(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面に皮膜を有する粉体圧縮成形物の断層画像をＯＣＴ計測により取得するＯＣＴ計測工程と、
前記断層画像に基づいて、前記粉体圧縮成形物からの反射光の深さ方向における強度分布を示す断層プロファイルを算出する断層プロファイル算出工程と、
前記断層プロファイルにおける光強度の深さに対する積分値と、所定の試験条件下での溶出試験によって求められる前記粉体圧縮成形物の溶出率との相関を予め作成する相関作成工程と、
前記断層プロファイルに基づいて前記粉体圧縮成形物の溶出率を算出する溶出率算出工程と
を備え、
前記溶出率算出工程では、前記相関に基づいて、前記断層プロファイル算出工程で算出された断層プロファイルから求めた積分値に対応する溶出率を算出することを特徴とする粉体圧縮成形物の評価方法。
【請求項２】
前記相関は、前記積分値が増加するに従って、前記溶出率が減少するように規定されていることを特徴とする請求項１に記載の粉体圧縮成形物の評価方法。
【請求項３】
前記断層プロファイル算出工程では、前記断層画像のうち前記粉体圧縮成形物の表面に対応する任意の一点における深さを基準として前記表面が一定になるように前記断層プロファイルを正規化することを特徴とする請求項１又は２に記載の粉体圧縮成形物の評価方法。
【請求項４】
前記ＯＣＴ計測工程では、前記粉体圧縮成形物についてＯＣＴ計測を複数回実施することにより複数の前記断層画像を取得し、
前記溶出率算出工程では、前記複数の断層画像の各々について求めた溶出率を平均化することを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の粉体圧縮成形物の評価方法。
【請求項５】
前記ＯＣＴ計測工程では、前記粉体圧縮成形物に前記皮膜を形成させる過程において、時系列的に複数回のＯＣＴ計測を実施することを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の粉体圧縮成形物の評価方法。
【請求項６】
表面に皮膜を有する粉体圧縮成形物の断層画像をＯＣＴ計測により取得するＯＣＴ計測装置と、
前記断層画像に基づいて、前記粉体圧縮成形物からの反射光の深さ方向における強度分布を示す断層プロファイルを算出する断層プロファイル算出部と、
前記断層プロファイルにおける光強度の深さに対する積分値と所定の試験条件下での溶出試験によって求められる前記粉体圧縮成形物の溶出率との相関を予め記憶する記憶部と、
前記断層プロファイルに基づいて前記粉体圧縮成形物の溶出率を算出する溶出率算出部と
を備え、
前記溶出率算出部は、前記相関に基づいて、前記断層プロファイル算出工程で算出された断層プロファイルから求めた積分値に対応する溶出率を算出することを特徴とする粉体圧縮成形物の評価装置。
【請求項７】
前記粉体圧縮成形物を設置可能な受け部を複数有し、その各々が搬送路に沿って自動的に搬送可能に構成された搬送機構を更に備えることを特徴とする請求項６に記載の粉体圧縮成形物の評価装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、表面に可溶性被膜が形成された粉体圧縮成形物の評価方法及び評価装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば薬用目的の錠剤のような粉体圧縮成形物において、所定の溶出時間を実現するために表面に可溶性被膜が形成されたものが知られている。この種の粉体圧縮成形物では、可溶性被膜の形成状態が薬効に大きく影響するため、高精度で被膜を形成することが求められる。
【０００３】
ところで上述の錠剤における被膜の形成方法としては、ドラム式噴霧コーティング法が一般的である。ドラム式噴霧コーティング法では、多数の錠剤を１ロットとしてドラムに投入し、ドラムを回転させることで錠剤を撹拌させながら可溶性コーティング液を噴霧することで被膜形成が行われる。このようなドラム式噴霧コーティングは被膜完成までに数時間〜数十時間を要するため、仮にコーティングのやり直しは多大な時間ロスの原因となるため、コーティング過程の途中で被膜の形成状態を検査しながら行われる。被膜の形成状態の検査方法としては、ロットから所定個数のサンプルを抜き取り（サンプリングし）、所定の溶液を用いた溶出試験を実施することにより行われる。例えば特許文献１には、発熱体を内蔵するパドルによって試験溶液を撹拌することにより、試験溶液の温度を規定範囲内に管理しながら溶出試験を行う溶出試験装機が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０００−２８３９７７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上述したように粉体圧縮成形物の被膜評価では、特許文献１のような溶出試験が一般的に用いられているが、溶出試験では溶液中に被膜が溶解するまでの期間を評価する必要があるため、比較的多くの時間を要し、製造効率の低下の一因となっている。また評価時間を抑えるためにはサンプリング個数を抑える必要があり、十分な評価精度を得ることが難しいという問題もある。
【０００６】
本発明の少なくとも一実施形態は上述の問題点に鑑みなされたものであり、効率的且つ精度よく評価可能な粉体圧縮成形物の評価方法及び評価装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の少なくとも一実施形態は、医療分野等における断層解析技術の一つとして近年注目を集めている光コヒーレンストモグラフィ（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｃｏｈｅｒｅｎｃｅ  Ｔｏｍｏｇｒａｐｈｙ：ＯＣＴ）を利用することにより、上記課題を解決するものである。ＯＣＴは、光源光を被測定物に照射して、その反射光と参照光との干渉状態に基づいて、非測定物の表面や内部を解析する技術であり、例えば特開２０１３−２０８４１５号公報には、ＯＣＴを眼底検査に応用した例が開示されている。
【０００８】
（１）本発明の少なくとも一実施形態に係る粉体圧縮成形物の評価方法は上記課題を解決するために、表面に皮膜を有する粉体圧縮成形物の断層画像をＯＣＴ計測により取得するＯＣＴ計測工程と、前記断層画像に基づいて、前記粉体圧縮成形物からの反射光の深さ方向における強度分布を示す断層プロファイルを算出する断層プロファイル算出工程と、前記断層プロファイルに基づいて前記粉体圧縮成形物の溶出率を算出する溶出率算出工程とを備える。
【０００９】
上記（１）の構成によれば、ＯＣＴ計測によって光学的に取得した断層画像に基づいて、効率的且つ精度よく粉体圧縮成形物の溶出率を評価できる。本願発明者の鋭意研究によれば、この種の粉体圧縮成形物が有する皮膜は、圧縮された粉体間の微小な隙間に成分が入り込んだ複雑な形状を有するため、単純な膜厚計測では評価が困難であるが、後述するようにＯＣＴ計測を利用することによって、効果的な評価を行えることが見出された。
【００１０】
（２）幾つかの実施形態では上記（１）の構成において、前記断層プロファイルにおける光強度の深さに対する積分値と前記粉体圧縮成形物の溶出率との相関を予め作成する相関作成工程を更に備え、前記溶出率算出工程では、前記相関に基づいて、前記断層プロファイル算出工程で算出された断層プロファイルから求めた積分値に対応する溶出率を算出する。
【００１１】
上記（２）の構成によれば、断層プロファイルにおける光強度の深さに対する積分値と粉体圧縮成形物の溶出率との相関を予め用意しておき、当該相関に基づいて評価対象となる粉体圧縮成形物から求められた積分値に対応する溶出率を算出することで、粉体圧縮成形物の評価を行う。本願発明者は、このように断層プロファイルにおける光強度の深さに対する積分値と粉体圧縮成形物の溶出率との間に所定の相関が存在することを見出し、これを利用することによって、粉体圧縮成形物の評価を効率的且つ精度よく実現した。
【００１２】
（３）幾つかの実施形態では上記（２）の構成において、前記相関は、前記積分値が増加するに従って、前記溶出率が減少するように規定されている。
【００１３】
上記（３）の構成によれば、積分値が増加するに従って溶出率が減少するように上記方法に用いられる相関が規定されることで、実際の粉体圧縮成形物の特性に沿った相関に基づいて精度のよい評価が可能となる。
【００１４】
（４）幾つかの実施形態では上記（１）から（３）のいずれか一構成において、前記断層プロファイル算出工程では、前記断層画像のうち前記粉体圧縮成形物の表面に対応する任意の一点における深さを基準として前記表面が一定になるように前記断層プロファイルを正規化する。
【００１５】
上記（４）の構成によれば、粉体圧縮成形物の表面が曲率を有する場合には、断層画像のうち粉体圧縮成形物の表面に対応する任意の一点における深さを基準として表面が一定になるように前記断層プロファイルを正規化することにより、評価精度を向上することができる。
【００１６】
（５）幾つかの実施形態では上記（１）から（４）のいずれか一構成において、前記ＯＣＴ計測工程では、前記粉体圧縮成形物についてＯＣＴ計測を複数回実施することにより複数の前記断層画像を取得し、前記溶出率算出工程では、前記複数の断層画像の各々について求めた溶出率を平均化する。
【００１７】
上記（５）の構成によれば、評価対象である粉体圧縮成形物についてＯＣＴ計測を複数回実施して、その結果を平均化することにより、評価精度を向上できる。上述したように、本発明の少なくとも一実施形態は従来に比べて短時間で評価可能であるため、複数回の測定を伴う評価であっても効率的に実施可能である。
【００１８】
（６）幾つかの実施形態では上記（１）から（５）のいずれか一構成において、前記ＯＣＴ計測工程では、前記粉体圧縮成形物に前記皮膜を形成する過程において、時系列的に複数回のＯＣＴ計測を実施する。
【００１９】
上記（６）の構成によれば、粉体圧縮成形物に皮膜を形成する過程において、時系列的に複数回のＯＣＴ計測を実施することにより皮膜の形成状態をモニタリングし、皮膜の形成過程が適切に行われているか否かを評価することができる。上述したように、本発明の少なくとも一実施形態は従来に比べて短時間で評価可能であるため、複数回の測定を伴う評価であっても効率的に実施可能である。
【００２０】
（７）本発明の少なくとも一実施形態に係る粉体圧縮成形体の評価法装置は上記課題を解決するために、表面に皮膜を有する粉体圧縮成形物の断層画像をＯＣＴ計測により取得するＯＣＴ計測装置と、前記断層画像に基づいて、前記粉体圧縮成形物からの反射光の深さ方向における強度分布を示す断層プロファイルを算出する断層プロファイル算出部と、前記断層プロファイルに基づいて前記粉体圧縮成形物の溶出率を算出する溶出率算出部とを備える。
【００２１】
（８）幾つかの実施形態では、上記（７）の構成において、前記断層プロファイルにおける光強度の深さに対する積分値と前記粉体圧縮成形物の溶出率との相関を予め記憶する記憶部を更に備え、前記溶出率算出部は、前記相関に基づいて、前記断層プロファイル算出工程で算出された断層プロファイルから求めた積分値に対応する溶出率を算出する。
【００２２】
上記（７）及び（８）の構成によれば、上述の粉体圧縮成形物の評価方法（上記各種態様を含む）を好適に実施可能である。
【００２３】
（９）幾つかの実施形態では上記（７）又は（８）の構成において、前記粉体圧縮成形物を設置可能な受け部を複数有し、その各々が搬送路に沿って自動的に搬送可能に構成された搬送機構を更に備える。
【００２４】
上記（９）の構成によれば、評価対象である粉体圧縮成形物が多数に及ぶ場合であっても、効率的且つ迅速に評価を行うことができる。例えば、従来の評価方法では、評価実施に多大な時間を要するため評価対象数を多くすることが困難であったが、本実施形態では、このような多数の評価対象を取り扱うことができ、その結果として、統計的に評価精度も向上できる。
【発明の効果】
【００２５】
本発明の少なくとも一実施形態によれば、効率的且つ精度よく評価可能な粉体圧縮成形物の評価方法及び評価装置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明の少なくとも一実施形態に係る評価装置の評価対象である粉体圧縮成形物の外観を概略的に示す模式図である。
【図２】本発明の少なくとも一実施形態に係る評価装置が備えるＯＣＴ計測装置の構成を概略的に示す模式図である。
【図３】図２のＯＣＴ計測装置による断層画像の取得方法を工程毎に示すフローチャートである。
【図４】図２のＯＣＴ計測装置によって取得された断層画像の一例である。
【図５】図２のＯＣＴ計測装置の具体的構成例を示す模式図である。
【図６Ａ】図４の断層画像をＸ方向に沿って積算することにより形成した積算プロファイルの一例である。
【図６Ｂ】図６Ａの積算プロファイルに基づいてＺ方向に対する光強度Ｉの分布を示すグラフである。
【図７】異なる溶出率を有する粉体圧縮成形物における光強度分布を示すグラフである。
【図８】図６Ｂの光強度Ｉの分布から求めたプロファイル面積と粉体圧縮成形物の溶出率との関係を示す相関データである。
【図９】本発明の少なくとも一実施形態に係る評価装置の全体構成を示す模式図である。
【図１０】図９の評価装置によって実施される評価方法を工程毎に示すフローチャートである。
【図１１】図４の断層画像をＸ方向に沿って積算することにより形成した積算プロファイルの他の例である。
【図１２】本発明の少なくとも一実施形態に係る評価装置が備える搬送機構を示す模式図である。
【図１３】図１２の搬送機構が備える受け部を抽出して示す模式図である。
【図１４】図１３の受け部に粉体圧縮成形物を設置した状態を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
以下、添付図面を参照して本発明の幾つかの実施形態について説明する。ただし、実施形態として記載されている又は図面に示されている構成部品の寸法、材質、形状、その相対的配置等は、本発明の範囲をこれに限定する趣旨ではなく、単なる説明例にすぎない。
例えば、「ある方向に」、「ある方向に沿って」、「平行」、「直交」、「中心」、「同心」或いは「同軸」等の相対的或いは絶対的な配置を表す表現は、厳密にそのような配置を表すのみならず、公差、若しくは、同じ機能が得られる程度の角度や距離をもって相対的に変位している状態も表すものとする。
また例えば、四角形状や円筒形状等の形状を表す表現は、幾何学的に厳密な意味での四角形状や円筒形状等の形状を表すのみならず、同じ効果が得られる範囲で、凹凸部や面取り部等を含む形状も表すものとする。
一方、一の構成要素を「備える」、「具える」、「具備する」、「含む」、又は、「有する」という表現は、他の構成要素の存在を除外する排他的な表現ではない。
【００２８】
（粉体圧縮成形物）
まず本発明の少なくとも一実施形態に係る評価装置の評価対象である粉体圧縮成形物１００について、図１を参照して説明する。図１は本発明の少なくとも一実施形態に係る評価装置の評価対象である粉体圧縮成形物１００の外観を概略的に示す模式図である。
【００２９】
粉体圧縮成形物１００は粉状材料を圧縮することにより成形された固形物である。図１には、この種の粉体圧縮成形物１００の一例として、有効成分又は有効成分に賦形剤等を加えた粉状材料を圧縮することにより成形された固形の製剤、いわゆる錠剤が示されている。この粉体圧縮成形物１００は上下方向に延在する中心軸１０１に対して上下面１０２及び１０３がそれぞれ略球面状に曲率を有しており、上下面１０２及び１０３は中心軸１０１を中心とする円柱形状を有する側面１０４を介して一体的に形成されている。
尚、図１に示される粉体圧縮成形物１００は一例に過ぎず、その形状、重量、色彩、用途（例えば内服用、口服用、外用）を問わない。
【００３０】
粉体圧縮成形物１００は、素錠に所定の被膜が施されている。被膜は素錠に比べて薄いため図１では図示を略しており、粉体圧縮成形物１００の安定化、矯味、矯臭等の目的で素錠の表面に均一に形成されている。具体的には粉体圧縮成形物１００は例えば白糖によってコーティングされた糖衣錠、水溶性高分子によってコーティングされたフィルムコーティング錠、酸性では不溶性のコーティング剤によって皮膜された腸溶錠をはじめ、チュアブル錠、口腔内崩壊錠、持続性錠、ワックスマトリックス錠、グラデュメット錠、多孔性皮膜錠、多層錠、有核錠、スペイスタブ、レジネートであってもよい。
【００３１】
（ＯＣＴ計測装置の原理）
続いて図２乃至図５を参照して、上述の粉体圧縮成形物１００の評価装置に用いられるＯＣＴ計測の原理について説明する。図２は本発明の少なくとも一実施形態に係る評価装置が備えるＯＣＴ計測装置１０の構成を概略的に示す模式図であり、図３は図２のＯＣＴ計測装置１０による断層画像の取得方法を工程毎に示すフローチャートであり、図４は図２のＯＣＴ計測装置１０によって取得された断層画像の一例であり、図５は図２のＯＣＴ計測装置１０の具体的構成例を示す模式図である。
【００３２】
尚、以下の説明ではＳＤ−ＯＣＴ（スペクトルドメイン型ＯＣＴ）を採用したＯＣＴ計測装置１０について例示するが、特段の記載がない限りにおいて、ＴＤ−ＯＣＴ（タイムドメイン型ＯＣＴ）、ＦＦ−ＯＣＴ（エリアＯＣＴ）、ＳＳ−ＯＣＴ（スウェプトソ−ス型ＯＣＴ）などの他の方式のＯＣＴ計測についても同様に本発明を適用可能である。
【００３３】
まず光源１から所定波長λを有する光（光源光）が発せられる（ステップＳ１１）。ここで、所定波長λは波長λ０を含む所定波長範囲を有するか、時間的に波長走査している。すなわち、光源１は例えば予め波長に広がりを有するＳＬＤやＬＥＤ等であり、時間的に中心波長を変化させるスウェプトソース光源である。光源１からの光源光は、ハーフミラー２によって、照射光３と参照光４とに分波される。照射光３は対物レンズ５を介して、解析対象である塗装膜９に照射され、塗装膜９からの反射光が対物レンズ５で集光される。一方、参照光４は所定のリファレンス距離Ｌｒを有するリファレンスミラー６との間を往復してハーフミラー２に戻った後、塗装膜９からの反射光と重ね合わせられることにより干渉光７となる。
【００３４】
干渉光７は光検知器８によって検知され、電気信号に変換される（ステップＳ１２）。光検知部８の検知結果は、コンピュータなどの演算器に取り込まれ、以下の処理が行われる。まず、照射光３（反射光）の光路長Ｌｓと参照光４の光路長２Ｌｒとの光路長差
ｄ＝２・｜Ｌｒ−Ｌｓ｜    （１）
を用いて、検知された干渉波７は波長軸（λ）上において、次式
Ａ（λ）＝Ｉ・ｃｏｓ（２π・ｄ／λ）    （２）
で表わされる（ステップＳ１３）。
【００３５】
続いて、Ａ（λ）の変数を波数（Ｓ＝１／λ）に変換し（ステップＳ１４）、フーリエ逆変換を行う（ステップＳ１５）。これにより、光学的距離に基づいた断層構造に関する情報が得られ（ステップＳ１６）、断層画像として出力される（ステップＳ１７）。
【００３６】
図４では、粉体圧縮成形物１００の中心軸１０１をＺ方向とし、該Ｚ軸に垂直なＸＹ平面とする三次元空間における断層画像が示されている。この断層画像では、粉体圧縮成形物１００からの反射光の光強度Ｉについて分布状態が示されている。図４（ａ）はＸＹ平面における光強度分布を示しており、略円形状の粉体圧縮成形物１００の輪郭に対応する形状が示されている。図４（ｂ）及び図４（ｃ）はＹＺ平面及びＸＺ平面における光強度分布をそれぞれ示している。
【００３７】
図４（ｂ）及び図４（ｃ）によれば、光強度が粉体圧縮成形物１００の表面上だけでなく、深さ（Ｚ）方向に沿っても分布していることが示されている。すなわち、粉体圧縮成形物１００の表面近傍は、表面による反射光が最も強いことに対応して光強度Ｉが大きくなっているが、一方で表面から離れたある程度の深さＺに至るまで光強度Ｉが分布していることが示されている。この結果は、錠剤のような粉体圧縮成形物１００では、粉状の粒子が圧縮形成されていることから、粒子間に隙間が多く、コーティング成分が当該隙間に入り込むように分布していることを示している。このように粉体圧縮成形物１００では、被膜が単純な層状ではなく複雑な分布を有しているため従来の評価では、精度のよい評価が困難であったが、この問題点は本実施形態によって良好に解決することができる。
【００３８】
ここで上述したＯＣＴ計測装置１０の具体的構成例が図５に示されている。このＯＣＴ計測装置１０は、光源ユニット１２、リファレンスユニット１４、測定プローブ１６、スペクトロメータ１８、及び、演算装置５０を備える。光源ユニット１２は図２における光源１を収容しており、リファレンスユニット１４、測定プローブ１６及びスペクトロメータ１８と、ハーフミラー２として機能する光カプラ２２を介して分岐された光ファイバケーブル２４ａ、２４ｂ、２４ｃ及び２４ｄで互いに接続されている。これにより、光源ユニット２２内に収納された光源１から発せられた光源光は、光カプラ２２及び光ファイバ２４によって図２に示す光路に倣って照射光３と参照光４とに分光され、リファレンスユニット１４及び測定プローブ１６にそれぞれ入力され、得られた反射光及び参照光を重ね合わせた干渉光７がスペクトロメータ１８で観測されるようになっている。
【００３９】
光カプラ２２によって分光された参照光４は、リファレンスユニット２６に入力され、対物レンズ１１を介して該対物レンズ１５から所定距離Ｌｒ離れたリファレンスミラー６に入射する。ここでリファレンスミラー６は可動に構成されており、対物レンズとの間隔（所定距離Ｌｒ）が図５に示す矢印方向に沿って調整可能になっている。本実施形態では特に、リファレンスユニット１４は測定プローブ１６と別ユニットとして独立に構成されることで、測定プローブ１６の設計自由度が向上するようになっている。
【００４０】
一方、分光された照射光３は測定プローブ１６に入力される。測定プローブ１６は光ファイバケーブル２４ｃから入力された光を筐体１６ａの内壁に設置された反射ミラー１６ｂによって光路を変えた後、集光用の対物レンズ５を介して、解析対象である塗装膜９に照射する。そして塗装膜９からの反射光は対物レンズ５によって集光された後、再び反射ミラー１６ｂで反射されることにより、光ファイバケーブル２４ｃに入力される。
【００４１】
（評価方法）
続いて図６Ａ乃至図７を参照して、ＯＣＴ計測装置１０によって取得した断層画像に基づいて、粉体圧縮成形物１００を評価する方法について説明する。図６Ａは図４の断層画像をＸ方向に沿って積算することにより形成した積算プロファイルの一例であり、図６Ｂは図６Ａの積算プロファイルに基づいてＺ方向に対する光強度Ｉの分布を示すグラフであり、図７は異なる溶出率を有する粉体圧縮成形物１００における光強度分布を示すグラフであり、図８は図６Ｂの光強度Ｉの分布から求めたプロファイル面積と粉体圧縮成形物１００の溶出率との関係を示す相関データである。
【００４２】
本願発明者の鋭意研究によれば、上述の断層画像に基づいて求められるプロファイル面積は、粉体圧縮成形物１００の溶出率と密接な相関を有することが見出された。プロファイル面積は、断層画像を所定方向に沿って積算することで二次元の積算プロファイルを求め（図６Ａを参照）、当該積算プロファイルに基づいてＺ方向に対する光強度Ｉの分布を求め（図６Ｂを参照）、当該光強度分布のプロファイル面積（図６Ｂの斜線ハッチングを参照）として求められる。
【００４３】
このように算出されるプロファイル面積は、図７に示されるように、粉体圧縮成形物１００の溶出率と密接な相関を有する。図７は、異なるロットで製造された様々な溶出率を有する粉体圧縮成形物１００について積算プロファイルに基づいて求められたプロファイル面積を示している。本実施形態では、粉体圧縮成形物１００は被膜を形成する際にドラム式噴霧コーティング法が採用されており、コーティングの実施時間が互いに異なるロット１乃至４について測定した積算プロファイルが示されている。特に、各ロットに対応する積算プロファイルは、それぞれ各ロットから１０個の粉体圧縮成形物をサンプリングしたものに基づいて得た積算プロファイルを平均化して示している。
【００４４】
図７のロット１乃至ロット４では、次第にコーティングの実施時間を多く設定したロットが示されており、これに伴って、Ｚが大きい領域における光強度Ｉが大きくなることが表されている。これは、コーティングの実施時間が多くなるに従ってコーティング量が増えるため、当該コーティングに起因して比較的深い領域からの反射光の強度が増加していることを意味している。
【００４５】
各ロットの粉体圧縮成形物１００は互いに異なる溶出率を有しており、溶出率とプロファイル面積とをプロットすると図８に示す相関が得られる。図８には、異なる試験条件下において相関を求めた例が２つ示されているが、いずれも溶出率が増加するに従ってプロファイル面積が減少する傾向が認められた。このようなプロファイル面積と溶出率との相関は、電子データとしてメモリ等の記憶装置に記憶されることにより、後述する評価実施に利用される。
【００４６】
続いて図９及び図１０を参照して、本発明の少なくとも一実施形態に係る評価装置及び該評価装置によって実施される評価方法の具体的内容について説明する。図９は本発明の少なくとも一実施形態に係る評価装置の全体構成を示す模式図であり、図１０は図９の評価装置によって実施される評価方法を工程毎に示すフローチャートである。
【００４７】
評価装置は、表面に皮膜を有する粉体圧縮成形物の断層画像をＯＣＴ計測により取得するＯＣＴ計測装置１０と、当該ＯＣＴ計測装置１０から測定結果を取得して解析を行うことで評価する演算装置１１０とを備える。演算装置１１０は例えばコンピュータのような電子演算装置であって、具体的には、断層プロファイルにおける光強度の深さに対する積分値と前記粉体圧縮成形物の溶出率との相関データ１１４を予め記憶する記憶部１１２と、前記断層画像に基づいて、前記粉体圧縮成形物からの反射光の深さ方向における強度分布を示す断層プロファイルを算出する断層プロファイル算出部１１６と、前記断層プロファイルに基づいて前記粉体圧縮成形物の溶出率を算出する溶出率算出部１１８とを備える。
【００４８】
まずオペレータは互いに異なる溶出率を有する複数の粉体圧縮成形物１００をサンプルとして用意し、これらの粉体圧縮成形物１００について図２乃至図８を参照して説明した上記方法によって溶出率とプロファイル面積との相関データ１１４（図８を参照）を求める（Ｓ２１：相関データ作成工程）。このように求められた相関データ１１４は電子データとしてメモリ等の記憶装置に記憶され、適宜読み出し可能に用意される。
尚、溶出率が既知でない粉体圧縮成形物１００をサンプルとして用いる場合には、公知の溶出試験によって溶出率を計測することとし、本願では詳細な説明は省略することとする。
【００４９】
続いてオペレータは評価対象となる粉体圧縮成形物１００を用意し、ＯＣＴ計測により断層画像（図４を参照）を取得する（Ｓ２２：ＯＣＴ計測工程）。ここで評価対象となる粉体圧縮成形物１００は溶出率が未知のものであり、後述する各工程を経ることで、溶出率が求められることによって評価が行われる。
【００５０】
続いてステップＳ２２で取得された断層画像に基づいて、断層プロファイル（図６Ａを参照）を算出し、当該断層プロファイルに基づいて深さ方向（Ｚ方向）における光強度分布（図６Ｂを参照）を求める（Ｓ２３：断層プロファイル算出工程）。
【００５１】
尚、実際の粉体圧縮成形物１００が図１に示されるように表面に曲率を有する場合には、以下のように正規化処理を行うとよい。この場合、積算プロファイルは図１１に示されるように、Ｚ方向における表面座標が一定ではない。ここで表面の任意の一点（本実施例では最もＺ座標が大きな点Ｚ０）を基準に光強度分布を正規化処理することにより、図６ＡのようにＺ方向における表面座標が一定になるように座標変換するとよい。その上で、図６Ｂに示す光強度分布を算出することで、このような形状を有する粉体圧縮成形物１００においても精度のよい評価が可能となる。
【００５２】
続いてステップＳ２３で求めた光強度分布に基づいてプロファイル面積を算出し（Ｓ２４：積分パラメータ）、ステップＳ２１で用意した相関データ１１４に照らし合わせることにより、対応する溶出率を求めて評価を行う（Ｓ２５：評価工程）。
【００５３】
このように本実施形態に係る評価方法によれば、粉体圧縮成形物１００の溶出率に基づいてコーティング状態を精度よく評価することができる。
【００５４】
尚、上述した粉体圧縮成形物１００の評価方法を実施する際には、以下に示す評価装置を用いてもよい。図１２は本発明の少なくとも一実施形態に係る評価装置が備える搬送機構２００を示す模式図であり、図１３は図１２の搬送機構２００が備える受け部２０２を抽出して示す模式図であり、図１４は図１３の受け部２０２に粉体圧縮成形物１００を設置した状態を示す模式図である。
【００５５】
図１２に示されるように、評価対象である複数の粉体圧縮成形物１００について上記評価を実施する場合、各粉体圧縮成形物１００を設置可能な受け部２０２を複数有し、各受け部２０２が搬送路に沿って自動的に搬送可能に構成された搬送機構２００を用いるとよい。図１３に示されるように搬送機構２００が備える受け部２０２は、粉体圧縮成形物１００に適合する形状を有することにより、該受け部２０２上に投入された粉体圧縮成形物１００の姿勢が安定するように構成されている。特に、受け部２０２は、図１４に示されるように、支持された粉体圧縮成形物１００に対して、ＯＣＴ計測装置１０からの測定光が略垂直に照射されるように構成されている。これにより、上記評価結果が精度よく得られる。
【００５６】
また搬送機構２００は、このような受け部２０２を複数備える。これにより、評価対象である粉体圧縮成形物１００が多数に及ぶ場合であっても、効率的且つ迅速に評価を行うことができる。例えば、従来の評価方法では、評価実施に多大な時間を要するため評価対象数を多くすることが困難であったが、本実施形態では、このような多数の評価対象を取り扱うことができる。その結果として、統計的に評価精度を向上できる。
【００５７】
更に好ましくは、受け部２０２は、ヒンジ機構によって回動可能に構成されることにより、受け部２０２に投入された粉体圧縮成形物１００を排出経路に自動的に排出することができる。これにより、評価実施時におけるオペレータの作業負担が軽減されるため、より多くの対象物に対して効率的に評価を実施することができる。
【００５８】
以上説明したように、本実施形態によれば、効率的且つ精度よく評価可能な粉体圧縮成形物の評価方法及び評価装置を提供できる。
【産業上の利用可能性】
【００５９】
本開示は、表面に可溶性被膜が形成された粉体圧縮成形物の評価方法及び評価装置に利用可能である。
【符号の説明】
【００６０】
１  光源
２  ハーフミラー
３  照射光
４  参照光
５  対物レンズ
６  リファレンスミラー
７  干渉光
８  光検知器
１０  ＯＣＴ計測装置
１２  光源ユニット
１４  リファレンスユニット
１６  測定プローブ
１８  スペクトロメータ
２２  光カプラ
２４  光ファイバケーブル
１００  粉体圧縮成形物
２００  搬送機構
２０２  受け部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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