【事件の表示】
　特許第３３１５６１０号「走査光学装置」の請求項１ないし４に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３３１５６１０号の請求項１ないし４に係る特許を取り消す。
【理　由】
【1】手続の経緯
　特許第3315610号の請求項1〜4に係る発明についての出願は、平成8年11月13日に出願され、平成14年6月7日に設定登録され、その後、ペンタックス株式会社より特許異議の申立てがなされ、平成15年11月11日付けの取消理由通知に対して、平成16年1月20日に訂正請求がなされたものである。なお、平成15年6月24日付けの訂正請求は取り下げられた。
　
【2】訂正の適否についての判断
【2-1】訂正の要旨
　特許権者が求めている訂正の内容は、以下のとおりである。
訂正事項a:
　特許請求の範囲の請求項1における「…走査光学装置において、」の次に「該光学手段は、コリメーターレンズと副走査方向に屈折力を有するシリンドリカルレンズを有し、該主走査方向の結像倍率βSと該副走査方向の結像倍率βFは異なり、」を追加し、「…各々順にβS、βF」の次に「該コリメーターレンズの焦点距離をf1、該シリンドリカルレンズの焦点距離をf3、該結像手段の主走査方向の焦点距離をf2、該結像手段の副走査方向の焦点距離による該偏向手段と被走査面との結像倍率をβ14」を追加し、【数1】を
「【数1】
βS=n・P/(L・cosθ)
βF=P/(L・cosθ)
(但し、nは正の整数)
βS=f2/f1 
βF=β14×f3/f1」
と訂正する。(【数1】の訂正内容は、全文訂正明細書によった。)
訂正事項b:
　特許請求の範囲の請求項2における「…走査光学装置において、」の次に「該光学手段は、コリメーターレンズと副走査方向に屈折力を有するシリンドリカルレンズを有し、該主走査方向の結像倍率βSと該副走査方向の結像倍率βFは異なり、」を追加し、「…各々順にβS、βF」の次に「該コリメーターレンズの焦点距離をf1、該シリンドリカルレンズの焦点距離をf3、該結像手段の主走査方向の焦点距離をf2、該結像手段の副走査方向の焦点距離による該偏向手段と被走査面との結像倍率をβ14」を追加し、【数2】から請求項2の末尾までを
「【数2】
0.9＜(n・P/(L・cosθ))/βS＜1.1
0.9＜(P/(L・cosθ))/βF＜1.1
(但し、nは正の整数)
βS=f2/f1 
βF=β14×f3/f1 
なる条件を満足するように各要素を設定したことを特徴としている。」
と訂正する。(請求項2についての訂正内容等は、全文訂正明細書によった。)
訂正事項c:
　特許請求の範囲の請求項3を「請求項1記載の走査光学装置と、前記被走査面として感光体とを備えたことを特徴とする画像形成装置。」と訂正する。
訂正事項d:
　特許請求の範囲の請求項4を「請求項2に記載の走査光学装置と、前記被走査面として感光体とを備えたことを特徴とする画像形成装置。」と訂正する。
訂正事項e:
　明細書の段落番号[0014]を特許請求の範囲の記載と発明の詳細な説明の記載との整合を図る為に
「【課題を解決するための手段】
　請求項1の発明の走査光学装置は、同一基板面上に複数の発光点を形成した光源手段から放射された複数の光ビームを光学手段を介して偏向手段に導光し、該偏向手段で偏向反射させた後、結像手段により被走査面上に導光し、該被走査面上を該複数の光ビームで同時に走査する光走査光学装置において、
　該光学手段は、コリメーターレンズと副走査方向に屈折力を有するシリンドリカルレンズを有し、該主走査方向の結像倍率βSと該副走査方向の結像倍率βFは異なり、
　該同一基板面上での複数の発光点の発光間隔をL、主走査方向に並置した複数の発光点を光軸を中心に副走査方向に傾けた角度をθ、該副走査面上での光ビームのビーム間隔をP、該装置の光学系の主走査方向と副走査方向との結像倍率を各々順にβS、βF、該コリメーターレンズの焦点距離をf1、該シリンドリカルレンズの焦点距離をf3、該結像手段の主走査方向の焦点距離をf2、該結像手段の副走査方向の焦点距離による該偏向手段と被走査面との結像倍率をβ14としたとき、
　【数3】
βS=n・P/(L・cosθ)
βF=P/(L・cosθ)
(但し、nは正の整数)
βS=f2/f1 
βF=β14×f3/f1 
を満たすように各要素を設定したことを特徴としている。」と訂正する。
訂正事項f:
　明細書の段落番号[0015]を特許請求の範囲の記載と発明の詳細な説明の記載との整合を図る為に
　「請求項2の発明の走査光学装置は、同一基板面上に複数の発光点を形成した光源手段から放射された複数の光ビームを光学手段を介して偏向手段に導光し、該偏向手段で偏向反射させた後、結像手段により被走査面上に導光し、該被走査面上を該複数の光ビームで同時に走査する光走査光学装置において、
　該光学手段は、コリメーターレンズと副走査方向に屈折力を有するシリンドリカルレンズを有し、該主走査方向の結像倍率βsと該副走査方向の結像倍率βFは異なり、
　該同一基板面上での複数の発光点の発光間隔をL、主走査方向に並置した複数の発光点を光軸を中心に副走査方向に傾けた角度をθ、該副走査面上での光ビームのビーム間隔をP、該装置の光学系の主走査方向と副走査方向との結像倍率を各々順にβS、βF、該コリメーターレンズの焦点距離をf1、該シリンドリカルレンズの焦点距離をf3、該結像手段の主走査方向の焦点距離をf2、該結像手段の副走査方向の焦点距離による該偏向手段と被走査面との結像倍率をβ14としたとき、
　【数4】
0.9＜(n・P/(L・cosθ))/βS＜1.1
0.9＜(P/(L・cosθ))/βF＜1.1
(但し、nは正の整数)
βS=f2/f1 
βF=β14×f3/f1 
を満たすように各要素を設定したことを特徴としている。」と訂正する。
訂正事項g
　明細書の段落番号[0016]を特許請求の範囲の記載と発明の詳細な説明の記載との整合を図る為に「請求項3の発明の画像形成装置は、請求項1に記載の走査光学装置と、前記被走査面として感光体とを備えたことを特徴としている。」と訂正する。
訂正事項h:
　明細書の段落番号[0017]を特許請求の範囲の記載と発明の詳細な説明の記載との整合を図る為に「請求項4の発明の画像形成装置は、請求項2に記載の走査光学装置と、前記被走査面として感光体とを備えたことを特徴としている。」と訂正する。
訂正事項i:
　段落番号[0026]、[0028]の「L・sinθ」を「L・cosθ」と訂正する。
　(訂正事項iの訂正内容等は、全文訂正明細書によった。)
　
【2-2】訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
　訂正事項a、b、e、f、iは、願書に添付された明細書に記載された数式中の「L・sinθ」を「L・cosθ」と訂正するものであり、訂正後の数式は、訂正前の明細書には記載されていなかったものである。
　しかし、訂正前後の数式を当業者がみた場合、上記の訂正は、「L・sinθ」の表記を残すべきところを誤って訂正したことが明白であり、かつ、本件特許発明の目的から、段落【0026】の説明を参酌すれば、正しい数式の内容を読み取ることができる。
　そして、上記訂正事項a〜iの「L・sinθ」を「L・cosθ」と訂正する事項以外の事項は、訂正前の願書に添付された明細書および図面に記載されていた事項である。
　また、上記訂正事項a〜iは、特許請求の範囲の減縮又は記載の不整合により明りょうでなくなる記載の釈明を目的とするものである。
　さらに、上記訂正事項a〜iは、特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。
　
【2-3】むすび
　以上のとおりであるから、上記訂正は、特許法第120条の4第2項ただし書き、並びに第3項で準用する同法126条第2項及び第3項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
【3】特許異議の申立てについて
【3-1】特許異議申立ての概要
　異議申立人は、訂正前の本件の請求項1〜4に係る発明について、異議申立書に記載された理由により、本件の出願前公知の刊行物に記載された発明に基づき、当業者が容易に発明をすることができたものであるから、取り消すべきものである旨主張している。
　そして、当審が通知した取消理由の概要は、本件の請求項1〜4に係る発明は、刊行物4:特開平6-106776号公報に記載された発明であり、特許法第29条第1項第3号に該当する。また、本件の請求項1〜4に係る発明は刊行物4に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明できたものとも認められる、というものである。
　
【3-2】本件発明
　本件の請求項1〜4に係る発明(以下、順に「本件発明1」〜「本件発明4」という。)は、以下のとおりである。
　「【請求項1】 同一基板面上に複数の発光点を形成した光源手段から放射された複数の光ビームを光学手段を介して偏向手段に導光し、該偏向手段で偏向反射させた後、結像手段により被走査面上に導光し、該被走査面上を該複数の光ビームで同時に走査する光走査光学装置において、
　該光学手段は、コリメーターレンズと副走査方向に屈折力を有するシリンドリカルレンズを有し、該主走査方向の結像倍率βSと該副走査方向の結像倍率βFは異なり、
　該同一基板面上での複数の発光点の発光間隔をL、主走査方向に並置した複数の発光点を光軸を中心に副走査方向に傾けた角度をθ、該副走査面上での光ビームのビーム間隔をP、該装置の光学系の主走査方向と副走査方向との結像倍率を各々順にβS、βF、該コリメーターレンズの焦点距離をf1、該シリンドリカルレンズの焦点距離をf3、該結像手段の主走査方向の焦点距離をf2、該結像手段の副走査方向の焦点距離による該偏向手段と被走査面との結像倍率をβ14としたとき、
　【数1】
　βS=n・P/(L・cosθ)
　βF=P/(L・sinθ)
　(但し、nは正の整数)
　βS=f2/f1 
　βF=β14×f3/f1 
を満たすように各要素を設定したことを特徴とする光走査光学装置。
【請求項2】 同一基板面上に複数の発光点を形成した光源手段から放射された複数の光ビームを光学手段を介して偏向手段に導光し、該偏向手段で偏向反射させた後、結像手段により被走査面上に導光し、該被走査面上を該複数の光ビームで同時に走査する光走査光学装置において、
　該光学手段は、コリメーターレンズと副走査方向に屈折力を有するシリンドリカルレンズを有し、該主走査方向の結像倍率βSと該副走査方向の結像倍率βFは異なり、
　該同一基板面上での複数の発光点の発光間隔をL、主走査方向に並置した複数の発光点を光軸を中心に副走査方向に傾けた角度をθ、該副走査面上での光ビームのビーム間隔をP、該装置の光学系の主走査方向と副走査方向との結像倍率を各々順にβS、βF、該コリメーターレンズの焦点距離をf1、該シリンドリカルレンズの焦点距離をf3、該結像手段の主走査方向の焦点距離をf2、該結像手段の副走査方向の焦点距離による該偏向手段と被走査面との結像倍率をβ14としたとき、
　【数2】
　0.9＜(n・P/(L・cosθ))/βS＜1.1
　0.9＜(P/(L・sinθ))/βF＜1.1
　(但し、nは正の整数)
　βS=f2/f1 
　βF=β14×f3/f1 
を満たすように各要素を設定したことを特徴としている。
【請求項3】 請求項1記載の走査光学装置と、前記被走査面として感光体とを備えたことを特徴とする画像形成装置。
【請求項4】 請求項2に記載の走査光学装置と、前記被走査面として感光体とを備えたことを特徴とする画像形成装置。」
　
　なお、「L・sinθ」とすべき箇所の誤記は明白であり、段落【0026】の説明を参酌すれば、正しい数式の内容を読み取ることができるので上記のとおり認定した。
　
【3-3】刊行物4(特開平6-106776号公報)の記載事項
(刊行物4の記載事項)
　「【特許請求の範囲】
【請求項1】 感光体面上に複数のレーザースポットを主走査方向に対して傾斜させて配列したマルチビームレーザー記録装置において、該マルチビームレーザー記録装置の走査光学系は、少なくとも、複数のレーザービームを放出するレーザーアレイと、該レーザーアレイからの複数のレーザービームが照射されるコリメーター光学系と、該コリメーター光学系からのレーザービームを断面真円状のレーザービームに変換する第1のビーム整形器と、該第1のビーム整形器からのレーザービームを断面楕円状のレーザービームに変換する第2のビーム整形器とを備えていることを特徴とするマルチビームレーザー記録装置。」
　「【0004】しかしながら、10μm間隔まで半導体レーザーを近接させても副走査方向に充分密にスポットを並べるには不足である。このため、特公昭60-33019号公報に開示されているように、半導体レーザーアレイを傾けて実効的に副走査方向のレーザービームスポット間隔を小さくする傾斜方式のマルチビームレーザープリンターを採用することが考えられる。半導体レーザーアレイを傾ければ、図5に示すようにふたつのレーザースポットS1,S2の中心間隔は広いまま、副走査方向のレーザースポットの間隔pすなわち走査線Iの間隔を狭くすることができる。図中、Xはレーザービームの移動方向を示す。10μm間隔の半導体レーザーアレイを用いるならば、後述のように主走査方向に対してレーザースポットの配列方向のなす角ωをω≒22°に傾ければ良いことが計算される。なお、図5は後述のようなビーム整形を施した場合を示している。」
　「【0012】【発明が解決しようとする課題】以上を踏まえて、傾斜方式のマルチビームレーザープリンターの光学系を考えると、以下に説明するように、傾斜方式のマルチビームレーザープリンターではビーム整形が容易ではないという問題があることが判る。感光体面上の結像スポットが円形で良いのならば、レーザービームの楕円率を1にするようなビーム整形を施せば良く、その場合は感光体面上に複数の結像スポットは図5のように結像される。…」
　「【0014】【課題を解決するための手段】上記課題を解決するために本発明のマルチビームレーザー記録装置は、感光体面上に複数のレーザースポットを主走査方向に対して傾斜させて配列したマルチビームレーザー記録装置において、該マルチビームレーザー記録装置の走査光学系は、少なくとも、複数のレーザービームを放出するレーザーアレイと、該レーザーアレイからの複数のレーザービームが照射されるコリメーター光学系と、該コリメーター光学系からのレーザービームを断面真円状のレーザービームに変換する第1のビーム整形器と、該第１のビーム整形器からのレーザービームを断面楕円状のレーザービームに変換する第2のビーム整形器とを備えていることを特徴とする。」
　「【0020】図1に本発明のマルチビームレーザー記録装置の光学系の一実施例を示す。この光学系は、半導体レーザーアレイ1と、コリメーターを兼ねる第1のビーム整形器2からなる光源部11、シリンドリカルレンズ3及び4からなる第2のビーム整形器12、アパーチャー20、ポリゴンスキャナー7、f-θレンズと呼ばれる主結像レンズ8、シリンドリカルレンズ5及び9からなる面倒れ補正光学系とから成り立っている。」
　「【0022】図2に光源部11と第2のビーム整形器12の部分を拡大して示す。光軸方向周りに回転可能で所望の回転位置で固定することが可能な支持台15の上に半導体レーザーアレイ1と、コリメーターを兼ねる第1のビーム整形器2とが固定されている。支持台15は図示しない角度調整機構によって主走査方向に対してωの角度に保持される(図1参照)。コリメーターを兼ねる第1のビーム整形器2は、レンズの両面がそれぞれシリンドリカルレンズ2a,2bとなっている。そして、それぞれのシリンドリカルレンズ2a,2bの軸の方向は直交している。第2のビーム整形器12は、シリンドリカルレンズ3及び4からなる逆望遠鏡光学系である。第2のビーム整形器12は主走査の方向にのみ作用するので、副走査方向のレーザービーム径が拡げられ、その結果、感光体面上では主走査方向が短径の楕円状のスポットが結像する。第2のビーム整形器12の縮小倍率をγとおく。通常はγ=2前後に選ばれる。」
　「【0023】もし、第2のビーム整形器12がない場合には、図5に示すように直径r2 'の真円のスポットが結像するが、第2のビーム整形器12がある場合は、図3に示すように、主走査方向が短径r2 の楕円のスポット(副走査方向の径はr2 '(=r1 )のままである)が結像する。また、スポット間隔がL'(図5参照)からLへと変化する。第2のビーム整形は縮小倍率γ=2とすると、倍率1/2(=1/γ)の縮小投影光学系となるので、r2 =r2 '/γ=r2 '/2、r1 =r2 '、L=L'/γ=L'/2、となる(この場合、γは楕円率と一致する)。スポット間隔が変化するのに伴って複数のスポットの配列方向と主走査方向のなす角度は、図5のωから図3のψに変化する。例えば、上記の例ではγ=2であるとω=22°からψ=40°に変化することになる。なお、この関係については詳しくは後で述べる。」
　「【0034】なお、上記マルチビームレーザー記録装置においては、副走査方向の結像スポット間隔Lが走査線間隔pの整数倍となるようにアレイ間隔や光学系の倍率を設計することが望ましい。こうすることにより特開昭56-67277号公報に開示されているように画像信号の制御が容易になるからである。」と記載され、図1、3、5を参照すると、刊行物4には、主走査方向と副走査方向の結像倍率が、本件の請求項1に記載された【数1】の関係を満たすマルチビームの走査光学系が記載されていることが分かる。
(刊行物4に開示された発明)
　以上の記載から、刊行物4には、以下の発明が開示されているものと認められる。
　「複数のレーザービームを放出するレーザーアレイ1から放射された複数の光ビームを光学手段を介してポリゴンスキャナー7に導光し、該ポリゴンスキャナーで偏向反射させた後主結像レンズ8、シリンドリカルレンズ9により感光体面上に導光し、該光学手段、主結像レンズ8、シリンドリカルレンズ9により面倒れ補正光学系をなし、該感光体面上を該複数の光ビームで同時に走査するマルチビームレーザー記録装置において、
　該光学手段は、レンズの両面がそれぞれ直交するシリンドリカルレンズ2a,2bとなっているコリメーターを兼ねる第1のビーム整形器2と、省略可能な主走査の方向にのみ作用する第2のビーム整形器12と、シリンドリカルレンズ5とを有し、第2のビーム整形器12がない場合には、図5に示すように直径r2 'の真円のスポットが結像し、副走査方向の結像スポット間隔Lが走査線間隔pの整数倍となるようにアレイ間隔や光学系の倍率を設計したマルチビームレーザー記録装置」 
　
【3-4】対比・判断
【3-4-1】本件発明1
(対比)
　刊行物4に開示された発明は、前記【3-3】で認定したとおりであり、そのマルチビームレーザー記録装置はレーザーアレイ1からの複数の光ビームで同時に感光体面上を走査する光走査光学装置であり、また、シリンドリカルレンズ5は、主結像レンズ8・シリンドリカルレンズ9とともに、面倒れ補正光学系を成すから、図1に図示される如く、副走査方向にのみ屈折力を有する。さらに、引用発明は、第2のビーム整形器12を省略した場合、図5に示すように真円のスポットが感光体面上に形成されるものである(【0023】)。この場合、コリメーターを兼ねる第1のビーム整形器2は、レンズの両面がそれぞれ直交するシリンドリカルレンズ2a,2bとなっており(【0022】)、これがレーザービームを断面真円状に変換し(【0014】)、後続の光学系を介して図5に示すように真円のスポットを感光体面上に形成する(【0023】)のであるから、マルチビームレーザー記録装置の光学系の主走査方向の結像倍率と副走査方向の結像倍率は異なる。
　そこで、刊行物4に開示された発明のうち、第2のビーム整形器12を省略したもの(以下、これを「引用発明」という。)と、本件発明1とを対比すると、引用発明の、「複数のレーザービームを放出するレーザーアレイ1」、「ポリゴンスキャナー7」、「主結像レンズ8、シリンドリカルレンズ9」、「感光体面」、「マルチビームレーザー記録装置」、「コリメーターを兼ねる第1のビーム整形器2」、及び「シリンドリカルレンズ5」は、それぞれ、本件発明1の「同一基板面上に複数の発光点を形成した光源手段」、「偏向手段」、「結像手段」、「被走査面」、「複数の光ビームで同時に走査する光走査光学装置」、「コリメーターレンズ」、及び「副走査方向に屈折力を有するシリンドリカルレンズ」に相当する。
　従って、両者は、「同一基板面上に複数の発光点を形成した光源手段から放射された複数の光ビームを光学手段を介して偏向手段に導光し、該偏向手段で偏向反射させた後、結像手段により被走査面上に導光し、該被走査面上を該複数の光ビームで同時に走査する光走査光学装置において、該光学手段は、コリメーターレンズと副走査方向に屈折力を有するシリンドリカルレンズを有し、光学系の主走査方向の結像倍率βSと該副走査方向の結像倍率βFが異なる光走査光学装置」の点で一致する。
　そして、本件発明1は、「同一基板面上での複数の発光点の発光間隔をL、主走査方向に並置した複数の発光点を光軸を中心に副走査方向に傾けた角度をθ、該副走査面上で(「被走査面上での副走査方向」の意味と思われる)の光ビームのビーム間隔をP、該装置の光学系の主走査方向と副走査方向との結像倍率を各々順にβS、βF、該コリメーターレンズの焦点距離をf1、該シリンドリカルレンズの焦点距離をf3、該結像手段の主走査方向の焦点距離をf2、該結像手段の副走査方向の焦点距離による該偏向手段と被走査面との結像倍率をβ14としたとき、
　【数1】
βS=n・P/(L・cosθ)
βF=P/(L・sinθ)
(但し、nは正の整数)
βS=f2/f1 
βF=β14×f3/f1 
を満たすように各要素を設定した」と規定したのに対して、引用発明は、「副走査方向の結像スポット間隔が走査線間隔pの整数倍となるようにアレイ間隔や光学系の倍率を設計した」と規定した点で光学系の規定の仕方が相違する。
　
(判断)
　そこで、上記の相違について検討するに、本件発明1において、「副走査面上での光ビームのビーム間隔をP」とは、本件の【図1】を参酌すれば「被走査面上の副走査方向での光ビームのビーム間隔をP」を意味することが明らかである。引用発明の光学系は【図1】に図示される如く、光ビームの進行方向に、レーザアレイ1(光源手段)、コリメーターを兼ねる第1のビーム整形器2(コリメーターレンズ)、アパーチャ20、シリンドリカルレンズ5、主結像レンズ8、シリンドリカルレンズ9、感光体面10(被走査面)が位置するものであり、ポリゴンスキャナー7(偏向手段)が、シリンドリカルレンズ5と主結像レンズ8との間に配置されている。
　ここで、以下(a)〜(c)のように、引用発明の光学系の光学変数に符号を対応させる。
　(a)光源手段の複数の発光点の発光間隔をL、主走査方向に並置した複数の発光点を光軸を中心に副走査方向に傾けた角度をθとし、複数の光ビームが光学系(コリメーターレンズ2、副走査方向に屈折力を有するシリンドリカルレンズ5、主結像レンズ8、及びシリンドリカルレンズ9)に入射し、これにより被走査面上に形成された副走査方向の光ビームのビーム間隔をPとする。
　(b)光学系(コリメーターレンズ2、副走査方向に屈折力を有するシリンドリカルレンズ5、主結像レンズ8、及びシリンドリカルレンズ9)の主走査方向と副走査方向との結像倍率を各々順にβS、βFとする。
　(c)コリメーターレンズ2の焦点距離をf1、シリンドリカルレンズ5の焦点距離をf3、結像手段(主結像レンズ8とシリンドリカルレンズ9)の主走査方向の焦点距離をf2、結像手段の副走査方向についての偏向手段と被走査面との結像倍率をβ14とする。
　引用発明の光学系において、光源手段の発光点の像が、光学系(コリメーターレンズ2、副走査方向に屈折力を有するシリンドリカルレンズ5、主結像レンズ8、及びシリンドリカルレンズ9)により、被走査面上に形成される。ここで、以上の (a)と(b)で設定した符号を使用すれば、主走査方向についての発光点の間隔は、L・cosθである。また、被走査面上に形成される発光点の像の主走査方向の間隔をXとすれば、これは、主走査方向についての発光点の間隔に当該光学系の主走査方向の倍率βSを乗じたものとなる。よって、X= L・cosθ×βSが成り立つ。同様に、副走査方向に付いてみれば、被走査面上に形成される発光点の像の副走査方向の間隔をPとして、P= L・sinθ×βF、すなわち、
β
F
=P/(L・sinθ)
β
S
=n・P/(L・cosθ) (但し、nは正の整数)
　また、引用発明において、副走査方向に屈折力を有するシリンドリカルレンズ5と主結像レンズ8との間にポリゴンスキャナー7(偏向手段)が配置されており、シリンドリカルレンズ5は、図1に示される如く副走査方向にのみ屈折力を有し、結像手段(主結像レンズ8、シリンドリカルレンズ9)とともに、面倒れ補正光学系を成す。よって、コリメーターレンズ2から射出する平行光束は、シリンドリカルレンズ5によって、主走査方向には屈折力を受けず副走査方向にのみ屈折力を受け、ポリゴンスキャナー7上で、走査線方向に延びる線状の像となり、結像手段(主結像レンズ8、シリンドリカルレンズ9)によって、被走査面上で主走査方向にはコリメーターレンズ2からの平行光束を結像し、副走査方向にはポリゴンスキャナー7の像を再結像し、ポリゴンスキャナー7の面倒れ補正が達成される。この光学的な関係から、光源装置と被走査面上の像の主走査方向にみた倍率βS(上記(b)により与えた符号)は、シリンドリカルレンズ5とは無関係に、結像手段の焦点距離(f2)のコリメーターレンズ2の焦点距離(f1)に対する比となるから、上記(c)で与えた符号を使用すれば
β
S
=f
2
/f
1
β
F
=β
14
×(f
3
/f
1
)
　すなわち、引用発明は、主走査方向と副走査方向の結像倍率が、本件の請求項1に記載された数式で与えられた関係を満たすマルチビームの走査光学系である。よって、本件発明1は、刊行物4に記載された発明であり、特許法第29条第1項第3号に該当する。
　
【3-4-2】本件発明2
　本件発明2は、本件発明1の構成である4つの数式により規定される光学変数の間の関係に一定の許容範囲を設けたものである。しかし、当該許容範囲の格別の臨界的意義は認められず、一定の許容範囲を設けることは、単なる設計上の事項である。してみると、本件発明2は、引用発明の光学変数の間の関係に、設計上の許容範囲を定めることにより当業者が容易に想到できたものと認められる。
　したがって、本件の請求項2に係る発明は上記刊行物4に記載された発明に基づいて当業者が容易に発明できたものと認められる。
　
【3-4-3】本件発明3、4
　本件発明3、4は、本件発明1又は2の「被走査面」を「感光体」に特定し、「画像形成装置」としたものである。
　しかし、引用発明は、「被走査面」を「感光体面」とするものであり、画像形成装置の一態様である「マルチビームレーザー記録装置」であるから、「被走査面」を「感光体」に特定し、「画像形成装置」とした点は、本件発明3、4と引用発明との相違とはならない。
　よって、本件発明3と本件発明4は、それぞれ、「【3-4-1】本件発明1」と「【3-4-2】本件発明2」で説明した理由により、特許法第29条第1項又は同第2項の規定に違反して特許されたものである。
　
【3-5】むすび
　以上のとおり、本件の請求項1〜4に係る発明は、特許法第29条第1項又は同第2項の規定により特許を受けることができないものに対して特許されたものであるものであるから、特許法第113条第2号に該当し、取り消すべきものである。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１６年２月２０日（２００４．２．２０）
【訂正の要旨】
審決（決定）の【理由】欄参照。
（５４）【発明の名称】
走査光学装置
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　同一基板面上に複数の発光点を形成した光源手段から放射された複数の光ビームを光学手段を介して偏向手段に導光し、該偏向手段で偏向反射させた後、結像手段により被走査面上に導光し、該被走査面上を該複数の光ビームで同時に走査する光走査光学装置において、
　該光学手段は、コリメーターレンズと副走査方向に屈折力を有するシリンドリカルレンズを有し、該主走査方向の結像倍率βＳと該副走査方向の結像倍率βＦは異なり、
　該同一基板面上での複数の発光点の発光間隔をＬ、主走査方向に並置した複数の発光点を光軸を中心に副走査方向に傾けた角度をθ、該副走査面上での光ビームのビーム間隔をＰ、該装置の光学系の主走査方向と副走査方向との結像倍率を各々順にβＳ、βＦ、該コリメーターレンズの焦点距離をｆ１、該シリンドリカルレンズの焦点距離をｆ３、該結像手段の主走査方向の焦点距離をｆ２、該結像手段の副走査方向の焦点距離による該偏向手段と被走査面との結像倍率をβ１４としたとき、
　【数１】
を満たすように各要素を設定したことを特徴とする光走査光学装置。
　【請求項２】　同一基板面上に複数の発光点を形成した光源手段から放射された複数の光ビームを光学手段を介して偏向手段に導光し、該偏向手段で偏向反射させた後、結像手段により被走査面上に導光し、該被走査面上を該複数の光ビームで同時に走査する光走査光学装置において、
　該光学手段は、コリメーターレンズと副走査方向に屈折力を有するシリンドリカルレンズを有し、該主走査方向の結像倍率βＳと該副走査方向の結像倍率βＦは異なり、
　該同一基板面上での複数の発光点の発光間隔をＬ、主走査方向に並置した複数の発光点を光軸を中心に副走査方向に傾けた角度をθ、該副走査面上での光ビームのビーム間隔をＰ、該装置の光学系の主走査方向と副走査方向との結像倍率を各々順にβＳ、βＦ、該コリメーターレンズの焦点距離をｆ１、該シリンドリカルレンズの焦点距離をｆ３、該結像手段の主走査方向の焦点距離をｆ２、該結像手段の副走査方向の焦点距離による該偏向手段と被走査面との結像倍率をβ１４としたとき、
　【数２】
なる条件を満足するように各要素を設定したことを特徴としている。
　【請求項３】　請求項１に記載の走査光学装置と、前記被走査面として感光体とを備えたことを特徴とする画像形成装置。
　【請求項４】　請求項２に記載の走査光学装置と、前記被走査面として感光体とを備えたことを特徴とする画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【発明の属する技術分野】
　本発明は走査光学装置に関し、特に複数の光ビームを用いて感光体等の被走査面上を同時に光走査する際、該装置の光学系（走査光学系）の主走査方向及び副走査方向の結像倍率を適切に設定して所望の走査線密度で画像情報の記録を行なうようにした、例えばディジタル複写機やレーザービームプリンタ（ＬＢＰ）等の画像形成装置に好適な走査光学装置に関するものである。
　【０００２】
　【従来の技術】
　近年、ディジタル複写機等で用いられる走査光学装置では高速出力（印字の高速化）を達成するための手法として、例えば走査光学装置に用いられる回転多面鏡の回転数を高速回転とする方法がある。しかしながら高速回転を行なうことによるモーター部の昇温や回転数の限界、又書き込み手段となるレーザー素子を変調する画像クロックの高速化により高速出力の限界が発生してしまう。
　【０００３】
　一方、高速出力を達成する他の手法としては、例えば複数の光ビームを用いて記録媒体面上の異なった領域（複数ライン）を同時に走査し、該複数ラインの画像情報を同時に書き込む方法がある。
　【０００４】
　図３はこの種の複数の光ビームを用いた走査光学装置の光学系の要部概略図である。
　【０００５】
　同図において３１は光源手段であり、同一基板面上に複数の発光点（レーザー素子）をモノリシックに形成したモノリシックマルチビームレーザーより成っている。３２はコリメーターレンズであり、光源手段３１から放射した複数の光ビームを平行光束に変換している。３３は開口絞りであり、通過光束径を整えている。３４はシリンドリカルレンズであり、副走査方向にのみ所定の屈折力を有している。尚、コリメーターレンズ３２、開口絞り３３、そしてシリンドリカルレンズ３４等は各々光源手段３１から放射した複数の光ビームを偏向手段としての光偏向器３５に導光する光学手段（入射光学系）としての一要素を構成している。
　【０００６】
　３５は光偏向器であり、回転多面鏡より成っており、駆動手段（不図示）により図中矢印Ａ方向に一定速度で回転している。３６は結像光学系としてのｆθレンズ系であり、光偏向器３５で偏向反射された複数の光ビームを集光し、被走査面である感光体３７面上の各々異なる露光位置に結像させている。
　【０００７】
　このような走査光学装置において光源手段３１から画像信号により光変調された複数の光ビームはコリメーターレンズ３２により略平行光束とし、開口絞り３３により通過光束径を整えてシリンドリカルレンズ３４に入射している。シリンドリカルレンズ３４は入射した略平行光束のうち主走査断面においては、そのまま略平行光束の状態で射出しており、副走査断面においては収束して光偏向器３５の偏向面（反射面）３５ａにほぼ線像として結像している。そして光偏向器３５によって偏向反射された各々の光ビームは結像光学系３６を通過し、感光体３７面上の異なる領域に各々ビームスポットを形成し、これにより被走査面である感光体３７面（記録媒体面）上に画像情報の形成（記録）を順次行なっている。
　【０００８】
　同図における光源手段３１は上述の如く同一基板面上に複数の発光点をモノリシックに形成したモノリシックマルチビームレーザーより成っている。このモノリシックマルチビームレーザーの基板面上（発光点面上）における各発光点の位置関係を図４に示す。同図においては主走査方向に並置した２つの発光点Ａ、Ｂを光軸Ｍを中心に副走査方向に所定の角度θだけ傾けて（回転させて）構成している。
　【０００９】
　同図は２つの発光点Ａ，Ｂを有するモノリシックマルチビームレーザー３１の一例であるが、その２つの発光点Ａ、Ｂの発光間隔Ｌは一般的に数１０μｍから数１００μｍである。この２つの発光点Ａ、Ｂの発光間隔Ｌが例えば極端に狭くなると、該２つの発光点Ａ，Ｂ間に電気的なクロストークが発生する為、その発光間隔Ｌを１００μｍ程度以上とるのが一般的である。
　【００１０】
　走査光学装置においてこのようなモノリシックマルチビームレーザー３１を用いて被走査面３７上の複数ラインを同時に走査する為には走査光学系の副走査方向の結像倍率βＦに２つの発光点Ａ、Ｂの副走査方向の間隔ＬＦを掛けたものが被走査面上でのライン間隔ＲＦ（βＦ×ＬＦ）となるから、２つの発光点Ａ、Ｂを副走査方向に、例えば直線的に並べると被走査面３７上でのライン間隔ＲＦは副走査方向の結像倍率βＦが、例えば等倍以上であると１００μｍ程度以上となる為、副走査方向の走査線密度（解像度）を４００ｄｐｉ、６００ｄｐｉ程度にすることができなくなってくる。
　【００１１】
　このような問題点を解決する為に図４に示すように主走査方向に並置した２つの発光点Ａ，Ｂを光軸Ｍを中心に副走査方向に所定の角度θだけ傾けて配置し、例えば基板面上における２つの発光点Ａ、Ｂの発光間隔をＬ、副走査方向の間隔をＬＦとしたとき、
　　ＬＦ＝Ｌ×ｓｉｎθ
と設定することにより、見かけの副走査方向のライン間隔ＲＦを狭くして副走査方向の走査線密度（解像度）を高くする手法が用いられてきた。
　【００１２】
　【発明が解決しようとする課題】
　しかしながら上記に示した従来の走査光学装置では主走査方向におけるビーム間隔（スポット間隔）と結像倍率に対する考慮がなされておらず、その為主走査方向に複数の光ビームを発光させる発光タイミングを、例えばビーム間隔以下の精度で制御することにより、記録媒体面上で主走査方向の走査線密度が所望の走査線密度になるように補正していた。その為、発光タイミングを制御する制御手段（発光制御回路）に高い精度が求められていた。
　【００１３】
　本発明は同一基板面上に複数の発光点を形成した光源手段から放射された複数の光ビームを用いて被走査面上を同時に走査して画像記録を行なう際、走査光学系の主走査方向の結像倍率βＳと副走査方向の結像倍率βＦを適切に設定することにより、主走査方向に複数の光ビームを発光させる発光タイミングの精度を厳しくすることなく、所望の走査線密度で画像情報の記録を行なうことができる走査光学装置の提供を目的とする。
　【００１４】
　【課題を解決するための手段】
　請求項１の発明の走査光学装置は、同一基板面上に複数の発光点を形成した光源手段から放射された複数の光ビームを光学手段を介して偏向手段に導光し、該偏向手段で偏向反射させた後、結像手段により被走査面上に導光し、該被走査面上を該複数の光ビームで同時に走査する光走査光学装置において、
　該光学手段は、コリメーターレンズと副走査方向に屈折力を有するシリンドリカルレンズを有し、該主走査方向の結像倍率βＳと該副走査方向の結像倍率βＦは異なり、
　該同一基板面上での複数の発光点の発光間隔をＬ、主走査方向に並置した複数の発光点を光軸を中心に副走査方向に傾けた角度をθ、該副走査面上での光ビームのビーム間隔をＰ、該装置の光学系の主走査方向と副走査方向との結像倍率を各々順にβＳ、βＦ、該コリメーターレンズの焦点距離をｆ１、該シリンドリカルレンズの焦点距離をｆ３、該結像手段の主走査方向の焦点距離をｆ２、該結像手段の副走査方向の焦点距離による該偏向手段と被走査面との結像倍率をβ１４としたとき、
　【数３】
を満たすように各要素を設定したことを特徴としている。
　【００１５】
　請求項２の発明の走査光学装置は、同一基板面上に複数の発光点を形成した光源手段から放射された複数の光ビームを光学手段を介して偏向手段に導光し、該偏向手段で偏向反射させた後、結像手段により被走査面上に導光し、該被走査面上を該複数の光ビームで同時に走査する光走査光学装置において、
　該光学手段は、コリメーターレンズと副走査方向に屈折力を有するシリンドリカルレンズを有し、該主走査方向の結像倍率βＳと該副走査方向の結像倍率βＦは異なり、
　該同一基板面上での複数の発光点の発光間隔をＬ、主走査方向に並置した複数の発光点を光軸を中心に副走査方向に傾けた角度をθ、該副走査面上での光ビームのビーム間隔をＰ、該装置の光学系の主走査方向と副走査方向との結像倍率を各々順にβＳ、βＦ、該コリメーターレンズの焦点距離をｆ１、該シリンドリカルレンズの焦点距離をｆ３、該結像手段の主走査方向の焦点距離をｆ２、該結像手段の副走査方向の焦点距離による該偏向手段と被走査面との結像倍率をβ１４としたとき、
　【数４】
なる条件を満足するように各要素を設定したことを特徴としている。
　【００１６】
　請求項３の発明の画像形成装置は、請求項１に記載の走査光学装置と、前記被走査面として感光体とを備えたことを特徴としている。
　【００１７】
　請求項４の発明の画像形成装置は、請求項２に記載の走査光学装置と、前記被走査面として感光体とを備えたことを特徴としている。
　【００１８】
　【発明の実施の形態】
　図１（Ａ）、（Ｂ）は各々本発明の実施形態１の屈折力配置を示す要部概略図であり、同図（Ａ）は本装置の走査光学系の主走査方向の結像関係を示しており、同図（Ｂ）は副走査方向の結像関係を示している。図２は図１に示した光源手段の拡大説明図である。
　【００１９】
　図中、１は光源手段であり、同一基板面上に複数の発光点（レーザー素子）Ａ、Ｂをモノリシックに形成したモノリシックマルチビームレーザーより構成している。本実施形態におけるモノリシックマルチビームレーザー１は図２に示すように主走査方向に並置した２つの発光点Ａ、Ｂを光軸Ｍを中心に副走査方向に所定の角度θだけ傾けて（回転させて）構成している。
　【００２０】
　２はコリメーターレンズであり、光源手段１から放射した複数の光ビームを略平行光束に変換している。４はシリンドリカルレンズであり、副走査方向にのみ所定の屈折力を有している。尚、コリメーターレンズ２及びシリンドリカルレンズ４は各々光源手段１から放射した複数の光ビームを後述する偏向手段としての光偏向器５に導光する光学手段（入射光学系）としての一要素を構成している。
　【００２１】
　５は偏向手段としての光偏向器であり、回転多面鏡より成っており、駆動手段（不図示）により一定速度で回転している。６は結像手段としてのｆθレンズ系であり、光偏向器５からの複数の光ビームを集光し、被走査面である感光体７面（記録媒体面）上の各々異なる露光位置Ｐ１、Ｐ２に結像させている。
　【００２２】
　本実施形態において光源手段１から画像信号により光変調された複数の光ビームはコリメーターレンズ２により略平行光束としてシリンドリカルレンズ４に入射している。シリンドリカルレンズ４は入射した略平行光束のうち主走査断面においては、そのまま略平行光束の状態で射出しており、副走査断面においては収束して光偏向器５の偏向面（反射面）にほぼ線像として結像している。そして光偏向器５によって偏向反射された複数の光ビームはｆθレンズ系６を通過し、感光体７面上の異なる領域Ｐ１、Ｐ２に各々ビームスポットを形成し、これにより該感光体７面上に画像情報の形成（記録）を順次行なっている。
　【００２３】
　ここで走査光学系の主走査方向の結像倍率βＳは、コリメーターレンズ２の焦点距離をｆ１、ｆθレンズ系６の主走査方向の焦点距離をｆ２としたとき、
　　βＳ＝ｆ２／ｆ１
で表わされる。
　【００２４】
　又、副走査方向の結像倍率βＦはコリメーターレンズ２の焦点距離をｆ１、シリンドリカルレンズ４の焦点距離をｆ３、ｆθレンズ系６の副走査方向の焦点距離ｆ４による光偏向器５と感光体７との結像倍率をβｆ４としたとき、
　　βＦ＝βｆ４×ｆ３／ｆ１
で表わされる。
　【００２５】
　本実施形態においてはモノリシックマルチビームレーザーの２つの発光点Ａ、Ｂの発光間隔をＬ、主走査方向に並置した２つの発光点Ａ、Ｂを光軸Ｍを中心に副走査方向に傾けた角度、即ち２つの発光点Ａ、Ｂから放射された２つの光ビームの被走査面７上での結像位置を結ぶ線と該被走査面７上での走査方向の走査線とが交差する角度をθ、該被走査面７上での光ビームのビーム間隔（光ビームを被走査面上に結像する所望の走査線密度に対応するビーム間隔）をＰとしたとき、走査光学系の主走査方向の結像倍率βＳ及び副走査方向の結像倍率βＦが以下の関係となるように各要素を設定している。
　【００２６】
　【数５】
　上記（１）、（２）式は各々走査光学系の主走査方向と副走査方向との結像倍率に関するものであり、（１）、（２）式のうち少なくとも一方の式が成り立たなくなると被走査面上で光ビームのビーム間隔を、主走査方向では所望のビーム間隔（画素間隔）Ｐの整数倍に設定することができなくなり、又副走査方向では所望のビーム間隔Ｐに等しく設定することができなくなり、この結果、所望の走査線密度を得る際には主走査方向に複数の光ビームを発光させる発光タイミングの制御を厳しくしなければならなくなってくるので良くない。
　【００２７】
　尚、上記（１）、（２）式は厳密に成立させることは必ずしも必要ではなく、例えば次の条件式（３）、（４）を成立していれば本発明の目的を略達成することができる。
　【００２８】
　【数６】
　本実施形態における結像手段としてのｆθレンズ系は主走査方向のパワーと副走査方向のパワーを独立に設定できる、例えばトーリックレンズ、又はシリンドリカルレンズと球面レンズとの組合せを含むものとし、主走査方向の結像倍率βＳと副走査方向の結像倍率βＦとは各々独立に決めることができるものとしている。尚、上記に示した以外に主走査方向及び副走査方向の結像倍率を各々独立に決めることができる光学素子又はその組み合わせなら本発明は前述の実施形態１と同様に適用することができる。
　【００２９】
　このように本実施形態では上述の如く走査光学系の主走査方向の結像倍率βＳと副走査方向の結像倍率βＦとを適切に設定することにより、被走査面上での光ビームのビーム間隔を、主走査方向では所望のビーム間隔（画素間隔）Ｐの整数倍に設定することができ、又副走査方向ではビーム間隔Ｐに等しく設定することができ、これにより所望の走査線密度を得る際には主走査方向に光ビームを発光させる発光タイミングをビーム間隔以下の精度で制御する必要のない、即ち通常の精度（例えばビーム間隔と同等以上の精度）で制御すれば良いことになる。
　【００３０】
　【発明の効果】
　本発明によれば前述の如く同一基板面上に複数の発光点を形成した光源手段から放射された複数の光ビームを用いて被走査面上を同時に走査して画像記録を行なう際、走査光学系の主走査方向の結像倍率βＳと副走査方向の結像倍率βＦを適切に設定することにより、主走査方向に複数の光ビームを発光させる発光タイミングの精度を厳しくすることなく、所望の走査線密度で画像情報の記録を行なうことができる走査光学装置を達成することができる。
【図面の簡単な説明】
　【図１】　本発明の実施形態１の屈折力配置を示す要部概略図
　【図２】　図１に示した光源手段の複数の発光点の位置関係を示す説明図
　【図３】　従来の走査光学装置の光学系の要部概略図
　【図４】　図３に示した光源手段の複数の発光点の位置関係を示す説明図
　【符号の説明】
　１　　光源手段
　２　　コリメータレンズ
　３　　開口絞り
　４　　シリンドリカルレンズ
　５　　偏向手段（光偏向器）
　６　　結像手段（ｆθレンズ系）
　７　　感光体面
　ｆ１　　コリメータレンズの焦点距離
　ｆ２　　ｆθレンズの主走査方向の焦点距離
　ｆ３　　シリンドリカルレンズの焦点距離
　ｆ４　　ｆθレンズの副走査方向の焦点距離