【事件の表示】
　特許第２９５１３３７号「ペリクル」の特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第２９５１３３７号の請求項１に係る特許を取り消す。
【理　由】
１．手続の経緯
　特許第２９５１３３７号の請求項１に係る発明は、平成１年４月１７日になされた特許出願（特願平１−９５１８６号）に基づく優先権を主張して平成１年９月５日に特許出願（特願平１−２２８２２９号）され、平成１１年７月９日にその特許の設定登録がなされ、その後、特許異議申立人 武井英夫（以下、「申立人Ａ」という。）、同 旭硝子株式会社（以下、「申立人Ｂ」という。）より特許異議の申立てがなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１２年８月８日に意見書が提出されたものである。
　
２．申立ての理由の概要
　申立人Ａは、請求項１に係る発明は、申立人Ａの提出した甲第１〜３号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるので、本件の請求項１に係る特許は取り消されるべきものである旨主張している。
　また、申立人Ｂは、請求項１に係る発明は優先権の主張の基礎とされた特願平１−９５１８６号の願書に最初に添付した明細書〔申立人Ｂの提出した参考資料１参照〕に記載されていないので、優先権は認められず、その特許性判断の基準となる日は本件出願（特願平１−２２８２２９号）の出願日である平成１年９月５日であるところ、該特許性判断の基準となる日前の平成１年５月３１日になされた特許出願（特願平１−１３６１７８号）に基づく優先権を主張して平成２年５月２５日にされた他の出願であって、該特許性判断の基準となる日後に出願公開された特願平２−１３３９９０号の願書に最初に添付した明細書（特開平３−６７２６２号公報〔申立人Ｂの提出した甲第１号証〕参照。）に記載された発明（優先権の主張の基礎とされた特願平１−１３６１７８号の願書に最初に添付した明細書〔異議申立人Ａの提出した参考資料２参照〕にも記載された発明）と同一のものであり、しかも、請求項１に係る発明の発明者が上記先願明細書に記載された発明の発明者と同一であるとも、本件出願の時においてその出願人が上記他の出願の出願人と同一であるとも認められないから、特許法第２９条の２の規定により特許を受けることができないものであるので、本件特許は取り消されるべきものである旨主張している。
　
３．本件の請求項１に係る発明
　特許第２９５１３３７号の請求項１に係る発明（以下、「本件発明」という。）は、その特許請求の範囲の請求項１に記載された次のとおりのものである。
「【請求項１】　非結晶質性であって、厚さ１００μｍの膜におけるＵＶ光の透過率が、波長２００ｎｍから３００ｎｍの全範囲において５０％以上の透過率である、主鎖に環構造を有するフッ素樹脂の膜から作成された、波長３００ｎｍ以下のエキシマレーザー露光処理用ペリクル。」
　
４．特許法第２９条第２項の理由について
(1)引用刊行物に記載された発明
　引用刊行物（申立人Ａの提出した甲第１〜３号証）には、以下の発明が記載されている。
・刊行物１：米国特許第４，６５７，８０５号明細書（申立人Ａの提出した甲第１号証）
「１．支持枠と、その端面に接着された薄膜とより本質的になり、該薄膜は単層構造または三層以上の多層構造を有し、単層構造の場合は該膜は、１０μｍの膜厚みにおいて、２４０〜２９０ｎｍの波長の光に対する９０％以上の平均光線透過率と、２９０〜５００ｎｍの波長の光に対する９３．５％以上の平均光線透過率と、１．４２以下の屈折率とを有するフッ素系重合体よりなり、多層構造の場合は、少なくとも両最外層が、上記のフッ素系重合体よりなる、光透過性に優れたフォトマスク・レチクル用防塵カバー体。」（請求の範囲第１項）
「一方、ＬＳＩの高密度化によりサブミクロンオーダーの画線巾が要求されるようになってきており、かかる要求に対しては、現在使われている３５０〜４５０ｎｍの波長の光の露光では、十分なる解像力がなく、より短波長の光である２４０〜２９０ｎｍの遠紫外線が必要となるが、現在のニトロセルロースの膜は、３００ｎｍ以下の波長域で光線透過率の急激な低下を示すとともに、遠紫外線により激しく劣化され、もはや使用することが出来ない。」（２欄４０〜５０行）
「光の散乱は重合体中のゴミ及び重合体の結晶に起因するものである。重合体中のゴミか重合体を十分に精製する等の方法により除去することが出来る。重合体の結晶の問題は、重合体が非晶性である場合には、生じないので、非晶性重合体が極めて好ましいが、結晶性の重合体であっても、急冷等の手段によって非晶状態にすることができるものは十分使用出来る。」（４欄３〜１１行）
「かかるフッ素系重合体としては、１０μｍの膜厚みにおいて、２４０〜２９０ｎｍの波長の光に対する平均光線透過率が９０％以上であり、かつ、２９０〜５００ｎｍの波長の光に対し９３．５％以上の平均光線透過率を有し、しかも１．４２以下の屈折率とを有するフッ素系重合体であれば、いかなるフッ素系重合体であってもかまわない。かかるフッ素系重合体を例示すれば、テトラフロロエチレン（ＴＦＥ）とへキサフロロプロピレン（ＨＦＰ）との共重合体、フッ化ビニリデン（ＶｄＦ）の単独重合体、フッ化ビニリデン（ＶｄＦ）とＴＦＥとの共重合体、ＴＦＥとパーフロロアルキルビニルエーテルとの共重合体、フッ化ビニリデン（ＶｄＦ）とエチレンとの共重合体等が挙げられる」（４欄３１〜４１行）
「実施例１
　テトラフロロエチレンとフッ化ビニリデンとの共重合体（ペンウォルト社製カイナー７２０１（商標）、テトラフロロエチレン含量約１０モル％、屈折率１．４０）をエチルメチルケトンに溶解させて２０重量％の溶液を調整した。・・（中略）・・支持枠に薄膜が張られた防塵カバー体が得られた。この膜の厚みは約１４μｍであり、分光光度系の測定では、干渉波は観測されず、２４０μｍ（注．２４０ｎｍの誤記）の波長の光に対する光線透過率は、９２．５％であり、又、３５０〜４５０ｎｍの波長の光に対する平均光線透過率は９４．５％であり、遠紫外線から紫外線領域までの広い範囲で優れた性能を示した（第５図参照）。」（第８欄８４〜５９行）
・刊行物２：「プラスチックスエージ」Ｖｏｌ．３４（１９８８），Ｎｏ．１１、２３６〜２３９頁（報文：「新しいフッ素樹脂＜サイトップ＞の特徴と用途」、申立人Ａの提出した甲第２号証）
「はじめに
　＜サイトップ＞は旭硝子（株）が開発した新しい種類のフッ素樹脂である。」（２３６頁左欄１〜３行）
「１．＜サイトップ＞の特徴
　１．１　光学・電気特性
　＜サイトップ＞の特性を従来のフッ素樹脂ならびに代表的な透明材料ＰＭＭＡの特性と比較したものを表２に示す。＜サイトップ＞の屈折率は１．３４と最も低い部類に属する。光線透過率も９５％と高い値を示す。その波長依存性は、可視光ではすべて９５％以上であり、紫外光においても３００ｎｍで９０％以上、２００ｎｍでも５０％以上の透過率である（図１）。また、紫外線を含めた光をよく透過させ、吸収しないので光による劣化がない。このように紫外線を良く透過させ、かつそれにより劣化しない有機材料は今までにない。従来、紫外線の透過材料として用いられている石英ガラスの代替材料に成りうる初めての有機材料である。」（２３６頁中欄１行〜右欄６行）
「＜サイトップ＞は融点が観測されず、恐らく非晶質の樹脂である。」（２３７頁中欄４〜５行）
「図１＜サイトップ＞の可視光・紫外光透過率」（２３７頁右上）
「２．期待される用途
　２．１　光学分野
　＜サイトップ＞は、透明性ならびにフッ素樹脂特有の耐薬品性、低屈折率などを併せ持っているので、それらの特性を生かした光学分野での用途が最も有望と思われる。」（２３８頁中欄１４〜２０行）
・刊行物３：「電学誌」１０８巻１１号、昭６３（１９８８）、１０９５〜１０９９頁（報文：「Ｖ．レーザリソグラフィ」、申立人Ａの提出した甲第３号証）
「１．まえがき
　半導体集積回路の高集積化と高性能化は、光を用いたホトリソグラフィの解像度の向上によって、もたらされてきたといっても過言ではない。・・（中略）・・
　最近、これらの問題を解決するために、エキシマレーザを光源に用いるリソグラフィ技術が提案された。エキシマレーザリソグラフィではパターン解像度の改善が期待でき、しかも単層レジストで０．５μｍ以下のパターン形成が可能となる。」（１０９５頁左欄１行〜下から３行）
「２．エキシマレーザのホトリソグラフィへの応用
　年々、レジストパターンの露光方法は改善されてきた。・・（中略）・・半導体基板上で微細パターンを形成しようとする場合、適度なＮＡを選び露光光源を短波長化することが望ましい。短波長エキシマレーザリソグラフィはその理由により近年話題性をおびてきた。
　短波長で高出力が得られるエキシマレーザをリソグラフィに応用しようという試みは、既に数多くなされている。・・（略）・・
　露光用エキシマレーザの代表的なものとしてはＸｅＣｌ、ＫｒＦ、ＡｒＦがあげられる。・・（中略）・・ＫｒＦレーザはエキシマレーザの中でも発振効率が良く、寿命が長いメリットがあるうえ、この波長用のレジスト材料の開発も比較的容易であると思われる。
　　　　　表１　各エキシマレーザの特徴
　　波長：λ　　　　　　　内容
　３０８（ＸｅＣｌ）　・解像度限界が伸びない
　２４８（ＫｒＦ）　　・レジスト材料が多い
　　　　　　　　　　　・シリコンデバイスにダメージがない
　１９３（ＡｒＦ）　　・レジスト、レンズ材料が少ない
　　　　　　　　　　　・シリコンデバイスへのダメージ　　　」（１０９５頁右欄１行〜１０９６頁右欄１行）
「図３　ＫｒＦエキシマスッテパ概略図」（１０９７頁左中）
「５．まとめ
　今回、エキシマレーザ本来の特性を損なわずに、レーザ波長バンド幅２４８．３±０．００４（ＫｒＦ）のレーザと単色レンズを用いた大面積露光が可能なエキシマステッパを開発し、この装置を用いて単層レジストで０．４μｍのパターン転写が可能なことを確認した。」（１０９９頁左欄下から２行〜右欄４行）
(2)対比・判断
　まず、本件発明と刊行物１に記載された発明とを対比する。
　刊行物１に記載された発明における「フォトマスク・レチクル用防塵カバー体」は、本件発明の「ペリクル」に対応することは明らかであるから、本件発明と刊行物１に記載された発明とは、
「非結晶質性であって、紫外線を透過するフッ素樹脂の膜から作成された、露光処理用ペリクル。」である点で一致し、
Ａ．フッ素樹脂の膜について、
本件発明では、「厚さ１００μｍの膜におけるＵＶ光の透過率が、波長２００ｎｍから３００ｎｍの全範囲において５０％以上の透過率である、主鎖に環構造を有する」フッ素樹脂の膜から作成されたものであるのに対し、
刊行物１に記載された発明では、「主鎖に環構造を有する」フッ素樹脂は開示されていない点、及び、透過率については、「１０μｍの膜厚みにおいて、２４０〜２９０ｎｍの波長の光に対する９０％以上の平均光線透過率と、２９０〜５００ｎｍの波長の光に対する９３．５％以上の平均光線透過率と、１．４２以下の屈折率とを有する」点で相違し、また、
Ｂ．用途について、
本件発明が「波長３００ｎｍ以下のエキシマレーザー露光処理用」であるのに対し、刊行物１に記載された発明では、２４０ｎｍの光に対する透過率は記載されてはいるものの、波長３００ｎｍ以下のエキシマレーザー露光に用いることは直接開示されていない点
で相違している。
　ここで、上記相違点Ａの本件発明における「厚さ１００μｍの膜におけるＵＶ光の透過率が、波長２００ｎｍから３００ｎｍの全範囲において５０％以上の透過率である、主鎖に環構造を有するフッ素樹脂」の実施の態様としては、本件明細書においては、旭硝子（株）の製造になるフッ素樹脂「ＣＹＴＯＰ」（登録商標）が例示され、実施例１では「ＣＹＴＯＰ」についてのみその効果が確認されている。
　ところで、刊行物２には旭硝子（株）が開発した新しい種類のフッ素樹脂である＜サイトップ＞が開示されており、＜サイトップ＞は、可視光・紫外光透過率が良く（図１によれば、厚さ２００μの膜におけるＵＶ光の透過率が、波長２００ｎｍから３００ｎｍの全範囲において５０％以上である）、屈折率も１．３４（１．４２以下である）であり、恐らく非晶質の樹脂であるとされていることなどから、＜サイトップ＞は刊行物１に記載された発明におけるフッ素樹脂として採用し得るものであることが当業者に明らかである。
　また、そのような「＜サイトップ＞の膜から作成された露光処理用ペリクル」は、刊行物２において、＜サイトップ＞が波長２００ｎｍにおけるＵＶ光の透過率が５０％以上（厚さ２００μの膜）という極めて良好な値を示し、紫外線により劣化しない有機材料であるとされていることなどからして、刊行物３等に記載されているように本件出願当時既に開発がされていたＫｒＦエキシマレーザ（波長２４８ｎｍ）の露光処理にも使用可能であるだろうことは、当業者であれば充分予期できることであるし、また実際に試してみて確認できる程度のことにすぎない。
　そして、刊行物２に記載された＜サイトップ＞は、旭硝子（株）が開発したフッ素樹脂であることなどからして、本件明細書記載の「ＣＹＴＯＰ」であると認められる。
　したがって、本件発明は、その実施の態様である「「ＣＹＴＯＰ」の膜から作成された、波長３００ｎｍ以下のエキシマレーザー露光処理用ペリクル。」が、上記刊行物１〜３に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものである。
(3)むすび
　以上のとおり、本件発明は、上記刊行物１〜３に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができない。
　
５．特許法第２９条の２の理由について
(1)本件発明の優先権について
　まず、本件発明について優先権が認められるか否かの検討、すなわち、本件発明が優先権の主張の基礎とされた特願平１−９５１８６号（以下、「本件先の出願」という。）の願書に最初に添付した明細書（以下、「本件先の出願の明細書」という。申立人Ｂの提出した参考資料１参照。）に記載された発明であるか否かを検討する。
　そこで、本件先の出願の明細書の記載を検討すると、「主鎖に環構造を有するフッ素樹脂」については文言として記載されていないが、「特に好ましいフッ素樹脂としては、例えば、Ｄｕ Ｐｏｎｔ社の製造になるフッ素樹脂「ＦＰＸ」（商品名）や旭硝子(株)の製造になるフッ素樹脂「ＣＹＴＯＰ」（商品名）等を例示することができる。」と記載され、また、実施例１にはフッ素樹脂「ＣＹＴＯＰ」を用いペリクル用に膜を作製した例が示されている。
　そして、フッ素樹脂「ＣＹＴＯＰ」自体は既に市販されていたものであり、特許権者が主張しているように、フッ素樹脂「ＣＹＴＯＰ」の構造は「主鎖に環構造を有するフッ素樹脂」であることは、旭硝子(株)の研究者による１９９４年発行の刊行物〔乙第２号証〕の記載からも推認される。
　しかし、そのことは「ＣＹＴＯＰ」は「主鎖に環構造を有するフッ素樹脂」であるというだけのことであり、本件先の出願の明細書にフッ素樹脂「ＣＹＴＯＰ」（あるいはフッ素樹脂「ＦＰＸ」（商品名））が開示されていたことが、フッ素樹脂「ＣＹＴＯＰ」（商品名）（あるいはフッ素樹脂「ＦＰＸ」（商品名））を含む「主鎖に環構造を有するフッ素樹脂」という広い概念で記載されていたということにはならない。すなわち、本件先の出願の明細書には、個別のフッ素樹脂「ＣＹＴＯＰ」（商品名）（あるいはフッ素樹脂「ＦＰＸ」（商品名））を用いペリクル用に膜を作製するという技術思想は開示されてはいるが、本件先の出願の明細書の記載では「主鎖に環構造を有するフッ素樹脂」一般を用いペリクル用に膜を作製するという技術思想まで開示されていたことにはならないので、「フッ素樹脂「ＣＹＴＯＰ」（商品名）」という構成ではなく「主鎖に環構造を有するフッ素樹脂の膜から作成された」という構成を含む本件発明について優先権を認めることはできない。
　したがって、特許法第２９条の２等について本件発明の特許性判断の基準となる日（以下、「基準日」という。）は本件出願の出願日である平成１年９月５日である。
(2)先願発明
　上記本件発明の基準日前の平成１年５月３１日になされた特許出願（特願平１−１３６１７８号）に基づく優先権を主張して（基準日後の）平成２年５月２５日に出願され、基準日後に出願公開された特願平２−１３３９９０号の願書に最初に添付した明細書（以下、「引例後の明細書」という。特開平３−６７２６２号公報〔申立人Ｂの提出した甲第１号証〕参照。）には、以下の「」内の発明（以下、「引例後の発明」という。）が記載されている。
　なお、引例後の発明の優先権の主張の基礎とされた上記特願平１−１３６１７８号の願書に最初に添付した明細書〔申立人Ｂの提出した参考資料２参照〕（以下、「引例先の明細書」という。）に記載された発明（以下、「引例先の発明」という。）が引例後の明細書の記載と異なるときは、以下の〔〕内に引用する。引例後の発明と引例先の発明との共通部分が、第２９条の２において先願の地位を有する発明（以下、「先願発明」という。）である。
「本発明は、リソグラフィの原版の汚染を防止する汚染防止保護器具に関するものである。特に、半導体製造のリソグラフィ工程におけるフォトマスクおよびレチクル上のゴミ付着の防止に用いられるペリクル（Ｐｅｌｌｉｃｌｅ）と呼ばれる汚染防止保護器具として有用である。」（公報１頁左欄下から１行〜右欄５行）
〔本発明は保護膜が含フッ素脂肪族環構造を有するポリマーからなることを特徴とするホトマスク又はレチクルの汚染防止のための保護器具に関するものである。〕（明細書１頁１０〜１３行）
（注．引例先の明細書には、「ペリクル」という直接の記載はないが、「保護膜がポリマーからなるホトマスク又はレチクルの汚染防止のための保護器具」がペリクルに相当する。）
「更に、近年半導体の集積度を向上させる目的から、リソグラフィ工程に於いてより波長の短い紫外線領域の光が用いられる傾向があるが、従来の保護膜では耐紫外線性が低く、その使用に於いて十分な耐久性が得られなかった。」（公報２頁左上欄下から２行〜右上欄３行）
「本発明は、前述のような従来材料からなる汚染防止保護器具に認められる欠点を解消し、保護膜自身の屈折率が低く、反射防止被膜を施す必要のない光透過性及び使用耐久性に優れた保護膜を有するリソグラフィーの原版の汚染防止のための汚染防止保護器具を新規に提供することを目的とするものである。」（公報２頁右上欄１３〜１９行）
「本発明において、含フッ素脂肪族環構造を有するポリマーとしては、従来より公知ないし周知のものを含めて広範囲にわたって例示され得る。…
例えば一般式
…（略）…
のごとき環構造を有するものが挙げられる。これらの内、次のごとき環構造を有するポリマーが代表的である。…」（公報２頁左下欄１６〜３頁左下欄１３行）
「本発明における特定の環構造を有するポリマーは、フッ素系溶剤などに可溶なため、溶液からのキャスト成形などにより厚みの薄い保護膜を作製することが可能である。」（公報４頁右下欄２〜５行）
「本発明において、含フッ素脂肪族環構造を有するポリマーは、結晶性が小さいか又は、殆ど結晶性がない為に、フッ素樹脂であるにもかかわらず高い透明性を示し且つ高い光線透過率を示すものであり、また含フッ素ポリマーであるが故に、耐光性に優れ、特に耐紫外線性が高いためリソグラフィ工程に於いて使用する上で優れた耐久性を示す。」（公報５頁左下欄４〜１１行）
合成例１で得られた本発明のポリマーに関して、
「重合体のガラス転移点は６９℃であり，室温ではタフで透明なガラス状重合体である。」（公報６頁左上欄４〜６行）
「…膜厚０．８μｍ、２μｍ、５μｍ、１０μｍの薄膜を得た。各薄膜の光線透過率を測定したところ、何れの膜の場合も２５０〜７００ｎｍの全波長域において９２％以上の透過率であった。更に、これらの膜に対し紫外線照射試験を行ったところ、何れの膜も極めて良好な耐久性を示し、汚染防止器具の保護膜として有用であることが確認された。」（公報６頁右上欄下から２行〜同頁左下欄８行）
〔この様にして得られた各々のポリマーの薄膜の膜厚は何れも２μであり各薄膜の光線透過率を測定したところ、何れの膜の場合も２５０〜７００ｎｍの全波長域において９２％以上の透過率であった。更に、これらの膜に対し紫外線照射試験を行ったところ、何れの膜も極めて良好な耐久性を示した。〕（明細書１７頁下から７行〜１行）
（注．膜厚が引例後の明細書と引例先の明細書の記載で異なる。共通するのは膜厚２μである。）
(2)対比・判断
　本件発明と先願発明とを対比すると、先願発明における「ガラス状重合体」は「非結晶質性」であることを意味しているし、先願発明における「含フッ素脂肪族環構造を有するポリマー」は本件発明における「主鎖に環構造を有するフッ素樹脂」に対応するので、
本件発明と先願発明とは、
「非結晶質性であって、紫外線を透過する、主鎖に環構造を有するフッ素樹脂の膜から作成された、露光処理用ペリクル。」
である点において一致し、
Ａ．フッ素樹脂の膜の透過率について、本件発明では「厚さ１００μｍの膜におけるＵＶ光の透過率が、波長２００ｎｍから３００ｎｍの全範囲において５０％以上の透過率である」であるのに対し、先願発明では、「膜厚２μｍの薄膜の光線透過率が２５０〜７００ｎｍの全波長域において９２％以上」であるとされている点、
Ｂ．本件発明が「波長３００ｎｍ以下のエキシマレーザー露光処理用」であるのに対し、引例発明では、「近年半導体の集積度を向上させる目的から、リソグラフィ工程に於いてより波長の短い紫外線領域の光が用いられる傾向がある」と記載され、２５０ｎｍの光に対する透過率は記載されてはいるものの、波長３００ｎｍ以下のエキシマレーザー露光に用いることは開示されていない点
で一応相違している。
（Ａ）一応の相違点Ａについて
　先願発明の合成例３の重合体が「厚さ１００μｍの膜におけるＵＶ光の透過率が、波長２００ｎｍから３００ｎｍの全範囲において５０％以上の透過率である」であることが、申立人Ｂの提出した甲第６号証（実験成績証明書）によって認められるから、Ａは実質的な相違点ではない。
（Ｂ）一応の相違点Ｂについて
　そうすると、先願発明の「非結晶質性であって、主鎖に環構造を有するフッ素樹脂の膜から作成された紫外線露光処理用ペリクル」は、物としては本件発明のペリクルと区別がつかないものであるから、当然に波長３００ｎｍ以下のエキシマレーザー露光処理に使用し得るものであると認められるし、先願の出願時において、波長３００ｎｍ以下のエキシマレーザー露光、特にＫｒＦ（２４８ｎｍ）エキシマレーザーを用いた紫外線露光は、申立人Ｂの提出した甲第２〜５号証にも示されているように、当業者に既に周知の技術であったと認められるから、先願発明の「非結晶質性であって、主鎖に環構造を有するフッ素樹脂の膜から作成された紫外線露光処理用ペリクル」は、本来「波長３００ｎｍ以下のエキシマレーザー露光処理用」でもあるということができるので、Ｂも実質的な相違点ではない。
　したがって、本件発明は先願発明と同一である。
　また、本件発明の発明者が先願発明の発明者と同一であるとも、本件出願の時においてその出願人が先願発明の出願人と同一であるとも認められない
(3)むすび
　以上のとおりであるから、本件発明は、特許法第２９条の２の規定により特許を受けることができない。
６．むすび
　以上のとおりであるから、本件発明は、特許法第２９条第２項の規定により、また、特許法第２９条の２の規定により、特許を受けることができない。
　したがって、本件発明についての特許は拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してされたものと認める。
　よって、平成６年改正法附則第１４条の規定に基づく、特許法等の一部を改正する法律の施行に伴う経過措置を定める政令（平成７年政令第２０５号）第４条第２項の規定により、上記のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１３年２月５日（２００１．２．５）