(57)【要約】  本発明は、基材層（１）、結合層（２）、金属ナノワイヤーのパーコレーティングネットワーク（３）、及び電気均一化層（４）を含んでなる透明導電性多層電極であって、前記電気均一化層（４）が、２０℃未満のガラス転移温度Ｔｇを有するエラストマー；及び／又は２０℃未満のガラス転移温度Ｔｇを有する熱可塑性物質；及び／又は重合体；導電性の任意に置換されたポリチオフェン；及び導電性又は半導電性のナノメータースケールのフィラーを含んでなるものである透明導電性多層電極に関する。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材層（１）、接着剤層（２）、金属ナノフィラメントのパーコレーティングネットワーク（３）及び電気均一化層（４）を含んでなる透明導電性積層電極であって、電気均一化層（４）が、
２０℃未満のガラス転移温度Ｔｇを有するエラストマー及び／又は２０℃未満のガラス転移温度Ｔｇを有する熱可塑性重合体及び／又は重合体、
任意に置換されたポリチオフェン導電性重合体、及び
ナノメータースケールの導電性又は半導電性のフィラー
を含んでなるものであることを特徴とする透明導電性積層電極。
【請求項２】
電気均一化層が、また、ポリスチレン、ポリカーボネート又はポリメチレンメラミンの官能化又は非官能化粒子から選ばれる架橋又は非架橋重合体の粒子（非架橋重合体の粒子は８０℃以上のガラス転移温度Ｔｇを示す）、ガラス粒子、シリカ粒子及び／又はＺｎＯ、ＭｇＯ、ＭｇＡｌ２Ｏ４から選ばれる金属酸化物の粒子、又はホウケイ酸塩の粒子を含んでなるものであることを特徴とする請求項１記載の透明導電性積層電極。
【請求項３】
可視スペクトルにわたって平均透過率７５％以上を示すことを特徴とする請求項１記載の透明導電性積層電極。
【請求項４】
表面抵抗率１０００Ω／□未満を示すことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の多層性の透明導電性電極。
【請求項５】
接着剤層（２）がニトリルゴム製であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の透明導電性積層電極。
【請求項６】
金属ナノフィラメントのパーコレーティングネットワーク（３）が多層であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の透明導電性積層電極。
【請求項７】
金属ナノフィラメントのネットワーク（３）が、金属ナノフィラメントの密度０．０１μｇ／ｃｍ２〜１ｍｇ／ｃｍ２を有することを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の透明導電性積層電極。
【請求項８】
金属ナノフィラメントが、貴金属のナノフィラメントであることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の透明導電性積層電極。
【請求項９】
金属ナノフィラメントが、非貴金属のナノフィラメントであることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の透明導電性積層電極。
【請求項１０】
基材が、ガラス及び透明な屈曲性重合体から選ばれるものであることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の透明導電性積層電極。
【請求項１１】
透明導電性積層電極の製法であって、該方法は、
ｉ）基材層（１）を用意する工程、
ｉｉ）接着剤層（２）を塗布する工程、
ｉｉｉ）接着剤層の上に、有機溶媒中に金属ナノフィラメントを含む懸濁液を塗布する工程、
ｉｖ）金属ナノフィラメントの懸濁液から有機溶媒を蒸発させる工程、
ｖ）（ａ）２０℃未満のガラス転移温度Ｔｇを有するエラストマーの及び／又は２０℃未満のガラス転移温度Ｔｇを有する熱可塑性重合体の少なくとも１の分散液又は懸濁液、及び／又は重合体溶液、
（ｂ）少なくとも１の任意に置換されたポリチオフェン導電性重合体、
（ｃ）水及び又は有機溶媒の分散液又は懸濁液中のナノメートルの導電性又は半導電性フィラー
を含んでなる電気均一化層を形成する組成物を、金属ナノフィラメントに塗布する工程、
ｖｉ）温度２５〜８０℃において乾燥することによって、電気均一化層を形成する組成物から溶媒を蒸発させ、前記乾燥温度は、重合体粒子（ｃ）が非架橋重合体の粒子である場合、前記工程で塗布された組成物中に存在する非架橋重合体の粒子のガラス転移温度Ｔｇ未満でなければならず、続いて、前記電気均一化層（４）を架橋する工程
を含んでなる透明導電性積層電極の製法。
【請求項１２】
電気均一化層（４）が、また、ポリスチレン、ポリカーボネート又はポリメチレンメラミンの官能化又は非官能化粒子から選ばれる架橋又は非架橋重合体の粒子（非架橋重合体の粒子は８０℃以上のガラス転移温度Ｔｇを示す）、ガラス粒子、シリカ粒子及び／又はＺｎＯ、ＭｇＯ、ＭｇＡｌ２Ｏ４から選ばれる金属酸化物の粒子、又はホウケイ酸塩の粒子を含んでなるものであることを特徴とする請求項１１記載の製法。
【請求項１３】
基材が、ガラス及び透明な屈曲性重合体から選ばれるものであることを特徴とする請求項１１又は１２記載の製法。
【請求項１４】
接着剤層がニトリルゴム製であることを特徴とする請求項１１〜１３のいずれかに記載の製法。
【請求項１５】
金属ナノフィラメントの有機溶媒懸濁液を接着剤層（２）に塗布する工程及び金属ナノフィラメントの懸濁液から有機溶媒を蒸発させる工程を、連続して複数回行い、多層の金属ナノフィラメントのパーコレーティングネットワークを得ることを特徴とする請求項１１〜１４のいずれかに記載の製法。
【請求項１６】
金属ナノフィラメントが、貴金属のナノフィラメントであることを特徴とする請求項１１〜１５のいずれかに記載の製法。
【請求項１７】
金属ナノフィラメントが、非貴金属のナノフィラメントであることを特徴とする請求項１１〜１５のいずれかに記載の製法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロニクスの一般的分野における透明電導性電極及びその製法に関する。
【背景技術】
【０００２】
高い透過性及び良好な導電性を示す透明導電性電極は、現在では、電子機器の分野における重要な開発の対象であり、このタイプの電極は、光起電力電池、液晶スクリーン、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤｓ）又は高分子発光ダイオード（ＰＬＥＤｓ）、及びタッチスクリーンのような機器に関する使用が増大している
【０００３】
高い透過性及び良好な導電性を有する透明導電性電極を得るために、基材上に、接着剤層、金属ナノフィラメントのネットワーク及び例えば、ポリ−（３，４−エチレンジオキシチオフェン）（ＰＥＤＯＴ）及びポリ−（スチレンスルホン酸ナトリウム）（ＰＳＳ）のブレンド（ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳとして知られているものを形成する）のような導電性ポリマー製のカプセル化層が積層された透明導電性積層電極が知られている。
【０００４】
米国特許出願公開第２００９／０１２９００４号は、この多層構造による透明導電性電極を開示している。
【０００５】
しかし、このタイプの透明導電性積層電極構造体は、特に、酸性ｐＨを有するＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ製のカプセル化層が金属ナノフィラメントを酸化させ、このようにして、電極の導電性を低下させるため、完全には満足できないものである。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的の１つは、従来技術の不利益を少なくとも部分的に克服し、高い透過性及び良好な導電性を有する透明導電性積層電極及びその製法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
さらに詳述すれば、本発明による及び本発明の製法に従って得られる透明導電性積層電極は、下記の要件及び特性に該当する：
表面抵抗率：１０００Ω／□
可視スペクトルにおける平均透過率：７５％以上
ＲＭＳ表面粗さ：１００ｎｍ未満
【０００８】
このように、本発明は、基材層、接着剤層、金属ナノフィラメントのパーコレーティングネットワーク及び電気均一化層を含んでなる透明導電性積層電極であって、電気均一化層が、
２０℃未満のガラス転移温度Ｔｇを有するエラストマー及び／又は２０℃未満のガラス転移温度Ｔｇを有する熱可塑性重合体及び／又は重合体、
任意に置換されたポリチオフェン導電性重合体、及び
ナノメータースケールの導電性又は半導電性フィラー
を含んでなるものである透明導電性積層電極に関する。
【０００９】
本発明の１態様によれば、電気均一化層は、また、ポリスチレン、ポリカーボネート又はポリメチレンメラミンの官能化又は非官能化粒子から選ばれる架橋又は非架橋重合体の粒子（非架橋重合体の粒子は８０℃以上のガラス転移温度Ｔｇを示す）、ガラス粒子、シリカ粒子及び／又はＺｎＯ、ＭｇＯ、ＭｇＡｌ２Ｏ４から選ばれる金属酸化物の粒子、又はホウケイ酸塩の粒子を含んでなる。
【００１０】
本発明の他の態様によれば、透明導電性積層電極は、可視スペクトルにわたる平均透過率７５％以上を示す。
【００１１】
本発明の他の態様によれば、透明導電性積層電極は、表面抵抗率１０００Ω／□を示す。
【００１２】
本発明の他の態様によれば、接着剤層はニトリルゴム製である。
【００１３】
本発明の他の態様によれば、金属ナノフィラメントのパーコレーティングネットワークが多層性である。
【００１４】
本発明の他の態様によれば、金属ナノフィラメントのネットワークは、金属ナノフィラメントの密度０．０１μｇ／ｃｍ２〜１ｍｇ／ｃｍ２を有する。
【００１５】
本発明の他の態様によれば、金属ナノフィラメントは、貴金属のナノフィラメントである。
【００１６】
本発明の他の態様によれば、金属ナノフィラメントは、非貴金属のナノフィラメントである。
【００１７】
本発明の他の態様によれば、基材は、ガラス及び透明な屈曲性重合体から選ばれる。
【００１８】
本発明は、透明導電性積層電極の製法にも関し、該方法は、下記の工程を含んでなる：
ｉ）基材層を用意する工程、
ｉｉ）接着剤層を塗布する工程、
ｉｉｉ）接着剤層の上に、有機溶媒中に金属ナノフィラメントを含む懸濁液を塗布する工程、
ｉｖ）金属ナノフィラメントの懸濁液から有機溶媒を蒸発させる工程、
ｖ）（ａ）２０℃未満のガラス転移温度Ｔｇを有するエラストマーの及び／又は２０℃未満のガラス転移温度Ｔｇを有する熱可塑性重合体の少なくとも１の分散液又は懸濁液、及び／又は重合体溶液、
（ｂ）少なくとも１の任意に置換されたポリチオフェン導電性重合体、
（ｃ）水及び又は有機溶媒の分散液又は懸濁液中のナノメートルスケールの導電性又は半導電性フィラー
を含んでなる、電気均一化層を形成する組成物を、金属ナノフィラメントに塗布する工程、
ｖｉ）温度２５〜８０℃において乾燥することによって、電気均一化層を形成する組成物から溶媒を蒸発させ、前記乾燥温度は、重合体粒子（ｃ）が非架橋重合体の粒子である場合、前記工程で塗布された組成物中に存在する非架橋重合体の粒子のガラス転移温度Ｔｇ未満でなければならず、続いて、前記電気均一化層を架橋する工程。
【００１９】
製法の他の態様によれば、電気均一化層は、また、ポリスチレン、ポリカーボネート又はポリメチレンメラミンの官能化又は非官能化粒子から選ばれる架橋又は非架橋重合体の粒子（非架橋重合体の粒子は８０℃以上のガラス転移温度Ｔｇを示す）、ガラス粒子、シリカ粒子及び／又はＺｎＯ、ＭｇＯ、ＭｇＡｌ２Ｏ４から選ばれる金属酸化物の粒子、又はホウケイ酸塩の粒子を含んでなる。
【００２０】
製法の他の態様によれば、基材は、ガラス及び透明な屈曲性重合体から選ばれる。
【００２１】
製法の他の態様によれば、接着剤層はニトリルゴム製である。
【００２２】
製法の他の態様によれば、金属ナノフィラメントの有機溶媒懸濁液の接着剤層への塗布工程及び金属ナノフィラメントの懸濁液からの有機溶媒の蒸発工程は、金属ナノフィラメントの多層性のパーコレーティングネットワークを得るために、連続して数回行われる。
【００２３】
製法の他の態様によれば、金属ナノフィラメントは、貴金属のナノフィラメントである。
【００２４】
製法の他の態様によれば、金属ナノフィラメントは、非貴金属のナノフィラメントである。
【００２５】
本発明の他の特徴及び利点は、実施例（説明のためのものであって、限定するものではない）及び添付図面によって示す下記の記載を読むことによって、より明白になるであろう。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明による製法の各工程のフローチャートを示す図である。
【図２】透明導電性積層電極の各種の層の各々を示す分解立体図である。
【図３】透明導電性積層電極の各種の層を示す斜視図である。
【図４】透明導電性積層電極の部分を走査電子顕微鏡にて撮影した写真である。
【図５】透明導電性積層電極の部分を走査電子顕微鏡にて撮影した写真である。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
このように、本発明は、下記の工程ｉ）、ｉｉ）、ｉｉｉ）、ｉｖ）及びｖ）を含んでなる透明導電性積層電極の製法に関する。
【００２８】
製法の過程を図１のフローチャートに示す。これらの工程から得られる各種の層は、図２〜５においても見られる。
【００２９】
ｉ）基材層１の用意
透明導電性積層電極の製法の第１の工程では、基材１（上の層を支持する）を用意する。
【００３０】
電極の透明性を保持するために、この基材１は透明でなければならない。基材は屈曲性又は剛性であり、基材が剛性でなければならないケースでは、有利には、ガラスから選ばれ、又はその他のケースでは、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスルホン（ＰＳＵ）、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテルエステル樹脂、ポリエーテルアミド樹脂、ポリ酢酸ビニル、硝酸セルロース、酢酸セルロース、ポリスチレン、ポリオレフィン、ポリアミド、脂肪族ポリウレタン、ポリアクリロニトリル、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリアリーレート、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトン（ＰＥＫｓ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫｓ）及びポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）のような透明な屈曲性重合体から選ばれ、最も好適な屈曲性重合体は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＮ）及びポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）である。
【００３１】
ｉｉ）接着剤層２の塗布
この第２の工程ｉｉ）では、基材１を接着剤層２で被覆する。この接着剤層２は、基材１と当該接着剤層の上の層との間の接着を改善するとの目的を有する。
【００３２】
この接着剤層２も、高い透過性を保持するために透明であり、その上に載る層の塗布（特に、塗布が溶媒を使用するものである場合）に対して抵抗性である。接着剤層２は、特に、基材が屈曲性である場合、それ自体も、例えば、ニトリルゴム（ＮＢＲ）、スチレン／ブタジエン（ＳＢＲ）、天然ゴム（ＮＲ）の屈曲性材料、又はポリ酢酸ビニル（ＰＶＡ）、ポリウレタン（ＰＵ）又はポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）のような重合体溶液又は他のラテックスから製造されたものである。
【００３３】
当業者にとって公知の各種の方法（最も広く使用されている技術は、スプレーコーティング、インクジェットコーティング、ディップコーティング、フィルムコーティング、スピンコーティング、含浸コーティング、スロットダイコーティング、スクレーパーコーティング又はフレキソ印刷コーティングである）に従って、接着剤層２を基材１上に堆積し、このコーティングに続いて、接着剤層２を乾燥及び架橋する。
【００３４】
ｉｉｉ）接着剤層２への金属ナノフィラメント３の有機溶媒懸濁液の塗布
この第３の工程ｉｉｉ）では、金属ナノフィラメント３の懸濁液を接着剤層２に塗布する。
【００３５】
これらの金属ナノフィラメント３は、事前に、容易に蒸発可能な溶媒（例えば、エタノール）に分散されるか、又は事前に、界面活性剤（好ましくは、イオン導電体）の存在下、水性媒体に分散される。接着剤層２に塗布されるものは、金属ナノフィラメント３の溶媒懸濁液である。
【００３６】
金属ナノフィラメント３は、例えば、銀、金又は白金のような貴金属からなる。
【００３７】
金属ナノフィラメント３は、また、銅、鉄又はニッケルのような非貴金属からなっていてもよい。
【００３８】
接着剤層２と同様に、金属ナノフィラメント３の懸濁液を、当業者にとって公知の各種の方法（最も広く使用されている技術は、スプレーコーティング、インクジェットコーティング、ディップコーティング、フィルムコーティング、スピンコーティング、含浸コーティング、スロットダイコーティング、スクレーパーコーティング又はフレキソ印刷コーティングである）に従って、基材１上に堆積することができる。
【００３９】
ｉｖ）金属ナノフィラメント３の懸濁液からの有機溶媒の蒸発
この第４の工程ｉｖ）では、電流が通過することを許容する金属ナノフィラメント３のパーコレーティングネットワークを形成するために、金属ナノフィラメント３の懸濁液の溶媒を蒸発させる。
【００４０】
懸濁液における金属ナノフィラメント３の分散性は、蒸発後に形成されるネットワークの質を決定する。例えば、単層で形成されるパーコレーティングネットワークの場合、分散濃度は、０．０１〜１０質量％、好ましくは、０．１〜２質量％である。
【００４１】
蒸発後に形成されるネットワークの質は、ネットワーク内に存在する金属ナノフィラメント３の密度によっても限定され、密度は、０．０１μｇ／ｃｍ２〜１ｍｇ／ｃｍ２、好ましくは、０．０１〜１０μｇ／ｃｍ２である。
【００４２】
形成されるネットワークは、いくつかの積み重ねられた金属ナノフィラメント３の層からなる。このため、金属ナノフィラメント３の層の所望の数に応じて、工程ｉｉｉ）及びｉｖ）を繰り返し行えばよい。例えば、金属ナノフィラメント３のネットワークは、金属ナノフィラメント３の分散率０．１質量％を持つ１〜８００個の積み重ね層、好ましくは１００個未満からなることができる。
【００４３】
図４は、上記の工程から得られた透明導電性積層電極を電子顕微鏡によって撮影した写真を示す。ここに示す透明導電性積層電極は、基材層１、ニトリルゴム製の接着剤層２及び１５個の層で形成された金属ナノフィラメント３のネットワークからなる。
【００４４】
ｖ）電気均一化層４を形成する組成物の塗布
この第５の工程ｖ）では、組成物を金属ナノフィラメント３のネットワークに塗布するが、該組成物は、前記金属ナノフィラメント３のネットワークの電気均一化層を形成するためのものである。
【００４５】
このように、電気均一化層４を形成する組成物は、
（ａ）ガラス転移温度Ｔｇ＜２０℃を有するエラストマーの及び／又はガラス転移温度Ｔｇ＜２０℃を有する熱可塑性重合体の少なくとも１の分散液又は懸濁液、及び／又は重合体溶液、
（ｂ）少なくとも１の任意に置換されたポリチオフェン導電性重合体、
（ｃ）水性及び／又は有機溶媒分散液中又は懸濁液中の、一次元又は二次元においてナノメータースケールである導電性又は半導電性フィラー（前記フィラーは、好ましくは、形状因子（長さ／直径比）＞１０を示す）
を含んでなる。
【００４６】
電気均一化層４は、
（ｄ）ポリスチレン、ポリカーボネート又はポリメチレンメラミンの官能化又は非官能化粒子から選ばれる架橋又は非架橋重合体の粒子（前記非架橋重合体の粒子は、ガラス転移温度Ｔｇ＞８０℃を示す）、ガラス粒子、シリカ粒子及び／又は次の金属酸化物：ＺｎＯ、ＭｇＯ、ＭｇＡｌ２Ｏ４から選ばれる金属酸化物の粒子、又はホウケイ酸塩の粒子
も含むことができ、前記粒子（ｄ）は、粉末の形で又は水性及び／又は溶媒分散液の形で提供される。
【００４７】
電気均一化層４を形成する組成物は、構成成分（ａ）、（ｂ）、（ｃ）及び（ｄ）を、下記の質量割合（計１００質量％について）で含んでなることができる：
（ａ）ガラス転移温度Ｔｇ＜２０℃を有するエラストマーの及び／又はガラス転移温度Ｔｇ＜２０℃を有する熱可塑性重合体の少なくとも１の分散液又は懸濁液、及び／又は重合体溶液５〜９９質量％、好ましくは、５０〜９９質量％、
（ｂ）少なくとも１の任意に置換されたポリチオフェン導電性重合体０．０１〜９０質量％、好ましくは、０．１〜２０質量％、
（ｃ）水性及び／又は有機溶媒分散液中又は懸濁液中の、一次元又は二次元においてナノメータースケールである導電性又は半導電性フィラー０．０１〜９０質量％、好ましくは、０．１〜１０質量％、
（ｄ）ポリスチレン、ポリカーボネート又はポリメチレンメラミンの官能化又は非官能化粒子から選ばれる架橋又は非架橋重合体の粒子（前記非架橋重合体の粒子は、ガラス転移温度Ｔｇ＞８０℃を示す）、ガラス粒子、シリカ粒子及び／又は次の金属酸化物：ＺｎＯ、ＭｇＯ、ＭｇＡｌ２Ｏ４から選ばれる金属酸化物の粒子、又はホウケイ酸塩の粒子０．１〜９０質量％、好ましくは１〜５０質量％。
【００４８】
有利な具体例によれば、電気均一化層４を形成する組成物は、エラストマーの少なくとも１の分散液又は懸濁液（ａ）を含んでなり、前記エラストマーは、好ましくは、ポリブタジエン、ポリイソプレン、アクリル重合体、ポリクロロプレン（ポリクロロプレンについて、任意に、スルホン化ポリクロロプレンでもよい）、ポリウレタン、ヘキサフルオロプロパン／ジフルオロプロパン／テトラフルオロプロパン三元重合体、クロロブタジエン系及びメタクリル酸系、又はエチレン系及び酢酸ビニル系の共重合体、ＳＢＲ（スチレンブタジエンゴム）、ＳＢＳ（スチレン／ブタジエン／スチレン）、ＳＩＳ（スチレン／イソプレン／スチレン）及びＳＥＢＳ（スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン）共重合体、イソブチレン／イソプレン共重合体、ブタジエン／アクリロニトリル共重合体、又はブタジエン／アクリロニトリル／メタクリル酸三元重合体から選ばれる。さらに好ましくは、エラストマーは、アクリル重合体、ポリクロロプレン、ＳＢＲ共重合体及びブタジエン／アクリロニトリル共重合体から選ばれる。
【００４９】
他の有利な具体例によれば、電気均一化層４を形成する組成物は、熱可塑性重合体の少なくとも１の分散液又は懸濁液（ａ）を含んでなり、前記熱可塑性重合体は、ポリエステル、ポリアミド、ポリプロピレン、ポリエチレン、含塩素重合体（例えば、ポリ塩化ビニル及びポリ塩化ビニリデン）、含フッ素重合体（例えば、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ））、ポリアセテート、ポリカーボネート、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫｓ）、ポリスルフィド又はエチレン／酢酸ビニル共重合体から選ばれる。
【００５０】
他の好適な具体例によれば、電気均一化層４を形成する組成物は、少なくとも１の重合体溶液を含んでなり、前記重合体は、ポリビニルアルコール（ＰＶＯｓ）、ポリ酢酸ビニル（ＰＶＡｓ）、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰｓ）又はポリエチレングリコールから選ばれる。
【００５１】
前記エラストマー及び／又は前記熱可塑性重合体は、水性又は溶媒分散液又は懸濁液の形で使用され、前記溶媒は、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、エチレングリコール、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、酢酸ジメチル（ＤＭＡｃ）又はジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）から選ばれる。好ましくは、エラストマー及び／又は熱可塑性重合体は、水性の分散液又は懸濁液中に存在する。
【００５２】
導電性重合体（ｂ）はポリチオフェンであり、ポリチオフェンは、熱的及び電子的により安定な重合体の１つである。好適な導電性重合体は、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）−ポリ（スチレンスホネート）（ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ）であり、該化合物は、光及び熱に対して安定であり、水中に容易に分散され、環境的不利益を何ら生じない。
【００５３】
導電性重合体（ｂ）は、水性又は溶媒分散液又は懸濁液の形で提供され、前記溶媒は、好ましくは、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、エチレングリコール、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、酢酸ジメチル（ＤＭＡｃ）又はジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）から選ばれる極性の有機溶媒であり、導電性重合体（ｂ）は、好ましくは、水、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）又はエチレングリコールにおける分散液又は懸濁液中に存在する。
【００５４】
「導電性エンハンサー」としても公知の有機化合物（導電性重合体の電気伝導度を改善することを可能にする）を、電気均一化層４を形成する組成物に添加することもできる。これらの化合物は、特に、ジヒドロキシル、ポリヒドロキシル、カルボキシル、アミド及び／又はラクタム官能基を有することができ、例えば、米国特許第５，７６６，５１５号及び同第６，９８４，３４１号（参照して、本明細書に含める）に開示された化合物である。最も好適な有機化合物又は「導電性エンハンサー」は、ＤＭＳＯ（ジメチルスルホキシド）、ソルビトール、エチレングリコール及びグリセリンである。
【００５５】
フィラー（ｃ）は、銀、金、白金及び／又はＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）のナノ粒子及び／又はナノフィラメントから選ばれる導電性フィラー、及び／又はカーボンナノチューブ及びグラファイト系ナノ粒子から選ばれる半導電性フィラーである。好適な具体例によれば、フィラー（ｃ）は、水性又は次の極性有機溶媒：すなわち、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、エチレングリコール、酢酸ジメチル（ＤＭＡｃ）又はジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、アセトン及びアルコール（例えば、メタノール、エタノール、ブタノール及びイソプロパノール）、又はこれらの溶媒の混合物から選ばれる溶媒における分散液又は懸濁液中のカーボンナノチューブである。
【００５６】
電気均一化層４を形成する組成物の特に好適な具体例によれば、架橋又は非架橋重合体の粒子（ｄ）は、平均直径３０〜１０００ｎｍ、より好ましくは、平均直径３０〜１０００ｎｍを有するポリスチレン粒子から選ばれる。これらの重合体粒子のサイズ分布は多峰性又は二峰性である。
【００５７】
前記重合体粒子（ｄ）は、粉末の形又は水性又は次の極性有機溶媒：すなわち、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、エチレングリコール、酢酸ジメチル（ＤＭＡｃ）又はジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、アセトン及びアルコール（例えば、メタノール、エタノール、ブタノール及びイソプロパノール）、又はこれらの溶媒の混合物から選ばれる溶媒における分散液又は懸濁液の形で使用される。
【００５８】
エラストマー及び／又は熱可塑性重合体及び／又は重合体（ａ）／粒子（ｄ）の質量比は、０．１〜１００００、好ましくは、１〜１０００である。導電性重合体（ｂ）／粒子（ｄ）の質量比は、０．０１〜１００００、好ましくは、０．１〜５００である。エラストマー及び／又は熱可塑性重合体及び／又は重合体（ａ）／ナノメータースケールの導電性又は半導電性フィラー（ｃ）の質量比については、この比は１〜１０００、好ましくは、５０〜５００である。表示した全ての質量比は、乾燥物質の質量として示している。
【００５９】
目的とする最終塗布に従って、その性能を改善又は改質するために、イオン性又は非イオン性界面活性剤、湿潤剤、レオロジー調整剤（例えば、増粘剤又は液状化剤）、接着促進剤、染料又は架橋剤のような添加剤を、本発明の組成物に添加することもできる。
【００６０】
接着剤層２及び金属ナノフィラメント３の懸濁液と同様に、電気均一化層４を、当業者にとって公知の各種の方法（最も広く使用されている技術は、スプレーコーティング、インクジェットコーティング、ディップコーティング、フィルムコーティング、スピンコーティング、含浸コーティング、スロットダイコーティング、スクレーパーコーティング又はフレキソ印刷コーティングである）に従って、支持体上に堆積することができ、これは、厚さ５０ｎｍ〜１５μｍを有するフィルムを得るために行われる。
【００６１】
ｖｉ）電気均一化層４を形成する組成物からの溶媒の蒸発
この第６の工程ｖｉ）では、電気均一化層４を形成する組成物の溶媒を、乾燥によって蒸発させる。
【００６２】
好ましくは、この乾燥は温度２５〜８０℃で行われ、前記乾燥温度は、重合体粒子（ｄ）が非架橋重合体粒子である場合には、必ず、先の工程で塗布された組成物中に存在する前記非架橋重合体粒子のガラス転移温度Ｔｇ未満でなければならない。
【００６３】
この工程において、電気均一化層４を、例えば、温度１５０℃における５分間の硬化による架橋に供する。
【００６４】
図５は、走査電子顕微鏡によって撮影した、先の工程から得られた透明導電性積層電極の写真を示す。透明導電性積層電極は、このように、基材層１、ニトリルゴム製の接着剤層２、１５個の層からなる金属ナノフィラメント３のネットワーク、及び電気均一化層４からなる。
【００６５】
本発明の他の主題は、透明導電性積層電極にもあり、この種の電極は、好ましくは、厚さ０．５〜２０μｍを有する。
【００６６】
この透明導電性積層電極は、図２、３及び５に示されており、基材層１、接着剤層２、金属ナノフィラメント３のネットワーク及び電気均一化層４を含んでなり、前記電気均一化層４は、
２０℃未満のガラス転移温度Ｔｇを有するエラストマー及び／又は２０℃未満のガラス転移温度Ｔｇを有する熱可塑性重合体及び／又は重合体、
任意に置換されたポリチオフェン導電性重合体、
導電性又は半導電性フィラー
を含んでなる。
【００６７】
電気均一化層４は、ポリスチレン、ポリカーボネート又はポリメチレンメラミンの官能化又は非官能化粒子から選ばれる架橋又は非架橋重合体の粒子（前記非架橋重合体の粒子は８０℃以上のガラス転移温度Ｔｇを示す）、ガラス粒子、シリカ粒子、及び／又は次の金属酸化物：ＺｎＯ、ＭｇＯ、ＭｇＡｌ２Ｏ４から選ばれる金属酸化物の粒子、又はホウケイ酸塩の粒子も含んでなる。
【００６８】
特に上述の製法から得られた透明導電性積層電極は、このように、高い透過性、低い表面電気抵抗及び１００ｎｍ未満の低い粗さを示す。
【００６９】
有機電子の部門では、デバイスは一般に多層デバイスである。本発明による透明導電性積層電極は、これらの極めて薄い層の１つを形成する。このように、多層デバイスにおける短絡の危険性を最少にするために、可能な限り最小の粗さを有することが必須である。
【００７０】
基材層１は、電極の透明性を保持するために、透明でなければならない。前記基材層１は、屈曲性又は剛性であり、剛性でなければならないケースでは、有利には、ガラスから選ばれ、その他のケースでは、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスルホン（ＰＳＵ）、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテルエステル樹脂、ポリエーテルアミド樹脂、ポリ酢酸ビニル、硝酸セルロース、酢酸セルロース、ポリスチレン、ポリオレフィン、ポリアミド、脂肪族ポリウレタン、ポリアクリロニトリル、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリアリーレート、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトン（ＰＥＫｓ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫｓ）及びポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）のような透明な屈曲性重合体から選ばれ、最も好適な屈曲性重合体は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＮ）及びポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）である。
【００７１】
接着剤層２も、高い透過性及びその上におかれる層の塗材に対する十分な抵抗性（特に、塗材が溶媒を含むものである場合）を保持するためには、透明である。接着剤層２は、特に、基材が屈曲性である場合には、それ自体も、屈曲性材料、例えば、天然ゴム（ＮＢＲ）からなる。
【００７２】
金属ナノフィラメント３のネットワークは、例えば、銀、金又は白金のような貴金属からなる。また、金属ナノフィラメントは、例えば、銅、鉄又はニッケルのような非貴金属からなっていてもよい。
【００７３】
金属ナノフィラメントのネットワークは、金属ナノフィラメント３の１つ又はそれ以上の積み重なった層からなり、このようにして、導電性のパーコレーティングネットワークを形成することができ、金属ナノフィラメント３の密度０．０１μｇ／ｃｍ２〜１ｍｇ／ｃｍ２を有することができる。
【００７４】
電気均一化層４に存在できるエラストマーは、好ましくは、ポリブタジエン、ポリイソプレン、アクリル重合体、ポリクロロプレン（ポリクロロプレンについて、任意に、スルホン化ポリクロロプレンでもよい）、ポリウレタン、ヘキサフルオロプロパン／ジフルオロプロパン／テトラフルオロプロパン三元重合体、クロロブタジエン系及びメタクリル酸系、又はエチレン系及び酢酸ビニル系の共重合体、ＳＢＲ（スチレンブタジエンゴム）、ＳＢＳ（スチレン／ブタジエン／スチレン）、ＳＩＳ（スチレン／イソプレン／スチレン）及びＳＥＢＳ（スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン）共重合体、イソブチレン／イソプレン共重合体、ブタジエン／アクリロニトリル共重合体、又はブタジエン／アクリロニトリル／メタクリル酸三元重合体から選ばれる。さらに好ましくは、エラストマーは、アクリル重合体、ポリクロロプレン、ＳＢＲ共重合体及びブタジエン／アクリロニトリル共重合体から選ばれる。
【００７５】
他の有利な構造体によれば、電気均一化層４を形成する組成物は、少なくとも１の熱可塑性重合体を含んでなり、前記熱可塑性重合体は、ポリエステル、ポリアミド、ポリプロピレン、ポリエチレン、含塩素重合体（例えば、ポリ塩化ビニル及びポリ塩化ビニリデン）、含フッ素重合体（例えば、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ））、ポリアセテート、ポリカーボネート、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫｓ）、ポリスルフィド又はエチレン／酢酸ビニル共重合体から選ばれる。
【００７６】
他の好適な構造体によれば、電気均一化層４は、少なくとも１の重合体を含んでなり、前記重合体は、ポリビニルアルコール（ＰＶＯｓ）、ポリ酢酸ビニル（ＰＶＡｓ）、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰｓ）又はポリエチレングリコールから選ばれる。
【００７７】
電気均一化層４に存在できる導電性重合体は、好ましくは、ポリチオフェンであり、ポリチオフェンは、熱的及び電子的により安定な重合体の１つである。好適な導電性重合体は、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）−ポリ（スチレンスホネート）（ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ）であり、該化合物は、光及び熱に対して安定であり、水中に容易に分散され、環境的不利益を何ら生じない。
【００７８】
「導電性エンハンサー」としても公知の有機化合物（導電性重合体の電気伝導度を改善することを可能にする）を、電気均一化層４に含有させることもできる。これらの化合物は、特に、ジヒドロキシル、ポリヒドロキシル、カルボキシル、アミド及び／又はラクタム官能基を有することができ、例えば、米国特許第５，７６６，５１５号及び同第６，９８４，３４１号（参照して、本明細書に含める）に開示された化合物である。最も好適な有機化合物又は「導電性エンハンサー」は、ソルビトール、エチレングリコール、グリセリン又はＤＭＳＯ（ジメチルスルホキシド）である。
【００７９】
電気均一化層４に存在できる架橋又は非架橋重合体の粒子は、好ましくは、平均直径３０〜１０００ｎｍを有し、より好ましくは、平均直径３０〜１０００ｎｍを有するポリスチレン粒子から選ばれる。これら重合体粒子のサイズ分布は、多峰性又は二峰性である。
【００８０】
電気均一化層４に存在できる導電性フィラーは、銀、金、白金及び／又はＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）のナノ粒子及び／又はナノフィラメントから選ばれ、及び／又は半導電性フィラーは、カーボンナノチューブ及びグラファイト系ナノ粒子から選ばれる。
【００８１】
エラストマー及び／又は熱可塑性重合体及び／又は重合体／粒子の質量比は、０．１〜１００００、好ましくは、１〜１０００である。導電性重合体／粒子の質量比は、０．０１〜１００００、好ましくは、０．１〜５００である。エラストマー及び／又は熱可塑性重合体及び／又は重合体（ａ）／ナノメータースケールの導電性又は半導電性フィラーの質量比については、この比は１〜１０００、好ましくは、５０〜５００である。表示した全ての質量比は、乾燥物質の質量として示している。
【００８２】
下記の実験結果は、波長５５０ｎｍにおける透過率Ｔ５５０、平均透過率Ｔｍｅａｎ、表面電気抵抗率Ｒ及び金属ナノフィラメントの密度のような必須のパラメーターに関する、本発明による多層性の透明導電性電極によって得られた値を示している。
【００８３】
これらの結果を、米国特許出願公開第２００９／０１２９００４号から得られた透明導電性積層電極について得られた値と比較する。
【００８４】
１）実験条件：
他に記述しない限り、テストを、ただ１つの銀ナノフィラメント層及び
−ガラス転移温度Ｔｇ２０℃未満を有するエラストマー及び／又はガラス転移温度Ｔｇ２０℃未満を有する熱可塑性重合体及び／又は重合体、
−任意に置換されたポリチオフェン導電性重合体、
−ナノメータースケールの導電性又は半導電性フィラー
を含んでなる電気均一化層を含んでなる電極について実施した。
電極を調製するために、ただ１つの剛性の基材として、ガラスシートを使用した。
各層を、全て、同じスピンコーティグ法によって塗布した。
【００８５】
２）測定法：
総透過率の測定
総透過率（すなわち、可視スペクトルについて、フィルムを通過する光の強さ）を、５０×５０ｍｍの試験片について、分光光度計Ｐｅｒｋｉｎ−Ｅｌｍｅｒ  Ｌａｂｄａ３５を使用してＵＶ／可視スペクトル（３００〜９００ｎｍ）にわたって測定した。
２つの透過率：
−波長５５０ｎｍにおける透過率Ｔ５５０、及び
−可視スペクトル全体にわたる平均透過率Ｔｍｅａｎ
を記録した（後者の値は、可視スペクトルにわたる透過率の平均値に相当する）。これらの値は、いずれも１０ｎｍであることが測定された。
【００８６】
表面電気抵抗率の測定
表面電気抵抗率（Ω／□）は、下記に式によって定義される：
【数１】
2014526117.tif 000003
ここで、
ｅ：導電層の厚さ（ｃｍ）
σ：層の導電度（Ｓ/ｃｍ）（σ＝１／ρ）
ρ：層の抵抗率（Ω・ｃｍ）
表面電気抵抗率を、２０×２０ｍｍの試験片について測定を行うため、オーム計Ｋｅｉｔｈｌｅｙ  ２４００  ＳｏｕｒｃｅＭｅｔｅｒ及び２つのポイントを使用して測定した。測定を容易にするため、事前に、ＣＶＤによって電極上に金接点を配置した。
【００８７】
表面粗さの測定
平均粗さＲｑを、５０×５０ｍｍの試験片について、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ  Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ  ３１００を使用し、タッピングモードで測定した。
各テスト使用について、測定を２回行った。
【００８８】
銀ナノフィラメントの密度の測定
ナノフィラメントの密度を、走査電子顕微鏡（電解放出Ｓｕｐｒａ３５、Ｚｅｉｓｓ）を使用した試験片の観察後に得られた写真を使用する画像分析によって測定した。写真の総面積は７８５０６μｍ２である（加速電圧２８ｋＶ、絞り６０μｍ、倍率１０００×）。試験片当たり写真１０枚について、ソフトウェアＶｉｓｉｌｏｇ（バージョン６．９）での化学コントラスト画像処理を行った。２つの「最大値」及び「最小値」アルゴリズムに従って特徴づけを行った。
ナノフィラメントの密度は、下記の式によって定義される：
【数２】
2014526117.tif 000004
ここで、
Ａ：Ｖｉｓｉｌｏｇによって算定したナノフィラメントの面積
Ａｇ：ＳＥＭ画像の総面積（７８５６０μｍ２）
【００８９】
３）結果：
総透過率及び表面電気抵抗率の比較結果
略語一覧：
ＮＢＲ：ニトリルゴム
ＰＶＰ：ポリビニルピロリドン
ＰＶＡ：ポリビニルアルコール
ＰＵ：ポリウレタン
ＮＷｓ：金属ナノフィラメントのネットワーク
ＰＥＤＯＮＴ：ＰＳＳ：ポリチオフェン（導電性重合体）
ＴＣＯ  Ｈｕｔｃｈｉｎｓｏｎ：本発明による電気均一化層
【００９０】
【表１】
2014526117.tif 000005
【００９１】
このように、本発明による金属ナノフィラメントのただ１つの層を含んでなる電極は、Ｔ５５０について７５％以上及びＴｍｅａｎについて７５％の高い透過率、及び１０００Ω／□未満、約７７６Ω／□の表面電気抵抗率を有することが明らかである。
【００９２】
このように、同じ透過率では、本発明による透明導電性積層電極は、従来技術のものよりも大いに良好であり、電気均一化層は、特に、ただ１つのＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ層によるカプセル化による金属ナノフィラメントの酸化の結果として、表面電気抵抗率の顕著な上昇を生じさせない。
【００９３】
ナノフィラメントの層の数を関数とする密度、透過率及び表面電気抵抗率の結果
測定を、
−ニトリルゴムの接着剤層、
−銀ナノフィラメントの多層ネットワーク、
−本発明による電気均一化層ＴＣＯ  Ｈｕｔｃｈｉｎｓｏｎ
を含んでなる本発明による透明導電性積層電極について行った。
【００９４】
【表２】
2014526117.tif 000006
【００９５】
このように、本発明による透明導電性積層電極について、密度０．１０〜０．７μｇ／ｃｍ２の銀ナノフィラメント層が多数であることにより、表面電気抵抗率を大いに低減するとともに、Ｔ５５０について７５％以上及びＴｍｅａｎについて７５％の高い透過率を保持することが可能になることが明らかである。
【００９６】
４）実施例
［例Ａ］
この例は、電気均一化層４を持たない最新技術による透明導電性積層電極に相当する。
構成物Ａを、次のようにして調製した：
−事前に脱イオン水にて１５％に希釈した自己架橋性ＮＢＲ（ニトリルブタジエンゴム、Ｓｙｎｔｈｏｍｅｒ、５１３０）２ｇを、スピンコーター（ＳＰＳ、ＳＰＩＮ  １５０）を使用し、次のパラメーターに従って、平板化したＰＥＴプラスチック基材（Ｄｕｐｏｎｔ  ｄｅ  Ｎｅｍｏｕｒ、ＳＴ５０４）上に堆積した：加速３００ｒｐｍ、速度３０００ｒｐｍ、１００秒。続いて、ラテックスフィルムを、オーブンを使用して、１５０℃において５分間硬化させた。
−続いて、濃度０．１６質量％の銀ナノフィラメントのエタノール分散液（Ｂｌｕｅｎａｎｏ、ＳＬＶ−ＮＷ−９０）２ｇを、スピンコーティング（加速：５００ｒｐｍ、速度：５０００ｒｐｍ、時間：１００秒）によって、硬化したラテックス層の上に堆積した。銀ナノフィラメントのパーコレーティングネットワークを形成するため、この操作を６回繰り返した（銀ナノフィラメント層の数：６）。
透明かつ導電性の電極の特性は次のとおりである：
【表３】
2014526117.tif 000007
【００９７】
［例Ｂ］
この例は、電気均一化層４を持つ本発明による透明導電性積層電極に相当する。
構成物Ｂを、次のようにして調製した：
−事前に脱イオン水にて１５％に希釈した自己架橋性ＮＢＲ（ニトリルブタジエンゴム、Ｓｙｎｔｈｏｍｅｒ、５１３０）２ｇを、スピンコーター（ＳＰＳ、ＳＰＩＮ  １５０）を使用し、次のパラメーターに従って、平板化したＰＥＴプラスチック基材（Ｄｕｐｏｎｔ  ｄｅ  Ｎｅｍｏｕｒ、ＳＴ５０４）上に堆積した：加速２００ｒｐｍ、速度２０００ｒｐｍ、１００秒。続いて、ラテックスフィルムを、オーブンを使用して、１５０℃において５分間硬化させた。
−続いて、濃度０．１６質量％の銀ナノフィラメントのエタノール分散液（Ｂｌｕｅｎａｎｏ、ＳＬＶ−ＮＷ−９０）２ｇを、スピンコーティング（加速：５００ｒｐｍ、速度：５０００ｒｐｍ、時間：１００秒）によって、硬化したラテックス層の上に堆積した。銀ナノフィラメントのパーコレーティングネットワークを形成するため、この操作を６回繰り返した（銀ナノフィラメント層の数：６）。
−固形分１．２％を有するＣｌｅｖｉｏｓ  ＰＨ１０００  ＰＥＤＴ：ＰＳＳ分散液１４．１７ｇ及びＤＭＳＯ  １７．００ｇ中に、Ｇｒａｐｈｉｓｔｒｅｎｇｔｈ  Ｃ１００  ＭＷＮＴカーボンナノチューブ８．５ｍｇを、高せん断ミキサー（Ｓｉｌｖｅｒｓｏｎ  Ｌ５Ｍ）を使用して、速度８０００回転／分において２時間分散させた。
−上述のように調製したカーボンナノチューブの分散液３１．１８ｇを、水性懸濁液（固形分４５％）中のＳｙｎｔｈｏｍｅｒ  ５１３０  ＮＢＲ（ニトリルブタジエンゴム）３．７６ｇに添加した。続いて、磁気バーを使用して、混合物を３０分間撹拌した。
−続いて、ステンレス鋼メッシュ（φ＝５０μｍ）を使用して、得られた混合物を濾過し、これにより、分散されなかった粉末及びカーボンナノチューブの大きい凝集物を除去した。−続いて、混合物を、スピンコーター  ＳＰＩＮ  １５０を使用して（加速：５００ｒｐｍ、速度：５０００ｒｐｍ、時間：１００秒）、銀ナノフィラメントのパーコレーティングネットワークに塗布した。銀ナノフィラメントのパーコレーティングネットワークを、１５０℃において５分間硬化させた。
得られた透明導電性積層電極の特性は次のとおりである：
【表４】
2014526117.tif 000008
【００９８】
［例Ｃ］
この例は、架橋粒子を含んでなる電気均一化層４を持つ、本発明による透明導電性積層電極に相当する。
構成物Ｃを、次のようにして調製した：
−事前に脱イオン水にて１５％に希釈した自己架橋性ＮＢＲ（ニトリルブタジエンゴム、Ｓｙｎｔｈｏｍｅｒ、５１３０）２ｇを、スピンコーター（ＳＰＳ、ＳＰＩＮ  １５０）を使用し、次のパラメーターに従って、平板化したＰＥＴプラスチック基材（Ｄｕｐｏｎｔ  ｄｅ  Ｎｅｍｏｕｒ、ＳＴ５０４）上に堆積した：加速２００ｒｐｍ、速度２０００ｒｐｍ、１００秒。続いて、ラテックスフィルムを、オーブンを使用して、１５０℃において５分間で硬化させた。
−続いて、濃度０．１６質量％の銀ナノフィラメントのエタノール分散液（Ｂｌｕｅｎａｎｏ、ＳＬＶ−ＮＷ−９０）２ｇを、スピンコーティング（加速：５００ｒｐｍ、速度：５０００ｒｐｍ、時間：１００秒）によって、硬化したラテックス層の上に堆積した。銀ナノフィラメントのパーコレーティングネットワークを形成するため、この操作を６回繰り返した（銀ナノフィラメント層の数：６）。
−固形分１．２％を有するＣｌｅｖｉｏｓ  ＰＨ５００  ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ分散液１４．１７ｇ及びＤＭＳＯ  １７．００ｇ中に、Ｇｒａｐｈｉｓｔｒｅｎｇｔｈ  Ｕ１００  ＭＷＮＴカーボンナノチューブ８．５ｍｇを、高せん断ミキサー（Ｓｉｌｖｅｒｓｏｎ  Ｌ５Ｍ）を使用して、速度８０００回転／分において２時間分散させた。
−上述のように調製したカーボンナノチューブの分散液に、ポリスチレンナノ粒子ＰＳ００１５０−ＮＳ（φ＝１５０ｎｍ）０．３１１ｇ及びポリスチレンナノ粒子ＰＳ００６００−ＮＳ（φ＝６００ｎｍ）０．０７８ｇ（８０％ＰＳ００１５０−ＮＳ及び２０％ＰＳ００６００−ＮＳ）を添加し、ついで、高せん断ミキサー（Ｓｉｌｖｅｒｓｏｎ  Ｌ５Ｍ）を使用して、速度８０００回転／分において２０分間分散させた。
−上述のように調製したカーボンナノチューブの分散液３１．５８ｇ及び脱イオン水０．４７５ｇを、水性懸濁液（固形分４５％）中のＳｙｎｔｈｏｍｅｒ  ５１３０  ＮＢＲ（ニトリルブタジエンゴム）エラストマー（Ｔｇ＝−４０℃）２．８９ｇに添加した。続いて、磁気バーを使用して、混合物を３０分間撹拌した。乾燥ラテックスの２３％を、上述の比率のポリスチレンナノ粒子の混合物（８０％ＰＳ００１５０−ＮＳ及び２０％ＰＳ００６００−ＮＳ）にて交換した。
−続いて、ステンレス鋼メッシュ（φ＝５０μｍ）を使用して、得られた混合物を濾過し、これにより、分散されなかった粉末及びカーボンナノチューブの大きい凝集物を除去した。−続いて、混合物を、スピンコーター  ＳＰＩＮ  １５０を使用して（加速：５００ｒｐｍ、速度：５０００ｒｐｍ、時間：１００秒）、銀ナノフィラメントのパーコレーティングネットワークに塗布した。銀ナノフィラメントのパーコレーティングネットワークを、１５０℃において５分間で硬化させた。
得られた透明導電性積層電極の特性は次のとおりである：
【表５】
2014526117.tif 000009
【００９９】
本発明による透明導電性積層電極は、電気均一化層の存在により、金属ナノフィラメントの導電性ネットワークを損傷することなく保護することが可能であり、実際、金属ナノフィラメントの導電性ネットワークの寿命及び電極の耐久性が延長される。さらに、この電気均一化層は、表面伝導率の均一化及び粗さの低減を可能にし、実際、透明導電性積層電極の性能を高める。
【図１】
2014526117.tif 000010
【図２】
2014526117.tif 000011
【図３】
2014526117.tif 000012
【図４】
2014526117.tif 000013
【図５】
2014526117.tif 000014
【国際調査報告】
2014526117.tif 000015
2014526117.tif 000016
2014526117.tif 000017
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