(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（メタ）アクリルモノマーと、
有機酸及び／又はその無水物と、
アルカリ土類金属の酸化物からなる酸化物粒子と、
を含有し、
前記酸化物粒子の比表面積が、５〜３５ｍ２／ｇである、乾燥剤組成物。
【請求項２】
前記酸化物粒子が、前記有機酸及び／又は前記無水物によって表面修飾されている、請求項１に記載の乾燥剤組成物。
【請求項３】
前記有機酸が、カルボン酸基又はリン酸基を有する化合物である、請求項１又は２に記載の乾燥剤組成物。
【請求項４】
前記（メタ）アクリルモノマーが、一般式（１）で表される化合物、一般式（２）で表される化合物、一般式（３）で表される化合物、及び一般式（４）で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種を含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の乾燥剤組成物。
【化１】
0006603614.tif 000007
【化２】
0006603614.tif 000008
【化３】
0006603614.tif 000009
【化４】
0006603614.tif 000010
［一般式（１）〜（３）中、ｓは１〜２０の整数を示し、一般式（４）中、ｍ及びｎはｍ＋ｎが２〜２０となる整数を示す。］
【請求項５】
対向配置された一対の基板と、
前記一対の基板の外周部を封止する封止シール剤と、
前記封止シール剤の内側で前記一対の基板の間に設けられた、請求項１〜４のいずれか一項に記載の乾燥剤組成物の硬化物である乾燥剤層と、
を備える封止構造。
【請求項６】
素子基板と、
前記素子基板に対して対向配置された封止基板と、
前記素子基板及び前記封止基板の外周部を封止する封止シール剤と、
前記封止シール剤の内側で前記素子基板上に設けられた、有機層及びこれを挟持する一対の電極を有する積層体と、
前記封止シール剤の内側で前記封止基板上に設けられた、請求項１〜４のいずれか一項に記載の乾燥剤組成物の硬化物である乾燥剤層と、
を備える有機ＥＬ素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、乾燥剤組成物、封止構造、及び有機ＥＬ素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）素子は、一般に、有機発光材料を含む薄膜である有機層と、これを挟む一対の電極とを含む発光部を有している。有機ＥＬ素子は、薄膜に正孔（ホール）及び電子を注入して再結合させることにより励起子（エキシトン）を生成させ、この励起子が失活する際の光の放出（蛍光又は燐光）を利用する自発光素子である。
【０００３】
有機ＥＬ素子に関して、ダークスポットと呼ばれる有機層の非発光部の発生とその成長の防止が望まれている。ダークスポットの主原因としては、水分及び酸素の影響が大きく、特に水分は極めて微量でもダークスポットの発生に大きな影響を及ぼすことが知られている。
【０００４】
そこで、有機ＥＬ素子への水分及び酸素の浸入を防止する方法が種々検討されている。例えば、有機層及び電極を乾燥させた不活性ガス雰囲気の気密容器内に封止し、さらに気密容器内に乾燥剤を封入した中空封止構造が提案されている。例えば、特許文献１は、乾燥剤をシリコーン系樹脂等に混合分散したものを乾燥剤含有層として備える有機ＥＬ素子も開示している。また、特許文献１は、五酸化二リンの粉末と、低温硬化型エポキシ系接着剤とを含む乾燥剤含有層を封止キャップの内面に備える有機ＥＬ素子も開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００１−０３５６５９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、シリコーン系樹脂等を含む乾燥剤を備えた従来の有機ＥＬ素子では、長期保管時に有機ＥＬ素子中の有機層が溶解することがある。これは、シリコーン系樹脂等が乾燥剤層から染み出し、これが有機層を溶解するためであると考えられる。
【０００７】
一方、酸化物粒子及び硬化型接着剤を含む従来の乾燥剤組成物では、意図しない硬化型接着剤の重合反応が進行し、硬化してしまうことがある。
【０００８】
そこで、本発明は、成分の染み出しが抑制された乾燥剤層を形成することができ、しかも保存安定性に優れた乾燥剤組成物の提供を主な目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の一側面は、（メタ）アクリルモノマーと、有機酸及び／又はその無水物と、アルカリ土類金属の酸化物を含む酸化物粒子と、を含有する、乾燥剤組成物を提供する。
【００１０】
この乾燥剤組成物によれば、成分の染み出しが抑制された乾燥剤層を形成することができ、優れた保存安定性も有する。（メタ）アクリルモノマーの重合によって乾燥剤組成物が硬化することで、成分の染み出しが抑制される。
【００１１】
酸化物粒子が、有機酸及び／又は無水物によって表面修飾されていてもよい。酸化物粒子の塩基性の表面が（メタ）アクリルモノマーの意図しない重合反応を生じ易いために、乾燥剤組成物の保存安定性が損なわれることがあると考えられるが、酸化物粒子が有機酸又は無水物によって表面修飾されていることで保存時の重合反応がより抑制され、そのために乾燥剤組成物がより優れた保存安定性を有することができると考えられる。
【００１２】
有機酸が、カルボン酸基又はリン酸基を有する化合物であってもよい。カルボン酸基又はリン酸基を有する有機酸は、アルカリ土類金属を含む酸化物粒子と特に相互作用し易く、酸化物粒子の表面の塩基性を効率的に低くすることができる。
【００１３】
別の側面において、本発明は、対向配置された一対の基板と、一対の基板の外周部を封止する封止シール剤と、封止シール剤の内側で一対の基板上の間に設けられた、上記乾燥剤組成物の硬化物である乾燥剤層と、を備える封止構造を提供する。
【００１４】
さらに別の側面において、本発明は、素子基板と、素子基板に対して対向配置された封止基板と、素子基板及び封止基板の外周部を封止する封止シール剤と、封止シール剤の内側で前記素子基板上に設けられた、有機層及びこれを挟持する一対の電極を有する積層体と、封止シール剤の内側で封止基板上に設けられた、上記乾燥剤組成物の硬化物である乾燥剤層と、を備える有機ＥＬ素子を提供する。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、成分の染み出しが抑制された乾燥剤層を形成することができ、しかも保存安定性に優れた乾燥剤組成物が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】一実施形態に係る有機ＥＬ素子を示す模式断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。
【００１８】
乾燥剤組成物
一実施形態の乾燥剤組成物は、（メタ）アクリルモノマーと、有機酸及び／又はその無水物と、アルカリ土類金属の酸化物を含む酸化物粒子とを含有する。本明細書中、（メタ）アクリルモノマーとは、アクリルモノマー又はメタクリルモノマーを意味し、これは（メタ）アクリロイル基等の他の類似の表現においても同様である。
【００１９】
［（メタ）アクリルモノマー］
（メタ）アクリルモノマーは、分子内に１個又は２個以上の（メタ）アクリロイル基を有するモノマーである。
【００２０】
１個の（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリルモノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸；（メタ）アクリル酸アミド；メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート（ｎ−ラウリル（メタ）アクリレート）、ステアリル（メタ）アクリレート等のアルキル基の炭素数１〜２４のアルキル（メタ）アクリレート；ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート等の芳香族炭化水素基を有する（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート等の脂環式基を有する（メタ）アクリレート；メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート等のアルキレングリコール鎖含有（メタ）アクリレートなどが挙げられる。これらの（メタ）アクリルモノマーは、１種を単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００２１】
２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリルモノマーとしては、例えば、下記一般式（１）、（２）又は（３）で表される化合物が挙げられる。一般式（１）〜（３）中、ｓは１〜２０の整数を示し、一般式（４）中、ｍ及びｎはｍ＋ｎが２〜２０となる整数を示す。これらの（メタ）アクリルモノマーは、１種を単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００２２】
【化１】
0006603614.tif 000002
【化２】
0006603614.tif 000003
【化３】
0006603614.tif 000004
【化４】
0006603614.tif 000005
【００２３】
（メタ）アクリルモノマーの官能基当量（分子量／官能基数）は、４００以上又は７００以上であってもよい。官能基当量が４００以上であると、酸化物粒子との混合時に、意図しない重合がより進行し難い傾向にある。官能基当量は、例えば、１０００以下であってもよい。乾燥剤組成物が２種以上の（メタ）アクリルモノマーを含有する場合、それらの平均の官能基当量が上記範囲内であってもよい。
【００２４】
（メタ）アクリルモノマーの２５℃における粘度は、１００ｍＰａ・ｓ以下、８０ｍＰａ・ｓ以下、又は７０ｍＰａ・ｓ以下であってもよい。粘度が１００ｍＰａ・ｓ以下であると、乾燥剤組成物が塗布性により優れる傾向にある。粘度は、例えば、１０ｍＰａ・ｓ以上であってもよい。乾燥剤組成物が２種以上の（メタ）アクリルモノマーを含有する場合、それらの混合物の粘度が上記範囲内であってもよい。
【００２５】
乾燥剤組成物における（メタ）アクリルモノマーの含有量は、乾燥剤組成物全量基準で、３０〜９０質量％であってもよい。（メタ）アクリルモノマーの含有量がこの範囲であると、より優れた塗布性及び補水性能を確保することができる。同様の観点から、（メタ）アクリルモノマーの含有量は、３０質量％以上又は５０質量％以上であってもよく、９０質量％以下又は７０質量％以下であってもよい。
【００２６】
［有機酸又はその無水物］
有機酸は、炭化水素基とカルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基、ホウ酸基等の酸性官能基を有する化合物である。有機酸は、カルボン酸基又はリン酸基を有する化合物であってもよく、カルボン酸基を有する化合物であってよい。有機酸の無水物は、有機酸の２つの酸性官能基が脱水縮合した化合物である。有機酸及びその無水物は、１種を単独で又は２種類以上を組み合わせることができ、有機酸と酸無水物とを組み合わせてもよい。
【００２７】
有機酸が有する炭化水素基は、例えば、炭素数１〜２４、炭素数６〜２４若しくは炭素数６〜８の飽和又は不飽和炭化水素基、又は、炭素数６〜１４若しくは炭素数６〜８の芳香族炭化水素基であってもよい。
【００２８】
カルボン酸基を有する有機酸としては、例えば、２−エチルヘキサン酸、オレイン酸、ステアリル酸、イソステアリル酸、安息香酸が挙げられる。
【００２９】
有機酸の無水物は、カルボン酸無水物であってもよい。カルボン酸無水物としては、炭素数２〜２４又は炭素数２〜１４のカルボン酸無水物が挙げられる。より具体的には、例えば、無水酢酸、４−メチルシクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸無水物、ヘキサン酸無水物、ヘプタン酸無水物、ｎ−オクタン酸無水物、オクテニルコハク酸無水物、イソオクタデセニルコハク酸無水物、オクタデセニルコハク酸無水物、テトラデセニルコハク酸無水物、テトラプロペニルコハク酸無水物が挙げられる。無水物を用いると、有機酸を用いる場合に比べて、混合時の発熱を抑えられる傾向にある。
【００３０】
乾燥剤組成物における有機酸及びその無水物の含有量は、乾燥剤組成物全量基準で１〜２０質量％であってもよい。有機酸及び無水物の含有量がこの範囲であると、（メタ）アクリルモノマーの意図しない重合（アニオン重合）をより抑制できるという効果が得られる。同様の観点から、有機酸及び無水物の含有量は、１質量％以上又は５質量％以上であってもよく、２０質量％以下又は１０質量％以下であってもよい。乾燥剤組成物が２種以上の有機酸及び無水物を含有する場合、それらの合計量が、上記範囲内にあってもよい。
【００３１】
［酸化物粒子］
酸化物粒子は、酸化物粒子に補水性能を付与し得るアルカリ土類金属の酸化物を含む。酸化物粒子は、通常、酸化物粒子の質量を基準として８０質量％以上、又は９０質量％以上のアルカリ土類金属の酸化物を含む。酸化物粒子は、１種、又は成分の異なる２種以上のアルカリ土類金属の酸化物を含むことができる。
【００３２】
アルカリ土類金属の酸化物としては、例えば、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、酸化カルシウム（ＣａＯ）、酸化ストロンチウム（ＳｒＯ）、酸化バリウム（ＢａＯ）等が挙げられる。アルカリ土類金属の酸化物は、酸化マグネシウム及び／又は酸化カルシウムであってもよい。
【００３３】
酸化物粒子の平均粒径は、特に制限されないが、例えば、０．０１〜３０μｍであってもよい。酸化物粒子の平均粒径がこの範囲であると、より充分な補水性能が得られる傾向にある。同様の観点から、酸化物粒子の平均粒径は、０．１μｍ以上、０．５μｍ以上、又は１μｍ以上であってもよく、２０μｍ以下、１０μｍ以下、又は５μｍ以下であってもよい。
【００３４】
本明細書において、酸化物粒子の平均粒径は、動的光散乱式粒度分布計で測定した体積分布の中央値を意味する。この平均粒径は、酸化物粒子を所定の分散媒中に分散させて調整した分散液を用いて測定される値である。
【００３５】
酸化物粒子の比表面積は、５〜６０ｍ２／ｇであってもよい。比表面積が５〜６０ｍ２／ｇであると、乾燥剤がより一層優れた捕水性能を有することできる。同様の観点から、酸化物粒子の比表面積は、１０ｍ２／ｇ以上又は１５ｍ２／ｇ以上であってもよく、５０ｍ２／ｇ以下、４０ｍ２／ｇ以下、又は３５ｍ２／ｇ以下であってもよい。
【００３６】
本明細書において、酸化物粒子の比表面積は、ＢＥＴ法によって測定される。
【００３７】
酸化カルシウムを含む酸化物粒子は、例えば、生石灰（ＣａＯ）を水酸化処理して消石灰（Ｃａ（ＯＨ）２）を得る工程と、消石灰を焼成して生石灰を得る工程と、生石灰を粉砕する工程と、をこの順に備える方法によって得ることができる。消石灰を焼成する温度は、３００〜６００℃であってもよい。焼成時間は、１〜２０時間であってもよい。
【００３８】
酸化物粒子は有機酸又は無水物によって表面修飾されていている。塩基性のアルカリ土類金属の酸化物と有機酸又は無水物とで化学的な相互作用が生じることで、酸化物粒子が表面修飾されると考えられる。表面修飾された酸化物粒子の具体的な表面構造は必ずしも明らかでないが、酸化物粒子が表面修飾されることによって、酸化物粒子の表面の塩基性が低くなり、その結果、（メタ）アクリルモノマーの意図しない重合反応が抑制されると考えられる。例えば、アルカリ土類金属の酸化物と有機酸との塩が酸化物粒子の表面に形成されていることがあり得る。
【００３９】
酸化物粒子と、有機酸及び／又は無水物とを混合することを含む方法によって、酸化物粒子を有機酸及び／又は無水物を表面修飾することができる。酸化物粒子が表面修飾されたことは、例えば、酸化物粒子と、有機酸及び／又は無水物とを混合したときに発熱が生じることから確認することができる。
【００４０】
乾燥剤組成物における酸化物粒子の含有量は、乾燥剤組成物全量基準で５〜７０質量％である。酸化物粒子の含有量がこの範囲であると、より充分な補水性能が得られる傾向にある。同様の観点から、酸化物粒子の含有量は、１０質量％以上又は３０質量％以上であってもよく、６０質量％以下又は５０質量％以下であってもよい。
【００４１】
一実施形態の乾燥剤組成物は、光重合開始剤を含んでいてもよい。光重合開始剤は、市販品をそのまま用いることができる。光重合開始剤としては、例えば、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−１−ブタノン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モリフォリノプロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オンが挙げられる。
【００４２】
乾燥剤組成物が光重合開始剤を含む場合、その含有量は、乾燥剤組成物全量基準で０．０１〜１０質量％である。光重合開始剤の含有量は、０．０５質量％以上又は０．１質量％以上であってもよく、５質量％以下又は１質量％以下であってもよい。
【００４３】
乾燥剤組成物は、（メタ）アクリルモノマー、有機酸又は無水物、酸化物粒子及び光重合開始剤以外の成分として、例えば、アエロジル（登録商標）等のシリカ、シリカと相溶するポリマーを含有していてもよい。
【００４４】
乾燥剤組成物は、２５℃でペースト状であることができる。乾燥剤組成物がペースト状であると、有機ＥＬ素子の微小な気密空間内に塗布によって、組成物層をより容易に形成することができる。また、乾燥剤組成物の２５℃における粘度は、５〜５００Ｐａ・ｓであってもよい。乾燥剤組成物の２５℃における粘度がこの範囲であると、塗布によって組成物層をより容易に形成することができる。同様の観点から、乾燥剤組成物の粘度は、１０Ｐａ・ｓ以上又は５０Ｐａ・ｓ以上であってもよく、４００Ｐａ・ｓ以下又は３００Ｐａ・ｓ以下であってもよい。塗布は、ディスペンサ等によって行うことができる。乾燥剤組成物の粘度は、（メタ）アクリルモノマーの粘度、有機酸又は酸無水物の含有量及び酸化物粒子の含有量によって、調整することができる。ここでの粘度は、Ｂ型粘度計、レオメーター等の回転粘度計によって測定される値である。
【００４５】
組成物層を光硬化させることによって、乾燥剤組成物の硬化物である乾燥剤層を形成することができる。硬化のための光の種類は、硬化反応が進行するものであれば特に制限されないが、例えば、ＵＶ（紫外線）光であってもよい。光源としては、例えば、低圧水銀ランプ等の水銀ランプが挙げられる。硬化に必要な照射量は、例えば、１〜１０Ｊ／ｃｍ２とすることができる。硬化に必要な時間は、例えば、０．５〜５分間とすることができる。
【００４６】
封止構造
本実施形態の封止構造は、対向配置された一対の基板と、一対の基板の外周部を封止する封止シール剤と、封止シール剤の内側で一対の基板の間に設けられた乾燥剤層とを備える。乾燥剤層は、上述の実施形態に係る乾燥剤を含むことができる。乾燥剤層は、封止された空間（一対の基板の間で封止シール剤の内側の空間）を充填していてもよい。
【００４７】
本実施形態の封止構造は、水分の影響を受けやすいデバイスを封入する際に特に好適に利用することができる。このようなデバイスとしては、例えば、有機ＥＬ素子、有機半導体、有機太陽電池等の有機電子デバイスが挙げられる。
【００４８】
有機ＥＬ素子
図１は、有機ＥＬ素子の一実施形態を示す模式断面図である。図１に示す有機ＥＬ素子１は、素子基板２と、素子基板２に対して対向配置された封止基板３と、素子基板２上に設けられた、有機層４及び有機層４を挟持する陽極５及び陰極６を有する積層体と、素子基板２及び封止基板３の外周部を封止する封止シール剤８と、封止シール剤８の内側で封止基板３上に設けられた乾燥剤層７とから構成される、いわゆる中空封止構造の有機ＥＬ素子である。乾燥剤層７は、上記実施形態の乾燥剤組成物の硬化物であることができる。乾燥剤層７が上記実施形態の組成物の硬化物であることにより、当該乾燥剤層に含まれる成分の染み出しを抑制することができる。ただし、有機ＥＬ素子は、図１のような中空封止構造に限定されず、例えば、素子基板、封止基板及び封止シール層によって囲まれた気密空間に充填された乾燥剤層を有する、充填構造の有機ＥＬ素子であってもよい。
【００４９】
有機ＥＬ素子１において、乾燥剤層７以外の要素に関しては通常の構成を適用することができるが、その一例を以下で簡単に説明する。
【００５０】
素子基板２は、絶縁性及び透光性を有する矩形状のガラス基板からなり、この素子基板２上には、透明導電材であるＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）によって陽極５（電極）が形成されている。この陽極５は、例えば真空蒸着法、スパッタ法等のＰＶＤ（Ｐｈｙｓｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法により素子基板２上に成膜されるＩＴＯ膜をフォトレジスト法によるエッチングで所定のパターン形状にパターニングすることにより形成される。電極としての陽極５の一部は、素子基板２の端部まで引き出されて駆動回路（図示せず）に接続される。
【００５１】
陽極５の上面には、例えば、真空蒸着法、抵抗加熱法等のＰＶＤ法により、有機発光材料を含む薄膜である有機層４が積層されている。有機層４は、単一の層から形成されていてもよく、機能の異なる複数の層から形成されていてもよい。本実施形態における有機層４は、陽極５側から順に、ホール注入層４ａ、ホール輸送層４ｂ、発光層４ｃ及び電子輸送層４ｄが積層された４層構造である。ホール注入層４ａは、例えば数１０ｎｍの膜厚の銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）から形成される。ホール輸送層４ｂは、例えば数１０ｎｍの膜厚のｂｉｓ［Ｎ−（１−ｎａｐｈｔｈｙｌ）−Ｎ−ｐｈｅｎｙｌ］ｂｅｎｚｉｄｉｎｅ（α−ＮＰＤ）から形成される。発光層４ｃは、例えば数１０ｎｍの膜厚のトリス（８−キノリノラト）アルミニウム（Ａｌｑ３）から形成される。電子輸送層４ｄは、例えば数ｎｍの膜厚のフッ化リチウム（ＬｉＦ）から形成される。そして、陽極５、有機層４及び後述する陰極６がこの順で積層された積層体により、発光部が形成されている。
【００５２】
有機層４（電子輸送層４ｄ）の上面には、真空蒸着法等のＰＶＤ法により、金属薄膜である陰極６（電極）が積層されている。金属薄膜の材料としては、例えばＡｌ、Ｌｉ、Ｍｇ、Ｉｎ等の仕事関数の小さい金属単体やＡｌ−Ｌｉ、Ｍｇ−Ａｇ等の仕事関数の小さい合金などが挙げられる。陰極６は、例えば数１０ｎｍ〜数１００ｎｍ（好ましくは５０ｎｍ〜２００ｎｍ）の膜厚で形成される。陰極６の一部は、素子基板２の端部まで引き出されて駆動回路に接続される。
【００５３】
封止基板３は、有機層４を挟んで素子基板２と対向するように配置され、素子基板２及び封止基板３の外周部は、封止シール剤８により封止されている。封止シール剤としては例えば紫外線硬化樹脂を用いることができる。さらには、乾燥剤層７は、封止シール剤８の内側で封止基板３上の一部又は全部に設けられている。乾燥剤層７は、上記実施形態の乾燥剤を塗布することによって、形成される。乾燥剤層７は、１〜３００μｍの膜厚で形成される。
【００５４】
有機ＥＬ素子の製造方法
まず、素子基板２上に有機層４等（電極は図示せず）が積層された積層体を準備する。
【００５５】
次に、別途準備した封止基板３上に、本実施形態の乾燥剤を、ディスペンサで塗布して、乾燥剤層７を形成する。さらに、封止基板３上に塗布した乾燥剤を囲むように封止シール剤８をディスペンサで塗布する。これらの作業は、露点−７６℃以下の窒素で置換されたグローブボックス中で行うことが好ましい。塗布される乾燥剤組成物は、溶剤を含み得るが、典型的には実質的に無溶剤である。
【００５６】
次に、有機層４等が積層された素子基板２と封止基板３とを貼り合わせる。貼り合わせた基板をＵＶ照射及び８０℃程度の加熱により封止することにより、本実施形態の有機ＥＬ素子１が製造される。
【実施例】
【００５７】
以下、本発明について実施例を挙げてより具体的に説明する。ただし、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【００５８】
１．乾燥剤組成物の調製
（実施例１）
平均粒径を２μｍ、比表面積を１８ｍ２／ｇに調整した酸化カルシウム粒子１００質量部、ポリプロピレングリコールジアクリレート（製品名：ＡＰＧ−７００、新中村化学工業株式会社製、分子量：８０８、官能基当量：４０４、比重（２５℃）：１．０２、粘度（２５℃）：６８ｍＰａ・ｓ）９０質量部、２−エチルヘキサン酸（関東化学株式会社製）１０質量部及び２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン（ＩＲＧＡＣＵＲＥ６５１、ＢＡＳＦ社製）０．９質量部を１０００回転／分で５分間遠心撹拌して、白色ペーストの実施例１の乾燥剤組成物を得た。撹拌時に発熱が観測された。この発熱は、塩基性の酸化カルシウム粒子が、２−エチルヘキサン酸と反応することによって生じたものと推測される。このことから、酸化物粒子が、酸化カルシウムと２−エチルヘキサン酸との反応によって表面修飾されたことが示唆される。乾燥剤組成物の２５℃における粘度は６２Ｐａ・ｓであった。乾燥剤組成物の粘度は、測定装置としてレオメーターを用い、せん断速度５ｓ−１という条件で測定した値である。撹拌による乾燥剤組成物の硬化は観測されなかった。
【００５９】
（比較例１）
平均粒径を２μｍに調整した酸化カルシウム粒子５０質量部を、ジメチルシリコーン（製品名：Ｅｌｅｍｅｎｔ１４  ＰＤＭＳ  １０Ｋ−ＪＣ、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）５０質量部と混合し、１０００回転／分で５分間遠心撹拌して、比較例１の乾燥剤組成物を得た。
【００６０】
２．評価
［有機ＥＬ素子の作製］
透明性を有する導電材料のＩＴＯを、スパッタ法により素子基板上に１４０ｎｍの膜厚で成膜した。ＩＴＯの膜をフォトレジスト法によるエッチングで所定のパターン形状にパターニングし、陽極を形成させた。
形成された陽極の上面に、銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）を抵抗加熱法により７０ｎｍの膜厚で成膜することでホール注入層を形成し、ホール注入層の上面にＢｉｓ［Ｎ−（１−ｎａｐｈｔｈｙｌ）−Ｎ−ｐｈｅｎｙｌ］ｂｅｎｚｉｄｉｎｅ（α−ＮＰＤ）を３０ｎｍの膜厚で成膜することでホール輸送層を形成し、ホール輸送層の上面にトリス（８−キノリノラト）アルミニウム（Ａｌｑ３）を５０ｎｍの膜厚で成膜して発光層を形成した。さらに、発光層の上面にフッ化リチウム（ＬｉＦ）を７ｎｍの膜厚で成膜して電子輸送層を形成し、電子輸送層の表面に陰極としてアルミニウムを１５０ｎｍの膜厚で物理蒸着した。以上のようにして、陽極、有機層（ホール注入層／ホール輸送層／発光層／電子輸送層）及び陰極がこの順に積層されている積層体を素子基板上に形成した。
次に、露点−７６℃以下の窒素で置換されたグローブボックス中で、実施例１又は比較例１の乾燥剤組成物をディスペンサによって封止基板の中央部に塗布した。実施例１の乾燥剤組成物を塗布後に３分間で合計６Ｊ／ｃｍ２のＵＶ（紫外線）照射によって硬化させ、乾燥剤層を形成した。比較例１の乾燥剤組成物については、塗布後、そのまま乾燥剤層とした。乾燥剤層を囲むように、紫外線硬化型樹脂からなる封止シール剤をディスペンサによって封止基板上に塗布した。
その後、素子基板と封止基板とを、積層体、乾燥剤層及び封止シール剤が内側になる向きで貼り合わせた。その状態で、紫外線照射及び８０℃の加熱により素子基板及び封止基板の外周部を封止し、封止シール剤によって囲まれた気密空間内に乾燥剤層が設けられた中空封止構造の有機ＥＬ素子を得た。
【００６１】
［経過時間に対する染み出し距離］
得られた有機ＥＬ素子を２５℃の条件下に放置し、乾燥剤層成分の染み出し距離の経時変化を測定した。０時間、５０時間後、１７０時間、３３６時間及び５００時間後の染み出し距離を表１に示す。染み出し距離とは、乾燥剤層から乾燥剤層の成分が染み出した部分の端までの距離を示し、数値が大きいほど、乾燥剤層の成分の染み出しが進行していることを意味する。
【００６２】
【表１】
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【００６３】
ＵＶ照射前の実施例１の乾燥剤組成物は、硬化することなく粘性を有する状態を維持しており、良好な保存安定性を有していた。実施例１の乾燥剤組成物の硬化物である乾燥剤層を備える有機ＥＬ素子では、比較例１の乾燥剤組成物を含む乾燥剤層を備える有機ＥＬ素子に比べて、乾燥剤層の成分の染み出しの進行が少ないことが観測された。これらの結果から、本発明の乾燥剤組成物が、保存安定性に優れ、成分の染み出しが抑制された乾燥剤層を形成できることが確認された。
【符号の説明】
【００６４】
１…有機ＥＬ素子、２…素子基板、３…封止基板、４…有機層、４ａ…ホール注入層、４ｂ…ホール輸送層、４ｃ…発光層、４ｄ…電子輸送層、５…陽極、６…陰極、７…乾燥剤層、８…封止シール剤。
【図１】
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