(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射線を発する放射線源と、
前記放射線が通過する開口部に設けられて前記放射線を遮蔽可能な複数のリーフを動作させて、前記放射線の照射領域を形成するマルチリーフコリメータと、
仮想平面における前記放射線の照射領域が前記仮想平面内の一方向に移動するように、前記開口部を移動させる開口部移動部と、
を備える放射線治療装置を制御する放射線治療装置制御装置であって、
前記仮想平面における前記放射線の照射領域の形状が、前記仮想平面における前記放射線の照射領域の移動方向に直交する方向に対して傾斜した辺を有する形状を模擬するように、前記マルチリーフコリメータを制御するマルチリーフコリメータ制御部を備え、
前記マルチリーフコリメータ制御部は、前記仮想平面における前記放射線の照射領域の形状が、前記仮想平面の移動方向の前側、後側それぞれに辺を有する形状を模擬し、前記前側の辺の、前記仮想平面における前記放射線の照射領域の移動方向に直交する方向に対する傾斜と、前記後側の辺の、前記仮想平面における前記放射線の照射領域の移動方向に直交する方向に対する傾斜とが同じ向きかつ同じ大きさの傾斜となるように、前記マルチリーフコリメータを制御する、放射線治療装置制御装置。
【請求項２】
前記開口部移動部は、仮想平面における前記放射線の照射領域が前記仮想平面内の一方向を往復するように、前記開口部を移動させ、
前記マルチリーフコリメータ制御部は、往路における前記傾斜の向きと、復路における前記傾斜の向きとが逆向きになるように、前記マルチリーフコリメータを制御する、請求項１に記載の放射線治療装置制御装置。
【請求項３】
放射線を発する放射線源と、
前記放射線が通過する開口部に設けられて前記放射線を遮蔽可能な複数のリーフを動作させて、前記放射線の照射領域を形成するマルチリーフコリメータと、
仮想平面における前記放射線の照射領域が前記仮想平面内の一方向に移動するように、前記開口部を移動させる開口部移動部と、
前記仮想平面における前記放射線の照射領域の形状が、前記仮想平面における前記放射線の照射領域の移動方向に直交する方向に対して傾斜した辺を有する形状を模擬するように、前記マルチリーフコリメータを制御するマルチリーフコリメータ制御部と、
を備え、
前記マルチリーフコリメータ制御部は、前記仮想平面における前記放射線の照射領域の形状が、前記仮想平面の移動方向の前側、後側それぞれに辺を有する形状を模擬し、前記前側の辺の、前記仮想平面における前記放射線の照射領域の移動方向に直交する方向に対する傾斜と、前記後側の辺の、前記仮想平面における前記放射線の照射領域の移動方向に直交する方向に対する傾斜とが同じ向きかつ同じ大きさの傾斜となるように、前記マルチリーフコリメータを制御する、放射線治療システム。
【請求項４】
放射線を発する放射線源と、
前記放射線が通過する開口部に設けられて前記放射線を遮蔽可能な複数のリーフを動作させて、前記放射線の照射領域を形成するマルチリーフコリメータと、
仮想平面における前記放射線の照射領域が前記仮想平面内の一方向に移動するように、前記開口部を移動させる開口部移動部と、
を備える放射線治療装置を制御する放射線治療装置制御装置の放射線治療装置制御方法であって、
前記仮想平面における前記放射線の照射領域の形状が、前記仮想平面における前記放射線の照射領域の移動方向に直交する方向に対して傾斜した辺を有する形状を模擬するように、前記マルチリーフコリメータを制御するマルチリーフコリメータ制御ステップを有し、
前記マルチリーフコリメータ制御ステップは、前記仮想平面における前記放射線の照射領域の形状が、前記仮想平面の移動方向の前側、後側それぞれに辺を有する形状を模擬し、前記前側の辺の、前記仮想平面における前記放射線の照射領域の移動方向に直交する方向に対する傾斜と、前記後側の辺の、前記仮想平面における前記放射線の照射領域の移動方向に直交する方向に対する傾斜とが同じ向きかつ同じ大きさの傾斜となるように、前記マルチリーフコリメータを制御するステップである、放射線治療装置制御方法。
【請求項５】
放射線を発する放射線源と、
前記放射線が通過する開口部に設けられて前記放射線を遮蔽可能な複数のリーフを動作させて、前記放射線の照射領域を形成するマルチリーフコリメータと、
仮想平面における前記放射線の照射領域が前記仮想平面内の一方向に移動するように、前記開口部を移動させる開口部移動部と、
を備える放射線治療装置を制御するコンピュータに、
前記仮想平面における前記放射線の照射領域の形状が、前記仮想平面における前記放射線の照射領域の移動方向に直交する方向に対して傾斜した辺を有する形状を模擬するように、前記マルチリーフコリメータを制御するマルチリーフコリメータ制御ステップであって、前記仮想平面における前記放射線の照射領域の形状が、前記仮想平面の移動方向の前側、後側それぞれに辺を有する形状を模擬し、前記前側の辺の、前記仮想平面における前記放射線の照射領域の移動方向に直交する方向に対する傾斜と、前記後側の辺の、前記仮想平面における前記放射線の照射領域の移動方向に直交する方向に対する傾斜とが同じ向きかつ同じ大きさの傾斜となるように、前記マルチリーフコリメータを制御するマルチリーフコリメータ制御ステップ、を実行させるためのプログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、放射線治療装置制御装置、放射線治療システム、放射線治療装置制御方法およびプログラムに関する。
【背景技術】
【０００２】
放射線治療装置にて放射線を照射する範囲（照射対象範囲）を、放射線照射装置（放射線治療装置に設けられて放射線を照射する装置）の位置を固定した状態での１回の放射線照射にて得られる照射領域よりも拡大するための技術が提案されている。
例えば、特許文献１に記載の放射線照射方法は、第１点から放射状に放射される第１放射線を被検体のうちの第１部分に照射するステップと、第２点から放射状に放射される第２放射線を被検体のうちの第１部分と異なる第２部分に照射するステップとを具備し、被検体に対する第２点の位置は、被検体に対する第１点の位置に一致する。
特許文献１に記載の放射線照射方法によれば、より小型の放射線照射装置を用いて、被検体の部分に照射される放射線の線量をより高精度に制御することができる。その結果、その放射線照射装置を支持する支持体の撓みが低減され、その放射線照射装置がより高精度に位置決めされ、放射線が照射される部位がより高精度に制御されることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００８−１７３１８２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
放射線を複数回照射して照射対象範囲を拡大する方法では、照射対象範囲に放射線を均一に照射するためには、照射毎の照射領域の繋ぎ目において、照射領域の重なりや隙間をできるだけ小さくするように、照射領域の位置および形状を制御することが望まれる。
一方、放射線の照射対象範囲を拡大するもう１つの方法として、放射線照射装置の向きまたは位置を、放射線を照射しながら変化させることで照射領域を移動させる方法が考えられる。この方法では、照射領域の繋ぎ目が生じないことから、照射領域の重なりや隙間を小さくするための制御を行う必要がない。一方、放射線を照射しながら、放射線照射装置の向きまたは位置を変化させることで照射領域を移動させる方法では、照射開始時の照射領域や照射終了時の照射領域において、途中の照射領域よりも照射時間が短くなり照射量が少なくなる可能性がある。照射対象範囲に放射線を均一に照射するためには、照射開始時の照射領域や照射終了時の照射領域においても照射時間を確保できることが望ましい。
【０００５】
本発明は、放射線を照射する範囲を拡大することができ、かつ、照射対象範囲における放射線照射量の均一性を高めることができる放射線治療装置制御装置、放射線治療システム、放射線治療装置制御方法およびプログラムを提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の第１の態様によれば、放射線治療装置制御装置は、放射線を発する放射線源と、前記放射線が通過する開口部に設けられて前記放射線を遮蔽可能な複数のリーフを動作させて、前記放射線の照射領域を形成するマルチリーフコリメータと、仮想平面における前記放射線の照射領域が前記仮想平面内の一方向に移動するように、前記開口部を移動させる開口部移動部と、を備える放射線治療装置を制御する放射線治療装置制御装置であって、前記仮想平面における前記放射線の照射領域の形状が、前記仮想平面における前記放射線の照射領域の移動方向に直交する方向に対して傾斜した辺を有する形状を模擬するように、前記マルチリーフコリメータを制御するマルチリーフコリメータ制御部を備え、前記マルチリーフコリメータ制御部は、前記仮想平面における前記放射線の照射領域の形状が、前記仮想平面の移動方向の前側、後側それぞれに辺を有する形状を模擬し、前記前側の辺の、前記仮想平面における前記放射線の照射領域の移動方向に直交する方向に対する傾斜と、前記後側の辺の、前記仮想平面における前記放射線の照射領域の移動方向に直交する方向に対する傾斜とが同じ向きかつ同じ大きさの傾斜となるように、前記マルチリーフコリメータを制御する。
【０００８】
前記開口部移動部は、仮想平面における前記放射線の照射領域が前記仮想平面内の一方向を往復するように、前記開口部を移動させ、前記マルチリーフコリメータ制御部は、往路における前記傾斜の向きと、復路における前記傾斜の向きとが逆向きになるように、前記マルチリーフコリメータを制御するようにしてもよい。
【０００９】
本発明の第２の態様によれば、放射線治療システムは、放射線を発する放射線源と、前記放射線が通過する開口部に設けられて前記放射線を遮蔽可能な複数のリーフを動作させて、前記放射線の照射領域を形成するマルチリーフコリメータと、仮想平面における前記放射線の照射領域が前記仮想平面内の一方向に移動するように、前記開口部を移動させる開口部移動部と、前記仮想平面における前記放射線の照射領域の形状が、前記仮想平面における前記放射線の照射領域の移動方向に直交する方向に対して傾斜した辺を有する形状を模擬するように、前記マルチリーフコリメータを制御するマルチリーフコリメータ制御部と、を備え、前記マルチリーフコリメータ制御部は、前記仮想平面における前記放射線の照射領域の形状が、前記仮想平面の移動方向の前側、後側それぞれに辺を有する形状を模擬し、前記前側の辺の、前記仮想平面における前記放射線の照射領域の移動方向に直交する方向に対する傾斜と、前記後側の辺の、前記仮想平面における前記放射線の照射領域の移動方向に直交する方向に対する傾斜とが同じ向きかつ同じ大きさの傾斜となるように、前記マルチリーフコリメータを制御する。
【００１０】
本発明の第３の態様によれば、放射線治療装置制御方法は、放射線を発する放射線源と、前記放射線が通過する開口部に設けられて前記放射線を遮蔽可能な複数のリーフを動作させて、前記放射線の照射領域を形成するマルチリーフコリメータと、仮想平面における前記放射線の照射領域が前記仮想平面内の一方向に移動するように、前記開口部を移動させる開口部移動部と、を備える放射線治療装置を制御する放射線治療装置制御装置の放射線治療装置制御方法であって、前記仮想平面における前記放射線の照射領域の形状が、前記仮想平面における前記放射線の照射領域の移動方向に直交する方向に対して傾斜した辺を有する形状を模擬するように、前記マルチリーフコリメータを制御するマルチリーフコリメータ制御ステップを有し、前記マルチリーフコリメータ制御ステップは、前記仮想平面における前記放射線の照射領域の形状が、前記仮想平面の移動方向の前側、後側それぞれに辺を有する形状を模擬し、前記前側の辺の、前記仮想平面における前記放射線の照射領域の移動方向に直交する方向に対する傾斜と、前記後側の辺の、前記仮想平面における前記放射線の照射領域の移動方向に直交する方向に対する傾斜とが同じ向きかつ同じ大きさの傾斜となるように、前記マルチリーフコリメータを制御するステップである。
【００１１】
本発明の第４の態様によれば、プログラムは、放射線を発する放射線源と、前記放射線が通過する開口部に設けられて前記放射線を遮蔽可能な複数のリーフを動作させて、前記放射線の照射領域を形成するマルチリーフコリメータと、仮想平面における前記放射線の照射領域が前記仮想平面内の一方向に移動するように、前記開口部を移動させる開口部移動部と、を備える放射線治療装置を制御するコンピュータに、前記仮想平面における前記放射線の照射領域の形状が、前記仮想平面における前記放射線の照射領域の移動方向に直交する方向に対して傾斜した辺を有する形状を模擬するように、前記マルチリーフコリメータを制御するマルチリーフコリメータ制御ステップであって、前記仮想平面における前記放射線の照射領域の形状が、前記仮想平面の移動方向の前側、後側それぞれに辺を有する形状を模擬し、前記前側の辺の、前記仮想平面における前記放射線の照射領域の移動方向に直交する方向に対する傾斜と、前記後側の辺の、前記仮想平面における前記放射線の照射領域の移動方向に直交する方向に対する傾斜とが同じ向きかつ同じ大きさの傾斜となるように、前記マルチリーフコリメータを制御するマルチリーフコリメータ制御ステップ、を実行させるためのプログラムである。
【発明の効果】
【００１２】
上記した放射線治療装置制御装置、放射線治療システム、放射線治療装置制御方法およびプログラムによれば、放射線を照射する範囲を拡大することができ、かつ、照射対象範囲における放射線照射量の均一性を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の一実施形態における放射線治療システムの機能構成を示す概略ブロック図である。
【図２】同実施形態における放射線治療装置の装置構成を示す概略構成図である。
【図３】同実施形態のマルチリーフコリメータにおけるリーフの配置例を示す説明図である。
【図４】同実施形態における放射線治療装置制御装置の機能構成を示す概略ブロック図である。
【図５】同実施形態における、放射線治療装置による照射領域の形成の例を模式的に示す図である。
【図６】同実施形態における、照射領域の形成の際のマルチリーフコリメータの動きの例を示す図である。
【図７】同実施形態における、照射領域の形成の際のマルチリーフコリメータの動きの例を示す図である。
【図８】同実施形態における、照射領域の形成の際のマルチリーフコリメータの動きの例を示す図である。
【図９】同実施形態において、照射領域を往復させる場合の、照射領域の形状の例を示す図である。
【図１０】同実施形態において、照射領域を片道で移動させた場合の、放射線量の分布の例を示す図である。
【図１１】同実施形態において、照射領域を往復させた場合の、放射線量の分布の例を示す図である。
【図１２】同実施形態における照射対象範囲の形状の例を示す図である。
【図１３】同実施形態において、照射対象範囲に対して設定する照射領域の例を示す図である。
【図１４】同実施形態において、照射対象範囲に対する放射線照射でのマルチリーフコリメータの動作の例を示す図である。
【図１５】同実施形態における、リーフに付す番号の例を示す図である。
【図１６】同実施形態における、仮想マルチリーフコリメータにおけるリーフの位置の例を示す図である。
【図１７】同実施形態において、放射線治療システムが放射線照射を行う処理の手順の例を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明の実施形態を説明するが、以下の実施形態は請求の範囲にかかる発明を限定するものではない。また、実施形態の中で説明されている特徴の組み合わせの全てが発明の解決手段に必須であるとは限らない。
図１は、本発明の一実施形態における放射線治療システムの機能構成を示す概略ブロック図である。同図において、放射線治療システム１は、放射線治療装置制御装置１０と、放射線治療装置２０とを備える。
【００１５】
放射線治療システム１は、放射線治療を行うためのシステムである。具体的には、放射線治療システム１は、放射線（治療用放射線）を照射する。放射線治療システム１が照射する治療用放射線は、Ｘ線などの電磁波であってもよいし、重粒子線または陽子線などの粒子線であってもよい。
放射線治療装置２０は、放射線治療装置制御装置１０の制御に従って、治療用放射線の照射を実行する。
【００１６】
図２は、放射線治療装置２０の装置構成を示す概略構成図である。同図において、放射線治療装置２０は、旋回駆動装置２１１と、Ｏリング２１２と、走行ガントリ２１３と、首振り機構２２１と、照射部２３０と、カウチ２８１とを備える。照射部２３０は、放射線照射装置２３１と、マルチリーフコリメータ（Multi Leaf Collimator；ＭＬＣ）２３２とを備える。
また、図２では、仮想平面の例として仮想平面Ｐ２１が示されている。ここでの仮想平面は、照射部２３０が照射する治療用放射線Ｂ１１とおよそ直交する平面である。仮想平面は、例えば患者ＰＴの体表面の付近に設けられていてもよいし、カウチ２８１の上面付近に設けられていてもよい。
【００１７】
旋回駆動装置２１１は、回転軸Ａ１１を中心に回転可能にＯリング２１２を土台に支持してＯリング２１２を回転させる。回転軸Ａ１１は、鉛直方向の軸である。
Ｏリング２１２は、回転軸Ａ１２を中心とするリング状に形成され、回転軸Ａ１２を中心に回転可能に走行ガントリ２１３を支持している。回転軸Ａ１２は、水平方向の軸（すなわち、鉛直方向に直角な軸）であり、アイソセンタＰ１１にて回転軸Ａ１１と直交する。回転軸Ａ１２は、Ｏリング２１２に対して固定されている。すなわち、回転軸Ａ１２は、Ｏリング２１２の回転に伴って回転軸Ａ１１を中心に回転する。
Ｏリング２１２は、自らが回転することで、走行ガントリ２１３および走行ガントリ２１３に設置されている各部を、回転軸Ａ１１回りに一体的に回転させる。特に、Ｏリング２１２は、自らが回転することで、照射部２３０を回転軸Ａ１１回りに回転させる。
【００１８】
走行ガントリ２１３は、回転軸Ａ１２を中心とするリング状に形成され、Ｏリング２１２の内側にＯリング２１２と同心円になるように配置されている。放射線治療装置２０は、さらに、図示されていない走行駆動装置を備えており、走行ガントリ２１３は、走行駆動装置からの動力にて回転軸Ａ１２を中心に回転する。
走行ガントリ２１３は、自らが回転することで、走行ガントリ２１３に設置されている各部を、回転軸Ａ１２回りに一体的に回転させる。特に、走行ガントリ２１３は、自らが回転することで照射部２３０を回転軸Ａ１２回りに回転させる。
【００１９】
首振り機構２２１は、走行ガントリ２１３のリングの内側に固定され、照射部２３０を走行ガントリ２１３に支持している。首振り機構２２１は、パン（Ｐａｎ）軸Ａ２１を中心に照射部２３０を回転させ、チルト（Ｔｉｌｔ）軸Ａ２２を中心に照射部２３０を回転させる。
パン軸Ａ２１は、回転軸Ａ１２に平行な軸であり、走行ガントリ２１３に対して固定されている。首振り機構２２１は、パン軸Ａ２１を中心に照射部２３０を回転させることで、照射部２３０を回転軸Ａ１２に対して左右（従って、患者ＰＴに対して左右）に首振り動作させる。患者ＰＴは、治療用放射線Ｂ１１の照射を受ける治療対象者である。
チルト軸Ａ２２は、パン軸Ａ２１に直交する軸であり、走行ガントリ２１３に対して固定されている。首振り機構２２１は、チルト軸Ａ２２を中心に照射部２３０を回転させることで、照射部２３０を回転軸Ａ１２方向（従って、患者ＰＴに対して上下）に首振り動作させる。
【００２０】
照射部２３０は、患部の形状に応じた形状の照射領域（照射野）を有する治療用放射線Ｂ１１を照射する。ここでいう照射領域は、治療用放射線Ｂ１１が照射されている領域である。
放射線照射装置２３１は、本発明における放射線源の一例に該当し、治療用放射線Ｂ１１を発する。放射線照射装置２３１は、首振り機構２２１を介して走行ガントリ２１３に支持されているので、首振り機構２２１の調整にて放射線照射装置２３１が一旦アイソセンタＰ１１に向けられると、旋回駆動装置２１１によりＯリング２１２が回転しても、また、走行駆動装置により走行ガントリ２１３が回転しても、治療用放射線Ｂ１１は常に概ねアイソセンタＰ１１を通る。
【００２１】
マルチリーフコリメータ２３２は、放射線照射装置２３１の先端（治療用放射線Ｂ１１を発する部分）に設けられて、治療用放射線Ｂ１１の照射領域を形成する。
図３は、マルチリーフコリメータ２３２におけるリーフの配置例を示す説明図である。同図は、マルチリーフコリメータ２３２を放射線照射対象の側（図２の例では下側）から見た例を示している。
【００２２】
同図において、Ｘ軸はパン方向を示し、Ｙ軸はチルト方向を示す。ここでいうパン方向は、首振り機構２２１がパン軸Ａ２１を中心に照射部２３０を回転させたときの、仮想平面Ｐ２１における照射領域の移動方向（従って、患者ＰＴに対して左右）である。また、チルト方向は、チルト軸Ａ２２を中心に照射部２３０を回転させたときの、仮想平面Ｐ２１における照射領域の移動方向（従って、患者ＰＴに対して上下）である。
【００２３】
図３において、マルチリーフコリメータ２３２には、放射線照射装置２３１から発せられた治療用放射線Ｂ１１が通過する開口部Ｈ１１が設けられている。また、マルチリーフコリメータ２３２は、開口部Ｈ１１に設けられて治療用放射線Ｂ１１の一部または全部を遮蔽可能に設けられた複数のリーフ２３３を備える。具体的には、２つのリーフ２３３が対になって両開きに開閉可能（Ｘ軸方向に移動可能）に配置されており、リーフ２３３を動作させて（Ｘ軸方向に移動させて）、治療用放射線Ｂ１１の照射領域を形成する。ここでいうリーフ２３３を動作させるとは、リーフ２３３をＸ軸方向に移動させて照射領域の形状を変更することである。
リーフ２３３の各々は、開口部Ｈ１１の幅（Ｘ軸方向の長さ）以上の長さを有しており、片開きで閉じることが可能である。すなわち、１方のリーフ２３３が完全に開いた状態で、他方のリーフ２３３のみで開口部Ｈ１１の幅全体にわたってリーフ２３３の幅分の領域の治療用放射線Ｂ１１を遮蔽することができる。
【００２４】
また、上記のように、首振り機構２２１は、照射部２３０を回転させることで、治療用放射線Ｂ１１の仮想平面Ｐ２１における照射領域を移動させる。首振り機構２２１は開口部移動部の例に該当し、照射部２３０を首振り動作させることで、仮想平面Ｐ２１における治療用放射線Ｂ１１の照射領域が仮想平面Ｐ２１内の一方向に移動するように、マルチリーフコリメータ２３２の開口部Ｈ１１を移動させる。特に、首振り機構２２１は、照射部２３０をチルト軸Ａ２２を中心に回転させることで、仮想平面Ｐ２１における治療用放射線Ｂ１１の照射領域が、仮想平面Ｐ２１内のチルト方向（患者ＰＴに対して上下）一方向に移動するように、マルチリーフコリメータ２３２の開口部Ｈ１１を移動させる。
但し、放射線治療装置２０が備える開口部移動部は、首振り機構２２１に限らない。例えば、放射線治療装置２０が、開口部移動部として、首振り機構２２１に変えて照射部２３０をカウチ２８１の上面に平行に移動可能に支持するアームを備えるようにしてもよい。
【００２５】
カウチ２８１は、患者ＰＴが横臥することに利用される。
放射線治療装置制御装置１０は、放射線治療装置２０を制御して治療用放射線Ｂ１１の照射を行わせる。放射線治療装置制御装置１０は、例えばコンピュータを含んで構成される。
図４は、放射線治療装置制御装置１０の機能構成を示す概略ブロック図である。同図において、放射線治療装置制御装置１０は、Ｏリング制御部１０１と、走行ガントリ制御部１０２と、首振り機構制御部１０３と、マルチリーフコリメータ制御部１０４と、放射線照射装置制御部１０５とを備える。
【００２６】
Ｏリング制御部１０１は、旋回駆動装置２１１によるＯリング２１２の回転を制御することで、Ｏリング２１２の位置を制御する。
走行ガントリ制御部１０２は、走行駆動装置による走行ガントリ２１３の回転を制御することで、走行ガントリ２１３に設置されている各部の走行ガントリ２１３における位置（回転角度）を制御する。特に、走行ガントリ制御部１０２は、走行ガントリ２１３における照射部２３０の位置を制御する。
【００２７】
首振り機構制御部１０３は、首振り機構２２１による照射部２３０の首振り（パン軸Ａ２１周りの回転およびチルト軸Ａ２２周りの回転）を制御する。
マルチリーフコリメータ制御部１０４は、マルチリーフコリメータ２３２を制御して、治療用放射線Ｂ１１の照射領域を形成させる。
放射線照射装置制御部１０５は、放射線照射装置２３１を制御して治療用放射線Ｂ１１を出力（照射）させる。
放射線治療装置制御装置１０は、例えば、放射線治療の担当医師が治療計画装置を用いて作成した治療計画に基づいて、放射線治療装置２０の制御を行う。
【００２８】
図５は、放射線治療装置２０による照射領域の形成の例を模式的に示す図である。同図では、マルチリーフコリメータ２３２の開口部Ｈ１１のチルト方向の幅よりも長い領域について治療用放射線Ｂ１１を照射する場合の、マルチリーフコリメータ２３２および首振り機構２２１を動作させての放射線照射の例を示している。
放射線治療装置２０は、まず、放射線照射装置２３１を照射対象範囲の一方の端部（始端）に向けて首振り機構２２１を固定した状態で、マルチリーフコリメータ２３２の動作により、照射領域を移動させる（図Ｇ１１１、Ｇ１１２）。
【００２９】
次に、放射線治療装置２０は、マルチリーフコリメータ２３２における各リーフ２３３の位置（開閉状態）を固定した状態で、首振り機構２２１により照射部２３０をチルト方向に回転させることで照射領域を移動させる（図Ｇ１１３）。
その後、照射領域（治療用放射線Ｂ１１が照射されている領域）が、照射対象範囲の他方の端部（終端）に到達すると、放射線治療装置２０は、首振り機構２２１を固定した状態で、マルチリーフコリメータ２３２の動作により、照射領域を移動させる（図Ｇ１１４、Ｇ１１５）。
なお、以下ではマルチリーフコリメータ２３２における、リーフ２３３の端部のパン方向の位置を、リーフ２３３の位置と称する。
【００３０】
ここで、図５に示すように、開口に接しているリーフ２３３の内側の角（最も開口に入り込んでいる角）を結ぶと三角形になる。すなわち、リーフ２３３四角形状により開口が正確な三角形にはなっていないものの、三角形を模擬した形状になっている。従って、仮想平面Ｐ２１における照射領域の形状も、三角形を模擬した形状になっている。なお、ここでいう、ある形状（模擬される形状）を模擬した形状とは、部分的な直線近似または曲線近似にて、模擬される形状を得られる形状である。
また、三角形の辺Ｌ１１およびＬ１２は、いずれも、仮想平面における放射線の照射領域の移動方向（Ｘ軸の方向）に直交する方向（Ｙ軸の方向）に対して傾斜している。
【００３１】
図Ｇ１２１は、仮想平面における放射線照射量の分布の例を示している。図Ｇ１２１に示されるように、開口の形状を三角形にした場合の照射量は、放射線の照射領域の移動方向と直角の方向（Ｙ軸の方向）には、照射量が連続的に変化している（グラデーション状になっている）。一方、放射線の照射領域の移動方向（Ｘ軸の方向）には、照射量が均一になっている。
【００３２】
図６〜８は、照射領域の形成の際のマルチリーフコリメータの動きの例を示す図である。図６は、放射線照射装置２３１を照射対象範囲の一方の端部（始端）に向けて首振り機構２２１を固定した状態での、マルチリーフコリメータ２３２の動作の例を、図Ｇ２１１から時間順に示している。
【００３３】
図Ｇ２１１では、図に向かって右側のリーフ２３３（以下、右リーフと称する）により片開き可能に全閉している。
図Ｇ２１２〜図Ｇ２１５では、右リーフが徐々に開いて開口が大きくなっている。放射線照射装置２３１が出力（照射）した治療用放射線Ｂ１１は、この開口を通過して患者ＰＴの患部に照射される。
【００３４】
ここで、図Ｇ２１５に示されるように、連続して配置されている複数のリーフ２３３（右リーフ）の位置（開閉の状態）が、距離Ｌ２１ずつ異なる位置となって、図の下から上に向かうにつれて開いている量が少なくなっている。これにより、リーフ２３３の移動方向（Ｙ軸の方向）に対して傾斜した辺（線Ｌ３１）が模擬されている。
このように、リーフ２３３が徐々に開いていくことで、リーフ２３３が動作するための時間を確保することができる。ここで、全閉している状態のリーフ２３３が直ちに全開することを想定した場合、リーフ２３３が開くのに時間を要し、放射線照射量にムラが生じる可能性がある。これに対して、図６に例示されるリーフ２３３が徐々に開いていく動作では、リーフ２３３の動作時間を確保することができ、想定しているリーフ２３３の位置（開閉状態）と実際のリーフ２３３の位置との差を小さくすることができる。これにより、図６に例示されるリーフ２３３が徐々に開いていく動作によれば、放射線照射量のムラを低減させ得る。
【００３５】
図Ｇ２１６では、右リーフの開動作に加えて、図に向かって左側のリーフ２３３（以下、左リーフと称する）が閉じて平行四辺形を模擬する開口の形状となっている。特に、線Ｌ３２およびＬ３３のように、リーフ２３３の移動方向に対して傾斜した辺が模擬されている。これにより、仮想平面Ｐ２１における治療用放射線Ｂ１１の照射領域の形状は、仮想平面Ｐ２１における治療用放射線Ｂ１１の照射領域の移動方向（チルト方向）に直交する方向（パン方向）に対して傾斜した辺を有する平行四辺形を模擬した形状となっている。
また、図Ｇ２１１〜Ｇ２１６では、マルチリーフコリメータ２３２による開口の形状は、平行四辺形が等速で移動するのを模擬する形状になっている。
【００３６】
図７は、マルチリーフコリメータ２３２における各リーフ２３３の位置（開閉状態）を固定した状態を示している。放射線治療装置２０は、マルチリーフコリメータ２３２における各リーフ２３３の位置を固定した状態で、首振り機構２２１により照射部２３０をチルト方向に回転させることで照射領域を移動させる。
【００３７】
具体的には、図７では、図６の図Ｇ２１６を参照して説明した、平行四辺形を模擬する開口の形状が維持されている。図５の図Ｇ１３３を参照して説明したのと同様に、放射線治療装置２０は、この平行四辺形を模擬する開口の形状を維持したまま、首振り機構２２１を、チルト軸を中心に回転させて照射領域をチルト方向に移動させる。これにより、仮想平面Ｐ２１における治療用放射線Ｂ１１の照射領域の形状は、仮想平面Ｐ２１における治療用放射線Ｂ１１の照射領域の移動方向（チルト方向）に直交する方向（パン方向）に対して傾斜した辺を有する平行四辺形を模擬した形状となっている。
なお、線Ｌ３２が仮想平面に投影された線は、仮想平面における照射領域の、仮想平面Ｐ２１の移動方向の前側の辺の例に該当する。また、線Ｌ３３が仮想平面に投影された線は、仮想平面における照射領域の、仮想平面Ｐ２１の移動方向の後側の辺の例に該当する。
【００３８】
また、線Ｌ３２と線Ｌ３３とは、パン方向に対して同じ向きかつ同じ大きさの傾斜となっている。これにより、線Ｌ３２が仮想平面に投影された線（前側の辺）と、線Ｌ３３が仮想平面に投影された線（後側の辺）とも、パン方向に対して同じ向きかつ同じ大きさの傾斜となっている。
これにより、開口のチルト方向の長さが均一になる。例えば、図Ｇ２２１に示す長さＤ１１とＤ１２とが同じ長さになる。開口のチルト方向の長さが均一になることで、照射領域がチルト方向に移動する際の治療用放射線Ｂ１１の照射時間を均一にすることができ、特に、パン方向について放射線照射量を均一にすることができる。
【００３９】
図８は、照射領域（治療用放射線Ｂ１１が照射されている領域）が、照射対象範囲の他方の端部（終端）に到達し、放射線治療装置２０は、首振り機構２２１を固定した状態での、マルチリーフコリメータ２３２の動作を、図Ｇ２３１から時間順に示している。
図Ｇ２３１では、図７における平行四辺形を模擬する開口の形状が維持されている。
図Ｇ２３２〜Ｇ２３５では、右リーフは全開しており、また、左リーフが徐々に閉じて開口が小さくなっている。
【００４０】
ここで、図Ｇ２３２に示されるように、連続して配置されている複数のリーフ２３３（左リーフ）の位置（開閉の状態）が、距離Ｌ２１ずつ異なる位置となって、図の下から上に向かうにつれて閉じている量が少なくなっている。これにより、リーフ２３３の移動方向（Ｙ軸の方向）に対して傾斜した辺が模擬されている。
このように、リーフ２３３が徐々に閉じていくことで、リーフ２３３が動作するための時間を確保することができる。ここで、全開している状態のリーフ２３３が直ちに全閉することを想定した場合、リーフ２３３が閉じるのに時間を要し、放射線照射量にムラが生じる可能性がある。これに対して、図８に例示されるリーフ２３３が徐々に閉じていく動作では、リーフ２３３の動作時間を確保することができ、想定しているリーフ２３３の位置（開閉状態）と実際のリーフ２３３の位置との差を小さくすることができる。これにより、図８に例示されるリーフ２３３が徐々に閉じていく動作によれば、放射線照射量のムラを低減させ得る。
また、図Ｇ２３１〜Ｇ２３６では、マルチリーフコリメータ２３２による開口の形状は、平行四辺形が等速で移動するのを模擬する形状になっている。
【００４１】
図９は、照射領域を往復させる場合の、照射領域の形状の例を示す図である。図Ｇ３１１は、往路における照射領域の形状の例を示し、図Ｇ３１２は、復路における照射領域の形状の例を示している。
図９の例では、往路、復路とも、図６〜８を参照して説明したように、マルチリーフコリメータ２３２の開口の形状を平行四辺形を模擬する形状としており、照射領域の形状も平行四辺形を模擬する形状となっている。また、往路と復路では、照射領域の形状が左右反転している。すなわち、照射領域の形状が模擬している平行四辺形の辺の傾斜の向きが、往路と復路とで逆向きになっている。
【００４２】
次に、図１０および１１を参照して、照射領域を片道で移動させた場合、往復させた場合それぞれについて、放射線量の分布の例を説明する。
図１０は、照射領域を片道で移動させた場合の、放射線量の分布の例を示す図である。同図は、図６〜８を参照して説明したように、照射領域の形状を、平行四辺形を模擬する形状にして片道で移動させた場合の例を示している。また、図Ｇ４１０は治療用放射線Ｂ１１の照射対象範囲の例を示している。図Ｇ４１１、Ｇ４１２、Ｇ４１３は、それぞれ、照射対象範囲の始端寄り、照射対象範囲の中央付近、照射対象範囲の終端寄りおけるリーフ２３３の開閉方向の照射量の分布をグラフで示している。
図Ｇ４１１、Ｇ４１２、Ｇ４１３それぞれのグラフを見ると、Ｇ４１１、Ｇ４１３ではやや分布にばらつきがあるものの、いずれのグラフでも頂上部分がほぼ平坦な、長方形に近いグラフになっており、放射線が照射対象範囲に均一に照射されている。
【００４３】
図１１は、照射領域を往復させた場合の、放射線量の分布の例を示す図である。同図は、図９を参照して説明したように、照射領域の形状を、平行四辺形を模擬する形状にして往復で移動させた場合の例を示している。また、図Ｇ４２０は治療用放射線Ｂ１１の照射対象範囲の例を示している。図Ｇ４２１、Ｇ４２２、Ｇ４２３は、それぞれ、照射対象範囲の往路の始端寄り、照射対象範囲の中央付近、照射対象範囲の往路の終端寄りにおけるリーフ２３３の開閉方向の照射量の分布をグラフで示している。
図Ｇ４２１、Ｇ４２２、Ｇ４２３それぞれのグラフを見ると、いずれのグラフでも頂上部分がほぼ平坦な、長方形に近いグラフになっており、放射線が照射対象範囲に均一に照射されている。特に、図１０と比較すると、照射対象範囲の往路始端寄りおよび往路終端寄りでも、照射量の分布の均一性がさらに高まっている。
【００４４】
なお、照射対象範囲の形状は、図５や図１０〜１１に示される長方形に限らず様々な形状にすることができる。
図１２は、照射対象範囲の形状の例を示す図である。
図１３は、図１２の照射対象範囲に対して設定する照射領域の例を示す図である。図１２の照射対象範囲は放射線治療装置２０が１回の照射で放射線を照射可能な照射領域よりもチルト方向に長いため、放射線治療装置２０は照射領域を移動させて放射線を照射する。
【００４５】
放射線治療装置２０は、放射線治療装置制御装置１０の制御に従って、まず範囲Ａ３１内に放射線照射装置２３１を向けて首振り機構２２１を固定し、マルチリーフコリメータ２３２の動作により照射領域を移動させながら治療用放射線Ｂ１１を照射する。範囲Ａ３１には、照射対象範囲の一方の端部（始端）が含まれている。
次に、放射線治療装置２０は、放射線治療装置制御装置１０の制御に従って首振り機構２２１をチルト軸周りに回転させて照射領域を移動させながら治療用放射線Ｂ１１を照射する。その際も、照射対象範囲の形状に応じてマルチリーフコリメータ２３２を動作させる。
その後、放射線照射装置２３１が範囲Ａ３２を向くと、放射線治療装置２０は、首振り機構２２１を固定し、マルチリーフコリメータ２３２の動作により照射領域を移動させながら治療用放射線Ｂ１１を照射する。範囲Ａ３２には、照射対象範囲の他方の端部（終端）が含まれている。
【００４６】
図１４は、図１２の照射対象範囲に対する放射線照射でのマルチリーフコリメータ２３２の動作の例を示す図である。
放射線治療装置２０は、まず、範囲Ａ３１内に放射線照射装置２３１を向けて首振り機構２２１を固定し、照射対象範囲の始端から徐々に照射領域を広げるようにマルチリーフコリメータを動作させて治療用放射線の照射を行う（図Ｇ５１１、Ｇ５１２）。その際、図６の場合と同様、リーフ２３３を段階的に開いてく。これにより、リーフ２３３の移動方向（Ｙ軸の方向）に対して傾斜した辺（線Ｌ４１）が模擬されている。
【００４７】
次に、放射線治療装置２０は、首振り機構２２１をチルト軸周りに回転させて照射領域を移動させながら治療用放射線Ｂ１１を照射する（図Ｇ５２１、Ｇ５２２）。その際も、照射対象範囲の形状に応じてマルチリーフコリメータ２３２を動作させる。また、リーフ２３３の移動方向（Ｙ軸の方向）に対して傾斜した辺（線Ｌ４２、Ｌ４３）が模擬されている。
【００４８】
その後、照射領域に照射対象範囲の終端が含まれると、放射線治療装置２０は、首振り機構２２１を固定し、照射対象範囲の終端へ向けて徐々に照射領域狭めるようにマルチリーフコリメータを動作させて治療用放射線の照射を行う（図Ｇ５３１、Ｇ５３２）。その際、図８の場合と同様、リーフ２３３を段階的に閉じてく。これにより、リーフ２３３の移動方向（Ｙ軸の方向）に対して傾斜した辺（線Ｌ４４）が模擬されている。
【００４９】
図１２〜図１４を参照して説明した放射線照射におけるリーフ２３３の位置は、式（１）のように示される。
【００５０】
【数１】
0006530933.tif 000002
【００５１】
ここで、ｔは時刻を示す。ｔの値として、照射対象への放射線照射を開始してからの経過時間を用いる。
また、ＭＣＬｉ（ｔ）は、ｉ番目のリーフの位置を示す。ｉは、リーフの番号を示す、１≦ｉ≦Ｍの正整数である。Ｍはリーフの列数（左リーフと右リーフとの対で構成される列の数）を示す定数（例えば、Ｍ＝３０）である。ここでいうリーフの位置とは、パン方向における、所定の基準位置からリーフの先端までの距離である。所定の基準位置は、様々な位置に設定し得る。例えば、マルチリーフコリメータ２３２の開口部の中央（図３に示す開口部Ｈ１１の、同図に向かって左端の辺と右端の辺との中央）を基準位置としてもよい。あるいは、開口部の端部（図３に示す開口部Ｈ１１の、同図に向かって左端の辺または右端の辺のいずれか）を基準位置としてもよい。
なお、左リーフ、右リーフそれぞれに、下記の各定数を設定してリーフの位置を求める。また、照射領域を往復させる場合は、往路、復路それぞれに各定数を設定してリーフの位置を求める。
【００５２】
図１５は、リーフ２３３に付す番号の例を示す図である。同図において、マルチリーフコリメータ２３２が備えるリーフ２３３の２個１組を列として、同図の下側の列から順に番号１、２、・・・、Ｍが付されている。マルチリーフコリメータ２３２には、各列に左リーフと右リーフがあり、マルチリーフコリメータ２３２は、２Ｍ個のリーフを備えている。
【００５３】
式（１）のＧｉ（ｔ）は、図１５の線Ｌ５１およびＬ５２のように、リーフ２３３の移動方向（Ｙ軸の方向）に対して傾斜した辺を模擬するための項であり、式（２）のように示される。
【００５４】
【数２】
0006530933.tif 000003
【００５５】
ここで、ｂｉは、図１５の線Ｌ５１およびＬ５２のように、リーフ２３３の移動方向（Ｙ軸の方向）に対して傾斜した辺の、リーフ２３３の移動方向に対する傾斜の大きさを示すパラメータであり、時刻に応じて異なる数値となる。
ａｉ、ｃｉは、いずれも定数を示す。
ｔ１は、首振り機構２２１がチルト軸周りの回転を開始する時刻を示す。
ｔ２は、首振り機構２２１がチルト軸周りの回転を終了する時刻を示す。
Ｆｉ（ｔ）は、照射領域を放射線照射対象に合わせるための項である。このＦｉ（ｔ）は、例えば、仮想マルチリーフコリメータの位置として予め設定される。
【００５６】
図１６は、仮想マルチリーフコリメータにおけるリーフの位置の例を示す図である。同図おいて、仮想マルチリーフコリメータの各リーフが、照射対象の形状に合わせて設定されている。
ここで、照射対象のＸ軸方向の長さは、マルチリーフコリメータ２３２の開口部Ｈ１１（図３）のＸ軸方向（チルト方向）の幅よりも長く、これにより、仮想マルチリーフコリメータの開口部のＸ軸方向の幅は、マルチリーフコリメータ２３２の開口部Ｈ１１のＸ軸方向の幅よりも長くなっている。一方、仮想マルチリーフコリメータにおける各リーフの幅（Ｘ軸方向の長さ）は、マルチリーフコリメータ２３２における幅と同じである。このため、仮想マルチリーフコリメータにおけるリーフの列数Ｎは、マルチリーフコリメータ２３２におけるリーフ２３３の列数Ｍよりも多くなっている。
【００５７】
式（１）のＦｉ（ｔ）の値は、図１６の例のように、仮想マルチリーフコリメータの照射領域を照射対象に合せたときの、いずれかのリーフの位置を示す値となる。
例えば、照射対象への放射線照射を開始してから首振り機構２２１がチルト軸周りの回転を開始するまでの間（０≦ｔ≦ｔ１）、マルチリーフコリメータ２３２の開口部Ｈ１１の位置は、図１３に示す領域Ａ３１の位置に対応する。そこで、Ｆｉ（ｔ）の値（１≦ｉ≦Ｍ）は、図１６における番号１の列のリーフを示す値となる。
【００５８】
一方、時刻ｔ１から時間ｓだけ経過して（ｔ＝ｔ１＋ｓ）、マルチリーフコリメータ２３２の開口部Ｈ１１の位置が時刻の位置から、リーフの幅１つ分だけずれた状態では、Ｆｉ（ｔ１＋ｓ）の値は、図１６における番号ｉ＋１の列のリーフを示す値となる。
さらに、ｔ１＜ｔ≦ｔ２において、時刻ｔ１から時間ｋ×ｓだけ経過して（ｔ＝ｔ１＋ｋ×ｓ）、マルチリーフコリメータ２３２の開口部Ｈ１１の位置が時刻の位置からリーフの幅ｋ個分だけずれた状態では、Ｆｉ（ｔ１＋ｋ×ｓ）の値は、図１６における番号ｉ＋ｋの列のリーフを示す値となる。
また、首振り機構２２１がチルト軸周りの回転を停止した後（ｔ２＜ｔ）は、Ｆｉ（ｔ）の値は、図１６における番号ｉ＋（Ｎ−Ｍ）の列のリーフを示す値となる。
【００５９】
次に図１７を参照して、放射線治療システム１の動作について説明する。
図１７は、放射線治療システム１が放射線照射を行う処理の手順の例を示すフローチャートである。放射線治療システム１は、例えば、治療用放射線Ｂ１１の照射開始を指示するユーザ操作を受けると同図の処理を開始する。
図１７の処理において、放射線照射装置制御部１０５が、放射線照射装置２３１に対して治療用放射線Ｂ１１の出力開始を指示し、放射線照射装置２３１は、当該指示に従って治療用放射線Ｂ１１の出力を開始する（ステップＳ１０１）。
【００６０】
次に、マルチリーフコリメータ制御部１０４が、マルチリーフコリメータ２３２に対してリーフの動作を指示し、マルチリーフコリメータ２３２は、当該指示に従ってリーフ２３３を動かして、図１４の図Ｇ５１１、Ｇ５１２の例のように、照射領域の形状を照射対象の形状に合わせ、かつ、照射領域の範囲を拡大してく（ステップＳ１０２）。
次に、放射線治療装置制御装置１０は、時刻ｔがｔ１＜ｔとなっているか、すなわち、首振り機構２２１がチルト軸周りの回転を開始する時刻になったか否かを判定する（ステップＳ１０３）。
ｔ１＜ｔとなっていないと判定した場合（ステップＳ１０３：ＮＯ）、ステップＳ１０２へ戻る。
【００６１】
一方、ステップＳ１０３において、ｔ１＜ｔとなっていると判定した場合（ステップＳ１０３：ＹＥＳ）、首振り機構２２１が照射領域を移動させ、また、マルチリーフコリメータ２３２が照射領域の形状を設定する（ステップＳ１１１）。具体的には、首振り機構制御部１０３が、首振り機構２２１に対してチルト軸周りの回転を指示し、首振り機構２２１を当該指示に従ってチルト軸周りに回転することで、照射領域をチルト方向に移動させる。また、マルチリーフコリメータ制御部１０４が、マルチリーフコリメータ２３２に対してリーフの動作を指示し、マルチリーフコリメータ２３２は、当該指示に従ってリーフ２３３を動かして、照射領域の形状を照射対象の形状に合わせる。
【００６２】
次に、放射線治療装置制御装置１０は、時刻ｔがｔ２＜ｔとなっているか、すなわち、首振り機構２２１がチルト軸周りの回転を終了する時刻になったか否かを判定する（ステップＳ１１２）。
ｔ２＜ｔとなっていないと判定した場合（ステップＳ１１２：ＮＯ）、ステップＳ１１１へ戻る。
【００６３】
一方、ステップＳ１１２において、ｔ２＜ｔとなっていると判定した場合（ステップＳ１１２：ＹＥＳ）、マルチリーフコリメータ制御部１０４が、マルチリーフコリメータ２３２に対してリーフの動作を指示し、マルチリーフコリメータ２３２は、当該指示に従ってリーフ２３３を動かして、図１４の図Ｇ５３１、Ｇ５３２の例のように、照射領域の形状を照射対象の形状に合わせ、かつ、照射領域の範囲を拡大してく（ステップＳ１２１）。
【００６４】
次に、放射線治療装置制御装置１０は、時刻ｔがｔＥ＜ｔとなったか否かを判定する（ステップＳ１２２）。ここで、時刻ｔＥは治療用放射線Ｂ１１の照射を終了する時刻である。
ｔＥ＜ｔとなっていないと判定した場合（ステップＳ１２２：ＮＯ）、ステップＳ１２１へ戻る。
【００６５】
一方、ステップＳ１２２において、ｔＥ＜ｔとなっていると判定した場合（ステップＳ１２２：ＹＥＳ）、放射線照射装置制御部１０５が、放射線照射装置２３１に対して治療用放射線Ｂ１１の出力終了を指示し、放射線照射装置２３１は、当該指示に従って治療用放射線Ｂ１１の出力を終了する（ステップＳ１３１）。
その後、図１７の処理を終了する。
【００６６】
以上のように、マルチリーフコリメータ制御部１０４は、仮想平面Ｐ２１における治療用放射線Ｂ１１の照射領域の形状が、仮想平面Ｐ２１における治療用放射線Ｂ１１の照射領域の移動方向（チルト方法）に直交する方向（パン方向＝リーフ２３３の移動方向）に対して傾斜した辺を有する形状を模擬するように、マルチリーフコリメータ２３２を制御する。
これにより、マルチリーフコリメータ制御部１０４が、マルチリーフコリメータ２３２のリーフ２３３をリーフ２３３の移動方向に対して傾斜した辺に応じて動作させることで、リーフ２３３を徐々に動作させることができ、リーフ２３３が動作するための時間を確保することができる。リーフ２３３を徐々に動作させればよい点で、想定しているリーフ２３３の位置と実際のリーフ２３３の位置との差を小さくすることができ、放射線照射量のムラを低減させ得る。
このように、放射線治療装置制御装置１０によれば、放射線照射装置２３１が治療用放射線Ｂ１１を照射する範囲を拡大することができ、かつ、照射対象範囲における放射線照射量の均一性を高めることができる。
【００６７】
また、マルチリーフコリメータ制御部１０４は、仮想平面Ｐ２１における治療用放射線Ｂ１１の照射領域の形状が、仮想平面Ｐ２１の移動方向の前側、後側それぞれに辺を有する形状を模擬し、前側の辺の、仮想平面Ｐ２１における治療用放射線の照射領域の移動方向（チルト方向）に直交する方向（パン方向＝リーフ２３３の移動方向）に対する傾斜と、後側の辺の、仮想平面Ｐ２１における放射線の照射領域の移動方向に直交する方向に対する傾斜とが同じ向きかつ同じ大きさの傾斜となるように、マルチリーフコリメータ２３２を制御する。
これにより、図７を参照して説明したように、開口のチルト方向の長さが均一になる。開口のチルト方向の長さが均一になることで、照射領域がチルト方向に移動する際の治療用放射線Ｂ１１の照射時間を均一にすることができ、特に、パン方向について放射線照射量を均一にすることができる。
【００６８】
また、首振り機構２２１は、仮想平面Ｐ２１における治療用放射線Ｂ１１の照射領域が仮想平面Ｐ２１内の一方向を往復するように、マルチリーフコリメータ２３２の開口部Ｈ１１を移動させる。マルチリーフコリメータ制御部１０４は、往路における傾斜の向きと、復路における傾斜の向きとが逆向きになるように、マルチリーフコリメータ２３２を制御する。
これにより、図１１を参照して説明したように、治療用放射線Ｂ１１の照射対象範囲における照射量の均一性をさらに高めることができる。
【００６９】
なお、放射線治療装置制御装置１０の全部または一部の機能を実現するためのプログラムをコンピュータ読み取り可能な記録媒体に記録して、この記録媒体に記録されたプログラムをコンピュータシステムに読み込ませ、実行することにより各部の処理を行ってもよい。なお、ここでいう「コンピュータシステム」とは、ＯＳや周辺機器等のハードウェアを含むものとする。
また、「コンピュータシステム」は、ＷＷＷシステムを利用している場合であれば、ホームページ提供環境（あるいは表示環境）も含むものとする。
また、「コンピュータ読み取り可能な記録媒体」とは、フレキシブルディスク、光磁気ディスク、ＲＯＭ、ＣＤ−ＲＯＭ等の可搬媒体、コンピュータシステムに内蔵されるハードディスク等の記憶装置のことをいう。また上記プログラムは、前述した機能の一部を実現するためのものであっても良く、さらに前述した機能をコンピュータシステムにすでに記録されているプログラムとの組み合わせで実現できるものであってもよい。
【００７０】
以上、本発明の実施形態について図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲の設計変更等も含まれる。
【符号の説明】
【００７１】
１  放射線治療システム
１０  放射線治療装置制御装置
２０  放射線治療装置
２１１  旋回駆動装置
２１２  Ｏリング
２１３  走行ガントリ
２２１  首振り機構
２３０  照射部
２３１  放射線照射装置
２３２  マルチリーフコリメータ
２３３  リーフ
２８１  カウチ
【図１】
0006530933.tif 000004
【図２】
0006530933.tif 000005
【図３】
0006530933.tif 000006
【図４】
0006530933.tif 000007
【図５】
0006530933.tif 000008
【図６】
0006530933.tif 000009
【図７】
0006530933.tif 000010
【図８】
0006530933.tif 000011
【図９】
0006530933.tif 000012
【図１０】
0006530933.tif 000013
【図１１】
0006530933.tif 000014
【図１２】
0006530933.tif 000015
【図１３】
0006530933.tif 000016
【図１４】
0006530933.tif 000017
【図１５】
0006530933.tif 000018
【図１６】
0006530933.tif 000019
【図１７】
0006530933.tif 000020