【事件の表示】
　特許第３１９９５１６号「被処理物回転機構を有するイオンプレーティング装置」の請求項１ないし４に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３１９９５１６号の請求項１ないし３に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続の経緯
　特許第３１９９５１６号の請求項１ないし４に係る発明についての出願は、平成５年５月１４日に特許出願され、平成１３年６月１５日にその発明について特許権の設定登録がなされ（公報発行平成１３年８月２０日）、その後、平成１４年１月３１日に吉成迪夫より特許異議の申立てがなされ、平成１４年１０月２５日（発送日）に取消理由が通知され、その指定期間内である平成１４年１２月２０日に訂正請求がなされたものである。
　
２．訂正の適否についての判断
（１）訂正の内容
　ア．訂正事項ａ：本件特許明細書の特許請求の範囲の「【請求項１】 イオン照射手段を備えたコーティング室（１）と、該コーティング室（１）内で被処理物を支持すると共にイオン照射手段から照射されたイオンの形成域を往復動させるためのキャリヤフレーム（３）とを備えたイオンプレーティング装置において、被処理物を支持するように前記キャリアフレーム（３）に設けられた回転テーブル（１６）と、前記回転テーブル（１６）を回転させるための回転機構とを設け、前記回転機構は、コーティング室（１）内におけるキャリアフレーム（３）の移動によって当該キャリアフレーム（３）に設けられた回転テーブル（１６）を回転させるように構成されていることを特徴とする被処理物回転機構を有するイオンプレーティング装置。
【請求項２】 前記回転機構は、前記キャリアフレーム（３）の回転テーブル（１６）側に固定されていて該回転テーブル（１６）と同一軸芯回りに一体的に回転する摩擦車（１９）と、前記コーティング室（１）側に前記キャリアフレーム（３）の移動方向に沿って複数設けられていて、前記摩擦車（１９）の外周面に押圧状態で当接してその摩擦力により摩擦車（１９）を回転させる押圧部材（２３）と、によって構成されていることを特徴とする請求項１に記載の被処理物回転機構を有するイオンプレーティング装置。
【請求項３】 前記回転機構は、前記キャリアフレーム（３）の回転テーブル（１６）側に固定されていて該回転テーブル（１６）と同一軸芯回りに一体的に回転する歯車状の回転輪（３１）と、前記コーティング室（１）側に前記キャリアフレーム（３）の移動方向に沿って複数設けられていて、前記回転輪（３１）の歯（３０）に干渉することで該回転輪（３１）を回転させる干渉部材（３２）と、によって構成されていることを特徴とする請求項１に記載の被処理物回転機構を有するイオンプレーティング装置。
【請求項４】 前記回転機構は、前記回転テーブル（１６）側に固定されていて該回転テーブル（１６）と同一軸芯回りに一体的に回転する摩擦車（１９）と、前記コーティング室（１）側に前記キャリアフレーム（３）の移動方向に沿って設けられていて、前記摩擦車（１９）の下面側から該摩擦車（１９）を持ち上げるようにして当接してその摩擦力により摩擦車（１９）を回転させるレール（３８）と、によって構成されていることを特徴とする請求項１に記載の被処理物回転機構を有するイオンプレーティング装置。」を
「【請求項１】 イオン照射手段を備えたコーティング室（１）と、該コーティング室（１）内で被処理物を支持すると共にイオン照射手段から照射されたイオンの形成域を往復動させるためのキャリヤフレーム（３）とを備えたイオンプレーティング装置において、被処理物を支持するように前記キャリアフレーム（３）に設けられた回転テーブル（１６）と、前記回転テーブル（１６）を回転させるための回転機構とを設け、前記回転機構は、コーティング室（１）内におけるキャリアフレーム（３）の移動によって当該キャリアフレーム（３）に設けられた回転テーブル（１６）を回転させるように構成されており、前記回転機構は、前記キャリアフレーム（３）の回転テーブル（１６）側に固定されていて該回転テーブル（１６）と同一軸芯回りに一体的に回転する摩擦車（１９）と、前記コーティング室（１）側に前記キャリアフレーム（３）の移動方向に沿って複数設けられていて、前記摩擦車（１９）の外周面に押圧状態で当接してその摩擦力により摩擦車（１９）を回転させる押圧部材（２３）と、によって構成されていることを特徴とする請求項１に記載の被処理物回転機構を有するイオンプレーティング装置。
【請求項２】 イオン照射手段を備えたコーティング室（１）と、該コーティング室（１）内で被処理物を支持すると共にイオン照射手段から照射されたイオンの形成域を往復動させるためのキャリヤフレーム（３）とを備えたイオンプレーティング装置において、被処理物を支持するように前記キャリアフレーム（３）に設けられた回転テーブル（１６）と、前記回転テーブル（１６）を回転させるための回転機構とを設け、前記回転機構は、コーティング室（１）内におけるキャリアフレーム（３）の移動によって当該キャリアフレーム（３）に設けられた回転テーブル（１６）を回転させるるように構成されており、前記回転機構は、前記キャリアフレーム（３）の回転テーブル（１６）側に固定されていて該回転テーブル（１６）と同一軸芯回りに一体的に回転する歯車状の回転輪（３１）と、前記コーティング室（１）側に前記キャリアフレーム（３）の移動方向に沿って複数設けられていて、前記回転輪（３１）の歯（３０）に干渉することで該回転輪（３１）を回転させる干渉部材（３２）と、によって構成されており、前記干渉部材（３２）は、弾性部位材（３３）によって支持され、絶縁部材（３４）を介して前記コーティング室（１）に取り付けられていることを特徴とする被処理物回転機構を有するイオンプレーティング装置。
【請求項３】 イオン照射手段を備えたコーティング室（１）と、該コーティング室（１）内で被処理物を支持すると共にイオン照射手段から照射されたイオンの形成域を往復動させるためのキャリヤフレーム（３）とを備えたイオンプレーティング装置において、被処理物を支持するように前記キャリアフレーム（３）に設けられた回転テーブル（１６）と、前記回転テーブル（１６）を回転させるための回転機構とを設け、前記回転機構は、コーティング室（１）内におけるキャリアフレーム（３）の移動によって当該キャリアフレーム（３）に設けられた回転テーブル（１６）を回転させるように構成されており、前記回転機構は、前記回転テーブル（１６）側に固定されていて該回転テーブル（１６）と同一軸芯回りに一体的に回転する摩擦車（１９）と、前記コーティング室（１）側に前記キャリアフレーム（３）の移動方向に沿って設けられていて、前記摩擦車（１９）の下面側から該摩擦車（１９）を持ち上げるようにして当接してその摩擦力により摩擦車（１９）を回転させるレール（３８）と、によって構成されていることを特徴とする請求項１に記載の被処理物回転機構を有するイオンプレーティング装置。」と訂正する。
  イ．訂正事項ｂ：本件特許明細書段落【0008】の「更に、本発明のイオンプレーティング装置は、前記回転機構を、前記回転テーブル側に固定されていて該回転テーブルと同一軸芯回りに一体的に回転する歯車状の回転輪と、前記コーティング室側に前記キャリアフレームの移動方向に沿って設けられていて、前記回転輪の歯に干渉することで該回転輪を回転させる干渉部材とによって構成した。」（特許公報第2頁4欄30〜36行）を「更に、本発明のイオンプレーティング装置は、前記回転機構を、前記回転テーブル側に固定されていて該回転テーブルと同一軸芯回りに一体的に回転する歯車状の回転輪と、前記コーティング室側に前記キャリアフレームの移動方向に沿って設けられていて、前記回転輪の歯に干渉することで該回転輪を回転させる干渉部材とによって構成し、前記干渉部材は、弾性部位材によって支持され、絶縁部材を介して前記コーティング室に取り付けられているものとした。」と訂正する。
　ウ．訂正事項ｃ：本件特許明細書段落【0024】の「また、本発明は前記回転機構として、摩擦車と該摩擦車に押圧状態で当接する押圧部材とで構成したので、無段階で滑らかな回転テーブルの回転動作が可能となり、均一な蒸着膜を得ることができるようになる。そして、本発明は前記回転機構として、歯車状の回転輪と該回転輪の歯に干渉する干渉部材とで構成したので、回転機構の構造の簡素化が可能となる。」（特許公報第4頁8欄10〜16行）を「また、本発明は前記回転機構として、摩擦車と該摩擦車に押圧状態で当接する押圧部材とで構成したので、無段階で滑らかな回転テーブルの回転動作が可能となり、均一な蒸着膜を得ることができるようになる。そして、本発明は前記回転機構として、歯車状の回転輪と該回転輪の歯に干渉する干渉部材とで構成し、前記干渉部材は、弾性部位材によって支持され、絶縁部材を介して前記コーティング室に取り付けられているものとしたので、回転機構の構造の簡素化が可能となると共に、干渉部材を容易に逃がすことができ、絶縁部材に無理な力が作用せず、これらの部材が損傷するのを防止することができる。」と訂正する。
（２）訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
　上記訂正事項ａは、
　訂正事項ａ−１：本件特許明細書の特許請求の範囲【請求項１】を削除する訂正
　訂正事項ａ−２：本件特許明細書の特許請求の範囲【請求項３】の「構成されていることを特徴とする」を「構成されており、前記干渉部材（３２）は、弾性部位材（３３）によって支持され、絶縁部材（３４）を介して前記コーティング室（１）に取り付けられていることを特徴とする」とする訂正
　訂正事項ａ−３：本件特許明細書の特許請求の範囲【請求項２】ないし【請求項４】の記載を、請求項を引用する従属項形式から独立項形式に改め、その項番を「１」ずつ繰り上げる訂正
に細分することができる。
　ここで、上記訂正事項ａ−１は、請求項の削除であるから特許請求の範囲の減縮を目的とした訂正に該当する。
　上記訂正事項ａ−２は、「干渉部材（３２）」の構成を限定するものであるから特許請求の範囲の減縮を目的とした訂正に該当する。
　上記訂正事項ａ−３は、請求項１が削除されたことに伴い、請求項１を引用して表現することができなくなったための変更及び項番の繰り上げであり、明りょうでない記載の釈明を目的とする訂正に該当する。
　よって、訂正事項ａは、特許請求の範囲の減縮及び明りょうでない記載の釈明を目的とした訂正に該当し、「干渉部材（３２）」が、「弾性部位材（３３）によって支持され、絶縁部材（３４）を介して前記コーティング室（１）に取り付けられていること」は、本件特許明細書の段落【0017】に記載されている事項であるから、新規事項の追加に該当しない。
　また、上記訂正事項ｂ及びｃは、訂正事項ａ、特に上記訂正事項ａ−２に伴い、発明の詳細な説明の記載を特許請求の範囲の記載と整合させるものであるから、明りょうでない記載の釈明を目的とする訂正に該当し、「弾性部材」を設けたことにより「干渉部材を容易に逃がすことができ、絶縁部材に無理な力が作用せず、これらの部材が損傷するのを防止することができる」ことは本件特許明細書の段落【0017】に記載されている事項であるから、新規事項の追加に該当しない。
　そして、上記訂正事項ａないしｃは、いずれも実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものではない。
（３）むすび
　したがって、上記訂正は、特許法第１２０条の４第２項及び同条第３項で準用する第１２６条第２項及び第３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
３．特許異議の申立てについての判断
３−１．本件発明
　上記２．で示したように上記訂正が認められるから、本件の請求項１ないし３に係る発明（以下、「本件発訂正明１」ないし「本件訂正発明３」という）は、上記訂正に係る訂正明細書の特許請求の範囲の請求項１ないし３に記載された事項により特定されるとおりのものである。
　
３−２．引用刊行物に記載された発明
（１）当審が平成１４年１０月２５日（発送日）に通知した引用文献１（特開昭５９−１９０３５９号公報：甲第１号証）には、
　（ａ）「コーティング工程の間、複数の基板を真空の物理蒸着室内に回転可能に支持するための簡単なかつ信頼性の高い基板保持装置」（７頁右上欄２０行〜左下欄２行）
　（ｂ）「ワーク装着部を備え物理的蒸着チャンバ内に設けられた基台」（特許請求の範囲）
　（ｃ）「基台に接続されてこの基台を駆動し上記ワーク装着部を上記蒸着チャンバ内で閉じた軌跡に沿って移動させる機構」（特許請求の範囲）
　（ｄ）「基台のワーク装着部に副軸のまわりに回転自在に設けられ少なくとも１個の被覆すべき基体を保持し、上記閉じた軌跡に沿って移動しながら通常は自由に回転することができる基体ホルダ」（特許請求の範囲）
　（ｅ）「閉じた軌跡の近傍に設けられ上記基体ホルダが近くを通過する際にこの基体ホルダに係合してこの基体ホルダを上記副軸のまわりに所定の角度回転し、上記閉じた軌跡に沿って移動している上記基体ホルダ上の基体を選択的に上記副軸のまわりに回転させる駆動機構」（特許請求の範囲）
　（ｆ）「被覆プラズマの流れを形成しかつ確実にするため、電界および磁界が形成され、またプラズマ中のイオン化物が基体に確実に吸引されるようにこの基体あるいは蒸着チャンバの他の部分に電圧が印加される」（５頁左下欄６〜１０行）
　（ｇ）「基板を移動させるために回転路が最も一般に使用されるが、本発明の原理は直線運動よりなる閉鎖路にも同等に十分に当てはまり、この場合には、ワークステーションはコーティング源を過ぎるまで直線をなして前進しそして同直線に沿ってその元の出発位置まで戻って路を閉鎖する」（９頁右上欄６〜１２行）
　（ｈ）「基板保持体は付勢手段が係合するために補助軸から外方に横方向に突出した一つのまたは複数の羽根部材を備えている。」（８頁左下欄４〜７行）
　（ｉ）「付勢手段は基板保持部材がとる路に沿って位置した一つのまたはいくつかのつめ部材を備えており、このつめ部材は基板保持体の通過時に羽根部材に協働的に係合してそれぞれの羽根部材がそれぞれの羽根部材との接触からはずれるまで基板保持体をその補助軸を中心として回転させるように配向している」（８頁左下欄８〜１４行）
　
（２）引用文献２（特開平１−１３９７５９号公報）には、次の事項が記載されている。
　（ａ）「イオンプレーティング装置における処理物絶縁型治具台車」（特許請求の範囲）
　（ｂ）「台車フレーム１はレールに沿って主軸１０の軸線方向に直線的に往復運動される」（３頁左上欄６〜８行）
　
３−３．対比判断
（１）本件発明２について
　引用文献１には、上記（ａ）〜（ｅ）から「基板を真空の物理蒸着室内に回転可能に支持するための基板保持装置を有する蒸着装置において、ワーク装着部を備えチャンバ内で閉じた軌跡に沿って移動する基台，基台のワーク装着部に副軸のまわりに回転自在に設けられ自由に回転することができる基体ホルダ，閉じた軌跡の近傍に設けられ基体ホルダが近くを通過する際にこの基体ホルダと係合して基体ホルダを副軸のまわりに回転させる駆動機構とを設けた蒸着装置」が記載されており、この蒸着装置は、上記（ｆ）の記載によれば、イオンプレーティング装置としても使用されるものであり、上記（ｇ）には、引用発明１も直線運動よりなる閉鎖路において往復すると記載されており、上記（ｈ）及び（ｉ）には、本件訂正発明２の上記「前記回転機構は前記キャリアフレームの回転テーブル側に固定されていて該回転テーブルと同一軸芯回りに一体的に回転する歯車状の回転輪と、前記コーティング室側に前記キャリアフレームの移動方向に沿って複数設けられていて前記回転輪の歯に干渉することで該回転輪を回転させる干渉部材」に相当する記載があるから、引用文献１には、「基板を真空の物理蒸着室内に回転可能に支持するための基板保持装置を有するイオンプレーティング装置において、ワーク装着部を備えチャンバ内で閉じた軌跡に沿って移動する基台，基台のワーク装着部に副軸のまわりに回転自在に設けられ自由に回転することができる基体ホルダ，閉じた軌跡の近傍に設けられ基体ホルダが近くを通過する際にこの基体ホルダと係合して基体ホルダを副軸のまわりに回転させる駆動機構とを設け、前記回転させる駆動機構は前記キャリアフレームの回転テーブル側に固定されていて該回転テーブルと同一軸芯回りに一体的に回転する歯車状の回転輪と、前記コーティング室側に前記キャリアフレームの移動方向に沿って複数設けられていて前記回転輪の歯に干渉することで該回転輪を回転させる干渉部材を備えたイオンプレーティング装置」という発明（以下、「引用発明１」という）が記載されていると云える。
　そこで、本件訂正発明２と引用発明１を対比すると、
　引用発明１の「ワーク装着部を備えチャンバ内で閉じた軌跡に沿って移動する基台」は、「チャンバ内で被処理物を支持すると共に移動するキャリアフレーム」と云うことができるから、本件訂正発明３の「キャリアフレーム」とは、「コーティング室内で被処理物を支持すると共にイオン照射手段から照射されたイオンの形成域を移動させるためのキャリアフレーム」という点で一致する。また、引用発明１の「基台のワーク装着部に副軸のまわりに回転自在に設けられ自由に回転することができる基体ホルダ」は，本件訂正発明２の「被処理物を支持するように前記キャリアフレームに設けられた回転テーブル」に、「閉じた軌跡の近傍に設けられ基体ホルダが近くを通過する際にこの基体ホルダと係合して基体ホルダを副軸のまわりに回転させる駆動機構」は、本件訂正発明２の「前記回転テーブルを回転させるための回転機構とを設け、前記回転機構は、コーティング室内におけるキャリアフレームの移動によって当該キャリアフレームに設けられた回転テーブルを回転させるように構成されている被処理物回転機構」にそれぞれ相当すると云える。
 　そうすると、両者は、「イオン照射手段を備えたコーティング室内を往復移動するキャリアフレームを備えたイオンプレーティング装置において、被処理物を支持するようにキャリアフレームに設けられた回転テーブルと前記回転テーブルを回転させるための回転機構とを設け、前記回転機構は、コーティング室内におけるキャリアフレームの移動によって当該キャリアフレームに設けられた回転テーブルを回転させるように構成されていることを特徴とする被処理物回転機構とを有し、前記回転機構は前記キャリアフレームの回転テーブル側に固定されていて該回転テーブルと同一軸芯回りに一体的に回転する歯車状の回転輪と、前記コーティング室側に前記キャリアフレームの移動方向に沿って複数設けられていて前記回転輪の歯に干渉することで該回転輪を回転させる干渉部材とによって構成されるイオンプレーティング装置」という点で一致し、次の点で相違していると云える。
　相違点１：干渉部材が、本件訂正発明２では「弾性部位材（３３）によって支持され、絶縁部材（３４）を介して前記コーティング室（１）に取り付けられている」のに対し、引用発明１には、そのような構成を開示していない点
　上記相違点１につき検討すると、引用文献２には、イオンプレーティング装置における処理物絶縁型治具台車において、台車フレーム１はレールに沿って主軸１０の軸線方向に直線的に往復運動されることが開示されているものの、回転機構、ましてや歯車状の回転輪と係合する干渉部材についての記載はない。
　本件訂正発明２は、上記の構成により、「回転機構の構造の簡素化が可能となると共に、干渉部材を容易に逃がすことができ、絶縁部材に無理な力が作用せず、これらの部材が損傷するのを防止することができる。」という本件特許明細書記載の作用効果を奏するものである。
　したがって、本件訂正発明２は、引用文献１に記載された発明と云えないばかりか、引用文献１及び引用文献２記載の発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたとは云えない。
　
（４）本件訂正発明１及び３について
　本件訂正発明１及び３は、本件訂正発明２における「回転機構」が、「キャリアフレームの回転テーブル側に固定されていて該回転テーブルと同一軸芯回りに一体的に回転する摩擦車と、コーティング室側にキャリアフレームの移動方向に沿って複数設けられていて、摩擦車の外周面に押圧状態で当接してその摩擦力により摩擦車を回転させる押圧部材と、によって構成され」たもの、及び「回転テーブル側に固定されていて該回転テーブルと同一軸芯回りに一体的に回転する摩擦車と、コーティング室側に前記キャリアフレームの移動方向に沿って設けられていて、前記摩擦車の下面側から該摩擦車を持ち上げるようにして当接してその摩擦力により摩擦車を回転させるレールと、によって構成され」たものである。
　したがって、本件訂正発明１及び３と引用発明１とを対比すると、両者は「イオン照射手段を備えたコーティング室内を往復移動するキャリアフレームを備えたイオンプレーティング装置において、被処理物を支持するようにキャリアフレームに設けられた回転テーブルと前記回転テーブルを回転させるための回転機構とを設け、前記回転機構は、コーティング室内におけるキャリアフレームの移動によって当該キャリアフレームに設けられた回転テーブルを回転させるように構成されていることを特徴とする被処理物回転機構とを有するイオンプレーティング装置」という点で一致し、次の点で相違していると云える。
　相違点２：回転機構が、本件訂正発明１及び３では、上記のような構成であるのに対し、引用発明１では「キャリアフレームの回転テーブル側に固定されていて該回転テーブルと同一軸芯回りに一体的に回転する歯車状の回転輪と、前記コーティング室側に前記キャリアフレームの移動方向に沿って複数設けられていて前記回転輪の歯に干渉することで該回転輪を回転させる干渉部材とによって構成され」たものである点
　そして、上記本件発明１及び３の回転機構の構成は、引用文献１及び２のいずれにも記載も示唆もされていない。
　本件訂正発明１及び３は、上記の構成により「無断解で滑らかな回転テーブルの回転動作が可能となり、均一な蒸着膜を得ることができる」（段落【0024】【0025】）という本件特許明細書記載の作用効果を奏するものである。
　したがって、本件訂正発明１及び３も、引用文献１に記載された発明と云えないばかりが、引用文献１及び２記載の発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたとは云えない。
　
　また、その他の異議申立理由及び証拠は、本件訂正発明１ないし３の特許を取り消すべき理由として採用することができない。
　
４．まとめ
　以上のとおりであるから、特許異議申立の理由及び証拠によっては、本件訂正発明１ないし３についての特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件訂正発明１ないし３についての特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１６年５月１０日（２００４．５．１０）
【訂正の要旨】
審決（決定）の【理由】欄参照。
（５４）【発明の名称】
被処理物回転機構を有するイオンプレーティング装置
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　イオン照射手段を備えたコーティング室（１）と、該コーティング室（１）内で被処理物を支持すると共にイオン照射手段から照射されたイオンの形成域を往復動させるためのキャリヤフレーム（３）とを備えたイオンプレーティング装置において、
　被処理物を支持するように前記キャリアフレーム（３）に設けられた回転テーブル（１６）と、前記回転テーブル（１６）を回転させるための回転機構とを設け、
　前記回転機構は、コーティング室（１）内におけるキャリアフレーム（３）の移動によって当該キャリアフレーム（３）に設けられた回転テーブル（１６）を回転させるように構成されて
おり、
　前記回転機構は、前記キャリアフレーム（３）の回転テーブル（１６）側に固定されていて該回転テーブル（１６）と同一軸芯回りに一体的に回転する摩擦車（１９）と、
　前記コーティング室（１）側に前記キャリアフレーム（３）の移動方向に沿って複数設けられていて、前記摩擦車（１９）の外周面に押圧状態で当接してその摩擦力により摩擦車（１９）を回転させる押圧部材（２３）と、によって構成されているいる
　【請求項２】　
イオン照射手段を備えたコーティング室（１）と、該コーティング室（１）内で被処理物を支持すると共にイオン照射手段から照射されたイオンの形成域を往復動させるためのキャリヤフレーム（３）とを備えたイオンプレーティング装置において、
　被処理物を支持するように前記キャリアフレーム（３）に設けられた回転テーブル（１６）と、前記回転テーブル（１６）を回転させるための回転機構とを設け、
　前記回転機構は、コーティング室（１）内におけるキャリアフレーム（３）の移動によって当該キャリアフレーム（３）に設けられた回転テーブル（１６）を回転させるように構成されており、
　前記回転機構は、前記キャリアフレーム（３）の回転テーブル（１６）側に固定されていて該回転テーブル（１６）と同一軸芯回りに一体的に回転する歯車状の回転輪（３１）と、
　前記コーティング室（１）側に前記キャリアフレーム（３）の移動方向に沿って複数設けられていて、前記回転輪（３１）の歯（３０）に干渉することで該回転輪（３１）を回転させる干渉部材（３２）と、によって構成されており、
　前記干渉部材（３２）は、弾性部材（３３）によって支持され、絶縁部材（３４）を介して前記コーティング室（１）に取り付けられていることを特徴とする
　【請求項３】　
イオン照射手段を備えたコーティング室（１）と、該コーティング室（１）内で被処理物を支持すると共にイオン照射手段から照射されたイオンの形成域を往復動させるためのキャリヤフレーム（３）とを備えたイオンプレーティング装置において、
　被処理物を支持するように前記キャリアフレーム（３）に設けられた回転テーブル（１６）と、前記回転テーブル（１６）を回転させるための回転機構とを設け、
　前記回転機構は、コーティング室（１）内におけるキャリアフレーム（３）の移動によって当該キャリアフレーム（３）に設けられた回転テーブル（１６）を回転させるように構成されており、
　前記回転機構は、前記回転テーブル（１６）側に固定されていて該回転テーブル（１６）と同一軸芯回りに一体的に回転する摩擦車（１９）と、
　前記コーティング室（１）側に前記キャリアフレーム（３）の移動方向に沿って設けられていて、前記摩擦車（１９）の下面側から該摩擦車（１９）を持ち上げるようにして当接してその摩擦力により摩擦車（１９）を回転させるレール（３８）と、によって構成されていることを特徴とする
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【産業上の利用分野】
　本発明は被処理物を回転させながらイオンを照射することにより、外周面を均質に表面改質することができるイオンプレーティング装置に関する。
　【０００２】
　【従来の技術】
　ドリルやピン等の軸状の被処理物の表面に耐食性や耐摩耗性等の特性を有する薄膜を一度にコーティングするアークイオンプレーティング装置として、図６及び図７に示すものがある。この装置は、真空排気手段が接続されたコーティング室１内に搬送ローラ２が複数個縦列に配置され、その上にキャリヤフレーム３が載置され、該キャリヤフレーム３の上に多数の被処理物４を立設した状態で支持する保持台５が設けられている。前記搬送ローラ２のローラ軸６には２個のローラ７、８がコーティング室１内に取り付けられており、コーティング室１の側壁９を気密に貫通して回転自在に支持され、絶縁カップリングを介してモータ等の駆動手段に連結されている。そして、該保持台５の両側面にはアークイオンプレーティングを行うためのターゲット（蒸発源）１４が配置され、各ターゲット１４の近傍には陽極（図示省略）が設けられている。ターゲット１４と陽極とはアーク電源を介して接続されており、これらの部材によりイオン照射手段が構成されている。また、被処理物４には搬送ローラ２、キャリヤフレーム３、保持台５を介してコーティング室１に対して負のバイアス電圧が印加されている。
　【０００３】
　前記キャリヤフレーム３は、ターゲット１４から被処理物側に照射されたイオンが保持台５に支持された被処理物４に均等に当たるように、搬送ローラ２の正逆回転により、ターゲット１４を中心として搬送方向に沿って往復動する。これにより、多数の被処理物４に対し、一度で所期の薄膜をコーティングをすることができる。
　【０００４】
　【発明が解決しようとする課題】
　しかしながら、従来のイオンプレーティング装置では、被処理物の外周面に均等にコーティングを行うには、蒸着イオンを被処理物の周りに回り込むことができるように被処理物の支持間隔を大きくとる必要があり、１処理当たりの処理数を多くとることができないという問題がある。
　【０００５】
　本発明はかかる問題に鑑みなされたもので、被処理物の支持間隔を狭くしても被処理物の外周面に均質なコーティングを行うことができる、生産性の高いイオンプレーティング装置を提供することを目的とする。
　【０００６】
　【課題を解決するための手段】
　本発明のイオンプレーティング装置は、イオン照射手段を備えたコーティング室と、該コーティング室内で被処理物を支持すると共にイオン照射手段から照射されたイオンの形成域を往復動させるためのキャリヤフレームとを備えたイオンプレーティング装置において、前記キャリヤフレームに多数の被処理物を支持する回転テーブルを設け、キャリヤフレームの移動により前記回転テーブルを回転させるための回転機構を設けた。
　【０００７】
　また、本発明のイオンプレーティング装置は、前記回転機構を、前記回転テーブル側に固定されていて該回転テーブルと同一軸芯回りに一体的に回転する摩擦車と、
　前記コーティング室側に前記キャリアフレームの移動方向に沿って設けられていて、前記摩擦車の外周面に押圧状態で当接してその摩擦力により摩擦車を回転させる押圧部材とによって構成した。
　【０００８】
　更に、本発明のイオンプレーティング装置は、前記回転機構を、前記回転テーブル側に固定されていて該回転テーブルと同一軸芯回りに一体的に回転する歯車状の回転輪と、
　前記コーティング室側に前記キャリアフレームの移動方向に沿って設けられていて、前記回転輪の歯に干渉することで該回転輪を回転させる干渉部材とによって
構成し、
　前記干渉部材は、弾性部材によって支持され、絶縁部材を介して前記コーティング室に取り付けられているものとした。
　【０００９】
　また、本発明のイオンプレーティング装置は、前記回転機構を、前記回転テーブル側に固定されていて該回転テーブルと同一軸芯回りに一体的に回転する摩擦車と、
　前記コーティング室側に前記キャリアフレームの移動方向に沿って設けられていて、前記摩擦車の下面側から該摩擦車を持ち上げるようにして当接してその摩擦力により摩擦車を回転させるレールとによって構成した。
　【００１０】
　【作用】
　キャリヤフレームが往復動すると、キャリヤフレームの移動に応じて回転機構を介して回転テーブルが回転する。これにより回転テーブルに支持された多数の被処理物もテーブルの回転により同時に回転する。このため、回転テーブル上の各被処理物は、キャリヤフレームの移動に応じて、順次その表面をイオン照射手段側に曝すことになる。従って、被処理物の支持間隔に関係なく、被処理物の外周面に均質なコーティングを行うことができる。
　【００１１】
　また、回転機構として、摩擦車と、これに押圧状態で当接する押圧部材とで構成することにより、無段階で滑らかな摩擦車の回転動作が可能となり、均一な蒸着膜を得ることができるようになる。
　そして、回転機構として、歯車状の回転輪と、該回転輪の歯に干渉する干渉部材とで構成することにより、前記のように摩擦車に対して押圧部材を押圧するための手段を設ける必要もなくなり、構造の簡素化が可能となる。
　【００１２】
　さらに、回転機構として、摩擦車と、該摩擦車の下側面に持ち上げるようにして当接するレールとによって構成することで、摩擦車側の自重によってレールと摩擦車との間の摩擦力を得ることができるようになり、前述の押圧部材を備えた場合に比べて構造の簡素化が可能で、且つ、歯車状の回転輪と干渉部材とを備えた場合に比べて無段階で滑らかな摩擦車の回転動作が可能となる。
　【００１３】
　【実施例】
　図１及び図２は第１実施例にかかる被処理物回転機構を有するアーク式イオンプレーティング装置の要部を示しており、図６及び図７において示した従来装置と同機能を有する部材は同符号で示している。尚、本実施例においても従来と同様、イオン照射手段を備えていることは勿論である。イオン照射手段はキャリヤフレームの搬送方向に対し、いずれか一方側に設ければ足りるが、より生産性を向上させるために両側に設けてもよい。
　【００１４】
　従来と同様、キャリヤフレーム３は縦列配置された複数個の搬送ローラ２の上に載置されており、該キャリヤフレーム３には搬送方向に縦列した複数個の回転テーブル１６が設けられている。該回転テーブル１６は上下２段に被処理物４を支持するための支持台１７を備え、各支持台１７はテーブル軸１８に同心状に取り付けられている。前記テーブル軸１８の下方には円板状の摩擦車１９が固着されており、テーブル軸１８の下端部はキャリヤフレーム３の軸受部２１に貫通して回転摺動自在に嵌合され、該軸受部２１の上面に摩擦車１９のボス部の下面が当接している。前記支持台１７の上面には保持孔が複数個凹設され、該保持孔に被処理物４が差し込まれて装着されている。尚、保持孔は被処理物が直径方向に重ならないように設けるのがよい。
　【００１５】
　一方、コーティング室１の側壁９内面には、前記摩擦車１９の外周面に押圧状態で当接する押圧部材２３が支持フレーム２４を介して複数個列設されており、前記摩擦車１９と該押圧部材２３とで回転機構を構成している。前記押圧部材２３の列設範囲は、キャリヤフレーム３の移動範囲内で回転テーブル１６を回転させたい範囲に亘っている。前記押圧部材２３は、支持フレーム２４に取り付けられたシリンダ部材２５と、該シリンダ部材２５の内部に装入されたスプリング２６と、前記摩擦車１９の外周面に当接する当接部材２７からなる。該当接部材２７を支持するピストン軸２８は前記シリンダ部材２５に出退自在に挿入され、シリンダ部材２５内のスプリング２６を押付代Ｓだけ収縮させて、摩擦車１９を付勢するように収納されている。前記当接部材２７は隣接する部材間に僅かの隙間ができる程度にキャリヤフレーム３の移動方向に延設されており、これにより摩擦車１９はキャリヤフレーム３の移動に応じて隣接する当接部材２７に連続的に当接される。この際、当接部材２７の端部前面がテーパ面とされているので、摩擦車１９を隣接する当接部材２７に円滑に案内することができる。
　【００１６】
　上記構成によれば、キャリヤフレーム３の往復動により、摩擦車１９側に付勢された当接部材２７に摩擦車１９が当接し、摩擦車１９の周方向に生じた摩擦力により、摩擦車１９が正転、逆転する。摩擦車１９の回転に応じて、摩擦車１９の中心に設けられたテーブル軸１８が回転し、支持台１７に装着された被処理物４も回転する。このため、支持台１７上の各被処理物４は、キャリヤフレーム３の移動に応じて、コーティング室１の側壁９に設けられたイオン照射手段のイオン照射方向に順次その表面を曝すことができ、被処理物４の外周面に均質なコーティングが行われる。
　【００１７】
　また、摩擦車１９と該摩擦車１９に押圧状態で当接する押圧部材２３とによって回転機構を構成することにより、回転テーブル１６の支持台１７を無段階で滑らかに回転させることができるようになり、均一な蒸着膜を得ることができるものとなる。
　図３及び図４は、第２実施例を示しており、この例では摩擦車１９の代わりに外周面に多数の針部材３０が等間隔で植設された歯車状の回転輪３１がテーブル軸１８に固設されている。一方、キャリヤフレーム３の側部近傍には前記針部材（回転輪３１の歯）３０に干渉し、キャリヤフレーム３の移動により回転輪３１を回動させるための干渉部材３２が複数個列設されており、各干渉部材３２は弾性部材３３に支持され、碍子等の絶縁部材３４を介してコーティング室１の下壁１０に取り付けられている。前記弾性部材３３を設けたのは、干渉部材３２と針部材３０とがある角度で干渉すると、回転輪３１が回動せずに両者の先端部が当接して干渉部材３２を押し倒すような力が作用するが、弾性部材３３を設けることにより、干渉部材３２を針部材３０から容易に逃がすことができ、針部材３０や絶縁部材３４に無理な力が作用せず、これらの部材が損傷するのを防止することができる。
　【００１８】
　なお、本実施例においては、前述した第１実施例のように、押圧部材２３を摩擦車１９に押圧するための手段（スプリング２６、シリンダ部材２５等）が必要なく、構造の簡素化が図れるようになっているが、回転輪３１の針部材３０と干渉部材３２との間のバックラッシュにより円滑な回動動作が若干困難となるため、この点においては、第１実施例の方が有利なものとなる。
　【００１９】
　図５は第３実施例を示しており、本実施例では摩擦車１９の下面に逆円錐状のテーパ周面３６が形成されており、一方コーティング室１の側壁９からは支持アーム３７を介して、回転テーブル１６を回転させる範囲に亘ってレール３８が延設されている。該レール３８は、テーブル軸１８及び支持台１７を持ち上げるように前記テーパ周面３６に当接するように配設されている。尚、レール３８の末端部上面はキャリヤフレーム３の移動により前記テ−周面３６がレール末端部に乗り上げ易いようにテ−パ面に形成しておくのがよい。
　【００２０】
　本実施例では摩擦車１９に作用する摩擦力は、摩擦車１９、テーブル軸１８、支持台１７及び被処理物４の自重の合力がレール３８に作用することに発生する。従って、回転テーブル１６を回転させる際には、キャリヤフレーム３にはこれらの重力が作用せず、搬送ローラ２にはキャリヤフレーム３の自重のみが作用する。このため、キャリヤフレーム３が軽量であると、キャリヤフレーム３の脚部底面とローラ（接触面が円周面の場合）との間に生じる摩擦力が小さくなってスリップが生じ、キャリヤフレーム３の円滑な移動が困難になる。かかる場合は、図５に示すように、搬送ローラ２の一方のローラ８の外周面に歯車４０を形成し、キャリヤフレーム３の脚部底面に該歯車４０に噛み合うラック４１を形成すればよい。
　【００２１】
　本実施形態においては、第１実施例と同様に、第２実施例に比べて摩擦車１９とレール３８との間の摩擦力によって無段階で円滑な支持台１７の回転動作が得られ、均一な蒸着膜を形成することができる点で有利なものとなり、さらに、第１実施形態の押圧部材２３のように摩擦車１９に対して押圧する手段を備える必要がなくなることから構造の簡素化が図れるようになる。
　【００２２】
　尚、本発明は、真空引き、コーティング、冷却等の全工程を１室（コーティング室）で行うバッチ式装置に適用できることは勿論であるが、各工程毎に専用のチャンバを設け、これらを真空仕切り弁を介して連設し、キャリヤフレームを順次送り込むことにより連続処理を行うインライン式装置のコーティング室に適用することもできる。
　【００２３】
　【発明の効果】
　以上説明した通り、本発明のイオンプレーティング装置によれば、キャリヤフレームに多数の被処理物を支持する回転テーブルを設け、キャリヤフレームの移動により前記回転テーブルを回転させるための回転機構を設けたので、キャリヤフレームの往復動に応じて回転機構を介して回転テーブルひいては該回転テーブルに支持された被処理物を回転させることができ、順次その表面をイオン照射手段側に曝すことができるため、被処理物の支持間隔に関係なく、被処理物の外周面に均質なコーティングを行うことができる。
　【００２４】
　また、本発明は前記回転機構として、摩擦車と該摩擦車に押圧状態で当接する押圧部材とで構成したので、無段階で滑らかな回転テーブルの回転動作が可能となり、均一な蒸着膜を得ることができるようになる。
　そして、本発明は前記回転機構として、歯車状の回転輪と該回転輪の歯に干渉する干渉部材とで
構成し、前記干渉部材は、弾性部材によって支持され、絶縁部材を介して前記コーティング室に取り付けられているものとした
と共に、干渉部材を容易に逃がすことができ、絶縁部材に無理な力が作用せず、これらの部材が損傷するのを防止することができる。
　【００２５】
　さらに、本発明は前記回転機構として、摩擦車と該摩擦車の下側面に持ち上げるようにして当接するレールとによって構成したので、摩擦車側の自重によってレールと摩擦車との間の摩擦力を得ることができるようになり、無段階で滑らかな回転テーブルの回転動作が簡素な構造で行えるようになる。
【図面の簡単な説明】
　【図１】
　第１実施例にかかるイオンプレーティング装置の要部断面図である。
　【図２】
　図１のＡ−Ａ線矢視断面図である。
　【図３】
　第２実施例にかかるイオンプレーティング装置の要部断面図である。
　【図４】
　図３のＡ−Ａ線矢視断面図である。
　【図５】
　第３実施例にかかるイオンプレーティング装置の要部断面図である。
　【図６】
　従来例にかかるイオンプレーティング装置の断面図である。
　【図７】
　図６のＡ−Ａ線矢視断面図である。
　【符号の説明】
　１　　コーティング室
　２　　搬送ローラ
　３　　キャリヤフレーム
　４　　被処理物
　１６　回転テーブル
　１９　摩擦車
　２３　押圧部材（１９とで回転機構）
　３１　回転輪
　３２　干渉部材（３１とで回転機構）
　３８　レール（１９とで回転機構）