【事件の表示】
　特許第３２７９８７５号「研磨装置」の請求項１乃至請求項５に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３２７９８７５号の請求項１及び請求項２に係る特許を取り消す。
　同請求項３乃至請求項５に係る特許を維持する。
【理　由】
第１　手続の経緯
　本件特許第３２７９８７５号については、平成７年７月１１日に特許出願され、同１４年２月２２日に設定の登録がされ、その後、同１４年１０月３０日に早苗道弘より本件の請求項１乃至請求項５に係る特許について特許異議の申立てがされ、同１５年１月１４日付で取消しの理由の通知がされ、その指定期間内である同１５年３月１８日に明細書について訂正の請求がされた。
　　　　　　　　　　　　　　　　　
第２　特許異議申立ての理由及び取消しの理由の概要
　特許異議申立人は、証拠として本件特許の出願前に日本国内において頒布された刊行物である甲第１号証（特開平６−９９３４８号公報）、甲第２号証（実願昭５８−１４８１３６号（実開昭６０−５６４６１号）のマイクロフィルム、甲第３号証（特開昭６３−１４４９５４号公報）、甲第４号証（特開平４−１３５６７号公報）、甲第５号証（特開平６−９１５２２号公報及び甲第６号証（特開平１−１８８２６５号公報）を提出して、本件の請求項１乃至請求項５に係る発明は、甲第１号証乃至甲第６号証記載の発明であるか又はそれらの発明に基づいて、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本件の請求項１乃至請求項５に係る特許は、特許法第２９条の規定に違反してされたものであり、取り消されるべきものである旨主張している。
　そして、当審の通知した取消しの理由は、特許異議申立ての理由に沿うものである。
　　　　　　　　　　　　　　　　　　
第３　訂正の適否についての判断
１　訂正の内容
　特許権者は、本件登録時の明細書（以下「登録明細書」という。）を訂正請求書に添付された明細書（以下「訂正明細書」という。）記載のとおり以下のように訂正しようとするものである。
(1) 訂正事項ａ
　登録明細書における特許請求の範囲を以下のように訂正する。
ア　請求項１において「向かって流体を噴出する」及び「噴出する流体を供
　給する」の「流体」の各々を「所定圧力の空気」と訂正する。
イ　請求項２において「向かって流体を噴出する」及び「噴出口から流体を
　噴出する」の「流体」の各々を「所定圧力の空気」と訂正し、「前記流体
　が噴出流体供給手段」の「前記流体」を「前記所定圧力の空気」と訂正す
　る。
ウ　請求項３において「向かって流体を噴出する」及び「噴出する流体を供
　給する」の「流体」の各々を「所定圧力の空気」と訂正し、「前記圧力室
　と噴出流体との」の「噴出流体」を「噴出空気」と訂正する。
エ　請求項４及び請求項５において「噴出する流体」の「流体」を「空気」
　に訂正する。
(2) 訂正事項ｂ
　登録明細書の発明の詳細な説明を以下のように訂正する。
ア　段落【０００７】において「向かって流体を噴出」、「噴出する流体」
　及び「噴出口から流体を噴出」の「流体」の各々を「所定圧力の空気」と
　訂正し、「前記流体が噴出流体供給手段」の「前記流体」を「前記所定圧
　力の空気」と訂正する。また、「前記噴出口に接続されて・・・・から供
　給され、」を削除する。
イ　段落【０００８】において「向かって流体を噴出する」及び「噴出する　流体を供給」の「流体」の各々を「所定圧力の空気」と訂正し、「噴出流　体」を「噴出空気」と訂正する。
ウ　段落【０００９】において「噴出する流体の圧力」の「流体」を「空気
　」と訂正する。
エ　段落【００１１】において「噴出する流体の流れ」及び「噴出する流体
　が無駄」の「流体」の各々を「空気」と訂正する。
オ　段落【００１２】において「流体を噴出」の「流体」を「所定圧力の空
　気」と訂正し、「流体が介在」の「流体」を「空気」と訂正する。更に、
　「流体圧」を「空気圧」に訂正する。
カ　段落【００１６】において「所定圧力の流体」及び「流体の圧力」の「
　流体」の各々を「空気」と訂正する。
キ　段落【００１７】において「向かって流体を噴出」の「流体」を「所定
　圧力の空気」と訂正する。また、「なお、噴出する流体としては、空気ま
　たは水を利用できる。」を削除する。
ク　段落【００１９】において「流体の流れ」及び「流体の圧力」の「流体
　」の各々を「空気」と訂正する。
ケ　段落【００２１】において「噴出流体供給手段によって所定圧力の流体
　」、「所定の圧力の流体が噴出」及び「噴出する流体の圧力」の「流体」
　の各々を「空気」に訂正する。更に、「噴出する流体」の「流体」を「所
　定圧力の空気」と訂正する。
コ　段落【００２２】において「噴出流体」を「噴出空気」と訂正し、「噴
　出する流体」の「流体」を「空気」に訂正する。
２　訂正の目的の適否、新規事項の追加の有無及び拡張・変更の存否
(1) 訂正事項ａについて 
　訂正事項ａは、登録明細書の特許請求の範囲の各請求項に記載された噴出口から噴出される「流体」をその下位概念である「空気」又は「所定圧力の空気」に限定しようとするものであり、特許請求の範囲に減縮に該当する。
　また、噴出口から空気が噴出されることは、登録明細書の段落【００１７】の「噴出する流体としては、空気または水を利用できる」旨の記載から明かであり、噴出口から所定圧力の空気が噴出されることも、段落【００１７】の記載及び同段落【００２１】の「噴出口３６から所定の圧力の流体が噴出する」旨の記載から明らかである。したがって、訂正事項ａは、願書に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内の訂正であって、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものでない。
(2) 訂正事項ｂについて 
　訂正事項ｂは、訂正事項ａに伴ない明細書の記載を整合化するために、明細書における不適切な記載を削除乃至書き換えたものに過ぎず、明りようでない記載の釈明に該当する。
　また、これらの訂正は、いずれも願書に添付した明細書又は図面に記載された事項の範囲内の訂正であって、実質的に特許請求の範囲を拡張又は変更するものでない。
３　むすび
　以上のとおりであるから、本件の訂正は、特許法第１２０条の４第２項及び同条第３項において準用する同法第１２６条第２項及び同第３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　　　　　　　　　　　　　　　　
第４　特許異議の申立てについての判断　
１　本件発明
　本件については第３の３に示すように訂正が認められており、本件特許の請求項１乃至請求項５に係る発明（以下「本件発明１乃至本件発明５」という。）は、訂正明細書及び登録時の図面の記載からみて、その特許請求の範囲の請求項１乃至請求項５に記載された事項により特定される以下のとおりのものであると認める。
「【請求項１】 表面にワークを研磨する研磨面が形成された定盤と、ワークを前記研磨面に押圧する押圧部と、該押圧部によって前記研磨面に押圧されたワークと前記定盤とを相対的に運動させる運動機構とを備え、ワークの表面を研磨する研磨装置において、
　前記押圧部には、該押圧部のワークの押圧面に設けられ、水の表面張力でワークを吸着して押圧部に保持するバッキング材と、前記バッキング材を貫通して設けられ、研磨の際には、ワークを前記研磨面へ押圧するように押圧部から研磨面側へ向かって所定圧力の空気を噴出する複数の噴出口と、前記噴出口から噴出する所定圧力の空気を供給する噴出流体供給手段とを具備し、
　前記複数の噴出口が、前記ワークの全面に対応して均一に位置するように設けられていることを特徴とする研磨装置。
【請求項２】 表面にワークを研磨する研磨面が形成された定盤と、ワークを前記研磨面に押圧する押圧部と、該押圧部によって前記研磨面に押圧されたワークと前記定盤とを相対的に運動させる運動機構とを備え、ワークの表面を研磨する研磨装置において、
　前記押圧部の押圧面に吸引されたワークの保護層として、該押圧部の押圧面に形成されたフィルム材層又はコーティング層と、前記押圧部に、前記ワークの保護層としてのフィルム材層又はコーティング層を貫通して設けられ、研磨の際には、ワークを前記研磨面へ押圧するように押圧部から研磨面側へ向かって所定圧力の空気を噴出し、ワークを前記押圧部に吸引する際には、前記ワークを吸引する複数の噴出口と、前記噴出口に接続されて設けられており、前記噴出口から所定圧力の空気を噴出する際には、前記所定圧力の空気が噴出流体供給手段から供給され、前記押圧部の押圧面にワークを吸引する際には、減圧状態とされる流体室とを具備し、
　前記複数の噴出口が、前記ワークの全面に対応して均一に位置するように設けられていることを特徴とする研磨装置。
【請求項３】 表面にワークを研磨する研磨面が形成された定盤と、ワークを前記研磨面に押圧する押圧部と、該押圧部によって前記研磨面に押圧されたワークと前記定盤とを相対的に運動させる運動機構とを備え、ワークの表面を研磨する研磨装置において、
　前記押圧部には、下方に向けて開放する凹部を備えるヘッド部材と、該ヘッド部材の凹部内側に配された盤状部材と、一方側が前記ヘッド部材の壁部に固定されると共に、他方側が前記盤状部材に固定され、該盤状部材を上下方向及び水平方向への移動を微小範囲内で許容可能に吊持する弾性部材と、前記ヘッド部材の内部を前記盤状部材および前記弾性部材によって画成して設けられる圧力室と、該圧力室に圧力流体を供給する圧力流体供給手段とが設けられ、
　前記盤状部材に設けられた、該盤状部材の表面から研磨面側へ向かって所定圧力の空気を噴出する複数の噴出口と、前記圧力室と噴出空気との２段の作用でウェーハを定盤の研磨面に押圧するように、前記噴出口から噴出する所定圧力の空気を供給する噴出流体供給手段とを具備し、
　前記複数の噴出口が、前記ワークの全面に対応して均一に位置するように設けられていることを特徴とする研磨装置。
【請求項４】 圧力流体供給手段には、前記圧力室へ供給する流体の圧力を調整する圧力流体調整装置が備えられ、前記噴出流体供給手段には前記噴出口から噴出する空気の圧力を調整する噴出流体調整装置が備えられていることを特徴とする請求項３記載の研磨装置。
【請求項５】 押圧部に噴出口およびワークを囲うようにリング状に設けられ、ワークが前記研磨面に押圧される際に、押圧部と研磨面とによって挟圧され、噴出口から噴出する空気の流れを規制するリング部材を備えることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項記載の研磨装置。
２　甲各号証の記載内容
　甲第１号証乃至甲第６号証の記載内容は、それぞれ以下のとおりである。
(1) 甲第１号証
　甲第１号証には「ウェーハ研磨装置」に関連して、次の事項が記載されている。
ア　段落【０００１】
「【産業上の利用分野】本発明は、半導体ウェーハを１枚づつ片面仕上研磨するためのウェーハ仕上研磨装置に関する。」
イ　段落【００１２】
「本発明は・・・、ウェーハの研磨面を全面に亙ってきわめて高精度かつ均一にカセットツウカセットで全自動仕上研磨することを課題としている。」
ウ　段落【００１３】
「【課題を解決するための手段】本発明に係るウェーハ研磨装置は、研磨すべきウェーハの２倍以上の外径を有する下定盤と、この下定盤を軸線回りに回転駆動する下定盤回転機構と、前記下定盤の上面の中心部を含まない研磨位置に対向して平行に配置された上定盤と、・・・・、前記上定盤を下定盤に押圧する上定盤加圧機構・・・・とを具備し、・・・・、前記上定盤の内部には、上定盤の下面に開口する真空路が形成されるとともに、この真空路に連通する多数の透孔を有するチャックとバックパッドが上定盤の下面に固定され、前記真空路に接続された減圧手段とバックパッドとウェーハの間にパーティクルが介在するとディンプル不良となるためバックパッド面の洗浄を行うと共に研磨時には真空を解放して水張り状態で研磨するための気体を含む純水を噴出する手段を設けたことを特徴としている。」
エ　段落【００２６】〜【００３３】
「次に図５は、移動機構４および研磨機構８を示す断面図である。移動機構４から説明すると、基台３０上には、一対の平行なリニヤガイド６０が設置され、これらリニヤガイド６０に沿って走行可能にＬ字状の上定盤６が取り付けられている。上定盤６の先端部には、スリーブ７４が回転自在に取り
付けられ、さらにこのスリーブ７４を介して上定盤軸６６が垂直に支持されている。
　スリーブ７４と上定盤軸６６は、上下に相対移動可能とされているがキー７５により相対回転不能となっている。スリーブ７４の上端はベルト７２を介してモータ７０の回転軸に連結され、このモータ７０によりスリーブ７４および上定盤軸６６が強制回転される。上定盤軸６６の内部には真空路７８が形成され、この真空路７８内は上定盤軸６６の上端に連結される減圧手段（図示略）により減圧されるようになっており、この真空路７８はチャック８４とバックパッド８４Ｂを洗浄するエアを含む洗浄水を噴出させる通路ともなる。
　一方、上定盤軸６６の下端には、図６に示すように、円板状のトップリング７６が水平に取り付けられている。このトップリング７６は移動機構４の一部であるとともに、研磨機構８の一部も兼ねている。トップリング７６は、上定盤本体８２およびその下面に固定された円板状のチャック８４とバックパッド８４Ａ（当審注：「８４Ｂ」の誤記である。）からなり、上定盤本体８２が、ユニバーサルジョイント８０を介して、上定盤軸６６の下端に傾動可能に取り付けられている。
　上定盤本体８２の下面には、ウェーハＷとほぼ同径の浅い円形の凹部８８が形成されるとともに、この凹部８８から上定盤本体８２の上面へ連通する孔８９が形成され、この孔８９と上定盤軸６６の下端との間には、弾性を有するチューブ８６が挿入されて、このチューブ８６を介し真空路７８と凹部
８８とが気密的に連通している。
　・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・。
　チャック８４には、前記凹部８８と対向する位置に、多孔質セラミックス製で多数の細孔９０が互いに分散して形成されている。チャック８４の下面すなわちバックパッド８４Ｂと接触する面８４Ａは、その中央部が下方に向けて凸となるように曲面で構成され、この曲面の曲率半径は、１００〜１，
０００ｍ，８インチ結晶で中心部の高さが５〜２０μｍとされている。この範囲であると、ウェーハ研磨時に、後述する研磨布１００の沈み込み率とほぼ同じになり、ウェーハＷの研磨量が均一化される利点を有する。
　チャック８４の下には、通常ワックスレス研磨に用いられる厚さ１ｍｍの高摩擦係数をもつ多孔質ポリウレタン製のバックパッド８４Ｂが取り付けられ、この下面にウェーハが真空吸着され、また研磨時には真空を解放し水張り状態で研磨され、研磨終了後には再び真空吸着される。この研磨は仕上研
磨のため荷重が小さく水張りでウェーハが回転することはない。
　次に、研磨機構８の下定盤１００の周辺の構成を説明する。下定盤１００は下定盤ベースプレート１０２と、この下定盤ベースプレート１０２の上面に固定されたシート１０４と、このシート１０４上に貼付された研磨布１０６とから構成されている。下定盤１００の外径はウェーハＷの２倍以上とさ
れ、トップリング７６は研磨位置にある際に、下定盤の中央部を除く部分と平行に対向するようになっている。」
オ　段落【００５８】、【００５９】
「持ち上げられたウェーハＷの上方に上定盤６を動かし、トップリング７６を降ろしてあらかじめエアを含む純水で洗浄し、水を含むバックパッドの下面をウェーハＷの上面に当接させ、真空路７８を介してウェーハＷを吸引固定する。上定盤６はトップリング７６にウェーハＷを吸着させた状態で、図
５に示すように研磨機構８の下定盤１００上に搬送し、ウェーハＷをトップリング７６と下定盤１００の間に支持する。この後は上定盤６による吸着は止め、水張りにてウェーハを保持し、真空吸着口によるディンプル不良の発生を防止する。
　研磨は、メカノケミカル研磨法で行われ、コロイダルシリカ（商品名コンポールＳ）を１／３０に希釈したｐＨ９．８に調整したアルカリ研磨液を１００ｍｌ／分の割合で滴下しつつ、下定盤回転数１００回／分，上定盤回転数９０回／分、またレール上を上定盤が１５０ｍｍ揺動し、研磨圧３００ｇｒ／ｃｍ2で行う。」
カ　段落【００６４】、【００６５】
「ウェーハＷの所定時間の研磨が完了したら、再びトップリング７６にウェーハＷを吸着し、トップリング７６を上昇させ、上定盤６を走行させて反転機構９上に走行し真空吸着を解放しウェーハＷをウェーハ凹部１６０を有するウェーハ保持部に離脱させる。
　上定盤６はウェーハを離脱させた後、バックパッド８４Ｂの洗浄をエアと純水を真空路７８を通り多孔質セラミックチャック８４を通過して行う。バックパッド面に異物があれば傷の原因となり、またディンプル不良となる。バックパッド８４Ｂの洗浄後上定盤６はウェーハ取り出し機構２の所定待機位置に戻る。」
　上記記載事項ア〜カから、甲第１号証には次の発明が記載されていると認める。
　表面にワークとなるウェーハＷを研磨する研磨面が形成された下定盤１００と、ウェーハＷを前記研磨面に押圧する上定盤６と、該上定盤６によって前記研磨面に押圧されたウェーハＷと前記下定盤１００とを相対的に運動させる運動機構とを備え、ウェーハＷの表面を研磨する研磨装置において、
　前記上定盤６には、該上定盤６のウェーハＷの押圧面に設けられ、移送時には真空吸引力でウェーハＷを吸着すると共に研磨時には真空を解放して水張り状態でウェーハＷを吸着して上定盤６に保持する多孔質ポリウレタン製のバックパッド８４Ｂと、ウェーハＷのバックパッド８４Ｂへの非吸着時にバックパッド８４Ｂの洗浄を行うためのエアと純水とを供給する手段と、前記バックパッド８４Ｂが取り付けられるチャック８４を貫通して設けられ、ウェーハＷを前記バックパッド８４Ｂに吸引する際には、前記ウェーハＷを吸引する複数の細孔９０と、前記細孔９０に接続されて設けられており、前記細孔９０からエアと純水とを供給する際には、前記エアと純水とが供給手段から供給され、前記バックパッド８４Ｂにワークを真空吸引力で吸着する際には、減圧状態とされる凹部８８とを具備する研磨装置。
(2) 甲第２号証
　甲第２号証には「研磨治具」に関連して、次の事項が記載されている。
ア　第２頁第１〜３行
「接着方法の一つとして、治具主面に貼着された例えば発泡ウレタンなどからなる特殊シートに水を用いて貼り付ける方法がある。」
イ　第３頁第４〜１８行
「この研磨治具は、金属製の円板状リファレンス・プレート(1)と、このリファレンス・プレート(1)の一方の主面上に接着剤により貼着された例えば発泡ウレタンなどの合成樹脂製のシート(2)と、このシート(2)に例えば両面テープなどにより貼着されたリファレンス・プレート(1)と同径の円板状テンプレート(3)とから構成されている。上記テンプレート(3)には、ウエーハの装着位置決めのための複数の円孔(4)・・・が等配して穿設されている。さらに、シート(2)のこれら円孔(4)・・・配設位置に対応する部分には、シート(2)を貫通する小孔(5)・・・が均一に分散して穿設されている。同様に、リファレンス・プレート(1)における上記円孔(4)・・・配設位置に対応する部分には、リファレンス・プレート(1)を貫通する小孔(6)・・・が穿設されている。」
ウ　第５頁第２０行〜第６頁第３行
「小孔(5)・・・、(6)・・・は、シート(2)及びリファレンス・プレート(1)の一部にのみ設けているが、全体に均一に分散して穿設してもよい。」
(3) 甲第３号証
　甲第３号証には「平面研磨装置」に関連して次の事項が記載されている。
ア　第１頁左下欄下から第５行〜同頁右下欄第１１行
「［従来の技術］
　従来、・・・・・・・・・・・・・・・・していた。
　しかしながら、このように加圧ヘッド１でワーク３を直接定盤４に圧接する方法では、加圧ヘッド１のワーク取付面及びワークの背面の平面度が精度的に均一である必要があり、それらの平面度が悪いと、ワーク３と加圧ヘッド１との各接点での面圧が一様でなくなるため、一様な研磨ができなくなり、加工精度に悪影響を及ぼすことになる。」
イ　第１頁右下欄下から第３行〜第２頁左上欄第２行
「［発明が解決しようとする問題点］
　本発明の課題は、ワークに汚れや傷を生じることなく、該ワークを一様な面圧で定盤に圧接させることができる平面研磨装置を提供することにある。」
ウ　第２頁右上欄第２行〜同頁右下欄第３行
「［実施例］
　以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細に説明する。
　第１図において、１０は回転自在の定盤、１１は該定盤にワーク１２を圧接する加圧ヘッドを示している。
　上記定盤１０は、図示しない駆動軸を介してモータ等の駆動源に接続されており、また、加圧ヘッド１１は、図示しないシリンダに昇降自在に取付けられ、該シリンダの作用力により、加圧媒体としての圧力流体を介してワーク１２を定盤１０に押しつけるもので、具体的には次のように構成されている。
　即ち、第２図及び第３図に詳細に示すように、上記加圧ヘッド１１の下面には、その中央部にエアや液体などの圧力流体を供給するための供給ポート１４が設けられると共に、該供給ポート１４を囲むように環状の溝１５が形成され、該溝１５内に、合成樹脂製のワークホルダ１６がダイヤフラム１７により変位可能に取付けられており、該ワークホルダ１６の下面内側に形成されたワーク取付け用の段部１６ａには、中央部にスリット１９を備えたシール部１８が取付けられ、該スリット１９内に複数の吸引孔２０が開口している。
　上記吸引孔２０は、ワークホルダ１６内の通孔２３、加圧ヘッド１１内に収納されたチューブ２４、ロータリジョイント２５を介して真空ポンプ２６に接続され、一方上記供給ポート１４は、加圧ヘッド１１内に収納された別のチューブ２７、上記ロータリジョイント２５を介して圧力流体源２８に接続され、ワーク１２の加工時や搬入時等に、上記吸引孔２０を通じてスリット１９内のエアが吸引されることによりワーク１２が加圧ヘッド１１に吸着保持され、また、ワーク１２の加工時に、加圧ヘッド１１とワーク１２との間に区画形成される空間３０内に供給ポート１４から圧力流体が供給充填されることにより、該圧力流体を介してワーク１２が定盤１０に圧接されるようになっている。」
エ　第３頁左下欄第３〜１２行
「［発明の効果］
　このように、本発明によれば、加圧ヘッドとワークとの間に加圧媒体として圧力流体を介在させ、この圧力流体を介してワークを定盤に押しつけるようにしたので、ワークを直接加圧ヘッドに取付ける場合と違い、該加圧ヘッドのワーク取付面やワークの背面等の平面度とは無関係に加圧力をワークの背面に均等に作用させることができ、該ワークの面圧が一様となるため、該ワークを高い平面度に仕上げることができる。」
(4) 甲第４号証
　甲第４号証には「研磨装置」に関連して、次の事項が記載されている。
ア　第２頁右下欄第８行〜第３頁右上欄第３行
「第１図において符号１０は、回転軸線ｌ１を中心にして回転自在に設けられた剛体製の定盤であり、この定盤１０の上面１０ａが研磨面とされている。そして、上記定盤１０の上方には、円盤状のキャリアプレート１１が接近、離間自在に設けられており、このキャリアプレート１１の下部は上部に比べて小径に形成されている。また、上記キャリアプレート１１の小径の下部の外周面には環状のガイド部材１２が設けられ、かつこのガイド部材１２の上面には筒状のガイド部材１３が取付けられている。そして、これらのガイド部材１２，１３によって、上記キャリアプレート１１は、上下動可動にかつ水平面に対してキャリアプレート１１の軸線を中心にして若干傾斜可能に支持されている。さらに、上記キャリアプレート１１の上面外縁部には、連結プレート１４を介して、金属べローズ１５が取付けられており、この金属べロ−ズ１５の上端及び上記ガイド部材１３の上面には、リング状の支持部材１６を介して、加圧軸１７が取付られている。
　上記加圧軸１７は、その回転軸線ｌ２を中心にして回転自在に設けられており、この加圧軸１７には、上記定盤１０と同一方向に加圧軸１７を回転させる回転駆動機構（図示せず）が設けられている。また、上記加圧軸１７の内部には、金属べローズ１５，連結プレート１４及びキャリアプレート１１で構成された空間内に加圧気体を供給するエア通路１８が形成されていると共に、上記空間内を通る配管１９及びキャリアプレート１１の中央内部を貫通して形成された挿通孔２０を介して、上記キャリアプレート１１の下面１１ａにシリコンウェーハ（被研磨材）２１を吸着するための吸引通路２２が形成されている。そして、上記エア通路１８には、加圧気体源及び真空吸引源がそれぞれ切換可能に連結され、かつ吸引通路２２には、真空吸引源が連結されている。」
イ　第３頁右上欄第４行〜同頁右下欄第２行
「上記のように構成された研磨装置を用いてシリコンウェーハ２１の表面を研磨する場合には、まず、定盤１０とキャリアプレート１１を離間した状態において、加圧軸１７の吸引通路２２，配管１９，キャリアプレート１１の挿通孔２０を介して真空吸引によってキャリアプレート１１の下面１１ａにシリコンウェーハ２１を吸着すると共に、加圧軸１７のエア通路１８に真空吸引源を連結して真空吸引することにより、キャリアプレート１１及び金属べローズ１５を加圧軸１７方向に吸引して、キャリアプレート１１及び金属べローズ１５の荷重をほぼ０とした状態において、加年軸１７を定盤１０に高速で接近させる。この場合、キャリアプレート１１及び金属べローズ１５の荷重が真空吸引の吸引力によって相殺されているので、キャリアプレート１１の下面１１ａに吸着されているシリコンウェーハ２１は、定盤１０に衝撃を与えられることなく円滑に接触し、シリコンウェーハ２１が欠ける等の不具合が発生しない。
　次いで、定盤１０と加圧軸１７とを、それぞれ各回転軸線ｌ１,ｌ２を中心にして同一方向に強制回転させ、滑らかに設定回転教まで上昇させる。この場合にも、キャリアプレート１１及び金属べロ−ズ１５の荷重がほぼ０とされているから、強制駆動時にシリコンウェーハ２１が割れることがない。そして、加圧軸１７のエア通路１８に加圧気体源を連結して、金属べロ−ズ１５，連結プレート１４及びキャリアプレート１１とで構成される空間内に加圧気体を供給して、キャリアプレート１１を定盤１０側に押し付けると共に、スラリーを定盤１０の研磨面１０ａに供給してメカノケミカル研磨を行う。この場合、キャリアプレート１１は、そのラジアル荷重をガイド部材１２によって支持され、かつ上下動可能にかつ水平面に対して若干傾斜可能に設けられているから、定盤１０の研磨面１０ａに追従して動き回転することができる。従って、キャリアプレート１１に吸着されたシリコンウェーハ２１は定盤１０の研磨面１０ａに密着して良効に研磨される。」
ウ  第３頁右下欄第１６行〜第４頁左上欄第１行
「続いて、研磨最終工程（仕上げ工程）においては、今まで加圧軸１７のエア通路１８を介して供給していた加圧気体の量をほぼ０とすることにより、キャリアプレート１１側の加圧力を軽減して、シリコンウェーハ２１に極めて良好な鏡面を形成することができる。」
(5) 甲第５号証
　甲第５号証には「研磨装置」に関連して、次の事項が記載されている。
ア　段落【００２６】〜【００３３】
「まず、図１に基づき、本実施例の研磨装置の構成について説明する。
　研磨ヘッド１の上部には貫通孔２が開設され、ここに図示しない加圧装置と連結された圧力パイプ３が固定されており、その途中には、圧力調整装置４が設けられている。そして、この圧力調整装置４の近傍には、圧力調整装置４から送られる水、オイル等の液体を一定圧にコントロールできるよう
に、圧力計５が取り付けられている。
　この研磨ヘッド１は、外周部が下方に向かって突起しており、トップリング６が固定ボルト７によってこの研磨ヘッド１の外周部と結合され、この研磨ヘッド１とトップリング６との結合部には、外周縁が研磨ヘッド１とトップリング６とに挟まれて固定されたダイヤフラム８が装着されている。
　そして、このダイヤフラム８と研磨ヘッド１との間に形成された加圧室９に、前記貫通孔２より圧力調整装置４から送られる液体が流入し、加圧室９が加圧されて、ダイヤフラム８が変位されるようになっている。
　このダイヤフラム８は、張設ボルト１０に締め付けられた張設リング１１（張設手段）による張力が与えられ、撓みやゆがみ等が取り除かれて平坦面とされており、また、このダイヤフラム８と接して、前記加圧室９内の気密性を保つためのＯリング（シール部材）１２が装着されている。
　ここで、相互に固定された研磨ヘッド１，圧力パイプ３，トップリング６およびダイヤフラム８は、たとえばモータやシリンダ装置のような昇降装置（図示せず）により、一体的に昇降可能なようになっている。
　この加圧室９の加圧によって変位されるダイヤフラム８の下面には、ダイヤフラムに加圧される研磨プレート１３が位置し、さらに、この研磨プレート１３の下面に、研磨盤１４に貼り付けられた研磨パッド１５へ加圧されるウエハ（被研磨部材）１６が保持されている。
　なお、この研磨パッド１５の上には研磨剤パイプ１７ａによって送られてきた研磨剤１７が流され、研磨プレート１３に保持されて加圧されたウエハ（被研磨部材）１６が、この研磨パッド１５と研磨剤１７とにより鏡面状態に研磨されるようになっている。
イ　段落【００３４】〜【００４１】
「次に、図２、図３・・・に基づき、本実施例の研磨装置の作用について説明する。
　まず、ウエハ（被研磨部材）１６が保持された研磨プレート１３を、ウエハ（被研磨部材）１６の保持面を下方にして、ダイヤフラム８の下面に装着する。
　次に、図示しない加圧装置を操作して、圧力調整装置４および圧力計５によって調圧された液体が研磨ヘッド１の貫通孔２から加圧室９に流入すると、加圧室９内の加圧によりダイヤフラム８が下方に変位して、研磨プレート１３が加圧される。
　すると、この研磨プレート１３に保持されたウエハ（被研磨部材）１６は研磨パッド１５側に加圧され、この状態で研磨装置を作動させると、ウエハ（被研磨部材）１６は、研磨装置の回転運動とともに、研磨パッド１５と研磨剤１７とによって鏡面状態に研磨される。
　ここで、研磨プレート１３はダイヤフラム８により加圧されているので、加圧により研磨ヘッド１が凹状に変形しても、図２のように、加圧室９の形状も研磨ヘッド１に合わせて凹状に変形し、よって、研磨プレート１３は平坦なままに保たれる。
　したがって、研磨ヘッド１の変形とは無関係に、そして、研磨ヘッド１の平坦度とも無関係に、研磨プレート１３に保持されたウエハ（被研磨部材）１６は、研磨パッド１５に対して均一に加圧されることとなる。
　また、前記のように、研磨プレート１３はダイヤフラム８と接触しているので、研磨プレート１３が平坦でない場合には、図３のように、ダイヤフラム８の研磨プレート１３との接触面が研磨プレート１３の凹凸に合わせて変形し、一方、加圧室９内の圧力はダイヤフラム８の変形にしたがって研磨プ
レート１３に均一に作用する。
　したがって、研磨プレート１３の平坦度とも無関係に、研磨プレート１３に保持されたウエハ（被研磨部材）１６は、研磨パッド１５に対して均一に加圧されることとなる。」      
　上記記載事項ア、イから、甲第５号証には次の発明が記載されていると認める。
　表面にウエハ（被研磨部材）１６を研磨する研磨面が形成された研磨盤１４、ウエハ（被研磨部材）１６を前記研磨面に押圧する押圧部と、該押圧部によって前記研磨面に押圧されたウエハ（被研磨部材）１６と前記研磨盤１４とを相対的に運動させる運動機構とを備え、ウエハ（被研磨部材）１６の表面を研磨する研磨装置において、
　前記押圧部には、下方に向けて開放する凹部を備える研磨ヘッド１と、該研磨ヘッド１の凹部内側に配された研磨プレート１３と、一方側が前記研磨ヘッド１の壁部に固定されると共に、他方側が前記研磨プレート１３に固定され、該研磨プレート１３を上下方向及び水平方向への移動を微小範囲内で許容可能に吊持するダイヤフラム８と、前記研磨ヘッド１の内部を前記研磨プレート１３および前記ダイヤフラム８によって画成して設けられる加圧室９と、該加圧室９に圧力流体を供給する圧力流体供給手段とが設けられ、該圧力流体供給手段には、前記加圧室９へ供給する流体の圧力を調整する圧力調整装置４が備えられている研磨装置。
(6) 甲第６号証
　甲第６号証には「ラップ加工装置」に関連して、次の事項が記載されている。
ア　第２頁左上欄第１６〜１９行
「本発明は、従来の加工技術では得られなかった高精度なラップ加工面を、薄い部材であっても容易に得られるような、量産加工に適したラップ加工装置を提供することを目的とする。」
イ　第２頁右上欄第１〜４行
「上記の目的を達成するために、本発明では被加工材をワークプレートに貼り付けることなく、空気圧で面板に軽く押し付けながらラップ加工するように構成したものである。」
ウ　第２頁右上欄第６行〜同頁左下欄第５行
「第１図の原理図に示すように、ワーク（被加工材）１をワークホルダ４に嵌合した状態で面板３の上に載せてラップ加工する。この場合、部材がシリコンウエハのような中実円板状の場合には、(a)のように、ワークホルダ４の下面の外周に設けた突起４１の内側に・・・・・・・部材を嵌合する。・・・・・・このような状態で、ワーク１に背面から空気を負荷すれば、ワークとワークホルダとの間には間隙が生ずる。このような状態でラップ加工することにより、当初歪んでいた部材でも、ラップ加工が進展するに従って次第に平坦に加工される。この場合、ワークホルダには接着していないため、ラップ加工中にストレスを受けたとしても、空気圧を適当な値に調整すれば部材は自由に変形でき、平坦性を十分に向上できるものである。」   
エ　第１図
　ワーク１を面板３の研磨面へ押圧するようにワークホルダ４から研磨面側へ向かって所定圧力の空気を噴出する複数の噴出口と、前記噴出口から噴出する所定圧力の空気を供給する噴出流体供給手段とを具備していること。
３  対比・検討
(1) 本件発明１について
ア　対比
　本件発明１と甲第１号証記載の発明とを対比すると、甲第１号証記載の発明の「ウェーハＷ」が本件発明１の「ワーク」に相当し、以下同様に「下定盤１００」が「定盤」に、「上定盤６」が「押圧部」に、「多孔質ポリウレタン製のバックパッド８４Ｂ」が「バッキング材」に相当することが明らかである。       
　また、本件発明１において「水の表面張力でワークを吸着して押圧部に保持する」ことに関連して、訂正明細書の段落【０００４】に「・・・・ウェーハ２４を確実に水張りできるように、一般的に吸着性に富む表面を有するシート状のバッキング材が貼設されている。」と記載されていることからみて、甲第１号証記載の発明において、水張り状態でワークを吸着することは、本件発明１と同様、水の表面張力でワークを吸着していることにほかならない。
　したがって、本件発明１と甲第１号証記載の発明とは、以下の点で一致している。
　表面にワークを研磨する研磨面が形成された定盤と、ワークを前記研磨面に押圧する押圧部と、該押圧部によって前記研磨面に押圧されたワークと前記定盤とを相対的に運動させる運動機構とを備え、ワークの表面を研磨する研磨装置において、
　前記押圧部には、該押圧部のワークの押圧面に設けられ、水の表面張力でワークを吸着して押圧部に保持するバッキング材を具備している研磨装置、である点。
　そして、本件発明１と甲第１号証記載の発明とは、以下の点で相違している。
　本件発明１では、押圧部には、バッキング材を貫通して設けられ、研磨の際には、ワークを研磨面へ押圧するように押圧部から研磨面側へ向かって所定圧力の空気を噴出する複数の噴出口と、前記噴出口から噴出する所定圧力の空気を供給する噴出流体供給手段とを具備し、前記複数の噴出口が、前記ワークの全面に対応して均一に位置するように設けられているのに対して、甲第１号証記載の発明では、そのようになっていない点。
イ　相違点についての検討
　上記相違点について検討するため甲第６号証を参照すると、甲第６号証には２の(6) に示めした事項が記載されており、その記載事項における「面板３」、「ワークホルダ４」及び「ラップ加工装置」は、それぞれ本件発明１の「研磨面が形成された定盤」、「押圧部」及び「研磨装置」に相当することが明らかであることから、結局、甲第６号証には、研磨装置において、研磨の際には、ワークを研磨面へ押圧するように押圧部から研磨面側へ向かって所定圧力の空気を噴出する複数の噴出口と、前記噴出口から噴出する所定圧力の空気を供給する噴出流体供給手段とを具備することが記載されていることになる。
　そして、甲第１号証記載の発明及び甲第６号証記載の事項は、いずれも研磨装置に関するものであることから、甲第６号証記載の事項を甲第１号証記載の発明に適用することにより、研磨の際に、所定圧力の空気を供給する噴出流体供給手段から真空路７８を介して所定圧力の空気を導入し、この空気をバッキング材である多孔質ポリウレタン製のバックパッド８４Ｂから噴出させてワークを研磨面へ押圧するように構成することに格別の困難性は見当たらない。
　本件発明１では、複数の噴出口が、バッキング材を貫通し、かつ、ワークの全面に対応して均一に位置するように設けられているのに対して、甲第６号証記載の事項を甲第１号証記載の発明に適用したものでは、そのような噴出口は、特に設けられていない。
　しかしながら、甲第１号証記載の発明のバッキング材は、多孔質ポリウレタン製であることから、甲第６号証記載の事項を甲第１号証記載の発明に適用したものは、実質上、バッキング材全体にわたって複数の噴出口が設けらていることになり、作用効果において本件発明１と格別異なるところがない。また、甲第２号証には、２の(2)にその旨示したように、ウエーハを吸着する発泡ウレタンなどの合成樹脂製のシート(2)に、このシート(2)を貫通する小孔(5)・・・を均一に分散して穿設することが記載されており、甲第６号証記載の事項を甲第１号証記載の発明に適用するに当たって、そのバッキング材に、バッキング材を貫通し、かつ、ワークの全面に対応して均一に位置するように複数の噴出口を設けることは、必要に応じ適宜なし得る設計的事項にすぎない。
　そして、本件発明１を特定する事項によって齎される効果も、甲第１号証記載の発明並びに甲第６号証及び甲第２号証記載の事項から当業者であれば予測できる程度のものであって格別のものではない。
　したがって、本件発明１は、甲第１号証記載の発明並びに甲第６号証及び甲第２号証記載の事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
(2) 本件発明２について
ア　対比
　本件発明２と甲第１号証記載の発明とを対比すると、本件発明１との対比の場合と同様に、甲第１号証記載の発明の「ウェーハＷ」が本件発明２の「ワーク」に相当し、以下同様に「下定盤１００」が「定盤」に、「上定盤６」が「押圧部」に相当することが明らかである。
　また、甲第１号証記載の発明の「多孔質ポリウレタン製のバックパッド８４Ｂ」は、その材質からみて押圧部の押圧面に吸引されたワークの保護層としても機能することが明らかであって本件発明２の「押圧部の押圧面に形成されたフィルム材層又はコーティング層」に相当し、また、その多孔質に由来する多数の孔部は、ワークを押圧部に真空吸引力で吸引する際に、前記ワークを吸引する通孔として機能するという限りで、本件発明２の「複数の噴出口」と共通している。
　また、甲第１号証記載の発明の「凹部８８」は、押圧部の押圧面にワークを吸引する際には、減圧状態とされる流体室となるという限りで、本件発明２の「流体室」と共通している。
　したがって、本件発明２と甲第１号証記載の発明とは、以下の点で一致している。
　表面にワークを研磨する研磨面が形成された定盤と、ワークを前記研磨面に押圧する押圧部と、該押圧部によって前記研磨面に押圧されたワークと前記定盤とを相対的に運動させる運動機構とを備え、ワークの表面を研磨する研磨装置において、
　前記押圧部の押圧面に吸引されたワークの保護層として、該押圧部の押圧面に形成されたフィルム材層又はコーティング層と、前記押圧部に、ワークを前記押圧部に吸引する際には、前記ワークを吸引する複数の通孔と、前記通孔に接続されて設けられており、前記押圧部の押圧面にワークを吸引する際には、減圧状態とされる流体室とを具備している研磨装置、である点。
　そして、本件発明２と甲第１号証記載の発明とは、以下の点で相違している。
　本件発明２では、押圧部に、ワークの保護層としてのフィルム材層又はコーティング層を貫通して設けられ、研磨の際には、ワークを前記研磨面へ押圧するように押圧部から研磨面側へ向かって所定圧力の空気を噴出し、ワークを前記押圧部に吸引する際には、前記ワークを吸引する複数の噴出口と、前記噴出口に接続されて設けられており、前記噴出口から所定圧力の空気を噴出する際には、前記所定圧力の空気が噴出流体供給手段から供給され、前記押圧部の押圧面にワークを吸引する際には、減圧状態とされる流体室とを具備し、前記複数の噴出口が、前記ワークの全面に対応して均一に位置するように設けられているのに対して、甲第１号証記載の発明では、そのようになっていない点。
イ　相違点についての検討
　(1) のイで検討したように、甲第６号証には、研磨装置において、研磨の際には、ワークを研磨面へ押圧するように押圧部から研磨面側へ向かって所定圧力の空気を噴出する複数の噴出口と、前記噴出口から噴出する所定圧力の空気を供給する噴出流体供給手段とを具備することが記載されている。
　そして、甲第１号証記載の発明及び甲第６号証記載の事項は、いずれも研磨装置に関するものであることから、甲第６号証記載の事項を甲第１号証記載の発明に適用することにより、押圧部に、ワークの保護層としてのフィルム材層又はコーティング層を貫通して設けられ、研磨の際には、ワークを前記研磨面へ押圧するように押圧部から研磨面側へ向かって所定圧力の空気を噴出し、ワークを前記押圧部に吸引する際には、前記ワークを吸引する複数の通孔と、前記通孔に接続されて設けられており、前記通孔から所定圧力の空気を噴出する際には、前記所定圧力の空気が噴出流体供給手段から供給され、前記押圧部の押圧面にワークを吸引する際には、減圧状態とされる流体室とを具備するように構成することに格別の困難性は見当たらない。
　本件発明２では、複数の噴出口が、ワークの保護層としてのフィルム材層又はコーティング層を貫通し、かつ、ワークの全面に対応して均一に位置するように設けられているのに対して、甲第６号証記載の事項を甲第１号証記載の発明に適用したものでは、そのような噴出口は、特に設けられていないが、この点は、(1) のイでその旨検討したように、甲第６号証記載の事項を甲第１号証記載の発明に適用したものと実質上異なるところがないか、或いは、必要に応じ適宜なし得る設計的事項にすぎない。
　そして、本件発明２を特定する事項によって齎される効果も、甲第１号証記載の発明並びに甲第６号証及び甲第２号証記載の事項から当業者であれば予測できる程度のものであって格別のものではない。
　したがって、本件発明２は、甲第１号証記載の発明並びに甲第６号証及び甲第２号証記載の事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものである。
(3) 本件発明３について
ア　対比　
　本件発明３と甲第５号証記載の発明とを対比すると、甲第５号証記載の発明の「ウエハ（被研磨部材）１６」が本件発明３の「ワーク」に相当し、以下同様に「研磨盤１４」が「定盤」に、「研磨ヘッド１」が「ヘッド部材」に、「研磨プレート１３」が「盤状部材」に、「ダイヤフラム８」が「弾性部材」に、「加圧室９」が「圧力室」に相当することが明らかである。
　したがって、本件発明３と甲第５号証記載の発明とは、以下の点で一致している。
　表面にワークを研磨する研磨面が形成された定盤と、ワークを前記研磨面に押圧する押圧部と、該押圧部によって前記研磨面に押圧されたワークと前記定盤とを相対的に運動させる運動機構とを備え、ワークの表面を研磨する研磨装置において、
　前記押圧部には、下方に向けて開放する凹部を備えるヘッド部材と、該ヘッド部材の凹部内側に配された盤状部材と、一方側が前記ヘッド部材の壁部に固定されると共に、他方側が前記盤状部材に固定され、該盤状部材を上下方向及び水平方向への移動を微小範囲内で許容可能に吊持する弾性部材と、前記ヘッド部材の内部を前記盤状部材および前記弾性部材によって画成して設けられる圧力室と、該圧力室に圧力流体を供給する圧力流体供給手段とが設けられている研磨装置、である点。
　そして、本件発明３と甲第５号証記載の発明とは、以下の点で相違している。
　本件発明３では、盤状部材に設けられた、該盤状部材の表面から研磨面側へ向かって所定圧力の空気を噴出する複数の噴出口と、前記圧力室と噴出空気との２段の作用でウェーハを定盤の研磨面に押圧するように、前記噴出口から噴出する所定圧力の空気を供給する噴出流体供給手段とを具備しているのに対して、甲第５号証記載の発明では、そのようになっていない点。
イ　相違点についての検討
　(1) のイで検討したように、甲第６号証には、研磨装置において、研磨の際には、ワークを研磨面へ押圧するように押圧部から研磨面側へ向かって所定圧力の空気を噴出する複数の噴出口と、前記噴出口から噴出する所定圧力の空気を供給する噴出流体供給手段とを具備することが記載されており、また、甲第３号証にも同様の事項が記載されているものの、この事項を甲第５号証記載の発明に適用しても、本件発明３を特定する上記相違点の、特に、圧力室と噴出空気との２段の作用でウェーハを定盤の研磨面に押圧するように、前記噴出口から噴出する所定圧力の空気を供給する噴出流体供給手段とを具備しているという事項（以下「特定事項Ａ」という。）を得ることはできない。また、この特定事項Ａについては、他の甲各号証のいずれにも記載されておらず示唆もされていない。
　そして、本件発明３は、特定事項Ａを備えることにより、圧力室の圧力で盤状部材を研磨面へ均等な圧力で押圧し、盤状部材と定盤表面の平行度を高い精度で確保し、加えて、噴出する流体の圧力でワークを直接的に押圧できるため、さらに高い精度にワークを研磨面へ均等に押圧でき、ワーク全面を均一に研磨することができるという効果を期待できるものである。
　したがって、本件発明３は、甲第１号証乃至甲第６号証記載の発明乃至技術的事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたとすることはできない。
(4) 本件発明４について
　本件発明４は、本件発明３の圧力流体供給手段について、さらに限定を加えて減縮するものであるから、本件発明３と同様、甲第１号証乃至甲第６号証記載の発明乃至技術的事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたとすることはできない。
(5) 本件発明５について
　本件発明５は、発明を特定する事項として「押圧部に噴出口およびワークを囲うようにリング状に設けられ、ワークが前記研磨面に押圧される際に、押圧部と研磨面とによって挟圧され、噴出口から噴出する空気の流れを規制するリング部材を備えること」（以下「特定事項Ｂ」という。）を備えているところ、特定事項Ｂについては甲第１号証乃至甲第６号証のいずれにも記載されておらず、また、示唆もされていない。
　そして、本件発明５は、特定事項Ｂを備えることにより、研磨の際、ワークの横滑りを防止する外、噴出口から噴出する流体の流れを規制することによってワークを押圧する噴出する流体の圧力を確保することができる等の効果を期待できるものである。
　したがって、本件発明５は、甲第１号証乃至甲第６号証記載の発明乃至技術的事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたとすることはできない。
４　むすび
　以上のとおりであるから、本件の請求項１及び請求項２に係る特許は、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものであって、取り消すべきものであり、また、本件の請求項３乃至請求項５に係る特許については、取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１５年３月３１日（２００３．３．３１）
【訂正の要旨】
審決（決定）の【理由】欄参照。
（５４）【発明の名称】
研磨装置
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　表面にワークを研磨する研磨面が形成された定盤と、ワークを前記研磨面に押圧する押圧部と、該押圧部によって前記研磨面に押圧されたワークと前記定盤とを相対的に運動させる運動機構とを備え、ワークの表面を研磨する研磨装置において、
　前記押圧部には、該押圧部のワークの押圧面に設けられ、水の表面張力でワークを吸着して押圧部に保持するバッキング材と、前記バッキング材を貫通して設けられ、研磨の際には、ワークを前記研磨面へ押圧するように押圧部から研磨面側へ向かって
所定圧力の空気
所定圧力の空気
　前記複数の噴出口が、前記ワークの全面に対応して均一に位置するように設けられていることを特徴とする研磨装置。
　【請求項２】　表面にワークを研磨する研磨面が形成された定盤と、ワークを前記研磨面に押圧する押圧部と、該押圧部によって前記研磨面に押圧されたワークと前記定盤とを相対的に運動させる運動機構とを備え、ワークの表面を研磨する研磨装置において、
　前記押圧部の押圧面に吸引されたワークの保護層として、該押圧部の押圧面に形成されたフィルム材層又はコーティング層と、前記押圧部に、前記ワークの保護層としてのフィルム材層又はコーティング層を貫通して設けられ、研磨の際には、ワークを前記研磨面へ押圧するように押圧部から研磨面側へ向かって
所定圧力の空気
所定圧力の空気
所定圧力の空気
　前記複数の噴出口が、前記ワークの全面に対応して均一に位置するように設けられていることを特徴とする研磨装置。
　【請求項３】　表面にワークを研磨する研磨面が形成された定盤と、ワークを前記研磨面に押圧する押圧部と、該押圧部によって前記研磨面に押圧されたワークと前記定盤とを相対的に運動させる運動機構とを備え、ワークの表面を研磨する研磨装置において、
　前記押圧部には、下方に向けて開放する凹部を備えるヘッド部材と、該ヘッド部材の凹部内側に配された盤状部材と、一方側が前記ヘッド部材の壁部に固定されると共に、他方側が前記盤状部材に固定され、該盤状部材を上下方向及び水平方向への移動を微小範囲内で許容可能に吊持する弾性部材と、前記ヘッド部材の内部を前記盤状部材および前記弾性部材によって画成して設けられる圧力室と、該圧力室に圧力流体を供給する圧力流体供給手段とが設けられ、
　前記盤状部材に設けられた、該盤状部材の表面から研磨面側へ向かって
所定圧力の空気
噴出空気
所定圧力の空気
　前記複数の噴出口が、前記ワークの全面に対応して均一に位置するように設けられていることを特徴とする研磨装置。
　【請求項４】　圧力流体供給手段には、前記圧力室へ供給する流体の圧力を調整する圧力流体調整装置が備えられ、前記噴出流体供給手段には前記噴出口から噴出する
空気
　【請求項５】　押圧部に噴出口およびワークを囲うようにリング状に設けられ、ワークが前記研磨面に押圧される際に、押圧部と研磨面とによって挟圧され、噴出口から噴出する
空気
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【産業上の利用分野】
　本発明は、研磨装置に関し、さらに詳細には表面にワークを研磨する研磨面が形成された定盤と、ワークを前記研磨面に押圧する押圧部と、該押圧部によって前記研磨面に押圧されたワークと前記定盤とを相対的に運動させる運動機構を備え、ワークの表面を研磨する研磨装置に関する。この研磨装置としては、例えば半導体チップ用のウェーハ表面を鏡面研磨するために用いるウェーハの研磨装置がある。
　【０００２】
　【従来の技術】
　近年、半導体装置の高集積化が進むに伴い、その基板であるシリコンウェーハの平坦度や表面品質の向上が厳しく要求されている。また、そのウェーハ表面にデバイスを形成した際に堆積形成された層間絶縁膜や金属配線の研磨においても、一層高精度に平坦化する要求が高まっている。従って、ウェーハの研磨装置については、ウェーハ表面を一層高精度に鏡面研磨できるもの、または、表面を基準とする高精度な研磨のできるものが要求されている。
　【０００３】
　従来、ウェーハの研磨装置には、ウェーハ表面の全面が、そのウェーハ表面に接触する定盤の研磨面へ、均等な圧力で押圧できるように、ウェーハを押圧する押圧部がエアバッグ機能を備えるものがある。
　その研磨装置の保持部の一例を、図３に基づいて以下に説明する。
　図３に示すように、回転する定盤５６上に軟質弾性繊維からなる研磨布５８を接着して研磨面６０が形成され、その上方には回転および上下動可能な押圧部４１が設けられている。その押圧部４１は、下方に向けて開放する凹状のヘッド部材１１と、外側部１３ａがヘッド部材１１の内底面に固定されると共に内側部１３ｂが盤状部材１７に固定されて盤状部材１７を上下方向及び水平方向への移動を微小範囲内で許容可能に吊持する板状の弾性部材１３と、ヘッド部材１１の内部を盤状部材１７および板状の弾性部材１３によって画成して設けられる密閉空間である圧力室１９と、圧力室１９に所定圧力の流体を供給する流体の供給手段（図示せず）とを具備する。また、２７はリング状の弾性部材であり、合成ゴム等により成形されたＯ−リング状の部材からなる。このリング状の弾性部材２７は、盤状部材１７の外周面と前記外壁側部１１ａの内周面との間に配され、盤状部材１７のヘッド部材１１との相対的移動（例えば相対的回転）を吸収および規制するように作用する。
　【０００４】
　この研磨装置によれば、盤状部材１７に水張り等で保持されたウェーハ２４の表面は、板状の弾性部材１３のエアバッグ作用によって、研磨面６０の傾斜に素早く追随できると共に、そのようにウェーハ２４が研磨面６０の傾斜に追随した状態においても、ウェーハ２４の全面を研磨面６０に均等な圧力で押圧できる。このため、ウェーハ２４の高い平行度及び平坦度を維持しつつウェーハの表面を好適に鏡面研磨できる。なお、盤状部材１７の表面には、ウェーハ２４を確実に水張りできるように、一般的に吸着性に富む表面を有するシート状のバッキング材が貼設されている。
　【０００５】
　【発明が解決しようとする課題】
　しかしながら、上記のウェーハの研磨装置では、盤状部材１７を介してウェーハ２４を間接的に押圧しているから、盤状部材１７の平坦度の精度、盤状部材１７に加圧力が作用した際の変形による寸法変化、およびバッキング材の厚さの精度等による影響を受け易く、ウェーハ２４の全面を、非常に高い精度で研磨することは難しいという課題があった。
　また、ウェーハ２４の外周部が多く研磨される傾向にあり、いわゆる外周のダレが発生し易く、ウェーハ２４の全面について非常に高い精度の平坦度が要求される場合には対応できないという課題があった。
　そして、ウェーハ２４はバッキング材が当接して研磨面に押圧されるため、ウェーハ２４とバッキング材の間に異物が入り、ウェーハ２４を傷つけてしまうという課題もあった。
　【０００６】
　本発明の目的は、ワークが傷つくことを防止でき、ワーク全面を研磨面へ均等に押圧することによってワーク全面を均一に研磨し、ワーク外周のダレを防止すると共に、ワーク表面の平坦度を向上できる研磨装置を提供することにある。
　【０００７】
　【課題を解決するための手段】
　上記の目的を達成するため、本発明は次の構成を備える。
　すなわち、本発明は、表面にワークを研磨する研磨面が形成された定盤と、ワークを前記研磨面に押圧する押圧部と、該押圧部によって前記研磨面に押圧されたワークと前記定盤とを相対的に運動させる運動機構とを備え、ワークの表面を研磨する研磨装置において、前記押圧部には、該押圧部のワークの押圧面に設けられ、水の表面張力でワークを吸着して押圧部に保持するバッキング材と、前記バッキング材を貫通して設けられ、研磨の際には、ワークを前記研磨面へ押圧するように押圧部から研磨面側へ向かって
所定圧力の空気
所定圧力の空気
　更に、表面にワークを研磨する研磨面が形成された定盤と、ワークを前記研磨面に押圧する押圧部と、該押圧部によって前記研磨面に押圧されたワークと前記定盤とを相対的に運動させる運動機構とを備え、ワークの表面を研磨する研磨装置において、前記押圧部の押圧面に吸引されたワークの保護層として、該押圧部の押圧面に形成されたフィルム材層又はコーティング層と、前記押圧部に、前記ワークの保護層としてのフィルム材層又はコーティング層を貫通して設けられ、研磨の際には、ワークを前記研磨面へ押圧するように押圧部から研磨面側へ向かって
所定圧力の空気
所定圧力の空気
所定圧力の空気
　【０００８】
　また、表面にワークを研磨する研磨面が形成された定盤と、ワークを前記研磨面に押圧する押圧部と、該押圧部によって前記研磨面に押圧されたワークと前記定盤とを相対的に運動させる運動機構とを備え、ワークの表面を研磨する研磨装置において、前記押圧部には、下方に向けて開放する凹部を備えるヘッド部材と、該ヘッド部材の凹部内側に配された盤状部材と、一方側が前記ヘッド部材の壁部に固定されると共に、他方側が前記盤状部材に固定され、該盤状部材を上下方向及び水平方向への移動を微小範囲内で許容可能に吊持する弾性部材と、前記ヘッド部材の内部を前記盤状部材および前記弾性部材によって画成して設けられる圧力室と、該圧力室に圧力流体を供給する圧力流体供給手段とが設けられ、前記盤状部材に設けられた、該盤状部材の表面から研磨面側へ向かって
所定圧力の空気
噴出空気
所定圧力の空気
　【０００９】
　前記圧力流体供給手段には、前記圧力室へ供給する流体の圧力を調整する圧力流体調整装置が備えられ、前記噴出流体供給手段には前記噴出口から噴出する
空気
　【００１０】
　【００１１】
　また、前記押圧部に噴出口およびワークを囲うようにリング状に設けられ、ワークが前記研磨面に押圧される際に、押圧部と研磨面とによって挟圧され、噴出口から噴出する
空気
空気
　【００１２】
　【作用】
　請求項１又は請求項２にかかる発明によれば、研磨の際には、押圧面に設けられたワークを吸着するバッキング材又は押圧面に吸引されたウェーハを保護するフィルム材層やコーティング層を貫通して形成された噴出口から、ワークを定盤の研磨面に押圧するように押圧部の表面から研磨面側へ向かって、
所定圧力の空気
空気
空気圧
空気圧
　しかも、噴出口がワークの全面に対応して均一に位置するように複数設けられているため、ワークを研磨面へバランスよく均等に押圧でき、ワーク表面の平坦度を向上できる。
　また、請求項３にかかる発明によれば、盤状部材がヘッド部材の内部での移動が微小範囲内で許容されるように弾性部材に吊持され、圧力室に圧力流体を供給することで、盤状部材を研磨面に追随させて押圧できると共に、盤状部材に設けられた噴出口から、
所定圧力の空気
空気
　【００１３】
　【実施例】
　以下、本発明を、ウェーハの研磨装置に適用した場合の好適な実施例について、添付図面に基づいて詳細に説明する。
　図１はウェーハの研磨装置の押圧部４１ａの構成を示す正面断面図であり、図２は図１のウェーハの研磨装置によってウェーハ２４を研磨する状態を示す要部拡大正面断面図である。
　１０はヘッド部材であり、下方へ開放する凹状に形成されており、ワークであるウェーハ２４を押圧する押圧部の外郭部として設けられている。このヘッド部材１０は、本実施例では、ヘッド部材１０は平板壁部１０ｂと筒状側壁部１０ｃによって構成されており、平板壁部１０ｂと筒状側壁部１０ｃの継ぎ合わせは、Ｏ−リング１１によって気密されている。
　１２は盤状部材であり、ウェーハを押圧するための押圧部材の一態様である。この盤状部材１２は、ヘッド部材１０の凹部内側に配されている。
　【００１４】
　１４は弾性部材の一態様である板状の弾性部材であり、例えば硬質のゴム板材（本実施例では布入りニトリルゴム）によってドーナツ状に形成されている。外側部１４ａがヘッド部材１０の内底面に固定されると共に内側部１４ｂが盤状部材１２に固定されている。これにより、板状の弾性部材１４は、盤状部材１２を上下方向及び水平方向への移動を微小範囲内で許容可能に吊持している。板状の弾性部材１４の外側部１４ａは、ヘッド部材１０の内底面１０ａへ、ボルト（図示せず）の締め付けでリング部材１６によって挟さまれて固定される。また、板状の弾性部材１４の内側部１４ｂは、ボルト（図示せず）の締め付けで押さえリング１８に挟まれて盤状部材１２に固定されている。
　【００１５】
　２０は圧力室であり、ヘッド部材１０の内部を盤状部材１２および板状の弾性部材１４によって画成して設けられている。この圧力室２０内へは、所定圧力の流体が圧力流体供給手段（図示せず）によって供給される。２２は第１配管であり、圧力流体供給手段の圧力源と圧力室２０を連通している。
　前記圧力流体供給手段には、圧力室２０へ供給される流体の圧力を調整する圧力流体調整装置（図示せず）が備えられている。
　なお、圧力流体としては、空気または水等を利用できる。
　２６はリング状の弾性部材であり、例えばゴム等により成形されたＯ−リング状の部材からなる。このリング状の弾性部材２６は、盤状部材１２の外周面と筒状側壁部１０ｃの内周面の双方に当接するように配設され、盤状部材１２の水平方向の移動を微小範囲内で許容している。これにより、ウェーハが研磨される際に発生する水平方向（特に径方向）への作用力を吸収することができる。
　【００１６】
　３２は流体室であり、盤状部材１２を構成する上盤部１２ａと下盤部１２ｂの間に設けられた空間である。この流体室３２内へは、所定圧力の
空気
空気
　３０はバッキング材であり、盤状部材１２の外表面に貼着されている。このバッキング材３０は、弾性に富むと共に吸着性に富む表面を有するシート状の部材である。このバッキング材３０の表面を利用して、水の表面張力によってウェーハ２４を吸着させ、盤状部材１２に保持させることができる。
　なお、本実施例では、盤状部材１２の表面にバッキング材３０を設けたが、このバッキング材３０に代えて、フィルム材層またはコーティング層の表面を平坦性を出すように仕上げた薄膜部を設けることはもとより、盤状部材１２の表面をそのまま利用してウェーハ２４を押圧できるのは勿論である。
　【００１７】
　３６は噴出口であり、下盤部１２ｂとバッキング材３０を貫通して設けられている。この噴出口３６は下盤部１２ｂにウェーハ２４の全面に対応して均一に位置するように多数設けられている。
　この噴出口３６から、図２に示すように研磨面６０側へ向かって
所定圧力の空気
　また、流体室３２を減圧することでウェーハ２４を吸引して搬送する場合には、本実施例のようなバッキング材を要せず、盤状部材１２の表面にフィルム材層或いはコーティング層を設けてウェーハ２４の保護をしてもよい。
　【００１８】
　２８は凹部であり、ヘッド部材１０に設けられている。この凹部２８はヘッド部材１０の周方向に所定の間隔をおいて複数が設けられている。
　３８はピン状部材であり、盤状部材１２に、凹部２８に対応して所定の間隔をおいて複数が立設されている。ピン状部材３８は、前記凹部２８へ挿入されて係合する凸部の一態様である。
　このピン状部材３８は、フランジ状の先端部３８ａを備えており、凹部２８を形成する内底面２８ａと内径部２８ｂとの間で移動が規制される。これにより、盤状部材１２の上下方向の移動が規制されている。
　また、ピン状部材の先端部３８ａは、凹部２８に対して所定の微小範囲内で相対的に移動可能に遊嵌された状態で係合する係合部として作用する。従って、ヘッド部材１０と盤状部材１２との微小範囲の相対的移動を許容し、板状の弾性部材１４に作用する複合力を緩和することができる。これにより、板状の弾性部材が損傷することを防止でき、結果的にエアーバッグ機能の低下を防止できる。
　なお、本実施例では、盤状部材１２（保持部材）側にピン状部材３８（係合部）が設けられ、ヘッド部材１０側に凹部２８（被係合部）が設けられているが、逆に、保持部材に被係合部を設け、ヘッド部材１０側に係合部が設けられてもよい。
　【００１９】
　４０はテンプレートであり、盤状部材４０の外側表面（下面）に装着され、複数の噴出口３６およびウェーハ２４を囲うようにリング状に形成されており、ウェーハ２４の横滑りを防止する。また、このテンプレート４０は、ウェーハ２４が研磨面６０に押圧された際に、押圧部の盤状部材４０と研磨面６０とによって挟圧され、噴出口から噴出する
空気
空気
空気
　なお、研磨剤（砥粒を含む液状の研磨剤）がテンプレート４０内に好適に供給されるように、テンプレート４０の表面に複数の溝を設けてもよい。
　このようにテンプレート４０を設けることで、盤状部材１２が、そのテンプレート４０によって定盤５６の研磨面６０に受けられる（図２参照）ため、ウェーハ２４の外周のダレが発生することを防止できる。
　【００２０】
　なお、上記のウェーハの押圧部、およびウェーハの押圧部に設けられてウェーハ２４を研磨面６０に所定の押圧力で押圧する押圧手段の他に、ウェーハの研磨装置の基本的な構成としては、表面に研磨面６０が形成された定盤５６（図２および図３参照）、ウェーハ表面を研磨面６０に当接させるべくウェーハの押圧部と定盤５６とを接離動させる接離動手段、ウェーハ２４が研磨面６０に当接・押圧された状態でウェーハ２４と定盤５６とを回転および／または往復動によって相対的に運動させる駆動手段、スラリー等を含む液状の研磨剤の供給手段がある。
　【００２１】
　次に以上の構成からなるウェーハの研磨装置に関して、その作動状態について説明する。
　先ず、押圧部４１ａを移動して、ウェーハ２４を、バッキング材の表面からなる外側面に、水の表面張力によって吸着させる。流体室３２を減圧してウェーハ２４を吸引して確実に保持してもよい。そして、押圧部４１ａを移動して、ウェーハ２４を定盤５６の研磨面６０上に位置させる。
　次に、圧力室２０へ圧力流体供給手段によって所定圧力の流体を供給することで、盤状部材１２全体を研磨面６０に追随させて押圧させる。押圧前に研磨面６０が盤状部材１２の面に対して傾いていても、流体圧の作用で研磨面６０に好適に追随させて、盤状部材１２の全面を均等に押圧できる。
　そして、流体室３２へ噴出流体供給手段によって所定圧力の
空気
空気
空気
空気
所定圧力の空気
　すなわち、圧力室２０の圧力で盤状部材１２全体を研磨面６０へ均等な圧力で押圧し、盤状部材１２と定盤５６表面の平行度を高い精度で確保し、加えて、噴出する
空気
　【００２２】
　また、圧力流体調整装置によって圧力室２０へ供給される流体の圧力を調整すること、および噴出流体調整装置によって
噴出空気
空気
　【００２３】
　また、圧力室２０と噴出流体の２段の作用で、ウェーハ２４を研磨面に押圧することができるため、研磨面６０の傾斜（面振れ）が比較的大きくても、その傾斜に好適に追随することができる。
　なお、このウェーハの研磨装置によれば、前記ウェーハ以外の被研磨部材であるワーク（例えばガラス薄板材、水晶等の硬脆性材料の表面）も鏡面状に研磨することもできる。
　【００２４】
　以上の実施例では、圧力室２０へ圧力流体を供給することで発生するエアバッグ作用によって盤状部材１２を研磨面６０へ追随させたが、これに限らず、ユニバーサルジョイントで盤状部材１２を吊持および押圧する構造を採用してもよい。また、板状の弾性部材１４の代わりに蛇腹状の部材を用いてもよい。さらには盤状部材１２外表面と定盤５６表面のを間隔を計測して両面が平行になるように調整する調整機構を採用してもよい。
　また、以上に説明してきた実施例では、圧力室２０に圧縮空気を供給することによって盤状部材１２を介してウェーハ２４を研磨面に押圧する場合を説明したが、他の流体圧例えば水圧または油圧を利用することもできる。
　以上、本発明の好適な実施例について種々述べてきたが、本発明はこの実施例に限定されるものではなく、発明の精神を逸脱しない範囲内でさらに多くの改変を施し得るのは勿論のことである。
　【００２５】
　【発明の効果】
　請求項１にかかる発明によれば、押圧部に設けられた噴出口から、ワークを定盤の研磨面に押圧するように押圧部の表面から研磨面側へ向かって、流体を噴出できる。押圧部とワークの間に流体が介在して、ワークが研磨面に直接的に押圧されるため、ワークと押圧部とが接触してワークを傷つけることを防止できると共に、ワーク全面を均一に研磨し、ワーク外周のダレを防止すると共に、ワーク表面の平坦度を向上できるという著効を奏する。
　また、請求項２にかかる発明によれば、圧力室の圧力で盤状部材を研磨面へ均等な圧力で押圧し、盤状部材と定盤表面の平行度を高い精度で確保し、加えて、噴出する流体の圧力でワークを直接的に押圧できるため、さらに高い精度にワークを研磨面へ均等に押圧できる。従って、ワーク全面を均一に研磨することができるという著効を奏する。
【図面の簡単な説明】
　【図１】
　本発明に係る研磨装置の押圧部の正面断面図。
　【図２】
　図１の実施例の使用状態を示す要部を拡大した正面断面図。
　【図３】
　従来の技術を示す断面図。
　【符号の説明】
　１０　ヘッド部材
　１２　盤状部材
　１４　板状の弾性部材
　１４ａ　外側部
　１４ｂ　内側部
　２０　圧力室
　２４　ウェーハ
　３０　弾性薄膜
　３２　流体室
　３６　噴出口
　４０　テンプレート
　４１ａ　押圧部
　５６　定盤
　５８　研磨布
　６０　研磨面