(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
洗浄ノズルと、
前記洗浄ノズルに送る水を加熱するヒータ装置と制御基板とが、当該制御基板が収容される基板ケースを介して一体化された基板・ヒータユニットと、
前記洗浄ノズルおよび前記基板・ヒータユニットを支持するベースプレートと、
を備え、
前記基板・ヒータユニットは、前記ヒータ装置が前記基板ケースの底壁の下方に固定されたものであり、前記ヒータ装置の全体が、上方から見て前記基板ケースに覆われるようにして当該基板ケースに重なっている、人体局部洗浄装置。
【請求項２】
前記基板ケースの底壁から下側に向かって延びる弾性変形可能な引掛部に対し、前記ヒータ装置が固定されている、請求項１に記載の人体局部洗浄装置。
【請求項３】
前記基板ケースの底壁には、前記引掛部の開口を狭める突起部が形成されている、請求項２に記載の人体局部洗浄装置。
【請求項４】
前記ベースプレートに支持された前記洗浄ノズルは、前記基板ケースの下方に位置する、請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の人体局部洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、人体の局部を洗浄する洗浄ノズルを備えた人体局部洗浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
下記特許文献１等に記載されるように、人体局部洗浄装置においては、洗浄水を加熱するためのヒータ装置（下記特許文献１でいう熱交換ユニット７０）は、便器に固定されるベースプレートに固定されるのが一般的である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００１−１８２１２７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ヒータ装置やその他の部品等、ベースプレートには多くの部品等が固定されるため、これらの部品等を一つずつベースプレートに組み付けるのは組立の作業性の低下を招く。
【０００５】
本発明が解決しようとする課題は、組立の作業性の向上を図ることが可能な人体局部洗浄装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するため本発明にかかる人体局部洗浄装置は、洗浄ノズルと、前記洗浄ノズルに送る水を加熱するヒータ装置と制御基板とが、当該制御基板が収容される基板ケースを介して一体化された基板・ヒータユニットと、前記洗浄ノズルおよび前記基板・ヒータユニットを支持するベースプレートと、を備えるものである。
【０００７】
前記基板・ヒータユニットは、前記ヒータ装置が前記基板ケースの底壁の下方に固定されたものであるとよい。
【０００８】
前記ヒータ装置の全体が、前記基板ケースに重なっているとよい。
【０００９】
前記基板ケースの底壁から延びる弾性変形可能な引掛部に対し、前記ヒータ装置が固定されているとよい。
【００１０】
前記基板ケースの底壁には、前記引掛部の開口を狭める突起部が形成されているとよい。
【００１１】
前記ベースプレートに支持された前記洗浄ノズルは、前記基板ケースの下方に位置するとよい。
【発明の効果】
【００１２】
本発明にかかる人体局部洗浄装置は、制御基板とヒータ装置とが基板ケースを介して一体化されたものであるため、組立の際には、当該一体化されてなる基板・ヒータユニットをベースプレートに接続することで一度に両者をベースプレートに支持させることができる。つまり、組立作業が容易になる。
【００１３】
ヒータ装置が基板ケースの下方に設けられていれば、ヒータ装置やそれに接続される給水管等に水漏れが生じたり、結露が発生したりしたとしても、制御基板に水がかかってしまうおそれは低い。
【００１４】
ヒータ装置の全体が基板ケースに重なっている、すなわちヒータ装置の全体が基板ケースに覆われる構造とすれば、制御基板に水がかかってしまうおそれをさらに低減することができる。
【００１５】
基板ケースの底壁から延びる引掛部によってヒータ装置が固定される構造とすれば、制御基板とヒータ装置の一体化（基板・ヒータユニットの組み立て）が容易である。
【００１６】
基板ケースの底壁に引掛部の開口を狭める突起部が形成されていれば、引掛部に固定されたヒータ装置の脱落を防止することができる。
【００１７】
基板ケースの下方に、洗浄ノズルを配置するためのスペースを確保する構造とすることもできる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の一実施形態にかかる人体局部洗浄装置の側面図（便座の後方に設けられた収容空間内に収容された状態を示した図）である。
【図２】本発明の一実施形態にかかる人体局部洗浄装置の外観斜視図である。
【図３】（ａ）は基板・ヒータユニットを下方から見た外観斜視図であり、（ｂ）は（ａ）からヒータ装置を取り外したもの（ヒータ装置を取り付ける前の状態のもの）を示した図である。
【図４】基板・ヒータユニットの底面図（下方から見た図）である。
【図５】図４に示すＡ−Ａ線断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、図１〜図５を参照して本発明の一実施形態にかかる人体局部洗浄装置１について詳細に説明する。なお、以下の説明における前後方向とは図示されるＸ軸方向（洗浄ノズル４０が前進する側を前とする）を、上下方向とは図示されるＺ軸方向（重力方向）を、幅方向とは図示されるＹ軸方向（前後方向および上下方向に直交する方向）をいうものとする。
【００２０】
本実施形態にかかる人体局部洗浄装置１は、ベースプレート１０、制御基板２０、ヒータ装置３０、および洗浄ノズル４０を備える。ベースプレート１０は、便器９０の後方に固定される部材である。便器９０に直接的に固定されるものであってもよいし、間接的に固定されるものであってもよい。当該ベースプレート１０に対し、直接または間接的に人体局部洗浄装置１を構成する各部品等が支持されることとなる。人体局部洗浄装置１は、便座９１の後方に設けられる収容空間９１１内に配置される（図１参照）。本実施形態にかかる人体局部洗浄装置１は、ヒータ装置３０によって加熱された水がそのまま洗浄ノズルに送られるいわゆる瞬間式の人体局部洗浄装置である（水を貯留するタンク等が設けられたいわゆる貯湯式の人体局部洗浄装置ではない）。
【００２１】
制御基板２０（図２等参照）は、人体局部洗浄装置１を構成する各部品等を制御するものである。その制御対象としては、洗浄水を加熱するためのヒータ、洗浄水の供給の可否や流量を調整するためのバルブ、洗浄水を噴出する洗浄ノズル４０の動作等、種々考えられる。本実施形態における制御基板２０は、基板ケース５０に収容されている。基板ケース５０は、取付部５３を介してベースプレート１０に支持されている（図２等参照）。本実施形態では、このような取付部５３が二つ設けられている（図３等参照）。本実施形態における基板ケース５０は、取付部５３とともに一体成形されてなるものであるが、基板ケース５０と取付部５３が別々に成形されて組み合わせてなるものとしてもよい。
【００２２】
基板ケース５０は、制御基板２０が収容される空間を構成する。本実施形態における基板ケース５０は、制御基板２０が載置される部分（制御基板２０の下側を支持する部分）である底壁５１、底壁５１に支持された制御基板２０の周囲を囲む側壁５２を含む（図３等参照）。つまり、底壁５１の反対側が開口した薄い箱形状を呈する。当該底壁５１および側壁５２によって形成される空間内に制御基板２０が収容されている。
【００２３】
底壁５１の下側（制御基板２０に対向する面の反対の面側）における後方には、弾性変形可能な引掛部５１１が設けられている（図３〜図５等参照）。引掛部５１１は、底壁５１から下側に向かって延びる部分であって、断面で見て、底壁５１の一部とともに断面略「Ｕ」字形状を呈する構造物を構築する部分である。当該引掛部５１１の内側の空間（引掛部５１１と底壁５１の間）に、詳細を後述するヒータ装置３０が固定されることとなる。ヒータ装置３０は、引掛部５１１の開口から挿入されることになるが、底壁５１には、幅方向から見て、当該開口を狭めるように突出する突起部５１２が形成されている（図３〜図５等参照）。これら引掛部５１１や突起部５１２は、底壁５１（基板ケース５０）と一体成形されたものである。つまり、本実施形態における基板ケース５０は、これら引掛部５１１や突起部５１２を含めた全体が一体成形されてなるものである。
【００２４】
取付部５３は、基板ケース５０の前側から下方に向かって延びるように形成された部分である。基板ケース５０を支持する脚部であるともいえる。当該取付部５３の先端には貫通孔が形成されており、当該貫通孔に通されたねじにより、取付部５３がベースプレート１０に固定される。つまり、取付部５３がベースプレート１０に固定されることにより、基板ケース５０の全体および基板ケース５０に収容された制御基板２０がベースプレート１０に支持された状態となる。後述するように、本実施形態では、ヒータ装置３０も基板ケース５０に固定されることになるから、当該ヒータ装置３０も基板ケース５０を介してベースプレート１０に支持された状態にあるといえる。
【００２５】
ヒータ装置３０は、水源から送られた洗浄用の水を加熱する装置である。水源からヒータ装置３０に至る水回路はどのようなものであってもよい。例えば、水源の水をヒータ装置３０に送るか否かを制御するメインバルブ等が設けられる。また、ヒータ装置３０の具体的な構造はどのようなものであってもよい。本実施形態にかかるヒータ装置３０は、細長い本体部３１と、当該本体部３１の内側に形成された加熱空間内に配置されるヒータ（図示せず）を有する。つまり、本体部３１の外観形状がそのままヒータ装置３０の外観形状となるものである。
【００２６】
ヒータ装置３０は、引掛部５１１を利用して基板ケース５０に固定されている。具体的には、引掛部５１１の開口の大きさはヒータ装置３０の断面の大きさよりも小さく形成されており、ヒータ装置３０を引掛部５１１の開口に押しつけるようにして引掛部５１１を弾性変形させる。これにより、上記開口が大きくなり、ヒータ装置３０が引掛部５１１の内側の空間（引掛部５１１と底壁５１の間）に収容された状態となる（図５等参照）。ヒータ装置３０が収容された後、引掛部５１１の変形量は小さくなるため、開口がヒータ装置３０の断面の大きさよりも小さくなる。したがって、ヒータ装置３０が容易に引掛部５１１から脱落することはない。また、本実施形態では、幅方向から見て、引掛部５１１の開口を小さくするように位置する突起部５１２が側壁５２に形成されている（図５等参照）ため、ヒータ装置３０が脱落するおそれがさらに低減されることとなる。このように引掛部５１１を利用して基板ケース５０にヒータ装置３０を固定することにより、制御基板２０とヒータ装置３０が基板ケース５０を介して一体化された、基板・ヒータユニット６０（図３（ａ）、図４参照）が得られる。
【００２７】
本実施形態では、引掛部５１１は幅方向に並ぶように二つ形成されている（図４等参照）。各引掛部５１１が、幅方向におけるヒータ装置３０の一方側および他方側を支持することにより、ヒータ装置３０が基板ケース５０に固定される。突起部５１２は、引掛部５１１のそれぞれに対応するものが二つ形成される。具体的には、幅方向で見て、二つの突起部５１２の間に引掛部５１１が位置するよう構成されている。このように、一つの引掛部５１１に対応する複数の突起部５１２を設けることにより、ヒータ装置３０が脱落するおそれが大きく低減される。また、ヒータ装置３０のがたつきや傾き等が抑制される。
【００２８】
また、本実施形態における基板ケース５０は、幅方向に細長い略長方形状である。細長いヒータ装置３０は、その軸線方向が幅方向に沿うようにして基板ケース５０に固定される。そして、ヒータ装置３０の全体は基板ケース５０に覆われている（図３（ａ）、図４等参照）。換言すれば、上下方向において、ヒータ装置３０の全体が、基板ケース５０に重なっているということである。なお、ここでいうヒータ装置３０の全体とは、ヒータ装置３０と基板とを電気的に接続するための電気的要素（ヒータ制御用、温度制御用の端子やハーネス等）を除く、という意味である。つまり、ヒータ装置３０の本体部３１やヒータ等の機械的構造物の全体が基板ケース５０に重なっているということである。
【００２９】
このように、本実施形態にかかる人体局部洗浄装置１は、制御基板２０とヒータ装置３０とが基板ケース５０を介して一体化されるものである。したがって、組立の際には、まず、制御基板２０とヒータが基板ケース５０を介して一体化されてなる基板・ヒータユニット６０を得て、その後、当該基板・ヒータユニット６０をベースプレート１０に接続することで一度に両者をベースプレート１０に支持させることができる。つまり、組立作業が容易になる。
【００３０】
そして、ヒータ装置３０（上述した電気的要素を除く部分）は、基板ケース５０の下方に設けられている。したがって、ヒータ装置３０やそれに接続される給水管等に水漏れが生じたり、結露が発生したりしたとしても、制御基板２０に水がかかってしまうおそれは低い。
【００３１】
特に、本実施形態では、ヒータ装置３０の全体が基板ケース５０に重なっている、すなわちヒータ装置３０の全体が基板ケース５０に覆われる構造であるため、制御基板２０に水がかかってしまうおそれをさらに低減することができる。
【００３２】
洗浄ノズル４０は、ヒータ装置３０によって温められた水を人体の局部に向けて噴出する部材である。洗浄ノズル４０は一つであってもよいし、複数設けられていてもよい。当該洗浄ノズル４０は、基板ケース５０の下方に位置するようにしてベースプレート１０に支持されている（図１、図２等参照）。また、ヒータ装置３０によって加熱された水を洗浄ノズル４０に送る水回路が構築されている。このように、本実施形態では、ヒータ装置３０と洗浄ノズル４０の両方が基板ケース５０の下方に位置する。つまり、ヒータ装置３０の下流側に存在すべき洗浄ノズル４０が、ヒータ装置３０とともに基板ケース５０の下方に位置する構造であるため、基板ケース５０の下方のスペース（取付部５３によって生ずるスペース）を効率よく利用したものであるといえる。また、ヒータ装置３０と洗浄ノズル４０の間の水回路を構成する配管等の長さを短くすることができるという利点もある。
【００３３】
洗浄ノズル４０は、原位置と、当該原位置よりも前側の位置である洗浄を行う洗浄位置との間をその長手方向に沿って進退動作する。本実施形態における洗浄ノズル４０は、その先端（前側端部）が水平面よりも下方に向かうように傾斜した状態で配置されている。これに合わせて基板ケース５０もその前端が水平面よりも下方に向かうように傾斜した状態で配置されている。つまり、洗浄ノズル４０の傾斜方向と、基板ケース５０（底壁５１）の傾斜方向は同じである。このように、基板ケース５０の傾斜方向を、洗浄ノズル４０の傾斜方向と同じにすることにより、収容スペースを効率よく利用することが可能である。
【００３４】
以上、本発明の実施形態について詳細に説明したが、本発明は上記実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の改変が可能である。
【符号の説明】
【００３５】
１  人体局部洗浄装置
１０  ベースプレート
２０  制御基板
３０  ヒータ装置
４０  洗浄ノズル
５０  基板ケース
５１  底壁
５１１  引掛部
５１２  突起部
５２  側壁
５３  取付部
６０  基板・ヒータユニット
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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