【事件の表示】
　特許第３３８６７４３号「ＰＤＰ用電磁波シールド性接着フィルムの製造法及びＰＤＰ用電磁波遮蔽構成体とプラズマディスプレイの製造法」の請求項１ないし９に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３３８６７４３号の請求項１ないし９に係る特許を維持する。
【理　由】
［１］手続の経緯
　　本件特許第３３８６７４３号の請求項１〜９に係る発明についての出願は平成１１年５月１０日に特許出願されたもので、平成１５年１月１０日にその発明について特許の設定登録がなされた後、その特許について特許異議申立人苗村正より特許異議の申立てがなされ、取消理由が通知され、その指定期間内である平成１６年６月２２に訂正請求がなされたものである。
　
［２］訂正の適否
　１．訂正の内容
　　訂正事項：特許請求の範囲の請求項１を「透明フィルムの上に、加熱または加圧により流動する接着剤層を介して、表面が粗化形状の導電性金属箔を積層する工程、当該導電性金属箔上に、マイクロリソグラフ法、スクリーン印刷法又は凹版オフセット印刷法を利用して幾何学図形を有するエッチングレジストパターンを形成する工程、導電性金属箔をエッチングすることによって導電性金属からなる幾何学図形を形成する工程、ついで、加圧して
粗化形状が転写された接着剤層を流動化させ
　
　２．訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
　　上記訂正事項は、請求項１に記載された「加圧して透明化する工程」を「加圧して
粗化形状が転写された接着剤層を流動化させ
　　そして、特許明細書の段落【００３５】の「また導電層（特に金属箔）の粗化形状の転写は、接着剤層が流動することにより解消され被着体の表面形状に沿って流動するので透明性が発現するようになると考えられる。」という記載からみて、この訂正は願書に添付した明細書または図面に記載した事項の範囲内でなされたものであり、また、実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものではない。
　
　３．むすび
　　以上のとおりであるから、上記訂正は、平成１５年改正前の特許法第１２０条の４第２項及び同条第３項において準用する特許法第１２６条第２項及び第３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
［３］本件発明
　　前示のとおり訂正請求は認められるから、本件特許の請求項１〜９に係る発明は、上記訂正請求に係る訂正明細書の特許請求の範囲の請求項１〜９に記載された事項により特定される次のとおりのものである。
　「【請求項１】 透明フィルムの上に、加熱または加圧により流動する接着剤層を介して、表面が粗化形状の導電性金属箔を積層する工程、当該導電性金属箔上に、マイクロリソグラフ法、スクリーン印刷法又は凹版オフセット印刷法を利用して幾何学図形を有するエッチングレジストパターンを形成する工程、導電性金属箔をエッチングすることによって導電性金属からなる幾何学図形を形成する工程、ついで、加圧して
粗化形状が転写された接着剤層を流動化させ
　【請求項２】 加熱または加圧により流動する接着剤層の厚さが導電性金属の厚さ以上である請求項１記載のＰＤＰ用電磁波シールド性接着フィルムの製造法。
　【請求項３】 導電性金属が銅であり、少なくともその表面が黒化処理されている請求項１又は２に記載のＰＤＰ用電磁波シールド性接着フィルムの製造法。
　【請求項４】 導電性金属が常磁性金属である請求項１又は２に記載のＰＤＰ用電磁波シールド性接着フィルムの製造法。
　【請求項５】 加圧と同時に又はその後、透明基材とは反対側に剥離可能な保護フィルムを積層する請求項１〜４のいずれか１項に記載のＰＤＰ用電磁波シールド性接着フィルムの製造法。
　【請求項６】 請求項１〜４のいずれか１項に記載のＰＤＰ用電磁波シールド性接着フィルムの製造法を行った後、得られた電磁波シールド性接着フィルムとプラスチック板を貼り合わせることを特徴とするＰＤＰ用電磁波遮蔽構成体の製造法。
　【請求項７】 請求項５に記載のＰＤＰ用電磁波シールド性接着フィルムの製造法を行った後、得られた電磁波シールド性接着フィルムの保護フィルムを剥離しつつ又は剥離した後、プラスチック板を貼り合わせることを特徴とするＰＤＰ用電磁波遮蔽構成体の製造法。
　【請求項８】 請求項１〜４のいずれか１項に記載のＰＤＰ用電磁波シールド性接着フィルムの製造法を行った後、得られた電磁波シールド性接着フィルムをディスプレイ表面に貼り合わせることを特徴とするプラズマディスプレイの製造法。
　【請求項９】 請求項５に記載のＰＤＰ用電磁波シールド性接着フィルムの製造法を行った後、得られた電磁波シールド性接着フィルムの保護フィルムを剥離しつつ又は剥離した後、ディスプレイ表面に貼り合わせることを特徴とするプラズマディスプレイの製造法。」
　
［４］特許異議の申立てについての判断
　１．異議申立理由の概要
　　異議申立人苗村正の異議申立理由の概要は、本件特許の請求項１に係る発明は、下記の甲第１号証〜甲第３号証に、請求項２〜９に係る発明は下記の甲第１号証〜甲第４号証にそれぞれ基づき、当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により、特許を受けることができないものであるから、本件特許は取り消されるべきである、というものである。 
　
　２．刊行物の記載内容
　　刊行物１：特開平１０−４１６８２号公報（甲第１号証）
　　刊行物２：特開平１０−１６３６７３号公報（甲第２号証）
　　刊行物３：特開昭１−１６８１００号公報（甲第３号証）
　　刊行物４：特開平１１−７４６８６号公報（甲第４号証）
　
　(1)刊行物１：特開平１０−４１６８２号公報
　　刊行物１は、「電磁波シールド性と透明性を有する接着フィルム及び該フィルムを用いたディスプレイ、電磁波遮蔽構成体」に関し、図面とともに、以下の事項が記載されている。
　　ア．「【特許請求の範囲】
　　【請求項１】（１）透明プラスチック基材の表面に導電性材料で描かれた幾何学図形を設けた構成材料において、幾何学図形を構成するライン幅が４０μｍ以下、ライン間隔が２００μｍ以上、ライン厚みが４０μｍ以下であり、その幾何学図形を含む基材の一部または全面を接着剤で被覆し、（２）幾何学図形を被覆する接着剤と透明プラスチック基材、または透明プラスチック基材が接着層を介して導電性材料と積層されている場合においては接着層と幾何学図形を被覆する接着剤との屈折率の差が０．１４以下であることを特徴とする電磁波シールド性と透明性を有する接着フィルム。
　　【請求項２】透明プラスチック基材がポリエチレンテレフタレートフィルムである請求項１に記載の電磁波シールド性と透明性を有する接着フィルム。
　　【請求項３】導電性材料が厚み３〜４０μｍの銅、アルミニウムまたはニッケルの金属箔で、透明プラスチック基材への接着面が粗面である請求項１又は請求項２に記載の電磁波シールド性と透明性を有する接着フィルム。
　　【請求項４】導電性材料が銅であり、少なくともその表面が黒化処理されていることを特徴とする請求項３に記載の電磁波シールド性と透明性を有する接着フィルム。
　　【請求項５】透明プラスチック基材上の幾何学図形がケミカルエッチングプロセスにより描画されたものであることを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれかに記載の電磁波シールド性と透明性を有する接着フィルム。
　　【請求項６】導電性材料が常磁性金属である請求項１、請求項２又は請求項５に記載の電磁波シールド性と透明性を有する接着フィルム。
　　【請求項７】請求項１ないし請求項６に記載の電磁波シールド性と透明性を有する接着フィルムを用いたディスプレイ。
　　【請求項８】請求項１ないし請求項６に記載の電磁波シールド性と透明性を有する接着フィルムを設けた電磁波遮蔽構成体。」（第２頁第１欄第１行〜第３６行）
　　イ．「【発明の属する技術分野】本発明はＣＲＴ、ＰＤＰ（プラズマ）、液晶、ＥＬなどのディスプレイ前面から発生する電磁波のシールド性と透明性を有する接着フィルム及び該フィルムを用いたディスプレイ、電磁波遮蔽構成体に関するものである。」（第２頁第１欄第３９行〜第４３行）
　　ウ．「本発明でいう透明プラスチック基材とは、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル類、…などのプラスチックからなるフィルムで全可視光透過率が７０％以上のものをいう。…このうち透明性、耐熱性、取り扱いやすさ、価格の点からポリエチレンテレフタレートフィルムが最も適している。」（第３頁第４欄第１８行〜第３１行）
　　エ．「【０００７】本発明の導電性材料としては、銅、アルミニウム、ニッケル、鉄、金、銀、ステンレス、タングステン、クロム、チタンなどの金属の内の１種または２種以上を組み合わせた合金を使用することができる。導電性、回路加工の容易さ、価格の点から銅、アルミニウムまたはニッケルが適しており、厚みが３〜４０μｍの金属箔であることが好ましい。」（第３頁第４欄第３５行〜第４２行）
　　オ．「【００１０】次にこの幾何学図形を被覆する接着剤は前述した透明プラスチック基材との屈折率の差が０．１４以下とされる。また透明プラスチック基材が接着層を介して導電性材料と積層されている場合においては、接着層と幾何学図形を被覆する接着剤との屈折率の差が０．１４以下とされる。これは、透明プラスチック基材と接着剤の屈折率、または接着剤と接着層の屈折率が異なると可視光透過率が低下するためであり、屈折率の差が０．１４以下であると可視光透過率の低下が少なく良好となる。そのような要件を満たす接着剤の材料としては、…などのエポキシ樹脂…天然ゴム（ｎ=1.52）、…ポリ−１，３−ブタジエン（ｎ=1.515）などの（ジ）エン類、…などのポリエーテル類、…などのポリエステル類、…フェノキシ樹脂（ｎ=1.5〜1.6）などを挙げることができる。これらは、好適な可視光透過率を発現する。
　　【００１１】一方、透明プラスチック基材がアクリル樹脂の場合、上記の樹脂以外に、…ポリメチルメタクリレート（ｎ=1.4893）などのポリ（メタ）アクリル酸エステルが使用可能である。これらのアクリルポリマーは必要に応じて、２種以上共重合してもよいし、２種類以上をブレンドして使うこともできる。」（第４頁第５欄第４６行〜第５頁第７欄第５行）
　　カ．「そして、この接着剤の樹脂組成物は、透明プラスチック基材の表面に導電性材料で描かれた幾何学図形を設けた構成材料の基材の一部または全面を被覆するために、塗布され、溶媒乾燥、加熱硬化工程をへたのち、本発明に係る接着フィルムにする。上記で得られた電磁波シールド性と透明性を有する接着フィルムは、該接着フィルムの接着剤によりＣＲＴ、ＰＤＰ、液晶、ＥＬなどのディスプレイに直接貼り付け使用したり、アクリル板、ガラス板等の板やシートに貼り付けてディスプレイに使用する。」（第５頁第７欄第４４行〜第８欄第３行）
　　キ．「【００１４】本発明は、透明プラスチック基材上の導電性材料が除去された部分は密着性向上のために意図的に凹凸を有していたり、導電性材料の背面形状を転写したりするためにその表面で光が散乱され、透明性が損なわれるが、その凹凸面に透明プラスチック基材と屈折率が近い樹脂が平滑に塗布されると乱反射が最小限に押さえられ、透明性が発現するようになる。」（第５頁第８欄第１０行〜第１６行）
　　ク．「【００１５】【実施例】（実施例）
　　＜接着フィルム１の作製例＞透明プラスチック基材として厚さ５０μｍの透明ＰＥＴフィルム（屈折率ｎ＝１．５７５）を用い、その上に接着層となるエポキシ系接着シート（ニカフレックスＳＡＦ；ニッカン工業（株）製、ｎ＝１．５８）を介して導電性材料である厚さ１８μｍの電解銅箔の粗化面がエポキシ系接着シート側になるようにして、１８０℃、３０ｋｇｆ／ｃｍ2の条件で加熱ラミネートして接着させた。得られた銅箔付きＰＥＴフィルムにフォトリソ工程（レジストフィルム貼付け−露光−現像−ケミカルエッチング−レジストフィルム剥離）を経て、ライン幅２５μｍ、ライン間隔５００μｍの銅格子パターンの幾何学図形をＰＥＴフィルム上に形成し構成材料１を得た。この構成材料１上に後述の接着剤を乾燥塗布厚が約４０μｍになるように塗布、乾燥して電磁波シールド性と透明性を有する接着フィルム１を得た。そして、接着フィルム１をロールラミネータを使用し市販のアクリル板（コモグラス；（株）クラレ製、厚み３ｍｍ）に１１０℃、２０ｋｇｆ／ｃｍ2の条件で加熱圧着した。」（第５頁第８欄第２３行〜第４４行）
　
　　記載事項ウによれば、刊行物１の「透明プラスチック基材」としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムのような「透明フィルム」が適している。
　　記載事項エから、刊行物１の「導電性材料」は、銅箔等の「導電性金属箔」とすることができ、また、記載事項キ・クから、この「導電性金属箔」の密着性向上のために、その背面側、すなわちエポキシ系接着シート等の接着層側に
粗化面（凹凸面）
　　記載事項キにおいて、「透明プラスチック基材上の導電性材料が除去された部分」とは、透明プラスチック基材（透明フィルム）の上に接着層を介して導電性金属箔を接着する場合、接着層になるが、その接着層面上には導電性金属箔の粗化面が転写されているため、その表面で光が散乱されて透明性が損なわれるが、記載事項ア・オによれば、刊行物１に記載の発明は、この粗化面に接着層と屈折率が近い（その差が０．１４以下）接着剤を平滑に塗布して被覆することにより、乱反射が最小限に押さえられ、透明性が発現するようになるというものである。
　
　　上記の記載事項から、刊行物１には、次の発明が記載されている。
　　「透明フィルムの上に、エポキシ系接着シート等の接着層を介して、表面が粗化形状の導電性金属箔を積層する工程、
　　当該導電性金属箔上に、フォトリソ工程を利用して幾何学図形を有するエッチングレジストパターンを形成する工程、
　　導電性金属箔をエッチングすることによって導電性金属からなる幾何学図形を形成する工程、
　　ついで、その幾何学図形を含む透明フィルムの一部または全面を接着剤（この接着剤は透明フィルムまたは接着層との屈折率の差が０．１４以下である）で被覆して粗化形状が転写された接着層を透明化する工程、
　　を含むＰＤＰ用電磁波シールド性接着フィルムの製造法。」
　
　(2)刊行物２：特開平１０−１６３６７３号公報
　　刊行物２は、「電磁波シールドパネル及びその製造方法」に関し、次の事項が記載されている。
　　キ．「【特許請求の範囲】
　　【請求項１】 電磁波シールドフィルム上に透明粘着剤層を設け、この粘着剤層を介してディスプレイパネル又は透明基板に貼り合せてなることを特徴とする電磁波シールドパネル。
　　【請求項２】 電磁波シールドフィルムが、透明フィルムの少なくとも一方の面にめっき触媒を含む透明樹脂塗膜を形成し、無電解めっきにより塗膜を黒色化しつつ塗膜表面にめっき金属（電磁波シールド）層を形成した後、無電解めっき層上に所望のパターンのレジスト部を形成し、非レジスト部のめっき金属層及び該めっき金属層下の塗膜中の黒色部を選択的にエッチング除去してなるものである請求項１記載の電磁波シールドパネル。
　　　…
　　【請求項１０】 透明フィルムの少なくとも一方の面にめっき触媒を含む透明樹脂塗膜を形成し、無電解めっきにより塗膜を黒色化しつつ塗膜表面にめっき金属層を形成した後、無電解めっき層上に所望のパターンのレジスト部を形成し、非レジスト部のめっき金属層及び該めっき金属層下の塗膜中の黒色部を選択的にエッチング除去することで電磁波シールドフィルムを形成した後、該フィルム上に透明粘着剤層を設け、この粘着剤層を介してディスプレイパネル又は透明基板に貼り合せることを特徴とする電磁波シールドパネルの製造方法。」（第２頁第１欄第１行〜第４０行）
　　ク．「【発明の属する技術分野】本発明は、テレビのディスプレイ装置前面等に設置し電磁波を遮蔽する透視性電磁波シールドパネル及びその製造方法に関するものである。特に大型のプラズマディスプレイ用パネルに好適である。」（第２頁第１欄第５０行〜第２欄第４行）
　　ケ．「【００３５】次に、電磁波シールドフィルムの導電部のパターンと同じパターンのレジスト部を無電解めっき層上に形成する。レジスト部は印刷、フォトリソグラフィー等一般に知られている方法で形成するとよい。」（第４頁第６欄第５行〜第８行）
　　コ．「【００５４】この電磁波シールドフィルムのフィルム側にアクリル系透明粘着剤層（１０μ）を形成し、この粘着剤層を介してガラス板（厚さ４ｍｍ）に貼り合せ、透視性電磁波シールドパネルを作製した。
　　…
　　【００５６】
　　【実施例２】実施例１の透視性電磁波シールドフィルムのめっき金属層側に実施例１と同様に透明粘着剤層を形成し、この粘着剤層を介してプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）に貼り合せ、透視性電磁波シールドパネルを作製した。この電磁波シールドパネルは、実施例１と同様、良好な各性能を示した。
　　【００５７】
　　【実施例３】実施例１のＰＥＴフィルムの代わりに、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムにアクリル系透明粘着剤層を介して保護フィルムを貼り合せたＴＡＣフィルム積層品を用いて、実施例１と同様に透視性電磁波シールドフィルムを作製した。
　　【００５８】この電磁波シールドフィルムから保護フィルムを剥離し、アクリル板に貼り合せ透視性電磁波シールドパネルを作製した。この電磁波シールドパネルは、実施例１と同様、良好な各性能を示した。」（第５頁第８欄第１４行〜第３８行）
　　
　(3)刊行物３：特開昭１−１６８１００号公報
　　刊行物３は、「透明電磁波シールド材」に関し、図面とともに、次の事項が記載されている。
　　サ．「透明な基板上に、積層化プラスチック層を設け、該積層化プラスチック層上に導電性メッシュ織物の一部又は全部を埋設するようにしたことを特徴とする電磁波シールド材。」（第１頁、左下欄、特許請求の範囲）
　　シ．「上述のように積層された塩化ビニル板１、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体シート２、銅メッシュ３はステンレス板６，６間に送入し、８０℃の加温下にステンレス板６，６で圧着する。このようにして圧着した後、冷却すると、銅メッシュ３は塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体シート２内に埋設して透明電磁波シールド材７が得られる。」（第２頁右下欄第１４行〜第３頁左上欄第１行）
　
　(4)刊行物４：特開平１１−７４６８６号公報
　　刊行物４は、「電磁波シールド性光透過窓材」に関し、図面とともに、次の事項が記載されている。
　　ス．「【特許請求の範囲】
　　【請求項１】 透明基板の板面に導電層を樹脂で接着させた電磁波シールド性光透過窓材において、該導電層は、導電性の箔をパターンエッチングしたものであることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材。
　　【請求項２】 請求項１において、前記導電層は２枚の透明基板の間に介在されていることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材。
　　【請求項３】 請求項１において、前記導電層は１枚の透明基板の一方の板面に沿って設けられていることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材。
　　【請求項４】 請求項１ないし３のいずれか１項において、前記箔は金属箔であり、フォトレジストのコーティング、パターン露光及びエッチングの工程により所定パターンにエッチングされたものであることを特徴とする電磁波シールド性光透過窓材。」
　　セ．「【発明の属する技術分野】本発明は電磁波シールド性光透過窓材に係り、特に、良好な電磁波シールド性を備え、かつ光透過性で、ＰＤＰ（プラズマディスプレーパネル）の前面フィルタ等として有用な電磁波シールド性光透過窓材に関する。」（第２頁左欄第２２行〜第２６行）
　　ソ．「【００２３】金属箔の厚さは、薄過ぎると取り扱い性やパターンエッチングの作業性等の面で好ましくなく、厚過ぎると得られる電磁波シールド性光透過窓材の厚さに影響を及ぼしたり、エッチング工程の所要時間が長くなることから、１〜２００μｍ程度とするのが好ましい。」（第３頁左欄第３７行〜第４１行）
　　タ．「【００３９】なお、接着層４Ａ，４Ｂ，４の厚さは、電磁波シールド性光透過窓材の用途等によっても異なるが、通常の場合０．０５〜１．０ｍｍ程度とされる。従って、接着用フィルムは、このような厚さの接着層が得られるように、０．０５〜１．０ｍｍ厚さに成形される。」（第４頁左欄下から第９行〜第４行）
　
　３．対比・判断
　　本件の請求項１に係る発明（以下、「本件発明」という。）と刊行物１に記載の発明とを対比すると、刊行物１に記載の発明の「接着層」は本件発明の「接着剤層」に相当し、刊行物１に記載の発明の「フォトリソ工程」は本件発明の「マイクロリソグラフ法」に含まれるものである。
　　したがって、両者には次の一致点、相違点が認められる。
　　＜一致点＞
  　「透明フィルムの上に、加熱または加圧により流動する接着剤層を介して、表面が粗化形状の導電性金属箔を積層する工程、
　　当該導電性金属箔上に、マイクロリソグラフ法等を利用して幾何学図形を有するエッチングレジストパターンを形成する工程、
　　導電性金属箔をエッチングすることによって導電性金属からなる幾何学図形を形成する工程、
　　ついで、粗化形状が転写された接着剤層を透明化する工程を含むＰＤＰ用電磁波シールド性接着フィルムの製造法。」
　
　　＜相違点＞
　　(1) 接着剤層に関し、本件発明は、加熱または加圧により流動するものであるのに対し、刊行物１に記載の発明は、そのことについて言及していない点。
　　(2) 粗化形状が転写された接着剤層を透明化する手段として、本件発明は、上記(1)に述べた、接着剤層が加熱または加圧により流動化することを前提として、加圧して接着剤層を流動化させることにより透明化するのに対し、刊行物１に記載の発明は、接着剤層と屈折率が近い接着剤を接着剤層に塗布することにより透明化する点。
　
　　上記各相違点について検討する。
　　相違点(1)について
　　刊行物１に記載の接着剤層は、実施例によれば、エポキシ系接着シートやアクリル系接着フィルムを用い、導電性金属箔（銅箔、アルミニウム箔等）を透明ＰＥＴフィルムに接着する際、例えば「１８０℃、３０ｋｇｆ／ｃｍ2の条件で加熱ラミネートして接着」する（記載事項ク参照）のであるから、加熱・加圧により接着剤層が溶融して多少流動化するのは自明のことである。流動化するからこそ、導電性金属箔の粗化形状が接着剤層に転写されるのである。
　　したがって、この相違点(1)は実質的な相違点ではない。
　
　　相違点(2)について
　　上記したように、本件発明と刊行物１に記載の発明とは、具体的な透明化手段が明らかに相違するが、これに関して、請求人は、「加圧して透明化する」方法が刊行物３に記載されていると主張しているので検討すると、刊行物３の記載事項シには、「加熱・加圧することにより塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体シートを流動化させ、導電性の銅メッシュ織物を塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体シートに埋設して透明電磁波シールド材を形成した」趣旨の記載が認められるものの、本件発明の接着剤層に対応する塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体シート自体に透明性を損なう凹凸がある訳ではなく、本件発明の「加圧して粗化形状が転写された接着剤層を流動化させ透明化する」ことを示唆するものではない。
　
　　以上要するに刊行物１〜４に記載の発明は、本件発明を特定する事項である、導電性金属箔をエッチングすることによって導電性金属からなる幾何学図形を形成した後に行う、「加圧して粗化形状が転写された接着剤層を流動化させ透明化する工程」に関する事項を備えておらず、当該事項により、本件発明は、「ＰＤＰ用電磁波シールド性接着フィルムを製造する際に、可視光線が散乱される粗化形状転写部分の透明化を図ることができ、特に、加熱または加圧により流動化する接着剤層を使用することにより、加圧して粗化形状が転写された接着剤層を流動化させ透明化するので、刊行物１に記載の発明に比較して、ヘイズをさらに小さく、全光線透過率をさらに大きくできる（平成１６年６月２２日付の「特許異議意見書」の添付書類「実験成績書」参照）。」という顕著な効果を奏するものであり、本件発明が、上記刊行物１〜４に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものとはいえない。
　
　４．請求項２〜９に係る発明について
　　請求項２〜９に係る発明は、請求項１に係る発明の構成要件を全て含み、さらに他の構成要件を付加したものに相当するから、上記３で説示したと同様の理由により、上記刊行物１〜４に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明できたものとすることができない。
　
　５．むすび
　　以上のとおりであるから、本件請求項１〜９に係る発明の特許は、特許異議の申立ての理由及び証拠によっては取り消すことはできない。
　　また、他に請求項１〜９に係る発明の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１６年６月３０日（２００４．６．３０）
【訂正の要旨】
審決（決定）の【理由】欄参照。
（５４）【発明の名称】
ＰＤＰ用電磁波シールド性接着フィルムの製造法及びＰＤＰ用電磁波遮蔽構成体とプラズマディスプレイの製造法
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】
　透明フィルムの上に、加熱または加圧により流動する接着剤層を介して、表面が粗化形状の導電性金属箔を積層する工程、当該導電性金属箔上に、マイクロリソグラフ法、スクリーン印刷法又は凹版オフセット印刷法を利用して幾何学図形を有するエッチングレジストパターンを形成する工程、導電性金属箔をエッチングすることによって導電性金属からなる幾何学図形を形成する工程、ついで、加圧して
粗化形状が転写された接着剤層を流動化させ
　【請求項２】
　加熱または加圧により流動する接着剤層の厚さが導電性金属の厚さ以上である請求項１記載のＰＤＰ用電磁波シールド性接着フィルムの製造法。
　【請求項３】
　導電性金属が銅であり、少なくともその表面が黒化処理されている請求項１又は２に記載のＰＤＰ用電磁波シールド性接着フィルムの製造法。
　【請求項４】
　導電性金属が常磁性金属である請求項１又は２に記載のＰＤＰ用電磁波シールド性接着フィルムの製造法。
　【請求項５】
　加圧と同時に又はその後、透明基材とは反対側に剥離可能な保護フィルムを積層する請求項１〜４のいずれか１項に記載のＰＤＰ用電磁波シールド性接着フィルムの製造法。
　【請求項６】
　請求項１〜４のいずれか１項に記載のＰＤＰ用電磁波シールド性接着フィルムの製造法を行った後、得られた電磁波シールド性接着フイルムとプラスチック板を貼り合わせることを特徴とするＰＤＰ用電磁波遮蔽構成体の製造法。
　【請求項７】
　請求項５に記載のＰＤＰ用電磁波シールド性接着フィルムの製造法を行った後、得られた電磁波シールド性接着フィルムの保護フィルムを剥離しつつ又は剥離した後、プラスチック板を貼り合わせることを特徴とするＰＤＰ用電磁波遮蔽構成体の製造法。
　【請求項８】
　請求項１〜４のいずれか１項に記載のＰＤＰ用電磁波シールド性接着フィルムの製造法を行った後、得られた電磁波シールド性接着フィルムをディスプレイ表面に貼り合わせることを特徴とするプラズマディスプレイの製造法。
　【請求項９】
　請求項５に記載のＰＤＰ用電磁波シールド性接着フィルムの製造法を行った後、得られた電磁波シールド性接着フィルムの保護フィルムを剥離しつつ又は剥離した後、ディスプレイ表面に貼り合わせることを特徴とするプラズマディスプレイの製造法。
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【発明の属する技術分野】
　本発明はＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）のディスプレイ前面から発生する電磁波のシールド性を有する電磁波シールド性接着フィルム、電磁波遮蔽構成体及びディスプレイの製造法に関する。
　【０００２】
　【従来の技術】
　近年各種の電気設備や電子応用設備の利用が増加するのに伴い、電磁気的なノイズ妨害も増加の一途をたどっている。ノイズは大きく分けて伝導ノイズと放射ノイズに分けられ、伝導ノイズの対策としては、ノイズフィルタなどを用いる方法がある。一方、放射ノイズの対策としては、電磁気的に空間を絶縁する必要があるため、筐体を金属体または高導電体にするとか、回路基板と回路基板の間に金属板を挿入するとか、ケーブルを金属箔で巻き付けるなどの方法が取られている。これらの方法では、回路や電源ブロックの電磁波シールド効果を期待できるが、ＣＲＴ、ＰＤＰなどのディスプレイ前面より発生する電磁波シールド用途としては、不透明であるため適用できなかった。
　【０００３】
　電磁波シールド性と透明性を両立させる方法として、透明性基材上に金属または金属酸化物を蒸着して薄膜導電層を形成する方法（特開平１−２７８８００号公報、特開平５−３２３１０１号公報参照）が提案されている。一方、良導電性繊維を透明基材に埋め込んだ電磁波シールド材（特開平５−３２７２７４号公報、特開平５−２６９９１２号公報参照）や金属粉末等を含む導電性樹脂を透明基板上に直接印刷した電磁波シールド材料（特開昭６２−５７２９７号公報、特開平２−５２４９９号公報参照）、さらには、厚さが２ｍｍ程度のポリカーボネート等の透明基板上に透明樹脂層を形成し、その上に無電解めっき法により銅のメッシュパターンを形成した電磁波シールド材料（特開平５−２８３８８９号公報参照）が提案されている。
　【０００４】
　【発明が解決しようとする課題】
　電磁波シールド性と透明性を両立させる方法として、特開平１−２７８８００号公報、特開平５−３２３１０１号公報に示されている透明性基材上に金属または金属酸化物を蒸着して薄膜導電層を形成する方法は、透明性が達成できる程度の膜厚（数１００Å〜２、０００Å）にすると導電層の表面抵抗が大きくなりすぎるため、３０ＭＨｚ〜１ＧＨｚで要求される３０ｄＢ以上のシールド効果に対して２０ｄＢ以下と不十分であった。良導電性繊維を透明基材に埋め込んだ電磁波シールド材（特開平５−３２７２７４号公報、特開平５−２６９９１２号公報）では、３０ＭＨｚ〜１ＧＨｚの電磁波シールド効果は４０〜５０ｄＢと十分大きいが、電磁波漏れのないように導電性繊維を規則配置させるために必要な繊維径が３５μｍと太すぎるため、繊維が見えてしまい（以後視認性という）ディスプレイ用途には適したものではなかった。また、特開昭６２−５７２９７号公報、特開平２−５２４９９号公報の金属粉末等を含む導電性樹脂を透明基板上に直接印刷した電磁波シールド材料の場合も同様に、印刷精度の限界からライン幅は、１００μｍ前後となり視認性が発現するため適したものではなかった。さらに特開平５−２８３８８９号公報に記載の厚さが２ｍｍ程度のポリカーボネート等の透明基板上に透明樹脂層を形成し、その上に無電解めっき法により銅のメッシュパターンを形成したシールド材料では、無電解めっきの密着力を確保するために、透明基板の表面を粗化する必要がある。この粗化手段として、一般にクロム酸や過マンガン酸などの毒性の高い酸化剤を使用しなければならず、この方法は、ＡＢＳ以外の樹脂では、満足できる粗化を行うことは困難となる。この方法により、電磁波シールド性と透明性は達成できたとしても、透明基板の厚さを小さくすることは困難で、フィルム化の方法としては適していなかった。さらに透明基板が厚いと、ディスプレイに密着させることができないため、そこから電磁波の漏洩が大きくなる。また製造面においては、シールド材料を巻物等にすることができないため嵩高くなることや自動化に適していないために製造コストがかさむという欠点もあった。ディスプレイ前面から発生する電磁波のシールド性については、３０ＭＨｚ〜１ＧＨｚにおける３０ｄＢ以上の電磁波シールド機能の他に、ディスプレイ前面より発生する９００〜１、１００ｎｍの赤外線はリモートコントロールで操作する他のＶＴＲ機器等に悪影響を及ぼすため、これを遮蔽する必要がある。この他にも良好な可視光透過性、さらに可視光透過率が大きいだけでなく、電磁波の漏れを防止するためディスプレイ面に密着して貼付けられる接着性、シールド材の存在を肉眼で確認することができない特性である非視認性も必要とされる。接着性についてはガラスや汎用ポリマー板に対し比較的低温で容易に貼付き、長期間にわたって良好な密着性を有することが必要である。しかし、電磁波シールド性、赤外線遮蔽性、透明性・非視認性、接着性等の特性を同時に十分満たす接着フィルムとしては、これまで満足なものは得られていなかった。本発明は、電磁波シールド性、透明性、非視認性および良好な接着特性を有する電磁波シールド性接着フィルム、その製造法並びにその電磁波シール��性接着フィルムを用いた電磁波遮蔽構成体及びディスプレイの製造法を提供するものである。
　【０００５】
　【課題を解決するための手段】
　本発明は、次のものに関する。（１）　透明フィルムの上に、加熱または加圧により流動する接着剤層を介して、表面が粗化形状の導電性金属箔を積層する工程、当該導電性金属箔上に、マイクロリソグラフ法、スクリーン印刷法又は凹版オフセット印刷法を利用して幾何学図形を有するエッチングレジストパターンを形成する工程、導電性金属箔をエッチングすることによって導電性金属からなる幾何学図形を形成する工程、ついで、加圧して透明化する工程を含むことを特徴とするＰＤＰ用電磁波シールド性接着フィルムの製造法。
（２）　加熱または加圧により流動する接着剤層の厚さが導電性金属の厚さ以上であることを特徴とする（１）に記載のＰＤＰ用電磁波シールド性接着フィルムの製造法。
（３）　導電性金属が銅であり、少なくともその表面が黒化処理されていることを特徴とする（１）又は（２）に記載のＰＤＰ用電磁波シールド性接着フィルム。
（４）　導電性金属が常磁性金属である（１）又は（２）に記載のＰＤＰ用電磁波シールド性接着フィルムの製造法。
（５）　加圧と同時に又はその後、透明基材とは反対側に剥離可能な保護フィルムを積層する（１）〜（３）のいずれかに記載のＰＤＰ用電磁波シールド性接着フィルムの製造法。
（６）　（１）〜（４）のいずれかに記載のＰＤＰ用電磁波シールド性接着フィルムの製造法を行った後、得られた電磁波シールド性接着フィルムとプラスチック板を貼り合わせることを特徴とするＰＤＰ用電磁波遮蔽構成体の製造法。
（７）　（５）に記載のＰＤＰ用電磁波シールド性接着フィルムの製造法を行った後、得られた電磁波シールド性接着フィルムの保護フィルムを剥離しつつ又は剥離した後、プラスチック板を貼り合わせることを特徴とするＰＤＰ用電磁波遮蔽構成体の製造法。
（８）　（１）〜（４）のいずれかに記載のＰＤＰ用電磁波シールド性接着フィルムの製造法を行った後、得られた電磁波シールド性接着フィルムをディスプレイ表面に貼り合わせることを特徴とするプラズマディスプレイの製造法。
（９）　（５）に記載のＰＤＰ用電磁波シールド性接着フィルムの製造法を行った後、得られた電磁波シールド性接着剤フィルムの保護フィルムを剥離しつつ又は剥離した後、ディスプレイ表面に貼り合わせることを特徴とするプラズマディスプレイの製造法。以上の結果、本発明は、次の技術に関連する。（ａ）　透明基材の上に接着剤層が積層されており、この接着剤層に幾何学図形の導電層が埋設されてなるＰＤＰ用電磁波シールド性接着フィルム。（ｂ）　接着剤が加熱または加圧により流動するものであり、その軟化温度が２００℃以下である（ａ）に記載のＰＤＰ用電磁波シールド性接着フィルム。（ｃ）　接着剤の屈折率が１．４０〜１．７０の範囲にある（ａ）又は（ｂ）に記載のＰＤＰ用電磁波シールド性接着フィルム。（ｄ）　接着剤層の幾何学図形の導電層が埋設されていない部分の厚さが導電層の厚さ以上である（ａ）〜（ｃ）のいずれかに記載のＰＤＰ用電磁波シールド性接着フィルム。（ｅ）　導電層の幾何学図形の開口率が５０％以上である（ａ）〜（ｄ）のいずれかに記載のＰＤＰ用電磁波シールド性接着フィルム。（ｆ）　幾何学図形の導電層のライン幅が４０μｍ以下、ライン間隔が１００μｍ以上、ライン厚さが４０μｍ以下である（ａ）〜（ｅ）のいずれかに記載のＰＤＰ用電磁波シールド性接着フィルム。（ｇ）　透明基材とは反対側の表面にさらに剥離可能な保護フィルムが積層されてなる（ａ）〜（ｆ）のいずれかに記載のＰＤＰ用電磁波シールド性接着フィルム。
　【０００６】
　【発明の実施の形態】
　本発明で使用する透明基材は、プラスチック板、ガラス板等であっても良いが、可とう性のあるものが好ましく、例えば、プラスチックフィルムを使用することが好ましい。プラスチックフィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル類、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ＥＶＡなどのポリオレフィン類、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル系樹脂、ポリサルホン、ポリエーテルサルホン、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂などのプラスチックからなるものがある。透明基材は、全可視光透過率が７０％以上で厚さが１ｍｍ以下のものが好ましい。透明基材は単層で使うこともできるが、２層以上を組み合わせて多層体として使用してもよい。前記プラスチックフィルムのうち透明性、耐熱性、取り扱いやすさ、価格の点からポリエチレンテレフタレートフィルムまたはポリカーボネートフィルムが好ましい。透明基材の厚さは、特にプラスチックフィルムの厚さは、５〜５００μｍが好ましい。５μｍ未満になると取り扱い性が悪くなる傾向があり、５００μｍを超えると可視光の透過率が低下してくる傾向がある。透明基材の厚さは、特にプラスチックフィルムの厚さは、１０〜２００μｍとすることがより好ましい。
　【０００７】
　本発明で用いる接着剤の屈折率は１．４０〜１．７０のものを使用することが好ましい。これは本発明で使用するプラスチックフィルム等の透明基材と接着剤の屈折率との関係で、その差を小さくして、可視光透過率が低下するのを防ぐためであり、屈折率が１．４０〜１．７０であると可視光透過率の低下が少なく良好である。
　【０００８】
　本発明で用いられる接着剤は、また、加熱または加圧により流動する接着剤であることが好ましく、特に、２００℃以下の加熱または１Ｋｇｆ／ｃｍ２以上の加圧により流動性を示す接着剤であることが好ましい。このような接着剤を用いることにより、この接着剤の層に導電層が埋設されている本発明おける電磁波シールド性接着フィルムを被着体であるディスプレイやプラスチック板に接着剤層を流動させて接着することができる。流動できるので電磁波シールド性接着フィルムを被着体にラミネートや加圧成形、特に加圧成形により、また曲面、複雑形状を有する被着体にも容易に接着することができる。このためには、接着剤の軟化温度が２００℃以下であると好ましい。電磁波シールド性接着フィルムの用途から、使用される環境が通常８０℃未満であるので接着剤層の軟化温度は、８０℃以上が好ましく、加工性から８０〜１２０℃が最も好ましい。軟化温度は、粘度が１０１２ポイズ以下になる温度のことで、通常その温度では１〜１０秒程度の時間のうちに流動が認められる。
　【０００９】
　上記のような加熱または加圧により流動する接着剤としては、主に以下に示す熱可塑性樹脂が代表的なものとしてあげられる。たとえば天然ゴム（屈折率ｎ＝１．５２）、ポリイソプレン（ｎ＝１．５２１）、ポリ−１，２−ブタジエン（ｎ＝１．５０）、ポリイソブテン（ｎ＝１．５０５〜１．５１）、ポリブテン（ｎ＝１．５１３）、ポリ−２−ヘプチル−１，３−ブタジエン（ｎ＝１．５０）、ポリ−２−ｔ−ブチル−１，３−ブタジエン（ｎ＝１．５０６）、ポリ−１，３−ブタジエン（ｎ＝１．５１５）などの（ジ）エン類、ポリオキシエチレン（ｎ＝１．４５６）、ポリオキシプロピレン（ｎ＝１．４５０）、ポリビニルエチルエーテル（ｎ＝１．４５４）、ポリビニルヘキシルエーテル（ｎ＝１．４５９）、ポリビニルブチルエーテル（ｎ＝１．４５６）などのポリエーテル類、ポリビニルアセテート（ｎ＝１．４６７）、ポリビニルプロピオネート（ｎ＝１．４６７）などのポリエステル類、ポリウレタン（ｎ＝１．５〜１．６）、エチルセルロース（ｎ＝１．４７９）、ポリ塩化ビニル（ｎ＝１．５４〜１．５５）、ポリアクリロニトリル（ｎ＝１．５２）、ポリメタクリロニトリル（ｎ＝１．５２）、ポリスルホン（ｎ＝１．６３３）、ポリスルフィド（ｎ＝１．６）、フェノキシ樹脂（ｎ＝１．５〜１．６）、ポリエチルアクリレート（ｎ＝１．４６９）、ポリブチルアクリレート（ｎ＝１．４６６）、ポリ−２−エチルヘキシルアクリレート（ｎ＝１．４６３）、ポリ−ｔ−ブチルアクリレート（ｎ＝１．４６４）、ポリ−３−エトキシプロピルアクリレート（ｎ＝１．４６５）、ポリオキシカルボニルテトラメチレン（ｎ＝１．４６５）、ホ°リメチルアクリレート（ｎ＝１．４７２〜１．４８０）、ポリイソプロピルメタクリレート（ｎ＝１．４７３）、ポリドデシルメタクリレート（ｎ＝１．４７４）、ポリテトラデシルメタクリレート（ｎ＝１．４７５）、ポリ−ｎ−プロピルメタクリレート（ｎ＝１．４８４）、ポリ−３，３，５−トリメチルシクロヘキシルメタクリレート（ｎ＝１．４８４）、ポリエチルメタクリレート（ｎ＝１．４８５）、ポリ−２−ニトロ−２−メチルプロピルメタクリレート（ｎ＝１．４８７）、ポリ−１，１−ジエチルプロピルメタクリレート（ｎ＝１．４８９）、ポリメチルメタクリレート（ｎ＝１．４８９）などのポリ（メタ）アクリル酸エステルが使用可能である。これらのアクリルポリマーは必要に応じて、２種以上共重合してもよいし、２種類以上をブレンドして使用することも可能である。
　【００１０】
　さらにアクリル樹脂とアクリル以外との共重合樹脂としてはエポキシアクリレート（ｎ＝１．４８〜１．６０）、ウレタンアクリレート（ｎ＝１．５〜１．６）、ポリエーテルアクリレート（ｎ＝１．４８〜１．４９）、ポリエステルアクリレート（ｎ＝１．４８〜１．５４）なども使うこともできる。特に接着性の点から、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレートが優れており、エポキシアクリレートとしては、１、６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、アリルアルコールジグリシジルエーテル、レゾルシノールジグリシジルエーテル、アジピン酸ジグリシジルエステル、フタル酸ジグリシジルエステル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、ソルビトールテトラグリシジルエーテル等の（メタ）アクリル酸付加物が挙げられる。エポキシアクリレートなどのように分子内に水酸基を有するポリマーは接着性向上に有効である。これらの共重合樹脂は必要に応じて、２種以上併用することができる。これらの接着剤となるポリマーの軟化温度は、取扱い性から２００℃以下が好適で、１５０℃以下がさらに好ましい。電磁波シールド性接着フィルムの用途から、使用される環境が通常８０℃以下であるので接着剤層の軟化温度は、加工性から８０〜１２０℃が最も好ましい。一方、ポリマーの重量平均分子量（ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによる標準ポリスチレンの検量線を用いて測定したもの、以下同様）は、５００以上のものを使用することが好ましい。分子量が５００以下では接着剤組成物の凝集力が低すぎるために被着体への密着性が低下するおそれがある。本発明で使用する接着剤には必要に応じて、希釈剤、可塑剤、酸化防止剤、充填剤、着色剤、紫外線吸収剤や粘着付与剤などの添加剤を配合してもよい。接着剤の層の厚さは、　１０〜８０μｍであることが好ましく、導電層の厚さ以上で２０〜５０μｍとすることが特に好ましい。
　【００１１】
　本発明における導電層の材料は、導電性金属、導電性ペースト等が使用されるが、導電性金属が特に好ましい。導電性金属としては、銅、アルミニウム、ニッケル、鉄、金、銀、ステンレス、タングステン、クロム、チタンなどの金属、あるいはそれらの金属の２種以上を組み合わせた合金を使用することができる。導電性や回路加工の容易さ、価格の点から銅、アルミニウムまたはニッケルが適しており、金属箔、めっき金属、蒸着などの真空下で形成される金属が使われる。導電層の厚さは、０．５〜４０μｍが好ましい。４０μｍを超えると、細かいライン幅の形成が困難であったり、視野角が狭くなる。また厚さが０．５μｍ未満では、表面抵抗が大きくなり、電磁波シールド効果が劣る傾向にある。加工性、電磁波シールド性の観点から１〜２０μｍがさらに好ましい。
　【００１２】
　導電性金属が銅であり、少なくともその表面が黒化処理されたものであると、コントラストが高くなり好ましい。また導電性金属が経時的に酸化され退色されることが防止できる。黒化処理は、幾何学図形の形成前又は形成後に行えばよいが、形成後に行うことが好ましい。その手法は、プリント配線板分野で行われている通常の方法を用いて行うことができる。例えば、亜塩素酸ナトリウム（３１ｇ／ｌ）、水酸化ナトリウム（１５ｇ／ｌ）、燐酸三ナトリウム（１２ｇ／ｌ）の水溶液中、９５℃で２分間処理することにより行うことができる。また、導電性金属が、ニッケル、鉄、ステンレス、チタン等の常磁性金属であると、磁場シールド性に優れるために好ましい。導電性金属を前記透明基材に密着させる方法としては、前記した接着剤層を介して導電性金属の箔又はフィルムを貼り合わせられるのが最も簡便である。導電性金属の導電層の厚みを小さくする必要がある場合は、接着剤層の上に、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレート法、化学蒸着法、無電解・電気めっき法などの薄膜形成技術のうちの１または２以上の方法を組み合わせることにより達成できる。導電性金属の厚みは４０μｍ以下とすることが好ましく、厚みが薄いほどディスプレイの視野角が広がり電磁波シールド材料として好ましく、１８μｍ以下とすることがさらに好ましい。
　【００１３】
　本発明の導電層で描かれた幾何学図形は、正三角形、二等辺三角形、直角三角形などの三角形、正方形、長方形、ひし形、平行四辺形、台形などの四角形、（正）六角形、（正）八角形、（正）十二角形、（正）二十角形などの（正）ｎ角形（ｎは正の整数）、円、だ円、星型などを組み合わせた模様であり、これらの単位の単独の繰り返し、あるいは２種類以上組み合わせで使うことも可能である。電磁波シールド性の観点からは三角形が最も有効であるが、可視光透過性の点からは同一のライン幅なら（正）ｎ角形のｎ数が大きいほど開口率が上がるが、可視光透過性の点から開口率は５０％以上が必要とされる。開口率は、６０％以上がさらに好ましい。開口率は、電磁波シールド性接着フィルムの有効面積に対する有効面積から導電性金属で描かれた幾何学図形の導電性金属の面積を引いた面積の比の百分率である。ディスプレイ画面の面積を電磁波シールド性接着フィルムの有効面積とした場合、その画面が見える割合となる。
　【００１４】
　また、導電性金属上にめっきを施すことによって、さらに電磁波シールド性を向上させることができる。金属めっきを施す方法として常法による電解めっき、無電解めっきのいずれの方法でも可能である。めっき金属の種類は金、銀、銅、ニッケル、アルミ等が可能であるが、導電性、価格の点から銅、またはニッケルが最も適している。めっき厚みの範囲は０．１〜１００μｍが適当で、０．１μｍ未満では導電性が不十分なため、十分なシールド性が発現しないおそれがある。まためっき厚みが１００μｍを超えると、視野角が狭くなるため好ましくない。０．５〜５０μｍがさらに好ましい。
　【００１５】
　このような幾何学図形を形成させる方法としては、前記のように透明基材に導電性金属が張り合わされている場合、マイクロリソグラフ法、スクリーン印刷法、凹版オフセット印刷法等を利用してエッチングレジストパターン作製した後、導電性金属をエッチングする方法がある。これらの方法が回路加工の精度および回路加工の効率の点から有効である。エッチングする方法としては、ケミカルエッチング法等がある。ケミカルエッチングとは、エッチングレジストで保護された導体部分以外の不要導体をエチング液で溶解し、除去する方法である。エッチング液としては、塩化第二鉄水溶液、塩化第二銅水溶液、アルカリエッチング液等がある。これらの中でも、低汚染性で再利用が可能な塩化第二鉄又は塩化第二銅の水溶液が好適である。エチング液の濃度は、被エッチング物の厚さ、処理速度にもよるが、通常１５０〜２５０ｇ／リットルである。また、液温は、６０〜８０℃の範囲が好ましい。被エッチング物をエッチング液に暴露する方法は、エッチング液中への被エッチング物の浸漬、エッチング液中の被エッチング物へのシャワーリング、エッチング剤の気相中への被エッチング物の暴露などがある。エッチング精度の安定性からはエッチング液中の被エッチング物へのシャワーリングが好ましい。
　【００１６】
　マイクロリソグラフ法を利用する方法は、透明基材、接着剤層及び導電性金属の層を含む積層体の導電性金属の層に活性電磁波の照射により感光する感光層を設け、この感光層に像様露光し、現像してレジスト像を形成し、ついで、導電性金属をエッチングして導電性金属の幾何学的模様を形成し、最後にレジストを剥離する方法である。　マイクロリソグラフ法には、フォトリソグラフ法、Ｘ線リソグラフ法、電子線リソグラフ法、イオンビームリソグラフ法などがある。これらの中でも、その簡便性、量産性の点からフォトリソグラフ法が最も効率がよい。なかでも、ケミカルエッチング法を使用したフォトリソグラフ法は、その簡便性、経済性、回路加工精度などの点から最も好ましい。
　【００１７】
　スクリーン印刷法又は凹版オフセット印刷法は、透明基材、接着剤及び導電性金属層を含む積層体の導電性金属の層表面にエッチングレジストインクを印刷し、硬化させた後エッチング処理により導電性金属の幾何学図形を形成し、この後レジストを剥離する方法がある。　スクリーン印刷では、メッシュに乳剤を付け乳剤に所望のパターン穴を形成して作製されたメッシュ版、メッシュレスメタル板に乳剤を付け、乳剤に所望のパターン穴を形成して作製されたメッシュレスメタル版等の版を通して導電性金属層にスキージを使用してパターンが印刷されるのが一般的である。
　【００１８】
　エッチングレジストインキとしては、硬化物が導電性金属のエッチング処理に対して耐性を有するものであればよく、一般にしられたものを使用することができる。エッチングレジストインキとしては、ネガ型フォトレジスト組成物、感光性樹脂組成物、熱硬化性樹脂組成物等がある。
　【００１９】
　ネガ型フォトレジスト組成物としては、アルカリ水溶液可溶性樹脂、アミノ樹脂及び酸発生剤を含有してなるものがあり、印刷乾燥後、紫外線、遠紫外線、あるいはＸ線、電子線等の活性放射線照射を行い、さらに必要に応じて加熱することにより硬化させることができる。アルカリ水溶液可溶性樹脂としてはアルカリ水溶液に可溶な樹脂であれば特に制限はないが、フェノール類とアルデヒド類とを縮合させたノボラック樹脂が好ましい。酸発生剤としては、たとえば、ハロゲン含有化合物、キノンジアジド化合物、スルホン酸エステル化合物、オニウム塩が挙げられる。
　【００２０】
　これらの配合は、アルカリ水溶液可溶性樹脂１００重量部に対し、酸発生剤は５〜４０重量部含有させるのが好ましく、アミノ樹脂は３〜５０重量部の割合で含有させることが好ましい。溶剤は、通常、アルカリ水溶液可溶性樹脂１００重量部に対して２００〜２０００重量部の範囲で用いられる。溶剤としては、アセトン、ジエチルケトン、メチルアミルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、トルエン、キシレン等の芳香族系溶剤、メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセタート、エチルセロソルブアセタート等のセロソルブ系溶剤、乳酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソアミル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル等のエステル系溶剤、メタノール、エタノール、プロパノール、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールエチルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテル等のアルコール系溶剤などを単独で又は２種類以上組み合わせて用いることができる。
　【００２１】
　感光性樹脂組成物としては、バインダー樹脂に、重合性モノマーおよび光開始剤を含むものがある。バインダー樹脂としては、以下に示すものが挙げられる。天然ゴム、ポリイソプレン、ポリ−１、２−ブタジエン、ポリイソブテン、ポリブテン、ポリ−２−ヘプチル−１，３−ブタジエン、ポリ−２−ｔ−ブチル−１、３−ブタジエン、ポリ−１、３−ブタジエンなどの（ジ）エン類、ポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレン、ポリビニルエチルエーテル、ポリビニルヘキシルエーテル、ポリビニルブチルエーテルなどのポリエーテル類、ポリビニルアセテート、ポリビニルプロピオネートなどのポリエステル類、ポリウレタン、エチルセルロース、ポリ塩化ビニル、ポリアクリロニトリル、ポリメタクリロニトリル、ポリスルホン、ポリスルフィド、ポリエチルアクリレート、ポリブチルアクリレート、ポリ−２−エチルヘキシルアクリレート、ポリ−ｔ−ブチルアクリレート、ポリ−３−エトキシプロピルアクリレート、ポリオキシカルボニルテトラメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリイソプロピルメタクリレート、ポリドデシルメタクリレート、ポリテトラデシルメタクリレート、ポリ−ｎ−プロピルメタクリレート、ポリ−３，３，５−トリメチルシクロヘキシルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、ポリ−２−ニトロ−２−メチルプロピルメタクリレート、ポリ−１，１−ジエチルプロピルメタクリレート、ポリメチルメタクリレートなどのポリ（メタ）アクリル酸エステル、またはこれらの共重合体を使用することができる。
　【００２２】
　重合性モノマーとしては、アクリルモノマー、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ポリエステルアクリレートなども使用できる。特に支持体への密着性の点から、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレートが優れており、エポキシアクリレートとしては、１、６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、アリルアルコールジグリシジルエーテル、レゾルシノールジグリシジルエーテル、アジピン酸ジグリシジルエステル、フタル酸ジグリシジルエステル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、ソルビトールテトラグリシジルエーテル等の（メタ）アクリル酸付加物が挙げられる。エポキシアクリレートなどのように分子内に水酸基を有するポリマーは支持体への密着性向上に有効である。これらは、汎用溶剤に溶解させるか、または無溶剤のまま金属分散剤などとともに攪拌・混合して使用することができる。
　【００２３】
　熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、キシレン樹脂のようななどが適用可能で、これらのポリマーは必要に応じて、２種以上共重合してもよいし、２種類以上をブレンドして使用することも可能である。これらは、通常、汎用溶剤に溶解させるか、または無溶剤のまま金属分散剤などとともに攪拌・混合して使用することができる。上記感光性樹脂組成物は、マイクロリソグラフ法を行うときの感光層の作製にも使用することができる。
　【００２４】
　本発明で使用するこれらの組成物には必要に応じて、分散剤のほかに、チクソトロピー性付与剤、消泡剤、レベリング剤、希釈剤、可塑化剤、酸化防止剤、金属不活性化剤、カップリング剤や充填剤などの添加剤を配合してもよい。
　【００２５】
　導電性金属で描かれた幾何学図形の線幅は４０μｍ未満が好ましい。また、その線ピッチは１００μｍ以上、線厚は４０μｍ以下の範囲とするのが好ましい。また、幾何学図形の非視認性の観点から線幅は、３０μｍ未満がより好ましく、２５μｍ以下がさらに好ましい。可視光透過率の点から線ピッチは１２０μｍ以上、線厚１８μｍ以下がさらに好ましい。線幅は、電気的に導通していれば、可視光透過性の観点から細い方が好ましい。細すぎると製造が困難になる傾向があるため、１０μｍ以上とされることが好ましい。線厚は、電磁波シールド性の観点から１μｍ以上とされることが好ましい。線ピッチは、大きいほど開口率は向上し、可視光透過率は向上するが、電磁波シールド性が低下するため、線ピッチは１ｍｍ以下とするのが好ましい。なお、線ピッチは、幾何学図形等の組合せで複雑となる場合、繰り返し単位を基準として、その面積を正方形の面積に換算してその一辺の長さを線ピッチとする。ライン間隔は、大きいほど開口率は向上し、可視光透過率は向上する。前述のようにディスプレイ前面に使用する場合、開口率は５０％以上が必要であるが、６０％以上がさらに好ましい。ライン間隔が大きくなり過ぎると、電磁波シールド性が低下するため、ライン幅は１０００μｍ（１ｍｍ）以下とするのが好ましい。なお、ライン間隔は、幾何学図形等の組合せで複雑となる場合、繰り返し単位を基準として、その面積を正方形の面積に換算してその一辺の長さをライン間隔とする。
　【００２６】
　本発明おいて、幾何学的図形を有する導電層は、導電ペーストを接着剤の層にスクリーン印刷法、凹版オフセット印刷法等の印刷法により直接描いても良い。
　【００２７】
　導電層を接着剤層に埋設する方法としては、前記のように透明基材、接着剤層及び幾何学的図形の導電層を含む積層体を加熱プレス、ロールラミネーターのロール間を通過させる方法等により加熱加圧する方法がある。このときの条件としては温度が２０〜２００℃の範囲で、圧力が０．１〜４０Ｋｇｆ／ｃｍ２範囲から適宜好適条件を選択することが好ましい。時間は３０秒以上であればよい。さらに好ましい条件としては、６０〜１５０℃の範囲で、圧力が１〜１０Ｋｇｆ／ｃｍ２範囲から選択され、時間は６０秒以上であればよい。
　【００２８】
　本発明における電磁波シールド性接着フィルムには、赤外線吸収剤を介在させることができる。赤外線吸収剤として、酸化鉄、酸化セリウム、酸化スズや酸化アンチモンなどの金属酸化物、またはインジウム−スズ酸化物（以下ＩＴＯ）、六塩化タングステン、塩化スズ、硫化第二銅、クロム−コバルト錯塩、チオール−ニッケル錯体またはアミニウム化合物、ジイモニウム化合物（日本化薬株式会社製商品名）またはアントラキノン系（ＳＩＲ−１１４）、金属錯体系（ＳＩＲ−１２８、ＳＩＲ−１３０、ＳＩＲ−１３２、ＳＩＲ−１５９、ＳＩＲ−１５２、ＳＩＲ−１６２）、フタロシアニン系（ＳＩＲ−１０３）（以上、三井東圧化学株式会社製商品名）などの有機系赤外線吸収剤などが挙げられる。赤外線吸収剤は、上記接着剤層中に含有させることが好ましい。この他にバインダー樹脂中に分散させた組成物を接着剤として透明基材上に形成した加熱または加圧により流動する接着剤層の面に塗布したり、プラスチックの面に直接塗布しさらにその上に加熱または加圧により流動する接着剤層を形成したり、透明基材に形成した接着剤層の面と反対側のフィルム背面に塗布することもできる。また、予め透明基材中に赤外線吸収剤を含有させた透明基材を使用することもできる。これらの赤外線吸収性化合物のうち、最も効果的に赤外線を吸収する効果があるのは、硫化第二銅、ＩＴＯ、アミニウム化合物、ジイモニウム化合物や金属錯体系などの赤外線吸収剤である。有機系赤外線吸収剤以外の赤外線吸収剤の場合、これらの化合物の一次粒子の粒径に注意する必要がある。粒径が赤外線の波長より大きすぎると遮蔽効率は向上するが、粒子表面で乱反射が起き、ヘイズが増大するため透明性が低下する。一方、粒径が赤外線の波長に比べて短かすぎると遮蔽効果が低下する。好ましい粒径は０．０１〜５μｍで０．１〜３μｍがさらに好ましい。
　【００２９】
　赤外線吸収性の材料である赤外線吸収剤は、バインダー樹脂として、例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂やビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂などのエポキシ系樹脂、ポリイソプレン、ポリ−１，２−ブタジエン、ポリイソブテン、ポリブテンなどのジエン系樹脂、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、ｔ−ブチルアクリレートなどからなるポリアクリル酸エステル共重合体、ポリビニルアセテート、ポリビニルプロピオネートなどのポリエステル系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ＥＶＡなどのポリオレフィン系樹脂などのバインダー樹脂中に均一に分散される。その配合の最適量は、バインダー樹脂１００重量部に対して赤外線吸収剤が０．０１〜１０重量部であるが、０．１〜５重量部がさらに好ましい。０．０１重量部未満では赤外線遮蔽効果が少なく、１０重量部を超えると透明性が損なわれる。
　【００３０】
　接着剤層中に、上記の赤外線吸収剤を含有させた接着剤層は透明基材の片面に形成され、さらにその接着剤層の面に導電性金属が被覆されると好ましい。また、前述したように、赤外線吸収剤を含有した組成物を透明基材面に形成し、その上に加熱または加圧により流動する接着剤層（赤外線吸収剤を含有または含有してなくても良い）を形成してもよいし、透明基材面に接着剤層を形成し、その上に赤外線吸収剤を含有した組成物を形成しても良い。さらに、電磁波シールド性接着フィルムの導電性金属の反対側の面に形成しても良い。また、電磁波シールド性接着フィルムとプラスチック板から構成された電磁波遮蔽構成体のいずれかの層に形成しても良い。例えば、１枚の電磁波シールド性接着フィルムと１枚のプラスチック板から構成された電磁波遮蔽構成体であれば、電磁波シールド性接着フィルムの面Ａ、電磁波シールド性接着フィルムとプラスチック板の間の面Ｂ、プラスチック板の面Ｃのいずれの面に形成しても良い。この場合、赤外線吸収剤を含有した組成物は、これを直接上記のＡ，Ｂ，Ｃの少なくとも一つの面に形成しても良い。赤外線吸収剤を含有した層が少なくとも１層は必要であり、それ以外の層は赤外線吸収剤を含有してなくても良い。赤外線吸収剤を含有した層は、接着性を有していた方が、作業性や加工性が容易となり好ましい。具体的には、電磁波シールド性接着フィルムの接着剤層面またはフィルム背面に０．１〜１０μｍの厚さで塗布される。塗布された、赤外線吸収性の化合物を含む組成物は熱や紫外線を使用して硬化させてもよい。一方、赤外線吸収剤は上述した加熱または加圧により流動する接着剤層の接着剤組成物に直接混合して使うことも可能である。その際の添加量は接着剤の主成分となるポリマー１００重量部に対して効果と透明性から、０．０１〜５重量部が最適である。
　【００３１】
　透明基材の上に接着剤層が積層されており、この接着剤層に幾何学図形の導電層が埋設されてなる本発明おける電磁波シールド性接着フィルムの表面には、剥離可能な保護フィルムを積層してもよい。このようなフィルムとしては前記したプラスチックフィルムのなかから適宜選択して使用される。このフィルムの接着剤層に向かう面には剥離処理が施されていてもよい。剥離処理としては、シリコーンポリマー等の離型剤を塗布する方法がある。保護フィルムの積層は前記した加熱加圧の条件と同様に行うことができる。また、別個に接着剤を使用して保護フィルムを張り合わせてもよい。このときの接着剤としては、前記したのと同様のものが使用できる。
　【００３２】
　透明基材の上に接着剤層が積層されており、この接着剤層に幾何学図形の導電層が埋設されてなる本発明おける電磁波シールド性接着フィルムは、ガラス板、プラスチック板等の別の基板に張り合わせて、電磁波遮蔽体とすることができる。このとき、別の基板と本発明おける電磁波シールド性接着フィルムをそのまま積層して、加圧してもよい。加圧条件は前記したのと同様である。また、別の基板と電磁波シールド性接着フィルムの向かいあう面の少なくとも一方の表面に別個に接着剤を使用して保護フィルムを張り合わせてもよい。このときの接着剤としては、前記したのと同様のものが使用できる。このときの接着方法としては、プレス機を使用してもラミネーターを使用してもよい。また、上記の電磁波シールド性接着フィルムが保護フィルムを有するときは、この保護フィルムをはがした後、又は剥がしつつ上記のように張り合わせて電磁波遮蔽体とすることができる。また、別の基板の代わりにディスプレイ表面に直接張り合わせてもよい。
　【００３３】
　前記のプラスチック板の材質としては、具体的には、ポリスチレン樹脂（ｎ＝１．５９）、アクリル樹脂（ｎ＝１．４９）、ポリメチルメタクリレート樹脂（ｎ＝１．４９）、ポリカーボネート樹脂（ｎ＝１．５８）、ポリ塩化ビニル樹脂（ｎ＝１．５４）、ポリ塩化ビニリデン樹脂（ｎ＝１．６〜１．６３）、ポリエチレン樹脂（ｎ＝１．５１）、ポリプロピレン樹脂（ｎ＝１．５０）、ポリアミド樹脂（ｎ＝１．５２）、ポリアミドイミド樹脂（ｎ＝１．５）、ポリエーテルイミド樹脂（ｎ＝１．５）、ポリエーテルケトン樹脂（ｎ＝１．４５）、ポリアリレート樹脂（ｎ＝１．５〜１．６）、ポリアセタール樹脂（ｎ＝１．５〜１．６）、ポリブチレンテレフタレート樹脂（ｎ＝１．５７）、ポリエチレンテレフタレート樹脂（ｎ＝１．５８）などの熱可塑性ポリエステル樹脂、酢酸セルロース樹脂（ｎ＝１．４９）、フッ素樹脂（ｎ＝１．４〜１．５）、ポリスルホン樹脂（ｎ＝１．６３）、ポリエーテルスルホン樹脂（ｎ＝１．４５〜１．６）、ポリメチルペンテン樹脂（ｎ＝１．４５〜１．６）、ポリウレタン樹脂（ｎ＝１．４５〜１．６）、フタル酸ジアリル樹脂（ｎ＝１．４５〜１．６）などの熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂が挙げれれる。これらの中でも透明性に優れるポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリメチルペンテン樹脂が好適に用いられる。本発明で使用するプラスチック板の厚みは、０．５ｍｍ〜５ｍｍがディスプレイの保護や強度、取扱性から好ましい。
　【００３４】
　図１は、本発明の電磁波シールド性接着フィルムの一例を示す断面図である。図１において、透明基材１の上に接着剤２の層が形成されており、この接着剤２の層に幾何学図形の導電層３が埋設されている。
　【００３５】
　本発明の電磁波シールド性接着フィルムは、幾何学図形を有する導電層、接着剤層及び透明基材から基本的に構成される。導電層は金属箔の使用が特に好ましく、この場合接着性向上のため金属箔の面を粗化形状にすることが多く、幾何学図形を形成すると、除去された金属部分は、接着層にその粗化形状を転写して金属と接している接着剤層の部分に粗化形状が転写されてしまい可視光線がそこで散乱されてしまうので光線透過率が低下し透明性が損なわれる。また、透明基材においても、フィルムの成形加工性向上のため微量のフィラーを添加しフィルム表面に凹凸を付与しフィルム巻き取り時のフィルム同士の滑りを良くして巻き取り性を向上させたり、フィルム表面に接着剤との接着性向上のためマット加工等の粗化処理をされることがある。このように、接着剤層の導電層（特に金属箔）が除去された部分や透明基材自体は密着性向上等のために意図的に凹凸を有していたり、導電層（特に金属箔）の背面形状を転写したりするためにその表面で光が散乱され、透明性が損なわれるが、本発明の接着剤層は透明基材の凹凸面を埋めその凹凸面に透明基材と屈折率が近い樹脂が平滑に塗布されると乱反射が最小限に押さえられ、また導電層（特に金属箔）の粗化形状の転写は、接着剤層が流動することにより解消され被着体の表面形状に沿って流動するので透明性が発現するようになると考えられる。さらに透明基材上の導電性材料で形成された幾何学図形は、ライン幅が非常に小さいため肉眼で視認されない。またライン間隔も十分に大きいため見掛け上透明性を発現すると考えられる。一方、遮蔽すべき電磁波の波長に比べて、幾何学図形のライン間隔は十分に小さく、優れたシールド性を発現すると考えられる。
　【００３６】
　【実施例】
　次に実施例に於いて本発明を具体的に述べるが、本発明はこれに限定されるものではない。
（実施例１）
＜電磁波シールド性接着フィルム１及び電磁波遮蔽構成体１作製例＞プラスチックフィルムとして厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東洋紡績株式会社製、商品名Ａ−４１００、屈折率ｎ＝１．５７５）を用い、その片面に下記の赤外線吸収剤を含む接着剤層１を室温でアプリケータを用いて所定の乾燥塗布厚（厚さ２０μｍ）になるように塗布し、９０℃、２０分間加熱乾燥させた。その接着剤層１を介して導電性金属である厚さ１２μｍの電解銅箔を、その粗化面が接着剤層側になるようにして、１８０℃、３０Ｋｇｆ／ｃｍ２の条件で加熱ラミネートして導電性金属付きプラスチックフィルムである銅箔付きＰＥＴフィルムを得た。得られた銅箔付きＰＥＴフィルムにスクリーン印刷法〔スクリーン印刷機（ニューロング精密工業株式会社製、アライメント装置付きＬＳ−３４ＧＸ）、ニッケル合金製メッシュレスメタル版（メッシュ工業株式会社製、厚み５０μｍ、パターン寸法８ｍｍ×８ｍｍ）及びパーマレックスメタルスキージ（巴工業株式会社輸入品）〕を利用して、銅の薄膜上にエッチングレジスト（日立化成工業株式会社製商品名、ＲＡＹＣＡＳＴ）を、ライン幅４０μｍ、ライン間隔２５０μｍのエッチングレジストを形成した。その後、２００ｇ／リットルの塩化第二鉄水溶液（液温６０℃）を３分間噴霧してケミカルエッチング（エッチング速度２．０ｍｍ／分）してライン幅２５μｍ、ライン間隔２５０μｍの銅格子パターンをＰＥＴフィルム上に形成し、電磁波シールド性接着フィルム１を得た。この電磁波シールド性接着フィルム１の可視光透過率は２０％以下であった。この電磁波シールド性接着フィルム１を熱プレス機を使用し、保護フィルムとして片面を剥離処理した厚さ５０μｍのＰＥＴフィルム（東セロ（株）製離型コートＰＥＴ）の剥離面に接着剤層が形成されている面が接するようにして１１０℃、２０Ｋｇｆ／ｃｍ２、１５分の条件で加熱圧着し電磁波シールド性フィルムを得た。このようにして作製した電磁波シールド性接着フィルム１の保護フィルムを剥離し、市販のアクリル板（コモグラス；株式会社クラレ製商品名、厚み３ｍｍ、ｎ＝１．４９）と１１０℃、２０Ｋｇｆ／ｃｍ２、１５分の条件で加熱圧着して張り合わせて電磁波遮蔽構成体１を得た。
　【００３７】
＜接着剤層１の組成物＞５００ｃｍ３の温度計、冷却管、窒素導入管を有した三つ口フラスコにトルエン２００ｃｍ３、メタクリル酸メチル（ＭＭＡ）５０ｇ、メタクリル酸エチル（ＥＭＡ）５ｇ、アクリルアミド（ＡＭ）２ｇ、ＡＩＢＮ２５０ｍｇを入れ、窒素でバブリングさせながら１００℃で３時間、還流中で攪拌を行った。その後、メタノールで再沈殿させ、得られたポリマーをろ過後、減圧乾燥してポリアクリル酸エステルを合成した。この収率は７５重量％であった。これを接着剤層１の主成分とした。
ポリアクリル酸エステル（ＭＭＡ／ＥＭＡ／ＡＭ＝８８／９／３、Ｍｗ＝７０万）
１００重量部ＳＩＲ−１５９（赤外線吸収剤１：三井東圧化学株式会社製商品名）
０．５重量部トルエン　４５０重量部酢酸エチル　１０重量部上記の接着剤層１の組成物の溶媒乾燥後の屈折率は１．４８、軟化点は１０５℃であった。
　【００３８】
（実施例２）
＜電磁波シールド性接着フィルム２及び電磁波遮蔽構成体２作製例＞厚さ２５μｍのＰＥＴフィルムの片面に下記の赤外線吸収剤を含む接着剤層２を室温でアプリケータを用いて塗布し、９０℃、２０分間加熱乾燥させた。その接着剤層２（厚さ４０μｍ）を介して厚さ２５μｍのアルミ箔を加熱ラミネート（１３０℃、２０Ｋｇ／ｃｍ２）して接着させアルミ箔付きＰＥＴフィルムを得た。このアルミ箔付きＰＥＴフィルムに実施例１と同様のスクリーン印刷法によりライン幅４０μｍ、ライン間隔１２５μｍのエッチングレジストパターンを形成した。その後、２００ｇ／リットルの塩化第二鉄水溶液（液温６０℃）を噴霧してケミカルエッチングして、ライン幅１５μｍ、ライン間隔１２５μｍのアルミ格子パターンをＰＥＴフィルム上に形成した。この電磁波シールド性接着フィルム２の可視光透過率は２０％以下であった。この電磁波シールド性接着フィルム１を熱プレス機を使用し、実施例１と同じ片面を剥離処理した厚さ５０μｍのＰＥＴフィルム（保護フィルム）の剥離面に接着剤層が形成されている面が接するようにして１２０℃、３０Ｋｇｆ／ｃｍ２、３０分の条件で熱プレス機を使用し加熱圧着して電磁波シールド性接着フィルム２を得た。このようにして作製した電磁波シールド性接着フィルム２の保護フィルムを剥離して市販のアクリル板（コモグラス；株式会社クラレ製商品名、厚み３ｍｍ）に接着剤層が形成されている面が接するようにして１２０℃、３０Ｋｇｆ／ｃｍ２、３０分の条件で熱プレス機を使用し加熱圧着し電磁波遮蔽構成体２を得た。
　【００３９】
＜接着剤層２の組成物＞ＴＢＡ−ＨＭＥ（日立化成工業株式会社製；高分子量エポキシ樹脂、Ｍｗ＝３０万）　１００重量部ＵＦＰ−ＨＸ（赤外線吸収剤２：住友金属鉱山株式会社製商品名；ＩＴＯ、平均粒径０．１μｍ）　０．４重量部ＭＥＫ　３３０重量部シクロヘキサノン　１５重量部上記の接着剤層２の組成物の溶媒乾燥後の屈折率は１．５７、軟化点は７９℃であった。
　【００４０】
（実施例３）
＜電磁波シールド性接着フィルム３及び電磁波遮蔽構成体３作製例＞厚さ５０μｍのＰＥＴフィルムの片面に下記の接着剤層３を室温でアプリケータを用いて塗布し、９０℃、２０分間加熱乾燥させた。その接着剤層（厚さ５μｍ）に、凹版オフセット印刷機〔ガラス版；ソーダライムガラス、溝の平均深さ１０μｍ、内部の平均表面粗さ１μｍ、シリコーンポリマー離型層の厚さ０．５μｍ−ブランケット；エポキシ変性シリコーンゴム製、ＪＩＳ　Ｋ６２５３による硬度５０度、平均表面粗さ（Ｒｚ）０．５μｍ〕を使用して、ニッケルペーストをライン幅１０μｍ、ライン間隔１００μｍ、厚さ１μｍの格子パターンにＰＥＴフィルム上に印刷し、その後無電解銅メッキを施した。これをロールラミネータを使用し、実施例１と同じ片面を剥離処理した厚さ５０μｍのＰＥＴフィルム（保護フィルム）の剥離面に接着剤層が形成されている面が接するようにして１１０℃、２０Ｋｇｆ／ｃｍ２の条件で加熱圧着して電磁波シールド性接着フィルム３を作製した。この電磁波シールド性接着フィルム３の可視光透過率は２０％以下であった。この電磁波シールド性接着フィルム３の保護フィルムを剥離し、市販のアクリル板（コモグラス；株式会社クラレ製商品名、厚み３ｍｍ）に接着剤層が形成されている面が接するようにして１１０℃、２０Ｋｇｆ／ｃｍ２の条件で加熱圧着し電磁波遮蔽構成体３を得た。電磁波シールド性接着フィルム３を使用し、実施例２と同様にして電磁波遮蔽構成体３を作製した。
　【００４１】
＜接着剤層３の組成物＞バイロンＵＲ−１４００（東洋紡績株式会社製商品名；飽和ポリエステル樹脂、Ｍｎ＝４万）　１００重量部ＩＲＧ−００２（赤外線吸収剤３：日本化薬株式会社製商品名；アミニウム系化合物）　１．２重量部ＭＥＫ　２８５重量部シクロヘキサノン　５重量部上記の接着剤層３の組成物の溶媒乾燥後の屈折率は１．５５、軟化点は８３℃であった。
　【００４２】
（実施例４）
　接着剤層１の組成物の主成分であるポリアクリル酸エステルの組成をメタクリル酸メチル（ＭＭＡ）／メタクリル酸エチル（ＥＭＡ）／アクリルアミド（ＡＭ）＝８５／１０／５とし、同じ条件で合成しＭｗ＝５５万のポリアクリル酸エステルを得た。このポリアクリル酸エステル以外は同じ組成としたものを接着剤層４の組成とし実施例１の電磁波シールド性接着フィルム１及び電磁波遮蔽構成体１と同様にして電磁波シールド性接着フィルム４及び電磁波遮蔽構成体４を作製した。接着剤層４の溶媒乾燥後の屈折率は１．４７、軟化点は９９℃であった。
　【００４３】
（実施例５）
　実施例１の接着剤層１の組成物の主成分であるポリアクリル酸エステルをポリブタジエンエラストマー（Ｐｏｌｙ　ｂｄ　Ｒ−４５ＨＴ：出光石油化学株式会社製商品名）としたものを接着剤層５の組成物とし、それ以外の条件は実施例１と同様にして電磁波シールド性接着フィルム５及び電磁波遮蔽構成体５を作製した。接着剤層５の溶媒乾燥後の屈折率は１．５０、軟化点は６１℃であった。
　【００４４】
（実施例６）
　実施例１の接着剤層１の組成物の主成分であるポリアクリル酸エステルをバイロン−２００（東洋紡績株式会社製商品名、Ｍｎ＝１５、０００、線状飽和ポリエステル樹脂）としたものを接着剤層６の組成物とし、それ以外の条件は実施例１と同様にして電磁波シールド性接着フィルム６及び電磁波遮蔽構成体６を作製した。接着剤層６の溶媒乾燥後の屈折率は１．５５、軟化点は１６３℃であった。
　【００４５】
（実施例７）
　プラスチックフィルムをＰＥＴ（５０μｍ）からポリカーボネートフィルム（５０μｍ、ｎ＝１．５８）に、接着剤層２の厚みを４０μｍから３０μｍにした以外は実施例２と同様にして電磁波シールド性接着フィルム７及び電磁波遮蔽構成体７を得た。
　【００４６】
（実施例８）
　ライン幅を１０μｍから３０μｍに、ライン間隔を１００μｍから５００μｍに、接着剤層の厚みを５μｍから１０μｍにした以外は実施例３と同様にして電磁波シールド性接着フィルム８及び電磁波遮蔽構成体８を得た。
　【００４７】
（実施例９）
　ＰＥＴフィルム上に形成した銅格子パターンに黒化処理を施したこと以外は実施例１と同様にして電磁波シールド性接着フィルム９及び電磁波遮蔽構成体９を得た。
　【００４８】
（実施例１０）
＜電磁波シールド性接着フィルム１０及び電磁波遮蔽構成体１０の作製例＞プラスチックフィルムとして厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東洋紡績株式会社製、商品名Ａ−４１００、屈折率ｎ＝１．５７５）を用い、その片面に実施例１の接着剤層１（但し、赤外線吸収剤を含まない）を室温でアプリケータを用いて所定の乾燥塗布厚になるように塗布し、９０℃、２０分間加熱乾燥させた。その接着剤層１を介して導電性金属である厚さ１２μｍの電解銅箔を、その粗化面が接着剤層側になるようにして、１８０℃、３０Ｋｇｆ／ｃｍ２の条件で加熱ラミネートして導電性金属付きプラスチックフィルムである銅箔付きＰＥＴフィルムを得た。得られた銅箔付きＰＥＴフィルムにケミカルエッチング法を使用したフォトリソグラフ工程（レジストフィルム貼付け−露光−現像−ケミカルエッチング−レジストフィルム剥離）を経て、ライン幅２５μｍ、ライン間隔２５０μｍの銅格子パターンをＰＥＴフィルム上に形成し、電磁波シールド性接着フィルム１を得た。この電磁波シールド性接着フィルム１の可視光透過率は２０％以下であった。この電磁波シールド性接着フィルム１を熱プレス機を使用し、実施例１と同じ片面を剥離処理した厚さ５０μｍのＰＥＴフィルム（保護フィルム）の剥離面に接着剤層が形成されている面が接するようにして１１０℃、２０Ｋｇｆ／ｃｍ２、１５分の条件で加熱圧着し電磁波シールド性フィルム１０を得た。このようにして作製した電磁波シールド性接着フィルム１０の保護フィルムを剥離し、市販のアクリル板（コモグラス；株式会社クラレ製商品名、厚み３ｍｍ、ｎ＝１．４９）と１１０℃、２０Ｋｇｆ／ｃｍ２、１５分の条件で加熱圧着して張り合わせて電磁波遮蔽構成体１０を得た。
　【００４９】
（比較例１）
　導電材料として０．１μｍ（１、０００Å）全面蒸着させたＩＴＯ蒸着ＰＥＴを使い、パターンを形成しないで、直接接着剤層１の組成物から赤外線吸収剤を除いた組成物を塗布し、実施例１と同様にして電磁波遮蔽構成体１０を得た。
　【００５０】
　以上のようにして得られた電磁波シールド性接着フィルムの導電性金属材料で描かれた幾何学図形の開口率、電磁波シールド性、可視光透過率、非視認性、赤外線遮蔽率、電磁波遮蔽構成体の加熱処理前後の接着特性を測定した。結果を表１に示した。
　【００５１】
　なお接着剤層の組成物の屈折率は、屈折計（株式会社アタゴ光学機械製作所製、アッベ屈折計）で測定した。導電性金属で描かれた幾何学図形の開口率は顕微鏡写真をもとに実測した。電磁波シールド性は、同軸導波管変換器（日本高周波株式会社製、ＴＷＣ−Ｓ−０２４）のフランジ間に試料を挿入し、スペクトラムアナライザー（ＹＨＰ製、８５１０Ｂベクトルネットワークアナライザー）を用い、周波数３０ＭＨｚ〜１ＧＨｚで測定した。可視光透過率の測定は、ダブルビーム分光光度計（株式会社日立製作所製、２００−１０型）を用いて、４００〜７００ｎｍの透過率の平均値を用いた。非視認性は、アクリル板に電磁波シールド性接着フィルムを貼り付けた電磁波遮蔽構成体を０．５ｍ離れた場所から目視して導電性金属で形成された幾何学図形を認識できるかどうかで評価し、認識できないものを良好とし、認識できるものをＮＧとした。赤外線遮蔽率は、分光光度計（株式会社日立製作所製、Ｕ−３４１０）を用いて、９００〜１、１００ｎｍの領域の赤外線吸収率の平均値を用いた。接着力は、引張り試験機（東洋ボールドウィン株式会社製、テンシロンＵＴＭ−４−１００）を使用し、幅１０ｍｍ、９０°方向、剥離速度５０ｍｍ／分で測定した。
　【００５２】
　【表１】
　【００５３】
　比較例１は、ＰＥＴフィルムにＩＴＯ（インジウム−スズ酸化物）を蒸着したものであるが、電磁波シールド性に劣った。実施例で示した、導電性金属で描かれた幾何学図形を有し、その開口率が５０％以上で、接着剤層に軟化温度が２００℃以下、屈折率が１．４０〜１．７０の範囲にあり、接着剤層の厚みが導電性金属の厚さ以上で、赤外線吸収剤が含有されている接着剤層がいずれも好ましい値を示した。また、導電性金属で描かれたライン幅が、４０μｍ以下、ライン間隔が１００μｍ以上、ライン厚みが４０μｍ以下の導電性金属が好ましい値を示した。また、実施例９で示した銅を黒化処理した電磁波遮蔽構成体は、コントラストが大きく鮮明な画像を快適に鑑賞することができた。
　【００５４】
　【発明の効果】
　本発明で得られる電磁波シールド性接着フィルムは、被着体に容易に貼付けて使用でき、しかも密着性が優れているので電磁波漏れがなくシールド機能が特に良好である。また可視光透過率、非視認性などの光学的特性が良好で、しかも長時間にわたって高温での接着特性に変化が少なく良好である。本発明の電磁波シールド性接着フィルム及び電磁波遮蔽構成体は、電磁波シールド性や透明性に優れているため、ディスプレイの他に電磁波を発生したり、あるいは電磁波から保護する測定装置、測定機器や製造装置の内部をのぞく窓や筐体、特に透明性を要求される窓のような部位に設けて使用することができる。本発明おけるディスプレイは、電磁波漏洩が少なく、しかも、軽量、コンパクトで透明性に優れ可視光透過率が大きく、非視認性が良好である。
【図面の簡単な説明】
　【図１】
　本発明の電磁波シールド性接着フィルムの一例示す断面図である。
　【符号の説明】
　１．透明基材
　２．接着剤層
　３．幾何学図形の導電層