【事件の表示】
　特許第３３３２１６８号「縦型ボート及びその製造方法」の請求項１に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３３３２１６８号の請求項１に係る特許を取り消す。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本件特許第３３３２１６８号発明は、平成４年１１月３０日の出願であって、平成１４年７月２６日にその特許権の設定登録がなされ、その後、特許異議申立人服部和子より、全請求項である請求項１〜２のうちの請求項１に対して、特許異議の申立てがなされた。これに対し、当審より平成１５年８月７日付で取消しの理由を通知したところ、その指定期間内である平成１５年９月２２日に特許権者より特許異議意見書及び訂正明細書を添付した訂正請求書が提出された。
第２　訂正の適否についての判断
１　訂正の内容
　本件登録時の明細書（以下「登録明細書」という。）の特許請求の範囲に記載の
　「【請求項１】　半導体ウエハの挿入始端側に位置する２本の支持部材と、半導体ウエハの挿入後端側に位置する２本の支持部材とを縦方向に配列して、それらの４本の支持部材に所定の間隔で形成された複数のスリットにそれぞれ複数の半導体ウエハを積載するための縦型ボートにおいて、
　いずれの支持部材も支持部分に支持突起を有し、該支持突起がウエハの半径の５０％の同心円及び９０％の同心円の間の環状スペースに位置し、
　半導体ウエハの挿入始端側に位置する２本の支持部材の支持突起が、ウエハの中心とウエハ挿入方向とのなす角度が挿入方向の左右線対称に３０〜８０度となるように配置されており、かつ、半導体ウエハの挿入後端側に位置する２本の支持部材の支持突起が、ウエハの中心とウエハ挿入方向とのなす角度が９５〜１４０度となるように配置されていることを特徴とする縦型ボート。
【請求項２】　複数の支持部材を縦方向に配置して、それらの支持部材に所定の間隔で形成された複数のスリットにそれぞれ複数の半導体ウエハを配置するための縦型ボートの製造方法において、１対の側端面を有する板の幅方向に板の幅の約２／３以上にわたって両方の側端部に達しないように第１スリットを形成し、その後、板の一方の側端面から第１スリットに連通するように第２スリットを形成することにより支持部分の先端部分に支持突起を形成することを特徴とする縦型ボートの製造方法。」
を、
　「【請求項１】　半導体ウエハの挿入始端側に位置する２本の支持部材と、半導体ウエハの挿入後端側に位置する２本の支持部材とを縦方向に配列して、それらの４本の支持部材に所定の間隔で形成された複数のスリットにそれぞれ複数の半導体ウエハを積載するための縦型ボートにおいて、
　いずれの支持部材も支持部分に支持突起を有し、該支持突起がウエハの半径の５０％の同心円及び９０％の同心円の間の環状スペースに位置し、
　半導体ウエハの挿入始端側に位置する２本の支持部材の支持突起が、ウエハの中心とウエハ挿入方向とのなす角度が挿入方向の左右線対称に３０〜８０度となるように配置されており、かつ、半導体ウエハの挿入後端側に位置する２本の支持部材の支持突起が、ウエハの中心とウエハ挿入方向とのなす角度が９５〜１４０度となるように配置されて
おり、　各スリットが、板の幅方向に形成された第１スリットと、板の一方の側端面から第１スリットまで所定の幅（Ｗ２、Ｗ４）で連通するように切り込んで形成されていて支持突起を構成する第２スリットからな
【請求項２】　複数の支持部材を縦方向に配置して、それらの支持部材に所定の間隔で形成された複数のスリットにそれぞれ複数の半導体ウエハを配置するための縦型ボートの製造方法において、１対の側端面を有する板の幅方向に板の幅の約２／３以上にわたって両方の側端部に達しないように第１スリットを形成し、その後、板の一方の側端面から第１スリットに連通するように第２スリットを形成することにより支持部分の先端部分に支持突起を形成することを特徴とする縦型ボートの製造方法。」と訂正する。
　（訂正箇所は、アンダーライン部分である。）
２　訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
　上記１の訂正は、請求項１において、「各スリットが、板の幅方向に形成された第１スリットと、板の一方の側端面から第１スリットまで所定の幅（Ｗ２、Ｗ４）で連通するように切り込んで形成されていて支持突起を構成する第２スリットからな」ると、スリット及び支持突起の関連構成を付加して限定するものであって、特許請求の範囲の減縮を目的とするものである。
　そして、この訂正は、登録明細書の段落００１５の「幅方向に板の両側端面の間で（つまり両側に達しないように）板の幅の約２／３以上にわたって第１スリットを形成し、その後、板の一方の側端面（つまり片側から）から第１スリットに達するように第２スリットを形成することにより、その第２スリットのところに狭い面積の支持突起を形成する。」との記載に基づいている。
　したがって、この訂正は、特許請求の範囲の減縮を目的とし、新規事項の追加に該当せず、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。
３　むすび
　以上のとおりであるから、上記訂正は、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第６条第１項の規定によりなお従前の例によるとされる、特許法第１２０条の４第３項において準用する平成６年法律第１１６号による改正前の特許法第１２６条第１項ただし書、第２項及び第３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
第３　特許異議の申立て及び取消しの理由についての判断
１　特許異議申立ての理由及び取消しの理由の概要
　特許異議申立人服部和子は、甲第１号証として特開平２−１７６３３号公報を、甲第２号証として実願平２−４０２４９９号（実開平４−９２６４５号）のマイクロフィルムを、甲第３号証として実願昭６２−１７５８２３号（実開平１−７９８２８号）のマイクロフィルムをそれぞれ提出して、本件特許の請求項１に係る発明は、甲第１号証乃至甲第３号証に記載の発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本件請求項１に係る発明についての特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものであり、特許法第１１３条第２号に該当し、取り消されるべきものであると主張している。
　また、甲第４号証として特許第３２８０４３７号公報を提出して、本件特許の請求項１に係る発明は、甲第４号証に記載の発明と実質的に同一であるから、本件請求項１に係る発明についての特許は、特許法第３９条第１項の規定に違反してされたものであり、特許法第１１３条第２号に該当し、取り消されるべきものであると主張している。
　当審の平成１５年８月７日付取消しの理由は、特許異議申立人服部和子の異議申立ての理由のとおりというものである。
２　本件発明
　上記のように本件特許については訂正が認められており、本件特許の請求項１に係る発明（以下本件発明」という。）は、訂正明細書及び登録時の図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１に記載された、上記第２の１に示すとおりのものと認める。
３　特許法第２９条第２項の規定違反について
　以下、甲第２号証の実願平２−４０２４９９号（実開平４−９２６４５号）のマイクロフィルムを刊行物１といい、甲第２号証の特開平２−１７６３３号公報を刊行物２という。
（１）　刊行物１の記載事項
　刊行物１の記載事項は、次のとおりのものである。
ア　「【請求項１】　天板と台板との間に垂直に立設して所定箇所にウェーハを水平に支持する溝を設けた複数の支持部材からなるウェーハ支持装置において、前記支持部材の断面は長軸を有する楕円形状とされ、その長軸が台板の中心に向うようにかつ点対称に配置されることを特徴とするウェーハ支持装置。」（実用新案登録請求の範囲）
イ　「【産業上の利用分野】　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　本考案は、半導体装置の製造における縦型熱処理炉にウェーハを挿入する際に用いられるウェーハ支持装置に関する。」（段落【０００１】）
ウ　「【実施例】
　以下に、本考案の実施例について説明する。図１（ａ）は本考案の実施例を示す正面図であり、図１（ａ）（当審注：ａはｂの誤記。）はＡ−Ａ矢視断面図である。図に示すように、本考案のウェーハ支持装置に用いる支持部材６の断面は楕円形状とされる。そして、その長軸６ａがそれぞれ台板２の中心Ｏに向かうように、かつ台板２の中心Ｏに対して点対称になるように配置される。なお、支持部材６に設けられる溝７は深い切込みとされる。」（段落【０００７】）
エ　「このような断面が楕円形状の支持部材６を用いてウェーハ支持装置を構成することにより、支持部材６の強度を高めることができるから、ウェーハ支持装置をたとえ１１００℃もの高温の縦型熱処理炉内に挿入しても十分な強度でウェーハ４をバランスよく支持することができる。これによって、支持部材６の変形を防止することができる。」（段落【０００８】）
オ　「なお、上記実施例において、支持部材６の断面を楕円形状として説明したが、本考案はこれに限定されるものではなく、二等辺三角形の支持部材としても同等の作用効果を得ることができることはいうまでもない。」（段落【０００９】）
カ　図１（ｂ）を参照すると、ウェーハ４の挿入始端側、即ちオリフラ側に位置する２本の支持部材６と、ウェーハ４の挿入後端側に位置する２本の支持部材６とを縦方向に配列して、ウェーハ４の挿入始端側に位置する２本の支持部材６の支持部が、台板２又はウェーハ４の中心Ｏとウエハ挿入方向とのなす角度が挿入方向の左右線対称に９０度未満となるように配置されており、かつ、ウェーハ４の挿入後端側に位置する２本の支持部材６の支持部が、台板２又はウェーハ４の中心Ｏとウエハ挿入方向とのなす角度が９０度より大きくなるように配置されていることが認められる。
　上記ア〜カの記載事項より、刊行物１には、次の発明が記載されていると認める。
　ウェーハの挿入始端側に位置する２本の支持部材と、ウェーハの挿入後端側に位置する２本の支持部材とを縦方向に配列して、それらの４本の支持部材に所定の間隔で形成された複数の溝にそれぞれ複数のウェーハを積載するためのウェーハ支持装置において、
　いずれの支持部材も支持部を有し、ウェーハの挿入始端側に位置する２本の支持部材の支持部が、ウェーハの中心とウェーハ挿入方向とのなす角度が挿入方向の左右線対称に９０度未満となるように配置されており、かつ、ウェーハの挿入後端側に位置する２本の支持部材の支持部が、ウェーハの中心とウエハ挿入方向とのなす角度が９０度より大きくなるように配置されている、
　ウェーハ支持装置。
（２）　刊行物２の記載事項
　刊行物２の記載事項は、次のとおりのものである。
ア　「ウェハー主面をほぼ水平とし、且つ複数枚のウェハーをほぼ一定の間隔で保持する縦型ウェハーボートにおいて、ウェハー主面にほぼ垂直にたてられた複数本の支持棒につけられたウェハー保持部でウェハー端部がウェハーボートに接触せず、かつ該ウェハー保持部がウェハー裏面と点接触することによってウェハーを保持することを特徴とする縦型ウェハーボート。」（特許請求の範囲）
イ　「本発明は縦型熱処理装置に具備するボートに関して、特に縦型気相成長装置に具備する縦型ウェハーボートに関するものである。」（第１頁左下欄第１５〜１７行）
ウ　「第２図は、・・・・・ボートの支持部の構成をより詳細に説明するものである。ウェハー８を保持するボート１１には鍵状の支持部９が構成され、ウェハーの端部１２がボート１１と接触せず、ウェハーの端部１２から約１ｃｍ離れたウェハー裏面１３を鍵状の支持部９の突起部１０で点接触して保持し、その突起部１０は表面に丸みがつくように縁取りされている。」（第２頁右上欄第２〜１０行）
エ　「以上説明したように、本発明はウェハーの端部をボートに接触させず、且つウェハー裏面とウェハーを保持する部分との接触面積を小さくするため、丸みがつくように縁取りしたウェハーを保持する部分を有するボートを用いることにより、ボートからウェハーの出し入れ時におけるウェハー表面への微小な傷、あるいは熱応力によるスリップ等の発生をおさえるため歩留りの著しい向上効果がある。」（第２頁左下欄第１６〜右下欄第４行）
　上記ア〜エの記載事項より、刊行物２には、次の技術事項が記載されていると認める。
　縦型ウェハーボートにおいて、突起部１０を有する鍵状の支持部９を設け、ウェハー裏面の端部から離れた位置を突起部１０で保持すること。
（３）　対比・判断
　本件発明（前者）と刊行物１に記載された発明（後者）を対比すると、後者の、「ウェーハ」、「溝」、「ウェーハ支持装置」が、それぞれ前者の、「半導体ウエハ」、「スリット」、「縦型ボート」にそれぞれ相当しており、また、後者の「支持部」は、半導体ウエハを支持する部分である限りで、前者の「支持部分」及び「支持突起」に相当する。
　そして、両者は、次の構成で一致している。
　半導体ウエハの挿入始端側に位置する２本の支持部材と、半導体ウエハの挿入後端側に位置する２本の支持部材とを縦方向に配列して、それらの４本の支持部材に所定の間隔で形成された複数のスリットにそれぞれ複数の半導体ウエハを積載するための縦型ボートにおいて、
　いずれの支持部材も半導体ウエハを支持する部分を有し、半導体ウエハの挿入始端側に位置する２本の支持部材の半導体ウエハを支持する部分が、ウエハの中心とウエハ挿入方向とのなす角度が挿入方向の左右線対称に９０度未満の所定角度となるように配置されており、かつ、半導体ウエハの挿入後端側に位置する２本の支持部材の半導体ウエハを支持する部分が、ウエハの中心とウエハ挿入方向とのなす角度が９０度より大きな所定角度となるように配置されている
　縦型ボート。
　そして、両者は、次の点で相違している。
Ａ　半導体ウエハを支持する部分について、前者では、支持突起を有する支持部分であり、該支持突起がウエハの半径の５０％の同心円及び９０％の同心円の間の環状スペースに位置するのに対し、後者では、そのようなものではない点。（相違点１）
Ｂ　半導体ウエハを支持する部分のウエハの中心とウエハ挿入方向とのなす角度について、前者では、支持する部分の支持突起が、挿入始端側で３０〜８０度となるように、また、挿入後端側で９５〜１４０度となるように配置されているのに対して、後者では、支持する部分が、挿入始端側で９０度未満となるように、また、挿入後端側で９０度より大きな角度となるように配置されているが、前者のような角度であるのか明らかではない点。（相違点２）
Ｃ　前者は、各スリットが、板の幅方向に形成された第１スリットと、板の一方の側端面から第１スリットまで所定の幅（Ｗ２、Ｗ４）で連通するように切り込んで形成されていて支持突起を構成する第２スリットからなるのに対して、後者のこの構成が不明である点。（相違点３）
　相違点１について検討すると、刊行物２には、技術事項Ａの如く、「縦型ウェハーボートにおいて、突起部１０を有する鍵状の支持部９を設け、ウェハー裏面の端部から離れた位置を突起部１０で保持すること。」、言い換えると、「支持突起を有する支持部分を設け、ウェハー裏面の端部から離れた位置を支持突起で保持する」事項が記載されており、後者にこの技術事項Ａを適用して、その際に設計上、支持突起をウエハの半径の５０％の同心円及び９０％の同心円の間の環状スペースに位置するようにすることは、当業者であれば容易になし得る程度のものである。
　相違点２については、半導体ウエハを支持する部分のウエハの中心とウエハ挿入方向とのなす角度について、後者の半導体ウエハを支持する部分は、挿入始端側で９０度未満となるように、また、挿入後端側で９０度より大きな角度となるように配置されている。これを、挿入始端側で３０〜８０度となるように、また、挿入後端側で９５〜１４０度となるように配置することは、その角度限定に格別の技術的意義が認められないので、設計的事項である。そして、前者の如く支持突起が配置されることは、上記相違点１において検討した半導体ウエハを支持する部分を支持突起を有するものとする際に、あわせてなし得ることである。
　また、相違点３については、支持部材の断面を長方形とすることは周知技術であり（例えば特開昭６１−２６３５３３号公報参照）、後者の支持部材の断面を長方形として、支持部材を板状とすることは、当業者であれば適宜なし得るものである。また、板状の支持部材に、刊行物２に記載の鍵状の支持部を形成する際に、前者の如く板の幅方向に形成された第１スリット及び板の一方の側端面から第１スリットまで所定の幅で連通するように切り込んで形成されて支持突起を構成する第２スリットとして構成することは、当業者であれば容易になし得る程度のものである。
　そして、本件発明の作用・効果は、刊行物１及び刊行物２に記載された発明の範囲内のものである。
　以上の如く、本件発明は、刊行物１に記載された発明、刊行物２に記載された技術事項及び周知技術に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであって、本件発明の特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものである。
第４　むすび
　以上のとおり、本件の請求項１に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものであり取り消すべきものである。
　よって、結論のとおり決定する。　
【異議決定日】
平成１５年１２月２６日（２００３．１２．２６）
【訂正の要旨】
審決（決定）の【理由】欄参照。
（５４）【発明の名称】
縦型ボート及びその製造方法
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　半導体ウエハの挿入始端側に位置する２本の支持部材と、半導体ウエハの挿入後端側に位置する２本の支持部材とを縦方向に配列して、それらの４本の支持部材に所定の間隔で形成された複数のスリットにそれぞれ複数の半導体ウエハを積載するための縦型ボートにおいて、
　いずれの支持部材も支持部分に支持突起を有し、該支持突起がウエハの半径の５０％の同心円及び９０％の同心円の間の環状スペースに位置し、
　半導体ウエハの挿入始端側に位置する２本の支持部材の支持突起が、ウエハの中心とウエハ挿入方向とのなす角度が挿入方向の左右線対称に３０〜８０度となるように配置されており、かつ、半導体ウエハの挿入後端側に位置する２本の支持部材の支持突起が、ウエハの中心とウエハ挿入方向とのなす角度が９５〜１４０度となるように配置されて
おり、
　
各スリットが、板の幅方向に形成された第１スリットと、板の一方の側端面から第１スリットまで所定の幅（Ｗ２、Ｗ４）で連通するように切り込んで形成されていて支持突起を構成する第２スリットからな
　【請求項２】　複数の支持部材を縦方向に配置して、それらの支持部材に所定の間隔で形成された複数のスリットにそれぞれ複数の半導体ウエハを配置するための縦型ボートの製造方法において、１対の側端面を有する板の幅方向に板の幅の約２／３以上にわたって両方の側端部に達しないように第１スリットを形成し、その後、板の一方の側端面から第１スリットに連通するように第２スリットを形成することにより支持部分の先端部分に支持突起を形成することを特徴とする縦型ボートの製造方法。
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【産業上の利用分野】
　この発明は、複数の支持部材を縦方向に配列して、それらの支持部材に所定の間隔で形成された複数のスリットにそれぞれ複数の半導体ウエハを積載するための縦型ボート及びその製造方法に関する。
　【０００２】
　【従来の技術】
　半導体ウエハの酸化・拡散処理工程では、多数の半導体ウエハをウエハ用ボートに積載して、そのままウエハ用ボートを拡散炉内部に搬入して、そこで所望の熱処理を行う。
　【０００３】
　拡散炉の種類に応じて縦型ボートを使用したり、横型ボートを使用したりしている。
　【０００４】
　従来の縦型ボートは、複数のウエハを水平又はそれよりも少し傾斜した状態に支持するために複数（例えば４本）の棒形状の支持部材が縦方向に配列されている。それらの支持部材には所定の間隔で複数のスリットが形成されている。それらの複数のスリットにそれぞれ複数の半導体ウエハを積載する。
　【０００５】
　従来の縦型ボートは、通常、全ての支持部材が同一断面形状の棒材であった。例えば、断面形状は円形や四角形などであった。このような断面形状の棒材に形成されたスリットは、その奥底がウエハの外周に沿ったアーク形状となっていて、ウエハに接触する面が小さく、かつウエハの外周に沿っていた。換言すれば、スリットによって形成された支持面のウエハ円周方向の幅が小さかった。
　【０００６】
　一方、大型のウエハの荷重応力を緩和させる手段として実開昭６２−１２８６３３号のように円弧状板を支持棒に固定した形状が提案されているが、面精度を出すのが困難で高価となる。
　【０００７】
　【発明が解決しようとする課題】
　ボートは、支持部材が棒形状であっても板形状であっても支持部材によってウエハを支持した状態で熱処理時に高温にさらされる。すると、従来の縦型ボートは、ウエハ外周縁部を支持するものであるため、特にウエハが大きな寸法のものになるにつれて、ウエハはその重量で撓み量が増大する。その結果、ウエハが変形したりスリップしたりして、いわゆる結晶転移が発生し、製品歩留まりに悪い影響を及ぼす。
　【０００８】
　さらに、支持部材の支持面がウエハの外周縁部のみと接触していると、特定の支持部材に荷重応力が集中する。そのため、特にウエハが大きな寸法のものになるにつれて、スリップの発生頻度が増加する。
　【０００９】
　ウエハをボートに出し入れするために、ウエハの挿入始端側に位置する１対の支持部材の間隔をウエハの外径よりも大きくしていた。そのため、ウエハをボートの所定位置に積載した状態で、ウエハの挿入始端側に位置する支持部材の前方端と、ウエハの中心と、ウエハの挿入方向とのなす角度が９０度を僅かに（例えば数度）越す構造にするのがせいぜいであるが、その様なものであると、ウエハの重心がウエハの挿入始端側に位置する対向する２つの支持部材の前方端間又はその近傍に位置することになり、ウエハの挿入始端側に位置する支持部材に荷重負担が偏ってしまう。例えば、ウエハの挿入始端側に位置する１対の支持部材に７０〜９０％の荷重応力が負荷される。
　【００１０】
　また、熱処理時にボートの支持部材の支持部分とウエハとの温度差による熱応力も複合的に加わって、特にウエハが大きな寸法のものになるにつれて、スリップの発生頻度が増加する。
　【００１１】
　ウエハを熱処理するに際しては、拡散炉からの熱の伝達は輻射あるいは伝熱によるが、棒形状の支持部材に所定の間隔で形成された複数のスリット（溝）のところからのウエハへの伝熱もあり、局部的なウエハ内部の温度分布の要因となっている。ウエハ自重及び熱的温度分布による熱応力が、ウエハの挿入始端側に位置する対向する１対の支持部材でのウエハのスリップ転移の原因となり、ウエハの熱処理歩留を低下させていた。
　【００１２】
　この発明は、このような従来技術の欠点を解消して、大きな寸法のウエハを積載して熱処理をしてもスリップが生じないとともに、ウエハの撓み量を小さくできる縦型ボートを提供することを目的としている。
　【００１３】
　【課題を解決するための手段】
　本発明の解決手段を例示すると、請求項１に記載の縦型ボートと、請求項２に記載の縦型ボートの製造方法である。
　【００１４】
　【発明の実施の形態】
　本発明の好ましい実施形態によれば、複数の支持部材を縦方向に配列して、それらの支持部材に所定の間隔で形成された複数のスリットにそれぞれ複数の半導体ウエハを配置するための縦型ボートにおいて、支持部材の支持部分に支持突起を設けて、該支持突起がウエハの外周縁部を超えて中央寄りの所定領域に配置されている。
　【００１５】
　本発明の別の実施形態によれば、複数の支持部材を縦方向に配列して、それらの支持部材に所定の間隔で形成された複数のスリットにそれぞれ複数の半導体ウエハを配置するための縦型ボートの製造方法において、わん曲した板（たとえばパイプに近い形状やそれに少し似た「Ｊ」字、「Ｕ」字、「Ｃ」字のような断面形状を有する板の形状あるいは「へ」や「く」の字、「Ｌ」字、「Ｖ」字、「Ｙ」字のように角度たとえば４５°〜１５０°を有する板）の幅方向に板の両側端面の間で（つまり両側に達しないように）板の幅の約２／３以上にわたって第１スリットを形成し、その後、板の一方の側端面（つまり片側から）から第１スリットに達するように第２スリットを形成することにより、その第２スリットのところに狭い面積の支持突起を形成する。他方の側端面の部分は支柱として機能する。
　【００１６】
　【発明の効果】
　この発明の縦型ボートによれば、ウエハの撓み、反り、スリップ発生を低減する効果がある。とくにスリップ発生の抑制効果は非常に大きい。この発明の縦型ボートを使用すれば、製品の歩留及び信頼性の向上と、熱処理工程の時間短縮が実現できる。さらに詳細に述べると、支持突起がウエハの外周縁部を超えてウエハの中央寄りの部分を支持するので、熱処理時に被熱処理物であるウエハの外周縁部に支持部材の支持部分が接触しない。その結果、ウエハ外周縁部を支持する従来の縦型ボートにみられた欠点が解消される。例えば、半導体ウエハをボートの所定位置に積載した状態で、ウエハの重心がウエハの挿入始端側に位置する対向する２つの支持部材の支持部分間から相当に挿入側に位置するので、ウエハの挿入始端側に位置する支持部材への荷重負担が軽減される。換言すれば、全ての支持部材に荷重が適当に分散されるのである。それゆえウエハがスリップを起こす危険が確実に回避される。
　【００１７】
　また、この発明の縦型ボートによれば、支持突起がウエハの外周縁部を超えてウエハの中央寄りの部分を支持するので、ウエハの外周縁部を支持する従来例に比較して、ウエハの重量による撓み量を抑制する。この効果は特にウエハが大きな寸法のものになるにつれて顕著になる。その結果、ウエハが変形したりスリップしたりして結晶転移が発生することが防止でき、製品歩留まりが向上する。
　【００１８】
　さらに、支持突起がウエハの外周縁部を超えてウエハの中央寄りの部分を支持するので、棒形状の支持部材に形成された複数の溝のところからのウエハへの伝熱がなくなり、局部的なウエハ内部の温度分布が極力押えられ、熱処理時にボートの支持部材の支持部分とウエハの外周部分との温度差による熱応力の発生が効果的に抑制される。したがって、ウエハ自重及び熱的温度分布による熱応力が原因となるウエハのスリップ転移がなくなり、ウエハの熱処理歩留まりが向上する。
　【００１９】
　この発明の製造方法によれば、前述のように顕著な効果を奏する縦型ボートを極めて容易にかつ高い精度で作ることができる。特に高精度のスリット幅及びスリット間隔を有する縦型ボートを多量生産するときに、この発明の製造方法は抜群の効果を発揮する。
　【００２０】
　さらに、好ましくは、従来の縦型ボートと比較して、支持部材の断面係数を大きくすることにより強度を向上させる。好ましい断面係数の範囲は０．３〜３．０ｃｍ３（特に好ましくは０．５〜２．５ｃｍ３）である。
　【００２１】
　【実施例】
　図１〜７はこの発明の第１実施例による縦型ボートを示しており、図８はこの発明の第２実施例による縦型ボートを示している。いずれの実施例においても、縦型ボートは、多数のウエハ１を積載するものであり、上下一対の板状固定手段２の間に３本以上（代表的には４本）の支持部材３、４、１０４が縦方向に配列されている。それらの支持部材３、４、１０４に所定の間隔で縦方向に沿って形成された複数のスリット７、８、１０８にそれぞれ複数のウエハ１を積載するようになっている。支持部材３、４、１０４は、いずれも細長い板の形状をしている。
　【００２２】
　スリット７、８、１０８が板状支持部材３、４、１０４の幅の約２／３以上（好ましくは３／４以上）にわたって切り込んで形成してある。しかも、スリット７、８、１０８によって画成された支持部分の所定部分（例えば先端部分）に狭い面積の支持突起１１、１２、１１２を設けて、支持突起１１、１２、１１２がウエハ１の外周縁部を超えてウエハ１の中央寄りの部分を支持するようになっている。例えば、これらの支持突起１１、１２、１１２によるウエハ１の支持ポイントがウエハ１の中心１ａから同心円状に配置され、しかもウエハ１の半径の５０〜９０％の領域Ｐに来てウエハ１の外周縁部を超えてウエハ１の中央寄りの部分を支持するように配置するのが好ましい。
　【００２３】
　板状支持部材３、４、１０４はいろいろな板形状が採用できるが、図１〜７に示された第１実施例の縦型ボートにおいては、板状支持部材３、４は円管の一部分を切断した断面アーク形状又は円弧形状のものが使用されている。この他の非直線状のものとしては「く」の字、「Ｌ」字、「Ｊ」字、ブーメラン形、その他のわん曲数面形状のものが好ましい。厚みを先にいくにしたがって少しずつ細くすることもできる。図８の実施例においては、支持部材１０４は、全体が円菅になった板形状である。これらの板状支持部材３、４、１０４は、図示しなかった形状を含めて、いろいろと組み合わせて使用できる。
　【００２４】
　支持突起を設けることにより、ウエハ外周縁部での支持接触を避け、ウエハ外周縁部での応力集中及びボートからの熱伝導を避けることができる。
　【００２５】
　支持突起の高さはウエハ外周縁部が触れない程度で良いが、ガス置換を考えると０．３〜３ｍｍ程高い方が望ましい。更に図に示すように複数の第１スリットを設けることによりボートからウエハへの熱伝導と、ウエハと支持部分間のガス滞留を防ぐことができる。
　【００２６】
　ウエハ支持位置はウエハのたわみ量および荷重応力の少ない位置が望ましい。
　【００２７】
　ボートの材質は、石英ガラス、炭化珪素、炭素、単結晶、多結晶シリコン、Ｓｉ含浸炭化珪素等が挙げられ、純度、耐熱性、耐腐食性の高いものが望ましい。石英ガラスの場合、溶接が容易であるが、他の材質の場合は組立式も考えられる。
　【００２８】
　また、図示した実施例では４本の支持部材が使用されているが、本発明はこれに限定されない。
　【００２９】
　以下、第１および第２の実施例の各々を詳細に説明する。
　【００３０】
　
図１〜７の第１実施例
　まず、図１〜７に示された第１実施例の縦型ボートを説明すると、この第１実施例においては、曲率の異なる２種類の断面半円弧状の板状支持部材３、４が使用されている。ウエハ１の挿入始端側に位置する２つの対向する支持部材３は、曲率の大きい断面半円弧状の板状支持部材であり、多数のスリット７が所定の間隔Ｄ１（図４〜５）ごとに板状支持部材３の幅の約５／６まで切り込んで形成してある。スリット７によって画成された支持部分の先端部に狭い面積（例えば１０〜１５０ｍｍ２）の支持突起１１を設けて、支持突起１１がウエハ１の外周縁部を超えてウエハ１の中央寄りの部分Ｐを支持するようになっている。
　【００３１】
　他方、ウエハ１の挿入後端側に位置する２つの対向する支持部材４は、曲率の小さい断面半円弧状の板状支持部材であり、多数のスリット８が所定の間隔Ｄ２（図６〜７）ごとに板状支持部材３の幅の約４／５まで切り込んで形成してある。スリット７によって画成された支持部分の先端部分に狭い面積（例えば１０〜５０ｍｍ２）の支持突起１２を設けて、支持突起１２がウエハ１の外周縁部を超えてウエハ１の中央寄りの部分Ｐを支持するようになっている。
　【００３２】
　前述のスリット７、８は、それぞれ幅の比較的広い第１スリット７ａ、７ｂと、幅の比較的狭い第２スリット７ｂ、８ｂとからなる。
　【００３３】
　好ましくは、ウエハ１をボートの所定位置に積載した状態で、前述の支持突起１１、１２によるウエハ１の支持ポイントは、ウエハ１の中心１ａから同心円状に配置される。しかも、その同心円はウエハ１の半径の５０〜９０％（さらに望ましくは６５〜８５％）の領域Ｐに来るようにし、ウエハ１の支持ポイントが全てウエハ１の外周縁部を超えるように配置するのが好ましい。
　【００３４】
　また、これらの支持突起１１、１２によるウエハ１の支持ポイントの好ましい配置方法あるいは分配方法を述べると、ウエハ１の挿入始端側に位置する支持部材３の突起１１と、ウエハ１の中心１ａと、ウエハ１の挿入方向Ｘとのなす角度Ａが約７５〜１８０度（好ましくは９５〜１４０度）になるように配置する。他方、ウエハ１の挿入後端側に位置する２つの対向する支持部材４の突起１２と、ウエハ１の中心１ａと、ウエハ１の挿入方向Ｘとのなす角度Ｂが約３０〜１２０度（好ましくは３０〜８０度）になるように配置する。
　【００３５】
　これとは違った支持ポイントの配置方法あるいは分配方法の考え方を採用して、ウエハ１をボートの所定位置に積載した状態で、ウエハ１の挿入始端側に位置する２本の支持部材３の突起１１と、他方の、ウエハ１の挿入後端側に位置する２つの対向する２本の支持部材４の突起１２とが、ウエハ１の中心１ａを通りかつウエハ１の挿入方向Ｘと平行な線Ｍに対して線対称になっていると共に、ウエハ１の中心１ａを通りかつウエハ１の挿入方向Ｘと直角方向の線Ｎに対しても線対称になっていると、すべての支持ポイントに等しい荷重がかかり、４本の突起の荷重バランスが良好になる。
　【００３６】
　図１〜７の実施例で使用されている支持部材３の製造方法の一例を説明すると、まず図４に示すように、曲率の大きい断面半円弧状の板状支持部材３を得るように円菅を所定の幅に切断する。例えば、外径Ｒ１が４０ｍｍで、内径Ｒ２が３４ｍｍである円菅を切断して、中心Ｏ１と断面半円弧状の板状支持部材３の両側端との成す角度が約１００度になるようにする。続いて、このような断面半円弧状の板状支持部材３に所定の間隔Ｄ１（例えば１２．７ｍｍ）毎に幅Ｗ１（例えば７ｍｍ）を有しかつ中心Ｏ１からの角度６０〜８０度（図４における距離Ｌ１、例えば３０ｍｍに相当する角度）の範囲にわたって第１スリット７ａをレーザー加工機、高圧ジェット流、フライス、旋盤、ダイヤモンドカッター等の手段を使って開ける。そのとき、断面半円弧状の板状支持部材３の一方の側端面３ａのところに中心Ｏ１から数度の残部３ｂを残す。他端側の残部３ｃは支柱として機能する。
　【００３７】
　次は、その板状支持部材３の残部３ｂに側端面３ａから第１スリット７ａまで幅Ｗ２（例えば３．２ｍｍ）の第２スリット７ｂをダイヤモンドカッターで切り込むことにより、図５に示すようにウエハ支持部分の先端部に狭い面積のウエハ用の支持突起１１を形成する。突起１１の高さＨは、例えば１．９ｍｍである。
　【００３８】
　次は、図１〜７の実施例で使用されている曲率の小さい方の断面半円弧状の板状支持部材４の製造方法の一例を説明する。まず曲率の小さい円菅を所定の幅に切断する。例えば、外径Ｒ３が１７．５ｍｍで、内径Ｒ４が１０ｍｍである円菅を切断して、中心Ｏ２と断面半円弧状の板状支持部材４の両側端との成す角度が約２２５度になるようにする。続いて、前述の断面半円弧状の板状支持部材３に設定した所定の間隔Ｄ１（例えば１２．７ｍｍ）に合わせて、このような断面半円弧状の板状支持部材４に所定の間隔Ｄ２（例えば１２．７ｍｍ）毎に幅Ｗ３（例えば７ｍｍ）及び中心Ｏ２からの角度１８０度の第１スリット８ａをレーザー加工機、高圧ジェット流、フライス、旋盤、ダイヤモンドカッター等の手段を使って開ける。そのとき、両方の側端に中心Ｏ２から見て約２０度の残部４ｂと約４０度の残部４ｃが残る。次に、約２０度の方の残部４ｂに断面半円弧状の板状支持部材４の側端面４ａから第１スリット８ａまで幅Ｗ４（例えば３．２ｍｍ）の第２スリット８ｂをダイヤモンドカッターで切り込むことにより、図７に示すようにウエハ支持部分の先端部分に狭い面積のウエハ用の支持突起１２を形成する。突起１２の高さは、例えば１．９ｍｍであり、突起１２の幅Ｗ５は、例えば約３ｍｍである。
　【００３９】
　断面半円弧状の板状支持部材３、４の４本はスリット７、８を含めてウエハ１の挿入方向Ｘに対して線対称に配置されている。ただし、この発明は、そのような配置例に限定されるものではない。
　【００４０】
　
図８の第２実施例
　図８は、この発明の第２実施例を示している。
　【００４１】
　４本の断面円管状の支持部材１０４を縦方向に互いに平行に配置している。これらの支持部材１０４の上方端部と下方端部にはそれぞれ図１の実施例と同様に固定手段が設けられているが、図示を省略している。これらの支持部材１０４は同一直径のものを使用してもよいが、ウエハ１の挿入始端側に位置する２本の対向する支持部材１０４は、ウエハ１の通路を確保するために大きな直径のものを使用し、ウエハ１の挿入後端側に位置する２本の対向する支持部材１０４は、できるだけ軽量化を図るために小さな直径のものを使用する。機械的強度を考慮して厚みの異なる板状支持部材１０４を使用してもよい。いずれにしても、支持部材１０４は数面係数０．３〜３．０ｃｍ３（好ましくは０．５〜２．５ｃｍ３）のものを使用する。
　【００４２】
　両支持部材１０４には所定の同一間隔で複数のスリット１０８を形成する。例えば、まずウエハ１の挿入始端側に位置する２つの対向する支持部材は、多数の第１スリットを所定の間隔ごとに円管状支持部材５の両側からそれぞれ幅の約２／３まで切り込んで形成する。他方、ウエハ１の挿入後端側に位置する２つの対向する支持部材にも、多数の第１スリットを前述のウエハ１の挿入始端側に位置する２つの対向する支持部材１０４と同一のやり方で支持部材の両側から幅の約３／４まで切り込んで形成する。そのとき２か所に残部を残す。次に、各々の支持部材の一方の端面から第１スリットまで所定の幅（例えば３．２ｍｍ）の第２スリットをダイヤモンドカッターで切り込むことにより、ウエハ支持部分の先端部に狭い面積のウエハ用の支持突起１１２を形成する。突起１１２の高さは、例えば１．９ｍｍであり、突起１２の幅は、例えば約３ｍｍである。
　【００４３】
　これらのスリット１０８によって画成された支持部分の先端部に狭い面積（例えば５〜５０ｍｍ２）の支持突起１１２がウエハ１の外周縁部を超えてウエハ１の中央寄りの部分を支持するように構成する。好ましくは、ウエハ１をボートの所定位置に積載した状態で、前述の支持突起１１２によるウエハ１の支持ポイントは、ウエハ１の中心１ａから同心円状に配置され、その同心円はウエハ１の半径の５０〜９０％の領域Ｐに来るようにし、ウエハ１の支持ポイントが全てウエハ１の外周縁部を超えるように配置する。
　【００４４】
　また、これらの支持突起１１２によるウエハ１の支持ポイントの好ましい配置方法あるいは分配方法は、前述の図１〜７の第１実施例と同様である。
　【００４５】
　なお、図１〜７の実施例でも、また図８の実施例でも、支持部材の製造方法において、第１スリットを形成した後、全ての支持部材を固定手段に固定し、その後で、第２スリットを形成すると、加工面積が少なくなり又、後で加工する為にスリット全体の精度が向上する。
　【００４６】
　また、第１スリット形成後にＳｉを含浸して、そのあと第２スリットを形成することも好ましい。
　【００４７】
　図１〜７に示した直径８インチウエハ用縦型ボートをシリコン単結晶より作製して特性を測定した。
　【００４８】
　表１に示すウエハのたわみ量は、計算機によるシミュレーションとレーザマイクロ計による測定で求めたものである。支持部材を４本使った従来の対応するタイプのボートが３０μｍ以上たわむのに対し、本発明品では５μｍ以下であり、たわみ量が大幅に少ないことが分かった。
　【００４９】
　また、熱処理を行い、ウエハそり、スリップ発生具合も調べた。表２に１０００℃、１００時間酸化後のウエハそり量をレーザマイクロ計で測定した結果を示す。
　【００５０】
　また、表３に熱処理後のスリップ発生具合を示す。いずれも本発明により、改善されているのが分かる。
　【００５１】
　このように、本発明品は従来のボートと比較してウエハのたわみ、そりおよびスリップ発生の低減に効果が認められた。特にスリップ発生の抑制効果は大きく、突起を有することによってボート支柱との接触を避けたことが大きな要因となっている。
【図面の簡単な説明】
　【図１】
　この発明の第１実施例による縦型ボートの概略を示す、図２のＩ−Ｉ線に沿った断面図。
　【図２】
　図１の縦型ボートの概略を示す正面図。上方領域と下方領域のスリットのみが代表的に示してあるだけで、中間領域のスリットは図の簡略を図るために省略してある。
　【図３】
　図１の縦型ボートの概略を示す左側面図。図２と同様に、上方領域と下方領域のスリットのみが代表的に示してあるだけで、中間領域のスリットは図の簡略を図るために省略してある。
　【図４】
　図１の縦型ボートの曲率の大きい支持部材の製造過程を示す図であり、（Ａ）は支持部材の一部を（Ｂ）の左側から見た図であり、（Ｂ）は（Ａ）のＩＶ−ＩＶ線に沿った断面図である。
　【図５】
　図１の縦型ボートの支持部材を示す図であり、（Ａ）は支持部材の一部を（Ｂ）の左側から見た図であり、（Ｂ）は（Ａ）のＶ−Ｖ線に沿った断面図である。
　【図６】
　図１の縦型ボートの曲率の小さい支持部材の製造過程を示す図であり、（Ａ）は支持部材の一部を（Ｂ）の左側から見た図であり、（Ｂ）は（Ａ）のＶＩ−ＶＩ線に沿った断面図である。
　【図７】
　図１の縦型ボートの曲率の小さい支持部材を示す図であり、（Ａ）は支持部材の一部を（Ｂ）の左側から見た図であり、（Ｂ）は（Ａ）のＶＩＩ−ＶＩＩ線に沿った断面図である。
　【図８】
　この発明の第２実施例による縦型ボートの一部を示す、図１の該当部分の図に対応する断面図。
　【符号の説明】
　１　ウエハ
　１ａ　ウエハの中心
　３、４、１０４　支持部材
　７、８、１０８　スリット
　７ａ、８ａ　第１スリット
　７ｂ、８ｂ　第２スリット
　１１、１２、１１２　支持突起
　【表１】
　【表２】
　【表３】