(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
仮支持体と、
下記式Ａで表される構成単位を有し、かつ重量平均分子量が１０００００以下である重合体、前記式Ａで表される構成単位を有する重合体よりも重量平均分子量が小さく、かつ分子内にアルキレンオキシ基を有する化合物である可塑剤、及び光酸発生剤を含み、前記仮支持体上に配置されたポジ型感光性樹脂層と、
を有するポジ型感光性転写材料。
【化１】
0006573545.tif 000032
式Ａ中、Ｒ３１及びＲ３２はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、少なくともＲ３１及びＲ３２のいずれか一方がアルキル基又はアリール基であり、Ｒ３３はアルキル基又はアリール基を表し、Ｒ３１又はＲ３２と、Ｒ３３とが連結して環状エーテルを形成してもよく、Ｒ３４は水素原子又はメチル基を表し、Ｘ０は単結合又はアリーレン基を表す。
【請求項２】
前記ポジ型感光性樹脂層の全固形分に対し、前記式Ａで表される構成単位を有する重合体と前記可塑剤との合計比率が７０質量％以上９９質量％以下である請求項１に記載のポジ型感光性転写材料。
【請求項３】
前記ポジ型感光性樹脂層において、前記式Ａで表される構成単位を有する重合体と前記可塑剤との合計量に対し、前記式Ａで表される構成単位を有する重合体の比率が６０質量％以上９０質量％以下である請求項１又は請求項２に記載のポジ型感光性転写材料。
【請求項４】
前記仮支持体が、光透過性を有する請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載のポジ型感光性転写材料。
【請求項５】
（ａ）基材と、互いに構成材料が異なる第１導電層及び第２導電層を含む複数の導電層とを有し、前記基材の表面上に、前記基材の表面から遠い順に、最表面層である前記第１導電層と前記第２導電層とが積層されている基板に対し、光透過性を有する仮支持体と、下記式Ａで表される構成単位を有し、かつ重量平均分子量が１０００００以下である重合体、前記式Ａで表される構成単位を有する重合体よりも重量平均分子量が小さい可塑剤、及び光酸発生剤を含み、前記仮支持体上に配置されたポジ型感光性樹脂層と、を有するポジ型感光性転写材料の前記ポジ型感光性樹脂層を前記第１導電層に接触させて貼り合わせる貼り合わせ工程、
（ｂ）前記貼り合わせ工程後の前記ポジ型感光性転写材料の前記仮支持体を介して前記ポジ型感光性樹脂層をパターン露光する第１露光工程、
（ｃ）前記第１露光工程後のポジ型感光性樹脂層から前記仮支持体を剥離した後、前記第１露光工程後のポジ型感光性樹脂層を現像して第１パターンを形成する第１現像工程、
（ｄ）前記第１パターンが配置されていない領域における前記複数の導電層のうち少なくとも前記第１導電層及び前記第２導電層をエッチング処理する第１エッチング工程、
（ｅ）前記第１エッチング工程後の前記第１パターンを前記第１パターンとは異なるパターンでパターン露光する第２露光工程、
（ｆ）前記第２露光工程後の前記第１パターンを現像して第２パターンを形成する第２現像工程、及び、
（ｇ）前記第２パターンが配置されていない領域における前記複数の導電層のうち少なくとも前記第１導電層をエッチング処理する第２エッチング工程、をこの順に含む、回路配線の製造方法。
【化２】
0006573545.tif 000033
式Ａ中、Ｒ３１及びＲ３２はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、少なくともＲ３１及びＲ３２のいずれか一方がアルキル基又はアリール基であり、Ｒ３３はアルキル基又はアリール基を表し、Ｒ３１又はＲ３２と、Ｒ３３とが連結して環状エーテルを形成してもよく、Ｒ３４は水素原子又はメチル基を表し、Ｘ０は単結合又はアリーレン基を表す。
【請求項６】
前記可塑剤が、分子内にアルキレンオキシ基を有する化合物である請求項５に記載の回路配線の製造方法。
【請求項７】
前記第１エッチング工程の後、前記第２露光工程の前に、前記第１パターン上に、光透過性を有する保護フィルムを貼り付ける工程をさらに有し、
前記第２露光工程において、前記保護フィルムを介して前記第１パターンを前記パターン露光し、
前記第２露光工程後、前記第１パターンから前記保護フィルムを剥離した後、前記第２エッチング工程を行う請求項５又は請求項６に記載の回路配線の製造方法。
【請求項８】
仮支持体と、
下記式（Ａ１）で表される構成単位を有し、かつ重量平均分子量が１０００００以下である重合体、前記式（Ａ１）で表される構成単位を有する重合体よりも重量平均分子量が小さい可塑剤、及び光酸発生剤を含み、前記仮支持体上に配置されたポジ型感光性樹脂層と、
を有するポジ型感光性転写材料。
【化３】
0006573545.tif 000034
式（Ａ１）中、Ｒ１２１は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｒ１２２〜Ｒ１２８はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
【請求項９】
仮支持体と、
下記式Ａで表される構成単位を有し、かつ重量平均分子量が１０００００以下である重合体、前記式Ａで表される構成単位を有する重合体よりも重量平均分子量が小さく、かつ重合平均分子量が５００以上１００００未満である可塑剤、及び光酸発生剤を含み、前記仮支持体上に配置されたポジ型感光性樹脂層と、
を有するポジ型感光性転写材料。
【化４】
0006573545.tif 000035
式Ａ中、Ｒ３１及びＲ３２はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、少なくともＲ３１及びＲ３２のいずれか一方がアルキル基又はアリール基であり、Ｒ３３はアルキル基又はアリール基を表し、Ｒ３１又はＲ３２と、Ｒ３３とが連結して環状エーテルを形成してもよく、Ｒ３４は水素原子又はメチル基を表し、Ｘ０は単結合又はアリーレン基を表す。
【請求項１０】
仮支持体と、
下記式Ａで表される構成単位を有し、かつ重量平均分子量が１０００００以下である重合体、前記式Ａで表される構成単位を有する重合体よりも重量平均分子量が小さい可塑剤、及び光酸発生剤を含み、着色剤を含まない、前記仮支持体上に配置されたポジ型感光性樹脂層と、
を有するポジ型感光性転写材料。
【化５】
0006573545.tif 000036
式Ａ中、Ｒ３１及びＲ３２はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、少なくともＲ３１及びＲ３２のいずれか一方がアルキル基又はアリール基であり、Ｒ３３はアルキル基又はアリール基を表し、Ｒ３１又はＲ３２と、Ｒ３３とが連結して環状エーテルを形成してもよく、Ｒ３４は水素原子又はメチル基を表し、Ｘ０は単結合又はアリーレン基を表す。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はポジ型感光性転写材料及び回路配線の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
静電容量型入力装置などのタッチパネルを備えた表示装置（有機ＥＬ表示装置及び液晶表示装置など）では、視認部のセンサーに相当する電極パターン、周辺配線部分及び取り出し配線部分の配線などの導電層パターンがタッチパネル内部に設けられている。
一般的にパターン化した層の形成には、必要とするパターン形状を得るための工程数が少ないといったことから、感光性転写材料を用いて任意の基板上に設けた感光性樹脂組成物の層に対して、所望のパターンを有するマスクを介して露光し、部分的に硬化した後に現像する方法が広く使用されている。
【０００３】
例えば、特許文献１には、支持体と、感光性樹脂組成物層とを有し、感光性樹脂組成物層がＡ酸基が酸分解性基で保護された基を有する構成単位ａ１を有する重合体を含む重合体成分およびＢ光酸発生剤を含み、感光性樹脂組成物がエチレン性架橋構造を有さない感光性転写材料及びそれを用いたパターン形成方法が開示されている。
【０００４】
また、特許文献２には、支持体と、熱可塑性樹脂層と、感光性樹脂組成物層とをこの順で有し、感光性樹脂組成物層が、酸基が酸分解性基で保護された基を有する構成単位（ａ１）を有する重合体を含む重合体成分（Ａ）および光酸発生剤（Ｂ）を含むことを特徴とする感光性転写材料及びそれを用いたパターン形成方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】ＷＯ２０１５／０９３２７１号公報
【特許文献２】ＷＯ２０１４／０６５２２０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
タッチパネル用回路配線においては、視認部のセンサーに相当する電極パターンと周辺取り出し部（周辺配線部分と取り出し配線部分）の配線が交差しておらず、ブリッジ等による３次元接続が必要ない。そのため、タッチパネル用回路配線の製造方法の技術分野では、従来の感光性樹脂組成物を用いたパターン形成方法のように所望のパターンごとにレジスト形成せず、１回のレジスト形成で複数種類のパターンの導電層を含む回路配線を形成して工程省略することが期待されている。
【０００７】
また、生産性の向上等の観点から、パターン形成される回路配線の解像度を落とさずに、回路配線を形成するための基板（以下、「回路配線形成用基板」と称する場合がある。）と感光性転写材料を、例えばロールツーロール（Ｒｏｌｌ  ｔｏ  Ｒｏｌｌ）で高速で搬送しながら低温で貼り合わせて、露光、現像等を行うことが望ましい。
【０００８】
特許文献１、２に開示されている感光性転写材料では、低温かつ高速で回路配線形成用基板に貼り合わせると、密着が十分でなく仮支持体を剥離する際に感光性樹脂層も一緒に剥離してしまったり、回路配線の製造工程の途中で感光性樹脂組成物層の一部が意図せずに剥離してしまう場合があった。
【０００９】
本発明は、回路配線形成用基板に対して低温かつ高速（例えば、貼り合わせに使用するロール温度が１３０℃以下であり、搬送速度が１ｍ／ｍｉｎ以上）で貼り合わせても高い密着性を有し、回路配線を高い解像度で形成することができるポジ型感光性転写材料及び回路配線の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らが鋭意検討した結果、ポジ型感光性転写材料が、仮支持体上に、特定の重合体、可塑剤、及び光酸発生剤を含むポジ型感光性樹脂層を有することで、上記目的を達成することができることを見出した。すなわち、本発明の目的を達成するための具体的な手段は、以下のとおりである。
【００１１】
＜１＞  仮支持体と、
下記式Ａで表される構成単位を有し、かつ重量平均分子量が１０００００以下である重合体、式Ａで表される構成単位を有する重合体よりも重量平均分子量が小さい可塑剤、及び光酸発生剤を含み、仮支持体上に配置されたポジ型感光性樹脂層と、
を有するポジ型感光性転写材料。
【化１】
0006573545.tif 000002
【００１２】
式Ａ中、Ｒ３１及びＲ３２はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、少なくともＲ３１及びＲ３２のいずれか一方がアルキル基又はアリール基であり、Ｒ３３はアルキル基又はアリール基を表し、Ｒ３１又はＲ３２と、Ｒ３３とが連結して環状エーテルを形成してもよく、Ｒ３４は水素原子又はメチル基を表し、Ｘ０は単結合又はアリーレン基を表す。
【００１３】
＜２＞  可塑剤が、分子内にアルキレンオキシ基を有する化合物である＜１＞に記載のポジ型感光性転写材料。
＜３＞  ポジ型感光性樹脂層の全固形分に対し、式Ａで表される構成単位を有する重合体と可塑剤との合計比率が７０質量％以上９９質量％以下である＜１＞又は＜２＞に記載のポジ型感光性転写材料。
＜４＞  ポジ型感光性樹脂層において、式Ａで表される構成単位を有する重合体と可塑剤との合計量に対し、式Ａで表される構成単位を有する重合体の比率が６０質量％以上９０質量％以下である＜１＞〜＜３＞のいずれか１つに記載のポジ型感光性転写材料。
＜５＞  仮支持体が、光透過性を有する＜１＞〜＜４＞のいずれか１つに記載のポジ型感光性転写材料。
【００１４】
＜６＞（ａ）基材と、互いに構成材料が異なる第１導電層及び第２導電層を含む複数の導電層とを有し、基材の表面上に、基材の表面から遠い順に、最表面層である第１導電層と第２導電層とが積層されている基板に対し、＜５＞に記載のポジ型感光性転写材料のポジ型感光性樹脂層を第１導電層に接触させて貼り合わせる貼り合わせ工程、
（ｂ）貼り合わせ工程後のポジ型感光性転写材料の仮支持体を介してポジ型感光性樹脂層をパターン露光する第１露光工程、
（ｃ）第１露光工程後のポジ型感光性樹脂層から仮支持体を剥離した後、第１露光工程後のポジ型感光性樹脂層を現像して第１パターンを形成する第１現像工程、
（ｄ）第１パターンが配置されていない領域における複数の導電層のうち少なくとも第１導電層及び第２導電層をエッチング処理する第１エッチング工程、
（ｅ）第１エッチング工程後の第１パターンを第１パターンとは異なるパターンでパターン露光する第２露光工程、
（ｆ）第２露光工程後の第１パターンを現像して第２パターンを形成する第２現像工程、及び、
（ｇ）第２パターンが配置されていない領域における複数の導電層のうち少なくとも第１導電層をエッチング処理する第２エッチング工程、
をこの順に含む、回路配線の製造方法。
＜７＞  第１エッチング工程の後、第２露光工程の前に、第１パターン上に、光透過性を有する保護フィルムを貼り付ける工程をさらに有し、
第２露光工程において、保護フィルムを介して第１パターンをパターン露光し、
第２露光工程後、第１パターンから保護フィルムを剥離した後、第２エッチング工程を行う＜６＞に記載の回路配線の製造方法。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、回路配線形成用基板に対して低温かつ高速（例えば、貼り合わせに使用するロール温度が１３０℃以下であり、搬送速度が１ｍ／ｍｉｎ以上）で貼り合わせても高い密着性を有し、回路配線を高い解像度で形成することができるポジ型感光性転写材料及び回路配線の製造方法が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明のポジ型感光性転写材料の層構成の一例を示す概略図である。
【図２】本発明のポジ型感光性転写材料を用いたタッチパネル用回路配線の製造方法の一例を示す概略図である。
【図３】本発明の回路配線の製造方法によって製造することができるタッチパネル用回路配線の一例の概略図である。
【図４】本発明の回路配線の製造方法によって製造することができるタッチパネル用回路配線の一例の概略図である。
【図５】本発明の入力装置の一例の構成を示す概略図である。
【図６】第一の電極パターンのパッド部分及び接続部分並びに第二の電極パターンの配置の一例を示す概略構成図である。
【図７】第一の電極パターンのパッド部分及び接続部分並びに第二の電極パターンの配置の一例を示す概略斜視図である。
【図８】パターンＡを示す概略図である。
【図９】パターンＢを示す概略図である。
【図１０】パターンＣを示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明のポジ型感光性転写材料及び回路配線の製造方法、さらに、本発明に関わる回路配線、入力装置、特にタッチパネルである入力装置、及びこの入力装置を用いた表示装置について説明する。なお、添付の図面を参照しながら説明するが、符号は省略する場合がある。
また、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、「（メタ）アクリル」はアクリル及びメタクリルの双方、又は、いずれかを表し、「（メタ）アクリレート」はアクリレート及びメタクリレートの双方、又は、いずれかを表す。
【００１８】
［ポジ型感光性転写材料］
本発明のポジ型感光性転写材料は、仮支持体と、下記式Ａで表される構成単位を有し、かつ重量平均分子量が１０００００以下である重合体、式Ａで表される構成単位を有する重合体よりも重量平均分子量が小さい可塑剤、及び光酸発生剤を含み、仮支持体上に配置されたポジ型感光性樹脂層と、を有する。
【００１９】
【化２】
0006573545.tif 000003
【００２０】
式Ａ中、Ｒ３１及びＲ３２はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、少なくともＲ３１及びＲ３２のいずれか一方がアルキル基又はアリール基であり、Ｒ３３はアルキル基又はアリール基を表し、Ｒ３１又はＲ３２と、Ｒ３３とが連結して環状エーテルを形成してもよく、Ｒ３４は水素原子又はメチル基を表し、Ｘ０は単結合又はアリーレン基を表す。
【００２１】
図１は、本発明のポジ型感光性転写材料の層構成の一例を概略的に示している。図１に
示すポジ型感光性転写材料１００は、仮支持体１２と、ポジ型感光性樹脂層１４と、カバーフィルム１６とがこの順に積層されている。ポジ型感光性樹脂層１４は、式Ａで表される構成単位を有し、かつ重量平均分子量が１０００００以下である重合体と、式Ａで表される構成単位を有する重合体よりも重量平均分子量が小さい可塑剤、及び光酸発生剤を含んでいる。
以下、本発明のポジ型感光性転写材料の構成材料等について説明する。なお、本発明における上記構成について本明細書では以下のように称する場合がある。
式Ａで表される構成単位を「構成単位（ａ）」と称する場合がある。
式Ａで表される構成単位を有し、かつ重量平均分子量が１０００００以下である重合体を「特定重合体」と称する場合がある。
式Ａで表される構成単位を有する重合体よりも重量平均分子量が小さい可塑剤を、単に「可塑剤」と称する場合がある。
ポジ型感光性樹脂層を「感光性樹脂層」と称する場合がある。
【００２２】
〔仮支持体〕
仮支持体１２は、ポジ型感光性樹脂層を支持し、ポジ型感光性樹脂層から剥離可能な支持体である。本発明で用いる仮支持体１２は、ポジ型感光性樹脂層をパターン露光する際に仮支持体を介してポジ型感光性樹脂層を露光できるように光透過性を有することが好ましい。
光透過性を有するとは、パターン露光の主波長の透過率が５０％以上であることを意味し、この透過率は、感度向上の観点から、６０％以上が好ましく、７０％以上がより好ましい。
仮支持体としては、ガラス基板、樹脂フィルム、紙等が挙げられ、強度及び可撓性等の観点から、樹脂フィルムが特に好ましい。
【００２３】
仮支持体の厚みは特に限定されず、支持体としての強度、回路配線形成用基板との貼り合わせに求められる可撓性、最初の露光工程で要求される光透過性などの観点から、材質に応じて選択すればよい。
【００２４】
仮支持体の好ましい態様については、例えば、特開２０１４−８５６４３号公報の［００１７］〜［００１８］に記載があり、この公報の内容は本明細書に組み込まれる。
【００２５】
〔ポジ型感光性樹脂層〕
本発明のポジ型感光性転写材料１００は、仮支持体１２上に配置されたポジ型感光性樹脂層１４を有する。本発明におけるポジ型感光性樹脂層１４は、式Ａで表される構成単位（ａ）を有し、かつ重量平均分子量が１０００００以下である重合体（特定重合体）、特定重合体よりも重量平均分子量が小さい可塑剤、及び光酸発生剤を含む。
【００２６】
＜重合体成分＞
（特定重合体）
本発明におけるポジ型感光性樹脂層は、重合体成分として、式Ａで表される構成単位（ａ）を有し、かつ重量平均分子量（Ｍｗ）が１０００００以下である特定重合体を含む。特定重合体は、酸分解性基で保護された保護カルボキシ基を有する重合体の一種であるが、酸分解性基で保護された保護カルボキシル基を有する構成単位の中でも、式Ａで表される構成単位（ａ）が、感度を高める観点から好ましい。
【００２７】
式Ａ中、Ｒ３１又はＲ３２がアルキル基の場合、炭素数は１〜１０のアルキル基が好ましい。Ｒ３１又はＲ３２がアリール基の場合、フェニル基が好ましい。Ｒ３１及びＲ３２は、それぞれ、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基が好ましい。
式Ａ中、Ｒ３３は、アルキル基又はアリール基を表し、炭素数１〜１０のアルキル基が好ましく、１〜６のアルキル基がより好ましい。
式Ａ中、Ｒ３１又はＲ３２と、Ｒ３３とが連結して環状エーテルを形成してもよく、Ｒ３１又はＲ３２と、Ｒ３３とが連結して環状エーテルを形成することが好ましい。環状エーテルの環員数は特に制限はないが、５又は６であることが好ましく、５であることがより好ましい。
式Ａ中、Ｒ３４は水素原子又はメチル基を表し、水素原子であることが好ましい。
式Ａ中、Ｘ０は単結合又はアリーレン基を表し、単結合が好ましい。
【００２８】
式Ａで表される構成単位（ａ１）の中でも、下記式（Ａ１）で表される構成単位が、さらに感度を高める観点からより好ましい。
【００２９】
（Ａ１）
【化３】
0006573545.tif 000004
【００３０】
式（Ａ１）中、Ｒ１２１は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｒ１２２〜Ｒ１２８はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
式（Ａ１）中、Ｒ１２１は水素原子又はメチル基が好ましい。
式（Ａ１）中、Ｒ１２２〜Ｒ１２８は、水素原子が好ましい。
【００３１】
式Ａで示される、酸分解性基で保護された保護カルボキシル基を有する構成単位（ａ）の好ましい具体例としては、下記の構成単位が例示できる。なお、Ｒは水素原子又はメチル基を表す。
【００３２】
【化４】
0006573545.tif 000005
【００３３】
ポジ型感光性樹脂層に含まれる重合体成分は、式Ａで示される構成単位（ａ）に加えて、その他の構成単位（ｂ）を有していてもよい。その他の構成単位（ｂ）は、式Ａで示される構成単位（ａ）を有する重合体が共重合成分として含んでいてもよい。また、重合体成分に用いられる式Ａで示される構成単位（ａ）を含有する重合体とは別に、実質的に式Ａで示される構成単位（ａ）を含まない重合体がその他の構成単位（ｂ）を有していてもよい。
【００３４】
特定重合体が共重合体である場合、式Ａで示される構成単位（ａ）を有する重合体における構成単位（ａ）の共重合割合は、この重合体に対して５〜９０モル％が好ましく、１０〜８０モル％がより好ましく、３０〜７０モル％が特に好ましい。
また、全ての重合体成分を構成単位（モノマーユニット）に分解したうえで、全ての構成単位のｍｏｌ数に対する、酸基が酸分解性基で保護された保護カルボキシル基を有する構成単位（ａ）の割合は、０〜８０モル％であることが好ましく、１０〜７０モル％であることがより好ましく、１５〜５０モル％であることが特に好ましい。
【００３５】
その他の構成単位（ｂ）となるモノマーとしては、特に制限はなく、例えば、スチレン類、（メタ）アクリル酸アルキルエステル、（メタ）アクリル酸環状アルキルエステル、（メタ）アクリル酸アリールエステル、不飽和ジカルボン酸ジエステル、ビシクロ不飽和化合物類、マレイミド化合物類、不飽和芳香族化合物、共役ジエン系化合物、不飽和モノカルボン酸、不飽和ジカルボン酸、不飽和ジカルボン酸無水物、その他の不飽和化合物を挙げることができる。また、ポジ型感光性樹脂層に含まれる重合体成分は、その他の構成単位（ｂ）として、後述するように、酸基を含む構成単位を有していてもよい。その他の構成単位（ｂ）となるモノマーは、単独又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。
【００３６】
その他の構成単位（ｂ）は、具体的には、スチレン、ｔｅｒｔ−ブトキシスチレン、メチルスチレン、ヒドロキシスチレン、α−メチルスチレン、アセトキシスチレン、メトキシスチレン、エトキシスチレン、クロロスチレン、ビニル安息香酸メチル、ビニル安息香酸エチル、４−ヒドロキシ安息香酸（３−メタクリロイルオキシプロピル）エステル、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、アクリロニトリル、エチレングリコールモノアセトアセテートモノ（メタ）アクリレートなどによる構成単位を挙げることができる。この他、特開２００４−２６４６２３号公報の段落番号００２１〜００２４に記載の化合物を挙げることができる。
【００３７】
また、その他の構成単位（ｂ）として、スチレン類、及び、脂肪族環式骨格を有する基が、電気特性の観点で好ましい。具体的には、スチレン、ｔｅｒｔ−ブトキシスチレン、メチルスチレン、ヒドロキシスチレン、α−メチルスチレン、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００３８】
さらにまた、その他の構成単位（ｂ）として（メタ）アクリル酸アルキルエステルが、密着性の観点で好ましい。具体的には（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル等が挙げられ、（メタ）アクリル酸メチルがより好ましい。
式Ａで示される構成単位（ａ）を含有する重合体を構成する構成単位中、その他の構成単位（ｂ）の含有率は、６０モル％以下が好ましく、５０モル％以下がより好ましく、４０モル％以下がさらに好ましい。下限値としては、０モル％でもよいが、例えば、１モル％以上、さらには、５モル％以上としてもよい。上記の数値範囲内であると、ポジ型感光性転写材料の現像性及び解像度が良好であり、特に炭酸ナトリウムなどの弱アルカリ性現像液に対しても良好な現像性及び解像度を得る事が出来る。
【００３９】
ポジ型感光性樹脂層に含まれる重合体成分は、その他の構成単位（ｂ）として、酸基を含む構成単位を有することが好ましい。酸基を含む構成単位を有することにより、アルカリ性の現像液に溶けやすくなり、現像時間の短縮化を図ることができる。本発明における酸基とは、ｐＫａが１０以下のプロトン解離性基を意味する。酸基は、通常、酸基を形成しうるモノマーを用いて、酸基を含む構成単位として、重合体に組み込まれる。このような酸基を含む構成単位を重合体中に含めることにより、アルカリ性の現像液に対して溶けやすくなる傾向にある。
その他の構成単位（ｂ）に用いられる酸基を含む構成単位の酸基としては、カルボン酸基由来の酸基、スルホンアミド基に由来の酸基、ホスホン酸基に由来の酸基、スルホン酸基に由来の酸基、フェノール性水酸基に由来する酸基、スルホンアミド基、スルホニルイミド基等が例示され、カルボン酸基由来の酸基及び／又はフェノール性水酸基に由来の酸基が好ましい。
その他の構成単位（ｂ）に用いられる酸基を含む構成単位は、スチレンに由来する構成単位又はビニル化合物に由来する構成単位に対して酸基が置換した構成単位であること、及び、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位であることがより好ましい。
【００４０】
さらに、酸基のエステルを含む構成単位を有することも、現像液に対する溶解性及び、膜ポジ型感光性樹脂層の物理物性を最適化する観点から好ましい。
【００４１】
本発明では、特に、その他の構成単位（ｂ）として、カルボキシル基を有する構成単位、又は、フェノール性水酸基を有する構成単位を含有することが、感度の観点で好ましい。
【００４２】
式Ａで示される構成単位（ａ）を有する重合体は、その他の構成単位（ｂ）の中でもカルボン酸基由来の構成単位及び／又はそのエステルを共重合成分として含むことが好ましく、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸ベンジル又は（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル由来の構成単位を共重合成分として含むことがより好ましい。
酸分解性基で保護された保護カルボキシル基を有する構成単位を有する重合体における酸基を含む構成単位の共重合割合は、酸基がフェノール性酸基である場合はこの酸分解性基で保護されたカルボキシル基を有する構成単位を有する重合体に対して０〜４０モル％が好ましく、０〜２０モル％がより好ましい。
また、酸基がカルボン酸性酸基である場合はこの酸分解性基で保護されたカルボキシル基を有する構成単位を有する重合体に対して０〜３０モル％が好ましく、０〜２０モル％がより好ましい。
酸分解性基で保護された保護カルボキシル基を有する構成単位を有する重合体における酸基のエステルを含む構成単位の共重合割合は、この酸分解性基で保護された保護カルボキシル基を有する構成単位を有する重合体に対して１０〜８０モル％が好ましく、１５〜７０モル％がより好ましく、２０〜６０モル％が特に好ましい。
【００４３】
ポジ型感光性樹脂層に含まれる重合体成分中、式Ａで示される構成単位（ａ）を有する重合体は１種であっても２種以上であってもよい。
ポジ型感光性樹脂層は、重合体成分として酸基が酸分解性基で保護された基を有する構成単位を有する重合体を２種以上含有し、かつ、少なくとも１種の重合体として、式Ａで表される構成単位（ａ）を有する重合体を含んでいてもよい。
【００４４】
ポジ型感光性樹脂層に含まれる式Ａで示される構成単位（ａ）を含有する重合体（特定重合体）の分子量は、ポリスチレン換算重量平均分子量で、１０００００以下である。ポジ型感光性樹脂層に含まれる特定重合体の重量平均分子量が１０００００以下であることで、ポジ型感光性樹脂層の溶融粘度を低く抑え、回路配線形成用基板との貼り合わせ（ラミネート）において低温（例えば１３０℃以下）での貼り合わせを実現することができる。なお、特定重合体の重量平均分子量が小さ過ぎると、仮支持体上に感光性樹脂層を成膜した際に柔らかくなり過ぎ、処理工程で傷がつきやすくなるほか、過剰なタック性によりカバーフィルムの剥離が行いにくくなる可能性がある。
かかる観点から、ポジ型感光性樹脂層に含まれる特定重合体の重量平均分子量は、好ましくは２０００〜１０００００、より好ましくは３０００〜５００００の範囲である。
なお、ポジ型感光性樹脂層に含まれる各成分の重量平均分子量は、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）によって測定することができ、測定装置としては、様々な市販の装置を用いることができ、装置の内容、および測定技術は同当業者に公知である。
また、特定重合体の数平均分子量と重量平均分子量の比（分散度）は１．０〜５．０が好ましく１．０５〜３．５がより好ましい。
【００４５】
（特定重合体の製造方法）
特定重合体の製造方法（合成法）は特に限定されないが、一例を挙げると、式Ａで示される構成単位（ａ）を形成するための重合性単量体、さらに必要に応じて、その他の構成単位（ｂ）を形成するための重合性単量体を含む有機溶剤中、重合開始剤を用いて重合することにより合成することができる。また、いわゆる高分子反応で合成することもできる。
【００４６】
本発明におけるポジ型感光性樹脂層は、全固形分１００質量部に対し、重合体成分を５０〜９９．９質量部の割合で含むことが好ましく、７０〜９８質量部の割合で含むことがより好ましい。
【００４７】
また、本発明のポジ型感光性転写材料は、回路配線形成用基板に対して低温かつ高速で貼り合わせた場合でも高い密着性を発現させる観点から、ポジ型感光性樹脂層の全固形分に対し、式Ａで表される構成単位を有する重合体と可塑剤との合計比率が７０質量％以上９９質量％以下であることが好ましい。
【００４８】
また、本発明のポジ型感光性転写材料は、回路配線形成用基板に対して低温かつ高速で貼り合わせた場合でも高い密着性を発現させる観点から、ポジ型感光性樹脂層において、式Ａで表される構成単位を有する重合体と可塑剤との合計量に対し、式Ａで表される構成単位を有する重合体の比率が６０質量％以上９０質量％以下であることが好ましい。
【００４９】
（他の重合体）
本発明におけるポジ型感光性樹脂層は、重合体成分とし、式Ａで示される構成単位（ａ）を含有する重合体（特定重合体）のほかに、実質的に式Ａで示される構成単位（ａ）を含まずに他の構成単位を有する重合体（「他の重合体」と称する場合がある。）を有していてもよい。本発明におけるポジ型感光性樹脂層が他の重合体を含む場合、他の重合体の配合量は、全重合体成分中、５０質量％以下であることが好ましく、３０質量％以下であることがより好ましく、２０質量％以下であることがさらに好ましい。
【００５０】
ポジ型感光性樹脂層は、特定重合体に加え、他の重合体を１種類のみ含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。
【００５１】
他の重合体として、例えばポリヒドロキシスチレンを用いることができ、市販されている、ＳＭＡ  １０００Ｐ、ＳＭＡ  ２０００Ｐ、ＳＭＡ  ３０００Ｐ、ＳＭＡ  １４４０Ｆ、ＳＭＡ  １７３５２Ｐ、ＳＭＡ  ２６２５Ｐ、ＳＭＡ  ３８４０Ｆ（以上、サートマー社製）、ＡＲＵＦＯＮ  ＵＣ−３０００、ＡＲＵＦＯＮ  ＵＣ−３５１０、ＡＲＵＦＯＮ  ＵＣ−３９００、ＡＲＵＦＯＮ  ＵＣ−３９１０、ＡＲＵＦＯＮ  ＵＣ−３９２０、ＡＲＵＦＯＮ  ＵＣ−３０８０（以上、東亞合成（株）製）、Ｊｏｎｃｒｙｌ  ６９０、Ｊｏｎｃｒｙｌ
６７８、Ｊｏｎｃｒｙｌ  ６７、Ｊｏｎｃｒｙｌ  ５８６（以上、ＢＡＳＦ社製）等を用いることもできる。
【００５２】
＜可塑剤＞
本発明におけるポジ型感光性樹脂層は可塑剤を含有する。本発明における可塑剤は、ポジ型感光性樹脂層の可塑性を改良するために添加される。ポジ型感光性樹脂層が、特定重合体のほかに可塑剤を含むことで、溶融粘度がより低下し、ポジ型感光性転写材料と回路配線形成用基板を低温かつ高速で貼り合わせても高い密着性を得ることができる。
【００５３】
可塑性付与の観点から、可塑剤は、特定重合体よりも重量平均分子量が小さいことが好ましい。
可塑剤の重合平均分子量は、可塑性付与の観点から５００以上１００００未満が好ましく、７００以上５０００未満がより好ましく、８００以上４０００未満がより更に好ましい。
可塑剤は、特定重合体と相溶して可塑性を発現する化合物であれば特に限定されないが、可塑性付与の観点から、可塑剤は、分子中にアルキレンオキシ基を有することが好ましい。可塑剤に含まれるアルキレンオキシ基は下記構造を有することが好ましい。
【００５４】
【化５】
0006573545.tif 000006
【００５５】
上記式中、Ｒは炭素数２〜８のアルキル基であり、ｎは１〜５０の整数を表す。＊は他の原子との結合部位を表す。
【００５６】
なお、例えば、上記アルキレンオキシ基を有する化合物（「化合物Ｘ」とする）であっても、化合物Ｘ、特定重合体及び光酸発生剤を混合して得たポジ型感光性樹脂組成物が、化合物Ｘを含まずに形成したポジ型感光性樹脂組成物に比べて可塑性が向上しない場合は、本発明における可塑剤には該当しない。例えば、任意に添加される界面活性剤は通常固形分の１重量％に満たない量しか使用されず、またその多くは膜表面に集積しており、組成物に可塑性をもたらす事はないため、特定重合体よりも重量平均分子量が小さくても本発明における可塑剤には該当しない。
【００５７】
本発明で用いることができる可塑剤としては、例えば、下記構造を有する化合物が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００５８】
【化６】
0006573545.tif 000007
【００５９】
＜光酸発生剤＞
本発明におけるポジ型感光性樹脂層は、光酸発生剤を含有する。本発明で使用される光酸発生剤としては、紫外線、遠紫外線、Ｘ線、荷電粒子線等の放射線を照射することにより酸を発生することができる化合物である。
本発明で使用される光酸発生剤としては、波長３００ｎｍ以上、好ましくは波長３００〜４５０ｎｍの活性光線に感応し、酸を発生する化合物が好ましいが、その化学構造に制限されない。また、波長３００ｎｍ以上の活性光線に直接感応しない光酸発生剤についても、増感剤と併用することによって波長３００ｎｍ以上の活性光線に感応し、酸を発生する化合物であれば、増感剤と組み合わせて好ましく用いることができる。放射線の照射により発生される酸のｐＫａの値は好ましくは、４．０以下であり、さらに好ましくは３．０以下である。下限値は特に定めないが、例えば、−１０．０以上とすることができる。
【００６０】
光酸発生剤としては、イオン性光酸発生剤と、非イオン性光酸発生剤を挙げることができる。
【００６１】
非イオン性光酸発生剤の例として、トリクロロメチル−ｓ−トリアジン類、ジアゾメタン化合物、イミドスルホネート化合物、及び、オキシムスルホネート化合物などを挙げることができる。これらの中でも、絶縁性の観点から、光酸発生剤がオキシムスルホネート化合物であることが好ましい。これら光酸発生剤は、１種単独又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。トリクロロメチル−ｓ−トリアジン類、及びジアゾメタン誘導体の具体例としては、特開２０１１−２２１４９４号公報の段落番号００８３〜００８８に記載の化合物が例示できる。
【００６２】
オキシムスルホネート化合物、すなわち、オキシムスルホネート構造を有する化合物としては、下記式（Ｂ１）で表されるオキシムスルホネート構造を含有する化合物が好ましく例示でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
【００６３】
【化７】
0006573545.tif 000008
【００６４】
式（Ｂ１）中、Ｒ２１は、アルキル基又はアリール基を表す。＊は他の原子又は他の基との結合部位を表す。
【００６５】
式（Ｂ１）で表されるオキシムスルホネート構造を含有する化合物は、いずれの基も置換されてもよく、Ｒ２１におけるアルキル基は直鎖状でも分岐状でも環状でもよい。許容される置換基は以下に説明する。
Ｒ２１のアルキル基としては、炭素数１〜１０の、直鎖状又は分岐状アルキル基が好ましい。Ｒ２１のアルキル基は、炭素数６〜１１のアリール基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、又は、シクロアルキル基（７，７−ジメチル−２−オキソノルボルニル基などの有橋式脂環基を含む、好ましくはビシクロアルキル基等）で置換されてもよい。
Ｒ２１のアリール基としては、炭素数６〜１１のアリール基が好ましく、フェニル基又はナフチル基がより好ましい。Ｒ２１のアリール基は、低級アルキル基、アルコキシ基あるいはハロゲン原子で置換されてもよい。
【００６６】
式（Ｂ１）で表されるオキシムスルホネート構造を含有する化合物は、下記式（Ｂ２）で表されるオキシムスルホネート化合物であることも好ましい。
【００６７】
【化８】
0006573545.tif 000009
【００６８】
式（Ｂ２）中、Ｒ４２は、アルキル基又はアリール基を表し、Ｘ１０は、アルキル基、アルコキシ基、又は、ハロゲン原子を表し、ｍ４は、０〜３の整数を表し、ｍ４が２又は３であるとき、複数のＸ１０は同一でも異なっていてもよい。
【００６９】
Ｘ１０としてのアルキル基は、炭素数１〜４の直鎖状又は分岐状アルキル基が好ましい。Ｘ１０としてのアルコキシ基は、炭素数１〜４の直鎖状又は分岐状アルコキシ基が好ましい。
Ｘ１０としてのハロゲン原子は、塩素原子又はフッ素原子が好ましい。ｍ４は、０又は１が好ましい。式（Ｂ２）中、ｍ４が１であり、Ｘ１０がメチル基であり、Ｘ１０の置換位置がオルト位であり、Ｒ４２が炭素数１〜１０の直鎖状アルキル基、７，７−ジメチル−２−オキソノルボルニルメチル基、又はｐ−トルイル基である化合物が特に好ましい。
【００７０】
式（Ｂ１）で表されるオキシムスルホネート構造を含有する化合物は、下記式（Ｂ３）で表されるオキシムスルホネート化合物であることも好ましい。
【００７１】
【化９】
0006573545.tif 000010
【００７２】
式（Ｂ３）中、Ｒ４３は式（Ｂ２）におけるＲ４２と同義であり、Ｘ１１は、ハロゲン原子、水酸基、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、シアノ基又はニトロ基を表し、ｎ４は０〜５の整数を表す。
【００７３】
式（Ｂ３）におけるＲ４３としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−オクチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロ−ｎ−プロピル基、パーフルオロ−ｎ−ブチル基、ｐ−トリル基、４−クロロフェニル基又はペンタフルオロフェニル基が好ましく、ｎ−オクチル基が特に好ましい。
Ｘ１としては、炭素数１〜５のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基がより好ましい。
ｎ４としては、０〜２が好ましく、０〜１が特に好ましい。
【００７４】
式（Ｂ３）で表される化合物の具体例としては、α−（メチルスルホニルオキシイミノ）ベンジルシアニド、α−（エチルスルホニルオキシイミノ）ベンジルシアニド、α−（ｎ−プロピルスルホニルオキシイミノ）ベンジルシアニド、α−（ｎ−ブチルスルホニルオキシイミノ）ベンジルシアニド、α−（４−トルエンスルホニルオキシイミノ）ベンジルシアニド、α−〔（メチルスルホニルオキシイミノ）−４−メトキシフェニル〕アセトニトリル、α−〔（エチルスルホニルオキシイミノ）−４−メトキシフェニル〕アセトニトリル、α−〔（ｎ−プロピルスルホニルオキシイミノ）−４−メトキシフェニル〕アセトニトリル、α−〔（ｎ−ブチルスルホニルオキシイミノ）−４−メトキシフェニル〕アセトニトリル、α−〔（４−トルエンスルホニルオキシイミノ）−４−メトキシフェニル〕アセトニトリルを挙げることができる。
【００７５】
好ましいオキシムスルホネート化合物の具体例としては、下記化合物（ｉ）〜（ｖｉｉｉ）等が挙げられ、１種単独で使用、又は、２種類以上を併用することができる。化合物（ｉ）〜（ｖｉｉｉ）は、市販品として、入手することができる。また、他の種類の光酸発生剤と組み合わせて使用することもできる。
【００７６】
【化１０】
0006573545.tif 000011
【００７７】
式（Ｂ１）で表されるオキシムスルホネート構造を含有する化合物としては、下記式（ＯＳ−１）で表される化合物であることも好ましい。
【００７８】
式（ＯＳ−１）
【化１１】
0006573545.tif 000012
【００７９】
式（ＯＳ−１）中、Ｒ４１１は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホ基、シアノ基、アリール基、又は、ヘテロアリール基を表す。Ｒ４１２は、アルキル基、又は、アリール基を表す。
Ｘ４０１は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＮＲ４１５−、−ＣＨ２−、−ＣＲ４１６Ｈ−、又は、−ＣＲ４１５Ｒ４１７−を表し、Ｒ４１５〜Ｒ４１７はアルキル基、又は、アリール基を表す。
Ｒ４２１〜Ｒ４２４は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アミノ基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アミド基、スルホ基、シアノ基、又は、アリール基を表す。Ｒ４２１〜
Ｒ４２４のうち２つは、それぞれ互いに結合して環を形成してもよい。
Ｒ４２１〜Ｒ４２４としては、水素原子、ハロゲン原子、及び、アルキル基が好ましく、また、Ｒ４２１〜Ｒ４２４のうち少なくとも２つが互いに結合してアリール基を形成する態様もまた、好ましく挙げられる。中でも、Ｒ４２１〜Ｒ４２４がいずれも水素原子である態様が感度の観点から好ましい。
既述の官能基は、いずれも、さらに置換基を有していてもよい。
【００８０】
式（ＯＳ−１）で表される化合物は、下記式（ＯＳ−２）で表される化合物であることがより好ましい。
【００８１】
式（ＯＳ−２）
【化１２】
0006573545.tif 000013
【００８２】
式（ＯＳ−２）中、Ｒ４０１、Ｒ４０２、Ｒ４２１〜Ｒ４２４は、それぞれ式（ＯＳ−１）におけるそれらと同義であり、好ましい例もまた同様である。
これらの中でも、式（ＯＳ−１）及び式（ＯＳ−２）におけるＲ４０１がシアノ基、又は、アリール基である態様がより好ましく、式（ＯＳ−２）で表され、Ｒ４０１がシアノ基、フェニル基又はナフチル基である態様が最も好ましい。
【００８３】
また、オキシムスルホネート化合物においてオキシム又はベンゾチアゾール環の立体構造（Ｅ，Ｚ等）についてはそれぞれ、どちらか一方であっても、混合物であってもよい。
【００８４】
本発明に好適に用いうる式（ＯＳ−１）で表される化合物の具体例としては、特開２０１１−２２１４９４号公報の段落番号０１２８〜０１３２に記載の化合物（例示化合物ｂ−１〜ｂ−３４）が挙げられるが、本発明はこれらに限定されない。
【００８５】
本発明では、式（Ｂ１）で表されるオキシムスルホネート構造を含有する化合物としては、下記式（ＯＳ−３）、下記式（ＯＳ−４）又は下記式（ＯＳ−５）で表されるオキシムスルホネート化合物であることが好ましい。
【００８６】
【化１３】
0006573545.tif 000014
【００８７】
式（ＯＳ−３）〜式（ＯＳ−５）中、Ｒ２２、Ｒ２５及びＲ２８はそれぞれ独立にアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を表し、Ｒ２３、Ｒ２６及びＲ２９はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基又はハロゲン原子を表し、Ｒ２４、Ｒ２７及びＲ３０はそれぞれ独立にハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、スルホン酸基、アミノスルホニル基又はアルコキシスルホニル基を表し、Ｘ１〜Ｘ３はそれぞれ独立に酸素原子又は硫黄原子を表し、ｎ１〜ｎ３はそれぞれ独立に１又は２を表し、ｍ１〜ｍ３はそれぞれ独立に０〜６の整数を表す。
【００８８】
式（ＯＳ−３）〜（ＯＳ−５）中、Ｒ２２、Ｒ２５及びＲ２８におけるアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基は、置換基を有していてもよい。
式（ＯＳ−３）〜（ＯＳ−５）中、Ｒ２２、Ｒ２５及びＲ２８におけるアルキル基としては、置換基を有していてもよい総炭素数１〜３０のアルキル基であることが好ましい。
【００８９】
また、式（ＯＳ−３）〜（ＯＳ−５）中、Ｒ２２、Ｒ２５及びＲ２８におけるアリール基としては、置換基を有してもよい総炭素数６〜３０のアリール基が好ましい。
【００９０】
また、式（ＯＳ−３）〜（ＯＳ−５）中、Ｒ１におけるヘテロアリール基としては、置換基を有してもよい総炭素数４〜３０のヘテロアリール基が好ましい。
【００９１】
式（ＯＳ−３）〜（ＯＳ−５）中、Ｒ２２、Ｒ２５及びＲ２８におけるヘテロアリール基は、少なくとも１つの環が複素芳香環であればよく、例えば、複素芳香環とベンゼン環とが縮環していてもよい。
【００９２】
式（ＯＳ−３）〜（ＯＳ−５）中、Ｒ２３、Ｒ２６及びＲ２９は、水素原子、アルキル基又はアリール基であることが好ましく、水素原子又はアルキル基であることがより好ましい。
式（ＯＳ−３）〜（ＯＳ−５）中、化合物中に２以上存在するＲ２３、Ｒ２６及びＲ２９のうち、１つ又は２つがアルキル基、アリール基又はハロゲン原子であることが好ましく、１つがアルキル基、アリール基又はハロゲン原子であることがより好ましく、１つがアルキル基であり、かつ残りが水素原子であることが特に好ましい。
【００９３】
Ｒ２３、Ｒ２６及びＲ２９におけるアルキル基としては、置換基を有してもよい総炭素数１〜１２のアルキル基であることが好ましく、置換基を有してもよい総炭素数１〜６のアルキル基であることがより好ましい。
【００９４】
Ｒ２３、Ｒ２６及びＲ２９におけるアリール基としては、置換基を有してもよい総炭素数６〜３０のアリール基であることが好ましい。
【００９５】
式（ＯＳ−３）〜（ＯＳ−５）中、Ｘ１〜Ｘ３はそれぞれ独立にＯ又はＳを表し、Ｏであることが好ましい。
式（ＯＳ−３）〜（ＯＳ−５）において、Ｘ１〜Ｘ３を環員として含む環は、５員環又は６員環である。
式（ＯＳ−３）〜（ＯＳ−５）中、ｎ１〜ｎ３はそれぞれ独立に１又は２を表し、Ｘ１〜Ｘ３がＯである場合、ｎ１〜ｎ３はそれぞれ独立に１であることが好ましく、また、Ｘ１〜Ｘ３がＳである場合、ｎ１〜ｎ３はそれぞれ独立に２であることが好ましい。
【００９６】
式（ＯＳ−３）〜（ＯＳ−５）中、Ｒ２４、Ｒ２７及びＲ３０はそれぞれ独立にハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、スルホン酸基、アミノスルホニル基又はアルコキシスルホニル基を表す。その中でも、Ｒ２４、Ｒ２７及びＲ３０はそれぞれ独立にアルキル基又はアルキルオキシ基であることが好ましい。
Ｒ２４、Ｒ２７及びＲ３０におけるアルキル基、アルキルオキシ基、スルホン酸基、アミノスルホニル基及びアルコキシスルホニル基は、置換基を有していてもよい。
式（ＯＳ−３）〜（ＯＳ−５）中、Ｒ２４、Ｒ２７及びＲ３０におけるアルキル基としては、置換基を有していてもよい総炭素数１〜３０のアルキル基であることが好ましい。
【００９７】
式（ＯＳ−３）〜（ＯＳ−５）中、Ｒ２４、Ｒ２７及びＲ３０におけるアルキルオキシ基としては、置換基を有してもよい総炭素数１〜３０のアルキルオキシ基であることが好ましい。
【００９８】
また、式（ＯＳ−３）〜（ＯＳ−５）中、ｍ１〜ｍ３はそれぞれ独立に０〜６の整数を表し、０〜２の整数であることが好ましく、０又は１であることがより好ましく、０であることが特に好ましい。
また、式（ＯＳ−３）〜（ＯＳ−５）のそれぞれの置換基について、特開２０１１−２２１４９４号公報の段落番号００９２〜０１０９に記載の（ＯＳ−３）〜（ＯＳ−５）の置換基の好ましい範囲も同様に好ましい。
【００９９】
また、式（Ｂ１）で表されるオキシムスルホネート構造を含有する化合物は、下記式（ＯＳ−６）〜（ＯＳ−１１）のいずれかで表されるオキシムスルホネート化合物であることが特に好ましい。
【０１００】
【化１４】
0006573545.tif 000015
【０１０１】
式（ＯＳ−６）〜（ＯＳ−１１）中、Ｒ３０１〜Ｒ３０６はそれぞれ独立にアルキル基、アリール基又はヘテロアリール基を表し、Ｒ３０７は、水素原子又は臭素原子を表し、Ｒ３０８〜Ｒ３１０、Ｒ３１３、Ｒ３１６及びＲ３１８はそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜８のアルキル基、ハロゲン原子、クロロメチル基、ブロモメチル基、ブロモエチル基、メトキシメチル基、フェニル基又はクロロフェニル基を表し、Ｒ３１１及びＲ３１４はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、メチル基又はメトキシ基を表し、Ｒ３１２、Ｒ３１５、Ｒ３１７及びＲ３１９はそれぞれ独立には水素原子又はメチル基を表す。
【０１０２】
式（ＯＳ−６）〜（ＯＳ−１１）における好ましい範囲は、特開２０１１−２２１４９４号公報の段落番号０１１０〜０１１２に記載される（ＯＳ−６）〜（ＯＳ−１１）の好ましい範囲と同様である。
【０１０３】
式（ＯＳ−３）〜式（ＯＳ−５）で表されるオキシムスルホネート化合物の具体例としては、特開２０１１−２２１４９４号公報の段落番号０１１４〜０１２０に記載の化合物が挙げられるが、本発明は、これらに限定されない。
【０１０４】
ポジ型感光性樹脂層において、非イオン性光酸発生剤は、ポジ型感光性樹脂層中の全樹脂成分（好ましくは全固形分、より好ましくは重合体の合計）１００質量部に対して、０．１〜１０質量部使用することが好ましく、０．５〜１０質量部使用することがより好ましい。２種以上を併用することもできる。
【０１０５】
イオン性光酸発生剤の例として、ジアリールヨードニウム塩類、トリアリールスルホニウム塩類、第四級アンモニウム塩類等を挙げることができる。これらのうち、トリアリールスルホニウム塩類及びジアリールヨードニウム塩類が好ましい。
【０１０６】
イオン性光酸発生剤として使用されるトリアリールスルホニウム塩類は下記式（１）で表される。
【０１０７】
【化１５】
0006573545.tif 000016
【０１０８】
式（１）中、Ｒ５０５、Ｒ５０６及びＲ５０７は、それぞれ、置換基を有していてもよい、
アルキル基又は芳香族基を表し、アルキル基の場合、互いに連結し環を形成してもよい；Ｘ−は共役塩基を表す。
【０１０９】
Ｒ５０５、Ｒ５０６及びＲ５０７におけるアルキル基としては、炭素数１〜１０のアルキル基が好ましく、置換基を有していてもよい。そのようなアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ターシャリーブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、などが挙げられる。中でも、メチル基、エチル基、又はターシャリーブチル基が好ましい。また、Ｒ５０５、Ｒ５０６及びＲ５０７のうち、２つ以上がアルキル基の場合、その２つ以上のアルキル基が互いに連結し環を形成していることが好ましく、そのような環形態としては硫黄原子を含んだ形で５員環（チアシクロペンタン）、及び、６員環（チアシクロヘキサン）が好ましい。
Ｒ５０５、Ｒ５０６及びＲ５０７における芳香族基としては、炭素数６〜３０の芳香族基が好ましく、置換基を有していてもよい。そのような芳香族基としては、フェニル基、ナフチル基、４−メトキシフェニル基、４−クロロフェニル基、４−メチルフェニル基、４−ターシャリーブチルフェニル基、４−フェニルチオフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、４−メトキシ−１−ナフチル基、又は４−（４’−ジフェニルスルホニオフェニルチオ）フェニル基が挙げられる。
また、式（１）で表されるイオン性光酸発生剤は、Ｒ５０５〜Ｒ５０７のいずれかで結合し、２量体等の多量体を形成してもよい。例えば、４−（４’−ジフェニルスルホニオフェニルチオ）フェニル基は２量体の一例であり、４−（４’−ジフェニルスルホニオフェニルチオ）フェニル基における対アニオンは、Ｘ−と同様である。
【０１１０】
Ｒ５０５、Ｒ５０６及びＲ５０７におけるアルキル基及び芳香族基が有していてもよい置換基としては、芳香族基が好ましく、具体的にはフェニル基、４−メトキシフェニル基、４−クロロフェニル基、４−（４’−ジフェニルスルホニオフェニルチオ）フェニル基が特に好ましい。これらの置換基は、置換基でさらに置換されていてもよい。
【０１１１】
Ｘ−における共役塩基としては、アルキルスルホン酸の共役塩基、アリールスルホン酸の共役塩基、ＢＹ４−（Ｙはハロゲン原子を表す。以下についても同様である。）、ＰＹ６−、ＡｓＹ６−、ＳｂＹ６−、又は、下記式（３）若しくは式（４）で表される一価のアニオンが好ましく、アルキルスルホン酸の共役塩基、アリールスルホン酸の共役塩基、ＰＹ６−、又は、式（３）で表される１価のアニオンが特に好ましい。
【０１１２】
アルキルスルホン酸及びアリールスルホン酸の共役塩基としては、炭素数１〜７のアルキルスルホン酸の共役塩基が好ましく、更に炭素数１〜４のアルキルスルホン酸の共役塩基がより好ましく、酸の形で表記すると例えば、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ｎ−プロパンスルホン酸、及びヘプタンスルホン酸が特に好ましい。
アリールスルホン酸の共役塩基としては、酸の形で表記すると例えば、ベンゼンスルホン酸、クロロベンゼンスルホン酸、及びパラトルエンスルホン酸が挙げられる。
【０１１３】
Ｘ−におけるＢＹ４−、ＰＹ６−、ＡｓＹ６−、ＳｂＹ６−中のＹは、フッ素原子、塩素原子が好ましく、フッ素原子が特に好ましい。
【０１１４】
【化１６】
0006573545.tif 000017
【０１１５】
式（３）及び式（４）中、Ｒ５２１、Ｒ５２２及びＲ５２３はそれぞれ独立に、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数１〜１０のフッ素原子を有するアルキル基、又は、Ｒ５２１とＲ５２２とが互いに炭素原子数２〜６のアルキレン基若しくは炭素原子数２〜６のフッ素原子を有するアルキレン基で結合した環を表す。
【０１１６】
式（３）及び式（４）中、Ｒ５２１、Ｒ５２２及びＲ５２３における炭素原子数１〜１０のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ブチル基、ターシャリーブチル基、シクロヘキシル基、オクチル基等を挙げることができる。また、炭素原子数１〜１０のフッ素原子を有するアルキル基としては、例えばトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ノナフルオロブチル基、ドデカフルオロペンチル基、パーフルオロオクチル基等を挙げることができる。これらのうち、Ｒ５２１、Ｒ５２２及びＲ５２３は、炭素原子数１〜１０のフッ素原子を有するアルキル基が好ましく、炭素原子数１〜６のフッ素原子を有するアルキル基が特に好ましい。
式（３）及び式（４）中、Ｒ５２１とＲ５２２とが互いに結合して環を形成する場合の炭素原子数２〜６のアルキレン基としては、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基等を挙げることができる。また、炭素原子数２〜６のフッ素原子を有するアルキレン基としては、テトラフルオロエチレン基、ヘキサフルオロプロピレン基、オクタフルオロブチレン基、デカフルオロペンチレン基、ウンデカフルオロヘキシレン基等を挙げることができる。これらのうち、Ｒ５２１とＲ５２２とが互いに結合して環を形成する場合は、炭素原子数２〜６のフッ素原子を有するアルキレン基で結合することが好ましく、特に炭素原子数２〜４のフッ素原子を有するアルキレン基で結合することが好ましい。
【０１１７】
また、式（１）で表されるイオン性光酸発生剤としては、下記式（５）で表される光酸発生剤であることが好ましい。
【０１１８】
【化１７】
0006573545.tif 000018
【０１１９】
式中、Ｒ５１０、Ｒ５１１、Ｒ５１２及びＲ５１３はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよい、アルキル基又は芳香族基を表し、Ａｒ３及びＡｒ４はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよい二価の芳香族基を表し、Ｘ１−及びＸ２−はそれぞれ独立に、共役塩基を表す。
【０１２０】
Ｒ５１０、Ｒ５１１、Ｒ５１２及びＲ５１３におけるアルキル基及び芳香族基は、式（１）のＲ５０５、Ｒ５０６及びＲ５０７が表すアルキル基及び芳香族基と同義であり、好ましい態様も同様である。また、有していてもよい置換基も同様である。
【０１２１】
Ｘ１−及びＸ２−における共役塩基は、式（１）のＸ−が表す共役塩基と同義であり、
好ましい態様も同様である。
【０１２２】
Ａｒ３及びＡｒ４における二価の芳香族基としては、フェニレン基又はナフチレン基であることが好ましく、フェニレン基が特に好ましい。
【０１２３】
イオン性光酸発生剤として使用されるトリアリールスルホニウム塩類の具体例としては、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート、４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート又は４−フェニルチオフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオロアセテート等が挙げられる。
市販されている化合物としては、ＴＰＳ−１０２，１０３，１０５，１０６，１０９，３００，１０００、ＭＤＳ−１０３，１０５，１０９，２０５、２０９、ＢＤＳ−１０９、ＤＴＳ−１０３，１０５、ＭＮＰＳ−１０９、ＨＤＳ−１０９，（以上、みどり化学社製）、ＧＳＩＤ−２６−１、Ｃｙｒａｃｕｒｅ  ＵＶＩ−６９７６（以上、ＢＡＳＦ社製）が挙げられる。
【０１２４】
イオン性光酸発生剤として使用されるジアリールヨードニウム塩類は下記式（２）の式で表される。
【０１２５】
【化１８】
0006573545.tif 000019
【０１２６】
式（２）中、Ｒ５０８及びＲ５０９はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよい芳香族基を表し、Ｘ−は共役塩基を表す。
【０１２７】
式（２）中、Ｒ５０８及びＲ５０９における芳香族基は、式（１）のＲ５０５、Ｒ５０６及びＲ５０７が表す芳香族基と同義であり、好ましい態様も同様である。
式（２）中、Ｘ１−における共役塩基は、式（１）のＸ−が表す共役塩基と同義であり、好ましい態様も同様である。
また、式（２）で表される光酸発生剤は、Ｒ５０８〜Ｒ５０９で結合し、２量体等の多量体を形成してもよい。例えば、４−（４’−ジフェニルスルホニオフェニルチオ）フェニル基は２量体の一例であり、４−（４’−ジフェニルスルホニオフェニルチオ）フェニル基における対アニオンは、Ｘ−と同様である。
【０１２８】
イオン性光酸発生剤として使用されるジアリールヨードニウム塩類の具体例としては、ジフェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、フェニル，４−（２’−ヒドロキシ−１’−テトラデカオキシ）フェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、４−（２’−ヒドロキシ−１’−テトラデカオキシ）フェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモナート、フェニル，４−（２’−ヒドロキシ−１’−テトラデカオキシ）フェニルヨードニウム−ｐ−トルエンスルホナート等が挙げられる。
市販されている化合物としては、ＤＰＩ−１０５，１０６，１０９，２０１、ＢＩ−１０５，ＭＰＩ−１０５，１０６，１０９、ＢＢＩ−１０２，１０３，１０５，１０６，１０９，１１０，２０１，３００、３０１（以上、みどり化学社製）が挙げられる。
【０１２９】
イオン性光酸発生剤として使用される第四級アンモニウム塩類の具体例としては、テトラメチルアンモニウムブチルトリス（２，６−ジフルオロフェニル）ボレート、テトラメチルアンモニウムヘキシルトリス（ｐ−クロロフェニル）ボレート、テトラメチルアンモニウムヘキシルトリス（３−トリフルオロメチルフェニル）ボレート、ベンジルジメチルフェニルアンモニウムブチルトリス（２，６−ジフルオロフェニル）ボレート、ベンジルジメチルフェニルアンモニウムヘキシルトリス（ｐ−クロロフェニル）ボレート、ベンジルジメチルフェニルアンモニウムヘキシルトリス（３−トリフルオロメチルフェニル）ボレート等が挙げられる。
【０１３０】
具体例の他、光酸発生剤の具体例としては、以下のような化合物が挙げられるが、本発明で用いる光酸発生剤はこれらの化合物に限定されない。
【化１９】
0006573545.tif 000020
【０１３１】
【化２０】
0006573545.tif 000021
【０１３２】
【化２１】
0006573545.tif 000022
【０１３３】
ポジ型感光性樹脂層における光酸発生剤の含有量は、重合体成分１００質量部に対して、０．１〜１０質量部であることが好ましく、０．５〜５質量部であることがより好ましい。光酸発生剤の含有量が０．１質量部以上であると、所望の感度（高感度化）が得やすく、また、１０質量部以下であると、塗膜の透明性を確保しやすい。
また、非イオン性光酸発生剤の添加量は、１質量％以下であることが好ましく、実質的に非イオン性光酸発生剤を含まない態様が好ましい。
【０１３４】
＜溶剤＞
ポジ型感光性樹脂層を形成するためのポジ型感光性樹脂組成物（以下、「感光性樹脂組成物」と称する場合がある。）は、ポジ型感光性樹脂層を形成するための成分を溶剤に溶解した溶液として調製されることが好ましい。
ポジ型感光性樹脂層を形成するためのポジ型感光性樹脂組成物に使用される溶剤としては、公知の溶剤を用いることができ、エチレングリコールモノアルキルエーテル類、エチレングリコールジアルキルエーテル類、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールジアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコールジアルキルエーテル類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテル類、ジプロピレングリコールジアルキルエーテル類、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、エステル類、ケトン類、アミド類、ラクトン類等が例示できる。また、ポジ型感光性樹脂層を形成するためのポジ型感光性樹脂組成物に使用される溶剤の具体例としては特開２０１１−２２１４９４号公報の段落番号０１７４〜０１７８に記載の溶剤も挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
【０１３５】
また、これらの溶剤にさらに必要に応じて、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、１−オクタノール、１−ノナール、ベンジルアルコール、アニソール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、炭酸エチレン、炭酸プロピレン等の溶剤を添加することもできる。これら溶剤は、１種単独で又は２種以上を混合して使用することができる。本発明に用いることができる溶剤は、１種単独、又は、２種を併用することが好ましく、２種を併用することがより好ましく、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類又はジアルキルエーテル類、ジアセテート類とジエチレングリコールジアルキルエーテル類、あるいは、エステル類とブチレングリコールアルキルエーテルアセテート類とを併用することがさらに好ましい。
【０１３６】
また、溶剤としては、沸点１３０℃以上１６０℃未満の溶剤、沸点１６０℃以上の溶剤、又は、これらの混合物であることが好ましい。
沸点１３０℃以上１６０℃未満の溶剤としては、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（沸点１４６℃）、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート（沸点１５８℃）、プロピレングリコールメチル−ｎ−ブチルエーテル（沸点１５５℃）、プロピレングリコールメチル−ｎ−プロピルエーテル（沸点１３１℃）が例示できる。
沸点１６０℃以上の溶剤としては、３−エトキシプロピオン酸エチル（沸点１７０℃）、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル（沸点１７６℃）、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート（沸点１６０℃）、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート（沸点２１３℃）、３−メトキシブチルエーテルアセテート（沸点１７１℃）、ジエチレングリコールジエチエルエーテル（沸点１８９℃）、ジエチレングリコールジメチルエーテル（沸点１６２℃）、プロピレングリコールジアセテート（沸点１９０℃）、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート（沸点２２０℃）、ジプロピレングリコールジメチルエーテル（沸点１７５℃）、１，３−ブチレングリコールジアセテート（沸点２３２℃）が例示できる。
【０１３７】
ポジ型感光性樹脂層を形成するためのポジ型感光性樹脂組成物における溶剤の含有量は、感光性樹脂組成物中の全樹脂成分１００質量部当たり、５０〜９５質量部であることが好ましく、６０〜９０質量部であることがさらに好ましい。
【０１３８】
＜増感剤＞
本発明におけるポジ型感光性樹脂層は、さらに増感剤を含むことが好ましい。ポジ型感光性樹脂層は、光酸発生剤との組み合わせにおいて、その分解を促進させるために、増感剤を含有することが好ましく、特に非イオン性光酸発生剤を用いるときは増感剤を含有することが好ましい。増感剤は、活性光線又は放射線を吸収して電子励起状態となる。電子励起状態となった増感剤は、光酸発生剤と接触して、電子移動、エネルギー移動、発熱などの作用が生じる。これにより光酸発生剤は化学変化を起こして分解し、酸を生成する。
増感剤を含有させることで、露光感度が一段と向上し、また、可視光の吸収効率が低い非イオン性光酸発生剤を用いる場合、露光光源がｇ、ｈ線混合線の場合に特に有効である。
【０１３９】
増感剤としては、アントラセン誘導体、アクリドン誘導体、チオキサントン誘導体、クマリン誘導体、ベーススチリル誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体が好ましく、アントラセン誘導体がより好ましい。
アントラセン誘導体としては、アントラセン、９，１０−ジブトキシアントラセン、９，１０−ジクロロアントラセン、２−エチル−９，１０−ジメトキシアントラセン、９−ヒドロキシメチルアントラセン、９−ブロモアントラセン、９−クロロアントラセン、９，１０−ジブロモアントラセン、２−エチルアントラセン、９，１０−ジメトキシアントラセンが好ましい。
アクリドン誘導体としては、アクリドン、Ｎ−ブチル−２−クロロアクリドン、Ｎ−メチルアクリドン、２−メトキシアクリドン、Ｎ−エチル−２−メトキシアクリドンが好ましい。
チオキサントン誘導体としては、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン、２−クロロチオキサントンが好ましい。
クマリン誘導体としては、クマリン−１、クマリン−６Ｈ、クマリン−１１０、クマリン−１０２が好ましい。
ベーススチリル誘導体としては、２−（４−ジメチルアミノスチリル）ベンゾオキサゾール、２−（４−ジメチルアミノスチリル）ベンゾチアゾール、２−（４−ジメチルアミノスチリル）ナフトチアゾールが挙げられる。
ジスチリルベンゼン誘導体としては、ジスチリルベンゼン、ジ（４−メトキシスチリル）ベンゼン、ジ（３，４，５−トリメトキシスチリル）ベンゼンが挙げられる。
【０１４０】
増感剤の具体例としては、下記が挙げられるが本発明はこれらに限定されない。なお、下記において、Ｍｅはメチル基、Ｅｔはエチル基、Ｂｕはブチル基を表す。
【０１４１】
【化２２】
0006573545.tif 000023
【０１４２】
ポジ型感光性樹脂層における増感剤の含有量は、重合性成分１００質量部に対して、０．１〜１０質量部であることが好ましく、０．５〜５質量部であることがより好ましい。増感剤の含有量を０．１質量部以上とすることにより所望の感度が得やすく、また１０質量部以下とすることにより塗膜の透明性を確保しやすい。
【０１４３】
＜塩基性化合物＞
本発明におけるポジ型感光性樹脂層は、さらに塩基性化合物を含むことが好ましい。塩基性化合物としては、化学増幅レジストで用いられる塩基性化合物の中から任意に選択して使用することができる。例えば、脂肪族アミン、芳香族アミン、複素環式アミン、第四級アンモニウムヒドロキシド、カルボン酸の第四級アンモニウム塩等が挙げられる。これらの具体例としては、特開２０１１−２２１４９４号公報の段落番号０２０４〜０２０７に記載の化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
【０１４４】
具体的には、脂肪族アミンとしては、例えば、トリメチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、ジ−ｎ−ペンチルアミン、トリ−ｎ−ペンチルアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジシクロヘキシルアミン、ジシクロヘキシルメチルアミンなどが挙げられる。
芳香族アミンとしては、例えば、アニリン、ベンジルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、ジフェニルアミンなどが挙げられる。
複素環式アミンとしては、例えば、ピリジン、２−メチルピリジン、４−メチルピリジン、２−エチルピリジン、４−エチルピリジン、２−フェニルピリジン、４−フェニルピリジン、Ｎ−メチル−４−フェニルピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、イミダゾール、ベンズイミダゾール、４−メチルイミダゾール、２−フェニルベンズイミダゾール、２，４，５−トリフェニルイミダゾール、ニコチン、ニコチン酸、ニコチン酸アミド、キノリン、８−オキシキノリン、ピラジン、ピラゾール、ピリダジン、プリン、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、４−メチルモルホリン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］−５−ノネン、１，８−ジアザビシクロ［５．３．０］−７−ウンデセンなどが挙げられる。
第四級アンモニウムヒドロキシドとしては、例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムヒドロキシド、テトラ−ｎ−ヘキシルアンモニウムヒドロキシドなどが挙げられる。
カルボン酸の第四級アンモニウム塩としては、例えば、テトラメチルアンモニウムアセテート、テトラメチルアンモニウムベンゾエート、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムアセテート、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムベンゾエートなどが挙げられる。
【０１４５】
本発明に用いることができる塩基性化合物は、１種単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。
【０１４６】
ポジ型感光性樹脂層における塩基性化合物の含有量は、ポジ型感光性樹脂層中の全固形分１００質量部に対して、０．００１〜５質量部であることが好ましく、０．００５〜３質量部であることがより好ましい。
【０１４７】
＜ヘテロ環状化合物＞
本発明におけるポジ型感光性樹脂層は、ヘテロ環状化合物を含有する化合物を含むことが好ましい。ヘテロ環状化合物を添加することにより、ポジ型感光性樹脂層により得られる硬化膜をより強固な膜とすることができる。
ヘテロ環状化合物としては、重合体成分を除けば特に制限はない。例えば、以下に述べる分子内にエポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物、アルコキシメチル基含有ヘテロ環状化合物、そのほか、各種環状エーテル、環状エステル（ラクトン）などの含酸素モノマー、環状アミン、オキサゾリンといった含窒素モノマー、さらには珪素、硫黄、リンなどのｄ電子をもつヘテロ環モノマー等を添加することができる。
【０１４８】
ポジ型感光性樹脂層中におけるヘテロ環状化合物の添加量は、ポジ型感光性樹脂層の全固形分１００質量部に対し、０．０１〜５０質量部であることが好ましく、０．１〜１０質量部であることがより好ましく、１〜５質量部であることがさらに好ましい。この範囲で添加することにより、機械的強度に優れた硬化膜が得られ、耐薬品性に優れた硬化膜が得られる。ヘテロ環状化合物は複数を併用することもでき、その場合はヘテロ環状化合物を全て合算して含有量を計算する。
【０１４９】
分子内にエポキシ基を有する化合物の具体例としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等を挙げることができる。
【０１５０】
これらは市販品として入手できる。例えば、ＪＥＲ８２８、ＪＥＲ１００７、ＪＥＲ１
５７Ｓ７０（三菱化学社製）、ＪＥＲ１５７Ｓ６５（（株）三菱ケミカルホールディングス製）など、特開２０１１−２２１４９４号公報の段落番号０１８９に記載の市販品などが挙げられる。
その他にも、ＡＤＥＫＡ  ＲＥＳＩＮ  ＥＰ−４０００Ｓ、同ＥＰ−４００３Ｓ、同ＥＰ−４０１０Ｓ、同ＥＰ−４０１１Ｓ（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、ＮＣ−２０００、ＮＣ−３０００、ＮＣ−７３００、ＸＤ−１０００、ＥＰＰＮ−５０１、ＥＰＰＮ−５０２（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、デナコールＥＸ−６１１、ＥＸ−６１２、ＥＸ−６１４、ＥＸ−６１４Ｂ、ＥＸ−６２２、ＥＸ−５１２、ＥＸ−５２１、ＥＸ−４１１、ＥＸ−４２１、ＥＸ−３１３、ＥＸ−３１４、ＥＸ−３２１、ＥＸ−２１１、ＥＸ−２１２、ＥＸ−８１０、ＥＸ−８１１、ＥＸ−８５０、ＥＸ−８５１、ＥＸ−８２１、ＥＸ−８３０、ＥＸ−８３２、ＥＸ−８４１、ＥＸ−９１１、ＥＸ−９４１、ＥＸ−９２０、ＥＸ−９３１、ＥＸ−２１２Ｌ、ＥＸ−２１４Ｌ、ＥＸ−２１６Ｌ、ＥＸ−３２１Ｌ、ＥＸ−８５０Ｌ、ＤＬＣ−２０１、ＤＬＣ−２０３、ＤＬＣ−２０４、ＤＬＣ−２０５、ＤＬＣ−２０６、ＤＬＣ−３０１、ＤＬＣ−４０２、ＥＸ−１１１，ＥＸ−１２１、ＥＸ−１４１、ＥＸ−１４５、ＥＸ−１４６、ＥＸ−１４７、ＥＸ−１７１、ＥＸ−１９２（以上ナガセケムテック製）、ＹＨ−３００、ＹＨ−３０１、ＹＨ−３０２、ＹＨ−３１５、ＹＨ−３２４、ＹＨ−３２５（以上新日鐵住金化学製）セロキサイド２０２１Ｐ、２０８１、２０００、３０００、ＥＨＰＥ３１５０、エポリードＧＴ４００、セルビナースＢ０１３４、Ｂ０１７７（（株）ダイセル）、などが挙げられる。
これらは１種単独又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
【０１５１】
これらの中でも、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂及び脂肪族エポキシ、脂肪族エポキシ樹脂がより好ましく挙げられ、脂肪族エポキシ樹脂が特に好ましく挙げられる。
【０１５２】
分子内にオキセタニル基を有する化合物の具体例としては、アロンオキセタンＯＸＴ−２０１、ＯＸＴ−２１１、ＯＸＴ−２１２、ＯＸＴ−２１３、ＯＸＴ−１２１、ＯＸＴ−２２１、ＯＸ−ＳＱ、ＰＮＯＸ（以上、東亞合成（株）製）を用いることができる。
【０１５３】
また、オキセタニル基を含む化合物は、単独で又はエポキシ基を含む化合物と混合して使用することが好ましい。
【０１５４】
これらの中でも、本発明におけるポジ型感光性樹脂層は、ヘテロ環状化合物がエポキシ基を有する化合物であることが、エッチング耐性及び線幅安定性の観点から好ましい。
【０１５５】
また、分子内にアルコキシシラン構造とヘテロ環状構造の両方を有する化合物も好適に用いることができる。たとえば、γ−グリシドキシプロピルトリアルコキシシラン、γ−グリシドキシプロピルアルキルジアルコキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリアルコキシシランが挙げられる。これらのうち、γ−グリシドキシプロピルトリアルコキシシランがより好ましい。これらは１種単独又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
【０１５６】
＜界面活性剤＞
本発明におけるポジ型感光性樹脂層は、界面活性剤を含有してもよい。界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系、又は、両性のいずれでも使用することができるが、好ましい界面活性剤はノニオン界面活性剤である。
ノニオン系界面活性剤の例としては、ポリオキシエチレン高級アルキルエーテル類、ポリオキシエチレン高級アルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレングリコールの高級脂肪酸ジエステル類、シリコーン系、フッ素系界面活性剤を挙げることができる。また、以下商品名で、ＫＰ（信越化学工業（株）製）、ポリフロー（共栄社化学（株）製）、エフトップ（ＪＥＭＣＯ社製）、メガファック（ＤＩＣ（株）製）、フロラード（住友スリーエム（株）製）、アサヒガード、サーフロン（旭硝子（株）製）、ＰｏｌｙＦｏｘ（ＯＭＮＯＶＡ社製）、ＳＨ−８４００（東レ・ダウコーニングシリコーン）等の各シリーズを挙げることができる。
また、界面活性剤として、下記式（Ｉ−１）で表される構成単位Ａ及び構成単位Ｂを含み、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を溶剤とした場合のゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定されるポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）が１，０００以上１０，０００以下である共重合体を好ましい例として挙げることができる。
【０１５７】
式（Ｉ−１）
【化２３】
0006573545.tif 000024
【０１５８】
式（Ｉ−１）中、Ｒ４０１及びＲ４０３はそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、Ｒ４０２は炭素数１以上４以下の直鎖アルキレン基を表し、Ｒ４０４は水素原子又は炭素数１以上４以下のアルキル基を表し、Ｌは炭素数３以上６以下のアルキレン基を表し、ｐ及びｑは重合比を表す質量百分率であり、ｐは１０質量％以上８０質量％以下の数値を表し、ｑは２０質量％以上９０質量％以下の数値を表し、ｒは１以上１８以下の整数を表し、ｓは１以上１０以下の整数を表す。
【０１５９】
Ｌは、下記式（Ｉ−２）で表される分岐アルキレン基であることが好ましい。式（Ｉ−２）におけるＲ４０５は、炭素数１以上４以下のアルキル基を表し、相溶性と被塗布面に対する濡れ性の点で、炭素数１以上３以下のアルキル基が好ましく、炭素数２又は３のアルキル基がより好ましい。ｐとｑとの和（ｐ＋ｑ）は、ｐ＋ｑ＝１００、すなわち、１００質量％であることが好ましい。
【０１６０】
式（Ｉ−２）
【化２４】
0006573545.tif 000025
【０１６１】
共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１，５００以上５，０００以下がより好ましい。
【０１６２】
その他、特許第４５０２７８４号公報の段落［００１７］、特開２００９−２３７３６２号公報の段落［００６０］〜［００７１］に記載の界面活性剤も用いることができる。
【０１６３】
これらの界面活性剤は、１種単独で又は２種以上を混合して使用することができる。
ポジ型感光性樹脂層における界面活性剤の添加量は、ポジ型感光性樹脂層中の全固形分１００質量部に対して、１０質量部以下であることが好ましく、０．００１〜１０質量部であることがより好ましく、０．０１〜３質量部であることがさらに好ましい。
【０１６４】
＜放射線吸収剤＞
本発明におけるポジ型感光性樹脂層は、放射線吸収剤を含むことも好ましい。放射線吸収剤としては、紫外線吸収剤が好ましく、特に紫外線吸収により吸光度が減少する、いわゆるフォトブリーチ性を示す放射線吸収剤が好ましく用いられる。具体的には、ナフトキノンジアジド誘導体、ニトロン又はジアゾニウム塩等の光消色性材料（例えば、特公昭６２−４０６９７号公報、Ｍ．Ｓａｓａｎｏ  ｅｔ  ａｌ．，ＳＰＩＥ  Ｓｙｍｐ．  Ｐｒｏｃ．，６３１，３２１（１９８６）に記載の化合物）があげられる。
これら材料は、放射線吸収剤によって感光性樹脂層内の光強度分布を平均化させる目的で用いられ、いわゆる内添型ＣＥＬ（Ｃｏｎｔｒａｓｔ  Ｅｎｈａｎｃｅｍｅｎｔ  Ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ）効果をもたらすことでパターンの矩形化、エッジラフネスの改善効果が得られる（半導体プロセス材料とケミカルス、坂本正典監修、シーエムシー出版（２００６）参照）。
【０１６５】
＜その他の成分＞
本発明におけるポジ型感光性樹脂層には、さらに金属酸化物粒子、ヘテロ環状化合物以外の架橋剤、アルコキシシラン化合物、酸化防止剤、分散剤、酸増殖剤、現像促進剤、導電性繊維、着色剤、熱ラジカル発生剤、熱酸発生剤、紫外線吸収剤、増粘剤、及び、有機又は無機の沈殿防止剤などの公知の添加剤を加えることができる。
その他の成分の好ましい態様については特開２０１４−８５６４３号公報の［０１６５］〜［０１８４］にそれぞれ記載があり、この公報の内容は本明細書に組み込まれる。
【０１６６】
＜ポジ型感光性樹脂層の厚み＞
ポジ型感光性樹脂層の厚みは、０．５〜１０μｍが好ましい。ポジ型感光性樹脂層の厚みが１０μｍ以下であるとパターンの解像度が良好であり、０．５μｍ以上であるとパターン直線性の観点から好ましい。
ポジ型感光性樹脂層の厚みとしては、０．８〜５μｍが更に好ましく、１．０〜３．０μｍが特に好ましい。
【０１６７】
＜ポジ型感光性樹脂層の形成方法＞
各成分を所定の割合でかつ任意の方法で混合し、撹拌溶解してポジ型感光性樹脂層を形成するためのポジ型感光性樹脂組成物を調製することができる。例えば、各成分を、それぞれ予め溶剤に溶解させた溶液とした後、これらを所定の割合で混合して組成物溶液を調製することもできる。以上のように調製した組成物溶液は、孔径０．２μｍのフィルター等を用いてろ過した後に、使用に供することもできる。
【０１６８】
組成物溶液を仮支持体の表面に塗布し、乾燥させることで、仮支持体上にポジ型感光性樹脂層が形成された本発明のポジ型感光性樹脂材料（ポジ型感光性転写材料）を得ることができる。
【０１６９】
＜コントラストエンハンスメント層＞
本発明のポジ型感光性転写材料は、ポジ型感光性樹脂層とコントラストエンハンスメント層を含むことも好ましい。
コントラストエンハンスメント層（Ｃｏｎｔｒａｓｔ  Ｅｎｈａｎｃｅｍｅｎｔ  Ｌａｙｅｒ；ＣＥＬ）を用いるＣＥＬ法（Ｃｏｎｔｒａｓｔ  Ｅｎｈａｎｃｅｍｅｎｔ  Ｌａｙｅｒ  Ｍｅｔｈｏｄ）について説明する。これは、Ｇ．Ｅ．社のＧｒｉｆｆｉｎｇ等により１９８３年に発表され（Ｂ．Ｆ．Ｇｒｉｆｆｉｎｇ，Ｐ．Ｒ．Ｗｅｓｔ；ＩＥＥＥ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｄｅｖｉｃｅ  Ｌｅｔｔｅｒｓ，Ｖｏｌ  ＥＤ１−４，１４，１９８３）、米国特許第４，７０２，９９６号、特公昭６２−４０６９７号公報に開示されているように、主として光によって退色する物質であるアリールニトロン化合物と重合体結合剤から構成され、ポジ型感光性樹脂層膜上に、更にこの光退色性化合物膜を形成し、常法の工程に従ってパターンを形成する。通常、露光の際にはフォトマスクにより光を遮蔽すべき部分も干渉効果により若干の弱い光の照射が見られ、この部分は光退色性膜（ＣＥＬ）により光を遮断し、露光部と未露光部のコントラストの増強を図り、解像度、焦点深度の向上に資する。
ポジ型感光性樹脂層の上に、中間層を形成し、中間層の上に、コントラストエンハンスメント層（以下、「ＣＥＬ」、又は「ＣＥ層」という場合がある。）を形成することも好ましい。中間層は、ＣＥＬとポジ型感光性樹脂層とのミキシングを防止するために設けられる。特開平２−２１２８５１号公報にも開示されているように、ＣＥＬは、露光前には露光波長に対する吸収が大きいが、露光されるに伴って次第に吸収が小さくなる、すなわち、光の透過率が高くなる材料（光消色性色素成分と称する）を含有する層である。光消色性色素成分としては、ジアゾニウム塩、スチルバゾリウム塩、アリールニトロソ塩類が知られている。被膜形成成分としては、フェノール系樹脂等が用いられる。
その他、コントラストエンハンスメント層としては、特開平６−９７０６５号公報の［０００４］〜［００５１］、特開平６−３３２１６７号公報の［００１２］〜［００５５］、フォトポリマーハンドブック，フォトポリマー懇話会編，工業調査会（１９８９）、フォトポリマー・テクノロジー，山岡、永松編，日刊工業新聞社（１９８８）に記載の材料を用いることができる。
【０１７０】
＜その他の層＞
本発明のポジ型感光性転写材料は、例えば、仮支持体と、熱可塑性樹脂層と、ポジ型感光性樹脂層とをこの順で有することも好ましく、さらにカバーフィルムなどの他の層を有していてもよい。
熱可塑性樹脂層の好ましい態様については特開２０１４−８５６４３号公報の［０１８９］〜［０１９３］、他の層の好ましい態様については特開２０１４−８５６４３号公報の［０１９４］〜［０１９６］にそれぞれ記載があり、この公報の内容は本明細書に組み込まれる。
【０１７１】
本発明のポジ型感光性転写材料が、熱可塑性樹脂層等のその他の層を有する場合、特開２００６−２５９１３８号公報の段落［００９４］〜［００９８］に記載の感光性転写材料の作製方法に準じて作製することができる。
例えば、熱可塑性樹脂層及び中間層を有する本発明のポジ型感光性転写材料を作製する場合には、仮支持体上に、熱可塑性の有機高分子と共に添加剤を溶解した溶解液（熱可塑性樹脂層用塗布液）を塗布し、乾燥させて熱可塑性樹脂層を設けた後、この熱可塑性樹脂層上に熱可塑性樹脂層を溶解しない溶剤に樹脂及び添加剤を加えて調製した調製液（中間層用塗布液）を塗布し、乾燥させて中間層を積層する。この中間層上に更に、中間層を溶解しない溶剤を用いて調製したポジ型感光性樹脂層用塗布液を塗布し、乾燥させてポジ型感光性樹脂層を積層することによって、本発明のポジ型感光性転写材料を好適に作製することができる。
【０１７２】
［回路配線の製造方法］
本発明の回路配線の製造方法は、回路配線の製造方法であり、
（ａ）基材と、互いに構成材料が異なる第１導電層及び第２導電層を含む複数の導電層とを有し、基材の表面上に、基材の表面から遠い順に、最表面層である第１導電層と第２導電層とが積層されている基板に対し、前述した本発明のポジ型感光性転写材料のポジ型感光性樹脂層を第１導電層に接触させて貼り合わせる貼り合わせ工程、
（ｂ）貼り合わせ工程後のポジ型感光性転写材料の仮支持体を介してポジ型感光性樹脂層をパターン露光する第１露光工程、
（ｃ）第１露光工程後のポジ型感光性樹脂層から仮支持体を剥離した後、第１露光工程後のポジ型感光性樹脂層を現像して第１パターンを形成する第１現像工程、
（ｄ）第１パターンが配置されていない領域における複数の導電層のうち少なくとも第１導電層及び第２導電層をエッチング処理する第１エッチング工程、
（ｅ）第１エッチング工程後の第１パターンを第１パターンとは異なるパターンでパターン露光する第２露光工程、
（ｆ）第２露光工程後の第１パターンを現像して第２パターンを形成する第２現像工程、及び、
（ｇ）第２パターンが配置されていない領域における複数の導電層のうち少なくとも第１導電層をエッチング処理する第２エッチング工程、をこの順に含んでいる。
【０１７３】
従来、感光性樹脂組成物は感光システムの違いから、活性光線を照射した部分が像として残るネガ型と、活性光線を照射していない部分を像として残すポジ型とに分けられる。ポジ型では活性光線を照射することにより、例えば活性光線を照射されて酸を発生する感光剤などを用いて露光部の溶解性を高めるため、パターン露光時点では露光部及び未露光部がいずれも硬化せず、得られたパターン形状が不良であった場合には全面露光などによって基板を再利用（リワーク）できる。そのため、いわゆるリワーク性に優れる観点からは、ポジ型が好ましい。また、残存した感光性樹脂層を再度露光して異なるパターンを作製する、という技術はポジ型感光性樹脂層でなければ実現できない。
【０１７４】
本発明の回路配線の製造方法によれば、回路配線形成用基板に低温かつ高速でポジ型感光性転写材料を貼り合わせても、高い密着性を確保できる。また、本発明の回路配線の製造方法は、１回の本発明の回路配線の製造方法の貼り合わせ（ラミネート）で複数種類のパターンの導電層を含む回路配線を形成できるため、製造効率に優れ、また、複数種類のパターンの導電層の位置合わせが必要ないため、入力装置用途、特にタッチパネル用途として好適である。
【０１７５】
以下、本発明の回路配線の製造方法の好ましい態様について説明する。本発明の実施様態の一つである、タッチパネル用回路配線の製造方法の一例を、図２に概略的に示した。ここでは、基材２２と、基材２２の一方の表面から遠い順に第１導電層２４と第２導電層２６とを有する回路形成用基板２０を用いて２種類のパターンの導電層を有する回路配線基板を製造する場合について説明する。
【０１７６】
本発明のポジ型感光性転写材料におけるポジ型感光性樹脂層をエッチングレジスト（エッチングパターン）として用いて静電容量型入力装置の導電層パターンを得る場合について説明する。
なお、静電容量型入力装置は、基材（前面板又はフィルム基板）と、基材の非接触側に、少なくとも下記（２）〜（５）の要素を有し、（２）、（３）及び（５）のうち少なくとも１つを本発明の回路配線の製造方法で形成されることが好ましい。
（２）複数のパッド部分が接続部分を介して第一の方向に延在して形成された複数の第一の電極パターン
（３）第一の電極パターンと電気的に絶縁され、第一の方向に交差する方向に延在して形成された複数のパッド部分からなる複数の第二の電極パターン
（４）第一の電極パターンと第二の電極パターンとを電気的に絶縁する絶縁層
（５）第一の電極パターン及び第二の電極パターンの少なくとも一方に電気的に接続され、第一の電極パターン及び第二の電極パターンとは別の導電性要素
以下、各工程の詳細について説明する。
【０１７７】
（ａ）貼り合わせ工程
まず、貼り合わせ工程では、基材２２と、互いに構成材料が異なる第１導電層２４及び第２導電層２６を含む複数の導電層とを有し、基材２２の表面上に、基材２２の表面から遠い順に、最表面層である第１導電層２４と第２導電層２４とが積層されている基板（回路配線形成用基板）２０に対し、前述した本発明のポジ型感光性転写材料１００のポジ型感光性樹脂層１４を第１導電層２４に接触させて貼り合わせる。なお、このような回路配線形成用基板とポジ型感光性転写材料との貼り合わせを「転写」又は「ラミネート」と称する場合がある。
【０１７８】
図１に示したようにポジ型感光性転写材料１００のポジ型感光性樹脂層１４上にカバーフィルム１６を有する場合は、ポジ型感光性転写材料１００（ポジ型感光性樹脂層１４）からカバーフィルム１６を除去した後、ポジ型感光性転写材料１００のポジ型感光性樹脂層１４を第１導電層２４に接触させて貼り合わせる。
ポジ型感光性転写材料の第１導電層上への貼り合わせ（転写）は、ポジ型感光性転写材料のポジ型感光性樹脂層側を第１導電層の上に重ね、ロール等による加圧及び加熱することに行われることが好ましい。貼り合わせには、ラミネータ、真空ラミネータ、及び、より生産性を高めることができるオートカットラミネーター等の公知のラミネータを使用することができる。
回路配線形成用基板の基材が樹脂フィルムである場合は、ロールツーロールでの貼り合わせも行うこともできる。
【０１７９】
（基材）
基材上に複数の導電層が積層された基板は、基材がガラス基材又はフィルム基材であることが好ましく、フィルム基材であることがより好ましい。本発明の回路配線の製造方法は、タッチパネル用の回路配線である場合、基材がシート状樹脂組成物であることが特に好ましい。
また、基材は透明であることが好ましい。
基材の屈折率は、１．５〜１．５２であることが特に好ましい。
基材は、ガラス基材等の透光性基材で構成されていてもよく、コーニング社のゴリラガラスに代表される強化ガラスなどを用いることができる。また、前述の透明基材としては、特開２０１０−８６６８４号公報、特開２０１０−１５２８０９号公報及び特開２０１０−２５７４９２号公報に用いられている材料を好ましく用いることができる。
基材としてフィルム基材を用いる場合は、光学的に歪みがない基材、及び、透明度が高い基材を用いることがより好ましく、具体的な素材には、ポリエチレンテレフタレート（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ  ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ；ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース、シクロオレフィンポリマーをあげることができる。
【０１８０】
（導電層）
基材上に形成されている複数の導電層としては、一般的な回路配線又はタッチパネル配線に用いられる任意の導電層を挙げることができる。
導電層の材料としては、金属及び金属酸化物などを挙げることができる。
【０１８１】
本発明の回路配線の製造方法は、複数の導電層のうち少なくとも一つの導電層が金属酸化物を含むことが好ましい。導電層に用いられる金属酸化物としては、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）、ＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）、ＳｉＯ２等の金属酸化膜などを挙げることができる。
導電層としては、後述の静電容量型入力装置に用いられる第一の電極パターン、第二の電極パターン、別の導電性要素であることが好ましい。
その他の導電層の好ましい態様については、静電容量型入力装置の説明において後述する。
【０１８２】
（ｂ）第１露光工程
第１露光工程では、貼り合わせ工程後のポジ型感光性転写材料の仮支持体１２を介してポジ型感光性樹脂層１４をパターン露光する。
【０１８３】
本発明における露光工程、現像工程、及びその他の工程の例としては、特開２００６−２３６９６号公報の段落番号［００３５］〜［００５１］に記載の方法を本発明においても好適に用いることができる。
【０１８４】
例えば、第１導電層２４の上に配置されたポジ型感光性転写材料１００の上方（第１導電層２４と接する側とは反対側）に所定のパターンを有するマスク３０を配置し、その後、このマスク３０を介してマスク上方から露光する方法などが挙げられる。
本発明においてパターンの詳細な配置及び具体的サイズは特に限定されない。本発明により製造される回路配線を有する入力装置を備えた表示装置（例えばタッチパネル）の表示品質を高め、また、取り出し配線の占める面積をできるだけ小さくしたいことから、パターンの少なくとも一部（特にタッチパネルの電極パターン及び取り出し配線の部分）は１００μｍ以下の細線であることが好ましく、７０μｍ以下であることが更に好ましい。
ここで、露光に使用する光源としては、ポジ型感光性転写材料の露光された箇所が現像液に溶解しうる波長域の光（例えば、３６５ｎｍ、４０５ｎｍなど）を照射できれば適宜選定して用いることができる。具体的には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。
露光量としては、通常５〜２００ｍＪ／ｃｍ２程度であり、好ましくは１０〜１００ｍＪ／ｃｍ２程度である。
また、露光後にパターンの矩形性、直線性を向上させる目的で、現像前に熱処理を行うことも好ましい。いわゆるＰＥＢ（Ｐｏｓｔ  Ｅｘｐｏｓｕｒｅ  Ｂａｋｅ）と呼ばれる工程により、露光時に感光性樹脂層中で生じた定在波によるパターンエッジの荒れを低減することが可能である。
【０１８５】
尚、パターン露光は、仮支持体をポジ型感光性樹脂層から剥離してから行っても、仮支持体を剥離する前に、仮支持体を介して露光し、その後、仮支持体を剥離してもよい。感光性樹脂層とマスクの接触によるマスク汚染の防止や、マスクに付着した異物による露光への影響を避けるためには、仮支持体を剥離せずに露光することが好ましい。なお、パターン露光は、マスクを介した露光でもよいし、レーザー等を用いたデジタル露光でもよい。
【０１８６】
（ｃ）第１現像工程
第１現像工程では、第１露光工程後のポジ型感光性樹脂層１４から仮支持体１２を剥離した後、第１露光工程後のポジ型感光性樹脂層１４を現像して第１パターン１４Ａを形成する。
【０１８７】
第１現像工程は、パターン露光されたポジ型感光性樹脂層を現像することにより第１パターンを形成する工程である。
パターン露光されたポジ型感光性樹脂層の現像は、現像液を用いて行うことができる。
現像液としては、ポジ型感光性樹脂層の露光部分を除去することができれば特に制約はなく、例えば、特開平５−７２７２４号公報に記載の現像液など、公知の現像液を使用することができる。尚、現像液はポジ型感光性樹脂層の露光部が溶解型の現像挙動をする現像液が好ましい。例えば、ｐＫａ＝７〜１３の化合物を０．０５〜５ｍｏｌ／Ｌの濃度で含む現像液が好ましく、更に水と混和性を有する有機溶剤を少量添加してもよい。水と混和性を有する有機溶剤としては、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドン等を挙げることができる。現像液中の有機溶剤の濃度は０．１質量％〜３０質量％が好ましい。
現像液には、更に公知の界面活性剤を添加することができる。現像液中の界面活性剤の濃度は０．０１質量％〜１０質量％が好ましい。
【０１８８】
現像方式としては、パドル現像、シャワー現像、シャワー及びスピン現像、ディップ現像等のいずれでもよい。ここで、シャワー現像について説明すると、露光後のポジ型感光性樹脂層に現像液をシャワーにより吹き付けることにより、露光部分を除去することができる。尚、熱可塑性樹脂層、中間層、又はＣＥ層などを設けた場合には、現像の前にポジ型感光性樹脂層の溶解性が低い洗浄液をシャワーなどにより吹き付け、熱可塑性樹脂層、中間層、ＣＥ層などを除去しておくことも好ましい。また、現像の後に、洗浄剤などをシャワーにより吹き付け、ブラシなどで擦りながら、現像残渣を除去することが好ましい。現像液の液温度は２０℃〜４０℃が好ましく、また、現像液のｐＨは８〜１３が好ましい。
【０１８９】
さらに、現像して得られたポジ型感光性樹脂層を含むパターンを加熱処理するポストベーク工程を有していてもよい。
ポストベークの加熱は０．０８〜１．２ａｔｍの環境下で行うことが好ましく、０．５ａｔｍ以上の環境下で行うことがより好ましい。一方、１．１ａｔｍ以下の環境下で行うことがより好ましく、１．０ａｔｍ以下の環境下で行うことが特に好ましい。さらに、約１ａｔｍ（大気圧）環境下で行うことが特別な減圧装置を用いることなく製造コストを低減できる観点からより特に好ましい。
ポストベークの温度は、１１０〜１７０℃であることが好ましく、１２０〜１６０℃であることがより好ましく、１３０〜１５０℃であることが特に好ましい。
ポストベークの時間は、１〜３０分であることが好ましく、２〜１０分であることがより好ましく、２〜４分であることが特に好ましい。
ポストベークは、空気環境下で行っても、窒素置換環境下で行ってもよいが、空気環境下で行うことが、特別な減圧装置を用いることなく製造コストを低減できる観点から特に好ましい。
【０１９０】
ポスト露光工程等、その他の工程を有していてもよい。
【０１９１】
（ｄ）第１エッチング工程
第１エッチング工程では、第１パターン１４Ａが配置されていない領域における複数の導電層２４、２６のうち少なくとも第１導電層２４及び第２導電層２６をエッチング処理する。エッチングにより、同じパターンを有する第１導電層２４Ａ及び第２導電層２６Ａが形成される。
【０１９２】
導電層のエッチングは、特開２０１０−１５２１５５公報の段落［００４８］〜［００５４］等に記載の方法など、公知の方法でエッチングを適用することができる。
【０１９３】
例えば、エッチングの方法としては、一般的に行われている、エッチング液に浸漬するウェットエッチング法が挙げられる。ウェットエッチングに用いられるエッチング液は、エッチングの対象に合わせて酸性タイプ又はアルカリ性タイプのエッチング液を適宜選択すればよい。
酸性タイプのエッチング液としては、塩酸、硫酸、フッ酸、リン酸等の酸性成分単独の水溶液、酸性成分と塩化第２鉄、フッ化アンモニウム、過マンガン酸カリウム等の塩の混合水溶液等が例示される。酸性成分は、複数の酸性成分を組み合わせた成分を使用してもよい。
アルカリ性タイプのエッチング液としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア、有機アミン、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドのような有機アミンの塩等のアルカリ成分単独の水溶液、アルカリ成分と過マンガン酸カリウム等の塩の混合水溶液等が例示される。アルカリ成分は、複数のアルカリ成分を組み合わせた成分を使用してもよい。
【０１９４】
エッチング液の温度は特に限定されないが、４５℃以下であることが好ましい。本発明でエッチングマスク（エッチングパターン）として使用される第１パターンは、４５℃以下の温度域における酸性及びアルカリ性のエッチング液に対して特に優れた耐性を発揮することが好ましい。したがって、エッチング工程中にポジ型感光性樹脂層が剥離することが防止され、ポジ型感光性樹脂層の存在しない部分が選択的にエッチングされることになる。
【０１９５】
エッチング後、工程ラインの汚染を防ぐために、必要に応じて洗浄工程及び乾燥工程を行ってもよい。洗浄工程については、例えば常温で純水により１０〜３００秒間基板を洗浄して行い、乾燥工程については、例えばエアブローを使用し、エアブロー圧（０．１〜５ｋｇ／ｃｍ２程度）を適宜調整して乾燥を行えばよい。
【０１９６】
（ｅ）第２露光工程
第１エッチング工程後、第１エッチング工程後の第１パターン１４Ａを第１パターンとは異なるパターンでパターン露光する。
【０１９７】
第２露光工程では、第１導電層上に残存する第１パターンに対し、後述する第２現像工程において少なくとも第１導電層の除去すべき部分に相当する箇所を露光する。
第２露光工程におけるパターン露光は、第１露光工程で用いたマスク３０とはパターンが異なるマスク４０を用いること以外は第１露光工程におけるパターン露光と同じ方法を適用することができる。
【０１９８】
（ｆ）第２現像工程
第２現像工程では、第２露光工程後の第１パターン１４Ａを現像して第２パターン１４Ｂを形成する。
現像により、第１パターンのうち第２露光工程において露光された部分が除去される。
なお、第２現像工程では、第１現像工程における現像と同じ方法を適用することができる。
【０１９９】
（ｇ）第２エッチング工程
第２エッチング工程では、第２パターン１４Ｂが配置されていない領域における複数の導電層２４Ａ，２４Ｂのうち少なくとも第１導電層２４Ａをエッチング処理する。
【０２００】
第２エッチング工程におけるエッチングは、エッチングにより除去すべき導電層に応じたエッチング液を選択すること以外は第１エッチング工程におけるエッチングと同じ方法を適用することができる。
第２エッチング工程では、所望のパターンに応じて、第１エッチング工程よりも少ない導電層を選択的にエッチングすることが好ましい。例えば、図２に示すように、ポジ型感光性樹脂層が配置されていない領域において第１導電層２４Ｂのみを選択的にエッチングするエッチング液を用いてエッチングを行うことで、第１導電層を第２導電層のパターンとは異なるパターンにすることができる。
第２エッチング工程の終了後、少なくとも２種類のパターンの導電層２４Ｂ，２６Ａを含む回路配線が形成される。
【０２０１】
（ｈ）ポジ型感光性樹脂層除去工程
第２エッチング工程の終了後、第１導電層２４Ｂ上の一部には第２パターン１４Ｂが残存している。ポジ型感光性樹脂層が不要であれば、残存する全てのポジ型感光性樹脂層１４Ｂを除去すればよい。
【０２０２】
残存するポジ型感光性樹脂層を除去する方法としては特に制限はないが、薬品処理により除去する方法を挙げることができる。
ポジ型感光性樹脂層の除去方法としては、例えば、３０〜８０℃、好ましくは５０〜８０℃にて攪拌中の剥離液にポジ型感光性樹脂層などを有する基材を５〜３０分間浸漬する方法が挙げられる。
エッチングマスクとして使用されるポジ型感光性樹脂層は、４５℃以下において優れた薬液耐性を示す樹脂層であってもよいが、薬液温度が５０℃以上になるとアルカリ性の剥離液により膨潤する性質を示すことが好ましい。このような性質により、５０〜８０℃の剥離液を使用して剥離工程を行うと工程時間が短縮され、ポジ型感光性樹脂層の剥離残渣が少なくなるという利点がある。すなわち、エッチング工程と残留するポジ型感光性樹脂層を除去する工程との間で薬液温度に差を設けることにより、エッチングマスクとして使用されるポジ型感光性樹脂層は、エッチング工程において良好な薬液耐性を発揮する一方で、除去工程において良好な剥離性を示すことになり、薬液耐性と剥離性という、相反する特性を両方とも満足することができる。
【０２０３】
剥離液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機アルカリ成分、又は、第３級アミン、第４級アンモニウム塩等の有機アルカリ成分を、水、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルピロリドン、又はこれらの混合溶液に溶解させた剥離液が挙げられる。剥離液を使用し、スプレー法、シャワー法、パドル法等により剥離してもよい。
【０２０４】
本発明の回路配線の製造方法は、他の任意の工程を含んでもよい。例えば、以下のような工程が挙げられるが、これらの工程に限定されるものではない。
【０２０５】
＜保護フィルムを貼り付ける工程＞
第１エッチング工程の後、第２露光工程の前に、第１パターン上に、光透過性を有する保護フィルム（不図示）を貼り付ける工程をさらに有してもよい。
この場合、第２露光工程において、保護フィルムを介して第１パターンをパターン露光し、第２露光工程後、第１パターンから保護フィルムを剥離した後、第２エッチング工程を行うことが好ましい。
【０２０６】
＜可視光線反射率を低下させる工程＞
本発明の回路配線の製造方法は、基材上の複数の導電層の一部又は全ての可視光線反射率を低下させる処理をする工程を含むことが可能である。
可視光線反射率を低下させる処理としては、酸化処理などを挙げることができる。例えば、銅を酸化処理して酸化銅とすることで、黒化することにより、可視光線反射率を低下させることができる。
可視光線反射率を低下させる処理の好ましい態様については、特開２０１４−１５０１１８号公報の［００１７］〜［００２５］、並びに、特開２０１３−２０６３１５号公報の［００４１］、［００４２］、［００４８］及び［００５８］に記載があり、この公報の内容は本明細書に組み込まれる。
【０２０７】
＜絶縁膜上に新たな導電層を形成する工程＞
本発明の回路配線の製造方法は、形成した回路配線上に絶縁膜を形成する工程と、絶縁膜上に新たな導電層を形成する工程を含むことも好ましい。
このような構成により、後述の第二の電極パターンを、第一の電極パターンと絶縁しつつ、形成することができる。
絶縁膜を形成する工程については、特に制限はなく、公知の永久膜を形成する方法を挙げることができる。また、絶縁性を有する感光性材料を用いて、フォトリソグラフィにより所望のパターンの絶縁膜を形成してもよい。
絶縁膜上に新たな導電層を形成する工程については、特に制限はない。導電性を有する感光性材料を用いて、フォトリソグラフィにより所望のパターンの新たな導電層を形成してもよい。
【０２０８】
また、図２を参照した説明では、２層の導電層を備えた回路配線形成用基板に対して２つの異なるパターンを有する回路配線を形成する場合について説明したが、本発明の回路配線の製造方法を適用する基板の導電層の数は２層に限定されず、導電層が３層以上積層された回路配線形成用基板を用い、前述した露光工程、現像工程、及びエッチング工程の組み合わせを３回以上行うことで、３層以上の導電層をそれぞれ異なる回路配線パターンに形成することもできる。
【０２０９】
また、図２には示していないが、本発明の回路配線の製造方法は、基材が両方の表面にそれぞれ複数の導電層を有し、基材の両方の表面に形成された導電層に対して逐次又は同時に回路形成することも好ましい。このような構成により、基材の一方の表面に第一の導電パターン、もう一方の表面に第二の導電パターンを形成したタッチパネル用回路配線を形成することができる。また、このような構成のタッチパネル用回路配線を、ロールツーロールで基材の両面から形成することも好ましい。
【０２１０】
［回路配線］
本発明の回路配線の製造方法により製造される回路配線の用途は限定さないが、例えば、タッチパネル用回路配線であることが好ましい。タッチパネル用回路配線の好ましい態様については、静電容量型入力装置の説明で後述する。
【０２１１】
図３に、本発明の回路配線の製造方法により製造することができる回路配線の実施様態の一つとして、タッチパネル用回路配線の一例を示した。図３では、基材１の上に、第一の電極パターン３が形成され、第一の電極パターンの上に別の導電性要素６が形成されている。図３に示したタッチパネル用回路配線は、第一の電極パターン３と別の導電性要素が形成された導電層積層体と、第一の電極パターン３のみを有する導電層の２種類のパターンの導電層を含む回路配線となっている。
図３のようなタッチパネル用回路配線をななめ上方向から見ると、図４のようになる。図４に示したタッチパネル用回路配線の一例では、図４の点線部分は第一の電極パターン３と別の導電性要素が形成された導電層積層体であり、図４の四角形が連なった部分は第一の電極パターン３のみを有する導電層である。このように、本発明の回路配線の製造方法は、回路配線に含まれる異なる種類のパターンを有する導電層のうち、少なくとも１種類のパターンを有する導電層が同一の回路パターンを共有する２層以上の導電層積層体を含むことが好ましい。
【０２１２】
［入力装置及び表示装置］
本発明の回路配線の製造方法により製造される回路配線を備えた装置として、入力装置が挙げられる。本発明における入力装置は、静電容量型タッチパネルであることが好ましい。
本発明における表示装置は、本発明における入力装置を備える。本発明における表示装置は画像表示装置であることが好ましい。
【０２１３】
＜静電容量型入力装置、及び静電容量型入力装置を備える画像表示装置＞
本発明における入力装置及び表示装置の好ましい態様である静電容量型入力装置、及びこの静電容量型入力装置を構成要素として備えた画像表示装置は、『最新タッチパネル技術』（２００９年７月６日発行（株）テクノタイムズ）、三谷雄二監修、“タッチパネルの技術と開発”、シーエムシー出版（２００４，１２）、ＦＰＤ  Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ  ２００９  Ｆｏｒｕｍ  Ｔ−１１講演テキストブック、Ｃｙｐｒｅｓｓ  Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ  アプリケーションノートＡＮ２２９２等に開示されている構成を適用することができる。
【０２１４】
まず、静電容量型入力装置の構成について説明する。図５は、静電容量型入力装置の構成を示す断面図である。図５において静電容量型入力装置１０は、基材１と、マスク層２と、第一の電極パターン３と、第二の透明電極パターン４と、絶縁層５と、別の導電性要素６と、透明保護層７と、から構成されている。
【０２１５】
基材１は、ガラス基板等の透光性基板で構成されており、コーニング社のゴリラガラスに代表される強化ガラスなどを用いることができる。また、図５において、前面層１の各要素が設けられている側を非接触面と称する。静電容量型入力装置１０においては、基材１の接触面（非接触面の反対の面）に指などを接触などさせて入力が行われる。本明細書では、前面板を、「基材」と称する場合がある。
【０２１６】
また、基材１の非接触面上にはマスク層２が設けられている。マスク層２は、タッチパネル前面板の非接触側に形成された表示領域周囲の額縁状のパターンであり、引回し配線等が見えないようにするために形成される。
静電容量型入力装置１０には、基材１の一部の領域を覆うようにマスク層２が設けられていてもよい。更に、基材１には、一部に開口部を設けることができる。開口部には、押圧によるメカニカルなスイッチを設置することができる。
【０２１７】
基材１の接触面には、複数のパッド部分が接続部分を介して第一の方向に延在して形成された複数の第一の電極パターン３と、第一の電極パターン３と電気的に絶縁され、第一の方向に交差する方向に延在して形成された複数のパッド部分からなる複数の第二の透明電極パターン４と、第一の電極パターン３と第二の透明電極パターン４を電気的に絶縁する絶縁層５とが形成されている。第一の電極パターン３と、第二の透明電極パターン４と、後述する別の導電性要素６とは、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）又はＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）などの透光性の導電性金属酸化膜で作製することができる。このような金属膜としては、ＩＴＯ膜；Ａｌ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｍｏ等の金属膜；ＳｉＯ２等の金属酸化膜などが挙げられる。この際、各要素の、膜厚は１０〜２００ｎｍとすることができる。また、焼成により、アモルファスのＩＴＯ膜を多結晶のＩＴＯ膜とするため、電気的抵抗を低減することもできる。
また、第一の電極パターン３と、第二の透明電極パターン４とは、ポジ型感光性樹脂層をエッチングレジスト（エッチングパターン）として用いて形成されてなることが好ましい。第二の透明電極パターンを形成するための第二の電極層の形成には、本発明で用いられるポジ型感光性樹脂層をはじめとしたレジストを用いるフォトリソグラフィのほか、公知の方法を用いることができる。その他、導電性繊維を用いた感光性樹脂組成物を有する感光性転写材料を用いて製造することもできる。ＩＴＯ等によって第一の導電性パターン等を形成する場合には、特許第４５０６７８５号公報の段落［００１４］〜［００１６］等を参考にすることができる。
【０２１８】
また、第一の電極パターン３及び第二の透明電極パターン４の少なくとも一方は、基材１の非接触面及びマスク層２の基材１とは逆側の面の両方の領域にまたがって設置することができる。図５においては、第二の透明電極パターンが、基材１の非接触面及びマスク層２の基材１とは逆側の面の両方の領域にまたがって設置されている図が示されている。
【０２１９】
図６及び図７を用いて第一の電極パターン及び第二の電極パターン４について説明する。図６及び図７は、第一の電極パターン及び第二の電極パターンの一例を示す説明図でもある。図６及び図７に示すように、第一の電極パターンは、パッド部分３ａが接続部分３ｂを介して第一の方向に延在して形成されている。また、第二の電極パターン４は、第一の電極パターンと絶縁層５によって電気的に絶縁されており、第一の方向に交差する方向（図３における第二の方向）に延在して形成された複数のパッド部分によって構成されている。ここで、第一の電極パターン３を形成する場合、パッド部分３ａと接続部分３ｂとを一体として作製してもよいし、接続部分３ｂのみを作製して、パッド部分３ａと第二の透明電極パターン４とを一体として作製（パターニング）してもよい。パッド部分３ａと第二の透明電極パターン４とを一体として作製（パターニング）する場合、図６及び図７に示すように接続部分３ｂの一部とパッド部分３ａの一部とが連結され、且つ、絶縁層５によって第一の電極パターン３と第二の透明電極パターン４とが電気的に絶縁されるように各層が形成される。
【０２２０】
図５において、マスク層２の基材１とは逆側の面側には別の導電性要素６が設置されている。別の導電性要素６は、第一の電極パターン３及び第二の透明電極パターン４の少なくとも一方に電気的に接続され、且つ、第一の電極パターン３及び第二の透明電極パターン４とは別の要素である。図５においては、別の導電性要素６が第二の透明電極パターン４に接続されている図が示されている。
【０２２１】
また、図５においては、各構成要素の全てを覆うように透明保護層７が設置されている。透明保護層７は、各構成要素の一部のみを覆うように構成されていてもよい。絶縁層５と透明保護層７とは、同一材料であってもよいし、異なる材料であってもよい。絶縁層５と透明保護層７とを構成する材料としては、表面硬度及び耐熱性が高い材料が好ましく、公知の感光性シロキサン樹脂材料、アクリル樹脂材料などが用いられ、これらは当業者に公知である。
絶縁層のパターニング方法も、フォトリソ方式のほか、インクジェット、スクリーンなど公知の方法を用いることが可能である。
【０２２２】
静電容量型入力装置の製造方法においては、第一の電極パターン３、第二の透明電極パターン４及び別の導電性要素６のうち少なくとも１つは、ポジ型感光性樹脂層をエッチングレジスト（エッチングパターン）として用いてエッチング処理して形成されてなることが好ましい。また、黒色のマスク層２と絶縁層５と、必要に応じて透明保護層７との少なくとも一要素も、仮支持体と熱可塑性樹脂層と光硬化性樹脂層とをこの順で有する感光性フィルムを用いて形成されることも好ましい。
【０２２３】
第一の電極パターン３、第二の透明電極パターン４及び別の導電性要素６のうち少なくとも１つは、ポジ型感光性樹脂層をエッチングレジスト（エッチングパターン）として用いてエッチング処理して形成されてなることが好ましい。
エッチング処理によって、第一の電極パターン３、第二の透明電極パターン４及び別の導電性要素６を形成する場合、まず黒色のマスク層２等が形成された基材１の非接触面上に、黒色のマスク層２が設けられた部分について少なくとも無機絶縁層を設け、基材１の非接触面上又は無機絶縁層上にＩＴＯ等の透明電極層をスパッタリングによって形成する。次いで、透明電極層上に光硬化性樹脂層としてエッチング用光硬化性樹脂層を有するポジ型感光性樹脂層を用いて露光及び現像によってエッチングパターンを形成する。その後、透明電極層をエッチングして透明電極をパターニングし、エッチングパターンを除去することで、第一の電極パターン３等を形成することができる。
【０２２４】
導電性光硬化性樹脂層を有する感光性フィルムを用いて、第一の電極パターン３、第二の透明電極パターン４及び別の導電性要素６を形成する場合、基材１の表面上に、黒色のマスク層２が設けられた部分について少なくとも無機絶縁層を設け、基材１の非接触面上又は無機絶縁層上に導電性光硬化性樹脂層を転写することで形成することができる。
【０２２５】
マスク層２、絶縁層５及び透明保護層７は、感光性フィルムを用いて光硬化性樹脂層を基材１に転写することで形成することができる。例えば、黒色のマスク層２を形成する場合には、光硬化性樹脂層として黒色光硬化性樹脂層を有する感光性フィルムを用いて、基材１の表面に黒色光硬化性樹脂層を転写することで形成することができる。絶縁層５を形成する場合には、光硬化性樹脂層として絶縁性の光硬化性樹脂層を有する感光性フィルムを用いて、第一又は第二の透明電極パターンが形成された基材１の表面に光硬化性樹脂層を転写することで形成することができる。透明保護層７を形成する場合には、光硬化性樹脂層として透明の光硬化性樹脂層を有する感光性フィルムを用いて、各要素が形成された基材１の表面に光硬化性樹脂層を転写することで形成することができる。
【実施例】
【０２２６】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されない。なお、特に断りのない限り、「部」、「％」は質量基準である。
【０２２７】
［実施例１］
以下の処方でポジ型感光性樹脂組成物を作製した。
・重合体成分（下記構成単位を有する重合体Ａ１、重量平均分子量５，０００）：７．７３部
・可塑剤（下記化合物Ｂ、重量平均分子量１，２１６）：１．９３部
・光酸発生剤（特開２０１３−０４７７６５の段落０２２７に記載の下記化合物Ａ−１）：０．２５部
・界面活性剤（下記界面活性剤Ｃ）：０．０１部
・添加剤（下記化合物Ｄ）：０．０８部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート：９０．００部
【０２２８】
重合体Ａ１：下記構成単位を有する重合体
【化２５】
0006573545.tif 000026
【０２２９】
化合物Ｂ
【化２６】
0006573545.tif 000027
【０２３０】
特開２０１３−０４７７６５の段落０２２７に記載の化合物Ａ−１
【化２７】
0006573545.tif 000028
【０２３１】
界面活性剤Ｃ：パーフルオロアルキル基含有ノニオン界面活性剤（Ｆ−５５４、ＤＩＣ社製）
【０２３２】
化合物Ｄ：下記構造の塩基性化合物（製造元：東洋化成工業社製、品番：ＣＭＴＵ）
【化２８】
0006573545.tif 000029
【０２３３】
作製したポジ型感光性樹脂組成物を、仮支持体となる厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（以下「ＰＥＴ（Ａ）」と称する）の上に、スリット状ノズルを用いて乾燥膜厚が２．５μｍとなるように塗布した。その後、１００℃のコンベクションオーブンで２分間乾燥させ、最後にカバーフィルムとしてポリエチレンフィルム（トレデガー社製、ＯＳＭ−Ｎ）を圧着してポジ型感光性転写材料１を作製した。
【０２３４】
なお、ＰＥＴ（Ａ）の全光ヘイズは０．１９％であった。フィルムヘイズはスガ試験機（株）製ヘイズメーターＨＺ−２を用い、ＪＩＳ−Ｋ−７１３６に準拠してベース小片の全光ヘイズ値（％）を測定した。
【０２３５】
［実施例２］
重合体成分と可塑剤の使用量を以下としたほかは、実施例１と同様にしてポジ型感光性転写材料２を作製した。
・重合体成分（重合体Ａ１）：８．２１部
・可塑剤（化合物Ｂ）：１．４５部
【０２３６】
［実施例３］
重合体成分と可塑剤の使用量を以下としたほかは、実施例１と同様にしてポジ型感光性転写材料３を作製した。
・重合体成分（重合体Ａ１）：７．２５部
・可塑剤（化合物Ｂ）：２．４１部
【０２３７】
［比較例１］
以下の処方でポジ型感光性樹脂組成物を作製した。
・重合体成分（ｐ−ヒドロキシスチレンの１−エトキシエチル保護体／ｐ−ヒドロキシスチレン共重合体、３０／７０モル％、分子量１１，０００）：９．５８部
・光酸発生剤（特表２００２−５２８４５１号公報の段落番号０１０８に記載の方法に従って合成された下記構造の化合物。なお、下記構造中、Ｔｓはｐ−トルエンスルホニル基を表す）：０．２部
【０２３８】
【化２９】
0006573545.tif 000030
【０２３９】
・増感剤（９，１０−ジブトキシアントラセン）：０．２部
・界面活性剤（界面活性剤Ｃ）：０．０１部
・添加剤（化合物Ｄ）：０．０１部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート：９０．００部
【０２４０】
この感光性樹脂組成物を、実施例１と同様にしてＰＥＴ（Ａ）上に塗布して乾燥させ、ポジ型感光性転写材料４を作製した。
【０２４１】
［評価］
厚さ１８８μｍのＰＥＴフィルム上に厚さ５００ｎｍでスパッタリング法にて銅層を作製した基板を使用した。
【０２４２】
＜ラミネート適性評価＞
作製したポジ型感光性転写材料１〜４をそれぞれ５０ｃｍ角にカットし、カバーフィルムを剥がして、線圧０．６ＭＰａ、線速度（ラミネート速度）１．０ｍ／ｍｉｎ又は３．６ｍ／ｍｉｎ．のラミネート条件で銅層付きＰＥＴ基板にラミネートした。ラミネートロール温度を変化させてラミネートを行い、各温度で感光性樹脂層が銅層に密着する面積を目視評価し、「感光性樹脂層が密着した面積／カットした転写材料の面積」（％）により密着した面積割合を求めた。下記基準のＡ〜Ｃで評価した。
Ａ：９５％以上
Ｂ：９０％以上９５％未満
Ｃ：９０％未満
【０２４３】
＜解像度評価＞
作製したポジ型感光性転写材料１〜４を、ラミネート適性でＡとなった最低のラミネートロール温度で銅層付きＰＥＴ基板にラミネートし（線圧０．６ＭＰａ、線速度３．６ｍ／ｍｉｎ．）、仮支持体を剥離せずに線幅２０μｍのラインアンドスペースパターンマスクを介して超高圧水銀灯で露光後、仮支持体を剥離して現像した。現像は２３℃の２．３８％水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）水溶液を用い、シャワー現像で３０秒行った。このようにして２０μｍのラインアンドスペースパターンが形成できる露光量を求め、最適露光量とした。
次いで、種々の線幅のラインアンドスペースパターンマスクを介して同様に最適露光量で露光、同様に現像した際、マスクと同じ線幅のラインアンドスペースが解像しうる最も小さなパターンサイズを解像度とした。
以下表１に結果を示す。
【０２４４】
【表１】
0006573545.tif 000031
【０２４５】
実施例のポジ型感光性転写材料は、同一解像度でも、比較例の感光性転写材料よりも低い温度での転写が可能であり、広いプロセスマージンを得る事が可能であった。
【０２４６】
［実施例１０］
１００ミクロン厚ＰＥＴ基材上に、第２導電層としてＩＴＯをスパッタリングで１５０ｎｍ厚にて成膜し、その上に第１導電層として銅を真空蒸着法で２００ｎｍ厚にて成膜して、回路形成用基板とした。
【０２４７】
銅層上にポジ型感光性転写材料１をラミネートした（線圧０．６ＭＰａ、線速度３．６ｍ／ｍｉｎ、ロール温度１００℃）。
仮支持体を剥離せずに、一方向に導電層パッドが連結された構成を持つ図８に示したパターンＡを設けたフォトマスクを用いてコンタクトパターン露光した（第１露光工程）。
図８に示したパターンＡは、実線部及びグレー部が遮光部であり、その他の部分が開口部であり、点線部はアライメント合わせの枠を仮想的に示している。また、実線部は７０μｍ以下の細線とした。以降、その他の実施例及び比較例でも同様の細線を形成した
【０２４８】
その後、仮支持体を剥離し、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）水溶液２．３８％を用いた現像を行い（第１現像工程）、その後、水洗を行って第１のパターン（パターンＡの遮光部領域の形状であるパターン）形状を有するポジ型感光性樹脂層を得た。
【０２４９】
次いで銅エッチング液（関東化学（株）製、Ｃｕ−０２）を用いて銅層（第１導電層）をエッチングした後、ＩＴＯエッチング液（関東化学（株）製、ＩＴＯ−０２）を用いてＩＴＯ層（第２導電層）をエッチングすることで、銅層（第１導電層）とＩＴＯ層（第２導電層）が共に第１のパターン（パターンＡの遮光部領域の形状であるパターン）で描画された基板を得た（第１エッチング工程）。
【０２５０】
次いで、アライメントを合わせた状態で図９に示したパターンＢの開口部及び遮光部を設けたフォトマスクを用いてパターン露光し（第２露光工程）、ＴＭＡＨ水溶液２．３８％を用いた現像を行い（第２現像工程）、その後、水洗を行って第２のパターン（パターンＡの遮光部及びパターンＢの遮光部の重なる部分のパターン）形状を有するポジ型感光性樹脂層を得た。
図９に示したパターンＢはグレー部が遮光部であり、その他の部分が開口部であり、点線部はアライメント合わせの枠を仮想的に示している。
【０２５１】
その後、Ｃｕ−０２を用いて銅層をエッチングし、残った感光性樹脂層を剥離液（関東化学（株）製ＫＰ−３０１）を用いて剥離し、回路配線基板を得た。
これにより、図１０に示すパターンＣの回路配線基板を得た。図１０中、実線でない領域（白、グレー領域共に）はＰＥＴ基板が露出している状態である。図１０のグレー領域内の実線部分はＩＴＯ配線が露出した状態になっている。それ以外の実線部分は周辺配線部分にあたり、ＩＴＯ配線上に銅配線が積層されて同一の回路パターンを共有する構造を持った状態になっている。
【０２５２】
その後、Ｃｕ−０２を用いることで、第２のパターンとしたポジ型感光性樹脂層が配置されていない領域の第１導電層（銅層）のみをエッチングした（第２エッチング工程）。
さらに残った感光性樹脂層を剥離液（関東化学（株）製ＫＰ−３０１）を用いて剥離して回路配線基板を得た。
これにより、図１０に示す配線パターンＣを有する回路配線基板を得た。図１０中、実線でない領域（白、グレー領域共に）はＰＥＴ基板が露出している状態である。図１０のグレー領域内の実線部分はＩＴＯ配線（第２導電層）が露出した状態になっている。それ以外の実線部分は周辺配線部分にあたり、ＩＴＯ配線上に銅配線（第１導電層）が積層されて同一の回路パターンを共有する構造になっている。
得られた回路配線基板の回路について顕微鏡で観察したところ、剥がれや欠けなどは無く、高精細のきれいなパターンであった。
【０２５３】
［実施例２０］
１００ミクロン厚ＰＥＴ基材上に、第２導電層としてＩＴＯをスパッタリングで１５０ｎｍ厚にて成膜し、その上に第１導電層として銅を真空蒸着法で２００ｎｍ厚にて成膜して、回路形成用基板とした。
銅層上にポジ型感光性転写材料１をラミネートした（線圧０．６ＭＰａ、線速度３．６ｍ／ｍｉｎ、ロール温度１００℃）。
仮支持体を剥離せずに一方向に導電層パッドが連結された構成を持つパターンＡを設けたフォトマスクを用いてパターン露光した。その後仮支持体を剥離し、現像を行い、その後、水洗を行ってパターンＡを得た。
次いで銅エッチング液（関東化学（株）製Ｃｕ−０２）を用いて銅層をエッチングした後、ＩＴＯエッチング液（関東化学（株）製ＩＴＯ−０２）を用いてＩＴＯ層をエッチングすることで、銅とＩＴＯが共にパターンＡで描画された基板を得た。
【０２５４】
次いで、残存しているレジスト（ポジ型感光性樹脂層）上に再度保護フィルムとしてＰＥＴ（Ａ）をラミネートした。この状態で、アライメントを合わせた状態でパターンＢの開口部を設けたフォトマスクを用いてパターン露光し、カバーフィルムを剥離した後に現像、水洗を行った。
その後、Ｃｕ−０２を用いて銅配線をエッチングし、残った感光性樹脂層を剥離液（関東化学（株）製ＫＰ−３０１）を用いて剥離し、回路配線基板を得た。
これにより、パターンＣの回路配線基板を得た。
得られた回路配線基板の回路について顕微鏡で観察したところ、剥がれや欠けなどは無く、高精細のきれいなパターンであった。
【符号の説明】
【０２５５】
１     基材
２     マスク層
３     電極パターン
３ａ   パッド部分
３ｂ   接続部分
４     透明電極パターン
５     絶縁層
７     透明保護層
１０   静電容量型入力装置
１２   仮支持体
１４   ポジ型感光性樹脂層
１４Ａ 第１パターン
１４Ｂ 第２パターン
１６   カバーフィルム
２０   回路形成用基板
２２   基材
２４   第１導電層
２４Ａ 第１導電層（第１エッチング工程後）
２４Ｂ 第１導電層（第２エッチング工程後）
２６   第２導電層
２６Ａ 第２導電層（第１エッチング工程及び第２エッチング工程後）
３０   マスク
４０   マスク
１００ ポジ型感光性転写材料
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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