(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体チップと、
前記半導体チップの表面に設けられたバンプと、
前記バンプが上面に接続されたリードと、
前記半導体チップの表面に一端が接続された単層の応力緩衝放熱板と、
前記半導体チップ、前記バンプ、前記リードの前記上面および前記応力緩衝放熱板の側面を覆う封止樹脂と、
からなり、
前記リードの下面および前記応力緩衝放熱板の他端が前記封止樹脂から露出しているとともに、同一水平面をなすように配置されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
前記応力緩衝放熱板は、金属フィラーを混練させた樹脂であることを特徴とする請求項１記載の半導体装置。
【請求項３】
前記応力緩衝放熱板は、相対的に発熱性の高い半導体集積回路領域に設けられ、前記発熱性の高い半導体集積回路領域を覆う形状であることを特徴とする請求項１又は２に記載の半導体装置。
【請求項４】
前記応力緩衝放熱板は、断面視的に台型で、前記半導体チップ側の前記一端の面積よりも前記封止樹脂から露出する前記他端の面積のほうが大きいことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項記載の半導体装置。
【請求項５】
前記応力緩衝放熱板の前記他端および前記リードの前記下面が半田によりランドと接続されている請求項１乃至４のいずれか１項記載の半導体装置を有する実装基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体装置及びそれを有する実装基板に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、自動車のエンジンルームなど高温の環境で高性能の動作が要求される半導体集積回路が組み込まれた半導体チップにおいては、半導体集積回路での自己発熱によりかかる回路部分を含む領域がさらに高温化してしまい、動作温度の上昇による熱暴走や特性劣化が問題となっている。従って、半導体チップにおいて、発熱部分を冷却する技術の開発が重要視されている。
【０００３】
図５は、ダイパッド１２の表面上に半導体チップ２を固定し、その全体を封止樹脂１で封止した半導体装置を図示している。ダイパッド１２の裏面が封止樹脂１から露出しているので放熱性が高い（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平０９−１９９６３９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１に示した発明における主な放熱経路は半導体チップ２の裏面からダイパッド１２へ、そして（図示していない）実装基板へ、という経路である。しかしながら、発熱する半導体集積回路は半導体チップの表面に配置されており、しかも、半導体チップ表面での発熱は不均一である。すなわち、局所的に高温となる部分が存在することになり、半導体集積回路の動作が不安定となる。
【０００６】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたもので、高温状況下でも半導体装置を構成する半導体チップ表面の熱を効率的に放熱し、半導体集積回路を正常に動作させることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために以下の手段を用いた。
まず、半導体チップと、前記半導体チップの表面に設けられたバンプと、前記バンプが上面に接続されたリードと、前記半導体チップの表面に一端が接続された単層の応力緩衝放熱板と、前記半導体チップ、前記バンプ、前記リードの前記上面および前記応力緩衝放熱板の側面を覆う封止樹脂と、からなり、前記リードの下面および前記応力緩衝放熱板の他端が前記封止樹脂から露出しているとともに、同一水平面をなすように配置されていることを特徴とする半導体装置とした。また、前記応力緩衝放熱板は、金属フィラーを混練させた樹脂であることを特徴とする半導体装置とした。
【０００８】
また、前記応力緩衝放熱板は、他よりも発熱性の高い半導体集積回路領域に設けられ、前記発熱性の高い半導体集積回路領域を覆う形状であることを特徴とする半導体装置とした。
また、前記応力緩衝放熱板は、断面視的に台型で、前記半導体チップ側の前記一端の面積よりも前記封止樹脂から露出する前記他端の面積のほうが大きいことを特徴とする半導体装置とした。
【０００９】
さらに、前記応力緩衝放熱板の前記他端および前記リードの前記下面が半田によりランドと接続されている上述の半導体装置を有することを特徴とする実装基板とした。
【発明の効果】
【００１０】
上記手段を用いることで、半導体チップで発生した熱を効率的に放熱することが可能となり、半導体集積回路を正常に動作させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の第１の実施形態にかかる半導体装置の断面図である
【図２】本発明の第１の実施形態にかかる半導体装置の実装状態での断面図である
【図３】本発明の応力緩衝放熱板の拡大平面図である
【図４】本発明の第２の実施形態にかかる半導体装置の断面図である
【図５】従来の半導体装置の断面図である
【発明を実施するための形態】
【００１２】
図１は、本発明の第１の実施形態にかかる半導体装置の断面図である。本図においては下方の面となる半導体チップ２の表面には半導体集積回路が設けられ、この半導体チップ２の表面に設けられたバンプ３を介して外部接続のための端子となるリード４の上面と電気的導通がとれるように接続されている。半導体チップ２はフェイスダウン方式で表面に設けられた電極とリード４がバンプ３を介して接続され、半導体チップ２の内側の半導体集積回路領域は応力緩衝放熱板５の一端と絶縁性接着剤もしくは導電性接着剤６を介して接続されている。また、半導体チップ２、バンプ３、下面と側面の一部を除くリード４、他端を除く応力緩衝放熱板５はそれぞれ封止樹脂１によって被覆されている。応力緩衝放熱板５は側面が封止樹脂１によって被覆されることになる。従って、応力緩衝放熱板５の他端とリード４の下面は封止樹脂１によって覆われておらず、封止樹脂１から外部へと露出している。
【００１３】
応力緩衝放熱板５は半導体チップ２の半導体集積回路へかかる応力を緩衝しつつ半導体集積回路からの熱を半導体装置外へ効率的に放熱する機能を有するものである。半導体集積回路の動作による発熱時に半導体チップ２と応力緩衝放熱板との熱膨張率に差があると半導体集積回路にダメージが加わり動作しなくなる。これを回避するために応力緩衝放熱板５の熱膨張率は半導体チップ２のそれに近いものである。半導体チップ２がシリコンであれば応力緩衝放熱板５の熱膨張率がシリコンの熱膨張率に近いものとする。半導体チップ２が化合物半導体基板からなるのであれば、それに準ずる材質のものとする。
【００１４】
応力緩衝放熱板５には上述したような、半導体集積回路にかかる応力を減じるという機能とともに高い放熱性も必要とされる。これは半導体集積回路で発生した熱を素早く半導体装置１００外へ放出するためである。応力緩衝放熱板５は単層であっても良いし、応力緩衝機能を担う層と放熱機能を担う層の積層であっても構わない。また、金属フィラーを樹脂に混練させた熱伝導性の高いものでも良い。応力緩衝放熱板５は上面である一端が半導体チップ２と接着剤６を介して接合され、その反対側の底部である他端を封止樹脂１から露出し、その露出面は、封止樹脂１からその下面が露出しているリード４の露出面と同一水平面をなすように配置される。
【００１５】
図２は、上述した本発明の第１の実施形態にかかる半導体装置の実装状態を示す断面図である。半導体装置１００の下面にはランド８を配置した実装基板９が設けられ、各々のランド８とリード４または応力緩衝放熱板５とが半田を介して接続されている。このような構成とすることで半導体チップ表面の半導体集積回路にて発生した熱が応力緩衝放熱板５を伝って実装基板９へ効率的に放熱される。
【００１６】
図３は、本発明の応力緩衝放熱板の拡大平面図である。応力緩衝放熱板５は半導体チップ２に形成された、相対的に他の領域よりも発熱性の高い特定の半導体集積回路領域１３を含む領域を覆う形状であっても良いし、発熱性の高い特定の半導体集積回路領域１３のみを覆う形状であっても良い。この場合、半導体集積回路が平面視的に矩形であれば、これと同じ形状で同じ大きさ、あるいは僅かに大きい応力緩衝放熱板５とするのが良い。発熱性の高い特定の半導体集積回路領域１３が複数ある場合には複数の応力緩衝放熱板５を設けるのが良い。発熱性の高い特定の半導体集積回路領域１３は回路の消費電流により決まるので、半導体集積回路の設計時に容易に推定することが可能である。
【００１７】
図４は、本発明の第２の実施形態にかかる半導体装置の断面図である。図１では応力緩衝放熱板５は断面視的に矩形で図示されている。つまり、応力緩衝放熱板５は直方体あるいは円柱状であり、半導体チップ２と接する上面と実装基板と接する下面の面積は同じであることを示している。これに対し、図４では断面形状が台形となる錐台型の応力緩衝放熱板５を用いている。放熱性を高めるためにはこのような上面の面積よりも下面の面積が大きい形状にすることが好ましい。
【００１８】
以上、説明した実施形態とすることで、半導体チップ２の表面の発熱部と実装基板９のランド８に、応力緩衝放熱板５を通じて接触させる事ができ、放熱性を向上する事が出来る。
【符号の説明】
【００１９】
１  封止樹脂
２  半導体チップ
３  バンプ
４  リード
５  応力緩衝放熱板
６  絶縁性接着剤、導電性接着剤
７  半田
８  ランド
９  実装基板
１０  ボンディングワイヤー
１１  リード
１２  ダイパッド
１３  発熱性の高い半導体集積回路領域
１００  半導体装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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