【事件の表示】
　特許第３４７３９１７号「粗い表面を有するシリカガラスおよびその製造方法」の請求項１ないし５に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第３４７３９１７号の請求項１ないし５に係る特許を維持する。
【理　由】
１．本件発明
　特許第３４７３９１７号（平成６年９月３０日出願、平成１５年９月１９日設定登録）の請求項１乃至請求項５に係る発明（以下、「本件発明１」乃至「本件発明５」という）は、その特許請求の範囲の請求項１乃至請求項５に記載された事項により特定される以下のとおりのものである。
「【請求項１】シリカガラス表面に硬質粉状物を吹き付け表面粗さＲｍａｘを５〜５０μｍとしたのち、フッ酸溶液で処理しマイクロクラックがなく、かつ表面粗さＲｍａｘが２０〜１００μｍとすることを特徴とする粗い表面を有するシリカガラスの製造方法。
【請求項２】シリカガラス表面に粒度１５０μｍ未満の硬質粉状物を吹き付け表面粗さＲｍａｘを５〜２５μｍとしたのち、フッ酸溶液で処理し表面粗さＲｍａｘを２０〜５０μｍとすることを特徴とする請求項１記載の粗い表面を有するシリカガラスの製造方法。
【請求項３】シリカガラス表面に粒度１５０〜５００μｍの硬質粉状物を吹き付け表面粗さＲｍａｘを２０〜５０μｍとしたのち、フッ酸溶液で処理し表面粗さＲｍａｘを５０〜１００μｍとすることを特徴とする請求項１記載の粗い表面を有するシリカガラスの製造方法。
【請求項４】硬質粉状物の粉体が炭化珪素粉体であることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１記載の粗い表面を有するシリカガラスの製造方法。　
【請求項５】請求項１ないし４のいずれか１記載のシリカガラスの製造方法で製造され、マイクロクラックがなく、かつ表面粗さＲｍａｘが２０〜１００μｍであることを特徴とする粗い表面を有するシリカガラス。」
　
２．特許異議申立の理由の概要
　特許異議申立人國元　一樹が提出した証拠方法は、以下のとおりである。
甲第１号証：特開平３−１８７９５４号公報
甲第２号証：久本　方著「工業技術全書　ガラスの精密加工」株式会社誠文堂新光社（昭和３０年３月１５日）ｐ．８１−８３，９８
甲第３号証：実願昭６３−５５２１０号（実開平１−１６２２３３号）のマイクロフィルム
甲第４号証：実願昭５９−１７３７０１号（実開昭６１−８８２３３号）のマイクロフィルム
甲第５号証：特開平１−１７００１９号公報
甲第６号証：特開昭５７−１４４６６６号公報
甲第７号証：特開平１−２１９０４３号公報
甲第８号証：特開昭５４−６９１２０号公報
甲第９号証：窯業協会誌、
８６
　そして、特許異議申立人は、特許異議申立書において、
理由１：本件発明１乃至本件発明５は、上記甲第１号証乃至甲第９号証に記載された発明であるか、上記発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第１項第３号又は第２項の規定により特許を受けることができないものである旨、
理由２：本件発明２乃至本件発明５は、明細書の発明の詳細な説明に記載されたものでなく、また、特許請求の範囲の請求項２乃至請求項５は、発明の構成に欠くことのできない事項のみを記載したものでないから、特許法第３６条第５項第１号、第２号の規定に違反する旨、
を主張し、本件発明１乃至本件発明５の特許を取り消すべき旨主張している。
　
３．甲各号証の記載事項
３−１．甲第１号証の記載事項
　甲第１号証には、以下の事項が記載されている。
（１−Ａ）「（２）表面処理により表面粗さＲａを０．５〜２０μｍとした石英基材上に、炭化珪素層及び／又は窒化珪素層を形成することを特徴とする耐火材料の製造方法。」（特許請求の範囲）
（１−Ｂ）「前記石英基材の表面処理の手段としては、例えばフロスト処理、サンドブラスト処理、平面研削等が挙げられる。また、酸によるエッチングにより、表面処理を行った事による加工応力の残留で脆弱となった部分を取り除く事ができる。その結果、該石英基材上に炭化珪素層及び／又は窒化珪素層を形成した後の熱応力により加工応力の残留で脆弱となった部分が脱落することを防止できる。酸によるエッチングは、例えば４９ｗｔ％ＨＦ：Ｈ２Ｏの体積比を１：１に調整した溶液に１０分間浸漬することで行う。」（第２頁左下欄第３行〜第１３行）
（１−Ｃ）「この発明において、石英基材の表面粗さＲａを上記のように規定するのは、Ｒａが０．５μｍ未満の場合剥離発生防止効果がなく、逆にＲａが２０μｍを超えるとその上に形成する炭化珪素層及び／又は窒化珪素層での石英基材の被覆が困難となり、基材自体の保護に有効に寄与できなくなるからである。」（第２頁右上欄第１６行〜左下欄第２行）
３−２．甲第２号証の記載事項
　甲第２号証には、以下の事項が記載されている。
（２−Ａ）「１　砂吹き加工法（サンドブラスチング）
　砂吹き加工法は１８７０年英国において摺りガラスの製造法として発明されたものであり，現在も摺りガラスの製造はもちろんガラスの模様入れや印刻用等のガラス加工に広く用いられている方法である。この方法は粒度の揃った珪砂（海砂）をガラス面に吹きつけ，その噴射砂のもっている衝撃力を応用してガフス面を摺りガラス仕上げするものである。」（第８１頁第１３行〜第８２頁第３行）
（２−Ｂ）「５　ガラス面の艶消し法
　ガラスの用途の中には摺りガラス，電球，拡散ガラス等のようにガラス面を艶消しして不透明にして用いる場合が多い。
　この艶消し法としては，機械的方法と化学的方法の二つがある。前者には圧縮空気または蒸気を用いる砂吹法と真空法或は液体ホーニング法等があり，後者にはその目的によって各種の処方が行われているが，その一例を次に示す。
　　　弗化アンモニウム　　　５０
　　　硫酸アンモニウム　　　　５
　　　濃硫酸　　　　　　　　１０
　　　水　　　　　　　　　　５０
　田端らの研究１１）によると弗化水素（ＨＦ）と弗化アンモニヤ（ＮＨ４Ｆ）との混合物を用いると，高濃度・低温・短時間で良結果を得，弗化カリ（ＫＦ）と弗化水素（ＨＦ）との混合物では比較的低濃度でよく，腐蝕結果も小さく，またある条件の下では網目状の腐蝕面を得たと服告している。一方，ロシヤ１２）においては珪弗化水素（Ｈ２ＳｉＦ６，濃度３７〜４８％）を酸磨きや装飾用の深い食刻に用いているようである。
　また桑山１３）はガラスの艶消し機構について研究し，その結論として保護結晶説を提唱している。
　なお，拡散ガラス等の高級品には弗化水素ガスによる直接処理法が行われている。」（第９８頁第１行〜第２１行）
３−３．甲第３号証の記載事項
　甲第３号証には、以下の事項が記載されている。
（３−Ａ）「２　前記緩衝部材８Ａ…の少なくとも一側表面を微小凹凸状、好ましくは表面粗さ（中心平均粗さ）を１〜１００μｍＲａの範囲に設定した微小凹凸面８ａ，８ｂを形成し、該凹凸面８ａ，８ｂにより前記熱処理区域１０より放射される熱線を散乱可能に構成した点
　尚、このような微小凹凸面８ａ，８ｂは、研削粒を用いたスリ加工或はサンドブラスト加工により容易に形成可能である。又前記微小凹凸面８ａ，８ｂは、緩衝部材８Ａ…の両面側に設けた方が好ましいが、片面のみでも表面粗さ程度により所望の効果を得る事が可能である。」（第１０頁第７行〜第１８行、なお、文頭の「２」は「丸内に２」で記載されている）
（３−Ｂ）「そしてウエハ直径より僅かに大なる直径を有する石英ガラス製円板の表面をサンドブラスト処理にて粗さ加工したものを用意し、該円板を、前記熱処理区域１０より僅かに大なる距離を有するボート搬送部位３１，３２上の所定個所に、支持棒３３を介　して溶着させる。」（第１３頁第１０行〜第１５行）
３−４．甲第４号証の記載事項
　甲第４号証には、以下の事項が記載されている。
（４−Ａ）「（１）内部に半導体ウエーハを収納して熱処理する石英製炉芯管の内面を凹凸面にしたことを特徴とする半導体製造装置。」（実用新案登録請求の範囲）
（４−Ｂ）「第１図において、第３図と同一のものには同一参照符号を付して説明は省略する。相違点は石英製の炉芯管（１１）の内面を凹凸面（１２）にしたことである。この凹凸面（１２）はエッチングやサンドブラスト法などで形成され、また凹凸面（１２）の荒さは凹凸面（１２）に付着し堆積されるポリシリコン膜（１０）の問題とされる厚さの下限値程度、例えば数十μｍから５０μｍ程度に設定される。」（第６頁第２行〜第１０行）
（４−Ｃ）「考案の効果
　本考案の石英製炉芯管は、内面にポリシリコン膜のような比熱や熱膨張係数の異なる異物が膜状に固着しても、内面の凹凸にて、水平方向に働く応力が小さくなり、付着異物に起因するクラック発生が防止され、炉芯管の長寿命化が図れる。」（第７頁第１４行〜第２０行）
３−５．甲第５号証の記載事項
　甲第５号証には、以下の事項が記載されている。
（５−Ａ）「［問題点を解決するための手段］
　上記問題点を解決するためにこの発明は、石英ボートの溝部表面に、その頂点がウエーハ表面と点接触する凸部を多数形成し、この状態でウエーハを溝部に挿入して、石英ボート上に立設させた。」（第３頁右上欄第１６行〜第２０行）
（５−Ｂ）「そして、第５図に示すように溝部６ｆの表面及び支持部材６ｃの上部表面は凹凸状に形成され、溝部６ｆにウエーハ２を挿入した場合に凸部６ｇの頂点が、ウエーハ表面と点接触するようになっている。この凸部６ｇはサンドブラスト法により形成されており、以下第６図を用いてこの形成方法を説明する。」（第３頁右下欄第１６行〜第４頁左上欄第２行）
（５−Ｃ）「なお、本実施例においては、溝部６ｆの凸部６ｇを形成する方法として石英粉末７を吹き付けるサンドブラスト法を用いたが、本発明はこれに限るものではなく、カーボランダム（ＳｉＣ）粉末などを吹き付けても同様の効累が得られるものであり、その粒径や加圧力も本実施例の値に限らず様々に変化させても十分本発明の効果を得ることは可能である。さらに、サンドブラスト法に限らず、支持部材６ｃを化学的にエッチングして溝部６ｆ表面を凹凸状に形成しても全く同様の効果が得られるものである。」（第４頁右下欄第８行〜第１８行）
３−６．甲第６号証の記載事項
　甲第６号証には、以下の事項が記載されている。
（６−Ａ）「（２）厚み２．０〜４．５ｍｍの強化ガラス板の一方の表面に衝撃運動量１．０Ｋｇ・ｍ／ｓ以下の研磨粒子をブラスト法によって衝突させ、そのときの研削作用により上記強化ガラス板の一部ないし全面に摺り加工面を形成することを特徴とする摺り強化ガラスの製造方法。」（特許請求の範囲）
３−７．甲第７号証の記載事項
　甲第７号証には、以下の事項が記載されている。
（７−Ａ）「１．サンドブラストにより表面に微細均一な凹凸を形成した透明ガラス基板と、その凹凸面側に気相成長により形成され結晶粒子が大きな凹凸形状を呈するＳｎＯ２電導膜層とを具備している透明電導ガラス基板。」（特許請求の範囲）
３−８．甲第８号証の記載事項
　甲第８号証には、以下の事項が記載されている。
（８−Ａ）「押圧成形された前面ガラスの外表面を粗面化した後、前記前面ガラスの外表面を食刻溶液に浸漬することにより、前記前面ガラスの外表面を微細かつ滑らかな凹凸を有する面に仕上げることを特徴とする受像管の製造方法。」（特許請求の範囲）
（８−Ｂ）「＜実施例１＞
　押圧成形された前面ガラス１２の画像部外表面をまず荒摺研摩する。この荒摺研磨は＃５００〜＃２５００程度のアランダム，硅砂，カーボランダム等の研磨砂を用いて、０．５〜１０μｍの粗さの面に画像部外表面１３を形成する。この表面状態は第２図に拡大して示すように荒摺研摩面１４には鋭い角を持った多数の凹凸１５および内部に向って深く食い込んだ多数のキズ１６が存在している。その後荒摺研摩した前面ガラス１２を水洗乾燥後、荒摺研磨表面１４を弗化水素酸を含む溶液に浸漬し、キズ１６が完全に消滅するまで、研磨面１４の層を１〜２０μｍ程度腐蝕する。
　この腐蝕処理で表面粗さ０．４〜６μｍの微細で滑らかな破線で示すような凹凸面１３を得ることができる。この範囲の表面粗さより、凹凸が小さいときは防眩効果が少く、また大きい場合は面像の解像度を著しく低下する。
　腐蝕処理液としては弗化水素酸または弗化水素酸に硫酸，硝酸，塩酸等を混合した混酸の溶液が用いられる。
　本実施例では腐蝕処理は温度３０℃、濃度４６％の弗化水素酸溶液に約６０秒浸漬することによってなされた。」（第２頁右上欄第１１行〜左下欄第６行）
３−９．甲第９号証の記載事項
　甲第９号証には、以下の事項が記載されている。
（９−Ａ）「２．２　表面処理による強度増大
（ａ）フッ酸処理
　フッ酸あるいはフツ硫酸によりガラスを表面より数十〜数百μｍ浸食除去すると強度は著しく増大する２６）、２７）。これは浸食の際に，酸が表面のマイクロクラック中に侵入して，クラックの幅を広げると同時にクラック先端の曲率半径を増大させて（ｒｏｕｎｄｉｎｇ　ｏｕｔ）応力集中係数を減ずるからである。」（第２１頁左欄第１３行〜第２０行）
（９−Ｂ）「長時間のエッチングの後にはσ’は理論強度に漸近する３０）。Ｐｒｏｃｔｏｒら３１）の実験結果は図２のとおりであり、この関係をよく表している。」（第２１頁左欄第２７行〜第２９行）
　
４．特許異議申立の判断
４−１．理由１について
４−１−１．本件発明１について
（１）特許法第２９条第１項第３号について
　甲第１号証には、（１−Ａ）の記載からみて、表面処理により表面粗さＲａを０．５〜２０μｍとした石英基材上に、炭化珪素層及び／又は窒化珪素層を形成することを特徴とする耐火材料の製造方法が記載されており、上記耐火材料の製造方法における表面処理の手段としては、（１−Ｂ）の記載からみて、例えばフロスト処理、サンドブラスト処理、平面研削等が挙げられ、また、酸によるエッチングにより、表面処理を行った事による加工応力の残留で脆弱となった部分を取り除く事ができるものである。
　そして、上記記載からみて、甲第１号証には、サンドブラスト処理等の表面処理により表面粗さＲａを０．５〜２０μｍとし、酸によるエッチングを行った石英基材上に、炭化珪素層及び／又は窒化珪素層を形成する耐火材料の製造方法の発明が記載されていると云えるが、甲第１号証には、石英基材の表面粗さＲｍａｘについては記載されていない。
　また、（１−Ｃ）の記載からみて、石英基材の表面粗さＲａを０．５〜２０μｍとするのは、炭化珪素層及び／又は窒化珪素層が剥離するのを防止するためであって、そうすると、甲第１号証に記載された発明においては、石英基材と、当該石英基材上に形成された炭化珪素層及び／又は窒化珪素層とは一体不可分のものである。
　してみれば、甲第１号証に記載された耐火材料は、石英基材及び炭化珪素層及び／又は窒化珪素層を必須の構成要件とするものと云え、かつ、当該炭化珪素層及び／又は窒化珪素層はシリカガラスとは云えないものであるから、そうすると、甲第１号証に記載された発明は、そもそも、シリカガラスの製造方法に係るものとは云えないものである。
　したがって、甲第１号証に、シリカガラス表面に硬質粉状物を吹き付け表面粗さＲｍａｘを５〜５０μｍとしたのち、フッ酸溶液で処理しマイクロクラックがなく、かつ表面粗さＲｍａｘが２０〜１００μｍとすることを特徴とする粗い表面を有するシリカガラスの製造方法の発明が記載されているとは云えない。
　甲第２号証乃至甲第７号証には、上記甲第２号証乃至甲第７号証の記載事項からみて、石英ガラス等のガラスに、サンドブラスト法や化学的エッチングにより凹凸面を形成することが記載されていると云える。
　ところが、上記甲第２号証乃至甲第７号証に記載された発明は、ガラス表面に、サンドブラスト法や化学的エッチングのいずれかにより凹凸面を形成するものであって（要すれば、（２−Ａ）、（２−Ｂ）、（３−Ａ）、（４−Ｂ）、（５−Ｂ）、（５−Ｃ）、（６−Ａ）、（７−Ａ）を参照のこと）、シリカガラス表面に硬質粉状物を吹き付けたのち、フッ酸溶液で処理するものではない。
　また、甲第２号証乃至甲第７号証には、ガラスの表面粗さＲｍａｘについて記載されていない。
　そうすると、甲第２号証乃至甲第７号証に、シリカガラス表面に硬質粉状物を吹き付け表面粗さＲｍａｘを５〜５０μｍとしたのち、フッ酸溶液で処理しマイクロクラックがなく、かつ表面粗さＲｍａｘが２０〜１００μｍとすることを特徴とする粗い表面を有するシリカガラスの製造方法の発明が記載されているとは云えない。
　甲第８号証には、（８−Ａ）の記載からみて、押圧成形された前面ガラスの外表面を粗面化した後、前記前面ガラスの外表面を食刻溶液に浸漬することにより、前記前面ガラスの外表面を微細かつ滑らかな凹凸を有する面に仕上げることを特徴とする受像管の製造方法が記載されている。
　そして、上記受像菅の製造方法は、（８−Ｂ）の記載からみて、押圧成形された前面ガラス１２の画像部外表面を、研磨砂を用いて荒摺研摩して、０．５〜１０μｍの粗さの面に画像部外表面１３を形成し、その後荒摺研摩した前面ガラス１２を水洗乾燥後、荒摺研磨表面１４を弗化水素酸を含む溶液に浸漬し、キズ１６が完全に消滅するまで、研磨面１４の層を１〜２０μｍ程度腐蝕するものである。
　そうすると、甲第８号証には、押圧成形した前面ガラスの画像部外表面を、研磨砂を用いて荒摺研磨して表面粗さを０．５〜１０μｍとしたのち、弗化水素酸を含む溶液で処理する受像菅の製造方法が記載されていると云える。
　ところが、甲第８号証には、ガラスの表面粗さＲｍａｘについて記載されておらず、かつ、甲第８号証に記載された発明は、（８−Ｂ）の記載からみて、表面粗さ０．４〜６μｍの微細で滑らかな凹凸面を得るものであるから、表面粗さＲｍａｘが２０〜１００μｍの粗い表面を有するシリカガラスを製造するものではない。
　すなわち、甲第８号証にも、シリカガラス表面に硬質粉状物を吹き付け表面粗さＲｍａｘを５〜５０μｍとしたのち、フッ酸溶液で処理しマイクロクラックがなく、かつ表面粗さＲｍａｘが２０〜１００μｍとすることを特徴とする粗い表面を有するシリカガラスの製造方法の発明が記載されているとは云えない。
　甲第９号証には、（９−Ａ）及び（９−Ｂ）の記載からみて、フッ酸あるいはフツ硫酸によりガラスを表面より数十〜数百μｍ浸食除去すると強度は著しく増大すること、これは浸食の際に、酸が表面のマイクロクラック中に侵入してクラックの幅を広げると同時にクラック先端の曲率半径を増大させて、応力集中係数を減ずるからであること、更に長時間のエッチングの後には、強度σ’は理論強度に漸近することが記載されているが、上記記載は、単に、ガラス表面をフッ酸溶液で処理した場合の作用が記載されているに過ぎない。
　そして、上記甲第９号証には、ガラスの表面粗さＲｍａｘ及びシリカガラス表面に硬質粉状物を吹き付けたのち、フッ酸溶液で処理することが記載されているわけではないから、甲第９号証にも、シリカガラス表面に硬質粉状物を吹き付け表面粗さＲｍａｘを５〜５０μｍとしたのち、フッ酸溶液で処理しマイクロクラックがなく、かつ表面粗さＲｍａｘが２０〜１００μｍとすることを特徴とする粗い表面を有するシリカガラスの製造方法の発明が記載されているとは云えない。
　以上のとおりであるから、甲第１号証乃至甲第９号証には、シリカガラス表面に硬質粉状物を吹き付け表面粗さＲｍａｘを５〜５０μｍとしたのち、フッ酸溶液で処理しマイクロクラックがなく、かつ表面粗さＲｍａｘが２０〜１００μｍとすることを特徴とする粗い表面を有するシリカガラスの製造方法の発明が記載されているとは云えないのである。
　故に、本件発明１が、甲第１号証乃至甲第９号証に記載された発明であるとは云えない。
（２）特許法第２９条第２項について
　本件発明１は、本件特許明細書の発明の詳細な説明の「【発明が解決しようとする課題】こうした現状に鑑み、本発明等は鋭意研究を重ねた結果、シリカガラス表面に特定の粒度の硬質粉状物を吹き付けて特定の粗さにし、次いでフッ酸溶液で処理することでマイクロクラックがなく、表面粗さが安定したシリカガラスが得られることを見出し本発明を完成させたものである。すなわち、」（段落【０００４】）、「本発明は、シリコンウエーハの膜付け処理で付着した膜による、治具のヒビ割れが生じないシリカガラスを提供することを目的とする。」（段落【０００６】）、「本発明は、赤外線の散乱反射効果に優れたシリカガラスを提供することを目的とする。」（段落【０００７】）、という記載からみて、治具のヒビ割れが生じず、赤外線の散乱反射効果に優れたシリカガラスを得るために、シリカガラス表面に硬質粉状物を吹き付け表面粗さＲｍａｘを５〜５０μｍとしたのち、フッ酸溶液で処理しマイクロクラックがなく、かつ表面粗さＲｍａｘを２０〜１００μｍとした粗い表面を有するシリカガラスを製造するものである。
　ところが、甲第１号証乃至甲第９号証には、例えば甲第３号証には、（３−Ａ）の記載からみて、凹凸面８ａ，８ｂにより熱処理区域１０より放射される熱線を散乱可能に構成することが、甲第４号証には、（４−Ｃ）の記載からみて、石英製炉芯管の内面にポリシリコン膜のような比熱や熱膨張係数の異なる異物が膜状に固着しても、内面の凹凸にて、水平方向に働く応力が小さくなり、付着異物に起因するクラック発生が防止され、炉芯管の長寿命化が図れることが、それぞれ記載されているものの、治具のヒビ割れが生じず、赤外線の散乱反射効果に優れたシリカガラスを得るために、シリカガラス表面に硬質粉状物を吹き付けて特定の粗さにし、次いでフッ酸溶液で処理することで、マイクロクラックがなく、表面粗さが安定したシリカガラスが得られることについては、記載も示唆もされていないのである。
　してみれば、上記甲第１号証乃至甲第９号証には、当該甲第１号証乃至甲第９号証に記載された発明を組み合わせて本件発明１とするにあたっての動機付けが何ら存在しないから、そもそも、上記甲第１号証乃至甲第９号証に記載された発明に基づいて本件発明１の進歩性を云々することには、無理があると云わざるを得ない。
　加えて、「（１）特許法第２９条第１項第３号について」に記載のとおり、上記甲第１号証乃至甲第９号証のいずれにも、ガラスの表面粗さＲｍａｘが記載されていないから、仮に上記甲第１号証乃至甲第９号証に記載された発明を組み合わせたとしても、ガラスの製造方法を、本件発明１の構成とすることはできない。
　そして、本件発明１は、上記の構成を採用することにより、明細書記載の効果を奏するものである。
　そうすると、ガラスの表面処理方法として、サンドブラスト処理、フッ酸処理及びそれらの組合せが周知のものであったとしても、本件発明１が、上記甲第１号証乃至甲第９号証に記載された発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるとは云えない。
４−１−２．本件発明２について
　本件発明２は、本件発明１において、硬質粉状物の粒度を１５０μｍ未満と限定し、シリカガラス表面の吹き付け表面粗さＲｍａｘを５〜２５μｍと限定し、フッ酸溶液で処理した表面粗さＲｍａｘを２０〜５０μｍと限定するものである。
　一方、「４−１−１．本件発明１について」に記載したとおり、本件発明１は、甲第１号証乃至甲第９号証に記載された発明であるとも、上記発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるとも云えないから、「４−１−１．本件発明１について」に記載したのと同じ理由により、本件発明２もまた、甲第１号証乃至甲第９号証に記載された発明であるとも、上記発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるとも云えない。
４−１−３．本件発明３について
　本件発明３は、本件発明１において、硬質粉状物の粒度を１５０〜５００μｍと限定し、シリカガラス表面の吹き付け表面粗さＲｍａｘを２０〜５０μｍと限定し、フッ酸溶液で処理した表面粗さＲｍａｘを５０〜１００μｍと限定するものである。
　一方、「４−１−１．本件発明１について」に記載したとおり、本件発明１は、甲第１号証乃至甲第９号証に記載された発明であるとも、上記発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるとも云えないから、「４−１−１．本件発明１について」に記載したのと同じ理由により、本件発明３もまた、甲第１号証乃至甲第９号証に記載された発明であるとも、上記発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるとも云えない。
４−１−４．本件発明４について
　本件発明４は、本件発明１乃至本件発明３において、硬質粉状物の粉体を炭化珪素粉体に限定するものである。
　一方、「４−１−１．本件発明１について」乃至「４−１−３．本件発明３について」に記載したとおり、本件発明１乃至本件発明３は、甲第１号証乃至甲第９号証に記載された発明であるとも、上記発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるとも云えないから、「４−１−１．本件発明１について」に記載したのと同じ理由により、本件発明４もまた、甲第１号証乃至甲第９号証に記載された発明であるとも、上記発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるとも云えない。
４−１−５．本件発明５について
　本件発明５は、本件発明１乃至本件発明４のいずれかのシリカガラスの製造方法で製造された、マイクロクラックがなく、かつ表面粗さＲｍａｘが２０〜１００μｍであるシリカガラスに係るものである。
　一方、「４−１−１．本件発明１について」乃至「４−１−４．本件発明４について」に記載したとおり、本件発明１乃至本件発明４は、甲第１号証乃至甲第９号証に記載された発明であるとも、上記発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるとも云えないから、「４−１−１．本件発明１について」に記載したのと同じ理由により、本件発明５もまた、甲第１号証乃至甲第９号証に記載された発明であるとも、上記発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるとも云えない。
４−１−６．理由１についてのむすび
　以上のとおりであるから、本件発明１乃至本件発明５が、甲第１号証乃至甲第９号証に記載された発明であるとも、上記発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるとも云えない。
　故に、本件発明１乃至本件発明５が、特許法第２９条第１項第３号又は第２項の規定により特許を受けることができないものであるとは云えない。
４−２．理由２について
（１）特許法第３６条第５項第１号違反について
　本件特許明細書の発明の詳細な説明には、「上記表面粗さを有するシリカガラスの製造方法は、一般的にシリカガラスの表面に硬質粉状物を吹き付けて表面粗さＲｍａｘを５〜５０μｍとしたのち、フッ酸溶液で処理することにより製造される。特に表面粗さＲｍａｘが２０μｍ以上、５０μｍ未満のシリカガラスの製造には、粒径１５０μｍ以下の硬質粉状物をシリカガラス表面に吹き付け、表面粗さＲｍａｘ５〜２５μｍとしのち、フッ酸溶液処理する製造方法が採用される。また、表面粗さＲｍａｘが５０μｍ〜１００μｍのシリカガラスの製造には、粒径１５０〜５００μｍの硬質粉状物をシリカガラス表面に吹き付け、表面粗さＲｍａｘを２０〜５０μｍとしたのち、フッ酸溶液で処理する方法が採られる。吹き付ける硬質粉状物の粉体の粒度が５００μｍを超えるとシリカガラスに大きな凹凸が形成され、フッ酸溶液処理で表面粗さＲｍａｘが１００を超える粗さとなりシリカガラスの強度が極端に低くなる。前記吹き付ける硬質粉状物としては、結晶質二酸化珪素粉、非晶質二酸化珪素粉または結晶質炭化珪素粉、あるいは前記粉体と液体との混合スラリーが好適である。特に結晶質炭化珪素粉またはそのスラリーは前記範囲の粒度の粉体が容易に調達できるところから好ましい。」（段落【００１２】）と記載されており、上記記載からみて、発明の詳細な説明には、シリカガラス表面に粒度１５０μｍ未満の硬質粉状物を吹き付け表面粗さＲｍａｘを５〜２５μｍとしたのち、フッ酸溶液で処理し表面粗さＲｍａｘを２０〜５０μｍとするシリカガラスの製造方法（本件発明２）、シリカガラス表面に粒度１５０〜５００μｍの硬質粉状物を吹き付け表面粗さＲｍａｘを２０〜５０μｍとしたのち、フッ酸溶液で処理し表面粗さＲｍａｘを５０〜１００μｍとするシリカガラスの製造方法（本件発明３）、及び、上記硬質粉状物の粉体を炭化珪素粉体とするシリカガラスの製造方法（本件発明４）が記載されていると云える。
　更に、発明の詳細な説明には、「本発明のシリカガラスは、表面粗さＲｍａｘが２０〜１００μｍの粗い表面を有し、マイクロクラックがないシリカガラスである。前記シリカガラスのうち表面粗さＲｍａｘが２０μｍ以上、５０μｍ未満のシリカガラスは、従来のサンドブラスト処理法でも製造できる。しかしながら、本発明のシリカガラスはマイクロクラックがなく強度が優れている上に、フッ酸エッチング処理を繰り返しても表面粗さが変化することがなく安定したシリカガラスである。かかるシリカガラスは、熱線の反射散乱が良好であり、かつ表面に凹凸があるので炉芯管の端部、保温筒等に形成すれば熱線の外部漏れを良好に防止し熱エネルギーの有効利用が図れるばかりでなく、シリコンウエーハ熱処理用のボートや炉芯管に付着した多結晶珪素膜や酸化膜等を容易に剥離でき、該治具の高温処理中でのヒビ割れの発生を防ぎ、寿命を長く保つことができる。」（段落【００１０】）と記載されており、上記記載及び段落【００１２】の記載からみて、発明の詳細な説明には、請求項１ないし４のいずれか１記載のシリカガラスの製造方法で製造され、マイクロクラックがなく、かつ表面粗さＲｍａｘが２０〜１００μｍであるシリカガラス（本件発明５）が記載されていると云える。
　そうすると、本件発明２乃至本件発明５が、発明の詳細な説明に記載されたものでないとは云えない。
（２）特許法第３６条第５項第２号違反について
　本件発明２は、本件発明１において、硬質粉状物の粒度を１５０μｍ未満と限定し、シリカガラス表面の吹き付け表面粗さＲｍａｘを５〜２５μｍと限定し、フッ酸溶液で処理した表面粗さＲｍａｘを２０〜５０μｍと限定するものである。
　これは、本件発明１には、表面粗さＲｍａｘが２０〜１００μｍのシリカガラスの製造方法が記載されているところ、本件発明２は、そのなかでも表面粗さＲｍａｘが２０〜５０μｍのシリカガラスを製造する場合には、硬質粉状物の粒度を１５０μｍ未満とし、シリカガラス表面の吹き付け表面粗さＲｍａｘを５〜２５μｍとするシリカガラスの製造方法を記載したものであるから、本件発明１と本件発明２の間には、何等の矛盾も齟齬も見出せない。
　したがって、表面粗さが二重に規定されているからと云って、本件発明２が不明確であるとは云えない。
　本件発明３もまた、本件発明２と同様に、本件発明１において、硬質粉状物の粒度を１５０〜５００μｍと限定し、シリカガラス表面の吹き付け表面粗さＲｍａｘを２０〜５０μｍと限定し、フッ酸溶液で処理した表面粗さＲｍａｘを５０〜１００μｍと限定するものであって、本件発明１に記載されたシリカガラスの製造方法のなかでも、表面粗さＲｍａｘが５０〜１００μｍのシリカガラスを製造する場合には、硬質粉状物の粒度を１５０〜５００μｍとし、シリカガラス表面の吹き付け表面粗さＲｍａｘを２０〜５０μｍとするシリカガラスの製造方法を記載したものであるから、表面粗さが二重に規定されているからと云って、本件発明３が不明確であるとは云えない。
　本件発明４は、本件発明１乃至本件発明３において、硬質粉状物の粉体を炭化珪素粉体に限定するものであり、上記のとおり、本件発明２及び本件発明３が不明確であるとは云えないから、本件発明４も、不明確であるとは云えない。
　本件発明５は、本件発明１乃至本件発明４のいずれかのシリカガラスの製造方法で製造された、マイクロクラックがなく、かつ表面粗さＲｍａｘが２０〜１００μｍであるシリカガラスに係るものであるが、上記のとおり、本件発明２乃至本件発明４が不明確であるとは云えないから、本件発明５も、不明確であるとは云えない。
　そうすると、本件発明２乃至本件発明５が不明確であるとは云えず、特許請求の範囲の請求項２乃至請求項５が、発明の構成に欠くことのできない事項のみを記載したものでないとは云えない。
　
５．むすび
　以上のとおりであるから、特許異議申立の理由及び証拠によっては本件請求項１乃至請求項５に係る発明についての特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件請求項１乃至請求項５に係る発明についての特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１６年８月１１日（２００４．８．１１）