(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
鉄の微粒子の表面に酸化ケイ素層が形成されたコアシェル構造の原料粒子に酸化処理を施す酸化処理工程と、
前記酸化処理された前記原料粒子に還元処理を施す還元処理工程と、
前記還元処理された前記原料粒子に窒化処理を施し、コアシェル構造を維持しつつ、鉄の微粒子を窒化させる窒化処理工程を有することを特徴とする磁性粒子の製造方法。
【請求項２】
前記酸化処理は、前記原料粒子に対して空気中で温度１００℃〜５００℃、１〜２０時間で行う請求項１に記載の磁性粒子の製造方法。
【請求項３】
前記還元処理は、水素ガスと窒素ガスの混合ガスを前記原料粒子に供給しつつ、温度１００℃〜５００℃、１〜２０時間で行う請求項１又は２に記載の磁性粒子の製造方法。
【請求項４】
前記窒化処理は、窒素元素を含むガスを前記原料粒子に供給しつつ、温度１４０℃〜２００℃、３〜５０時間で行う請求項１〜３のいずれか１項に記載の磁性粒子の製造方法。
【請求項５】
前記原料粒子は、球状であり、粒径が２００ｎｍ未満である請求項１〜４のいずれか１項に記載の磁性粒子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、窒化鉄の微粒子の表面に酸化ケイ素層が形成されたコアシェル構造の球状の磁性粒子、球状の磁性粒子の製造方法、及び球状の磁性粒子を用いた磁性体に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、ハイブリッド自動車及び電気自動車、エアコン及び洗濯機等の家電ならびに産業機械等のモータとして、省エネルギー、高効率、高性能なものが要求されている。このため、モータに用いられる磁石には、より高い磁力（保磁力、飽和磁束密度）が要求されている。現在、磁石を構成するための磁性粒子として、窒化鉄系の磁性粒子が注目されており、この窒化鉄系の磁性粒子について、種々の提案がなされている（特許文献１〜３参照）。【０００３】
特許文献１には、Ｆｅ１６Ｎ２単相からなる強磁性粒子粉末であって、Ｆｅ１６Ｎ２粒子粉末の粒子表面がＳｉ及び／又はＡｌ化合物で被覆され、強磁性粒子粉末のＢＨｍａｘが５ＭＧＯｅ以上である強磁性粒子が記載されている。この強磁性粒子は、鉄化合物粒子粉末の粒子表面をＳｉ化合物及び／又はＡｌ化合物で被覆した後、還元処理を行い、次いで、窒化処理を行って得ることができる。なお、出発原料である鉄化合物粒子粉末には、酸化鉄又はオキシ水酸化鉄が用いられる。【０００４】
特許文献２には、メスバウアースペクトルよりＦｅ１６Ｎ２化合物相が７０％以上で構成される強磁性粒子粉末であり、且つ、金属元素ＸをＦｅモル対比０．０４〜２５％含有するとともに、粒子表面がＳｉ及び／又はＡｌ化合物で被覆されており、強磁性粒子粉末のＢＨｍａｘが５ＭＧＯｅ以上である強磁性粒子粉末が記載されている。ここで、金属元素Ｘは、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｇａ、Ａｌ、Ｇｅ、Ｚｎ、Ｐｔ、Ｓｉから選ばれる一種又は二種以上である。
この強磁性粒子は、ＢＥＴ比表面積が５０〜２５０ｍ２／ｇ、平均長軸径が５０〜４５０ｎｍ、アスペクト比（長軸径／短軸径）が３〜２５であって金属元素Ｘ（Ｘは、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｇａ、Ａｌ、Ｇｅ、Ｚｎ、Ｐｔ、Ｓｉから選ばれる一種又は二種以上である）をＦｅモル対比０．０４〜２５％含有する酸化鉄又はオキシ水酸化鉄を出発原料として用いて、２５０μｍ以下のメッシュを通した鉄化合物粒子粉末について還元処理を行い、次いで、窒化処理を行って得られる。【０００５】
特許文献３には、メスバウアースペクトルよりＦｅ１６Ｎ２化合物相が８０％以上の割合で構成される強磁性粒子粉末であり、強磁性粒子は粒子外殻にＦｅＯが存在するとともにＦｅＯの膜厚が５ｎｍ以下である強磁性粒子粉末が記載されている。
この強磁性粒子粉末は、平均長軸径が４０〜５０００ｎｍ、アスペクト比（長軸径／短軸径）が１〜２００の酸化鉄又はオキシ水酸化鉄を出発原料として用い、Ｄ５０が４０μｍ以下、Ｄ９０が１５０μｍ以下になるよう凝集粒子分散処理を行い、更に２５０μｍ以下のメッシュを通した鉄化合物粒子粉末を１６０〜４２０℃にて水素還元し、１３０〜１７０℃にて窒化処理して得られる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１１−９１２１５号公報
【特許文献２】特開２０１２−６９８１１号公報
【特許文献３】特開２０１２−１４９３２６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、上述の特許文献１〜３では、短軸と長軸の長さが異なる磁性粒子が得られるものの、球状の磁性粒子を得ることができない。この短軸と長軸の長さが異なる磁性粒子は、磁気特性の異方性がある。また、特許文献１〜３で得られる磁性粒子は高温で還元処理する際に、融着する傾向にあり、分散性が悪い。【０００８】
本発明の目的は、前記従来技術に基づく問題点を解消し、窒化鉄の微粒子の表面に酸化ケイ素層が形成されたコアシェル構造の球状の磁性粒子を製造することができる磁性粒子の製造方法、球状の磁性粒子及び球状の磁性粒子を用いた磁性体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するために、本発明の第１の態様は、鉄の微粒子の表面に酸化ケイ素層が形成されたコアシェル構造の原料粒子に酸化処理を施す酸化処理工程と、酸化処理された原料粒子に還元処理を施す還元処理工程と、還元処理された原料粒子に窒化処理を施し、コアシェル構造を維持しつつ、鉄の微粒子を窒化させる窒化処理工程を有することを特徴とする磁性粒子の製造方法を提供するものである。【００１０】
酸化処理は、原料粒子に対して空気中で温度１００℃〜５００℃、１〜２０時間で行うことが好ましい。より好ましくは、酸化処理は温度２００℃〜４００℃、１〜１０時間で行う。
還元処理は、水素ガスと窒素ガスの混合ガスを原料粒子に供給しつつ、温度２００℃〜５００℃、１〜５０時間で行うことが好ましい。より好ましくは、還元処理は温度２００℃〜４００℃、１〜３０時間で行う。
窒化処理は、窒素元素を含むガスを原料粒子に供給しつつ、温度１４０℃〜２００℃、３〜５０時間で行うことが好ましい。より好ましくは、窒化処理は温度１４０℃〜１６０℃、３〜２０時間で行う。
原料粒子は、球状であり、粒径が２００ｎｍ未満であることが好ましく、より好ましくは、５〜５０ｎｍである。【００１１】
本発明の第２の態様は、窒化鉄の微粒子の表面に酸化ケイ素層が形成されたコアシェル構造を有する球状粒子であることを特徴とする磁性粒子を提供するものである。
本発明の第３の態様は、窒化鉄の微粒子の表面に酸化ケイ素層が形成されたコアシェル構造を有する球状粒子を用いて形成されたことを特徴とする磁性体を提供するものである。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、窒化鉄の微粒子の表面に酸化ケイ素層が形成されたコアシェル構造の球状の磁性粒子を得ることができる。また、得られた球状の磁性粒子は、表面が酸化ケイ素層で構成されているため、窒化鉄の微粒子同士が直接、接触しない。更には、絶縁体である酸化ケイ素層により、窒化鉄の微粒子が他の粒子と電気的に隔離され、磁性粒子間に流れる電流を抑制することができる。これにより、電流による損失を抑制することができる。
本発明の磁性粒子、及びこの磁性粒子を用いて形成された磁性体は、微粒子が窒化鉄で構成されているため、高い保磁力を有し、優れた磁気特性を有する。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】（ａ）は、本発明の磁性粒子を示す模式的断面図であり、（ｂ）は、原料粒子を示す模式的断面図である。
【図２】本発明の磁性粒子の製造方法を示すフローチャートである。
【図３】磁性粒子及び原料粒子の磁気ヒステリシス曲線（Ｂ−Ｈ曲線）の一例を示すグラフである。
【図４】（ａ）は、処理前の原料粒子のＸ線回折法による結晶構造の解析結果を示すグラフであり、（ｂ）は、酸化処理後の原料粒子のＸ線回折法による結晶構造の解析結果を示すグラフであり、（ｃ）は、酸化処理後に、還元処理し、更に窒化処理して得られた磁性粒子のＸ線回折法による結晶構造の解析結果を示すグラフである。
【図５】図４（ａ）〜（ｃ）に対応するものであり、（ａ）は処理前の原料粒子のＴＥＭ像を示す模式図であり、（ｂ）は図５（ａ）の拡大図であり、（ｃ）は酸化処理後の原料粒子のＴＥＭ像を示す模式図であり、（ｄ）は図５（ｃ）の拡大図であり、（ｅ）は磁性粒子のＴＥＭ像を示す模式図であり、（ｆ）は図５（ｅ）の拡大図である。
【図６】（ａ）、（ｂ）は、原料粒子の窒化処理後のＸ線回折法による結晶構造の解析結果を示すグラフであり、（ｃ）は、リファレンスであるＦｅ１６Ｎ２のＸ線回折法による結晶構造の解析結果を示すグラフであり、（ｄ）は、原料粒子の窒化処理前のＸ線回折法による結晶構造の解析結果を示すグラフであり、（ｅ）は、図６（ｂ）の要部拡大図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下に、添付の図面に示す好適実施形態に基づいて、本発明の磁性粒子の製造方法、磁性粒子及び磁性体を詳細に説明する。
図１（ａ）は、本発明の磁性粒子を示す模式的断面図であり、（ｂ）は、原料粒子を示す模式的断面図である。図２は、本発明の磁性粒子の製造方法を示すフローチャートである。図３は、磁性粒子及び原料粒子の磁気ヒステリシス曲線（Ｂ−Ｈ曲線）の一例を示すグラフである。
図１（ａ）に示すように、本実施形態の磁性粒子１０は、窒化鉄の微粒子１２（コア）の表面に、酸化ケイ素層（ＳｉＯ２層）１４（シェル）が形成されたコアシェル構造を有する球状粒子である。
磁性粒子１０は、球状粒子であり、その粒径が５０ｎｍ程度であるが、好ましくは、５〜５０ｎｍである。なお、粒径は比表面積測定から換算し、求めた値である。
【００１５】
磁性粒子１０において、窒化鉄の微粒子１２が、磁気特性を担うものである。窒化鉄としては、保磁力等の磁気特性の観点から、窒化鉄の中で、磁気特性に優れたＦｅ１６Ｎ２が最も好ましい。このため、微粒子１２は、Ｆｅ１６Ｎ２単相であることが最も好ましい。なお、微粒子１２がＦｅ１６Ｎ２単相の場合、磁性粒子１０をＦｅ１６Ｎ２／ＳｉＯ２複合微粒子とも表わす。
なお、微粒子１２は、Ｆｅ１６Ｎ２単相ではなく、他の窒化鉄が混合する組成であってもよい。
【００１６】
酸化ケイ素層１４は、微粒子１２を電気的に隔離し、他の磁性粒子等と微粒子１２が接触することを防ぐとともに、窒化鉄の微粒子１２の酸化等を抑制するものである。この酸化ケイ素層１４は絶縁体である。
磁性粒子１０は、窒化鉄の微粒子１２を有するため、高い保磁力を有し、優れた磁気特性を有する。微粒子１２がＦｅ１６Ｎ２単相である場合、後に詳細に説明するが、保磁力として、例えば、１７００Ｏｅ（約１３５．３ｋＡ／ｍ）が得られる。また、磁性粒子１０は、分散性も良好である。
また、磁性粒子１０は、絶縁体である酸化ケイ素層１４により、磁性粒子１０間に流れる電流を抑制することができ、電流による損失を抑制することができる。
このような磁性粒子１０を用いて形成した磁性体は、高い保磁力を有するとともに、優れた磁気特性を有する。磁性体としては、例えば、ボンド磁石が挙げられる。
【００１７】
次に、磁性粒子１０の製造方法について説明する。
磁性粒子１０は、図１（ｂ）に示す原料粒子２０を原料として用意する。
次に、図２に示すように、原料粒子２０に酸化処理を施し、鉄（Ｆｅ）の微粒子２２を酸化させる（ステップＳ１０）。その後、原料粒子２０に還元処理を施し、酸化された鉄（Ｆｅ）の微粒子２２を還元する（ステップＳ１２）。次に、原料粒子２０に窒化処理を施し、還元された鉄（Ｆｅ）の微粒子２２を窒化する（ステップＳ１４）。これにより、窒化鉄の微粒子１２を有する磁性粒子１０を製造することができる。
原料粒子２０は、鉄（Ｆｅ）の微粒子２２の表面に、酸化ケイ素層２４が形成されたコアシェル構造を有するものである。原料粒子２０をＦｅ／ＳｉＯ２粒子とも表わす。
原料粒子２０は、球状であり、その粒径が５０ｎｍ程度であるが、好ましくは、５〜５０ｎｍである。なお、粒径は比表面積測定から換算し、求めた値である。
【００１８】
上述のように酸化処理工程（ステップＳ１０）により鉄の微粒子２２を酸化し、その後、還元処理工程（ステップＳ１２）により、酸化処理した鉄の微粒子２２を還元した後、窒化処理工程（ステップＳ１４）により、鉄の微粒子２２を窒化し、窒化鉄、最も好ましくはＦｅ１６Ｎ２の微粒子にする。このとき、酸化ケイ素層２４は、安定した物質であり、酸化処理、還元処理及び窒化処理により、他の物質に変わることがない。このため、コアシェル構造が維持された状態で、コアの鉄の微粒子２２を酸化し、還元し、そして窒化し、窒化鉄の微粒子１２に変えて、図１（ａ）に示す磁性粒子１０が得られる。
【００１９】
製造された磁性粒子１０は、後に示すが各磁性粒子１０が凝集することなく、高い分散性を有する。
本発明では、原料粒子２０を、酸化処理、還元処理及び窒化処理することで、磁性粒子１０を製造することができる。
【００２０】
酸化処理の方法としては、原料粒子２０を、例えば、ガラス容器に入れ、この容器内に、空気を供給する。原料粒子２０に対して空気中で、例えば、温度１００℃〜５００℃、１〜２０時間で酸化処理がなされる。酸化処理の方法として、より好ましくは、温度２００℃〜４００℃、１〜１０時間で行う。
酸化処理は、温度が１００℃未満では、酸化が十分ではない。一方、温度が５００℃を超えると、原料粒子同士が融着する。更には、酸化反応が飽和し、酸化がそれ以上進行しない。
また、酸化処理は、酸化処理時間が１時間未満では、酸化が十分ではない。一方、酸化処理時間が２０時間を超えると、原料粒子同士が融着する。更には、酸化反応が飽和し、酸化がそれ以上進行しない。
【００２１】
還元処理の方法としては、酸化処理後の原料粒子２０を、例えば、ガラス容器に入れ、この容器内に、Ｈ２ガス（水素ガス）とＮ２ガス（窒素ガス）の混合気体を供給する。混合気体を供給した状態で、原料粒子２０に対して、例えば、温度２００℃〜５００℃、１〜５０時間で還元処理がなされる。還元処理の方法として、より好ましくは、温度２００℃〜４００℃、１〜３０時間で行う。
なお、混合気体の水素ガスの濃度は上限値が４体積％程度（爆発限界未満）である。
また、還元処理の方法には、上記混合ガス以外に、Ｈ２ガス（水素ガス）単体を用いてもよい。すなわち、還元処理に１００体積％の水素ガスを用いることもできる。ハンドリングの観点から、水素ガスの濃度は低い方が好ましい。
【００２２】
還元処理は、温度が２００℃未満では、還元が十分ではない。一方、温度が５００℃を超えると、原料粒子同士が融着するとともに、還元反応が飽和し、還元がそれ以上進行しない。
また、還元処理は、還元処理時間が１時間未満では、還元が十分ではない。一方、還元処理時間が５０時間を超えると、原料粒子同士が融着するとともに、還元反応が飽和し、還元がそれ以上進行しない。
【００２３】
窒化処理の方法としては、原料粒子２０を、例えば、ガラス容器に入れ、この容器内に、窒素源として、窒素元素を含むガス、例えば、ＮＨ３ガス（アンモニアガス）を供給する。ＮＨ３ガス（アンモニアガス）を供給した状態で、原料粒子２０に対して、例えば、温度１４０℃〜２００℃、３〜５０時間で窒化処理がなされる。窒化処理の方法として、より好ましくは、温度１４０℃〜１６０℃、３〜２０時間で行う。
窒化処理については、窒化処理温度が１４０℃未満では、窒化が十分ではない。また、窒化処理温度が２００℃を超えると、原料粒子同士が融着するとともに窒化が飽和する。
また、窒化処理時間は、３〜５０時間であることが好ましい。窒化処理時間が３時間未満では、窒化が十分ではない。一方、窒化処理時間が５０時間を超えると、原料粒子同士が融着するとともに窒化が飽和する。
【００２４】
原料として、上述のように図１（ｂ）に示す原料粒子２０を用いたが、これに限定されるものではない。原料としては、原料粒子２０と他の粒子が混在したものでもよい。他の粒子とは、例えば、原料粒子２０と同程度のサイズであり、鉄（Ｆｅ）の微粒子の表面に、酸化鉄層が形成されたコアシェル構造を有するものである。酸化鉄は特に限定されるものではなく、例えば、Ｆｅ２Ｏ３及びＦｅ３Ｏ４等である。
原料粒子２０と他の粒子が混在したものを原料として用いて、上述の一連の酸化処理工程、還元処理工程及び窒化処理工程を施した場合、他の粒子の割合が体積％で半分程度であっても、図１（ａ）に示す磁性粒子１０が形成されることはもちろんのこと、窒化鉄の微粒子（コア）の表面に酸化鉄層（シェル）が形成されたコアシェル構造を有する磁性粒子が形成されることを確認している。上記酸化鉄層を有する磁性粒子は、図１（ａ）に示す磁性粒子１０と同程度のサイズであることも確認している。しかも、磁性粒子１０と上記酸化鉄層を有する磁性粒子は固着せずに分散する。
【００２５】
なお、上述の原料粒子２０と他の粒子が混在したものを原料として用いて、窒化処理工程を施すだけで、他の粒子の割合が体積％で半分程度であっても、上述のように同程度のサイズで、磁性粒子１０と上記酸化鉄層を有する磁性粒子を形成することができ、しかも固着せずに分散することを確認している。このように、原料に原料粒子２０と他の粒子が混在したものを用いても、磁性粒子１０を得ることができ、加えて上述の酸化鉄層を有する磁性粒子を得ることができる。
【００２６】
本発明では、原料の原料粒子２０のコアシェル構造を維持して、コアの鉄の微粒子２２を酸化し、還元し、窒化して、窒化鉄の微粒子１２にすることができれば、酸化処理、還元処理及び窒化処理のいずれの方法も、上述の酸化処理方法、還元処理方法及び窒化処理方法に限定されるものではない。
【００２７】
なお、図１（ｂ）に示す原料粒子２０（Ｆｅ／ＳｉＯ２粒子）は、例えば、特許第４００４６７５号公報（酸化物被覆金属微粒子の製造方法）に開示されている熱プラズマを用いた超微粒子の製造方法により製造することができる。このため、その詳細な説明は省略する。なお、原料粒子２０（Ｆｅ／ＳｉＯ２粒子）を製造することができれば、原料粒子２０の製造方法は、熱プラズマを用いたものに限定されるものではない。
【００２８】
原料に用いた原料粒子２０と、磁性粒子１０の磁気特性を測定した。その結果を図３に示す。
図３に示すように、原料粒子２０は、符号Ａに示す磁気ヒステリシス曲線（Ｂ−Ｈ曲線）が得られ、磁性粒子１０は、符号Ｂに示す磁気ヒステリシス曲線（Ｂ−Ｈ曲線）が得られた。磁気ヒステリシス曲線Ａと磁気ヒステリシス曲線Ｂからわかるように、磁性粒子１０の方が磁気特性が優れている。磁性粒子１０は、コアを窒化鉄の微粒子１２とすることにより、コアが鉄の原料粒子２０に比して高い保磁力、例えば、１７００Ｏｅ（約１３５．３ｋＡ／ｍ）が得られる。また、飽和磁束密度として、９３．５ｅｍｕ／ｇ（約１．１５×１０−４Ｗｂ・ｍ／ｋｇ）が得られる。
【００２９】
本出願人は、原料として、平均粒径が１０ｎｍの原料粒子（Ｆｅ／ＳｉＯ２粒子）を用い、原料粒子（Ｆｅ／ＳｉＯ２粒子）に対して酸化処理、還元処理及び窒化処理を、その順で施し磁性粒子を形成した。製造過程の原料粒子及び生成された磁性粒子について、Ｘ線回折法による結晶構造の解析を行うとともに、ＴＥＭ（透過電子顕微鏡）を用いて状態の観察を行った。図４（ａ）〜（ｃ）及び図５（ａ）〜（ｆ）に示す結果が得られた。
図４（ａ）は、処理前の原料粒子のＸ線回折法による結晶構造の解析結果を示すグラフであり、（ｂ）は、酸化処理後の原料粒子のＸ線回折法による結晶構造の解析結果を示すグラフであり、（ｃ）は、酸化処理後に、還元処理し、更に窒化処理して得られた磁性粒子のＸ線回折法による結晶構造の解析結果を示すグラフである。
図５（ａ）〜（ｆ）は、図４（ａ）〜（ｃ）に対応するものであり、図５（ａ）は処理前の原料粒子のＴＥＭ像を示す模式図であり、（ｂ）は図５（ａ）の拡大図であり、図５（ｃ）は酸化処理後の原料粒子のＴＥＭ像を示す模式図であり、（ｄ）は図５（ｃ）の拡大図であり、図５（ｅ）は磁性粒子のＴＥＭ像を示す模式図であり、（ｆ）は図５（ｅ）の拡大図である。
【００３０】
酸化処理は、空気中にて、温度３００℃で４時間の条件で行った。
還元処理は、水素存在雰囲気にて、温度３００℃で１０時間の条件で行った。なお、水素存在雰囲気の形成には、Ｈ２ガス濃度１００体積％のＨ２ガス（水素ガス）を用いた。
窒化処理は、アンモニアガス雰囲気にて、温度１４５℃で１０時間の条件で行った。
【００３１】
図４（ａ）は原料粒子の結晶構造の解析結果であり、図５（ａ）は原料粒子のＴＥＭ像であり、（ｂ）は（ａ）の拡大図である。図４（ａ）に示すように、原料粒子の組成はＦｅ／ＳｉＯ２であり、図５（ａ）及び（ｂ）に示すように原料粒子はコアシェル構造である。
図４（ｂ）は酸化処理後の原料粒子の結晶構造の解析結果であり、図５（ｃ）は酸化処理後の原料粒子のＴＥＭ像であり、図５（ｄ）は図５（ｃ）の拡大図である。図４（ｂ）に示すように酸化鉄の回折ピークがあり、鉄（Ｆｅ）の微粒子が酸化されている。図５（ｃ）及び（ｄ）に示すように、酸化処理後の原料粒子はコアシェル構造である。
図４（ｃ）は得られた磁性粒子の結晶構造の解析結果であり、図５（ｅ）は磁性粒子のＴＥＭ像であり、（ｆ）は図５（ｅ）の拡大図である。図４（ｃ）に示すように窒化鉄（Ｆｅ１６Ｎ２）に変化しており、図５（ｅ）及び図５（ｆ）に示すように、磁性粒子はコアシェル構造である。また、各磁性粒子は、凝集することなく分散している。
【００３２】
比較のために、原料として、平均粒径が３３ｎｍの原料粒子（Ｆｅ／ＳｉＯ２粒子）を用い、原料粒子（Ｆｅ／ＳｉＯ２粒子）に対して酸化処理をせずに還元処理及び窒化処理を、その順で施した。酸化処理をせずに還元処理し、窒化処理した原料粒子について、Ｘ線回折法による結晶構造の解析を行ったところ、図６（ａ）、（ｂ）に示す結果が得られた。
図６（ａ）は、酸化処理をせずに水素ガス（１００体積％）雰囲気中にて還元処理３００℃で３時間還元処理した後、窒化処理温度１７５℃で５時間窒化処理した後の結晶構造の解析結果であり、図６（ｂ）は、酸化処理をせずに水素ガス（１００体積％）雰囲気中にて還元処理３００℃で３時間還元処理した後、窒化処理温度１８５℃で５時間窒化処理した後の結晶構造の解析結果である。図６（ｃ）は、リファレンスであるＦｅ１６Ｎ２のＸ線回折法による結晶構造の解析結果である。図６（ｄ）は、原料粒子の結晶構造の解析結果である。図６（ｅ）は、図６（ｂ）の領域Ｄの拡大図である。
酸化処理をせずに還元処理及び窒化処理を行った図６（ａ）、（ｂ）、（ｄ）とリファレンスである図６（ｃ）を比較すると、酸化処理をせずに還元処理後に窒化処理した場合はＦｅ１６Ｎ２が生成されるものの、Ｆｅ４Ｎも生成することがわかる。すなわち、酸化処理を行わない場合には、Ｆｅ１６Ｎ２単相を得ることができない。
【００３３】
本発明は、基本的に以上のように構成されるものである。以上、本発明の磁性粒子の製造方法、磁性粒子及び磁性体について詳細に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されず、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種々の改良又は変更をしてもよいのはもちろんである。
【符号の説明】
【００３４】
１０  磁性粒子
１２、２２  微粒子
１４、２４  酸化ケイ素層
２０  原料粒子
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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