【事件の表示】
　特許第３２７２２１０号「一方向性珪素鋼板の絶縁皮膜形成方法」の請求項１、２に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第３２７２２１０号の請求項１ないし２に係る特許を取り消す。
【理　由】
Ｉ．手続の経緯
　本件特許第３２７２２１０号（以下「本件特許」という。）は、平成７年９月１３日に特許出願されたものであって、平成１４年１月２５日に請求項１〜２に係る発明について特許権の設定登録がなされた後、平成１４年１０月８日に特許異議申立人：川崎製鉄株式会社より、その請求項１及び２に係る特許について特許異議の申立がなされ、平成１５年２月１０日付けで特許取消理由の通知がなされ、これに対して平成１５年４月２２日付けで特許権者より特許異議意見書の提出がなされたものである。
　
II．本件発明
　本件特許の請求項１及び２に係る発明（以下「本件発明１」、「本件発明２」という。）は、願書に添付した明細書及び図面（以下「特許明細書」という。）の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１及び２に記載された事項により特定される下記のものと認める。
「【請求項１】鋼板表面に無機鉱物質皮膜のない仕上げ焼鈍済み一方向性珪素鋼板にコーティング液を塗布し、焼き付けることによって非晶質主体の張力付与型絶縁皮膜を形成する方法において、コーティング液の焼き付けを行う雰囲気のＰH2O／ＰH2（ＰH2O，ＰH2はそれぞれ雰囲気中の水蒸気分圧と水素分圧）を１０-2以上として鋼板と張力付与型絶縁皮膜との間に生ずる界面荒れを防止することを特徴とする一方向性珪素鋼板の絶縁皮膜形成方法。
【請求項２】張力付与型の絶縁皮膜を形成させるコーティング液がリン酸塩とコロイド状シリカを主体とすることを特徴とする請求項１に記載の一方向性珪素鋼板の絶縁皮膜形成方法。」
　　
III．取消理由
　一方、上記通知した取消理由のうち、理由１）及び２）の概要は、証拠として、引用例１（特開平５−３１１３５３号公報（特許異議申立書の甲第１号証））、引用例２（特開昭５２−２５２９６号公報（同上、甲第２号証））、引用例３（特開昭６３−１２５６２０号公報（同上、甲第３号証））、引用例４（特開昭６０−２６２９８１号公報（同上、甲第４号証））、及び、引用例５（EUROPEAN PHYSICAL SOCIETY CONFERENCE Soft Magnetic Materials 2 CONFERENCE PROCEEDINGS 9th,10th,11th April,1975,pp.269-274(同上、甲第５号証））を提示し、特許異議申立書の記載を引用して、
１）本件特許の請求項１〜２に係る発明は、その出願前日本国内において頒布された刊行物である下記引用例１に記載された発明であるから、特許法第２９条第１項の規定に違反して特許されたものである。及び、
２）本件特許の請求項１〜２に係る発明は、その出願前、日本国内又は外国において頒布された刊行物である下記引用例１〜５に記載された発明に基いて、その出願前にその発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定に違反して特許されたものである。
というものである。
　　
IV．引用例の記載事項
　引用例１〜５には、以下の事項の記載がある。
（１）引用例１（甲第１号証）
(1-1)「【請求項１】重量比でＳｉ ２．５〜４．５％を含み、鋼板表面のグラス被膜が、フォルステライト（Ｍｇ2ＳｉＯ4）として０．５ｇ／ｍ2以下であり、鋼板表面に線状又は点状の歪及び／又はきずによる磁区細分化層を有し、かつ絶縁被膜剤による鋼板表面への張力が０．５kg／mm2であり、Ｂ8≧１．８８テスラのグラス被膜を有しない超低鉄損方向性電磁鋼板。
【請求項２】重量比で　Ｃ：０．０２１〜０．０７５％、Ｓｉ：２．５〜４．５％、酸可溶Ａｌ：０．０１０〜０．０４０％、Ｎ：０．００３０〜０．０１３０％、Ｓ≦０．０１４０％、Ｍｎ：０．０５〜０．４５％、残部がＦｅと不可避の不純物からなるスラブを１２８０℃未満の温度で加熱した後、熱延し、引続き必要に応じて熱延板焼鈍し、１回又は焼鈍を挟む２回以上の冷延により最終板厚とし、次いで脱炭焼鈍し、窒化処理をし、焼鈍分離剤を塗布し、仕上げ焼鈍をし、絶縁被膜剤を塗布する低温スラブ加熱の方向性電磁鋼板の製造方法において、焼鈍分離剤としてＭｇＯ１００重量部に対し、Ｌｉ，Ｋ，Ｎａ，Ｂａ，Ｃａ，Ｍｇ，Ｚｎ，Ｆｅ，Ｚｒ，Ｓｒ，Ｓｎ，Ａｌの塩化物、硝酸塩、硫化物、硫酸塩の中から選ばれる１種又は２種以上を２〜３０重量部添加した焼鈍分離剤を塗布し、仕上げ焼鈍条件として、昇温加熱時の雰囲気ガスを少なくともＮ2 ３０％以上のＮ2，Ｈ2、他の不活性ガス中で焼鈍し、仕上げ焼鈍後、ヒートフラットニングの前又は後にレーザー、歯形ロール、プレス、ケガキ、局部エッチング等の局部加工により線状、又は点状に歪み及び／又は溝を付与し、且つ、絶縁被膜剤を２．５〜１５ｇ／ｍ2焼き付け処理することを特徴とするグラス被膜を有さない超低鉄損方向性電磁鋼板の製造方法。
【請求項３】絶縁被膜剤として、固形分換算でＳｉＯ2，ＳｎＯ2，Ａｌ2Ｏ3からなるコロイド状溶液の１種又は２種以上１００重量部に対し、Ａｌ，Ｍｇ，Ｃａの第一リン酸塩の１種又は２種以上１３０〜２００重量部とクロム酸又はクロム酸塩の１種又は２種以上をＣｒＯ3として１２〜４０重量部添加した処理剤を鋼板１ｍ2当たり焼き付け処理後の重量で２．５〜１５ｇ／ｍ2の範囲で板厚に応じ、次式の範囲で塗布焼き付け処理することを特徴とする請求項２記載のグラス被膜を有しない超低鉄損方向性電磁鋼板の製造方法。１６．７ｔ〜５０ｔ（ｔ：板厚（mm））
【請求項４】絶縁被膜処理焼き付けに際し、ヒートフラットニングの炉内雰囲気が６００℃以上で、ＰH2O／ＰH2を０．２０以下とすることを特徴とする請求項２又は３記載のグラス被膜を有しない超低鉄損方向性電磁鋼板の製造方法。」（特許請求の範囲）
(1-2)「本発明はグラス被膜（フォルステライト系被膜）を有しない方向性電磁鋼板の製造方法に関わり、切断性、打抜性が優れると共に高磁束密度で且つ超低鉄損の方向性電磁鋼板とその安価な製造方法に関する。」（段落【0001】）
(1-3)「このグラス被膜は方向性電磁鋼板の磁気特性については、その被膜張力効果によって鉄損の改善効果が得られ、磁束密度が高い素材の場合、この効果が著しく、２０％近い鉄損の改善効果が得られる。しかし、その形成状態によっては、被膜厚みの増加や内部被膜層の存在によって磁束密度の低下や磁区細分化処理に際して鉄損改善効果に悪影響を及ぼす。」（段落【0005】）
(1-4)「とりわけ近年では・・・・更に絶縁被膜の高張力化技術が発達したため、グラス被膜の張力なしでも鉄損の改善が得られるようになった。このため、むしろグラス被膜を有さない方向性電磁鋼板の方が、高磁束密度化と磁化の際の磁壁移動ピンニング現象がない利点があり、高磁束密度かつグラス被膜のない製品の開発ニーズが高まっている。」（段落【0006】）
(1-5)「絶縁被膜剤成分としては、例えばＳｉＯ2，ＳｎＯ2，Ａｌ2Ｏ3等のコロイド状溶液１００重量部（固形分換算）、Ａｌ，Ｍｇ，Ｃａ等の第１リン酸塩１３０〜２００重量部、クロム酸、あるいはクロム酸塩をＣｒＯ3として１２〜４０重量部である。前記コロイド物質とリン酸塩の配合比率以外では張力効果が生じない」（段落【0043】〜【0044】）
(1-6)「ヒートフラットニング時の雰囲気条件は６００℃以上の温度域ではＰH2O／ＰH2≦０．１、Ｈ2≧５％が望ましい。これは本発明のようにグラス被膜をもたない鋼板を高温でヒートフラットニングする場合、炉内で酸化が起きやすいため、磁性と表面の被膜の密着性を良好に保つために制限される。」（段落【0045】）
(1-7)「グラス被膜層をケミカルエッチングして分解し酸化物中のＳｉＯ2を表面のＭｇＯ側に反応させる。この後さらに仕上げ焼鈍の高温均熱段階でサーマルエッチング効果がもたらされる。
　この段階においては冷延時の表面荒れ、脱炭焼鈍時の酸化膜の不均一等によって生じた鋼板地鉄表面の凹凸が平滑化されて鏡面的な表面となる。」（段落【0046】〜【0047】）
(1-8)「このようにして得られたグラス被膜のない高磁束密度方向性電磁鋼板は、磁区細分化処理と絶縁被膜による張力付与により超低鉄損化される。これは鋼板の表面がスムーズで従来のグラス被膜材のような内部被膜層による悪影響がないためである。」（段落【0049】）
(1-9)「実施例２　実施例１と同一の素材コイルを同様にして処理し、最終板厚０．１７mmの冷延板を得た。次いで脱炭焼鈍としてＮ2 ２５％＋Ｈ2 ７５％中で８２５℃×１２０″間露点５０℃で焼鈍し、７５０℃×３０″間、Ｎ2 ２５％＋Ｈ2 ７５％＋ＮＨ3 Ｄｒｙ雰囲気中で鋼板〔Ｎ〕量２００ppm になるよう窒化処理を行って出発材とした。
　この鋼板に表３に示すような組成の焼鈍分離剤を塗布し、図１（ａ），（ｂ）に示す条件で仕上げ焼鈍した。この鋼板に絶縁被膜剤として２０％コロイド状シリカ１００ml＋５０％リン酸アルミニウム５５ml＋ＣｒＯ3 ５ｇからなるコーティング剤を乾燥後の重量で０〜１０ｇ／ｍ2の範囲で８５０℃×３０″の焼付とヒートフラットニング処理を行った。
　次いでＹＡＧレーザーにより照射幅２００μｍ、間隔５mmで圧延方向と直角方向に線状歪を付与した。この工程における鋼板の表面状態と磁気特性の結果を表４に示す。・・・・・・・・・・・
　この試験の結果、本発明の焼鈍分離剤によるものは何れもグラス被膜を形成せず、金属光沢の表面状態となった。又、被膜量としてのフォルステライト量も何れも０．５ｇ／ｍ2以下であった。絶縁被膜とレーザー処理後の磁性は、本発明によるものは、磁束密度、鉄損値とも何れも著しく良好で、特に絶縁被膜塗布量８ｇ／ｍ2のものは著しく良好な鉄損値となった。一方、絶縁被膜処理なしでは、鉄損値がやや悪く、比較例の焼鈍分離剤によるものより若干悪い鉄損値となった。」（段落【0057】〜【0062】）
　
（２）引用例２（甲第２号証）
(2-1)「コロイド状シリカをＳｉＯ２分として２０％含有し、Ｍｇ、Ａｌ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｆｅのうちから選ばれる何れか１種または２種以上の第１りん酸塩をＳｉＯ２／第１りん酸塩のモル比０．８〜１５の範囲内で含有するコロイド状シリカ水分散液１００CCに対し、無水クロム酸、クロム酸塩、重クロム酸塩のうちから選ばれる何れか１種または２種以上を合計量で０．１〜２０ｇの範囲内で含有し、さらに一次粒子径７０〜５００Å、見掛比重１００ｇ／ｌ以下のＳｉＯ２，Ａｌ２Ｏ３，ＴｉＯ２のうちから選ばれる１種または２種以上を合計量で０．１〜１０ｇ含有したコーティング処理液を方向性けい素鋼板に塗布し、３５０℃以上の温度で焼付けることを特徴とする方向性けい素鋼板に耐熱性のよい絶縁被膜を形成する方法。」（特許請求の範囲）
(2-2)「特に本発明は、方向性けい素鋼板に耐熱性が優れ、かつ鉄損と磁歪特性を改善する絶縁被膜を形成する方法に関する。」（第１頁右下欄第３〜５行）
(2-3)「このような鋼板に張力を与える上塗り被膜の形成方法はいくつか提案されており、これらの提案は・・・りん酸塩とコロイド状シリカを配合させた液を塗布・焼付する方法との２つに大別される。・・・・後者に属するものは、例えば特開昭４８−３９３３８号あるいは特開昭５０−７９４４２号に開示されている方法である。」（第２頁左上欄第２〜１１行）
(2-4)「上塗り被膜は通常シリカ被膜と焼鈍分離剤のマグネシアとの反応を箱焼鈍によって行わせ形成させた結晶質のフオルステライトセラミック被膜の上に施されるが、本発明の研究の結果従来の上塗り被膜はガラス変形点（Ｔα）６００ 〜８００℃程度のガラスとなっているため、融着し易いことを解明した。
　本発明者らは、従来使用されているガラス形成原料に所定性状を有するＳｉＯ２，Ａｌ２Ｏ３および／またはＴｉＯ２粉末を添加することによって、その耐融着性を改善することができることを知見した。」（第２頁左下欄第１６行〜右下欄第６行）
　　
（３）引用例３（甲第３号証）
 (3-1)「一方向性珪素鋼板を平坦化焼鈍するにあたり、コイル状で高温仕上焼鈍された一方向性珪素鋼板を、板状で連続的に通板しつつ７５０℃以上の温度に加熱して形状矯正と歪の解放を行ない、冷却後、張力付与絶縁被膜コーティング溶液を塗布し、鋼板に張力を与えた状態で３５０℃以上キューリー点未満の温度で焼付け、絶縁被膜を形成することを特徴とする磁気特性と被膜密着性の優れた一方向性珪素鋼板の平坦化焼鈍方法。」（特許請求の範囲）
(3-2)「本発明は磁気特性と被膜密着性の優れた一方向性珪素鋼板の平坦化焼鈍方法に関するものである。」（第１頁左下欄第１７〜１８行）
(3-3)「一方向性珪素鋼板に張力付与効果と絶縁性を付与する絶縁被膜用コーティング液は・・・燐酸塩を主成分としている」（第２頁左上欄第１３〜１６行）
(3-4)「即ち、平坦化焼鈍ではコイルの巻ぐせや冷却歪等を矯正するのであるから必然的に塑性変形を生じる。しかしこの塑性変形によって生じた歪が残留すると磁気特性が著しく劣化するので、形状矯正と歪の解放を連続焼鈍で行なうためには、一方向性珪素鋼板の伸び性が大きく、又歪の解放も短時間で行なわれる７５０℃以上の温度に加熱しなければならない。しかしこの温度域では、塗布した絶縁被膜用コーティング液は焼付けられてガラス化を完了しており、ガラス化した絶縁被膜を有する一方向性珪素鋼板に塑性変形を加えると、絶縁被膜に微細な亀裂が生じ被膜の張力効果を著しく減少させることがつきとめられた。又平坦化焼鈍の温度が高く、均熱時間が長いほど、絶縁被膜用コーティング液の主成分である燐酸とフォルステライト被膜の反応が進み被膜密着性が劣化する。」（第２頁左下欄第１〜１６行）
(3-5)「絶縁被膜用コーティング液、例えば燐酸や燐酸アルミニウム・・・等の燐酸塩、・・・コロイダルシリカ等を適宜に含有した絶縁被膜用コーティング液」（第３頁右上欄第８〜１３行）
  　　
（４）引用例４（甲第４号証）
(4-1)「含けい素鋼熱延板に、１回または中間焼鈍を挟む２回以上の冷間圧延を施したのち、脱炭を兼ねる１次再結晶焼鈍を施し、ついで鋼板表面にＭｇＯを主成分とする焼鈍分離剤を塗布してから２次再結晶焼鈍および純化焼鈍を施し、しかるのち得られたフォルステライト系被膜の上にさらに上塗りコーティング液を塗布ついで焼付ける一連の工程によって一方向性けい素鋼板を製造するに当り、
　上塗りコーティング処理工程において、焼付け中の鋼板の伸びを０．５％以下に抑制することを特徴とする、鉄損の低い一方向性けい素鋼板の製造方法。」（特許請求の範囲）
(4-2)「一方向性けい素鋼板の表面には絶縁被膜が被成されているが、かかる被膜は確実な絶縁を保証するだけでなく、鉄損あるいは磁歪特性を改善する役割も担う。この絶縁被膜は、最終仕上げ焼鈍中に鋼板表面に形成されるフォルステライト系下地被膜とこの被膜上に重ねて被成される熱膨張係数の小さいガラス質のコーティング被膜とからなる」（第２頁左下欄第８〜１５行）
(4-3)「その後鋼板表面のＭｇＯ焼鈍分離剤を除去し、コーティング処理が行われる。このコーティング液としては、たとえば発明者らが特公昭56-52117号公報に開示したコロイド状シリカ：２０％、りん酸マグネシウム：８０％を主成分とするコーティング液が有利に適合し、かかる液を塗布した後８００〜８５０℃の温度範囲で焼付焼鈍処理が施される。」（第４頁右上欄第１４行〜左下欄第１行）
　
（５）引用例５（甲第５号証）
(5-1)「これに対して、コロイダルシリカを使用した場合には均一なコーティングが得られることが見出された。多数の実験により、最適な絶縁コーティングはコロイド状シリカとりん酸マグネシウムと少量の無水クロム酸の混合溶液を使うことで形成されることが分かった。」（第２７０頁第２３〜２７行）
(5-2)「新コーティングの物理的性状
　新コーティングにより鋼板に引張応力が掛かる機構を解明するために、新コーティングの構造をＸ線回折、赤外線吸収分析及び熱膨張係数測定を行って研究した。
　Fig.3に、新コーティングのＸ線回折像をその主構成薬剤のものとともに示す。Ｘ線回折測定のための粉末試料は次のようにして調製した；新コーティング及びその主構成薬剤は別個に鋼板に塗布し窒素雰囲気下で３時間にわたり800℃で焼き付けた。鋼板を曲げて剥離させて表面に形成されたフィルムを測定に用いた。ガラス組織をもつ材料の標準サンプルとして、新コーティングと同一組成をもつシリカとりん酸マグネシウムを、溶融、水中で冷やしてガラスサンプルを準備した。
　fig.3からりん酸マグネシウムの結晶化がコロイド状シリカの添加によって抑制され、新コーティングには結晶質相が存在しないことが示される。」（第２７１頁第１７〜３３行）
　　
Ｖ．対比・判断
(V-1)理由１（特許法第２９条第１項の規定に係る理由）について
（１）本件発明１について
　本件発明１と、引用例１に記載されたものとを対比すると、引用例１には、鋼のスラブを加熱、熱延、必要により焼鈍し、冷延、脱炭焼鈍、窒化処理し、焼鈍分離剤を塗布し、仕上げ焼鈍し、絶縁被膜剤を塗布する低温スラブ加熱の方向性電磁鋼板の製造方法において、焼鈍分離剤を塗布し、仕上げ焼鈍し、局部加工により線状、又は点状に歪み及び／又は溝を付与し、且つ、絶縁被膜剤を焼き付け処理するグラス被膜を有しない超低鉄損方向性電磁鋼板の製造方法の発明が記載されている（摘記1-1【請求項２】）。そして、本件発明１の無機鉱物質皮膜は、引用例１のグラス被膜に対応し、本件発明１のコーティング液は、引用例１の絶縁被膜剤に対応している。
　また、ＰH2O／ＰH2についてみると、本件発明１においては「１０-2以上」であって、【図１】には、１０-2（０．０１）、１０-1（０．１）、１０0（０）値を含む「１０-2以上」の範囲が、本件発明１のＰH2O／ＰH2に該当するものとして具体的に説明されている。一方、引用例１には、ＰH2O／ＰH2を「０．２０以下」（摘記1-1【請求項４】）とすることが記載され、そしてこれは、本件発明１におけるＰH2O／ＰH2と、１０-2〜０．２０の範囲で重複し、一致している。
　以上のことからすると、本件発明１は、引用例１に記載された発明と、”鋼板表面に無機鉱物質皮膜のない仕上げ焼鈍済み一方向性珪素鋼板にコーティング液を塗布し、焼き付けることによって非晶質主体の張力付与型絶縁皮膜を形成する方法において、コーティング液の焼き付けを行う雰囲気のＰH2O／ＰH2（ＰH2O，ＰH2はそれぞれ雰囲気中の水蒸気分圧と水素分圧）を１０-2以上とすることを特徴とする一方向性珪素鋼板の絶縁皮膜形成方法。”の点で一致し、そして、
（Ａ）本件発明１では、絶縁膜が「非晶質主体」とされているのに対して、引用例１にはその記載が見あたらない点、及び、
（Ｂ）本件発明１では、「鋼板と張力付与型絶縁皮膜との間に生ずる界面荒れを防止する」としているのに対して、引用例１にはその記載が見あたらない点、
の各点で、本件発明１は甲第１号証に記載された発明と一応相違している。
　　
　そこで、当該相違点（Ａ）及び（Ｂ）について、以下検討する。
相違点（Ａ）について
(A-1）その１（相違点（Ａ）についての検討１）
　引用例１には、絶縁膜が「非晶質主体」であることの記載は見あたらない。しかし、引用例２には、りん酸塩とコロイド状シリカを配合させた液を塗布・焼付して上塗り被膜が形成され（摘記2-3）、その被膜がガラス状態であること（摘記2-4）が記載され、引用例３には、絶縁被膜用コーティング液は、焼付けられてガラス化していること（摘記3-4）、及び、当該コーティング液は燐酸塩を主成分としたものであり（摘記3-3）、具体的には、燐酸塩及びコロイダルシリカ等を含有したものであること（摘記3-5）が記載され、引用例４には、コーティング被膜がガラス質であること（摘記4-2）、及び、コロイド状シリカ、りん酸マグネシウムを主成分とするコーティング液（摘記4-3）が記載され、また、引用例５には、絶縁コーティングが、コロイド状シリカとりん酸マグネシウムを含む混合溶液で形成されること（摘記5-1）、及び、コーティングには結晶質相が存在しないこと（摘記5-2）が記載されており、これら引用例２〜５には、引用例１に記載されたものと同様の組成の絶縁被膜剤が記載され、そして、得られた絶縁被膜がガラス状あるいは非結晶質であって、「非晶質主体」といえるものであることが記載されている。
　してみれば、これら引用例２〜５の記載を参酌すると、引用例１の絶縁被膜も、これら引用例２〜５に記載されたものと同様、非晶質主体のものということができ、なおかつ、引用例１の絶縁被膜が「非晶質主体」のものではないとすべき特段の理由も見あたらない。
　なお、特許権者は、特許異議意見書において、引用例２〜５は、フォルステライト上の絶縁被膜であって、技術思想が異なる旨主張するが、フォルステライト上では上記のとおり「非晶質主体」となる絶縁被膜が、鋼板上では「非晶質主体」のものではなくなるといえる論拠はない。
　以上のとおりであるから、本件発明１は、引用例１に記載された発明と、上記（Ａ）の点において、実質的に相違するとすることはできない。
　　
(A-2)その２（相違点（Ａ）についての検討２）
　引用例１の記載を精査すると、引用例１には、グラス被膜層の分解後、鋼板表面が鏡面的であること（摘記1-7参照。）、及び、グラス被膜のない鋼板表面がスムーズで、従来のグラス被膜材のような内部被膜層による悪影響がないこと（摘記1-8参照。）が記載され、また、リン酸塩とコロイド状シリカを含有する絶縁被膜剤を用いることが記載されて（摘記1-5、1-9参照。）、本件明細書に記載されたと同様の鋼板表面の鏡面状態（段落【0011】参照。）とコーティング剤組成（【請求項２】参照。）が記載されており、他方、両者の非晶質状態が互いに相違すると認めるべき特段の理由は見あたらない。
　してみれば、本件発明１と引用例１に記載のものとは、文言上の記載の有無に拘わらず、絶縁皮膜の非晶質状態の点において、実質的な相違があるとすることはできず、したがって、本件発明１と引用例１に記載された発明とは、上記（Ａ）に係る「非晶質主体」の是非の点において、実質的に相違するとすることはできない。
　
相違点（Ｂ）について
　界面荒れの防止について、本件明細書の記載を見ると、「ＰH2O／ＰH2が１０-2未満の雰囲気で焼き付けた場合、皮膜の一部が結晶化し微小なクラックが入る。一旦、皮膜に微小なクラックが入るとこのクラックを介して鋼板表面が雰囲気の影響を受け、その結果ある種の界面荒れが発生し、良好な鉄損値が得られない」（段落【0016】）と記載され、界面荒れの発生は、ＰH2O／ＰH2が「１０-2以上」の場合に防止されると説明されている。
　してみれば、引用例１に記載された発明においても、ＰH2O／ＰH2が１０-2以上の範囲、即ち、本件発明１と重複・一致した、上記１０-2〜０．２０の範囲においては、本件発明１と同様、界面荒れが防止されているものといえ、したがって、上記（Ｂ）の点に、実質的な相違があるとすることはできない。
　　
　なお、特許権者は、特許異議意見書において、引用例１に記載されたＨ2濃度（段落【0045】）について言及して、本件発明１との相違を主張しているが、Ｈ2濃度は本件発明１の特定事項とされておらず、したがって、上記主張は特許請求の範囲に記載された本件発明１の特定事項に基づかない主張である。
　なおまた、引用例１には、線状、又は点状に歪み及び／又は溝を付与（摘記1-1）するという、磁区細分化処理を行うことが記載されており、この点で両者は表記上相違している。しかし、磁区細分化は電磁鋼板製造における常套手段であり、また本件発明１には、そのような磁区細分化処理を排除する特段の特定はないことからすると、上記の磁区細分化の点において、本件発明１が、引用例１に記載された発明と、実質的に相違するとすることはできない。
　以上のとおり、上記（Ａ）及び（Ｂ）の点はいずも実質的な相違点を構成するものとはいえず、したがって、本件発明１は、引用例１に記載された発明である。
　　
（２）本件発明２について
　本件発明２は、本件発明１において、絶縁皮膜を形成させるコーティング液につき、「リン酸塩とコロイド状シリカを主体とする」とするものである。
　これについて検討すると、引用例１には、絶縁被膜剤成分としては、ＳｉＯ2等のコロイド状溶液１００重量部、第１リン酸塩１３０〜２００重量部であり、張力効果を生じること（摘記1-5）、及び、「絶縁被膜剤として２０％コロイド状シリカ１００ml＋５０％リン酸アルミニウム５５ml＋ＣｒＯ3 ５ｇからなるコーティング剤」（摘記1-9）を用いたことが記載されており、してみれば、本件発明２のコーティング液は、引用例１の発明で用いられるものと一致している。
　したがって、本件発明２は、上記「（１）本件発明１について」の欄に記載したと同様、引用例１に記載された発明である。
　　
(V-2)理由２（特許法第２９条第２項の規定に係る理由）について
（１）本件発明１について
　本件発明１と、引用例１に記載された発明とは、上記(V-1)（理由１について）の欄に記載したとおり、
（ａ）本件発明１では、絶縁膜が「非晶質主体」とされているのに対して、引用例１にはその記載が見あたらない点、及び、
（ｂ）本件発明１では、「鋼板と張力付与型絶縁皮膜との間に生ずる界面荒れを防止する」としているのに対して、引用例１にはその記載が見あたらない点、
の各点で一応相違し、残余の点については一致している。
　なお、当該相違点（ａ）、（ｂ）は、それぞれ、上記(V-1)欄に記載した相違点（Ａ）、（Ｂ）に対応する。
　そこで、相違点（ａ）について検討すると、上記(V-1)欄に記載したとおり、引用例２〜５には、絶縁被膜がガラス状あるいは非結晶質であって、「非晶質主体」といえるものであることが記載されており、したがって、本件発明１のように絶縁膜について「非晶質主体」と特定することに格別の困難性があるとはいえず、なおかつ、本件明細書及び図面の記載を見ても、そのように「非晶質主体」と特定したことにより、格別の効果が奏されたと認めることはできない。
　一方、上記相違点（ｂ）は、上記(V-1)欄に記載したとおり、実質的な相違点とは言えないものである。
　以上のとおりであるから、本件発明１は、引用例１〜５に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができた発明である。
　　
（２）本件発明２について
　本件発明２は、本件発明１において、絶縁皮膜を形成させるコーティング液につき、「リン酸塩とコロイド状シリカを主体とする」としたものである。
　しかし、このコーティング液は、上記(V-1)欄で指摘したとおり引用例１に記載され、また、引用例２（摘記2-1、2-3参照。）、引用例３（摘記3-5参照。）、引用例４（摘記4-3参照。）、及び引用例５（摘記5-2参照。）に記載されたとおり、従前知られたコーティング液であり、なおかつ、本件明細書及び図面の記載を見ても、上記のコーティング液に特定したことにより格別の効果が奏されたと認めることはできない。
　したがって、本件発明２は、引用例１〜５に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができた発明である。
　　
VI．むすび
　以上のとおりであるから、本件発明１及び２は、いずれも引用例１に記載された発明であり、また、引用例１〜５に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができた発明であって、特許法第２９条第１、２項の規定に違反して特許を受けたものであるから、本件発明１及び２に係る特許は、特許法第４９条第１項第２号の規定により拒絶をすべき旨の査定をしなければならない特許出願についてなされたものである。
　したがって、本件発明１及び２に係る特許は、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第１４条の規定により委任する、特許法等の一部を改正する法律の一部の施行に伴う経過措置を定める政令（平成７年政令第２０５号）第４条第２項の規定により、取り消すべきものである。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１６年１月２０日（２００４．１．２０）