(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光ビームを出射する光源と、前記光源から出射された光ビームが感光体上を走査するように前記光ビームを偏向する回転多面鏡と、前記回転多面鏡によって偏向された前記光ビームを前記感光体に導く光学部材と、前記光源が取り付けられ、前記回転多面鏡、及び前記光学部材を収容する光学箱と、前記光学箱の開口を覆うために前記光学箱の側壁に取り付けられるカバーと、を備える光走査装置であって、
前記カバーには、前記カバーと前記側壁とによって挟まれて弾性変形し前記光学箱の内部を防塵する防塵部材が射出成形される溝が形成されており、
前記溝は、第１の壁部と、前記防塵部材が射出成形されていない状態のときに前記第１の壁部と対向する第２の壁部と、前記第１の壁部と前記第２の壁部とを連結する底部と、を有し、
前記底部は、第１の底部と、前記第１の底部よりも前記溝の深い位置に形成された第２の底部と、を有し、
前記防塵部材は、
前記溝の深さ方向において前記防塵部材よりも上流側から前記防塵部材を見たときに前記第２の底部と重なる領域であって前記側壁が当接する領域である当接領域と、
前記防塵部材の短手方向である幅方向において前記当接領域に隣接し、前記深さ方向において前記防塵部材よりも上流側から前記防塵部材を見たときに前記第１の底部と重なる領域であって前記側壁が当接しない領域である非当接領域と、を有し、
前記非当接領域には前記側壁が前記当接領域に当接して前記当接領域を押圧することに応じて前記幅方向における幅が狭くなる凹部が形成されており、
前記幅方向における前記第２の底部の幅は前記幅方向における前記側壁の幅よりも広いことを特徴とする光走査装置。
【請求項２】
前記凹部が形成された前記非当接領域は、前記カバーが前記光学箱に取り付けられた状態のときに、前記光学箱の内側に位置することを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
【請求項３】
前記幅方向における前記溝の幅は、前記カバーが前記光学箱に取り付けられたときに、前記側壁が前記防塵部材に食い込む深さよりも大きいことを特徴とする請求項１又は２に記載の光走査装置。
【請求項４】
前記溝は、前記カバーの全周に渡って設けられていることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の光走査装置。
【請求項５】
感光体と、
前記感光体に光ビームを照射して前記感光体上に静電潜像を形成する請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の光走査装置と、
前記光走査装置により形成された静電潜像を現像しトナー像を形成する現像手段と、
前記現像手段により形成されたトナー像を記録媒体に転写する転写手段と、を備えることを特徴とする画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、画像形成装置に備えられる光走査装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、電子写真方式を用いた画像形成装置は、表面が一様な電位に帯電された感光ドラム上に、光走査装置から出射された画像情報に応じた光ビームを走査し、静電潜像を形成する。形成された静電潜像は、現像剤（トナー）により現像されて可視像化され、可視像化されたトナー像は用紙に転写された後、定着器により未定着トナー像は用紙に定着され、排紙される。光ビームを走査する光走査装置は、発光源である半導体レーザから出射された光ビームを偏向する回転多面鏡を備えた偏向装置や、光学レンズ（ｆθレンズ）、折返しミラー等の光学系を有している。近年、画像形成装置において高速記録の要求が高まってきており、光走査装置における走査速度の高速化、即ち偏向装置の回転多面鏡の高速回転化が進んでいる。回転多面鏡が高速回転すると、回転多面鏡のミラー面において正圧の領域と負圧の領域が発生し、負圧の領域に当たるミラー面に空気中の微小な塵埃やミストなどの汚れが付着する。回転多面鏡に汚れが付着すると、汚れが付着した部分の反射率が下がる。そのため、光走査装置から出射され、回転多面鏡で偏向される光ビームの光量が低下し、感光ドラムへの書込み不良、ひいては感光ドラム上に形成された画像が転写される用紙上での画像劣化を引き起こすという課題がある。
【０００３】
この課題に対処するため、従来の光走査装置においては、次のような構成により、光走査装置の密閉性を確保している。即ち、光学部品を搭載している筐体（以下、光学箱という）の上部に設けられた開口部に、開口部を覆うカバー部品（以下、上カバーという）をかぶせ、光学箱と上カバーが当接する部分に、発泡部材等の柔らかいシール部材で構成されたシール部を挟み込む。更に、上カバーと光学箱とをスナップフィットやねじを用いて締結することで、シール部のシール部材を押圧し、光走査装置の密閉性を確保する構成が採られている。
【０００４】
ところが、この構成の場合には、押圧されたシール部材の反発力による上カバーの変形や、押圧され続けることによるシール部材のへたりが生じる場合がある。そのため、上カバーの変形やシール部材のへたりに伴う光走査装置の密閉性の低下が課題となる。そこで、光学箱の密閉度の低下を防止するために、上カバーの変形やシール部材のへたりを極力減らす対策が提案されている。例えば、特許文献１では、上カバーをねじにより締結させるための固定座面が複数設けられた光学箱が提案されている。この光学箱では、上カバーがねじ止めされる固定座面は高さが高いものと低いものがあり、使用開始時には、高さの高い固定座面と上カバーが、ねじにより締結される。固定座面は除去可能であり、シール部材がへたると上カバーの組み直しを行い、今まで使用していた高さの高い固定座面を除去し、高さの低い固定座面に上カバーをねじ止めすることによりシール部材がへたった状態でも締結が可能となる。更に、高さの高い固定座面を除去し、高さの低い固定座面にねじ止めすることにより、固定座面からの反発力による上カバーの変形を抑えることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１４−１２３６８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記方法ではシール部材の反発力による上カバー変形の根本的な解決には至らない。上カバーの変形に伴ったシール部材の隙間、上カバー変形によるその他部材剥がれ、上カバーからのシール部材の剥がれなどが発生する可能性があり、防塵性能低下への対応は困難である。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は上記課題を鑑みてなされたもので、本発明の光走査装置は、光ビームを出射する光源と、前記光源から出射された光ビームが感光体上を走査するように前記光ビームを偏向する回転多面鏡と、前記回転多面鏡によって偏向された前記光ビームを前記感光体に導く光学部材と、前記光源が取り付けられ、前記回転多面鏡、及び前記光学部材を収容する光学箱と、前記光学箱の開口を覆うために前記光学箱の側壁に取り付けられるカバーと、を備える光走査装置であって、前記カバーには、前記カバーと前記側壁とによって挟まれて弾性変形し前記光学箱の内部を防塵する防塵部材が射出成形される溝が形成されており、前記溝は、第１の壁部と、前記防塵部材が射出成形されていない状態のときに前記第１の壁部と対向する第２の壁部と、前記第１の壁部と前記第２の壁部とを連結する底部と、を有し、前記底部は、第１の底部と、前記第１の底部よりも前記溝の深い位置に形成された第２の底部と、を有し、前記防塵部材は、前記溝の深さ方向において前記防塵部材よりも上流側から前記防塵部材を見たときに前記第２の底部と重なる領域であって前記側壁が当接する領域である当接領域と、前記防塵部材の短手方向である幅方向において前記当接領域に隣接し、前記深さ方向において前記防塵部材よりも上流側から前記防塵部材を見たときに前記第１の底部と重なる領域であって前記側壁が当接しない領域である非当接領域と、を有し、前記非当接領域には前記側壁が前記当接領域に当接して前記当接領域を押圧することに応じて前記幅方向における幅が狭くなる凹部が形成されており、前記幅方向における前記第２の底部の幅は前記幅方向における前記側壁の幅よりも広いことを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
カバーに射出成型した防塵部材の剥がれを抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】実施例の画像形成装置の構成を表す概略断面図
【図２】実施例の光走査装置の主走査断面図、及び光走査装置の構成を示す断面図
【図３】実施例の光走査装置の上カバーを装着した状態、及び上カバーを外した状態を示す斜視図
【図４】実施例の上カバーの裏面を示す斜視図
【図５】実施例のシール部の形状を示す断面図
【図６】実施例の上カバー装着時の光学箱とシール部の当接状態を示す断面図
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下に、図面を参照して本発明の実施の形態について詳細に説明する。
【実施例】
【００１１】
［画像形成装置の概要］
図１は、実施例の電子写真方式の画像形成装置１００の概略断面図である。図１の画像形成装置は、給紙部１０１、画像形成ユニット１０２Ｙ、１０２Ｍ、１０２Ｃ、１０２Ｂｋ、光走査装置１０３、１０４、中間転写ベルト１０５、定着装置１０６を備えている。給紙部１０１は、用紙（記録紙ともいう）を給紙し、二次転写部Ｔ２へ搬送する。光走査装置１０３は、画像形成ユニット１０２Ｙ、１０２Ｍ内の感光ドラム１０７Ｙ、１０７Ｍに光ビームを照射して、各感光ドラム上に静電潜像を形成する。光走査装置１０４は、画像形成ユニット１０２Ｃ、１０２Ｂｋ内の感光ドラム１０７Ｃ、１０７Ｂｋを走査して、各感光ドラム上に静電潜像を形成する。画像形成ユニット１０２Ｙ、１０２Ｍ、１０２Ｃ、１０２Ｂｋは、それぞれイエロー（Ｙ）、マゼンタ（Ｍ）、シアン（Ｃ）、ブラック（Ｂｋ）のトナー像を感光ドラム１０７Ｙ、１０７Ｍ、１０７Ｃ、１０７Ｂｋ上に形成する。なお、以下ではトナーの色を表す符号Ｙ、Ｍ、Ｃ、Ｂｋは必要な場合を除き省略する。中間転写ベルト１０５には、各々の画像形成ユニット１０２の感光ドラム１０７上に形成されたトナー像が転写され、二次転写部Ｔ２において、中間転写ベルト１０５上のトナー像は、給紙部１０１から給紙された記録紙に一括して転写される。定着装置１０６は、記録紙上に転写された未定着のトナー像を記録紙に定着させる。
【００１２】
本実施例の画像形成装置の画像形成ユニット１０２Ｙ、１０２Ｍ、１０２Ｃ、１０２Ｂｋの構成要素は同一であるため、以下では、画像形成ユニット１０２Ｙを用いて説明をする。また、以下の説明において、後述する回転多面鏡２０５の回転軸方向をＺ軸方向、光ビームの走査方向である主走査方向、又は後述する折返しミラーの長手方向をＹ軸方向、Ｙ軸及びＺ軸に垂直な方向をＸ軸方向とする。
【００１３】
画像形成ユニット１０２Ｙは、感光体である感光ドラム１０７Ｙ、帯電装置１０８Ｙ、現像装置１０９Ｙを備える。画像を形成する際に、帯電装置１０８Ｙは、感光ドラム１０７Ｙの表面を一様な電位に帯電する。帯電された感光ドラム１０７Ｙの表面は、光走査装置１０３によって露光され、静電潜像が形成される。この静電潜像は、現像装置１０９Ｙによって供給されるイエローのトナーによって可視像化（現像）され、トナー像が形成される。一次転写部Ｔｙでは、感光ドラム１０７Ｙに対向するように一次転写ローラ１１０Ｙが配設されている。一次転写ローラ１１０Ｙに所定の転写電圧を印加することによって、感光ドラム１０７Ｙ上（感光体上）に形成されたトナー像が、中間転写ベルト１０５に転写される。同様に、他の色の感光ドラム１０７Ｍ、１０７Ｃ、１０７Ｂｋ上のトナー像も、一次転写部Ｔｍ、Ｔｃ、ＴＢｋに配設された一次転写ローラ１１０Ｍ、１１０Ｃ、１１０Ｂｋによって、中間転写ベルト１０５上に転写される。
【００１４】
二次転写部Ｔ２では、中間転写ベルト１０５に対向するように二次転写ローラ１１１が配設されている。そして、二次転写ローラ１１１に所定の転写電圧を印加することによって、中間転写ベルト１０５上のトナー像が給紙部１０１から搬送された記録媒体である記録紙に転写される。トナー像が転写された記録紙は定着装置１０６に搬送され、未定着のトナー像は定着装置１０６によって加熱され、記録紙に定着される。そして、定着装置１０６により定着処理が行われた記録紙は、不図示の排紙部に排出される。
【００１５】
［光走査装置の光路］
次に、光走査装置１０３、１０４について説明する。本実施例の画像形成装置は、感光ドラム１０７Ｙ、１０７Ｍを露光する光走査装置１０３と、感光ドラム１０７Ｃ、１０７Ｂｋを露光する光走査装置１０４と、を備えている。光走査装置１０３、１０４は、図１に示すように同一構成であり、以下では、光走査装置１０３を用いて説明をする。
【００１６】
図２（ａ）は、感光ドラム１０７Ｙ、１０７Ｍを露光する光走査装置１０３の光路を一平面上に展開した主走査断面図である。ここで、回転多面鏡２０５の回転によってレーザ光が走査される方向を主走査方向、主走査方向に直交し、かつ回転多面鏡２０５の回転軸と垂直な方向を副走査方向という。主走査断面とは、レーザ光の走査方向と平行でかつ回転多面鏡２０５の回転軸と垂直な平面（回転多面鏡の回転軸を法線とする平面）のことである。
【００１７】
図２（ａ）に示すように、回転多面鏡２０５は、光源２０１から出射されるレーザ光を図２（ａ）での左方向に偏向し、光源２０８から出射されるレーザ光を図２（ａ）での右方向に偏向する。その結果、光源２０１から出射されるレーザ光は、矢印Ｃ方向に走査され（第１走査経路）、光源２０８から出射されるレーザ光は、矢印Ｄ方向に走査される（第２走査経路）。
【００１８】
第１走査経路において、光源２０１から出射されたレーザ光（光ビーム）はコリメータレンズ２０２によって平行光に変換され、直後に設置されたシリンドリカルレンズ２０３によって副走査方向のみ収束されたレーザ光となる。そして、副走査方向のみ収束されたレーザ光は、絞り２０４によって所定の形状に整形された後、回転多面鏡２０５の反射面上で線状に結像される。回転多面鏡２０５の反射面に結像されたレーザ光は、回転多面鏡２０５の図中矢印方向（時計回り方向）の回転によって感光ドラム１０７への走査光に変換され、光学部材であるｆθレンズ２０６、２０７を介して感光ドラム１０７の表面上を等速度走査する。
【００１９】
第２走査経路において、光源２０８から出射されたレーザ光（光ビーム）はコリメータレンズ２０９によって平行光に変換され、直後に設置されたシリンドリカルレンズ２１０によって副走査方向のみ収束されたレーザ光となる。そして、副走査方向のみ収束されたレーザ光は、絞り２１１によって所定の形状に整形された後、回転多面鏡２０５の反射面上で線状に結像される。回転多面鏡２０５の反射面に結像されたレーザ光は、回転多面鏡２０５の回転によって感光ドラム１０７への走査光に変換され、光学部材であるｆθレンズ２１２、２１３を介して感光ドラム１０７の表面上を等速度走査する。
【００２０】
［光走査装置の構成］
図２（ｂ）は、図２（ａ）で説明した感光ドラム１０７Ｙ、１０７Ｍを走査する光走査装置１０３の構成を示す断面図である。図２（ａ）では、レンズや後述する折返しミラー（図２（ａ）では不図示）から構成される光学系を通過するレーザ光の光路を平面上に展開した主走査断面図について説明した。実際の光走査装置では、図２（ｂ）に示すように折返しミラーを用いて立体的な光路が形成されている。図２（ｂ）において、光源２０１から出射されたレーザ光は、回転多面鏡２０５により偏向される。偏向されたレーザ光は、ｆθレンズ２０６を通過した後に光学部材である折返しミラー２１４によって反射され、ｆθレンズ２０７に導かれる。そして、ｆθレンズ２０７を通過したレーザ光は、折返しミラー２１５によって反射され、感光ドラム１０７Ｍに導かれる。
【００２１】
一方、光源２０８から出射されたレーザ光は、回転多面鏡２０５により偏向される。偏向されたレーザ光は、ｆθレンズ２１２を通過した後に折返しミラー２１６によって反射され、ｆθレンズ２１３に導かれる。そして、ｆθレンズ２１３を通過したレーザ光は、折返しミラー２１７によって反射され、感光ドラム１０７Ｙに導かれる。なお、回転多面鏡２０５は、駆動モータ２１８によって支持されると共に、駆動モータ２１８により回転駆動される。本実施例では、回転多面鏡２０５と駆動モータ２１８は一体として、偏向手段を形成している。
【００２２】
図２（ｂ）に示すように、光学部品であるｆθレンズ２０６、２０７、２１２、２１３、折返しミラー２１４、２１５、２１６、２１７、回転多面鏡２０５、駆動モータ２１８は、筐体である光学箱２１９の内部に収容され、光走査装置１０３を構成する。光学箱２１９は、例えば、ポリカーボネイトやポリスチレンなどの合成樹脂にガラス繊維を混ぜて補強した材質で形成されることが多い。また、図２（ｂ）の光学箱２１９の上部の開口部には、内部に塵埃が侵入しないように、上カバー３０１が装着される。上カバー３０１には、感光ドラム１０７Ｙ、１０７Ｍに導かれるレーザ光が通過する開口部が設けられており、開口部から光学箱２１９の内部に塵埃が侵入しないように、開口部の感光ドラム１０７に対向する側には防塵ガラス３０３が設置されている。防塵ガラス３０３は両面テープ３０２により上カバー３０１に接着されている。
【００２３】
［光走査装置の外観］
図３は、光走査装置１０３の外観を示す斜視図であり、図３（ａ）は、上述した上カバー３０１を光学箱２１９に装着した状態の光走査装置１０３の外観を示した斜視図である。一方、図３（ｂ）は、光走査装置１０３の内部構成を示す斜視図であり、上カバー３０１を取り外した状態を示している。上カバー３０１の感光ドラム１０７に対向する側には、額縁状の両面テープ３０２（図３（ｂ））によって上カバー３０１に接着された防塵ガラス３０３が具備されており、レーザ光は、感光ドラム１０７に向かって防塵ガラス３０３を通過する。なお、両面テープ３０２は、防塵ガラス３０３と上カバー３０１とを接着するために、防塵ガラス３０３の外周部に沿って額縁状に具備される。そのため、両面テープ３０２は、図３（ａ）では防塵ガラス３０３に隠れてしまうので、両面テープ３０２の位置を明示するため、図３（ｂ）に両面テープ３０２を表示している。また、上カバー３０１外周には、スナップフィット機構を構成する係止爪３０４（図３（ａ））が配置されている。そして、係止爪３０４に対してスナップフィット機構を構成する係止部であるところの突起部３１１（図３（ｂ））と係止爪３０４を係合させることにより、上カバー３０１を光学箱２１９に取り付けることができる。
【００２４】
［シール部の概要］
図４は、上カバー３０１の裏面、即ち上カバー３０１を光学箱２１９に装着した際に光学箱２１９に対向する側の面を示した斜視図である。上カバー３０１裏面には、上カバー３０１を光学箱２１９に装着した際に、光学箱２１９の外周縁を構成する側壁と当接する部分全周に、シール部３０５（図中、太い黒部分）が具備されている。シール部３０５は、上カバー３０１と、上カバー３０１に当接した型との間の空間に、弾性部材であるホットメルト接着剤を射出することにより、上カバー３０１上に形成され、上カバー３０１と一体となる。前述した光学箱２１９の側壁の外壁側面に設けられた突起部３１１（図３（ｂ））に、上カバー３０１に設けられた係止爪３０４を係止することで、上カバー３０１は光学箱２１９に装着される。そして、防塵部材であるシール部３０５は、光学箱２１９と上カバー３０１によって挟まれることにより、シール部３０５を介して光学箱２１９の内部と外部が遮断されて密閉され、光学箱２１９の内部が防塵される。
【００２５】
［シール部の形状］
図５は、上カバー３０１に具備されたシール部３０５の短手方向の断面形状を表した概略断面図である。図５において、上側は上カバー３０１の表面側であり、下側は、上カバー３０１を光学箱２１９に装着したときに光学箱２１９と対向する上カバー３０１の裏面側である。また、図５において、右側は、上カバー３０１を光学箱２１９に装着したときの光学箱２１９の外側に当たり、左側は、上カバー３０１を光学箱２１９に装着したときの光学箱２１９の内側、即ち回転多面鏡２０５、光学部材等が収納された側に当たる。
【００２６】
上カバー３０１はシール部３０５を射出成形するための流路を備える。図５に示すように、上カバー３０１は、上記流路を形成する外周壁３１０と内周壁３１３を備える。また、上カバー３０１は、外周壁３１０と内周壁３１３とをつなぎ、流路の底となる底部は、第１の底部３１１、および第２の底部３１２を含む。第１の底部３１１と第２の底部３１２との間には段差３１４（連結面）が設けられており、第１の底部３１１の深さよりも第２の底部３１２の深さの方が浅い。段差３１４は第１の底部３１１と第２の底部３１２とを連結する面である。
【００２７】
シール部３０５は、上カバー３０１を光学箱２１９に装着時に、光学箱２１９の側壁に当接し押圧される当接部であるシール部３０５Ａと、シール部３０５Ａの両側に光学箱２１９には当接しない非当接部であるシール部３０５Ｂ、３０５Ｃから構成されている。シール部３０５Ｂは、シール部３０５Ａに隣接し、シール部３０５Ａに対し光学箱２１９の内側に位置するシール部であり、溝３０６が設けられている。一方、シール部３０５Ｃは、シール部３０５Ａに隣接し、シール部３０５Ａを介して、シール部３０５Ｂとは反対側の、光学箱２１９の外側に位置している。
【００２８】
（シール部３０５Ａ）
シール部３０５Ａには、光学箱２１９に対向する方向（−Ｚ軸方向）に凸形状を有する凸部である凸形状部３０７、３０９、及び光学箱２１９に対向する方向に凹形状を有する凹部である凹形状部３０８、３１０が設けられている。凹形状部３０８は、凸形状部３０７と凸形状部３０９との間に位置し、凹形状部３１０は、凸形状部３０９とシール部３０５Ｃとの間に位置する。シール部３０５Ａを光学箱２１９の方向から見ると、シール部３０５Ａは、凸形状部３０７とシール部３０５Ｃにより形成された開口部の中に、凹形状部３０８、３１０により形成される溝部が凸形状部３０９により仕切られた構成となっている。
【００２９】
凸形状部３０７は、シール部３０５Ｂに接続されるシール部３０５Ａの端部に位置し、３つの面ａ、ｂ、ｃを有する。面ａは、上カバー３０１を光学箱２１９に装着したときに光学箱２１９に対向する方向に立ちあがった立壁部を構成し、隣接する面ｂとシール部３０５Ｂの面ｅに接続されている。面ａに隣接する面ｂは、Ｘ軸方向に延びた平面であり、隣接する面ｃと接続されている。面ｂに隣接する面ｃは、＋Ｚ軸方向及び＋Ｘ軸方向に傾斜した面であり、隣接する凹形状部３０８の面ｄと接続されている。
【００３０】
凸形状部３０９は、シール部３０５Ａの中央から＋Ｘ軸方向、即ちシール部３０５Ｃ寄りに位置し、光学箱２１９に対向する方向に半円形状の凸部である面ｆを有している。面ｆの一端は、凹形状部３１０に隣接し（接続され）、面ｆの他端は、凹形状部３０８の面ｅに隣接している（接続されている）。また、凸形状部３０９の高さ（シール部３０５の上カバー３０１側の底面からの−Ｚ軸方向（光学箱方向）の高さ）は、凸形状部３０７の面ｂの高さ（シール部３０５の上カバー３０１側の底面からの−Ｚ軸方向の高さ）よりも低い。
【００３１】
凹形状部３０８は、凸形状部３０７と凸形状部３０９との間に位置し、２つの面ｄ、ｅを有する。面ｄは、上カバー３０１を光学箱２１９に装着したときに光学箱２１９に対向する方向に立ちあがった立壁部を構成し、一端は凸形状部３０７の面ｃに接続され、他端は隣接する面ｅと接続されている。面ｄに隣接する面ｅは、Ｘ軸方向に延びた平面（凹形状部３０８の底面でもある）であり、隣接する凸形状部３０９と接続されている。
【００３２】
凹形状部３１０は、凸形状部３０９とシール部３０５Ｃとの間に位置する。凹形状部３１０は、一端は凸形状部３０９の面ｆに接続され、他端は隣接するシール部３０５Ｃの面ｎと接続されている。
【００３３】
（シール部３０５Ｂ）
シール部３０５Ｂは、面ｇ、溝３０６、面ｋから構成されている。面ｇは、上カバー３０１の光学箱２１９に対向する底面が延長される形状で形成されたＸ軸方向の平面である。溝３０６は、３つの面ｈ、ｉ、ｊを有している。面ｈは、面ｇと隣接する面であり、光学箱２１９から離れる方向に立ちあがった立壁部を構成し、一端は面ｇと接続され、他方は、面ｉと接続されている。面ｉは、光学箱２１９から離れる方向に半円形状の凹部である面を有している。面ｉの一端は面ｈに隣接し（接続され）、他端は面ｊに隣接している（接続されている）。面ｊは、面ｋと隣接する面であり、光学箱２１９から離れる方向に立ちあがった立壁部を構成し、一端は面ｋと接続され、他方は、面ｉと接続されている。面ｋは、溝３０６を介して、面ｇが延長される形状で形成されたＸ軸方向の平面であり、一端は、溝３０６の面ｊに接続され、他端は、シール部３０５Ａの凸形状部３０７の面ａに接続されている。
【００３４】
また、溝３０６の幅（短手方向の長さ）は、開口部における距離、即ち溝３０６の面ｈと面ｊとの間の距離を指し、溝３０６の深さは、溝３０６の開口部、即ち、シール部３０５Ｂの面ｇ、ｋから、溝３０６の面ｉの最深部までの距離を指す。
【００３５】
（シール部３０５Ｃ）
シール部３０５Ｃは、面ｌ、ｍ、ｎから構成されている。面ｌは、上カバー３０１の光学箱２１９方向の端部の平面が延長される形状で、シール部３０５Ｃの光学箱２１９の外側の端部に形成されたＸ軸方向の平面である。面ｍは、面ｌと隣接する面であり、上カバー３０１を光学箱２１９に装着したときに光学箱２１９から離れる方向に立ちあがった立壁部を構成し、一端は面ｌと接続され、他端は面ｎと接続されている。面ｎは−Ｚ軸方向及び−Ｘ軸方向に傾斜した面であり、一端は面ｍと接続され、他端はシール部３０５Ａの隣接する凹形状部３１０と接続されている。なお、シール部３０５Ｃの面ｌの高さ（シール部３０５の上カバー３０１側の底面からの−Ｚ軸方向（光学箱方向）の高さ）は、シール部３０５Ａの凸形状部３０７の面ｂの高さ（シール部３０５の上カバー３０１側の底面からの−Ｚ軸方向の高さ）よりも高い。
【００３６】
［光学箱に上カバーを装着したときのシール部の状態］
図６は、上カバー３０１を光学箱２１９に装着したときの、上カバー３０１に設けられたシール部３０５と光学箱２１９の外周縁を構成する側壁の面２１９ｂ、２１９ｃが当接（接触）した状態のシール部３０５の短手方向の断面を表した模式図である。図６に示すように、光学箱２１９は、４つの面２１９ａ、２１９ｂ、２１９ｃ、２１９ｄを有している。面２１９ａは、光学箱２１９の外側に面した壁面であり、面２１９ｂは、面２１９ａに隣接する面であり、光学箱２１９の上カバー３０１に対向する外周縁の先端部である頂面である。面２１９ｃは、面２１９ｂに隣接する面であり、−Ｘ軸方向、及び−Ｚ軸方向に傾斜した面（光学箱２１９の内側方向に傾斜した面）である。面２１９ｄは、面２１９ｃに隣接する面であり、光学箱２１９の内側に面した面である。
【００３７】
図６に示すように、シール部３０５Ａの凸形状部３０９、３０７は、それぞれに光学箱２１９の面２１９ｂ、２１９ｃに当接している。一方、凸形状部３０９と凸形状部３０７の間に設けられた凹形状部３０８は、光学箱２１９の面２１９ｂ、２１９ｃに当接（接触）せず、凸形状部３０７、３０９と光学箱２１９の面２１９ｃにより、密閉部（閉塞部又は閉空間）を構成している。また、上カバー３０１を光学箱２１９に装着する際、光学箱２１９の面２１９ｂは、シール部３０５Ｃの傾斜面である面ｎの傾斜に沿って、＋Ｚ軸方向、即ちシール部３０５Ａの凸形状部３０９に向かって案内される。その結果、光学箱２１９の面２１９ｂは凸形状部３０９に当接し、凸形状部３０９は光学箱２１９の面２１９ｂにより＋Ｚ軸方向に押圧され、弾性変形する。また、光学箱２１９の面２１９ｃは、シール部３０５Ａの凸形状部３０７の面ｂ、ｃに当接し、凸形状部３０７の面ｂ、ｃは、＋Ｚ軸方向及び−Ｘ軸方向に押圧され、弾性変形する。そして、シール部３０５と光学箱２１９の側壁は、図６に示す当接状態、即ち光学箱２１９の面２１９ｂ、２１９ｃが食い込み、シール部３０５Ａの凸形状部３０９、３０７が弾性変形している状態となる。その結果、光学箱２１９の面２１９ｃと、凸形状部３０７、３０９と、凹形状部３０８により閉空間が形成される。
【００３８】
また、上カバー３０１を光学箱２１９に装着することにより、シール部３０５Ａの凸形状部３０７、３０９が光学箱２１９の面２１９ｂ、２１９ｃから圧接されることにより、シール部３０５Ａに反発力が発生する。発生した反発力は、Ｘ軸、Ｚ軸方向にかかるが、Ｚ軸方向への反発力により上カバー３０１が変形すると、上カバー３０１と光学箱２１９との間に隙間が生じ、防塵性能に影響を与える。本実施例では、シール部３０５Ａに隣接するシール部３０５Ｂに溝３０６を設けることで、シール部３０５ＡのＸ軸方向の弾性変形による圧縮分の体積を溝３０６に逃がすように（以下、体積逃げという）働く。その結果、反発力が分散され、Ｚ軸方向の反発力がＸ軸方向へ変換されることになる。
【００３９】
上カバー３０１は、光学箱２１９の側壁の延長線上に第１の底部３１１が位置するように成形されている。また、第１の底部３１１と光学箱２１９の側壁を結ぶ線よりも内側に第２の底部３１２が位置するよう成形されている。第１の底部３１１と第２の底部３１２との間には段差３１４が形成されている。そのため、第１の底部３１１と第２の底部３１２が同一平面の構成よりも、段差３１４を設けた分だけシール部材３０５と上カバー３０１との密着面積が大きくなるためシール部材３０５と上カバー３０１との密着性が向上する。密着性が向上することによってシール部材３０５の上カバー３０１からの剥がれを抑制することができる。
【００４０】
このように、溝３０６によって、上カバー３０１の変形による光学箱２１９と上カバー３０１の間の隙間が生じなくなり、光学箱２１９の密閉度の低下、及び防塵性能の低下を防止することができる。
【符号の説明】
【００４１】
２１９  光学箱
３０１  上カバー
３０４  係止爪
３０５  シール部
３０６  溝
３１０  内周壁
３１１  第１の底部
３１２  第２の底部
３１３  外周壁
３１４  段差
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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