(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
干渉計による測定対象物の測定結果における周期誤差を補正するために、前記干渉計について画素毎の補正パラメータを取得しておく補正パラメータ取得工程と、前記干渉計により前記測定対象物を測定する測定工程と、前記測定工程で得られた測定結果を前記補正パラメータで補正する補正工程と、を有する干渉計周期誤差の補正方法であって、
前記補正パラメータ取得工程では、
試料を前記干渉計の光軸に対する傾斜角度が異なる複数の姿勢で保持し、各姿勢での形状データを測定する予備測定工程と、
前記予備測定工程で得られた複数の形状データのうち、いずれかを基準形状データとし、前記形状データの画素毎に、前記基準形状データと他の形状データとの差分を計算する差分計算工程と、
前記画素毎の前記差分から、傾斜による位相変化と形状変化との対応関係を前記画素毎に記録して参照テーブルを作成する参照テーブル作成工程と、
前記参照テーブルに記録された前記画素毎の前記対応関係を多項式近似し、その係数を前記画素毎の前記補正パラメータとして記録する補正パラメータ記録工程と、を行うことを特徴とする干渉計周期誤差の補正方法。
【請求項２】
請求項１に記載した干渉計周期誤差の補正方法において、
前記補正パラメータ記録工程では、前記多項式近似として前記対応関係のフーリエ展開を行い、得られたフーリエ級数におけるフーリエ係数を前記画素毎の前記補正パラメータとして記録しておき、
前記補正工程では、前記画素毎の前記補正パラメータで特定される前記フーリエ級数の逆フーリエ変換により前記画素毎の周期誤差を計算し、得られた前記周期誤差で前記測定結果を補正することを特徴とする干渉計周期誤差の補正方法。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載した干渉計周期誤差の補正方法において、
前記予備測定工程では、前記試料を保持部材で保持し、前記保持部材を前記干渉計の光路外にある回動軸まわりに回動させることにより、前記試料を複数の傾斜角度に保持することを特徴とする干渉計周期誤差の補正方法。
【請求項４】
干渉計による測定対象物の測定結果における周期誤差を補正するための、画素毎の補正パラメータを取得する干渉計周期誤差の補正パラメータ取得方法であって、
試料を前記干渉計の光軸に対する傾斜角度が異なる複数の姿勢で保持し、各姿勢での形状データを測定する予備測定工程と、
前記予備測定工程で得られた複数の形状データのうち、いずれかを基準形状データとし、前記形状データの画素毎に、前記基準形状データと他の形状データとの差分を計算する差分計算工程と、
前記画素毎の前記差分から、傾斜による位相変化と形状変化との対応関係を前記画素毎に記録して参照テーブルを作成する参照テーブル作成工程と、
前記参照テーブルに記録された前記画素毎の前記対応関係を多項式近似し、その係数を前記画素毎の前記補正パラメータとして記録する補正パラメータ記録工程と、を行うことを特徴とする干渉計周期誤差の補正パラメータ取得方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、干渉計周期誤差の補正方法および補正パラメータ取得方法に関し、レーザー干渉計の測定誤差の補正に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、レーザー干渉計を用いた高精度の寸法測定が多用されている。
半導体製造用のＳｉ（シリコン）ウェハや高精度ミラー等、高い形状精度が求められる部品の検査には、フィゾー型やトワイマン・グリーン型などのレーザー干渉計が広く用いられている。
測定用の干渉計１は、図５に示すように、光源２、ビーム分割素子３、レンズ４、参照面５、位相シフタ６、撮像素子７で構成され、参照面５に近接して被検面８が配置されている。参照面５および被検面８は、それぞれ光源２の光軸Ａに直交する表面とされている。
【０００３】
光源２から出射された光は、ビーム分割素子３およびレンズ４を経て、参照面５に到達する。
参照面５に到達した光の一部は、参照面５で反射されて参照光となり、再びレンズ４およびビーム分割素子３を経て、撮像素子７に至る。
一方、参照面５に到達した光の他の一部は、参照面５を透過して被検面８に到達する。そして、被検面８で反射されて測定光となり、再び参照面５、レンズ４およびビーム分割素子３を経て、撮像素子７に至る。
ビーム分割素子３からの参照光および測定光は、撮像素子７において干渉画像を生じ、この干渉画像が撮像素子７によって検出される。
【０００４】
干渉計１は、位相シフタ６によって参照光と測定光の相対位相を変化させ、異なる相対位相で取得した複数の干渉画像を解析することで、被検面の形状測定を行う。
位相シフタ６としては、光学素子（図５では参照面５）を光軸Ａ方向に機械的に移動させるメカニカル位相シフト方式や、偏光を利用した偏光位相シフト方式（特許文献１参照）など、いくつかの方式が存在する．
【０００５】
前述のような位相シフタには、メカニカル位相シフト方式では移動量の校正誤差に起因して、また、偏光位相シフト方式では偏光素子の不完全性などに起因して、それぞれ何らかの誤差が存在する。
このような位相シフタの誤差（位相シフト誤差）は、干渉計による形状測定に影響を及ぼす非線形周期誤差となることが知られている。
図６において、横軸を被検面の形状の真値、縦軸を干渉計による測定結果とすると、理想値（破線）は真値に対応した直線状になるが、干渉計で測定される実際値（実線）は理想値に周期誤差が重畳したものとなる。
【０００６】
このような周期誤差を補正するために、窓関数を用いた補正アルゴリズムが開発されている（非特許文献１）。
非特許文献１の手法では、位相をシフトさせながら取得した干渉画像の強度変化に、窓関数を適用することによって、周期誤差の影響を補正する。周期誤差に起因する強度変化は、本来の位相シフトによる強度変化とは異なる周波数成分を持つ。このため、窓関数の適用によって、その影響を低減することが可能である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】米国特許第７２３０７１７号明細書
【特許文献２】特開２００２−０１３９０７号公報
【非特許文献】
【０００８】
【非特許文献１】Peter de Groot、「Derivation of algorithms for phase-shifting interferometry using the concept of a data-sampling window」、Applied Optics、アメリカ合衆国、Optical Society of America、１９９５年８月１日、第３４巻第２２号第４７２３−４７３０頁
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ところで、前述した窓関数による周期誤差低減手法は、一般に５枚以上の干渉画像を必要とする。
前述したメカニカル位相シフト方式の干渉計では、多数の干渉画像を容易に取得することが可能であるため、当該手法が広く用いられている。
しかし、偏光位相シフト方式の干渉計では、５枚以上の干渉画像を取得することは難しく、当該手法を用いて周期誤差の補正を実現することは難しいという問題がある。
【００１０】
このような問題に対し、偏光位相シフト干渉計にも適用可能な、専用ステージを用いた干渉計の校正手法が提案されている（特許文献２参照）。
特許文献２の手法では、高精度圧電素子駆動ステージを使用した校正用位相シフタを用い、干渉計に組み込まれた位相シフタのステップ量の校正を高精度に行う。しかし、当該手法は、高価な校正用位相シフタと、安定な測定環境を必要とし、一般的に利用できないという問題があった。
【００１１】
本発明の目的は、多数の干渉画像あるいは高価な校正用位相シフタを用いずに、周期誤差を補正できる、干渉計周期誤差の補正方法および補正パラメータ取得方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の干渉計周期誤差の補正方法は、干渉計による測定対象物の測定結果における周期誤差を補正するために、前記干渉計について画素毎の補正パラメータを取得しておく補正パラメータ取得工程と、前記干渉計により前記測定対象物を測定する測定工程と、前記測定工程で得られた測定結果を前記補正パラメータで補正する補正工程と、を有する干渉計周期誤差の補正方法であって、前記補正パラメータ取得工程では、試料を前記干渉計の光軸に対する傾斜角度が異なる複数の姿勢で保持し、各姿勢での形状データを測定する予備測定工程と、前記予備測定工程で得られた複数の形状データのうち、いずれかを基準形状データとし、前記形状データの画素毎に、前記基準形状データと他の形状データとの差分を計算する差分計算工程と、前記画素毎の前記差分から、傾斜による位相変化と形状変化との対応関係を前記画素毎に記録して参照テーブルを作成する参照テーブル作成工程と、前記参照テーブルに記録された前記画素毎の前記対応関係を多項式近似し、その係数を前記画素毎の前記補正パラメータとして記録する補正パラメータ記録工程と、を行うことを特徴とする。
【００１３】
このような本発明では、試料を傾斜させる操作によって、形状データの各画素に光軸方向の変位を生じさせることができる。そして、傾斜による位相変化と形状変化との対応関係を記録し、補正パラメータとして用いることで、周期誤差の補正を行うことができる。
従って、本発明では、光軸に沿って高精度に変位する従来の校正用位相シフタのような装置を用いる必要がなく、かつ窓関数を用いる補正方式のような多数の干渉画像を必要とせずに、周期誤差の補正を行うことができる。
【００１４】
本発明の干渉計周期誤差の補正方法において、前記補正パラメータ記録工程では、前記多項式近似として前記対応関係のフーリエ展開を行い、得られたフーリエ級数におけるフーリエ係数を前記画素毎の前記補正パラメータとして記録しておき、前記補正工程では、前記画素毎の前記補正パラメータで特定される前記フーリエ級数の逆フーリエ変換により前記画素毎の周期誤差を計算し、得られた前記周期誤差で前記測定結果を補正することが好ましい。
【００１５】
このような本発明では、画素毎の補正パラメータとしてフーリエ係数を記録するため、補正工程での周期誤差の計算が簡単かつ高精度に行えるとともに、パラメータの記録サイズも小さくできる。
【００１６】
本発明の干渉計周期誤差の補正方法において、前記予備測定工程では、前記試料を保持部材で保持し、前記保持部材を前記干渉計の光路外にある回動軸まわりに回動させることにより、前記試料を複数の傾斜角度に保持することが好ましい。
【００１７】
このような本発明では、試料を保持する保持部材と、これを回動可能に保持する機構があれば、簡単に実施することができる。そして、回動軸を光路外に設定することで、全ての画素を確実に変位させることができる。
【００１８】
本発明の干渉計周期誤差の補正パラメータ取得方法は、干渉計による測定対象物の測定結果における周期誤差を補正するための、画素毎の補正パラメータを取得する干渉計周期誤差の補正パラメータ取得方法であって、試料を前記干渉計の光軸に対する傾斜角度が異なる複数の姿勢で保持し、各姿勢での形状データを測定する予備測定工程と、前記予備測定工程で得られた複数の形状データのうち、いずれかを基準形状データとし、前記形状データの画素毎に、前記基準形状データと他の形状データとの差分を計算する差分計算工程と、前記画素毎の前記差分から、傾斜による位相変化と形状変化との対応関係を前記画素毎に記録して参照テーブルを作成する参照テーブル作成工程と、前記参照テーブルに記録された前記画素毎の前記対応関係を多項式近似し、その係数を前記画素毎の前記補正パラメータとして記録する補正パラメータ記録工程と、を行うことを特徴とする。
【００１９】
このような本発明では、前述した本発明の干渉計周期誤差の補正方法で説明した効果を同様に得ることができる。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、多数の干渉画像あるいは高価な校正用位相シフタを用いずに、周期誤差を補正できる、干渉計周期誤差の補正方法および補正パラメータ取得方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の一実施形態の干渉計を示す模式図。
【図２】前記実施形態の試料および予備測定工程の動作を示す模式図。
【図３】前記実施形態における周期誤差の補正手順を示すフローチャート。
【図４】前記実施形態における補正パラメータ取得工程を示すフローチャート。
【図５】従来の干渉計および位相シフタを示す模式図。
【図６】従来の干渉計に発生する周期誤差を示すグラフ。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、本発明の一実施形態を図面に基づいて説明する。
〔装置構成〕
図１において、干渉計１０は、光源１２、ビーム分割素子１３、レンズ１４、参照面１５、撮像素子１７を有し、参照面１５に近接して被検面１８が配置されている。参照面１５および被検面１８は、それぞれ光源１２の光軸Ａに直交する表面とされている。
【００２３】
このような干渉計１０において、光源１２から出射された光は、ビーム分割素子１３およびレンズ１４を経て、参照面１５に到達する。
参照面１５に到達した光の一部は、参照面１５で反射されて参照光となり、再びレンズ１４およびビーム分割素子１３を経て、撮像素子１７に至る。
【００２４】
参照面１５に到達した光の他の一部は、参照面１５を透過して被検面１８に到達する。そして、被検面１８で反射されて測定光となり、再び参照面１５、レンズ１４およびビーム分割素子１３を経て、撮像素子１７に至る。
ビーム分割素子１３からの参照光および測定光は、撮像素子１７において干渉画像を生じ、この干渉画像が撮像素子１７によって検出される。
【００２５】
このような干渉計１０を用いて測定対象物の表面形状を測定する際には、測定対象物が被検面１８として配置される。
一方、干渉計１０の周期誤差を本発明に基づいて補正する場合、補正パラメータを取得するため、被検面１８には試料１９が配置される。
【００２６】
試料１９を保持するために、被検面１８の配置位置には保持部材２０が設置されている。
保持部材２０は、例えばアーム状に形成され、先端に試料１９を着脱することができる。保持部材２０は、試料１９が装着される側とは反対側の端部を、回動軸２１まわりに回動可能に支持されている。
【００２７】
回動軸２１は、被検面１８の領域の外側で、被検面１８と平行に配置されている。本実施形態において、回動軸２１は、図１の図面直交方向に延びている。
そして、保持部材２０および試料１９は、回動軸２１まわりに回動することで、図１の実線の状態から、一点鎖線で示す状態まで移動可能である。
なお、回動軸２１は、具体的な軸部材でもよいし、仮想的な軸線であってもよい。
【００２８】
回動軸２１を中心とした保持部材２０の角度位置（傾斜角度θ）を検出するために、角度検出器２２が設置されている。
保持部材２０を回動させるために、保持部材２０またはこれに保持された試料１９を、回動軸２１を中心とした周方向に駆動する駆動装置２３を設けてもよい。なお、保持部材２０の駆動は、作業者が行ってもよい。
【００２９】
保持部材２０を駆動する際には、試料１９を挟んで回動軸２１とは反対側を駆動することが望ましい。つまり、回動中心である回動軸２１から駆動する位置までの距離（半径）が、回動軸２１から試料１９（被検面１８）までの距離よりも大きく、より外周側で駆動することが望ましい。このような配置により、周方向の駆動変位量に比べて、被検面１８上での周方向の変位を小さくすることができ、被検面１８により微小な変位を生じさせることができる。
【００３０】
図２において、保持部材２０および試料１９が、回動軸２１まわりに回動すると、被検面１８つまり試料１９の参照面１５側の表面も回動し、参照面１５に対して近接する。被検面１８の任意の画素Ｐについては、この回動によって光軸Ａ方向に変位ΔＬだけ変位する。この変位ΔＬは、参照面１５と実線で示す被検面１８との距離Ｌに対して十分小さい値とされる。
【００３１】
〔補正方法〕
次に、干渉計１０の周期誤差を本発明に基づいて補正する手順について説明する。
図３において、干渉計１０の周期誤差の補正は、予め干渉計１０について画素毎の補正パラメータを取得しておき（処理Ｓ３１：補正パラメータ取得工程）、この後、実際に測定すべき測定対象物を設置し（処理Ｓ３２）、干渉計１０により測定対象物の形状測定を行い（処理Ｓ３３：測定工程）、得られた測定結果を先に取得しておいた補正パラメータで補正する（処理Ｓ３４：補正工程）、という手順を含む。
【００３２】
なお、本実施形態において、基準位置とは、図１において被検面１８あるいは試料１９が実線の状態にある位置をいい、一点鎖線で示す位置との間には、図示しないが複数の傾斜角度θ（θ＝θ１〜θｎ）の姿勢が設定される。
各傾斜姿勢においては、試料１９および被検面１８は基準位置に対して傾斜角度θだけ回動している。つまり、各傾斜姿勢において、試料１９および被検面１８と光軸Ａとの角度は（π／４−θ）である。
【００３３】
〔補正パラメータ取得工程の概要〕
図３の処理Ｓ３１の補正パラメータ取得工程は、図４に示す各手順（処理Ｓ４１〜Ｓ４０）により実施される。
図４において、補正パラメータの取得にあたっては、先ず、試料１９（図１および図２参照）を保持部材２０に装着し、基準姿勢（図１および図２で実線の状態）に保持する（処理Ｓ４１）。そして、この基準姿勢における試料１９の被検面１８を、干渉計１０で形状測定する（処理Ｓ４２）。
【００３４】
次に、試料１９および保持部材２０を回動させて傾斜角度θを変更し（処理Ｓ４３）、この姿勢で試料１９の被検面１８を、干渉計１０で形状測定する（処理Ｓ４４）。
このような傾斜姿勢での形状測定（処理Ｓ４３〜Ｓ４４）を、複数回（本実施形態では３回）になるまで繰り返す（処理Ｓ４５）。
【００３５】
以上の処理Ｓ４１〜Ｓ４５により、基準姿勢を含めて計４回の形状測定が行われ、４セット（基準姿勢の形状データが１セットおよび傾斜姿勢での形状データが３セット）の形状データが得られる。
これらの処理Ｓ４１〜Ｓ４５により、本発明の予備測定工程が構成される。
【００３６】
予備測定工程においては、図２のように、試料１９が参照面１５に対して傾斜角度θの姿勢にあるとき、試料１９の被検面１８で反射された測定光と参照面１５で反射された参照光との間には次式（１）のような相対的な位相差が発生する。
【００３７】
【数１】
0006539145.tif 000002
【００３８】
ここで、試料１９の被検面１８がｘｙ平面上に拡がっており、回動軸２１がｙ軸に沿って延びており、回動軸２１から画素Ｐまでの距離をｘとすると、傾斜姿勢にある試料１９の形状測定の結果は、次式（２）の位相値φmeasで表される。
【００３９】
【数２】
0006539145.tif 000003
【００４０】
ここで、右辺の３項については次の通りである。
【００４１】
【数３】
0006539145.tif 000004
【００４２】
【数４】
0006539145.tif 000005
【００４３】
【数５】
0006539145.tif 000006
【００４４】
傾斜角度θは、測定した形状データの最小二乗平面を計算することで正確に知ることができる。
このようにして、式（１）の位相差と、式（２）の形状測定結果とを画素毎に測定し、全画素について記録することで、ひとつの姿勢における形状データが測定できる。
そして、同様な形状データの測定を、３つの傾斜姿勢および基準姿勢の各々において実施することで、予備測定工程としての複数の形状データを得ることができる。
【００４５】
複数の形状データが得られたら、基準姿勢の形状データにおいて注目画素を順次選択し（処理Ｓ４６）、他の形状データとの画素毎の差分の計算（処理Ｓ４７：差分計算工程）および参照テーブルの作成（処理Ｓ４８：参照テーブル作成工程）を行い、これらの処理Ｓ４６〜Ｓ４８を全画素について繰り返す（処理Ｓ４９）。
【００４６】
〔差分計算工程：処理Ｓ４７〕
差分計算工程では、予備測定工程（処理Ｓ４１〜Ｓ４５）で得られた４セットの形状データに対して、基準形状データにおける画素毎に、基準形状データと他の３セットの形状データとの差分（画素毎に３セット）を計算する。
【００４７】
基準形状データの傾斜角度θ１、差分をとる他の形状データの傾斜角度θ２として、この形状データの基準形状データに対する差分をとると、次式（６）となる。
【００４８】
【数６】
0006539145.tif 000007
【００４９】
この式（６）では、注目している画素に関する位置ｘ，ｙは式中で同じであるので、表示を省略している。
この式（６）のうち、右辺のφtiltを含む第２項は傾斜の変化によって与えられた位相変化であり、測定結果の最小二乗平面の差分から計算可能である。
従って、以上の計算により、測定結果から傾き成分と、形状に由来する成分とを除去することで、周期誤差成分のみを抽出することができ、これを補正することが可能となる。
【００５０】
〔参照テーブル作成工程：処理Ｓ４８〕
参照テーブル作成工程では、差分計算工程（処理Ｓ４７）で得られた画素毎の差分から、傾斜による位相変化と形状変化との対応関係（画素毎に３セット）を計算し、その結果を画素毎に記録して参照テーブルを作成する。
【００５１】
参照テーブルとしては、例えば、横軸に傾斜による位相変化を配置し、縦軸に周期誤差による試料１９の形状変化を配置することにより、各々の対応関係を記録する。
傾斜による位相変化および形状変化としては、次の式（７）および式（８）を用いる。各式において、角度θ１は基準姿勢の傾斜角度、角度θは差分をとった傾斜姿勢の傾斜角度であり、式（８）では式（１）により角度θを位相値φに変換している。
【００５２】
【数７】
0006539145.tif 000008
【００５３】
【数８】
0006539145.tif 000009
【００５４】
〔補正パラメータ記録工程：処理Ｓ４０〕
補正パラメータ記録工程では、参照テーブルに記録された画素毎の対応関係を多項式近似し、その係数を画素毎の補正パラメータとして記録する。
本実施形態では、多項式近似として任意の近似次数ｎmaxまでのフーリエ級数展開を用いる。
【００５５】
参照テーブルに記録された式（８）は、近似次数ｎmaxまでのフーリエ級数展開により、次式（９）と近似される。
【００５６】
【数９】
0006539145.tif 000010
【００５７】
式（９）が得られたら、そのフーリエ係数ｃｎ，ｄｎを、画素毎の補正パラメータとして、画素ごとに記録する。
以上により、画素毎の補正パラメータを取得することができる。
【００５８】
〔測定対象物の誤差補正：処理Ｓ３２〜Ｓ３４〕
図３に戻って、干渉計１０についての画素毎の補正パラメータの取得（処理Ｓ３１：補正パラメータ取得工程）ができたら、測定対象物に対する実際の補正処理が実行可能となる。
【００５９】
干渉計１０の周期誤差の補正は、前述したように、実際に測定すべき測定対象物を設置し（処理Ｓ３２）、干渉計１０により測定対象物の形状測定を行い（処理Ｓ３３：測定工程）、得られた測定結果を先に取得しておいた補正パラメータで補正する（処理Ｓ３４：補正工程）、という処理により行われる。
【００６０】
すなわち、処理Ｓ３２〜Ｓ３３での測定対象物の形状測定が行われる。
この形状測定の結果得られる位相値φmeasは、試料形状の位相値φ、傾斜による位相変化φtilt、周期誤差δφの和として次式（１０）で表される。
【００６１】
【数１０】
0006539145.tif 000011
【００６２】
このうち、試料１９の表面形状（被検面１８の形状）として最終的に求めたい値は、試料１９に由来する位相値φである。他の成分のうち、傾斜による位相変化φtiltについては、最小二乗平面から知ることができる。周期誤差δφについては、関数形状は、式（９）で得たフーリエ級数の逆フーリエ変換を行うことで計算できる。
従って、測定対象物の形状測定（処理Ｓ３２〜Ｓ３３）の後、補正工程（処理Ｓ３４）により、その結果の位相値φmeasから式（１０）を用いて位相値φを求めることにより、測定対象物の表面（被検面１８）の周期誤差δφを含まない真値を得ることができる。
【００６３】
このような本実施形態によれば、試料１９を傾斜させる操作によって、形状データの各画素に光軸方向の変位を生じさせることができる。そして、傾斜による位相変化φtiltと形状変化ΔΦとの対応関係を記録し、補正パラメータとして用いることで、周期誤差δφの補正を行うことができる。
従って、本実施形態では、光軸Ａに沿って高精度に変位する従来の校正用位相シフタのような装置を用いる必要がなく、かつ窓関数を用いる補正方式のような多数の干渉画像を必要とせずに、周期誤差δφの補正を行うことができる。
【００６４】
また、本実施形態では、画素毎の補正パラメータとしてフーリエ係数ｃｎ，ｄｎを記録するため、補正工程での周期誤差の計算が簡単かつ高精度に行えるとともに、パラメータの記録サイズも小さくできる。
さらに、本実施形態では、試料１９を保持する保持部材２０と、これを回動可能に保持する機構があれば、簡単に実施することができる。
そして、回動軸２１を光路外に設定することで、全ての画素を確実に変位させることができる。
【００６５】
なお、本発明は前述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形等は本発明に含まれる。
例えば、前記実施形態では、予備測定工程において３回の回動動作を行い、基準姿勢の形状データを１セット、傾斜姿勢での形状データを３セット測定したが、回動動作の回数および使用する形状データのセットの数は適宜変更してよい。
【００６６】
また、前記実施形態では、基準形状データを、図１の実線で示される基準姿勢（光軸Ａと直交）で測定するものとし、傾斜姿勢での他の形状データと差分をとったが、傾斜角度が異なる複数の傾斜姿勢で形状データを測定しておき、後で何れかを基準形状データとして選択し、他の形状データとの差分をとってもよい。
【００６７】
さらに、補正パラメータ記録工程における多項式近似としては、フーリエ級数展開のような三角多項式近似に限らず、最小二乗法など他の近似手法を用いてもよい。
【産業上の利用可能性】
【００６８】
本発明は、干渉計周期誤差の補正方法および補正パラメータ取得方法に関し、レーザー干渉計の測定誤差の補正に利用できる。
【符号の説明】
【００６９】
１…干渉計、１０…干渉計、１２…光源、１３…ビーム分割素子、１４…レンズ、１５…参照面、１７…撮像素子、１８…被検面、１９…試料、２…光源、２０…保持部材、２１…回動軸、２２…角度検出器、２３…駆動装置、３…ビーム分割素子、４…レンズ、５…参照面、６…位相シフタ、７…撮像素子、８…被検面、Ａ…光軸、ｃｎ，ｄｎ…フーリエ係数、Ｌ…距離、ｎmax…近似次数、Ｐ…画素、ΔＬ…傾斜による変位、ΔΦ…形状変化、δφ…周期誤差、θ…傾斜角度、θ１…傾斜角度、θ２…傾斜角度、φ…表面形状を示す位相値、φmeas…測定された位相値、φtilt…傾斜による位相変化。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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