(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を回転させ、回転する基板に洗浄部材を接触させつつ基板を洗浄する基板洗浄装置において、
前記洗浄部材を支持するアームに設けられ、前記洗浄部材に接触して洗浄部材を自己洗浄するセルフクリーニング部材と、
前記洗浄部材を支持する前記アームに設けられ、前記セルフクリーニング部材を前記洗浄部材に接触させる位置と前記洗浄部材から離間させる位置との間で直線状に移動させる直線移動機構とを備え、
前記洗浄部材を回転する基板に接触させて基板を洗浄している間に、前記直線移動機構を作動させ、前記セルフクリーニング部材を前記洗浄部材に対して直線状に移動させることにより前記セルフクリーニング部材を前記洗浄部材に接触させて前記洗浄部材を自己洗浄することを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項２】
前記洗浄部材はロールスポンジからなることを特徴とする請求項１記載の基板洗浄装置。
【請求項３】
前記セルフクリーニング部材は、取付部材を介して前記アームに取り付けられていることを特徴とする請求項１記載の基板洗浄装置。
【請求項４】
前記セルフクリーニング部材は、前記アームに設けられた前記直線移動機構に取り付けられていることを特徴とする請求項１記載の基板洗浄装置。
【請求項５】
前記セルフクリーニング部材は洗浄板からなることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の基板洗浄装置。
【請求項６】
前記直線移動機構は防水性の筐体に収容され、前記筐体には、前記直線移動機構の移動部の移動動作を許容するための孔が形成されていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の基板洗浄装置。
【請求項７】
前記筐体の孔の周囲および前記直線移動機構の移動部を囲むように蛇腹を設けたことを特徴とする請求項６記載の基板洗浄装置。
【請求項８】
前記洗浄部材を支持する前記アームに設けられ、前記洗浄部材と前記セルフクリーニング部材との接触部に洗浄液を供給するノズルを備えたことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の基板洗浄装置。
【請求項９】
基板に所定の処理を施す基板処理部と、前記基板処理部で所定の処理を施した基板を洗浄する基板洗浄装置とを備えた基板処理装置において、
前記基板洗浄装置は、請求項１乃至８のいずれか１項に記載の基板洗浄装置であることを特徴とする基板処理装置。
【請求項１０】
前記基板処理部は、基板を研磨する研磨部からなることを特徴とする請求項９記載の基板処理装置。
【請求項１１】
基板を回転させ、回転する基板に洗浄部材を接触させつつ基板を洗浄する基板洗浄方法において、
前記洗浄部材に接触して洗浄部材を自己洗浄するセルフクリーニング部材を、前記洗浄部材を支持するアームに設け、
前記セルフクリーニング部材を前記洗浄部材に接触させる位置と前記洗浄部材から離間させる位置との間で直線状に移動させる直線移動機構を、前記洗浄部材を支持する前記アームに設け、
前記洗浄部材を回転する基板に接触させて基板を洗浄している間に、前記直線移動機構を作動させ、前記セルフクリーニング部材を前記洗浄部材に対して直線状に移動させることにより前記セルフクリーニング部材を前記洗浄部材に接触させて前記洗浄部材を自己洗浄することを特徴とする基板洗浄方法。
【請求項１２】
前記基板の洗浄後に、前記洗浄部材を基板から離間させて待機位置に移動させ、
前記待機位置において待機中の前記洗浄部材にセルフクリーニング部材を接触させて洗浄部材を自己洗浄することを特徴とする請求項１１記載の基板洗浄方法。
【請求項１３】
前記洗浄部材の自己洗浄中に、前記洗浄部材と前記セルフクリーニング部材との接触部に洗浄液を供給することが可能であることを特徴とする請求項１１または１２記載の基板洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウェハ等の基板を洗浄する基板洗浄装置に係り、特に基板に当接して基板を洗浄する洗浄部材を自己洗浄するセルフクリーニング機能を有した基板洗浄装置および方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、半導体製造装置、特に化学機械研磨（ＣＭＰ）装置の洗浄装置では、研磨液等のパーティクルを効率よく落とすことができるというメリットがあるスクラブ洗浄が広く用いられている。スクラブ洗浄の中で、基板を傷つけない、研磨液等の汚れを吸い取ること、掻き出し効果が高いなどのメリットがあるロールスポンジでの基板洗浄が広く用いられている。
また、基板の表面を洗浄する際には、微細なパーティクルを除去するためにＰＶＡ（ポリビニルアルコール）スポンジが用いられ、基板の裏面を洗浄する際には、基板保持装置としてのトップリングで基板を保持した時、基板がメンブレンに接して基板との結合力によって汚れが付着するため、繊維を樹脂等で固め、表面に繊維の隙間によって微細な孔が形成された不織布で形成されたスポンジが用いられる場合もある。
【０００３】
これらロールスポンジ等からなる洗浄部材によるスクラブ洗浄においては、洗浄部材を基板に直接接触させるため、洗浄部材自体の汚染が洗浄効果を左右する要因となる。洗浄部材の汚染が進むと、基板から汚染物質を除去する一方で、洗浄部材に堆積した汚染物質が基板を汚染してしまい、洗浄効果が得られなくなってしまうことがある。これらの現象は逆汚染と呼ばれており、逆汚染をできるだけ防ぐことが課題となっている。そのため、現在逆汚染を防ぐ試みがなされている。
逆汚染防止の手段の１つとして洗浄部材が汚染されても交換せずに、洗浄部材自体を清浄化するという自己洗浄（セルフクリーニング）という方法が利用されている。
【０００４】
現在用いられているセルフクリーニング方法には、主に２つの方法がある。
第１の方法は、ロールスポンジの内側から外側に洗浄液を通すことによりロールスポンジを洗浄するインナーリンスと呼ばれる方法である。この方法は、洗浄液で洗い流すシンプルな方法であり、ロール洗浄機の構造やロールの位置に関係なく任意に実施できることと、スポンジに対して余計なダメージを与えないというメリットがある。
第２の方法は、ロールスポンジが基板上から待避する構造のロール洗浄機において、ロールスポンジの待避位置に洗浄板を設けることで、ロールスポンジの待避中にロールスポンジを洗浄板に擦り付けて擦り洗いする方法である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平０９−０９２６３３号公報
【特許文献２】特開平１０−３２３６３１号公報
【特許文献３】特表２００８−５４１４１３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上述した２つのセルフクリーニング方法のうち、ロールスポンジの内側から外側に洗浄液を通すことにより洗浄するインナーリンスと呼ばれる方法では、ロールスポンジの目に詰まった汚れを落とす効果が低く、クリーニング効果が低いという問題点がある。
また、ロールスポンジの待避位置においてロールスポンジを洗浄板に擦り付けて洗浄する方法では、ロールスポンジが待避位置にあるときにしかクリーニングできないという問題点がある。さらに、ロールスポンジが待避位置にあるときは常に洗浄板に押し当てられ、ロールスポンジの待機中にセルフクリーニングを中止しようとしても中止することができない。すなわち、セルフクリーニング時間を任意にコントロールできないという問題点がある。待機時間が長い運用の場合は、ロールスポンジの早期摩耗が起こるという問題点がある。
【０００７】
本発明は、上述の事情に鑑みなされたもので、ロールスポンジ等の洗浄部材の位置や状態に関係なく任意のタイミングで洗浄部材のセルフクリーニングを実施でき、洗浄部材を清浄に保つことができ、洗浄部材の長寿命化が期待できる基板洗浄装置および方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上述の目的を達成するため、本発明の基板洗浄装置は、基板を回転させ、回転する基板に洗浄部材を接触させつつ基板を洗浄する基板洗浄装置において、前記洗浄部材を支持するアームに設けられ、前記洗浄部材に接触して洗浄部材を自己洗浄するセルフクリーニング部材と、前記洗浄部材を支持する前記アームに設けられ、前記セルフクリーニング部材を前記洗浄部材に接触させる位置と前記洗浄部材から離間させる位置との間で直線状に移動させる直線移動機構とを備え、前記洗浄部材を回転する基板に接触させて基板を洗浄している間に、前記直線移動機構を作動させ、前記セルフクリーニング部材を前記洗浄部材に対して直線状に移動させることにより前記セルフクリーニング部材を前記洗浄部材に接触させて前記洗浄部材を自己洗浄することを特徴とする。
【０００９】
本発明によれば、洗浄部材を支持するアームに、セルフクリーニング部材と該セルフクリーニング部材を移動させる直線移動機構とを設けたため、基板の洗浄中に、直線移動機構を作動させ、セルフクリーニング部材を洗浄部材に接触させて洗浄部材のセルフクリーニングを実施することができる。また、洗浄部材の位置（洗浄位置または待機位置）や状態（洗浄中または待機中）に関係なく、任意のタイミングで、直線移動機構を作動させ、セルフクリーニング部材を洗浄部材に接触させて洗浄部材のセルフクリーニングを実施することができる。
【００１０】
本発明の好ましい態様によれば、前記洗浄部材はロールスポンジからなることを特徴とする。
本発明によれば、ロールスポンジで基板を洗浄するので、基板を傷つけることなく、研磨液等の汚れを吸い取ることができるとともに高い汚れ掻き出し効果で基板洗浄を行うことができる。
【００１１】
本発明の好ましい態様によれば、前記セルフクリーニング部材は、取付部材を介して前記アームに取り付けられていることを特徴とする。
本発明によれば、セルフクリーニング部材は取付部材によってアームに取り付けられ、直線移動機構は直接に又は取付部材等を介してアームに取り付けられている。
【００１２】
本発明の好ましい態様によれば、前記セルフクリーニング部材は、前記アームに設けられた前記直線移動機構に取り付けられていることを特徴とする。
本発明によれば、セルフクリーニング部材は直線移動機構に取り付けられ、直線移動機構は直接に又は取付部材等を介してアームに取り付けられている。
【００１３】
本発明の好ましい態様によれば、前記セルフクリーニング部材は洗浄板からなることを特徴とする。
本発明によれば、セルフクリーニング部材を構成する洗浄板は、例えば、平滑な表面を有している。
【００１４】
本発明によれば、直線移動機構は、エアシリンダー又は電動シリンダー等の直線移動機構から構成されている。
【００１５】
本発明の好ましい態様によれば、前記直線移動機構は防水性の筐体に収容され、前記筐体には、前記直線移動機構の移動部の移動動作を許容するための孔が形成されていることを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記筐体の孔の周囲および前記直線移動機構の移動部を囲むように蛇腹を設けたことを特徴とする。
本発明によれば、直線移動機構を防水性の筐体に収容しかつ直線移動機構の移動部を蛇腹で囲んでいるため、直線移動機構および直線移動機構の移動部に洗浄液（薬液）が付着することを防止することができ、洗浄液後の付着に起因する直線移動機構の作動不良を防止することができる。
【００１６】
本発明の好ましい態様は、前記洗浄部材を支持する前記アームに設けられ、前記洗浄部材と前記セルフクリーニング部材との接触部に洗浄液を供給するノズルを備えたことを特徴とする。
本発明によれば、洗浄部材のセルフクリーニング中に、セルフクリーニング液としての洗浄液を供給することができ、セルフクリーニング効果を高めることができる。セルフクリーニング液としての洗浄液には、純水や薬液を用いることができる。
【００１７】
本発明の基板処理装置は、基板に所定の処理を施す基板処理部と、前記基板処理部で所定の処理を施した基板を洗浄する基板洗浄装置とを備えた基板処理装置において、前記基板洗浄装置は、請求項１乃至８のいずれか１項に記載の基板洗浄装置であることを特徴とする。
本発明の好ましい態様によれば、前記基板処理部は、基板を研磨する研磨部からなることを特徴とする。
【００１８】
本発明の基板洗浄方法の一態様は、基板を回転させ、回転する基板に洗浄部材を接触させつつ基板を洗浄する基板洗浄方法において、前記洗浄部材に接触して洗浄部材を自己洗浄するセルフクリーニング部材を、前記洗浄部材を支持するアームに設け、前記セルフクリーニング部材を前記洗浄部材に接触させる位置と前記洗浄部材から離間させる位置との間で直線状に移動させる直線移動機構を、前記洗浄部材を支持する前記アームに設け、前記洗浄部材を回転する基板に接触させて基板を洗浄している間に、前記直線移動機構を作動させ、前記セルフクリーニング部材を前記洗浄部材に対して直線状に移動させることにより前記セルフクリーニング部材を前記洗浄部材に接触させて前記洗浄部材を自己洗浄することを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記基板の洗浄後に、前記洗浄部材を基板から離間させて待機位置に移動させ、前記待機位置において待機中の前記洗浄部材にセルフクリーニング部材を接触させて洗浄部材を自己洗浄することを特徴とする。
本発明の好ましい態様は、前記洗浄部材の自己洗浄中に、前記洗浄部材と前記セルフクリーニング部材との接触部に洗浄液を供給することが可能であることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１９】
本発明は、以下に列挙する効果を奏する。
（１）基板の洗浄中に、セルフクリーニング部材を洗浄部材に接触させて洗浄部材のセルフクリーニングを実施することができ、洗浄部材に汚れが蓄積することがない。したがって、洗浄部材を清浄に保つことができ、高い基板洗浄効果を期待できるとともに洗浄部材の長寿命化が期待できる。
（２）洗浄部材の位置（洗浄位置または待機位置）や状態（洗浄中または待機中）に関係なく、任意のタイミングで洗浄部材のセルフクリーニングを実施することができる。したがって、基板処理工程中、洗浄部材の洗浄のタイミングおよび洗浄時間を自由に設定することができる。また洗浄部材の摩耗を抑えつつ高いセルフクリーニング効果を得ることができ、洗浄部材の長寿命化が期待できる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】図１は、本発明の基板洗浄装置を備えた基板処理装置の全体構成を示す平面図である。
【図２】図２は、図１に示す基板処理装置に設置されている洗浄モジュールの第１の実施態様を示す図であり、洗浄モジュールの部分断面正面図である。
【図３】図３は、図１に示す基板処理装置に設置されている洗浄モジュールの第１の実施態様を示す図であり、洗浄モジュールの斜視図である。
【図４】図４は、図１に示す基板処理装置に設置されている洗浄モジュールの第２の実施態様を示す図であり、洗浄モジュールの部分断面正面図である。
【図５】図５は、図１に示す基板処理装置に設置されている洗浄モジュールの第３の実施態様を示す図であり、洗浄モジュールの部分断面正面図である。
【図６】図６は、図１に示す基板処理装置に設置されている洗浄モジュールの第４の実施態様を示す図であり、洗浄モジュールの部分断面正面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本発明に係る基板洗浄装置および方法の実施形態を図１乃至図６を参照して詳細に説明する。図１乃至図６において、同一または相当する構成要素には、同一の符号を付して重複した説明を省略する。
図１は、本発明の基板洗浄装置を備えた基板処理装置の全体構成を示す平面図である。図１に示すように、基板処理装置は、略矩形状のハウジング１を備えており、ハウジング１の内部は隔壁１ａ，１ｂによってロード／アンロード部２と研磨部３と洗浄部４とに区画されている。これらのロード／アンロード部２、研磨部３、および洗浄部４は、それぞれ独立に組み立てられ、独立に排気される。また、基板処理装置は、基板処理動作を制御する制御部５を備えている。
【００２２】
ロード／アンロード部２は、多数のウェハ（基板）をストックするウェハカセットが載置される２つ以上（本実施形態では４つ）のフロントロード部２０を備えている。これらのフロントロード部２０はハウジング１に隣接して配置され、基板処理装置の幅方向（長手方向と垂直な方向）に沿って配列されている。フロントロード部２０には、オープンカセット、ＳＭＩＦ（Standard  Manufacturing  Interface）ポッド、またはＦＯＵＰ（Front  Opening  Unified  Pod）を搭載することができるようになっている。ここで、ＳＭＩＦ、ＦＯＵＰは、内部にウェハカセットを収納し、隔壁で覆うことにより、外部空間とは独立した環境を保つことができる密閉容器である。
【００２３】
また、ロード／アンロード部２には、フロントロード部２０の並びに沿って走行機構２１が敷設されており、この走行機構２１上にウェハカセットの配列方向に沿って移動可能な２台の搬送ロボット（ローダー）２２が設置されている。搬送ロボット２２は走行機構２１上を移動することによってフロントロード部２０に搭載されたウェハカセットにアクセスできるようになっている。各搬送ロボット２２は上下に２つのハンドを備えており、上側のハンドは処理されたウェハをウェハカセットに戻すときに使用され、下側のハンドは処理前のウェハをウェハカセットから取り出すときに使用され、上下のハンドは使い分けることができるようになっている。さらに、搬送ロボット２２の下側のハンドは、その軸心周りに回転することで、ウェハを反転させることができるように構成されている。
【００２４】
ロード／アンロード部２は最もクリーンな状態を保つ必要がある領域であるため、ロード／アンロード部２の内部は、基板処理装置外部、研磨部３、および洗浄部４のいずれよりも高い圧力に常時維持されている。研磨部３は研磨液としてスラリーを用いるため最もダーティな領域である。したがって、研磨部３の内部には負圧が形成され、その圧力は洗浄部４の内部圧力よりも低く維持されている。ロード／アンロード部２には、ＨＥＰＡフィルタ、ＵＬＰＡフィルタ、またはケミカルフィルタなどのクリーンエアフィルタを有するフィルタファンユニット（図示せず）が設けられており、このフィルタファンユニットからはパーティクルや有毒蒸気、有毒ガスが除去されたクリーンエアが常時吹き出している。
【００２５】
研磨部３は、ウェハの研磨（平坦化）が行われる領域であり、第１研磨ユニット３Ａ、第２研磨ユニット３Ｂ、第３研磨ユニット３Ｃ、第４研磨ユニット３Ｄを備えている。これらの第１研磨ユニット３Ａ、第２研磨ユニット３Ｂ、第３研磨ユニット３Ｃ、および第４研磨ユニット３Ｄは、図１に示すように、基板処理装置の長手方向に沿って配列されている。
【００２６】
図１に示すように、第１研磨ユニット３Ａは、研磨面を有する研磨パッド１０が取り付けられた研磨テーブル３０Ａと、ウェハを保持しかつウェハを研磨テーブル３０Ａ上の研磨パッド１０に押圧しながら研磨するためのトップリング３１Ａと、研磨パッド１０に研磨液やドレッシング液（例えば、純水）を供給するための研磨液供給ノズル３２Ａと、研磨パッド１０の研磨面のドレッシングを行うためのドレッサ３３Ａと、液体（例えば純水）と気体（例えば窒素ガス）の混合流体または液体（例えば純水）を霧状にして研磨面に噴射するアトマイザ３４Ａとを備えている。
【００２７】
同様に、第２研磨ユニット３Ｂは、研磨パッド１０が取り付けられた研磨テーブル３０Ｂと、トップリング３１Ｂと、研磨液供給ノズル３２Ｂと、ドレッサ３３Ｂと、アトマイザ３４Ｂとを備えている。第３研磨ユニット３Ｃは、研磨パッド１０が取り付けられた研磨テーブル３０Ｃと、トップリング３１Ｃと、研磨液供給ノズル３２Ｃと、ドレッサ３３Ｃと、アトマイザ３４Ｃとを備えている。第４研磨ユニット３Ｄは、研磨パッド１０が取り付けられた研磨テーブル３０Ｄと、トップリング３１Ｄと、研磨液供給ノズル３２Ｄと、ドレッサ３３Ｄと、アトマイザ３４Ｄとを備えている。
【００２８】
図１に示すように、洗浄部４は、第１洗浄室１９０と、第１搬送室１９１と、第２洗浄室１９２と、第２搬送室１９３と、乾燥室１９４とに区画されている。第１洗浄室１９０内には、縦方向に沿って配列された上側一次洗浄モジュールおよび下側一次洗浄モジュールが配置されている。同様に、第２洗浄室１９２内には、縦方向に沿って配列された上側二次洗浄モジュールおよび下側二次洗浄モジュールが配置されている。乾燥室１９４内には、縦方向に沿って配列された上側乾燥モジュールおよび下側乾燥モジュールが配置されている。第１搬送室１９１には、上下動可能な第１搬送ロボットが配置され、第２搬送室１９３には、上下動可能な第２搬送ロボットが配置されている。
【００２９】
洗浄部４は、２台の一次洗浄モジュールおよび２台の二次洗浄モジュールを備えているので、複数のウェハを並列して洗浄する複数の洗浄ラインを構成することができる。洗浄ラインとは、洗浄部４の内部において、一つのウェハが複数の洗浄モジュールによって洗浄される際の移動経路のことである。例えば、１つのウェハを、２つの並列する洗浄ラインにより、複数（典型的には２枚）のウェハをほぼ同時に洗浄および乾燥することができる。
【００３０】
図２および図３は、図１に示す基板処理装置に設置されている洗浄モジュールの第１の実施態様を示す図である。図２は洗浄モジュールの部分断面正面図であり、図３は洗浄モジュールの斜視図である。
図２および図３に示すように、洗浄モジュール（基板洗浄装置）は、基板Ｗの周縁部を支持し基板Ｗを水平な状態で回転させる複数本のスピンドル４０と、スピンドル４０により回転される基板Ｗの表面に接触してスクラブ洗浄する洗浄部材を構成するロールスポンジ４１とを備えている。ロールスポンジ４１はロールアーム４２により保持されており、ロールスポンジ４１はその軸心の周りに回転するように構成されている。ロールスポンジ４１は、円柱状であって基板Ｗの直径より若干長いロールスポンジからなり、このロールスポンジ４１は基板の表面を洗浄する際に微細なパーティクルを除去しやすいＰＶＡ（ポリビニルアルコール）スポンジなどからなっている。
【００３１】
ロールアーム４２は、ロールスポンジ４１の上方でロールスポンジ４１の長手方向に沿って延びる長尺のアーム部４２aと、アーム部４２aの両端から下方に延びる支持部４２ｂとを備え、支持部４２ｂにロールスポンジ４１の両端が支持されている。ロールアーム４２のアーム部４２aには筐体４３が固定されており、筐体４３の内部にはアクチュエータ４５が収容されている。アクチュエータ４５は筐体４３に固定されており、ロールアーム４２の動きに応じて筐体４３とアクチュエータ４５とが一体に動くように構成されている。筐体４３は、洗浄液等の液体が内部に入らないように防水性の部材を用いることが好適である。
【００３２】
また、ロールアーム４２のアーム部４２aには、筐体４３を間に挟むように左右一対のブラケット等からなる取付部材４４が固定されている。取付部材４４には、平板状の洗浄板４８が取り付けられている。洗浄板４８は、石英板やサファイアガラス板などから構成されている。洗浄板４８は、ロールスポンジ４１に接触してロールスポンジ４１の回転に伴いロールスポンジ４１を自己洗浄するセルフクリーニング部材を構成している。また、取付部材４４には、洗浄板４８の直上に洗浄液供給ノズル４９が取り付けられている。洗浄液供給ノズル４９はロールスポンジ４１に沿って延びるパイプ状部材からなり、このパイプ状部材にはセルフクリーニング液としての洗浄液をロールスポンジ４１に供給するための多数の孔が一定の間隔をおいて形成されている。洗浄板４８と洗浄液供給ノズル４９はロールスポンジ４１よりわずかに長く設定され、ロールスポンジ４１に沿って延びている。なお、洗浄液供給ノズル４９は、ロールスポンジ４１の全体に洗浄液が供給できれば、ロールスポンジ４１より短くてもよい。
【００３３】
アクチュエータ４５は、エアシリンダーや電動シリンダーから構成され、洗浄板４８を前方に押して洗浄板４８をロールスポンジ４１に接触させるための前進位置と、洗浄板４８から後方に離間して洗浄板４８をロールスポンジ４１から離間させるための後退位置との間で移動するロッド４６を備えている。すなわち、アクチュエータ４５は、セルフクリーニング部材を構成する洗浄板４８をロールスポンジ４１に接触させる位置とロールスポンジ４１から離間させる位置との間で移動させる移動機構を構成している。ロッド４６が前進した際にロッド４６の先端が筐体４３と当たらないように筐体４３には孔が設けられている。この孔に該当する箇所には、洗浄液などの液体がロッド４６に触れないように、かつ液体が筐体４３内に入らないように、フッ素樹脂等からなる筒状の蛇腹を設けてもよい。この場合、筒状の蛇腹の一端は筐体４３の孔の周囲を囲むように筐体４３に固定され、蛇腹の他端は筐体４３のロッド４６の先端部に固定することが好ましい。アクチュエータ４５には、アクチュエータ４５を作動させるための空気配管（エアシリンダーの場合）や電気配線（電動シリンダーの場合）が接続されている。
【００３４】
図２および図３に示すように構成された洗浄モジュール（基板洗浄装置）においては、アクチュエータ４５が作動してロッド４６が前進したとき、ロッド４６が洗浄板４８を押し、洗浄板４８がロールスポンジ４１に当接する。このとき、ロールスポンジ４１と洗浄板４８との接触部には、洗浄液供給ノズル４９より洗浄液（セルフクリーニング液）が供給される。これにより、洗浄液がロールスポンジ４１と洗浄板４８との間に介在した状態で、洗浄板４８がロールスポンジ４１に接触してロールスポンジ４１の回転に伴いロールスポンジ４１を自己洗浄する。
【００３５】
ロールスポンジ４１の自己洗浄を終了させる際には、アクチュエータ４５によりロッド４６を後退させることでロッド４６を洗浄板４８から離間させる。取付部材４４は、例えば、板バネ等から構成されていて復元性があり、ロッド４６が後退してロッド４６の押圧力がなくなると、取付部材４４は元の位置に戻るように構成されている。取付部材４４が元の位置に戻ると洗浄板４８がロールスポンジ４１から離間し、ロールスポンジ４１の自己洗浄を終了させることができる。洗浄板４８をアクチュエータ４５により直接に元の位置に戻るように構成してもよい。
【００３６】
なお、図２および図３では図示していないが、基板Ｗの裏面側に、基板Ｗの裏面洗浄用の洗浄モジュールが設けられており、ロールスポンジ、ロールスポンジを支持するロールアーム、ロールスポンジを自己洗浄するセルフクリーニング部材等の構成は、図２および図３に示すものと同様である。
【００３７】
図４は、図１に示す基板処理装置に設置されている洗浄モジュールの第２の実施態様を示す図である。図４は洗浄モジュールの部分断面正面図であり、図２に対応した図である。
図４に示す洗浄モジュール（基板洗浄装置）では、アクチュエータ４５のロッド４６の先端に洗浄板４８と洗浄液供給ノズル４９とを取り付けている。洗浄板４８と洗浄液供給ノズル４９は、ロールスポンジ４１よりわずかに長く設定され、ロールスポンジ４１に沿って延びている。洗浄液供給ノズル４９は、洗浄板４８の上方に位置するようにロッド４６に取り付けられている。スピンドル４０、ロールスポンジ４１、ロールアーム４２、筐体４３等の構成は、図２および図３に示す洗浄モジュールと同様である。
【００３８】
図４に示すように構成された洗浄モジュールにおいては、アクチュエータ４５が作動してロッド４６が前進したとき、洗浄板４８がロールスポンジ４１に当接する。このとき、ロールスポンジ４１と洗浄板４８との接触部には、洗浄液供給ノズル４９より洗浄液（セルフクリーニング液）が供給される。これにより、洗浄液がロールスポンジ４１と洗浄板４８との間に介在した状態で、洗浄板４８がロールスポンジ４１に接触してロールスポンジ４１の回転に伴いロールスポンジ４１を自己洗浄する。ロールスポンジ４１の自己洗浄を終了させる際には、アクチュエータ４５によりロッド４６を後退させることで洗浄板４８がロールスポンジ４１から離間し、ロールスポンジ４１の自己洗浄を終了させることができる。
【００３９】
図５は、図１に示す基板処理装置に設置されている洗浄モジュールの第３の実施態様を示す図である。図５は洗浄モジュールの部分断面正面図であり、図２に対応した図である。
図５に示す洗浄モジュール（基板洗浄装置）では、アクチュエータ４５のロッド４６の先端に洗浄板４８と洗浄液供給ノズル４９とを取り付けている。また、ロールアーム４２に取付部材５０を介してアクチュエータ４５を取り付けることにより、ロールアーム４２とアクチュエータ４５とを連結（一体化）している。本実施態様では、ロールアーム４２とアクチュエータ４５が一体となっているので、装置の省スペース化を図ることができる。スピンドル４０、ロールスポンジ４１、ロールアーム４２、洗浄板４８、洗浄液供給ノズル４９等の構成は、図４に示す洗浄モジュールと同様である。
【００４０】
図５に示すように構成された洗浄モジュールにおいては、アクチュエータ４５が作動してロッド４６が前進したとき、洗浄板４８がロールスポンジ４１に当接する。このとき、ロールスポンジ４１と洗浄板４８との接触部には、洗浄液供給ノズル４９より洗浄液（セルフクリーニング液）が供給される。これにより、洗浄液がロールスポンジ４１と洗浄板４８との間に介在した状態で、洗浄板４８がロールスポンジ４１に接触してロールスポンジの回転に伴いロールスポンジ４１を自己洗浄する。ロールスポンジ４１の自己洗浄を終了させる際には、アクチュエータ４５によりロッド４６を後退させることで洗浄板４８がロールスポンジ４１から離間し、ロールスポンジ４１の自己洗浄を終了させることができる。
【００４１】
図６は、図１に示す基板処理装置に設置されている洗浄モジュールの第４の実施態様を示す図である。図６は洗浄モジュールの部分断面正面図であり、図２に対応した図である。
図６に示す洗浄モジュール（基板洗浄装置）では、アクチュエータ４５のロッド４６の先端に洗浄板４８と洗浄液供給ノズル４９とを取り付けている。また、ロールアーム４２に直接にアクチュエータ４５を取り付けることにより、ロールアーム４２とアクチュエータ４５とを連結（一体化）している。本実施態様では、ロールアーム４２とアクチュエータ４５が一体となっているので、装置の省スペース化を図ることができる。スピンドル４０、ロールスポンジ４１、ロールアーム４２、洗浄板４８、洗浄液供給ノズル４９等の構成は、図４に示す洗浄モジュールと同様である。
【００４２】
図６に示すように構成された洗浄モジュールにおいては、アクチュエータ４５が作動してロッド４６が前進したとき、洗浄板４８がロールスポンジ４１に当接する。このとき、ロールスポンジ４１と洗浄板４８との接触部には、洗浄液供給ノズル４９より洗浄液（セルフクリーニング液）が供給される。これにより、洗浄液がロールスポンジ４１と洗浄板４８との間に介在した状態で、洗浄板４８がロールスポンジ４１に接触してロールスポンジ４１の回転に伴いロールスポンジ４１を自己洗浄する。ロールスポンジ４１の自己洗浄を終了させる際には、アクチュエータ４５によりロッド４６を後退させることで洗浄板４８がロールスポンジ４１から離間し、ロールスポンジ４１の自己洗浄を終了させることができる。
【００４３】
次に、図２乃至図６に示すように構成された洗浄モジュールによる基板洗浄工程およびセルフクリーニング工程について説明する。
複数本のスピンドル４０が互いに離間する方向に移動した状態で、基板Ｗが供給されると、複数本のスピンドル４０が前進し、基板Ｗの周縁部はスピンドル４０の上端のローラにより保持される。すなわち、図２および図３に示すように、基板Ｗはスピンドル４０により水平に保持された状態になる。このとき、ロールスポンジ４１は待機位置（後述する）にある。複数のスピンドル４０のうち、モータに連結されているスピンドル４０を回転駆動することにより、基板Ｗに回転力を付与し、基板Ｗを回転させた状態でロールアーム４２を移動させ、ロールスポンジ４１を待機位置から洗浄位置に移動させる。すなわち、図２および図３に示すように、ロールスポンジ４１を回転させつつ基板Ｗの表面（上面）に接触させる。このとき、アクチュエータ４５、洗浄板４８および洗浄液供給ノズル４９は、ロールアーム４２に設けられているため、ロールアーム４２とともに移動する。
【００４４】
このように基板Ｗを回転させた状態で、図示されない洗浄液供給ノズルから基板Ｗの表面（上面）に洗浄液を供給しながら、ロールスポンジ４１を回転させつつ基板Ｗの表面に接触させる。これによって、洗浄液の存在下で基板Ｗの表面をロールスポンジ４１によりスクラブ洗浄する。
【００４５】
上記洗浄工程中に、移動機構を構成するアクチュエータ４５を作動させ、セルフクリーニング部材を構成する洗浄板４８をロールスポンジ４１に接触させ、ロールスポンジ４１のセルフクリーニングを行う。なお、洗浄液供給ノズル４９からセルフクリーニング液をロールスポンジ４１と洗浄板４８との接触部に供給するようにしてもよい。このセルフクリーニングは、洗浄開始から洗浄終了までのいずれのタイミングで開始してもよい。また、セルフクリーニング時間も洗浄開始から洗浄終了までの間で任意に設定できる。
【００４６】
洗浄終了後に、ロールアーム４２を移動させ、ロールスポンジ４１を洗浄位置から待機位置に移動させる。アクチュエータ４５、洗浄板４８および洗浄液供給ノズル４９は、ロールアーム４２に設けられているため、ロールアーム４２とともに移動する。
ロールスポンジ４１の待機位置は、スピンドル４０により保持された基板Ｗの側方（横方向）又は上方（縦方向）にある。待機位置が側方にある場合には、ロールスポンジ４１は、洗浄位置から上昇した後に水平方向に移動して待機位置に到達し、待機位置で待機する。待機位置が上方にある場合には、ロールスポンジ４１は、洗浄位置から待機位置に上昇し、待機位置で待機する。なお、待機位置が側方にある場合に、ロールスポンジ４１は、洗浄位置から上昇した後に水平方向に移動し、その後、下降して待機位置に到達し、待機位置で待機する場合もある。
【００４７】
上記待機工程中に、移動機構を構成するアクチュエータ４５を作動させ、セルフクリーニング部材を構成する洗浄板４８をロールスポンジ４１に接触させ、かつ洗浄液供給ノズル４９からセルフクリーニング液をロールスポンジ４１と洗浄板４８との接触部に供給し、ロールスポンジ４１のセルフクリーニングを行う。このセルフクリーニングは、ロールスポンジ４１が待機位置で待機を開始してから待機を終了するまでのいずれのタイミングで開始してもよい。また、セルフクリーニング時間も待機開始から待機終了までの間で任意に設定できる。
【００４８】
なお、基板Ｗの裏面洗浄用のロールスポンジは、基板Ｗの下方に、待機位置がある。したがって、ロールスポンジは昇降動作のみで洗浄位置と待機位置との間を往復する。この場合、洗浄位置および待機位置におけるロールスポンジのセルフクリーニングは、基板Ｗの表面洗浄用のロールスポンジ４１と同様に行われる。
【００４９】
図２乃至図６に示す実施態様において、ロールスポンジ４１の長さは基板Ｗの直径より若干長く、洗浄板４８の長さは、ロールスポンジ４１の洗い残しを防ぐためにロールスポンジ４１の長さよりも長いことが好ましい。本実施態様では、基板の直径が３００ｍｍに対し、ロールスポンジ４１の長さは３０９ｍｍに設定されている。
図２乃至図６に示す実施態様では、基板を洗浄する洗浄部材はロールスポンジを用いているが、ロールスポンジ以外の洗浄部材でもよい。また、ロールスポンジ４１を洗浄するために洗浄液供給ノズル４９を設けているが、洗浄液供給ノズル４９を設けずに洗浄板４８等からなるセルフクリーニング部材のみを設けた装置であってもよい。
図２乃至図６に示す実施態様では、セルフクリーニング部材を移動させる移動機構として、直線移動機構を例示したが、セルフクリーニング部材を回転移動させるロータリーアクチュエータ等の回転移動機構であってもよい。
【００５０】
これまで本発明の実施形態について説明したが、本発明は上述の実施形態に限定されず、その技術思想の範囲内において、種々の異なる形態で実施されてよいことは勿論である。
【符号の説明】
【００５１】
１ａ，１ｂ  隔壁
２  ロード／アンロード部
３  研磨部
３Ａ  第１研磨ユニット
３Ｂ  第２研磨ユニット
３Ｃ  第３研磨ユニット
３Ｄ  第４研磨ユニット
４  洗浄部
１０  研磨パッド
２０  フロントロード部
２１  走行機構
２２  搬送ロボット（ローダー）
３０Ａ，３０Ｂ，３０Ｃ，３０Ｄ  研磨テーブル
３１Ａ，３１Ｂ，３１Ｃ，３１Ｄ  トップリング
３２Ａ，３２Ｂ，３２Ｃ，３２Ｄ  研磨液供給ノズル
３３Ａ，３３Ｂ，３３Ｃ，３３Ｄ  ドレッサ
３４Ａ，３４Ｂ，３４Ｃ，３４Ｄ  アトマイザ
４０  スピンドル
４１  ロールスポンジ
４２  ロールアーム
４３  筐体
４４  取付部材
４５  アクチュエータ
４６  ロッド
４８  洗浄板
４９  洗浄液供給ノズル
５０  取付部材
１９０  第一洗浄室
１９１  第一搬送室
１９２  第二洗浄室
１９３  第二搬送室
１９４  乾燥室
Ｗ  基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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