【事件の表示】
　特許第３２８８６５５号「Ｆｅ−Ｎｉ系シャドウマスク用材料」の請求項１ないし９に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３２８８６５５号の請求項１ないし９に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続の経緯
　本件特許第３２８８６５５号の請求項１乃至請求項９に係る発明についての出願は、平成１１年７月２８日に出願され、平成１４年３月１５日にその特許権の設定登録がなされたものである。
　これに対して、日立金属株式会社より請求項１乃至請求項９に係る発明についての特許に対し特許異議の申立てがなされ、取消理由通知がなされ、その指定期間内の平成１５年７月１５日付けで訂正請求がなされたものである。
２．訂正の適否
２−１．訂正の内容
　本件訂正請求の内容は、本件特許明細書を訂正請求書に添付された訂正明細書のとおり、すなわち次の訂正事項ａ乃至ｅのとおりに訂正するものである。
（１）訂正事項ａ：請求項１乃至３の「Ｘ線強度比Ｉｒが０．５〜５：１の範囲」をそれぞれ「Ｘ線強度比Ｉｒが０．９〜５：１の範囲」と訂正する。
（２）訂正事項ｂ：明細書の段落【０００６】乃至【０００８】の「Ｘ線強度比Ｉｒが０．５〜５：１の範囲」をそれぞれ「Ｘ線強度比Ｉｒが０．９〜５：１の範囲」と訂正する。
（３）訂正事項ｃ：明細書の段落【０００９】の「上述したように０．５〜５：１を基本とするが、」を「上述したように０．９〜５：１を基本とするが、」と、「強度比の好ましい下限は０．５以上、」を「強度比の好ましい下限は０．９以上、」と、「強度比の好ましい下限は、５以下、」を「強度比の好ましい上限は、５以下、」と、「上述したように０．５〜５：１を基本とするが、０．５〜４．５：１、」を「上述したように０．９〜５：１を基本とするが、０．９〜４．５：１、」とそれぞれ訂正する。
（４）訂正事項ｄ：明細書の段落【００２６】の「Ｘ線強度比（Ｘ線カウント数比Ｉｒ）で、０．５〜５：１、」を「Ｘ線強度比（Ｘ線カウント数比Ｉｒ）で、０．９〜５：１、」と訂正する。
（５）訂正事項ｅ：明細書の段落【００３３】の「Ｘ線強度比Ｉｒの適正な範囲は０．５〜５の範囲」を「Ｘ線強度比Ｉｒの適正な範囲は０．９〜５の範囲」と訂正する。
２−２．訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
　訂正事項ａは、いずれもＸ線強度比Ｉｒの下限値を、訂正前の０．５から０．９とするものであるから、特許請求の範囲の減縮に該当する。
　そして、この訂正は、明細書の段落【００４６】の表４の発明例４３のＩｒ＝０．９に基づくものであるから、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内においてなされたものであり、また実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものでもない。
  訂正事項ｂ乃至ｅは、いずれも上記訂正事項ａに伴って特許明細書の記載をこれら請求項１乃至３の内容と整合させるためになされた明りょうでない記載の釈明か、誤記の訂正に該当する。
  そして、上記訂正事項ｂ乃至ｅも、願書に添付した明細書に記載した事項の範囲内においてなされたものであり、また実質上特許請求の範囲を拡張し又は変更するものでもない。
２−３．まとめ
　したがって、上記訂正は、特許法第１２０条の４第２項及び同条第３項において準用する特許法第１２６条第２項乃至第４項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
３．本件訂正発明
　訂正後の請求項１乃至請求項９に係る発明（以下、それぞれ「本件訂正発明１乃至９」という。）は、訂正明細書の請求項１乃至請求項９に記載された事項により特定される次のとおりのものである。
「【請求項１】Ｎｉ：３４〜３８ｗｔ％を含有する鉄ニッケル合金シャドウマスク用材料において、（１１１）極点図における立方体方位（１００）〈００１〉とその双晶方位である（２２１）〈２１２〉とのＸ線強度比Ｉｒが０．９〜５：１の範囲にある集合組織を有し、かつＪＩＳ　Ｇ　０５５５の定めるところによる断面清浄度が０．０５％以下であることを特徴とするＦｅ−Ｎｉ系シャドウマスク用材料。
【請求項２】Ｃ：０．１ｗｔ％以下、Ｓｉ：０．５ｗｔ％以下、Ｍｎ：１．０ｗｔ％以下、Ｎｉ：３４〜３８ｗｔ％を含有する鉄ニッケル合金シャドウマスク用材料において、（１１１）極点図における立方体方位（１００）〈００１〉とその双晶方位である（２２１）〈２１２〉とのＸ線強度比Ｉｒが０．９〜５：１の範囲にある集合組織を有し、かつＪＩＳ　Ｇ　０５５５の定めるところによる断面清浄度が０．０５％以下であることを特徴とするＦｅ−Ｎｉ系シャドウマスク用材料。
【請求項３】Ｎｉ：２３〜３８ｗｔ％、Ｃｏ：１０ｗｔ％以下を含有する鉄ニッケル合金シャドウマスク用材料において、（１１１）極点図における立方体方位（１００）〈００１〉とその双晶方位である（２２１）〈２１２〉とのＸ線強度比Ｉｒが０．９〜５：１の範囲にある集合組織を有し、かつＪＩＳ　Ｇ　０５５５の定めるところによる断面清浄度が０．０５％以下であることを特徴とするＦｅ−Ｎｉ系シャドウマスク用材料。
【請求項４】表面の粗度が
０．２μｍ≦Ｒａ≦０．９μｍ
であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のＦｅ−Ｎｉ系シャドウマスク用材料。
【請求項５】表面の粗度が
２０μｍ≦Ｓｍ≦２５０μｍ
であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のＦｅ−Ｎｉ系シャドウマスク用材料。
【請求項６】表面の粗度が
−０．５≦Ｒｓｋ
であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載のＦｅ−Ｎｉ系シャドウマスク用材料。
【請求項７】板表面から任意の深さまで研磨した位置における、１０μｍ以上の介在物の個数が１００ｍｍ２の単位面積当たり６５個以下であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載のＦｅ−Ｎｉ系シャドウマスク用材料。
【請求項８】板断面において測定した１０μｍ以上の介在物の個数が１００ｍｍ２の単位面積当たり８５個以下であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載のＦｅ−Ｎｉ系シャドウマスク用材料。
【請求項９】ＪＩＳ　Ｇ　０５５１による方法にて測定した結晶粒度番号が、７．０以上の大きさを示すものであることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載のＦｅ−Ｎｉ系シャドウマスク用材料。」
４．特許異議申立てについて
４−１．特許異議申立ての理由の概要
　特許異議申立人は、証拠方法として、甲第１号証乃至甲第３号証及び参考資料１乃至参考資料５を提出して、訂正前の本件請求項１乃至請求項９に係る発明は、参考資料１乃至３を参酌すれば甲第１号証に記載された発明であるから、特許法第２９条第１項第３号の規定により特許を受けることができないものであり、また、甲第１号証乃至甲第３号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものでもあるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであると主張している。
４−２．証拠の記載内容
　特許異議申立人が提出した上記甲第１号証乃至甲第３号証には、それぞれ次の事項が記載されている。
（１）甲第１号証：特開平５−８６４４１号公報
（１ａ）「【請求項１】Ｎｉ　２８〜３４％（重量％、以下同じ）
Ｃｏ　２〜７％
Ｍｎ　０．１〜１．０％
Ｓｉ　０．１０％以下
Ｃ　　０．０１％以下
Ｆｅ　残部及び不可避的不純物
の組成を有し、平均結晶粒径が３０μｍ以下、結晶粒の６０〜９５％が理想方位｛１００｝［００１］に対して±５〜４５°に集積していることを特徴とするシャドウマスク用Ｆｅ−Ｎｉ−Ｃｏ系合金。
【請求項２】前記結晶粒の６０〜９５％が理想方位｛１００｝［００１］に対して±１０〜３０°に集積していることを特徴とする請求項１に記載のシャドウマスク用Ｆｅ−Ｎｉ−Ｃｏ系合金。」（特許請求の範囲の請求項１，２）
（１ｂ）「【作用】
　本発明に係るシャドウマスク用Ｆｅ−Ｎｉ−Ｃｏ系合金は、Ｆｅ−Ｎｉ系アンバー合金よりもＮｉ含有量を低減し、Ｃｏを添加すると共に、Ｃｏ含有量を規制し、更に結晶粒を微細化し、結晶粒の方位を特定の方向に集積したものである。これにより、熱膨張率を増大させることなく、エッチング穿孔性を高めることができる。また、Ｃ含有量を規制すると合金の０．２％耐力を引き下げることができ、結晶粒を微細化することでプレス成形後の肌あれを防止できる。更に、結晶粒の方位を特定の方向に集積することで、エッチング穿孔性を高めることができる。」（段落【０００６】）
（１ｃ）「【実施例】次に、本発明の実施例について説明する。
実施例１
　先ず、下記表１に示すように、各成分の原材料を配合し、混合した後、これを真空溶解することによりインゴットを得た。次に、このインゴットを１１００℃乃至１４００℃に加熱して熱間鍛造、熱間圧延を行い、表面研削を施した。次に上記素材に８０％以上の加工率で冷間圧延加工を施した後、７００乃至１１００℃加熱して再結晶焼鈍を施し、更に種々の冷間加工率で冷間加工を加えて、厚さが０．１５ｍｍの実施例１乃至１１及び比較例１乃至９に係るシャドウマスク用の薄板を得た。このようにして得たシャドウマスク用の薄板について、３０乃至１００℃における熱膨張率、ヤング率、０．２％耐力、保磁力、シャドウマスク成形後の剛性、｛１００｝集合度、極点図による［００１］方位集積度、エッチングファクタ、孔形状、ムラ品位及び真円度について調査し、これを比較した。その結果を、下記表２及び表３に示す。」（段落【００１３】）
（１ｄ）段落【００１８】の表１の実施例２は、重量％でＮｉ：３０．０％、Ｃｏ：６．３％、Ｃ：０．００４％、Ｓｉ：０．０３％、Ｍｎ：０．３３％，Ｆｅ：残部であり、表３によれば［００１］方位集積度：±２０°、結晶粒径：１８μｍ、むら品位：Ａであり、同じく表１の比較例２は、重量％でＮｉ：３５．７％、Ｃｏ：０．０％、Ｃ：０．００６％、Ｓｉ：０．０４７％、Ｍｎ：０．４５％，Ｆｅ：残部であり、表３によれば［００１］方位集積度：±１３°、結晶粒径：１７μｍ、むら品位：ｂ、と記載されている。
（１ｅ）【図２】〜【図５】には、この発明の実施例２，実施例５，実施例７及び比較例２の（２００）極点図による集合組織の集積度を示す模式図が示されている。
（２）甲第２号証：特開昭６１−８４３５６号公報
（２ａ）「冷間圧延によって製造される板厚０．０２０〜０．４０ｍｍの鉄−ニッケル−鉄合金よりなるエッチング加工用素材において、該素材中の炭素含有量が０．０１％以下であり、且つＪＩＳ　Ｇ　０５５５によって規定される断面清浄度が０．０１７％以下であることを特徴とする微細エッチング加工用素材。」（特許請求の範囲）
（２ｂ）「鉄−ニッケル系合金において、炭素含有量を０．０１％以下にした場合、素材中の非金属介在物はＡｌ，Ｓｉ，Ｍｎ，Ｃａといった元素の酸化物が主体となる。これらの酸化物のうち１０μｍ以上の大きさのものは微細加工上問題となるものである。
　第２表にＪＩＳ　Ｇ　０５５５に規定される非金属介在物の断面清浄度と１０μｍ以上の大きさをもつ非金属介在物個数（１０ｍｍ×１０ｍｍあたりの個数）との関係を示す。
　    （中略）
　第２表から明らかなように断面清浄度を０．０１７％以下にすると１０ｍｍ×１０ｍｍの単位面積あたりの１０μｍ以上の非金属介在物個数は１０個以下に減少せしめられる。この程度の断面清浄度であれば、非金属介在物の存在が微細加工を阻害することは実質的にない。」（第２頁右下欄１１行〜第３頁左上欄末行）
（３）甲第３号証：特開平５−７４３４１号公報
（３ａ）「【請求項１】電子ビーム透過孔が形成され、シャドウマスクを製造する際に用いられる金属原板において、その表面は、中心線平均粗さＲa が0.3μmを超えて 1μm 以下、表面粗さの凹凸の平均間隔Ｓmが100μm 以下、かつ表面粗さの凸部の平均傾斜角△ｑが2度以上10度以下であることを特徴とするシャドウマスク用原板。」（特許請求の範囲の請求項１）
（３ｂ）「また、本発明のシャドウマスク用原板においては、エッチング後の焼鈍工程における焼き付きをより効果的に防止するために、表面粗さを示すその他のパラメータである相対性（スキューネスＲsk）の値が、正であることが好ましい。」（第３頁左欄３０〜３４行）
  なお、参考資料１乃至参考資料５には、次のような事項が記載されている。
参考資料１：Ｆｅ−３６％Ｎｉ系シャドウマスク用原板の集合組織を適正化することで、エッチング性（エッチングファクタ、孔形状等）を向上する方法が記載され、また、この方法により得られたシャドウマスク用原板の（２２０）極点図が示されている。
参考資料２：Ｆｅ−Ｎｉ（−Ｃｏ）系シャドウマスク材料の製造方法において、Ｃ、Ｓｉ、Ｍｎ等を低減し、集合組織を適正化することにより微細な電子ビーム通過孔を高精度且つ高密度にエッチング形成できることが記載され、また、得られたシャドウマスク用原板の（２００）極点図が示されている。
参考資料３：インバー合金（Ｆｅ−３６％Ｎｉ）の面内異方性に及ぼす焼鈍温度の影響について記載され、Ｆｉｇ．２には、（２００）極点図における（１００）〔００１〕、（２２１）〔２１２〕の位置が示されている。
参考資料４：シャドウマスク用インバー合金、特にシャドウマスク用ＮＡＳ３６の特性について記載されている。
参考資料５：立方格子の（２２０）極点図における（１００）〈００１〉方位と（２２１）〈２１２〉方位の表示位置が示されている。
４−３．当審の判断
（新規性について）
（１）本件訂正発明１及び２について
  甲第１号証の（１ｄ）には、比較例２として、「重量％でＮｉ：３５．７％、Ｃｏ：０．０％、Ｃ：０．００６％、Ｓｉ：０．０４７％、Ｍｎ：０．４５％，Ｆｅ：残部」のシャドウマスク用Ｆｅ−Ｎｉ−Ｃｏ系合金が記載され、そして第５図にこの合金の（２００）極点図による集合組織の集積度を示す模式図が図示されているから、甲第１号証には、本件訂正発明１の記載ぶりに則って整理すると、「Ｎｉ：３５．７ｗｔ％を含有する鉄ニッケル合金シャドウマスク用材料において、（２００）極点図における集合組織の集積度を有することを特徴とするＦｅ−Ｎｉ系シャドウマスク用材料。」の発明（以下、「甲１−１発明」という）が記載されていると云える。
  そこで、本件訂正発明１と甲１−１発明とを対比すると、両者は、「Ｎｉ：３５．７ｗｔ％を含有する鉄ニッケル合金シャドウマスク用材料において、極点図における集合組織を有することを特徴とするＦｅ−Ｎｉ系シャドウマスク用材料」という点で一致し、次の点で相違していると云える。
（イ）本件訂正発明１は、（１１１）極点図における立方体方位（１００）〈００１〉とその双晶方位である（２２１）〈２１２〉とのＸ線強度比Ｉｒが０．９〜５：１の範囲にある集合組織を有するのに対し、甲１−１発明は、図５に示す（２００）極点図における集合組織を有する点。
（ロ）本件訂正発明１では、「ＪＩＳ　Ｇ　０５５５の定めるところによる断面清浄度が０．０５％以下である」のに対し、甲１−１発明では、この断面清浄度が明らかでない点。
  次に、これら相違点の特に上記相違点（イ）について検討するに、甲第１号証の図５は、極点図のあくまで模式図であってそのＸ線強度比Ｉｒを特定するには等高線の縞目が余りにも不鮮明であるから、図５の極点図が本件訂正発明１の上記相違点（イ）の「Ｘ線強度比Ｉｒが０．９〜５：１の範囲」の条件を満足するとは断定できないという他ない。
  したがって、本件訂正発明１は、甲第１号証に記載された発明であるとすることはできない。
　また、本件訂正発明２は、本件訂正発明１とその成分組成が異なるものの、「Ｘ線強度比Ｉｒが０．９〜５：１の範囲」の条件を具備するものであるから、同様に甲第１号証に記載された発明であるとすることはできない。
（２）本件訂正発明３について
   甲第１号証の（１ｄ）には、実施例２として、「重量％でＮｉ：３０．０％、Ｃｏ：６．３％、Ｃ：０．００４％、Ｓｉ：０．０３％、Ｍｎ：０．３３％，Ｆｅ：残部」のシャドウマスク用Ｆｅ−Ｎｉ−Ｃｏ系合金が記載され、そして第３図にこの合金の（２００）極点図による集合組織の集積度を示す模式図が図示されているから、甲第１号証には、本件訂正発明３の記載ぶりに則って整理すると、「Ｎｉ：３０．０、Ｃｏ：６．３％を含有する鉄ニッケル合金シャドウマスク用材料において、（２００）極点図における集合組織の集積度を有することを特徴とするＦｅ−Ｎｉ系シャドウマスク用材料。」の発明（以下、「甲１−２発明」という）が記載されていると云える。
  そこで、本件訂正発明３と甲１−２発明とを対比すると、両者は、「Ｎｉ：３０．０％、Ｃｏ：６．３％を含有する鉄ニッケル合金シャドウマスク用材料において、極点図における集合組織を有することを特徴とするＦｅ−Ｎｉ系シャドウマスク用材料」という点で一致し、次の点で相違していると云える。
（イ）本件訂正発明３は、（１１１）極点図における立方体方位（１００）〈００１〉とその双晶方位である（２２１）〈２１２〉とのＸ線強度比Ｉｒが０．９〜５：１の範囲にある集合組織を有するのに対し、甲１−２発明は、図３に示す（２００）極点図における集合組織を有する点。
（ロ）本件訂正発明３では、「ＪＩＳ　Ｇ　０５５５の定めるところによる断面清浄度が０．０５％以下である」のに対し、甲第１−２発明では、この断面清浄度が明らかでない点。
  次に、これら相違点の特に上記相違点（イ）について検討するに、甲第１号証の図３も、上記図５と同様、極点図のあくまで模式図であってそのＸ線強度比Ｉｒを特定するには等高線の縞目が余りにも不鮮明であるから、図３の極点図が本件訂正発明３の上記相違点（イ）の「Ｘ線強度比Ｉｒが０．９〜５：１の範囲」の条件を満足するとは断定できないという他ない。
　また、特許異議申立人は、参考資料３を提出して甲第１号証の図３の（２００）極点図における集合組織と（１１１）極点図における立方体方位（１００）〈００１〉とその双晶方位である（２２１）〈２１２〉の集合組織との相関関係から、甲第１号証の図３の集合組織が本件訂正発明１の相違点（イ）の上記「Ｘ線強度比Ｉｒ」の条件を満足するものであると主張しているが、参考資料３は、Ｃｏを含有しない「Ｆｅ−３６％Ｎｉ」のインバー合金に係り、その圧延や熱処理等の製造方法も甲第１号証のインバー合金のものと異なるから、このような別異のインバー合金の極点図の参考資料３を根拠に甲１−２発明の極点図を解釈することは必ずしも妥当とは云えない。
  したがって、本件訂正発明３も、甲第１号証に記載された発明であるとすることはできない。
（３）本件訂正発明４乃至９について
　本件訂正発明４乃至９は、少なくとも本件訂正発明１乃至３を引用するものであるから、同様に甲第１号証に記載された発明であるとすることはできない。
（進歩性について）
  その他の証拠について検討すると、甲第２号証は、断面清浄度に関する証拠であり、甲第３号証は、表面粗度に関する証拠であるから、これら証拠も、本件訂正発明１乃至９の少なくともＸ線強度比Ｉｒについて何ら示唆するものではないから、本件訂正発明１乃至９は、甲第１号証乃至甲第３号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものとすることはできない。　
　
５．むすび
　以上のとおり、特許異議申立ての理由及び証拠方法によっては、本件訂正発明１乃至９についての特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件訂正発明１乃至９についての特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、上記のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１６年１月１３日（２００４．１．１３）
【訂正の要旨】
審決（決定）の【理由】欄参照。
（５４）【発明の名称】
Ｆｅ−Ｎｉ系シャドウマスク用材料
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】
Ｎｉ：３４〜３８ｗｔ％を含有する鉄ニッケル合金シャドウマスク用材料において、（１１１）極点図における立方体方位（１００）＜００１＞とその双晶方位である（２２１）＜２１２＞とのＸ線強度比Ｉｒが
０．９
　【請求項２】
Ｃ：０．１ｗｔ％以下、Ｓｉ：０．５ｗｔ％以下、Ｍｎ：１．０ｗｔ％以下、Ｎｉ：３４〜３８ｗｔ％を含有し、かつ残部が実質的にＦｅよりなる成分組成を有し、（１１１）極点図における立方体方位（１００）＜００１＞とその双晶方位である（２２１）＜２１２＞とのＸ線強度比Ｉｒが
０．９
　【請求項３】
Ｎｉ：２３〜３８ｗｔ％、Ｃｏ：１０ｗｔ％以下を含有する鉄ニッケルコバルト系合金シャドウマスク用材料において、（１１１）極点図における立方体方位（１００）＜００１＞とその双晶方位である（２２１）＜２１２＞とのＸ線強度比Ｉｒが
０．９
　【請求項４】
表面の粗度が０．２μｍ≦Ｒａ≦０．９μｍであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のＦｅ−Ｎｉ系シャドウマスク用材料。
　【請求項５】
表面の粗度が２０μｍ≦Ｓｍ≦２５０μｍであることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のＦｅ−Ｎｉ系シャドウマスク用材料。
　【請求項６】
表面の粗度が−０．５≦Ｒｓｋであることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載のＦｅ−Ｎｉ系シャドウマスク用材料。
　【請求項７】
板表面から任意の深さまで研磨した位置における、１０μｍ以上の介在物の個数が１００ｍｍ２の単位面積当たり６５個以下であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載のＦｅ−Ｎｉ系シャドウマスク用材料。
　【請求項８】
板断面において測定した１０μｍ以上の介在物の個数が１００ｍｍ２の単位面積当たり８０個以下であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載のＦｅ−Ｎｉ系シャドウマスク用材料。
　【請求項９】
ＪＩＳ　Ｇ　０５５１による方法にて測定した結晶粒度番号が、７．０以上の大きさを示すものであることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載のＦｅ−Ｎｉ系シャドウマスク用材料。
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【発明の属する技術分野】
　本発明は、カラーテレビブラウン管などの材料として用いられるＦｅ−Ｎｉ系シャドウマスク用材料に関するものであり、例えば、塩化第二鉄溶液を主成分とするエッチング液などによるフォトエッチングに際して、すじむらやモトリング（以下、すじむら等という）の発生を見ることのない低熱膨張のＦｅ−Ｎｉ系シャドウマスク用材料について提案する。
　【０００２】
　【従来の技術】
　従来、シャドウマスク材料としては、低炭素アルミキルド鋼板が用いられている。この鋼板は、中間冷間圧延後の鋼板を、連続焼鈍またはバッチ焼鈍炉により適切な歪とり中間焼鈍を施し、必要に応じて疵とりを実施し、その後、仕上げの冷間圧延および調質圧延（ダル圧延を含む）を行うという工程を経て製造されている。これに対し近年、低熱膨張Ｆｅ−Ｎｉ系合金板が、高品位カラーテレビブラウン管やディスプレー用の材料として注目を浴びている。このＦｅ−Ｎｉ系の合金板は、それ以前にシャドウマスク用材料として用いられていた低炭素アルミキルド鋼板に代わるものとして開発されたものである。かかるＦｅ−Ｎｉ系合金が着目されている理由は、上記低炭素アルミキルド鋼板に比較すると、色ずれ防止の点で優れているからであり、特にディスプレーや大型テレビ等の用途では欠かせない材料の一つとなっている。
　【０００３】
　しかしながら、このＦｅ−Ｎｉ系合金は、フォトエッチング性に課題を残していた。即ち、Ｆｅ−Ｎｉ系合金は、アルミキルド鋼に比べるとフォトエッチング時の穿孔形状が悪くかつ、すじむらと呼ばれる欠陥が発生し易いことが指摘されている。とくに、このすじむらと呼ばれる欠陥は、カラーブラウン管における映像の白色部にすじ状のコントラストむらを発生させ、ディスプレーとしての品位を著しく低下させることがわかっている。このすじむら発生原因としては、非金属介在物の存在やＮｉの偏析による影響が考えられている。そのため、すじむらの軽減を図るには、これらの原因を取り除くことが有効である。しかし、これらの原因を全て取り除いたとしても、解消できないすじむらがなお残ることから、発明者らは、これには別の要因があるものと想像し、研究を続けた。
　【０００４】
　本発明の主たる目的は、エッチング不良によって起こるすじむらやモトリング（全体むら）の真の原因をつきとめ、これらの発生がない、Ｆｅ−Ｎｉ系シャドウマスク用材料を提供することにある。本発明の他の目的は、エッチング穿孔性が良好で該穿孔時の孔形状がきれいなＦｅ−Ｎｉ系シャドウマスク材料を提供することにある。本発明のさらに他の目的は、映像のきれいなカラーブラウン管やディスプレー用の材料を安価にかつ確実に提供することにある。
　【０００５】
　【課題を解決するための手段】
　発明者らは、従来技術が解決課題として残している、すじむら等の問題について鋭意研究を重ねた結果、次のような知見を得た。即ち、シャドウマスク用材料に発生するすじむら等は、エッチング面における個々の結晶粒の配向の乱れによるものであることがわかった。そして、その配向の乱れは、Ｎｉ偏析、非金属介在物および焼鈍途中に発生した粗大粒による混粒組織の残留、特定の集合組織の配向などが原因であり、またこれらの要素が相互に絡み合って発生することがわかった。さらに、かかる結晶粒の配向は個々の結晶粒が持つ結晶方位に依存していることから、上記すじむら等の発生を防止するためには、どうしても集合組織を制御することが必要になるとの結論に達した。また、エッチング穿孔性に優れ、穿孔後の孔形状を良好にするためには、さらに、製品の粗さ制御や介在物個数の制御も不可欠であるとの認識に到達し、上記集合組織の制御に併せて、表面粗さと介在物個数の制御も必要になるとの結論を得た。
　【０００６】
　本発明はこのような知見の下に開発した材料である。即ち、本発明は、Ｎｉ：３４〜３８ｗｔ％を含有する鉄ニッケル合金シャドウマスク用材料において、（１１１）極点図における立方体方位（１００）＜００１＞とその双晶方位である（２２１）＜２１２＞とのＸ線強度比Ｉｒが
０．９
　【０００７】
　また、本発明は、Ｃ：０．１ｗｔ％以下、Ｓｉ：０．５ｗｔ％以下、Ｍｎ：１．０ｗｔ％以下、Ｎｉ：３４〜３８ｗｔ％を含有し、かつ残部が実質的にＦｅよりなる成分組成を有し、（１１１）極点図における立方体方位（１００）＜００１＞とその双晶方位である（２２１）＜２１２＞とのＸ線強度比Ｉｒが
０．９
　【０００８】
　また、本発明は、Ｎｉ：２３〜３８ｗｔ％、Ｃｏ：１０ｗｔ％以下を含有する鉄ニッケルコバルト系合金シャドウマスク用材料において、（１１１）極点図における立方体方位（１００）＜００１＞とその双晶方位である（２２１）＜２１２＞とのＸ線強度比Ｉｒが
０．９
　【０００９】
　なお、本発明において、上記Ｘ線強度比（Ｘ線カウント数比）は、上述したように
０．９
０．９
上限
０．９
０．９
　【００１０】
　上記材料は、例えば、Ｎｉ：３４〜３８ｗｔ％を含有し残部が実質的にＦｅよりなる合金を、常法に従って処理して得た冷間圧延材の焼鈍に当たり、最終圧延の前に焼鈍温度：９００〜１１５０℃、均熱時間：５〜６０秒の中間焼鈍を施し、その後、焼鈍温度：７００〜９００℃、均熱時間：６０〜６００秒の最終焼鈍を施すことにより製造することができる。なお、上記製造方法において、各焼鈍条件は、図１のａ，ｂ，ｃおよびｄに図示された範囲内で行うことが好ましい。
　【００１１】
　また、本発明においては、
▲１▼　表面の粗度が、０．２μｍ≦Ｒａ≦０．９μｍ、であること、
▲２▼　表面の粗度が、２０μｍ≦Ｓｍ≦２５０μｍであること、
▲３▼　表面の粗度が、−０．５≦Ｒｓｋ、であること、が有効である。
　【００１２】
　さらに、本発明においては、
▲４▼　表面の粗度が、０．２μｍ≦Ｒａ≦０．９μｍ、かつ−０．５≦Ｒｓｋであること、
▲５▼　表面の粗度が、０．２μｍ≦Ｒａ≦０．９μｍ、−０．５≦Ｒｓｋ、かつ２０μｍ≦Ｓｍ≦２５０μｍであること、が推奨される。
　【００１３】
　そして、本発明においては、
▲６▼　板表面から任意の深さまで研磨した位置における、１０μｍ以上の介在物の個数が１００ｍｍ２の単位面積当たり６５個以下であること、
▲７▼　板断面において測定した１０μｍ以上の介在物の個数が１００ｍｍ２の単位面積当たり８０個以下であること、
▲８▼　ＪＩＳ　Ｇ　０５５１による方法にて測定した結晶粒度番号が、７．０以上の大きさを示すものであること、が好ましい。
　【００１４】
▲９▼　なお、シャドウマスク材の板厚は、０．０１〜０．５ｍｍ、好ましくは０．１〜０．５ｍｍの板厚が一般的である。
　【００１５】
　【発明の実施の形態】
　一般に、すじむらというのは、比較的個々のすじの幅が太く見える，いわゆる偏析に起因するむらと、比較的すじの太さが細い絹目状に見える，いわゆる結晶方位に起因するすじむら（絹目状すじ）とに分類することができ、また両者が相互に混在している形態のものも存在する。本発明は、これらのむらのうち後者のむら、すなわち結晶方位に依存するすじむらの改善を試みるものである。そのために、本発明では、立方体方位の（１００）面の双晶方位を導入することによってこれを分断することにて、結晶粒配向の乱れを制御するようにした。以下に、本発明の結晶粒配向の方法について説明する。
　【００１６】
　まず、所定の成分組成の合金材を常法に従って熱間圧延し、必要に応じて再結晶焼鈍や酸洗等を施したのち、例えば中間冷間圧延を行い、その後、最終圧延前に中間焼鈍を施す。この中間焼鈍は、立方体方位（１００）＜００１＞の発達を制御するために行うものである。この中間焼鈍は９００〜１１５０℃の温度で行う。その温度が低い場合（＜９００℃）、最終製品での立方体方位が発達しすぎて、双晶方位（２２１）＜２１２＞の割合が低くなってしまうことから、すじむら品位が低下する。双晶方位の割合が少なくなることによりすじむら品位が悪くなる理由は、立方体方位の集積により圧延方向における優先方位＜００１＞が個々の結晶粒単位で整合性が微妙に乱れ、これがすじ状に見えるものと考えられる。逆に、中間焼鈍の温度が高温の場合（＞１１５０℃）、立方体方位の発達が悪くエッチング速度が低下し、シャドウマスクのパターンエッチング時において個々のエッチング孔のコヒーレンス性が低下し、モトリングと呼ばれる全体むらが発生するようになる。
　【００１７】
　また、この中間焼鈍における均熱時間は、５〜６０秒の範囲が好適であり、この時間が５秒よりも短い場合には回復・再結晶が十分になされず、混粒状態の組織のままとなりエッチング品位が低下する。一方、この時間が６０秒よりも長い場合には粗粒となり、立方体方位の発達が低下し、やはり混粒組織となるためにエッチング性の低下を招く。
　【００１８】
　次に、本発明にあっては、上述した中間焼鈍の条件のみならず、さらに最終焼鈍の条件についても規制することが有効である。即ち、その最終焼鈍は、製品の結晶粒を微細かつ均一に整え、モトリングの発生原因となるエッチング後の孔壁面のガサツキを防止するために行うものであって、７００〜９００℃の焼鈍温度で、６０〜６００秒の均熱時間で処理することが有効である。その理由は、かかる最終焼鈍において焼鈍温度が７００℃よりも低い場合、再結晶が不十分となり、一方、９００℃よりも高い場合、粗粒化しエッチング品位が低下するからである。
　【００１９】
　なお、この焼鈍のための均熱時間は、個々の結晶粒の成長および結晶方位の発達の程度に応じて６０〜６００秒の範囲内が好ましい。例えば、その均熱時間が短い（＜６０秒）と立方体方位の発達が不十分となり、またエッチング速度の低下、モトリングが発生する。一方、この均熱時間が長い（＞６０秒）場合は、結晶粒が粗大化するほか、立方体方位に対し双晶方位の方が発達しすぎてしまい、すじむら品位が低下することになる。
　【００２０】
　これらの焼鈍条件については、適性範囲というものがあり、図１のａ，ｂ，ｃ，ｄで囲まれた領域が好適である。
　【００２１】
　次に、本発明にかかるＦｅ−Ｎｉ係シャドウマスク用材料の成分組成を限定する理由を述べる。Ｃは、０．１ｗｔ％以上含有すると炭化物が析出しエッチング性を阻害するだけでなく、シャドウマスク成形加工後の形状凍結性に悪影響を及ぼす。しかも、このＣ量が多いと耐力が上昇してスプリングバックが大きくなり、成形加工時の型なじみが悪くなる。従って、本発明においては、Ｃ量を０．１ｗｔ％以下が好ましい。
　【００２２】
　Ｓｉは、脱酸成分のひとつであるが、この量が多すぎると、素材自体の硬さが増大すると同時に、Ｃと同様に成形加工性にも悪影響が出る他、その量が多くなるにしたがって耐力の上昇を招いてスプリングバックが大きくなる。しかも、エッチング時のすじむらに影響を及ぼし、これが多いとすじむら発生の原因をつくる。従って、本発明においてはＳｉ量は０．５ｗｔ％以下が好ましい。
　【００２３】
　Ｍｎは、脱酸成分のひとつであり、熱間加工性に対して有害なＳと結合してＭｎＳを形成するため適正に添加することによって熱間加工性を改善する。しかし、その添加量が多すぎると、熱膨張係数を上げると共にキュリー点を高温側に変位させる。従って、本発明においてＭｎ量は、１．０ｗｔ％以下が好ましい。
　【００２４】
　Ｎｉは、本発明において最も重要な元素であり、このＮｉ量が３４ｗｔ％より少ないと、熱膨張係数が大きくなり、またマルテンサイト変態を生じてエッチングむら発生のおそれがある。一方、Ｎｉの量が３８ｗｔ％より多くなると、同じような熱膨張係数が大きくなり、カラーブラウン管などに適用した場合に色むらが発生したりする問題がある。従って、良好なエッチング性とカラーブラウン管の色むら品位を向上させるのに、Ｎｉ量は３４〜３８ｗｔ％とする。
　【００２５】
　また、本発明は、上掲の３６ｗｔ％Ｎｉ−Ｆｅ合金を代表とするアンバー材の他、いわゆる、Ｆｅ−３２ｗｔ％Ｎｉ−５ｗｔ％Ｃｏを代表的な成分とするスーパーアンバーといわれるＦｅ−Ｎｉ−Ｃｏ系合金にも同様に適用することができる。この合金系では、低熱膨張特性がさらに良好であり、これを用いたブラウン管は一段と鮮明になる。このＦｅ−Ｎｉ−Ｃｏ系合金の場合、Ｎｉは、２３〜３８ｗｔ％がよい。好ましくはＮｉの下限は２５ｗｔ％以上、さらに好ましくは２７ｗｔ％以上であり、より好ましくは３０ｗｔ％以上である。Ｎｉの好ましい上限は３６ｗｔ％以下であり、さらに好ましくは３５ｗｔ％以下である。Ｃｏは、１０ｗｔ％以下が好ましい。これ以上になると、熱膨張係数が高くなり、エッチング性が著しく低下するためである。好ましくは８ｗｔ％以下、より好ましくは７ｗｔ％以下、さらに好ましくは６ｗｔ％以下である。また、Ｃｏの下限について検討する場合には、０．５ｗｔ％以上、好ましくは１ｗｔ％以上、より好ましくは１．５ｗｔ％以上、さらに好ましくは２ｗｔ％以上、またさらに好ましくは２．５ｗｔ％以上であり、３ｗｔ％以上がもっとも好ましい。なお、ＮｉとＣｏとの合計含有量を３２〜３８ｗｔ％に規定することも有効である。
　【００２６】
　本発明においてはまた、所期の作用効果を実現するために、上述した成分組成に関する合金設計に加えて、さらに集合組織の制御が必要である。発明者らは、集合組織の形態については、良好なすじむら品位を得るための要素として、以下の条件を満たすことが必要であることを、実験により確認した。すなわち、本発明にかかるシャドウマスク用材料として好ましい集合組織としては、（１１１）極点図において、立方体方位（１００）＜００１＞とその双晶方位である（２２１）＜２１２＞とのＸ線強度比Ｉｒには最適範囲が存在し、それは（１１１）極点図のＸ線強度比（Ｘ線カウント数比Ｉｒ）で、
０．９
　【００２７】
　なお、本発明において、上記Ｘ線強度比Ｉｒの測定方法ならびに測定条件は下記のとおりである。まず、Ｘ線強度比Ｉｒの測定方法は、板の一方の面をテフロンシールで覆った後、反対の面を市販化学研磨液（三菱瓦斯化学製　Ｃ．Ｐ．Ｅ１０００）にて化学研磨し、板厚の７０〜３０％になるように減厚して測定面とした。その測定面としては、板厚みの中心部近傍を測定するのが望ましい。このようにして得られた化学研磨後の試料表面について、ｓｃｈｕｌｚの反射法による（１１１）極点測定を下記表１の測定条件で実施し、これにより得られた極点図をもとに（１００）＜００１＞方位のＸ線強度と（２２１）＜２１２＞方位のＸ線強度との比を求めた。それぞれのＸ線強度は、最大Ｘ線強度（最大Ｘ線カウント数）をもとめ、その強度を１５等分し、得られた極点図から（１００）＜００１＞および（２２１）＜２１２＞に対応する強度に該当する等高線強度を読み取り、その強度をそれぞれのＸ線強度と定義した。そして、このようにして得られた（１００）＜００１＞方位および（２２１）＜２１２＞方位のそれぞれの比を求めてＸ線強度比Ｉｒとした。なお、Ｘ線強度比Ｉｒは、下記のように定義されるものである。
　　Ｉｒ＝立方体方位（００１）＜００１＞のＸ線強度／双晶方位（２２１）＜２１２＞のＸ線強度
　【００２８】
　【表１】
　【００２９】
　次に、本発明に適合するものと不適合の極点図形について説明する。図２〜６は、表２に示す成分組成のＦｅ−Ｎｉ系材料について、表３に示す条件で製造した本発明材Ｎｏ．１，３，４と比較材Ｎｏ．６，１１の極点図形を示す。図２は、表３中の比較材Ｎｏ．１１の極点図を示しており、（１００）＜００１＞の立方体方位がより発達しており、（２２１）＜２１２＞双晶方位とのＸ線強度比Ｉｒは１３．９１となっている。この試料（比較材１１）のエッチング性に関しては表２中に示すように、エッチング速度が速いためモトリングは良好なものとなっているものの、すじむらが明瞭に認められ、実際のシャドウマスク製品としては適していないことがわかる。
　【００３０】
　【表２】
　【００３１】
　【表３】
　【００３２】
　また、図３、図４、図５はそれぞれ、表２中の本発明材Ｎｏ．３，１，４の極点図を示しており、それぞれ本発明に適合する材料の極点図形である。そのうちの図３、図４は、本発明のそれぞれ上限のＩｒ＝４．６６、下限のＩｒ＝０．９３を、そして図５は本発明の最適条件Ｉｒ＝２．７９のものを示している。一方、図６は比較材Ｎｏ．６の極点図を示しており、（１００）＜００１＞立方体方位が非常に弱く、規格化強度比は０．３６：１となっているものである。この比較材Ｎｏ．６のエッチング性に関しては、モトリングの品位が悪いという結果なっており、これもまたシャドウマスク製品として不適当である。
　【００３３】
　図７は、上記の関係を図にまとめたものである。この図は、横軸にＸ線強度比Ｉｒの対数をとり、縦軸にエッチングファクター（パターンエッチングを行ったときの深さ方向のエッチング量を幅方向のエッチング量（サイドエッチ）で割った値）すじむら、モトリング品位を示したものである。図に示すように、Ｘ線強度比Ｉｒが大きくなるほど（双晶の割合が減少するほど）エッチングファクター（板厚方向のエッチング速度）が増大することが認められる。一方、すじむら品位は、Ｘ線強度比Ｉｒが大きすぎても小さすぎても悪くなる。図示した結果からわかるように、Ｘ線強度比Ｉｒの適正な範囲は
０．９
　【００３４】
　本発明は、このような極点図形による方位成分の適性範囲を規定し、それによりシャドウマスク用素材に発生するエッチング時のすじむらならびにモトリングとよばれる全体むらの発生を防止した材料である。
　【００３５】
　本発明にかかる材料はまた、Ｘ線強度比Ｉｒで示される集合組織の限定に加え、さらにＪＩＳ　Ｇ　０５５５の定めるところによる断面清浄度を０．０５％以下、好ましくは０．０３％以下、より好ましくは０．０２％以下、さらに好ましくは０．０１７％以下にする。この理由は、断面清浄度ｄが上記の数値を超えると、エッチング精度が低下し、製品不良率が悪くなるからである。
　【００３６】
　なお、上記の断面清浄度ｄの測定値はＪＩＳ　Ｇ　０５５５に準拠して行う。具体的には、製品を圧延方向に３０ｍｍの長さに切断し、その断面を研磨したのち、縦横各２０本の格子線をもつグリッドを顕微鏡に装着し、視野を図１０に示すようにジグザグ状に動かしながら、４００倍で６０視野観察することにより行った。従って、測定面は圧延方向に平行な断面であり、測定面積は、板厚×３０ｍｍとなる。上記断面清浄度ｄは、格子点の数をＰとし、視野の数をｆとし、ｆ個の視野における総格子点中心の数をｎとしたとき、下記式
　　ｄ（％）＝（ｎ／Ｐ×ｆ）×１００
によって決定されるものである。
　【００３７】
　本発明にかかる材料はまた、Ｒａ，Ｒｓｋ，Ｓｍで表される材料表面の粗度を、適正に制御することが好ましい。
▲１▼　まず、製品の表面粗さにおいて中心線平均粗さＲａは、粗さの平均的な大きさを示すパラメータであり、この値が大きすぎると露光時の散乱が強くなるとともにエッチング時に穿孔開始時間に差が生じ、孔の形状が悪くなる。逆に、小さすぎる場合は、真空引きのときに排気が十分になされず、パターンと素材との密着不良がおこりやすい。そこで、本発明では、０．２≦Ｒａ≦０．９とする。中心線平均粗さＲａの好ましい下限は０．２５μｍ以上、より好ましくは０．３μｍ以上、さらに好ましくは０．３５μｍ以上がよい。一方、上限については、０．８５μｍ以下が好ましく、より好ましくは０．８μｍ以下、さらに好ましくは０．７μｍ以下である。
　【００３８】
▲２▼　次に、表面粗さの相対性を示すＲｓｋについては、パターンが凸か凹かを端的に示すパラメータであり、振幅分布曲線（ＡＤＦ）分布の中心線に対する対称性を下記式に準じて数値で表したものである。
　　Ｒｓｋ＝１／σ３Ｚ３Ｐ（ｚ）ｄｚ
ここで、σは自乗平均値、Ｚ３Ｐ（ｚ）ｄｚは振幅分布曲線の３次モーメントを示す。このＲｓｋの値が負で大きくなると、露光時の散乱が強くなり、孔の形状が悪くなる。逆に、正で大きすぎる場合は、真空引きの排気が十分になされずパターンと素材との密着不良がおこりやすい。そこで、本発明では、−０．５≦Ｒｓｋとする。好ましい下限は０以上、より好ましい下限は０．１以上がよい。一方、上限については、好ましくは１．３以下、より好ましくは１．１以下で、１．０以下を最適例とする。
　【００３９】
▲３▼　次に、Ｓｍで表される平均山間隙は、粗さの山谷のピッチの大きさを示しており、このような粗さは、凹凸が大きすぎた場合に生じる部分的な真空引き不良、小さすぎた場合に生じる露光時の散乱が強くなるための孔形状の不良を端的に示すものと言える。本発明で、このＳｍは、２０μｍ≦Ｓｍ≦２５０μｍとする。このＳｍの好ましい下限は４０μｍ以上、より好ましくは５０μｍ以上、さらに好ましくは８０μｍ以上である。一方、好ましい上限は２００μｍ以下、より好ましくは１６０μｍ以下、さらに好ましくは１５０μｍ以下で、１３０μｍ以下を最適例とする。
　【００４０】
　上記のような表面粗さに調整する方法としては、例えば、シャドウマスク用素材を最終寸法に冷間圧延する際に、ダルロールを用いることにより容易に実現し得る。かかるダルロールは、所定の表面粗度を有するロールであって、このロールを用いて上記シャドウマスク素材を圧延することにより、適切な転写率でその反転模様を圧印することができる。このようなダルロールは、放電加工、レーザー加工、ショットブラスト法などにより加工することで容易に得ることができる。例えば、ショットブラスト法によるロール加工条件として、＃１２０のスチールグリッドを用いて行うことで可能である。
　【００４１】
　本発明はまた、上記の特性に加えて、介在物の個数を制御することが好ましい。即ち、板表面から任意の深さまで研磨を行い、測定した１０μｍ以上の介在物の個数が、１００ｍｍ２の単位面積当たり６５個以下に制御する。この場合、好ましくは４０個以下、より好ましくは３０個以下、さらに好ましくは２５個以下で、２０個以下であることが最も好ましい。このように限定する理由は、一般に、シャドウマスクは、微細なエッチング技術を必要とすることから、素材中の介在物はできるだけ少ないほうがよいからである。なお、この介在物個数と断面清浄度は類似する概念であるが、断面清浄度ｄだけでは異物の面積を規定しただけであり、不良率をさらに少なくするためには、板表面部の介在物の大きさも制限することが有効である。上記介在物個数の測定方法は、板表面を研磨し、最後はバフ研磨で仕上げて、板表面と平行な面を顕微鏡で観察し、個数を測定した。測定は、１０ｍｍ×１０ｍｍの面を観察した。不良の原因となる大型介在物の写真を図８に示す。
　【００４２】
　本発明ではまた、上記の板表面における介在物個数の制御に加え、板断面において測定した１０μｍ以上の介在物個数を１００ｍｍ２の単位面積当たり８０個以下に制御することが有効である。この個数は、好ましくは７０個以下、より好ましくは５０個以下、さらに好ましくは４０個以下で、３０個以下、さらに２０個以下を最適例とする。というのは、上述した断面清浄度ｄだけを制御していただけでは、不良率を０にすることはできないからであり、介在物の大きさをも制限することにより、不良率をさらに低下させることができるからである。なお、この板断面における介在物の個数の測定方法は、圧延方向と平行断面を研磨し、バフ研磨で仕上げ、顕微鏡で観察した。測定は、板厚×２５ｍｍ長さの断面を３つ程度測定し、１００ｍｍ２に換算した。不良の原因となる大型介在物の写真を図９に示す。本発明においで、上述した清浄度や介在物個数の制御方法としては、精錬過程において、介在物を取鍋で浮上分離させることにより可能である。
　【００４３】
　本発明ではさらに、合金中の結晶粒度につき、ＪＩＳ　Ｇ　０５５１による方法にて測定した結晶粒度番号で７．０以上の大きさを示す粒度（より細かく制御）にすることが好ましい。好ましくは８．０以上、より好ましくは８．５以上、さらに好ましくは９．５以上である。このように限定する理由は、結晶粒度番号が７．０以上を示す結晶にすることが必要な理由としてまず、結晶粒が大きいとエッチング時の孔の径がそれぞれの結晶方位のエッチング速度が異なるため、ばらつき、エッチング孔の不揃いによる透過光むらが生じ、ひいてはモトリングと呼ばれる現象が発生するとともに、孔不良が発生し、歩留りを低下させることが挙げられる。また、プレス加工時に結晶粒が大きくなりすぎてプレス不具合を生じるからである。上記結晶粒度の測定方法は、圧延直角方向の板断面を顕微鏡面とし、バフ研磨後王水にてエッチングを行い、観察倍率２００倍にてＪＩＳ　Ｇ　０５５１に記載されているオーステナイト組織標準結晶粒度の図に比較対照して結晶粒度番号を決定する。なお、標準結晶粒度図は１００倍の観察倍率を基準としているので、標準図の結晶粒度番号に対し＋２．０補正した。（結晶粒度番号は０．５刻みで測定する）
　【００４４】
　【実施例】
実施例１
　上掲の表２に示す成分組成の本発明に適合する合金の鋼塊を、真空脱ガスプロセスにより溶製し、その後熱間圧延を施して５ｍｍの熱延板とし、さらにこれを表３に示す条件で冷間圧延および焼鈍を繰り返して製造し、０．１３ｔの製品厚さに調製した後、実際のフォトエッチングプロセスを経て実際のシャドウマスク製品として評価を行った。エッチングは、０．２６ｍｍピッチのマスクパターンを用いて塩化第２鉄溶液４６ボーメ、液温５０℃、スプレー圧２．５ｋｇｆ／ｃｍ２で行った。表２中の試料Ｎｏ．１〜５が本発明に従って製造した例であり、試料Ｎｏ．６〜１１は比較材の例である。なお、得られたシャドウマスク製品のエッチング後の特性を評価したところ、本発明材についてはいずれも、プレス成形性における金型への型なじみ性および張り剛性が良好であり、また、黒化性に関しても密着性がよく十分な輻射特性が得られる黒化膜が生成していることを確認することができ、シャドウマスク製品として優れた特性を示すことがわかった。
　【００４５】
実施例２
　この実施例では、Ｘ線強度比および断面清浄度ｄが適正範囲内であれば、従来のシャドウマスク材と比較して、品質および製品歩留りの点で十分満足できるシャドウマスク材であるが、さらに、歩留り等を向上させるために各種要因との組み合わせを検討してみた。その結果を表４に示す。表４は、断面清浄度、表面粗さ（Ｒａ，Ｒｓｋ，Ｓｍ）、平面および断面の１０μｍ以上の介在物個数および結晶粒度番号とプレス前焼鈍時における焼き付きの有無、孔不良率の関係を示したものである。表面粗さ計は、（株）東京精密　サーフコム１５００Ａを使用した。その結果、以下のことが明らかとなった。
▲１▼　断面清浄度が０．０５％を超えると孔不良率がやや多くなる（Ｎｏ．４４）。
▲２▼　平面および断面で観察される１０μｍ以上の介在物個数がそれぞれ単位面積当たり６５個、および８０個を超えると孔不良の発生がやや増加することが確認された（Ｎｏ．５０，５１）。
▲３▼　結晶粒度番号が７．０以下になると孔不良率がやや増加しているが、これは個々の結晶粒が大きいためそれぞれの結晶方位に依存した開孔形状となり、均一な孔を開けることが比較的難しくなるためである（Ｎｏ．５２）。
▲４▼　前述したように、適正な表面粗さはエッチング前のレジスト塗布、露光工程においてレジストの密着性を高め、また真空引きを改善すると共に露光によるハレーションを防止する役割を持つほか、プレス前焼鈍時にシャドウマスク同士の密着を防止し、ひいては密着による黒化（酸化）皮膜のむらを防止する。これらの点を裏付けるべくＲａ，Ｒｓｋ，Ｓｍの組み合わせによってはエッチング起因の孔不良率や焼き付き（プレス前焼鈍時に板同士の密着）による黒化むらが生じていることが確認された（Ｎｏ．４５，４６，４７，４８，４９）。
　【００４６】
　【表４】
　【００４７】
実施例３
　表５に示すＦｅ−Ｎｉ−Ｃｏ系合金シャドウマスク用材料について、実施例１と同じ実験を行った。その結果を表６に示すが、Ｆｅ−Ｎｉ系シャドウマスク用材料の場合と同様の結果が得られている。
　【００４８】
　【表５】
　【００４９】
　【表６】
　【００５０】
　【発明の効果】
　以上説明したように本発明によれば、エッチング特性に優れたＦｅ−Ｎｉ系合金、とくにエッチング時のすじむらやモトリングの発生のない低熱膨張のＦｅ−Ｎｉ系シャドウマスク用材料を提供することができる。従って、映像のきれいなカラーブラウン管やディスプレー用の材料を確実にかつ高い収率で提供することができる。
【図面の簡単な説明】
　【図１】本発明に従う中間焼鈍条件と最終焼鈍条件の適性範囲の関連性を示す説明図である。
　【図２】比較材１１の（１１１）極点図である。
　【図３】本発明材３の（１１１）極点図である。
　【図４】本発明材１の（１１１）極点図である。
　【図５】本発明材４の（１１１）極点図である。
　【図６】比較材６の（１１１）極点図である。
　【図７】Ｉｒとエッチングファクターおよびすじむら、モトリングの品位との関係を示す説明図である。
　【図８】合金板表面における大型介在物の例を示す写真である。
　【図９】合金板断面における大型介在物の例を示す写真である。
　【図１０】合金板断面清浄度の測定方法を示す図である。