(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
外周面における十点平均表面粗さＲｚが１．５μｍ以上３．５μｍ以下である導電性基体と、
前記導電性基体の前記外周面上に直接設けられた単層型の感光層であって、結着樹脂と電荷発生材料と正孔輸送材料と電子輸送材料とを含有し、波長７８０μｍにおける厚み１μｍあたりの吸光度が０．０２以上０．０６以下である感光層と、
を有し、
前記正孔輸送材料は、トリアリールアミン系化合物を含み、
前記電子輸送材料は、下記一般式（２）で表される化合物、ジフェノキノン化合物、及びジナフトキノン化合物からなる群より選択される少なくとも一種を含む電子写真感光体。
【化１】
0006620461.tif 000019
（前記一般式（２）中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、及びＲ１７は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、又はアラルキル基を示す。Ｒ１８は、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す。）
【請求項２】
前記十点平均表面粗さＲｚが２．０μｍ以上３．５μｍ以下である請求項１に記載の電子写真感光体。
【請求項３】
前記電荷発生材料は、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料及びクロロガリウムフタロシアニン顔料から選択される少なくとも１種の電荷発生材料である請求項１又は請求項２に記載の電子写真感光体。
【請求項４】
請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
【請求項５】
請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１には、「導電性基体と、前記導電性基体上に設けられた単層型の感光層であって、結着樹脂と、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料及びクロロガリウムフタロシアニン顔料から選択される少なくとも１種の電荷発生材料と、ブタジエン構造を有する特定の正孔輸送材料と、フルオレン骨格を有する特定の電子輸送材料と、を含んで構成された感光層と、を有する電子写真感光体」が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１３−２３１８６７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の課題は、外周面における十点平均表面粗さＲｚが１．５μｍ未満である導電性基体と波長７８０μｍにおける厚み１μｍあたりの吸光度が０．０２以上０．０６以下である単層型の感光層とを有する電子写真感光体、又は外周面における十点平均表面粗さＲｚが１．５μｍ以上３．５μｍ以下である導電性基体と波長７８０μｍにおける厚み１μｍあたりの吸光度が０．０２未満若しくは０．０６を超える電子写真感光体に比べ、負帯電時の感度が高い電子写真感光体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題は、以下の手段により解決される。即ち、
【０００６】
＜１＞
外周面における十点平均表面粗さＲｚが１．５μｍ以上３．５μｍ以下である導電性基体と、
前記導電性基体の前記外周面上に設けられた単層型の感光層であって、結着樹脂と電荷発生材料と正孔輸送材料と電子輸送材料とを含有し、波長７８０μｍにおける厚み１μｍあたりの吸光度が０．０２以上０．０６以下である感光層と、
を有する電子写真感光体。
【０００７】
＜２＞
前記電荷発生材料は、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料及びクロロガリウムフタロシアニン顔料から選択される少なくとも１種の電荷発生材料である＜１＞に記載の電子写真感光体。
【０００８】
＜３＞
＜１＞又は＜２＞に記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
【０００９】
＜４＞
＜１＞又は＜２＞に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
【発明の効果】
【００１０】
＜１＞に係る発明によれば、外周面における十点平均表面粗さＲｚが１．５μｍ未満である導電性基体と波長７８０μｍにおける厚み１μｍあたりの吸光度が０．０２以上０．０６以下である単層型の感光層とを有する電子写真感光体、又は外周面における十点平均表面粗さＲｚが１．５μｍ以上３．５μｍ以下である導電性基体と波長７８０μｍにおける厚み１μｍあたりの吸光度が０．０２未満若しくは０．０６を超える電子写真感光体に比べ、負帯電時の感度が高い電子写真感光体が提供される。
【００１１】
＜２＞に係る発明によれば、電荷発生材料として無金属フタロシアニン顔料のみを用いた場合に比べ、負帯電時の感度が高い電子写真感光体が提供される。
【００１２】
＜３＞又は＜４＞に係る発明によれば、外周面における十点平均表面粗さＲｚが１．５μｍ未満である導電性基体と波長７８０μｍにおける厚み１μｍあたりの吸光度が０．０２以上０．０６以下である単層型の感光層とを有する電子写真感光体、又は外周面における十点平均表面粗さＲｚが１．５μｍ以上３．５μｍ以下である導電性基体と波長７８０μｍにおける厚み１μｍあたりの吸光度が０．０２未満若しくは０．０６を超える電子写真感光体を適用した場合に比べ、負帯電時の感度が高い電子写真感光体を適用したプロセスカートリッジ又は画像形成装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本実施形態に係る電子写真感光体を示す概略部分断面図である。
【図２】本実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。
【図３】他の本実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明の一例である実施形態について説明する。
【００１５】
［電子写真感光体］
本実施形態に係る電子写真感光体は、導電性基体を備え、導電性基体上に単層型の感光層を有する有機感光体（以下、単に「感光体」又は「単層型感光体」と称することがある）である。
そして、導電性基体の外周面における十点平均表面粗さＲｚ（以下「基体表面粗さ」と称する場合がある）が１．５μｍ以上３．５μｍ以下である。また単層型の感光層は、結着樹脂と電荷発生材料と正孔輸送材料と電子輸送材料とを含有し、かつ、波長７８０μｍにおける厚み１μｍあたりの吸光度（以下「特定吸光度」と称する場合がある）が０．０２以上０．０６以下である。
なお、単層型の感光層とは、電荷発生能と共に、正孔輸送性及び電子輸送性を持つ感光層である。
【００１６】
ここで、電子写真感光体としては、製造コスト及び画質安定性の観点から、単層型の有機感光体が好適に用いられている。また、単層型の感光体は、高い感度を得る観点から、主に正帯電で用いられることが多い。しかし、機能分離型の感光体が負帯電で用いられることが多いため、部材や技術の共通化の観点から、単層型感光体の負帯電での使用に対する要求が高く、負帯電時における感度の高い単層型感光体の実現が望まれている。
【００１７】
本実施形態に係る感光体は、前記構成であることにより、負帯電時の感度が高い。この理由は、次のように推測される。
単層型の感光層は、正孔輸送材料及び電子輸送材料を含むが、正孔輸送材料の正孔輸送能に比べて電子輸送材料の電子輸送能の方が低いため、電子の輸送距離を短くすることで感度が向上すると考えられる。つまり、負帯電時の感度を高める方法として、感光層の中でも導電性基体に近い領域で電荷を多く発生させ、相対的に電子の輸送距離を短くする方法が挙げられる。
【００１８】
感光層のうち導電性基体に近い領域で電荷を多く発生させる方法として、露光波長における感光層の吸光度を低くすることで、光が感光層の奥深くまで進んで導電性基体側の領域に達しやすくする方法が考えられる。しかし、感光層の吸光度が低いと、感光層の奥深くに到達した光の多くが導電性基体の外周面で正反射し、そのまま再び感光層を透過して感光層の外周面から抜け出ることで、結果的に電荷発生材料の光吸収量が少なくなり、むしろ感度が低くなる場合が考えられる。
【００１９】
これに対して本実施形態では、前記の通り、基体表面粗さが１．５μｍ以上３．５μｍ以下であり、かつ、特定吸光度が０．０２以上０．０６以下である。
そのため、特定吸光度が前記範囲よりも大きい場合に比べ、照射された光が感光層の奥深く（導電性基体に近い領域）に到達しやすいことに加え、基体表面粗さが前記範囲よりも小さい場合に比べ、導電性基体の外周面で光が散乱しやすい。そして、導電性基体の外周面で光が散乱することで、感光層のうち導電性基体に近い領域に存在する電荷発生材料が光を吸収する機会が増え、電荷発生量が増加し、感度が向上すると推測される。
【００２０】
以上のようにして、本実施形態に係る感光体は、負帯電時の感度が高くなると推測される。
また本実施形態では、前記の通り、導電性基体の外周面に到達した光が散乱しやすく正反射しにくいため、導電性基体の外周面で正反射した光によって形成される干渉縞が生じにくい。
【００２１】
また本実施形態では、特定吸光度が前記範囲であることにより、感光層のうち導電性基体に近い領域に存在する電荷発生材料の光吸収量が増えるため、感度が高い。
また本実施形態では、基体表面粗さが前記範囲であることにより、局所的な電荷漏れ（リーク）に起因する点状の画像欠陥（色点）が抑制される。
【００２２】
なお、前記基体表面粗さは、ＪＩＳ  Ｂ０６０１（１９９４年）の十点平均粗さＲｚである。十点平均粗さＲｚは、表面粗さ測定機（東京精密社製サーフコム１４００）を用い、カットオフ０．８ｍｍ、測定長４．０ｍｍ、トラバーススピード０．３ｍｍ／ｓｅｃの条件で、測定対象物の３か所（軸方向両端２０ｍｍ位置及び中央部の３か所）を測定し、その平均値を算出する。
【００２３】
また、特定吸光度は、次のようにして測定される。
まず、感光体の作製に用いる感光層形成用塗布液と同じ組成のサンプル用塗布液を準備し、これをガラスプレート上に塗布し、感光層の形成の際の同条件で乾燥硬化し、ある厚さ（Ｌ１（μｍ））の膜を作製する。また、同様にして、Ｌ１とは異なる厚さ（Ｌ２（μｍ）及びＬ３（μｍ））の膜を、それぞれ別のガラスプレート上に作製する。
このようにして得られた３枚のサンプルについて、７８０ｎｍにおける吸光度を測定し、その値を、膜厚Ｌ１のサンプルの場合「Ａ１」、膜厚Ｌ２のサンプルの場合「Ａ２」、膜厚Ｌ３のサンプルの場合「Ａ３」とする。
そして、膜厚を横軸、吸光度（Ａ１、Ａ２、及びＡ３）を縦軸としたときのプロットから傾きを算出し、膜厚１μｍあたりの吸光度を求めた。
なお、ガラスプレート上に成膜される膜厚は５μｍ以上１５μｍ以下の範囲とした。
また、吸光度は、日立社製、紫外可視分光光度計Ｕ２０００を用いて測定した。
【００２４】
なお、電子写真感光体の感光層における特定吸光度を求める方法としては、例えば、導電性基体から感光層を剥離して膜厚Ｌ１、Ｌ２、及びＬ３のフィルム状のサンプルを切り出し、得られた３枚のサンプルを用いて上記の方法により特定吸光度を求める方法、感光層を良溶媒に溶解した溶液を用いてガラスプレート上へ膜厚Ｌ１、Ｌ２、及びＬ３の膜を作製し、上記の方法で特定吸光度を求める方法等が挙げられる。
【００２５】
以下、図面を参照しつつ、本実施形態に係る電子写真感光体を詳細に説明する。
図１は、本実施形態に係る電子写真感光体１０の一部の断面を概略的に示している。
図１に示した電子写真感光体１０は、例えば、導電性基体３を備え、導電性基体３上に、下引層１及び単層型の感光層２がこの順で設けられて構成されている。
なお、下引層１は、必要に応じて設けられる層である。すなわち、単層型の感光層２は、導電性基体３上に直接設けられていてもよく、下引層１を介して設けられてもよい。ただし負帯電時の高い感度を得る観点からは、導電性基体３上に単層型の感光層２が直接設けられていることが望ましい。
また、必要に応じてその他の層を設けてもよい。具体的には、例えば、必要に応じて、単層型の感光層２上に保護層を設けてもよい。
【００２６】
以下、本実施形態に係る電子写真感光体の各層について詳細に説明する。なお、符号は省略して説明する。
【００２７】
（導電性基体）
導電性基体としては、例えば、金属（アルミニウム、銅、亜鉛、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等）又は合金（ステンレス鋼等）を含む金属板、金属ドラム、及び金属ベルト等が挙げられる。また、導電性基体としては、例えば、導電性化合物（例えば導電性ポリマー、酸化インジウム等）、金属（例えばアルミニウム、パラジウム、金等）又は合金を塗布、蒸着又はラミネートした紙、樹脂フィルム、ベルト等も挙げられる。ここで、「導電性」とは体積抵抗率が１０１３Ωｃｍ未満であることをいう。
【００２８】
導電性基体の外周面における十点平均表面粗さＲｚ（基体表面粗さ）は、１．５μｍ以上３．５μｍ以下であり、２．０μｍ以上３．５μｍ以下が好ましく、２．５μｍ以上３．５μｍ以下がより好ましい。
基体表面粗さを前記範囲とする方法としては、例えば、導電性基体の外周面を粗面化する方法が挙げられる。
【００２９】
粗面化の方法としては、例えば、研磨剤を水に懸濁させて支持体に吹き付けることによって行う湿式ホーニング、回転する砥石に導電性基体を圧接し、連続的に研削加工を行うセンタレス研削、陽極酸化処理等が挙げられる。
【００３０】
粗面化の方法としては、導電性基体の表面を粗面化することなく、導電性又は半導電性粉体を樹脂中に分散させて、導電性基体の表面上に層を形成し、その層中に分散させる粒子により粗面化する方法も挙げられる。
【００３１】
陽極酸化による粗面化処理は、金属製（例えばアルミニウム製）の導電性基体を陽極とし電解質溶液中で陽極酸化することにより導電性基体の表面に酸化膜を形成するものである。電解質溶液としては、例えば、硫酸溶液、シュウ酸溶液等が挙げられる。しかし、陽極酸化により形成された多孔質陽極酸化膜は、そのままの状態では化学的に活性であり、汚染され易く、環境による抵抗変動も大きい。そこで、多孔質陽極酸化膜に対して、酸化膜の微細孔を加圧水蒸気又は沸騰水中（ニッケル等の金属塩を加えてもよい）で水和反応による体積膨張でふさぎ、より安定な水和酸化物に変える封孔処理を行うことが好ましい。
【００３２】
陽極酸化膜の膜厚は、例えば、０．３μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。この膜厚が上記範囲内にあると、注入に対するバリア性が発揮される傾向があり、また繰り返し使用による残留電位の上昇が抑えられる傾向にある。
【００３３】
導電性基体には、酸性処理液による処理又はベーマイト処理を施してもよい。
酸性処理液による処理は、例えば、以下のようにして実施される。先ず、リン酸、クロム酸及びフッ酸を含む酸性処理液を調製する。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸及びフッ酸の配合割合は、例えば、リン酸が１０質量％以上１１質量％以下の範囲、クロム酸が３質量％以上５質量％以下の範囲、フッ酸が０．５質量％以上２質量％以下の範囲であって、これらの酸全体の濃度は１３．５質量％以上１８質量％以下の範囲がよい。処理温度は例えば４２℃以上４８℃以下が好ましい。被膜の膜厚は、０．３μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。
【００３４】
ベーマイト処理は、例えば９０℃以上１００℃以下の純水中に５分から６０分間浸漬すること、又は９０℃以上１２０℃以下の加熱水蒸気に５分から６０分間接触させて行う。被膜の膜厚は、０．１μｍ以上５μｍ以下が好ましい。これをさらにアジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩等の被膜溶解性の低い電解質溶液を用いて陽極酸化処理してもよい。
【００３５】
（下引層）
下引層は、例えば、無機粒子と結着樹脂とを含む層である。
【００３６】
無機粒子としては、例えば、粉体抵抗（体積抵抗率）１０２Ωｃｍ以上１０１１Ωｃｍ以下の無機粒子が挙げられる。
これらの中でも、上記抵抗値を有する無機粒子としては、例えば、酸化錫粒子、酸化チタン粒子、酸化亜鉛粒子、酸化ジルコニウム粒子等の金属酸化物粒子がよく、特に、酸化亜鉛粒子が好ましい。
【００３７】
無機粒子のＢＥＴ法による比表面積は、例えば、１０ｍ２／ｇ以上がよい。
無機粒子の体積平均粒径は、例えば、５０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下（好ましくは６０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下）がよい。
【００３８】
無機粒子の含有量は、例えば、結着樹脂に対して、１０質量％以上８０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは４０質量％以上８０質量％以下である。
【００３９】
無機粒子は、表面処理が施されていてもよい。無機粒子は、表面処理の異なるもの、又は、粒子径の異なるものを２種以上混合して用いてもよい。
【００４０】
表面処理剤としては、例えば、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、界面活性剤等が挙げられる。特に、シランカップリング剤が好ましく、アミノ基を有するシランカップリング剤がさらに好ましい。
【００４１】
アミノ基を有するシランカップリング剤としては、例えば、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００４２】
シランカップリング剤は、２種以上混合して使用してもよい。例えば、アミノ基を有するシランカップリング剤と他のシランカップリング剤とを併用してもよい。この他のシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリルオキシプロピル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００４３】
表面処理剤による表面処理方法は、公知の方法であればいかなる方法でもよく、乾式法又は湿式法のいずれでもよい。
【００４４】
表面処理剤の処理量は、例えば、無機粒子に対して０．５質量％以上１０質量％以下が好ましい。
【００４５】
ここで、下引層は、無機粒子と共に電子受容性化合物（アクセプター化合物）を含有することが、電気特性の長期安定性、キャリアブロック性が高まる観点からよい。
【００４６】
電子受容性化合物としては、例えば、クロラニル、ブロモアニル等のキノン系化合物；テトラシアノキノジメタン系化合物；２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物；２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物；キサントン系化合物；チオフェン化合物；３，３’，５，５’テトラ−ｔ−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物；等の電子輸送性物質等が挙げられる。
特に、電子受容性化合物としては、アントラキノン構造を有する化合物が好ましい。アントラキノン構造を有する化合物としては、例えば、ヒドロキシアントラキノン化合物、アミノアントラキノン化合物、アミノヒドロキシアントラキノン化合物等が好ましく、具体的には、例えば、アントラキノン、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリン等が好ましい。
【００４７】
電子受容性化合物は、下引層中に無機粒子と共に分散して含まれていてもよいし、無機粒子の表面に付着した状態で含まれていてもよい。
【００４８】
電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着させる方法としては、例えば、乾式法、又は、湿式法が挙げられる。
【００４９】
乾式法は、例えば、無機粒子をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、直接又は有機溶媒に溶解させた電子受容性化合物を滴下、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させて、電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着する方法である。電子受容性化合物の滴下又は噴霧するときは、溶剤の沸点以下の温度で行うことがよい。電子受容性化合物を滴下又は噴霧した後、更に１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に制限されない。
【００５０】
湿式法は、例えば、攪拌、超音波、サンドミル、アトライター、ボールミル等により、無機粒子を溶剤中に分散しつつ、電子受容性化合物を添加し、攪拌又は分散した後、溶剤除去して、電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着する方法である。溶剤除去方法は、例えば、ろ過又は蒸留により留去される。溶剤除去後には、更に１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に限定されない。湿式法においては、電子受容性化合物を添加する前に無機粒子の含有水分を除去してもよく、その例として溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法が挙げられる。
【００５１】
なお、電子受容性化合物の付着は、表面処理剤による表面処理を無機粒子に施す前又は後に行ってよく、電子受容性化合物の付着と表面処理剤による表面処理と同時に行ってもよい。
【００５２】
電子受容性化合物の含有量は、例えば、無機粒子に対して０．０１質量％以上２０質量％以下がよく、好ましくは０．０１質量％以上１０質量％以下である。
【００５３】
下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の公知の高分子化合物；ジルコニウムキレート化合物；チタニウムキレート化合物；アルミニウムキレート化合物；チタニウムアルコキシド化合物；有機チタニウム化合物；シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。
下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂、導電性樹脂（例えばポリアニリン等）等も挙げられる。
【００５４】
これらの中でも、下引層に用いる結着樹脂としては、上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が好適であり、特に、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂；ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂及びポリビニルアセタール樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂と硬化剤との反応により得られる樹脂が好適である。
これら結着樹脂を２種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて設定される。
【００５５】
下引層には、電気特性向上、環境安定性向上、画質向上のために種々の添加剤を含んでいてもよい。
添加剤としては、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。シランカップリング剤は前述のように無機粒子の表面処理に用いられるが、添加剤として更に下引層に添加してもよい。
【００５６】
添加剤としてのシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリルオキシプロピル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【００５７】
ジルコニウムキレート化合物としては、例えば、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。
【００５８】
チタニウムキレート化合物としては、例えば、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。
【００５９】
アルミニウムキレート化合物としては、例えば、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）等が挙げられる。
【００６０】
これらの添加剤は、単独で、又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。
【００６１】
下引層は、ビッカース硬度が３５以上であることがよい。
下引層の表面粗さ（十点平均粗さ）は、モアレ像抑制のために、使用される露光用レーザ波長λの１／（４ｎ）（ｎは上層の屈折率）から（１／２）λまでに調整されていることがよい。
表面粗さ調整のために下引層中に樹脂粒子等を添加してもよい。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル樹脂粒子等が挙げられる。また、表面粗さ調整のために下引層の表面を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、湿式ホーニング、研削処理等が挙げられる。
【００６２】
下引層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた下引層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱することで行う。
【００６３】
下引層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、公知の有機溶剤、例えば、アルコール系溶剤、芳香族炭化水素溶剤、ハロゲン化炭化水素溶剤、ケトン系溶剤、ケトンアルコール系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤等が挙げられる。
これらの溶剤として具体的には、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が挙げられる。
【００６４】
下引層形成用塗布液を調製するときの無機粒子の分散方法としては、例えば、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカー等の公知の方法が挙げられる。
【００６５】
下引層形成用塗布液を導電性基体上に塗布する方法としては、例えば、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【００６６】
下引層の膜厚は、例えば、好ましくは１５μｍ以上、より好ましくは２０μｍ以上５０μｍ以下の範囲内に設定される。
【００６７】
なお、本実施形態では、導電性基体の外周面で散乱した光を感光層内の電荷発生材料に効率よく吸収させる観点から、下引層としては、７８０ｎｍに吸収を持たないことが好ましい。
【００６８】
（中間層）
図示は省略するが、下引層と感光層との間に中間層をさらに設けてもよい。
中間層は、例えば、樹脂を含む層である。中間層に用いる樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂等の高分子化合物が挙げられる。
中間層は、有機金属化合物を含む層であってもよい。中間層に用いる有機金属化合物としては、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、ケイ素等の金属原子を含有する有機金属化合物等が挙げられる。
これらの中間層に用いる化合物は、単独で又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。
【００６９】
これらの中でも、中間層は、ジルコニウム原子又はケイ素原子を含有する有機金属化合物を含む層であることが好ましい。
【００７０】
中間層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた中間層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。
中間層を形成する塗布方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
【００７１】
中間層の膜厚は、例えば、好ましくは０．１μｍ以上３μｍ以下の範囲に設定される。なお、中間層を下引層として使用してもよい。
【００７２】
なお、本実施形態では、導電性基体の外周面で散乱した光を感光層内の電荷発生材料に効率よく吸収させる観点から、中間層としては、７８０ｎｍに吸収を持たないことが好ましい。
【００７３】
（単層型感光層）
単層型感光層は、結着樹脂と、電荷発生材料と、電子輸送材料と、正孔輸送材料と、を含む。単層型感光層は、必要に応じてその他添加剤を含んでもよい。
【００７４】
−結着樹脂−
結着樹脂としては、特に制限はないが、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーンアルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン等が挙げられる。これらの結着樹脂は、単独又は２種以上混合して用いてもよい。
これらの結着樹脂の中でも、特に、感光層の成膜性の観点から、例えば、粘度平均分子量３００００以上８００００以下のポリカーボネート樹脂がよい。
【００７５】
結着樹脂の感光層の全固形分に対する含有量は、３５質量％以上６０質量％以下であることがよく、好ましくは４０質量％以上６０質量％以下である。
【００７６】
−電荷発生材料−
電荷発生材料としては、ビスアゾ、トリスアゾ等のアゾ顔料；ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料；ペリレン顔料；ピロロピロール顔料；フタロシアニン顔料；酸化亜鉛；三方晶系セレン等が挙げられる。
【００７７】
これらの中でも、近赤外域のレーザ露光に対応させるためには、電荷発生材料としては、金属フタロシアニン顔料、又は無金属フタロシアニン顔料を用いることが好ましい。具体的には、例えば、特開平５−２６３００７号公報、特開平５−２７９５９１号公報等に開示されたヒドロキシガリウムフタロシアニン；特開平５−９８１８１号公報等に開示されたクロロガリウムフタロシアニン；特開平５−１４０４７２号公報、特開平５−１４０４７３号公報等に開示されたジクロロスズフタロシアニン；特開平４−１８９８７３号公報等に開示されたチタニルフタロシアニンがより好ましい。
なお、電荷発生材料は、１種のみ用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００７８】
ここで、電荷発生材料としては、単層型感光体の高感度化の点から、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料及びクロロガリウムフタロシアニン顔料から選択される少なくとも１種が好ましく、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料がより好ましい。
【００７９】
ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料としては、特に制限はないが、Ｖ型のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料がよい。
特に、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料としては、例えば、６００ｎｍ以上９００ｎｍ以下の波長域での分光吸収スペクトルにおいて、８１０ｎｍ以上８３９ｎｍ以下の範囲に最大ピーク波長を有するヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料がより優れた分散性が得られる観点から望ましい。電子写真感光体の材料として用いた場合に、優れた分散性と、十分な感度、帯電性及び暗減衰特性とが得られ易くなる。
【００８０】
また、上記の８１０ｎｍ以上８３９ｎｍ以下の範囲に最大ピーク波長を有するヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、平均粒径が特定の範囲であり、且つ、ＢＥＴ比表面積が特定の範囲であることが望ましい。具体的には、平均粒径が０．２０μｍ以下であることが望ましく、０．０１μｍ以上０．１５μｍ以下であることがより望ましく、一方、ＢＥＴ比表面積が４５ｍ２／ｇ以上であることが望ましく、５０ｍ２／ｇ以上であることがより望ましく、５５ｍ２／ｇ以上１２０ｍ２／ｇ以下であることが特に望ましい。平均粒径は、体積平均粒径（ｄ５０平均粒径）でレーザ回折散乱式粒度分布測定装置（ＬＡ−７００、堀場製作所社製）にて測定した値である。また、ＢＥＴ式比表面積測定器（島津製作所製：フローソープＩＩ２３００）を用い窒素置換法にて測定した値である。
ここで、平均粒径が０．２０μｍより大きい場合、又は比表面積値が４５ｍ２／ｇ未満である場合は、顔料粒子が粗大化しているか、又は顔料粒子の凝集体が形成される傾向があり、分散性や、感度、帯電性及び暗減衰特性といった特性に欠陥が生じやすい傾向にあり、それにより画質欠陥を生じ易くなることがある。
【００８１】
ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の最大粒径（一次粒子径の最大値）は、１．２μｍ以下であることが望ましく、１．０μｍ以下であることがより望ましく、より望ましくは０．３μｍ以下である。かかる最大粒径が上記範囲を超えると、色点が発生しやすい傾向にある。
【００８２】
ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、感光体が蛍光灯などに暴露されたことに起因する濃度ムラを抑制する観点から、平均粒径が０．２μｍ以下、最大粒径が１．２μｍ以下であり、且つ、比表面積値が４５ｍ２／ｇ以上であることが望ましい。
【００８３】
ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、ＣｕＫα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．３゜、１６．０゜、２４．９゜、２８．０゜に回折ピークを有するＶ型であることが望ましい。
【００８４】
一方、クロロガリウムフタロシアニン顔料としては、例えば、電子写真感光体材料として優れた感度が得られる、ブラッグ角度（２θ±０．２°）７．４°、１６．６°、２５．５°及び２８．３°に回折ピークを有するものであることが望ましい。
なお、クロロガリウムフタロシアニン顔料の好適な分光吸収スペクトルの最大ピーク波長、平均粒径、最大粒径、及び比表面積値は、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料と同様である。
【００８５】
感光層の全固形分に対する電荷発生材料の含有量は、特定吸光度が前記範囲であれば特に限定されないが、高い感度を得る観点から、例えば０．２質量％以上１．５質量％以下が挙げられ、好ましくは０．４質量％以上１．２質量％以下であり、より好ましくは０．４質量％以上１．０質量％以下である。
【００８６】
−正孔輸送材料−
正孔輸送材料としては、特に制限はないが、例えば、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物等の化合物が挙げられる。これらの正孔輸送材料は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよいが、これらに限定されるものではない。
【００８７】
正孔輸送材料としては、電荷移動度の観点から、例えば、下記一般式（１）で表される化合物（以下「式（１）の正孔輸送材料」とも称する）、下記一般式（Ｂ−１）で表される化合物、下記一般式（Ｂ−２）で表される化合物、及び下記一般式（Ｂ−３）で表される化合物が好ましい。これらの中でも、特に、単層型感光体の高感度化の点から、式（１）の正孔輸送材料が特に好ましい。
【００８８】
【化１】
0006620461.tif 000002
【００８９】
一般式（１）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、及びＲ６は、各々独立に、水素原子、低級アルキル基、アルコキシ基、フェノキシ基、ハロゲン原子、又は、低級アルキル基、低級アルコキシ基及びハロゲン原子から選ばれる置換基を有していてもよいフェニル基を示す。ｐ及びｑは、各々独立に、０又は１を示す。
【００９０】
一般式（１）中、Ｒ１〜Ｒ６が示す低級アルキル基としては、例えば、直鎖状又は分岐状で、炭素数１以上４以下のアルキル基が挙げられ、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基等が挙げられる。
これらの中でも、低級アルキル基としては、メチル基、エチル基が好ましい。
【００９１】
一般式（１）中、Ｒ１〜Ｒ６が示すアルコキシ基としては、例えば、炭素数１以上４以下のアルコキシ基が挙げられ、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等が挙げられる。
【００９２】
一般式（１）中、Ｒ１〜Ｒ６が示すハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
【００９３】
一般式（１）中、Ｒ１〜Ｒ６が示すフェニル基としては、例えば、未置換のフェニル基；ｐ−トリル基、２，４−ジメチルフェニル基等の低級アルキル基置換のフェニル基；ｐ−メトキシフェニル基等の低級アルコキシ基置換のフェニル基；ｐ−クロロフェニル基等のハロゲン原子置換のフェニル基等が挙げられる。
なお、フェニル基に置換し得る置換基としては、例えば、Ｒ１〜Ｒ６が示す低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子が挙げられる。
【００９４】
式（１）の正孔輸送材料の中でも、高感度化及び色点の発生抑制の観点から、ｐ及びｑが１を示す正孔輸送材料が好ましく、Ｒ１〜Ｒ６が各々独立に、水素原子、低級アルキル基、又はアルコキシ基を示し、ｐ及びｑが１を示す正孔輸送材料がより好ましい。
【００９５】
以下、式（１）の正孔輸送材料の例示化合物を示すがこれに限定されるわけではない。なお、以下の例示化合物番号は、例示化合物（１−番号）と以下表記する。具体的には、例えば、例示化合物１５は、「例示化合物（１−１５）」と以下表記する。
【００９６】
【化２】
0006620461.tif 000003
【００９７】
【化３】
0006620461.tif 000004
【００９８】
【化４】
0006620461.tif 000005
【００９９】
【化５】
0006620461.tif 000006
【０１００】
なお、上記例示化合物中の略記号は、以下の意味を示す。
・４−Ｍｅ：フェニル基の４−位に置換するメチル基
・３−Ｍｅ：フェニル基の３−位に置換するメチル基
・４−Ｃｌ：フェニル基の４−位に置換する塩素原子
・４−ＭｅＯ：フェニル基の４−位に置換するメトキシ基
・４−Ｆ：フェニル基の４−位に置換するフッ素原子
・４−Ｐｒ：フェニル基の４−位に置換するプロピル基
・４−ＰｈＯ：フェニル基の４−位に置換するフェノキシ基
【０１０１】
【化６】
0006620461.tif 000007
【０１０２】
一般式（Ｂ−１）中、ＲＢ１は、水素原子またはメチル基を示す。ｎ１１は１または２を示す。ＡｒＢ１およびＡｒＢ２は各々独立に置換若しくは未置換のアリール基、−Ｃ６Ｈ４−Ｃ（ＲＢ３）＝Ｃ（ＲＢ４）（ＲＢ５）、または−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＢ６）（ＲＢ７）を示し、ＲＢ３乃至ＲＢ７はそれぞれ独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、または置換若しくは未置換のアリール基を表す。置換基としてはハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、または炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基を示す。
【０１０３】
【化７】
0006620461.tif 000008
【０１０４】
一般式（Ｂ−２）中、ＲＢ８およびＲＢ８’は同一でも異なってもよく、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、を示す。ＲＢ９、ＲＢ９’、ＲＢ１０、およびＲＢ１０’は同一でも異なってもよく、各々独立にハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上２以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは未置換のアリール基、−Ｃ（ＲＢ１１）＝Ｃ（ＲＢ１２）（ＲＢ１３）、または−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＢ１４）（ＲＢ１５）を示し、ＲＢ１１乃至ＲＢ１５は各々独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、または置換若しくは未置換のアリール基を表す。ｍ１２、ｍ１３、ｎ１２およびｎ１３は各々独立に０以上２以下の整数を示す。
【０１０５】
【化８】
0006620461.tif 000009
【０１０６】
一般式（Ｂ−３）中、ＲＢ１６およびＲＢ１６’は同一でも異なってもよく、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、を示す。ＲＢ１７、ＲＢ１７’、ＲＢ１８、およびＲＢ１８’は同一でも異なってもよく、各々独立にハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上２以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは未置換のアリール基、−Ｃ（ＲＢ１９）＝Ｃ（ＲＢ２０）（ＲＢ２１）、または−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＢ２２）（ＲＢ２３）を示し、ＲＢ１９乃至ＲＢ２３は各々独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、または置換若しくは未置換のアリール基を表す。ｍ１４、ｍ１５、ｎ１４およびｎ１５は各々独立に０以上２以下の整数を示す。
【０１０７】
ここで、一般式（Ｂ−１）で示される化合物、一般式（Ｂ−２）で示される化合物、及び一般式（Ｂ−３）で示される化合物のうち、特に、「−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＢ６）（ＲＢ７）」を有する一般式（Ｂ−１）で示される化合物及び「−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＢ１４）（ＲＢ１５）」を有する一般式（Ｂ−２）で示される化合物が望ましい。
【０１０８】
ここで、一般式（Ｂ−１）で示される化合物、一般式（Ｂ−２）で示される化合物、及び一般式（Ｂ−３）で示される化合物の具体例としては、例えば以下の化合物が挙げられる。
【０１０９】
【化９】
0006620461.tif 000010
【０１１０】
感光層の全固形分に対する正孔輸送材料の含有量は、１０質量％以上４０質量％以下がよく、好ましくは２０質量％以上３７質量％以下である。
なお、この正孔輸送材料の含有量は、２種以上の正孔輸送材料を併用した場合、それらの正孔輸送材料全体の含有量である。
【０１１１】
−電子輸送材料−
電子輸送材料としては、特に制限はないが、例えば、クロラニル、ブロモアニル等のキノン系化合物；テトラシアノキノジメタン系化合物；２，４，７−トリニトロフルオレノン、９−ジシアノメチレン−９−フルオレノン−４−カルボン酸オクチル、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物；２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）１，３，４−オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物；キサントン系化合物；チオフェン化合物；３，３’−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチル-ジナフトキノン等のジナフトキノン化合物；３，３’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−５，５’−ジメチルジフェノキノン、３，３’，５，５’−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−４，４’−ジフェノキノン等のジフェノキノン化合物；上記した化合物で構成される基を主鎖又は側鎖に有する重合体；等が挙げられる。これらの電子輸送材料は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよいが、これらに限定されるものではない。
【０１１２】
電子輸送材料としては、電荷移動度の観点から、例えば、下記一般式（２）で表される化合物（以下「式（２）の正孔輸送材料」とも称する）が好ましい。
【０１１３】
【化１０】
0006620461.tif 000011
【０１１４】
一般式（２）中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、及びＲ１７は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、又はアラルキル基を示す。Ｒ１８は、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す。
【０１１５】
一般式（２）中、Ｒ１１〜Ｒ１７が示すハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
【０１１６】
一般式（２）中、Ｒ１１〜Ｒ１７が示すアルキル基としては、例えば、直鎖状又は分岐状で、炭素数１以上４以下（好ましくは１以上３以下）のアルキル基が挙げられ、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基等が挙げられる。
【０１１７】
一般式（２）中、Ｒ１１〜Ｒ１７が示すアルコキシ基としては、例えば、炭素数１以上４以下（好ましくは１以上３以下）のアルコキシ基が挙げられ、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等が挙げられる。
【０１１８】
一般式（２）中、Ｒ１１〜Ｒ１７が示すアリール基としては、例えば、フェニル基、トリル基等が挙げられる。これらの中でも、Ｒ１１〜Ｒ１７が示すアリール基としては、フェニル基が好ましい。
一般式（２）中、Ｒ１１〜Ｒ１７が示すアラルキル基としては、−Ｒ１９−Ａｒ１で示される基が挙げられる。但し、Ｒ１９は、アルキレン基を示す、Ａｒ１は、アリール基を示す。  Ｒ１９が示すアルキレン基としては、直鎖状又は分岐状の炭素数１以上８以下のアルキレン基が挙げられ、メチレン基、エチレン基、ｎ−プロピレン基、イソプロピレン基、ｎ−ブチレン基、イソブチレン基、ｓｅｃ−ブチレン基、ｔｅｒｔ−ブチレン基、ｎ−ペンチレン基、イソペンチレン基、ネオペンチレン基、ｔｅｒｔ−ペンチレン基等が挙げられる。
Ａｒ１が示すアリール基としては、フェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、等が挙げられる。
Ｒ１１〜Ｒ１７が示すアラルキル基としては、具体的には、例えば、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基等が挙げられる。
【０１１９】
一般式（２）中、Ｒ１８が示すアルキル基としては、例えば、炭素数１以上１５以下（好ましくは炭素数３以上１２以下、より好ましくは炭素数５以上１０以下）の直鎖状のアルキル基、炭素数３以上１５以下（好ましくは炭素数３以上１２以下、より好ましくは炭素数５以上１０以下）の分岐状のアルキル基が挙げられる。
直鎖状のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基等が挙げられる。
分岐状のアルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、イソヘキシル基、ｓｅｃ−ヘキシル基、ｔｅｒｔ−ヘキシル基、イソヘプチル基、ｓｅｃ−ヘプチル基、ｔｅｒｔ−ヘプチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、イソノニル基、ｓｅｃ−ノニル基、ｔｅｒｔ−ノニル基、イソデシル基、ｓｅｃ−デシル基、ｔｅｒｔ−デシル基等が挙げられる。
【０１２０】
一般式（２）中、Ｒ１８が示すアリール基としては、例えば、フェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基等が挙げられる。
【０１２１】
一般式（２）中、Ｒ１８が示すアラルキル基としては、−Ｒ２０−Ａｒ２で示される基が挙げられる。但し、Ｒ２０は、アルキレン基を示す、Ａｒ２は、アリール基を示す。
Ｒ２０が示すアルキレン基としては、直鎖状又は分岐状の炭素数１以上８以下のアルキレン基が挙げられ、メチレン基、エチレン基、ｎ−プロピレン基、イソプロピレン基、ｎ−ブチレン基、イソブチレン基、ｓｅｃ−ブチレン基、ｔｅｒｔ−ブチレン基、ｎ−ペンチレン基、イソペンチレン基、ネオペンチレン基、ｔｅｒｔ−ペンチレン基等が挙げられる。
Ａｒ２が示すアリール基としては、フェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、等が挙げられる。
【０１２２】
一般式（２）中、Ｒ１８が示すアラルキル基として具体的には、ベンジル基、メチルベンジル基、ジメチルベンジル基、フェニルエチル基、メチルフェニルエチル基、フェニルプロピル基、フェニルブチル基等が挙げられる。
【０１２３】
式（２）の電子輸送材料としては、単層型感光体の高感度化の点から、Ｒ１８が炭素数３以上１２以下のアルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す電子輸送材料が好ましい。特に、式（２）の電子輸送材料としては、Ｒ１１〜Ｒ１７が各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、又はアルキル基を示し、かつ、Ｒ１８が炭素数５以上１０以下の直鎖状のアルキル基を示す電子輸送材料が好ましい。
【０１２４】
以下、式（２）の電子輸送材料の例示化合物を示すが、これに限定されるわけではない。なお、以下の例示化合物番号は、例示化合物（２−番号）と以下表記する。具体的には、例えば、例示化合物１５は、「例示化合物（２−１５）」と以下表記する。
【０１２５】
【化１１】
0006620461.tif 000012
【０１２６】
なお、上記例示化合物中の略記号は、以下の意味を示す。
・Ｐｈ：フェニル基又はフェニレン基
・ｐ−Ｃ２Ｈ５：パラ位に置換したエチル基
【０１２７】
感光層の全固形分に対する電子輸送材料の含有量は、４質量％以上２０質量％以下がよく、好ましくは６質量％以上１５質量％以下である。
なお、この電子輸送材料の含有量は、２種以上の電子輸送材料を併用した場合、それらの電子輸送材料全体の含有量である。
【０１２８】
−正孔輸送材料と電子輸送材料との比率−
正孔輸送材料と電子輸送材料との比率は、質量比（正孔輸送材料／電子輸送材料）で、５０／５０以上９０／１０以下が好ましく、より好ましくは６０／４０以上８０／２０以下である。
なお、本比率は、他の電荷輸送材料を併用した場合、その合計での比率である。
【０１２９】
−その他添加剤−
単層型の感光層には、界面活性剤、酸化防止剤、光安定剤、熱安定剤等の周知のその他添加剤を含んでいてもよい。また、単層型の感光層が表面層となる場合、フッ素樹脂粒子、シリコーンオイル等を含んでいてもよい。
【０１３０】
−単層型の感光層の形成−
単層型の感光層は、上記成分を溶剤に加えた感光層形成用塗布液を用いて形成される。
溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、２−ブタノン等のケトン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状もしくは直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤が挙げられる。これら溶剤は単独又は２種以上混合して用いる。
【０１３１】
感光層形成用塗布液中に粒子（例えば電荷発生材料）を分散させる方法としては、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。高圧ホモジナイザーとしては、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式などが挙げられる。
【０１３２】
感光層形成用塗布液を下引層上に塗布する方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等が挙げられる。
【０１３３】
単層型の感光層の膜厚は、好ましくは５μｍ以上６０μｍ以下、より好ましくは５μｍ以上５０μｍ以下、さらに好ましくは１０μｍ以上４０μｍ以下の範囲に設定される。
【０１３４】
（保護層）
保護層は、必要に応じて感光層上に設けられる。保護層は、例えば、帯電時の感光層の化学的変化を防止したり、感光層の機械的強度をさらに改善する目的で設けられる。
そのため、保護層は、硬化膜（架橋膜）で構成された層を適用することがよい。これら層としては、例えば、下記１）又は２）に示す層が挙げられる。
【０１３５】
１）反応性基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に有する反応性基含有電荷輸送材料を含む組成物の硬化膜で構成された層（つまり当該反応性基含有電荷輸送材料の重合体又は架橋体を含む層）
２）非反応性の電荷輸送材料と、電荷輸送性骨格を有さず、反応性基を有する反応性基含有非電荷輸送材料と、を含む組成物の硬化膜で構成された層（つまり、非反応性の電荷輸送材料と、当該反応性基含有非電荷輸送材料の重合体又は架橋体と、を含む層）
【０１３６】
反応性基含有電荷輸送材料の反応性基としては、連鎖重合性基、エポキシ基、−ＯＨ、−ＯＲ［但し、Ｒはアルキル基を示す］、−ＮＨ２、−ＳＨ、−ＣＯＯＨ、−ＳｉＲＱ１３−Ｑｎ（ＯＲＱ２）Ｑｎ［但し、ＲＱ１は水素原子、アルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表し、ＲＱ２は水素原子、アルキル基、トリアルキルシリル基を表す。Ｑｎは１〜３の整数を表す］等の周知の反応性基が挙げられる。
【０１３７】
連鎖重合性基としては、ラジカル重合しうる官能基であれば特に限定されるものではなく、例えば、少なくとも炭素二重結合を含有する基を有する官能基である。具体的には、ビニル基、ビニルエーテル基、ビニルチオエーテル基、ビニルフェニル基、スチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくとも一つを含有する基等が挙げられる。なかでも、その反応性に優れることから、連鎖重合性基としては、ビニル基、ビニルフェニル基、スチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくとも一つを含有する基であることが好ましい。
【０１３８】
反応性基含有電荷輸送材料の電荷輸送性骨格としては、電子写真感光体における公知の構造であれば特に限定されるものではなく、例えば、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、ヒドラゾン系化合物等の含窒素の正孔輸送性化合物に由来する骨格であって、窒素原子と共役している構造が挙げられる。これらの中でも、トリアリールアミン骨格が好ましい。
【０１３９】
これら反応性基及び電荷輸送性骨格を有する反応性基含有電荷輸送材料、非反応性の電荷輸送材料、反応性基含有非電荷輸送材料は、周知の材料から選択すればよい。
【０１４０】
保護層には、その他、周知の添加剤が含まれていてもよい。
【０１４１】
保護層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた保護層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱等の硬化処理することで行う。
【０１４２】
保護層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、トルエン、キシレン等の芳香族系溶剤；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤；テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル等のセロソルブ系溶剤；イソプロピルアルコール、ブタノール等のアルコール系溶剤等が挙げられる。これら溶剤は、単独で又は２種以上混合して用いる。
なお、保護層形成用塗布液は、無溶剤の塗布液であってもよい。
【０１４３】
保護層形成用塗布液を感光層（例えば電荷輸送層）上に塗布する方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【０１４４】
保護層の膜厚は、例えば、好ましくは１μｍ以上２０μｍ以下、より好ましくは２μｍ以上１０μｍ以下の範囲内に設定される。
【０１４５】
［画像形成装置（及びプロセスカートリッジ）］
本実施形態に係る画像形成装置は、電子写真感光体と、電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、帯電した電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、トナーを含む現像剤により電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、を備える。そして、電子写真感光体として、上記本実施形態に係る電子写真感光体が適用される。
【０１４６】
本実施形態に係る画像形成装置は、記録媒体の表面に転写されたトナー像を定着する定着手段を備える装置；電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を直接記録媒体に転写する直接転写方式の装置；電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写し、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する中間転写方式の装置；トナー像の転写後、帯電前の電子写真感光体の表面をクリーニングするクリーニング手段を備えた装置；トナー像の転写後、帯電前に像保持体の表面に除電光を照射して除電する除電手段を備える装置；電子写真感光体の温度を上昇させ、相対温度を低減させるための電子写真感光体加熱部材を備える装置等の周知の画像形成装置が適用される。
【０１４７】
中間転写方式の装置の場合、転写手段は、例えば、表面にトナー像が転写される中間転写体と、像保持体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写する一次転写手段と、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する二次転写手段と、を有する構成が適用される。
【０１４８】
本実施形態に係る画像形成装置は、乾式現像方式の画像形成装置、湿式現像方式（液体現像剤を利用した現像方式）の画像形成装置のいずれであってもよい。
【０１４９】
なお、本実施形態に係る画像形成装置において、例えば、電子写真感光体を備える部分が、画像形成装置に対して脱着されるカートリッジ構造（プロセスカートリッジ）であってもよい。プロセスカートリッジとしては、例えば、本実施形態に係る電子写真感光体を備えるプロセスカートリッジが好適に用いられる。なお、プロセスカートリッジには、電子写真感光体以外に、例えば、帯電手段、静電潜像形成手段、現像手段、転写手段からなる群から選択される少なくとも一つを備えてもよい。
【０１５０】
以下、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示すが、これに限定されるわけではない。なお、図に示す主要部を説明し、その他はその説明を省略する。
【０１５１】
図２は、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。
本実施形態に係る画像形成装置１００は、図２に示すように、電子写真感光体７を備えるプロセスカートリッジ３００と、露光装置９（静電潜像形成手段の一例）と、転写装置４０（一次転写装置）と、中間転写体５０とを備える。なお、画像形成装置１００において、露光装置９はプロセスカートリッジ３００の開口部から電子写真感光体７に露光し得る位置に配置されており、転写装置４０は中間転写体５０を介して電子写真感光体７に対向する位置に配置されており、中間転写体５０はその一部が電子写真感光体７に接触して配置されている。図示しないが、中間転写体５０に転写されたトナー像を記録媒体（例えば用紙）に転写する二次転写装置も有している。なお、中間転写体５０、転写装置４０（一次転写装置）、及び二次転写装置（不図示）が転写手段の一例に相当する。
【０１５２】
図２におけるプロセスカートリッジ３００は、ハウジング内に、電子写真感光体７、帯電装置８（帯電手段の一例）、現像装置１１（現像手段の一例）、及びクリーニング装置１３（クリーニング手段の一例）を一体に支持している。クリーニング装置１３は、クリーニングブレード（クリーニング部材の一例）１３１を有しており、クリーニングブレード１３１は、電子写真感光体７の表面に接触するように配置されている。なお、クリーニング部材は、クリーニングブレード１３１の態様ではなく、導電性又は絶縁性の繊維状部材であってもよく、これを単独で、又はクリーニングブレード１３１と併用してもよい。
【０１５３】
なお、図２には、画像形成装置として、潤滑材１４を電子写真感光体７の表面に供給する繊維状部材１３２（ロール状）、及び、クリーニングを補助する繊維状部材１３３（平ブラシ状）を備えた例を示してあるが、これらは必要に応じて配置される。
【０１５４】
以下、本実施形態に係る画像形成装置の各構成について説明する。
【０１５５】
−帯電装置−
帯電装置８としては、例えば、導電性又は半導電性の帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が使用される。また、非接触方式のローラ帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等のそれ自体公知の帯電器等も使用される。
【０１５６】
−露光装置−
露光装置９としては、例えば、電子写真感光体７表面に、半導体レーザ光、ＬＥＤ光、液晶シャッタ光等の光を、定められた像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は電子写真感光体の分光感度領域内とする。半導体レーザの波長としては、７８０ｎｍ付近に発振波長を有する近赤外が主流である。また、カラー画像形成のためにはマルチビームを出力し得るタイプの面発光型のレーザ光源も有効である。
【０１５７】
−現像装置−
現像装置１１としては、例えば、現像剤を接触又は非接触させて現像する一般的な現像装置が挙げられる。現像装置１１としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択される。例えば、一成分系現像剤又は二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて電子写真感光体７に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。中でも現像剤を表面に保持した現像ローラを用いるものが好ましい。
【０１５８】
現像装置１１に使用される現像剤は、トナー単独の一成分系現像剤であってもよいし、トナーとキャリアとを含む二成分系現像剤であってもよい。また、現像剤は、磁性であってもよいし、非磁性であってもよい。これら現像剤は、周知のものが適用される。
【０１５９】
−クリーニング装置−
クリーニング装置１３は、クリーニングブレード１３１を備えるクリーニングブレード方式の装置が用いられる。
なお、クリーニングブレード方式以外にも、ファーブラシクリーニング方式、現像同時クリーニング方式を採用してもよい。
【０１６０】
−転写装置−
転写装置４０としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。
【０１６１】
−中間転写体−
中間転写体５０としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等を含むベルト状のもの（中間転写ベルト）が使用される。また、中間転写体の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものを用いてもよい。
【０１６２】
図３は、本実施形態に係る画像形成装置の他の一例を示す概略構成図である。
図３に示す画像形成装置１２０は、プロセスカートリッジ３００を４つ搭載したタンデム方式の多色画像形成装置である。画像形成装置１２０では、中間転写体５０上に４つのプロセスカートリッジ３００がそれぞれ並列に配置されており、１色に付き１つの電子写真感光体が使用される構成となっている。なお、画像形成装置１２０は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置１００と同様の構成を有している。
【０１６３】
なお、本実施形態に係る画像形成装置１００は、上記構成に限られず、例えば、電子写真感光体７の周囲であって、転写装置４０よりも電子写真感光体７の回転方向下流側でクリーニング装置１３よりも電子写真感光体の回転方向上流側に、残留したトナーの極性を揃え、クリーニングブラシで除去しやすくするための第１除電装置を設けた形態であってもよいし、クリーニング装置１３よりも電子写真感光体の回転方向下流側で帯電装置８よりも電子写真感光体の回転方向上流側に、電子写真感光体７の表面を除電する第２除電装置を設けた形態であってもよい。
【０１６４】
また、本実施形態に係る画像形成装置１００は、上記構成に限れず、周知の構成、例えば、電子写真感光体７に形成したトナー像を直接記録媒体に転写する直接転写方式の画像形成装置を採用してもよい。
【実施例】
【０１６５】
以下、実施例及び比較例に基づき本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に何ら限定されるものではない。なお、特に断りがないかぎり、「部」は「質量部」、「％」は「質量％」であることを示す。
【０１６６】
＜実施例１＞
−導電性基体の作製−
潤滑剤を塗布したアルミニウム純度９９．５％以上のＪＩＳ呼称１０５０合金のスラグ（被加工材料）を用意し、４５０℃で４０分間の均質化処理を行った。均質化処理を行ったスラグを用いて、ダイ（雌型）とパンチ（雄型）によりインパクトプレス加工にて底面の有る円筒体を作製し、その後、しごき加工（回数：３回）にて、直径３０ｍｍ、長さ２４４．５ｍｍ、厚み１ｍｍの円筒状のアルミニウム基体を作製した。その後、アルミニウム基体に対して、２２０℃で６０分間の焼き鈍し処理を行った。
【０１６７】
焼き鈍し処理を行ったアルミニウム基体に対し、湿式ホーニング方法で不定形アルミナをメディアとして粗面化処理を行い、導電性基体を得た。
得られた導電性基体の外周面における十点平均表面粗さＲｚを既述の方法で測定したところ、２．５μｍであった。
【０１６８】
−感光層の形成−
結着樹脂としてビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量：５万）４６．８質量部と、電荷発生材料として下記表１に示す電荷発生材料１．２質量部と、正孔輸送材料として下記表１に示す正孔輸送材料３７質量部と、電子輸送材料として下記表１に示す電子輸送材料１５質量部と、溶媒としてテトラヒドロフラン２５０質量部と、からなる混合物を、直径１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間分散し、感光層形成用塗布液を得た。
【０１６９】
得られた感光層形成用塗布液を、浸漬塗布法にて、得られた導電性基体上に塗布し、１４０℃において３０分間の乾燥硬化を行い、厚さ３０μｍの単層型の感光層を形成した。
以上の工程を経て、電子写真感光体を作製した。
【０１７０】
＜実施例２〜２６、比較例１〜２４＞
表２〜表５に従って、導電性基体の外周面における十点平均表面粗さＲｚ（表中「基体表面粗さ」と表記）、結着樹脂の添加量、電荷発生材料の種類及び添加量、正孔輸送材料の種類及び添加量、並びに電子輸送材料の種類及び添加量を変更した以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
なお、導電性基体の外周面における十点平均表面粗さＲｚの調整は、粗面化処理におけるメディア吐出圧力の条件を変えることで行った。
【０１７１】
＜評価＞
得られた各電子写真感光体について、以下の評価を行った。その結果を表２〜表５に示す。
【０１７２】
−特定吸光度の測定−
感光体の作製に用いた感光層形成用塗布液と同じ組成のサンプル用塗布液をガラスプレート上に塗布し、感光層の形成の際の同条件で乾燥硬化し、厚さ（Ｌ１（μｍ）、Ｌ２（μｍ）、及びＬ３（μｍ））の膜を、それぞれ作製した。得られた３枚のサンプルについて、７８０ｎｍにおける吸光度を測定し、膜厚を横軸、吸光度を縦軸としたときのプロットから傾きを算出し、膜厚１μｍあたりの吸光度を求めた。
なお、ガラスプレート上に成膜される膜厚は５μｍ以上１５μｍ以下の範囲とした。
また、吸光度は、日立社製、紫外可視分光光度計Ｕ２０００を用いて測定した。
【０１７３】
−感光体の感度の評価−
感光体の感度の評価は、−８００Ｖに帯電させた時の半減露光量として、評価した。
具体的には、静電複写紙試験装置（エレクトロスタティックアナライザーＥＰＡ−８１００、川口電気社製）を用いて、２０℃、４０％ＲＨの環境下、−８００Ｖに帯電させた後、タングステンランプの光を、モノクロメーターを用いて７８０ｎｍの単色光にし、感光体表面上で１μＷ／ｃｍ２になるように調整して、照射した。
そして、帯電直後における感光体表面の表面電位Ｖ０（Ｖ）、感光体表面の光照射により表面電位が１／２×ＶＯ（Ｖ）となる半減露光量Ｅ１／２（μＪ／ｃｍ２）を測定し、それを「感度」とした。
なお、感光体の感度（半減露光量Ｅ１／２）は、小さい値であるほど感度が高いことを示し、０．２０μＪ／ｃｍ２未満の半減露光量が得られたとき、高感度化されたと評価する。
【０１７４】
−干渉縞評価−
画質評価は、Ｂｒｏｔｈｅｒ社製ＨＬ２２７０ＤＷに対して、前述のようにして得られた電子写真感光体を取り付けた改造機を用いて行った。
この改造機を用い、２０℃、４０％ＲＨの環境下で、電子写真感光体の表面を負に帯電させ７８０ｎｍの単色光で像を形成する方法により５０％ハーフトーン画像を形成し、導電性基体の外周面における光の反射に起因する干渉縞を目視で観察して評価を行った。
【０１７５】
干渉縞の評価基準は以下の通りである。なお、評価基準「４」以下であると実用上許容範囲であると評価する。
グレード１：干渉縞が全く確認されない
グレード２：画像のごく一部に干渉縞に起因する非常にわずかな濃度変化が確認される
グレード３：画像の一部に干渉縞に起因するわずかな濃度変化が確認される
グレード４：干渉縞に起因する濃度変化が確認されるが、干渉縞とは認識できない
グレード５：うっすらと干渉縞が確認され、干渉縞と認識できる
グレード６：干渉縞の輪郭が明確に確認される
グレード７：干渉縞により画像が形成できない
【０１７６】
−画質評価−
画質評価は、Ｂｒｏｔｈｅｒ社製ＨＬ２２７０ＤＷに対して、前述のようにして得られた電子写真感光体を取り付けた改造機を用いて行った。
この改造機を用い、２０℃、４０％ＲＨの環境下で、電子写真感光体の表面を負に帯電させ７８０ｎｍの単色光で像を形成する方法により５０％ハーフトーン画像を形成し、画像の点欠陥（色点）を表１に示した基準で評価した。評価方法の詳細としては、得られた画像の点欠陥を３つの大きさ（面積）で分類し、各々の大きさの点欠陥の個数が該当する基準のうち最も悪い基準（数値の大きい基準）の評価を与えることとした。具体的には、例えば、０．０５ｍｍ２未満が１１個、０．０５ｍｍ２以上０．１ｍｍ２未満が２個、０．１ｍｍ２以上が０個の場合、評価は「８」である。
評価基準は下記表１の通りである。なお、評価基準「４」以下であると実用上許容範囲であると評価する。
【０１７７】
【表１】
0006620461.tif 000013
【０１７８】
【表２】
0006620461.tif 000014
【０１７９】
【表３】
0006620461.tif 000015
【０１８０】
【表４】
0006620461.tif 000016
【０１８１】
【表５】
0006620461.tif 000017
【０１８２】
上記結果から、本実施例は、比較例に比べ、感度が高く、干渉縞及び色点が低減されていることがわかる。
【０１８３】
なお、表２〜表５中の略称の詳細は以下の通りである。
【０１８４】
−電荷発生材料−
・ＰＣ１：クロロガリウムフタロシアニン（ＣｌＧａＰＣ）：Ｃｕｋα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．４゜、１６．６゜、２５．５゜、２８．３゜の位置に回折ピークを有するクロロガリウムフタロシアニン顔料（６００ｎｍ以上９００ｎｍ以下の波長域での分光吸収スペクトルにおける最大ピーク波長＝７８０ｎｍ、平均粒径＝０．１５μｍ、最大粒径＝０．２μｍ、比表面積値＝５６ｍ２／ｇ）
【０１８５】
・ＰＣ２：ヒドロキシガリウムフタロシアニン（ＨＯＧａＰＣ）：Ｃｕｋα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．３゜、１６．０゜、２４．９゜、２８．０゜の位置に回折ピークを有するＶ型のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料（６００ｎｍ以上９００ｎｍ以下の波長域での分光吸収スペクトルにおける最大ピーク波長＝８２０ｎｍ、平均粒径＝０．１２μｍ、最大粒径＝０．２μｍ、比表面積値＝６０ｍ２／ｇ）
【０１８６】
・ＰＣ１／２混合（１：１）：上記ＰＣ１と上記ＰＣ２とを質量比１：１で混合した混合物
【０１８７】
−正孔輸送材料−
・（１−１）：  一般式（１）で表される正孔輸送材料の例示化合物（１−１）
【０１８８】
−電子輸送材料−
・（２−１）  ：  一般式（２）で表される電子輸送材料の例示化合物（２−１）
・（２−１１）：  一般式（２）で表される電子輸送材料の例示化合物（２−１１）
・化合物Ａ    ：  下記構造の電子輸送材料「化合物Ａ」
・化合物Ｂ    ：  下記構造の電子輸送材料「化合物Ｂ」
・化合物Ｃ    ：  下記構造の電子輸送材料「化合物Ｃ」
【０１８９】
【化１２】
0006620461.tif 000018
【０１９０】
−結着樹脂（バインダー樹脂）−
・ＰＣＺ：ビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量：５万）
【符号の説明】
【０１９１】
１ 下引層、２ 感光層、３導電性基体、７ 電子写真感光体、８ 帯電装置、９ 露光装置、１０ 電子写真感光体、１１ 現像装置、１３ クリーニング装置、１４ 潤滑材、４０ 転写装置、５０ 中間転写体、１００ 画像形成装置、１２０ 画像形成装置、１３１ クリーニングブレード、１３２ 繊維状部材、１３３ 繊維状部材、３００ プロセスカートリッジ
【図１】
0006620461.tif 000020
【図２】
0006620461.tif 000021
【図３】
0006620461.tif 000022