(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ビッカース硬度が３５０以上である金属酸化物含有膜を物品の基材表面に形成する工程と、
前記形成した金属酸化物含有膜の表面を研磨する研磨工程と、
を包含し、
ここで、前記研磨工程後の金属酸化物含有膜は、表面粗さＲａが３００ｎｍ以下であり、かつ２０°グロス値が５０以上であり、
前記金属酸化物は、Ｙ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｆｅ，ＡｌおよびＥｒからなる群から選択される少なくとも１種を含有し、
前記金属酸化物含有膜の形成は、溶射法、化学的蒸着法または物理的蒸着法によって行われる、金属酸化物含有膜付き物品の製造方法。
【請求項２】
前記金属酸化物含有膜の形成は溶射法によって行われる、請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
前記金属酸化物含有膜は、気孔率１〜２０％の多孔質膜である、請求項１または２に記載の製造方法。
【請求項４】
前記製造された金属酸化物含有膜付き物品における前記金属酸化物含有膜の厚さは１０〜１０００μｍである、請求項１〜３のいずれかに記載の製造方法。
【請求項５】
前記研磨工程は、
前記形成した金属酸化物含有膜の表面を第１研磨組成物を用いて研磨する第１研磨工程と、
前記第１研磨工程後の金属酸化物含有膜の表面を第２研磨組成物を用いて研磨する第２研磨工程と、
を包含する、請求項１〜４のいずれかに記載の製造方法。
【請求項６】
前記第１研磨組成物は、砥粒（Ａ１）を含み、
前記第２研磨組成物は、前記砥粒（Ａ１）よりも平均二次粒子径の小さい砥粒（Ａ２）を含み、該砥粒（Ａ２）の平均二次粒子径は５００ｎｍ以下である、請求項５に記載の製造方法。
【請求項７】
前記砥粒（Ａ１）の平均二次粒子径は１〜１０μｍである、請求項６に記載の製造方法。
【請求項８】
前記砥粒（Ａ１）の平均二次粒子径Ｐ１と前記砥粒（Ａ２）の平均二次粒子径Ｐ２との比（Ｐ１／Ｐ２）は２〜２００である、請求項６または７に記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、金属酸化物含有膜付き物品に関する。本出願は、２０１３年１月１８日に出願された日本国特許出願２０１３−７９４０号に基づく優先権を主張しており、その出願の全内容は本明細書中に参照として組み入れられている。
【背景技術】
【０００２】
携帯電話機、パーソナルコンピュータ（ＰＣ）等の各種電子機器、カメラ、スポーツ・ヘルスケア用品、自動車内装部材その他の物品の表面には、表面保護や意匠性の付与等を目的として、樹脂コーティング、めっき処理等の表面加工が施されている。これらの表面加工には、その表面加工対象物に応じて、所定の強度、耐久性、軽量性等の性能を有することが要求されており、それらの性能を満たすことを前提として、多種多様なデザインが施されている。なかでも、電子機器、自動車内装部材等では、表面デザインに対する要求が特に強く、例えば、ハイグレード商品では、質感（例えば高級感）を重視した表面デザインが強く求められている。しかし、樹脂コーティングやめっき処理等の従来の表面加工技術では材料や加工等の制限があり、質感の向上には限りがある。これらの物品の表面に、従来とは異なる質感を付与することができれば、より顧客満足度の高い商品を作出することができ有益である。【０００３】
ところで、半導体製造装置等の工業用途においては、エロージョン防止等を目的として、アルミナ等の金属酸化物からなる膜をそれら製品の表面に形成することが従来から行われている。この種の従来技術を開示する技術文献として、特許文献１が挙げられる。また、サファイア、窒化ガリウム等の硬質材料を所定の研磨速度で研磨可能な研磨組成物が特許文献２に提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】日本国特許出願公開２００６−１４４０９４号公報
【特許文献２】国際公開第２０１２／１１５０２０号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明者らは、金属酸化物含有物（例えばセラミック）が有する特有の質感を各種物品の表面に付与するという着想の下、鋭意検討を行った結果、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、従来とは異なる質感を有する新規な表面を備える物品を提供することを目的とする。関連する他の目的は、上記新規な表面を備える物品の製造方法を提供することである。関連する他の目的は、上記新規な表面を実現し得る研磨組成物キットを提供することをさらに包含する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するため、この明細書によると金属酸化物含有膜付き物品が提供される。この金属酸化物含有膜付き物品は、基材と、該基材の表面に設けられた金属酸化物含有膜とを備える。また、前記金属酸化物含有膜は、ビッカース硬度が３５０以上であり、表面粗さＲａが３００ｎｍ以下であり、かつ２０°グロス値が５０以上である。上記膜は金属酸化物を含むことから、樹脂やめっき等の膜とは異なる質感を有する。ここで、質感とは金属酸化物含有物に特有の素材感を指し、例えば重量感、存在感と表現することもでき、金属や樹脂とは異なる色調を演出するものでもあり得る。また、上記質感は、例えば金属的、プラスチック的なものとは異なり、深みや温かみ、独特の艶感を包含しており、これらは、例えば陶磁器が有するような美観や高級感を見る者や触る者に与え得る。上記金属酸化物含有膜はさらに２０°グロス値が５０以上の光沢を有することから、従来の物品表面に設けられた膜とは異なる光沢性の質感を有している。上記の光沢を有する表面は、例えば工芸品や美術品としての陶磁器が有するものとは異なるが遜色ない、あるいはより優れた美観や高級感を有するものであり得る。また、平滑性の高い表面を有する物品は手触り感にも優れ、耐衝撃性等の強度面でも優れたものであり得る。【０００７】
ここに開示される技術の好ましい一態様では、前記金属酸化物含有膜は、溶射法、化学的蒸着法（ＣＶＤ法：Chemical  Vapor  Deposition）または物理的蒸着法（ＰＶＤ法：Physical  Vapor  Deposition）によって形成されたものである。上述の方法を採用することにより、金属酸化物含有膜を基材の表面に好適に形成することができる。【０００８】
ここに開示される技術の好ましい一態様では、前記金属酸化物含有膜は、気孔率１〜２０％の多孔質膜である。ここに開示される技術によると、上記の気孔率を有する多孔質膜に対して、表面粗さＲａ３００ｎｍ以下、かつ２０°グロス値５０以上を好適に実現し得る。【０００９】
ここに開示される技術の好ましい一態様では、前記金属酸化物含有膜の厚さは１０〜１０００μｍである。金属酸化物含有膜の厚さが小さすぎると所定の光沢を実現し難い傾向があり、上記厚さが大きすぎると生産性が低下する傾向がある。また、軽量性の観点から上記厚さは１０００μｍ以下であることが望ましい。【００１０】
また、この明細書によると、金属酸化物含有膜付き物品の製造方法が提供される。この製造方法は、ビッカース硬度が３５０以上である金属酸化物含有膜を物品の基材表面に形成する工程と、前記形成した金属酸化物含有膜の表面を研磨する研磨工程と、を包含する。そして、前記研磨工程後の金属酸化物含有膜は、表面粗さＲａが３００ｎｍ以下であり、かつ２０°グロス値が５０以上であることを特徴とする。かかる製造方法によると、所定以上の硬度を有する金属酸化物含有膜に対して研磨を行うことで、所定の光沢を有する表面を実現することができる。さらにいえば、例えば工芸品や美術品としての陶磁器が有するものとは異なるが遜色ない、あるいはより優れた美観や高級感を有し得る金属酸化物含有膜が表面に形成された物品の生産が実現される。【００１１】
ここに開示される製造方法の好ましい一態様では、前記金属酸化物含有膜の形成は、溶射法、化学的蒸着法または物理的蒸着法によって行われる。また、他の好適な一態様では、前記金属酸化物含有膜は、気孔率１〜２０％の多孔質膜である。また、前記金属酸化物含有膜の厚さは１０〜１０００μｍであることが好ましい。【００１２】
ここに開示される製造方法の好ましい一態様では、前記研磨工程は、前記形成した金属酸化物含有膜の表面を第１研磨組成物を用いて研磨する第１研磨工程と、前記第１研磨工程後の金属酸化物含有膜の表面を第２研磨組成物を用いて研磨する第２研磨工程と、を包含する。上記のように、所定以上の硬度を有する金属酸化物含有膜に対して、少なくとも上記の２段階研磨を行うことで、所定の光沢を有する表面を効率よく実現することができる。さらにいえば、例えば工芸品や美術品としての陶磁器が有するものとは異なるが遜色ない、あるいはより優れた美観や高級感を有し得る金属酸化物含有膜が表面に形成された物品を大量生産することが可能となる。【００１３】
ここに開示される製造方法の好ましい一態様では、前記第１研磨組成物は、砥粒（Ａ１）を含み、前記第２研磨組成物は、前記砥粒（Ａ１）よりも平均二次粒子径の小さい砥粒（Ａ２）を含み、該砥粒（Ａ２）の平均二次粒子径は５００ｎｍ以下である。上記の組成を有する２種の研磨組成物を用いることにより、所定の光沢を有する金属酸化物含有膜表面を効率よく実現することができる。【００１４】
ここに開示される製造方法の好ましい一態様では、前記砥粒（Ａ１）の平均二次粒子径は１〜１０μｍである。このような粒径の砥粒（Ａ１）を含む第１研磨組成物を用いて研磨を行うことで、高い研磨効率が実現され得る。【００１５】
ここに開示される製造方法の好ましい一態様では、前記砥粒（Ａ１）の平均二次粒子径Ｐ１と前記砥粒（Ａ２）の平均二次粒子径Ｐ２との比（Ｐ１／Ｐ２）は２〜２００である。砥粒（Ａ１）と砥粒（Ａ２）の平均二次粒子径の比（Ｐ１／Ｐ２）を上記の範囲とすることにより、所定の光沢を有する表面を効率よく実現することができる。【００１６】
また、この明細書によると、ここに開示されるいずれかの製造方法に用いられる金属酸化物含有膜用研磨組成物キットが提供される。この研磨組成物キットは、前記第１研磨組成物と前記第２研磨組成物とを備える。また、前記第１研磨組成物は、砥粒（Ａ１）を含む。さらに、前記第２研磨組成物は、前記砥粒（Ａ１）よりも平均二次粒子径の小さい砥粒（Ａ２）を含み、該砥粒（Ａ２）の平均二次粒子径は５００ｎｍ以下である。さらに、かかる研磨組成物キットを用いた研磨によると、所定以上の硬度を有する金属酸化物含有膜に対して、第１研磨組成物を用いた第１研磨工程と第２研磨組成物を用いた第２研磨工程との少なくとも２段階の研磨を行うことで、所定の光沢を有する表面を効率よく実現することができる。【００１７】
さらに、この明細書によると、金属酸化物含有膜用研磨組成物キットが提供される。この研磨組成物キットを用いて行う研磨の対象物は、金属酸化物を含み、かつビッカース硬度が３５０以上の金属酸化物含有膜である。そして、この研磨組成物キットは、金属酸化物含有膜の表面粗さＲａを３００ｎｍ以下とし、かつ２０°グロス値を５０以上とする研磨に用いられる。この研磨組成物キットは、前記金属酸化物含有膜に供給される第１研磨組成物と、該第１研磨組成物の供給後に該金属酸化物含有膜に供給される第２研磨組成物と、を備える。また、前記第１研磨組成物は、砥粒（Ａ１）を含む。さらに、前記第２研磨組成物は、前記砥粒（Ａ１）よりも平均二次粒子径の小さい砥粒（Ａ２）を含み、該砥粒（Ａ２）の平均二次粒子径は５００ｎｍ以下である。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】例３の研磨における金属酸化物含有膜の表面粗さＲａの変化を示すグラフである。
【図２】図１のＡ点における表面粗さＲａの測定結果（断面曲線）を示すチャートである（縦倍率：×１，０００．００、横倍率：×２０．００）。
【図３】図１のＢ点における表面粗さＲａの測定結果（断面曲線）を示すチャートである（縦倍率：×１，０００．００、横倍率：×２０．００）。
【図４】図１のＣ点における表面粗さＲａの測定結果（断面曲線）を示すチャートである（縦倍率：×１，０００．００、横倍率：×２０．００）。
【図５】図１のＢ点における表面粗さＲａの測定結果（断面曲線）を示すチャートであって、図３を縦方向に拡大した図である（縦倍率：×１０，０００．００、横倍率：×２０．００）。
【図６】図１のＣ点における表面粗さＲａの測定結果（断面曲線）を示すチャートであって、図４を縦方向に拡大した図である（縦倍率：×１０，０００．００、横倍率：×２０．００）。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、本発明の好適な実施形態を説明する。なお、本明細書において特に言及している事項以外の事柄であって本発明の実施に必要な事柄は、当該分野における従来技術に基づく当業者の設計事項として把握され得る。本発明は、本明細書に開示されている内容と当該分野における技術常識とに基づいて実施することができる。
【００２０】
≪金属酸化物含有膜付き物品≫
＜物品＞
ここに開示される技術の好ましい一態様に係る金属酸化物含有膜付き物品は、基材と、該基材の表面に設けられた金属酸化物含有膜とを備える。物品は、携帯電話やゲーム機、ＰＣ、各種家電用品、各種オーディオ製品等の電子機器、カメラ、光学用品、事務用品、スポーツ・ヘルスケア用品、自動車内装部材、照明器具、家具、室内装飾品、調理器具、雑貨等であり得る。典型的には一般消費者向け物品（商品または製品）であり得る。このような一般消費者向け物品の表面として金属酸化物含有膜を適用することは、ここに開示される技術の特徴の一つとして把握され得る。
【００２１】
なかでも、電子機器、カメラ、光学用品、自動車内装部材は、質感（特に高級感）を重視した表面デザインが求められる傾向が大きいことから、ここに開示される技術の好ましい適用対象である。機能等によって価格帯等の異なる複数のグレードの商品を備える物品に対して、ここに開示される技術を適用することが特に好ましい。例えば、これらの物品のなかのハイグレード商品（例えば機能、性能がハイスペックである商品）に、ここに開示される技術を適用することにより、当該物品の機能・性能と当該物品表面の質感（典型的には高級感）とが関連付けられて、より顧客満足度の高い商品が作出され得る。
【００２２】
また、ここに開示される技術の好ましい一態様では、物品は手に取って使用するものであることが好ましい。というのも、金属酸化物含有膜が有する特有の質感は、手に取ったときの手触り感、温度感としても把握され得るからである。なお、温度感は、実際に手に取ってみたときに体感することができる触感の一種であり、金属や樹脂では得られない金属酸化物特有の触感として把握される。そのような物品の好適例としては、例えば電子機器やカメラ等が挙げられる。
【００２３】
＜基材＞
基材は物品を構成する部材であり、物品そのものであってもよい。上記基材は、典型的には物品の外面（例えば外殻）を構成する部材であり得る。上記基材は、少なくとも膜形成面を有していればよく、その限りにおいて特に制限はない。例えば、バルク状、板状の基材が好ましく採用され得る。
【００２４】
金属酸化物含有膜を加熱条件下で基材表面に設ける場合には、熱による基材の変形を防止する観点から、上記基材は３００℃未満（例えば５００℃未満、典型的には６００℃未満）では溶融または燃焼しない材料によって構成されていることが好ましい。金属酸化物含有膜の形成が、後述する溶射法、ＣＶＤ法またはＰＶＤ法によって行われる場合には、６００℃未満（例えば１０００℃未満、典型的には１５００℃未満）では溶融または燃焼しない材料によって構成されていることが好ましい。
【００２５】
上記のような膜形成性を考慮して、上記基材は、ステンレス鋼、ニッケル、チタン、アルミニウム、マグネシウム、鉄、銅、またはこれらを主成分（上記基材において最も質量割合の大きい成分、例えば上記基材の合計質量の５０質量％を超える割合で含まれる成分）とする合金等の金属材料、あるいはカーボン材料等の非金属材料によって構成されていることが好ましい。加工性の観点からは、ステンレス鋼、アルミニウム、鉄、銅が好ましい。これらは加工性に優れる反面、比較的傷がつきやすい（耐スクラッチ性が低い）ものであるため、ここに開示される金属酸化物含有膜形成の利点を好ましく享受し得る。また、耐腐食性の観点からはステンレス鋼、アルミニウム、チタンが好ましく、軽量性の観点からはアルミニウム、チタンが好ましい。また、物品が高温状態に曝される態様で使用される場合、金属酸化物含有膜の形成が高温条件で行われる場合、上記基材の材質としては、ステンレス鋼、ニッケル、チタン、鉄、銅、またはこれらを主成分とする合金、カーボン材料等が好ましい。
【００２６】
また、当該基材の厚さは特に限定されないが、金属酸化物含有膜形成性の観点から、凡そ０．１ｍｍ以上（例えば０．３ｍｍ以上、典型的には０．６ｍｍ以上）であることが適当であり、０．５ｍｍ以上（例えば１ｍｍ以上、典型的には２ｍｍ以上）であることが好ましい。また、軽量性等の観点から、上記厚さは凡そ５０ｍｍ以下（例えば５ｍｍ以下、典型的には３ｍｍ以下）であることが適当であり、１０ｍｍ以下（例えば２ｍｍ以下、典型的には１ｍｍ以下）であることが好ましい。
【００２７】
＜金属酸化物含有膜＞
ここに開示される金属酸化物含有膜付き物品において、金属酸化物含有膜は基材の表面に設けられている。例えば、金属酸化物含有膜は上記物品において外部から視認され得る領域の少なくとも一部に設けられた被膜であり得る。典型的には、上記物品（例えば基材）の表面に形成されたものであり得る。上記の領域に設けられることによって、ここに開示される金属酸化物含有膜特有の質感（典型的には高級感）が物品の表面に付与され、優れた意匠性を発揮し得る。特に、金属酸化物含有膜は薄膜であり得るので、物品全体としては軽量であっても、金属酸化物膜特有の質感（例えば重量感、存在感とも表現され得る。）をその表面に発現させることができる。換言すれば、重量感や存在感と軽量性とを両立し得る。
【００２８】
意匠性の観点では、金属酸化物含有膜は有色であることが好ましい。なお、ここでいう「有色」とは、無色透明以外のすべてを包含する概念であり、半透明を含んでもよい。有色の金属酸化物含有膜は、金属酸化物特有の質感によって特有の色調を発現し得る。なお、当然のことではあるが、上記金属酸化物含有膜は耐熱性、耐摩耗性（耐スクラッチ性を包含する。）、耐変色性（耐退色性）、耐腐食性、耐絶縁性にも優れるので、基材に対して良好な表面保護性能を発揮し得る。
【００２９】
また、金属酸化物含有膜付き物品は、物品（例えば基材）全体が金属酸化物含有物によって構成されているものと比べて軽量性に優れたものであり得る。さらに金属酸化物含有膜は、例えば膜の特性や組成等（例えば気孔率）を調整することにより所望の表面特性（典型的には表面粗さＲａ３００ｎｍ以下および２０°グロス値５０以上）を実現しやすい構成とすることができるため、生産性に優れたものであり得る。さらに、表面光沢を必要としない部分（例えば基材の裏面）を適当な材料で構成することにより、該部分に複雑な形状を付与することが可能となる。換言すれば、ここに開示される金属酸化物含有膜付き物品は、加工性に優れ、さらには良好な加工性を有することによって実現される形状適応性に優れたものであり得る。
【００３０】
上記の金属酸化物含有膜の金属酸化物を構成する金属元素としては、例えばＭｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｓｃ，Ｙ，Ｌａ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｖ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ａｇ，Ａｕ，Ｚｎ，Ａｌ，Ｇａ，Ｉｎ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｂｉ，Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｅｒ，Ｌｕ等の金属元素や、Ｂ，Ｓｉ，Ｇｅ，Ｓｂ等の半金属元素から選択される１種または２種以上が挙げられる。なかでも、Ｍｇ，Ｙ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｚｎ，Ａｌ，Ｅｒから選択される１種または２種以上を含有することが好ましい。
【００３１】
金属酸化物の具体例としては、特に限定されるものではないが、例えばＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、Ｓｃ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、ＨｆＯ２、ＶＯＸ（例えばＶ２Ｏ５）、Ｎｂ２Ｏ３、Ｔａ２Ｏ５、ＣｒＯＸ（例えばＣｒ２Ｏ４）、ＷＯＸ（例えばＷＯ２、ＷＯ３）、ＭｎＯＸ（例えばＭｎＯ、ＭｎＯ２、Ｍｎ３Ｏ４）、ＦｅＯＸ、ＣｏＯＸ、ＮｉＯ、ＣｕＯ、ＡｇＯ、ＺｎＯ、Ａｌ２Ｏ３、Ｇａ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３、ＳｎＯ２、ＢｉＯＸ、ＣｅＯ２、ＰｒＯＸ、Ｎｄ２Ｏ３、Ｅｒ２Ｏ３、Ｌｕ２Ｏ３、ＺｒＳｉＯＸ、ＺｒＡｌＯＸ、ＨｆＳｉＯＸ、ＨｆＡｌＯＸ、ＴｉＳｉＸＯＹ、Ｂ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＧｅＯ２、Ｓｂ２Ｏ５等が挙げられる。これらは１種を単独でまたは２種以上を混合して用いることができる。なお、ここに開示される技術では、金属酸化物含有膜表面に所定の光沢を付与するものであるため、金属酸化物は、ケイ酸塩等からなるガラス等の透明材料を含まないものとして定義され得る。また、Ｓｉ原子を含まないものであってもよい。
【００３２】
上記金属酸化物含有膜中の金属酸化物の含有量は特に限定されないが、金属酸化物特有の質感を好適に発現する観点から、金属酸化物の含有量は凡そ２０質量％以上（例えば４０質量％以上、典型的には６０質量％以上）とすることが適当であり、８０質量％以上（典型的には８０〜９９．９９質量％）が好ましく、９０質量％以上（典型的には９０〜９９．９９質量％）がより好ましく、９５質量％以上（例えば９５〜９９．９９質量％、典型的には９９〜９９．９９質量％）が特に好ましい。同様の観点から、金属酸化物含有膜は有機材料や金属材料を含まないことが好ましい。
【００３３】
ここに開示される金属酸化物含有膜のビッカース硬度（Ｈｖ）は３５０以上であり得る。ここに開示される技術によれば、上記のような硬質膜に対して、所定以上のグロス値を発現させることができる。上記ビッカース硬度は４００以上（例えば５００以上、典型的には７００以上）であってもよい。さらには、８００以上（典型的には９００以上）であっても、ここに開示される技術を適用することにより金属酸化物含有膜表面の２０°グロス値を５０以上にすることが可能である。ビッカース硬度の上限は特に限定されないが、１５００未満（例えば１４００未満、典型的には１２００未満）とすることが好ましい。ビッカース硬度が大きすぎると、研磨速度が低下して生産性が低下する虞がある。ビッカース硬度は、ＩＳＯ１４７０５に対応するＪＩＳ  Ｒ１６１０に基づき測定することができる。
【００３４】
また、金属酸化物含有膜は多孔質膜であってもよい。多孔質膜は気孔を有するため、気孔率が高すぎると例えば研磨を行っても光沢が発現し難い傾向がある。したがって、表面光沢を考慮すると、金属酸化物含有膜の気孔率は低い方が好ましい。例えば、金属酸化物含有膜の気孔率は凡そ２０％以下であることが好ましい。光沢発現の観点から、上記気孔率は１５％以下であることが好ましく、１２％以下であることが好ましく、１０％以下であることが特に好ましい。また、上記気孔率が小さすぎると表面平滑性の向上と実用的な研磨速度との両立を実現し難く、逆に光沢が得られ難い傾向があることが本発明者らの検討によって明らかになっている。このことを考慮して、上記気孔率は０．５％以上（例えば１％以上、典型的には３％以上）であることが好ましい。気孔率は、金属酸化物含有膜の形成条件（例えば温度、使用材料の粒径等）によって調整することができる。気孔率は、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ；例えば５００倍）による金属酸化物含有膜断面画像に基づき、単位面積当たりに占める気孔（空隙）の面積比率を画像解析法により算出した値を採用すればよい。上記気孔率は、任意の３ヵ所以上の断面画像から算出した値の平均値を採用することが好ましい。このことから理解されるように、この明細書における気孔率の「％」は、見かけの体積％であるが、便宜上「体積％」と表記してよいこととする。
【００３５】
また、ここに開示される金属酸化物含有膜は、その表面の２０°グロス値が５０以上であることを特徴とする。これによって、金属酸化物含有膜に所定の光沢が付与され、従来技術におけるものとは異なる質感（典型的には高級感）を有する物品表面が作出され得る。また、上記のような光沢を有する物品表面は滑らかで触り心地のよいものでもあるため、手に取ったときの手触り感に優れたものであり得る。上記金属酸化物含有膜の２０°グロス値は７０以上であることが好ましく、８０以上であることがより好ましく、９０以上であることがさらに好ましい。光沢を特に重視する場合、上記２０°グロス値は２００以上であってもよい。２０°グロス値は、ＪＩＳ  Ｚ８７４１に準拠して測定することができる。測定に用いる光沢計は特に限定されず、従来公知の光沢計を用いればよい。例えば、コニカミノルタオプティクス社製の商品名「ＧＭ−２６８Ｐｌｕｓ」またはその類似品を用いて測定することができる。
【００３６】
また、金属酸化物含有膜は表面粗さＲａが３５０ｎｍ以下であることが好ましい。表面粗さＲａが３００ｎｍ以下であることによって、表面平滑性が向上し、光沢表面を実現しやすい傾向がある。また、上記のような表面平滑性を有する金属酸化物含有膜はクラックの起点が少なく、割れ難いため、耐衝撃性、耐久性等の強度面でも優れたものであり得る。さらに、平滑性の高い表面を有する物品は手触り感にも優れる。なお、表面粗さＲａが低いことは、必ずしも光沢が高いことを意味するものではない。上記表面粗さＲａは２５０ｎｍ以下であることがより好ましく、２００ｎｍ以下であることがさらに好ましく、１５０ｎｍ以下であることが特に好ましい。上記表面粗さＲａの下限は特に限定されないが、研磨効率等の観点から、凡そ１０ｎｍ以上（典型的には３０ｎｍ以上）であり得る。なお、この明細書における表面粗さＲａは、従来公知の表面粗さ形状測定機（例えば東京精密社製「ＳＵＲＦＣＯＭ  １５００ＤＸ」またはその類似品）を用いて測定することができる。測定は、例えば測定長さ１０ｍｍ、測定速度０．３ｍｍ／秒の条件で行うことが好ましい。
【００３７】
また、金属酸化物含有膜の表面１ｃｍ２当たりの有色点の個数は４個以下であることが好ましい。このように有色点の個数の少ない金属酸化物含有膜表面は光沢、質感、高級感に優れたものとなりやすい。上記有色点の個数は、金属酸化物含有膜の表面１ｃｍ２当たり１個以下（例えば０．７個以下、典型的には０．３個未満）であることが好ましい。有色点の低減は、金属酸化物含有膜の原料（例えば金属酸化物粒子）を選別すること等により実現され得る。上記有色点の個数は、例えば以下の方法で測定することができる。基材表面に設けられた金属酸化物含有膜につき、その表面の任意の５０箇所を倍率１００倍の光学顕微鏡で観察する。次いで、光学顕微鏡による５０ヵ所の観察画像をそれぞれ２５６階調のグレースケールに変換し、そのときの最低明度が１００番以下であって、かつ直径が３０μｍ以上の領域を有色点として計数する。得られた有色点の個数を総観察面積で除すことにより金属酸化物含有膜表面の単位面積（１ｃｍ２）に存在する有色点を算出する。
【００３８】
上記金属酸化物含有膜の厚さは特に限定されないが、所定の光沢を実現する観点からは一定以上の厚さを有することが望ましい。上記厚さは、例えば１０μｍ以上とすることが好ましく、５０μｍ以上とすることがより好ましく、１００μｍ以上とすることがさらに好ましい。また、軽量性や生産効率等の観点から、上記厚さは１０００μｍ以下とすることが適当であり、５００μｍ以下とすることが好ましく、４００μｍ以下とすることがより好ましい。金属酸化物含有膜の厚さは、従来公知の手法を適宜採用して求めることができる。例えば従来公知の膜厚計（例えばサンコー電子社製「ＳＭＥ−２」またはその類似品；電磁誘導式モード）を用いて測定することができる。
【００３９】
≪金属酸化物含有膜付き物品の製造方法≫
次に、ここに開示される金属酸化物含有膜付き物品の製造方法の好適な一態様について説明する。この製造方法は、少なくとも、ビッカース硬度が３５０以上である金属酸化物含有膜を物品の基材表面に形成する工程と；前記形成した金属酸化物含有膜の表面を研磨する研磨工程と；を包含する。ここに開示される製造方法は、その他にも、基材を用意することや物品を作製すること等を包含し得るが、これらは本発明を特徴付けるものでないので、ここでは特に説明しない。また、研磨液の調製等の研磨液に関する事項については後述する。
【００４０】
金属酸化物含有膜形成工程は、ビッカース硬度が３５０以上である金属酸化物含有膜を物品の基材表面に形成する工程であり、その限りにおいて特に限定されない。上記ビッカース硬度は４００以上（例えば５００以上、典型的には７００以上）、さらには８００以上（典型的には９００以上）であってもよい。
【００４１】
金属酸化物含有膜が多孔質膜である場合、該多孔質膜の気孔率は特に限定されないが、気孔率が凡そ２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１２％以下、さらに好ましくは１０％以下）の金属酸化物含有膜を有する物品について、ここに開示される製造方法を好ましく適用することができる。また、表面平滑性の向上と実用的な研磨速度との両立の観点から、上記気孔率は０．５％以上（例えば１％以上、典型的には３％以上）であることが好ましい。なお、ここに開示される製造方法では、適切なタイミングで上記多孔質膜に対して封孔処理等の低気孔率化処理を行ってもよい。
【００４２】
また、基材表面に形成した直後（換言すれば研磨前）の金属酸化物含有膜の表面粗さＲａは特に限定されない。ここに開示される製造方法による効果を効率的に享受する観点から、研磨前の金属酸化物含有膜の表面粗さＲａは凡そ１０００ｎｍ以上（例えば１５００ｎｍ以上、典型的には２０００ｎｍ以上）であることが適当であり、３０００ｎｍ以上（例えば４０００ｎｍ以上）であってもよい。上記表面粗さＲａの上限は特に限定されず、凡そ９０００ｎｍ以下であり得る。なお、上記の表面光沢を効率的に得る観点から、第１研磨工程の前に粗研磨（予備研磨）を行い、表面粗さＲａを２０００ｎｍ未満にしておくことが望ましい場合があり得る。
【００４３】
上記のような硬質の金属酸化物含有膜の形成方法としては、例えば、溶射法、ＣＶＤ法、ＰＶＤ法、陽極酸化、ゾルゲル法等が挙げられる。これらはフラックス等の濡れ剤を必要としないため、基材を汚染する虞が少ない。溶射法としては、アーク溶射、プラズマ溶射、レーザー溶射、フレーム溶射、高速フレーム溶射、爆発溶射、コールドスプレー等が挙げられる。ＣＶＤ法としては、熱ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ、光・レーザＣＶＤ等が挙げられる。ＰＶＤ法としては、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等が挙げられる。なかでも、溶射法、ＣＶＤ法が好ましく、溶射法がより好ましい。溶射法のなかでは、基材の変形防止性の観点から、プラズマ溶射、高速フレーム溶射が好ましく、プラズマ溶射がより好ましい。プラズマ溶射としては、光沢表面を得やすい金属酸化物含有膜を形成する観点から、５０ｋＷ未満の低出力プラズマ溶射が特に好ましい。プラズマ溶射は、大気圧プラズマ溶射、真空プラズマ溶射のいずれであってもよい。高速フレーム溶射としては、ＨＶＡＦ（High  Velocity  Air  Fuel）、ＨＶＯＦ（High  Velocity  Oxygen  Fuel）、ＨＰ（High  Pressure）−ＨＶＯＦが挙げられる。なかでも、光沢表面の得やすい金属酸化物含有膜を形成する観点から、ＨＶＯＦ、ＨＰ−ＨＶＯＦが好ましく、ＨＰ−ＨＶＯＦがより好ましい。
【００４４】
特に限定されるものではないが、ここに開示される金属酸化物含有膜を溶射法（好適にはプラズマ溶射法）によって形成する場合の一例を説明する。まず、物品を構成する基材（例えばアルミニウムまたはその合金等の金属材料）を用意し、該基材の表面に溶射法（好適にはプラズマ溶射法）により金属酸化物含有膜を形成する。基材と金属酸化物含有膜との密着性を高めるため、ブラスト加工等の物理的手法、エッチング処理等の化学的手法により基材表面を予め粗面化しておくことが好ましい。薄厚や軟質の基材に対してはエッチング処理がより好ましい。溶射条件（例えばプラズマガス条件）は特に限定されず、従来公知の条件を適宜採用すればよい。金属酸化物含有膜の有色点減少の観点から、電圧は３６Ｖ以下で行うことが好ましい。溶射温度、溶射距離も従来公知の範囲から適宜設定すればよい。基材の変形を避ける観点からは、上記基材（溶射対象面）の温度が凡そ１０００℃以下（例えば８００℃以下、典型的には６００℃以下）となるように設定することが好ましい。溶射温度、溶射距離によって金属酸化物含有膜の気孔率も調整され得る。
【００４５】
溶射粉末の粒子径は特に限定されない。密着性、歩留りの観点からは溶射粒子の粒子径は大きいことが好ましく、研磨レート、意匠性の観点からは溶射粒子の粒子径は小さいことが好ましい。例えば、体積基準の５０％粒子径Ｄ５０が凡そ１〜５０μｍ（例えば７〜４０μｍ）の溶射粒子を好ましく使用することができる。また、密着性、歩留り、研磨レート、意匠性を高レベルでバランスさせる観点から、Ｄ５０が１０μｍ以上（例えば１０〜５０μｍ、典型的には２０〜４０μｍ）の溶射粉末を用いて溶射膜（第１の溶射層）を形成した後、その上に上記第１の溶射層の形成に用いた溶射粒子よりＤ５０の小さい溶射粒子（例えばＤ５０が３０μｍ以下（典型的には１〜３０μｍ、好ましくは５〜２０μｍ、より好ましくは７〜１５μｍ）の溶射粉末）を用いて溶射膜（第２の溶射層）を形成するような手法も好ましく採用され得る。上記Ｄ５０によっても金属酸化物含有膜の気孔率は調整され得る。なお、Ｄ５０は、レーザー散乱・回折法に基づく粒度分布測定装置に基づいて測定した粒度分布から導き出される。
【００４６】
上記のように、溶射膜が２層以上の多層構造を有する場合、各層の組成や厚さは特に制限されない。例えば、基材表面に直接形成される第１の溶射層は、基材との密着性が重視されることから、相対的に大径の溶射粒子によって形成することが好ましい。密着性と軽量性との両立等の観点から、第１の溶射層の厚さを５０〜４００μｍ（例えば１５０〜３００μｍ）程度とすることが好ましい。また、第１の溶射層上に形成される第２の溶射層は、意匠性や被研磨性が重視されることから、相対的に小径の溶射粒子によって形成することが好ましい。小径の粒子を採用することで金属酸化物含有膜は透け難いものとなり得る。意匠性と歩留りとの両立等の観点から、第２の溶射層の厚さを１０〜３００μｍ（例えば５０〜１５０μｍ）程度とすることが好ましい。
【００４７】
また、上記の溶射では、基材の変形を回避する目的で被溶射面とは反対側の面から冷却を施すことや、溶射角度を調整すること（例えば溶射角度を被溶射面に対して４５°以上９０°未満とすること）が好ましい。上記冷却は水冷等の適当な冷媒を使用して行えばよい。
【００４８】
例えば上記のようにして形成した金属酸化物含有膜は研磨工程に供される。研磨工程では研磨組成物を用いて研磨を行うことが好ましい。特に限定されるものではないが、以下、研磨工程の好適例として多段階研磨について説明する。この研磨工程は、典型的には、金属酸化物含有膜の表面を第１研磨組成物を用いて研磨する第１研磨工程と、第１研磨工程後の金属酸化物含有膜の表面を第２研磨組成物を用いて研磨する第２研磨工程と、を包含する。
【００４９】
例えば上記のようにして形成した金属酸化物含有膜は、第１研磨工程に供される。第１研磨工程では、典型的には、第１研磨組成物を含む研磨液（第１研磨液）を研磨定盤に供給し、常法により研磨を行う。例えば、一般的な研磨装置に被研磨物（金属酸化物含有膜付き物品）をセットし、上記研磨定盤上かつ上記被研磨物の表面（被研磨面）に研磨液を供給する。典型的には、上記研磨液を連続的に供給しつつ、研磨定盤に取り付けられた研磨パッドを被研磨物の表面に押しつけて両者を相対的に移動（例えば回転移動）させる。第１研磨組成物としては後述するものを好ましく採用することができる。
【００５０】
第１研磨工程は、該第１研磨工程後の金属酸化物含有膜の表面粗さＲａが５００ｎｍ以下となるように行われることが好ましい。これによって、続く第２研磨工程によって、所定の光沢を効率よく実現することができる。第１研磨工程は、第１研磨工程後の金属酸化物含有膜の表面粗さＲａが４００ｎｍ以下となるように行われることがより好ましく、上記表面粗さＲａが３００ｎｍ以下（例えば２５０ｎｍ以下、典型的には２００ｎｍ）となるように行われることがさらに好ましい。
【００５１】
次いで、第１研磨工程後の金属酸化物含有膜の表面に対して、第２研磨組成物を用いて研磨を行う（第２研磨工程）。第２研磨工程では、典型的には、第２研磨組成物を含む研磨液（第２研磨液）を研磨定盤に供給し、上記第１研磨工程と同様、常法により研磨を行う。第１研磨組成物の残留を防止する観点から、第１研磨工程後、被研磨物を洗浄液で洗浄することが好ましい。第２研磨組成物としては後述するものを好ましく採用することができる。
【００５２】
上記第２研磨工程によって、基材表面に設けられた金属酸化物含有膜の２０°グロス値は５０以上（好ましくは７０以上、より好ましくは８０以上、さらに好ましくは９０以上）となり得る。また、金属酸化物含有膜の表面粗さＲａは３５０ｎｍ以下（好ましくは３００ｎｍ以下、より好ましくは２００ｎｍ以下、特に好ましくは１５０ｎｍ以下）となり得る。
【００５３】
上記第１研磨工程および第２研磨工程は、それぞれ２時間以内で完了することが好ましい。換言すると、各研磨工程の研磨時間は２時間以下であることが好ましい。研磨時間が長すぎると、金属酸化物含有膜付き物品の生産性が低下する傾向がある。なお、この明細書における研磨時間とは、研磨開始から研磨終了までの時間を指し、被研磨物のセットや研磨パッドの交換等の研磨の準備に関わる部分は含まないこととする。各研磨工程の研磨時間は１時間以下であることがより好ましい。
【００５４】
第１研磨工程および第２研磨工程に用いられる研磨装置は、従来公知の研磨装置や市販の研磨装置、それらを一部改変したものを適宜採用すればよい。研磨パッドについても従来公知のものを適宜採用すればよい。例えば、ポリウレタン製、不織布製、スウェード製等のパッドを使用することができる。
【００５５】
また、第１研磨工程および第２研磨工程における研磨荷重、定盤回転数、研磨液の供給速度は特に限定されない。研磨荷重は、所定の表面光沢を効率よく実現する観点や被研磨物の変形防止等の観点から、凡そ２０〜１０００ｇ／ｃｍ２（例えば５０〜６００ｇ／ｃｍ２）の範囲とすることが適当であり、１００〜７００ｇ／ｃｍ２（好ましくは３００〜６００ｇ／ｃｍ２）の範囲とすることが好ましい。定盤回転数は、所定の表面光沢を効率よく実現する観点から、例えば５０〜１５０ｒｐｍ（好ましくは７０〜１２０ｒｐｍ）とすればよい。研磨液の供給速度は、研磨パッド上に充分量の研磨液を供給する観点、所定の表面光沢を効率よく実現する観点から、例えば５〜５０ｍＬ／分（好ましくは１０〜４０ｍＬ／分）とすればよい。
【００５６】
上述のような第１研磨工程と第２研磨工程を経て被研磨物の研磨は完了し得る。上記の研磨工程は、金属酸化物含有膜付き物品の製造プロセスの一部であり得る。したがって、ここに開示される製造方法は、生産効率の観点から許容される範囲内で、目的とする表面光沢を実現するため、第１研磨工程の前、第１研磨工程と第２研磨工程との間、および／または第２研磨工程の後に追加の研磨工程をさらに含んでもよい。このような追加の研磨工程は、従来と同様の方法を適宜採用して実施すればよい。例えば、第１研磨工程より前に行われ得る研磨（予備研磨、あるいは粗研磨ともいう。）は、第１研磨工程と比べて、より研磨効率を重視した研磨であり得る。また、第２研磨工程後に行われ得る研磨は、より表面光沢を重視した研磨であり得る。上記追加の研磨工程における研磨時間は、生産性等の観点から、３０分以下（例えば２０分以下、典型的には１０分以下）程度であることが好ましい。上記追加の研磨におけるその他の研磨条件（例えば、研磨液供給速度、定盤回転数、研磨荷重等、研磨パッド等の部材の選定等）は従来技術に基づき適宜設定すればよい。
【００５７】
また、金属酸化物含有膜に対する研磨の合計時間は、生産性の観点から３時間未満（例えば２時間未満、典型的には１．５時間未満）であることが好ましい。同様に、第１研磨工程の研磨時間（Ｔ１）と第２研磨工程の研磨時間（Ｔ２）の合計研磨時間（Ｔ１＋Ｔ２）は３時間未満であることが好ましい。第１研磨工程によって効率的に実現される表面平滑性と所定の光沢を実現し得る第２研磨工程の研磨効率とを考慮することで、上記の合計研磨時間（Ｔ１＋Ｔ２）が実現され得る。これによって、所定の光沢を有する金属酸化物含有膜付き物品の生産性がより向上する。上記合計研磨時間（Ｔ１＋Ｔ２）は、２時間未満であることがより好ましい。金属酸化物含有膜に対する研磨が、上記第１研磨工程と第２研磨工程とのみからなる場合、合計研磨時間（Ｔ１＋Ｔ２）を上記の範囲とすることが特に好ましい。なお、上記研磨の合計時間は３０分以上であり得る。
【００５８】
また、金属酸化物含有膜に対する研磨量の合計は、生産性の観点から１００μｍ未満（例えば７０μｍ未満、典型的には５０μｍ未満）であることが好ましい。このような低研磨量であっても、ここに開示される製造方法によれば、表面粗さＲａが３００ｎｍ以下であり、かつ２０°グロス値が５０以上の金属酸化物含有膜表面を実現することが可能である。合計研磨量の下限は特に限定されないが、良好な表面光沢を得るためには、１０μｍ以上（例えば３０μｍ以上）であり得る。上記研磨量を考慮して、研磨前の金属酸化物含有膜の厚さは５０μｍ以上（例えば１００μｍ以上、典型的には２００μｍ以上）としておくことが望ましい。
【００５９】
ここに開示される金属酸化物含有膜付き物品の製造方法によると、ビッカース硬度が３５０以上の硬質の金属酸化物含有膜に対して上記のように少なくとも２段階の研磨を行うことで、所定の光沢を有する表面を効率よく実現することができる。その結果、従来とは異なる質感（典型的には高級感）が物品表面に付与され得る。このような物品表面は、例えば工芸品や美術品としての陶磁器が有するものとは異なるが遜色ない、あるいはより優れた美観や高級感を有し得る。このことは、特に一般消費者向け物品においては、実現はおろか検討さえされてこなかった事項であり、様々な用途において魅力的かつ有意義なものとして受け入れられることが期待される。そして、そのような魅力的かつ有意義な金属酸化物含有膜が表面に形成された物品は、ここに開示される製造方法によって大量生産することが可能である。したがって、ここに開示される金属酸化物含有膜付き物品の製造方法は、生産性という工業的側面においても実用的かつ有意義な製造方法であるといえる。
【００６０】
≪研磨組成物キット≫
次に、ここに開示される技術の好ましい一態様に係る研磨組成物キットについて説明する。この研磨組成物キットを用いて行う研磨の対象物は、金属酸化物を含み、かつビッカース硬度が３５０以上である金属酸化物含有膜である。そして、この研磨組成物キットは、上記金属酸化物含有膜の表面粗さＲａを３００ｎｍ以下とし、かつ２０°グロス値を５０以上とする研磨に用いられる。また、研磨組成物キットは、ここに開示される金属酸化物含有膜付き物品の製造方法に特に好ましく用いられ得る。この研磨組成物キットは、上記金属酸化物含有膜に供給される第１研磨組成物と、該第１研磨組成物の供給後に該金属酸化物含有膜に供給される第２研磨組成物とを少なくとも備える。
【００６１】
＜第１研磨組成物＞
（砥粒（Ａ１））
第１研磨組成物は、砥粒（Ａ１）を含む。砥粒（Ａ１）の平均二次粒子径は０．５μｍより大きいことが好ましく、０．８μｍ以上であることがより好ましく、１μｍ以上であることがさらに好ましい。平均二次粒子径の大きい砥粒（Ａ１）によると、より高い研磨レートが実現され得る。また、砥粒（Ａ１）の平均二次粒子径は、２０μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以下であることがより好ましく、５μｍ以下（例えば３μｍ以下）であることがさらに好ましい。砥粒（Ａ１）の平均二次粒子径が小さくなるほど、スクラッチの原因となり得る粗大粒子の含有割合が低下し、第２研磨組成物による研磨（第２研磨工程）後において研磨表面に残留し得るスクラッチ数を低減することができ、また研磨表面の表面粗さＲａも低減する。なお、ここに開示される技術において、砥粒の平均二次粒子径は、レーザー回析散乱法に基づき測定される。測定は、例えば堀場製作所製のレーザー回析／散乱式粒度分布測定装置（商品名「ＬＡ−９５０」）を用いて行うことができる。
【００６２】
砥粒（Ａ１）の平均一次粒子径は、好ましくは５ｎｍ以上、より好ましくは１０ｎｍ以上、さらに好ましくは２０ｎｍ以上である。平均一次粒子径の増大によって、より高い研磨レートが実現され得る。また、平滑性向上の観点から、上記平均一次粒子径は、好ましくは５００ｎｍ以下、より好ましくは２００ｎｍ以下である。なお、ここに開示される技術において、砥粒の平均一次粒子径は、特記しない限り、ＢＥＴ法により測定される比表面積（ｍ２／ｇ）から算出することができる。測定は、例えばマイクロメリテックス社製の比表面積測定装置（商品名「Ｆｌｏｗ  ＳｏｒｂＩＩ  ２３００」）を用いて行うことができる。
【００６３】
ここに開示される技術では、モース硬度が６以上（例えば７〜９．９、典型的に８〜９．９）の材料から構成された砥粒（Ａ１）を好ましく用いることができる。なお、砥粒（Ａ１）が２種以上の材料から構成されている場合、砥粒（Ａ１）の硬度は、各材料につきモース硬度と質量比の積を求め、これを合計することにより求めればよい。
【００６４】
砥粒（Ａ１）を構成する材料としては、アルミナ、ジルコニア、セリア、チタニア、シリカ、酸化クロム、酸化鉄、炭化ケイ素、炭化ホウ素、窒化ケイ素、酸化マンガン等が挙げられる。これらの１種または２種以上を砥粒（Ａ１）として用いることができる。なかでも、研磨レートに優れる炭化ケイ素、アルミナが好ましい。あるいは炭化ケイ素とジルコンとの併用系も好ましく用いられ得る。砥粒（Ａ１）が炭化ケイ素および／またはアルミナを含有する場合、砥粒（Ａ１）に占める炭化ケイ素および／またはアルミナの割合は７０質量％以上とすることが好ましく、８０質量％以上とすることがより好ましく、９０質量％以上とすることが特に好ましい。ここに開示される技術は、第１研磨組成物に含まれる砥粒（Ａ１）が炭化ケイ素砥粒および／またはアルミナ砥粒のみからなる態様で好ましく実施され得る。
【００６５】
（その他の成分）
ここに開示される第１研磨組成物は、必要に応じて、合金材料の溶解を促進するエッチング剤；合金材料の表面を酸化させる酸化剤；合金材料の表面や砥粒表面に作用する水溶性重合体、共重合体やその塩、誘導体；合金材料の表面の腐食を抑制する防食剤；キレート剤；砥粒の凝集体の再分散を容易にする分散助剤；防腐剤；防黴剤；等の、研磨組成物（典型的には、硬質膜用研磨組成物）に含まれ得る公知の成分（添加剤）の１種または２種以上をさらに含んでもよい。
【００６６】
エッチング剤の例としては、硝酸、硫酸、リン酸等の無機酸；酢酸、クエン酸、酒石酸、メタンスルホン酸等の有機酸；水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の無機アルカリ；アンモニア、アミン、第四級アンモニウム水酸化物等の有機アルカリ；等が挙げられる。
酸化剤の例としては、過酸化水素、過酢酸、過炭酸塩、過酸化尿素、過塩素酸塩、過硫酸塩等が挙げられる。
水溶性重合体、共重合体やその塩、誘導体の例としては、ポリアクリル酸塩等のポリカルボン酸；ポリホスホン酸；ポリスチレンスルホン酸等のポリスルホン酸；キタンサンガム、アルギン酸ナトリウム等の多糖類；ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース等のセルロース誘導体；ポリエチレングリコール；ポリビニルアルコール；ポリビニルピロリドン；ポリオキシエチレンアルキルエーテル；ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル；ソルビタンモノオレエート；単一種または複数種のオキシアルキレン単位を有するオキシアルキレン系重合体；等が挙げられる。
防食剤の例としては、アミン類、ピリジン類、テトラフェニルホスホニウム塩、ベンゾトリアゾール類、トリアゾール類、テトラゾール類、安息香酸等が挙げられる。
キレート剤の例としては、グルコン酸等のカルボン酸系キレート剤；エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリメチルテトラアミン等のアミン系キレート剤；エチレンジアミン四酢酸、ニトリロ三酢酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸、トリエチレンテトラミン六酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸等のポリアミノポリカルボン系キレート剤；２−アミノエチルホスホン酸、１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸、アミノトリ（メチレンホスホン酸）、エチレンジアミンテトラキス（メチレンホスホン酸）、ジエチレントリアミンペンタ（メチレンホスホン酸）、エタン−１，１−ジホスホン酸、エタン−１，１，２−トリホスホン酸、メタンヒドロキシホスホン酸、１−ホスホノブタン−２，３，４−トリカルボン酸等の有機ホスホン酸系キレート剤；フェノール誘導体；１，３−ジケトン；等が挙げられる。
分散助剤の例としては、ピロリン酸塩やヘキサメタリン酸塩等の縮合リン酸塩等が挙げられる。
防腐剤の例としては、次亜塩素酸ナトリウム等が挙げられる。
防黴剤の例としては、オキサゾリジン−２，５−ジオン等のオキサゾリン等が挙げられる。
【００６７】
（水系溶媒）
ここに開示される第１研磨組成物は、典型的には、砥粒の他に水系溶媒を含有する。ここで水系溶媒とは、水と、水を主成分とする混合溶媒とを包含する概念である。水を主成分とする混合溶媒とは、典型的には、水の含有量が５０体積％を超える混合溶媒を指す。水としては、イオン交換水（脱イオン水）、蒸留水、純水等を用いることができる。上記混合溶媒を構成する水以外の溶媒としては、水と均一に混合し得る有機溶剤（低級アルコール等）を用いることができる。通常は、水系溶媒の８０体積％以上（より好ましくは９０体積％以上、さらに好ましくは９５体積％以上）が水である水系溶媒の使用が好ましい。特に好ましい例として、実質的に水からなる水系溶媒（例えば９９．５〜１００体積％が水である水系溶媒）が挙げられる。ここに開示される第１研磨組成物（典型的にはスラリー状の組成物）は、例えば、その固形分含量（ｎｏｎ−ｖｏｌａｔｉｌｅ  ｃｏｎｔｅｎｔ；ＮＶ）が５ｇ／Ｌ〜５００ｇ／Ｌである形態で好ましく実施され得る。上記ＮＶが１０ｇ／Ｌ〜３５０ｇ／Ｌである形態がより好ましい。
【００６８】
（研磨液）
ここに開示される第１研磨組成物は、典型的には第１研磨組成物を含む研磨液（第１研磨液）の形態で被研磨物（金属酸化物含有膜）に供給されて、該被研磨物の研磨に用いられる。上記研磨液は、例えば、第１研磨組成物を希釈して調製されたものであり得る。あるいは、第１研磨組成物をそのまま研磨液として使用してもよい。この明細書における研磨組成物の概念には、研磨液と、希釈して研磨液として用いられる濃縮液との双方が包含される。
【００６９】
研磨液における砥粒の含有量（複数種類の砥粒を含む場合には、それらの合計含有量）は、典型的には５ｇ／Ｌ以上であり、１０ｇ／Ｌ以上であることが好ましく、３０ｇ／Ｌ以上であることがより好ましい。砥粒の含有量の増大によって、より高い研磨レートが実現され得る。また、金属酸化物含有膜の表面平滑性や研磨の安定性の観点から、通常、上記含有量は５００ｇ／Ｌ以下が適当であり、好ましくは４００ｇ／Ｌ以下、より好ましくは３００ｇ／Ｌ以下、さらに好ましくは１５０ｇ／Ｌ以下である。
【００７０】
上記研磨液のｐＨは、凡そ１〜１２（例えば１．５〜１１、典型的には２〜１０）の範囲から適宜選択され得る。例えば、上記研磨液のｐＨとしては、０．５以上（例えば１以上、典型的には２以上）とすることができ、また、８以下とすることができる。あるいは、上記ｐＨを７．０以上としてもよく、１２以下（典型的には１１．０以下、好ましくは１０．５以下）としてもよい。上記ｐＨが実現されるように必要に応じて有機酸、無機酸、有機アルカリ、無機アルカリ等のｐＨ調整剤を研磨液に含有させればよい。その他の第１研磨組成物に含まれ得る添加剤の配合割合は、従来の研磨組成物と同様の範囲から適当な範囲を採用すればよい。
【００７１】
ここに開示される研磨組成物（第１研磨組成物および第２研磨組成物を包含する意味で用いられる。）は、一剤型であってもよいし、二剤型を始めとする多剤型であってもよい。例えば、該研磨組成物の構成成分（典型的には、水系溶媒以外の成分）のうち一部の成分を含むＡ液と、残りの成分を含むＢ液とが混合されて被研磨物の研磨に用いられるように構成されていてもよい。
【００７２】
また、ここに開示される研磨組成物に含有される各成分は、調製の直前にフィルタによるろ過処理が行われていることが好ましい。上記研磨用組成物も、使用の直前にフィルタによるろ過処理が行われた後、使用に供されることが好ましい。ろ過処理が施されることによって、研磨用組成物中の粗大異物が取り除かれて品質が向上する。上記のろ過処理に用いられ得るフィルタの材質および構造は特に限定されるものではなく、従来公知のものを適宜採用すればよい。
【００７３】
（濃縮液）
ここに開示される研磨組成物（第１研磨組成物および第２研磨組成物を包含する意味で用いられる。）は、被研磨物に供給される前には濃縮された形態（すなわち、研磨液の濃縮液の形態）であってもよい。このように濃縮された形態の研磨組成物は、製造、流通、保存等の際における利便性やコスト低減等の観点から有利である。濃縮倍率は、例えば１．５倍〜５０倍程度とすることができる。濃縮液の貯蔵安定性等の観点から、通常は、２倍〜２０倍（典型的には２倍〜１０倍）程度の濃縮倍率が適当である。
【００７４】
このように濃縮液の形態にある研磨組成物は、所望のタイミングで希釈して研磨液を調製し、その研磨液を被研磨物に供給する態様で好適に使用することができる。上記希釈は、典型的には、上記濃縮液に前述の水系溶媒を加えて混合することにより行うことができる。また、上記水系溶媒が混合溶媒である場合、該水系溶媒の構成成分のうち一部の成分のみを加えてもよく、それらの構成成分を上記水系溶媒とは異なる量比で含む混合溶媒を加えて希釈してもよい。
【００７５】
上記濃縮液のＮＶは、例えば５００ｇ／Ｌ以下とすることができる。研磨組成物の貯蔵安定性（例えば、砥粒の分散安定性）等の観点から、濃縮液のＮＶは４５０ｇ／Ｌ以下とすることが適当であり、好ましくは３５０ｇ／Ｌ以下である。また、製造、流通、保存等の際における利便性やコスト低減等の観点から、濃縮液のＮＶは、１０ｇ／Ｌより高いことが適当であり、好ましくは３０ｇ／Ｌ超、より好ましくは５０ｇ／Ｌ超、例えば１００ｇ／Ｌ超である。
【００７６】
上記濃縮液における砥粒の含有量は、例えば５００ｇ／Ｌ未満とすることができる。研磨組成物の貯蔵安定性等の観点から、上記含有量は４５０ｇ／Ｌ未満が適当であり、好ましくは３５０ｇ／Ｌ未満である。また、製造、流通、保存等の際における利便性やコスト低減等の観点から、砥粒の含有量は、例えば１０ｇ／Ｌ以上とすることができ、好ましくは２０ｇ／Ｌ以上、より好ましくは３０ｇ／Ｌ以上（例えば５０ｇ／Ｌ以上）である。
【００７７】
ここに開示される研磨組成物キットを構成する第１研磨組成物は、例えば上記のような研磨液（あるいは濃縮液）として容器に収容された形態であり得る。あるいは、第１研磨組成物が例えば二剤型等の多剤型である場合には、第１研磨組成物は２以上の容器に分けて収容されたものであってもよい。
【００７８】
＜第２研磨組成物＞
（砥粒（Ａ２））
第２研磨組成物は、砥粒（Ａ２）を含む。砥粒（Ａ２）は砥粒（Ａ１）よりも平均二次粒子径が小さい。また、砥粒（Ａ２）の平均二次粒子径は５００ｎｍ以下である。砥粒（Ａ２）の平均二次粒子径は、所定の光沢を効率よく実現する観点から凡そ３０ｎｍ以上であることが適当であり、好ましくは５０ｎｍ以上（例えば７０ｎｍ以上、典型的には９０ｎｍ以上）である。また、同様の観点から、上記砥粒（Ａ２）の平均二次粒子径は凡そ３００ｎｍ以下であることが好ましく、２００ｎｍ以下であることがより好ましい。なお、砥粒（Ａ２）の平均二次粒子径は、動的光散乱法に基づき測定される。測定は、例えば日機装社製の粒度分布測定装置（商品名「Ｎａｎｏｔｒａｃ  Ｗａｖｅ―ＵＴ１５１」）を用いて行うことができる。
【００７９】
また、砥粒（Ａ１）の平均二次粒子径をＰ１とし、砥粒（Ａ２）の平均二次粒子径をＰ２としたとき、砥粒（Ａ１）の平均二次粒子径Ｐ１と砥粒（Ａ２）の平均二次粒子径Ｐ２との比（Ｐ１／Ｐ２）は２〜２００（例えば３〜９０、典型的には５〜４５）であることが好ましい。砥粒（Ａ１）と砥粒（Ａ２）の平均二次粒子径の比（Ｐ１／Ｐ２）を上記の範囲とすることにより、所定の光沢を有する表面を効率よく実現することができる。
【００８０】
砥粒（Ａ２）の平均一次粒子径は、好ましくは１０ｎｍ以上、より好ましくは１５ｎｍ以上、さらに好ましくは２０ｎｍ以上である。平均一次粒子径の増大によって、より高い研磨レートが実現され得る。また、より光沢度の高い表面を得る観点から、上記平均一次粒子径は１５０ｎｍ以下（例えば１２０ｎｍ以下、典型的には１００ｎｍ以下）とすることが好ましい。
【００８１】
また、砥粒（Ａ２）は、砥粒（Ａ１）よりモース硬度が低いことが好ましい。モース硬度が相対的に低い砥粒（Ａ２）を第２研磨組成物用の砥粒として採用することにより、所定の光沢を得やすい傾向がある。砥粒（Ａ２）のモース硬度は、砥粒（Ａ１）のモース硬度より０．５以上（例えば１以上、典型的には２〜６）低いことが好ましい。典型的には、砥粒（Ａ２）のモース硬度は８以下（例えば４〜８程度、典型的には５〜７）程度であり得る。なお、砥粒（Ａ２）が２種以上の材料から構成されている場合、砥粒（Ａ２）の硬度は、各材料につきモース硬度と質量比の積を求め、これを合計することにより求めればよい。
【００８２】
ここに開示される砥粒（Ａ２）を構成する材料としては、コロイダルシリカ、ヒュームドシリカ、沈降性シリカ等のシリカや、アルミナ、チタニア、ジルコニア、セリア等が挙げられる。これらは１種を単独でまたは２種以上を混合して用いることができる。なかでもシリカが好ましく、そのなかでもコロイダルシリカ、ヒュームドシリカが特に好ましい。砥粒（Ａ２）がシリカを含有する場合、砥粒（Ａ２）に占めるシリカの割合は７０質量％以上とすることが好ましく、８０質量％以上とすることがより好ましく、９０質量％以上とすることが特に好ましい。ここに開示される技術は、第２研磨組成物に含まれる砥粒（Ａ２）がシリカ砥粒のみからなる態様で好ましく実施され得る。
【００８３】
（その他の成分）
ここに開示される第２研磨組成物は、必要に応じて、合金材料の溶解を促進するエッチング剤；合金材料の表面を酸化させる酸化剤；合金材料の表面や砥粒表面に作用する水溶性重合体、共重合体やその塩、誘導体；合金材料の表面の腐食を抑制する防食剤；キレート剤；砥粒の凝集体の再分散を容易にする分散助剤；防腐剤；防黴剤；等の、研磨組成物（典型的には、硬質膜用研磨組成物）に含まれ得る公知の成分（添加剤）の１種または２種以上をさらに含んでもよい。これらの成分は、基本的に第１研磨組成物で例示したものと同様であるため、ここでは説明は繰り返さない。
【００８４】
（水系溶媒）
ここに開示される第２研磨組成物に含まれる水系溶媒としては、上述の第１研磨組成物における水系溶媒と同様のものを好ましく用いることができる。第２研磨組成物（典型的にはスラリー状の組成物）の固形分含量についても第１研磨組成物の固形分含量と同様の範囲から好ましく選択され得る。
【００８５】
（研磨液）
ここに開示される第２研磨組成物は、典型的には第２研磨組成物を含む研磨液（第２研磨液）の形態で被研磨物（金属酸化物含有膜）に供給されて、該被研磨物の研磨に用いられる。上記研磨液は、例えば、第２研磨組成物を希釈して調製されたものであり得る。あるいは、第２研磨組成物をそのまま研磨液として使用してもよい。
【００８６】
研磨液における砥粒の含有量（複数種類の砥粒を含む場合には、それらの合計含有量）は、典型的には１質量％以上であり、２質量％以上であることが好ましく、より好ましくは７質量％以上、さらに好ましくは１０質量％以上である。砥粒の含有量の増大によって、より短時間で表面光沢を高めることができる。研磨液中における砥粒の分散安定性、研磨の安定性、研磨液の取扱い性等を考慮して、上記含有量は５０質量％以下とすることが適当であり、上記含有量は、好ましくは４０質量％以下である。
【００８７】
上記研磨液のｐＨは、凡そ１〜１２（例えば２〜１１、典型的には３〜１０．５）の範囲から適宜選択され得る。例えば、上記研磨液のｐＨを６．０以上としてもよく、１２以下としてもよい。上記ｐＨが実現されるように必要に応じて有機アルカリ、無機アルカリ、有機酸、無機酸等のｐＨ調整剤を研磨液に含有させればよい。その他の第２研磨組成物に含まれ得る添加剤の配合割合は、従来の研磨組成物における配合割合と同様の範囲から適当な範囲を採用すればよい。
【００８８】
ここに開示される研磨組成物キットを構成する第２研磨組成物は、例えば上記のような研磨液（あるいは濃縮液）として容器に収容された形態であり得る。あるいは、第２研磨組成物が例えば二剤型等の多剤型である場合には、第２研磨組成物は２以上の容器に分けて収容されたものであってもよい。
【００８９】
＜その他の構成＞
ここに開示される研磨組成物キットは、上述の第１研磨組成物と第２研磨組成物とを備えるものであるが、さらに付加的な構成要素を備えるものであってもよい。例えば、金属酸化物含有膜付き物品の製造方法が、第１研磨工程の前、第１研磨工程と第２研磨工程との間、および／または第２研磨工程の後に追加の研磨工程を包含する場合において、上記研磨組成物キットは、上記追加の研磨工程に用いられ得る研磨組成物（典型的には研磨液）を備え得る。例えば、第１研磨工程より前に行われ得る研磨（予備研磨、あるいは粗研磨ともいう。）は、第１研磨工程と比べて研磨効率を重視した研磨であり得るため、例えば、平均二次粒子径が２０μｍを超える砥粒（例えば平均二次粒子径が３０〜７０μｍの砥粒（例えばＢ４Ｃ砥粒））を含む研磨組成物（典型的には研磨液または濃縮液）を備えることが好ましい。また、第１研磨工程と第２研磨工程との間に行われる研磨に用いられ得る研磨組成物としては、砥粒（Ａ１）より平均二次粒子径が小さく、かつ砥粒（Ａ２）より平均二次粒子径の大きい砥粒を含む研磨組成物が挙げられる。さらに、第２研磨工程後に行われる研磨工程に用いられ得る研磨組成物としては、砥粒（Ａ２）と同等以下の平均二次粒子径を有する砥粒を含む研磨組成物を採用することが好ましい。
【００９０】
ここに開示される金属酸化物含有膜用研磨組成物キットを用いた研磨によると、所定以上の硬度を有する金属酸化物含有膜に対して所定の光沢を有する表面を効率よく実現することができる。したがって、ビッカース硬度が３５０以上であり、表面粗さＲａが３００ｎｍ以下であり、かつ２０°グロス値が５０以上である金属酸化物含有膜を有する物品の製造に特に好適である。換言すると、ここに開示される金属酸化物含有膜用研磨組成物キットを適用することにより、従来とは異なる質感（典型的には高級感）を有する物品の大量生産が可能となり得る。そして、それによって得られる金属酸化物含有膜付き物品は、例えば工芸品や美術品としての陶磁器が有するものとは異なるが遜色ない、あるいはより優れた美観や高級感を有し得る魅力的かつ有意義なものであり得る。
【００９１】
次に、本発明に関するいくつかの実施例を説明するが、本発明をこれらの実施例に示すものに限定することを意図したものではない。なお、以下の説明において「部」および「％」は、特に断りがない限り質量基準である。
【００９２】
＜例１＞
［金属酸化物含有膜の形成］
厚さ５ｍｍのアルミニウム合金製の薄板（寸法：５０ｍｍ×５０ｍｍ）の表面（ブラスト処理済）に、プラズマ溶射法により厚さ３００μｍのアルミナ溶射膜（金属酸化物含有膜）を形成した。プラズマ溶射条件は下記のとおりである。溶射粉末としては、膜厚さ２００μｍまではＤ５０が２７．０μｍの溶射粒子を使用し、膜厚さ２００μｍから３００μｍまではＤ５０が１０．１μｍの溶射粒子を使用した。
（プラズマ溶射条件）
溶射機：Ｐｒａｘａｉｒ社製のＳＧ−１００
粉末供給機：Ｐｒａｘａｉｒ社製のＭｏｄｅｌ  １２６４
Ａｒガス圧：０．３４ＭＰａ
Ｈｅガス圧：０．３４ＭＰａ
電流：９００Ａ
電圧：３５．６Ｖ
溶射距離：１５０ｍｍ
【００９３】
［金属酸化物含有膜の研磨］
上記金属酸化物含有膜を形成したアルミニウム合金製薄板（被研磨サンプル）を研磨機にセットして、第１研磨液を研磨定盤に供給して研磨を行った（第１研磨工程）。第１研磨工程の終了後、被研磨サンプルを取り出し、第１研磨工程で用いた研磨機とは異なる研磨装置にセットした後、第２研磨液を研磨定盤に供給して研磨を行った（第２研磨工程）。第１研磨液としては、平均二次粒子径１．２μｍの炭化ケイ素（ＳｉＣ）砥粒（砥粒（Ａ１））を１００ｇ／Ｌの濃度で含む研磨液を用いた。第２研磨液としては、平均二次粒子径１００ｎｍのコロイダルシリカ砥粒（ＳｉＯ２（Ａ）；（砥粒（Ａ２））を２０％の濃度で含む研磨液を用いた。なお、上記第２研磨液は、ｐＨ調整のため水酸化カリウム（ＫＯＨ）を１％未満の濃度で使用した。砥粒（Ａ１）の平均二次粒子径は、堀場製作所製のレーザー回析／散乱式粒度分布測定装置「ＬＡ−９５０」を用いて測定した値であり、砥粒（Ａ２）の平均二次粒子径は、日機装社製の粒度分布測定装置「Ｎａｎｏｔｒａｃ  Ｗａｖｅ―ＵＴ１５１」を用いて測定した値である。第１研磨工程および第２研磨工程の研磨条件を以下に示す。また、第１研磨工程、第２研磨工程における研磨の概略（砥粒の種類、砥粒の平均二次粒子径（μｍ）、研磨時間（分）、研磨レート（μｍ／分））を表１に示す。後述する例２〜１０についても同様である。
【００９４】
（第１研磨工程の研磨条件）
研磨機：日本エンギス社製の片面研磨機「ＥＪ−３８０ＩＮ」（定盤径３８０ｍｍ）
研磨パッド：不織布パッド
研磨荷重：５１７ｇ／ｃｍ２
定盤回転数：１００ｒｐｍ
研磨時間：３０分
研磨液の供給レート：１４ｍＬ／分
（第２研磨工程の研磨条件）
研磨機：同上
研磨パッド：スウェードパッド
研磨荷重：５１７ｇ／ｃｍ２
定盤回転数：１００ｒｐｍ
研磨時間：３０分
研磨液の供給レート：１４ｍＬ／分
【００９５】
＜例２＞
第１研磨液として、平均二次粒子径１．３μｍのアルミナ砥粒（Ａｌ２Ｏ３；砥粒（Ａ１））を２５０ｇ／Ｌの濃度で含み、かつクエン酸を６２ｇ／Ｌの濃度で含む研磨液を用いた他は例１と同様にして研磨を行った。
【００９６】
＜例３＞
第２研磨液として、平均二次粒子径１３０ｎｍのヒュームドシリカ砥粒（ＳｉＯ２（Ｂ）；砥粒（Ａ２））を１３％の濃度で含む研磨液を用いた他は例２と同様にして研磨を行った。なお、上記第２研磨液は、ｐＨ調整のためＫＯＨを１％未満の濃度で使用した。
【００９７】
＜例４＞
厚さ５ｍｍのアルミニウム合金製の薄板（寸法：５０ｍｍ×５０ｍｍ）の表面（ブラスト処理済）に対して、Ｙ２Ｏ３溶射粉末を用いてプラズマ溶射を行い、厚さ３００μｍの溶射膜（金属酸化物含有膜）を形成した。上記で得られた金属酸化物含有膜に対して例２と同様の研磨液を用いて研磨を行った。
【００９８】
＜例５＞
厚さ５ｍｍのアルミニウム合金製の薄板（寸法：５０ｍｍ×５０ｍｍ）の表面（ブラスト処理済）に対して、ＺｒＯ２−１５％Ｅｒ２Ｏ３溶射粉末を用いてプラズマ溶射を行い、厚さ３００μｍの溶射膜（金属酸化物含有膜）を形成した。上記で得られた金属酸化物含有膜に対して例２と同様の研磨液を用いて研磨を行った。
【００９９】
＜例６＞
厚さ５ｍｍのアルミニウム合金製の薄板（寸法：５０ｍｍ×５０ｍｍ）の表面（ブラスト処理済）に対して、（Ｆｅ，Ｍｇ）Ｃｒ２Ｏ４溶射粉末を用いてプラズマ溶射を行い、厚さ３００μｍの溶射膜（金属酸化物含有膜）を形成した。上記で得られた金属酸化物含有膜に対して例２と同様の研磨液を用いて研磨を行った。
【０１００】
＜例７＞
第１研磨液として、平均二次粒子径０．８μｍのジルコニア砥粒（ＺｒＯ２）を２５０ｇ／Ｌの濃度で含む研磨液を用い、研磨時間を変更した他は例１の第１研磨工程と同様にして研磨を行った。この例では第２研磨工程を行わなかった。
【０１０１】
＜例８＞
第２研磨工程を行わなかった他は例１と同様にして金属酸化物含有膜の研磨を行った。
【０１０２】
＜例９＞
第２研磨液として、平均二次粒子径０．８μｍのジルコニア砥粒（ＺｒＯ２）を２５０ｇ／Ｌの濃度で含む研磨液を用いた他は例１と同様にして研磨を行った。上記ジルコニア砥粒の平均二次粒子径は、堀場製作所製のレーザー回析／散乱式粒度分布測定装置「ＬＡ−９５０」を用いて測定した値である。
【０１０３】
＜例１０＞
第２研磨液として、平均二次粒子径１．３μｍのアルミナ砥粒（Ａｌ２Ｏ３）を２５０ｇ／Ｌの濃度で含み、かつクエン酸を６２ｇ／Ｌの濃度で含む研磨液を用いた他は例１と同様にして研磨を行った。上記アルミナ砥粒の平均二次粒子径は、堀場製作所製のレーザー回析／散乱式粒度分布測定装置「ＬＡ−９５０」を用いて測定した値である。
【０１０４】
［ビッカース硬度］
各例に係る金属酸化物含有膜の表面につき、ＪＩＳ  Ｒ１６１０に基づきビッカース硬度を測定した。結果を表１に示す。
【０１０５】
［表面粗さＲａ］
各例につき、研磨前、第１研磨工程終了後、第２研磨工程終了後における金属酸化物含有膜の表面粗さＲａを測定した。測定は、東京精密社製の表面粗さ形状測定機「ＳＵＲＦＣＯＭ  １５００ＤＸ」を用いて、測定長さ１０ｍｍ、測定速度０．３ｍｍ／秒の条件で行った。結果を表１に示す。また、例３における研磨による表面粗さＲａの変化を図１に示し、研磨前（Ａ点）、第１研磨工程終了後（Ｂ点）、第２研磨工程終了後（Ｃ点）における表面粗さＲａの測定結果（断面曲線）を示すチャートを図２〜４にそれぞれ示す。図５，６は図３，４をそれぞれ縦方向に１０倍拡大したチャートである。
【０１０６】
［２０°グロス値］
各例につき、第２研磨終了後の金属酸化物含有膜表面の２０°グロス値をＪＩＳ  Ｚ８７４１に準拠して測定した。測定は、コニカミノルタオプティクス社製の光沢計「ＧＭ−２６８Ｐｌｕｓ」を用いて行った。結果を表１に示す。
【０１０７】
【表１】
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【０１０８】
表１に示されるように、例１〜６では、金属酸化物含有膜はビッカース硬度が３５０以上（具体的には４００以上）の硬質膜であるにもかかわらず、短時間（具体的には２時間以下）の研磨で、いずれも表面粗さＲａ３００ｎｍ以下（具体的には１００ｎｍ以下）と２０°グロス値５０以上（具体的には１００以上）を実現することができた。また、例４〜６の結果から、金属酸化物含有膜の材質を変更しても、金属酸化物含有膜表面の２０°グロス値５０以上を実現し得ることがわかる。このことから、ここに開示される技術は、種々の金属酸化物含有膜に対して適用可能であることがわかる。一方、例７，８では、２０°グロス値は２０以下であり、表面光沢は得られなかった。また、例９，１０でも２０°グロス値５０以上を実現することができなかった。これらの例では、表面粗さＲａも相対的に高い値（具体的には２００ｎｍ以上）であった。なお、２０°グロス値５０以上を実現した例１〜６に係る金属酸化物含有膜の気孔率を測定したところ、いずれも１〜２０％の範囲内であった。
【０１０９】
以上、本発明の具体例を詳細に説明したが、これらは例示にすぎず、請求の範囲を限定するものではない。ここに開示される発明には上述の具体例を様々に変形、変更したものが含まれ得る。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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