(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性基体と、
前記導電性基体上に設けられた酸化亜鉛粒子を含む下引層であって、前記下引層に対してコール・コールプロット解析を行った場合の、複素インピーダンス成分が最大となる角周波数ωｍａｘが、２（ｒａｄ）≦ωｍａｘ≦１０（ｒａｄ）である下引層と、
前記下引層上に設けられた感光層と、
を有する電子写真感光体。
【請求項２】
前記下引層が、水酸基を持つアントラキノン構造を有する化合物を含有する請求項１に記載の電子写真感光体。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
【請求項４】
請求項１又は請求項２に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する接触帯電方式の帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子写真方式の画像形成装置は高速でかつ高印字の品質が得られ、複写機およびレーザビームプリンター等の画像形成装置において利用されている。画像形成装置において用いられる感光体としては、有機の光導電性材料を用いた有機感光体が主流となっている。有機感光体を製造する場合、例えば、アルミニウム等の導電性基体の上に下引層（中間層と呼ばれる場合もある）を形成し、その後、感光層を形成する場合が多い。
【０００３】
例えば、特許文献１には下引層中に針状酸化チタン粒子を含有し、該針状酸化チタン粒子圧粉体の体積抵抗値を特定の範囲に制御する電子写真感光体が開示されている。
特許文献２には、アルミニウム陽極酸化皮膜からなる中間層、電荷発生層、電荷輸送層からなり、かつ該中間層が周波数１００Ｈｚで測定したときの抵抗値（Ｒ）と静電容量（Ｃ）との積を特定の範囲に制御する電子写真感光体が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平７−８４３９３号公報
【特許文献２】特開平９−２３０６１７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の課題は、接触帯電方式の帯電手段を用いた画像形成装置において、金属酸化物粒子を含む下引層に対してコール・コールプロット解析を行ったとき、複素インピーダンス成分が最大となる角周波数ωｍａｘが１０を超える場合に比べて、低画像濃度の画像におけるスジ状の画質欠陥の発生が抑制される電子写真感光体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題は、以下の手段により解決される。
即ち、＜１＞に係る発明は、
導電性基体と、
前記導電性基体上に設けられた金属酸化物粒子を含む下引層であって、前記下引層に対してコール・コールプロット解析を行った場合の、複素インピーダンス成分が最大となる角周波数ωｍａｘが、２（ｒａｄ）≦ωｍａｘ≦１０（ｒａｄ）である下引層と、
前記下引層上に設けられた感光層と、
を有する電子写真感光体である。
【０００７】
＜２＞に係る発明は、
前記金属酸化物粒子が、酸化亜鉛粒子である＜１＞に記載の電子写真感光体である。
【０００８】
＜３＞に係る発明は、
前記下引層が、水酸基を持つアントラキノン構造を有する化合物を含有する＜１＞又は＜２＞に記載の電子写真感光体である。
【０００９】
＜４＞に係る発明は、
＜１＞〜＜３＞のいずれか１項に記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジである。
【００１０】
＜５＞に係る発明は、
＜１＞〜＜３＞のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する接触帯電方式の帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置である。
【発明の効果】
【００１１】
＜１＞、又は＜２＞に係る発明によれば、接触帯電方式の帯電手段を用いた画像形成装置において、下引層に対してコール・コールプロット解析を行ったとき、複素インピーダンス成分が最大となる角周波数ωｍａｘが１０を超える場合に比べて、低画像濃度の画像におけるスジ状の画質欠陥の発生が抑制される電子写真感光体が提供される。
【００１２】
＜３＞に係る発明によれば、金属酸化物粒子を含む下引層において、水酸基を持つアントラキノン構造を有する化合物を含まない場合に比べて、低画像濃度の画像におけるスジ状の画質欠陥の発生が抑制される電子写真感光体が提供される。
【００１３】
＜４＞、又は＜５＞に係る発明によれば、接触帯電方式の帯電手段を用いた画像形成装置において下引層に対してコール・コールプロット解析を行ったとき、複素インピーダンス成分が最大となる角周波数ωｍａｘが１０を超える電子写真感光体を適用した場合に比べて、低画像濃度の画像におけるスジ状の画質欠陥の発生が抑制されるプロセスカートリッジ、又は画像形成装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】抵抗とコンデンサーとの並列回路を表す模式図である。
【図２】コール・コールプロット解析の概念を示す図表である。
【図３】本実施形態に係る電子写真感光体の層構成の一例を示す概略部分断面図である。
【図４】本実施形態に係る電子写真感光体の層構成の他の一例を示す概略部分断面図である。
【図５】本実施形態に係る電子写真感光体の層構成の他の一例を示す概略部分断面図である。
【図６】本実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。
【図７】他の本実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明の一例である実施形態について詳細に説明する。
【００１６】
［電子写真感光体］
本実施形態に係る電子写真感光体（以下、「感光体」と称することがある）は、導電性基体と、下引層と、感光層とを有する。そして、下引層は、金属酸化粒子を含み、下引層に対してコール・コールプロット解析を行った場合の、複素インピーダンス成分が最大となる角周波数ωｍａｘ（以下、単に「角周波数ωｍａｘ」と称することがある）が、２（ｒａｄ）≦ωｍａｘ≦１０（ｒａｄ）の範囲である。
【００１７】
本実施形態に係る感光体は、角周波数ωｍａｘが、上記範囲であると、低画像濃度（例えば３０％）の画像（以下、低画像濃度の画像を「ハーフトーン画像」と称することがある）におけるスジ状の画質欠陥の発生が抑制される。この理由は定かではないが、以下に示す理由によるものと推測される。
【００１８】
電子写真方式の画像形成装置において、電子写真感光体表面を帯電させる方式としては、接触方式の帯電手段（以下、「接触型帯電装置」と称することがある）を感光体の表面に接触させて、感光体の表面を帯電させる方式が主流になりつつある。
【００１９】
例えば、感光体と接触型帯電装置を用いた画像形成装置において、出力画像上に出力方向に対して直角方向にスジ状の画質欠陥（以下、「異常放電画質欠陥」と称することがある）が発生することがある。この異常放電画質欠陥の発生は、特に、全面ハーフトーン画像（記録媒体全面が低濃度画像で形成された画像）を出力すると顕著に見られやすい。
【００２０】
感光体と接触型帯電装置を用いた画像形成装置において、接触型帯電装置により感光体の表面を帯電させるとき、接触型帯電装置から感光体の表面に対して、異常放電が発生することがある。異常放電が発生すると、感光体の表面に帯電ムラが生じやすくなり、その結果として、異常放電画質欠陥が発生しやすくなる。
また、接触型帯電装置から感光体の表面に対して発生する異常放電は、接触型帯電装置と感光体の表面との間で、電荷移動が増大することで生じることに起因していると考えられる。そして、感光体の導電性基体から感光体の表面に電荷が移動することで、異常放電はより発生し易くなる。
【００２１】
ここで、金属酸化物粒子を含有する下引層は、導電性基体から感光層への電荷の流入を抑制する機能を有している。しかしながら、下引層中で電荷が移動しすぎると、感光層への電荷の流入を抑制することが困難になりやすい。一方で、下引層中で電荷が移動しにくくなりすぎると、画質濃度が低下しやすく、感光体としての性能が発揮されにくくなる。
【００２２】
下引層中の電荷の移動し易さは、下引層にコール・コールプロット解析を実施した場合、複素インピーダンス成分が最大となる角周波数ωｍａｘで見積もることができる。
すなわち、角周波数ωｍａｘが小さいということは、コール・コールプロット解析において印加される交流電圧に対する電荷の応答速度が遅くなることを意味し、これは下引層中の電荷が移動しにくいことを意味する。一方、ωｍａｘが大きいということは、下引層中の電荷が移動しやすいことを意味する。
そして、角周波数ωｍａｘが、上記範囲内であることで、下引層中の電荷の移動しやすさが、適性に制御されているために、接触型帯電装置と電子写真感光体との間で生じる異常放電の発生が抑制されると考えられる。その結果、異常放電画質欠陥（つまり、スジ状の画質欠陥）の発生が抑制されると推測される。
【００２３】
なお、角周波数ωｍａｘが上記範囲内に無い場合には、次の現象が見られることがある。角周波数ωｍａｘが１０（ｒａｄ）を超える場合には、下引層中で電荷が移動しすぎるようになり、接触型帯電装置と感光体の表面との間で異常放電が発生しやすくなるため、異常放電画質欠陥が発生しやすくなる。一方で、角周波数ωｍａｘが２（ｒａｄ）未満である場合には、上記の異常放電画質欠陥の発生は抑制し得るものの、下引層中の電荷の移動が困難になりやすく、画質濃度が低下しやすい。
【００２４】
なお、本実施形態に係る感光体は、上記構成を有していることにより、本実施形態に係る感光体を適用した画像形成装置を長期使用した場合にも、異常放電画質欠陥の発生が抑制される。
【００２５】
ここで、コール・コールプロット（Ｃｏｌｅ−Ｃｏｌｅ  Ｐｌｏｔ）解析を実施した場合の、複素インピーダンス成分（インピーダンスＺの虚数成分Ｚ´´）が最大となる角周波数ωｍａｘについて説明する。
【００２６】
例えば、電子写真感光体の各層を構成する導電性有機膜の等価回路としては、一般的に、抵抗（抵抗値：Ｒ）とコンデンサー（静電容量：Ｃ）の並列回路が適用される。抵抗値Ｒおよび静電容量Ｃが不明な並列回路において、抵抗値Ｒと静電容量Ｃとを解析・算出する方法として、コール・コールプロット（Ｃｏｌｅ−Ｃｏｌｅ  Ｐｌｏｔ）解析が挙げられる。
コール・コールプロット解析とは、抵抗値Ｒおよび静電容量Ｃが不明の並列回路（例えば、導電性有機膜）の両端に電極を取り付け、両電極間に、周波数を変化させながら交流電圧を印加し、印加させた電圧と得られた電流の位相関係を解析する方法である。この方法により、上記並列回路の抵抗値Ｒと静電容量Ｃが求められる。
以下に、測定・解析の原理を説明する。
【００２７】
図１で表される並列回路（抵抗（抵抗値：Ｒ）とコンデンサー（静電容量：Ｃ）の並列回路）を考えると、この並列回路のインピーダンスＺは、下記式（Ｉ）で表される。ここで、ｉは虚数を、ωは並列回路に印加される電圧の角周波数（ｒａｄ）を表す。
式（Ｉ）・・・・１／Ｚ＝１／Ｒ＋ｉωＣ
【００２８】
次に、式（Ｉ）を下記式（ＩＩ）に書き換えると以下のようになる。
式（ＩＩ）・・・Ｚ＝Ｒ／（１＋ω２Ｒ２Ｃ２）−ｉ［ωＲ２Ｃ／（１＋ω２Ｒ２Ｃ２）］
【００２９】
ここで、インピーダンスＺをその実数成分Ｚ´と虚数成分Ｚ´´を用いて表すと、インピーダンスＺは、下記式（ＩＩＩ）のように表される。
式（ＩＩＩ）・・・Ｚ＝Ｚ´＋ｉＺ´´
【００３０】
また、実数成分Ｚ´と虚数成分Ｚ´´はそれぞれ、下記式（ＩＶ）と下記式（Ｖ）のように表される。
式（ＩＶ）・・・Ｚ´＝Ｒ／（１＋ω２Ｒ２Ｃ２）
式（Ｖ）・・・・Ｚ´´＝ωＲ２Ｃ／（１＋ω２Ｒ２Ｃ２）
【００３１】
そして、式（ＩＶ）と式（Ｖ）からωを消去すると、最終的には、下記式（ＶＩ）が得られる。
式（ＶＩ）・・・（Ｚ´−Ｒ／２）２＋Ｚ´´２＝（Ｒ／２）２
【００３２】
式（ＶＩ）の意味するところは、縦軸に虚数成分Ｚ´´をとり、横軸に実数成分Ｚ´をとって、図２の概念図で示す図表として表すと、実数成分Ｚ´と虚数成分Ｚ´´は、座標（Ｒ／２、０）を中心とした半円になることを示している。そして、虚数成分Ｚ´´が最大となる点での角周波数がωｍａｘ（ｒａｄ）であり、このωｍａｘは、静電容量成分が最大となる点である。
【００３３】
すなわち、抵抗値Ｒと静電容量Ｃとが、不明の並列回路に、周波数を変化させながら交流電圧を印加すると、得られた電流の絶対値と印加電圧との位相差から、図２のような図表を描くことができる。そして、この図表から抵抗値Ｒと角周波数ωｍａｘ、さらに、静電容量Ｃを算出することができる。
【００３４】
以下、図面を参照しつつ、本実施形態に係る電子写真感光体について詳細に説明する。
図３は、本実施形態に係る電子写真感光体の一例を示す概略断面図である。図４、図５はそれぞれ本実施形態に係る電子写真感光体の他の一例を示す概略断面図である。
【００３５】
図３に示す電子写真感光体７Ａは、いわゆる機能分離型感光体（又は積層型感光体）であり、導電性基体４上に下引層１が設けられ、その上に電荷発生層２、電荷輸送層３、及び保護層５が順次形成された構造を有するものである。電子写真感光体７Ａにおいては、電荷発生層２及び電荷輸送層３により感光層が構成される。
【００３６】
図４に示す電子写真感光体７Ｂは、図３に示す電子写真感光体７Ａのごとく、電荷発生層２と電荷輸送層３とに機能が分離された機能分離型感光体である。
図４に示す電子写真感光体７Ｂにおいては、導電性基体４上に下引層１が設けられ、その上に、電荷輸送層３、電荷発生層２、及び保護層５が順次形成された構造を有するものである。電子写真感光体７Ｂにおいては、電荷輸送層３及び電荷発生層２により感光層が構成される。
【００３７】
図５に示す電子写真感光体７Ｃは、電荷発生材料と電荷輸送材料とを同一の層（単層型感光層６）に含有するものである。図３に示す電子写真感光体７Ｃにおいては、導電性基体４上に下引層１が設けられ、その上に単層型感光層６、保護層５が順次形成された構造を有するものである。
【００３８】
そして、図３、図４、及び図５に示す電子写真感光体７Ａ、７Ｂ、及び７Ｃにおいて、保護層５が、導電性基体４から最も遠い側に配置される最表面層となっており、当該最表面層が、上記の構成となっている。
【００３９】
以下、代表例として図３に示す電子写真感光体７Ａの各要素について説明する。なお、符号は省略して説明する。
【００４０】
（導電性基体）
導電性基体としては、例えば、金属（アルミニウム、銅、亜鉛、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等）又は合金（ステンレス鋼等）を含む金属板、金属ドラム、及び金属ベルト等が挙げられる。また、導電性基体としては、例えば、導電性化合物（例えば導電性ポリマー、酸化インジウム等）、金属（例えばアルミニウム、パラジウム、金等）又は合金を塗布、蒸着又はラミネートした紙、樹脂フィルム、ベルト等も挙げられる。ここで、「導電性」とは体積抵抗率が１０１３Ωｃｍ未満であることをいう。
【００４１】
導電性基体の表面は、電子写真感光体がレーザプリンタに使用される場合、レーザ光を照射する際に生じる干渉縞を抑制する目的で、中心線平均粗さＲａで０．０４μｍ以上０．５μｍ以下に粗面化されていることが好ましい。なお、非干渉光を光源に用いる場合、干渉縞防止の粗面化は、特に必要ないが、導電性基体の表面の凹凸による欠陥の発生を抑制するため、より長寿命化に適する。
【００４２】
粗面化の方法としては、例えば、研磨剤を水に懸濁させて導電性基体に吹き付けることによって行う湿式ホーニング、回転する砥石に導電性基体を圧接し、連続的に研削加工を行うセンタレス研削、陽極酸化処理等が挙げられる。
【００４３】
粗面化の方法としては、導電性基体の表面を粗面化することなく、導電性又は半導電性粉体を樹脂中に分散させて、導電性基体の表面上に層を形成し、その層中に分散させる粒子により粗面化する方法も挙げられる。
【００４４】
陽極酸化による粗面化処理は、金属製（例えばアルミニウム製）の導電性基体を陽極とし電解質溶液中で陽極酸化することにより導電性基体の表面に酸化膜を形成するものである。電解質溶液としては、例えば、硫酸溶液、シュウ酸溶液等が挙げられる。しかし、陽極酸化により形成された多孔質陽極酸化膜は、そのままの状態では化学的に活性であり、汚染され易く、環境による抵抗変動も大きい。そこで、多孔質陽極酸化膜に対して、酸化膜の微細孔を加圧水蒸気又は沸騰水中（ニッケル等の金属塩を加えてもよい）で水和反応による体積膨張でふさぎ、より安定な水和酸化物に変える封孔処理を行うことが好ましい。
【００４５】
陽極酸化膜の膜厚は、例えば、０．３μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。この膜厚が上記範囲内にあると、注入に対するバリア性が発揮される傾向があり、また繰り返し使用による残留電位の上昇が抑えられる傾向にある。
【００４６】
導電性基体には、酸性処理液による処理又はベーマイト処理を施してもよい。
酸性処理液による処理は、例えば、以下のようにして実施される。先ず、リン酸、クロム酸及びフッ酸を含む酸性処理液を調製する。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸及びフッ酸の配合割合は、例えば、リン酸が１０質量％以上１１質量％以下の範囲、クロム酸が３質量％以上５質量％以下の範囲、フッ酸が０．５質量％以上２質量％以下の範囲であって、これらの酸全体の濃度は１３．５質量％以上１８質量％以下の範囲がよい。処理温度は例えば４２℃以上４８℃以下が好ましい。被膜の膜厚は、０．３μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。
【００４７】
ベーマイト処理は、例えば９０℃以上１００℃以下の純水中に５分から６０分間浸漬すること、又は９０℃以上１２０℃以下の加熱水蒸気に５分から６０分間接触させて行う。被膜の膜厚は、０．１μｍ以上５μｍ以下が好ましい。これをさらにアジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩等の被膜溶解性の低い電解質溶液を用いて陽極酸化処理してもよい。
【００４８】
（下引層）
本実施形態の感光体において、下引層は、金属酸化物粒子を含んで構成されている。例えば、下引層は、金属酸化物粒子と結着樹脂とを含む層である。また、前述のように、本実施形態では、下引層は、金属酸化物粒子を含有しており、下引層に対してコール・コールプロット解析を行った場合の、複素インピーダンス成分が最大となる角周波数ωｍａｘが、２（ｒａｄ）≦ωｍａｘ≦１０（ｒａｄ）である。
【００４９】
前述の異常放電画質欠陥の発生をより抑制する観点から、角周波数ωｍａｘは、２（ｒａｄ）以上７．５（ｒａｄ）以下であることが好ましい。より好ましくは、４．０（ｒａｄ）以上７．５（ｒａｄ）以下である。
【００５０】
下引層に対してコール・コールプロット解析を行った場合の、複素インピーダンス成分が最大となる角周波数ωｍａｘの測定方法は、以下の方法により行う。
電源として、ＳＩ１２８７  ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｅｍｉｃａｌ  ｉｎｔｅｒｆａｃｅ（東陽テクニカ社製）、電流計として、ＳＩ１２６０  ｉｎｐｅｄａｎｃｅ／ｇａｉｎ  ｐｈａｓｅ  ａｎａｌｙｚｅｒ（東陽テクニカ社製）、電流アンプとして１２９６  ｄｉｅｌｅｃｔｒｉｃ  ｉｎｔｅｒｆａｃｅ（東陽テクニカ社製）を用いる。
導電性基体（例えば、アルミニウム基体）を陰極、金電極を陽極として、１Ｖｐ−ｐの交流電圧を周波数１ＭＨｚから１ｍＨｚまでの範囲で高周波側から印加して交流インピーダンスを測定する。この測定から得られたコール・コールプロットの図表により、角周波数ωｍａｘが測定される。なお、上記装置と同等の測定が可能であるならば、他の測定機を用いることも可能である。
【００５１】
なお、測定対象となる感光体から、上記角周波数ωｍａｘを測定する方法としては、以下のとおりである。
まず、測定対象となる感光体を準備する。次に、例えば、下引層を被覆している電荷発生層、及び電荷輸送層等の感光層をアセトン、テトラヒドロフラン、メタノール、エタノール等の溶剤を用いて除去し、下引層を露出させる。そして、露出された下引層上に真空蒸着法やスパッタ法等の手段により金電極を装着して、測定用試料とする。そして、この測定用試料について、上記の測定装置により、角周波数ωｍａｘを測定する。
【００５２】
本実施形態の感光体において、角周波数ωｍａｘは、例えば、金属酸化物粒子の粒度分布を調整することによって制御することができる。
金属酸化物粒子の粒度分布が大きい場合は、金属酸化物粒子間距離の分布も大きくなる。そして、金属酸化物粒子間距離の短い成分の影響により、コール・コールプロット解析における交流電圧に対する応答速度が速くなりやすい。その結果、ωｍａｘは大きくなる。
【００５３】
例えば、金属酸化物粒子を分散させた下引層形成用塗布液の塗膜を形成して下引層を形成する場合、下引層の膜中に、例えば、一次粒子とともに、一次粒子が凝集した状態の二次粒子による金属酸化物粒子が存在していることがある。二次粒子の金属酸化物粒子は、一次粒子に比べて粒径が大きく、この二次粒子の金属酸化物粒子の存在によって、電荷が移動する経路が形成されやすい。そして、この二次粒子の金属酸化物粒子によって、下引層中で電荷が移動しすぎるようになると、感光層への電荷の流入を抑制しにくくなる。一方で、分散が進みすぎ、下引層中で、一次粒子の金属酸化物粒子が増加しすぎると、電荷が移動しにくくなるために、画質濃度が低下しやすい。そのため、粒度分布を調整することで、下引層中での電荷が移動のしやすさが適性に調整され、角周波数ωｍａｘを上記範囲に制御することができる。
【００５４】
金属酸化物粒子の粒度分布を調整する方法の一例としては、例えば、第１の金属酸化物粒子を含む第１の下引層形成用塗布液の分散液Ａと、第２の金属酸化物粒子を含む第２の下引層形成用塗布液の分散液Ｂとを混合した下引層形成用塗布液を用いる方法が挙げられる。
ここで、分散液Ａ中の第１の金属酸化物粒子の粒径は、分散液Ｂ中の第２の金属酸化物粒子の粒径よりも小さくされている。
【００５５】
金属酸化物粒子の粒度分布を調整する方法としては、例えば、具体的には、下引層形成用塗布液の金属酸化物粒子の分散工程において、金属酸化物粒子の固形分濃度が既知である下引層形成用塗布液を長時間分散を行った分散液Ａを準備する。次に、分散液Ａと同じ固形分濃度である下引層形成用塗布液を用意し、分散液Ａの分散時間よりも短い時間（例えば、分散液Ａの分散時間の半分）で分散した分散液Ｂを準備する。
なお、分散液Ａは、長時間分散を行うことにより、分散液Ａ中の金属酸化物粒子の粒径は小さくされている。一方、分散液Ｂは分散時間が短いために、分散液Ｂ中の金属酸化物粒子の粒径は、分散液Ａ中の金属酸化物粒子の粒径よりも大きい。
【００５６】
次に、上記分散液Ａと上記分散液Ｂとを混合し、下記式（ｒ）で表される金属酸化物粒子の固形分含有量の質量比ｒ（％）を調整することによって、金属酸化物粒子の粒度分布を調整することが可能となる。そして、この質量比ｒを調整することで、角周波数ωｍａｘを制御することができる。
式（ｒ）・・・ｒ＝｛Ａ／（Ａ＋Ｂ）｝×１００
ここで、式（ｒ）において、Ａは、分散液Ａ中の金属酸化物粒子の固形分含有量（質量部）、Ｂは、分散液Ｂ中の金属酸化物粒子の固形分含有量（質量部）を表す。
【００５７】
なお、上記では、分散液Ｂの分散時間の一例として、分散液Ａの半分の時間である場合について説明したが、分散液Ａの分散時間と、分散液Ｂの分散時間との差は、角周波数ωｍａｘが上記範囲に制御できれば、特に制限されるものではない。また、分散液Ａ中の金属酸化物粒子の固形分濃度と、分散液Ｂ中の金属酸化物粒子の固形分濃度とは、同じ固形分濃度である場合について説明したが、同じ理由で、特に制限されるものではない。
さらに、金属酸化物粒子の粒径が小さい下引層形成用塗布液中と、金属酸化物粒子の粒径が大きい下引層形成用塗布液中とを混合する方法を例に挙げて説明したが、この方法に限定されるものではない。
【００５８】
金属酸化物粒子としては、例えば、粉体抵抗（体積抵抗率）１０２Ωｃｍ以上１０１１Ωｃｍ以下の金属酸化物粒子が挙げられる。
これらの中でも、上記抵抗値を有する金属酸化物粒子としては、例えば、酸化錫粒子、酸化チタン粒子、酸化亜鉛粒子、酸化ジルコニウム粒子等が挙げられ、特に、酸化亜鉛粒子が好ましい。
【００５９】
金属酸化物粒子のＢＥＴ法による比表面積は、例えば、１０ｍ２／ｇ以上がよい。
金属酸化物粒子の体積平均粒径は、例えば、５０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下（好ましくは６０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下）がよい。
【００６０】
金属酸化物粒子の含有量は、例えば、結着樹脂に対して、１０質量％以上８０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは４０質量％以上８０質量％以下である。
【００６１】
金属酸化物粒子は、表面処理が施されていてもよい。金属酸化物粒子は、表面処理の異なるものを２種以上混合して用いてもよい。
【００６２】
表面処理剤としては、例えば、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、界面活性剤等が挙げられる。特に、シランカップリング剤が好ましく、アミノ基を有するシランカップリング剤がより好ましい。
【００６３】
アミノ基を有するシランカップリング剤としては、例えば、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００６４】
シランカップリング剤は、２種以上混合して使用してもよい。例えば、アミノ基を有するシランカップリング剤と他のシランカップリング剤とを併用してもよい。この他のシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリルオキシプロピル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００６５】
表面処理剤による表面処理方法は、公知の方法であればいかなる方法でもよく、乾式法又は湿式法のいずれでもよい。
【００６６】
表面処理剤の処理量は、例えば、金属酸化物粒子に対して０．５質量％以上１０質量％以下が好ましい。
【００６７】
ここで、下引層は、金属酸化物粒子と共に電子受容性化合物（アクセプター化合物）を含有することが、電気特性の長期安定性、キャリアブロック性が高まる観点からよい。
【００６８】
電子受容性化合物としては、例えば、クロラニル、ブロモアニル等のキノン系化合物；テトラシアノキノジメタン系化合物；２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物；２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物；キサントン系化合物；チオフェン化合物；３，３’，５，５’テトラ−ｔ−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物；等の電子輸送性物質等が挙げられる。
特に、電子受容性化合物としては、アントラキノン構造を有する化合物が好ましい。アントラキノン構造を有する化合物としては、例えば、ヒドロキシアントラキノン化合物、アミノアントラキノン化合物、アミノヒドロキシアントラキノン化合物等が好ましく、具体的には、例えば、アントラキノン、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリン等が好ましい。
【００６９】
アントラキノン構造を有する化合物の中でも、材料の入手性、電子輸送能力等の点で、水酸基（ヒドロキシ基）を持つアントラキノン構造を有する化合物が特に好ましい。水酸基を持つアントラキノン構造を有する化合物は、アントラキノン構造のうちの芳香環の水素原子の少なくとも一つが水酸基で置換された化合物であり、下記一般式（１）で表される化合物、又は下記一般式（２）で表される化合物を用いることがより好ましい。下記一般式（１）で表される化合物がさらに好ましく、とりわけ、材料の入手性や取扱い性などの点で、後述する化合物の具体例（１−９）で表される化合物を用いることが特に好ましい。
【００７０】
【化１】
0006447178.tif 000002
【００７１】
一般式（１）中、ｎ１及ｎ２は、各々独立に０以上３以下の整数を表す。但し、ｎ１及ｎ２の少なくとも一方は、各々独立に１以上３以下の整数を表す（つまり、ｎ１およびｎ２が同時に０を表さない）。ｍ１及びｍ２は、各々独立に０又は１の整数を示す。Ｒ１及びＲ２は、各々独立に炭素数１以上１０以下のアルキル基、又は炭素数１以上１０以下のアルコキシ基を表す。
【００７２】
【化２】
0006447178.tif 000003
【００７３】
一般式（２）中、ｎ１、ｎ２、ｎ３、及びｎ４は、各々独立に０以上３以下の整数を表す。ｍ１及びｍ２は、各々独立に０又は１の整数を示す。ｎ１及ｎ２の少なくとも一方は、各々独立に１以上３以下の整数を表す（つまり、ｎ１及ｎ２が同時に０を表さない）。ｎ３及ｎ４の少なくとも一方は、各々独立に１以上３以下の整数を表す（つまり、ｎ３及ｎ４が同時に０を表さない）。ｒは、２以上１０以下の整数を示す。Ｒ１及びＲ２は、各々独立に炭素数１以上１０以下のアルキル基、又は炭素数１以上１０以下のアルコキシ基を表す。
【００７４】
ここで、一般式（１）及び（２）中、Ｒ１及びＲ２が表す炭素数１以上１０以下のアルキル基としては、直鎖状、又は分岐状のいずれでもよく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等が挙げられる。炭素数１以上１０以下のアルキル基としては、望ましくは１以上８以下のアルキル基、より望ましくは１以上６以下のアルキル基である。
Ｒ１及びＲ２が表す炭素数１以上１０以下のアルコキシ基としては、直鎖状、または分岐状のいずれでもよく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、オクトキシ基等が挙げられる。炭素数１以上１０以下のアルコキシ基としては、望ましくは炭素数１以上８以下のアルコキシ基、より望ましくは炭素数１以上６以下のアルコキシ基である。
【００７５】
ここで、電子受容性化合物の具体的を以下に示す。但し、これらに限定されるものではない。
なお、下記の化合物の具体例において、「例示化合物」と称し、例えば、下記（１−１）の化合物であれば「例示化合物（１−１）」と称す。
また、下記例示化合物中、「Ｍｅ」はメチル基を表し、「Ｅｔ」はエチル基を表し、「Ｂｕ」はｎ−ブチル基を表し、「Ｃ８Ｈ１７」はｎ−オクチル基を表す。
【００７６】
【化３】
0006447178.tif 000004
【００７７】
【化４】
0006447178.tif 000005
【００７８】
【化５】
0006447178.tif 000006
【００７９】
電子受容性化合物は、下引層中に金属酸化物粒子と共に分散して含まれていてもよいし、金属酸化物粒子の表面に付着した状態で含まれていてもよい。
【００８０】
電子受容性化合物を金属酸化物粒子の表面に付着させる方法としては、例えば、乾式法、又は、湿式法が挙げられる。
【００８１】
乾式法は、例えば、金属酸化物粒子をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、直接又は有機溶媒に溶解させた電子受容性化合物を滴下、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させて、電子受容性化合物を金属酸化物粒子の表面に付着する方法である。電子受容性化合物の滴下又は噴霧するときは、溶剤の沸点以下の温度で行うことがよい。電子受容性化合物を滴下又は噴霧した後、更に１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に制限されない。
【００８２】
湿式法は、例えば、攪拌、超音波、サンドミル、アトライター、ボールミル等により、金属酸化物粒子を溶剤中に分散しつつ、電子受容性化合物を添加し、攪拌又は分散した後、溶剤除去して、電子受容性化合物を金属酸化物粒子の表面に付着する方法である。溶剤除去方法は、例えば、ろ過又は蒸留により留去される。溶剤除去後には、更に１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に限定されない。湿式法においては、電子受容性化合物を添加する前に金属酸化物粒子の含有水分を除去してもよく、その例として溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法が挙げられる。
【００８３】
なお、電子受容性化合物の付着は、表面処理剤による表面処理を金属酸化物粒子に施す前又は後に行ってよく、電子受容性化合物の付着と表面処理剤による表面処理と同時に行ってもよい。
【００８４】
電子受容性化合物の含有量は、例えば、金属酸化物粒子に対して０．０１質量％以上２０質量％以下がよく、好ましくは０．０１質量％以上１０質量％以下である。
【００８５】
下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の公知の高分子化合物；ジルコニウムキレート化合物；チタニウムキレート化合物；アルミニウムキレート化合物；チタニウムアルコキシド化合物；有機チタニウム化合物；シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。
下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂、導電性樹脂（例えばポリアニリン等）等も挙げられる。
【００８６】
これらの中でも、下引層に用いる結着樹脂としては、上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が好適であり、特に、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂；ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂及びポリビニルアセタール樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂と硬化剤との反応により得られる樹脂が好適である。
これら結着樹脂を２種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて設定される。
【００８７】
下引層には、電気特性向上、環境安定性向上、画質向上のために種々の添加剤を含んでいてもよい。
添加剤としては、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。シランカップリング剤は前述のように金属酸化物粒子の表面処理に用いられるが、添加剤として更に下引層に添加してもよい。
【００８８】
添加剤としてのシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリルオキシプロピル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【００８９】
ジルコニウムキレート化合物としては、例えば、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。
【００９０】
チタニウムキレート化合物としては、例えば、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。
【００９１】
アルミニウムキレート化合物としては、例えば、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）等が挙げられる。
【００９２】
これらの添加剤は、単独で、又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。
【００９３】
下引層は、ビッカース硬度が３５以上であることがよい。
下引層の表面粗さ（十点平均粗さ）は、モアレ像抑制のために、使用される露光用レーザ波長λの１／４ｎ（ｎは上層の屈折率）から１／２λまでに調整されていることがよい。
表面粗さ調整のために下引層中に樹脂粒子等を添加してもよい。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル樹脂粒子等が挙げられる。また、表面粗さ調整のために下引層の表面を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、湿式ホーニング、研削処理等が挙げられる。
【００９４】
下引層の形成は、角周波数ωｍａｘが上記範囲に制御できれば特に制限されないが、例えば、上記成分を溶剤に加えた下引層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱することで行う。下引層形成用塗布液としては、一例として、既述の下引層形成用塗布液を用いることがよい。すなわち、第１の金属酸化物粒子を含有する第１の下引層形成用塗布液の分散液Ａと、第２の金属酸化物粒子を含有する第２の下引層形成用塗布液の分散液Ｂとを混合して調製した下引層形成用塗布液であって、第１の金属酸化物粒子の粒径が第２の金属酸化物粒子の粒径よりも小さい下引層形成用塗布液であることがよい。
【００９５】
下引層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、公知の有機溶剤、例えば、アルコール系溶剤、芳香族炭化水素溶剤、ハロゲン化炭化水素溶剤、ケトン系溶剤、ケトンアルコール系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤等が挙げられる。
これらの溶剤として具体的には、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が挙げられる。
【００９６】
下引層形成用塗布液を調製するときの金属酸化物粒子の分散方法としては、例えば、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカー等の公知の方法が挙げられる。
【００９７】
下引層形成用塗布液を導電性基体上に塗布する方法としては、例えば、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【００９８】
下引層の膜厚は、例えば、好ましくは１５μｍ以上、より好ましくは１８μｍ以上５０μｍ以下の範囲内に設定される。
【００９９】
（中間層）
図示は省略するが、下引層と感光層との間に中間層をさらに設けてもよい。
中間層は、例えば、樹脂を含む層である。中間層に用いる樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂等の高分子化合物が挙げられる。
中間層は、有機金属化合物を含む層であってもよい。中間層に用いる有機金属化合物としては、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、ケイ素等の金属原子を含有する有機金属化合物等が挙げられる。
これらの中間層に用いる化合物は、単独で又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。
【０１００】
これらの中でも、中間層は、ジルコニウム原子又はケイ素原子を含有する有機金属化合物を含む層であることが好ましい。
【０１０１】
中間層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた中間層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。
中間層を形成する塗布方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
【０１０２】
中間層の膜厚は、例えば、好ましくは０．１μｍ以上３μｍ以下の範囲に設定される。なお、中間層を下引層として使用してもよい。
【０１０３】
（電荷発生層）
電荷発生層は、例えば、電荷発生材料と結着樹脂とを含む層である。また、電荷発生層は、電荷発生材料の蒸着層であってもよい。電荷発生材料の蒸着層は、ＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ）、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）イメージアレー等の非干渉性光源を用いる場合に好適である。
【０１０４】
電荷発生材料としては、ビスアゾ、トリスアゾ等のアゾ顔料；ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料；ペリレン顔料；ピロロピロール顔料；フタロシアニン顔料；酸化亜鉛；三方晶系セレン等が挙げられる。
【０１０５】
これらの中でも、近赤外域のレーザ露光に対応させるためには、電荷発生材料としては、金属フタロシアニン顔料、又は無金属フタロシアニン顔料を用いることが好ましい。具体的には、例えば、特開平５−２６３００７号公報、特開平５−２７９５９１号公報等に開示されたヒドロキシガリウムフタロシアニン；特開平５−９８１８１号公報等に開示されたクロロガリウムフタロシアニン；特開平５−１４０４７２号公報、特開平５−１４０４７３号公報等に開示されたジクロロスズフタロシアニン；特開平４−１８９８７３号公報等に開示されたチタニルフタロシアニンがより好ましい。
【０１０６】
一方、近紫外域のレーザ露光に対応させるためには、電荷発生材料としては、ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料；チオインジゴ系顔料；ポルフィラジン化合物；酸化亜鉛；三方晶系セレン；特開２００４−７８１４７号公報、特開２００５−１８１９９２号公報に開示されたビスアゾ顔料等が好ましい。
【０１０７】
４５０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下に発光の中心波長があるＬＥＤ，有機ＥＬイメージアレー等の非干渉性光源を用いる場合にも、上記電荷発生材料を用いてもよいが、解像度の観点より、感光層を２０μｍ以下の薄膜で用いるときには、感光層中の電界強度が高くなり、基体からの電荷注入による帯電低下、いわゆる黒点と呼ばれる画像欠陥を生じやすくなる。これは、三方晶系セレン、フタロシアニン顔料等のｐ−型半導体で暗電流を生じやすい電荷発生材料を用いたときに顕著となる。
【０１０８】
これに対し、電荷発生材料として、縮環芳香族顔料、ペリレン顔料、アゾ顔料等のｎ−型半導体を用いた場合、暗電流を生じ難く、薄膜にしても黒点と呼ばれる画像欠陥を抑制し得る。ｎ−型の電荷発生材料としては、例えば、特開２０１２−１５５２８２号公報の段落［０２８８］〜［０２９１］に記載された化合物（ＣＧ−１）〜（ＣＧ−２７）が挙げられるがこれに限られるものではない。
なお、ｎ−型の判定は、通常使用されるタイムオブフライト法を用い、流れる光電流の極性によって判定され、正孔よりも電子をキャリアとして流しやすいものをｎ−型とする。
【０１０９】
電荷発生層に用いる結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択され、また、結着樹脂としては、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン等の有機光導電性ポリマーから選択してもよい。
結着樹脂としては、例えば、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノール類と芳香族２価カルボン酸の重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等が挙げられる。ここで、「絶縁性」とは、体積抵抗率が１０１３Ωｃｍ以上であることをいう。
これらの結着樹脂は１種を単独で又は２種以上を混合して用いられる。
【０１１０】
なお、電荷発生材料と結着樹脂の配合比は、質量比で１０：１から１：１０までの範囲内であることが好ましい。
【０１１１】
電荷発生層には、その他、周知の添加剤が含まれていてもよい。
【０１１２】
電荷発生層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた電荷発生層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱することで行う。なお、電荷発生層の形成は、電荷発生材料の蒸着により行ってもよい。電荷発生層の蒸着による形成は、特に、電荷発生材料として縮環芳香族顔料、ペリレン顔料を利用する場合に好適である。
【０１１３】
電荷発生層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等が挙げられる。これら溶剤は、１種を単独で又は２種以上を混合して用いる。
【０１１４】
電荷発生層形成用塗布液中に粒子（例えば電荷発生材料）を分散させる方法としては、例えば、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。高圧ホモジナイザーとしては、例えば、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式等が挙げられる。
なお、この分散の際、電荷発生層形成用塗布液中の電荷発生材料の平均粒径を０．５μｍ以下、好ましくは０．３μｍ以下、更に好ましくは０．１５μｍ以下にすることが有効である。
【０１１５】
電荷発生層形成用塗布液を下引層上（又は中間層上）に塗布する方法としては、例えばブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【０１１６】
電荷発生層の膜厚は、例えば、好ましくは０．１μｍ以上５．０μｍ以下、より好ましくは０．２μｍ以上２．０μｍ以下の範囲内に設定される。
【０１１７】
（電荷輸送層）
電荷輸送層は、例えば、電荷輸送材料と結着樹脂とを含む層である。電荷輸送層は、高分子電荷輸送材料を含む層であってもよい。
【０１１８】
電荷輸送材料としては、ｐ−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物；テトラシアノキノジメタン系化合物；２，４，７−トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物；キサントン系化合物；ベンゾフェノン系化合物；シアノビニル系化合物；エチレン系化合物等の電子輸送性化合物が挙げられる。電荷輸送材料としては、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物等の正孔輸送性化合物も挙げられる。これらの電荷輸送材料は１種を単独で又は２種以上で用いられるが、これらに限定されるものではない。
【０１１９】
電荷輸送材料としては、電荷移動度の観点から、下記構造式（ａ−１）で示されるトリアリールアミン誘導体、及び下記構造式（ａ−２）で示されるベンジジン誘導体が好ましい。
【０１２０】
【化６】
0006447178.tif 000007
【０１２１】
構造式（ａ−１）中、ＡｒＴ１、ＡｒＴ２、及びＡｒＴ３は、各々独立に置換若しくは無置換のアリール基、−Ｃ６Ｈ４−Ｃ（ＲＴ４）＝Ｃ（ＲＴ５）（ＲＴ６）、又は−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＴ７）（ＲＴ８）を示す。ＲＴ４、ＲＴ５、ＲＴ６、ＲＴ７、及びＲＴ８は各々独立に水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を示す。
上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基が挙げられる。また、上記各基の置換基としては、炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基も挙げられる。
【０１２２】
【化７】
0006447178.tif 000008
【０１２３】
構造式（ａ−２）中、ＲＴ９１及びＲＴ９２は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、又は炭素数１以上５以下のアルコキシ基を示す。ＲＴ１０１、ＲＴ１０２、ＲＴ１１１及びＲＴ１１２は各々独立に、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上２以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは無置換のアリール基、−Ｃ（ＲＴ１２）＝Ｃ（ＲＴ１３）（ＲＴ１４）、又は−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＴ１５）（ＲＴ１６）を示し、ＲＴ１２、ＲＴ１３、ＲＴ１４、ＲＴ１５及びＲＴ１６は各々独立に水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表す。Ｔｍ１、Ｔｍ２、Ｔｎ１及びＴｎ２は各々独立に０以上２以下の整数を示す。
上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基が挙げられる。また、上記各基の置換基としては、炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基も挙げられる。
【０１２４】
ここで、構造式（ａ−１）で示されるトリアリールアミン誘導体、及び前記構造式（ａ−２）で示されるベンジジン誘導体のうち、特に、「−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＴ７）（ＲＴ８）」を有するトリアリールアミン誘導体、及び「−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＴ１５）（ＲＴ１６）」を有するベンジジン誘導体が、電荷移動度の観点で好ましい。
【０１２５】
高分子電荷輸送材料としては、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン等の電荷輸送性を有する公知のものが用いられる。特に、特開平８−１７６２９３号公報、特開平８−２０８８２０号公報等に開示されているポリエステル系の高分子電荷輸送材料は特に好ましい。なお、高分子電荷輸送材料は、単独で使用してよいが、結着樹脂と併用してもよい。
【０１２６】
電荷輸送層に用いる結着樹脂は、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーンアルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン等が挙げられる。これらの中でも、結着樹脂としては、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂が好適である。これらの結着樹脂は１種を単独で又は２種以上で用いる。
なお、電荷輸送材料と結着樹脂との配合比は、質量比で１０：１から１：５までが好ましい。
【０１２７】
電荷輸送層には、その他、周知の添加剤が含まれていてもよい。
【０１２８】
電荷輸送層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた電荷輸送層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。
【０１２９】
電荷輸送層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類；アセトン、２−ブタノン等のケトン類；塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類；テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状又は直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤が挙げられる。これら溶剤は、単独で又は２種以上混合して用いる。
【０１３０】
電荷輸送層形成用塗布液を電荷発生層の上に塗布する際の塗布方法としては、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【０１３１】
電荷輸送層の膜厚は、例えば、好ましくは５μｍ以上５０μｍ以下、より好ましくは１０μｍ以上３０μｍ以下の範囲内に設定される。
【０１３２】
（保護層）
保護層は、必要に応じて感光層上に設けられる。保護層は、例えば、帯電時の感光層の化学的変化を防止したり、感光層の機械的強度をさらに改善する目的で設けられる。
そのため、保護層は、硬化膜（架橋膜）で構成された層を適用することがよい。これら層としては、例えば、下記１）又は２）に示す層が挙げられる。
【０１３３】
１）反応性基及び電荷輸送性骨格を同一分子内に有する反応性基含有電荷輸送材料を含む組成物の硬化膜で構成された層（つまり当該反応性基含有電荷輸送材料の重合体又は架橋体を含む層）
２）非反応性の電荷輸送材料と、電荷輸送性骨格を有さず、反応性基を有する反応性基含有非電荷輸送材料と、を含む組成物の硬化膜で構成された層（つまり、非反応性の電荷輸送材料と、当該反応性基含有非電荷輸送材料の重合体又は架橋体と、を含む層）
【０１３４】
反応性基含有電荷輸送材料の反応性基としては、連鎖重合性基、エポキシ基、−ＯＨ、−ＯＲ［但し、Ｒはアルキル基を示す］、−ＮＨ２、−ＳＨ、−ＣＯＯＨ、−ＳｉＲＱ１３−Ｑｎ（ＯＲＱ２）Ｑｎ［但し、ＲＱ１は水素原子、アルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表し、ＲＱ２は水素原子、アルキル基、トリアルキルシリル基を表す。Ｑｎは１〜３の整数を表す］等の周知の反応性基が挙げられる。
【０１３５】
連鎖重合性基としては、ラジカル重合しうる官能基であれば特に限定されるものではなく、例えば、少なくとも炭素二重結合を含有する基を有する官能基である。具体的には、ビニル基、ビニルエーテル基、ビニルチオエーテル基、スチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくとも一つを含有する基等が挙げられる。なかでも、その反応性に優れることから、連鎖重合性基としては、ビニル基、スチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びそれらの誘導体から選択される少なくとも一つを含有する基であることが好ましい。
【０１３６】
反応性基含有電荷輸送材料の電荷輸送性骨格としては、電子写真感光体における公知の構造であれば特に限定されるものではなく、例えば、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、ヒドラゾン系化合物等の含窒素の正孔輸送性化合物に由来する骨格であって、窒素原子と共役している構造が挙げられる。これらの中でも、トリアリールアミン骨格が好ましい。
【０１３７】
これら反応性基及び電荷輸送性骨格を有する反応性基含有電荷輸送材料、非反応性の電荷輸送材料、反応性基含有非電荷輸送材料は、周知の材料から選択すればよい。
【０１３８】
保護層には、その他、周知の添加剤が含まれていてもよい。
【０１３９】
保護層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた保護層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱等の硬化処理することで行う。
【０１４０】
保護層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、トルエン、キシレン等の芳香族系溶剤；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤；テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル等のセロソルブ系溶剤；イソプロピルアルコール、ブタノール等のアルコール系溶剤等が挙げられる。これら溶剤は、単独で又は２種以上混合して用いる。
なお、保護層形成用塗布液は、無溶剤の塗布液であってもよい。
【０１４１】
保護層形成用塗布液を感光層（例えば電荷輸送層）上に塗布する方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【０１４２】
保護層の膜厚は、例えば、好ましくは１μｍ以上２０μｍ以下、より好ましくは２μｍ以上１０μｍ以下の範囲内に設定される。
【０１４３】
（単層型感光層）
単層型感光層（電荷発生／電荷輸送層）は、例えば、電荷発生材料と電荷輸送材料と、必要に応じて、結着樹脂、及びその他周知の添加剤と、を含む層である。なお、これら材料は、電荷発生層及び電荷輸送層で説明した材料と同様である。
そして、単層型感光層中、電荷発生材料の含有量は、全固形分に対して１０質量％以上８５質量％以下がよく、好ましくは２０質量％以上５０質量％以下である。また、単層型感光層中、電荷輸送材料の含有量は、全固形分に対して５質量％以上５０質量％以下がよい。
単層型感光層の形成方法は、電荷発生層や電荷輸送層の形成方法と同様である。
単層型感光層の膜厚は、例えば、５μｍ以上５０μｍ以下がよく、好ましくは１０μｍ以上４０μｍ以下である。
【０１４４】
［画像形成装置（及びプロセスカートリッジ）］
本実施形態に係る画像形成装置は、電子写真感光体と、電子写真感光体の表面を帯電する接触帯電方式の帯電手段と、帯電した電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、トナーを含む現像剤により電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、を備える。そして、電子写真感光体として、上記本実施形態に係る電子写真感光体が適用される。
【０１４５】
本実施形態に係る画像形成装置は、記録媒体の表面に転写されたトナー像を定着する定着手段を備える装置；電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を直接記録媒体に転写する直接転写方式の装置；電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写し、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する中間転写方式の装置；トナー像の転写後、帯電前の電子写真感光体の表面をクリーニングするクリーニング手段を備えた装置；トナー像の転写後、帯電前に像保持体の表面に除電光を照射して除電する除電手段を備える装置；電子写真感光体の温度を上昇させ、相対温度を低減させるための電子写真感光体加熱部材を備える装置等の周知の画像形成装置が適用される。
【０１４６】
中間転写方式の装置の場合、転写手段は、例えば、表面にトナー像が転写される中間転写体と、像保持体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写する一次転写手段と、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する二次転写手段と、を有する構成が適用される。
【０１４７】
本実施形態に係る画像形成装置は、乾式現像方式の画像形成装置、湿式現像方式（液体現像剤を利用した現像方式）の画像形成装置のいずれであってもよい。
【０１４８】
なお、本実施形態に係る画像形成装置において、例えば、電子写真感光体を備える部分が、画像形成装置に対して脱着されるカートリッジ構造（プロセスカートリッジ）であってもよい。プロセスカートリッジとしては、例えば、本実施形態に係る電子写真感光体を備えるプロセスカートリッジが好適に用いられる。なお、プロセスカートリッジには、電子写真感光体以外に、例えば、帯電手段、静電潜像形成手段、現像手段、転写手段からなる群から選択される少なくとも一つを備えてもよい。
【０１４９】
以下、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示すが、これに限定されるわけではない。なお、図に示す主要部を説明し、その他はその説明を省略する。
【０１５０】
図６は、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。
本実施形態に係る画像形成装置１００は、図６に示すように、電子写真感光体７を備えるプロセスカートリッジ３００と、露光装置９（静電潜像形成手段の一例）と、転写装置４０（一次転写装置）と、中間転写体５０とを備える。なお、画像形成装置１００において、露光装置９はプロセスカートリッジ３００の開口部から電子写真感光体７に露光し得る位置に配置されており、転写装置４０は中間転写体５０を介して電子写真感光体７に対向する位置に配置されており、中間転写体５０はその一部が電子写真感光体７に接触して配置されている。図示しないが、中間転写体５０に転写されたトナー像を記録媒体（例えば用紙）に転写する二次転写装置も有している。なお、中間転写体５０、転写装置４０（一次転写装置）、及び二次転写装置（不図示）が転写手段の一例に相当する。
【０１５１】
図６におけるプロセスカートリッジ３００は、ハウジング内に、電子写真感光体７、接触帯電方式の帯電装置８（帯電手段の一例）、現像装置１１（現像手段の一例）、及びクリーニング装置１３（クリーニング手段の一例）を一体に支持している。クリーニング装置１３は、クリーニングブレード（クリーニング部材の一例）１３１を有しており、クリーニングブレード１３１は、電子写真感光体７の表面に接触するように配置されている。なお、クリーニング部材は、クリーニングブレード１３１の態様ではなく、導電性又は絶縁性の繊維状部材であってもよく、これを単独で、又はクリーニングブレード１３１と併用してもよい。
【０１５２】
なお、図６には、画像形成装置として、潤滑材１４を電子写真感光体７の表面に供給する繊維状部材１３２（ロール状）、及び、クリーニングを補助する繊維状部材１３３（平ブラシ状）を備えた例を示してあるが、これらは必要に応じて配置される。
【０１５３】
以下、本実施形態に係る画像形成装置の各構成について説明する。
【０１５４】
−帯電装置−
帯電装置８は、電源（不図示）に接続され、電源により電圧が印加され、電子写真感光体７の表面を帯電する。帯電装置８としては、感光体の表面を帯電する接触帯電方式の帯電装置（帯電手段の一例）が使用される。接触帯電方式の帯電装置としては、例えば、導電性又は半導電性の帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触帯電用部材が使用される。
【０１５５】
接触帯電用部材は、感光体表面に接触するように配置され、電圧を感光体に直接印加し、感光体表面を予め定めた電位に帯電させるものである。この接触帯電用部材にはアルミニウム、鉄、銅などの金属、ポリアセチレン、ポリピロール、ポリチオフェンなどの導電性高分子材料、ポリウレタンゴム、シリコーンゴム、エピクロロヒドリンゴム、エチレンプロピレンゴム、アクリルゴム、フッソゴム、スチレンーブタジエンゴム、ブタジエンゴム等のエラストマー材料にカーボンブラック、ヨウ化銅、ヨウ化銀、硫化亜鉛、炭化けい素、金属酸化物などの金属酸化物粒子を分散したものなどが用いられる。
【０１５６】
接触帯電用部材に用いる金属酸化物の例としてはＺ２Ｏ、ＳｎＯ２、ＴｉＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、ＭｏＯ３等、又はこれらの複合酸化物があげられる。また、エラストマー材料中に過塩素酸塩を含有させて導電性を付与しても良い。
【０１５７】
さらに、表面に被覆層を設けることもよい。この被覆層を形成する材料としては、Ｎ−アルコキシメチル化ナイロン、セルロース樹脂、ビニルピリジン樹脂、フェノール樹脂、ポリウレタン、ポリビニルブチラール、メラミン等が挙げられる。これらの被覆層を形成する材料は、単独、又は２種以上を併用して用いてもよい。
また、エマルジョン樹脂系材料（例えば、アクリル樹脂エマルジョン、ポリエステル樹脂エマルジョン、ポリウレタン、特にソープフリーのエマルジョン重合により合成されたエマルジョン樹脂）を用いてもよい。
これらの樹脂には、さらに、抵抗率を調整するために、導電剤粒子含有させてもよく、劣化を防止するために、酸化防止剤を含有させてもよい。また、被覆層を形成する時の成膜性を向上させるために、エマルジョン樹脂にレベリング剤、又は界面活性剤を含有させてもよい。
【０１５８】
上記の接触帯電用部材の抵抗としては、望ましくは１０２Ωｃｍ以上１０１４Ωｃｍ以下、さらに望ましくは１０２Ωｃｍ以上１０１２Ωｃｍ以下の範囲が良い。また、この接触帯電用部材への印加電圧は、直流、又は、直流＋交流の形で印加してもよい。
【０１５９】
−露光装置−
露光装置９としては、例えば、電子写真感光体７表面に、半導体レーザ光、ＬＥＤ光、液晶シャッタ光等の光を、定められた像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は電子写真感光体の分光感度領域内とする。半導体レーザの波長としては、７８０ｎｍ付近に発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、６００ｎｍ台の発振波長レーザや青色レーザとして４００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下に発振波長を有するレーザも利用してもよい。また、カラー画像形成のためにはマルチビームを出力し得るタイプの面発光型のレーザ光源も有効である。
【０１６０】
−現像装置−
現像装置１１としては、例えば、現像剤を接触又は非接触させて現像する一般的な現像装置が挙げられる。現像装置１１としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択される。例えば、一成分系現像剤又は二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて電子写真感光体７に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。中でも現像剤を表面に保持した現像ローラを用いるものが好ましい。
【０１６１】
現像装置１１に使用される現像剤は、トナー単独の一成分系現像剤であってもよいし、トナーとキャリアとを含む二成分系現像剤であってもよい。また、現像剤は、磁性であってもよいし、非磁性であってもよい。これら現像剤は、周知のものが適用される。
【０１６２】
−クリーニング装置−
クリーニング装置１３は、クリーニングブレード１３１を備えるクリーニングブレード方式の装置が用いられる。
なお、クリーニングブレード方式以外にも、ファーブラシクリーニング方式、現像同時クリーニング方式を採用してもよい。
【０１６３】
−転写装置−
転写装置４０としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。
【０１６４】
−中間転写体−
中間転写体５０としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等を含むベルト状のもの（中間転写ベルト）が使用される。また、中間転写体の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものを用いてもよい。
【０１６５】
図７は、本実施形態に係る画像形成装置の他の一例を示す概略構成図である。
図７に示す画像形成装置１２０は、プロセスカートリッジ３００を４つ搭載したタンデム方式の多色画像形成装置である。画像形成装置１２０では、中間転写体５０上に４つのプロセスカートリッジ３００がそれぞれ並列に配置されており、１色に付き１つの電子写真感光体が使用される構成となっている。なお、画像形成装置１２０は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置１００と同様の構成を有している。
【０１６６】
なお、本実施形態に係る画像形成装置１００は、上記構成に限られず、例えば、電子写真感光体７の周囲であって、転写装置４０よりも電子写真感光体７の回転方向下流側でクリーニング装置１３よりも電子写真感光体の回転方向上流側に、残留したトナーの極性を揃え、クリーニングブラシで除去しやすくするための第１除電装置を設けた形態であってもよいし、クリーニング装置１３よりも電子写真感光体の回転方向下流側で帯電装置８よりも電子写真感光体の回転方向上流側に、電子写真感光体７の表面を除電する第２除電装置を設けた形態であってもよい。
【０１６７】
また、本実施形態に係る画像形成装置１００は、上記構成に限られず、周知の構成、例えば、電子写真感光体７に形成したトナー像を直接記録媒体に転写する直接転写方式の画像形成装置を採用してもよい。
【実施例】
【０１６８】
以下、実施例により本実施形態を詳細に説明するが、本実施形態は、これら実施例に何ら限定されるものではない。なお、以下の説明において、特に断りのない限り、「部」及び「％」はすべて質量基準である。
【０１６９】
＜実施例１＞
〔下引層の形成〕
酸化亜鉛粒子（商品名：ＭＺ−３００、テイカ社製）：１００質量部、シランカップリング剤として、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリエトキシシラン（１０質量％のトルエン溶液）：１０質量部、及びトルエン：２００質量部を混合して攪拌を行い、２時間還流を行った。その後、１０ｍｍＨｇにてトルエンを減圧留去し、１３５℃で２時間焼き付け表面処理を行った。
【０１７０】
この表面処理後の酸化亜鉛粒子：３３質量部、ブロック化イソシアネート（商品名：スミジュール３１７５、住友バイエルンウレタン社製）：６質量部、及びメチルエチルケトン：２５質量部を混合し３０分間分散を行った。その後、さらに、ブチラール樹脂（商品名：エスレックＢＭ−１、積水化学工業社製）：５質量部、シリコーンボール（商品名：トスパール１２０、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）：３質量部、レベリング剤として、シリコーンオイル（商品名：ＳＨ２９ＰＡ、東レダウコーニングシリコーン社製）：０．０１質量部を添加し、サンドミルにて６時間の分散を行い、分散液Ａ１を得た。
【０１７１】
次に、サンドミルでの分散時間を３時間にした以外は、分散液Ａ１と同様にして、分散液Ｂ１を得た。そして、上記分散液Ａ１と上記分散液Ｂ１とを、分散液Ａ１の表面処理を行った酸化亜鉛粒子の固形分含有量の質量比ｒが表１に記載した値になるように混合して、下引層形成用塗布液を得た。
【０１７２】
この下引層形成用塗布液を用いて、浸漬塗布法にて直径３０ｍｍ、長さ３４０ｍｍ、肉厚０．７１ｍｍのアルミニウム基体（導電性基体）上に塗布し、１８０℃、３０分の条件で乾燥硬化を行い、厚さ２３．５μｍの下引層を得た。
【０１７３】
〔電荷発生層の形成〕
電荷発生材料として、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料：１８質量部、結着樹脂として、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂（商品名：ＶＭＣＨ、日本ユニカー社製）：１６質量部、及びｎ−酢酸ブチル：１００質量部を混合し、混合物を得た。この混合物を、容量１００ｍＬガラス瓶中に、１.０ｍｍφガラスビーズを充填率５０％とともに混合し、ペイントシェーカーを用いて２．５時間分散処理し、電荷発生層形成用塗布液を得た。得られた電荷発生層形成用塗布液を、上記で形成した下引層上に浸漬塗布し、１００℃、５分の条件で乾燥して、膜厚０．２０μｍの電荷発生層を形成した。
【０１７４】
〔電荷輸送層の形成〕
下記式（ａ−１Ａ）で表される化合物：２質量部、下記式（ａ−２Ａ）で表される化合物：２質量部、及びビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（分子量４万）：６質量部を、テトラヒドロフラン：６０質量部に加えて溶解して電荷輸送層形成用を得た。この電荷輸送層形成用塗布液を、上記で形成した電荷発生層上に塗布して、１５０℃、３０分の条件で乾燥を行い、膜厚２４μｍの電荷輸送層を形成して、感光体１を作製した。
【０１７５】
【化８】
0006447178.tif 000009
【０１７６】
【化９】
0006447178.tif 000010
【０１７７】
＜実施例２＞
実施例１において、分散液Ａ１の表面処理を行った酸化亜鉛粒子の固形分含有量の質量比ｒが表１に記載した値になるように混合した以外は実施例１と同様にして感光体を作製し、感光体２を得た。
【０１７８】
＜実施例３＞
実施例１において、下引層を以下のように形成した以外は、実施例１と同様にして感光体を作製し、感光体３を得た。
【０１７９】
〔下引層の形成〕
酸化亜鉛粒子（商品名：ＭＺ−３００、テイカ社製）：１００質量部、シランカップリング剤として、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリエトキシシラン（１０質量％のトルエン溶液）：１０質量部、及びトルエン：２００質量部を混合して攪拌を行い、２時間還流を行った。その後、１０ｍｍＨｇにてトルエンを減圧留去し、１３５℃で２時間焼き付け表面処理を行った。
【０１８０】
この表面処理後の酸化亜鉛粒子：３３質量部、ブロック化イソシアネート（商品名：スミジュール３１７５、住友バイエルンウレタン社製）：６質量部、既述の例示化合物（１−９）で表される化合物：１質量部、及びメチルエチルケトン：２５質量部を混合し、３０分間分散を行った。その後、さらに、ブチラール樹脂（商品名：エスレックＢＭ−１、積水化学工業社製）：５質量部、シリコーンボール（商品名：トスパール１２０、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）：３質量部、レベリング剤として、シリコーンオイル（商品名：ＳＨ２９ＰＡ、東レダウコーニングシリコーン社製）：０．０１質量部を添加し、サンドミルにて６時間の分散を行い、分散液Ａ２を得た。
【０１８１】
次に、サンドミルでの分散時間を３時間にした以外は、分散液Ａ２と同様にして、分散液Ｂ２を得た。そして、上記分散液Ａ２と上記分散液Ｂ２を、分散液Ａ２の表面処理を行った酸化亜鉛粒子の固形分含有量の質量比ｒが表１に記載した値になるように混合して下引層形成用塗布液を得た。
【０１８２】
この下引層形成用塗布液を用いて、浸漬塗布法にて直径３０ｍｍ、長さ３４０ｍｍ、肉厚０．７１ｍｍのアルミニウム基体上に塗布し、１８０℃、３０分の条件で乾燥硬化を行い、厚さ２３．５μｍの下引層を得た。
【０１８３】
＜実施例４〜１３＞
実施例３において、分散液Ａ２の表面処理を行った酸化亜鉛粒子の固形分含有量の質量比ｒが表１に記載した値になるように混合し、下引層の膜厚を表１に記載した値となるようにしたこと以外は、実施例３と同様にして感光体を作製し、感光体４〜感光体１３を得た。
【０１８４】
＜実施例１４＞
実施例３において、既述の例示化合物（１−９）で表される化合物の代わりに、既述の例示化合物（１−１２）を用いた以外は、実施例３と同様にして感光体を作製し、感光体１４を得た。
【０１８５】
＜比較例１〜５＞
実施例３において、分散液Ａ２の表面処理を行った酸化亜鉛粒子の固形分含有量の質量比ｒが表１に記載した値になるように混合した以外は、実施例３と同様にして感光体を作製し、感光体Ｃ１〜感光体Ｃ５を得た。
【０１８６】
＜比較例６＞
〔下引層の形成〕
酸化亜鉛粒子（平均粒子径：７０ｎｍ、テイカ社製）：６０質量部、ブロック化イソシアネート（商品名：スミジュール３１７３、住友バイエルンウレタン社製）：１３．５質量部、ブチラール樹脂（商品名：エスレックＢＭ−１、積水化学工業社製）：１５質量部を、メチルエチルケトン：８５質量部に溶解した溶液３８質量部と、メチルエチルケトン２５質量部とを混合し、直径１ｍｍのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間の分散を行い、分散液を得た。得られた分散液に、触媒としてジオクチルスズジラウレート：０．００５質量部、シリコーン樹脂粒子（商品名：トスパール１４５、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）：４．０質量部を添加し、下引層形成用塗布液を得た。この下引層形成用塗布液を、浸漬塗布法にて直径３０ｍｍのアルミニウム基体上に塗布し、１７０℃、２４分の条件で、乾燥硬化を行い、厚さ１５μｍの下引層を形成した。
【０１８７】
〔電荷発生層の形成〕
電荷発生材料として、クロロガリウムフタロシアニン結晶：１５質量部、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂（商品名：ＶＭＣＨ、日本ユニカー社製）：１０質量部、及びｎ−ブチルアルコール：３００質量部を混合して混合物を得た。この混合物を、直径１ｍｍのガラスビーズを用い、サンドミルにて４時間分散して電荷発生層形成用塗布液を得た。この電荷発生層形成用塗布液を、上記で形成した下引層上に浸漬塗布し、乾燥して、厚さ０．２μｍの電荷発生層を形成した。
【０１８８】
〔電荷輸送層の形成〕
４フッ化エチレン樹脂粒子：８質量部（平均粒径：０．２μｍ）、フッ化アルキル基含有メタクリルコポリマー（重量平均分子量３００００）：０．０１質量部を、テトラヒドロフラン４質量部、トルエン１質量部とともに２０℃の液温に保ち、４８時間攪拌混合し、４フッ化エチレン樹脂粒子懸濁液Ｘを得た。
【０１８９】
電荷輸送物質として、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１’］ビフェニル−４，４’−ジアミン：４質量部、ビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量：４０，０００）：６質量部、酸化防止剤として、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．１質量部を混合して、テトラヒドロフラン：２４質量部、及びトルエン：１１質量部に混合溶解して、混合溶解液Ｙを得た。
【０１９０】
この混合溶解液Ｙに、上記の樹脂粒子懸濁液Ｘを加えて攪拌混合した後、高圧ホモジナイザー（吉田機械興行株式会社製）を用いて、５００ｋｇｆ／ｃｍ２まで昇圧して、分散処理を６回繰り返した液に、フッ素変性シリコーンオイル（商品名：ＦＬ−１００、信越化学工業社製）を５ｐｐｍ添加して攪拌し、電荷輸送層形成用塗布液を得た。この塗布液を電荷発生層上に２１．０μｍ塗布して１４０℃で２５分間乾燥して電荷輸送層を形成して感光体Ｃ６を作製した。
【０１９１】
＜比較例７＞
〔下引層の形成〕
酸化亜鉛粒子（平均粒子径７０μｍ）：１００質量部、トルエン：５００質量部を攪拌混合し、これにシランカップリング剤（商品名：ＫＢＭ６０３、信越化学工業社製）：１．５質量部を添加し、２時間攪拌した。その後、トルエンを減圧留去し、１５０℃で２時間焼き付けを行った。
【０１９２】
次に、表面処理後の酸化亜鉛粒子：６０質量部、ブロック化イソシアネート（スミジュール３１７５  住友バイエルンウレタン社製）：１５質量部、ブチラール樹脂（商品名：エスレックＢＭ−１、積水化学工業社製）：１５質量部、メチルエチルケトン：８５質量部とを混合した。得られた混合液：３８質量部とメチルエチルケトン：２５質量部とを混合し、１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて２時間の分散を行い、分散液を得た。
【０１９３】
この得られた分散液に、触媒としてジオクチルスズジラウレート：０．００５質量部、シリコーンオイル（商品名：ＳＨ２９ＰＡ、東レダウコーニングシリコーン社製）：０．０１質量部を添加し、下引層形成用塗布液を得た。この下引層形成用塗布液を浸漬塗布法にて直径３０ｍｍ、長さ３４０ｍｍ、厚さ１ｍｍのアルミニウム基体上に塗布し、１６０℃、１００分の条件で乾燥硬化を行い、厚さ２０μｍの下引層を形成した。
【０１９４】
〔電荷発生層の形成〕
電荷発生物質として、塩化ガリウムフタロシアニン：１５質量部、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂（商品名：ＶＭＣＨ、日本ユニカー社製）：１０質量部、ｎ-ブチルアルコール：３００質量部を混合して混合物を得た。この混合物を、１ｍｍφのガラスビーズを用いて、サンドミルにて４時間分散し、電荷発生層形成用塗布液を得た。この電荷発生層形成用塗布液を、上記で形成した下引層上に浸漬塗布し、乾燥して、厚さ０．２μｍの電荷発生層を形成した。
【０１９５】
〔電荷輸送層の形成〕
さらに、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１’］ビフェニル−４，４’−ジアミン：４質量部、ビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量４万）：６質量部をクロロベンゼン：８０質量部に加えて溶解して電荷輸送層形成用塗布液を得た。この電荷輸送層形成用塗布液を上記で形成した電荷発生層上に浸漬塗布し、１３０℃、４０分の条件で乾燥を行い、厚さが２５μｍの電荷輸送層を形成し、感光体Ｃ７を作製した。
【０１９６】
〔評価〕
−下引層の角周波数ωｍａｘの測定−
各例の電子写真感光体について、既述の方法により、下引層の角周波数ωｍａｘの測定を行った。
【０１９７】
−画質の評価−
各例で得られた電子写真感光体を、電子写真式画像形成装置（富士ゼロックス社製：ＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅ−ＩＶ  Ｃ２２６３）に搭載し、画質評価を行った。結果を表１に示す。
まず、Ａ３サイズの用紙に３０％濃度の全面ハーフトーン画像（Ｍａｇｅｎｔａ）を１枚出力し、画質評価（異常放電画質欠陥の評価および画質濃度低下の評価）を行った。次に、Ａ３サイズで３０％濃度の全面ハーフトーン画像（Ｍａｇｅｎｔａ）を３０００枚連続出力した後、Ａ３サイズの用紙に３０％濃度の全面ハーフトーン画像（Ｍａｇｅｎｔａ）を１枚出力し、上記の画質評価（異常放電画質欠陥の評価および画質濃度低下の評価）を行った。
異常放電画質欠陥の評価と画質濃度低下の評価は、目視にて判定を行った。判定はＧ０〜Ｇ５の６段階で、Ｇ１刻みで行い、Ｇの数値が小さい方が、画質の評価結果が良好であることを示す（つまり、（優）Ｇ０＞Ｇ１＞Ｇ２＞Ｇ３＞Ｇ４＞Ｇ５（劣）の関係になる。）。また、異常放電画質欠陥の評価と画質濃度低下の評価において、許容範囲はＧ３以下である。評価基準は以下のとおりである。
【０１９８】
−評価基準−
Ｇ０：異常放電画質欠陥および画質濃度低下が全く見えない
Ｇ１：異常放電画質欠陥および画質濃度低下が殆ど見えない
Ｇ２：異常放電画質欠陥および画質濃度低下が極僅かに見える
Ｇ３：異常放電画質欠陥および画質濃度低下が僅かに見える
Ｇ４：異常放電画質欠陥および画質濃度低下が明瞭に見える
Ｇ５：異常放電画質欠陥および画質濃度低下が極めて明瞭に見える
【０１９９】
【表１】
0006447178.tif 000011
【０２００】
上記結果から、本実施例では、比較例に比べ、画質評価について、良好な結果が得られたことが分かる。
【０２０１】
なお、表１において、「特定ＡＱ化合物」とは、「水酸基を持つアントラキノン構造を有する化合物」を表す。また、「特定ＡＱ化合物」の欄において、「無」は、特定ＡＱ化合物が含有されていないこと、「有」は、特定ＡＱ化合物が含有されていることを表す。
【符号の説明】
【０２０２】
１  下引層、２  電荷発生層、３  電荷輸送層、４  導電性基体、６  単層型感光層、７  電子写真感光体、８  帯電装置、９  露光装置、１１  現像装置、１３  クリーニング装置、１４  潤滑材、４０  転写装置、５０  中間転写体、１００  画像形成装置、１２０  画像形成装置、１３１  クリーニングブレード、１３２  繊維状部材、１３３  繊維状部材、３００  プロセスカートリッジ
【図１】
0006447178.tif 000012
【図２】
0006447178.tif 000013
【図３】
0006447178.tif 000014
【図４】
0006447178.tif 000015
【図５】
0006447178.tif 000016
【図６】
0006447178.tif 000017
【図７】
0006447178.tif 000018