(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式
｛（Ｒ−π−Ｅ−ＣＨ２−Ａ−ＣＨ２−Ｅ’）ｎ−π’｝２−Ｇ・・・（１Ｂ）
（ただし、ｎは２〜５の整数であり、Ａは２価のパーフルオロポリエーテル基であり、πはアリーレン基または単結合であり、Ｒはアルケニル基またはアルキニル基であり、Ｅ及びＥ’は、それぞれ独立に、化学式
−ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２Ｏ−
で表される基、エーテル結合またはエステル結合であり、π’は、ベンゼンから水素原子がｎ＋１個脱離した基であり、Ｇは、フラーレン骨格を含む２価の有機基であり、ｎ個の一般式
Ｒ−π−Ｅ−ＣＨ２−Ａ−ＣＨ２−Ｅ’−
で表される基は、同一であってもよいし、異なっていてもよく、ｎ個のπのうち、少なくとも１個はアリーレン基である。）
で表される有機フッ素化合物。
【請求項２】
前記Ａが直鎖基である請求項１に記載の有機フッ素化合物。
【請求項３】
複数の前記Ｒが同一である請求項１または２に記載の有機フッ素化合物。
【請求項４】
複数の前記πが同一である請求項１〜３のいずれか一項に記載の有機フッ素化合物。
【請求項５】
複数の前記Ｅが同一である請求項１〜４のいずれか一項に記載の有機フッ素化合物。
【請求項６】
前記Ａの炭素数が１〜１００である請求項１〜５のいずれか一項に記載の有機フッ素化合物。
【請求項７】
前記Ａが、一般式
−（ＣＦ２）ｘＯ−・・・（２）
（ただし、ｘは１〜５の整数である。）
で表される基の少なくとも一つを有する請求項１〜６のいずれか一項に記載の有機フッ素化合物。
【請求項８】
前記Ａが、前記ｘが１または２である前記一般式（２）で表される基を１〜５０個含む請求項７に記載の有機フッ素化合物。
【請求項９】
前記Ａの平均式量が２５０〜６０００の範囲内である請求項１〜８のいずれか一項に記載の有機フッ素化合物。
【請求項１０】
前記Ｇのフラーレン骨格が、Ｃ６０骨格、Ｃ７０骨格、Ｃ７６骨格、Ｃ７８骨格、さらに高次のフラーレン骨格である請求項１〜９のいずれか一項に記載の有機フッ素化合物。
【請求項１１】
化学式
【化１０】
0006603440.tif 000012
で表される化合物である請求項１〜１０のいずれか一項に記載の有機フッ素化合物。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載の有機フッ素化合物を含有する潤滑剤。
【請求項１３】
請求項１２に記載の潤滑剤を磁気記録媒体に塗布することと、
該磁気記録媒体に塗布された潤滑剤に紫外線を照射することを含む磁気記録媒体の処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機フッ素化合物、潤滑剤および磁気記録媒体の処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
パーフルオロポリエーテル化合物は、耐熱性、耐薬品性、耐酸化性に優れるほか、粘度指数が大きいため、低温から高温までの広い温度領域で流動性（粘度）の変化が少なく、良好な潤滑性を発揮する。また、パーフルオロポリエーテル化合物は、不燃性であることに加え、ゴム・プラスチックなどの高分子系素材への影響も殆ど無く、低い蒸気圧と少ない蒸発損失、低い表面張力、高い電気絶縁性といった特性も有し、潤滑剤として、極めて広い範囲にわたり、高いパフォーマンスを示すことが知られている。このため、パーフルオロポリエーテル化合物は、潤滑油としての真空ポンプ油や、磁気ディスク／テープなどの潤滑剤、熱媒体、非粘着剤、その他の用途で幅広く利用されている。【０００３】
パーフルオロポリエーテル基を有する有機フッ素化合物を潤滑剤として使用する例として、磁気記録媒体として用いられるディスク状の基板が挙げられる。【０００４】
磁気記録媒体は、一般に、基板上に記録層等を積層した後、記録層上にカーボン等の保護層を形成し、さらに保護層上に潤滑剤層を形成したものである。保護層は、記録層に記録された情報を保護するとともに、データを読み取る磁気ヘッドの摺動性を高めるものである。【０００５】
しかしながら、記録層上に保護層を形成しただけでは、磁気記録媒体の耐久性は十分に得られない。【０００６】
このため、一般に、保護層上にパーフルオロポリエーテル基を有する有機フッ素化合物を、潤滑剤として塗布して潤滑剤層を形成する。これによって、磁気ヘッドと保護層とが直接接触するのを抑制することができることに加え、磁気記録媒体上を摺動する磁気ヘッドの摩擦力を著しく低減させることができ、耐久性が向上する。【０００７】
磁気記録媒体に使用される潤滑剤として、例えば、化学式
ＨＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｐ（ＣＦ２Ｏ）ｑＣＦ２ＣＨ２ＯＨ・・・（３）
（ただし、ｐ、ｑは、それぞれ１以上の整数である。）
で表される有機フッ素化合物が知られている。上記有機フッ素化合物としては、例えば、フォンブリン（登録商標）Ｚｄｏｌ（ソルベイスペシャルティポリマーズ社製）などが挙げられる。【０００８】
特許文献１には、上記の潤滑剤を保護層上に塗布した磁気記録媒体が開示されている。【０００９】
また、特許文献２には、化学式
ＨＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｍ（ＣＦ２Ｏ）ｎＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２ＯＨ・・・（４）
（ただし、ｍ、ｎは整数であり、化学式（４）で表される化合物の平均分子量は５００〜５０００である。）
で表される有機フッ素化合物フォンブリンＺｔｅｔｒａｏｌ（ソルベイスペシャルティポリマーズ社製）よりなる潤滑剤層を有する磁気記録媒体が開示されている。【００１０】
さらに、特許文献３には、化学式（５）【００１１】
【化１】
0006603440.tif 000002
（ただし、ｐおよびｑは、それぞれ１以上の整数である。）
で表される有機フッ素化合物と溶媒とを含む潤滑剤溶液を保護層上に塗布した磁気記録媒体が開示されている。【００１２】
これら化学式（３）〜（５）の潤滑剤に使われている有機フッ素化合物は、いずれも直鎖パーフルオロポリエーテル基を含むが、分子中に芳香環を含んでいない。【００１３】
また、特許文献４には、化学式（６）【００１４】
【化２】
0006603440.tif 000003
（ただし、ｐおよびｑは、それぞれ１以上の整数である。）
で表される有機フッ素化合物フォンブリンＡＭ２００１（ソルベイスペシャルティポリマーズ社製）よりなる潤滑剤層を有する磁気記録媒体が開示されている。【００１５】
これらの潤滑剤に使われている有機フッ素化合物は、直鎖パーフルオロポリエーテル基の末端に、分子中に置換基を有するフェニル基を含むが、フェニル基を構成する隣接する炭素原子に結合している酸素原子がメチレン基を介して環を形成している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１６】
【特許文献１】特開昭６２−６６４１７号公報
【特許文献２】特開平９−２８２６４２号公報
【特許文献３】特開２００８−７５０００号公報
【特許文献４】米国特許第５０５５３５９号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１７】
パーフルオロポリエーテル基を含む有機フッ素化合物を、例えば、磁気記録媒体として用いられるディスク状の基板上で潤滑剤として使用するためには、保護層上に潤滑剤層を形成した上で、時間の経過に伴って、潤滑剤が散逸しないように、保護層上に潤滑剤を定着させる必要がある。【００１８】
潤滑剤を保護層上に吸着させ、潤滑剤層を形成するために、一般に、保護層に対して、窒化処理が施されている。【００１９】
特許文献１および２に記載されている有機フッ素化合物は、分子の末端にヒドロキシ基を有し、ヒドロキシ基が保護層に付与された窒素原子との間で水素結合を形成することが可能となるため、保護層上に吸着し、潤滑剤層が形成される。【００２０】
一方、保護層に対して窒化処理を施さないことは、工程数が減少するため、生産コストの削減に有用であると考えられる。また、一般に、炭素原子と水素原子を主な構成要素とする保護層に、電気陰性度の大きい窒素原子が加わることによる極性の上昇を抑えることができる。このため、空気中の湿気などを原因とする腐食に対する耐性が向上するという利点があると考えられる。【００２１】
しかしながら、窒化処理が施されていない保護層上に上述の潤滑剤を塗布した場合、保護層と潤滑剤の間に水素結合が形成されないため、潤滑剤は、高い粘度に基づいて、少量付着するものの、十分な厚さの潤滑剤層を形成することはできないという問題があった。【００２２】
保護層は、炭素原子または炭素原子を含むダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）で構成されている。ＤＬＣ中の炭素原子の一部は、ｓｐ２混成軌道を有しており、グラファイト中の炭素原子同士の結合と同様の二重結合が含まれていることが知られている。【００２３】
そこで、二重結合を利用して潤滑剤中の吸着部位とのπ−π相互作用により、窒化処理が施されていない保護層上に潤滑剤を吸着させることが考えられる。【００２４】
特許文献３および４に記載されている有機フッ素化合物は、末端に、それぞれホスファゼン環基および１，３−ベンゾジオキソリル基という、単結合と二重結合を交互に含む環構造を含むため、一見すると、π−π相互作用により、窒化処理が施されていない保護層に吸着することが可能であると考えられる。【００２５】
しかしながら、これらの環構造は、芳香環ではない環を含むため、環構造の平坦性が損なわれている。そのため、これらの潤滑剤は、窒化処理が施されていない保護層との間のπ−π相互作用が十分ではなく、十分な厚さの潤滑剤層を形成することは不可能であるという問題があった。【００２６】
そのため、末端の環構造が芳香環のみで構成されており、ほぼ平坦と見なすことができる潤滑剤を用いれば、有効なπ−π相互作用により、窒化処理が施されていない保護層上に潤滑剤を吸着させることができると考えられる。【００２７】
一方、磁気ディスク等の磁気記録媒体の保護層上に潤滑剤層を形成する場合、磁気ヘッドが飛ぶたびに保護層上の潤滑剤が幾らか取り除かれる。その結果、潤滑剤層が次第に薄くなり、最終的にはクラッシュにつながる危険がある。このような現象を抑制するためには、保護層に定着している潤滑剤の量が所定の割合よりも高い、すなわち、潤滑剤層のボンディドレシオが高い必要がある。【００２８】
潤滑剤層のボンディドレシオは、潤滑剤層を形成した磁気ディスクを溶媒に浸漬し、保護層上に定着していない潤滑剤を洗い流した後に残存した潤滑剤の割合である。【００２９】
このとき、末端の環構造が芳香環のみで構成されている潤滑剤が、窒化処理が施されていない保護層上に吸着する際に作用するπ−π相互作用だけでは、十分なボンディドレシオを得ることが困難であるという問題があった。【００３０】
本発明の一態様は、上記のような事情を鑑み、窒化処理が施されていない保護層上に十分な厚さの潤滑剤層を形成することが可能であり、かつ、潤滑剤層のボンディドレシオを高めることが可能な有機フッ素化合物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００３１】
［１］一般式
｛（Ｒ−π−Ｅ−ＣＨ２−Ａ−ＣＨ２−Ｅ’）ｎ−π’｝２−Ｇ・・・（１Ｂ）
（ただし、ｎは２〜５の整数であり、Ａは２価のパーフルオロポリエーテル基であり、πはアリーレン基または単結合であり、Ｒはアルケニル基またはアルキニル基であり、Ｅ及びＥ’は、それぞれ独立に、化学式
−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２Ｏ−
で表される基、エーテル結合またはエステル結合であり、π’は、ベンゼンから水素原子がｎ＋１個脱離した基であり、Ｇは、フラーレン骨格を含む２価の有機基であり、ｎ個の一般式
Ｒ−π−Ｅ−ＣＨ２−Ａ−ＣＨ２−Ｅ’−
で表される基は、同一であってもよいし、異なっていてもよく、ｎ個のπのうち、少なくとも１個はアリーレン基である。）
で表される有機フッ素化合物。
［２］前記Ａが直鎖基である［１］に記載の有機フッ素化合物。
［３］複数の前記Ｒが同一である［１］または［２］に記載の有機フッ素化合物。
［４］複数の前記πが同一である［１］〜［３］のいずれか一項に記載の有機フッ素化合物。
［５］複数の前記Ｅが同一である［１］〜［４］のいずれか一項に記載の有機フッ素化合物。
［６］前記Ａの炭素数が１〜１００である［１］〜［５］のいずれか一項に記載の有機フッ素化合物。
［７］前記Ａが、一般式
−（ＣＦ２）ｘＯ−・・・（２）
（ただし、ｘは１〜５の整数である。）
で表される基の少なくとも一つを有する［１］〜［６］のいずれか一項に記載の有機フッ素化合物。
［８］前記Ａが、前記ｘが１または２である前記一般式（２）で表される基を１〜５０個含む［７］に記載の有機フッ素化合物。
［９］前記Ａの平均式量が２５０〜６０００の範囲内である［１］〜［８］のいずれか一項に記載の有機フッ素化合物。
［１０］前記Ｇのフラーレン骨格が、Ｃ６０骨格、Ｃ７０骨格、Ｃ７６骨格、Ｃ７８骨格、さらに高次のフラーレン骨格である［１］〜［９］のいずれか一項に記載の有機フッ素化合物。
［１１］化学式
【００３２】
【化３】
0006603440.tif 000004
で表される化合物である［１］〜［１０］のいずれか一項に記載の有機フッ素化合物。
［１２］［１］〜［１１］のいずれか一項に記載の有機フッ素化合物を含有する潤滑剤。
［１３］［１２］に記載の潤滑剤を磁気記録媒体に塗布することと、該磁気記録媒体に塗布された潤滑剤に紫外線を照射することを含む磁気記録媒体の処理方法。
【発明の効果】
【００３３】
本発明の一態様によれば、窒化処理が施されていない保護層上に、十分な厚さの潤滑剤層を形成することが可能であり、かつ、潤滑剤層のボンディドレシオを高めることが可能な有機フッ素化合物を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００３４】
（有機フッ素化合物）
本実施形態の有機フッ素化合物は、一般式
（Ｒ−π−Ｅ−ＣＨ２−Ａ−ＣＨ２−Ｅ'）ｎ−π'−Ｇ・・・（１Ｂ）
（ただし、ｎは２〜５の整数であり、Ａは２価のパーフルオロポリエーテル基であり、πはアリーレン基または単結合であり、Ｒはアルケニル基またはアルキニル基であり、Ｅ及びＥ'は、それぞれ独立に、化学式
−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２Ｏ−
で表される基、エーテル結合またはエステル結合であり、π'は、ベンゼンから水素原子がｎ＋１個脱離した基であり、Ｇは、フラーレン骨格を含む有機基であり、複数の一般式
Ｒ−π−Ｅ−ＣＨ２−Ａ−ＣＨ２−Ｅ'−
で表される基は、同一であってもよいし、異なっていてもよく、ｎ個のπのうち、少なくとも１個はアリーレン基である。）
で表される化合物である。
【００３５】
一般式（１Ｂ）で表される化合物は、合成のしやすさから、πがすべてアリーレン基であることが好ましい。また、一般式（１Ｂ）で表される化合物は、合成のしやすさから、ｎが３であることが好ましい。
【００３６】
なお、パーフルオロポリエーテル基は、複数のフッ化炭素基がエーテル結合で結合された基である。
【００３７】
以下、特に断りのない限り、複数のπがいずれもアリーレン基である有機フッ素化合物を用いて、本実施形態の有機フッ素化合物を説明する。
【００３８】
本実施形態の有機フッ素化合物は、２価のパーフルオロポリエーテル基と、芳香環上に、アルケニル基またはアルキニル基が直接結合しているアリール基とが、一般式
−Ｅ−ＣＨ２−
で表される連結基を介して、結合している構造を分子中に有する。
【００３９】
本実施形態の有機フッ素化合物は、ほぼ平坦と見なすことができる芳香環を含むため、π−π相互作用に基づき、窒化処理が施されていない保護層上に吸着することができ、十分な厚さの潤滑剤層を形成することができる。さらに、芳香環上に、アルケニル基またはアルキニル基が直接結合しているため、紫外線を照射することによって、アルケニル基またはアルキニル基に含まれる不飽和結合と、保護層を構成する材料（例えば、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ））とのｓｐ２混成炭素原子間の強固な結合の形成が促進される。その結果、保護層上の潤滑剤層を十分に定着することができ、潤滑剤層のボンディドレシオを高めることができる。芳香環も不飽和結合を含むため、同様のボンディドレシオを高める効果が存在するが、芳香環のみでは、ボンディドレシオを高める効果は不十分である。
【００４０】
Ａは、直鎖基および分枝鎖基のいずれであってもよいが、直鎖基であることが好ましい。Ａが直鎖基であることにより、潤滑性やフッ素系溶媒への溶解性が向上する。
【００４１】
Ａの炭素数は、１〜１００であることが好ましく、５〜４０であることがより好ましい。Ａの炭素数が１以上であると、有機フッ素化合物のフッ素系溶媒に対する溶解性が向上するため、有機フッ素化合物の塗布が容易となる。また、Ａの炭素数が１００以下であると、有機フッ素化合物の一般的な有機溶媒に対する溶解性が向上するため、有機フッ素化合物の有機反応による構造変換が容易となる。
【００４２】
Ａは、一般式
−（ＣＦ２）ｘＯ−・・・（２）
（ただし、ｘは１〜５の整数である。）
で表される基の少なくとも一つを有することが好ましい。これにより、有機フッ素化合物のフッ素系溶媒に対する溶解性が向上し、その結果、より均一に有機フッ素化合物を塗布することが可能になる。
【００４３】
また、Ａは、ｘが１または２である一般式（２）で表される基を１〜５０個含むことがより好ましい。このような構造を含むパーフルオロポリエーテル基は、工業的に合成されており、容易に入手することができるため、産業上利用しやすい。
【００４４】
Ａの平均式量は、２５０〜６０００の範囲内であることが好ましく、２８０〜３０００の範囲内であることがより好ましい。Ａの平均式量が２５０以上であると、有機フッ素化合物のフッ素系溶媒に対する溶解性が向上するため、有機フッ素化合物の塗布が容易となる。また、Ａの平均式量が６０００以下であると、有機フッ素化合物の一般的な有機溶媒に対する溶解性が向上するため、有機フッ素化合物の有機反応による構造変換が容易となる。
【００４５】
Ｒは、炭素数２〜４のアルケニル基または炭素数２〜４のアルキニル基であることが好ましい。
【００４６】
Ｒの具体例としては、ビニル基、アリル基、３−ブテン−１−イル基、プロパルギル基などが挙げられ、その中でも、ビニル基、アリル基またはプロパルギル基が特に好ましい。
【００４７】
ＥおよびＥ'は、それぞれ独立に、化学式
−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２Ｏ−
で表される基、エーテル結合またはエステル結合であるが、合成が容易であることから、エステル結合であることが好ましい。ここで、エステル結合の向きは、特に限定されないが、合成が容易であることから、一般式
Ｒ−π−ＣＯＯ−ＣＨ２−
で表される基となる向きであることが好ましい。
【００４８】
本実施形態の有機フッ素化合物は、複数のＲが同一であることが好ましい。これにより、合成に要する工程数を削減することができる。
【００４９】
πとしては、特に限定されないが、フェニレン基、ナフチレン基などが挙げられ、その中でも、１，４−フェニレン基、１，２−ナフチレン基が特に好ましい。
【００５０】
本実施形態の有機フッ素化合物は、複数のπが同一であることが好ましい。これにより、合成に要する工程数を削減することができる。
【００５１】
π'としては、特に限定されないが、フェニレン基、ナフチレン基などが挙げられ、その中でも、２，４，６−フェニレン基が特に好ましい。
【００５２】
本実施形態の有機フッ素化合物は、複数のＥが同一であることが好ましい。これにより、合成に要する工程数を削減することができる。
【００５３】
Ｇは、フラーレン骨格を含み、π'と結合することが可能であれば、特に限定されないが、フラーレン骨格上にピロリジン環が形成されている基などが挙げられる。
【００５４】
フラーレン骨格としては、例えば、Ｃ６０骨格、Ｃ７０骨格、Ｃ７６骨格、Ｃ７８骨格、さらに高次のフラーレン骨格などが挙げられる。その中でも、Ｃ６０骨格が好ましい。
【００５５】
Ｃ６０骨格は、他のフラーレン骨格よりも純度の高いものを工業的に容易に得ることができる。このため、本実施形態の有機フッ素化合物は、純度を高くすることができ、潤滑性や平滑性を良好にすることができる。
【００５６】
（有機フッ素化合物の合成方法）
本実施形態の有機フッ素化合物は、例えば、下記の合成方法に従って、合成することができる。
【００５７】
（一般式（１Ｂ'）で表される化合物）
まず、一般式
Ｒ−π−Ｅ−ＣＨ２−Ａ−ＣＨ２−ＯＨ・・・（１Ｂ'）
（ただし、Ａは２価のパーフルオロポリエーテル基であり、πはアリーレン基であり、Ｒはアルケニル基またはアルキニル基であり、Ｅは、化学式
−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２Ｏ−
で表される基、エーテル結合またはエステル結合である。）
で表される化合物を合成する。
【００５８】
［Ｅがエーテル結合である場合］
例えば、既存の末端にヒドロキシ基を有するパーフルオロポリエーテル化合物を、塩基によって脱プロトンすることで生成するアルコキシド種を、銅触媒の存在下で、ハロゲン化アリールとクロスカップリング反応させることによって、一般式（１Ｂ'）で表される化合物を合成することができる。この反応は、溶媒を用いずに、適宜加熱攪拌しながら、実施することができる。
【００５９】
塩基としては、一般に知られているイオン性塩基を用いることができ、例えば、炭酸カリウム、炭酸セシウム、カリウムｔ−ブトキシドなどが挙げられる。
【００６０】
また、銅触媒としては、例えば、ヨウ化銅（Ｉ）と、２−シクロヘキサノンカルボン酸エチルとから生成する触媒種を用いることができる。
【００６１】
ハロゲン化アリールは、あらかじめアリール基を構成する芳香環上に、アルケニル基またはアルキニル基が直接結合していることが好ましい。
【００６２】
ハロゲン化アリールとしては、例えば、ヨウ化アリールなどが挙げられ、その中でも、４−アリルヨードベンゼンが特に好ましい。
【００６３】
［Ｅがエステル結合である場合］
例えば、既存の末端にヒドロキシ基を有するパーフルオロポリエーテル化合物を、塩基の存在下で、酸塩化物（例えば、カルボン酸塩化物）とエステル化反応させることによって、一般式（１Ｂ'）で表される化合物を合成することができる。この反応は、溶媒中で実施することができる。
【００６４】
あるいは、既存の末端に塩化カルボニル基を有するパーフルオロポリエーテル化合物を、ヒドロキシ基を有する化合物と、同様にエステル化反応させてもよい。
【００６５】
溶媒としては、上記のパーフルオロポリエーテル化合物を溶解させることが可能であれば、特に限定されないが、ジクロロメタンなどの含塩素溶媒、ＡＫ−２２５（旭硝子社製）などの含フッ素溶媒などが挙げられる。
【００６６】
塩基としては、一般に知られている無機塩基および有機塩基を用いることができ、例えば、炭酸セシウム、トリエチルアミン、ジイソプロピルアミンなどが挙げられる。
【００６７】
［Ｅが−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２−Ｏ−である場合］
例えば、既存の末端にヒドロキシ基を有するパーフルオロポリエーテル化合物を、塩基の存在下で、アリール基を構成する芳香環上に、グリシジルオキシ基が直接結合している化合物と開環付加反応させることによって、一般式（１Ｂ'）で表される化合物を合成することができる。この反応は、溶媒中で実施することができる。
【００６８】
溶媒としては、ヒドロキシ基を有するパーフルオロポリエーテル化合物とイオン性塩基を溶解させることが可能であれば、特に限定されないが、メタノール、ｔ−ブチルアルコールなどのアルコール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなどの極性溶媒などが挙げられる。
【００６９】
塩基としては、一般に知られているイオン性塩基を用いることができ、例えば、炭酸カリウム、炭酸セシウム、カリウムｔ−ブトキシドなどが挙げられる。
【００７０】
（一般式（１Ｂ''）で表される化合物）
次に、一般式（１Ｂ'）で表される化合物をトリフルオロメタンスルホン酸無水物（Ｔｆ２Ｏ）と反応させて、ヒドロキシ基をＯＴｆに変換し、一般式
Ｒ−π−Ｅ−ＣＨ２−Ａ−ＣＨ２−ＯＴｆ・・・（１Ｂ''）
で表される化合物を合成することができる。
【００７１】
（一般式（１Ｂ）で表される化合物）
次に、一般式（１Ｂ''）で表される化合物を、塩基の存在下で、２，４，６−トリヒドロキシベンズアルデヒドと、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなどの非プロトン性極性溶媒中でＳＮ２反応させた後、Ｎ−メチルグリシンおよびＣ６０フラーレンと反応させることで、一般式（１Ｂ）で表される化合物を合成することができる。
【００７２】
［粗生成物］
いずれの反応においても、反応混合物に水あるいは希塩酸を加え、必要に応じて、ＡＫ−２２５（旭硝子社製）などの含フッ素溶媒を抽出溶媒として加えて分液し、有機層を乾燥させた後で、濾過し、ロータリーエバポレーターで濃縮することによって、粗生成物が得られる。
【００７３】
［精製］
粗生成物は、そのまま潤滑剤として使用することが可能である。より高い純度が必要とされる場合には、例えば、粗生成物を、シリカゲルカラムクロマトグラフィーや二酸化炭素超臨界流体抽出法により精製した後、潤滑剤として使用することができる。
【００７４】
二酸化炭素超臨界流体抽出法を用いる場合、例えば、粗生成物を圧力容器内に入れた後、圧力容器内の圧力及び温度を保ちながら、液化二酸化炭素を圧力容器内に流入することで、二酸化炭素を超臨界流体状態にし、目的の化合物を抽出することで精製する。
【００７５】
圧力容器内の温度は、３１℃以上８０℃以下であることが好ましい。圧力容器内の温度が３１℃未満であると、液化二酸化炭素が超臨界状態にならず、８０℃を超えると、超臨界二酸化炭素の抽出力が弱くなる。
【００７６】
また、圧力容器内の圧力は、７．３８ＭＰａ以上３０ＭＰａ以下であることが好ましい。圧力容器内の圧力が７．３８ＭＰａ未満であると、液化二酸化炭素が超臨界状態にならず、３０ＭＰａを超えると、装置の耐圧性能が要求されるために、装置の価格が高くなり、その結果、製造コストが高くなる。
【００７７】
（潤滑剤）
本実施形態の潤滑剤は、本実施形態の有機フッ素化合物を含有する。
【００７８】
本実施形態の潤滑剤は、本実施形態の有機フッ素化合物であっても良いし、本実施形態の有機フッ素化合物に加えて、他の有機フッ素化合物をさらに含んでいても良い。
【００７９】
他の有機フッ素化合物としては特に限定されないが、例えば、従来から潤滑剤として知られている有機フッ素化合物を使用することができる。
【００８０】
他の有機フッ素化合物の市販品としては、例えば、フォンブリン（登録商標）シリーズ（ソルベイスペシャルティポリマーズ社製）などが挙げられる。
【００８１】
潤滑剤中の本実施形態の有機フッ素化合物の含有量は、より良好な吸着性を発現するために、０．１質量％以上であることが好ましく、１質量％以上であることがより好ましく、１０質量％以上であることが特に好ましい。
【００８２】
本実施形態の潤滑剤は、必要に応じて、溶媒に溶解または分散媒に分散させて、溶液または分散液とした後、磁気ディスク等の磁気記録媒体の表面に塗布して使用することができる。
【００８３】
潤滑剤（の溶液または分散液）の塗布方法としては、特に限定されないが、例えば、スピンコート法、ディップ法などを用いることができる。
【００８４】
ディップ法を用いて磁気記録媒体の表面に潤滑剤（の溶液または分散液）を塗布する場合、例えば、ディップコート装置の浸漬槽に入れられた潤滑剤（の溶液または分散液）中に磁気記録媒体を浸漬した後、浸漬槽から磁気記録媒体を所定の速度で引き上げる。
【００８５】
潤滑剤の溶液または分散液中の本実施形態の有機フッ素化合物の含有量は、０．００５質量％以上であることが好ましい。
【００８６】
ここで、前述したように、本実施形態の潤滑剤（の溶液または分散液）を塗布した後、紫外線を照射することが好ましい。これにより、窒化処理が施されていない保護層上に、十分な厚さの潤滑剤層を形成することができ、かつ、潤滑剤層のボンディドレシオを高めることができる。
【実施例】
【００８７】
以下に、本発明を実施例に基づいて具体的に説明する。なお、本発明は、実施例のみに限定されるものではない。【００８８】
（１Ｈ−ＮＭＲ）
試料（約１０ｍｇ〜３０ｍｇ）をＣＤＣｌ３／ヘキサフルオロベンゼン混合溶媒（約０．５ｍＬ）に溶解させ、直径５ｍｍのＮＭＲ試料管に入れた後、フーリエ変換核磁気共鳴装置ＪＮＭ−ＥＸ２７０（日本電子社製）を用いて、室温で、１Ｈ−ＮＭＲスペクトルを測定した。このとき、ＣＤＣｌ３／ヘキサフルオロベンゼン混合溶媒に、基準物質として、テトラメチルシランを添加した。【００８９】
（実施例１）
本実施形態の有機フッ素化合物を下記合成例に従って合成した。【００９０】
（合成例１）
化合物１（Ｃ１）および化合物２（Ｃ２）の合成：［反応式（７）］
数平均分子量（Ｍｎ）約１３００の有機フッ素化合物フォンブリンＺｄｏｌ（ソルベイスペシャルティポリマーズ社製）（３．９ｇ、３ｍｍｏｌ）、ヨウ化銅（Ｉ）（７２ｍｇ、０．３８ｍｍｏｌ）、２−シクロヘキサノンカルボン酸エチル（０．１２ｇ、０．７１ｍｍｏｌ）、４−アリルヨードベンゼン（０．６２ｇ、２．６ｍｍｏｌ）を混合した後、攪拌しながら、炭酸セシウム（３．７ｇ、１１ｍｍｏｌ）を加え、１００℃で１８時間攪拌した。次に、反応混合物を希塩酸（２０ｍＬ）とフッ素系溶媒ＡＫ−２２５（旭硝子社製）（２０ｍＬ）で分液した後、水層をフッ素系溶媒ＡＫ−２２５（旭硝子社製）（２０ｍＬ）で二度抽出した。次に、有機層を水洗した後、硫酸マグネシウムを加えて乾燥させ、濾過した。次に、濾液をロータリーエバポレーターで濃縮することで、粗生成物（４．５ｇ）を橙褐色油状物質として得た。次に、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル（９：１〜５：１））で精製することで、化合物２（Ｃ２）を無色油状物質（０．９６ｇ、０．６８ｍｍｏｌ、収率２２％）として得た。【００９１】
【化４】
0006603440.tif 000005
（ただし、ｐ及びｑは平均重合度であり、Ｒｆ１中の（ＣＦ２Ｏ）と（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）との順序は任意である。）
無色油状物質は、１Ｈ−ＮＭＲスペクトルのピークより、化合物２であることが確認された。【００９２】
（化合物２）
１Ｈ−ＮＭＲスペクトルのピーク  δ［ｐｐｍ］：２．０１（ｓ、１Ｈ）、３．３４（ｄ、２Ｈ）、３．９３（ｂｒ、２Ｈ）、４．３１（ｂｒ、２Ｈ）、５．０２−５．０８（ｍ、２Ｈ）、５．８７−６．０２（ｍ、１Ｈ）、６．８６（ｄ、２Ｈ）、７．１３（ｄ、２Ｈ）。【００９３】
（合成例２）
化合物３（Ｃ３）の合成：［反応式（８）］
合成例１で得た化合物２（０．３２ｇ、０．２３ｍｍｏｌ）、ピリジン（３６ｍｇ、０．４６ｍｍｏｌ）を、ジクロロメタン（２５ｍＬ）に加えた後、トリフルオロメタンスルホン酸無水物（８６ｍｇ、０．３０ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（５ｍＬ）溶液を滴下し、室温で１５時間攪拌した。次に、反応混合物を純水（３０ｍＬ）と飽和炭酸ナトリウム水溶液（３０ｍＬ）で一度ずつ洗浄した後、有機層を濾過した。次に、濾液をロータリーエバポレーターで濃縮することで、化合物３（Ｃ３）（０．３５ｇ、０．２２ｍｍｏｌ、収率９６％）を無色油状物質として得た。【００９４】
【化５】
0006603440.tif 000006
（ただし、ｐ及びｑは平均重合度であり、Ｒｆ１中の（ＣＦ２Ｏ）と（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）との順序は任意である。）
無色油状物質は、１Ｈ−ＮＭＲスペクトルのピークより、化合物３（Ｃ３）であることが確認された。【００９５】
１Ｈ−ＮＭＲスペクトルのピーク  δ［ｐｐｍ］：３．３４（ｄ、２Ｈ）、４．３１（ｂｒ、２Ｈ）、４．６６（ｂｒ、２Ｈ）、５．０２−５．０８（ｍ、２Ｈ）、５．８６−６．０２（ｍ、１Ｈ）、６．８６（ｄ、２Ｈ）、７．１３（ｄ、２Ｈ）。【００９６】
（合成例３）
化合物４（Ｃ４）の合成：［反応式（９）］
合成例２で得た化合物３（０．３０ｇ、０．１９ｍｍｏｌ）、２，４，６−トリヒドロキシベンズアルデヒド（１２ｍｇ、７８μｍｏｌ）を、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１５ｍＬ）に加えた後、炭酸セシウム（８８ｍｇ、０．２７ｍｍｏｌ）を加え、７０℃で１６時間攪拌した。次に、反応混合物を室温まで冷却し、ロータリーエバポレーターで濃縮した後、純水（２０ｍＬ）とフッ素系溶媒ＡＫ−２２５（旭硝子社製）（２０ｍＬ）を用いて分液した。次に、水層をフッ素系溶媒ＡＫ−２２５（旭硝子社製）（２０ｍＬ）で二度抽出した。次に、有機層を水洗し、硫酸マグネシウムを加えて乾燥させた後、濾過した。次に、濾液をロータリーエバポレーターで濃縮することで、赤褐色油状の粗生成物（０．３５ｇ）を得た。次に、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：ヘキサン−酢酸エチル（９：１））で精製することで、化合物４（Ｃ４）を無色油状物質（０．１１ｇ、２５μｍｏｌ、収率３９%）として得た。【００９７】
【化６】
0006603440.tif 000007
（ただし、ｐ及びｑは平均重合度であり、Ｒｆ１中の（ＣＦ２Ｏ）と（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）との順序は任意である。）
無色油状物質は、１Ｈ−ＮＭＲスペクトルのピークより、化合物４（Ｃ４）であることが確認された。【００９８】
１Ｈ−ＮＭＲスペクトルのピーク  δ（ｐｐｍ）：３．３４（ｄ、６Ｈ）、４．２８−４．４６（ｍ、１２Ｈ）、５．００−５．０８（ｍ、６Ｈ）、５．８８−６．０１（ｍ、３Ｈ）、６．８２−６．９１（ｍ、６Ｈ）、７．１７−７．２２（ｍ、６Ｈ）、１０．３４（ｓ、１Ｈ）。【００９９】
（合成例４）
化合物５（Ｃ５）の合成：［反応式（１０）］
合成例４で得た化合物４（０．１１ｇ、２５μｍｏｌ）、Ｎ−メチルグリシン（１５ｍｇ、０．１７ｍｍｏｌ）を、ヘキサフルオロテトラクロロブタン（６ｍＬ）に加えた後、Ｃ６０フラーレン（１１ｍｇ、１５μｍｏｌ）のｏ−ジクロロベンゼン（１２ｍＬ）溶液を速やかに加えた。次に、ジムロート冷却管を取り付けた後、１８０℃に設定した湯浴で加熱し、３時間攪拌しながら還流した。次に、反応混合物を室温まで冷却した後、ロータリーエバポレーターで濃縮した。次に、適量のテトラデカフルオロヘキサンに溶解させた後、濾過した。次に、濾液をロータリーエバポレーターで濃縮することで、黒色油状の粗生成物（０．１９ｇ）を得た。【０１００】
次に、入口および出口を有するステンレス鋼製の圧力容器（内径２０ｍｍ×深さ２００ｍｍ）に、粗生成物を入れた後、圧力容器内の温度を６０℃に保ちながら、超臨界相クロマトグラフィーポンプＰＵ２０８６−ＣＯ２（日本分光社製）を用いて、超臨界二酸化炭素を液化二酸化炭素換算流量５ｍＬ／分で圧力容器に送液した。次に、圧力容器内の圧力を９〜１６ＭＰａの範囲で変化させ、フラーレン骨格上に３個以上のピロリジン環が形成されている副生成物を抽出して除去した。次に、圧力容器内の圧力を２４ＭＰａに上げ、化合物５（Ｃ５）を黒色油状物質３９ｍｇ（収率２７％）として抽出した。なお、この条件で、フラーレン骨格上に１個のピロリジン環が形成されている化合物は抽出されなかった。【０１０１】
【化７】
0006603440.tif 000008
（ただし、ｐ及びｑは平均重合度であり、Ｒｆ１中の（ＣＦ２Ｏ）と（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）との順序は任意である。）
黒色油状物質は、Ｈ−ＮＭＲスペクトルのピークより、化合物５であることが確認された。【０１０２】
１Ｈ−ＮＭＲスペクトルのピーク  δ（ｐｐｍ）：２．７２（ｂｒｓ、６Ｈ）、３．３１（ｂｒｄ、１２Ｈ）、４．３０（ｂｒ、１２Ｈ）、４．４４（ｂｒ、１２Ｈ）、４．９９−５．０８（ｍ、１２Ｈ）、５．８８−６．０３（ｍ、６Ｈ）、６．９０（ｂｒ、１２Ｈ）、７．１５（ｂｒ、１２Ｈ）。【０１０３】
（実施例２）
Ａｒガス雰囲気中で、カーボンをターゲットとして用いた高周波マグネトロンスパッタ法により、磁気ディスク用２．５インチガラスプランク上にＤＬＣ（Ｄｉａｍｏｎｄ−Ｌｉｋｅ  Ｃａｒｂｏｎ）からなる保護層を形成し、模擬ディスクを作製した。【０１０４】
ここで、模擬ディスクの保護層中の窒素原子の含有量は、走査型Ｘ線光電子分光分析装置（ＸＰＳ／ＥＳＣＡ）ＰＨＩ  Ｑｕａｎｔｅｒａ  ＩＩTM（アルバック・ファイ社製）を用いて測定し、保護層中の窒素原子の含有量が１原子％であることが保証されている模擬ディスクのみを用いた。【０１０５】
次に、潤滑剤としての、化合物５をＰＦ−５０６０（テトラデカフルオロヘキサン）（スリーエム社製）に溶解させ、０．０１質量％の潤滑剤溶液を調製した。【０１０６】
次に、ディップ法を用いて、模擬ディスクの保護層上に潤滑剤溶液を塗布した。すなわち、ディップコート装置の浸漬槽に入れられた潤滑剤溶液中に、模擬ディスクを浸漬した後、浸漬槽から模擬ディスクを引き上げることにより、潤滑剤溶液を模擬ディスクの保護層上に塗布した。次に、潤滑剤溶液の塗布された表面を乾燥させた後、低圧水銀灯ＥＵＶ２００ＵＳ−Ａ２（ＳＥＮ特殊光源社製）を用いて、波長が１８５ｎｍおよび２５４ｎｍの紫外線を２秒間照射し、潤滑剤層を形成した。【０１０７】
（潤滑剤層の平均厚さ）
フーリエ変換赤外分光装置Ｎｉｃｏｌｅｔ  ｉＳ５０（Ｔｈｅｒｍｏ  Ｆｉｓｈｅｒ  Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ社製）を用いて、高感度反射法により、赤外吸収スペクトルのＣ−Ｆ結合の伸縮振動エネルギーに相当する吸収ピークの強度を測定し、潤滑剤層の平均厚さを求めた。このとき、潤滑剤層の厚さを４点測定し、その平均値を平均厚さとした。【０１０８】
（潤滑剤層のボンディドレシオ）
潤滑剤層の平均厚さを測定した模擬ディスクを、バートレル（登録商標）ＸＦ（１，１，１，２，３，４，４，５，５，５−デカフルオロペンタン）（三井デュポンフロロケミカル社製）を入れた浸漬槽中に１０分間浸漬した後、模擬ディスクを引き上げることにより、模擬ディスクの保護層に定着していない潤滑剤を洗い流した。次に、模擬ディスクを乾燥させた後、上記と同様にして、潤滑剤層の平均厚さを求めた。【０１０９】
上記の処理前後の潤滑剤層の平均厚さの比をボンディドレシオとした。【０１１０】
（比較例１）
化合物５に代えて、数平均分子量（Ｍｎ）約２０００の有機フッ素化合物フォンブリンＺｔｅｔｒａｏｌ（ソルベイスペシャルティポリマーズ社製）（化学式（４）参照）を用いたこと以外は、実施例２と同様にして、潤滑剤層の平均厚さおよびボンディドレシオを評価した。【０１１１】
（比較例２）
化合物５に代えて、化学式【０１１２】
【化８】
0006603440.tif 000009
（ただし、ｐ及びｑは平均重合度であり、Ｒｆ１中の（ＣＦ２Ｏ）と（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）との順序は任意である。）
で表される化合物１３（Ｃ１３）を用いたこと以外は、実施例２と同様にして、潤滑剤層の平均厚さおよびボンディドレシオを評価した。【０１１３】
なお、化合物１３は、数平均分子量（Ｍｎ）約１３００の有機フッ素化合物フォンブリンＺｄｏｌ（ソルベイスペシャルティポリマーズ社製）（化学式（３）参照）および臭化アリルから、ＳＮ２反応を用いて合成した。【０１１４】
（比較例３）
化合物５に代えて、化学式【０１１５】
【化９】
0006603440.tif 000010
（ただし、ｐ及びｑは平均重合度であり、Ｒｆ１中の（ＣＦ２Ｏ）と（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）との順序は任意である。）
で表される化合物１４（Ｃ１４）を用いたこと以外は、実施例２と同様にして、潤滑剤層の平均厚さおよびボンディドレシオを評価した。【０１１６】
なお、化合物１４は、数平均分子量（Ｍｎ）約１３００の有機フッ素化合物フォンブリンＺｄｏｌ（ソルベイスペシャルティポリマーズ社製）（化学式（３）参照）およびヨードベンゼンから、合成例１と同様の方法を用いて合成した。【０１１７】
表１に、潤滑剤層の平均厚さおよびボンディドレシオの評価結果を示す。【０１１８】
【表１】
0006603440.tif 000011
表１から、実施例２で用いた化合物５は、窒化処理が施されていない保護層上に、十分な厚さの潤滑剤層を形成することが可能であり、かつ、潤滑剤層のボンディドレシオを高めることが可能であることがわかる。このとき、アルケニル基またはアルキニル基を有する化合物に紫外線を照射することにより、潤滑剤層の定着を促進していると考えられる。【０１１９】
これに対して、比較例１および２で用いた化学式（４）で表される化合物および化合物１３は、分子中に芳香環を有さないため、窒化処理が施されていない保護層上に、十分な厚さの潤滑剤層を形成することができない。【０１２０】
なお、比較例１と比較例２の潤滑剤層のボンディドレシオから、アリル基を有する化合物１３に紫外線を照射することにより、潤滑剤層の定着を促進していることが示唆される。【０１２１】
比較例３で用いた化合物１４は、アルケニル基またはアルキニル基がフェニル基に直接結合していないため、潤滑剤層のボンディドレシオが低い値となる。【０１２２】
この結果は、実施例２で用いた化合物５に含まれる、芳香環上にアルケニル基またはアルキニル基が直接結合しているアリール基を含む分子構造の、窒化処理が施されていない保護層への吸着、および、紫外線を照射することによる潤滑剤層の定着に対する効果を示すものである。
【産業上の利用可能性】
【０１２３】
本実施形態の有機フッ素化合物は、窒化処理が施されていない保護層を有する基板に対し、ディップ法により十分な厚さの潤滑剤層を形成することが可能であり、かつ、潤滑剤層に紫外線を照射することによって、潤滑剤層の定着を促進し、その結果、潤滑剤層のボンディドレシオを高めることが可能である。【０１２４】
本国際出願は、２０１７年６月３０日に出願された日本国特許出願２０１７−１２８５６７号に基づく優先権を主張するものであり、日本国特許出願２０１７−１２８５６７号の全内容を本国際出願に援用する。