【事件の表示】
　特許第３３３７８７０号「回転式基板洗浄装置」の請求項１に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第３３３７８７０号の請求項１に係る特許を維持する。
【理　由】
１．本件発明
　本件特許の請求項１に係る発明（以下、「本件発明」という。）は、特許請求の範囲の請求項１に記載された次のとおりのものである。
　「基板を鉛直方向の軸芯周りで回転可能に保持する基板保持手段と、基板表面に洗浄液をピンポイント状態でかつ高圧で噴出供給するノズルと、前記ノズルから噴出される洗浄液の基板表面での到達点が前記基板の回転中心と外周端縁との間を移動するように前記ノズルを移動するノズル移動手段とを備えた回転式基板洗浄装置において、前記ノズル移動手段に設けられて基板表面に対する傾斜角度を変更可能に前記ノズルを保持するノズル保持手段を設け、前記ノズル保持手段に、前記ノズルから前記基板の表面の回転中心に洗浄液を噴出する状態で、基板表面の回転中心と前記ノズルの先端とを含む面内で前記回転中心を中心とする仮想円に沿って前記ノズルを移動する円弧ガイドを備えたことを特徴とする回転式基板洗浄装置。」
　　　
２．異議申立人提出の証拠に記載された発明
　刊行物１：特開昭６１−２９６７２４号公報（特許異議申立人の提出した甲第１号証）
　刊行物２：特開平６−１５１３９７号公報（特許異議申立人の提出した甲第２号証）
　刊行物３：特開平４−１５８５４１号公報（特許異議申立人の提出した甲第３号証）
　刊行物１には、半導体部品等の洗浄装置であって、「第１図において外囲体１６ａ，１６ｂの中心に、例えばシリコンウエファのような被洗浄物９が、シャフト１１によって回転される支持台１０に載置されており、被洗浄物９の上方には、定方向に対し移動可能のように設けた移動アーム２に固定した、給液チューブ３を具有する高圧ジェットノズル１がある。」（公報第２頁右上欄第１６行〜同頁左下欄第２行）点が記載されている。
　また、刊行物２には、半導体ウエハの洗浄装置であって、「図において、９は支柱３内に配置され、スプレーノズル５の半導体ウエハ１上面に対する角度を変化させる動力を発生するモーター、１０はアーム４の先端に回転自在に取り付けられ、スプレーノズル５が固定された回転軸、１１はアーム４の根元に回転自在に取り付けられた中間軸、１２はモーター９の回転を中間軸１１に伝達するベルト、１３は中間軸１１の回転を回転軸１０に伝達するベルトである。モーター９、回転軸１０、中間軸１１、ベルト１２、１３によってノズル角度変化手段が構成される。」（公報第３頁第３欄第１〜１１行）、「回転軸１０に固定されたスプレーノズル５が回転軸１０を中心として回転し始める。」（公報第３頁第３欄第１７〜１８行）、「このようなスプレーノズル５の揺動を連続的に動作させながら、支柱３を回動させてスプレーノズル５の位置をＢ点とＣ点との間で複数回往復させ、同時に半導体ウエハ１をチャックステージ２によって回転させることにより、半導体ウエハ１の全面を洗浄する。」（公報第３頁第３欄第２５〜３０行）点が記載されている。
　さらに、刊行物３には、ＩＣ等の検査に使用する２線式プローブの位置調整装置であって、「図において、１はポジショナ本体を示している。このポジショナ本体１は従来同様に、直交３軸方向に位置調整可能なものであって、その先端部２には、アタッチメント３が装着されている。このアタッチメント３は、上記先端部２に装着されたガイド部１０と、このガイド部１０に、移動可能に装着されたスライド部２０とより成るものである。上記ガイド部１０は、概略Ｌ字状の取付ブラケット１１と、このブラケット１１の先端側に取着された円弧状ガイドレール１２とより成り、このガイドレール１２には、円弧状の長孔１３が穿設されている。また上記スライド部２０は、上記ガイドレール１２の上下面及び前面に摺接して移動可能に支持されるスライダ２１と、このスライダ２１の前面から下方に延びるプローブ取付部２２とを備えており、プローブ取付部２２の下端部に２線式同軸型プローブＰが装着されている。」（公報第２頁右下欄第９行〜第３頁左上欄第７行）点が記載されている。
　　　
３．対比・判断
　本件発明と刊行物１に記載された発明とを対比すると、刊行物１の「支持台１０」、「高圧ジェットノズル１」、「移動アーム」は、その機能と構造からみて、本件発明の「基板保持手段」、「ノズル」、「ノズル移動手段」に対応する。
　そうしてみると、両者は、「基板を回転可能に保持する基板保持手段と、基板表面に洗浄液をピンポイント状態でかつ高圧で噴出供給するノズルと、前記ノズルから噴出される洗浄液の基板表面での到達点が移動するように前記ノズルを移動するノズル移動手段とを備えた回転式基板洗浄装置」である点で一致し、少なくとも以下の点で相違している。
　　　
（Ａ）刊行物１に記載された発明は、本件発明の「ノズル移動手段に設けられて基板表面に対する傾斜角度を変更可能にノズルを保持するノズル保持手段を設け、前記ノズル保持手段に、前記ノズルから前記基板の表面の回転中心に洗浄液を噴出する状態で、基板表面の回転中心と前記ノズルの先端とを含む面内で前記回転中心を中心とする仮想円に沿って前記ノズルを移動する円弧ガイドを備えた」という構成を有しない点。
　　　
　そこで、上記相違点（Ａ）について検討する。
　刊行物１には、第１図及び第２図を参照すると、移動アーム２に高圧ジェットノズル１が取付固定され、その取付部分の移動アーム２には長孔が設けられているものが記載されており、移動アーム２に長孔が設けられていることからすると、高圧ジェットノズル１の位置が調整可能であり、また角度の調整も可能なようにも見える。しかしながら、刊行物１には「ノズルから基板の表面の回転中心に洗浄液を噴出する状態で、基板表面の回転中心と前記ノズルの先端とを含む面内で前記回転中心を中心とする仮想円に沿って前記ノズルを移動する円弧ガイドを備えた」ノズル保持手段の構成についての記載がなく、またこれを示唆する記載もない。また、刊行物２においても、上記ノズル保持手段の構成についての記載がなく、またこれを示唆する記載もない。さらに、刊行物３には、本件発明と類似する円弧ガイドを備えた角度調整機構を持つものが開示されているが、ノズルの基板表面に対する傾斜角度を調整するものではない。
　本件発明は、基板表面の膜厚や膜種あるいは除去すべき汚染物の種類に応じて洗浄性を高めるために傾斜角度を容易に変更できるようにすることを目的とし、特にノズルから噴出される洗浄液の基板表面での到達点を変えずに傾斜角度を変更するものであり、上記相違点（Ａ）の構成を有することにより、「傾斜角度を変更するたびに、洗浄液の噴出方向が基板表面の基板の回転中心から外れないように調整し直すといった面倒な操作が不用で、基板表面に対するノズルの傾斜角度を容易に変更できるようにな」るという格別の効果を奏するものである。そして、上記刊行物１，２のいずれにも、本件発明の「ノズルから噴出される洗浄液の基板表面での到達点を変えずに傾斜角度を変更する」という技術的思想を見出すことはできず、当該技術的思想がない以上、刊行物３に記載された角度調整機構を刊行物１，２に記載されたものに適用することはできず、本件発明のように構成することを想到することはできないものと認められる。
　したがって、本件発明は、上記刊行物１〜３に記載されたものに基いて容易に想到し得たものでないということは明らかである。
　　　
４．むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申立ての理由及び証拠によっては、本件発明の特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件発明の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１５年１１月２７日（２００３．１１．２７）