【事件の表示】
　特許第３３４６７６２号「磁気ヘッド組立用治具」の請求項１ないし３に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３３４６７６２号の請求項１，２に係る特許を維持する。
【理　由】
［１］手続の経緯 
　特許第３３４６７６２号の請求項１〜３に係る発明についての出願は、平成９年６月３０日に特許出願した特願平９−１７４８５６号の一部を新たな出願とし、平成１４年９月６日にその発明について特許権の設定登録された後、その特許について桜井小夜子より特許異議の申立てがなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内である平成１５年１１月２８日に訂正請求がなされたものである。
　
［２］訂正の適否についての判断 
１．訂正の内容
　特許権者が求めてる訂正の内容は以下の（１）、（２）のとおりである。訂正事項（１）
　特許請求の範囲の
「【請求項１】薄膜磁気ヘッドとして組み立てる際又は得られた薄膜磁気ヘッドを磁気記録装置に組み立てる際の組立工程で、ヘッドを保持するための治具であって、体積固有抵抗値が１０6〜１０9Ω・ｃｍで、非磁性のセラミックスにより形成したことを特徴とする磁気ヘッド組立用治具。
　【請求項２】磁気ヘッドを保持したジンバルの一部を保持するための複数のスリットを備えたことを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッド組立用治具。
　【請求項３】上記セラミックスが、導電性ジルコニアセラミックス、導電性アルミナセラミックス、炭化珪素質セラミックス、チタニア系セラミックス、導電性フォルステライト系セラミックスのいずれかよりなることを特徴とする請求項１又は２記載の磁気ヘッド組立用治具。」を、
「【請求項１】薄膜磁気ヘッドとして組み立てる際又は得られた薄膜磁気ヘッドを磁気記録装置に組み立てる際の組立工程で、ヘッドを保持するための治具であって、体積固有抵抗値が１０6〜１０9Ω・ｃｍで、非磁性のセラミックスからなり、磁気ヘッドを保持したジンバルの一部を保持するための複数のスリットを備えたことを特徴とする磁気ヘッド組立用治具。
　【請求項２】上記セラミックスが、導電性ジルコニアセラミックス、導電性アルミナセラミックス、炭化珪素質セラミックス、チタニア系セラミックス、導電性フォルステライト系セラミックスのいずれかよりなることを特徴とする請求項１又は２記載の磁気ヘッド組立用治具。」とする訂正。
　
訂正事項（２）
「【０００９】
　　【課題を解決するための手段】
　そこで本発明は、薄膜磁気ヘッドとして組み立てる際又は得られた薄膜磁気ヘッドを磁気記録装置に組み立てる際の組立工程で、ヘッドを保持するための治具であって、体積固有抵抗値が１０6〜１０9Ω・ｃｍで、非磁性のセラミックスにより形成したことを特徴とする。」を、
「【０００９】
　　【課題を解決するための手段】
　そこで本発明は、薄膜磁気ヘッドとして組み立てる際又は得られた薄膜磁気ヘッドを磁気記録装置に組み立てる際の組立工程で、ヘッドを保持するための治具であって、体積固有抵抗値が１０6〜１０9Ω・ｃｍで、非磁性のセラミックスからなり、磁気ヘッドを保持したジンバルの一部を保持するための複数のスリットを備えたことを特徴とする。」とする訂正。
　
２．訂正の適否
　上記訂正事項（１）は、請求項１を削除し、請求項２，３の項の番号を繰り上げ、請求項１，２とする訂正は、特許請求の範囲の減縮を目的とした明細書の訂正に該当し、また、上記訂正事項（２）は、上記訂正事項（１）と整合を図るものであるから、明りょうでない記載の釈明を目的とした明細書の訂正に該当し、いずれも、新規事項の追加に該当せず、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。
　
３．むすび
　以上のとおりであるから、上記訂正は、特許法第１２０条の４第２項及び同条第３項のおいて準用する特許法第１２６条第２項から第４項までの規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
［３］特許異議の申立についての判断
１．特許異議申立の概要　
　申立人桜井小夜子は、証拠として甲第１〜第４号証及び参考資料１（「材料学シリーズ　セラミックの物理」　１９９８年９月２５日発行）を提出し、請求項１〜３に係る発明は、特許法第２９条２項の規定に違反してなされたものであるから、特許を取り消すべき旨主張している。
　
２．本件の請求項１，２に係る発明
　上記［２］で示したように上記訂正が認められるから、本件の請求項１，２に係る発明（以下、「本件発明１，２」という。）は、上記訂正に係る訂正明細書の特許請求の範囲の請求項１，２に記載された事項により特定されるとおりのものである。（上記、「［２］　１．」参照。）
　
３．引用刊行物
　（１）特開平８−３９４４１号公報（甲第１号証）
　（２）特開平７−７８３０７号公報（甲第２号証
　（３）米国特許第５，６０７，３４０号公報（甲第３号証）
　（４）特開平４−２３０９０４号公報（甲第４号証）
　（５）特開平３−４６１７３号公報
　参考資料１；「材料学シリーズ　セラミックスの物理」　第１３３頁〜第１３４頁　１９９８年９月２５日　株式会社内田老鶴圃発行
　導電性セラミックの周知例；特開平７−１４９５６０号公報、特開平７−２７７８２５号公報、特開平８−６７５６０号公報
　薄膜磁気ヘッドの周知例；特開平−２９１２０号公報、特開平７−１１０９１３号公報、特開平９−６３０２７号公報
　
４．刊行物に記載された事項
　刊行物（１）
「【特許請求の範囲】
　　【請求項１】　半導体装置等の部品を把持するための把持具において、少なくとも前記部品を把持する部分が、５×１０7〜１×１０9Ω・ｃｍの体積固有抵抗を有する半導電性の材料で構成されたことを特徴とする部品把持具。
「【０００３】
　このため、例えば実開昭６４−２０２５９号公報に開示されているように、体積固有抵抗が１０2〜１０6Ω・ｃｍの比較的導電性の大きいセラミックでピンセットの挟持部材や硬質膜を構成したものが提案されており、短絡事故や感電事故を防止する一方で、半導体装置における静電破壊を防止するようにしたものが提案されている。」
「【０００９】
　　【実施例】
　次に、本発明について図面を参照して説明する。図１は本発明をピンセットに適用した実施例の斜視図である。ピンセット１は導電材であるステンレスで二股形状の柄部２を構成するとともに、この柄部２の二股先端部に体積固有抵抗が５×１０7〜１×１０9Ω・ｃｍの半導電性材料で形成された把持部３を一体に接着したものである。この接着に際しては導電性の接着剤が用いられ、柄部２と把持部３とを相互に電気的に導通させた状態で接着している。
　【００１０】
　前記した把持部３の半導電性材料としては、体積固有抵抗が前記した範囲にあるものであれば良く、例えば、半導体材料であるシリコンを利用することができる。即ち、シリコンに適宜の不純物を導入してその導電性をコントロールすることによりその体積固有抵抗を前記した範囲のものに形成できる。そして、このシリコン片を研磨加工等により鋭角形状にしてピンセット１の先端部の形状とし、これを柄部２の二股先端部に導電性接接着剤により接着している。」
　
　刊行物（２）
「【００１１】
また、磁気ヘッドをピンセットで摘み、組立てを行う場合、端子８３、８４、８５、８７、８９、９０が上方に向って突出させてあり、これらの端子８３、８４、８５、８７、８９、９０がジンバルバネ７１を突き抜けている関係上、これらの端子８３、８４、８５、８７、９０に絡み接続されたコイル線（線径３０〜５０μｍ、被膜厚１〜３μｍ）にピンセットが触れてコイル線が傷つき、磁気ヘッドが市場に出回った時点で断線する虞があるという問題点があった」
「【００２３】
また、請求項３記載の構成により、端子がジンバルバネを突き抜けることなく、ＦＰＣの各接点パターンに半田付けされるために、磁気ヘッドの厚みを薄くすることができるし、また、磁気ヘッドをピンセットで摘み、組立てを行う場合、端子は横方向に突出している関係上、これらの端子に絡げ接続されたコイル線にピンセットが触れることがなく、コイル線に傷がつき、磁気ヘッドが市場に出回った時点で断線するのを防止することができる。」
　
　刊行物（３）
　第１欄６５行〜第２欄１２行に、
「したがって、上述の問題を回避するため、本発明は、スチール又はセラミック製の細長い治具本体及びクローズドラッピングシステムへの取付け用として前記治具本体の最上部付近い設けられる一対の取付け穴からなる新規な調節可能型並列加工治具を提供するものである。また、前記治具本体の縦方向の中ほどには複数の曲げ穴が設けられている。これらの曲げ穴は、前記ラッピングシステムによって始動する圧力ロッドと連結できるようにされており、これにより前記治具に負荷圧力をかけるようにしている。治具の底部に取り付けられたすり板には、複数の電磁気ヘッド等が保持されている。また、第一群及び第二群の逃げ開口部が、曲げ穴とあわせて一線をなすように、かつ、水平に保つようにされている磁気ヘッドに隣接する治具底部のごく近くに位置するように設けられている。」と記載されている。
　即ち、磁気ヘッド加工用の治具が示されているが、磁気ヘッドを保持したジンバルの一部を保持するための複数のスリットを備えた治具の記載はない。治具の底部に磁気ヘッドを保持することが記載されている。
　
　刊行物（４）
「【特許請求の範囲】
　【請求項１】
　アルミナを主成分とするマトリックス中に、Ti、Zr、Hf、NbまたはTaの窒化物および炭化物の中から選ばれる１種以上の導電性化合物を含み、かつ面抵抗率が106〜1010Ω／cm2の範囲にあることを特徴とする帯電除去用セラミックス。
　【請求項２】
　Ti、Zr、Hf、NbまたはTaの窒化物および炭化物の中から選ばれる１種以上の導電性化合物の粉末を合わせて４〜23体積％含み、残部が実質的にアルミナ粉末である混合物で、導電性化合物粉末およびアルミナ粉末の平均粒径がいずれも５μm以下であることを特徴とする帯電除去用セラミックス製造用組成物。」
「【０００６】
【発明の構成】
　本発明は前述の課題を解決すべくなされたものであり、本発明の帯電除去用セラミックスは、アルミナを主成分とするマトリックス中に、Ti、Zr、Hf、NbまたはTaの窒化物および炭化物の中から選ばれる１種以上の導電性化合物を含み、かつ面抵抗率が106〜1010Ω／cm2の範囲にあることを特徴とする。」
　
　刊行物（５）
「そこで、第５図に示すように、作業者はヘッドアーム１をガイドブロック２４に固定した状態で、ピンセット２３によりジンバルスプリング２１ａ〜２１ｄを挟み込んで内側に閉じた状態で固定してから、第４図に示すヘッドクランプ治具２２をジンバルスプリング２１ａ〜２１ｄに外接するように嵌入し、その後にピンセット２３によるジンバルスプリング２１ａ〜２１ｄの挟み込みを解除してジンバルスプリング２１ａ〜２１ｄへのヘッドクランプ治具２２ａ，２２ｂの装着を行っている。」（第２頁右上欄第第６行〜第１６行）
　
　参考資料１
　セラミックの磁気的特性が記載されている。
　
５．本件発明と引用刊行物との対比
（１）本件発明１
　引用した刊行物、参考資料、周知例のいずれにも、請求項１に記載された磁気ヘッド用組立治具が「磁気ヘッドを保持したジンバルの一部を保持するための複数のスリットを備えたこと」は記載されていない。また、異議申立人の提出した甲各号証及び参考資料を詳細に検討しても、上記構成については記載されていないことから、本件発明１は、刊行物１ないし５に記載された発明、参考資料及び周知例に基づいて当業者が容易に発明することができたものではない。
　
（２）本件発明２
　本件発明２は、本件発明１をさらに限定した発明であり、本件発明１が特許法第２９条第２項に違反するとすることはできない以上、本件発明２も特許法第２９条第２項に違反するとすることはできない。
　
４．むすび
　本件発明１，２は特許異議申立人主張の理由では取り消すことができない。
　また、他に取り消すべき理由を発見しない。
　よって結論のとおり決定する。　
【異議決定日】
平成１５年１２月１９日（２００３．１２．１９）
【訂正の要旨】
審決（決定）の【理由】欄参照。
（５４）【発明の名称】
磁気ヘッド組立用治具
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項
１
薄膜磁気ヘッドとして組み立てる際又は得られた薄膜磁気ヘッドを磁気記録装置に組み立てる際の組立工程で、ヘッドを保持するための治具であって、体積固有抵抗値が１０６〜１０９Ω・ｃｍで、非磁性のセラミックスからなり、
特徴とする磁気ヘッド組立用治具。
　【請求項
２
請求項１記載の
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【発明の属する技術分野】本発明は磁気ヘッドの組立工程において使用される治具に関するものである。
　【０００２】
　【従来の技術】磁気記録装置に使用する磁気ヘッドとしては、チタニア系セラミックスからなるスライダーにコアを備えたもの、あるいはＡｌ２Ｏ３−ＴｉＣ系セラミックスからなる基板上に薄膜手段で磁気ヘッドを形成した薄膜磁気ヘッド、この薄膜磁気ヘッドの一種であるＭＲヘッド等がある。
　【０００３】この磁気ヘッドは、微小で複雑な形状をしているため、上記のセラミックス材を所定形状に加工し、磁気ヘッドとして組立てる工程で、さまざまな治具が用いられている。
　【０００４】例えば、図１に示す治具１０は、トランスファーツールと呼ばれるもので、異形の貫通孔１１を有する板状体からなり、Ａｌ２Ｏ３−ＴｉＣ系セラミックスの基板１の研磨工程で使用する。即ち、治具１０の下面１３に基板１を貼り付けた状態で、上面１２側を保持し、図２に示すように回転する研磨盤１４に押し当てて研磨加工すると、上記貫通孔１１によって基板１を弾性的に押圧することができ、厚みを均一に調整することができる。
　【０００５】また、その他に、図３のように基板１等のセラミックス材をイオンミリング等で加工する際に保持するための治具２０や、図４のように作製された磁気ヘッドを装置に組立てる際に保持するための治具３０等もある。
　【０００６】これらの磁気ヘッド加工組立用治具は、従来より、ステンレスなどの金属やアルミナなどのセラミックスにより形成されている。
　【０００７】
　【発明が解決しようとする課題】ところで、薄膜磁気ヘッド、特にＭＲヘッドの組立工程において使用される金属製の治具は、導電性が高すぎるため導通短絡による取り扱い事故や、金属打痕による精度劣化に起因する歩留まりの低下が発生しやすいという問題があった。また、治具自体が磁気を帯びやすいため、薄膜磁気ヘッド、特にＭＲヘッド等の部品に悪影響を与えるといった問題もあった。
　【０００８】これに対し、アルミナなどのセラミックスからなる治具は、絶縁材料であるため導通短絡による不具合は解消でき、打痕による精度劣化に起因する歩留まり低下も改善することができる反面、静電気を逃がしにくいため、磁気ヘッドに悪影響を及ぼしやすいという問題点があった。
　【０００９】
　【課題を解決するための手段】そこで本発明は、薄膜磁気ヘッドとして組み立てる際又は得られた薄膜磁気ヘッドを磁気記録装置に組み立てる際の組立工程で、ヘッドを保持するための治具であって、体積固有抵抗値が１０６〜１０９Ω・ｃｍで、非磁性のセラミックス
からなり、磁気ヘッドを保持したジンバルの一部を保持するための複数のスリットを備えた
　【００１０】ここで、体積固有抵抗値を１０６〜１０９Ω・ｃｍとしたのは、体積固有抵抗値が１０９Ω・ｃｍより大きいと絶縁性が高いために静電気の除去効果が得られないからであり、逆に体積固有抵抗値が１０６Ω・ｃｍより小さくなると帯電した静電気が一気に逃げるため、大気摩擦による放電作用を防ぐことができないからである。
　【００１１】また、非磁性のセラミックスとは、残留磁束密度が１４ガウス以下であるようなセラミックスのことである。
　【００１２】
　【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を説明する。
　【００１３】図４に示す治具３０は、体積固有抵抗値が１０６〜１０９Ω・ｃｍである非磁性のセラミックスからなり、二つのスリット３１、３１を備えたものである。そして、製造した磁気ヘッドを磁気記録装置に組み立てる際に、磁気ヘッドを保持したジンバルの一部を上記スリット３１、３１に保持することができる。
　【００１４】上記治具３０は適度な体積固有抵抗値を有しているため、静電気を徐々に放出できることから、一気に静電気が放出して大気摩擦による放電作用を防ぎ、磁気ヘッドに悪影響を及ぼすことを防止できる。
　【００１５】ここで重要なことは、治具３０の体積固有抵抗値が低すぎると、静電気が一気に放出して大気摩擦による放電作用を生じ、磁気ヘッドに悪影響を及ぼしてしまう点である。そこで、本発明では、体積固有抵抗値が１０６〜１０９Ω・ｃｍと適度に導電性を有する範囲に制御することによって、静電気を徐々に放出し、磁気ヘッドに悪影響を及ぼしにくい治具３０を得るようにした。
　【００１６】しかも、上記のように体積固有抵抗値を１０６〜１０９Ω・ｃｍの範囲としておけば、導通短絡による取り扱い事故を防止できる。また、非磁性のセラミックスを用いることによって、磁気ヘッドへの悪影響を防止できる。さらに、治具３０は硬度の高いセラミックスからなるため打痕や摩耗による精度劣化も防ぐことができる。
　【００１７】このように、本発明の磁気ヘッド組立用治具とは、磁気ヘッドとして組み立てる際又は得られた磁気ヘッドを磁気記録装置に組み立てる際等の組立工程で、ヘッド等を保持するための治具等を意味する。
　【００１８】また、本発明の磁気ヘッド組立用治具は、さまざまな磁気ヘッドの組立に使用できるが、特に薄膜磁気ヘッド、中でもＭＲヘッドの組立に使用することが好ましい。
　【００１９】なお、以上の実施形態では、治具の全体を体積固有抵抗値が１０６〜１０９Ω・ｃｍで非磁性のセラミックスで形成した例を示したが、少なくとも被加工物と接触する部位を上記セラミックスで形成しておけばよく、他の材質と組み合わせて治具を構成することもできる。
　【００２０】このような本発明の磁気ヘッド組立用治具において、体積固有抵抗値が１０６〜１０９Ω・ｃｍである非磁性のセラミックスとしては、例えば導電性ジルコニアセラミックス、導電性アルミナセラミックス、炭化珪素質セラミックス、チタニア系セラミックス、導電性フォルステライト系セラミックスを用いる。
　【００２１】導電性ジルコニアセラミックスとしては、導電性付与剤として、Ｆｅ２Ｏ３、ＮｉＯ、Ｃｏ３Ｏ４、Ｃｒ２Ｏ３のうち一種以上を１０〜３５重量％の範囲で含有するか、あるいはＴｉＣ、ＷＣ、ＴａＣなどの炭化物のうち一種以上を１０〜２５重量％の範囲で含有し、残部がＹ２Ｏ３、ＣａＯ、ＭｇＯ、ＣｅＯ２等の安定化剤により部分安定化されたジルコニアからなり焼結体中における全ジルコニア量に対し、単斜晶以外のジルコニア量が９０％以上、好ましくは９５％以上であるものが良い。
　【００２２】すなわち、ジルコニアの結晶状態には立方晶、正方晶、単斜晶の３つの状態があり、特に正方晶ジルコニアは外部応力に対し、応力誘起変態を受けて単斜晶ジルコニアに相変態し、この時に生じる体積膨張によって単斜晶ジルコニアの周囲に微少なマイクロクラックを形成して外部応力の進行を阻止できるため、ジルコニアセラミックスの強度を高めることができるのであるが、単斜晶以外のジルコニア量が９０％未満であると、導電性付与剤を含有することによる強度劣化が生じるからである。
　【００２３】なお、ジルコニアの平均結晶粒子径が０．５μｍより大きくなると、曲げ強度や硬度等の機械的特性が大きく低下し、逆に０．２μｍ未満とすることは製造上難しい。したがって、ジルコニアの平均結晶粒径は０．２〜０．５μｍとすることが良い。
　【００２４】また、導電性付与剤として、Ｆｅ２Ｏ３、ＮｉＯ、Ｃｏ３Ｏ４、Ｃｒ２Ｏ３のうち一種以上を用いた場合において、これら導電性付与剤の含有量を１０〜３５重量％としたのは、１０重量％では抵抗値を下げる効果が小さく、１０６〜１０９Ω・ｃｍ以下とすることができないからであり、逆に、３５重量％より多くなると強度が極端に低下するとともに、抵抗値が１０６Ω・ｃｍ未満となり、さらには磁性を生じる恐れがあるからである。
　【００２５】また、導電性付与剤として、ＴｉＣ、ＷＣ、ＴａＣなどの炭化物のうち一種以上を用いた場合においても、これら導電性付与剤の含有量が１０重量％未満では抵抗値を１０９Ω・ｃｍ以下とすることができず、逆に、２５重量％より多くなると、抵抗値が１０６Ω・ｃｍ未満となり、さらには磁性を生じる恐れがあるからである。
　【００２６】なお、これらの導電性付与剤の平均結晶粒子径が大きすぎるとジルコニアセラミックスの曲げ強度や硬度等の機械的特性が低下するため、５μｍ以下、好ましくは３μｍ以下とすることが良い。
　【００２７】さらに、上記ジルコニアおよび導電性付与剤以外に、焼成温度抑制剤を３重量％以下の範囲で含有させても良い。焼成温度抑制剤としては、導電性付与剤としてＦｅ２Ｏ３、ＮｉＯ、Ｃｏ３Ｏ４、Ｃｒ２Ｏ３を用いる場合は、Ｃａ、Ｋ、Ｎａ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ｓｃなどの酸化物を含有すれば良く、導電性付与剤としてＴｉＣ、ＷＣ、ＴａＣなどの炭化物を用いる場合は、Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２を含有すればよい。
　【００２８】これらの焼成温度抑制剤を３重量％以下の範囲で含有させれば、焼成温度を下げてジルコニアおよび導電性付与剤の粒成長を抑えることができるため、曲げ強度や硬度等の機械的特性を高めることができる。
　【００２９】このような導電性ジルコニアセラミックスは、ビッカース硬度１０〜１３ＧＰａ、３点曲げ強度６５０〜１４００ＭＰａとすることができる。
　【００３０】また、導電性アルミナセラミックスとしては、６５〜８５重量％のＡｌ２Ｏ３を主成分とし、導電性付与剤としてＦｅ２Ｏ３、ＮｉＯ、Ｃｏ３Ｏ４、Ｃｒ２Ｏ３のうち一種以上を１５〜３５重量％の範囲で含有し、残部をＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｉＯ２等の焼結助剤とし、大気雰囲気中にて焼成したものを使用する。
　【００３１】この導電性アルミナセラミックスは、ビッカース硬度１０．５〜１８ＧＰａ、３点曲げ強度２００〜４５０ＭＰａとすることができる。
　【００３２】さらに、炭化珪素質セラミックスとしては、９０〜９８重量％のＳｉＣを主成分とし、焼結助剤としてＡｌ２Ｏ３を１〜７重量％とＹ２Ｏ３、ＣｅＯ２を合計で１〜５重量％の範囲でそれぞれ添加し、真空中または不活性ガス雰囲気中で焼成したものを用いれば良い。このように、上記範囲で焼結助剤をそれぞれ添加することにより焼結性を高め、靭性を向上させることができる。
　【００３３】この炭化珪素質セラミックスは、ビッカース硬度２２〜２４．５ＧＰａ、３点曲げ強度４５０〜６００ＭＰａとすることができる。
　【００３４】また、チタニア系セラミックスとしては、ＴｉＯ２５０〜９９重量％で、残部がＢａＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、Ａｌ２Ｏ３、ＺｒＯ２、ＳｉＯ２、ＭｇＯのうち一種または二種以上からなるチタニア系セラミックスを所定形状に成形し、焼成した後、還元雰囲気、不活性雰囲気または真空中などの非酸化雰囲気にて９００〜１２００℃で加熱処理したものを使用すれば良い。
　【００３５】このチタニア系セラミックスは、ビッカース硬度６．５〜９ＧＰａ、３点曲げ強度１７０〜３００ＭＰａとすることができる。
　【００３６】さらに、導電性フォルステライト系セラミックスは、ＭｇＯとＳｉＯ２の複合酸化物を４０〜８０重量％と、酸化鉄を６０〜２０重量％の範囲でそれぞれ含有する焼結体である。この導電性フォルステライト系セラミックスは、上記組成の原料粉末を所定形状に成形した後、１２００〜１３００℃で焼成することによって得ることができ、焼結体をＸ線回折により測定した時に、２ＭｇＯ・ＳｉＯ２、ＭｇＯＳｉＯ３の結晶を有し、かつＭｇＦｅ２Ｏ３、Ｆｅ３Ｏ４の少なくとも一種以上の結晶を有するものである。
　【００３７】上記の導電性フォルステライト系セラミックスは、ビッカース硬度５．４〜８．３ＧＰａ、３点曲げ強度１２５〜２２５ＭＰａとすることができる。
　【００３８】さらに、以上のセラミックスにおいて、磁気ヘッドに悪影響を及ぼさないために、非磁性とする。ここで、非磁性であるとは、残留磁束密度が１４ガウス以下であることを言い、上述した導電性付与剤等の含有量を調整することによって、この範囲内となるようにすれば良い。
　【００３９】また、上記のセラミックスにおいて、打痕や摩耗による精度劣化を防止するためには、ビッカース硬度８．５ＧＰａ以上、特に１０．５ＧＰａ以上であることが好ましい。さらに、使用時の破損等を防止するためには、曲げ強度２００ＭＰａ以上、特に７００ＭＰａ以上であることが好ましい。このような機械的特性の点からは、上述した導電性ジルコニアセラミックスが最適である。
　【００４０】なお、本発明の磁気ヘッド組立用治具を製造する場合は、上述した各セラミック原料を調合し、所定のバインダー成分と混合した後、プレス成形、押出成形、射出成形、鋳込成形等の方法で所定形状に成形した後、各原料に応じた条件で焼成することによって得ることができる。
　【００４１】
　【実施例】以下本発明を具体的に説明する。
　【００４２】図１に示す治具１０を導電性ジルコニアセラミックス、導電性アルミナセラミックス、炭化珪素質セラミックス、チタニア系セラミックス、導電性フォルステライト系セラミックスで作製した。なお、ここでは便宜上、図１の治具１０を作製した例について説明するが、本発明実施例である図４の治具３０についても同様の結果であった。
　【００４３】導電性ジルコニアセラミックス、導電性アルミナセラミックス、導電性フォルステライト系セラミックスは、導電性付与剤の含有量を変化させて、体積固有抵抗値、残留磁束密度を変化させた。炭化珪素質セラミックスは、ＳｉＣと焼結助剤の比率を変化させて、体積固有抵抗値、残留磁束密度を変化させ、チタニア系セラミックスは、焼成後の熱処理条件を変化させて、体積固有抵抗値、残留磁束密度を変化させた。
　【００４４】これらを用いて、静電気の除去度合い、および非磁性であるかどうかを測定した。
　【００４５】静電気の除去度合いについては、治具１０の下面１３側に１０００Ｖの電圧を印加し、治具１０の上面１２側で電圧とその降下時間を測定し、上面１２での電圧値が１００Ｖとなるまでの降下時間が、０．１〜２０秒の間にあるものを○、それ以外のものを×として評価した。また、体積固有抵抗値については、ＪＩＳ−Ｃ２１４１に規定する超絶縁抵抗計により測定した。
　【００４６】さらに、非磁性であるかどうかは、振動試料型磁力計により残留磁束密度を測定し、１４ガウス以下であったものを非磁性として評価した。
　【００４７】治具１０を構成する導電性ジルコニアセラミックスの組成は表１に、その特性と結果は表２に示す通りである。なお、上記ジルコニアセラミックスは、いずれもＺｒＯ２に対しＹ２Ｏ３を３ｍｏｌ％添加して部分安定化したものであり、導電性付与剤にはＦｅ２Ｏ３、ＮｉＯ、Ｃｏ３Ｏ４、Ｃｒ２Ｏ３、ＴｉＣ、ＷＣ、ＴａＣを使用した。
　【００４８】また、導電性アルミナセラミックスの組成は表３に、その特性と結果は表４に示す通りである。さらに、炭化珪素質セラミックスの組成は表５に、その特性と結果は表６に示す通りである。また、チタニア系セラミックスの組成、熱処理条件は表７に、その特性と結果は表８に示す通りである。さらに、導電性フォルステライト系セラミックスの組成は表９に、その特性と結果は表１０に示す通りである。
　【００４９】
　【表１】
　【００５０】
　【表２】
　【００５１】
　【表３】
　【００５２】
　【表４】
　【００５３】
　【表５】
　【００５４】
　【表６】
　【００５５】
　【表７】
　【００５６】
　【表８】
　【００５７】
　【表９】
　【００５８】
　【表１０】
　【００５９】この結果、導電性ジルコニアセラミックスに関して、まず試料Ｎｏ．１〜７は導電性付与剤としてＦｅ２Ｏ３を含有したものであるが、このうち試料Ｎｏ．１はＦｅ２Ｏ３の含有量が１０重量％未満であるため体積固有抵抗値が１０９Ω・ｃｍより大きく、その結果、電圧が所定値になるまでに時間がかかり、静電気除去効果が得られなかった。
　【００６０】また、試料Ｎｏ．６、７はＦｅ２Ｏ３の含有量が３５重量％より多く、体積固有抵抗値が１０６Ω・ｃｍより小さいことから短時間で電圧が所定値まで降下し静電気が一気に逃げることが判った。しかも、Ｆｅ２Ｏ３の含有量が多いため磁性を有していた。
　【００６１】これに対し、試料Ｎｏ．２〜５はＦｅ２Ｏ３の含有量が１０〜３５重量％の範囲にあり、非磁性で、体積固有抵抗値が１０６〜１０９Ω・ｃｍの範囲にあるため適度な速度で静電気を除去できることが判った。
　【００６２】また、試料Ｎｏ．８〜１３は導電性付与剤にＮｉＯ、Ｃｏ３Ｏ４、Ｃｒ２Ｏ３をそれぞれ用いたものであるが、いずれもその含有量が１０〜３５重量％の範囲にあり、体積固有抵抗値が１０６〜１０９Ω・ｃｍの範囲にあった。そのため適度なスピードで静電気を除去することができた。
　【００６３】一方、試料Ｎｏ．１４〜１７は、導電性付与剤としてＴｉＣを含有したものであるが、このうち試料Ｎｏ．１４はＴｉＣの含有量が１０重量％未満であるために体積固有抵抗値が１０９Ω・ｃｍより大きく、充分な静電気除去効果が得られなかった。また、試料Ｎｏ．１７はＴｉＣの含有量が２５重量％よりも多いために体積固有抵抗値が１０６Ω・ｃｍより小さく、一気に静電気が逃げることが判った。しかも、ＴｉＣの含有量が多いため磁性を有していた。これに対し、試料Ｎｏ．１５、１６はＴｉＣ含有量が１０〜２５重量％の範囲にあり、体積固有抵抗値が１０６〜１０９Ω・ｃｍの範囲とすることができた。そのため、適度なスピードで静電気を除去できることが判った。
　【００６４】さらに、試料Ｎｏ．１８〜２１は導電性付与剤にＷＣ、ＴａＣをそれぞれ用いたものであるが、いずれもその含有量が１０〜２５重量％の範囲にあり、体積固有抵抗値を１０６〜１０９Ω・ｃｍの範囲とすることができた。そのため、適度なスピードで静電気を除去することができた。
　【００６５】また、導電性アルミナセラミックス、炭化珪素質セラミックス、チタニア系セラミックス、導電性フォルステライト系セラミックスの場合も同様に、試料Ｎｏ．２３、２４、２６、２７、２９、３０、３１、３２、３５〜３７、４２〜４６は、体積固有抵抗値を１０６〜１０９Ω・ｃｍの範囲とすることができた。そのため、適度なスピードで静電気を除去することができた。
　【００６６】この結果、導電性ジルコニアセラミックスにあっては、導電性付与剤として、Ｆｅ２Ｏ３、ＮｉＯ、Ｃｏ３Ｏ４、Ｃｒ２Ｏ３を用いる場合、その含有量を１０〜３５重量％とし、導電性付与剤としてＴｉＣ、ＷＣ、ＴａＣを用いる場合、その含有量を１０〜２５重量％とすれば良いことがわかった。また、導電性アルミナセラミックスにあっては、導電性付与剤としてＦｅ２Ｏ３、ＮｉＯ、Ｃｏ３Ｏ４、Ｃｒ２Ｏ３を用いる場合、その含有量を１５〜３５重量％とすれば良く、炭化珪素質セラミックスにあっては、９０〜９８重量％のＳｉＣに対し、焼結助剤としてＡｌ２Ｏ３を１〜７重量％とＹ２Ｏ３、ＣｅＯ２を合計で１〜５重量％とすれば良いことがわかった。
　【００６７】さらに、チタニア系セラミックスにあっては、ＴｉＯ２５０〜９９重量％で残部がＢａＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、Ａｌ２Ｏ３、ＺｒＯ２、ＳｉＯ２、ＭｇＯのうち一種または二種以上からなるものとし、焼成後に、還元雰囲気、不活性雰囲気または真空中などの非酸化雰囲気にて９００〜１２００℃で加熱処理を行えば良いことがわかった。また、導電性フォルステライト系セラミックスにあっては、ＭｇＯとＳｉＯ２の複合酸化物を４０〜８０重量％と、酸化鉄を６０〜２０重量％の範囲でそれぞれ含有すれば良いことが判った。
　【００６８】このようにすれば、体積固有抵抗値１０６〜１０９Ω・ｃｍであるセラミックスを得ることができ、適度なスピードで静電気を除去することが可能な磁気ヘッド組立用治具を提供できることが判る。
　【００６９】
　【発明の効果】以上詳述した通り、本発明によれば、磁気ヘッドの組立工程において使用される治具を、体積固有抵抗値が１０６〜１０９Ω・ｃｍのセラミックスにより形成したことによって、静電気を徐々に逃がすことができるため、導通短絡による取り扱い不良事故を生じることなく静電気を逃がすことができ、しかも非磁性のセラミックスを用いることにより磁気ヘッドに悪影響を及ぼすことを防止できる。しかも、導通短絡事故を防止できるとともに、硬度の高いセラミックスを用いることによって、長期間にわたって良好に使用することができる。
　【００７０】したがって、本発明の治具は、磁気ヘッドの中でも薄膜磁気ヘッド、特にＭＲヘッドの製造工程における組立工程において、良好に使用することができる。
【図面の簡単な説明】
　【図１】磁気ヘッド加工用治具を示す斜視図である。
　【図２】図１に示す磁気ヘッド加工用治具の使用状態を示す斜視図である。
　【図３】磁気ヘッド加工用治具を示す斜視図である。
　【図４】本発明の磁気ヘッド組立用治具を示す斜視図である。
　【符号の説明】
　１０：治具
　１１：貫通孔
　１２：上面
　１３：下面
　２０：治具
　２１：溝
　３０：治具
　３１：スリット