(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一の組成物を塗布して形成される第一の領域と、第一の領域の表面に第二の組成物を塗布して形成される第二の領域とを有し、前記第一の領域と前記第二の領域の屈折率の差が０．５以上であり、前記第一の領域と前記第二の領域が、交互に積層している積層体であり、
前記第一の組成物に含まれる溶媒の溶解パラメーターであるＳＰ値と、前記第二の組成物に含まれる溶媒の溶解パラメーターであるＳＰ値との差の絶対値が、０．５（ｃａｌ／ｃｍ3）1/2以上であり、
前記第一の組成物および前記第二の組成物のうちの一方の組成物は、水と有機溶剤とを含み、かつ、水と有機溶剤との合計質量に対する水の含有量が５０〜９０質量％である、
積層体。
【請求項２】
前記第一の組成物および前記第二の組成物のうちの一方の組成物は、水と有機溶剤とを含み、かつ、水と有機溶剤との合計質量に対する水の含有量が５０〜９０質量％であり、
他方の組成物は、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、２−ヘプタノン、シクロヘキサノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノｔｅｒｔ−ブチルエーテル、及びプロピレングリコールメチルエーテルアセテートから選ばれる少なくとも１種を含む、請求項１に記載の積層体。
【請求項３】
前記有機溶剤が乳酸エチルである、請求項１または２に記載の積層体。
【請求項４】
前記第一の領域と前記第二の領域とが積層する方向から光学顕微鏡観察を実施した際に、長径が１μｍ以上である欠陥の数が５０個／ｍｍ2未満である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項５】
前記第一の領域および前記第二の領域がそれぞれ２領域以上含まれ、
前記第一の領域の各領域の厚みのバラツキが３％以内であり、
前記第二の領域の各領域の厚みのバラツキが３％以内である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項６】
前記第一の領域と前記第二の領域の少なくともいずれか一方に樹脂を含む、請求項１〜５のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項７】
前記第一の領域と前記第二の領域の両方が樹脂を含む、請求項１〜６のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項８】
前記第一の領域と前記第二の領域の合計が５領域以上である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項９】
波長７００ｎｍの吸光度と波長８００ｎｍの吸光度の比である、波長８００ｎｍの吸光度／波長７００ｎｍの吸光度が５以上である、請求項１〜８のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項１０】
波長８５０ｎｍの吸光度と波長９５０ｎｍの吸光度の比である、波長９５０ｎｍの吸光度／波長８５０ｎｍの吸光度が５以上である、請求項１〜９のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項１１】
波長９４０ｎｍの吸光度と波長１０４０ｎｍの吸光度の比である、波長１０４０ｎｍの吸光度／波長９４０ｎｍの吸光度が５以上である、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項１２】
前記第一の領域の屈折率が１．５〜３．０であり、前記第二の領域の屈折率が１．０〜１．３である、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項１３】
前記第一の領域が、酸基、塩基性窒素原子を有する基、ウレア基、ウレタン基、配位性酸素原子を有する基、フェノール基、アルキル基、アリール基、アルキレンオキシ鎖を有する基、イミド基、複素環基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、カルボン酸塩基、スルホンアミド基、アルコキシシリル基、エポキシ基、イソシアネート基及び水酸基から選択される基を含む樹脂と、金属酸化物粒子とを含む、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項１４】
前記第一の領域が、エポキシ樹脂と金属酸化物粒子とを含む、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項１５】
前記第二の領域が、シロキサン樹脂およびフッ素系樹脂の少なくとも一方を含む、請求項１〜１４のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項１６】
前記第二の領域が、数珠状シリカを含む、請求項１〜１５のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項１７】
バンドパスフィルタ形成用である、請求項１〜１６のいずれか１項に記載の積層体。
【請求項１８】
請求項１〜１７のいずれか１項に記載の積層体を有する赤外線吸収フィルタ。
【請求項１９】
請求項１〜１７のいずれか１項に記載の積層体を有する、バンドパスフィルタ。
【請求項２０】
さらに、赤外線透過フィルムを有する、請求項１９に記載のバンドパスフィルタ。
【請求項２１】
請求項１〜１７のいずれか１項に記載の積層体の製造方法であって、
粒子と、樹脂と、溶媒を含む第一の組成物を塗布して第一の領域を形成する工程と、
前記第一の領域の表面に、粒子と、樹脂と、溶媒を含む第二の組成物を塗布して第二の領域を形成する工程を含み、
前記第一の領域と前記第二の領域の屈折率の差が０．５以上であり、
前記第一の組成物に含まれる溶媒の溶解パラメーターであるＳＰ値と、前記第二の組成物に含まれる溶媒の溶解パラメーターであるＳＰ値との差の絶対値が、０．５（ｃａｌ／ｃｍ3）1/2以上であり、
前記第一の組成物および前記第二の組成物のうちの一方の組成物は、水と有機溶剤とを含み、かつ、水と有機溶剤との合計質量に対する水の含有量が５０〜９０質量％であり、他方の組成物は有機溶剤を含む、積層体の製造方法。
【請求項２２】
粒子と、樹脂と、溶媒を含む第一の組成物と、
粒子と、樹脂と、溶媒を含む第二の組成物を含み、
前記第一の組成物より得られる層の屈折率と、前記第二の組成物より得られる層の屈折率の差が０．５以上であるバンドパスフィルタ形成用キットであって、
前記第一の組成物に含まれる溶媒の溶解パラメーターであるＳＰ値と、前記第二の組成物に含まれる溶媒の溶解パラメーターであるＳＰ値との差の絶対値が、０．５（ｃａｌ／ｃｍ3）1/2以上であり、
前記第一の組成物および前記第二の組成物のうちの一方の組成物は、水と有機溶剤とを含み、かつ、水と有機溶剤との合計質量に対する水の含有量が５０〜９０質量％であり、他方の組成物は有機溶剤を含む、バンドパスフィルタ形成用キット。
【請求項２３】
前記第一の組成物が、金属酸化物粒子と、酸基、塩基性窒素原子を有する基、ウレア基、ウレタン基、配位性酸素原子を有する基、フェノール基、アルキル基、アリール基、アルキレンオキシ鎖を有する基、イミド基、複素環基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、カルボン酸塩基、スルホンアミド基、アルコキシシリル基、エポキシ基、イソシアネート基及び水酸基から選択される基を含む樹脂と、溶媒とを含み、
前記第二の組成物が、金属酸化物粒子と、シロキサン樹脂およびフッ素系樹脂の少なくとも一方と、溶媒とを含む、請求項２２に記載のバンドパスフィルタ形成用キット。
【請求項２４】
カラーフィルタを有する画像表示装置であって、
前記カラーフィルタの少なくとも一部に請求項１〜１７のいずれか１項に記載の積層体を含む、画像表示装置。
【請求項２５】
液晶表示装置、または、有機エレクトロルミネッセンス表示装置である、請求項２４に記載の画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、積層体およびその積層体の製造方法に関する。また、上記積層体を含む赤外線吸収フィルタおよびバンドパスフィルタ、バンドパスフィルタ形成用キット、ならびに、画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、光学部材において、特定の光を選択的に透過・遮蔽するバンドパスフィルタが使用されている。このようなバンドパスフィルタの一例として、高屈折層と低屈折層を交互に積層した積層体（多層膜）を形成し、その積層体内での光の干渉を利用することが検討されている（特許文献１〜３参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１２−２２５９９３号公報
【特許文献２】特開２００８−０１５２３４号公報
【特許文献３】特開２００４−３５４７０５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記特許文献に記載の積層体は、いずれも、高屈折層および低屈折層を蒸着により形成しており、作製に時間と手間がかかり、高コストであった。本発明はかかる課題を解決することを目的としたものであって、簡便・低コストに製造できる、高屈折層および低屈折層を有する積層体を提供することを目的とする。さらに、赤外線吸収フィルタ、バンドパスフィルタ、積層体の製造方法、バンドパスフィルタ形成用キット、画像表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
かかる状況のもと、本発明者らが鋭意検討を行った結果、高屈折領域および低屈折領域の少なくとも一方に樹脂を配合することにより、塗布による形成が可能になり、上記課題を解決しうることを見出した。具体的には、以下の手段により、上記課題は解決された。
＜１＞  第一の組成物を塗布して形成される第一の領域と、第一の領域の表面に第二の組成物を塗布して形成される第二の領域とを有し、第一の領域と第二の領域の屈折率の差が０．５以上であり、第一の領域と第二の領域が、交互に積層している積層体。
＜２＞  第一の組成物に含まれる溶媒の溶解パラメーターであるＳＰ値と、第二の組成物に含まれる溶媒の溶解パラメーターであるＳＰ値との差の絶対値が、０．５（ｃａｌ／ｃｍ３）１／２以上である、＜１＞に記載の積層体。
＜３＞  第一の組成物および第二の組成物のうちの一方に水が含まれ、第一の組成物および第二の組成物のうちの他方に有機溶剤が含まれる、＜１＞または＜２＞に記載の積層体。
＜４＞  第一の領域と第二の領域とが積層する方向から光学顕微鏡観察を実施した際に、長径が１μｍ以上である欠陥の数が５０個／ｍｍ２未満である、＜１＞〜＜３＞のいずれかに記載の積層体。
＜５＞  第一の領域および第二の領域がそれぞれ２領域以上含まれ、
第一の領域の各領域の厚みのバラツキが３％以内であり、
第二の領域の各領域の厚みのバラツキが３％以内である、＜１＞〜＜４＞のいずれかに記載の積層体。
＜６＞  第一の領域と第二の領域の少なくともいずれか一方に樹脂を含む、＜１＞〜＜５＞のいずれかに記載の積層体。
＜７＞  第一の領域と第二の領域の両方が樹脂を含む、＜１＞〜＜６＞のいずれかに記載の積層体。
＜８＞  第一の領域と第二の領域の合計が５領域以上である、＜１＞〜＜７＞のいずれかに記載の積層体。
＜９＞  波長７００ｎｍの吸光度と波長８００ｎｍの吸光度の比である、波長８００ｎｍの吸光度／波長７００ｎｍの吸光度が５以上である、＜１＞〜＜８＞のいずれかに記載の積層体。
＜１０＞  波長８５０ｎｍの吸光度と波長９５０ｎｍの吸光度の比である、波長９５０ｎｍの吸光度／波長８５０ｎｍの吸光度が５以上である、＜１＞〜＜９＞のいずれかに記載の積層体。
＜１１＞  波長９４０ｎｍの吸光度と波長１０４０ｎｍの吸光度の比である、波長１０４０ｎｍの吸光度／波長９４０ｎｍの吸光度が５以上である、＜１＞〜＜１０＞のいずれかに記載の積層体。
＜１２＞  第一の領域の屈折率が１．５〜３．０であり、第二の領域の屈折率が１．０〜１．３である、＜１＞〜＜１１＞のいずれかに記載の積層体。
＜１３＞  第一の領域が、酸基、塩基性窒素原子を有する基、ウレア基、ウレタン基、配位性酸素原子を有する基、フェノール基、アルキル基、アリール基、アルキレンオキシ鎖を有する基、イミド基、複素環基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、カルボン酸塩基、スルホンアミド基、アルコキシシリル基、エポキシ基、イソシアネート基及び水酸基から選択される基を含む樹脂と、金属酸化物粒子とを含む、＜１＞〜＜１２＞のいずれかに記載の積層体。
＜１４＞  第二の領域が、シロキサン樹脂およびフッ素系樹脂の少なくとも一方を含む、＜１＞〜＜１３＞のいずれかに記載の積層体。
＜１５＞  第二の領域が、数珠状シリカを含む、＜１＞〜＜１４＞のいずれかに記載の積層体。
＜１６＞  第一の領域と第二の領域を有し、
第一の領域と第二の領域が、交互に積層しており、
第一の領域と第二の領域の屈折率の差が０．５以上であり、
第一の領域と第二の領域の少なくとも一方が樹脂を含む、積層体。
＜１７＞  第一の領域と第二の領域とが積層する方向から光学顕微鏡観察を実施した際に、長径が１μｍ以上である欠陥の数が５０個／ｍｍ２未満である、＜１６＞に記載の積層体。
＜１８＞  第一の領域および第二の領域がそれぞれ２領域以上含まれ、
第一の領域の各領域の厚みのバラツキが３％以内であり、
第二の領域の各領域の厚みのバラツキが３％以内である、＜１６＞または＜１７＞に記載の積層体。
＜１９＞  バンドパスフィルタ形成用である、＜１＞〜＜１８＞のいずれかに記載の積層体。
＜２０＞  ＜１＞〜＜１９＞のいずれかに記載の積層体を有する赤外線吸収フィルタ。
＜２１＞  ＜１＞〜＜１９＞のいずれかに記載の積層体を有する、バンドパスフィルタ。
＜２２＞  さらに、赤外線透過フィルムを有する、＜２１＞に記載のバンドパスフィルタ。
＜２３＞  粒子と、樹脂と、溶媒を含む第一の組成物を塗布して第一の領域を形成する工程と、
第一の領域の表面に、粒子と、樹脂と、溶媒を含む第二の組成物を塗布して第二の領域を形成する工程を含み、
第一の領域と第二の領域の屈折率の差が０．５以上である積層体の製造方法。
＜２４＞  粒子と、樹脂と、溶媒を含む第一の組成物を塗布して第一の領域を形成する工程と、
第一の領域の表面に、粒子と、樹脂と、溶媒を含む第二の組成物を塗布して第二の領域を形成する工程を含み、
第一の領域と第二の領域の屈折率の差が０．５以上であり、
第一の組成物および第二の組成物のうちの一方に水が含まれ、第一の組成物および第二の組成物のうちの他方に有機溶剤が含まれる、積層体の製造方法。
＜２５＞  積層体が、＜１＞〜＜１９＞のいずれかに記載の積層体である、＜２３＞に記載の積層体の製造方法。
＜２６＞  粒子と、樹脂と、溶媒を含む第一の組成物と、
粒子と、樹脂と、溶媒を含む第二の組成物を含み、
第一の組成物より得られる層の屈折率と、第二の組成物より得られる層の屈折率の差が０．５以上であるバンドパスフィルタ形成用キット。
＜２７＞  第一の組成物が、金属酸化物粒子と、酸基、塩基性窒素原子を有する基、ウレア基、ウレタン基、配位性酸素原子を有する基、フェノール基、アルキル基、アリール基、アルキレンオキシ鎖を有する基、イミド基、複素環基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、カルボン酸塩基、スルホンアミド基、アルコキシシリル基、エポキシ基、イソシアネート基及び水酸基から選択される基を含む樹脂と、溶媒とを含み、
第二の組成物が、金属酸化物粒子と、シロキサン樹脂およびフッ素系樹脂の少なくとも一方と、溶媒とを含む、＜２６＞に記載のバンドパスフィルタ形成用キット。
＜２８＞  カラーフィルタを有する画像表示装置であって、
カラーフィルタの少なくとも一部に＜１＞〜＜１９＞のいずれかに記載の積層体を含む、画像表示装置。
＜２９＞  液晶表示装置、または、有機エレクトロルミネッセンス表示装置である、＜２８＞に記載の画像表示装置。
【発明の効果】
【０００６】
本発明により、簡便・低コストに製造できる、高屈折領域および低屈折領域を有する積層体を提供することが可能になった。さらに、赤外線吸収フィルタ、バンドパスフィルタ、積層体の製造方法、バンドパスフィルタ形成用キット、画像表示装置を提供することが可能になった。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】本発明の積層体の構成の一例を示す断面概略図である。
【図２】本発明の積層体の構成の他の一例を示す断面概略図である。
【図３】本発明の積層体の波長と透過率の関係の例を示すイメージ図である。
【図４】本発明の積層体と他のフィルムを組み合わせたときの、波長と透過率の関係の一例を示すイメージ図である。
【図５】本発明の積層体を用いた赤外線センサを適用した撮像装置の機能ブロック図である。
【図６】本実施例で作製した積層体１の波長と透過率の関係を示す図であり、赤外線吸収フィルタの特性を示す一例である。
【図７】本実施例で作製した赤外線透過フィルムＡ１の波長と透過率の関係を示す図である。
【図８】本実施例で作製した積層体１と赤外線透過フィルムＡを組み合わせて得られるバンドパスフィルタＡの波長と透過率の関係を示す図である。
【図９】本実施例で作製した積層体２の波長と透過率の関係を示す図であり、赤外線吸収フィルタの特性を示す一例である。
【図１０】本実施例で作製した赤外線透過フィルムＢの波長と透過率の関係を示す図である。
【図１１】本実施例で作製した積層体２と赤外線透過フィルムＢを組み合わせて得られるバンドパスフィルタＢの波長と透過率の関係を示す図である。
【図１２】本実施例で作製した積層体３の波長と透過率の関係を示す図であり、赤外線吸収フィルタの特性を示す一例である。
【図１３】本実施例で作製した赤外線透過フィルムＣの波長と透過率の関係を示す図である。
【図１４】本実施例で作製した積層体３と赤外線透過フィルムＣを組み合わせて得られるバンドパスフィルタＣの波長と透過率の関係を示す図である。
【図１５】本実施例で作製した積層体４の波長と透過率の関係を示す図である。
【図１６】本実施例で作製した積層体５の波長と透過率の関係を示す図である。
【図１７】本実施例で作製した積層体６の波長と透過率の関係を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下に、本発明の積層体、赤外線吸収フィルタ、バンドパスフィルタ、積層体の製造方法、バンドパスフィルタ形成用キットについて詳述する。
以下に記載する本発明における構成要素の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
本明細書における基（原子団）の表記に於いて、置換および無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含するものである。
本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
本明細書において、全固形分とは、組成物の全組成から溶剤を除いた成分の総質量をいう。
本明細書における固形分濃度とは、２５℃における固形分の濃度をいう。
本明細書において、“単量体”と“モノマー”とは同義である。本明細書における単量体は、オリゴマーおよびポリマーと区別され、重量平均分子量が２，０００以下の化合物をいう。本明細書において、重合性化合物とは、重合性官能基を有する化合物のことをいい、単量体であっても、ポリマーであってもよい。重合性官能基とは、重合反応に関与する基を言う。
本明細書において、１ｃａｌ＝４．１８６８Ｊ、１インチ＝２．５４ｃｍと換算する。
【０００９】
本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。
本明細書において、重量平均分子量は、ＧＰＣ測定によるポリスチレン換算値として定義される。本明細書において、重量平均分子量（Ｍｗ）は、例えば、ＨＬＣ−８２２０（東ソー（株）製）を用い、カラムとしてＴＳＫｇｅｌ  Ｓｕｐｅｒ  ＡＷＭ―Ｈ（東ソー（株）製、６．０ｍｍＩＤ×１５．０ｃｍ）を、溶離液として１０ｍｍｏｌ／Ｌ  リチウムブロミドＮＭＰ（Ｎ−メチルピロリジノン）溶液を用いることによって求めることができる。
本明細書において、波長λにおける吸光度Ａλは、以下の式（１）により定義される。
Ａλ＝−ｌｏｇ（Ｔλ）      ・・・（１）
Ａλは、波長λにおける吸光度であり、Ｔλは、波長λにおける透過率である。
吸光度は、従来公知の分光光度計を用いて測定できる。吸光度の測定条件は特に限定はない。液状の状態で吸光度を測定する場合は、試料セルの光路長を調整する方法が挙げられる。また、膜の状態で吸光度を測定する場合は、膜厚を調整する方法などが挙げられる。
【００１０】
積層体
本発明の積層体の第一の実施形態は、第一の領域と第二の領域を有し、上記第一の領域と第二の領域が、交互に積層しており、上記第一の領域と第二の領域の屈折率の差が０．５以上であり、上記第一の領域と第二の領域の少なくとも一方が樹脂を含む。第一の領域と第二の領域は、両方が樹脂を含むことが好ましい。
また、本発明の積層体の第二の実施形態は、第一の組成物を塗布して形成される第一の領域と、第一の領域の表面に第二の組成物を塗布して形成される第二の領域とを有し、上記第一の領域と第二の領域の屈折率の差が０．５以上であり、第一の領域と第二の領域が交互に積層している。さらに、第一の組成物および第二の組成物は、それぞれ独立に、樹脂を含むことが好ましい。第一の組成物としては、後述の高屈折組成物が例示され、第二の組成物としては、後述の低屈折組成物が例示される。
このような構成とすることにより、塗布による層の形成が可能になり、簡便・低コストに積層体を製造可能になる。すなわち、従来は、高屈折層と低屈折層の積層体を蒸着により作製していたが、本発明では塗布による作製に成功したものである。
以下、本発明の積層体を詳細に説明する。
【００１１】
＜積層体の構成＞
本発明の積層体は、第一の領域（以下、「高屈折領域」ということがある。）と第二の領域（以下、「低屈折領域」ということがある。）を有し、高屈折領域と低屈折領域が、交互に積層している。
図１は、本発明の積層体の構成の一例を示す断面概略図であって、高屈折領域（白で示した層）と、低屈折領域（斜線で表した層）が互いに交互に積層している。高屈折領域および低屈折領域の厚さを調整することによって、光の光路差を調整し、所望の波長の光の透過率を制御することができる。図１では高屈折領域と低屈折領域の厚さは略同一となっているが、互いに異なっていてもよい。高屈折領域、低屈折領域は、それぞれ独立に、１層の高屈折層もしくは低屈折層のみからなっても良いし、２層以上の高屈折層もしくは低屈折層からなっていても良い。
図２は、本発明の積層体の構成の他の一例を示す断面概略図であって、高屈折領域（白で表した層）を連続して形成することにより、高屈折領域の厚さが互いに異なる構成を示したものである。このように複数の高屈折領域の中でも、厚さの違う領域を設けることにより、さらに特定の波長の光だけを透過させることが可能になる。高屈折領域が２層以上の高屈折層からなる場合の、１つの高屈折領域を構成する高屈折層数の上限は、例えば、８層以下、さらには６層以下とすることもできる。なお、塗布膜の厚さを調整することによっても、高屈折領域の厚さは調整可能である。図２では、各高屈折領域の厚さが互いに異なる構成となっているが、同様に各低屈折領域の厚さが互いに異なる構成であってもよい。この場合の、低屈折領域の詳細は、上記高屈折領域の詳細と同様である。さらに、高屈折領域および低屈折領域の両方について、互いに異なる構成とすることもできる。
本発明における交互に積層とは、低屈折領域と高屈折領域が膜面上に代わる代わる積層された構成をいうが、必ずしも、低屈折領域および高屈折領域のみの積層体である必要はない。例えば、低屈折領域と高屈折領域の間に、中屈折領域等の、第一の領域および第二の領域とは異なる屈折率を有する第三の領域を有していても良い。
また、本発明の積層体は、通常、塗布により形成されるため、低屈折領域および高屈折領域を塗布する基板の上に設けられている。基板については、ガラス基板、プラスチック基板等が例示される。
１つの積層体における高屈折領域および低屈折領域の合計は、５領域以上であることが好ましく、８領域以上であることがより好ましく、１０領域以上とすることもできる。上限値としては、例えば、３０領域以下であり、２５領域以下とすることもでき、さらには、２０領域以下とすることもできる。さらに、第三の領域を有する場合は、それらを併せた総数が上記範囲であることが好ましい。
【００１２】
本発明では、高屈折領域と低屈折領域の屈折率の差が０．５以上であり、０．５５以上であることが好ましく、０．６以上とすることもでき、０．６５以上とすることもできる。高屈折領域と低屈折領域の屈折率の差の上限値としては、例えば、０．８以下とすることができ、０．７５以下とすることもできる。なお、上記屈折率は、波長６３５ｎｍにおける屈折率を意図する。なお、後述する高屈折領域および低屈折領域の屈折率の数値も、波長６３５ｎｍでの屈折率を意図する。
【００１３】
＜積層体の特性＞
本発明の積層体は、高屈折領域と低屈折領域の膜厚や各領域の数をそれぞれ独立に適宜調整することにより、特定の波長範囲の透過率のみを高くしたり、特定の波長範囲の透過率のみを低くしたりすることができる。図３に、本発明の積層体の波長と透過率の関係の一例をイメージ図として示す。図３の（ａ）に示した図は特定の波長範囲の透過率を低くしたイメージ図であり、図３の（ｂ）に示した図は特定の波長範囲の透過率を高くしたイメージ図である。縦軸Ｔ％は、透過率を、横軸Ｗａｖｅｌｅｎｇｔｈは波長を示す。
具体的には、例えば、以下のような積層体を形成することができる。
（１）波長７００ｎｍの吸光度と波長８００ｎｍの吸光度の比である、波長８００ｎｍの吸光度／波長７００ｎｍの吸光度が５以上であり、好ましくは１０以上である。上限値は特に定めるものではないが、例えば、１５００以下とすることができる。
（２）波長８５０ｎｍの吸光度と波長９５０ｎｍの吸光度の比である、波長９５０ｎｍの吸光度／波長８５０ｎｍの吸光度が５以上であり、好ましくは１０以上である。上限値は特に定めるものではないが、例えば、１５００以下とすることができる。
（３）波長９４０ｎｍの吸光度と波長１０４０ｎｍの吸光度の比である、波長１０４０ｎｍの吸光度／波長９４０ｎｍの吸光度が５以上であり、好ましくは１０以上である。上限値は特に定めるものではないが、例えば、１５００以下とすることができる。
【００１４】
＜第一の領域（高屈折領域）＞
本発明における第一の領域は、後述する第二の領域よりも、屈折率が０．５以上高い領域である。高屈折領域の屈折率は、１．５〜３．０が好ましく、１．７〜２．３がより好ましい。
第一の領域は、好ましくは樹脂を含む層である。樹脂を含む層は、いわゆる、高屈折樹脂を含む層であってもよいし、樹脂と、粒子と、溶剤を含む組成物（以下、「高屈折組成物」ということがある）を塗布して形成しても良い。第一の領域の形成に用いられる樹脂は、重合性単量体に由来する繰り返し単位からなるポリマー鎖であるか、重合性単量体に由来する繰り返し単位からなるポリマー鎖を部分構造として有する化合物であることが好ましい。好ましくは、高屈折組成物を塗布して形成される層である。
以下、高屈折組成物の詳細について述べる。
【００１５】
＜＜高屈折組成物＞＞
＜＜＜樹脂＞＞＞
高屈折組成物に含まれる樹脂としては、後述する粒子を分散可能な樹脂が挙げられる。具体的には、以下の実施形態のものが例示される。
【００１６】
（第一の実施形態）
第一の実施形態において、高屈折組成物に含まれる樹脂は、酸基、塩基性窒素原子を有する基、ウレア基、ウレタン基、配位性酸素原子を有する基、フェノール基、アルキル基、アリール基、アルキレンオキシ鎖を有する基、イミド基、複素環基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、カルボン酸塩基、スルホンアミド基、アルコキシシリル基、エポキシ基、イソシアネート基及び水酸基から選択される基を含む樹脂である。
【００１７】
より好ましくは、一般式（１）で表される樹脂である。
一般式（１）
【化１】
0006453324.tif 000002
一般式（１）中、Ｒ１は、（ｍ＋ｎ）価の連結基を表し、Ｒ２は単結合又は２価の連結基を表す。Ａ１は酸基、ウレア基、ウレタン基、配位性酸素原子を有する基、塩基性窒素原子を有する基、フェノール基、アルキル基、アリール基、アルキレンオキシ鎖を有する基、イミド基、複素環基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、カルボン酸塩基、スルホンアミド基、アルコキシシリル基、エポキシ基、イソシアネート基及び水酸基よりなる群から選択される基を少なくとも１種有する１価の置換基を表す。ｎ個のＡ１及びＲ２は、それぞれ、同一であっても、異なっていてもよい。ｍは８以下の正の数、ｎは１〜９を表し、ｍ＋ｎは３〜１０を満たす。Ｐ１はポリマー鎖を表す。ｍ個のＰ１は、同一であっても、異なっていてもよい。
【００１８】
以下、一般式（１）における各基について詳細に説明する。
Ａ１は、酸基、塩基性窒素原子を有する基、ウレア基、ウレタン基、配位性酸素原子を有する基、アルキル基、アルキレンオキシ鎖を有する基、イミド基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、カルボン酸塩基、スルホンアミド基、アルコキシシリル基、エポキシ基、イソシアネート基及び水酸基などのような後述する粒子（好ましくは、金属酸化物粒子）に対する吸着能を有する官能基、複素環構造（フェノール基、アリール基など）のような後述する粒子（好ましくは、金属酸化物粒子）に対する吸着能を有し得る構造を少なくとも１種有する１価の置換基を表す。
なお、以下、この粒子（好ましくは、金属酸化物粒子）に対する吸着能を有する部位（上記官能基及び構造）を、適宜、「吸着部位」と総称して、説明する。
【００１９】
吸着部位は、１つのＡ１の中に、少なくとも１種含まれていればよく、２種以上が含まれていてもよい。
また、本発明において、「吸着部位を少なくとも１種有する１価の置換基」は、前述の吸着部位と、１から２００個までの炭素原子、０個から２０個までの窒素原子、０個から１００個までの酸素原子、１個から４００個までの水素原子、及び０個から４０個までの硫黄原子から成り立つ連結基とが結合した１価の置換基である。なお、吸着部位自体が１価の置換基を構成しうる場合には、吸着部位そのものがＡ１で表される１価の置換基であってもよい。
まず、Ａ１を構成する吸着部位について以下に説明する。
【００２０】
「酸基」として、例えば、カルボン酸基、スルホン酸基、モノ硫酸エステル基、リン酸基、モノリン酸エステル基、ホウ酸基が好ましい例として挙げられ、カルボン酸基、スルホン酸基、モノ硫酸エステル基、リン酸基、モノリン酸エステル基がより好ましく、カルボン酸基、スルホン酸基、リン酸基がさらに好ましく、カルボン酸基が特に好ましい。
酸価は、２０〜３００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましく、５０〜２５０ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましく、５０〜２１０ｍｇＫＯＨ／ｇがさらに好ましい。
【００２１】
「ウレア基」として、例えば、−ＮＲ１５ＣＯＮＲ１６Ｒ１７（ここで、Ｒ１５、Ｒ１６、及びＲ１７は各々独立に、水素原子、炭素数１から２０までのアルキル基、炭素数６以上のアリール基、又は炭素数７以上のアラルキル基を表す。）が好ましい例として挙げられ、−ＮＲ１５ＣＯＮＨＲ１７（ここで、Ｒ１５及びＲ１７は各々独立に、水素原子あるいは、炭素数１から１０までのアルキル基、炭素数６以上のアリール基、炭素数７以上のアラルキル基を表す。）がより好ましく、−ＮＨＣＯＮＨＲ１７（ここで、Ｒ１７は水素原子あるいは、炭素数１から１０までのアルキル基、炭素数６以上のアリール基、炭素数７以上のアラルキル基を表す。）が特に好ましい。
【００２２】
「ウレタン基」として、例えば、−ＮＨＣＯＯＲ１８、−ＮＲ１９ＣＯＯＲ２０、−ＯＣＯＮＨＲ２１、−ＯＣＯＮＲ２２Ｒ２３（ここで、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２１、Ｒ２２及びＲ２３は各々独立に、炭素数１から２０までのアルキル基、炭素数６以上のアリール基、炭素数７以上のアラルキル基を表す。）などが好ましい例として挙げられ、−ＮＨＣＯＯＲ１８、−ＯＣＯＮＨＲ２１（ここで、Ｒ１８、Ｒ２１は各々独立に、炭素数１から２０までのアルキル基、炭素数６以上のアリール基、炭素数７以上のアラルキル基を表す。）などがより好ましく、−ＮＨＣＯＯＲ１８、−ＯＣＯＮＨＲ２１（ここで、Ｒ１８、Ｒ２１は各々独立に、炭素数１から１０までのアルキル基、炭素数６以上のアリール基、炭素数７以上のアラルキル基を表す。）などが特に好ましい。
【００２３】
「配位性酸素原子を有する基」としては、例えば、アセチルアセトナト基、クラウンエーテル基などが挙げられる。
【００２４】
また、「塩基性窒素原子を有する基」として、例えば、アミノ基（−ＮＨ２）、置換イミノ基（例えば、−ＮＨＲ８、−ＮＲ９Ｒ１０、ここで、Ｒ８、Ｒ９、及びＲ１０は各々独立に、炭素数１から２０までのアルキル基、炭素数６以上のアリール基、炭素数７以上のアラルキル基を表す。）、下記式（ａ１）で表されるグアニジル基、下記式（ａ２）で表されるアミジニル基などが好ましい例として挙げられる。
【００２５】
【化２】
0006453324.tif 000003
【００２６】
式（ａ１）中、Ｒ１１及びＲ１２は各々独立に、炭素数１から２０までのアルキル基、炭素数６以上のアリール基、炭素数７以上のアラルキル基を表す。
式（ａ２）中、Ｒ１３及びＲ１４は各々独立に、炭素数１から２０までのアルキル基、炭素数６以上のアリール基、炭素数７以上のアラルキル基を表す。
【００２７】
これらの中でも、アミノ基（−ＮＨ２）、置換イミノ基（−ＮＨＲ８、−ＮＲ９Ｒ１０、ここで、Ｒ８、Ｒ９、及びＲ１０は各々独立に、炭素数１から１０までのアルキル基、フェニル基、ベンジル基を表す。）、式（ａ１）で表されるグアニジル基〔式（ａ１）中、Ｒ１１及びＲ１２は各々独立に、炭素数１から１０までのアルキル基、フェニル基、ベンジル基を表す。〕、式（ａ２）で表されるアミジニル基〔式（ａ２）中、Ｒ１３及びＲ１４は各々独立に、炭素数１から１０までのアルキル基、フェニル基、ベンジル基を表す。〕などがより好ましい。
特に、アミノ基（−ＮＨ２）、置換イミノ基（−ＮＨＲ８、−ＮＲ９Ｒ１０、ここで、Ｒ８、Ｒ９、及びＲ１０は各々独立に、炭素数１から５までのアルキル基、フェニル基、ベンジル基を表す。）、式（ａ１）で表されるグアニジル基〔式（ａ１）中、Ｒ１１及びＲ１２は各々独立に、炭素数１から５までのアルキル基、フェニル基、ベンジル基を表す。〕、式（ａ２）で表されるアミジニル基〔式（ａ２）中、Ｒ１３及びＲ１４は各々独立に、炭素数１から５までのアルキル基、フェニル基、ベンジル基を表す。〕などが好ましく用いられる。
【００２８】
「アルキル基」としては、直鎖状であっても、分岐状であってもよく、炭素数１〜４０のアルキル基であることが好ましく、炭素数４〜３０のアルキル基であることがより好ましく、炭素数１０〜１８のアルキル基であることがさらに好ましい。
「アリール基」としては、炭素数６〜１０のアリール基であることが好ましい。
「アルキレンオキシ鎖を有する基」としては、末端がアルキルオキシ基又は水酸基を形成していることが好ましく、炭素数１〜２０のアルキルオキシ基を形成していることがより好ましい。また、アルキレンオキシ鎖としては、少なくとも１つのアルキレンオキシ基を有する限り特に制限はないが、炭素数１〜６のアルキレンオキシ基からなるであることが好ましい。アルキレンオキシ基としては、例えば、−ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−等が挙げられる。
「アルキルオキシカルボニル基」におけるアルキル基部分としては、炭素数１から２０までのアルキル基であることが好ましく、例えば、メチル基、エチル基等が挙げられる。
「アルキルアミノカルボニル基」におけるアルキル基部分としては、炭素数１から２０までのアルキル基であることが好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられる。
「カルボン酸塩基」としては、カルボン酸のアンモニウム塩からなる基などが挙げられる。
「スルホンアミド基」としては、窒素原子に結合する水素原子がアルキル基（メチル基等）、アシル基（アセチル基、トリフルオロアセチル基など）等で置換されていてもよい。
【００２９】
「複素環基」としては、例えば、チオフェン基、フラン基、キサンテン基、ピロール基、ピロリン基、ピロリジン基、ジオキソラン基、ピラゾール基、ピラゾリン基、ピラゾリジン基、イミダゾール基、オキサゾール基、チアゾール基、オキサジアゾール基、トリアゾール基、チアジアゾール基、ピラン基、ピリジン基、ピペリジン基、ジオキサン基、モルホリン基、ピリダジン基、ピリミジン基、ピペラジン基、トリアジン基、トリチアン基、イソインドリン基、イソインドリノン基、ベンズイミダゾロン基、ベンゾチアゾール基、コハクイミド基、フタルイミド基、ナフタルイミド基等のイミド基、ヒダントイン基、インドール基、キノリン基、カルバゾール基、アクリジン基、アクリドン基、アントラキノン基が好ましい例として挙げられる。
「イミド基」としては、コハクイミド、フタルイミド、ナフタルイミド等からなる基が挙げられる。
【００３０】
なお、「複素環基」は、さらに置換基を有していてもよく、置換基としては、例えば、メチル基、エチル基等の炭素数１から２０までのアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数６から１６までのアリール基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、スルホンアミド基、Ｎ−スルホニルアミド基、アセトキシ基等の炭素数１から６までのアシルオキシ基、メトキシ基、エトキシ基等の炭素数１から２０までのアルコキシ基、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数２から７までのアルコキシカルボニル基、シアノ基、ｔ−ブチルカーボネート基等の炭酸エステル基等が挙げられる。ここで、これらの置換基は、下記の構造単位又は上記構造単位が組み合わさって構成される連結基を介して複素環基と結合していてもよい。
【００３１】
【化３】
0006453324.tif 000004
【００３２】
「アルコキシシリル基」としては、モノアルコキシシリル基、ジアルコキシシリル基、トリアルコキシシリル基のいずれでもよいが、トリアルコキシシリル基であることが好ましく、例えば、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基などが挙げられる。
「エポキシ基」としては、置換又は無置換のオキシラン基（エチレンオキシド基）が挙げられる。エポキシ基としては、例えば、下記一般式（ａ３）で表すことができる。
【００３３】
【化４】
0006453324.tif 000005
【００３４】
上記一般式（ａ３）中、
ＲＥＰ１〜ＲＥＰ３は各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基又はシクロアルキル基を表す。また、ＲＥＰ１とＲＥＰ２、ＲＥＰ２とＲＥＰ３は、互いに結合して環構造を形成していてもよい。＊は連結手を表す。
【００３５】
吸着部位と結合する連結基としては、単結合、又は、１から１００個までの炭素原子、０個から１０個までの窒素原子、０個から５０個までの酸素原子、１個から２００個までの水素原子、及び０個から２０個までの硫黄原子から成り立つ連結基が好ましく、この有機連結基は、無置換でも置換基をさらに有していてもよい。
この連結基の具体的な例として、下記の構造単位又は上記構造単位が組み合わさって構成される基を挙げることができる。
【００３６】
【化５】
0006453324.tif 000006
【００３７】
連結基が更なる置換基を有する場合、上記置換基としては、例えば、メチル基、エチル基等の炭素数１から２０までのアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数６から１６までのアリール基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、スルホンアミド基、Ｎ−スルホニルアミド基、アセトキシ基等の炭素数１から６までのアシルオキシ基、メトキシ基、エトキシ基等の炭素数１から６までのアルコキシ基、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数２から７までのアルコキシカルボニル基、シアノ基、ｔ−ブチルカーボネート基等の炭酸エステル基等が挙げられる。
【００３８】
上記の中では、Ａ１として、酸基、ウレア基、ウレタン基、スルホンアミド基、イミド基及び配位性酸素原子を有する基よりなる群から選択される基を少なくとも１種有する１価の置換基であることが好ましい。
特に、粒子との相互作用を強くすることで、屈折率を高め、かつ組成物の粘度を低減する観点から、Ａ１は、ｐＫａ５〜１４の官能基を少なくとも１種有する１価の置換基であることがより好ましい。
ここでいう「ｐＫａ」とは、化学便覧（ＩＩ）（改訂４版、１９９３年、日本化学会編、丸善株式会社）に記載されている定義の酸解離定数である。
上記ｐＫａ５〜１４の官能基としては、ウレア基、ウレタン基、スルホンアミド基、イミド基又は配位性酸素原子を有する基が挙げられる。
具体的には、例えば、ウレア基（ｐＫａ  １２〜１４程度）、ウレタン基（ｐＫａ  １１〜１３程度）、配位性酸素原子としての−ＣＯＣＨ２ＣＯ−（ｐＫａ  ８〜１０程度）、スルホンアミド基（ｐＫａ  ９〜１１程度）等が挙げられる。
【００３９】
Ａ１は、下記一般式（４）で表される１価の置換基として表されることが好ましい。
【００４０】
【化６】
0006453324.tif 000007
【００４１】
一般式（４）中、Ｂ１は吸着部位を表し、Ｒ２４は単結合又は（ａ＋１）価の連結基を表す。ａは、１〜１０の整数を表し、一般式（４）中にａ個存在するＢ１は同一であっても、異なっていてもよい。
【００４２】
Ｂ１で表される吸着部位としては、前述の一般式（１）のＡ１を構成する吸着部位と同様であり、好ましい例も同様である。
中でも、酸基、ウレア基、ウレタン基、スルホンアミド基、イミド基又は配位性酸素原子を有する基であることが好ましく、ｐＫａ５〜１４の官能基であることがより好ましい観点から、ウレア基、ウレタン基、スルホンアミド基、イミド基又は配位性酸素原子を有する基であることがより好ましい。
【００４３】
Ｒ２４は、単結合又は（ａ＋１）価の連結基を表し、ａは１〜１０を表す。好ましくは、ａは１〜７であり、より好ましくは、ａは１〜５であり、特に好ましくは、ａは１〜３である。
（ａ＋１）価の連結基としては、１から１００個までの炭素原子、０個から１０個までの窒素原子、０個から５０個までの酸素原子、１個から２００個までの水素原子、及び０個から２０個までの硫黄原子から成り立つ基が含まれ、無置換でも置換基をさらに有していてもよい。
【００４４】
（ａ＋１）価の連結基は、具体的な例として、下記の構造単位又は上記構造単位が組み合わさって構成される基（環構造を形成していてもよい）を挙げることができる。
【００４５】
【化７】
0006453324.tif 000008
【００４６】
Ｒ２４としては、単結合、又は、１から５０個までの炭素原子、０個から８個までの窒素原子、０個から２５個までの酸素原子、１個から１００個までの水素原子、及び０個から１０個までの硫黄原子から成り立つ（ａ＋１）価の連結基が好ましく、単結合、又は、１から３０個までの炭素原子、０個から６個までの窒素原子、０個から１５個までの酸素原子、１個から５０個までの水素原子、及び０個から７個までの硫黄原子から成り立つ（ａ＋１）価の連結基がより好ましく、単結合、又は、１から１０個までの炭素原子、０個から５個までの窒素原子、０個から１０個までの酸素原子、１個から３０個までの水素原子、及び０個から５個までの硫黄原子から成り立つ（ａ＋１）価の連結基が特に好ましい。
【００４７】
上記のうち、（ａ＋１）価の連結基が置換基を有する場合、上記置換基としては、例えば、メチル基、エチル基等の炭素数１から２０までのアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数６から１６までのアリール基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、スルホンアミド基、Ｎ−スルホニルアミド基、アセトキシ基等の炭素数１から６までのアシルオキシ基、メトキシ基、エトキシ基等の炭素数１から６までのアルコキシ基、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数２から７までのアルコキシカルボニル基、シアノ基、ｔ−ブチルカーボネート基等の炭酸エステル基等が挙げられる。
【００４８】
一般式（１）中、Ｒ２は単結合あるいは２価の連結基を表す。ｎ個のＲ２は、同一であっても、異なっていてもよい。
２価の連結基としては、１から１００個までの炭素原子、０個から１０個までの窒素原子、０個から５０個までの酸素原子、１個から２００個までの水素原子、及び０個から２０個までの硫黄原子から成り立つ基が含まれ、無置換でも置換基をさらに有していてもよい。
【００４９】
２価の連結基は、具体的な例として、下記の構造単位又は上記構造単位が組み合わさって構成される基を挙げることができる。
【００５０】
【化８】
0006453324.tif 000009
【００５１】
Ｒ２としては、単結合、又は、１から５０個までの炭素原子、０個から８個までの窒素原子、０個から２５個までの酸素原子、１個から１００個までの水素原子、及び０個から１０個までの硫黄原子から成り立つ２価の連結基が好ましく、単結合、又は、１から３０個までの炭素原子、０個から６個までの窒素原子、０個から１５個までの酸素原子、１個から５０個までの水素原子、及び０個から７個までの硫黄原子から成り立つ２価の連結基がより好ましく、単結合、又は、１から１０個までの炭素原子、０個から５個までの窒素原子、０個から１０個までの酸素原子、１個から３０個までの水素原子、及び０個から５個までの硫黄原子から成り立つ２価の連結基が特に好ましい。
【００５２】
上記のうち、２価の連結基が置換基を有する場合、上記置換基としては、例えば、メチル基、エチル基等の炭素数１から２０までのアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数６から１６までのアリール基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、スルホンアミド基、Ｎ−スルホニルアミド基、アセトキシ基等の炭素数１から６までのアシルオキシ基、メトキシ基、エトキシ基等の炭素数１から６までのアルコキシ基、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数２から７までのアルコキシカルボニル基、シアノ基、ｔ−ブチルカーボネート基等の炭酸エステル基等が挙げられる。
【００５３】
一般式（１）中、Ｒ１は、（ｍ＋ｎ）価の連結基を表す。ｍ＋ｎは３〜１０を満たす。
Ｒ１で表される（ｍ＋ｎ）価の連結基としては、１から１００個までの炭素原子、０個から１０個までの窒素原子、０個から５０個までの酸素原子、１個から２００個までの水素原子、及び０個から２０個までの硫黄原子から成り立つ基が含まれ、無置換でも置換基をさらに有していてもよい。
【００５４】
（ｍ＋ｎ）価の連結基は、具体的な例として、下記の構造単位又は上記構造単位が組み合わさって構成される基（環構造を形成していてもよい）を挙げることができる。
【００５５】
【化９】
0006453324.tif 000010
【００５６】
（ｍ＋ｎ）価の連結基としては、１から６０個までの炭素原子、０個から１０個までの窒素原子、０個から４０個までの酸素原子、１個から１２０個までの水素原子、及び０個から１０個までの硫黄原子から成り立つ基が好ましく、１から５０個までの炭素原子、０個から１０個までの窒素原子、０個から３０個までの酸素原子、１個から１００個までの水素原子、及び０個から７個までの硫黄原子から成り立つ基がより好ましく、１から４０個までの炭素原子、０個から８個までの窒素原子、０個から２０個までの酸素原子、１個から８０個までの水素原子、及び０個から５個までの硫黄原子から成り立つ基が特に好ましい。
【００５７】
上記のうち、（ｍ＋ｎ）価の連結基が置換基を有する場合、上記置換基としては、例えば、メチル基、エチル基等の炭素数１から２０までのアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数６から１６までのアリール基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、スルホンアミド基、Ｎ−スルホニルアミド基、アセトキシ基等の炭素数１から６までのアシルオキシ基、メトキシ基、エトキシ基等の炭素数１から６までのアルコキシ基、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数２から７までのアルコキシカルボニル基、シアノ基、ｔ−ブチルカーボネート基等の炭酸エステル基等が挙げられる。
【００５８】
Ｒ１で表される（ｍ＋ｎ）価の連結基の具体的な例〔具体例（１）〜（１７）〕を以下に示す。但し、本発明においては、これらに制限されるものではない。
【００５９】
【化１０】
0006453324.tif 000011
【００６０】
【化１１】
0006453324.tif 000012
【００６１】
上記の具体例の中でも、原料の入手性、合成の容易さ、各種溶媒への溶解性の観点から、好ましい（ｍ＋ｎ）価の連結基は、（１）、（２）、（１０）、（１１）、（１６）、（１７）である。
【００６２】
一般式（１）中、ｍは８以下の正の数を表す。ｍとしては、０．５〜５が好ましく、１〜４がより好ましく、１〜３が特に好ましい。
また、一般式（１）中、ｎは１〜９を表す。ｎとしては、２〜８が好ましく、２〜７がより好ましく、３〜６が特に好ましい。
【００６３】
一般式（１）中、Ｐ１はポリマー鎖を表し、公知のポリマーなどから目的等に応じて選択することができる。ｍ個のＰ１は、同一であっても、異なっていてもよい。
ポリマーの中でも、ポリマー鎖を構成するには、ビニルモノマーの重合体もしくは共重合体、エステル系ポリマー、エーテル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、アミド系ポリマー、エポキシ系ポリマー、シリコーン系ポリマー、及びこれらの変性物、又は共重合体〔例えば、ポリエーテル／ポリウレタン共重合体、ポリエーテル／ビニルモノマーの重合体の共重合体など（ランダム共重合体、ブロック共重合体、グラフト共重合体のいずれであってもよい。）を含む。〕からなる群より選択される少なくとも一種が好ましく、ビニルモノマーの重合体もしくは共重合体、エステル系ポリマー、エーテル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、及びこれらの変性物又は共重合体からなる群より選択される少なくとも一種がより好ましく、ビニルモノマーの重合体もしくは共重合体が特に好ましい。
【００６４】
ポリマー鎖Ｐ１が少なくとも１種の繰り返し単位を含有することが好ましい。
ポリマー鎖Ｐ１における、少なくとも１種の繰り返し単位の繰り返し数ｋが、立体反発力を発揮し分散性を向上し、高屈折率かつ低粘度を達成する観点から、３以上であることが好ましく、５以上であることがより好ましい。
また、組成物の低粘度を達成し、さらに硬化膜（透明膜）中に粒子を密に存在させ、高屈折率を達成する観点から、少なくとも１種の繰り返し単位の繰り返し数ｋは、５０以下であることが好ましく、４０以下であることがより好ましく、３０以下であることがさらに好ましい。
【００６５】
なお、ポリマーは有機溶剤に可溶であることが好ましい。
ビニルモノマーとしては、特に制限されないが、例えば、（メタ）アクリル酸エステル類、クロトン酸エステル類、ビニルエステル類、マレイン酸ジエステル類、フマル酸ジエステル類、イタコン酸ジエステル類、（メタ）アクリルアミド類、スチレン類、ビニルエーテル類、ビニルケトン類、オレフィン類、マレイミド類、（メタ）アクリロニトリル、酸基を有するビニルモノマーなどが好ましい。
これらのビニルモノマーの好ましい例としては、特開２００７−２７７５１４号公報段落００８９〜００９４、００９６及び００９７（対応する米国特許出願公開第２０１０／２３３５９５号明細書においては段落０１０５〜０１１７、及び０１１９〜０１２０）に記載のビニルモノマーが挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
【００６６】
上記の化合物以外にも、例えば、ウレタン基、ウレア基、スルホンアミド基、フェノール基、イミド基などの官能基を有するビニルモノマーも用いることができる。このようなウレタン基、又はウレア基を有する単量体としては、例えば、イソシアネート基と水酸基、又はアミノ基の付加反応を利用して、適宜合成することが可能である。具体的には、イソシアネート基含有モノマーと水酸基を１個含有する化合物又は１級あるいは２級アミノ基を１個含有する化合物との付加反応、又は水酸基含有モノマー又は１級あるいは２級アミノ基含有モノマーとモノイソシアネートとの付加反応等により適宜合成することができる。
【００６７】
一般式（１）で表される樹脂の中でも、下記一般式（２）で表される樹脂が好ましい。
【００６８】
【化１２】
0006453324.tif 000013
【００６９】
一般式（２）において、Ａ２は、一般式（１）におけるＡ１と同義であり、好ましい態様も同様である。ｎ個のＡ２は同一であっても、異なっていてもよい。
【００７０】
一般式（２）において、Ｒ４、Ｒ５は各々独立に単結合あるいは２価の連結基を表す。ｎ個のＲ４は、同一であっても、異なっていてもよい。また、ｍ個のＲ５は、同一であっても、異なっていてもよい。
Ｒ４、Ｒ５で表される２価の連結基としては、一般式（１）のＲ２で表される２価の連結基として挙げられたものと同様のものが用いられ、好ましい態様も同様である。
【００７１】
一般式（２）において、Ｒ３は、（ｍ＋ｎ）価の連結基を表す。ｍ＋ｎは３〜１０を満たす。
Ｒ３で表される（ｍ＋ｎ）価の連結基としては、１から６０個までの炭素原子、０個から１０個までの窒素原子、０個から５０個までの酸素原子、１個から１００個までの水素原子、及び０個から２０個までの硫黄原子から成り立つ基が含まれ、無置換でも置換基をさらに有していてもよい。
Ｒ３で表される（ｍ＋ｎ）価の連結基として、具体的には、一般式（１）のＲ１で表される（ｍ＋ｎ）価の連結基として挙げられたものと同様のものが用いられ、好ましい態様も同様である。
【００７２】
一般式（２）中、ｍは８以下の正の数を表す。ｍとしては、０．５〜５が好ましく、１〜４がより好ましく、１〜３が特に好ましい。
また、一般式（２）中、ｎは１〜９を表す。ｎとしては、２〜８が好ましく、２〜７がより好ましく、３〜６が特に好ましい。
【００７３】
また、一般式（２）中のＰ２は、ポリマー鎖を表し、公知のポリマーなどから目的等に応じて選択することができる。ｍ個のＰ２は、同一であっても、異なっていてもよい。ポリマーの好ましい態様については、一般式（１）におけるＰ１と同様である。
【００７４】
一般式（２）で表される高分子化合物のうち、以下に示すＲ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｐ２、ｍ、及びｎを全て満たすものが最も好ましい。
Ｒ３：上記（ｍ＋ｎ）価の連結基の具体例（１）、（２）、（１０）、（１１）、（１６）、又は（１７）
Ｒ４：単結合、又は、下記の構造単位若しくは上記構造単位が組み合わさって構成される「１から１０個までの炭素原子、０個から５個までの窒素原子、０個から１０個までの酸素原子、１個から３０個までの水素原子、及び０個から５個までの硫黄原子」から成り立つ２価の連結基（置換基を有していてもよく、上記置換基としては、例えば、メチル基、エチル基等の炭素数１から２０までのアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数６から１６までのアリール基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、スルホンアミド基、Ｎ−スルホニルアミド基、アセトキシ基等の炭素数１から６までのアシルオキシ基、メトキシ基、エトキシ基等の炭素数１から６までのアルコキシ基、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数２から７までのアルコキシカルボニル基、シアノ基、ｔ−ブチルカーボネート基等の炭酸エステル基等が挙げられる。）
【００７５】
【化１３】
0006453324.tif 000014
【００７６】
Ｒ５：単結合、エチレン基、プロピレン基、下記基（ａ）、又は下記基（ｂ）
なお、下記基中、Ｒ１２は水素原子又はメチル基を表し、ｌは１又は２を表す。
【００７７】
【化１４】
0006453324.tif 000015
【００７８】
Ｐ２：ビニルモノマーの重合体もしくは共重合体、エステル系ポリマー、エーテル系ポリマー、ウレタン系ポリマー及びこれらの変性物
ｍ：１〜３
ｎ：３〜６
【００７９】
（第二の実施形態）
第二の実施形態において、高屈折組成物に含まれる樹脂は、グラフト共重合体を含む樹脂である。
グラフト共重合体は、グラフト鎖１本あたりの水素原子を除いた原子数が４０〜１００００であることが好ましく、１００〜５００であることがより好ましく、１５０〜２６０であることがさらに好ましい。
グラフト鎖のポリマー構造は、ポリ（メタ）アクリル構造、ポリエステル構造、ポリウレタン構造、ポリウレア構造、ポリアミド構造、ポリエーテル構造などを用いることができる。
グラフト共重合体を含む樹脂は、例えば、特開２０１４−０６３１２５号公報の段落００８０〜０１２６の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
【００８０】
（第三の実施形態）
第三の実施形態において、高屈折組成物に含まれる樹脂は、主鎖及び側鎖の少なくとも一方に窒素原子を含むオリゴイミン系樹脂である。オリゴイミン系樹脂としては、ｐＫａ１４以下の官能基を有する部分構造Ｘを有する繰り返し単位と、原子数４０〜１０，０００の側鎖Ｙを含む側鎖とを有し、かつ主鎖及び側鎖の少なくとも一方に塩基性窒素原子を有する樹脂が好ましい。
オリゴイミン系樹脂は、例えば、特開２０１４−０６３１２５号公報の段落０２２５〜０２６７の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
【００８１】
（第四の実施形態）
第四の実施形態において、高屈折組成物に含まれる樹脂は、一般式（２）〜（４）のいずれかで表されるシラン化合物を含むシラン化合物を加水分解し、この加水分解物を縮合反応させることにより得られるシロキサン樹脂である。
Ｒ０２−ｎＲ１ｎＳｉ（ＯＲ９）２  一般式（２）
一般式（２）中、Ｒ０は水素、アルキル基、アルケニル基、フェニル基を表す。Ｒ１は１価の縮合多環式芳香族基を表す。Ｒ９は水素、メチル基、エチル基、プロピル基またはブチル基を表し、同一でも異なっていてもよい。ｎは１または２である。ｎが２の場合、複数のＲ１は同一でも異なっていてもよい。
Ｒ２Ｓｉ（ＯＲ１０）３  一般式（３）
一般式（３）中、Ｒ２は１価の縮合多環式芳香族基を表す。Ｒ１０は水素、メチル基、エチル基、プロピル基またはブチル基を表し、同一でも異なっていてもよい。
（Ｒ１１Ｏ）ｍＲ４３−ｍＳｉ−Ｒ３−Ｓｉ（ＯＲ１２）ｌＲ５３−ｌ  一般式（４）
一般式（４）中、Ｒ３は２価の縮合多環式芳香族基を表す。Ｒ４およびＲ５は、それぞれ独立に、水素、アルキル基、アルケニル基、アリール基を表し、それぞれ同一でも異なっていてもよい。Ｒ１１およびＲ１２は、それぞれ独立に、水素、メチル基、エチル基、プロピル基またはブチル基を表し、それぞれ同一でも異なっていてもよい。ｍおよびｌはそれぞれ独立に１〜３の整数である。
上記シロキサン樹脂は、例えば、特開２０１０−００７０５７号公報の段落００１７〜００４４の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
【００８２】
高屈折組成物は、エポキシ樹脂を含むことも好ましい。
エポキシ樹脂の市販品としては、例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂としては、ＪＥＲ８２７、ＪＥＲ８２８、ＪＥＲ８３４、ＪＥＲ１００１、ＪＥＲ１００２、ＪＥＲ１００３、ＪＥＲ１０５５、ＪＥＲ１００７、ＪＥＲ１００９、ＪＥＲ１０１０（以上、ジャパンエポキシレジン（株）製）、ＥＰＩＣＬＯＮ８６０、ＥＰＩＣＬＯＮ１０５０、ＥＰＩＣＬＯＮ１０５１、ＥＰＩＣＬＯＮ１０５５（以上、ＤＩＣ（株）製）等であり、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂としては、ＪＥＲ８０６、ＪＥＲ８０７、ＪＥＲ４００４、ＪＥＲ４００５、ＪＥＲ４００７、ＪＥＲ４０１０（以上、ジャパンエポキシレジン（株）製）、ＥＰＩＣＬＯＮ８３０、ＥＰＩＣＬＯＮ８３５（以上、ＤＩＣ（株）製）、ＬＣＥ−２１、ＲＥ−６０２Ｓ（以上、日本化薬（株）製）等であり、フェノールノボラック型エポキシ樹脂としては、ＪＥＲ１５２、ＪＥＲ１５４、ＪＥＲ１５７Ｓ７０、ＪＥＲ１５７Ｓ６５（以上、ジャパンエポキシレジン（株）製）、ＥＰＩＣＬＯＮ  Ｎ−７４０、ＥＰＩＣＬＯＮ  Ｎ−７７０、ＥＰＩＣＬＯＮ  Ｎ−７７５（以上、ＤＩＣ（株）製）等であり、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂としては、ＥＰＩＣＬＯＮ  Ｎ−６６０、ＥＰＩＣＬＯＮ  Ｎ−６６５、ＥＰＩＣＬＯＮ  Ｎ−６７０、ＥＰＩＣＬＯＮ  Ｎ−６７３、ＥＰＩＣＬＯＮ  Ｎ−６８０、ＥＰＩＣＬＯＮ  Ｎ−６９０、ＥＰＩＣＬＯＮ  Ｎ−６９５（以上、ＤＩＣ（株）製）、ＥＯＣＮ−１０２０（以上、日本化薬（株）製）等であり、脂肪族エポキシ樹脂としては、ＡＤＥＫＡ  ＲＥＳＩＮ  ＥＰ−４０８０Ｓ、同ＥＰ−４０８５Ｓ、同ＥＰ−４０８８Ｓ（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、セロキサイド２０２１Ｐ、セロキサイド２０８１、セロキサイド２０８３、セロキサイド２０８５、ＥＨＰＥ３１５０、ＥＰＯＬＥＡＤ  ＰＢ  ３６００、同ＰＢ  ４７００（以上、ダイセル化学工業（株）製）、デナコールＥＸ−２１１Ｌ、ＥＸ−２１２Ｌ、ＥＸ−２１４Ｌ、ＥＸ−２１６Ｌ、ＥＸ−３２１Ｌ、ＥＸ−８５０Ｌ（以上、ナガセケムテックス（株）製）等である。その他にも、ＡＤＥＫＡ  ＲＥＳＩＮ  ＥＰ−４０００Ｓ、同ＥＰ−４００３Ｓ、同ＥＰ−４０１０Ｓ、同ＥＰ−４０１１Ｓ（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、ＮＣ−２０００、ＮＣ−３０００、ＮＣ−７３００、ＸＤ−１０００、ＥＰＰＮ−５０１、ＥＰＰＮ−５０２（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、ＪＥＲ１０３１Ｓ（ジャパンエポキシレジン（株）製）等が挙げられる。
【００８３】
樹脂の分子量は、重量平均分子量で、２，０００〜２００，０００が好ましく、２，０００〜１５，０００がより好ましく、２，５００〜１０，０００がさらに好ましい。
【００８４】
高屈折組成物における樹脂の量は、０．５質量％以上が好ましく、１質量％以上がより好ましく、２質量％以上がさらに好ましい。また、上限は３０質量％以下が好ましく、２０質量％以下がより好ましく、１５質量％以下がさらに好ましい。
また、高屈折組成物における樹脂の固形分濃度（全固形分に対する樹脂の濃度（質量％））は、５質量％以上が好ましく、８質量％以上がより好ましく、１０質量％以上がさらに好ましい。また、上限は４０質量％以下が好ましく、３５質量％以下がより好ましく、３０質量％以下がさらに好ましい。
樹脂は、１種類のみ含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。２種類以上含む場合、合計量が上記範囲となることが好ましい。
【００８５】
＜＜＜粒子＞＞＞
高屈折組成物に含まれる粒子は、金属酸化物粒子を含むことが好ましい。
金属酸化物粒子としては、屈折率が高く、無色、白色又は透明な無機粒子であることが好ましく、チタン（Ｔｉ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、アルミニウム（Ａｌ）、ケイ素（Ｓｉ）、亜鉛（Ｚｎ）又はマグネシウム（Ｍｇ）の酸化物粒子が挙げられ、二酸化チタン（ＴｉＯ２）粒子、二酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）粒子であることが好ましく、二酸化チタン粒子がより好ましい。
金属酸化物粒子は、一次粒子径の下限が１ｎｍ以上であることが好ましく、上限は１００ｎｍ以下が好ましく、８０ｎｍ以下がより好ましく、５０ｎｍ以下がさらに好ましい。一次粒子径の指標として平均粒子径を用いることもできる。金属酸化物粒子の平均粒子径は、金属酸化物粒子を含む混合液又は分散液を、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで８０倍に希釈し、得られた希釈液について動的光散乱法を用いて測定することにより得られた値のことを言う。この測定は、日機装株式会社製マイクロトラックＵＰＡ−ＥＸ１５０を用いて行って得られた数平均粒子径のこととする。
金属酸化物粒子は、例えば、特開２０１４−０６２２２１号公報の段落００２３〜００２７の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
また、金属酸化物粒子としては、日揮触媒化成社製ＨＰＷ−１０Ｒ、ＨＰＷ−１８Ｒ、ＨＰＷ−１８ＮＲ、ＨＰＷ−２５Ｒ、ＨＰＷ−３０ＮＲＤなどの市販品も使用できる。
また、金属酸化物粒子以外にも、市販の有機粒子または高屈折組成物を使用できる。例えば、日産化学工業（株）製ＨＹＰＥＲＴＥＣＨシリーズ、東レ社製ＣＳ−ｓｅｒｉｅｓ、ＶＦ  ＆  ＰＶ−ｓｅｒｉｅｓなどが市販品として挙げられる。
【００８６】
高屈折組成物における粒子の量は、１０質量％以上であることが好ましく、１５質量％以上であることがより好ましく、２０質量％以上がさらに好ましい。上限は特に制限はないが、４０質量％以下が好ましく、３０質量％以下がより好ましい。
また、高屈折組成物における粒子の固形分濃度（全固形分に対する粒子の濃度（質量％））は、６０質量％以上であることが好ましく、７０質量％以上であることがより好ましい。上限は特に制限はないが、９９質量％以下が好ましく、９５質量％以下がより好ましく、９０質量％以下がさらに好ましい。
粒子は、１種類のみ含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。２種類以上含む場合、合計量が上記範囲となることが好ましい。
【００８７】
＜＜＜溶剤＞＞＞
高屈折組成物に含まれる溶剤としては、水や、有機溶剤が挙げられ、有機溶剤が好ましい。
有機溶剤としては、エステル類として、例えば、酢酸エチル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、オキシ酢酸アルキル（例：オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル（例えば、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル等））、３−オキシプロピオン酸アルキルエステル類（例：３−オキシプロピオン酸メチル、３−オキシプロピオン酸エチル等（例えば、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル等））、２−オキシプロピオン酸アルキルエステル類（例：２−オキシプロピオン酸メチル、２−オキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸プロピル等（例えば、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル））、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸メチル及び２−オキシ−２−メチルプロピオン酸エチル（例えば、２−メトキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−エトキシ−２−メチルプロピオン酸エチル等）、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソブタン酸メチル、２−オキソブタン酸エチル等、並びに、エーテル類として、例えば、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、プロピレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノｔｅｒｔ−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート等、並びに、ケトン類として、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン等、並びに、芳香族炭化水素類として、例えば、トルエン、キシレン等が好適に挙げられる。
特に好ましくは、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、２−ヘプタノン、シクロヘキサノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノｔｅｒｔ−ブチルエーテル、及びプロピレングリコールメチルエーテルアセテートである。溶剤は、過酸化物の含有率が０．８ｍｍｏｌ／Ｌ以下であることが好ましく、過酸化物を実質的に含まない溶剤を用いることが好ましい。
その他高屈折組成物に含まれる溶剤しては、例えば特開２０１４−０６３１２５号公報の段落００６５〜００６７の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
高屈折組成物における溶剤の量は、組成物の全量中、５０質量％以上が好ましく、６０質量％以上がより好ましい。また、組成物の全量中、上限は、９９．９質量％以下が好ましく、９５質量％以下がより好ましく、９０質量％以下がさらに好ましい。
溶剤は、１種類のみ含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。２種類以上含む場合、合計量が上記範囲となる。
【００８８】
＜＜＜界面活性剤＞＞＞
高屈折組成物は、塗布性をより向上させる観点から、各種の界面活性剤を含有していてもよい。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用できる。フッ素系界面活性剤が好ましい。フッ素系界面活性剤を含有する組成物からなる塗布液を用いて膜形成する場合においては、塗布面と塗布液との界面張力が低下して、塗布面への濡れ性が改善され、塗布面への塗布性が向上する。このため、厚みムラの小さい、均一膜厚を有する膜をより好適に形成することができる。
【００８９】
フッ素系界面活性剤は、フッ素含有率が３〜４０質量％であることが好ましく、５〜３０質量％がより好ましく、７〜２５質量％がさらに好ましい。フッ素含有率がこの範囲内であるフッ素系界面活性剤は、塗布膜の厚さの均一性や省液性の点で効果的であり、組成物中における溶解性も良好である。
【００９０】
フッ素系界面活性剤としては、例えば、メガファックＦ−１７１、同Ｆ−１７２、同Ｆ−１７３、同Ｆ−１７６、同Ｆ−１７７、同Ｆ−１４１、同Ｆ−１４２、同Ｆ−１４３、同Ｆ−１４４、同Ｒ−３０、同Ｆ−４３７、同Ｆ−４７５、同Ｆ−４７９、同Ｆ−４８２、同Ｆ−５５４、同Ｆ−７８０、同Ｆ−７８１（以上、ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、同ＦＣ４３１、同ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ−３８２、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０３、同ＳＣ−１０４、同ＳＣ−１０５、同ＳＣ１０６８、同ＳＣ−３８１、同ＳＣ−３８３、同Ｓ３９３、同ＫＨ−４０（以上、旭硝子（株）製）、ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ７００２（ＯＭＮＯＶＡ社製）等が挙げられる。
また、下記化合物も本発明で用いられるフッ素系界面活性剤として例示される。
【化１５】
0006453324.tif 000016
上記の重量平均分子量は、例えば、１４，０００である。
【００９１】
フッ素系界面活性剤としてブロックポリマーを用いることもでき、具体例としては、例えば特開２０１１−８９０９０号公報に記載された化合物が挙げられる。
【００９２】
ノニオン系界面活性剤として具体的には、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン並びにそれらのエトキシレート及びプロポキシレート（例えば、グリセロールプロポキシレート、グリセリンエトキシレート等）、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル（ＢＡＳＦ社製のプルロニックＬ１０、Ｌ３１、Ｌ６１、Ｌ６２、１０Ｒ５、１７Ｒ２、２５Ｒ２、テトロニック３０４、７０１、７０４、９０１、９０４、１５０Ｒ１、ソルスパース２００００（日本ルーブリゾール（株）製））等が挙げられる。
【００９３】
カチオン系界面活性剤として具体的には、フタロシアニン誘導体（商品名：ＥＦＫＡ−７４５、森下産業（株）製）、オルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）、（メタ）アクリル酸系（共）重合体ポリフローＮｏ．７５、Ｎｏ．９０、Ｎｏ．９５（共栄社化学（株）製）、Ｗ００１（裕商（株）製）等が挙げられる。
【００９４】
アニオン系界面活性剤として具体的には、Ｗ００４、Ｗ００５、Ｗ０１７（裕商（株）社製）等が挙げられる。
【００９５】
シリコーン系界面活性剤としては、例えば、トーレシリコーンＤＣ３ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ７ＰＡ、トーレシリコーンＤＣ１１ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２１ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２８ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２９ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ３０ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ８４００（以上、東レ・ダウコーニング（株）製）、ＴＳＦ−４４４０、ＴＳＦ−４３００、ＴＳＦ−４４４５、ＴＳＦ−４４６０、ＴＳＦ−４４５２（以上、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）、ＫＰ３４１、ＫＦ６００１、ＫＦ６００２（以上、信越シリコーン株式会社製）、ＢＹＫ３０７、ＢＹＫ３２３、ＢＹＫ３３０（以上、ビックケミー社製）等が挙げられる。
【００９６】
界面活性剤は、１種のみを用いてもよいし、２種類以上を組み合わせてもよい。
界面活性剤の含有量は、組成物の全質量に対して、０．００１〜２．０質量％が好ましく、０．００５〜１．０質量％がより好ましい。
【００９７】
＜＜重合禁止剤＞＞
高屈折組成物は、重合禁止剤を含有していてもよい。
重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩等が挙げられる。中でも、ｐ−メトキシフェノールが好ましい。
重合禁止剤の添加量は、組成物の全質量に対して、０．００１〜５質量％が好ましい。
【００９８】
＜＜＜その他の添加剤＞＞＞
高屈折組成物は、他の添加剤を含んでいてもよい。具体的には、硬化剤、重合性化合物、重合開始剤、上記樹脂以外の樹脂（例えば、アルカリ可溶性樹脂、バインダー）、可塑剤、感脂化剤、紫外線吸収剤等が挙げられる。
アルカリ可溶性樹脂としては、例えば、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸共重合体、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート共重合体、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／他のモノマーからなる多元共重合体が好ましく用いることができる。また、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートを共重合したもの、特開平７−１４０６５４号公報に記載の、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート／ポリメチルメタクリレートマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２−ヒドロキシエチルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／メチルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２−ヒドロキシエチルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体なども好ましく用いることができる。また、後述する赤外線透過組成物で説明するアルカリ可溶性樹脂を用いることもできる。
これらの添加剤は、例えば、特開２０１４−０６３１２５号公報の段落０１３３〜０２２４の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
【００９９】
用いる原料等により高屈折組成物中に金属元素が含まれることがあるが、欠陥発生抑制等の観点で、高屈折組成物中の第２族元素（カルシウム、マグネシウム等）の含有量は５０ｐｐｍ以下であることが好ましく、０．０１〜１０ｐｐｍに制御することが好ましい。また、高屈折組成物中の無機金属塩の総量は１００ｐｐｍ以下であることが好ましく、０．５〜５０ｐｐｍに制御することがより好ましい。
【０１００】
＜＜高屈折組成物の具体例＞＞
高屈折組成物の具体例としては、特開２０１４−６２２２１号公報の請求項１に記載の分散組成物；特開２０１０−００７０５７号、特開２０１０−２２２４３１号、特開２００９−２６３５０７号、特開２００８−２０２０３３号、特開２０１２−０８７３１６号および特開２００７−２４６８７７号公報の請求項１に記載のシロキサン系樹脂組成物；ＷＯ２０１０／１２５９４９、ＷＯ２０１０／１２８６６１、ＷＯ２０１１／０１８９９０、ＷＯ２０１２／０２６４５１、ＷＯ２０１２／０２６４５２、ＷＯ２０１２／０６０２８６およびＷＯ２０１２／１１１６８２号公報の請求項に記載の組成物が例示され、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、これらの組成物の好ましい範囲が、本発明の高屈折組成物の好ましい範囲の例として挙げられる。
本発明においては、市販の硬化性樹脂も好適に用いることができる。以下にその商品名（製品番号）を列記しておく。
（１）超高屈折率、高耐熱コーティング材料：ＵＲ−１０８、ＵＲ−２０２、ＵＲ−５０１、ＨＲ−１０２（日産化学工業社製）
（２）厚膜用高屈折率コーティング材料：ＵＲ−１０８、ＵＲ−２０４、ＨＲ−２０１（日産化学工業社製）
（３）チオエポキシ樹脂ＬＰＨ１１０１（三菱ガス化学社製）
（４）エピスルフィド樹脂ＭＲ−１７４（三井化学社製）
（５）チオウレタン樹脂ＭＲ−７（三井化学社製）
【０１０１】
＜＜膜厚＞＞
高屈折領域の膜厚は、所望の光の光路差を達成するように適宜定められるが、例えば、８０ｎｍ以上であり、１００ｎｍ以上とすることもでき、１２０ｎｍ以上とすることもできる。上限としては、例えば、６００ｎｍ以下であり、５００ｎｍ以下とすることもでき、３００ｎｍ以下とすることもできる。
【０１０２】
＜第二の領域（低屈折層）＞
本発明における第二の領域は、第一の領域よりも、屈折率が０．５以上低い領域である。第二の領域（低屈折領域）の屈折率は、好ましくは１．０〜１．５であり、より好ましくは１．０〜１．３であり、さらに好ましくは１．１〜１．３である。
第二の領域の好適態様の一つとしては、樹脂を含む層である。樹脂を含む層は、いわゆる、低屈折樹脂、すなわち、上述の高屈折樹脂よりも屈折率の低い樹脂からなる層であってもよいし、樹脂と、粒子と、溶剤を含む組成物（以下、「低屈折組成物」ということがある）を塗布して形成しても良い。第二の領域の形成に用いられる樹脂は、重合性単量体に由来する繰り返し単位からなるポリマー鎖であるか、重合性単量体に由来する繰り返し単位からなるポリマー鎖を部分構造として有する化合物であることが好ましい。好ましくは、低屈折組成物を塗布して形成される層である。
また、第二の領域の他の好適態様の一つとしては、粒子を含む層である。粒子を含む層は、粒子と、溶剤を含む組成物を塗布して形成してもよい。なお、上記粒子を含む層には、樹脂は含まれていても、いなくてもよい。
以下、低屈折組成物の詳細について述べる。
【０１０３】
＜＜低屈折組成物＞＞
＜＜＜樹脂＞＞＞
低屈折領域で用いられる樹脂としては、シロキサン樹脂およびフッ素系樹脂の少なくとも一方を含む樹脂が例示される。
＜＜＜＜シロキサン樹脂＞＞＞＞
シロキサン樹脂は、アルコキシシラン原料を用いて、加水分解反応および縮合反応を介して得ることができる。具体的には、シロキサン樹脂は、アルキルトリアルコキシシランの一部または全部のアルコキシ基が加水分解してシラノール基に変換し、生成したシラノール基の少なくとも一部が縮合してＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を形成したものである。シロキサン樹脂は、下記一般式（５）で表されるシルセスキオキサン構造を有することが好ましい。
−（Ｒ１ＳｉＯ３／２）ｎ−  一般式（５）
一般式（５）中、Ｒ１は炭素数１〜３のアルキル基を表す。ｎは２０〜１０００の整数を表す。
＜＜＜＜フッ素系樹脂＞＞＞＞
フッ素系樹脂は、物質分子中にフッ素を含有する樹脂であり、具体的には、ポリテトラフルオロエチレン、ポリヘキサフルオロプロピレン、テトラフルオロエチレン／ヘキサフルオロプロピレン共重合体、テトラフルオロエチレン／パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体、テトラフルオロエチレン／エチレン共重合体、ヘキサフルオロプロピレン／プロピレン共重合体、ポリビニリデンフルオライド、ビニリデンフルオライド／エチレン共重合体などが挙げられる。
【０１０４】
上記シロキサン樹脂およびフッ素系樹脂の詳細については、例えば特開２０１４−０６３１２５号公報の段落００１４〜００６０の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
そのほか、本発明では、低屈折組成物に含まれる樹脂として、特開２０１３−２５３１４５号公報の段落番号００１６〜００２４に記載の所定のケイ素化合物による加水分解物、特開２０１２−０２１４７７２号公報の段落番号００３０〜００４３に記載の化合物を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
【０１０５】
低屈折組成物における樹脂の量は、０．５質量％以上が好ましく、１質量％以上がより好ましく、２質量％以上がさらに好ましい。また、上限は３０質量％以下が好ましく、２０質量％以下がより好ましく、１５質量％以下がさらに好ましい。
また、低い屈折組成物における樹脂の固形分濃度（全固形分に対する樹脂の濃度（質量％））は、５質量％以上が好ましく、８質量％以上がより好ましく、１０質量％以上がさらに好ましい。また、上限は４０質量％以下が好ましく、３５質量％以下がより好ましく、３０質量％以下がさらに好ましい。
樹脂は、１種類のみ含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。２種類以上含む場合、合計量が上記範囲となることが好ましい。
【０１０６】
＜＜＜粒子＞＞＞
低屈折領域で用いられる粒子としては、例えば、中空粒子または非中空粒子が挙げられる。中空粒子としては、中空構造や多孔質の微粒子を使用してもよい。中空粒子は、内部に空洞を有する構造のものであり、外郭に包囲された空洞を有する粒子を指し、多孔質粒子は、多数の空洞を有する多孔質の粒子を指す。以下、中空粒子又は多孔質粒子を、適宜「特定粒子」と称する。特定粒子は、有機粒子であっても、無機粒子であってもよい。好ましくは、金属酸化物粒子であり、より好ましくはシリカ粒子である。
低屈折領域で用いられる粒子は、例えば特開２０１４−０６３１２５号公報の段落００４７〜００５５の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
また、シリカ粒子としては、市販品を使用することもでき、触媒化成工業（株）製オスカルシリーズ、扶桑化学工業（株）製クォートロンシリーズ共立マテリアル（株）製ＳＧ−ＳＯ１００、（株）トクヤマ製レオロシールシリーズ、日揮触媒化成社製のスルーリアシリーズ、日鉄鉱業社製のシリナックスなどが挙げられる。
【０１０７】
低屈折領域で用いられる粒子の好適態様の一つとしては、数珠状粒子が挙げられ、数珠状シリカ（数珠状コロイダルシリカ）がより好ましい。
数珠状粒子とは、粒子が数珠状に連結及び／又は分岐した形状を持つ。具体的には例えば、球状の粒子（例えば、コロイダルシリカ）が数珠状に連結した鎖状の構造を有するもの、及び連結したコロイダルシリカが分岐したものなどを挙げることができる。
数珠状粒子は、その立体的な障害により、空間を密に占めることができず、その結果、より空隙率の高い領域を容易に形成でき、領域を低屈折率化しやすい。
このような数珠状シリカ粒子が分散したシリカ粒子液（ゾル）としては、例えば、特許第４３２８９３５号に記載されているシリカゾル等を使用することができる。また、特開２０１３−２５３１４５号公報の記載を参照することができる。
数珠状のシリカの粒子液としては、液状ゾルとして市販されているものを用いることができる。例えば、日産化学工業社製の「スノーテックス  ＯＵＰ」、「スノーテックス  ＵＰ」、「ＩＰＡ−ＳＴ−ＵＰ」、「スノーテックス  ＰＳ−Ｍ」、「スノーテックス  ＰＳ−ＭＯ」、「スノーテックス  ＰＳ−Ｓ」、「スノーテックス  ＰＳ−ＳＯ」、触媒化成工業株式会社製の「ファインカタロイドＦ−１２０」、旭化成ワッカー製のＨＤＫ（登録商標）Ｖ１５、ＨＤＫ（登録商標）Ｎ２０、ＨＤＫ（登録商標）Ｔ３０、ＨＤＫ（登録商標）Ｔ４０、疎水性のＨＤＫ（登録商標）Ｈ１５、ＨＤＫ（登録商標）Ｈ１８、ＨＤＫ（登録商標）Ｈ２０、ＨＤＫ（登録商標）Ｈ３０および扶桑化学工業株式会社製の「クォートロンＰＬ」などが挙げられる。これらの数珠状粒子は、酸化ケイ素からなる一次粒子が多数結合し、二次元的または三次元的に湾曲した構造を有していることが好ましい。
【０１０８】
低屈折組成物における粒子の量は、１０質量％以上であることが好ましく、１５質量％以上であることがより好ましく、２０質量％以上がさらに好ましい。上限は特に制限はないが、４０質量％以下が好ましく、３０質量％以下がより好ましい。
また、低屈折組成物における粒子の固形分濃度（全固形分に対する粒子の濃度（質量％））は、６０質量％以上であることが好ましく、７０質量％以上であることがより好ましい。上限は特に制限はないが、９９質量％以下が好ましく、９５質量％以下がより好ましく、９０質量％以下がさらに好ましい。
粒子は、１種類のみ含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。２種類以上含む場合、合計量が上記範囲となることが好ましい。
【０１０９】
＜＜＜溶媒＞＞＞
低屈折組成物に含まれる溶剤しては、上記高屈折組成物に含まれる溶剤（例えば、水や有機溶剤）と同様であり、好ましい範囲や配合量も同様である。
【０１１０】
＜＜＜その他の添加剤＞＞＞
本発明で用いる低屈折組成物は、他の添加剤を含んでいても良い。その他の添加剤は、上述の高屈折組成物で述べたものと同じであり、配合量等も同様である。
【０１１１】
用いる原料等により低屈折組成物中に金属元素が含まれることがあるが、欠陥発生抑制等の観点で、低屈折組成物中の第２族元素（カルシウム、マグネシウム等）の含有量は５０ｐｐｍ以下であることが好ましく、０．０１〜１０ｐｐｍに制御することが好ましい。また、低屈折組成物中の無機金属塩の総量は１００ｐｐｍ以下であることが好ましく、０．５〜５０ｐｐｍに制御することがより好ましい。
【０１１２】
＜＜低屈折組成物の具体例＞＞
低屈折組成物の具体例としては、特開２０１４−０６３１２５号公報の請求項１１に記載の低屈折膜形成用硬化性組成物、特開２０１３−２５３１４５号公報の請求項１に記載のシロキサン系樹脂組成物、ＷＯ２０１３／０９９９４８（ＵＳ２０１４／２８５６９５）号公報及びＷＯ２０１３／０９９９４５（ＵＳ２０１４／２８４７４７）号公報に記載の低屈折率形成用組成物が例示され、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、これらの組成物の好ましい範囲が、本発明の高屈折組成物の好ましい範囲の例として挙げられる。
【０１１３】
＜＜膜厚＞＞
低屈折領域の膜厚は、所望の光の光路差を達成するように適宜定められるが、例えば、８０ｎｍ以上であり、１００ｎｍ以上とすることもでき、１２０ｎｍ以上とすることもできる。上限としては、例えば、６００ｎｍ以下であり、５００ｎｍ以下とすることもでき、３００ｎｍ以下とすることもできる。
【０１１４】
＜積層体の製造方法＞
本発明の積層体の製造方法は、粒子と、樹脂と、溶媒を含む第一の組成物を塗布して第一の領域を形成する工程と、第一の領域の表面に、粒子と、樹脂と、溶媒を含む第二の組成物（または、粒子と、溶媒を含む組成物）を塗布して第二の領域を形成する工程を含み、上記第一の領域と第二の領域の屈折率の差が０．５以上である。このような方法を採用することにより、上記本発明の積層体を好ましく製造できる。特に、本発明の積層体は、塗布で製造可能であるため、公知の積層体と比較して、生産性を向上させることができる。
第一の組成物と第二の組成物の一方は、上述の高屈折組成物であり、他方が低屈折組成物であり、好ましい範囲も同様である。以下、第一の組成物を高屈折組成物、第二の組成物を低屈折組成物として説明する。もちろん、第一の組成物が低屈折組成物であり、第二の組成物が高屈折組成物であってもよい。
【０１１５】
高屈折組成物を塗布して高屈折領域を形成する工程は、高屈折領域が１層の高屈折層からなる場合、高屈折組成物の塗布回数は通常１回であるが、高屈折組成物を同時または逐次塗布して、２層以上の高屈折層を形成してもよい。本発明における塗布方法は、特に限定されないが、適宜の公知の塗布方法を適用することができる。例えば、スプレー法、ロールコート法、回転塗布法（スピンコート法）、バー塗布法等を適用することができる。例えば、スピンコート塗布の場合、高屈折層１層あたり、３０秒〜３分の塗布時間とすることができ、さらには、３０秒〜２分の塗布時間とすることができる。
塗布量としては、硬化後の膜厚が、所望の条件となるように、塗布することが好ましい。
必要に応じて、塗布された塗膜には加熱処理などを施し、塗膜中に含まれる溶媒を除去することが好ましい。具体的には、塗布した後、ポストベークを行い、溶媒の一部または全部を揮発させることが好ましい。ポストベークとしては、高屈折領域については、１００〜３００℃で、３０秒〜８分行うことが好ましく、１５０〜２５０℃で、１〜５分行うことがより好ましい。
【０１１６】
高屈折組成物は、異物の除去や欠陥の低減などの目的で、塗布前に、フィルタで濾過することが好ましい。従来からろ過用途等に用いられているものであれば特に限定されることなく用いることができる。
【０１１７】
高屈折領域を形成した後、その表面に低屈折領域を低屈折組成物の塗布により形成する。低屈折領域の形成方法は、上記高屈折領域の形成において、高屈折組成物を低屈折組成物に変えるほかは、同様であり、好ましい範囲も同様である。但し、低屈折領域のポストベークについては、８０〜２４０℃で、３０秒〜８分行うことが好ましく、８０〜１２０℃で、１〜５分行うことがより好ましい。
さらに、高屈折領域および低屈折領域を交互に積層することによって、本発明の積層体が得られる。
【０１１８】
＜積層体の好適態様＞
積層体の好適態様の一つとしては、第一の組成物を塗布して形成される第一の領域と、第一の領域の表面に第二の組成物を塗布して形成される第二の領域とを有し、第一の領域と第二の領域の屈折率の差が０．５以上であり、第一の領域と第二の領域が、交互に積層している積層体であって、第一の組成物に含まれる溶媒の溶解パラメーターであるＳＰ値（以下、単に「ＳＰ値」ということがある。）と、第二の組成物に含まれる溶媒の溶解パラメーターであるＳＰ値との差の絶対値が２．０以上である積層体が挙げられる。
上記のように第一の組成物に含まれる溶媒と第二の組成物に含まれる溶媒とのＳＰ値の差の絶対値が所定値以上であれば、第一の組成物および第二の組成物を交互に塗布して積層する際に、形成される第一の領域および第二の領域間の界面において、第一の組成物および第二の組成物の混ざり合いがより抑制され、形成される各領域の厚みのバラツキが抑制される。
例えば、第一の組成物に含まれる溶媒のＳＰ値と第二の組成物に含まれる溶媒のＳＰ値との差の絶対値が所定値未満の場合において、第一の組成物を塗布して得られる第一の領域上に、第二の組成物を塗布すると、第二の組成物中に含まれる溶剤の影響により、下地層となる第一の領域中に含まれる成分の一部が、その上に塗布される第二の組成物中に溶解してしまい、第一の領域の厚みのバラツキや、光学的な欠陥が生じしてしまい、結果として得られる積層体の光学特性が劣化する場合がある。
それに対して、例えば、第一の組成物に含まれる溶媒のＳＰ値と第二の組成物に含まれる溶媒のＳＰ値との差の絶対値が所定値以上の場合において、第一の組成物を塗布して得られる第一の領域上に、第二の組成物を塗布すると、ＳＰ値の違いによって、下地層となる第一の領域中に含まれる成分の第二の組成物への溶解が抑制され、結果として各領域の厚みのバラツキの発生がより抑制されると共に、光学的な欠陥の発生もより抑制される。
【０１１９】
第一の組成物に含まれる溶媒のＳＰ値と、第二の組成物に含まれる溶媒のＳＰ値との差の絶対値は０．５（ｃａｌ／ｃｍ３）１／２以上が好ましいが、積層体中の各領域の厚みのバラツキがより小さい、および／または、積層体中において光学的な欠陥の発生がより抑制される点で、１．０（ｃａｌ／ｃｍ３）１／２以上がより好ましく、２．０（ｃａｌ／ｃｍ３）１／２以上がさらに好ましく、５．０（ｃａｌ／ｃｍ３）１／２以上が特に好ましく、７．０（ｃａｌ／ｃｍ３）１／２以上が最も好ましい。上限は特に制限さないが、通常、１５（ｃａｌ／ｃｍ３）１／２以下の場合が多い。
第一の組成物および第二の組成物に含まれる溶媒のＳＰ値の計算方法としては、溶媒として１種のみが使用されている場合はその溶媒のＳＰ値を意図し、複数の溶媒が併用されている場合は、各溶媒のＳＰ値の質量割合に応じた加重平均値を表す。例えば、ＳＰ値がＡの溶媒Ｘと、ＳＰ値がＢの溶媒Ｙとが、溶媒全質量に対して、それぞれ２０質量％および８０質量％含まれる場合、溶媒のＳＰ値は、（Ａ×０．２）＋（Ｂ×０．８）という計算式によって求められる。
また、本明細書においては、フェドアーズ（Ｆｅｄｏｒｓ）の方法（Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ  ａｎｄ  Ｓｃｉｅｎｃｅ，  １９７４，  Ｖｏｌ．４，  Ｎｏ．２）に基づき、分子構造からＳＰ値を算出することとする。フェドアーズの方法では、下記式（Ｉ）に従ってＳＰ値が算出される。
ＳＰ値（δ）＝（ΣΔＥ／ΣΔＶ）１／２［（ｃａｌ／ｃｍ３）１／２］・・・（Ｉ）
但し、ΔＥは、物質に含まれる原子又は原子団の蒸発エネルギー（ｃａｌ／ｍｏｌ）を示し、ΔＶは、原子又は原子団のモル容積（ｃｍ３／ｍｏｌ）を示す。
【０１２０】
また、第一の組成物および第二の組成物のうち一方に水が含まれ、第一の組成物および第二の組成物のうちの他方に有機溶媒が含まれる態様が好ましく挙げられる。
この態様の場合、水と有機溶媒とが上記ＳＰ値の関係を満たしていることが好ましい。
なお、第一の組成物に有機溶剤が含まれ、第二の組成物に水が含まれていてもよく、第一の組成物に水が含まれ、第二の組成物に有機溶剤が含まれていてもよい。
【０１２１】
第一の組成物および第二の組成物の一方に含まれる有機溶剤の種類は特に制限されず、使用される樹脂などに応じて適宜最適な有機溶剤が選択され、例えば、上述した有機溶剤の例が挙げられる。
第一の組成物および第二の組成物のうちの一方に水が含まれる際、水以外にさらに有機溶剤が含まれていてもよい。つまり、水と有機溶剤とが併用されていてもよい。
水と有機溶剤とが併用される場合、水と有機溶剤との合計質量に対する水の含有量は、積層体中の各領域の厚みのバラツキがより小さい、および／または、積層体中において光学的な欠陥の発生がより抑制される点で、０．５〜９５質量％が好ましく、１０〜９０質量％がより好ましく、５０〜９０質量％がさらに好ましい。
水と有機溶剤とが併用される場合、使用される有機溶剤の種類は１種のみであってもよいし、２種以上併用されてもよい。
【０１２２】
上記のように、第一の組成物に含まれる溶媒のＳＰ値と第二の組成物に含まれる溶媒のＳＰ値との差の絶対値が所定値以上の場合、得られる積層体においては各領域の厚みのバラツキが小さい。つまり、各領域内において厚みがより均一となりやすく、所望の光学特性を示す積層体が得られやすい。
より具体的には、積層体の好適態様の一つとしては、積層体がより優れた光学特性を示す点で、第一の領域および第二の領域がそれぞれ２領域以上含まれ、第一の領域の各領域の厚みのバラツキが５％未満（好ましくは、３％以内）であり、第二の領域の各領域の厚みのバラツキが５％未満（好ましくは、３％以内）である積層体が挙げられる。
この積層体においては、まず、第一の領域および第二の領域が、それぞれ２領域以上含まれる。次に、２領域以上含まれる第一の領域においては、各領域内において厚みのバラツキが５％未満であり、積層体がより優れた光学特性を示す点で、厚みのバラツキは３．０％以内が好ましく、厚みのバラツキは２．０％以内がより好ましく、１．０％以内がさらに好ましい。
第二の領域においても、２領域以上が積層体中に含まれ、各領域内において厚みのバラツキが５％未満であり、積層体がより優れた光学特性を示す点で、厚みのバラツキは３．０％以内が好ましく、厚みのバラツキは２．０％以内がより好ましく、１．０％以内がさらに好ましい。
上記の厚みのバラツキとは、一領域内における厚みのバラツキを意図する。上記バラツキの計算方法としては、エリプソメータ（Ｊ．Ａウーラム製ＶＵＶ−ｖａｓｅ［商品名］）（波長６３３ｎｍ、測定温度２５℃）を用いて、一領域内の任意の２０点以上の位置における厚みを測定して、それらを算術平均して平均厚みＴＡを算出する。次に、上記にて測定した厚みのうち、最も大きい値ＴＬと最も小さい値ＴＳとを算出し、以下の式（１）および式（２）にてバラツキ値を算出して、得られたバラツキＬおよびバラツキＳのうち数値の絶対値がより大きいほうを、厚みのバラツキとして算出する。
式（１）  バラツキＬ＝（ＴＬ−ＴＡ）×１００／ＴＡ
式（２）  バラツキＳ＝（ＴＳ−ＴＡ）×１００／ＴＡ
【０１２３】
また、上記積層体においては、光学的な欠陥の発生がより抑制される。
より具体的には、積層体の好適態様の一つとしては、積層体がより優れた光学特性を示す点で、第一の領域と第二の領域とが積層する方向から光学顕微鏡観察を実施（積層体を平面視）した際に、長径が１μｍ以上である欠陥の数が５０個／ｍｍ２未満である積層体が挙げられる。なかでも、積層体がより優れた光学特性を示す点で、長径が１μｍ以上である欠陥の数が３０個／ｍｍ２未満であることが好ましい。
上記欠陥の数の測定方法としては、まず、光学顕微鏡を用いて、第一の領域と第二の領域とが積層する方向から積層体を観察する。観察する領域としては、異なる任意の５点（各点の観察面積：１ｍｍ×１ｍｍ）を倍率２００倍にて観察し、長径が１μｍ以上である欠陥をカウントした。
【０１２４】
＜積層体の用途＞
本発明の積層体は図３に示すように、特定の波長範囲の光の透過をカットしたり、特定の波長範囲の光のみを透過させるフィルムとして用いることができる。具体的には、本発明の積層体は、赤外線吸収フィルタ、バンドパスフィルタ等として好ましく用いられる。
【０１２５】
＜＜バンドパスフィルタ＞＞
本発明のバンドパスフィルタは、本発明の積層体のみからなっていてもよいが、他の特定の波長範囲の光をカットし、特定の波長の範囲の光を透過させるフィルムを併せて使用することが好ましい。図４は、本発明の積層体と上記他の特定の波長範囲の光をカットし、特定の波長の範囲の光を透過させるフィルムを組み合わせたときの、波長と透過率の関係の一例を示すイメージ図である。すなわち、２枚のフィルムは、それぞれ、透過できる光の波長範囲が異なっている。そして、２枚のフィルムを併せると、両方のフィルムを透過可能な光のみが透過可能となり、バンドパスフィルタとして用いることができる。また、２枚のフィルムの両方に、本発明の積層体を用いることも可能である。
具体的には、波長４５０〜９５０ｎｍの範囲の透過率が７０％以上、かつ、波長１０５０〜１１００ｎｍの範囲の透過率が３０％以下の積層体と、波長４５０〜８００ｎｍの範囲の透過率が３０％以下、かつ、波長９００〜１１００ｎｍの範囲の透過率が７０％以上の赤外線透過フィルムを併用することにより、波長９００〜９５０ｎｍの範囲の透過率が７０％以上で、波長４５０〜８００ｎｍおよび１０５０〜１１００ｎｍの範囲の透過率が３０％以下のフィルムのバンドパスフィルタを得ることができる。
また、波長４５０〜８５０ｎｍの範囲の透過率が７０％以上、かつ、波長９５０〜１１００ｎｍの範囲の透過率が３０％以下の積層体と、波長４５０〜７５０ｎｍの範囲の透過率が３０％以下、かつ、波長８５０〜１１００ｎｍの範囲の透過率が７０％以上の赤外線透過フィルムを併用することにより、波長８４０〜８７０ｎｍの範囲の透過率が７０％以上で、波長４５０〜７５０ｎｍおよび９５０〜１０５０ｎｍの範囲の透過率が３０％以下のフィルムのバンドパスフィルタを得ることができる。
また、波長４５０〜７００ｎｍの範囲の透過率が７０％以上、かつ、波長７５０〜１０００ｎｍの範囲の透過率が３０％以下の積層体と、波長４５０〜６００ｎｍの範囲の透過率が３０％以下、かつ、波長７００〜１１００ｎｍの範囲の透過率が７０％以上の赤外線透過フィルムを併用することにより、波長６８０〜７２０ｎｍの範囲の透過率が７０％以上で、波長４５０〜６００ｎｍおよび７５０〜１０００ｎｍの範囲の透過率が３０％以下のフィルムのバンドパスフィルタを得ることができる。
本発明のバンドパスフィルタは、本発明の積層体と、赤外線透過フィルムを有するものが好ましい。
【０１２６】
＜＜＜赤外線透過フィルム＞＞＞
赤外線透過フィルムとは、所定の波長の赤外線の透過率が高く、所定の波長の可視光線の透過率が低いフィルムをいう。ここで、所定の波長の赤外線としては、波長７００ｎｍ以上、波長８００ｎｍ以上、波長９００ｎｍ以上等の領域の電磁波が例示される。所定の波長の可視光線とは、波長６５０ｎｍ以下、波長７００ｎｍ以下、波長７５０ｎｍ以下、下限値としては、波長４００ｎｍ以上、波長４５０ｎｍ以上等の領域の電磁波が例示される。透過率が高いとは、透過率が７０％以上、さらには８０％以上、特には９０％以上であることをいい、透過率が低いとは、透過率３０％以下、さらには２０％以下、特には１０％以下であることをいう。
【０１２７】
上記赤外線透過フィルムは、所定の赤外線透過組成物を基板上に適用し硬化することによって得られる。以下、赤外線透過組成物の例を挙げる。本発明は、これらに限定されない。
【０１２８】
［赤外線透過組成物の第１の実施の形態］
第１の実施の形態の赤外線透過組成物は、一般式（Ａ１）で表される染料と、重合性化合物と、重合開始剤とを含有する。赤外線透過組成物は、通常、一般式（Ａ１）で表される染料以外の他の着色剤を含む。また、赤外線透過組成物が顔料を含む場合、顔料分散剤、溶剤、顔料誘導体等とともに顔料を分散して、顔料分散液を調製し、得られた顔料分散液を一般式（Ａ１）で表される染料と、重合開始剤と、重合性化合物とを混合してもよい。また、赤外線透過組成物は、上記成分以外の他の成分（アルカリ可溶性樹脂、界面活性剤等）をさらに含んでいてもよい。
【０１２９】
一般式（Ａ１）
【化１６】
0006453324.tif 000017
一般式（Ａ１）中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、置換基を有するカルボニル基、アルキル基、アリール基または複素環基を表す。Ｒ３は、水素原子、窒素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表す。Ｒ３は、Ａの置換基と環を形成してもよく、Ｒ３が窒素原子を表す場合、Ａの置換基と環を形成する。Ｒ３Ａは、水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。Ａは、複素５員環または複素６員環を表す。Ｍは、金属原子を表す。ｎは、２または３を表す。
赤外線透過組成物中の一般式（Ａ１）で表される染料の含有量の合計は、１５〜８５質量％が好ましく、２０〜８０質量％がより好ましい。
赤外線透過組成物の全着色剤中、一般式（Ａ１）で表される染料の含有量の合計は、４〜５０質量％であることが好ましく、７〜４０質量％であることがより好ましい。
赤外線透過組成物中、一般式（Ａ１）で表される染料は、１種のみ含まれていても良いし、２種以上含まれていても良い。２種類以上含む場合は、その合計量が上記範囲となることが好ましい。
【０１３０】
一般式（Ａ１）で表される染料以外の他の着色剤としては、顔料および染料を挙げることができる。他の着色剤は、１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。他の着色剤は、例えば、特開２０１３−０６４９９９号公報の段落００１９〜００２５の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。特に、青色顔料としては、ＰＢ１５：６が例示される。黄色顔料としては、Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  １３９が例示される。紫色顔料としては、Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｖｉｏｌｅｔ  ２３が例示される。
赤外線透過組成物は、他の着色剤として黄色顔料と、青色顔料と、紫色顔料とを含むことが好ましい。この場合、赤外線透過組成物中、黄色顔料の全顔料に対する質量比が０．１〜０．２であり、青色顔料の全顔料に対する質量比が０．２５〜０．５５であり、紫色顔料の全顔料に対する質量比が０．０５〜０．１５であることが好ましい。また、一般式（Ａ１）で表される染料と黄色顔料との質量比は、８５：１５〜５０：５０であることが好ましく、一般式（Ａ１）で表される染料と黄色顔料との合計質量と、青色顔料と紫色顔料との合計質量の質量比が、６０：４０〜４０：６０であることがより好ましい。
【０１３１】
重合性化合物は、例えば特開２０１２−２０８４９４号公報の段落０４６６〜０４９４の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。重合性化合物は、１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。重合性化合物の配合量は、配合する場合、赤外線透過組成物の固形分の０．１〜９０質量％とすることができ、２〜５０質量％が好ましい。
重合開始剤は、例えば特開２０１２−２０８４９４号公報の段落０５００〜０５４７の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。重合開始剤としては、オキシム化合物が好ましい。オキシム化合物の具体例としては、特開２００１−２３３８４２号公報記載の化合物、特開２０００−８００６８号公報記載の化合物、特開２００６−３４２１６６号公報記載の化合物を用いることができる。市販品では、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０１（ＢＡＳＦ社製）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ−ＯＸＥ０２（ＢＡＳＦ社製）、ＴＲ−ＰＢＧ−３０４（常州強力電子新材料有限公司製）、アデカアークルズＮＣＩ−８３１、アデカアークルズＮＣＩ−９３０（ＡＤＥＫＡ社製）等が挙げられる。重合開始剤は、１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。重合開始剤の配合量は、配合する場合、赤外線透過組成物の固形分の０．１〜２０質量％とすることができ、０．５〜５質量％が好ましい。本発明は、光重合開始剤として、フッ素原子を有するオキシム化合物を用いることもできる。フッ素原子を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１０−２６２０２８号公報記載の化合物、特表２０１４−５００８５２号公報記載の化合物２４、３６〜４０、特開２０１３−１６４４７１号公報記載の化合物（Ｃ−３）などが挙げられる。この内容は本明細書に組み込まれることとする。
顔料分散剤は、例えば特開２０１２−２０８４９４号公報の段落０４０４〜０４６５の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。顔料分散剤は、１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。顔料分散剤は、配合する場合、顔料１００質量部に対し、１〜８０質量部であることが好ましく、５〜７０質量部であることがより好ましく、１０〜６０質量部であることがさらに好ましい。
顔料誘導体は、例えば特開２００９−２０３４６２号公報の段落０１２４〜０１２６の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。顔料誘導体は、１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。顔料誘導体は、配合する場合、顔料１００質量部に対し、１〜３０質量部であることが好ましく、３〜２０質量部であることがより好ましく、５〜１５質量部であることがさらに好ましい。
溶剤は、例えば特開２０１２−２０８４９４号公報の段落０４９６〜０４９９の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。溶剤は、１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。溶剤の配合量は、組成物の固形分濃度が５〜８０質量％となる濃度が好ましい。
アルカリ可溶性樹脂は、例えば特開２０１２−２０８４９４号公報の段落０５５８〜０５７２の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
アルカリ可溶性樹脂としては、下記一般式（ＥＤ）で示される化合物および／または下記一般式（ＥＤ２）で表される化合物（以下、これらの化合物を「エーテルダイマー」と称することもある。）を必須とする単量体成分を重合してなるポリマー（ａ）を含むことも好ましい。
【０１３２】
【化１７】
0006453324.tif 000018
【０１３３】
一般式（ＥＤ）中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して、水素原子または置換基を有していてもよい炭素数１〜２５の炭化水素基を表す。
一般式（ＥＤ２）
【化１８】
0006453324.tif 000019
一般式（ＥＤ２）中、Ｒは、水素原子または炭素数１〜３０の有機基を表す。一般式（ＥＤ２）の具体例としては、特開２０１０−１６８５３９号公報の記載を参酌できる。
アルカリ可溶性樹脂は、１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。アルカリ可溶性樹脂の配合量は、配合する場合、赤外線透過組成物の固形分に対し、１〜１５質量％が好ましい。
界面活性剤は、例えば特開２０１２−２０８４９４号公報の段落０５４９〜０５５７の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。界面活性剤は、１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。界面活性剤の配合量は、配合する場合、赤外線透過組成物の固形分に対し、０．００１〜２．０質量％である。
【０１３４】
［赤外線透過組成物の第２の実施の形態］
第２の実施の形態の赤外線透過組成物は、着色剤およびアルカリ可溶性樹脂を含み、着色剤中に、少なくとも赤色顔料と、一般式（Ａ２）または一般式（Ａ３）で表される青色顔料の少なくとも１種とを含み、全着色剤中、赤色顔料の含有量が２０〜５０質量％、青色顔料の含有量が２５〜５５質量％である。
赤外線透過組成物は、上記青色顔料および赤色顔料以外の他の着色剤を含むことが好ましい。また、赤外線透過組成物は、上記成分以外の他の成分として、重合性化合物、重合開始剤、顔料分散剤、顔料誘導体、溶剤等をさらに含んでいてもよい。
【０１３５】
青色顔料は、一般式（Ａ２）または一般式（Ａ３）で表される化合物である。
一般式（Ａ２）
【化１９】
0006453324.tif 000020
一般式（Ａ２）中、Ｘ１〜Ｘ４はそれぞれ独立して、置換基を表す。Ｒ０Ａは、水素原子または１価の置換基を表す。ｍ１〜ｍ４は、それぞれ独立して０〜４の整数を表す。ｍ１〜ｍ４が２以上のとき、Ｘ１〜Ｘ４はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
一般式（Ａ３）
【化２０】
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一般式（Ａ３）中、Ｘ５〜Ｘ１２はそれぞれ独立して、置換基を表す。Ｒ０Ｂは２価の置換基を表す。ｍ５〜ｍ１２は、それぞれ独立して０〜４の整数を表す。ｍ５〜ｍ１２が２以上のとき、Ｘ５〜Ｘ１２はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
【０１３６】
赤色顔料は、対称構造の赤色顔料と非対称構造の赤色顔料を含むことが好ましい。
特に、カラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ  ２５４と、一般式（Ａ４）で表される化合物であってＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ  ２５４ではない化合物を含むことが好ましい。
【０１３７】
一般式（Ａ４）
【化２１】
0006453324.tif 000022
一般式（Ａ４）中、ＡおよびＢは、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、シアノ基、−ＣＦ３、または−ＣＯＮ（Ｒ１）Ｒ２である。Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、またはフェニル基である。
赤色顔料として、対称構造の化合物と非対称構造の化合物を含む場合、対称構造の化合物と非対称構造の化合物の質量比は、９９：１〜８０：１５が好ましく、９８：２〜９０：１０がより好ましい。
【０１３８】
他の着色剤としては、上述した第１の実施の形態の他の着色剤を用いることができる。
赤外線透過組成物の全着色剤中、赤色顔料および上記青色顔料以外の着色剤の含有量の合計は、５〜４５質量％が好ましく、１５〜３５質量％がより好ましい。
【０１３９】
アルカリ可溶性樹脂は、第１の実施の形態で説明したアルカリ可溶性樹脂を用いることができ、好ましい範囲も同様である。
上記以外の他の成分としては、第１の実施の形態で説明した重合性化合物、重合開始剤、顔料分散剤、顔料誘導体、溶剤、界面活性剤等を用いることができる。これらの好ましい範囲も第一の実施の形態と同様である。
【０１４０】
［赤外線透過組成物の第３の実施の形態］
第３の実施の形態の赤外線透過組成物は、着色剤と樹脂とを含み、波長４００〜８３０ｎｍの範囲における吸光度の最小値Ａと、波長１０００〜１３００ｎｍの範囲における吸光度の最大値Ｂとの比であるＡ／Ｂが、４．５以上である。
上記吸光度の条件は、どのような手段によって達成されても良いが、例えば、赤外線透過組成物に、波長８００〜９００ｎｍの範囲に吸収極大を有する第１の着色剤を１種類以上と、波長４００〜７００ｎｍの範囲に吸収極大を有する第２の着色剤を２種類以上含有させるとともに、各着色剤の種類及び含有量を調整することにより、上記吸光度の条件を好適に達成できる。
赤外線透過組成物は、第１の着色剤および第２の着色剤以外の着色剤（第３の着色剤）を含有してもよい。
また、赤外線透過組成物は、着色剤および樹脂以外の他の成分をさらに含んでいてもよい。
【０１４１】
第１の着色剤としては、例えば、ピロロピロール色素化合物、銅化合物、シアニン系色素化合物、フタロシアニン系化合物、イモニウム系化合物、チオール錯体系化合物、遷移金属酸化物系化合物、スクアリリウム系色素化合物、ナフタロシアニン系色素化合物、クオタリレン系色素化合物、ジチオール金属錯体系色素化合物、クロコニウム化合物等が挙げられる。
ピロロピロール色素化合物は、顔料でも染料でもよいが、耐熱性に優れた膜を形成できる赤外線透過組成物が得られやすいという理由から顔料が好ましい。ピロロピロール色素化合物は、下記一般式（Ａ５）で表される化合物が好ましい。
【０１４２】
一般式（Ａ５）
【化２２】
0006453324.tif 000023
一般式（Ａ５）中、Ｒ１ａおよびＲ１ｂは、それぞれ独立にアルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表し、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Ｒ２およびＲ３の少なくとも一方は電子吸引性基であり、Ｒ２およびＲ３は互いに結合して環を形成しても良く、Ｒ４は、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、置換ホウ素、金属原子を表し、Ｒ４は、Ｒ１ａ、Ｒ１ｂおよびＲ３から選ばれる１以上と共有結合もしくは配位結合しても良い。
一般式（Ａ５）で表される化合物は、例えば、特開２００９−２６３６１４号公報の段落００１６〜００５８の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
赤外線透過組成物において、第１の着色剤の含有量は、赤外線透過組成物の全固形分の０．５〜６０質量％であることが好ましく、１０〜４０質量％であることがより好ましい。
赤外線透過組成物において、第１の着色剤は、１種単独で用いてもよく、２種以上併用してもよい。２種以上併用する場合は、合計が上記範囲であることが好ましい。
【０１４３】
第２の着色剤は、顔料であってもよく、染料であってもよいが、顔料であることが好ましい。第２の着色剤は、赤色着色剤、黄色着色剤、青色着色剤、および、紫色着色剤から選ばれる２種以上の着色剤を含有することが好ましい。第２の着色剤は、上述した第１の実施の形態で説明した他の着色剤を用いることができる。
第２の着色剤が、赤色着色剤と、黄色着色剤と、青色着色剤と、紫色着色剤とを組み合わせてなる場合、赤色着色剤の、第２の着色剤全量に対する質量比が０．１〜０．４であり、黄色着色剤の、第２の着色剤全量に対する質量比が０．１〜０．４であり、青色着色剤の、第２の着色剤全量に対する質量比が０．２０〜０．６０であり、紫色着色剤の、第２の着色剤全量に対する質量比が０．０１〜０．３０であることが好ましい。
第２の着色剤の含有量は、赤外線透過組成物の全固形分の０．５〜６０質量％であることが好ましく、１０〜６０質量％であることがより好ましく、３０〜５０質量％であることがさらに好ましい。
赤外線透過組成物において、第１の着色剤と第２の着色剤の合計量は、赤外線透過組成物の全固形分に対して、１〜８０質量％であることが好ましく、２０〜７０質量％であることがより好ましく、３０〜７０質量％であることがさらに好ましい。
【０１４４】
第３の着色剤としては、波長４００〜７００ｎｍの範囲、および、波長８００〜９００ｎｍの範囲以外に吸収極大を有する着色剤を用いることができる。
【０１４５】
赤外線透過組成物が含む樹脂としては、顔料分散剤、アルカリ可溶性樹脂等が挙げられる。顔料分散剤およびアルカリ可溶性樹脂は、第１の実施の形態で説明した顔料分散剤およびアルカリ可溶性樹脂を用いることができる。
他の成分としては、第１の実施の形態で説明した重合性化合物、重合開始剤、顔料誘導体、溶剤、界面活性剤等を用いることができる。これらの好ましい範囲も第一の実施の形態と同様である。
【０１４６】
［赤外線透過組成物の第４の実施の形態］
第４の実施の形態の赤外線透過組成物は、着色剤と重合性化合物とを含み、重合性化合物が、アルキレンオキシ基を繰り返し単位として２以上含む鎖（以下、アルキレンオキシ鎖ともいう）を有する重合性化合物を含有し、赤外線透過組成物の、波長４００ｎｍ以上５８０ｎｍ未満の範囲における吸光度の最小値Ａと、波長５８０ｎｍ以上７７０ｎｍ以下の範囲における吸光度の最小値Ｂとの比率Ａ／Ｂが０．３〜３であり、波長４００ｎｍ以上７５０ｎｍ以下の範囲における吸光度の最小値Ｃと、波長８５０ｎｍ以上１３００ｎｍ以下の範囲における吸光度の最大値Ｄとの比率Ｃ／Ｄが５以上である。
赤外線透過組成物は、着色剤と重合性化合物以外の他の成分をさらに含んでいてもよい。
【０１４７】
着色剤は、上述した第１の実施の形態の他の着色剤と同義である。着色剤は、顔料の含有量が、着色剤の全量に対して９５質量％以上であることが好ましく、９７質量％以上であることがより好ましく、９９質量％以上であることがさらに好ましい。
【０１４８】
重合性化合物は、アルキレンオキシ鎖を有する重合性化合物を含有する。
アルキレンオキシ鎖を有する重合性化合物としては、第１の実施の形態で説明した重合性化合物を用いることができる。
【０１４９】
他の成分としては、第１の実施の形態で説明した重合開始剤、顔料分散剤、顔料誘導体、溶剤、アルカリ可溶性樹脂、界面活性剤等を用いることができる。これらの好ましい範囲も第一の実施の形態と同様である。
【０１５０】
［赤外線透過組成物の第５の実施の形態］
第５の実施の形態の赤外線透過組成物は、着色剤と重合性化合物とを含み、重合性化合物は、アルキレンオキシ基を繰り返し単位として２以上含む鎖を有する重合性化合物を含有し、着色剤は、赤色着色剤および紫色着色剤から選ばれる１種以上の着色剤Ａと、黄色着色剤と、青色着色剤と、を少なくとも含み、赤色着色剤および紫色着色剤から選ばれる着色剤Ａの着色剤全量に対する質量比である着色剤Ａ／全着色剤が、０．０１〜０．７であり、黄色着色剤の着色剤全量に対する質量比である黄色着色剤／全着色剤が０．０５〜０．５であり、青色着色剤の着色剤全量に対する質量比である青色着色剤／全着色剤が０．０５〜０．６である。
赤外線透過組成物は、着色剤と重合性化合物以外の他の成分をさらに含んでいてもよい。
【０１５１】
着色剤は、上述した第１の実施の形態の他の着色剤と同義である。
重合性化合物は、第４の実施の形態で説明したアルキレンオキシ鎖を有する重合性化合物と同義である。
他の成分としては、第１の実施の形態で説明した重合開始剤、顔料分散剤、顔料誘導体、溶剤、アルカリ可溶性樹脂、界面活性剤等を用いることができる。これらの好ましい範囲も第一の実施の形態と同様である。
【０１５２】
［赤外線透過組成物の第６の実施の形態］
第６の実施の形態の赤外線透過組成物は、着色剤と重合性化合物とを含み、着色剤の質量Ｐと重合性化合物の質量Ｍとの比率Ｐ／Ｍが、０．０５〜０．３５であり、赤外線透過組成物の全固形分中における重合性化合物の含有量が２５〜６５質量％であり、赤外線透過組成物の、波長４００ｎｍ以上５８０ｎｍ未満の範囲における吸光度の最小値Ａと、波長５８０ｎｍ以上７７０ｎｍ以下の範囲における吸光度の最小値Ｂとの比率Ａ／Ｂが０．３〜３であり、波長４００ｎｍ以上７５０ｎｍ以下の範囲における吸光度の最小値Ｃと、波長８５０ｎｍ以上１３００ｎｍ以下の範囲における吸光度の最大値Ｄとの比率Ｃ／Ｄが５以上である。
赤外線透過組成物は、着色剤と重合性化合物以外の他の成分をさらに含んでいてもよい。
【０１５３】
着色剤および重合性化合物は、上述した第１の実施の形態の他の着色剤および重合性化合物と同義である。
他の成分としては、第１の実施の形態で説明した重合開始剤、顔料分散剤、顔料誘導体、溶剤、アルカリ可溶性樹脂、界面活性剤等を用いることができる。これらの好ましい範囲も第一の実施の形態と同様である。
【０１５４】
［赤外線透過組成物の第７の実施の形態］
第７の実施の形態の赤外線透過組成物は、着色剤と重合性化合物とを含み、着色剤の質量Ｐと重合性化合物の質量Ｍとの比率Ｐ／Ｍが、０．０５〜０．３５であり、赤外線透過組成物の全固形分中における重合性化合物の含有量が２５〜６５質量％であり、着色剤は、黄色着色剤と青色着色剤とを少なくとも含み、黄色着色剤の着色剤全量に対する質量比である黄色着色剤／全着色剤が０．１〜０．５であり、青色着色剤の着色剤全量に対する質量比である青色着色剤／全着色剤が０．１〜０．６である。
赤外線透過組成物は、着色剤と重合性化合物以外の他の成分をさらに含んでいてもよい。
【０１５５】
着色剤および重合性化合物は、上述した第１の実施の形態の他の着色剤および重合性化合物と同義である。
他の成分としては、第１の実施の形態で説明した重合開始剤、顔料分散剤、顔料誘導体、溶剤、アルカリ可溶性樹脂、界面活性剤等を用いることができる。これらの好ましい範囲も第一の実施の形態と同様である。
【０１５６】
［赤外線透過組成物の第８の実施の形態］
第８の実施の形態の赤外線透過組成物は、膜厚１μｍの膜を形成した際に、膜の厚み方向の透過率の、波長４００〜７５０ｎｍの範囲における最大値が２０％以下であり、膜の厚み方向の透過率の、波長９００〜１３００ｎｍの範囲における最小値が９０％以上となる組成物である。
膜の分光特性、膜厚等の測定方法を以下に示す。
組成物を、ガラス基板上にスピンコート等の方法により、乾燥後の膜厚が１μｍとなるように塗布し、膜を設け、１００℃、１２０秒間ホットプレートで乾燥する。
膜厚は、膜を有する乾燥後の基板を、触針式表面形状測定器（ＵＬＶＡＣ社製  ＤＥＫＴＡＫ１５０）を用いて測定する。
この膜を有する乾燥後の基板を、紫外可視近赤外分光光度計（日立ハイテクノロジーズ社製  Ｕ−４１００）（ｒｅｆ．ガラス基板）を用いて、波長３００〜１３００ｎｍの範囲において透過率を測定する。
光透過率の調整は、どのような手段を用いても良いが、例えば、組成物に顔料を２種以上で含有させるとともに、各顔料の種類及び含有量を調整することにより、光透過率を好適に調整できる。
赤外線透過組成物は、着色剤および着色剤以外の他の成分をさらに含んでいてもよい。
着色剤は、上述した第１の実施の形態の他の着色剤と同義である。
他の成分としては、第１の実施の形態で説明した重合開始剤、顔料分散剤、顔料誘導体、溶剤、アルカリ可溶性樹脂、界面活性剤等を用いることができる。これらの好ましい範囲も第一の実施の形態と同様である。
【０１５７】
［赤外線透過組成物の第９の実施の形態］
第９の実施の形態の赤外線透過組成物は、顔料、光重合開始剤、および重合性化合物を含み、波長６００ｎｍにおける透過率が３０％である赤外線透過フィルムを形成した場合に、赤外線透過フィルムが、下記（１）〜（５）の条件を満足する組成物である。
（１）４００ｎｍにおける透過率が２０％以下である。
（２）５５０ｎｍにおける透過率が１０％以下である。
（３）７００ｎｍにおける透過率が７０％以上である。
（４）透過率５０％を示す波長が、６５０ｎｍ〜６８０ｎｍの範囲である。
（５）赤外線透過フィルムが０．５５μｍ〜１．８μｍの範囲の膜厚を有する。
赤外線透過組成物の詳細は、例えば、特開２０１３−０７７００９号公報の段落００２０〜０２３０の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
【０１５８】
用いる原料等により赤外線透過組成物中に金属元素が含まれることがあるが、欠陥発生抑制等の観点で、赤外線透過組成物中の第２族元素（カルシウム、マグネシウム等）の含有量は５０ｐｐｍ以下であることが好ましく、０．０１〜１０ｐｐｍに制御することが好ましい。また、赤外線透過組成物中の無機金属塩の総量は１００ｐｐｍ以下であることが好ましく、０．５〜５０ｐｐｍに制御することがより好ましい。
【０１５９】
＜赤外線センサ＞
本発明のバンドパスフィルタは、特定の波長領域の光のみを透過させることができるので、センサ、特に、赤外線センサに好ましく用いることができる。
赤外線センサは、本発明の積層体と、赤外線透過フィルムを有する。赤外線センサの構成としては、本発明の積層体を有し、固体撮像素子として機能する構成であれば特に限定はない。
【０１６０】
基板上に、固体撮像素子（ＣＣＤセンサ、ＣＭＯＳセンサ、有機ＣＭＯＳセンサ等）の受光エリアを構成する複数のフォトダイオード及びポリシリコン等からなる転送電極を有し、フォトダイオード及び転送電極上にフォトダイオードの受光部のみ開口したタングステン等からなる遮光膜を有し、遮光膜上に遮光膜全面及びフォトダイオード受光部を覆うように形成された窒化シリコン等からなるデバイス保護膜を有し、デバイス保護膜上に、本発明の積層体を有するバンドパスフィルタを有する構成が例示される。
さらに、デバイス保護膜上であって本発明の積層体の下（基板に近い側）や上に、集光手段（例えば、マイクロレンズ等。）を有する構成等であってもよい。
【０１６１】
なお、有機ＣＭＯＳセンサは、光電変換層として薄膜のパンクロ感光性有機光電変換膜とＣＭＯＳ信号読み出し基板を含んで構成され、光を捕捉しそれを電気信号に変換する役割を有機材料が担い、電気信号を外部に取り出す役割を無機材料が担う２層構成のハイブリッド構造であり、原理的には入射光に対して開口率を１００％にすることができる。有機光電変換膜は構造フリーの連続膜でＣＭＯＳ信号読みだし基板上に敷設できるので、高価な微細加工プロセスを必要とせず、画素微細化に適している。
【０１６２】
＜撮像装置＞
次に、本発明の赤外線センサを適用した例として撮像装置について説明する。撮像装置としては、カメラモジュールなどが挙げられる。
図５は、撮像装置の機能ブロック図である。撮像装置は、レンズ光学系１と、固体撮像素子１０と、信号処理部２０と、信号切替部３０と、制御部４０と、信号蓄積部５０と、発光制御部６０と、赤外光を発光する発光素子の赤外ＬＥＤ７０と、画像出力部８０および８１とを備える。なお、固体撮像素子１０としては、上述した赤外線センサ１００を用いることができる。また、固体撮像素子１０とレンズ光学系１以外の構成は、そのすべてが、または、その一部が、同一の半導体基板に形成することもできる。撮像装置の各構成については、特開２０１１−２３３９８３号公報の段落００３２〜００３６を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。
【０１６３】
＜バンドパスフィルタ形成用キット＞
本発明のバンドパスフィルタ形成用キットは、粒子と、樹脂と、溶媒を含む第一の組成物と、粒子と、樹脂と、溶媒を含む第二の組成物を含み、上記第一の組成物を層状にしたときの屈折率と、第二の組成物を層状にしたときの屈折率の差が０．５以上である。
上記第一の組成物は、上述した高屈折組成物が例示され、好ましい範囲も同様である。
上記第二の組成物は、上述した低屈折組成物が例示され、好ましい範囲も同様である。
【０１６４】
＜画像表示装置＞
上記積層体の他の用途として、画像表示装置への応用が挙げられる。
より具体的には、カラーフィルタを有する画像表示装置であって、上記カラーフィルタの少なくとも一部が上述した積層体からなる、画像表示装置が挙げられる。カラーフィルタの一部を上記のような積層体にすることにより、より簡便な設計にて所望の光を透過させることができる。従来においては、カラーフィルタの作製の際に、染料や顔料などの着色剤が使用されていたが、本発明の積層体を使用することにより、これらの使用を控えることができ、結果として、コストの削減や、高温処理などのプロセス上の制約もよりなくなる。
なお、画像表示装置としては、例えば、液晶表示装置、または、有機エレクトロルミネッセンス表示装置などが挙げられる。
【実施例】
【０１６５】
以下、本発明を実施例によりさらに具体的に説明するが、本発明はその趣旨を越えない限り以下の実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「％」および「部」は質量基準である。【０１６６】
＜低屈折分散液Ｂ−１の調製＞
特開２０１３−２５３１４５号公報の段落００３２〜００３４、段落００４２（実施例１−１）の記載に従って、低屈折分散液Ｂ−１を得た。
なお、得られた低屈折分散液Ｂ−１には、数珠状コロイダルシリカ粒子が含まれていた。【０１６７】
＜低屈折分散液Ｂ−２の調製＞
低屈折分散液Ｂ−１の調製において、低屈折分散液に含まれるコロイダルシリカを中空粒子に変えた以外は同様にして、低屈折分散液Ｂ−２を調製した。具体的に、シラン化合物の加水分解物と、中空粒子のシリカを、加水分解物中のＳｉＯ２分１００質量部に対する中空粒子が２００質量部となる割合で、撹拌して混合することにより組成物を得た。【０１６８】
＜高屈折分散液Ｂ−３の調製＞
下記組成の混合液を、０．３ｍｍ径のジルコニアビーズを使用して、ビーズミル（減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ−３０００−１０（日本ビーイーイー（株）製））で、３時間、混合、分散して、高屈折分散液Ｂ−３を調製した。
・二酸化チタン                                          ２８．９部
・分散剤：特開２０１４−６２２２１号公報の実施例に記載の分散剤（Ｃ−５）（同公報の段落０２５４の表１、段落０２６１に記載の記載を参酌）        ６．４部
・有機溶剤：プロピレングリコールメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）      ６４．７部【０１６９】
＜高屈折分散液Ｂ−４の調製＞
高屈折分散液Ｂ−３の調製において、酸化チタンを同量の二酸化ジルコニウムに変えた以外は高屈折分散液Ｂ−３の調製と同様にして、高屈折分散液Ｂ−４を調製した。【０１７０】
＜低屈折組成物１の調製＞
・低屈折分散液Ｂ−１                                  ７５．３部
・界面活性剤１の１０質量％ＰＧＭＥＡ溶液              ０．１部
界面活性剤１（フッ素系樹脂）
【化２３】
0006453324.tif 000024
上記の重量平均分子量は、１４，０００である。
・有機溶剤１：乳酸エチル                              ２４．６部【０１７１】
＜低屈折組成物２の調製＞
・低屈折分散液Ｂ−２                                  ７５．３部
・上記界面活性剤１の１０質量％ＰＧＭＥＡ溶液          ０．１部
・有機溶剤１：乳酸エチル                              ２４．６部【０１７２】
＜高屈折組成物１の調製＞
・高屈折分散液Ｂ−３                                  ８４．７部
・下記アルカリ可溶性樹脂１の４５質量％ＰＧＭＥＡ溶液  ０．９部
・エポキシ樹脂  （ＥＸ２１１Ｌ  ナガセケムテックス）  ２．９部
・エポキシ樹脂（ＪＥＲ１５７Ｓ６５  三菱化学）        ０．７部
・上記界面活性剤１の１０質量％ＰＧＭＥＡ溶液          ３．４部
・重合禁止剤：ｐ−メトキシフェノール                  ０．００２部
・有機溶剤１：ＰＧＭＥＡ                              ７．４部【０１７３】
アルカリ可溶性樹脂１
【化２４】
0006453324.tif 000025
【０１７４】
＜高屈折組成物２の調製＞
高屈折組成物１の調製において、高屈折分散液Ｂ−３を高屈折分散液Ｂ−４に変更した以外は高屈折組成物１の調製と同様にして、高屈折組成物２を調製した。【０１７５】
＜＜組成物の屈折率の測定＞＞
上記で得られた低屈折組成物、高屈折組成物の屈折率は以下の通り測定した。
８インチガラスウェハに、組成物をスピンコート法で塗布し、その後ホットプレート上で１００℃２分間の条件でガラスウェハを加熱し、塗布膜を形成した。さらにこの塗布膜を、２００℃で５分、ホットプレート上で加熱して、硬化膜（膜厚：１．０μｍ）を得た。
上記で得られた硬化膜付きガラスウェハに対して、ジェー・エー・ウーラム・ジャパン社製エリプソメータを用いて、透明膜の波長６３５ｎｍの光に対する屈折率を測定した。【０１７６】
＜＜蒸着膜の屈折率の測定＞＞
８インチガラスウェハの表面に、下記表１に示す組成の蒸着膜を作製した。蒸着膜は、特開２０１２−２２５９９３号公報の記載を参酌し、１．０μｍの厚さとなるように、作製した。上記組成物の屈折率の測定と同様の方法で屈折率を測定した。
結果を下記表に示す。
【表１】
0006453324.tif 000026
【０１７７】
＜実施例１＞
８インチガラスウェハの表面に、上記低屈折組成物１および高屈折組成物１を用い、表２の積層体１に示す積層構成となるように、低屈折領域と高屈折領域を、それぞれ、交互に積層した。低屈折組成物はスピンコーターを用いて塗布し、低屈折組成物の乾燥は、ホットプレートにて１００℃／１２０ｓｅｃの条件で行った。高屈折組成物はスピンコーターを用いて塗布し、高屈折組成物の乾燥は、ホットプレートにて２００℃／３ｍｉｎの条件で行った。
各高屈折領域および低屈折領域の厚さは、下記表２に示した所望の厚さとなるように、塗布量及び塗布回数（積層数）を調整した。表２に示す実膜厚が、本実施例の膜厚に相当する。表２中、「低ｎ」は、低屈折領域を表し、「高ｎ」は、高屈折領域を表す。【０１７８】
＜実施例２〜６＞
実施例１において、積層体１の層構成を、表２の積層体２〜６の層構成にそれぞれ変更した以外は実施例１と同様にして、実施例２〜６の積層体を得た。表２に示す実膜厚が、本実施例の膜厚に相当する。【０１７９】
実施例１〜６で得られた積層体の波長４００〜１１００ｎｍの範囲における透過率を、紫外可視近赤外分光光度計（日立ハイテクノロジーズ社製  Ｕ−４１００）（ｒｅｆ．ガラス基板）を用いて、測定した。積層体１の結果は図６に、積層体２の結果は図９に、積層体３の結果は図１２に、積層体４の結果は図１５に、積層体５の結果は図１６に、積層体６の結果は図１７に、それぞれ示した。図中、縦軸のＴｒａｎｓｍｉｔｔａｎｃｅは透過率（単位：％）を示し、横軸のＷａｖｅｌｅｎｇｔｈは波長（単位：ｎｍ）を示す。以下の実施例における透過率を示す図においても同様である。
図６における、波長１０４０ｎｍの吸光度／波長９４０ｎｍの吸光度は８３．７であった。図９における、波長９５０ｎｍの吸光度／波長８５０ｎｍの吸光度は３９０であった。図１２における、波長８００ｎｍの吸光度／波長７００ｎｍの吸光度は３５９であった。図１５における、波長１０４０ｎｍの吸光度／波長９４０ｎｍの吸光度は５５．２であった。図１６における、波長９５０ｎｍの吸光度／波長８５０ｎｍの吸光度は５６．２であった。図１７における、波長８００ｎｍの吸光度／波長７００ｎｍの吸光度は５７．０であった。【０１８０】
【表２】
0006453324.tif 000027
【０１８１】
＜実施例Ａ＞
＜＜顔料分散液１−１の調製＞＞
表３に示す顔料分散液１−１の各成分を、第１の着色剤が表３に示す平均粒子径となるまで、０．３ｍｍ径のジルコニアビーズを使用して、ビーズミル（減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ−３０００−１０（日本ビーイーイー（株）製））で、混合、分散して、顔料分散液１−１を調製した。表３には、該当する成分の使用量（単位：質量部）を示す。
顔料分散液中の顔料の平均粒子径は、日機装（株）製のＭＩＣＲＯＴＲＡＣＵＰＡ  １５０を用いて、体積基準で測定した。測定結果を下記表３に示す。【０１８２】
＜＜顔料分散液２−１〜２−４の調製＞＞
表３に示す顔料分散液２−１の各成分を、０．３ｍｍ径のジルコニアビーズを使用して、ビーズミル（減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ−３０００−１０（日本ビーイーイー（株）製））で、３時間混合、分散して、顔料分散液２−１を調製した。顔料分散液２−１の調製において、用いた各成分を表３に記載の各成分に変えた以外は顔料分散液２−１の調製と同様にして、顔料分散液２−２〜顔料分散液２−４を得た。表３には、該当する成分の使用量（単位：質量部）を示す。【０１８３】
【表３】
0006453324.tif 000028
【０１８４】
表中の各成分の略語は以下である。【０１８５】
［第１の着色剤（ＩＲ着色剤）］
・ピロロピロール顔料１：下記構造（特開２００９−２６３６１４号公報に記載の方法で合成した）（波長８００〜９００ｎｍの範囲に吸収極大を有する着色剤）
【化２５】
0006453324.tif 000029
【０１８６】
［第２の着色剤（波長４００〜７００ｎｍの範囲に吸収極大を有する着色剤）］
・ＰＲ２５４    ：  Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ  ２５４
・ＰＢ１５：６  ：  Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｂｌｕｅ  １５：６
・ＰＹ１３９    ：  Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  １３９
・ＰＶ２３      ：  Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｖｉｏｌｅｔ  ２３【０１８７】
［樹脂］
・分散樹脂１：ＢＹＫ−１１１（ＢＹＫ社製）
・分散樹脂２：下記構造（Ｍｗ：７９５０）
【化２６】
0006453324.tif 000030
・分散樹脂３：下記構造（Ｍｗ：３００００）
【化２７】
0006453324.tif 000031
・アルカリ可溶性樹脂１：下記構造
【化２８】
0006453324.tif 000032
【０１８８】
＜＜赤外線透過組成物Ａ（着色組成物Ａ）の調製＞＞
下記表４に示す成分を下記表４に示す割合（単位は質量部）で混合して、赤外線透過組成物Ａを調製した。【０１８９】
【表４】
0006453324.tif 000033
・重合性化合物１：Ｍ−３０５（トリアクリレートが５５〜６３質量％）（東亜合成社製）  下記構造
【化２９】
0006453324.tif 000034
・光重合開始剤１：Ｉｒｇａｃｕｒｅ−ＯＸＥ０１（ＢＡＳＦ）  下記構造
【化３０】
0006453324.tif 000035
・上記界面活性剤１
・重合禁止剤１：ｐ−メトキシフェノール
・有機溶剤１：プロピレングリコールメチルエーテルアセテート【０１９０】
＜＜赤外線透過フィルムＡの作製＞＞
赤外線透過組成物Ａを、ガラス基板上にポストベーク後の膜厚が１．０μｍとなるようにスピンコートにより塗布し、１００℃、１２０秒間ホットプレートで乾燥し、膜を形成した。次いで、２００℃のホットプレートを用いて、得られた膜を３００秒間加熱処理（ポストベーク）し、さらにｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ−３０００ｉ５＋（Ｃａｎｏｎ（株）製）を用いて、全面露光することにより、ガラス基板上に赤外線透過フィルムＡを形成した。
得られた赤外線透過フィルムＡの波長４００〜１１００ｎｍの範囲における透過率を、紫外可視近赤外分光光度計（日立ハイテクノロジーズ社製  Ｕ−４１００）（ｒｅｆ．ガラス基板）を用いて、測定した。図７に、その結果を示す。【０１９１】
＜＜バンドパスフィルタＡの作製＞＞
上記実施例１で得られた積層体１と上記で得られた赤外線透過フィルムＡを組み合わせてバンドパスフィルタＡを作製した。得られたバンドパスフィルタＡの透過率を、図８に示す。【０１９２】
＜実施例Ｂ＞
＜＜顔料分散液Ｂ−１の調製＞＞
下記組成の各成分を、０．３ｍｍ径のジルコニアビーズを使用して、ビーズミル（減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ−３０００−１０（日本ビーイーイー（株）製））で、３時間、混合、分散して、顔料分散液Ｂ−１を調製した。
・赤色顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｒｅｄ  ２５４）及び黄色顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｙｅｌｌｏｗ  １３９）からなる混合顔料            １１．８部
・分散剤：ＢＹＫ社製  ＢＹＫ−１１１                    ９．１部
・有機溶剤：プロピレングリコールメチルエーテルアセテート７９．１部【０１９３】
＜＜顔料分散液Ｂ−２の調製＞＞
下記組成の各成分を、０．３ｍｍ径のジルコニアビーズを使用して、ビーズミル（減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ−３０００−１０（日本ビーイーイー（株）製））で、３時間、混合、分散して、顔料分散液Ｂ−２を調製した。
・青色顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｂｌｕｅ  １５：６）及び紫色顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｖｉｏｌｅｔ  ２３）からなる混合顔料            １２．６部
・分散剤：ＢＹＫ社製  ＢＹＫ−１１１                    ２．０部
・下記分散樹脂４                                        ３．３部
・有機溶剤：シクロヘキサノン                            ３１．２部
・有機溶剤：プロピレングリコールメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）    ５０．９部【０１９４】
・分散樹脂４
分散樹脂４として、以下に示す化合物（繰り返し単位における比はモル比である）を使用した。
【化３１】
0006453324.tif 000036
【０１９５】
＜＜赤外線透過組成物Ｂの調製＞＞
下記の成分を混合して、赤外線透過組成物Ｂを調製した。
・顔料分散液Ｂ−１                                        ４６．５部
・顔料分散液Ｂ−２                                        ３７．１部
・上記アルカリ可溶性樹脂１                                  １．１部
・下記重合性化合物２                                        １．８部
・下記重合性化合物３                                        ０．６部
・光重合開始剤：下記重合開始剤２                            ０．９部
・上記界面活性剤１の１．００質量％ＰＧＭＥＡ溶液            ４．２部
・重合禁止剤：ｐ−メトキシフェノール                    ０．００１部
・有機溶剤１：ＰＧＭＥＡ                                    ７．８部【０１９６】
・重合性化合物２  左側化合物と右側化合物のモル比は７：３である混合物。
【化３２】
0006453324.tif 000037
【０１９７】
・重合性化合物３
【化３３】
0006453324.tif 000038
【０１９８】
・重合開始剤２
【化３４】
0006453324.tif 000039
【０１９９】
＜＜赤外線透過フィルムＢの作製＞＞
赤外線透過組成物Ｂを、ガラス基板上にポストベーク後の膜厚が１．０μｍとなるようにスピンコートにより塗布し、１００℃、１２０秒間ホットプレートで乾燥し、膜を形成した。次いで、２００℃のホットプレートを用いて、得られた膜を３００秒間加熱処理（ポストベーク）し、さらにｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ−３０００ｉ５＋（Ｃａｎｏｎ（株）製）を用いて、全面露光することにより、赤外線透過フィルムＢを形成した。
得られた赤外線透過フィルムＢの波長４００〜１１００ｎｍの範囲における透過率を、紫外可視近赤外分光光度計（日立ハイテクノロジーズ社製  Ｕ−４１００）（ｒｅｆ．ガラス基板）を用いて、測定した。図１０に、その結果を示す。【０２００】
＜＜バンドパスフィルタＢの作製＞＞
上記実施例２で得られた積層体２と上記で得られた赤外線透過フィルムＢを組み合わせてバンドパスフィルタＢを作製した。得られたバンドパスフィルタＢの透過率を、図１１に示す。【０２０１】
＜実施例Ｃ＞
＜＜赤外線透過フィルムＣの作製＞＞
特開２０１３−０７７００９号公報の段落０２５５〜０２５９の記載（実施例１）に従ってカラーフィルタ（赤外線透過フィルムＣ）を作製した。得られた赤外線透過フィルムＣの波長４００〜１１００ｎｍの範囲における透過率を、紫外可視近赤外分光光度計（日立ハイテクノロジーズ社製  Ｕ−４１００）（ｒｅｆ．ガラス基板）を用いて、測定した。図１３に、その結果を示す。【０２０２】
＜＜バンドパスフィルタＣの作製＞＞
上記実施例３で得られた積層体３と上記で得られた赤外線透過フィルムＣを組み合わせてバンドパスフィルタＣを作製した。得られたバンドパスフィルタＣの透過率を、図１４に示す。【０２０３】
実施例１〜６の積層体の作製において、表２に記載のそれぞれの積層体（積層体１〜６）の低屈折領域および高屈折領域の組成を、下記表５に示す５種の低屈折領域および高屈折領域の組成に変更し、それぞれ、表２に記載の積層体１〜６の光学膜厚を満たすように膜厚を調整した以外は、実施例１〜６の積層体の作製と同様にして、各積層体（計３０種の積層体）を得た。実施例７、８、および９の積層体は、実施例１〜６の積層体の作製と同様にして積層体を作成し、比較例３、および４の積層体は、公知の蒸着方法に従って積層体を得た。このときの各層膜厚は、表２に記載の光学膜厚を基に算出した。すなわち、光学膜厚＝実際の膜厚×材料の屈折率となるように、所望の光学膜厚と材料の屈折率から、作製すべき実膜厚を算出して作製した。
得られた積層体の透過率を上記と同様に測定したところ、実施例１〜６と同様の波形を実現できた。【０２０４】
＜ノイズ評価＞
上記バンドパスフィルタＢの作製において、積層体２を構成する低屈折領域および高屈折領域の組成を、下記表５に示す通り変更した以外は、バンドパスフィルタＢの作製と同様にして、各バンドパスフィルタを作製した。結果を下記表５に示す。
バンドパスフィルタの厚み方向の、８５０ｎｍにおける透過率ｔ１〔％〕と、１０００ｎｍにおける平均光透過率ｔ２〔％〕との比（ｔ２／ｔ１＝ｘ）を、紫外可視近赤外分光光度計Ｕ−４１００（日立ハイテクノロジーズ社製）（ｒｅｆ．ガラス基板）を用いて求め、以下の評価基準に基づき評価した。評点が高いほど、可視光成分に由来のノイズが少なく、性能が優れていることを示す。
＜評価基準＞
３：  ｘ≦０．１
２：  ０．１＜ｘ≦０．５
１：  ０．５＜ｘ【０２０５】
【表５】
0006453324.tif 000040
【０２０６】
＜低屈折分散液Ｂ−５〜Ｂ−１０の調製＞
低屈折分散液Ｂ−１の溶媒を留去し、表６に示す溶媒に再希釈することで低屈折分散液Ｂ−５〜Ｂ−１０を得た。なお、表６中の数値は、質量部を意図する。
なお、ＰＧＭＥはプロピレングリコールモノメチルエーテルを表し、ＰＧＭＥＡはプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを表す。
また、以下の表中、「固形分」とは低屈折分散液Ｂ−１の溶媒を留去して得られる固形分を意図する。【０２０７】
【表６】
0006453324.tif 000041
【０２０８】
＜低屈折組成物３〜８の調製＞
低屈折分散液Ｂ−５〜Ｂ−１０と上記界面活性剤１とをそれぞれ下記の量で混合し、低屈折組成物３〜８を得た。例えば、低屈折分散液Ｂ−５を用いて、低屈折組成物３を調製した。
・低屈折分散液                                        ９９．９部
・上記界面活性剤１の１０質量％ＰＧＭＥＡ溶液            ０．１部【０２０９】
＜実施例＞
８インチガラスウェハの表面に、表７に示す低屈折組成物の各々および高屈折組成物１を用い、表２の積層体１に示す積層構成となるように、低屈折領域と高屈折領域をそれぞれ交互に積層し各実施例の積層体を得た。低屈折組成物と高屈折組成物とはスピンコーターを用いて塗布し、低屈折組成物と高屈折組成物の乾燥は、ホットプレートを用いて１３０℃で１２０秒間行った。
各高屈折領域および低屈折領域の厚さは、上記表２に示した所望の光学膜厚となるように、塗布量および塗布回数（積層数）を調整した。
なお、各積層体に用いた組成物の屈折率の測定方法は、上述の通りである。【０２１０】
表７に示す「溶媒のＳＰ値の加重平均」は、各組成物に含まれる溶媒のＳＰ値の加重平均による値を示す。計算方法は、上述の通りであり、各溶媒の全溶媒中における質量割合を用いて計算する。【０２１１】
【表７】
0006453324.tif 000042
【０２１２】
＜膜厚面内分布（バラツキ）測定＞
実施例１０〜１５の積層体の作製過程において、１層塗布するごとに、その膜厚面内分布（バラツキ）をエリプソメータ（Ｊ．Ａウーラム製ＶＵＶ−ｖａｓｅ［商品名］）で測定した（波長６３３ｎｍ、測定温度２５℃）。膜厚面内分布は、基板（ガラスウェハ）の直径方向に１０ｍｍ間隔で２０点測定した。なお、形成された低屈折層および高屈折層のそれぞれの膜厚面内分布は同じであり、表８に各層のバラツキを示す。バラツキの測定方法は、上述の通りである。【０２１３】
＜欠陥測定＞
デジタルカメラ付光学顕微鏡を用いて、実施例１０〜１５で得られた各積層体の積層体表面上の異なる任意の５点（各点の観察面積：１ｍｍ×１ｍｍ）を、積層体表面上（各層の積層方向）から×２００倍で撮影した。上述した手順に従って、得られた画像を二値化（白黒化）し、観察される黒色部分を欠陥とした。観察される欠陥の長径が１μｍ以上である欠陥の個数を欠陥数として算出し、５点の観察位置における欠陥数を算術平均して、得られた値（平均欠陥数）を以下の基準に従って評価した。欠陥数（平均欠陥数）が３０個未満である場合をＡ、３０個以上５０個未満である場合をＢ、５０個以上である場合をＣとした。【０２１４】
＜分光測定＞
実施例１０〜１５で得られた積層体の波長４００〜１１００ｎｍの範囲における透過率を、紫外可視近赤外分光光度計（日立ハイテクノロジーズ社製  Ｕ−４１００）（ｒｅｆ．ガラス基板）を用いて、測定した。波長４５０〜７５０ｎｍの範囲における透過率の最大値および最小値を表８に示す。【０２１５】
なお、表８中の「溶媒のＳＰ値差」は、積層体の製造に用いた、低屈折組成物に含まれる溶媒のＳＰ値と、高屈折組成物に含まれる溶媒のＳＰ値との差の絶対値を表す。【０２１６】
【表８】
0006453324.tif 000043
【０２１７】
表８から明らかな様に、溶媒のＳＰ値差が大きいと、膜厚のバラツキが抑制され、透過率最小値が大きく、着色の無い透明性の高い積層体が得られることが分かった。また、溶媒のＳＰ値差が大きいと、欠陥も抑制され、透過率最大値が高く、濁りの無い透明性の高い積層体が得られることがわかった。
【符号の説明】
【０２１８】
１：レンズ光学系、１０：固体撮像素子、２０：信号処理部、３０：信号切替部、４０：制御部、５０：信号蓄積部、６０：発光制御部、７０：赤外ＬＥＤ、８０、８１：画像出力部
【図１】
0006453324.tif 000044
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
0006453324.tif 000056
【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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