【事件の表示】
　特許第３３６０３６３号「レジスト被膜の形成法」の請求項１に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第３３６０３６３号の請求項１に係る特許を維持する。
【理　由】
１　手続の経緯
　本件特許第３３６０３６３号は、平成５年６月３０日に出願され、平成１４年１０月１８日にその発明について特許の設定登録がなされた。
　本件特許掲載公報は、平成１４年１２月２４日に発行され、その特許に対して、鈴木三男より特許異議の申立がなされた。
　
２　特許異議申立について
２−１　本件発明
　本件請求項１に係る発明（以下、「本件発明」という。）は、特許請求の範囲の請求項１に記載された次のとおりのものである。
「【請求項１】　アルカリ可溶性樹脂、感放射線化合物および溶剤を含有する、固形分濃度が２０〜４０重量％の感放射線組成物（但し、パターニング後の加熱処理により耐熱性および耐薬品性を付与させる熱硬化剤を含有しない）を、８インチのシリコンウエハーまたはアルミニウムもしくは窒化ケイ素で被覆されたウエハー上にスピンコートし、その際上記溶剤として乳酸エチルおよび乳酸メチルよりなる群から選ばれる少なくとも１種の乳酸アルキルエステルと酢酸ブチルおよび酢酸エチルよりなる群から選ばれる少なくとも１種の酢酸エステルとの混合溶媒を使用して、最も厚い膜厚と最も薄い膜厚との差が３１．１Å以下であるレジスト被膜を上記ウエハー上に形成する、ことを特徴とするレジスト被膜の形成法。」
　
２−２　特許異議申立の理由の概要
　特許異議申立人は、
甲第１号証　特開平５−１９４６２号公報
甲第２号証　特開平５−３４９１８号公報
甲第３号証　特開昭６２−１２３４４４号公報
甲第４号証　特開昭６３−１７８２２８号公報
甲第５号証　特許第３３６０３６８号公報
甲第６号証　特願平５−８６９１３号出願の願書に最初に添付された明細書及び図面（特開平６−２７３９２９号公報をもって代える）
を提出して、
（１）本件発明は、甲第１号証ないし甲第４号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項に規定により特許を受けることができないものであること、
（２）本件発明は、甲第６号証に記載された発明と同一であり、しかも、本件特許出願の発明者がその出願前の特許出願に係る甲第６号証に記載された発明をした者と同一ではなく、またこの出願の時において、その出願人が甲第６号証に係る特許出願の出願人と同一でもないので、特許法第２９条の２の規定により特許を受けることができないものであること、および、
（３）本件特許明細書には、記載上の不備があり、特許法第３６条第４項又は第５項に違反するものであること、
により、本件発明の特許は、拒絶しなければならない特許出願に対して特許されたものであるからその特許を取り消すべき旨主張している。
　
２−３　甲第１号証ないし甲第６号証に記載された発明
　甲第１号証には、
ａ．「ベース樹脂、感放射線化合物及び溶媒を含有するフォトレジスト組成物において、感放射線化合物として重量平均分子量３００〜４０００のノボラック樹脂類の水酸基の少なくとも一部がエステル化されたキノンジアジドスルホン酸エステル化物を用い、かつ溶媒として、３−オキシプロピオン酸低級アルキルエステル及び／又は３−アルコキシプロピオン酸低級アルキルエステルを用ることを特徴とするフオトレジスト組成物。」（【請求項１】）
ｂ．「・・・・従来フォトレジスト組成物に使用されていた溶媒であるエチルセロソルブアセテートは近年安全性の問題が指摘されており、これにかわる溶媒が求められている。例えば、特開昭６２−１２３４４４号公報には、感放射線性樹脂組成物の溶媒としてモノオキシモノカルボン酸エステル類を使用することが開示されており、係る溶媒に含まれる乳酸エチルは、近年、安全性の高い溶媒として提案されているが、フォトレジスト溶液の粘性が高くなり、近年ＬＳＩ製造用に使用され始めた大口径ウェハーでは、ウェハー面内の塗布均一性が悪くなり、工業的な価値が低減されるという問題が提起されている。本発明は、低分子量のノボラック樹脂のキノンジアジドスルホン酸エステル化物を感放射線化合物とする高解像性のフォトレジストを前提とするものであって、溶媒として安全性上問題がない溶媒を使用し、しかも保存安定性が良好で、適度な粘性を有し、塗布均一性の良好なフォトレジストを提供するものである。・・・・」（【０００４】、【０００５】）
ｃ．「・・・・。本発明のフォトレジスト組成物は、溶媒として３−オキシプロピオン酸低級アルキルエステル及び／又は３−アルコキシプロピオン酸低級アルキルエステルを用いることにより、例えば近年提案されている乳酸エチルに比べ塗布均一性が良好である。」（【００１５】）
ｄ．「尚、本発明では、発明の効果を損なわない範囲内にて酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳酸エチル、ピルビン酸エチル、キシレン等を混合した溶媒を用いることもできる。この場合の好ましい混合割合は通常本発明の溶媒が全溶媒中５０重量％以上、好ましくは７０重量％以上用いるのが良い。」（【００１６】）
ｅ．実施例１〜３として、固形分濃度（１００−溶媒割合）２３．９〜２５．７重量％のレジスト溶液を作成したこと（【表１】）
ｆ．感光剤１９．１ｇ、ノボラック樹脂７４．７ｇ及び３−メトキシプロピオン酸メチル２７６．２ｇのフォトレジスト組成物（実施例５）と、感光剤１７．９ｇ、ノボラック樹脂６９．９ｇ及び乳酸エチル２８２．２ｇのフォトレジスト組成物（比較例３）を調製し、このフォトレジスト組成物をそれぞれ、８インチシリコンウエハーにスピンコートにより約１．２０μｍの塗布膜厚になるように塗布したとき、実施例５は、塗布均一性３４Å、比較例３は、塗布均一性１２４Åであったこと（【００２４】、【００２５】）
が記載されている。
　甲第２号証には、
ｇ．「乳酸エチル並びに、（ａ）酢酸ｎ−アミル、（ｂ）２−へプタノン及び（ｃ）酢酸ｎ−アミル／２−ヘプタノン混合溶媒の中のいずれか１種を含み、かつ乳酸エチルと、（ａ）乃至（ｃ）の溶媒の中のいずれか１種との重量比が５：９５乃至８０：２０の範囲である溶媒系と、キノンジアジド系化合物と、アルカリ可溶性樹脂とを含有してなるポジ型レジスト組成物。」（【請求項１】）
ｈ．「・・・・。従来、レジスト用溶媒としてはセロソルブ系溶媒が一般に用いられてきた。しかし、人体に対する衛生上の問題から、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、乳酸エチル等の溶媒が代替品として提示されている。しかしながら、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン等を用いるとレジストの耐熱性が低下する。一方、粘度が高い乳酸エチルを用いると、ストリエーションが大きくなったり或いはウェハーの端まで塗布できないといったような塗布性に関する問題がおこる。」（【０００２】）
ｉ．「本発明の溶媒系の使用量は、ウェハー上に均質で、ピンホール及び塗りむらのない塗布膜ができる塗布が可能であればよく、特に制限はない。しかし、レジスト組成物中、通常キノンジアジド系化合物とアルカリ可溶性樹脂との合計が３〜５０重量％の範囲となる濃度が好ましい。」（【００１６】）
ｊ．「本発明のレジスト組成物は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、例えば酢酸ｎ−ブチル、トルエン、キシレン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、アセトン、３−メトキシブタノール、酢酸３−メトキシブチル、３−オクタノン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等の他の溶媒を含有していてもよい。・・・・」（【００１７】）
が記載されている。
　甲第３号証には、
ｋ．「（１）アルカリ可溶性樹脂とおよび感放射線性化合物をモノオキシモノカルボン酸エステル類を含有する溶剤に溶解してなることを特徴とする感放射線性樹脂組成物。」（特許請求の範囲）
ｌ．モノオキシモノカルボン酸エステル類の具体例として、各種化合物が列挙された中に、３−オキシプロピオン酸メチル、３−オキシプロピオン酸エチル等の３−オキシプロピオン酸アルキル、２−オキシプロピオン酸メチル、２−オキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸プロピル等の２−オキシプロピオン酸アルキル類を挙げることができること（２頁右上欄１１行〜右下欄２行）
ｍ．「この発明においては、モノオキシモノカルボン酸エステル類に他の溶剤全量の例えば７０重量％末満程度、好ましくは５０重量％未満、特に好ましくは３０重量％末満の範囲で混合することができる。ここで他の溶剤としては、エチレングリコール、・・・・、酢酸エチル、酢酸ブチル・・・・芳香族炭化水素類などを例示することができる。」（２頁右下欄３行〜３頁左上欄４行）
ｎ．「実施例１　・・・・ノボラック２４４ｇ、エチレングリコール−ジ（３，４，５−トリヒドロキシベンゾフェノン）−１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸ペンタエステル５６ｇ、および２−オキシプロピオン酸エチル９００ｇを・・・・溶解させ・・・・ポジ型感放射線性樹脂組成物を調製した。・・・・。ここで得られたポジ型感放射線性樹脂組成物を、シリコン酸化膜を有するシリコンウエーハ上にスピンナーで塗布した後・・・・レジスト層を形成させた。」（７頁右上欄１８行〜左下欄１８行）
が記載されている。
　甲第４号証には、
ｏ．「２，３，４，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノンの１，２−ナフトキノンジアジド−４−又は／及び−５−スルホン酸エステルである感光物とアルカリ可溶性ノボラック樹脂を乳酸エチル又は乳酸メチルに溶解して成る事を特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。」（特許請求の範囲）
ｐ．「本発明の感光物及びアルカリ可溶性ノボラック樹脂を溶解させる溶剤として、乳酸エチル又は乳酸メチルを単独であるいは混合して用いた時に最も好ましい効果（長期保存性、解像力、レジスト断面プロファイル）を発現し得るが、必要に応じて通常用いられる１種以上の有機溶剤を溶剤成分の５０重量％以下、好ましくは３０重量％以下の範囲で混合して使用する事ができる。乳酸エチル又は乳酸メチルと混合して使用できる溶剤としては、メチルエチルケトン、・・・・酢酸ブチル等の脂肪酸エステル類・・・・等の高極性溶剤を例示することができる。」（３頁右下欄１６行〜４頁左上欄１６行）
ｑ．実施例１，２，３として、感光物及びクレゾールノボラック樹脂を乳酸エチルに溶解させたフォトレジスト組成物をスピンナーを用いてシリコンウエハー上に塗布し、乾燥してレジスト膜を得たこと（５頁右上欄４〜１２行）
が記載されている。
　甲第５号証には、
ｒ．「アルカリ可溶性樹脂、感放射線化合物および溶剤を含有する、固形分濃度が２０〜５０重量％の感放射線組成物を、８インチのシリコンウエハーまたはアルミニウムもしくは窒化ケイ素で被覆されたウエハー上にスピンコートし、その際上記溶剤として乳酸エチルおよび乳酸メチルよりなる群から選ばれる少なくとも１種の乳酸アルキルエステルとメチルイソアミルケトン、メチルアミルケトンおよびメチルヘキシルケトンよりなる群から選ばれる少なくとも１種のモノケトン化合物との混合溶媒を使用して、最も厚い膜厚と最も薄い膜厚との差が３３．０Å以下であるレジスト被膜を上記ウエハー上に形成する、ことを特徴とするレジスト被膜の形成法。」（請求項１）
が記載されている。
　甲第６号証には、
ｓ．「（Ａ）アルカリ可溶性樹脂と、（Ｂ）キノンジアジド基含有化合物とを、（Ｃ）（イ）２−オキシプロピオン酸アルキルと（ロ）温度２０℃における粘度が１センチポアズ以下の有機溶剤との混合溶剤に溶解したポジ型レジスト組成物。」（【請求項１】）
ｔ．「ところで、近年シリコンウエハーやガラス基板が大型化しており、レジストを基板上に塗布するに当って、塗膜の均一性が優れたものが望まれ、また表面に凹凸を有する基板上に塗膜を形成する場合に凹部上に形成される塗膜の膜厚と凸部上に形成される塗膜の膜厚との膜厚差が小さいほど、解像性の優れたレジストバターンが形成できるため、塗膜の膜厚差の小さい、すなわちステップカバレッジ性に優れたものが要求され、・・・・」（【０００３】）
ｕ．「該（イ）成分の２−オキシプロピオン酸アルキルとしては、例えば２−オキシプロピオン酸メチル、２−オキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸プロピルなどを挙げることができるが、これらの中で特に２−オキシプロピオン酸エチルが好適である。また、これらの２−オキシプロピオン酸アルキルは単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。」（【００１３】）
ｖ．「また、該（ロ）成分の温度２０℃における粘度が１センチポアズ以下の有機溶剤については特に制限はなく、温度２０℃における粘度が１センチポアズ以下という条件を満たすものであればいかなるものでも使用することができる。このような有機溶剤としては例えば酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ブチル、アセトン、メチルエチルケトン、２−ペンタノン、３−ペンタノン、２−ヘキサノン、メチルイソブチルケトン、２−ヘプタノン、４−ヘプタノンなどを挙げることができるが、これらの中で特に酢酸ブチルが好適である。また、これらの有機溶剤は単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。」（【００１４】）
ｗ．「なお、各例における物性は次の方法によって求められたものである。
（１）均一性ポジ型レジスト組成物の塗布液を６インチシリコンウエハー上に３０００ｒｐｍ、２０秒間塗布し、９０℃で９０秒間ホットプレート上にて乾燥することで塗布膜を形成し、その塗布膜の膜厚をウエハー全面にわたって測定し、ウエハー上での膜厚のバラツキが±２０Å以下のものを○、±２１〜４０Åのものを△、±４１Å以上のものを×として評価した。」（【００２４】）
ｘ．「実施例１
　２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン１モルとナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホニルクロリド３モルとのエステル化反応生成物２ｇとクレゾールノボラック樹脂８ｇとを、２−オキシプロピオン酸エチル４０ｇと酢酸ブチル１０ｇとの混合溶剤に溶解してポジ型レジスト組成物の塗布液を調製した。この塗布液について物性を調べ、その結果を表１に示す。
　実施例２〜７、比較例１〜２
　表１に示すような混合溶剤を用いた以外は、実施例１と同様にしてポジ型レジスト組成物の塗布液を調製した。この塗布液について物性を調べ、その結果を表１に示す。」（【００２７】、【００２８】）
ｙ．表１には、２−オキシプロピオン酸エチルと酢酸ブチルとを異なった割合で混合した溶剤を用いたときの均一性の評価が○又は△、すなわち膜厚のバラツキが２０Å以下又は２１〜４０Åの間にあること（【００２９】）
が記載されている。
　
２−４　判断
２−４−１　特許法第２９条２項違反について
　甲第１号証には、本件発明の構成のうち、
「アルカリ可溶性樹脂、感放射線化合物および溶剤を含有する（ａ）、固形分濃度が２０〜４０重量％（ｅ，ｆ）の感放射線組成物（ａ）を、８インチ（ｆ）のシリコンウエハー（ｆ）上にスピンコート（ｆ）し、レジスト被膜を上記ウエハー上に形成するレジスト被膜の形成法（ｆ）」を備えた発明が記載されていることが認められ、さらに、甲第１号証のすべての記載箇所、特に実施例を参照しても、パターニング後の加熱処理により耐熱性および耐薬品性を付与させる熱硬化剤は使用していない。
　よって、本件発明と甲第１号証に記載された発明とを対比すると、両者は、
「アルカリ可溶性樹脂、感放射線化合物および溶剤を含有する、固形分濃度が２０〜４０重量％の感放射線組成物（但し、パターニング後の加熱処理により耐熱性および耐薬品性を付与させる熱硬化剤を含有しない）を、８インチのシリコンウエハー上にスピンコートし、レジスト被膜を上記ウエハー上に形成する、ことを特徴とするレジスト被膜の形成法。」である点で一致し、
（１）溶剤に関して、本件発明が、「乳酸エチルおよび乳酸メチルよりなる群から選ばれる少なくとも１種の乳酸アルキルエステルと酢酸ブチルおよび酢酸エチルよりなる群から選ばれる少なくとも１種の酢酸エステルとの混合溶媒」を使用することを規定しているのに対して、甲第１号証のものは、「３−オキシプロピオン酸エステル」を使用する点、および、
（２）レジスト被膜に関して、本件発明が、「最も厚い膜厚と最も薄い膜厚との差が３１．１Å以下である」ことを規定するのに対して、甲第１号証には、最も厚い膜厚と最も薄い膜厚との差についての記載がない点、
で相違する。
　相違点（１）について検討する。
　甲第２号証ないし甲第４号証には、アルカリ可溶性樹脂および感放射線化合物に対する溶剤として乳酸エチルを使用するポジ型レジスト組成物が記載されており（ｇ，ｎ，ｏ）、乳酸エチルに対して、酢酸ブチルを混合して使用することができることも記載されている（ｊ，ｍ，ｐ）。（なお、甲第３号証における「２−オキシプロピオン酸〜」は、「乳酸〜」と同義である。）
　しかしながら、甲第１号証に記載された発明は、従来フォトレジスト組成物に使用されていた溶媒であるエチルセロソルブアセテートの安全性の問題、乳酸エチルを使用することによる塗布均一性の問題（ｂ）を解決する手段として（ｂ）、乳酸エチルに代えて３−オキシプロピオン酸低級アルキルエステルを特に選択した（ｃ）ものであるから、甲第１号証に記載されたフォトレジスト組成物の溶媒を、甲第２号証ないし甲第４号証に記載された乳酸エチルまたは乳酸メチルに置き換えるべき動機がない。そして、甲第２号証ないし甲第４号証には、乳酸エステルと組み合わせる溶剤として、酢酸ブチルが挙げられてはいるが、それらは他の多くの化合物の羅列中の一つにすぎず、特に酢酸ブチルまたは酢酸エチルを選択し組み合わせることにより奏される効果について、予測させるものではない。
　そして、本件発明は、上記の構成により、明細書記載の顕著な効果を奏するものであるから、他の相違点について検討するまでもなく、本件発明は甲第１号証ないし甲第４号証に記載された発明から容易に発明をすることができたものとはいえない。
　
２−４−２　　特許法第２９条の２第１項違反について
　甲第６号証に記載されている「２−オキシプロピオン酸」は、「乳酸」と同義であり、また、甲第６号証に記載された実施例を参照しても、パターニング後の加熱処理により耐熱性および耐薬品性を付与させる熱硬化剤は使用していないことから、甲第６号証には、
「アルカリ可溶性樹脂、感放射線化合物および溶剤を含有する、感放射線組成物（但し、パターニング後の加熱処理により耐熱性および耐薬品性を付与させる熱硬化剤を含有しない）（ｓ）を、シリコンウエハー上にスピンコートし（ｗ）、その際上記溶剤として乳酸エチルおよび乳酸メチルよりなる群から選ばれる少なくとも１種の乳酸アルキルエステルと酢酸ブチルおよび酢酸エチルよりなる群から選ばれる少なくとも１種の酢酸エステルとの混合溶媒を使用して（ｕ，ｖ，ｘ）、最も厚い膜厚と最も薄い膜厚との差が３１．１Å以下である（ｗ，ｙ）レジスト被膜を上記ウエハー上に形成する、ことを特徴とするレジスト被膜の形成法（ｘ）。」
が記載されているものと認められる。
　一方、甲第６号証には、感放射線組成物の固形分濃度の範囲については、特段の記載がなく、わずかに実施例において使用している各配合成分の量から計算すると、混合溶剤５０ｇに対しアルカリ可溶性樹脂と感放射線化合物合わせて１０ｇであるから、固形分濃度は１６．６重量％である（ｘ）。これは、本件発明で規定する「固形分濃度が２０〜４０重量％」の範囲を外れた低濃度である。
　また、甲第６号証においては、シリコンウエハーの大型化に伴うレジスト塗膜の膜厚の均一性に着目している（ｔ）ものの、実施例においてレジスト膜を形成しているシリコンウエハーは、８インチではなく、６インチのものを使用している（ｗ）。
　ところで、固形分濃度が変われば、ただちに感放射線組成物の粘度、流動性などに違いが出るのは当然であるから、本件発明と、甲第６号証のものとでは、感光性組成物の塗布性が相違していることは自明のことである。してみると、甲第６号証に記載されている感放射線組成物が６インチのシリコンウエハーに対して優れた均一塗布性を示す（ｙ）からといって、それよりも固形分濃度の大きな感放射線組成物をもって、より膜厚のバラツキが発生しやすい８インチのシリコンウエハーについても同様の均一塗布性が得られることは明らかではない。そのため、甲第６号証に記載されたレジスト被膜の形成法が、固形分濃度が２０〜４０重量％の組成物を８インチのシリコンウエハーへ適用することまでも当然に包含しているものとすることはできない。
　したがって、本件発明は、甲第６号証に記載された発明と同一ではない。
　
２−４−３　特許法第３６条違反について
　特許異議申立人が本件明細書の記載について、特許法第３６条違反を申し立てる趣旨は、
（ア）本件発明は、レジスト被膜の最も厚い膜厚と最も薄い膜厚との差を、「３１．１Å以下」とする点を発明の構成に欠くことができない事項としているが、それを実現するために必要な事項について全く記載していないので、当業者が実施不能である。
（イ）本件特許権者に係る特許発明を示した甲第５号証においては「最も厚い膜厚と最も薄い膜厚との差が３３．０Å以下」と設定されており、「最も厚い膜厚と最も薄い膜厚との差が３１．１Å以下」という限定は、技術的に意義のある事項ではないので、特許請求の範囲には、発明の構成に欠くことができない事項のみを記載していない。
というものである。以下、検討する。
（ア）について
　本件明細書の段落【００２８】には、アルカリ可溶性樹脂を製造する具体例が、段落【００２９】には、感放射線化合物を製造する具体例が、段落【００３０】には、得られたアルカリ可溶性樹脂、感放射線化合物および溶剤により感放射線組成物溶液を調製し、それを８インチのシリコンウェハー上にスピンナーを用いて２，０００ｒｐｍで回転塗布した後、ホットプレート上で９０℃にて２分間プレベークして、レジスト被膜を形成したことが記載されている。
　これらの記載に基づけば、当業界で通常行われている技術事項を加味してその実施を行うことは、当業者であればさしたる困難なくなし得ることである。
（イ）について
　レジスト塗膜の膜厚のバラツキが小さいことを特定するために、単に「最も厚い膜厚と最も薄い膜厚との差が小さい」とするだけでは不充分なことは、明らかであり、「最も厚い膜厚と最も薄い膜厚との差が３１．１Å以下」とすることでその程度を明確にすることができたものと認められる。そして、３１．１Åという数値は、実験により実証されている最大値を採用することで、それより大きな範囲には発明が及ばないことを単に宣明したものであるから、技術的に意味がないとするには当たらない。
　したがって、本件特許明細書には、その記載上、特段の不備があるものとすることはできない。
　
３　むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申立の理由及び証拠によっては本件請求項１に係る発明の特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件請求項１に係る発明の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　したがって、本件請求項１に係る発明の特許は、拒絶の査定をしなければならない特許出願に対して付与されたものと認めないから、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第１４条の規定に基づく、特許法等の一部を改正する法律の施行に伴う経過措置を定める政令（平成７年政令第２０５号）第４条第２項の規定により、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１６年２月２６日（２００４．２．２６）