(57)【要約】  所望のテクスチャーを有するポリマー基板に透明導電性フィルムを適用するための方法を提供する。本方法は、テクスチャーが形成されたポリマー材料を提供する工程と、前記成形ポリマー材料に透明導電性材料をコンフォーマルに適用することによって前記ポリマー材料上にコンフォーマルな透明導電性フィルムを形成する工程とを含む。前記コンフォーマルな透明導電性フィルムが、前記ポリマー材料のテクスチャーに対応したテクスチャーを有し、可視光の波長以下の周期を有することにより、前記コンフォーマルな透明導電性フィルムは反射防止性を示す。【特許請求の範囲】
【請求項１】
テクスチャーを有するポリマー基板に透明導電性フィルムを適用するための方法であって、
ａ）テクスチャーが形成されたポリマー材料を提供する工程と、
ｂ）前記ポリマー材料に透明導電性材料をコンフォーマルに適用することによって前記ポリマー材料上にコンフォーマルな透明導電性フィルムを形成する工程と、を含み、
前記コンフォーマルな透明導電性フィルムが、前記ポリマー材料の前記テクスチャーに対応したテクスチャーを有し、前記テクスチャーが可視光の波長以下の周期を有することにより前記コンフォーマルな透明導電性フィルムが反射防止性を示すことを特徴とする方法。
【請求項２】
ａ）ポリマー成形材料の表面に付与しようとする突起に対応した複数の小孔が分散した多孔質のアルミナマスターを提供する工程と、
ｂ）ポリマー成形材料を、透明フィルムと前記多孔質のアルミナマスターとの間に配置する工程と、
ｃ）機械的な圧力を加えて前記多孔質のアルミナマスターを前記ポリマー成形材料に圧延する工程と、を含む方法であって、
前記ポリマー成形材料に付与されるテクスチャーが、前記多孔質のアルミナマスターの小孔に対応した突起を含むものである方法によって、ポリマー材料が型成形されることにより、前記ポリマー材料に前記テクスチャーが形成される請求項１に記載の方法。
【請求項３】
ａ）アルミニウム基板上に第１の段階の陽極酸化処理を行う工程と、
ｂ）前記アルミナ基板をオキサイドエッチングする工程と、
ｃ）第２の段階の陽極酸化処理を行う工程と、
ｄ）小孔拡大処理を行う工程と、を含むプロセスであって、前記多孔質のアルミナマスターに小孔が形成されるプロセスによって、多孔質のアルミナマスターが調製される請求項１に記載の方法。
【請求項４】
透明導電性材料が、酸化インジウム、酸化インジウムスズ、ドープされた酸化インジウム、酸化スズ、ドープされた酸化スズ、酸化亜鉛、アルミニウム酸化亜鉛、ドープされた酸化亜鉛、酸化ルテニウム、及びドープされた酸化ルテニウムからなる群から選択される請求項１に記載の方法。
【請求項５】
透明導電性材料が、酸化インジウムスズである請求項４に記載の方法。
【請求項６】
透明導電性材料が、物理的蒸着によりポリマー材料に適用される請求項１に記載の方法。
【請求項７】
透明導電性材料が、スパッタリングによりポリマー材料に適用される請求項６に記載の方法。
【請求項８】
透明導電性フィルムが、約１０ｎｍ〜約１ミクロンの厚さを有する請求項１に記載の方法。
【請求項９】
ポリマー材料に付与されたテクスチャーがモスアイ構造を有する請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
ポリマー材料が透明である請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
ポリマー材料が、アクリル樹脂、メタクリレート樹脂、ポリオレフィン樹脂、熱可塑性ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、アクリロニトリル−スチレンコポリマー、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、セルロース樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、及びポリウレタン樹脂から選択される材料を含む請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
テクスチャー化された透明導電性フィルムの表面抵抗率が、約１００〜約６００Ω／ｓｑである請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
テクスチャー化された透明導電性フィルムの表面抵抗率が、約３００〜約５００Ω／ｓｑである請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
テクスチャー化された透明導電性フィルムの可視光透過率が、約９０％よりも高い請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
テクスチャー化された透明導電性フィルムの可視光透過率が、約９３％よりも高い請求項１４に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一般的には反射防止透明導電性フィルムを形成するための方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ポリマー成形材料は、例えば各種のディスプレイ装置を初めとする様々な材料を製造するために広く使用されており、反射光を抑制して充分な視認性を確保するために反射防止層又はテクスチャー化された表面を材料に設けることがしばしば望ましくかつ／又は必要である。こうした反射防止層を製造し、異なる屈折率を有する誘電体で形成された多層フィルムを与えるために様々な方法が用いられている。
【０００３】
反射防止フィルムは、周辺光によるディスプレイの飽和を制限することから透過率及びコントラストを高めるものである。ディスプレイの輝度を高めることにより、反射防止フィルムは、必要電力を減らし、それにより電池寿命を延ばす助けとなりうる。更に、反射が最小限に抑えられていることにより、観測者が明るい条件においてもスクリーンをより容易に読むことができる。ＰＤＡ及び携帯電話の携帯型カラーディスプレイの輝度、コントラスト、及び可読性を向上させることは極めて重要であり、同時に需要電力が最小限に抑えられる。ディスプレイ用フィルムは透明であることに加えて導電性を有することもしばしば求められる。これは、しばしば、帯電防止性が求められるため、又は電磁干渉（ＥＭＩ）遮蔽を導入するためである。酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）は、透明導電性材料の一例であり、フラットパネルディスプレイ（モニター、テレビなど）の技術を可能とする材料の１つである。薄層として固体基板上にスパッタリングされると、ＩＴＯは透明導電性フィルムとして機能する。
【０００４】
ＩＴＯコーティングは、ディスプレイ及び光学コーティング産業において透明導電体として多くの用途で用いられてきた。ＩＴＯはガラスのように透明であるが、ガラスと異なり導電性を有するために電流を流すことができる。ＩＴＯフィルムは、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）及びプラズマテレビ画面などの多くの電子装置において使用されている。より最近では、ＩＴＯフィルムは、一般的には太陽電池と呼ばれる光電池の導電性コーティングとしても使用されている。ＩＴＯの処理条件は、フィルムの導電性に大きく影響しうることから重要である。その鍵となるのは、可視スペクトルにおいて透明性を維持しながら導電性を高めることである。導電性によって、自由キャリアによる赤外線の吸収性が与えられる。
【０００５】
ＩＴＯなどの透明導電性材料の使用に伴う問題点の１つとして、ＩＴＯの極めて高い屈折率のために、こうしたＩＴＯコーティングは反射性が高く、これにより視認性が制限されることがある。更に、高い屈折性は、自立式フィルムからの低い透過率を意味して、それ自体で低い輝度のディスプレイとなる。したがって、ＩＴＯ層に対する要求条件は、ディスプレイの観測者の快適性及び輝度（要求電力）の両方に大きく影響する。
【０００６】
多層コーティングを使用して一定の反射防止性能を与えることにより、この問題を回避するための様々なプロセスが提案されている。しかしながら、これらの多層コーティングは、構造全体に最適な反射及び透過特性を与えるように調整された、屈折率の異なる複数の層を与えるため、しばしば混合金属酸化物である。これはコストが嵩む、時間のかかるプロセスとなりうる。したがって、更なる層を設ける必要なく、それ自体が反射防止性を有するＩＴＯコーティングなどの透明導電性酸化物コーティングを製造するための方法が提供されることが望ましい。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的の１つは、透明導電性酸化物反射防止材料を製造することにある。
【０００８】
本発明の別の目的は、更なる層を設ける必要なく、透明導電性酸化物反射防止材料を製造することにある。
【０００９】
本発明の更なる別の目的は、基板上に透明導電性反射防止層を設けるためのより簡単な方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
この目的のため、本発明は一般的には、所望のテクスチャーを有するポリマー基板に透明導電性フィルムを適用するための方法であって、
ａ）テクスチャーが形成されたポリマー材料を提供する工程と、
ｂ）前記ポリマー材料に透明導電性酸化物材料をコンフォーマルに適用することによって前記ポリマー材料上にコンフォーマルな透明導電性フィルムを形成する工程と、を含み、
前記コンフォーマルな透明導電性フィルムが、前記ポリマー材料のテクスチャーに対応したテクスチャーを有し、前記テクスチャーが可視光の波長以下の周期を有することにより前記コンフォーマルな透明導電性フィルムが反射防止性を示す方法に関する。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本発明は、可視光領域の反射を低減するポリマー材料の表面上に形成された反射防止層（反射防止フィルム）、その製造方法、及びその後に前記反射防止層上に成膜される透明導電性フィルムに関する。
【００１２】
酸化インジウムは透明セラミック材料の一例であるが、半導体は自由電子がないために特に導電性が高い材料とはいえない。電子は、同様の元素であるがそのベース材料よりも電子が１個多い元素をドープすることによって一般的に加えられる。したがって、酸化インジウムの場合、酸化インジウムにはスズがドープされる（通常約５〜１０％）ことにより、透明性を維持しつつ導体となる。他の透明導電性材料としては、金属酸化物、及び１以上の金属がドープされた金属酸化物が挙げられる。こうした金属酸化物及びドープされた金属酸化物の例としては、ドープされた酸化インジウム、酸化スズ、ドープされた酸化スズ、酸化亜鉛、アルミニウム酸化亜鉛、ドープされた酸化亜鉛、酸化ルテニウム、及びドープされた酸化ルテニウムが挙げられるが、これらはあくまで例であって限定的なものではない。好ましい透明導電性材料の１つに、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）の別名で知られる、スズがドープされた酸化インジウムがある。
【００１３】
ＩＴＯは、真空コーティング又はスパッタリングを含む物理的蒸着法によって、様々なガラス及びプラスチック材料に適用することによって、電磁両立性（ＥＭＣ）及び帯電防止用途用の透明導電層が形成される。半導体とは、周期表にわたって金属／絶縁体の境界の近くにある元素又は元素の化合物を含む用語である。一般的には、ケイ素及びゲルマニウムが、マイクロエレクトロニクスにおいて使用される半導体であるが、ＧａＡｓ及びＩｎＳｂなどの材料を含む、金属／絶縁体境界にわたった元素から形成される様々な化合物半導体もあり、これらは可視光のスペクトルでは通常は透明ではない。しかしながら、幾つかの酸化物半導体（インジウム、スズ又は亜鉛の酸化物など）は可視光のスペクトルで透明であり、これらの中では酸化インジウムが工業用途では最も頻繁に使用されている。
【００１４】
電子が電場又は磁場に応答することができる速度には上限がある。ＩＴＯの電子密度は、金属におけるほどには高くはなく、この応答限界がＩＴＯの赤外スペクトルにあることを意味する。その結果、ＩＴＯは、可視光スペクトルで透明であるが、赤外スペクトルで導電性を示す（したがって、反射／吸収性を示す）。このことは、ＩＴＯが赤外領域及びそれ以下の振動数で導電性を示し、可視光の振動数において絶縁性を示すことを意味する。したがって、ＩＴＯは、可視光に対して透明である一方でＥＭＣ遮蔽及び帯電防止用途において対象とする振動数においてなお導電性を示す。
【００１５】
ＩＴＯのコーティングは、物理的蒸着、好ましくは蒸発及びスパッタリング法を含む真空コーティングによって通常は成膜され、真空チャンバのサイズにより、コーティング可能な基板のサイズが制御される。大きな面積に均一なコーティングを得るためには、スパッタリングプロセスが好ましい。スパッタリングソースは、ＩＴＯの幅広かつ直線状のソースを与え、これが直線運動と組み合わされて良好な均一なコーティングが得られる。
【００１６】
しかしながら、上記に述べたように、ＩＴＯなどの透明導電性材料の使用にともなう問題点として、ＩＴＯの極めて高い屈折率のために、このようなＩＴＯコーティングは反射性が非常に高く、視認性が制限されることがある。したがって、ＩＴＯコーティング自体を反射防止性とする方法が提供されることが望ましい。
【００１７】
「モスアイ」コーティング及び多孔質アルミナフィルムを含むナノ構造は、段階的な屈折率コーティングとなる表面変調によって反射防止性を提供する。
【００１８】
反射防止表面に求められる益々高い性能要求水準を実現するため、モスアイ（又はサブ波長）コーティングが開発されている。蛾の眼の表面は、約２００ｎｍの間隔を隔てた高さ約２００ｎｍの円錐状の突起の配列で覆われている。したがって、モスアイ（蛾の眼）構造によって、均一な屈折率の材料から効果的に勾配した屈折率を有するフィルムを形成することが可能であり、こうしたモスアイ構造を形成するために様々な方法が用いられている。
【００１９】
ナノ構造は人の眼には見えず、ナノ構造を用いることによって光学系内の光を調節して輝度を高め、視野角を調節し、優れた防眩及び反射防止特性が与えられる。したがって、適当な反射防止表面を実現するための別のアプローチは、このようなナノ構造を組み込んだフィルムを使用するものである。例えば、多孔質のアルミナ構造を使用することによって、例えば、本明細書にその主題をその全容にわたって援用するところのフバード（Ｈｕｂｂａｒｄ）らに付与された同時係属中の米国特許出願第１２／８３４，１８０号に述べられるような成形反射防止ポリマー材料を調製することができる。このようなナノ構造の使用により、ＰＤＡ、携帯電話、ＧＰＳナビゲーションシステム及び他の同様の装置の使用者が明るい条件下であっても、最小の反射でそれらの画面をより容易に見ることが可能となる。
【００２０】
本発明の発明者らは、同じ段階的屈折率効果が、ＩＴＯ層に適用される場合にも機能しうることを見出した。自立式ＩＴＯ層を実際に構造化することを不可能であるが、本発明の発明者らは、ＩＴＯ層が既存の反射防止ナノ構造にスパッタリング又は他の何らかの方法でコンフォーマルに適用されうる場合に、ＩＴＯの導電性及び透明性を維持しつつ段階的屈折率がＩＴＯに移されることを見出したものである。したがって、コンフォーマルに適用されたＩＴＯコーティングは、反射防止特性を有し、平坦なＩＴＯコーティングで得られるよりも高い透過率を示すため、視認性が向上したより高輝度のディスプレイを得ることが可能である。
【００２１】
これに基づき、好ましい一実施形態では、本発明は一般的に、透明導電性フィルムを所望のテクスチャーを有するポリマー基板に適用するための方法であって、
ａ）テクスチャーが形成されたポリマー材料を提供する工程と、
ｂ）前記ポリマー材料に、透明導電性材料をコンフォーマルに適用することによって前記ポリマー材料上にコンフォーマルな透明導電性フィルムを形成する工程と、を含み、
前記コンフォーマルな透明導電性フィルムが、前記ポリマー材料のテクスチャーに対応したテクスチャーを有し、前記テクスチャーが可視光の波長以下の周期を有することにより前記コンフォーマルな透明導電性フィルムが反射防止性を示す方法に関する。
【００２２】
前記テクスチャーが形成された前記ポリマー材料は、上記に述べたようなモスアイ構造又はナノ構造を有しうる。反射防止コーティングを調製することが可能な他の適当な構造も本発明において使用可能であり、当業者には周知のものである。
【００２３】
一実施形態では、前記ポリマー材料は所望のテクスチャーを形成するために型成形されるが、本発明の実施においては種々の型成形プロセスを用いることができる。ポリマー材料を型成形して前記テクスチャーを形成するのに適したプロセスの１つが、フバード（Ｈｕｂｂａｒｄ）に付与された同時係属中の米国特許出願第１２／８３４，１８０号に述べられており、このプロセスは、
ａ）ポリマー成形材料の表面に付与しようとする突起に対応した複数の円筒状の小孔が分散した多孔質のアルミナマスターを提供する工程と、
ｂ）前記ポリマー成形材料を、透明フィルムと前記多孔質のアルミナマスターとの間に配置する工程と、
ｃ）機械的な圧力を加えて前記多孔質のアルミナマスターを前記ポリマー成形材料に圧延する工程と、を含み、前記ポリマー成形材料に付与されるテクスチャーは、前記多孔質のアルミナマスターの円筒状の小孔に対応した突起を含む。
【００２４】
この実施形態では、前記多孔質のアルミナマスターは、
ａ）アルミニウム基板上に第１の段階の陽極酸化処理を行う工程と、
ｂ）前記アルミナ基板をオキサイドエッチングする工程と、
ｃ）第２の段階の陽極酸化処理を行う工程と、
ｄ）小孔拡大処理を行う工程と、を含むプロセスであって、前記多孔質のアルミナマスターに円筒状の小孔が形成されるプロセスによって調製することができる。
【００２５】
本明細書に述べられるプロセスにしたがって製造される成形型により、表面に微小パターンを有する感光性樹脂シート又は他の同様の材料などのテクスチャー化されたポリマー材料を製造することができる。その後、ＩＴＯ又は他の透明導電性酸化物材料を、前記感光性樹脂シート上の前記パターンの表面にコンフォーマルに適用することによってＩＴＯ層も反射防止性を示すようになる。コンフォーマルな透明導電性フィルムは、前記ポリマー材料のテクスチャーに対応した、可視光の波長以下の周期を有するテクスチャーを有することにより、前記コンフォーマルな透明導電性フィルムは反射防止性を示す。
【００２６】
代替的な実施形態では、前記ポリマー材料に付与されたテクスチャーはモスアイ構造を有してもよく、前記ＩＴＯ又は他の透明導電性酸化物材料は、前記ポリマー材料上のパターンの表面にコンフォーマルに適用することができる。
【００２７】
前記ポリマー材料は、少なくともほぼ透明であることが好ましく、充分な機械的強度を有するものである。前記ポリマー材料を形成するのに適した材料としては、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリエチルメタクリレート樹脂及びメチルメタクリレート−ブチルメタクリレートコポリマーなどのアクリル樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリメチルペンテン樹脂及び環状ポリオレフィンポリマーなどのポリオレフィン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂及びポリエチレンナフタレート樹脂などの熱可塑性ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、アクリロニトリル−スチレンコポリマー、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、セルロース樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、及びポリウレタン樹脂などの熱可塑性樹脂が挙げられる。ポリマー材料以外に、透明材料としてガラスを使用することもできる。
【００２８】
好ましい一実施形態では、前記ポリマー材料は、化学線を用いて硬化させることが可能な感光性樹脂である。この実施形態では、化学線硬化性組成物は上記に述べたようにして製造された成形型と透明シートとの間に充填され、感光性樹脂を化学線に曝露することにより硬化させた後、離型される。硬化性組成物は、当業者には周知の様々な方法で成形型と透明シートとの間に充填することができる。例えば、化学線硬化性組成物は、成形型と透明シートとの間にニップロールから供給するか、成形型上にコーティングした後、透明シートでラミネートするか、又は圧力及び熱の少なくともいずれかを用いて多孔質のアルミナ表面を感光性樹脂中に圧延することができる。
【００２９】
代替的な実施形態では、成形型の所望のテクスチャー又は立体構造を化学線硬化性組成物上に転写した後、これを離型し、化学線に曝露することにより硬化させてもよい。
【００３０】
これらのプロセスのいずれにおいても、離型後に組成物を化学線に更に曝露することができる。化学線源の具体的な例としては、可視光源、紫外線源、電子線、プラズマ、及び赤外光源が挙げられ、当業者には一般的に周知のものである。
【００３１】
ポリマー材料の厚さは、用途及び求められる物理的特性を満たすように決定される。通常、ポリマー材料の厚さは、約０．０１〜約１ｍｍの範囲、より好ましくは約０．０５〜約０．２５ｍｍの範囲である。
【００３２】
本発明に基づく放射線感受性又は感光性樹脂組成物としては、例えばアクリレート樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリカーボネート樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂及びポリウレタン樹脂などの感光性樹脂が挙げられ、いずれも過酸化ベンゾイルなどの適当な光開始剤との組み合わせで用いられる。樹脂と光開始剤との他の適当な組み合わせも使用可能であり、当業者には一般的に周知のものである。適当な感光性樹脂の１つとして、感光性アクリル樹脂組成物がある。感光性樹脂組成物は、重合性モノマー又はオリゴマーも含むことが好ましい。感光性樹脂組成物には、例えば、帯電防止剤、離型剤、及び防汚性を高めるためのフッ素化合物などの他の添加剤を加えることもできるが、これらはあくまで例であって、限定的なものではない。
【００３３】
化学線による照射は、例えば中圧水銀灯によって行われる。化学エネルギー線硬化性組成物の硬化が生じるかぎり、光照射エネルギーの量は特に限定されないが、エネルギーの量は１００〜１０，０００ｍＪ／ｃｍ２であることが好ましい。
【００３４】
一実施形態では、ポリマー材料の所望のテクスチャー（すなわち立体構造）は、可視光の波長を超えないような短い周期を有し、その周期は約４００ｎｍよりも小さい。周期が、４００ｎｍよりも大きいと可視光の散乱が生じるため、反射防止フィルムなどの光学用途には適さない。したがって、コンフォーマルに適用された透明導電性材料もまた、４００ｎｍよりも小さい短い周期を有することになる。
【００３５】
ＩＴＯコーティングの厚さが大きくなるのにしたがってコーティングの導電性がより高くなるのに対して、透過率は低下し、コーティングの可撓性も低下する。更に、コーティングの厚さが大きくなるのにしたがって、より多くの材料及びより長い加工時間が使用されるためにコストも上昇する。したがって、ＩＴＯの効率的な使用及び最適な性能のためには、可能な限り薄いコーティングを使用して所望の表面抵抗率を実現する必要がある。
【００３６】
しかしながら、ナノ構造化されたコーティングの表面積は、平面状のコーティングの表面積よりも大きいことから、一定量のＩＴＯでは大幅に薄いコーティングとなるため、ＩＴＯ層の導電率が低下しうる。したがって、必要とされる導電率を実現するためにはより多くのＩＴＯでコーティングすることが必要となりうる。コーティングがより厚くなるとナノ構造が充填され始めるため、反射防止性のゲインが制限される。これらの理由から、反射防止／透過率における利得を、更なるコーティング材料の使用にともなう更なるコストを相殺するだけの充分な付加価値とともに得るのに適当なＩＴＯの量を決定するためにＩＴＯ又は他の透明導電性酸化物の必要量を決定することが必要である。
【００３７】
ＩＴＯのコーティング厚さの一般的な範囲は、約１０ｎｍ〜約１ミクロン、好ましくは５０〜５００ｎｍの範囲である。層が１０ｎｍよりも薄いと不連続となる傾向があるのに対して、約１ミクロンよりも厚い層は、吸収を示し、応力がかかり、また、高価となる。厚さの範囲は表面抵抗率にも影響する。このため、コンフォーマルに適用されたＩＴＯ層の厚さは、好ましくは約１０ｎｍ〜約７５０ｎｍの範囲、より好ましくは約５０ｎｍ〜約５００ｎｍの範囲である。コンフォーマルに適用されたコーティングが、コーティングされた表面の全体にわたってほぼ同じ厚さとなるように、コーティングは、テクスチャー化されたポリマー材料の表面上に少なくともほぼ均一に適用されることが更に望ましい。
【００３８】
テクスチャー化されたＩＴＯ層の表面抵抗率は、約１０Ω／ｓｑ〜数千Ω／ｓｑの間で変化させることが可能であり、このため、ＩＴＯコーティングは幅広い透明ＥＭＣ遮蔽及び帯電防止用途に適している。好ましい一実施形態では、テクスチャー化されたＩＴＯ層は、約２００〜約６００Ω／ｓｑの表面抵抗率、より好ましくは約３００〜約５００Ω／ｓｑの表面抵抗率を示す。
【００３９】
可視光透過率もＩＴＯコーティングが厚くなるほど低下する。本明細書に述べられるようにして製造されたテクスチャー化されたＩＴＯ層は、好ましくは約９０％よりも高い、より好ましくは約９３％よりも高い、最も好ましくは約９５％よりも高い透過率を有する。
【実施例】
【００４０】
実施例１
２組の試料を調製した。第１の組の試料は、モスアイナノ構造化フィルムからなるものとし、第２の組の試料は、本明細書にその主題をその全容にわたって援用するところのフバード（Ｈｕｂｂａｒｄ）らに付与された同時係属中の米国特許出願第１２／８３４，１８０号に述べられるように、多孔質アルミナフィルムからなるものとした。両方のフィルムの組を、スパッタリングにより異なる厚さのＩＴＯでコーティングし、全視感透過率（ＴＬＴ（％））の結果を下記に示す。
【００４１】
【表１】
2014522504.tif 000002
１マクダーミド・オートタイプ社（ＭａｃＤｅｒｍｉｄ  Ａｕｔｏｔｙｐｅ）よりＡｕｔｏｆｌｅｘ  ＭｏｔｈＥｙｅ  ＸＭＥＥ  １８０として販売される、ＩＴＯスパッタリング表面上にモスアイナノ構造化コーティングを有するポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム。
２マクダーミド・オートタイプ社（ＭａｃＤｅｒｍｉｄ  Ａｕｔｏｔｙｐｅ）よりＡｕｔｏｆｌｅｘ  ＭｏｔｈＥｙｅ  ＭＥＣ  １８０として販売される、ＩＴＯスパッタリング表面上にモスアイナノ構造化コーティングを有するポリカーボネートフィルム。
３本明細書にその開示内容をその全容にわたって援用するところのフバード（Ｈｕｂｂａｒｄ）らに付与された同時係属中の米国特許出願第１２／８３４，１８０号に記載される、ＩＴＯスパッタリング表面上に多孔質アルミナ型のナノ構造コーティングを有するＰＥＴフィルム。
【００４２】
実施例２
モスアイナノ構造化フィルムにＩＴＯをスパッタリングし、３００Ω／ｓｑ（厚い方）及び５００Ω／ｓｑ（薄い方）の表面抵抗率のものを調製し、全視感透過率（ＴＬＴ（％））の結果を下記に示した。
【００４３】
【表２】
2014522504.tif 000003
【００４４】
これらの実施例はナノ構造コーティングにより透過率が向上したことを示している。
【国際調査報告】
2014522504.tif 000004
2014522504.tif 000005
2014522504.tif 000006