(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
排ガスを処理するための触媒ユニットを支持する触媒支持機構を、排ガスが流れる容器本体の外部で形成する工程と、
内側に溶接部材が設けられた焼鈍済みの容器本体の内部に、前記触媒支持機構を組み込む工程と、
前記溶接部材と前記触媒支持機構とを溶接する工程と、
焼鈍済みのキャップと前記容器本体とを溶接し、さらに、このキャップと容器本体との溶接個所を部分焼鈍する工程と、を備える
ことを特徴とする排ガス処理装置の製造方法。
【請求項２】
前記触媒支持機構は、
前記触媒ユニットを載置可能な載置領域が主面に設けられた第１グリッドと、
前記載置領域を除いた前記主面に、前記主面からはみ出すように溶接される少なくとも１つのシールプレートと、
前記シールプレート上に起立させた状態で溶接される複数の柱体と、を含み、
前記溶接部材と前記触媒支持機構とを溶接する工程において、前記第１グリッド及び前記シールプレートを前記溶接部材と溶接する
ことを特徴とする請求項１に記載の排ガス処理装置の製造方法。
【請求項３】
前記触媒支持機構の形成を、前記触媒ユニット、又は前記触媒ユニットと同じ形状のダミー触媒を用いて位置合わせしながら行う
ことを特徴とする請求項１又は２に記載の排ガス処理装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、船舶等において排出される排ガスを処理するための触媒ユニットを備える排ガス処理装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ここで、一般的な排ガス処理装置（例えば、特許文献１）は、排ガスが流れる容器本体と、容器本体の内部に設けられた触媒支持機構と、排ガスが通過可能な孔部を有するとともに容器本体に溶接されるキャップと、を備える。触媒支持機構は、触媒ユニットを支持可能であるとともに、排ガスが必ず触媒を通過するように、触媒を通過しない流路をシールするために容器本体の内側と溶接される。ここで、容器本体やキャップの材料は、例えばクロムモリブデン鋼である。クロムモリブデン鋼は、成形時や溶接時に発生する内部応力を除去するために焼鈍が必要となる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許第５２９５４０３号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
このような従来の排ガス処理装置は、まず、容器本体の内部で触媒支持機構を形成しながら容器本体の内側に順次溶接していき、キャップを容器本体に溶接した後に、排ガス処理装置全体を一括焼鈍することによって製造されていた。しかしながら、このような製造方法においては、焼鈍の影響によって、触媒支持機構が変形してしまい、触媒支持機構のガスシール性が低下してしまうという問題があった。
本発明は、排ガス処理装置を構成する触媒支持機構のガスシール性を向上させることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の排ガス処理装置の製造方法は、排ガスを処理するための触媒ユニットを支持する触媒支持機構を、排ガスが流れる容器本体の外部で形成する工程と、内側に溶接部材が設けられた焼鈍済みの容器本体の内部に、前記触媒支持機構を組み込む工程と、前記溶接部材と前記触媒支持機構とを溶接する工程と、焼鈍済みのキャップと前記容器本体とを溶接し、さらに、このキャップと容器本体との溶接個所を部分焼鈍する工程と、を備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００６】
本発明の排ガス処理装置の製造方法によれば、内側に溶接部材が設けられた容器本体とキャップを予め焼鈍することとし、容器本体とキャップを溶接した後は、それらの溶接個所を部分焼鈍することとした。また、触媒支持機構を溶接する際は、前記溶接部材と触媒支持機構とを溶接することとした。そのため、触媒支持機構は焼鈍による影響を受けることがなく、焼鈍に起因して触媒支持機構が変形することを防止できる。そのため、触媒支持機構を含む排ガス処理装置を一括焼鈍する従来の排ガス処理装置の製造方法と比較して、触媒支持機構のガスシール性を向上させることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１Ａ】本発明の実施の形態に係る排ガス処理装置の側面断面図である。
【図１Ｂ】同排ガス処理装置のバタリングビードを示す側面断面図である。
【図１Ｃ】同排ガス処理装置の当て板を示す側面断面図である。
【図２】本発明の実施の形態に係る触媒ユニットの平面図である。
【図３】本発明の実施の形態に係る触媒ユニットの筒状ケースの分解側面図である。
【図４】本発明の実施の形態に係る排ガス処理装置の断面平面図であって、図１ＡにおけるＶ１矢視図である。
【図５】同排ガス処理装置の断面平面図であって、図１ＡにおけるＶ２矢視図である。
【図６】同排ガス処理装置の断面平面図であって、図１ＡにおけるＶ３矢視図である。
【図７】同排ガス処理装置のアングル材の側面拡大図である。
【図８Ａ】同排ガス処理装置の第２柱体の側面図である。
【図８Ｂ】同排ガス処理装置の第２柱体の正面図である。
【図９Ａ】同排ガス処理装置の他の第２柱体の側面図である。
【図９Ｂ】同排ガス処理装置の他の第２柱体の正面図である。
【図９Ｃ】同排ガス処理装置の他の第２柱体の平面図である。
【図１０】同排ガス処理装置の断面平面図であって、図１ＡにおけるＶ４矢視図である。
【図１１】同排ガス処理装置の断面平面図であって、図１ＡにおけるＶ５矢視図である。
【図１２Ａ】同排ガス処理装置の製造方法を示す図である。
【図１２Ｂ】同排ガス処理装置の製造方法を示す図である。
【図１２Ｃ】同排ガス処理装置の製造方法を示す図である。
【図１２Ｄ】同排ガス処理装置の製造方法を示す図である。
【図１２Ｅ】同排ガス処理装置の製造方法を示す図である。
【図１２Ｆ】同排ガス処理装置の製造方法を示す図である。
【図１２Ｇ】同排ガス処理装置の製造方法を示す図である。
【図１２Ｈ】同排ガス処理装置の製造方法を示す図である。
【図１２Ｉ】同排ガス処理装置の製造方法を示す図である。
【図１２Ｊ】同排ガス処理装置の製造方法を示す図である。
【図１２Ｋ】同排ガス処理装置の製造方法を示す図である。
【図１２Ｌ】同排ガス処理装置の製造方法を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
まず、本発明の実施の形態に係る排ガス処理装置の構成について、図１Ａ〜１１を参照しながら説明する。排ガス処理装置１は、図１Ａに示すように、排ガスが流れる容器本体１０と、容器本体１０の内側に取り付けられる溶接部材２０と、溶接部材２０によって容器本体１０の内部で保持される触媒支持機構３０と、触媒支持機構３０によって支持される触媒ユニット４０と、触媒ユニット４０上に設けられる第２グリッド６０と、第２グリッド６０を固定するグリッド押え７０とを備える。なお、図１ＡにおけるＲは、排ガスが流れるガス流路を示す。
【０００９】
容器本体１０は、図１Ａ及び図４に示すように、例えば円筒形状であって、その内側には溶接部材２０が設けられている。容器本体１０は、成形時や溶接時に発生する内部応力を除去するために焼鈍が必要な材料であって、例えば、クロムモリブデン鋼にて構成される。容器本体１０は、ハーフモリブデンでも良い。ハーフモリブデンの場合は板厚が１６ｍｍ以上の場合に焼鈍が必要となる。溶接部材２０は、リング２１や、バタリングビード２２、２３（図１Ｂ参照）で構成されており、いずれも全周に渡って容器本体１０の内側に溶接されている。これらリング２１、バタリングビード２２、２３は、成形後や溶接後においても焼鈍不要な材料である。リング２１としては金属材料が用いられ、バタリングビード２２、２３としては一般的な溶接材料が用いられる。なお、バタリングビード２２、２３の代わりに、焼鈍不要な溶接部材として、図１Ｃに示す当て板２２ａ、２３ａが設けられてもよい。当て板２２ａ、２３ａは、例えば厚さが６ｍｍ程度の炭素鋼である。炭素鋼は、その厚さが３０ｍｍ以下の場合、焼鈍不要である。また、容器本体１０の上方には、その下端部が容器本体１０の径と同じ径であって、上流側にいくほど径が小さくなるキャップ１０ａが設けられている。キャップ１０ａの材料は、容器本体１０の材料と同様に、例えばクロムモリブデン鋼である。また、キャップ１０ａには、開閉可能なマンホール１０ｂが設けられている。
【００１０】
触媒ユニット４０は、図２及び３に示すように、四角柱形状の複数の筒状ケース４１と、筒状ケース４１の内部に充填される触媒４２とを有する。触媒４２は、例えばアンモニアを還元剤として、船舶等から排出されるＮＯｘと反応させて脱硝するものである。触媒４２は、水平方向の断面が、互いに平行な複数の平板と、その平板の間に設けられた波板とで構成されている、いわば、段ボールのような構造である。筒状ケース４１は、突出部４１ａを有しており、図３に示すように、突出部４１ａは第１グリッド３１又は第２グリッド６０に嵌め込まれる。複数の筒状ケース４１が第１グリッド３１と第２グリッド６０との間で並べられ、筒状ケース４１がアタッチメント４３を介して上下に積み重ねられることによって２段構成になっている。
【００１１】
アタッチメント４３は、図３に示すように、筒状ケース４１と同じ外寸の本体部４３ａと、その外寸よりも小さい２個の突出部４３ｂ、４３ｃとを有する。突出部４３ｂは、本体部４３ａから上方に突出して形成され、突出部４３ｃは、本体部４３ａから下方に突出して形成される。これらの突出部４３ｂ、４３ｃは、筒状ケース４１の内側と嵌合するように構成されている。これにより、筒状ケース４１は、アタッチメント４３を介して２段構成となる。なお、アタッチメント４３の内部には、触媒４２は充填されていない。筒状ケース４１の筒の厚さＴ１は、アタッチメント４３の本体部４３ａの筒の厚さＴ２よりも小さい。これは、筒状ケース４１を触媒支持機構３０に載置するときに、人手で筒状ケース４１を運びやすいように、内部に触媒４２が充填される筒状ケース４１の重量を抑制してハンドリングを容易にするためである。
【００１２】
触媒支持機構３０は、図１Ａに示すように、触媒ユニット４０を容器本体１０の内部で支持するとともに、排ガスが必ず触媒を通過するように、触媒を通過しない流路をシールするものである。触媒支持機構３０の材料は、例えば、炭素鋼である。触媒支持機構３０は、上述の第１グリッド３１と、第１シールプレート３２と、複数の第１柱体３３と、第２シールプレート３４と、複数の第２柱体３５と、アングル材３６とを備える。
【００１３】
第１グリッド３１は、図１Ａに示すように、容器本体１０の下部において横向きに設けられ、上向きの主面Ｓ１を有する。主面Ｓ１の中央部には、触媒ユニット４０を載置可能な載置領域３１ａが形成されている。具体的には、第１グリッド３１は、図４に示すように、複数のバー３１ｂが縦横斜めに組み合わされて、格子状に形成されている。これらのバー３１ｂは、載置領域３１ａを形成するとともに、バー３１ｂのうちのいくつかは、載置領域３１ａからはみ出すように形成されている。載置領域３１ａからはみ出したバー３１ｂの先端は、容器本体１０の内側に設けられたリング２１に載せられた状態でこのリング２１と溶接されている。
【００１４】
第１シールプレート３２は、図１Ａ及び５に示すように、１０の内周部分において第１グリッド３１に載せられた状態で設けられており、載置領域３１ａと同じ平面形状にくり抜かれた円形の板状部材であって、その外径は容器本体１０の内径と略等しく、第１グリッド３１の主面Ｓ１からはみ出した位置に設けられている。そして、第１シールプレート３２の外周は、バタリングビード２２と溶接されている。図１Ｂにおける符号２２ｂは、その溶接部である。バタリングビード２２の代わりに当て板２２ａが用いられる図１Ｃの場合においても、溶接部２２ｂが示されている。また、第１シールプレート３２は、上述のように、第１グリッド３１の載置領域３１ａを除く主面Ｓ１上に寝かされた状態で配置され、その状態で第１グリッド３１と溶接されている。
【００１５】
複数の第１柱体３３は、図１Ａに示すように、第１シールプレート３２上に起立させられた状態で配置され、その状態で底部が第１シールプレート３２に溶接されている。第１柱体３３は、例えば、図１Ａ及び図５に示すように、断面が円形状の棒状部材であり、容器本体１０の内周に沿って分散した状態で配置されている。第１柱体３３の上端には、図１Ａに示すように、第２シールプレート３４が寝かされた状態で載置されており、第２シールプレート３４はその状態で第１柱体３３と溶接されている。ここで、第１柱体３３が倒れないように、第１シールプレート３２及び第２シールプレート３４に第１柱体３３の断面と同じ形状の窪みを設けて、この窪みに第１柱体３３をはめ込むようにしても良い。
【００１６】
第２シールプレート３４は、図１Ａ及び６に示すように、第１シールプレート３２と同一形状である。第２シールプレート３４の外周もバタリングビード２３と溶接されている。第２シールプレート３４上には、図６及び７に示すように、複数のアングル材３６が固定されている。複数のアングル材３６は、底板３６ａと側板３６ｂとで構成されている。底板３６ａは、第２シールプレート３４に溶接されている。側板３６ｂは、底板３６ａと垂直に形成される部分であって、水平方向のボルトＢ１を通すための貫通孔が設けられる。ボルトＢ１でアタッチメント４３を外周側から押圧するように、ボルトＢ１とナットＮ１とを締めることによって、アングル材３６を介して触媒ユニット４０のアタッチメント４３を触媒ユニット４０の外周側から押えることができる。これにより、触媒ユニット４０は、横方向に固定される。ここで、横方向とは、触媒支持機構３０の各構成が積み重ねられてゆく縦方向に垂直な方向を意味するものとする。
【００１７】
複数の第２柱体３５は、図１Ａに示すように、第２シールプレート３４上に起立した状態で配置され、その状態で底部が第２シールプレート３４と溶接されている。第２柱体３５は、図６に示すように、第２柱体３５ａと、第２柱体３５ｂの２種類が使用されている。第２柱体３５ａは、図８Ａ及び８Ｂに示すように、板状の本体部３５ａａと、板状のサポート３５ａｂとで構成されている。本体部３５ａａが倒れないようにするために、サポート３５ａｂは、本体部３５ａａに垂直に取り付けられる。同様に、第２柱体３５ｂは、図９Ａ、９Ｂ及び９Ｃに示すように、板状のサポート３５ｂｂが、板状の本体部３５ｂａに垂直に取り付けられている。また、第２柱体３５ｂの本体部３５ｂａの上端には、プレート３５ｂｃが本体部３５ｂａの上端に対して垂直な水平方向に取り付けられる。
【００１８】
また、図１Ａに示すように、第２グリッド６０が触媒ユニット４０上に設けられる。第２グリッド６０は、図１０に示すように、複数のバー６０ａが縦横斜めに組み合わされることによって形成される。また、第２グリッド６０は、複数の水平方向のプレート６１を有しており、各プレート６１は、バー６０ａ上、又はバー６０ａが交差する部分上に設けられる。
【００１９】
図１Ａに示すように、第２グリッド６０上には、さらにグリッド押え７０が設けられる。グリッド押え７０は、図１１に示すように、容器本体１０の中央で垂直に交差する２本のメインバー７１と、２本のメインバー７１から枝分かれしたブランチ７２とで構成される。メインバー７１は、その一方及び他方の端部が一対の第２柱体３５ａによって挟み込まれた状態で支持されている。具体的には、図８Ａ及び８Ｂに示すように、メインバー７１の端部と、一対の第２柱体３５ａの本体部３５ａａとが、ボルトＢ４及びナットＮ４で締結されている。一方、ブランチ７２は、その端部が第２柱体３５ｂによって支持される。具体的には、図９Ａ、９Ｂ及び９Ｃに示すように、ブランチ７２の端部付近が、第２柱体３５ｂにおける水平方向のプレート３５ｂｃ上に載置され、ブランチ７２とプレート３５ｂｃとがボルトＢ５及びナットＮ５で締結される。これにより、グリッド押え７０は、複数の第２柱体３５ａ、３５ｂによって固定されることとなる。
【００２０】
また、グリッド押え７０のメインバー７１には、それぞれ上下方向の複数の内ネジが設けられており、ボルトＢ２は、これらの内ネジを通って、図８Ｂ及び図１０に示す第２グリッド６０のプレート６１を上方から押える。さらに、第２柱体３５ｂのプレート３５ｂｃにも上下方向の内ネジが設けられており、ボルトＢ３は、この内ネジを通って、図９Ａ及び図１０に示す第２グリッド６０のプレート６１を上方から押さえる。これにより、触媒ユニット４０は、縦方向に固定されることとなる。なお、第２グリッド６０及びグリッド押え７０は容器本体１０や触媒支持機構３０と溶接されていない。これは、使用済みの触媒ユニット４０を新しい触媒ユニット４０と交換するために、触媒支持機構３０から取り外し可能とするためである。
【００２１】
次に、本実施の形態に係る排ガス処理装置１の製造方法について図１２Ａ〜１２Ｌを参照しながら説明する。本実施の形態に係る排ガス処理装置１の製造方法は、容器本体１０の外部で触媒支持機構３０を形成する工程と、焼鈍済みの容器本体１０の内部に触媒支持機構３０を組み込む工程と、リング２１、バタリングビード２２、２３と触媒支持機構３０とを溶接する工程と、焼鈍済みのキャップ１０ａと容器本体１０とを溶接し、さらに、このキャップ１０ａと容器本体１０との溶接個所を部分焼鈍する工程と、を備える。
【００２２】
（触媒支持機構の形成工程）
触媒支持機構３０を容器本体１０の外部で形成する工程について説明する。まず、図１２Ａに示すように、第１グリッド３１の載置領域３１ａ上に、ダミー触媒８０を載置する。ダミー触媒８０は、第１グリッド３１に対する第１シールプレート３２、第１柱体３３、第２シールプレート３４及び第２柱体３５の位置決めを行うものである。ダミー触媒８０は、図２に示す触媒ユニット４０と同じ形状であって、アタッチメント４３を介して、複数の筒状ケース４１がそれぞれ上下２段構成になっているが、筒状ケース４１の内部に触媒が充填されていない点で触媒ユニット４０と異なる。
【００２３】
ダミー触媒８０を第１グリッド３１の載置領域３１ａに載置した後は、図１２Ｂに示すように、第１グリッド３１の主面Ｓ１上に、第１シールプレート３２を寝かせた状態で配置する。なお、ダミー触媒８０を載置領域３１ａに載置させる前に第１シールプレート３２を配置してもよい。第１シールプレート３２を第１グリッド３１の主面Ｓ１上に配置した後は、第１グリッド３１と第１シールプレート３２とを溶接する。
【００２４】
次に、図１２Ｃに示すように、第１シールプレート３２上に第１柱体３３を起立させた状態で配置し、第１シールプレート３２と第１柱体３３とを溶接する。この時、第１柱体３３は、ダミー触媒８０の周囲を囲むように配置される。
【００２５】
その後、図１２Ｄに示すように、第１柱体３３上に第２シールプレート３４を寝かせた状態で配置し、第１柱体３３と第２シールプレート３４とを溶接する。そして、図１２Ｅに示すように、アングル材３６を第２シールプレート３４に取り付ける。なお、アングル材３６は、第２シールプレート３４を第１柱体３３上に配置するときに、予め第２シールプレート３４に取り付けられていてもよい。
【００２６】
そして、図１２Ｆに示すように、第２シールプレート３４上に第２柱体３５を起立させた状態で配置し、第２シールプレート３４と第２柱体３５とを溶接する。これにより、触媒支持機構３０が完成する。その後は、図１２Ｇに示すように、ダミー触媒８０上に第２グリッド６０を載置する。最後に、図１２Ｈに示すように、ボルトＢ４及びＢ５（図８Ａ及び９Ｂ参照）でグリッド押え７０を第２柱体３５に取り付けた後、ボルトＢ１でダミー触媒８０を外周側から押えて横方向に固定し、ボルトＢ２及びＢ３（図１１参照）でダミー触媒８０を上方から押さえて縦方向に固定する。ただし、図１２Ｇ及び図１２Ｈに示す工程は、触媒ユニットの代わりにダミー触媒８０を固定することによって、触媒ユニットが適切に固定されるか否かを点検するものであって、必ずしも必要な工程ではない。触媒支持機構３０が完成した後は、第２グリッド６０及びグリッド押え７０を取り外し、ダミー触媒８０を上方から取り除く。
【００２７】
（触媒支持機構の組み込み工程）
次に、焼鈍済みであるが未だキャップ１０ａが取り付けられていない状態の容器本体１０の内部に触媒支持機構３０を組み込む工程について説明する。具体的には、図１２Ｉに示すように、上端が開口した容器本体１０の内側に設けられるリング２１上に、触媒支持機構３０を設置する。ここで、容器本体１０は、その内側にリング２１及びバタリングビード２２、２３が溶接された状態で、既に焼鈍が完了したものが用いられる。
【００２８】
（触媒支持機構の溶接工程）
その後、触媒支持機構３０を容器本体１０の中へ入れて、その第１グリッド３１とリング２１とを溶接するとともに、触媒支持機構３０の第１シールプレート３２及び第２シールプレート３４と、バタリングビード２２、２３とをそれぞれ溶接する。触媒支持機構３０、リング２１及びバタリングビード２２、２３は、前述したように焼鈍不要な材料であるため、この溶接工程の後に焼鈍を行う必要はない。
【００２９】
（容器本体及びキャップの溶接及び部分焼鈍工程）
そして、図１２Ｊに示すように、キャップ１０ａを容器本体１０に溶接する。キャップ１０ａとしては、予め焼鈍が完了したものが用いられる。そのため、キャップ１０ａ全体を焼鈍する必要はない。一方で、キャップ１０ａと容器本体１０との溶接個所については焼鈍する必要があるため、この溶接個所を局所的に部分焼鈍する。部分焼鈍の具体的な方法としては、例えば、溶接個所に電熱ヒータを巻いて局所的に加熱することが挙げられる。焼鈍の温度は、クロムモリブデン鋼の場合、５００℃程度である。
【００３０】
その後、図１２Ｋに示すように、第１グリッド３１の載置領域３１ａ上に触媒ユニット４０を載置する。触媒ユニット４０を載置するときは、触媒ユニット４０を構成する筒状ケース４１の一つ一つを、マンホール１０ｂから容器本体１０の内部に運び、図３に示すように第１グリッド３１に嵌め込んでいって１段目を完成させ、その後アタッチメント４３を筒状ケース４１上に積み重ね、さらにアタッチメント４３上に２段目の筒状ケース４１を積み重ねる。
【００３１】
最後に、図１２Ｌに示すように、第２グリッド６０を触媒ユニット４０上に配置し、グリッド押え７０を第２柱体３５に取り付けた後、触媒ユニット４０を縦方向に固定するとともに、横方向にも固定する。グリッド押え７０を第２柱体３５に取り付ける具体的な方法、及び触媒ユニット４０を縦方向及び横方向に固定する具体的な方法は、図１２Ｇ及び１２Ｈを用いて述べた方法と同様であるため省略する。
【００３２】
本発明の実施の形態に係る排ガス処理装置１の製造方法によれば、内側に溶接部材（リング２１、バタリングビード２２、２３）が設けられた容器本体１０とキャップ１０ａを予め焼鈍することとし、容器本体１０とキャップ１０ａを溶接した後は、それらの溶接個所を部分焼鈍することとした。また、触媒支持機構３０を溶接する際は、前記溶接部材と触媒支持機構３０とを溶接することとした。そのため、触媒支持機構３０は焼鈍による影響を受けることがなく、焼鈍に起因して触媒支持機構３０が変形することを防止できる。そのため、触媒支持機構３０を含む排ガス処理装置１を一括焼鈍する従来の排ガス処理装置の製造方法と比較して、触媒支持機構３０のガスシール性を向上させることが可能となる。
【００３３】
さらに、本実施の形態に係る製造方法では、第１グリッド３１、第１シールプレート３２、第１柱体３３、第２シールプレート３４、及び第２柱体３５を、容器本体１０の外部で溶接することによって、触媒支持機構３０を完成させることとした。そのため、容器本体１０の内部で触媒支持機構３０を完成させる従来技術と比較して、作業環境が良くなり、触媒支持機構３０の製造精度を向上させることができる。これにより、触媒支持機構３０は隙間なく触媒ユニット４０を支持することが可能となり、排ガス処理装置１のガスシール性を向上させることができる。
【００３４】
なお、本実施の形態に係る排ガス処理装置１の製造方法では、触媒支持機構３０を形成する工程において、ダミー触媒８０を使用する態様を述べたが、本発明はこれに限られず、ダミー触媒８０の代わりに触媒ユニット４０を用いて位置決めしてもよく、若しくは位置決めせずに触媒支持機構３０を形成してもよい。ただし、ダミー触媒８０又は触媒ユニット４０を用いて位置決めしながら触媒支持機構３０を形成することによって、触媒支持機構３０の製造精度をより向上させることが可能となる。
【００３５】
また、本実施の形態に係る排ガス処理装置１では、触媒ユニット４０が２段構成の筒状ケース４１で形成される態様を述べたが、これに限られない。例えば、触媒ユニット４０が１段構成であってもよく、３段以上の構成であってもよい。触媒ユニット４０が複数段の構成である場合は、触媒ユニット４０の段数と同じ数だけシールプレート及び柱体を互い違いに配置し、筒状ケース４１同士の間にアタッチメント４３を設け、アタッチメント４３を外周側から押えることが好ましいが、シールプレートの数は必ずしも触媒ユニット４０の段数に合わせる必要はなく、少なくとも１つのシールプレートがあればよい。
【００３６】
また、本実施の形態に係る排ガス処理装置１では、ボルトＢ１、Ｂ２、Ｂ３によって触媒ユニット４０を押えて固定する態様を述べたが、これに限られない。例えば、アングル材３６とアタッチメント４３との間にバネ等の付勢部材を介在させることによっても触媒ユニット４０を横方向に固定することが可能である。同様に、グリッド押え７０と第２グリッド６０との間に付勢部材を介在させることによって、触媒ユニット４０を縦方向に固定することが可能となる。
【００３７】
なお、図１Ａ等においては、排ガスが流れるガス流路Ｒが鉛直方向である、いわゆる縦置きの排ガス処理装置の態様が描かれているが、勿論本発明は、この態様に限られるものではない。すなわち、本発明は、排ガス処理装置１を寝かせて使用し、ガス流路Ｒを水平方向とした、いわゆる横置きの排ガス処理装置の態様を含む。
【００３８】
さらに、本実施の形態に係る排ガス処理装置１は、船舶における排ガス処理に使用されることを述べたがこれに限られない。船舶に限られず、排ガスの処理が必要な輸送機器や施設全般に使用され得る。
【符号の説明】
【００３９】
１          排ガス処理装置
１０        容器本体
２０        溶接部材
３０        触媒支持機構
３１        第１グリッド
３１ａ      載置領域
３２        第１シールプレート
３３        第１柱体
３４        第２シールプレート
３５        第２柱体
３６        アングル材
４０        触媒ユニット
４１        筒状ケース
４２        触媒
４３        アタッチメント
６０        第２グリッド
７０        グリッド押え
８０        ダミー触媒
【図１Ａ】
0006604895.tif 000002
【図１Ｂ】
0006604895.tif 000003
【図１Ｃ】
0006604895.tif 000004
【図２】
0006604895.tif 000005
【図３】
0006604895.tif 000006
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８Ａ】
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【図８Ｂ】
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【図９Ａ】
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【図９Ｂ】
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【図９Ｃ】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２Ａ】
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【図１２Ｂ】
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【図１２Ｃ】
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【図１２Ｄ】
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【図１２Ｅ】
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【図１２Ｆ】
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【図１２Ｇ】
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【図１２Ｈ】
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【図１２Ｉ】
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【図１２Ｊ】
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【図１２Ｋ】
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【図１２Ｌ】
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