【事件の表示】
　特許第３３３２２５７号「真空処理装置」の請求項１、３ないし５に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第３３３２２５７号の請求項１、３〜５に係る特許を維持する。
【理　由】
１．本件発明
　特許第３３３２２５７号（平成５年１月２３日出願、平成１４年７月２６日設定登録）の請求項１〜５に係る発明は、その特許請求の範囲の請求項１〜５に記載されたとおりのものであると認められるところ、そのうち請求項１に係る発明（以下、適宜「本件発明１」という）は、次のとおりである。
「【請求項１】　減圧された内部空間で、基板のみを、この基板の一方の面側に配置された加熱器で加熱し、前記基板の他方の面を処理する真空処理装置において、前記基板の前記他方の面側に前記基板と同じ材質で作られた輻射熱反射部材を設置すると共に、前記加熱器の温度を検出する温度検出器を配置し、この温度検出器の検出信号に基づき前記基板の温度を制御する帰還制御装置を設けることを特徴とする真空処理装置。」
２．申立て理由の概要
　特許異議申立人は、証拠方法として甲第１〜５号証を提出して、次の理由により、本件請求項１に係る発明の特許は取り消されるべきものである旨主張している。
　理由１−１：本件請求項１、３〜５に係る発明は、甲第１号証に記載された発明であるから、特許法第２９条第１項第３号の規定により特許を受けることができない。
　理由１−２：本件請求項１、３〜４に係る発明は甲第１〜２号証に記載された発明に基いて、本件請求項５に係る発明は甲第１〜４号証に記載された発明に基いて、それぞれ当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項に該当し、特許を受けることができない。
　理由２：本件明細書の記載が不備であるから、本件出願は特許法第３６条第４項または第５項に規定する要件を満たしていない。
３．甲第１〜４号証の記載内容
　甲第１号証：特公平４−９８７２号公報
　甲第１号証には、第２頁右欄第２７行〜第３頁左欄第８行、第３頁右欄第１０〜２３行、第３頁右欄第３９行〜第４頁左欄第２行及び第１図の記載によれば、「アルミニウム等からなる円筒状の容器内に円筒状基体であるアルミニウムシリンダーとその内周面側に抵抗発熱体とを配置し、容器内を所定の真空度まで減圧し、基体を抵抗発熱体で所望温度に加熱制御しながら、容器に高周波電力を供給してグロー放電を生起せしめ、堆積膜を形成する堆積膜形成装置」という発明（以下、適宜「甲１発明」という）が記載されていると云える。
　甲第２号証：特開昭６３−２５９０８１号公報
　甲第２号証には、特許請求の範囲第１項の記載によれば、「電極の温度を一定温度に制御するため、温度測定装置とヒータの電源とをフィードバック制御する温度制御装置を備えたプラズマＣＶＤ装置」が記載されていると云える。
　甲第３号証：特開昭６４−８１２３１号公報
　甲第３号証には、第３頁左下欄第５行〜右下欄第８行の記載によれば、「ＭＢＥ法による成長装置において、成長圧力を１０−４Ｔｏｒｒにする」ことが記載されていると云える。
　甲第４号証：特開平３−２５５６２０号公報
　甲第４号証には、第５頁左上欄第４〜９行及び右上欄の表の記載によれば、「成長圧力１×１０−４ｔｏｒｒで選択的ヘテロエピタキシヤル成長を行う」ことが記載されていると云える。　
４．対比・判断
４−１．申立て理由１−１及び１−２について
（１）請求項１に係る発明について
　本件発明１と甲１発明とを対比すると、甲１発明の「抵抗発熱体」は本件発明１の「加熱器」に相当し、また、甲１発明の「堆積膜形成装置」は真空下において堆積膜の形成処理をしているから「真空処理装置」と云え、その処理は円筒状容器とその内部の円筒状基体との間にグロー放電を生起させて行っているから、膜が堆積する処理面は円筒状基体の外周面であることは明らかである。さらに、甲１発明は基体を加熱制御しているからそのための温度制御装置を備えていることは明らかである。よって、両者は「減圧された内部空間で、被処理体を、この被処理体の一方の面側に配置された加熱器で加熱し、前記被処理体の他方の面を処理する真空処理装置において、前記被処理体の温度を制御する制御装置を設けた真空処理装置」である点で一致し、先ず次の点で相違している。
　相違点：本件発明１は加熱器の温度を検出する温度検出器を配置し、この温度検出器の検出信号に基づき基板の温度を制御するのに対し、甲第１号証は、基体を所望温度に加熱制御しているものの、抵抗発熱体の温度を検出してその検出信号に基づき基板の温度を制御することは記載されていない点。
　上記相違点について、新規性の面から検討する。
　相違点に挙げた本件発明１の構成である「加熱器の温度を検出し、その検出信号に基づき基板の温度を制御する」点は本件出願前周知乃至は自明の事項とは認められない。よって、本件発明１が甲第１号証に記載された発明であるとすることができない。
　次に進歩性の面から検討する。
　甲第２号証には温度をフィードバック制御（本件発明１の「帰還制御」に相当する）することは記載されているが、その温度制御を加熱器の温度検出信号に基づいて行うことは記載乃至示唆されていない。また、甲第３〜４号証には真空処理における成長圧力が記載されているのみであり、前記した本件発明１の構成を示唆するものはない。そして、本件発明１は、前記構成により基板の表面状態の差異の影響を受けることなく基板温度を再現性よく制御することができる（明細書段落【００３５】）という顕著な効果を奏するものである。したがって、本件発明１が甲第１〜４号証に記載された発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものとすることができない。
（２）請求項３〜５に係る発明について
　請求項３〜５に係る発明は請求項１に係る発明を引用し、前記した本件発明１の構成を有するものであるから、請求項３〜５に係る発明も、前項と同じ理由により、甲第１号証に記載された発明であるとも、甲第１〜４号証に記載された発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものともすることができない。
４−２．申立て理由２について
（１）異議申立人は、本件発明１において、輻射熱反射部材を「適切な間隔で」設置することは特徴点であり、それが特定されていない「基板の前記他方の面側に…輻射熱反射部材を設置する」の記載は不明瞭である旨、主張している。
　そこで検討するに、本件明細書段落【００２９】及び【図７】によれば、輻射熱反射部材を適切な間隔で設置すると顕著な作用効果を奏するが、その範囲外でも必要に応じて使用できることが記載されている。そして、そもそも本件発明１は、上記４−１．（１）で述べたように、「加熱器の温度を検出し、その検出信号に基づき基板の温度を制御する」点により顕著な効果を奏し、特許性を有するものである。してみれば、「適切な間隔で」が必須の構成とは云えず、不明瞭な記載とも云えない。
（２）同じく、請求項４に係る発明の構成である「疑似黒体炉の形成」については、当業者が容易に実施できる程度に記載されていない旨、主張している。
　そこで検討するに、本件明細書の全趣旨からみて明細書段落【００２９】及び【図７】に特定条件下における疑似黒体炉の形成について記載されているものと認められる。そして、特定条件以外の場合も前記記載を参酌してその条件に応じて実験等により当業者が適宜疑似黒体炉を形成できるものと認める。
（３）同じく、請求項５に係る発明のソースガスが供給される際の内部圧力に関しては「熱伝導を起こさない程度の圧力」と記載されているだけで、具体的な数値が示されていないから、不明瞭である旨、主張している。
　そこで検討するに、この点に関して本件明細書段落【００１６】に具体的な数値を示して説明されているから、異議申立人の主張は採用できない。
５．むすび
　以上のとおり、特許異議申立ての理由及び証拠方法によっては、本件請求項１、３〜５に係る発明の特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件請求項１、３〜５に係る発明の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１６年６月１５日（２００４．６．１５）