【事件の表示】
　特許第３２９４０２３号「基板処理装置」の請求項１ないし３に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３２９４０２３号の請求項１ないし２に係る特許を維持する。
【理　由】
Ｉ．手続の経緯
　本件特許第３２９４０２３号の発明についての出願は、平成６年１１月１７日に出願されたものであって、平成１４年４月５日にその発明について特許権の設定登録がなされ、その後、永田　誠より特許異議の申立がなされ、取消理由が通知され、その指定期間内である平成１６年１月１３日に訂正請求がなされたものである。
　
II．訂正の適否
１．訂正の内容（以下、下線部が訂正箇所。）
（１）訂正事項ａ
　請求項１を、
　「【請求項１】　所定の清浄度レベルに管理された防塵室内において処理室を形成し、該処理室内で基板に対して処理を施すものであって、
　液剤を前記処理室内へ吐出する液剤吐出手段と、
　前記液剤を前記液剤吐出手段へ供給する液剤供給手段と、
　
不使用時に、前記液剤吐出手段を待機させる待機ポットと、
　少なくとも前記配管系内での前記液剤の適正な流量レベルを入力する入力手段と、
　前記入力手段で入力された適正な流量レベルを記憶する記憶手段と、
　
吐出動作の立ち上がり時を含む
前記待機ポットに前記液剤吐出手段から液剤を吐出し、
　前記記憶手段に記憶された適正な流量レベルと前記流量検知手段で検知された流量とを比較する比較手段と、
　
前記比較手段での比較において、前記記憶手段に記憶された適正な流量レベルと前記流量検知手段で検知された流量とが相違する状態が所定の検知回数以上または所定時間以上継続する場合に
　前記判別手段での判別結果に基づいて警報を発する警報手段とを備える基板処理装置。」と訂正し、
　また、請求項２を削除するとともに、請求項３を請求項番号を繰り上げ、請求項２と訂正する。
　
（２）訂正事項ｂ
段落【０００６】を次のとおり訂正する。
　「【課題を解決するための手段】　本発明の請求項１に係る課題解決手段は、所定の清浄度レベルに管理された防塵室内において処理室を形成し、該処理室内で基板に対して処理を施すものであって、液剤を前記処理室内へ吐出する液剤吐出手段と、前記液剤を前記液剤吐出手段へ供給する液剤供給手段と、
不使用時に、前記液剤吐出手段を待機させる待機ポットと、
吐出動作の立ち上がり時を含む
前記待機ポットに前記液剤吐出手段から液剤を吐出し、
前記比較手段での比較において、前記記憶手段に記憶された適正な流量レベルと前記流量検知手段で検知された流量とが相違する状態が所定の検知回数以上または所定時間以上継続する場合に
　
段落【０００９】を次のとおり訂正する。
　「【作用】　本発明請求項１に係る基板処理装置では、予め入力手段にて液剤の適正な流量レベルを入力し、これを記憶手段にて記憶する。そして、始業点検時等において、防塵室内で
液剤吐出手段が待機ポットにある場合に待機ポットにおいて
この場合において、警報手段での警報動作を、適正な流量レベルと実際の流量とが相違する状態が所定の検知回数以上継続した場合のみに限定して実行する。そうすると、例えば長時間の基板処理装置の運転停止後に運転を再開する際や、始業時における日常的な基板処理開始時、基板処理手順変更後の基板処理開始時等（すなわち、液剤吐出動作の立ち上がり時）において、所定の動作立ち上がり時間を経た状態で、異常状態であるか否かを検出でき、立ち上がり完了前に異常状態であると誤認識するのを防止できる。
　
段落【００４４】を次のとおり訂正する。
　「【発明の効果】　本発明の請求項１によると、液剤吐出手段と、液剤を液剤吐出手段へ供給する液剤供給手段と、
不使用時に、前記液剤吐出手段を待機させる待機ポットと、液剤吐出手段と液剤供給手段と
待機ポットに液剤吐出手段から吐出されたときの
さらに、警報手段での警報動作を、適正な流量レベルと実際の流量とが相違する状態が所定の検知回数以上継続した場合のみに限定して実行しているので、例えば長時間の基板処理装置の運転停止後に運転を再開する際や、始業時における日常的な基板処理開始時、基板処理手順変更後の基板処理開始時等（すなわち、液剤吐出動作の立ち上がり時）において、所定の動作立ち上がり時間を経た状態で、異常状態であるか否かを検出でき、立ち上がり完了前に過敏に異常状態であると誤認識するのを防止できるという効果がある
　
（３）訂正事項ｃ
　特許明細書の段落【０００７】、【００１０】、【００４５】を削除し、段落【０００８】、【００１１】、【００４６】に記載された「請求項３」を「請求項２」に訂正する。
　
２．訂正の目的の適否、新規事項の有無、及び特許請求の範囲の拡張・変更の存否
（１）訂正事項ａについて
　請求項１に、「不使用時に、前記液剤吐出手段を待機させる待機ポット」の構成を付加して基板処理装置の構成を限定し、さらに流量検知手段に「吐出動作の立ち上がり時を含む所定のタイミングで前記待機ポットに前記液剤吐出手段から液剤を吐出し」の構成を付加して、流量検知手段の構成を限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮に該当する。そして、この訂正は明細書の段落【００１７】、【００２６】〜【００２８】に記載され、これらの記載によって支持されている。また、請求項１に、「前記比較手段での比較において、前記記憶手段に記憶された適正な流量レベルと前記流量検知手段で検知された流量とが相違する状態が所定の検知回数以上または所定時間以上継続する場合に」の構成を付加して、判別手段の構成を限定するものであるから、特許請求の範囲の減縮に該当する。そして、この訂正は明細書の段落【００３０】、【００３１】、【００４２】に記載され、これらの記載によって支持されている。
　さらに、請求項２の訂正は、訂正前の請求項２の削除に伴い、請求項３を繰り上げたものであるから、特許請求の範囲の減縮ないし明りょうでない記載の釈明に該当する。
　
（２）訂正事項ｂ、ｃについて
　請求項１、２の訂正に伴い、明細書の記載をこれに整合するよう訂正するものであり、明りょうでない記載の釈明に該当する。そして、当該訂正は、願書に添付した明細書に記載された事項の範囲内のものであり、また実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。
　
３．むすび
　以上のとおりであるから、上記訂正は、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第６条第１項の規定によりなお従前の例によるとされる、特許法第１２０条の４第３項において準用する平成６年法律第１１６号による改正前の特許法第１２６条第１項ただし書き、第２項及び第３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
III．特許異議申立について
１．特許異議申立の概要
　特許異議申立人は、証拠として下記の甲第１〜５号証を提出して、訂正前の請求項１に係る発明は、甲第１号証に記載された発明であり、また甲第１、２号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであり、また訂正前の請求項２、３に係る発明は、甲第１〜５号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、訂正前の請求項１〜３に係る発明の特許は、特許法第２９条第１項及び第２項の規定に違反してされたものであり、これを取り消すべき旨主張する。
　　　　　　　　　　　　　　　記
甲第１号証：特開平５−２０６１０１号公報（以下、「刊行物１」という）
甲第２号証：特開平６−１９４２０３号公報（以下、「刊行物２」という）
甲第３号証：特開平３−２９３３５１号公報（以下、「刊行物３」という）
甲第４号証：特開平５−１７２５９９号公報（以下、「刊行物４」という）
甲第５号証：特開平６−１１７９５４号公報（以下、「刊行物５」という）
　
２．本件発明
　本件特許第３２９４０２３号の訂正後の請求項１、２に係る発明（以下、それぞれ「本件発明１」、「本件発明２」という）は、平成１６年１月１３日付の訂正明細書の特許請求の範囲の請求項１、２に記載された次のとおりのものである。
　「【請求項１】　所定の清浄度レベルに管理された防塵室内において処理室を形成し、該処理室内で基板に対して処理を施すものであって、
　液剤を前記処理室内へ吐出する液剤吐出手段と、
　前記液剤を前記液剤吐出手段へ供給する液剤供給手段と、
　不使用時に、前記液剤吐出手段を待機させる待機ポットと、
　前記液剤吐出手段と前記液剤供給手段とを結ぶ配管系と、
　少なくとも前記配管系内での前記液剤の適正な流量レベルを入力する入力手段と、
　前記入力手段で入力された適正な流量レベルを記憶する記憶手段と、
　吐出動作の立ち上がり時を含む所定のタイミングで前記待機ポットに前記液剤吐出手段から液剤を吐出し、前記配管系内での前記液剤の流量を検知する流量検知手段と、
　前記記憶手段に記憶された適正な流量レベルと前記流量検知手段で検知された流量とを比較する比較手段と、
　前記比較手段での比較において、前記記憶手段に記憶された適正な流量レベルと前記流量検知手段で検知された流量とが相違する状態が所定の検知回数以上または所定時間以上継続する場合に前記配管系内での前記液剤の流量が適正でない旨を判別する判別手段と、
　前記判別手段での判別結果に基づいて警報を発する警報手段とを備える基板処理装置。
　【請求項２】　所定時間間隔または所定の時刻に計時信号を発生する計時手段をさらに備え、
　前記流量検知手段にて検知する前記所定のタイミングは、少なくとも前記計時手段からの計時信号の受信タイミングを含む、請求項１記載の基板処理装置。」
　
３．各刊行物の記載事項
（１）刊行物１：（特開平５−２０６１０１号公報）
（１ａ）「【産業上の利用分野】本発明は、例えば、半導体或いは液晶製造工程において、ウェットエッチング用の各種薬液の流量、圧力、温度等を制御する薬液制御装置に関する。」（段落【０００１】）
（１ｂ）「【実施例】以下、図１乃至図１０を参照して本発明の一実施例を説明する。本実施例による薬液制御装置は、図１に示すような構成になっている。図１中一点鎖線で囲んだ部分が本実施例による薬液制御装置である。まず、ＩＮポート１とＯＵＴポート３とが設けられていて、これらＩＮポート１とＯＵＴポート３との間には、薬液循環ライン５が配設されている。上記薬液循環ライン５には、開閉バルブ７、ベローズポンプ９、ダンパー１１、熱交換器１３、フロートコントローラ１５、圧力計１７、フィルタ１９、開閉バルブ２１が、ＩＮポート１側より順次介挿されている。」（段落【００１４】）
　「上記ＩＮポート１とＯＵＴポート３には、別に設けられるオーバーフロー槽２３が接続される。すなわち、オーバーフロー槽２３のＯＵＴポート２５側が配管２７を介してＩＮポート１と接続され、オーバーフロー槽２３のＩＮポート２９側が配管３１を介してＯＵＴポート３と接続されている。上記オーバーフロー槽２３内には、ウェットエッチング用の薬液３３が収容されている。」（段落【００１５】）
（１ｃ）「そして、流量検出部１０１においてフロート１１１の位置に基づいて流量信号がコントローラ１６に出力される。コントローラ１６はその流量信号と予め設定された設定信号とを比較してその差を算出して、その差信号を流量制御部１０３に出力する。・・・それに伴って、流量検出部１０１のフロート１１１の位置も変化する。以上の作用によって流体の流量が所定の値に制御される。」（段落【００２２】）
　「フローコントローラ１５によって流量制御された薬液３３は、圧力計１７によってその圧力を検出される。・・・検出された圧力は指示調節計に出力され、そこで予め設定された値と比較・判別され、適宜警報出力されるようになっている。具体的には、警報表示、アラーム、外部に警報信号を出力する、といったものである。」（段落【００２３】）
（１ｄ）「次に、図２を参照して装置の電気的接続構成を説明する。図に示すように、操作盤７１、手動操作盤７３、機器表示盤７５、制御部７７、入出力部７９に大別される。操作盤７１は、受電端子８１よりＡＣ１００Ｖ電源を受けていて、電源スイッチ８３、スタートスイッチ８５、リセットスイッチ８７、ブザー８９、各種警告表示灯９１等が設置されている。上記警告表示灯９１の内、「ＦＬＯＷ」は、実際の流量が制御値に対して外れた場合に点灯する。「ＴＥＭＰ」は、薬液３３の温度が制御温度に対して外れた場合、サーモモジュール熱交換器３９において、冷却水の断水等により温度異常が生じた場合に点灯する。「ＰＲＥＳＳ」は、薬液３３の循環圧力がフィルタ１９の破損や目詰まり等によって制御値から外れた場合に点灯する。「ＡＩＲ」は、制御用エアーの圧力低下時に点灯するものである。」（段落【００２７】）
（１ｅ）「以上の構成を基にその作用を説明する。まず、薬液３３の流量制御であるが、これは、フローコントローラ１５によって、所定の流量に高い精度で制御される。又、薬液３３の循環圧力については、圧力計１７によって常時監視されている。そして、予め設定された値に対して外れるようなことがある場合には、所定の警報が出力される。」（段落【００３２】）
（１ｆ）「【発明の効果】以上詳述したように本発明による薬液制御装置によると、循環する薬液の流量を制御するとともに、圧力を監視して、温度を制御するように構成しているので、薬液を所定の流量、圧力、温度に高い精度で制御することができ、例えば、半導体のウェットエッチング用の薬液の制御に適用した場合には、エッチングレートを安定したものとして製品の品質を向上させることができる。」（段落【００３６】）
　
（２）刊行物２：（特開平６−１９４２０３号公報）
（２ａ）「【請求項１】流体の流入路と、この流入路からの流体が流れるバイパス流路と、このバイパス流路から分岐し所定の分流比の流体が流れるセンサ流路と、このセンサ流路を流れる流体の流量を計測する流量センサと、前記バイパス流路とセンサ流路の流体が合流して流れる流出路と、この流出路に設けた流量制御弁と、前記流量センサで検出した質量流量信号と予め設定した質量流量設定信号とを比較し、前記流量制御弁へ弁駆動信号を出力する比較制御部とを有するマスフローコントローラにおいて、
前記流量制御弁の下流側に圧力検出手段を設け、
予め全流量設定範囲にわたって流量設定信号に対応する圧力信号を段階的に計測し、これらを基準圧力信号として記憶する手段と、
使用状態で流量設定値を入力する手段と、この流量設定値に対応する基準圧力信号を読み出す手段と、この読み出した基準圧力信号と、このとき前記圧力検出手段から実際出力されている圧力信号とを許容量を加味して比較する比較手段と、この比較結果に応じて異常信号を表示する表示手段とを設けたことを特徴とする異常診断機能付マスフローコントローラ。」（請求項１）
（２ｂ）「本発明は、・・・全流量制御範囲内の任意の指定流量（診断流量）で、マスフローコントローラの入口の圧力が変動してもセンサ部の目詰まり等の異常の有無を診断することができる機能を備えたマスフローコントローラを提供することを目的とする。」（段落【０００６】）
（２ｃ）「・・・また、範囲を外れる場合でもタイマをセットして（図６の６ｉ）数秒間、例えば５秒間同じ状態が継続した場合（図６の６ｊ）に初めて警報を表示するようにし（図６の６ｋ）、それまでの間は注意表示を行うようにてもよい。さらに上記の比較で範囲内にあるときは正常信号Ｏを出力してＯＫ表示をするようにしてもよい。以上のようにしてセンサ部の異常の有無を自己診断することができる。」（段落【００１９】）
　
（３）刊行物３：（特開平３−２９３３５１号公報）
（３ａ）「第４図において・・・先ず感光材料３の搬送駆動に先立って該装置２を休止の状態から設定された適正処理条件を満たす稼働状態に復帰させるため・・・準備作業が開始される。」（２頁左下欄末行〜右下欄６行）
（３ｂ）「本発明は・・・第１図に示すように前記ＣＰＵ２１にフィードバックされた各種の検出情報２３を比較しもし設定された適正な処理条件に満たない場合は例えば入口搬送用ローラ対４の駆動手段を停止して・・・警告ブザー２５・・・によってオペレータに警告するようにしている。・・・若し前記装置１の適正処理条件に未達で準備作業３０が完了していないと前記ＣＰＵ２１の制御によって・・・警告ブザー２５・・・が作動して警報する。」（３頁左上欄１２行〜右上欄１０行）
　
（４）刊行物４：（特開平５−１７２５９９号公報）
（４ａ）「【構成】・・・差圧−電圧変換器３４と、差圧−電圧変換器３４からの差圧信号と・・・検出された流量信号との比較結果が基準範囲に入っていない場合のエラー回数が一定値に達するとアラーム信号を出力する異常信号出力手段３６とを設けた。差圧信号と流量信号との比較結果が基準範囲に入っていない回数が一定値に達するとアラーム信号を出力することにより、オペレータに流量信号が信頼性の低いものになったことの警報を図れる。」（【要約】）
（４ｂ）「なお、ステップＳ６でエラー信号を得たときそのままアラーム信号を出力しないのは、流量計が異常状態になっていないにもかかわらず急激な流量変動や圧力変動等によっても、エラー信号が発生する可能性があることに基づくものであり、エラー信号の発生回数がエラー回数基準値に達したことを条件にしてアラーム信号を発生させることにより、流量計が異常状態になったことを精度高く検出するようにしている。」（段落【００２０】）
　
（５）刊行物５：（特開平６−１１７９５４号公報）
（５ａ）「上記構成においてガス器具が使用されていて停止したとき、ガス流量検出手段９がガス使用停止を検出し、この検出信号を受けて閉塞圧記憶手段１１がガス使用停止時のガス圧センサ８の検出値を記憶する。また、計時手段１０は同じく前記ガス使用停止の検出信号を受けて計時を開始する。前記計時手段１０は計時開始以降所定のタイミング（例えば１時間毎）で信号を発し、ガス圧比較手段１２はこの信号を受けて、ガス圧力センサ８の信号を閉塞圧記憶手段１１に保持された値と比較する。この比較の結果、所定のタイミング毎に検出されたガス圧力センサ８の信号と閉塞圧記憶手段１１に保持された値の差が所定値以上ない状態がある期間継続すると異常と判断し、警報手段１３を作動させる。」（段落【００１５】）
（５ｂ）「上記構成において、閉塞圧異常判定手段１５で閉塞圧記憶手段１１に保持された値を規定の第１の圧力値と比較し、この値以上の場合には閉塞圧異常と判定する。このように閉塞圧異常が判定されれば、圧力調整器の調整能力が異常であることが分かる。ところで、閉塞圧異常が判定された場合でも、ガス圧比較手段１２を計時手段１０からの信号に基づく所定のタイミングで作動させ、ガス圧力センサ８の信号を閉塞圧記憶手段１１に保持された値と比較する。そして、その差が所定値以上でない状態がある期間継続すれば、前述したように異常と判定し警報手段１３を作動させる。」（段落【００１９】）
　
４．対比・判断
（１）本件発明１について
　本件発明１と刊行物１に記載の発明とを対比する。
　本件発明１の「所定の清浄度レベルに管理された防塵室内において処理室を形成し、該処理室内で基板に対して処理を施すもの」については、刊行物１に記載の「オーバーフロー槽」は薬液を入れ処理する槽であって、所定の清浄度レベルに管理された防塵室内に処理室を形成してあることは当然のことであるから、刊行物１に記載の「オーバーフロー槽」がこれに相当する。
　本件発明１の「液剤を処理室内へ吐出する液剤吐出手段」については、刊行物１に記載の「ＩＮポート２９」がこれに相当し、本件発明１の「液剤を液剤吐出手段へ供給する液剤供給手段」と「液剤吐出手段と液剤供給手段とを結ぶ配管系」については、刊行物１の図１に記載の「薬液循環ライン」と「配管」がこれに相当する。
　本件発明１の「少なくとも配管系内での液剤の適正な流量レベルを入力する入力手段」、「入力手段で入力された適正な流量レベルを記憶する記憶手段」については、刊行物１に、「薬液３３の流量制御であるが、・・・予め設定された値に対して外れるようなことがある場合には」（上記摘記事項（１ｅ））と記載されていることからみて、入力手段を用いて適正な流量の設定値を入力し、この設定値を記憶手段に記憶させていることは自明のことである。
　本件発明１の「所定のタイミングで配管系内での液剤の流量を検知する流量検知手段」については、刊行物１に、フローコントローラの「流量検出部１０１においてフロート１１１の位置に基づいて流量信号がコントローラ１６に出力される」（上記摘記事項（１ｃ））と記載されていることからみて、「フローコントローラ」がこれに相当する。
　本件発明１の「記憶手段に記憶された適正な流量レベルと流量検知手段で検知された流量とを比較する比較手段」については、刊行物１に、「コントローラ１６はその流量信号と予め設定された設定信号とを比較してその差を算出して、その差信号を流量制御部１０３に出力する。」（上記摘記事項（１ｃ））と記載されていることからみて、このような比較手段があることは当然である。
　本件発明１の「判別手段」と「判別手段での判別結果に基づいて警報を発する警報手段」については、刊行物１に、「フローコントローラ１５によって流量制御された薬液３３は、圧力計１７によってその圧力を検出される。・・・検出された圧力は・・・予め設定された値と比較・判別され、適宜警報出力されるようになっている。」（上記摘記事項（１ｃ））と記載されているから、判別手段により判別し、警報手段により警報を発していることは当然のことである。
　
　そうすると、両者は、「所定の清浄度レベルに管理された防塵室内において処理室を形成し、該処理室内で基板に対して処理を施すものであって、　液剤を前記処理室内へ吐出する液剤吐出手段と、前記液剤を前記液剤吐出手段へ供給する液剤供給手段と、前記液剤吐出手段と前記液剤供給手段とを結ぶ配管系と、少なくとも前記配管系内での前記液剤の適正な流量レベルを入力する入力手段と、前記入力手段で入力された適正な流量レベルを記憶する記憶手段と、前記配管系内での前記液剤の流量を検知する流量検知手段と、前記記憶手段に記憶された適正な流量レベルと前記流量検知手段で検知された流量とを比較する比較手段と、判別手段と、前記判別手段での判別結果に基づいて警報を発する警報手段とを備える基板処理装置」の点で一致するものの次の点で相違する。
　
相違点ａ：本件発明１は、「不使用時に、前記液剤吐出手段を待機させる待機ポット」を有するのに対し、刊行物１に記載の発明はそのようなものを有していない点。
相違点ｂ：本件発明１の流量検知手段は、「吐出動作の立ち上がり時を含む所定のタイミングで前記待機ポットに前記液剤吐出手段から液剤を吐出し」配管系内での液剤の流量を検出するのに対し、刊行物１に記載のフローコントローラはそのようなものではない点。
相違点ｃ：本件発明１の判別手段は、「前記比較手段での比較において、前記記憶手段に記憶された適正な流量レベルと前記流量検知手段で検知された流量とが相違する状態が所定の検知回数以上または所定時間以上継続する場合に前記配管系内での前記液剤の流量が適正でない旨を判別する」ものであるのに対し、刊行物１に開示の判別手段はそのようなものではない点。
　
　そこで上記相違点について検討する。
相違点ａ、ｂについて
　上記刊行物２〜５の記載をみても、本件発明１の「待機ポット」に関する記載は何も認められないし、仮に「不使用時に、液剤吐出手段を待機させる待機ポット」が本件出願前において周知の技術であるとしても、基板の処理を行う前の装置稼働開始時の液剤の流量を安定化させるという技術思想がいずれの刊行物にも示唆されてなく、流量検知手段が、「吐出動作の立ち上がり時を含む所定のタイミングで待機ポットに液剤吐出手段から液剤を吐出し」配管系内での液剤の流量を検出することまでを当業者が容易に想到するものはない。
　そして、本件発明１は、吐出動作の立ち上がり時を含む所定のタイミングで液剤吐出手段から液剤を吐出してその流量を確認することにより、短時間で正確な測定ができるとともに、立ち上がり完了前の一時的な装置の不安定状態を装置の異常状態であるとの誤認識を防止することができる、との顕著な作用効果を奏するものである。
　したがって、上記相違点ｃについては検討するまでもなく、本件発明１は、刊行物１〜５に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものではない。
　
（２）本件発明２について
　本件発明２は、請求項１を引用する発明であって、本件発明１の構成をすべて含むものであるから、上記と同じ理由により、刊行物１〜５に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものではない。
　
IV．むすび
　以上のとおりであるから、特許異議の申立ての理由及び証拠によっては、本件請求項１、２に係る発明の特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件請求項１、２に係る発明の特許を取り消すべき理由を発見しない。
　したがって、本件請求項１、２に係る発明の特許は拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してされたものと認めない。
　よって、特許法等の一部を改正する法律（平成６年法律第１１６号）附則第１４条の規定に基づく、特許法等の一部を改正する法律の一部の施行に伴う経過措置を定める政令（平成７年政令第２０５号）第４条第２項の規定により、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１６年４月１６日（２００４．４．１６）
【訂正の要旨】
審決（決定）の【理由】欄参照。
（５４）【発明の名称】
基板処理装置
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　所定の清浄度レベルに管理された防塵室内において処理室を形成し、該処理室内で基板に対して処理を施すものであって、
　液剤を前記処理室内へ吐出する液剤吐出手段と、
　前記液剤を前記液剤吐出手段へ供給する液剤供給手段と、
　
不使用時に、前記液剤吐出手段を待機させる待機ポットと、
　前記液剤吐出手段と前記液剤供給手段とを結ぶ配管系と、
　少なくとも前記配管系内での前記液剤の適正な流量レベルを入力する入力手段と、
　前記入力手段で入力された適正な流量レベルを記憶する記憶手段と、
　
吐出動作の立ち上がり時を含む
前記待機ポットに前記液剤吐出手段から液剤を吐出し、
　前記記憶手段に記憶された適正な流量レベルと前記流量検知手段で検知された流量とを比較する比較手段と、
　
前記比較手段での比較において、前記記憶手段に記憶された適正な流量レベルと前記流量検知手段で検知された流量とが相違する状態が所定の検知回数以上または所定時間以上継続する場合
　前記判別手段での判別結果に基づいて警報を発する警報手段とを備える基板処理装置。
　【請求項２】　
所定時間間隔または所定の時刻に計時信号を発生する計時手段をさらに備え、
　前記流量検知手段にて検知する前記所定のタイミングは、少なくとも前記計時手段からの計時信号の受信タイミングを含む、請求項１記載の基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【産業上の利用分野】
　本発明は、所定の清浄度レベルに管理された防塵室内において処理室を形成し、処理室内で、半導体基板、液晶表示装置用ガラス基板等の基板に対して処理を施す基板処理装置であって、特にスピンコータ、デベロッパ、スクラバ等の基板処理装置に関する。
　【０００２】
　【従来の技術】
　一般に、スピンコータ、デベロッパ、またはスクラバ等の基板処理装置では、図８の如く、所定の清浄度レベル以下に管理された防塵室（クリーンルーム）１内にドレン用カップ１１を配置してその内部を処理室とし、その処理室内に半導体基板３を収容して回転機器２にて保持する。そして、その処理室内の半導体基板３上にフォトレジスト液、現像液、超純水等の各種処理液４を吐出するとともに、半導体基板３を回転機器２にて回転させて塗布、現像、洗浄等の各種の処理を施す。ここで、処理液吐出時における基板回転数、使用する処理液種類、処理液の吐出時間（処理液吐出量）等の処理条件等を含んだ基板処理手順は、予め所定の記憶装置５に記憶される。そして、半導体基板３の回転処理を開始するに当たって、記憶装置５に記憶された基板処理手順が特定されると、処理液吐出に際しては、特定された基板処理手順における処理条件に基づく制御駆動部６の制御駆動により、処理液供給管路（配管系）７を開閉する開閉バルブ８を開閉し、処理液吐出ノズル９から半導体基板３へ向けて処理液を吐出する。なお、図８中の１０は処理液供給用タンク、１１はドレン用カップ、１２はドレン管である。
　【０００３】
　ところで、一般に、例えば長時間の基板処理装置の運転停止後に運転を再開する際や、始業時における日常的な基板処理開始時、基板処理手順変更後の基板処理開始時等においては、基板処理の開始当初から処理液が適正に吐出されているか否かを確認（以下、イニシャル流量確認と称す）する必要がある。このため、従来では、試験用基板（パイロットウェハ）を処理ラインに流し、処理液を試験用基板上に実際に吐出し、かかる処理液の吐出量を作業者の目視にてチェックし、その後に処理対象の半導体基板３の処理を行っていた。
　【０００４】
　【発明が解決しようとする課題】
　従来の処理液吐出量のイニシャル流量確認では、吐出量の測定精度が作業者の熟練のみに依存していたため、正確な測定結果を得ることができなかった。しかも、作業者が防塵室１内に入って確認作業を行う必要があったため、防塵衣および防塵マスク等の着用等に多大な手間を要し作業効率の劣化を招くだけでなく、人体から発生する塵埃等により防塵室１内の清浄度レベルが低下するおそれがあった。さらに、試験用基板を使用する分だけ基板材料コストおよび処理時間が増大するため、試験用基板を用いずにイニシャル流量確認を実施する方法が望まれていた。
　【０００５】
　本発明は、上記課題に鑑み、液剤吐出量の測定を正確に行い、作業効率および防塵室の清浄度レベルを向上し、さらに試験用基板を用いずにイニシャル流量確認を実施し得る基板処理装置を提供することを目的とする。
　【０００６】
　【課題を解決するための手段】
　本発明の請求項１に係る課題解決手段は、所定の清浄度レベルに管理された防塵室内において処理室を形成し、該処理室内で基板に対して処理を施すものであって、液剤を前記処理室内へ吐出する液剤吐出手段と、前記液剤を前記液剤吐出手段へ供給する液剤供給手段と、
不使用時に、前記液剤吐出手段を待機させる待機ポットと、
吐出動作の立ち上がり時を含む
前記待機ポットに前記液剤吐出手段から液剤を吐出し、
前記比較手段での比較において、前記記憶手段に記憶された適正な流量レベルと前記流量検知手段で検知された流量とが相違する状態が所定の検知回数以上または所定時間以上継続する場合
　【０００７】
　削除
　【０００８】
　本発明の請求項
２
　【０００９】
　【作用】
　本発明請求項１に係る基板処理装置では、予め入力手段にて液剤の適正な流量レベルを入力し、これを記憶手段にて記憶する。そして、始業点検時等において、防塵室内で
液剤吐出手段が待機ポットにある場合に待機ポットにおいて
この場合において、警報手段での警報動作を、適正な流量レベルと実際の流量とが相違する状態が所定の検知回数以上継続した場合のみに限定して実行する。そうすると、例えば長時間の基板処理装置の運転停止後に運転を再開する際や、始業時における日常的な基板処理開始時、基板処理手順変更後の基板処理開始時等（すなわち、液剤吐出動作の立ち上がり時）において、所定の動作立ち上がり時間を経た状態で、異常状態であるか否かを検出でき、立ち上がり完了前に異常状態であると誤認識するのを防止できる。
　【００１０】
　削除
　【００１１】
　本発明請求項
２
　【００１２】
　【実施例】
｛第１の実施例｝
＜構成＞図１は本発明の第１の実施例の基板処理装置の概要を示す外観斜視図である。本実施例の基板処理装置は、図１に示す機械的構成の全体が、所定の清浄度レベル以下に管理された防塵室内に設けられ、半導体基板２１に一連の処理（この実施例では塗布処理、現像処理、密着強化処理、加熱処理、冷却処理）を行うための装置であり、塗布処理を行う基板処理部であるスピンコータＳＣ、および現像処理を行う基板処理部であるスピンデベロッパＳＤが正面側に配列され、基板処理列Ａを形成している。
　【００１３】
　また、基板処理列Ａに対向する後方側の位置には、各種熱処理を行う基板処理部である密着強化ユニットＡＨ、ホットプレートＨＰ、およびクーリングプレートＣＰが３次元的に配置され、基板処理領域Ｂを形成している。
　【００１４】
　さらに、この装置には、基板処理列Ａと基板処理領域Ｂに挟まれ、基板処理列Ａに沿って延びる搬送領域Ｃが設けられており、この搬送領域Ｃには搬送ロボット２２が移動自在に配置されている。この搬送ロボット２２は、半導体基板２１を支持する一対のアームからなる支持部材２３を有する移動体２４を備えている。この支持部材２３を構成する上下一対のアームは、アーム駆動機構（図示省略）によりそれぞれ独立して基板処理列Ａおよび基板処理領域Ｂ側に進退移動可能となっていて、これら基板処理列Ａおよび基板処理領域Ｂを構成するいずれかの処理部との間で一方のアームで処理の終了した基板を受け取り、他方のアームで前の基板処理部等から搬送してきた基板を処理部に載せるようにして半導体基板２１の交換を行うことができる。
　【００１５】
　なお、図示を省略しているが、搬送ロボット２２の移動体２４には、３次元の駆動機構が連結されており、この駆動機構を制御することにより、移動体２４を各基板処理部の前に移動させて、半導体基板２１の受渡しを可能としている。また、図１中の２７は、３本の処理液吐出ノズル３９を有し、半導体基板２１へ処理液を吐出するノズル機構（液剤吐出手段）である。該ノズル機構２７は、図示しない駆動装置によって、昇降自在かつ図１中の矢印Ｇ方向に旋回自在に駆動制御される。
　【００１６】
　そして、基板処理列Ａ、基板処理領域Ｂおよび搬送領域Ｃの一方側（図面左側）の端部には、カセット２５からの半導体基板２１の搬出とカセット２５への半導体基板２１の搬入とを行うインデクサーＩＮＤが設けられている。このインデクサーＩＮＤに設けられた移載ロボット２６は、カセット２５から半導体基板２１を取り出し、搬送ロボット２２に送り出したり、逆に一連の処理が施された半導体基板２１を搬送ロボット２２から受け取り、カセット２５に戻すようになっている。なお、図１への図示が省略されているが、基板処理列Ａ、基板処理領域Ｂおよび搬送領域Ｃの他方側（図面右側）の端部には、半導体基板２１を他の基板処理装置との間で受け渡しするインターフェースバッファ（ＩＦ−Ｂ）が設けられており、インターフェースバッファに設けられた移載ロボットと搬送ロボット２２との協働によって半導体基板２１の受渡し処理を行う。
　【００１７】
　図２は、本実施例の基板処理列Ａ中のスピンコータＳＣにおける半導体基板２１および処理液供給機構３０を示す模式図である。図２では、電気配線系を細線で、処理液供給管路（配管系）３７を太線で示している。図２中の一点鎖線よりも下側の部分は、図１に示すスピンコータＳＣの機械的構成であり、所定の清浄度レベル以下に管理された防塵室（クリーンルーム）３１内に設けられる。それに対して、図２中の一点鎖線よりも上側の部分は、スピンコータＳＣの制御部の構成であり、防塵室３１外に設けられる。スピンコータＳＣには、ドレン用カップ４１が配置されてその内部に処理室が形成され、ドレン用カップ４１内に設けた回転機器３２が図示しないモータによって回転駆動される。そして、処理室内に回転機器３２で保持した半導体基板２１上へ所定のフォトレジスト液３４（以下、単に処理液３４と称す）を液剤として吐出し、半導体基板２１を回転させて塗布処理が行われる。ここで、処理液吐出時における基板回転数、使用する処理液種類、処理液の吐出時間（処理液吐出量：適正な流量レベル）等の処理条件等を含んだ基板処理手順は、予め所定の記憶装置３５（記憶手段）に記憶される。そして、半導体基板２１の回転処理を開始するに当たって、記憶装置３５に記憶された基板処理手順が特定される。処理液の吐出に際しては、特定された基板処理手順における処理条件に基づく制御駆動部３６の制御駆動により、処理液供給管路（配管系）３７に設けた開閉バルブ３８（電磁弁）を開閉し、処理液吐出ノズル（液剤吐出手段）３９から半導体基板２１へ向けて処理液を吐出するよう構成される。なお、図２中の４０は処理液を前記処理液供給管路３７を通じて前記処理液吐出ノズル３９へ供給する２０〜３０リットル容量の加圧タンク（液剤供給手段）、４１はドレン用カップ、４２はドレン管である。また、ドレン用カップ４１の側方には、加圧タンク４０から供給されるものと同じ処理液３４あるいはそれに含まれる所定の溶剤を収容した待機ポット４３が設けられる。処理液吐出ノズル３９の先端は、図１中における矢印Ｇ方向の旋回と昇降により、図２に実線で示す回転機器３２上の半導体基板２１の上方と、破線で示す待機ポット４３内との間を移動する。処理液吐出ノズル３９は、不使用時には所定の溶剤雰囲気が充満した待機ポット４３内におかれ、その先端の乾燥が防止される。なお、処理液供給管路３７には、実際には、パーティクルの除去を目的として配置されるフィルタ、および流路調整用のマニュホールド等が設けられるが、これらは図２では便宜上省略されている。
　【００１８】
　そして、本実施例の基板処理装置は、前記処理液供給管路３７内での前記処理液の適正な流量レベルを入力して前記記憶装置３５に記憶するための入力パネル（入力手段）５１と、所定のタイミングで前記処理液供給管路３７内での前記処理液の流量を検知する流量センサ（流量検知手段）５２と、前記記憶装置３５に記憶された適正な流量レベルと前記流量センサ５２で検知された流量とを比較する比較手段５３と、前記比較手段５３での比較結果から所定の条件を満たす場合に前記処理液供給管路３７内での前記処理液の流量が適正でない旨を判別する判別手段５４と、前記判別手段での判別結果に基づいて警報を発する警報器（警報手段）５５とを備えている。
　【００１９】
　前記入力パネル５１は、流量レベル入力のための切替スイッチおよび当該流量レベルを含む各種データ入力キー等を備えており、前記防塵室３１の外部に設置され、作業者の随時の数値入力により処理液の適正な流量レベルを自由に設定する。なお、入力パネル５１からの入力数値は前記記憶装置３５に記憶されるため、次に入力パネル５１から再入力されるまで当該入力値が保持される。
　【００２０】
　前記流量センサ５２は、例えば図３に示すようなフロート式センサが用いられる。図３中の６０Ａは処理液入口、６０Ｂは処理液出口、６１は本体、６２はテーパ管、６３はテーパ管６２内に昇降自在に遊嵌されたフロート、６４はフロート６３の先端位置を検知する複数の透過型フォトインタラプタ、６５は流路径を調整するためのニードル、６６は前記ニードル６５のつまみ、６７はナット、６８はケース、６９はパッキンである。該流量センサ５２は、図４の如く、テーパ管６２内を下方から上昇する処理液の付勢力と、フロート６３の自重力との均衡から、フロート６３の先端の位置が決定されるのを利用して処理液供給管路３７内の処理液の流量を検出するもので、フロート６３の先端の位置を複数の前記透過型フォトインタラプタ６４で検知するものである。前記各透過型フォトインタラプタ６４は、１個のＬＥＤ等の発光素子７１と、該発光素子７１に対向配置される１個のフォトダイオード等の受光素子７２とが１組とされて構成され、各透過型フォトインタラプタ６４の組は上下方向に等間隔で配置されている。なお、フロート６３の先端の最下端位置からの上昇距離は、テーパ管６２内の流量に線形的に比例するため、等間隔で配置された透過型フォトインタラプタ６４の組の光学的結合の有無を検知することで、流量を極めて簡単な計算で求め得るものである。そして、該流量センサ５２の発光素子７１は、スピンコータＳＣの処理液吐出ノズル３９の処理液吐出動作が開始する際の吐出動作開始スイッチ７６Ａ、および、吐出動作開始後の一定時間（例えば３〜５秒間）ごとに設定された定期タイミングを計時する計時手段７６Ｂからの信号を制御駆動部３６が受けて、図２中の駆動回路７３を介して駆動制御される。
　【００２１】
　前記記憶装置３５、前記制御駆動部３６、前記比較手段５３および前記判別手段５４は、ＣＰＵ、ＲＯＭおよびＲＡＭを備えたマイクロコンピュータＭＣが利用され、ＲＯＭまたはＲＡＭに記憶されたプログラムにしたがってＣＰＵが実現する各機能ブロックに相当するものである。このうち、前記比較手段５３は、記憶装置３５内に記憶された適正流量レベル（ＦＬ）に対して経験により決定された所定の許容誤差範囲（±σ）を加算し、次の（１）式を満たす場合には定常信号（Ｌｏｗ信号）を出力し、満たさない場合に反転信号（Ｈｉｇｈ信号）を出力する。なお、（１）式中のＤは流量センサ５２で検知した流量の値である。
　【００２２】
　　ＦＬ−σ≦Ｄ≦ＦＬ＋σ…（１）
　前記判別手段５４は、図２の如く、前記比較手段５３からの反転信号（Ｈｉｇｈ信号）が連続した場合に当該反転信号の入力回数をカウントするカウンタ７４と、該カウンタ７４のカウント値が所定の複数値（例えば“３”）以上になったときにアラーム信号を警報器５５へ出力する信号出力部７５とを備える。なお、前記カウンタ７４は、一旦定常信号（Ｌｏｗ信号）が入力されるとリセットし、次に反転信号（Ｈｉｇｈ信号）が入力されるまでカウント値“０”を保持するよう構成される。
　【００２３】
　前記警報器５５は、前記判別手段５４からのアラーム信号を受けたときに所定の電気音を発生するブザー、および赤色光を発生する赤色ランプ等、作業者へ異常状態を報知する各種機器が用いられる。
　【００２４】
　なお、図２には、１つの処理液吐出ノズル３９に対応する処理液供給管路３７のみを記載してあるが、実際には、マイクロコンピュータＭＣには３つの処理液吐出ノズル３９に対応するそれぞれの処理液供給管路３７とそれらに付随する流量センサ５２、駆動回路７３等が並列的に接続されている。また、マイクロコンピュータＭＣは、図６に示す機能に加え、塗布処理時における回転機器３２を駆動するモータの回転のタイミングや回転数、どの処理液吐出ノズル３９を使用するか、その処理液吐出ノズル３９の吐出のための旋回や昇降のタイミング、開閉バルブ３８の開動作タイミングや開動作時間等の各種動作データを保持する図示しない記憶装置と、その記憶に基づいてそれらを制御する機能をも有している。なお、密着強化ユニットＡＨ、ホットプレートＨＰ、クーリングプレートＣＰのそれぞれは一般的な構成であるので、詳細な説明は省略する。
　【００２５】
＜一般処理時における動作＞
　フォトレジスト液を用いた一般的な塗布、現像処理時においては、上記構成の基板処理装置は、搬送領域Ｃ内の搬送ロボット２２により半導体基板２１を各種基板処理部（スピンコータＳＣ、スピンデベロッパＳＤ、密着強化ユニットＡＨ、ホットプレートＨＰ、およびクーリングプレートＣＰ等）の間において所定の搬送順序で搬送しつつ、それらの処理部に出し入れして一連の処理工程を行う。このとき、スピンコータＳＣにおいては、マイクロコンピュータＭＣの制御により、回転機器３２を駆動するモータや、処理液吐出ノズル３９の旋回や昇降、開閉バルブ３８の動作が制御され、フォトレジスト液の塗布処理がなされる。
　【００２６】
＜イニシャル流量確認時における動作＞
　上述のような一般的な処理を行うために、停止していた基板処理装置を始動させるときにおけるスピンコータＳＣの操作、動作を図５のフローチャートを用いて以下に詳述する。作業者は、まず、入力パネル５１を用いて、行おうとする塗布処理における各種動作データをマイクロコンピュータＭＣに入力する（ステップＳ１）。このとき、入力された各種動作データは図示しない記憶装置に動作データとして記憶されるとともに、その動作データのうち、使用する処理液吐出ノズル３９とそれに対応する開閉バルブ３８の開動作時間（Ｔ）（例えば０．５秒）、およびそのときに処理液供給管路３７を流れるべき処理液の単位時間あたりの適正な流量のデータ（ＦＬ）が、イニシャル流量確認のためのデータとして記憶装置３５に記憶される（ステップＳ２）。そして、全てのデータの入力が終了したか否かが判断される（ステップＳ３）この判断は、吐出動作開始スイッチ７６Ａが押されたか否かで判断される。操作者は、全てのデータの入力が終了すると吐出動作開始スイッチ７６Ａを押す。
　【００２７】
　吐出動作開始スイッチ７６Ａが押されると、ノズル機構２７において、処理液吐出ノズル３９の先端が待機ポット４３内におかれていることを確認する（ステップＳ４）。このとき、もし処理液吐出ノズル３９の先端が待機ポット４３内になければ、ノズル機構２７を駆動して処理液吐出ノズル３９の先端を待機ポット４３内に位置させる。
　【００２８】
　そして、記憶装置３５に記憶されたイニシャル流量確認のためのデータに基づき、使用する処理液吐出ノズル３９に対応する開閉バルブ３８を開動作時間（Ｔ）だけ開けて、加圧タンク４０から加圧されて送られる処理液をその処理液吐出ノズル３９から吐出させる（ステップＳ５）。そして、この開動作時間（Ｔ）の間に、当該処理液供給管路３７中に配置された流量センサ５２にて処理液の流量（Ｄ）を検知する（ステップＳ６）。具体的には、この開動作時間（Ｔ）の間に、駆動回路７３の駆動により図４中の全発光素子７１が発光し、発光素子７１からの光を受けた受光素子７２のうち最上に配置された受光素子の位置を確認することで、フロート６３の先端が位置を検知し、テーパ管６２内の流体圧を検出することで、処理液供給管路３７内の流量を検知する。
　【００２９】
　このとき、比較手段５３は、記憶装置３５内に記憶された適正な流量レベル（ＦＬ）に対して経験により決定された所定の許容誤差範囲（±σ）を加算し、流量センサ５２で検知した処理液の流量（Ｄ）と比較する（ステップＳ７）。そして、上述した（１）式を満たす場合に定常信号（Ｌｏｗ信号）を出力し、満たさない場合に反転信号（Ｈｉｇｈ信号）を出力する。
　【００３０】
　定常信号（Ｌｏｗ信号）が出力された場合、すなわち検知した流量（Ｄ）が適正な流量（ＦＬ）に達している場合には、イニシャル流量確認の作業を正常終了し、操作者の所定の操作を待って、ステップＳ１にてデータ入力した塗布処理を実行する。逆に、反転信号（Ｈｉｇｈ信号）が出力された場合には、判別手段５４のカウンタ７４は、比較手段５３からの反転信号（Ｈｉｇｈ信号）を加算カウントする（ステップＳ８）。カウンタ７４のカウント値は、ステップＳ８を実行する毎に１、２、３と増加する。１回目の吐出の結果、反転信号（Ｈｉｇｈ信号）が出力された場合、すなわち検知した流量（Ｄ）が適正な流量（ＦＬ）に達していなかった場合には、カウント値は１であるから、ステップＳ９でＮＯと判断され、再吐出の指示を待つ（ステップＳ１０）。この再吐出の指示は、計時手段７６Ｂが吐出動作開始スイッチ７６Ａの操作の信号をうけた後に一定時間毎に出力する定期タイミング信号が制御駆動部３６に送られることによりなされる。計時手段７６Ｂからの定期タイミング信号が入力されると、ステップＳ５に戻り、記憶装置３５に記憶されたイニシャル流量確認のためのデータに基づく再度の吐出と、流量検知がなされる。
　【００３１】
　３回の吐出を行ったにもかかわらず、検知した流量（Ｄ）が適正な流量（ＦＬ）に達しない場合には、ステップＳ８の結果、カウント値が３となり、ステップＳ９でＹＥＳと判断される。これはすなわち、加圧タンク４０の加圧力の低下や処理液供給管路３７のつまりなど何らかの装置異常が発生し、一定の立ち上がり時間が経過しても適正な流量レベルに至らなかったことを意味するため、この時点で信号出力部７５にてアラーム信号を出力する。そうすると、警報器５５は、所定の電気音や赤色光を発生し、作業者へ異常状態を報知する（ステップＳ１１）。
　【００３２】
　このように、処理液供給管路３７内に流量センサ５２を設け、予め設定した適正な流量レベルと比較して異常状態を検知し、かかる状態を警報器５５で作業者へ報知しているので、従来例のように試験用基板を用いる必要がないので、その分、材料コストを低減できる。
　【００３３】
　また、作業者が防塵室３１の外部に居ても上記異常状態を認識することができるので、作業者が防塵室３１内で目視確認していた従来例に比べて、防塵室３１内の清浄度を所望のレベルに保持でき、清浄度管理を容易に行うことができる。しかも、防塵衣および防塵マスク等を着用する必要がなくなるため、作業効率を向上できる。さらに、吐出量の測定精度が作業者の目視、熟練のみに依存していた従来例に比べ、熟練を要さずに極めて短時間で正確な測定結果を得ることができる。
　【００３４】
　また、警報器５５での警報動作を、記憶装置３５に記憶された適正な流量レベルと流量センサ５２で検知された流量とが相違する状態が所定の検知回数（３回）以上継続した場合のみに限定して実行しているので、例えば長時間の基板処理装置の運転停止後に運転を再開する際や、始業時における日常的な基板処理開始時、基板処理手順変更後の基板処理開始時等（すなわち、処理液吐出動作の立ち上がり時）において、１度目の吐出時の流量不足をもってただちに異常状態と判断することがない。従って、所定の動作立ち上がり時間を経た状態で、異常状態であるか否かを検出でき、立ち上がり完了前のみにみられる一時的な装置の不安定状態を装置の異常状態であると過敏に誤認識するのを防止できる。
　【００３５】
　これらにより、総合的にみて装置の停止時間が短く、稼動率の高い装置が得られる。
　【００３６】
｛第２の実施例｝
＜構成＞
　図６は本発明の第２の実施例の基板処理装置を示す図である。図６中の各要素について、第１の実施例で説明したのと同様の機能を有する要素は同一符号を付している。本実施例の基板処理装置は、連続する終夜運転の際には基板処理装置の動作開始時点を特定できないため、１日のうちの一定時刻について必ず異常確認を行うよう構成されるものである。すなわち、図６の如く、本実施例の基板処理装置は、流量センサ５２の検知タイミングを決定する要素として、第１の実施例で説明したのと同様の吐出動作開始スイッチ７６Ａ、および所定の定期タイミングのタイムスパンを計時する計時手段７６Ｂに加え、毎日所定の時刻、例えば０時，８時，１６時になると計時信号を発生する計時手段（タイマー）７６Ｃを備えている。すなわち、本実施例は、基板処理装置の処理液吐出動作の立ち上がり時以外に、前記計時手段７６Ｃからの計時信号の受信タイミングによっても処理液を吐出して流量を確認する、イニシャル流量確認の動作をするよう構成されている。その他の構成は、図１乃至図４に示した第１の実施例のものと同様であるため説明を省略する。
　【００３７】
＜動作＞
　上記構成の基板処理装置について、上述した所定の時刻における動作を図７に基づいて説明する。なおここでは、記憶装置３５には適正な流量レベルのデータが予め記憶されたものとして説明する。まず、基板処理装置が通常の動作を行う中で、スピンコータＳＣも通常の塗布処理動作を実行している場合に、所定の時刻になったら（ステップＳ１２）、計時手段７６Ｃが計時信号を発する。また、作業者が作業を中断したときなどで任意に流量の確認を行いたいと考えた場合には、作業者が吐出動作開始スイッチ７６Ａを押して、流量確認の指示をする（ステップＳ１３）。ステップＳ１２，Ｓ１３のいずれかがＹＥＳの場合には、ステップＳ６以下のように処理液吐出ノズル３９からの処理液の吐出と、その流量の確認の動作が行われる。ステップＳ６以後の動作は既述の実施例と同様であるので、対応するステップに同一の符号を付し、その説明は省略する。
　【００３８】
　このように本実施例によれば、計時手段７６Ｃが所定時間間隔（８時間ごと）に計時信号を発し、所定時間間隔で、毎日所定の時刻に処理液の流量の確認を行うことができ、工場の操業時間等を考慮して自動的に流量の確認を行うことができ、装置の信頼性を保ちながら運転の自動化をよりすすめることができる。なお、計時手段７６Ｃとしては、毎日同じ時刻に信号を発するものに限らず、単に所定時間間隔で信号を発するもの、所定のプログラムにより毎日異なる任意の時刻に信号を発するもの等であってもよい。その他の効果は第１の実施例と同様である。
　【００３９】
｛変形例｝
（１）上記各実施例では、基板処理装置としてスピンコータについて本発明を適用する例を示したが、これ以外にも、スピンデベロッパ、スピンスクラバまたはＨＭＤＳ等、所定の清浄度レベル以下に管理された防塵室内で半導体基板２１に所望の処理を行うものであれば、いかなるものに適用しても良い。なお、スピンスクラバに適用した場合の処理液（純水等）は、通常工場ラインの元タンク（加圧タンク４０）から供給される。
　【００４０】
（２）上記各実施例では、半導体基板２１に対して処理を行う処理液のみを液剤の例として説明したが、これ以外にも、例えばドレン用カップを洗浄するためにそのドレン用カップに対して溶剤を吐出する装置を付設したスピンコータにあっては、かかる溶剤を液剤として扱ってそのイニシャル流量確認に本発明を適用することもでき、要するに液剤を処理室内へ吐出するものであれば本発明を適用できる。また、上記実施例では、所定の溶剤雰囲気が充満した待機ポットを設けて処理液吐出ノズルを不使用時に待機させてその先端の乾燥を防止していたが、かかる構造は必ずしも必要ではない。また、上記実施例ではその待機ポット内においてイニシャル流量確認のための処理液吐出を行っていたが、かかる吐出も待機ポット内に限らず、例えばドレン用カップ内で行ってもよい。
　【００４１】
（３）第１の実施例では、流量センサ５２として、図３に示すようにフロートの位置を光学的に検地するフロート式光学センサを使用していたが、磁力方式でフロートの位置を検出するフロート式磁力センサを使用してもよく、さらにドップラ効果を利用した超音波流量センサ、または部分的に発生する渦の周波数を検出するカルマン渦式流量センサ等を使用してもよい。さらに、流量センサ５２としては、ドレン用カップ４１中の処理液（廃液）の量の推移を検知することで流量を検知するものであってもよい。
　【００４２】
（４）上記実施例では、判別手段での所定の条件を、比較手段での比較において、記憶手段に記憶された適正な流量レベルと流量検知手段で検知された流量とが相違する状態が所定の検知回数以上継続することとしていたが、記憶手段に記憶された適正な流量レベルと流量検知手段で検知された流量とが相違する状態が所定時間以上継続することとしてもよい。この場合も、上記実施例と同様の効果を得られることは言うまでもない。
　【００４３】
（５）上記各実施例では、図２および図６の如く、流量センサ５２を加圧タンク４０と開閉バルブ３８の間に配設していたが、流量センサ５２を開閉バルブ３８と処理液吐出ノズル３９の間に配設しても差し支えない。
　【００４４】
　【発明の効果】
　本発明の請求項１によると、液剤吐出手段と、液剤を液剤吐出手段へ供給する液剤供給手段と、
不使用時に、前記液剤吐出手段を待機させる待機ポットと、液剤吐出手段と液剤供給手段と
待機ポットに液剤吐出手段から吐出されたときの
さらに、警報手段での警報動作を、適正な流量レベルと実際の流量とが相違する状態が所定の検知回数以上継続した場合のみに限定して実行しているので、例えば長時間の基板処理装置の運転停止後に運転を再開する際や、始業時における日常的な基板処理開始時、基板処理手順変更後の基板処理開始時等（すなわち、液剤吐出動作の立ち上がり時）において、所定の動作立ち上がり時間を経た状態で、異常状態であるか否かを検出でき、立ち上がり完了前に過敏に異常状態であると誤認識するのを防止できるという効果がある。
　【００４５】
　削除
　【００４６】
　本発明の請求項
２
【図面の簡単な説明】
　【図１】本発明の第１の実施例の基板処理装置の概要を示す斜視図である。
　【図２】本発明の第１の実施例の基板処理装置における半導体基板および処理液供給機構を示す概念図である。
　【図３】本発明の第１の実施例の基板処理装置の流量検知手段を示す断面図である。
　【図４】本発明の第１の実施例の基板処理装置の流量検知手段の流量検知動作を示す図である。
　【図５】本発明の第１の実施例の基板処理装置の動作を示すフローチャートである。
　【図６】本発明の第２の実施例の基板処理装置における半導体基板および処理液供給機構を示す概念図である。
　【図７】本発明の第２の実施例の基板処理装置の動作を示すフローチャートである。
　【図８】従来例の基板処理装置における半導体基板および処理液供給機構を示す概念図である。
　【符号の説明】
　２１　半導体基板
　２７　ノズル機構
　３０　処理液供給機構
　３１　防塵室
　３２　回転機器
　３４　処理液
　３５　記憶装置
　３６　制御駆動部
　３７　処理液供給管路
　３８　開閉バルブ
　３９　処理液吐出ノズル
　４０　加圧タンク
　４１　ドレン用カップ
　５１　入力パネル
　５２　流量センサ
　５３　比較手段
　５４　判別手段
　５５　警報器
　６１　本体
　６２　テーパ管
　６３　フロート
　６４　透過型フォトインタラプタ
　６５　ニードル
　７１　発光素子
　７２　受光素子
　７３　駆動回路
　７４　カウンタ
　７５　信号出力部
　７６Ａ　吐出動作開始スイッチ
　７６Ｂ　計時手段
　７６Ｃ　計時手段
　Ａ　基板処理列
　ＡＨ　密着強化ユニット
　Ｂ　基板処理領域
　ＳＣ　スピンコータ
　ＳＤ　スピンデベロッパ