(57)【要約】  構造化表面を画定する、例えば角柱状リブレット（１６）の形態の反射防止構造体を含む構造化面（１４）を有する構造化フィルム基材（１２）を備えた透明反射防止構造化フィルム（１０）。構造化表面は光の反射を防止し、構造化表面の少なくとも実質的な部分がガラス状表面を含む。少なくとも反射防止構造体は架橋シリコーンエラストマー材を含み、ガラス状表面は化学量論的量のＳｉＯ２を含む。太陽光エネルギーが光吸収器によって吸収される際、光エネルギーの供給源と光吸収器の光エネルギー受容面との間となるように配置される透明反射防止構造化フィルムを備えた光エネルギー吸収装置を開示する。
2014507011.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明反射防止構造化フィルムであって、
構造化面を有する構造化フィルム基材であって、前記構造化面が、構造化表面を画定し、かつ光の反射を防止する反射防止構造体を含み、前記構造化表面の少なくとも実質的な部分がガラス状表面を含み、少なくとも前記反射防止構造体が架橋シリコーンエラストマー材を含み、前記ガラス状表面が化学量論的量のＳｉＯ２を含む、構造化フィルム基材を備える、フィルム。
【請求項２】
前記ガラス状表面が、それぞれの前記反射防止構造体内に、前記化学量論的量のＳｉＯ２を少なくとも約５ナノメートルの深さまで含む、請求項１に記載のフィルム。
【請求項３】
前記ガラス状表面が、最小量の少なくとも約１０モル％の炭素原子を含む、請求項１又は２に記載のフィルム。
【請求項４】
前記反射防止構造体が、約１５度〜約７５度の範囲内の角柱先端角度と、約１０マイクロメートル〜約２５０マイクロメートルの範囲内のピッチとを有する角柱を含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載のフィルム。
【請求項５】
光エネルギー吸収装置であって、
光エネルギー受容面を有する光吸収器と、
光エネルギーの供給源からの光エネルギーが前記光吸収器によって吸収されている間、前記光エネルギーの供給源と前記光エネルギー受容面との間となるように配置される、請求項１〜４のいずれか一項に記載の透明反射防止構造化フィルムと、を備える、装置。
【請求項６】
前記光エネルギー吸収装置が光起電装置であり、前記光吸収器が、少なくとも１つの光電池を有する光電池モジュールを含み、前記反射防止構造化フィルムが、表面反射を低減して、前記光電池モジュールの電気的出力を少なくとも約３％向上させる、請求項５に記載の装置。
【請求項７】
光エネルギー吸収装置の製造方法であって、
請求項１〜４のいずれか一項に記載の透明反射防止構造化フィルムを提供する工程と、
光受容面を有する光吸収器を提供する工程と、
前記反射防止構造化フィルムを通って前記光吸収器の前記光受容面へと光が通過できるように、前記光吸収器に対して前記反射防止構造化フィルムを固定する工程と、を含む、方法。
【請求項８】
透明反射防止構造化フィルムの製造方法であって、
光の反射を防止する反射防止構造化表面を画定する反射防止構造体を含む構造化面を有する構造化フィルム基材を提供する工程であって、少なくとも前記反射防止構造体が架橋シリコーンエラストマー材を含む、工程と、
前記反射防止構造化表面の少なくとも実質的な部分が化学量論的量のＳｉＯ２を有するガラス状表面を含むように、前記反射防止構造化表面を処理して、前記反射防止構造化表面の少なくとも実質的な部分を画定する架橋シリコーンエラストマー材を、前記化学量論的量のＳｉＯ２を含むガラス状材料に変換する工程と、を含む、方法。
【請求項９】
前記処理が、前記反射防止構造化表面を、紫外線光、紫外線光及びオゾン、酸素プラズマ、並びに熱のうちの少なくとも１つに暴露する工程を含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記反射防止構造化表面をｅ−ビーム放射線に暴露して、少なくとも前記構造化表面の前記架橋シリコーンエラストマー材を更に架橋させる工程であって、前記ｅ−ビーム放射線暴露が前記処理に先だって行われる、工程を更に含む、請求項８又は９に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
（関連出願の相互参照）
本出願は２０１０年１２月８日出願の米国特許仮出願第６１／４２１０４７号の利益を主張するものであり、その全容は参照により本明細書に組み込まれる。
【０００２】
本発明は、透明反射防止構造化フィルム、特に架橋シリコーンエラストマー材を含む透明反射防止構造化フィルム、より詳細には、ガラス状表面を有する反射防止構造体を含むそのようなフィルム、そのようなフィルムの製造方法、及びそのようなフィルムを備えた光エネルギー吸収装置に関する。
【背景技術】
【０００３】
従来の化石燃料の燃焼に基づく発電（例えば、石油及び石炭に頼った発電所）のコストの上昇、及びこれにともなう温室効果ガスを低減する必要から、従来とは異なる電力の供給源に対する投資が増大している。例えば、米国エネルギー省は、太陽光発電の研究開発に多大な投資を行ってきた（例えば、太陽光エネルギーに基づいた温水及び電力の発生）。このような従来とは異なる発電の供給源の１つとして、太陽光エネルギーを電力に変換する光電池の使用がある。太陽光エネルギーは、住宅用及び商業用の温水を直接的又は間接的に加熱する目的でも使用されている。このような関心の高まりとともに、従来とは異なるこうした太陽光エネルギー技術による光エネルギーの吸収効率を高め、これにより利用可能な太陽光エネルギーの量を増大させることが求められている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、より有用な光エネルギーを該当する光吸収要素（例えば、光電池）に与えることによって、太陽光エネルギー及び他の光エネルギー吸収技術の効率を高める（即ち、エネルギー発生能力を高める）手段を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
シリコーンエラストマーは、長期の紫外線曝露下におけるその安定性によって知られ、光学的に透明かつ強靱であり得る。残念なことに、シリコーンエラストマーは、汚れ及び埃の粒子を誘引、吸着及び保持する傾向を有する比較的粘着性の表面を有してもいる。これまで、汚れ及び埃を吸着及び保持するこうした特性のため、シリコーンエラストマーは、例えば光電池用の光学的に透明な角柱状カバーなどの光エネルギー吸収又は変換装置の露出表面を形成するための候補としては望ましくないものであった。本発明は、少なくとも部分的に、シリコーンエラストマー材の構造化表面を、化学量論的量のＳｉＯ２を含むガラス状表面となるように処理することによって、シリコーンエラストマー表面のこの粘着性が有意に低減され、またそれらの汚れ及び埃粒子の吸着に対する耐性が有意に増大され得るという発見に基づくものである。
【０００６】
本発明の一態様において、光の反射を防止する構造化表面を画定する反射防止構造体を有する構造化面を含む構造化フィルム基材を備えた、透明反射防止構造化フィルム、シート、ウェブなどを提供する。少なくとも反射防止構造体は架橋シリコーンエラストマー材を含み、構造化表面の全部、又は殆ど、又は少なくとも実質的な部分がガラス状表面を含み、このガラス状表面は、化学量論的量のＳｉＯ２を含む。
【０００７】
ガラス状表面は、約５０モルパーセントを超えるＳｉＯ２を含むことが望ましい。ガラス状表面が、約５０モルパーセント超〜約９０モルパーセントの範囲内のＳｉＯ２含むことが望ましい可能性がある。又はガラス状表面が、少なくとも約６０モルパーセント〜約９０モルパーセントの範囲内のＳｉＯ２を含むことが望ましい可能性もある。ガラス状表面は、少なくとも約６０、６５、７０、７５、８０又は８５モルパーセントのＳｉＯ２を含むことが好ましい。ガラス状表面は、少なくとも幾分かのＳｉＯＨを含んでもよい。本明細書で使用されるとき、ＳｉＯＨに対する任意の参照にはＳｉＯＨのみでなく、同様にＳｉ及びＯＨを含む他の構成成分も含まれる。
【０００８】
各反射防止構造体の外側層のみがガラス状（即ち、各反射防止構造体がガラス状表面を有する）であることが望ましい。反射防止構造体は、ベース部分又は構造化フィルム基材の裏材から突出していてもよい。ガラス状表面の深さは、反射防止構造体の少なくとも有意な部分上にガラス状表面を形成するのに用いられる処理（例えば、火炎の温度及び継続時間、紫外線の強度及び継続時間、酸素プラズマの出力及び継続時間など）の設定（例えば、強度及び／又は持続時間）に依存する。
【０００９】
本発明の別の態様では、本発明による透明反射防止構造化フィルムを製造するための方法を提供する。本方法は、光の反射を防止する反射防止構造化表面を画定する反射防止構造体を含む構造化面を有する構造化フィルム基材を提供する工程であって、少なくとも反射防止構造体が架橋シリコーンエラストマー材を含む、工程と、反射防止構造化表面の少なくとも実質的な部分が化学量論的量のＳｉＯ２を有するガラス状表面を含むように、反射防止構造化表面を処理して、反射防止構造化表面の少なくとも実質的な部分を画定する架橋シリコーンエラストマー材を、化学量論的量のＳｉＯ２を含むガラス状材料に変換する工程と、を含む。
【００１０】
構造化フィルム基材を提供する工程は、硬化性であることで架橋シリコーンエラストマー材を形成するシリコーンエラストマー前駆材料を提供する工程と、シリコーンエラストマー前駆材料を構造化フィルム基材の形状に形成する工程と、シリコーンエラストマー前駆材料を硬化させて構造化フィルム基材を形成する工程と、を含んでもよい。
【００１１】
本発明の更なる態様では、光吸収器（例えば、太陽光温水循環管又は他の導管、光電池など）及び透明反射防止構造化フィルムを有する光エネルギー吸収装置（例えば、太陽光温水システム、光起電力発電システムなど）を提供する。光吸収器は光エネルギー受容面を有し、少なくとも光エネルギーの供給源（例えば太陽）からの光エネルギーが光吸収器によって吸収されている間は、透明反射防止構造化フィルムが光エネルギーの供給源と光エネルギー受容面との間となるように配置される。光エネルギー吸収装置（例えば、太陽光エネルギー変換装置）は、地上における用途及び宇宙での用途の両方を含む広範な用途で使用されている。いくつかの実施形態では、太陽光エネルギー変換装置は、自動車、飛行機、列車、船又は人工衛星などの地上の、水上の、空上の、及び／又は宇宙での乗物に取り付けられてもよい。これらの環境の多くは、有機高分子材料には非常に有害であり得る。
【００１２】
本発明の更なる態様では、光エネルギー吸収装置を製造するための方法を提供する。本方法は、本発明による透明反射防止構造化フィルムを提供する工程と、光受容面を有する光吸収器を提供する工程と、反射防止構造化フィルムを通って光吸収器の光受容面へと光が通過できるように、光吸収器に対して反射防止構造化フィルムを固定する工程と、を含む。
【００１３】
本明細書で使用されるとき、用語「フィルム」は、特に断らない限りは、シート、ウェブ、及び同様の構造と同義語である。
【００１４】
本明細書で使用されるとき、用語「透明な」は、例えば本発明のフィルムのような構造体が所望の帯域幅の光を透過させる能力を指す。ある構造体は、この用語が本明細書において用いられる意味においては、澄んでいるとは考えられない場合であってもなお透明であり得る。これは、この用語が本明細書において用いられる意味において、ある構造体は曇っていると考えられる場合であってもなお透明であり得る、ということである。本発明による透明な構造体は、少なくとも８５％、９１％、９２％、９３％、９４％、９５％、９６％、９７％又は９８％の光透過率を有することが望ましい。本発明は、広い光の波長帯域において有用であり得る。例えば、本発明は、約４００ｎｍ〜約２５００ｎｍの波長帯域内の光の透過に対して透明であることが望ましい場合がある。この帯域は、近赤外線（ＩＲ）を含む可視光の帯域に一般的に相当する。
【００１５】
本明細書で使用されるとき、用語「反射防止構造体」は、光が臨界角よりも大きな角度で高分子材料に入射して内部で伝播するように、光の入射角を変化させる表面構造体のことを指して言う。
【００１６】
本明細書で使用されるとき、用語「ガラス状表面」は、シリコーンエラストマー基材（即ち、架橋シリコーンエラストマー材、又は熱可塑性シリコーンエラストマー材、又は両方を含む基材）の表面を指し、ここで表面は化学量論的量のシリカ（ＳｉＯ２）を含み、１００％ガラス表面が有するものと同等の又は少なくとも類似した、汚れ及び埃粒子の吸着に対する耐性（即ち、汚れ耐性）及び／又は摩耗耐性を有する。「ガラス状表面」は親水性であってもよいが、必ずしも親水性でなくてもよい。加えて、「ガラス状表面」は、以下に記載するように、汚れ吸着試験、又は砂落下試験、又は両方の試験に供された後、その意図される光エネルギー吸収用途に許容可能なある程度の光透過率を有する。本明細書で使用されるとき、反射防止構造化表面の一部分は、その表面が汚れ吸着試験、又は砂落下試験、又は両方の試験に対して所望の耐性を有する場合に実質的にガラス状であり、これは、そのように試験された後の、それらの試験の光透過率の程度に対する影響、及び／又はガラス状表面が有する光透過率の変化から明かとなる。
【００１７】
本明細書で使用されるとき、用語「化学量論的量のシリカ又はＳｉＯ２」は、ケイ素及び酸素を化学量論的量のシリカ（即ち、酸素対ケイ素の２：１）に十分近い割合で含み、シリカガラスの少なくともいくつかの特性を有する組成物を指す。例えば、組成物は、少なくとも１．２５：１．００、少なくとも１．５：１．０、少なくとも１．７５：１．００のケイ素に対する酸素の比を有する場合、好ましくは約２．０：１．０により近い又は等しいケイ素に対する酸素の比を有する場合、化学量論的量のシリカを有する。
【００１８】
「備える」、「備えている」、「含んでいる」という用語及びその変形は、これらの用語が明細書及び特許請求の範囲で用いられる場合、限定的な意味を有しない。
【００１９】
用語「好ましい」及び「好ましくは」は、特定の状況下で、特定の利点をもたらし得る本発明の実施形態を指す。しかしながら、同じ、又は他の状況下においては他の実施形態が好ましい場合もある。更に、１つ以上の好ましい実施形態の引用は、他の実施形態が有用ではないという意味を含むものではなく、他の実施形態を本発明の範囲から除外することを意図しない。
【００２０】
本明細書で使用される「ａ」、「ａｎ」、「ｔｈｅ」、「少なくとも１つ」、及び「１つ以上」は、内容上そうでないことが明らかに示されない場合は互換可能に使用される。
【００２１】
用語「及び／又は」は、列挙した要素の１つ若しくは全部、又は列挙した要素の任意の２つ以上を意味する（例えば、「反射防止構造化表面を処理するためにＵＶ光、ＵＶＯ、酸素プラズマ、及び／又は熱を使用する」は、ＵＶ光、又はＵＶＯ、又は酸素プラズマ、又は熱、又は３つの任意の組み合わせを使用することを意味する）。
【００２２】
本明細書では更に、端点による数値範囲の列挙には、その範囲内に包含されるすべての数（例えば、１〜５の範囲には、１、１．５、２、２．７５、３、３．８０、４、４．６、５、５．３などが包含される）、及びその範囲内のあらゆる範囲が含まれる。
【００２３】
本明細書に開示される反射防止構造化フィルムの使用によって、反射されて光エネルギー吸収装置の光吸収要素（１つ又は複数）に到達しない光の量が減少することが実証されている。例えば、このような反射防止構造化フィルムにより、従来の光起電太陽光モジュールにおいて約３％〜約７％の範囲内で平均出力を増加させることが可能となる。本発明は、反射防止構造化フィルムの露出表面の汚れ及び埃粒子の吸着に対する耐性（即ち、汚れ耐性）、並びに／又は摩耗耐性を向上させることにより、光エネルギー吸収装置の寿命の間に、このような反射防止構造化フィルムを介した光の透過率を維持する助けとなりうるものである。これにより、本発明は、こうした光エネルギー吸収装置の光に曝露される表面から反射される入射光の量を低減する助けとなり得るものである。特に、ガラス状表面を有することにより、本発明の構造化面は、ガラス状表面を有さない同一のシリコーンエラストマー材と比較して、また他の高分子材料（例えば、ポリウレタン）で作製された同一の構造化面と比較して、容易に洗浄することができ（即ち、汚れ吸着に対する耐性がより高い）、比較的良好な機械的耐久性（例えば、砂落下に対する耐性）を有する。このような構造化面は更に、蓄積した汚れ及び埃粒子を比較的容易に取り除くことができる。
【００２４】
光エネルギー吸収装置、及び特に反射防止構造化フィルムの構造化面は、外部環境からの様々な有害な条件に曝され得る。例えば構造化面は、構造化面の構造化表面を損傷させ得る雨、風、雹、雪、氷、吹きつける砂などの環境的要素に曝され得る。加えて、太陽からの熱及び紫外線に対する曝露などの他の環境条件に対する長期の曝露も構造化面の劣化を引き起こし得る。例えば多くの高分子有機材料は、紫外線に繰り返し曝露されると分解しやすい。例えば太陽光エネルギー変換装置のような光エネルギー吸収装置の耐候性は、材料が劣化したり又は性能が損なわれたりすることなく何年にもわたって機能しうることが望ましいため、一般的に年数によって測定される。材料は、光透過率又は機械的一体性が大幅に損なわれることなく２０年程度の屋外曝露に耐え得ることが望ましい。一般的な高分子有機材料は、２０年といった長期に及んで光透過率又は機械的一体性が損なわれることなく屋外曝露に耐え得るものではない。少なくともいくつかの実施形態において、本発明の構造化面は、少なくとも約５年〜少なくとも約２０年の範囲内、場合によっては更に長期（例えば、少なくとも約２５年）の汚れ耐性及び／又は機械的耐久性を示すことが予想される。加えて、構造化面はシリコーン材料で形成されることから、少なくとも約１５年、約２０年、又は更には約２５年の長期の紫外線安定性を示し得る。
【００２５】
本発明のこれらの及び他の潜在的な利点を、同様の参照符合を用いて同様の部材を表す本発明の図面及び「発明を実施するための形態」に更に示し、説明する。ただし、図面及び説明文はあくまで説明を目的としたものであって、本発明の範囲を不要に限定するものとして読まれるべきものではない点は理解を要する。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明の透明反射防止構造化フィルムの実施形態の側縁図。
【図２】本発明の代替的な透明反射防止構造化フィルムの実施形態の側縁図。
【図３】本発明の別の透明反射防止構造化フィルムの実施形態の側縁図。
【図４】光吸収器が吸収する光の量を増大させるように配置された透明反射防止構造化フィルムを有する光エネルギー吸収装置の実施形態の側面図。
【図５】光吸収器が吸収する光の量を増大させる際に入射光が伝播し得る反射経路を示す、別の光エネルギー吸収装置の実施形態の側面図。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
以下の説明は、実例となる実施形態をより詳細に例示するものである。以下の本発明の実施形態の説明では、説明を分かりやすくするために特定の用語を用いる。しかしながら、本発明は、そのように選択された特定の用語に限定されることを意図せず、そのように選択された各用語は、同様に作動するすべての技術的相当物を含む。加えて、説明される異なる実施形態の同じ、又は類似の要素を特定するために同じ参照符合を用いる。
【００２８】
そうではない旨が断られない限り、上記明細書及び添付の「特許請求の範囲」に記載される数値的パラメータは、本明細書に開示される教示を利用する当業者が得ようとする所望の特性に応じて変更することが可能な近似的な値である。
【００２９】
図１を参照すると、例示的な透明反射防止構造化フィルム１０は、例えば光の反射を防止する角柱状リブレット１６（図５を参照）の形態の反射防止構造体を含む主構造化面１４を有する構造化フィルム基材１２を備える。各反射防止構造体（例えば、リブレット）１６は、先端角度α、谷から山の高さＨＴＰ、及び露出された構造化表面１８を有する。隣接する２つの反射防止構造（例えば、リブレット）１６は、谷角度βと、山から山の距離ＤＰＰとをそれらの間に画定する。フィルム１０は更に、そこから反射防止構造体１６が延出するベース部分２０を有する。ベース部分２０は、図に示されるように構造体１６の一体形成された部分としてもよく、あるいは破線２１によって示されるような別の層としてもよい。それらの耐久性を向上させるために、丸みのある山ＲＰ及び丸みのある谷ＲＴを有するリブレット１６を提供することが望ましい可能性がある。
【００３０】
構造化フィルム基材１２は、架橋シリコーンエラストマー材を含む。シリコーンエラストマー材は、例えば、熱硬化若しくは縮合硬化され得る２部分シリコーンゴム（例えば、Ｍｏｍｅｎｔｉｖｅ  ＲＴＶ６１５  Ｓｉｌｉｃｏｎｅ）、又電子ビーム（ｅ−ビーム）硬化され得るポリジメチルシロキサン（例えば、Ｍｏｒｒｉｓｖｉｌｌｅ，ＰＡのＧｅｌｅｓｔから入手可能なＤＭＳ−Ｓ５１）など、又はこれらの組み合わせであってもよい。構造化表面を形成するのに使用できるシリコーン材の他の特定の例は、例えばＤｏｗ  Ｃｏｒｎｉｎｇから入手可能なＳｙｌｇａｒｄ  １８４、又はＷａｃｋｅｒ  Ｃｈｅｍｉｅ  ＡＧから入手可能なＥｌａｓｔｏｓｉｌ  ６０１）などの他のヒドロシリル化硬化シリコーン、例えばＤｏｗ  Ｃｏｒｎｉｎｇから入手可能な７３２及び７３４  ＲＴＶシリコーンなどの縮合硬化シリコーン、並びに例えば、Ｇｅｌｅｓｔから入手可能なＤＭＳ−Ｓ４２、又はＷａｃｋｅｒから入手可能なＥＬ  Ｐｏｌｙｍｅｒ  ＮＡなどの電子ビーム架橋性シリコーンである。
【００３１】
構造化面１４は、各構造体１６の表面１８の全部、又は殆ど、又は少なくとも実質的な部分を画定する架橋シリコーンエラストマー材を、化学量論的量のＳｉＯ２を含むガラス状材料に変換する処理に暴露される。そのような処理には、例えば、シリコーン材を真空紫外線（ＶＵＶ）光（例えば、１７２ｎｍエキシマＶＵＶランプ処理）、真空紫外線光及びオゾン（ＶＵＶＯ）、火炎、酸素プラズマのうちの１つ又はこれらの組み合わせに暴露すること、並びに、化学量論的量のＳｉＯ２を有するように、シリコーンエラストマー材中のケイ素原子を転換することができる任意の他の処理を挙げることができる。このガラス状材料は、各構造体１６内に深さＤまで形成される。ガラス状材料の深さＤは、暴露強度及び／又は処理の継続時間に依存する。それ故、ガラス状材料は、それぞれの構造体１６内に架橋シリコーンエラストマー材のコア若しくは残りの部分２２を残し、又は各構造１６をガラス状材料で完全に形成されている状態とする深さＤまで形成されてもよい。後者の実施形態では、未処理シリコーンエラストマー材から形成されているフィルム基材１２の残りの部分（例えば、破線２１の下方）が存在し得る。構造化表面１８を形成する材料が化学量論的量のＳｉＯ２を示すにつれて、表面１８は、汚れ及び埃粒子吸着（汚れ吸着試験結果で示される）、又は磨耗耐性（砂落下試験結果で示される）、又は両方に対して耐性となる可能性が高くなる。
【００３２】
理論に束縛されるものではないが、ガラス状表面は、高エネルギー光子の吸収又は熱酸化による、反射防止構造体の露出表面上の又は該表面の付近のＳｉ−Ｃ結合の破壊により形成されると考えられる。そのようなＳｉ−Ｃ結合の破壊後、ＳｉＯＨが生成され、これは縮合して化学量論的量のＳｉＯ２を形成する。
【００３３】
フィルム１０又は本発明による任意の他の透明反射防止構造化フィルムは、場合により用いられる透明支持裏材２４と組み合わせて使用することが望ましい場合がある。こうした実施形態では、支持裏材２４は主面２４ａを有し、構造化フィルム基材１２は更に支持裏材２４の主面２４ａと結合される主裏打ち面１２ａを含むことにより、強化された透明反射防止構造化フィルムが形成される。支持裏材２４は、高分子材料若しくはガラス、又は他の透明セラミック材料で形成することができる。例示的な高分子材料には、ポリメチル（メタ）アクリレート（ＰＭＭＡ）フィルム、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）フィルム、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、プライミングされたＰＥＴフィルム、ポリカーボネートフィルム、架橋ポリウレタンフィルム、アクリレートフィルム、エチレンテ谷ルオロエチレン（ＥＴＦＥ）、フッ素化エチレン−プロピレン（ＦＥＰ）フィルム、又はこれらのブレンドのうちの少なくとも１つ又は組み合わせが含まれる。紫外線光の吸収剤（例えば、Ｃｉｂａ  Ｇｅｉｇｙ製のＴｉｎｕｖｉｎ  １５７７、並びに両方がＳｕｋａｎｏ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ，Ｄｕｎｃａｎ，ＳＣから入手可能なＳｕｋａｎｏ  ＴＡ１１−１０  ＭＢ０３  ＰＭＭＡ−ＵＶＡ及びＳｕｋａｎｏ  ＴＡ０７−０７  ＭＶ０２  ＰＥＴ−ＵＶＡなど）を、ＰＭＭＡ及びＰＶＤＦとＰＭＭＡとのブレンドに組み込んで、屋外耐久性を向上させることができる。他の透明セラミック材料は、例えば石英結晶などであってもよい。透明の不織布若しくは織布繊維材料、又は細断された透明繊維も、支持裏材２４の形成に使用することができる。こうした繊維材料は、構造化フィルム１０を形成するシリコーンエラストマー材中に配置され、又は構造化フィルム１０上に配置され、又はその両方であってもよい。
【００３４】
透明支持裏材２４は、静電気を消散させるように選択することもできる。例えば、支持裏材は、支持裏材２４に静電気を消散させるような１種以上の高分子材料を含むことができる。静電気を消散させるために、透明支持裏材２４は、Ｌｕｂｒｉｚｏｌ  Ｃｏｒｐ．製のＳＴＡＴＲＩＴＥ  Ｘ５０９１ポリウレタン又はＳＴＡＴＲＩＴＥ  Ｍ８０９ポリメチルメタクリレートとして入手可能なものなどの、本質的に静電気消散性を有するポリマーも含み得る。代替的に、３Ｍ  Ｃｏｍｐａｎｙから入手可能なＦＣ４４００などの静電気拡散性塩を、透明支持裏材２４（例えば、ＰＶＤＦ）の作製に使用されるポリマーにブレンドしてもよい。加えて又は代替的に、構造化フィルム基材１２はこうした静電気消散性塩を含んでもよい。
【００３５】
支持裏材２４に加えて又は支持裏材２４の代わりに、フィルム１０又は本発明による任意の他の透明反射防止構造化フィルムは、場合により用いられる水分バリア層２６と組み合わせて使用することが望ましい場合もある。こうした実施形態では、耐水分バリア層２６は、例えば水分バリア層２６を１つ以上の中間層（例えば、支持裏材層２４）を介して間接的に、又は構造化フィルム基材１２の主裏打ち面１２ａ上に直接的に積層し、又はコーティングし、又は結合することによって形成することができる。あるいは、水分バリア層２６は、フィルム１０の組成を水分バリア性を示すように（例えば、水分の吸収、浸透を阻止するように）配合することによって形成することもできる。
【００３６】
水分バリアは、例えば、その全容が参照により本明細書に組み込まれる国際特許出願第ＰＣＴ／ＵＳ２００９／０６２９４４号、米国特許第７，４８６，０１９号及び同第７，２１５，４７３号、並びに米国特許出願公開第２００６／００６２９３７  Ａ１号に開示されているバリアアセンブリ、又は１つ以上のバリア層であってもよい。水分バリアは、シリコーンが高い湿気透過速度を有し、光電池が一般に水分感受性であるため有用であり得る。したがって、本発明の透明反射防止構造化フィルムは、水分バリア層により裏打ちされることによって、水分感受性の光電池（例えば、銅／インジウム／ガリウム／セレン又はＣＩＧＳ光電池）上に直接使用することができる。
【００３７】
図２を参照すると、本発明の透明反射防止構造化フィルムの別の実施形態１０ａでは、主構造化面１４は、それぞれの反射防止構造体１６の全部のシリコーンエラストマー材が、化学量論的量のＳｉＯ２を含むガラス状材料に変換される程度に／処理継続時間にて露出される。この実施形態では、フィルム基材１２の残りの部分２２はシリコーンエラストマー材のまま留まる。破線２３は、基材１２のガラス状材料部分をシリコーンエラストマー材部分から分離する。
【００３８】
図３を参照すると、本発明の透明反射防止構造化フィルムの更なる実施形態１０ｂでは、反射防止構造体１６のそれぞれが別体のベース部分２０’から延出している。別体のベース部分２０’は架橋シリコーンエラストマー材の１つ以上の層であってもよく、あるいは別体のベース部分２０’は異なる材料の１つ以上の層であってもよい（例えば、ＰＭＭＡ、ＰＶＤＦ及びＰＥＴなどのより安価な材料）。別体のベース部分２０’は、シリコーンエラストマー材と異なる材料との適合性に応じて、任意の適当な手段によって反射防止構造体１６に接着又は結合される。例えば、ベース部分２０’は、シリコーンエラストマー反射防止構造体１６のそれぞれの主裏打ち面１６ａを受承して、主裏打ち面１６ａと結合されるように場合に応じてプライマーでコーティングされるか、又は処理（例えば、コロナ放電処理）若しくは準備される主面２０ａを有し得る。反射防止構造体１６は、例えば、その主面の少なくとも一方に反射防止構造体１６の所望のパターンと一致する微小複製パターンが形成された金型フィルム（図に示されていない）によって形成することができる。
【００３９】
所望のシリコーンエラストマー前駆材料の層を、ベース部分面２０ａの表面上に押出し、又はコーティングし、又は適用することができる。次いで金型フィルムの微小複製された主面を、シリコーンエラストマー前駆材料の層と接触させることによって、適用されたシリコーンエラストマー前駆材料の露出表面を所望の反射防止構造体１６の形状に形成することができる。代替的に、シリコーンエラストマー前駆材料の層を金型フィルムの微小複製された主面上に押出し、又はコーティングし、又は適用し、次いで適用された前駆材料の露出した裏面をベース部分面２０ａの表面と積層し又は接触させて結合させてもよい。代替的に、全ての３つの層は、例えばニップロールステーションに通過させることにより一緒に積層されるときに、シリコーンエラストマー前駆材料の層を、金型フィルムの微小複製された主面とベース部分面２０ａの表面との間に直接的に押出し、又はコーティングし、又は別様に適用してもよい。形成された前駆材料をベース部分面２０ａの表面と接触させた時点で、最初にシリコーンエラストマー前駆材料を架橋又は硬化させ、金型を取り除き、この後、反射防止構造体１６の少なくとも表面１８にガラス状の材料を生じさせる処理を行う。
【００４０】
反射防止構造体は、角柱状、角錐状、円錐状、半球状、放物線状、円筒状、及び柱状構造体の少なくとも１つ又は組み合わせで構成され得る。角柱を含む反射防止構造体は、約９０°未満、約６０°以下、約３０°以下、又は約１０°〜約９０°までの範囲内の角柱先端角度αを有し得る。そのような反射防止角柱構造体は、約２マイクロメートル〜約２ｃｍの範囲内の谷から谷の、又は山から山のピッチ又は距離も有し得る。角柱を含む反射防止構造体は、約１５度〜約７５度の範囲内の角柱先端角度も有し得る。角柱を含む反射防止構造体は、約１０マイクロメートル〜約２５０マイクロメートルの範囲内の谷から谷の、又は山から山のピッチも有し得る。向上された耐久性を有する反射防止構造体１６の一実施形態では、リブレット１６は、丸みのある山ＲＰ及び谷ＲＴを有し、約５マイクロメートルの半径、約５３度の谷角度β、約５０マイクロメートルの山から山のピッチ又は距離ＤＰＰ、並びに約３７．７３０７マイクロメートルの谷から山の高さＨＴＰを有する。
【００４１】
反射防止構造体は、約１．５５未満の屈折率、好ましくは約１．５０未満の屈折率を示すことが望ましい場合がある。反射防止構造体が角柱構造体を有する場合（例えば、直線状角柱構造体又はリブレット）、それぞれの角柱が、それらの基部から約９０°未満の頂角、好ましくは約６０°以下の頂角を有する先端へと幅が狭くなることが望ましい場合がある。このような角柱構造体は、約１０マイクロメートル〜約２５０マイクロメートルの範囲内の、谷から山の高さを有することが望ましい場合がある。このような角柱構造体は、約２５マイクロメートル〜約１００マイクロメートルの範囲内の、谷から山の高さを有することが望ましい場合もある。
【００４２】
本発明の透明反射防止構造化フィルムは、構造化表面を汚れ吸着試験、又は砂落下試験、又は両試験の組み合わせに曝露した後に、少なくとも約８５％、９０％、９１％、９２％、９３％、９４％、９５％、９６％、９７％、９８％又は９９％の光透過率を示すことが望ましい場合がある。これらの試験については後述する。本発明の透明反射防止構造化フィルムは、構造化表面を汚れ吸着試験、又は砂落下試験、又は両試験の組み合わせに曝露した後に、１０％、９％、８％、７％、６％、５％、４％、３％、２％又は１％未満の光透過率の変化を示すことが望ましい場合もある。
【００４３】
本発明の透明反射防止構造化フィルムは、反射防止構造体のシリコーンエラストマー材中に無機粒子、好ましくはナノ粒子を含んでもよい。これらの粒子には、任意の好適な無機材料が含まれ得る（例えば、シリカ、ジルコニア、チタニアなど、又はこれらの任意の組み合わせ）。そのような粒子はまた、シラン表面改質剤で被覆されてシリコーン中での分散を促進してもよい。こうした粒子は、約２．０マイクロメートル以下の範囲内の粒径を有するものでよい。シリカ粒子は最大でマイクロメートルサイズであってよいが、他の材料で形成された粒子はナノメートルサイズのものが使用されることが好ましい（即ち、約５ｎｍ〜約５０ｎｍ以下の範囲内）。こうした粒子、特にナノ粒子は、０重量％〜約６０重量％以下の範囲内でシリコーンエラストマー材中に添加してもよい。
【００４４】
図４を参照すると、本発明の透明反射防止構造化フィルム１０のいずれの実施形態も、例えば、光源熱エネルギー吸収装置（例えば、太陽光温水システム）、光起電装置、又は任意の他の光エネルギー吸収装置などの光エネルギー吸収装置３０において使用することができる。こうした装置３０は、光エネルギー受容面３２ａを有する光吸収器３２（例えば、光電池）を更に含み、透明反射防止構造化フィルム１０が、光エネルギーの供給源（例えば、太陽）と光エネルギー受容面３２ａとの間となるように光吸収器３２に対して配置される。これにより、光源からの光エネルギーは、光吸収器３２によって吸収される前に構造化フィルム１０を通過することになる。フィルム１０は、光エネルギー受容面３２ａに結合、接着、機械的に締結又は直接接触させて配置することができる。また、必要な場合には、１つ以上の透明支持裏材２４又は他の中間層を、フィルム１０と光吸収器３２との間に配置することができる。
【００４５】
図５を参照すると、本発明の透明反射防止構造化フィルム１０を光エネルギー吸収装置３０の光吸収器３２とともに使用することにより、反射防止構造体１６の表面１８に入射する入射光（矢印４０により示される）が複数回反射される可能性が高くなる（矢印４０Ｒにより示される）。このような光４０の複数回の反射によって、光４０が光吸収器３２内へと屈折する確率、及び入射光の受容角が大きくなる確率が高くなる。このように、こうした透明反射防止構造体の使用により、装置３０の効率及びエネルギー出力を高めることが可能である。
【００４６】
光エネルギー吸収装置が光起電装置の場合、光吸収器は、太陽光又は他の光エネルギーを電気エネルギーに変換するための少なくとも１つの光電池を有する光電池モジュールである。反射防止構造化フィルムは表面反射を低減し、これは光電池上に衝突する光の量を増大させ、電気エネルギー生成の増大をもたらすことができる。このようにして本発明の透明反射防止構造化フィルムを使用することにより、光エネルギーを電気エネルギーに変換する効率を、少なくとも約３％、場合により約５％〜約１０％以下の範囲内で高めることが可能である。透明反射防止構造体はフィルムの形態であるため、光電池は、破損することなくロールに巻いたり、折り畳めたりするような充分な可撓性及び柔軟性を有し得る。
【００４７】
本発明の光エネルギー吸収装置は、反射防止構造化フィルムを通って光吸収器（例えば、光電池）の光受容面へと光が通過できるように、光吸収器に反射防止構造化フィルムを機械的に取り付け、又は接着剤により接着し、又は他の手段により固定することによって作製することができる。光吸収器は例えば、太陽光温水ヒーター又は他の光により発生する熱エネルギーの吸収装置、太陽光エネルギー又は他の光エネルギーを電気エネルギーに変換するための光電池、又はこれらの組み合わせであってよい。
【００４８】
本発明による透明反射防止構造化フィルムは、上述したような透明構造化フィルム基材を提供した後、構造化表面を画定する架橋シリコーンエラストマー材の全部、又は殆ど、又は少なくとも実質的な部分が、化学量論的量のＳｉＯ２を含むガラス状材料に変換されるように、構造化表面を処理することにより作製することができる。初期の構造化フィルム基材の反射防止構造化表面を、例えば該表面を真空紫外線（ＶＵＶ）光（例えば、１７２ｎｍエキシマ処理により）、真空紫外線光及びオゾン（ＶＵＶＯ）、酸素プラズマ、並びに熱（例えば、誘導加熱、火炎など）のうちの少なくとも１つ又は組み合わせなどの任意の好適な処理に暴露することにより処理して、ガラス状表面を形成してもよい。高真空製造の設定での使用に好適であるように、そのような処理は、比較的急速に行われる必要がある。特に、例えば高速（即ち、大量）ウェブベース製造プロセスでは、例えば約５分以下の短い処理時間を用いる必要があるであろう。同時に、シリコーン材の表面は、十分な期間（例えば、５〜３００秒間の１７２ｎｍエキシマランプ暴露）、かつ好適なエネルギーレベル（例えば、酸素５０ｐｐｍ未満の窒素不活性雰囲気中で１０〜５０ｍＷ／ｃｍ２）で処理されて、ケイ素から化学量論的量のＳｉＯ２への所望のレベルの転換を生じる必要がある。ガラス状表面の生成に用いられる処理の設定（例えば、強度及び／又は継続時間）に応じて、ガラス状材料に転換されていない構造化フィルム基材の残りの部分が存在し得る。例えば図２から明らかなように、処理設定はまた、反射防止構造体のそれぞれを画定する架橋シリコーンエラストマー材の全部が、化学量論的量のＳｉＯ２を含むガラス状表面に変換されるように選択されてもよい。代替的に、処理設定は、反射防止構造体のそれぞれのコア部分がシリコーンエラストマー材のまま留まるように選択されてもよい（図１、３及び４参照）。エネルギー費用を節約するために、反射防止構造化表面がガラス状表面に転換される深さ及び程度を最小限にすることが望ましい場合がある。
【００４９】
透明構造化フィルム基材は、硬化性であることで架橋シリコーンエラストマー材料を形成するシリコーンエラストマー前駆材料を与えることによって作製することができる。このシリコーンエラストマー前駆材料は、任意の適当な形成方法によって構造化フィルム基材の形状に形成される。例えば、適当な大きさの溝を基材に形成した後、この基材を鋳型表面として使用してその上にシリコーンエラストマー前駆材料をコーティングすることによって、構造化フィルム基材の反射防止構造体を有する主構造化面を成形することができる。このような鋳型基材は、例えば、その全容が参照により本明細書に組み込まれる米国特許出願公開第２００６／０２３４６０５号に開示される方法及び装置に基づいて作製することができる。シリコーンエラストマー前駆材料は、この形状で硬化させることで構造化フィルム基材が形成される。代替的に、米国特許出願第２００６／０２３４６０５号に開示される金型を使用して、適当な大きさの溝を高分子鋳型基材（例えば、フィルムの形態の）に成形した後、これを鋳型表面として使用することもできる。使用するシリコーンシリコーンエラストマー前駆材料に応じて、硬化プロセスにおいて前駆材料に架橋処理を行ってもよい（例えば、熱及び／又は放射線処理）。前駆材料が２成分型の自己硬化型シリコーンエラストマー材である場合、硬化プロセスにおいて、２成分を混合した後、前駆材料を鋳型表面と充分に長い時間、接触状態に維持することで架橋を生じさせることができる。
【００５０】
以下の実施例は、単に本発明の特徴、利点、及び／又は他の細部を更に説明するために選択したものである。しかしながら、実施例はこの目的を果たすものではあるが、使用される特定の成分及びその量、並びに他の条件及び詳細は、本発明の範囲を必要以上に限定するものとして解釈されるべきではない点は明確に理解されるはずである。
【実施例】
【００５１】
実施例１
Ｗａｔｅｒｆｏｒｄ，Ｎｅｗ  ＹｏｒｋのＭｏｍｅｎｔｉｖｅ  Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓから入手可能なＲＴＶ６１５のＡ液及びＲＴＶ６１５のＢ液を１０：１の比で混合し、４枚の石英スライドガラスのそれぞれに厚さ１００マイクロメートルでコーティングした。次いで、シリコーンコーティングされた石英スライドガラスを対流式オーブン中で８５℃に３０分加熱し、熱硬化性シリコーンエラストマーの前駆材料を架橋／硬化させた。次いで、これらの架橋シリコーンでコーティングされたスライドガラス（サンプル２〜５）を、表１に示す火炎処理に暴露した。次いで、これらの火炎処理したシリコーンコーティングガラス構造を、ナノインデンテーションにより貯蔵弾性率に関して分析した。これらの火炎処理シリコーンコーティングガラス構造における弾性率変化を、表１に示す。
【００５２】
【表１】
2014507011.tif 000003
【００５３】
実施例２
１４枚の７．６ｃｍ（３インチ）×５．１ｃｍ（２インチ）のスライドガラス（ＶＷＲ  Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ，ＬＬＣ．から入手可能）をナノシリカベースのプライマーで下塗りした。このナノシリカプライマーは、ＨＮＯ３で２．５〜２．０のｐＨにした、第一コロイドシリカ（「ＮＡＬＣＯ  １１１５  ＣＯＬＬＯＩＤＡＬ  ＳＩＬＩＣＡ」）と第二コロイドシリカ（「ＮＡＬＣＯ  １０５０  ｃｏｌｌｏｉｄａｌ  ＳＩＬＩＣＡ」）の重量比７０：３０ブレンドの５重量％  Ｈ２Ｏ溶液から構成される。このナノシリカプライマー溶液で湿らせた小さな拭取り布（Ｋｉｍｂｅｒｌｙ−Ｃｌａｒｋ，Ｒｏｓｗｅｌｌ，ＧＡから商品名「ＫＩＭＴＥＣＨ」で入手）で表面を拭くことにより、プライマーの薄い（約１００ナノメートル）均質コーティングを各スライドガラスに適用した。プライマーを室温で乾燥させた。添加硬化シリコーン（Ｓｙｌｇａｒｄ  １８４，Ｄｏｗ  Ｃｏｒｎｉｎｇ，Ｍｉｄｌａｎｄ，ＭＩから入手可能）を１０：１（Ａ液対Ｂ液）の比で混合し、下塗りしたスライドスライドガラスに平滑コーティング（smooth coating）にて厚さ４５マイクロメートルで適用し、４８時間かけて完全に硬化させた。サンプル６及び７の場合、シリコーン表面を処理しなかった一方、サンプル８〜１９は、２７インチ（３８．５８ｃｍ）下方駆動電極及び中央ガスポンプとともに反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）用に構成された市販のバッチプラズマシステム（Ｐｌａｓｍａｔｈｅｒｍモデル３０３２）を使用して、酸素プラズマ処理した。このチャンバを、ドライメカニカルポンプ（ＥｄｗａｒｄｓモデルｉＱＤＰ８０）によりバックアップされたルーツブロワー（ＥｄｗａｒｄｓモデルＥＨ１２００）により排気する。３ｋＷの１３．５６Ｍｈｚソリッドステート発生器（ＲＦＰＰモデルＲＦ３０Ｈ）によりＲＦ電力をインピーダンスマッチングネットワークから送達する。このシステムは、５ｍＴｏｒｒ（０．６７Ｐａ）の公称のベース圧力を有する。ガスの流量をＭＫＳフローコントローラーにより制御する。プラズマ処理用の基材を、下方駆動電極上に配置する。シリコーンコーティングスライドガラスを、バッチプラズマ機器の駆動電極上に配置した。酸素プラズマを用いて、酸素ガス（Ｏｘｙｇｅｎ  Ｓｅｒｖｉｃｅ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ，ＵＨＰ等級）を流量５００標準ｃｍ３／分で流し、３０００ワットのプラズマ出力で９０秒間、プラズマ処理を行った。プラズマ処理が完了した後、チャンバを大気中に通気し、サンプルを取り出した。
【００５４】
サンプル６〜１７を、１枚のコーティングしていないそのままのスライドガラスとともに、以下に述べる汚れ吸着試験＃１に一定期間ごとに供した。試験を行う前の最初の光透過率を（Ｔｉ）、試験を行った後の最終的な光透過率を（Ｔｆ）とし、最初の光透過率と最終的な光透過率との差（Ｔｄ）を下記表２（汚れ吸着試験＃１結果）にそれぞれについて示した。透過率計を使用して、透過率を試験した。表のデータは、未処理サンプル６及び７と比較して、酸素プラズマ処理サンプル８〜１７の光透過率が有意に増大していることを示す。この光透過率における相違は、更に処理されたシリコーンエラストマー表面（サンプル８〜１７）が、未処理サンプル６及び７と比較して、汚れの吸着及び保持量が少ないことによる。表２のデータは、処理サンプル６〜１７が、そのままのスライドガラスの光透過率と同等の光透過率を有したことも示す。
【００５５】
【表２】
2014507011.tif 000004
【００５６】
サンプル１８及び１９を、以下に述べる砂落下試験に供した。試験を行う前の最初の光透過率を（Ｔｉ）、試験を行った後の最終的な光透過率を（Ｔｆ）とし、最初の光透過率と最終的な光透過率との差（Ｔｄ）を下記表３（砂落下試験）に示した。表のデータは、処理サンプル１８〜１９が、そのままのスライドガラスの光透過率と同等の光透過率を有したことを示す。
【００５７】
【表３】
2014507011.tif 000005
【００５８】
サンプル１８及び１９はまた、砂落下試験の直後に汚れ試験＃に供され、初期透過率（Ｔｉ）は砂落下試験後の透過率値を表し、最終透過率（Ｔｆ）は汚れ試験後の透過率値を表し、初期透過率と最終透過率（Ｔｄ）との差を下記表４（砂落下試験直後の汚れ試験＃１結果）に示した。表のデータは、酸素プラズマ処理シリコーンサンプルが、そのままのスライドガラスの性能から２％の範囲内にあることを示す。
【００５９】
【表４】
2014507011.tif 000006
【００６０】
実施例３
２枚の３０．５ｃｍ（１２インチ）×１５．２ｃｍ（６インチ）のポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）シート（ＤｕＰｏｎｔ  Ｔｅｉｊｉｎ  Ｆｉｌｍｓ，Ｃｈｅｓｔｅｒ，ＶＡから商品名「ＭＥＬＩＮＥＸ  ６１８」で入手）を、ナノシリカベースのプライマーで下塗りした。このナノシリカプライマーは、ＨＮＯ３で２．５〜２．０のｐＨにした、第一コロイドシリカ（「ＮＡＬＣＯ  １１１５  ＣＯＬＬＯＩＤＡＬ  ＳＩＬＩＣＡ」）と第二コロイドシリカ（「ＮＡＬＣＯ  １０５０  ｃｏｌｌｏｉｄａｌ  ＳＩＬＩＣＡ」）の重量比７０：３０ブレンドの５重量％  Ｈ２Ｏ溶液から構成される。このナノシリカプライマー溶液で湿らせた小さな拭取り布（Ｋｉｍｂｅｒｌｙ−Ｃｌａｒｋ（Ｒｏｓｗｅｌｌ，ＧＡ）から商品名「ＫＩＭＴＥＣＨ」で入手）で表面を拭くことにより、プライマーの薄い（約１００ナノメートル）均質コーティングを各スライドガラスに適用した。プライマーを室温で乾燥させた。シラノール末端ポリジメチルシロキサン流体（ＤＭＳ−Ｓ５１、Ｇｅｌｅｓｔ  Ｉｎｃ．，Ｍｏｒｒｉｓｖｉｌｌｅ，ＰＡから入手可能）を、下塗りしたＰＥＴフィルム上に、ノッチバーコーターを使用して厚さ１００マイクロメートルでコーティングした。シリコーンコーティングを有するＰＥＴフィルムを支持ウェブにテープで貼り、加速電圧１９０ｋｅＶ（３．０４４×１０−１４Ｊ）及び照射量１０ＭＲａｄｓ（０．１ｍＧｙ）で、電子ビームに通過させた。Ｅ−ビームユニットは、ブロードバンドカーテンタイプの電子ビームプロセッサ（ＰＣＴ  Ｅｎｇｉｎｅｅｒｅｄ  Ｓｙｓｔｅｍｓ，ＬＬＣから入手）であった。シリコーンコーティングフィルムの１つから６片（サンプル２０、２１、２２、２３、２４及び２５）を切り取り、サンプル２０、２１、２２及び２３は、窒素パージングを有する放射照度１０ｍＷ／ｃｍ２での１２０秒の１７２ｎｍエキシマランプ（モデルＵＥＲ２０−１７２、Ｕｓｈｉｏ  Ａｍｅｒｉｃａ，Ｉｎｃ．，Ｃｙｐｒｅｓｓ，ＣＡから入手可能）に暴露されたシリコーンコーティングの表面を有した。サンプル２４及び２５は、エキシマランプ処理を受けなかった。他のシリコーンコーティングフィルムから６片（サンプル２６、２７、２８、２９、３０及び３１）を切り取り、これらは１２０ｋｅＶ（１．９２３×１０−１４Ｊ）及び照射量１５ＭＲａｄ／通過での４回の通過からなる追加のｅ−ビーム照射量を受けて、表面を更に架橋させた。次いで、サンプル２６、２７、２８及び２９を、１７２ｎｍエキシマランプに、放射照度１０ｍＷ／ｃｍ２で１２０秒間暴露した。サンプル３０及び３１は、エキシマランプ処理を受けなかった。
【００６１】
サンプル２０、２１、２４、２６、２７及び３０を、以下に述べる汚れ吸着試験＃１に供した。試験を行う前の最初の光透過率を（Ｔｉ）、試験を行った後の最終的な光透過率を（Ｔｆ）とし、最初の光透過率と最終的な光透過率との差（Ｔｄ）を下記表５（汚れ吸着試験＃１結果）にそれぞれについて示した。表のデータは、未処理サンプル２４及び３０と比較して、更に処理された２０、２１、２６及び２７の光透過率が有意に増大していることを示す。この光透過率における相違は、更に処理されたシリコーンエラストマー表面（サンプル２０、２１、２６及び２７）が、未処理サンプル２４及び３０と比較して、汚れの吸着及び保持量が少ないことによる。表５のデータは、処理サンプル２０、２１、２６及び２７が、表５のそのままのスライドガラスの光透明度と同等の光透明度を有したことも示す。表は、サンプル３０における追加の電子ビーム架橋が、１７２ｎｍエキシマランプ処理を有さなくても、電子ビーム及び１７２ｎｍエキシマランプ処理のいずれも受けなかったサンプル２４と比較して、低い透過率損失をもたらすことも示す。
【００６２】
【表５】
2014507011.tif 000007
【００６３】
サンプル２２、２３、２５、２８、２９及び３１を、以下に述べる砂落下試験に供した。試験を行う前の最初の光透過率を（Ｔｉ）、試験を行った後の最終的な光透過率を（Ｔｆ）とし、最初の光透過率と最終的な光透過率との差（Ｔｄ）を下記表６（砂落下試験）に示した。表のデータは、１７２ｎｍエキシマランプ処理に先だって更に電子ビーム架橋されたサンプル２８及び２９は、更に電子ビーム架橋されなかったサンプル２２及び２３と比較して、光透過率（即ち、砂落下試験結果）が増大していることを示す。表は、サンプル３１において、１７２ｎｍエキシマランプ処理を有さなかった追加の電子ビーム橋架が、追加の電子ビーム橋架又は１７２ｎｍエキシマランプ処理のいずれも受けなかったサンプル２５、１７２ｎｍエキシマランプ処理のみを受けたサンプル２２及び２３、追加の電子ビーム架橋及び１７２ｎｍエキシマランプ処理の両方を受けたサンプル２８及び２９と比較して、低い透過率損失をもたらすことも示す。
【００６４】
【表６】
2014507011.tif 000008
【００６５】
実施例４
２枚の３０．５ｃｍ（１２インチ）×１５．２ｃｍ（６インチ）のポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）シート（ＤｕＰｏｎｔ  Ｔｅｉｊｉｎ  Ｆｉｌｍｓ，Ｃｈｅｓｔｅｒ，ＶＡから商品名「ＭＥＬＩＮＥＸ  ６１８」で入手）を、ナノシリカベースのプライマーで下塗りした。このナノシリカプライマーは、ＨＮＯ３で２．５〜２．０のｐＨにした、第一コロイドシリカ（「ＮＡＬＣＯ  １１１５  ＣＯＬＬＯＩＤＡＬ  ＳＩＬＩＣＡ」）と第二コロイドシリカ（「ＮＡＬＣＯ  １０５０  ｃｏｌｌｏｉｄａｌ  ＳＩＬＩＣＡ」）の重量比７０：３０ブレンドの５重量％  Ｈ２Ｏ溶液から構成される。このナノシリカプライマー溶液で湿らせた小さな拭取り布（Ｋｉｍｂｅｒｌｙ−Ｃｌａｒｋ（Ｒｏｓｗｅｌｌ，ＧＡ）から商品名「ＫＩＭＴＥＣＨ」で入手）で表面を拭くことにより、プライマーの薄い（約１００ナノメートル）均質コーティングを各スライドガラスに適用した。プライマーを室温で乾燥させた。熱硬化シリコーンエラストマー（Ｓｙｌｇａｒｄ  １８４、Ｄｏｗ  Ｃｏｒｎｉｎｇ，Ｍｉｄｌａｎｄ，ＭＩから入手可能）を、裏打ちしたＰＥＴと、反射防止表面構造を含むポリプロピレン金型フィルムとの間にコーティングした。シリコーンコーティング及びポリプロピレン金型フィルムを有するＰＥＴフィルムを、７５℃の炉内に９０分間配置して、シリコーンコーティングを硬化させた。フィルムを炉から取り出した後、金型フィルムを除去し、ＰＥＴフィルムに取り付けられた表面構造化反射防止シリコーンコーティングを得た。シリコーン表面構造体の表面の耐久性を向上させるために、次いでコーティングされたフィルムの１つのシートを支持ウェブにテープで貼り、加速電圧１２０ｋｅＶ（１．９２３×１０−１４Ｊ）及び１５ＭＲａｄｓ／通過（０．１５ｍＧｙ／通過で電子ビームに４回通過させて、追加の架橋を提供した。Ｅ−ビームユニットは、ブロードバンドカーテンタイプの電子ビームプロセッサ（ＰＣＴ  Ｅｎｇｉｎｅｅｒｅｄ  Ｓｙｓｔｅｍｓ，ＬＬＣから入手）であった。
【００６６】
追加の電子ビーム処理を受けなかったシリコーンコーティングフィルムのうちの１つから４片（サンプル３２、３３、３４及び３５）を切り取り、サンプル３２及び３３は、窒素パージングを有する放射照度およそ１０ｍＷ／ｃｍ２での１７２ｎｍエキシマランプ（モデルＵＥＲ２０−１７２  Ｕｓｈｉｏから販売）に３００秒間暴露されたシリコーンコーティングの表面を有した。サンプル３４及び３５は、エキシマランプ処理を受けなかった。追加のｅ−ビーム処理を受けた他のシリコーンコーティングフィルムから、４片（サンプル３６、３７、３８及び３９）を切り取った。次いで、サンプル３７及び３７を、１７２ｎｍエキシマランプに、放射照度およそ１０ｍＷ／ｃｍ２で３００秒間暴露した。サンプル３８及び３９は、エキシマランプ処理を受けなかった。
【００６７】
サンプル３２、３４、３６及び３８を、以下に述べる汚れ吸着試験＃１に供した。試験を行う前の最初の光透過率を（Ｔｉ）、試験を行った後の最終的な光透過率を（Ｔｆ）とし、最初の光透過率と最終的な光透過率との差（Ｔｄ）を下記表７（汚れ吸着試験＃１結果）にそれぞれについて示した。表のデータは、未処理サンプル３４及び３８と比較して、１７２ｎｍエキシマランプ処理されたサンプル３２及び３６の光透過率が有意に増大していることを示す。この光透過率の相違は、１７２ｎｍエキシマランプ処理されたシリコーンエラストマーの表面（サンプル３２及び３６）が、未処理サンプル３４及び３８と比較して、汚れの吸着及び保持量が少ないことによる。表７のデータは、１７２ｎｍエキシマランプ処理に先だって更なる電子ビーム橋架を受けたサンプル３６が、１７２ｎｍエキシマランプ処理のみを受けたサンプル３２と比較して、より良好な汚れ吸着試験結果を生じることも示す。
【００６８】
【表７】
2014507011.tif 000009
【００６９】
サンプル３３、３５、３７及び３９を、以下に述べる砂落下試験に供した。試験を行う前の最初の光透過率を（Ｔｉ）、試験を行った後の最終的な光透過率を（Ｔｆ）とし、最初の光透過率と最終的な光透過率との差（Ｔｄ）を下記表８（砂落下試験）に示した。表のデータは、１７２ｎｍエキシマランプで処理されなかったサンプル３５及び３９と比較して、１７２ｎｍエキシマランプ処理を受けたサンプル３３及び３７の光透過率（即ち、砂落下試験結果）が増大していることを示す。更に電子ビーム架橋されなかったサンプル３３及び３５と比較して、１７２ｎｍエキシマランプ処理に先だって更に電子ビーム架橋されたサンプル３７及び３９の光透過率（即ち、砂落下試験結果）が増大していることも理解される。
【００７０】
【表８】
2014507011.tif 000010
【００７１】
サンプル３３、３５、３７及び３９はまた、砂落下試験の直後に汚れ試験＃１に供され、初期透過率（Ｔｉ）は砂落下試験後の透過率値を表し、最終透過率（Ｔｆ）は汚れ試験後の透過率値を表し、初期透過率と最終透過率（Ｔｄ）との差を下記表９（砂落下試験直後の汚れ試験＃１結果）に示した。表のデータは、追加の電子ビーム表面処理を受けたサンプル３７及び３９が、汚れ試験後の透過率損失から理解されるように、追加の電子ビーム表面処理を受けなかったサンプル３３及び３５と比較して、サンプルの汚れ耐性を維持したことを示す。
【００７２】
【表９】
2014507011.tif 000011
【００７３】
実施例５
シラノール末端ポリジメチルシロキサン（Ｇｅｌｅｓｔ製のＰＤＭＳ−Ｓ５１）を、ＳＳ４１２０（Ｍｏｍｅｔｉｖｅ  Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｗａｔｅｒｆｏｒｄ，ＮＹから販売）で裏打ちしたポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）（ＤｕＰｏｎｔ  Ｔｅｉｊｉｎ  Ｆｉｌｍｓ，Ｃｈｅｓｔｅｒ，ＶＡから商品名「ＭＥＬＩＮＥＸ  ６１８」で入手可能）のシート上に、厚さ２５マイクロメートルでコーティングした。シリコーンコーティングを有するＰＥＴフィルムを支持ウェブにテープで貼り、加速電圧１６０ｋｅＶ（２．５６３×１０−１４Ｊ）及び照射量１２ＭＲａｄｓ（０．１２ｍＧｙ）で、電子ビームに通過させた。Ｅ−ビームユニットは、ブロードバンドカーテンタイプの電子ビームプロセッサ（ＰＣＴ  Ｅｎｇｉｎｅｅｒｅｄ  Ｓｙｓｔｅｍｓ，ＬＬＣから入手）であった。次いで、シリコーンコーティングＰＥＴフィルムを６片に切った。これらシリコーンコーティングＰＥＴ片のうちの２つ（サンプル４１及び４４）を、厚さ６．４ｍｍのアルミニウム板上の水の薄いフィルム上に浮遊させ、次いでコーティングされた表面をおよそ２０００℃の火炎に２０秒間暴露することにより、火炎処理に暴露した。シリコーンコーティングＰＥＴ片の他の２つ（サンプル４２及び４５）を、１４０ｋＶ及び１２Ｍｒａｄ／通過での５回の通過からなる更なる電子ビーム処理に暴露してシリコーンの表面を更に架橋させ、次いで厚さ６．４ｍｍのアルミニウム板上の水の薄いフィルム上に浮遊させ、およそ２０００℃の火炎に２０秒間暴露した。最後のシリコーンコーティングＰＥＴ片（サンプル４０及び４３）は、更に処理されなかった。
【００７４】
サンプル４１及び４２を、以下に述べる汚れ吸着試＃２験に供した。試験を行う前の最初の光透過率を（Ｔｉ）、試験を行った後の最終的な光透過率を（Ｔｆ）とし、最初の光透過率と最終的な光透過率との差（Ｔｄ）を下記表１０（汚れ吸着試験＃２結果）にそれぞれについて示した。表のデータは、更に処理された４１及び４２の光透過率が、未処理サンプル４０と比較して有意に増大していることを示す。この光透過率における相違は、更に処理されたシリコーンエラストマー表面（サンプル４１及び４２）が、未処理サンプル４０と比較して、汚れの吸着及び保持量が少ないことによる。表１０のデータは、火炎処理前の更なる架橋（即ち、サンプル４２）が、より良好な汚れ吸着試験結果を生じることも示す。
【００７５】
【表１０】
2014507011.tif 000012
【００７６】
サンプル４３、４４及び４５を、１１枚のコーティングしていないそのままの石英スライドガラスとともに、以下に述べる砂落下試験に供した。試験を行う前の最初の光透過率を（Ｔｉ）、試験を行った後の最終的な光透過率を（Ｔｆ）とし、最初の光透過率と最終的な光透過率との差（Ｔｄ）を下記表１１（砂落下試験）に示した。表のデータは、更に処理されたサンプル４５の光透過率が、未処理サンプル４３と比較して有意に増大していることを示す。この光透過率における相違は、更に処理されたシリコーンエラストマー表面（サンプル４５）が、未処理サンプル４３と比較して、汚れの吸着及び保持量が少ないことによる。表のデータは、火災処理の前に更に架橋されたサンプル４５の光透過率（即ち、砂落下試験結果）が、更に架橋されなかったサンプル４４と比較して増大していることも示す。
【００７７】
【表１１】
2014507011.tif 000013
【００７８】
試験方法
汚れ吸着試験＃１
コーティングの汚れ耐性は、９５ｍｍ正方形プラスチックペトリ皿（Ｂｅｃｔｏｎ  Ｄｉｃｋｉｎｓｏｎ  Ｌａｂｗａｒｅから商品名Ｆａｌｃｏｎ  ３５１１２で入手可能）から構成される機器（５ｃｍ孔がペトリ皿の下半分にドリルにより貫通されている）を用いて、試験される。５ｃｍ×８ｃｍのコーティングされたサンプルを、サンプルのコーティングされた表面がペトリ皿の内側を向き、試験汚れに直接曝露されるであろうように、接着テープで５ｃｍ孔を覆ってペトリ皿の外側上に取り付ける。５０ｇのＡｒｉｚｏｎａ  Ｔｅｓｔ  Ｄｉｒｔ（０〜６００マイクロメートル分布、Ｐｏｗｄｅｒ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，Ｉｎｃ．，Ｂｕｒｎｓｖｉｌｌｅ，ＭＮから入手可能）を、コーティングされたサンプルを覆うペトリ皿の下半分の中に配置する。ペトリ皿の二等分部分二つをしっかりと組み合わせて、汚れがサンプルの表面にわたって前後に転回するように、左右方向のサイクルで軽く振る。サンプルを秒当たり１サイクルの速度にて６０サイクルにわたって振る。次に、サンプルを試験装置から取り出し、軽くたたいて、汚れを除去してその付着をゆるやかにする。コーティングされたサンプルの透過率を、ＢＹＫ−Ｇａｒｄｎｅｒから入手可能なＨａｚｅ  Ｇａｒｄ  Ｐｌｕｓを用いて、汚れ試験の前後で測定する。
【００７９】
汚れ吸着試験＃２
本明細書において使用するこの汚れ吸着試験では、１ガロン（３．７８Ｌ）のＮａｌｇｅｎ容器の内部に透明反射防止構造化フィルムのサンプルを１００ｇの細かい／埃状のアリゾナ土と一緒に入れて容器をタンブルすることを行う。１．５”×２．５”（３．８１ｃｍ×６．３５ｃｍ）のサンプルを、３”×５”（７．６２ｃｍ×１２．７ｃｍ）のより大きな１０ミルＰＥＴ片に取り付ける。サンプル及び汚れは、モータ駆動ローラ上に水平に置かれたＮａｌｇｅｎ容器の内側のバッフル板によってタンブルされる。２分間のタンブリング後、サンプルを缶入り圧縮空気で吹き飛ばし、表面に結合した汚れのみが残るように余分な汚れを除去する。コーティングされたサンプルの透過率を、ＢＹＫ−Ｇａｒｄｎｅｒから入手可能なＨａｚｅ  Ｇａｒｄ  Ｐｌｕｓを用いて、汚れ試験の前後で測定する。
【００８０】
砂落下試験
Ｈｕｍｂｏｌｄｔ  ＭＦＧ  Ｃｏ．から入手可能な砂落下摩耗試験機（商標名ＨＰ−１１６０）を使用して、コーティングの磨耗耐性を試験する。５ｃｍ×８ｃｍのコーティングされたサンプルを、落砂チューブの出口の下に中心を置いた試験プラットフォームに接着テープで取り付ける。１０００ｇのＡＳＴＭ  Ｃ７７８シリカ砂（Ｕ．Ｓ．Ｓｉｌｉｃａ  Ｃｏｍｐａｎｙから販売）を、落砂チューブに供給するホーパー（hoper）の中に装填する。ゲートを開くと、砂が落砂チューブを通して１００ｃｍの距離を落下し始め、コーティングされたサンプルの表面上に当たる。摩耗した表面上に水を５秒間流した後、湿ったＫｉｍＷｉｐｅ（Ｋｉｍｂｅｒｌｙ−Ｃｌａｒｋ）を使用して表面を軽く拭う。次いで、乾燥したＫｉｍＷｉｐｅでサンプルを軽く拭って、サンプルを乾燥させる。コーティングされたサンプルの透過率を、ＢＹＫ−Ｇａｒｄｎｅｒから入手可能なＨａｚｅ  Ｇａｒｄ  Ｐｌｕｓを用いて、砂落下試験の前後で測定する。
【００８１】
本発明の例示的実施形態
反射防止フィルムの実施形態１
透明反射防止構造化フィルム、シート、ウェブ又は同様物であって、
主構造化面と主裏打ち面とを有する構造化フィルム基材であって、構造化面が、構造化表面を画定し、かつ光の反射を防止する反射防止構造体を含み、構造化表面の少なくとも実質的な部分、構造化面の殆ど、又は全部がガラス状表面を含み、少なくとも反射防止構造体が架橋シリコーンエラストマー材を含み、ガラス状表面が化学量論的量のＳｉＯ２を含む、構造化フィルム基材を備える、透明反射防止構造化フィルム、シート、ウェブ又は同様物。
【００８２】
フィルムの実施形態２
ガラス状表面が、それぞれの反射防止構造体内に化学量論的量のＳｉＯ２を少なくとも約１、５、１０、１５、２０、２５、３０、３５、４０、４５、５０、５５、６０、６５、７０、７５、８０、８５、９０、９５若しくは１００ナノメートルの深さまで、又は更にはより深く含む、フィルムの実施形態１に記載のフィルム。
【００８３】
フィルムの実施形態３
ガラス状表面が、それぞれの反射防止構造体内に化学量論的量のＳｉＯ２を約１００、１１０、１２０、１３０、１４０若しくは１５０ナノメートルの深さまで、又は更にはより深く（例えば、深さ１、２、３、４又は５マイクロメートル）含む、フィルムの実施形態１に記載のフィルム。
【００８４】
フィルムの実施形態４
ガラス状表面が、最小量の少なくとも約１０モル％の炭素原子、又は少なくとも約２０モル％の炭素原子、約４０モル％までの炭素原子のを含む、フィルムの実施形態１〜３のいずれか一項に記載のフィルム。ガラス状表面中の比較的大量の炭素原子は、シリコーン材の処理にて比較的短い時間が用いられて、本発明による化学量論的量のＳｉＯ２を生じたことを示すと考えられる。
【００８５】
フィルムの実施形態５
反射防止構造体が、角柱状、角錐状、円錐状、放物線状、半球状、円筒状、及び柱状構造体の少なくとも１つ又は組み合わせを含む、フィルムの実施形態１〜４のいずれか一項に記載のフィルム。
【００８６】
フィルムの実施形態６
反射防止構造体が、約９０°未満、６０°以下、又は約１０°〜約９０°までの範囲内の角柱先端角度、及び約２マイクロメートル〜約２ｃｍの範囲内のピッチを有する角柱を含む、フィルムの実施形態１〜５のいずれか一項に記載のフィルム。
【００８７】
フィルムの実施形態７
反射防止構造体が、約１５°〜約７５°の範囲内の角柱先端角度と、約１０マイクロメートル〜約２５０マイクロメートルの範囲内のピッチとを有する角柱を含む、フィルムの実施形態１〜６のいずれか一項に記載のフィルム。
【００８８】
フィルムの実施形態８
反射防止構造体が、約１０マイクロメートル〜約２５０マイクロメートルの範囲内の、谷から山の高さを有する角柱を含む、フィルムの実施形態１〜７のいずれか一項に記載のフィルム。
【００８９】
フィルムの実施形態９
フィルムが、構造化表面を汚れ吸着試験、又は砂落下試験、又は両方の試験に曝露した後に、少なくとも約８０％、８１％、８２％、８３％、８４％、８５％、９０％、９１％、９２％、９３％、９４％、９５％、９６％、９７％、９８％又は９９％の光透過率を示す、フィルムの実施形態１〜８のいずれか一項に記載のフィルム。
【００９０】
フィルムの実施形態１０
フィルムが、構造化表面を砂落下試験、又は汚れ吸着試験、又は両方の試験に曝露した後に、１０％、９％、８％、７％、６％、５％、４％、３％、２％又は１％未満の光透過率の変化を示す、フィルムの実施形態１〜９のいずれか一項に記載のフィルム。
【００９１】
フィルムの実施形態１１
構造化表面が少なくとも約２０ＭＰａの貯蔵弾性率を示し、それぞれの反射防止構造体の残りの部分が、構造化表面により示される貯蔵弾性率よりも低い貯蔵弾性率を示す、フィルムの実施形態１〜１０のいずれか一項に記載のフィルム。
【００９２】
フィルムの実施形態１２
少なくとも反射防止構造体の架橋シリコーンエラストマー材中に無機ナノ粒子（例えば、シリカ、ジルコニア、チタニアなどの）を更に含む、フィルムの実施形態１〜１１のいずれか一項に記載のフィルム。こうした粒子は、約２．０マイクロメートル以下の範囲内の粒径を有するものでよい。シリカ粒子は最大でマイクロメートルサイズであってよいが、他の材料で形成された粒子はナノメートルサイズのものが使用されることが好ましい（即ち、約５ｎｍ〜約５０ｎｍ以下の範囲内）。そのような粒子、特にナノ粒子は、約０重量％〜約６０重量％以下の範囲内でシリコーンエラストマー材中に添加してもよい。
【００９３】
フィルムの実施形態１３
構造化フィルム基材が、そこから反射防止構造体が延出するベース部分を更に含む、フィルムの実施形態１〜１２のいずれか一項に記載のフィルム。ベース部分及び反射防止構造体が両方ともシリコーンエラストマー材から形成されている場合、反射防止構造体のそれぞれは、ほぼ同一のシリコーンエラストマー架橋密度を有してもよく、ベース部分は、反射防止構造体のそれぞれのシリコーンエラストマー架橋密度よりも低いシリコーンエラストマー架橋密度を有してもよい。
【００９４】
フィルムの実施形態１４
主面を有する透明支持裏材と組み合わされたフィルムの実施形態１〜１３のいずれか一項に記載のフィルムであって、構造化フィルム基材が、支持裏材の主面と結合されて強化された反射防止構造化フィルムを形成する裏打ち面（例えば、主裏打ち面）を更に含む、フィルム。反射防止構造体は、強化された反射防止構造化フィルムの露出表面を形成してもよい。
【００９５】
フィルムの実施形態１５
透明支持裏材が静電気を消散させる、フィルムの実施形態１４に記載のフィルム。
【００９６】
フィルムの実施形態１６
バリア層と組み合わされたフィルムの実施形態１〜１５のいずれか一項に記載のフィルムであって、構造化フィルム基材が裏打ち面（例えば、主裏打ち面）を更に含み、バリア層が構造化フィルム基材の裏打ち面と結合されている、フィルム。
【００９７】
フィルムの実施形態１７
バリア層が水分バリアである、フィルムの実施形態１６に記載のフィルム。
【００９８】
フィルムの実施形態１８
反射防止構造体のそれぞれが、シリコーンエラストマー架橋密度勾配を示し、シリコーンエラストマー架橋密度は、ガラス状表面に接近するにつれて高く、ガラス状表面から離れるにつれて低くなる、フィルムの実施形態１〜１７のいずれか一項に記載のフィルム。
【００９９】
フィルムの実施形態１９
反射防止構造体のそれぞれが、そのガラス状表面に加えてコア部分及び残りの部分を有し、コア部分を形成する架橋シリコーンエラストマー材は、残りの部分を形成する架橋シリコーンエラストマー材よりも低い架橋密度を有する、フィルムの実施形態１〜１８のいずれか一項に記載のフィルム。コア部分を形成する架橋シリコーンエラストマー材は、残りの部分を形成する架橋シリコーンエラストマー材よりも低い、実質的に均一な架橋密度を有してもよい。
【０１００】
光エネルギー吸収装置の実施形態１
光エネルギー吸収装置であって、光エネルギー受容面を有する光吸収器と、光エネルギーの供給源からの光エネルギーが光吸収器によって吸収されている間、光エネルギーの供給源と光エネルギー受容面との間となるように配置される、請求項１〜１９のいずれか一項に記載の透明反射防止構造化フィルムと、を備える、光エネルギー吸収装置。光エネルギー吸収装置には、例えば光源（例えば、太陽）からの熱エネルギーを吸収するための熱エネルギー吸収装置、光を電気エネルギーに変換する光起電装置、又は任意の他の光エネルギー吸収装置を挙げることができるが、これらに限定されない。
【０１０１】
装置の実施形態２
光エネルギー吸収装置が光起電装置であり、光吸収器が、少なくとも１つの光電池を有する光電池モジュールを含み、反射防止構造化フィルムが、表面反射を低減して、光電池モジュールの電気的出力（即ち、光エネルギーを電気エネルギーに変換する光電池モジュールの効率を向上させる）を少なくとも約３％向上させる、装置の実施形態１に記載の装置。光電池モジュールの電気的出力は、少なくとも約５％、好ましくは約５％〜約１０％の範囲内、又はそれ以上向上されることが望ましい。
【０１０２】
装置の実施形態３
光吸収器が光電池を含み、光エネルギー吸収装置が、破損することなくロールに巻き又は折り畳むことができるような充分な可撓性及び柔軟性を有する光起電装置である、装置の実施形態１又は２に記載の装置。
【０１０３】
装置の実施形態４
光エネルギー吸収装置が、剛性の光電池モジュールを含む、装置の実施形態１又は２に記載の装置。
【０１０４】
装置の実施形態５
光エネルギー吸収装置が、太陽光熱パネルを含む、装置の実施形態１に記載の装置。
【０１０５】
装置の実施形態６
構造化フィルム基材が、ガラス基材上に積層され、又はコーティングされ、又は別様にガラス基材を覆って配置される、装置の実施形態１、２、４及び５のいずれか一項に記載の装置。
【０１０６】
透明反射防止フィルムの製造方法の実施形態１
透明反射防止構造化フィルムの製造方法であって、主構造化面と主裏打ち面とを有する透明構造化フィルム基材を提供する工程であって、構造化面が、光の反射を防止する反射防止構造化表面を画定する反射防止構造体を含み、少なくとも反射防止構造体が架橋シリコーンエラストマー材を含む、工程と、反射防止構造化表面の全部、又は殆ど、又は少なくとも実質的な部分が化学量論的量のＳｉＯ２を有するガラス状材料を含むように、反射防止構造化表面の全部、又は殆ど、又は少なくとも実質的な部分を処理して、該反射防止構造化表面における架橋シリコーンエラストマー材を、化学量論的量のＳｉＯ２を含むガラス状表面に変換する工程と、を含む、方法。
【０１０７】
フィルムの製造方法の実施形態２
処理が、反射防止構造化表面を、真空紫外線（ＶＵＶ）光（例えば、１７２ｎｍエキシマ処理により）、真空紫外線光及びオゾン（ＶＵＶＯ）、酸素プラズマ、並びに熱（例えば、誘導加熱、火炎など）のうちの少なくとも１つ又は組み合わせに暴露する工程を含む、フィルムの製造方法の実施形態１に記載の方法。
【０１０８】
シリコーン材の表面は、十分な期間（例えば、５〜３００秒間の１７２ｎｍエキシマランプ暴露）、かつ好適なエネルギーレベル（例えば、酸素５０ｐｐｍ未満の窒素不活性雰囲気中で１０〜５０ｍＷ／ｃｍ２）で処理されて、ケイ素から化学量論的量のＳｉＯ２への所望のレベルの転換を生じる必要がある。
【０１０９】
フィルムの製造方法の実施形態３
反射防止構造化表面をｅ−ビーム放射線に暴露して、少なくとも構造化表面の架橋シリコーンエラストマー材を更に架橋させる工程であって、ｅ−ビーム放射線暴露が処理に先だって行われる、工程を更に含む、フィルムの製造方法の実施形態１又は２に記載の方法。
【０１１０】
フィルムの製造方法の実施形態４
透明構造化フィルム基材を提供する工程が、
硬化して架橋シリコーンエラストマー材を形成することが可能なシリコーン前駆材料（例えば、溶融熱可塑性樹脂又は架橋性熱硬化性シリコーンエラストマー樹脂）を提供する工程と、
シリコーン前駆材料を構造化フィルム基材の形状に形成する工程と、
シリコーン前駆材料を硬化させて、透明構造化フィルム基材を形成する工程と、を含む、フィルムの製造方法の実施形態１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【０１１１】
光エネルギー吸収装置の製造方法の実施形態１
例えば光源（例えば太陽光）の熱エネルギー吸収装置、光起電装置、又は任意の他の光エネルギー吸収装置などの光エネルギー吸収装置の製造方法であって、
フィルムの実施形態１〜１９のいずれか一項に記載の透明反射防止構造化フィルムを提供する工程と、光受容面を有する光吸収器（例えば、太陽光温水ヒーター又は他の熱エネルギー吸収装置、太陽光エネルギー又は他の光エネルギーを電気エネルギーに変換するための少なくとも１つの光電池を有する光電池モジュールなど）を提供する工程と、反射防止構造化フィルムを通って光吸収器の光受容面へと光が通過できるように、光吸収器に対して反射防止構造化フィルムを機械的に取り付け、又は接着剤により接着し、又は他の手段により固定する工程と、を含む、方法。
【０１１２】
光エネルギー吸収装置の製造方法の実施形態２
例えば光源（例えば太陽光）の熱エネルギー吸収装置、光起電装置、又は任意の他の光エネルギー吸収装置などの光エネルギー吸収装置の製造方法であって、
フィルムの実施形態１〜４のいずれか一項に記載の透明反射防止構造化フィルムを作製する工程と、光エネルギー受容面を有する光吸収器（例えば、太陽光温水ヒーター又は他の熱エネルギー吸収装置、太陽光エネルギー又は他の光エネルギーを電気エネルギーに変換するための少なくとも１つの光電池を有する光電池モジュール）を提供する工程と、反射防止構造化フィルムを通って光吸収器の光受容面へと光が通過できるように、光吸収器に対して反射防止構造化フィルムを機械的に取り付け、又は接着剤により接着し、又は他の手段により固定する工程と、を含む、方法。
【０１１３】
本発明には、その趣旨及び範囲から逸脱することなく、様々な改変及び変更を行うことができる。したがって本発明は上記の記載によって限定されるものではないが、以下の「特許請求の範囲」及びそのあらゆる均等物において記載される限定条件によって規制されるものである。
【０１１４】
本発明は、本明細書に詳細に開示されていない要素を欠いても適宜実施され得る。
【０１１５】
上記に引用したすべての特許及び特許出願は、「背景技術」の項目において記載されるものを含め、その全容にわたって本文書に援用するものである。
【図１】
2014507011.tif 000014
【図２】
2014507011.tif 000015
【図３】
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【図４】
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【図５】
2014507011.tif 000018
【国際調査報告】
2014507011.tif 000019
2014507011.tif 000020