【事件の表示】
　特許第３３０２１８６号「透明導電性被膜付基材、その製造方法および該基材を備えた表示装置」の請求項１ないし８に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３３０２１８６号の請求項１ないし６に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続の経緯
　本件特許第３３０２１８６号の手続の経緯は次のとおりである。
　特許出願　　　　　　　　　　　　　　　平成　６年　９月　１日
　設定登録　　　　　　　　　　　　　　　平成１４年　４月２６日
　特許掲載公報発行　　　　　　　　　　　平成１４年　７月１５日
　特許異議申立（異議申立人：安藤吉之助）（異議番号１）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　平成１５年　１月１４日
　特許異議申立（異議申立人：住友大阪セメント株式会社）（異議番号２）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　平成１５年　１月１４日
　特許異議申立（異議申立人：住友大阪セメント株式会社）（異議番号３）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　平成１５年　１月１４日
　取消理由通知　　　　　　　　　　　　　平成１５年　５月１９日付け
　訂正請求　　　　　　　　　　　　　　　平成１５年　７月２９日
　（平成１６年２月３日　取り下げ）
　特許異議意見書　　　　　　　　　　　　平成１５年　７月２９日
　審尋　　　　　　　　　　　　　　　　　平成１５年　８月　５日
　回答書（異議番号１）　　　　　　　　　平成１５年　９月１２日
　回答書（異議番号３）　　　　　　　　　平成１５年１０月１０日
　取消理由通知　　　　　　　　　　　　　平成１５年１１月１７日付け
　訂正請求　　　　　　　　　　　　　　　平成１６年　２月　３日
　特許異議意見書　　　　　　　　　　　　平成１６年　２月　３日
　
２．訂正の適否についての判断
２−１．訂正の内容
　訂正の内容は、平成１６年２月３日付けの訂正請求書及びそれに添付された訂正明細書の記載からみて、下記（１）〜（５）のとおりである。
（１）訂正事項ａ 
 　特許請求の範囲の請求項１の「平均粒径２〜２００ｎｍの金属微粒子からなる透明導電性微粒子層」を、「（ｉ）導電性微粒子としての平均粒径２〜２００ｎｍの、Ａｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｓｎ、Ｉｎから選ばれる金属微粒子と（ｉｉ）マトリックスとを含み、マトリックスが導電性微粒子に対して０．２重量部以下の量で含まれる透明導電性微粒子層」と訂正して、請求項１を以下のとおりに訂正する。
「【請求項１】（ｉ）導電性微粒子としての平均粒径２〜２００ｎｍの、Ａｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｓｎ、Ｉｎから選ばれる金属微粒子と（ｉｉ）マトリックスとを含み、マトリックスが導電性微粒子に対して０．２重量部以下の量で含まれる透明導電性微粒子層が基材上に形成され、前記微粒子層上に該微粒子層よりも屈折率の低い透明被膜が形成されていることを特徴とする透明導電性被膜付基材。」
　
（２）訂正事項ｂ
　特許請求の範囲の請求項３、７を削除し、請求項４〜６、および８をそれぞれ請求項３〜６に繰り上げて、新請求項３、５の引用項をそれぞれ「請求項１」及び「請求項４」とするとともに（訂正事項ｂ−１）、訂正前の請求項５の「平均粒径が２〜２００ｎｍである金属微粒子を水および／または有機溶媒中に分散してなる透明導電性微粒子層形成用塗布液」を、「（ｉ）導電性微粒子としての平均粒径２〜２００ｎｍの、Ａｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｓｎ、Ｉｎから選ばれる金属微粒子と（ｉｉ）マトリックスとが、マトリックスが導電性微粒子に対して０．２重量部以下の量で、水および／または有機溶媒中に分散してなる透明導電性微粒子層形成用塗布液であり、かつ塗布液中に存在するイオン濃度が、塗布液中に含まれる全固形分１００ｇ当り１０ミリモル以下である塗布液」として（訂正事項ｂ−２）、請求項２〜６を以下のように訂正する。
「【請求項２】　前記微粒子層がさらに金属微粒子以外の導電性微粒子を含有してなることを特徴とする請求項１に記載の透明導電性被膜付基材。
【請求項３】　前記マトリックスがシリカからなることを特徴とする請求項１に記載の透明導電性被膜付基材。
【請求項４】　（ｉ）導電性微粒子としての平均粒径２〜２００ｎｍの、Ａｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｓｎ、Ｉｎから選ばれる金属微粒子と（ｉｉ）マトリックスとが、マトリックスが導電性微粒子に対して０．２重量部以下の量で、水および／または有機溶媒中に分散してなる透明導電性微粒子層形成用塗布液であり、かつ塗布液中に存在するイオン濃度が、塗布液中に含まれる全固形分１００ｇ当り１０ミリモル以下である塗布液を、基材上に塗布・乾燥して透明導電性微粒子層を形成し、次いで前記微粒子層上に該微粒子層よりも屈折率の低い透明被膜を形成することを特徴とする透明導電性被膜付基材の製造方法。
【請求項５】　前記塗布液が、さらに金属微粒子以外の導電性微粒子を含有していることを特徴とする請求項４に記載の透明導電性被膜付基材の製造方法。
【請求項６】　請求項１ないし３のいずれか１項に記載の透明導電性被膜付基材で構成された前面板を備え、透明導電性被膜が該前面板の外表面に形成されていることを特徴とする表示装置。」
　
（３）訂正事項ｃ
　特許明細書の【００１３】の「平均粒径２〜２００ｎｍの金属微粒子からなる透明導電性微粒子層」を、「（ｉ）導電性微粒子としての平均粒径２〜２００ｎｍの、Ａｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｓｎ、Ｉｎから選ばれる金属微粒子と（ｉｉ）マトリックスとを含み、マトリックスが導電性微粒子に対して０．２重量部以下の量で含まれる透明導電性微粒子層」と訂正する。
　
（４）訂正事項ｄ
　特許明細書の【００１４】の「平均粒径が２〜２００ｎｍである金属微粒子を水および／または有機溶媒中に分散してなる透明導電性微粒子層形成用塗布液」を、「（ｉ）導電性微粒子としての平均粒径２〜２００ｎｍの、Ａｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｓｎ、Ｉｎから選ばれる金属微粒子と（ｉｉ）マトリックスとが、マトリックスが導電性微粒子に対して０．２重量部以下の量で、水および／または有機溶媒中に分散してなる透明導電性微粒子層形成用塗布液であり、かつ塗布液中に存在するイオン濃度が、塗布液中に含まれる全固形分１００ｇ当り１０ミリモル以下である塗布液」と訂正する。
　
（５）訂正事項ｅ
　特許明細書の【００１８】の「Ａｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｔａなどの金属微粒子」を、「Ａｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｓｎ、Ｉｎなどの金属微粒子」と訂正する。
　
２−２．訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
（１）訂正事項ａについて
　訂正事項ａは、特許請求の範囲の請求項１に記載された「平均粒径２〜２００ｎｍの金属微粒子からなる透明導電性微粒子層」を、より下位概念である、「（ｉ）導電性微粒子としての平均粒径２〜２００nmの、Ａｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎi，Ｃｏ、Ｓｎ、Ｉｎから選ばれる金属微粒子と（ｉｉ）マトリックスとを含み、マトリックスが導電性微粒子に対して０２重量部以下の量で含まれる透明導電性微粒子層」に限定しようとするものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。
　そして、訂正事項ａの「（ｉ）導電性微粒子としての・・・Ａｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎi、Ｃｏ、Ｓｎ、Ｉｎから選ばれる金属微粒子」は、特許明細書【００１８】の「・・・金属微粒子としては・・・Ａｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎi、Ｃｏ、Ｓｎ、ｌｎ、Ｔi、ＡＩ、Ｔａなどの金属微粒子・・・」という記載に基づく事項であり、同「（ｉｉ）マトリックスとを含み、マトリックスが導電性微粒子に対して０．２重量部以下の量で含まれる透明導電性微粒子層」は、訂正前の請求項３の「前記微粒子層がさらにマトリックスを含有している・・・」、及び、特許明細書【００２６】の「・・・マトリックスの含有量は全導電性微粒子１重量部当たり０．２重量部以下であることが望ましい。」という記載に基づく事項であるから、訂正事項ａは、願書に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内における訂正であって、新規事項を追加するものでも、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。
　
（２）訂正事項ｂについて
　訂正事項ｂ−１は、上述の訂正事項ａ、及び後述の訂正事項ｂ−２により、訂正前の請求項３，７が、それぞれ訂正後の請求項１，４に取り込まれたことにより、訂正前の請求項３，７を削除するとともに、請求項の項番を繰り上げ、かつ、引用する請求項の関係を整理したものであって、特許請求の範囲の減縮、及び明りょうでない記載の釈明を目的とするものであり、新規事項を追加するものでも、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。
　訂正事項ｂ−２は、訂正前の請求項５における塗布液について限定を加え、新請求項４とするものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とする訂正である。
　そして、訂正事項ｂ−２の「（ｉ）導電性微粒子としての・・・Ａｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎi、Ｃｏ、Ｓｎ、ｌｎから選ばれる金属微粒子」は、特許明細書【００１８】の「・・・Ａｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎi、Ｃｏ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｔi、ＡＩ、Ｔａなどの金属微粒子・・・」という記載に基づくものであり、同「（ｉｉ）マトリックスとが、マトリックスが導電性微粒子に対して０．２重量部以下の量で、水および／または有機溶媒中に分散してなる透明導電性微粒子層形成用塗布液」は、訂正前の請求項７の「前記塗布液が、さらにマトリックス形成成分を含有している・・・」、及び、特許明細書【００３６】の「・・・マトリックスの含有量が全導電性微粒子１重量部当たり０．２重量部以下となるような量で、・・・透明導電性微粒子層形成用塗布液中に・・・含まれていることが望ましい。」という記載に基づくものであり、同「塗布液中に存在するイオン濃度が、塗布夜中に含まれる全固形分１００ｇ当り１０ミリモル以下である」は、特許明細書【００４５】の「また、本発明で用いられる透明導電性微粒子層形成用塗布液では、塗布液中に存在するアルカリ金属イオン、アンモニアイオンおよび多価金属イオンなどの陽イオン、ならびに鉱酸などの無機陰イオン、酢酸、蟻酸などの有機陰イオンのイオン濃度の合計量が、塗布夜中に含まれる全固形分１００ｇ当り１０ミリモル以下であることが好ましい。・・・」という記載に基づくものである。
　したがって、訂正事項ｂ−２は、新規事項を追加するものでも、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。
　
（３）訂正事項ｃ〜ｅについて
　訂正事項ｃ〜ｅは、発明の詳細な説明の記載を訂正事項ａ、及び訂正事項ｂ−２と整合させたものであるから、明りょうでない記載の釈明を目的とする訂正であって、新規事項を追加するものでも、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。
　
２−３．むすび
　したがって、上記訂正は、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第６条第１項の規定によりなお従前の例によるとされる、特許法第１２０条の４第３項において準用する平成６年法律第１１６号による改正前の特許法第１２６条第１項ただし書、第２項及び第３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
３．特許異議の申立てについての判断
３−１．特許異議の申立ての概要
　特許異議申立人安藤吉之助による特許異議の申立（以下「申立１」という。）、及び、特許異議申立人住友大阪セメント株式会社による異議番号２，３の特許異議の申立（以下、それぞれ「申立２」、「申立３」という。）の理由の概要は、本件の請求項１〜８に係る発明は、その出願の日前に日本国内又は外国において頒布された刊行物である各甲号証（申立１：甲第１〜５号証、申立２，３：甲第１〜７号証）に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、請求項１〜８に係る発明の特許は特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものであり、取り消されるべきであるというものである。
　　
３−２．本件発明
　本件の請求項１〜６に係る発明は、上記訂正が認容されるから、上記訂正に係る訂正明細書の特許請求の範囲の請求項１〜６に記載されたとおりのものと認める。（上記２．２−１．（１）訂正事項ａ、及び（２）訂正事項ｂ参照。以下、これらの本件請求項１〜６に係る発明を、それぞれ「本件発明１〜６」という。）
　
３−３．取消理由の引用刊行物
　当審が平成１５年１１月１７日付けで通知した取消理由において引用した刊行物１〜４には、それぞれ、以下の記載がある。
　
（１）刊行物１：特開平６−２３４５５２号公報（申立１の甲第１号証）
１−ア．「ＩＴＯ分散シリケート膜とオーバーコートとの２層積層からなり、ＩＴＯ分散シリケート膜を第１層，オーバーコートを第２層としてガラス基板上に形成する電界シールド用透明導電膜であって、ＩＴＯ分散シリケート膜は、ＩＴＯ粒子をシリケートマトリックスに分散させた膜であり、０．０７〜０．６０μｍの膜厚を有し、ＩＴＯ粒子は、粒径が５０ｎｍ以下の粒子を粒子体積分率で５０％以上含み、膜体積に対するＩＴＯ粒子の体積は、体積率で３５〜９５％であり、オーバーコートは、０．０８μｍ以上の厚みの透明なシリケートガラス層であることを特徴とする電界シールド用透明導電膜。」（特許請求の範囲の請求項１）
　
１−イ．「本発明は、ＯＡ機器のディスプレイ，テレビジョンのブラウン管などの前面ガラスの表面処理に用いる電界シールド用の透明導電膜に関する。・・・コンピュータの陰極線管（ＣＲＴ）に接して仕事を行う場合にＣＲＴは、単に静電気によるＣＲＴ表面のホコリの付着，電撃ショックの防止に止まらず、・・・漏洩Ｘ線や漏洩電磁界の人体への影響が安全基準をクリアすることが要求される。」（【０００１】〜【０００３】）
　
１−ウ．「・・・上に記載の構造を持つＩＴＯ分散シリケート膜とオーバーコート膜とは、波長５５０ｎｍの可視光屈折率がそれぞれほぼ１．６〜２．０及び１．４となる。従って、・・・特にオーバーコート膜については、第１層との屈折率差が十分あるため、反射光の抑制効果が大きい。・・・」（【００２０】）
　
１−エ．「表１（表１には、使用ＩＴＯ粉のＩＴＯ粉Ａの平均粒径が２５．３ｎｍであることが記載されている。）
（実施例１）表１に示すＩＴＯ超微粉Ａを１５ｇ・・・ボールミル混合してＩＴＯ分散溶液を作製した。一方、多摩化学工業製エチルシリケート４０を１．５ｇ，ジアセトンアルコール・・・の混合溶液を撹拌しながら、５％塩酸水溶液・・・の混合溶液を滴下して、エチルシリケート溶液を調整した。これらの２液を混合し、・・・板ガラス上にビーカから滴下した。・・・板ガラスは、・・・予熱し、同インクを２枚の板ガラスにスピンコートした。スピンコート終了後、その１枚は１７０℃で１０分乾燥し、膜厚を計測し、表面抵抗を測定した。もう１枚はそのままスピンコーター上で・・・オーバーコート用溶液を滴下し、・・・オーバーコートガラス付きのＩＴＯ分散シリケート膜を製膜した。オーバーコート用溶液は、予め、・・・エチルシリケート溶液を調整し、これをエタノールでエチルシリケートが３％になるように希釈して作製した。」（【００２７】〜【００３０】）
　
（２）刊行物２：特開平６−２１２１２５号公報（申立１の甲第５号証、申立２の甲第７号証、申立３の甲第５号証）
２−ア．「従来より、ガラス、プラスチックなどの基板の表面に反射防止性能、帯電防止性能などのような様々な機能を付与する目的で、無機化合物微粒子とマトリックスとを含む被膜形成用塗布液を用いて基材表面に被膜が形成されている。たとえば、陰極線管、蛍光表示管、プラズマ表示板、液晶表示板などの表示パネル表面の外光反射および帯電を防止する目的で、これらの表面に反射防止性能と帯電防止性能とを有する透明被膜を形成する方法、およびこのような透明被膜を形成するために用いられる塗布液が提案されている。」（【０００２】〜【０００３】）
　
 ２−イ．「【実施例１３〜２２、比較例２】
Ｉ．被膜付基材の製造
ガラス板を基材として、その表面に、上記実施例１〜１２および比較例１の被膜形成用塗布液を用いて、表５のように１層または２層の透明被膜を形成して、実施例１３〜２２および比較例２の被膜付基材を製造した。」（【００９３】）
　
２−ウ．表４には、実施例６の被膜形成用塗布液が、無機化合物ゾルＦ１（表３より、粒径１０ｎｍのアンチモンドープ酸化錫を含むゾルで、イオン濃度１．１ｍｍｏｌ／固形分１００ｇである。）を純水とイソプロピルアルコールで希釈したものであり、実施例７の被膜形成用塗布液が、マトリックス溶液Ｍ１（表２より、エチルシリケート２８を含む溶液）をエタノールで希釈したものであることが、また、表５には、実施例２０の被膜付基材として、実施例６の塗布液を用いた第１層と、実施例７の塗布液を用いた第２層の透明被膜を形成したものが記載されている。       
　
（３）刊行物３：特開平５−３４３００７号公報（申立２の甲第２号証、申立３の甲第２号証）
３−ア．「【請求項１】　フェース・プレートの外表面に形成された高屈折率透明導電層と、この高屈折率透明導電層の外表面に形成された低屈折率透明層とよりなる２層コート層を備えた陰極線管。」（特許請求の範囲の請求項１）
　
３−イ．「この発明は、フェース・プレートの表面上に反射防止膜、帯電防止膜および電磁波遮蔽膜を具備した陰極線管（以下、「ＣＲＴ」という）およびその製造方法に関する。」（【０００１】）
　
３−ウ．「【実施例】実施例１．以下、この発明の一実施例を図について説明する。図１において、１３はフェース・プレート部３の表面に形成された２層コート層で、フェース・プレート部３から見て、第１層目は酸化インジウム（Ｉｎ2 Ｏ3 ）超微粒子が分散された高屈折率透明導電層１４、第２層目はシリカの低屈折率透明層１５からなっている。ここで第１層目の高屈折率透明導電層１４は、酸化インジウム（Ｉｎ2 Ｏ3 ）超微粒子を分散混合した−ＯＨ基および／または−ＯＲ基を有するシリコン（Ｓｉ）アルコキシドのアルコール溶液をスピン塗布し、乾燥またはキュアリングを施すことにより形成し、第２層目の低屈折率透明層１５は、−ＯＨ基および／または−ＯＲ基を有するシリコン（Ｓｉ）アルコキシドのアルコール溶液をスピン塗布し、乾燥またはキュアリング（焼付け）を施すことにより形成する。・・・」（【００２４】）
　
３−エ．「実施例６．なお、実施例１では、第１層目の高屈折率透明導電層１４を、酸化インジウム（Ｉｎ2 Ｏ3 ）超微粒子を分散混合した−ＯＨ基および／または−ＯＲ基を有するシリコン（Ｓｉ）アルコキシドのアルコール溶液を塗布することにより形成したが、シリコン（Ｓｉ）アルコキシドを用いないでバインダーレスの酸化インジウム（Ｉｎ2 Ｏ3 ）超微粒子膜を形成してもよい。また、高屈折率低抵抗透明導電層１４を形成するためのベース塗料としては、タンタル（Ｔａ）、チタン（Ｔｉ）またはジルコニウム（Ｚｒ）等の金属元素と有機化合物のアルコール溶液を用いてもよい。」（【００３６】）
　
（４）刊行物４：特開平５−２３４５３８号公報（申立２の甲第３号証、申立３の甲第１号証）
４−ア．「 二酸化珪素の層と防眩層より成る二重層を有する、基体上の反射防止及び帯電防止コーティングにおいて、防眩層は珪酸リチウムより成ることを特徴とする反射防止及び帯電防止コーティング。」（特許請求の範囲）
　
４−イ．「本発明の好適な実施態様では、二酸化珪素の層は少なくとも一種の導電性金属酸化物を含む帯電防止層である。適当な透明な導電性金属酸化物は酸化錫、酸化インジウム、酸化アンチモン及びこれ等の混合物である。吸湿性材料や金属及び金属化合物特にパラジウム化合物のようなそれ自体は公知の他の材料を帯電層に所要の導電率を与えるのに代りに用いることもできる。」【０００７】
　
 ４−ウ．「実施例１　図１は本発明の反射防止および帯電防止コーティングを有する基体２を示し、このコーティングは、少なくとも一種の導電性金属酸化物を有する二酸化珪素の帯電防止層４と珪酸リチウムの防眩層６とより成る。
このようなコーティングは、本発明により次のような方法でつくられた。陰極線管の表示スクリーンは完全に洗浄され、その後、第１の帯電防止層がスピンコーティングにより設けられた、このコーティングの材料は、重量で２％のテトラエチルオルト珪酸塩 Si (OC2H5)4のエタノール溶液より成り、この溶液には、重量で１％の、酸化錫 SnO2 と酸化アンチモンの１：0.15　混合物が導電性材料として分散された。・・・」（【００１６】〜【００１７】）
　
３−４．対比
　刊行物１には、コンピュータの陰極線管などの前面ガラスの表面処理に用いる電界シールド用の透明導電膜に関し（１−イ）、１ＴＯ分散シリケート膜を第１層、オーバーコートを第２層としてガラス基板上に形成すること（１−ア）、第１層及び第２層の可視光屈折率が、それぞれほぼ１．６〜２．０及び１．４であり、屈折率差が十分であること（１−ウ）、平均粒径が２５．３ｎｍのＩＴＯ超微粉Ａを１５ｇ含む分散溶液と、エチルシリケートを１．５ｇ含むエチルシリケート溶液との混合溶液を板ガラス上にスピンコートし、乾燥して形成した膜を第１層とし、次いでオーバーコート（第２層）を形成する（１−エ）ことが記載されている。
　１−エの記載より、刊行物１記載の第１層形成用の溶液は、「ＩＴＯ超微粉Ａ」に対して「エチルシリケート」を０．１重量部（１．５ｇ／１５ｇ）含むものであるが、「ＩＴＯ超微粉Ａ」が導電性を有することは明らかであり、かつ、「エチルシリケート」中のシリコン成分が、塗布、乾燥後「シリカ」となって第１層膜の「マトリックス」形成に寄与し、形成された「シリカ」の重量が「エチルシリケート」の重量より少なくなることも明らかであるから、この溶液により形成された第１層膜中の「マトリックス」が、ＩＴＯ超微粉である「導電性微粒子」の０．１重量部より少ない量となることは明らかである。
　してみると、刊行物１には、「導電性微粒子としての平均粒径２５．３ｎｍのＩＴＯ超微粉と、マトリックスとを含み、マトリックスが導電性微粒子に対して０．１重量部未満の量で含まれる透明導電性微粒子層が基材上に形成され、前記微粒子層上に該微粒子層の屈折率１．６〜２．０よりも低い屈折率１．４の透明被膜が形成されている透明導電性被膜付基材。」の発明が記載されているといえる。
　本件発明１（前者）と、刊行物１記載の発明（後者）とを対比すると、両者は、「導電性微粒子としての平均粒径２５．３ｎｍの導電性微粒子と、マトリックスとを含み、マトリックスが導電性微粒子に対して０．１重量部未満の量で含まれる透明導電性微粒子層が基材上に形成され、前記微粒子層上に該微粒子層よりも屈折率の低い透明被膜が形成されている透明導電性被膜付基材。」である点で一致し、以下の点で相違する。
相違点：透明導電性微粒子層が、前者は、導電性微粒子としてのＡｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｓｎ、Ｉｎから選ばれる金属微粒子を含むのに対して、後者はＩＴＯ超微粉を含む点。
　
３−５．当審の判断
　刊行物２には、陰極線管等の表示パネル表面に設ける反射防止、帯電防止用透明被膜の形成に関し（２−ア）、ガラス板を基材として、その表面に、順次、実施例６の塗布液（粒径１０ｎｍのアンチモンドープ酸化錫を含むイオン濃度１．１ｍｍｏｌ／固形分１００ｇの無機化合物ゾルＦ１、）を塗布、熱処理して得た第１層と、実施例７の塗布液（エチルシリケート２８を含むマトリックス溶液Ｍ１）を用いた第２層を形成してなる透明被膜付基材の製造方法（２−イ、２−ウ）が記載されている。
　してみると、刊行物２には、「導電性微粒子としての粒径１０ｎｍのアンチモンドープ酸化錫微粒子を含む透明導電性微粒子層が基材上に形成され、前記微粒子層上にマトリックス溶液を用いた透明被膜が形成されている透明導電性被膜付基材。」の発明が記載されているといえるが、刊行物２には、透明導電性被膜が「導電性微粒子としての金属微粒子を含む」点については、記載も示唆もない。
　刊行物３には、第１層目が高屈折率透明導電層、第２層目が低屈折率透明層からなる電磁波遮蔽膜に関し（３−ア、３−イ）、実施例１として、「第１層目は酸化インジウム（Ｉｎ2 Ｏ3 ）超微粒子が分散された高屈折率透明導電層１４、第２層目はシリカの低屈折率透明層１５からなっている」（３−ウ）こと、実施例６として、「なお、実施例１では、第１層目の高屈折率透明導電層１４を、酸化インジウム（Ｉｎ2 Ｏ3 ）超微粒子を分散混合した−ＯＨ基および／または−ＯＲ基を有するシリコン（Ｓｉ）アルコキシドのアルコール溶液を塗布することにより形成したが、・・・透明導電層１４を形成するためのベース塗料としては、タンタル（Ｔａ）、チタン（Ｔｉ）またはジルコニウム（Ｚｒ）等の金属元素と有機化合物のアルコール溶液を用いてもよい。」（３−エ）ことが記載されている。
　この実施例６における「ベース塗料」については、実施例６の基となる実施例１の「第１層目の高屈折率透明導電層１４は、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）微粒子を分散混合した−ＯＨ基および／または−ＯＲ基を有するシリコン（Ｓｉ）アルコキシドのアルコール溶液をスピン塗布し・・・形成し・・・」という記載（３−ウ）に照らすと、実施例１の「酸化インジウム微粒子を分散混合した−ＯＨ基および／または−ＯＲ基を有するシリコンアルコキシドのアルコール溶液」（導電性微粒子を分散したマトリックス溶液）に対応するものとする解釈と、実施例１の「−ＯＨ基および／または−ＯＲ基を有するシリコンアルコキシドのアルコール溶液」（マトリックス溶液）に対応するものとする解釈とが考えられる。
　そこで、まず、前者の解釈を採った場合を検討すると、前者の解釈によれば、実施例６における「ベース塗料」中の「タンタル、チタン、またはジルコニウム等の金属元素」、「有機化合物」は、それぞれ、実施例１における「酸化インジウム超微粒子」（導電性微粒子）、「−ＯＨ基および／または−ＯＲ基を有するシリコンアルコキシド」の代替物と解されるから、刊行物３には、「導電性微粒子としてのタンタル・・・等の金属元素」については、記載されているといえる。しかしながら、「タンタル・・・等の金属元素」の微粒子がアルコールに溶解して「アルコール溶液」になることは、通常はあり得ない（「アルコール溶液に金属微粒子が分散した溶液」になるはずである）ことを考慮すると、アルコールに可溶しない「タンタル・・・等の金属元素」微粒子と「有機化合物」の「アルコール溶液」が実施例６における「ベース塗料」であるとする前者の解釈は、合理的とはいえない。また、仮に、前者の解釈を採ったとしても、刊行物３には、「導電性微粒子としてのＡｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｓｎ、Ｉｎから選ばれる金属微粒子」については、記載も示唆もない。
　次に、後者の場合を検討すると、後者の解釈によると、実施例６における「タンタル・・・等の金属元素と有機化合物」は、実施例１の「−ＯＨ基および／または−ＯＲ基を有するシリコンアルコキシド」の代替物となり、前者の「タンタル・・・等の金属元素」、「有機化合物」が、それぞれ、後者の「シリコン」、「−ＯＨ基および／または−ＯＲ基を有する・・・アルコキシド」に対応するものと考えられる。そうすると、実施例６の「ベース溶液」は、「−ＯＨ基および／または−ＯＲ基を有するタンタル・・・等の金属元素のアルコキシド」の「アルコール溶液」となり、「−ＯＨ基および／または−ＯＲ基を有するタンタル・・・等の金属元素のアルコキシド」は、アルコールに可溶であって「アルコール溶液」となり得るから、後者の解釈を採る方が合理的であるといえる。そして、その場合、刊行物３は、「導電性微粒子としての金属微粒子」について、記載も示唆もするものではない。
　したがって、実施例６の「ベース溶液」について後者の解釈を採用し、刊行物３には、「導電性微粒子としての金属微粒子」が記載も示唆もされていないとすることは、妥当であるといえる。
　刊行物４には、二酸化珪素の層と珪酸リチウムの防眩層よりなる二重層を有する基体上の反射防止及び帯電防止コーティングに関し（４−ア）、二酸化珪素の層は少なくとも一種の導電性金属酸化物を含み、金属のようなそれ自体は公知の他の材料を所要の導電率を与えるために代わりに用いてよいこと（４−イ）が記載されている。してみると、刊行物４には、「導電性金属酸化物」に代えて「導電率を与える金属」を用いてもよいことが記載されているといえる。
　また、刊行物４には、第１の帯電防止層用のコーティングの材料が、２重量％のテトラエチルオルト珪酸塩と１重量％の酸化錫と酸化アンチモンとからなる導電性材料を分散した実施例が記載されており（４−ウ）、テトラエチルオルト珪酸塩（Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）４）は２８重量％のシリカ分（ＳｉＯ２）を含むものであるから、刊行物４は、このコーティング材料を塗布して形成した透明導電膜には、「マトリックス（シリカ）が導電性材料に対して０．５６重量部」含まれることを開示するものといえる。　
　しかしながら、刊行物４には、導電性材料を金属微粒子とした場合のマトリックス量について、何ら記載されていない。しかも、刊行物４記載の発明は、「二酸化珪素の層」を必須の構成としているから、二酸化珪素の層を形成するためのマトリックス（シリカ）成分を、実施例記載のものより少ない「マトリックスが導電性微粒子に対して０．２重量部以下の量」として、マトリックスを低減化、または任意成分とすることには、阻害要因があるというべきである。そうすると、刊行物４には、「マトリックスが金属微粒子を含む導電性微粒子に対して０．２重量部以下」という構成が示唆されているとはいえない。
　そして、本件発明１は、「導電性微粒子としての金属微粒子」と、マトリックスとを含み、「マトリックスが導電性微粒子に対して０．２重量部以下の量で含まれる」透明導電性微粒子層を有することにより、反射防止性能に優れ、しかも１０２〜１０４Ω／□の表面抵抗を有し、電磁遮蔽効果に優れる透明導電性被膜付基材を得られるものである（本件明細書【００１２】）。
　してみると、本件発明１は、刊行物１〜４に記載の発明を組み合わせても、当業者が容易に発明をすることができたものとはいえず、特許法第２９条第２項の規定に違反するものではない。
　
　なお、刊行物１〜４以外の異議申立の証拠については、特開昭６３−１６０１４０号公報（申立１の甲第４号証、申立２の甲第１号証、申立３の甲第６号証、平成１５年５月１９日付け取消理由の引用刊行物２）には、「導電性微粒子としてのＰｄ、Ｓｎ、Ｐｔ、Ａｇ、及びＡｕ」を用いる帯電防止膜が記載されているが、その主成分は金属酸化物（例えばＳｉの酸化物であって、「マトリックス」に相当）であるから（請求項１、第３頁右下欄第１８行〜第４頁左上欄第１行）、「マトリックスが導電微粒子に対して０．２重量部以下」という構成を導くことはできない。また、その他の証拠には、「導電性微粒子としてのＡｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｓｎ、Ｉｎから選ばれる金属微粒子」について、記載も示唆もない。
　回答書（異議番号３）に添付した甲第８〜１０号証については、甲第８号証には、「Ｐｄ、Ｃｕ、Ａｇ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｐｔ、Ａｕより選択される金属粒子」からなる導電性層について記載されているが（請求項２）、「得られたフィルムは反射する金属質の外観をもつ」ものであるから（第６頁右下欄第１４〜１５行）、この導電層を透明導電膜として用いることは想定されていないというべきであり、甲第９，１０号証には、「導電性微粒子としてのＡｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｓｎ、Ｉｎから選ばれる金属微粒子」について、記載も示唆もない。
　してみると、刊行物１〜４に記載の発明に、異議申立のその他の証拠、及び回答書に添付の証拠に記載された発明をさらに組み合わせても、本件発明１を当業者が容易に想到することができたということもできない。
　
　本件発明２，３，６は、本件発明１の構成を全て有し、さらに他の構成を付加するものであるから、本件発明１と同じく、当業者が容易になし得たものではない。
　本件発明４は、本件発明１の製造方法の発明であって、本件発明１の構成の全てを得るための方法を必須の構成としているから、本件発明１が進歩性を有するものである以上、本件発明４も進歩性を有するものである。
　本件発明５は、本件発明４の構成を全て有し、さらに他の構成を付加するものであるから、本件発明４と同じく、進歩性を有するものである。
　　
３−６．むすび                
　以上のとおりであるから、特許異議の申立ての理由及び証拠方法によっては本件発明１〜６に係る特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件発明１〜６に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１６年３月１５日（２００４．３．１５）
【訂正の要旨】
審決（決定）の【理由】欄参照。
（５４）【発明の名称】
透明導電性被膜付基材、その製造方法および該基材を備えた表示装置
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】
　
（ｉ）導電性微粒子としての平均粒径２〜２００ｎｍの、Ａｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｓｎ、Ｉｎから選ばれる金属微粒子と
　（ｉｉ）マトリックスとを含み、
　マトリックスが導電性微粒子に対して０．２重量部以下の量で含まれる
　【請求項２】
　前記微粒子層がさらに金属微粒子以外の導電性微粒子を含有してなることを特徴とする請求項１に記載の透明導電性被膜付基材。
　【請求項３】
　前記マトリックスがシリカからなることを特徴とする請求項１に記載の透明導電性被膜付基材。
　【請求項４】
　
（ｉ）導電性微粒子としての平均粒径２〜２００ｎｍの、Ａｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｓｎ、Ｉｎから選ばれる金属微粒子と（ｉｉ）マトリックスとが、マトリックスが導電性微粒子に対して０．２重量部以下の量で、
であり、かつ塗布液中に存在するイオン濃度が、塗布液中に含まれる全固形分１００ｇ当り１０ミリモル以下である
　【請求項５】
　前記塗布液が、さらに金属微粒子以外の導電性微粒子を含有していることを特徴とする請求項４に記載の透明導電性被膜付基材の製造方法。
　【請求項６】
　請求項１ないし３のいずれか１項に記載の透明導電性被膜付基材で構成された前面板を備え、透明導電性被膜が該前面板の外表面に形成されていることを特徴とする表示装置。
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【発明の技術分野】
　本発明は、透明導電性被膜付基材および該基材を前面板として備えた表示装置に関し、さらに詳しくは反射防止性能に優れ、しかも電磁遮蔽効果に優れた透明導電性被膜付基材、その製造方法およびこのような透明導電性被膜付基材で構成された前面板を備えた表示装置に関する。
　【０００２】
　【発明の技術的背景】
　従来から、陰極線管、蛍光表示管、液晶表示板などの表示パネルのような透明基材の表面の帯電防止および反射防止を目的として、これらの表面に帯電防止機能および反射防止機能を有する透明被膜を形成することが行われている。
　【０００３】
　このような帯電防止と反射防止の機能を備えた透明基材を得る方法として、透明基材の表面に、まず、帯電防止機能を有する高屈折率の導電性被膜を形成し、この被膜の上に、さらにこの被膜より低屈折率の透明被膜を形成する方法が知られている。
　【０００４】
　たとえば、特開平５−２９０６３４号公報には、基材上に透明導電性被膜を形成し、次いでこの透明導電性被膜上に、この透明導電性被膜よりも屈折率の低い透明被膜を形成する透明導電性被膜付基材の製造方法、およびこのような方法で得られた帯電防止・反射防止膜付基材が開示されている。このうち、前記透明導電性被膜は、導電性物質としてアンチモンがドープされた酸化錫の微粉末を含む塗布液から形成されている。
　【０００５】
　また、特開平５−３４１１０３号公報には、導電性物質を含む電導性塗膜を基材上に形成し、この電導性塗膜上に特定の珪素化合物から誘導される反射防止膜を形成することによって得られた反射防止性、帯電防止性に優れた導電性被膜付基材が開示されている。また、この公報には、前記導電性物質として、アルカリ金属、アルカリ土類金属、遷移金属などの過塩素酸塩、チオシアン塩、トリフルオロメチル硫酸塩、ハロゲン化塩などの無機化合物からなる電解質、または酸化錫系微粒子、酸化インジウム系微粒子などのような透明導電性無機酸化物微粒子が例示されているが、導電性無機酸化物微粒子が好ましいと記載されている。
　【０００６】
　ところで、最近、陰極線管（ＣＲＴ）などから放出される電磁波が人体に及ぼす影響が問題とされ、従来の帯電防止、反射防止の機能に加えてこれらの電磁波および電磁波の放出に伴って形成される電磁場を遮蔽することが望まれている。
　【０００７】
　これらを遮蔽する方法の一つとして、陰極線管などの表示パネルの前面板の表面に、上述した帯電防止性被膜と同様の導電性被膜を形成する方法が知られている。
　【０００８】
　しかし、従来の帯電防止のみを目的とした導電性被膜は、少なくとも１０５Ω／□程度の表面抵抗を有していれば充分であるのに対し、電磁遮蔽用の導電性被膜は、１０２〜１０４Ω／□のような低い表面抵抗を有することが必要である。
　【０００９】
　このように表面抵抗の低い導電性被膜を従来のＳｂドープ酸化錫またはＳｎドープ酸化インジウムのような導電性酸化物を含む塗布液を用いて形成しようとすると、従来の帯電防止性被膜の場合よりも膜厚を厚くしなければならない。
　【００１０】
　そこで、透明基材の表面に導電性物質として、このようなＳｂドープ酸化錫またはＳｎドープ酸化インジウムを含む塗布液を用いて電磁遮蔽効果を示す導電性被膜を形成し、さらにその上に低屈折率の被膜を積層して形成して、電磁遮蔽と反射防止の機能を有する透明積層被膜を形成しようとすると、上述したような塗布液から形成された導電性被膜は１．５〜２．０という高屈折率を有しているため、その上に積層される低屈折率の被膜と合わせて反射防止効果を発現するように導電性被膜の光学的膜厚を設計するためには、導電性被膜の実際の膜厚を１００〜２００ｎｍ程度にしなければならない。しかし、この程度の膜厚では電磁遮蔽効果を発揮するのに充分な表面抵抗を得ることはできない。
　【００１１】
　上述した特開平５−２９０６３４号公報および特開平５−３４１１０３号公報でも、導電性被膜の膜厚は、たとえば０．１μＭ（１００ｎｍ）程度と薄く、したがって、積層被膜の表面抵抗は１０７Ω／□程度であり、電磁遮蔽の機能を有するとはいい難い。
　【００１２】
　【発明の目的】
　本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、反射防止性能に優れ、しかも１０２〜１０４Ω／□の表面抵抗を有し、電磁遮蔽効果に優れる透明導電性被膜付基材、その製造方法、およびこのような透明導電性被膜付基材で構成された前面板を備えた表示装置を提供することを目的としている。
　【００１３】
　【発明の概要】
　本発明に係る透明導電性被膜付基材は、
（ｉ）導電性微粒子としての平均粒径２〜２００ｎｍの、Ａｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｓｎ、Ｉｎから選ばれる金属微粒子と
　（ｉｉ）マトリックスとを含み、
　マトリックスが導電性微粒子に対して０．２重量部以下の量で含まれる
　【００１４】
　本発明に係る透明導電性被膜付基材の製造方法は、
（ｉ）導電性微粒子としての平均粒径２〜２００ｎｍの、Ａｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｓｎ、Ｉｎから選ばれる金属微粒子と（ｉｉ）マトリックスとが、マトリックスが導電性微粒子に対して０．２重量部以下の量で、
であり、かつ塗布液中に存在するイオン濃度が、塗布液中に含まれる全固形分１００ｇ当り１０ミリモル以下である
　【００１５】
　本発明に係る表示装置は、上記のような透明導電性被膜付基材で構成された前面板を備えていることを特徴としている。
　【００１６】
　【発明の具体的説明】
透明導電性被膜付基材
　まず、本発明に係る透明導電性被膜付基材について具体的に説明する。
　【００１７】
　本発明に係る透明導電性被膜付基材では、平均粒径２〜２００ｎｍ、好ましくは５〜１００ｎｍの金属微粒子からなる透明導電性微粒子層が、ガラス、プラスチック、金属、セラミックなどからなる平板、立体物、フィルムなどの基材上に形成されている。
　【００１８】
　本発明で用いられる金属微粒子としては、平均粒径が上記範囲内にあれば特に制限はなく、例えばＡｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｓｎ、
Ｉｎなど
　【００１９】
　これら金属微粒子の平均粒径が２００ｎｍを越える場合には、金属による光の吸収が大きくなり、このために粒子層の光透過率が低下すると同時にへーズが大きくなる。このような被膜付基材を、例えば陰極線管の前面板として用いると、表示画像の解像度が低下する。
　【００２０】
　また、これら金属微粒子の平均粒径が２ｎｍ未満の場合には粒子層の表面抵抗が急激に大きくなるため、本発明の目的を達成しうる程度の低抵抗値を有する被膜を得ることができない。
　【００２１】
　本発明では、透明導電性微粒子層は、平均粒径が上記範囲内にある金属微粒子のみで構成されていてもよく、また、このような金属微粒子に加えて金属微粒子以外の導電性微粒子、少量の添加剤、例えば有機又は無機の染料または顔料を含有していてもよい。
　【００２２】
　金属微粒子以外の導電性微粒子としては、公知の透明導電性無機酸化物微粒子あるいはカーボンなどの着色導電性微粒子を用いることができる。透明導電性無機酸化物微粒子としては、例えば酸化錫、Ｓｂ、ＦまたはＰがドーピングされた酸化錫、酸化インジウム、ＳｎまたはＦがドーピングされた酸化インジウム、酸化アンチモン、低次酸化チタンなどが挙げられる。
　【００２３】
　透明導電性微粒子層が金属微粒子以外の導電性微粒子を含有する場合、前記金属微粒子と同様に、これらの導電性微粒子の平均粒径は２〜２００ｎｍであることが好ましい。
　【００２４】
　特に透明導電性微粒子層に金属微粒子に加えて透明導電性無機酸化物微粒子を含有させると、透明導電性微粒子層を金属微粒子のみで構成した場合に比較して透明性に優れた透明導電性微粒子層を基材上に形成することができる。また、このように透明導電性微粒子層に金属微粒子以外の導電性微粒子を含有させた場合には、透明導電性微粒子層を高価な金属微粒子のみで構成した場合に比較して安価な透明導電性被膜付基材を製造することができる。
　【００２５】
　これら透明導電性微粒子層は、導電性微粒子のバインダーとして作用するマトリックスを含んでいてもよい。このようなマトリックスとしては、公知のマトリックスを採用することができ、たとえばアルコキシシランなどの有機珪素化合物を加水分解して得られる重縮合物から得られるシリカなどが挙げられる。また、マトリックスとして塗料用合成樹脂を用いることもできる。
　【００２６】
　透明導電性微粒子層に含有される金属微粒子以外の導電性微粒子およびマトリックスの量は、帯電防止能のみを付与する場合、電磁遮蔽能をも付与する場合に応じて、１０１０Ω／□以下の表面抵抗が得られる範囲内で任意に調整され、また、それぞれの種類、透明導電性微粒子層に含有される金属微粒子の金属種、平均粒径、透明導電性微粒子層の厚さ、透明導電性微粒子層上に形成される透明被膜の材質、厚さに応じても異なり、一概に特定できるものではない。しかし、電磁遮蔽効果が発現できる１０２〜１０４Ω／□の表面抵抗を有する透明導電性被膜付基材を得る場合には、透明導電性微粒子層に含まれている金属微粒子以外の導電性微粒子は金属微粒子１重量部当たり、４重量部以下であることが望ましく、またマトリックスの含有量は全導電性微粒子１重量部当たり０．２重量部以下であることが望ましい。
　【００２７】
　透明導電性微粒子層の膜厚は、この透明導電性微粒子層の屈折率が、通常、１．６〜２．５であることを考慮すると、透明導電性被膜付基材が優れた反射防止効果を発揮するためには５０〜２００ｎｍの範囲にあることが望ましい。
　【００２８】
　上記のような透明導電性微粒子層を有する透明導電性被膜付基材は、１０１０Ω／□以下の広い範囲の表面抵抗を有しており、このうち、１０２〜１０４Ω／□の表面抵抗を有する透明導電性被膜付基材は、電磁遮蔽効果に優れている。したがって、この１０２〜１０４Ω／□の表面抵抗を有する透明導電性被膜付基材で陰極線管の前面板などを構成した場合、これにより、従来、前面板などから放出された電磁波、およびこのような電磁波の放出に伴って生じる電磁場を遮蔽することができる。
　【００２９】
　本発明に係る透明導電性被膜付基材は、上記透明導電性微粒子層上にさらにこの微粒子層よりも屈折率の低い透明被膜が形成されている。この透明被膜は、例えば上記マトリックスと同様、被膜形成後の屈折率が１．４５のシリカなどで形成することができる。また、この透明被膜は、フッ化マグネシウムなどの低屈折率材料で構成された微粒子、さらに必要に応じて、透明被膜の透明度および反射防止性能を阻害しない程度に少量の導電性微粒子および／または添加剤、例えば染料または顔料を含んでいてもよい。
　【００３０】
　上記のような透明被膜は、透明導電性微粒子層よりも屈折率が小さく、反射防止性能に優れた透明導電性被膜付基材を提供する上で充分な大きさの透明導電性微粒子層との屈折率差を有している。
　【００３１】
　この透明被膜の膜厚は、透明導電性被膜付基材が優れた反射防止効果を発揮するためには１００〜３００ｎｍの範囲にあることが望ましい。本発明に係る透明導電性被膜付基材は、上記のような透明導電性微粒子層と透明被膜とを備え、基材上に透明導電性微粒子層が形成され、この透明導電性微粒子層上に透明被膜が形成されており、電磁遮蔽をする上で必要な１０２〜１０４Ω／□の表面抵抗を有し、かつ可視光領域および近赤外領域で充分な反射防止性能を有するように調整することが可能である。このように表面抵抗および反射防止性能が調整された透明導電性被膜付基材を、電磁波が放出される陰極線管などの表示装置の前面板に用いると、電磁波、および電磁波の放出に伴って生じる電磁場を遮蔽することができる上、前面板からの反射光が防止できる。
　【００３２】
透明導電性被膜付基材の製造方法
　次いで、上記のような本発明に係る透明導電性被膜付基材の製造方法について説明する。
　【００３３】
　上記のような透明導電性被膜付基材は、基材上に平均粒径２〜２００ｎｍの金属微粒子からなる透明導電性微粒子層を形成し、次いでこの微粒子層上に該微粒子層よりも屈折率の低い透明被膜を形成することによって製造される。
　【００３４】
　上記のような透明導電性微粒子層は、基材上に平均粒径が２〜２００ｎｍ、好ましくは５〜１００ｎｍの金属微粒子を水および／または有機溶媒中に分散してなる透明導電性微粒子層形成用塗布液を塗布・乾燥することによって形成されうる。
　【００３５】
　前記透明導電性微粒子層形成用塗布液中には、必要に応じて上述したような金属微粒子以外の導電性微粒子および／またはマトリックス形成成分、さらに必要に応じて少量の添加剤、例えば染料または顔料を含んでいる。
　【００３６】
　このうち、導電性微粒子については、金属微粒子を含めて粉末状、あるいは水などの分散媒に分散したゾル状態で用いられる。金属微粒子、金属微粒子以外の導電性微粒子、マトリックス形成成分の配合量は、既に説明した通りである。すなわち、基材上に形成された透明導電性微粒子層に含まれている金属微粒子量１重量部当たり、金属微粒子以外の導電性微粒子が４重量部以下となり、マトリックスの含有量が全導電性微粒子１重量部当たり０．２重量部以下となるような量で、本発明で用いられる透明導電性微粒子層形成用塗布液中に金属微粒子、金属微粒子以外の導電性微粒子、マトリックス形成成分および添加剤が含まれていることが望ましい。
　【００３７】
　本明細書中で、マトリックス形成成分とは導電性微粒子などのような粒状成分のバインダーとして機能する成分をいい、例えばマトリックスがシリカである場合、加水分解重縮合性有機珪素化合物またはシリカゾルなどを意味する。
　【００３８】
　また、加水分解重縮合性有機珪素化合物としては、下記式〔Ｉ〕で表されるアルコキシシラン：ＲａＳｉ（ＯＲ’）４−ａ…〔Ｉ〕
（式中、Ｒは、ビニル基、アリール基、アクリル基、炭素原子数１〜８のアルキル基、水素原子またはハロゲン原子であり、Ｒ’は、ビニル基、アリール基、アクリル基、炭素原子数１〜８のアルキル基、−Ｃ２Ｈ４ＯＣｎＨ２ｎ＋１（ｎ＝１〜４）または水素原子であり、ａは、０〜３の整数である）が挙げられる。
　【００３９】
　このようなアルコキシシランを具体的に例示すると、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、テトラオクチルシラン、メチルトリメチルシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシランなどが挙げられる。
　【００４０】
　上記マトリックス形成成分としては、例えば上記アルコキシシランの１種または２種以上を用いることができる。なお、上記アルコキシシランを、例えば水−アルコールなどの混合溶媒中で硝酸、塩酸、酢酸などの酸の存在下で加水分解すると、アルコキシシランの加水分解物が重縮合したシリカ重合体が得られる。
　【００４１】
　上記のようなアルコキシシランの加水分解は、酸／ＳｉＯ２＝０．０００１〜０．０５（重量／重量）
および水／ＳｉＯ２＝４〜１６（モル・モル）
（上記式中、ＳｉＯ２は、アルコキシシランをＳｉＯ２に換算した値である。）
の条件下で行うことが好ましい。
　【００４２】
　本発明で用いられる透明導電性微粒子層形成用塗布液を調製する際には、金属微粒子の分散媒として水および／または有機溶媒が用いられ、この分散媒中に上述したような金属微粒子、さらに必要に応じて金属微粒子以外の導電性微粒子、その他の添加剤、マトリックス形成成分が添加される。
　【００４３】
　このうち、有機溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール、エチレングリコール、ヘキシレングリコールなどのアルコール類、酢酸メチルエステル、酢酸エチルエステルなどのエステル類、ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルなどのエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、アセト酢酸エステルなどのケトン類などが挙げられ、これらのうちの１種または２種以上が用いられる。
　【００４４】
　本発明で用いられる透明導電性微粒子層形成用塗布液中の固形分濃度、すなわち透明導電性微粒子層を形成する成分の濃度は、塗布液の流動性、塗布液中の金属微粒子などのような粒状成分の分散性などの点から、１５重量％以下であることが好ましい。なお、透明導電性微粒子層形成用塗布液中にマトリックス形成成分が含まれている場合、このマトリックス形成成分の濃度は、前記固形分濃度の一部であり、例えば、マトリックス形成成分がテトラエトキシシランである場合、マトリックス形成成分の濃度はＳｉＯ２濃度に換算した値である。
　【００４５】
　また、本発明で用いられる透明導電性微粒子層形成用塗布液では、塗布液中に存在するアルカリ金属イオン、アンモニアイオンおよび多価金属イオンなどの陽イオン、ならびに鉱酸などの無機陰イオン、酢酸、蟻酸などの有機陰イオンのイオン濃度の合計量が、塗布液中に含まれる全固形分１００ｇ当り１０ミリモル以下であることが好ましい。このような透明導電性微粒子層形成用塗布液では、塗布液中に含まれている粒状成分、特に導電性微粒子の分散状態が良好となり、凝集粒子をほんとんど含んでいない塗布液が得られる。この塗布液中での粒状成分の単分散状態は、透明導電性微粒子層の形成過程でも維持され、この結果、粒状成分が単分散している透明導電性微粒子層が基材上に形成できる。すなわち、上記のようなイオン濃度の低い塗布液から形成された透明導電性微粒子層には凝集粒子は観察されない。このように上記のようなイオン濃度の低い塗布液から形成された透明導電性微粒子層では金属微粒子などの導電性微粒子を良好に分散させることができるので、透明導電性微粒子層中で導電性微粒子が凝集している場合に比較して、より少ない導電性微粒子で同等の導電性を有する透明導電性微粒子層を提供することが可能である。また、粒状成分同士の凝集に起因すると思われる点欠陥および厚さむらのない透明導電性微粒子層を基材上に形成することができる。
　【００４６】
　上記のようなイオン濃度の低い塗布液を得るための脱イオン処理の方法は、最終的に塗布液中に含まれているイオン濃度が上記のような範囲になるような方法であれば特に制限されないが、好ましい脱イオン処理の方法としては、塗布液の原料として用いられる粒状成分の分散液および／またはマトリックス形成成分を含む液、およびそれぞれの液から調製された塗布液のいずれかを陽イオン交換樹脂および／または陰イオン交換樹脂と接触させる方法、あるいはこれらの液のいずれかに限外ろ過膜を用いて液を洗浄処理する方法などが挙げられる。
　【００４７】
　基材上に透明導電性微粒子層を形成する際には、上記のような透明導電性微粒子層形成用塗布液を基材上に塗布・乾燥して透明導電性微粒子層を形成しうるあらゆる方法を採用することができる。例えば、このような方法として、透明導電性微粒子層形成用塗布液を基材上にディッピング法、スピナー法、スプレー法、ロールコーター法、フレキソ印刷法などの方法で塗布し、次いで得られた塗膜を乾燥する方法などが挙げられる。この塗膜の乾燥は、通常、常温〜９０℃でなされ、さらに塗布液中にマトリックス形成成分が含まれている場合には、乾燥後の塗膜を１５０℃以上に加熱処理することが好ましい。
　【００４８】
　さらに、塗布液中にマトリックス形成成分が含まれている場合には、必要に応じて、上記塗布工程または乾燥工程の後に、あるいは乾燥工程中に、未硬化のマトリックス形成成分を含む透明導電性微粒子層に可視光線よりも波長の短い電磁波を照射するか、あるいは該透明導電性微粒子層をマトリックス形成成分の硬化反応を促進するガス雰囲気中に晒すことにより、透明導電性微粒子層中に含まれるマトリックス形成成分の硬化が促進され、透明導電性微粒子層の硬度が高められることがある。このガス処理は、前記加熱処理の後に行ってもよい。
　【００４９】
　このようなマトリックス形成成分の硬化を促進するために照射する電磁波としては、マトリックス形成成分の種類に応じて紫外線、電子線、Ｘ線、γ線などが用いられる。例えば紫外線硬化性マトリックス形成成分の硬化を促進するためには、例えば、発光強度が約２５０ｎｍと３６０ｎｍとにおいて極大となり、光強度が１０ｍＷ／ｍ２以上である高圧水銀ランプを紫外線源として用い、１００ｍＪ／ｃｍ２以上のエネルギー量の紫外線が照射される。
　【００５０】
　また、マトリックス形成成分のなかには、アンモニア、オゾンなどの活性ガスで硬化が促進されるマトリックス形成成分がある。このようなマトリックス形成成分を含む透明導電性微粒子層を、ガス濃度が１００〜１００，０００ｐｐｍ、好ましくは１０００〜１０，０００ｐｐｍであるような硬化促進性ガス雰囲気下で１〜６０分処理することによってマトリックス形成成分の硬化を大幅に促進することができる。
　【００５１】
　本発明では、以上のようにして基材上に透明導電性微粒子層を形成した後、この透明導電性微粒子層上に、さらにこの層よりも屈折率の低い透明被膜が形成される。
　【００５２】
　この透明被膜の形成方法としては、特に制限はなく、この透明被膜の材質に応じて、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などの乾式薄膜形成方法、あるいは上述したようなディッピング法、スピナー法、スプレー法、ロールコーター法、フレキソ印刷法などの湿式薄膜形成方法を採用することができる。
　【００５３】
　上記透明被膜を湿式薄膜形成方法で形成する場合には、上述したようなマトリックス形成成分が透明被膜形成成分として水または有機溶媒に溶解または分散されている透明被膜形成用塗布液を用いることができる。
　【００５４】
　さらに、透明被膜形成用塗布液中には、上述したようにフッ化マグネシウムなどの低屈折率材料で構成された微粒子、必要に応じて、透明被膜の透明度および反射防止性能を阻害しない程度に少量の導電性微粒子および／または添加剤、例えば染料または有機または無機の顔料を含んでいてもよい。
　【００５５】
　この場合、上述したような脱イオン処理を透明被膜形成用塗布液に施して塗布液中に含まれているイオン濃度を上述した範囲内に低減させると、透明被膜中で粒状成分の分散性が良好となり、厚さにむらのない透明被膜を提供することが可能となる。
　【００５６】
　上述したような透明被膜を湿式薄膜形成方法で形成する場合、マトリックス形成成分を含む前記透明導電性微粒子層形成用塗布液から透明導電性微粒子層を形成する場合と同様にして透明導電性微粒子層上に形成することができる。
　【００５７】
　さらに、基材上に形成された透明導電性微粒子層を約４０〜９０℃に予熱し、この温度を維持しながら透明導電性微粒子層上に前記透明被膜形成用塗布液をスプレー法で塗布し、その後、上述したような加熱処理を行うと、被膜の表面にリング状の凹凸が形成され、ギラツキの少ないアンチグレアな透明導電性被膜付基材が得られる。
　【００５８】
表示装置
　以上のようにして製造された透明導電性被膜付基材のうち、電磁遮蔽をする上で必要な１０２〜１０４Ω／□の表面抵抗を有し、かつ可視光領域および近赤外領域で充分な反射防止性能を有する透明導電性被膜付基材は、表示装置の前面板として用いられる。
　【００５９】
　本発明に係る表示装置は、ブラウン管（ＣＲＴ）、蛍光表示管（ＦＩＰ）、プラズメディスプレイ（ＰＤＰ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）などのような電気的に画像を表示する装置であり、上記のような透明導電性被膜付基材で構成された前面板を備えている。
　【００６０】
　従来の前面板を備えた表示装置を作動させると、前面板に画像が表示されると同時に電磁波が前面板から放出され、この電磁波が観察者の人体に影響を及ぼすが、本発明に係る表示装置では、前面板が１０２〜１０４Ω／□の表面抵抗を有する透明導電性被膜付基材で構成されているので、このような電磁波、およびこの電磁波の放出に伴って生じる電磁場を効果的に遮蔽することができる。
　【００６１】
　また、表示装置の前面板で反射光が生じると、この反射光によって表示画像が見難くなるが、本発明に係る表示装置では、前面板が可視光領域および近赤外領域で充分な反射防止性能を有する透明導電性被膜付基材で構成されているので、このような反射光を効果的に防止することができる。
　【００６２】
　さらに、ブラウン管の前面板が、本発明に係る透明導電性被膜付基材で構成され、この透明導電性被膜のうち、透明導電性微粒子層、その上に形成された透明被膜の少なくとも一方に少量の染料または顔料が含まれいる場合には、これらの染料または顔料がそれぞれに固有な波長の光を吸収し、これによりブラウン管から放映される表示画像のコントラストを向上させることができる。
　【００６３】
　【発明の効果】
　本発明に係る透明導電性被膜付基材は、透明基材上に透明導電性微粒子層が形成され、さらにこの透明導電性微粒子層上に透明導電性微粒子層よりも低屈折率の透明被膜が形成されている。
　【００６４】
　本発明によれば、透明導電性微粒子層が導電性物質として金属微粒子を含有しており、このため、膜厚を薄くしても、従来の導電性酸化物のみを含有する被膜よりも表面抵抗が低い微粒子層を形成することができ、したがって、この導電性微粒子層の上に低屈折率の透明被膜を形成することにより、電磁遮蔽効果に優れるとともに反射防止効果に優れた透明導電性被膜付基材を提供することができる。
　【００６５】
　さらに、本発明で用いられる透明導電性微粒子層形成用塗布液中に含まれる陽イオン、陰イオンなどのイオン濃度を極微量に調整した場合には、塗布液中の導電性微粒子の分散状態が極めて良好となり、この良好な導電性微粒子の分散状態が導電性微粒子層の形成過程でも維持され、微粒子の凝集は起こらない。
　【００６６】
　その結果、導電性微粒子が均一に分散された微粒子層が形成できるので、従来よりも塗布液中の導電性微粒子の濃度を薄くしても、同等の導電性を有する微粒子層を得ることができる。
　【００６７】
　このようにして、本発明によれば、１０２〜１０４Ω／□の表面抵抗を有し、かつ、反射防止性能に優れた透明導電性被膜付基材を提供することができる。また、本発明に係る表示装置は、上記のような表面抵抗および反射防止性能に優れた透明導電性被膜付基材が前面板に用いられているので、反射防止効果に優れると同時に、電磁波および電磁場遮蔽効果に優れている。
　【００６８】
　【実施例】
　以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
　【００６９】
　【製造実施例】
ａ）導電性微粒子分散液
　本実施例で用いた金属微粒子のコロイド溶液と金属微粒子以外の導電性微粒子の分散液を下記表１に示す。
　【００７０】
　このうち、Ａｕ、Ａｇ、Ｐｄのコロイド溶液は、それそれ真空冶金（株）製のコロイド溶液であり、Ｒｈのコロイド溶液は次の方法で調製した。メタノール・水混合溶媒（メタノール４０重量部／水６０重量部）に金属Ｒｈ換算で２重量％になるように３塩化ロジウムを加え、さらにポリビニルアルコールを金属Ｒｈ１重量部当り０．０１重量部加えて、還流器付フラスコで９０℃の温度で５時間加熱してＲｈのコロイド溶液を得た。
　【００７１】
　Ｓｂドープ酸化錫（Ｓｂ−ＳｎＯ２）微粒子、Ｓｎドープ酸化インジウム（Ｓｎ−Ｉｎ２Ｏ３）微粒子および導電性カーボン（東海カーボン（株）製）を用いて下記表１に示す混合微粒子分散液を調製した。
　【００７２】
　このうち、Ｓｂドープ酸化錫微粒子、Ｓｎドープ酸化インジウム微粒子については、次のようにして調製した。
Ｓｂドープ酸化錫微粒子
　錫酸カリウム３３３ｇと吐酒石６９．５ｇを純水１０１９ｇに溶解した水溶液を調製した。この水溶液を、５０℃に保持された１８７６ｇの純水中に１２時間かけて添加した。この間、系内のｐＨを１０に維持した。得られたＳｂドープ酸化錫水和物分散液からＳｂドープ酸化錫水和物を限外膜でろ過し、洗浄した後、乾燥し、次いで空気中で５５０℃の温度で３時間焼成することによりＳｂドープ酸化錫微粒子を得た。
Ｓｎドープ酸化インジウム
　硝酸インジウム７９．９ｇを水６８６ｇに溶解して得られた溶液と、錫酸カリウム１２．７ｇを１０重量％水酸化カリウム溶液に溶解して得られた溶液とを調製した。
　【００７３】
　これらの溶液を、５０℃に保持された１０００ｇの純水に２時間かけて添加した。この間、系内のｐＨを１１に保持した。得られたＳｎドープ酸化インジウム水和物分散液からＳｎドープ酸化インジウム水和物をろ別して洗浄した後、乾燥し、次いで空気中で３５０℃の温度で３時間焼成し、さらに空気中で６００℃の温度で２時間焼成することによりＳｎドープ酸化インジウム微粒子を得た。
　【００７４】
　【表１】
　【００７５】
　
ｂ）マトリックス形成成分を含む液の調製
　正珪酸エチル（ＳｉＯ２：２８重量％）５０ｇ、エタノール１９４．６ｇ、濃硝酸１．４ｇおよび純水３４ｇの混合溶液を室温で５時間攪拌してＳｉＯ２濃度５重量％のマトリックス形成成分を含む液を調製した。
ｃ）透明被膜（上層）形成用塗布液の調製
　上記マトリックス形成成分を含む液に、エタノール／ブタノール／ジアセトンアルコール／イソプロパノール（２：１：１：５重量混合比）の混合溶媒を加え、ＳｉＯ２濃度１重量％の透明被膜形成用塗布液を調製した。
ｄ）透明導電性微粒子層形成用塗布液の調製
　表１に示す金属微粒子のコロイド溶液、導電性微粒子混合物の分散液と、マトリックス形成成分を含む液とから表２に示す透明導電性微粒子層形成用塗布液Ｃ−１〜Ｃ−８を調製した。
　【００７６】
　なお、表２に示すそれぞれの塗布液を両性イオン交換樹脂（三菱化成（株）製ダイヤイオン　ＳＭＮＵＰＢ）で脱イオン処理することにより、それぞれの塗布液中のイオン濃度の調整を行った。
　【００７７】
　なお、塗布液中のイオン濃度は、次のようにして測定した。アルカリ金属イオン濃度およびアルカリ土類金属イオン濃度は原子吸光法で測定し、その他の金属イオン濃度は発光分光分析法で測定し、アンモニウムイオンおよびアニオンのイオン濃度は電位差滴定法で測定した。
　【００７８】
　【表２】
　【００７９】
　【実施例１〜７、比較例１】
　ブラウン管用パネルガラス（１４”）の表面を４０℃の温度に保持しながら、スピナー法で１００ｒｐｍ、９０秒の条件で上記透明導電性微粒子層形成用塗布液Ｃ−１〜Ｃ−８をそれぞれ塗布した。
　【００８０】
　次いで、このようにして形成された透明導電性微粒子層上に前記と同様にして上記透明被膜形成用塗布液を塗布し、次いで表３に示す条件で焼成することにより実施例１〜７、比較例１の透明導電性被膜付基材を得た。
　【００８１】
　これらの透明導電性被膜付基材の表面抵抗を表面抵抗計（三菱油化（株）製ＬＯＲＥＳＴＡ）で測定し、反射率を分光光度計（日立製作所（株）製）で測定し、ヘーズをヘーズコンピューター（スガ試験機（株）製）で測定した。
　【００８２】
　結果を表３に示す。
　【００８３】
　【表３】