(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
投影露光装置（１）のための光学構成要素（２３）であって、
１．１．多数の可変位置決め可能ビーム案内要素（２４）、
１．２．少なくとも１つの機械的案内デバイス（３２）、及び
１．３．前記ビーム案内要素（２４）のうちの少なくとも１つを各々位置決めするために前記案内デバイス（３２）によって案内される少なくとも１つの変位可能位置決め要素（２５）、
を含み、
１．４．法線方向（３５）であって、該法線方向（３５）に対して垂直な平面における該法線方向（３５）に沿った垂直投影の場合の前記案内デバイス（３２）の像が、予め決められた円形リング区域と交差しないような法線方向（３５）があり、
１．５．少なくとも１つのビーム案内要素（２４）が、各位置決め要素（２５）に各々割り当てられ、該ビーム案内要素は、該位置決め要素（２５）を用いて可変位置決め可能であり、かつ
１．６．前記ビーム案内要素（２４）は、少なくとも１つの反射位置内にこの反射位置内の該ビーム案内要素（２４）のうちの１つのものの像が前記法線方向（３５）に沿った垂直投影の場合に前記予め決められた円形リング区域と各々少なくとも部分的に重なるように各々変位可能である、
光学構成要素（２３）。
【請求項２】
前記ビーム案内要素（２４）は、調節可能な向きを有し、
前記ビーム案内要素（２４）のうちの１つの反射面（４４）に対する法線と前記法線方向（３５）の間の最大角が、それぞれ最大で３０°である、
ことを特徴とする請求項１に記載の光学構成要素（２３）。
【請求項３】
前記少なくとも１つの案内デバイスは、案内レール（３２）を含み、それに沿って前記少なくとも１つの位置決め要素（２５）は摺動可能であることを特徴とする請求項１から請求項２のいずれか１項に記載の光学構成要素（２３）。
【請求項４】
投影露光装置（１）の投影光学ユニット（９）のためのミラーデバイス（２０）であって、
４．１．少なくとも１つの反射面（２２）を有するミラー（Ｍ1；Ｍ2）、及び
４．２．請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の光学構成要素（２３）を含み、
４．３．その反射位置にある前記ビーム案内要素（２４）と前記反射面（２２）の間の最大距離が、法線方向（３５）に最大で３ｃｍである、
ミラーデバイス（２０）。
【請求項５】
前記ビーム案内要素（２４；６７）の全体が、前記法線方向（３５）に沿った垂直投影の場合に合計表面積を有し、前記ミラー（Ｍ1；Ｍ2）の前記反射面（２２）に対する該合計表面積の比が、最大で１：１０であることを特徴とする請求項４に記載のミラーデバイス（２０）。
【請求項６】
前記ビーム案内要素（２４；６７）は、アクチュエータ系によって前記反射面（２２）に接続されることを特徴とする請求項４及び請求項５のいずれかに記載のミラーデバイス（２０）。
【請求項７】
投影露光装置（１）のための照明光学ユニット（４）であって、
７．１．少なくとも１つのファセットミラー（１８）、及び、
７．２．請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の光学構成要素（２３）を含む、
照明光学ユニット（４）。
【請求項８】
投影露光装置（１）のための照明系（２）であって、
請求項７に記載の照明光学ユニット（４）と、
放射線源（３）と、
を含む照明系（２）。
【請求項９】
投影露光装置（１）のための投影光学ユニット（９）であって、
請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の光学構成要素（２３）を含む、
投影光学ユニット（９）。
【請求項１０】
前記光学要素（２３）は、瞳の近くに配置されることを特徴とする請求項９に記載の投影光学ユニット（９）。
【請求項１１】
投影露光装置（１）のための光学系（２７）であって、
１１．１．物体視野（５）へのビーム経路に沿って照明放射線（１４）を伝達するための照明光学ユニット（４）、
１１．２．前記物体視野（５）を像視野（１０）内に結像するための投影光学ユニット（９）、
を含み、
１１．３．光学系（２７）が、請求項４から請求項６のいずれか１項に記載のミラーデバイス（２０）を含み、
１１．４．ビーム案内要素（２４；６７）が、前記照明光学ユニット（４）のビーム経路に配置され、かつ
１１．５．反射面（２２）が、前記投影光学ユニット（９）の前記ビーム経路に配置される、
光学系（２７）。
【請求項１２】
１２．１．請求項１１に記載の光学系（２７）、及び
１２．２．放射線源（３）、
を含む投影露光装置（１）。
【請求項１３】
微細構造化又はナノ構造化構成要素を生成する方法であって、
レチクル（７）を与える段階と、
感光コーティングを有するウェーハ（１２）を与える段階と、
請求項１２に記載の投影露光装置（１）を用いて前記レチクル（７）の少なくとも一部分を前記ウェーハ（１２）の上に投影する段階と、
前記ウェーハ（１２）上に前記露光された感光コーティングを現像する段階と、
を含む方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
ドイツ特許出願ＤＥ  １０  ２０１４  ２０４  ８１８．４の内容が、引用によって本明細書に組み込まれている。
【０００２】
本発明は、投影露光装置のための光学構成要素に関する。本発明は、更に、投影光学ユニットのためのミラーデバイス及びミラーに関する。本発明は、更に、投影露光装置のための照明光学ユニット、照明系、及び投影光学ユニットと、光学系と、投影露光装置とに関する。最後に、本発明は、微細構造化又はナノ構造化構成要素を生成する方法、及びそのような構成要素に関する。
【背景技術】
【０００３】
小さい主光線角度でレチクルを照明するためのミラーは、例えば、ＤＥ  １０  ２０１０  ０４１  ６２３  Ａ１から公知である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】ＤＥ  １０  ２０１４  ２０４  ８１８．４
【特許文献２】ＤＥ  １０  ２０１０  ０４１  ６２３  Ａ１
【特許文献３】ＤＥ  １０  ２０１１  ０８６  ３４５  Ａ１
【特許文献４】ＵＳ  ６，８５９，５１５  Ｂ２
【特許文献５】ＷＯ  ２０１０／０４９  ０７６  Ａ１
【特許文献６】ＤＥ  ４１  ３３  １０８  Ａ１
【特許文献７】ＵＳ  ２００６／０２３２８６７
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、投影露光装置、特にＥＵＶ投影露光装置のための光学構成要素、ミラー、及びミラーデバイスを改善することである。
【０００６】
特に、この目的は、小さい主光線角度による照明の場合に、特に垂直照明の場合にレチクルの結像が改善されるような光学構成要素を開発することにある。垂直照明は、０°の主光線角度（ＣＲＡ）に対応する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上述の目的は、請求項１に記載の光学構成要素によって達成される。それは、更に、そのような構成要素を含むミラーデバイスにより、かつミラー本体とミラー本体上に配置することができる少なくとも１つのビーム案内要素とを含むミラーデバイスによって達成される。それは、更に、その合計反射面が変更可能実施形態を有するミラーによって達成される。
【０００８】
本発明の核心部は、案内デバイスを用いて案内方式で変位可能である位置決め要素を用いて各場合に可変的に位置決め可能であるような多数のビーム案内要素を含む光学構成要素を開発することからなる。特に、ビーム案内要素は、少なくとも１つの反射位置の中にこの反射位置内のビーム案内要素の像が法線方向に沿った垂直投影の場合に予め決められた円形リング区域と少なくとも部分的に重なり、特に完全に重なるように各々変位可能である。
【０００９】
好ましくは、案内デバイスは、それが、少なくとも小さい主光線角度で予め決められた円形リング区域の遮蔽を招くことのないように具現化される。円形リング区域はまた、円形区域、すなわち、内部半径がゼロに等しい円形リング区域とすることができる。特に、円形区域は、ミラーの反射面により、又はそのような反射面の周りの周囲によって設けることができる。
【００１０】
ビーム案内要素は、特にファセット要素を形成し、特に、それらは、ファセットミラーのファセットを形成する。下記では、これらのビーム案内要素をファセット要素とも呼ぶ。特に、光学構成要素は、瞳ファセットミラーの構成成分を形成することができる。光学構成要素は、特に瞳ファセットミラー、特に調節可能瞳ファセットミラーを形成する。ビーム案内要素の可変位置決め機能の結果として、それらの多数の異なる配置、すなわち、多数の照明設定が、それが大きい口径食を招くことなく可能である。その結果、投影露光装置の結像品質が改善される。
【００１１】
ビーム案内要素は、特にミラー又は格子状要素、特に回折格子である。特に、これらのビーム案内要素は、ビーム偏向をもたらす光学要素である。
【００１２】
ビーム案内要素は、多角形実施形態、特に矩形実施形態、特に正方形実施形態、三角形実施形態、又は六角形実施形態を有することができる。それらはまた、丸形、特に円形実施形態を有することができる。
【００１３】
それらの各々は、０．１ｍｍ2から１００ｍｍ2の範囲、特に４ｍｍ2から２５ｍｍ2の範囲のビーム案内面、特に反射面を有する。特に、ビーム案内面は、予め決められた円形リング区域よりも実質的に小さい。特に、それは、各場合に予め決められた円形リング区域の最大で１／１００、特に最大で１／１０００、特に最大で１／１０，０００である。
【００１４】
本発明の態様により、ビーム案内要素の個数は、１個から２００個の範囲、特に１５個から１５０個の範囲、特に２０個から１００個の範囲にある。
【００１５】
特に、ビーム案内要素は、ＥＵＶミラー又はＥＵＶ格子、すなわち、ＥＵＶ放射線を反射又は回折するための要素とすることができる。格子の場合に、これは、特にいわゆるブレーズド格子とすることができる。
【００１６】
ビーム案内要素の各々は、マイクロ電気機械システム（ＭＥＭＳ）として具現化することができる。特に、それらは、多数のマイクロミラーを含むことができる。ビーム案内要素毎のマイクロミラーの個数は、特に１個から１０００個の範囲、特に２個から５００個の範囲、特に４個から３００個の範囲、特に９個から１５０個の範囲にある。それらは、平面又は曲面実施形態を有することができる。
【００１７】
正確に１つのビーム案内要素を各場合に各位置決め要素に割り当てることが可能である。１よりも多いビーム案内要素、特に少なくとも２つ、特に少なくとも３つ、特に少なくとも４つのビーム案内要素を位置決め要素の一部又は全てに割り当てることも可能である。位置決め要素毎のビーム案内要素の個数も、変化する可能性がある。特に、他の位置決め要素が、２、３、又は４以上のビーム案内要素に割り当てられた状態で、単一ビーム案内要素を各場合に位置決め要素のうちの一部の上に配置することが可能である。
【００１８】
ビーム案内要素は、それぞれ割り当てられた位置決め要素に固定的に接続することができる。それは、生産を簡単にする。しかし、それらはまた、位置決め要素に調節可能方式、特に変位可能方式で接続することができる。それは、ビーム案内要素の配置に高い柔軟性をもたらす。特に、ビーム案内要素は、それぞれの位置決め要素に変位可能方式、特に回転可能及び／又は旋回可能な方式で配置することができる。特に、それらは、アクチュエータ系によって変位可能な方式で、特に回転可能及び／又は旋回可能な方式でそれぞれの位置決め要素に配置することができる。
【００１９】
特に、２つのビーム案内要素が各場合に光学構成要素の中心軸に関して点対称方式で配置されるようにビーム案内要素を配置することが可能である。特に、各場合に単一共通位置決め要素をこれらの２つの要素に割り当てることが可能である。特に、中心軸は、法線方向に位置合わせするか、又はこの方向を定めることができる。特に、中心軸は、機械的案内デバイス、特に光学構成要素の対称軸とすることができる。
【００２０】
特に、案内デバイスは、案内レールとして具現化される。特に、それは、キャリッジがその上で案内方式で変位可能であるランナーとして具現化される。キャリッジは、案内デバイスの構成成分とすることができる。それはまた、各場合に位置決め要素の構成成分とすることができる。位置決め要素はまた、案内デバイス上、特に案内レール上の固定位置に配置することができる。特に、それは、それが案内デバイスのタンジェンシャル方向に案内デバイスに対して静止するように案内デバイスに接続することができる。この場合に、それは、好ましくは、案内デバイスのタンジェンシャル方向を横切って変位可能であり、及び／又は案内デバイスに対して旋回可能な方式で案内デバイスに接続することができる。
【００２１】
特に、レールは、プロファイルド実施形態を有する。その結果、キャリッジ、特に位置決め要素の位置決めの安定性及び／又は精度を改善することができる。特に、レールは、円形断面を持たない。
【００２２】
レールは、単一平面内を延びることができる。それはまた、非平面、すなわち、３次元実施形態を有することができる。特に、それは、ローラーコースター状の実施形態を有することができる。その結果、ビーム案内要素との位置決め要素の配置に関して更なる自由度を達成することができる。特に、レールは、各場合にレール断面の最大直径の少なくとも２倍ほども大きい辺長を有する最小直方体スリーブを有することができる。
【００２３】
案内デバイスは、１又は２以上の案内レールを含むことができる。特に、それは、少なくとも１つの外側案内レールと少なくとも１つの内側案内レールとを含むことができる。ここで、外側案内レールは、予め決められた円形リング区域の外側に配置される。ここで、内側案内レールは、予め決められた円形リング区域の内部に配置される。特に、内側案内レールは、中心掩蔽部を有する投影光学ユニットと共に提供される。特に、円形リング区域は、光学構成要素を配置することが意図される領域内にある投影光学ユニットのミラーの寸法によって与えることができる。この場合に、特に、案内デバイスは、それが投影露光装置の作動中にミラーの掩蔽部をもたらすことのないように具現化かつ配置される。
【００２４】
案内レールは、円形実施形態を有することができる。それらは、互いに対して同心状に配置することができる。
【００２５】
特に、案内レールは、寸法的に安定した実施形態を有する。特に、それらは、金属で製造することができる。それらは、冷却デバイスを用いて冷却することができる。
【００２６】
本発明の一例示的実施形態により、案内レールは、全体的に変位可能、特に回転可能及び／又は交換可能であるように具現化されるように提供される。
【００２７】
好ましくは、位置決め要素は、ロッド形状実施形態を有する。特に、それは、ポインターとして具現化される。特に、それはまた、ポインターと呼ばれる。
【００２８】
一般的に、位置決め要素がそれに対して配置された投影光学ユニットの別の光学構成要素、特に投影光学ユニットのミラーにそれによって機械的に接続される機械構成要素は、この位置決め要素のための案内デバイスを形成する。
【００２９】
特に、それは、少なくとも３：１、特に少なくとも５：１、特に少なくとも１０：１のアスペクト比を有する。特に、それは、小さい断面を有する。これは、それが極めて僅かな遮蔽しか引き起こさないことを保証する。特に、位置決め要素の断面は、１ｃｍ2よりも小さく、特に１ｍｍ2よりも小さいとすることができる。それは、特に法線方向に対して垂直な方向に５ｍｍよりも小さく、特に２ｍｍよりも小さく、特に１ｍｍよりも小さい幅を有する。
【００３０】
特に、位置決め要素は、寸法的に安定した実施形態を有する。それは、プロファイルド断面を有することができる。その結果、その剛性を高めることができる。特に、それは、Ｈ字形、Ｔ字形、又はＯ字形の断面を有することができる。
【００３１】
特に、位置決め要素は、法線方向の投影の場合に、それが最大でもビーム案内要素のうちの１つの面積と同じ大きさの面積のみを有するように具現化される。特に、法線方向の投影の場合の位置決め要素の面積は、関連のビーム案内要素の面積よりも小さい。特に、それは、関連のビーム案内要素の面積のサイズの最大で０．５倍のサイズ、特に最大で０．２倍のサイズ、特に最大で０．１倍のサイズである。
【００３２】
位置決め要素は、本発明の一態様に従って起動可能である。特に、それは、案内デバイスに対して変位可能、特に摺動可能である。特に、それは、キャリッジを用いて摺動可能であることができる。特に、ビーム案内要素のうちの少なくとも１つは、位置決め要素を用いてそれぞれ変位可能、特に摺動可能、特に法線方向に対して垂直な方向に摺動可能である。
【００３３】
位置決め要素は、本発明の更に別の態様に従って旋回可能である。特に、それは、案内デバイスに対して旋回可能である。それは、法線方向に対して垂直な平面内で旋回可能であることができる。それはまた、法線方向に対して傾いたか又は垂直な軸の周りに旋回可能であることができる。それはまた、１よりも多い旋回自由度を有することができる。
【００３４】
位置決め要素は、本発明の更に別の態様に従って長さ調節可能である。特に、それは、案内デバイスに対して半径方向に調節可能、特に摺動可能であることができる。位置決め要素は、案内デバイスにそれに対してタンジェンシャル方向に固定的に接続することができる。
【００３５】
各場合に位置決め要素は、本発明の更に別の態様により、各自由度に対して１つのアクチュエータを有する。
【００３６】
本発明の更に別の態様により、ビーム案内要素は、ビーム案内要素が円形リング区域に対して少なくとも部分的に重なり、特に完全に重なる方式で配置される厳密に１つ又は少なくとも１つのオン位置に関連位置決め要素を用いて各場合に位置決め可能である。各場合におけるこれらの仕様は、法線方向に沿った垂直投影に関連する。
【００３７】
本発明の更に別の態様により、ビーム案内要素は、それぞれ割り当てられたビーム案内要素が円形リング区域の外側又は内側に、特に重ならずに完全に配置される厳密に１つ又は少なくとも１つのオフ位置に関連位置決め要素を用いて各場合に位置決め可能である。このリングが、特に光軸に関してこの光学構成要素と同じレベルにおける投影光学ユニット内の照明放射線のフットプリント、すなわち、レチクルをウェーハ上に結像するのに使用される照明放射線が伝播する領域を表すように選択される限り、これは、ビーム案内要素が、この領域の外側でオフ位置に配置され、従って、掩蔽又は口径食をもたらすことはないことを意味する。
【００３８】
本発明の更に別の態様により、位置決め要素は、少なくとも１つの自由度、特に全ての自由度において連続的に調節可能である。それに対する代替として、この位置決め要素は、１又は２以上、特に全ての自由度において離散した予め決められた位置のみを取ることができる。
【００３９】
本発明の更に別の態様により、ビーム案内要素は、関連位置決め要素を用いて、少なくとも１ｍｍ、特に少なくとも３００μｍ、特に少なくとも１００μｍ、特に少なくとも３０μｍ、特に少なくとも１０μｍの精度で各場合に位置決め可能である。
【００４０】
位置決め要素は、全て同じ長さを有することができる。これらの位置決め要素はまた、異なる長さを有することができる。特に、これらの位置決め要素は、２、３、４、５、又は６以上の異なる長さのオプションを有することができる。
【００４１】
特に、案内デバイス上に配置された位置決め要素は、予め決められた順序の異なる長さ、特に交替する長さを有することができる。
【００４２】
位置決め要素は、本発明の一態様に従って個々に調節可能である。これらの位置決め要素はまた、対又は群で調節可能とすることができる。特に、これらの位置決め要素は、互いに独立に調節可能とすることができる。
【００４３】
案内デバイス及び位置決め要素の上述の実施形態、及び／又は位置決め要素におけるビーム案内要素の上述の配置は、予め決められたリング形状領域内におけるビーム案内要素の非常に柔軟な位置決めを可能にする。特に、光学構成要素は、柔軟に調節可能な分画ミラーを形成する。特に、それは、分画反射面、すなわち、非接続反射面を有する調節可能ミラーを形成する。
【００４４】
ビーム案内要素の調節機能は、制御可能、特に調整可能とすることができる。特に、それは、投影露光装置の作動中に変更可能、特に制御可能、特に調整可能である。
【００４５】
特に、ビーム案内要素は、少なくとも１つ、特に少なくとも２つの位置決め自由度、すなわち、案内デバイスに対するビーム案内要素の位置決めに関する自由度を有する。
【００４６】
ビーム案内要素は、本発明の更に別の態様に従って調節可能な向きを有する。特に、それらは、各予め決められた位置決めにおいて回転可能及び／又は旋回可能である。それらの各々は、少なくとも１つ、特に少なくとも２つの対応する自由度、特に回転自由度又は並進自由度を有する。従って、ビーム案内要素のビーム案内効果は、異なる位置決めに適応可能である。
【００４７】
特に、ビーム案内要素は、少なくとも１つ、特に少なくとも２つの方位自由度、すなわち、これらのビーム案内要素の法線方向に対する向きに関する自由度を有する。
【００４８】
特に、ビーム案内要素の向きは、投影露光装置の作動中にこれらのビーム案内要素がその上に入射するビームを物体視野平面の物体視野に伝達するように各場合に調節可能である。そのような向きを有するビーム案内要素の配置により、レチクルを照明するための放射線角度分布、すなわち、照明設定が予め決定される。
【００４９】
投影光学ユニットのための本発明によるミラーデバイスは、少なくとも１つの反射面、特に厳密に１つの反射面、特に閉じた、すなわち、単純に接続された反射面を有するミラーと、以上の説明による光学構成要素とを含む。
【００５０】
本発明によるミラーデバイスは、少なくとも１つの反射面、特に閉じた、すなわち、単純に接続された反射面を有するミラーと、このミラー上に配置可能な少なくとも１つのビーム案内要素とを含むことができる。ビーム案内要素は、特に反射面に対して変更可能に位置決め可能、特に変位可能、特に摺動可能又は移動可能である。それは、アクチュエータ系によって反射面に接続することができ、かつこの反射面に対して変位可能であることができる。
【００５１】
本発明の一態様により、ビーム案内要素は、特に、ミラーの反射面に機械的に接続されたアクチュエータ系を有する。
【００５２】
特に、ミラーは、投影光学ユニットの構成成分として機能する。特に、それは、投影光学ユニットのビーム経路内で最初のミラーＭ1又は２番目のミラーＭ2を形成することができる。ここで、投影光学ユニットのミラーは、レチクルから進んで投影光学ユニットのビーム経路に沿って数えられる。
【００５３】
特に、光学構成要素は、そのビーム案内要素がミラーの反射面に対して非接触方式で配置されるようにミラーに対して配置される。特に、ビーム案内要素は、ミラーの反射面から小さい距離の場所に配置可能である。１つ又は複数の反射位置、特に全ての反射位置内のビーム案内要素とミラーの反射面の間の距離は、特に最大で１０ｃｍ、特に最大で３ｃｍ、特に最大で１ｃｍ、特に最大で３ｍｍ、特に最大で１ｍｍである。ここで、距離は、特にミラーの反射面の法線方向の距離を表している。
【００５４】
ビーム案内要素とミラーの反射面の間の小さい距離により、遮蔽効果を低減することができる。
【００５５】
特に、ビーム案内要素は、交換可能とすることができる。この交換は、特に、ミラー本体上に配置可能なビーム案内要素の実施形態において可能である。
【００５６】
ミラー本体上に配置可能なビーム案内要素は、瞳ファセットを形成することができる。
【００５７】
ビーム案内要素は、本発明の一態様に従ってミラーに固定可能である。特に、それらは、保持要素を有することができ、これは、保持デバイス内にそれに装着されたミラーで係合することができる。特に、これらの保持要素は、ミラー本体内の孔の中に挿入、特に挟着することができる突起、特にロッド状突起を有することができる。言い換えれば、ロッド形突起は、保持ピンを形成する。保持ピンは、弾力性実施形態を有することができる。
【００５８】
本発明の更に別の態様により、配置可能ビーム案内要素は、ミラーに磁気的に固定させることができる。特に、永久磁石をミラーの後側、すなわち、ミラーの反射面と反対の側に配置することができ、この磁石を用いて配置可能ビーム案内要素は、反射面上に添付可能である。
【００５９】
特に、ビーム案内要素は、ミラーの反射面上に配置可能である。
【００６０】
特に、ミラーの後側の磁石は、ミラー本体に固定的に接続される。これらの磁石は、摺動可能及び／又は交換可能とすることができる。
【００６１】
特に、配置可能ビーム案内要素は、ビーム案内面、特に、上記で記述した光学構成要素のビーム案内要素の面に対応する反射面を有する。
【００６２】
本発明の更に別の態様により、法線方向に沿った垂直投影の場合のビーム案内要素の全体は、ミラーの反射面に対する比が最大で１：１０、特に最大で１：３０、特に最大で１：１００、特に最大で１：３００、特に最大で１：１０００である面積を有する。ミラーの反射面に対するビーム案内要素の全体の面積の比を充填係数とも呼ぶ。この仕様は、特に反射位置に置かれたビーム案内要素の全体に関連する。この場合に、法線方向に沿った垂直投影の場合にミラーの反射面と重ならないビーム案内要素を無視することが可能である。
【００６３】
好ましくは、全ての位置決め要素の対応する面積は、ビーム案内要素の全体の面積の最大で半分、特に最大で１／１０、特に最大で１／３０、特に最大で１／１００である。それによって達成することができることは、ビーム案内要素、特に位置決め要素が非常に小さい口径食しか引き起こさないことである。
【００６４】
本発明の更に別の態様は、変更可能な実施形態を有するトポグラフィを有する全体反射面を含む投影露光装置の投影光学ユニットのためのミラーに関する。
【００６５】
特に、全体反射面は、少なくとも領域的に調節可能とすることができる。特に、この全体反射面は、多数の変位可能な個々のミラーから構成することができる。
【００６６】
個々のミラーの各々は、平面反射面を有することができる。それらはまた、曲面反射面を有することができる。特に、個々のミラーが、各々、ミラーの全体反射面の一部分に対応する個々のミラー反射面を有するようにこの全体反射面の形態を予め決定し、個々のミラーを具現化することが可能である。
【００６７】
特に、個々のミラーの各々は、少なくとも１つ、特に少なくとも２つの旋回自由度を有する。特に、個々のミラーの旋回機能は、旋回自由度毎に少なくとも１ｍｒａｄとすることができる。これらの個々のミラーは、少なくとも１つ、特に少なくとも２つの並進自由度を有することができる。特に、個々のミラーの直線変位機能は、少なくとも１０μｍとすることができる。特に、ミラーは、多ミラーアレイ（ＭＭＡ）として具現化することができる。特に、このミラーは、マイクロ電気機械システム（ＭＥＭＳ）として具現化することができる。
【００６８】
そのようなミラーは、投影光学ユニットの柔軟性を高める。
【００６９】
本発明の更に別の態様により、ミラーの全体反射面は、可撓性、特に弾性の実施形態を有することができる。特に、この全体反射面は、可撓性、特に弾性の膜を有する。特に、この全体反射面は、特に行列状スタンプ配置を用いてミラーの後側に配置された変位可能要素を用いて変形させることができる。そのような実施形態の利点は、単純に接続された連続実施形態を有する全体反射面にある。特に、この全体反射面は、回折効果が発生する可能性がある鋭い縁部を持たない。
【００７０】
本発明の更に別の目的は、投影露光装置のための照明光学ユニットを改善することにある。この目的は、以上の説明による光学構成要素を有する少なくとも１つのファセットミラーを含む照明光学ユニットによって達成される。ファセットミラーは、光学構成要素によって形成することができる。特に、光学構成要素は、瞳ファセットミラーを形成することができる。ビーム案内要素の個数は、好ましくは、照明光学ユニットの設けられた照明チャネルの個数に正確に対応する。
【００７１】
本発明の更に別の目的は、投影露光装置のための照明系を改善することにある。この目的は、以上の説明による照明光学ユニットと放射線源とを含む照明系によって達成される。
【００７２】
特に、放射線源は、ＥＵＶ放射線源とすることができる。
【００７３】
本発明の更に別の目的は、投影露光装置のための投影光学ユニットを改善することにある。
【００７４】
この目的は、以上の説明による光学構成要素を有し、及び／又は以上の説明による変更可能反射面を有するミラーデバイスを含む投影光学ユニットによって達成される。
【００７５】
本発明の一態様により、投影光学ユニットは、多数の変位可能な個々のミラーから形成されたミラーを含む。特に、ミラーはＭＭＡである。特に、このミラーはＭＥＭＳ−ＭＭＡとすることができる。
【００７６】
本発明の一態様により、光学構成要素は、瞳の近くに配置される。特に、この光学構成要素は、ビーム案内要素が瞳平面の領域に配置されるか又は配置可能であるように配置される。曲面瞳面の場合に、光学構成要素のビーム案内要素は、特にこの面の領域に配置される。この場合に、Ｄ（ＳＡ）が、面のサブアパーチャの直径であり、Ｄ（ＣＲ）が、この面上の基準平面内で測定されたレンズによって結像される有効物体視野の主光線の最大距離を表す時に、Ｄ（ＣＲ）＜０．１（Ｄ（ＳＡ）＋Ｄ（ＣＲ））である場合に、面は、瞳の近くにあると呼ばれる。
【００７７】
本発明の更に別の目的は、光学系及び投影露光装置を改善することにある。これらの目的は、以上の説明による照明光学ユニット又は投影光学ユニットを含む光学系及び投影露光装置によって達成される。
【００７８】
その利点は、照明光学ユニット又は投影光学ユニットのものから明らかである。特に、ウェーハ上へのレチクルの結像は、特に低減された口径食に起因して改善された光高品質の結果として改善することになる。
【００７９】
本発明の一態様により、光学系は、以上の説明によるミラーデバイスを含み、ビーム案内要素は、照明光学ユニットのビーム経路内、すなわち、レチクルが配置された物体視野の上流に配置され、それに対してミラーの反射面は、投影光学ユニットのビーム経路内、すなわち、物体視野と像視野の間のビーム経路に配置される。
【００８０】
従って、ミラーデバイスは、第１に照明光学ユニットの構成成分を第２に投影光学ユニットの構成成分を形成する。
【００８１】
この光学系を使用することにより、特に、大きい物体側開口数（ＮＡＯ）及び小さい主光線角度（ＣＲＡ）でレチクルを照明することができる。特にＣＲＡ≦ａｒｃｓｉｎ（ＮＡＯ）、特にＣＲＡ≦ａｒｃｓｉｎ（ＮＡＯ）が成り立つ。この場合に、好ましくは、ＣＲＡ≦６°、特にＣＲＡ≦３°、特にＣＲＡ≦２°、特にＣＲＡ≦１°、特にＣＲＡ＝０°が成り立つ。特に、物体側開口数（ＮＡＯ）は、少なくとも０．４５、特に少なくとも０．５、特に少なくとも０．６、特に少なくとも０．７である。光学系は、最大で８：１、特に最大で６：１、好ましくは、最大で４：１の縮小率を有する。
【００８２】
本発明の更に別の目的は、微細構造化又はナノ構造化構成要素を生成する方法、及びそれによって生成される構成要素を改善することである。本発明により、これらの目的は、以上の説明による投影露光装置を微細構造化又はナノ構造化構成要素を生成するために使用することによって達成される。その利点は、投影露光装置のものから明らかである。
【００８３】
本発明の更に別の利点及び詳細は、図面を参照する例示的実施形態の説明から明らかである。
【図面の簡単な説明】
【００８４】
【図１】ＥＵＶ投影露光装置の構成要素の概略図である。
【図２ａ】小さい主光線角度での照明の場合のレチクルの領域内のビーム経路の概略図である。
【図２ｂ】小さい主光線角度での照明の場合のレチクルの領域内のビーム経路の概略図である。
【図３】調節可能に配置された個々のミラーを有する光学構成要素を含むミラーデバイスの概略図である。
【図４】図３に記載のミラーデバイスの法線方向に沿って見た平面図である。
【図５】図３及び図４に記載のミラーデバイスの線Ｖ−Ｖに沿った略断面図である。
【図６】図５に記載のセクションＶＩの詳細図である。
【図７】更に別のミラーデバイスの図４に則した平面図である。
【図８】図７に記載のミラーデバイスの線ＶＩＩＩ−ＶＩＩＩに沿った略断面図である。
【図９】更に別のミラーデバイスの平面図である。
【図１０】図９に記載のミラーデバイスの線Ｘ−Ｘに沿った略断面図である。
【図１１】更に別のミラーデバイスの平面図である。
【図１２】図１１に記載のミラーデバイスの線ＸＩＩ−ＸＩＩに沿った略断面図である。
【図１３】ミラーの向きを調節するためのデバイスの概略図である。
【図１４】光学構成要素のミラーの向きを調節するための更に別のデバイスの概略図である。
【図１５】調節可能ミラーを有する更に別のミラーデバイスの概略図である。
【図１６】図１５に記載のミラーデバイスのＸＶＩ−ＸＶＩに沿った略断面図である。
【図１７】投影露光装置のビーム経路内のミラーデバイスの配置の概略図である。
【図１８】投影露光装置のビーム経路内のミラーデバイスの代替配置の概略図である。
【図１９】全ての可能な瞳ファセット位置及び与えられた四重極設定に実際に必要とされる領域の概略図である。
【図２０】少なめの個数の瞳スポットを有する図１９に対応する概略図である。
【図２１】更に別のミラーデバイスの概略図である。
【図２２ａ】図２１に記載のミラーデバイスの線ＸＸＩＩ−ＸＸＩＩに沿った略断面図である。
【図２２ｂ】図２１に記載のミラーデバイスの変形の線ＸＸＩＩ−ＸＸＩＩに沿った略断面図である。
【図２３】ビーム案内要素が多ミラー配置（ＭＭＡ）を含む光学構成要素の一部分の概略図である。
【図２４】多ミラー配置（ＭＭＡ）として具現化されたミラーの反射面の概略平面図である。
【図２５】弾力的に変更可能な反射面を有するミラーを通る略断面図である。
【図２６】更に別のミラーデバイスの一部分を通る略断面図である。
【図２７】更に別のミラーデバイスの一部分を通る略断面図である。
【図２８】異なる照明設定を設定するための異なる配置にある更に別のミラーデバイスの概略図である。
【図２９】異なる照明設定を設定するための異なる配置にある更に別のミラーデバイスの概略図である。
【図３０】異なる照明設定を設定するための異なる配置にある更に別のミラーデバイスの概略図である。
【図３１】更に別のミラーデバイスの概略図である。
【図３２】更に別のミラーデバイスの概略図である。
【図３３】ミラー本体上に配置することができるファセット要素を有するミラーデバイスの一部分を通る略断面図である。
【図３４】ミラー本体上に配置することができるファセット要素を有する更に別のミラーデバイスの概略図である。
【図３５】瞳ファセットの向きの許容範囲を補償する方法を説明するために第１のファセット要素からレチクルまでのビーム経路を示す概略図である。
【図３６】可変位置決め可能ファセット要素を有する更に別のミラーデバイスの概略図である。
【図３７】可変位置決め可能ファセット要素を有する更に別のミラーデバイスの一部分の概略図である。
【図３８】可変位置決め可能ファセット要素を有する更に別のミラーデバイスの一部分の概略図である。
【図３９ａ】異なる位置にある可変位置決め可能ファセット要素を有する更に別のミラーデバイスの概略図である。
【図３９ｂ】異なる位置にある可変位置決め可能ファセット要素を有する更に別のミラーデバイスの概略図である。
【図３９ｃ】異なる位置にある可変位置決め可能ファセット要素を有する更に別のミラーデバイスの概略図である。
【図３９ｄ】異なる位置にある可変位置決め可能ファセット要素を有する更に別のミラーデバイスの概略図である。
【図４０】可変位置決め可能ファセット要素を有する光学構成要素の一部分の概略図である。
【図４１】互いの上に配置された図４０に記載の光学構成要素の線ＸＬＩａ−ＸＬＩａ及び線ＸＬＩｂ−ＸＬＩｂに沿った２つの概略断面図である。
【図４２】図２６に記載のミラーデバイスの変形の概略図である。
【図４３ａ】異なる設定のための図４２に記載のミラーデバイスの概略図である。
【図４３ｂ】異なる設定のための図４２に記載のミラーデバイスの概略図である。
【図４４ａ】ミラー本体の通過開口部内のミラー要素の様々な挿入位置を解説するための概略図である。
【図４４ｂ】ミラー本体の通過開口部内のミラー要素の様々な挿入位置を解説するための概略図である。
【図４４ｃ】ミラー本体の通過開口部内のミラー要素の様々な挿入位置を解説するための概略図である。
【図４５ａ】通過開口部が回転可能に装着された板を用いて変更可能に閉鎖可能であるミラーデバイスの更に別の変形の概略図である。
【図４５ｂ】通過開口部が回転可能に装着された板を用いて変更可能に閉鎖可能であるミラーデバイスの更に別の変形の概略図である。
【図４６】図４５ａ及び図４５ｂに記載の板の平面図である。
【図４７ａ】変更可能に閉鎖可能な通過開口部を有するミラーデバイスの更に別の変形の概略図である。
【図４７ｂ】変更可能に閉鎖可能な通過開口部を有するミラーデバイスの更に別の変形の概略図である。
【図４８】閉鎖目的で直線移動が与えられる変更可能に閉鎖可能な通過開口部を有するミラーデバイスの更に別の変形の図である。
【図４９ａ】通過開口部を閉鎖するために旋回移動が与えられる変更可能に閉鎖可能である通過開口部を含むミラーデバイスの更に別の変形の図である。
【図４９ｂ】通過開口部を閉鎖するために旋回移動が与えられる変更可能に閉鎖可能である通過開口部を含むミラーデバイスの更に別の変形の図である。
【図５０】通過開口部を閉鎖するために異なる形態のアクチュエータ系及び／又は異なる運動学が与えられた変更可能に閉鎖可能な通過開口部を有するミラーデバイスの更に別の変形の図である。
【図５１】通過開口部を閉鎖するために異なる形態のアクチュエータ系及び／又は異なる運動学が与えられた変更可能に閉鎖可能な通過開口部を有するミラーデバイスの更に別の変形の図である。
【図５２】通過開口部を閉鎖するために異なる形態のアクチュエータ系及び／又は異なる運動学が与えられた変更可能に閉鎖可能な通過開口部を有するミラーデバイスの更に別の変形の図である。
【図５３】通過開口部を閉鎖するために異なる形態のアクチュエータ系及び／又は異なる運動学が与えられた変更可能に閉鎖可能な通過開口部を有するミラーデバイスの更に別の変形の図である。
【図５４】通過開口部を閉鎖するために異なる形態のアクチュエータ系及び／又は異なる運動学が与えられた変更可能に閉鎖可能な通過開口部を有するミラーデバイスの更に別の変形の図である。
【図５５】通過開口部を閉鎖するために異なる形態のアクチュエータ系及び／又は異なる運動学が与えられた変更可能に閉鎖可能な通過開口部を有するミラーデバイスの更に別の変形の図である。
【図５６】通過開口部を閉鎖するために異なる形態のアクチュエータ系及び／又は異なる運動学が与えられた変更可能に閉鎖可能な通過開口部を有するミラーデバイスの更に別の変形の図である。
【図５７】通過開口部を閉鎖するために異なる形態のアクチュエータ系及び／又は異なる運動学が与えられた変更可能に閉鎖可能な通過開口部を有するミラーデバイスの更に別の変形の図である。
【図５８】通過開口部を閉鎖するために異なる形態のアクチュエータ系及び／又は異なる運動学が与えられた変更可能に閉鎖可能な通過開口部を有するミラーデバイスの更に別の変形の図である。
【図５９】通過開口部を閉鎖するために異なる形態のアクチュエータ系及び／又は異なる運動学が与えられた変更可能に閉鎖可能な通過開口部を有するミラーデバイスの更に別の変形の図である。
【図６０】通過開口部を閉鎖するために異なる形態のアクチュエータ系及び／又は異なる運動学が与えられた変更可能に閉鎖可能な通過開口部を有するミラーデバイスの更に別の変形の図である。
【図６１】通過開口部を閉鎖するために異なる形態のアクチュエータ系及び／又は異なる運動学が与えられた変更可能に閉鎖可能な通過開口部を有するミラーデバイスの更に別の変形の図である。
【図６２】通過開口部を閉鎖するために異なる形態のアクチュエータ系及び／又は異なる運動学が与えられた変更可能に閉鎖可能な通過開口部を有するミラーデバイスの更に別の変形の図である。
【図６３】通過開口部を閉鎖するために異なる形態のアクチュエータ系及び／又は異なる運動学が与えられた変更可能に閉鎖可能な通過開口部を有するミラーデバイスの更に別の変形の図である。
【図６４】通過開口部を閉鎖するために異なる形態のアクチュエータ系及び／又は異なる運動学が与えられた変更可能に閉鎖可能な通過開口部を有するミラーデバイスの更に別の変形の図である。
【図６５】通過開口部を閉鎖するために異なる形態のアクチュエータ系及び／又は異なる運動学が与えられた変更可能に閉鎖可能な通過開口部を有するミラーデバイスの更に別の変形の図である。
【図６６】通過開口部を閉鎖するために異なる形態のアクチュエータ系及び／又は異なる運動学が与えられた変更可能に閉鎖可能な通過開口部を有するミラーデバイスの更に別の変形の図である。
【図６７】通過開口部を閉鎖するために異なる形態のアクチュエータ系及び／又は異なる運動学が与えられた変更可能に閉鎖可能な通過開口部を有するミラーデバイスの更に別の変形の図である。
【図６８】通過開口部を閉鎖するために異なる形態のアクチュエータ系及び／又は異なる運動学が与えられた変更可能に閉鎖可能な通過開口部を有するミラーデバイスの更に別の変形の図である。
【図６９】通過開口部を閉鎖するために異なる形態のアクチュエータ系及び／又は異なる運動学が与えられた変更可能に閉鎖可能な通過開口部を有するミラーデバイスの更に別の変形の図である。
【図７０】通過開口部を閉鎖するために異なる形態のアクチュエータ系及び／又は異なる運動学が与えられた変更可能に閉鎖可能な通過開口部を有するミラーデバイスの更に別の変形の図である。
【発明を実施するための形態】
【００８５】
図１は、マイクロリソグラフィのための投影露光装置１の構成要素を子午断面図に略示している。投影露光装置１の照明系２は、放射線源３に加えて、物体平面６の物体視野５の露光のための照明光学ユニット４を含む。この場合に、レチクルホルダ８（この図ではセクション的にしか描示していない）によって保持され、物体視野５に配置されたレチクル７が露光される。
【００８６】
投影光学ユニット９は、物体視野５を像平面１１の像視野１０に結像するためなどに機能する。この図ではまた、略示しかしていないウェーハホルダ１３によって保持され、像平面１１の像視野１０の領域に配置されたウェーハ１２の感光層上にレチクル７上の構造が結像される。
【００８７】
投影露光装置１の詳細に関しては、本出願の構成成分として本明細書に統合されているＤＥ  １０  ２０１０  ０４１  ６２３  Ａ１及びＤＥ  １０  ２０１１  ０８６  ３４５  Ａ１を更に参照されたい。
【００８８】
本発明による光学系２７は、照明光学ユニット４と投影光学ユニット９とを含む。本発明による光学系２７は、下記でより詳細に説明するミラーデバイス２０を有する。
【００８９】
放射線源３は、特に、ＥＵＶ放射線の形態で照明放射線１４を放出するＥＵＶ放射線源である。放射線源３の放出使用放射線の波長は、特に５ｎｍから３０ｎｍの範囲にある。リソグラフィにおいて用途が見出され、適切な光源が利用可能な他の波長も可能である。
【００９０】
放射線源３は、プラズマ光源、例えば、ＤＰＰ光源又はＬＰＰ光源とすることができる。放射線源３としてシンクロトロンを利用する放射線源を使用することができる。当業者は、そのような放射線源に関する情報を例えばＵＳ  ６，８５９，５１５  Ｂ２に見出すことができる。放射線源３からの照明放射線１４をフォーカスするために、コレクター１５が設けられる。
【００９１】
照明光学ユニット４は、多数の視野ファセット１７を有する視野ファセットミラー１６を含む。視野ファセットミラー１６は、物体平面６に対して光学的に共役な照明光学ユニット４の平面に配置される。ＥＵＶ放射線１４は、視野ファセットミラー１６から照明光学ユニット４の瞳ファセットミラー１８に反射される。瞳ファセットミラー１８は、複数の瞳ファセット１９を有する。瞳ファセットミラー１８を用いて、視野ファセットミラー１６の視野ファセット１７が物体視野５に結像される。
【００９２】
瞳ファセットミラー１８上には、視野ファセットミラー１６内の各視野ファセット１７に対して少なくとも１つの関連の瞳ファセット１９が存在する。それぞれ１つの視野ファセット１７とそれぞれ１つの瞳ファセット１９の間に光チャネル又は放射線チャネルが形成される。ファセットミラー１６、１８のうちの少なくとも一方のファセット１７、１９は、切換可能実施形態を有することができる。特に、これらのファセットは、ファセットミラー１６、１８上に傾斜可能方式で配置することができる。この場合に、ファセット１７、１９のうちの一部、例えば、最大で３０％、５０％、又は最大で７０％だけを傾斜可能方式で具現化することができる。全てのファセット１７、１９が傾斜可能実施形態を有することを可能とすることができる。特に、切換可能ファセット１７、１９は、視野ファセット１７である。視野ファセット１７を傾斜させることにより、それぞれの瞳ファセット１９への視野ファセット１７の割り当て、従って、光チャネルの構成、特に特定の照明設定の設定を変更することができる。この場合に、照明放射線１４による入射を受ける瞳ファセット１９の特定の配置を照明設定と呼ぶ。
【００９３】
特に、投影露光装置１を作動させる時に、異なる半径を有する円形照明設定、異なる内側境界半径及び外側境界半径を有する環状照明設定、ｘ−二重極設定、ｙ−二重極設定、その他の向きを有する二重極設定、及び異なる向きを有するクエーサー照明設定である照明設定の選択が問題になる。
【００９４】
傾斜可能ファセット１７、１９を有するファセットミラー１６、１８及び照明光学ユニット４に関する更なる詳細に関しては、本出願の構成成分として本明細書に完全に統合されているＷＯ  ２０１０／０４９  ０７６  Ａ１を参照されたい。
【００９５】
照明光学ユニット４及び投影光学ユニット９内の照明放射線１４のビーム経路、並びに特に視野ファセットミラー１６及び瞳ファセットミラー１８の構造的配置は、図１から推察することはできない。
【００９６】
レチクルホルダ８は、投影露光中にレチクル７を物体平面６内で変位方向に変位させることができるように制御される方式で変位可能である。従って、ウェーハホルダ１３は、ウェーハ１２が像平面１１内で変位方向に変位可能であるように制御される方式で変位可能である。その結果、レチクル７及びウェーハ１２は、物体視野５及び像視野１０それぞれを通して走査することができる。変位方向を走査方向とも呼ぶ。レチクル７及びウェーハ１２の走査方向の移動は、好ましくは、相互同期方式に実施することができる。
【００９７】
投影光学ユニット９は、図１には明示的に描示していない複数の投影ミラーＭiを含む。特に、投影光学ユニット９は、少なくとも３つ、特に少なくとも５つの投影ミラーＭ１からＭ５を含む。特に、この投影光学ユニットは、少なくとも６つ、７つ、又は８つの投影ミラーＭ１からＭ８を有することができる。
【００９８】
投影露光装置１の使用中に、レチクル７と、照明光１４に対して感光性を有するコーティングを担持するウェーハ１２とが与えられる。それに続いて、レチクル７の少なくとも１つの部分がウェーハ１２上に投影露光装置１を用いて投影される。
【００９９】
上述のように、レチクル７及びウェーハ１２は、露光目的でそれぞれ物体視野５及び像視野１０を通して走査される。最後に、照明放射線１４で露光されたウェーハ１２上の感光層が現像される。このようにして微細構造化又はナノ構造化構成要素、特に半導体チップが生成される。
【０１００】
露光中に、レチクル７は、主光線角度（ＣＲＡ）のＥＵＶ放射線１４が最大で６°、特に最大で３°、特に最大で１°、特に０°の入射角の下でレチクル７上に入射するように照明放射線１４によって照明される。ここで、入射角は、レチクル７を照明するように機能する放射線ビームの主光線とレチクル７上の法線の間の角度として定められる。特に、主光線の入射角は、物体側開口数（ＮＡＯ）の逆正弦よりも小さく、ＣＲＡ＜ａｒｃｓｉｎ（ＮＡＯ）。特に、物体側開口数（ＮＡＯ）は、少なくとも０．０７５、特に少なくとも０．１、特に少なくとも０．１５、特に少なくとも０．２である。
【０１０１】
図２ａ及び図２ｂに例示的に描示するように、小さい主光線角度でのレチクルの照明の場合に、照明光学ユニット４のビーム経路が投影光学ユニット９のビーム経路と重なる領域がもたらされる。特に、照明光学ユニット４のビーム経路と投影光学ユニット９のビーム経路とは、投影光学ユニット９の最初のミラーＭ1の領域及び／又は２番目のミラーＭ2の領域内で重なることができる。この理由から、照明放射線１４を通す目的で、投影光学ユニット９のミラーＭ1及び／又はミラーＭ2に、放射線透過領域２６（図２ａ）又は特に偏向ミラー又は回折格子の形態にあるビーム偏向要素２８（図２ｂ）を設けることができるようにすることができる。
【０１０２】
投影光学ユニット９のビーム経路の観点からすると、放射線透過領域２６及び放射線偏向要素２８は、ミラーＭ1及び／又はＭ2の掩蔽部を形成する。従って、これらのミラーＭ1及び／又はＭ2を断片化された掩蔽部を有するミラーとも呼ぶ。照明放射線１４が、レチクル７での反射の後にウェーハ１２に至るまでの経路上でそのような掩蔽部に遭遇した場合に、この照明放射線１４はもはやウェーハ１２の露光に寄与せず、代わりに失われる。
【０１０３】
下記でより詳細に説明する光学構成要素２３及び／又はミラーデバイス２０を使用すると、そのような損失にも関わらず、安定したリソグラフィ工程が可能であることを保証することが可能である。不要な掩蔽部を低減することにより、特に損失が低減され、特にそれを最小にすることができる。また、特定の回折次数が、損失なくレチクル７のウェーハ１２上への結像に寄与することを保証することが可能である。
【０１０４】
従来技術では、ミラーＭ1及び／又はＭ2の掩蔽部をもたらすのは、使用される瞳充填度、すなわち、これらのミラーＭ1及びＭ2ために使用される瞳ファセットスポットよりも、切り換え度、すなわち、視野ファセット１７の可能な切り換え位置の個数及び上述の結像目的でこれらのミラーＭ1及びＭ2上に設けられるが用いらない瞳ファセットスポットの個数であることが明らかになっている。これを図１９及び図２０で例示的に解説する。これらの図の各々は、ミラーの一方Ｍ1又はＭ2の反射面２２の平面図を例示的に描示しており、図１９は、当該ミラーの領域における全ての可能な瞳スポット３０、すなわち、全ての可能な瞳ファセット１９の位置の全体像を描示しており、例示的な設定において実際に使用される領域３１、すなわち、照明放射線１４による入射を受ける領域をプロットしている。
【０１０５】
実際に使用される領域３１のみが照明放射線１４を通すのに使用され、すなわち、この領域３１だけに放射線透過領域２６又は放射線偏向要素２８が設けられる場合に、ミラーＭ1又はＭ2における掩蔽部の個数、従って、照明放射線１４の損失、特に回折次数の損失を大きく低減することができることが認識されている。
【０１０６】
図２０は、より少ない個数の瞳スポット３０の場合に関する対応する状況を描示している。上述の場合のように、例示的な設定において実際に使用される瞳スポット３０は、使用領域３１として特徴付けられる。
【０１０７】
本発明の一態様は、投影露光装置１の作動中に不要な掩蔽部の個数を低減する、特に最小にすることにある。
【０１０８】
一般的に、この目的は、可変実施形態を有する掩蔽部によって達成される。放射線透過領域２６の場合に、これらの掩蔽部は、起動による放射線反射領域であるように製造することができる。放射線偏向要素２８の場合に、これらの掩蔽部は、特に、可変位置決め可能及び／又は向き設定可能な実施形態を有することができる。
【０１０９】
下記では、これらのオプションの異なる変形を例示的に説明する。
【０１１０】
図３から図５に描示する変形により、瞳ファセット１９は、特に個々のミラー２４の形態にある可変位置決め可能ファセット要素として具現化されるように提供される。一般的に、ファセット要素は、放射線偏向要素又はビーム案内要素として具現化される。個々のミラー２４の代わりに、格子要素、特に回折格子、特にいわゆるブレーズド格子を設けることができる。簡略化の理由から、下記ではファセット要素又は個々のミラー２４だけに言及する。
【０１１１】
特に、個々のミラー２４の各々は、丸形、特に円形の実施形態を有する。これらの個々のミラーは、１ｍｍから２０ｍｍの範囲、特に２ｍｍから１５ｍｍの範囲、特に３ｍｍから１０ｍｍ、好ましくは、４ｍｍから８ｍｍの範囲にある直線寸法、特に直径を有する。原理的には、個々のミラー２４は、特に多角形方式で、例えば、三角形、正方形、又は六角形の実施形態でコーナを有することも可能である。更に、原理的には、個々のミラー２４は、楕円形方式又は２つの直交軸に沿って異なる２つの広がりを有する異なる方式で具現化することができる。これらの方式は、特に、投影光学ユニット９の入射瞳の境界が円形ではない場合に有利とすることができる。特に、２つの直交軸に沿う広がりは、少なくとも１．１：１、特に少なくとも１．２：１、特に少なくとも１．３：１、特に少なくとも１．５：１、特に少なくとも２：１の比を有することができる。
【０１１２】
個々のミラー２４は、光学構成要素２３の構成成分として具現化される。特に、光学構成要素２３は、照明光学ユニット４のファセットミラー、特に瞳ファセットミラー１８として機能する。特に、この光学構成要素は瞳ファセットミラー１８を形成する。光学構成要素２３は、ミラーＭ1又はＭ2に、特にミラーＭ1又はＭ2のミラー本体２１に対するホルダ３６に機械的に接続される。光学構成要素２３は、ホルダ３６に交換可能方式で接続することができる。
【０１１３】
ミラーＭ1及びＭ2は、各々、反射面２２を有する。通常、反射面２２は曲面である。この反射面は、凸又は凹の湾曲を有する実施形態を有することができる。この反射面は、球面又は非球面の実施形態を有することができる。また、この反射面は、自由曲面として具現化することができる。原理的には、この反射面が平面実施形態を有することも可能である。
【０１１４】
ミラーＭ1又はＭ2、特にミラー本体２１は、光学構成要素２３と共にミラーデバイス２０を形成する。
【０１１５】
ミラーデバイス２０の反射面２２は、特に投影光学ユニット９の構成成分である。個々のミラー２４は、照明光学ユニット４の構成成分を形成する。特にこれらの個々のミラーは瞳ファセット１９を形成する。
【０１１６】
特に、ミラーデバイス２０は、個々のミラー２４が照明光学ユニット４のビーム経路に瞳ファセット１９として配置され、かつ反射面２２が投影光学ユニット９のビーム経路に配置されるように投影光学ユニット９に配置される。
【０１１７】
投影光学ユニット９内のビーム経路の観点からすると、光学構成要素２３の個々のミラー２４は、ミラーデバイス２０の反射面２２の掩蔽部を形成する。従って、ミラーデバイス２０を断片化掩蔽部を有するミラーとも呼ぶ。
【０１１８】
投影光学ユニット９のビーム経路に置かれた個々のミラー２４の全体は、ミラーデバイス２０の反射面２２の最大で３０％、特に最大で２０％、特に最大で１０％を構成する全体面を有する。
【０１１９】
特に、ミラーデバイス２０は、個々のミラー２４が照明の瞳平面の領域に配置されるように照明光学ユニット４のビーム経路に配置することができる。ミラーデバイス２０は、特に、レチクル７の共心発散照明の場合にそのような手法で配置することができる。それによって照明瞳が物体視野５にわたって変化しないことを保証する。ミラーデバイス２０は、投影光学ユニット９の瞳平面の領域に配置することができる。このミラーデバイスは、投影光学ユニット９の瞳平面の領域の外側、特に投影光学ユニット９の瞳平面から離れた場所に配置することができる。この場合に、特に、Ｄ（ＳＡ）が個々のミラー２４の領域内のサブアパーチャの直径であり、Ｄ（ＣＲ）が、個々のミラー２４の領域内の基準平面内で測定されたレンズによって結像される有効物体視野の主光線の最大距離を表す時に、Ｄ（ＣＲ）／（Ｄ（ＳＡ）＋Ｄ（ＣＲ））＜０．１が成り立つ。
【０１２０】
光学構成要素２３は、機械的案内デバイスを含む。機械的案内デバイスは、ランナー３２として具現化される。特に、この機械的案内デバイスは、ランナー３２を含む。特に、この機械的案内デバイスは、少なくとも１つのランナー３２を含む。また、この機械的案内デバイスは、１よりも多い、特に２つ、特に少なくとも２つ、特に３又は４以上のランナー３２を含むことができる。
【０１２１】
ランナー３２は、法線３５に対して垂直な平面内を延びる。
【０１２２】
ランナー３２は閉じた形態を有する。特に、このランナーは、リング形状実施形態を有する。特に、このランナーは、円形リング形実施形態を有する。特に、ランナー３２は、反射面２２の外側半径ｒoよりも大きい内側半径ｒiを有する。他の形態も同じく可能であり、有利であるとすることができる。このランナーを３次元非平面方式で具現化することも同じく有利である場合がある。これは、ランナー３２が法線３５の方向に成分を有する実施形態を意味すると理解しなければならない。
【０１２３】
ランナー３２は、プロファイルド実施形態を有する。特に、このランナーは、双台形又は双Σ形の断面を有する。このランナーは、Ｈ字形又はＴ字形の断面を有することができる。また、このランナーは、多角形断面を有することができる。特に、このランナーは、円形断面を持たない。
【０１２４】
ランナー３２上にはキャリッジ３３が配置される。キャリッジ３３とランナー３２の間の低摩擦接触の目的で、これらの間にボール３４を配置することができる。特に、ボール３４は、ボールベアリングを形成する。
【０１２５】
好ましい実施形態において、キャリッジ３３は、ランナー３２上に接触なく配置される。一例として、この配置は、キャリッジ３３内及びランナー３２内への磁気要素の適切な配置によって達成することができる。
【０１２６】
更に別の変形（この図には描示していない）では、キャリッジ３３は、歯付きレールとして具現化されたランナー３２上でギアドライブを用いて変位可能なものとすることができる。
【０１２７】
キャリッジ３３は、ランナー３２に沿って変位可能である。特に、このキャリッジは、アクチュエータ系によって変位可能である。キャリッジ３３を変位させる目的で、特に圧電モータ、特に圧電超音波モータを有するステッパモータを設けることができる。ステッパモータは、片側でランナー３２に係合する。従って、ランナー３２を摩擦レールとも呼ぶ。キャリッジ３３の駆動に関する更なる詳細に関しては、ＤＥ  ４１  ３３  １０８  Ａ１を参照されたい。
【０１２８】
キャリッジ３３は、３ｃｍよりも小さく、特に２ｃｍよりも小さく、特に１ｃｍよりも短い最大寸法を有することができる。
【０１２９】
キャリッジ３３は、ランナー３２に沿って５００ｍｍ／ｓまでの速度で変位させることができる。更に、このキャリッジは、ランナー３２上に精密で安定した様式で静止方式で保持することができる。
【０１３０】
個々のキャリッジ３３は、互いに独立に変位可能である。特に、これらのキャリッジは、ランナー３２に沿って互いに独立に変位可能である。これらのキャリッジは、対又は群で変位可能とすることができる。特に、キャリッジ３３のうちのそれぞれ２つは、ランナー３２上の反対位置に配置することができる。これらのキャリッジ３３は、各々同期方式で変位可能とすることができる。
【０１３１】
キャリッジ３３は、ランナー３２上で１ｍｍよりも高い、特に３００μｍよりも高い、特に１００μｍよりも高い精度で位置決め可能である。従って、それぞれ割り当てられる個々のミラー２４も、１ｍｍよりも高い、特に３００μｍよりも高い、特に１００μｍよりも高い精度で位置決め可能である。
【０１３２】
キャリッジ３３には、各場合に位置決め要素２５が配置される。キャリッジ３３は、位置決め要素２５の構成成分を形成することができる。位置決め要素２５は、キャリッジ３３と確実に接続される。一例として、この位置決め要素は、キャリッジ３３内の孔内に挟着することができる。この位置決め要素は、キャリッジ３３上に接着剤接合、半田付け、又は溶接することができる。この位置決め要素は、キャリッジにネジ止めすることができる。位置決め要素２５は、キャリッジ３３に係合方式又は結合方式で接続することができる。特に、この位置決め要素は、キャリッジ３３との一体的実施形態を有することができる。
【０１３３】
位置決め要素２５は、ポインター方式又はポインター状の方式で具現化される。特に、この位置決め要素はロッド状実施形態を有する。特に、この位置決め要素は、長さｌと最大直径ｄの断面とを有する。位置決め要素２５の最大直径ｄに対する長さｌの比を位置決め要素２５のアスペクト比と呼ぶ。位置決め要素２５のアスペクト比ｌ：ｄは、特に少なくとも３：１、特に少なくとも５：１、特に少なくとも１０：１である。
【０１３４】
特にランナー３２によって定められる平面内、特に法線３５に対して垂直な平面内の最大直径ｄは、最大で１ｃｍ、特に最大で３ｍｍ、特に最大で１ｍｍ、特に最大で０．３ｍｍである。
【０１３５】
位置決め要素２５は、各場合にランナー３２上で案内方式で変位可能である。
【０１３６】
個々のミラー２４のそれぞれ１つは、位置決め要素２５の各々のものに割り当てられる。各場合に、個々のミラー２４は、キャリッジ３３と反対の位置決め要素２５の端部に配置される。
【０１３７】
個々のミラー２４は、各場合に位置決め要素２５を用いて位置決め可能、特に可変的に位置決め可能、すなわち、変位可能である。
【０１３８】
個々のミラー２４は、キャリッジ３３及び位置決め要素２５を用いてリング形状領域に位置決め可能である。特に、これらの個々のミラーは、法線３５の方向に沿った平面３８内への垂直投影の場合に個々のミラー２４の像が円形リング形状領域内に収まるように、少なくとも１つの反射位置にそれぞれ位置決め可能である。特に、この像は、予め決められた円形区域又は予め決められた円形リング形状区域の範囲に完全に収まる。
【０１３９】
これらの図は、少数の個々のミラー２４しか描示していない。投影光学ユニット９のビーム経路に配置される個々のミラー２４の全数は、２から４００の範囲、特に４から２００の範囲にある。
【０１４０】
光学構成要素２３は、反射面２２に関して接触なしで配置される。特に、個々のミラー２４と位置決め要素２５とは、反射面２２に関して接触なしで配置される。
【０１４１】
個々のミラー２４は、好ましくは、反射面２２から法線３５の方向に小さい距離のみを有する。特に、個々のミラー２４と反射面２２の間の法線３５の方向の距離は、１０μｍから１０ｃｍの範囲、特に１００μｍから１ｃｍの範囲に収まる。
【０１４２】
個々のミラー２４は、共通平面３８に沿って配置される。これらの個々のミラーは、曲面に沿って配置することができる。特に、これらの個々のミラーは、照明光学ユニット４の瞳面、特に瞳平面に沿って配置される。ここでは、面の平面に沿った配置は、ミラーの反射面上にある少なくとも１つの点、特にその中心点が面のこの平面に収まることを意味することを理解しなければならない。
【０１４３】
ミラーデバイス２０の更に別の変形を図７及び図８を参照して下記で説明する。同一の構成要素は、これにより参照する上記で記述した変形におけるものと同じ参照符号を取っている。
【０１４４】
図７及び図８に記載の変形では、位置決め要素２５は異なる長さｌiを有する。描示する変形では、これらの位置決め要素２５は、短めの長さｌ1と長めの長さｌ2とを交互に有する。
【０１４５】
長さｌiは、２よりも多く、特に３、５、又は６以上の異なる長さｌiから選択することができる。
【０１４６】
位置決め要素２５は、それぞれ関連するキャリッジ３３上に位置決め要素２５の長手方向に沿って調節可能な方式で配置することができる。この場合に、これらの位置決め要素２５は、調節可能な長さｌi、特に調節可能な有効長さｌiを有する。特に、これらの位置決め要素２５は、その長手方向に沿ってアクチュエータ系によって調節可能であるように具現化することができる。
【０１４７】
レチクル７の照明中に、位置決め要素２５の長さｌiを用いて照明角度の分布を修正、特に設定することができる。
【０１４８】
ミラーデバイス２０の更に別の変形を図９及び図１０を参照して下記で説明する。同一部分は、これにより参照する上記で記述した変形におけるものと同じ参照符号を取っている。
【０１４９】
この変形では、機械的案内デバイスは、２つのランナー３２1及び３２2を含む。
【０１５０】
２つのランナー３２は、互いに対して同心状に配置される。これらのランナーは、互いの間の接触なく配置される。これらのランナーは、共通平面に配置することができる。これらのランナーは、法線３５の方向に互いからオフセット配置することができる。
【０１５１】
第１のランナー３２1上に位置決め可能方式で配置される個々のミラー２４は、面の第１の平面３８1に沿って配置される。第２のランナー３２2上に配置されるミラー２４は、面の第２の平面３８2に沿って配置される。平面３８1及び８３2は、法線３５の方向に互いに離して配置される。この配置は、それぞれの位置決め要素２５の適切な実施形態によって達成することができる。この配置は、ランナー３２1及び３２2を法線３５の方向に互いからオフセット配置することによって達成することができる。
【０１５２】
２つのランナー３２1、３２2のうちの特定の一方のものに割り当てられる位置決め要素２５は、各場合に同じ長さｌiを有する。描示する変形では、内側ランナー３２1に割り当てられる位置決め要素２５は、各場合に、外側ランナー３２2に割り当てられる位置決め要素２５よりも短い長さｌ1を有する。外側ランナー３２2に割り当てられる位置決め要素２５は、各々長さｌ2を有し、ｌ1＜ｌ2が成り立つ。
【０１５３】
１よりも多いランナー３２を配置する結果として、個々のミラー２４の位置決めの柔軟性が高まる。
【０１５４】
２よりも多く、特に３、４、又は５以上のランナー３２を設けることができる。
【０１５５】
位置決め要素２５を法線３５の方向にオフセットすることにより、それぞれ割り当てられた個々のミラー２４を互いに独立に配置することができる。
【０１５６】
ミラーデバイス２０の更に別の変形を図１１及び図１２を参照して以下に説明する。同一部分は、これにより参照する上記で記述した変形におけるものと同じ参照符号を取っている。
【０１５７】
この変形では、位置決め要素２５は、更なる自由度、特に更なる位置決め自由度を有する。第１に、これらの位置決め要素２５は、それぞれ割り当てられたキャリッジ３３を用いてランナー３２に沿って変位可能である。第２に、これらの位置決め要素は、旋回軸３９の周りに旋回可能である。特に、これらの位置決め要素は、それぞれのキャリッジ３３上で旋回軸３９の周りに旋回可能な方式で配置される。
【０１５８】
位置決め要素２５の旋回機能によって達成することができることは、個々のミラー２４のうちの１つの同じ位置決めを異なる方法で達成することができることである。特に、これは、この場合の個々のミラー２４の配置が１よりも多い自由度で、特に１よりも多い位置決め自由度で行われることに原点を辿ることができる。この場合に、位置決め自由度の増大は、より高い柔軟性をもたらす。しかし、位置決め自由度の増大は、アクチュエータのより複雑な起動を必要とする。
【０１５９】
旋回軸３９は、法線３５に対して傾けられる。原理的には、この旋回軸は、法線３５と平行に位置合わせすることができる。特に、この旋回軸は、法線３５に対して０°から３０°の範囲、特に２°から１０°の範囲の角度を延びる。特に、この旋回軸の向きは、キャリッジ３３をランナー３２に沿って変位させる時に旋回軸３９が漏斗面にわたって掃引するように向けられる。
【０１６０】
法線３５に対して旋回軸３９を傾斜させることによって達成されることは、ミラー２４を有する位置決め要素２５が、平面３８に対して傾いた平面内で旋回されることである。それによって達成することができることは、個々のミラー２４又は位置決め要素２５が、平面３８、従って、反射面２２からより大きい距離を有する軌道を移動することである。その結果、特に凸面形状の反射面２２の場合に、反射面２２と位置決め要素２５の間の望ましくない接触を防ぐことができる。
【０１６１】
位置決め要素２５は、反射位置決めにおいて、これらの位置決め要素２５が法線３５に対して垂直な平面３８と平行に延びるように配置される。従って、これらの位置決め要素は、旋回軸３９に対して斜めに、すなわち、非垂直に配置される。原理的には、これらの位置決め要素は、旋回軸３９と垂直に配置することができる。
【０１６２】
個々のミラー２４を有する位置決め要素２５を旋回させる目的で、特にモータ、特に電気モータの形態にあるアクチュエータ４０が設けられる。アクチュエータ４０は、キャリッジ３３と確実に接続される。
【０１６３】
位置決め要素２５の旋回機能のための最終位置は、特にストップピンの形態にある機械的ストップ４１によって定められる。ストップ４１は、位置決め要素２５が、ストップ４１によって定められる最終位置で半径方向に、すなわち、ランナー３２と垂直に正確に位置合わせするようにキャリッジ３３上に配置することができる。特に、ストップ４１は、いわゆるオン位置を定める。特に、ストップ４１により、オン位置における個々のミラー２４の位置決めの精度を改善することができる。
【０１６４】
個々のミラー２４は、アクチュエータ４０を用いてオフ位置まで旋回可能である。特に、これは、個々のミラー２４の個々のものが特定の照明設定を設定するのに必要とされない場合であれば有利である。これらの個々のミラーは、オフ位置に旋回させることによって投影光学ユニット９のビーム経路から旋回させて取り出すことができる。言い換えれば、これらの個々のミラーは、オフ位置で投影光学ユニット９の出力の掩蔽を引き起こさない。法線３５の方向に沿った投影の場合に、個々のミラー２４がオフ位置内の時に、その像は、反射面２２の外側、特にランナー３２の外側に位置する。特に、これらの個々のミラーの像は、上述の円区域又は円形リング区域の外側に位置する。
【０１６５】
オフ位置内の個々のミラー２４は、レチクル７を照明することに寄与しないので、オフ位置は、高い精度で設定することができなくてもよい。しかし、キャリッジ３３上のオフ位置を予め決めるための更に別のストップ４２は、依然として配置することができる。その結果、位置決め要素２５の旋回の起動を起動することが簡易化される。
【０１６６】
位置決め要素２５は、少なくとも１つのオン位置と少なくとも１つのオフ位置とを有する。それは、複数のオン位置を有することができる。特に、それは、連続的に旋回可能とすることができる。それは、予め決められた離散旋回位置を用いて旋回可能とすることができる。連続旋回機能は、個々のミラー２４の位置決めの変動性を高める。離散旋回位置を用いた旋回機能により、個々のミラー２４の位置決め精度を改善することができる。
【０１６７】
特定の照明設定に使用されない関連位置決め要素２５を有する個々のミラー２４は、これらが投影光学ユニット９のビーム経路に口径食を起こすことができないように、アクチュエータ４０を用いてオフ位置に折り返して離すことができる。
【０１６８】
個々のミラー２４の位置決め機能の様々な態様を様々な変形に基づく位置決め要素２５を用いて記述したが、これらの態様は、当然ながら必要に応じて互いに組み合わせることができる。特に、旋回可能位置決め要素２５を様々な長さｌiを有するように具現化することが有利である場合がある。
【０１６９】
旋回可能位置決め要素２５を第１のランナー上に配置し、一方、第２のランナー３２上の位置決め要素２５が旋回可能ではないことが有利である場合がある。
【０１７０】
旋回可能位置決め要素２５と旋回不能位置決め要素２５の両方を単一ランナー３２上に配置することが有利である場合がある。
【０１７１】
更に別の組合せも同じく可能である。
【０１７２】
予め決められた照明設定を設定する方法において、個々のミラー２４は、その目的をもたらすのに必要とされる位置に位置決め要素２５を用いて配置される。好ましくは、個々のミラー２４の個数、特に投影光学ユニット９のビーム経路に配置される個々のミラー２４の個数は、設定される瞳スポットの個数に厳密に対応する。位置決めされる個々のミラー２４の個数、特に投影光学ユニット９のビーム経路に位置決めされる個々のミラー２４の個数は、特に視野ファセット１７の個数と厳密に同じくらい大きい。特に、個々のミラー２４の個数は、設定することができる異なる放射線チャネルの合計個数であり、視野ファセット１７の個数にその切り換え位置の個数を乗じたものに対応する個数よりも少ない。特に、この個数は、全ての可能な瞳スポット３０の合計個数よりも少ない。その結果、不要な口径食を低減する、特に、回避することができる。
【０１７３】
好ましくは、特定の照明設定を設定するのに必要とされない個々のミラー２４は、ビーム経路から排除される。
【０１７４】
予め決められた照明設定の場合に、反射面２２上の異なる領域は、レチクル７上に結像される構造に依存する方式でレチクル７からウェーハ１２に向う途中に、すなわち、投影光学ユニット９のビーム経路内の照明放射線１４によって入射を受ける。有利な変形では、位置決め要素２５又は特に未使用の個々のミラー２４のいずれも投影光学ユニット９内のビーム経路を掩蔽しないように未使用の個々のミラー２４及び／又はこれらの個々のミラー２４の位置決め要素２５を配置するために、反射面２２上のどの領域が特定の回折次数による入射を受けるかに関する情報を使用することができる。特に、未使用の個々のミラー２４及び／又はこれらの個々のミラー２４の位置決め要素２５は、予め決められた回折次数が損失なく又は少なくとも最大許容口径食を下回って光学構成要素２３を通過するように配置することができる。特に、未使用の個々のミラー２４及び／又はこれらの個々のミラー２４の位置決め要素２５は、全エネルギに対する口径食を受けるエネルギの成分が、反射面２２の全面積に対する個々のミラー２４及び／又は位置決め要素２５によって口径食を受ける面積の分量の半分よりも小さいように配置することができる。
【０１７５】
特に、個々のミラー２４は、個々のミラー２４による、特に光学構成要素２３による反射面２２の全口径食が最大でも１０％、特に最大で５％、特に最大で３％、特に最大で２％、特に最大で１％であるように投影光学ユニット９のビーム経路に配置することが可能である。
【０１７６】
特に旋回可能位置決め要素２５の場合に、位置決め要素２５の配置は、レチクル７をウェーハ１２上に結像するために、反射面２２のために使用される領域の位置に適応させることができる。特に、位置決め要素２５は、位置決め要素２５の少なくとも一部が半径方向に正確には延びないように配置することが可能である。位置決め要素２５をランナー３２に対して配置することができる角度範囲は、ストップ４１、４２によって制限することができる。基本的には、この角度範囲は、必要に応じて選択することができる。
【０１７７】
光学構成要素２３を異なる長さ及び／又は調節可能な長さの位置決め要素２５を用いて具現化する結果として、変動性、特に特定の照明設定を設定することができる可能性の数を更に増大させることができる。特に、予め決められた照明設定を設定するために実際に使用される個々のミラー２４を有する位置決め要素２５の配置を選択するための最適化方法を提供することができる。特に、異なる可能性の個別の選択から、特にレチクル７上にある結像される構造に依存する方式で実際に使用される配置を選択することができる。結像される構造が既知である場合に、反射面２２の照明、及び従って位置決め要素２５の与えられた配置及び／又は長さでの位置決め要素２５及び／又は個々のミラー２４の効果も、照明瞳から計算することができる。その結果、様々な設定可能性から、有利な特に理想的な設定可能性を選択することができる。
【０１７８】
光学要素２３の個々のミラー２４の配置の更に別の態様を下記で説明する。以下の態様は、必要に応じて個々のミラー２４の位置決め機能の様々な変形と組み合わせることができる。
【０１７９】
上述したように、個々のミラー２４は、照明放射線１４に対する偏向ミラーとして機能する。特に、これらのミラーは、照明光学ユニット４のビーム経路内で照明放射線１４を偏向するように機能する。特に、これらのミラーは、照明放射線１４を視野ファセット１７からレチクル７まで案内するように機能する。照明放射線１４の望ましい偏向を設定する目的のためには、上述のように、個々のミラー２４の配置が何よりも第１に重要である。第２に、個々のミラー２４のビーム案内特性は、これらのミラーのそれぞれの向きに基づくことができる。
【０１８０】
個々のミラー２４は、平面反射面４４を有する。これらのミラーはまた、曲面、特に凸又は凹の反射面４４を有することができる。
【０１８１】
下記では、個々のミラー２４の向きは、各場合にその反射面４４上の法線４３によって特徴付けられる。曲面実施形態を有する個々のミラー２４の場合に、この法線は、反射面４４の中心点での法線４３を意味すると理解しなければならない。
【０１８２】
個々のミラー２４が照明光学ユニット４のファセット要素として機能することができるためには、これらのミラーは、これらのミラーの反射面４４が投影光学ユニット９のミラーＭ1又はＭ2の反射面２２のそれぞれ近い領域に対してそれぞれ傾斜して配置されるように配置しなければならない。簡易的には、この傾斜配置は、個々のミラー２４が反射面２２に対する傾斜方式で、すなわち、この面に対する非平行方式で配置されることによって表される。
【０１８３】
この時点で、ビーム案内効果、特にビーム偏向効果は、回折により、すなわち、格子要素を用いて、特にいわゆるブレーズド格子を用いて、又は一般的には回折光学要素（ＤＯＥ）を用いて達成することができることを思い出さなければならない。この場合にも、これらの要素の向きは、好ましい方向により、特に格子平面上の法線によって特徴付けることができる。
【０１８４】
個々のミラー２４の向きを調節するための様々な可能性を下記で説明する。
【０１８５】
個々のミラー２４は、好ましくは、調節可能な向きを有する。個々のミラー２４のうちの少なくとも個々のものが予め決められた固定的な向きを有する状態で、個々のミラー２４のうちの個々のものだけを調節可能な向きを有するように具現化することができる。個々のミラー２４の全てを調節可能な向きを有するように具現化することができる。
【０１８６】
個々のミラー２４の異なる向きに対して、関連位置決め要素２５を有する異なる個々のミラー２４を各場合に設けることができる。個々のミラー２４の向きの調節機能は、これらのミラーの全数を低減することを可能にするが、異なる向きに対して異なる個々のミラー２４が設けられる変形では多数の個々のミラー２４が必要である。典型的な照明設定を設定するには、この個数のうちで最大でも半分、特に最大でも２５％、特に最大でも１０％しか実際には使用されない。しかし、この代替案では、個々のミラー２４の担持の構造実施形態、特に位置決め要素２５におけるこれらのミラーの配置がより単純である。
【０１８７】
特に、個々のミラー２４は、そのビーム案内効果が異なる位置決めに、特にランナー３２に対する、従ってレチクル７に対する異なる位置決めに適応可能であるように具現化される。
【０１８８】
特に、個々のミラー２４は、各々、少なくとも１つの方位自由度を有する。これらのミラーは、１よりも多い方位自由度を有することができる。特に、個々のミラー２４は、これらのミラーの法線４３に対して旋回される回転軸の周りに回転可能な方式で、又はこれらのミラーの法線４３と垂直に延びる１つ又は２つの旋回軸の周りに旋回可能な方式で装着することができる。
【０１８９】
特に、個々のミラー２４の向きは、アクチュエータ系によって調節可能である。
【０１９０】
個々のミラー２４の反射面４４の調節可能な向きは、法線３５が回転軸に対して傾斜して配置された状態で個々のミラー２４を回転可能方式で装着することによって達成することができる。従って、法線４３は、個々のミラー２４の回転の場合に、回転軸の周りの円錐の側面を示している。
【０１９１】
回転軸に対する法線４３の傾斜角は、特に０°から４５°の範囲、特に５°から３０°の範囲に収まる。この傾斜角は、固定的に予め決めることができる。この傾斜角は、調節可能であり、特に、アクチュエータ系によって調節可能とすることができる。
【０１９２】
個々のミラー２４は、２つの回転軸の周りに回転可能な方式で装着することができる。それによって個々のミラー２４に入射する照明放射線１４を発する仮想光源を取り付けることができる場所の範囲に対して高い柔軟性が開かれる。
【０１９３】
個々のミラー２４の法線４３が、平面３８上の法線３５に対して傾斜されるように個々のミラー２４が配置されるとすると、ランナー３２に沿った位置決めの調節は、全体的に個々のミラー２４の向きの関連の変化をもたらす。照明光学ユニット４内の照明放射線１４の適切な案内によって達成することができることは、ランナー３２に沿うキャリッジ３３の位置によって予め決定される個々のミラー２４の向きが、望ましい及び／又は必要とされる向きに正確に対応することである。この場合に、個々のミラー２４の向きは、これらのミラーの位置決めに別個に適応させることが絶対に必要というわけではない。しかし、これは特殊な場合である。一般的には、個々のミラー２４は、調節可能な向きを有するように具現化することが有利である。位置決め要素２５を使用すると、個々のミラー２４は、ミリメートル範囲又はそれよりも高い精度で位置決め可能である。特に、位置決め許容範囲は、最大で１ｍｍ、特に最大で３００μｍ、特に最大で１００μｍである。個々のミラー２４の向きの観点からすると、この許容範囲は、最大で１０ｍｒａｄ、特に最大で３ｍｒａｄ、特に最大で１ｍｒａｄ、特に最大で３００μｒａｄ、特に最大で１００μｒａｄ、特に最大で５０μｒａｄである。
【０１９４】
図１３に描示する変形により、個々のミラー２４は、反射面４４と反対に位置する個々のミラー２４の後側で固定ベアリング４５を用いて装着される。
【０１９５】
個々のミラー２４は、反射面４４と反対に位置するその後側にプロファイル４６を有する。このプロファイル４６は、反射面４４に対して非平行、すなわち、少なくとも部分的に斜めになっている実施形態を有する。それは、平面実施形態を有することができ、かつ反射面４４に対して傾いている。それはまた、非平面実施形態を有することができる。
【０１９６】
このプロファイルをアクチュエータ系によって起動可能な側面アーム４７を用いて駆動することが可能である。この目的に対して、側面アーム４７は、一端でアクチュエータ４８、特に回転アクチュエータに機械的に接続される。側面アーム４７の他端は、プロファイル４６との機械接触を有する。ミラー２４の反射面４４の向きは、側面アーム４７を回転させることによって変更することができる。
【０１９７】
特に、アクチュエータ４８は、位置決め要素２５内に一体化される。特に、このアクチュエータは、位置決め要素２５との固定機械接続を有する。
【０１９８】
図１３にある図は、第１に概略的であり、第２に全く例示的なものであると理解しなければならない。アクチュエータ系によって起動可能な側面アームを用いて個々のミラー２４の向きを調節するための代替実施形態が可能である。
【０１９９】
更に別の変形を図１４に例示的に描示している。この変形では、個々のミラー２４の向きを調節するための２つのアクチュエータ４８がキャリッジ３３に配置される。これらのアクチュエータは、キャリッジ３３内に一体化することができる。特に、これらのアクチュエータは、線形アクチュエータである。
【０２００】
アクチュエータ４８の各々は、起動ロッド４９を直線方向に、特に位置決め要素２５の長手方向にシフトすることを可能にする。ロッド４９のシフトは、各場合に偏向５０を通して側面アーム４７に伝達される。ロッド４９のシフト及びそれと接続した側面アーム４７の起動により、個々のミラー２４の向きを調節することができる。特に、個々のミラー２４の法線４３の方向は、位置決め要素２５に対して調節することができる。
【０２０１】
図１５及び図１６に描示する更に別の変形により、個々のミラー２４は、各々、内外に折り返すことができる。特に、これらの個々のミラーは、照明光学ユニット４のビーム経路の内外に折り返すことができる。この目的に対して、特に、これらの個々のミラーは、回転軸５１の周りに旋回可能方式で装着される。特に、回転軸５１は、平面３８と平行に配置される。
【０２０２】
個々のミラー２４を旋回させるために、アクチュエータ４０が設けられる。
【０２０３】
個々のミラー２４がその反射位置にある最終位置を定めるために、ストップ４１が設けられる。
【０２０４】
アクチュエータ４０は、ミラー２１に対するホルダ３６に確実に接続することができる。上記で記述した変形により、アクチュエータ４０は、ランナー３２上に配置されたキャリッジ３３上に配置することができる。
【０２０５】
アクチュエータ４０の向きは、個々のミラー２４が旋回可能である空間領域に影響を及ぼす。従って、投影露光装置１内、特に投影光学ユニット９の最初のミラーＭ1及びＭ2の一方の領域内で利用可能な空間は、アクチュエータ４０の向きによって考慮に入れることができる。条件に基づいて、平面３８と平行又は少なくとも実質的に平行な平面、又は他に平面３８に対して垂直又は少なくとも実質的に垂直な平面、又はこの平面３８に対して斜めに延びる平面内でミラーを旋回させることが有利である場合がある。ここで、実質的に平行又は実質的に垂直という用語は、１０°までの偏差、特に５°よりも小さい偏差を意味する。
【０２０６】
ミラーデバイス２０は、特に投影光学ユニット９の構成成分を形成する。特に、このミラーデバイスは、投影光学ユニット９と照明光学ユニット４の両方の構成成分を形成する。
【０２０７】
図１７は、ミラーデバイス２０が投影光学ユニット９のビーム経路に２番目のミラーＭ2を含む投影露光装置１のビーム経路を例示的に描示している。６つのミラーＭ1．．．Ｍ6を有する投影光学ユニット９を例示的に描示している。これは、限定的とすべきではない。同様に、異なる個数のミラーＭi、特に３、４、５、７、８、又は９以上のミラーＭiを有するように投影光学ユニット９を具現化することも可能である。
【０２０８】
同じことは、同じく例示的であると理解される図１８に記載の配置にも適用される。この配置では、ミラーデバイス２０は、投影光学ユニット９の最初のミラーＭ1を含む。
【０２０９】
図２１、図２２ａ、及び図２２ｂは、ミラーデバイス２０の更に別の変形を描示している。同一部分は、これにより参照する上記で記述した変形の場合と同じ参照符号を取っている。
【０２１０】
これらの図に描示する変形では、案内デバイスは、外側ランナー３２2と内側ランナー３２1とを含む。
【０２１１】
実質的に、これらの変形は、図３から図５に描示する変形に対応し、内側ランナー３２1が、その上で案内方式で変位可能であるキャリッジ３３と、位置決め要素２５と、個々のミラー２４と共に更に提供される。
【０２１２】
これらの変形により、ランナー３２iは、保持板９０上に配置される。特に、保持板９０は、ランナー３２iを機械的に固定するためなどに機能する。この保持板は、投影光学ユニット９のミラーＭiに対する担持基板として機能することができる。
【０２１３】
図２２ａに記載の変形では、保持板９０は、連続実施形態を有する。図２２ｂに描示する変形では、保持板９０は、開口部９１を有する。特に、開口部９１は、照明放射線１４に対する通過開口部として機能する。
【０２１４】
案内デバイスと中心領域内で案内デバイスの上で変位可能な位置決め要素２５とのそのような配置は、特に瞳の中心掩蔽部を有する投影光学ユニットの場合に好ましいとすることができる。そのような投影光学ユニットは、ＵＳ  ２００６／０２３２８６７から公知である。瞳の中心掩蔽部は、投影光学ユニットのミラーＭiのある一定の領域上に光が入射することができないこと、又はこれらの領域で反射された光がウェーハ１２に到達する前に確実に口径食を受けることを意味する。案内デバイスは、そのような領域に有利に取り付けることができる。
【０２１５】
例示的に描示する個々のミラー２４の配置では、外側ランナー３２2上に装着される個々のミラー２４は、各場合に、この目的に対して実際に使用されるか又は設けられるレチクルを照明するための領域３１のうちの１つにこれらの個々のミラーがそれぞれ位置する反射位置に正確に置かれる。
【０２１６】
内側ランナー３２1上に装着される個々のミラー２４は、各場合に、図２１に例示的に示す位置決めによる２つの可能な瞳スポット３０の間に正確に置かれる。この場合に、これらの個々のミラーは、レチクル７の照明に寄与することにはならない。
【０２１７】
異なるランナー３２i上の個々のミラー２４は、互いに独立に配置することができる。原理的には、ランナー３２iの一方の上への個々のミラー２４のうちの１つの配置が、この位置決めに適応された他方のランナー３２j上への個々のミラー２４のうちの１つの位置決めを自動的にもたらし、又は２よりも多いランナー３２iの場合に、ランナー３２iのうちの１つの上への個々のミラー２４のうちの１つの配置が、この位置決めに適応された他のランナー３２jのうちの１つの上への個々のミラー２４のうちの１つの位置決めを自動的にもたらすように、個々のミラー２４のコントローラ及び／又はアクチュエータ系を具現化することも可能である。
【０２１８】
１つの有利な変形により、レチクル７を照明するために使用されない個々のミラー２４が投影光学ユニット９のビーム経路の掩蔽を引き起こさないように、これらの個々のミラー２４を変位させる、特に旋回させる、特に投影光学ユニット９のビーム経路から旋回させて取り出すことが提供される。特に、その位置決めは、少なくとも予め決められた回折次数、特にそれぞれのゼロ次及び／又は±１次の回折次数がレチクル７からウェーハ１２に案内されるように選択することができる。
【０２１９】
個々のミラー２４の向きの調節のための更に別の変形を図２３を参照して下記に説明する。この変形により、個々のミラー２４は、変更可能な形態を有する。特に、これらの個々のミラーは、変更可能反射面４４を有する。変更可能反射面４４は、各場合に多数のマイクロミラー５２の反射面からなる個々のミラー２４の反射面４４によって達成することができる。
【０２２０】
マイクロミラー５２の各々は、最大で１ｃｍ2、特に最大で４ｍｍ2、特に最大で１ｍｍ2、特に最大で０．４ｍｍ2の面積を有することができる。しかし、これらのマイクロミラーの個々の反射面は、そのビーム偏向効果を幾何光学によって説明することができ、反射が対応する物理効果である程に大きいとすることができる。これらのマイクロミラーは、行５３と列５４とを有する行列で配置することができる。特に、これらのマイクロミラーは、多ミラーアレイ（ＭＭＡ）を形成することができる。特に、これらのマイクロミラーは、マイクロ電気機械システム（ＭＥＭＳ）として具現化することができる。特に、これらのマイクロミラーは、個々に変位可能である。これらのマイクロミラーは、群単位で、特に行単位及び／又は列単位で変位可能とすることができる。マイクロミラー５２、特にその配置及び変位機能に関する更なる詳細に関しては、本出願の構成成分として本明細書に完全に統合されているＷＯ  ２０１０／０４９  ０７６  Ａ１を参照されたい。
【０２２１】
マイクロミラー５２は、そのビーム偏向効果が格子、特にブレーズド格子のものに対応し、回折が対応する物理効果である程に小さいものであるように具現化することができる。そのようなマイクロミラー５２をデジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）とも呼ぶ。
【０２２２】
個々のミラー２４毎のマイクロミラー５２の個数は、特に２個から１０００個の範囲、特に４個から３００個の範囲、特に９個から１５０個の範囲にある。
【０２２３】
図２４に描示する変形により、反射面２２の形態、すなわち、投影光学ユニットのミラーＭ1又はＭ2の一方の形態は変更可能である。特に、ミラーＭ1及び／又はＭ2は、ＭＭＡ、特にＭＥＭＳとして具現化されるように提供される。領域においてのみ、例えば、円形リング形状領域においてのみミラーＭ1及び／又はＭ2をＭＭＡ、特にＭＥＭＳとして具現化することが有利である場合がある。
【０２２４】
マイクロミラー５２の変位機能は、仮想偏向ミラー５５を時間局在方式で形成するように使用することができる。仮想偏向ミラー５５は、各場合に１、２、４、又は５以上のマイクロミラー５２から形成することができる。これらの仮想偏向ミラーは、照明光学ユニット４の要件に適応された反射面を形成することができる。特に、これらの仮想偏向ミラーは、瞳ファセット１９を形成するように具現化することができる。
【０２２５】
特に、この変形では、マイクロミラー５２の少なくとも一部を非平面反射面を有するように形成することができる。特に、マイクロミラー５２の全体をこれらのマイクロミラーの反射面が、各々、投影光学ユニット９のミラーＭ1又はＭ2の望ましい反射面２２の一部分を形成するように具現化することができる。これは、特に１ｍｍ2よりも小さい面積を有するマイクロミラー５２の場合に、照明光学ユニット４の要件に対して実質的に無害である。
【０２２６】
変更可能反射面２２を有するミラーの更に別の変形を図２５を参照して下記で説明する。この変形により、このミラーは弾性膜５６を含む。反射面２２は、弾性膜５６上に形成される。反射面２２と反対に位置する弾性膜５６の側には、多数の調節可能スタンプデバイス５７が配置される。特に、スタンプデバイス５７は、互いに平行に配置される。特に、これらのデバイスは、行列状のラティスで配置することができる。特に、これらのデバイスは、共通の調節方向５８に沿って拡張可能及び収縮可能である。スタンプデバイス５７を使用することで、膜５６の形態、従って、反射面２２の形態を設定及び修正することができる。この場合に、膜５６は、反射面２２が連続実施形態を有することを保証する。特に、この膜には、回折効果を招く可能性があるジャンプ又は縁部がない。反射面２２は、スタンプデバイス５７を用いて異なる領域５９1、５９2、及び５９3に再分割可能である。この場合に、領域５９1は、投影光学ユニット９の構成成分である反射面を形成する。領域５９2は、特に照明光学ユニット４の構成成分である仮想偏向ミラー５５のうちの１つを形成する。領域５９3は、２つの領域５９1と５９2の間の移行領域を形成する。
【０２２７】
ミラーデバイス２０の更に別の変形を図２６を参照して以下に説明する。この変形は、照明放射線１４が放射線源３からレチクル７にミラー本体２１内の放射線透過領域２６を通して案内される図２ａに描示する原理にかかわる。図１９及び図２０に基づいて例示的に記載されているように、瞳スポット３０の個数は、実際に使用される領域３１の個数よりも実質的に多い。放射線透過領域２６は、各可能な瞳スポット３０に対するミラー本体２１内に設けられるので、レチクル７をウェーハ１２に結像するために使用することができる照明放射線１４は、投影光学ユニット９のビーム経路内で失われる。これらの失損を低減するために、図２６に描示する変形により、使用されない放射線透過領域２６を閉鎖するために使用されるプラグ６０が提供される。
【０２２８】
プラグ６０は、切頭円錐形実施形態を有する。特に、このプラグは、放射線透過領域２６の円錐形態に対する相補的な実施形態を有する。
【０２２９】
プラグ６０は、ミラー本体２１内で放射線透過領域２６を形成するそれぞれの開口部に適応される。プラグ６０は、その小さい方のカバー面６１上で、この放射線透過領域２６の領域内に反射面２２の形態を完成する形態を有する。小さい方のカバー面６１は、照明放射線１４を反射するための反射面６４として具現化される。
【０２３０】
ミラー本体２１内の開口部内にプラグ６０を配置するために、アクチュエータ６２が設けられる。干渉計デバイスの構成成分として、アクチュエータ６２は、好ましくは、センサ６３にデータ伝達方式で接続される。センサ６３は、プラグ６０の位置、特に放射線透過領域２６内のプラグ６０の位置を検出するように機能する。干渉計デバイスを用いて、プラグ６０は、特に、反射面２２からプラグ６０の反射面６４への移行部におけるオフセットが、照明放射線１４の波長の数分の一よりも小さく、特に１／４よりも小さく、特に１／８よりも小さく、特に１／１６よりも小さく、特に１／３２よりも小さいように放射線透過領域２６内に精密に配置することができる。このオフセットは、少なくともこの波長を法とした波長のそのような分率よりも小さい。その結果、相殺的干渉を回避することができる。
【０２３１】
ミラーデバイス２０の更に別の変形を図２７を参照して下記で説明する。この変形は、図２６に記載の変形に実質的に対応し、ミラー本体２１の後側にプラグ６０の代わりに反射器６５が配置される。反射器６５は、調節可能であり、特にアクチュエータ系によって調節可能である。アクチュエータ６２は、反射器６５を調節するために設けられる。反射器６５の位置は、アクチュエータ６２とセンサ６３とを含む干渉計デバイスを用いて調整可能である。放射線透過領域２６は、反射器６５を用いて仮想方式で閉鎖可能である。
【０２３２】
照明放射線１４は、反射器６５において、特に２回反射される。
【０２３３】
反射器６５は、波長を法とした反射器内の光路が、波長の数分の一、特に１／４よりも小さく、特に１／８よりも小さく、特に１／１６よりも小さいように調節可能である。
【０２３４】
更に、反射器６５内の光路は、照明放射線１４の縦干渉長よりも短い。従って、この変形は、狭帯域放射線源３に特に適している。
【０２３５】
個々のミラー２４の位置決め及び／又は向きの設定の更に別の態様及び改良を下記で説明する。
【０２３６】
個々のミラー２４が調節可能な向きを有する、特に、調節可能法線４３を有する反射面４４を有する限り、これらの個々のミラーは、瞳内のあらゆる望ましい位置で瞳ファセット１９として使用することができる。特に、瞳ファセット１９の位置は、連続的に調節することができる。従って、瞳スポット３０、特に使用領域３１の位置は、予め決められた離散位置に限定されない。
【０２３７】
個々のミラー２４は、照明光学ユニット４の物体側開口数の外側に配置されるが、この配置は、レチクル７の暗視野照明に使用することができる。個々のミラー２４を有する光学構成要素２３が投影光学ユニット９の最初のミラーＭ1と共にミラーデバイス２０を形成する限り、投影レンズに対する変更の必要はない。特に、投影光学ユニット９のミラーＭiの直径を拡大する必要はない。
【０２３８】
光学構成要素２３を投影光学ユニット９の２番目のミラーＭ2と組み合わせてミラーデバイス２０を形成することが意図される場合に、投影光学ユニット９の最初のミラーＭ1を拡大することが提供される。
【０２３９】
上記で記述したミラーデバイス２０の変形により、単一の個々のミラー２４は、各場合に位置決め要素２５のうちの１つを用いて各場合に位置決め可能である。ここで、個々のミラー２４の各々は、特に、特定の領域３１に配置される瞳ファセット１９を形成するように機能する。
【０２４０】
しかし、単一よりも多い瞳ファセット１９をその望ましい位置に単一位置決め要素２５を用いてもたらすことも可能である。それによって特に機械的実装を簡素化することができる。
【０２４１】
ごく少数の離散照明設定のみ、特に１０通りまでの照明設定、特に４通りまでの異なる照明設定のみを設定することが可能であるべきである場合に、位置決め要素２５は、それが、個々のミラー２４のうちの１よりも多く、特に、個々のミラー２４のうちの２、３、４、又は５以上の位置決めのためなどに機能するように各々具現化することができる。言い換えれば、個々のミラー２４のうちの１よりも多く、特に、個々のミラー２４のうちの２、３、４、又は５以上を位置決め要素２５のうちの１つ、特に位置決め要素２５のうちの選択したもの、特に位置決め要素２５の全てに配置することができる。上記で記述した変形におけるものと同様に、これらの個々のミラー２４は、照明光学ユニット４のビーム経路に配置することができる。特に、これらの個々のミラー２４を照明光学ユニット４のビーム経路の外側、特に投影光学ユニット９のビーム経路の外側のオフ位置に旋回させることができる場合であれば有利である。
【０２４２】
４つの位置決め要素２５を有する変形を図２８から図３０に略示している。位置決め要素２５の各々のものに、各場合に４つの個々のミラー２４が配置される。
【０２４３】
このミラーデバイス２０を使用すると、特に、ｙ−二重極照明設定（図２８）、ｘ−二重極照明設定（図２９）、及びｃ−四重極照明設定（図３０）を設定することができる。これら３つの照明設定の各々は、同じ個数の実際に使用される領域３１を含む。ｃ−四重極照明設定では、レチクル７の照明に寄与しない２つの個々のミラー２４が、各場合に位置決め要素２５の各々のものの上に配置される。しかし、各位置決め要素２５における１よりも多い個々のミラー２４の配置によって構造的支出が有意に簡素化される。
【０２４４】
図３１は、位置決め要素２５の各々のものに１よりも多い個々のミラー２４が配置される更に別の変形を略示している。この変形では、各位置決め要素２５に各場合に２つの個々のミラー２４が配置される。この変形は、特に異なる向きの二重極照明設定及び／又は環状照明設定を設定するのに適している。二重極照明設定を設定することしか意図されない場合に、この変形では位置決め要素２５の個数を２又は４に低減することができる。
【０２４５】
図３２は、位置決め要素２５の各々のものに各場合に２つの個々のミラー２４が配置される更に別の変形を描示している。２つの個々のミラー２４は、各場合に共通ポインター６５の互いに反対縁部に配置される。特に、これらの個々のミラーは、瞳内で点対称方式で停止するように配置される。その結果、レチクル７の照明のテレセントリック性が改善される。
【０２４６】
この変形では、光学構成要素２３が、このタイプの単一位置決め要素２５と、ポインター６５を用いて互いに固定的に接続された２つの個々のミラー２４とを有するように具現化することを提供することができる。しかし、光学構成要素２３は、２又は３以上のそのような位置決め要素２５を有することができる。
【０２４７】
図３３及び図３４は、可変ファセット要素６７を有するミラーデバイスの２つの更に別の変形６６を描示している。
【０２４８】
図３３及び図３４に描示する変形では、ファセット要素６７は、ミラー６９の反射面６８上に可変的に配置される。
【０２４９】
ミラーデバイス６６は、ミラー６９とファセット要素６７とを含む。
【０２５０】
投影露光装置１におけるこのミラーデバイスの機能及び／又は配置の観点からすると、ミラーデバイス６６は、上記で記述したミラーデバイス２０に対応し、ここではその説明を引用する。
【０２５１】
ファセット要素６７には、ピン状の脚部７０が設けられる。特に、これらのファセット要素には、各場合に２、３、又は４以上の脚部７０が設けられる。脚部７０は、ファセット要素６７をミラー６９の反射面６８上の予め決められた位置に配置するように機能する。この目的に対して、ミラー６９のミラー本体７１は、各場合にこれらの位置に適切な個数の孔７２を有する。
【０２５２】
孔７２は、法線７３に対して垂直な方向にファセット要素６７の断面よりも実質的に小さい断面を有する。特に、法線７３に対して垂直な方向のファセット要素６７の断面に対する孔７２の断面の比は、最大で１：１０、特に最大で１：３０、特に最大で１：１００、特に最大で１：３００、特に最大で１：１０００である。特に、孔７２によって引き起こされるミラー６９の掩蔽は、ファセット要素６７の全体によって引き起こされる掩蔽よりも実質的に小さい。特に、前者の掩蔽は、孔７２によって予め決定される全ての可能な位置でファセット要素６７の配置によって引き起こされることになる掩蔽よりも実質的に小さい。
【０２５３】
脚部７０は、孔７２内に挟着することができる。この目的に対して、これらの脚部は、弾力性及び／又は弾性の実施形態を有することができる。
【０２５４】
ファセット要素６７の各々は、ミラー６９の反射面６８の法線７３に対して傾斜した面法線７４を有する。
【０２５５】
各視野ファセット１７及びその各切り換え位置に対して特化されたファセット要素６７を有することが提供される。次に、特定の照明設定を設定するために、この目的をもたらすのに必要とされるファセット要素６７をミラー６９上に配置するだけでよい。
【０２５６】
この配置を行う上で、脚部７０とそれに対応する孔７２との様々な配置により、ミラー６９の反射面６８上にそれぞれ設けられた位置だけにファセット要素６７を配置することができることを保証することが可能である。
【０２５７】
ピック−アンド−プレースロボットとして具現化されたアクチュエータを用いて、ファセット要素６７の配置及び／又はその交換を実施することができる。この場合に、ピック−アンド−プレースロボットは、案内デバイスを形成する。
【０２５８】
孔７２内に挿入される脚部７０を用いてファセット要素６７を固定する代わりに、図３４に略示するように、ファセット要素６７が、ミラー６９の反射面６８上に磁気的に固定されることを提供することができる。この目的に対して、ミラー本体７１の後側７５に磁石７６が配置される。磁石７６は、ミラー本体７１に固定的に接続することができる。これらの磁石は、ミラー本体７１上に調節可能方式で配置することができる。特に、これらの磁石は、法線７３に対して垂直な方向に調節可能とすることができる。
【０２５９】
磁石７６の配置により、ミラー本体７１上でのファセット要素６７の可能な位置決めを予め決めることができる。
【０２６０】
ファセット要素６７をミラー本体７１に固定するために、これらのファセット要素にも同じく磁石７７が設けられる。
【０２６１】
ファセット要素６７を入れ替えるために設けられるアクチュエータは、特に、ファセット要素６７をミラー本体７１上に固定するために設けられるそれぞれの磁石７６の磁場を補償することができる電磁石を含む。それによってファセット要素７６をミラー６９から再度切り離すことが簡単な方式で可能になる。
【０２６２】
特定の照明設定を設定する目的のためには、瞳ファセット１９として機能するビーム案内要素は、第１に望ましい位置決めを有し、第２に当該照明設定に合致する向きを有するべきである。特に、一般的にビーム案内要素の法線７３を適切な方式で位置合わせする必要がある。
【０２６３】
本発明の更に別の態様により、瞳ファセット１９の向き、特に瞳ファセット１９を形成するビーム案内要素の向きの許容範囲を視野ファセットミラー１６上での適応化によって補償することが有利である場合があることが明らかになった。この目的に対して達成される方法を概略的な図３５に基づいて下記で説明する。この変形により、瞳ファセット１９の実際の向きを決定することができるセンサデバイス７８が設けられる。特に、瞳ファセット１９の実際の向きは、１ｍｒａｄよりも高い、特に０．１ｍｒａｄよりも高い、特に５０μｒａｄよりも高い精度で決定可能である。
【０２６４】
第１のファセットミラー１６上のレチクル７の原像の位置及び広がりは、レチクル７の既知の位置、並びに決定された瞳ファセット１９の位置決め及び向きから計算することができる。
【０２６５】
好ましくは、第１のファセットミラー１６は、多ミラー配置（ＭＭＡ）、特にＭＥＭＳ−ＭＭＡとして具現化される。この場合に、第１のファセットミラー１６の個々のマイクロミラー７９は、第１のファセットミラー１６上のレチクル７の原像に対応する各瞳ファセット１９に対して厳密に１つの仮想ファセットが形成されるように精密にグループ分けされ、かつ向きを決定することができる。言い換えれば、第１のファセットミラー上のファセットの位置、特に視野ファセットミラー１６上の視野ファセット１７の位置は、瞳ファセット１９の向きに依存する方式で選択又は調節されるように提供される。図３５は、そのような調節なしの視野ファセット１７の位置８０と調節後の対応する位置８１とを略示している。ここで明らかになったことは、瞳ファセット１９の向きの数ｍｒａｄまでの許容範囲は、視野ファセットミラー１６上の視野ファセット１７の位置８０の適切な調節によって補償することができることである。
【０２６６】
ミラーデバイス２０の更に別の変形を図３６を参照して下記で説明する。同一部分は、これにより参照する上記で記述したミラーデバイス２０の変形の場合と同じ参照符号を取っている。図３６に記載の変形では、機械的案内デバイスは、４つのホイールマニピュレータ８２を含む。
【０２６７】
各ホイールマニピュレータ８２は、個々のミラー２４を有する複数の位置決め要素２５を共通回転軸８４の周りに回転可能に装着するアクチュエータ８３を含む。位置決め要素２５は、回転軸８４の周りに星形方式で配置される。ホイールマニピュレータ８２毎に各場合に６つの位置決め要素を有する変形を描示している。そこから外れるホイールマニピュレータ８２毎の位置決め要素２５の個数も同じく可能である。ホイールマニピュレータ８２毎に単一位置決め要素２５の場合に、図３６に記載の変形は、図１１及び図１２に記載の変形に実質的に対応する。
【０２６８】
図３６に記載の変形では、個々のホイールマニピュレータ８２は、ランナーに沿って変位可能に装着することができる。
【０２６９】
１つの同じホイールマニピュレータ８２の位置決め要素２５は、各場合に対で異なる長さｌiを有することができる。
【０２７０】
１つの同じホイールマニピュレータ８２の個々のミラー２４は、各場合に対で異なる向きを有することができる。これらの個々のミラーは、調節可能な向きを有することができる。
【０２７１】
この変形では、個々のミラー２４が連続的に調節可能であること、特に連続的に調節可能な位置決め及び／又は向きを有することも可能である。これらの個々のミラーは、離散位置決め及び／又は向きを有することができる。
【０２７２】
ミラーデバイス２０の更に別の変形を図３７を参照して下記で説明する。この変形により、位置決め要素２５は、バンド又はチェーン８５上にねじ込まれる。バンド又はチェーン８５は、少なくとも２つの駆動要素及び／又は偏向要素８６を有する駆動デバイスを用いて駆動可能である。駆動要素及び／又は偏向要素８６のうちの少なくとも一方は、非円形、特に多角形、特に三角形、四辺形、五角形、又は六角形の断面を有する。その結果、個々のミラー２４の位置決めを簡易化することができる。特に、個々のミラー２４の位置決めの精度を改善することができる。
【０２７３】
位置決め要素２５は、バンド又はチェーン８５に確実に接続することができる。
【０２７４】
図３８に略示する更に別の変形により、個々のミラー２４を有する位置決め要素２５は、１よりも多い個々のミラー２４、特に個々のミラー２４のうちの２つ、又は個々のミラー２４のうちの２よりも多いものが照明設定に同時に寄与するようにバンド又はチェーン８５上に配置することができる。その結果、特に、視野ファセット１７のうちの２又は３以上によって照明放射線１４の入射を受ける瞳ファセット１９のうちの２又は３以上は、各場合に単一のそのような位置決めデバイスを用いて照明光学ユニット４のビーム経路に配置することができる。
【０２７５】
図３８は、異なる個々のミラー２４が、各場合に、２つの異なる切り換え位置Ａ、Ｂを用いて視野ファセット１７のうちの２つに対する瞳ファセット１９として機能することができる変形を略示している。解説目的で、２つの視野ファセット１７（Ｆ、ｆ）のうちのいずれかに対して、かつ２つの切り換え位置（Ａ、Ｂ）のうちのいずれかに対してそれぞれの個々のミラー２４が関連の瞳ファセット１９を形成するかを個々のミラー２４の各々のものの隣に指定している。
【０２７６】
視野ファセット１７の異なる切り換え位置の全ての組合せに対処することが意図される限り、バンド又はチェーン８５上の個々のミラー２４による位置決め要素２５のグループ分けの個数は、それぞれの視野ファセット１７の切り換え位置の個数の積に厳密に対応する。しかし、要件に基づいて、これらの組合せのうちの１又は２以上は省くことができる。
【０２７７】
ミラーデバイス２０の更に別の変形を図３９を参照して下記で説明する。個々のミラー２４を有する位置決め要素２５が、異なる位置の間で迅速に変位可能である場合に、瞳を走査方式で構成することができることが明らかになった。特に、個々のミラー２４を有する位置決め要素２５を２つの異なる位置決めの間で変位させるのに必要とされる期間が、ウェーハ１２上の点が走査スリットを通過するのに必要とする期間よりも短いという条件で、瞳の走査構成が可能である。この変形により、レチクル７の照明、従って、ウェーハ１２の照明の各瞬間に、使用領域３１のうちの一部のものしか照明されない。全体の瞳は、走査積分において初めて出現する。
【０２７８】
図３９ａから図３９ｄは、第１の使用領域３１（図３９ａ）と第２の使用領域３１（図３９ｃ）の間の個々のミラー２４のうちの１つの変位を略示している。略示する２つの使用領域３１は、二重極照明設定を発生させるように機能する。図３９ｂ及び図３９ｄに描示する中間位置では、個々のミラー２４は、照明設定に必要とされず、実際に望ましくない瞳領域に置かれる。従って、個々のミラー２４を第１の使用領域３１（図３９ａ）から第２の使用領域３１（図３９ｃ）に変位させ、再度戻すのに必要とされる所要時間は、可能な限り短くなければならない。従って、個々のミラー２４を変位させるために高速アクチュエータ８７が設けられる。特に、２つの使用領域３１の間で個々のミラー２４を変位させるのに必要とされる時間は、１ｍｓよりも短く、特に０．５ｍｓよりも短く、特に０．３ｍｓよりも短く、特に０．１ｍｓよりも短い。特に、この時間は、個々のミラー２４が各場合に使用領域３１内で静止状態に保たれる持続時間よりも短い。特に、この持続時間は、少なくとも０．１ｍｓ、特に少なくとも０．３ｍｓである。
【０２７９】
個々のミラー２４の変位中に、照明放射線１４がオフに切り換えられることを提供することができる。この場合に、瞳の不鮮明化が回避される。
【０２８０】
個々のミラー２４の変位中に照明放射線１４をオンのままに残すことも同じく可能である。この場合に、瞳が不鮮明化され、すなわち、ウェーハ１２を露光する瞳が予め決められた瞳とは若干異なるが、この差は、多くの場合に許容可能である。スループット、すなわち、ウェーハ１２を露光することができる速度の改善に加えて、その利点は、取りわけ、放射線源３をオフに切り換える必要がなく、従って、新たなオン切り換え勾配がない点である。
【０２８１】
図３９にはそのような手法で調節可能な単一位置決め要素２５しか描示していないが、２、３、４、又は５以上のそのような位置決め要素２５を設けることができる。更に、これらの位置決め要素２５は、追加の起動自由度を有することができる。詳細に関しては、上記で記述した変形を参照されたい。
【０２８２】
ランナー３２の有利な変形を図４０及び図４１を参照して下記で説明する。特に、法線４３のアラインメントは、ランナー３２の空間広がりの局所微分に依存することが明らかになった。
【０２８３】
ランナー３２は、３次元実施形態、特に非平面実施形態を有することができる。言い換えれば、このランナーは、単一平面に収まらないプロファイルを有する。特に、ランナー３２は、少なくとも領域内に平面３８と垂直に向けられた構成要素を有する実施形態を有する。このようにして、ランナー３２に沿ってキャリッジ３３を変位させることにより、追加のアクチュエータを用いずに個々のミラー２４の向きを変更することが可能である。
【０２８４】
図４０は、位置決めが位置決め要素２５の異なるアラインメントを有する３つの異なる位置を例示的に示している。更に、図４１に略示するように、位置決め要素２５の長手方向と垂直に位置合わせされた軸８８の周りの個々のミラー２４の向きは、ランナーの捻回によって設定することができる。この概念を解説するために、個々のミラー２４を有する位置決め要素２５の２つの異なる位置決めａ）及びｂ）を例示的に描示している。
【０２８５】
ランナー３２は、一般的に、ローラーコースターのレールに則して具現化することができる。
【０２８６】
個々のミラー２４の更なる詳細を下記で説明する。以下の詳細は、特に個々のミラー２４の調節機能、特にプラグ６０の調節機能、及びこの目的に対して設けられる機構に関する。下記では、これらの詳細を特にミラー本体２１が放射線透過領域２６を有する図２ａ及び図２６に一般的に図示の実施形態に関して説明する。従って、これらの詳細は、残りの実施形態にも当てはめることができる。
【０２８７】
個々のミラー２４、特にプラグ６０を調節するための機構は、高い精度を有する。特に、これらの機構は、個々のミラー２４、特にプラグ６０の調節機能を特にサブマイクロメートル距離内の精度で特に１００ｎｍよりも高い、特に５０ｎｍよりも高い、特に３０ｎｍよりも高い、特に２０ｎｍよりも高い、特に１０ｎｍよりも高い、特に５ｎｍよりも高い、特に３ｎｍよりも高い、特に２ｎｍよりも高い、特に１ｎｍよりも高い精度で可能にする。
【０２８８】
一般的に、これらの機構は、低保守であり、特に保守不要である。
【０２８９】
特に、それらは、真空に適するか、又はそれらが真空に適するようにカプセル封入される。
【０２９０】
更に、それらは、原子水素に対する感受性が低い。それらは、ＥＵＶ光学系の汚染を招く可能性があると考えられるガス放出物質を含まない。それらは、従って、ガス放出がないか、又はそれらが真空に適するようにカプセル封入される。
【０２９１】
個々のミラー２４、プラグ６０、及び／又は反射器６５を変位させるためのアクチュエータに関する更なる詳細を以下にメモ書き形式で説明する。特に、圧電ドライブ及び／又はローレンツアクチュエータが、アクチュエータとして適している。特に、そのようなアクチュエータは真空に適している。
【０２９２】
圧電ドライブが使用される場合に、圧電モジュールの移動を直接使用するか、又はカプラと呼ぶステッパ駆動に向けて複数の圧電モジュールを使用するかのいずれかが可能である。従って、この場合に、回転移動と並進移動の両方が可能である。
【０２９３】
特にコイル−磁石配置を有するローレンツアクチュエータは、直線移動及び／又は回転移動をもたらすように機能することができる。
【０２９４】
特に、これらのアクチュエータは、カプセル封入実施形態を有する。カプセル封入された電気モータ、特にディスクロータ又はステッパモータは、アクチュエータとして機能することができる。これらのモータを使用すると、特に回転移動を発生させることができる。回転移動は、直線移動に変換することができる。この目的に対して、回転軸、カム、ベルトドライブ、又はラック及びピニオン組合せを設けることができる。好ましくは、回転移動を直線移動に変換するための構成要素は、カプセル封入実施形態を有する。
【０２９５】
磁石をピックアップとして使用することも可能である。これを磁気結合とも呼ぶ。特に、これらのピックアップは、摩耗なく作動させることができる。
【０２９６】
アクチュエータは、バイメタルアクチュエータとして具現化することができる。そのようなアクチュエータは、旋回移動を実施するために局所的に加熱することができる。一例として、加熱抵抗器、特に熱コイルは、加熱目的のためなどに機能することができる。
【０２９７】
プレテンション式バネ要素も、移動をトリガするように機能することができる。これらの要素は、回転及び／又は並進を可能にすることができる。
【０２９８】
空圧アクチュエータ及び／又は液圧アクチュエータを設けることができる。
【０２９９】
更に別のオプションは、形状記憶合金を使用することにある。これらの合金は、熱の作用によってその形状を変化させることができる。特に、これらの合金は、少なくとも１つの予め決められた形状と、少なくとも１つの更に別の形状とを有する。更に別の形状も、同じく予め決めることができる。更に別の形状は、未決定状態にすることができる。特に、形状記憶合金の硬質状態は、最初の形状とすることができる。更に別の形状は、形状記憶合金の軟質状態によって与えることができる。この場合に、重量に起因する傾斜離脱の発生、又は異なる力、例えば、バネ力の結果として移動の発生がある可能性がある。形状記憶合金の第２の予め決められた状態が傾斜離れをもたらす可能性もある。
【０３００】
形状記憶合金は、磁気的に起動させることができる。
【０３０１】
容量アクチュエータも可能である。これらのアクチュエータは、特に非常に小さい構成要素の場合に設けられる。
【０３０２】
個々のミラー２４、プラグ６０、及び／又は反射器６５の案内式変位に向けて与えることができる運動学を用いた異なる案内タイプを下記で例示的に説明する。特に、この運動学は、アクチュエータ又は重力による力の印加の後に案内式変位を可能にする。
【０３０３】
好ましい実施形態により、屈曲体が設けられる。特に、これらの屈曲体は、無摩擦実施形態を有する。特に、これらの屈曲体は、無摩耗実施形態を有する。この場合に、特に、ＥＵＶ光学系、特に照明光学ユニット４又は投影光学ユニット９のミラーの汚染をもたらす可能性がある遊離粒子は、構成要素の変位中に発生されない。
【０３０４】
特に、屈曲体は遊びなく具現化される。従って、これらの屈曲体は、高い精度を有する。
【０３０５】
特に、これらの屈曲体は、滑り−付着効果が発生しないように具現化される。
【０３０６】
特に、単一屈曲体は、回転移動を可能にする。直線移動も、屈曲体の組合せを用いて実現可能である。
【０３０７】
複数の磁気ベアリングを設けることもできる。これらの磁気ベアリングは、非接触方式で作動する。これらの磁気ベアリングには、実質的に摩擦がない。特に、これらの磁気ベアリングは、無摩耗方式で作動する。
【０３０８】
更に、摩擦防止ベアリング、特に、ボールベアリング、ローラベアリング、又は球形ローラベアリングを設けることができる。特に、摩擦防止ベアリングは、１つ又は複数のランナー３２内、及び／又はキャリッジ３３に配置することができる。これらの摩擦防止ベアリングは、直線移動及び／又は回転移動を可能にする。これらの摩擦防止ベアリングは、費用効果的である。
【０３０９】
ベアリングを円滑にするために、真空に適する潤滑剤が与えられる。
【０３１０】
原理的には、滑りベアリングを設けることができる。
【０３１１】
空気ベアリング、特にカプセル封入空気ベアリングを設けることも同じく可能である。一例として、これらのベアリングは、波形ホース内で保護目的に使用するか、又は真空を維持する補助的な吸引口を通して使用することができる。
【０３１２】
下記では、個々のミラー２４、プラグ６０、及び／又は反射器６５の変位を解説するための例示的実施形態を図４２から図６６を参照して説明する。同一構成要素は、これにより参照する上記で記述した変形の場合と同じ参照符号を取っている。
【０３１３】
これらの図に描示する照明放射線のビーム経路は、全く例示的ものであると理解しなければならない。このビーム経路は、レチクル７及び放射線源３に対するミラーデバイス２０の配置を解説するのに役立つに過ぎない。
【０３１４】
これらの図には、個々のミラー２４、プラグ６０、及び／又は反射器６５の変位を概略的にしか描示していない。特に、この変位は、上記で記述したアクチュエータ及び／又は運動学系を用いて起こされる。
【０３１５】
図４２に図示の実施形態において、放射線透過領域２６を閉鎖するためのプラグ６０は、最初にピック−アンド−プレース容器９２に又はその上に配置される。特に、ピック−アンド−プレース容器９２は、プラグ６０に対する保持デバイスを形成する。
【０３１６】
ピック−アンド−プレース容器９２は、プラグ６０を受け入れるための保持開口部９３を有する。ピック−アンド−プレース容器９２内の保持開口部９３の配置は、ミラー本体２１内の放射線透過領域２６の配置に適応される。特に、ピック−アンド−プレース容器９２は、保持開口部９３が各場合に放射線透過領域２６のうちの１つと正確に重なるようにミラー本体２１に対して配置することができるように具現化される。特に、放射線透過領域２６の各々のものに対して、ピック−アンド−プレース容器９２内に厳密に１つの保持開口部９３を設けることができる。
【０３１７】
ピック−アンド−プレース容器９２を使用することにより、多数のプラグ６０を放射線透過領域２６内に同時に挿入することができる。この挿入は、アクチュエータ６２を用いて行うことができる。プラグ６０を放射線透過領域２６に配置するために、最初にピック−アンド−プレース容器９２が回転移動９４によって旋回されることを提供することができる。次いで、並進移動９５により、プラグ６０は、放射線透過領域２６内に挿入することができる。
【０３１８】
特に、回転移動９４に向けて、摩擦防止ベアリングを有するカプセル封入電気モータが設けられる。その結果、大きい運動範囲が可能である。
【０３１９】
特に、直線移動とも呼ぶ並進移動９５に向けて、圧電ドライブ又はローレンツアクチュエータを設けることができる。特に、並進移動９５は、屈曲体によって案内することができる。
【０３２０】
図４３ａ及び図４３ｂは、異なる放射線透過領域２６がプラグ６０によって閉鎖された２つの異なる設定を例示的に描示している。
【０３２１】
プラグ６０をピック−アンド−プレース容器９２に配置する段階は事前に可能であるので、簡単な方式で及び／又は短い期間内にこれらの設定間を往復するように切り換えることができる。特に、１よりも多いピック−アンド−プレース容器９２が設けられることを提供することができる。
【０３２２】
図４４ａ、図４４ｂ、及び図４４ｃに例示的に描示するように、プラグ６０は、それが挿入状態でそれぞれ隣接する反射面２２の領域を超えて突出する（図４４ａ）、当該反射面と同じ高さで終端する（図４４ｂ）、又は当該反射面に対して後部にオフセットされる（図４４ｃ）ように放射線透過領域２６内に具現化及び／又は配置することができる。図４４ｂに記載の配置では、プラグ６０の反射面６４は、ミラー本体２１の反射面２２の切れ間のない連続体を正にもたらす。図４４ａ及び図４４ｃに記載の配置では、プラグ６０の反射面６４とミラー本体２１の反射面２２の間に正又は負のオフセットが存在する。
【０３２３】
ミラー本体２１の反射面２２に対するプラグ６０の相対的な配置及び／又は調節により、照明放射線１４の経路の差、従って、位相差を生成することができる。
【０３２４】
図４５ａ及び図４５ｂに例示的に図示の実施形態において、放射線透過領域２６の近くに板９６が配置される。板９６は、通過開口部９７を有する。この板は、少なくとも１つの通過開口部９７を有する。特に、この板は、２又は３以上の通過開口部９７を有することができる。
【０３２５】
更に、板９６は、放射線反射領域９８を有する。放射線反射領域９８は、板９６の放射線透過領域２６に対面する側に配置される。
【０３２６】
板９６は、円盤形実施形態を有する。特に、この板は、丸い、特に円形の実施形態を有することができる。
【０３２７】
板９６の図を図４６に例示的に描示している。この例示的実施形態において、板９６は、２つの通過開口部９７を有する。通過開口部９７は、異なる直径を有する。それによって瞳スポットのサイズ、特に放射線源３のサイズへの適応化が可能になる。
【０３２８】
特に、板９６は回転可能に装着される。この板は、回転軸９９の周りに回転可能に装着される。特に、回転軸９９は、板９６と垂直に、特に放射線反射領域９８と垂直に位置合わせされる。この回転軸は、板９６に対して中心が定められるか又は偏心される。
【０３２９】
ローレンツアクチュエータ又は屈曲体により、回転軸９９の周りの板９６の旋回挿入及び／又は回転を可能にする回転移動を提供する。図４５ａ及び図４５ｂには、アクチュエータ系を概略的にしか描示していない。このアクチュエータ系には、参照符号１００を付与している。
【０３３０】
図４７ａ及び図４７ｂは、プラグ６０自体が通過開口部１０１を有する変形を描示している。特に、通過開口部１０１は、放射線透過領域２６のものに対応する直径を有する。プラグ６０は、通過開口部１０１の長手方向１０３と垂直に位置合わせされた軸１０２の周りに旋回可能である。これらの図に描示する直交座標では、この回転移動は、ｘ軸の周りの回転とｙ軸の周りの回転との組合せによって起こすことができる。放射線透過領域２６は、プラグ６０を旋回させることによって閉鎖することができる。特に、放射線透過領域２６は、プラグ６０上の放射線反射領域１０４によって閉鎖される。放射線反射領域１０４は、少なくとも放射線透過領域２６と同じ大きさの寸法を有する。
【０３３１】
プラグ６０を旋回させる目的で、放射線透過領域２６に旋回継手１０５が設けられる。
【０３３２】
更に、プラグ６０を起動する目的で、線形アクチュエータ１０７と、滑り継手１０８と、継手１０９と、ストップ１１０とを有するアクチュエータデバイス１０６が設けられる。
【０３３３】
図５０、図５５、図５８ａ、図５８ｂ、図５９、及び図６２のいずれかに記載の変形の場合と同様に、図４８に記載の変形では、プラグ６０を放射線透過領域２６内に挿入するための又はプラグ６０を放射線透過領域２６から取り出すための直線移動１１１が与えられる。この目的に対して、利用可能な設置空間に従い、かつミラー寸法に基づいて、上記で記述したオプションから適切なアクチュエータ及び運動学系が選択される。
【０３３４】
直線移動１１１の代わりに、プラグ６０又は反射器６５を内外に旋回させる目的で、旋回移動１１２を与えることができる。図４９ａ、図４９ｂ、図５１、図５２、図５３ａ、図５３ｂ、図５４、図５６、図６０、図６３、及び図７０には、異なる変形を例示的に描示している。これらの図には、旋回継手１１３及び位置決め要素２５を例示的に描示している。
【０３３５】
これらの図から直ぐに明確に明らかになることはないとしても、継手１１３及び位置決め要素２５は、反射器６５の限られた状態においても反射面６４の掩蔽をもたらすことのないように、それぞれ反射器６５及び放射線透過領域２６に対して配置される。
【０３３６】
図５３ａ及び図５３ｂに例示的に描示するように、直線移動１１１によって旋回移動１１２も起動することができる。その結果、利用可能な設置空間へのアクチュエータ系の適応化が可能である。
【０３３７】
図５９に図示の実施形態により、３つの反射器６５が設けられる。これらの反射器は、円形リング部分形状実施形態を有する。これらの反射器は、半径方向に変位可能である。例えば、２、４、又は５以上の円形リング部分によるリングの異なる再分割も同じく可能である。
【０３３８】
２つの円形リング部分形状反射器６５を有する変形を図６０に例示的に描示している。この変形では、反射器６５は、旋回継手１１３を用いて旋回可能に装着される。
【０３３９】
図６１に描示する変形は、図４２に記載の変形に実質的に対応し、プラグ６０は、各場合に関連の放射線透過領域２６内に旋回挿入され、個々の単位で下げられる。この変形では、ピック−アンド−プレース容器９２が省かれる。図６１では、旋回取り出し位置（Ａ）と旋回挿入位置（Ｅ）の両方にプラグ６０を例示的に描示している。
【０３４０】
図６４に記載の実施形態は、図４５ａ及び図４５ｂに描示するものに実質的に対応する。図６４に記載の実施形態において、板９６は、２つの通過開口部９７を有する。これらの通過開口部は、ミラー本体２１内の２つの放射線透過領域と正確に重なるように配置可能である。この変形では、板９６を捻回するためのアクチュエータ系１００が、ミラー本体２１の後側に配置される。特に、このアクチュエータ系は、ミラー本体２１との機械接続を有する。
【０３４１】
この変形では、通過開口部９７は、円錐実施形態を有する。特に、これらの通過開口部は、放射線透過領域２６を形成する通過開口部の連続を形成するように具現化される。これは、他の変形においても可能である。
【０３４２】
図６９に例示的に描示するように、以上の説明による直線ドライブを収容するｘｙｚ変位台１１６又は複数のｘｙｚ変位台を設けることができる。これらの変位台は、特に異なる位置での特に放射線透過領域２６における確実に組み立てられた個々のミラー２４、プラグ６０、又は反射器６５の位置決めを可能にする。
【０３４３】
特に、ｘｙｚ変位台１１６は、ロボットアームの代わりに使用することができる。
【０３４４】
ロボットアームの代替として、プラグ６０は、ミラー本体２１内の放射線透過領域２６内にｘｙｚ変位台１１６を用いて個々に挿入することができる。この目的に対して、プラグ６０を取り上げてそれを望ましい位置に配置する把持器を設けることができる。
【０３４５】
図６５に描示する変形により、プラグ６０は、カートリッジ１１４に配置される。それ程詳細には描示していないロボットを使用することにより、プラグ６０は、カートリッジ１１４から取り出して、ミラー本体２１内の放射線透過領域２６内に挿入することができる。好ましくは、プラグ６０は、それを放射線透過領域２６内にラッチすることができるように具現化される。特に、これらのプラグは、ミラー本体２１内にラッチすることができる。
【０３４６】
図６６に描示する変形により、個々のミラー２４は、ミラー本体２１内に一体化される。特に、これらのプラグは、ミラー本体２１の反射面２２と平行にシフトさせることができる。特に、シフト目的で電磁石を設けることができる。
【０３４７】
個々のミラー２４の各々は、図６６に略示する直線ガイド１１５を有する。
【０３４８】
個々のミラー２４を放射線透過領域２６（破線で描示する）に配置するときに、個々のミラー２４は、放射線透過領域２６を閉鎖する。この位置では、個々のミラー２４の反射面４４は、ミラー本体２１の反射面２２に対してオフセット配置される。
【０３４９】
図６７ａ及び図６７ｂに記載の変形は、図４７ａ及び図４７ｂに記載の変形に実質的に対応する。図６７ａ及び図６７ｂに記載の変形では、旋回継手１０５は、放射線透過領域２６の中心に配置される。しかし、旋回継手１０５は、偏心配置することができる。図６７ａ及び図６７ｂに記載の変形では、アクチュエータデバイス１０６を省くことができる。
【０３５０】
図６８に記載の変形では、プラグ６０は、旋回可能かつ直線変位可能である。この変形は、特に、ミラー本体２１の前面領域に配置された個々のミラー２４を変位させるのにも適している。
【０３５１】
特に、旋回継手１１３は、多軸継手、すなわち、少なくとも２つの旋回自由度を有する継手とすることができる。特に、この旋回継手は、ミラー本体２１の反射面２２と平行な平面におけるこのミラー本体と平行な軸の周りのプラグ６０の旋回を可能とすることができる。
【０３５２】
これらの図に描示する放射線透過領域２６及びプラグ１６の個数は、実際の条件に対応するものではない。この点に関しては、以上の説明を参照されたい。
【０３５３】
これらの図に略示する変形の組合せも同じく可能である。
【符号の説明】
【０３５４】
２０  ミラーデバイス
２４  個々のミラー
２５  位置決め要素
３２  ランナー
４４  変更可能反射面
【図１】
0006626833.tif 000002
【図２ａ】
0006626833.tif 000003
【図２ｂ】
0006626833.tif 000004
【図３】
0006626833.tif 000005
【図４】
0006626833.tif 000006
【図５】
0006626833.tif 000007
【図６】
0006626833.tif 000008
【図７】
0006626833.tif 000009
【図８】
0006626833.tif 000010
【図９】
0006626833.tif 000011
【図１０】
0006626833.tif 000012
【図１１】
0006626833.tif 000013
【図１２】
0006626833.tif 000014
【図１３】
0006626833.tif 000015
【図１４】
0006626833.tif 000016
【図１５】
0006626833.tif 000017
【図１６】
0006626833.tif 000018
【図１７】
0006626833.tif 000019
【図１８】
0006626833.tif 000020
【図１９】
0006626833.tif 000021
【図２０】
0006626833.tif 000022
【図２１】
0006626833.tif 000023
【図２２ａ】
0006626833.tif 000024
【図２２ｂ】
0006626833.tif 000025
【図２３】
0006626833.tif 000026
【図２４】
0006626833.tif 000027
【図２５】
0006626833.tif 000028
【図２６】
0006626833.tif 000029
【図２７】
0006626833.tif 000030
【図２８】
0006626833.tif 000031
【図２９】
0006626833.tif 000032
【図３０】
0006626833.tif 000033
【図３１】
0006626833.tif 000034
【図３２】
0006626833.tif 000035
【図３３】
0006626833.tif 000036
【図３４】
0006626833.tif 000037
【図３５】
0006626833.tif 000038
【図３６】
0006626833.tif 000039
【図３７】
0006626833.tif 000040
【図３８】
0006626833.tif 000041
【図３９ａ】
0006626833.tif 000042
【図３９ｂ】
0006626833.tif 000043
【図３９ｃ】
0006626833.tif 000044
【図３９ｄ】
0006626833.tif 000045
【図４０】
0006626833.tif 000046
【図４１】
0006626833.tif 000047
【図４２】
0006626833.tif 000048
【図４３ａ】
0006626833.tif 000049
【図４３ｂ】
0006626833.tif 000050
【図４４ａ】
0006626833.tif 000051
【図４４ｂ】
0006626833.tif 000052
【図４４ｃ】
0006626833.tif 000053
【図４５ａ】
0006626833.tif 000054
【図４５ｂ】
0006626833.tif 000055
【図４６】
0006626833.tif 000056
【図４７ａ】
0006626833.tif 000057
【図４７ｂ】
0006626833.tif 000058
【図４８】
0006626833.tif 000059
【図４９ａ】
0006626833.tif 000060
【図４９ｂ】
0006626833.tif 000061
【図５０】
0006626833.tif 000062
【図５１】
0006626833.tif 000063
【図５２】
0006626833.tif 000064
【図５３ａ】
0006626833.tif 000065
【図５３ｂ】
0006626833.tif 000066
【図５４】
0006626833.tif 000067
【図５５】
0006626833.tif 000068
【図５６】
0006626833.tif 000069
【図５７】
0006626833.tif 000070
【図５８ａ】
0006626833.tif 000071
【図５８ｂ】
0006626833.tif 000072
【図５９】
0006626833.tif 000073
【図６０】
0006626833.tif 000074
【図６１】
0006626833.tif 000075
【図６２】
0006626833.tif 000076
【図６３】
0006626833.tif 000077
【図６４】
0006626833.tif 000078
【図６５】
0006626833.tif 000079
【図６６】
0006626833.tif 000080
【図６７ａ】
0006626833.tif 000081
【図６７ｂ】
0006626833.tif 000082
【図６８】
0006626833.tif 000083
【図６９】
0006626833.tif 000084
【図７０】
0006626833.tif 000085