(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体とハードコート層とを有する光学フィルムであって、
前記光学フィルムの全膜厚が３５μｍ以下であり、
前記光学フィルムを平置きしたときの前記ハードコート層方向へのフィルムカールが４ｍｍ以下であり、
前記光学フィルムの前記ハードコート層表面の鉛筆硬度がＨ以上であり、
前記光学フィルムの透湿度が４００ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であり、
前記ハードコート層は、ハードコート層形成組成物を用いて形成された層であり、
前記ハードコート層形成組成物は、下記（ａ）および（ｂ）の少なくとも一方と下記（ｃ）とを含み、前記ハードコート層形成組成物の全固形分を１００質量％とした場合に、下記（ａ）及び（ｂ）の合計の含有量が５質量％以上４０質量％以下である、光学フィルム。
（ａ）下記一般式（１）で表される構造を有する、重量平均分子量が５００以上である化合物
【化１】
0006507116.tif 000031
一般式（１）中、
ｎは１〜４の整数を表す。
Ｌ１は単結合、又は、置換基を有しても良いアルキレン基、置換基を有しても良いアリーレン基、置換基を有しても良いアラルキレン基、エステル結合、エーテル結合、カルボニル結合、−ＮＨ−、若しくはこれらを組み合わせてなる連結基を表す。
（ｂ）下記一般式（２）で表される構造を有する、重量平均分子量が５００以上である化合物
【化２】
0006507116.tif 000032
一般式（２）中、ｍ及びｋはそれぞれ独立に１〜４の整数を表す。
Ｌ２は、単結合、又は、置換基を有しても良いアルキレン基、置換基を有しても良いアリーレン基、置換基を有しても良いアラルキレン基、エステル結合、エーテル結合、カルボニル結合、−ＮＨ−、若しくはこれらを組み合わせてなる連結基を表す。
（ｃ）分子内に３個以上のエチレン性不飽和二重結合性基を有する化合物
前記フィルムカールは、以下の評価条件にて求められる値とする。
前記光学フィルムを６０ｍｍ×６０ｍｍのサイズで切り出し、温度２５℃、相対湿度６０％環境下で３時間以上調湿し、その後、同環境下（温度２５℃、相対湿度６０％）で、切り出したフィルムを前記ハードコート層が上になるように平置きし、前記切り出したフィルムの一辺の端部から１ｃｍの位置に２００ｇの重りを載せて１分間放置し、前記端部の立ち上がり高さを測定する。この測定を、前記切り出したフィルムの四辺全てに対して行い、得られた値を平均し、フィルムカールを求める。
前記透湿度は、直径７０ｍｍに切り出した前記光学フィルムを４０℃、相対湿度９０％で２４時間調湿し、ＪＩＳ  Ｚ−０２０８（１９７６）記載の方法により測定した値とする。
【請求項２】
前記支持体の厚さが３３μｍ以下である、請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項３】
前記支持体がセルロースアシレートを含有する、請求項１又は２に記載の光学フィルム。
【請求項４】
偏光子と、請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学フィルムとを含む偏光板。
【請求項５】
液晶セルと、前記液晶セルの少なくとも一方の面に配置された請求項４に記載の偏光板とを含み、前記偏光板の前記光学フィルムが最表面に配置された液晶表示装置。
【請求項６】
支持体とハードコート層とを有する光学フィルムの製造方法であって、
前記光学フィルムの全膜厚が３５μｍ以下であり、
前記光学フィルムを平置きしたときの前記ハードコート層方向へのフィルムカールが４ｍｍ以下であり、
前記光学フィルムの前記ハードコート層表面の鉛筆硬度がＨ以上であり、
前記支持体上に、下記（ａ）および（ｂ）の少なくとも一方と下記（ｃ）とを含み、かつ下記（ａ）及び（ｂ）の合計の含有量が全固形分に対して５質量％以上４０質量％以下であるハードコート層形成組成物を塗布して塗膜を形成し、前記塗膜に活性エネルギー線の照射を２回以上に分割して行い、前記ハードコート層を形成する、光学フィルムの製造方法。
（ａ）下記一般式（１）で表される構造を有する、重量平均分子量が５００以上である化合物
【化３】
0006507116.tif 000033
一般式（１）中、
ｎは１〜４の整数を表す。
Ｌ１は単結合、又は、置換基を有しても良いアルキレン基、置換基を有しても良いアリーレン基、置換基を有しても良いアラルキレン基、エステル結合、エーテル結合、カルボニル結合、−ＮＨ−、若しくはこれらを組み合わせてなる連結基を表す。
（ｂ）下記一般式（２）で表される構造を有する、重量平均分子量が５００以上である化合物
【化４】
0006507116.tif 000034
一般式（２）中、ｍ及びｋはそれぞれ独立に１〜４の整数を表す。
Ｌ２は、単結合、又は、置換基を有しても良いアルキレン基、置換基を有しても良いアリーレン基、置換基を有しても良いアラルキレン基、エステル結合、エーテル結合、カルボニル結合、−ＮＨ−、若しくはこれらを組み合わせてなる連結基を表す。
（ｃ）分子内に３個以上のエチレン性不飽和二重結合性基を有する化合物
但し、前記フィルムカールは、以下の評価条件にて求められる値とする。
前記光学フィルムを６０ｍｍ×６０ｍｍのサイズで切り出し、温度２５℃、相対湿度６０％環境下で３時間以上調湿し、その後、同環境下（温度２５℃、相対湿度６０％）で、切り出したフィルムを前記ハードコート層が上になるように平置きし、前記切り出したフィルムの一辺の端部から１ｃｍの位置に２００ｇの重りを載せて１分間放置し、前記端部の立ち上がり高さを測定する。この測定を、前記切り出したフィルムの四辺全てに対して行い、得られた値を平均し、フィルムカールを求める。
【請求項７】
下記関係式（Ａ）を満たす工程を含む請求項６に記載の光学フィルムの製造方法。
関係式（Ａ）：
（ｎ回目の活性エネルギー線照射時の温度）−（ｎ−１回目の活性エネルギー線照射時の温度）≧５℃
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学フィルム、偏光板、液晶表示装置、及び光学フィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
陰極線管（ＣＲＴ）を利用した表示装置、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、蛍光表示ディスプレイ（ＶＦＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）、及び液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）のような画像表示装置では、表示面への傷付きを防止するために、透明支持体上にハードコート層を有する光学フィルム（「ハードコートフィルム」ともいう）を設けることが好適である。
ハードコートフィルムはディスプレイの最表面に用いられるため、高い表面硬度が要求される。一方、画像表示装置は薄型化が進んでおり、ハードコートフィルムの薄層化が強く要求されている。
ハードコートフィルムを薄層化するためには、透明支持体の薄層化が必要であるが、透明支持体を薄層化していくと、表面硬度が低下することに加え、ハードコート層を形成するための重合性化合物の硬化収縮により発生する力に透明支持体が耐えられなくなり、カールが発生し、ハードコートフィルムの製造、加工での取り扱い性が難しくなるという問題が起こっていた。
特許文献１には、この問題を改善するために、ハードコート層を形成するための重合性化合物としてエポキシ系化合物を用いる発明が提案されている。
また、特許文献２には、ハードコートフィルムの薄層化については記載されていないが、特定のエポキシ系化合物と特定のアクリレート系化合物を用いて表面硬度の高いハードコートフィルムを作製することが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００７−２３７４８３号公報
【特許文献２】特開２００３−１９５００５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１又は２に記載された発明では、カール改良効果が認められるものの、フィルム表面硬度が低下してしまい、カール改良と表面硬度とを両立することが困難であった。
更に、薄層の光学フィルムであっても、偏光板保護フィルムとして用いた場合に、偏光板の湿熱経時後の偏光度の低下を抑制することができる光学フィルムが求められている。
【０００５】
本発明の目的は、上記従来技術の問題点に鑑み、膜厚が３５μｍ以下の薄層の光学フィルムであって、表面硬度が高く、カールの発生が少なく、かつ偏光板保護フィルムとして用いた場合に、偏光板の湿熱経時後の偏光度の低下を抑制することができる光学フィルム、上記光学フィルムを含む偏光板、及び液晶像表示装置、並びに上記光学フィルムの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明が解決しようとする課題は、下記の手段である本発明により解決することができる。
〔１〕
支持体とハードコート層とを有する光学フィルムであって、
上記光学フィルムの全膜厚が３５μｍ以下であり、
上記光学フィルムを平置きしたときの上記ハードコート層方向へのフィルムカールが４ｍｍ以下であり、
上記光学フィルムの上記ハードコート層表面の鉛筆硬度がＨ以上であり、
上記光学フィルムの透湿度が４００ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であり、
上記ハードコート層は、ハードコート層形成組成物を用いて形成された層であり、
上記ハードコート層形成組成物は、下記（ａ）および（ｂ）の少なくとも一方と下記（ｃ）とを含み、上記ハードコート層形成組成物の全固形分を１００質量％とした場合に、下記（ａ）及び（ｂ）の合計の含有量が５質量％以上４０質量％以下である、光学フィルム。
（ａ）下記一般式（１）で表される構造を有する、重量平均分子量が５００以上である化合物
【化１０１】
0006507116.tif 000002
一般式（１）中、
ｎは１〜４の整数を表す。
Ｌ１は単結合、又は、置換基を有しても良いアルキレン基、置換基を有しても良いアリーレン基、置換基を有しても良いアラルキレン基、エステル結合、エーテル結合、カルボニル結合、−ＮＨ−、若しくはこれらを組み合わせてなる連結基を表す。
（ｂ）下記一般式（２）で表される構造を有する、重量平均分子量が５００以上である化合物
【化１０２】
0006507116.tif 000003
一般式（２）中、ｍ及びｋはそれぞれ独立に１〜４の整数を表す。
Ｌ２は、単結合、又は、置換基を有しても良いアルキレン基、置換基を有しても良いアリーレン基、置換基を有しても良いアラルキレン基、エステル結合、エーテル結合、カルボニル結合、−ＮＨ−、若しくはこれらを組み合わせてなる連結基を表す。
（ｃ）分子内に３個以上のエチレン性不飽和二重結合性基を有する化合物
但し、上記フィルムカールは、以下の評価条件にて求められる値とする。
上記光学フィルムを６０ｍｍ×６０ｍｍのサイズで切り出し、温度２５℃、相対湿度６０％環境下で３時間以上調湿し、その後、同環境下（温度２５℃、相対湿度６０％）で、切り出したフィルムを上記ハードコート層が上になるように平置きし、上記切り出したフィルムの一辺の端部から１ｃｍの位置に２００ｇの重りを載せて１分間放置し、上記端部の立ち上がり高さを測定する。この測定を、上記切り出したフィルムの四辺全てに対して行い、得られた値を平均し、フィルムカールを求める。
上記透湿度は、直径７０ｍｍに切り出した上記光学フィルムを４０℃、相対湿度９０％で２４時間調湿し、ＪＩＳ  Ｚ−０２０８（１９７６）記載の方法により測定した値とする。
〔２〕
上記支持体の厚さが３３μｍ以下である、〔１〕に記載の光学フィルム。
〔３〕
上記支持体がセルロースアシレートを含有する、〔１〕又は〔２〕に記載の光学フィルム。
〔４〕
偏光子と、〔１〕〜〔３〕のいずれか１項に記載の光学フィルムとを含む偏光板。
〔５〕
液晶セルと、上記液晶セルの少なくとも一方の面に配置された〔４〕に記載の偏光板とを含み、上記偏光板の上記光学フィルムが最表面に配置された液晶表示装置。
〔６〕
支持体とハードコート層とを有する光学フィルムの製造方法であって、
上記光学フィルムの全膜厚が３５μｍ以下であり、
上記光学フィルムを平置きしたときの上記ハードコート層方向へのフィルムカールが４ｍｍ以下であり、
上記光学フィルムの上記ハードコート層表面の鉛筆硬度がＨ以上であり、
上記支持体上に、下記（ａ）および（ｂ）の少なくとも一方と下記（ｃ）とを含み、かつ下記（ａ）及び（ｂ）の合計の含有量が全固形分に対して５質量％以上４０質量％以下であるハードコート層形成組成物を塗布して塗膜を形成し、上記塗膜に活性エネルギー線の照射を２回以上に分割して行い、上記ハードコート層を形成する、光学フィルムの製造方法。
（ａ）下記一般式（１）で表される構造を有する、重量平均分子量が５００以上である化合物
【化１０３】
0006507116.tif 000004
一般式（１）中、
ｎは１〜４の整数を表す。
Ｌ１は単結合、又は、置換基を有しても良いアルキレン基、置換基を有しても良いアリーレン基、置換基を有しても良いアラルキレン基、エステル結合、エーテル結合、カルボニル結合、−ＮＨ−、若しくはこれらを組み合わせてなる連結基を表す。
（ｂ）下記一般式（２）で表される構造を有する、重量平均分子量が５００以上である化合物
【化１０４】
0006507116.tif 000005
一般式（２）中、ｍ及びｋはそれぞれ独立に１〜４の整数を表す。
Ｌ２は、単結合、又は、置換基を有しても良いアルキレン基、置換基を有しても良いアリーレン基、置換基を有しても良いアラルキレン基、エステル結合、エーテル結合、カルボニル結合、−ＮＨ−、若しくはこれらを組み合わせてなる連結基を表す。
（ｃ）分子内に３個以上のエチレン性不飽和二重結合性基を有する化合物
但し、上記フィルムカールは、以下の評価条件にて求められる値とする。
上記光学フィルムを６０ｍｍ×６０ｍｍのサイズで切り出し、温度２５℃、相対湿度６０％環境下で３時間以上調湿し、その後、同環境下（温度２５℃、相対湿度６０％）で、切り出したフィルムを上記ハードコート層が上になるように平置きし、上記切り出したフィルムの一辺の端部から１ｃｍの位置に２００ｇの重りを載せて１分間放置し、上記端部の立ち上がり高さを測定する。この測定を、上記切り出したフィルムの四辺全てに対して行い、得られた値を平均し、フィルムカールを求める。
〔７〕
下記関係式（Ａ）を満たす工程を含む〔６〕に記載の光学フィルムの製造方法。
関係式（Ａ）：
（ｎ回目の活性エネルギー線照射時の温度）−（ｎ−１回目の活性エネルギー線照射時の温度）≧５℃
本発明は、上記〔１〕〜〔７〕に係る発明であるが、以下、それ以外の事項についても参考のため記載している。
【０００７】
＜１＞
支持体とハードコート層とを有する光学フィルムであって、
上記光学フィルムの全膜厚が３５μｍ以下であり、
上記光学フィルムを平置きしたときの上記ハードコート層方向へのフィルムカールが４ｍｍ以下であり、
上記光学フィルムの上記ハードコート層表面の鉛筆硬度がＨ以上であり、
上記ハードコート層は、ハードコート層形成組成物を用いて形成された層であり、
上記ハードコート層形成組成物は、下記（ａ）および（ｂ）の少なくとも一方と下記（ｃ）とを含み、上記ハードコート層形成組成物の全固形分を１００質量％とした場合に、下記（ａ）及び（ｂ）の合計の含有量が５質量％以上４０質量％以下である、光学フィルム。
（ａ）下記一般式（１）で表される構造を有する、重量平均分子量が５００以上である化合物
【０００８】
【化１】
0006507116.tif 000006
【０００９】
一般式（１）中、
ｎは１〜４の整数を表す。
Ｌ１は単結合、又は、置換基を有しても良いアルキレン基、置換基を有しても良いアリーレン基、置換基を有しても良いアラルキレン基、エステル結合、エーテル結合、カルボニル結合、−ＮＨ−、若しくはこれらを組み合わせてなる連結基を表す。
（ｂ）下記一般式（２）で表される構造を有する、重量平均分子量が５００以上である化合物
【００１０】
【化２】
0006507116.tif 000007
【００１１】
一般式（２）中、ｍ及びｋはそれぞれ独立に１〜４の整数を表す。
Ｌ２は、単結合、又は、置換基を有しても良いアルキレン基、置換基を有しても良いアリーレン基、置換基を有しても良いアラルキレン基、エステル結合、エーテル結合、カルボニル結合、−ＮＨ−、若しくはこれらを組み合わせてなる連結基を表す。
（ｃ）分子内に３個以上のエチレン性不飽和二重結合性基を有する化合物
＜２＞
透湿度が４００ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下である＜１＞に記載の光学フィルム。
＜３＞
上記支持体の厚さが３３μｍ以下である、＜１＞又は＜２＞に記載の光学フィルム。
＜４＞
上記支持体がセルロースアシレートを含有する、＜１＞〜＜３＞のいずれか１項に記載の光学フィルム。
＜５＞
偏光子と、＜１＞〜＜４＞のいずれか１項に記載の光学フィルムとを含む偏光板。
＜６＞
液晶セルと、上記液晶セルの少なくとも一方の面に配置された＜５＞に記載の偏光板とを含み、上記偏光板の上記光学フィルムが最表面に配置された液晶表示装置。
＜７＞
支持体とハードコート層とを有する光学フィルムの製造方法であって、
上記光学フィルムの全膜厚が３５μｍ以下であり、
上記光学フィルムを平置きしたときの上記ハードコート層方向へのフィルムカールが４ｍｍ以下であり、
上記光学フィルムの上記ハードコート層表面の鉛筆硬度がＨ以上であり、
上記支持体上に、下記（ａ）および（ｂ）の少なくとも一方と下記（ｃ）とを含み、かつ下記（ａ）及び（ｂ）の合計の含有量が全固形分に対して５質量％以上４０質量％以下であるハードコート層形成組成物を塗布して塗膜を形成し、上記塗膜に活性エネルギー線を照射して上記ハードコート層を形成する、光学フィルムの製造方法。
（ａ）下記一般式（１）で表される構造を有する、重量平均分子量が５００以上である化合物
【００１２】
【化３】
0006507116.tif 000008
【００１３】
一般式（１）中、
ｎは１〜４の整数を表す。
Ｌ１は単結合、又は、置換基を有しても良いアルキレン基、置換基を有しても良いアリーレン基、置換基を有しても良いアラルキレン基、エステル結合、エーテル結合、カルボニル結合、−ＮＨ−、若しくはこれらを組み合わせてなる連結基を表す。
（ｂ）下記一般式（２）で表される構造を有する、重量平均分子量が５００以上である化合物
【００１４】
【化４】
0006507116.tif 000009
【００１５】
一般式（２）中、ｍ及びｋはそれぞれ独立に１〜４の整数を表す。
Ｌ２は、単結合、又は、置換基を有しても良いアルキレン基、置換基を有しても良いアリーレン基、置換基を有しても良いアラルキレン基、エステル結合、エーテル結合、カルボニル結合、−ＮＨ−、若しくはこれらを組み合わせてなる連結基を表す。
（ｃ）分子内に３個以上のエチレン性不飽和二重結合性基を有する化合物
＜８＞
上記活性エネルギー線の照射を２回以上に分割して行う＜７＞に記載の光学フィルムの製造方法。
＜９＞
下記関係式（Ａ）を満たす工程を含む＜８＞に記載の光学フィルムの製造方法。
関係式（Ａ）：
（ｎ回目の活性エネルギー線照射時の温度）−（ｎ−１回目の活性エネルギー線照射時の温度）≧５℃
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、膜厚が３５μｍ以下の薄層の光学フィルムであって、表面硬度が高く、カールの発生が少なく、かつ偏光板保護フィルムとして用いた場合に偏光板の湿熱経時後の偏光度の低下を抑制することができる光学フィルム、上記光学フィルムを含む偏光板、及び液晶像表示装置、並びに上記光学フィルムの製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。「（メタ）アクリレート」はアクリレート及びメタクリレートの少なくとも一種を表し、「（メタ）アクリル」はアクリル及びメタクリルの少なくとも一種を表し、「（メタ）アクリロイル」はアクリロイル及びメタクリロイルの少なくとも一種を表す。
【００１８】
＜光学フィルム＞
本発明の光学フィルムは、
支持体とハードコート層とを有する光学フィルムであって、
上記光学フィルムの全膜厚が３５μｍ以下であり、
上記光学フィルムを平置きしたときの上記ハードコート層方向へのフィルムカールが４ｍｍ以下であり、
上記光学フィルムの上記ハードコート層表面の鉛筆硬度がＨ以上であり、
上記ハードコート層は、ハードコート層形成組成物を用いて形成された層であり、
上記ハードコート層形成組成物は、下記（ａ）および（ｂ）の少なくとも一方と下記（ｃ）とを含み、上記ハードコート層形成組成物の全固形分を１００質量％とした場合に、下記（ａ）及び（ｂ）の合計の含有量が５質量％以上４０質量％以下である、光学フィルムである。
（ａ）下記一般式（１）で表される構造を有する、重量平均分子量が５００以上である化合物
【００１９】
【化５】
0006507116.tif 000010
【００２０】
一般式（１）中、
ｎは１〜４の整数を表す。
Ｌ１は単結合、又は、置換基を有しても良いアルキレン基、置換基を有しても良いアリーレン基、置換基を有しても良いアラルキレン基、エステル結合、エーテル結合、カルボニル結合、−ＮＨ−、若しくはこれらを組み合わせてなる連結基を表す。
（ｂ）下記一般式（２）で表される構造を有する、重量平均分子量が５００以上である化合物
【００２１】
【化６】
0006507116.tif 000011
【００２２】
一般式（２）中、ｍ及びｋはそれぞれ独立に１〜４の整数を表す。
Ｌ２は、単結合、又は、置換基を有しても良いアルキレン基、置換基を有しても良いアリーレン基、置換基を有しても良いアラルキレン基、エステル結合、エーテル結合、カルボニル結合、−ＮＨ−、若しくはこれらを組み合わせてなる連結基を表す。
（ｃ）分子内に３個以上のエチレン性不飽和二重結合性基を有する化合物
【００２３】
本発明の光学フィルムの全膜厚は３５μｍ以下であり、１０μｍ以上３４μｍ以下であることが好ましく、１５μｍ以上３３μｍ以下であることがより好ましく、２０μｍ以上３２μｍ以下であることが更に好ましい。
【００２４】
本発明の光学フィルムを平置きしたときの上記ハードコート層方向へのフィルムカールは４ｍｍ以下であり、３ｍｍ以下であることが好ましく、２ｍｍ以下であることがより好ましく、１ｍｍ以下であることが更に好ましい。
【００２５】
本発明の光学フィルムのハードコート層表面の鉛筆硬度はＨ以上であり、２Ｈ以上であることが好ましく、３Ｈ以上であることがより好ましい。
鉛筆硬度は、ＪＩＳ  Ｋ  ５６００−５−４（１９９９）に記載の鉛筆硬度評価により測定される。
【００２６】
［（ａ）一般式（１）で表される構造を有する、重量平均分子量が５００以上である化合物］
（ａ）一般式（１）で表される構造を有する、重量平均分子量が５００以上である化合物（「（ａ）成分」ともいう）について説明する。
一般式（１）中、ｎは１〜４の整数を表し、１〜３を表すことが好ましく、２を表すことがより好ましい。
一般式（１）中、Ｌ１は単結合、又は、置換基を有しても良いアルキレン基、置換基を有しても良いアリーレン基、置換基を有しても良いアラルキレン基、エステル結合、エーテル結合、カルボニル結合、−ＮＨ−、若しくはこれらを組み合わせてなる連結基を表し、酸及び塩基により分解しにくく、鉛筆硬度を低下させないという観点から単結合、又は置換基を有しても良いアルキレン基を表すことが好ましく、単結合を表すことがより好ましい。
【００２７】
（ａ）成分の重量平均分子量（Ｍｗ）は５００以上であり、５００以上１００００以下であることが好ましく、６００以上８０００以下であることがより好ましく、７００以上５０００以下であることが更に好ましい。
（ａ）成分の重量平均分子量が５００以上であると、（ａ）成分を硬化させた場合の体積の収縮が抑えられ、光学フィルムのカールの発生が抑制されるため好ましい。
【００２８】
なお、（ａ）成分の重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により下記の条件で測定された値である。
［溶離液］  テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）
［装置名］  ＥｃｏＳＥＣ  ＨＬＣ−８３２０ＧＰＣ（東ソー社製）
［カラム］  ＴＳＫｇｅｌ  ＳｕｐｅｒＨＺＭ−Ｈ、ＴＳＫｇｅｌ  ＳｕｐｅｒＨＺ４０００、ＴＳＫｇｅｌ  ＳｕｐｅｒＨＺ２００（東ソー社製））
［カラム温度］  ４０℃
［流速］  ０．３５ｍｌ／ｍｉｎ
【００２９】
一般式（１）で表される構造の具体例を以下に示すが、これらに限定されるものではない。
【００３０】
【化７】
0006507116.tif 000012
【００３１】
（ａ）成分は公知の方法で合成することができる。また、（ａ）成分は市販品を用いることもできる。例えば、株式会社ダイセル製のＥＨＰＥ３１５０（製品名）などが挙げられる。
【００３２】
［（ｂ）一般式（２）で表される構造を有する、重量平均分子量が５００以上である化合物］
（ｂ）一般式（２）で表される構造を有する、重量平均分子量が５００以上である化合物（「（ｂ）成分」ともいう）について説明する。
一般式（２）中、ｍは１〜４の整数を表し、１〜３を表すことが好ましく、２を表すことがより好ましい。
一般式（２）中、Ｌ２は単結合、又は、置換基を有しても良いアルキレン基、置換基を有しても良いアリーレン基、置換基を有しても良いアラルキレン基、エステル結合、エーテル結合、カルボニル結合、−ＮＨ−、若しくはこれらを組み合わせてなる連結基を表し、酸又は塩基により分解しにくく、鉛筆硬度を低下させないという観点から単結合、又は置換基を有しても良いアルキレン基を表すことが好ましく、単結合を表すことがより好ましい。
【００３３】
（ｂ）成分の重量平均分子量（Ｍｗ）は５００以上であり、５００以上１００００以下であることが好ましく、７００以上６０００以下であることがより好ましく、９００以上５０００以下であることが更に好ましい。
（ｂ）成分の重量平均分子量が５００以上であると、（ｂ）成分を硬化させた場合の体積の収縮が抑えられ、光学フィルムのカールの発生が抑制されるため好ましい。
【００３４】
なお、（ｂ）成分の重量平均分子量は上記（ａ）成分と同様に測定される。
【００３５】
一般式（２）で表される構造の具体例を以下に示すが、これらに限定されるものではない。
【００３６】
【化８】
0006507116.tif 000013
【００３７】
（ｂ）成分は公知の方法で合成することができる。また、（ｂ）成分は市販品を用いることもできる。
【００３８】
本発明におけるハードコート層形成組成物は、ハードコート層形成組成物の全固形分を１００質量％とした場合に、（ａ）成分及び（ｂ）成分の合計の含有量が５質量％以上４０質量％以下である。（ａ）成分及び（ｂ）成分の合計の含有量が５質量％以上であることで、光学フィルムのカールの発生を抑制することができる。また、（ａ）成分及び（ｂ）成分の合計の含有量が４０質量％以下であることで、後述する（ｃ）成分の含有量を一定以上にすることができるため光学フィルムの表面硬度を高くすることができ、また、光学フィルムを偏光板保護フィルムとして用いた偏光板の湿熱経時後の偏光度の低下を抑制することができる。
（ａ）成分及び（ｂ）成分の合計の含有量は、７質量％以上３５質量％以下であることが好ましく、８質量％以上３０質量％以下であることがより好ましく、１０質量％以上２５質量％以下であることが更に好ましい。
【００３９】
なお、本発明におけるハードコート層形成組成物は、（ａ）成分及び（ｂ）成分の合計の含有量が５質量％以上４０質量％以下であればよく、（ａ）成分及び（ｂ）成分を両方含有する態様でもよいし、（ａ）成分を含有せず、かつ（ｂ）成分の含有量が５質量％以上４０質量％以下である態様でもよいし、（ｂ）成分を含有せず、かつ（ａ）成分の含有量が５質量％以上４０質量％以下である態様でもよい。
【００４０】
［（ｃ）分子内に３個以上のエチレン性不飽和二重結合性基を有する化合物］
（ｃ）分子内に３個以上のエチレン性不飽和二重結合性基を有する化合物（「（ｃ）成分」ともいう）について説明する。
（ｃ）成分は、分子内に３個以上のエチレン性不飽和二重結合性基を有するため、硬化させることにより、高い表面硬度を発現できる。
（ｃ）成分としては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル、ビニルベンゼン及びその誘導体、ビニルスルホン、（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。中でも表面硬度を高くすることができる観点から、３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物が好ましく、本業界で広範に用いられる高硬度の硬化物を形成するアクリレート系化合物が挙げられる。このような化合物としては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル｛例えば、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド（ＥＯ）変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド（ＰＯ）変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−クロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられる。
また、（ｃ）成分は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００４１】
本発明におけるハードコート層形成組成物は、ハードコート層形成組成物の全固形分を１００質量％とした場合に、（ｃ）成分の含有量が４０質量％以上９５質量％以下であることが好ましい。（ｃ）成分の含有量が４０質量％以上であることで、光学フィルムの表面硬度を高くすることができる。また、（ｃ）成分の含有量が９５質量％以下であることで、光学フィルムのカールの発生を抑制することができる。
（ｃ）成分の含有量は、４２質量％以上９０質量％以下であることがより好ましく、４５質量％以上８５質量％以下であることがより好ましく、５０質量％以上８０質量％以下であることが更に好ましい。
【００４２】
［（ｄ）ラジカル重合開始剤］
本発明におけるハードコート層形成用組成物は、（ｄ）ラジカル重合開始剤（「（ｄ）成分」ともいう）を含有することが好ましい。
エチレン性不飽和二重結合性基を有する化合物の重合は、光ラジカル重合開始剤又は熱ラジカル重合開始剤の存在下、電離放射線の照射又は加熱により行うことができる。
光及び熱重合開始剤としては市販の化合物を利用することができ、それらは、「最新ＵＶ硬化技術」（ｐ．１５９，発行人；高薄一弘，発行所；（株）技術情報協会，１９９１年発行）や、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）のカタログに記載されている。
（ｄ）成分は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
（ｄ）成分の含有量は、本発明におけるハードコート層形成組成物の全固形分を１００質量％とした場合に、０．１〜１０質量％であることが好ましく、１〜５質量％であることがより好ましく、２〜４質量％であることが更に好ましい。
【００４３】
［（ｅ）カチオン重合開始剤］
本発明におけるハードコート層形成用組成物は、（ｅ）カチオン重合開始剤（「（ｅ）成分」ともいう）を含有することが好ましい。
（ｅ）成分としては、光カチオン重合の光開始剤、色素類の光消色剤、光変色剤、或いは、マイクロレジスト等に使用されている公知の酸発生剤等、公知の化合物及びそれらの混合物等が挙げられる。
例えば、オニウム化合物、有機ハロゲン化合物、ジスルホン化合物が挙げられる。有機ハロゲン化合物、ジスルホン化合物のこれらの具体例は、上記ラジカルを発生する化合物の記載と同様のものが挙げられる。
【００４４】
オニウム化合物としては、ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、イミニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、アルソニウム塩、セレノニウム塩等が挙げられ、例えば特開２００２−２９１６２号公報の段落番号［００５８］〜［００５９］に記載の化合物等が挙げられる。
【００４５】
（ｅ）成分としては、オニウム塩が挙げられ、ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、イミニウム塩が、光重合開始の光感度、化合物の素材安定性等の点から好ましく、中でも耐光性の観点でヨードニウム塩が最も好ましい。
【００４６】
オニウム塩の具体例としては、例えば、特開平９−２６８２０５号公報の段落番号［００３５］に記載のアミル化されたスルホニウム塩、特開２０００−７１３６６号公報の段落番号［００１０］〜［００１１］に記載のジアリールヨードニウム塩又はトリアリールスルホニウム塩、特開２００１−２８８２０５号公報の段落番号［００１７］に記載のチオ安息香酸Ｓ−フェニルエステルのスルホニウム塩、特開２００１−１３３６９６号公報の段落番号［００３０］〜［００３３］に記載のオニウム塩等が挙げられる。
【００４７】
他の例としては、特開２００２−２９１６２号公報の段落番号［００５９］〜［００６２］に記載の有機金属／有機ハロゲン化物、ｏ−ニトロベンジル型保護基を有する光酸発生剤、光分解してスルホン酸を発生する化合物（イミノスルフォネート等）等の化合物が挙げられる。
【００４８】
ヨードニウム塩系のカチオン重合開始剤の具体的な化合物としては、Ｂ２３８０（東京化成製）、ＢＢＩ−１０２（みどり化学製）、ＷＰＩ−１１３（和光純薬工業製）、ＷＰＩ−１２４（和光純薬工業製）、ＷＰＩ−１６９（和光純薬工業製）、ＷＰＩ−１７０（和光純薬工業製）、ＤＴＢＰＩ−ＰＦＢＳ（東洋合成化学製）を用いる事ができる。
【００４９】
（ｅ）成分としては、１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
（ｅ）成分の含有量は、本発明におけるハードコート層形成組成物の全固形分を１００質量％とした場合に、０．１〜１０質量％であることが好ましく、０．５〜３．０質量％であることがより好ましい。
本発明におけるハードコート層形成用組成物は、（ｄ）成分と（ｅ）成分とをともに含むことが好ましい。
【００５０】
［（ｆ）エポキシ基又はエチレン性不飽和二重結合性基との反応性を有する無機微粒子］
本発明におけるハードコート層形成組成物は、（ｆ）エポキシ基又はエチレン性不飽和二重結合性基との反応性を有する無機微粒子（「（ｆ）成分」ともいう）を含有していてもよい。
ハードコート層形成組成物に無機微粒子を添加することで硬化収縮量を低減できるため、カールを低減できる。更に、エポキシ基又はエチレン性不飽和二重結合性基との反応性を有する無機微粒子を用いることによって、表面硬度を向上させることが可能である。無機微粒子としては例えば、シリカ粒子、二酸化チタン粒子、酸化ジルコニウム粒子、酸化アルミニウム粒子などが挙げられる。中でもシリカ粒子が好ましい。
【００５１】
（ｆ）成分の含有量は、塗膜の硬さと脆性のバランスを考慮して、本発明におけるハードコート層形成組成物の全固形分を１００質量％とした場合に、５〜４０質量％が好ましく、１０〜３０質量％がより好ましい。
無機微粒子のサイズ（平均１次粒径）は、１０ｎｍ〜１００ｎｍが好ましく、更に好ましくは１０〜６０ｎｍである。微粒子の平均粒径は電子顕微鏡写真から求めることができる。
【００５２】
［（ｇ）紫外線吸収剤］
本発明におけるハードコート層形成組成物は、（ｇ）紫外線吸収剤（「（ｇ）成分」ともいう）を含有していてもよい。
紫外線吸収剤については特に制限はなく、特開２００６−１８４８７４号公報［０１０７］〜［０１８５］段落に記載の化合物を挙げることができる。高分子紫外線吸収剤も好ましく用いることができ、特に特開平６−１４８４３０号公報に記載の高分子紫外線吸収剤が好ましく用いられる。
【００５３】
（ｇ）成分の含有量は、化合物の種類、使用条件等により一様ではないが、本発明におけるハードコート層形成組成物の全固形分を１００質量％とした場合に、ｆ）成分が０．１〜１０質量％であることが好ましい。
【００５４】
紫外線吸収剤を用いた際には、（ｄ）ラジカル重合開始剤の種類は、紫外吸収剤とラジカル開始剤の吸収波長が重ならない様に、組み合わせる事が好ましい。
【００５５】
（溶媒）
本発明におけるハードコート層形成組成物は溶媒を含有してもよい。溶媒としては、各成分を溶解または分散可能であること、塗布工程、乾燥工程において均一な面状となり易いこと、液保存性が確保できること、適度な飽和蒸気圧を有すること、等の観点で選ばれる各種の溶剤が使用できる。
溶媒は１種単独で用いてもよいし、２種類以上のものを混合して用いることができる。
【００５６】
（界面活性剤）
本発明におけるハードコート層形成組成物には各種の界面活性剤を使用することも好適である。一般的に界面活性剤は乾燥風の局所的な分布による乾燥バラツキに起因する膜厚ムラ等を抑制することができる。
界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、又はシリコーン系界面活性剤あるいはその両者を含有することが好ましい。また、界面活性剤は、低分子化合物よりもオリゴマー又はポリマーであることが好ましい。
界面活性剤は、本発明におけるハードコート層形成組成物の全固形分を１００質量％とした場合に、０．０１〜０．５質量％含有されることが好ましく、０．０１〜０．３質量％含有されることがより好ましい。
【００５７】
（マット粒子）
ハードコート層には、内部散乱性付与や表面凹凸付与の目的で、平均粒径が１．０〜１０．０μｍ、好ましくは１．５〜５．０μｍのマット粒子を含有してもよい。更に、マット粒子の好ましい添加量は、ハードコート層形成組成物の全固形分を１００質量％とした場合に、１．０％〜３０質量％含有されることが好ましく、５〜２０質量％がより好ましい。また、塗布液の粘度を調整するために、高分子化合物又は無機層状化合物等を含む事もできる。（ｆ）成分をマット粒子として使用してもよい。
【００５８】
本発明の光学フィルムのハードコート層の膜厚は、目標とする硬度に合わせて選択することができるが、１μｍ以上１５μｍ以下が好ましく、２μｍ以上１０μｍ以下がより好ましく、３μｍ以上８μｍ以下が更に好ましい。
【００５９】
［支持体］
本発明の支持体を形成する材料としては、光学性能透明性、機械的強度、熱安定性、等方性などに優れるポリマーが好ましい。本発明では支持体として透明支持体を用いるのが好ましい。本発明でいう透明とは、可視光の透過率が６０％以上であることを示し、好ましくは８０％以上であり、特に好ましくは９０％以上である。支持体としては、例えば、ポリカーボネート系ポリマー、ポリエチレンテレフタレート又はポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等の（メタ）アクリル系ポリマー、ポリスチレンやアクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマーなどが挙げられる。また、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体の如きポリオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、又は上記ポリマーを混合したポリマーも例としてあげられる。また、二層以上の樹脂フィルムを積層したフィルムを用いる事もできる。
【００６０】
また、本発明の支持体を形成する材料としては、トリアセチルセルロースに代表される、セルロース系ポリマー（特に好ましくは、セルロースアシレート）も好ましく用いることができる。また、アクリル系フィルムも好ましく用いることができる。
支持体の厚さは３３μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ〜３３μｍであることがより好ましく、更に好ましくは１０ｍ〜３０μｍであり、１５μｍ〜２８μｍが特に好ましく、１５μｍ〜２５μｍであることが最も好ましい。支持体の厚みを薄くする事によって、フィルム全体の厚みを低減する事ができる。
【００６１】
［透湿度］
本発明の光学フィルムは、ＪＩＳ  Ｚ−０２０８（１９７６）の手法による、４０℃、相対湿度９０％で２４時間経過後の透湿度が、４００ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であることが好ましく、３５０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であることがより好ましく、３００ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であることが更に好ましい。
【００６２】
［偏光板］
本発明の偏光板は、偏光子と、本発明の光学フィルムとを含む偏光板である。
【００６３】
偏光子には、ヨウ素系偏光子、二色性染料を用いる染料系偏光子、及びポリエン系偏光子がある。ヨウ素系偏光子及び染料系偏光子は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。
【００６４】
［画像表示装置］
本発明の光学フィルム又は偏光板は、液晶表示装置、プラズマディスプレイパネル、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、又は陰極管表示装置のような画像表示装置に用いることができる。
特に、液晶セルと、液晶セルの少なくとも一方の面に配置された本発明の偏光板とを含み、本発明の光学フィルムが最表面に配置された液晶表示装置が好ましい。
【００６５】
＜光学フィルムの製造方法＞
本発明の光学フィルムの製造方法は、
支持体とハードコート層とを有する光学フィルムの製造方法であって、
上記光学フィルムの全膜厚が３５μｍ以下であり、
上記光学フィルムを平置きしたときの上記ハードコート層方向へのフィルムカールが４ｍｍ以下であり、
上記光学フィルムの上記ハードコート層表面の鉛筆硬度がＨ以上であり、
上記支持体上に、下記（ａ）および（ｂ）の少なくとも一方と下記（ｃ）とを含み、下記（ａ）及び（ｂ）の合計の含有量が全固形分に対して５質量％以上４０質量％以下であるハードコート層形成組成物を塗布して塗膜を形成し、上記塗膜に活性エネルギー線を照射して上記ハードコート層を形成する、光学フィルムの製造方法である。
（ａ）下記一般式（１）で表される構造を有する、重量平均分子量が５００以上である化合物
【００６６】
【化９】
0006507116.tif 000014
【００６７】
一般式（１）中、
ｎは１〜４の整数を表す。
Ｌ１は単結合、又は、置換基を有しても良いアルキレン基、置換基を有しても良いアリーレン基、置換基を有しても良いアラルキレン基、エステル結合、エーテル結合、カルボニル結合、−ＮＨ−、若しくはこれらを組み合わせてなる連結基を表す。
（ｂ）下記一般式（２）で表される構造を有する、重量平均分子量が５００以上である化合物
【００６８】
【化１０】
0006507116.tif 000015
【００６９】
一般式（２）中、ｍ及びｋはそれぞれ独立に１〜４の整数を表す。
Ｌ２は、単結合、又は、置換基を有しても良いアルキレン基、置換基を有しても良いアリーレン基、置換基を有しても良いアラルキレン基、エステル結合、エーテル結合、カルボニル結合、−ＮＨ−、若しくはこれらを組み合わせてなる連結基を表す。
（ｃ）分子内に３個以上のエチレン性不飽和二重結合性基を有する化合物
【００７０】
支持体、ハードコート層形成組成物、ハードコート層、及び光学フィルムに関しては前述したとおりである。
本発明の光学フィルムの製造方法においては、ハードコート層形成組成物を支持体上に塗布して塗膜を形成し、塗膜に活性エネルギー線照射して上記ハードコート層を形成する。
【００７１】
［塗布方式］
ハードコート層形成用組成物は以下の塗布方法により形成することができるが、この方法に制限されない。ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、スライドコート法やエクストルージョンコート法（ダイコート法）（特開２００３−１６４７８８号明細書参照）、マイクログラビアコート法等の公知の方法が用いられ、その中でもマイクログラビアコート法、ダイコート法が好ましい。
【００７２】
［乾燥、硬化条件］
本発明では、活性エネルギー線照射と、照射の前、照射と同時又は照射後の熱処理とを組み合わせることにより、硬化することが有効である。
以下に、いくつかの製造工程のパターンを示すが、これらに限定されるものではない。（以下の「−」は熱処理を行っていないことを示す。）
【００７３】
照射前  →    照射と同時    →    照射後
（１）熱処理  →  活性エネルギー線照射  →      −
（２）熱処理  →  活性エネルギー線照射  →    熱処理
（３）  −    →  活性エネルギー線照射  →    熱処理
【００７４】
その他、活性エネルギー線照射時に同時に熱処理を行う工程も好ましい。
【００７５】
本発明においては、上記のとおり、活性エネルギー線照射と組み合わせて熱処理を行うことが好ましい。熱処理は、光学フィルムの支持体、ハードコート層を含めた構成層を損なうものでなければ特に制限はないが、好ましくは４０〜１５０℃、更に好ましくは４０〜８０℃である。
【００７６】
熱処理に要する時間は、使用成分の分子量、その他成分との相互作用、粘度などにより異なるが、１５秒〜１時間、好ましくは２０秒〜３０分、最も好ましくは３０秒〜５分である。
【００７７】
活性エネルギー線の種類については、特に制限はなく、Ｘ線、電子線、紫外線、可視光、赤外線などが挙げられるが、紫外線が広く用いられる。例えば塗膜が紫外線硬化性であれば、紫外線ランプにより１０ｍＪ／ｃｍ２〜１０００ｍＪ／ｃｍ２の照射量の紫外線を照射して塗膜を硬化するのが好ましい。
【００７８】
活性エネルギー線の照射の際には、上記エネルギーを一度に当ててもよいし、分割して照射することもできる。
本発明においては、得られる光学フィルムの透湿度を低くすることができるという理由から、活性エネルギー線の照射を２回以上に分割して行うことが好ましい。
また、初期に例えば１００ｍＪ／ｃｍ２以下の低照射量の活性エネルギー線を照射し、その後、例えば３００ｍＪ／ｃｍ２以上の高照射量の活性エネルギー線を照射し、かつ初期よりも後期の方で高い照射量を当てることが好ましい。
２回以上に分割して照射することにより、反応熱によるフィルムの昇温を抑制し、カチオン重合反応を効率的に進行させることができる。カチオン重合でエポキシ基が開環することにより、光学フィルムを低透湿化することができる。
【００７９】
本発明においては、フィルムのカール、透湿度を低下させ、かつ硬度を向上させるという観点で、下記関係式（Ａ）を満たす工程を含むことが好ましく（すなわち、ｎ回目の活性エネルギー線照射時の温度とｎ−１回目の活性エネルギー線照射時の温度との温度差が５℃以上となることが好ましく）、上記温度差は１０℃以上がより好ましく、２０℃以上が更に好ましい。
関係式（Ａ）：
（ｎ回目の活性エネルギー線照射時の温度）−（ｎ−１回目の活性エネルギー線照射時の温度）≧５℃
活性エネルギー線照射時の温度が低温ではカチオン重合反応が進行しやすく、高温ではラジカル重合が進行しやすい。温度を変えてエネルギー線照射を行うことで、両方の重合反応を効率的に進めることが可能である。関係式（Ａ）を満たすことで、カール、透湿度、及び硬度の全ての観点で優れた光学フィルムを得ることができる。
【実施例】
【００８０】
本発明を詳細に説明するために、以下に実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらの
実施例に限定されるものではない。
なお、サンプルＮｏ．Ｓ２４を用いた実施例は、参考例と読み替えるものとする。
【００８１】
（ハードコート層塗布液の調製）
以下の表１及び表２に示す組成で各成分を添加し、孔径１０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過してハードコート層塗布液（ハードコート層形成用組成物）Ａ０１〜Ａ２０を調製した。
表１及び表２中、溶媒以外の成分の含有量はハードコート層形成用組成物の全固形分を１００質量％とした場合の各成分の含有率（質量％）であり、溶媒については全溶媒を１００質量％とした場合の各溶媒の含有率（質量％）である。
ハードコート層形成用組成物の全固形分濃度は、３５質量％とした。
ＭＥＫはメチルエチルケトンを表し、ＭｉＢＫはメチルイソブチルケトンを表す。
【００８２】
【表１】
0006507116.tif 000016
【００８３】
【表２】
0006507116.tif 000017
【００８４】
・ＥＨＰＥ３１５０：株式会社ダイセル製の下記構造の化合物。重量平均分子量２２００。
【００８５】
【化１１】
0006507116.tif 000018
【００８６】
・化合物Ｂ−１：下記構造の化合物。重量平均分子量３５００。
【００８７】
【化１２】
0006507116.tif 000019
【００８８】
・化合物Ｂ−２：下記構造の化合物。重量平均分子量４０００。
【００８９】
【化１３】
0006507116.tif 000020
【００９０】
・ＤＰＨＡ：ＫＡＹＡＲＤ  ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬（株）製）
・Ａ−ＴＭＭＴ：ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業（株）製）
・ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４：重合開始剤（ＢＡＳＦ社製）
・光カチオン重合開始剤（Ｉ）：下記構造の化合物。
【００９１】
【化１４】
0006507116.tif 000021
【００９２】
・ＴＴＡ−２２：Ｔｅｔｒａｃｈｅｍ製。下記構造の化合物。
【００９３】
【化１５】
0006507116.tif 000022
【００９４】
・ＣＥＬ８０００：ダイセル製。下記構造の化合物。
【００９５】
【化１６】
0006507116.tif 000023
【００９６】
・ＭＥＫ−ＡＣ−２１４０Ｚ：平均粒径１０〜２０ｎｍの球形シリカ微粒子、日産化学工業（株）製。
・ＡＥＲＯＳＩＬ  ＲＸ３００：日本アエロジル（株）製。
・Ｔｉｎｕｖｉｎ９２８：ＢＡＳＦ社製。
・ＦＰ−１：下記含フッ素化合物。重量平均分子量２５０００。
【００９７】
【化１７】
0006507116.tif 000024
【００９８】
（ハードコート層の塗設）
ロール形態の２５μｍ又は１５μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルムをそれぞれ巻き出して、ハードコート層用塗布液Ａ０１〜Ａ２０を塗布し、硬膜後のハードコート層の膜厚が６μｍになる様に調整し、ハードコートフィルム（光学フィルム）Ｓ０１〜Ｓ２９を作製した。
具体的には、特開２００６−１２２８８９号公報実施例１記載のスロットダイを用いたダイコート法で、搬送速度３０ｍ／分の条件で各塗布液を塗布し、５０℃で１５０秒乾燥の後、更に窒素パージ下酸素濃度約０．１体積％で下記表３〜５に記載の条件で紫外線を照射して塗布層を硬化させてハードコート層を形成した後、巻き取った。各実施例及び比較例において、紫外線照射は、表３〜５に記載したように１〜３回行った。表３〜５において、１回目の紫外線照射時の温度を「ＵＶ１温度」、１回目の紫外線照射時の照射量を「ＵＶ１照射量」とし、２回目の紫外線照射時の温度を「ＵＶ２温度」、２回目の紫外線照射時の照射量を「ＵＶ２照射量」とし、３回目の紫外線照射時の温度を「ＵＶ３温度」、３回目の紫外線照射時の照射量を「ＵＶ３照射量」と記載した。
【００９９】
（厚さ２５μｍのトリアセチルセルロースフィルム（２５μｍＴＡＣ）の作製）
【０１００】
（コア層セルロースアシレートドープの作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
・アセチル置換度２．８８  重量平均分子量２６００００のセルロースアセテート                                                                １００質量部
・フタル酸エステルオリゴマーＡ                              １０質量部
・化合物（Ａ−１）                                            ４質量部
・紫外線吸収剤Ｕ−１（下記構造式の化合物、ＢＡＳＦ社製）  ２．７質量部
・ＴＩＮＵＶＩＮ１２３  （ＨＡ−１、ＢＡＳＦ社製）      ０．１８質量部
・テークランＤＯ（Ｎ−アルケニルプロピレンジアミン三酢酸、ナガセケムテックス（株）社製）                                                ０．０２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）                          ４３０質量部
・メタノール（第２溶剤）                                    ６４質量部
【０１０１】
フタル酸エステルオリゴマーＡ  重量平均分子量：７５０
【０１０２】
【化１８】
0006507116.tif 000025
【０１０３】
化合物（Ａ−１）
【０１０４】
【化１９】
0006507116.tif 000026
【０１０５】
紫外線吸収剤Ｕ−１
【０１０６】
【化２０】
0006507116.tif 000027
【０１０７】
（外層セルロースアシレートドープの作製）
上記のコア層セルロースアシレートドープ９０質量部に下記のマット剤溶液を１０質量部加え、外層セルロースアセテート溶液を調製した。
・平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子（ＡＥＲＯＳＩＬ  Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）                                                  ２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）                        ７６質量部
・メタノール（第２溶剤）                                １１質量部
・コア層セルロースアシレートドープ                        １質量部
【０１０８】
（セルロースアシレートフィルムの作製）
上記コア層セルロースアシレートドープとその両側に外層セルロースアシレートドープとを３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した。溶剤含有率２０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、残留溶剤が３〜１５質量％の状態で、横（幅）方向に１．１８倍延伸しつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、厚さ２５μｍのセルロースアシレートフィルムを作製した（可視光透過率：９２％）。
【０１０９】
（厚さ１５μｍのトリアセチルセルロースフィルム（１５μｍＴＡＣ）の作製）
流延時の膜厚を薄くした以外は２５μｍのトリアセチルセルロースフィルムと同様の方法で、１５μｍのトリアセチルセルロースフィルムを作製した（可視光透過率：９２％）。
【０１１０】
（ハードコート層の膜厚）
ハードコート層の膜厚は接触式の膜厚計で作製したハードコートフィルムの膜厚を測定し、そこから同様に測定した支持体厚みを引いて算出した。
【０１１１】
（鉛筆硬度）
ＪＩＳ  Ｋ  ５６００−５−４（１９９９）に記載の鉛筆硬度評価を行った。ハードコートフィルムを温度２５℃、湿度６０％で２時間調湿した後、ＪＩＳ  Ｓ  ６００６（２００７）に規定するＨ〜３Ｈの試験用鉛筆を用いて、４．９Ｎの荷重にてハードコート層表面を引っ掻いた。表３〜５中に記載している数値は各鉛筆で５回引っ掻いた際の、傷が発生しなかった本数である。
下記基準でハードコートフィルムの鉛筆硬度を評価した。
３Ｈ以上：３Ｈ鉛筆で５回引っ掻いた際、傷が発生しないのが３本以上であった。
２Ｈ以上：２Ｈ鉛筆で５回引っ掻いた際、傷が発生しないのが３本以上であったが、３Ｈ鉛筆で５回引っ掻いた際、傷が発生しないのは２本以下であった。
Ｈ以上：Ｈ鉛筆で５回引っ掻いた際、傷が発生しないのが３本以上であったが、２Ｈ鉛筆で５回引っ掻いた際、傷が発生しないのは２本以下であった。
【０１１２】
（カール評価）
ハードコートフィルムを６０ｍｍ×６０ｍｍのサイズで切り出し、温度２５℃、相対湿度６０％環境下で３時間以上調湿する。その後、同環境下（温度２５℃、相対湿度６０％）で、ハードコートフィルムをハードコート層が上になるように平置きし、フィルムの一辺の端部から１ｃｍの位置に２００ｇの重りを載せて１分間放置し、その端部の立ち上がり高さ＝カール値（Ｋ）を測定する（したがって、カール値（Ｋ）は最大で１０ｍｍとなる）。この測定を、ハードコートフィルムの四辺全てに対して行い、得られた値を平均し、ハードコート層方向へのフィルムカールを求めた。
カールの評価は、下記基準で判定した。
Ａ：カール値（Ｋ）が２．０ｍｍ以下
Ｂ：カール値（Ｋ）が２．０ｍｍを超え、４．０ｍｍ以下
Ｃ：カール値（Ｋ）が４．０ｍｍを超える
【０１１３】
（透湿度）
直径７０ｍｍに切り出したハードコートフィルム試料を４０℃、相対湿度９０％で２４時間調湿し、ＪＩＳ  Ｚ−０２０８（１９７６）記載の方法により測定した。
Ａ：透湿度が３００ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下
Ｂ：透湿度が３００ｇ／ｍ２／ｄａｙ超、４００ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下
Ｃ：透湿度が４００ｇ／ｍ２／ｄａｙ超
【０１１４】
（偏光板Ｐ０１〜Ｐ２９の作製）
ハードコートフィルムＳ０１〜Ｓ２９と、これらハードコートフィルムで用いた支持体を、２．３ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液に、５５℃で３分間浸漬した。２０℃の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸を用いて中和した。再度、２０℃の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。このようにして、上記フィルムの表面鹸化処理を行った。
上記の鹸化後のハードコートフィルムＳ０１〜Ｓ２９のハードコート層を積層していない面、延伸したヨウ素系ポリビニルアルコール偏光子、鹸化後の支持体をこの順番で、ポリビニルアルコール系接着剤で貼合し、熱乾燥し偏光板Ｐ０１〜Ｐ２９を得た。なお、偏光子としては膜厚１２μｍのもの又は７μｍのものを用いた。
この際、偏光子のロールの長手方向とハードコートフィルムＳ０１〜Ｓ２９の長手方向とが平行になるように配置した。また、偏光子のロールの長手方向と上記支持体のロールの長手方向とが、平行になるように配置した。
【０１１５】
（偏光板の湿熱経時後の偏光度）
作製した偏光板を４ｃｍ×４ｃｍに裁断し、ハードコート層が表面になるようにして、粘着剤ＳＫ２０５７（綜研化学製）で５ｃｍ×５ｃｍのガラス板に貼合した。このガラス板付き偏光板を８５℃、相対湿度８５％の環境下で経時させ、１０日後の偏光度を測定した。偏光度は自動偏光フィルム測定装置（ＶＡＰ−７０７０、日本分光株式会社製）を用いて測定した。
湿熱経時後の偏光度の評価は、下記基準で判定した。
Ａ：絶対値が９９．５％以上
Ｂ：絶対値が９９．０％以上９９．５％未満
Ｃ：絶対値が９９．０％未満
【０１１６】
【表３】
0006507116.tif 000028
【０１１７】
【表４】
0006507116.tif 000029
【０１１８】
【表５】
0006507116.tif 000030