(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上に機能性材料を含む第１のライン状液体を付与し、該第１のライン状液体を乾燥させる過程で該機能性材料を縁部に選択的に堆積させて、該機能性材料を含む２本の線分により構成された第１の平行線パターンを形成し、
次いで、前記基材上に前記第１の平行線パターンの形成領域と交差させるように機能性材料を含む第２のライン状液体を付与し、該第２のライン状液体を乾燥させる過程で該機能性材料を縁部に選択的に堆積させて、該機能性材料を含む２本の線分により構成された第２の平行線パターンを形成することによって、
前記第１の平行線パターンと前記第２の平行線パターンとが交わるメッシュ状の機能性パターンを形成する際に、
前記第２の平行線パターンを構成する前記２本の線分間の間隔について、前記第１の平行線パターンの形成領域内における平均間隔Ａと、前記第１の平行線パターンの形成領域外における平均間隔Ｂとが下記式（１）を満たすように調整するメッシュ状の機能性パターンの形成方法。
０．９≦Ｂ／Ａ≦１．１      ・・・式（１）
【請求項２】
前記式（１）を満たすための調整として、前記第１の平行線パターンの形成領域内の表面エネルギーと、前記第１の平行線パターンの形成領域外の表面エネルギーとの差を、５ｍＮ／ｍ以下にする請求項１記載のメッシュ状の機能性パターンの形成方法。
【請求項３】
前記式（１）を満たすための調整として、前記第１のライン状液体に含まれる機能性材料を塗布して乾燥させたベタ面の表面エネルギーと、前記第１の平行線パターンの形成領域外の表面エネルギーとの差を、５ｍＮ／ｍ以下にする請求項１記載のメッシュ状の機能性パターンの形成方法。
【請求項４】
前記式（１）を満たすための調整として、前記第１の平行線パターンの形成領域内における前記第２のライン状液体の接触角と、前記第１の平行線パターンの形成領域外における前記第２のライン状液体の接触角との差を、１０°以下にする請求項１記載のメッシュ状の機能性パターンの形成方法。
【請求項５】
前記式（１）を満たすための調整として、前記第１のライン状液体に含まれる機能性材料を塗布して乾燥させたベタ面における前記第２のライン状液体の接触角と、前記第１の平行線パターンの形成領域外における前記第２のライン状液体の接触角との差を、１０°以下にする請求項１記載のメッシュ状の機能性パターンの形成方法。
【請求項６】
前記式（１）を満たすための調整として、前記第１の平行線パターンの形成領域外における前記第２のライン状液体中の溶剤のうち最も沸点が高い溶剤の接触角を６°以下にする請求項１記載のメッシュ状の機能性パターンの形成方法。
【請求項７】
前記式（１）を満たすための調整として、前記第１の平行線パターンの形成領域内における前記第２のライン状液体の長さあたりの液体付与量と、前記第１の平行線パターンの形成領域外における前記第２のライン状液体の長さあたりの液体付与量とを異ならせる請求項１記載のメッシュ状の機能性パターンの形成方法。
【請求項８】
前記式（１）を満たすための調整として、前記第１の平行線パターンを形成した後に、前記第２のライン状液体を付与する前に、前記第１の平行線パターンの形成領域内を含む領域を洗浄する請求項１に記載のメッシュ状の機能性パターンの形成方法。
【請求項９】
前記洗浄として、加熱による洗浄、電磁波による洗浄、溶剤による洗浄、ガスによる洗浄及びプラズマによる洗浄から選ばれた１種又は２種以上を組み合わせた洗浄を行う請求項８記載のメッシュ状の機能性パターンの形成方法。
【請求項１０】
前記機能性材料は、導電性材料である請求項１〜９の何れかに記載のメッシュ状の機能性パターンの形成方法。
【請求項１１】
請求項１〜１０の何れかに記載のメッシュ状の機能性パターンの形成方法により形成されたメッシュ状の機能性パターン。
【請求項１２】
請求項１１記載のメッシュ状の機能性パターンを備えた機能性基材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、メッシュ状の機能性パターンの形成方法、該方法によって形成されたメッシュ状の機能性パターン、及び該メッシュ状の機能性パターンを備えた機能性基材に関する。
【背景技術】
【０００２】
機能性材料を含む細線パターンを形成する方法として、従来はフォトリソグラフィーを利用する方法が広く用いられてきた。しかしながら、フォトリソグラフィー技術は材料のロスが多く、工程が複雑になるため、これらを改善できる方法が検討されている。【０００３】
例えば、インクジェット法などにより機能性材料を含む液滴を基材に連続的に付与して、細線パターンを形成する方式がある。しかしながら、通常のインクジェット法では、細線の幅を、吐出された液滴の直径以下にすることができず、数μｍの線幅の細線パターンを形成することはできなかった。【０００４】
インクジェット法による細線形成のアプローチとして、あらかじめ基材に撥剤を全面に塗布した後、レーザーなどで撥剤の一部を親水化して親撥パターンを形成して、そこにインクジェットで液滴を付与して細線を形成する方法がある。しかしながら、この方法は撥剤を塗布したり、レーザーで親撥パターンを形成したりと工程が複雑になってしまうという課題があった。【０００５】
これに対して、液滴内部の対流を利用して液滴中の固形分である機能性材料を液滴の周辺部に堆積させて、液滴より微細な幅のパターンを形成する方法が知られている（特許文献１）。この方法によれば、特別な工程を必要とせずに、液滴の直径以下の数μｍの幅の細線を形成することが可能になる。【０００６】
また、この方法を用いて、導電性微粒子の微細な幅のリングを形成しこれを複数連結して透明導電膜を形成することが特許文献２に記載されている。【０００７】
しかしながら、これらの方法では、導電パスをつくるためにリングの交点が多くなり、透明性が劣化するという課題があった。【０００８】
これに対して、本出願人は、ライン状に付与した液体中の導電性材料を該液体の動きにより縁部に分離して平行線パターンを形成すること、更には該平行線パターンからなる透明導電膜を形成することを発明し、これまでに報告してきた（特許文献３）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００５−９５７８７号公報
【特許文献２】ＷＯ２０１１／０５１９５２
【特許文献３】特開２０１４−３８９９２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
特許文献３には、格子状に交差させた平行線パターンを形成する際に、ワンパス印字を用い、交点の部分のインク付与量を２倍にすることが記載されているが、この場合、交点が平行線部分より太いリング状となり、かかるリング状の部分が周期的に視認されてしまうときがあり、低視認性（即ち視認しにくい性質）について更なる改善の余地があった。【００１１】
そこで、本出願人は更に検討し、第１のライン状液体を一方向に塗布し、乾燥して、第１の平行線パターンを形成した後、これと交差するように、異なる方向に第２のライン状液体を塗布し、乾燥して、第２の平行線パターンを形成することによって、異なる方向の平行線パターンが交差したメッシュ状の機能性パターンを形成することを試みた。【００１２】
しかしながら、第２の平行線パターンを構成する線分間の間隔が、第１の平行線パターンの形成領域の内外で異なることにより線分間の膨らみや狭まりを生じてしまい、その結果、低視認性を低下させてしまうという新たな課題が見出された。【００１３】
また、特に機能性材料が導電性材料である場合においては、第２の平行線パターンに生じる上記膨らみや狭まりにより、導電パスの長さが、第１の平行線パターンに沿う方向と、第２の平行線パターンに沿う方向とで異なってしまい、抵抗のばらつきの原因になってしまうという新たな課題も見出された。【００１４】
そこで、本発明の課題は、低視認性を改善でき、抵抗のばらつきを抑制できるメッシュ状の機能性パターンの形成方法、メッシュ状の機能性パターン及び機能性基材を提供することにある。【００１５】
また本発明の他の課題は、以下の記載によって明らかとなる。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
上記課題は、以下の各発明によって解決される。【００１７】
１．
基材上に機能性材料を含む第１のライン状液体を付与し、該第１のライン状液体を乾燥させる過程で該機能性材料を縁部に選択的に堆積させて、該機能性材料を含む２本の線分により構成された第１の平行線パターンを形成し、
次いで、前記基材上に前記第１の平行線パターンの形成領域と交差させるように機能性材料を含む第２のライン状液体を付与し、該第２のライン状液体を乾燥させる過程で該機能性材料を縁部に選択的に堆積させて、該機能性材料を含む２本の線分により構成された第２の平行線パターンを形成することによって、
前記第１の平行線パターンと前記第２の平行線パターンとが交わるメッシュ状の機能性パターンを形成する際に、
前記第２の平行線パターンを構成する前記２本の線分間の間隔について、前記第１の平行線パターンの形成領域内における平均間隔Ａと、前記第１の平行線パターンの形成領域外における平均間隔Ｂとが下記式（１）を満たすように調整するメッシュ状の機能性パターンの形成方法。
０．９≦Ｂ／Ａ≦１．１      ・・・式（１）【００１８】
２．
前記式（１）を満たすための調整として、前記第１の平行線パターンの形成領域内の表面エネルギーと、前記第１の平行線パターンの形成領域外の表面エネルギーとの差を、５ｍＮ／ｍ以下にする前記１記載のメッシュ状の機能性パターンの形成方法。【００１９】
３．
前記式（１）を満たすための調整として、前記第１のライン状液体に含まれる機能性材料を塗布して乾燥させたベタ面の表面エネルギーと、前記第１の平行線パターンの形成領域外の表面エネルギーとの差を、５ｍＮ／ｍ以下にする前記１記載のメッシュ状の機能性パターンの形成方法。【００２０】
４．
前記式（１）を満たすための調整として、前記第１の平行線パターンの形成領域内における前記第２のライン状液体の接触角と、前記第１の平行線パターンの形成領域外における前記第２のライン状液体の接触角との差を、１０°以下にする前記１記載のメッシュ状の機能性パターンの形成方法。【００２１】
５．
前記式（１）を満たすための調整として、前記第１のライン状液体に含まれる機能性材料を塗布して乾燥させたベタ面における前記第２のライン状液体の接触角と、前記第１の平行線パターンの形成領域外における前記第２のライン状液体の接触角との差を、１０°以下にする前記１記載のメッシュ状の機能性パターンの形成方法。【００２２】
６．
前記式（１）を満たすための調整として、前記第１の平行線パターンの形成領域内における前記第２のライン状液体の長さあたりの液体付与量と、前記第１の平行線パターンの形成領域外における前記第２のライン状液体の長さあたりの液体付与量とを異ならせる前記１記載のメッシュ状の機能性パターンの形成方法。【００２３】
７．
前記式（１）を満たすための調整として、前記第１の平行線パターンを形成した後に、前記第２のライン状液体を付与する前に、前記第１の平行線パターンの形成領域内を含む領域を洗浄する前記１に記載のメッシュ状の機能性パターンの形成方法。【００２４】
８．
前記洗浄として、加熱による洗浄、電磁波による洗浄、溶剤による洗浄、ガスによる洗浄及びプラズマによる洗浄から選ばれた１種又は２種以上を組み合わせた洗浄を行う前記７記載のメッシュ状の機能性パターンの形成方法。【００２５】
９．
前記機能性材料は、導電性材料である前記１〜８の何れかに記載のメッシュ状の機能性パターンの形成方法。【００２６】
１０．
前記１〜９の何れかに記載のメッシュ状の機能性パターンの形成方法により形成されたメッシュ状の機能性パターン。【００２７】
１１．
前記１０記載のメッシュ状の機能性パターンを備えた機能性基材。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】平行線パターンを形成する方法の一例を概念的に説明する概略説明図
【図２】メッシュ状の機能性パターンの形成方法の一例（参考例）を説明する説明図
【図３】メッシュ状の機能性パターンの形成方法の他の例（参考例）を説明する説明図
【図４】メッシュ状の機能性パターンの形成方法の更なる他の例を説明する説明図
【図５】交差部Ｘの形成例を示す要部拡大図
【図６】平均間隔Ａ及び平均間隔Ｂの測定方法の一例を説明する図
【図７】基材上に形成された平行線パターンの一例を示す部分拡大平面図
【図８】図７における(viii)−(viii)線断面を説明する説明図
【図９】メッシュ状の機能性パターンの光学顕微鏡写真（実施例）
【図１０】メッシュ状の機能性パターンの光学顕微鏡写真（参考例）
【発明を実施するための形態】
【００２９】
以下に、図面を参照して本発明を実施するための形態について説明する。
【００３０】
本発明では、基本的な原理として、基材上に付与された機能性材料を含む液体を乾燥させる際に、液体に含まれる機能性材料を液体の縁部に選択的に堆積させる現象を利用することができる。この現象は、コーヒーリング現象あるいはコーヒーステイン現象とも称される場合がある。本発明は、リング形状のパターンを形成するものに限定されないので、以下の説明では、この現象について、コーヒーステイン現象という場合がある。
【００３１】
図１は、かかる基本原理を利用して平行線パターンを形成する方法の一例を概念的に説明する概略説明図である。
【００３２】
図１において、１は、基材であり、２は、機能性材料を含むライン状液体であり、３は、ライン状液体２の縁に機能性材料を選択的に堆積させることにより形成される塗膜（以下、平行線パターンという場合もある。）である。また、７は基材１上に液体を付与するための付与手段であり、ここでは、液滴吐出装置により構成されている。液滴吐出装置７は、例えば、インクジェット記録装置が備えるインクジェットヘッドにより構成することができる。
【００３３】
図１（ａ）に示すように、液滴吐出装置７と基材１とを相対的に走査させながら、液滴吐出装置７から機能性材料を含む液体を吐出し、順次吐出された複数の液滴が基材上で合一することで機能性材料を含むライン状液体２を形成する。
【００３４】
そして、図１（ｂ）に示すように、ライン状液体２を蒸発させ、乾燥させる際に、コーヒーステイン現象を利用して、ライン状液体２の縁に機能性材料を選択的に堆積させる。
【００３５】
コーヒーステイン現象は、ライン状液体２を乾燥させる際の条件設定により生起させることができる。
【００３６】
即ち、基材１上に配置されたライン状液体２の乾燥は中央部と比べ縁において速く、乾燥の進行と共に固形分濃度が飽和濃度に達し、ライン状液体２の縁に固形分の局所的な析出が起こる。この析出した固形分によりライン状液体２の縁が固定化された状態となり、それ以降の乾燥に伴うライン状液体２の幅方向の収縮が抑制される。この効果により、ライン状液体２の液体は、縁で蒸発により失った分の液体を補う様に中央部から縁に向かう対流を形成する。この対流は、乾燥に伴うライン状液体２の接触線の固定化とライン状液体２中央部と縁の蒸発量の差に起因するため、固形分濃度、ライン状液体２と基材１の接触角、ライン状液体２の量、基材１の加熱温度、ライン状液体２の配置密度、または温度、湿度、気圧の環境因子に応じて変化し、これらを調整することにより制御することができる。
【００３７】
その結果、図１（ｃ）に示すように、基材１上に、機能性材料を含む細線からなる平行線パターン３が形成される。１本のライン状液体２から形成された平行線パターン３は、１組２本の細線３１、３２により構成されている。
【００３８】
以上のような平行線パターンの形成方法を応用して、複数の平行線パターンを交差させてなるメッシュ状の機能性パターンを形成することができる。
【００３９】
このようなメッシュ状の機能性パターンとすることは、低視認性を保持した状態で、基材上に機能性材料を分布させることを実現する上で有利である。
【００４０】
特に、上記のようにして形成される平行線パターンを構成する線分は、数μｍの線幅を実現できるため、その微細な線幅により、メッシュ状の機能性パターンは、機能性材料自体が透明でなくても、人間の目には認識されず、あたかも透明のように見える。
【００４１】
機能性材料の細線パターンの形状については、その機能性材料を使うデバイスによって設定することができる。デバイスの一例として、タッチパネルに使用されるタッチセンサーは、指などによる位置を検出するために、透明な面電極が用いられる。
【００４２】
メッシュ状の機能性パターンにおいて、機能性材料として導電性材料を用いれば、タッチパネル等のための透明な面電極等に好ましく適用できる。面電極等を構成する観点では、互いに形成方向の異なる複数の平行線パターンによりメッシュ状にすることが、導電パスを増やす点で非常に有効になる。
【００４３】
このようなメッシュ状の機能性パターンの形成方法として、次に示す方法が挙げられる。
【００４４】
図２は、メッシュ状の機能性パターンの形成方法の一例（参考例）を説明する説明図である。
【００４５】
まず、図２（ａ）に示すように、基材１上に、ライン状液体２をメッシュ状に塗布する。即ち、交差部Ｘにおいて交差するように、ライン状液体２を塗布する。
【００４６】
次いで、ライン状液体２を乾燥させることで、図２（ｂ）に示すように、平行線パターン３によるメッシュ状パターンを形成することができる。
【００４７】
このとき、ライン状液体２に含まれる機能性材料が縁に堆積する結果、方向の異なる平行線が交わる交差部Ｘにおいて、線分３１、３２が断絶されることになる。
【００４８】
交差部Ｘにおける線分３１、３２の断絶を防止する方法として、次に示す方法が挙げられる。
【００４９】
図３は、メッシュ状の機能性パターンの形成方法の他の例（参考例）を説明する説明図である。
【００５０】
この例では、図２に示した方法において、図３（ａ）に示すように、ライン状液体２により形成される交点の部分のインク量を、他の部分よりも大きく設定する。
【００５１】
この方法によれば、図３（ｂ）に示すように、平行線パターン３によるメッシュ状パターンにおいて、交差部Ｘにおける線分３１、３２の断絶を防止することができる。
【００５２】
このとき、交差部Ｘへのインク量を増やしているため、図３（ｂ）に示すように、交差部Ｘが、線分３１、３２の間隔よりも大きい直径を有するリング状になる。
【００５３】
このようなリング状の部分の生成は、線分３１、３２の断絶を防止して、例えば導電性を確保し易くする等の観点では有利であるが、かかるリング状の部分が周期的に視認されてしまうときがあり、低視認性を更に改善する観点では限界があることがわかった。
【００５４】
また、交差部Ｘにおいて、線分３１、３２の断絶を防止する方法としては、次に示す方法も挙げられる。
【００５５】
図４は、メッシュ状の機能性パターンの形成方法の更なる他の例を説明する説明図である。
【００５６】
まず、図４（ａ）に示すように、第１の方向（図中、左右方向）にライン状液体２を塗布する。
【００５７】
このライン状液体２を乾燥させる過程において、機能性材料を縁に選択的に堆積させて、図４（ｂ）に示すように、第１の平行線パターン３を形成する。
【００５８】
次いで、図４（ｃ）に示すように、第１の方向とは異なる第２の方向（この例では、第１の方向と直交する方向であり、図中、上下方向である。）に第２のライン状液体４を塗布する。即ち、第１の平行線パターン３の形成領域に対して交差するように、第２のライン状液体４を塗布する。
【００５９】
このライン状液体４を乾燥させる過程において、機能性材料を縁に選択的に堆積させて、図４（ｄ）に示すように、第２の平行線パターン５を形成する。５１、５２は、第２の平行線パターン５を構成する線分である。
【００６０】
以上のようにして、互いに形成方向の異なる第１の平行線パターン３と第２の平行線パターン５とによるメッシュ状の機能性パターンが形成される。
【００６１】
この方法によれば、方向の異なる平行線が交わる交差部Ｘにおいて、線分３１、３２、及び、線分５１、５２の断絶をそれぞれ防止できる。
【００６２】
図５は、交差部Ｘの形成例を示す要部拡大図である。図５において、図５（ａ）及び図５（ｂ）は参考例を、図５（ｃ）は本発明を説明する図である。
【００６３】
即ち、図４を用いて説明した例では、図５（ａ）及び図５（ｂ）に示すように、交差部Ｘにおいて、第２の平行線パターンを構成する線分５１、５２間に、膨らみ（図５（ａ））や狭まり（図５（ｂ））が生じる。
【００６４】
かかる線分５１、５２間の膨らみや狭まりが、低視認性の向上に限界をもたらす原因になることがわかった。
【００６５】
また、特に機能性材料が導電性材料である場合は、かかる膨らみや狭まりにより、導電パスの長さが第１の平行線パターン３に沿う方向（第１の方向）と、第２の平行線パターン５に沿う方向（第２の方向）とで異なってしまい、抵抗のばらつきを防止する観点でも、更なる改善の余地があることがわかった。
【００６６】
これらを改善するために、図４を用いて説明した例において、図５（ｃ）に示すように、第２の平行線パターン５を構成する２本の線分５１、５２間の間隔について、第１の平行線パターン３の形成領域内における平均間隔Ａと、第１の平行線パターン３の形成領域外における平均間隔Ｂとが下記式（１）を満たすように調整する。
【００６７】
０．９≦Ｂ／Ａ≦１．１      ・・・式（１）
【００６８】
これにより、得られるメッシュ状の機能性パターンにおいて、線分の断線を防止できると共に、低視認性を向上することができ、特に機能性材料が導電性材料の場合は、導電パスの長さを、前記第１の方向と前記第２の方向で高精度に同じにでき、抵抗のばらつきを好適に抑制できる効果が得られる。
【００６９】
第１の平行線パターン３の形成領域とは、第１の平行線パターンを構成する一方の線分３１から他方の線分３２までの領域ということができ、別の観点では、第１の平行線パターン３を形成するために付与された第１のライン状液体２の付与領域ということもできる。
【００７０】
第２の平行線パターン５を構成する線分５１、５２間の間隔について、第１の平行線パターン３の形成領域内における平均間隔Ａと、第１の平行線パターン３の形成領域外における平均間隔Ｂは、それぞれ複数個所において測定された間隔の平均値とすることができる。
【００７１】
平均間隔Ａを測定するために設定される複数個所（ｎ箇所）の測定箇所は、第１の平行線パターン３の形成領域内において、第２の方向に沿って等間隔で配置されることが好ましい。また、平均間隔Ｂを測定するために設定される複数（ｍ箇所）の測定箇所は、第１の平行線パターン３の形成領域外において、第２の方向に沿って等間隔で配置されることが好ましい。
【００７２】
平均間隔Ａ及び平均間隔Ｂは、具体的には、以下のようにして測定することが好ましい。
【００７３】
図６は、平均間隔Ａ及び平均間隔Ｂの測定方法の一例を説明する図である。
【００７４】
まず、平均間隔Ａは、図６に示すように、第２の平行線パターン５を構成する線分５１、５２間の間隔について、第１の平行線パターンを構成する線分３１、３２に沿う２箇所Ａ１、Ａ２と、線分３１、３２よりも内側の５箇所Ａ３〜Ａ７の計７箇所Ａ１〜Ａ７において測定された間隔の平均として求めることができる。このとき、これら計７箇所の測定箇所Ａ１〜Ａ７は、第２の平行線パターンの形成方向（第２の方向）に沿って等間隔で位置づけられる。
【００７５】
一方、平均間隔Ｂは、図６に示すように、第２の平行線パターン５を構成する線分５１、５２間の間隔について、上述した平均間隔Ａに係る計７箇所の測定箇所Ａ１〜Ａ７に隣接する計５箇所の測定箇所Ｂ１〜Ｂ５において測定された間隔の平均として求めることができる。このとき、これら計５箇所の測定箇所Ｂ１〜Ｂ５は、第２の平行線パターンの形成方向（第２の方向）に沿って、上述した平均間隔Ａに係る計７箇所の測定箇所Ａ１〜Ａ７と同じ等間隔で位置づけることができる。平均間隔Ａの測定に係る計７箇所の測定箇所Ａ１〜Ａ７と、平均間隔Ｂの測定に係る計５箇所の測定箇所Ｂ１〜Ｂ５は、第２の方向に沿って互いに等間隔で位置づけることができる。
【００７６】
図示の例では、平均間隔Ｂの測定箇所Ｂ１〜Ｂ５を、平均間隔Ａの測定箇所Ａ１〜Ａ７に対して、図中、下側に隣接して設定した例を示したが、図中、上側に隣接して設定することもできる。このとき、平均間隔Ａと平均間隔Ｂの差がより大きくなるように、上側（一方の側）、下側（他方の側）の何れかに平均間隔Ｂの測定箇所Ｂ１〜Ｂ５を設定することが好ましい。
【００７７】
図６の例において、平均間隔Ａのための測定箇所として、第１の平行線パターンを構成する線分３１、３２に沿う２箇所Ａ１、Ａ２を含む場合について説明したが、線分３１、３２の何れか一方に沿う１箇所を含むようにしてもよい。また、線分３１、３２に沿う箇所を含まないようにしてもよい。
【００７８】
図６の例において、平均間隔Ａのための測定箇所として、第１の平行線パターンを構成する線分３１、３２よりも内側の５箇所Ａ３〜Ａ７を含む場合について説明したが、必ずしも５箇所である必要はなく、２以上の複数箇所であることが好ましい。
【００７９】
図６の例において、平均間隔Ｂのための測定箇所として、第１の平行線パターンを構成する線分３１、３２よりも外側の５箇所Ｂ１〜Ｂ５を含む場合について説明したが、必ずしも５箇所である必要はなく、２以上の複数箇所であることが好ましい。
【００８０】
平均間隔Ａ及び平均間隔Ｂを求めるために各測定箇所において測定される第２の平行線パターン５を構成する線分５１、５２間の間隔は、以下のように定義することができる。
【００８１】
図７は、基材上に形成された平行線パターンの一例を示す部分拡大平面図である。図８は、図７における(viii)−(viii)線断面を説明する説明図であり、パターンに含まれる１組２本の細線を線分方向に対して直交する方向で切断した断面（縦断面）を説明している。
【００８２】
第２の平行線パターン５を構成する線分５１、５２間の間隔Ｉは、図８に示されるように、線分５１、５２の各最大突出部間の距離と定義することができる。従って、上述した各測定箇所において間隔Ｉを測定することによって、平均間隔Ａ及び平均間隔Ｂをそれぞれ求めることができる。
【００８３】
上述した式（１）を満たすための調整は、平均間隔Ａと平均間隔Ｂの比率Ｂ／Ａに影響を及ぼしうる因子の１つ又は複数を調整するものであるということもできる。このような因子は、格別限定されるものではなく、適宜選択することができる。
【００８４】
上述した式（１）を満たすための調整の好ましい態様として、以下のものを例示できる。
【００８５】
第１態様では、上述した式（１）を満たすための調整として、第１の平行線パターン３の形成領域内の表面エネルギーと、第１の平行線パターン３の形成領域外の表面エネルギーとの差を、５ｍＮ／ｍ以下にする。
【００８６】
ここで、第１の平行線パターン３の形成領域内の表面エネルギーは、第１の平行線パターンを構成する線分３１、３２間の中心領域において測定される表面エネルギーとすることができる。あるいは、代わりの方法として、第１の平行線パターン３の形成領域内の表面エネルギーは、基材１と同様の基材を別途用意し、該基材上に、第１のライン状液体２と同様の液体を２０μＬ滴下し、第１のライン状液体２の乾燥時と同様の条件で乾燥させた後、乾燥された膜の中心領域において測定される表面エネルギーとすることもできる。
【００８７】
一方、第１の平行線パターン３の形成領域外の表面エネルギーは、第１の平行線パターン３を形成するための第１のライン状液体２が付与されなかった領域における基材１の表面エネルギーとすることができる。
【００８８】
表面エネルギーは、Ｙｏｕｎｇ−Ｆｏｗｋｅｓ式より算出することができる。
【００８９】
かかる表面エネルギーの差を、５ｍＮ／ｍ以下に設定することで、第１の平行線パターン３の形成領域の内外で、第２のライン状液体４に対する濡れ性の変化を少なくすることができ、上述した式（１）を好適に満たすことができる。
【００９０】
第１の平行線パターン３の形成領域内の表面エネルギーが、形成領域外よりも大きい場合、表面エネルギーの差が５ｍＮ／ｍを超えると、第２のライン状液体４の濡れ拡がりにより、第２の平行線パターン５において、線分５１、５２間の膨らみの原因になる。
【００９１】
一方、第１の平行線パターン３の形成領域内の表面エネルギーが、形成領域外よりも小さい場合、表面エネルギーの差が５ｍＮ／ｍを超えると、第２の平行線パターン５において、線分５１、５２間の狭まりの原因になる。
【００９２】
第１の平行線パターン３の形成領域の内外の表面エネルギー差を調整する手段は、格別限定されないが、例えば、第１の平行線パターン３の形成領域外を含む領域に表面処理をする方法、第１のライン状液体２の液体組成を変更する方法などが好ましい。
【００９３】
第１の平行線パターン３の形成領域外を含む領域に表面処理をする方法としては、第１の平行線パターン３を形成する前に、基材１に対して表面エネルギーを変更する表面処理を施しておく方法を挙げることができる。表面処理は、第１の平行線パターン３の形成領域外となる領域のみに行ってもよいし、形成領域外と形成領域内を含む領域に行ってもよい。基材１の全面に対して表面処理を行うことも好ましいことである。
【００９４】
第１のライン状液体２の液体組成を変更する場合は、配合成分（機能性材料、添加剤及び溶剤など）の選択や、各成分の配合量の調整などにより行うことができる。
【００９５】
第２態様では、上述した式（１）を満たすための調整として、第１のライン状液体２に含まれる機能性材料を塗布して乾燥させたベタ面の表面エネルギーと、第１の平行線パターン３の形成領域外の表面エネルギーとの差を、５ｍＮ／ｍ以下にする。
【００９６】
「ベタ面」とは、任意の基材上に、第１のライン状液体２に含まれる機能性材料を塗布して乾燥させたベタ膜の表面であって、該基材自体の表面エネルギー及び接触角が該ベタ膜の表面における表面エネルギー及び接触角に影響しないように該基材を被覆したベタ膜の表面を指す。機能性材料の塗布は、例えば、該機能性材料を含む塗布液を塗布することにより行うことができる。ベタ面を形成する際の塗布液として、第１のライン状液体２と同一組成の液体を用いてもよい。
【００９７】
第１の平行線パターン３の形成領域内のうち、線分３１、３２間の領域には、コーヒーステイン現象により線分３１、３２の位置まで運ばれなかった第１のライン状液体２中の何らかの成分が僅かに残留することがある。このような残留成分が、第２の平行線パターン５を構成する線分５１、５２間の間隔を不均一にする原因になる場合がある。
【００９８】
このとき、第１のライン状液体２に含まれる機能性材料を塗布して乾燥させたベタ面の表面エネルギーは、上述した式（１）を満たすためのより確実な調整を実現する指標になり得る。即ち、線分３１、３２間の領域に残留成分が多量に存在したとしても、ベタ面による影響を超えて線分５１、５２間の間隔に影響することは起こり難い。よって、ベタ面の表面エネルギーと、第１の平行線パターン３の形成領域外の表面エネルギーとの差に基づいて調整することで、確実性を更に向上することができる。
【００９９】
ベタ面の表面エネルギーが、第１の平行線パターン３の形成領域外よりも大きい場合、表面エネルギーの差が５ｍＮ／ｍを超えると、第２のライン状液体４の濡れ拡がりにより、第２の平行線パターン５において、線分５１、５２間の膨らみの原因になる。
【０１００】
一方、ベタ面の表面エネルギーが、第１の平行線パターン３の形成領域外よりも小さい場合、表面エネルギーの差が５ｍＮ／ｍを超えると、第２の平行線パターン５において、線分５１、５２間の狭まりの原因になる。
【０１０１】
ベタ面の表面エネルギーと、第１の平行線パターン３の形成領域外の表面エネルギー差を調整する手段としては、格別限定されず、第１態様に関して説明した手段を好ましく用いることができる。
【０１０２】
第３態様では、上述した式（１）を満たすための調整として、第１の平行線パターン３の形成領域内における第２のライン状液体４の接触角と、第１の平行線パターン３の形成領域外における第２のライン状液体４の接触角との差を、１０°以下にする。
【０１０３】
ここで、第１の平行線パターン３の形成領域内における接触角は、第１の平行線パターンを構成する線分３１、３２間の中心領域において測定される接触角とすることができる。あるいは、代わりの方法として、第１の平行線パターン３の形成領域内における接触角は、基材１と同様の基材を別途用意し、該基材上に、第１のライン状液体２と同様の液体を２０μＬ滴下し、第１のライン状液体２の乾燥時と同様の条件で乾燥させた後、乾燥された膜の中心領域において測定される接触角とすることもできる。
【０１０４】
一方、第１の平行線パターン３の形成領域外における接触角は、第１の平行線パターン３を形成するための第１のライン状液体２が付与されなかった領域における基材１上での接触角とすることができる。
【０１０５】
接触角の測定は、協和界面化学社製接触角測定装置ＤＭ−５０１を用いて行うことができる。第３態様では、接触角は、第２のライン状液体４と同じ組成の液体を滴下後５秒後の値とする。
【０１０６】
かかる接触角の差を１０°以下にすることで、第１の平行線パターン３の形成領域の内外で、第２のライン状液体４に対する濡れ性の変化を少なくすることができ、第２の平行線パターン５において、線分５１、５２間の間隔を、上述した式（１）を満たすものにできる。
【０１０７】
第１の平行線パターンの形成領域内における接触角が、形成領域外の接触角よりも大きい場合、接触角の差が１０°を超えると、第２のライン状液体４の濡れ拡がりにより、第１の平行線パターン３の形成領域内において、第２の平行線パターン５の線分５１、５２間の間隔が、形成領域外よりも大きくなり、膨らんだ形状になってしまう。
【０１０８】
一方、第１の平行線パターンの形成領域内における接触角が、形成領域外の接触角よりも小さい場合、接触角の差が１０°を超えると、第１の平行線パターン３の形成領域内において、第２の平行線パターン５の線分５１、５２間の間隔が、形成領域外よりも小さくなり、狭まった形状になってしまう。
【０１０９】
接触角の差を調整する手段は、格別限定されず、第１態様において表面エネルギー差を調整する手段として説明した手段を好ましく用いることができる。更に、接触角の差を調整する手段として、第２のライン状液体４の液体組成を変更することもできる。第２のライン状液体４の液体組成を変更する場合は、配合成分（機能性材料、添加剤及び溶剤など）の選択や、各成分の配合量の調整などにより行うことができる。第２のライン状液体４の液体を、第１のライン状液体２の液体と異ならせることも好ましいことである。
【０１１０】
第４態様では、上述した式（１）を満たすための調整として、第１のライン状液体２に含まれる機能性材料を塗布して乾燥させたベタ面における第２のライン状液体４の接触角と、第１の平行線パターン３の形成領域外における第２のライン状液体４の接触角との差を、１０°以下にする。ここで、「ベタ面」については、第２態様での説明が援用される。
【０１１１】
かかる接触角の差を１０°以下にすることで、第１の平行線パターン３の形成領域の内外で、第２のライン状液体４に対する濡れ性の変化を少なくすることができ、第２の平行線パターン５において、線分５１、５２間の間隔を、上述した式（１）を満たすものにできる。
【０１１２】
第２態様において表面エネルギーについて上述したのと同じように、ベタ面における接触角を指標として調整することで、確実性を更に向上することができる。
【０１１３】
ベタ面における接触角が、第１の平行線パターン３の形成領域外の接触角よりも大きい場合、接触角の差が１０°を超えると、第２のライン状液体４の濡れ拡がりにより、第１の平行線パターン３の形成領域内において、第２の平行線パターン５の線分５１、５２間の間隔が、形成領域外よりも大きくなり、膨らんだ形状になってしまう。
【０１１４】
一方、ベタ面における接触角が、第１の平行線パターン３の形成領域外の接触角よりも小さい場合、接触角の差が１０°を超えると、第１の平行線パターン３の形成領域内において、第２の平行線パターン５の線分５１、５２間の間隔が、形成領域外よりも小さくなり、狭まった形状になってしまう。
【０１１５】
ベタ面における接触角と、第１の平行線パターン３の形成領域外における接触角の差を調整する手段としては、格別限定されず、第３態様に関して説明した手段を好ましく用いることができる。
【０１１６】
第５態様では、上述した式（１）を満たすための調整として、第１の平行線パターン３の形成領域外における第２のライン状液体４中の溶剤のうち最も沸点が高い溶剤の接触角を６°以下にする。
【０１１７】
ここで、第１の平行線パターン３の形成領域外における接触角は、第１の平行線パターン３を形成するための第１のライン状液体２が付与されなかった領域における基材１上での接触角とすることができる。
【０１１８】
接触角の測定は、協和界面化学社製接触角測定装置ＤＭ−５０１を用いて行うことができる。第５態様では、接触角は、第２のライン状液体４中の溶剤のうち最も沸点が高い溶剤を滴下後５秒後の値とする。
【０１１９】
かかる接触角を６°以下にすることで、第１の平行線パターン３の形成領域の内外で、第２のライン状液体４に対する濡れ性の変化を少なくすることができ、第２の平行線パターン５において、線分５１、５２間の間隔を、上述した式（１）を満たすものにできる。
【０１２０】
接触角を調整する手段は、格別限定されず、第１態様において表面エネルギー差を調整する手段として説明した手段を好ましく用いることができる。
【０１２１】
第６態様では、上述した式（１）を満たすための調整として、第１の平行線パターン３の形成領域内における第２のライン状液体４の長さあたりの液体付与量と、第１の平行線パターン３の形成領域外における第２のライン状液体４の長さあたりの液体付与量とを異ならせる。
【０１２２】
例えば、第１の平行線パターン３の形成領域外よりも形成領域内において第２のライン状液体４の濡れ性がよい場合は、形成領域内における第２のライン状液体４の長さあたりの液体付与量を、形成領域外に対して相対的に少なくする。
【０１２３】
また、例えば、第１の平行線パターン３の形成領域内よりも形成領域外において第２のライン状液体４の濡れ性がよい場合は、形成領域内における第２のライン状液体４の長さあたりの液体付与量を、形成領域外に対して相対的に多くする。
【０１２４】
このようにして、第１の平行線パターン３の形成領域内において、第２の平行線パターン５の線分５１、５２間の間隔が、形成領域外よりも膨らんだり狭まったりすることが防止される。
【０１２５】
第１の平行線パターン３の形成領域の内外における液体付与量の差は、式（１）を満たすように適宜調整することができる。例えば、第２のライン状液体４の形成にインクジェット法を用いる場合は、第２のライン状液体４の単位長さあたりに吐出する液滴数や、１滴あたりの液滴容量を、第１の平行線パターン３の形成領域の内外で異ならせることで、液体付与量の差を設定できる。
【０１２６】
第７態様では、上述した式（１）を満たすための調整として、第１の平行線パターン３を形成した後に、第２のライン状液体４を付与する前に、第１の平行線パターン３の形成領域内を含む領域を洗浄する。
【０１２７】
上述したが、第１の平行線パターン３の形成領域内のうち、線分３１、３２間の領域には、コーヒーステイン現象により線分３１、３２の位置まで運ばれなかった第１のライン状液体２中の何らかの成分が僅かに残留することがある。このような残留成分が、第２の平行線パターン５を構成する線分５１、５２間の間隔を不均一にする原因になる場合がある。
【０１２８】
洗浄とは、このような残留成分を除去することであるということもできる。このとき、洗浄条件、例えば洗浄の種類や強度の設定などによって、残留成分がどの程度除去されるかが影響を受ける。この関係を利用して、第１の平行線パターン３の形成領域の内外における第２のライン状液体４の濡れ性の違いを解消できる。ある側面において、洗浄は、少なくとも、第２の平行線パターン５を構成する線分５１、５２間の間隔が、上述した式（１）を満たすことを達成できるように残留成分を除去することであり得る。このような意味において、洗浄は、上述した式（１）を満たすための調整の一例として位置づけることができる。
【０１２９】
洗浄は、第１の平行線パターンの形成領域内のみに対して行ってもよいし、第１の平行線パターンの形成領域内と形成領域外を含む領域に対して行ってもよい。基材１の全面に対して洗浄を行うことも好ましいことである。
【０１３０】
第１の平行線パターンの形成領域内のみに対して洗浄を行う場合は、例えば、形成領域外をマスキングした状態で電磁波などの照射を行ったり、インクジェット法を利用して洗浄溶剤を選択的に形成領域内に付与したりすることで可能になる。
【０１３１】
洗浄の方法は格別限定されず、例えば通常に工業製品で使用されている洗浄方法を使用することができる。例えば、加熱による洗浄、電磁波による洗浄、溶剤による洗浄、ガスによる洗浄及びプラズマによる洗浄から選ばれた１種又は２種以上を組み合わせた洗浄を行うことが好ましい。
【０１３２】
加熱による洗浄方法としては、赤外ヒーター、オーブン、ホットプレートなどによる持続的な加熱方法や、キセノンフラッシュランプなどによる瞬間的な加熱方法がある。加熱条件（温度、時間）などは、平行線パターン５を構成する線分５１、５２間の間隔が、上述した式（１）を満たすような範囲に適宜設定される。基材１がフィルムなどの場合は、基材１が変形しない条件の範囲で設定することが好ましい。この観点では、瞬時に加熱し、特にフィルムのような基材へのダメージが少ないキセノンフラッシュランプによる方法が好ましい。
【０１３３】
電磁波によるものとしては、電子線、ガンマ線、紫外線などを照射する方法が使用できる。電磁波の照射条件は、平行線パターン５を構成する線分５１、５２間の間隔が、上述した式（１）を満たすような範囲に適宜設定される。
【０１３４】
溶剤による洗浄に使用する溶剤は、上述した式（１）を満たすことができる溶剤であれば限定されないが、機能性材料が堆積して形成した平行線パターンに影響の少ないものを選択することが好ましい。機能性材料の種類に合わせて洗浄に適した溶剤を適宜選択することができる。例えば、水分散系の銀ナノ粒子の場合であれば、アルコール系の溶剤などが好適である。
【０１３５】
プラズマによる洗浄の条件は、平行線パターン５を構成する線分５１、５２間の間隔が、上述した式（１）を満たすような範囲に適宜設定することができる。
【０１３６】
以下に、再び図７及び図８を参照して、メッシュ状の機能性パターンを構成する平行線パターンの寸法の好ましい例について説明する。ここでは、主に第２の平行線パターン５について説明するが、第１の平行線パターン３についても同様に説明することができる。
【０１３７】
平行線パターン５を構成する線分５１、５２間の間隔Ｉは、上述したように線分５１、５２の各最大突出部間の距離と定義することができ、好ましくは、１０μｍ以上３００μｍ以下の範囲に調整されていることが好ましい。
【０１３８】
平行線パターン５の１組２本の細線（線分）５１、５２は、必ずしも互いに完全に独立した島状である必要はない。図示したように、２本の線分５１、５２は、該線分５１、５２間に亘って、該線分５１、５２の高さよりも低い高さで形成された薄膜部５０によって接続された連続体として形成されることも好ましいことである。
【０１３９】
平行線パターン５の線分５１、５２の線幅Ｗ１、Ｗ２は、各々１０μｍ以下であることが好ましい。１０μｍ以下であれば、通常視認できないレベルとなるので、透明性を向上する観点からより好ましい。各線分５１、５２の安定性も考慮すると、各線分５１、５２の線幅Ｗ１、Ｗ２は、各々２μｍ以上１０μｍ以下の範囲であることが好ましい。
【０１４０】
なお、線分５１、５２の幅Ｗ１、Ｗ２とは、該線分５１、５２間において機能性材料の厚みが最薄となる最薄部分の高さをＺとし、更に該Ｚからの線分５１、５２の突出高さをＹ１、Ｙ２としたときに、Ｙ１、Ｙ２の半分の高さにおける線分５１、５２の幅として定義される。例えば、平行線パターン５が上述した薄膜部５０を有する場合は、該薄膜部５０における最薄部分の高さをＺとすることができる。なお、各線分５１、５２間における機能性材料の最薄部分の高さが０であるときは、線分５１、５２の線幅Ｗ１、Ｗ２は、基材１表面からの線分５１、５２の高さｈ１、ｈ２の半分の高さにおける線分５１、５２の幅と定義される。
【０１４１】
平行線パターン５を構成する線分５１、５２の線幅Ｗ１、Ｗ２は、極めて細いものに成り得るため、断面積を確保して低抵抗化を図る観点で、基材１表面からの線分５１、５２の高さｈ１、ｈ２は高い方が望ましい。具体的には、線分５１、５２の高さｈ１、ｈ２は、５０ｎｍ以上５μｍ以下の範囲であることが好ましい。
【０１４２】
更に、平行線パターン５の安定性を向上する観点から、ｈ１／Ｗ１比、ｈ２／Ｗ２比は、各々０．０１以上１以下の範囲であることが好ましい。
【０１４３】
また、平行線パターン５の細線化を更に向上する観点から、線分５１、５２間において機能性材料の厚みが最薄となる最薄部分の高さＺ、具体的には薄膜部５０の最薄部分の高さＺが１０ｎｍ以下の範囲であることが好ましい。最も好ましいのは、透明性と安定性のバランスの両立を図るために、０＜Ｚ≦１０ｎｍの範囲で、薄膜部５０を備えることである。
【０１４４】
更に、平行線パターン５の更なる細線化向上のために、ｈ１／Ｚ比、ｈ２／Ｚ比は、各々５以上であることが好ましく、１０以上であることがより好ましく、２０以上であることが特に好ましい。
【０１４５】
更にまた、線分５１と線分５２とに同様の形状（同程度の断面積）を付与することが好ましく、具体的には、線分５１と線分５２の高さｈ１とｈ２とを実質的に等しい値とすることが好ましい。これと同様に、線分５１と線分５２の線幅Ｗ１とＷ２とについても実質的に等しい値とすることが好ましい。
【０１４６】
線分５１、５２は、必ずしも平行である必要性はなく、少なくとも線分方向のある長さＬに亘って、線分５１、５２が結合していなければ良い。好ましくは、少なくとも線分方向のある長さＬに亘って、線分５１、５２が実質的に平行であることである。
【０１４７】
線分５１、５２の線分方向の長さＬは、線分５１、５２の間隔Ｉの５倍以上であることが好ましく、１０倍以上であることがより好ましい。長さＬ及び間隔Ｉは、平行線パターンライン５を形成するためのライン状液体４の形成長さ及び形成幅に対応して設定することができる。
【０１４８】
ライン状液体４の形成始点と終点（線分方向のある長さＬに亘った始点と終点）では、線分５１、５２が接続し、連続体として形成されることも好ましいことである。
【０１４９】
また、線分５１、５２は、その線幅Ｗ１、Ｗ２がほぼ等しく、且つ、線幅Ｗ１、Ｗ２が２本線間距離（間隔Ｉ）に比して、十分に細いものであることが好ましい。
【０１５０】
更に、１本のライン状液体から生成される平行線パターン５を構成する線分５１と線分５２とは、同時に形成されたものであることが好ましい。
【０１５１】
平行線パターン５は、各線分５１、５２が、下記（ア）〜（エ）の条件を全て満たすことが特に好ましい。
【０１５２】
（ア）各線分５１、５２の高さをｈ１、ｈ２とし、該各線分間における最薄部分の高さをＺとしたときに、５≦ｈ１／Ｚ、且つ５≦ｈ２／Ｚであること。
【０１５３】
（イ）各線分５１、５２の幅をＷ１、Ｗ２としたときに、Ｗ１≦１０μｍ、且つＷ２≦１０μｍであること。
【０１５４】
（ウ）各線分５１、５２間の距離をＩとしたときに、１０μｍ≦Ｉ≦３００μｍであること。
【０１５５】
（エ）各線分５１、５２の高さをｈ１、ｈ２としたときに、５０ｎｍ＜ｈ１＜５μｍ、且つ５０ｎｍ＜ｈ２＜５μｍであること。
【０１５６】
メッシュ状の機能性パターンが形成される対象となる基材は、格別限定されないが、例えば、ガラス、プラスチック（ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、アクリル、ポリエステル、ポリアミド等）、金属（銅、ニッケル、アルミ、鉄等や、あるいは合金）、セラミックなどを挙げることができ、これらは単独で用いてもよいし、貼り合せた状態で用いてもよい。中でも、プラスチックが好ましく、ポリエチレンテレフタレートや、ポリエチレン、ポリプロピレンのようなポリオレフィンなどが好適である。特に、易接着加工されたＰＥＴやＰＥＮ等が好ましく用いられる。易接着加工は、基材の表面を改質して接着性を向上する加工であり、これを、上述した表面エネルギーや接触角を変更するための表面処理として適用することも好ましいことである。
【０１５７】
ライン状液体に含有される機能性材料は、基材に特定の機能を付与するための材料であれば格別限定されない。特定の機能を付与するとは、例えば、基材に導電性を付与する場合、導電性材料を機能性材料として用いることをいい、また、絶縁性を付与する場合には、絶縁性材料を機能性材料として用いることをいう。機能性材料として、例えば導電性微粒子、導電性ポリマー等の導電性材料、絶縁性材料、半導体材料、光学フィルター材料、誘電体材料等を好ましく例示できる。特に透明導電膜利用における機能性材料として、導電性微粒子、導電性ポリマーなどの導電性材料または導電性材料前駆体を好ましく例示できる。導電性材料前駆体は、適宜処理を施すことによって導電性材料に変化させることができるものを指す。
【０１５８】
導電性微粒子としては、格別限定されないが、Ａｕ、Ｐｔ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｚｎ、Ｃｏ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｗ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｇａ、Ｉｎ等の微粒子を好ましく例示でき、中でも、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕのような金属微粒子を用いると、電気抵抗が低く、且つ腐食に強い回路パターンを形成することができるので、より好ましい。コスト及び安定性の観点から、Ａｇを含む金属微粒子が最も好ましい。これらの金属微粒子の平均粒子径は、好ましくは１〜１００ｎｍの範囲、より好ましくは３〜５０ｎｍの範囲とされる。
【０１５９】
また、導電性微粒子として、カーボン微粒子を用いることも好ましい。カーボン微粒子としては、グラファイト微粒子、カーボンナノチューブ、フラーレン等を好ましく例示できる。
【０１６０】
導電性ポリマーとしては、格別限定されないが、π共役系導電性高分子を好ましく挙げることができる。
【０１６１】
π共役系導電性高分子としては、特に限定されず、ポリチオフェン類、ポリピロール類、ポリインドール類、ポリカルバゾール類、ポリアニリン類、ポリアセチレン類、ポリフラン類、ポリパラフェニレン類、ポリパラフェニレンビニレン類、ポリパラフェニレンサルファイド類、ポリアズレン類、ポリイソチアナフテン類、ポリチアジル類等の鎖状導電性ポリマーを利用することができる。中でも、高い導電性が得られる点で、ポリチオフェン類やポリアニリン類が好ましい。ポリエチレンジオキシチオフェンであることが最も好ましい。
【０１６２】
導電性ポリマーは、より好ましくは、上述したπ共役系導電性高分子とポリアニオンとを含んで成ることである。こうした導電性ポリマーは、π共役系導電性高分子を形成する前駆体モノマーを、適切な酸化剤と酸化触媒と、ポリアニオンの存在下で化学酸化重合することによって容易に製造できる。
【０１６３】
ポリアニオンは、置換若しくは未置換のポリアルキレン、置換若しくは未置換のポリアルケニレン、置換若しくは未置換のポリイミド、置換若しくは未置換のポリアミド、置換若しくは未置換のポリエステル及びこれらの共重合体であって、アニオン基を有する構成単位とアニオン基を有さない構成単位とからなるものである。
【０１６４】
このポリアニオンは、π共役系導電性高分子を溶媒に可溶化させる可溶化高分子である。また、ポリアニオンのアニオン基は、π共役系導電性高分子に対するドーパントとして機能して、π共役系導電性高分子の導電性と耐熱性を向上させる。
【０１６５】
ポリアニオンのアニオン基としては、π共役系導電性高分子への化学酸化ドープが起こりうる官能基であればよいが、中でも、製造の容易さ及び安定性の観点からは、一置換硫酸エステル基、一置換リン酸エステル基、リン酸基、カルボキシ基、スルホ基等が好ましい。さらに、官能基のπ共役系導電性高分子へのドープ効果の観点より、スルホ基、一置換硫酸エステル基、カルボキシ基がより好ましい。
【０１６６】
ポリアニオンの具体例としては、ポリビニルスルホン酸、ポリスチレンスルホン酸、ポリアリルスルホン酸、ポリアクリル酸エチルスルホン酸、ポリアクリル酸ブチルスルホン酸、ポリ−２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、ポリイソプレンスルホン酸、ポリビニルカルボン酸、ポリスチレンカルボン酸、ポリアリルカルボン酸、ポリアクリルカルボン酸、ポリメタクリルカルボン酸、ポリ−２−アクリルアミド−２−メチルプロパンカルボン酸、ポリイソプレンカルボン酸、ポリアクリル酸等が挙げられる。これらの単独重合体であってもよいし、２種以上の共重合体であってもよい。
【０１６７】
また、化合物内にＦ（フッ素原子）を有するポリアニオンであってもよい。具体的には、パーフルオロスルホン酸基を含有する「ナフィオン」（Ｄｕｐｏｎｔ社製）、カルボン酸基を含有するパーフルオロ型ビニルエーテルからなる「フレミオン」（旭硝子社製）等を挙げることができる。
【０１６８】
これらのうち、スルホン酸を有する化合物であると、インクジェット印刷方式を用いた際に液体射出安定性が特に良好であり、かつ高い導電性が得られることから、より好ましい。
【０１６９】
さらに、これらの中でも、ポリスチレンスルホン酸、ポリイソプレンスルホン酸、ポリアクリル酸エチルスルホン酸、ポリアクリル酸ブチルスルホン酸が好ましい。これらのポリアニオンは、導電性に優れるという効果を奏する。
【０１７０】
ポリアニオンの重合度は、モノマー単位が１０〜１０００００個の範囲であることが好ましく、溶媒溶解性及び導電性の点からは、５０〜１００００個の範囲がより好ましい。
【０１７１】
導電性ポリマーは市販の材料も好ましく利用できる。例えば、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸からなる導電性ポリマー（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳと略す）が、Ｈ．Ｃ．Ｓｔａｒｃｋ社から「ＣＬＥＶＩＯＳ」シリーズとして、Ａｌｄｒｉｃｈ社から「ＰＥＤＯＴ−ＰＡＳＳ４８３０９５、５６０５９８」として、Ｎａｇａｓｅ  Ｃｈｅｍｔｅｘ社から「Ｄｅｎａｔｒｏｎ」シリーズとして市販されている。また、ポリアニリンが、日産化学社から「ＯＲＭＥＣＯＮ」シリーズとして市販されている。
【０１７２】
また、特に透明導電膜利用における機能性材料として、導電性材料前駆体も好ましく用いることができ、例えば、有機金属錯体、無機金属塩、無電解メッキ触媒などを好ましく例示できる。
【０１７３】
機能性材料を含有させる液体としては、水や、有機溶剤等の１種又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０１７４】
有機溶剤は、格別限定されないが、例えば、イソプロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、１，２−ヘキサンジオール、２−メチル−２，４−ペンタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、プロピレングリコールなどのアルコール類、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルなどのエーテル類等を例示できる。
【０１７５】
複数の溶剤を併用する場合は、溶剤の沸点の順に液体の乾燥が進むため、最も沸点が高い溶剤が最後に残る。このため、沸点が最も高い溶剤の基材に対する濡れ性がコーヒーステイン現象の発現に関係する。
【０１７６】
また、機能性材料を含有させる液体としては、本発明の効果を損なわない範囲で、界面活性剤など種々の添加剤を含んでもよい。
【０１７７】
界面活性剤を用いることで、基材との接触角を調整して、上述したコーヒーステイン現象を好適に生起させることも好ましいことである。界面活性剤としては、格別限定されないが、シリコン系界面活性剤等を用いることができる。シリコン系界面活性剤とはジメチルポリシロキ酸の側鎖または末端をポリエーテル変性したものであり、例えば、信越化学工業製の「ＫＦ−３５１Ａ」、「ＫＦ−６４２」やビッグケミー製の「ＢＹＫ３４７」、「ＢＹＫ３４８」などが市販されている。界面活性剤の添加量は、機能性材料を含有する液体の全量に対して、１重量％以下であることが好ましい。
【０１７８】
基材上にライン状液体を付与する方法は、格別限定されず、コーヒーステイン現象を生起し得るだけの流動性を有した状態でライン状液体を付与できるものであればよく、種々の方法を用いることができる。特に好ましい方法として、例えば、ディスペンサー法やインクジェット法などを挙げることができる。
【０１７９】
本発明のメッシュ状の機能性パターンは、上記により得られたメッシュ状の機能性パターンに更に後加工を施したものであってもよい。後加工により、機能性を更に高めることができる。後加工は、格別限定されないが、例えばメッキ加工などが挙げられる。メッキ加工により例えば反射率の低減を図ったものであることが好ましい。
【０１８０】
本発明の機能性基材は、以上に説明したメッシュ状の機能性パターンを備える。特に、機能性材料は、メッシュ状の機能性パターンからなる塗膜に導電性を付与してなる透明導電膜付き基材であることが好ましい。
【０１８１】
塗膜への導電性の付与は、例えば、機能性材料として導電性材料を用いることにより行うか、あるいは、機能性材料として導電性材料前駆体を用いて形成された塗膜に、後処理を施すことによって導電性を付与することによって行うことができる。
【０１８２】
機能性基材は、塗膜を構成する細線部の反射光が広く分布したパターン形状となり、ぎらつきが軽減され、明るい環境下でも視認されにくい、すなわち低視認性の向上を図ることができる。
【０１８３】
機能性基材の用途は、格別限定されず、種々の電子機器が備える種々のデバイスに用いることができる。
【０１８４】
機能性基材は、塗膜を構成する細線の低視認性に優れるため、利用者が、該基材を介して画像を目視するような用途において、際立った効果が奏される。
【０１８５】
特に透明導電膜付き基材の好ましい用途は、本発明の効果を顕著に奏する観点で、例えば、液晶、プラズマ、有機エレクトロルミネッセンス、フィールドエミッション等、各種方式のディスプレイ用透明電極として、あるいは、タッチパネルや携帯電話、電子ペーパー、各種太陽電池、各種エレクトロルミネッセンス調光素子等に用いられる透明電極として好適に用いることができる。
【０１８６】
より具体的には、透明導電膜付き基材は、デバイスの透明電極として好適に用いられる。デバイスとしては、格別限定されるものではないが、例えば、タッチパネルセンサー等を好ましく例示できる。また、これらデバイスを備えた電子機器としては、格別限定されるものではないが、例えばスマートフォン、タブレット端末等を好ましく例示できる。
【０１８７】
以上の説明において、一つの態様について説明された構成は、他の態様に適宜適用することができる。
【実施例】
【０１８８】
以下に、本発明の実施例について説明するが、本発明はかかる実施例により限定されない。【０１８９】
（実施例１）
１．インクの調製
下記組成からなるインク１を調製した。
・銀ナノ粒子の水分散液１（銀ナノ粒子：４０重量％）：１．７５重量％
・シリコン系界面活性剤（ビックケミー製「ＢＹＫ−３４８」）：０．０１重量％
・純水：残部【０１９０】
２．基材の調製
基材として、易接着加工（表面処理）により基材の表面エネルギーＥを５２ｍＮ／ｍとしたＰＥＴ基材からなる基材１を用いた。【０１９１】
３．表面エネルギー及び接触角の測定
メッシュ状の機能性パターンを形成する前に、インク１で形成される第１の平行線パターンの形成領域内の表面エネルギー及び第２のライン状液体の接触角について、代用の方法により測定を行った。【０１９２】
（１）表面エネルギーの測定
基材１に、インク１を２０μＬ滴下し、乾燥させて、液滴の周囲にコーヒーリング現象によるリング状細線を形成した。その後、このリング状細線の内部の中心領域に対する、水、炭酸プロピレン、ジヨードメタンの接触角を測定し、Ｙｏｕｎｇ−Ｆｏｗｋｅｓ式より、表面エネルギーを算出した。ここで、水、炭酸プロピレン、ジヨードメタンの接触角の測定は、協和界面化学社製接触角測定装置「ＤＭ−５０１」を用いて行った（以下に説明する接触角の測定にも同装置を用いた。）。算出された表面エネルギーの値は５６ｍＮ／ｍであった。この値を、第１の平行線パターンの形成領域内の表面エネルギーＣとした。【０１９３】
（２）第２のライン状液体の接触角の測定
ア．第１の平行線パターンの形成領域内における第２のライン状液体の接触角の測定  インク１に対する接触角が２２°となる易接着加工付ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）基材に、インク１を２０μＬ滴下し、乾燥させて、液滴の周囲にコーヒーリング現象によるリング状細線を形成した。その後、このリング状細線の内部の中心領域に対する、インク１（第２のライン状液体と同組成）の接触角を測定した。測定された接触角は、１７°であった。この値を、第１の平行線パターンの形成領域内における第２のライン状液体の接触角Ｆとした。【０１９４】
イ．第１の平行線パターンの形成領域外における第２のライン状液体の接触角の測定
基材表面にインク１を３μＬ滴下して、基材表面における第２のライン状液体の接触角を測定した。測定された接触角は、２０°であった。この値を、第１の平行線パターンの形成領域外における第２のライン状液体の接触角Ｇとした。【０１９５】
４．パターンの形成
コニカミノルタ製インクジェットヘッド「５１２ＬＨＸ」（標準液滴容量４２ｐＬ）を取り付けたＸＹロボット（武蔵エンジニアリング製「ＳＨＯＴＭＡＳＴＥＲ３００」）と、インクジェットコントロールシステム（コニカミノルタ製「ＩＪＣＳ−１」）を用いて、インク１をノズル列方向間ピッチ２８２μｍ、走査方向間ピッチ４５μｍとなるように液滴として基材１上に順次吐出し、基材上において走査方向に連続的に付与された液滴を合一させることで複数のライン状液体を形成した。なお、印字しながら基材を載せたステージを７０℃で加熱し、これらライン状液体を乾燥させる過程で、周辺部に固形分を堆積させることで、１本のライン状液体から１組２本の平行線パターンが形成された。【０１９６】
その後、基材を９０°回転して、第１の平行線パターンとは直交する方向に、インク１による複数の第２のライン状液体を上記と同様の方法で塗布し、乾燥して、第２の平行線パターンを形成した。【０１９７】
このようにして、第１の平行線パターンと第２の平行線パターンとが直角に交差するメッシュ状の機能性パターンを形成した。メッシュ状の機能性パターン全体のサイズは、５０ｍｍ×５０ｍｍである。【０１９８】
（実施例２）
１．インクの調製
下記組成からなるインク２を調製した。
・銀ナノ粒子の水分散液２（銀ナノ粒子：４０重量％）：１．７５重量％
・シリコン系界面活性剤（ビックケミー製「ＢＹＫ−３４８」）：０．０１重量％
・純水：残部【０１９９】
なお、銀ナノ粒子の水分散液２は、実施例１で用いた銀ナノ粒子の水分散液１とは分散剤が異なる。【０２００】
２．基材の調製
基材として、基材１（表面エネルギーＥ＝５２ｍＮ／ｍ）を用いた。【０２０１】
３．表面エネルギー及び接触角の測定
実施例１のインク１をインク２に代えて、実施例１と同様に測定した結果、第１の平行線パターンの形成領域内の表面エネルギーＣは４９ｍＮ／ｍであり、第１の平行線パターンの形成領域内における第２のライン状液体の接触角Ｆは２５°であり、第１の平行線パターンの形成領域外における第２のライン状液体の接触角Ｇは、２１°であった。【０２０２】
４．パターンの形成
インク１をインク２に変えた以外は実施例１と同様にして、メッシュ状の機能性パターンを形成した。【０２０３】
（実施例３）
１．インクの調製
インクとして、インク１を用いた。【０２０４】
２．基材の調製
基材として、易接着加工（表面処理）により基材の表面エネルギーを４８ｍＮ／ｍとしたＰＥＴ基材からなる基材２を用いた。【０２０５】
３．表面エネルギー及び接触角の測定
実施例１の基材１を基材２に代えて、実施例１と同様に測定した結果、第１の平行線パターンの形成領域内の表面エネルギーＣは５６ｍＮ／ｍであり、第１の平行線パターンの形成領域内における第２のライン状液体の接触角Ｆは１７°であり、第１の平行線パターンの形成領域外における第２のライン状液体の接触角Ｇは、２８°であった。【０２０６】
４．パターンの形成
コニカミノルタ製インクジェットヘッド「５１２ＬＨＸ」（標準液滴容量４２ｐＬ）を取り付けたＸＹロボット（武蔵エンジニアリング製「ＳＨＯＴＭＡＳＴＥＲ３００」）と、インクジェットコントロールシステム（コニカミノルタ製「ＩＪＣＳ−１」）を用いて、インク１をノズル列方向間ピッチ２８２μｍ、走査方向間ピッチ４５μｍとなるように液滴として基材２上に順次吐出し、基材上において走査方向に連続的に付与された液滴を合一させることで複数のライン状液体を形成した。なお、印字しながら基材を載せたステージを７０℃で加熱し、これらライン状液体を乾燥させる過程で、周辺部に固形分を堆積させることで、１本のライン状液体から１組２本の平行線パターンが形成された。【０２０７】
その後、第１の平行線パターンを形成した基材を１２０℃のホットプレートの上に置いて、１時間、加熱による洗浄を行った。【０２０８】
加熱による洗浄の後、基材を９０°回転して、第１の平行線パターンとは直交する方向に、インク１による複数の第２のライン状液体を上記と同様の方法で塗布し、乾燥して、第２の平行線パターンを形成した。【０２０９】
このようにして、第１の平行線パターンと第２の平行線パターンとが直角に交差するメッシュ状の機能性パターンを形成した。メッシュ状の機能性パターン全体のサイズは、５０ｍｍ×５０ｍｍである。【０２１０】
（実施例４）
実施例３において、加熱による洗浄を、下記電磁波による洗浄に変更した以外は実施例３と同様にして、メッシュ状のパターンを形成した。【０２１１】
＜電磁波による洗浄＞
電磁波による洗浄として、キセノンフラッシュランプによる洗浄を行った。
Ｘｅｎｏｎ社製キセノンフラッシュランプ装置「ＳＩＮＴＥＲＯＮ  ２０００」を用いて、パルス幅５００μ秒、印加電圧３．８ｋＶでキセノンフラッシュを１回照射して、第１の平行線パターンの形成領域内を含む領域を洗浄した。【０２１２】
（実施例５）
実施例３において、加熱による洗浄を、下記溶剤による洗浄に変更した以外は実施例３と同様にして、メッシュ状のパターンを形成した。【０２１３】
＜溶剤による洗浄＞
２プロパノールに１０分間浸漬させることにより、第１の平行線パターンの形成領域内を含む領域を洗浄した。【０２１４】
（実施例６）
１．インクの調製
インクとして、インク１を用いた。【０２１５】
２．基材の調製
基材として、基材２（表面エネルギーＥ＝４８ｍＮ／ｍ）を用いた。【０２１６】
３．表面エネルギー及び接触角の測定
実施例１の基材１を基材２に代えて、実施例１と同様に測定した結果、第１の平行線パターンの形成領域内の表面エネルギーＣは５６ｍＮ／ｍであり、第１の平行線パターンの形成領域内における第２のライン状液体の接触角Ｆは１７°であり、第１の平行線パターンの形成領域外における第２のライン状液体の接触角Ｇは、２８°であった。【０２１７】
４．パターンの形成
コニカミノルタ製インクジェットヘッド「５１２ＬＨＸ」（標準液滴容量４２ｐＬ）を取り付けたＸＹロボット（武蔵エンジニアリング製「ＳＨＯＴＭＡＳＴＥＲ３００」）と、インクジェットコントロールシステム（コニカミノルタ製「ＩＪＣＳ−１」）を用いて、インク１をノズル列方向間ピッチ２８２μｍ、走査方向間ピッチ４５μｍとなるように液滴として基材２上に順次吐出し、基材上において走査方向に連続的に付与された液滴を合一させることで複数のライン状液体を形成した。なお、印字しながら基材を載せたステージを７０℃で加熱し、これらライン状液体を乾燥させる過程で、周辺部に固形分を堆積させることで、１本のライン状液体から１組２本の平行線細線パターンが形成された。【０２１８】
その後、基材を９０°回転して、第１の平行線パターンとは直交する方向に、インク１による複数の第２のライン状液体を塗布し、乾燥して、第２の平行線パターンを形成した。このとき、インクの塗布に際して、第１の平行線パターンの形成領域内における第２のライン状液体の長さあたりの液体付与量を、第１の平行線パターンの形成領域外における液体付与量の７０％に調整して塗布した。【０２１９】
このようにして、第１の平行線パターンと第２の平行線パターンとが直角に交差するメッシュ状の機能性パターンを形成した。メッシュ状の機能性パターン全体のサイズは、５０ｍｍ×５０ｍｍである。【０２２０】
（実施例７）
１．インクの調製
インクとして、インク１を用いた。【０２２１】
２．基材の調製
基材として、易接着加工（表面処理）により基材の表面エネルギーＥを５６ｍＮ／ｍとしたＰＥＴ基材からなる基材３を用いた。【０２２２】
３．表面エネルギー及び接触角の測定
まず、銀ナノ粒子の水分散液１（銀ナノ粒子：４０重量％）を、基材３に、ワイヤーバー＃７にて塗布し、乾燥させて機能性材料（銀ナノ粒子）のベタ面を作製した。このベタ面の表面エネルギーを測定したところ、６１ｍＮ／ｍであった。この値を、第１のライン状液体と同一組成の液体を塗布して乾燥させてなるベタ面の表面エネルギーＤとした。【０２２３】
また、実施例１の基材１を基材３に代えて、実施例１と同様に測定した結果、第１の平行線パターンの形成領域内の表面エネルギーＣは５６ｍＮ／ｍであり、第１の平行線パターンの形成領域内における第２のライン状液体の接触角Ｆは１５°であり、第１の平行線パターンの形成領域外における第２のライン状液体の接触角Ｇは、１９°であった。【０２２４】
４．パターンの形成
実施例１において、基材１を基材３に代えたこと以外は実施例１と同様にして、メッシュ状の機能性パターンを形成した。【０２２５】
（実施例８）
１．インクの調製
下記組成からなるインク４を調製した。
・銀ナノ粒子の水分散液１（銀ナノ粒子：４０重量％）：１．７５重量％
・ジエチレングリコールモノブチルエーテル：２０重量％
・純水：残部【０２２６】
２．基材の調製
基材として、基材１（表面エネルギーＥ＝５２ｍＮ／ｍ）を用いた。【０２２７】
３．接触角の測定
協和界面化学社製接触角測定装置「ＤＭ−５０１」を用いて、第１の平行線パターンの形成領域外におけるジエチレングリコールモノブチルエーテル（沸点２３１℃）の接触角を測定したところ、接触角Ｈは５°であった。なお、ジエチレングリコールモノブチルエーテルを滴下後５秒後の値とした。【０２２８】
４．パターンの形成
実施例１において、インク１をインク４に代えたこと以外は実施例１と同様にして、メッシュ状の機能性パターンを形成した。【０２２９】
（比較例１）
１．インクの調製
インクとして、インク１を用いた。【０２３０】
２．基材の調製
基材として、基材２（表面エネルギーＥ＝４８ｍＮ／ｍ）を用いた。【０２３１】
３．表面エネルギー及び接触角の測定
実施例１の基材１を基材２に代えて、実施例１と同様に測定した結果、第１の平行線パターンの形成領域内の表面エネルギーＣは５６ｍＮ／ｍであり、第１の平行線パターンの形成領域内における第２のライン状液体の接触角Ｆは１７°であり、第１の平行線パターンの形成領域外における第２のライン状液体の接触角Ｇは、２８°であった。【０２３２】
４．パターンの形成
実施例１において、基材１を基材２に代えたこと以外は実施例１と同様にして、メッシュ状の機能性パターンを形成した。【０２３３】
（比較例２）
１．インクの調製
下記組成からなるインク３を調製した。
・銀ナノ粒子の水分散液３（銀ナノ粒子：４０重量％）：１．７５重量％
・シリコン系界面活性剤（ビックケミー製「ＢＹＫ−３４８」）：０．０１重量％
・純水：残部【０２３４】
なお、銀ナノ粒子の水分散液３は、銀ナノ粒子の水分散液１及び２とは分散剤が異なる。【０２３５】
２．基材の調製
基材として、基材２（表面エネルギーＥ＝４８ｍＮ／ｍ）を用いた。【０２３６】
３．表面エネルギー及び接触角の測定
実施例１のインク１をインク３に代え、更に基材１を基材２に代えて、実施例１と同様に測定した結果、第１の平行線パターンの形成領域内の表面エネルギーＣは６１ｍＮ／ｍであり、第１の平行線パターンの形成領域内における第２のライン状液体の接触角Ｆは１２°であり、第１の平行線パターンの形成領域外における第２のライン状液体の接触角Ｇは、２９°であった。【０２３７】
４．パターンの形成
実施例１において、インク１をインク３に代え、更に基材１を基材２に代えたこと以外は実施例１と同様にして、メッシュ状の機能性パターンを形成した。【０２３８】
（比較例３）
１．インクの調製
インクとして、インク４を用いた。【０２３９】
２．基材の調製
基材として、基材２（表面エネルギーＥ＝４８ｍＮ／ｍ）を用いた。【０２４０】
３．接触角の測定
協和界面化学社製接触角測定装置「ＤＭ−５０１」を用いて、第１の平行線パターンの形成領域外におけるジエチレングリコールモノブチルエーテル（沸点２３１℃）の接触角を測定したところ、接触角Ｈは８°であった。なお、ジエチレングリコールモノブチルエーテルを滴下後５秒後の値とした。【０２４１】
４．パターンの形成
実施例８において、基材１を基材２に代えたこと以外は実施例８と同様にして、メッシュ状の機能性パターンを形成した。【０２４２】
＜平均間隔Ａ及び平均間隔Ｂの測定＞
実施例１〜７及び比較例１、２で得られたメッシュ状の機能性パターンにおいて、第２の平行線パターンを構成する２本の線分間の間隔について、第１の平行線パターンの形成領域内における平均間隔Ａを、図６で説明した計７箇所の測定箇所Ａ１〜Ａ７において測定した間隔の平均値として求めた。また、第２の平行線パターンを構成する２本の線分間の間隔について、第１の平行線パターンの形成領域外における平均間隔Ｂを、図６で説明した計５箇所の測定箇所Ｂ１〜Ｂ５において測定した間隔の平均値として求めた。更に、これら平均間隔Ａ及び平均間隔Ｂの値から、上述した式（１）におけるＢ／Ａの値を求めた。【０２４３】
かかるＢ／Ａの値を求めることにより、上述した式（１）を満たすか否かを判定することができる。即ち、上述した式（１）を満たすための調整が達成されたか否かを判定することができる、ということもできる。【０２４４】
＜評価方法＞
・低視認性の評価方法
実施例１〜７及び比較例１、２で得られたメッシュ状の機能性パターンを目視し、下記の評価基準で評価した。【０２４５】
［評価基準］
Ａ：周期的なパターンのようなものが視認できず、全体に亘って均一に見える
Ｂ：周期的なパターンのようなものが視認できる【０２４６】
・抵抗値の方向むらの評価方法
実施例１〜７及び比較例１、２で得られたメッシュ状の機能性パターンについて、以下の方法で抵抗値の方向むらを評価した。【０２４７】
第１の平行線パターンの方向（第１の方向）と平行に長さ５０ｍｍ幅１０ｍｍの短冊を切り出し、長辺の両端（すなわち短辺）に銀ペーストによる測定用電極をつけ、短冊の端子間の抵抗をテスターにて測定した。同様にして、第２の平行線パターンの方向（第２の方向）と平行に長さ５０ｍｍ幅１０ｍｍの短冊でも端子間抵抗をテスターで測定し、第１の方向と第２の方向での抵抗の比率を評価した。抵抗の比率は、具体的には、「第２の方向での抵抗」と「第１の方向での抵抗」の差の絶対値を「第１の方向での抵抗」で除した値を１００分率で示したものである。【０２４８】
ある基準として、抵抗の比率が１０％以下であることが実用上好ましく、抵抗の比率が１０％を超えると実用上好ましくないと評価することができる。【０２４９】
以上の結果を表１に示す。【０２５０】
【表１】
0006515928.tif 000002
【０２５１】
＜評価＞
表１より、平均間隔Ａ及び平均間隔Ｂが式（１）「０．９≦Ｂ／Ａ≦１．１」を満たすように調整を行った実施例１〜８では、低視認性に優れ、抵抗値の方向むらを防止できることがわかる。一方、かかる調整を行わなかった比較例１〜３では、低視認性に劣り、抵抗値の方向むらを十分に防止できないことがわかる。【０２５２】
更に、実施例３のメッシュ状の機能性パターンと、比較例２のメッシュ状の機能性パターンについて、それぞれ、図９及び図１０に、光学顕微鏡写真を示した。各写真において、左上から右下に向かう方向が第１の方向（第１の平行線パターンの方向）であり、左下から右上に向かう方向が第２の方向（第２の平行線パターンの方向）である。これらの写真の対比からも、本発明によれば、低視認性に優れることがわかる。更に、第１の方向と第２の方向とで導電パスの長さの差が見られず、抵抗値の方向むらを防止できることがわかる。【０２５３】
以上の結果から、平均間隔Ａ及び平均間隔Ｂが式（１）「０．９≦Ｂ／Ａ≦１．１」を満たすように調整することの有効性がわかる。【０２５４】
実施例１、２においては、「第１の平行線パターンの形成領域内の表面エネルギーＣと、第１の平行線パターンの形成領域外の表面エネルギーＥとの差（｜Ｃ−Ｅ｜）を、５ｍＮ／ｍ以下にする」調整、あるいは、「第１の平行線パターンの形成領域内における第２のライン状液体の接触角Ｆと、第１の平行線パターンの形成領域外における第２のライン状液体の接触角Ｇとの差を、１０°以下にする」調整により、平均間隔Ａ及び平均間隔Ｂが式（１）「０．９≦Ｂ／Ａ≦１．１」を満たすようにした。ここでは、一例として、基材の表面処理やインク組成の設定により、表面エネルギーや接触角を調整する例を示した。【０２５５】
実施例３〜５においては、「第１の平行線パターンを形成した後に、第２のライン状液体を付与する前に、第１の平行線パターンの形成領域内を含む領域を洗浄する」調整により、平均間隔Ａ及び平均間隔Ｂが式（１）「０．９≦Ｂ／Ａ≦１．１」を満たすようにした。実施例３では加熱による洗浄を、実施例４では電磁波による洗浄を、実施例５では溶剤による洗浄を、それぞれ用いた。【０２５６】
実施例６においては、「第１の平行線パターンの形成領域内における第２のライン状液体の長さあたりの液体付与量と、第１の平行線パターンの形成領域外における第２のライン状液体の長さあたりの液体付与量とを異ならせる」調整により、平均間隔Ａ及び平均間隔Ｂが式（１）「０．９≦Ｂ／Ａ≦１．１」を満たすようにした。【０２５７】
実施例７においては、「第１の平行線パターンの形成領域内の表面エネルギーＣと、第１の平行線パターンの形成領域外の表面エネルギーＥとの差（｜Ｃ−Ｅ｜）を、５ｍＮ／ｍ以下にする」調整、「第１の平行線パターンの形成領域内における第２のライン状液体の接触角Ｆと、第１の平行線パターンの形成領域外における第２のライン状液体の接触角Ｇとの差を、１０°以下にする」調整、あるいは、「第１のライン状液体と同一組成の液体を塗布して乾燥させてなるベタ面の表面エネルギーＤと、第１の平行線パターンの形成領域外の表面エネルギーＥとの差（｜Ｄ−Ｅ｜）を、５ｍＮ／ｍ以下にする」調整により、平均間隔Ａ及び平均間隔Ｂが式（１）「０．９≦Ｂ／Ａ≦１．１」を満たすようにした。【０２５８】
実施例８においては、「第１の平行線パターンの形成領域外における第２のライン状液体中の溶剤のうち最も沸点が高い溶剤の接触角を６°以下にする」調整により、平均間隔Ａ及び平均間隔Ｂが式（１）「０．９≦Ｂ／Ａ≦１．１」を満たすようにした。
【符号の説明】
【０２５９】
１：基材
２：第１のライン状液体
３：第１の平行線パターン
３１、３２：線分
４：第２のライン状液体
５：第２の平行線パターン
５１、５２：線分
６：パターン
７：液滴吐出装置
Ｘ：交差部
【図１】
0006515928.tif 000003
【図２】
0006515928.tif 000004
【図３】
0006515928.tif 000005
【図４】
0006515928.tif 000006
【図５】
0006515928.tif 000007
【図６】
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【図７】
0006515928.tif 000009
【図８】
0006515928.tif 000010
【図９】
0006515928.tif 000011
【図１０】
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