(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、前記基材の少なくとも一方の面に設けられた微細凹凸構造層とを有する構造体を備えた光学物品であって、
前記構造体は、前記微細凹凸構造層が前記構造体の表面に配置されており、
前記構造体の押し込み弾性率が１〜１３００ＭＰａであり、且つ以下の式（１）で表される前記構造体表面の動摩擦係数の変化率の比（Δμ）が、０．１５〜１．０５であり、
前記微細凹凸構造層が、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物を含み、
前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が、オキシエチレン基を有する（メタ）アクリレートを含み、
前記オキシエチレン基を有する（メタ）アクリレートが、ポリエチレングリコールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートのエチレンオキシド付加物、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキシド変性トリアクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド変性トリアクリレート、グリセリンエチレンオキシド変性トリアクリレート、及びポリグリセリンエチレンオキシド変性ポリアクリレートからなる群より選択される少なくとも１つであり、
前記オキシエチレン基を有する（メタ）アクリレートの含有量が、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物中の重合性成分１００質量部に対して、７０〜１００質量部である、光学物品。
Δμ＝Δμｆ／Δμｓ  ・・・（１）
（式（１）において、Δμｓは、構造体表面の往復摩耗試験における初期摩耗の段階の動摩擦係数の変化率を表し、Δμｆは、構造体表面の往復摩耗試験における試験終了直前の動摩擦係数の変化率を表す。）
【請求項２】
前記微細凹凸構造層の隣り合う凸部同士の平均間隔が４００ｎｍ以下であり、凸部のアスペクト比が０．７〜１．４である請求項１に記載の光学物品。
【請求項３】
前記微細凹凸構造層の隣り合う凸部同士の平均間隔が１２０〜２５０ｎｍである、請求項１に記載の光学物品。
【請求項４】
前記式（１）で表される構造体表面の動摩擦係数の変化率の比が、０．３〜１．０である、請求項１に記載の光学物品。
【請求項５】
前記式（１）で表される構造体表面の動摩擦係数の変化率の比が、０．６〜０．９である、請求項１に記載の光学物品。
【請求項６】
前記構造体表面の動摩擦係数が０．５５以下である、請求項１に記載の光学物品。
【請求項７】
前記構造体表面の動摩擦係数が０．３８〜０．５である、請求項１に記載の光学物品。
【請求項８】
前記構造体の押し込み弾性率が１６０〜３００ＭＰａである、請求項１に記載の光学物品。
【請求項９】
前記基材と、前記微細凹凸構造層との間に、さらに中間層を含む、請求項１に記載の光学物品。
【請求項１０】
前記中間層が、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物を含み、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が、エステル（メタ）アクリレート、及びウレタン（メタ）アクリレートからなる群より選択される少なくとも１つの（メタ）アクリレートを含む、請求項９に記載の光学物品。
【請求項１１】
前記基材が光透過性基材である、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の光学物品。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載の光学物品の製造方法であって、ナノインプリント法により微細凹凸構造層を形成する工程を含む、光学物品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学物品及びその製造方法に関する。本発明は、２０１３年９月１８日に日本国に出願された特願２０１３−１９３２１５号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
【背景技術】
【０００２】
微細凹凸構造を表面に有する構造体は、連続的な屈折率の変化によって反射防止性能を発現することが知られている。また、微細凹凸構造体は、ロータス効果によって超撥水性能を発現することも可能である。【０００３】
微細凹凸構造が良好な反射防止性能を発現するためには、隣り合う凸部または凹部の間隔が可視光線の波長以下である必要があるが、このような微細凹凸構造を表面に有する構造体の製造方法としては、例えば、下記の工程（ｉ）〜（ｉｉｉ）を有する、いわゆるナノインプリント法が知られている。
（ｉ）微細凹凸構造の反転構造を表面に有するモールドと基材との間に、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を挟む工程。
（ｉｉ）前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に紫外線等の活性エネルギー線を照射し、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させる工程。
（ｉｉｉ）硬化物とモールドとを分離する工程。【０００４】
しかし、微細凹凸構造を表面に有する構造体は、前記微細凹凸構造を形成する材料と同じ材料で作製した、表面が平滑なハードコート層を有する構造体に比べて耐擦傷性に劣り、ナノオーダーの突起が損傷を受けやすいことや、表面に付着した汚れを拭き取る作業を繰り返し実施することで突起が擦り減り、反射防止性能が低下しやすいといった問題を生じる。【０００５】
微細凹凸構造を表面に有する構造体の、耐擦傷性を向上させる方法としては、前記微細凹凸構造を形成する材料に潤滑剤を含有させ、表面を滑りやすくしてナノオーダーの突起が傷付くのを防ぐ方法が挙げられる。【０００６】
しかし、潤滑剤はしばしば構造体表面に染み出してくる場合があり、これによって、表面の反射率やヘイズ値が上昇し、反射防止性能が低下するといった問題を生じる。【０００７】
また、微細凹凸構造の形成に、柔軟な樹脂組成物を用いることで、ナノオーダーの突起に弾力性を付与し、荷重を受け流すという方法も提案されている（特許文献１）。【０００８】
しかし、特許文献１のように、ナノオーダーの突起に弾力性を付与させた場合は、表面にべたつきが生じやすくなって摩擦力が高くなり、汚れを拭き取るために強い力が必要となる。しかも、強い力で汚れを拭き取ると、ナノオーダーの突起が損傷を受けやすくなり、反射防止性能の低下につながるといった問題を生じる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２０１２−１６３７２３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は前記事情に鑑みてなされたものであり、反射防止性能及び耐擦傷性に優れた構造体、及び反射防止性能及び耐擦傷性に優れた構造体の製造方法の提供を課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者らは、耐擦傷性と動摩擦係数の推移とに着目し鋭意検討した結果、往復摩耗試験において初期摩耗の段階が長く維持されるほど、優れた耐擦傷性を有する構造体であることを見出した。そして、本発明者らは、微細凹凸構造を形成する材料の弾性率を制御し、前記微細凹凸構造を有する面に対して往復摩耗試験を実施した際の、動摩擦係数の上昇を所定の範囲内に抑えることで、反射防止性能等の光学性能を損なうことなく、耐擦傷性に優れた構造体を得ることができることを見出し、本発明を完成するに至った。【００１２】
すなわち、本発明は以下の態様を有する。
［１］基材と、前記基材の少なくとも一方の面に設けられた微細凹凸構造層とを有する構造体であって、
前記微細凹凸構造層は前記構造体の表面に配置されており、
前記構造体の押し込み弾性率が１〜１３００ＭＰａであり、且つ以下の式（１）で表される前記構造体表面の動摩擦係数の変化率の比（Δμ）が、０．１５〜１．０５である、構造体。
Δμ＝Δμｆ／Δμｓ  ・・・（１）
（式（１）において、Δμｓは、構造体表面の往復摩耗試験における初期摩耗の段階の動摩擦係数の変化率を表し、Δμｆは、構造体表面の往復摩耗試験における試験終了直前の動摩擦係数の変化率を表す。）
［２］前記微細凹凸構造層の隣り合う凸部同士の平均間隔が４００ｎｍ以下であり、凸部のアスペクト比が０．７〜１．４である［１］に記載の構造体。
［３］前記微細凹凸構造層の隣り合う凸部同士の平均間隔が１２０〜２５０ｎｍである、［１］に記載の構造体。
［４］前記微細凹凸構造層が、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物を含み、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が、少なくともオキシエチレン基を有する（メタ）アクリレートを含むことを特徴とする、［１］〜［３］のいずれか一項に記載の構造体。
［５］前記式（１）で表される構造体表面の動摩擦係数の変化率の比が、０．３〜１．０である、［１］〜［４］のいずれか一項に記載の構造体。
［６］前記式（１）で表される構造体表面の動摩擦係数の変化率の比が、０．６〜０．９である、［１］〜［５］のいずれか一項に記載の構造体。
［７］前記構造体表面の動摩擦係数が０．５５以下である、［１］〜［６］のいずれか一項に記載の構造体。
［８］前記構造体表面の動摩擦係数が０．３８〜０．５である、［１］〜［７］のいずれか一項に記載の構造体。
［９］前記構造体の押し込み弾性率が１６０〜３００ＭＰａである、［１］〜［８］のいずれか一項に記載の構造体。
［１０］前記基材と、前記微細凹凸構造層との間に、さらに中間層を含む、［１］〜［９］のいずれか一項に記載の構造体。
［１１］前記中間層が、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物を含み、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が、エステル（メタ）アクリレート、及びウレタン（メタ）アクリレートからなる群より選択される少なくとも１つの（メタ）アクリレートを含む、［１０］に記載の構造体。
［１２］前記基材が光透過性基材である、［１］〜［１１］のいずれか一項に記載の構造体。
［１３］［１］〜［１２］のいずれか一項に記載の構造体を備える、物品。
［１４］［１］〜［１２］のいずれか一項に記載の構造体の製造方法であって、ナノインプリント法により微細凹凸構造層を形成する工程を含む、構造体の製造方法。
【発明の効果】
【００１３】
本発明は、反射防止性能等の光学性能を損なうことなく、耐擦傷性に優れた構造体及びその製造方法、並びに前記構造体を備える物品を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の構造体の一例を示す断面図である。
【図２】陽極酸化アルミナを表面に有するモールドの製造工程を示す断面図である。
【図３】本発明の構造体の製造装置の一例を示す構成図である。
【図４】往復摩耗試験の結果から得られる、往復回数と動摩擦係数との関係図の一例である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下本発明を詳細に説明する。
なお、本明細書において、「表層」とは構造体の表面に配置される微細凹凸構造層を意味する。
また、本明細書における「活性エネルギー線」とは、可視光線、紫外線、電子線、プラズマ、熱線（赤外線等）等を意味する。
また、本明細書における「（メタ）アクリレート」は、アクリレート及びメタクリレートの総称であり、「（メタ）アクリル酸」は、アクリル酸及びメタクリル酸の総称であり、「（メタ）アクリロニトリル」は、アクリロニトリル及びメタクリロニトリルの総称であり、「（メタ）アクリルアミド」は、アクリルアミド及びメタクリルアミドの総称である。
【００１６】
図１においては、各層を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、縮尺を異ならせてある。
また、図２及び図３において、図１と同じ構成要素には同一の符号を付して、その説明を省略する場合がある。
【００１７】
＜構造体＞
本発明の構造体は、基材と、前記基材の少なくとも一方の面に設けられた微細凹凸構造層とを有する。
微細凹凸構造層は、構造体の少なくとも一方の表面に配置されていればよく、両方の表面に配置されていてもよい。後述のように、構造体の表面に微細凹凸構造層を有することにより、優れた反射防止性能を備えることができる。
図１は、本発明の構造体の一例を示す断面図である。構造体１０は、基材１２上に微細凹凸構造層１４を積層して構成され、微細凹凸構造層１４は、基材と接する面と反対の表面に微細凹凸構造を有している。
本発明の構造体は、押し込み弾性率が１〜１３００ＭＰａである。また、以下の式（１）で表される構造体表面の動摩擦係数の変化率の比（Δμ）が、０．１５〜１．０５である。
Δμ＝Δμｆ／Δμｓ  ・・・（１）
（式（１）において、Δμｓは、構造体表面の往復摩耗試験における初期摩耗の段階の動摩擦係数の変化率を表し、Δμｆは、構造体表面の往復摩耗試験における試験終了直前の動摩擦係数の変化率を表す。）
このことにより、本発明の構造体は優れた耐擦傷性能を備えることを特徴とする。
【００１８】
「微細凹凸構造層」
微細凹凸構造層は、少なくとも一方の表面に微細凹凸構造を有する層である。
微細凹凸構造の凹部及び凸部の形状は本発明の効果を有する限り特に限定されるものではないが、略円錐形状、角錐形状等の突起（凸部）が複数並んだ、いわゆるモスアイ構造あるいはその反転構造が好ましい。特に、隣り合う凸部同士の平均間隔が可視光の波長（４００ｎｍ）以下であるモスアイ構造の場合、空気の屈折率から材料の屈折率へと連続的に屈折率が増大していくため、反射防止の手段として有効である。
【００１９】
微細凹凸構造層の、隣り合う凸部同士の平均間隔（以下、「凸部のピッチ」という場合がある。）は、可視光の波長以下、すなわち４００ｎｍ以下が好ましい。凸部のピッチが４００ｎｍ以下であれば、反射率が低く、かつ反射率の波長依存性が少ない。凸部のピッチは、凸部構造の形成のしやすさの点から、１２０〜３８０ｎｍがより好ましく、１４０〜２６０ｎｍが更に好ましく、１６０〜２００ｎｍが最も好ましい。
なお、隣り合う凸部同士の平均間隔は、電子顕微鏡によって本発明の構造体の断面図を観察し、隣り合う凸部同士の間隔（凸部の中心から隣接する凸部の中心までの距離）を５０点測定し、これらの値を平均することで算出することができる。
【００２０】
微細凹凸構造層の凸部の平均高さは、１００〜３００ｎｍが好ましく、１２０〜２５０ｎｍがより好ましく、１５０〜２２０ｎｍが特に好ましく、１６０〜１９０ｎｍが最も好ましい。凸部の平均高さが１００ｎｍ以上であれば、反射率が低く、かつ反射率の波長依存性が少ない。また、凸部の平均高さが３００ｎｍ以下であれば、凸部同士が接触して合一する現象を抑えやすくなり好ましい。なお、凸部の平均高さは、前述の電子顕微鏡によって構造体の断面図を倍率３００００倍で観察したときにおける、凸部の最頂部と、凸部間に存在する凹部の最底部との間の距離を５０点測定し、これらの値を平均することで算出することができる。
【００２１】
また、凸部のアスペクト比（凸部の平均高さ／隣り合う凸部同士の平均間隔）は、０．８〜５が好ましく、０．７〜１．４がより好ましく、０．８〜１．２がさらに好ましい。凸部のアスペクト比が０．８以上であれば、反射率が十分に低くなる。凸部のアスペクト比が５以下であれば、凸部の耐擦傷性が良好となる。
【００２２】
「基材」
基材は、微細凹凸構造層を支持する支持体である。形状は適宜選択でき、シート状でもよく、フィルム状でもよい。ここで、シート状とは、厚さが２００μｍ超のものを意味し、フィルム状とは厚さが２００μｍ以下のものを意味する。また、基材は、射出成形体でもよく、押出成形体でもよく、キャスト成形体でもよい。
基材の材料としては、例えばアクリル系樹脂（ポリメチルメタクリレート等）、ポリカーボネート、スチレン（共）重合体、メチルメタクリレート−スチレン共重合体、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリエステル（ポリエチレンテレフタレート等）、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリオレフィン（ポリエチレン、ポリプロピレン等）、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリウレタン、ガラス等が挙げられる。これらの材料は１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
基材の表面は、密着性、帯電防止性、耐擦傷性、耐候性等の改良のために、コーティング処理、コロナ処理等が施されていてもよい。
本発明の構造体に用いる基材としては、光を透過する光透過性基材が好ましい。基材が光透過性であれば、光透過性及び反射防止性能に優れる物品が得られる。また、光を透過しにくいモールドを用いて微細凹凸構造を形成する場合、基材側から活性エネルギー線を照射することができる。
このような光透過性基材としては、例えば、アクリル系樹脂、ポリカーボネート、セルローストリアセテート、ポリエステル、ポリオレフィン、ガラスの材料から形成される基材が挙げられる。これらの材料は１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。また、このような材料から形成された基材は、光透過性を有するため好ましい。すなわち、本発明の基材は、光透過性基材であることが好ましい。
本明細書において「光透過性」とは、可視光を透過する基材のことを意味する。光透過性基材の可視光の透過率は８５％以上が好ましい。
また、基材の厚さとしては、１〜１０，０００μｍが好ましく、１５〜２００μｍがより好ましい。また、基材の厚さはマイクロメータを用いて測定することができる。
【００２３】
「微細凹凸構造層を形成するための材料」
微細凹凸構造層を形成するための材料としては、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物、熱可塑性樹脂、無機材料などが挙げられるが、微細凹凸構造の形成しやすさの点で、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物であることが好ましい。
以下、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物について、詳しく説明する。
【００２４】
＜活性エネルギー線硬化性樹脂組成物＞
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物（以下、単に「樹脂組成物」という場合がある。）は、活性エネルギー線を照射することで、重合反応が進行し、硬化する重合性成分を含む樹脂組成物である。
重合性成分としては、例えば分子中にラジカル重合性結合及び／またはカチオン重合性結合を有するモノマー、オリゴマー、反応性ポリマーを適宜含有するものである。また、樹脂組成物は、通常、重合性成分を硬化させるための重合開始剤を含む。
【００２５】
（重合性成分）
分子中にラジカル重合性結合を有するモノマーとしては、例えば（メタ）アクリレート類（メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉ−ブチル（メタ）アクリレート、ｓ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、アルキル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート等）、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリロニトリル、スチレン類（スチレン、α−メチルスチレン等）、（メタ）アクリルアミド類（（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド等）などの単官能モノマー；エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド変性ジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，５−ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロキシエトキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（３−（メタ）アクリロキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）プロパン、１，２−ビス（３−（メタ）アクリロキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）エタン、１，４−ビス（３−（メタ）アクリロキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ブタン、ジメチロールトリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのエチレンオキシド付加物ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのプロピレンオキシド付加物ジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジビニルベンゼン、メチレンビスアクリルアミドなどの二官能モノマー；ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキシド変性トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキシド変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキシド変性トリアクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド変性トリ（メタ）アクリレート、グリセリンエチレ���オキシド変性トリアクリレート、などの三官能モノマー；コハク酸／トリメチロールエタン／アクリル酸の縮合反応混合物、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、ポリグリセンリンポリアクリレートなどの多官能のモノマー、及びこれら多官能モノマーのエチレンオキシド付加物やプロピレンオキシド付加物など；二官能以上のウレタンアクリレート、二官能以上のポリエステルアクリレート、二官能以上のシリコーン（メタ）アクリレートなどが挙げられる。これらは、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００２６】
分子中にラジカル重合性結合を有するオリゴマー及び反応性ポリマーとしては、例えば不飽和ポリエステル類（不飽和ジカルボン酸と多価アルコールとの縮合物等）、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリオール（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、カチオン重合型エポキシ化合物、側鎖にラジカル重合性結合を有する上述のモノマーの単独重合体または共重合体等などが挙げられる。
【００２７】
分子中にカチオン重合性結合を有するモノマー、オリゴマー、反応性ポリマーとしては、カチオン重合性の官能基を有する化合物（カチオン重合性化合物）であればよく、モノマー、オリゴマー、プレポリマーのいずれであってもよい。
カチオン重合性の官能基としては、実用性の高い官能基として、例えば環状エーテル基（エポキシ基、オキセタニル基、オキサゾリル基等）、ビニルオキシ基、ビニルエーテル基、カーボネート基（Ｏ−ＣＯ−Ｏ基）などが挙げられる。
カチオン重合性化合物としては、例えば環状エーテル化合物（エポキシ化合物、オキセタン化合物等）、ビニルエーテル化合物、カーボネート系化合物（環状カーボネート化合物、ジチオカーボネート化合物等）などが挙げられる。
【００２８】
分子中にカチオン重合性結合を有するモノマーとしては、具体的に、前述のエポキシ基、オキセタニル基、オキサゾリル基、ビニルオキシ基、ビニルエーテル基、カーボネート基等を有するモノマーが挙げられ、これらの中でもエポキシ基を有するモノマーが特に好ましい。カチオン重合性結合を有するオリゴマー及び反応性ポリマーとしては、具体的に、カチオン重合型エポキシ化合物等が挙げられる。カチオン重合型エポキシ化合物の市販品としては、例えば、ナガセケムテックス株式会社製の「デナコール」シリーズ、共栄社化学株式会社製の「エポライト」シリーズ、株式会社ＡＤＥＫＡ社製の「アデカレジン」シリーズ及び「アデカグリシロール」シリーズ等が挙げられる。
【００２９】
本発明の１つの側面において、微細凹凸構造層は、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物を含み、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が、少なくともオキシエチレン基を有する（メタ）アクリレートを含むことが好ましい。また、前記オキシエチレン基を有する（メタ）アクリレートが、ポリエチレングリコールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートのエチレンオキシド付加物、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキシド変性トリアクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド変性トリアクリレート、グリセリンエチレンオキシド変性トリアクリレート、及びポリグリセンリンエチレンオキシド変性ポリアクリレートからなる群より選択される少なくとも１つであることが好ましい。
オキシエチレン基を有する（メタ）アクリレートの含有量は、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物中の重合性成分１００質量部に対して、３０〜１００質量部が好ましく、３０〜８０質量部がより好ましく、３０〜７０質量部が特に好ましい。
微細凹凸構造層を形成する材料が、オキシエチレン基を有する（メタ）アクリレートを含むことにより、耐擦傷性に優れた構造体を得ることができる。
【００３０】
（重合開始剤）
重合開始剤としては、公知のものが挙げられる。
可視光線、紫外線等の光反応を利用して樹脂組成物を硬化させる場合、光重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤が挙げられる。
ラジカル重合開始剤としては、公知の活性エネルギー線を照射してラジカルを発生するものであればよく、アセトフェノン系光重合開始剤、ベンゾイン系光重合開始剤、ベンゾフェノン系光重合開始剤、チオキサントン系光重合開始剤、アシルホスフィンオキシド系光重合開始剤などが挙げられる。これらラジカル重合開始剤は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。併用する場合は、吸収波長の異なる２種以上を併用することが好ましい。
【００３１】
アセトフェノン系光重合開始剤としては、例えばアセトフェノン、ｐ−（ｔｅｒｔ−ブチル）−１’，１’，１’−トリクロロアセトフェノン、クロロアセトフェノン、２’，２’−ジエトキシアセトフェノン、ヒドロキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２’−フェニルアセトフェノン、２−アミノアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン、１−[４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル]−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ヒロドキシ−１−{４−[４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル]フェニル}−２−メチル−プロパン−１−オン、２−メチル−２−モルホリノ（４−チオメチルフェニル）プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（ジメチルアミノ）−２−[（４−メチルフェニル）メチル]−１−[４−（４−モルホリニル）フェニル]−１−ブタノンなどが挙げられる。
【００３２】
ベンゾイン系光重合開始剤としては、例えばベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテルなどが挙げられる。
【００３３】
ベンゾフェノン系光重合開始剤としては、例えばベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、メチル−ｏ−ベンゾイルベンゾエート、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ヒドロキシプロピルベンゾフェノン、アクリルベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンなどが挙げられる。
【００３４】
チオキサントン系光重合開始剤としては、例えばチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、２−メチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ジメチルチオキサントンなどが挙げられる。
【００３５】
アシルホスフィンオキシド系光重合開始剤としては、例えば２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキシド、ベンゾイルジエトキシホスフィンオキシド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシドなどが挙げられる。
【００３６】
他のラジカル重合開始剤としては、例えばα−アシルオキシムエステル、ベンジル−（ｏ−エトキシカルボニル）−α−モノオキシム、グリオキシエステル、３−ケトクマリン、２−エチルアントラキノン、カンファーキノン、テトラメチルチウラムスルフィド、アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾイルペルオキシド、ジアルキルペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシピバレートなどが挙げられる。
【００３７】
カチオン重合開始剤としては、公知の活性エネルギー線を照射して酸を発生するものであればよく、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、ホスホニウム塩等が挙げられる。これらカチオン重合開始剤は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００３８】
スルホニウム塩としては、例えばトリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（４−（ジフェニルスルホニオ）−フェニル）スルフィド−ビス（ヘキサフルオロホスフェート）、ビス（４−（ジフェニルスルホニオ）−フェニル）スルフィド−ビス（ヘキサフルオロアンチモネート）、４−ジ（ｐ−トルイル）スルホニオ−４’−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルカルボニル−ジフェニルスルフィドヘキサフルオロアンチモネート、７−ジ（ｐ−トルイル）スルホニオ−２−イソプロピルチオキサントンヘキサフルオロホスフェート、７−ジ（ｐ−トルイル）スルホニオ−２−イソプロピルチオキサントンヘキサフルオロアンチモネートなどが挙げられる。
【００３９】
ヨードニウム塩としては、例えばジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートなどが挙げられる。
【００４０】
ホスホニウム塩としては、例えばテトラフルオロホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、テトラフルオロホスホニウムヘキサフルオロアンチモネートなどが挙げられる。
【００４１】
これら光重合開始剤としては、上述の押し込み弾性率、及びΔμを満たす構造体が得られやすいとの観点から、アセトフェノン系光重合開始剤、及びアシルホスフィンオキシド系光重合開始剤からなる群より選択される少なくとも１つの光重合開始剤が好ましい。
【００４２】
赤外線等の熱反応を利用して樹脂組成物を硬化させる場合、熱重合開始剤としては、例えば有機過酸化物（メチルエチルケトンペルオキシド、ベンゾイルペルオキシド、ジクミルペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロペルオキシド、クメンハイドロペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシオクトエート、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシベンゾエート、ラウロイルペルオキシド等）、アゾ系化合物（アゾビスイソブチロニトリル等）、前記有機過酸化物にアミン（Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−ｐ−トルイジン等）を組み合わせたレドックス重合開始剤などが挙げられる。
これら熱重合開始剤は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００４３】
重合開始剤の含有量は、重合性成分１００質量部に対して、０．１〜１０質量部であることが好ましい。重合開始剤の含有量が０．１質量部以上であれば、重合が進行しやすい。重合開始剤の含有量が１０質量部以下であれば、得られる硬化物が着色したり、機械強度が低下したりすることが少ない。
【００４４】
（その他の成分）
樹脂組成物は、非反応性のポリマーを含んでもよい。
非反応性のポリマーとしては、例えばアクリル樹脂、スチレン系樹脂、ポリウレタン樹脂、セルロース樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエステル樹脂、熱可塑性エラストマー、変性シリコーン樹脂等が挙げられる。このうち、構造体の耐擦傷性を向上させる観点から、変性シリコーン樹脂を含むことが好ましい。また、樹脂組成物が変性シリコーン樹脂を含む場合、その含有量は、重合性成分１００質量部に対して、１〜１３質量部が好ましく、１〜９質量部がより好ましく、５〜９質量部が特に好ましい。
また、樹脂組成物は、必要に応じて、上述したもの以外に、界面活性剤、離型剤、滑剤、可塑剤、帯電防止剤、光安定剤、酸化防止剤、難燃剤、難燃助剤、重合禁止剤、充填剤、シランカップリング剤、着色剤、強化剤、無機フィラー、無機または有機系の微粒子、耐衝撃性改質剤、少量の溶剤等の公知の添加剤を含んでもよい。
【００４５】
（粘度）
樹脂組成物の粘度は、詳しくは後述するが、モールドの表面に形成されている微細凹凸構造への流れ込みやすさの観点から、高すぎないことが好ましい。具体的には、２５℃において、回転式Ｂ型粘度計で測定した樹脂組成物の粘度は、１００００ｍＰａ・ｓ以下が好ましく、５０００ｍＰａ・ｓ以下がより好ましく、２０００ｍＰａ・ｓ以下がさらに好ましい。
ただし、樹脂組成物の粘度が１００００ｍＰａ・ｓを超える場合であっても、モールドとの接触の際に予め加温して粘度を下げることが可能であるならば特に問題はない。この場合、７０℃において、回転式Ｂ型粘度計で測定した樹脂組成物の粘度は、５０００ｍＰａ・ｓ以下が好ましく、２０００ｍＰａ・ｓ以下がより好ましい。
樹脂組成物の粘度の下限値については特に制限されないが、１０ｍＰａ・ｓ以上であれば、濡れ広がらずに、積層構造体を効率よく製造することができるため好ましい。
【００４６】
「中間層」
本発明の構造体は、基材と微細凹凸構造層との間に中間層を有していてもよい。
中間層を有することにより、構造体の鉛筆硬度の向上、基材との密着性、紫外線遮蔽性、帯電防止性、ヘイズ調整、着色、意匠性、などの機能を付与できる。中間層は一層でもよいし、二層以上でもよい。また、中間層を有する場合、中間層に、擦傷の際のエネルギーを分散する機能を持たせることで、耐擦傷性がさらに良好となるため好ましい。
中間層の表面は平滑でもよく、微細凹凸構造を有していてもよい。
中間層を形成するための材料は本発明の効果に悪影響を及ぼさない限り特に制限されないが、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を含むことが好ましい。活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に含まれる重合性成分としては、例えば、微細凹凸構造層を形成するための材料として前述した重合性成分と同様のものが使用できる。また、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物には、種々のバインダーや無機微粒子、有機微粒子、添加剤が含まれていてもよい。
本発明の１つの側面において、中間層を形成するための材料が活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を含み、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が、エステル（メタ）アクリレート、及びウレタン（メタ）アクリレートからなる群より選択される少なくとも１つの（メタ）アクリレートを含むことが好ましい。
エステル（メタ）アクリレートとしては、例えば、ペンタエリスリトール（トリ）テトラアクリレート、ジペンタエリスリトール（ペンタ）ヘキサアクリレート、ポリペンタエリスリトールポリアクリレート等が挙げられる。
ウレタン（メタ）アクリレートとしては、例えば、ペンタエリスリトール（トリ）テトラアクリレートとヘキサメチレンジイソシアネートの反応生成物、（ポリ）ペンタエリスリトール（ポリ）アクリレートとヘキサメチレンジイソシアネートとの反応生成物等が挙げられる。
【００４７】
「その他の層」
本発明の１つの側面において、構造体は、接着剤層を有していてもよい。接着剤層は、基材の、微細凹凸構造層が配置されていない側の表面に配置されていることが好ましい。すなわち、本発明の構造体は、接着剤層と、基材と、微細凹凸構造層がこの順に積層されているものであってもよい。
【００４８】
「押し込み弾性率」
本発明おける、構造体の押し込み弾性率は、例えば微小押し込み硬さ試験機を用いて測定することができる。ここで得られる押し込み弾性率はヤング率と相関がある。押し込み弾性率とヤング率との相関に関する説明は、「材料試験技術」（Ｖｏｌ．４３，Ｎｏ．２，Ｐ１４８−１５２，１９９８年４月号）に掲載の「ユニバーサル硬さ試験による材料特性値の評価」（Ｃｏｒｎｅｌｉａ  Ｈｅｅｒｍａｎｔ，Ｄｉｅｔｅｒ  Ｄｅｎｇｅｌ）共著, 片山繁雄, 佐藤茂夫 共訳）に記載されている。
【００４９】
なお、本発明における押し込み弾性率は、次のような方法によって測定した値を用いるものとする。すなわち、構造体の基材側の表面に、光学粘着剤を介して透明なガラス板（松浪硝子工業株式会社製「大型スライドグラス、品番：Ｓ９１１２」、７６ｍｍ×５２ｍｍサイズ）を貼り付けてこれをサンプルとし、微小押し込み硬さ試験機（装置名：フィッシャースコープＨＭ２０００ＸＹｐ、フィッシャーインスツルメンツ社製）を用いて、サンプルの微細凹凸構造層側の面を圧子で押し込むことで、構造体の押し込み弾性率を測定することができる。圧子はビッカース圧子（四面ダイアモンド錐体）を用い、評価は恒温室（温度２３℃、湿度５０％ＲＨ）で行うことが好ましい。評価プログラムは、１ｍＮ／ｓで５秒間押し込みを行った後、５ｍＮで１０秒間クリープを行い、その後、１ｍＮ／ｓで５秒間かけて除荷する条件で測定を行い、解析ソフト（ＷＩＮ−ＨＣＵ、フィッシャーインスツルメンツ社製）により圧子の押し込み量を逐次解析することにより、各サンプルの押し込み弾性率を算出することができる。
【００５０】
構造体の押し込み弾性率は、１〜１３００ＭＰａであり、５０〜５００ＭＰaが好ましく、１６０〜３００ＭＰａがより好ましい。構造体の押し込み弾性率が１ＭＰａ以上ならば、微細凹凸構造層を形成している材料が柔らか過ぎることによる、ナノオーダーの突起の合一や潰れを防ぐことができる。また、押し込み弾性率が１３００ＭＰａ以下であれば、微細凹凸構造層の凸部が外圧に対して折れやすくなるのを抑えることができる。
このように、押し込み弾性率が１〜１３００ＭＰａの構造体を得るためには、微細凹凸構造層を形成する材料として、上述のオキシエチレン基を有する（メタ）アクリレートを含む活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を用いることが好ましい。
【００５１】
「動摩擦係数」
本発明における構造体表面の動摩擦係数は、摩擦摩耗試験機を用いて、構造体表面を往復摩耗することで算出することができる。具体的には、次のような方法によって測定した値を用いるものとする。すなわち、構造体の基材側の表面に、光学粘着剤を介して透明なガラス板（松浪硝子工業株式会社製「大型スライドグラス、品番：Ｓ９１１２」、７６ｍｍ×５２ｍｍサイズ）を貼り付けてこれをサンプルとし、摩擦摩耗試験機（装置名：トライボギア  ＴＹＰＥ：ＨＨＳ２０００、新東科学株式会社製）を用いてサンプルの往復摩耗試験を実施する。２ｃｍ四方の圧子にベンコット（旭化成せんい株式会社製、クリーンルーム用ワイパー、ＢＥＭＣＯＴ  Ｍ−３ＩＩ）を取り付け、荷重１０００ｇ、ストローク３０ｍｍ、速度３０ｍｍ/ｓで１０００往復摩耗試験を行って動摩擦係数を算出することができる。
【００５２】
一般的に、往復摩耗試験における試験片の摩耗現象は、往復回数と動摩擦係数との関係において、動摩擦係数の変化に応じて、以下のような３つの段階に分けられる。
・動摩擦係数が一定の割合で上昇または低下する「初期摩耗」
・動摩擦係数がほぼ一定の値で推移する「定常摩耗」
・動摩擦係数が急激に上昇する「異常摩耗」
【００５３】
ここで、往復摩耗試験における初期摩耗の段階の動摩擦係数の変化率をΔμｓとし、試験終了直前の動摩擦係数の変化率をΔμｆとしたとき、その比Δμ（Δμｆ/Δμｓ）は摩耗進行の程度を反映した値となる。
例えば、Δμ≒１の場合は、摩耗試験終了まで初期摩耗の段階が維持されており、耐擦傷性に優れていることを示している。一方で、Δμが１より小さい場合は、摩耗挙動が初期摩耗を経て定常摩耗の段階に移行しているため、初期摩耗が維持されている場合と比較して、耐擦傷性が劣る場合がある。また、Δμが１より大きくなる場合は、異常摩耗の段階まで摩耗が進行し、構造体の表面が大きく損傷を受けていることを示している。
【００５４】
往復摩耗試験を実施することで構造体の表面状態は以下のように変化することになる。
微細凹凸構造層の凹凸が擦り減らずに残っている状態では、往復摩耗試験において、動摩擦係数は一定の割合で増減することになる。この状態を初期摩耗の段階と言う。往復摩耗試験において、この初期摩耗の段階が長いほど、その構造体は耐擦傷性に優れていると考えられる。
微細凹凸構造層の凸部の摩耗が進行してくると、往復摩耗試験において、動摩擦係数はほぼ一定の値で推移することになる。この状態を定常摩耗の段階と言う。更に微細凹凸構造層の摩耗が進行すると、往復摩耗試験において、動摩擦係数が急激に上昇することになる。この状態を異常摩耗の段階と言う。
【００５５】
微細凹凸構造層を表面に有する構造体の往復摩耗試験においては、上述の通り初期摩耗の段階、定常摩耗の段階、異常摩耗の段階と順に移行していくため、初期摩耗の段階の動摩擦係数の変化率は、試験開始から５０往復目までの動摩擦係数の変化値を測定することで求めることができる。具体的には、往復摩耗試験の往復回数と得られた動摩擦係数について相関図を作成し、初期摩耗の段階の動摩擦係数の値について一次近似式を算出し、この一次近似式の傾きを算出することで、初期摩耗の段階の動摩擦係数の変化率を算出することができる。
本明細書において初期摩耗の段階の動摩擦係数の変化率（Δμｓ）は、２０〜４０往復目までの動摩擦係数の曲線に対する一次近似式を作成し、この一次近似式の傾きから算出した値のことを意味する。
同様に、試験終了直前の動摩擦係数の変化率（Δμｆ）は、試験終了直前、すなわち、８００〜１０００往復目までの動摩擦係数の曲線に対する一次近似式を作成し、この一次近似式の傾きから算出した値のことを意味する。
【００５６】
本発明の構造体においては、動摩擦係数の変化率の比であるΔμは０．１５〜１．０５であり、０．３〜１．０がより好ましく、０．６〜０．９がより好ましい。Δμが０．１５〜１．０５の範囲であれば、初期摩耗の段階が長く維持されており、優れた耐擦傷性を備えた構造体を得ることができる。
【００５７】
また、摩耗試験における試験初期の動摩擦係数（μｓ）は、構造体表面の滑りやすさを反映した値であり、μｓが小さいほど、表面に付着した汚れを小さな荷重（力）で拭き取ることができる。ここで、試験初期の動摩擦係数とは、構造体表面の往復摩耗試験において、１往復終了時の動摩擦係数のことを指す。また、本発明の構造体表面の動摩擦係数とは、上述の試験初期の動摩擦係数のことを意味する。
本発明の構造体において、μｓは０．５５以下が好ましく、０．３８〜０．５がより好ましい。μｓが０．５５以下であれば、汚れを拭き取るのに要する荷重（力）が小さくて済み、かつ、ナノオーダーの突起（凸部）が損傷を受けるのを防ぐことができる。
【００５８】
本発明の１つの側面において、Δμが０．１〜１．０５である構造体を得る方法としては、上述の通り、微細凹凸構造層を形成する材料として、少なくともオキシエチレン基を有する（メタ）アクリレートを含む活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を用いることが好ましい。また、凸部のピッチを１２０ｎｍ以上とすることが好ましく、１４０ｎｍ以上とすることがさらに好ましい。
【００５９】
また、本発明の別の側面は、耐擦傷性に優れた構造体の検出方法である。
すなわち、耐擦傷性に優れた微細凹凸構造層を備える構造体の検出方法であって、前記構造体の押し込み弾性率を測定する工程と、往復摩耗試験により、前記構造体表面の動摩擦係数を測定する工程と、前記構造体の押し込み弾性率が１〜１３００ＭＰａの範囲であり、以下の式（１）で表される前記構造体表面の動摩擦係数の変化率の比（Δμ）が、０．１５〜１．０５である構造体を検出する工程とを含むことを特徴とする、検出方法である。
Δμ＝Δμｆ／Δμｓ  ・・・（１）
（式（１）において、Δμｓは、構造体表面の往復摩耗試験における初期摩耗の段階の動摩擦係数の変化率を表し、Δμｆは、構造体表面の往復摩耗試験における試験終了直前の動摩擦係数の変化率を表す。）
【００６０】
＜用途＞
本発明の構造体は、表面に微細凹凸構造を有する機能性物品として最適に用いることができる。機能性物品としては、例えば、本発明の構造体を備えた反射防止物品、撥水性物品等が挙げられる。特に、本発明の構造体を備えたディスプレイや自動車用部材が、機能性物品として好適である。
本発明の構造体を備えた反射防止物品は、高い耐擦傷性と良好な反射防止性能を発現する。反射防止物品としては、例えば、画像表示装置等の各種表示装置（液晶表示装置、プラズマディスプレイパネル、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、陰極管表示装置、魚群探知機ディスプレー、医療モニター等）、レンズ、ショーウィンドウ、眼鏡レンズ、色ゲージ等の対象物の表面に、本発明の構造体を貼り付けたもの等が挙げられる。
【００６１】
本発明の構造体は、表面の微細凹凸構造により優れた撥水性を備え、高い耐擦傷性と良好な撥水性能を発現するとともに、優れた反射防止性能を発現する。撥水性物品としては、例えば、窓材、屋根瓦、配管、屋外照明、カーブミラー、車両用窓、車両用ミラー、食品内蓋、チューブ、飲料容器、ヨーグルトの蓋等の対象物の表面に、本発明の構造体を貼り付けたもの等が挙げられる。
【００６２】
各対象物において、構造体を貼り付ける部分が立体形状である場合は、あらかじめその形状に応じた形状の基材を用意し、その基材の上に表層を形成して構造体を得た後、この構造体を対象物の所定部分に貼り付ければよい。
また、対象物が画像表示装置である場合は、その表面に限らず、その前面板に対して本発明の構造体を貼り付けてもよいし、前面板そのものを本発明の構造体から構成することもできる。
【００６３】
また、本発明の構造体は、上述した用途以外にも、例えば、光導波路、レリーフホログラム、レンズ、偏光分離素子等の光学用途や、細胞培養シート、除雪機器、スキー板・スノーボード等のスポーツ用品、蓄熱材、断熱材、防音材、指紋判定、換気扇等の用途にも適用できる。
【００６４】
＜構造体の製造方法＞
本発明の構造体の製造方法において、表面に配置されている微細凹凸構造層の形成方法としては、本発明の効果を有する限り特に限定されないが、モールドを用いた転写法、具体的には、微細凹凸構造の反転構造を表面に有するモールドに上述した樹脂組成物を接触、硬化させることによって形成する方法（ナノインプリント法）であることが好ましい。すなわち、本発明の構造体の製造方法は、ナノインプリント法により微細凹凸構造層を形成する工程を含むことが好ましい。
以下、転写法に用いるモールドの一例について説明する。
【００６５】
（モールド）
モールドは、微細凹凸構造の反転構造を表面に有する。
モールドの材料としては、金属（表面に酸化皮膜が形成されたものを含む。）、石英、ガラス、樹脂、セラミックス等が挙げられる。
モールドの形状としては、ロール状、円管状、平板状、シート状等が挙げられる。
【００６６】
モールドの作製方法としては、例えば、下記方法（Ｉ−１）、方法（Ｉ−２）などが挙げられる。中でも、大面積化が可能であり、かつ作製が簡便である観点から、方法（Ｉ−１）が好ましい。
（Ｉ−１）アルミニウム基材の表面に、複数の細孔（凹部）を有する陽極酸化アルミナを形成する方法によって、微細凹凸構造の反転構造を形成する方法。
（Ｉ−２）モールド基材の表面に、電子ビームリソグラフィ法、レーザ光干渉法等によって微細凹凸構造の反転構造を形成する方法。
【００６７】
方法（Ｉ−１）としては、下記の工程（ａ）〜（ｆ）を含む方法が好ましい。
（ａ）アルミニウム基材を電解液中、定電圧下で陽極酸化してアルミニウム基材の表面に酸化皮膜を形成する工程。
（ｂ）酸化皮膜の一部または全てを除去し、アルミニウム基材の表面に陽極酸化の細孔発生点を形成する工程。
（ｃ）工程（ｂ）の後、アルミニウム基材を電解液中、再度陽極酸化し、細孔発生点に細孔を有する酸化皮膜を形成する工程。
（ｄ）工程（ｃ）の後、細孔の径を拡大させる工程。
（ｅ）工程（ｄ）の後、電解液中、再度陽極酸化する工程。
（ｆ）工程（ｄ）と工程（ｅ）を繰り返し行い、複数の細孔を有する陽極酸化アルミナがアルミニウム基材の表面に形成されたモールドを得る工程。
【００６８】
工程（ａ）：
図２に示すように、アルミニウム基材２０を陽極酸化することにより、細孔２２を有する酸化皮膜２４が形成される。
アルミニウム基材の形状としては、ロール状、円管状、平板状、シート状等が挙げられる。
アルミニウム基材は、所定の形状に加工する際に用いた油が付着していることがあるため、あらかじめ脱脂処理されることが好ましい。また、アルミニウム基材は、表面状態を平滑にするために、研磨処理されていることが好ましい。
アルミニウムの純度は、９９％以上が好ましく、９９．５％以上がより好ましく、９９．８％以上がさらに好ましい。アルミニウムの純度が低いと、陽極酸化した時に、不純物の偏析により可視光を散乱する大きさの凹凸構造が形成されたり、陽極酸化で得られる細孔の規則性が低下したりする場合がある。
【００６９】
電解液としては、硫酸、シュウ酸、リン酸等が挙げられる。
シュウ酸を電解液として用いる場合、シュウ酸の濃度は、０．８Ｍ以下が好ましい。シュウ酸の濃度が０．８Ｍ以下であれば、電流値の上昇を防ぎ、酸化皮膜の表面が粗くなるのを抑制することができる。
また、化成電圧が３０〜１００Ｖの時、周期が１００ｎｍ〜２００ｎｍの規則性の高い細孔を有する陽極酸化アルミナを得ることができる。化成電圧がこの範囲より高くても低くても規則性が低下する傾向がある。電解液の温度は、６０℃以下が好ましく、４５℃以下がより好ましい。電解液の温度が６０℃以下であることにより、いわゆる「ヤケ」と呼ばれる現象の発生を防ぐことができ、細孔の破損や、表面が溶けて細孔の規則性が乱れることを抑制することができる。
【００７０】
硫酸を電解液として用いる場合、硫酸の濃度は０．７Ｍ以下が好ましい。硫酸の濃度が０．７Ｍ以下であれば、電流値の上昇を防ぎ、定電圧を維持することができる。
また、化成電圧が２５〜３０Ｖの時、周期が６３ｎｍの規則性の高い細孔を有する陽極酸化アルミナを得ることができる。化成電圧がこの範囲より高くても低くても規則性が低下する傾向がある。電解液の温度は、３０℃以下が好ましく、２０℃以下がよりに好ましい。電解液の温度が３０℃以下であることにより、いわゆる「ヤケ」と呼ばれる現象の発生を防ぐことができ、細孔の破損や、表面が溶けて細孔の規則性が乱れることを抑制することができる。
【００７１】
工程（ｂ）：
図２に示すように、酸化皮膜２４の一部または全てを一旦除去し、これを陽極酸化の細孔発生点２６とすることにより、細孔の規則性を向上させることができる。酸化皮膜２４は全てを除去せずに一部が残るような状態でも、酸化皮膜２４のうち、すでに規則性が十分に高められた部分が残っているのであれば、酸化皮膜除去の目的を果たすことができる。
酸化皮膜２４を除去する方法としては、アルミニウムを溶解せず、酸化皮膜２４を選択的に溶解できる溶液に酸化皮膜２４を溶解させて除去する方法が挙げられる。このような溶液としては、例えば、クロム酸／リン酸混合液等が挙げられる。
【００７２】
工程（ｃ）：
図２に示すように、酸化皮膜を除去したアルミニウム基材２０を再度、陽極酸化することにより、円柱状の細孔２２を有する酸化皮膜２４が形成される。
陽極酸化は、工程（ａ）と同様の条件で行うことができる。陽極酸化の時間を長くするほど深い細孔を得ることができる。
【００７３】
工程（ｄ）：
図２に示すように、細孔２２の径を拡大させる処理（以下、「細孔径拡大処理」という。）を行う。細孔径拡大処理は、酸化皮膜２４を溶解できる溶液に浸漬して陽極酸化で得られた細孔の径を拡大させる処理である。このような溶液としては、例えば、５質量％程度のリン酸水溶液等が挙げられる。
細孔径拡大処理の時間を長くするほど、細孔径は大きくなる。
【００７４】
工程（ｅ）：
図２に示すように、再度、陽極酸化を行うことにより、円柱状の細孔２２の底部からさらに下に延びる、直径の小さい円柱状の細孔２２がさらに形成される。
陽極酸化は、工程（ａ）と同様の条件で行うことができる。陽極酸化の時間を長くするほど深い細孔を得ることができる。
【００７５】
工程（ｆ）：
図２に示すように、工程（ｄ）の細孔径拡大処理と、工程（ｅ）の陽極酸化を繰り返すことにより、直径が開口部から深さ方向に連続的に減少する形状の細孔２２を有する酸化皮膜２４が形成される。これにより、アルミニウム基材２０の表面に陽極酸化アルミナ（アルミニウムの多孔質の酸化皮膜（アルマイト））を有するモールド２８が得られる。最後は工程（ｄ）で終わることが好ましい。
繰り返し回数は、合計で３回以上が好ましく、５回以上がより好ましい。繰り返し回数が３回以上であることにより、連続的に細孔の直径が減少し、十分な反射率低減効果を有するモスアイ構造が得られる。
【００７６】
細孔２２の形状としては、略円錐形状、角錐形状、円柱形状等が挙げられる。円錐形状、角錐形状等のように、深さ方向と直交する方向の細孔断面積が最表面から深さ方向に連続的に減少する形状が好ましい。
【００７７】
隣り合う細孔２２同士の平均間隔は、可視光の波長以下、すなわち４００ｎｍ以下であることが好ましく、２５〜３００ｎｍであることがより好ましく、８０ｎｍ〜２５０ｎｍであることがさらに好ましい。
隣り合う細孔２２同士の平均間隔は、電子顕微鏡によって隣り合う細孔２２間の間隔（細孔２２の中心から隣接する細孔２２の中心までの距離）を５０点測定し、これらの値を平均した値である。
【００７８】
細孔２２の平均深さは、１００〜４００ｎｍが好ましく、１３０〜３００ｎｍがより好ましい。
細孔２２の平均深さは、前記電子顕微鏡観察によって倍率３００００倍で構造体の断面図を観察したときにおける、細孔２２の最底部と、細孔２２間に存在する凸部の最頂部との間の距離を５０点測定し、これらの値を平均した値である。
細孔２２のアスペクト比（細孔２２の平均深さ／隣り合う細孔２２同士の平均間隔）は、０．３〜４が好ましく、０．８〜２．５がより好ましい。
【００７９】
モールドの微細凹凸構造が形成された側の表面は、離型剤で処理されていてもよい。
離型剤としては、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、フッ素化合物、リン酸エステル等が挙げられ、フッ素化合物及びリン酸エステルが好ましい。
フッ素化合物の市販品としては、ソルベイスペシャルティポリマーズジャパン株式会社製の「フルオロリンク」、信越化学工業株式会社製のフルオロアルキルシラン「ＫＢＭ−７８０３」、旭硝子株式会社製の「ＭＲＡＦ」、株式会社ハーベス社製の「オプツールＨＤ１１００」、「オプツールＨＤ２１００シリーズ」、ダイキン工業株式会社製の「オプツールＤＳＸ」、住友スリーエム株式会社製の「ノベックＥＧＣ−１７２０」、株式会社フロロテクノロジー製の「ＦＳ−２０５０」シリーズ等が挙げられる。
リン酸エステルとしては、（ポリ）オキシアルキレンアルキルリン酸化合物が好ましい。市販品としては、城北化学工業株式会社製の「ＪＰ−５０６Ｈ」、アクセル社製の「モールドウイズＩＮＴ−１８５６」、日光ケミカルズ株式会社製の「ＴＤＰ−１０」、「ＴＤＰ−８」、「ＴＤＰ−６」、「ＴＤＰ−２」、「ＤＤＰ−１０」、「ＤＤＰ−８」、「ＤＤＰ−６」、「ＤＤＰ−４」、「ＤＤＰ−２」、「ＴＬＰ−４」、「ＴＣＰ−５」、「ＤＬＰ−１０」などが挙げられる。
これら離型剤は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００８０】
このようにして得られる、アルミニウム基材の表面に陽極酸化アルミナを有するモールドを用い、転写法により微細凹凸構造を形成する場合、構造体の微細凹凸構造は、陽極酸化アルミナの表面の微細凹凸構造を転写して形成されたものである。
以下、構造体を製造するための製造装置、該製造装置を用いた構造体の製造方法の一例について、具体的に説明する。
【００８１】
＜製造装置、及び構造体の製造方法＞
図１に示す構造体１０は、例えば、図３に示す製造装置を用いて、下記のようにして製造される。
表面に微細凹凸構造の反転構造（図示略）を有するロール状モールド３０と、ロール状モールド３０の表面に沿って移動する帯状フィルムである基材１２との間に、タンク３２から表層形成用の材料（活性エネルギー線硬化性樹脂組成物）を供給する。
ロール状モールド３０と、空気圧シリンダ３４によってニップ圧が調整されたニップロール３６との間で、基材１２及び前記材料をニップする。これにより、前記材料を基材１２とロール状モールド３０との間に均一に行き渡らせると同時に、ロール状モールド３０の微細凹凸構造の凹部内に充填する。
ロール状モールド３０の下方に設置された活性エネルギー線照射装置３８から、基材１２を介して前記材料に活性エネルギー線を照射して硬化させる。これにより、図１に示すような、ロール状モールド３０の表面の微細凹凸構造が転写された構造体１０を得る。
活性エネルギー線照射装置３８としては、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ＬＥＤランプ等が好ましい。光照射エネルギー量は、１００〜１００００ｍＪ／ｃｍ２が好ましい。
【００８２】
＜作用効果＞
以上説明した構造体１０は、表面に微細凹凸構造を有するので、反射防止性能に優れる。
また、構造体１０の基材の裏面に、粘着材層を介してセパレートフィルムを設けてもよい。粘着材層を設けることによって、他のフィルム状やシート状の物品（前面板、偏光素子等）に容易に貼り付けることができる。
【００８３】
本発明のその他の態様は以下の通りである。
＜１＞基材と、前記基材の少なくとも一方の面に設けられた微細凹凸構造層とを有する構造体であって、前記微細凹凸構造層は前記構造体の表面に配置されており、前記構造体の押し込み弾性率が１〜１３００ＭＰａであり、且つ前記式（１）で表される前記構造体表面の動摩擦係数の変化率の比（Δμ）が、０．１５〜１．０５である、構造体であって、
前記微細凹凸構造層が、ポリエチレングリコールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートのエチレンオキシド付加物、及びエトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレートからなる群より選択される少なくとも１つのオキシエチレン基を有する（メタ）アクリレートを含む活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる、構造体。
＜２＞前記オキシエチレン基を有する（メタ）アクリレートの含有量が、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物に含まれる重合性成分１００質量部に対して、３０〜１００質量部である、＜１＞に記載の構造体。
＜３＞前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が、更に変性シリコーン樹脂を含む、＜１＞または＜２＞に記載の構造体。
＜４＞前記変性シリコーン樹脂の含有量が、前記重合性成分１００質量部に対して、１〜１３質量部である、＜１＞〜＜３＞のいずれか一項に記載の構造体。
＜５＞前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が、ウレタン（メタ）アクリレートを含まない、＜１＞〜＜４＞のいずれか一項に記載の構造体。
【実施例】
【００８４】
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。【００８５】
（活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ａの調製）
重合性成分として、ペンタエリスリトールトリアクリレート（第一工業製薬株式会社製、商品名「ニューフロンティアＰＥＴ−３」）２０質量部、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村工業株式会社、商品名「ＡＴＭ−３５Ｅ」）８０質量部と、重合開始剤として、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（チバ・ジャパン株式会社製、商品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４」）０．１質量部、及びビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド（チバ・ジャパン株式会社製、商品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９」）０．５質量部と、離型剤（日光ケミカルズ株式会社製、商品名「ＴＤＰ−２」）０．１質量部とを混合し、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ａ（樹脂組成物Ａ）を調製した。【００８６】
（活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ｂ〜Ｍの調製）
表１に記載の組成に変更した以外は活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Ａと同様の操作にて各活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を調製した。【００８７】
【表１】
0006451321.tif 000002
【００８８】
表１に記載の成分を以下に示す。
「ＰＥＴ−３」：ペンタエリスリトールトリアクリレート（第一工業製薬株式会社製、商品名「ニューフロンティアＰＥＴ−３」）
「ＡＴＭ−３５Ｅ」：エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村工業株式会社製、商品名「ＡＴＭ−３５Ｅ」）
「ＤＰＥＡ−１２」：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートのＥＯ変性化合物（日本化薬株式会社製、商品名「ＤＰＥＡ−１２」）
「Ｍ−２６０」：ポリエチレングリコールジアクリレート（東亞合成株式会社製、商品名「Ｍ−２６０」）
「ＢＹＫ−３５７０」：ポリエーテル変性シリコーンオイル（ビックケミー・ジャパン株式会社製、商品名「ＢＹＫ−３５７０」）
「ＤＰＨＡ」：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬株式会社製、商品名「ＤＰＨＡ」）
「ＣＮ２２７１Ｅ」：ポリエステルアクリレートオリゴマー（サートマー社製、商品名「ＣＮ２２７１Ｅ」）
「ＣＮ１５２」：エポキシアクリレートオリゴマー（サートマー社製、商品名「ＣＮ１５２」）
「ＡＰＧ−２００」：トリプロピレングリコールジアクリレート（新中村工業株式会社製、商品名「ＡＰＧ−２００」）
「ＨＥＡ」：２−ヒドロキシエチルアクリレート（大阪有機化学工業社製、商品名「ＨＥＡ」）
「ＩＲＧ．１８４」：１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（ＢＡＳＦ社製、商品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４」）
「ＩＲＧ．８１９」：ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド（ＢＡＳＦ社製、商品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９」）
「ＴＤＰ−２」：（日光ケミカルズ株式会社製、商品名「ＴＤＰ−２」）【００８９】
＜測定・評価＞
（モールドの細孔の測定）
モールドの一部を切り取って、表面及び縦断面に白金を１分間蒸着し、電解放出型走査電子顕微鏡（日本電子株式会社製、「ＪＳＭ−７４００Ｆ」）を用い、加速電圧３．００ｋＶで２００００倍に拡大して観察し、隣り合う細孔同士の間隔（細孔の中心から隣接する細孔の中心までの距離）を５０点測定し、その平均値を隣り合う細孔の平均間隔とした。
また、モールドの縦断面を２００００倍に拡大して観察し、細孔の最底部と、細孔間に存在する凸部の最頂部との間の距離を５０点測定し、その平均値を細孔の平均深さとした。【００９０】
（微細凹凸構造の凸部の測定）
測定サンプルの表層及び縦断面に白金を１０分間蒸着し、電解放出型走査電子顕微鏡（日本電子株式会社製、「ＪＳＭ−７４００Ｆ」）を用い、加速電圧３．００ｋＶで２００００倍に拡大して観察し、隣り合う凸部同士の間隔（凸部の中心から隣接する凸部の中心までの距離）を５０点測定し、その平均値を隣り合う凸部の平均間隔とした。
また、測定サンプルの断面を２００００倍に拡大して観察し、凸部の最底部と、凸部間に存在する凹部の最頂部との間の距離を５０点測定し、その平均値を凸部の平均高さとした。【００９１】
（往復摩耗試験）
構造体の基材側の表面に、光学粘着剤を介して透明なガラス板（松浪硝子工業株式会社製、「大型スライドグラス、品番：Ｓ９１１２」、７６ｍｍ×５２ｍｍサイズ）を貼り付けてこれをサンプルとし、摩擦摩耗試験機（装置名：トライボギア  ＴＹＰＥ：ＨＨＳ２０００、新東科学株式会社製）を用いてサンプルの往復摩耗試験を実施した。２ｃｍ四方の圧子にベンコット（旭化成せんい株式会社製クリーンルーム用ワイパー、ＢＥＭＣＯＴ  Ｍ−３ＩＩ）を取り付け、荷重１０００ｇ、ストローク３０ｍｍ、速度３０ｍｍ/ｓで１０００往復摩耗試験を行って動摩擦係数を算出した。
なお、一往復終了時の動摩擦係数をμｓとした。【００９２】
（耐擦傷性）
往復摩耗試験後のサンプルについて、ガラス板の構造体が貼り付けられていない側の面を黒色に塗り、構造体表面の傷つき具合を目視評価した。
Ｓ：傷が確認されない。
Ａ：確認できる傷が５本未満であり、摩耗部位が白く曇らない。
Ｂ：確認できる傷が５本以上、２０本未満であり、摩耗部位がやや白く曇る。
Ｃ：確認できる傷が２０本以上であり、摩耗部位がはっきり白く曇って見える。
Ｄ：表層が削り取られ、傷が基材にまで達している。【００９３】
（摩耗進行曲線からΔμの算出）
図４に例示するように、往復摩耗試験の結果から、往復回数と動摩擦係数との関係図を作成し、３０往復終了時の曲線の接線を求め、傾きの値をΔμｓとした。接線は、前後１０往復（２０〜４０往復）における曲線を、一次式で近似して得られる直線とした。
また、同様にして９００往復終了時の曲線の接線を求め、傾きの値をΔμｆとした。接線は、前後１００往復（８００〜１０００往復）における曲線を、一次式で近似して得られる直線とした。
以上のようにして得られた値から、Δμ（Δμｆ/Δμｓ）を計算した。【００９４】
（押し込み弾性率の測定）
構造体の基材側の表面に、光学粘着剤を介して透明なガラス板（松浪硝子工業株式会社製、「大型スライドグラス、品番：Ｓ９１１２」、７６ｍｍ×５２ｍｍサイズ）を貼り付け、これをサンプルとした。微小押し込み硬さ試験機（装置名：フィッシャースコープＨＭ２０００ＸＹｐ、フィッシャーインスツルメンツ社製）を用いて、サンプルの押し込み弾性率を測定した。圧子はビッカース圧子（四面ダイアモンド錐体）を用い、評価は恒温室（温度２３℃、湿度５０％）で行った。評価プログラムは、１ｍＮ／ｓで５秒間押し込みを行った後、５ｍＮで１０秒間クリープを行い、その後、１ｍＮ／ｓで５秒間かけて除荷する条件で測定を行い、解析ソフト（ＷＩＮ−ＨＣＵ、フィッシャーインスツルメンツ製）により各サンプルの押し込み弾性率を算出した。【００９５】
「微細凹凸の反転構造を有するモールドの製造」
純度９９．９９質量％、厚さ０．３ｍｍのアルミニウム板を３０ｍｍ×９０ｍｍの大きさに切断し、過塩素酸／エタノール混液（体積比＝１／４）中で電解研磨し、これをアルミニウム基材として用いた。
工程（ａ）：
０．０５Ｍシュウ酸水溶液４．６Ｌを電解液とし、径８ｃｍ、高さ２ｃｍの半月状撹拌翼にて３５０ｒｐｍで撹拌しながら電解液の初期温度を１５℃に調整した。アルミニウム基材を電解液に浸漬し、印可電圧８０Ｖで５分間陽極酸化し、酸化皮膜を形成した。
工程（ｂ）：
酸化皮膜が形成されたアルミニウム基材を、６質量％のリン酸と１．８質量％クロム酸を混合した７０℃の水溶液中に３時間浸漬して酸化皮膜を溶解除去し、陽極酸化の細孔発生点となる窪みを露出させた。
工程（ｃ）：
細孔発生点を露出させたアルミニウム基材を、１５℃に調整した０．０５Ｍシュウ酸水溶液に浸漬し、８０Ｖで６秒間陽極酸化して、酸化皮膜をアルミニウム基材の表面に再び形成した。
工程（ｄ）：
酸化皮膜が形成されたアルミニウム基材を、３２℃に調整した５質量％リン酸水溶液中に１９分間浸漬して、酸化皮膜の細孔を拡大する孔径拡大処理を施した。
工程（ｅ）：
前記工程（ｃ）と前記工程（ｅ）をさらに交互に４回繰り返し、最後に工程（ｄ）を行った。すなわち、工程（ｃ）を合計で５回行い、工程（ｄ）を合計で５回行った。
その後、脱イオン水で洗浄した後、表面の水分をエアーブローで除去し、平均間隔１８０ｎｍ、平均深さ約１６０ｎｍの略円錐形状の細孔を有する酸化皮膜が形成されたモールドを得た。
このようにして得られたモールドを、ＴＤＰ−８（日光ケミカルズ社製）を０．１質量％に希釈した水溶液に１０分間浸漬して、一晩風乾することにより、離型処理させたモールドを得た。【００９６】
「実施例１」
樹脂組成物Ａをモールドの表面に数滴垂らした。基材として厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム株式会社製、「ＴＤ８０ＵＬＭ」、以下「ＴＡＣフィルム」ともいう。）を用い、モールド上の樹脂組成物Ａを基材で押し広げながら、樹脂組成物Ａを基材で被覆した。その後、基材側から高圧水銀灯を用いて１０００ｍＪ／ｃｍ２のエネルギーで紫外線を照射して、樹脂組成物Ａを硬化させた。樹脂組成物Ａの硬化物を基材ごとモールドから離型して、基材上に、隣り合う凸部同士の平均間隔が１８０ｎｍ、凸部の平均高さが１５０ｎｍ（アスペクト比：０．８３）の微細凹凸構造を表面に有する構造体を得た。
得られた構造体について、往復摩耗試験及び押し込み弾性率測定を実施した。評価結果を表２に示す。【００９７】
「実施例２〜８、比較例１〜５」
樹脂組成物Ａを表１に記載の樹脂組成物に変更したこと以外は、実施例１と同様の操作にて構造体を製造し、各種測定及び評価を行った。結果を表２に示す。【００９８】
【表２】
0006451321.tif 000003
【００９９】
表２の結果から明らかなように、実施例１、６の構造体は、表層の押し込み弾性率が適度に制御され、かつ、往復摩耗試験終了時も初期摩耗の段階が維持された状態にあったため、特に優れた耐擦傷性を示した。
実施例２、７の構造体は、表層の押し込み弾性率が適度に制御され、かつ、往復摩耗試験において、初期摩耗の状態が比較的長く維持されていたため、優れた耐擦傷性を示した。
実施例３〜５、８の構造体は、表層の押し込み弾性率が適度に制御され、かつ、往復摩耗試験終了時には定常摩耗がわずかに進行している程度の状態であり、良好な耐擦傷性を示した。【０１００】
一方、比較例１の構造体は、表層の押し込み弾性率が１３００ＭＰａよりも高かったため、ナノオーダーの突起（微細凹凸構造層の凸部）が荷重に対して折れてやすく、また、往復摩耗試験終了時には、定常摩耗が進行しているため、往復摩耗試験後の構造体表面を目視評価した結果はＣとなった。
比較例２の構造体は、表層の押し込み弾性率が１３００ＭＰａよりも高かったため、ナノオーダーの突起が荷重に対して折れてやすく、また、往復摩耗試験において初期摩耗の段階が短く、耐擦傷性が不十分となり、往復摩耗試験後の構造体表面を目視評価した結果はＤとなった。
比較例３の構造体は、往復摩耗試験において初期摩耗の段階の動摩擦係数の変化率（Δμｓ）が高く、また、初期摩耗の進行に伴って摩擦係数が大きく上昇し、５００往復前後で装置の性能限界を超え、測定不能となった。測定不能となった時点での、構造体表面を目視評価した結果はＤであった。
比較例４，５の構造体は、表層の押し込み弾性率は適度に制御されているが、往復摩耗試験において初期摩耗の状態が短く、耐擦傷性が不十分となり、往復摩耗試験後のサンプル表面を目視評価した結果はＣとなった。【０１０１】
これらの結果より、本発明によれば、表層の押し込み弾性率を制御し、前記微細凹凸構造を有する表面に対して往復摩耗試験を実施した際の、動摩擦係数の上昇を適切な範囲内とすることで、反射防止性能等の光学性能を損なうことなく、耐擦傷性に優れた構造体を得られることが示された。
【産業上の利用可能性】
【０１０２】
本発明の積層構造体は、光学性能及び機械特性に優れた光学物品、特に反射防止フィルム等の反射防止物品として有用である。
【符号の説明】
【０１０３】
１０  構造体
１２  基材
１４  表層
２０  アルミニウム基材
２２  細孔
２４  酸化皮膜
２６  細孔発生点
２８  モールド
３０  ロール状モールド
３２  タンク
３４  空気圧シリンダ
３６  ニップロール
３８  活性エネルギー線照射装置
４０  剥離ロール
【図１】
0006451321.tif 000004
【図２】
0006451321.tif 000005
【図３】
0006451321.tif 000006
【図４】
0006451321.tif 000007