【事件の表示】
　特許第３２３５６８５号「脱酸素剤入り包装用材料」の請求項１、２に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第３２３５６８５号の請求項１、２に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続きの経緯
　本件特許第３２３５６８５号の請求項１〜２に係る発明についての出願は、平成５年１月１１日に出願され、平成１３年９月２８日にその設定登録がなされ、その後、その請求項１〜２に係る発明の特許について、特許異議申立人三菱化学株式会社より特許異議の申立てがなされ、取消理由が通知され、その指定期間内である平成１６年６月２９日に特許異議意見書が提出されたものである。
　
２．本件発明
　本件特許第３２３５６８５号の請求項１〜２に係る発明（以下、それぞれ「本件発明１」〜「本件発明２」という。）は、特許明細書の特許請求の範囲の請求項１〜２に記載された事項により特定される次のとおりのものである。
　
【請求項１】 プラスチック基材と該プラスチック基材の少なくとも片面に設けられた酸化珪素系薄膜層とからなるガスバリア性を有する包装材料において、該薄膜の比重が１．８０〜２．２０であることを特徴とする脱酸素剤入り袋用包装用材料。
【請求項２】 薄膜層上に、さらにヒートシール層が設けられている請求項１記載の脱酸素剤入り袋用包装用材料。
　
３．特許異議申立てについて
（１）特許異議申立ての理由の概要
　特許異議申立人三菱化学株式会社は、甲第１号証（１の１）（特開平４−１６８０４１号公報）、甲第１号証（１の２）（三菱化学株式会社筑波事業所フィルム技術開発センターの吉田重信が作成した、２００２年５月１６日付けの実験報告書）、甲第２号証（特開平１−２０６０３６号公報）、甲第３号証（特開昭６２−２２９５２６号公報）及び参考資料（伊藤隆司外２名著「電子材料シリーズＶＬＳＩの薄膜技術」、丸善株式会社、平成４年１０月１０日発行、ｐ．４０−４３）を提出し、
［理由１］本件発明１〜２は、甲第１〜３号証に記載された発明に基いて、当業者が容易に発明をすることができたものであり、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであるから、　
［理由２］本件発明の特許は、特許法第３６条第４項に規定する要件を満たしていない特許出願に対してなされたものであるから、　
　本件発明１〜２に係る特許を取り消すべき旨主張している。
　　
（２）取消理由の概要
　当審において通知した、平成１６年４月２６日付け取消理由通知書の取消理由の概要は、本件発明１〜２は、刊行物１（特許異議申立人三菱化学株式会社提出の甲第１号証（１の１））に記載された発明であり、特許法第２９条第１項の規定により特許を受けることができないものであるから、また、本件発明１〜２に係る特許は、特許法第３６条第４項に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものであるから、本件発明１〜２に係る特許は取り消されるべきである、というものである。
　
（３）甲各号証及び参考資料に記載の事項　
　甲第１号証（１の１）
ア．「（１）透明プラスチックフィルムの少なくとも片面に厚さ１００〜５０００Åのケイ素酸化物よりなる蒸着薄膜を有する蒸着フィルムおいて、蒸着薄膜のケイ素単結晶に対するＥＳＣＡ法によるエッチング速度の比が３０倍以下であることを特徴とする蒸着フィルム。
（２）透明プラスチックフィルムの少なくとも片面にケイ素酸化物の薄膜を蒸着して蒸着フィルムを製造するに当り、５×１０−４Ｔｏｒｒ以下の真空下において、次の（Ｉ）式で定義される蒸着速度Ｖ（Å／ｓｅｃ）が１０００〜５０００Å／ｓｅｃの範囲の条件下で真空蒸着することを特徴とする請求項第１項記載の蒸着フィルムの製造方法。
　　
Ｖ＝ （ｔ×ｖ）／ｌ 　　（Ｉ）
　　　
上記（Ｉ）式において、ｔは蒸着されたケイ素酸化物薄膜の厚さ（Å）、ｖは蒸着中のフィルムの走行速度（ｍ／ｓｅｃ）、ｌは蒸着有効長さ（ｍ）を意味する。
（３）請求項第１項記載の蒸着フィルムをガスバリヤ性フィルムとして少なくとも１層含む透明な積層フィルムからなることを特徴とする透明ガスバリヤ性積層フィルム。
（４）少なくとも一方の外表面にヒートシール可能なシーラント層が積層されていることを特徴とする請求項第３項記載の透明ガスバリヤ性積層フィルム。」（請求項１〜４）
イ．「本発明の製造方法においては、真空チャンバー（１）内の圧力を５×１０−４Ｔｏｒｒ以下とし、そして、次の（Ｉ）式で定義されるケイ素酸化物の蒸着速度（Ｖ）を１０００〜５０００（Å／ｓｅｃ）の範囲にすることが重要である。
　
Ｖ＝　（ｔ×ｖ）／ｌ　　（Ｉ）
　　　
　上記（Ｉ）式において、ｔは蒸着されたケイ素酸化物薄膜の厚さ（Å）、ｖは蒸着中のフィルムの走行速度（ｍ／ｓｅｃ）、ｌは蒸着有効長さ（ｍ）を意味する。
　なお、上記の蒸着有効長さは、第１図中の２つの隔板（８）の間の長さである。
そして、上記のような特定の蒸着速度条件下の真空蒸着は、５×１０−４Ｔｏｒｒ以下の真空条件下において、次の（ＩＩ）式で定義される蒸着源収納ルツボに対する加熱用供給電力比（ｗ）が０．０１〜０．０５ｋｗ／ｃｍ２の範囲の条件下で真空蒸着することにより達成される。
　　　 
ｗ＝  Ｗ／ｓ      　　（ＩＩ）
　　　 
　上記（ＩＩ）式において、Ｗは高周波誘導加熱コイル（７）よりルツボ（５）に与えられる加熱用全供給電力（ｋｗ）、ｓはルツボ（５）の全表面積（全側面積と全開口部面積の和）（ｃｍ２）を意味する。
　本発明の製造方法において、好ましい圧力（真空度）は、１×１０−４Ｔｏｒｒ以下であり、また、好ましい加熱用供給電力比（ｗ）は、０．０１５〜０．０４ｋｗ／ｃｍ２の範囲である。
　圧力が５×１０−４Ｔｏｒｒ以上（低真空側）の場合、または、加熱用供給電力比（ｗ）が０．０１ｋｗ／ｃｍ２以下（低加熱電圧）の条件では、上記の（Ｉ）式で定義される蒸着速度（Ｖ）が１０００Å／ｓｅｃ未満となり、・・・ケイ素単結晶のエッチング速度の３０倍以上となり、極めてエッチングされ易い。
　圧力が５×１０−４Ｔｏｒｒ以下（高真空側）の場合、または、加熱用供給電力比（ｗ）が０．０１ｋｗ／ｃｍ２以上（高加熱電圧）の条件では、・・・蒸着速度（Ｖ）が５０００（Å／ｓｅｃ）を超え、その結果、ルツボが破壊されたり、蒸発材料が粒子に飛散してフィルム面にピンホールが発生する。」（第３頁右下欄４行〜第４頁右上欄１０行）
ウ．「透明ガスバリヤ性積層フィルムは、蒸着フィルムの片面にヒートシール可能な・・・シーラント層を積層して構成することができる。」（第４頁右下欄６〜９行）
エ．「〈ＥＳＣＡによるエッチング速度〉
　エッチングは、Ｘ線光電子分光装置・・・を使用し、装置内の真空度が２×１０−５から４×１０−４Ｐａになるまでアルゴンガスを導入し、・・・Ａｒ＋イオンを試料に照射することによって行った。・・・
　そして、ケイ素単結晶のエッチング速度は、・・・エッチング面と非エッチング面の段差を触針式表面粗さ計を用いて測定し、その結果より算出した。
　一方、透明プラスチックフィルム上に形成したケイ素酸化物蒸着薄膜のエッチング速度は、・・・フィルム表面が露出するまで上記のエッチング処理を行い、それに要した時間と予め測定していた蒸着薄膜の厚さから算出した。」（第５頁左上欄１２行〜右上欄１５行）
オ．「実施例１
　第１図に示すような真空蒸着装置を使用して行った。
ルツボ（５）は、口径３．５ｃｍφ、高さ５．３ｃｍ、のルツボ（表面積６８ｃｍ２）のものを使用した。
　二軸延伸されたポリエチレンテレフタレートフィルム・・・をフィルム供給ロール（２）から冷却ロール（３）を経てフィルム巻取りロール（４）に巻き取った。
　そして、真空チャンバー（１）内を１×１０−４Ｔｏｒｒの圧力下に維持し、高周波誘導加熱コイル（７）に２．５ｋｗの電力（加熱電力ｗ＝０．０３７）を供給し、ルツボ（５）内の一酸化ケイ素（純度９９．９％）を加熱蒸発させ、フィルムの片面の１０００Åのケイ素酸化物の透明な蒸着薄膜層を形成させた。得られた蒸着フィルムのケイ素酸化物蒸着薄膜側にシーラント層としてウレタン系接着剤によりポリプロピレンの未延伸フィルム（厚さ５０μ）を積層することにより２層構成の透明積層フィルムを得た。
　上記の積層フィルムの各物性等を測定し、その結果を表−１に示した。
　実施例２〜１０及び比較例１〜３
　表−１に示した条件に従って実施例１と同様の方法により、蒸着フィルムを得、その各物性等を測定し、結果を表−１に示した。」（第５頁左下欄６行〜右下欄１１行、第１図参照）
カ．第６頁上欄の表−１には、実施例、比較例に基づいた蒸着条件、薄膜の特性、積層フィルムの構成、透湿度、酸素透過度及び透明性についての測定データが記載されている。（第６頁上欄表−１）
キ．「以上説明した本発明によれば、ガスバリヤ性・・・に優れた蒸着フィルムが提供され、・・・食品、医薬品、化学薬品などの包装材料として好適に使用することができる」（第６頁左下欄２〜６行）　
　
　甲第１号証（１の２）
ク．「１．実験の目的
　特開平４−１６８０４１号公報、実施例１、実施例２、実施例３、比較例１に記載された酸化珪素を薄膜の比重を本特許（特許第３２３５６８５号）記載の測定方法に従って測定すること。」（第１頁）
ケ．「３．実験方法
（１）蒸着フィルムの作成
ａ）特開平４−１６８０４１号公報の実施例１に従い、該公報の第１図に示す構造の真空蒸着装置を用いて蒸着フィルムを作成した。るつぼ（５）は、口径３．５ｃｍφ、高さ５．３ｃｍのルツボ（表面積６８ｃｍ２）のものを使用した。二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（延伸倍率３×３倍、厚さ２５μｍ）をフィルム供給ロール（２）から冷却ロール（３）を経てフィルム巻取り口一ル（４）に巻き取った。そして、真空チャンバー（１）内を１×１０−４Ｔｏｒｒの圧力下に維持し、高周波誘導加熱コイル（７）に２．５ｋｗの電力（加熱電力ｗ＝０．０３７）を供給した。ルツボ（５）内の一酸化ケイ素（純度９９．９％）を、圧力３×１０−５（Ｔｏｒｒ）、蒸着速度２０００Å／ｓの条件下で加熱蒸発させ、フィルムの片面に膜厚１０００Åのケイ素酸化物の透明な蒸着薄膜層を形成させ、蒸着フィルムを得た。
ｂ）特開平４−１６８０４１号公報の実施例２に基づき、圧力１×１０−４（Ｔｏｒｒ）、蒸着速度２０００Å／ｓ、膜厚１０００Åの蒸着フィルムを得た。
ｃ）特開平４−１６８０４１号公報の実施例３に基づき、圧力５×１０−４（Ｔｏｒｒ）、蒸着速度２０００Å／ｓ、膜厚１０００Åの蒸着フィルムを得た。
ｄ）特開平４−１６８０４１号公報の比較例１に基づき、圧力１×１０−３（Ｔｏｒｒ）、蒸着速度２０００Å／ｓ、膜厚１０００Åの蒸着フィルムを得た。
（２）比重の測定
　本件明細書記載の方法により、上記の蒸着フィルム試料のポリエステルフィルム分を溶解し、薄膜の密度をＪＩＳＫ７１１２に準拠した密度測定法により密度を測定し比重を算出した。
ａ）試料の調整方法
　蒸着フィルムより薄膜の単独膜を採取するため約５ｃｍ２の試料を切り出し、ヘキサフルオロイソプロパノール（ＨＦＩＰ）とクロロホルムを１：１の割合で混合した溶媒に、室温にて３時間程度浸漬して基材のポリエチレンテレフタレートフィルムを溶解した。薄膜のみからなる単独膜の状態とし、密度測定の試料片とした。
ｂ）密度の測定
　四塩化炭素とブロモホルムとを混合した密度勾配管により密度を測定した。比重はＪＩＳ　Ｋ７１１２より、次の式により算出した。
Ｓ＝ρ／Ｋ　ここに　
　　　　　　　　　　Ｓ：ｔ℃における比重
　　　　　　　　　　ρ：ｔ℃における試料の密度
　　　　　　　　　　Ｋ：ｔ℃における水の密度
　　　　　　　　　　４℃の水の密度：０．９９９９７２」（第１〜２頁）
コ．第２頁４．測定結果には、特開平４−１６８０４１号公報の実施例１〜３、比較例１を追試した薄膜の比重がそれぞれ２．１０、１．９５、１．８３、１．７２であることが記載されている。（第２頁）
　
　参考資料
サ．参考資料には、膜の緻密性が下がるとエッチング速度は大きくなることが記載されている。（４２頁）
　
　甲第２号証
シ．「１　プラスチック基材と、該プラスチック基材の片面に設けられた、ケイ素原子と酸素原子の比が１：０.３〜２であるケイ素酸化物の透明薄膜層とからなるバリヤー性を有する透明な脱酸素剤入り包装用包装材料。
２  透明薄膜層上にさらにヒートシール層が設けられている請求項１の記載の脱酸素剤入り包装用包装材料。」（請求項１〜２）
ス．「本発明は脱酸素剤入り包装用包装材料に関する。さらに詳しくは、食品を脱酸素剤と共に封入して包装するための包装材料であって、酸素などに対するバリヤー性がすぐれた透明な包装材料に関する。」（第１頁左下欄下３行〜右下欄２行）
　
　甲第３号証
セ．「１．非磁性基板上に磁性薄膜を有し、前記薄膜上に非磁性保護膜を有し、さらに前記保護膜上にオイル潤滑層を有する磁気記録媒体において：
　前記非磁性保護膜は見掛け密度が１.７０ｇ/ｃｍ３〜２.０５ｇ/ｃｍ３の範囲の酸化シリコンより成る保護膜であることを特徴とする磁気記録媒体。
２．前記非磁性基板は可撓性高分子フィルムであることを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の磁気記録媒体。」（特許請求の範囲１、２項）
ソ．「なお、後述の実施例で明らかなように、酸化シリコン膜の見掛け密度を２．０５ｇ/ｃｍ３以下となるように形成した時には媒体の耐久性は著しく向上し・・・また、酸化シリコン膜の見掛け密度が１．７０ｇ/ｃｍ３以下である場合にはヘッド摺動によりキズが発生し易い傾向にあった。・・・酸化シリコン膜の見掛け密度が１．７０ｇ/ｃｍ３から２．０５ｇ/ｃｍ３の範囲となるように設定すれば、・・・酸化シリコン膜を高周波スバック法によって直接形成することができる。
　次に本発明を実施例について説明する。
　実施例
　ポリエチレンテレフタレートフィルムあるいはポリイミドフィルム上にＣｏ―Ｃｒ垂直磁化膜、あるいはパーマロイとＣｏ―Ｃｒの二層垂直磁化膜を形成し、該媒体上にＳｉＯ２ターゲットを用いて高周波スバッタ法により酸化シリコン膜を３２０Åの厚さに形成した。・・・
　酸化シリコン保護膜の見掛け密度が小さくなるに従って耐久性は向上し、特に見掛け密度が２．０５ｇ/ｃｍ３以下での耐久性の上昇が大きいことがわかる。・・・酸化シリコン膜の見掛け密度１．８０ｇ/ｃｍ３以下になると媒体の耐久性は急激に低下し、見掛け密度が１．７０ｇ/ｃｍ３未満ではキズが発生し易い傾向を示した。
　また、第５図は酸化シリコン保護膜の見掛け密度と耐久性とには強い相関関係があることを示すものであり、酸化シリコン保護膜の見掛け密度が小さくとも１．８０ｇ/ｃｍ３以上の場合には・・・金属媒体の耐久性を高くしていると理解される。」（第４頁右上欄１９行〜第５頁左上欄１９行）
　
４．当審の判断
（４−１）特許異議申立てについての判断
（４−１−１）［理由１］について
（本件発明１について）
　本件発明１（前者）と甲第１号証（１の１）に記載された発明（後者）との対比・検討
　甲第１号証には、上記ア〜キより、プラスチックフィルムの少なくとも片面にケイ素酸化物よりなる蒸着薄膜を有するガスバリヤ性蒸着フィルムが記載され、蒸着フィルムが食品等の包装材料として好適に使用されることが記載されていると認められる。したがって、両者は、
「 プラスチック基材と該プラスチック基材の少なくとも片面に設けられた酸化珪素系薄膜層とからなるガスバリア性を有する包装材料」である点において一致するが、次の点で相違しているものと認められる。
（相違点１）酸化珪素系薄膜の比重が、前者においては、１．８０〜２．２０と特定されているのに対し、後者においては、該薄膜の比重について記載されてない点。
（相違点２）包装材料が、前者においては、脱酸素剤入り袋用であるのに対し、後者においては、脱酸素剤入り袋用として使用することについて明記されてない点。
　まず、相違点１について検討すると、甲第１号証（１の１）において、この相違点１に係る事項が自明の技術的事項であるとも認められず、甲第１号証に記載されているに等しい事項ともいえない。
　一方、甲第２号証には、脱酸素剤入り包装用包装材料のプラスチック基材に設けられるケイ素酸化物のケイ素原子と酸素原子の比について記載されているが（上記シ、ス）、ケイ素酸化物薄膜の比重については記載されておらず、相違点１について記載も示唆もされていない。
　甲第３号証には、見掛け密度が１.７０ｇ/ｃｍ３〜２.０５ｇ/ｃｍ３の範囲の酸化シリコンより成る保護膜を非磁性基板上に形成した磁気記録媒体（上記セ、ソ）が記載されているが、用途が異なり、包装材として用いる記載も示唆もなく、相違点１を示唆するものとはいえない。
　また、相違点１について、特許異議申立人は、甲第１号証（１の２）を提示し、甲第１号証（１の１）の実施例１〜３、比較例１を追試した該甲第１号証（１の２）により、この実施例１〜３のものが同等のものであることが証明されている旨主張する。
　以下、この主張について検討すると、甲第１号証（１の２）には、甲第１号証（１の１）の実施例１〜３、比較例１を追試したとする（上記ケ）測定結果として薄膜の比重（上記コ）は記載されているが、薄膜の透湿度、酸素透過度については測定されておらず、エッチング速度についても実際に測定したものでなく、甲第１号証（１の１）の実施例１〜３、比較例１のデータをそのまま転記したものであり、また、薄膜の比重に影響を及ぼすと推測されるフィルムの走行速度についても何ら記載されていない。
　してみると、甲第１号証（１の２）の実験報告書は、甲第１号証（１の１）の実施例と同一の酸化珪素系薄膜を実施例を忠実に追試して形成したものと認めることはできず、甲第１号証（１の２）の測定結果を直ちには採用することができない。
　したがって、相違点１について、甲第１号証（１の１）に記載も示唆もされていない。
　以上、相違点１は、甲第１〜３号証から当業者が容易に想到し得たものと認めることはできない。
　そして、本件発明１は、この点により本件特許明細書に記載するような作用効果を生じるものであり、他の相違点について検討するまでもなく、本件発明１は、甲第１〜３号証に記載された発明に基いて当業者が容易になし得た発明であるとすることはできない。
　
（本件発明２について）
　本件発明２は、本件発明１を引用し、本件発明１をさらに技術的に限定したものであるから、上記本件発明１について述べたと同趣旨の理由により、甲第１〜３号証に記載された発明に基づいて当業者が容易になし得た発明であると認めることはできない。
　
（４−１−２）［理由２］について
　異議申立人が主張する、本件特許明細書は、特許法第３６条に規定する要件を満たしていないとする理由の概要は、次のとおりである。
　本件明細書には、表１中の薄膜の各比重がどのような製造条件を選択すれば得ることができるのか具体的に記載されておらず、かかる手段は周知のものでもない。　
　例えば、実施例、比較例の薄膜は製造条件が特定されておらず当業者が該実施例、比較例の薄膜を容易に得ることができない。
　そこで、この主張について検討すると、本件特許明細書の段落【００１３】には、電子ビーム蒸着法で、フィルムに酸化硅素系ガスバリア薄膜の形成するときの条件として、加熱源として、電子銃（以下ＥＢ銃）を用い、ＥＢ銃のエミッション電流を０．７〜１．８Ａとし、フィルム送り速度は、３０〜１２０ｍ／ｍｉｎと変化させ、蒸気圧は、酸素ガスの供給量を変え、１×１０−５〜８×１０−３Ｔｏｒｒまで条件を変えたと記載され、このような製造条件の範囲内で本件請求項１に規定する比重の薄膜が形成されることは明らかであり、当業者であれば、本件出願時の技術常識を参酌し、前記製造条件を適宜選択して該比重の薄膜を形成することができるものと認められるから、各製造条件が具体的に例示されていないことを以て、本件特許明細書に記載不備があるとはいえず、異議申立人の前記主張は、採用することができない
　
（４−２）取消理由についての判断
　当審において通知した取消理由（３．（２）取消理由の概要参照）の、本件発明１〜２は、刊行物１に記載された発明であり、特許法第２９条第１項第３号の規定により特許を受けることができない、という取消理由については、上記「（４−１−１）［理由１］について（本件発明１について）」で記載したとおり、本件発明１は、刊行物１に記載された発明でなく、また、本件発明１〜２に係る特許は、特許法第３６条第４項に規定する要件を満たしていない特許出願に対してされたものである、という取消理由については、上記「（４−１−２）［理由２］について」で記載したとおり、本件特許明細書に記載不備がなく、該取消理由はいずれも理由がない。
　
５．むすび
　以上のとおりであるから、特許異議の申立ての理由及び証拠によっては本件発明１〜２に係る特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件発明１〜２に係る特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１６年８月２６日（２００４．８．２６）