(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基板上に設けられ、溶着したガラスフリットを含むガラス層に接して、前記第１の基板と対向する第２の基板を配置し、
前記ガラス層にレーザ光を走査して照射し、前記第２の基板と前記ガラス層を溶着させる工程を有し、
前記レーザ光のビームスポット形状は、長軸と、当該長軸と直交する短軸を有し、
前記ガラス層は、それぞれ対向する２辺が平行な４辺を有する閉曲線を成して設けられ、
前記レーザ光が、前記閉曲線の１辺の両端のそれぞれと接続する２つの角部の間の直線区間において、前記短軸が９０度回転するように走査し、且つ、前記閉曲線の対向しない２辺に接続する角部において、前記短軸が回転しないように走査することを特徴とする封止体の作製方法。
【請求項２】
第１の基板上に設けられ、溶着したガラスフリットを含むガラス層に接して、前記第１の基板と対向する第２の基板を配置し、
前記ガラス層にレーザ光を走査して照射し、前記第２の基板と前記ガラス層を溶着させる工程を有し、
前記レーザ光のビームスポット形状は、長軸と、当該長軸と直交する短軸を有し、
前記ガラス層は、それぞれ対向する２辺が平行な４辺を有する閉曲線を成して設けられ、
前記レーザ光が、前記閉曲線の１辺の両端のそれぞれと接続する２つの角部の間の直線区間において、前記長軸の中心の軌跡が曲線を描くように走査すると同時に前記短軸が９０度回転するように走査し、且つ、前記閉曲線の対向しない２辺に接続する角部において、前記短軸が回転しないように走査することを特徴とする封止体の作製方法。
【請求項３】
請求項１または請求項２において、
前記レーザ光が、前記閉曲線の１辺の両端のそれぞれと接続する２つの角部の間の直線区間において、前記短軸と、前記閉曲線の接線との成す角が０度以上６０度以下になるように走査することを特徴とする封止体の作製方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、２枚の基板を用いた封止体と、その作製方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
２枚の基板を低融点ガラスからなるガラス層で貼り合わせ、高い密閉性を有する封止体
を形成する技術が知られている。特許文献１に記載された技術は、低融点ガラスからなる
ガラスフリット（文献では「フリット材」と表記）とバインダとを含むペーストをガラス
基板の縁に沿って塗布し、当該ペーストを焼成してバインダを除去し、またガラスフリッ
トを溶融してガラス層（文献では「フリットガラス」と表記）とし、当該基板と対向基板
を重ね合わせてガラス層にレーザ光を照射して、基板とガラス層と対向基板を溶着させ、
高い気密性を有する封止体を形成するものである。
【０００３】
このようなガラス層は、高いガスバリア性を有しているため、封止された内部を外部の
雰囲気と隔離することができる。このようなガラス層を用いた封止方法は、例えば有機Ｅ
Ｌ（Ｅｌｅｃｔｒｏ  Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）素子のように、素子が大気（水分や酸
素を含む）に曝されると急速にその性能が低下するような素子が適用されたデバイスに応
用される。
【０００４】
有機ＥＬ素子が適用されたデバイスとしては、例えば有機ＥＬ素子を光源として用いた
照明装置や、薄膜トランジスタと有機ＥＬ素子を組み合わせた画像表示装置などが挙げら
れる。有機ＥＬ素子は膜状に形成可能で、大面積の素子を容易に形成できるため、面光源
を有する照明装置を実現できる。また有機ＥＬ素子が適用された画像表示装置は、液晶表
示装置等で必要であったバックライトが不要なため、薄型、軽量、高コントラストで且つ
低消費電力な表示装置を実現できる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１１−６５８９５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ここで、従来では、ガラス層を加熱溶融するために照射するレーザ光として、そのビー
ムスポットの形状が略円形であり、且つ略円対称の強度分布を有するスポット形状のレー
ザ光（以降、円状レーザともいう）が用いられてきた。
【０００７】
しかしながら、従来のレーザ光を用いた封止体の作製方法では、固化した後のガラス層
中の内部応力によって、クラックが生じ、封止が破られてしまう問題があった。
【０００８】
本発明は、このような技術的背景のもとでなされたものである。したがって、本発明の
一態様は、クラックの発生が抑制された封止体の作製方法を提供することを課題の一とす
る。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
そこで本発明は、まず円状レーザを用いた場合の、ガラス層中の内部応力の発生メカニ
ズムに着眼した。
【００１０】
図１７（Ａ）は、円状レーザのビームスポットの形状と、その強度分布を示す概略図で
ある。円状レーザ１０は略円対称の強度分布を示し、例えば紙面横方向の直径に沿った区
間Ｘ１−Ｘ２における強度分布と紙面縦方向の直径に沿った区間Ｙ１−Ｙ２における強度
分布が略一致する。図１７（Ａ）にはその外周に近いほどその強度が小さい強度分布を示
しているが、理想的なトップフラット形状とすることもできる。
【００１１】
また図１７（Ｂ）は、ガラス層１１に沿って円状レーザ１０を走査する様子を示す概略
図である。円状レーザ１０のビームスポットの形状は略円形であるため、図に示すように
、ガラス層１１の中央部と外側部とでは照射される期間に差が生じ、理想的なトップフラ
ット形状の強度分布を有する場合であっても、そのレーザ照射中におけるガラス層１１の
溶融状態に差が生じてしまう。その結果、冷却され、固化したガラス層の中央部と外側部
とでは、異なる内部歪みを有するため、固化したガラス層には大きな内部応力が発生する
。
【００１２】
また、ガラス層１１が冷却され、固化する際、図中の破線矢印に示すように中央部では
レーザ光の走査する向きに固化が進むが、外側部では、外側部から中央部に向かう向きに
固化が進む。したがって、ガラス層１１の中央部に近いほど大きな内部応力が残存してし
まう。
【００１３】
このように、円状レーザを用いた加熱方法では、ガラス層中に大きな内部応力が生じて
しまう。このような大きな内部応力によってガラス層にクラックが生じ、封止が破られて
しまう。
【００１４】
したがって本発明は、用いるレーザ光のビームスポット形状とその走査方法に着目し、
課題の解決に至った。ガラス層の中央部と外側部とで照射される期間に差が生じず、且つ
溶融後のガラス層の固化が進む向きが略平行になるようにレーザ光を走査すればよい。よ
り具体的には、ビームスポットのガラス層と重畳する領域において、走査方向の幅が略一
定となるような、ビームスポット形状を有するレーザ光を用いて走査すればよい。
【００１５】
代表的には、用いるレーザ光として、矩形（正方形を含む長方形）、または楕円型のビ
ームスポット形状を有するレーザ光を用いることができる。矩形形状のビームスポットの
、対向する２辺が、ガラス層のパターンの両端と、常に交差するように走査すればよい。
【００１６】
すなわち、本発明の一態様の封止体の作製方法は、第１の基板上に設けられ、溶着した
ガラスフリットを含むガラス層に接して、第１の基板と対向する第２の基板を配置し、ガ
ラス層にレーザ光を走査して照射し、第２の基板とガラス層を溶着させる工程を有する。
さらにガラス層と重畳する前記レーザ光のビームスポットの走査方向の幅が、略一定であ
ることを特徴とする。
【００１７】
ガラス層に沿ってこのようにレーザを走査させることにより、ガラス層の中央部と外側
部でレーザ光が照射される期間に差が生じることなく、均一に加熱溶融することができる
。
【００１８】
また、レーザ光の照射により溶融したガラス層が冷却、固化する際に、一方向に均一に
固化が進むため、中央部に応力が集中することがなく、クラックの発生起因となるガラス
層中の残留応力を低減することができる。
【００１９】
また、上記封止体の作製方法において、レーザ光としてビームスポット形状が長軸と、
当該長軸と直交する短軸を有するレーザ光を用いることが好ましい。
【００２０】
特に、上記レーザ光として、長軸と、長軸と直交する短軸を有する線状のビームスポッ
ト形状を有するレーザ光（以下線状レーザともいう）を用いることが好ましい。例えば、
上記レーザ光として円状レーザを用いた場合、ガラス層の中央部と外側部の間で照射期間
に差が生じないようにする場合は、ガラス層の形成幅よりもそのスポット径を十分に大き
くする必要がある。その際、ガラス層と重畳せず、ガラス層の加熱に関与しない領域の面
積が極めて大きいため、その分無駄なエネルギーを消費してしまう。またビームスポット
の面積が大きくなると、同じエネルギー密度を得るためにはその分高い出力が必要となる
。ここで、上記線状レーザを用いることで、ガラス層の加熱に関与しない領域の面積を低
減できるため、効率的にガラス層を加熱することができる。またそのビームスポットの総
面積を小さくできるため、円状レーザを用いる場合よりも低い出力で効率的にガラス層を
加熱することが可能となる。
【００２１】
また、本発明の他の一態様の封止体の作製方法は、上記ガラス層は、閉曲線を成して設
けられ、レーザ光が、短軸と、閉曲線の接線との成す角が０度以上６０度以下になるよう
に走査することを特徴とする。
【００２２】
このように線状レーザを、閉曲線を成して設けられたガラス層に沿って走査して封止体
を作製することにより、照射開始領域においてレーザ光が２度照射される領域（オーバー
ラップ領域）の面積を極めて小さいものとすることができるため、クラックの発生が抑制
され、信頼性の高い封止体を作製することができる。
【００２３】
さらに、線状レーザの走査方向に対し、その短軸を傾けて走査する場合、これらの成す
角を０度以上６０度以下とすることが好ましい。ここで、ある一定幅の領域を照射する際
に、短軸と走査方向との成す角をθとすると、ビームスポットの長軸方向の必要な長さは
１／ｃｏｓ（θ）に比例する。したがって、この角度が６０度を超えると、線状レーザの
長軸方向の必要な長さが急激に長くなり、その結果必要なビームスポットの面積が急激に
増大してしまう。この角度を６０度以下とすることにより、ビームスポットの面積を小さ
く抑えることができる。
【００２４】
また、本発明の他の一態様の封止体の作製方法は、上記ガラス層は、それぞれ対向する
２辺が平行な４辺を有する閉曲線を成して設けられる。また、レーザ光が、短軸と、ガラ
ス層の各々の辺との成す角が０度以上６０度以下であり、且つ、閉曲線の対向しない２辺
に接続する角部において、短軸が９０度回転するように走査することを特徴とする。
【００２５】
このような方法を適用することにより、閉曲線を成して形成されたガラス層に沿って、
一度の走査でレーザ照射工程を終えることができるため、工程が簡略化できる。
【００２６】
また、同一形状の角部を有するガラス層で封止された封止体を作製することができる。
角部を同一形状とすることにより、それぞれの角部で内部歪みに起因する残留応力に差が
出ないため、信頼性の高い封止体とすることができる。また、角部の外輪郭及び内輪郭を
いずれも円弧状とすることができる。このように曲率を有する角部とすることにより、ガ
ラス層中の内部応力を緩和し、クラックの発生をより低減することができる。またこの場
合は曲率半径を大きくすることが好ましい。
【００２７】
また、本発明の一態様の封止体の作製方法は、上記ガラス層は、それぞれ対向する２辺
が平行な４辺を有する閉曲線を成して設けられる。また、レーザ光が、短軸と、ガラス層
の各々の辺との成す角が０度以上６０度以下であり、且つ、閉曲線の１辺の両端のそれぞ
れと接続する２つの角部の間の区間において、短軸が９０度回転するように走査すること
を特徴とする。
【００２８】
このような方法を適用すると、同一形状の角部を有しつつ、且つ角部では直線的に走査
することにより内側と外側とでレーザ光の照射期間に差が生じず、均一に照射することが
できるため、クラックが低減された封止体を作製することができる。
【００２９】
また、本発明の他の一態様の封止体の作製方法は、上記ガラス層は、それぞれ対向する
２辺が平行な４辺を有する閉曲線を成して設けられる。さらにレーザ光が、短軸と、ガラ
ス層の各々の辺との成す角が４５度となるように走査することを特徴とする。
【００３０】
このように、線状レーザ走査方向に対しその短軸を４５度傾けて走査することにより、
基板のコーナー部などで走査方向が９０度曲がる場合においても、線状レーザを回転させ
ることなく、ガラス層に沿って線状レーザを走査することができる。
【００３１】
また、特にガラス層の対向しない２辺を成す角が直角となるように設けられている場合
には、短軸方向と走査方向との成す角を４５度とすることにより、ガラス層の４辺で常に
短軸方向と走査方向との成す角を４５度とすることができる。したがって、対向しない２
辺の間でレーザ光の照射条件を共通のものとしても、ガラス層の溶融状態を揃えることが
できると共に、ガラス層の溶着状態を均一にできるため信頼性の高い封止体を形成するこ
とができる。
【００３２】
なお、本明細書等において、幅が略一定とは、完全に一定であるのみでなく、最も長い
幅に対する最も短い幅の比が、９０％以上である範囲も含むものとする。
【００３３】
なお、本明細書等において、閉曲線とは、両端が一致している連続曲線のことを言う。
また、ここでいう曲線には、広義に直線や線分の概念を含むものとする。したがって、例
えば四辺形の外周のように、複数の線分で構成され、且つ各々の線分の両端がそれぞれ他
の線分の一端と一致している場合も、閉曲線の一態様である。また、円や楕円、曲率の異
なる複数の曲線部が連続して構成された形状や、直線部分と曲線部分とが混在して構成さ
れた形状なども閉曲線の一態様である。
【００３４】
なお、本明細書等において、方向と記載する場合、ある一定の方向のみでなく、当該一
定の方向から１８０度回転した方向、つまり、当該一定の方向の反対の方向も含むものと
する。また、ある一定の方向を指す場合には、向きと表記する場合がある。また本明細書
などにおいて、平行と記載する場合、厳密に平行な方向のみでなく、平行方向から±１０
度以内の状態を含むものとし、直交と記載する場合、厳密に直交する方向のみでなく、直
交方向から±１０度以内の状態を含むものとし、垂直と記載する場合、厳密に垂直な方向
のみでなく、垂直方向から±１０度以内の状態を含むものとする。
【００３５】
また本明細書等において、角度とは厳密な角度のみでなく、±１０度以内でずれた角度
を含むものとする。例えば、直角と記載する場合、厳密に直角な角度のみでなく、厳密に
直角な角度から±１０度以内の状態を含むものとする。
【００３６】
なお、本明細書において、ＥＬ層とは発光素子の一対の電極間に設けられ、少なくとも
発光性の有機化合物を含む層（発光層とも呼ぶ）、または発光層を含む積層体を示すもの
とする。
【００３７】
なお、本明細書中において、発光装置とは画像表示デバイス、もしくは光源（照明装置
含む）を指す。また、発光装置にコネクター、例えばＦＰＣ（Ｆｌｅｘｉｂｌｅ  ｐｒｉ
ｎｔｅｄ  ｃｉｒｃｕｉｔ）もしくはＴＡＢ（Ｔａｐｅ  Ａｕｔｏｍａｔｅｄ  Ｂｏｎｄ
ｉｎｇ）テープもしくはＴＣＰ（Ｔａｐｅ  Ｃａｒｒｉｅｒ  Ｐａｃｋａｇｅ）が取り付
けられたモジュール、ＴＡＢテープやＴＣＰの先にプリント配線板が設けられたモジュー
ル、または発光素子が形成された基板にＣＯＧ（Ｃｈｉｐ  Ｏｎ  Ｇｌａｓｓ）方式によ
りＩＣ（集積回路）が直接実装されたモジュールも全て発光装置に含むものとする。
【発明の効果】
【００３８】
本発明によれば、クラックの発生が抑制された封止体の作製方法を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】実施の形態に係る、線状レーザを説明する図。
【図２】実施の形態に係る、線状レーザを説明する図。
【図３】実施の形態に係る、線状レーザの走査方法を説明する図。
【図４】実施の形態に係る、封止体の作製方法を説明する図。
【図５】実施の形態に係る、封止体の作製方法を説明する図。
【図６】実施の形態に係る、封止体の作製方法を説明する図。
【図７】実施の形態に係る、封止体の作製方法を説明する図。
【図８】実施の形態に係る、線状レーザを説明する図。
【図９】実施の形態に係る、線状レーザを説明する図。
【図１０】実施の形態に係る、封止体を説明する図。
【図１１】実施の形態に係る、表示装置を説明する図。
【図１２】実施の形態に係る、表示装置を説明する図。
【図１３】実施の形態に係る、照明装置を説明する図。
【図１４】実施の形態に係る、発光素子を説明する図。
【図１５】実施の形態に係る、電子機器を説明する図。
【図１６】実施の形態に係る、電子機器を説明する図。
【図１７】従来例に係る、円状レーザを説明する図。
【図１８】実施の形態に係る、レーザを説明する図。
【発明を実施するための形態】
【００４０】
実施の形態について、図面を用いて詳細に説明する。但し、本発明は以下の説明に限定
されず、本発明の趣旨及びその範囲から逸脱することなくその形態及び詳細を様々に変更
し得ることは当業者であれば容易に理解される。従って、本発明は以下に示す実施の形態
の記載内容に限定して解釈されるものではない。なお、以下に説明する発明の構成におい
て、同一部分又は同様な機能を有する部分には同一の符号を異なる図面間で共通して用い
、その繰り返しの説明は省略する。
【００４１】
なお、本明細書で説明する各図において、各構成の大きさ、層の厚さ、または領域は、
明瞭化のために誇張されている場合がある。よって、必ずしもそのスケールに限定されな
い。
【００４２】
（実施の形態１）
本実施の形態では、本発明の一態様の封止体の作製方法について、図１乃至図９を用い
て説明する。
【００４３】
本発明の一態様の封止体の作製方法において、ガラス層の中央部と外側部とで照射され
る期間に差が生じず、且つ溶融後のガラス層の固化が進む向きが略平行になるようにレー
ザ光を走査する。より具体的には、ビームスポットのガラス層と重畳する領域において、
走査方向と平行な方向の幅が略一定となるような、ビームスポット形状を有するレーザ光
を用いて走査する。
【００４４】
したがって、ビームスポットの形状としては、ビームスポットとガラス層が重畳する領
域において、走査方向と交差する対向する２辺が略平行であるような形状であればよく、
例えば正方形、長方形、平行四辺形などの四角形とすることができる。また、円状レーザ
を用いることもできるが、その場合ガラス層の幅に対して円状レーザのスポット径を十分
に大きくする必要がある。
【００４５】
ガラス層に沿ってこのようにレーザ光を走査させることにより、ガラス層の中央部と外
側部でレーザ光が照射される期間に差が生じることなく、均一に加熱溶融することができ
る。
【００４６】
〈矩形形状のビームスポットを有するレーザ光を用いた加熱方法〉
図１８（Ａ）は、本発明の一態様の封止体の作製方法に用いることのできる、矩形形状
のビームスポットを有するレーザ１５０のビームスポット形状と、その強度分布を示す概
略図である。
【００４７】
レーザ１５０は、各々の辺に水平な方向（Ｘ１―Ｘ２及びＹ１−Ｙ２）のうち、走査方
向に垂直な方向の強度分布ができるだけ均一であることが好ましい。例えば走査方向に垂
直な方向の強度分布がトップフラット形状とすることが好ましい。一方、走査方向に平行
な方向の強度分布も均一であることが好ましいが、例えばガウス分布のように、該方向に
沿って強度が変化するような強度分布を有していてもよい。
【００４８】
図１８（Ｂ）は、ガラス層１１０に沿った走査方向１０３に沿ってレーザ光１５０を走
査する様子を示す概略図である。レーザ光１５０は、そのビームスポット形状の一対の対
向する辺に平行な方向に走査することが好ましい。このように走査することにより、図中
の矢印で示すように、ガラス層の中央部と外側部とで照射される期間が一定となるため、
均一に加熱することができる。
【００４９】
また、曲線状に設けられたガラス層１１０に対して走査する場合は、図１８（Ｃ）に示
すように、レーザ光１５０をガラス層１１０の成す曲率に沿って回転させながら走査する
ことにより、曲線部であっても均一に加熱することができる。
【００５０】
また、レーザ光１５０の照射により溶融したガラス層１１０が冷却、固化する際に、一
方向に均一に固化が進むため、中央部に応力が集中することがなく、クラックの発生起因
となるガラス層１１０中の残留応力を低減することができる。
【００５１】
ここで特に、レーザ光として、そのビームスポット形状が長軸と、長軸と直交する短軸
を有する形状であるレーザ光（線状レーザ）を用いると、円状レーザに比べ、そのスポッ
トの面積を極めて小さくできる。そのためガラス層の加熱に関与しない無駄な領域の面積
を低減することができるため、効率的にガラス層を加熱することができる。また、スポッ
ト面積を低減することにより、エネルギー効率を向上させることが可能で、円状レーザを
用いる場合よりも低い出力で効率的にガラス層を加熱することが可能となるため好ましい
。
【００５２】
以下では、線状レーザを用いた封止体の作製方法について詳細に説明する。
【００５３】
〈線状レーザのスポット形状について〉
まず、本発明の一態様の封止体の作製方法に用いることのできる線状レーザについて説
明する。
【００５４】
図１は、線状レーザ１００のビームスポット形状と、その強度分布を示す概略図である
。
【００５５】
線状レーザ１００は、被照射面に照射したときのビームスポット形状が、直交する長軸
１０１と短軸１０２とを有する形状を有するレーザである。図１には、長方形のビームス
ポット形状を有する線状レーザ１００を示している。
【００５６】
長軸１０１と短軸１０２の長さの比としては、少なくとも短軸１０２よりも長軸１０１
の長さが長ければよい。ここで短軸１０２の長さに対して長軸１０１の長さを１．３倍以
上とすると、長軸１０１の長さと同じ直径を有する円状レーザよりもビームスポットの面
積を小さくできる。このようなビームスポット形状を有する線状レーザ１００を用いるこ
とにより、円状レーザを用いた場合に比べてエネルギー効率を高めることができ、低い出
力で効率的にガラス層を加熱することができる。
【００５７】
線状レーザ１００は、その長軸１０１に沿った方向（Ｘ１−Ｘ２）の強度分布ができる
だけ均一であることが好ましい。例えば、長軸に沿った方向の強度分布がトップフラット
形状とすることが好ましい。また、その短軸１０２に沿った方向（Ｙ１−Ｙ２）の強度分
布は均一であると好ましいが、後に説明するように、線状レーザ１００を走査する際にそ
の走査方向と短軸１０２は直交しないため、例えばガウス分布のように、該方向に沿って
強度が変化するような強度分布を有していてもよい。
【００５８】
また、線状レーザ１００のビームスポット形状は長方形以外にも様々な形状をとり得る
。例えば、図１（Ｂ）に示すように楕円形状であってもよいし、図１（Ｃ）に示すように
、角部の丸い長方形形状としてもよい。
【００５９】
また、線状レーザ１００は、複数の円状レーザを重ね合わせて形成されていてもよい。
図１（Ｄ）では複数の円状レーザを長軸１０１方向に一部が重畳するようにして重ね合わ
せた場合を示す。また、図１（Ｅ）のように長軸１０１と短軸１０２方向のそれぞれに、
一部が重畳するように複数の円状レーザを重ね合わせてもよい。また、図１（Ｆ）に示す
ように、楕円形状を有するレーザを長軸１０１方向に複数重ね合わせて形成してもよい。
【００６０】
上述のような形状を有する線状レーザ１００を光学的に形成する方法については、後に
説明する。
【００６１】
以上が線状レーザ１００のビームスポット形状についての説明である。
【００６２】
〈線状レーザ１００の走査について〉
続いて、線状レーザ１００を用いてガラス層を加熱する際の、線状レーザ１００の走査
方法について説明する。
【００６３】
線状レーザ１００は、第１の基板と第２の基板に接して挟持されたガラス層１１０に対
して、第１の基板または第２の基板を介して照射する。この際、線状レーザ１００をガラ
ス層１１０が設けられた領域に沿って走査する。線状レーザ１００の照射によってガラス
層１１０は加熱、溶融し、これが冷却、固化することにより第１の基板と第２の基板を接
着することができる。
【００６４】
ここで、線状レーザ１００を走査する際の走査方向と、線状レーザのビームスポットに
おける長軸または短軸と、が成す角度について、図２を用いて説明する。明瞭化のため図
２には、線状レーザ１００の長軸１０１に平行な長軸方向１０１ａと、短軸１０２に平行
な短軸方向１０２ａ、及び線状レーザ１００の走査方向１０３の関係を示している。
【００６５】
線状レーザ１００の走査は、走査方向１０３と、短軸方向１０２ａとが直交しないよう
に、言い換えると、走査方向１０３に対する短軸方向１０２ａの余弦成分が０とならない
ように、保持しながら走査する。
【００６６】
ここで、走査方向と短軸１０２との角度（図２中のθ）を０度以上６０度以下とするこ
とが好ましい。ここで、ある一定幅の領域を照射する際に、短軸１０２と走査方向１０３
との成す角をθとすると、ビームスポットの長軸１０１に必要な長さは１／ｃｏｓ（θ）
に比例する。したがって、この角度が６０度を超えると、線状レーザ１００の長軸１０１
に必要な長さが急激に長くなり、その結果必要なビームスポットの面積が急激に増大して
しまう。したがってこの角度を６０度以下とすることにより、ビームスポットの面積を小
さく抑えることができる。またこれらの角度を６０度以下とすると、円状レーザを用いた
場合のビームスポットの有効直径に対して、長軸１０１の長さを２倍以下に抑えることが
できるため、線状レーザ１００のビームスポットの面積の増大を抑制でき、効率的に照射
を行うことができる。
【００６７】
続いて、図３（Ａ）に、走査方向１０３と短軸１０２との角度が０度となるように、線
状レーザ１００をガラス層１１０に沿って走査する場合の概略図を示す。
【００６８】
このように線状レーザ１００を走査することにより、ガラス層１１０の中央部と外側部
とでレーザ光が照射される期間に差が生じず、均一に加熱溶融することができる。
【００６９】
また、図３（Ａ）中の破線矢印に示すように、線状レーザ１００により溶融したガラス
層１１０が冷却、固化する際、走査方向１０３に沿って一方向に固化が進むため、ガラス
層１１０の中央部に応力が集中することを抑制することができる。その結果、ガラス層１
１０中の内部歪みが均一化され、クラックの発生起因となるガラス層１１０中の残留応力
を低減することができる。
【００７０】
図３（Ｂ）には、走査方向１０３と短軸１０２との角度が０度よりも大きくなるように
、線状レーザ１００のビームスポットを傾けてガラス層１１０に沿って走査する場合の概
略図を示す。
【００７１】
このように、線状レーザ１００を走査方向１０３に対して傾けて走査した場合であって
も、ガラス層１１０の中央部と外側部とでレーザ光が照射される期間に差が生じないため
、均一に加熱溶融することができる。
【００７２】
また、図３（Ｂ）中の破線矢印に示すように、線状レーザ１００により溶融したガラス
層１１０が冷却、固化する際、線状レーザ１００の短軸１０２方向に略平行な一方向に固
化が進む。したがって、ガラス層１１０内の応力集中を抑制し、クラックの発生起因とな
る残留応力を低減することができる。
【００７３】
ここで、ビームスポット形状が楕円形状の線状レーザ１００を用いる場合など、ガラス
層１１０の中央部と外側部ではレーザ光が照射される期間に差が生じ、溶融状態に差が生
じる場合がある。このような場合は、走査速度、出力などを調整し、中央部と外側部とで
溶融状態の差を抑制することが好ましい。さらに、ガラス層１１０の外側部の中央部に対
する照射期間の比が、９０％以上、好ましくは９５％以上になるような、楕円形のビーム
スポット形状を有する線状レーザ１００を用いることが好ましい。
【００７４】
〈封止体の作製方法〉
以下では、上述した線状レーザを用いた、対向する２枚の基板とガラス層によって封止
された封止領域を有する封止体の作製方法例について説明する。
【００７５】
封止体を作製する際、ガラス層は、第１の基板上に閉曲線を成して設けられる。また線
状レーザは、当該閉曲線に沿って走査する。具体的には、線状レーザは、ビームスポット
の短軸方向と閉曲線の接線との成す角が０度以上６０度以下に保持されるように走査する
。以下では、具体的な走査方法も併せて説明する。
【００７６】
［作製方法例１］
本作製方法例では、線状レーザ１００の短軸方向を走査方向１０３に対して傾けた状態
で、ガラス層１１０に沿って走査し、封止体を作製する方法について、図４を用いて説明
する。図４は、本作製方法例に係る上面概略図である。
【００７７】
まず、第１の基板１１１上にガラス層１１０を形成する。ここで、ガラス層１１０は、
それぞれ対向する２辺が平行な４辺を有する閉曲線を成して設ける。言い換えると、平行
に設けられた１対の対向する直線部分を２つ有し、且つ対向しない２つの直線部分が角部
において連続するようにして設ける。
【００７８】
ここで、対向しない２つの直線部分が接続される角部の形状は、直角、鋭角、または鈍
角をなしていてもよい。また角部の形状が曲率を有していてもよい。また複数の鈍角で構
成された角部の形状であってもよい。
【００７９】
また、閉曲線を成すガラス層１１０の内輪郭と外輪郭の形状が異なっていてもよい。例
えば、内輪郭を四角形とし、外輪郭を多角形としてもよい。
【００８０】
上述したガラス層１１０の角部の形状、並びに内輪郭及び外輪郭の形状は、後に説明す
る線状レーザ１００の走査方法に応じて、当該線状レーザ１００の照射領域と重畳するよ
うにその形状を適宜変更すればよい。
【００８１】
本作製方法例では、図４（Ａ）に示すように、４つの角部（角部１１５ａ乃至１１５ｄ
）を有し、内輪郭が四角形で、且つ外輪郭は対向する一対の角部（角部１１５ｂ、１１５
ｄ）が２つの鈍角で構成された六角形をなすように、ガラス層１１０を形成する。
【００８２】
ガラス層１１０の形成方法としては、まず粉末ガラスからなるガラスフリットに、例え
ば有機溶媒で希釈した樹脂からなるバインダを混合したフリットペーストを、第１の基板
１１１上にスクリーン印刷法やディスペンス法などの公知の方法を用いて塗布する。続い
てフリットペーストの仮焼成を行い、フリットペースト内の有機溶媒及びバインダを除去
し、ガラス層１１０を形成することができる。このとき、ガラス層１１０は、ガラスフリ
ットが完全に溶融した後に溶着して一体となっていてもよいし、ガラスフリット同士が部
分的に溶着している状態であってもよい。ここで、仮焼成後のガラス層１１０には、後に
照射されるレーザ光を吸収する吸収剤が分散されていてもよい。また、仮焼成の条件によ
っては、バインダが完全に除去されずガラス層１１０中に残存している場合もある。
【００８３】
ガラスフリットとして用いるガラス材料としては、例えば酸化マグネシウム、酸化カル
シウム、酸化バリウム、酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸化カリウム、酸化ホウ素、酸
化バナジウム、酸化亜鉛、酸化テルル、酸化アルミニウム、二酸化シリコン、酸化鉛、酸
化スズ、酸化リン、酸化ルテニウム、酸化ロジウム、酸化鉄、酸化銅、酸化チタン、酸化
タングステン、酸化ビスマス、酸化アンチモン、ホウ酸鉛ガラス、リン酸スズガラス、バ
ナジン酸塩ガラス及びホウケイ酸ガラスよりなる群から選択された一以上の化合物を含む
ことが好ましい。
【００８４】
続いて、第１の基板１１１と対向し、且つガラス層１１０と接するように、第２の基板
１１２を配置する（図４（Ａ））。
【００８５】
その後、第１の基板１１１または第２の基板１１２を介してガラス層１１０に対して線
状レーザ１００を走査しながら照射し、ガラス層１１０を溶融、固化し、ガラス層１１０
と第２の基板１１２とを溶着する。このとき、ガラス層１１０と第２の基板１１２とが確
実に接するように、圧力をかけながら処理することが好ましい。レーザ光の照射領域外に
おいてクランプなどを用いて第１の基板１１１及び第２の基板１１２を挟んだ状態で処理
してもよいし、第１の基板及び第２の基板の一方または両方から面状に圧力を印加しなが
ら処理してもよい。
【００８６】
このとき、レーザ光が照射された後に封止領域内が不活性ガス雰囲気、または減圧雰囲
気となるように、処理を行うことが好ましい。例えば、レーザ光を照射する前にあらかじ
めガラス層１１０が設けられる領域よりも外側又は内側の領域に紫外線硬化樹脂や熱硬化
樹脂などのシール材を形成し、不活性ガス雰囲気下、又は減圧雰囲気下で２つの基板を仮
接着した後、大気雰囲気下、又は不活性ガス雰囲気下でレーザ光を照射する。また、当該
シール材を、閉曲線を成すように設けることにより、封止領域内部が不活性ガス雰囲気下
又は減圧雰囲気に保たれ、大気雰囲気下でレーザ光の照射を行うことができるため、装置
構成を簡略化できる。また、あらかじめ封止領域内を減圧状態とすることで、レーザ光の
照射時に２枚の基板を押しつけるためのクランプなどの機構を用いずとも、大気圧下でガ
ラス層１１０と第２の基板１１２とが確実に接した状態で処理することができる。
【００８７】
続いて、ガラス層１１０に沿って線状レーザ１００を走査する方法について説明する。
【００８８】
まず、ガラス層１１０の１つの直線部分（一辺ともいう）に沿って線状レーザ１００を
走査して、ガラス層１１０にレーザ光を照射する。このとき、線状レーザ１００のスポッ
ト形状における短軸方向と走査方向とを傾けた状態で照射を行う（図４（Ｂ））。ここで
は明瞭化のため、図４中にはレーザ光が照射されたガラス層１１０のハッチングを異なら
せて明示している。
【００８９】
ここで、線状レーザ１００のビームスポットの短軸方向と、走査方向１０３との成す角
を４５度とすることが好ましい。特にガラス層１１０の対向しない２辺を成す角が直角と
なるように設けられている場合には、短軸方向と走査方向１０３との成す角を４５度とす
ることにより、ガラス層１１０の４辺で常に短軸方向と走査方向１０３との成す角を４５
度とすることができる。したがって、対向しない２辺の間でレーザ光の照射条件を共通の
ものとしても、ガラス層の溶融状態を揃えることができると共に、ガラス層の溶着状態を
均一にできるため信頼性の高い封止体を形成することができる。
【００９０】
本作製方法例では、ガラス層１１０のビームスポット形状における短軸方向と走査方向
１０３との成す角を４５度とする場合について説明する。
【００９１】
続いて、線状レーザ１００がガラス層１１０の角部１１５ａに到達すると、続けてガラ
ス層１１０に沿って角部１１５ｂに向かって走査する（図４（Ｃ））。
【００９２】
線状レーザ１００がガラス層１１０の角部１１５ｂに到達すると、続けてガラス層１１
０に沿って角部１１５ｃに向かって走査する（図４（Ｄ））。
【００９３】
ここで、角部１１５ｂでは、線状レーザ１００のビームスポットの短軸方向を走査方向
１０３に対して傾けて走査することに起因し、一部の領域ではレーザ光が２度照射される
。したがって角部１１５ｂでは線状レーザ１００の照射条件を異ならせることが好ましい
。例えば、角部１１５ｂでは走査速度を速める、または照射強度を小さくするなどが挙げ
られる。
【００９４】
その後、同様に角部１１５ｃから角部１１５ｄに向かってガラス層１１０に沿って線状
レーザ１００を走査する（図４（Ｅ））。
【００９５】
角部１１５ｄに到達した後、角部１１５ｄと角部１１５ａとの間の照射開始領域にまで
線状レーザ１００を走査する（図４（Ｆ））。このとき、角部１１５ｄでは、角部１１５
ｂと同様に線状レーザ１００の照射条件を異ならせることが好ましい。
【００９６】
このようにして、第１の基板１１１と第２の基板１１２とがガラス層１１０によって封
止された封止領域を有する封止体を作製することができる。
【００９７】
ここで、本発明の一態様では、線状レーザ１００を用いているため、円状レーザを用い
た場合と比較して照射開始領域においてレーザ光が２度照射される領域（オーバーラップ
領域ともいう。）の面積を極めて小さいものとすることができる。オーバーラップ領域で
はガラス層１１０の溶融状態が他の領域とは異なる場合があり、ここでは溶融状態の違い
に起因する応力集中によってクラックが発生してしまう恐れがある。線状レーザ１００を
用いることにより、オーバーラップ領域の面積を極めて小さいものとすることができるた
め、クラックの発生が抑制され、信頼性の高い封止体を作製することができる。
【００９８】
［作製方法例２］
以降では、上記作製方法例とは異なる方法を用いた封止体の作製方法について説明する
。本作製方法例で用いる線状レーザ１００は、ガラス層１１０に沿って走査可能であるこ
とに加え、被照射面に対して垂直な回転軸で回転可能である。
【００９９】
ここで、それぞれ対向する２辺が平行である４辺を有する閉曲線を成して設けられたガ
ラス層１１０に沿って、線状レーザ１００を走査する際、角部、または２つの対向しない
角部の間の領域で、ビームスポットが９０度回転するように走査することにより、同一形
状の角部を有する封止体を作製することができる。
【０１００】
図５は、角部において、線状レーザ１００のビームスポットが９０度回転するように走
査する方法の例を示している。
【０１０１】
図５（Ａ）に示す方法では、ガラス層１１０の直線部分（辺）においては、線状レーザ
１００のビームスポットにおける短軸方向と走査方向１０３との成す角が０度以上６０度
以内となるようにして走査する。本作製方法例では、当該角度が０度になるように走査す
る。
【０１０２】
線状レーザ１００が角部に達すると、回転軸１１７を中心に回転するように線状レーザ
１００を走査する。ここでは、線状レーザ１００の長軸方向の一端が回転軸１１７と常に
一致するようにして回転させる。
【０１０３】
その後、ガラス層１１０に沿って線状レーザ１００を走査する。このとき、線状レーザ
１００は角部においてそのビームスポットが９０度回転しているため、角部において連続
する２辺では、短軸方向と走査方向１０３との成す角が常に一定の角度（ここでは０度）
となるように走査することができる。
【０１０４】
ここで、角部におけるガラス層１１０は、線状レーザ１００の照射領域と重なるように
形状を調整する。図５（Ａ）では、ガラス層１１０の角部における内輪郭を直角とし、外
輪郭を２つの鈍角から構成するように、ガラス層１１０を設ける。
【０１０５】
ガラス層１１０の４つの角部において、上記と同様の走査を行うことにより、同一形状
の角部を有するガラス層１１０で封止された封止体を作製することができる。角部を同一
形状とすることにより、それぞれの角部で内部歪みに起因する残留応力に差が出ないため
、信頼性の高い封止体とすることができる。
【０１０６】
図５（Ｂ）では、回転軸１１７が線状レーザ１００の長軸方向の一端と一致せず、長軸
を延長した直線上の一点を回転軸１１７として、線状レーザ１００のビームスポットを回
転するように走査する場合について示す。
【０１０７】
このように走査することにより、線状レーザ１００のビームスポットが回転する際、そ
の内側と外側での走査速度の差を小さくすることができる。その結果、角部におけるガラ
ス層１１０の内部応力の差を小さくし、クラックの発生をより低減することができる。
【０１０８】
また、図５（Ｂ）に示すように、角部の外輪郭及び内輪郭をいずれも円弧状とすること
ができる。このように曲率を有する角部とすることにより、ガラス層１１０中の内部応力
を緩和し、クラックの発生をより低減することができる。またこの場合は曲率半径を大き
くすることが好ましい。
【０１０９】
［作製方法例３］
上記作製方法例２では、角部において線状レーザ１００のビームスポットが回転するよ
うに走査する方法について説明したが、本作製方法例では、ガラス層１１０の直線部分（
辺）を含む領域でビームスポットが回転するように走査する方法について説明する。
【０１１０】
図６（Ａ）には、対向しない２つの角部の間で、線状レーザ１００のビームスポットが
９０度回転するように走査する様子を示している。図６（Ａ）では、線状レーザ１００の
中心１１８の軌跡が、走査方向１０３と平行になるように走査する。
【０１１１】
このように、線状レーザ１００のビームスポットの中心１１８がガラス層１１０の中央
部と重畳するようにして走査することにより、線状レーザ１００の比較的強度の低い端部
を使用することがないため、均一にガラス層１１０を加熱することができる。
【０１１２】
また、図６（Ｂ）及び図６（Ｃ）に示すように、線状レーザ１００のビームスポットの
中心１１８の軌跡が円弧を描くように走査することもできる。
【０１１３】
例えば、レーザ光が封止領域内に掛かる面積を低減したい場合、具体的にはガラス層１
１０の近傍まで回路素子や発光素子などを形成したい場合には、図６（Ｂ）のように中心
１１８の軌跡が封止領域の外側に円弧を描くように走査することにより、封止領域内にお
いてレーザ光の軌跡を直線状にすることができる。
【０１１４】
一方、レーザ光が封止領域外に掛かる面積を低減したい場合、具体的には狭額の画像表
示装置としたい場合などでは、図６（Ｃ）に示すように中心１１８の軌跡が封止領域の内
側に円弧を描くように走査することにより、封止領域外におけるレーザ光の軌跡を直線状
にすることができる。
【０１１５】
また、図７に示す走査方法では、直線部分で線状レーザ１００のビームスポットが９０
度回転するように走査し、且つ、角部では上記作製方法例で説明したように、短軸方向と
走査方向との成す角が４５度になるようにして走査する。なお、図７には直線部分におい
て中心１１８の軌跡が走査方向と平行になるように走査したが、上述のように円弧を描く
ようにして走査してもよい。
【０１１６】
このような走査方法を用いることにより、同一形状の角部を有するガラス層１１０を形
成可能で、且つ角部では直線的に走査することにより中央部と外側部とでレーザ光の照射
期間に差が生じず、均一に照射することができるため、クラックが低減された封止体を作
製することができる。
【０１１７】
以上が線状レーザ１００の走査方法についての説明である。
【０１１８】
［線状レーザ１００の形成方法について］
以下では、光学的に線状レーザ１００を形成する方法について説明する。
【０１１９】
図８は、射出口１２１から被照射面１２３に照射される円状レーザを、複数重ね合わせ
て線状レーザ１００を形成する場合の模式図を示す。
【０１２０】
レーザ光を射出する射出口１２１としては、例えば光ファイバーなどを用い、これをレ
ーザ発振器に直接接続してレーザ光を取り出す構成を用いてもよいし、ミラーとレンズの
一方又は両方を複数組み合わせてレーザ光を取り出す構成としてもよい。
【０１２１】
ここで、上記光ファイバーの断面形状として正方形のものを用いることにより、図１８
で例示したような正方形のビームスポット形状を有するレーザ１５０を形成することがで
きる。また、当該光ファイバーの断面形状を長方形とすることによって、長軸と、長軸と
直交する短軸を有する長方形のビームスポット形状を有する線状レーザ１００を形成する
ことができる。また、ミラーやレンズによる集光を利用して、被照射面に正方形又は長方
形のビームスポットを形成することにより、レーザ１５０または線状レーザ１００を形成
することもできる。
【０１２２】
また、線状レーザ１００は、複数の円状レーザを重ね合わせて形成することもできる。
図８には、射出口１２１から被照射面１２３に照射される円状レーザを、複数重ね合わせ
て線状レーザ１００を形成する場合の模式図を示す。
【０１２３】
図８（Ａ）では、複数の射出口１２１を直線上に等間隔に複数配置し、当該射出口１２
１から出力される円状レーザ１２０を複数重ね合わせて、被照射面１２３上に線状のビー
ムスポットを有する線状レーザ１００を形成する。
【０１２４】
ここで、円状レーザ１２０の各々のビームスポットの一部が重畳するように射出口１２
１を配置することで、線状レーザ１００のビームスポットにおける長軸方向の強度分布を
均一な分布に近づけることができる。
【０１２５】
また、図８（Ｂ）に示すように、射出口１２１を縦方向及び横方向にマトリクス状に配
置して、線状レーザ１００を形成してもよい。このような構成とすることにより、線状レ
ーザ１００の短軸方向の強度分布を改善しつつ、短軸方向の幅を大きくとることができる
。
【０１２６】
また、図８（Ｃ）に示すように、射出口１２１を直線上に等間隔に複数配置した射出口
群を複数設け、それぞれの射出口群を被照射面１２３と垂直な方向に対して傾けて配置し
、複数の射出口１２１からの円状レーザ１２０が被照射面１２３上で集光するようにして
、線状レーザ１００を形成してもよい。このような構成とすることにより、線状レーザ１
００の強度分布を改善するとともに、短軸方向の幅を小さくすることができる。
【０１２７】
また、図８（Ｄ）に示すように、複数の射出口１２１と被照射面１２３との間に開口部
を有する遮光マスク１２５を設け、当該遮光マスクの開口部の形状に応じたビームスポッ
ト形状を有する線状レーザ１００を形成してもよい。このように遮光マスクによって比較
的強度の低い外周部を遮光することにより、線状レーザ１００の強度分布が改善すると共
に、線状レーザ１００のビームスポットの形状を任意の形状に調整することができる。
【０１２８】
ここで、線状レーザ１００はレンズを用いて被照射面１２３に集光させて形成する構成
としてもよい。
【０１２９】
図９（Ａ）には、シリンドリカルレンズ１２７を用いて円状レーザ１２０を集光し、楕
円形状のビームスポットを有する線状レーザ１００を形成する場合の模式図を示す。
【０１３０】
シリンドリカルレンズ１２７は、一軸方向のみに光を収束または拡散させることができ
る。図９（Ａ）に示すように、シリンドリカルレンズ１２７に円状レーザ１２０を入射す
ると、Ｙ軸方向にのみ収束されるため、シリンドリカルレンズ１２７を透過した後のビー
ムスポット形状は楕円状となる。このようにして、円状レーザ１２０を用いて線状レーザ
１００を形成することができる。
【０１３１】
また、シリンドリカルレンズ１２７に変えて、直交する２軸で異なる曲率を有するトロ
イダルレンズを用いてもよい。トロイダルレンズを用いると、長軸方向にも集光または拡
散させることができるため、ビームスポットの短軸の長さに加えて長軸の長さを制御する
ことができる。またこのほかに、非球面レンズなどを用いてビームスポットが任意の形状
になるように集光する構成としてもよい。
【０１３２】
また、図９（Ｂ）に示すように複数の円状レーザを、シリンドリカルレンズ１２７を介
して、それぞれのビームスポットの一部が重畳するように被照射面１２３に集光すること
により線状レーザ１００を形成してもよい。このような構成とすることにより、短軸方向
の幅が小さく、エネルギー密度の高い線状レーザ１００とすることができる。
【０１３３】
なお、線状レーザ１００のビームスポットを回転するように走査する場合、複数の射出
口群を被照射面に垂直な軸を中心に回転可能に設ける構成とする。または、レンズを用い
る場合には、当該レンズを回転可能に設ければよい。
【０１３４】
また、線状レーザ１００のビームスポット自体を回転させずに、被照射面を回転可能に
設ける構成としてもよい。例えば被照射面を有する基板を支持するステージとして、Ｘ方
向及びＹ方向に可動な構成に加え、ＸＹ平面に垂直な回転軸を設けたステージを用いれば
よい。
【０１３５】
本実施の形態で例示した、本発明の一態様の封止体の作製方法によれば、ガラス層中の
内部応力が緩和され、クラックの発生が抑制された封止体を作製することができる。
【０１３６】
本実施の形態は、本明細書に記載する他の実施の形態と、適宜組み合わせて実施するこ
とができる。
【０１３７】
（実施の形態２）
本実施の形態では、実施の形態１で例示した作製方法を用いて形成された封止体につい
て、図１０を用いて説明する。
【０１３８】
図１０（Ａ）は、上記作製方法例１で例示した作製方法により作製された封止体におけ
る、ガラス層１１０の１つの角部１１５近傍について、第１の基板１１１又は第２の基板
１１２を介して光学顕微鏡を用いて観察した観察像の概略図である。
【０１３９】
光学顕微鏡を用いてガラス層１１０を観察すると、図１０（Ａ）に示すように、封止領
域内外を結ぶ直線と略平行なストライプ状の縞１３１が確認される場合がある。また、こ
の縞１３１の向きは、ガラス層１１０へのレーザ光の照射の際の、線状レーザ１００のビ
ームスポットの長軸方向とほぼ一致する。
【０１４０】
このような縞１３１が確認される要因としては、例えばレーザ光の照射によりガラス層
１１０が溶融し、その後冷却、固化する際に、ガラス層１１０内に生じる密度差が挙げら
れる。その密度差に応じて、屈折率や反射率といった光学特性が異なる領域が形成され、
光学顕微鏡等で確認される。このような光学特性の異なる領域は、照射されるレーザ光の
ビームスポット形状と走査方向を反映するため、実施の形態１で例示したように線状レー
ザ１００を用いた場合には、ストライプ状の縞１３１が確認されることがある。
【０１４１】
また、縞１３１は、用いるレーザ光としてパルスレーザを用いた場合に顕著にみられる
。また、ＣＷ（Ｃｏｎｔｉｎｕｏｕｓ  ｗａｖｅ）レーザを用いた場合であっても、走査
速度などの照射条件に応じて、縞１３１が確認することができる。
【０１４２】
縞１３１は、上述のように屈折率や反射率といった光学特性の違いから生じるため、一
般的な光学顕微鏡のほか、位相差顕微鏡、偏光顕微鏡、または微分干渉顕微鏡などを用い
ても確認することができる。
【０１４３】
図１０（Ｂ）には、作製方法例２の図５（Ｂ）で例示した作製方法により作製された封
止体における、光学顕微鏡観察像の概略図を示す。
【０１４４】
角部１１５において、線状レーザ１００のビームスポットが９０度回転するように走査
して、ガラス層１１０にレーザ光を照射するため、角部において封止領域内から封止領域
外に渡って放射状の縞１３１が確認される。また、直線部分では、封止領域内外を結ぶ直
線と略平行なストライプ状の縞１３１が確認できる。
【０１４５】
図１０（Ａ）及び（Ｂ）で示したように、封止領域内外を結ぶ直線と略平行なストライ
プ状の縞１３１が確認されるガラス層１１０は、当該直線と平行な断面では常に密度が均
一に形成されているといえる。したがって、このような縞１３１が確認されるガラス層１
１０は、封止領域内外に渡って直線的に密度が均一であるため、内部歪みが極めて小さく
内部応力が低減されており、このようなガラス層１１０を適用することにより、クラック
の発生が極めて抑制された封止体を実現することができる。
【０１４６】
ここで、例えば円状レーザを用いた場合には、図１０（Ａ）又は（Ｂ）のような直線状
の縞１３１は確認されず、円弧状の縞が確認される。円弧状の縞が確認されるガラス層で
は、その中央部には上述したように大きな内部歪みが集中していることが反映されている
ため、内部応力に起因してクラックが生じる危険性が高いといえる。
【０１４７】
本実施の形態は、本明細書中に記載する他の実施の形態と適宜組み合わせて実施するこ
とができる。
【０１４８】
（実施の形態３）
本実施の形態では、上記実施の形態で例示した封止体および封止体の作製方法を適用可
能な発光装置について説明する。以下では発光装置の例として、有機ＥＬ素子が適用され
た表示装置について、図１１及び図１２を用いて説明する。
【０１４９】
［構成例１］
本構成例では、有機ＥＬ素子が適用された表示装置について、図１１を用いて説明する
。
【０１５０】
図１１（Ａ）は、本発明の一態様の表示装置２００の上面概略図である。本構成例で例
示する表示装置２００は、発光素子が設けられる基板とは反対側に光を射出する、いわゆ
る上面射出型（トップエミッション型）の発光装置である。
【０１５１】
表示装置２００は、第１の基板１１１、第２の基板１１２及びガラス層１１０で囲まれ
た封止領域内に、表示部２０１、走査線駆動回路２０２及び信号線駆動回路２０３を有す
る。また、走査線駆動回路２０２及び信号線駆動回路２０３と電気的に接続する配線が封
止領域内外に延在して設けられ、外部入力端子２０５と電気的に接続される。当該外部入
力端子２０５に電気的に接続されたＦＰＣ２０７により、走査線駆動回路２０２、信号線
駆動回路２０３等を駆動する電源電位や駆動信号などの信号を入力することができる。
【０１５２】
図１１（Ｂ）は、外部入力端子２０５、走査線駆動回路２０２、及び表示部２０１を含
む領域を切断する切断線Ａ−Ｂ及びＣ−Ｄにおける断面概略図である。
【０１５３】
外部入力端子２０５は、表示装置２００内のトランジスタまたは発光素子を構成する導
電層で構成される。本構成例ではトランジスタのゲートを構成する導電層及び電極を構成
する導電層を積層して用いる。このように、複数の導電層を積層して外部入力端子２０５
を構成することにより強度を高められるため好ましい。また、外部入力端子２０５に接し
て接続体２０９が設けられ、当該接続体２０９を介してＦＰＣ２０７と外部入力端子２０
５とが電気的に接続している。接続体２０９としては、熱硬化性の樹脂に金属粒子を混ぜ
合わせたペースト状又はシート状の材料を用い、熱圧着によって異方性の導電性を示す材
料を用いることができる。金属粒子としては、例えばＮｉ粒子をＡｕで被覆したものなど
、２種類以上の金属が層状となった粒子を用いることが好ましい。
【０１５４】
図１１（Ｂ）には走査線駆動回路２０２として、いずれもｎチャネル型のトランジスタ
２１１とトランジスタ２１２を組み合わせたＮＭＯＳ回路を有する例を示している。なお
、走査線駆動回路２０２はＮＭＯＳ回路に限られず、ｎチャネル型のトランジスタとｐチ
ャネル型のトランジスタを組み合わせた種々のＣＭＯＳ回路や、ｐチャネル型のトランジ
スタで構成されるＰＭＯＳ回路などを有する構成としてもよい。なお、信号線駆動回路２
０３についても同様である。また、本構成例では、表示部２０１が形成される基板上に走
査線駆動回路２０２及び信号線駆動回路２０３が形成されたドライバー一体型の構成を示
すが、表示部２０１が形成される基板とは別に走査線駆動回路２０２、信号線駆動回路２
０３の一方又は両方を設ける構成としてもよい。
【０１５５】
図１１（Ｂ）には、表示部２０１の一例として一画素分の断面構造を示している。画素
は、スイッチング用のトランジスタ２１３と、電流制御用のトランジスタ２１４と、電流
制御用のトランジスタ２１４の電極（ソース電極又はドレイン電極）に電気的に接続され
た画素電極２２３を含む。また、画素電極２２３の端部を覆う絶縁層２１７が設けられて
いる。
【０１５６】
なお、表示部２０１、走査線駆動回路２０２、信号線駆動回路２０３を構成するトラン
ジスタの構造は特に限定されない。例えばスタガ型のトランジスタとしてもよいし、逆ス
タガ型のトランジスタとしてもよい。また、トップゲート型又はボトムゲート型のトラン
ジスタのいずれのトランジスタ構造としてもよい。また、トランジスタに用いる半導体材
料としては、例えばシリコンやゲルマニウムなどの半導体材料を用いてもよいし、インジ
ウム、ガリウム、及び亜鉛のうち少なくともひとつを含む酸化物半導体を用いてもよい。
また、トランジスタに用いる半導体の結晶性についても特に限定されず、非結晶半導体、
または結晶性を有する半導体（微結晶半導体、多結晶半導体、単結晶半導体、または一部
に結晶領域を有する半導体）のいずれを用いてもよい。結晶性を有する半導体を用いると
、トランジスタ特性の劣化が抑制されるため好ましい。
【０１５７】
発光素子２２０は、画素電極２２３、ＥＬ層２２５及び共通電極２２７によって構成さ
れている。発光素子の構造及び材料等については、後の実施の形態で詳細に説明する。
【０１５８】
画素電極２２３及び共通電極２２７に用いる導電性材料として、光射出側に設ける電極
には、ＥＬ層２２５からの発光に対して透光性を有する材料を用い、光射出側とは反対側
に設ける電極には、当該発光に対して反射性を有する材料を用いる。
【０１５９】
本構成例では、画素電極２２３に反射性を有する材料を用い、共通電極２２７に透光性
を有する材料を用いる。したがって、ＥＬ層２２５からの発光は、第２の基板１１２側に
射出される。
【０１６０】
光射出側の電極に用いることのできる透光性を有する材料としては、酸化インジウム、
インジウムスズ酸化物、インジウム亜鉛酸化物、酸化亜鉛、ガリウムを添加した酸化亜鉛
などの導電性酸化物や、グラフェンなどを用いることができる。また、上記導電層として
、金、銀、白金、マグネシウム、ニッケル、タングステン、クロム、モリブデン、鉄、コ
バルト、銅、パラジウム、またはチタンなどの金属材料や、該金属材料を含む合金材料を
用いることができる。または、これら金属材料の窒化物（例えば、窒化チタン）などを用
いてもよい。なお、金属材料（またはその窒化物）を用いる場合には、透光性を有する程
度に薄くすればよい。また、上記材料の積層膜を導電層として用いることができる。例え
ば、銀とマグネシウムの合金とインジウムスズ酸化物の積層膜などを用いると、導電性を
高めることができるためこのましい。
【０１６１】
なお、光射出側の電極として用いる上述の導電性酸化物をスパッタリング法により形成
することができる。導電性酸化物膜は、アルゴン及び酸素を含む雰囲気下で成膜すると、
光透過性を向上させることができる。
【０１６２】
また、上面射出型の場合、ＥＬ層２２５上に成膜される導電性酸化物膜を、酸素濃度が
低減されたアルゴンを含む雰囲気下で成膜した第１の導電性酸化物膜と、アルゴン及び酸
素を含む雰囲気下で成膜した第２の導電性酸化物膜との積層膜とすると、ＥＬ層２２５へ
の成膜ダメージを低減させることができるため好ましい。ここで第１の導電性酸化物膜を
成膜する際のアルゴンガスの純度が高いことが好ましく、例えば露点が−７０℃以下、好
ましくは−１００℃以下のアルゴンガスを用いることが好ましい。
【０１６３】
光射出側とは反対側の電極に用いることのできる反射性を有する材料としては、アルミ
ニウム、金、白金、銀、ニッケル、タングステン、クロム、モリブデン、鉄、コバルト、
銅、又はパラジウム等の金属材料や、該金属材料を含む合金材料を用いることができる。
また、このような金属材料または合金材料にランタンやネオジム、ゲルマニウムなどを添
加してもよい。合金材料の例としては、アルミニウムとチタンの合金、アルミニウムとニ
ッケルの合金、アルミニウムとネオジムの合金などのアルミニウムを含む合金（アルミニ
ウム合金）や、銀と銅の合金、銀とマグネシウムの合金などの銀を含む合金を用いること
もできる。銀と銅の合金は耐熱性が高いため好ましい。さらに、アルミニウム合金膜に接
する金属膜、または金属酸化物膜を積層することで、アルミニウム合金膜の酸化を抑制す
ることができる。該金属膜、金属酸化物膜の材料としては、チタン、酸化チタンなどが挙
げられる。また、上記透光性を有する材料からなる膜と金属材料からなる膜とを積層して
もよい。例えば、銀とインジウムスズ酸化物の積層膜、銀とマグネシウムの合金とインジ
ウムスズ酸化物の積層膜などを用いることができる。
【０１６４】
絶縁層２１７は、画素電極２２３の端部を覆って設けられている。そして、絶縁層２１
７の上層に形成される共通電極２２７の被覆性を良好なものとするため、絶縁層２１７の
上端部又は下端部に曲率半径（０．２μｍ〜３μｍ）を有する曲面を持たせるのが好まし
い。また、絶縁層２１７の材料としては、ネガ型の感光性樹脂、あるいはポジ型の感光性
樹脂などの有機化合物や、酸化シリコン、酸窒化シリコン等の無機化合物を用いることが
できる。
【０１６５】
なお、第１の基板１１１の表面には、絶縁層２１５が設けられている。絶縁層２１５は
、第１の基板１１１に含まれる不純物が拡散することを抑制する。また、トランジスタの
半導体層に接する絶縁層２１６及び絶縁層２１８、トランジスタを覆う絶縁層２１９は、
トランジスタを構成する半導体への不純物の拡散を抑制することが好ましい。これら絶縁
層には、例えばシリコンなどの半導体、アルミニウムなどの金属の酸化物または窒化物を
用いることができる。また、このような無機絶縁材料の積層膜、または無機絶縁材料と有
機絶縁材料の積層膜を用いてもよい。なお、絶縁層２１５は、不要であれば設けなくても
よい。
【０１６６】
第２の基板１１２には、発光素子２２０と重なる位置にカラーフィルタ２２９が設けら
れている。カラーフィルタ２２９は、発光素子２２０からの発光色を調色する目的で設け
られる。例えば、白色発光の発光素子を用いてフルカラーの表示装置とする場合には、異
なる色のカラーフィルタを設けた複数の画素を用いる。その場合、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ
）、青色（Ｂ）の３色を用いてもよいし、これに黄色（Ｙ）を加えた４色とすることもで
きる。また、Ｒ、Ｇ、Ｂ（及びＹ）に加えて白色（Ｗ）の画素を用い、４色（又は５色）
としてもよい。
【０１６７】
また、隣接するカラーフィルタ２２９の間にはブラックマトリクス２３１が設けられて
いる。ブラックマトリクス２３１は隣接する画素の発光素子２２０から回り込む光を遮光
し、隣接画素間における混色を抑制する。ここで、カラーフィルタ２２９の端部を、ブラ
ックマトリクス２３１と重なるように設けることにより、光漏れを抑制することができる
。ブラックマトリクス２３１は、発光素子２２０からの発光を遮光する材料を用いること
ができ、金属や、顔料を含む有機樹脂などの材料を用いて形成することができる。なお、
ブラックマトリクス２３１は、走査線駆動回路２０２などの表示部２０１以外の領域に設
けてもよい。
【０１６８】
また、カラーフィルタ２２９及びブラックマトリクス２３１を覆うオーバーコート２３
３が形成されている。オーバーコート２３３は、発光素子２２０からの発光を透過する材
料から構成され、例えば無機絶縁膜や有機絶縁膜を用いることができる。なお、オーバー
コートは不要であれば設けなくてもよい。
【０１６９】
また、図１１（Ｂ）に示す断面概略図では、発光素子２２０を１つのみ図示しているが
、表示部２０１に３種類（Ｒ、Ｇ、Ｂ）の発光が得られる発光素子をそれぞれ選択的に形
成し、フルカラー表示が可能な表示装置を形成することができる。後の実施の形態で例示
する白色発光のＥＬ層を有する発光素子とカラーフィルタを組み合わせることによってフ
ルカラー表示が可能な表示装置とすることができる。また、当該発光素子は、上面射出方
式に限られず、下面射出（ボトムエミッション）方式、両面射出（デュアルエミッション
）方式のいずれも採ることができる。ボトムエミッション方式を採用した発光装置の構成
例については、構成例２で説明する。
【０１７０】
第１の基板１１１と第２の基板１１２とは第２の基板１１２の外周部において、ガラス
層１１０によって接着されている。ガラス層１１０の構成としては、上記実施の形態で例
示した構成を用いることができる。
【０１７１】
また、発光素子２２０は、第１の基板１１１、第２の基板１１２及びガラス層１１０に
囲まれた封止領域内に設けられている。当該封止領域は、希ガス又は窒素ガスなどの不活
性ガス、または有機樹脂などの固体、またはゲルなどの粘性体で充填されていてもよく、
減圧雰囲気となっていてもよい。また封止領域内を水や酸素などの不純物が低減されてい
る状態とすると、発光素子２２０の信頼性が向上するため好ましい。
【０１７２】
また、発光素子２２０を覆う絶縁膜を設けると、発光素子２２０が露出しないため信頼
性を向上させることができる。当該絶縁膜としては、水や酸素などの不純物を透過しない
材料を用いる。例えばシリコンやアルミニウムの酸化膜または窒化膜といった無機絶縁膜
を用いることができる。
【０１７３】
また、封止領域内の発光素子２２０と重ならない領域に、乾燥剤を設けてもよい。乾燥
剤は、例えばアルカリ土類金属の酸化物（酸化カルシウムや酸化バリウム等）のように、
化学吸着によって水分を吸収する物質を用いることができる。またその他の乾燥剤として
、ゼオライトやシリカゲル等のように、物理吸着によって水分を吸着する物質を用いても
よい。封止領域内に乾燥剤を設けることにより、水分などの不純物を低減し、発光素子２
２０の信頼性が向上するため好ましい。
【０１７４】
以上が表示装置２００の説明である。
【０１７５】
［構成例２］
本構成例では、ボトムエミッション方式が採用された表示装置について説明する。なお
、構成例１と重複する部分については、説明を省略するか簡略化して説明する。
【０１７６】
図１２は、本構成例で例示する表示装置２５０の断面概略図である。
【０１７７】
表示装置２５０は、ボトムエミッション方式が採用されている点、及び発光素子２２０
よりも第１の基板１１１側にカラーフィルタ２２９を有する点で、構成例１で例示した表
示装置２００と異なる。
【０１７８】
発光素子２２０において、共通電極２２７には上記反射性を有する材料を用い、画素電
極２２３には上記透光性を有する材料を用いる。したがって、ＥＬ層２２５からの発光は
第１の基板１１１側に射出される。
【０１７９】
また、トランジスタを覆う絶縁層２１９上の、発光素子２２０と重なる位置にカラーフ
ィルタ２２９が設けられる。さらに、カラーフィルタ２２９を覆うオーバーコート２３３
が形成されている。画素電極２２３は、当該オーバーコート２３３上に形成される。ここ
で、オーバーコート２３３は有機樹脂などの有機絶縁膜を用いて形成すると、平坦化層と
しても機能するため好ましい。
【０１８０】
以上が表示装置２５０の説明である。
【０１８１】
本実施の形態で例示した表示装置に、本発明の一態様の封止体の作製方法を適用するこ
とにより、クラックの発生が抑制され、極めて信頼性の高い表示装置とすることができる
。
【０１８２】
本実施の形態は、本明細書中に記載する他の実施の形態と適宜組み合わせて実施するこ
とができる。
【０１８３】
（実施の形態４）
本実施の形態では、上記実施の形態で例示した封止体および封止体の作製方法を適用可
能な発光装置の例として、有機ＥＬ素子が適用された照明装置について、図１３を用いて
説明する。なお、上記実施の形態と重複する部分については、説明を省略するか簡略化し
て説明する。
【０１８４】
図１３（Ａ）は、本実施の形態で例示する照明装置３００の上面概略図である。
【０１８５】
照明装置３００は、第１の基板１１１、第２の基板１１２及びガラス層１１０に囲まれ
た封止領域内に、発光部３０１を有する。また、発光部３０１と電気的に接続し、発光部
３０１を発光させる電力を供給する取り出し電極３１１及び３１２が、封止領域内外に延
在して設けられている。
【０１８６】
図１３（Ｂ）は、発光部３０１、並びに取り出し電極３１１及び３１２を含む領域を切
断する切断線Ｅ−Ｆにおける断面概略図である。
【０１８７】
封止領域内において、第１の基板１１１上に、電極３０３、ＥＬ層３０５及び電極３０
７から構成される発光素子３１０が設けられている。
【０１８８】
第１の基板１１１と第２の基板１１２とは第２の基板１１２の外周部において、ガラス
層１１０によって接着されている。ガラス層１１０の構成としては、上記実施の形態で例
示した構成を用いることができる。
【０１８９】
電極３０３は、取り出し電極３１１と電気的に接続する。また、電極３０７は取り出し
電極３１２と電気的に接続する。ここで、図１３（Ｂ）には、電極３０３並びに取り出し
電極３１１及び３１２が同一平面上に同一の層から形成され、且つ電極３０３の一部が取
り出し電極３１１を構成している例を示している。
【０１９０】
また、電極３０３及び取り出し電極３１２のそれぞれの端部を覆う絶縁層３０９が設け
られている。また絶縁層３０９は電極３０３と電極３０７とが接触して導通しないように
、電極３０３上の一部の領域に設けられる。絶縁層３０９としては、実施の形態３で例示
した絶縁層２１７と同様の構成を用いることができる。
【０１９１】
電極３０７は、電極３０３と取り出し電極３１２の各々の端部を覆う絶縁層３０９を越
えて形成され、取り出し電極３１２と電気的に接続されている。
【０１９２】
ここで、照明装置３００は、下面射出方式または上面射出方式、または両面射出方式の
いずれの方式を採ることができる。電極３０３及び電極３０７に用いる導電性材料は、射
出方式に応じて、上述の材料から適宜選択して用いることができる。
【０１９３】
また、電極３０３または電極３０７の導電性を補助するため、低抵抗な導電性材料から
なる補助電極を設ける構成としてもよい。特に大面積の発光部３０１を備える照明装置３
００とする場合には、電極の抵抗による電位降下に起因して、発光輝度の面内分布が生じ
る恐れがあるため、補助電極を設けることは有効である。
【０１９４】
例えば、電極３０３の上面又は下面に接して補助電極を設ける。または電極３０３上に
絶縁層を介して電極３０７と電気的に接続する補助電極を設ける。電極３０３に接する補
助電極を設ける場合には、当該補助電極による段差を絶縁層３０９で被覆することが好ま
しい。
【０１９５】
また、図１３（Ｂ）に示すように、封止領域内に乾燥剤３１４を設けることが好ましい
。上面射出方式又は両面射出方式の場合には、発光素子３１０と重ならない領域に設ける
。
【０１９６】
また、第１の基板１１１、第２の基板１１２の一方または両方の、発光素子３１０側の
表面には、基板からの不純物の拡散を抑制する絶縁層を形成してもよい。
【０１９７】
なお、発光素子３１０を覆い、水や酸素などの不純物を透過しない無機絶縁膜を設けて
もよい。また、封止領域内が不活性ガス、固体、または粘性体で充填されていてもよいし
、減圧雰囲気となっていてもよい。
【０１９８】
本実施の形態で例示した照明装置に、本発明の一態様の封止体の作製方法を適用するこ
とにより、クラックの発生が抑制され、極めて信頼性の高い照明装置とすることができる
。
【０１９９】
本実施の形態は、本明細書中に記載する他の実施の形態と適宜組み合わせて実施するこ
とができる。
【０２００】
（実施の形態５）
本実施の形態では、本発明の一態様に適用できるＥＬ層の一例について、図１４を用い
て説明する。
【０２０１】
図１４（Ａ）に示すＥＬ層４０５は、第１の電極４０３と第２の電極４０７の間に設け
られている。第１の電極４０３及び第２の電極４０７は、実施の形態３で例示した画素電
極または共通電極、または実施の形態４で例示した電極と同様の構成を適用することがで
きる。
【０２０２】
本実施の形態で例示するＥＬ層４０５を有する発光素子は、上記実施の形態で例示した
発光装置に適用可能である。
【０２０３】
ＥＬ層４０５は、少なくとも発光性の有機化合物を含む発光層が含まれていればよい。
そのほか、電子輸送性の高い物質を含む層、正孔輸送性の高い物質を含む層、電子注入性
の高い物質を含む層、正孔注入性の高い物質を含む層、バイポーラ性の物質（電子輸送性
及び正孔輸送性が高い物質）を含む層等を適宜組み合わせた積層構造を構成することがで
きる。本実施の形態において、ＥＬ層４０５は、第１の電極４０３側から、正孔注入層７
０１、正孔輸送層７０２、発光性の有機化合物を含む層７０３、電子輸送層７０４、及び
電子注入層７０５の順で積層されている。なお、これらを反転させた積層構造としてもよ
い。
【０２０４】
図１４（Ａ）に示す発光素子の作製方法について説明する。
【０２０５】
正孔注入層７０１は、正孔注入性の高い物質を含む層である。正孔注入性の高い物質と
しては、例えば、モリブデン酸化物、チタン酸化物、バナジウム酸化物、レニウム酸化物
、ルテニウム酸化物、クロム酸化物、ジルコニウム酸化物、ハフニウム酸化物、タンタル
酸化物、銀酸化物、タングステン酸化物、マンガン酸化物等の金属酸化物を用いることが
できる。また、フタロシアニン（略称：Ｈ２Ｐｃ）、銅（ＩＩ）フタロシアニン（略称：
ＣｕＰｃ）等のフタロシアニン系の化合物を用いることができる。
【０２０６】
また、低分子の有機化合物である芳香族アミン化合物等を用いることができる。
【０２０７】
さらに、高分子化合物（オリゴマー、デンドリマー、ポリマー等）を用いることもでき
る。また、酸を添加した高分子化合物を用いることができる。
【０２０８】
特に、正孔注入層７０１として、正孔輸送性の高い有機化合物にアクセプター性物質を
含有させた複合材料を用いることが好ましい。正孔輸送性の高い物質にアクセプター性物
質を含有させた複合材料を用いることにより、第１の電極４０３からの正孔注入性を良好
にし、発光素子の駆動電圧を低減することができる。これらの複合材料は、正孔輸送性の
高い物質とアクセプター性物質（電子受容体）とを共蒸着することにより形成することが
できる。該複合材料を用いて正孔注入層７０１を形成することにより、第１の電極４０３
からＥＬ層４０５への正孔注入が容易となる。
【０２０９】
複合材料に用いる有機化合物としては、芳香族アミン化合物、カルバゾール誘導体、芳
香族炭化水素、高分子化合物（オリゴマー、デンドリマー、ポリマー等）など、種々の化
合物を用いることができる。なお、複合材料に用いる有機化合物としては、正孔輸送性の
高い有機化合物であることが好ましい。具体的には、１０−６ｃｍ２／Ｖｓ以上の正孔移
動度を有する物質であることが好ましい。但し、電子よりも正孔の輸送性の高い物質であ
れば、これら以外のものを用いてもよい。
【０２１０】
複合材料に用いることのできる有機化合物としては、芳香族アミン化合物や、カルバゾ
ール誘導体、そのほか正孔移動度の高い芳香族炭化水素化合物を用いることができる。
【０２１１】
また、アクセプター性物質としては、有機化合物や、遷移金属酸化物を挙げることがで
きる。また、元素周期表における第４族乃至第８族に属する金属の酸化物を挙げることが
できる。具体的には、酸化バナジウム、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化クロム、酸化モ
リブデン、酸化タングステン、酸化マンガン、酸化レニウムは電子受容性が高いため好ま
しい。中でも特に、酸化モリブデンは大気中でも安定であり、吸湿性が低く、扱いやすい
ため好ましい。
【０２１２】
なお、高分子化合物と、上述した電子受容体を用いて複合材料を形成し、正孔注入層７
０１に用いてもよい。
【０２１３】
正孔輸送層７０２は、正孔輸送性の高い物質を含む層である。正孔輸送性の高い物質と
しては、例えば、芳香族アミン化合物を用いることができる。これは主に１０−６ｃｍ２
／Ｖｓ以上の正孔移動度を有する物質である。但し、電子よりも正孔の輸送性の高い物質
であれば、これら以外のものを用いてもよい。なお、正孔輸送性の高い物質を含む層は、
単層のものだけでなく、上記物質からなる層が二層以上積層したものとしてもよい。
【０２１４】
また、正孔輸送層７０２には、カルバゾール誘導体や、アントラセン誘導体や、そのほ
か正孔輸送性の高い高分子化合物を用いてもよい。
【０２１５】
発光性の有機化合物を含む層７０３は、蛍光を発光する蛍光性化合物や燐光を発光する
燐光性化合物を用いることができる。
【０２１６】
なお、発光性の有機化合物を含む層７０３としては、発光性の有機化合物（ゲスト材料
）を他の物質（ホスト材料）に分散させた構成としてもよい。ホスト材料としては、各種
のものを用いることができ、発光性の物質よりも最低空軌道準位（ＬＵＭＯ準位）が高く
、最高被占有軌道準位（ＨＯＭＯ準位）が低い物質を用いることが好ましい。
【０２１７】
また、ホスト材料は複数種用いることができる。例えば、結晶化を抑制するために結晶
化を抑制する物質をさらに添加してもよい。また、ゲスト材料へのエネルギー移動をより
効率良く行うために、さらに異なる物質を添加してもよい。
【０２１８】
ゲスト材料をホスト材料に分散させた構成とすることにより、発光性の有機化合物を含
む層７０３の結晶化を抑制することができる。また、ゲスト材料の濃度が高いことによる
濃度消光を抑制することができる。
【０２１９】
また、発光性の有機化合物を含む層７０３として高分子化合物を用いることができる。
【０２２０】
また、発光性の有機化合物を含む層を複数設け、それぞれの層の発光色を異なるものに
することで、発光素子全体として、所望の色の発光を得ることができる。例えば、発光性
の有機化合物を含む層を２つ有する発光素子において、第１の発光性の有機化合物を含む
層の発光色と第２の発光性の有機化合物を含む層の発光色を補色の関係になるようにする
ことで、発光素子全体として白色発光する発光素子を得ることも可能である。なお、補色
とは、混合すると無彩色になる色同士の関係をいう。つまり、補色の関係にある色を発光
する物質から得られた光を混合すると、白色発光を得ることができる。また、発光性の有
機化合物を含む層を３つ以上有する発光素子の場合でも同様である。
【０２２１】
電子輸送層７０４は、電子輸送性の高い物質を含む層である。電子輸送性の高い物質と
しては、主に１０−６ｃｍ２／Ｖｓ以上の電子移動度を有する物質である。また、電子輸
送層は、単層のものだけでなく、上記物質からなる層が二層以上積層したものとしてもよ
い。
【０２２２】
電子注入層７０５は、電子注入性の高い物質を含む層である。電子注入層７０５には、
リチウム、セシウム、カルシウム、フッ化リチウム、フッ化セシウム、フッ化カルシウム
、リチウム酸化物等のようなアルカリ金属、アルカリ土類金属、又はそれらの化合物を用
いることができる。また、フッ化エルビウムのような希土類金属化合物を用いることがで
きる。また、上述した電子輸送層７０４を構成する物質を用いることもできる。
【０２２３】
なお、上述した正孔注入層７０１、正孔輸送層７０２、発光性の有機化合物を含む層７
０３、電子輸送層７０４、電子注入層７０５は、それぞれ、蒸着法（真空蒸着法を含む）
、インクジェット法、塗布法等の方法で形成することができる。
【０２２４】
ＥＬ層は、図１４（Ｂ）に示すように、第１の電極４０３と第２の電極４０７との間に
複数積層されていてもよい。この場合、積層された第１のＥＬ層８００と第２のＥＬ層８
０１との間には、電荷発生層８０３を設けることが好ましい。電荷発生層８０３は上述の
複合材料で形成することができる。また、電荷発生層８０３は複合材料からなる層と他の
材料からなる層との積層構造でもよい。この場合、他の材料からなる層としては、電子供
与性物質（ドナー性物質）と電子輸送性の高い物質とを含む層や、透明導電膜からなる層
などを用いることができる。このような構成を有する発光素子は、エネルギーの移動や消
光などの問題が起こり難く、材料の選択の幅が広がることで高い発光効率と長い寿命とを
併せ持つ発光素子とすることが容易である。また、一方のＥＬ層で燐光発光、他方で蛍光
発光を呈する発光素子を得ることも容易である。この構造は上述のＥＬ層の構造と組み合
わせて用いることができる。
【０２２５】
また、それぞれのＥＬ層の発光色を異なるものにすることで、発光素子全体として、所
望の色の発光を得ることができる。例えば、２つのＥＬ層を有する発光素子において、第
１のＥＬ層の発光色と第２のＥＬ層の発光色を補色の関係になるようにすることで、発光
素子全体として白色発光する発光素子を得ることも可能である。なお、補色とは、混合す
ると無彩色になる色同士の関係をいう。また、３つ以上のＥＬ層を有する発光素子の場合
でも同様である。
【０２２６】
また、演色性の良い白色発光を得る場合、発光スペクトルが可視光全域に広がるものと
する必要があり、３つ以上のＥＬ層が積層された発光素子とすることが好ましい。例えば
それぞれ赤色、青色、緑色の発光色のＥＬ層を積層して発光素子を形成することができる
。このように異なる３色以上のＥＬ層が積層された発光素子とすることにより演色性を高
めることができる。
【０２２７】
第１の電極４０３と第２の電極４０７との間に光学調整層を形成してもよい。光学調整
層は、反射性を有する電極と透過性を有する電極との間の光学距離を調整する層である。
光学調整層を設けることにより、特定の範囲の波長の光を強調することができるため、色
調を調整することができる。
【０２２８】
ＥＬ層４０５は、図１４（Ｃ）に示すように、第１の電極４０３と第２の電極４０７と
の間に、正孔注入層７０１、正孔輸送層７０２、発光性の有機化合物を含む層７０３、電
子輸送層７０４、電子注入バッファー層７０６、電子リレー層７０７、及び第２の電極４
０７と接する複合材料層７０８を有していてもよい。
【０２２９】
第２の電極４０７と接する複合材料層７０８を設けることで、特にスパッタリング法を
用いて第２の電極４０７を形成する際に、ＥＬ層４０５が受けるダメージを低減すること
ができるため、好ましい。複合材料層７０８は、前述の、正孔輸送性の高い有機化合物に
アクセプター性物質を含有させた複合材料を用いることができる。
【０２３０】
さらに、電子注入バッファー層７０６を設けることで、複合材料層７０８と電子輸送層
７０４との間の注入障壁を緩和することができるため、複合材料層７０８で生じた電子を
電子輸送層７０４に容易に注入することができる。
【０２３１】
電子注入バッファー層７０６には、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類金属、お
よびこれらの化合物（アルカリ金属化合物（酸化リチウム等の酸化物、ハロゲン化物、炭
酸リチウムや炭酸セシウム等の炭酸塩を含む）、アルカリ土類金属化合物（酸化物、ハロ
ゲン化物、炭酸塩を含む）、または希土類金属の化合物（酸化物、ハロゲン化物、炭酸塩
を含む））等の電子注入性の高い物質を用いることが可能である。
【０２３２】
また、電子注入バッファー層７０６が、電子輸送性の高い物質とドナー性物質を含んで
形成される場合には、電子輸送性の高い物質に対して質量比で、０．００１以上０．１以
下の比率でドナー性物質を添加することが好ましい。なお、ドナー性物質としては、アル
カリ金属、アルカリ土類金属、希土類金属、およびこれらの化合物（アルカリ金属化合物
（酸化リチウム等の酸化物、ハロゲン化物、炭酸リチウムや炭酸セシウム等の炭酸塩を含
む）、アルカリ土類金属化合物（酸化物、ハロゲン化物、炭酸塩を含む）、または希土類
金属の化合物（酸化物、ハロゲン化物、炭酸塩を含む））の他、テトラチアナフタセン（
略称：ＴＴＮ）、ニッケロセン、デカメチルニッケロセン等の有機化合物を用いることも
できる。なお、電子輸送性の高い物質としては、先に説明した電子輸送層７０４の材料と
同様の材料を用いて形成することができる。
【０２３３】
さらに、電子注入バッファー層７０６と複合材料層７０８との間に、電子リレー層７０
７を形成することが好ましい。電子リレー層７０７は、必ずしも設ける必要は無いが、電
子輸送性の高い電子リレー層７０７を設けることで、電子注入バッファー層７０６へ電子
を速やかに送ることが可能となる。
【０２３４】
複合材料層７０８と電子注入バッファー層７０６との間に電子リレー層７０７が挟まれ
た構造は、複合材料層７０８に含まれるアクセプター性物質と、電子注入バッファー層７
０６に含まれるドナー性物質とが相互作用を受けにくく、互いの機能を阻害しにくい構造
である。したがって、駆動電圧の上昇を防ぐことができる。
【０２３５】
電子リレー層７０７は、電子輸送性の高い物質を含み、該電子輸送性の高い物質のＬＵ
ＭＯ準位は、複合材料層７０８に含まれるアクセプター性物質のＬＵＭＯ準位と、電子輸
送層７０４に含まれる電子輸送性の高い物質のＬＵＭＯ準位との間となるように形成する
。また、電子リレー層７０７がドナー性物質を含む場合には、当該ドナー性物質のドナー
準位も複合材料層７０８におけるアクセプター性物質のＬＵＭＯ準位と、電子輸送層７０
４に含まれる電子輸送性の高い物質のＬＵＭＯ準位との間となるようにする。具体的なエ
ネルギー準位の数値としては、電子リレー層７０７に含まれる電子輸送性の高い物質のＬ
ＵＭＯ準位は−５．０ｅＶ以上、好ましくは−５．０ｅＶ以上−３．０ｅＶ以下とすると
よい。
【０２３６】
電子リレー層７０７に含まれる電子輸送性の高い物質としてはフタロシアニン系の材料
又は金属−酸素結合と芳香族配位子を有する金属錯体を用いることが好ましい。
【０２３７】
電子リレー層７０７に含まれる金属−酸素結合と芳香族配位子を有する金属錯体として
は、金属−酸素の二重結合を有する金属錯体を用いることが好ましい。金属−酸素の二重
結合はアクセプター性（電子を受容しやすい性質）を有するため、電子の移動（授受）が
より容易になる。また、金属−酸素の二重結合を有する金属錯体は安定であると考えられ
る。したがって、金属−酸素の二重結合を有する金属錯体を用いることにより発光素子を
低電圧でより安定に駆動することが可能になる。
【０２３８】
金属−酸素結合と芳香族配位子を有する金属錯体としてはフタロシアニン系材料が好ま
しい。特に、分子構造的に金属−酸素の二重結合が他の分子に対して作用しやすい材料は
、アクセプター性が高いため好ましい。
【０２３９】
なお、上述したフタロシアニン系材料としては、フェノキシ基を有するものが好ましい
。具体的にはＰｈＯ−ＶＯＰｃのような、フェノキシ基を有するフタロシアニン誘導体が
好ましい。フェノキシ基を有するフタロシアニン誘導体は、溶媒に可溶である。そのため
、発光素子を形成する上で扱いやすいという利点を有する。また、溶媒に可溶であるため
、成膜に用いる装置のメンテナンスが容易になるという利点を有する。
【０２４０】
電子リレー層７０７はさらにドナー性物質を含んでいてもよい。ドナー性物質としては
、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類金属及びこれらの化合物（アルカリ金属化合
物（酸化リチウムなどの酸化物、ハロゲン化物、炭酸リチウムや炭酸セシウムなどの炭酸
塩を含む）、アルカリ土類金属化合物（酸化物、ハロゲン化物、炭酸塩を含む）、又は希
土類金属の化合物（酸化物、ハロゲン化物、炭酸塩を含む））の他、テトラチアナフタセ
ン（略称：ＴＴＮ）、ニッケロセン、デカメチルニッケロセンなどの有機化合物を用いる
ことができる。電子リレー層７０７にこれらドナー性物質を含ませることによって、電子
の移動が容易となり、発光素子をより低電圧で駆動することが可能になる。
【０２４１】
電子リレー層７０７にドナー性物質を含ませる場合、電子輸送性の高い物質としては上
記した材料の他、複合材料層７０８に含まれるアクセプター性物質のアクセプター準位よ
り高いＬＵＭＯ準位を有する物質を用いることができる。具体的なエネルギー準位として
は、−５．０ｅＶ以上、好ましくは−５．０ｅＶ以上−３．０ｅＶ以下の範囲にＬＵＭＯ
準位を有する物質を用いることが好ましい。このような物質としては例えば、ペリレン誘
導体や、含窒素縮合芳香族化合物などが挙げられる。なお、含窒素縮合芳香族化合物は、
安定であるため、電子リレー層７０７を形成する為に用いる材料として、好ましい材料で
ある。
【０２４２】
なお、電子リレー層７０７にドナー性物質を含ませる場合、電子輸送性の高い物質とド
ナー性物質との共蒸着などの方法によって電子リレー層７０７を形成すればよい。
【０２４３】
正孔注入層７０１、正孔輸送層７０２、発光性の有機化合物を含む層７０３、及び電子
輸送層７０４は前述の材料を用いてそれぞれ形成すればよい。
【０２４４】
以上により、本実施の形態のＥＬ層４０５を作製することができる。
【０２４５】
本実施の形態は、本明細書中に記載する他の実施の形態と適宜組み合わせて実施するこ
とができる。
【０２４６】
（実施の形態６）
本実施の形態では、本発明の一態様の発光装置が適用された電子機器や照明装置の例に
ついて、図１５及び図１６を用いて説明する。
【０２４７】
発光装置を適用した電子機器として、例えば、テレビジョン装置（テレビ、又はテレビ
ジョン受信機ともいう）、コンピュータ用などのモニタ、デジタルカメラ、デジタルビデ
オカメラ、デジタルフォトフレーム、携帯電話機（携帯電話、携帯電話装置ともいう）、
携帯型ゲーム機、携帯情報端末、音響再生装置、パチンコ機などの大型ゲーム機などが挙
げられる。これらの電子機器の具体例を図１５に示す。
【０２４８】
図１５（Ａ）は、テレビジョン装置の一例を示している。テレビジョン装置７１００は
、筐体７１０１に表示部７１０３が組み込まれている。表示部７１０３により、映像を表
示することが可能であり、発光装置を表示部７１０３に用いることができる。また、ここ
では、スタンド７１０５により筐体７１０１を支持した構成を示している。
【０２４９】
テレビジョン装置７１００の操作は、筐体７１０１が備える操作スイッチや、別体のリ
モコン操作機７１１０により行うことができる。リモコン操作機７１１０が備える操作キ
ー７１０９により、チャンネルや音量の操作を行うことができ、表示部７１０３に表示さ
れる映像を操作することができる。また、リモコン操作機７１１０に、当該リモコン操作
機７１１０から出力する情報を表示する表示部７１０７を設ける構成としてもよい。
【０２５０】
なお、テレビジョン装置７１００は、受信機やモデムなどを備えた構成とする。受信機
により一般のテレビ放送の受信を行うことができ、さらにモデムを介して有線又は無線に
よる通信ネットワークに接続することにより、一方向（送信者から受信者）又は双方向（
送信者と受信者間、あるいは受信者間同士など）の情報通信を行うことも可能である。
【０２５１】
図１５（Ｂ）はコンピュータであり、本体７２０１、筐体７２０２、表示部７２０３、
キーボード７２０４、外部接続ポート７２０５、ポインティングデバイス７２０６等を含
む。なお、コンピュータは、発光装置をその表示部７２０３に用いることにより作製され
る。
【０２５２】
図１５（Ｃ）は携帯型遊技機であり、筐体７３０１と筐体７３０２の２つの筐体で構成
されており、連結部７３０３により、開閉可能に連結されている。筐体７３０１には表示
部７３０４が組み込まれ、筐体７３０２には表示部７３０５が組み込まれている。また、
図１５（Ｃ）に示す携帯型遊技機は、その他、スピーカ部７３０６、記録媒体挿入部７３
０７、ＬＥＤランプ７３０８、入力手段（操作キー７３０９、接続端子７３１０、センサ
７３１１（力、変位、位置、速度、加速度、角速度、回転数、距離、光、液、磁気、温度
、化学物質、音声、時間、硬度、電場、電流、電圧、電力、放射線、流量、湿度、傾度、
振動、におい又は赤外線を測定する機能を含むもの）、マイクロフォン７３１２）等を備
えている。もちろん、携帯型遊技機の構成は上述のものに限定されず、少なくとも表示部
７３０４および表示部７３０５の両方、又は一方に発光装置を用いていればよく、その他
付属設備が適宜設けられた構成とすることができる。図１５（Ｃ）に示す携帯型遊技機は
、記録媒体に記録されているプログラム又はデータを読み出して表示部に表示する機能や
、他の携帯型遊技機と無線通信を行って情報を共有する機能を有する。なお、図１５（Ｃ
）に示す携帯型遊技機が有する機能はこれに限定されず、様々な機能を有することができ
る。
【０２５３】
図１５（Ｄ）は、携帯電話機の一例を示している。携帯電話機７４００は、筐体７４０
１に組み込まれた表示部７４０２の他、操作ボタン７４０３、外部接続ポート７４０４、
スピーカ７４０５、マイク７４０６などを備えている。なお、携帯電話機７４００は、発
光装置を表示部７４０２に用いることにより作製される。
【０２５４】
図１５（Ｄ）に示す携帯電話機７４００は、表示部７４０２を指などで触れることで、
情報を入力することができる。また、電話を掛ける、或いはメールを作成するなどの操作
は、表示部７４０２を指などで触れることにより行うことができる。
【０２５５】
表示部７４０２の画面は主として３つのモードがある。第１は、画像の表示を主とする
表示モードであり、第２は、文字等の情報の入力を主とする入力モードである。第３は表
示モードと入力モードの２つのモードが混合した表示＋入力モードである。
【０２５６】
例えば、電話を掛ける、或いはメールを作成する場合は、表示部７４０２を文字の入力
を主とする文字入力モードとし、画面に表示させた文字の入力操作を行えばよい。この場
合、表示部７４０２の画面のほとんどにキーボード又は番号ボタンを表示させることが好
ましい。
【０２５７】
また、携帯電話機７４００内部に、ジャイロ、加速度センサ等の傾きを検出するセンサ
を有する検出装置を設けることで、携帯電話機７４００の向き（縦か横か）を判断して、
表示部７４０２の画面表示を自動的に切り替えるようにすることができる。
【０２５８】
また、画面モードの切り替えは、表示部７４０２を触れること、又は筐体７４０１の操
作ボタン７４０３の操作により行われる。また、表示部７４０２に表示される画像の種類
によって切り替えるようにすることもできる。例えば、表示部に表示する画像信号が動画
のデータであれば表示モード、テキストデータであれば入力モードに切り替える。
【０２５９】
また、入力モードにおいて、表示部７４０２の光センサで検出される信号を検知し、表
示部７４０２のタッチ操作による入力が一定期間ない場合には、画面のモードを入力モー
ドから表示モードに切り替えるように制御してもよい。
【０２６０】
表示部７４０２は、イメージセンサとして機能させることもできる。例えば、表示部７
４０２に掌や指で触れ、掌紋、指紋等を撮像することで、本人認証を行うことができる。
また、表示部に近赤外光を発光するバックライト又は近赤外光を発光するセンシング用光
源を用いれば、指静脈、掌静脈などを撮像することもできる。
【０２６１】
図１５（Ｅ）は、照明装置の一例を示している。照明装置７５００は、筐体７５０１に
光源として本発明の一態様の発光装置７５０３ａ〜７５０３ｄが組み込まれている。照明
装置７５００は、天井や壁等に取り付けることが可能である。
【０２６２】
また、長時間使用しても目が疲労し難い明度が高く淡い色を呈する光と、鮮やかな赤色
と、異なる鮮やかな色を呈する光を発する発光パネルを備える。発光素子を駆動する条件
を発光色ごとに調整することで、使用者が色相を調節できる照明装置を実現できる。
【０２６３】
図１６（Ａ）及び図１６（Ｂ）は２つ折り可能なタブレット型端末である。図１６（Ａ
）は、開いた状態であり、タブレット型端末は、筐体９６３０、表示部９６３１ａ、表示
部９６３１ｂ、表示モード切り替えスイッチ９０３４、電源スイッチ９０３５、省電力モ
ード切り替えスイッチ９０３６、留め具９０３３、操作スイッチ９０３８、を有する。な
お、当該タブレット端末は、発光装置を表示部９６３１ａ、表示部９６３１ｂの一方又は
両方に用いることにより作製される。
【０２６４】
表示部９６３１ａは、一部をタッチパネルの領域９６３２ａとすることができ、表示さ
れた操作キー９６３７にふれることでデータ入力をすることができる。なお、表示部９６
３１ａにおいては、一例として半分の領域が表示のみの機能を有する構成、もう半分の領
域がタッチパネルの機能を有する構成を示しているが該構成に限定されない。表示部９６
３１ａの全ての領域がタッチパネルの機能を有する構成としてもよい。例えば、表示部９
６３１ａの全面をキーボードボタン表示させてタッチパネルとし、表示部９６３１ｂを表
示画面として用いることができる。
【０２６５】
また、表示部９６３１ｂにおいても表示部９６３１ａと同様に、表示部９６３１ｂの一
部をタッチパネルの領域９６３２ｂとすることができる。また、タッチパネルのキーボー
ド表示切り替えボタン９６３９が表示されている位置に指やスタイラスなどでふれること
で表示部９６３１ｂにキーボードボタン表示することができる。
【０２６６】
また、タッチパネルの領域９６３２ａとタッチパネルの領域９６３２ｂに対して同時に
タッチ入力することもできる。
【０２６７】
また、表示モード切り替えスイッチ９０３４は、縦表示または横表示などの表示の向き
を切り替え、白黒表示やカラー表示の切り替えなどを選択できる。省電力モード切り替え
スイッチ９０３６は、タブレット型端末に内蔵している光センサで検出される使用時の外
光の光量に応じて表示の輝度を最適なものとすることができる。タブレット型端末は光セ
ンサだけでなく、ジャイロ、加速度センサ等の傾きを検出するセンサなどの他の検出装置
を内蔵させてもよい。
【０２６８】
また、図１６（Ａ）では表示部９６３１ｂと表示部９６３１ａの表示面積が同じ例を示
しているが特に限定されず、一方のサイズともう一方のサイズが異なっていてもよく、表
示の品質も異なっていてもよい。例えば一方が他方よりも高精細な表示を行える表示パネ
ルとしてもよい。
【０２６９】
図１６（Ｂ）は、閉じた状態であり、タブレット型端末は、筐体９６３０、太陽電池９
６３３、充放電制御回路９６３４、バッテリー９６３５、ＤＣＤＣコンバータ９６３６を
有する。なお、図１６（Ｂ）では充放電制御回路９６３４の一例としてバッテリー９６３
５、ＤＣＤＣコンバータ９６３６を有する構成について示している。
【０２７０】
なお、タブレット型端末は２つ折り可能なため、未使用時に筐体９６３０を閉じた状態
にすることができる。従って、表示部９６３１ａ、表示部９６３１ｂを保護できるため、
耐久性に優れ、長期使用の観点からも信頼性の優れたタブレット型端末を提供できる。
【０２７１】
また、この他にも図１６（Ａ）及び図１６（Ｂ）に示したタブレット型端末は、様々な
情報（静止画、動画、テキスト画像など）を表示する機能、カレンダー、日付又は時刻な
どを表示部に表示する機能、表示部に表示した情報をタッチ入力操作又は編集するタッチ
入力機能、様々なソフトウェア（プログラム）によって処理を制御する機能、等を有する
ことができる。
【０２７２】
タブレット型端末の表面に装着された太陽電池９６３３によって、電力をタッチパネル
、表示部、または映像信号処理部等に供給することができる。なお、太陽電池９６３３は
、筐体９６３０の一面または二面に効率的なバッテリー９６３５の充電を行う構成とする
ことができるため好適である。なおバッテリー９６３５としては、リチウムイオン電池を
用いると、小型化を図れる等の利点がある。
【０２７３】
また、図１６（Ｂ）に示す充放電制御回路９６３４の構成、及び動作について図１６（
Ｃ）にブロック図を示し説明する。図１６（Ｃ）には、太陽電池９６３３、バッテリー９
６３５、ＤＣＤＣコンバータ９６３６、コンバータ９６３８、スイッチＳＷ１乃至ＳＷ３
、表示部９６３１について示しており、バッテリー９６３５、ＤＣＤＣコンバータ９６３
６、コンバータ９６３８、スイッチＳＷ１乃至ＳＷ３が、図１６（Ｂ）に示す充放電制御
回路９６３４に対応する箇所となる。
【０２７４】
まず外光により太陽電池９６３３により発電がされる場合の動作の例について説明する
。太陽電池で発電した電力は、バッテリー９６３５を充電するための電圧となるようＤＣ
ＤＣコンバータ９６３６で昇圧または降圧がなされる。そして、表示部９６３１の動作に
太陽電池９６３３からの電力が用いられる際にはスイッチＳＷ１をオンにし、コンバータ
９６３８で表示部９６３１に必要な電圧に昇圧または降圧をすることとなる。また、表示
部９６３１での表示を行わない際には、ＳＷ１をオフにし、ＳＷ２をオンにしてバッテリ
ー９６３５の充電を行う構成とすればよい。
【０２７５】
なお太陽電池９６３３については、発電手段の一例として示したが、特に限定されず、
圧電素子（ピエゾ素子）や熱電変換素子（ペルティエ素子）などの他の発電手段によるバ
ッテリー９６３５の充電を行う構成であってもよい。例えば、無線（非接触）で電力を送
受信して充電する無接点電力電送モジュールや、また他の充電手段を組み合わせて行う構
成としてもよい。
【０２７６】
また、上記実施の形態で説明した発光装置を具備していれば、図１５及び図１６に示し
た電子機器に特に限定されないことは言うまでもない。
【０２７７】
上述した電子機器や照明装置などの発光装置には、本発明の一態様の封止体の作製方法
を適用することができる。したがって、クラックの発生が抑制された、極めて信頼性の高
い電子機器や照明装置などの発光装置とすることができる。
【０２７８】
本実施の形態は、本明細書中に記載する他の実施の形態と適宜組み合わせて実施するこ
とができる。
【符号の説明】
【０２７９】
１０        円状レーザ
１１        ガラス層
１００      線状レーザ
１０１      長軸
１０１ａ    長軸方向
１０２      短軸
１０２ａ    短軸方向
１０３      走査方向
１１０      ガラス層
１１１      第１の基板
１１２      第２の基板
１１５      角部
１１７      回転軸
１１８      中心
１２０      円状レーザ
１２１      射出口
１２３      被照射面
１２５      遮光マスク
１２７      シリンドリカルレンズ
１３１      縞
２００      表示装置
２０１      表示部
２０２      走査線駆動回路
２０３      信号線駆動回路
２０５      外部入力端子
２０７      ＦＰＣ
２０９      接続体
２１１      トランジスタ
２１２      トランジスタ
２１３      トランジスタ
２１４      トランジスタ
２１５      絶縁層
２１６      絶縁層
２１７      絶縁層
２１８      絶縁層
２１９      絶縁層
２２０      発光素子
２２３      画素電極
２２５      ＥＬ層
２２７      共通電極
２２９      カラーフィルタ
２３１      ブラックマトリクス
２３３      オーバーコート
２５０      表示装置
３００      照明装置
３０１      発光部
３０３      電極
３０５      ＥＬ層
３０７      電極
３０９      絶縁層
３１０      発光素子
３１１      取り出し電極
３１２      取り出し電極
３１４      乾燥剤
４０３      第１の電極
４０５      ＥＬ層
４０７      第２の電極
７０１      正孔注入層
７０２      正孔輸送層
７０３      発光性の有機化合物を含む層
７０４      電子輸送層
７０５      電子注入層
７０６      電子注入バッファー層
７０７      電子リレー層
７０８      複合材料層
８００      第１のＥＬ層
８０１      第２のＥＬ層
８０３      電荷発生層
７１００    テレビジョン装置
７１０１    筐体
７１０３    表示部
７１０５    スタンド
７１０７    表示部
７１０９    操作キー
７１１０    リモコン操作機
７２０１    本体
７２０２    筐体
７２０３    表示部
７２０４    キーボード
７２０５    外部接続ポート
７２０６    ポインティングデバイス
７３０１    筐体
７３０２    筐体
７３０３    連結部
７３０４    表示部
７３０５    表示部
７３０６    スピーカ部
７３０７    記録媒体挿入部
７３０８    ＬＥＤランプ
７３０９    操作キー
７３１０    接続端子
７３１１    センサ
７３１２    マイクロフォン
７４００    携帯電話機
７４０１    筐体
７４０２    表示部
７４０３    操作ボタン
７４０４    外部接続ポート
７４０５    スピーカ
７４０６    マイク
７５００    照明装置
７５０１    筐体
７５０３    発光装置
９６３０    筐体
９６３１    表示部
９６３１ａ    表示部
９６３１ｂ    表示部
９６３２ａ    領域
９６３２ｂ    領域
９６３３    太陽電池
９６３４    充放電制御回路
９６３５    バッテリー
９６３６    ＤＣＤＣコンバータ
９６３７    操作キー
９６３８    コンバータ
９６３９    キーボード表示切り替えボタン
９０３３    留め具
９０３４    表示モード切り替えスイッチ
９０３５    電源スイッチ
９０３６    省電力モード切り替えスイッチ
９０３８    操作スイッチ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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