(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光が色付けされることなく通過することを可能にする複数の開口部を画定するエレクトロクロミックスタックを含むエレクトロクロミックデバイスを含み、
前記複数の開口部は、線を画定し、かつ、前記エレクトロクロミックスタックの厚さ全体を通して延在し、
前記エレクトロクロミックスタックの前記複数の開口部が、均一に離間したドットのパターンで配置された円形孔のセットである、窓。
【請求項２】
光が色付けされることなく通過することを可能にする複数の開口部を画定するエレクトロクロミックスタックを含むエレクトロクロミックデバイスを含み、
前記複数の開口部は、線を画定し、かつ、前記エレクトロクロミックスタックの厚さ全体を通して延在し、
前記複数の開口部の少なくともいくつかが、線状パターンで配置された離間した孔である、窓。
【請求項３】
前記エレクトロクロミックデバイスの色付き部が、前記線の両側に配され、かつ、実質的に同じ厚さを有する、請求項１または２に記載の窓。
【請求項４】
前記複数の開口部が、第２線を画定し、前記エレクトロクロミックデバイスの色付き部が、前記第２線の両側に配される、請求項１または２に記載の窓。
【請求項５】
光が色付けされることなく通過することを可能にする複数の開口部を画定するエレクトロクロミックスタックを含むエレクトロクロミックデバイスを含み、
前記複数の開口部は、線を画定し、かつ、前記エレクトロクロミックスタックの厚さ全体を通して延在し、
前記複数の開口部の少なくともいくつかが、第１線状パターンを画定する離間した孔の第１セットおよび第２線状パターンを画定する離間した孔の第２セットであり、離間した孔の前記第１および前記第２セットが、画定された前記第１および前記第２線状パターンが互いから等しく離間するように互いから離間している、複数の開口部である、窓。
【請求項６】
前記エレクトロクロミックデバイスの色付き部が、前記第１および前記第２線状パターンの両側に配される、請求項５に記載の窓。
【請求項７】
色付き光の色彩強度をニュートラル化する方法であって：
第１層を（ｉ）透明または半透明基板および（ｉｉ）前記基板を覆う第２層のうちの１つに適用することと；次いで
前記第１層を色付けすることと；
前記第１層内の一部分を除去して線を画定する複数の開口部を画定し、光が色付けされることなく通過することを可能にすることと
を含み、
前記第１層がエレクトロクロミックスタックであり、かつ、前記複数の開口部が前記エレクトロクロミックスタックの厚さ全体を通して延在する、方法。
【請求項８】
前記第１層が、前記基板に適用される前に第１色付けレベルに色付けされ、色付けが、前記第１色付けレベルとは異なる第２色付けレベルに前記第１層を色付けする、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記第１層が、前記エレクトロクロミックスタックを横切って電位を印加することにより色付けされる、請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
前記第１層の除去された部分が、除去される前に色付き層の厚さを通って延在している、請求項７に記載の方法。
【請求項１１】
前記線が前記第１層の明部に配される、請求項７に記載の方法。
【請求項１２】
前記複数の開口部が、均一に離間したドットのパターンで配置された孔のセットを含む、請求項７に記載の方法。
【請求項１３】
前記複数の開口部のいくつかが、線状パターンで配置された離間した孔である、請求項７に記載の方法。
【請求項１４】
前記複数の開口部の少なくともいくつかが、第１線状パターンを画定する離間した孔の第１セットおよび第２線状パターンを画定する離間した孔の第２セットであり、離間した孔の前記第１および前記第２セットが、画定された前記第１および前記第２線状パターンが互いから等しく離間するように互いから離間している、複数の開口部である、請求項７に記載の方法。
【請求項１５】
前記エレクトロクロミックスタックが、エレクトロクロミック層の第１側面および対電極層の第１側面の両方に対して適用されかつこれらによって境界付けられた少なくともイオン伝導層を含んでおり、前記エレクトロクロミック層の第２側面が、第１導電層に対して適用されかつこれによって境界付けらており、前記対電極層の第２側面が、第２導電層に対して適用されかつこれによって境界付けらており、前記第１層が、前記エレクトロクロミックスタックを横切って電位を印加することによって色付けされる、請求項７に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
クロスリファレンス
本出願は、２０１３年９月１６日に提出された米国特許出願第１４／０２７，７３１号の継続であり、その開示は、参照により本明細書に組み込まれる。
【背景技術】
【０００２】
エレクトロクロミック材料およびデバイスは、光および熱の管理のためのパッシブコーティング材料の代替として開発されている。かかる材料およびデバイスは、絶縁または活性グレージングユニットを含めた建築用窓において、ならびにフロントガラスおよびバックミラーを含めた自動車用窓において用いられている。パッシブコーティング材料とは対照的に、エレクトロクロミックデバイスは、印加電位に応じて電気化学的酸化および還元により光学特性を可逆的に変更することが可能である材料を使用している。光変調は、電気化学的材料の格子における電子および電荷補償イオンの同時挿入および抽出の結果である。
【０００３】
一般に、エレクトロクロミックデバイスは、光の透過を調節することができる複合構造を有する。図１Ａおよび１Ｂは、典型的な従来技術のエレクトロクロミックデバイス２０の平面および断面図をそれぞれ示す。デバイス２０は、ガラスまたは光学グレージングなどの基板３４に形成された単離された透明導電層領域２６Ａおよび２６Ｂを含む。また、デバイス２０は、導電層領域２６にわたって順に設けられた、対電極層２８、イオン伝導層３２、エレクトロクロミック層３０、および透明導電層２４を含む。対電極層、イオン伝導層、エレクトロクロミック層、および２つの透明導電層を、「エレクトロクロミックスタック」と総称する。デバイス２０のエレクトロクロミック層および対電極層の相対位置は交換可能であることを理解されたい。さらに、デバイス２０は、導電層領域２６Ａのみと接触するバスバー４０と、導電層領域２６Ｂに形成され得、導電層２４と接触するバスバー４２とを含む。導電層領域２６Ａは、導電層領域２６Ｂおよびバスバー４２から物理的に単離されており、導電層２４は、バスバー４０から物理的に単離されている。エレクトロクロミックデバイスは、湾曲した側面を含むものなどの種々の形状を有していてよいが、説明的、例示的なデバイス２０は、互いに平行に延在し、デバイス２０のそれぞれの対向側面２５、２７に隣接しており、かつ距離Ｗだけ互いに離間されているバスバー４０および４２による矩形デバイスである。さらに、バスバー４０および４２は、低電圧電源２２のそれぞれ正および負端子にワイヤによって接続されている（ワイヤおよび電源２２が一緒になって「外部回路」を構成している）。
【０００４】
図１Ａおよび１Ｂを参照すると、電源２２が、バスバー４０、４２を横切って電位を印加するように操作されるとき、電流を付与する電子は、バスバー４２から透明導電層２４を横切ってエレクトロクロミック層３０内に流れる。また、イオン伝導層３２が、多くの薄膜エレクトロクロミックデバイスの場合と同様に不完全な電子絶縁体であるとき、漏れ電流と一般に称される少量の電流が、バスバー４２から導電層２４およびエレクトロクロミック層３０を通ってイオン伝導層３２内に流れる。さらに、イオンが、対電極層２８からイオン伝導層３２を通ってエレクトロクロミック層３０に流れ、電荷平衡が、対電極層２８から抽出され次いで外部回路を介してエレクトロクロミック層３０内に挿入される電子によって維持される。電流がバスバー４２から離れて導電層２４を横切ってバスバー４０に向けて流れるとき、電圧は、典型的には約３から約２０Ω／スクエアの間の範囲内である導電層２４の有限のシート抵抗に起因して降下する。また、導電層２４を横切って流れる電流は、電流が層３０、３２および２８の組み合わせ（「中間スタック」）を通して引き出されてデバイス２０においてエレクトロクロミック着色を生じるとき、徐々に減少される。
【０００５】
バスバー４０、４２を横切って電位を印加することは、過剰な光またはグレアが光学グレージングを通って透過されることを防止するのに有益であり得る。しかし、デバイス２０が暗化するときには、デバイスを通って透過した光（例えば、日光）が、デバイスのスペクトル特性に従って取り除かれる。
【０００６】
図２に示すグラフに示されているように、色付き基板、例えばエレクトロクロミック絶縁グレージングユニット（「ＥＣ  ＩＧＵ」）を通した光の透過率は、光の波長に基づいて変動する。したがって、光のいくつかの波長が、他のものよりも吸収または反射され、その結果、エレクトロクロミックガラスを通過する光の色が変更されることになる。結果として、光学グレージングを通して見たとき、多くの場合、不自然または非常套的な色相が呈され、この色相は、この色相を生ずる光波が他の光波よりもガラスを通した透過率が高いとき、多くの場合、青みがかった色相である。例えば、高度に色付けされたガラスを通して見ると、深く青みがかった色相が生じているとき、かかる外観は、通過する光のスペクトルの緑および赤色部分を高度に吸収するガラスに起因している。
【０００７】
さらに、グレージングを通って透過する光もまた、かかる不自然な、多くの場合には青みがかった色相を呈することが多い。ビューアーによるかかる不自然な色相の認知は、彩度、すなわち、見られる対象の色の強度、およびビューアーが所与の光源下で色同士を区別する能力の尺度である演色評価数（ＣＲＩ）によって引き起こされる。
【０００８】
いくつかの状況において、かかるデバイス、またはかかるデバイスを備えた車両もしくは建築構造体のいくらかのユーザーは、望ましくない、また、いくつかの例においては不快でさえある、デバイスを通して見られる、内部または外部であり得る環境の不自然な青色付いた外観に出くわす。かかるユーザーは、かかる環境の外観が「ニュートラル」であること（例えば、自然なまたは周囲の光条件下での外観と同様の外観を有する、常套の屋内または屋外の照明基準に対して快適である外観を有する、など）を好む場合が多い。また、いくつかの状況において、内部空間、例えば車両または建造物内部にいるユーザーは、望ましくない、また、いくつかの例においては不快である、グレージングを通過する光によって着色されるような、内部空間の色付き外観に出くわす場合がある。例えば、美術館に設置されているエレクトロクロミックガラスを通過する光によって引き起こされる色付けされた色相は、美術館内でのゲストにとっての芸術の見た目を大幅に変更し、ゲストによっては望ましくないまたは許容されないとされる可能性がある。かかるユーザーまたはゲストは、内部空間の外観、例えば先の例における美術館が、「ニュートラル」であることを好む可能性がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
このように、環境の外観を許容されるまたは心地よい色相に、いくつかの例においてはニュートラルな色相に維持しながら、過剰な光またはグレアが光学グレージングを通って通過することを防止するデバイスが必要とされている。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
構造体を通過する光のレベルを低減しながら、よりニュートラルな色相を有するという目標を達成するために、本発明の一態様により、エレクトロクロミックデバイスのエレクトロクロミックスタックを含むフィルムの部分が除去されて、いくらかの直接光、すなわち、非暗化または非色付き光が、エレクトロクロミックデバイスを通過することを可能にすることができる。いくつかの実施形態において、除去された部分を有するフィルムは、電極層および対電極層のうち少なくとも１つを含むことができる。他の実施形態において、除去された部分を有するフィルムは、電極層、対電極層、イオン伝導体層、または透明導電体層のうち少なくとも１つを含むことができる。かかる構成において、非色付き光は、エレクトロクロミックデバイスを通過する色付き光と混合されて、色彩強度の変化を低減し、かつ、かかるデバイスの色付けまたは暗化の際に常套のエレクトロクロミックデバイスによって引き起こされる青みがかった色相を低減することができる。
【００１１】
本発明の別の態様によると、エレクトロクロミックデバイスは、１つまたは複数の開口部を画定することができるエレクトロクロミックスタックを含むことができる。かかる開口部は、光が色付けされることなく開口部を通過することを可能にすることができる。
【００１２】
いくつかの配置において、エレクトロクロミックスタックによって画定される開口部または開口部（複数）は、線または複数の線をそれぞれ画定することができる。いくつかの配置において、エレクトロクロミックスタックによって画定される開口部の少なくともいくつかは、平行線のセットを画定することができる。
【００１３】
いくつかの配置において、エレクトロクロミックスタックによって画定される複数の開口部の少なくともいくつかは、ランダムパターンで配置されていてよい。いくつかの配置において、エレクトロクロミックスタックによって画定される複数の開口部の少なくともいくつかは、均一に離間したドットのパターンで配置された円形孔のセットであり得る。いくつかの配置において、エレクトロクロミックスタックによって画定される複数の開口部の少なくともいくつかは、線状パターンで配置された離間した孔であり得る。
【００１４】
いくつかの配置において、エレクトロクロミックスタックによって画定される複数の開口部の少なくともいくつかは、第１線状パターンを画定する離間した孔の第１セットおよび第２線状パターンを画定する離間した孔の第２セットであってよい。いくつかのかかる配置において、離間した孔の第１および第２セットは、画定された第１および第２線状パターンが互いから等しく離間するように互いから離間していてよい。
【００１５】
本発明による別の態様において、色付き光の色彩強度をニュートラル化するための方法を提供することができる。かかるプロセスは、第１層を、（ｉ）透明または半透明基板および（ｉｉ）基板を覆う第２層のうちの１つに適用する工程を含むことができる。プロセスは、第１層を色付けする工程をさらに含むことができる。プロセスは、第１層内の少なくとも一部分を除去して１つまたは複数の開口部を画定し、光が色付けされることなく開口部を通過することを可能にする工程をさらに含むことができる。
【００１６】
いくつかの配置において、第１層は、第１層の色付けの前に、基板および第２層のうちの１つに適用されてよい。いくつかの配置において、第１層は、基板に適用される前に第１シェードに色付けされてよい。いくつかのかかる配置において、第１層は、基板および第２層のうちの１つに適用された後に、第１シェードとは異なる第２シェードに色付けされてよい。
【００１７】
いくつかの配置において、第１層は、エレクトロクロミック層であってよい。いくつかのかかる配置において、第１層は、エレクトロクロミック層を横切って電位を印加することによって色付けされてよい。
【００１８】
いくつかの配置において、第１層の除去された部分は、除去される前に、色付き層の厚さを通って延在していてよい。
【００１９】
いくつかの配置において、第１層によって画定される開口部または開口部（複数）は、線または複数の線をそれぞれ画定することができる。いくつかの配置において、第１層によって画定される開口部の少なくともいくつかは、平行線のセットを画定することができる。
【００２０】
いくつかの配置において、第１層によって画定される複数の開口部の少なくともいくつかは、ランダムパターンで配置されていてよい。いくつかの配置において、第１層によって画定される複数の開口部の少なくともいくつかは、均一に離間したドットのパターンで配置された円形孔のセットであってよい。いくつかの配置において、第１層によって画定される複数の開口部の少なくともいくつかは、線状パターンで配置された離間した孔であってよい。
【００２１】
いくつかの配置において、第１層によって画定される複数の開口部の少なくともいくつかは、第１線状パターンを画定する離間した孔の第１セットおよび第２線状パターンを画定する離間した孔の第２セットであってよい。いくつかのかかる配置において、離間した孔の第１および第２セットは、画定された第１および第２線状パターンが互いから等しく離間するように互いから離間していてよい。
【００２２】
いくつかの配置において、第１層は、基板より暗いシェードに色付けされてよい。
【００２３】
いくつかの配置において、第１層は、エレクトロクロミックスタックであってよい。いくつかのかかる配置において、エレクトロクロミックスタックは、エレクトロクロミック層の第１側面および対電極層の第１側面の両方に対して適用されかつこれらによって境界付けられていてよい少なくともイオン伝導層を含むことができる。いくつかのかかる配置において、エレクトロクロミック層の第２側面は、第１導電層に対して適用されかつこれによって境界付けられてよい。いくつかのかかる配置において、対電極層の第２側面は、第２導電層に対して適用されかつこれによって境界付けられてよい。いくつかのかかる配置において、第１層は、エレクトロクロミックスタックを横切って電位を印加することによって色付けされていてよい。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１Ａ】図１Ａは、エレクトロクロミックデバイスの平面図である。
【図１Ｂ】図１Ｂは、断面線１Ｂ−１Ｂにおける図１Ａのエレクトロクロミックデバイスの断面図である。
【図２】図２は、種々の波長を有するＥＣ  ＩＧＵを通る光波の透過率を示すグラフである。
【図３】図３は、実施形態による、エレクトロクロミックスタックの部分が、連続的なストライプ状に除去されている、エレクトロクロミックデバイスの部分の高倍率の写真である。
【図４】図４は、実施形態による、エレクトロクロミックスタックの部分が、間にオフセット孔を有する離間した非連続線のセットにおいて除去されている、エレクトロクロミックデバイスの部分の高倍率の写真である。
【図５】図５は、実施形態による、エレクトロクロミックスタックの部分が、ガラスの異なる部分において異なる量だけ除去されていて、いくつかのエリアでは全く除去されていない、エレクトロクロミックガラス枠の写真である。
【図６】図６は、フィルムが完全に無色な状態と完全に色付けされた状態との間で変更されるとき種々のフィルム除去度を有するエレクトロクロミックフィルムを通過する光の色の強度を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
図３を参照すると、実施形態によるエレクトロクロミックデバイス１２０は、図１Ａおよび１Ｂに示されているエレクトロクロミックデバイス２０と実質的に同様であってよい。図３において、エレクトロクロミックデバイス１２０のエレクトロクロミックスタック１３０は、基板に設けられているとき、図１に関して特定されたフィルムのセットを含むことができる。図３に示されているように、エレクトロクロミックスタック１３０は、エレクトロクロミックスタック１３０の厚さ全体を通して、または、いくつかの配置においては、スタックの処理の際にエレクトロクロミックスタック１３０を画定するいくつかのフィルムのみを通して延在することができる複数の開口部１５０を画定することができる。このように、エレクトロクロミックスタック１３０は、光が、該光がエレクトロクロミックスタックを画定するフィルムによって妨げられ得ないエレクトロクロミックスタック１３０によって画定される開口部１５０を通過することを可能にすることができる。
【００２６】
開口部１５０により、エレクトロクロミックデバイス１２０は、かかる開口部を有さないエレクトロクロミックデバイス、例えばデバイス２０よりも多い合計量の光が通過することを可能にすることができる。したがって、エレクトロクロミックデバイス１２０の完全に色付けされた状態は、エレクトロクロミックデバイス２０の完全に色付けされた状態ほど多く、デバイスを通過する光を暗化し得ない。しかし、エレクトロクロミックデバイス１２０は、開口部を有さないエレクトロクロミックデバイスよりも、色彩強度およびビューアーの認知のいずれかまたは両方においてニュートラルであり得る。
【００２７】
図３にさらに示されているように、複数の開口部１５０は、エレクトロクロミック層１２０の少なくとも一部分を横切って線またはストライプとして形成されていてよい。ストライプは、限定されないが、エレクトロクロミックスタック１３０の予め定められていてよい領域に適用されるレーザーアブレーションによって形成されてよい。例えば、かかるレーザーのパルスは、開口部を集合的に形成する、例えば図３におけるような高倍率で見ることができる一連の小さな孔を製造することができる。しかし、かかる一連の小さな孔は、拡大することなしに、連続線、すなわち、開口部として見える。複数の開口部１５０は、レーザーアブレーションによって形成されるとき、およそ０．００１インチ幅であってよい。
【００２８】
いくつかの配置において、レーザーまたは他のプロセスを用いて、エレクトロクロミックスタックの各フィルムを貫通するようにエレクトロクロミックスタック１３０全体を通って開口部を作り出すことができる。このように、光が、色付けされるまたは暗化されることなく、エレクトロクロミックスタック１３０によって画定される開口部を通過することができると同時に、エレクトロクロミックスタック１３０の残りの部分を通過する光が色付けされ得る。好ましい実施形態において、開口部の各々は、互いから電気的に単離されていてよい。
【００２９】
好ましい配置において、追加の層を通る開口部の寸法は、先に作製された層、この例においては透明導電層およびエレクトロクロミック層の平面を用いて測定された開口部の寸法に非常に厳密に相当することができる。エレクトロクロミックスタックの層の中で一貫した開口部を維持することで、短絡または他の電気漏れの問題を防止することができる。
【００３０】
図４をここで参照すると、エレクトロクロミックデバイス２２０は、いくつかの明らかな例外があるが、図３に関して示して説明したエレクトロクロミックデバイス１２０と実質的に同様であり得る。図４の例において、エレクトロクロミックデバイス２２０は、第１線状パターンを画定する離間した孔２５０Ａの第１セットおよび第２線状パターンを画定する離間した孔２５０Ｂの第２セットを有することができるエレクトロクロミックスタック２３０を含むことができる。離間した孔の第１および第２セットは、画定された第１および第２線状パターンが互いから等しく離間するように互いから離間していてよい。さらに、いくつかの配置において、示されているように、第１および第２線状パターンは、エレクトロクロミックスタック２３０の他の領域において繰り返されていてよい。さらに示されているように、全体として繰り返されている第１および第２線状パターンは、第１および第２線状パターンが互いから離間しているよりもさらに遠位に他の第１および第２線状パターンから離間していてよい。
【００３１】
図３の例において明らかに分かるように、また、図５においてより明らかに分かるように、複数の開口部によって形成されるストライプは、異なる幅だけ離間されて異なるパターンを作り出すことにより、多かれ少なかれ光をエレクトロクロミック層の種々のそれぞれの領域に通させることができる。図５に示すように、特に、エレクトロクロミックガラスの枠組みシートであってよいエレクトロクロミックデバイス３２０は、図３および４に関して本明細書に先に記載されているように、ドットまたは孔パターンにおけるストライプまたは離間した孔であってよい、開口部３５０Ａ〜３５０Ｆを画定するエレクトロクロミックスタック３３０を含むことができる。示されている配置におけるように、開口部３５０Ａ〜３５０Ｆは、エレクトロクロミック層３３０のレーザーアブレーションによって形成され得る。
【００３２】
いくつかの配置において、開口部３５０Ａ〜３５０Ｆは、フィルムの部分を同時に除去することによって作り出され得るが、一方で、他の配置において、開口部は、これらが基板または基板を覆う層に設けられているときフィルムのいくらかのみの部分を除去することによって作り出され得る。いくつかの配置において、当業者に知られているレーザー機器によって、エレクトロクロミックスタックの部分が、エレクトロクロミックデバイスの特定のゾーンのみであり得るまたはエレクトロクロミックデバイス全体を通してのゾーンであり得る種々の所定の位置でレーザーアブレーションによって除去され得る。いくつかの配置において、単一のエレクトロクロミックデバイスは、独立して制御可能な複数のゾーンを含有することができ、ここで、１つのゾーンが本明細書に記載のエレクトロクロミックスタックにおいて開口部を含むことにより、いくらかの光が色付けまたは暗化されることなく通過することを可能にする一方で、第２ゾーンは、いずれの開口部も含まないため、色付き光のみが通過することを可能にする。このように、任意の制御されたゾーンは、開口部を有しても有さなくても、任意の他の制御されたゾーンと異なる量だけ、また、異なる期間の間だけ、一方または両方が色付けされてよい。
【００３３】
図６のグラフに示すように、エレクトロクロミックフィルムを通過する光の色彩強度は、エレクトロクロミックフィルム、例えばエレクトロクロミックデバイス２０、１２０、２２０、および３２０のフィルムの暗化または色付けのレベルによって、ならびに、エレクトロクロミックデバイスからのフィルム除去度または量によって変動する。特に、グラフは、完全に無色な状態と完全に色付けされた状態との間でのエレクトロクロミックフィルムに関する、特に、フィルム除去の無い通常のフィルム４８０、軽度にストライプ状のフィルム４８２、中程度にストライプ状のフィルム４８４、および極度にストライプ状のフィルム４８６に関する相対的な平均色彩強度を示す。
【００３４】
例えば、通常のフィルム４８０は、完全に無色な状態におけるおよそ１３．０から完全に色付けされた状態におけるおよそ６．０までの色彩強度の降下を有し得る一方で、極度にストライプ状のフィルム４８６は、完全に無色な状態におけるおよそ４．０から完全に色付けされた状態におけるおよそ７．０までの色彩強度の増加を有し得る。極度にストライプ状のフィルム４８６の完全に無色な状態と完全に色付けされた状態との間の差が通常のフィルム４８０のものよりも実質的に小さいとき、極度にストライプ状のフィルム４８６は、通常のフィルム４８０よりも実質的に「ニュートラル」であると言うことができる。
【００３５】
図６にさらに示されているように、およそ３０％超の色付けレベルでは、軽度にストライプ状のフィルム４８２および中程度にストライプ状のフィルム４８４の各々が、およそ６．０の一定の色彩強度を付与する。したがって、これらの色付けレベルでは、フィルム４８２、４８４が、最もニュートラルな色相を付与することができる。
【００３６】
図６をさらに参照すると、フィルム除去度は、より低い光レベルで色付け能を制限し得る。例えば、示すように、極度にストライプ状のフィルム４８６は、該フィルムが、およそ２０％の光透過を超えるレベルで色付けするように設定されるときのみ光の色付けを付与することができる。対照的に、通常のフィルム４８０は、およそ５％の光透過を超えるレベルで色付けするように設定されるとき、光の色付けを付与することができる。したがって、エレクトロクロミックデバイスから除去される望ましいフィルム量は、光および太陽熱のさらなる低減のいずれかまたは両方を必要とする用途において、かかる要件を有さない用途よりも少なくてよい。
【００３７】
フィルム除去プロセスをレーザーアブレーションについて本明細書において先に記載しているが、エレクトロクロミック層内を含めた、エレクトロクロミックデバイスの層内に開口部を形成するのに他のプロセスが用いられ得ることを理解されたい。これらの開口部を形成するのに用いられ得るかかる他のプロセスとして、限定されないが、酸エッチング、スタンピング、または当業者に知られている他のプロセスを挙げることができる。
【００３８】
本明細書において先に記載したエレクトロクロミックデバイスの層によって画定される開口部をある特定の寸法およびパターンについて記載しているが、開口部は、本発明の目的が達成されることを条件として、任意の他の寸法およびパターンを有していてよいことを理解されたい。このように、開口部の量、開口部の寸法、および開口部間の間隔は、全て、本明細書において先に記載されているように、かかる開口部を有さずに作り出され得る望ましくない色相を補償するためのデバイスを多かれ少なかれ光が通過することを可能にするように変更され得る可変値である。例えば、開口部の他の形状として、限定されないが、円形、楕円形、星形、三日月形、および矩形、ならびにこれらの任意の組み合わせを挙げることができる。他のパターンとして、限定されないが、線またはストライプ、平行線またはストライプ、孔またはドット、およびランダムに置かれた形状を挙げることができる。
【００３９】
代替の実施形態において、エレクトロクロミックスタック以外の色付き層が、透明または半透明基板に適用されてよい。いくつかのかかる配置において、色付き層は、色付き層の開口部、次いで基板を通過する光が色付きにならないように、開口部、例えば、本明細書において先に記載した開口部を画定することができる。
【００４０】
本明細書において本発明を特定の実施形態に関して記載しているが、これらの実施形態は、単に説明目的であって、本発明の原理および用途を網羅するものではないことを理解されたい。したがって、１つの実施形態、構成、配置または例の種々の特徴は、本明細書において先に開示している別の実施形態、構成、配置または例の特徴と交換されてよい。例えば、１つの図に関して示され記載されているエレクトロクロミックスタックの開口部は、本発明によって完全に包含される代替の配置において別の図に関して示され記載されているエレクトロクロミック層の開口部に置き換えられてよい。したがって、添付の特許請求の範囲に定義されている本発明の精神および範囲から逸脱することなく、説明的な実施形態に対する多くの変更がなされ得ることおよび他の配置が考案され得ることを理解されたい。
【図１Ａ】
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【図１Ｂ】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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