(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の一方の主面に、載置面を有する突出部を複数備え、酸化アルミニウム質セラミックスからなり、該酸化アルミニウム質セラミックスは、コバルト、鉄、ニッケルおよびチタンの酸化物を含み、コバルトの酸化物の含有量は、コバルト（Ｃｏ）をＣｏ３Ｏ４に換算した値で８質量％以上１２質量％以下、鉄の酸化物の含有量は、鉄（Ｆｅ）をＦｅ２Ｏ３に換算した値で４質量％以上６質量％以下、ニッケルの酸化物の含有量は、ニッケル（Ｎｉ）をＮｉＯに換算した値で３質量％以上４質量％以下、チタンの酸化物の含有量は、チタン（Ｔｉ）をＴｉＯ２に換算した値で１質量％以上２質量％以下であり、前記主面は、粗さ曲線における２５％の負荷長さ率と７５％の負荷長さ率との間の切断レベル差（Ｒδｃ）が１．１μｍ以上２．２２μｍ以下であり、前記載置面は、粗さ曲線における２５％の負荷長さ率と７５％の負荷長さ率との間の切断レベル差（Ｒδｃ）が１．１μｍ以上１．５３μｍ以下であることを特徴とする載置用部材。
【請求項２】
前記酸化アルミニウム質セラミックスは、粒界相に、コバルトスピネル、鉄スピネルおよびニッケルスピネルの少なくともいずれかを含むことを特徴とする請求項１に記載の載置用部材。
【請求項３】
前記酸化アルミニウム質セラミックスは、粒界相に、チタン酸アルミニウムを含むことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の載置用部材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、半導体製造工程の露光処理で、被処理物である光透過性基板を載置するための真空チャック等、載置用部材に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ製作用基板等の光透過性基板を製造するための露光装置では、光透過性基板の載置用部材として、光の反射を抑制して露光精度を向上させるために、着色されたセラミックスからなる低反射部材が用いられている。
【０００３】
このような低反射部材として、特許文献１では、明度指数が４５以下であり、Ｘ線回折チャートにおいて酸化物系の化合物が最も高いピークを示すセラミックスからなり、化合物の屈折率が１．７２以下である低反射部材が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１５−２１１０７３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１で提案された低反射部材は、反射率が６．８％以上９．６％以下である。今般の露光処理で用いられる載置用部材は、露光精度の更なる向上のため、さらに反射率が低いことが求められている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本実施形態の載置用部材は、基板の一方の主面に、載置面を有する突出部を複数備え、酸化アルミニウム質セラミックスからなり、該酸化アルミニウム質セラミックスは、コバルト、鉄、ニッケルおよびチタンの酸化物を含み、コバルトの酸化物の含有量は、コバルト（Ｃｏ）をＣｏ３Ｏ４に換算した値で８質量％以上１２質量％以下、鉄の酸化物の含有量は、鉄（Ｆｅ）をＦｅ２Ｏ３に換算した値で４質量％以上６質量％以下、ニッケルの酸化物の含有量は、ニッケル（Ｎｉ）をＮｉＯに換算した値で３質量％以上４質量％以下、チタンの酸化物の含有量は、チタン（Ｔｉ）をＴｉＯ２に換算した値で１質量％以上２質量％以下であり、前記主面は、粗さ曲線における２５％の負荷長さ率と７５％の負荷長さ
率との間の切断レベル差（Ｒδｃ）が１．１μｍ以上２．２２μｍ以下であり、前記載置面は、粗さ曲線における２５％の負荷長さ率と７５％の負荷長さ率との間の切断レベル差（Ｒδｃ）が１．１μｍ以上１．５３μｍ以下であることを特徴とするものである。
【発明の効果】
【０００７】
本実施形態の載置用部材は、波長域３６０ｎｍ〜４４０ｎｍにおける反射率が低いため、露光精度の更なる向上に対応することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本実施形態の載置用部材の一例を示す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、図面を参照して、本実施形態の載置用部材について詳細に説明する。
【００１０】
図１に示す載置用部材１０は、基板１の一方の主面１ａに、載置面２ａを有する突出部２を複数備える。そして、基板１は、厚み方向に貫通する吸引孔３を複数備えており、この吸引孔３は真空吸引装置（図示しない）に接続され、真空吸引装置で吸引孔３を介して吸引することにより、被処理物（図示しない）を吸着固定することができる。この場合、主面１ａおよび被処理物によって挟まれる空間は、気体を吸引する流路となる。また、突出部２はピン状の突起であり、その載置面２ａには光透過性基板等の被処理物が載置されるようになっている。そして、図１に示す形状の載置面２ａに被処理物を載置することにより、平坦な面に載置するときよりも、被処理物と載置する面との間に塵埃が挟まるおそれが低減する。
【００１１】
本実施形態の載置用部材１０は、酸化アルミニウム質セラミックスからなる。ここで、酸化アルミニウム質セラミックスとは、セラミックスを構成する全成分の合計１００質量％のうち、酸化アルミニウムの含有量が５２質量％以上の主成分であるセラミックスのことを指す。
【００１２】
そして、本実施形態の載置用部材１０を構成する酸化アルミニウム質セラミックスは、コバルト、鉄、ニッケルおよびチタンの酸化物を含む。コバルト、鉄、ニッケルおよびチタンの酸化物は、着色成分であり、酸化アルミニウム質セラミックスの色調を暗色（黒色）にすることができるため、波長域３６０ｎｍ〜４４０ｎｍにおける反射率（以下、この範囲内の波長域の反射率を、単に反射率と記載する場合がある。）が低くなる。それ故、本実施形態の載置用部材１０は、露光精度を向上させることができる。
【００１３】
コバルトの酸化物の含有量は、例えば、コバルト（Ｃｏ）をＣｏ３Ｏ４に換算した値で８質量％以上１２質量％以下である。また、鉄の酸化物の含有量は、例えば、鉄（Ｆｅ）をＦｅ２Ｏ３に換算した値で４質量％以上６質量％以下である。また、ニッケルの酸化物の含有量は、例えば、ニッケル（Ｎｉ）をＮｉＯに換算した値で３質量％以上４質量％以下である。また、チタンの酸化物の含有量は、例えば、チタン（Ｔｉ）をＴｉＯ２に換算した値で１質量％以上２質量％以下である。
【００１４】
また、酸化アルミニウム質セラミックスは、上記成分以外に、焼結助剤としての作用をなし、主に粒界相を構成する成分として、珪素、マグネシウムおよびカルシウムの酸化物を含んでいてもよい。以下、珪素、マグネシウムおよびカルシウムの酸化物（ＳｉＯ２、ＭｇＯ、ＣａＯ）を総称して助剤成分と記載する。助剤成分の含有量は、酸化アルミニウム質セラミックスを構成する全成分の合計１００質量％のうち、例えば、０．６質量％以上２質量％以下である。
【００１５】
上述した主成分、着色成分および助剤成分の含有量は、酸化アルミニウム質セラミックスの一部を粉砕し、得られた粉体を塩酸などの溶液に溶解した後、ＩＣＰ（Inductively Coupled Plasma）発光分光分析装置（ＩＣＰ  例えば、(株)島津製作所製（ＩＣＰＳ−８１００））を用いて得られる金属成分の含有量からそれぞれ酸化物に換算することによって求められる。例えば、Ａｌの含有量からＡｌ２Ｏ３に換算し、Ｃｏの含有量からＣｏ３Ｏ４に換算する。
【００１６】
また、酸化アルミニウム質セラミックスは、粒界相に、コバルトスピネル、鉄スピネルおよびニッケルスピネルの少なくともいずれかを含むときには、これらのスピネルの屈折率は１．７４〜１．８０程度であり、酸化アルミニウムの屈折率１．７７と近似しているため、反射率をより低くすることができる。コバルトスピネル、鉄スピネルおよびニッケルスピネルは、組成式が不定比であってもよいが、組成式が定比であるＣｏＡｌ２Ｏ４、ＦｅＡｌ２Ｏ４およびＮｉＡｌ２Ｏ４であることが好ましい。
【００１７】
なお、組成式がＣａＡｌ２Ｓｉ２Ｏ５として示されるアノーサイトは、屈折率が１．５８であり、酸化アルミニウムの屈折率との差が大きく、反射率が高くなるため、載置用部材１０は、アノーサイトを含まないことがより好適である。
【００１８】
また、酸化アルミニウム質セラミックスは、粒界相に、チタン酸アルミニウムを含むときには、酸化アルミニウムの結晶粒子の異常な粒成長を抑制することができるため、酸化アルミニウム質セラミックスの機械的強度を高くすることができる。チタン酸アルミニウムは、組成式は不定比であってもよいが、組成式が定比であるＡｌ２ＴｉＯ５であることが好ましい。
【００１９】
コバルトスピネル、鉄スピネル、ニッケルスピネルおよびチタン酸アルミニウムは、Ｘ線回折装置（ＸＲＤ）を用いて同定することができる。また、存在箇所については、粒界相について、Ｘ線マイクロアナライザー（ＥＰＭＡ）を用いて確認すればよい。
【００２０】
特に、本実施形態の載置用部材１０は、酸化アルミニウムが５２質量％以上８０質量％以下であり、コバルトスピネル、鉄スピネルおよびニッケルスピネルの含有量の合計が１９質量％以上４７質量％以下であり、チタン酸アルミニウムの含有量が１質量％以上５質量％以下であることが好適である。酸化アルミニウム、コバルトスピネル、鉄スピネル、ニッケルスピネルおよびチタン酸アルミニウムのそれぞれの含有量が上述した範囲を満たしているときには、低い反射率および高い機械的強度を有することができる。コバルトスピネル、鉄スピネル、ニッケルスピネルおよびチタン酸アルミニウムの含有量は、リートベルト解析によって求めればよい。
【００２１】
また、本実施形態の載置用部材１０では、主面１ａは、粗さ曲線における２５％の負荷長さ率と７５％の負荷長さ率との間の切断レベル差（Ｒδｃ）が１．１μｍ以上であることが好適である。
【００２２】
ここで、切断レベル差（Ｒδｃ）とは、ＪＩＳ  Ｂ０６０１：２００１で規定されている粗さ曲線における負荷長さ率Ｒｍｒ１、Ｒｍｒ２にそれぞれ一致する切断レベルＣ（Ｒｒｍ１）、Ｃ（Ｒｒｍ２）の高さ方向の差である。切断レベル差（Ｒδｃ）が大きい場合、測定の対象とする表面の凹凸は大きくなり、小さい場合には、その表面の凹凸は小さくなる。切断レベル差（Ｒδｃ）が１．１μｍ以上であるときには、反射率を低くすることができるとともに、パーティクルの発生を抑制することができる。
【００２３】
また、主面１ａにおける切断レベル差（Ｒδｃ）は、２．２２μｍ以下であることが好適である。主面１ａにおける切断レベル差（Ｒδｃ）が２．２２μｍ以下であるときには、主面１ａに生じる凸部が急峻になりにくいため、凸部先端からパーティクルが発生しにくくなる。
【００２４】
また、本実施形態の載置用部材１０における主面１ａは、二乗平均平方根粗さ（Ｒｑ）が０．８２μｍ以上１．７４μｍ以下であることが好適である。主面１ａの二乗平均平方根粗さ（Ｒｑ）が０．８２μｍ以上１．７４μｍ以下であるときには、反射率を低くすることができるとともに、パーティクルの発生を抑制することができる。
【００２５】
また、本実施形態の載置用部材１０における主面１ａは、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．６５μｍ以上１．３５μｍ以下であることが好適である。主面１ａの算術平均粗さ（Ｒａ）が０．６５μｍ以上１．３５μｍ以下であるときには、反射率をさらに低くすることができるとともに、パーティクルの発生を抑制することができる。
【００２６】
また、本実施形態の載置用部材１０における載置面２ａは、粗さ曲線における２５％の負荷長さ率と７５％の負荷長さ率との間の切断レベル差（Ｒδｃ）が１．１μｍ以上であることが好適である。切断レベル差（Ｒδｃ）が１．１μｍ以上であるときには、反射率を低くすることができる。
【００２７】
また、載置面２ａにおける切断レベル差（Ｒδｃ）は、１．５３μｍ以下であることが好適である。載置面２ａにおける切断レベル差（Ｒδｃ）が１．５３μｍ以下であるときには、載置面２ａに生じる凸部が急峻になりにくいため、凸部先端からパーティクルが発生しにくくなるとともに、被吸着物に損傷を与えにくくなる。
【００２８】
また、本実施形態の載置用部材１０における載置面２ａは、二乗平均平方根粗さ（Ｒｑ）が０．８２μｍ以上１．７４μｍ以下であることが好適である。載置面２ａの二乗平均平方根粗さ（Ｒｑ）が０．８２μｍ以上１．７４μｍ以下であるときには、反射率を低くすることができるとともに、パーティクルの発生を抑制することができる。また、被処理物へ損傷を与えにくくなる。
【００２９】
また、本実施形態の載置用部材１０における載置面２ａは、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．６５μｍ以上１．３５μｍ以下であることが好適である。載置面２ａの算術平均粗さ（Ｒａ）が０．６５μｍ以上１．３５μｍ以下であるときには、反射率をさらに低くすることができるとともに、パーティクルの発生を抑制することができる。また、被処理物へ損傷を与えにくくなる。
【００３０】
主面１ａおよび載置面２ａの粗さ曲線における２５％の負荷長さ率と７５％の負荷長さ率との間の切断レベル差（Ｒδｃ）、二乗平均平方根粗さ（Ｒｑ）および算術平均粗さ（Ｒａ）は、いずれもＪＩＳ  Ｂ  ０６０１：２００１に準拠し、レーザー顕微鏡（例えば、(株)キーエンス社製（ＶＫ−９５１０））を用いて求めればよい。レーザー顕微鏡ＶＫ−９５１０を用いる場合、例えば、測定モードをカラー超深度、測定倍率を１０００倍、１箇所当りの測定範囲を２８１μｍ×２１０μｍ、測定ピッチを０．０５μｍ、λｓ輪郭曲線フィルタを２．５μｍ、λｃ輪郭曲線フィルタを０．０８ｍｍとして求めればよい。
【００３１】
また、本実施形態の載置用部材１０では、主面１ａおよび載置面２ａは、ＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間における明度指数Ｌ*が３０以下であって、クロマティクネス指数
ａ＊，ｂ＊がいずれも−２以上２以下であることが好適である。
【００３２】
このような範囲であると、主面１ａおよび載置面２ａは、波長域３６０ｎｍ〜４４０ｎｍだけでなく、可視光線領域全般に亘って黒色系の無彩色化の傾向が強くなるので、反射率を低減することができる。さらに、無彩色化の傾向が強くなることにより、色むらが抑制される。
【００３３】
明度指数Ｌ＊およびクロマティクネス指数ａ＊，ｂ＊の値は、ＪＩＳ  Ｚ  ８７２２：２００９に準拠して求めることができる。例えば、分光色差計（日本電色工業(株)製ＮＦ７７７またはその後継機種）を用い、測定条件としては、光源をＣＩＥ標準光源Ｄ６５、視野角度を２°に設定すればよい。
【００３４】
次に、載置用部材の製造方法の一例について説明する。まず、主成分の原料である酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）粉末と、着色成分として酸化コバルト（Ｃｏ３Ｏ４）粉末、酸化鉄（Ｆｅ２Ｏ３）粉末、酸化ニッケル（ＮｉＯ）粉末および酸化チタン（ＴｉＯ２）粉末を準備する。また、焼結助剤として、炭酸カルシウム（ＣａＣＯ３）粉末、水酸化マグネシウム（Ｍｇ（ＯＨ）２）粉末および酸化珪素（ＳｉＯ２）粉末を準備する。
【００３５】
次に、これらの粉末を所望量秤量して１次原料粉末とする。例えば、焼結助剤は、セラミック焼結体を構成する全成分１００質量％のうち、カルシウムをＣａＯに換算、マグネシウムをＭｇＯに換算、珪素をＳｉＯ２に換算した含有量の合計が０．６質量％以上２質量％以下となるように秤量する。また、着色成分は、セラミック焼結体を構成する全成分１００質量％のうち、コバルトをＣｏ３Ｏ４に換算した含有量が８質量％以上１２質量％以下、鉄をＦｅ２Ｏ３に換算した含有量が４質量％以上６質量％以下、ニッケルをＮｉＯに換算した含有量が３質量％以上４質量％以下、チタンをＴｉＯ２に換算した含有量が１質量％以上２質量％以下となるように秤量する。そして、残部が酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）粉末となるように秤量する。着色成分の含有量をこのような範囲とすることにより、主面および載置面のＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間における明度指数Ｌ*が、３
０以下であって、クロマティクネス指数ａ＊，ｂ＊がいずれも−２以上２以下である載置用部材とすることができる。
【００３６】
セラミック焼結体の粒界相がコバルトスピネル、鉄スピネルおよびニッケルスピネルの少なくともいずれかを含む載置用部材を得るには、まず、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）粉末を分級して、平均粒径の小さい酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）粉末を得る。そして、上述した含有量の範囲の酸化コバルト（Ｃｏ３Ｏ４）粉末、酸化鉄（Ｆｅ２Ｏ３）粉末および酸化ニッケル（ＮｉＯ）粉末を平均粒径の小さい酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）粉末とともに混合して、１１００℃以上１３００℃以下の温度で仮焼合成した後、ボールミルなどの粉砕機を用いて所望の平均粒径となるまで粉砕した粉末を用いればよい。
【００３７】
セラミック焼結体の粒界相がチタン酸アルミニウムを含む載置用部材を得るには、上述した含有量の範囲の酸化チタン（ＴｉＯ２）粉末を混合し、１１００℃以上１３００℃以下の温度で仮焼合成した後、ボールミルなどの粉砕機を用いて所望の平均粒径となるまで粉砕した粉末を用いればよい。
【００３８】
次に、１次原料粉末１００質量部に対し、０．１質量部以上１質量部以下のＰＥＧ（ポリエチレングリコール）などのバインダと、１００質量部の溶媒とを秤量し、１次原料粉末とともに混合・攪拌してスラリーを得る。
【００３９】
その後、噴霧造粒装置（スプレードライヤー）を用いてスラリーを噴霧造粒して顆粒を得た後、粉末プレス成形法や静水圧プレス成形法（ラバープレス法）により所望形状の成形体を成形する。
【００４０】
次に、得られた成形体に必要に応じて切削加工を施し、大気（酸化）雰囲気中、例えば、１４００℃以上１５００℃以下で所望時間保持して焼成することにより、基板と、基板の一方の表面に、複数の突出部とを備えてなる載置用部材の前駆体を得ることができる。そして、得られた前駆体の基板の表面にブラスト加工を施した後、ガラスビーズ、セラミックビーズ等の精密研磨用微粉によるショットピーニングを施すことによって本実施形態の載置用部材を構成する基板の主面とすることができる。また、得られた前駆体の突出部の頂面に順次、ブラスト加工、平面研削盤による研削加工を施した後、上述したショットピーニングを施すことによって載置用部材を構成する突出部の載置面が得られ、本実施形態の載置用部材を得ることができる。
【００４１】
なお、主面１ａの切断レベル差（Ｒδｃ）を１．１μｍ以上、また、載置面２ａの切断レベル差（Ｒδｃ）を１．１μｍ以上とするには、ＪＩＳ  Ｒ  ６００１：１９９８の沈降試験法で規定する粒度が＃５００以上＃１０００以下の精密研磨用微粉を適宜選択して基板の一方の表面および突出部の頂面にショットピーニングを施せばよい。
【００４２】
本発明は前述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々の変更、改良、組合せ等が可能である。
【００４３】
以下、本発明の実施例を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【実施例１】
【００４４】
まず、主成分の原料である酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）粉末と、着色成分として酸化コバルト（Ｃｏ３Ｏ４）粉末、酸化鉄（Ｆｅ２Ｏ３）粉末、酸化ニッケル（ＮｉＯ）粉末および酸化チタン（ＴｉＯ２）粉末を準備した。また、焼結助剤として、炭酸カルシウム（ＣａＣＯ３）粉末、水酸化マグネシウム（Ｍｇ（ＯＨ）２）粉末および酸化珪素（Ｓ
ｉＯ２）粉末を準備した。
【００４５】
次に、これらの粉末を所望量秤量して１次原料粉末とした。ここで、焼結助剤は、セラミック焼結体を構成する全成分１００質量％のうち、カルシウムをＣａＯに換算、マグネシウムをＭｇＯに換算、珪素をＳｉＯ２に換算した含有量の合計が１．３質量％となるように秤量した。また、着色成分は、セラミック焼結体を構成する全成分１００質量％のうち、コバルトをＣｏ３Ｏ４に換算した含有量が９．５質量％、鉄をＦｅ２Ｏ３に換算した含有量が５質量％、ニッケルをＮｉＯに換算した含有量が３．５質量％、チタンをＴｉＯ２に換算した含有量が１．５質量％となるように秤量した。そして、残部が酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）粉末となるように秤量した。
【００４６】
次に、この１次原料粉末１００質量部に対し、０．５質量部以下のＰＥＧ（ポリエチレングリコール）などのバインダと、１００質量部の溶媒とを秤量し、１次原料粉末とともに混合・攪拌してスラリーを得た。
【００４７】
その後、噴霧造粒装置（スプレードライヤー）を用いてスラリーを噴霧造粒して顆粒を得た後、静水圧プレス成形法（ラバープレス法）により成形体を成形した。
【００４８】
次に、得られた成形体に切削加工を施し、大気（酸化）雰囲気中、１４５０℃で保持して焼成することにより、基板と、基板の一方の表面に、複数の突出部とを備えてなる載置用部材の前駆体である試料Ｎｏ．１を得た。
【００４９】
また、比較例として、主成分の原料である酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）粉末と、着色成分として、炭酸マンガン（ＭｎＣＯ３）粉末、酸化鉄（Ｆｅ２Ｏ３）粉末、酸化クロム（Ｃｒ２Ｏ３）粉末を準備した。また、焼結助剤として、炭酸カルシウム（ＣａＣＯ３）粉末、水酸化マグネシウム（Ｍｇ（ＯＨ）２）粉末および酸化珪素（ＳｉＯ２）粉末を準備した。
【００５０】
次に、これらの粉末を所望量秤量して１次原料粉末とした。ここで、焼結助剤は、セラミック焼結体を構成する全成分100質量％のうち、焼結助剤は、それぞれＣａＯ、ＭｇＯ
、ＳｉＯ２換算した合計で１．５質量％となるように秤量した。また、着色成分は、セラミック焼結体を構成する全成分１００質量％のうち、マンガンをＭｎＯ２換算、鉄をＦｅ２Ｏ３換算、ＣｒをＣｒ２Ｏ３換算した値の合計で１０質量％となるように秤量した。そして、残部が酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）粉末となるように秤量した。
【００５１】
次に、この１次原料粉末１００質量部に対し、１質量部のＰＶＡと、０．２質量部の分散剤と、１００質量部の溶媒とを秤量し、１次原料粉末とともに混合・攪拌してスラリーを得た。
【００５２】
その後、噴霧造粒装置（スプレードライヤー）を用いてスラリーを噴霧造粒して顆粒を得た後、静水圧プレス成形法（ラバープレス法）により成形体を成形した。
【００５３】
次に、得られた成形体に切削加工を施し、大気（酸化）雰囲気中、１４５０℃で保持して焼成することにより、基板と、基板の一方の表面に、複数の突出部とを備えてなる載置用部材の前駆体である試料Ｎｏ．２を得た。
そして、試料Ｎｏ．１，２の基板の表面にブラスト加工を施して主面とした後、この主面に含まれる着色成分を構成する元素をエネルギー分散型Ｘ線分析装置（ＥＤＳ）を用いて検出し、検出された元素を表１に元素記号で示した。
【００５４】
また、分光測色計（コニカミノルタ製  ＣＭ−３７００Ａ）を用いて、光源をＣＩＥ標準光源Ｄ６５、視野角を１０°、照明径を３ｍｍ×５ｍｍとして３６０〜４４０ｎｍの波
長領域における主面の反射率を測定し、反射率の最大値を表１に示した。
【００５５】
【表１】
0006608750.tif 000002
【００５６】
表１に示す結果から、試料Ｎｏ．１は、コバルト、鉄、ニッケルおよびチタンの酸化物を含むセラミック焼結体からなる載置用部材であることから、主面の反射率が６．５％と低く、露光精度を向上させられることがわかった。 
【実施例２】
【００５７】
実施例１で示した方法と同じ方法で載置用部材の前駆体を作製した。
【００５８】
そして、この前駆体の基板の表面にブラスト加工を施した後、ガラスビーズによるショットピーニングを施すことによって載置用部材を構成する基板の主面とした。ここで、ガラスビーズの粒度およびショットピーニングを施す時間は適宜調整した。
【００５９】
主面の粗さ曲線における２５％の負荷長さ率と７５％の負荷長さ率との間の切断レベル差（Ｒδｃ）は、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１：２００１に準拠し、レーザー顕微鏡（(株)キーエンス社製（ＶＫ−９５１０））を用いて求め、その値を表２に示した。ここで、測定条件は、測定モードをカラー超深度、測定倍率を１０００倍、測定範囲を２８１μｍ×２１０μｍ、測定ピッチを０．０５μｍ、λｓ輪郭曲線フィルタを２．５μｍ、λｃ輪郭曲線フィルタを０．０８ｍｍとした。
【００６０】
また、実施例１で示した方法と同じ方法により、主面の反射率を測定し、反射率の最大値を表２に示した。
【００６１】
【表２】
0006608750.tif 000003
【００６２】
表２に示す結果から、試料Ｎｏ．４〜７は、基板の主面の切断レベル差（Ｒδｃ）が１．１μｍ以上であることから、主面の反射率が６．２％以下と低く、露光精度を向上させられることがわかった。
【実施例３】
【００６３】
実施例１で示した方法と同じ方法で載置用部材の前駆体を作製した。
【００６４】
そして、この前駆体の突出部の頂面に順次、ブラスト加工、平面研削盤による研削加工を施した後、上述したショットピーニングを施すことによって載置用部材を構成する突出部の載置面とした。ここで、ガラスビーズの粒度およびショットピーニングを施す時間は適宜調整した。
【００６５】
載置面の粗さ曲線における２５％の負荷長さ率と７５％の負荷長さ率との間の切断レベル差（Ｒδｃ）は、実施例２で示した方法と同じ方法で求め、その値を表３に示した。
また、実施例１で示した方法と同じ方法により、載置面の反射率を測定し、反射率の最大値を表３に示した。
【００６６】
【表３】
0006608750.tif 000004
【００６７】
表３に示す結果から、試料Ｎｏ．９〜１２は、突出部の載置面の切断レベル差（Ｒδｃ）が１．１μｍ以上であることから、載置面の反射率が６．２％以下と低く、露光精度を向上させられることがわかった。
【符号の説明】
【００６８】
１    基板
１ａ  主面
２    突出部
２ａ  載置面
３    吸引孔
１０  載置用部材
【図１】
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