(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下流結像光学ユニット（８）の物体視野（４）が配置され、その物体視野において、次に、物体変位方向（ｙ）に変位可能な物体（６）が配置可能である照明視野（４）を光源（２）からの照明光（１２）を用いて照明するためのＥＵＶ投影リソグラフィのための照明光学ユニット（３）であって、
前記ＥＵＶ照明光（１２）のビームの部分ビーム（２３）の反射誘導のための複数の第１のファセット（２１）を含む第１のファセットミラー（１７）を有し、
前記第１のファセットミラー（１７）の下流に配置され、前記第１のファセット（２１）によって反射された前記部分ビーム（２３）の反射誘導のための複数の第２のファセット（２６）を有する第２のファセットミラー（２５）を有し、それにより、物体視野照明チャネル（２２）が、該第１のファセット（２１）と該反射ビーム誘導によって割り当てられた該第２のファセット（２６）とによって予め決められ、その物体視野照明チャネルを用いて全体物体視野（４）が、各場合に前記照明光（１２）によって照明可能であり、その物体視野照明チャネルに対して正確に１つの第１の（２１）及び正確に１つの第２の（２６）ファセットが各場合に割り当てられ、
前記第１のファセットミラー（１７）は、前記物体視野照明チャネル（２２）の個数に対応する前記光源（２）の複数の像（１４）のうちの１つを発生させる結像光学ユニット（１３）の一部であり、
前記第１のファセット（２１）は、前記第２のファセット（２６）を通じて互いの上に重ねられる方式で前記物体視野（４）内に結像され、
前記照明光学ユニット（３）が、前記第２のファセット（２６）が前記物体視野照明チャネル（２２）に沿って前記光源（２）の前記像（１４）から距離（Ａ）を置いて配置されるように構成され、
前記光源（２）の全ての像（１４）が、前記物体視野照明チャネル（２２）のビーム経路内で前記第２のファセット（２６）の上流に位置し、又は該光源（２）の全ての像（１４）が、該物体視野照明チャネル（２２）の該ビーム経路内で該第２のファセット（２６）の下流に位置し、
それぞれの前記第２のファセット（２６）上への前記照明光部分ビーム（２３）の入射角（α）の５°よりも小さい角度帯域幅（α０）を有する、
ことを特徴とする照明光学ユニット（３）。
【請求項２】
それぞれの前記第２のファセット（２６）上への前記照明光部分ビーム（２３）の入射角（α）の２°よりも小さい角度帯域幅（α0）を特徴とする請求項１に記載の照明光学ユニット。
【請求項３】
前記第２のファセット（２６）は、前記照明光（１２）のための高反射コーティング（３３；３４；３５）を担持することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の照明光学ユニット。
【請求項４】
前記第２のファセット（２６）のうちの少なくとも１つの上の前記高反射コーティング（３３；３４；３５）は、
前記第２のファセット（２６）上の第１の空間領域（２６n）において、第１の入射角の下で該第２のファセット（２６）上に入射する前記照明光（１２）の最大反射に適合され、
前記第２のファセット（２６）上の第２の空間領域（２６m）において、第２の入射角の下で該第２のファセット（２６）上に入射する前記照明光（１２）の最大反射に適合され、
前記第１の空間領域（２６n）及び前記第２の空間領域（２６m）は重ならず、
前記第１の入射角は、前記第２の入射角とは異なっている、
ことを特徴とする請求項３に記載の照明光学ユニット。
【請求項５】
前記光源（２）の前記像（１４）が前記第２のファセットミラー（２５）と前記物体視野（４）の間の前記照明光ビーム経路に位置するような実施形態を特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の照明光学ユニット。
【請求項６】
前記光源（２）の前記像（１４）が前記第１のファセットミラー（１７）と前記第２のファセットミラー（２５）の間の前記照明光ビーム経路に位置するような実施形態を特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の照明光学ユニット。
【請求項７】
請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の照明光学ユニット（３）を有し、
結像される物体（６）が、物体視野（４）に配置可能であり、
前記物体視野（４）を基板（９）が配置可能である像視野（１０ａ）内に結像するための投影光学ユニット（８）を有する、
ことを特徴とする光学系。
【請求項８】
前記投影光学ユニット（８）の瞳平面（３１）が、前記照明光学ユニット（３）の結像光学ユニット（１３）によって発生された光源（２）の像（１４）の平面と一致することを特徴とする請求項７に記載の光学系。
【請求項９】
請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の照明光学ユニット（３）を有し、
照明光（１２）を発生させるための光源（２）を有する、
ことを特徴とする照明系。
【請求項１０】
照明光（１２）を発生させるための光源（２）を有し、
請求項７又は請求項８に記載の光学系を有する、
ことを特徴とする投影露光装置（１）。
【請求項１１】
微細構造化又はナノ構造化構成要素を生成する方法であって、
感光材料で作られた層が少なくとも部分的に塗布されたウェーハ（９）を与える段階と、
結像される構造を有するレチクル（６）を与える段階と、
請求項１０に記載の投影露光装置（１）を与える段階と、
前記投影露光装置（１）の結像光学ユニット（８）を用いて前記レチクル（６）の少なくとも一部を前記ウェーハ（９）の前記層の領域上に投影する段階と、
を含むことを特徴とする方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
ドイツ特許出願第１０  ２０１３  ２１８  １３０．２号明細書の内容が、引用によって本明細書に組み込まれている。
【０００２】
本発明は、ＥＵＶ投影リソグラフィのための照明光学ユニットに関する。本発明は、更に、そのような照明光学ユニットの一部としてのファセットミラー、そのような照明光学ユニットを有する光学系、そのような照明光学ユニットを有する照明系、そのような照明系を有する投影露光装置、そのような投影露光装置を用いた微細構造化又はナノ構造化構成要素のための生成方法、及びそのような方法によって生成される構成要素に関する。
【背景技術】
【０００３】
ＥＵＶ投影リソグラフィのための照明光学ユニットは、ＵＳ  ６，５０７，４４０、ＥＰ  ０  ９５５  ６４１  Ａ１、及びＤＥ  １０  ２００８  ００９  ６００  Ａから公知である。更に別の照明光学ユニットは、ＤＥ  １０  ２０１２  ２１０  ０７３  Ａ１から公知である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】ドイツ特許出願第１０  ２０１３  ２１８  １３０．２号明細書
【特許文献２】ＵＳ  ６，５０７，４４０
【特許文献３】ＥＰ  ０  ９５５  ６４１  Ａ１
【特許文献４】ＤＥ  １０  ２００８  ００９  ６００  Ａ
【特許文献５】ＤＥ  １０  ２０１２  ２１０  ０７３  Ａ１
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、第２のファセットでの反射損失が最小にされるような上述のタイプの照明光学ユニットを開発することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明により、上述の目的は、請求項１に記載の特徴を含む照明光学ユニットによって達成される。
【０００７】
本発明によって明らかになったことは、光源像からの第２のファセットの間隔が、従来技術と比較して第２のファセット上のそれぞれの空間領域上への照明光の入射角の角度帯域幅の縮小をもたらすことである。光源の像からの第２のファセットの間隔は、光源像が瞳ファセットに隣接して生成されないことを意味する。物体視野照明チャネルに沿った第２のファセットからの光源像の距離は、５０ｍｍの領域内にあるとすることができる。２０ｍｍと８０ｍｍの間の範囲、特に、３０ｍｍと７０ｍｍの間の範囲又は４０ｍｍと６０ｍｍの間の範囲の異なる距離も可能である。光源像は、全て、照明光学ユニットの瞳平面と一致する１つの同じ像平面に位置することができる。第１のファセットミラーは、物体視野に対して共役な照明光学ユニットの視野平面に配置される。光源像からの第２のファセットの間隔に従って、第２のファセットミラーは、瞳平面内ではなく、そこから距離を置いて配置される。それぞれの第２のファセット上への照明光部分ビームの入射角の角度帯域幅は、５°よりも小さい。そのような角度帯域幅は、第２のファセット上への照明光部分ビームの入射角の全体角度帯域幅の半分に等しい。角度帯域幅は、２°よりも小さいとすることができる。従って、角度帯域幅は、それぞれの照明部分ビーム内の重心光線又は中心光線から進んで測定される。
【０００８】
請求項３に記載の高反射コーティングは、第２のファセットでの反射損失を最小にする。高反射コーティングは、マルチ−プライコーティングとすることができる。マルチ−プライコーティングは、逆に、２つの層材料、例えば、モリブデンとシリコンで構成される交替層シーケンスが現れるように多数のバイ−プライを有することができる。数十個のそのようなバイ−プライは、マルチ−プライコーティングを構築することができる。
【０００９】
請求項４に記載の高反射コーティングは、第２のファセットの異なる空間領域上に入射するそれぞれの入射角に適合させることができ、それによって瞳ファセットでの反射損失が更に低減される。
【００１０】
請求項５及び請求項６に記載の照明光学ユニットの精緻化は、構造的条件と投影光学ユニットの要件とに依存して適切であることが見出されている。
【００１１】
請求項７に記載のファセットミラーは、特に短い波長のＥＵＶ照明光の特に低い損失をもたらす。ファセットの反射率は、４０％よりも大きいとすることができ、５０％よりも大きいとすることができ、６０％よりも大きいとすることができ、かつ更に大きいとすることもできる。
【００１２】
請求項８に記載の光学系の利点は、本発明による照明光学ユニットを参照して上記で説明したものに対応する。照明光学ユニットは、請求項７に記載のファセットミラーを有することができる。
【００１３】
請求項９に記載の投影光学ユニットの入射瞳の配置は、照明及び結像光の特に有効な誘導をもたらす。
【００１４】
請求項１０に記載の照明系、請求項１１に記載の投影露光装置、請求項１２に記載の生成方法、及び請求項１３に記載の構成要素の利点は、本発明による照明光学ユニット、本発明によるファセットミラー、及び本発明による光学系を参照して上記で説明したものに対応する。光源は、ＥＵＶ光源とすることができる。ＥＵＶ光源は、５ｎｍと３０ｎｍの間の波長領域の光を発生させることができる。ＥＵＶ光源は、１０ｎｍよりも短い波長領域の光を発生させることができる。ＥＵＶ光源は、特に自由電子レーザ（ＦＥＬ）とすることができる。生成される構成要素は、特に半導体構成要素とすることができ、例えば、半導体チップ、特にメモリチップとすることができる。
【００１５】
本発明の例示的実施形態は、図面を参照して下記でより詳細に説明する。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】１次光源と、照明光学ユニットと、投影光学ユニットとを有するＥＵＶ投影リソグラフィのための投影露光装置を示す概略図である。
【図２】照明及び結像光の一部の部分ビームに対するビーム経路を詳細に強調表示した図１に記載の投影露光装置を通る略子午断面図である。
【図３】投影露光装置の瞳ファセットミラーの瞳ファセットと物体視野の間の伝達光学ユニットを省略し、長い物体視野座標軸ｘに沿って互いから最も分離された２つの物体視野点に属する各場合に４つの個々の光線のビーム経路を描示した投影露光装置の視野ファセットミラーの視野ファセットと投影露光装置の物体視野との間の従来技術のビーム経路の略上面図である。
【図４】この場合に４つの物体視野点に属するビーム経路が視野ファセットと物体視野の間に描示された従来技術からの照明ビーム経路を図３と類似の図に同じく示す図である。
【図５】瞳ファセットミラーの瞳ファセットと物体視野の間のビーム経路に入射瞳を有する本発明による照明光学ユニット内の視野ファセットミラーの視野ファセットと物体視野の間の本発明によるビーム経路を図３と類似の図に示す図である。
【図６】図５に記載の本発明による照明光学ユニット内のビーム経路を図４と類似の図に示す図である。
【図７】視野ファセットと瞳ファセットの間のビーム経路に入射瞳を有する本発明による照明光学ユニットの更に別の配置において４つの物体視野点に割り当てられた照明光ビーム経路を図６と類似の図に示す図である。
【図８】本発明による瞳ファセット上のマルチ−プライ反射層の個々のプライの層厚の空間依存性に関する例を示す図である。
【図９】本発明による瞳ファセット上のマルチ−プライ反射層の個々のプライの層厚の空間依存性に関する例を示す図である。
【図１０】本発明による瞳ファセット上のマルチ−プライ反射層の個々のプライの層厚の空間依存性に関する例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
図１は、投影リソグラフィ投影露光装置１の概略図を示している。投影露光装置１は、取りわけ、光源ユニット２と、レチクルとも呼ぶ構造担持マスク６が配置された物体平面５内で物体視野４を照明するための照明光学ユニット３とを含む。レチクル６は、レチクルホルダ７によって保持される。
【００１８】
位置関係の説明を簡素化するために、図１は、投影露光装置１の広域座標系として直交ｘｙｚ座標系を示している。ｘ軸は、図１の作図面と垂直に、その中に入るように延びている。ｙ軸は右に延びている。ｚ軸は下向きに延びている。
【００１９】
レチクル６は、物体変位デバイス７ａを有するレチクルホルダ７を用いて物体平面５内でｙ方向に変位可能である。
【００２０】
投影露光装置１の更に別の構成要素は、構造担持マスク６を基板９、いわゆるウェーハ上に結像するための投影レンズ８である。この基板９は、露光の下で化学的に改質される感光層を含む。この改質をリソグラフィ段階と呼ぶ。この段階では、構造担持マスク６が、物体平面５に配置され、基板９が、投影レンズ８の像平面１０に配置される。露光中に、ウェーハ９も、ウェーハ変位装置１１ａを有するウェーハホルダ１１を用いてｙ方向に沿って、正確に言えば基板ホルダ７の変位との同期方式で変位される。露光中に、物体視野４は、像平面１０の像視野１０ａに結像される。図１には、光源ユニット２とウェーハ９の間の照明及び結像光１２のビーム経路を非常に概略的に示している。
【００２１】
照明光学ユニット３及び投影レンズ８は、複数の光学要素を含む。ここで、これらの光学要素は、屈折方式と反射方式の両方で設計することができる。照明光学ユニット３又は投影レンズ８内の屈折光学要素と反射光学要素の組合せも可能である。構造担持マスク６も同じく反射設計又は透過設計を有することができる。そのような投影露光装置は、＜１９３ｎｍ又は＜１５７ｎｍの波長を有する放射線、特に５ｎｍから１５ｎｍまでの極紫外範囲（ＥＵＶ）内の波長を有する放射線で作動される場合に、完全に反射構成要素で構成される。投影露光装置１は、多くの場合に、いわゆるスキャナとして作動される。これは、構造担持マスク６が、走査方向ｙに沿って物体視野４と一致するスリット形の照明視野を通して移動され、同時に基板９が、投影レンズ８の像平面１０内で構造担持マスク６と同期して移動されることを意味する。構造担持マスク６の速度と基板９の速度との比は、この場合に、通常は１よりも小さく、例えば、１／４に等しい投影レンズ８の倍率に対応する。
【００２２】
図２は、照明光学ユニット３と投影レンズ８とを有する投影露光装置１の実施形態をより詳細に示している。ここで、照明光学ユニット３は、光源ユニット２の光源プラズマ１５の形態にある１次光源を結像することによって２次光源１４を発生させるための結像光学ユニットの形態にある第１の伝達部分光学ユニット１３を含む。第１の伝達部分光学ユニット１３は、５ｎｍと１５ｎｍの間の波長領域にある光源プラズマのＥＵＶ放射線を集光する一体的又は多体的なコレクターミラー１６と、視野ファセットミラー１７の形態にある第１のファセットミラーとを含む。
【００２３】
光源ユニット２は、様々な実施形態に構成することができる。レーザプラズマ光源（ＬＰＰ）が示されている。この光源タイプでは、小滴発生器１８によって小さい材料小滴を生成し、それを予め決められた場所に移動することにより、きつく制限された光源プラズマ１５を発生させる。この予め決められた場所において、材料小滴が高エネルギレーザ１９によって照射され、それによってこの材料がプラズマ状態に変換され、５ｎｍから１５ｎｍまでの波長領域の放射線を放出する。ここで、レーザ１９は、レーザ放射線がコレクターミラー１６内の開口部２０を通過し、その後に材料小滴上に入射するように配置される。一例として、１０μｍの波長を有する赤外線レーザ、特にＣＯ2レーザがレーザ１９として使用される。これに代えて、光源ユニット２は、光源プラズマ１５が放電を用いて生成される放電光源として設計することができる。ＥＵＶ光源ユニット２に対する更に別の変形は、自由電子レーザ（ＦＥＬ）である。
【００２４】
第１のファセットミラー１７は、照明視野４への照明光１２の部分ビーム２３の反射誘導のための物体視野照明チャネル２２を形成する視野ファセット２１を有する。各場合に視野ファセット２１によってそれぞれ反射されて物体視野照明チャネル２２を通った照明光１２により、全体の物体視野４を照明することができる。視野ファセットミラー１７は、物体視野照明チャネル２２の本数、従って、視野ファセット２１の個数に対応する複数の２次光源１４、すなわち、複数の光源像を発生させる伝達部分光学ユニット１３の一部である。
【００２５】
照明光学ユニット３は、物体視野又は照明視野４内への視野ファセット２１の重ね合わせ結像のための更に別の伝達部分光学ユニット２４を含む。第２の伝達部分光学ユニット２４は、照明光１２のビーム経路内で第１のファセットミラー１７の下流に配置された瞳ファセットミラーの形態にある第２のファセットミラー２５を有する。瞳ファセットミラー２５は、第２のファセットとも呼ぶ複数の瞳ファセット２６を有する。
【００２６】
照明光１２は、第１のファセットミラー１７上に収束ビーム経路で入射する。瞳ファセットミラー２５の下流の光路内には第１のテレスコープミラー２７及び第２のテレスコープミラー２８が配置され、これら両方のテレスコープミラーは、垂直入射の領域内で作動され、すなわち、照明光１２は、２つのミラー２７、２８上に０°と４５°の間の入射角で入射する。ここで、入射角は、入射放射線と反射光学面の法線との間の角度を意味すると理解しなければならない。ビーム経路内でこれらのテレスコープミラーの下流には、入射する放射線を物体平面５の物体視野４上に案内する偏向ミラー２９が配置される。偏向ミラー２９は、かすめ入射の下で作動され、すなわち、照明光１２は、このミラー上に４５°と９０°の間の入射角で入射する。物体視野４の場所には、投影レンズ８を用いて像平面１０の像視野１０ａに結像される反射構造担持マスク６が配置される。投影レンズ８は、結像光３のビーム経路の順番に番号を振られた６つのミラーＭ１、Ｍ２、Ｍ３、Ｍ４、Ｍ５、及びＭ６を含む。投影レンズ８の６つ全てのミラーＭ１からＭ６は、それぞれ、光軸ｏＡに関して回転対称な面に沿って延びる反射光学面を有する。ミラーＭ１からＭ６の非回転対称面設計、例えば、少なくとも１つのミラー又は全てのミラーＭ１からＭ６の自由曲面設計も可能である。
【００２７】
本発明を説明するために、図３及び図４を用いて、対応する物体視野照明チャネル２２の照明光部分ビーム２３の従来技術で公知のビーム経路を視野ファセット２１のうちの厳密に１つと物体視野４内のレチクル６との間で概略的に次に説明する。
【００２８】
図３及びそれ以降もまた、局所ｘｙｚ座標系である座標系を示している。それぞれの局所座標系のｘ方向は、全体の投影露光装置１に関する図１及び図２に記載の広域ｘｙｚ座標系のｘ方向に対して各場合に平行に延びている。それぞれの局所座標系のｚ方向は、照明光１２の主光線方向に沿って延びている。図３及びそれ以降は、各場合にｘｚ平面と平行な図を描示している。ｘ方向は各場合に右に向けて延び、ｚ方向は各場合に上方に延びている。従って、ｙ方向は作図面と垂直に、その中に入るように延びている。
【００２９】
図３及び図４では、視野ファセット２１及び物体視野照明チャネル２２を通った照明光部分ビーム２３による入射を受ける瞳ファセット２６と物体視野４の間のミラー２７から２９を省略している。
【００３０】
図３は、ｘ軸に沿って可能な最も大きい間隔を有する２つの物体視野点４1及び４4に属する個々の光線３０のビーム経路を示している。各物体視野点４1、４4から４つの個々の光線３０が射出する。
【００３１】
図３及び図４に記載の従来技術で公知の配置では、瞳ファセット２６は、光源２の像１４の場所、すなわち、２次光源の場所に配置される。
【００３２】
それぞれの物体視野点４1、４4に割り当てられた４つの個々の光線を実線、破線、一点鎖線、及び点線で再現しており、２次光源１４の同じ像点１４1、１４2、１４3、１４4を通る個々の光線の各々を実線又は破線で同じ方式で描示している。
【００３３】
図４は、ここでもまた、合計で４つの物体視野点４1、４２、４３、及び４4に割り当てられた個々の光線３０の進路を視野ファセット２１と物体視野４の間に示している。図４では、個々の光線３０の破線符号化は、同じ物体視野点４1から４4に属する全ての個々の光線３０が同じ破線表現を有するようなものである。
【００３４】
図３に記載の図からは、物体視野点４nの各々が、２次光源１４の全体のｘ広がりからの光、すなわち、瞳ファセット２６の全体の照明領域からの光を受光することが表面上は明らかになる。
【００３５】
図４に記載の破線符号化からは、各光源像点１４nが、照明光部分ビーム２３の照明光を全ての物体視野点４nの方向に案内することが明らかになる。従って、従来技術の瞳ファセット照明の場合に、瞳ファセット２６上の照明光部分ビーム２３の照明光の入射角の角度帯域幅βは、一方で物体視野４のｘ広がりにより、他方で例えば瞳ファセット２６からの物体視野４の距離によって予め決められる。図３及び図４に記載の概略図では、従来技術の瞳ファセット入射の場合に、約２３°の入射角帯域幅βが現れる。
【００３６】
図３及び図４は、物体視野４上での視野ファセット２１の結像を明らかにしている。図３及び図４では、瞳ファセット２６を平面ファセットとして略示するが、瞳ファセット２６は、現実では結像屈折力を有するために必然的に凹面状を有する。例えば、ミラー２７から２９（図２を参照されたい）を有する後続光学ユニットが使用される場合に、この後続光学ユニットが物体視野４内への視野ファセット２１の結像をもたらすことができるので、瞳ファセット２６は、必ずしも結像効果を有する必要がない。
【００３７】
視野ファセット２１のうちの１つと物体視野４の間の照明光部分ビーム２３における照明光１２の本発明によるビーム誘導は、図５及びそれ以降に基づいて示している。図１から図４、特に図３及び図４に関して上記で説明したものに対応する構成要素を同じ参照符号で表しており、これらに対して再度詳細に説明することはしない。
【００３８】
従来技術のビーム誘導とは対照的に、光源２の像１４、すなわち、物体視野照明チャネル２２内の２次光源は、瞳ファセット２４での反射後のみに生成される。すなわち、２次光源１４が内部に配置される瞳平面３１は、瞳ファセット２６の配置平面３２から距離を置いて配置される。瞳平面３１は、投影光学ユニット８の入射瞳平面と一致する。
【００３９】
２次光源１４、すなわち、光源２の像１４が瞳ファセット２６上ではなく、それぞれの物体視野照明チャネル２２のビーム経路内で瞳ファセット２６の上流又は下流で点灯する場合に、瞳ファセット２６は、光源２の像１４の寸法に起因して必要になるものよりも大きい設計を有するべきである。瞳平面３１と瞳ファセット２６の配置平面３２の間の距離Ａは、配置平面３２と物体平面５の間の距離Ｂに瞳ファセット２６の追加の直径と物体視野４の広がりとの間の比を乗じたものによって近似的に与えられる。
【００４０】
瞳平面３１と配置平面３２の間の距離Ａは、配置平面３２と物体平面５の間の距離Ｂの５％よりも大きいとすることができる。距離Ａは、距離Ｂよりも最大で１０％大きいとすることができる。距離Ａ及びＢは純粋な空間距離ではなく、照明光１２又は個々の光線３０のビーム経路に沿った光路であり、従って、距離値Ａ及びＢを決定するのに、例えば、個々の光線３０の折り返しビーム経路が、展開方式で表されることになることは明らかである。
【００４１】
同じ物体視野点４1から４4に属する個々の光線３０が、この場合にも図４の場合と同じ破線表現を有する図６は、瞳ファセット２６上の空間領域が、各場合に照明光１２をもはや全ての物体視野点４nに反射するわけではないことを明らかにしている。図６は、照明光部分ビーム２３の照明光１２を４つの物体視野点４1から４4に反射する４つの空間領域２６1から２６4を描示している。それぞれの空間領域２６nの各々は、照明光１２が入射する瞳ファセット２６の全体のｘ広がりの４分の１よりも若干大きい広がりを網羅する。
【００４２】
空間領域２６1と２６2の間の過渡点で、個々の光線３０は、瞳ファセット２６上にα1とα2の間の範囲の入射角で入射する。図６に記載の概略図では、α1は約１８°である。α2は垂直入射に近い。従って、入射角度帯域幅の範囲の中心で入射する個々の光線３０の入射角に対応するこの入射角度帯域幅の半分は、瞳ファセットミラー２６上の空間領域２６1と２６2の間の過渡点で約９°である。従って、次に、角度帯域幅α0は、α0＝（１／２）（α1−α2）であり、更に平均入射角は（１／２）（α1＋α2）である。
【００４３】
この角度帯域幅は、従来技術の照明光入射における図４に記載の２３°の角度帯域幅βよりも非常に小さい。平均入射角は約９°である。
【００４４】
図６に記載の瞳ファセット２６の照明光入射の中心、すなわち、瞳ファセット領域２６2と２６3の間の過渡点では、光は約１２°の角度帯域幅α3で入射し、この角度帯域幅は、次に、従来技術の角度帯域幅βよりも非常に小さい。従って、角度帯域幅α0は、この場合に、α0＝α3である。
【００４５】
角度帯域幅の範囲で中心にある個々の光線３０は、瞳ファセット２６上に垂直入射で入射し、すなわち、平均入射角は、この場合約０°である。
【００４６】
それぞれ物体視野点４nのうちの１つに割り当てられた個々の光線３０の重心光線２３nは、物体視野点４1に依存して瞳ファセット２６の異なる瞳ファセット領域２６n上で瞳ファセット２６上に入射する。
【００４７】
異なる表現を使用すると、レチクル６の各点は、照明光照明によって瞳ファセット２６の異なる領域を見ている。
【００４８】
瞳ファセットミラー２６上の重心光線２３nの入射角の全体角度帯域幅もまた、従来技術と比較した場合に図６及び図７に記載の本発明によるビーム誘導では有意に縮小される。これは、従来技術の照明の場合は縁側重心光線２３nが全ての他の重心光線と同じく瞳ファセット２６の中心に入射し、それに対して図６及び図７に記載の本発明による照明ではこれらの縁側重心光線２３nが瞳ファセット２６の縁部上に入射するというこれらの縁側重心光線２３nの入射角の比較により、特に小さいエタンデュを有する光源２及び相応に小さいサイズの２次光源１４の場合に明らかになる。
【００４９】
図７は、物体視野４と視野ファセット２１のうちの１つとの間での照明光部分ビーム２３のうちの１つの本発明による照明光誘導の変形を図６と類似の図に示している。図７に記載の照明光誘導は、図５及び図６に記載の照明光誘導の反転形であると見なすことができる。照明光部分ビーム２３に沿う２次光源１４は、瞳ファセット２６の反射の上流の照明光部分ビーム２３のビーム経路内、すなわち、視野ファセット２１と瞳ファセット２６の間の照明光の光路内に生成される。図６に関して上記で説明したことは、ここでもまた、距離比Ａ／Ｂに適用される。
【００５０】
図７に記載の照明光入射では、様々な瞳ファセット領域２６nにおける角度帯域幅は、図６に記載のものと同一である。
【００５１】
照明光学ユニット３の構成要素と物体視野４の間の異なる距離比の場合かつ物体視野４の実際のサイズの場合に、角度帯域幅α0は有意に小さく、１０°よりも小さいとすることができ、７°よりも小さいとすることができ、５°よりも小さいとすることができ、３°よりも小さいとすることができ、２°よりも小さいとすることができ、かつ更に小さいとすることができる。従って、高反射コーティング、特に、平均入射角に正確に適合させて、それぞれの瞳ファセット領域２６nに高精度で適合させたマルチ−プライコーティングを設けることが可能である。高反射コーティング、特にマルチ−プライコーティングのいくつかのプライは、角度帯域幅α0に適合させることができる。
【００５２】
瞳ファセット２６のうちの１つの上の高反射マルチ−プライコーティングの層のプライの広がりに関する例を図８及び図１０に基づいて説明する。
【００５３】
図８は、瞳ファセット２６のｘ広がりにわたって見た時に大きい値ｄ1から小さい値ｄ2に直線的に降下するプライ強度ｄを有する層３３のプライを示している。ここで、これは、照明光１２の入射光線３０の平均入射角が瞳ファセット２６の左手縁部（小さいｘ値）から瞳ファセット２６の右手縁部（大きいｘ値）に直線的に変化するという事実に対処することができる。
【００５４】
図９は、瞳ファセット２６の外縁まで例えば放物線状に増大し、瞳ファセット２６の中心において最小値ｄminを取る層厚ｄを有する層３４のプライの更に別の実施形態の層厚プロファイルを示している。すなわち、図９は、層３４のプライの凹状層厚プロファイルを示している。
【００５５】
図１０は、層３５のプライの層厚ｄの逆プロファイルを示している。このプロファイルでは、層厚ｄは、瞳ファセットミラー２６の中心において最大値ｄmaxを有し、瞳ファセット２６の縁部に向けて例えば放物線状に降下する。すなわち、図１０は、層３５のプライの凸状層厚プロファイルを示している。
【００５６】
図９及び図１０に記載の凹又は凸状層厚プロファイルは、瞳ファセット２６の瞳ファセット領域２６nにわたる入射角の対応する依存性を考慮したものである。
【００５７】
それぞれの瞳ファセット２６のｙ座標への層プライの厚みｄの対応する依存性も可能である。
【００５８】
それぞれの瞳ファセット２６上の場所にわたる、すなわち、瞳ファセット領域２６nにわたる平均入射角のプロファイルに基づいて、瞳ファセットミラー２６上での層プライの場所への層厚ｄの異なるｘ依存性及び／又はｙ依存性を存在させることができる。
【００５９】
図８から図１０には描示していない他の層プライは、ｘ座標への層厚ｄの対応する依存性を有することができる。
【００６０】
ｘ座標及び／又はｙ座標への層厚ｄの依存性に関して、瞳ファセット２６の各々は、マルチ−プライコーティングの層プライの個々に適合された層厚分布を有することができる。これに代えて、群毎に同一マルチ−プライコーティングを有する瞳ファセット２６を設けることが可能である。
【００６１】
層プライ３３から３５を有するマルチ−プライコーティングは、それらが、それぞれの瞳ファセット２６上にそれぞれの空間領域２６n内で入射する入射角αに適合されるように具現化される。図６に記載の入射の場合に、マルチ−プライコーティングは、従って、空間領域２６1及び２６2の過渡点で（１／２）（α1＋α2）の入射角に適合される。マルチ−プライコーティングは、空間領域２６2及び２６3の過渡点で０°の平均入射角に適合される。
【００６２】
現れるものは、３０％よりも大きい反射率で照明光１２を反射する瞳ファセット２６を有する瞳ファセットミラー２５である。更に高い反射度、例えば、４０％よりも大きく、５０％よりも大きく、又は更に６０％よりも大きい反射率も可能である。
【００６３】
微細構造化又はナノ構造化構成要素の生成中に、最初に、感光材料で作られた層が少なくとも部分的にその上に塗布されたウェーハ９が与えられる。更に、結像される構造を有するレチクル６が与えられる。更に、投影露光装置１が与えられる。その後、レチクル６が配置された物体視野４の照明中に予め決められた照明角度分布がもたらされるように照明設定が予め決められ、すなわち、照明されるように意図する瞳ファセットミラー２５の瞳ファセット２６が選択される。この指定に則してファセットミラー１７の視野ファセット２１の傾斜位置が予め決められる。その後に、投影露光装置の投影光学ユニット８を用いて、レチクル６の少なくとも一部が感光層の領域上に投影される。
【符号の説明】
【００６４】
４  物体視野
１４  ２次光源
２２  物体視野照明チャネル
２３n  照明光部分ビーム
α1、α2、α3  入射角
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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