炭酸バリウム、二酢酸マグネシウム、二酢酸カルシウム、二酢酸ストロンチウム、二酢酸バリウム等が例示される。
【００４０】
含窒素化合物としては、具体的に、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシド等のアルキル、アリール基等を有する４級アンモニウムヒドロキシド類が例示される。また、トリエチルアミン、ジメチルベンジルアミン、トリフェニルアミン等の３級アミン類、２−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、ベンゾイミダゾール等のイミダゾール類が例示される。また、アンモニア、テトラメチルアンモニウムボロハイドライド、テトラブチルアンモニウムボロハイドライド、テトラブチルアンモニウムテトラフェニルボレート、テトラフェニルアンモニウムテトラフェニルボレート等の塩基あるいは塩基性塩等が例示される。
【００４１】
金属化合物としては、亜鉛アルミニウム化合物、ゲルマニウム化合物、有機スズ化合物、アンチモン化合物、マンガン化合物、チタン化合物、ジルコニウム化合物等が挙げられる。これらの化合物は１種または２種以上併用してもよい。
これらの重合触媒の使用量は、ジヒドロキシ成分１モルに対し好ましくは１×１０−９〜１×１０−２当量、好ましくは１×１０−８〜１×１０−５当量、より好ましくは１×１０−７〜１×１０−３当量の範囲で選ばれる。
【００４２】
また、反応後期に触媒失活剤を添加することもできる。使用する触媒失活剤としては、公知の触媒失活剤が有効に使用されるが、なかでもスルホン酸のアンモニウム塩、ホスホニウム塩が好ましい。更にドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩等のドデシルベンゼンスルホン酸の塩類、パラトルエンスルホン酸テトラブチルアンモニウム塩等のパラトルエンスルホン酸の塩類が好ましい。
【００４３】
またスルホン酸のエステルとして、具体的に、ベンゼンスルホン酸メチル、ベンゼンスルホン酸エチル、ベンゼンスルホン酸ブチル、ベンゼンスルホン酸オクチル、ベンゼンスルホン酸フェニル、パラトルエンスルホン酸メチル、パラトルエンスルホン酸エチル、パラトルエンスルホン酸ブチル、パラトルエンスルホン酸オクチル、パラトルエンスルホン酸フェニル等が例示される。なかでも、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩が特に好ましい。
【００４４】
これらの触媒失活剤の使用量はアルカリ金属化合物および／またはアルカリ土類金属化合物より選ばれた少なくとも１種の重合触媒を用いた場合、その触媒１モル当たり好ましくは０．５〜５０モルの割合で、より好ましくは０．５〜１０モルの割合で、更に好ましくは０．８〜５モルの割合で使用することができる。
なお、ポリカーボネート樹脂［Ｂ］は脂肪族ジオールを含むため、炭酸ジエステルを用いたエステル交換法（溶融法）が好ましい。
【００４５】
＜ポリカーボネート樹脂［Ａ］とポリカーボネート樹脂［Ｂ］との組成物＞
本発明のポリカーボネート樹脂組成物は、ポリカーボネート樹脂［Ａ］とポリカーボネート樹脂［Ｂ］とを含有する組成物である。本発明のポリカーボネート樹脂組成物には、一部他のポリカーボネート樹脂を含んでいてもよい。ポリカーボネート樹脂［Ａ］とポリカーボネート樹脂［Ｂ］は、ポリカーボネート樹脂組成物中の好ましくは６０重量％以上であり、より好ましくは７０重量％以上であり、さらに好ましくは８０重量％以上であり、特に好ましくは９０重量％以上であり、実質的に１００重量％であることがもっとも好ましい。
【００４６】
（重量比）
ポリカーボネート樹脂［Ａ］とポリカーボネート樹脂［Ｂ］との重量比（［Ａ］／［Ｂ］）は５／９５〜９５／５であり、１０／９０〜９０／１０が好ましく、１５／８５〜８０／２０がより好ましく、２０／８０〜７０／３０がさらに好ましく、２５／７５〜６０／４０が特に好ましい。上記範囲外であると耐熱性が低かったり、光学フィルムとしたときに位相差が高くなり易く好ましくない。
【００４７】
（比粘度：ηＳＰ）
本発明のポリカーボネート樹脂組成物の比粘度（ηＳＰ）としては、好ましくは０．１８〜０．３４の範囲であり、より好ましくは０．２０〜０．３３の範囲であり、特に好ましくは０．２３〜０．３２の範囲である。かかる範囲内では、強度等が向上し、且つ流動特性が優れる。
本発明でいう比粘度は、２０℃で塩化メチレン１００ｍｌにポリカーボネート樹脂組成物０．７ｇを溶解した溶液からオストワルド粘度計を用いて求めた。
比粘度（ηＳＰ）＝（ｔ−ｔ０）／ｔ０
［ｔ０は塩化メチレンの落下秒数、ｔは試料溶液の落下秒数］
【００４８】
なお、本発明のポリカーボネート樹脂組成物の比粘度を測定する場合は、次の要領で行うことができる。すなわち、ポリカーボネート樹脂組成物をその２０〜３０倍重量の塩化メチレンに溶解し、可溶分をセライト濾過により採取した後、溶液を除去して十分に乾燥し、塩化メチレン可溶分の固体を得る。かかる固体０．７ｇを塩化メチレン１００ｍｌに溶解した溶液から２０℃における比粘度をオストワルド粘度計を用いて求める。
【００４９】
（ガラス転移温度：Ｔｇ）
本発明のポリカーボネート樹脂組成物のガラス転移温度（Ｔｇ）は、好ましくは１５０〜１９０℃、より好ましくは１５２〜１８０℃、特に好ましくは１５４〜１７５℃の範囲である。Ｔｇが下限以上であると耐熱安定性が良好となり、フィルムの加工工程でのフィルムの変形を抑制できる。またＴｇが上限以下の範囲では、フィルムの製膜加工に高い温度は必要なく、従来と異なる特別な加工設備を必要としないため好ましい。Ｔｇは、アルキル基の導入により低くなると推定される。Ｔｇはティー・エイ・インスツルメント・ジャパン（株）製２９１０型ＤＳＣを使用し、昇温速度２０℃／ｍｉｎにて測定する。
【００５０】
（添加剤）
また、本発明のポリカーボネート樹脂組成物には、用途や必要に応じて熱安定剤、可塑剤、光安定剤、重合金属不活性化剤、難燃剤、滑剤、帯電防止剤、界面活性剤、抗菌剤、紫外線吸収剤、離型剤等の添加剤を配合することができる。
【００５１】
（熱安定剤）
ポリカーボネート樹脂組成物には、押出・成形時の分子量低下や色相の悪化を抑制するために、熱安定剤を含有することが好ましい。熱安定剤としてはリン系安定剤を含有することが好ましい。リン系安定剤として、ペンタエリスリトール型ホスファイト化合物、二価フェノール類と反応し環状構造を有するホスファイト化合物、その他各種ホスファイト化合物、ホスフェート化合物、ホスホナイト化合物、およびホスホネイト化合物などを配合することが好ましい。
【００５２】
ペンタエリスリトール型ホスファイト化合物としては、具体的には、例えば、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−エチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、フェニルビスフェノールＡペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジシクロヘキシルペンタエリスリトールジホスファイトなどが挙げられ、中でも好適には、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、およびビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイトが挙げられる。
【００５３】
二価フェノール類と反応し環状構造を有するホスファイト化合物としては、例えば、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ホスファイト、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ホスファイト、２，２’−エチリデンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ホスファイト、２，２’−メチレン−ビス−（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト、６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−［３−［（２，４，８，１０）−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチルジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン−６−イル）オキシ］プロピル］−２−メチルフェノールなどを挙げることができる。
【００５４】
他のホスファイト化合物としては、例えば、トリフェニルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリデシルホスファイト、トリオクチルホスファイト、トリオクタデシルホスファイト、ジデシルモノフェニルホスファイト、ジオクチルモノフェニルホスファイト、ジイソプロピルモノフェニルホスファイト、モノブチルジフェニルホスファイト、モノデシルジフェニルホスファイト、モノオクチルジフェニルホスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト、トリス（ジエチルフェニル）ホスファイト、トリス（ジ−ｉｓｏ−プロピルフェニル）ホスファイト、トリス（ジ−ｎ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、およびトリス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイトなどが挙げられる。好ましくはトリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイトおよびトリス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイトである。
【００５５】
ホスフェート化合物としては、トリブチルホスフェート、トリメチルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリフェニルホスフェート、トリクロルフェニルホスフェート、トリエチルホスフェート、ジフェニルクレジルホスフェート、ジフェニルモノオルソキセニルホスフェート、トリブトキシエチルホスフェート、ジブチルホスフェート、ジオクチルホスフェート、ジイソプロピルホスフェートなどを挙げることができ、好ましくはトリフェニルホスフェート、トリメチルホスフェートである。
【００５６】
ホスホナイト化合物としては、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，３’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３，３’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，３’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３，３’−ビフェニレンジホスホナイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス（２，６−ジ−ｎ−ブチルフェニル）−３−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３−フェニル−フェニルホスホナイト等があげられ、テトラキス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−ビフェニレンジホスホナイト、ビス（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−フェニル−フェニルホスホナイトが好ましく、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−ビフェニレンジホスホナイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−フェニル−フェニルホスホナイトがより好ましい。かかるホスホナイト化合物は上記アルキル基が２以上置換したアリール基を有するホスファイト化合物との併用可能であり好ましい。
【００５７】
ホスホネイト化合物としては、ベンゼンホスホン酸ジメチル、ベンゼンホスホン酸ジエチル、およびベンゼンホスホン酸ジプロピル等が挙げられる。
上記のリン系安定剤は、単独でまたは２種以上を併用して使用することができる。リン系安定剤はポリカーボネート樹脂組成物１００重量部当たり、好ましくは０．００１〜１重量部、より好ましくは０．０１〜０．７重量部、さらに好ましくは０．１〜０．５重量部配合される。
ポリカーボネート樹脂組成物は、押出・成形時の分子量低下や色相の悪化を抑制することを目的に、熱安定剤として、ヒンダードフェノール系熱安定剤を添加することもできる。
【００５８】
ヒンダードフェノール系安定剤としては、例えば、酸化防止機能を有するものであれば特に限定されないが、例えば、ｎ−オクタデシル−３−（４’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）プロピオネート、テトラキス｛メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート｝メタン、ジステアリル（４−ヒドロキシ−３−メチル−５−ｔ−ブチルベンジル）マロネート、トリエチレグリコール−ビス｛３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート｝、１，６−ヘキサンジオール−ビス｛３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート｝、ペンタエリスリチル−テトラキス｛３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート｝、２，２−チオジエチレンビス｛３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート｝、２，２−チオビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレート、２，４−ビス｛（オクチルチオ）メチル｝−ｏ−クレゾール、イソオクチル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２，５，７，８−テトラメチル−２（４’，８’，１２’−トリメチルトリデシル）クロマン−６−オール、３，３’，３”，５，５’，５”−ヘキサ−ｔ−ブチル−ａ，ａ’，ａ”−（メシチレン−２，４，６−トリイル）トリ−ｐ−クレゾール等が挙げられる。
【００５９】
これらの中で、ｎ−オクタデシル−３−（４’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）プロピオネート、ペンタエリスリチル−テトラキス｛３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート｝、３，３’，３”，５，５’，５”−ヘキサ−ｔ−ブチル−ａ，ａ’，ａ’−（メシチレン−２，４，６−トリイル）トリ−ｐ−クレゾール、２，２−チオジエチレンビス｛３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート｝等が好ましい。
【００６０】
これらのヒンダードフェノール系安定剤は１種を単独で用いても良く、２種以上を併用しても用いても良い。
ヒンダードフェノール系安定剤はポリカーボネート樹脂組成物１００重量部当たり、好ましくは０．００１〜１重量部、より好ましくは０．０１〜０．５重量部、さらに好ましくは０．０１〜０．３重量部配合される。
【００６１】
＜光学フィルム＞
本発明のポリカーボネート樹脂組成物は光学フィルムとして用いることができる。具体的には、位相差フィルム、プラセル基板フィルム、偏光板保護フィルム、反射防止フィルム、輝度上昇フィルム、光ディスクの保護フィルム、拡散フィルム等の用途が挙げられる、なかでも位相差フィルム、偏光板保護フィルム、反射防止フィルムが好ましい。
光学フィルムの製造方法としては、生産性の点から溶融押出法が採用される。
【００６２】
溶融押出法においては、Ｔダイを用いて樹脂を溶融押出し、冷却ロールに送る方法が好ましく用いられる。このときの溶融押出樹脂温度はポリカーボネート樹脂組成物の分子量、Ｔｇ、溶融流動特性等から決められるが、２４０〜３００℃の範囲が好ましく、２５０℃〜２９０℃の範囲がより好ましい。２４０℃より低いと粘度が高くなりポリマーの配向、応力歪みが残りやすく、また、３００℃より高いと熱劣化によるゲル化、着色、Ｔダイからのダイライン（筋）等の問題が起きやすい。また、減圧状態に保持できる真空ホッパーを使用することが好ましい。真空度は１０ｋＰａ以下が好ましく、５ｋＰａ以下がさらに好ましく、３ｋＰａ以下が特に好ましい。
未延伸の光学フィルムの厚みとしては、３０〜４００μｍの範囲が好ましく、より好ましくは４０〜３００μｍの範囲である。かかる未延伸光学フィルムは、ディスプレイ用基板やタッチパネル用基板として好適に用いられる。
【００６３】
未延伸光学フィルムは、波長５５０ｎｍにおける面内位相差値Ｒｅの絶対値が２０ｎｍ以下であることが好ましく、１５ｎｍ以下であることがより好ましく、１０ｎｍ以下であることがさらに好ましく、５ｎｍ以下であることが特に好ましい。また、波長５５０ｎｍにおける厚み方向位相差値Ｒｔｈの絶対値が５０ｎｍ以下であることが好ましく、３０ｎｍ以下であることがより好ましく、２０ｎｍ以下であることがさらに好ましく、１０ｎｍ以下であることが特に好ましく、５ｎｍ以下であることがもっとも好ましい。
上記範囲であるとディスプレイ用基板やタッチパネル用基板として使用した際に、ディスプレイやタッチパネルの画像のぼやけがなくなり、高精細な画像を表示することができ好ましい。
【００６４】
かかる未延伸光学フィルムは延伸配向することにより位相差を調整しても良い。なお、フィルムの製膜する機械軸方向を製膜方向または縦方向と称し、製膜方向とフィルムの厚み方向に直交する方向を横方向または幅方向と称する。延伸方法は、縦一軸延伸、テンター等を用いる横一軸延伸、あるいはそれらを組み合わせた同時二軸延伸、逐次二軸延伸等公知の方法を用いることが出来る。また連続で行うことが生産性の点で好ましいが、バッチ式で行っても良い。延伸温度は、ポリカーボネート樹脂組成物のガラス転移温度（Ｔｇ）に対して、好ましくは（Ｔｇ−２０℃）〜（Ｔｇ＋５０℃）の範囲、より好ましくは（Ｔｇ−１０℃）〜（Ｔｇ＋３０℃）の範囲である。この温度範囲であれば、ポリマーの分子運動が適度であり、延伸による緩和が起こり難く、配向制御が容易になり所望する面内位相差が得られ易いため好ましい。延伸温度が低いと位相差が発現しやすくなる傾向がある。
【００６５】
また、得られる光学フィルムのゲル数が１００個／ｍ２以下であることが好ましく、５０個／ｍ２以下であることがより好ましく、３０個／ｍ２以下であることがさらに好ましく、２０個／ｍ２以下であることが特に好ましい。ゲル数が上記範囲内であるとディスプレイ用基板やタッチパネル用基板として使用した際に、ディスプレイやタッチパネルが高精細な画像を表示することができ好ましい。
【００６６】
＜タッチパネル用透明導電性フィルム＞
本発明の光学フィルムは、タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム（基板）として好適に用いられる。
透明導電性フィルムは、ベースフィルムの低屈折率層の上に透明導電膜を設けることにより得られる。
タッチパネルとしては、抵抗膜式タッチパネルと静電容量式タッチパネルが主流であるが、透明導電性フィルムはいずれのタッチパネルにも用いることができる。特に、透明導電性フィルムは、静電容量式タッチパネルに好適である。
静電容量式タッチパネルの透明導電性フィルムの透明導電膜は、通常、所定のパターンにパターン化されている。この透明導電膜のパターン化は、透明導電膜をエッチング処理することにより行われる。
【００６７】
パターン化された透明導電膜を有する透明導電性フィルムは、透明導電膜のパターン部（透明導電膜がエッチングされずに残存している部分（導電部））と非パターン部（透明導電膜がエッチングされて除去された部分（非導電部））との反射率や透過率の違い、あるいはパターン部と非パターン部の色調の違いにより、パターン部が視認される、いわゆる「骨見え」が起こり、透明導電膜の視認性を低下させている。この「骨見え」の問題は、本発明のベースフィルムを用いることにより低減される。
【００６８】
透明導電膜の材料としては、透明導電性フィルムに用いられる公知の材料を用いることができる。例えば、酸化錫、酸化インジウム、酸化アンチモン、酸化亜鉛、ＩＴＯ（酸化インジウム錫）、ＡＴＯ（酸化アンチモン錫）などの金属酸化物、銀ナノワイヤーなどの金属ナノワイヤー、カーボンナノチューブ等が挙げられる。これらの中でもＩＴＯが好ましく用いられる。
透明導電膜の厚みは、透明導電膜の視認性を向上させるという観点から小さい方が好ましく、具体的には４０ｎｍ以下が好ましく、３０ｎｍ以下がより好ましく、２５ｎｍ以下が更に好ましく、特に２０ｎｍ以下が好ましい。透明導電膜の厚みの下限は、低抵抗の透明導電膜を確保するという観点から５ｎｍ以上が好ましく、７ｎｍ以上がより好ましく、１０ｎｍ以上が特に好ましい。
【００６９】
透明導電膜の表面抵抗値は、１０００Ω／□以下が好ましく、５００Ω／□以下が好ましい。
透明導電膜の屈折率１．８１以上であることが好ましい。さらに透明導電膜の屈折率は１．８５以上が好ましく、１．９０以上がより好ましい。上限は２．２０以下が好ましく、２．１０以下がより好ましい。
透明導電膜の形成方法としては特に限定されず、従来公知の方法を用いることができる。具体的には、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のドライプロセスを用いることができる。
【００７０】
透明導電膜はパターン化されていることが好ましい。透明導電膜のパターン化は、透明導電性フィルムが適用される用途に応じて、各種のパターンを形成することができる。なお、透明導電膜のパターン化により、パターン部と非パターン部が形成されるが、パターン部のパターン形状としては、例えば、ストライプ状、格子状、あるいはこれらの組み合わせ等が挙げられる。具体的には、例えば、特開２００６−３４４１６３号公報、特開２０１１−１２８８９６号公報等に開示されているパターンが挙げられる。
【００７１】
透明導電膜のパターン化は、一般的にはエッチングによって行われる。例えば、透明導電膜上に所定パターンのエッチングレジスト膜を、フォトリソグラフィ法、レーザー露光法、あるいは印刷法により形成した後エッチン処理することにより、透明導電膜がパターン化される。
エッチング液としては、従来公知のものが用いられる。例えば、塩化水素、臭化水素、硫酸、硝酸、リン酸等の無機酸、酢酸等の有機酸、およびこれらの混合物、ならびにそれらの水溶液が用いられる。
【実施例】
【００７２】
以下実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。なお、実施例中「部」とは「重量部」を意味する。実施例において使用した使用樹脂および評価方法は以下のとおりである。
【００７３】
１．ポリマー組成比（ＮＭＲ）
日本電子社製ＪＮＭ−ＡＬ４００のプロトンＮＭＲにて測定し、ポリマー組成比（モル比）を算出した。
【００７４】
２．比粘度
２０℃で塩化メチレン１００ｍｌにポリカーボネート樹脂（または樹脂組成物）０．７ｇを溶解した溶液からオストワルド粘度計を用いて求めた。
比粘度（ηＳＰ）＝（ｔ−ｔ０）／ｔ０
［ｔ０は塩化メチレンの落下秒数、ｔは試料溶液の落下秒数］
【００７５】
３．ガラス転移温度
ポリカーボネート樹脂（または樹脂組成物）８ｍｇを用いてティー・エイ・インスツルメント（株）製の熱分析システム  ＤＳＣ−２９１０を使用して、ＪＩＳ  Ｋ７１２１に準拠して窒素雰囲気下（窒素流量：４０ｍｌ／ｍｉｎ）、昇温速度：２０℃／ｍｉｎの条件下で測定した。
【００７６】
４．ゲル数
実施例で得られた光学フィルムをカラー３Ｄレーザ顕微鏡を用いて、５００ｍｍ×１０００ｍｍに存在する長軸の直径が３００μｍ以上の干渉縞を有するゲル数をフィルム１ｍ２中に換算して求めた。
【００７７】
５．位相差測定
実施例で得られた光学フィルムを日本分光（株）製  Ｓｐｅｃｔｒｏｅｌｌｉｐｓｏｍｅｔｅｒ  Ｍ−２２０を使用して測定した。
【００７８】
６．Ｈａｚｅ
実施例で得られた光学フィルムを用いて濁度計ＮＤＨ−２０００型（日本電色工業（株）製）を使用し、ＪＩＳ  Ｋ７１０５に準拠して、フィルムのＨａｚｅを測定した。
【００７９】
［参考例１］
＜ポリカーボネート樹脂の製造＞
温度計、撹拌機、還流冷却器付き反応器にイオン交換水２１５４０部、４８％水酸化ナトリウム水溶液４９３０部を入れ、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン（以下“ＢＣＦ”と略称することがある）２５８７部および２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（以下“ＢＰＡ”と略称することがある）２３４４部、ハイドロサルファイト１５部を溶解した後、塩化メチレン１４５３０部を加えた後撹拌下１５〜２５℃でホスゲン２２００部を６０分を要して吹き込んだ。ホスゲン吹き込み終了後、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール１０４．８部および４８％水酸化ナトリウム水溶液７０５部を加え、乳化後、トリエチルアミン５．９部を加えて２８〜３３℃で１時間撹拌して反応を終了した。反応終了後、生成物を塩化メチレンで希釈して水洗したのち塩酸で酸性にして水洗し、水相の導電率がイオン交換水とほぼ同じになったところで、ニーダーにて塩化メチレンを蒸発して、白色のポリカーボネート樹脂Ａ１を得た。樹脂Ａ１の比粘度、ガラス転移温度を測定し、表１に記載した。
【００８０】
［参考例２］
ＢＣＦ１２９４部、ＢＰＡ３１２６部を用いた他は、参考例１と全く同様の操作を行い、ポリカーボネート樹脂Ａ２を得た。該樹脂Ａ２の比粘度、ガラス転移温度を測定し、表１に記載した。
【００８１】
［参考例３］
ＢＣＦ４５２９部、ＢＰＡ１１７２部を用いた他は、参考例１と全く同様の操作を行い、ポリカーボネート樹脂Ａ３を得た。該樹脂Ａ３の比粘度、ガラス転移温度を測定し、表１に記載した。
【００８２】
［参考例４］
９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン（以下ＢＰＥＦと略す）１５０２部、ジフェニルカーボネート７４９．７部および触媒としてテトラメチルアンモニウムヒドロキシド３．６×１０−３部と炭酸水素ナトリウム１．６×１０−４部を窒素雰囲気下１８０℃に加熱し溶融させた。その後、３０分かけて減圧度を１３．４ｋＰａに調整した。その後、２０℃／ｈｒの速度で２７０℃まで昇温を行い、１０分間その温度で保持した後、１時間かけて減圧度を１３３Ｐａ以下とした。合計６時間撹拌下で反応を行った。
反応終了後、触媒量の１．５倍モルのドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩を添加し、触媒を失活した後、反応槽の底より窒素加圧下吐出し、水槽で冷却しながら、ペレタイザーでカットしてポリカーボネート樹脂Ｂ１を得た。樹脂Ｂ１の比粘度、ガラス転移温度を測定し、表１に記載した。
【００８３】
［参考例５］
ＢＰＥＦ１３５３部、ＢＣＦ１５１部、ジフェニルカーボネート７４９．７部および触媒としてテトラメチルアンモニウムヒドロキシド３．６×１０−３部と炭酸水素ナトリウム１．６×１０−４部を窒素雰囲気下１８０℃に加熱し溶融させた。その後、３０分かけて減圧度を１３．４ｋＰａに調整した。その後、２０℃／ｈｒの速度で２７０℃まで昇温を行い、１０分間その温度で保持した後、１時間かけて減圧度を１３３Ｐａ以下とした。合計６時間撹拌下で反応を行った。
反応終了後、触媒量の１．５倍モルのドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩を添加し、触媒を失活した後、反応槽の底より窒素加圧下吐出し、水槽で冷却しながら、ペレタイザーでカットしてポリカーボネート樹脂Ｂ２を得た。樹脂Ｂ２の比粘度、ガラス転移温度を測定し、表１に記載した。
【００８４】
［参考例６］
ＢＣＦ３８９部、３，９−ビス（１，１−ジメチル−２−ヒドロキシエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン（以下ＳＰＧと略す）７３０部、ジフェニルカーボネート７４９．７部および触媒として炭酸水素ナトリウム４．５×１０−３部を窒素雰囲気下１８０℃に加熱し溶融させた。その後、３０分かけて減圧度を１３．４ｋＰａに調整した。その後、２０℃／ｈｒの速度で２６０℃まで昇温を行い、１０分間その温度で保持した後、１時間かけて減圧度を１３３Ｐａ以下とした。合計６時間撹拌下で反応を行った。
反応終了後、触媒量の１．５倍モルのドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩を添加し、触媒を失活した後、反応槽の底より窒素加圧下吐出し、水槽で冷却しながら、ペレタイザーでカットしてポリカーボネート樹脂Ｃ１を得た。樹脂Ｃ１の比粘度、ガラス転移温度を測定し、表１に記載した。
【００８５】
［参考例７］
ＢＰＥＦ９０１部、ＢＣＦ２５９部、ＢＰＡ１５６部、ジフェニルカーボネート７４９．７部および触媒としてテトラメチルアンモニウムヒドロキシド３．６×１０−３部と炭酸水素ナトリウム１．６×１０−４部を窒素雰囲気下１８０℃に加熱し溶融させた。その後、３０分かけて減圧度を１３．４ｋＰａに調整した。その後、２０℃／ｈｒの速度で２７０℃まで昇温を行い、１０分間その温度で保持した後、１時間かけて減圧度を１３３Ｐａ以下とした。合計６時間撹拌下で反応を行った。
反応終了後、触媒量の１．５倍モルのドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩を添加し、触媒を失活した後、反応槽の底より窒素加圧下吐出し、水槽で冷却しながら、ペレタイザーでカットしてポリカーボネート樹脂Ｃ２を得た。樹脂Ｃ２の比粘度、ガラス転移温度を測定し、表１に記載した。
【００８６】
【表１】
0006464030.tif 000008
【００８７】
［実施例１］
＜樹脂組成物の製造＞
ポリカーボネート樹脂Ａ１を２５０部とポリカーボネート樹脂Ｂ１を７５０部とトリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト０．３部を、ベント付きΦ３０ｍｍ二軸押出機を用いてストランドを押出し、４０℃の温水にて冷却し、カットしてポリカーボネート樹脂組成物のペレットを得た。該ペレットの比粘度、ガラス転移温度を測定し、表２に記載した。
＜光学フィルムの製造＞
次に、（株）テクノベル製１５φ二軸押出混練機に幅１５０ｍｍ、リップ幅５００μｍのＴダイとフィルム引取り装置を取り付け、得られたペレットを２８０℃で溶融押出しフィルム成形することにより透明な押出しフィルムを得た。評価結果を表２に記載した。
【００８８】
［実施例２］
＜樹脂組成物の製造＞
ポリカーボネート樹脂Ａ１を２５０部とポリカーボネート樹脂Ｂ２を７５０部用いた他は実施例１と全く同様の操作を行い、ペレットを得た。該ペレットの比粘度、ガラス転移温度を測定し、表２に記載した。
＜光学フィルムの製造＞
次に、実施例１と全く同様の操作を行い、透明な押出しフィルムを得た。評価結果を表２に記載した。
【００８９】
［実施例３］
＜樹脂組成物の製造＞
ポリカーボネート樹脂Ａ２を５００部とポリカーボネート樹脂Ｂ１を５００部用いた他は実施例１と全く同様の操作を行い、ペレットを得た。該ペレットの比粘度、ガラス転移温度を測定し、表２に記載した。
＜光学フィルムの製造＞
次に、実施例１と全く同様の操作を行い、透明な押出しフィルムを得た。評価結果を表２に記載した。
【００９０】
［実施例４］
＜樹脂組成物の製造＞
ポリカーボネート樹脂Ａ２を５００部とポリカーボネート樹脂Ｂ２を５００部用いた他は実施例１と全く同様の操作を行い、ペレットを得た。該ペレットの比粘度、ガラス転移温度を測定し、表２に記載した。
＜光学フィルムの製造＞
次に、実施例１と全く同様の操作を行い、透明な押出しフィルムを得た。評価結果を表２に記載した。
【００９１】
［実施例５］
＜樹脂組成物の製造＞
ポリカーボネート樹脂Ａ３を１５０部とポリカーボネート樹脂Ｂ１を８５０部用いた他は実施例１と全く同様の操作を行い、ペレットを得た。該ペレットの比粘度、ガラス転移温度を測定し、表２に記載した。
＜光学フィルムの製造＞
次に、実施例１と全く同様の操作を行い、透明な押出しフィルムを得た。評価結果を表２に記載した。
【００９２】
［比較例１］
＜樹脂組成物の製造＞
ポリカーボネート樹脂Ａ１を１０００部用いた他は実施例１と全く同様の操作を行い、ペレットを得た。該ペレットの比粘度、ガラス転移温度を測定し、表２に記載した。
＜光学フィルムの製造＞
次に、実施例１と製膜温度を２８０℃から３００℃に変更した以外は全く同様の操作を行なった。評価結果を表２に記載した。溶融粘度が高いため、製膜温度を３００℃としたが、樹脂が分解し、フィルムが得られなかった。
【００９３】
［比較例２］
＜樹脂組成物の製造＞
ポリカーボネート樹脂Ａ１を２５０部と帝人社製パンライトＬ１２２５（ビスフェノールＡを原料として得られたポリカーボネート樹脂、以下ポリカーボネート樹脂Ｃ３と略す）を７５０部用いた他は実施例１と全く同様の操作を行い、ペレットを得た。該ペレットの比粘度、ガラス転移温度を測定し、表２に記載した。
＜光学フィルムの製造＞
次に、実施例１と全く同様の操作を行い、透明な押出しフィルムを得た。評価結果を表２に記載した。
【００９４】
［比較例３］
＜樹脂組成物の製造＞
ポリカーボネート樹脂Ｂ１を７５０部とポリカーボネート樹脂Ｃ１を２５０部用いた他は実施例１と全く同様の操作を行い、ペレットを得た。該ペレットの比粘度、ガラス転移温度を測定し、表２に記載した。
＜光学フィルムの製造＞
次に、実施例１と全く同様の操作を行い、フィルムを得た。得られたフィルムは非相溶のため、白濁していた。評価結果を表２に記載した。
【００９５】
［比較例４］
＜樹脂組成物の製造＞
ポリカーボネート樹脂Ｂ１を７５０部とポリカーボネート樹脂Ｃ３を２５０部用いた他は実施例１と全く同様の操作を行い、ペレットを得た。該ペレットの比粘度、ガラス転移温度を測定し、表２に記載した。
＜光学フィルムの製造＞
次に、実施例１と全く同様の操作を行い、透明な押出しフィルムを得た。評価結果を表２に記載した。
【００９６】
［比較例５］
＜樹脂組成物の製造＞
ポリカーボネート樹脂Ｃ２を１０００部用いた他は実施例１と全く同様の操作を行い、ペレットを得た。該ペレットの比粘度、ガラス転移温度を測定し、表２に記載した。
＜光学フィルムの製造＞
次に、実施例１と全く同様の操作を行い、透明な押出しフィルムを得た。評価結果を表２に記載した。
【００９７】
【表２】
0006464030.tif 000009
【産業上の利用可能性】
【００９８】
本発明の光学フィルムは、透明導電性フィルムの基板として有用である。