(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
枠体と、前記枠体に張設され、少なくともその一部が金属よりなるメッシュと、前記メッシュに当接し、めっき金属皮膜により接合された印刷パターン貫通孔を有するメタルマスクにより構成されたメッシュ一体型メタルマスクであって、前記メタルマスクの厚さが５μｍ以下であり、前記メタルマスク外周の縦・横少なくとも１辺の長さが、前記印刷パターン貫通孔を有する印刷パターンエリアの長さに対して１２０％以下であり、前記メタルマスクの周囲の前記メッシュの開口が目止めされるメッシュ一体型メタルマスク。
【請求項２】
前記目止め部分が前記メタルマスク表面と面一もしくはそれよりも低くなっている請求項１に記載のメッシュ一体型メタルマスク。
【請求項３】
前記目止め部分が前記メッシュの厚さより厚く、前記目止め部分の前記メッシュ表面より露出した部分の厚みと前記メタルマスクの厚みとの差が１０μｍ以下である、請求項１に記載のメッシュ一体型メタルマスク。
【請求項４】
前記メタルマスクの厚みが前記目止め部分の前記メッシュ表面より露出した部分の厚みより厚い請求項３に記載のメッシュ一体型メタルマスク。
【請求項５】
前記メタルマスクの厚みと前記目止め部分の前記メッシュ表面より露出した部分の厚みの差は５μｍ以下である請求項４に記載のメッシュ一体型メタルマスク。
【請求項６】
前記メタルマスクの対角線の長さが、前記枠体の内側開口部の対角線の長さに対して６０％以下である請求項１から５のいずれか一項に記載のメッシュ一体型メタルマスク。
【請求項７】
前記メタルマスク外周の縦・横少なくとも１辺の長さが、前記枠体の内側開口部の前記メタルマスクの前記長さと同方向の一辺の長さに対して６０％以下である請求項１から５のいずれか一項に記載のメッシュ一体型メタルマスク。
【請求項８】
前記メタルマスクの面積が、前記枠体の内側開口部の面積に対して４０％未満である請求項１から５のいずれか一項に記載のメッシュ一体型メタルマスク。
【請求項９】
前記枠体の内側開口部の最長寸法に対する前記メタルマスクの最長寸法が６０％以下である請求項１から５のいずれか一項に記載のメッシュ一体型メタルマスク。
【請求項１０】
前記目止め部分が感光性のエマルジョン乳剤、感光性樹脂又は接着材を用いて構成されている請求項１〜８のいずれか一項記載のメッシュ一体型メタルマスク。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、メッシュ一体型メタルマスクに関する。
【背景技術】
【０００２】
メッシュ一体型メタルマスクは、例えば、積層セラミックコンデンサ、インダクタといったチップ状電子部品の内部電極等のスクリーン印刷に使用される。
【０００３】
特許文献１には、電鋳により所望の印刷パターンにパターンニング形成された多数の開口部を有するメタルマスクを、導電性を有するメッシュの上に電着接合（一体化）させたメッシュ一体型メタルマスクの製法が開示されている。これによれば、メッシュの上に感光性樹脂などからなるマスクを形成したものに比べて耐薬品性、耐摩耗性に優れ、スキージ印圧による寸法変化が極めて小さく、比較的に精度の高いシャープな印刷を期することができる。
【０００４】
一方で、近年の電子部品の小型化、高密度化の流れに伴い、積層セラミックコンデンサにおいては小型大容量化が求められる。小型大容量化のためには、積層する誘電体層を更に増加し、１層当たりの誘電体層を更に薄くすることが進んでおり、それに伴って内部電極パターンをスクリーン印刷法で薄く、高い位置精度、高い寸法精度にて印刷することが要求されてきている。
【０００５】
薄膜対応としてのメッシュ一体型メタルマスクの製法が特許文献１、特許文献２に開示されている。図７は、メッシュ一体型メタルマスクの一般的な製造方法の模式説明図である。図７（Ａ）に示すように、導電性を有する電鋳母型７１を用意し、同図（Ｂ）に示すように、この電鋳母型７１上にレジスト等の絶縁膜で絶縁パターン７２を形成する。絶縁パターン７２の形状は、得られるメッシュ一体型メタルマスクにおける開口部、換言すると、印刷により形成されるべきパターンの形状に対応させる。次いで、同図（Ｃ）に示すように、ニッケルめっき等のめっき技術等により、メタルマスク７３を形成する。このとき、絶縁パターン７２の箇所はめっき生成が妨げられて、メタルマスク７３における開口になる。その後、同図（Ｄ）に示すように、枠体に張設された導電性を有するメッシュ７４をメタルマスク７３上に押しつけてニッケルめっき等のめっきにより両者を一体化せしめる。一体化したメタルマスク７３及びメッシュ７４を電鋳母型７１から剥がすことにより、メッシュ一体型メタルマスク７０を得る（同図（Ｅ））。上述したように、メッシュ一体型メタルマスク７０において、絶縁パターン７２に相当する箇所に開口７５が形成される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平８−１８３１５１号公報
【特許文献２】特開２０１０−４２５６７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上述したように、メタルマスクを導電性のメッシュに接合する際、電鋳母型およびメタルマスク（電着層）をメッシュにテンションをかけて押し付ける必要がある。このとき、メッシュが引き伸ばされた状態でメタルマスクが接合されることになるため、接合後にメタルマスクから電鋳母型を剥離すると押し付けによるメッシュの伸びが緩和され、同時にメタルマスク自体も変形してしまう。その結果として、メタルマスク上に形成されたパターンに位置ズレが発生し、高精度のスクリーンマスクを製作することができない。特に、積層セラミックコンデンサの内部電極および誘電体層の印刷に用いるマスクのようにメタルマスクが薄いものでは、このパターンの位置ズレが大きく、その安定性も低い。
【０００８】
このように、電鋳母型およびメタルマスク（電着層）をメッシュにテンションをかけて押し付けるときに、押し付けを強くすればするほどメッシュは大きく伸ばされ、結果としてパターンの位置ズレは大きくなる。逆に押し付けが弱いとメッシュとメタルマスクの密着が不充分で接合不良の原因となる。以上を鑑みて、本発明は、メッシュ及びメタルマスクの充分な密着性の確保、ならびにパターンの位置ズレを小さくすることを両立し得るメッシュ一体型メタルマスクの提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明によれば、枠体と、前記枠体に張設され、少なくともその一部が金属よりなるメッシュと、前記メッシュに当接し、めっき金属皮膜により接合された印刷パターン貫通孔を有するメタルマスクにより構成されたメッシュ一体型メタルマスクであって、前記枠体の内側開口部の最長寸法に対する前記メタルマスクの最長寸法は６０％以下であり、前記メタルマスクの周囲の前記メッシュの開口が目止めされるメッシュ一体型メタルマスクが提供される。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、メッシュとメタルマスクとの間の密着性は充分であり、かつ、パターンの位置ズレ量や寸法ずれ量を小さくすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】メタルマスクとメッシュとの一体化工程の模式断面図である。
【図２】メッシュ一体型メタルマスクの模式平面図である。
【図３】メタルマスクとメッシュとの一体化の際に生じる圧力分布を示す。
【図４】メタルマスクとメッシュとの一体化の際に生じるメッシュへの負荷の分布に関する計算結果を示す。
【図５】パターンの位置ズレ及び寸法ズレについての模式説明図である。
【図６】パターン及び寸法のズレを示す。
【図７】メッシュ一体型メタルマスクの一般的な製造方法の模式説明図である。
【図８】実施例と比較例のメタルマスク寸法条件とパターン位置ずれ量、寸法ズレ量を表に示す。
【図９】パターン位置ずれ量、寸法ズレ量を図示したものである。
【図１０】メッシュ一体型メタルマスクの模式断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
図面を適宜参照しながら本発明を詳述する。但し、本発明は図示された態様に限定されるわけでなく、また、図面においては発明の特徴的な部分を強調して表現することがあるので、図面各部において縮尺の正確性は必ずしも担保されていない。
【００１３】
図１は、メタルマスクとメッシュとの一体化工程の模式断面図である。図１（Ａ）は本発明のメッシュ一体型メタルマスクを製造する場合の模式断面図である。絶縁パターン１２が形成された電鋳母型１４上に、メタルマスク１３が形成され、枠体に張設されたメッシュ１１が押し付けられる様子が描写されている。本発明によれば、メタルマスク１３のサイズは印刷パターンエリアと略等しいため、メッシュ１１を弱い力でメタルマスク１３に押し付けるだけで、メッシュ１１とメタルマスク１３との充分な密着が図れる。このため、押し付けによるメッシュ１１の伸びが小さくなり、結果的に、位置ズレが小さくなる。とりわけ、符号Ｉで示す領域、換言すると、電鋳母型１４の端部付近におけるメッシュ１１への負荷が過大にならないことに、利点を見出すことができる。
【００１４】
ここで、印刷パターンエリアは、メタルマスクにおいて予め定めた位置及び形状の開口が形成されている領域であると定義される。メタルマスクのサイズが印刷パターンエリアと等しいということは、メタルマスクのほぼ全域にわたって印刷パターンのための開口が所定の位置及び形状にて設けられていることを意味する。
【００１５】
図１（Ｂ）は従来技術におけるメッシュ一体型メタルマスクを製造する場合の模式断面図である。絶縁パターン１８が形成された電鋳母型１９上に、メタルマスク１７が形成され、枠体に張設されたメッシュ１６が押し付けられる様子が描写されている。従来技術の場合は、メタルマスク１７のサイズは印刷パターンエリアより大きく、絶縁パターン１８が形成された領域を包含してさらにその周囲にわたってメタルマスク１７が存在する。この場合、印刷パターンエリアの面積に対して相対的に広い面積にわたってメッシュ１６とメタルマスク１７とを一体化させねばならず、一体化の際には相対的に強い押し付け力が必要になる。このため、押し付けによるメッシュ１６の伸びが大きくなり、結果的に、位置ズレが大きくなる。とりわけ、符号ＩＩで示す領域、換言すると、電鋳母型１９の端部付近におけるメッシュ１６への負荷が過大になってしまう。
【００１６】
電鋳母型１９の端部のなかでもとりわけ電鋳母型１９の角部分すなわち枠体の角付近における負荷が大きい。したがって、電鋳母型１９の角部分を大きく面取りすることで、電鋳母型１９の縦・横の辺のいずれか一方もしくは両方を小さくし、メタルマスク１７の縦・横の辺のいずれか一方もしくは両方の長さを印刷パターンエリアの長さと略等しくすることでも上記と同様の効果が得られる。
【００１７】
従来は、スクリーン印刷用メタルマスクにおいては、スキージおよびスクレッパが移動する範囲はメタルで構成されていたが、本発明者らは、メッシュに接合するメタルマスクが非常に薄い場合には、印刷パターンエリアのみをメタルとしても印刷上問題とならない、言い換えれば、通常品と同等の印刷性能が得られることを新たに見出している。
【００１８】
図２はメッシュ一体型メタルマスクの模式平面図である。図２（Ａ）は本発明に係るメッシュ一体型メタルマスクを表している。図２（Ｃ）は本発明の係わるメッシュ一体型メタルマスクのもう一つの例である。両例とも、中央付近の符号２１で表す領域がメッシュと一体になったメタルマスクの領域である。メタルマスク２１の周囲には目止め部分２２が設けられている。
【００１９】
目止め部分２２の役割はメッシュの開口部を通して印刷ペーストがスクリーン下の被印刷物以外の部分に付着することを防止するためである。前記役割を果たし得る限りにおいて、目止め部分２２の材質は特に限定は無く、好ましくは、感光性のエマルジョン乳剤、感光性樹脂又は接着剤が使用される。目止め部分はメッシュの厚さ以下に収めても、メッシュ表面から数μｍ露出していてもよい。
【００２０】
通常の印刷においては、印刷パターンエリアの一辺に外接する領域に充分量の印刷ペーストを一時的に貯めおき、これをスクレッパにて印刷パターンエリアに均等に膜状に広げ、これをスキージにて印刷パターン開口部に刷り入れて行く。スキージの数、スクレッパの数や、スキージ、スクレッパそれぞれの移動方向などにバラエティーがあるので、場合によっては、印刷ペーストを一時的に貯める領域は、印刷パターンエリアの両端に外接して存在する場合もある。本稿ではこの充分量の印刷ペーストを一時的に貯めおく領域を、その機能からペーストの供給部および保持部と呼ぶ。本発明のメッシュ一体型メタルマスクにはペーストの供給部および保持部が存在し、ペーストの供給部及び保持部には、メタルマスクが構成されていない。ペーストの供給部および保持部の構造や製法については、従来技術を適宜参照することができる。
【００２１】
図２（Ｂ）は従来技術におけるメッシュ一体型メタルマスクを表している。符号２６で示される領域がメッシュと一体になったメタルマスクを表している。その周囲の領域２７は、目止めされたメッシュがメッシュと一体になったメタルマスクを保持している。従来例のメッシュ一体型メタルマスクにもペーストの供給部および保持部が存在するが、ペーストの供給部及び保持部には、メタルマスクが構成されている。
【００２２】
本発明によれば、目止め部分の厚さは、メッシュの厚さとの関係で適宜定めることができる。好適な一態様として、目止め部分はメッシュの厚さを超えない。この場合は、メタルマスクの厚さは好ましくは、１０μｍ以下であり、より好ましくは５μｍ以下である。目止め部分の厚さがメッシュの厚さを超えずに、メタルマスクの厚さが前記範囲内であれば、印刷時に目止め部分とメタルマスク部分の境界をスキージやスクレッパが段差の影響を受けずに移動できるという利点が見込まれる（図１０(Ａ)）。メタル端部付近がスキージされることによるメッシュへの力がかかりにくく、歪が発生しにくく、メタルの剥離による版寿命の低下が起きにくく、スキージ角の摩耗促進による寿命低下の懸念も少なくなる。
【００２３】
別の一態様として、目止め部分がメッシュよりも厚くメッシュ表面から数μｍ膜として露出している場合がある。この場合は、目止め部分のメッシュ表面から露出している厚さとメタルマスクとの厚さの差異は小さければ小さいほど好ましく、具体的には前記差異は１０μｍ以下である（図１０（Ｂ）、図１０（Ｃ））。ここで、符号１０１は目止め部分を表し、符号１０２はメタルマスクを表し、符号１０３はメッシュを表す。目止め部分のメッシュ表面から露出している厚さとメタルマスクとの厚さの差が小さいこと、換言すると、「段差」が少ないことにより、メタル端部付近がスキージされることによるメッシュへの力がかかりにくく、歪が発生しにくく、メタルの剥離による版寿命の低下が起きにくく、スキージ角の摩耗促進による寿命低下の懸念も少なくなる。
【００２４】
なお、目止め部分がメッシュより厚く、かつ、メタルマスクが目止め部分のメッシュ表面から露出している厚さより厚いことも好適な一態様である。この場合、より好ましくは、メタルマスクの厚さと目止め部分のメッシュ表面から露出している厚さとの差は５μｍ以下である（図１０（Ｃ））。
【００２５】
図１０（Ｃ）の下に記載した表は、メタルマスクの厚み、目止め部分の厚み、前記両厚みの差、スクリーンの寿命、をまとめたものである。寿命についての判定基準を図１０の最下部に記載している。
【００２６】
本発明によれば、枠体の内側の最長寸法に対してメタルマスクの最長寸法の比は、好ましくは６０％以下であり、より好ましくは５０％以下である。ここで、「枠体」はスクリーンを保持しメッシュを張設する保持体のことである。枠体の内側の「最長寸法」は張設されたメッシュの最長寸法を意味し、この最長寸法は、通常、対角線の長さをさす。メタルマスクの「最長寸法」は正方形や長方形のメタルマスクの場合は、通常、対角線の長さとなるが、メタルマスクの形状によってはこの限りではない。最長寸法の関係が６０％以下であることにより、図８、図９よりパターン位置ずれ量の平均値が従来例のおよそ１/２と少なくできるという利点が見込まれる。又、最長寸法の関係が５０％以下であるときは、図８、図９よりパターン位置ずれ量が±１０μｍ以内に収まるという利点が見込まれる。
【００２７】
又、本発明によれば、枠体の内側の長さに対してメタルマスクの長さは、好ましくは６０％以下である。枠体の内側の「長さ」は張設されたメッシュの縦もしくは横方向の長さを意味し、メタルマスクの「長さ」はメタルマスクの縦辺もしくは横辺の部分の長さを意味する。これらの「長さ」の関係が６０％以下であることにより、図８、図９よりその方向の寸法ずれ量の平均値が従来例のおよそ１/２になるという利点が見込まれる。
【００２８】
更に、本発明によれば、枠体の内側の面積に対してメタルマスクの面積は、好ましくは４０％以下である。枠体の内側の「面積」は張設されたメッシュの面積を意味し、メタルマスクの「面積」はメタルマスクに内に作られた印刷パターン貫通孔の部分を含む全体の面積を意味する。これらの「面積」の関係が４０％以下であることにより、図８、図９よりパターン位置ずれ量の平均値が従来例のおよそ１/２と少なくできるという利点が見込まれる。
【００２９】
本発明によれば、メタルマスクの外周の縦・横少なくとも１辺の長さが印刷パターンエリアの外周の縦・横少なくとも１辺の長さに対して好ましくは、１２０％以内である。ここで印刷パターンエリアの「長さ」とは、メタルマスクに内に作られた印刷パターン貫通孔の全てを内包できる四角形の外周部分の縦もしくは横の長さを意味する。この「長さ」の関係が上記範囲内であることにより、メタルマスクとメッシュとの一体化工程で、パターンエリアの長さに対して最小限のメタルマスクの長さとすることができるため、図１にあるような歪の少ない一体化が見込まれる。
【００３０】
図３は、メタルマスクとメッシュとの一体化の際に生じる圧力分布を示す。前記一体化の際に生じる圧力を圧力センサにて測定して、圧力値を相対値として色の濃さで表現している。図３（Ａ）は従来技術におけるメタルマスクとメッシュとの一体化の際の圧力分布を示す。メタルマスク中央部では圧力が相対的に小さく、メタルマスクとメッシュとの一体化に足る最小限の圧力であるといえる。その場合に、メタルマスクの端部では相対的に大きな圧力が発生しており、さらに端部のなかでもとりわけメタルマスクの角部分では、特に大きな圧力が発生しておりメッシュに大きな負荷がかかかっていることが推察される。
【００３１】
図３（Ｂ）は本発明に係るメタルマスクとメッシュとの一体化の際の圧力分布を示す。特徴的であるのは、メタルマスクの端部において圧力が相対的に低くかつばらつきが少ないことである。したがって、メッシュとメタルマスクとの押し付けの圧力を大きくしても、端部付近におけるメッシュへの過大な負荷は生じにくいため、メッシュとメタルマスクとを大きな圧力で押し付けて充分な一体化を促進するとともに、メッシュの歪を小さくすることができる。図３（Ｃ）は本発明に係るメタルマスクとメッシュとの一体化の際の圧力分布のもう一つの例を示す。特徴的であるのは、メタルマスクの角端部において圧力が相対的に低くかつばらつきが少ないことである。したがって、この場合でもメッシュとメタルマスクとの押し付けの圧力を大きくしても、角部付近におけるメッシュへの過大な負荷は生じにくいため、メッシュとメタルマスクとを大きな圧力で押し付けて充分な一体化を促進するとともに、メッシュの歪を小さくすることができる。
【００３２】
図４は、メタルマスクとメッシュとの一体化の際に生じるメッシュへの負荷の分布に関する計算結果を示す。図４（Ａ）は従来技術におけるメタルマスクとメッシュとの一体化の際の負荷分布を示す。メタルマスクの端部では相対的に大きな負荷が発生しており、メッシュの歪が増大するという計算結果が得られた。図４（Ｂ）は本発明に係るメタルマスクとメッシュとの一体化の際の負荷分布を示す。図４（Ａ）の場合とは異なり、メタルマスクの端部において負荷が相対的に低くかつメッシュの歪も小さくなることが計算により示された。図４（Ｃ）は本発明に係るメタルマスクとメッシュとの一体化の際の負荷分布のもう一つの例を示す。図４（Ａ）の場合とは異なり、メタルマスクの角部において負荷が相対的に低くかつメッシュの歪も小さくなることが計算により示された。
【００３３】
図５はパターンの位置ズレ及び寸法ズレについての模式説明図である。
図５（Ａ）の位置ずれをプラス方向と定義し、図５（Ｂ）の位置ずれをマイナス方向と定義する。図５（Ａ）におけるパターンエリア５１の位置ズレを符号５３で示す。符号５２の点線はパターンエリアの設計値であり位置ずれが０の場合を示している。同様に、図５（Ｂ）におけるパターンエリア５１の位置ズレを符号５４で示す。符号５２の点線の意味内容は図５（Ａ）の場合と同様である。両図では、パターンエリア形状の歪みが表現されている。強く不均一な押し付けによって、接合時のメッシュの伸びが大きくかつバランスが崩れた際に位置ズレが大きくなる。
【００３４】
図５（Ｃ）は従来技術におけるパターンエリア寸法の設計値からのズレを示す。図５（Ｄ）は本発明におけるパターンエリア寸法の設計値からのズレを示す。符号５１は実測されるパターンエリアの模式図であり、符号５２で示される点線は設計値を示す。従来技術においては、図５（Ｃ）に示すように、押し付け量が大きく、接合時のメッシュの伸びが大きくなり、メタルマスク上のパターン寸法が小さくなってしまう。本発明においては、図５（Ｄ）に示すように、接合時の押し付け量を小さくできるので、パターン寸法は大きくなり、設計値からの寸法ズレが小さい。
【００３５】
図５（Ｅ）及び図５（Ｆ）はメッシュの変形とパターンの位置ズレとの関係を模式的に示す。図５（Ｅ）に示すように、メタルマスク５５とメッシュ５６とを押し付け治具５７等を用いて一体化する。このとき、メッシュ５６が変形した状態でパターンを固着させるため、図５（Ｆ）のように、治具５７を取り外し、基板をメタルマスク５５から剥がしとるとパターンの位置がずれてしまう。
【００３６】
図６はパターン及び寸法のズレを示す。図６（Ａ）はパターンの位置ズレを、図６（Ｂ）はＸ方向の寸法ズレを、図６（Ｃ）はＹ方向の寸法ズレをそれぞれ示す。各グラフの横軸は試料番号である。各グラフには、従来技術及び本発明の実施品に係るメッシュ一体型メタルマスクの測定値がプロットされている。本発明のメッシュ一体型メタルマスクは、枠体の内側開口部寸法が縦横各々７１６ｍｍ、対角線寸法１０１３ｍｍの枠体を使用し、メタルマスクの厚さが５μｍ、メッシュの厚さが２０μｍ、目止め部分の厚さが１μｍ未満であり、メタルマスクの縦横寸法は各々３２０ｍｍ、対角線がメタルマスクの最大寸法４５２ｍｍとなり、枠体の内側の最長寸法に対するメタルマスクの最長寸法の比率が４５％であり、メタルマスクの長さは印刷パターンエリア長さに対する比率は１０７％である。本発明のもう一つの例のメッシュ一体型メタルマスクは、同一の枠体を使用し、メタルマスクの角を切り落とした形状で厚さが５μｍ、メッシュの厚さが２０μｍ、目止め部分の厚さが１μｍ未満であり、メタルマスクの縦横の最大寸法は各々５００ｍｍ、四角の切り落とし部分の直角三角形の1辺の長さは８０ｍｍ、メタルマスクの最長寸法は６０５ｍｍ、枠体の内側の最長寸法に対するメタルマスクの最長寸法の比率が６０％であり、メタルマスクの長さの印刷パターンエリア長さに対する比率は１６７％である。目止め部分の材質はエマルジョン乳剤である。従来技術におけるメッシュ一体型メタルマスクでは、同一の枠体を使用し、メタルマスクの縦横寸法は各々５００ｍｍであったので、枠体の内側の最長寸法に対するメタルマスクの最長寸法の比率が７０％でメタルマスクの長さの印刷パターンエリア長さに対する比率は１６７％であった。▲のプロットは従来技術のメッシュ一体型メタルマスクにおける測定値、■のプロットは本発明のメッシュ一体型メタルマスクにおける測定値、◆のプロットは本発明のもう一つの例のメッシュ一体型メタルマスクにおける測定値を表す。図６（Ａ）〜（Ｃ）に示す通り、本発明に係るメッシュ一体型メタルマスクでは、従来品よりも、パターンの位置ズレ及び寸法ズレが小さかった。
【００３７】
同様に、メタルマスクの寸法や形を変えて実験した結果が、図８、それをグラフ化したものが図９である。枠体の最長寸法とメタルマスクの最長寸法が６０％以下であれば、図８、図９よりパターン位置ずれ量の平均値が従来例のおよそ１/２と少なくできるという利点が見込まれる。又、最長寸法の関係が５０％以下であるときは、図８、図９よりパターン位置ずれ量が±１０μｍ以内に収まるという利点が見込まれる。
【００３８】
メタルマスク外周の縦・横少なくとも１辺の長さが、枠体の内側開口部のメタルマスクの長さと同方向の一辺の長さに対して６０％以下であることにより、図８、図９よりその方向の寸法ずれ量の平均値が従来例のおよそ１/２になる。
【００３９】
メタルマスクの面積が、枠体の内側開口部の面積に対して４０％以下であることにより、図８、図９よりパターン位置ずれ量の平均値が従来例のおよそ１/２と少なくできるという利点が見込まれる。
【００４０】
なお、図８（Ａ）において、条件１２は縦横は５００ｍｍであるが、４つの角部を各々１辺８０ｍｍの直角三角形分だけ面取りした（切り落とした）形状である。条件８は一辺の長さの比率は本発明範囲内であるが、最長部の比率を満たさないので本発明の実施には該当しない。なお図８（Ｂ）において、ＸとＹ方向が同様の方向ズレ量にならないのは、メッシュが枠体に対して３０度傾けて張られているためであると考察されている。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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