【事件の表示】
　特許第３３１５６７３号「導電膜付きブラウン管」の請求項１、２に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３３１５６７３号の請求項１に係る特許を維持する。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本件は、平成８年６月１０日に特許出願された特願平８−１４７５１４号の一部を、平成１１年１０月２８日に新たな特許出願として出願されたものであり、平成１４年６月７日に特許権の設定登録（特許第３３１５６７３号）がされ、同年８月１９日にその特許掲載公報が発行され、平成１５年２月１７日にその請求項１、２に係る特許に対して、今村淑子より特許異議申立てがなされた。
　当審において、本件の請求項１、２に係る特許に対して、平成１６年４月２日付けで取消理由を通知したところ、平成１６年６月１１日付けで訂正請求がなされた。
　
第２．訂正の適否
１　訂正事項
　訂正を請求する事項は、次のとおりである。
訂正事項ａ：
　明細書の特許請求の範囲の請求項１に「形成される導電膜を有する」とあるのを、「形成され、厚さが０．０２〜０．０５μｍの範囲である導電膜を有し、かつ該導電膜上に該導電膜より低屈折率の膜が形成され、該低屈折率の膜の厚さが０．０３〜１μｍの範囲である」と訂正するとともに、同請求項２を削除する。
　
訂正事項ｂ：
　明細書の段落【００１１】中に「本発明は、Ｒｕ金属微粒子が分散したゾルを含み、かつ導電膜形成成分１００重量部中の１０重量部以上がＲｕ金属微粒子となるように調製された導電膜形成用塗布液から形成される導電膜をブラウン管表面に有する導電膜付きブラウン管を提供する。本発明は、また、導電膜形成用塗布液から形成される導電膜上に、該導電膜より低屈折率の膜が形成されてなる上記の導電膜付きブラウン管を提供する。」とあるのを、「本発明は、Ｒｕ金属微粒子が分散したゾルを含み、かつ導電膜形成成分１００重量部中の１０重量部以上がＲｕ金属微粒子となるように調製された導電膜形成用塗布液から形成され、厚さが０．０２〜０．０５μｍの範囲である導電膜を有し、かつ該導電膜上に該導電膜より低屈折率の膜が形成され、該低屈折率の膜の厚さが０．０３〜１μｍの範囲である導電膜付きブラウン管を提供する。」と訂正する。
　
２．新規事項追加の有無、訂正の目的の適否、及び特許請求の範囲の実質上の拡張又は変更の存否
(１)　訂正事項ａは、「導電膜」の厚さの範囲を限定するとともに、訂正前の請求項２に記載されていた「低屈折率の膜」を、その厚さの範囲を限定して、請求項１の特定事項に追加し、それと同時に該請求項２を削除するものである。そして、該「導電膜」及び該「低屈折率の膜」の厚さの範囲については、明細書の段落【００３６】の「こうして得られる本発明における導電膜の厚さは任意に調整できるが、本発明の目的には約０．２〜０．１μｍであり、好ましくは約０．０２〜０．０５μｍの範囲である。上記膜厚が薄すぎると微粒子がアイランド状に存在し、導電連鎖性が不足し、所望の導電性が得られない等の点で不充分であり、また、膜厚が厚すぎると膜による光の吸収が強すぎ、可視光域での光の透過率が下がりすぎる等の点で不充分である。」及び段落【００３７】の「本発明の好ましい実施形態では、上記導電膜の表面に低屈折率膜を形成するが、該低屈折率膜の厚さは任意に調整できる。本発明の目的に適する厚さは約０．０３〜１μｍであり、好ましくは約０．０３〜０．０８μｍの範囲である。上記膜厚範囲を外すと二重干渉効果による低反射性が充分には実現しない等の点で不充分である。」の記載を根拠とするものである。
　したがって、該訂正は、特許請求の範囲の減縮を目的とする訂正に該当するものであって、願書に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内の訂正であり、また、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものではない。
　
(２)　訂正事項ｂは、発明の詳細な説明の項における記載を、訂正事項ａに伴いそれと同様の記載とするものであるから、明りょうでない記載の釈明を目的とするものであって、願書に添付された明細書又は図面に記載されていた事項の範囲内での訂正であり、また、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものでもない。
　
３　訂正の適否の結論
　以上のとおりであるから、上記訂正請求は、特許法第１２０条の４第２項の規定、及び同条第３項において準用する特許法第１２６条第２項及び第３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
第３　本件発明
　上述のとおり、本件訂正請求は認められるので、本件発明は、訂正請求書に添付された全文訂正明細書の特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される次のとおりのものである。
「Ｒｕ金属微粒子が分散したゾルを含み、かつ導電膜形成成分１００重量部中の１０重量部以上がＲｕ金属微粒子となるように調製された導電膜形成用塗布液から形成され、厚さが０．０２〜０．０５μｍの範囲である導電膜を有し、かつ該導電膜上に該導電膜より低屈折率の膜が形成され、該低屈折率の膜の厚さが０．０３〜１μｍの範囲である導電膜付きブラウン管。」
　
第４　特許異議申立ての理由の概要
　特許異議申立人は、証拠として
甲第１号証：特許第３３０８５１１号公報
甲第２号証：特開２０００−１１３８１１号公報
甲第３号証：特開昭６３−７６２４７号公報
甲第４号証：特開平６−３１００５８号公報
を提出して、以下の理由１、２により、訂正前の請求項１、２に係る特許は取り消されるべきである旨主張する。
理由１：
　本件の請求項１、２に係る発明は、甲第１号証の請求項１、２記載の発明と実質的に同一であるから、特許法第３９第１項の規定により特許を受けることができない。
理由２：
　本件の明細書の記載は、当業者が請求項１記載の発明を容易に実施できる程度に記載されていないから、特許法第３６条第４項の規定を満たしていない。
　
第５　当審の判断
１　理由１について
(１)　甲第１号証の請求項１及び２には以下のとおり記載されている。
「【請求項１】　Ｒｕ金属微粒子を水または有機溶媒に均一に分散させて調製したＲｕ金属微粒子ゾルを含む塗布液を、ブラウン管パネルに塗布して加熱することを特徴とする導電膜付きブラウン管パネルの形成方法。
　【請求項２】　導電膜上に、該導電膜より低屈折率の膜を形成することを特徴とする請求項１記載の導電膜付きブラウン管パネルの形成方法。」
　
(２)　そこで、本件発明と、甲第１号証の請求項２に記載された発明（以下、「先願発明」という。）と対比すると、両者は以下の点で相違している。
ア　本件発明は「導電膜付きブラウン管」に係る発明であるのに対し、先願　発明は「導電膜付きブラウン管パネルの形成方法」に係る発明である点。
イ　本件発明は、「導電膜形成成分１００重量部中の１０重量部以上がＲｕ　金属微粒子となる」と特定するものであるのに対し、先願発明は、そのよ　うな特定はされていない点。
ウ　本件発明は、導電膜の厚さ範囲を「０．０２〜０．０５μｍ」と特定す　るものであるのに対し、先願発明は、そのような特定はされていない点。
エ　本件発明は、低屈折率の膜の厚さ範囲を「０．０３〜１μｍ」と特定す　るものであるのに対し、先願発明は、そのような特定はされていない点。
　したがって、本件発明と先願発明とが同一であるとすることはできない。
　
(３)　申立人は、両者の相違点は、「単なる表現の差異」、「自明な変更」、「単なるカテゴリーの差異」にすぎず、両者は実質的に同一である旨主張している。
　しかしながら、導電膜の厚さについては、甲第１号証の段落【００２０】に「こうして得られた塗布液を基体上に、乾燥後に所定の厚さとなるように塗布し、加熱して導電膜を形成させる。導電膜の厚さは、特に限定されないが、通常は５０〜１５０ｎｍ程度である。」と記載されており、本件発明で特定する範囲とは異なるものであり、さらに、低屈折率の膜の厚さについては、何の記載もない。
　したがって、本件発明と先願発明が、実質的に同一であるとすることもできない。
　
２　理由２について
(１)　申立人が、当業者が本件の請求項１に記載の発明を容易に実施することができる程度に記載されていないと指摘する本件明細書の記載は、 段落【００２６】における「好ましい加熱温度範囲は１００〜５００℃である」という記載であって、該記載の１００〜５００℃のうち、３５０〜５００℃の加熱温度は、本件の請求項１及び２に係る発明における解決すべき課題に反しているというものである。
　そして、その理由として、段落【００１０】の【発明が解決しようとする課題】の項に、「発明の目的は、従来技術の前述の欠点を解消し、低温熱処理により形成が可能な高性能導電膜を有するブラウン管および低反射導電膜を有するブラウン管を提供することにある。」という記載があるためであると主張している。
　
　しかしながら、本件発明は、前述のとおり「Ｒｕ金属微粒子が分散したゾルを含み、かつ導電膜形成成分１００重量部中の１０重量部以上がＲｕ金属微粒子となるように調製された導電膜形成用塗布液から形成され、厚さが０．０２〜０．０５μｍの範囲である導電膜を有し、かつ該導電か有情に該導電膜より低屈折率の膜が形成され、該低屈折率の膜の厚さが０．０３〜１μｍの範囲である導電膜付きブラウン管」に係る、「物」の発明であって、製造方法の発明ではない。
　したがって、「好ましい加熱温度範囲は１００〜５００℃である」という記載があるからといって、当業者が本件発明を容易に実施しうる程度に記載されていないとすることはできない。
　
　なお、本件明細書の段落【０００３】〜【０００４】の記載、段落【０００５】の記載、段落【０００６】の記載、段落【０００８】〜【０００９】の記載からみて、本件発明が解決すべき「従来技術の前述の欠点」とは、申立人が主張するような「ＣＶＤ法による金属酸化物を用いた場合の高温処理による蛍光体の脱落や寸法精度の低下」ばかりでなく、「金属酸化物自体の良導電性が得られない」という欠点、「金属塩と還元剤の混合液を用いた場合には膜強度が著しく弱く除去工程が必要」という欠点、或いは「低反射性導電膜を形成した場合には反射率の低減に限界があり解像度が低下する」という欠点も含まれるものであることは明らかである。そして、本件発明は、特定の導電膜形成用塗布液から形成された導電膜を用いることにより、これらの欠点を解消することができたものであり、「低温熱処理により形成できる」という効果は、本件発明が奏する効果の１つにすぎない。
　
第６　むすび
  以上のとおりであるから、特許異議の申立ての理由及び証拠によっては本件の請求項１に係る特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件の請求項１に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１６年６月３０日（２００４．６．３０）
【訂正の要旨】
審決（決定）の【理由】欄参照。
（５４）【発明の名称】
導電膜付きブラウン管
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】
　Ｒｕ金属微粒子が分散したゾルを含み、かつ導電膜形成成分１００重量部中の１０重量部以上がＲｕ金属微粒子となるように調製された導電膜形成用塗布液から形成され
、厚さが０．０２〜０．０５μｍの範囲であ
し、かつ該導電膜上に該導電膜より低屈折率の膜が形成され、該低屈折率の膜の厚さが０．０３〜１μｍの範囲であ
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【発明の属する技術分野】
　本発明はブラウン管パネル表面に導電膜を有する導電膜付きブラウン管に関する。
　【０００２】
　【従来の技術】
　ブラウン管は高電圧で作動するために起動時または終了時に該表面に静電気が誘発される。この静電気によりブラウン管表面に埃が付着し、コントラスト低下を引き起こしたり、直接触れた際に軽い電気ショックによる不快感を生じたりすることが多い。
　【０００３】
　従来より、上述の現象を防止するためにブラウン管パネル表面に帯電防止膜を付与する試みがなされている。例えば特開昭６３−７６２４７記載のとおり、ブラウン管パネル表面を３５０℃程度に加熱し、ＣＶＤ法により酸化スズおよび酸化インジウムなどの導電性酸化物層を設ける方法が採用されてきた。
　【０００４】
　しかし、この方法では装置コストがかかるうえ、ブラウン管表面を高温に加熱するために、ブラウン管内の蛍光体の脱落を生じたり、寸法精度が低下するなどの問題があった。また、導電層に用いる材料としては酸化スズが最も一般的であるが、この場合低温処理では高性能な膜が得にくい欠点があった。
　【０００５】
　また、近年、電磁波の遮蔽も求められている。導電性塗膜をブラウン管表面に介在させることにより、導電性塗膜に電磁波が当たり、塗膜内に渦電流を誘導して、この作用で電磁波を反射する。しかし、このためには高い電界強度に耐えうる良導電性が必要であるが、それほどの良導電性の膜を得ることはさらに困難であった。
　【０００６】
　一方、導電膜の製造に関して特開平６−３１００５８記載の方法があるが、この方法では、金属塩と還元剤の混合液を塗布して膜を形成するために、金属導電膜はガラス面にメッキされた状態となり、膜の強度が著しく弱く、かつ導電膜を洗浄し副生成塩を除去する工程が必要となる問題があった。
　【０００７】
　また、陰極線管の全面パネルに帯電防止膜を形成する方法として特開昭６３−１６０１４０に金属粒子を少量添加し帯電防止膜を形成する方法が記載されているが、この方法の場合には、形成される帯電防止膜の膜表面抵抗値が１０７Ω／□のオーダー以上であり、帯電防止機能は発揮するが、電磁波を遮蔽するには導電性が不足する問題がある。
　【０００８】
　また、導電膜および低反射膜のコーティング法による形成は、従来より光学機器のみならず、民生用機器、特にテレビ、コンピュータ端末の陰極線管（ＣＲＴ）に関して数多く検討されてきた。従来の成膜方法は、例えば特開昭６１−１１８９３１記載のように、ブラウン管表面に防眩効果を持たせるために表面に微細な凹凸を有するＳｉＯ２層を付着させたり、フッ酸により表面をエッチングして表面に凹凸を設けるなどの方法が採られてきた。
　【０００９】
　しかし、これらの方法は、外部光を散乱させるノングレア処理と呼ばれ、本質的に低反射層を設ける方法でないために、反射率の低減には限界があり、また、ブラウン管などにおいては、解像度を低下させる原因ともなっている。
　【００１０】
　【発明が解決しようとする課題】
　本発明の目的は、従来技術の前述の欠点を解消し、低温熱処理により形成が可能な高性能導電膜を有するブラウン管および低反射導電膜を有するブラウン管を提供することにある。
　【００１１】
　【課題を解決するための手段】
　本発明は、Ｒｕ金属微粒子が分散したゾルを含み、かつ導電膜形成成分１００重量部中の１０重量部以上がＲｕ金属微粒子となるように調製された導電膜形成用塗布液から形成され
、厚さが０．０２〜０．０５μｍの範囲であ
し、かつ該導電膜上に該導電膜より低屈折率の膜が形成され、該低屈折率の膜の厚さが０．０３〜１μｍの範囲であ
。
　【００１２】
　【発明の実施の形態】
　本発明における導電膜形成用塗布液は、Ｒｕ金属微粒子を導電膜形成成分１００重量部に対して１０重量部以上含むように調製されていることを特徴とする。
　【００１３】
　本発明における導電膜形成用塗布液は、金属微粒子をゾルの形で含有しており、これを塗布した場合は従来のメッキ膜とは異なり、微小な孔が導電膜中に導入される。当該導電膜の上に、ケイ素、チタンまたはジルコニウムなどのアルコキシドおよび／またはそれらの部分加水分解物を含む塗布液を塗布した場合には、この孔に上記塗布液が浸入して導電膜の強度が著しく向上する。
　【００１４】
　また、このように形成された導電膜は、従来の方法である金属塩と還元液からなる塗布液を用いる場合とは異なり、導電膜の形成時には副生成物が生成せず、導電膜とその上に形成される膜との間での膜強度の劣化も生じない。
　【００１５】
　本発明で使用する金属微粒子としては金属の蒸発凝縮により生成される金属微粒子または金属塩の化学還元により生成される金属微粒子が好適である。
　【００１６】
　本発明において金属微粒子の形成に用いられる金属塩としては、例えば、ニトロソ硝酸ルテニウムなどの硝酸塩、塩化ルテニウム、塩化ルテニウムアンモニウム、塩化ルテニウムカリウム、塩化ルテニウムナトリウムなどの塩化物、酢酸ルテニウムなどの酢酸塩などが使用できる。
　【００１７】
　上記金属塩の還元剤としては、例えば水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウム、水素化ナトリウム、水素化リチウムなどの水素化物や、ギ酸、シュウ酸、ホスフィン酸、ホスフィン酸ナトリウム、ロシェル塩などの有機酸、無機酸、塩が使用できる。
　【００１８】
　金属微粒子は、例えば、前記金属塩を水または有機溶媒に溶解させ、必要に応じアンモニアなどでｐＨを調整した後、前記還元剤を添加することにより生成する。このとき液の種類により反応温度を調整することも好ましい。こうした方法により生成した金属微粒子は、適宜洗浄乾燥した後、撹拌などの操作によりゾル化を行う。このとき、微粒子の分散性向上のために、加熱、紫外線の照射、酸化剤への浸漬などにより、上記微粒子の表面を一部酸化してもよい。
　【００１９】
　Ｒｕ金属微粒子の粉末は、あまり大きいと分散しにくくなるため、平均粒径は１００ｎｍ以下、特に１０ｎｍを超える範囲、さらには３０〜５０ｎｍの範囲が好ましい。
　金属微粒子の粉体体積抵抗が０．０１Ω・ｃｍ以下であると良好な結果が得られる。
　【００２０】
　Ｒｕ金属微粒子粉末は、均一に水や有機溶媒などに分散させることが重要である。
　分散する際には、溶液と粉末の接触を容易にするために撹拌を行うことが好ましい。この場合、コロイドミル、ボールミル、サンドミル、ホモミキサーなどの市販の粉砕機を使用できる。また、微粒子を分散させる際には、２０〜２００℃の範囲で加熱することもできる。分散媒体の沸点以上で撹拌する場合には加圧して液相が保持できるようにする。このようにしてＲｕ金属微粒子がコロイド粒子として分散した水性ゾルまたはオルガノゾルが得られる。
　【００２１】
　上記水性ゾルはそのまま塗布液としても使用できるが、基体に対する塗布性を増すために、金属微粒子を有機溶媒に分散または水性ゾルの水分を親水性有機溶媒で置換して用いることもできる。親水性有機溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなどのアルコール類、エチルセロソルブ、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールメチルエーテルなどのエーテル類、２，４−ペンタジオン、ジアセトンアルコールなどのケトン類、乳酸エチル、乳酸メチルなどのエステル類が使用できる。
　【００２２】
　また、本発明における上記塗布液には液の粘度、表面張力、展延性を調整する点から、Ｍ（ＯＲ）ｙ・Ｒ’４−ｙ（ｙは２、３または４、ＭはＳｉ、ＴｉまたはＺｒ、Ｒはアルキル基、Ｒ’はアルキル基またはアセチルアセトネート基）の金属アルコキシドおよび／またはそれらの部分加水分解物を添加することもできる。
　【００２３】
　また、導電膜の膜厚調整などのために、上記塗布液に、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｉｎ、Ｚｎ、Ｇａ、ＡｕおよびＲｕからなる群から選ばれる１種以上の金属の酸化物微粒子を金属微粒子と同様なゾルの形で含有させてもよい。このような酸化物微粒子の大きさは平均粒径で１００ｎｍ以下、特に１０〜５０ｎｍの範囲が好ましい。また、以上のように金属微粒子に添加する酸化物微粒子等の添加量は、金属微粒子１００重量部当たり０〜１００重量部の割合が好ましい。
　さらに塗布時における基体との濡れ性を向上させるために種々の界面活性剤を上記塗布液に添加できる。
　【００２４】
　本発明における塗布液においては、該塗布液中に含有される導電膜形成成分のうち、前記金属微粒子が主成分であることが必要であり、塗布液中における膜形成成分を１００重量部とした場合（この場合、酸化物原料は酸化物換算で、また、金属原料は金属換算で計算する）、前記金属微粒子は１０重量部以上含有される。金属微粒子の量が１０重量部未満であると、形成される導電膜に所望の導電性を得にくい。金属微粒子の含有割合は、特には５０重量部以上、さらには８０重量部以上が好ましい。
　【００２５】
　本発明における塗布液を基体上へ塗布する方法としては、例えばスピンコート、ディップコート、スプレーコートなどの方法が好適に使用できる。また、スプレーコート法を用いて表面に凹凸を形成して防眩効果を付与してもよく、また、その上にシリカ被膜などのハードコートを設けてもよい。さらには、本発明による導電膜をスピンコートまたはスプレーコートで形成し、その上にシリコンアルコキシドを含む溶液をスプレーコートして、表面に凹凸を有するシリカ被膜のノングレアコートを設けてもよい。
　【００２６】
　本発明における塗布液に低沸点溶媒を添加した場合、室温下の乾燥で塗膜が得られるが、沸点が１００〜２５０℃にある中〜高沸点溶媒を用いる場合には、室温乾燥では溶媒が塗膜中に残留するために塗膜の加熱処理を行う。加熱温度の上限は基板の軟化点によって決定される。この点も考慮すると好ましい加熱温度範囲は１００〜５００℃である。
　【００２７】
　本発明においては、光の干渉作用を利用する低反射膜を上記導電膜面に形成できる。例えば、基体がガラスの場合（屈折率ｎ＝１．５２）の場合、上記導電膜の上に、（導電膜の屈折率）／（低屈折率膜の屈折率）の比の値が約１．２３となるような低屈折率膜を形成すると、導電膜の反射率を最も低減させうる。反射率の低減には可視光領域において、特に５５５ｎｍの反射率を低減することが好ましいが、実用上は反射外観などを考慮し、適宜決定するのがよい。
　【００２８】
　こうした２層からなる低反射導電膜の最外層の低屈折率膜としては、ＭｇＦ２ゾルを含む溶液やシリコンアルコキシドを含む溶液のうちから選ばれる１種以上よりなる溶液を用いて形成できる。屈折率の点を考慮すると該材料中ではＭｇＦ２が最も低く、反射率低減のためにはＭｇＦ２ゾルを含む溶液を用いることが好ましく、膜の硬度や耐擦傷性の点ではＳｉＯ２を主成分とする膜が好ましい。
　【００２９】
　こうした屈折率膜形成用のシリコンアルコキシドを含む溶液としては種々のものが使用でき、Ｓｉ（ＯＲ）ｙ・Ｒ’４−ｙ（ｙは３または４、Ｒはアルキル基、Ｒ’はアルキル基）で示されるシリコンアルコキシドまたはそれらの部分加水分解物を含む液が挙げられる。例えば、シリコンエトキシド、シリコンメトキシド、シリコンイソプロポキシド、シリコンブトキシドのモノマーまたは重合体が好ましく使用できる。
　【００３０】
　シリコンアルコキシドは、アルコール、エステル、エーテルなどに溶解して用いることもでき、また、前記溶液に塩酸、硝酸、硫酸、酢酸、ギ酸、マレイン酸、フッ酸、またはアンモニア水溶液を添加してシリコンアルコキシドを加水分解して用いることもできる。また、前記シリコンアルコキシドは溶媒に対して、３０重量％以下の量で含まれていることが好ましい。シリコンアルコキシドの固形分量があまり大きいと得られる塗布液の保存安定性が悪いため、こうした固形分量が好ましい。
　【００３１】
　また、この溶液には膜の強度向上のためのバインダーとして、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ａｌなどのアルコキシドや、これらの部分加水分解物を添加して、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２およびＡｌ２Ｏ３から選ばれるいずれか１種または２種以上の複合物をＭｇＦ２やＳｉＯ２と同時に析出させてもよい。
　【００３２】
　基体との濡れ性を上げるために界面活性剤を添加してもよい。添加される界面活性剤としては、直鎖アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム、アルキルエーテル硫酸エステルなどが挙げられる。
　【００３３】
　本発明における低反射導電膜の製造方法は、多層干渉効果による低反射導電膜にも応用できる。反射防止性能を有する多層の低反射膜の構成としては、反射防止をしたい光の波長をλとして、基体側より、高屈折率層−低屈折率層を光学厚みλ／２〜λ／４、またはλ／４〜λ／４で形成した２層の低反射膜、基体側より中屈折率層−高屈折率層−低屈折率層を光学厚みλ／４〜λ／２〜λ／４で形成した３層の低反射膜、基体側より低屈折率層−中屈折率層−高屈折率層−低屈折率層を光学厚みλ／２〜λ／２〜λ／２〜λ／４で形成した４層の低反射膜などが典型例として知られている。本発明における塗布液から形成される膜を上記中屈折率層または高屈折率層に使用できる。
　【００３４】
　また、本発明における塗布液から形成される膜は、可視光領域全般にわたって吸収を生じるため、コントラストの向上にも寄与する。
　【００３５】
　本発明における導電膜、低反射導電膜を形成する基体としてはブラウン管パネルが挙げられる。
　【００３６】
　こうして得られる本発明における導電膜の厚さは任意に調整できるが、本発明の目的には約０．２〜０．１μｍであり、好ましくは約０．０２〜０．０５μｍの範囲である。上記膜厚が薄すぎると微粒子がアイランド状に存在し、導電連鎖性が不足し、所望の導電性が得られない等の点で不充分であり、また、膜厚が厚すぎると膜による光の吸収が強すぎ、可視光域での光の透過率が下がりすぎる等の点で不充分である。
　【００３７】
　本発明の好ましい実施形態では、上記導電膜の表面に低屈折率膜を形成するが、該低屈折率膜の厚さは任意に調整できる。本発明の目的に適する厚さは約０．０３〜１μｍであり、好ましくは約０．０３〜０．０８μｍの範囲である。上記膜厚範囲を外すと二重干渉効果による低反射性が充分には実現しない等の点で不充分である。
　【００３８】
　【実施例】
　以下に本発明の実施例を挙げてさらに説明するが、本発明はこれらに限定されない。以下の実施例（例１〜３）および比較例（例４）において、得られた膜の評価方法は次のとおりである。評価結果を表１に示した。
　【００３９】
　１）導電性評価：ローレスタ抵抗測定器（三菱化学社製）により膜表面の表面抵抗値（単位：Ω／□）を測定した。表において７．２Ｅ２は７．２×１０２を意味し、他も同様である。
　２）耐擦傷性：１ｋｇ荷重下で消しゴム（ライオン社製５０−５０）で膜表面を５０回往復後、その表面の傷の付きを目視で判断した。評価基準は、○：傷が全く付かない、△：傷が多少付く、×：一部に膜剥離が生じる、とした。
　３）鉛筆硬度：１ｋｇ荷重下において、鉛筆で膜表面を走査し、その後目視により表面の傷の生じ始める鉛筆の硬度を膜の鉛筆硬度と判断した。
　４）視感反射率：ＧＡＭＭＡ分光反射率スペクトル測定器により多層膜の４００〜７００ｎｍでの視感反射率を測定した。
　５）視感透過率：日立製作所製スペクトロフォトメータＵ−３５００により３８０〜７８０ｎｍでの視感透過率を測定した。
　【００４０】
　また、得られた金属微粒子の粉体体積抵抗は４端子法により測定し、得られたゾルの平均粒径は大塚電子製レーザ回折式粒径測定装置ＬＰＡ−３１００により測定した。
　【００４１】
　［例１］
　三塩化ルテニウム水溶液（固形分１０重量％）に水素化ホウ素ナトリウム液をルテニウムに対して４倍モルの量で添加して金属ルテニウムを還元析出させた。この金属ルテニウムを充分洗浄した後、１００℃で２４時間乾燥を行い、金属ルテニウム粉末を得た。この金属ルテニウム粉末をサンドミルで２０分間粉砕した。このときの液中の粒子の平均粒径は８９ｎｍであった。その後濃縮を行い固形分５重量％液を得た（Ａ液）。
　【００４２】
　ケイ酸エチルをエタノールに溶かし、塩酸酸性水溶液で加水分解を行い、ＳｉＯ２換算で５重量％となるようエタノール溶液を調製した（Ｂ液）。
　Ａ液とＢ液とを、Ａ液／Ｂ液＝８／２（重量比）となるように混合し、その後超音波を１時間照射した（Ｃ液）。
　【００４３】
　水、エタノール、メタノールおよびプロピレングリコールモノメチルエーテルを重量比で水／エタノール／メタノール／プロピレングリコールモノメチルエーテル＝５０／４２／５／３となるよう混合した（Ｄ液）。
　Ｃ液をＤ液で固形分が１．０重量％となるように希釈して塗布液を得た（Ｅ液）。Ｅ液を１４型ブラウン管表面にスピンコート法で塗布し、１８０℃で３０分間加熱し導電膜を形成した。
　【００４４】
　［例２］
　イソプロパノール、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジアセトンアルコールを重量比でイソプロパノール／プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート／ジアセトンアルコール＝６／３／１となるように混合した（Ｔ１液）。
　【００４５】
　例１で調製したＡ液をＤ液で固形分が０．８重量％となるように希釈し１４型ブラウン管表面にスピンコート法で塗布し、６０℃で１０分間乾燥させた。
　その後この膜の上にＢ液をＴ１液で０．８５重量％に希釈したものをスピンコート法で塗布し、１６０℃で３０分間焼成し低反射導電膜を得た。
　【００４６】
　［例３］
　スズを９重量％置換型固溶させた酸化インジウム粒子をサンドミルで１時間粉砕解膠を行った。これに塩化ルテニウムをＲｕ／Ｉｎ２Ｏ３＝９／１（重量比）となるように添加し、さらにこの液に水素化ホウ素ナトリウムをルテニウムに対して８倍モルの量で添加し、ルテニウムを還元析出させた。この液にさらに陰イオン交換樹脂、陽イオン交換樹脂を順次添加し不純物イオンを除去し、超音波を２時間照射し分散させた。その後濃縮を行い固形分５重量％液を調製した（Ｖ１液）。
　【００４７】
　Ｖ１液をＤ液で固形分が０．９重量％となるように希釈し１４型ブラウン管表面にスピンコート法で塗布し、６０℃で１０分間乾燥させた。
　その後この膜の上にＢ液をＴ１液で０．８５重量％に希釈したものをスピンコート法で塗布し、１６０℃で３０分間焼成し低反射導電膜を得た。
　【００４８】
　［例４］
　スズを５重量％置換型固溶させた酸化インジウム粒子をサンドミルで１時間粉砕し、解膠を行った。これに硝酸銀をＡｇ／Ｉｎ２Ｏ３＝５／９５（重量比）となるように添加し、さらにこの液にアンモニアを添加し、ｐＨが１１となるよう調整した。次に、この液に銀に対して８倍モルのロシェル塩を添加し、１時間撹拌し、銀を還元析出させた。この液にさらに陰イオン交換樹脂を添加しＮＯ３−イオンを除去し、超音波を２時間照射し分散させた。その後濃縮を行い固形分５重量％液を調製した（Ｘ１液）。
　例３におけるＶ１液をＸ１液に変更した以外は例３と同様に行った。
　【００４９】
　【表１】
　【００５０】
　【発明の効果】
　本発明によれば、スプレーまたはスピンコートなどの簡便な方法により効率よく優れた導電膜を提供できる。本発明は金属微粒子による導電膜を提供するため、電磁波を容易にシールドでき、かつ比較的安価に製造できる。とくにＣＲＴのパネルフェイス面などの大面積の基体に充分適用でき、量産も可能であるため工業的価値は非常に高い。