【事件の表示】
　特許第３２８５００６号「めっき装置及びめっき処理方法」の請求項１、３、５、６に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　本件特許異議の申立てを却下する。
【理　由】
Ｉ．手続の経緯
　特許第３２８５００６号の発明についての出願は、平成１１年４月７日に特許出願され、平成１４年３月８日にその発明について特許権の設定登録がなされ、その後、特許異議申立人小野節子より請求項１、３、５、６に係る発明の特許に対して特許異議の申立てがなされ、取消理由が通知され、その指定期間内である平成１５年７月３０日に訂正請求がなされたものである。
　    
II．訂正の適否についての判断
１．訂正の内容
（１）訂正事項ａ
　請求項１、３、６を削除し、請求項２、４の請求項番号を繰り上げ、請求項１、２と訂正する。
（２）訂正事項ｂ  
　請求項５の「請求項１乃至４のいずれか１項に記載のめっき装置を用いためっき処理方法であって、」を、「請求項１または２に記載のめっき装置を用いためっき処理方法であって、」と訂正し、請求項番号を繰り上げ、請求項３と訂正する。
（３）訂正事項ｃ
　明細書段落【００１２】の記載を削除する。
（４）訂正事項ｄ
　明細書段落【００１３】の「第２の観点にかかるめっき装置」を、「第１の観点にかかるめっき装置」と訂正する。
（５）訂正事項ｅ  
　明細書段落【００１４】を、「上記目的を達成するため、この発明の第２の観点にかかるめっき装置は、めっき液を被めっき物に接触させて電気めっきを施す装置であって、被めっき物が配置される開口部を備える側壁と、前記開口部に配置される被めっき物の下方から上方に向かって流れるめっき液を導入する導入口と、前記開口部に配置される前記被めっき物より上方に構成され、前記導入口から導入されためっき液を出力する出力口と、前記導入口より前記出力口までめっき液を導くと共に前記開口部に配置された被めっき物の被めっき面にめっき液を接触させる流路と、前記開口部の下方に構成され、前記流路内のめっき液を排出する排出口と、を備えるめっき槽と、前記被めっき物の被めっき面が前記めっき槽内に露出するように、前記被めっき物を、前記めっき槽の前記開口部に着脱可能に固定する被めっき物支持部と、前記開口部に固定されている被めっき物と接触するカソード電極と、前記被めっき物と対向して、前記めっき槽内に配置されたアノード電極とを備え、前記開口部は、周縁部に弾性部材を備え、前記被めっき物の周縁部を前記弾性部材を介して前記開口部の周縁部に密着させることで前記めっき槽を封入可能に構成され、前記開口部を備える側壁は鉛直方向に配置され、前記被めっき物支持部は、前記被めっき物をその被めっき面が実質的に鉛直方向になるように前記開口部に固定されており、前記導入口と前記出力口とは、前記開口部より上方に構成され、前記めっき槽の前記流路は、前記導入口から導入されためっき液を前記開口部より下方に導く第１の流路と、前記第１の流路からのめっき液を上方に向かって流すと共に前記開口部に固定された被めっき物の被めっき面に接触させる第２の流路と、を備えることを特徴とする。このような構成とすることにより、めっき処理終了後、めっき液がめっき被めっき物から自然に流れ落ちるため、めっき液が被めっき面に残ることを防ぐことができる。また、ウェハの裏面の汚染を防止することができる。」と訂正する。
（６）訂正事項ｆ
　明細書段落【００１５】の記載を削除する。
（７）訂正事項ｇ
　明細書段落【００１８】の記載を削除する。
（８）訂正事項ｈ  
　明細書段落【００３５】の「本発明では、めっき装置を図３に示すような構成としてもよい。」を、「図３は、本発明のめっき装置の他の参考例を示す図である。」と訂正する。
（９）訂正事項ｉ
　【図面の簡単な説明】の【図３】を、「本発明の実施の形態のめっき装置の他の参考例の構成を示す図である。」と訂正する。
　
２．訂正の目的の適否、新規事項の有無、及び特許請求の範囲の拡張・変更の存否
（１）上記訂正事項ａは、請求項１、３、６を削除し、請求項２、４の請求項番号を繰り上げ、請求項１、２と訂正するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とする訂正である。上記訂正事項ｂは、請求項５において、引用する請求項を、「請求項１乃至４のいずれか１項に記載の・・」から、「請求項１または２に記載の・・」と訂正し、請求項番号を繰り上げ、請求項３と訂正するものであるから、特許請求の範囲の減縮を目的とする訂正である。
　又該訂正は、願書に添付した明細書に記載された事項の範囲内のものであり、また実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。
（２）上記訂正事項ｃ〜ｉは、上記特許請求の範囲の訂正に基づき訂正後の請求項と整合するよう発明の詳細な説明、図面の簡単な説明の記載を訂正するものであるから、明りょうでない記載の釈明を目的とする訂正に該当する。又該訂正は、願書に添付した明細書に記載された事項の範囲内のものであり、また実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものではない。
　
３．むすび
　以上のとおりであるから、上記訂正は、特許法第１２０条の４第２項及び同条第３項において準用する特許法第１２６条第２項から第４項までの規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
III．特許異議申立てについての判断
　特許異議申立人小野節子は、甲第１号証（特願平１１−５８５２７号の願書に最初に添付した明細書又は図面（特開平１１−３３５８９５号公報参照）を提出し、訂正前の請求項１、３、５、６に係る発明は、甲第１号証に記載された発明と同一であるから、特許法第２９条の２の規定に違反して特許されたものであると主張する。　
　しかしながら、訂正前の請求項１、３、６に係る発明は、訂正の結果削除されたので、又訂正前の請求項５は、訂正前の請求項１乃至４を引用していたものから請求項１、３を削除して、特許異議の申立てられていない訂正前の請求項２、４を引用するものに訂正されたので、特許異議の申立てられていた請求項１、３、５、６は、実質的に削除されたといえる。
　そうすると、特許異議の申立ての対象が存在しないので、この特許異議の申立ては、不適法な申立てであって、その補正をすることができないものである。　
　
IV．むすび
　 以上のとおりであるから、本件特許異議の申立ては、特許法第１２０条の６第１項で準用する第１３５条の規定によって却下すべきものである。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１５年９月１７日（２００３．９．１７）
【訂正の要旨】
審決（決定）の【理由】欄参照。
（５４）【発明の名称】
めっき装置及びめっき処理方法
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項
１
　【請求項
２
　【請求項
３
または２
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【発明の属する技術分野】この発明は、被めっき物に電気めっきを施す装置に関し、特に、めっき槽のめっき液に被めっき物を接触させてめっきを施すめっき装置に関する。
　【０００２】
　【従来の技術】ウェハ等の被めっき物にめっきを施す一般的な方法として、特開平６−４９６９３号公報に記載のめっき装置、特開平８−３１１６９９号公報に記載の電気メッキ装置の攪拌方法、等に記載されているように、めっき液中にウェハを直接浸すディップ式のめっき装置を使用してめっきを施す方法が知られている。
　【０００３】また、被めっき物に電気めっきを施す方法として、被めっき物の表面を下向きにして、めっき液を下方から噴流状に供給して、被めっき物に接触させる方法が知られている。しかし、この方法は、めっき液中に気泡が発生した場合、被めっき物の表面に気泡が滞留し、気泡の部分に析出が起こらなかったり、気泡が析出膜中に取り込まれてボイドになってしまう等、析出膜に欠陥が発生してしまうという問題があった。
　【０００４】この析出膜の欠陥を防ぐ方法として、特許第２６４８９４５号公報に記載の半導体装置の製造方法、特公平７−１０７１９９号公報に記載のウエハ処理装置、等に記載されているように、下面を開放しためっき槽に、表面を上向きにしたウェハ（被めっき物）を設置し、めっき液をウェハの上方から供給してめっき処理面に接触させる方法が提案された。この方法によれば、ウェハの表面が上向きにめっき槽に設置されているため、めっき液中に生じた気泡がめっき槽上方に抜ける。このため、ウエハ表面に気泡が滞留することがなくめっき液中の気泡を原因とする析出膜の欠陥は防止される。
　【０００５】
　【発明が解決しようとする課題】しかし、特開平６−４９６９３号公報及び特開平８−３１１６９９号公報に記載のめっき方法は、被めっき面ではないウェハの裏面にもめっき液が付着（裏面汚染）してしまう。ウェハの裏面汚染を防止する方法として、ウェハをめっき装置内に予め設置されている装置に取り付けて、裏面を保護しつつめっきを施す方法があげられる。この方法を採用する場合、作業効率を考慮すると、ウェハをめっき装置内に自動的に交換・装着する装置が必要である。しかし、めっき槽内でウエハを汚染することなく、交換・装着などの処理を行うことは困難である。
　【０００６】また、特許第２６４８９４５号及び特公平７−１０７１９９号公報に記載のめっき方法では、めっき槽内にウェハを、その表面を上向きに配置するため、めっき終了後にめっき液をめっき槽から排出しても、めっき液がウェハの表面に残留する場合がある。ＬＳＩの銅成膜に一般的に用いられている硫酸銅めっき液は無通電状態では銅を溶解する作用を持っている。このため、ウェハ表面にめっき液が残留した場合、めっき析出膜にダメージを与え、析出膜に欠陥を発生させるという問題があった。
　【０００７】更に、ウェハの表面に残留しためっき液が、めっき槽からウェハを取り出す際にウェハの表面から流れ落ちてしまう。この流れ落ちためっき液が、ウェハの裏面に付着したり、ウェハを支持していた支持部に付着して次にめっきするウェハの裏面に付着する、等の裏面汚染の原因になる。また、硫酸銅めっき液に含まれる銅は、シリコン基板中の拡散が速く、銅によって裏面が汚染されると、ウェハの裏面から基板中を拡散した銅がトランジスタのジャンクションリークの原因となって、トランジスタの信頼性が低下するという問題もある。
　【０００８】この発明は、上記実情に鑑みてなされたもので、めっき処理終了後に、ウエハ表面にめっき液を残さずに、めっき槽からめっき液を排出することができるめっき装置を提供することを目的とする。また、この発明は、ウエハの裏面汚染を防止し、自動化が容易なめっき装置を提供することを他の目的とする。また、この発明は、ウエハ表面への気泡の付着を防止し、めっき析出膜の欠陥の発生を防止するめっき方法を提供することを目的とする。
　【０００９】
　【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため、この発明のめっき装置は、めっき液を被めっき物に接触させて電気めっきを施す装置であって、被めっき物が配置される開口部を備える側壁と、前記開口部に配置される被めっき物の下方から上方に向かって流れるめっき液を導入する導入口と、前記開口部に配置される前記被めっき物より上方に構成され、前記導入口から導入されためっき液を出力する出力口と、前記導入口より前記出力口までめっき液を導くと共に前記開口部に配置された被めっき物の被めっき面にめっき液を接触させる流路と、前記開口部の下方に構成され、前記流路内のめっき液を排出する排出口と、を備えるめっき槽と、前記被めっき物の被めっき面が前記めっき槽内に露出するように、前記被めっき物を、前記めっき槽の前記開口部に着脱可能に固定する被めっき物支持部と、前記開口部に固定されている被めっき物と接触するカソード電極と、前記被めっき物と対向して、前記めっき槽内に配置されたアノード電極と、を備えることを特徴とする。
　【００１０】このような構成とすることにより、めっき液が、被めっき物のめっき面に、下方から上方に向かって流れながら接触するため、被めっき面に付着した気泡が滞留することを防ぐことができる。また、被めっき物をめっき漕の外側で開口部に固定（装着）及び交換することができるので、固定・交換操作を容易に自動化できる。また、被めっき物の裏面にめっき液が付着することを防ぐことができる。
　【００１１】
　【００１２】
　【００１３】上記目的を達成するため、この発明の第
１
　【００１４】
上記目的を達成するため、この発明の第２の観点にかかるめっき装置は、めっき液を被めっき物に接触させて電気めっきを施す装置であって、被めっき物が配置される開口部を備える側壁と、前記開口部に配置される被めっき物の下方から上方に向かって流れるめっき液を導入する導入口と、前記開口部に配置される前記被めっき物より上方に構成され、前記導入口から導入されためっき液を出力する出力口と、前記導入口より前記出力口までめっき液を導くと共に前記開口部に配置された被めっき物の被めっき面にめっき液を接触させる流路と、前記開口部の下方に構成され、前記流路内のめっき液を排出する排出口と、を備えるめっき槽と、前記被めっき物の被めっき面が前記めっき槽内に露出するように、前記被めっき物を、前記めっき槽の前記開口部に着脱可能に固定する被めっき物支持部と、前記開口部に固定されている被めっき物と接触するカソード電極と、前記被めっき物と対向して、前記めっき槽内に配置されたアノード電極とを備え、前記開口部は、周縁部に弾性部材を備え、前記被めっき物の周縁部を前記弾性部材を介して前記開口部の周縁部に密着させることで前記めっき槽を封入可能に構成され、
実質的に
されており、前記導入口と前記出力口とは、前記開口部より上方に構成され、前記めっき槽の前記流路は、前記導入口から導入されためっき液を前記開口部より下方に導く第１の流路と、前記第１の流路からのめっき液を上方に向かって流すと共に前記開口部に固定された被めっき物の被めっき面に接触させる第２の流路と、を備えることを特徴とする。
また、ウェハの裏面の汚染を防止することができる。
　【００１５】
　【００１６】上述のめっき装置を用いて、めっき処理を行う場合、例えば、まず、前記支持装置により、前記被めっき物を前記めっき槽の開口部に、被めっき面を内側にして固定し、めっき液を前記導入口から導入し、流路を通って、前記被めっき物の被めっき面に接触させながら下方から上方に向かって流して出力口から出力し、めっき終了後、排出口より流路内のめっき液を排出する。
　【００１７】このような手順を取ることにより、被めっき物の被めっき面に気泡を滞留させることなく、めっきを施すことができる。また、めっき終了後に、めっき液を排出すると、被めっき面が鉛直方向又は斜め上方向を向いているので、被めっき面上のめっき液が流れ落ち、めっき面上にめっき液が残ることがない。
　【００１８】
　【００１９】
　【００２０】
　【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態にかかるめっき装置について説明する。
　【００２１】この実施の形態のめっき装置の断面図を、図１に示す。図示するように、このめっき装置は、めっき槽２と、ウェハ支持部３と、アノード電極４と、カソードコンタクト電極５と、シール部材６と、から構成されている。
　【００２２】めっき槽２は、開口部２Ａと、めっき液循環口入口２Ｂと、めっき液循環口出口２Ｃと、めっき液排出口２Ｄと、を備える。開口部２Ａは、めっき槽２の側壁に形成された穴を有し、ウェハ支持部３が搭載しているウェハ１（被めっき物）のめっき面をめっき槽２の内部に露出させる。めっき液循環口入口２Ｂは、めっき槽２内にめっき液を供給するための供給口であり、めっき槽２の上部、且つ、開口部２Ａと対向する側壁とアノード電極４との間に配置されている。めっき液循環口出口２Ｃは、めっき槽２内を循環するめっき液を出力するための出力口であり、めっき槽２の上部、且つ、開口部２Ａとアノード電極４との間に配置されている。めっき液排出口２Ｄは、バルブ２Ｅを備え、バルブ２Ｅを開放することによってめっき槽２内を循環しためっき液を排出する排出口であり、開口部２Ａに密着しているウェハ１より下方に設置されている。
　【００２３】ウェハ支持部３は、被めっき物であるウェハ１を搭載し、ウエハ１の周縁部をめっき漕２の開口部２Ａの周縁部のシール部材６に押圧して、めっき漕２を封入する。これにより、ウエハ１が、ほぼ鉛直（垂直）に支持され、その被めっき面がめっき漕２の内部に露出する。
　【００２４】アノード電極４は、開口部２Ａに設置されているウェハ１と対向するめっき槽内に配置され、電源の陽極に接続される。カソードコンタクト電極５は、開口部２Ａに設置されているウェハ１に接触するように配置され、電源の陰極に接続される。アノード電極４と、カソードコンタクト電極５に接続しているウェハ１とが、対向して配置され、通電されることによって、めっき槽２内を循環しているめっき液によってウェハ１にめっき層を成膜する。
　【００２５】シール部材６は、弾力性を有する接続部材から構成され、めっき槽２内のめっき液漏れを防止するため、開口部２Ａとウェハ１の接触部分を密着させる。
　【００２６】このような構成のめっき槽２のめっき液循環口入口２Ｂに、ポンプ等を使用してめっき液を導入する。めっき槽２に導入されためっき液は、開口部２Ａと対向している側壁とアノード電極４との間の流路を上方から下方に向かって、更に、開口部２Ａとアノード電極４との間の流路を下方から上方に向かって流れる。従って、めっき槽２の側壁に設置されたウェハ１の表面上を、めっき液が下方向から上方向に向かって流れる。
　【００２７】次に、このめっき装置を使用して、ウェハ１にめっきを施す場合を例に説明する。
　【００２８】まず、ウェハ支持部３にウェハ１を搭載し、ウェハ１の周縁部がめっき槽２の開口部２Ａの周縁部のシール部材６によって密着させて、めっき漕２を封入する。ウエハ１は、ほぼ鉛直に支持され、その被めっき面は、開口部２Ａを介してめっき漕２の内部に露出する。被めっき面（めっき処理面）には、銅等から構成されるめっきの析出下地（シード層）がスパッタリングなどにより予め形成されているものとする。また、カソードコンタクト電極５をウェハ１のシード層に接続する。
　【００２９】めっき槽２のめっき液循環口入口２Ｂから、ポンプなどにより、硫酸銅などから構成されるめっき液を導入する。また、めっき液の導入後、電源が投入され、カソードコンタクト電極５に接続しているウェハ１のシード層に負の電位を供給し、アノード電極４に正の電位を供給する。
　【００３０】めっき槽２内に導入されためっき液は、一旦、側壁とアノード電極４との間の流路を下方向に向かって流れ、続いて、ウエハ１とアノード電極４との間の流路を上方向に向かって流れ、出力口より外部に出力される。このとき、めっき液は、垂直（鉛直）に設置されているウェハ１の表面上を、下方から上方に向かって流れる。
　【００３１】ウェハ１の表面上を流れているめっき液は、アノード電極４に通電している電流と、カソードコンタクト電極５に通電している電流によって電気分解されて、ウェハ１のシード層にめっき成膜を開始する。任意の膜厚のめっき成膜後、アノード電極４及びカソードコンタクト電極５への通電を停止し、めっき液排出口２Ｄのバルブ２Ｅを開放して、めっき槽２内のめっき液を排出させる。めっき槽２からめっき液の排出後、例えば、ウェハ支持部３は、搭載しているウェハ１を他の処理槽に移動させて、めっき処理面の洗浄・乾燥等の処理を行う。
　【００３２】以上説明したように、このめっき装置は、めっき槽２に垂直に設置されているウェハ１上を、めっき液が下方向から上方向に流れているため、めっき処理時にウェハ１の表面に付着した気泡が滞留することを防ぐことができる。また、ウェハ１がめっき槽２に垂直に設置されているため、めっき処理終了後にめっき液排出口２Ｄからめっき液を排出した後、ウェハ１の表面に付着しているめっき液が下方向に流れ落ちるため、ウェハ１の表面にめっき液が残ること（液滴残り）を防ぐことができる。従って、気泡の付着による析出膜の欠陥の発生、液滴残りによる析出膜へのダメージの発生、等を防ぐことができる。また、ウェハ支持部３にウェハを搭載してめっき槽２の開口部２Ａに密着させる工程を容易に自動化することができる。更に、めっき槽の開口部２Ａにウェハ１の表面を密着させることから、ウェハの裏面の汚染を防止することができる。
　【００３３】なお、この発明は、上記実施の形態に限定されず、種々の変形及び応用が可能である。
　【００３４】図２は、本発明のめっき装置の一参考例を示す図である。図示するように、このめっき装置は、めっき液循環口入口兼排出口２Ｆを設け、めっき液の導入又はめっき液の排出を、バルブなどにより切り替えて行う。このように、めっき液を導入する循環口入口がめっき槽の下部に、めっき液の出力口がめっき槽の上部に、それぞれ構成されているため、めっき液がウェハに対して下方向から上方向に自然に流れる。また、図１に示すめっき装置より簡単で小型の構成である。
　【００３５】
図３は、本発明のめっき装置の他の参考例を示す図である。
　【００３６】
　【発明の効果】以上説明したように、この発明によれば、めっき処理中に発生した気泡が被めっき物の表面に付着して滞留することを防ぎ、気泡の付着によって生じるめっき膜の欠陥を防ぐことができる。また、被めっき物を垂直に、又はめっき処理面を斜め上方向きに設置することにより、めっき槽からめっき液を排出する際に、めっき液がめっき処理面の下方向に流れ落ちてめっき面に付着したままになること（めっき液滴残り）を防ぐことができる。
【図面の簡単な説明】
　【図１】本発明の実施の形態のめっき装置の構成を示す図である。
　【図２】本発明の実施の形態のめっき装置の一参考例の構成を示す図である。
　【図３】本発明の実施の形態の
めっき装置の他の参考例
　【符号の説明】
　１　　　　ウェハ
　２、１２、２２　　　めっき槽
　２Ａ　　　開口部
　２Ｂ　　　めっき液循環口入口
　２Ｃ　　　めっき液循環口出口
　２Ｄ　　　めっき液排出口
　２Ｅ　　　バルブ
　２Ｆ　　　めっき液循環口入口兼排出口
　３　　　　ウェハ支持部
　４　　　　アノード電極
　５　　　　カソードコンタクト電極
　６　　　　シール部材