(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
モル％で、Ｔｂ２Ｏ３  ３０〜４８％（ただし３０％は含まない）、ＳｉＯ２  ４５〜７０％（ただし４５％、７０％を含まない）を含有することを特徴とするガラス材。
【請求項２】
さらに、モル％で、Ｂ２Ｏ３  ０〜２３％を含有することを特徴とする請求項１に記載のガラス材。
【請求項３】
さらに、モル％で、Ａｌ２Ｏ３  ０〜２０％（ただし２０％を含まない）を含有することを特徴とする請求項１または２に記載のガラス材。
【請求項４】
磁気光学素子として用いられることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のガラス材。
【請求項５】
ファラデー回転素子として用いられることを特徴とする請求項４に記載のガラス材。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載のガラス材を製造するための方法であって、ガラス原料塊を空中に浮遊させて保持した状態で、前記ガラス原料塊を加熱融解させて溶融ガラスを得た後に、前記溶融ガラスを冷却する工程を備えることを特徴とする、ガラス材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光アイソレータ、光サーキュレータ、磁気センサ等の磁気デバイスを構成する磁気光学素子に好適なガラス材及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
常磁性化合物である酸化テルビウムを含むガラス材は、磁気光学効果の一つであるファラデー効果を示すことが知られている。ファラデー効果とは、磁場中におかれた材料を通過する直線偏光の偏光面を回転させる効果である。このような効果は光アイソレータや磁界センサなどに利用されている。
【０００３】
ファラデー効果による旋光度（偏光面の回転角）θは、磁場の強さをＨ、偏光が通過する物質の長さをＬとして、以下の式により表される。式中において、Ｖは物質の種類に依存する定数であり、ベルデ定数と呼ばれる。ベルデ定数は反磁性体の場合は正の値、常磁性体の場合は負の値となる。ベルデ定数の絶対値が大きいほど、旋光度の絶対値も大きくなり、結果として大きなファラデー効果を示す。
【０００４】
θ＝ＶＨＬ
【０００５】
従来、ファラデー効果を示すガラス材として、ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３−Ａｌ２Ｏ３−Ｔｂ２Ｏ３系のガラス材（特許文献１参照）、Ｐ２Ｏ５−Ｂ２Ｏ３−Ｔｂ２Ｏ３系のガラス材（特許文献２参照）、あるいはＰ２Ｏ５−ＴｂＦ３−ＲＦ２（Ｒはアルカリ土類金属）系のガラス材（特許文献３参照）等が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特公昭５１−４６５２４号公報
【特許文献２】特公昭５２−３２８８１号公報
【特許文献３】特公昭５５−４２９４２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
近年、ますます磁気デバイスの小型化が進んでいることから、小さな部材（特に薄型部材）でも十分な旋光度を示すよう、さらなるファラデー効果の向上が要求されている。ガラス材のファラデー効果を高めるためには、ガラス中におけるテルビウム含有量を多くすることが有効である。しかしながら、テルビウム含有量を多くすると、ガラス化が著しく困難になるという問題がある。一方で、ガラス化を容易にするため、ガラス骨格成分を添加することも考えられるが、基本的にガラス骨格成分は、ベルデ定数の向上に寄与しないため、十分なファラデー効果が得られないおそれがある。
【０００８】
以上に鑑み、本発明は、比較的大きいファラデー効果を示し、ガラス化が容易であるガラス材を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者は、ガラス材のベルデ定数の絶対値は、Ｔｂイオン密度に比例して大きくなることに着目した。そこで、Ｔｂイオン密度が大きくなるガラス組成を見出し、本発明を提案するに至った。
【００１０】
即ち、本発明のガラス材は、モル％で、Ｔｂ２Ｏ３  ３０〜４８％（ただし３０％は含まない）、ＳｉＯ２  ４５〜７０％（ただし４５％、７０％を含まない）を含有することを特徴とする。
【００１１】
ガラス材におけるＴｂイオン密度は下記の式で求められる。
【００１２】
Ｔｂイオン密度＝（ρ×ｎ×ＮＡ）／Ｍ
ρ：ガラス材の密度、ｎ：Ｔｂイオンのモル数、ＮＡ：アボガドロ数、Ｍ：ガラス材のモル質量
【００１３】
上記の式から明らかなように、Ｔｂイオン密度を大きくするには、ガラス材の密度を大きくする、Ｔｂイオンの含有量を増やす、あるいはガラス材のモル質量を小さくするという方法が考えられる。これらの中で、本発明者はガラス材のモル質量に着目し、ガラス材に添加な種々のガラス骨格成分について調査した結果、ガラス材のモル質量を小さくするためには、ＳｉＯ２を用いることが効果的であることを見出した。すなわち、ＳｉＯ２は分子量が比較的小さい（６０．０８）ため、ガラス材中に多量に含有させても、Ｔｂイオン密度を低下させにくいという特徴がある。そこで、本発明のガラス材においては、ＳｉＯ２を上記の通り多量に含有させることにより、ファラデー効果の低下（ベルデ定数の絶対値の低下）を抑制しつつ、ガラス化を容易にしている。
【００１４】
本発明のガラス材は、さらに、モル％で、Ｂ２Ｏ３  ０〜２３％を含有することが好ましい。このようにすれば、ガラス化がより一層容易になる。しかしながら、Ｂ２Ｏ３は分子量が比較的大きい（６９．６２）ため、ガラス材のモル質量が大きくなり、Ｔｂイオン密度が比較的低下しやすいため、含有量の上限を上記の通り規制している。
【００１５】
本発明のガラス材は、さらに、モル％で、Ａｌ２Ｏ３  ０〜２０％（ただし２０％を含まない）を含有することが好ましい。このようにすれば、ガラス化がより一層容易になる。しかしながら、Ａｌ２Ｏ３は分子量が比較的大きい（１０１．９６）ため、ガラス材のモル質量が大きくなり、Ｔｂイオン密度が比較的低下しやすいため、含有量の上限を上記の通り規制している。
【００１６】
本発明のガラス材は、磁気光学素子として用いることができる。例えば、本発明のガラス材は、磁気光学素子の一種であるファラデー回転素子として用いることができる。上記の用途に用いることにより、本発明の効果を享受することができる。
【００１７】
本発明のガラス材の製造方法は、上記のガラス材を製造するための方法であって、原料塊を空中に浮遊させて保持した状態で、原料塊を加熱融解させて溶融ガラスを得た後に、溶融ガラスを冷却する工程を備えることを特徴とする。
本発明のガラス材は、ＳｉＯ２を多量に含有することによりガラス化を容易にしているが、融点は比較的高くなるため、溶融容器を用いた通常の溶融法では作製が困難な場合がある。例えば、通常の溶融で用いられる溶融容器（坩堝）のうち、高温溶融に適している白金製容器でも融点は１７７０℃程度であるため、それより融点の高いガラス材は製造することが困難である。しかしながら、上記の方法（無容器浮遊法）によれば、このように融点が比較的高いガラス材であっても、基本的に溶融ガラスが溶融容器に接触しないため、溶融容器との界面を起点とする結晶化を防止することができ、ガラス材を容易に作製することが可能となる。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、比較的大きいファラデー効果を示し、ガラス化が容易であるガラス材を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明のガラス材を製造するための装置の一実施形態を示す模式的断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
本発明のガラス材は、モル％で、Ｔｂ２Ｏ３  ３０〜４８％（ただし３０％は含まない）、ＳｉＯ２  ４５〜７０％（ただし４５％、７０％を含まない）を含有する。ガラス組成範囲をこのように限定した理由を以下に説明する。なお、以下の各成分の含有量に関する説明において、特に断りのない限り「％」は「モル％」を意味する。
【００２１】
Ｔｂ２Ｏ３はベルデ定数の絶対値を大きくしてファラデー効果を高める成分である。Ｔｂ２Ｏ３の含有量は３０〜４８％（ただし３０％は含まない）であり、好ましくは３１〜４８％、より好ましくは３２〜４８％、さらに好ましくは３３〜４８％である。Ｔｂ２Ｏ３の含有量が少なすぎると、上記効果が得られにくくなる。一方、Ｔｂ２Ｏ３の含有量が多すぎると、ガラス化が困難になる傾向がある。なお、ガラス中におけるＴｂは３価や４価の状態で存在するが、本発明ではこれら全てをＴｂ２Ｏ３として表す。
【００２２】
Ｔｂについてベルデ定数の起源となる磁気モーメントはＴｂ４＋よりもＴｂ３＋の方が大きい。よって、ガラス材におけるＴｂ３＋の割合が大きいほど、ファラデー効果が大きくなるため好ましい。具体的には、全Ｔｂ中におけるＴｂ３＋の割合は、モル％で５０％以上、６０％以上、７０％以上、８０％以上、特に９０％以上であることが好ましい。
【００２３】
ＳｉＯ２はガラス骨格を形成し、ガラス化範囲を広げる成分である。それにより、ガラス材の大径化が容易となる。また既述の通り、ＳｉＯ２はガラス材におけるＴｂイオン密度を低下させにくいため、多量に含有させた場合のファラデー効果の低下を抑制することができる。さらに、ＳｉＯ２はガラス転移点を上昇させて熱的安定性を高める効果、機械的強度を高める効果、化学的耐久性を高める効果も有する。ＳｉＯ２の含有量は４５〜７０％（ただし４５％、７０％は含まない）であり、好ましくは４６％〜６９％、より好ましくは４７％〜６８％である。
【００２４】
本発明のガラス材には、上記成分以外にも、以下に示す種々の成分を含有させることができる。
【００２５】
Ｂ２Ｏ３はガラス形成能を高める成分である。Ｂ２Ｏ３を含有させることによりガラス材の大径化が容易となる。ただし、既述の通り、Ｂ２Ｏ３はＳｉＯ２よりも分子量が大きいため、ファラデー効果を比較的低下させやすい。また、熱的安定性や硬度を低下させやすい成分である。従って、Ｂ２Ｏ３の含有量は好ましくは０〜２３％、より好ましくは０．１〜２０％、さらに好ましくは１〜１３％、特に好ましくは２〜１２％である。
【００２６】
Ａｌ２Ｏ３はガラス骨格を形成し、ガラス化範囲を広げる成分である。Ａｌ２Ｏ３を含有させることによりガラス材の大径化が容易となる。ただし、既述の通り、Ａｌ２Ｏ３はＢ２Ｏ３よりも分子量が大きいため、ファラデー効果を比較的低下させやすい。従って、Ａｌ２Ｏ３の含有量は、好ましくは０〜２０％（ただし２０％を含まない）、より好ましくは０．１〜１８％、さらに好ましくは１〜１５％である。
【００２７】
なお、Ｂ２Ｏ３＋Ａｌ２Ｏ３は０〜２３％、０．１〜２０％、１〜１３％、特に２〜１２％であることが好ましい。
【００２８】
Ｌａ２Ｏ３、Ｇｄ２Ｏ３、Ｙｂ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３はガラスを安定化する効果があるが、その含有量が多すぎるとかえってガラス化しにくくなる。よって、Ｌａ２Ｏ３、Ｇｄ２Ｏ３、Ｙｂ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３の含有量は各々１０％以下、特に５％以下であることが好ましい。
【００２９】
Ｄｙ２Ｏ３、Ｅｕ２Ｏ３、Ｃｅ２Ｏ３はガラスを安定化するとともに、ベルデ定数の向上にも寄与する。ただし、その含有量が多すぎるとかえってガラス化しにくくなる。よって、Ｄｙ２Ｏ３、Ｅｕ２Ｏ３、Ｃｅ２Ｏ３の含有量は各々１５％以下、特に１０％以下であることが好ましい。なお、ガラス中に存在するＤｙ、Ｅｕ、Ｃｅは３価や４価の状態で存在するが、本発明ではこれら全てをそれぞれＤｙ２Ｏ３、Ｅｕ２Ｏ３、Ｃｅ２Ｏ３として表す。
【００３０】
ＭｇＯ、ＣａＯはガラス化を安定にし、また化学的耐久性を高める効果がある。また、分子量が比較的小さいため、Ｔｂイオン密度を低下させにくいという特徴がある。ただし、その含有量が多すぎるとガラス化しにくくなる。従って、これらの成分の含有量は各々０〜２０％、特に０〜１５％であることが好ましい。
【００３１】
ＳｒＯ、ＢａＯはガラス化を安定にし、また化学的耐久性を高める効果がある。ただし、分子量が比較的大きいため、その含有量が多すぎるとＴｂイオン密度が低下して、十分なファラデー効果が得られにくくなる。従って、これらの成分の含有量は各々０〜１０％、特に０〜５％であることが好ましい。
【００３２】
ＧｅＯ２はガラス形成能を高める成分である。ただし、ＧｅＯ２は分子量が比較的大きいため、その含有量が多すぎるとＴｂイオン密度が低下して、十分なファラデー効果が得られにくくなる。従って、ＧｅＯ２の含有量は０〜１５％、０〜１０％、特に０〜９％であることが好ましい。
【００３３】
Ｐ２Ｏ５はガラス形成能を高める成分である。ただし、Ｐ２Ｏ５は分子量が比較的大きいため、その含有量が多すぎるとＴｂイオン密度が低下して、十分なファラデー効果が得られにくくなる。従って、Ｐ２Ｏ５の含有量は０〜７％、特に０〜５％であることが好ましい。
【００３４】
Ｇａ２Ｏ３はガラス形成能を高め、ガラス化範囲を広げる効果を有する。ただし、Ｇａ２Ｏ３は分子量が比較的大きいため、その含有量が多すぎるとＴｂイオン密度が低下して、十分なファラデー効果が得られにくくなる。従って、Ｇａ２Ｏ３の含有量は０〜６％、特に０〜５％であることが好ましい。
【００３５】
フッ素はガラス形成能を高め、ガラス化範囲を広げる効果を有する。ただし、その含有量が多すぎると溶融中に揮発して組成変動を引き起こしたり、ガラス化に悪影響を及ぼすおそれがある。従って、フッ素の含有量（Ｆ２換算）は０〜１０％、０〜７％、特に０〜５％であることが好ましい。
【００３６】
還元剤としてＳｂ２Ｏ３を添加することができる。ただし、着色を避けるため、あるいは環境への負荷を考慮して、Ｓｂ２Ｏ３の含有量は０．１％以下であることが好ましい。
【００３７】
本発明のガラス材は、特にアイソレータ等の磁気光学素子として使用する場合における光透過損失がなるべく小さいことが好ましい。具体的には、本発明のガラス材の光透過率は、波長６３３ｎｍにおいて５０％以上、６０％、特に７０％以上であることが好ましい。
【００３８】
本発明のガラス材の大きさは特に限定されないが、大きいほど生産性が向上するため好ましい。具体的には、本発明のガラス材が球状あるいは楕円体状である場合、その短径は１ｍｍ以上、２ｍｍ以上、特に３ｍｍ以上であることが好ましい。また長径は１ｍｍ以上、２ｍｍ以上、特に３ｍｍ以上であることが好ましい。
【００３９】
本発明のガラス材は、例えば無容器浮遊法により作製することができる。図１は、無容器浮遊法によりガラス材を作製するための製造装置の一例を示す模式的断面図である。以下、図１を参照しながら、本発明のガラス材の製造方法について説明する。
【００４０】
ガラス材の製造装置１は成形型１０を有する。成形型１０は溶融容器としての役割も果たす。成形型１０は、成形面１０ａと、成形面１０ａに開口している複数のガス噴出孔１０ｂとを有する。ガス噴出孔１０ｂは、ガスボンベなどのガス供給機構１１に接続されている。このガス供給機構１１からガス噴出孔１０ｂを経由して、成形面１０ａにガスが供給される。ガスの種類は特に限定されず、例えば、空気や酸素であってもよいし、窒素ガス、アルゴンガス、ヘリウムガス、一酸化炭素ガス、二酸化炭素ガス、水素を含有した還元性ガスであってもよい。
【００４１】
製造装置１を用いてガラス材を製造するに際しては、まず、原料塊１２を成形面１０ａ上に配置する。原料塊１２としては、例えば、原料粉末をプレス成型等により一体化したものや、原料粉末をプレス成型等により一体化した後に焼結させた焼結体や、目標ガラス組成と同等の組成を有する結晶の集合体等が挙げられる。
【００４２】
次に、ガス噴出孔１０ｂからガスを噴出させることにより、原料塊１２を成形面１０ａ上で浮遊させる。すなわち、原料塊１２を、成形面１０ａに接触していない状態で保持する。その状態で、レーザー光照射装置１３からレーザー光を原料塊１２に照射する。これにより原料塊１２を加熱溶融してガラス化させ、溶融ガラスを得る。その後、溶融ガラスを冷却することにより、ガラス材を得ることができる。原料塊１２を加熱溶融する工程と、溶融ガラス、さらにはガラス材の温度が少なくとも軟化点以下となるまで冷却する工程においては、少なくともガスの噴出を継続し、原料塊１２、溶融ガラス、さらにはガラス材と成形面１０ａとの接触を抑制することが好ましい。なお、加熱溶融する方法としては、レーザー光を照射する方法以外にも、輻射加熱であってもよい。
【実施例】
【００４３】
以下、本発明を実施例に基づいて説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００４４】
表１は本発明の実施例及び比較例を示している。
【００４５】
【表１】
0006607385.tif 000002
【００４６】
各試料は次のようにして作製した。まず表に示すガラス組成になるように調合した原料をプレス成型し、８００〜１４００℃で１２時間焼結することにより原料塊を作製した。
【００４７】
次に、乳鉢中で原料塊を粗粉砕し、０．０５〜０．５ｇの小片とした。得られた原料塊の小片を用いて、図１に準じた装置を用いた無容器浮遊法によってガラス材（直径（長径）約１〜８ｍｍ）を作製した。なお、熱源としては１００Ｗ  ＣＯ２レーザー発振器を用いた。また、原料塊を浮遊させるためのガスとして窒素ガスを用い、流量１〜３０Ｌ／分で供給した。
【００４８】
ガラス材の密度はアルキメデス法により測定した。また、ガラス材のモル質量は各成分の分子量及び含有量から算出した。得られた密度及びモル質量の値を用いて、既述の式によりＴｂイオン密度を算出した。
【００４９】
得られたガラス材について、カー（Kerr）効果測定装置（日本分光（株）製、品番：Ｋ−２５０）を用いてベルデ定数を測定した。具体的には、得られたガラス材を１ｍｍ程度の厚さとなるよう研磨加工し、１５ｋＯｅの磁場中で波長４００〜８５０ｎｍでのファラデー回転角を測定し、波長６３３ｎｍにおけるベルデ定数を算出した。なお、波長の掃引速度は６ｎｍ／ｍｉｎとした。結果を表１に示す。
【００５０】
表１から明らかなように実施例１〜６のガラス材は、Ｔｂイオン密度が１．２９×１０２２〜１．７９×１０２２ｉｏｎｓ／ｃｍ３と大きく、波長６３３ｎｍにおけるベルデ定数が−０．４８〜−０．７０となった。一方、比較例１〜３のガラス材は、Ｔｂイオン密度が１．１３×１０２２〜１．２０×１０２２ｉｏｎｓ／ｃｍ３と小さくなり、波長６３３ｎｍにおけるベルデ定数が−０．４１〜−０．４４と絶対値が小さかった。
【産業上の利用可能性】
【００５１】
本発明のガラス材は、光アイソレータ、光サーキュレータ、磁気センサ等の磁気デバイスを構成する磁気光学素子として好適である。
【符号の説明】
【００５２】
１：ガラス材の製造装置
１０：成形型
１０ａ：成形面
１０ｂ：ガス噴出孔
１１：ガス供給機構
１２：原料塊
１３：レーザー光照射装置
【図１】
0006607385.tif 000003