【事件の表示】
　特許第３３０８５１１号「導電膜付きブラウン管パネルの形成方法」の請求項１、２に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第３３０８５１１号の請求項１ないし２に係る特許を維持する。
【理　由】
　１．手続の経緯
　特許第３３０８５１１号の請求項１ないし２に係る発明についての出願は、平成７年１０月２０日に出願した特願平７−２９５９８１号の一部を平成１１年１１月２日に新たな特許出願としたものであって、平成１４年５月１７日にその発明について特許の設定登録がされ、その後、その特許について、特許異議申立人今村淑子（以下、申立人という。）により特許異議の申立てがなされたものである。
　
　
　２．本件発明
　本件発明は、特許明細書の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１ないし２に記載された事項により特定される以下のとおりのものと認める。
　
「【請求項１】
　Ｒｕ金属微粒子を水または有機溶媒に均一に分散させて調製したＲｕ金属微粒子ゾルを含む塗布液を、ブラウン管パネルに塗布して加熱することを特徴とする導電膜付きブラウン管パネルの形成方法。
【請求項２】
　導電膜上に、該導電膜より低屈折率の膜を形成することを特徴とする請求項１記載の導電膜付きブラウン管パネルの形成方法。」
　
　
　３．特許異議の申立ての概要
　申立人は、
”本特許公報によれば、本特許発明が解決するべき問題点は、「ブラウン管パネル表面を３５０℃程度の高温に加熱して導電膜を形成する方法では、蛍光体の脱落を生じたり、寸法精度が低下する。」点である。
　本特許発明の課題は、ブラウン管パネルの高温加熱による蛍光体の脱落や寸法精度低下を防止するために、「低温熱処理が可能な導電膜形成方法」を提供することである。
　しかしながら、本特許発明の好適な実施形態として推奨されている１００〜５００℃の加熱温度のうち、３５０℃程度〜５００℃の加熱温度は、ブラウン管パネル表面に高性能導電膜を形成する際の熱処理温度としては「高温処理」であり、低温処理ではない。
　この点から、本特許発明の課題である「低温熱処理により高性能導電膜を形成する」という課題に反している。
　その上、本特許発明の好適な実施形態として推奨されている１００〜５００℃の加熱温度のうち、３５０℃程度〜５００℃の温度範囲については、低温での熱処理によるブラウン管パネルからの蛍光体の脱落や寸法精度の低下を防止するという課題を解決できないことが明らかである。
　従って、本特許公報（明細書）は、本技術分野における通常の知識を有する者が、本特許請求項１、及びその従属項である請求項２記載の発明を容易に実施できる程度に記載されていないので、法第３６条第４項の規定に違反する。”（特許異議申立書、４．申立ての理由、（１）申立理由の要約、における「理由の要点」を参照）
　と主張している。　
　
　
４．当審の判断　
(１)申立人が、当業者が本件の請求項１及び２に記載の発明を容易に実施することができる程度に記載されていないと指摘する本件明細書の記載は、段落【００２２】における「好ましい加熱温度領域は１００〜５００℃である」という記載であって、該記載の１００〜５００℃のうち、３５０〜５００℃の加熱温度は、本件の請求項１及び２に係る発明における解決すべき課題に反しているというものである。
　そして、その理由として、段落【０００８】の【発明が解決しようとする課題】の項に、「本発明は、従来技術が有していた上述の導電膜および低反射性導電膜の欠点を解消しようとするものであり、低温熱処理により形成が可能な高性能導電膜を有するブラウン管パネルの形成方法および低反射性導電膜を有するブラウン管パネルの形成方法を提供することを目的とする。」という記載があるためであると主張している。
　
(２)そこで、本件明細書について検討するに、本件明細書には、従来技術における問題点について、以下の記載がある。
「・・・ブラウン管パネル表面を３５０℃程度に加熱し、該表面にＣＶＤ法により酸化スズおよび酸化インジウムなどの導電性酸化物層を設ける方法が開示されている。しかし、この方法では成膜装置にコストがかかることに加え、ブラウン管パネル表面を高温に加熱するため、ブラウン管内の蛍光体の脱落を生じたり、寸法精度が低下するなどの問題があった。また、導電層に用いる材料としては酸化スズが最も一般的であるが、酸化スズの場合、低温処理では高性能な膜が得にくい欠点があった。」（段落【０００３】〜【０００４】）
「近年、電磁波の遮蔽も求められている。導電性塗膜をブラウン管パネル表面に介在させることにより、導電性塗膜に電磁波が当たり、塗膜内に渦電流を誘導して、この作用で電磁波を反射する。導電性塗膜は高い電界強度に耐え得る良導電性であることが必要であるが、それほどの良導電性の膜を得ることはさらに困難であった。」（段落【０００５】）
「導電膜の製造法としては、・・・金属塩と還元剤の混合液を塗布して導電膜を形成させる方法があるが、この方法では金属導電膜はガラス面にメッキされた状態となり、膜の強度が著しく弱く、かつ該導電膜を洗浄して副生成塩を除去する工程が必要となる問題があった。」（段落【０００６】）
「従来の方法は、・・・ブラウン管パネル表面に防眩効果を持たせるために表面に微細な凹凸を有するＳｉＯ２層を付着させたり、フッ酸により表面をエッチングして凹凸を設けるなどの方法が採られてきた。しかし、これらの方法は、外部光を散乱させるノングレア処理と呼ばれ、本質的に低反射性層を設ける方法でないため、反射率の低減には限界があり、また、ブラウン管パネルなどにおいては、解像度を低下させる原因ともなっている。」（段落【０００７】）
　
(３)これらの記載からみて、本件明細書段落【０００８】に記載された「従来技術が有していた上述の導電膜および低反射性導電膜の欠点」とは、申立人が主張するような、ＣＶＤ法による金属酸化物を用いた場合の「高温処理による蛍光体の脱落や寸法精度の低下」ばかりでなく、金属酸化物自体の良導電性が得られないという欠点も含まれ、さらに、金属塩と還元剤の混合液を用いた場合には、膜強度が著しく弱く、除去工程が必要という欠点、或いは低反射性導電膜を形成した場合には、反射率の低減に限界があり、解像度が低下するという欠点も含まれるものである。
　そして、本件の請求項１及び２に係る発明は、これらの従来技術における欠点を、「導電膜を形成するにあたり、金属微粒子をゾルの形で含有する塗布液を使用する」（段落【０００９】）、すなわち、従来とは異なる塗布液を使用することで解決するものであり、そのことにより「この塗布液を基体上に塗布して導電膜を形成させた場合、従来のメッキ膜とは異なり、微少な孔が導電膜中に導入される。そして、当該導電膜の上にケイ素化合物を形成するシリコンアルコキシドの加水分解物を含有する塗布液を塗布した場合に、この孔にケイ素化合物が侵入し、膜強度が著しく向上する。また、本発明においては、金属塩と還元液からなる塗布液を使用する前記の従来法とは異なり、導電膜の形成時に副生成物が生成せず、導電膜とその上に形成される膜との間での膜強度の劣化も生じない。したがって本発明によれば、ブラウン管パネル面に、前述の問題点を解決した導電膜、または導電膜を少なくとも１層含む低反射性導電膜を形成できる。」（段落【０００９】〜【００１０】）という作用効果を有するものである。  
　
(４)してみれば、本件明細書段落【０００８】の「低温熱処理により形成が可能な」という記載は、単に本件の請求項１及び２に係る発明が有する作用効果のひとつを記載しているにすぎず、また、本件明細書には、実施例１ないし３として、１８０℃または１６０℃の熱処理によるものが記載されており、同【００２２】に「好ましい加熱温度範囲は１００〜５００℃である」という記載があるからといって、当業者が、本件の請求項１及び２に係る発明を容易に実施することができる程度に記載されていないとすることは到底できない。
　
　
　５．むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申立の理由及び証拠によっては、本件発明の特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件発明の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１６年３月２９日（２００４．３．２９）