【事件の表示】
　特許第３３５９５０８号「基板処理装置」の請求項１ないし３に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３３５９５０８号の請求項１ないし３に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続の経緯
　本件特許第３３５９５０８号の請求項１ないし３に係る発明は、平成８年１０月８日に特許出願され、平成１４年１０月１１日に特許権の設定の登録がなされた後、その請求項１ないし３に係る発明についての特許に対して、平成１５年６月２０日に特許異議申立人永田大樹より特許異議の申立てがなされ、取消しの理由が通知され、その指定期間内である平成１６年２月２日に訂正請求がなされたものである。
　
２．訂正の適否についての判断
（１）訂正の内容
　別紙「訂正の内容」参照。
　
（２）訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
　請求項１についての訂正事項ａは、回転子の外側にステータが設けられること、及び、基板保持手段が回転子の中空部内で基板を保持することを限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものであって、新規事項の追加に該当せず、かつ、実質上特許請求の範囲を拡張し、変更するものでもない。（訂正事項ａは特許明細書の【００１７】及び【００４６】に記載されていたことである。）
　請求項２についての訂正事項ｂは、回転子とステータの間の静圧気体軸受けの構成を限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものであって、新規事項の追加に該当せず、かつ、実質上特許請求の範囲を拡張し、変更するものでもない。（訂正事項ｂは特許明細書の【００１７】、【００２０】、及び図面図１に記載されていたことである。）
　請求項３についての訂正事項ｃは、訂正事項ａを受け、回転モータの中央部に形成される中空部が回転子の中空部であることを限定するものあるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものであって、新規事項の追加に該当せず、かつ、実質上特許請求の範囲を拡張し、変更するものでもない。（訂正事項ｃは特許明細書の【００３０】に記載されていたことである。）
　その他の訂正事項ｄないしｍ、ｏないしｔは、上記の請求項１ないし３についての訂正事項ａないしｃで訂正された特許請求の範囲と、発明の詳細な説明、図面の簡単な説明、及び図面との整合を図るものであるから、明りょうでない記載の釈明を目的とするものである。また、訂正事項ｎは、上記訂正事項ｄないしｍ、ｏないしｔと同様に明りょうでない記載の釈明を目的とするとともに、誤記の訂正を目的とするものである。そして、これら訂正事項ｄないしｔは新規事項の追加に該当せず、かつ、実質上特許請求の範囲を拡張し、変更するものでもない。
　
（３）むすび
　したがって、上記訂正は、特許法第１２０条の４第２項並びに同条第３項で準用する第１２６条第２項及び第３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
３．特許異議の申立てについての判断
（１）特許異議の申立て、及び、取消しの理由の概要
　特許異議申立人永田大樹は、甲第１号証（特開平７−１６９７３２号公報）ないし甲第２号証（特開平５−３０７２０号公報）を提示し、本件請求項１に係る発明は甲第１号証に記載された発明に基いて、本件請求項２ないし３に係る発明は甲第１ないし２号証に基いて当業者が容易に発明することができたものであるから、本件請求項１ないし３に係る発明についての特許は取り消すべきものである旨主張している。
　また、当審で通知した取消しの理由の概要は、上記特許異議の申立ての理由と同様のものである。
　
（２）本件発明
　上記２．で示したように上記訂正が認められるから、本件の請求項１ないし３に係る発明は、上記訂正請求に係る訂正明細書の特許請求の範囲の請求項１ないし３に記載された事項により特定されるとおりのものであるところ、その請求項１に係る発明は、次のとおりのものである。
「【請求項１】基板を回転させてその基板に所定の処理を施す基板処理装置において、
中央部が開口された中空部を有する回転子と、前記回転子の外側に、前記回転子と同芯状に設けられ、中央部が開口された中空部を有するステータとを備えた回転モーターと、
前記回転子に設けられ、前記回転子の中空部内で基板を保持する基板保持手段と、
を備えたことを特徴とする基板処理装置。」
　
（３）甲各号証刊行物に記載された発明・事項
イ．刊行物１：特開平７−１６９７３２号公報（異議申立人の提示した甲第１号証）
「以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。図１は、本発明のウエハ洗浄装置の構成を示す図である。ウエハ１は円筒状の回転体３の上に複数個設置された棒状アーム２の先端部によりその外周部を把持されるようになっている。」（段落【０００８】）
「棒状アーム２は、その中央の支持部２１で円筒状回転体３と回転自在に接合している。棒状アーム２は、回転体３に設けた電磁石２２と棒状アーム２に該電磁石２２に対向して設けた磁性材継鉄２３の間に作用する電磁力で棒状アーム２の先端部を開き、ウエハ１をアーム２から脱着する。」（段落【０００９】）
「回転体３は同じく同心の円筒状の固定体４に、ラジアル磁気軸受５，６とスラスト磁気軸受７，８で浮上保持されるようになっている。・・・ラジアル磁気軸受５とラジアル磁気軸受６の間には電動機１２が配置されている。該電動機１２は回転体３の外周部に設けられたロータ磁性体１２ｂと固定体４の外周部に該ロータ磁性体１２ｂに対向して配置されたステータコイル１２ａからなる。」（段落【００１１】）
「これにより、ウエハ１の表面はノズル１３からのジェット液流１３ａと回転ブラシ１４により洗浄されるとともに、ウエハ１の裏面はノズル１５からのジェット液流１５ａと回転ブラシ１６により洗浄される。」（段落【００１５】）　
　上記の摘記事項からみて、刊行物１には、以下の発明が記載されているものと認められる。
「ウエハを回転させてそのウエハ１に洗浄を施すウエハ洗浄装置において、
中央部が開口された中空部を有する回転体３と、前記回転体３の外側に、前記回転体３と同心状に設けられ、中央部が開口された中空部を有する固定体４とを備えた電動機１２と、
前記回転体３に設けられ、ウエハ１を把持する棒状アーム２とを備えたウエハ洗浄装置。」
ロ．刊行物２：特開平５−３０７２０号公報（異議申立人の提示した甲第２号証）
「図１乃至図７に本発明の一実施例の構成を示す。図１乃至図３において、スピンドルモータ１のほぼ円筒状のハウジング２内には、有底円筒状のロータ３が同心状に回転自在に設けられている。そしてハウジング２の内周面とロータ３の外周面とは僅かな第１の間隙４を介して対向しており、第１の間隙４に後述する空気を供給することにより静圧気体ラジアル軸受を構成している。」（段落【００１０】）
「ロータ３の下端面はハウジング２の内周に形成された段差部５に、僅かな第２の間隙６を介して対向しており、第２の間隙６に空気を供給することにより、静圧気体スラスト軸受を構成している。また、ロータ３の上端面はハウジング２の上端面に固定された後述する軸受板７の下面に、僅かな第３の間隙８を介して対向しており、第３の間隙８に空気を供給することにより動圧気体スラスト軸受を構成している。」（段落【００１１】）
　上記の摘記事項からみて、刊行物２には、以下の発明が記載されているものと認められる。
「円筒状ハウジング２内に円筒状ロータ３を設け、円筒状ハウジング２の内周面と円筒状ロータ３の外周面が対向する間隙４、及び、円筒状ハウジング２の内周に形成された段差部５と円筒状ロータ３の下端面が対向する間隙６に静圧気体軸受を構成したスピンドルモータ。」
　
（４）対比・判断
イ．請求項１に係る発明について
　本件請求項１に係る発明と上記刊行物１ないし２に記載の発明とを対比すると、両刊行物に記載の発明は、本件請求項１に係る発明を特定する事項である「回転子に設けられ、前記回転子の中空部内で基板を保持する基板保持手段」を備えていない。そして、当該事項により、本件請求項１に係る発明は「保持された基板Ｗの上面及び下面に処理を施すことができる。」及び「基板Ｗを回転モータ１の上方または下方で保持するように構成した基板処理装置に比べて装置の高さを一層低くすることができる。」という顕著な効果を奏するものであり、本件請求項１に係る発明が上記刊行物１及び２に記載のものから当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。
ロ．請求項２ないし３に係る発明について
　請求項２ないし３に係る発明は、請求項１に係る発明を更に限定したものであるから、上記請求項１に係る発明についての判断と同様の理由により、上記各刊行物に記載された発明から当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。
　以上のとおり、請求項１ないし３に係る発明は、申立人永田大樹が提示した上記各刊行物に記載された発明から当業者が容易に発明をすることができたものではない。
　
（５）むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申立ての理由及び証拠によっては、本件請求項１ないし３に係る特許を取り消すことができない。
　また、他に本件請求項１ないし３に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１６年３月１０日（２００４．３．１０）
【訂正の要旨】
審決（決定）の【理由】欄参照。
（５４）【発明の名称】
基板処理装置
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　基板を回転させてその基板に所定の処理を施す基板処理装置において、
　中央部が開口された中空部を有する回転子と、
前記回転子の外側に、
　前記回転子に設けられ、
前記回転子の中空部内で
　を備えたことを特徴とする基板処理装置。
　【請求項２】　請求項１に記載の基板処理装置において、
　
前記回転子は、その外周面にリング状に凸部が形成され、
　
前記ステータは、その内周面にリング状に凹部が形成され、
　
前記回転子の凸部が前記ステータの凹部に嵌め込まれ、
　
前記回転子と前記ステータとの凹凸部間の隙間に気体を供給することにより、
　前記回転モーターのステータに対して前記回転子を静圧気体軸受けで軸受けしたことを特徴とする基板処理装置。
　【請求項３】　請求項１または２に記載の基板処理装置において、
　前記回転モーターの中央部に形成される中空部であ
る前記回転子の中空部
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【発明の属する技術分野】
　本発明は、基板を回転させてその基板に洗浄処理やレジスト塗布処理などの所定の処理を施す基板処理装置に関する。
　【０００２】
　【従来の技術】
　従来のこの種の基板処理装置は、一般的に、鉛直方向に回転可能に立設された回転軸にモーターが伝動連結され、回転軸の上端部に基板保持機構が設けられて構成されている。基板保持機構は、スピンベースに真空吸着孔が設けられていて基板の下面（通常は裏面）を真空吸着するものや、スピンベースの周端部付近に３個以上の基板保持ピンが設けられていて基板の外周端部を３箇所以上で保持するものなどがある。
　【０００３】
　この従来装置では、基板保持機構に基板が保持され、モーターの回転力が回転軸に伝動されることで、回転軸の中心軸回りに、回転軸、基板保持機構とともに基板が回転される。そして、この基板に対して洗浄処理やレジスト塗布処理などの所定の処理が施される。
　【０００４】
　【発明が解決しようとする課題】
　しかしながら、このような構成を有する従来例の場合には、次のような問題がある。
　従来装置の構成では、基板の下面側にモーターや回転軸などが配置され、鉛直方向に場所をとるという問題があった。また、モーターなどの基板の下面側の部材が障害物となって基板の下面に対する処理が行えないか行い難かった。すなわち、従来装置では、基板の片面に対する処理が可能で、両面に対する処理が行えないか行い難いという問題があった。
　【０００５】
　本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、鉛直方向に場所をとらず、かつ、基板の両面に対する処理を好適に行える基板処理装置を提供することを目的とする。
　【０００６】
　【課題を解決するための手段】
　本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
　すなわち、請求項１に記載の発明は、基板を回転させてその基板に所定の処理を施す基板処理装置において、中央部が開口された中空部を有する回転子と、
前記回転子の外側に、
前記回転子の中空部内で
　【０００７】
　また、請求項２に記載の発明は、上記請求項１に記載の基板処理装置において、
前記回転子は、その外周面にリング状に凸部が形成され、前記ステータは、その内周面にリング状に凹部が形成され、前記回転子の凸部が前記ステータの凹部に嵌め込まれ、前記回転子と前記ステータとの凹凸部間の隙間に気体を供給することにより、
　【０００８】
　また、請求項３に記載の発明は、上記請求項１または２に記載の基板処理装置において、前記回転モーターの中央部に形成される中空部であ
る前記回転子の中空部
　【０００９】
　【作用】
　本発明の作用は次のとおりである。
　請求項１に記載の発明によれば、基板は、回転モーターの回転子に設けられた基板保持手段に保持され、回転子と同芯状に設けられたステータに対して回転子が回転されることで、基板保持手段とともに基板が回転される。そして、この基板に対して所定の処理が施される。
　【００１０】
　回転モーターの回転子は中央部が開口された中空部を有し、ステータも中央部が開口された中空部を有する。従って、例えば、回転子をステータの内側に配設して回転モーターを構成すると、回転モーターの中央部には（回転子の）中空部が形成さ
れる。
　【００１１】
　また、基板保持手段は、中空部を有する回転モーターの回転子に設けられ、
回転子の中空部内で
　【００１２】
　従って
、基
る。
　【００１３】
　請求項２に記載の発明によれば、ステータに対する回転子の軸受けを静圧気体軸受けにすることで、回転子の回転時のステータに対する摩擦抵抗を低くでき、回転子を高速に回転させることができる。また、基板に対する処理が薬液を用いたものであるとき、薬液がステータと回転子との間の隙間に流れ込み、ステータや回転子が薬液によって腐食されることなどが懸念されるが、ステータに対する回転子の軸受けを静圧気体軸受けにすると、ステータと回転子との間の隙間に供給される気体がその隙間から外側に吹き出すことになるので、その隙間に薬液が流れ込むのを防止することができる。
　【００１４】
　請求項３に記載の発明は、回転モーターの中央部に形成される中空部であ
る前記回転子の中空部
　【００１５】
　また、回転モーターの中空部が回転円より大きければ、基板を回転モーターの中空部内で保持することも可能となる。例えば、ステータの内側に回転子を配置させ、この回転子の中空部の内周面から回転子の中空部の中心に向けて基板保持手段を設ければ、回転モーター（回転子）の中空部内で基板を保持することが可能になる。このように基板を回転モーターの中空部内で保持すれば、回転モーターの上方または下方で基板を保持する場合に比べて基板処理装置の高さを低くすることができる。なお、このように基板を回転モーターの中空部内に保持した場合にも基板の上面側および下面側は開口されているので、基板の両面に対する処理を施す上で何ら支障はない。
　【００１６】
　【発明の実施の形態】
　以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。
　図１は、本発明の
参考例
参考例
　【００１７】
　図中の符号１は、保持した基板Ｗを回転させるための回転モーターを示す。この回転モーター１は、中央部が開口された中空部２ａを有するリング状の回転子２と、回転子２の外側に、回転子２と同芯状に中央部が開口された中空部（回転子２の中空部２ａと回転子２を含む中空部）を有するリング状のステータ３が固設されて構成されている。回転子２の外周面にはリング状に凸部２ｂが形成され、一方、ステータ３の内周面にはリング状に凹部３ａが形成されていて、回転子２の凸部２ｂがステータ３の凹部３ａに嵌め込まれている。回転子２の凸部２ｂには、永久磁石４がリング状に内設されている。ステータ３には、コイル５が前記永久磁石４に対向するようにリング状に内設されている。
　【００１８】
　永久磁石４とコイル５とは、例えば、図３に示すように構成される。永久磁石４は、回転中心Ｊを中心として所定角度（図では９０°）ごとに極性が反転するようにリング状に設けられている。この永久磁石４の周囲に複数個のコイル５がリング状に配置されている。各コイル５は、個々に電流を流す方向を切り換えて極性を反転可能に構成されている。各コイル５は、回転中心Ｊを中心として所定角度（図では９０°）ごとに複数個（図では４個）のコイルブロック５ａに分けられ、このコイルブロック５ａ単位で制御される。各コイルブロック５ａを構成するコイル５は電流を流す方向を同じにして極性を同じにし、隣接するコイルブロック５ａ同士は極性を反転させる。そして、例えば、図３（ｂ）に示すように、コイルブロック５ａが時計周りに移動するように各コイル５の極性を順次切り換えることにより、永久磁石４は時計周りに回転される。逆に、コイルブロック５ａが反時計周りに移動するように各コイル５の極性を順次切り換えることにより、永久磁石４は反時計周りに回転される。このように各コイル５を制御することにより、ステータ３に対して回転子２を回転中心Ｊ周りに回転させることができる。
　【００１９】
　上述のように、中央部に開口が形成された中空部を有するリング状の回転子２と、回転子２と同芯状に設けられ、中央部に開口が形成された中空部を有するリング状のステータ３とを備えて回転モーター１を構成することにより、回転モーター１の中央部に中空部（回転子の中空部２ａ）が形成される。
　【００２０】
　ステータ３には、空気や不活性ガス（窒素ガス等）などの気体の供給源（図示せず）に連通接続された気体バッファ６が内設されていて、この気体バッファ６から気体供給路７を経て、回転子２とステータ３との間の隙間８に気体を供給してステータ３に対して回転子２を静圧気体軸受けで軸受けするように構成されている。
　【００２１】
　ステータ３に対する回転子２の軸受けとしては、ベアリングなどを用いた動圧軸受けで構成してもよいが、動圧軸受けの場合、静圧気体軸受けに比べてステータ３に対する回転子２の回転時の摩擦抵抗が高くなるので、それだけ高速回転が実現し難い。また、基板Ｗに対する処理に薬液を用いる場合には、ステータ３と回転子２との間の隙間８に薬液が流れ込むことがあるので、動圧軸受けの場合は、隙間８に設けられるベアリングなどに対して耐薬処置を施さなければならないなど製作上面倒になる。これに対して、静圧気体軸受けの場合は、ベアリングなどの部材が不要であるし、隙間８に供給された気体が、隙間８から外部に吹き出すので、その気体の吹き出しによって隙間８に薬液が流れ込むことを防止することもできる。従って、高速回転にする場合や、基板Ｗに対する処理に薬液を用いる場合などには、ステータ３に対する回転子２の軸受けとして、動圧軸受けよりも静圧気体軸受けで構成する方が好ましい。
　【００２２】
　また、ステータ３には、永久磁石４の下面に対向してホール素子９が内設されている。このホール素子９は、磁力線の強弱や極性の判別が可能であるので、ホール素子９からの出力電圧に基づき、永久磁石４の位置検出が可能となる。従って、このホール素子９を位置センサとして用いて、回転中の回転子２を所定の停止位置で停止させることができる。ホール素子９を複数箇所に設ければ、回転中の回転子２を複数の停止位置で停止させることもできる。
　【００２３】
　回転子２には、３個以上（図では３個）の基板保持部材１０が設けられている。これら基板保持部材１０により基板Ｗの外周端部が３箇所以上で保持され、ステータ３に対する回転子２の回転により、基板Ｗが回転中心Ｊ周りに回転される。
　【００２４】
　なお、基板保持部材１０は、基板Ｗを保持する状態と保持を解除する状態とを採り得るように構成されている。この切り換えは、例えば、以下のような構成で実現することができる。
　【００２５】
　図４、図５は、基板保持部材による基板の保持とその解除を行う機構の一例の構成を示す図である。
　【００２６】
　各基板保持部材１０は、それぞれ基端部が揺動アーム１１の先端部に連結されている。この揺動アーム１１が図４（ａ）に示す実線と二点鎖線との間で揺動されることで、基板Ｗを保持する状態と保持を解除する状態とが切り換えられる。すなわち、図の実線の状態で、各基板保持部材１０の先端部のくびれ部１０ａで基板Ｗの外周端部を３箇所で保持する。一方、図の二点鎖線の状態で、各基板保持部材１０が基板Ｗから離れて基板Ｗの保持を解除する。
　【００２７】
　上記揺動アーム１１の揺動は以下のような構成で実現されている。
　図４（ａ）、図５に示すように、各揺動アーム１１は、それぞれ基端部に筒状部材１２が連結されている。各筒状部材１２は回動自在に回転子２に支持されている。各筒状部材１２の中空部にはロータ１３が昇降自在に挿嵌されている。各ロータ１３の上端部には下降を規制するストッパー１３ａが設けられている。また、各ロータ１３の下端部は、１個のリング状部材１４に固定されていてリング状部材１４の昇降によって各ロータ１３が同期して昇降されるようになっている。リング状部材１４の下方には、揺動部材１５の先端部１５ａが配置されている。この揺動部材１５の基端部１５ｂには、エアシリンダ１６のロッド１６ａの先端が連結されていて、エアシリンダ１６のロッド１６ａを収縮・伸長させることで、揺動部材１５の基端部１５ｂが上昇・下降され、揺動部材１５の先端部１５ａが下降・上昇される。揺動部材１５の先端部１５ａが下降されている状態では、リング状部材１４、各ロータ１３の自重で、図５の実線で示すように、各ロータ１３は各筒状部材１２に対して下降されている。一方、揺動部材１５の先端部１５ａが上昇されると、リング状部材１４が揺動部材１５の先端部１５ａに押し上げられて、各ロータ１３が各筒状部材１２に対して同期して上昇される。
　【００２８】
　各ロータ１３には図４（ｂ）に示すような溝カム１３ｂが刻設されている。図５に示すように、各筒状部材１２は内側にピン１２ａを突出させていて、このピン１２ａがロータ１３の溝カム１３ｂに係合されている。エアシリンダ１６のロッド１６ａが収縮され、各筒状部材１２に対して各ロータ１３が下降されている状態では、図４、図５の実線で示すように、各基板保持部材１０は基板Ｗの外周端部を３箇所で保持している。そして、エアシリンダ１６のロッド１６ａが伸長されて、各ロータ１３が各筒状部材１２に対して上昇されていくと、各筒状部材１２のピン１２ａが各ロータ１３の溝カム１３ｂをなぞる結果、各筒状部材１２は、各ロータ１３に対して鉛直軸回りに回転され、この回転によって各揺動アーム１１が揺動され、図４（ａ）の一点鎖線に示すように基板Ｗの保持が解除される。なお、各ロータ１３は、リング状部材１４に固定されているので、回転せずに昇降動作のみ行われる。
　【００２９】
　また、図４、図５は、各基板保持部材１０による基板Ｗの保持とその解除の機構の一例を示すもので、上記以外の構成で各基板保持部材１０による基板Ｗの保持とその解除を実現してもよい。また、基板保持部材１０の構成も
参考例
　【００３０】
　回転モーター１は、回転モーター１の中央部に形成される中空部（回転子２の中空部２ａ）の大きさが、各基板保持部材１０に保持された基板Ｗを回転させたときの基板Ｗの回転中心Ｊから最も離れた基板Ｗの端部が描く円と同等またはそれより大きくなるように構成している。保持された基板Ｗは、基板Ｗの回転中心Ｊと回転中心Ｊから最も離れた基板Ｗの端部との間の長さを半径とした回転円内で回転される。例えば、図６（ａ）に示すように、半導体ウエハのような円形基板Ｗを基板Ｗの中心ＣＪ周りに回転させるときには回転円は円形基板Ｗの外周になる。また、図６（ｂ）に示すように、液晶表示器用のガラス基板のような角形基板Ｗを基板Ｗの中心ＣＪ周りに回転させるときには回転円は図の一点鎖線で示す円になる。この
参考例
　【００３１】
　上記回転子２の表面（凸部２ｂの表面を含む）や、ステータ３の表面（凹部３ａの表面を含む）、基板保持部材１０の表面などは、炭化珪素（ＳｉＣ）やフッ素樹脂などの耐薬品性の素材で被覆されていて、基板Ｗに対する洗浄処理の際に用いられる薬液による腐食などを防止するように構成している。
　【００３２】
　各基板保持部材１０に保持された基板Ｗの上方と下方には、薬液や純水などの洗浄液を基板Ｗの上面と下面に向けて噴射供給するノズル２１、２２が設けられている。
　【００３３】
　基板Ｗの上方のノズル２１は、図示しない移動機構により、基板Ｗの上面（通常は表面）の中心（回転中心Ｊ）の上方の処理位置（図の実線で示す位置）と、基板Ｗの外周外側の退避位置（図の二点鎖線で示す位置）との間で移動可能に構成されている。
　【００３４】
　また、基板Ｗの下方のノズル２２は、基板Ｗの下面（通常は裏面）の中央部に向けて洗浄液を噴射供給するように固定設置されている。
　【００３５】
　次に、上記構成の装置の動作を説明する。
　処理前の基板Ｗが各基板保持部材１０に外周端部が保持されると、ノズル２１を退避位置から処理位置に移動させる。そして、ステータ３と回転子２との間の隙間８に気体を供給し、ステータ３に対して回転子２を回転させて、保持している基板Ｗを回転中心Ｊ周りに回転させ、ノズル２１、２２から基板Ｗの両面に対して洗浄液を噴射供給して、基板Ｗの両面に対して洗浄処理を施す。なお、薬液洗浄を行う装置では、最初にノズル２１、２２から薬液が基板Ｗの両面に噴射供給されて薬液洗浄が行われ、次いで、ノズル２１、２２から純水が基板Ｗの両面に噴射供給されて薬液の洗い流しなどのリンス洗浄が行われる。また、単に純水洗浄を行う装置では、ノズル２１、２２から純水が基板Ｗの両面に噴射供給されて純水による基板洗浄が行われる。
　【００３６】
　所定の洗浄時間が経過すると、ノズル２１、２２からの洗浄液の噴射供給を停止し、基板Ｗの回転を継続して、基板Ｗに付着している洗浄液を振り切り、基板Ｗを乾燥させる。
　【００３７】
　ノズル２１、２２からの洗浄液の噴射供給を停止してから所定の乾燥時間が経過して基板Ｗが乾燥すると、ステータ３に対する回転子２の回転を停止させて、基板Ｗの回転を停止させる。そして、ノズル２１を処理位置から退避位置に移動させ、各基板保持部材１０による基板Ｗの保持を解除して、処理済の基板Ｗが搬出される。
　【００３８】
　上記
参考例
　【００３９】
　また、上記
参考例
　【００４０】
　例えば、ブラシを用いた洗浄は、通常、基板Ｗを回転させながら、基板Ｗの面に洗浄液を供給し、回転中の基板Ｗの面にブラシの毛を当接または若干浮かせた状態でブラシ（ブラシ自身も自転されている）を基板Ｗの回転中心と外周との間で基板Ｗの半径方向に往復移動させて基板Ｗの面全面をブラシで洗浄する。上記
参考例
　【００４１】
　また、基板Ｗを回転させながら超音波ノズルを基板Ｗの回転中心と外周との間で基板Ｗの半径方向に往復移動させながら超音波が付加された洗浄液を回転中の基板Ｗに噴射して基板Ｗの面全面に超音波洗浄を施す場合にも、上記
参考例
　【００４２】
　【００４３】
　【００４４】
　【００４５】
　さらに、回転モーター１の回転子２やステータ３は、中央部が開口された中空部を有していればよいので、回転子２やステータ３は円筒状であってもよいが、円筒状の回転子２やステータ３で回転モーター１を構成すれば、回転モーター１の中央部に形成される中空部を介して施す、回転モーター１側の基板Ｗの面に対する洗浄液を噴射供給しての洗浄処理などの処理が行い難くなる。従って、上記
参考例
　【００４６】
　
本発明に係る実施例は、
７
　【００４７】
　なお、上記
参考例および
ゆ
ゆ
　【００４８】
　また、本発明は、その他の基板処理を施す装置にも適用実施することができる。
　【００４９】
　【発明の効果】
　以上の説明から明らかなように、請求項１に記載の発明によれば、基板を回転するための回転モーターを、中央部に開口が形成された中空部を有する回転子とステータとを同芯状に設けて構成したので、回転モーターの中央部には中空部が形成される。また、基板を保持する基板保持手段を、回転モーターの回転子に設け、
回転モーターの回転子の中空部内に、
　【００５０】
　請求項２に記載の発明によれば、ステータに対する回転子の軸受けを静圧気体軸受けで構成したので、ベアリングなどの動圧軸受けで構成するよりも、ステータに対する回転子の回転時の摩擦抵抗を低くでき、回転子（基板）をより高速に回転させることができる。また、基板に対する処理で薬液を用いる場合には、ステータと回転子との隙間への薬液の流れ込みを防止することもできる。
　【００５１】
　請求項３に記載の発明によれば、回転モーターの中央部に形成される中空部であ
る前記回転子の中空部
【図面の簡単な説明】
　【図１】
　本発明の
参考例
　【図２】
　図１の
参考例
　【図３】
　回転子に内設される永久磁石とステータに内設されるコイルの一例の構成を示す図である。
　【図４】
　基板保持部材による基板の保持とその解除を行う機構の一例の構成を示す図である。
　【図５】
　同じく、基板保持部材による基板の保持とその解除を行う機構の一例の構成を示す図である。
　【図６】
　基板が回転されるときの回転円を説明するための図である。
　【図７】
　
基板を回転モーターの中空部内で保持する実施例の構成を示す図である。
　【符号の説明】
　１　回転モーター
　２　回転子
　３　ステータ
　７　気体供給路
　８　回転子とステータとの間の隙間
　１０　基板保持部材
　２１、２２　洗浄液供給用のノズル
　Ｗ　基板
【図面】