(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板の直上に形成され、予め決まったパターンで積層される第１透明電極層と、
前記第１透明電極層上に配置され、予め決まったパターンで積層される第２透明電極層と、
前記第１透明電極層と前記第２透明電極層との間に介在された絶縁層と、
前記絶縁層に形成されて、前記第１透明電極層と前記第２透明電極層とを電気的に連結するコンタクトホールと、を含み、
前記第１透明電極層および前記第２透明電極層の厚さは、それぞれ１００〜２００ｎｍであり、
前記絶縁層の厚さは、１,０００〜２,０００ｎｍであり、
前記第１透明電極層および前記第２透明電極層はＩＴＯで形成され、前記絶縁層はアクリル系絶縁物質で形成されることを特徴とする透明電極積層体。
【請求項２】
前記第１透明電極層及び前記第２透明電極層は、各々屈折率が１.８〜１.９８であることを特徴とする請求項１に記載の透明電極積層体。
【請求項３】
前記絶縁層は、屈折率が１.４〜１.６であることを特徴とする請求項１に記載の透明電極積層体。
【請求項４】
前記透明基板は、厚さが０.１〜０.７ｍｍであることを特徴とする請求項１に記載の透明電極積層体。
【請求項５】
前記透明基板は、屈折率が１.４〜１.６であることを特徴とする請求項１に記載の透明電極積層体。
【請求項６】
前記透明電極積層体を基準として、前記透明基板の反対側面にパッシベーション層をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の透明電極積層体。
【請求項７】
前記パッシベーション層は、厚さが２,０００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項６に記載の透明電極積層体。
【請求項８】
前記パッシベーション層は、屈折率が１.４〜１.６であることを特徴とする請求項６に記載の透明電極積層体。
【請求項９】
前記透明基板は、透明電極が形成される面の反対面に少なくとも１層の光学機能層をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の透明電極積層体。
【請求項１０】
前記光学機能層は、反射防止層及び汚染防止層の中の少なくとも１層であることを特徴とする請求項９に記載の透明電極積層体。
【請求項１１】
請求項１〜請求項１０のうちいずれか１項に記載の前記透明電極積層体を備えたことを特徴とするタッチスクリーンパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明電極パターン積層体及びこれを備えたタッチスクリーンパネルに関し、より詳しくは、ユーザに視認性が低い透明電極積層体及びこれを備えたタッチスクリーンパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
通常的に、タッチスクリーンパネルは、手で接触(ｔｏｕｃｈ)すれば、その位置の入力を受ける特殊な入力装置を装着したスクリーンパネルである。このようなタッチスクリーンパネルは、キーボードを使わないでスクリーンに現われた文字や特定位置に人体の手または物体が触れると、その位置を把握して保存されたソフトウェアによって特定処理が行われるように、画面から直接入力資料を受けることができるようにしたもので、多層に積層されて構成される。
【０００３】
スクリーンに表示される映像の視認性を低下させずにタッチされた部分を認識するためには、透明電極の使用が必須的であり、通常、所定のパターンで形成された透明電極が使用される。
【０００４】
タッチスクリーンパネルに使用される透明電極構造としては、多様な構造が紹介されており、例えば、ＧＦＦ(Ｇｌａｓｓ−ＩＴＯ ｆｉｌｍ−ＩＴＯ ｆｉｌｍ)、Ｇ１Ｆ(Ｇｌａｓｓ−ＩＴＯ ｆｉｌｍ)、Ｇ２(Ｇｌａｓｓ ｏｎｌｙ)構造などを挙げることができる。
【０００５】
ＧＦＦは、一番一般的な構造として、Ｘ、Ｙ軸を具現するために必要な透明電極(ＩＴＯ)を２枚のフィルムを利用して構成し、Ｇ１Ｆは、ガラスの裏面にＩＴＯを薄膜蒸着し、第２ＩＴＯは、既存方式と同様にフィルムを使用する。Ｇ２は、一枚の強化ガラスを使用して、裏面にＸ軸用ＩＴＯを薄膜蒸着してパターン化した後、その上に絶縁層を形成し、さらにＹ軸用ＩＴＯをパターン化して形成する方式である。ＧＦＦ->Ｇ１Ｆ->Ｇ２に行くほど透過率は上昇し消費電力は減少するようになっているので、Ｇ２構造に対する研究が活発に行われている。
【０００６】
しかし、パターン化された透明電極を使用するＧ２構造の場合には、透明電極のパターン部と非パターン部(パターン開口部)が視覚的に区分されるが、パターン部と非パターン部の反射率差が大きくなるほどその差が明らかになるので、表示素子としての外観の視認性が低下される問題がある。特に、静電容量方式のタッチパネルにおいては、パターン化された透明電極層がディスプレイ表示部の全体面に形成されているので、透明電極層をパターン化した場合にも外観が良好な表示素子が要求されている。
【０００７】
このような問題点を改善するため、例えば、特許文献１には、透明基材と透明導電層との間に屈折率が相異なっている２個の層からなるアンダーコート層を形成した透明導電性フィルムが提案されている。また、その実施例としては、透明基材上に高屈折率層として屈折率１.７のシリコン錫酸化物層(厚さ１０ｎｍ以上)、低屈折率層として屈折率１.４３の酸化珪素層(厚さ３０ｎｍ)及び透明導電層として屈折率１.９５のＩＴＯ膜(厚さ１５ｎｍ)をその順に形成した透明導電性フィルムが記載されている。
【０００８】
しかし、特許文献１に記載された透明導電性フィルムでは、パターン部とパターン開口部の差が明確に現われる問題が存在して、外観を改善するには相変らず不十分であった。また、シリコン錫酸化物層や酸化珪素層のような透明誘電層をさらに備えるようになれば、薄膜構造の具現が難しい問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００８−９８１６９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、パターンの各位置別の反射率差が少なくて、視認性が低い透明電極積層体を提供することを目的とする。
【００１１】
また、本発明は、透明基板と透明電極層との間に透明誘電層を備えない透明電極積層体を提供することを目的とする。
【００１２】
また、本発明は、前記透明電極積層体を備えたタッチスクリーンパネルを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
＜１＞透明基板上に各々予め決まったパターンで積層される第１透明電極層及び第２透明電極層と、前記第１透明電極層と前記第２透明電極層との間に介在された絶縁層と、前記絶縁層に形成されて前記第１透明電極層と前記第２透明電極層を電気的に連結するコンタクトホールと、を含み、前記第１透明電極層と前記第２透明電極層は、各々その厚さが１００〜２００ｎｍであり、前記絶縁層は、その厚さが１,０００〜２,０００ｎｍである透明電極積層体。
【００１４】
＜２＞前記第１透明電極層及び前記第２透明電極層は、各々屈折率が１.８〜１.９８である＜１＞に記載の透明電極積層体。
【００１５】
＜３＞前記絶縁層は、屈折率が１.４〜１.６である＜１＞に記載の透明電極積層体。
【００１６】
＜４＞前記透明基板は、厚さが０.１〜０.７ｍｍである＜１＞に記載の透明電極積層体。
【００１７】
＜５＞前記透明基板は、屈折率が１.４〜１.６である＜１＞に記載の透明電極積層体。
【００１８】
＜６＞前記透明電極積層体を基準として、前記透明基板の反対側面にパッシべーション層をさらに備える＜１＞に記載の透明電極積層体。
【００１９】
＜７＞前記パッシべーション層は、厚さが２,０００ｎｍ以下である＜６＞に記載の透明電極積層体。
【００２０】
＜８＞前記パッシべーション層は、屈折率が１.４〜１.６である＜６＞に記載の透明電極積層体。
【００２１】
＜９＞前記透明基板は、透明電極が形成される面の反対面に少なくとも１層の光学機能層をさらに備える＜１＞に記載の透明電極積層体。
【００２２】
＜１０＞前記光学機能層は、反射防止層及び汚染防止層の中の少なくとも１層である＜９＞に記載の透明電極積層体。
【００２３】
＜１１＞＜１＞〜＜１０＞のうちいずれか一つに記載の前記透明電極積層体を備えたタッチスクリーンパネル。
【発明の効果】
【００２４】
本発明の透明電極積層体は、積層体を構成する各層別の厚さを特定の範囲で調節して、パターン化された透明電極構造により発生する位置別反射率差を最小化することで、視認度を減少させて高い透明度を示す。
【００２５】
このような側面で、本発明の透明電極積層体をＧ２構造のタッチスクリーンパネルに適用すると、高い透過率と低い反射率を示すことで、非常に有用に使用することができる。
【００２６】
また、本発明の透明電極積層体は、基板と透明電極層との間に透明誘電層を備えなくても低い視認度を示すことができる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】図１は、本発明の透明電極積層体の一実施例の概略的な平面図である。
【図２】図２は、本発明の透明電極積層体の一実施例の単位構造の概略的な平面図である。
【図３】図３は、本発明の透明電極積層体の各位置別積層構造を示した概略的な断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
本発明は、透明基板上に各々予め決まったパターンに積層される第１透明電極層及び第２透明電極層と、前記第１透明電極層と第２透明電極層との間に介在された絶縁層と、前記絶縁層に形成されて前記第１透明電極層と第２透明電極層を電気的に連結するコンタクトホールと、を含み、前記第１透明電極層と第２透明電極層は、各々その厚さが１００〜２００ｎｍであり、前記絶縁層は、その厚さが１,０００〜２,０００ｎｍであるので、各位置別反射率差を著しく減らすことができる透明電極パターン積層体及びこれを備えたタッチスクリーンパネルに関する。
【００２９】
以下、図面を参照して本発明を詳しく説明する。しかし、本明細書に添付される図面は、本発明の好ましい実施態様に過ぎず、本発明の実施の範囲を限定するものではなく、本発明の明細書及び図面内容に基づいてなされた均等な変更および付加は、いずれも本発明の特許請求の範囲内に含まれるものとする。
【００３０】
図１は、本発明の透明電極積層体の一実施例の概略的な平面図である。
【００３１】
図１を参照すれば、本発明の透明電極積層体は、第１透明電極層１００、第２透明電極層２００、絶縁層３００、コンタクトホール４００を含むことができる。また、本発明の透明電極積層体は、透明基板(図示せず)上に形成されることができ、パッシベーション層(図示せず)が透明基板の反対側面にさらに具備されることができる。
【００３２】
図１に示したように、透明電極積層体は、予め決まったパターンで形成される。第１透明電極層１００と第２透明電極層２００は、タッチされる地点の位置情報を提供し、絶縁層３００は、前記第１透明電極層１００と第２透明電極層２００との間に介在されて二つの層を電気的に分離させて、コンタクトホール４００は、絶縁層３００に形成されて第１透明電極層１００と第２透明電極層２００を電気的に連結させる。
【００３３】
このように、透明電極積層体の各構成は、所定のパターンで形成され、このようなパターン構造により透明電極積層体は、その位置によって異なる積層構造を備えるようになる。透明電極積層体の単位構造を示した図２を参照すれば、透明電極積層体は、位置によって（１）〜（５）の５種類の積層構造を有することができる。図３には、前記（１）〜（５）の位置での積層構造を概略的に示している。
【００３４】
図３に示したように、透明電極積層体は、多様な層構造を有するようになる。このような位置による多様な層構造によって位置別に反射率、輝度、色差などに差が発生し、それによって、パターンに対する視認性が高くなって透明電極としての機能に限界が発生する。
【００３５】
したがって、本発明は、透明電極層及び絶縁層が特定の厚さ範囲を有するようにすることで、反射率差を最小化させて前記のような問題点を解決する。以下、本発明をより詳細に説明する。
【００３６】
＜透明電極層＞
図１〜図３に示したように、本発明は、第１透明電極層と第２透明電極層を備える。
【００３７】
第１透明電極層１００は、第１パターン１１０と第２パターン１２０とで形成されることができる。第１パターン１１０と第２パターン１２０は、各々同一な行または列方向に配置され、タッチされる地点のＸ座標及びＹ座標に対する情報を提供する。具体的には、人体の手または物体が透明基板に接触すると、第１パターン１１０、第２パターン１２０、第２透明電極層２００及び位置検出ラインを経由して駆動回路側に接触位置による静電容量の変化が伝達される。そして、Ｘ及びＹ入力処理回路(図示せず)などにより静電容量の変化が電気的信号に変換されることによって接触位置が把握される。
【００３８】
これと関連して、第１パターン１１０及び第２パターン１２０は、同一層(第１透明電極層)に形成され、タッチされる地点を感知するためには、各々のパターンが電気的に連結されている必要がある。しかし、第１パターン１１０は互いに連結された形態であるが、第２パターン１２０はアイランド(ｉｓｌａｎｄ)形態で分離された構造になっているので、第２パターン１２０を電気的に連結するためには別途の連結線が必要である。
【００３９】
しかし、前記連結線は、第１パターン１１０と電気的に連結されてはいけないので、第１透明電極層１００とは異なる層で形成する必要がある。これによって、第２透明電極層２００は、第２パターン１２０を電気的に連結するために、第１透明電極層１００とは異なる別途の層で形成される。すなわち、第２透明電極層２００は、第１透明電極層１００の第２パターン１２０を電気的に連結する機能をする。
【００４０】
したがって、図２及び図３において、（１）、（３）及び（４）位置は、タッチされた部分を感知するために予め決まったパターンで第１透明電極層１００が形成された部分であり、（３）、（４）及び（５）位置は、アイランド形態で形成された第２パターン１２０を電気的に連結するために形成された第２透明電極層２００が存在する部分である。
【００４１】
この時、第２透明電極層２００は、第１透明電極層１００中の第１パターン１１０とは電気的に遮断される必要があるので、このために、絶縁層３００及びコンタクトホール４００(図２の（３）)が具備される。これに対しては後述する。
【００４２】
本発明において、第１透明電極層１００と第２透明電極層２００は、各々その厚さが各々１００〜２００ｎｍである。厚さが前記範囲を脱すれば、位置別反射率差が大きくなってパターンの反射視認性の大きくなる問題点がある。具体的には、厚さが１００ｎｍ未満であれば、電気抵抗が大きくなってタッチ敏感度が低下され、２００ｎｍを超過すれば、反射率が大きくなって視認性問題が発生する。
【００４３】
また、本発明による透明電極層は、従来のような光学的均一度のために透明基板と透明電極層の間に金属酸化物(酸化珪素、酸化ニオビウムなど)で形成された透明誘電層を必要とせず、透明基板上に直に形成されて基板と接触する構造を有しても透明誘電層が存在する場合と類似な低い視認度を示すことができる。
【００４４】
また、第１透明電極層１００と第２透明電極層２００は、各々屈折率が１.８〜１.９８であることが好ましい。前記屈折率範囲で、上述の厚さ範囲を有する場合の反射率低減効果を一層強化することができる。
【００４５】
本発明による第１透明電極層１００及び第２透明電極層２００は、当分野に知られた透明電極素材を制限なしに適用することができる。例えば、インジウム錫酸化物(ＩＴＯ)、インジウム亜鉛酸化物(ＩＺＯ)、亜鉛酸化物(ＺｎＯ)、インジウム亜鉛錫酸化物(ＩＺＴＯ)、カドミウム錫酸化物(ＣＴＯ)、ＰＥＤＯＴ(ｐｏｌｙ(３,４−ｅｔｈｙｌｅｎｅｄｉｏｘｙｔｈｉｏｐｈｅｎｅ))、炭素ナノチューブ(ＣＮＴ)、金属ワイヤなどを挙げることができ、これらは、単独または２種以上を混合して使用することができる。好ましくは、インジウム錫酸化物(ＩＴＯ)を使用することができる。金属ワイヤに使われる金属は、特別に限定されず、例えば、銀(Ａｇ)、金、アルミニウム、銅、鉄、ニッケル、チタン、テレニウム、クロムなどを挙げることができる。これらは、単独または２種以上を混合して使用することができる。
【００４６】
透明電極層１００、２００は、物理的蒸着法(ＰＶＤ：Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ)、化学的蒸着法(ＣＶＤ：Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ)など多様な薄膜蒸着技術により形成することができる。例えば、物理的蒸着法の一例である反応性スパッタリング(ｒｅａｃｔｉｖｅ ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ)法により形成することができる。
【００４７】
また、透明電極層１００、２００を印刷工程で形成することができる。このような印刷工程の際に、グラビアオフセット(ｇｒａｖｕｒｅ ｏｆｆ ｓｅｔ)、リバースオフセット(ｒｅｖｅｒｓｅ ｏｆｆ ｓｅｔ)、スクリーン印刷及びグラビア(ｇｒａｖｕｒｅ)印刷など多様な印刷方法を利用することができる。特に、印刷工程で透明電極層１００、２００を形成する場合、印刷可能なペースト物質で形成することができる。一例として、炭素ナノチューブ(ＣＮＴ：ｃａｒｂｏｎ ｎａｎｏ ｔｕｂｅ)、伝導性ポリマー及び銀ナノワイヤインク(Ａｇ ｎａｎｏ ｗｉｒｅ ｉｎｋ)で形成することができる。
【００４８】
本発明において、第１透明電極層１００と第２透明電極層２００の積層順序は、限定されない。したがって、本発明の他の具現例では、図３の第１透明電極層１００と第２透明電極層２００は、積層手順が変わってもよい。例えば、透明基板上に第１透明電極層の代わりに第２透明電極層を先に形成し、その上に絶縁層を形成した後、絶縁層上に第１透明電極層を形成することができる。
【００４９】
＜絶縁層及びコンタクトホール＞
絶縁層３００は、第１透明電極層１００と第２透明電極層２００の電気的連結を防止するために、第１透明電極層１００と第２透明電極層２００との間に形成される。但し、図２及び図３に示したように、第２透明電極層２００が隣接した第１透明電極層１００の第２パターン１２０を電気的に連結する場合には、第１透明電極層１００と電気的に連結される必要があるので、絶縁層３００が形成されない部分が必要である。このように、絶縁層３００領域において絶縁層３００が形成されない部分をコンタクトホール４００(図２の（３）)という。したがって、コンタクトホール４００では、第１透明電極層(第２パターン)と第２透明電極層の電気的接続が行われる。
【００５０】
本発明において、絶縁層３００は、厚さが１,０００〜２,０００ｎｍである。厚さが前記範囲を脱すれば、位置別反射率差が大きくなってパターンの反射視認性が大きくなる問題点がある。厚さが１,０００ｎｍ未満の場合、透明電極の間に形成される静電容量値が大きくなってタッチ敏感度が低下され、２,０００ｎｍ超過の場合は、追加的な厚さ向上の効果が現われない。
【００５１】
絶縁層３００は、屈折率が１.４〜１.６であることが好ましい。前記屈折率の範囲で、上述した厚さ範囲を有する場合の反射率の低減効果を一層強化することができる。
【００５２】
本発明による絶縁層３００は、当分野に知られた透明絶縁素材を制限なしに適用することができる。例えば、シリコン酸化物のような金属酸化物やアクリル系樹脂を含む透明な感光性樹脂組成物、あるいは熱硬化性樹脂組成物を使用して必要なパターンで形成することができる。
【００５３】
絶縁層３００は、第１透明電極層１００上に蒸着や印刷などの方法で形成することができる。
【００５４】
本発明において、コンタクトホール４００は、絶縁層を全体的に形成した後にホール(ｈｏｌｅ)を形成する方式で形成するか(ホール方式)、第１透明電極層と第２透明電極層が電気的に接続される部分のみを除外して絶縁層を形成する方式で形成することができる(アイランド(ｉｓｌａｎｄ)方式)。
【００５５】
＜透明基板＞
透明基板は、タッチスクリーンパネルの最外面を形成し、人体の手または物体が直接接触するようになる部分である。人体の手または物体が直接接触するようになる反対面には、本発明の透明電極積層体が形成される。図３に示したように、本発明の透明電極積層体は、透明基板上に第１透明電極層から順次に積層されて形成される。
【００５６】
透明基板は、タッチスクリーンパネルを外力から充分に保護するように、耐久性が大きくて、ユーザがディスプレイをよく見られるようにする物質であれば、特別に限定されず、当分野で使われる素材が特別な制限なしに使用することができる。例えば、ガラス、ポリエーテルスルホン(ＰＥＳ：ｐｏｌｙｅｔｈｅｒｓｕｌｐｈｏｎｅ)、ポリアクリレート(ＰＡＲ：ｐｏｌｙａｃｒｙｌａｔｅ)、ポリエーテルイミド(ＰＥＩ：ｐｏｌｙｅｔｈｅｒｉｍｉｄｅ)、ポリエチレンナフタレート(ＰＥＮ：ｐｏｌｙｅｔｈｙｅｌｅｎｅｎ ｎａｐｔｈａｌａｔｅ)、ポリエチレンテレフタレート(ＰＥＴ：ｐｏｌｙｅｔｈｙｅｌｅｎｅ ｔｅｒｅｐｔｈａｌａｔｅ)、ポリフェニレンスルフィド(ＰＰＳ：ｐｏｌｙｐｈｅｎｙｌｅｎｅ ｓｕｌｆｉｄｅ)、ポリアリレート(ｐｏｌｙａｌｌｙｌａｔｅ)、ポリイミド(ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ)、ポリカーボネート(ＰＣ：ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ)、トリアセチルセルロース(ＴＡＣ)、セルロースアセテートプロピオネート(ＣＡＰ：ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ ａｃｅｔａｔｅ ｐｒｏｐｉｏｎａｔｅ)などを使用することができる。好ましくは、ガラスを使用することができ、より好ましくは、強化処理されたガラスを使用することができる。
【００５７】
本発明による透明基板は、適切な厚さを有することができ、例えば、０.１〜０.７ｍｍであることができる。前記範囲で、本発明による透明電極積層体の反射率低減効果を一層向上させることができる。
【００５８】
また、透明基板は、屈折率が１.４〜１.６であることが好ましい。前記屈折率範囲で、上述の厚さ範囲を有する場合の反射率低減効果を一層強化することができる。
【００５９】
本の発明において、透明基板は、必要に応じて、透明電極が形成される面の反対面に少なくとも１層の光学機能層をさらに備えることができる。このような光学機能層としては、例えば、反射防止層、指紋防止層などのような汚染防止層などを各々単独または２種以上組み合わせて形成してもよい。
【００６０】
＜パッシベーション層＞
本発明の透明電極積層体は、必要に応じて、透明電極層１００、２００が外部環境(水分、空気など)により汚染されることを防止するため、透明電極積層体を基準として透明基板が接合された面の反対面側にパッシベーション層をさらに備えることができる。
【００６１】
パッシベーション層は、前記絶縁層３００で使用可能な材料を採択して形成することができる。
【００６２】
本発明によるパッシベーション層は、適切な厚さを有することができ、例えば、２,０００ｎｍ以下であることができる。したがって、例えば、０〜２,０００ｎｍであることができる。前記範囲で、本発明による透明電極積層体の反射率低減効果を一層向上させることができる。
【００６３】
また、パッシベーション層は、屈折率が１.４〜１.６であることが好ましい。前記屈折率の範囲で、上述の厚さ範囲を有する場合の反射率低減効果を一層強化することができる。
【００６４】
＜接着層＞
接着層は、本発明の透明電極積層体をディスプレイパネル部と接合させる。接着層は、透明な硬化性樹脂組成物を塗布した後に硬化して形成するか(ＯＣＲ)、既にフィルム形態になったものを圧着して形成することができる(ＯＣＡ)。
【００６５】
接着層も透明電極積層体の反射率に影響を及ぼすことができ、これによって、透明電極積層体の反射率の低減のために適切な厚さ及び屈折率を有することが好ましい。例えば、厚さは、０〜２５０μｍであり、屈折率は、１〜１.６であることができる。前記厚さが０μｍの場合、接着層が透明電極積層体のわく部分のみに形成される場合には、実際映像が表示される内側部分には接着層が形成されないので、このような場合には、透明電極積層体とディスプレイパネル部との間には空気層のみが存在するようになる。
【００６６】
上述のように、本発明の透明電極積層体は、透明電極層と絶縁層が特定の厚さ範囲を有することで位置による反射率差を最小化することができ、これによって、透明度を著しく向上させることができる。したがって、本発明の透明電極積層体は、ディスプレイパネル部と接合されると、透明度が優秀なタッチスクリーンパネルで製造されることができる。
【００６７】
以下、本発明の理解を助けるために好ましい実施例を提示するが、これら実施例は、本発明を例示することに過ぎず、添付された特許請求範囲を限定するものではない。当業者において、本発明の範疇及び技術思想範囲内で実施例に対する多様な変更及び修正が可能であることは自明であり、このような変形及び修正は添付された特許請求範囲に含まれるものとする。
【００６８】
実施例１〜実施例３及び比較例１〜比較例６
下記表１に記載した厚さで透明電極積層体を製造し、各位置別平均反射率を測定し、前記平均反射率の最大値と最小値の差を記載した。
【００６９】
前記平均反射率は、４００ｎｍ〜７００ｎｍでの反射率の平均を意味する。
【００７０】
透明基板としては、ガラス(屈折率：１.５１、消滅係数：０)、第１透明電極層としては、ＩＴＯ(屈折率：１.８、消滅係数：０)、第２透明電極層としては、ＩＴＯ(屈折率：１.８、消滅係数：０)、絶縁層及びパッシベーション層としては、アクリル系絶縁物質であるＮＣＳ−８０１(住友社製)(屈折率：１.５１、消滅係数：０)を使用し、前記屈折率と消滅係数は、５５０ｎｍ波長の光を基準として記載した。
【００７１】
接着層がＡｉｒで記載されたことは、ベゼル部のみ接着されて映像が表示される領域は接着層が形成されないことを意味する。
【００７２】
一方、参考例１として、透明基板と第１透明電極層との間に８ｎｍのＮｂ２Ｏ５及び５０ｎｍのＳｉＯ２で形成された透明誘電層をさらに備えたこと以外は、実施例３と同一に製造された透明積層体を使用した。
【００７３】
【表１】
0006533214.tif 000002
【００７４】
実施例４〜実施例６及び比較例７〜比較例１０
下記表２に記載した厚さで透明電極積層体を製造し、各位置別平均反射率及び前記平均反射率の最大値と最小値の差を記載した。前記平均反射率は、４００ｎｍ〜７００ｎｍでの反射率の平均を意味する。
【００７５】
透明基板としては、ガラス(屈折率：１.５１、消滅係数：０)、第１透明電極層としては、ＩＴＯ(屈折率：１.８、消滅係数：０.０１４)、第２透明電極層としては、ＩＴＯ(屈折率：１.８、消滅係数：０.０１４)、絶縁層及びパッシベーション層としては、アクリル系絶縁物質であるＮＣＳ−８０１(住友社製)(屈折率：１.５１、消滅係数：０)を使用し、前記屈折率と消滅係数は、５５０ｎｍ波長の光を基準として記載した。
【００７６】
接着層がＡｉｒで記載されたことは、ベゼル部のみ接着されて映像が表示される領域は接着層が形成されないことを意味する。
【００７７】
一方、参考例２として、透明基板と第１透明電極層との間に８ｎｍのＮｂ２Ｏ５及び５０ｎｍのＳｉＯ２で形成された透明誘電層をさらに備えたこと以外は、実施例６と同一に製造された透明積層体を使用した。
【００７８】
【表２】
0006533214.tif 000003
【００７９】
実施例７、実施例８及び比較例１１〜比較例１６
下記表３に記載した厚さで透明電極積層体を製造し、各位置別平均反射率及び前記平均反射率の最大値と最小値の差を記載した。前記平均反射率は、４００ｎｍ〜７００ｎｍでの反射率の平均を意味する。
【００８０】
透明基板としては、ガラス(屈折率：１.５１、消滅係数：０)、第１透明電極層としては、ＩＴＯ(屈折率：１.９７５、消滅係数：０)、第２透明電極層としては、ＩＴＯ(屈折率：１.９７５、消滅係数：０.０１４)、絶縁層及びパッシベーション層としては、アクリル系絶縁物質であるＮＣＳ−８０１(住友社製)(屈折率：１.５１、消滅係数：０)を使用し、前記屈折率と消滅係数は、５５０ｎｍ波長の光を基準として記載した。
【００８１】
接着層がＡｉｒで記載されたことは、ベゼル部のみ接着されて映像が表示される領域は接着層が形成されないことを意味する。
【００８２】
一方、参考例３として、透明基板と第１透明電極層との間に８ｎｍのＮｂ２Ｏ５及び５０ｎｍのＳｉＯ２で形成された透明誘電層をさらに備えたこと以外は、実施例7と同一に製造された透明積層体を使用した。
【００８３】
【表３】
0006533214.tif 000004
【００８４】
前記表１〜表３を参照すれば、実施例の場合には、平均反射率がいずれも１３％未満なので、反射率自体が高くないだけではなく、平均反射率の最大値と最小値の差が４％未満として位置別反射率の偏差が大きくないので、視認性が非常に低い。特に、光学的均一性のために透明誘電層が挿入された参考例と比較しても、透明誘電層を含まない実施例の平均反射率差は、参考例と類似なことを確認することができる。
【００８５】
しかし、比較例の場合には、平均反射率が１３％を超過する場合も存在し、特に、平均反射率の最大値と最小値の差が４％を超過する場合は、位置別反射率の偏差が大きくて視認性が非常に高くて、透明電極としての使用が不適合であった。
【００８６】
また、比較例のうち比較例１、４、５、７、９及び１０は、平均反射率差が４％以下であった。前記比較例は、第１透明電極層及び第２透明電極層の厚さが５０ｎｍ以下の場合である。透明電極層の厚さが５０ｎｍ以下であれば、電気伝導性が低下されて電極としての基本的機能を満たすことができなかった。
【００８７】
これと関連して、５０×５０×０.７ｍｍのガラス基板に、１２０℃でＩＴＯを多様な厚さで蒸着した後、中央の１点で電気抵抗を測定し、その結果を下記表４に記載した。
【００８８】
【表４】
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【００８９】
表４を参照すれば、電極の厚さが１００ｎｍ以上になると、電極として優秀な電気伝導性を示すことを確認することができる。
【符号の説明】
【００９０】
１００：第１透明電極層
１１０：第１パターン
１２０：第２パターン
２００：第２透明電極層
３００：絶縁層
４００：コンタクトホール
【図１】
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【図２】
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【図３】
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