(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
主注入部と、前記主注入部の上下に設けられた副注入部と、を有する注入井戸と、
前記注入井戸に挿入され、水と反応してゲル化することで地盤改良体を形成する薬液を前記主注入部に対応する部位に設けられたストレーナー部から吐出する注入管と、
前記注入井戸の前記主注入部における前記注入管の前記ストレーナー部の外側に設けられたフィルター部と、
を備え、
前記フィルター部の軸方向長さＬと外径φとの比Ｌ／φが４以上に設定されている地盤改良装置を用い、
前記副注入部から水と反応してゲル化する副薬液を注入して止水部を形成したのち、
前記主注入部から前記止水部の間に前記薬液を対象地盤が割裂しない注入圧力で前記対象地盤に横方向に卓越させて浸透注入させることで、前記対象地盤に上下方向よりも横方向が長い扁平形状の地盤改良体を形成する地盤改良体施工方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、地盤改良体施工方法、地盤改良装置及び地盤改良底盤に関する。
【背景技術】
【０００２】
薬液を注入して対象地盤に地盤改良体を形成する薬液注入工法が知られている。
【０００３】
特許文献１には、ゲル化時間を１昼夜以上に調製した薬液を用い、その薬液を加圧空気によって地盤中に少なくとも１昼夜以上にわたって連続的に注入する技術が開示されている。
【０００４】
特許文献２には、薬液の注入圧力を経時的かつ連続的に増減させ、増減の繰り返しの度に注入圧力の最大値及び最小値を増加させて注入する技術が開示されている。
【０００５】
ここで、薬液注入工法で地盤に形成される地盤改良体は略球形状とされている。よって、一箇所の薬液注入で横方向に対して広範囲に地盤改良体を形成する場合、略球形の地盤改良体の直径を大きくする必要があり、薬液が多く必要である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００２−２４２１７３号公報
【特許文献２】特許３７５７４００号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上記事実を鑑み、薬液の注入量を抑えつつ、一箇所の薬液注入で横方向に対して広範囲に地盤改良体を形成することが目的である。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
第一態様の地盤改良体施工方法は、水と反応してゲル化する薬液を対象地盤が割裂しない注入圧力で前記対象地盤に横方向に卓越させて浸透注入させることで、前記対象地盤に上下方向よりも横方向が長い扁平形状の地盤改良体を形成する。
【０００９】
第一態様の地盤改良体施工方法によれば、対象地盤が割裂しない注入圧力で対象地盤に横方向に卓越させて浸透注入させることで、対象地盤に上下方向よりも横方向が長い扁平形状の地盤改良体を形成する。したがって、薬液の注入量を抑えつつ、一箇所の薬液注入で横方向に対して広範囲に地盤改良体を形成することができる。
【００１０】
第二態様の地盤改良体施工方法は、第一態様の方法において、水と反応してゲル化する副薬液を前記対象地盤の上部及び下部へ前記薬液よりも先に注入して止水部を形成し、前記止水部の間に前記薬液を浸透注入させる。
【００１１】
第二態様の地盤改良体施工方法によれば、対象地盤の上部及び下部に副薬液を薬液よりも先に注入して止水部を形成する。そして、止水部の間に薬液を横方向へ浸透注入させる。このように上下に止水部を形成した後に、薬液を注入することで、止水部によって上下方向への浸透が抑えられ、薬液が横方向により卓越して浸透する。よって地盤改良体は、更に上下方向に扁平な扁平形状となるので、横方向に対して更に広範囲に地盤改良体を形成することができる。
【００１２】
第三態様の地盤改良底盤は、上下方向よりも横方向が長い扁平形状とされた複数の地盤改良体が、横方向の端部同士が互いに重なり、且つ平面視において隙間ができないように横方向に並び、前記端部同士の重なり部分は、横方向の長さが上下方向の長さよりも長い。
【００１３】
第三態様の地盤改良底盤によれば、地盤改良体を扁平形状とし、横方向の端部同士が互いに重なり、且つ平面視において隙間ができないように横方向に並び、その端部同士の重なり部分を横方向の長さが上下方向の長さよりも長くなることで、薬液の注入量を抑えつつ、一箇所の薬液注入で横方向に対して広範囲に地盤改良底盤を形成することができる。
【００１４】
第四態様の地盤改良装置は、注入井戸に挿入され、水と反応してゲル化することで地盤改良体を形成する薬液をストレーナー部から吐出する注入管と、前記注入井戸における前記注入管の前記ストレーナー部の外側に設けられたフィルター部と、を有し、前記フィルター部の軸方向長さＬと外径φとの比Ｌ／φが４以上に設定されている。
【００１５】
第四態様の地盤改良装置によれば、注入井戸に挿入する注入管にストレーナー部を設けると共に、このストレーナー部の外側にフィルター部を設けることで、スクリーン構造となり、フィルター部での乱流が抑制され、薬液の浸透方向を横方向に卓越させることができる。
【００１６】
更に、フィルター部の径φと軸方向長さＬとの比Ｌ／φを４以上に設定することで、上下方向の外側の薬液ほど水との接触面積が大きくゲル化が先行する。よって、後続薬液の上下方向への浸透を抑制する効果が発揮され、この結果、薬液の浸透方向を横方向により卓越させることができる。
【００１７】
よって、薬液が水と反応してゲル化することで形成される地盤改良体は、上下方向よりも横方向が長い扁平形状となる。したがって、薬液の注入量を抑えつつ、一箇所の薬液注入で横方向に対して広範囲に地盤改良体を形成することができる。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、薬液の注入量を抑えつつ、一箇所の薬液注入で横方向に対して広範囲に地盤改良体を形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本実施形態の地盤改良装置の概略構成を示す構成図と本実施形態の地盤改良体を模式的に示す縦断面図である。
【図２】図１に示す注入井戸の要部を示す縦断面図である。
【図３】制御装置での制御を示すフローチャートである。
【図４】（Ａ）は本実施形態の地盤改良体を模式的に示す縦面図であり、（Ｂ）は水平断面図である。
【図５】（Ａ）は本実施形態の第一適用例の遮水壁及び地盤改良底盤を模式的に示す縦断面図であり、（Ｂ）は本実施形態の第二適用例の遮水壁及び地盤改良底盤を模式的に示す縦断面図であり、（Ｃ）は本実施形態の第三適用例の遮水壁及び地盤改良底盤を模式的に示す水平縦断面図である。
【図６】（Ａ）は比較例の地盤改良体を模式的に示す縦面図であり、（Ｂ）は水平断面図である。
【図７】（Ａ）は比較例の第一適用例の遮水壁及び地盤改良底盤を模式的に示す縦断面図であり、（Ｂ）は比較例の第二適用例の遮水壁及び地盤改良底盤を模式的に示す縦断面図であり、（Ｃ）は比較例の第三適用例の遮水壁及び地盤改良底盤を模式的に示す水平縦断面図である。
【図８】フィルター部のＬ／φと主薬液の上下方向の拡散比との関係を示すグラフである。
【図９】注入深度における地盤改良体の半径とフィルター部のＬ／φとの関係を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
＜実施形態＞
【００２１】
本発明の一実施形態に係る地盤改良装置及び地盤改良体施工方法について説明する。
【００２２】
（全体構造）
図１に示す地盤改良装置１００の全体構造について説明する。地盤改良装置１００は、地盤１０における地下水位ＷＬ以深の対象地盤１２に地盤改良体５０を形成する装置である。
【００２３】
地盤改良装置１００は、注入井戸１１０と、この注入井戸１１０に挿入された後述する注入管１２０（図２参照）と、この注入管１２０に主薬液ＥＡ及び副薬液ＥＢを供給する供給装置１０２と、この供給装置１０２を制御する制御装置１０４と、を有している。
【００２４】
注入井戸１１０は、主注入部１１２と、この主注入部１１２の上下に設定された副注入部１１４Ｕ、１１４Ｌと、を有している。注入井戸１１０の主注入部１１２は、地盤改良体５０を形成する対象地盤１２の深度に設けられている。
【００２５】
主薬液ＥＡは、注入井戸１１０の主注入部１１２から対象地盤１２に注入され、地下水と反応してゲル化することで地盤改良体５０を形成する。一方、副薬液ＥＢは、注入井戸１１０の副注入部１１４Ｕ及び副注入部１１４Ｌから、それぞれ対象地盤１２の上部１２Ｕ及び下部１２Ｌに注入され、地下水と反応してゲル化することで、対象地盤１２の上部１２Ｕ及び下部１２Ｌに止水部６０Ｕ及び止水部６０Ｌを形成する。
【００２６】
供給装置１０２は、後述する注入管１２０（図２参照）に供給する主薬液ＥＡ及び副薬液ＥＢの供給量を調整することで、対象地盤１２に注入する主薬液ＥＡ及び副薬液ＥＢの注入圧力を調整することが可能となっている。また、供給装置１０２は、注入管１２０（図２参照）に供給する主薬液ＥＡ及び副薬液ＥＢのｐＨを調整することが可能となっている。
【００２７】
制御装置１０４は、主注入部１１２及び副注入部１１４の近傍に配置された図示していない注入圧力センサー及びｐＨセンサーからの情報に基づいて、供給装置１０２を制御し、主薬液ＥＡ及び副薬液ＥＢの供給量及びｐＨを調整する。なお、この制御装置１０４の制御に関する説明は後述する。
【００２８】
（主注入部の構造）
次に、注入井戸１１０における主薬液ＥＡを吐出する主注入部１１２の構造について説明する。
【００２９】
図２に示すように、注入井戸１１０には、二重管ダブルパッカー構造の注入管１２０が挿入されている。注入井戸１１０における主注入部１１２に対応する部位の上下には、シール材１２６が設けられ、これらシール材１２６に注入管１２０が挿通されている。なお、本実施形態のシール材１２６は、ベントナイトペレットで構成されている。
【００３０】
二重管ダブルパッカー構造の注入管１２０は、主注入部１１２以外は既存の構造である。具体的には、注入管１２０は、外管１２０Ａと図示していない内管とで構成され、内管の先端部には、薬液を吐出する吐出部分の上下にダブルパッカーと呼ばれる二段のパッカーが取り付けられている。
【００３１】
注入管１２０における主注入部１１２に対応する部位（上下のシール材１２６の間）には、主薬液ＥＡを吐出するストレーナー部１２２が設けられている。ストレーナー部１２２には、スリット１２４が複数形成されている。なお、本実施形態では、スリット１２４による開口率は５．０％以上とされている。
【００３２】
ストレーナー部１２２の外側にはフィルター部１３０が設けられている。また、フィルター部１３０は、注入井戸１１０における上下のシール材１２６で仕切られた間に設けられている。なお、フィルター部１３０は、玉砂利などのフィルター材１３２で構成されている。
【００３３】
そして、前述した注入管１２０の内管を外管１２０Ａ内に挿入して、内管の先端部の吐出部分をストレーナー部１２２に対応する位置に配置し、吐出部分から主薬液ＥＡを吐出することで、主注入部１１２から対象地盤１２に主薬液ＥＡが注入される。
【００３４】
本実施形態では、フィルター部１３０（主注入部１１２）の軸方向長さＬと外径φとの比Ｌ／φが４以上になるように設定されている。本実施形態では、Ｌ／φが５〜６程度に設定されている。
【００３５】
なお、図１に示す副薬液ＥＢを注入する副注入部１１４は、Ｌ／φが４未満であること以外は、主注入部１１２と同様の構造であるので、説明を省略する。
【００３６】
（主薬液及び副薬液）
次に、本実施形態の主薬液ＥＡ及び副薬液ＥＢについて説明する。
【００３７】
本実施形態の主薬液ＥＡ及び副薬液ＥＢは、シリカゾルグラウト（登録商標）を用いている。また、シリカゾルグラウト（登録商標）は、水ガラスのアルカリを酸で中和したシリカゾル（登録商標）を主材とする液体である。
【００３８】
なお、本実施形態では、主薬液ＥＡは、対象地盤１２におけるゲルタイムが１０時間以上になるように調整されている。また、本実施形態では、副薬液ＥＢは、対象地盤１２におけるゲルタイムが主薬液ＥＡよりも短時間（数秒〜数分程度）となるように調整された瞬結型薬剤である。
【００３９】
ここで、対象地盤１２におけるゲルタイムは主薬液ＥＡ及び副薬液ＥＢのｐＨにより影響される。よって、上記のようなゲルタイムとするため、対象地盤１２でのｐＨが、地下水による中和及び希釈効果を考慮し、事前に浸透解析や実験等によって設定したｐＨ管理値以下となるよう供給装置１０２にて配合している。
【００４０】
そして、供給装置１０２は、主薬液ＥＡのｐＨを１〜２程度に配合し、副薬液ＥＢのｐＨを２〜３程度に配合している。なお、この主薬液ＥＡのｐＨの値が、後述するｐＨ管理値である。
【００４１】
（地盤改良体施工方法）
次に、地盤１０における地下水位ＷＬ以深の対象地盤１２に地盤改良体５０を形成する地盤改良体施工方法について説明する。
【００４２】
図１に示すように、先ず注入井戸１１０の上側の副注入部１１４から副薬液ＥＢを対象地盤１２の上部１２Ｕに注入して上側の止水部６０Ｕを形成し、次に下側の副注入部１１４から副薬液ＥＢを対象地盤１２の下部１２Ｌに注入して下側の止水部６０Ｌを形成する。なお、止水部６０Ｕ、６０Ｌは、図１以外は図示を省略している。
【００４３】
また、副注入部１１４から副薬液ＥＢを対象地盤１２に注入させる方法は、どのような方法であってもよい。本実施形態では、注入井戸１１０の注入管１２０の外管１２０Ａに挿入する内管の先端部の吐出部を副注入部１１４に対応する位置に配置して副薬液ＥＢを吐出している。
【００４４】
また、本実施形態では、対象地盤１２の上部１２Ｕ及び下部１２Ｌを割裂させて注入する割裂注入で行うが、浸透注入で行ってもよい。更に、先に下側の副注入部１１４から副薬液ＥＢを対象地盤１２の下部１２Ｌに注入して下側の止水部６０Ｌを形成してもよい。
【００４５】
次に、図１及び図２に示すように、注入井戸１１０の主注入部１１２から主薬液ＥＡを対象地盤１２に注入する。このとき対象地盤１２を割裂させないで注入する浸透注入とする。具体的には、主薬液ＥＡの対象地盤１２に注入する注入圧力を、対象地盤１２が割裂する割裂圧力未満の予め定められた圧力管理値以下となるように、供給装置１０２（図１参照）が注入管１２０（図２参照）に供給する主薬液ＥＡの供給量を制御装置１０４（図１参照）が制御する。
【００４６】
なお、対象地盤１２が割裂する注入圧（割裂注入圧）は、地盤１０の対象地盤１２を掘削して分析調査することで求められる。
【００４７】
また、前述したように、制御装置１０４は、主薬液ＥＡを予め定められたｐＨ管理値以下となるように供給装置１０２を制御する。
【００４８】
次に、この制御装置１０４での制御について、図３に示すフローチャートを用いて詳しく説明する。具体的には、注入井戸１１０の主注入部１１２の近傍に配置された図示していない注入圧力センサー及びｐＨセンサーからの情報に基づいて、主薬液ＥＡの供給量及びｐＨを調整する制御について説明する。
【００４９】
図３に示すように、ステップ３００で主薬液ＥＡの対象地盤１２への注入（注入管１２０への主薬液ＥＡの供給）を開始し、ステップ３０２に進み注入圧力センサーで注入圧力（初期注入圧力）を測定する。なお、このステップ３０２で測定した初期注入圧力は、浸透注入可能な注入圧力の最低値である。このようにステップ３０２で注入圧力（初期注入圧力）を確認したのち、ステップ３０４に進む。
【００５０】
ステップ３０４では、注入圧力センサーで測定した測定注入圧力が圧力管理値以下（且つ初期圧力以上）であるか否かを判定する。注入圧力が圧力管理値よりも大きい場合は、ステップ３０６に進み供給量を調整し、ステップ３０４に戻る。ステップ３０２で注入圧力が圧力管理値以下である場合は、ステップ３０８に進む、
【００５１】
ステップ３０８では、主薬液ＥＡのｐＨセンサーで測定した対象地盤１２内の測定ｐＨがｐＨ管理値以下であるか否かを判定する。測定ｐＨがｐＨ管理値よりも大きい場合は、ステップ３１０に進み主薬液ＥＡのｐＨを調整し、ステップ３０８に戻る。ステップ３０８で主薬液ＥＡの測定ｐＨがｐＨ管理値以下である場合は、ステップ３１２に進む。
【００５２】
ステップ３１２では、総注入量が設計注入量以上であるか否かを判定する。総注入量が設計注入量未満の場合は、ステップ３０４に戻る。総入量が設計注入量以上である場合は、ステップ３１４に進み主薬液ＥＡの対象地盤１２への注入（注入管１２０への主薬液ＥＡの供給）を停止する。
【００５３】
なお、上記フローチャートは一例であって、これに限定されない。例えば、測定注入圧力が圧力管理値以下であるか否かを判定するステップ３０４と、測定ｐＨがｐＨ管理値以下であるか否かを判定するステップ３０８との順番は逆であってもよい（ステップ３０８が先でステップ３０４が後でもよい）。
【００５４】
＜作用及び効果＞
次に、作用及び効果について説明する。
【００５５】
注入圧力を対象地盤１２が割裂しない圧力管理値以下で対象地盤１２に主薬液ＥＡを注入することで、浸透注入となる。また、注入井戸１１０の注入管１２０にストレーナー部１２２を設けると共に、このストレーナー部１２２の外側にフィルター部１３０を設けることで、スクリーン構造となり、主注入部１１２の周囲の乱流が抑制され、主薬液ＥＡの浸透方向を横方向に卓越させることができる。
【００５６】
更に、フィルター部１３０（主注入部１１２）の径φと軸方向長さＬとの比Ｌ／φを４以上に設定することで、上下方向の外側の主薬液ＥＡほど地下水との接触面積が大きくゲル化が先行し、中央部ほど地下水との接触面積が小さくゲル化が遅くなる。よって、後続する主薬液ＥＡの上下方向への浸透を抑制する効果が発揮され、この結果、主薬液ＥＡの浸透方向を横方向により卓越させることができる。なお、このことを表しているのが、図２の破線ＥＡＭである。
【００５７】
また、図１に示すように、本実施形態では、対象地盤１２の上部１２Ｕ及び下部１２Ｌに副薬液ＥＢを主薬液ＥＡよりも先に注入して止水部６０Ｕ及び止水部６０Ｌを形成したのち、これら上下の止水部６０Ｕと止水部６０Ｌとの間に主薬液ＥＡを横方向へ浸透注入させている。したがって、上下の止水部６０Ｕ、６０Ｌによって主薬液ＥＡの上下方向への浸透が抑えられ、主薬液ＥＡが横方向により卓越して浸透する。
【００５８】
このように、主薬液ＥＡを対象地盤１２が割裂しない注入圧力で対象地盤１２に横方向に卓越させて浸透注入させることで、図４（Ａ）及び図４（Ｂ）に示すように、対象地盤１２に上下方向の長さＹＡよりも横方向の長さＸＡが長い扁平形状の略円盤状の地盤改良体５０が形成される。
【００５９】
換言すると、主薬液ＥＡを対象地盤１２が割裂しない注入圧力で対象地盤１２に上下方向よりも横方向により浸透させて浸透注入することで、図４（Ａ）及び図４（Ｂ）に示すように、対象地盤１２に上下方向の長さＹＡよりも横方向の長さＸＡが長い扁平形状の略円盤状の地盤改良体５０が形成される。
【００６０】
また、本実施形態では、対象地盤１２におけるゲルタイムが１０時間以上になるように主薬液ＥＡが配合及び調整されている。よって、対象地盤１２での主薬液ＥＡの早期のゲル化に伴う注入圧力の上昇による注入限界と浸透範囲の狭小が回避されるので、主薬液ＥＡを長時間に亘って大量に注入することが可能となる。
【００６１】
したがって、主薬液ＥＡの注入量を抑えつつ、一箇所の薬液注入で横方向に対して広範囲に地盤改良体５０が形成される。つまり、直径ＸＡの大きな略円盤状の地盤改良体５０が形成される。
【００６２】
（主薬液の浸透方向が横方向に卓越することの確認）
次に、上記実施形態の地盤改良装置１００で主薬液ＥＡを対象地盤１２に横方向に卓越して浸透注入され、略円盤状の地盤改良体５０が形成されることの確認実験について説明する。
【００６３】
具体的には、主薬液ＥＡの総注入量及び注入率と、原位置透水試験（測定井戸）によって確認できた地盤改良体５０の半径ｒ（ＸＡ／２）とから、上下方向への浸透幅、すなわち地盤改良体５０の厚さｔ（ＹＡ）を計算した。なお、形成される地盤改良体５０は円盤状（円柱状）と仮定する。
【００６４】
総注入量Ｑ：１５０００Ｌ（１５．０ｍ３）
注入率λ：３１．５％
改良半径ｒ：４．０ｍ
とすると、
【００６５】
Ｑ＝πｒ２ｔ×λ
ｔ＝Ｑ／πｒ２λ
＝１５．０／（π４２×０．３１５）
＝０．９４７（ｍ）
となる。
【００６６】
このように、左右方向の浸透幅（ＸＡ）は８．０ｍ（半径４．０ｍ）に対して、上下方向への浸透幅（ＹＡ）は０．９４７ｍであるので、上下方向よりも横方向が長い扁平形状の地盤改良体５０が形成されることが確認された。つまり、主薬液ＥＡの浸透方向が横方向に卓越することが確認された。
【００６７】
（フィルター部のＬ／φを４以上に設定することで横方向に卓越することの確認）
次に、フィルター部１３０（主注入部１１２）の径φと軸方向長さＬとの比Ｌ／φを４以上に設定することで、主薬液ＥＡの浸透方向が横方向に卓越して浸透注入され、略円盤状の地盤改良体５０が形成されることを確認したコンピューターシミュレーションについて説明する。
【００６８】
図８は、フィルター部１３０のＬ／φと主薬液ＥＡの上下方向の拡散比との関係を示すグラフである。なお、薬液濃度６０％以上となる領域を地盤改良体５０とした。
【００６９】
主薬液ＥＡの上下方向の拡散比は、フィルター部１３０から１ｍ離れた位置における地盤改良体５０（薬液濃度６０％以上となる領域）の上下方向の長さの比である。つまり、上下方向の長さが２．５ｍであれば、拡散比は２．５ｍ／１ｍ＝２．５である。
【００７０】
そして、地盤改良体５０が仮に真球であれば、この拡散比は２ｍ／１ｍ＝２．０となり、２．０よりも大きければ地盤改良体５０は上下方向に長い扁平形状となり、２．０未満であれば地盤改良体５０横方向に長い扁平形状になる。
【００７１】
図８のグラフからフィルター部１３０のＬ／φが大きくなるに従って主薬液ＥＡの上下方向の拡散比が小さくなり、Ｌ／φが４以上で拡散比が２．０未満となる。つまり、フィルター部１３０のＬ／φを４以上に設定することで、主薬液ＥＡの浸透方向が横方向に卓越して、横方向に長い略円盤状の地盤改良体５０が形成されることがわかる。
【００７２】
なお、図８を見ると判るように、Ｌ／φが大きくなるに従って拡散比は小さくなる。よって、図８のグラフにはプロットしていないが、Ｌ／φが４０よりも大きい場合も拡散比は２未満以下であることがコンピューターシミュレーションで確認されている。
【００７３】
また、図９は、注入深度における地盤改良体５０の半径とフィルター部１３０のＬ／φとの関係を示すグラフである。なお、薬液濃度６０％以上となる領域を地盤改良体５０とした。
【００７４】
この図９のグラフからフィルター部１３０のＬ／φが大きくなるに従って地盤改良体５０（薬液濃度６０％以上となる領域）の半径が大きくなり、Ｌ／φが４以上になると半径が約５ｍ以上になることが判る。
【００７５】
（比較例）
次に、比較例について説明する。
【００７６】
図６（Ａ）及び図６（Ｂ）に示すように、対象地盤１２に横方向に卓越させることなく、主薬液ＥＡを注入すると、対象地盤１２に上下方向の長さＹＢと横方向の長さＸＢとが略同じ長さの略球形状の地盤改良体８５０が形成される。
【００７７】
このような略球形状の比較例の地盤改良体８５０と、図４に示す本実施形態の横方向に扁平形状の略円盤状の地盤改良体５０と、を比較すると、同じ主薬液ＥＡの注入量であれば、本実施形態の略円盤状の地盤改良体５０の方が横方向に広範囲に広がっている（ＸＡ＞ＸＢ）。別の観点から説明すると、比較例の略球形の地盤改良体８５０を、本実施形態の略円盤状の地盤改良体５０と同じ横方向の長さＸＢとするためには、比較例の地盤改良体８５０の直径を大きくする必要があり、主薬液ＥＡが多く必要である。
【００７８】
したがって、比較例の略球形の地盤改良体８５０と比較し、主薬液ＥＡの注入量を抑えつつ、一箇所の薬液注入で横方向に対して広範囲に地盤改良体５０を形成することができる。
【００７９】
［適用例］
次に、本実施形態の略円盤状の地盤改良体５０の適用例を、比較例の略球形状の地盤改良体８５０と比較しつつ説明する。なお、本実施形態の略円盤状の地盤改良体５０と比較例の略球形状の地盤改良体８５０とでは、主薬剤ＥＡの注入量は同じとする。
【００８０】
（第一適用例）
図５（Ａ）に示すように、地盤１０には矩形枠状の遮水壁５００が構築されている。この遮水壁５００の下端部５１０は、支持基盤１４には達していない。よって、遮水壁５００内への地下水の進入を防ぐために、遮水壁５００の内側の底部に、地盤改良底盤５４を形成する。
【００８１】
図５（Ａ）に示すように、地盤改良底盤５４は、横方向に扁平形状とされた略円盤状の複数の地盤改良体５０を、横方向の端部（外縁部）５０Ａ（図４参照）同士が互いに重なり、平面視において隙間ができないように横方向に並べて配置することで、形成されている。
【００８２】
この地盤改良底盤５４を構成する地盤改良体５０の端部５０Ａ同士の重なり部分５２は、横方向の長さ５２Ａが上下方向の長さ５２Ｂよりも長い。なお、重なり部分５２の長さ５２Ａ、５２Ｂは、隣接する注入井戸１１０の位置と注入井戸１１０の位置とを結ぶ線分に沿った断面における重なり部分５２の長さ５２Ａ、５２Ｂである。
【００８３】
一方、図７（Ａ）に示す比較例の場合も、遮水壁５００の内側の底部には、略円形状の比較例の複数の地盤改良体８５０を、横方向の端部８５０Ａ同士が互いに重なり、且つ平面視において隙間ができないように横方向に並べて配置することで、地盤改良底盤８５４が設けられている。
【００８４】
しかし、比較例の地盤改良底盤８５４を構成する地盤改良体８５０の端部８５Ａ同士の重なり部分８５２は、横方向の長さ８５２Ａが上下方向の長さ８５２Ｂよりも短い。
【００８５】
図５（Ａ）と図７（Ａ）と比較すると判るように、図５（Ａ）の地盤改良底盤５４の円盤状の地盤改良体５０の個数の方が、図７（Ａ）の地盤改良底盤８５４の略球形状の地盤改良体８５０の個数よりも少ない。つまり、本実施形態のほうが、主薬液ＥＡの注入量を抑えつつ、一箇所の薬液注入で横方向に対して広範囲に地盤改良底盤５４を形成することができる。
【００８６】
（第二適用例）
図５（Ｂ）に示すように、遮水壁５００の下端部５１０は、一部のみが支持基盤１４に達している。よって、遮水壁５００内への地下水の進入を防ぐために、遮水壁５００の内側の支持基盤１４に達していない部分に地盤改良底盤５４を形成する。
【００８７】
第一適用例と同様に、地盤改良底盤５４は、横方向に扁平形状とされた略円盤状の複数の地盤改良体５０を、横方向の端部（外縁部）５０Ａ（図４参照）同士が互いに重なり、且つ平面視において隙間ができないように横方向に並べて配置することで、形成されている。
【００８８】
第一適用例と同様に、地盤改良底盤５４を構成する地盤改良体５０の端部５０Ａ同士の重なり部分５２は、横方向の長さ５２Ａが上下方向の長さ５２Ｂよりも長い。
【００８９】
一方、図７（Ｂ）に示す比較例の場合も、遮水壁５００の内側の支持基盤１４に達していない部分に地盤改良底盤５４を形成する。同様に、地盤改良底盤８５４は、略球形状の複数の地盤改良体８５０を、横方向の端部（外縁部）８５０Ａ同士が互いに重なり、且つ平面視において隙間ができないように横方向に並べて配置することで、形成されている。
【００９０】
しかし、比較例の地盤改良底盤８５４を構成する地盤改良体８５０の端部８５Ａ同士の重なり部分８５２は、横方向の長さ８５２Ａが上下方向の長さ８５２Ｂよりも短い。
【００９１】
第一適用と同様に、図５（Ｂ）と図７（Ｂ）と比較すると判るように、図５（Ｂ）の地盤改良底盤５４の円盤状の地盤改良体５０の個数の方が、図７（Ｂ）の地盤改良底盤８５４の略球形状の地盤改良体８５０の個数よりも少ない。つまり、本実施形態のほうが、主薬液ＥＡの注入量を抑えつつ、一箇所の薬液注入で横方向に対して広範囲に地盤改良底盤５４を形成することができる。
【００９２】
（第三適用例）
図５（Ｃ）及び図７（Ｃ）に示すように、位置を特定できない遮水壁５００の不良部５０１がある場合、この不良部５０１に重なるように略円盤状の地盤改良体５０又は略球形状の地盤改良体８５０を形成する。これら図５（Ｃ）と図７（Ｃ）とを比較すると判るように、略円盤状の地盤改良体５０の方が、平面視における遮水壁５００に接触する幅が広いので（図５（Ｃ）の幅ＳＡと図７（Ｃ）の幅ＳＢとを比較参照）、注入箇所数を少なくすることができきる。
【００９３】
＜その他＞
尚、本発明は上記実施形態に限定されない。
【００９４】
例えば、地盤改良体５０は、略円盤状、つまり平面視で略円形状であったが、これに限定されるものではない。平面視で楕円形状であってもよいし、平面視において外縁部に凹凸がある形状であってもよい。要は、全体として上下方向よりも横方向が長い扁平形状の地盤改良体であればよい。
【００９５】
また、止水部６０Ｕ、６０Ｌ（図１参照）は形成しなくてもよい。要は、主薬液ＥＡを対象地盤１２が割裂しない注入圧力で対象地盤１２に横方向に卓越させて浸透注入させることで、上下方向よりも横方向が長い扁平形状の地盤改良体５０を形成すればよい。更に、どのような施工方法であっても、全体として上下方向よりも横方向が長い扁平形状の地盤改良体が形成さればよい。
【００９６】
また、地盤改良体５０の大きさ（上下方向の厚さ及び左右方向の幅）は、限定されるものではない。また、地盤改良体５０の大きさ（上下方向の厚さ及び左右方向の幅）に応じて、フィルター部１３０の軸方向の長さＬ及びフィルター部１３０の外径φを適宜設定すればよい。
【００９７】
更に、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々なる態様で実施し得ることは言うまでもない
【符号の説明】
【００９８】
１２      対象地盤
５０      地盤改良体
５４      地盤改良底盤
６０Ｕ    止水部
６０Ｌ    止水部
１００      地盤改良装置
１１０      注入井戸
１２０      注入管
１２２      ストレーナー部
１３０      フィルター部
ＥＡ      主薬液（薬液）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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