【事件の表示】
　特許第３２１８０１５号「半導体ウェハー観察装置」の請求項１ないし４に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３２１８０１５号の請求項１ないし３に係る特許を取り消す。
【理　由】
［１］手続の経緯
　本件特許第３２１８０１５号の請求項１〜４に係る発明についての出願は、平成１０年９月１日に特許出願され、平成１３年８月３日にその発明について特許権の設定登録がなされたところ、当該請求項１〜４に係る発明の特許について、平成１４年４月２日に奥平卓巳（以下、「異議申立人」という。）より特許異議の申立てがなされ、平成１５年９月１日付で取消理由が通知され、これに対して、その指定期間内である同年１１月１０日に訂正請求がなされたものである。
　　
［２］訂正の適否についての判断
（１）訂正事項
（１−１）訂正事項ａ
　本件特許の願書に添付した明細書（以下、「特許明細書」という。）の特許請求の範囲の請求項１において、「ウェハーのサイズを検出するウェハーサイズ判別機構と、」とあるのを、「ウェハーのサイズを検出するとともに該ウェハーを所定の向きに揃えるウェハーサイズ判別機構と、」と訂正する。
　　
（１−２）訂正事項ｂ
　同請求項１において、「試料台上に搬送したウェハーを所望の位置に移動する移動機構と、」とあるのを、「試料台上に搬送したウェハーを所望の観察位置に移動する３軸または５軸の移動機構と、」と訂正する。
　　
（１−３）訂正事項ｃ
　同請求項４を削除する。
　　
（２）訂正の目的の適否、新規事項の追加の有無、及び拡張・変更の存否
　訂正事項ａは、訂正前の特許明細書の請求項１における「ウェハーのサイズを検出するウェハーサイズ判別機構」を、より下位概念の「ウェハーのサイズを検出するとともに該ウェハーを所定の向きに揃えるウェハーサイズ判別機構」に限定するものであり、訂正事項ｂは、同請求項１における「試料台上に搬送したウェハーを所望の位置に移動する移動機構」を、より下位概念の「試料台上に搬送したウェハーを所望の観察位置に移動する３軸または５軸の移動機構」に限定するものであり、訂正事項ｃは、同請求項４を削除するものであるから、いずれも特許請求の範囲の減縮を目的とするものに該当する。
　そして、訂正事項ａの「ウェハーサイズ判別機構」についての限定は、訂正前の特許明細書の「ウェハーはカセットからウェハーサイズ判別機構に送られ、ここで自動的にウェハーのサイズが検出され同時に所定の向きに揃えられ、」（段落【００１０】）との記載に基づくものであり、また、訂正事項ｂの「移動機構」についての限定は、訂正前の特許明細書の「ウェハーは移動機構上の試料台上面に搬送され、この移動機構によってウェハー観察手段の観察位置に移動される。」（段落【００１０】）と、「ウェハーを観察位置に移動するためのステージ機構７である。」（段落【００１１】）と、「ウェハー５は搬送機構３によってステージ７上に固定されている試料台６上に搬送され載置される。‥‥‥‥‥‥‥‥‥ステージ７はＸＹＺの３軸またはＸＹＺに回転、チルトを加えた５軸ステージがある。」（段落【００１２】）との記載に基づくものであるから、当該訂正事項は、特許明細書又は図面の範囲内においてした訂正であり、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。
　　
（３）まとめ
　以上のとおりであるから、本件訂正は、特許法第１２０条の４第２項、及び同条第３項において準用する特許法第１２６条第２〜４項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　　
［３］特許異議の申立てについて
（１）本件発明
　上記［２］欄で述べたとおり、上記訂正が認められるので、本件特許の訂正後の請求項１〜３に係る発明（以下、それぞれ「本件発明１」〜「本件発明３」という。）は、上記訂正請求に係る訂正明細書における特許請求の範囲の請求項１〜３に記載された事項により特定される次のとおりのものである。
「【請求項１】複数の半導体ウェハーを収納するウェハー収納容器と、このウェハー収納容器を所定の位置に固定するウェハー収納容器固定台と、ウェハーのサイズを検出するとともに該ウェハーを所定の向きに揃えるウェハーサイズ判別機構と、ウェハーを載置する試料台と、ウェハーを任意の場所に搬送するウェハー搬送機構と、試料台上に搬送したウェハーを所望の観察位置に移動する３軸または５軸の移動機構と、ウェハーを観察する観察手段とを備え、所定のウェハー収納容器に対応した第１のウェハー収納容器固定台と、前記所定のウェハー収納容器とは形状またはサイズの異なるウェハー収納容器に対応し、前記第１のウェハー収納容器固定台上に着脱可能に載置される、第２のウェハー収納容器固定台とからなることを特徴とする半導体ウェハー観察装置。
【請求項２】前記第１のウェハー収納容器固定台を３００ｍｍウェハー収納容器用とし、前記第２のウェハー収納容器固定台を２００ｍｍまたは１５０ｍｍウェハー収納容器のいずれか専用とすることを特徴とする請求項１記載の半導体ウェハー観察装置。
【請求項３】前記第１のウェハー収納容器固定台を３００ｍｍウェハー収納容器用とし、前記第２のウェハー収納容器固定台を２００ｍｍと１５０ｍｍウェハー収納容器の共用とすることを特徴とする請求項１記載の半導体ウェハー観察装置。」
　　
（２）取消理由の概要
　平成１５年９月１日付で通知した取消理由の概要は、
（Ａ）本件特許に係る出願の出願前に頒布された下記の刊行物１〜３を引用し、訂正前の本件請求項１〜３に係る発明の特許は、刊行物１〜３に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものであり、また、
（Ｂ）平成１１年１０月２８日付け手続補正書による本件の請求項４についての補正は、願書に最初に添付した明細書又は図面に記載された事項の範囲内においてされたものではないので、本件特許は、特許法第１７条の２第３項に規定する要件を満たしていない補正をした特許出願に対してされたものである。
      　　　　　　　　　　　　　　　　記
刊行物１：特開平１０−１４４７５５号公報（異議申立人の提出した甲第１号証）
刊行物２：特開平８−１２４８８２号公報（同上、甲第２号証）
刊行物３：特開平７−２８３２９１号公報（同上、甲第３号証）
　　
（３）刊行物１〜３の記載事項
　上記取消理由で引用した、本件特許に係る出願の出願前に頒布された刊行物である引用刊行物１〜３には、それぞれ以下の事項が記載されている。
（３−１）刊行物１：特開平１０−１４４７５５号公報
　刊行物１には、
「【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハなどの基板に対して、半導体装置の製造、評価、検査および電気特性の計測などの所定処理を施す基板処理装置などに用いられ、複数の基板を収容するカセットキャリアを載置するキャリア載置台に関する。」（段落【０００１】）、　
「図１は本発明の一実施形態におけるキャリア載置台を含む基板処理装置の構成を示す正面図であり、図２は図１の基板処理装置のＤＤ′断面図である。
　図１および図２において、基板処理装置１上の左手前側には、複数の半導体ウエハ２を階層的に収納するカセットキャリア３を、ワンタッチで位置決め可能なキャリア載置台４上に載置し、このカセットキャリア３と共にそのキャリア載置台４を取り出し位置から手前側にスライドさせて引き出し可能な構成となっている。また、カセットキャリア３には半導体ウエハ２を左右方向に搬入・搬出可能な開口部３ａが配設されており、この開口部３ａに対向し得るようにインデクサアーム５が配設されている。このインデクサアーム５の下方位置にはトランスファアーム６が配設され、その右側には、半導体ウエハ２に対してＣ−Ｖ曲線などの電気特性の計測などの所定処理を施す測定室７が配設されている。この測定室７には、半導体ウエハ２を左右方向に搬入・搬出可能な開閉部７ａが配設され、このトランスファアーム６はこの開閉部７ａに対向して配設されている。
　このインデクサアーム５のアーム駆動部８は、カセットキャリア３とセンタリング部（図示せず）の間および、このセンタリング部（図示せず）とトランスファアーム６の間でこのインデクサアーム５を左右方向および上下方向に移動させる構成となっている。また、インデクサアーム５は、そのアーム先端部で半導体ウエハ２を下方から支持すると共に、その中央下面をアーム先端吸引部で吸引して半導体ウエハ２を固定した状態で、カセットキャリア３内に載置された半導体ウエハ２を取り出すと共に、センタリング部（図示せず）で円形の半導体ウエハ２の外径を挾み込むことによってインデクサアーム５の半導体ウエハ２の保持位置を調整した後、インデクサアーム５はトランスファアーム６上へと下方に搬送させる。
　また、このトランスファアーム６は、半導体ウエハ２に所定の計測を行う測定室７の搬入・搬出用の開閉部７ａを介して、測定室７内の半導体ウエハ載置台９と、インデクサアーム５からの半導体ウエハ２の受け取り位置との間で半導体ウエハ２の搬送を行うように構成されている。また、測定室７では半導体ウエハ載置台９は搬入・搬出位置と計測位置との間で移動可能に構成されている。以上のインデクサアーム５およびトランスファアーム６の移動および吸引動作は、図示しないモータおよびその駆動制御部によりなされている。
　図３は図１および図２のキャリア載置台４の構成を示す斜視図であり、第２のサイズの基板となる直径２００ｍｍ以下の半導体ウエハ２を収容する小型のカセットキャリアを載置するためのものである。」（段落【００１４】〜【００１８】）、
「図７において、直径３００ｍｍの半導体ウエハ２を収容する大型のカセットキャリア３の場合には、直径２００ｍｍ以下の半導体ウエハ２を収容する小型のカセットキャリア３の場合とは全く異なる形状をしており、この場合には、アタッチメントトレー１４を取り外した状態で、ベースプレート１１上の各キネマティックカップリングピン１３で、大型のカセットキャリア３の底面側のＶ溝２３とそれぞれ嵌合させて位置決めすることができる。
　この構成により、まず、カセットキャリア３のサイズ替えに際して、直径２００ｍｍ以下の半導体ウエハ２を収容する小型のカセットキャリア３の場合には、ベースプレート１１上の各キネマティックカップリングピン１３に嵌合するように、ベースプレート１１上にアタッチメントトレー１４を装着させる。さらに、アタッチメントトレー１４上の位置決めプレート１５の一方を中央部側に多少移動させることで他方の位置決めプレート１５も中央部側に多少移動した状態で、その上にカセットキャリア３を載置する。さらに、位置決めプレート１５の一方または両方を外側に移動させて、カセットキャリア３の底面のＨ字形状部３ｂの内側リブを両側のブロック１５ａで当接させる。これによって、１種類のアタッチメントトレー１４で、異なるサイズに応じたカセットキャリア３の位置決めを容易に行うことができる。
　また、直径３００ｍｍの半導体ウエハ２を収容する大型のカセットキャリア３の場合には、ベースプレート１１上の各キネマティックカップリングピン１３で、カセットキャリア３の底面側のＶ溝２３とそれぞれ嵌合させて位置決めすることができる。
‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥‥
　次に、インデクサアーム５の先端吸引部がカセットキャリア３の開口部３ａ内に移動し、カセットキャリア３内に載置された半導体ウエハ２の中央下面を支持すると共に吸引して開口部３ａ外に取り出した後、センタリング部（図示せず）で円形の半導体ウエハ２の外径を挾み込むことによってインデクサアーム５の半導体ウエハ保持位置のセンター合わせをしてウエハ保持位置の調整をする。
　さらに、インデクサアーム５は半導体ウエハ２を下方のトランスファアーム６上に搬送する。このトランスファアーム６は、その先端アーム上で半導体ウエハ２を固定すべく吸引した状態で測定室７内の半導体ウエハ載置台９上に搬入・搬出用の開閉部７ａを介して搬送する。測定室７内の半導体ウエハ載置台９上に載置された半導体ウエハ２は半導体ウエハ載置台９と共に計測位置に移動してＣ−Ｖ曲線などの電気特性の測定がなされた後に搬入・搬出位置に戻され、搬入・搬出用の開閉部７ａを介してトランスファアーム６によって取り出されることになる。」（段落【００２５】〜【００３０】）、
「なお、本実施形態では、アタッチメントトレー１４上の各位置決めプレート１５が接近または離間自在にスライドする構成とすることにより、１つのアタッチメントトレー１４で、異なるサイズのカセットキャリア３に対応することができるようにしたが、アタッチメントトレー１４上の両位置決めプレート１５の間隔を、異なるサイズのカセットキャリア３毎に専用に設け、その専用のアタッチメントトレー１４を、異なるサイズのカセットキャリア３に応じて付け替えることでサイズ替えに対応するようにしてもよい。この場合には、スライド調整はなくなるものの専用のアタッチメントトレー１４が、異なるサイズのカセットキャリア３の種類の分だけ必要となる。
【発明の効果】以上のように本発明によれば、サイズの異なる第１及び第２カセットキャリアの位置決めに際して、第１のサイズの基板を収容する第１カセットキャリアを載置するキャリア台上に、第２のサイズの基板を収容する第２カセットキャリアを載置する板状部材を着脱するだけで、サイズ変更に伴う作業が完了するので、従来のような非常に小さい取付ねじによる取付作業や現物合わせによる調整作業の必要もなく、クリーンルーム内での作業で、所定の手袋を着用した状態での作業であっても、異なるカセットキャリアに対する位置決め部材のサイズ交換を容易にかつ迅速に行うことができる。
　また、本発明によれば、第１位置決め部材が板状部材のキャリア台に対する位置決め及び第１カセットキャリアのキャリア台に対する位置決めを兼用し、第２カセットキャリアを載置する板状部材を取外した状態で、第１カセットキャリアをキャリア台上に第１位置決め部材により位置決めし、第２カセットキャリアの板状部材に対する位置決めを第２位置決め部材により行っているので、異なるカセットキャリアに対する位置決め部材のサイズ交換を容易にかつ迅速に行うことができる。
　さらに、１つの板状部材で、異なる第２のサイズの基板の第２カセットキャリアに対応することができて、複数の板状部材を、異なる第２のサイズの基板の第２カセットキャリアの種類だけ用意する必要がない。」（段落【００３５】〜【００３８】）と記載されるとともに、図１〜図７が示されている。
　　
（３−２）刊行物２：特開平８−１２４８８２号公報
　刊行物２には、
「【実施例】以下、本発明の実施例を添付図面に基づき詳説する。図１はダイサーの一例を示すもので、上下動するテーブルを有するウェーハ載置領域１に半導体ウェーハＷ（粘着テープＴを介してフレームＦに貼着）を収容したカセット２が載置される。
　前記カセット２内のウェーハＷは、搬出入手段３によって待機領域４に搬出されると共に、旋回アームを有する搬送手段５によってチャックテーブル６上に搬送される。
　チャックテーブル６上に吸引保持されたウェーハＷは、チャックテーブルの移動によってアライメント手段７の真下に位置付けられ、アライメントされた後に切削領域８に移動され、回転ブレード９によってダイシングされる。
　この回転ブレード９によるダイシングの際に、図２に示すようにダイシングすべきウェーハＷの径を予めＣＰＵ（図略）に登録するステップを設けておけば、適切なアライメント及びカッティングすべき位置の座標に基づいて最適なカッティングストローク、例えばｘ１ からｘ２ 迄、ｘ３ からｘ４ 迄等の距離を算出し、無駄な動きのないカッティングを遂行して生産性を向上させることが出来る。
　従って、ダイシングにおいてはウェーハＷの径も重要な情報であるから、前記のようにダイシングに先立ってＣＰＵに登録しておく。ウェーハＷのサイズを認識する手段としては、例えば図１に仮想線で示すようにチャックテーブル６の上方位置、又は待機領域４の上方位置に、ＣＣＤカメラを備えデジタル変換された画素濃度に基づいてコントラストの相違を認識してウェーハＷの形状を認識する、形状認識手段１０Ａ又は１０Ｂを設ける。
　このような形状認識手段１０Ａ又は１０Ｂは、ダイシングすべきウェーハＷをチャックテーブル６に搬送する際又は搬送した後に、そのウェーハＷがダイシング予定のウェーハサイズであるか否かを確認するステップを遂行し、そのウェーハＷがダイシング予定のウェーハサイズである場合には切削ステップへ進み、ダイシング予定のウェーハサイズでない場合はエラーを表示するステップを行う。又、エラーを表示すると共に、或はそれに代えてダイシング予定のウェーハサイズであるか否かを確認するステップにおいて、ウェーハＷのサイズを計測してＣＰＵに再登録しても良い。」（段落【０００６】〜【００１１】、
「更に、上記のような特別の認識手段等を設けることなく、前記アライメント手段７を用いてパターンマッチングによりウェーハＷの径を認識するようにしても良い。即ち、ＣＰＵに登録されているウェーハ径に基づいて径の最大値近辺にパターンが存在するか否かを検出し、そのパターンが存在しない場合は小径であるとしてエラーを表示し、存在する場合は更に外側にパターンが存在するかを検出して存在する場合は大径であるとしてエラーを表示する。」（段落【００１４】）と記載されるとともに、図１が示されている。
　　
（３−３）刊行物３：特開平７−２８３２９１号公報
　刊行物３には、
「基板のプリアライメント装置は、カセット台１２上のウエハカセット１０内に収容された半導体ウエハ（基板）１の種類（大きさや重さ）を検出するセンサ（検出手段）１１ａ〜１１ｃと、半導体ウエハ１が載置され、半導体ウエハ１の下面にエア（気体）を送って半導体ウエハ１を浮かせる基板載置装置（基板載置手段）と、半導体ウエハ１の中心を基準に対して位置決めする中心位置決め機構（中心位置決め手段）と、半導体ウエハ１の中心に対する回転方向における半導体ウエハ１の位置を整合する基板整合機構（基板整合手段）とを備えている。」（段落【００１６】）、
「カセット台１２上にウエハカセット１０を置くと、センサ１１ａ〜１１ｃがウエハカセット１０の大きさから半導体ウエハ１の種類を検出し、制御部１３に検出信号を送出する。例えば、検出された半導体ウエハ１の種類が８¨のとき、制御部１３は、エア供給量調節装置７及びエアシリンダ３，９等に８¨の半導体ウエハ１に対応する制御信号を送出する。」（段落【００２２】）と記載されるとともに、図１が示されている。
　　
（４）対比・判断
　上記取消理由（Ｂ）の対象であった訂正前の請求項４は削除され、本件発明１〜３は、上記取消理由（Ａ）の対象であった訂正前の請求項１〜３にそれぞれ対応するので、本件発明１〜３について、上記取消理由（Ａ）を以下検討する。　
（４−１）本件発明１について
　上記（３−１）欄に摘記した事項を総合すると、刊行物１には、「複数の半導体ウエハを収納するカセットキャリアと、このカセットキャリアをワンタッチで位置決め可能なキャリア載置台と、半導体ウエハの外径を挟み込むことによってインデクサアームの半導体ウエハの保持位置のセンター合わせをして該保持位置の調整をするセンタリング部と、半導体ウエハ載置台と、半導体ウエハを搬送するインデクサアーム、トランスファアーム、アーム駆動部、及び駆動制御部等と、半導体ウエハ載置台上に搬送した半導体ウエハを測定室の所望の位置に移動させ、半導体ウエハの評価、検査、電気特性の計測等の所定処理を施す手段とを備え、所定のカセットキャリアに対応したベースプレートと、前記所定のカセットキャリアとは形状またはサイズの異なるカセットキャリアに対応し、前記ベースプレート上に着脱可能に載置される、アタッチメントトレーとからなる半導体ウエハ処理装置」の発明（以下、「引用発明」という。）が記載されているといえる。
　本件発明１と引用発明とを対比すると、引用発明における「カセットキャリア」、「カセットキャリアをワンタッチで位置決め可能なキャリア載置台」、「半導体ウエハ載置台」、「半導体ウエハを搬送するインデクサアーム、トランスファアーム、アーム駆動部、及び駆動制御部等」、「所定のカセットキャリアに対応したベースプレート」、「前記所定のカセットキャリアとは形状またはサイズの異なるカセットキャリアに対応し、前記ベースプレート上に着脱可能に載置される、アタッチメントトレー」はそれぞれ、本件発明１における「ウェハー収納容器」、「ウェハー収納容器を所定の位置に固定するウェハー収納容器固定台」、「ウェハーを載置する試料台」、「ウェハーを任意の場所に搬送するウェハー搬送機構」、「 第１のウェハー収納容器固定台」、「第１のウェハー収納容器固定台上に着脱可能に載置される、第２のウェハー収納容器固定台」に相当する。また、引用発明の「半導体ウエハ処理装置」は、上記（３−１）欄に摘記した事項によれば、半導体ウエハを測定室の所望の位置に移動させて、半導体ウエハの評価、検査、電気特性の計測等の種々の半導体ウエハ処理を施すものであると理解できるが、これに対して、本件発明１に係る「半導体ウェハー観察装置」も、上記訂正請求に係る訂正明細書の「本発明は、半導体ウェハー表面の形状や欠陥および異物、ウェハー内部の欠陥さらにはパターン付きウェハーの線幅や電気特性などを測定するウェハー搬送機構を有する半導体ウェハー観察装置に関する。」（段落【０００１】）、及び「以上の実施例では、半導体ウェハー観察装置としては、図１に示したように走査型電子顕微鏡の例に取ったが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、走査型プローブ顕微鏡や光学式顕微鏡、レーザ顕微鏡、ウェハー異物検査装置、ウェハー表面欠陥検査装置、ウェハー外観検査装置、触針式表面形状測定器、Ｘ線や電子線さらにはイオンビームによるウェハー表面分析装置なども本発明の実施例としてよい。」（段落【００１９】）との記載により、引用発明の「半導体ウエハ処理」と同様の半導体ウエハの検査、電気特性の計測等の処理を施す装置を含むものと認められるので、引用発明における「半導体ウエハを測定室の所望の位置に移動させ、半導体ウエハの評価、検査、電気特性の計測等の所定処理を施す手段」、「半導体ウエハ処理装置」はそれぞれ、本件発明１における「ウェハーを所望の観察位置に移動する移動機構と、ウェハーを観察する観察手段」、「半導体ウェハー観察装置」に相当する。
　してみると、両者は、「複数の半導体ウェハーを収納するウェハー収納容器と、このウェハー収納容器を所定の位置に固定するウェハー収納容器固定台と、ウェハーを揃える機構と、ウェハーを載置する試料台と、ウェハーを任意の場所に搬送するウェハー搬送機構と、試料台上に搬送したウェハーを所望の観察位置に移動する移動機構と、ウェハーを観察する観察手段とを備え、所定のウェハー収納容器に対応した第１のウェハー収納容器固定台と、前記所定のウェハー収納容器とは形状またはサイズの異なるウェハー収納容器に対応し、前記第１のウェハー収納容器固定台上に着脱可能に載置される、第２のウェハー収納容器固定台とからなる半導体ウェハー観察装置」の点で一致し、下記の点で相違する。
（イ）、試料台上に搬送した半導体ウェハーを所望の観察位置に移動する移動機構が、本件発明１では３軸または５軸の移動機構であるのに対し、引用発明ではそのように記載されていない点。
（ロ）本件発明１では、半導体ウェハーのサイズを検出するとともに該ウェハーを所定の向きに揃えるウェハーサイズ判別機構を備えるのに対し、引用発明では、半導体ウェハーの保持位置を揃える機構を備えてはいるが、該ウェハーを所定の向きに揃えるウェハーサイズ判別機構を備えることについては記載されていない点。
　そこで、上記相違点（イ）、（ロ）について以下検討する。
　半導体ウェハーを３軸または５軸の移動機構で所望の位置に移動させて観察することは本件出願前周知の事項であるから（例えば、特開昭６３−２３９４１２号公報第２頁右下欄１３〜１５行、特開平１−２３５８０７号公報第２頁右下欄３〜４行、特開平２−１７０００８号公報第２頁右下欄１２〜１４行、特開平１０−１２１７２号公報段落【００１６】参照）、引用発明の試料台上に搬送した半導体ウェハーを所望の観察位置に移動する移動機構を、３軸または５軸の移動機構とすることは、当業者が適宜に採用し得ることである。
　また、刊行物２には、「上記のような特別の認識手段等を設けることなく、前記アライメント手段７を用いてパターンマッチングによりウェーハＷの径を認識するようにしても良い。即ち、ＣＰＵに登録されているウェーハ径に基づいて径の最大値近辺にパターンが存在するか否かを検出し、そのパターンが存在しない場合は小径であるとしてエラーを表示し、存在する場合は更に外側にパターンが存在するかを検出して存在する場合は大径であるとしてエラーを表示する。」（段落【００１４】）により、半導体ウェハーのサイズの検出を、該ウェハーのアライメント手段を用いて行うことが記載されており、該アライメント手段は、半導体ウェハーのサイズを検出するとともに該ウェハーを所定の向きに揃えるウェハーサイズ判別機構ともいえるものである。そして、半導体ウェハー観察装置において、種々の半導体ウェハーに対応できるように、半導体ウェハーのサイズを検出するとともに該ウェハーを所定の向きに揃える機構を設けることは本件出願前周知の事項であり（例えば、特開昭６３−１１９５４３号公報第１頁右下欄１〜３行、第２頁右上欄９〜１７行、同頁右下欄７行〜第３頁左上欄７行、特開平１−１９４３３２号公報第２頁左下欄１６〜２０行、同頁右下欄１８〜２０行、第３頁右上欄１０〜１６行、特開平７−３２１１６５号公報段落【０００８】、段落【００３５】〜【００３７】参照）、更にまた、引用発明も、カセットキャリア及び半導体ウェハーのサイズ替えに対応するためのものであるから、引用発明の半導体ウェハー観察装置に、刊行物２に記載されたような半導体ウェハーのサイズを検出するとともに該ウェハーを所定の向きに揃えるウェハーサイズ判別機構を設けることは、当業者が容易に想到できることであると認められる。
  そして、これによって奏される本件発明１の効果も、刊行物１、２の記載、及び上記周知の事項から普通に予測できる程度のものであって、格別なものは見当たらない。
　したがって、本件発明１は、刊行物１、２に記載された発明、及び上記周知の事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものと認められる。
　　
（４−２）本件発明２、３について
　本件発明２、３は、本件発明１を特定するために必要な事項を備えた上、第１のウェハー収納容器固定台を３００ｍｍウェハー収納容器用とし、第２のウェハー収納容器固定台を、２００ｍｍウェハー収納容器と１５０ｍｍウェハー収納容器のいずれか専用、又は共用とする点を付加したものである。
　しかしながら、上記（３−１）に摘記したとおり、刊行物１の段落【００２５】〜【００２７】、及び段落【００３５】には、第１のウェハー収納容器固定台に相当するベースプレートを３００ｍｍウェハー収納容器用とし、第２のウェハー収納容器固定台に相当するアタッチメントトレーを、２００ｍｍ以下の異なるサイズのウェハー収納容器のいずれか専用、又は共用とすることが記載されているので、引用発明は、第１のウェハー収納容器固定台を３００ｍｍウェハー収納容器用とし、第２のウェハー収納容器固定台を、２００ｍｍ以下の異なるサイズのウェハー収納容器のいずれか専用、又は共用とする態様を有することが明らかであり、そして、２００ｍｍウェハーと１５０ｍｍウェハーは半導体ウェハーとしてよく知られているものであるから、上記「２００ｍｍ以下の異なるサイズのウェハー収納容器のいずれか専用、又は共用とする態様」を、２００ｍｍと１５０ｍｍウェハー収納容器のいずれか専用、又は共用とすることは、当業者が適宜に設定できることである。また、このように２００ｍｍ以下のウェハー収納容器のサイズを設定したことに、特段の技術的な意義があるとも認められない。
　加えて、本件発明２、３は、本件発明１を特定するために必要な事項を備えることにより、引用発明との上記相違点（イ）、（ロ）と同じ相違点を有するものであるが、該相違点については、上記（４−１）欄で説示したとおり、当業者が容易に想到できることであると認められる。
　そして、本件発明２、３の効果について検討してみても、刊行物１、２の記載、及び上記周知の事項から普通に予測できる程度のものであって、格別なものは見当たらない。
　したがって、本件発明２、３は、引用刊行物１、２に記載された発明、及び上記周知の事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものと認められる。
　　
（５）むすび
　以上のとおりであるから、本件発明１〜３は、刊行物１、２に記載された発明、及び上記周知の事項に基づいて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、本件発明１〜３についての特許は特許法第２９条第２項の規定に違反してされたものである。
　したがって、本件発明１〜３についての特許は、特許法第１１３条第２号に該当し、取り消されるべきものである。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１６年４月５日（２００４．４．５）
【訂正の要旨】
審決（決定）の【理由】欄参照。
（５４）【発明の名称】
半導体ウェハー観察装置
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】
　複数の半導体ウェハーを収納するウェハー収納容器と、このウェハー収納容器を所定の位置に固定するウェハー収納容器固定台と、ウェハーのサイズを検出する
とともに該ウェハーを所定の向きに揃える
観察
３軸または５軸の
　【請求項２】
　前記第１のウェハー収納容器固定台を３００ｍｍウェハー収納容器用とし、前記第２のウェハー収納容器固定台を２００ｍｍまたは１５０ｍｍウェハー収納容器のいずれか専用とすることを特徴とする請求項１記載の半導体ウェハー観察装置。
　【請求項３】　前記第１のウェハー収納容器固定台を３００ｍｍウェハー収納容器用とし、前記第２のウェハー収納容器固定台を２００ｍｍと１５０ｍｍウェハー収納容器の共用とすることを特徴とする請求項１記載の半導体ウェハー観察装置。
　【請求項４】　
削除
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【発明の属する技術分野】
　本発明は、半導体ウェハー表面の形状や欠陥および異物、ウェハー内部の欠陥さらにはパターン付きウェハーの線幅や電気特性などを測定するウェハー搬送機構を有する半導体ウェハー観察装置に関する。
　【０００２】
　【従来の技術】
　近年、半導体技術は急速に進展しその集積度が飛躍的に向上してきている。同時に半導体の各製造工程においては歩留まりの向上が大きな課題となっており、その解決策の一つとして半導体ウェハーサイズ（直径）を拡大してきている。最近では３００ｍｍ（１２インチ）ウェハーの研究開発が進み、量産技術がほぼ確立されつつある。
　【０００３】
　従来の２００ｍｍ（８インチ）サイズまでのウェハーはそれぞれのサイズごとに専用のカセットに収納されている。ウェハーが収納されたカセットは走査型電子顕微鏡や光学式異物検査装置などの各種の観察装置や検査装置に搭載され、ウェハー搬送機構によって所定の位置に搬送される。このときカセットはウェハーサイズに応じた専用台に載置される。市販されているウェハー用カセットは各ウェハーサイズに応じて１００ｍｍ（４インチ）、１２５ｍｍ（５インチ）、１５０ｍｍ（６インチ）、２００ｍｍ（８インチ）のカセットがある。カセット固定台は特定のカセットサイズのみ対応した専用型と複数カセットサイズに対応可能な共用型がある。図７（ａ）に示すように専用型はカセット底部を保持するためにカセット底部前後壁に接する凸上または凹上のガイドを設け、左右および前後への動きを規制している。さらに、図７（ｂ）に示すように共用型では専用型と同様にカセット底部を保持するために凸または凹の階段状のガイドをカセットの前後に設け、左右および前後への動きを規制している。このとき、ガイドを階段状にすることによって、複数のカセットサイズに対応することが可能である。
　【０００４】
　３００ｍｍウェハー対応のカセットは半導体国際標準化組織Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ　Ｅｑｕｉｐｍｅｎｔ　ａｎｄ　Ｍａｔｅｒｉａｌｓ　Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ（ＳＥＭＩ）や日本の３００ｍｍ半導体技術連絡会Ｊａｐａｎ　３００ｍｍ　Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ　Ｃｏｎｆｅｒｅｎｃｅ（Ｊ　３００）が中心となって「３００ｍｍ　Ｐｈｙｓｉｃａｌ　Ｉｎｔｅｒｆａｃｅ　ａｎｄ　Ｃａｒｒｉｅ　ＳＥＡＪ／ＳＥＭＩ　Ｊｏｉｎｔ　Ｓｅｍｉｎａｒ（１９９７．４．３０）」で国際標準がまとめられている。この中でカセットの形状およびカセット固定台に付属しカセットを固定するためのピンの配置や形状が明確に示されている。図８に示すように３００ｍｍウェハー対応のカセットはそれまでの２００ｍｍまでのカセットとは形状や構造が大きく異なる。そのため、これまでの３００ｍｍウェハー対応のカセットは前記のＳＥＭＩやＪ３００の標準に示されているようにカセット固定台に３本のピンを立てその上にカセットを置く構造となっている。
　【０００５】
　【発明が解決しようとする課題】
　上記従来技術に示したように、３００ｍｍカセットは従来の２００ｍｍまでのカセットとは形状が大きく異なっている。同様に３００ｍｍカセット固定台の形状も２００ｍｍカセットまでの固定台とは大きく異なっているために一つの固定台で両方を共用することができないという問題点があった。また、３００ｍｍウェハーと２００ｍｍまでのウェハーを任意に搬送し、観察しようとする場合にはカセット固定台を取り外して交換する必要があった。カセット固定台を交換した場合にはウェハー搬送機構でカセットからウェハー取り出す位置を設定するためのティーチング作業をその都度行わなければならず操作性が悪いという問題点もあった。ところが、現在半導体の研究開発段階では、同一のウェハー観察装置で３００ｍｍウェハーと２００ｍｍ以下のウェハーを任意に観察したいという要求がある。
　【０００６】
　そこで、本発明の目的は上記のような問題点を解決するために、３００ｍｍウェハーと同様に２００ｍｍ以下のウェハーの観察も可能なように、それぞれのカセットの載置および固定さらには両方の共用が可能なカセット固定台を有する半導体ウェハー観察装置を提供することにある。
　【０００７】
　【課題を解決するための手段】
　上記の問題点を解決するために、本発明では、以下のような手段を講じた点に特徴がある。
　（１）　複数の半導体ウェハーを収納するウェハー収納容器とこのウェハー収納容器を所定の位置に固定するウェハー収納容器固定台とウェハーのサイズを検出するウェハーサイズ判別機構とウェハーを載置する試料台とウェハーを任意の場所に搬送するウェハー搬送機構と試料台上に搬送したウェハーを所望の位置に移動する移動機構とウェハーを観察する観察手段とを備え、サイズの異なるウェハー収納容器を単一または複数のウェハー収納容器固定台で共用するようにした。
　【０００８】
　（２）　前記ウェハー収納容器固定台は３００ｍｍ、２００ｍｍ、１５０ｍｍのウェハー収納容器を単一のウェハー収納容器固定台で共用するようにした。
　（３）　前記３００ｍｍウェハー用収納容器固定台の上面に２００ｍｍと１５０ｍｍウェハー用収納容器の共用のウェハー収納容器固定台を載置するようにした。
　【０００９】
　（４）　前記３００ｍｍウェハー用収納容器固定台の上面に２００ｍｍまたは１５０ｍｍウェハー用収納容器いずれか単一のウェハー収納容器固定台を載置するようにした。
　（５）　前記ウェハー収納容器固定台および３００ｍｍウェハー収納容器固定台に収納容器有無検出器と収納容器サイズ検出器を有するようにした。
　【００１０】
　【作用】
　上記のように構成された半導体ウェハー観察装置において３００ｍｍウェハー対応カセットと２００ｍｍ以下のカセットを共用することにより、目的とするサイズのウェハー用カセットをカセット固定台の交換をすることなしに所定の位置にカセットを載置し固定することができる。この定められたカセット内のウェハーの各位置をあらかじめ記憶しておくことにより、搬送機構によって決められたシーケンスに従って、ウェハーはカセットからウェハーサイズ判別機構に送られ、ここで自動的にウェハーのサイズが検出され同時に所定の向きに揃えられ、ウェハーは移動機構上の試料台上面に搬送され、この移動機構によってウェハー観察手段の観察位置に移動される。また、カセット有無用検出器を有しているため、誤動作により搬送装置が損傷することを防ぐことができる。さらに、カセットサイズ検出器を有しているために、カセットサイズが自動的に識別され、搬送機構がそれぞれのカセットサイズに応じてあらかじめ定められた位置に動作し、カセット内のウェハーはウェハーサイズ判別機構とウェハーの移動機構上に搬送され、ウェハーが観察された後に再びカセット内に戻るように動作する。
　【００１１】
　【発明の実施の形態】
　以下に、本発明の実施形態を図１に基づいて説明する。図１は、本発明の、ウェハーの表面形状や異物観察および欠陥検査を行う走査型電子顕微鏡の構成を示した模式図である。走査型電子顕微鏡の測定部９の主な構成要素は、試料である半導体ウェハー５を収納し、保持するためのウェハーカセット２と、このカセット２を固定するためのカセット固定台１と、ウェハー５を搬送するための搬送機構３と、ウェハーのサイズを検出するアライナー４とウェハーを観察位置に移動するためのステージ機構７である。試料となる半導体ウェハー５には単一のＳｉ結晶から裁断・加工・研磨の工程を経て得られる鏡面ウェハー（ベアウェハー）や、この鏡面ウェハー上にＳｉ酸化膜や誘電膜などが付いた膜付きウェハー、さらには鏡面ウェハー上に配線のパターンを記録したパターン付きウェハーなどがある。図１でウェハーカセット２内にウェハー５が収納されている。ウェハーカセット２は１５０ｍｍ（６インチ）、２００ｍｍ（８インチ）、３００ｍｍ（１２インチ）などウェハー５のサイズに応じてその形状や大きさがほぼ決まっている。このウェハーカセット２はこれを保持し固定するためのカセット固定台１に載置される。カセット固定台１は３００ｍｍ、２００ｍｍ、１５０ｍｍ用ウェハーのカセット２を単一固定台で共用される。カセット２内にあるウェハー５はカセット固定台１の横に設置されたウェハー用の搬送機構３によって取り出される。搬送機構３の先端に付属しているロボットハンド３ａの上面には真空吸着口３ｂが取り付けられており、ウェハー５の下面がこの真空吸着口３ｂによって吸着保持される。そのため、ウェハー５はロボットハンド３ａから落下するなく搬送機構３によって搬送される。ウェハー５は搬送機構３によってカセット２から取り出され、アライナー４に搬送される。アライナー４には吸着口４ａが付属しており、この吸着口４ａによってウェハー５の中心付近の下面が真空吸着される。
　【００１２】
　吸着口４ａを中心としてウェハーが回転し、ウェハー５のサイズが光学式検出器４ｂによって自動的に判定される。同時に、ウェハー５のオリフラまたはノッチの位置が光学式検出器４ｂによって検出され、常に一定の向きになるように調整される。アライナー４で向きが定められたウェハー５は搬送機構３によってステージ７上に固定されている試料台６上に搬送され載置される。試料台６は静電チャックになっており、静電気力によってウェハーを吸着している。ウェハー５の吸着はこの静電チャック以外に真空を使用した真空吸着も可能である。ステージ７はＸＹＺの３軸またはＸＹＺに回転、チルトを加えた５軸ステージがある。
　【００１３】
　試料観察室８内にあるウェハー５はステージ７によってウェハー観察位置に移動され、ウェハー観察手段によってウェハー５の表面形状や異物観察および欠陥検査などが行われる。測定部９内にある搬送機構３、アライナー４、ステージ７はコントロール部１０と通信する。カセット２はウェハー５のサイズとその種類によって異なるため、搬送機構５でウェハーを取り出すまたは戻す位置は各カセット２に応じて記憶しておく必要がある。あらかじめ、各カセット２の種類に応じてウェハーの取り出し位置をコントロール部に記憶しておくことにより、カセット２が交換されても搬送機構３がウェハー５に衝突して破損することなく、確実にカセット２からウェハー５を取り出すことができる。コントロール部１０は搬送機構３やアライナー４およびステージ７の一連のシーケンス動作を記憶し制御を行うとともに、コンピュータ１１と通信し、コンピュータ１１からの命令を受ける。コンピュータ１１は表示器となるディスプレイ１２と記憶装置１３とに連結される。ディスプレイ１２では電子顕微鏡で観察された画像を表示し、この画像はデータとして記憶装置１３に保存される。
　【００１４】
　【実施例】
　図２は本発明の第一の実施例を示す模式図であり、図１で説明したカセット固定台１とカセット２の詳細な説明図である。例えば、走査型電子顕微鏡で３００ｍｍウェハーを観察する場合には、３００ｍｍウェハーカセット１４は、３００ｍｍ共用カセット固定台１７上に載置され固定される。３００ｍｍウェハーカセット１４には３００ｍｍウェハー１６が１３枚入るものと２５枚入るものがあり、その形状は円筒状になっており、従来の２００ｍｍウェハーまでのカセット１５とは形状が異なっている。この３００ｍｍウェハーカセット１４が載置される３００ｍｍ共用カセット固定台１７には３００ｍｍウェハーカセット１４の位置決めと固定を行う３本のピン１７ａが取り付けられてある。この３本のピン１７ａは先端が円錐状になっており、それらの中心に対しほぼ１２０°間隔で並んでおり、３００ｍｍウェハー用カセット１４の下面にある３ヶ所のＶ字型溝とそれぞれ一致し、位置決めされる。３００ｍｍ共用カセット固定台１７には、３本のピン１７ａの他に階段状のガイド１７ｂが取り付けられている。２００ｍｍウェハーまでのカセット１５の前端または後端をガイド１７ｂに押し当てることによってカセット１５の位置決めと固定を行うことができる。ガイド１７ｂは前方と後方の２つまたは３つに別れており、それぞれ前後左右に微調整が可能な構造となっているため、２００ｍｍウェハーまでのカセット１５の大きさが異なっていても固定可能となる。また、ガイド１７ｂの形状は凸状を採用したが凹状であってもよい。このように、３００ｍｍ共用カセット固定台１７は３００ｍｍウェハーカセット１４の固定が可能であると同様に、従来の２００ｍｍウェハーまでのカセット１５も固定可能な構造となっている。すなわち、３００ｍｍカセットと２００ｍｍまでのカセットの異なる種類の複数のカセットを一つの固定台で兼用することができる。
　【００１５】
　図３は本発明の第二の実施例を示す模式図である。３００ｍｍ専用カセット固定台１９は前記の３００ｍｍ兼用カセット固定台１７と同様に固定板上に３本のピンがほぼ１２０°間隔で並んでいる。これに対し、２００ｍｍまでのカセット兼用固定台１８は、固定板上に前記の３００ｍｍ共用カセット固定台１７と同様のガイド１８ａが取り付けてあり、１５０ｍｍ、２００ｍｍのウェハーカセットに対応している。さらに、２００ｍｍまでのカセット兼用固定台１８には、３００ｍｍ専用カセット固定台１９上にある３本のピン１９ａと同位置に３個の位置決め穴１８ｂが開いている。ピン１９ａと位置決め穴１８ｂとははめあいになっており、ピン１９ａに位置決め穴１８ｂが嵌合する構造となっている。すなわち、３００ｍｍウェハー１６を観察する場合には、３００ｍｍウェハーカセット１４が固定可能なように、３００ｍｍ専用カセット固定台１９を使用し、２００ｍｍ以下のウェハーを観察する場合には、２００ｍｍウェハーまでのカセット１５が固定可能なように、３００ｍｍ専用カセット固定台１９の上に２００ｍｍまでのカセット兼用固定台１８を重ね合わせて使用する。このように、３００ｍｍ専用カセット固定台１９上にある３本のピン１９ａを３００ｍｍウェハーカセット１４の固定と２００ｍｍまでのカセット兼用固定台１８との位置決めおよび固定との兼用としている。さらに、二つの固定台が重ねられた後に、取り外すときの作業性を向上するために、３００ｍｍ専用カセット固定台１９の左右中央部に切り欠き１９ｂが付けてある。
　【００１６】
　図４は本発明の第三の実施例を示す平面図である。２００ｍｍまたは１５０ｍｍカセット専用固定台２０は、前記２００ｍｍまでのカセット兼用固定台１８と同様に板状で、その中央部に２００ｍｍまたは１５０ｍｍカセット２１を保持するためガイド２０ａが取り付けられている。ガイド２０ａは前方、中央、後方の３ヶ所に分かれており、中央部のガイドでカセット２１の底面に加工されているＨバーを支持し、前方と後方のガイドはカセット２１の前後を固定するような構造となっている。また、２００ｍｍまたは１５０ｍｍカセット専用固定台２０には、前記２００ｍｍまでのカセット兼用固定台１８と同様に３００ｍｍ専用カセット固定台１９上のピン１９ａに嵌合するための位置決め穴２０ｂが３ヶ所開いている。すなわち、前記の２００ｍｍまでのカセット兼用固定台１８の場合と同様に３００ｍｍウェハー１６を観察する場合には、３００ｍｍウェハーカセット１４が固定可能なように、３００ｍｍ専用カセット固定台１９を使用し、２００ｍｍまたは１５０ｍｍのウェハーを観察する場合には、２００ｍｍまたは１５０ｍｍカセット専用固定台２０が固定可能なように、３００ｍｍ専用カセット固定台１９の上に２００ｍｍまたは１５０ｍｍカセット専用固定台２０を重ね合わせて使用する。さらに、３００ｍｍ専用カセット固定台１９上に２００ｍｍまたは１５０ｍｍカセット専用固定台２０重ね合わせたとき、これら両方を固定するために、固定ネジ２０ｃが２００ｍｍまたは１５０ｍｍカセット専用固定台２０の四隅取り付けられており、３００ｍｍ専用カセット固定台１９の四隅ネジ穴１９ｃにねじ込まれる。
　【００１７】
　図５は本発明の第四の実施例を示す平面図である。３００ｍｍウェハー１６用のカセットには円筒型の３００ｍｍウェハーカセット１４と従来の２００ｍｍウェハーまでのカセット１５と同様な形状でサイズが大きい従来型３００ｍｍウェハーカセット２３がある。この従来型３００ｍｍウェハーカセット２３は、３００ｍｍ従来型カセット専用固定台２２上に固定される。３００ｍｍ従来型カセット専用固定台２２は、前記２００ｍｍまでのカセット兼用固定台１８や２００ｍｍまたは１５０ｍｍカセット専用固定台２０と同様に板状で、その中央部に従来型３００ｍｍウェハーカセット２３を保持するためガイド２２ａが取り付けられている。ガイド２２ａは中央部、その左右の３ヶ所に分かれており、中央部のガイドでカセット２３の底面に加工されているＨバーを支持し、前後方向の動きを規制している。さらに、左右のガイドがカセット２３の左右方向の動きを規制するような構造となっている。また、３００ｍｍカセット専用固定台２２には、前記２００ｍｍまでのカセット兼用固定台１８や２００ｍｍまたは１５０ｍｍカセット専用固定台２０と同様に３００ｍｍ専用カセット固定台１９上のピン１９ａに嵌合するための位置決め穴２２ｂが３ヶ所開いている。すなわち、円筒型の３００ｍｍウェハーカセット１４に入った３００ｍｍウェハー１６を観察する場合には、３００ｍｍウェハーカセット１４が固定可能なように、３００ｍｍ専用カセット固定台１９を使用し、従来型３００ｍｍウェハーカセット２３に入った３００ｍｍウェハー１６を観察する場合には、３００ｍｍ従来型カセット専用固定台２２が固定可能なように、３００ｍｍ専用カセット固定台１９の上に３００ｍｍ従来型カセット専用固定台２２を重ね合わせて使用する。このように、同じ３００ｍｍウェハー１６を観察する場合でも、使用するカセットに応じてカセット固定台の変更を要するが、上記のような構造とすることによって、容易に交換が可能である。
　【００１８】
　図６は、本発明の第５の実施例を示す模式図である。３００ｍｍ共用カセット固定台１７にカセット有無センサー２４とカセットサイズ検出用センサー２５が取り付けられている。これらのセンサーは、光学式を採用したが、ファイバー式や機械式でもよい。３００ｍｍ共用カセット固定台１７上にカセットを載置したときに、固定台１７のほぼ中央付近にあるカセット有無センサー２４によって、カセットが有ると検出される。同時に、このときのカセットのサイズがカセットサイズ検出用センサー２５、２６、２７によって検出される。例えば、１５０ｍｍウェハー用カセットの場合には、その外端部付近にある１５０ｍｍカセット用センサー２５ａによって検出される。同様に、２００ｍｍウェハー用カセットの場合にはその外端部付近にある２００ｍｍカセット用センサー２５ｂによって検出され、３００ｍｍウェハー用カセットの場合にはその外端部付近にある３００ｍｍカセット用センサー２５ｃによって検出される。カセットサイズ検出用センサー２５ａ、２５ｂ、２５ｃによって検出された各信号は増幅器２６に送られ増幅された後でＣＰＵ２７に送られ、作動したセンサーに応じてどのサイズかを判断する。このウェハーのサイズ情報は、ＣＰＵ２７からコントロール部２８に送られ、あらかじめウェハーサイズに応じて登録されているカセット内の各ウェハーの位置情報をメモリー２８から呼び出し、その位置情報にしたがって、コントロール部２８から搬送機構３０に命令が送られる。すなわち、任意のサイズのカセットを３００ｍｍ共用カセット固定台１７に置くことにより、カセットサイズ検出用センサー２５によって自動的にそのサイズが検出され、カセット内のウェハーを確実に取り出し、搬送することができる。同時に、カセット有無センサー２４によって、カセット有無を検出するため、カセットが固定台上に置かれていない場合や位置がずれて置かれている場合には、カセットが無いと判断され、搬送機構はウェハーの取り出し動作に入らなず、カセットが無いことを警告することができる。このとき、カセット固定台は３００ｍｍ共用カセット固定台１７を採用したが、これ以外にも上記で説明した３００ｍｍ専用カセット固定台１９や２００ｍｍまでのカセット兼用固定台１８、２００ｍｍまたは１５０ｍｍカセット専用固定台２０、３００ｍｍ従来型カセット専用固定台２２としてもよい。
　【００１９】
　以上の実施例では、半導体ウェハー観察装置としては、図１に示したように走査型電子顕微鏡の例に取ったが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、走査型プローブ顕微鏡や光学式顕微鏡、レーザ顕微鏡、ウェハー異物検査装置、ウェハー表面欠陥検査装置、ウェハー外観検査装置、触針式表面形状測定器、Ｘ線や電子線さらにはイオンビームによるウェハー表面分析装置なども本発明の実施例としてよい。
　【００２０】
　【発明の効果】
　本発明によれば、以上説明したように半導体ウェハー観察装置において、３００ｍｍウェハー用カセットと２００ｍｍ以下のカセットを共用とする構成にしたことにより、目的とするサイズのウェハー用カセットをカセット固定台の交換をすることなしに所定の位置にカセットを載置し固定することができるという効果がある。また、３００ｍｍカセット固定台上に２００ｍｍまたは１５０ｍｍカセット固定台を重ね合わせて固定する構成としたことにより、３００ｍｍ、２００ｍｍ、１５０ｍｍのカセットをカセット固定台の交換をすることなしに、所定の位置に容易に固定することができるという効果もある。さらに、カセット有無用検出器を有しているため、誤動作により搬送装置が損傷することを防ぐことができるという効果も有する。さらにまた、カセットサイズ検出器を有しているために、カセットサイズが自動的に識別され、それぞれのカセットサイズに応じて搬送機構が決められた位置に動作し、確実にウェハーを搬送することができるという効果もある。
【図面の簡単な説明】
　【図１】
　本発明の実施形態である走査型電子顕微鏡での構成を示す摸式図である。
　【図２】
　本発明の第一の実施例の３００ｍｍ共用カセット固定台を示す摸式図である。
　【図３】
　本発明の第二の実施例の３００ｍｍ専用カセット固定台と２００ｍｍまでのカセット兼用固定台を示す模式図である。
　【図４】
　本発明の第三の実施例の３００ｍｍ専用カセット固定台と２００ｍｍまたは１５０ｍｍカセット専用固定台を示す平面図である。
　【図５】
　本発明の第四の実施例の３００ｍｍ専用カセット固定台と３００ｍｍ従来型カセット専用固定台を示す平面図である。
　【図６】
　本発明の第五の実施例のカセット有無センサーとカセットサイズ検出用センサーとその信号の流れを示した構成図である。
　【図７】
　従来のカセット固定台を示した模式図である。
　【図８】
　３００ｍｍウェハー用カセットを示した模式図である。
　【符号の説明】
　　１　　カセット固定台
　　２　　カセット
　　３　　搬送機構
　　３ａ　ロボットハンド
　　３ｂ　真空吸着口
　　４　　アライナー
　　５　　ウェハー
　　６　　試料台
　　７　　ステージ
　　８　　試料観察室
　　９　　測定部
　１０　　コントロール部
　１１　　コンピュータ
　１２　　ディスプレイ
　１３　　記憶装置
　１４　　３００ｍｍウェハー用カセット
　１５　　２００ｍｍウェハーまでのカセット
　１６　　３００ｍｍウェハー
　１７　　３００ｍｍ共用カセット固定台
　１７ａ　ピン
　１７ｂ　ガイド
　１８　　２００ｍｍまでのカセット兼用固定台
　１８ａ　ガイド
　１８ｂ　位置決め穴
　１９　　３００ｍｍ専用カセット固定台
　１９ａ　ピン
　１９ｂ　切り欠き
　１９ｃ　ネジ穴
　２０　　２００ｍｍまたは１５０ｍｍカセット専用固定台
　２０ａ　ガイド
　２０ｂ　位置決め穴
　２０ｃ　固定ネジ
　２１　　２００ｍｍまたは１５０ｍｍカセット
　２２　　３００ｍｍ従来型カセット専用固定台
　２２ａ　ガイド
　２２ｂ　位置決め穴
　２３　　従来型３００ｍｍウェハーカセット
　２４　　カセット有無センサー
　２５　　カセットサイズ検出用センサー
　２５ａ　１５０ｍｍカセット用センサー
　２５ｂ　２００ｍｍカセット用センサー
　２５ｃ　３００ｍｍカセット用センサー
　２６　　増幅器
　２７　　ＣＰＵ
　２８　　コントロール部
　２９　　メモリー部
　３０　　搬送機構