【事件の表示】
　特許第３３９２３９８号「セリウム系研摩材、その品質検査方法および製造方法」の請求項１ないし１３に係る特許に対する特許異議の申立てについて、次のとおり決定する。
【結　論】
　訂正を認める。
　特許第３３９２３９８号の請求項１ないし８に係る特許を維持する。
【理　由】
１．手続の経緯
　本件特許第３３９２３９８号の請求項１〜１３に係る発明は、平成１２年９月２０日に出願され、平成１５年１月２４日にその特許権の設定登録がなされ、その後、乗田淳一（以下、「異議申立人」という。）から特許異議の申立てがなされ、取消理由が通知され、その指定期間内である平成１６年４月９日に訂正請求がなされたものである。
　
２．訂正の適否についての判断
（ア）訂正の内容
　特許権者が求めている訂正の内容は、訂正請求書に添付した訂正明細書のとおりに訂正すること、即ち、特許請求の範囲の請求項９〜１３を削除することである。
　
（イ）訂正の目的の適否、新規事項の有無及び拡張・変更の存否
　上記の訂正事項は、請求項を削除するものであるから特許請求の範囲の減縮を目的とする明細書の訂正に該当するとともに、願書に添付した明細書又は図面に記載した事項の範囲内の訂正に係るものであり、また、実質上特許請求の範囲を拡張し、又は変更するものでもない。
　
（ウ）むすび
　以上のとおりであるから、上記訂正は、特許法等の一部を改正する法律（平成１５年法律第４７号）附則第２条第７項の規定によりなお従前の例によるとされる、平成１５年法律第４７号による改正前の特許法第１２０条の４第２項及び同条第３項において準用する特許法第１２６条第２項及び第３項の規定に適合するので、当該訂正を認める。
　
３．特許異議の申立て等についての判断
（ア）本件発明
　前述のように、本件訂正は適法なものであるので、本件特許の請求項１〜８に係る発明は、上記訂正に係る訂正明細書の特許請求の範囲請求項１〜８に記載された次のとおりのものである。
「【請求項１】フッ素成分を含有し、かつＬａおよびＮｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有し、比表面積が１２ｍ2／ｇ以下であるセリウム系研摩材の研摩特性に関する品質検査方法であって、
　銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα1線を用いたＸ線回折において、
　２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、そのピーク強度をＡ、
　２θ＝２７．５±０．３ｄｅｇであって、かつピークａより低角度にある最大ピークをｂ、そのピーク強度をＢとしたとき、
　Ｂ／Ａの値に基づいて品質検査を行うことを特徴とするセリウム系研摩材の品質検査方法。
【請求項２】フッ素成分を含有し、かつＬａおよびＮｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有し、比表面積が１２ｍ2／ｇ以下であるセリウム系研摩材の研摩特性に関する品質検査方法であって、
　銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα1線を用いたＸ線回折において、
　２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、そのピーク強度をＡ、
　２θ＝２７．５±０．３ｄｅｇであって、かつピークａより低角度にある最大ピークをｂ、そのピーク強度をＢとしたとき、
　０．０６≦Ｂ／Ａであるセリウム系研摩材を不合格と判定することを特徴とするセリウム系研摩材の品質検査方法。
【請求項３】フッ素成分を含有し、かつＬａおよびＮｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有し、比表面積が１２ｍ2／ｇ以下であるセリウム系研摩材の研摩特性に関する品質検査方法であって、
　銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα1線を用いたＸ線回折において、
　２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、そのピーク強度をＡ、
　２θ＝２６．５±０．５ｄｅｇにおける最大ピークをｃ、そのピーク強度をＣとしたとき、
　Ｃ／Ａの値に基づいて品質検査を行うことを特徴とするセリウム系研摩材の品質検査方法。
【請求項４】フッ素成分を含有し、かつＬａおよびＮｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有し、比表面積が１２ｍ2／ｇ以下であるセリウム系研摩材の研摩特性に関する品質検査方法であって、
　銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα1線を用いたＸ線回折において、
　２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、そのピーク強度をＡ、
　２θ＝２７．５±０．３ｄｅｇであって、かつピークａより低角度にある最大ピークをｂ、そのピーク強度をＢ、
　２θ＝２６．５±０．５ｄｅｇにおける最大ピークをｃ、そのピーク強度をＣとしたとき、
　Ｂ／Ａの値およびＣ／Ａの値に基づいて品質検査を行うことを特徴とするセリウム系研摩材の品質検査方法。
【請求項５】フッ素成分を含有し、かつＬａおよびＮｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有し、比表面積が１２ｍ2／ｇ以下であるセリウム系研摩材の製造方法であって、
　銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα1線を用いたＸ線回折において、
　２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、そのピーク強度をＡ、
　２θ＝２７．５±０．３ｄｅｇであって、かつピークａより低角度にある最大ピークをｂ、そのピーク強度をＢとしたとき、
　Ｂ／Ａの値に基づいてフッ素含有量および焙焼温度を調整することを特徴とするセリウム系研摩材の製造方法。
　　【請求項６】　フッ素成分を含有し、かつＬａおよびＮｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有し、比表面積が１２ｍ2／ｇ以下であるセリウム系研摩材の製造方法であって、
　銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα1線を用いたＸ線回折において、
　２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、そのピーク強度をＡ、
　２θ＝２７．５±０．３ｄｅｇであって、かつピークａより低角度にある最大ピークをｂ、そのピーク強度をＢとしたとき、
　０．０６≦Ｂ／Ａにならないようにフッ素含有量および焙焼温度を調整することを特徴とするセリウム系研摩材の製造方法。
【請求項７】フッ素成分を含有し、かつＬａおよびＮｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有し、比表面積が１２ｍ2／ｇ以下であるセリウム系研摩材の製造方法であって、
　銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα1線を用いたＸ線回折において、
　２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、そのピーク強度をＡ、
　２θ＝２６．５±０．５ｄｅｇにおける最大ピークをｃ、そのピーク強度をＣとしたとき、
　Ｃ／Ａの値に基づいてフッ素含有量および焙焼温度を調整することを特徴とするセリウム系研摩材の製造方法。
【請求項８】フッ素成分を含有し、かつＬａおよびＮｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有し、比表面積が１２ｍ2／ｇ以下であるセリウム系研摩材の製造方法であって、
　銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα1線を用いたＸ線回折において、
　２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、そのピーク強度をＡ、
　２θ＝２７．５±０．３ｄｅｇであって、かつピークａより低角度にある最大ピークをｂ、そのピーク強度をＢ、
　２θ＝２６．５±０．５ｄｅｇにおける最大ピークをｃ、そのピーク強度をＣとしたとき、
　Ｂ／Ａの値およびＣ／Ａの値に基づいてフッ素含有量および焙焼温度を調整することを特徴とするセリウム系研摩材の製造方法。」
　
（イ）異議申立ての理由の概要
　異議申立人は、証拠として甲第１号証〜甲第５号証を提出し、訂正前の請求項１〜１３に係る発明は、甲第１号証〜甲第５号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものであるから、特許法第２９条第２項の規定により特許を受けることができないものであり、したがって、訂正前の請求項１〜１３に係る発明の特許は取り消されるべきである旨主張している。
　
（ウ）当審が通知した取消理由通知の概要
　当審が平成１６年１月３０日付けで通知した取消理由通知の概要は、訂正前の請求項９〜１３に係る発明は刊行物１（注．異議申立人の提出した甲第１号証）に記載された発明であるから特許法第２９条第１項第３号の規定に該当し、また、訂正前の請求項９〜１３に係る発明は同一出願人が同日出願した出願１の請求項７〜１１に係る発明と同一と認められるから特許法第３９条第２項の規定により特許を受けることができないので、訂正前の請求項９〜１３に係る発明の特許は取り消すべきものと認められる、というものである。
　
（エ）各甲号証等の記載内容
（１）甲第１号証（刊行物１；特開平１１−２６９４５５号公報）
　甲第１号証には以下の事項が記載されている。
(ａ)「【請求項１】セリウム含有希土類原料を鉱酸処理し、次いでフッ化アンモニウムで処理した後、焙焼することを特徴とするセリウム系研摩材の製造方法。」（特許請求の範囲）
(ｂ)「【発明の属する技術分野】本発明はセリウム系研摩材の製造方法に関し、詳しくは異常な粒成長を抑制し切削性が改善されると共に、良好な仕上げ面が得られるセリウム系研摩材の製造方法に関する。」（段落番号【０００１】）
(ｃ)「本発明の目的は、切削性が改善されると共に、傷の少ない良好な仕上げ面が得られるセリウム系研摩材の製造方法を提供することにある。」（段落番号【０００７】）
(ｄ)「【発明の実施の形態】
　以下、本発明を詳細に説明する。本発明で用いられるセリウム含有希土類原料としては、酸化希土やバストネサイト等が挙げられる。酸化希土は希土類原料の炭酸塩、水酸化物、シュウ酸塩等を焼成することによって、混合希土酸化物として得られる。また、バストネサイトは、フッ化炭酸希土で、モース硬度４〜４．５、比重４．９３〜５．１９の塊状の鉱物である。
　本発明では、このセリウム含有希土類原料は粉砕され、所定粒径とされたものを使用する。粉砕は湿式ボールミル等で行われ、その平均粒径は０．５〜３μｍが好ましい。
　次に、この粉砕されたセリウム含有希土類原料を鉱酸で処理する。鉱酸としては塩酸、硫酸、硝酸等が例示され、その濃度は０．１〜２規定程度である。このように希土類原料を鉱酸処理することによって、焙焼工程において粒成長の原因となるカルシウム、ナトリウム等のアルカリ金属やアルカリ土類金属等の不純物を溶解除去し、異常粒成長を起こりにくくすることができる。
　本発明では、この鉱酸処理されたセリウム含有希土類原料スラリーをフッ化アンモニウムで処理する。このようにフッ化反応のゆるやかなフッ化アンモニウムで処理することによって、原料中にフッ素源を均一に分布させることができ、より低温度の焙焼温度で均一な粒成長を促進することができるので、研摩材中に異常な粗大粒子をもつことがなく、高精度の表面仕上りが可能で、しかも高切削性の研摩材を得ることができる。
　また添加するフッ素の量を調整することで、粒成長の度合いを制御でき、切削性を調整できるので、荒仕上げから最終仕上げに至る高精度研摩材を製造することができる。フッ素濃度は５〜６０ｇ／ｌであることが望ましい。但し、処理に用いるフッ素源として、特開平９−１８３９６６号公報に記載されているようなフッ酸を用いるとセリウム含有希土類原料との反応性が激しく、そのために反応が局在化してしまうので、焙焼の際に部分的に異常粒成長を起こし、粗大粒子が研摩材中に混入し、研摩時の仕上り面に悪影響を与えるので好ましくない。
　フッ化アンモニウムで処理されたセリウム含有希土類原料は濾過、乾燥された後、焙焼される。焙焼温度は６００〜１１００℃、好ましくは７００〜１０００℃、焙焼時間は１〜１０時間程度であり、例えば電気炉等が使用される。次いで、放冷、粉砕、分級して研摩材とする。この研摩材の平均粒径は０．４〜３．０μｍが好ましい。さらに、この研摩材中には、フッ素が０．５〜１５重量％、好ましくは１〜１０重量％含有される。この焙焼温度及びフッ素含有量によって、研摩材の粒径を制御することができる。」（段落番号【００１０】〜【００１５】）
(ｅ)「〔実施例１〕全希土酸化物含量９８重量％、酸化セリウム含量５８重量％、カルシウム含量０．７重量％、ナトリウム含量０．１７重量％の組成からなる酸化物希土５ｋｇを湿式ボールミルで粉砕し、平均粒径１．０μｍの粉体とした。この粉体を鉱酸（濃度１規定の塩酸）で処理した後、フッ素含有量が７重量％となるように、フッ素濃度が１５ｇ／ｌのフッ化アンモニウム水溶液で処理した。次いで、濾過、乾燥し、９２０℃、２時間電気炉で焙焼し、放冷、粉砕、分級して研摩材を得た。この研摩材の平均粒径、比表面積、不純物品位（Ｃａ、Ｎａ）を表１に示す。また、得られた研摩剤のレーサー回折法による粒度分布図を図１に示す。」（段落番号【００１９】）
(ｆ)表１には、実施例１により得られた研摩材の比表面積（ＢＥＴ）が４．９１ｍ2／ｇであったこと、研磨評価（ＣＭＶ法）による切削値が１１．２μ、表面仕上りが９６点であったこと、が示されている。
(ｇ)「〔実施例２〕セリウム含有希土類原料として、実施例１で用いた酸化希土に代えて、全希土酸化物含量７０重量％、酸化セリウム含量４０重量％、カルシウム含量１．３重量％の組成からなるバストネサイトを用いた以外は、実施例１と同様にして研摩材を得た。この研摩材の平均粒径、比表面積、不純物品位（Ｃａ、Ｎａ）を表２に示す。また、この研摩材を用い、実施例１と同様にして研摩状態を評価した。その結果を表２に示す。また、得られた研摩剤のレーサー回折法による粒度分布図を図３に示す。」（段落番号【００２４】）
(ｈ)表２には、実施例２により得られた研摩材の比表面積（ＢＥＴ）が２．１８ｍ2／ｇであったこと、研磨評価（ＣＭＶ法）による切削値が３７．１μ、表面仕上りが９７点であったこと、が示されている。
(ｉ)「〔実施例３〕フッ素含有量を９重量％、焙焼温度を９４５℃と代えた以外は、実施例２と同様にして研摩材を得た。この研摩材の平均粒径、比表面積、不純物品位（Ｃａ、Ｎａ）を表３に示す。また、この研摩材を用い、実施例１と同様にして研摩状態を評価した。その結果を表３に示す。また、得られた研摩剤のレーサー回折法による粒度分布図を図５に示す。」（段落番号【００２８】）
(ｊ)表３には、実施例３により得られた研摩材の比表面積（ＢＥＴ）が１．７２ｍ2／ｇであったこと、研磨評価（ＣＭＶ法）による切削値が３７．６μ、表面仕上りが９７点であったこと、が示されている。
　
（２）甲第２号証（福島県ハイテクプラザ試験研究報告：平成８年（１９９６年）１０月福島県ハイテクプラザ発行：「酸化セリウム系研磨材廃棄物の有効利用に関する研究」、第７２〜７６頁）
　甲第２号証には以下の事項が記載されている。
(ａ)「酸化セリウム系研磨材は、ランラン、セリウム、プラセオジム、ネオジムといった軽希土類元素の酸化物固溶体を主成分としている。」（第７２頁左欄第２〜４行）
(ｂ)「２．実験方法　フッ素を含む研磨材（以下含Ｆ研磨材）とフッ素を含まない研磨材（以下非含Ｆ研磨材）および含Ｆ研磨材の廃棄物（以下廃棄物）を試験試料とし、蛍光Ｘ線分析(・・・)、Ｘ線回折法(・・・)により評価をした。また、それぞれを電気炉で空気中、１０００℃４時間の熱処理をし、評価した。」（第７２頁右欄第１〜９行）
(ｃ)第７２頁のTable１には、含Ｆ研磨材試料の蛍光Ｘ線分析結果として、Ｌａ２Ｏ３が２５wt％、ＣｅＯ２が４０wt％、Ｐｒ６Ｏ１１が３wt％、Ｎｄ２Ｏ３が８wt％、Ｆが１０wt％、ＳｒＯが〜０．５wt％、ＴｈＯ２がｔｒａｃｅ、ＳｉＯ２が〜０．１wt％、Ａｌ２Ｏ３が〜０．１wt％であることが示されている。
(ｄ)「希土類元素の構成比が希土類フッ化炭酸塩鉱石であるバストネサイトに近いことから、含Ｆ研磨材はバストネサイトを熱分解した鉱石系研磨材と考えられる。」（第７３頁右欄第２〜５行）
(ｅ)「３．３　熱処理による結晶相の変化　含Ｆ研磨材、非Ｆ研磨材および廃棄物の熱処理後のＸ線回折図をぞれぞれＦｉｇ２（ａ），（ｂ），（ｃ）に示す。非Ｆ研磨材では熱処理による結晶相の変化は見られなかった。含Ｆ研磨材ではフッ化物のピークが消滅した。これに対し、廃棄物では熱処理によりフッ化物、酸フッ化物のピークがともに消滅し、新たな相が生成した。」（第７３頁右欄第２７〜３４行）
(ｆ)第７３頁の右欄上には、Ｆｉｇ．１(ａ)として含Ｆ研磨材のＸ線回折図が示されており、また、第７４頁の左欄上には、Ｆｉｇ．２(ａ)として含Ｆ研磨材熱処理物のＸ線回折図が示されている。
(ｇ)「現在、鉱石系研磨材は、希土類のフッ化炭酸塩鉱石であるバストネサイトを１０００℃程度で熱分解・酸化して製造されている。この熱処理工程は、今回用いた熱処理条件と温度が同程度である。」（第７５頁右欄第９〜１２行）
　
（３）甲第３号証（レア・アース−その特性と応用−：１９８０年４月３０日技報堂出版株式会社発行、第３３０〜３３１頁）
　甲第３号証には以下の事項が記載されている。
(ａ)「４．１７．６　セリウム研摩材の現状　（１）製造方法　セリウムを主成分として含む希土類化合物（水酸化物、炭酸塩、塩基性硫酸塩、シュウ酸塩）を焼成して酸化物にするという簡単な工程でセリウム研摩材を製造できるが、研摩材としての性能を保持するために中間品の粒度分布，焼成温度と時間などを厳しく管理する必要がある．・・・特にセリウム研摩材に必要欠くべからざる性能であるキズの発生しない製品を全ロットについて保証できるかどうかが製造上の最大のポイントである．」（第３３０頁第１０〜２３行）
(ｂ)第３３０頁の図−４．１７５には、セリウム研摩材の製造工程のフローチャートが記載され、それには、バストネサイトを粉砕・分級し、化学処理し、得られたケーキを乾燥し、焼成し、粉砕・分級し、混合し、バストネサイト系のセリウム研摩材を製造する工程が示されている。
(ｃ)「特性値の測定例　我が国で使用されているセリウム研摩材の代表例について，化学組成，真比重および平均粒径の測定値を表−４．５０に，Ｘ線回折チャートを図４−４．１７６に・・・示す．」（第３３１頁第５〜８行）
(ｄ)第３３１頁の図−４．１７６（ａ）には、５０％ＣｅＯ2研摩材（バストネサイト系）のＸ線回折チャートが示されている。
　
（４）甲第４号証（特開昭５６−１３１６８６号公報）
　甲第４号証には以下の事項が記載されている。
(ａ)「(a)セリウム塩溶液と、塩基性溶液と、陰イオンが不溶性希土類化合物を形成できるところの少なくとも１種の酸及び（又は）１種の塩の溶液とを同時に連続的に混合し、この場合に、使用される塩基の当量数はセリウムの当量数よりも大きいか又はそれに等しく且つ反応媒体のｐＨは約６よりも大きいものとし、
(b)得られた沈殿物を濾別し、
(c)それを乾燥し、そして
(d)それをか焼する、
各工程を含むことを特徴とする研摩用組成物の製造法。」（特許請求の範囲第１項）
(ｂ)「陰イオンが不溶性希土類化合物を形成できるところの少なくとも１種の酸及び（又は）塩の溶液が、陰イオンがしゅう酸、弗化物、・・・の各陰イオンのうちの少なくとも１種よりなる群から選択されるところの水溶液から選定されることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の方法。」（同第１４項）
(ｃ)「少なくとも１種の三価希土類の塩の水溶液も、単独で又は他の溶液と混合状態で反応媒体に連続的に添加されることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の方法。」（同第１７項）
(ｄ)「少なくとも１種の三価希土類の塩の水溶液が、ランタン、ネオジム、・・・の各塩化物又は硝酸塩よりなる群から選定されることを特徴とする特許請求の範囲第１７項記載の方法。」（同第１８項）
　
（５）甲第５号証（特開平９−１８３９６６号公報）
　甲第５号証には以下の事項が記載されている。
(ａ)「【請求項１】セリウム及びランタンを含む軽希土類、アルカリ金属及びアルカリ土類金属、放射性物質を含む希土精鉱を粉砕し、アルカリ金属及びアルカリ土類金属、放射性物質を化学的に分離除去してこれらの含量が低減されたセリウムを主成分とする軽希土類原料とした後、フッ酸により軽希土類を部分フッ素化し、その後、焼成することを特徴とする酸化セリウムを主成分とするセリウム研摩材の製造方法。」（特許請求の範囲、請求項１）
(ｂ)「セリウム研摩材にはＣｅＯ2（酸化セリウム）の含有率によって高セリウム研摩材と、低セリウム研摩材とに分けられ、酸化セリウムの含有率が高ければ研摩力も大きくなるがコストも高くなる。低セリウム研摩材は酸化セリウムの含有率が５０％前後乃至それ以下で、残りはＬａ2Ｏ3（酸化ランタン）、Ｎｄ2Ｏ3（酸化ネオジウム）、Ｐｒ6Ｏ11（酸化プラセオジム）等の軽希土類の酸化物からなる混合希土酸化物研摩材である。本発明は低セリウム研摩材の製造方法に適する。」（段落番号【０００２】）
(ｃ)「バステナサイトはフッ化炭酸希土（Ｒ（ＣＯ3）Ｆ）で、原鉱石は鉱脈型鉱床として存在し、例えば１２％のバステナサイト鉱石を含有し、磁選や浮選による選鉱により方解石、重晶石、ケイ石等を除いて精鉱とされる。その代表的なマウンテンパス鉱山のバステナサイト精鉱の組成を酸化物換算重量で示すと、例えばＣｅＯ2：３５％、Ｌａ2Ｏ3：２４％、Ｎｄ2Ｏ3：８％、Ｐｒ6Ｏ11：３％、他の希土類酸化物：０．７％、全希土類酸化物：６８〜７３％、・・・。
　バステナサイト精鉱からのセリウム研摩材の製造方法は、例えば精鉱のセリウムやフッ素含量について必要に応じて成分調整し、他の添加剤を加えたりした後、粉砕、粒度調整が行われ、予備乾燥される。次いでロ−タリ−キルン又はシャトルキルン中で６００〜１０００℃で燒成され、粉砕、分級、再度の粒度調整が行われて製品であるセリウム研摩材とされている。」（段落番号【０００４】〜【０００５】）
(ｄ)「また低セリウム研摩材の場合は特にフッ素含量は研削力に関係し、フッ素含量は研削力が高く耐久性のあるセリウム研摩材にするのに重要な要素である。・・・従って、アルカリ金属及びアルカリ土類金属、放射性物質の含量が低減され、ランタンの影響及び研削力の点からフッ素含量を自由にコントロールできるセリウム研摩材の製造方法が望まれていた。」（段落番号【００１０】〜【００１１】）
(ｅ)「なお最終製品であるセリウム研摩材中のフッ素含量は３〜９％が好ましく、高研削性を求める場合には５〜７％がよい。従って、これに応じてフッ酸量が選択される。」（段落番号【００１５】）
(ｆ)「次に部分フッ素化されたものを焼成する。焼成により主成分のセリウムは４価の酸化セリウムとなる。焼成温度は、目的とする研摩対象物によって結晶化度を制御するので一様でなく、また製品粒度によっても異なるが、６００〜１０００℃の間が好ましい。高研削性を得るためには高い温度での焼成が望ましく、一方、柔らかいガラス材が対象の場合や、研摩後のガラス表面の面精度を重視する場合には、比較的低い温度での焼成が望ましい。焼成後、粉砕し、それぞれの目的に応じて分級し製品であるセリウム研摩材とする。」（段落番号【００２３】）
　
（６）出願１［特願２０００−２８４９５０号　（特許第３３９２３９９号）］
　出願１の特許明細書には以下の事項が記載されている。
「【請求項７】フッ素成分を含有し、かつＬａおよびＮｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有し、比表面積が１２ｍ2／ｇ以下であるセリウム系研摩材であって、
　銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα1線を用いたＸ線回折において、
　２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、そのピーク強度をＡ、
　２θ＝２４．２±０．５における最大ピークをｂ、そのピーク強度をＢとしたとき、
　Ｂ／Ａ＜０．０４であることを特徴とするセリウム系研摩材。
【請求項８】フッ素成分を含有し、かつＬａおよびＮｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有し、比表面積が１２ｍ2／ｇ以下であるセリウム系研摩材であって、
　銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα1線を用いたＸ線回折において、
　２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、そのピーク強度をＡ、
　２θ＝２４．２±０．５における最大ピークをｂ、そのピーク強度をＢ、
　２θ＝２６．５±０．５ｄｅｇにおける最大ピークをｃ、そのピーク強度をＣとしたとき、
　Ｂ／Ａ＜０．０４で、かつ０．０５≦Ｃ／Ａ≦０．６０であることを特徴とするセリウム系研摩材。
【請求項９】フッ素成分を含有し、かつＬａおよびＮｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有し、比表面積が１２ｍ2／ｇ以下であるセリウム系研摩材であって、
　銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα1線を用いたＸ線回折において、
　２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、そのピーク強度をＡ、
　２θ＝２４．２±０．５における最大ピークをｂ、そのピーク強度をＢ、
　２θ＝２６．５±０．５ｄｅｇにおける最大ピークをｃ、そのピーク強度をＣとしたとき、
　Ｂ／Ａ＜０．０４で、かつ０．１０≦Ｃ／Ａ≦０．６０であることを特徴とするセリウム系研摩材。
【請求項１０】フッ素成分を含有し、かつＬａおよびＮｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有し、比表面積が１２ｍ2／ｇ以下であるセリウム系研摩材であって、
　銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα1線を用いたＸ線回折において、
　２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、そのピーク強度をＡ、
　２θ＝２４．２±０．５における最大ピークをｂ、そのピーク強度をＢ、
　２θ＝２６．５±０．５ｄｅｇにおける最大ピークをｃ、そのピーク強度をＣとしたとき、
　Ｂ／Ａ≦０．００８で、かつ０．１０≦Ｃ／Ａ≦０．６０であることを特徴とするセリウム系研摩材。
【請求項１１】フッ素成分を含有し、かつＬａおよびＮｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有し、比表面積が１２ｍ2／ｇ以下であるセリウム系研摩材であって、
　銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα1線を用いたＸ線回折において、
　２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、そのピーク強度をＡ、
　２θ＝２４．２±０．５における最大ピークをｂ、そのピーク強度をＢ、
　２θ＝２６．５±０．５ｄｅｇにおける最大ピークをｃ、そのピーク強度をＣとしたとき、
　Ｂ／Ａ≦０．００８で、かつ０．０５≦Ｃ／Ａ≦０．１０であることを特徴とするセリウム系研摩材。」（特許請求の範囲、請求項７〜１１）
　
（オ）当審の判断
（１）取消理由通知で指摘した特許法第２９条第１項違反について
　先に指摘したように、特許権者は本件について訂正請求を行ない、特許請求の範囲の請求項９〜１３を削除した。
　したがって、特許法第２９条第１項違反については、その対象となる請求項に係る発明が存在しなくなったことにより解消された。
　
（２）取消理由通知で指摘した特許法第３９条第２項違反について
　特許法第３９条第２項違反についても、同様に、その対象となる請求項に係る発明が存在しなくなったことにより解消された。
　
（３）異議申立人が主張する特許法第２９条第２項違反について
(ａ)請求項１〜４に係る発明について
　本件特許の請求項１〜４に係る発明は、いずれもＸ線回折のピーク強度比に基づいて品質検査を行うセリウム系研摩材の品質検査方法に関するものであるが、甲第１号証〜甲第５号証には、いずれもＸ線回折のピーク強度比に基づいて品質検査を行うセリウム系研摩材の品質検査方法が記載されていない。
　すなわち、甲第１号証、甲第４号証、及び甲第５号証には、Ｘ線回折に関する記載も品質検査方法に関する記載もなされていない。
　甲第２号証、及び甲第３号証には、Ｘ線回折に関する記載はなされているが、品質検査方法に関する記載はなされていない。
　これに対し、本件特許の請求項１〜４に係る発明は、Ｘ線回折のピーク強度比に基づいて品質検査を行うことにより、セリウム系研摩材の研摩特性に関する品質検査を簡便に行うことができる（段落番号【００３７】）という、明細書に記載の顕著な効果を奏するものである。
　したがって、本件特許の請求項１〜４に係る発明は、甲第１号証〜甲第５号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものということはできない。
　
　異議申立人は、「本件特許請求項１に記載の発明は、従来公知または示唆されている事項をパラメータとして品質検査に適用した発明に過ぎない。」（特許異議申立書第２３頁下から第２〜１行）と主張している。
　しかしながら、甲第１号証〜甲第５号証をみても、Ｘ線回折のピーク強度比とセリウム系研摩材の品質との対応関係が知られていた、または示唆されていた、とは認められないので、本件特許請求項１に記載の発明は、従来公知または示唆されている事項をパラメータとして品質検査に適用した発明に過ぎないものとはいえない。
　したがって、異議申立人の主張を考慮しても上記判断に変わりはない。
　
(ｂ)請求項５〜８に係る発明について
　本件特許の請求項５〜８に係る発明は、いずれもＸ線回折のピーク強度比に基づいてフッ素含有量および焙焼温度を調整するセリウム系研摩材の製造方法に関するものであるが、甲第１号証〜甲第５号証には、いずれもＸ線回折のピーク強度比に基づいてフッ素含有量および焙焼温度を調整するセリウム系研摩材の製造方法が記載されていない。
　すなわち、甲第１号証、甲第４号証、及び甲第５号証にはセリウム系研摩材の製造方法が記載されているが、Ｘ線回折に関する記載がないことから明らかなように、Ｘ線回折のピーク強度比に基づいてフッ素含有量および焙焼温度を調整する点についての記載はない。
　甲第２号証にはＸ線回折図が記載されており、また、酸化セリウム系研磨材廃棄物の有効利用に関する記載はあるものの、Ｘ線回折のピーク強度比に基づいてフッ素含有量および焙焼温度を調整するセリウム系研摩材の製造方法についての記載はない。
　甲第３号証にはセリウム系研摩材の製造方法、及びＸ線回折チャートは記載されているが、セリウム系研摩材の製造方法に関する記載とＸ線回折チャートに関する記載とを関連付けた記述がないことから明らかなように、Ｘ線回折のピーク強度比に基づいてフッ素含有量および焙焼温度を調整する点についての記載はない。
　これに対し、本件特許の請求項５〜８に係る発明は、所定の研摩特性を有するセリウム系研摩材を得ることができるセリウム系研摩材の製造方法を提供することができる（段落番号【００３７】）という、明細書に記載の顕著な効果を奏するものである。
　したがって、本件特許の請求項５〜８に係る発明は、甲第１号証〜甲第５号証に記載された発明に基いて当業者が容易に発明をすることができたものということはできない。
　
　異議申立人は、本件特許の請求項５〜８に係る発明において「フッ素含有量及び焙焼温度を調整する」と規定されていることに関し、「本件特許明細書の段落００２５〜００２７段落に製造方法の詳細が記載されているが、この記載を精査してもフッ素濃度と焙焼温度を調整すると記載されているが、具体的にどのように調整するのか記載されていない。」（特許異議申立書第１８頁第１０〜１３行）などとした上で、「このようなことから請求項５、６、７、８に記載の本件特許発明ではフッ素濃度、焙焼温度は試行錯誤により求められるものと解することができ、本件特許発明で得られると目されるそれらの最適値は各甲号証などから得られる従来公知の製造方法の範疇のものと何ら差異のないものと解することができる。」（同第２１〜２４行）と主張している。
　しかしながら、本件発明は、従来知られていなかった、Ｘ線回折のピーク強度比とセリウム系研摩材の品質との間に対応関係がある点に着目して、Ｘ線回折のピーク強度比に基づいてフッ素含有量および焙焼温度を調整する点に特徴があるものであって、フッ素含有量および焙焼温度を具体的に調整する点に特徴があるものではない。
　したがって、本件特許の請求項５〜８に係る発明において具体的にどのように調整するのか記載されていないとしても、そのことをもって本件発明が、異議申立人が提出した証拠に記載された製造方法と何ら差異がないとはいえない。
　したがって、異議申立人の主張を考慮しても上記判断に変わりはない。
　
(ｃ)請求項９〜１３に係る発明について
　先に指摘したように、特許権者は本件について訂正請求を行ない、特許請求の範囲の請求項９〜１３を削除した。
　したがって、異議申立人の請求項９〜１３に係る発明についての主張は、判断する対象が存在しないので、採用することができない。
　
４．むすび
　以上のとおりであるから、特許異議の申立ての理由及び証拠によっては本件特許の請求項１〜８に係る発明についての特許を取り消すことはできない。
　また、他に本件特許の請求項１〜８に係る発明についての特許を取り消すべき理由を発見しない。
　よって、結論のとおり決定する。
【異議決定日】
平成１６年４月２１日（２００４．４．２１）
【訂正の要旨】
審決（決定）の【理由】欄参照。
（５４）【発明の名称】
セリウム系研摩材、その品質検査方法および製造方法
（５７）【特許請求の範囲】
　【請求項１】　フッ素成分を含有し、かつＬａおよびＮｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有し、比表面積が１２ｍ２／ｇ以下であるセリウム系研摩材の研摩特性に関する品質検査方法であって、
　銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα１線を用いたＸ線回折において、
　２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、そのピーク強度をＡ、
　２θ＝２７．５±０．３ｄｅｇであって、かつピークａより低角度にある最大ピークをｂ、そのピーク強度をＢとしたとき、
　Ｂ／Ａの値に基づいて品質検査を行うことを特徴とするセリウム系研摩材の品質検査方法。
　【請求項２】　フッ素成分を含有し、かつＬａおよびＮｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有し、比表面積が１２ｍ２／ｇ以下であるセリウム系研摩材の研摩特性に関する品質検査方法であって、
　銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα１線を用いたＸ線回折において、
　２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、そのピーク強度をＡ、
　２θ＝２７．５±０．３ｄｅｇであって、かつピークａより低角度にある最大ピークをｂ、そのピーク強度をＢとしたとき、
　０．０６≦Ｂ／Ａであるセリウム系研摩材を不合格と判定することを特徴とするセリウム系研摩材の品質検査方法。
　【請求項３】　フッ素成分を含有し、かつＬａおよびＮｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有し、比表面積が１２ｍ２／ｇ以下であるセリウム系研摩材の研摩特性に関する品質検査方法であって、
　銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα１線を用いたＸ線回折において、
　２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、そのピーク強度をＡ、
　２θ＝２６．５±０．５ｄｅｇにおける最大ピークをｃ、そのピーク強度をＣとしたとき、
　Ｃ／Ａの値に基づいて品質検査を行うことを特徴とするセリウム系研摩材の品質検査方法。
　【請求項４】　フッ素成分を含有し、かつＬａおよびＮｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有し、比表面積が１２ｍ２／ｇ以下であるセリウム系研摩材の研摩特性に関する品質検査方法であって、
　銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα１線を用いたＸ線回折において、
　２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、そのピーク強度をＡ、
　２θ＝２７．５±０．３ｄｅｇであって、かつピークａより低角度にある最大ピークをｂ、そのピーク強度をＢ、
　２θ＝２６．５±０．５ｄｅｇにおける最大ピークをｃ、そのピーク強度をＣとしたとき、
　Ｂ／Ａの値およびＣ／Ａの値に基づいて品質検査を行うことを特徴とするセリウム系研摩材の品質検査方法。
　【請求項５】　フッ素成分を含有し、かつＬａおよびＮｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有し、比表面積が１２ｍ２／ｇ以下であるセリウム系研摩材の製造方法であって、
　銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα１線を用いたＸ線回折において、
　２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、そのピーク強度をＡ、
　２θ＝２７．５±０．３ｄｅｇであって、かつピークａより低角度にある最大ピークをｂ、そのピーク強度をＢとしたとき、
　Ｂ／Ａの値に基づいてフッ素含有量および焙焼温度を調整することを特徴とするセリウム系研摩材の製造方法。
　【請求項６】　フッ素成分を含有し、かつＬａおよびＮｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有し、比表面積が１２ｍ２／ｇ以下であるセリウム系研摩材の製造方法であって、
　銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα１線を用いたＸ線回折において、
　２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、そのピーク強度をＡ、
　２θ＝２７．５±０．３ｄｅｇであって、かつピークａより低角度にある最大ピークをｂ、そのピーク強度をＢとしたとき、
　０．０６≦Ｂ／Ａにならないようにフッ素含有量および焙焼温度を調整することを特徴とするセリウム系研摩材の製造方法。
　【請求項７】　フッ素成分を含有し、かつＬａおよびＮｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有し、比表面積が１２ｍ２／ｇ以下であるセリウム系研摩材の製造方法であって、
　銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα１線を用いたＸ線回折において、２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、そのピーク強度をＡ、
　２θ＝２６．５±０．５ｄｅｇにおける最大ピークをｃ、そのピーク強度をＣとしたとき、
　Ｃ／Ａの値に基づいてフッ素含有量および焙焼温度を調整することを特徴とするセリウム系研摩材の製造方法。
　【請求項８】　フッ素成分を含有し、かつＬａおよびＮｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有し、比表面積が１２ｍ２／ｇ以下であるセリウム系研摩材の製造方法であって、
　銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα１線を用いたＸ線回折において、
　２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、そのピーク強度をＡ、
　２θ＝２７．５±０．３ｄｅｇであって、かつピークａより低角度にある最大ピークをｂ、そのピーク強度をＢ、
　２θ＝２６．５±０．５ｄｅｇにおける最大ピークをｃ、そのピーク強度をＣとしたとき、
　Ｂ／Ａの値およびＣ／Ａの値に基づいてフッ素含有量および焙焼温度を調整することを特徴とするセリウム系研摩材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
　【０００１】
　【発明の属する技術分野】
　本発明は、セリウム系研摩材の品質検査方法、セリウム系研摩材の製造方法およびセリウム系研摩材に関する。
　【０００２】
　【従来の技術】
　近年、様々な用途にガラス材料が用いられている。この中でも特に光ディスクや磁気ディスク用ガラス基板、アクティブマトリックス型ＬＣＤ（Ｌｉｑｕｉｄ　Ｃｒｙｓｔａｌ　Ｄｉｓｐｌａｙ）、液晶ＴＶ用カラーフィルター、時計、電卓、カメラ用ＬＣＤ、太陽電池等のディスプレイ用ガラス基板、ＬＳＩフォトマスク用ガラス基板、あるいは光学用レンズ等のガラス基板や光学用レンズ等においては、高精度に表面研摩することが要求されている。
　【０００３】
　通常、これらのガラス基板の表面研摩には、希土類酸化物、特に酸化セリウムを主成分とするセリウム系研摩材が用いられている。酸化セリウムはガラス研摩において酸化ジルコニウムや二酸化ケイ素に比べて研摩効率が数倍優れているためである。
　【０００４】
　セリウム系研摩材に用いられる原料としては、炭酸希土、水酸化希土、シュウ酸希土等の希土原料、あるいはそれらを焼成することによって得られる酸化希土原料が一般に用いられる。これらの希土原料は、一般にバストネサイト系希土原料あるいはセリウム含有希土類原料から、一部の希土（Ｎｄ，Ｐｒ）および放射性物質等を公知の化学的処理によって除去することにより製造されている。
　【０００５】
　この炭酸希土や酸化希土を原料とするセリウム系研摩材は次のようにして製造されている。すなわち、まず、原料をスラリー化あるいは湿式粉砕し、鉱酸で処理し、次いで必要に応じてフッ酸あるいはフッ化アンモニウム等で処理する。得られたスラリーを濾過して、乾燥した後、焙焼する。最後に、粉砕および分級し、所定の粒径の研摩材を得る。
　【０００６】
　【発明が解決しようとする課題】
　ところで、製造された研摩材が所定の研摩特性を有しているかどうかを検査する必要がある。すなわち、製造された研摩材によりガラス面等を研摩したときに、所定の研摩値が得られ、また傷の発生がないことを保証する必要がある。研摩材のこのような品質検査のために、従来は実際に研摩試験を行う必要があり、手間がかかっている。また、用途に応じた所定の研摩特性が得られるセリウム系研摩材を製造することが要求されている。また、用途に応じた所定の研摩特性を有するセリウム系研摩材が要求されている。
　【０００７】
　本発明は、上記事情に鑑みて為されたもので、セリウム系研摩材の研摩特性に関する品質検査を簡便に行うことができるセリウム系研摩材の品質検査方法を提供することを目的とする。また、本発明は、所定の研摩特性を有するセリウム系研摩材を得ることができるセリウム系研摩材の製造方法を提供することを目的とする。また、本発明は、用途に応じた所定の研摩特性を有するセリウム系研摩材を提供することを目的とする。
　【０００８】
　【課題を解決するための手段】
　セリウム系研摩材の切削性を向上させるためにフッ素（Ｆ）を含有させることが従来から行われている。このフッ素は、含有量や焙焼温度によって研摩材中で決まった結晶構造を形成する。本発明者らは、この点に着目して鋭意研究した結果、本発明を完成するに至った。すなわち、セリウム系研摩材において、フッ素含有化合物の結晶構造は、ＸＲＤ（Ｘ線回折）測定によると次のような変化を示す。
（１）フッ素添加時には、酸化物を原料とした場合にはＬｎＦ３（例えば、ＬａＦ３）として、また炭酸塩を原料とした場合にはＬｎＣＯ３Ｆとして存在する。
（２）焙焼により、イオン半径が大きいＬｎは固溶量が小さくなりＬｎＦ３として吐き出され、そしてＬｎｘＯｙの格子は縮み、結晶相が変化する。例えば、焙焼により、イオン半径が大きいＬａは固溶量が小さくなりＬａＦ３として吐き出されて、ＬｎｘＯｙの格子は縮み、例えば、Ｘ線回折によりＣｅ０．５Ｎｄ０．５Ｏ１．７５と同定されるものから、Ｃｅ０．７５Ｎｄ０．２５Ｏ１．８７５と同定されるものへと結晶相が変化する。ただし、Ｃｅ０．５Ｎｄ０．５Ｏ１．７５またはＣｅ０．７５Ｎｄ０．２５Ｏ１．８７５と同定されるものは、Ｎｄ含有量が少ない場合においてもメインピークとなるため、セリウム系研摩材中Ｃｅに対して通常数十％原子含まれるＬａをも含む酸化物であると推定される。
（３）焙焼温度が高温の場合、吐き出されたＬｎＦ３はＬｎＯＦ相として成長する（例えば、吐き出されたＬａＦ３はＬａＯＦ相として成長する）。この変化は、フッ素含有量が多いほど焙焼温度をより高温にしないとＬｎＯＦ相として成長せず、フッ素含有量が少ないほどより低温の焙焼温度でＬｎＯＦ相として成長する。
　ここで、Ｌｎは、Ｌａ（ランタン），Ｃｅ（セリウム），Ｎｄ（ネオジム）の少なくとも１つ以上の元素を含むものである。また、ＬｎＦ３は、例えばＬａＦ３あるいはＣｅＦ３であり、ＬｎＯＦは、例えばＬａＯＦあるいはＣｅＯＦであり、ＬｎｘＯｙは、通常は３／２≦ｙ／ｘ≦２であって、例えばＬａ２Ｏ３，ＣｅＯ２，Ｃｅ０．５Ｎｄ０．５Ｏ１．７５あるいはＣｅ０．７５Ｎｄ０．２５Ｏ１．８７５である。
　【０００９】
　また、このような焼結過程において、微細粒子の焼結という現象も見られ、結晶相の成長とともに比表面積が低下してくる。さらには、研摩特性で重要な研摩値と呼ばれる研摩速度については、粒子の成長とともに大きくなることが知られているが、一般に行われている粒度分布などの測定から求められる平均粒径だけでは、研摩特性を推定できなかったが、本発明者らは、Ｘ線回折と比表面積とを調整しながら、研摩特性に優れた研摩材を提供できることを見出した。すなわち、フッ素成分を含有し、かつＬａおよびＮｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有し、比表面積が１２ｍ２／ｇ以下であるセリウム系研摩材であり、さらに、銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα１線を用いたＸ線回折において、２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、そのピーク強度をＡ、２θ＝２７．５±０．３ｄｅｇであって、かつピークａより低角度にある最大ピークをｂ、そのピーク強度をＢ、２θ＝２６．５±０．５ｄｅｇにおける最大ピークをｃ、そのピーク強度をＣとしたとき、Ｂ／Ａの値およびＣ／Ａの値がそれぞれ、セリウム系研摩材の研摩特性である研摩値および傷の発生と一定の関係があることを本発明者らは見出し、本発明に到達した。
　【００１０】
　本発明は、フッ素成分を含有し、かつＬａおよびＮｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有し、比表面積が１２ｍ２／ｇ以下であるセリウム系研摩材の研摩特性に関する品質検査方法であって、銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα１線を用いたＸ線回折において、２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、そのピーク強度をＡ、２θ＝２７．５±０．３ｄｅｇであって、かつピークａより低角度にある最大ピークをｂ、そのピーク強度をＢとしたとき、Ｂ／Ａの値に基づいて品質検査を行うことを特徴とするセリウム系研摩材の品質検査方法を提供する。また、本発明は、フッ素成分を含有し、かつＬａおよびＮｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有し、比表面積が１２ｍ２／ｇ以下であるセリウム系研摩材の研摩特性に関する品質検査方法であって、銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα１線を用いたＸ線回折において、２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、そのピーク強度をＡ、２θ＝２７．５±０．３ｄｅｇであって、かつピークａより低角度にある最大ピークをｂ、そのピーク強度をＢとしたとき、０．０６≦Ｂ／Ａであるセリウム系研摩材を不合格と判定することを特徴とするセリウム系研摩材の品質検査方法を提供する。
　【００１１】
　また、本発明は、フッ素成分を含有し、かつＬａおよびＮｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有し、比表面積が１２ｍ２／ｇ以下であるセリウム系研摩材の研摩特性に関する品質検査方法であって、銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα１線を用いたＸ線回折において、２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、そのピーク強度をＡ、２θ＝２６．５±０．５ｄｅｇにおける最大ピークをｃ、そのピーク強度をＣとしたとき、Ｃ／Ａの値に基づいて品質検査を行うことを特徴とするセリウム系研摩材の品質検査方法を提供する。また、本発明は、フッ素成分を含有し、かつＬａおよびＮｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有し、比表面積が１２ｍ２／ｇ以下であるセリウム系研摩材の研摩特性に関する品質検査方法であって、銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα１線を用いたＸ線回折において、２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、そのピーク強度をＡ、２θ＝２７．５±０．３ｄｅｇであって、かつピークａより低角度にある最大ピークをｂ、そのピーク強度をＢ、２θ＝２６．５±０．５ｄｅｇにおける最大ピークをｃ、そのピーク強度をＣとしたとき、Ｂ／Ａの値およびＣ／Ａの値に基づいて品質検査を行うことを特徴とするセリウム系研摩材の品質検査方法を提供する。
　【００１２】
　また、本発明は、フッ素成分を含有し、かつＬａおよびＮｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有し、比表面積が１２ｍ２／ｇ以下であるセリウム系研摩材の製造方法であって、銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα１線を用いたＸ線回折において、２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、そのピーク強度をＡ、２θ＝２７．５±０．３ｄｅｇであって、かつピークａより低角度にある最大ピークをｂ、そのピーク強度をＢとしたとき、Ｂ／Ａの値に基づいてフッ素含有量および焙焼温度を調整することを特徴とするセリウム系研摩材の製造方法を提供する。また、本発明は、フッ素成分を含有し、かつＬａおよびＮｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有し、比表面積が１２ｍ２／ｇ以下であるセリウム系研摩材の製造方法であって、銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα１線を用いたＸ線回折において、２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、そのピーク強度をＡ、２θ＝２７．５±０．３ｄｅｇであって、かつピークａより低角度にある最大ピークをｂ、そのピーク強度をＢとしたとき、０．０６≦Ｂ／Ａにならないようにフッ素含有量および焙焼温度を調整することを特徴とするセリウム系研摩材の製造方法を提供する。
　【００１３】
　また、本発明は、フッ素成分を含有し、かつＬａおよびＮｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有し、比表面積が１２ｍ２／ｇ以下であるセリウム系研摩材の製造方法であって、銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα１線を用いたＸ線回折において、２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、そのピーク強度をＡ、２θ＝２６．５±０．５ｄｅｇにおける最大ピークをｃ、そのピーク強度をＣとしたとき、Ｃ／Ａの値に基づいてフッ素含有量および焙焼温度を調整することを特徴とするセリウム系研摩材の製造方法を提供する。また、本発明は、フッ素成分を含有し、かつＬａおよびＮｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有し、比表面積が１２ｍ２／ｇ以下であるセリウム系研摩材の製造方法であって、銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα１線を用いたＸ線回折において、２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、そのピーク強度をＡ、２θ＝２７．５±０．３ｄｅｇであって、かつピークａより低角度にある最大ピークをｂ、そのピーク強度をＢ、２θ＝２６．５±０．５ｄｅｇにおける最大ピークをｃ、そのピーク強度をＣとしたとき、Ｂ／Ａの値およびＣ／Ａの値に基づいてフッ素含有量および焙焼温度を調整することを特徴とするセリウム系研摩材の製造方法を提供する。
　【００１４】
　また、本発明は、フッ素成分を含有し、かつＬａおよびＮｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有し、比表面積が１２ｍ２／ｇ以下であるセリウム系研摩材であって、銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα１線を用いたＸ線回折において、２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、そのピーク強度をＡ、２θ＝２７．５±０．３ｄｅｇであって、かつピークａより低角度にある最大ピークをｂ、そのピーク強度をＢとしたとき、Ｂ／Ａ＜０．０６であることを特徴とするセリウム系研摩材を提供する。また、本発明は、フッ素成分を含有し、かつＬａおよびＮｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有し、比表面積が１２ｍ２／ｇ以下であるセリウム系研摩材であって、銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα１線を用いたＸ線回折において、２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、そのピーク強度をＡ、２θ＝２７．５±０．３ｄｅｇであって、かつピークａより低角度にある最大ピークをｂ、そのピーク強度をＢ、２θ＝２６．５±０．５ｄｅｇにおける最大ピークをｃ、そのピーク強度をＣとしたとき、Ｂ／Ａ＜０．０６で、かつ０．０５≦Ｃ／Ａ≦０．６０であることを特徴とするセリウム系研摩材を提供する。
　【００１５】
　また、本発明は、フッ素成分を含有し、かつＬａおよびＮｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有し、比表面積が１２ｍ２／ｇ以下であるセリウム系研摩材であって、銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα１線を用いたＸ線回折において、２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、そのピーク強度をＡ、２θ＝２７．５±０．３ｄｅｇであって、かつピークａより低角度にある最大ピークをｂ、そのピーク強度をＢ、２θ＝２６．５±０．５ｄｅｇにおける最大ピークをｃ、そのピーク強度をＣとしたとき、Ｂ／Ａ＜０．０６で、かつ０．１０≦Ｃ／Ａ≦０．６０であることを特徴とするセリウム系研摩材を提供する。また、本発明は、フッ素成分を含有し、かつＬａおよびＮｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有し、比表面積が１２ｍ２／ｇ以下であるセリウム系研摩材であって、銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα１線を用いたＸ線回折において、２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、そのピーク強度をＡ、２θ＝２７．５±０．３ｄｅｇであって、かつピークａより低角度にある最大ピークをｂ、そのピーク強度をＢ、２θ＝２６．５±０．５ｄｅｇにおける最大ピークをｃ、そのピーク強度をＣとしたとき、Ｂ／Ａ≦０．０１で、かつ０．１０≦Ｃ／Ａ≦０．６０であることを特徴とするセリウム系研摩材を提供する。
　【００１６】
　また、本発明は、フッ素成分を含有し、かつＬａおよびＮｄをＣｅに対して０．５原子％以上含有し、比表面積が１２ｍ２／ｇ以下であるセリウム系研摩材であって、銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα１線を用いたＸ線回折において、２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、そのピーク強度をＡ、２θ＝２７．５±０．３ｄｅｇであって、かつピークａより低角度にある最大ピークをｂ、そのピーク強度をＢ、２θ＝２６．５±０．５ｄｅｇにおける最大ピークをｃ、そのピーク強度をＣとしたとき、Ｂ／Ａ≦０．０１で、かつ０．０５≦Ｃ／Ａ≦０．１０であることを特徴とするセリウム系研摩材を提供する。
　【００１７】
　ここで、炭酸希土あるいは酸化希土のような希土類以外の不純物が少ない原料から製造した研摩材の場合、通常、２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークａは、ＬｎｘＯｙ（１≦ｙ／ｘ≦２）の［１１１］面であり、２θ＝２７．５±０．３ｄｅｇであって、かつピークａより低角度にある最大ピークｂは、ピークが出現すればＬｎＦ３であり、２θ＝２６．５±０．５ｄｅｇにおける最大ピークｃは、ＬｎＯＦである。一方、バストネサイトのような希土類以外の不純物を比較的多く含む原料から製造した研摩材の場合、ＬｎｘＯｙが最大ピークであることは変わらないが、ＬｎＦ３あるいはＬｎＯＦのピーク強度が小さいと、上記指定した角度範囲において他の物質のピークが最大ピークになる場合もある。しかしながら、そのような場合においても、他の物質のピーク強度はＬｎｘＯｙのピーク強度に比べて非常に小さいか、または、ＬｎＦ３あるいはＬｎＯＦのピーク強度よりわずかに大きいだけであるため、上記指定角度範囲における最大ピークの強度の比を指標として用いても問題はない。上記各発明において、ピーク強度は、ピークのトップの強度から一般にバックグラウンドまたは基線と呼ばれているものの強度を差し引いたものとする。また、ピークは、強度がピーク強度Ａの０．５％以上のものとし、ピーク強度がピーク強度Ａの０．５％未満のものはノイズとみなす。したがって、強度がピーク強度Ａの０．５％以上であれば、ノイズと明確に区別できる条件にて測定する必要がある。このような測定条件としては、例えば、後述する実施例の測定条件があるが、これに限定されるものではない。また、ａとして、ＬｎｘＯｙのピークで本発明で採用した以外のピークを採用することおよび／または、ｃとして、ＬｎＯＦのピークで本発明で採用した以外のピークを採用することも考えられるが、判定基準が変わるだけで、結局は本発明の方法と同一の内容である。また、本発明で採用したａおよびｃは、それぞれピーク強度の中で最大のピークであり、ｃについては、ピーク強度が低い場合、本発明のピークでは判定可能だが、他のピークではノイズとの区別がつかず判定不能になる場合がある。
　【００１８】
　本発明のセリウム系研摩材の品質検査方法においては、Ｂ／Ａの値が小さいほど、この研摩材によりガラス面等を研摩した場合の傷の発生が少ないと判定することができ、この値が０．０６以上の場合には傷の発生が多くなると判定することができる。また、Ｃ／Ａの値が大きい方が研摩値が大きい傾向があると判定することができる。さらに、Ｃ／Ａの値に基づいて、研摩材がどの程度の研摩値を有するかを判定することができる。
　【００１９】
　したがって、研摩値が多少小さくても傷がほとんど発生しなければ良いというセリウム系研摩材が要求される場合には、Ｂ／Ａの値を判定の基準にすれば良い。すなわち、Ｂ／Ａの値が０．０６以上のセリウム系研摩材を不合格にすれば良い。ここで、Ｂ／Ａの値が０．０５以下であれば、より傷が少ないので好ましく、さらに０．０３以下であればより好ましく、０．０１以下であればさらに好ましい。また、研摩値が小さくてよいセリウム系研摩材が要求される場合には、傷がほとんど発生しないので、Ｃ／Ａの値を判定の基準にすれば良い。これにより、研摩材がどの程度の研摩値を有するかを判定することができる。また、傷の発生がほとんどないとともに、所定値以上の研摩値が得られるようなセリウム系研摩材が要求される場合には、Ｂ／Ａの値およびＣ／Ａの値を判定の基準にすれば良い。すなわち、前者の値が０．０６未満であるとともに、後者の値が必要な研摩値が得られるような値のセリウム系研摩材を選定するようにすれば良い。
　【００２０】
　本発明のセリウム系研摩材の製造方法においては、フッ酸あるいはフッ化アンモニウム等で処理することによりフッ素の含有量を調整するとともに、焙焼温度により粒成長を調整する。そして、Ｂ／Ａの値に基づいてフッ素含有量および焙焼温度を調整することにより、ガラス面等を研摩した場合の傷の発生が少ないセリウム系研摩材を製造することができる。また、このＢ／Ａの値が０．０６以上にならないようにフッ素含有量および焙焼温度を調整して製造することにより、傷の発生がほとんどないセリウム系研摩材を製造することができる。ここで、このＢ／Ａの値が０．０５以下であれば、より傷が少ないので好ましく、さらに０．０３以下であればより好ましく、０．０１以下であればさらに好ましい。
　【００２１】
　また、Ｃ／Ａの値に基づいて、フッ素含有量および焙焼温度を調整して製造することにより、所定値以上の研摩値が得られるようなセリウム系研摩材が製造することができる。また、Ｂ／Ａの値、およびＣ／Ａの値に基づいて、フッ素含有量および焙焼温度を調整して製造することにより、傷の発生がほとんどないとともに、所定値以上の研摩値が得られるようなセリウム系研摩材が製造することができる。すなわち、Ｂ／Ａの値が０．０６以上とならないとともに、Ｃ／Ａの値が必要な研摩値が得られるような値になるようにフッ素含有量および焙焼温度を調整して製造するようにすれば良い。
　【００２２】
　また、本発明のセリウム系研摩材においては、Ｂ／Ａの値が０．０６未満である場合、傷の発生がほとんどないことを保証することができる。ここで、このＢ／Ａの値が０．０５以下であれば、研摩による傷がより少ないので好ましく、さらに０．０３以下であればより一層好ましく、０．０１以下であればさらに好ましい。また、本発明のセリウム系研摩材においては、Ｃ／Ａの値から、該セリウム系研摩材がどの程度の研摩値を有するか知ることができ、そしてこのＣ／Ａの値が０．０５未満の場合には、オレンジピールが発生しやすく研摩に悪影響を及ぼし、また０．６０を超える場合には、ＬｎｘＯｙ含有量が少なくなるため研摩力が低下してくる。
　【００２３】さらに、Ｂ／Ａの値と、Ｃ／Ａの値を選定することにより、用途に応じた所定の研摩特性を有するセリウム系研摩材を提供することができる。すなわち、Ｂ／Ａの値が０．０６未満で、かつＣ／Ａの値が０．０５〜０．６０の場合、このセリウム系研摩材は研摩による傷の発生がほとんどなく、所定の実用的な研摩値を有する研摩材として用いることができる。また、Ｂ／Ａの値が０．０６未満で、かつＣ／Ａの値が０．１０〜０．６０の場合、このセリウム系研摩材は液晶用ガラスまたはハードディスクの一次研摩用として好適である。また、Ｂ／Ａの値が０．０１以下で、かつＣ／Ａの値が０．１０〜０．６０の場合、このセリウム系研摩材は液晶用ガラスの仕上げ研摩用として好適である。また、Ｂ／Ａの値が０．０１以下で、かつＣ／Ａの値が０．０５〜０．１０の場合、このセリウム系研摩材はハードディスクの仕上げ研摩用として好適である。
　【００２４】
　次に、セリウム系研摩材の製造方法の一例を詳細に説明する。セリウム含有希土類原料としては、酸化希土、炭酸希土やバストネサイト等が使用される。酸化希土は希土類原料の炭酸塩、水酸化物、シュウ酸塩等を焼成することによって、混合希土酸化物として得られる。また、バストネサイトは、フッ化炭酸希土であって、モース硬度４〜４．５、比重４．９３〜５．１９の塊状の鉱物である。
　【００２５】このセリウム含有希土類原料は粉砕され、所定粒径とされたものが使用される。粉砕は湿式ボールミル等で行われ、その平均粒径は０．５〜３μｍ程度にされる。次に、この粉砕されたセリウム含有希土類原料を、バストネサイトを原料にした場合は、通常、塩酸、硫酸、硝酸等の鉱酸で処理する。鉱酸の濃度は０．１〜２規定程度に調整される。この鉱酸処理により、Ｎａ，Ｃａ等のアルカリ金属およびアルカリ土類金属等が低減するため、後工程の焙焼工程における異常粒成長を防止することができる。一方、酸化希土あるいは炭酸希土を原料にした場合は、通常、スラリーにフッ化アンモニウム、フッ酸等のフッ素含有物質またはその水溶液を添加してフッ化処理する。フッ素濃度は５〜１００ｇ／ｌ程度が好ましい。なお、バストネサイトを原料にした場合においても、フッ化処理をしてさらにフッ素含有量を高める場合もある。また、酸化希土あるいは炭酸希土を原料にした場合においても、原料中のアルカリ金属およびアルカリ土類金属の含有量によっては、鉱酸処理を実施する場合もある。
　【００２６】
　次に、鉱酸処理またはフッ化処理を実施したセリウム含有希土類原料を乾燥した後、電気炉等により焙焼する。焙焼温度は６００〜１１００℃、好ましくは７００〜１０００℃、焙焼時間は１〜１０時間程度である。次に、放冷、粉砕、分級して研摩材を得る。この研摩材の平均粒径は０．０５〜３．０μｍ程度が好ましい。また、この研摩材中のフッ素は０．５〜１５重量％、好ましくは１〜１０重量％程度が含有される。このフッ素含有量および焙焼温度によって、研摩材の粒径を制御することができる。上記フッ素含有量および焙焼温度は、比表面積、および銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα１線を用いたＸ線回折において、２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、そのピーク強度をＡ、２θ＝２７．５±０．３ｄｅｇであって、かつピークａより低角度にある最大ピークをｂ、そのピーク強度をＢ、２θ＝２６．５±０．５ｄｅｇにおける最大ピークをｃ、そのピーク強度をＣとしたとき、Ｂ／Ａの値、および／またはＣ／Ａの値に基づいて調整される。比表面積の測定は、一般に行われている窒素ガスによるＢＥＴ法で行う。比表面積の値としては、１２ｍ２／ｇ以下が好ましく、さらに好ましくは１０ｍ２／ｇ以下、より好ましくは８ｍ２／ｇ以下である。比表面積が１２ｍ２／ｇを超えると、焙焼によって結晶粒が成長しても、研摩値を高くするために必要な粒径が得られないため、使用に際して問題がある。
　【００２７】
　上記セリウム系研摩材は、通常、水等の分散媒に分散させて５〜３０重量％程度のスラリーの状態で使用される。分散媒としては、アルコール、多価アルコール、アセトン、テトラヒドロフラン等の水溶性有機溶媒も使用できるが、通常は水が使用される。このセリウム系研摩材においては、高分子の有機分散剤を含有することが望ましい。分散剤としては、ポリアクリル酸ナトリウム等のポリアクリル酸塩、カルボキシメチルセルロース、ポリエチレンオキサイド、ポリビニルアルコール等が使用できる。この有機分散剤を含有させることにより、研摩中の発泡を防止することができる。有機分散剤は研摩材中に０．１〜０．８重量％程度含有させる。これを超えて含有させても使用効果がない。
　【００２８】
　【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明する。全希土類酸化物（ＴＲＥＯ）含量が９９重量％、ＴＲＥＯ中のＣｅＯ２含量が５７〜６１重量％、ＴＲＥＯ中のＬａ２Ｏ３含量が３１〜３４重量％の酸化希土、および全希土類酸化物含量が６７〜７３重量％、ＴＲＥＯ中のＣｅＯ２含量が４０〜４３重量％、ＴＲＥＯ中のＬａ２Ｏ３含量が２４〜２６重量％のバストネサイトをそれぞれ湿式ボールミルで粉砕して、平均粒径１．０μｍの粉体とした。これらの粉体を、バストネサイトの場合は、鉱酸（濃度１規定の塩酸）で処理し、一方酸化希土の場合は、フッ素含有量が所定の値になるように、フッ素濃度が１５〜２５ｇ／ｌのフッ化アンモニウム水溶液で処理した。次いで、このスラリーを濾過、乾燥し、所定の焙焼温度で２時間電気炉で焙焼した後、放冷、粉砕、分級して表１に示す研摩材１〜１０を得た。研摩材１〜６および１０は、酸化希土を原料として製造されたものであり、研摩材７〜９はバストネサイトを原料として製造されたものである。各研摩材１〜１０の焙焼温度およびフッ素の品位（フッ素含有量）は表１に示す通りである。フッ素分析には、アルカリ溶融・温湯抽出・フッ素イオン電極法を用いた。
　【００２９】
　次に、得られた研摩材１〜１０を水に分散させて濃度１０重量％のスラリーとした。このスラリー状研摩液を用いて、高速研摩機で６５ｍｍφの平面パネル用ガラスを研摩圧力１５．７ｋｇ／ｃｍ２で研摩した。研摩後のガラス表面について、研摩値の測定と、傷の評価を行った。研摩値の測定は、研摩前の平面パネル用ガラスの重量を予め測定しておき、上記研摩後の平面パネル用ガラスの重量を測定することにより、研摩による重量の減少量を算出し、それを切削厚に換算した。傷の評価は、上記研摩後の平面パネル用ガラスの表面に、光源３０万ルクスのハロゲンランプを照射して、透視法および反射法により評価した。具体的には、１００点を満点とし、傷の程度および数により所定の点数を減ずる減点方式で評価した。その結果を表１に示す。また、得られた研摩材について、比表面積および凝集度を測定した。比表面積は、試料を精秤し、比表面積測定装置（湯浅アイオニクス（株）製の全自動表面積測定装置マルチソーブ１２型）を使用して測定した。凝集度は、ホソカワミクロン（株）製のパウダーテスターを用いて測定した。なお、この測定では、３５５，２５０，４４μｍの目開きの篩を使用した。これらの測定結果を表１に示す。
　【００３０】
　また、得られた研摩材１〜１０について、ＸＲＤ測定を行った。ＸＲＤ測定は、銅ターゲットを使用し、Ｃｕ−Ｋα１線を用いて、管電圧が４０ｋＶ、管電流が１５０ｍＡ、測定範囲が２θ＝５〜８０ｄｅｇ、サンプリング幅が０．０２ｄｅｇ、走査速度が４ｄｅｇ／ｍｉｎで行った。その結果を表１に示す。また、研摩材１および研摩材６についてのＸＲＤ測定データをそれぞれ図２および図３に示す。ＸＲＤ強度（Ｉｎｔｅｎｓｉｔｙ）は、２θ＝５ｄｅｇ〜８０ｄｅｇにおける最大ピークをａ、そのピーク強度をＡ、２θ＝２７．５±０．３ｄｅｇであって、かつピークａより低角度にある最大ピークをｂ、そのピーク強度をＢ、２θ＝２６．５±０．５ｄｅｇにおける最大ピークをｃ、そのピーク強度をＣとしたとき、Ａを１００とし、他のＸＲＤ強度を相対値として表した。なお、上述したように、強度がピーク強度Ａの０．５％以上のものをピークと定義しているため、ピーク強度Ｂおよびピーク強度Ｃについては、０．５未満の場合は、０とした。また、研摩値とＣ／Ａとの関係を図１に示した。
　【００３１】
　【表１】
　【００３２】
　表１から、研摩材１０は、比表面積が１２ｍ２／ｇを超えているため、研摩評価はよいものの、研摩値が極端に低く、また研摩対象物への付着性が大きく、研摩材としての性能が劣っていることが分かる。表１および図１から、比表面積が１２ｍ２／ｇ以下である研摩材１〜９において、Ｃ／Ａと研摩値との間に相関関係があることが分かる。すなわち、Ｃ／Ａの値が大きい方が研摩値はより大きくなる傾向がある。また、このＣ／Ａの値から、研摩の際の研摩値を知ることができる。
　【００３３】
　また、表１から、比表面積が１２ｍ２／ｇ以下である研摩材１〜９において、研摩材１〜４および研摩材７〜９では、ＸＲＤ強度Ｂが０であって、Ｂ／Ａの値が０であり、研摩による傷の発生はほとんどないが、研摩材５および研摩材６のように、Ｂ／Ａの値が０．０６以上になると、傷の発生量が急激に多くなることが分かる。これは、ＬｎＯＦ相（例えば、ＬａＯＦ相）をさらに成長させるためにさらにフッ素の含有量を増やすと、研摩値は大きくなるが、通常の焙焼温度（６００〜１１００℃程度）ではＬｎＯＦ相（例えば、ＬａＯＦ相）の成長に限界があるためＬｎＦ３相（例えば、ＬａＦ３相）が残るので、傷の発生量が増加するためと考えられる。このとき、研摩材５および研摩材６では、Ｂ／Ａの値は大きくなる一方、Ｃ／Ａの値は、研摩材３，４よりも若干小さくなっている。
　【００３４】
　したがって、Ｂ／Ａの値が小さいほど、この研摩材によりガラス面等を研摩した場合の傷の発生が少ないと判定することができ、この値が０．０６以上の場合には傷の発生が多いと判定することができる。また、Ｃ／Ａの値に基づいて、研摩材がどの程度の研摩値を有するかを判定することができる。
　【００３５】
　また、Ｂ／Ａの値に基づいてフッ素含有量および焙焼温度を調整するようにすれば、傷の発生が少ないセリウム系研摩材を製造することができる。また、このＢ／Ａの値が０．０６以上にならないようにフッ素含有量および焙焼温度を調整して製造すれば、傷の発生がほとんどないセリウム系研摩材を製造することができる。また、Ｃ／Ａの値に基づいて、フッ素含有量および焙焼温度を調整して製造することにより、所定値以上の研摩値が得られるようなセリウム系研摩材が製造することができる。また、Ｂ／Ａの値およびＣ／Ａの値に基づいて、フッ素含有量および焙焼温度を調整して製造すれば、傷の発生がほとんどなく、かつ所定値以上の研摩値が得られるようなセリウム系研摩材が製造することができる。具体的には、Ｂ／Ａの値が０．０６以上とならならず、かつＣ／Ａの値が必要な研摩値が得られるような値になるようにフッ素含有量および焙焼温度を調整して製造するようにすれば良い。
　【００３６】
　また、Ｂ／Ａの値が０．０６未満であるセリウム系研摩材は、研摩による傷の発生がほとんどないということを保証することができる。ここで、このＢ／Ａの値が０．０５以下であれば、研摩による傷がより少ないので好ましく、さらに０．０３以下であればより一層好ましく、０．０１以下であればさらに好ましい。また、表１および図１から、Ｂ／Ａの値およびＣ／Ａの値がそれぞれ、０．０６未満、０．０５〜０．６０のセリウム系研摩材の場合、研摩による傷の発生がほとんどなく、かつ約２３μｍ〜４０μｍ超程度の研摩値が得られるので、研摩材として十分に用いることができる。また、Ｂ／Ａの値が０．０６未満で、かつＣ／Ａの値が０．１０〜０．６０のセリウム系研摩材の場合、研摩による傷がほとんどなく、かつ約２５μｍ〜４０μｍ超程度の研摩値が得られるので、液晶用ガラスまたはハードディスク用の一次研摩用として好適に用いることができる。また、Ｂ／Ａの値が０．０１以下で、かつＣ／Ａの値が０．１０〜０．６０のセリウム系研摩材の場合、研摩による傷が皆無に近く、かつ約２５μｍ〜４０μｍ超程度の研摩値が得られるので、液晶用ガラスの仕上げ研摩用として好適に使用することができる。また、Ｂ／Ａの値が０．０１以下で、かつＣ／Ａの値が０．０５〜０．１０のセリウム系研摩材の場合、研摩による傷が皆無に近く、かつ約２３μｍ〜２５μｍ程度の研摩値が得られるので、ハードディスクの仕上げ研摩用として好適に使用することができる。
　【００３７】
　【発明の効果】
　以上説明したように、本発明によれば、セリウム系研摩材の研摩特性に関する品質検査を簡便に行うことができるセリウム系研摩材の品質検査方法を提供することができる。したがって、この品質検査方法を用いて製品検査を行い、所定の研摩特性を有するセリウム系研摩材を選別することができる。また、本発明によれば、所定の研摩特性を有するセリウム系研摩材を得ることができるセリウム系研摩材の製造方法を提供することができる。また、本発明によれば、用途に応じた所定の研摩特性を有するセリウム系研摩材を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
　【図１】研摩値とＣ／Ａとの関係を示す図である。
　【図２】研摩材１のＸＲＤ測定データを示す図である。
　【図３】研摩材１のＸＲＤ測定データを示す図である。