【事件の表示】
　特許第３３７２０４６号「メタライジング製品用ポリカーボネート成形材料」の請求項１に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３３７２０４６号の請求項１に係る特許を取り消す。
【理　由】
（１）手続の経緯
　本件特許第３３７２０４６号は、平成３年１２月６日に出願され、平成１４年１１月２２日にその特許の設定登録がなされ、その後、三菱瓦斯化学株式会社より特許異議の申立てがなされ、取消理由通知がなされ、それに対し特許異議意見書とともに、その指定期間内である平成１５年１２月１９日に訂正請求書が提出されたものである。
（２）訂正の適否についての判断
ア、訂正の内容
訂正事項ａ：明細書の特許請求の範囲の訂正
　請求項１を、
「【請求項１】ポリカーボネートの有機溶媒溶液から非溶媒及び／又は貧溶媒を用いて得られるポリカーボネートであって、該ポリカーボネート中に非溶媒及び／又は貧溶媒が残留し、その残留量は１０ppm を越えない量であることを特徴とするメタライジング製品用ポリカーボネート成形材料。」と訂正する。
訂正事項ｂ：明細書の発明の詳細な説明の訂正
ｂ−１：特許明細書の段落【0006】中の
「該ポリカーボネート中に残留する非溶媒及び／又は貧溶媒量が５０ppm 以下である」を、
「該ポリカーボネート中に非溶媒及び／又は貧溶媒が残留し、その残留量は１０ppm を越えない量である」と訂正する。
ｂ−２：特許明細書の段落【0011】及び【0012】中の
「非溶媒及び／又は貧溶媒量の含有量が５０ppm 以下の」を、
「非溶媒及び／又は貧溶媒の残留量が１０ppm を越えない量の」と訂正する。
イ、訂正の適否
　訂正事項ａは、特許請求の範囲の請求項１において、非溶媒及び／又は貧溶媒の含有量を「５０ppm以下」から「１０ppmを越えない量」に限定するものであり、その根拠は、明細書の実施例の記載に基づくものであるから、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内において特許請求の範囲を減縮するものと認められる。
　訂正事項ｂ（ｂ−１及びｂ−２）は、発明の詳細な説明の訂正であり、特許請求の範囲の訂正である訂正事項ａに伴い、発明の詳細な説明において整合性を保つための訂正であり、不明瞭な記載の釈明と認められ、訂正事項ａと同様に、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内のものと認められる。
　また、上記訂正事項ａ及びｂは、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。
　よって、上記訂正は、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第６条第１項の規定によりなお従前の例によるとされる、特許法第１２０条の４第３項で準用する平成６年法律第１１６号による改正前の特許法第１２６条第１項ただし書、第２項及び第３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
（３）特許異議の申立てについての判断
ア、訂正明細書の請求項１に係る発明
　訂正明細書の請求項１に係る発明（以下、「本件発明」という。）は、その特許請求の範囲の請求項１に記載された事項により特定される次のとおりのものと認める。
「【請求項１】ポリカーボネートの有機溶媒溶液から非溶媒及び／又は貧溶媒を用いて得られるポリカーボネートであって、該ポリカーボネート中に非溶媒及び／又は貧溶媒が残留し、その残留量は１０ppm を越えない量であることを特徴とするメタライジング製品用ポリカーボネート成形材料。」
イ、引用刊行物
　当審が通知した取消理由に引用した刊行物１（特開平１−１４９８２７号公報：特許異議申立人提出甲第１号証）には、　次のとおりの記載が認められる。
「１　水分0.5〜10.0重量％、有機溶媒0.1〜5.0重量％を含み、かつ乾燥した場合の粒子中の80メッシュ以下の粒子が、５重量％以下、10メッシュ以上の粒子が５重量％以下であるポリカーボネート樹脂の湿潤粉末をそのままベント付押出機に供給してガス抜きをしながら押出し、残存有機溶媒50ppm以下とすることを特徴とする低ダストポリカーボネート樹脂成形材料の製造法．」（特許請求の範囲請求項１）
「一方、光学用材料としてのポリカーボネート樹脂は、ダストは極力少ないものがよく、また、溶媒の残存は、記録膜の密着強度劣化や腐食の原因となるものであるので通常５０ppm以下にすることが必要である。」（第２頁左上欄７〜１１行）
「上記した本発明のポリカーボネート樹脂の湿潤粉末は、好適には精製されたポリカーボネート樹脂の良溶媒溶液にポリカーボネート樹脂の非或いは貧溶媒を沈澱が生じない程度添加してなる液を温水中に滴下し、適宜湿式粉砕をしながら溶媒を留去する所謂『温水滴下法』、又は通常の沈澱法で得た良溶媒及び非或いは貧溶媒を含む湿潤粉末を温水中で処理し、溶媒を留去しつつ適宜湿式粉砕をする『沈澱温水処理法』で製造されるものである。」（第３頁左上欄１２行〜同右上欄１行）
「光ディスクの製造および信頼性評価．
  上記のペレットを使用し、射出成形して片面に螺旋状のグルーブをもつ厚み1.2mm、直径130mmのデータファイル用光ディスク基板を得た。
  この基板上にTe−Fe−Co系記録膜を300〜500Å蒸着し、記録膜上には光硬化型のアクリル系樹脂をコートし、紫外線で硬化させた。」（第５頁左上欄８〜１４行）
「以上、本発明の乾燥工程を省いたポリカーボネート樹脂成形材料は、ダストの増加も乾燥機を使用する場合には原料湿潤粉末のダスト数に対して得されたペレット中のダスト数が５〜10倍以上増加しているにも関わらず殆どないものであり、かつ、残存有機溶媒が50ppm以下を十分に満足するものであることから、成形ディスク中の欠点数が少ない等の特性が改良され、光学用の材料として極めて好適に使用できるものである。」（第６頁右下欄下から３行〜第７頁左上欄６行）
ウ、対比・判断
　本件発明と刊行物１に記載された発明とを対比する。
　刊行物１のポリカーボネート成形材料は、データファイル用光ディスク基板とし、さらに、Te−Fe−Co系記録膜を蒸着するものであるから、本件発明のメタライジング製品用ポリカーボネート成形材料に相当し、製造方法も本件発明と同じ方法が記載されているから、両者は、ポリカーボネートの有機溶媒溶液から非溶媒及び／又は貧溶媒を用いて得られるポリカーボネートであって、該ポリカーボネート中に非溶媒及び／又は貧溶媒が残留し、その残留量が少ないメタライジング製品用ポリカーボネート成形材料である点で一致し、本件発明では、その残留量を１０ppmを超えない量とするのに対し、刊行物１では、５０ppm以下としている点で相違するものと認められる。
　そこで、上記相違点について検討する。
　刊行物１には、残存溶媒が記録膜の密着強度の劣化や腐食の原因となることが記載されており、残存溶媒が少ないほうが良いことが示されており、その目的・効果において、本件発明と刊行物１では同じであると認められる。そして、その残留溶媒の低減方法も本件発明と同じ方法が記載されており、刊行物１においても、本件発明の１０ppmを超えない量とすることは可能と認められる。
　そうであるならば、単に残留量の上限値をどこにするかの相違に過ぎず、そういった上限値を設定する程度のことは当業者が適宜なし得ることに過ぎないものと言わざるを得ない。
　特許権者は、意見書の中で、刊行物１からはｎ−ヘプタンの残留量を１０ppm以下に低減しても欠点数を少なくするという効果は発現されないと主張している。
　しかしながら、特許権者も認めるように、刊行物１では最小欠陥に着目しているのに対し、本件発明ではより大きなエラーを測定している結果からそうなったというのであって、測定方法自体に本件発明の本質があるとは言えないし、また、刊行物１のほうがさらに厳しい要件で測定されていることから見ても、本件発明のほうが予想される程度を大幅に越えた作用効果であるとも言えない。
（４）むすび
　以上のとおりであるから、本件発明は、上記刊行物１に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであり、本件発明の特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものである。
　よって、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第１４号の規定に基づく、特許法等の一部を改正する法律の施行に伴う経過措置を定める政令（平成７年政令２０５号）第４条第２項の規定により、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１６年１月７日（２００４．１．７）
【訂正の要旨】
審決（決定）の【理由】欄参照。
（５４）【発明の名称】
メタライジング製品用ポリカーボネート成形材料
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　ポリカーボネートの有機溶媒溶液から非溶媒及び／又は貧溶媒を用いて得られるポリカーボネートであって、該ポリカーボネート中に非溶媒及び／又は貧溶媒が残留し、その残留量は１０ｐｐｍを超えない量であることを特徴とするメタライジング製品用ポリカーボネート成形材料。
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【産業上の利用分野】
　本発明は真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等の所謂乾式メタライジング用製品を製造するに適したポリカーボネート成形材料に関するものである。
　【０００２】
　【従来の技術】
　従来、界面縮合反応で得られたポリカーボネートの有機溶媒溶液からポリカーボネートパウダーを得る方法として、攪拌下の温水中又はポリカーボネートパウダーの温水スラリー中にポリカーボネートの有機溶媒溶液を投入して有機溶媒を除去してパウダー化する方法が知られている。しかしながら、この方法で得られるパウダーには、充分に乾燥してもなお有機溶媒が相当量残留する。有機溶媒としては低沸点のハロゲン系炭化水素特に塩化メチレンが広く使用されており、かかる塩化メチレンが相当量残留するポリカーボネートをメタライジング用製品の製造に用いると、ヒートサイクルテストにおいて蒸着膜に膨れ、剥離等の密着不良、割れ等が発生したり、湿熱処理による腐食テストにおいては膜の腐食、ピンホール、膨れ、剥離等が発生し易い。更にメタライジングの際、所定真空度到達時間が長くなり、生産効率が悪くなる欠点もある。
　【０００３】
　有機溶媒残留量の少ないポリカーボネートパウダーの製造法として、攪拌下の温水中又は温水スラリー中にポリカーボネートの有機溶媒溶液と共に非溶媒又は貧溶媒を投入し、有機溶媒を除去してパウダー化し、得られたパウダーを乾燥する方法が知られている。この方法によれば、有機溶媒残留量を著しく減少させることができる。しかしながら、この方法で得られたポリカーボネートを用いてもなおメタライジング製品の密着性は不充分である。
　【０００４】
　【発明が解決しようとする課題】
　本発明は密着性、耐久性、作業性に優れたメタライジング用製品を製造するに適したポリカーボネート成形材料を提供することを目的とする。
　【０００５】
　本発明者は、非溶媒又は貧溶媒添加法で得られる低沸点ハロゲン系有機溶媒含量の低減されたポリカーボネートを用いて上記目的を達成せんとして鋭意検討した結果、非溶媒又は貧溶媒は沸点が比較的高いため樹脂中に残留し易いこと、及びこの残留した非溶媒又は貧溶媒がメタライズポリカーボネート製品の密着性、耐久性等の性能を低下させることを見出し、更に検討を重ねて本発明に到達したものである。
　【０００６】
　【課題を解決するための手段】
　本発明は、ポリカーボネートの有機溶媒溶液から非溶媒及び／又は貧溶媒を用いて得られるポリカーボネートであって、該ポリカーボネート中に非溶媒及び／又は貧溶媒が残留し、その残留量は１０ｐｐｍを超えない量であることを特徴とするメタライジング製品用ポリカーボネート成形材料に係るものである。
　【０００７】
　本発明でいうポリカーボネートは、二価フェノールのアルカリ水溶液とホスゲンを有機溶媒の存在下反応させて製造されるものであり、これにジカルボン酸成分を共重合させたポリエステルカーボネートであってもよい。ポリカーボネートの重合度は特に限定する必要はなく、粘度平均分子量で通常１２０００〜５００００であり、特に１４０００〜３５０００が好ましい。更に、二種以上の分子量水準のポリカーボネートの混合物、例えば粘度平均分子量が８００００以上の超高重合度のポリカーボネートと通常の分子量のポリカーボネートとの混合物であってもよい。
　【０００８】
　ここで用いる二価フェノールとしては２，２−ビス（４−ヒドロキシフエニル）プロパン［通称ビスフェノールＡ］が主として用いられるが、その一部又は全部を他の二価フェノールで置換えてもよい。他の二価フェノールとしては、例えばビス（４−ヒドロキシフエニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ケトン、４，４′−ジヒドロキシジフェニル、ハイドロキノン、２，６−ジヒドロキシナフタレン等があげられる。またフェニル基に低級アルキル基又はハロゲン原子が置換された二価フェノールであってもよい。また例えば三官能以上の多官能性芳香族化合物を二価フェノール及びホスゲンと反応させた分岐ポリカーボネートであってもよい。
　【０００９】
　二価フェノールのアルカリ水溶液に用いるアルカリとしては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の強塩基性水酸化物が好ましい。これらの塩基性水酸化物は通常水溶液として用いられ、その濃度は通常５〜１０重量％である。また塩基性水酸化物の使用量は、二価フェノールに対する理論量である２倍モルよりやや過剰になる量が好ましく、二価フェノールに対して２．２〜３．０倍モルが好ましい。
　【００１０】
　有機溶媒としては、例えば塩化メチレン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、１，１，２−トリクロロエタン、テトラクロロエタン等のハロゲン化脂肪族炭化水素があげられるが、工業的には塩化メチレンが好ましく使用される。また末端停止剤として、例えばフェノール、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２，４，６−トリブロモフェノールの如き一価フェノール等を用いてもよい。
　【００１１】
　本発明の成形材料は、二価フェノールのアルカリ水溶液とホスゲンを有機溶媒の存在下反応させて得られるポリカーボネートの有機溶媒溶液から、有機溶媒を除去してポリカーボネートパウダーを得る際に、非溶媒及び／又は貧溶媒を用いて有機溶媒含有量を著しく減少させたポリカーボネートであって且つ非溶媒及び／又は貧溶媒の含有量が１０ｐｐｍを超えない量のものである。
　【００１２】
　ポリカーボネートの有機溶媒溶液から、非溶媒及び／又は貧溶媒を用いて非溶媒及び／又は貧溶媒の含有量が１０ｐｐｍを超えない量のポリカーボネートを製造する方法としては、例えば（１）ポリカーボネートの有機溶媒溶液を高温の熱水中に投入して急激に溶媒を除去し、大部分の有機溶媒を除去したポリカーボネートパウダーと熱水の混合スラリー中に非溶媒及び／又は貧溶媒を添加攪拌した後分離し、乾燥する方法、（２）予めポリカーボネートの有機溶媒溶液に非溶媒及び／又は貧溶媒を投入し、この溶液を高温の熱水中に投入して急激に溶媒を除去した後分離し、乾燥する方法、（３）ポリカーボネートの有機溶媒溶液と非溶媒及び／又は貧溶媒を別々に高温の熱水中に投入して急激に溶媒を除去した後分離し、乾燥する方法等によって得られる。ここでいう高温とは５０℃以上、好ましくは６０〜１００℃であり、かかる高温の熱水中にポリカーボネートの有機溶媒溶液を投入して急激に溶媒を除去する方法は、得られるポリカーボネートパウダーは多孔性であって、見掛けの比重が小さく、取扱性がよくないために顧みられなかったものである。
　【００１３】
　ここで用いる非溶媒及び貧溶媒は、ポリカーボネート溶液に用いた有機溶媒に可溶で且つポリカーボネートを溶解しないか、僅かに溶解するものである。例えばｎ−ヘプタン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、酢酸ブチル等のエステル類、アセトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類があげられる。これらは単独でも、また二種以上の混合溶液であってもよい。
　【００１４】
　かくして得られるパウダーは有機溶媒を殆ど含まず、非溶媒及び貧溶媒の残留量も大幅に低減されており、そのまま又はペレットにして成形に供することができ、得られた製品にメタライジングしたものは極めて優れた密着性、耐久性を示し、更に生産性も良好である。
　【００１５】
　上記ポリカーボネートを用いてメタライジング用製品を成形するに際して、ポリカーボネートに、必要に応じて添加剤、例えば酸化防止剤、帯電防止剤、離型剤、滑剤、光安定剤、紫外線吸収剤等を添加してもよく、また例えばポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ＡＳ樹脂、ＡＢＳ樹脂、ポリエステル、ポリフェニレンオキサイド、ナイロン等の如き他の熱可塑性樹脂を混合してもよい。
　【００１６】
　【実施例】
　以下実施例をあげて更に説明する。なお、実施例中の部は重量部を示し、％は重量％を示す。また残留溶媒の定量分析、蒸着、ヒートサイクルテストは下記の方法で行った。
　【００１７】
　（ａ）ポリカーボネート中の残留塩化メチレン、非溶媒又は貧溶媒の定量分析はガスクロマトグラフ［（株）日立製作所製２６３型］を用いた。なお、カラム充填剤はジオクチルセバケート（略称ＤＯＳ）である。
　【００１８】
　（ｂ）蒸着は成形品を容積量約１００リットルの真空蒸着装置で実施した。アルミニュームターゲットの加熱は抵抗加熱方式であり、装置内の真空度が１×１０−５トールに到達後２０秒間蒸着し、膜厚が約６００オングストロームのアルミニュームを蒸着した。
　【００１９】
　（ｃ）ヒートサイクルテストは、ヒートサイクルを４０回繰り返した後膨れ、剥離等の欠点を光学顕微鏡にて調べた。なおヒートサイクルの１サイクルは、高温（８５℃）で２時間保持した後室温（２０〜２７℃）に１時間放置し、更に低温（−１０℃）で２時間保持した後室温（２０〜２７℃）に１時間放置した。
　【００２０】
　【実施例１】
　ホスゲン吹込管、温度計及び攪拌機を備えたステンレス製反応器に、４８．５％の水酸化ナトリウム水溶液９．３２部、水４６．６５部、ハイドロサルファイト０．０３部、ビスフェノールＡ１１．８３部及び塩化メチレン３９．３部を投入し、攪拌溶解した。溶解後攪拌下液温を２２±２℃に保持しつつホスゲン５．９０部を６０分間かけて吹込み反応させた。吹込み終了後攪拌下ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール０．５１部、４８．５％の水酸化ナトリウム水溶液１．３２部及びトリエチルアミン０．０２部を加え、液温を３０〜３３℃に保持しながら６０分間攪拌して重合を終了した。反応終了後、更に塩化メチレン４０．０部を加えて攪拌した後静置して塩化メチレン層と水層を分離した。分離した塩化メチレン溶液に、３５．５％の塩酸０．０７部及び水２０．０部を加え、攪拌後静置して塩化メチレン層を分離し、更に、分離した塩化メチレン溶液を充分に水洗した。
　【００２１】
　この溶液にｎ−ヘプタン５．０部を加え、ニーダーの内温を７５℃に維持しつつ投入攪拌してポリカーボネートパウダーを得た。このパウダーを防爆型熱風乾燥機により１４０℃で８時間乾燥した後、ベント付溶融押出機によりペレット化した。このペレットの粘度平均分子量は１５５００、塩化メチレン含有量は１ｐｐｍ以下、ｎ−ヘプタン含有量は１０ｐｐｍであった。このペレットを１２０℃で６時間乾燥した後射出成形機［住友重機（株）製ＤＩＳＫ５Ｍ３］によりシリンダ温度３３０〜３５０℃、金型温度８０〜１２０℃に設定し直径８６ｍｍ、厚さ１．２ｍｍのディスク板を成形した。このディスク板に前記条件で真空蒸着し、ヒートサイクルテストしたところ欠点数は０個であった。
　【００２２】
　【比較例１】
　ニーダーの内温を４５℃に維持する以外は実施例１と同様にしてポリカーボネートパウダーを得、以下実施例１と同様にペレット化し、射出成形し、真空蒸着した。ペレットの粘度平均分子量は１５５００、塩化メチレン含有量は１ｐｐｍ以下、ｎ−ヘプタン含有量は８０ｐｐｍであった。また真空蒸着ディスク板のヒートサイクルテスト後の膜の欠点数は２８個であった。
　【００２３】
　【実施例２】
　実施例１と同様にして得た精製したポリカーボネートの塩化メチレン溶液にアセトン５．０部を加え、ニーダーの内温を７５℃に維持しつつ投入してポリカーボネートパウダーを得た。このパウダーを防爆型熱風乾燥機により１４０℃で６時間乾燥した後、ベント付溶融押出機によりペレット化した。このペレットの粘度平均分子量は１５５００、塩化メチレン含有量は１ｐｐｍ以下、アセトン含有量は５ｐｐｍであった。実施例１と同様にしてディスク板を成形し、真空蒸着し、ヒートサイクルテストした。ヒートサイクルの後の欠点数は０個であった。
　【００２４】
　【比較例２】
　ニーダーの内温を４５℃に維持する以外は実施例２と同様にしてポリカーボネートパウダーを得た。このパウダーを熱風乾燥機により１４０℃で６時間乾燥した後、ベント付溶融押出機によりペレット化した。このペレットの粘度平均分子量は１５５００、塩化メチレン含有量は１ｐｐｍ以下、アセトン含有量は１００ｐｐｍであった。実施例１と同様にしてディスク板を成形し、真空蒸着し、ヒートサイクルテストした。ヒートサイクルの後の欠点数は２９個であった。
　【００２５】
　【実施例３】
　実施例１と同様にして得た精製したポリカーボネートの塩化メチレン溶液にクロルベンゼン１０部を加え、ニーダーの内温を８０℃に維持しつつ投入してポリカーボネートパウダーを得た。このパウダーを防爆型熱風乾燥機により１４０℃で１０時間乾燥した後、ベント付溶融押出機によりペレット化した。このペレットの粘度平均分子量は１５５００、塩化メチレン含有量は１ｐｐｍ以下、クロルベンゼン含有量は４０ｐｐｍであった。実施例１と同様にしてディスク板を成形し、真空蒸着し、ヒートサイクルテストした。ヒートサイクルの後の欠点数は１個であった。
　【００２６】
　【比較例３】
　ニーダーの内温を４５℃に維持する以外は実施例３と同様にしてポリカーボネートパウダーを得た。このパウダーを熱風乾燥機により１４０℃で１０時間乾燥した後、ベント付溶融押出機によりペレット化した。このものの粘度平均分子量は１５５００、塩化メチレン含有量は１ｐｐｍ以下、クロルベンゼン含有量は３００ｐｐｍであった。実施例１と同様の条件でディスク板を成形し、真空蒸着し、ヒートサイクルテストした。ヒートサイクルの後の欠点数は５３個であった。
　【００２７】
　【比較例４】
　精製したポリカーボネートの塩化メチレン溶液にｎ−ヘプタンを加えず、ニーダーの内温を４５℃に維持する以外は実施例１と同様にしてポリカーボネートパウダーを得、以下実施例１と同様にペレット化し、射出成形し、真空蒸着した。ペレットの粘度平均分子量は１５５００、塩化メチレン含有量は１００ｐｐｍであった。また真空蒸着ディスク板のヒートサイクルスト後の膜の欠点数は１００個以上であった。
　【００２８】
　以上の結果をまとめて表１に示す。なお表１中のペレット残留溶媒量の欄のＭＣは塩化メチレンを意味する。
　【００２９】
　【表１】
　【００３０】
　【発明の効果】
　本発明のポリカーボネート成形材料を用いて得られる製品に真空蒸着等のドライメタライジングしたものは密着性、耐久性に極めて優れており、その奏する工業的効果は格別なものである。