(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
収容物を出し入れするための主開口を有する容器内に、前記主開口から清浄化ガスを導入させるガスパージユニットと、
前記容器に対向しており壁側開口が形成されている壁と、
前記壁側開口及び前記主開口を開閉するドアと、を有するロードポート装置であって、
前記ガスパージユニットは、
長手方向に延在する長空洞と、前記長空洞と外部とを連通させ前記清浄化ガスを放出する多孔質体からなる放出部と、を有する筒状の吹き出し部材と、
前記吹き出し部材の一方の端部に形成された連通孔を介して前記長空洞に接続し、前記長空洞に前記清浄化ガスを供給する供給部と、を有し、
前記壁における前記容器側とは反対側の内面に取り付けられており、前記吹き出し部材から前記長手方向に直交する放射方向の一部に、前記長手方向に延在するように設けられ、前記主開口とは反対側へ向かう前記清浄化ガスの流れを遮蔽する遮蔽部を有し、
前記遮蔽部は、前記内面に沿って前記開口とは反対側へ向かう前記清浄化ガスの流れを遮蔽する第１部分と、前記内面の直交方向に沿って前記開口とは反対側へ向かう前記清浄化ガスの流れを遮蔽する第２部分と、前記内面に沿って前記開口側へ向かう前記清浄化ガスの流れを遮蔽する第３部分と、を有する請求項１に記載のロードポート装置。
【請求項２】
前記遮蔽部は、前記第３部分との間に隙間が形成されており前記内面の直交方向に沿って前記開口側へ向かう前記清浄化ガスの流れを遮蔽する第４部分、をさらに有する請求項１に記載のロードポート装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、たとえば半導体の製造工程などに用いられるガスパージユニットに関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体の製造工程において、フープ（ＦＯＵＰ）又はポッド等と呼ばれるウエハ搬送容器内に収容されているウエハには、たとえば高密度の金属配線等が形成されたものが存在する。このような高密度の金属配線が形成されたウエハ表面は、工程中にわずかに酸化されるだけで、素子完成時に所望の特性を得られなくなる恐れがある。そのため、工程中におけるウエハ表面への異物付着やウエハ表面の酸化を防ぐため、搬送容器内部の酸素濃度を抑制しつつ、清浄度を高いレベルに保つ必要がある。
【０００３】
しかし、搬送容器内のウエハを各種処理装置に持ち込んで所定の処理を施す際には、ウエハを搬送容器から出し入れする作業を行う都合上、搬送容器の主開口を開いた状態とする必要がある。この際、搬送容器の内部は、ウエハを搬送容器から各種処理装置まで搬送するロボット等が配置された中間室内の環境と、主開口を介して連通した状態となる。中間室内の環境は、中間室内の環境を浄化するファン及びフィルタを備える機器（イーフェム（ＥＦＥＭ）等）により制御され、中間室内の清浄度は一定値以上に管理されている。しかし、中間室内の清浄度は、窒素ガス等の清浄化ガスで満たされた搬送容器内部に比べて低い場合があるため、中間室内の空気が搬送容器内部に侵入した場合、搬送容器内部における酸素濃度が上昇し、ウエハ表面が酸化される危険性が高まる。
【０００４】
そこで、たとえば特許文献１では、搬送容器の内部に向けて窒素ガスなどのパージガスを導入する技術が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−２３５５１６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、従来の装置では、搬送容器内に導入されたパージガスの勢いにより、ウエハの裏側表面等に付着したパーティクルが巻き上げられる現象が起きている。これにより、従来の装置では、パーティクルの付着を最も避けたい高密度配線部分に、パージガスによって巻き上げられたパーティクルが付着する等の問題により、パージガスを導入したにもかかわらず、素子完成時の不良品率を十分に低減できないという課題を有している。
【０００７】
本発明は、このような実状に鑑みてなされ、その目的は、パージガスの導入時におけるパーティクルの巻き上げを防止できるガスパージユニットを提供することである。
【０００８】
上記目的を達成するために、本発明に係るガスパージユニットは、
収容物を出し入れするための主開口を有する容器内に、前記主開口から清浄化ガスを導入させるガスパージユニットであって、
長手方向に延在する長空洞と、前記長空洞と外部とを連通させ前記清浄化ガスを放出する多孔質体からなる放出部と、を有する筒状の吹き出し部材と、
前記吹き出し部材の一方の端部に形成された連通孔を介して前記長空洞に接続し、前記長空洞に前記清浄化ガスを供給する供給部と、
を有することを特徴とする。
【０００９】
本発明のガスパージユニットでは、ガスが多孔質体からなる放出部を介して外部に放出されるため、放出される清浄化ガスの流速及び方向性を弱めることができる。このため、搬送容器内において、局所的に清浄化ガスの流速が速くなる部分が形成され難く、パーティクルの巻き上げを防止しつつ、搬送容器内部への清浄化ガスの導入を行うことができる。
【００１０】
また、例えば、本発明に係るガスパージユニットは、前記吹き出し部材から前記長手方向に直交する放射方向の一部に、前記長手方向に延在するように設けられ、前記吹き出し部材から前記放射方向の一部に向かう前記清浄化ガスの流れを遮蔽する遮蔽部を有しても良い。
【００１１】
遮蔽部の働きにより、清浄化ガスをより効率的に容器内に導くことが可能であり、容器内の清浄度を高めることができる。
【００１２】
また、例えば、前記放出部を構成する多孔質体が筒状の外形状を有してもよく、また、筒状の前記放出部の内部に前記長空洞が形成されていてもよい。
【００１３】
放出部を構成する多孔質体を筒状とし、筒状の放出部の全体から清浄化ガスを放出する構造とすることにより、放出部における部分ごとの放出量のばらつきを低減できる。これにより、このような放出部を有するガスパージユニットは、容器内全体に、清浄化ガスを効率的に導入できる。
【００１４】
また、例えば、前記放出部は、無機材料の多孔質体で構成されてもよい。
【００１５】
放出部を構成する多孔質体は、無機材料であっても、有機材料であってもよいが、無機材料の多孔質体で放出部を構成することにより、清浄化ガスの中に有機質が混在して収容物に悪影響を与える問題を回避することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】図１は、本発明の一実施形態に係るガスパージユニットが適用されたロードポート装置の一部断面概略図である。
【図２】図２は、図１に示すロードポート装置の一部断面斜視図である。
【図３Ａ】図３Ａは、フープの蓋がロードポート装置により開けられる工程を示す概略図である。
【図３Ｂ】図３Ｂは、図３Ａの続きの工程を示す概略図である。
【図３Ｃ】図３Ｃは、図３Ｂの続きの工程を示す概略図である。
【図３Ｄ】図３Ｄは、図３Ｃの続きの工程を示す概略図である。
【図４】図４は、図３Ｄに示すIV−IV線に沿う断面図である。
【図５】図５（ａ）は、図１及び図４等に示すガスパージユニットの概略斜視図、図５（ｂ）は同縦断面図である。
【図６】図６は、第１変形例に係るガスパージユニットの概略斜視図である。
【図７】図７は、第２変形例に係るガスパージユニットの概略斜視図である。
【図８】図８は、第３変形例に係るガスパージユニットの概略斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明を、図面に示す実施形態に基づき説明する。
【００１８】
図１は、本発明の一実施形態に係るガスパージユニット２０を有するロードポート装置１０の一部断面概略図である。図１に示すロードポート装置１０は、イーフェム本体６０の中間室６０ａに連結してある。なお、以下に述べる実施形態においては、ロードポート装置１０に適用されるガスパージユニット２０を例に本発明の説明を行うが、ガスパージユニット２０の用途としてはこれに限定されず、収容物を出し入れするための主開口から清浄化ガスを導入させる他の装置にも適用することができる。
【００１９】
ロードポート装置１０は、密封搬送容器２の内部に密封状態で収容してあるウエハ１を、クリーン状態を維持しながら、中間室６０ａの内部に移し替えるためのインターフェース装置である。また、中間室６０ａには、単一または複数の処理室７０が気密に連結してあり、中間室６０ａに搬送されたウエハ１は、ロボットアーム５０によって、さらに中間室６０ａから処理室７０へ搬送される。処理室７０は、ウエハ１に対して所定の処理を行うための装置の一部であり、処理室７０内では、ロボットアーム５０によって搬送されたウエハ１に対して、順次所定の処理が行われる。処理室７０を含む装置としては、特に限定されないが、たとえば蒸着装置、スパッタリング装置、エッチング装置など、半導体製造プロセスで用いられる装置が挙げられる。
【００２０】
ロードポート装置１０は、壁１１と、設置台１２と、可動テーブル１４と、ドア１８と、ガスパージユニット２０等を有する。可動テーブル１４は、設置台１２の上に配置されており、設置台１２に対してＹ軸方向に移動可能になっている。なお、図面において、Ｙ軸が可動テーブル１４の移動方向を示し、Ｚ軸が鉛直方向の上下方向を示し、Ｘ軸がこれらのＹ軸およびＺ軸に垂直な方向を示す。
【００２１】
可動テーブル１４のＺ軸方向の上部には、複数のウエハ１を密封して保管して搬送するポットやフープなどで構成される密封搬送容器２が着脱自在に載置可能になっている。ロードポート装置１０のその他の構成については後述する。
【００２２】
密封搬送容器２は、ケーシング２ａ、蓋４、給気ポート５、排気ポート６等を有する。ケーシング２ａの内部には、被処理物たるウエハ１を内部に収めるための空間が形成されている。ケーシング２ａは、水平方向に存在するいずれか一面に、収容物であるウエハ１を出し入れするための主開口２ｂを有する略箱状の形状を有する。蓋４は、ケーシング２ａの主開口２ｂを密閉可能である。後述するように、ロードポート装置１０は、蓋４を動かし、主開口２ｂを開閉することができる。
【００２３】
ケーシング２ａの内部には、複数のウエハ１を、互いに接触しないように重ねて収容するための複数の段を有する棚（不図示）が設けられている。密封搬送容器２内に収容されるウエハ１は、棚の各段に１枚ずつ設置されることにより、水平に保持され、かつ、鉛直方向（Ｚ軸方向）に沿って所定の間隔を開けた状態で、ケーシング２ａの内部に配置される。
【００２４】
イーフェム本体６０の中間室６０ａには、ロボットアーム５０が設置してある。中間室６０ａの上部には、ＦＦＵ（Ｆａｎ Ｆｉｌｔｅｒ Ｕｎｉｔ）４０が装着してある。イーフェム本体６０は、ＦＦＵ４０から中間室６０ａの内部に清浄な空気をダウンフローで流し、中間室６０ａの内部に局所的清浄環境を作り出している。中間室６０ａの内部の清浄度は、密封搬送容器２の内部の清浄度よりは低いが、外部環境の清浄度よりは高い。
【００２５】
ロードポート装置１０の壁１１は、可動テーブル１４に設置された密封搬送容器２に対向しており、中間室６０ａを密封するケーシングの一部として機能するようになっている。壁１１には、壁側開口１３が形成されている。ドア１８は、壁側開口１３を開閉する。
【００２６】
ドア１８の動きについて、図３Ａ〜図３Ｄを用いて簡単に説明する。図３Ａに示すように、可動テーブル１４の上に密封搬送容器２が設置されると、密封搬送容器２のケーシング２ａの下面に設けられた位置決め部３の凹部に位置決めピン１６が嵌合することにより、密封搬送容器２と可動テーブル１４との位置関係が一義的に決定される。なお、ウエハ１の保管中や、ウエハ１を収容する密封搬送容器２自体の搬送中は、密封搬送容器２の内部は密封され、ウエハ１の周囲の環境は、概ね一定の状態に維持される。
【００２７】
密封搬送容器２が可動テーブル１４の上面に位置決めされて設置されると、密封搬送容器２の下面に形成してある給気ポート５と排気ポート６とが、それぞれ可動テーブル１４の内部に配置してあるボトムパージ装置に気密に連結される。そして、密封搬送容器２の下部に設けられた給気ポート５および排気ポート６を通してボトムガスパージが行われる。ボトムガスパージが行われた状態で、図３Ｂに示すように、可動テーブル１４がＹ軸方向に移動し、密封搬送容器２の主開口２ｂを気密に塞いでいる蓋４が取り付けられている開口縁２ｃが、壁１１の壁側開口１３の内部に入り込む。
【００２８】
それと同時に、壁側開口１３を封止するドア１８における密封搬送容器２に対向する側の面が、密封搬送容器２の蓋４に係合する。その際に、開口縁２ｃと壁側開口１３の開口縁との間はガスケットなどによりシールされ、これらの間は良好に密封される。その後に、図３Ｃに示すように、ドア１８を蓋４と共に、Ｙ軸方向に平行移動させ、あるいは回動移動させて、蓋４を中間室６０ａに移動させることにより、開口縁２ｃから取り外す。このようにして、密封搬送容器２の主開口２ｂを開放し、主開口２ｂと壁側開口１３とを通して、密封搬送容器２の内部と中間室６０ａとを連通させる。
【００２９】
主開口２ｂを開放した後も、ボトムガスパージを継続させて動作させても良い。さらに、ボトムパージに加えて、あるいはボトムパージを停止させて、開放した主開口２ｂから、窒素ガスやその他の不活性ガスなどのパージガス（清浄化ガス）を、密封搬送容器２の内部に導入させるフロントパージを開始する。フロントパージは、壁１１に取り付けられたガスパージユニット２０を用いて、ガスパージユニット２０に備えられる吹き出し部材２２の放出部２４から清浄化ガスを放出し、密封搬送容器２の内部に清浄化ガスを導入することにより実施される。ガスパージユニット２０については後述する。
【００３０】
次に、図３Ｄに示すように、ドア１８と伴に中間室６０ａに移動させた、蓋４をＺ軸下方に移動させれば、密封搬送容器２の主開口２ｂは、中間室６０ａに対して完全に開く。これにより、中間室６０ａに配置されたロボットアーム５０は、主開口２ｂおよび壁側開口１３を通して、密封搬送容器２の内部からウエハ１を取り出し、中間室６０ａにウエハ１を搬送することが可能となる。ロボットアーム５０によるウエハ１の搬送作業中も、好ましくは主開口２ｂが開いている間は常に、フロントパージが継続される。フロントパージが継続されることにより、密封搬送容器２の内部に向かう中間室６０ａの空気の流入が抑制され、密封搬送容器２の内部は、中間室６０ａに比べてクリーンな環境に維持される。密封搬送容器２の主開口２ｂを閉鎖し、密封搬送容器２を可動テーブル１４から取り外すには、上記の逆の動作を行えば良い。
【００３１】
なお、図面においては、理解を容易にするために、密封搬送容器２に比較して、給気ポート５、排気ポート６、ガスパージユニット２０などを拡大して図示してあるが、実際の寸法比とは異なる。
【００３２】
次に、図面を参照しながら、本実施形態に係るフロントパージを行うためのガスパージユニット２０について説明する。
【００３３】
図２に示すように、本実施形態に係るロードポート装置１０において、壁１１に形成してある壁側開口１３は、四角形の開口面を有し、壁１１における上辺部１３ｂ、下辺部１３ｃ、二つの両側辺部１３ａで囲まれている。図３Ａに示すように、密封搬送容器２の主開口２ｂは、壁側開口１３に対応する形状をしており、壁側開口１３と同じか、または壁側開口１３より少し小さな寸法に設定してある。
【００３４】
図２に示すように、本実施形態では、壁側開口１３の両側辺部１３ａに、それぞれガスパージユニット２０がドア１８を避けるように配置されている。ガスパージユニット２０は、設置台１２とは反対側の壁１１の面である内面に隣接して配置されており、ドア１８及び蓋４を開いた状態（図３Ｃ及び図３Ｄ参照）において、ガスパージユニット２０からの清浄化ガスが、密封搬送容器２の主開口２ｂから密封搬送容器２内に導入される。ガスパージユニット２０の固定方法は特に限定されず、壁１１の内面に直接固定する方法の他に、遮蔽部２７ａ、２７ｂを介して壁１１に固定する方法や、下方（Ｚ軸負方向）に伸びる供給部２８を他の部材に固定することによって固定する方法などがある。
【００３５】
図２及び図４に示すように、ガスパージユニット２０は、壁側開口１３の両側辺部１３ａに、それぞれＺ軸方向に沿って配置される。また、図３Ｄに示すように、ガスパージユニット２０のＺ方向の長さは、密封搬送容器２の主開口２ｂのそれよりも長くなるように形成してある。図２及び図４に示すように、ガスパージユニット２０は、それぞれ筒状の吹き出し部材２２を有する。
【００３６】
吹き出し部材２２は、本実施形態では、Ｚ軸方向に細長い角筒状の外形状を有している。吹き出し部材２２の長手方向は、Ｚ軸方向と一致する。図５（ａ）及び図５（ｂ）は、ガスパージユニット２０に含まれる吹き出し部材２２及び供給部２８の概略斜視図及び概略縦断面図である。図５（ａ）に示すように、吹き出し部材２２は、長手方向に延びる４つの側面と、長手方向に直交する方向に延びる２つの端面とを有する略四角筒状の外形状を有している。
【００３７】
図５（ｂ）に示すように、吹き出し部材２２は、長手方向（Ｚ軸方向）に延在する長空洞２３と、長空洞２３と外部とを連通させる放出部２４とを有する。放出部２４は、長空洞２３の周壁を構成しているが、放出部２４が多孔質体からなるため、清浄化ガスは周壁である放出部２４を通過できる。したがって、長空洞２３に供給された清浄化ガスは、放出部２４を介して外部に放出される。本実施形態に係る吹き出し部材２２では、放出部２４を構成する多孔質体が四角筒状の外形状を有しており、四角筒状の放出部２４の内部に、直方体状の空間である長空洞２３が形成されている。
【００３８】
吹き出し部材２２の一方の端部である基端部２２ｂには、長空洞２３へ通じる連通孔２２ｂａが形成されている。連通孔２２ｂａを介して、長空洞２３に供給部２８が接続している。供給部２８は、不図示のガス供給タンクから、長空洞２３に清浄化ガスを供給する。なお、吹き出し部材２２の他方の端部である先端部２２ａには、放出部２４を構成する多孔質材の壁がある。
【００３９】
吹き出し部材２２及び放出部２４の外形状は四角筒状に限定されず、四角筒以外の多角筒状、楕円・円筒状その他の形状であってもよい。長空洞２３の形状も、直方体状に限定されず、直方体以外の多角柱状、楕円・円柱その他の形状であってもよい。吹き出し部材２２は、長空洞２３の全体を多孔質体の放出部２４が覆う態様に限定されず、例えば清浄化ガスを通過させない非多孔質で筒状の容器にスリットや孔を形成し、そのスリットや孔に多孔質体の放出部を設けた態様であってもよい。
【００４０】
放出部２４を構成する多孔質体としては特に限定されないが、樹脂等の有機材料の多孔質体や、セラミックや金属材料等の無機材料の多孔質体を採用できる。特に、放出部２４は、無機材料の多孔質体で構成されることが好ましく、これにより、清浄化ガスの中に有機質が混在してウエハ１に悪影響を与える問題を回避することができる。
【００４１】
また、放出部２４を構成する多孔質材の（空隙率）も特に限定されないが、例えば４５％〜５０％とすることが、放出される清浄化ガスの流速及び方向性を弱めつつ、効率よく清浄化ガスを放出する観点から好ましい。また、放出部２４の平均厚さ（長空洞２３の壁の平均厚さ）も特に限定されないが、１．５ｍｍ〜２．５ｍｍとすることが、同様の観点から好ましい。また、放出部２４の製造方法も特に限定されず、例えば、放出部２４は、ステンレスを所定の形状に成形したのち焼結することにより製造することができる。
【００４２】
図２及び図４に示すように、ドア１８及び主開口２ｂに対してＸ軸負方向側に位置するガスパージユニット２０は、吹き出し部材２２からその長手方向に直交する放射方向の一部であるＸ軸負方向側に設けられた遮蔽部２７ａを有する。図４に示すように、遮蔽部２７ａは、吹き出し部材２２の長手方向に延在するように設けられており、ドア１８及び主開口２ｂとは反対側のＸ軸負方向側へ向かう清浄化ガスの流れを遮蔽する。同様に、ドア１８及び主開口２ｂに対してＸ軸正方向側に位置するガスパージユニット２０は、吹き出し部材２２のＸ軸正方向側に設けられ、吹き出し部材からＸ軸正方向側に向かう清浄化ガスの流れを遮蔽する遮蔽部２７ｂを有する。遮蔽部２７ａ、２７ｂは、ロードポート装置１０の壁１１の内面に取り付けられている。
【００４３】
このような遮蔽部２７ａ、２７ｂを有するガスパージユニット２０は、吹き出し部材２２から放出される清浄化ガスを効率的に密封搬送容器２内に導くことが可能であり、密封搬送容器２内の清浄度を高めることができる。
【００４４】
このように、本実施形態に係るガスパージユニット２０では、多孔質体からなる放出部２４を介して清浄化ガスが外部に放出されるため、放出される清浄化ガスの流速及び方向性を弱めることができる。このため、密封搬送容器２内において、局所的に清浄化ガスの流速が速くなる部分が形成され難く、パーティクルの巻き上げを防止しつつ、搬送容器内部への清浄化ガスの導入を行うことができる。また、清浄化ガスを通過させない非多孔質の容器にスリットやノズルを形成した吹き出し部材の場合、吹き出し部材の先端部付近のスリット又はノズルでガスの放出量が大きくなり、基端部付近のスリット又はノズルではガスの放出量が小さくなる傾向がある。これに対して、多孔質体からなる放出部２４を有する吹き出し部材２２では、先端部２２ａ付近の放出量と、基端部２２ｂ付近の放出量の差を、単なるノズルやスリットから放出する吹き出し部材に比べて低減できる。したがって、ガスパージユニット２０は、密封搬送容器２内のＺ軸方向に関する清浄化ガスの濃度ばらつきを低減することができる。
【００４５】
また、図５に示すように、放出部２４を構成する多孔質体を筒状とし、筒状の放出部２４の内部に長空洞２３が形成されている吹き出し部材２２は、構造が単純であるため製造が容易である。
【００４６】
なお、実施形態に係るロードポート装置１０におけるフロントパージでは、図１、図３Ｃ及び図３Ｄに示すように、上述したガスパージユニット２０に加えて、上辺部１３ｂに配置されるカーテンノズル３０から、清浄化ガスを鉛直下方（Ｚ軸負方向）に噴出してもよい。フロントパージにおいて、カーテンノズル３０を用いて、主開口２ｂの前面に清浄化ガスのダウンフローを形成することにより、中間室６０ａ内の空気が密封搬送容器２内部に侵入することをより効果的に防止できる。
【００４７】
本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲内で種々に改変することができる。例えば、図６は、第１変形例に係るガスパージユニット１２０を表す概略斜視図である。ガスパージユニット１２０は、図２に示すＸ軸正方向側のガスパージユニット２０と同様の吹き出し部材２２、供給部２８及び遮蔽部２７ｂに加えて、遮蔽部２７ｃを有している。遮蔽部２７ｃは、ガスパージユニット１２０の長手方向に延在しており、吹き出し部材２２からＹ軸正方向側に向かう清浄化ガスの流れを遮蔽する。遮蔽部２７ｃは、遮蔽部２７ｂに取り付けられている。このようなガスパージユニット１２０は、遮蔽部２７ｂ及び遮蔽部２７ｃが、吹き出し部材２２に対してドア１８及び主開口２ｂとは反対側であるＸ軸正方向及びＹ軸正方向側に向かう清浄化ガスの流れを遮蔽することにより、清浄化ガスを効率的に密封搬送容器２内に導入することができる。
【００４８】
図７は、第２変形例に係るガスパージユニット２２０を表す概略斜視図である。ガスパージユニット２２０は、図２に示すＸ軸正方向側のガスパージユニット２０と同様の吹き出し部材２２、供給部２８及び遮蔽部２７ｂに加えて、遮蔽部２７ｄを有している。遮蔽部２７ｄは、ガスパージユニット１２０の長手方向に延在しており、吹き出し部材２２からＹ軸正方向及びＸ軸負方向側に向かう清浄化ガスの流れを遮蔽する。遮蔽部２７ｂ及び遮蔽部２７ｄを有するガスパージユニット２２０は、清浄化ガスの流れを密封搬送容器２内のウエハ１に向けることができるので、ウエハ１の酸化を効果的に抑制できる。
【００４９】
図８は、第３変形例に係るガスパージユニット３２０を表す概略斜視図である。ガスパージユニット３２０は、図７に示すガスパージユニット２０と同様の吹き出し部材２２、供給部２８及び遮蔽部２７ｂ、２７ｄに加えて、遮蔽部２７ｅを有している。遮蔽部２７ｅは、ガスパージユニット１２０の長手方向に延在しており、吹き出し部材２２から、Ｙ軸負方向側に向かう清浄化ガスの流れを遮蔽する。しかし、吹き出し部材２２のＹ軸負方向側に位置する遮蔽部２７ｅと、吹き出し部材２２のＸ軸負方向側に位置する遮蔽部２７ｄとの間には隙間２７ｆが形成されている。そのため、吹き出し部材２２から放出された清浄化ガスは、隙間２７ｆを通過して密封搬送容器２の主開口２ｂへ導かれる。ガスパージユニット３２０も、図７に示すガスパージユニット２２０と同様に、清浄化ガスの流れをウエハ１に向けることができるので、ウエハ１の酸化を効果的に抑制できる。
【００５０】
なお、上述の実施形態及び変形例において、遮蔽部２７ａ〜２７ｅは平板状又はＺ軸方向から見てＬ字状の部材で構成されていたが、遮蔽部はこれに限定されず、例えば曲がった板材等で構成されていてもよい。また、遮蔽部２７ａ〜２７ｅの取り付け方法も特に限定されず、吹き出し部材２２に直接取り付けられていてもよい。また、遮蔽部は、吹き出し部材２２から長手方向に直交する放射方向の一部に設けられればどのような態様であってもよく、吹き出し部材２２の放出部２４を構成する多孔質材の表面に形成された金属膜や樹脂層であってもよい。
【符号の説明】
【００５１】
１…  ウエハ
２…  密封搬送容器
２ａ…  ケーシング
２ｂ…  主開口
２ｃ…  開口縁
３…  位置決め部
４…  蓋
５…  給気ポート
６…  排気ポート
１０…  ロードポート装置
１１…  壁
１２…  設置台
１３…  壁側開口
１３ａ…  側辺部
１３ｂ…  上辺部
１３ｃ…  下辺部
１４…  可動テーブル
１６…  位置決めピン
１８…  ドア
２０、１２０、２２０、３２０…  ガスパージユニット
２２…  吹き出し部材
２２ａ…先端部
２２ｂ…基端部
２２ｂａ…連通孔
２３…  長空洞
２４…  放出部
２７ａ、２７ｂ、２７ｃ、２７ｄ、２７ｅ…  遮蔽部
２８…供給部
３０…  カーテンノズル
４０…  ＦＦＵ
５０…  ロボットアーム
６０…  イーフェム本体
６０ａ…  中間室
７０…  処理室
【図１】
0006492884.tif 000002
【図２】
0006492884.tif 000003
【図３Ａ】
0006492884.tif 000004
【図３Ｂ】
0006492884.tif 000005
【図３Ｃ】
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【図３Ｄ】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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