(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
特にＥＵＶにおける動作のためのマイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系であって、
光伝播方向に関して前記光学系の瞳平面の上流に配置された複数の互いに独立に調節可能なミラー要素からなるミラー装置（２００）と、
光伝播方向に関して前記ミラー装置（２００）の上流に配置された少なくとも１つの偏光影響装置（１００）と、
を含み、
前記偏光影響装置（１００）は、第１の反射面（１１１，１１２，．．．）の群と第２の反射面（１２１，１２２，．．．）の群を有し、
前記第１の反射面（１１１，１１２，．．．）は、互いに独立に傾斜可能であり、光学系の動作中に、該第１の反射面（１１１，１１２，．．．）のそれぞれ１つで反射された光は、該第１の反射面（１１１，１１２，．．．）の該傾斜に依存して前記第２の反射面（１２１，１２２，．．．）のそれぞれ異なる１つを通じて前記ミラー装置（２００）上に向けられることができ、
光学系の前記動作中に、光が、前記第１の反射面（１１１，１１２，．．．）の及び／又は前記第２の反射面（１２１，１２２，．．．）のそれぞれ１つの上に各場合に入射角Θ＝ΘB±５°で入射し、ΘBは、光学系の動作波長での該反射面（１１１，１１２，．．．）に対するブリュースター角を表す、
ことを特徴とする光学系。
【請求項２】
前記第１の反射面（１１１，１１２，．．．）は、各場合に２つの互いに垂直な傾斜軸の周りに各場合に互いに独立に傾斜可能であることを特徴とする請求項１に記載の光学系。
【請求項３】
光学系の前記動作中に、前記第２の反射面（１２１，１２２，．．．）のそれぞれ１つによって反射される光線が、それぞれの前記第１の反射面（１１１，１１２，．．．）での先行反射の前の該光線の入射方向から最大で±１５°だけ外れる出力方向に反射されることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の光学系。
【請求項４】
前記偏光影響装置（１００）は、光学系の前記動作中にそれぞれの前記第１の反射面（１１１，１１２，．．．）上に入射する光をそれぞれの前記第２の反射面（１２１，１２２，．．．）から射出する直線偏光光に変換することを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の光学系。
【請求項５】
光学系の前記動作中にそれぞれの前記第１の反射面（１１１，１１２，．．．）上に入射する前記光は、非偏光状態又は円偏光状態にあることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の光学系。
【請求項６】
前記第１の反射面（１１１，１１２，．．．）の群は、複数の互いに独立に調節可能なストリップミラーを有するストリップミラーユニット（１１０）として具現化されることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の光学系。
【請求項７】
前記第１の反射面（１１１，１１２，．．．）は、部分透過性として構成されることを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の光学系。
【請求項８】
前記第２の反射面（１２１，１２２，．．．）の群は、それが光学系の前記動作中に前記ミラー装置（２００）を完全に照明するように構成されることを特徴とする請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の光学系。
【請求項９】
前記偏光影響装置（１００）は、前記第１の反射面（１１１，１１２，．．．）の少なくとも１つの設定において、光学系を通過する光の偏光状態を不変のままに残すことを特徴とする請求項１から請求項８のいずれか１項に記載の光学系。
【請求項１０】
前記偏光影響装置（１００）は、光学系の瞳平面に少なくとも近似的にタンジェンシャルな偏光分布又は少なくとも近似的にラジアルな偏光分布を発生させることを特徴とする請求項１から請求項９のいずれか１項に記載の光学系。
【請求項１１】
ＥＵＶにおける動作に向けて設計されたマイクロリソグラフィ投影露光装置の照明デバイスであって、
請求項１から請求項１０のいずれか１項に記載の光学系、
を含むことを特徴とする照明デバイス。
【請求項１２】
照明デバイスと投影レンズとを含むマイクロリソグラフィ投影露光装置であって、
前記照明デバイスは、請求項１１に従って具現化される、
ことを特徴とするマイクロリソグラフィ投影露光装置。
【請求項１３】
マイクロリソグラフィによって微細構造化構成要素を生成する方法であって、
感光材料からなる層が少なくとも部分的に付けられた基板を与える段階と、
結像される構造を有するマスクを与える段階と、
請求項１２に記載のマイクロリソグラフィ投影露光装置を与える段階と、
前記投影露光装置を用いて前記マスクの少なくとも一部を前記層の領域上に投影する段階と、
を含むことを特徴とする方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
〔関連出願への相互参照〕
本出願は、両方共に２０１２年１２月１４日出願のドイツ特許出願ＤＥ  １０  ２０１２  ２２３  ２３３．８及びＵＳ  ６１／７３７，１５３の優先権を主張するものである。これらの出願の内容は、これにより引用によって組み込まれる。
【０００２】
本発明は、マイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系に関する。
【背景技術】
【０００３】
マイクロリソグラフィは、例えば、集積回路又はＬＣＤのような微細構造化構成要素を生成するのに使用される。マイクロリソグラフィ処理は、照明デバイスと投影レンズとを含むいわゆる投影露光装置に実施される。この場合に、照明デバイスを用いて照明されたマスク（＝レチクル）の像は、マスク構造を基板の感光コーティングに転写するために感光層（フォトレジスト）で被覆されて投影レンズの像平面に配置された基板（例えば、シリコンウェーハ）上に投影レンズを用いて投影される。
【０００４】
ＥＵＶ範囲、すなわち、例えば、約１３ｎｍ又は約７ｎｍの波長に対して設計された投影レンズでは、適切な光透過性屈折材料の利用可能性の欠如に起因して、結像処理のための光学構成要素としてミラーが使用される。
【０００５】
投影露光装置の作動中に、結像コントラストを最適化するために、瞳平面内及び／又はレチクル内の特定の偏光分布を照明デバイスにおいて目標を定めた方式で設定し、かつ投影露光装置の作動中にこの偏光分布に変更を加えることができることが必要である。
【０００６】
ＥＵＶ範囲に向けて設計された投影露光装置において偏光分布を変更することに関する従来技術に関して、単なる例として、ＤＥ  １０  ２００８  ００２  ７４９  Ａ１、ＵＳ  ２００８／０１９２２２５  Ａ１、ＷＯ  ２００６／１１１３１９  Ａ２、及びＵＳ  ６，９９９，１７２  Ｂ２を参照されたい。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】ＤＥ  １０  ２００８  ００２  ７４９  Ａ１
【特許文献２】ＵＳ  ２００８／０１９２２２５  Ａ１
【特許文献３】ＷＯ  ２００６／１１１３１９  Ａ２
【特許文献４】ＵＳ  ６，９９９，１７２  Ｂ２
【特許文献５】ＵＳ  ２０１２／０２０６７０４  Ａ１
【特許文献６】ＥＰ  １  ３５６  ４７６  Ｂ１
【特許文献７】ＤＥ  １０  ２００８  ０４１  ８０１  Ａ１
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、投影露光装置における偏光分布の柔軟な設定を可能にする特にＥＵＶにおける作動のためのマイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
この目的は、独立請求項１の特徴に従って達成される。
【００１０】
特にＥＵＶにおける作動のためのマイクロリソグラフィ投影露光装置の本発明による光学系は、複数の互いに独立に調節可能なミラー要素からなるミラー装置と、光伝播方向に関してミラー装置の上流に配置された少なくとも１つの偏光影響装置とを含み、偏光影響装置は、第１の反射面の群と第２の反射面の群を有し、第１の反射面は、互いに独立に傾斜可能であり、光学系の作動中に、第１の反射面のそれぞれ１つで反射された光は、第１の反射面の傾斜に依存して第２の反射面のそれぞれ異なる１つを通じてミラー装置上に向けることができる。
【００１１】
一実施形態によれば、第１の反射面は、各場合に２つの互いに垂直な傾斜軸の周りに各場合に互いに独立に傾斜可能である。更に、一実施形態によれば、ΘBが光学系の動作波長での当該反射面に対するブリュースター角を表す時に、光学系の作動中に、光は、第１の反射面のそれぞれ１つ及び／又は第２の反射面のそれぞれ１つの上に各場合に入射角Θ＝ΘB±５°で入射する。
【００１２】
本発明は、特に、偏光影響装置内で最初は非偏光状態又は円偏光状態にある入力光（特にＥＵＶ光）を互いに傾斜可能な第１の反射面の群からのそれぞれ１つを通じ、かつ第２の反射面の群からのそれぞれ１つを通じてミラー装置上に向けることができるという事実を利用して、この入力光から異なる偏光方向を有する直線偏光出力光を生成するという概念に基づいている。この場合に、望ましい偏光方向を有する直線偏光は、少なくとも１つのものが実質的にブリュースター角で発生する２つの連続反射を通じて射出光に対してそれぞれ設定される。
【００１３】
それぞれの反射面においてブリュースター角で発生する反射に起因して、偏光影響装置によって反射されたそれぞれの光は、直線偏光状態（それぞれの反射面に対してｓ偏光状態）にあり、光学系内の偏光方向は、それぞれの反射面の向きに依存する（すなわち、第１の反射面の場合に、反射面の傾斜がそれぞれ発生する際に中心とする軸に依存する）。ＥＵＶ系におけるこのブリュースター角は、一般的に約４３°である（なぜならば、ＥＵＶ波長の全ての適切な層材料の１５ｎｍの屈折率は値１に近いからである）。その結果、本発明による偏光影響装置において、第１の反射面のそれぞれ１つの異なる傾斜の結果として第２の反射面のそれぞれ異なる１つが選択され、その結果、同時に各々当該光線に対して生成される直線偏光の異なる偏光方向が生成されるように第１の反射面が互いに独立に傾斜可能であるという事実により（特に各場合に２つの互いに垂直な傾斜軸の周りに）、第２の反射面上に入射し、そこから射出する光線の偏光方向を変更することができる。
【００１４】
その結果、本発明による光学系を含む照明デバイスでは、本明細書でより詳細に説明するように、低いエタンデュを有するコヒーレント光源（例えば、シンクロトロン又は自由電子レーザ）から始めると、ミラー装置の場所に生成される照明視野、又は最終的にレチクル平面に更に生成される照明視野と同じ形状又は同じアスペクト比を有する視野を張ることができる。照明デバイス内で最初に張られ、内部で光が非偏光状態又は円偏光状態にある視野から、偏光影響装置内の第１の反射面及び第２の反射面それぞれにおける連続反射の目標を定めた選択を用いて、異なる偏光方向を有する直線偏光を有する複数の個々の視野が生成され、次いで、これらの個々の視野は、ミラー装置の場所で組み合わされ、その後にミラー装置は、下流の光学要素（最も単純な場合は、凹ミラー）を用いてマスク平面に少なくとも近似的に結像される。更に、ミラー装置は、個々のミラーの目標を定めた角度位置を用いて、瞳平面に対応して望ましい強度分布及び偏光分布を発生させることができる。この場合に、ミラー装置の異なる領域は、異なる偏光方向を用いて照明することができる。
【００１５】
本出願の意味の範囲では、「反射面」という表現は、以下により詳細に説明するように部分的に透過性を有する面も包含すると考えられたい。
【００１６】
一実施形態によれば、光学系の作動中に、第２の反射面のそれぞれ１つによって反射される光線は、それぞれの第１の反射面における先行反射の前の当該光線の入射方向に対してほぼ平行な出力方向に反射される。この場合に、一実施形態によれば、光学系の作動中に、第２の反射面のそれぞれ１つによって反射される光線は、それぞれの第１の反射面における先行反射の前の当該光線の入射方向から最大で±１５°、特に最大で±１０°、より具体的には最大で±５°だけ外れる出力方向に反射される。この場合に、好ましくは、第２の反射面から射出する光ビームを有限距離の場所にあるミラー装置上で組み合わせるために、出力方向の僅かな傾斜が与えられる。
【００１７】
一実施形態によれば、偏光影響装置は、光学系の作動中に、それぞれの第１の反射面上に入射する光をそれぞれの第２の反射面から射出する直線偏光光に変換する。この場合に、それぞれの第２の反射面から射出する直線偏光光の電気的光ベクトルは、第１の反射面における光の入射方向と反射方向とによって定められる平面に対して実質的に垂直である。
【００１８】
一実施形態によれば、光学系の作動中に、それぞれの第１の反射面上に入射する光は、非偏光状態又は円偏光状態にある。しかし、本発明は、非偏光光又は円偏光光から直線偏光光への変換に限定されない。更に別の実施形態又は用途では、本発明は、直線偏光方式で入射する光と共に使用することができる。この場合に、以下に説明するように、元の偏光状態を第１の反射面又は第２の反射面で変更されることなくかつ反射損失なく瞳平面内に向けるために、第１の反射面の傾斜機能を同じく使用することができる。
【００１９】
第１の反射面の群は、特に、複数の互いに独立に調節可能なストリップミラーを有するストリップミラーユニットとして具現化することができる。しかし、本発明は、第１の反射面のストリップ状形状に限定されず、従って、これらの反射面は、具体的な光学設計に基づいて他の適切な形状を有することができる。
【００２０】
一実施形態によれば、第２の反射面の群は、光学系の作動中にミラー装置を完全に照明するように構成され、ミラー装置の互いに異なる領域は、異なる第２の反射面から射出して異なる偏光方向を有する光を用いて照明することができる。
【００２１】
一実施形態によれば、偏光影響装置は、第１の反射面の少なくとも１つの設定において光学系を通過する光の偏光状態を不変のままに残す。この場合に、特に第１の反射面は、生成された（例えば、非偏光光を生成する光源により）照明光が、第１又は第２の反射面での反射なしに、従って、そのような反射に関連付けられた強度損失もなしに不変の偏光状態を有して瞳平面内に通過するように、光学ビーム経路から「逸らす」ことができる。
【００２２】
一実施形態によれば、偏光影響装置は、少なくとも近似的にタンジェンシャルな偏光分布又は少なくとも近似的にラジアルな偏光分布を光学系の瞳平面に生成する。それ自体公知の方式で高コントラスト結像を可能にする「タンジェンシャル偏光」（又は「ＴＥ偏光」）は、個々の直線偏光光線の電界強度ベクトルの振動平面の向きが光学系軸に向く円の半径に対してほぼ垂直に定められた偏光分布を意味すると理解される。「ラジアル偏光」（又は「ＴＭ偏光」）は、個々の直線偏光光線の電界強度ベクトルの振動平面の向きが光学系軸に関してほぼ半径方向に定められた偏光分布を意味すると理解される。「少なくとも近似的に」タンジェンシャル又はラジアルな偏光分布は、上述の条件がほぼ満たされる偏光分布（例えば、ｘ方向に互いに対向して置かれた照明極がｙ偏光状態にあり、及び／又はｙ方向に互いに対向して置かれた照明極がｘ偏光状態にある四重極照明設定又は二重極照明設定におけるもの）を意味すると理解される。
【００２３】
更に別の態様によれば、本発明は、上述の特徴を有する光学系を含むＥＵＶ作動に向けて設計されたマイクロリソグラフィ投影露光装置の照明デバイスに関する。
【００２４】
本発明は、更に、上述の特徴を有する光学系を含む照明デバイスと投影レンズとを含むマイクロリソグラフィ投影露光装置、並びにマイクロリソグラフィによって微細構造化構成要素を生成する方法に関する。
【００２５】
本発明の更に別の構成は、本明細書及び従属請求項から得ることができる。
【００２６】
本発明を添付図面に示す例示的実施形態に基づいて以下により詳細に説明する。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明の根底にある原理を解説するための概略図である。
【図２】ＥＵＶ作動に向けて設計された投影露光装置の照明デバイスの１つの基本的に可能な構成を解説するための概略図である。
【図３】ａ及びｂは、本発明の根底にある原理を解説するための更に別の概略図である。
【図４】本発明の更に別の実施形態を解説するための概略図である。
【図５】本発明を実現することができるマイクロリソグラフィ投影露光装置の可能な構成を解説するための概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
図１及び図２は、照明デバイス内の本発明による光学系の例示的実施形態を解説するための概略図を示している。
【００２９】
下記では、最初に本発明の根底にある原理を図１及び図３を参照して解説する。
【００３０】
図１により、コヒーレント光源（図示せず）からの光は、最初に、下記でより詳細に説明する偏光影響装置１００上に描いた座標系に関してｚ方向に入射する。光源は、好ましくは、ゼロ値に近い小さいエタンデュを生成し、例えば、シンクロトロン又は自由電子レーザとすることができる。更に、光源によって生成される光が有意な支配的偏光方向を持たないように、好ましくは、非偏光光又は円偏光光のいずれかを使用する光源が使用される。
【００３１】
偏光影響装置１００は、図１に全く概略的に有意に簡略化した方式で示すように、例示的実施形態では複数の互いに独立に調節可能なストリップミラーを有するストリップミラーユニット１１０として具現化される第１の反射面１１１，１１２，．．．の第１の群を有する。これらのストリップミラー又は第１の反射面１１１，１１２，．．．で反射される光をそれぞれのストリップミラーの傾斜に依存して原理的にあらゆる望ましい方式で設定することができる異なる立体角に反射することができるように、これらのストリップミラー又は第１の反射面１１１，１１２，．．．は、各々２つの互いに垂直な傾斜軸（例示的実施形態ではｘ方向とｙ方向に延びる）の周りに傾斜可能である。
【００３２】
冒頭で上述したように好ましくは非偏光又は円偏光のものである第１の反射面１１１，１１２，．．．上に入射する光の入力偏光状態を別様に選択可能な偏光方向を有する直線偏光に変換するために、ストリップミラー又は第１の反射面１１１，１１２，．．．は、各々それぞれの第１の反射面１１１，１１２，．．．上に入射する光がブリュースター角（該当動作波長に適用可能な）で入射するように任意の望ましい軸（例えば、ｘ軸、ｙ軸、又はｘ軸とｙ軸の間の角二等分線）の周りに傾斜され、この場合に、特に本発明によって考えられるＥＵＶ波長に対するこのブリュースター角は約４３°である。ＥＵＶにおいて第１及び第２の反射面に使用することができる１つの適切なＨＲ層材料は、例えば、ＭｏＳｉ（すなわち、シリコン基板上で交替するモリブデン層−シリコン層）である。
【００３３】
更に、偏光影響装置１００は、図１に略示するように、ストリップミラーユニット１１０の全周囲に配置された第２の反射面１２１，１２２，．．．の群を有し、ストリップミラー又は第１の反射面１１１，１１２，．．．で反射された光を第１の反射面の傾斜角に依存して第２の反射面１２１，１２２，．．．の異なる１つの上にそれぞれ向けることを可能にする。
【００３４】
第１の反射面１１１，１１２，．．．でブリュースター角で発生する反射に起因して、これらの反射面に対してｓ偏光状態にある光は、可能な最大限度まで反射され、それに対してこれらの反射面に対してｐ偏光状態にある光は、可能な最大限度まで透過されるか又は材料内に吸収される。その結果、関連の第１の反射面１１１，１１２，．．．で反射される光は、それぞれの第１の反射面１１１，１１２，．．．に対してｓ偏光状態にあり、次いで、それぞれの第１の反射面１１１，１１２，．．．のその時に設定されている向きとほぼ同じ向きを有する第２の反射面１２１，１２２，．．．上に入射する。その結果、第２の反射面１２１，１２２，．．．で反射された光は、それぞれの第１の反射面１１１，１１２，．．．上に入射する前のそれぞれの伝播方向に対してほぼ平行に伝播するが、この時点では直線偏光状態にあり、この直線偏光の偏光方向は、光が反射された関連の第２及び第１の反射面の向きに依存する。
【００３５】
言い換えれば、図３ａに全く概略的に示すように、第２の反射面と第１の反射面との組合せ効果は、それぞれ望ましい偏光方向を有する直線偏光と共に、導入される元の光伝播方向に対する追加の角度なしにそれぞれの光ビームのオフセットのみをもたらす。
【００３６】
理解を容易にする図３ａにある図は、光学系の実際の設計において正確には遵守されない。実際には、ミラー装置上で光ビームを組み合わせるために、好ましくは、図３ｂに従ってそれぞれの第２の反射面１２１は若干傾斜される。しかし、この角度は、実質的に入射光ビームと反射光ビームとによって張られる平面に存在するので、それによって望ましい偏光状態が損ねられることはない。
【００３７】
図２（ｙｚ平面内の断面に対応する）は、ストリップミラー又は第１の反射面１１１，１１２，．．．に対する第２の反射面１２１，１２２，．．．の配置を解説するように機能し、簡単で明確な例示の理由から、図２には２つのストリップミラー又は第１の反射面１１１及び１１２と、同じく２つの第２の反射面１２１、１２２とのみを例示している。従って、各々４つの第１の反射面１１１〜１１４及び４つの第２の反射面１２１〜１２４を含む図１の概略図と比較すると、図２には半数の反射面しか例示していない。
【００３８】
原理的に任意の個数の第１の反射面１１１，１１２，．．．及び／又は第２の反射面１２１，１２２，．．．を設けることができるという範囲で図１の例示も有意に簡略化したものであり、同じ向きを有する複数のストリップミラー又は第１の反射面１１１，１１２，．．．が、ストリップ毎に１つの同じ第２の反射面１２１，１２２，．．．を照明するので、各々複数のストリップミラー又は第１の反射面１１１，１１２，．．．によって光を群で１つの同じ第２の反射面１２１，１２２，．．．上に向けることができる。
【００３９】
単なる例として（本発明が限定されることなく）、ストリップミラーユニット１１０は、例えば、２０個から４０個までのストリップミラーを含むことができ、そのうちで（同じく単なる例として）４つから８つの第２の反射面１２１，１２２，．．．を上述の方式で「アドレス指定」することができる（これは、光が関連の第２の反射面上に向けられること、すなわち、第２の反射面が、関連の第１の反射面によって「選択」されることを意味すると理解されたい）。
【００４０】
図１、図２、及び図３ｂから分るように、第２の反射面１２１，１２２，．．．での反射の後に、個々の光ビームは、複数の互いに独立に調節可能なミラー要素（２つの互いに垂直な傾斜軸の周りに回転傾斜可能）を有する（一般的に行列状の構造で）ＭＭＡ（「マイクロミラーアレイ」）の形態にあるミラー装置２００上に入射する。この場合に、ミラー装置２００は、好ましくは、第２の反射面１２１，１２２，．．．の群によって全体的に完全に照明され、第２の反射面１２１，１２２，．．．の各々は、対応する傾斜角で向けられた第１の反射面１１１，１１２，．．．によって照明される。特定の例示的実施形態において、図２のミラー装置２００の下側領域２００ａは、ｙ偏光方式で（すなわち、ｙ方向に直線偏光状態にあり、反射面１２１の領域１２１ａから射出する光で）照明され、ミラー装置２００の上側領域２００ｂは、ｘ偏光方式で（すなわち、ｘ方向に直線偏光状態にあり、反射面１２２から射出する光で）照明される。
【００４１】
ミラー装置２００のミラー要素は、本発明による光学系において２つのタスクを満足させる。
【００４２】
第１に、ミラー装置２００の各ミラー要素は、そのそれぞれの傾斜位置に基づいて、第２の反射面１２１，１２２，．．．のうちの１つを（同時にそれぞれ生成される直線偏光の特定の偏光方向を）選択する。
【００４３】
第２に、ミラー装置２００の関連のミラー要素は、ミラー装置２００上に入射する光を予め定められた強度分布又は望ましい照明設定に従って選択された偏光方向を用いてそれぞれの第２の反射面１２１，１２２，．．．から光学系の瞳平面内の望ましい場所の上に向ける。
【００４４】
ミラー装置２００の互いに独立に調節可能な個々のミラーを用いて、ミラー装置２００の個々のミラー上に入射する光線を各々下流にある光学系の瞳平面内の望ましい場所の上に向けることにより、柔軟な瞳成形をもたらすことができる。この場合に、ミラー装置２００のミラーは、全体的に、瞳平面内のあらゆる任意点を原則的にはアドレス指定することができる（従って、固定の段階又は格子においてのみ可能な瞳照明という意味での「瞳量子化」は存在しない）。瞳照明の高い柔軟性は、光源の小さいエタンデュとの協働で可能になる。
【００４５】
本発明は、記述した例示的実施形態において選択した視野平面に対して共役な平面内へのミラー装置の配置に限定されない。更に別の例示的実施形態において、照明系におけるミラー装置の異なる使用又は機能を選択することができる。一例として、ミラー装置は、ＵＳ  ２０１２／０２０６７０４  Ａ１に記載されているフライアイコンデンサーと類似の概念を用いて使用することができる。
【００４６】
図２により、ミラー装置２００から射出する光は、ミラー２５０を通じてマスクＭ又はレチクルを含むレチクル平面上に向けられ、上述の瞳平面は、一例としてミラー２５０上又は任意の他の位置に（例えば、ミラー２５０の前側焦点面内にも）置くことができる。
【００４７】
本発明による光学系（再度図２を参照されたい）では、特に、小さいエタンデュを有する最初はコヒーレントな光源から発する結果として、ミラー装置２００の場所に生成される照明視野１２５と同じ形状又は同じアスペクト比を有する視野１０５が張られる。従って、好ましくは、非偏光状態又は円偏光状態にある最初に張られた視野１０５から、偏光影響装置１００内の第１の反射面及び第２の反射面それぞれにおける連続反射の目標を定めた選択を用いて、異なる偏光方向を有する（第２の反射面に対応して）直線偏光を有する複数の個々の視野が生成され、次いで、これらの個々の視野は、ミラー装置２００の場所で組み合わされ、それによって瞳平面に対応する望ましい強度分布及び偏光分布が生成される。
【００４８】
この偏光分布は、特に、少なくとも近似的にタンジェンシャル偏光分布とすることができ（本発明がこれに限定されることなく）、このタンジェンシャル偏光分布は、それ自体公知の方式で高コントラスト結像を可能にする。更に、この偏光分布は、例えば、少なくとも近似的にラジアル偏光分布とすることができる。
【００４９】
ミラー装置２００の個々のミラー要素に対してそれぞれ必要とされるか又は調節可能な傾斜角度範囲を解説するために、下記では再度図１を参照されたい。
【００５０】
図１に例示的に描いた破線の曲線１５０によって示すように、全ての第２の反射面１２１，１２２，．．．内の同じ位置（この例では各々第２の反射面１２１，１２２，．．．の左上コーナにある位置）は、ミラー装置２００内で対応する位置に（すなわち、この例ではまた左上コーナに）置かれたミラー装置２００のそれぞれのミラー要素によってアドレス指定することができる。言い換えれば、ミラー装置２００の各ミラー要素は、傾斜位置に基づいて、第２の反射面１２１，１２２，．．．の各々からのそれぞれ対応する位置からの反射光を捕捉し、それを瞳平面内の望ましい位置の上に向けることができる。
【００５１】
本発明は、瞳平面内の直線偏光（時に変化する偏光方向を有する）の生成に限定されない。むしろ、例えば、瞳平面内で非偏光光が望ましい用途では、第１の反射面１１１，１１２，．．．又はストリップミラーの傾斜機能は、生成された（例えば、非偏光光を生成する光源により）照明光が、不変の偏光状態を有し、すなわち、特に第１又は第２の反射面での反射なしにミラー装置２００上へと通過し、その場合に、そうでなければ第１又は第２の反射面での上述の反射に関連付けられる強度損失もひいては回避することができるように、第１の反射面１１１，１１２，．．．を光学ビーム経路から「スウィングアウト（ｓｗｉｎｇ  ｏｕｔ）」するためにもまた使用することができる。
【００５２】
更に、第１の反射面１１１，１１２，．．．の傾斜機能は、異なる元の偏光状態（例えば、使用される光源、更に円偏光又はそれ以外に一定の直線偏光に依存して）を不変の偏光状態で第１の反射面１１１，１１２，．．．又は第２の反射面１２１，１２２，．．．での反射損失なしにミラー装置２００上に向けるためにも使用することができる。
【００５３】
本発明は、第１の反射面１１１，１１２，．．．での（ほぼ）完全な反射に限定されない。更に別の実施形態において、第１の反射面１１１，１１２，．．．は、入射ＥＵＶ放射線のうちのかなりの分量（単なる例として７０％程度のものとすることができる）を透過させるように構成することができる。この場合に、結果として光損失が全体的に低減されるように、反射された分量に対して直交する偏光方向を有する光は、元の入射方向に沿って伝播し、同じく望ましい偏光照明設定に依存して使用することができる（例えば、ｘ方向に互いに対向して置かれた照明極がｙ偏光状態にあり、ｙ方向に互いに対向して置かれた照明極がｘ偏光状態にある「ｘ−ｙ偏光」を有する四重極照明設定を生成するために）。
【００５４】
この場合に、相応に部分的に透過性を有する反射面は、例えば、ジルコニウム膜（単なる例として約５０μｍとすることができる厚みを有する）によって実現することができる。電磁放射線の望ましくない成分をフィルタリングで除去するためにスペクトルフィルタをもたらすためのＥＵＶリソグラフィにおけるジルコニウム膜の使用は、例えば、ＥＰ  １  ３５６  ４７６  Ｂ１及びＤＥ  １０  ２００８  ０４１  ８０１  Ａ１から公知であり、ＥＰ  １  ３５６  ４７６  Ｂ１に記載されているように、ジルコニウム材料の酸化を防止するために、ジルコニウム膜は、２つのシリコン層の間に配置することができる。更に、反射率を高めるためのＭｏＳｉコーティングも可能である。
【００５５】
図５は、本発明を実現することができるマイクロリソグラフィ投影露光装置の可能な構成を解説するための概略図を全く概略的に示している。
【００５６】
図５により、コヒーレント光源５０１（例えば、シンクロトロン又は自由電子レーザ）からの光は、上述したように本発明による偏光影響装置１００と瞳生成のための光学ユニット５０４内に中間視野平面に置かれたミラー装置２００とを含む照明デバイス５０３上に光学ビーム案内（誘導）及び拡大ユニット５０２を通じて入射する。照明デバイスによって照明されるマスク（レチクル）５０５が、下流の投影レンズ５０６の物体平面に置かれ、投影レンズ５０６は、マスク５０５上の構造を像平面に配置されたウェーハ５０７上に結像する。
【００５７】
本発明を特定の実施形態に基づいて記述したが、例えば、個々の実施形態の特徴の組合せ及び／又は交換によって多くの変形及び代替実施形態が当業者には明らかであろう。従って、そのような変形及び代替実施形態が本発明によって同時に包含され、かつ本発明の範囲が添付の特許請求の範囲及びその均等物の意味の範囲でのみ限定されることは当業者には説明するまでもない。
【符号の説明】
【００５８】
１００  偏光影響装置
１１０  ストリップミラーユニット
１１１、１１２、１１３、１１４  第１の反射面
１２１、１２２、１２３、１２４  第２の反射面
２００  ミラー装置
【図１】
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【図２】
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【図３ａ）】
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【図３ｂ）】
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【図４】
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【図５】
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