【事件の表示】
　特許第３２８２８０４号「エキシマ照射装置」の請求項１ないし４に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３２８２８０４号の請求項１に係る特許を取り消す。
【理　由】
第１．手続の経緯
　本件特許第３２８２８０４号に係る手続の経緯の概要は、以下のとおりである。
　平成１１年５月１９日　　　特許出願
　平成１４年３月１日　　　　特許権の設定の登録
　平成１４年５月２０日　　　特許掲載公報の発行
　平成１４年１１月１９日　　武本房子から特許異議の申立て
　平成１５年４月７日付　　　取消理由の通知
　平成１５年６月１７日　　　意見書及び訂正請求書の提出
　平成１５年６月２３日付　　申立人への審尋
　平成１５年８月２９日　　　申立人からの回答書
　平成１５年９月１８日付　　取消理由の通知
　平成１５年１２月２日　　　意見書及び訂正請求書の提出
　平成１５年１２月１２日　　平成１５年６月１７日付訂正請求書の取下げ
　
第２．訂正の適否について
１．訂正事項
訂正事項ａ
　特許請求の範囲の請求項１、２及び４を削除するとともに、請求項３に「前記電源部は、直流電圧をオシレーターで１〜３ＭＨｚの所定の周波数に変換し、その後増幅し、１〜３ｋＶの範囲内の値に調整した高周波電圧をエキシマランプに印加することを特徴とする請求項１記載のエキシマ照射装置。
」とあるのを、以下のとおりに訂正し、請求項１とする。
「二以上のエキシマランプを備えるエキシマ照射部と、前記エキシマランプに高周波電圧を印加する電源部と、からなるエキシマ照射装置であって、
　前記エキシマ照射部は、前記エキシマランプから発生するエキシマ光を透過する照射面と、当該照射面の反対面に設けられて前記エキシマ光を反射する反射面とを有し、
　前記エキシマランプは、放電管と、当該放電管の内側に配置される内部管と、前記放電管内に充填される放電用ガスと、前記放電管の外側に配置される外部電極と、前記内部管の内側に配置される網状の内部電極とを有し、前記反射面には、冷却および充填用ガスを前記エキシマランプに吹き付けるための、冷却および充填用ガス吹付口が設けられ、前記内部管には、冷却用ガスの導入口が設けられており、
　さらに、前記電源部は、直流電圧をオシレーターで１〜３ＭＨｚの範囲内の所定の周波数に変換し、その後、増幅器で１〜３ｋＶの範囲内の所定の電圧に調整した高周波電圧をエキシマランプに印加することで、エキシマランプを共振させることを特徴とするエキシマ照射装置。」
　
訂正事項ｂ
　「図５」を削除し、「図６」を繰り上げて「図５」と訂正する。
　
訂正事項ｃ
(ｃ−１)段落【０００９】にある「１〜２０ＭＨｚの範囲内で該エキシマラ　ンプの静電容量と共振点が一致する周波数条件からなる」を削除する。
(ｃ−２)同段落にある「前記内部管の内側に配置される内部電極」を、「前　記内部管の内側に配置される網状の内部電極」と訂正する。
(ｃ−３)同段落にある「前記反射面には、冷却および充填用ガス吹付口が設　けられ、」を、「前記反射面には、冷却および充填用ガスを前記エキシマ　ランプに吹き付けるための、冷却および充填用ガス吹付口が設けられ、」　と訂正する。
(ｃ−４)同段落にある「冷却用ガスの導入口が設けられていることに特徴を　有する。」を、「冷却用ガスの導入口が設けられており、さらに、前記電　源部は、直流電圧をオシレーターで１〜３ＭＨｚの範囲内の所定の周波数　に変換し、その後、増幅器で１〜３ｋＶの範囲内の所定の電圧に調整した　高周波電圧をエキシマランプに印加することで、エキシマランプを共振さ　せることに特徴を有する。」と訂正する。
(ｃ−５)明細書の段落【００１０】にある「エキシマランプの静電容量と共　振点が一致する周波数条件で、１〜２０ＭＨｚの範囲内の高周波電圧が印　加されるので、」を、「直流電圧をオシレーターで１〜３ＭＨｚの範囲内　の所定の周波数に変換し、その後、増幅器で１〜３ｋＶの範囲内の所定の　電圧に調整した高周波電圧をエキシマランプに印加することで、エキシマ　ランプを共振させるので、」と訂正する。
(ｃ−６)段落【００１１】、【００１３】及び【００１５】の記載を全部削　除する。
(ｃ−７)段落【００３７】にある「高周波電圧は、１〜２０ＭＨｚの周波数　の範囲内で、エキシマランプ４の静電容量と共振点が一致する周波数条件　からなり、電源部３から出力される。」を、「直流電圧をオシレーターで　１〜３ＭＨｚの範囲内の所定の周波数に変換し、その後、増幅器で１〜３　ｋＶの範囲内の所定の電圧に調整された高周波電圧は、電源部３から出力　され、エキシマランプに印加されることで、エキシマランプを共振させる　ことことができる。」と訂正する
(ｃ−８)段落【００３８】にある「図５と図６は、」を、「図５は、」と訂　正する。
(ｃ−９)同段落にある「いずれの電源部５１、６１も、１〜２０ＭＨｚの」　を、「電源部６１は、１〜３ＭＨｚの」と訂正する。
(ｃ−10)同段落にある「図５は、所定の周波数に変換した高周波電圧を、マ　ッチングコントローラーによって所定の電圧に調整して印加する方式（以
　下「第一変換方式」という。）を示しており、図６は」を、「図５は、」　と訂正する。
(ｃ−11)同段落にある「（以下「第二変換方式」という。）」を削除する。
(ｃ−12)同段落にある「これらの式」を、「この方式」と訂正する。
(ｃ−13)同段落にある「共振点が一致する周波数条件」を、「共振するよう　な周波数条件」と訂正する。
(ｃ−14)段落【００３９】、【００４０】及び【００４１】の記載を全部削　除する。
(ｃ−15)段落【００４２】にある「第二変換方式」を、「この方式」と訂正　する。
(ｃ−16)同段落にある「図６に示すように」を、「図５に示すように」と訂　正する。
(ｃ−17)段落【００４３】にある「Ｑ値が調整６７されて」を、「Ｑ値が調　整されて」と訂正する。
(ｃ−18)同段落にある「この第二変換方式」を、「この方式」と訂正する。
(ｃ−19)段落【００４４】にある「こうした第一または第二変換方式」を、　「この変換方式」と訂正する。
(ｃ−20)段落【００４４】にある「電源部５１、６１」を、「電源部６１」　訂正する。
(ｃ−21)段落【００４５】にある「エキシマランプの静電容量と共振点が一　致する周波数条件で、１〜２０ＭＨｚの範囲内の高周波電圧が印加される　ので、」を、「直流電圧をオシレーターで１〜３ＭＨｚの範囲内の所定の　周波数に変換し、その後、増幅器で１〜３ｋＶの範囲内の所定の電圧に調　整した高周波電圧をエキシマランプに印加することで、エキシマランプを　共振させるので、」と訂正する。
(ｃ−22)段落【００４６】の記載を全部削除する。
(ｃ−23)【図面の簡単な説明】にある「【図５】高周波電圧を出力する電源　部の一例　を示す説明図である。」を削除し、「【図６】高周波電圧を出　力する電源部の他の一例を示す説明図である。」を、「【図５】高周波電　圧を出力する電源部を示す説明図である。」と訂正する。
(ｃ−24)【符号の説明】にある「３、５１、６１　電源部」を、「３、６１　　電源部」と訂正する。
　
２．新規事項の有無、訂正の目的の適否及び拡張・変更の存否
(１)訂正事項ａは、特許請求の範囲の減縮を目的として、請求項１、２及び４を削除して、請求項３のみとするとともに、請求項１の削除に伴って、訂正前の請求項１の従属形式で記載されていた訂正前の請求項３を、独立形式に改め、さらに、明りょうでない記載の釈明を目的として、「前記エキシマランプに」と「高周波電圧を印加する電源部」の間にある「１〜２０ｋＭＨｚの範囲内で該エキシマランプの静電容量と共振点が一致する周波数条件からなる」を削除するとともに、文末に「高周波電圧をエキシマランプに印加することを特徴とするエキシマ照射装置」とあるのを、「高周波電圧をエキシマランプに印加することで、エキシマランプを共振させることを特徴とするエキシマ照射装置」とするものであり、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものではない。
(２)訂正事項ｂは、上記訂正事項ａの訂正に伴って生じた、特許請求の範囲と図面の不整合部分の整合を図るものであるから、明りょうでない記載の釈明を目的とする訂正であって、願書に添付した明細書に記載された事項の範囲内の訂正であり、また、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものでもない。
(３)訂正事項ｃは、(ｃ−17)以外は、上記訂正事項ａの訂正に伴って生じたい、特許請求の範囲の記載と発明の詳細な説明の記載との間の不整合部分の整合を図るものであるから、明りょうでない記載の釈明を目的とする訂正であって、願書に添付した明細書に記載された事項の範囲内の訂正であり、また、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものでもない。
(４)訂正事項(ｃ−17)は、誤記の訂正を目的とする訂正であって、願書に添付した明細書に記載された事項の範囲内の訂正であり、また、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものでもない。
　
３．むすび
　以上のとおりであるから、上記訂正請求は、特許法第１２０条の４第２項の規定及び同条第３項において準用する特許法第１２６条第２項及び第３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
第３．本件発明
　前項に記載したとおり、本件訂正請求は認められるから、本件特許に係る発明は、平成１５年１２月２日付訂正請求書に添付した全文訂正明細書の特許請求の範囲の請求項１に記載された以下のとおりのものと認める。以下、「本件発明」という。
「二以上のエキシマランプを備えるエキシマ照射部と、前記エキシマランプに高周波電圧を印加する電源部と、からなるエキシマ照射装置であって、
　前記エキシマ照射部は、前記エキシマランプから発生するエキシマ光を透過する照射面と、当該照射面の反対面に設けられて前記エキシマ光を反射する反射面とを有し、
　前記エキシマランプは、放電管と、当該放電管の内側に配置される内部管と、前記放電管内に充填される放電用ガスと、前記放電管の外側に配置される外部電極と、前記内部管の内側に配置される網状の内部電極とを有し、前記反射面には、冷却および充填ガスを前記エキシマランプに吹き付けるための、冷却および充填用ガス吹付口が設けられ、前記内部管には、冷却用ガスの導入口が設けられており、
　さらに、前記電源部は、直流電圧をオシレーターで１〜３ＭＨｚの範囲内の所定の周波数に変換し、その後増幅し、１〜３ｋＶの範囲内の所定の電圧に調整した高周波電圧をエキシマランプに印加することで、エキシマランプを共振させることを特徴とするエキシマランプ装置。」
　
第４．取消理由の概要
　平成１５年９月１８日付けで通知した取消理由の概要は、以下のとおりである。
　本件発明は、本件の出願前に頒布された下記の刊行物１〜５に記載された発明に基づいて、その発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものである。
　よって、本件の請求項１に係る特許は、特許法第２９条第２項に規定に違反して特許されたものである。
　　　　　　　　　　　　　　　記
刊行物１：特開平３−２０１３５８号公報（申立人が提出した甲第４号証）
刊行物２：特開平８−３１５８５号公報（平成１５年８月２９日付回答書に　　　　　添付された参考資料）
刊行物３：特開平１１−４５６８４号公報（申立人が提出した甲第１号証）
刊行物４：特開平５−１７４７９３号公報
刊行物５：特開平７−２８８１０９号公報
　
第５．各刊行物に記載された発明
刊行物１：
　高出力ビーム放射装置に関し、図面と共に、
(1a)「高出力ビーム放射装置であって、該高出力ビーム放射装置は放電条件の下にビームを送出する充てんガスで満たされた放電室（５）を備え、該放電室の壁は第１の管状誘電体（１）と第２の誘電体（３）とにより形成されており、該第１の管状誘電体は放電室（５）とは反対側の誘電体表面に第１の電極（２，７）を備え、さらに第２の誘電体は第２の電極（４）を備え、さらに前記高出力放電装置は、該第１のおよび第２の電極へ接続されている、放電に対する給電用の交流電流源（６）を備えている、高出力ビーム放電装置において、第１の管状誘電体（１）の内部に誘電体材料から成るロッド（３）が設けられており、該ロッドの内部に導電体（４）が挿入されているまたは埋め込まれており、該導電体が第２の電極を構成することを特徴とする高出力ビーム放射装置。」（特許請求の範囲の請求項１）
(1b)反射器について、「複数個のこの種の偏心的な放射装置を、大きい面の照射用に適したブロック体に、容易に組み合わせることができる。アルミニウムブロックにおける（半円筒状の）切欠は、石英放電管のためのとしてかつ同時に（アース）電極としてさらに反射器として用いられる。」（第３頁左下欄下から第６行〜末行）
(1c)冷却について、「一層高い出力の場合は、例えば付加的に冷却チャンネルを設けて、アルミニウムブロックを冷やすことができる。例えば内部電極を冷却チャンネルとして形成することにより、個々の気体放電を付加的に冷やすこともできる。」（第３頁右下欄下から第１０〜６行）
(1d)処理室へのガスの案内について、「この場合に本発明による構成においては、ＵＶを透過させるガスを例えばちっ素またはアルゴンを処理室の中へ案内するための手段が設けられている。第１電極が、例えば請求項５に示されているように、溝の設けられた金属ブロックから構成されている時は、この種のガス案内を多額の技術的費用なしに、例えば不活性ガスの供給される、放電室へ連通するチャンネルにより、実施される。このチャンネルを通って案内される不活性ガスはさらにビームの冷却のために用いられる。そのため、多くの場合は別個の冷却チャンネルを設けなくてすむようになる。」（第４頁左上欄下から第７行〜右上欄第５行）
と記載され、実施例について、
(1e)「第１図に石英管１が示されている。この石英管は、その肉厚が約０．１〜１．５ｍｍで外径が２０〜３０ｍｍであり、さらに金網として形成される外側電極２を有する。この石英管１の中に同心的に第２の石英管３が設けられている。この石英管３の外径は石英管１の内径よりも著しく小さく、代表的には３〜５ｍｍの外径を有する。内側石英管３の中を線４が通されている。この線が放射装置の内側電極を構成し、金網２が放射装置の外側電極を構成する。外側石英管１はその両端において閉鎖されている。両方の管１と３との間の空間である放電室５は、放電条件の下にビームを放射するガス／混合ガスにより充たされている。」（第４頁右上欄第８行〜左下欄第１行）
(1f)「交流電流源６の両方の極が接続されている。この交流電流源は基本的には、オゾン発生器を給電するために用いられる交流電流源に相応する。この電流源は、電極寸法、放電室における圧力および充てんガスの組成に依存して、代表値として、周波数が数１０００ＫＨｚまでの交流電流の範囲で電圧が数１００Ｖ〜２００００Ｖのオーダーの可調整の交流電圧を供給する。」（第４頁左下欄第１〜９行）
(1g)「この目的のためにアルミニウム体８は、半円形の断面を有する複数個の並んだ溝９を有する。これらの溝は、外側管の直径よりも大きい間隔で互いに隣り合っている。溝９は外側の石英管１にはまるように適合されており、さらに溝は良好に反射作用を有するように、ワックス等で処理されている。」（第５頁左下欄末行〜右下欄第６行）
(1h)「第９図に示されている放射装置は基本的には第５図の放射装置に相応しており、さらに付加的に金属ブロック８の長手方向に延在するチャンネル１１を有する。これらのチャンネルは処理室１２と、金属ブロック８における複数個の孔またスリット１３を介して連通されている。さらにこの連通は、石英管１の回避されない製造誤差により定められる、外側石英管１と金属ブロック８における溝９との間の著しくせまい隙間を介して行われる。チャンネル１１は、図示されていない不活性ガス源へ例えばちっ素源またはアルゴン源へ接続されている。チャンネル１１から、加圧された不活性ガスが前述のように処理室１２の中へ達する。この処理室は、金属ブロック８における脚１４によりおよび照射されるべき基板１５により区画される。」（第６頁左上欄第６行〜右上欄第１行）
(1i)「第１０図に処理室１２への不活性ガス案内の別の構成が示されている。この場合この放射装置は実質的に第６図のそれに相応する。しかし付加的に、隣り合う石英管の間に、金属ブロック８の長手方向へ延在するチャンネル１１が設けられている。このチャンネルは孔またはスリット１３を介して処理室１２と直接結合されている。その他の点では構成および作用は第９図のそれに相応する。」（第６頁右上欄第９〜１７行）
と記載されている。
　
刊行物２：
　誘電体バリアランプを点灯する装置に関し、図面と共に、
「図１０に示す、放電空間（１）を挟んで電極（２ａ）（２ｂ）の間に、１枚または２枚の誘電体（３）が存在する構成のバリア放電ランプ（４）においては、一方の電極から放電プラズマを経て他方の電極に達する放電路の間に、誘電体すなわち絶縁体が介在する。そしてこの誘電体がコンデンサの働きをすることによって電流が流れることになる。放電中の放電プラズマを近似的に純抵抗と見なせば、誘電体バリア放電ランプは、コンデンサと抵抗とを直列に接続したものと等価であると言え、力率が悪いという欠点がある。例えば、発明者らは、厚さ１ｍｍの石英板２枚を４ｍｍの間隙で配置して形成した放電空間に、キセノンガスを約４０００００Ｐａの圧力で充填した、断面積２００ｃｍ２の誘電体バリア放電ランプを、周波数約１００ＫＨｚ、印加電圧約４ＫＶｒｍｓにおいて点灯した場合について実験した。本条件における結果は、約２００ｐＦのコンデンサと約１．５ＫΩの抵抗とを直列に接続したものと近似的に等価となった。このときの力率は２０％にも満たない。よく知られているように、このような容量性負荷の場合には、直列にコイル（１０）を挿入してＬＣ共振回路を構成することにより、力率が改善できる。さらに共振現象による電圧の増大作用があるため、給電装置の内部電源電圧を下げることができる。そのため共振用コンデンサ（１１）を負荷に並列追加接続して共振を強化することにより、給電装置の内部電源電圧をさらに下げることが可能となる。このような共振現象を利用した回路によって所望の動作を得るには、負荷容量と共振用コンデンサ（１１）の容量、コイル（１０）インダクタンス、負荷抵抗の値により計算される共振周波数に正確一致した周波数で、回路を駆動しなければならない。」（段落【０００５】〜【０００８】）
と記載されている。
　
刊行物３：
(3a)「気密に構成され紫外線発光源となる希ガスが１３０００Ｐａ以上の圧力で封入された放電空間を形成する少なくとも一部に紫外線を透過する電気絶縁体を有する容器と；放電空間外に形成され１００ｋＨｚ以上２ＭＨｚ以下の電圧が印加され電気絶縁体を介して対向する対をなす電極と；を具備していることを特徴とする放電ランプ。」（特許請求の範囲の請求項１）
(3b)「容器は、内管およびこの内管を内方する外管の二重構造で、内管および外管間に放電空間が形成されたことを特徴とする請求項１記載の放電ランプ。」（同請求項２）
(3c)「いわゆる誘電体バリア放電中での真空紫外光の発生メカニズムについて説明する。キセノンガスを０．０数Ｐａ以上封入した場合、キセノンガスから発生する真空紫外光は原子状の共鳴順位の１４７ｎｍよりも、分子状のエキシマ順位からの１７２ｎｍを中心とした発光であることが知られているが、共鳴順位光がキセノンガスにより再吸収されて放電ランプ１の外部に出てこないことによる。」（段落【００２０】〜【００２１】）
と記載され、
(3d)図１０には、横軸を電流密度（ｍＡ／ｃｍ２）、縦軸を電圧（Ｖ）としたグラフが記載されており、該図によれば、ランプへの印加電圧である縦軸の電圧は１０００Ｖから２５００Ｖの範囲となることが図示されている。
　
刊行物４：
(4a)「図１および図２に模式的に示された照射装置はＵＶ高出力ビーム発生器を有する。このＵＶ高出力ビーム発生器は、外部の誘電管１（例えば石英ガラス製）およびそれに同心配置された内部の誘電管２からなる。内部誘電管の内壁には内部電極３が設けられている。２つの管１と２の間のリング状空間はビーム発生器の放電室４を形成する。内部管２はガス気密に外部管１へ差し込まれており、外部管には前もってガスまたはガス混合体が充填されている。このガスは無声放電の影響の下でＵＶビームまたはＶＵＶビームを放射する。」（段落【００１８】）
(4b)「外部電極５として目の粗い金属メッシュを用いるか、または外部電極は管長手方向に延在する個々の金属ワイヤまたは金属条材からなる。外部電極は外部管１のほぼ上側半周囲にわたって延在する。条材状の電極構成の場合、個々の条材は軸上に分布された複数の個所で相互に接続される。外部電極５も、外部誘電管１も、生成されたＵＶビームに対して透過性である。管１の下側周囲には反射器６が設けられている。これは例えば蒸着したアルミニウム層により実現することができる。この反射器は外部電極５と同じ電位にある。」（段落【００１９】）
(4c)「上に述べたビーム発生器は金属壁部７、８、９、１７、１８により画定された冷却剤浴１０に浸漬される。この浴には冷却剤流入部１１と冷却剤流出部１２を介し、冷却剤、有利には蒸留水が流過する。上部にはＵＶ透過性の窓１３、例えば石英ガラス製が設けられている。」（段落【００２０】）
(4d)「発生したビームを窓１３を通して外部空間へ案内するための別の有利な手段は、壁部７、８、９の内側を鏡面仕上げすることである。これはアルミニウム壁部の場合、表面の研磨により行うことができる。有利な実施例では、容器壁部を最適に鏡面化するために浴の底部部分に別個の反射器１４を設ける。この反射器は多数の割目１５を有しており、容器壁部と同じ電位にある。割目は流入部１１から流出部１２への十分な冷却剤流を可能にする。反射器１４は、この反射器によりビーム発生器から下方に照射されたＵＶビームの大部分が反射され、その際ビームがもう一度誘電体１と２を通過する必要のないように構成されている。反射器１４の断面は、２つのパラボラ型部分から統合するも考えられる。」（段落【００２１】）
(4e)「電極３と５は交流電源６の各極に接続されている。交流電源は基本的に、この電流源がオゾン生成の給電に使用されるのと基本的に相応する。典型的には交流電流源は数１００Ｖから２００００Ｖまでのオーダの大きさで調整可能な交流電圧を送出する。この交流電圧の周波数は数１０００ｋＨｚまでの技術的交流電流の領域において、電極の幾何学的形状、放電空管４の圧力および充填ガスの組成に依存する。」（段落【００２２】）
と記載されている。
　
刊行物５：
　キセノン照射装置に関し、図面と共に、
「本発明の第１の実施例である誘電体バリア放電ランプを内蔵したキセノン照射装置を図１に示した。図２にはそのランプの概略図を示した。図２において、放電容器１は全長約１５０ｍｍの合成石英製で、外径約１４ｍｍの肉厚１ｍｍの内側管２、内径約２４ｍｍ肉厚１ｍｍの外側管３を同軸に配置して中空円筒状の放電空間７を形成した構造である。外側管３は誘電体バリア放電の誘電体バリアと光取り出し窓部材を兼用しており、光がよく通過できるメッシュ電極４が設けられている。内側管２の外面には光の反射板と誘電体バリア放電の電極を兼ねたアルミニウム薄膜電極５が設けられている。放電容器の放電空間７に放電ガスとして２５０トールのキセノンガスを封入した。また、ゲッター室８にはゲッター６が設けられている。ランプ１の内側空所９には、必要に応じて冷却流体例えば冷却窒素ガスが流せるようになっている。ここで電源１０によって、該誘電体バリア放電ランプを入力２０ワットで点灯した。その結果、波長１７２ｎｍに最大放射値を有する紫外光が効率よく放射された。図１において、上記した該誘電体バリヤ放電ランプ３１は、合成石英製平面照射窓すなわちエキシマ光取り出し窓部材３４を有する匡体３２の中に取り付けられている。３５は、合成石英製平面照射窓３４の押さえ用フランジもしくは窓枠である。フランジもしくは窓枠の厚さｔが、窓の外面よりも匡体が凸出している凸出寸法となる。３３は、ランプ３１を取り囲むように配置された紫外光反射ミラーである。３６は昇圧トランスである。３７が、匡体内の空気を置換するための窒素ガスの入口、３８がその出口である。匡体内を窒素置換すること、ランプ、ミラーを組合わせることによって、照射窓３２の表面において、平均８ｍＷ／ｃｍ２の照射強度で照度分布＋−１０％の領域が約４０×８０ｍｍの広さの面照射装置が得られた。」（段落【００１５】〜【００１６】）
と記載されている。
　
第６．本件発明と刊行物１記載の発明との対比・判断
１．本件発明と刊行物１記載の発明との対比
　本件発明と刊行物１記載の発明とを対比する。
(１)刊行物１には、誘電体バリア放電による、二重管構造のランプを複数有するエキシマ照射装置に関し、エキシマランプが組み合わされる金属ブロック８（アルミニウム体）は反射器として用いられること（摘記事項(1b)、(1g)参照）が記載されており、該「金属ブロック８」、特に「金属ブロック８」に設けられた「溝９」の表面が、反射面とされていることは明らかである。
(２)刊行物１には、実施例では「内側石英管３の中を線４が通されている。この線が放射装置の内側電極を構成し、金網２が放射装置の外側電極を構成する。」（摘記事項(1e)参照）と記載されるとともに、発明の詳細な説明の項には、「内部電極を冷却チャンネルとして形成することにより、個々の気体放電を付加的に冷やすこともできる」（摘記事項(1c)参照）と記載されており、刊行物１記載のエキシマランプは、本件発明と同様に「放電管の外側に配置される外部電極と、前記内部管の内側に配置される内部電極」を有している。
(３)刊行物１には、「金属ブロック８」にガス案内用のチャンネル１１が設けられ、このチャンネルを介してランプ冷却用の不活性ガスを処理室１２に導入すること（摘記事項(1d)、(1h)、(1i)参照）が記載されており、特に摘記事項(1h)の「これらのチャンネルは処理室１２と、金属ブロック８における複数個の孔またスリット１３を介して連通されている。さらにこの連通は、石英管１の回避されない製造誤差により定められる、外側石英管１と金属ブロック８における溝９との間の著しくせまい隙間を介して行われる。チャンネル１１は、図示されていない不活性ガス源へ例えばちっ素源またはアルゴン源へ接続されている。チャンネル１１から、加圧された不活性ガスが前述のように処理室１２の中へ達する。」という記載、及び第９図の記載からみて、刊行物１記載の発明における「スリット１３」は、「金属ブロック８」の反射面に設けられており、該「スリット１３」を介して、加圧された不活性ガスが石英管に吹き付けられるように構成されていることは明らかであるから、刊行物１記載の発明においても、本件発明と同様に、「反射面には、冷却および充填用ガスをエキシマランプに吹き付けるための、冷却および充填用ガス吹付口が設けられ」ているといえる。
(４)刊行物１には、交流電流源は、代表値として、周波数が数１０００ＫＨｚまでの交流電流の範囲で電圧が数１００Ｖ〜２００００Ｖのオーダーの可調整の交流電圧を供給すること（摘記事項(1f)参照）が記載されている。
　
　以上の(１)ないし(４)からみて、両者は、
「二以上のエキシマランプを備えるエキシマ照射部と、前記エキシマランプに高周波電圧を印加する電源部と、からなるエキシマ照射装置であって、
　前記エキシマ照射部は、前記エキシマ光を反射する反射面を有し、
　前記エキシマランプは、放電管と、当該放電管の内側に配置される内部管と、前記放電管内に充填される放電用ガスと、前記放電管の外側に配置される外部電極と、前記内部管の内側に配置される内部電極とを有し、反射面には、冷却および充填用ガス吹付口が設けられているエキシマランプ装置。」
である点で一致し、以下の点で相違している。
相違点ア：
　前記エキシマ照射部について、本件発明では、前記反射面と反対面に、前記エキシマランプから発生するエキシマ光を透過する照射面を有しているのに対し、刊行物１記載の発明では、そのような照射面を有していない点。
相違点イ：
　本件発明では、「前記内部管には、冷却用ガスの導入口が設けられている」としているのに対し、刊行物１には、「内部電極を冷却チャンネルとして形成することにより、個々の気体放電を付加的に冷やすこともできる」（摘記事項(1c)参照）とあるだけで、具体的な構成については言及されていない点。
相違点ウ：
　前記内部電極について、本件発明では、「網状の」としているのに対し、刊行物１記載の発明では、内部電極を冷却チャンネルとするというだけで、網状とすることまでは言及されていない点。
相違点エ：
　前記電源部について、本件発明では、「直流電圧をオシレーターで１〜３ＭＨｚの範囲内の所定の周波数に変換し、その後増幅し、１〜３ｋＶの範囲内の所定の電圧に調整した高周波電圧をエキシマランプに印加することで、エキシマランプを共振させる」としているのに対し、刊行物１記載の発明では、「代表値として、周波数が数１０００ＫＨｚまでの交流電流の範囲で電圧が数１００Ｖ〜２００００Ｖのオーダーの可調整の交流電圧を供給する」としてるだけで、共振については言及されていない点。
　
２．相違点についての判断
　そこで、これらの相違点について検討する。
(１)相違点アについて
　刊行物４及び刊行物５に記載されているように、誘電体バリア放電によるエキシマランプを用いた照射装置において、照射部が、エキシマランプから発生するエキシマ光を透過する照射面と、該照射面の反対面に設けられたエキシマ光を反射する反射面とを有することは、本件出願前に既に周知である。
　よって、刊行物１記載の発明において、反射器である金属ブロックとは反対面に、エキシマランプから発生するエキシマ光を透過する照射面を設けることは、当業者であれば、格別な創意を要することなく、容易になし得ることである。
　
(２)相違点イについて
　刊行物１には、内部電極を冷却チャンネル、すなわち「冷却用導管」として形成することにより、個々の気体放電を付加的に冷やすこともできること（摘記事項(1c)参照）が記載されているものの、「内部管に、冷却用ガスの導入口が設けられている」という直接の記載はない。
　しかしながら、上記刊行物５に「ランプ１の内側空所９には、必要に応じて冷却流体例えば冷却窒素ガスが流せるようになっている。」（段落【００１５】参照）とあるように、内側管に冷却用ガスを導入して冷却することは、本件出願前にすでに周知である（必要ならば、申立人が参考資料１ないし参考資料４として提出した特開平４−３０１３５７号公報（刊行物６とする）、米国特許第４，８３７，４８４号明細書（刊行物７とする）、特開平８−９６７６８号公報（刊行物８とする）、特開平５−１３８０１４号公報（刊行物９とする）等参照）から、刊行物１の「内部電極を冷却チャンネル（導管）として形成することにより、個々の気体放電を付加的に冷やすこともできる」という記載は、本件発明の「内部管に、冷却用ガスの導入口が設けられている」という構成と実質的な差異がないことは明らかである。
　仮に、そうでないにしても、該記載があれば、内部管に冷却用ガスの導入口を設けることは、当業者であれば当然に行うことにすぎない。
　
(３)相違点ウについて
(ｉ)想到容易性について
 前項「(２)相違点イについて」に記載したとおり、刊行物１には、「内部電極を冷却チャンネルとして形成することにより、個々の気体放電を付加的に冷やすこともできる」と記載されているが、その場合、内部電極が網状であることまでは記載がない。
　しかしながら、放電管と、当該放電管の内側に配置される内部管と、前記放電管内に充填される放電用ガスと、前記放電管の外側に配置される外部電極と、前記内部管の内側に配置される内部電極とを有するエキシマランプにおいて、内部電極を、網状電極とすることは、特開平４−２２３０３９号公報（刊行物１０とする）、特開平７−１４５５３号公報（刊行物１１とする）、特開平１１−１１１２３７号公報（申立人が提出した甲第２号証、刊行物１２とする）等に記載されているとおり、本件出願前にすでに良く知られているところである。
　特に、上記刊行物１２の段落【００２１】に、「電極を通じて放射を導出する必要がない場合には、メッシュである必要がない。しかし、このような場合においても、メッシュ電極を用いても差し支えない。」と記載されているとおり、電極として、網状電極を用いるか或いはそうでない電極を用いるかは、必要に応じて適宜選択しうるものである。
　してみれば、刊行物１記載の内部電極を冷却チャンネル（導管）とした場合に、その形状を網状電極とすること自体には何ら困難性はない。
　
(ii)効果について
　効果について、本件明細書の段落【００３２】には、「網状電極は、網の間に空間があるので、冷却用ガス３７が通過しやすい。そのため、内部管３２の冷却効果が高まると共に、丸棒電極に比べて放電効果を向上させることができる。」と記載されているが、該記載は、刊行物１に記載された実施例（摘記事項(1e)の「内側石英管３の中を線４が通されている。この線が放射装置の内側電極を構成し、金網２が放射装置の外側電極を構成する。」の記載を参照）のように、内部電極として「線」（「丸棒電極」に相当）を用いた場合に比較して冷却効果が高まるというものであり、冷却用チャンネル（導管）である場合に、網状電極の方が冷却効果が高まるというものではない。
　ところで、前項において、内部管に冷却用ガスを導入して冷却することは本件出願前にすでに周知であるとして引用した刊行物５ないし刊行物８のいずれにおいても、内部電極はアルミニウム等の金属薄膜で構成されているが、これは、例えば、刊行物５の段落【００１５】に「内側管２の外面には光の反射板と誘電体バリア放電の電極を兼ねたアルミニウム薄膜電極５が設けられている。」と記載されているように、こうした内部管を冷却するようにしたタイプのエキシマランプにおいては、その殆どが、外側管から光を放出するものであるため、内部電極が反射板としての機能を兼ね備えることを目的として、通常は、内部電極に網状電極を使用せず、アルミニウム等の金属薄膜を用いているものである。
　これに対し、本件発明では、上記刊行物に記載されたような、通常用いられる「金属薄膜」ではなく「網状」と特定するものである。
　しかしながら、本件発明では、単に「網状」としているだけであって、本件明細書の記載をみても、「金属薄膜」からなる内部電極に比較して、「網状」の内部電極の方が冷却効率が高まるとする根拠は見あたらない。
　しかも、内部電極を網状とした場合には、反射板としての機能が低下し、放電管から外側へ放射される光量が減少することは自明である。
　してみれば、内部電極を冷却チャンネル（導管）とした場合、それを網状とするか、或いは、金属薄膜とするかは、当業者が、使用目的に応じて適宜選択しうるものであって、網状電極としたことにより、当業者が予期し得ない格別な効果を奏しているとすることはできない。
　
(４)相違点エについて
　刊行物２に記載されているように、直流電圧をオシレータで周波数変換し、エキシマランプを共振させることは、本件出願前にすでに周知である。
　本件発明では、「１〜３ＭＨｚの範囲内の所定の周波数に変換し、その後増幅し、１〜３ｋＶの範囲内の所定の電圧に調整した」と特定しているのに対して、刊行物１には、「周波数が数１０００ＫＨｚまでの交流電流の範囲で電圧が数１００Ｖ〜２００００Ｖ」と記載されているだけで、「１〜３ＭＨｚ範囲内の所定の周波数」及び「１〜３ｋＶの範囲内の所定の電圧」に特定する旨の記載はない。
　しかしながら、刊行物２には、「このような共振現象を利用した回路によって所望の動作を得るには、負荷容量と共振用コンデンサ（１１）の容量、コイル（１０）のインダクタンス、負荷抵抗の値により計算される共振周波数に正確一致した周波数で、回路を駆動しなければならない。」と記載されており、エキシマランプを共振させるべく、周波数及び電圧を特定することは、当業者であれば、当然になしうることにすぎない。
　さらに、刊行物３には、誘電体バリア放電による、二重管構造のエキシマランプに関し、１００ｋＨｚ以上２ＭＨｚ以下の電圧が印加されることが記載され、図１０には１ｋＶ〜２．５ｋＶでエキシマランプを点灯させることが開示されており、本件発明で特定する、１〜３ＭＨｚの範囲内の周波数、及び１〜３ｋＶの範囲内の電圧が、格別なものとは認められない。
　
(５)まとめ
　以上のとおり、相違点アないしエは、いずれも当業者が容易になしうることである。そして、相違点アないしエを組み合わせたことにより、予期し得ないない格別な効果を奏しているとも認められない。
　
第６．結び
　したがって、本件発明は、その出願前日本国内において頒布された上記刊行物１ないし５に記載された発明及び当該技術分野における上記周知技術にに基づいて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、本件発明についての特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してなされたものであり、同法第１１３条第２号に該当し、取り消されるべきものである。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１６年１月１６日（２００４．１．１６）
【訂正の要旨】
審決（決定）の【理由】欄参照。
（５４）【発明の名称】
エキシマ照射装置
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】
　二以上のエキシマランプを備えるエキシマ照射部と、前記エキシマランプに高周波電圧を印加する電源部と、からなるエキシマ照射装置であって、
　前記エキシマ照射部は、前記エキシマランプから発生するエキシマ光を透過する照射面と、当該照射面の反対面に設けられて前記エキシマ光を反射する反射面とを有し、
　前記エキシマランプは、放電管と、当該放電管の内側に配置される内部管と、前記放電管内に充填される放電用ガスと、前記放電管の外側に配置される外部電極と、前記内部管の内側に配置される網状の内部電極とを有し、前記反射面には、冷却および充填用ガスを前記エキシマランプに吹き付けるための、冷却および充填用ガス吹付口が設けられ、前記内部管には、冷却用ガスの導入口が設けられており、
　さらに、前記電源部は、直流電圧をオシレーターで１〜３ＭＨｚの範囲内の所定の周波数に変換し、その後、増幅器で１〜３ｋＶの範囲内の所定の電圧に調整した高周波電圧をエキシマランプに印加することで、エキシマランプを共振させることを特徴とするエキシマランプ装置。
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【発明の属する技術分野】
　本発明は、エキシマ照射装置に関し、更に詳しくは、多本数のエキシマランプを備えた場合であっても、温度上昇が抑制される大面積照射形のエキシマ照射装置に関する。
　【０００２】
　【従来の技術】
　エキシマ照射装置は、少なくともエキシマランプと電源部とを有し、無声放電といわれる誘電体バリア放電によって、エキシマランプから単一波長の紫外光（以下「エキシマ光」という。）を照射する装置である。誘電体バリア放電は、エキシマ分子を形成する放電用ガスが充填されたエキシマランプに高電圧が印加されることによって、エキシマランプ内にエキシマ分子が形成され、このエキシマ分子が基底状態に遷移する際に単一波長のエキシマ光を放射する放電形式である。こうした誘電体バリア放電を利用したエキシマ照射装置は、エキシマランプ内の放電用ガスの種類に応じて１７２ｎｍ、１９３ｎｍ、２２２ｎｍまたは２４８ｎｍ等のエキシマ光を発生させる。
　【０００３】
　エキシマ光は、空気や水に反応して、有機化合物を効果的に分解する励起酸素原子やＯＨラジカル等を生成させることができるので、有機化合物からなる汚染物質の分解に利用されている。また、エキシマ光は、光子エネルギーが強いので、直接被照射体に反応させる表面改質処理等に利用されている。例えば、半導体産業の分野においては、シリコンウエハーやガラス基板を汚染した有機化合物を分解するドライ洗浄に応用されたり、半導体材料の表面活性化処理やソフトアッシングに応用されている。また、プラズマディスプレイパネルの蛍光発光、ＬＣＤプロセス、材料関連の分野における樹脂や金属材料の表面活性化処理または表面改質処理等の多方面で応用されている。さらに、エキシマ光は、環境技術の分野において、オゾンの生成、水中・大気の汚染浄化、超純水製造工程に利用されている。
　【０００４】
　このような応用分野の拡大の中、大面積の被照射体に一度に照射したり、連続して移動する工程中で一定時間照射したいという要望がある。例えば、ＬＣＤ（液晶パネル）やＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）等の大面積の表示素子に対して、そこに付着する汚染物質を効率的に分解することが可能な大面積のエキシマ照射面を備えたエキシマ照射装置が要求されている。
　【０００５】
　【発明が解決しようとする課題】
　従来のエキシマ照射装置には大面積のエキシマ照射面を備えるエキシマ照射装置がなく、上述の要求に対しては、複数のエキシマ照射装置を連設することによって対応していた。そのため、高額な設備投資が必要となっていた。また、そうしたエキシマ照射装置は、エキシマランプに数１０ｋＨｚの周波数で１０ｋＶ前後の高電圧を印加してエキシマ光を発生させるものであり、発光効率が悪く、大きな発熱を伴うものであった。
　【０００６】
　従来、このような問題に対しては、特開平８−４６９２２号公報に開示されているように、水冷によってエキシマランプを冷却し、エキシマ照射装置の温度上昇を抑制していた。
　【０００７】
　しかし、こうした手段では、冷却水を配管することになるので装置が複雑化すると共に、照射効率の改善は何らされておらず、本質的な解決は図られていなかった。
　【０００８】
　本発明の目的は、上記の問題を解決し、多本数のエキシマランプを備えた場合であっても、温度上昇を抑制できる大面積照射形のエキシマ照射装置を提供することにある。
　【０００９】
　【課題を解決するための手段】
　請求項１の本発明のエキシマ照射装置は、二以上のエキシマランプを備えるエキシマ照射部と、前記エキシマランプ
に高周波電圧を印加する電源部と、
網状の
冷却および充填用ガスを前記エキシマランプに吹き付けるための、
ており、さらに、前記電源部は、直流電圧をオシレーターで１〜３ＭＨｚの範囲内の所定の周波数に変換し、その後、増幅器で１〜３ｋＶの範囲内の所定の電圧に調整した高周波電圧をエキシマランプに印加することで、エキシマランプを共振させること
　【００１０】
　この発明によれば、エキシマランプには、
直流電圧をオシレーターで１〜３ＭＨｚの範囲内の所定の周波数に変換し、その後、増幅器で１〜３ｋＶの範囲内の所定の電圧に調整した高周波電圧をエキシマランプに印加することで、エキシマランプを共振させる
　【００１１】
　【００１２】
　【００１３】
　【００１４】
　【００１５】
　【００１６】
　【００１７】
　【発明の実施の形態】
　以下に、図面を参照しつつ、本発明のエキシマ照射装置について説明する。
　【００１８】
　図１は、本発明のエキシマ照射装置の一例を示す平面図であり、図２は、図１のエキシマ照射装置の側面図であり、図３は、エキシマランプの一例を示す断面図であり、図４は、エキシマ照射装置が備える大面積の照射面の一例を示す平面図である。エキシマ照射装置１は、エキシマ光を発生させて被照射体に照射する装置であって、図１および図２に示すように、エキシマランプ４を備えるエキシマ照射部２と、そのエキシマランプ４に高周波電圧を印加する電源部３とから主に構成されている。このエキシマ照射装置１は、エキシマ照射部２と電源部３が、一つのケース１１中に設けられているものでも、別々のケース中に設けられているものでもよい。
　【００１９】
　先ず、エキシマ照射部２について説明する。エキシマ照射部２は、発生したエキシマ光を被照射体に照射させる役割を担う部分である。このエキシマ照射部２は、二以上のエキシマランプ４、例えば図１および図２においては、その内部に４本のエキシマランプ４を有し、そのエキシマランプ４から発生するエキシマ光を透過する照射面５と、その照射面５の反対面に設けられて、発生するエキシマ光を反射する反射面６とから構成されている。エキシマランプ４は、一定間隔で配列して設けられており、照射面５と反射面６とのほぼ中間の位置に設けられている。
　【００２０】
　エキシマ照射装置１は、照射面５が、被照射体に対して向かい合う位置になるように配置される。このように配置される照射面５は、エキシマランプ４から発生したエキシマ光および反射面６で反射したエキシマ光を透過する役割を担うものであり、通常、光透過性のよい合成石英板が用いられる。図４に示すように、大面積の照射面４５を有するエキシマ照射装置４１の場合は、大面積の合成石英板、または通常の大きさの合成石英板を連設したものが用いられる。
　【００２１】
　反射面６は、エキシマランプ４から発生するエキシマ光のうち、照射面５の反対側に向かって放射されたエキシマ光を、照射面５側に反射させる役割を担うものであり、通常、鏡面加工されたステンレス鋼またはコーティングされたアルミニウム材が用いられるが、エキシマ光を好ましく反射するものであれば特に限定されるものではない。また、反射面６の表面形状は、エキシマ光を照射面５側に反射できる形状であればよく、図１および図２に示すような平らな表面形状に限定されない。
　【００２２】
　エキシマ照射部２内には、エキシマ光の透過を妨げない窒素ガスやアルゴンガス等のガス（以下、これらを「非活性ガス８」という。）が充填されている。エキシマ光は、酸素の存在によってその透過性が低下するので、非活性ガス８としては、少なくとも酸素を含有しないガスであればよく、経済性の点から窒素ガスが好ましく用いられる。
　【００２３】
　反射面６の所定の部位には、吹付口７が設けられている。この吹付口７は、エキシマランプ４を冷却するための冷却用ガスを、エキシマ照射部２内、特に好ましくはエキシマランプ４、に向かって吹き付ける役割を担うものである。吹付口７を設ける部位は、エキシマランプ相互間の直上部またはエキシマランプ４の直上部であることが好ましい。さらに、冷却効果を増すために、吹付口７を、エキシマランプ４の長手方向に沿って複数設けることもできる。吹付口７の形状や材質は、特に限定されるものではなく、一般的に使用されるいわゆるシャワーノズルやそれに準ずるものを用いることができる。この吹付口７には、冷却用ガスの供給装置からの配管（図示しない。）がなされている。
　【００２４】
　冷却用ガスは、吹付口７からエキシマランプ４に吹き付けられて、発熱するエキシマランプ４をその外側から冷却する。冷却用ガスとしては、上述したエキシマ照射部２内に充填される非活性ガス８と同じガスを用いることが好ましく、エキシマ光の透過性を低下させることなく、エキシマランプ４を効率よく冷却することができる。特に、窒素ガスを用いることが、経済性および安全性の点から好ましい。なお、循環冷却装置によって、冷却用ガスを循環および熱交換して用いることができる。
　【００２５】
　本発明においては、吹付口７が各々のエキシマランプ４に対応するように設けられているので、エキシマランプ４を効果的に冷却することができる。その結果、図４に示すように、多数本のエキシマランプ４４を有するエキシマ照射装置４１であっても、エキシマ照射部の温度上昇を極力抑えることができる。
　【００２６】
　次に、エキシマランプについて説明する。エキシマランプ４は、図１および図２に示すように、通常、エキシマ照射部２内の照射面５と反射面６の中間の位置に、ほぼ等間隔で設けられている。
　【００２７】
　エキシマランプ４は、図３に示すように、放電管３１と、放電管３１の内側に配置される内部管３２と、放電管３１内に充填される放電用ガス３３と、放電管３１の外側に配置される外部電極３４と、内部管３２の内側に配置される内部電極３５とを有し、さらに、内部管３２には、冷却用ガス３７の導入口３６が設けられたものである。本発明で用いられるエキシマランプ４においては、内部管３２に導入された冷却用ガス３７によって、エキシマランプ４を内側から冷却することができるので、特に多本数のエキシマランプを備えた大面積の照射面を有するエキシマ照射部の温度上昇を抑制することができる。
　【００２８】
　放電管３１は、所定の種類の放電用ガス３３で満たされた管状容器であり、発生したエキシマ光が透過しやすい誘電体からなっている。通常、光透過性に優れた石英管または合成石英管が使用される。石英管または合成石英管の厚さは、１．０〜２．０ｍｍ程度のものが使用される。本発明においては、エキシマランプ４が、その外側および内側からの冷却用ガスによって十分に冷却されるので、従来のような耐熱性を考慮した厚さ１．５〜２．０ｍｍ程度の石英管を使用しなくてもよく、軽量化に効果的な厚さ１．５ｍｍ以下のものが使用可能となる。こうした軽量化は、多本数のエキシマランプが配設されるエキシマ照射装置において特に好ましい。なお、放電管３１の長さや直径は、被照射体の大きさや照射時間に応じて設計される照射面の面積に応じて適宜設定される。通常、直径３０ｍｍ程度で長さ２５０ｍｍ程度のエキシマランプが使用される。
　【００２９】
　内部管３２は、放電管３１内の概ね中心に設けられ、通常、石英管または合成石英管が使用される。この内部管３２は、その内側に設けられた内部電極３５と、その一方の端部に設けられた冷却用ガス３７の導入口３６とを備えている。
　【００３０】
　エキシマ光は、放電管３１の外側に設けられた外部電極３４と、内部管３２の内側に設けられた内部電極３５との間に、後述する高周波電圧を印加することによって発生する。エキシマ光の波長は、放電管３１内に充填される放電用ガス３３の種類によって異なる。例えば、クリプトン（Ｋｒ）ガスでは１４６ｎｍ、キセノン（Ｘｅ）ガスでは１７２ｎｍ、ＫｒＩガスでは１９１ｎｍ、ＡｒＦガスでは１９３ｎｍ、ＫｒＣｌガスでは２２２ｎｍ、ＫｒＦガスでは２４８ｎｍのエキシマ光が、それぞれ単一波長で発生する。そのため、放電用ガス３３を選定することによって、利用目的に応じたエキシマ光を発生させることができる。放電管３１内の放電用ガス３３の圧力は、ガスの種類および所望するエキシマ光の照度に応じて適宜設定されるが、通常は１０〜６０ｋＰａ程度である。
　【００３１】
　外部電極３４は、放電管３１の外周表面の全域に亘って配置され、ステンレス鋼、アルミニウム、アルミニウム合金、銅、酸化銅、またはそれらの合金、酸化イットリウム、酸化イットリウムアルミニウム等のような良好な金属導電性を示して放電率が高くなるものが好ましく選定される。外部電極３４の形状は、板状、網目状など特に限定されないが、放電管３１から放射するエキシマ光の光路を妨げないように、六角形等の貫通孔が多数形成された厚さ０．５ｍｍ程度のパンチングメタルを用いることが好ましい。
　【００３２】
　内部電極３５は、内部管３２の内側に設けられ、上述の外部電極３４で用いられる材料と同種の材料を用いることができ、良好な金属導電性を示して放電率が高くなるものが好ましく選定される。内部電極３５の形状は、導入口３６から入った冷却用ガス３７が、内部管３２内を通過しやすい形状、例えば網状電極であることが好ましい。この網状電極は、網の間に空間があるので、冷却用ガス３７が通過しやすい。そのため、内部管３２の冷却効果が高まると共に、丸棒電極等に比べて放電効果を向上させることができる。また、こうした内部電極３５は、放電用ガス３３に直接接触しないので、放電管３１内の各部において、エキシマ光を一様に発生されることができる。
　【００３３】
　内部管３２内には、冷却用ガス３７が導入口３６から導入され、内部管３２が冷却される。冷却用ガス３７の種類は特に限定されるものではないが、経済性や配管の容易さ等から、空気や窒素ガスが好ましく使用される。内部管３２内に導入する冷却用ガス３７の温度を熱交換器等によって下げておくことにより、内部管３２をより一層冷却させ、エキシマランプ４全体の温度上昇を抑制することができる。導入口３６は、通常、内部管３２の一端に設けられていればよく、導入口３６の構成部材の形状や材質は特に限定されない。この導入口３６から導入される冷却ガス３７が内部管３２内を容易に流れるように、両端が開口した内部管３２を用いることもできる。また、片端が開口した内部管３２を用いる場合には、内部管３２の奥にまで冷却用ガス３７を導くことができる小径管３８を、導入口３６にさらに接続することが好ましい。これによって、内部管３２内への冷却用ガス３７の導入を容易にし、その流れを起こして冷却性能を向上させることができる。
　【００３４】
　従って、エキシマランプ４は、内部管３２に設けられた導入口３６から導入される冷却用ガス３７によってその内側から冷却され、さらに、反射面６に設けられた吹付口７から吹き付けられる冷却用ガスによってその外側から冷却される。その結果、エキシマランプ４は、効率的に冷却され、温度上昇が抑制される。特に、図４に示すような大面積の照射面を有するエキシマ照射装置においては、こうした温度上昇の抑制効果は、エキシマ照射装置の保全、エキシマランプの長寿命化およびエキシマ光の安定照射の点で優れた効果を発揮する。
　【００３５】
　図４に示すような大面積の照射面４５を有するエキシマ照射装置４１においては、長尺のエキシマランプを少数設けても、短尺のエキシマランプ４４を多数設けてもよいが、保全管理等を含めた経済性を考慮すると、短いエキシマランプ４４を多数設けることが好ましい。このとき、照射面４５の大きさを、エキシマランプ４４の実効長さに相当する縦長さＬと、エキシマランプ４４の実効長さの２倍以上の長さに相当する横長さＷとからなる大きさにすることによって、大面積のＬＣＤ（液晶パネル）やＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）等の表示素子であっても、そこに付着する汚染物質に効率的なエキシマ照射処理を施して分解することができる。なお、ここでいう実効長さとは、エキシマランプの全長のうち、エキシマ光の照射に係る部分の長さである。
　【００３６】
　次に、電源部について説明する。電源部３は、エキシマランプ４を構成する外部電極３４と内部電極３５との間に高周波電圧を印加するために設けられる。
　【００３７】
　
直流電圧をオシレーターで１〜３ＭＨｚの範囲内の所定の周波数に変換し、その後、増幅器で１〜３ｋＶの範囲内の所定の電圧に調整された高周波電圧は、電源部３から出力され、エキシマランプに印加されることで、エキシマランプを共振させることことができる。
　【００３８】
　図５は
。電源部６１は
１〜３
。図５は、
方式を示している
この
共振するような周波数条件
　【００３９】
　【００４０】
　【００４１】
　【００４２】
　
この
図５
　【００４３】
　直流電源６２は、そこに入力される交流電力６４を、１２〜１５Ｖ（通常は約１２Ｖ。）程度の直流電圧に変換して出力する。次いで、その直流電圧は、オシレーター６５によって所定の周波数とされ、増幅器６６で所定の電圧に増幅されたのち、インダクタンスＬでＱ値が
調整されて
この方式
　【００４４】
　
この変換方式
電源部６１
　【００４５】
　【発明の効果】
　以上説明したように、本発明のエキシマ照射装置によれば、この発明によれば、エキシマランプには、
直流電圧をオシレーターで１〜３ＭＨｚの範囲内の所定の周波数に変換し、その後、増幅器で１〜３ｋＶの範囲内の所定の電圧に調整した高周波電圧をエキシマランプに印加することで、エキシマランプを共振させる
　【００４６】
　【００４７】
　【００４８】
【図面の簡単な説明】
　【図１】本発明のエキシマ照射装置の一例を示す正面図である。
　【図２】図１のエキシマ照射装置の側面図である。
　【図３】エキシマランプの一例を示す概略面図である。
　【図４】エキシマ照射装置が備える大面積の照射面の一例を示す正面図である
　
【図５】高周波電圧を出力する電源部を示す説明図である。
　【符号の説明】
　１、４１　エキシマ照射装置
　２　エキシマ照射部
　３
、６１
　４、４４　エキシマランプ
　５、４５　照射面
　６　反射面
　７　吹付口
　８　非活性ガス
　３１　放電管
　３２　内部管
　３３　放電用ガス
　３４　外部電極
　３５　内部電極
　３６　導入口
　３７　冷却用ガス
　３８　小径管
　５５　循環冷却装置
【図面】