【事件の表示】
　特許第３３２９９４６号「艶消し塗膜」の請求項１ないし３に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　特許第３３２９９４６号の請求項１ないし３に係る特許を維持する。
【理　由】
１．本件発明
　
　特許第３３２９９４６号（平成６年７月１５日出願、平成１４年７月１９日設定登録。）の請求項１〜３に係る発明（以下、「本件発明１〜３」という。）はその特許請求の範囲の請求項１〜３に記載された次のとおりのものである。
　
「【請求項１】 塗膜形成主要素として合成樹脂成分（３）を含み、また艶消し剤（４）として、平均粒径Ｄ1 がＤ1 ≦２μｍのシリカ粒子（５）および平均粒径Ｄ2 が８μｍ≦Ｄ2 ≦５０μｍの合成樹脂粒子（６）をそれぞれ含み、前記合成樹脂粒子（６）の粒径Ｄは２μｍ≦Ｄ≦１００μｍの範囲でばらついていると共に最大の前記合成樹脂粒子（８）の粒径をＤｍａｘとし、最小の前記合成樹脂粒子（８）の粒径をＤｍｉｎとしたとき、それらの粒径差ΔＤ＝Ｄｍａｘ−ＤｍｉｎをΔＤ≧１０μｍに設定し、前記合成樹脂成分（３）の１００重量部に対する前記艶消し剤（４）の配合重量割合Ｐｗを２０重量部≦Ｐｗ≦１００重量部に設定し、また前記艶消し剤（４）において、前記シリカ粒子（５）の配合重量をＷ1 とし、一方、前記合成樹脂粒子（６）の配合重量をＷ2 としたとき、それらの重量比Ｗｒ＝Ｗ1 ／Ｗ2 を２０／８０≦Ｗｒ≦７０／３０に設定し、さらに塗膜厚さｔを８μｍ≦ｔ≦３０μｍに設定することを特徴とする艶消し塗膜。
【請求項２】 前記合成樹脂成分（３）、艶消し剤（４）および添加剤を含む塗膜形成成分の配合重量をＷ3 としたとき、前記シリカ粒子（５）の重量比率Ｗｐ＝（Ｗ1 ／Ｗ3 ）×１００をＷｐ≦４０重量％に設定する、請求項１記載の艶消し塗膜。
【請求項３】 少なくとも一部の前記合成樹脂粒子（６）の表面に、少なくとも一部の前記シリカ粒子（５）が付着している、請求項１または２記載の艶消し塗膜。」
　
２．特許異議申立ての理由の概要
　
　特許異議申立人藤田肇は、その出願前に頒布された刊行物である甲第１〜８号証、及び参考資料１〜３を提出し、本件発明１、２は甲第１号証に記載された発明であるから特許法第２９条第１項第３号に該当し特許を受けることができず、また、本件発明１〜３は、甲第１〜８号証に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができず、したがって、本件発明１〜３についての特許は取り消されるべきである旨、主張している。
　
　特許異議申立人の提出した甲号証等
　　　甲第１号証：特開平４−５３８７６号公報
　　　甲第２号証：特公昭５２−４７４９０号公報
　　　甲第３号証：特開平２−４１２４３号公報
　　　甲第４号証：「工業塗装」、第１０６号、
　　　　　　　　　１９９０年９月１５日発行、第３７〜４４頁
　　　甲第５号証：特開平５−１１７５４８号公報
　　　甲第６号証：特開平３−２２０２６８号公報
　　　甲第７号証：「月刊　コンバーテック」、第１７巻第１２号、
　　　　　　　　　１９８９年１２月１５日発行、第３８〜４２頁
　　　甲第８号証：特開平４−３５３５７６号公報
　　　参考資料１：「Ｆａｍｉｌｙ　ｏｆ　ＳＹＬＯＩＤ」
　　　　　　　　　富士シリシア化学株式会社発行
　　　参考資料２：「Ｓｕｍｉｔｏｍｏ　Ｂａｙｅｒ　Ｕｒｅｔｈａｎｅ」
　　　　　　　　　住友バイエルウレタン株式会社発行
　　　参考資料３：「技術資料　ポリウレタン塗料用　
　　　　　　　　　非黄変型ポリイソシアネート」
　　　　　　　　　住友バイエルウレタン株式会社発行
　
３．甲号各証等に記載された事項
　
　甲第１号証（特開平４−５３８７６号公報）には、「合成樹脂粒子を模様発現成分とする合成樹脂模様塗料において、メチルエチルケトンに対する前記合成樹脂粒子のゲル分率が４０〜９０％である模様塗料組成物」（特許請求の範囲の請求項１参照）について記載され、「本発明の模様塗料では、含有される樹脂粒子が塗料に含まれる溶剤、或いはメチルエチルケトンに対して４０〜９０％のゲル分率を有するので、樹脂粒子が従来の模様塗料では生じない集合現象、つまり凝集現象を呈し、これによって従来の模様塗料に比べてシボ調或いはレーザ調模様のはっきりとした、模様意匠性の優れた模様塗膜を形成することができる。」（第２頁右下欄８〜１５行）と説明され、また、樹脂粒子については、「樹脂粒子の形状、粒径は目的とする模様により任意に選択が可能で、樹脂粒子が塗料に含まれる溶剤、或いはメチルエチルケトンに対して４０〜９０％のゲル分率を有していればこれを制約するものではないが、形状としては塗膜表面のなめらかさ、ソフトなタッチ感と言う点から球状が好ましく、また粒径としては模様感とタッチ感などから平均粒径５〜１００μｍ程度が好ましい。」（第３頁右上欄１５行〜同頁左下欄３行）と、記載されている。
　また、実施例２として、ウレタン系２液型塗料が記載され、該塗料は、
「配合組成
　　ディスモヘン６７０　４０．０部
　　チタンホワイト　　　１０．０部
　　カーボンブラック　　　１．０部
　　サイロイド２４４　　　５．０部
　　　（シリカ系艶消し剤）
　　酢酸ブチル　　　　　１０．０部
　　キシレン　　　　　　１０．０部
　　ソルベッソ１００　　　９．０部
　　セロソルブアセテート　５．０部
　　アンチテラＵ　　　　　０．２部
　　ウレタン樹脂ビーズ　２０．０部
　　　（平均粒径４５μｍ）　　　　　　　」
に対して、硬化剤として「スミデュールＮ−７５」をＯＨ／ＮＣＯ比で当量添加し、調整し、ボンデ鋼板にスプレー塗装し、乾燥させ、試験片とした旨（第４頁右下欄１３行〜第５頁左上欄１７行）の記載がされている。
　甲第２号証（特公昭５２−４７４９０号公報）には、特定の非孔性で色のついた不融不溶の尿素−ホルムアルデヒドポリマー粒子と、特定の非孔性霧化シリカよりなる艶消し組成物について記載されている（特許請求の範囲第１項参照）。
　甲第３号証（特開平２−４１２４３号公報）には、基材フィルム上に、ビーズ顔料をビヒクルに添加したツヤ消し塗料の塗膜を設けてなるスエード調成形用シートについて記載されている（特許請求の範囲の請求項１参照）。
　甲第４号証（「工業塗装」、第１０６号、１９９０年９月１５日発行、第３７〜４４頁）には、ウレタン系着色弾性粒子「バーノックＣＦＢシリーズ」を利用した新規塗料について記載され、その表−２（第３８頁）には、艶消し塗料の配合例が記載されている。
　甲第５号証（特開平５−１１７５４８号公報）には、シリカ微粉末と正のゼータ電位をもつ平均粒径０．０１〜５μｍの樹脂粒子を含有する艶消し塗料組成物について記載されている（特許請求の範囲の請求項１参照）。
　甲第６号証（特開平３−２２０２６８号公報）には、特定のビニル系樹脂と、耐候性高分子重合体粒子及び微粒子状合成シリカの中から選ばれた少なくとも１種以上を配合させてなる艶消し塗料組成物について記載されている（特許請求の範囲の請求項１参照）。
　甲第７号証（「月刊　コンバーテック」、第１７巻第１２号、１９８９年１２月１５日発行、第３８〜４２頁）には、微粒子プラスチック分散塗料について記載されている。
　甲第８号証（特開平４−３５３５７６号公報）には、硬化性塗料に、金属酸化物微粒子により表面被覆された平均粒子径０．１〜２００μｍのシリコーンゴム紛状物を添加してなる塗料組成物について記載されている（特許請求の範囲の請求項１参照）。
　参考資料１（「Ｆａｍｉｌｙ　ｏｆ　ＳＹＬＯＩＤ」富士シリシア化学株式会社発行）には、「サイロイド２４４」の平均粒径が１．８μｍであることが記載されている。
　参考資料２（「Ｓｕｍｉｔｏｍｏ　Ｂａｙｅｒ　Ｕｒｅｔｈａｎｅ」住友バイエルウレタン株式会社発行）には、「ディスモヘン６７０」が低分岐ポリエステルポリオールであって、その水酸基含量が４．３％であることが記載されている。
　参考資料３（「技術資料　ポリウレタン塗料用　非黄変型ポリイソシアネート」住友バイエルウレタン株式会社発行）には、「スミデュールＮ−７５」はＮＣＯ基含有率１６．０−１７．０％であって、不揮発分７３−７７％のポリイソシアネートであることが記載されている。
　
４．対比・判断
　
（１）特許法第２９条第１項について
　
　本件発明１
　本件発明１と甲第１号証に記載された発明とを対比する。
　甲第１号証に記載された発明は、模様塗料組成物に関するものであるが、これを塗布して塗膜とすることは明らかであって、その実施例２を検討するに、「ディスモヘン６７０」は参考資料２によれば水酸基含量４．３％の低分岐ポリエステルポリオールであり、「スミデュールＮ−７５」は参考資料３によればＮＣＯ基含有率１６．０−１７．０％、不揮発分７３−７７％のポリイソシアネートであって、これをＯＨ／ＮＣＯ比で当量添加すると、６５．７部のポリウレタン樹脂が形成されるものと認められ、また、「サイロイド２４４」は参考資料１によれば平均粒径は１．８μｍであって「ウレタン樹脂ビーズ」は平均粒径が４５μｍであり、ここで、上記合成樹脂成分であるポリウレタン樹脂１００重量部に対する、上記シリカ粒子＋上記ウレタン樹脂粒子の重量割合は、
　　（５．０＋２０．０）／６５．７×１００＝３８．１
と計算され、これは、本件発明１における「合成樹脂成分に対する艶消し剤の配合重量割合Ｐｗ」で特定する範囲内にあり、また、上記シリカ粒子と上記ウレタン樹脂粒子との重量比は、
　　５．０／２０．０＝２０／８０
と計算され、これは、本件発明１における「シリカ粒子の配合重量と合成樹脂粒子の配合重量の重量比Ｗｒ」の範囲内にある。
　そうすると、甲第１号証の実施例２には、「塗膜形成主要素として合成樹脂成分を含み、艶消し剤として本件発明１と同じ平均粒径を有するシリカ粒子と、本件発明１と同じ平均粒径を有する合成樹脂粒子とを含み、ＰｗもＷｒも本件発明１の範囲内である、塗料組成物及びこれから得られる塗膜」が記載されていると認められるものの、該塗膜について、（ａ）合成樹脂粒子の粒径Ｄが２μｍ≦Ｄ≦１００μｍの範囲でばらついていると共に粒径差ΔＤ＝Ｄｍａｘ−ＤｍｉｎをΔＤ≧１０μｍに設定すること、（ｂ）塗膜厚さｔを８μｍ≦ｔ≦３０μｍに設定した艶消し塗膜であること、は記載されていないのであるから、該塗膜が、上記（ａ）、（ｂ）の構成を有しているか否かは、不明である。
　そこで、該（ａ）、（ｂ）の構成が甲第１号証に実質的に記載されているか否かについて検討する。
　甲第１号証に記載された発明は、既に摘示したように、特定のゲル分率を有する樹脂粒子を用いることで樹脂粒子が凝集現象を呈し、シボ調或いはレーザ調模様のはっきりとした模様塗膜を形成する、というものであるところ、この樹脂粒子の形状は、塗膜表面のなめらかさ・タッチ感から球状が好ましいとされ、また、この樹脂粒子の平均粒径は、模様感とタッチ感などから５〜１００μｍ程度が好ましいとされているが、はっきりした模様塗膜を形成するための、粒径のばらつき度や粒径差（上記（ａ）の構成に相当）については何ら記載も示唆もされておらず、一方、塗膜厚さの範囲（上記（ｂ）の構成に相当）については言及さえもされていない。しかも、提出された証拠等からでは、はっきりとした模様塗膜を形成するために、粒径のばらつき度や粒径差や塗膜厚さを特定の範囲にする必要があると解されるわけではないから、甲第１号証に、上記（ａ）、（ｂ）の構成が実質的に記載されていると断定することはできない。
　以上のとおり、本件発明１で特定する数値範囲のいくつかが、甲第１号証の実施例２に記載されているものと重複しているからといって、甲第１号証には具体的に記載されていない上記（ａ）、（ｂ）の構成についてまで、該実施例が当然有している構成であるとすることはできず、また、甲第１号証全体の記載を見ても、これを記載または示唆されているとすることはできないから、本件発明１は、甲第１号証に実質的に記載されてはいない。
　
　本件発明２
　本件発明２は、本件発明１を引用しており、本件発明１をさらに技術的に限定するものであるから、上記と同様の理由により、甲第１号証に実質的に記載されていない。
　
（２）特許法第２９条第２項について
　
　本件発明１
　甲第１号証には、前記したとおり、本件発明１の（ａ）、（ｂ）の構成について記載も示唆もされていない。また、甲第２〜８号証には、前記したとおりの記載はなされているものの、（ａ）と（ｂ）の構成を併せ有することが艶消し塗膜として有効であるとする記載も示唆もない。
　したがって、甲第１〜８号証の記載を併せ考慮しても、本件発明１における、（ａ）、（ｂ）を備えた艶消し塗膜という構成が容易であるとすることはできない。
　そして、本件発明１は、この点により、６０°入射光および８５°入射光に関する両光沢度を共に極力低くして、艶消し効果の高い艶消し塗膜を提供することができる、という明細書記載の優れた作用効果を奏するものと認められる。
　したがって、本件発明１は、甲第１〜８号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものではない。
　
　本件発明２、３
　本件発明２、３は、いずれも、本件発明１あるいは本件発明１を引用している発明を引用しており、本件発明１をさらに技術的に限定するものであるから、上記と同様の理由により、甲第１〜８号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものではない。
　
　なお、特許異議申立人の提出した参考資料１〜３は、商品名で表されるものの物性を記載するにすぎないので、これを参照しても、上記（１）（２）の判断が変わるものではない。
　
（３）結論
　
　よって、本件発明１〜３についての特許は、特許法第２９条第１項の規定に違反してされたものとも、同法第２９条第２項の規定に違反してされたものともすることはできない。
　
５．むすび
　
　以上のとおりであるから、特許異議申立ての理由及び証拠によっては、本件発明１〜３についての特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件発明１〜３についての特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、本件発明１〜３についての特許は、拒絶の査定をしなければならない特許出願に対してされたものと認められないので、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１６年１月２０日（２００４．１．２０）