(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示面上を複数の画素領域に区画する画素定義壁と、
前記複数の画素領域の各々に位置する画素と、
前記複数の画素の各々に共通する共通電極とを備え、
前記共通電極は有色の光を透す機能を有し、
前記複数の画素の各々は、
前記画素領域内に位置する下部電極と、
前記画素領域内に位置し、前記下部電極を覆うＥＬ層とを備え、
前記共通電極は、前記ＥＬ層と前記画素定義壁とを覆い、
前記下部電極と前記共通電極とのいずれか一方は、
前記ＥＬ層と接する界面を有した陰極であり、前記ＥＬ層の出光する光の波長帯に含まれるプラズモン光を励起するように最頻ピッチが設定されたプラズモニック構造を前記界面に備え、
前記下部電極を基準とした高さ方向において、
前記画素定義壁の側面の途中まで前記側面は前記ＥＬ層に覆われ、
前記画素定義壁の有する高さは前記ＥＬ層の有する高さよりも大きく、
前記画素定義壁の側面において前記ＥＬ層に覆われる部分は、前記画素定義壁内に向けて凸となる曲率を有した曲面形状を有し、
前記下部電極は、前記ＥＬ層と接する面である下部電極面を備え、
前記画素定義壁の側面と前記下部電極面との形成する角度が３０°以上６０°以下であり、
前記画素定義壁の側面は、前記プラズモン光を当該プラズモン光が励起された前記画素領域内に向けて反射して当該画素領域から前記共通電極を透して出射させる
ＥＬ表示装置。
【請求項２】
前記画素定義壁の側面は平滑面である
請求項１に記載のＥＬ表示装置。
【請求項３】
前記共通電極は、陰極であり、
前記下部電極は、周期的な凹凸構造を有した陽極であり、
前記ＥＬ層は、前記凹凸構造に追従した凹凸形状を有し、
前記プラズモニック構造は、前記ＥＬ層の有する前記凹凸形状が反映された構造である
請求項１または２に記載のＥＬ表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、互いに異なる出光色を出射する複数の画素を備えるＥＬ表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
上述したＥＬ表示装置の一例として、例えば、特許文献１に記載のＥＬ表示装置では、ＥＬ素子の生成した光の一部が、ＥＬ素子の陰極表面にて表面プラズモンに変換されて熱として消費される。こうした表面プラズモンから熱への変換は、ＥＬ素子の生成した光の取り出し効率を下げる要因の一つとなっている。近年、上述したＥＬ表示装置においては、光の取り出し効率を高めるために、微細な凹凸の繰り返しである微細凹凸構造を陰極表面に形成することが提案されている。陰極表面に形成された微細凹凸構造は、表面プラズモンをプラズモン光に変換して陰極表面から出射させる（例えば、特許文献２、３参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１３−１１８１８２号公報
【特許文献２】特開２００４−０３１３５０号公報
【特許文献３】特開２００９−１５８４７８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、ＥＬ表示装置は、単一の色の光を照射する照明装置とは異なり、互いに異なる出光色の画素から互いに異なる色の光を出射する。例えば、赤色出光画素は赤色の光を出射し、緑色出光画素は緑色の光を出射し、青色出光画素は青色の光を出射する。ＥＬ表示装置の備える制御部は、互いに異なる出光色の画素に対して光の輝度を制御し、光の取り出される面にフルカラーの画像を表現する。
【０００５】
上述したように、微細凹凸構造を備えるＥＬ表示装置は、陰極とＥＬ層との界面において表面プラズモンをプラズモン光に変換する。この際に、互いに隣り合う画素が共通する１つの電極を有する構成では、微細凹凸構造によって変換されたプラズモン光は、画素間に共通した１つの電極を通じて画素間を伝播する。結果として、互いに隣り合う複数の画素においては、互いに異なる色が混ざる現象である混色が生じやすくなる。
【０００６】
本発明は、プラズモニック構造体を備えるＥＬ表示装置において互いに隣り合う画素間における混色を抑えることのできるＥＬ表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するためのＥＬ表示装置は、表示面上を複数の画素領域に区画する画素定義壁と、前記複数の画素領域の各々に位置する画素と、前記複数の画素の各々に共通する共通電極とを備える。前記複数の画素の各々は、前記画素領域内に位置する下部電極と、前記画素領域内に位置し、前記下部電極を覆うＥＬ層とを備える。また、前記共通電極は、前記ＥＬ層と前記画素定義壁とを覆い、前記下部電極と前記共通電極とのいずれか一方は、前記ＥＬ層と接する界面を有した陰極であり、前記ＥＬ層の出光する光の波長帯に含まれるプラズモン光を励起するように最頻ピッチが設定されたプラズモニック構造を前記界面に備える。そして、前記下部電極を基準とした高さ方向において、前記画素定義壁の側面の途中まで前記側面は前記ＥＬ層に覆われ、前記画素定義壁の有する高さは前記ＥＬ層の有する高さよりも大きい。
【０００８】
上記ＥＬ表示装置において、前記画素定義壁の側面において前記ＥＬ層に覆われる部分は、前記画素定義壁内に向けて凸となる曲率を有した曲面形状を有してもよい。
【０００９】
上記ＥＬ表示装置において、前記下部電極は、前記ＥＬ層と接する面である下部電極面を備え、前記画素定義壁の側面と前記下部電極面との形成する角度が３０°以上６０°以下であってもよい。
上記ＥＬ表示装置において、前記画素定義壁の側面は平滑面であってもよい。
【００１０】
上記ＥＬ表示装置において、前記共通電極は、陰極であり、前記下部電極は、周期的な凹凸構造を有した陽極であり、前記ＥＬ層は、前記凹凸構造に追従した凹凸形状を有し、前記プラズモニック構造は、前記ＥＬ層の有する前記凹凸形状が反映された構造であってもよい。
【発明の効果】
【００１１】
本発明のＥＬ表示装置によれば、プラズモニック構造体を備えるＥＬ表示装置において互いに隣り合う画素間における混色が抑えられる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】図１は、本発明のＥＬ表示装置を具体化した一実施形態におけるＥＬ表示装置の断面構造の一部を拡大して示す部分断面図であって、互いに隣り合う画素間における画素定義壁とＥＬ層との位置の関係を示す図である。
【図２】図２は、一実施形態における画素定義壁とＥＬ層との高さ方向における位置の関係を詳細に示す部分断面図である。
【図３】図３は、一実施形態における画素の作用を示す作用図である。
【図４】図４は、一実施形態のＥＬ表示装置の変形例における画素定義壁とＥＬ層との高さ方向における位置の関係を詳細に示す部分断面図である。
【図５】図５は、変形例における画素の作用を示す作用図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
図１から図５を参照して一実施形態におけるＥＬ表示装置を説明する。なお、一実施形態におけるＥＬ表示装置は、互いに異なる三色用のＥＬ層を備えるＥＬ表示装置であって、出光色が互いに異なる三色用の画素として、複数の赤色出光画素と、複数の緑色出光画素と、複数の青色出光画素とを備える。赤色出光画素は赤色の光を出射し、緑色出光画素は緑色の光を出射し、青色出光画素は青色の光を出射する。
【００１４】
図１が示すように、赤色出光画素１０Ｒは、基材１１の上に位置する赤色駆動部２０Ｒと、赤色駆動部２０Ｒの上に位置する赤色用のＥＬ構造体３０Ｒとを備えている。赤色駆動部２０Ｒと赤色用のＥＬ構造体３０Ｒとは、電気的に接続している。
【００１５】
赤色駆動部２０Ｒは、赤色出光画素１０Ｒを発光させる駆動電流を赤色用のＥＬ構造体３０Ｒに供給する。絶縁層１２は、赤色駆動部２０Ｒと、赤色用のＥＬ構造体３０Ｒとの間に挟まれている。絶縁層１２は、赤色駆動部２０Ｒと赤色用のＥＬ構造体３０Ｒとの電気的な接触を制限し、また、互いに隣り合う画素回路同士を絶縁する。絶縁層１２において赤色用のＥＬ構造体３０Ｒに接触する面は平坦面である。
【００１６】
赤色用のＥＬ構造体３０Ｒは、赤色用の陽極層１４Ｒと、赤色用のＥＬ層１５Ｒとを備えている。赤色用の陽極層１４Ｒは、ＥＬ層を挟む２つの電極のなかで基材１１に近い電極である下部電極の一例である。赤色用の陽極層１４Ｒは、絶縁層１２を貫通するプラグ１３Ｒを通じて赤色駆動部２０Ｒに接続し、赤色駆動部２０Ｒは、赤色用の陽極層１４Ｒへ駆動電流を供給する。赤色用のＥＬ構造体３０Ｒは、陰極層１６に覆われている。陰極層１６は、赤色用のＥＬ構造体３０Ｒ、緑色用のＥＬ構造体３０Ｇ、および、青色用のＥＬ構造体３０Ｂに共通する電極である共通電極の一例である。
【００１７】
陰極層１６と赤色用の陽極層１４Ｒとの間に電流が流れるとき、赤色用の陽極層１４Ｒから赤色用のＥＬ層１５Ｒにホールが注入され、かつ、陰極としての機能を有した陰極層１６から赤色用のＥＬ層１５Ｒに電子が注入される。赤色用のＥＬ層１５Ｒに注入されたホールと電子との結合によって、赤色用のＥＬ層１５Ｒは、赤色の光を生成する。赤色の光は、緑色の光、および、青色の光とは異なるスペクトルを有し、例えば、６２０ｎｍと７５０ｎｍとの間でブロードなピークを示す。
【００１８】
陰極層１６は、有色の光を反射する機能を有してもよいし、有色の光を透す機能を有してもよい。陰極層１６が有色の光を反射する機能を有するとき、赤色用の陽極層１４Ｒは有色の光を透す光透過性を有し、ＥＬ表示装置は、ボトムエミッション型として機能する。陰極層１６が有色の光を透す機能を有するとき、赤色用の陽極層１４Ｒは有色の光を反射する光反射性を有し、ＥＬ表示装置は、トップエミッション型として機能する。陰極層１６が有色の光を反射するとき、陰極層１６は有色の光を反射する１つの層から構成されてもよいし、有色の光を透す機能を有する層と、有色の光を反射する反射層とを含む多層構造であってもよい。赤色用の陽極層１４Ｒが赤色の光を反射するとき、赤色用の陽極層１４Ｒは赤色の光を反射する１つの層から構成されてもよいし、赤色の光を透す機能を有する層と、赤色の光を反射する反射層とを含む多層構造であってもよい。
【００１９】
陰極層１６は、赤色用のＥＬ層１５Ｒと陰極層１６との界面を構成する赤色用の陰極面１６ＲＳを有している。赤色用の陰極面１６ＲＳは、赤色用の陰極面１６ＲＳにて繰り返される複数の段差部から構成される赤色用の微細凹凸構造を有している。赤色用の微細凹凸構造は、プラズモニック構造であり、赤色用のプラズモニック構造にて、互いに隣り合う段差部の間の間隔は、赤色用ピッチであり、各段差の大きさは、赤色用段差である。赤色用のプラズモニック構造において、赤色用ピッチは、赤色用の陰極面１６ＲＳにて段差部の繰り返される周期長である。
【００２０】
赤色用ピッチは、赤色の光の生成時に生成される表面プラズモンを、赤色の光として空気中に取り出させる大きさに設定される。赤色用ピッチの最頻値である最頻ピッチは、赤色用のＥＬ層１５Ｒの発光時に、赤色用のプラズモニック構造がプラズモン光を励起する大きさに設定されている。プラズモニック構造の励起するプラズモン光の波長は、互いに隣り合う段差部の間の間隔によって定められる。そして、赤色用のプラズモニック構造の生成するプラズモン光の波長は、赤色出光画素１０Ｒの出射する光のスペクトルである出光スペクトルにおいて、ピークの半値幅に対応する波長帯に含まれている。なお、赤色出光画素１０Ｒの出光ピークにおいて、輝度の最大値は、最大輝度として定められ、最大輝度の半分の値を示す２つの波長間の間隔は、赤色用ピークの半値幅として定められる。そして、最大輝度の半分の値を示す２つの波長間が、赤色用のピークの半値幅に対応する波長帯として定められる。
【００２１】
赤色用ピッチの最頻値は、以下のようにして得られる。すなわち、赤色用のプラズモニック構造の形成された陰極面１６ＲＳにおいて、赤色用ピッチの最頻ピッチの凡そ３０倍以上４０倍以下となる正方形の測定対象領域が無作為に抽出される。次いで、測定対象領域に対する原子間力顕微鏡イメージが得られる。例えば、最頻ピッチが１０μｍである場合には、３００μｍ×３００μｍ以上４００μｍ×４００μｍ以下の測定対象領域に対し、原子間力顕微鏡イメージが得られる。なお、ここで得られる原子間力顕微鏡イメージは、プラズモニック構造の平面視によって得られるイメージである。続いて、原子間力顕微鏡イメージが高速フーリエ変換によって波形分離されて高速フーリエ変換像が得られる。そして、高速フーリエ変換像のプロファイルにおける０次ピークから１次ピークまでの距離が求められ、こうして求められた距離の逆数が、この測定対象領域における最頻ピッチとして取扱われる。
【００２２】
上述と同様の方法によって、互いに異なる２５ヶ所の測定対象領域の各々に対して、最頻ピッチが求められる。そして、２５カ所の測定対象における最頻ピッチの平均値が、赤色用のプラズモニック構造における最頻ピッチとして取扱われる。なお、この際、測定対象領域同士は、少なくとも１ｍｍは離れて選択されることが好ましく、５ｍｍ以上１ｃｍ以下は離れて選択されることがより好ましい。
【００２３】
赤色の光の生成時に生成される表面プラズモンが、赤色の輻射光に変換される度合いに関し、赤色用段差の寄与は、赤色用ピッチの寄与に比べて小さい。なお、赤色用段差が１２ｎｍ未満である構成では、表面プラズモンの回折波そのものが生成されがたいため、表面プラズモンが輻射光として取り出しがたい。赤色用段差が１８０ｎｍを越える構成では、表面プラズモンが局在するため、表面プラズモンが輻射光として取り出しがたい。また、赤色用段差が１８０ｎｍを越える構成では、段差が大きいことに起因し、赤色用のＥＬ層１５Ｒが過度に薄い部分において、陰極層１６と赤色用の陽極層１４Ｒとが短絡しやすい。
【００２４】
赤色用のＥＬ層１５Ｒは、赤色用の発光層を備えている。赤色用の発光層は、陰極層１６から送られる電子と、赤色用の陽極層１４Ｒから送られるホールとを結合して、赤色の光を生成する。赤色用のＥＬ層１５Ｒは、赤色の光を生成するために、赤色用の発光層以外の他の機能層を含んでもよい。赤色用のＥＬ構造体３０Ｒは、赤色の光の生成効率を高めるために、赤色用の発光層以外の他の機能層を含むことが好ましい。赤色用のＥＬ構造体３０Ｒは、他の機能層を省略して、赤色用の発光層のみから構成されてもよい。赤色用のＥＬ構造体３０Ｒを構成する材料は、赤色の光を生成する材料であれば、特に限定されず、低分子形有機材料でもよいし、高分子系有機材料でもよいし、無機材料でもよいし、公知の材料を用いることができる。
【００２５】
赤色用のプラズモニック構造は、赤色用の陰極面１６ＲＳにて複数の段差部が繰り返される段差構造である。赤色用のプラズモニック構造は、一次元方向に沿って複数の段差部が繰り返される一次元の周期構造でもよいが、光の取り出し効率が高まる点において、二次元の周期構造である方が好ましい。
【００２６】
赤色用のプラズモニック構造は、例えば、二次元方向に沿って周期的に位置する格子点に段差部が配置された二次元格子構造である。二次元格子構造とは、少なくとも２つの方向に沿って段差部が並ぶ構造である。二次元格子構造の１つの例は、互いに異なる２つの方向に沿って段差部が並び、段差部の並ぶ２つの方向のなす角度が９０°である正方格子構造である。二次元格子構造の１つの例は、互いに異なる３つの方向に沿って段差部が並び、段差部の並ぶ３つの方向のうち２つの方向のなす角度が６０°である六方格子構造である。
【００２７】
赤色用のプラズモニック構造における段差部は、赤色用の陰極面１６ＲＳにて突き出る複数の突部によって構成されてもよいし、赤色用の陰極面１６ＲＳにて窪む複数の窪みによって構成されてもよい。赤色用のプラズモニック構造における段差部が、突部によって構成されるとき、突部の形状は、赤色用の陰極面１６ＲＳにて突き出る形状であれば、特に限定されず、例えば、円錐形状、円柱形状、半球形状、角錐形状、角柱形状、円錐台形状、角錐台形状であってもよいし、これらのうちの１つを基本として派生する形状であってもよい。赤色用のプラズモニック構造における段差部が、窪みによって構成されるとき、窪みの形状は、赤色用の陰極面１６ＲＳにて窪む形状であれば、特に限定されない。窪みの形状は、例えば、円形孔形状、角形孔形状、深さ方向に沿って縮径した円形孔形状、深さ方向に沿って縮径した角形孔形状であってもよい。
【００２８】
赤色用のプラズモニック構造は、赤色用の陽極層１４Ｒの表面に形成された周期的な凹凸構造を反映したものである。赤色用の陽極層１４Ｒの表面に形成された周期的な凹凸構造は、赤色用のＥＬ層１５Ｒを通じて、赤色用の陰極面１６ＲＳにプラズモニック構造を形成するための構造である。赤色用のＥＬ層１５Ｒは、赤色用の陽極層１４Ｒの表面に形成された凹凸構造に追従した凹凸形状を有し、赤色の光を空間中に出射させるプラズモニック構造を陰極面１６ＲＳに形成している。
【００２９】
赤色用の発光層が光を生成するとき、赤色用の発光層の近傍には、近接場光が発生する。赤色用の発光層と陰極層１６との間の距離は、赤色用の陰極面１６ＲＳにて表面プラズモンが生成される程度に非常に短いため、赤色用の陰極面１６ＲＳでは、近接場光が表面プラズモンに変換される。
【００３０】
ここで、赤色用の陰極面１６ＲＳに生成される表面プラズモンとは、近接場光によって生じる自由電子の粗密波が、表面電磁場をともなうものである。赤色用の陰極面１６ＲＳが平坦面であるとき、平坦な金属面に生成される表面プラズモンの分散曲線と、赤色の光の分散曲線とが交差しないため、表面プラズモンのエネルギーは、光として取り出されず、概ね熱として消費される。
【００３１】
これに対して、赤色用の陰極面１６ＲＳが、赤色用のプラズモニック構造を有するとき、赤色用のプラズモニック構造によって回折する光の分散曲線と、赤色用の陰極面１６ＲＳに生成される表面プラズモンの分散曲線とが交差する。結果として、赤色の光の生成時に生成された表面プラズモンのエネルギーは、赤色の輻射光として取り出される。
【００３２】
なお、赤色用の陰極面１６ＲＳと赤色用の発光層との距離が短いほど、赤色用の発光層の生成する光は、赤色用の陰極面１６ＲＳにて、表面プラズモンに変換されやすい。赤色用のＥＬ層１５Ｒは、赤色の光を生成するために、赤色用の発光層以外の他の機能層を含んでもよいが、赤色用の発光層と赤色用の陰極面１６ＲＳとの距離は短いほど、赤色の輻射光の取り出される効果は高まる。
【００３３】
緑色出光画素１０Ｇは、赤色出光画素１０Ｒと共通する基材１１の上に、緑色駆動部２０Ｇと、緑色駆動部２０Ｇの上に位置する緑色用のＥＬ構造体３０Ｇとを備えている。緑色駆動部２０Ｇと緑色用のＥＬ構造体３０Ｇとは、電気的に接続している。緑色用のＥＬ構造体３０Ｇは、下部電極の一例である緑色用の陽極層１４Ｇと、緑色用のＥＬ層１５Ｇとを備えている。緑色用の陽極層１４Ｇは、絶縁層１２を貫通するプラグ１３Ｇを通じて緑色駆動部２０Ｇに接続し、緑色駆動部２０Ｇは、緑色用の陽極層１４Ｇへ駆動電流を供給する。
【００３４】
陰極層１６と緑色用の陽極層１４Ｇとの間に電流が流れるとき、緑色用のＥＬ層１５Ｇは、緑色の光を生成する。緑色の光は、赤色の光、および、青色の光とは異なるスペクトルを有し、例えば、４９５ｎｍと５７０ｎｍとの間でブロードなピークを示す。
【００３５】
陰極層１６は、緑色用のＥＬ層１５Ｇと陰極層１６との界面を構成する緑色用の陰極面１６ＧＳを有している。緑色用の陰極面１６ＧＳは、緑色用の陰極面１６ＧＳにて繰り返される複数の段差部から構成される緑色用の微細凹凸構造を有している。緑色用の微細凹凸構造は、赤色用の微細凹凸構造と同じく、プラズモニック構造であり、緑色用のプラズモニック構造にて、互いに隣り合う段差部の間の間隔は、緑色用ピッチであり、各段差の大きさは、緑色用段差である。緑色用のプラズモニック構造において、緑色用ピッチは、緑色用の陰極面１６ＧＳにて段差部の繰り返される周期長である。
【００３６】
緑色用ピッチは、緑色の光の生成時に生成される表面プラズモンを、緑色の光として空気中に取り出させる大きさに設定される。緑色用ピッチの最頻値である最頻ピッチは、緑色用のＥＬ層１５Ｇの発光時に、緑色用のプラズモニック構造がプラズモン光を励起する大きさに設定されている。なお、緑色用ピッチの最頻値は、赤色用ピッチの最頻値と同じくして得られる。
【００３７】
緑色用のＥＬ層１５Ｇは、緑色用の発光層を備えている。緑色用の発光層は、陰極層１６から送られる電子と、緑色用の陽極層１４Ｇから送られるホールとを結合して、緑色の光を生成する。緑色用のＥＬ層１５Ｇは、赤色用のＥＬ層１５Ｒと同じく、緑色の光を生成するために、緑色用の発光層以外の他の機能層を含んでもよい。
【００３８】
青色出光画素１０Ｂは、赤色出光画素１０Ｒ、および、緑色出光画素１０Ｇと共通する基材１１の上に、青色駆動部２０Ｂと、青色駆動部２０Ｂの上に位置する青色用のＥＬ構造体３０Ｂとを備えている。青色駆動部２０Ｂと青色用のＥＬ構造体３０Ｂとは、電気的に接続している。青色用のＥＬ構造体３０Ｂは、下部電極の一例である青色用の陽極層１４Ｂと、青色用のＥＬ層１５Ｂとを備えている。青色用の陽極層１４Ｂは、絶縁層１２を貫通するプラグ１３Ｂを通じて青色駆動部２０Ｂに接続し、青色駆動部２０Ｂは、青色用の陽極層１４Ｂへ駆動電流を供給する。
【００３９】
陰極層１６と青色用の陽極層１４Ｂとの間に電流が流れるとき、青色用のＥＬ層１５Ｂは、青色の光を生成する。青色の光は、赤色の光、および、緑色の光とは異なるスペクトルを有し、例えば、４５０ｎｍと４９５ｎｍとの間でブロードなピークを示す。
【００４０】
陰極層１６は、青色用のＥＬ層１５Ｂと陰極層１６との界面を構成する青色用の陰極面１６ＢＳを有している。青色用の陰極面１６ＢＳは、青色用の陰極面１６ＢＳにて繰り返される複数の段差部から構成される青色用の微細凹凸構造を有している。青色用の微細凹凸構造は、赤色用の微細凹凸構造と同じく、プラズモニック構造であり、青色用のプラズモニック構造にて、互いに隣り合う段差部の間の間隔は、青色用ピッチであり、各段差の大きさは、青色用段差である。青色用のプラズモニック構造において、青色用ピッチは、青色用の陰極面１６ＢＳにて段差部の繰り返される周期長である。
【００４１】
青色用ピッチは、青色の光の生成時に生成される表面プラズモンを、青色の光として空気中に取り出させる大きさに設定される。青色用ピッチの最頻値である最頻ピッチは、青色用のＥＬ層１５Ｇの発光時に、青色用のプラズモニック構造がプラズモン光を励起する大きさに設定されている。なお、青色用ピッチの最頻値は、赤色用ピッチの最頻値と同じくして得られる。
【００４２】
青色用のＥＬ層１５Ｇは、青色用の発光層を備えている。青色用の発光層は、陰極層１６から送られる電子と、青色用の陽極層１４Ｂから送られるホールとを結合して、青色の光を生成する。青色用のＥＬ層１５Ｂは、赤色用のＥＬ層１５Ｒと同じく、青色の光を生成するために、青色用の発光層以外の他の機能層を含んでもよい。
【００４３】
赤色用のＥＬ構造体３０Ｒ、緑色用のＥＬ構造体３０Ｇ、および、青色用のＥＬ構造体３０Ｂから構成される複数のＥＬ構造体３０Ｒ，３０Ｇ，３０Ｂの各々は、他のＥＬ構造体に対し、画素定義壁４０によって区画されている。画素定義壁４０は、絶縁層１２の表面から突き出た構造体であって、複数の画素が並ぶ面である表示面上を、画素が位置する領域である複数の画素領域に区画している。また、画素定義壁４０は、陽極層１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂの縁と、陰極層１６との間隔を広げ、陽極層１４Ｒ，１４Ｒ，１４Ｂの縁で電界が集中する現象を抑えることによって、陽極層１４Ｒ，１４Ｒ，１４Ｂと陰極層１６との短絡を抑える。
【００４４】
画素定義壁４０は、有機材料から形成されてもよいし、無機材料から形成されてもよい。画素定義壁４０を形成する有機材料には、例えば、ポリスチレン系樹脂、ポリアクリロニトリル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、フッ素系樹脂、エポキシ系樹脂、シロキサン系樹脂などが用いられる。画素定義壁４０を形成する無機材料には、非晶質シリコン、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜、シリコン酸窒化膜などが用いられる。
【００４５】
次に、各ＥＬ層１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂと画素定義壁４０との間の相対的な位置の関係を図２、および、図３を参照して以下に説明する。なお、緑色用のＥＬ層１５Ｇと画素定義壁４０との間の相対的な位置の関係、および、青色用のＥＬ層１５Ｂと画素定義壁４０との間の相対的な位置の関係は、赤色用のＥＬ層１５Ｒと画素定義壁４０との間の相対的な位置の関係に準じている。そのため、以下では、赤色用のＥＬ層１５Ｒと画素定義壁４０との間の相対的な位置の関係、および、緑色用のＥＬ層１５Ｇと画素定義壁４０との間の相対的な位置の関係を詳細に説明する。
【００４６】
図２が示すように、赤色出光画素１０Ｒと緑色出光画素１０Ｇとを区画する画素定義壁４０は、赤色用の陽極層１４Ｒの縁と、緑色用の陽極層１４Ｇの縁とを覆っている。また、赤色出光画素１０Ｒと緑色出光画素１０Ｇとを区画する画素定義壁４０は、赤色用の陽極層１４Ｒの縁、および、緑色用の陽極層１４Ｇの縁から、これら陽極層１４Ｒ，１４Ｇの厚さ方向に沿って突き出ている。
【００４７】
画素定義壁４０は、赤色用の陽極層１４Ｒの縁や緑色用の陽極層１４Ｇの縁と直交する断面において台形形状を有している。画素定義壁４０は、赤色用の陽極層１４Ｒの縁から立ち上がる赤色用の側面４０Ｓを有し、赤色用の側面４０Ｓは、上述した台形形状の斜辺を形成している。また、画素定義壁４０は、緑色用の陽極層１４Ｇの縁から立ち上がる緑色用の側面４０Ｓを有し、緑色用の側面４０Ｓもまた、上述した台形形状の斜辺を形成している。
【００４８】
赤色用の陽極層１４Ｒの厚さ方向は、赤色用の陽極層１４Ｒの表面を基準とした高さ方向であり、この高さ方向において、赤色用の側面４０Ｓの途中まで、その側面４０Ｓは赤色用のＥＬ層１５Ｒに覆われている。そして、赤色用の陽極層１４Ｒの表面を基準として、画素定義壁４０の有する高さＨＰは、赤色用のＥＬ層１５Ｒの有する高さＨＥよりも大きい。
【００４９】
緑色用の陽極層１４Ｇの厚さ方向は、緑色用の陽極層１４Ｇの表面を基準とした高さ方向であり、この高さ方向において、緑色用の側面４０Ｓの途中まで、その側面４０Ｓは緑色用のＥＬ層１５Ｇに覆われている。そして、緑色用の陽極層１４Ｇの表面を基準として、画素定義壁４０の有する高さＨＰは、緑色用の発光層の有する高さよりも大きい。赤色用の陽極層１４Ｒの表面と、赤色用の側面４０Ｓとの形成する角度θは、３０°以上６０°以下であることが好ましい。
【００５０】
角度θが３０°以上であれば、赤色出光画素１０Ｒの縁において生成された光が、赤色出光画素１０Ｒに隣接する緑色出光画素１０Ｇに周り込むことが抑えられやすくなる。また、角度θが６０°以下であれば、高さ方向において、赤色用の側面４０Ｓにおける途中まで赤色用のＥＬ層１５Ｒが側面４０Ｓを覆うことが容易であって、赤色用のＥＬ層１５Ｒのなかで、赤色用の側面４０Ｓを覆う部分と、赤色用の陽極層１４Ｒを覆う部分との間に歪みが生じることが抑えられる。また、角度θが６０°以下であれば、赤色用の陽極層１４Ｒの表面に沿った方向において、赤色用のＥＬ層１５Ｒの位置精度に関し、誤差の許容範囲を確保することが容易でもある。
【００５１】
なお、緑色用の陽極層１４Ｇの表面と、緑色用の側面４０Ｓとの形成する角度もまた、３０°以上６０°以下であることが好ましい。こうした緑色用の側面４０Ｓによれば、上述した赤色出光画素１０Ｒにおいて得られる効果に準じた効果が、緑色出光画素１０Ｇにおいても得られる。
【００５２】
図３が示すように、上記画素定義壁４０と発光層との相対的な位置の関係によれば、赤色用のＥＬ層１５Ｒからさらに立ち上がる側面４０Ｓを画素定義壁４０が有するため、赤色用の陰極面１６ＲＳで生成されたプラズモン光は、緑色出光画素１０Ｇに伝播する前に、赤色用の側面４０Ｓにおいて反射、あるいは、屈折する。そして、画素定義壁４０の側面４０Ｓにおいて反射、あるいは、屈折したプラズモン光は、緑色出光画素１０Ｇではなく、それが属した赤色出光画素１０Ｒから出射される確率を高める。
【００５３】
言い換えれば、赤色用のＥＬ層１５Ｒにおける上端部と、赤色用の側面４０Ｓにおける上端部とを結ぶ線が仮想線Ｌであるとき、赤色用のＥＬ層１５Ｒにおいて生成された光、および、それの変換光であるプラズモン光は、仮想線Ｌよりも赤色出光画素１０Ｒの内側の領域Ｓにおいて輝度を高める。
【００５４】
また、上記画素定義壁４０と発光層との相対的な位置の関係によれば、緑色用のＥＬ層１５Ｇからさらに立ち上がる側面４０Ｓも画素定義壁４０が有するため、緑色用の陰極面１６ＧＳで生成されたプラズモン光は、赤色出光画素１０Ｒに伝播する前に、緑色用の側面４０Ｓにおいて反射、あるいは、屈折する。そして、画素定義壁４０の側面４０Ｓにおいて反射、あるいは、屈折したプラズモン光は、赤色出光画素１０Ｒではなく、それが属した緑色出光画素１０Ｇから出射される確率を高める。
【００５５】
言い換えれば、緑色用のＥＬ層１５Ｇにおける上端部と、緑色用の側面４０Ｓにおける上端部とを結ぶ線が仮想線Ｌであるとき、緑色用のＥＬ層１５Ｇにおいて生成された光、および、それの変換光であるプラズモン光は、仮想線Ｌよりも緑色出光画素１０Ｇの内側の領域Ｓにおいて輝度を高める。
【００５６】
なお、赤色用のＥＬ層１５Ｒが、赤色用の側面４０Ｓの全体を覆う構成では、赤色用の側面４０Ｓ上において生成された光が、緑色出光画素１０Ｇ上に向けて出射されやすい。特に、赤色用のＥＬ層１５Ｒと陰極層１６との界面である赤色用の陰極面１６ＲＳにおいてプラズモン光が生成される構成にあっては、赤色用のＥＬ層１５Ｒにおける縁において生成されたプラズモン光が緑色出光画素１０Ｇ上に向けて直接出射されやすい。この点、上述した構成であれば、赤色用のＥＬ層１５Ｒにおける縁と、緑色出光画素１０Ｇ上との間に赤色用の側面４０Ｓが位置するため、赤色出光画素１０Ｒにおいて生成された光が緑色出光画素１０Ｇ上に向けて出射されることが抑えられる。
【００５７】
一方で、赤色用のＥＬ層１５Ｒが、赤色用の側面４０Ｓを覆わない構成では、赤色用の陽極層１４Ｒが広がる方向において、赤色用のＥＬ層１５Ｒにおける縁の位置と、赤色用の側面４０Ｓにおける縁の位置とを確実に整合させる必要がある。この点、上述した構成であれば、赤色用のＥＬ層１５Ｒにおける縁は、赤色用の陽極層１４Ｒが広がる方向において、赤色用の側面４０Ｓ上に位置すればよい。それゆえに、赤色用の陽極層１４Ｒが広がる方向において、赤色用のＥＬ層１５Ｒにおける位置精度に関し、許容範囲を確保することが可能でもある。
【００５８】
結果として、赤色用のＥＬ層１５Ｒや緑色用のＥＬ層１５Ｇにおける位置精度の許容範囲を確保し、かつ、赤色出光画素１０Ｒと緑色出光画素１０Ｇとに共通する陰極層１６を通じてプラズモン光が伝播することが抑えられ、赤色出光画素１０Ｒと緑色出光画素１０Ｇとの間における混色が抑えられる。
【００５９】
なお、画素定義壁４０における側面４０Ｓの高さと、それの一部を覆うＥＬ層の高さとの相対的な位置の関係は、全てのＥＬ層１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂの各々において同様である。それゆえに、プラズモン光の伝播が抑えられることは、赤色出光画素１０Ｒと青色出光画素１０Ｂとの間、および、緑色出光画素１０Ｇと青色出光画素１０Ｂとの間においても、赤色出光画素１０Ｒと緑色出光画素１０Ｇとの間と同様である。したがって、上述したＥＬ表示装置であれば、出光色が互いに異なる全ての画素の間において混色が抑えられる。
【００６０】
以上、上記実施形態によれば以下に列記する効果が得られる。
（１）赤色出光画素１０Ｒを区画する画素定義壁４０の側面４０Ｓに対し、高さ方向の途中まで赤色用のＥＬ層１５Ｒが側面４０Ｓを覆う。そのため、ＥＬ層１５Ｒの位置精度の誤差に対して許容範囲を確保しつつ、赤色出光画素１０Ｒにおいて生成された光が、励起されたプラズモン光を含め、緑色出光画素１０Ｇの出射する光に混色することが抑えられる。
【００６１】
（２）複数の画素の各々を区画する画素定義壁４０の側面４０Ｓに対し、高さ方向の途中までその画素を構成するＥＬ層が側面４０Ｓを覆う。そのため、各色用のＥＬ層の位置精度の誤差に対して許容範囲を確保しつつ、互いに隣り合う画素間においては、一方の画素において生成された光が、他方の画素の出射する光に混色することが抑えられる。
【００６２】
（３）陽極層１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｇの表面と、陽極層１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂの縁から立ち上がる側面４０Ｓとの形成する角度θが、３０°以上６０°以下である。それゆえに、上記（１）（２）に記載の効果がさらに得られやすい。
【００６３】
（４）プラズモニック構造を含む陰極層１６が、互いに隣り合う画素間に共通する共通電極であって、互いに隣り合う２つの画素を区画する画素定義壁４０を覆う。このように、共通電極がプラズモニック構造を含む構成においては、互いに隣り合う画素間での混色が生じやすいため、上述した混色の抑制がさらに顕著になる。
【００６４】
なお、上記実施形態は以下のように変更して実施することができる。
［画素定義壁４０］
・画素定義壁４０の側面４０ＳにおいてＥＬ層に覆われる部分は、画素定義壁４０内に向けて凸となる曲率を有した曲面形状を有してもよい。
例えば、図４が示すように、赤色用の側面４０Ｓは、赤色用の陽極層１４Ｒにおける縁が延びる方向と直交する断面において、画素定義壁４０内に向けて凸となる曲率Ｒを有している。緑色用の側面４０Ｓもまた、緑色用の陽極層１４Ｇにおける縁が延びる方向と直交する断面において、画素定義壁４０内に向けて凸となる曲率Ｒを有している。
【００６５】
図５が示すように、赤色用のＥＬ層１５Ｒと、陰極層１６との界面である赤色用の陰極面１６ＲＳにおいて生成されたプラズモン光の一部は、図５の矢印ＥＲが示すように、赤色用の側面４０Ｓに向けて直接進行し、赤色用の側面４０Ｓによって反射される。この際に、赤色用の側面４０Ｓが曲率Ｒを有する構成であれば、画素定義壁４０の側面４０Ｓにおいて反射された光は、それが属した赤色出光画素１０Ｒ上に向けて進み、それが属した画素内において出射されやすくなる。
【００６６】
また、緑色用のＥＬ層１５Ｇと、陰極層１６との界面である緑色用の陰極面１６ＧＳにおいて生成されたプラズモン光の一部は、これもまた、図５の矢印ＥＧが示すように、緑色用の側面４０Ｓに向けて直接進行し、緑色用の側面４０Ｓによって反射される。この際に、赤色用の側面４０Ｓが曲率Ｒを有する構成であれば、画素定義壁４０の側面４０Ｓにおいて反射された光は、それが属した緑色出光画素１０Ｇ上に向けて進み、それが属した画素内において出射されやすくなる。
【００６７】
・画素定義壁４０の側面４０Ｓは、ＥＬ層によって覆われる部分も含めて、平滑面であってもよい。すなわち、陽極層１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂの凹凸構造における凹部が埋められるように画素定義壁４０が形成され、陽極層１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂの表面から立ち上がる側面４０Ｓは、陽極層１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂの凹凸構造を反映しない平滑面として形成されてもよい。側面４０Ｓが平滑面である構成であれば、ＥＬ層の表面のなかで側面４０Ｓを覆う部分においても陰極面１６ＲＳ，１６ＧＳ，１６ＢＳが平滑面として形成されやすい。それゆえに、画素定義壁４０の側面４０Ｓ上においてはプラズモン光の生成が抑えられ、これに起因した混色も抑えられる。
【００６８】
・画素定義壁４０の側面４０Ｓが有する形状は、例えば、陽極層１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂの縁が延びる方向と直交する断面において、微細な凹凸面形状、曲面形状、平滑面形状の他に、例えば、階段形状であってもよいし、高さ方向の先端部においては画素内に向けて反り返る形状であってもよい。
【００６９】
・画素定義壁４０の側面４０Ｓが有する形状は、例えば、赤色用の側面４０Ｓと緑色用の側面４０Ｓとの間において互いに異なってもよいし、赤色用の側面４０Ｓと青色用の側面４０Ｓとの間において互いに異なってもよいし、緑色用の側面４０Ｓと青色用の側面４０Ｓとの間において互いに異なってもよい。
【００７０】
［ＥＬ層］
・各色用のＥＬ層１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂが有する高さＨＥは、対応する色用の側面４０Ｓが有する高さＨＰよりも小さければ、色ごとに異なっていてもよい。
・側面４０Ｓの有する高さＨＰに対し、各色用のＥＬ層１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂの有する高さＨＥの比率は、５０％以下であることが好ましい。高さＨＰに対する高さＨＥの比率が５０％以下である構成であれば、上記（１）〜（４）に準じた効果がさらに高められる。
【００７１】
［プラズモニック構造］
・各色用の陽極層１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂのなかの少なくとも１つの表面は、周期的な凹凸構造を有しなくともよい。この際に、陽極層の表面が周期的な凹凸構造を有しない画素においては、プラズモニック構造を形成するための凹凸構造が、別途、ＥＬ層の表面に形成される構成であればよい。
【００７２】
例えば、赤色用の陽極層１４Ｒにおける表面が周期的な凹凸構造を有していない構成であれば、プラズモニック構造を形成するための凹凸構造が、別途、赤色用のＥＬ層１５Ｒの表面に形成される。また、例えば、全ての色用の陽極層１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂにおける表面が周期的な凹凸構造を有していない構成であれば、プラズモニック構造を形成するための凹凸構造が、別途、全ての色用のＥＬ層１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂの表面に形成される。
【００７３】
・各色用の陽極層１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂのなかの少なくとも１つでは、その下地層が周期的な凹凸構造を有してもよい。この際に、下地層における周期的な凹凸構造は、陽極層、および、ＥＬ層を通じて、陰極面にプラズモニック構造を形成するための構造である。
【００７４】
例えば、赤色用の陽極層１４Ｒに対する下地層が周期的な凹凸構造を有している構成であれば、赤色用の陽極層１４Ｒに対する下地層の凹凸構造に追従して、赤色用の陰極面１６ＲＳにプラズモニック構造が形成されている。また、例えば、全ての色用の陽極層１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂに対する下地層が周期的な凹凸構造を有している構成であれば、各色用の陽極層１４Ｒ，１４Ｇ，１４Ｂに対する下地層の凹凸構造に追従して、各色用の陰極面１６ＲＳ，１６ＧＳ，１６ＢＳにプラズモニック構造が形成されている。
・各色出光画素１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｇの各々において、下部電極は画素ごとの陰極層であり、共通電極は陽極層であってもよい。
【符号の説明】
【００７５】
θ…角度、Ｒ…曲率、ＨＥ，ＨＰ…高さ、１０Ｒ…赤色出光画素、１０Ｇ…緑色出光画素、１０Ｂ…青色出光画素、１４Ｒ…赤色用の陽極層、１４Ｇ…緑色用の陽極層、１４Ｂ…青色用の陽極層、１５Ｒ…赤色用のＥＬ層、１５Ｇ…緑色用のＥＬ層、１５Ｂ…青色用のＥＬ層、１６…陰極層、３０Ｒ…赤色用のＥＬ構造体、３０Ｇ…緑色用のＥＬ構造体、３０Ｂ…青色用のＥＬ構造体、４０…画素定義壁、４０Ｓ…側面。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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