【事件の表示】
　特許第３２８２８２６号「拡散反射防止被覆を有する光学透明体及びその製法」の請求項１ないし１０、１８ないし２７に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３２８２８２６号の請求項１ないし９、１７ないし２６に係る特許を維持する。
【理　由】
1.手続の経緯
　特許第３２８２８２６号の請求項１〜２７に係る発明は、平成９年１１月１２日に国際特許出願され（優先権主張：平成８年１１月１２日，米国）、平成１４年３月１日にその特許の設定登録がなされ、その後、株式会社ディスク（以下、「申立人」という。）より特許異議の申立てがなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１５年４月１４日に訂正請求がされ、訂正拒絶理由を兼ねた取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１５年７月１１日に訂正請求がされたものである。（なお、平成１５年４月１４日付け訂正請求は取り下げられた。）
　
２．　訂正の適否についての判断
２．１　訂正の内容
Ａ．訂正事項Ａ
　特許請求の範囲の記載を、
「１．透明基体、及び
前記透明基体の表面上に付着させた反射防止被覆、
から成る被覆透明体であって、
前記反射防止被覆は指定された均一な厚さの複数の重ねられた重合層（ただし、重合層がオルガノポリシロキサンである場合を除く。）を有し、それら層は比較的大きな屈折率を有する
重合二酸化チタン
の第一層及び第三層
重合二酸化珪素
の第二層及び第四層
前記反射防止被覆の少なくとも１つの層には、０．０００１５〜０．０００６ｍｇ／ｃｍ2の範囲の濃度で実質的に均一に分布された離散粒子が配合されており、それら粒子は、前記層の離散粒子以外の場所の材料の屈折率とは異なった屈折率を有し、しかも
前記層が共同して種々の波長で拡散反射防止被覆を与えており、
離散粒子が二酸化珪素、酸化アルミニウム、フッ化マグネシウム、二酸化チタン、及びそれらの混合物から成る群から選択される、
上記被覆透明体。
２
１
３
４
５
６
７
８
９
８
１０
前記透明プラスチック基体の表面上に付着させた反射防止被覆、
から成る被覆透明体であって、
前記反射防止被覆は指定された均一な厚さの複数の重合した薄膜層を有し、それら層は重合二酸化チタンと重合二酸化珪素を交互にしたものであり、
前記反射防止被覆の少なくとも一つの層には、０．０００１５〜０．０００６ｍｇ／ｃｍ2の範囲の濃度で、約１０μ未満の粒径を有する離散粒子が配合されており、それら粒子は一層小さな微小粒子の凝集体であり、それら粒子は、更に前記層のそれ以外の所の材料の屈折率とは異なった屈折率を有し、二酸化珪素、酸化アルミニウム、フッ化マグネシウム、二酸化チタン、及びそれらの混合物からなる群から選択されており、しかも
前記層が共同して種々の波長で拡散反射防止被覆を与えている、
上記被覆透明体。
１１
１０
１２
前記反射防止被覆中に配合された離散粒子が、約１０重量％未満の粒子濃度を有する重合溶液から得られたものである、請求項
１０
１３
１０
１４
１０
１５
１０
１６
１５
１７
別々の重合溶液を前記透明基体に繰り返し塗布し、夫々の塗布によって指定された量の溶液を基体に付着させ、そして
別々の重合溶液の各塗布直後にその付着溶液を硬化し、前記基体上に別々の重合した薄膜層を形成する、
ことからなり、然も、
塗布及び次の硬化を繰り返して順次重なった薄膜層を形成し、前記重なった層
は比較的大きな屈折率を有する重合二酸化チタン組成物の第一層及び第三層と、比較的小さな屈折率を有する重合二酸化珪素組成物の第二層及び第四層とを交互に重ねたものであり、
前記の重なった諸重合層が共同して多層拡散非反射性被覆を形成する、
上記被覆付着方法。
１８
比較的低い屈折率を有する薄膜層を形成するのに用いられるアルコキシド溶液がオルト珪酸テトラエチルを含有し、そのような溶液を用いて形成した層が重合二酸化珪素を含有する、
請求項
１７
１９
１７
２０
１７
２１
１７
２２
アルコキシド、アルコール及び水を一緒に混合して、異なった屈折率を有する透明な薄膜層を与えるように配合した複数の重合溶液を形成し、
別々の重合溶液を前記透明基体に繰り返し塗布し、夫々の塗布によって、指定された量の溶液を基体に付着させ、そして
別々の重合溶液の各塗布直後にその付着溶液を硬化し、前記基体上に別々の重合した薄膜層を形成する、
ことからなり、然も、
塗布及び次の硬化を繰り返して順次重なった薄膜層を形成し、前記重なった層
は比較的大きな屈折率を有する重合二酸化チタン組成物の第一層及び第三層と、比較的小さな屈折率を有する重合二酸化珪素組成物の第二層及び第四層とを交互に重ねたものであり、
前記離散粒子は、酸化アルミニウム、フッ化マグネシウム、二酸化チタン、及びそれらの混合物からなる群から選択され、前記離散粒子は、溶液中約１０％未満の濃度を有し、約１０μ未満の平均粒径を有し、そして
前記の重なった諸重合層が共同して多層拡散反射防止被覆を形成する、
上記被覆付着方法。
２３
２２
２４
２２
２５
２２
２６
２２
と訂正する。
Ｂ．訂正事項Ｂ
　発明の詳細な説明の
「第一層１５ａ及び第三層１５ｃは二酸化珪素から形成され、約１．４４の比較的低い屈折率を有するのに対し、第二層１５ｂ及び第四層１５ｄは二酸化チタンから形成され、約２．００の比較的大きな屈折率を有する。」（明細書３頁２１〜２４行：特許掲載公報７欄４９行〜８欄３行）
との記載を、
「第
二
ｂ
四
ｄ
一
ａ
三
ｃ
と訂正する。
　
２．２　訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
　上記訂正事項Ａのうち、請求項１については、発明を特定する事項である「それら層は比較的大きな屈折率を有する組成物と、比較的小さな屈折率を有する組成物とを交互に重ねたものであり、」を「それら層は比較的大きな屈折率を有する
重合二酸化チタン
の第一層及び第三層
重合二酸化珪素
の第二層及び第四層
は比較的大きな屈折率を有する重合二酸化チタン組成物の第一層及び第三層と、比較的小さな屈折率を有する重合二酸化珪素組成物の第二層及び第四層とを交互に重ねたものであり
　また、上記訂正事項Ｂは、誤記の訂正を目的とした明細書の訂正に該当する。
　そして、いずれの訂正も、新規事項の追加に該当せず、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものではない。
　
２．３　訂正の適否の結論
　以上のとおりであるから、上記訂正は、特許法第１２０条の４第２項及び同条第３項において準用する特許法第１２６条第２項から第４項までの規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
３．　特許異議の申立てについての判断
３．１　申立ての理由の概要
　申立人は、請求項１〜１０，１８〜２７に係る発明は、甲第１号証（特開平６−３２５７０２公報）、甲第２号証（特開昭５９−１５１１０９号公報）、甲第３号証（特開昭６４−７６００１号公報）、甲第４号証（特開昭６０−２４２４０１号公報）及び甲第５号証（特開平５−１７３００９号公報）に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであり、特許を取り消すべき旨主張している。
　
３．２　本件の請求項１〜２６に係る発明
　上記２．で示したように上記訂正が認められるから、本件の請求項１〜２６に係る発明は、上記訂正に係る訂正明細書の特許請求の範囲の請求項１〜２６に記載された事項により特定されるとおりのものであり（上記訂正事項Ａ参照。以下、「本件発明１〜２６」という。）、そのうち、本件発明１０〜１６には異議申し立てはされていないことになるので、異議申し立ては本件発明１〜９，１７〜２６について検討する。
　
３．３　各刊行物に記載された発明
・甲第１号証（特開平６−３２５７０２公報）には、
ａ．「【請求項１】表示装置のスクリーンを構成する基板の表面上にＳｎＯ2 ，Ｓｂ2 Ｏ3 ，Ｉｎ2 Ｏ3 の中から選択した少なくとも１種を成分とする超微粒子をエチルシリケートの分解により生成したＳｉＯ2 バインダーで固定してなる第１層と、前記第１層上にＳｉＯ2 ，ＭｇＦ2 の中から選択した少なくとも１種を成分とする超微粒子をエチルシリケートの分解により生成したＳｉＯ2 バインダーで固定してなる第２層とからなる帯電防止および反射防止膜を形成したことを特徴とする表示装置。
【請求項２】表示装置のスクリーンを構成する基板の表面上にＳｎＯ2 ，Ｓｂ2 Ｏ3 ，Ｉｎ2 Ｏ3 の中から選択した少なくとも１種を成分とする超微粒子をエチルシリケートの分解により生成したＳｉＯ2 バインダーで固定してなる第１層と、前記第１層上にＳｉＯ2 ，ＭｇＦ2 の中から選択した少なくとも１種を成分とする超微粒子をエチルシリケートの分解により生成したＳｉＯ2 バインダーで固定してなる第２層と、前記第１層と第２層の間に形成した空気を含む中間層からなる帯電防止機能を有する反射防止膜を形成したことを特徴とする表示装置。」（特許請求の範囲）
ｂ．「本発明の目的は、…多層蒸着法に必要とする大規模な製造装置…を必要とせず、また、ノングレア方式のように、反射防止に伴う解像度やコトラストの低下を抑制できると共に、帯電防止機能も併せもつスクリーン基板構造を備えた表示装置を提供することにある。」（【０００６】）
ｃ．「上記本発明の構成において、第１層が高屈折率の導電層であり、第２層が低屈折率の超微粒子である。これらの各層の光の干渉による反射率低減と、超微粒子の表面形状効果による屈折率連続変化の反射率低減の両原理による低反射性と、第１層による帯電防止性の両機能が得られる。
また、上記第１層と第２層の間に、空気を含む中間層を設けることにより、さらに反射防止効果が向上する。」（【００１０】【００１１】）
ｄ．「そして、上地層である第２層の最表面の凹凸は１００ｎｍ（超微粒子の粒径の半分）以下であり、拡散反射はほとんど気にならない。スプレーコート法により形成した従来の反射膜は、スプレー粒子を小さく絞っても、当該粒子が重なり合って大きな凹凸ができて拡散反射が残り、白く曇ることがあるのに対して、本発明による反射防止膜には上記のような不具合は生じない。」（【００１２】）
ｅ．「図１は本発明による表示装置の第１実施例の構成を説明する要部断面図であって、１０はスクリーンを構成する基板、１１はバインダを含む高屈折率の第１層、１２は低屈折率の第２層、１３はＳｉＯ2 粒子を含むバインダ層である。
同図において、第１層１１として、表示装置のスクリーンを構成する基板１０の表面上にＳｎＯ2 を成分とする平均粒径が５０ｎｍ以下の超微粒子をエチルシリケートの分解により生成したＳｉＯ2 バインダーで固定する。この第１層１１上にＳｉＯ2 を成分とする平均粒径が２００ｎｍ以下の超微粒子をエチルシリケートの分解により生成したＳｉＯ2 バインダーで固定して第２層１２を形成する。
第１層１１は導電性を有し、基板表面に静電荷は帯電するのを防止する機能を有し、第２層１２と共に反射防止膜を形成する。」（【００１３】〜【００１５】）
ｆ．「上記のように構成した本実施例によれば、各層の光の干渉による反射率低減と、超微粒子の表面形状効果による屈折率連続変化の反射率低減の両原理による低反射性、および第１層による帯電防止性の両機能を兼ね備えたスクリーンを得ることができる。」（【００１７】）
と記載されている。
　
・甲第２号証（特開昭５９−１５１１０９号公報）には、
ｇ．「偏光フィルムの表面に無延伸又は一方向のみに延伸してなるプラスチック層を形成してなる偏光基材の該プラスチック層面に紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂に凝集性シリカゲルを含む組成物からなる硬化皮膜層を形成してなることを特徴とする防眩機能を持つ偏光板。」（特許請求の範囲）
ｈ．「本発明の偏光板によれば、偏光基材のプラスチック層面に紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂に凝集性シリカゲルを含む組成物からなる硬化皮膜層が形成されているので、表面高度が大きく耐スクラッチ性にすぐれ、しかもシリカゲルの凝集性に起因して光を散乱するので防眩性にすぐれるという特徴を有する。」（１頁右下欄１５行〜２頁左上欄１行）
ｉ．「本発明に使用されるシリカゲルは、コロイド状シリカ粒子が数十から数百個凝集したものである。コロイド状シリカ粒子径としては３０ｍμ以下、好ましくは平均粒子径５〜２５ｍμで凝集粉末粒子径は１〜５μｍであり、…紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂とシリカゲルとの割合は、樹脂１００重量部に対して、シリカゲルが０．１〜３５重量部となるように配合するのが耐スクラッチ性及び防眩効果を兼備させるうえから望ましいものである。」（２頁左上欄１２行〜右上欄２行）
ｊ．「このように配合された組成物は、単独或いは該組成物が塗布硬化される後記プラスチック層に対して不活性な有機溶剤に、固形分濃度で２０〜９５重量％となるように希釈され、スピンナーコート、グラビアコータ、…などの一般の塗工法にて、１〜３０ｇ／ｍ2（固形分）となるように塗布し、乾燥後紫外線硬化されるものである。」（２頁左下欄６〜１３行）
と記載されている。
　
・甲第３号証（特開昭６４−７６００１号公報）には、
ｋ．「Ｒをアルキル基とし、Ｓｉ（ＯＲ）4のアルコール溶液に、０．０１〜１μｍの範囲内に整粒したＭｇＦ2の微粒子を添加して分散させた液を、ガラス板の表面に塗布後、焼成して形成された、ＳｉＯ2膜に被覆されたＭｇＦ2の微粒子がガラスに接着された、表面に微細な凹凸を有するガラス面用の反射防止膜。」（特許請求の範囲）
ｌ．「本発明は、一旦通常の製造工程を完了した表示装置、例えば陰極線管や液晶表示装置などのガラス表示面に施工するのに適した、丈夫で汚れ難く、拡散反射により防眩性を得るだけでなく反射光量そのものも低減させた反射防止膜を提供することを目的とする。」（２頁左上欄１６行〜右上欄１行）
ｍ．「Ｓｉ（ＯＲ）4のは焼成時に加水分解してＳｉＯ2膜になるが、この膜はガラスに強く接着するのでＭｇＦ2の微粒子を被覆してガラスに対する接着剤のように作用する。」（２頁左下欄７〜１０行）
ｎ．「塗布液：０．０５μｍＭｇＦ2をＳｉ（ＯＲ）4溶液に１％ないし２％添加」（２頁左下欄第１表）
と記載されている。
　
・甲第４号証（特開昭６０−２４２４０１号公報）には、
ｏ．「基材の両面に液状組成物を２層ずつ塗布し、それぞれを乾燥および／または硬化させることにより２層からなる反射光色を有する反射防止膜を形成する方法において、該反射防止膜の基材側の層（第１層）を膜厚２０〜３０００ｎｍで塗布し、該第１層の上に設けられる層（第２層）を液除去コート法で膜厚２０〜１０００ｎｍに塗布し、かつ第１層の屈折率が基材と第２層のいずれかの屈折率よりも高くなるようにしたことを特徴とする反射防止膜の形成方法。」（特許請求の範囲）
ｐ．「第１層に好ましく使用される比較的屈折率の高い皮膜形成性物質として用いられる…無機系材料としては…各種元素のアルコキシド、…がある。これらの好適な例としては、チタンテトラエトキシド、チタンテトラ−ｉ−プロポキシド、…などの金属アルコレート化合物、…などを挙げることができる。」（３頁右下欄３行〜４頁右上欄７行）
ｑ．「第２層に好ましく使用される比較的屈折率の低い皮膜形成性物質で…無機系材料としては各種…などの無機系ケイ素化合物がある。これら無機系ケイ素化合物の具体的な代表例としては、メチルシリケート、エチルシリケート…などを挙げることができる。」（４頁左下欄１８行〜頁右下欄１８行）
と記載されている。
　
・甲第５号証（特開平５−１７３００９号公報）には、
ｒ．「【請求項１】導電性微粒子を分散させた水溶液を高温高圧処理した溶液と、Ｔｉ塩かつ／またはＴｉアルコキサイドとを含む塗布液を基体上に塗布した後、加熱かつ／または紫外線照射を施し高屈折率導電膜を形成し、その上に該導電膜より屈折率の小さい低屈折率膜を形成して２層からなる低反射帯電防止膜を製造することを特徴とする低反射帯電防止膜の製造方法。」（特許請求の範囲）
ｓ．「導電性微粒子の分散媒、分散法は特に限定されるものではなく種々使用可能である。例えば水或いはアルコール等の有機溶媒中に導電性微粒子を添加し、酸或いはアルカリを添加しｐＨを調整し、コロイドミル、ボールミル、サンドミル、ホモミキサー等市販の粉砕器や超音波等により分散させて得ることができる。」（【００１８】）
と記載されている。
　
３．４　当審の判断
　本件発明１と甲第１号証に記載されたものとを対比すると、甲第１号証に記載のものは、他の要件についての相違点以外にも、本件発明１で特定する「前記重なった層は比較的大きな屈折率を有する重合二酸化チタン組成物の第一層及び第三層と、比較的小さな屈折率を有する重合二酸化珪素組成物の第二層及び第四層とを交互に重ねたもの」とする構成ではない点で相違する。
　そして、甲第２〜５号証にも、そのような構成については記載も示唆もされていない。
　したがって、甲第１号証に記載のものに対して、甲第２〜５号証を適用しても、本件発明１の構成に到達し得ない。
　そして、本件発明１は、明細書記載の顕著な効果を奏するものであるから、本件発明１が甲第１〜５号証に記載された発明から容易に発明をすることができたものとすることはできない。
　本件発明１を引用する本件発明２〜９についても同様である。
　
　また、同様に、本件発明１７と甲第１号証に記載されたものとを対比すると、甲第１号証に記載のものは、他の要件についての相違点以外にも、本件発明１７で特定する「前記重なった層は比較的大きな屈折率を有する重合二酸化チタン組成物の第一層及び第三層と、比較的小さな屈折率を有する重合二酸化珪素組成物の第二層及び第四層とを交互に重ねたもの」とする構成ではない点で相違する。本件発明２２についても同様である。
　したがって、本件発明１における判断と同様に、本件発明１７は、甲第１〜５号証に記載された発明から容易に発明をすることができたものとすることはできない。同様に、本件発明２２は、甲第１〜５号証に記載された発明から容易に発明をすることができたものとすることはできない。
　本件発明１７を引用する本件発明１８〜２１、また本件発明２２を引用する本件発明２３〜２６についても、同様である。
　
４．　むすび
  以上のとおりであるから、特許異議申立の理由及び証拠によっては本件請求項１〜９，１７〜２６に係る発明の特許を取り消すことはできない。
  また、他に本件請求項１〜９，１７〜２６に係る発明の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１６年３月１９日（２００４．３．１９）
【訂正の要旨】
審決（決定）の【理由】欄参照。
（５４）【発明の名称】
拡散反射防止被覆を有する光学透明体及びその製法
【発明の詳細な説明】
　
発明の背景
　本発明は、一般に光学透明体に関し、詳しくは基体上に反射防止又はグレア防止（ａｎｔｉｇｌａｒｅ，眩光防止）被覆を付けた光学透明体に関する。
　この特定の種類の光学透明体は、反射及び眩しさを少なくし、それによってそれらの上又はそれらを通して表示された情報の読取り性を向上させるために開発されてきている。多孔質材料の反射防止被覆と同様、低屈折率の反射防止被覆が、下にある基体の鏡面反射率（ｓｐｅｃｕｌａｒ　ｒｅｆｌｅｃｔａｎｃｅ，正反射率）を減少することができることが知られている。しかし、そのような被覆は限られた種類の基体にしか容易に適用できず、それらは屡々比較的低い機械的性質を示す。
　多くの商業的反射防止及び眩光防止被覆は、透過光の強度及び透明性を急激に低下する欠点も有する。これらの被覆の或るものは、極めて透明でさえある。更に、これらの被覆のあるものはかなりの表面粗さを有するため、屡々目に見える欠陥を伴う。
　或る反射防止被覆は、高屈折率材料と低屈折率材料とを交互に重ねた多層を有する。これらの被覆は一般に大きな透過性及び透明性を犠牲にすることなく、低い反射率を示すが、それらは製造するのに比較的費用がかかる。更に、そのような被覆は比較的低い鏡面反射を与えることさえあるが、表面欠陥が屡々目障りになると考えられている。このことは、それら被覆した基体を表示器カバー板として用いるには適合性の悪いものにしている。
　従って、低い鏡面反射性と共に大きな透過性を与え、然も、表面欠陥を見にくくする結果を与えるのに充分な拡散反射を与える、透明基体のための改良された反射防止被覆及びその製法に対する必要性が存在することは明らかである。その反射防止被覆は化学的、機械的及び環境的にも安定である必要がある。本発明は、これらの必要性を満たすものである。
　
発明の概要
　本発明は、具体的には、低い鏡面反射性と共に大きな透過性を与え、然も、拡散反射を与え、表面欠陥を見にくくした被覆透明体及びその製法にある。このことは、鏡面反射に匹敵するか、又はそれより大きく、然も、依然としてその透過性に比較すれば無視できる拡散反射を示す被覆を与えることによって達成される。そのような拡散反射は、反射された像又は眩しい光のためのコントラストを低下し、それによって表面欠陥をマスキングし（隠し）、視覚的に快適な外観を与える。この被覆は化学的、機械的及び環境的にも安定である。
　特に本発明の被覆透明体には、透明基体、及び基体の表面上に付着させた反射防止被覆が含まれる。反射防止被覆には、指定された（ｐｒｅｓｃｒｉｂｅｄ，定められた）均一な厚さの複数の重合層を有し、それら層は重合二酸化チタンと重合二酸化珪素とを交互にしたものである。被覆の少なくとも１つの層は、０．０００１５〜０．０００６ｍｇ／ｃｍ２の範囲の濃度を有する離散粒子（ｄｉｓｃｒｅｔｅ　ｐａｒｔｉｃｌｅｓ，ばらばらな粒子）を含み、それら粒子はその層の残りの屈折率とは異なった屈折率を有する。それらの層は共同して可視波長で拡散非反射被覆を与え、それは表面欠陥をマスキングし、視覚的に快適な外観を与える。鏡面反射は約４％未満に限定されるのが好ましいが、拡散反射は０．２〜５％の範囲でそれに匹敵した値に限定されるのが好ましい。
　本発明の更に詳細な特徴として、反射防止被覆に配合された離散粒子は、二酸化珪素、酸化アルミニウム、フッ化マグネシウム、二酸化チタン、及びそれらの混合物からなる群から選択される。それら粒子は約１０μ未満の粒径を有し、一層小さな微小粒子（ｓｕｂ−ｐａｒｔｉｃｌｅ，サブ粒子）の凝集体である。離散粒子が二酸化珪素だけから形成されている場合、それらは約０．１重量％未満の濃度を有する。一方、離散粒子が酸化アルミニウム、フッ化マグネシウム及び（又は）二酸化チタンから配合されている場合、それらは約１０重量％未満の濃度を有する。
　本発明の更に別の一層詳細な特徴として、離散粒子は、反射防止被覆のどのような数の層の中に配合してもよい。例えば、それらは全ての層に配合してもよいか又は一番外側の層だけに配合してもよい。
　透明基体はあらゆる適当な形、例えば平坦な形をしていてもよく、それはガラス、プラスチック等のあらゆる適当な材料から形成されていてもよい。後者の場合、プラスチック材料は、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリスチレン、アリルジグリコールカーボネート及びポリエチレンからなる群から選択することができる。
　本発明の他の特徴及び利点は、本発明の原理を例として示した図面に関連して述べた次の説明から明らかになるであろう。
　
図面の簡単な説明
　図１は、本発明による被覆透明体の一具体例の概略的断面図であり、光の進行を示す線は透明体の透過性及び反射性を表わしている。
　図２は、裸のポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）基体及び幾つかの異なった被覆ＰＭＭＡ基体について、波長の関数として示した鏡面反射率を描いたグラフである。
　図３は、幾つかの異なった被覆ＰＭＭＡ基体について、波長の関数として描いた拡散反射率のグラフである。
　図４は、本発明を具体化した被覆透明体の外側表面の粒子構造を示す顕微鏡写真（２５００×）である。
　
好ましい形態及び方法の説明
　図面に関し、特に図１に関し、そこには透明基体１１が示されており、その上には低い鏡面反射性と共に可視光線の大きな透過性を与える４層反射防止被覆が付着している。被覆の連続した層１５ａ〜１５ｄは、指定された均一な厚さを有し、それらは重合二酸化珪素及び重合二酸化チタンとを交互に重ねたものからなり、それらはゾルゲル法を用いて夫々形成されている。第
二
ｂ
四
ｄ
一
ａ
三
ｃ
　反射防止被覆１３の層１５ａ〜１５ｄの少なくとも１つは、二酸化珪素（ＳｉＯ２）、二酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）及びフッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）を含む群から選択された化合物からなる離散粒子１７を含んでいる。これらの粒子は、層（単数又は複数）内に無作為的に分布し、しっかり結合されている。
　反射防止被覆１３の層１５ａ〜１５ｄは、夫々ゾルゲル法を用いて形成し、その場合、アルコキシド、アルコール、酸触媒及び水を一緒に混合して溶液を形成し、それを適当に調整してゲル化し、希望の二酸化珪素又は二酸化チタンの重合体マトリックスとする。それら諸溶液は、浸漬、スピニング（ｓｐｉｎｎｉｎｇ，回転被覆）及びロール被覆（ｒｏｌｌ−ｃｏａｔｉｎｇ，ロールコーティング）を含めた幾つかの適当な方法のいずれかを用いて透明基体１１に塗布し（ａｐｐｌｙ，施し）、次いで、付着した材料を上昇させた温度で硬化し、次いで、次に続く層を付着する。被覆を施すのに適した方法は、同じ譲受人に譲渡されている係属中の１９９６年６月１７日ディン・グオチェン（Ｄｉｎ−Ｇｕｏ　Ｃｈｅｎ）等の名前で出願された「多層反射防止被覆を有するプラスチック物品及びそれら被覆を付着するためのゾルゲル法」と題する米国特許出願Ｓｅｒｉａｌ　Ｎｏ．０８／６６４，９１１（これは、言及することによりここに取り入れる）に詳細に記述されている。
　反射防止被覆１３のための一種以上のアルコキシド溶液中の離散粒子１７の濃度は非常に低い。それら粒子が二酸化珪素即ちシリカから形成されている場合、それらの濃度は０．１重量％未満であるのが好ましい。一方、それら粒子が二酸化チタン、酸化アルミニウム又はフッ化マグネシウムから形成されている場合、それらの濃度は１０重量％未満であるのが好ましい。一層高い濃度は、被覆に不当に大きな鏡面反射率及び不当に大きな拡散反射率を与えることがある。
　個々の粒子１７は、一層小さな０．０００１〜１０μの範囲の粒径を有する微小粒子の凝集体であると考えられる。これらの微小粒子は形が球形でも不規則でもよい。微小粒子及び凝集粒子は、全て溶液中及び被覆層のどちらにあっても、人間の肉眼には実質的に見えない位充分小さなものである。
　一種以上のアルコキシド溶液に添加される粒子は、固体粉末又はコロイド溶液の形をしていてもよい。溶液中の粒子の分散は、機械的撹拌又は超音波撹拌を用いることにより、又は別法として、溶液を分散剤、例えば、アミノプロピルトリメトキシシラン、トリメチルエトキシルシラン、トリメチルメトキシルシラン、ジメチルジクロロシラン、又は１，６−ヘキサジラザンで処理することにより達成することができる。
　透明基体１１はあらゆる形、例えば平坦又は湾曲したパネルでもよく、それはガラス、プラスチック等のあらゆる適当な材料から形成されていてもよい。後者の場合、プラスチック材料は、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート、ポリスチレン、アリルジグリコールカーボネート（ＣＲ−３９）及びポリエチレン（ＰＥＴ）から成る群から選択されたどの材料でもよい。
　硬化（ＰＭＭＡの場合、８４℃で少なくとも５分間）後、本発明により作られた被覆基体１１は、４００〜７００ｎｍの波長範囲で約４％未満の鏡面反射率及び５５０ｎｍで０．３〜５．０％の範囲の拡散反射率を示す。このレベルの拡散反射率は、特定化したレベルの鏡面反射率と一緒になって、どのような反射した像又は眩しい光に対してもコントラストの低下を与え、それによって表面欠陥をマスキングし、視覚的に快適な画面を与える。反射防止被覆１３中へ離散粒子を配合することによっても、そのような粒子を含まない被覆と比較して、鏡面反射率を低くする波長範囲を広くすることができる。本発明の反射防止被覆は、化学的、機械的及び環境的にも安定である。
　被覆透明体及びその製法を一般的に記述してきたが、次の特別な例は、本発明の種々の性質を例示し、本発明の実際的利点を実証するものである。これらの例は単なる例示として解釈されるべきであり、開示の残り或いは請求の範囲を限定するものではない。
　例１
　この例では、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）基体上に４層の反射防止被覆を形成した。先ずＰＭＭＡシートから接着剤紙を除去し、次に裸のシートを超音波浴中で洗剤溶液で奇麗にし、脱イオン水で完全に濯いだ。次にそのシートを熱風の流れの中で乾燥し、次に脱イオン空気の流れによって乾燥し、静電気が蓄積しないようにした。
　被覆の４つの層の各々のための別々の被覆溶液を調製した。第一層及び第三層のための溶液はチタンを基本とし、第二層及び第四層のための溶液は珪素を基本とした。
　第一層のための溶液は、チタンイソプロポキシドＴｉ（ＯｉＰｒ）４、エチルアルコール（ＥｔＯＨ）、脱イオン水（Ｈ２Ｏ）及び塩酸（ＨＣｌ）を混合することにより調製した。この第一層のためのモル組成の一般的範囲は、Ｔｉ（ＯｉＰｒ）４　１モル：ＥｔＯＨ　８０〜１２０モル：Ｈ２Ｏ　２〜５モル：ＨＣｌ　０．０５〜０．５モルであった。好ましいモル組成の４つの成分を室温で４時間完全に混合し、然る後、その溶液を室温で４８時間放置した。この時間の間溶液は加水分解反応及び重合を受け、二酸化チタン重合体溶液を形成した。次にその重合した溶液を濾過し、ポリプロピレン貯蔵タンクへ移した。
　第一層のための溶液を浸漬被覆室へ移し、ＰＭＭＡ基体を、垂直に動くことができる腕に止めた。室内の温度を２３℃になるように調節し、室内の湿度が４０〜８０％の範囲になるように調節した。次に基体を溶液中へ降下させ、１０秒間沈めたままにし、然る後、それを制御した速度で取り出した。基体を取り出した時、透明で均一な層が得られた。
　第一層で被覆された基体を次に炉に移し、炉の温度を５分間に亙って２３℃から８４℃へ均一な速度で上昇させた。この８４℃の温度を更に５分間維持し、その時間中に第一被覆層を完全に硬化した。次に炉の温度を５分間に亙り均一な速度で降下し、２３℃へ再び戻し、基体を取り出した。硬化二酸化チタン第一層の厚さは１５〜３０ｎｍの範囲にあることが測定され、層の屈折率は５５０ｎｍの波長で２．００であることが測定された。
　第二の層のための被覆溶液を、オルト珪酸テトラエチル（ＴＥＯＳ）、エチルアルコール（ＥｔＯＨ）、脱イオン水（Ｈ２Ｏ）、及び塩酸（ＨＣｌ）を混合することにより調製した。適当であると考えられるモル組成の一般的範囲は、１モルのＴＥＯＳ、７０〜１１０モルのＥｔＯＨ、２〜６モルのＨ２Ｏ、及び０．１〜０．３モルＨＣｌである。これらの４つの成分を室温で４時間完全に混合し、然る後、溶液を室温で少なくとも更に４時間放置した。この時間中に、溶液は加水分解反応及び重合を受け、二酸化珪素重合体溶液を形成した。次にその重合した溶液を濾過し。ポリプロピレン貯蔵タンクへ移した。
　第二層のための溶液を浸漬被覆室へ移し、４層の反射防止被覆の第一層が既に付着したＰＭＭＡ基体を、垂直に動くことができる腕に留めた。室内の温度を２３℃になるように調節し、室内の湿度が２０〜５０％の範囲内になるように調節した。次に基体を溶液中へ降下させ、１０秒間沈めたままにし、然る後、それを制御した速度で取り出した。基体を取り出した時、透明で均一な第二層が第一層の上に得られた。
　硬化した第一層と新たに浸漬した第二層で被覆された基体を次に硬化炉に移し、炉の温度を５分間に亙って２３℃から８４℃へ均一な速度で上昇させた。この８４℃の温度を更に５分間維持し、その時間中に第二被覆層を完全に硬化した。次に炉の温度を５分間に亙り均一な速度で降下し、再び２３℃へ戻し、基体を取り出した。硬化二酸化珪素第二層の厚さは２０〜３５ｎｍの範囲にあることが測定され、層の屈折率は５５０ｎｍの波長で１．４４であることが測定された。
　第三層のための被覆溶液は、第一層のための溶液の場合と同様なやり方で調製した。但し、幾らか異なったモル組成を用いた。適当と考えられるモル組成の一般的範囲は、Ｔｉ（ＯｉＰｒ）４　１モルの、ＥｔＯＨ　３５〜５５モル、Ｈ２Ｏ　２〜５モル、及びＨＣｌ　０．１〜０．４モルである。第三層のための浸漬段階中、温度及び湿度は第一層の場合の浸漬段階と同じになるように調節したが、基体は制御された速度で溶液から取り出した。第三層の硬化は、第一層の硬化が行われたのと全く同じやり方で行われた。硬化後、第三層の厚さは７０〜９０ｎｍの範囲にあることが測定され、層の屈折率は５５０ｎｍの波長で２．００であることが測定された。
　第四層のための被覆溶液を、第二層のための溶液の場合と同様なやり方で調製した。但し、適当と考えられるモル組成の一般的範囲は、１モルのＴＥＯＳ、２０〜４０モルのＥｔＯＨ、２〜５モルのＨ２Ｏ、及び０．０５〜０．１モルのＨＣｌである。第四層のための浸漬段階中、温度及び湿度は第二層の場合の浸漬段階と同じになるように調節したが、基体は制御された速度で溶液から取り出した。第四層の硬化は、第二層の硬化が行われたのと全く同じやり方で行われた。但し被覆したパネルを８４℃の温度で４時間維持した。硬化後、第四層の厚さは９０〜１１０ｎｍの範囲にあることが測定され、層の屈折率は５５０ｎｍの波長で１．４４であることが測定された。
　この例の４層反射防止被覆の第四層のための最終硬化工程後、被覆は透明で、目で見える欠陥は全く無いことが判明した。分光光度計〔バリアン（Ｖａｒｉａｎ）により販売されているキャリー（Ｃａｒｙ）４〕を用いて３００〜８００ｎｍの波長範囲に亙って試料の反射率を測定し、この測定結果を示すデータは図２に描写する。このデータは、４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍの波長での反射率が、夫々０．５５％、０．０８％及び０．６５％であることを示している。
　試料の拡散反射率を、拡散反射付属装置である積分球を用いて測定した。５５０ｎｍで０．２０％の拡散屈折率が測定され、それは裸のＰＭＭＡ基体のそれと実質的に同じであった。
　この例の４層反射防止被覆は引っ掻き傷抵抗試験及びテープ接着試験を用いても評価した。試料は３Ｈ鉛筆試験でさえも目に見える傷を示さず、損傷を起こすことなくテープ接着試験に耐えた。しかし、時々小さな光学的欠陥が被覆の中に見られた。
　この例の４層反射防止被覆は、環境的な劣化を受け易いか否かについても評価した。これらは高温試験、低温試験、湿度試験、熱衝撃試験及び耐化学性試験を含む。そのような各環境的試験に従って、試料をその反射率、引っ掻き傷抵抗性及び耐テープ付着性について評価した。試料の性質の劣化はこれらの環境的試験によっては観察されなかった。
　例２
　４層の反射防止被覆の最初の３つの層をＰＭＭＡ基体上に付着させ、例１で行なったのと全く同じやり方で硬化した。しかし、被覆の第四層は異なったやり方で形成した。特に第四層溶液は、例１の第四層溶液と同様なやり方で調製したが、それは更に指定された量の小さなシリカ粒子を含んでいた。この溶液を超音波装置に入れ、１２５０Ｗの電力で４２ｋＨｚの高周波音波に５分間曝した。溶液中のシリカ粒子の表面積は窒素吸着法を用いて測定し、２００ｍ２／ｇであることが判明し、平均粒径は０．０１２μであることが測定された。シリカ粒子は最終被覆溶液の０．０１重量％を構成することが決定された。
　被覆の第四層を、例１に記載した第四層の場合と同じになるように調節した温度及び湿度で第四層溶液中に３層被覆基体を浸漬することにより塗布した。第四層の硬化は、例１の第四層の硬化が行われたのと全く同じ仕方で行われた。硬化後、第四層の厚さは８０〜１２０ｎｍの範囲にあることが測定された。図４に描かれているように２０００×の走査電子顕微鏡で調べると、被覆層中に実質的にランダムに細かな粒子が分布していることが観察された。これらの粒子は肉眼には見えない。
　図２に示す通り、被覆基体の鏡面反射率は、４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍの波長で、夫々０．７５％、０．１５％及び０．２２％であることが測定された。更に図３に示す通り、被覆基体の拡散反射率は、５５０ｎｍで０．８５％であることが測定された。
　拡散反射像を持つ例２の被覆基体は、視覚的に快適な外観を生ずることが見出された。第四層溶液は濾過されていないが、被覆は見て見える欠陥は全く持たないことが判明した。試料を、例１に記載した種類の機械的及び環境的試験に耐える能力について評価した。これらの試験後、試料の性質には何等劣化は観察されなかった。
　例３
　四層反射防止被覆を、例２の試料の場合と全く同じやり方で形成した。但し、第四層被覆溶液を、シリカ粒子と混合した後、室温で６０日間エージングした。被覆基体の鏡面反射性は、例２の試料のものと同様であることが決定された。試料の拡散反射性及び機械的及び環境的安定性も、例２試料の場合と同様であることが決定された。従って、シリカ粒子を添加してさえも、第四層溶液或いは被覆の第四層に劣化は起きなかった。
　例４
　４層の反射防止被覆を、例２の試料の場合と全く同じやり方で形成した。但し、第四層溶液中のシリカ粒子の量を最終溶液中、０．０４重量％に増大した。硬化後、図２に示す通り、非常に低い鏡面反射率が観測され、機械的及び環境的安定性は例１のものと同様であることが判明した。図３に示す通り、例４の試料の拡散屈折率は５５０ｎｍで１．５３％であることが判明した。
　例５
　４層反射防止被覆を、例２の試料の場合と全く同じやり方で形成した。但し、第四層溶液中のシリカ粒子の量を最終溶液中、０．５重量％に増大した。硬化後、試料の鏡面反射率は例２の試料のそれよりも遥かに大きく、４５０〜６５０ｎｍの全波長範囲に亙って約４％であることが観察された。更に、試料の拡散反射率は約４．５％であることが観察された。しかし、被覆は、機械的に弱く、３Ｈ、２Ｈ及び１Ｈの鉛筆引っ掻き傷試験には不合格であった。
　例６
　４層反射防止被覆を、例２の試料の場合と全く同じやり方で形成した。但し、二酸化珪素粒子の代わりに二酸化チタン粒子を用いた。種々の試料溶液中の粒子濃度は約１０％までの範囲にした。硬化後、試料の鏡面反射率は例２の試料のそれと同様であることが観察された。更に、試料の拡散反射率は、５５０ｎｍで約０．９％であることが観察された。試料はテープ付着試験及び３Ｈ鉛筆引っ掻き傷試験に合格した。
　例７
　４層の反射防止被覆を、例２の試料の場合と全く同じやり方で形成した。但し二酸化珪素粒子の代わりに酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）粒子を用いた。種々の試料溶液中の粒子濃度は約１０％以下の範囲にした。硬化後、試料の鏡面反射率は例２の試料のそれと同様であることが観察され、試料の拡散反射率は、５５０ｎｍで約１．３％であることが観察された。試料はテープ付着試験及び３Ｈ鉛筆引っ掻き傷試験に合格した。
　例８
　４層反射防止被覆を、例２の試料の場合と全く同じやり方で形成した。但し、シリカ粒子を、コロイドシリカ（シリカ４０重量％）５０％及びフッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）５０％で置き換えた。種々の試料溶液中の粒子濃度は約１０％以下の範囲にした。硬化後、試料の鏡面反射率は例２の試料のそれと同様であることが観察され、試料の拡散反射率は、５５０ｎｍで約１．０％であることが観察された。試料はテープ付着試験及び３Ｈ鉛筆引っ掻き傷試験に合格した。
　例９
　４層反射防止被覆を、例２の試料の場合と全く同じやり方で形成した。但し、シリカ粒子は第四層のための溶液には添加せず、むしろ第一層、第二層及び第三層のための溶液に添加し、単独及び種々の組合せの両方で添加した。粒子濃度は約０．１％以下の範囲にした。硬化後、試料の鏡面反射率は例２の試料のそれと同様であることが観察され、同様に試料の拡散反射率も例２の試料のそれと同様であることが観察された。試料はテープ付着試験及び３Ｈ鉛筆引っ掻き傷試験にも合格した。
　上の記述から、本発明は、低い鏡面反射性と共に大きな透過性を与え、然も、表面欠陥を見にくくする改良された透明体及びその製法を与えるものであることが認められるであろう。これは、鏡面反射に匹敵するか、又はそれより大きく、然も依然としてその透過性と比較すると無視できる拡散反射を示す被覆を与えることにより達成される。その拡散反射性は、透明体の反射防止被覆の１つ以上の層中に、指定された濃度で離散粒子を配合することにより与えられる。
　本発明を好ましい形態及び方法に関してのみ詳細に記述してきたが、本発明から離れることなく種々の変更を行えることを当業者は認めるであろう。従って、本発明は、次の請求の範囲に関してのみ規定されるものである。
（５７）【特許請求の範囲】
　１．　透明基体、及び
　前記透明基体の表面上に付着させた反射防止被覆、
から成る被覆透明体であって、
　前記反射防止被覆は指定された均一な厚さの複数の重ねられた重合層（ただし、重合層がオルガノポリシロキサンである場合を除く。）を有し、それら層は比較的大きな屈折率を有する
重合二酸化チタン
の第一層及び第三層
重合二酸化珪素
の第二層及び第四層
　前記反射防止被覆の少なくとも１つの層には、０．０００１５〜０．０００６ｍｇ／ｃｍ２の範囲の濃度で実質的に均一に分布された離散粒子が配合されており、それら粒子は、前記層の離散粒子以外の場所の材料の屈折率とは異なった屈折率を有し、しかも
　前記層が共同して種々の波長で拡散反射防止被覆を与えており、
　離散粒子が二酸化珪素、酸化アルミニウム、フッ化マグネシウム、二酸化チタン、及びそれらの混合物から成る群から選択される、
上記被覆透明体。
　
２
１
　
３
　
４
　
５
　
６
　
７
　
８
　
９
８
　
１０
　前記透明プラスチック基体の表面上に付着させた反射防止被覆、
から成る被覆透明体であって、
　前記反射防止被覆は指定された均一な厚さの複数の重合した薄膜層を有し、それら層は重合二酸化チタンと重合二酸化珪素を交互にしたものであり、
　前記反射防止被覆の少なくとも一つの層には、０．０００１５〜０．０００６ｍｇ／ｃｍ２の範囲の濃度で、約１０μ未満の粒径を有する離散粒子が配合されており、それら粒子は一層小さな微小粒子の凝集体であり、それら粒子は、更に前記層のそれ以外の所の材料の屈折率とは異なった屈折率を有し、二酸化珪素、酸化アルミニウム、フッ化マグネシウム、二酸化チタン、及びそれらの混合物からなる群から選択されており、しかも
　前記層が共同して種々の波長で拡散反射防止被覆を与えている、
上記被覆透明体。
　
１１
１０
　
１２
　前記反射防止被覆中に配合された離散粒子が、約１０重量％未満の粒子濃度を有する重合溶液から得られたものである、
請求項
１０
　
１３
１０
　
１４
１０
　
１５
１０
　
１６
１５
　
１７
　別々の重合溶液を前記透明基体に繰り返し塗布し、夫々の塗布によって指定された量の溶液を基体に付着させ、そして
　別々の重合溶液の各塗布直後にその付着溶液を硬化し、前記基体上に別々の重合した薄膜層を形成する、
ことからなり、然も、
　塗布及び次の硬化を繰り返して順次重なった薄膜層を形成し、前記重なった層
は比較的大きな屈折率を有する重合二酸化チタン組成物の第一層及び第三層と、比較的小さな屈折率を有する重合二酸化珪素組成物の第二層及び第四層とを交互に重ねたものであり
　混合により生じた前記重合溶液の少なくとも１つが離散粒子を含み、それら粒子は前記溶液を用いて形成した重合層を構成する材料の前記粒子以外の所の屈折率とは実質的に異なった屈折率を有し、前記離散粒子は溶液中約０．１重量％未満の濃度を有し、約１０μ未満の平均粒径を有し、そして
　前記の重なった諸重合層が共同して多層拡散非反射性被覆を形成する、
上記被覆付着方法。
　
１８
　比較的低い屈折率を有する薄膜層を形成するのに用いられるアルコキシド溶液がオルト珪酸テトラエチルを含有し、そのような溶液を用いて形成した層が重合二酸化珪素を含有する、
請求項
１７
　
１９
１７
　
２０
１７
　
２１
１７
　
２２
　アルコキシド、アルコール及び水を一緒に混合して、異なった屈折率を有する透明な薄膜層を与えるように配合した複数の重合溶液を形成し、
　別々の重合溶液を前記透明基体に繰り返し塗布し、夫々の塗布によって、指定された量の溶液を基体に付着させ、そして
　別々の重合溶液の各塗布直後にその付着溶液を硬化し、前記基体上に別々の重合した薄膜層を形成する、
ことからなり、然も、
　塗布及び次の硬化を繰り返して順次重なった薄膜層を形成し、前記重なった層
は比較的大きな屈折率を有する重合二酸化チタン組成物の第一層及び第三層と、比較的小さな屈折率を有する重合二酸化珪素組成物の第二層及び第四層とを交互に重ねたものであり
　混合により生じた前記重合溶液の少なくとも１つが更に離散粒子を含み、それら粒子は前記溶液を用いて形成した重合層を構成する材料の前記粒子以外の所の屈折率とは実質的に異なった屈折率を有し、
　前記離散粒子は、酸化アルミニウム、フッ化マグネシウム、二酸化チタン、及びそれらの混合物からなる群から選択され、前記離散粒子は、溶液中約１０％未満の濃度を有し、約１０μ未満の平均粒径を有し、そして
　前記の重なった諸重合層が共同して多層拡散反射防止被覆を形成する、
上記被覆付着方法。
　
２３
　比較的低い屈折率を有する薄膜層を形成するのに用いられるアルコキシド溶液がオルト珪酸テトラエチルを含有し、そのような溶液を用いて形成した層が重合二酸化珪素を含有する、
請求項
２２
　
２４
２２
　
２５
２２
　
２６
２２