(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
エネルギービーム描画装置内でリサイズ処理を行うための描画データの作成方法であって、
エネルギービームを用いて描画される描画パターンの外周を複数のベクトルでつなぐ工程と、
前記複数のベクトルから、同一直線上に位置し、かつ方向が逆の一対のベクトルを抽出する工程と、
抽出した一対のベクトルの近接する一対の端点をそれぞれ含む該一対の端点間で、かつ該一対のベクトルと直交する方向で前記描画パターンを分割し、複数の図形を生成する工程と、
前記図形毎に、図形の形状、サイズ、及び位置を示す図形データと、リサイズの有無、リサイズ有の場合のリサイズ方向、及びリサイズ方向毎のリサイズ量を示すリサイズ情報とを定義した描画データを作成する工程と、
を備えるエネルギービーム描画装置の描画データ作成方法。
【請求項２】
前記描画パターンが斜辺を含む場合は、該斜辺を含む三角形を除いた描画パターンの外周を複数のベクトルでつなぐことを特徴とする請求項１に記載のエネルギービーム描画装置の描画データ作成方法。
【請求項３】
前記複数のベクトルから、同一直線上に位置し、方向が同じであり、かつ少なくとも一方が前記三角形の一辺に対応するベクトルを抽出することを特徴とする請求項２に記載のエネルギービーム描画装置の描画データ作成方法。
【請求項４】
前記描画パターンを分割した複数の図形の第１辺、第２辺、第３辺及び第４辺の一端が一頂点で直交状に接続し、同一直線上に位置する第１辺と第３辺とでリサイズ量が異なり、かつ同一直線上に位置する第２辺と第４辺とでリサイズ量が異なる場合、リサイズ処理により図形が追加されるように描画データを作成し、該描画データにおいて追加図形の図形データは、第１方向又は該第１方向に直交する第２方向のサイズが０であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載のエネルギービーム描画装置の描画データ作成方法。
【請求項５】
前記描画パターンの分割により対向する第１矩形及び第２矩形が生成され、該第２矩形に対向する該第１矩形の第１対向辺の一端部が該第１矩形に対向する該第２矩形の第２対向辺の一端部より内側に位置し、該第１対向辺が該第２対向辺より短く、リサイズ方向が寸法を大きくする方向であり、かつ該第１対向辺のリサイズ量及び該第２対向辺のリサイズ量が共に該第１矩形と該第２矩形との矩形間距離の半分以上の場合、該第１対向辺は、リサイズ量が矩形間距離の半分を超えた分については、寸法を小さくする方向へ折り返してリサイズ量を定義することを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載のエネルギービーム描画装置の描画データ作成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、エネルギービーム描画装置の描画データ作成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＬＳＩの高集積化に伴い、半導体デバイスに要求される回路線幅は年々微細化されてきている。半導体デバイスへ所望の回路パターンを形成するためには、縮小投影型露光装置を用いて、石英上に形成された高精度の原画パターン（マスク、或いは特にステッパやスキャナで用いられるものはレチクルともいう。）をウェーハ上に縮小転写する手法が採用されている。高精度の原画パターンは、電子ビーム描画装置によって描画され、所謂、電子ビームリソグラフィ技術が用いられている。
【０００３】
描画対象となるパターンの形状は多種多様であり、一般に、描画装置で形成可能な図形種に分割された描画データが描画装置に入力される。そのため、隣り合う図形と接触した図形が描画データとして定義される。また、電子ビーム描画では、電子ビームの照射量に依存しない、例えば、ローディング効果等に起因する寸法変動を考慮し、描画する図形パターンの形状をリサイズして描画していた。図形のリサイズ処理は、描画データを描画装置に入力する前や、描画装置内で行われていた（例えば特許文献１、２参照）。
【０００４】
リサイズ処理を描画装置内で行う場合、描画装置に入力する描画データにはリサイズ情報が付加されていた。リサイズ情報は、１つのパターンを複数の図形に分割し、図形毎にリサイズの有無とリサイズ有の場合のリサイズ方向とを示すものである。しかし、パターンの形状及び分割の方法によっては、正確なリサイズ情報を付加できないという問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００９−３２９０４号公報
【特許文献２】特開２０１２−１１４１０５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記従来の実状に鑑みてなされたものであり、描画装置内で精度良くリサイズ処理を行うことができるエネルギービーム描画装置の描画データ作成方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一態様によるエネルギービーム描画装置の描画データ作成方法は、エネルギービーム描画装置内でリサイズ処理を行うための描画データの作成方法であって、エネルギービームを用いて描画される描画パターンの外周を複数のベクトルでつなぐ工程と、前記複数のベクトルから、同一直線上に位置し、かつ方向が逆の一対のベクトルを抽出する工程と、抽出した前記一対のベクトルの近接する一対の端点をそれぞれ含む該一対の端点間で、かつ該一対のベクトルと直交する方向で前記描画パターンを分割し、複数の図形を生成する工程と、前記図形毎に、図形の形状、サイズ、及び位置を示す図形データと、リサイズの有無、リサイズ有の場合のリサイズ方向、及びリサイズ方向毎のリサイズ量を示すリサイズ情報とを定義した描画データを作成する工程と、を備えるものである。
【０００８】
本発明の一態様によるエネルギービーム描画装置の描画データ作成方法において、前記描画パターンが斜辺を含む場合は、該斜辺を含む三角形を除いた描画パターンの外周を複数のベクトルでつなぐことを特徴とする。
【０００９】
本発明の一態様によるエネルギービーム描画装置の描画データ作成方法において、前記複数のベクトルから、同一直線上に位置し、方向が同じであり、かつ少なくとも一方が前記三角形の一辺に対応するベクトルを抽出することを特徴とする。
【００１０】
本発明の一態様によるエネルギービーム描画装置の描画データ作成方法において、前記描画パターンを分割した複数の図形の第１辺、第２辺、第３辺及び第４辺の一端が一頂点で直交状に接続し、同一直線上に位置する第１辺と第３辺とでリサイズ量が異なり、かつ同一直線上に位置する第２辺と第４辺とでリサイズ量が異なる場合、リサイズ処理により図形が追加されるように描画データを作成し、該描画データにおいて追加図形の図形データは、第１方向又は該第１方向に直交する第２方向のサイズが０であることを特徴とする。
【００１１】
本発明の一態様によるエネルギービーム描画装置の描画データ作成方法において、前記描画パターンの分割により対向する２つの矩形が生成され、リサイズ方向が寸法を大きくする方向であり、かつ対向辺のリサイズ量が矩形間距離の半分以上の場合、端部が内側に位置する対向辺は、リサイズ量が矩形間距離の半分を超えた分については、寸法を小さくする方向へ折り返してリサイズすることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、描画装置内で精度良くリサイズ処理を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】第１の実施形態による描画装置の概略構成図である。
【図２】第１の実施形態による描画方法を説明するフローチャートである。
【図３】描画データのフォーマットの概念図である。
【図４】リサイズ処理の例を示す図である。
【図５】リサイズ情報の例を示す図である。
【図６】リサイズ処理の例を示す図である。
【図７】比較例による図形分割を示す図である。
【図８】パターンの外周をつなぐベクトルを示す図である。
【図９】図形分割の例を示す図である。
【図１０】リサイズ処理の例を示す図である。
【図１１】リサイズ処理の例を示す図である。
【図１２】図形分割の例を示す図である。
【図１３】リサイズ処理の例を示す図である。
【図１４】リサイズ処理の例を示す図である。
【図１５】リサイズ処理の例を示す図である。
【図１６】比較例によるリサイズ処理を示す図である。
【図１７】図形分割の例を示す図である。
【図１８】リサイズ処理の例を示す図である。
【図１９】リサイズ処理の例を示す図である。
【図２０】図形分割の例を示す図である。
【図２１】リサイズ処理の例を示す図である。
【図２２】リサイズ処理の例を示す図である。
【図２３】リサイズ処理の例を示す図である。
【図２４】図形分割の例を示す図である。
【図２５】リサイズ処理の例を示す図である。
【図２６】リサイズ処理の例を示す図である。
【図２７】比較例によるリサイズ処理を示す図である。
【図２８】リサイズ処理の例を示す図である。
【図２９】描画パターンの例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、実施の形態では、エネルギービームの一例として、電子ビームを用いた構成について説明する。但し、エネルギービームは電子ビームに限るものでなく、イオンビーム等の荷電粒子ビームでもよく、レーザでもよい。また、エネルギービーム描画装置の一例として、可変成形型の描画装置について説明する。
【００１５】
［第１の実施形態］
図１は、第１の実施形態における描画装置の概略構成図である。図１の通り、描画装置１００は、描画部１５０と制御部１６０を備えている。描画装置１００は、荷電粒子ビーム描画装置の一例である。特に、可変成形型（ＶＳＢ型）の描画装置の一例である。描画部１５０は、電子鏡筒１０２と描画室１０３を備えている。電子鏡筒１０２内には、電子銃２０１、照明レンズ２０２、ブランキング偏向器（ブランカ）２１２、ブランキングアパーチャ２１４、第１成形アパーチャ２０３、投影レンズ２０４、偏向器２０５、第２成形アパーチャ２０６、対物レンズ２０７、主偏向器２０８及び副偏向器２０９が配置されている。描画室１０３内には、少なくともＸＹ方向に移動可能なＸＹステージ１０５が配置される。主偏向器２０８の下方に副副偏向器を設け、３段偏向器としてもよい。ＸＹステージ１０５上には、レジストが塗布された描画対象となる基板１０１が配置される。基板１０１には、半導体装置を製造するための露光用のマスクやシリコンウェハ等が含まれる。マスクにはマスクブランクスが含まれる。
【００１６】
制御部１６０は、制御計算機１１０、メモリ１１２、偏向制御回路１２０、及び磁気ディスク装置等の記憶装置１４０，１４２を有している。偏向制御回路１２０は各偏向器に接続されている。
【００１７】
制御計算機１１０は、面積密度算出部５２、ブロック分割部５４、判定部５６、リサイズ処理部５８、ショット分割部６０、照射量算出部６２、及び割当部６４を有する。制御計算機１１０に必要な入力データ、及び演算された結果は、その都度メモリ１１２に記憶される。
【００１８】
描画される図形のリサイズ処理は、後述するリサイズ情報に基づいて描画装置内で行われる。リサイズ処理を行うことで、図形パターンの寸法変動を補正できる。特に、ドーズ量に起因しない現象、例えば、ローディング効果、マイクロローディング効果、及びフレア効果に起因するパターン寸法変動の補正に好適である。描画装置内でリサイズ処理が可能となることで、ユーザ側で事前にリサイズ処理を行う必要がない。
【００１９】
図２は描画方法を説明するフローチャートである。この描画方法は、描画データ入力工程（Ｓ１０２）と、面積密度算出工程（Ｓ１０４）と、ブロック分割工程（Ｓ１０６）と、判定工程（Ｓ１０８）と、リサイズ処理工程（Ｓ１１０）と、ショット分割工程（Ｓ１１２）と、照射量算出工程（Ｓ１１４）と、割当工程（Ｓ１１６）と、描画工程（Ｓ１１８）とを備える。割当工程（Ｓ１１６）は、ショット分割工程（Ｓ１１２）の前に実施されてもよい。
【００２０】
図３は、描画データのフォーマットを説明するための概念図である。図３において、描画装置１００に外部から入力される描画データは、各図形の位置、形状、サイズを示す図形データと、リサイズ情報とを有する。リサイズ情報を有する描画データは、描画装置１００の外部から入力され、記憶装置１４０に格納される。
【００２１】
例えば図形が矩形の場合、リサイズ情報は、上下左右のそれぞれの辺について、リサイズの有無、リサイズ有の場合のリサイズ方向、及びリサイズ方向毎のリサイズ量（補正量）を計算するための情報を有する。
【００２２】
図４、図５を用いてリサイズ情報について説明する。図４（ａ）は、描画パターンの一例としてＴ字型のパターンＰ１を示す。このパターンＰ１の寸法を小さくし、図４（ｂ）に示すようなパターンＰ２とするリサイズについて考える。
【００２３】
パターンＰ１を、描画装置で形成可能な図形種に分割し、図形毎に描画データが作成される。例えば、パターンＰ１を、図４（ｃ）に示すように、接触して隣り合う３つの矩形の図形Ｆ１、Ｆ２、Ｆ３に分割する。中央の図形Ｆ２は、左右に隣接する図形Ｆ１、Ｆ３よりも上下方向の寸法が長くなっている。
【００２４】
図形Ｆ１、Ｆ２、Ｆ３を、図４（ｄ）に示すようにリサイズすることで、パターンＰ２を表現することができる。ここで、寸法を小さくするリサイズ方向を正、寸法を大きくするリサイズ方向を負とする。図形Ｆ１は、上辺を正方向、下辺を正方向、左辺を正方向、右辺を負方向にリサイズする。図形Ｆ２は、上辺を正方向、下辺を正方向、左辺を正方向、右辺を正方向にリサイズする。図形Ｆ３は、上辺を正方向、下辺を正方向、左辺を負方向、右辺を正方向にリサイズする。
【００２５】
図形Ｆ２で左辺を正方向にリサイズした分、図形Ｆ１の右辺の位置を負方向にリサイズすることで、両者の接続が維持される。また、図形Ｆ２で右辺を正方向にリサイズした分、図形Ｆ３の左辺の位置を負方向にリサイズすることで、両者の接続が維持できる。
【００２６】
図形Ｆ１、Ｆ２、Ｆ３のリサイズ情報はそれぞれ図５（ａ）、（ｂ）、（ｃ）のように、上下左右の辺について、リサイズ方向とリサイズ量を計算するための情報（図中では単に「リサイズ量」としている）とを示す。リサイズ情報内のリサイズ方向は２ビットの値を持ち、「０１」が正、「１０」が負、「００」がリサイズしないことを示す。
【００２７】
このように、リサイズ情報は、図形の各辺について、リサイズ有無及びリサイズ方向を示す２ビットの値を有する。また、リサイズ情報は、図形の各辺について、リサイズ方向毎のリサイズ量（補正量）を計算するための情報を含む。
【００２８】
図６（ａ）は描画パターンの別の一例のパターンＰ１１を示す。このパターンＰ１１の寸法を小さくし、図６（ｂ）に示すようなパターンＰ１２とするリサイズについて考える。
【００２９】
パターンＰ１１を、図７（ａ）に示すように、縦方向に分割線を入れて３つの矩形の図形Ｆ１１、Ｆ１２、Ｆ１３に分割した場合、パターンＰ１２を表現するようにリサイズ情報を付加することができない。
【００３０】
例えば、図７（ｂ）に示すように、図形Ｆ１１、Ｆ１２、Ｆ１３の上辺、下辺、左辺、右辺を正方向にリサイズする場合、図形間の接続が維持できなくなる。
【００３１】
図形間の接続を維持するためには、図７（ｃ）、（ｄ）又は（ｅ）のようなリサイズを行うことになる。しかし、図７（ｃ）では、左側の図形の右辺、中央の図形の左辺及び右辺、右側の図形３の左辺が正方向にリサイズされない。図７（ｄ）では、中央の図形の左辺及び右辺を正方向にリサイズした分、左側の図形の右辺及び右側の図形の左辺を負方向にリサイズするため、パターンＰ１２を表現できない。図７（ｅ）では、左側の図形の右辺及び右側の図形の左辺を正方向にリサイズした分、中央の図形の左辺及び右辺を負方向にリサイズするため、パターンＰ１２を表現できない。
【００３２】
図７（ｂ）〜（ｅ）のようなリサイズ情報を付加した描画データを描画装置１００に入力した場合、描画装置１００内で精度良くリサイズ処理を行うことができず、基板１０１へのパターン描画精度が低下する。本実施形態は、描画装置内で精度良くリサイズ処理を行うことができるように、正確なリサイズ情報を付加した描画データを作成するものである。
【００３３】
正確なリサイズ情報を付加するために本実施形態では、以下のように描画パターンを分割する。まず、描画パターンの外周を一周するように複数のベクトルでつなぐ。例えば、図６（ａ）に示すパターンＰ１１の外周は、図８のようにベクトルＶ１〜Ｖ１２で囲まれる。
【００３４】
次に、同一直線上にあり、かつ方向が逆のベクトルを抽出する。図８では、ベクトルＶ１及びＶ５、ベクトルＶ７及びＶ１１が抽出される。
【００３５】
次に、抽出した同一直線上にあるベクトルの向かい合う端点の一方を通り、ベクトルと直交する方向で描画パターンを分割する。ベクトルＶ１とベクトルＶ５はベクトル終点同士が向かい合っている。ベクトルＶ７とベクトルＶ１１はベクトル始点同士が向かい合っている。例えば、図９（ｂ）に示すように、ベクトルＶ５の終点及びベクトルＶ７の始点を通るようにパターンＰ１１を分割する。または、図９（ｃ）に示すように、ベクトルＶ１の終点及びベクトルＶ１１の始点を通るようにパターンＰ１１を分割する。図９（ａ）は分割前のパターンＰ１１を示している。
【００３６】
残りの図形は任意に分割する。例えば、図９（ｂ）に示すように分割した場合、残りの図形（パターンＰ１１の下側）は、図９（ｄ）又は図９（ｅ）のように分割される。図９（ｃ）に示すように分割した場合、残りの図形（パターンＰ１１の上側）は、図９（ｅ）又は図９（ｆ）のように分割される。
【００３７】
パターンＰ１１を図９（ｄ）のように５つの矩形の図形Ｆ２１、Ｆ２２、Ｆ２３、Ｆ２４、Ｆ２５に分割した場合、図１０（ａ）のようなリサイズを行う。図形Ｆ２１は、上辺、左辺、右辺を正方向にリサイズし、下辺を負方向にリサイズする。図形Ｆ２２は、上辺、下辺、左辺を正方向にリサイズし、右辺を負方向にリサイズする。図形Ｆ２３は、上辺、下辺、左辺、右辺を正方向にリサイズする。図形Ｆ２４は、上辺、右辺、左辺を正方向にリサイズし、下辺を負方向にリサイズする。図形Ｆ２５は、上辺、下辺、右辺を正方向にリサイズし、左辺を負方向にリサイズする。
【００３８】
図９（ｄ）のような分割を行うことで、リサイズ後の図形の接続を維持しつつ、パターンＰ１２を表現するリサイズ情報を付加することができる。
【００３９】
パターンＰ１１を図９（ｅ）のように４つの矩形の図形Ｆ２６、Ｆ２７、Ｆ２８、Ｆ２９に分割した場合、図１０（ｂ）のようなリサイズを行う。図形Ｆ２６は、上辺、左辺、右辺を正方向にリサイズし、下辺を負方向にリサイズする。図形Ｆ２７は、上辺、左辺、左辺を正方向にリサイズし、下辺を負方向にリサイズする。図形Ｆ２８は、上辺、下辺、左辺、右辺を正方向にリサイズする。図形Ｆ２９は、下辺、右辺、左辺を正方向にリサイズし、上辺を負方向にリサイズする。
【００４０】
図９（ｅ）のような分割を行うことで、リサイズ後の図形の接続を維持しつつ、パターンＰ１２を表現するリサイズ情報を付加することができる。
【００４１】
パターンＰ１１を図９（ｆ）のように４つの矩形の図形Ｆ３０、Ｆ３１、Ｆ３２、Ｆ３３に分割した場合、図１０（ｃ）のようなリサイズを行う。図形Ｆ３０は、上辺、下辺、左辺、右辺を正方向にリサイズする。図形Ｆ３１は、上辺、下辺を正方向にリサイズし、左辺、右辺を負方向にリサイズする。図形Ｆ３２は、下辺、左辺、右辺を正方向にリサイズし、上辺を負方向にリサイズする。図形Ｆ３３は、上辺、下辺、右辺、左辺を正方向にリサイズする。
【００４２】
図９（ｆ）のような分割を行うことで、リサイズ後の図形の接続を維持しつつ、パターンＰ１２を表現するリサイズ情報を付加することができる。
【００４３】
描画パターンの外周をつなぐベクトルにおいて、同一直線上にあり、かつ方向が逆になる第１ベクトル及び第２ベクトルは、描画パターンをリサイズする際に逆方向に動く。そのため、描画パターンを複数の図形に分割した後、第１ベクトルを含む辺と、第２ベクトルを含む辺とが重なる場合、これらの辺に対して正確なリサイズ情報を付加できなくなる。例えば、図７（ａ）では、ベクトルＶ５を含む図形Ｆ１１の右辺とベクトルＶ１を含む図形Ｆ１２の左辺とが重なる。そのため、図形Ｆ１１の右辺及び図形Ｆ１２の左辺に対して適切なリサイズ情報を付加できなかった。同様に、図形Ｆ１２の右辺及び図形Ｆ１３の左辺に対して適切なリサイズ情報を付加できなかった。
【００４４】
一方、本実施形態では、抽出した同一直線上にあるベクトルの向かい合う端点の一方を通り、ベクトルと直交する方向で描画パターンを分割する。そのため、同一直線上にあり、かつ方向が逆になるベクトルを含む辺が重ならない。例えば、図９（ｄ）では、ベクトルＶ５を含む図形Ｆ２１の右辺と、ベクトルＶ１を含む図形Ｆ２３の左辺とは重ならない。図９（ｅ）では、ベクトルＶ５を含む図形Ｆ２６の右辺と、ベクトルＶ１を含む図形Ｆ２９の左辺とは重ならない。図９（ｆ）では、ベクトルＶ５を含む図形Ｆ３０の右辺と、ベクトルＶ１を含む図形Ｆ３２の左辺とは重ならない。そのため、各図形に適切なリサイズ情報を付加することができる。
【００４５】
図１１（ａ）は描画パターンの別の一例のパターンＰ２１を示す。このパターンＰ２１の寸法を小さくし、図１１（ｂ）に示すようなパターンＰ２２とするリサイズについて考える。まず、描画パターンＰ２１の外周を一周するように複数のベクトルでつなぐ。パターンＰ２１の外周は、図１１（ｃ）に示すように、ベクトルＶ２１〜Ｖ３２で囲まれる。
【００４６】
次に、同一直線上にあり、かつ方向が逆のベクトルを抽出する。図１１（ｃ）では、ベクトルＶ２３及びＶ２７、ベクトルＶ２７及びＶ３１が抽出される。
【００４７】
次に、抽出した同一直線上にあるベクトルの向かい合う端点の一方を通り、ベクトルと直交する方向で描画パターンを分割する。ベクトルＶ２３とベクトルＶ２７はベクトル始点同士が向かい合っている。ベクトルＶ２７とベクトルＶ３１はベクトル終点同士が向かい合っている。
【００４８】
例えば、図１２（ｂ）に示すように、ベクトルＶ２７の始点及び終点を通るようにパターンＰ２１を分割する。または、図１２（ｃ）に示すように、ベクトルＶ２３の始点及びベクトルＶ３１の終点を通るようにパターンＰ２１を分割する。または、図１２（ｄ）に示すように、ベクトルＶ２３の始点及びベクトルＶ２７の終点を通るようにパターンＰ２１を分割する。図１２（ａ）は分割前のパターンＰ２１を示している。
【００４９】
残りの図形は任意に分割する。図１２（ｂ）に示すように分割した場合、残りの図形は、図１２（ｅ）又は図１２（ｆ）のように分割される。図１２（ｃ）に示すように分割した場合、残りの図形は、図１２（ｆ）又は図１２（ｇ）のように分割される。図１２（ｄ）に示すように分割した場合、残りの図形は、図１２（ｆ）又は図１２（ｈ）のように分割される。
【００５０】
パターンＰ２１を図１２（ｅ）のように５つの矩形の図形に分割した場合、各図形を図１３（ａ）のようにリサイズすることで、パターンＰ２２を表現できる。パターンＰ２１を図１２（ｆ）のように５つの矩形の図形に分割した場合、各図形を図１３（ｂ）のようにリサイズすることで、パターンＰ２２を表現できる。パターンＰ２１を図１２（ｇ）のように５つの矩形の図形に分割した場合、各図形を図１３（ｃ）のようにリサイズすることで、パターンＰ２２を表現できる。パターンＰ２１を図１２（ｈ）のように５つの矩形の図形に分割した場合、各図形を図１３（ｄ）のようにリサイズすることで、パターンＰ２２を表現できる。
【００５１】
図１２（ｅ）〜（ｈ）では、描画パターンＰ２１の分割後、ベクトルＶ２３を含む辺と、ベクトルＶ２７を含む辺とが重ならない。また、ベクトルＶ２７を含む辺と、ベクトルＶ３１を含む辺とが重ならない。そのため、各図形に適切なリサイズ情報を付加することができる。
【００５２】
描画パターンを複数の図形に分割し、各図形の位置、形状、サイズ、及びリサイズ情報を含む描画データは、描画装置１００の外部で作成される。例えば、データ変換装置が、ユーザ側で作成された設計データであるレイアウトデータ（例えば、ＣＡＤデータ等）を、描画装置１００へ入力可能な描画データにデータ変換する際に、上述したような図形分割を行い、リサイズ情報を付加し、描画データを作成する。図２のステップＳ１０２では、作成された描画データが記憶装置１４０に格納される。
【００５３】
面積密度算出部５２が、基板１０１の描画領域を所定のサイズのメッシュ状のメッシュ領域毎に、メッシュ領域内のパターンの面積密度を算出する（ステップＳ１０４）。メッシュサイズとしては、例えば、１ｍｍ〜２ｍｍ程度が好適である。
【００５４】
ブロック分割部５４が、基板１０１の描画領域をデータ処理単位となるブロック領域に分割する（ステップＳ１０６）。
【００５５】
判定部５６が、描画データを用いて、図形毎に、リサイズの有無、リサイズ方向、及びリサイズ量を判定する（ステップＳ１０８）。
【００５６】
リサイズ処理部５８が、図形毎に、判定結果に基づいて、寸法をリサイズする（ステップＳ１１０）
【００５７】
ショット分割部６０が、１回の電子ビーム２００のショットで形成可能なサイズの複数のショット図形に各図形を分割する（ステップＳ１１２）。
【００５８】
照射量算出部６２が、ショット図形毎に、電子ビーム２００で照射する照射量を算出する（ステップＳ１１４）。
【００５９】
割当部６４が、基板１０１の描画領域が副偏向器２０９で偏向可能なサイズでメッシュ状に仮想分割された領域に、該当するショット図形を割当処理する（ステップＳ１１６）。以上のようにして生成された各ショット用のデータ（ショットデータ）は生成された順に、順次、記憶装置１４２に一時的に格納される。
【００６０】
偏向制御回路１２０が、ショットデータを読み出し、ショットデータに従って、各偏向器に必要な偏向量の偏向電圧を出力する。描画部１５０が、各ショット図形を組み合わせていくことで、リサイズされた図形パターンを描画する（ステップＳ１１８）。
【００６１】
このように、描画部１５０は、リサイズされた図形を用いて、電子ビームで基板１０１に当該図形パターンを描画する。描画部１５０は、具体的には、以下のように動作する。
【００６２】
電子銃２０１（放出部）から放出された電子ビーム２００は、ブランキング偏向器２１２内を通過する際にブランキング偏向器２１２によって、ビームＯＮの状態では、ブランキングアパーチャ２１４を通過するように制御され、ビームＯＦＦの状態では、ビーム全体がブランキングアパーチャ２１４で遮蔽されるように偏向される。ビームＯＦＦの状態からビームＯＮとなり、その後ビームＯＦＦになるまでにブランキングアパーチャ２１４を通過した電子ビーム２００が１回の電子ビームのショットとなる。
【００６３】
ブランキング偏向器２１２は、通過する電子ビーム２００の向きを制御して、ビームＯＮの状態とビームＯＦＦの状態とを交互に生成する。例えば、ビームＯＮの状態では電圧を印加せず、ビームＯＦＦの際にブランキング偏向器２１２に電圧を印加すればよい。かかる各ショットの照射時間で基板１０１に照射される電子ビーム２００のショットあたりの照射量が調整されることになる。
【００６４】
以上のようにブランキング偏向器２１２とブランキングアパーチャ２１４を通過することによって生成された各ショットの電子ビーム２００は、照明レンズ２０２により矩形例えば長方形の穴を持つ第１成形アパーチャ２０３全体を照明する。ここで、電子ビーム２００をまず矩形例えば長方形に成形する。
【００６５】
そして、第１成形アパーチャ２０３を通過した第１アパーチャ像の電子ビーム２００は、投影レンズ２０４により第２成形アパーチャ２０６上に投影される。偏向器２０５によって、第２成形アパーチャ２０６上での第１アパーチャ像は偏向制御され、ビーム形状と寸法を変化させることができる。このような可変成形はショット毎に行なわれ、通常ショット毎に異なるビーム形状と寸法に成形される。
【００６６】
第２成形アパーチャ２０６を通過した第２アパーチャ像の電子ビーム２００は、対物レンズ２０７により焦点を合わせ、主偏向器２０８及び副偏向器２０９によって偏向され、連続的に移動するＸＹステージ１０５に配置された基板１０１の所望する位置に照射される。以上のように、各偏向器によって、電子ビーム２００の複数のショットが順に基板となる基板１０１上へと偏向される。
【００６７】
本実施形態では、描画パターンの外周をベクトルでつなぎ、同一直線上にあり、かつ方向が逆になるベクトルを抽出し、抽出したベクトルの向かい合う端点の一方を通り、ベクトルと直交する方向で描画パターンを分割する。このように描画パターンを分割した場合、同一直線上にあり、かつ方向が逆になるベクトルを含む辺同士が重ならない。そのため、各図形に適切なリサイズ情報を付加することができる。
【００６８】
入力される描画データにこのようなリサイズ情報を付加することで、描画装置内で精度良くリサイズを行うことができる。
【００６９】
上記実施形態では、抽出した一対のベクトルの向かい合う端点の一方を通るように描画パターンを分割する例について説明したが、向かい合う端点を結ぶ線分上の任意の点を通り、この線分に直交するように分割してもよい。すなわち、抽出した一対のベクトルの近接する一対の端点間で、一対のベクトルと直交する方向で描画パターンを分割してもよい。このような分割によっても、分割後の各図形に適切なリサイズ情報を付加できる。
【００７０】
［第２の実施形態］
図１４（ａ）は斜辺を含む描画パターンの一例のパターンＰ４１を示す。このパターンＰ４１の寸法を大きくし、図１４（ｂ）に示すようなパターンＰ４２とするリサイズについて考える。
【００７１】
斜辺を含むパターンを分割する場合、まず、斜辺を含む三角形（直角三角形）を抜き出す。図１５（ａ）に示すように、パターンＰ４１から三角形Ｆ５１を抜き出す。
【００７２】
次に、三角形を抜き出した後のパターンの外周を一周するように複数のベクトルでつなぐ。三角形Ｆ５１を抜き出したパターンＰ４１の外周は、図１５（ｂ）に示すように、ベクトルＶ５１〜Ｖ５８で囲まれる。
【００７３】
同一直線上にあり、かつ方向が逆のベクトルがないため、三角形Ｆ５１を除くパターンＰ４１を図１６（ａ）に示すように、矩形の図形Ｆ５２及びＦ５３に分割する。
【００７４】
このような分割を行った場合、パターンＰ４２を表現するようにリサイズ情報を付加することができない。例えば、図１６（ｂ）に示すように、三角形Ｆ５１’の右下の頂点と、矩形Ｆ５３’の右上の頂点との位置が合うようにリサイズした場合、図中斜線部分のリサイズ情報を付加できない。
【００７５】
図１６（ｂ）の斜線部分が生じないように矩形Ｆ５３の上辺をリサイズした場合、図１６（ｃ）に示すように、三角形Ｆ５１”の右下の頂点と、矩形Ｆ５３”の右上の頂点との位置が合わず、段差が生じる。
【００７６】
図１６（ｂ）（ｃ）のように正確なリサイズ情報が付加できない要因は、図１５（ｂ）のベクトルＶ５１に対応する辺と、ベクトルＶ５５に対応する辺とで、リサイズ量が異なることにある。
【００７７】
ベクトルＶ５５に対応する辺は、三角形Ｆ５１の辺であり、この辺のリサイズ量は、パターンＰ４１の外周を形成するベクトルＶ５１に対応する辺のリサイズ量とは異なる。そのため、これらのベクトルを含む矩形Ｆ５３の上辺に適切なリサイズ情報を付加できない。
【００７８】
そこで、本実施形態では、三角形を抜き出した後のパターンの外周を一周するように複数のベクトルでつないだ後、まず、同一直線上にあり、かつ方向が逆のベクトルを抽出する。次に、同一直線上にあり、方向が同じであり、かつ少なくとも一方が三角形の一辺であるベクトルを抽出する。そして、抽出した同一直線上にあるベクトルの向かい合う端点の一方を通り、ベクトルと直交する方向で描画パターンを分割する。ここで、三角形とは直角二等辺三角形だけでなく、任意角の三角形を含む。三角形の種類（角度）によりリサイズ量は変わる。リサイズ量が異なる場合は、同一直線上にあり、方向が同じであっても、ベクトルの向かい合う端点の一方を通り、ベクトルと直交する方向で描画パターンを分割する必要がある。
【００７９】
例えば、図１５（ｂ）の例では、ベクトルＶ５１とベクトルＶ５５が同一直線上にあり、方向が同じであり、かつベクトルＶ５５が三角形Ｆ５１の一辺に相当する。そのため、ベクトルＶ５１及びベクトルＶ５５が抽出される。ベクトルＶ５１の終点と、ベクトルＶ５５の始点とが向かい合っている。
【００８０】
例えば、図１７（ｂ）に示すように、ベクトルＶ５１の終点を通るようにパターンＰ４１を分割する。または、図１７（ｃ）に示すように、ベクトルＶ５５の始点を通るようにパターンＰ４１を分割する。
【００８１】
残りの図形は任意に分割する。図１７（ｂ）に示すように分割した場合、残りの図形は、図１７（ｄ）又は図１７（ｅ）のように分割される。図１７（ｃ）に示すように分割した場合、残りの図形は、図１７（ｅ）又は図１７（ｆ）のように分割される。
【００８２】
パターンＰ４１を図１７（ｄ）のように３つの矩形及び１つの三角形に分割した場合、各図形を図１８（ａ）のようにリサイズすることで、パターンＰ４２を表現できる。パターンＰ４１を図１７（ｅ）のように３つの矩形及び１つの三角形に分割した場合、各図形を図１８（ｂ）のようにリサイズすることで、パターンＰ４２を表現できる。パターンＰ４１を図１７（ｆ）のように３つの矩形及び１つの三角形に分割した場合、各図形を図１８（ｃ）のようにリサイズすることで、パターンＰ４２を表現できる。
【００８３】
図１７（ｄ）〜（ｆ）では、ベクトルＶ５１を含む辺と、ベクトルＶ５５を含む辺とが重ならない。そのため、各図形に適切なリサイズ情報を付加することができる。
【００８４】
描画パターンが斜辺を含む場合の別の例について、描画パターンの分割方法を説明する。図１９（ａ）は、斜辺を含む描画パターンの一例のパターンＰ３１を示す。このパターンＰ３１の寸法を小さくし、図１９（ｂ）に示すようなパターンＰ３２とするリサイズについて考える。
【００８５】
まず、図１９（ｃ）に示すように、パターンＰ３１から三角形Ｔ１及びＴ２を抜き出す。
【００８６】
次に、三角形を抜き出した後のパターンの外周を一周するように複数のベクトルでつなぐ。三角形Ｔ１及びＴ２を抜き出したパターンＰ３１の外周は、図１９（ｄ）に示すように、ベクトルＶ４１〜Ｖ４８で囲まれる。
【００８７】
次に、同一直線上にあり、かつ方向が逆のベクトルを抽出する。図１９（ｄ）では、ベクトルＶ４３及びＶ４７が抽出される。この例では、同一直線上に位置するベクトルはベクトルＶ４３及びＶ４７のみである。
【００８８】
次に、抽出した同一直線上にあるベクトルの向かい合う端点の一方を通り、ベクトルと直交する方向で描画パターンを分割する。ベクトルＶ４３とベクトルＶ４７はベクトル終点同士が向かい合っている。残りの図形を任意に分割する。これにより、パターンＰ３１は、図２０（ａ）、（ｂ）又は（ｃ）のように分割される。
【００８９】
パターンＰ３１を図２０（ａ）のように３つの矩形と２つの三角形に分割した場合、各図形を図２１（ａ）のようにリサイズすることで、パターンＰ３２を表現できる。パターンＰ３１を図２０（ｂ）のように３つの矩形と２つの三角形に分割した場合、各図形を図２１（ｂ）のようにリサイズすることで、パターンＰ３２を表現できる。パターンＰ３１を図２０（ｃ）のように３つの矩形と２つの三角形に分割した場合、各図形を図２１（ｃ）のようにリサイズすることで、パターンＰ３２を表現できる。
【００９０】
本実施形態では、三角形を抜き出した後のパターンの外周を一周するように複数のベクトルでつなぎ、同一直線上にあり、方向が同じであり、かつ少なくとも一方が三角形の一辺であるベクトルを抽出し、抽出したベクトルの向かい合う端点の一方を通り、ベクトルと直交する方向で描画パターンを分割する。このように分割した図形には適切なリサイズ情報を付加することができる。描画データに適切なリサイズ情報を付加することで、描画装置内で精度良くリサイズを行うことができる。
【００９１】
［第３の実施形態］
図２２（ａ）は斜辺を含む描画パターンの一例のパターンＰ５１を示す。このパターンＰ５１の寸法を大きくし、図２２（ｂ）に示すようなパターンＰ５２とするリサイズ処理、及びパターンＰ５１の寸法を小さくし、図２２（ｃ）に示すようなパターンＰ５３とするリサイズ処理について考える。
【００９２】
まず、斜辺を含む三角形（直角三角形）を抜き出す。図２３（ａ）に示すように、パターンＰ５１から三角形の図形Ｆ５１、Ｆ５２が抜き出される。パターンＰ５１は、２つの三角形の図形Ｆ５１、Ｆ５２と、１つの矩形の図形Ｆ５３に分割される。
【００９３】
ここで、頂点Ａ１では４つの辺Ｈ１〜Ｈ４の一端が接続し、辺Ｈ１〜Ｈ４は頂点Ａ１を中心に９０°間隔で位置する。すなわち、辺Ｈ１と辺Ｈ３は一端が頂点Ａ１で接続して同一直線上に位置し、辺Ｈ２と辺Ｈ４は一端が頂点Ａ１で接続して同一直線上に位置する。辺Ｈ１と辺Ｈ３がなす線分と、辺Ｈ２と辺Ｈ４がなす線分は直交する。
【００９４】
辺Ｈ１は矩形Ｆ５３の一辺であり、辺Ｈ３は三角形Ｆ５２の一辺であるため、これらのリサイズ量は異なる。同様に、辺Ｈ２は三角形Ｆ５１（Ｆ５２）の一辺であり、辺Ｈ４は矩形Ｆ５３の一辺であるため、これらのリサイズ量は異なる。このように４つの辺の一端が直交状に接続し、接続点（頂点Ａ１）を挟んで同一直線上に位置する辺同士のリサイズ量が異なる場合、分割した図形のリサイズのみではリサイズ後の図形を表現できない。そのため、リサイズに際して図形の追加が必要になる。
【００９５】
例えば、図２２（ｂ）に示すようにパターンＰ５１の寸法を大きくしたパターンＰ５２を表現する場合、図２３（ｂ）に示すように、図形Ｆ５１、Ｆ５２、Ｆ５３をリサイズしてＦ５１’、Ｆ５２’、Ｆ５３’とし、さらに矩形の図形Ｆ５４を図形Ｆ５３’の右側に追加する必要がある。
【００９６】
図２２（ｃ）に示すようにパターンＰ５１の寸法を小さくしたパターンＰ５３を表現する場合、図２３（ｃ）に示すように、図形Ｆ５１、Ｆ５２、Ｆ５３をリサイズして図形Ｆ５１”、Ｆ５２”、Ｆ５３”とし、さらに台形の図形Ｆ５５を図形Ｆ５１”と図形Ｆ５２”との間に追加する必要がある。
【００９７】
この場合、描画データは、追加図形について、位置、形状、サイズを示す図形データと、リサイズ情報とを有する。但し、追加する図形Ｆ５４、Ｆ５５に対応する領域は、描画パターンＰ５１には存在しない。そのため、追加図形の図形データでは、図形の幅（Ｘ方向又はＹ方向のサイズ）を０とする。
【００９８】
例えば、図形Ｆ５４の描画データにおいて、位置は、図形Ｆ５３の辺Ｈ４に相当する位置が設定される。形状には、矩形が設定される。Ｙ方向のサイズには辺Ｈ４と同じ長さが設定され、Ｘ方向のサイズには０が設定される。リサイズ情報には左辺はリサイズなし、上辺はリサイズ方向「正」、下辺及び右辺はリサイズ方向「負」が設定される。また、各辺のリサイズ量も設定される。
【００９９】
図形Ｆ５５の描画データにおいて、位置は、図形Ｆ５２の辺Ｈ２に相当する位置が設定される。形状には、台形が設定される。Ｙ方向のサイズには辺Ｈ４と同じ長さが設定され、Ｘ方向のサイズには０が設定される。リサイズ情報には、右辺はリサイズなし、上辺及び下辺はリサイズ方向「正」、左辺はリサイズ方向「負」が設定される。また、各辺のリサイズ量も設定される。
【０１００】
上述したように、本実施形態では、１つの頂点において第１辺〜第４辺の４つの辺の一端が直交状に接続し、頂点を挟んで同一直線上に位置する辺のリサイズ量が異なるか否か判定する。そして、頂点を挟んで同一直線上に位置する第１辺及び第３辺のリサイズ量が異なり、かつ頂点を挟んで同一直線上に位置する第２辺及び第４辺のリサイズ量が異なる場合に、リサイズ処理に際し図形を追加する。これにより、描画データに適切なリサイズ情報を付加し、描画装置内で精度良くリサイズを行うことができる。
【０１０１】
［第４の実施形態］
図２４（ａ）は、４５°の整数倍以外の角度（任意角）を有する三角形状の描画パターンの一例のパターンＰ６１を示す。このパターンＰ６１の寸法を大きくするリサイズ処理を行う場合、まず、１つの頂点から対辺へ垂線を引き、図２４（ｂ）に示すように、２つの直角三角形の図形Ｆ６１、Ｆ６２に分割する。
【０１０２】
そして、図２５（ａ）に示すように、図形Ｆ６１、Ｆ６２をそれぞれリサイズしてＦ６１’、Ｆ６２’とする。
【０１０３】
あるいは、図２５（ｂ）に示すように、図形Ｆ６１、Ｆ６２をそれぞれリサイズしてＦ６１”、Ｆ６２”とし、さらに矩形の図形Ｆ６３を図形６１”と図形Ｆ６２”との間に追加する。上記第３の実施形態と同様に、追加する図形Ｆ６３については、描画データにおける図形の幅（Ｘ方向のサイズ）を０とする。
【０１０４】
任意角を有する三角形状の描画パターンについても、図形を追加することで、描画データに適切なリサイズ情報を付加し、描画装置内で精度良くリサイズを行うことができる。
【０１０５】
［第５の実施形態］
図２６（ａ）は、寸法の異なる３つの矩形が連なった１２角形のパターンＰ７１を示す。このパターンＰ７１の寸法を大きくするリサイズについて考える。パターンＰ７１の外周を一周するように複数のベクトルでつないだ場合、同一直線上にあり、かつ方向が逆のベクトルはない。パターンＰ７１は任意に分割できるため、例えば矩形の図形Ｆ７１、Ｆ７２、Ｆ７３に分割する。
【０１０６】
図形Ｆ７２は、図形Ｆ７１、Ｆ７３よりも左右方向の寸法が短い。図形Ｆ７１は、図形Ｆ７３よりも左右方向の寸法が短い。図形Ｆ７１の左右両辺は、図形Ｆ７３の左右両辺よりも内側に位置している。図形Ｆ７２の左右両辺は、図形Ｆ７１の左右両辺よりも内側に位置している。図形Ｆ７１、Ｆ７２、Ｆ７３の上辺及び下辺は平行である。図形Ｆ７２の高さ、すなわち、図形Ｆ７１の下辺と図形Ｆ７３の上辺との距離をＬとする。
【０１０７】
図２６（ｂ）はパターンＰ７１の寸法を大きくするリサイズの例を示す。図２６（ｃ）は、パターンＰ７１の寸法をさらに大きくし、上下方向のリサイズ量をＬ／２としたリサイズ処理の例を示す。図２６（ｃ）では、図形Ｆ７１の寸法を大きくした図形Ｆ７１’の下辺と、図形Ｆ７３の寸法を大きくした図形Ｆ７３’の上辺とが接する。
【０１０８】
リサイズ量がＬ／２を超えると、図形Ｆ７１’の下側領域と、図形Ｆ７３’の上側領域に重なりが生じる。そのため、図形Ｆ７１のリサイズ処理において、図形Ｆ７３が位置する方向（図中下方向）へのリサイズ量がＬ／２を超えた分については、逆方向（図中上方向）へ折り返してリサイズする。例えば、リサイズ量がＬの場合、図２６（ｄ）に示すように、図形Ｆ７１”の下辺のリサイズ量は０になる。
【０１０９】
このように、寸法の異なる矩形の図形Ｆ７１とＦ７３とが対向して配置される場合、寸法が短く端部が内側に位置する図形Ｆ７１は、寸法が長く端部が外側に位置する図形Ｆ７３が配置される第１方向へのリサイズにおいて、リサイズ量が閾値となる図形間の距離の半分を超えたら、超えた分については第１方向とは反対の第２方向に折り返すようにリサイズする。このことにより、図形の重なりを生じさせることなく、描画データに適切なリサイズ情報を付加することができる。
【０１１０】
図２７（ａ）は、図２６（ａ）の図形Ｆ７１、Ｆ７２の位置が右にずれ、図形Ｆ７１の右辺が、図形Ｆ７３の右辺よりも外側に位置するパターンＰ８１を示す。パターンＰ８１の寸法を大きくするリサイズを考える。
【０１１１】
パターンＰ８１を、３つの矩形の図形Ｆ７１、Ｆ７２、Ｆ７３に分割する。リサイズ量をＬとした場合、図２６（ｄ）と同様に、図２７（ｂ）に示すように図形Ｆ７１”の下方向のリサイズ量は０になる。しかし、このようなリサイズ処理では、図２７（ｂ）の斜線部分のリサイズ情報を付加できない。
【０１１２】
そのため、矩形の図形Ｆ７１とＦ７３とがずれて配置され、図形Ｆ７１の右辺が図形Ｆ７３の右辺よりも外側に位置し、図形Ｆ７１の左辺が図形Ｆ７３の左辺よりも内側に位置する場合、図２８（ａ）に示すように、縦方向に分割線を入れ、図形Ｆ８１〜Ｆ８５に分割することが好ましい。
【０１１３】
図形Ｆ８１の左辺よりも、図形Ｆ８４の左辺の方が外側に位置する。そのため、図形Ｆ８１’の下辺は、リサイズ量が閾値を超えた分については、上方向に折り返すようにリサイズする。
【０１１４】
図形Ｆ８５の右辺よりも、図形Ｆ８２の右辺の方が外側に位置する。そのため、図形Ｆ８５’の上辺は、リサイズ量が閾値を超えた分については、下方向に折り返すようにリサイズする。
【０１１５】
これにより、図２８（ｂ）に示すように、分割した図形に適切なリサイズ情報を付加することができる。描画データに適切なリサイズ情報を付加することで、描画装置内で精度良くリサイズを行うことができる。
【０１１６】
上記第１の実施形態では、描画パターンの外周をベクトルでつなぎ、同一直線上にあり、かつ方向が逆になるベクトルを抽出し、抽出したベクトルの向かい合う端点の一方を通り、ベクトルと直交する方向で描画パターンを分割していた。しかし、抽出したベクトル間にパターンが存在しない空白部分がある場合は、ベクトル端点を通る分割を行わなくてもよい。
【０１１７】
例えば、図２９（ａ）に示すパターンＰ９１のリサイズについて考える。パターンＰ９１の外周は、図２９（ｂ）のようにベクトルＶ９１〜Ｖ１０２で囲まれる。同一直線上にあり、かつ方向が逆のベクトルとしてベクトルＶ９１及びＶ９５が抽出される。しかし、ベクトルＶ９１とベクトルＶ９５との間にはパターンが存在しない空白部分がある。ベクトルＶ９１又はベクトルＶ９５の終点を通る分割を行わなくても、ベクトルＶ９１を含む辺と、ベクトルＶ９５を含む辺とが重なるように図形分割が行われることはない。
【０１１８】
なお、本発明は上記実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。
【符号の説明】
【０１１９】
描画装置１００     
基板１０１
電子鏡筒１０２
描画室１０３
制御計算機１１０
描画部１５０
制御部１６０
【図１】
0006447163.tif 000002
【図２】
0006447163.tif 000003
【図３】
0006447163.tif 000004
【図４】
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【図５】
0006447163.tif 000006
【図６】
0006447163.tif 000007
【図７】
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【図８】
0006447163.tif 000009
【図９】
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【図１０】
0006447163.tif 000011
【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
0006447163.tif 000014
【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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