(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板と、第２基板と、画像が表示される表示領域と、平面視において前記表示領域よりも外側である周辺領域と、第１基板と第２基板とを接着し前記周辺領域に設けられたシール部と、前記シール部により前記第１基板と前記第２基板との間に封止された液晶と、を備えた表示装置であって、
前記第１基板又は前記第２基板の前記液晶と接する面上に形成された配向膜と、
前記第１基板及び前記第２基板の一方の基板に形成された第１突出部と第１対向部と、を備え、
前記シール部は、延在方向に交差する幅方向に外端部と内端部とを有し
前記第１突出部は、前記シール部の前記延在方向に沿って延在しており、
前記第１突出部と前記第１対向部とは互いに対向しており、
前記第１突出部と前記第１対向部との間には、前記シール部が存在している間隙があり、
前記第１突出部の上下方向における長さは、前記間隙の上下方向における長さよりも大きく、
前記第１突出部は、前記液晶と接しており、前記内端部と平面視において重畳しており、
前記周辺領域は、第１周辺領域と、前記第１周辺領域とは異なる第２周辺領域を有し、
前記第１基板の端部の近傍はドライバ領域となっており、
前記第１周辺領域は前記ドライバ領域に対応し、
平面視において、前記第１周辺領域には前記第１突出部が形成されていない表示装置。
【請求項２】
第１基板と、第２基板と、画像が表示される表示領域と、平面視において前記表示領域よりも外側である周辺領域と、第１基板と第２基板とを接着し前記周辺領域に設けられたシール部と、前記シール部により前記第１基板と前記第２基板との間に封止された液晶と、を備えた表示装置であって、
前記第１基板又は前記第２基板の前記液晶と接する面上に形成された配向膜と、
前記第１基板及び前記第２基板の一方の基板に形成された第１突出部と、他方の基板に形成された第２突出部と、を備え、
前記シール部は、延在方向に交差する幅方向に外端部と内端部とを有し
前記第１突出部及び前記第２突出部は、前記シール部の前記延在方向に沿って延在しており、
前記第１突出部及び前記第２突出部は、互いに対向しており、
前記第１突出部と前記第２突出部との間には、前記シール部が存在している間隙があり、
前記第１突出部は、前記液晶と接しており、前記内端部と平面視において重畳しており、
前記周辺領域は、第１周辺領域と、前記第１周辺領域とは異なる第２周辺領域を有し、
前記第１基板の端部の近傍はドライバ領域となっており、
前記第１周辺領域は前記ドライバ領域に対応し、
平面視において、前記第１周辺領域には前記第１突出部が形成されていない表示装置。
【請求項３】
前記シール部には、前記液晶の注入口が形成されていない、請求項１又は２に記載の表示装置。
【請求項４】
前記配向膜は、前記シール部と接している、請求項１ないし３のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項５】
平面視において、前記第１突出部の外側に形成され、前記シール部の延在方向に沿って延在している溝部を備え、
前記溝部内に前記シール部が存在している、請求項１ないし４のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項６】
前記第１基板の前記周辺領域に形成された複数の金属配線を備え、
前記金属配線は、平面視において前記第１基板と前記第１突出部とが重畳する、前記第１基板の領域に形成されており、
前記金属配線は、平面視において前記第１基板と溝部とが重畳する前記第１基板の領域に形成されておらず、
平面視において前記第１基板と前記第１突出部とが重畳する領域に、前記金属配線間の隙間、又は前記金属配線に設けられた開口パターンが重畳している、請求項１ないし５のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項７】
前記第１基板又は前記第２基板に形成された第３突出部を備え、
前記第３突出部は、前記第１突出部よりも、平面視において外側に形成され、
前記第３突出部は前記外端部と、平面視において重畳している、請求項１ないし６のいずれか一項に記載の表示装置。
【請求項８】
前記第３突出部と対向する第４突出部を備え、
前記第１基板及び前記第２基板の一方の基板に前記第３突出部が形成され、他方の基板に前記第４突出部が形成され、
前記第３突出部と前記第４突出部との間には、前記シール部が存在している間隙があり、
前記第１基板の端部と、前記第２基板の端部と、前記第３突出部の端部と、前記第４突出部の端部とが、断面視において同一直線に並んでいる、請求項７に記載の表示装置。
【請求項９】
前記第１基板の前記周辺領域に形成された複数の金属配線を備え、
前記金属配線は、平面視において前記第１基板と前記第１突出部とが重畳する、前記第１基板の領域に形成されており、
前記金属配線は、平面視において前記第１基板と前記第３突出部とが重畳する前記第１基板の領域に形成されておらず、
平面視において前記第１基板と前記第１突出部とが重畳する領域に、前記金属配線間の隙間、又は前記金属配線に設けられた開口パターンが重畳している、請求項７又は８に記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はシール部内に互いに対向する２つの突出部を有した表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶を利用した液晶表示装置は、画素電極および薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）等を有する画素が複数形成された第１基板と、第１基板に対向して配置された第２基板とが、シール材によって接着され、そのシール部内に液晶が封入された構成となっている。そして、その液晶の配向方向を電圧によって制御して、各画素に入射する光の透過率を変化させることで画像を形成している。
【０００３】
ところで、現在の表示装置では、画素の駆動回路が形成された周辺領域を小さくし、表示領域を大きくする、という要求が強い。つまり、表示領域の端部から液晶表示装置の端部までの幅（周辺領域の幅）が狭まった、いわゆる狭額縁を採用した製品が注目を集めている。
【０００４】
そして、その狭額縁を採用した場合に生じる様々な課題を解決するため、シール領域に、シールの延在方向に沿って延在した複数の突出部を設ける技術が知られている。具体的には、狭額縁化された表示装置では、液晶を配向させる配向膜の形成領域とシール領域の重複が起こるため、配向膜と他の部材の界面から、外部から水分が侵入しやすくなり、水分による液晶の汚染が起こる可能性がある。このような課題の解決のための突出部の構造として、特許文献１が知られている。また、狭額縁化された表示装置では、シール領域と表示領域の距離が近くなる。このため、シール材を硬化する際に発生するガスによってシール部が変形した場合、シール材が表示領域内部に侵入する可能性がある。このような課題の解決のための手段として特許文献２が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１４−１１９７０９号公報
【特許文献２】特開２００９−２５３５５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上述のように、狭額縁を採用した表示装置では、液晶の配向膜の形成領域とシール領域とが重畳する形状を採っている。この場合に配向膜の内部と配向膜と他の部材との界面から水分の侵入が起こり、液晶内が水分により汚染される恐れがある。また、シール材の材料及びシール材に含まれる不純物が液晶内に溶出することによる、液晶内の汚染も生じる恐れがある。狭額縁化をした製品は、シール領域の端部と表示領域の端部との距離が近くなり、周辺領域及び周辺領域を遮光している遮光膜の幅が狭くなる。その結果、上述のような液晶内の汚染によって、電圧に対向する液晶の電圧に対する応答性が変化し、表示領域内で画像の表示ムラとして視認されてしまう恐れがある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は上記問題を克服するものであり、具体的な手段は次のとおりである。
【０００８】
１）第１基板と、第２基板と、画像が表示される表示領域と、平面視において前記表示領域よりも外側である周辺領域と、第１基板と第２基板とを接着し前記周辺領域に設けられたシール部と、前記シール部により前記第１基板と前記第２基板との間に封止された液晶と、を備えた表示装置であって、前記第１基板又は前記第２基板の前記液晶と接する面上に形成された配向膜と、前記第１基板及び前記第２基板の一方の基板に形成された第１突出部と第１対向部と、を備え、前記シール部は、前記延在方向に交差する幅方向に外端部と内端部とを有し前記第１突出部は、前記シール部の延在方向に沿って延在しており、前記第１突出部と前記第１対向部とは互いに対向しており、前記第１突出部と前記第１対向部との間には、前記シール部が存在している間隙があり、前記第１突出部の上下方向における長さは、前記間隙の上下方向における長さよりも大きく、前記第１突出部は、前記液晶と接しており、前記内端部と平面視において重畳している、表示装置。
【０００９】
２）第１基板と、第２基板と、画像が表示される表示領域と、平面視において前記表示領域よりも外側である周辺領域と、第１基板と第２基板とを接着し前記周辺領域に設けられたシール部と、前記シール部により前記第１基板と前記第２基板との間に封止された液晶と、を備えた表示装置であって、前記第１基板又は前記第２基板の前記液晶と接する面上に形成された配向膜と、前記第１基板及び前記第２基板の一方の基板に形成された第１突出部と、他方の基板に形成された第２突出部と、を備え、前記シール部は、前記延在方向に交差する幅方向に外端部と内端部とを有し、前記第１突出部及び前記第２突出部は、前記シール部の延在方向に沿って延在しており、前記第１突出部及び前記第２突出部は、互いに対向しており、前記第１突出部と前記第２突出部との間には、前記シール部が存在している間隙があり、前記第１突出部は、前記液晶と接しており、前記内端部と平面視において重畳している、表示装置。
【００１０】
３）前記シール部には、前記液晶の注入口が形成されていない、１）又は２）に記載の表示装置。
【００１１】
４）前記配向膜は、前記シール部と接している、１）ないし３）に記載の表示装置。
【００１２】
５）平面視において、前記第１突出部の外側に形成され、前記シール部の延在方向に沿って延在している溝部を備え、前記溝部内に前記シール部が存在している、１）ないし４）のいずれか一項に記載の表示装置。
【００１３】
６）前記第１基板の前記周辺領域に形成された複数の金属配線を備え、前記金属配線は、平面視において前記第１基板と前記第１突出部とが重畳する、前記第１基板の領域に形成されており、前記金属配線は、平面視において前記第１基板と前記溝部とが重畳する前記第１基板の領域に形成されておらず、平面視において前記第１基板と前記第１突出部とが重畳する領域に、前記金属配線間の隙間、又は前記金属配線に設けられた開口パターンが重畳している、１）ないし５）のいずれか一項に記載の表示装置。
【００１４】
７）前記第１基板又は前記第２基板に形成された第３突出部を備え、前記第３突出部は、前記第１突出部よりも、平面視において外側に形成され、前記第３突出部は前記外端部と、平面視において重畳している１）ないし６）のいずれか一項に記載の表示装置。
【００１５】
８）前記第３突出部と対向する第４突出部を備え、前記第１基板及び前記第２基板の一方の基板に前記第３突出部が形成され、他方の基板に前記第４突出部が形成され、前記第３突出部と前記第４突出部との間には、前記シール部が存在している間隙があり、前記第１基板の端部と、前記第２基板の端部と、前記第３突出部の端部と、前記第４突出部の端部とが、断面視において同一直線に並んでいる７）に記載の表示装置。
【００１６】
９）前記第１基板の前記周辺領域に形成された複数の金属配線を備え、前記金属配線は、平面視において前記第１基板と前記第１突出部とが重畳する、前記第１基板の領域に形成されており、前記金属配線は、平面視において前記第１基板と前記第３突出部とが重畳する前記第１基板の領域に形成されておらず、平面視において前記第１基板と前記第１突出部とが重畳する領域に、前記金属配線間の隙間、又は前記金属配線に設けられた開口パターンが重畳している、７）又は８）に記載の表示装置。
【００１７】
９）前記周辺領域は、第１周辺領域と、前記第１周辺領域とは異なる第２周辺領域を有し、前記第１基板の端部の近傍はドライバ領域となっており、前記第１周辺領域は前記ドライバ領域に対応し、平面視において、前記第１周辺領域には前記第１突出部が形成されていない、１）ないし８）のいずれか一項に記載の表示装置。
【００１８】
１０）前記第１突出部は、前記シール部が延在する方向に交差する方向に幅を有し、前記第２周辺領域に形成された前記第１突出部の前記幅は、前記第１周辺領域に形成された前記第１突出部の前記幅よりも狭い、９）に記載の表示装置。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】実施形態１の液晶表示装置の平面図である。
【図２】実施形態１における図１のＡ−Ａ断面図である。
【図３】シール部の拡大平面図である。
【図４】実施形態１における図１のＡ−Ａ断面図である。
【図５】実施形態２における図２のＡ−Ａ断面図である。
【図６】実施形態３における図１のＡ−Ａ断面図である。
【図７】実施形態４の液晶表示装置の平面図である。
【図８】周辺領域に着目した液晶表示装置の平面図である。
【図９】実施形態５及び６の液晶表示装置の平面図である。
【図１０】実施形態７及び８の液晶表示装置の平面図である。
【図１１】実施形態９及び１０の液晶表示装置の平面図である。
【図１２】実施形態１１及び１２の液晶表示装置の平面図である。
【図１３】突出部の頂面を説明した断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下に実施形態を用いて本発明の液晶表示装置の内容を詳細に説明する。
【００２１】
以下、本発明を、図面等を参照しながら説明する。但し、本発明は多くの異なる態様で実施することが可能であり、以下に例示する実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。また、本明細書及び添付される各図面において、既出の図面に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。さらに各要素に対する「第１」、「第２」と付記された文字は、各要素を区別するために用いられる便宜的な標識であり、特段の説明がない限りそれ以上の意味を有さない。
【００２２】
本明細書において、ある部材又は領域が他の部材又は領域の「上に（又は下に）」あるとする場合、特段の限定がない限りこれは他の部材又は領域の直上（又は直下）にある場合のみでなく他の部材又は領域の上方（又は下方）にある場合を含み、すなわち、他の部材又は領域の上方（又は下方）において間に別の構成要素が含まれている場合も含む。
【００２３】
本発明に係る表示装置６００は、第１基板１００、第２基板２００を含む。第１基板１００及び第２基板２００は、少なくとも平面状の一主面を有し、双方の基材の一主面が間隙を持って対向配置された構造を有する。以下の説明では、断面視において、第１基板１００に対して第２基板２００が配置される側を「上」又は「上方」といい、その逆を「下」又は「下方」として説明する。また、平面視において、シール部２０から表示領域５００に向う側（基板の端部から基板の中央へ向かう側）を「内側」とし、その逆を「外側」として説明する。
【００２４】
まず、第１実施形態に係る表示装置を、図１を参照して説明する。
図１は、本実施形態の表示装置を構成する表示装置の構成を示す図である。なお、本実施形態においては、表示装置は液晶を有する液晶表示装置である。
【００２５】
ここで、図１では、互いに交差する第１方向Ｘ及び第２方向Ｙで規定されるＸ−Ｙ平面における表示装置６００の平面図を示している。
【００２６】
表示装置６００は、トランジスタ基板と、トランジスタ基板に対向配置された対向基板とを有している。以下、明細書では第１基板１００をトランジスタ基板とし、第２基板２００を対向基板として記載をするが、これに限定されず、第１基板１００が対向基板であり、第２基板２００がトランジスタ基板であっても良い。
【００２７】
表示装置６００は、第１基板１００と第２基板２００との間に保持された液晶３００を備えている。第１基板１００と第２基板２００とは、これらの間に所定の隙間を保持した状態で、周辺領域に形成されたシール部２０によって接着されている。液晶３００は、第１基板１００と第２基板２００とシール部２０とによって形成される空間に封止されている。表示装置６００は、平面視において、遮光膜２０１によって囲まれた内側に、画像を表示する表示領域５００を備えている。表示領域５００内においては、画像を構成する複数の画素３５が配列されている。なお、表示装置６００及び／又は表示領域５００の形状は、略矩形状に形成されることが一般的ではあるが、他の多角形状であっても良いし、そのエッジが曲線状に形成されていても良い。また、画素３５の配列の形状は任意ではあるが、一般的な表示領域５００ではマトリクス状である。
【００２８】
第１基板１００は、表示領域５００において、第１方向Ｘに沿って延在した複数の走査信号線３０、第２方向Ｙに沿って延在した複数の映像信号線４０を備えている。各画素３５は、複数の走査信号線３０及び複数の映像信号線４０が、互いに交差することによって形成された領域に設けられている。そして、各画素３５は、走査信号線３０と映像信号線４０とによって制御されるトランジスタを備えている。また、各画素３５はトランジスタと電気的に接続された画素電極などを備えている。画素電極との間で電界を発生させる共通電極は、第１基板１００及び第２基板２００の少なくとも一方に形成され、平面視において、複数の画素３５に対して重畳している。
【００２９】
なお、表示装置６００の液晶駆動方法の詳細な構成については説明を省略するが、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ  Ｂｅｎｄ）モード、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｅｄ）モードなどの基板主面（Ｘ−Ｙ平面）の直交する方向に沿った縦電界を利用する表示モードを、駆動方法に利用できる。また、基板主面に対して斜め方向に傾斜した傾斜電界を利用する表示モード、又は、基板主面に沿った横電界を利用するＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、ＩＰＳモードの１つであるＦＦＳ（Ｆｒｉｎｇｅ  Ｆｉｅｌｄ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）などの表示モードも、表示装置６００に適用出来る。
【００３０】
また、表示装置６００は、その背面側に配置されたバックライトユニットの光を選択的に透過させて、画像を表示する透過型パネルとして構成されても良い。一方、表示装置６００に入射する外光を、選択的に反射することによって画像を表示する反射型パネルとして構成されても良いし、透過型及び反射型を組み合わせた半透過型パネルとして構成されても良い。
【００３１】
表示装置６００において、第１基板１００の端部の近傍はドライバ領域１６０となっている。図１においては、第１基板１００は第２基板２００よりも大きく形成されており、第１基板１００における第２基板２００と重畳していない領域は、ドライバ領域１６０となっている。このドライバ領域１６０には、液晶表示装置を駆動するＩＣドライバ１５０や、液晶表示装置に電源、映像信号、走査信号等を供給するためのフレキシブル配線基板を接続するための端子が形成されている。
【００３２】
本実施形態では、狭額縁化を図っており、表示領域５００の外側に位置する周辺領域４００の幅は狭くなっている。言い換えれば表示領域５００の端部と液晶表示装置の端部の距離Ｗ１は狭くなっている（例えば１ｍｍ以下）。そうすると、シール部２０の端部付近の液晶３００が汚染されてしまった場合、その汚染の影響が表示領域５００内にまで及んでしまう恐れがある。
【００３３】
（実施形態１）
図２は、実施形態１に係る、図１のＡ−Ａ断面に相当するシール部２０及び周辺領域４００の詳細な断面図である。図２において、ガラスで形成された第１基板１００上に、走査信号引き出し線１０１が形成されている。言い換えれば、走査信号引き出し線１０１は、図１における、ドライバ領域１６０から延在した走査信号引き出し線１０１の断面である。なお、第１基板１００及び後述の第２基板２００の材料は、ガラスなどの無機材料やポリイミド等の有機材料を利用できる。
【００３４】
走査信号引き出し線１０１上に、第１絶縁層１０２としての無機絶縁層１０３及び有機絶縁層１０４が形成されている。有機絶縁層１０４は無機絶縁層１０３よりも厚く形成され、平坦化膜としての役割も有している。有機絶縁層１０４の材料としては、フォトレジスト材としての感光性の有機材料が挙げられ、無機絶縁層１０３の材料としては、は窒化シリコンや酸化シリコン等の無機材料が挙げられる。図２のように、第１絶縁層１０２は、有機絶縁層１０４がパターニングされたことで、シール領域内で凹凸部を有した形状となっている。なお、無機絶縁層１０３をパターニングして、第１絶縁層１０２に凹凸部を形成しても良い。また、第１絶縁層１０２は一層で構成されていても良い。
【００３５】
第１絶縁層１０２の凹凸構造の形成方法としては、特に限定されないが、ドライエッチングやウェットエッチングのようなエッチング工程や、感光性樹脂を用いたレジスト工程が挙げられる。レジスト工程を利用する場合は、この凹凸部は、一回のレジスト工程で形成しても良いし、二回の工程に分けて形成しても良い。また、レジスト工程の際にハーフトーンマスクを利用しても良い。
【００３６】
シール領域内において、有機絶縁層１０４の上にはＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）のような透明導電層１０５が形成されている。この透明導電層１０５は、画素電極又は共通電極と同一製造工程及び同一材料で形成されることが一般的である。なお、透明導電層１０５はＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）のような他の透明導電材料を用いてもよい。
【００３７】
表示装置６００は、第１基板１００上又は第２基板２００下に配向膜１０６が形成され液晶３００と接している。この配向膜によって液晶が初期配向されている。
【００３８】
図２においては、透明導電層１０５の上には配向膜１０６が形成されている。配向膜１０６は、液体である配向膜材料をフレキソ又はインクジェット印刷法等によって塗布し、その後に硬化プロセスを行うことで形成される。表示装置６００は狭額縁化され周辺領域４００の幅は狭くなっているため、配向膜１０６はシール部２０のシール領域内まで存在している。しかし、配向膜１０６は、無機絶縁層１０３や有機絶縁層１０４との密着性が低い傾向にある。そのため、本実施形態では、両者の間に透明導電層１０５が形成し、有機絶縁層１０４、透明導電層１０５及び配向膜１０６全体の密着性を向上させている。なお、図２において、配向膜１０６は、シール部２０のシール領域内まで存在し、シール部２０と接しているが、シール領域内まで配向膜１０６を形成しなくても良い。
【００３９】
液晶３００はシール部２０の外部から水分が侵入すると汚染されてしまうが、この水分は配向膜１０６の内部、又は、配向膜１０６と他の材料（図２においてはシール部２０や透明導電層１０５）との界面から侵入しやすい。そこで、本実施形態においては第１絶縁層１０２に凹凸部を持たせており、第１絶縁層１０２の表面で凹部、凸部及び平坦部が繰り返されることで、配向膜１０６から液晶３００内に水分が侵入しにくい構成としている。また、このような凹凸部があると、第１基板１００とシール部２０の接触面積が増えるため、第１基板１００とシール部２０の接着強度が向上する。
【００４０】
ところで、シール部２０の材料は紫外線硬化樹脂を用いるのが一般的である。しかし、周辺領域４００の第１絶縁層１０２の下には、走査信号引き出し線１０１、共通電極への接続配線、及びタッチ検出電極への接続配線といった様々な金属配線が、形成される可能性がある。この金属材料は紫外線を透過させづらい材料であり、第１基板１００の下方から紫外線を照射した場合に、シール部２０の硬化を阻害してしまう。
【００４１】
また、液晶を封入する方法として、シール部２０に注入行を形成する注入口方式と、シール部２０に注入口を形成しないＯＤＦ（Ｏｎｅ  ｄｒｏｐ  ｆｉｌｌ）方式が知られている。ＯＤＦ方式は、まず一方の基板にシール材料で枠を形成し、その枠の内部に液晶材料を滴下する。その後、一方の基板に他方の基板を貼り合せ、その後シール材料を硬化させる方式である。つまりＯＤＦ方式の場合、液晶材料は、液体状態のシール材料と接するので、シール材料からの汚染を受けやすい。よって、注入口を有さない（ＯＤＦ方式ではない）表示装置は、後述する第１突出部２３０を有していると好ましい。
【００４２】
そこで、図２のように、本実施形態では配線間の隙間を、シール部２０と重畳させており、この隙間を介してシール部２０の内部に紫外線を照射出来る。これによってシール部２０を良好に硬化させることが可能となっている。なお、配線の幅を広く形成した場合は、配線間に隙間を設けても紫外線によってシール部２０を十分に硬化させることが難しい。この場合は、一つの配線内に複数の開口パターンを形成し、紫外線が配線を透過できるようにすると良い。
【００４３】
表示装置６００は、周辺領域４００の狭額縁化のため、平面視において、第１基板１００における第１突出部２３０と重畳する重畳領域にも、金属配線を形成するとよい。この場合、金属配線間の隙間、又は、金属配線に形成した開口パターンを、上述の重畳領域と重畳させると好ましい。図２の通り、上述の重畳領域は、シール材の体積が少なく、かつ、液晶３００と接する可能性があるため、十分に紫外線を照射してシール材の硬度を高めなければ、シール材の液晶３００の汚染が助長されてしまうからである。
【００４４】
一方で、平面視において、第１基板１００における領域であって溝部１１０と重畳する領域には、金属配線を形成しないことが好ましい。また、平面視において、第１基板１００の領域であって第３突出部１０７と重畳する領域には、金属配線を形成しないことが好ましい。図２の通り、第１基板１００の溝部１１０と重畳する領域は、シール材の体積が多いため、十分に紫外線を照射しなければシール材を十分に硬化させることが出来ないからである。また、第３突出部１０７が形成された領域は、シール材の体積が少なく、かつ、外気と接触するため、十分に紫外線を照射してシール材の硬度を高めなければ、水分侵入を助長させてしまうからである。
【００４５】
図２において、第２基板２００の周辺領域４００には遮光膜２０１が形成されている。遮光膜の材料は、黒色の材料であれば有機材料であっても良いし、金属などの無機材料であっても良い。なお、本実施形態の遮光膜２０１は樹脂のような有機材料を用いている。この場合、水分がこの樹脂の内部又は表面を介して侵入してくるため、遮光膜溝２０１１を設けて遮光膜２０１を分断している。
【００４６】
第１基板１００と同様に第２基板２００においても、配向膜１０６は第２絶縁層２０２の下に形成され、シール部２０の形成領域内まで存在している。第２絶縁層２０２は、第２基板２００の下に形成されたカラーフィルタ２０３や遮光膜２０１を保護する機能と、これらの部材の凹凸を打ち消すための平坦化膜としての機能とを有している。この第２絶縁層２０２の表面は、第１絶縁層１０２と同様に、液晶３００内への水分侵入を防止するための凹凸部を持つようにパターニングされている。なお、凹凸部は、平坦に形成された下地絶縁層の一部に対して、絶縁層をさらに形成することで構成されていてもよい。
【００４７】
本実施形態においては、第２絶縁層２０２は、フォトレジストのような感光性樹脂（有機材料）で形成されている。しかし、これに限定されず、第２絶縁層２０２の材料は、他の有機材料、無機材料、又は、両者のハイブリッドのいずれであっても良い。なお、第２絶縁層２０２の凹凸部の形成方法は第１絶縁層１０２と同様である。
【００４８】
表示装置６００は、シール部２０内において、第１突出部２３０を備えている。そして、第１突出部２３０は、第１基板１００及び第２基板２００のうち、一方の基板側に形成され他方の基板側に向けて突出している。また表示装置６００は、好ましくは及び第２突出部２３２、第３突出部１０７、第４突出部１０８、第５突出部１０９、第１スペーサ２１０、及び、第２スペーサ２２０といった他の複数の構造体をさらに備えている。これらの詳細を、図２〜４を用いて説明する。
【００４９】
図２において、第２基板２００に第１突出部２３０と第３突出部１０７とが、第１基板１００に第２突出部２３２と第４突出部１０８とが形成されている。そして、第１突出部２３０は第２突出部２３２と対向しており、第３突出部１０７は第４突出部１０８と対向しており、各突出部はシール部２０の延在方向に沿って延在している。
【００５０】
各突出部について詳細に説明する。図３は平面視におけるシール部２０付近の拡大図である。図内に斜線で示されているシール部２０の内部には、第１突出部２３０と、第１突出部２３０の外側にある第３突出部１０７とが形成されている。第１突出部２３０と第３突出部１０７はシール部２０の延在方向に沿って延在している。そしてシール部２０は、延在方向に交差する幅方向において、内側の端部である内端部２１と、外側の端部である外端部２２とを有している。
【００５１】
第１突出部２３０は内端部２１と平面視において重畳するように形成され、第３突出部１０７は外端部２２と平面視において重畳するように形成されている。加えて、第１突出部２３０は、内端部２１よりもさらに内側まで延在しており、液晶３００とも接している。なお、図示はしていないが第２突出部２３２及び第４突出部１０８も、シール部２０の延在方向に沿って延在していると好ましい。また、第２突出部２３２も内端部２１と平面視において重畳するように形成されていると好ましい。
【００５２】
このような突出部があると、後述するように液晶３００の汚染を防止出来る。また、第１基板１００又は第２基板２００に形成された構造体と、シール部２０の接触面積が増えることにより、両基板とシール部２０との接着強度が向上する。また、後述する溝部１１０も第１基板１００又は第２基板２００と、シール部２０との接触面積を向上させている。
【００５３】
なお、図３においてシール部２０の内端部２１は、第１突出部２３０と平行に一直線に延在している。しかし、硬化前のシール材料は液体状態であり、実際の内端部２１は屈曲している部分やジグザグになっている部分が存在する。この場合、第１突出部２３０の一部分が、シール部２０の内端部２１と重畳しない可能性がある。しかし、本願発明の範囲からこのような表示装置は排除されない。
【００５４】
また、図４のように、断面視において、第１突出部２３０の頂面がシール部２０と、重畳している長さＬ１は、第１突出部２３０の頂面が液晶３００と重畳している長さＬ２よりも長いことが好ましい。これによって、第１突出部２３０とシール部２０の接触面積を大きく確保することが可能となり、接着強度が向上する。なお、図１３のとおり、「頂面」は突出部の底部からの高さが９０％の位置を基準とする。
【００５５】
第２絶縁層２０２の下には第１スペーサ２１０と第２スペーサ２２０が形成されている。図３の通り、第１スペーサ２１０と第２スペーサ２２０は、シール部２０の延在方向に沿って延在しておらず、柱状に形成されている。これらはシール部２０の延在方向に沿って、一定の間隔で複数個配列されている。第１スペーサ２１０は、第１基板１００と第２基板２００との間隔を規定する役割を有している。一方で、第２スペーサ２２０は第２基板２００に外部から強い圧力が加わった場合に、第１基板１００と第２基板２００の間隔が過度に小さくなることを防止する役割を有する。
【００５６】
表示装置６００において、第１突出部２３０、第３突出部１０７、第１スペーサ２１０、及び、第２スペーサ２２０と、これらが形成された基板（１００、２００）と、の間である基部には、カラーフィルタ２０３が形成されている。
【００５７】
そして、図示はしていないが、第１突出部２３０と第３突出部１０７の基部に形成されたカラーフィルタ２０３は、第１突出部２３０と第３突出部１０７と同様にシール部２０の延在方向に沿って延在している。
【００５８】
表示装置６００は、第１突出部２３０が形成された基板に対向する基板は、第２突出部２３２を有している。第１突出部２３０と第１基板１００の第１対向部との間には間隙Ａが形成され、この間隙Ａの内部にシール部２０が存在している。同様に、第３突出部１０７が形成された基板に対向する基板は、第３突出部１０７に対向する第２対向部を有しており、この間隙Ｂの内部にシール部２０が存在している。また、第１スペーサ２１０が形成された基板に対向する基板には、第１スペーサ２１０に対向する３２対向部を有しており、間隙Ｃの間にはシール部２０が存在している。これらの各対向部は、平坦部、突出部、溝部のいずれであっても良い。なお、図４においては、第１対向部は第２突出部２３２であり、第２対向部は第４突出部１０８であり、第３対向部は第５突出部１０９である。
【００５９】
図４において、シール部２０の内端部２１は間隙Ａの中に位置していることから、液晶３００とシール部２０の接触面積、及び、液晶３００付近に存在するシール部２０の体積は非常に小さくなっている。シール材の材料及び内部の不純物は液晶３００を汚染する可能性があるが、この構造を有することにより、シール材による液晶３００の汚染を抑制することが出来る。また、第１突出部２３０と第２突出部２３２の２つの突起を用いて間隙Ａが設けているため、一方の突出部を過剰に長く、かつ、大きく形成して間隙を設ける必要がなくなり、突出部の構造安定性が向上する。この場合、上下方向における第１突出部２３０の長さは、間隙Ａの上下方向の長さよりも大きいことが好ましく、間隙Ａの上下方向の長さの２倍以上であることが好ましい。また、第１対向部が第２突出部２３２である場合、上下方向における第１突出部２３０と第２突出部２３２の長さの合計は、間隙Ａの上下方向の長さよりも大きいことが好ましい。好ましくは、この合計の長さは、間隙Ａの上下方向の長さの２倍以上であることが好ましい。
【００６０】
また、シール部２０の外端部２２は間隙Ｂの中に位置していることから、外部とシール部２０の接触面積、及び、外部付近に存在するシール部２０の体積は小さくなっている。この構造を有することにより、外部からの水分がシール部２０に侵入することを抑制し、その結果として液晶の汚染を抑制することが出来る。また、第１突出部２３０と第２突出部２３２の２つの突起を用いて間隙Ｂを形成していれば、シール部２０の体積が小さくなるため、後述するマザー基板のスクライブが容易となる。さらに、突出部を過剰に長くかつ大きく形成する必要がなくなり、突出部の構造安定性が向上する。なお、第３突出部１０７と第４突出部１０８は、外端部２２と平面視において重畳するように形成されていると好ましい。同様に、上下方向における第３突出部１０７と第４突出部１０８との長さの合計は、間隙Ｂの上下方向の長さよりも大きいことが好ましく、間隙Ｂの上下方向の長さの２倍以上であることが好ましい。
【００６１】
各突出部（２３０、２３２、１０７、１０８、１０９）と各スペーサ（２１０、２２０）の形成方法としては、特に限定されないが、ウェットエッチングやドライエッチングのようなエッチング工程、又は、フォトレジスト材料を用いたレジスト工程を利用すると良い。また、レジスト工程の際にハーフトーンマスクを用いても良い。各突出部及び各スペーサは、第１絶縁層１０２及び第２絶縁層２０２と一体的に形成してもよい。また、各突出部及び各スペーサは、第１絶縁層１０２及び第２絶縁層２０２を形成した後に、別部材として形成しても良い。
【００６２】
第１スペーサ２１０の主目的は第１基板１００と第２基板２００との間隔を保つことであるため、間隙Ｃの距離は、間隙Ａの距離及び間隙Ｂの距離よりも短く形成されている。
【００６３】
シール部２０の外端部２２、第３突出部１０７の端部、第１基板１００の端部、及び第２基板２００の端部は、互いに対応する位置関係にあり、断面視において同一直線に並んでいると好ましい。
【００６４】
図２の通り、例えば、マザー基板からスクライビング線ＳＬでスクライビングをして、個々の表示装置の基板に分離した場合は、上記のような各端部が同一平面（断面視においては同一直線）に並ぶ関係になる。加えて、図２のように、第３突出部１０７をシール部の外端部２２に平面視において重畳するように形成していれば、シール部の外端部２２付近のシール材の体積が減少させることが出来る。これによって、スクライビング線ＳＬでのマザー基板のスクライビングが容易となる。
【００６５】
本発明の表示装置６００は、第１絶縁層１０２又は第２絶縁層２０２に溝部１１０を有していると好ましい。そして、図３の通りシール部２０の延在方向に延在しているとさらに好ましい。溝部１１０は、平面視において、平面視において第１突出部２３０よりも外側にあると好ましく、第１突出部２３０と第３突出部１０７の間にあるとさらに好ましい。
【００６６】
この溝部１１０において、第１絶縁層１０２は極めて薄い、又は、第１絶縁層１０２は形成されていない。これにより、溝部１１０の底面と、溝部１１０が形成された基板の表面との距離は、シール領域内の絶縁層の他の表面と、絶縁層が形成された基板の表面との距離よりも小さい関係になっている。有機材料に代表される有機絶縁層１０４の材料は水分の透過性が高い。よって、溝部１１０によって有機絶縁層１０４を分断すると、液晶３００内への水分侵入を低減させることが出来る。また、溝部１１０があることにより、第１絶縁層１０２の表面に凹凸が形成されるため、配向膜１０６を介した液晶３００内への水分侵入を低減させることが出来る。
【００６７】
また、絶縁層に凹凸部が形成されている場合、溝部１１０の底面と基板の表面との距離Ｄ１は、絶縁層の凹部の底面と基板の表面との距離Ｄ２よりも小さい関係になっている。例えば、図４においては、溝部１１０の底面と第１基板１００の表面との距離Ｄ１は、凹部の底面と第１基板１００の表面との距離Ｄ２よりも小さい関係になっている。
【００６８】
（実施形態２）
図５は、実施形態２に係る、図１のＡ−Ａ断面に相当するシール部２０及び周辺領域４００の断面図である。実施形態１との主共通点と相違点について以下説明する。
【００６９】
図５においては、実施形態１と比較して、第１突出部２３０、第２突出部２３２、第１スペーサ２１０、第２スペーサ２２０、及び第５突出部１０９が形成されている点が共通している。そして、第１突出部２３０は、液晶３００と接している。また、シール領域内に配向膜１０６が存在し、かつ、シール領域内の第１絶縁層１０２及び第２絶縁層２０２の表面は、凹凸部を有するようにパターニングされている点も共通している。これらの構造を有する場合の利点については、実施形態１と同様であるため割愛する。
【００７０】
一方で、実施形態１とは第３突出部１０７及び第４突出部１０８が形成されていない点で相違している。また、溝部１１０が、第２基板２００の第２絶縁層２０２に形成されている点で相違している。また、この溝部１１０は、遮光膜２０１に形成された遮光膜溝２０１１と繋がっている。
【００７１】
図５の通り、溝部１１０の底面と第２基板２００の表面との距離Ｄ１は、第２絶縁層２０２の凹部の底面と第２基板２００の表面との距離Ｄ２よりも小さい関係になっている。なお、図５においては、溝部１１０の底面が第２基板２００の表面となっており、距離Ｄ１は“０”であるため記載されていない。
【００７２】
（実施形態３）
図６は、実施形態３に係る、図１のＡ−Ａ断面に相当するシール部２０及び周辺領域４００の断面図である。実施形態１との主共通点と相違点について以下説明する。
【００７３】
図６においては、実施形態１と比較して、第１突出部２３０、第３突出部１０７、第１スペーサ２１０、及び第２スペーサ２２０が形成され、シール領域内に配向膜１０６が存在している点が共通している。そして、第１突出部２３０は、液晶３００と接している。これらの構造を有する場合の利点については、実施形態１と同様であるため割愛する。
【００７４】
一方で、実施形態１と比較して、第２突出部２３２、第４突出部１０８、第５突出部１０９、及び溝部１１０が形成されていない点で相違している。また、シール領域内の第１絶縁層１０２及び第２絶縁層２０２の表面が、凹凸部を有するようにパターニングされていない点も相違している。
【００７５】
図７、図９〜１２は、表示装置６００の第１突出部２３０と第３突出部１０７の形状及び配置に関する平面図である。図８は、周辺領域４００に関する平面図である。以下、図７〜１２を用いて、第１突出部２３０と第３突出部１０７の形状及び配置に関する実施形態４〜１２について説明する。なお、実施形態４〜１２において、表示装置６００には第３突出部１０７が形成されているが、第３突出部１０７を形成するかは任意である。
【００７６】
（実施形態４）
図７は実施形態４に関する平面図である。表示装置６００は、四辺を有した矩形状であり、第１基板１００の一つの端部の近傍が前述したドライバ領域１６０となっている。表示装置６００は、中央に液晶３００が封入された表示領域５００を有している。また、表示装置６００は、その表示領域５００を囲うように、周辺領域４００を有しており、各四辺に対応した周辺領域４００の位置に第１突出部２３０が形成されている。また、その第１突出部２３０及び表示領域５００を囲うように、周辺領域４００の位置に第３突出部１０７が形成されている。第１突出部２３０は液晶３００と接しており、第３突出部１０７はシール部２０と平面視において重畳している
【００７７】
図８の通り、表示装置が矩形状である場合、その周辺領域４００は、表示装置６００の各四辺に対応した第１周辺領域４０１、第２周辺領域４０２、第３周辺領域４０３、及び、第４周辺領域４０４を有している。第１周辺領域４０１は、ドライバ領域１６０に対応しており、第２周辺領域４０２は第１周辺領域４０１に対向する位置である。第３周辺領域４０３及び第４周辺領域４０４は、第１周辺領域４０１と第２周辺領域４０２の間の位置であり、互いに対向している。そして、各実施形態において、第１周辺領域４０１のシール部２０の延在方向に交差する方向における幅Ｗ２は、第１周辺領域４０１が最も広くなっている。
【００７８】
（実施形態５）
図９（ａ）は実施形態５に関する平面図である。実施形態４と比較した実施形態５の相違点は、第１周辺領域４０１において、第１突出部２３０が形成されていない点である。狭額縁化がされた表示装置であっても、ドライバ領域１６０があるため、第１周辺領域４０１及び第１周辺領域４０１に対応する遮光膜２０１の幅は、広く形成されている。
【００７９】
このため、第１周辺領域４０１付近でシール材による液晶３００の汚染が起こったとしても、表示領域５００内での影響は少ない。一方で、第１突出部２３０はシール部２０の内部に入るため、第１突出部２３０がシール部２０の内部への入り込む量が多いと、シール部２０の体積が減少し、シール強度の低下が起こる恐れがある。また、第１基板１００の第１周辺領域４０１付近は様々な配線が形成されており、第１突出部２３０が配線に対して影響を及ぼしてしまう可能性もある。よって、実施形態５においては、第１周辺領域４０１には第１突出部２３０が形成されていない。
【００８０】
なお、本明細書において、ある特定の領域に「突出部が形成されていない」という表現を用いている。しかし、この表現は、その特定の領域に突出部が形成されていない領域がある、という意味であって、その特定の領域全てに突出部が形成されていない、という意味ではない。
【００８１】
（実施形態６）
図９（ｂ）は実施形態６に関する平面図である。実施形態４と比較した場合の実施形態６の相違点は、第１周辺領域４０１において、第１突出部２３０及び第３突出部１０７が形成されていない点である。第１突出部２３０が形成されていない点については、実施形態５と同様であるので割愛する。
【００８２】
上述のように、第１周辺領域４０１及び第１周辺領域４０１に対応する遮光膜２０１の幅は広く形成されているため、第１周辺領域４０１付近から水分が侵入したとしても、水分による影響が表示領域５００内での影響は少ない。さらに、第１周辺領域４０１に形成される第３突出部１０７は、マザー基板のスクライビングに利用されない。よって、上述に記載したシール部２０の体積、配線に対する影響等も考慮して、実施形態６において、第１周辺領域４０１には第３突出部１０７が形成されていない。
【００８３】
（実施形態７）
図１０（ａ）は実施形態７に関する平面図である。実施形態４と比較した場合の実施形態７の相違点は、第２〜第４周辺領域（４０２、４０３、４０４）の第１突出部２３０の幅が、第１周辺領域４０１における第１突出部２３０の幅よりも狭い点である。なお、この幅とは、シール部２０の延在方向に交差する方向の幅である。
【００８４】
狭額縁化された表示装置６００においては、第１突出部２３０の幅を十分に確保できない場合がある。しかし、第１周辺領域４０１の幅及び第１周辺領域４０１に対応する遮光膜２０１の幅は広く形成されているため、各周辺領域の特性を考慮して、上述した突出部の幅関係にしている。
【００８５】
（実施形態８）
図１０（ｂ）は実施形態８に関する平面図である。実施形態４と比較した場合の実施形態８の相違点は、表示領域５００の端部の角部に対応する周辺領域４００の位置に第１突出部２３０が形成され、表示領域５００の端部の直線部に対応する周辺領域４００の第１突出部２３０が形成されていない点である。
【００８６】
表示領域５００の角部は、シール材による汚染の影響が最も集中する位置であるため、この位置に第１突出部２３０を設けている。また、直線部に対応した領域において、平面視、第１突出部２３０が形成されていない領域の外側に前記第２突出部２３２が形成されている。
【００８７】
（実施形態９〜１２）
図１１（ａ）は実施形態９に、図１１（ｂ）は実施形態１０に、図１２（ａ）は実施形態１１に、図１２（ｂ）は実施形態１２に関する平面図である。実施形態９〜１２と実施形態４との相違点を以下記載する。
【００８８】
実施形態９は、第３周辺領域４０３及び第４周辺領域４０４に、第１突出部２３０を形成していない点で相違している。実施形態１０は、第１周辺領域４０１及び第２周辺領域４０２に、第１突出部２３０を形成していない点で相違している。実施形態１１は、第３周辺領域４０３及び第４周辺領域４０４の一部に、第１突出部２３０を形成していない点で相違している。実施形態１２は、第１周辺領域４０１及び第２周辺領域４０２の一部に、第１突出部２３０を形成していない点で相違している。
【００８９】
第１突出部２３０の形状を決める際に、上述に記載した液晶３００の汚染が起きやすい場所、シール部２０の体積、周辺領域の幅、及び、周辺領域に形成された配線等といった重要視すべき要素が複数ある。よって、製造する製品の特性に合わせて、第１突出部２３０の最適な形状を選択すると良い。
【００９０】
なお、本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらは、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これらの新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。
【符号の説明】
【００９１】
２０…シール部、  ３０…走査信号線、  ４０…映像信号線、  ３５…画素、  １００…第１基板、  １０１…走査信号引き出し線  １０２…第１絶縁層、  １０３…無機絶縁層、  １０４…有機絶縁層、  １０５…透明導電層、  １０６…配向膜、  １０７…第３突出部  １０８…第４突出部、  １０９…第５突出部、  １５０…ＩＣドライバ、  １６０…ドライバ領域、  ２００…第２基板、  ２０１…遮光膜、２０２…第２絶縁層、  ２０３…カラーフィルタ、  ２１０…第１スペーサ、  ２２０…第２スペーサ、  ２３０…第１突出部、  ２３２…第２突出部、  ３００…液晶、  ＳＬ…スクライビング線、  ４００…周辺領域、  ４０１…第１周辺領域、  ４０２…第２周辺領域、  ４０３…第３周辺領域、  ４０４…第４周辺領域、  ５００…表示領域、  ６００…表示装置、  ２０１１…遮光膜溝
【図１】
0006607762.tif 000002
【図２】
0006607762.tif 000003
【図３】
0006607762.tif 000004
【図４】
0006607762.tif 000005
【図５】
0006607762.tif 000006
【図６】
0006607762.tif 000007
【図７】
0006607762.tif 000008
【図８】
0006607762.tif 000009
【図９】
0006607762.tif 000010
【図１０】
0006607762.tif 000011
【図１１】
0006607762.tif 000012
【図１２】
0006607762.tif 000013
【図１３】
0006607762.tif 000014