(57)【要約】中空体類のプラズマ処理装置及び中空体類のプラズマ処理方法を提供する。特に、前記装置及び方法は、プラスチックボトルなど、熱に敏感な中空体類の内部表面を傷つけることなくプラズマ処理するのに適する。前記プラズマ処理には、化学的活性化、滅菌、洗浄又は被覆処理が含まれる。この処理では、先ず、処理容器内に１つ以上の中空体を配置する。この処理容器は、少なくとも１つのプラズマ源と液体連通する。前記処理容器に備えられた吸引装置を用い、プラズマがプラズマ源から処理容器及び中空体内に広がるように、処理容器内の圧力を、プラズマ源内の圧力に比べて負圧とする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマ処理される少なくとも１つの中空体（５０）を入れる処理容器（２０）と、
プラズマ（Ｐ）発生用の動力源（３０）を有する少なくとも１つのプラズマ源（１０）と、
前記プラズマ源（１０）及び前記処理容器（２０）との間に圧力差（Δｐ）を設定する少なくとも１つの吸引装置（６０）とを有する、中空体（５０）プラズマ処理装置であって、
前記少なくとも１つのプラズマ源（１０）は前記処理容器（２０）の外部に位置し、
パルスプラズマ（Ｐ）が発生するように、前記動力源（３０）を制御するために制御部（３３）が備えられ、
プラズマ（Ｐ２）供給（１５）用の出口部（１４）を有する各プラズマガイド部（１３）が、各中空体（５０）の開口部（５２）を通って各中空体（５０）の中に突き出し、
各プラズマガイド部（１３）は、前記各中空体（５０）への前記プラズマ（Ｐ２）供給（１５）を制御する第１供給制御部（Ｄ１）を備えることを特徴とするプラズマ処理装置。    
【請求項２】
前記プラズマガイド部（１３）及び前記中空体（５０）の前記開口部（５２）との間に、円周状の隙間（５３）が形成され、前記隙間によって前記中空体（５０）内から前記処理容器（２０）まで液体連通することを特徴とする、請求項１に記載の装置（１）。
【請求項３】
前記プラズマガイド部（１３）の前記出口部（１４）が前記中空体（５０）の内に位置し、及び／又は前記供給制御部（Ｄ１）及び前記吸引装置（６０）が互いに調節可能であり、前記中空体（５０）に供給する前記プラズマ（Ｐ２）が前記中空体（５０）の内部表面（５１）全体にわたり均一に広がることを特徴とする、請求項１に記載の装置（１）。
【請求項４】
処理材料（Ｍ）を供給する供給ライン（４０）が前記プラズマガイド部（１３）の中にまで伸びて開口することを特徴とする、請求項２及び請求項３のいずれか１項に記載の装置（１）。
【請求項５】
第２供給制御部（Ｄ２）が処理材料（Ｍ）を供給する前記供給ライン（４０）の上流側に備えられることを特徴とする、請求項４に記載の装置（１）。
【請求項６】
プラズマ（Ｐ２）供給に応じて、処理材料（Ｍ）の供給を時間及び量的に調節できるように、前記第１及び第２供給制御部（Ｄ１、Ｄ２）を制御できることを特徴とする、請求項５に記載の装置（１）。
【請求項７】
中空体（５０）をプラズマ処理する方法であって、前記方法は、
少なくとも１つの中空体（５０）を処理容器（２０）内に配置し、少なくとも１つのプラズマ源（１０）及び前記処理容器（２０）との間に圧力差（Δｐ）が生じるように、吸引装置（６０）を用いて前記処理容器（２０）内の圧力（ｐ２０）を設定する工程と、
少なくとも１つのプラズマ源（１０）内にパルスプラズマ（Ｐ）を発生させる工程と、
前記プラズマ源（１０）から第１供給制御部（Ｄ１）を介して前記処理容器（２０）内に配置した各中空体（５０）内に、前記プラズマ（Ｐ）が供給されるように、各中空体（５０）の中に各プラズマガイド部（１３）を挿入する工程と、
パルスプラズマ（Ｐ２）が各中空体（５０）内部に均一に広がるように、前記第１供給制御部（Ｄ１）を制御して開口する工程と、を有することを特徴とする方法。
【請求項８】
各プラズマ源（１０）が動力源（３０）と接続され、前記動力源（３０）は前記パルスプラズマ（Ｐ）を発生させる電圧パルス（Ｖ（ｔ））を出力することを特徴とする、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記電圧パルス（Ｖ（ｔ））は、パルス時間、パルス間隔及び／又は電圧レベルについて固定値又は可変値をもつＤＣ電圧パルスであることを特徴とする、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記電圧パルス（Ｖ（ｔ））を調節することで、前記中空体（５０）に供給する前記プラズマ（Ｐ）及び／又は前記プラズマ（Ｐ２）に由来する熱及び／又は静電的負荷を設定することを特徴とする、請求項８及び請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記プラズマ源（１０）からの前記プラズマ（Ｐ）を用いて、プラズマ発生用処理ガス（ｇ１）の１つ又は複数の成分あるいは反応生成物、及び／又は処理材料（Ｍ）を用いた前記中空体（５０）の被覆処理又は化学反応処理、または、前記中空体（５０）の内部表面（５１）の重合処理あるいは予備的又は再洗浄処理を行うことを特徴とする、請求項７に記載の方法。
【請求項１２】
プラズマガイド部（１３）に開口する供給ライン（４０）を通して、前記プラズマガイド部（１３）に前記処理材料（Ｍ）を供給することを特徴とする、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記プラズマ（Ｐ）供給に応じて、前記処理材料（Ｍ）の供給が時間的及び量的に調節されるように、前記第１供給制御部（Ｄ１）及び処理材料（Ｍ）供給を制御する第２供給制御部（Ｄ２）が制御されることを特徴とする、請求項１２に記載の方法。  
【請求項１４】
前記少なくとも１つの中空体（５０）に供給する前記プラズマ（Ｐ２）のパルスとパルスとの間に、プラズマ処理によって発生した熱を除去するための処理ガス（ｇ１）を、少なくとも断続的に供給することを特徴とする、請求項７から請求項１３のいずれか１項に記載の方法。  
【請求項１５】
蒸気、スプレー又は懸濁状態で、前記処理材料（Ｍ）が活性物質（Ａ）を運ぶキャリアーガス（ｇ２）であることを特徴とする、請求項１１から請求項１４のいずれか１項に記載の方法。  
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は中空体類のプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法に係る。特に、本発明はプラスチックボトル等、熱に敏感な中空体類の内部表面を温和にプラズマ処理するのに適している。
【背景技術】
【０００２】
プラズマ処理は、例えば、化学的活性化、滅菌、洗浄又は被覆処理に使用される。プラズマ処理を行う場合、１つ又は複数の中空体を処理容器内に配置する。前記処理容器は、少なくとも１つのプラズマ源と液体連通する。処理容器に設置した吸引装置を用い、処理容器内の圧力をプラズマ源に対して負圧にする。この結果、プラズマ源から処理容器及び中空体の中に、プラズマが広がる。
【０００３】
上記プラズマ処理は、ボトル類の洗浄処理及び追加加工に特に適している。医薬品又は消費飲料をボトル類に充填しようとする場合、充填前に行う洗浄処理は厳しい衛生基準を満たさねばならない。ＰＥＴなどプラスチック製ボトル類は、他の原材料製のものより、遮光効果や飛散防止効果に優れる。一方、二酸化ケイ素などのガラス製品類は、他の原材料製のものより、不活性で高密度な表面を形成できる点に優れる。また、多層構造系を用いると、様々な原材料の利点を兼ね備えることができる。その一方で、多層構造系は、熱的、機械的又は化学的負荷を受ける環境下では、層と層との間で優れた粘着性が求められる。すなわち、前記負荷は、リターナブルボトル類を繰り返し洗浄する再利用過程にともない、常に生じるからである。一例として、ペットボトル内部にガラス層及び／又は紫外線吸収層を形成する例が挙げられる。また、別の例として、プラスチックボトルの内部表面のポリマー構造を、選択的に変化させる例が挙げられる。特許文献１には、低圧処理容器及びプラズマ発生手段を有する中空体類の処理装置が開示される。プラズマは中空体の内部で発生させる。プラズマ発生に要するエネルギーは、中空体外部のＵ字形電極と管状電極との間に発生させる電場から取得する。なお、前記管状電極は、中空体内にまで突出し、中空体内に処理ガスを供給する機能も有する。
【０００４】
また、特許文献２には、低圧プラズマ発生方法及び装置が開示される。この特許文献２では、減圧することで、非可変形プラズマノズルを通して低圧容器内にプラズマを吸引する。この開示では、表面処理、表面被覆、又はガス処理用に、低圧プラズマを様々に適用する。  
【０００５】
また、特許文献３には、プラズマ蒸着法によって基質表面上に粘着性被覆を蒸着させる方法が開示される。前記方法は、直流アーク放電プラズマ発生器を用いて酸素含有プラズマを形成する工程、前記プラズマ発生器の外部でプラズマに反応ガスを噴射する工程、分岐ノズル噴射器を用いて真空容器内にプラズマを導入する工程を有する。なお、前記分岐ノズル噴射器は、プラズマ発生器と真空容器とを接続する。この方法によって、酸素及び反応ガスから生成した反応種が、時間的に充分に基質表面と接触し、粘着性被覆を形成する。前記プラズマ発生器は、カスケード型アークプラズマトーチと呼ばれる。また、前記被覆は、特に、ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）由来の酸化ケイ素堆積層を含有する。    
【０００６】
また、特許文献４には、平板基質用のプラズマ被覆装置が開示される。この開示では、プラズマガンから静的プラズマが広がり、圧力容器の内部に充填される。プラズマガン中のプラズマに対して粉末を供給してもよい。均一な分布を実現するため、又はプラズマ処理される加工物を被覆するために、前記粉末をプラズマによって修飾してプラズマと混合する。
【０００７】
また、特許文献５には、特にプラスチック製容器類に不活性又は非透過性の内部表面形成に使用する、複数の方法及び複数の装置と共に、前記内部表面をポリマー類で被覆する工程が開示される。この開示では、先ず、真空容器内に、プラズマ処理される容器類を配置する。各容器内に、処理ガス用の供給ラインをそれぞれ導入する。次に、前記容器の外部に設置した電極間に電圧を印加することで、又はマイクロ波を照射することで、前記容器内において処理ガスにプラズマ点火する。前記印加電圧は、ＤＣ電圧又は高周波ＡＣ電圧でよい。なお、プラズマ点火を行う前に、前記処理ガスに対して１つ又は複数の被覆用材料又は複数の処理ガス類を加えることができる。また、シーケンス制御装置によって、前記真空容器内を真空にするために真空バルブ類を制御し、前記容器への処理ガス供給を制御し、及び前記電極類に接続したプラズマ発生器を制御することで、被覆過程の処理手順を制御する。なお、特許文献５には、前記容器の外部にのみプラズマを発生させることについて何の記載もない。また、どのような手段又は量で前記容器内にプラズマを供給するのかについて、特に制御方法について、何も記載されていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
特許文献１：ドイツ特許出願公開第１０  ２００８  ０３７  １５９Ａ号明細書
特許文献２：国際特許出願第ＷＯ  ２００５／０９９３２０  Ａ２号パンフレット
特許文献３：欧州特許第０  ８８７  ４３７  Ｂ１号明細書
特許文献４：米国特許第５，８５３，８１５Ａ号明細書
特許文献５：国際特許出願ＷＯ９５／２２４１３Ａ１号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明の目的は、１つ又は複数の中空体の内部表面を、効率良く、温和及び完全に洗浄し、及び／又は処理する装置を提供することである。この目的は、本願請求項１の特徴を有する装置によって達成される。
また、本発明の別の目的は、１つ又は複数の中空体の内部表面を、効率良く、温和及び完全に洗浄及び／又は処理する方法を提供することである。この目的は、本願請求項８の特徴を有する方法によって達成される。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
前記の中空体プラズマ処理装置は、プラズマ処理される少なくとも１つの中空体を入れられる処理容器を有する。また、前記装置は、プラズマ発生用のプラズマ源を少なくとも１つ有する。前記処理容器内の処理ガスをプラズマに変換するのに必要なエネルギーは、動力源から前記プラズマ源に供給する。前記動力源としては、例えば、電圧源、放射源（マイクロ波源など）、又は熱源が挙げられる。また、少なくとも１つの吸引装置を用い、プラズマ源及び処理容器との間に、圧力差が生じるように設定する。また、少なくとも１つのプラズマ源を処理装置の外部に配置し、プラズマ源と処理装置とを液体連通させる。また、パルスプラズマが発生するように、制御部によって前記動力源を制御する。また、プラズマ供給用出口部を有する各プラズマガイド部が、各中空体の開口部を通って突き出る。
【００１１】
本発明に係る前記装置の一実施形態では、各プラズマガイド部は各中空体へのプラズマ供給を制御する第１供給制御部を有する。また、前記処理容器の開口部を介してプラズマ源は前記処理容器と液体連通している。この開口部及びプラズマガイド部の出口部を、プラズマ及びプラズマ中に含有され得る物質を混合するために、ノズル又はスプレーとして設計できる。このように構成すると、前記プラズマ及び物質を均一に分布でき、及び／又はプラズマビームの方向を調節できる。
【００１２】
また、プラズマガイド部を中空体の内部に挿入する場合、中空体の開口部に沿って円周状の隙間が形成されるように、前記プラズマガイド部を構成して設置することが好ましい。この隙間があることで、中空体と処理容器とを液体連通させることができる。同時に、中空体から外に出るガス及び／又はプラズマにとって、前記隙間はフローインピーダンスとなる。また、前記隙間を好適な形状とし、前記第１供給制御部を用いて吸引装置用及びプラズマ供給に使う有効ポンプ動力を調節することによって、処理装置と連動させて中空体内部を過圧に設定できる。特に、前記隙間を外周部に均一に形成することで、中空体からのプラズマ流を均一化できる。こうして、前記中空体の内部表面を、プラズマは均一に処理できる。
【００１３】
なお、上記のようにフロー条件を調節するために、例えば、好適な位置にプラズマガイド部の出口部を設置する必要がある。具体的には、中空体開口部の中央に、プラズマガイド部を配置し、中空体内部深くにまで好適にプラズマガイド部の出口部を挿入することが好ましい。
【００１４】
また、被覆処理又は化学処理を行うために、処理材料を供給する供給ラインによって、本願のプラズマ処理装置を伸長することができる。なお、前記供給ラインはプラズマガイド部に開口している。また、プラズマ中に前記処理材料を均一に分布させるために、プラズマガイド部に通じる供給ラインの開口部を、ノズル又はスプレーのように設計できる。
【００１５】
また、前記処理材料を供給するために、供給ラインの上流側に第２供給制御部を設置できる。
【００１６】
前記第１及び第２供給制御部は、プラズマの供給時間や供給量に応じて前記処理材料の供給を調節できるように制御可能である。従って、前記供給制御部に必要な制御装置は、コンピュータ又はマイクロコントローラなどでよい。このような装置を使用して、時間及び量的に互いに調節し合えるように、インターフェースを介して複数の供給制御部を制御する。なお、いくつかの処理過程では、前記処理材料が好適な物質状態にあり、好適な粒度をもち、又は好適な化学的状態にあることが要求される。上記のように調節自在に制御することで、中空体の内部表面に処理材料が接触する前に、処理材料をプラズマと化学反応させ、又は完全に分散させることができるという利点が生じる。
【００１７】
また、本明細書では、中空体類のプラズマ処理方法を開示する。特に、この方法にとって、上記の装置が適している。前記方法は以下の工程からなることを特徴とする。
先ず、少なくとも１つの中空体を、処理容器の中に導入して配置する。続いて、吸引装置を用いて、少なくとも１つのプラズマ源に係る前記処理容器内を負圧にする。負圧設定用のパラメータ範囲は、有効ポンプ動力及びフローインピーダンスに応じて設定できる。前記フローインピーダンスには、処理容器の開口部、第１及び第２供給制御部、プラズマガイド部とその出口部、中空体、及び中空体開口部及びプラズマ処理装置との間の隙間が含まれる。次に、プラズマ源にパルスプラズマを発生させる。大気圧又は加圧下において、有利にプラズマを点火及び発生できる。
【００１８】
こうして発生させたプラズマを、各プラズマガイド部を使用して、各中空体内に供給する。処理容器内及びこの結果として中空体内が、プラズマ源に対して負圧となるため、相対的に高圧のプラズマが、（処理装置及び中空体内において）相対的に低圧のプラズマになる。なお、このようなプラズマを低圧プラズマと称する。
【００１９】
また、パルスプラズマが各中空体内に均一に広がるように、供給制御部を用いてプラズマの追加供給を制御できる。この結果、特に中空体に作用するプラズマの熱出力を、制御又は調節できる。
【００２０】
本発明によれば、電圧源からのエネルギーを用いて、プラズマ源を供給できる。また、電圧パルスを出力する電圧源によって、さらにプラズマのパルス化を調節できる。
特に、前記電圧パルスは、パルス時間、パルス間隔、及び／又は電圧レベルについて固定値又は可変値をもつＤＣパルスでよい。電圧パルスを調節することで、中空体が受ける熱出力、熱的負荷、及び／又は静電的負荷を調節できる。
【００２１】
また、本明細書に述べてきた方法の応用として、中空体の内部表面について、１つ又は複数の成分又は処理ガス及び／又は処理材料の反応生成物を用いた被覆処理又は化学反応、重合処理、予備的又は再洗浄処理を、プラズマを用いて行うことができる。特に、本明細書に記載した発明は、プラスチックボトルなどの中空体への適用を目的としている。こうした中空体類は、食物、飲料又は医薬品を入れることを目的とする。従って、前記の再洗浄工程は、被覆処理又は重合処理の残留物が付着したボトル内部表面を洗浄するために必要であると共に、適切な衛生基準に沿うように、その他の汚染物質が付着したボトル内部表面を洗浄するためにも必要である。
【００２２】
また、供給ライン開口部を通して、プラズマ処理装置内に処理原料を導入できる。プラズマの供給時間及び量に応じて処理材料の供給が調節されるように、処理原料の供給を制御する第１制御部及び第２制御部を制御できる。
また、熱負荷を減らすために、中空体に供給するプラズマのパルスとパルスの間に、少なくとも断続的に処理ガスを追加供給できる。この結果、プラズマ処理で発生する熱は除去される。第１制御部及び／又は第２制御部によって、こうして中空体を冷却するための処理ガスの供給を制御できる。なお、このような冷却に用いるガスの供給を減らすことで、冷却力が減少する。しかし、この方法によって、相対的に低い平均圧力において前記処理過程を行うことが可能となる。
【００２３】
本発明によれば、前記処理材料はキャリアーガスでもよい。このキャリアーガスは、蒸気、しぶき、又は懸濁状態で活性物質を輸送する。また、特に活性物質が分散及び気化、又は昇華するように、プラズマを調節してもよい。同様に、活性物質、処理ガス、又は中空体の組成成分類は、お互いに化学反応してもよい。どのような方法で、如何なる化学反応を起こさせるのかは、プラズマが有する特性によって設定できる（例えば、プラズマ出力、プラズマパルス、イオン化度、ガス温度、イオン温度、及び電子温度など）。
第１供給制御部及び／又は制御部、並びに吸引装置の有効ポンプ動力を対応制御することで、前記プラズマの特性を制御できる。活性物質の例としては、ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ：酸化ケイ素蒸着用）又は過酸化水素（Ｈ２Ｏ２）が挙げられる。また、前記キャリアーガスは、酸素含有ガス混合物、水素含有ガス混合物、又は化学的不活性ガス混合物から構成できる。
【００２４】
本明細書に添付した図面を参照しながら、本発明の実施形態を以下説明する。なお、以下の図面中、同一又は同等の構成要素に関しては、同じ参照番号を使用する。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本発明の装置及び処理を行う中空体の第１の断面図を示す。
【図２】本発明の装置及び処理を行う中空体の第２の断面図を示す。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
図１に本発明の装置１の実施形態を示す。プラズマ処理される、少なくとも１つの中空体５０を、処理容器２０の内部に配置する。プラズマ源１０は処理容器２０の外部に設置する。プラズマ源１０は、出口部１２を介して処理容器２０と液体連通する。この出口部１２はノズルのように設計してもよい。供給部１１を通して、処理ガスｇ１をプラズマ源１０に供給する。動力源３０、プラズマ源１０及び処理容器２０の接地３２に対し、活性電極３１に電圧を印加することで、前記動力源３０は処理ガスｇ１からプラズマＰに点火することができる。
接地３２によって、帯電効果又は寄生電流及び複数のプラズマ点火を抑制する。制御部３３によって、動力源３０はパルス電圧Ｖ（ｔ）を出力し、プラズマ源１０中にパルスプラズマＰを発生させる。
【００２７】
処理容器２０は吸引装置６０と液体連通するので、プラズマ源１０内の圧力ｐ１０に対して処理容器２０内の圧力ｐ２０との間に、圧力差Δｐ（負圧）が生じる。プラズマ源１０から発生したプラズマＰは、プラズマガイド部１３を通過して中空体５０にまで到り、膨張する。なお、プラズマガイド部１３はノズルとして構成した出口部１４を有することが好ましい。供給されたプラズマＰ２は、膨張によって、プラズマ源１０内のプラズマＰとは異なる特性、特に低圧であるという特性をもつ。
プラズマガイド部１３の供給制御部Ｄ１により、プラズマＰの供給は時間的に正確に制御され、且つ完全に中断できる。また、プラズマＰ２、処理ガスｇ１、処理材料Ｍ、又はこれらの反応生成物は、中空体５０の開口部５２を通して処理容器２０に流入する。中空体５０内部でプラズマＰ２が均一に膨張し、且つ中空体５０から均一に流出するので、プラズマＰ２は中空体５０の内部表面５１を均一に処理できる。
【００２８】
内部表面５１を被覆、洗浄、滅菌、活性化、又は重合化するための処理材料Ｍの供給ライン４０が、第１供給制御部Ｄ１の下流側のプラズマガイド部１３の中にまで伸びて開口する。前記処理材料は、キャリアーガスｇ２及び活性物質Ａを有するか、又は活性物質類の混合物を有してもよい。前記供給ライン４０の開口部４１は、処理材料Ｍ用のノズル又はスプレーとしてもよい。第２供給制御部Ｄ２によって、処理材料Ｍの供給を時間的及び量的に制御する。
特に、本実施形態では、第１制御部Ｄ１及び第２制御部Ｄ２、及び／又は電圧源３０の制御部３３について、時間に関して相互に制御し合うことができる。こうして、プラズマＰ２を（特にパルス的に）制御でき、プラズマＰ２の供給に応じて、処理材料Ｍの供給を調節できる。
【００２９】
図２に、図１で説明した前記装置を、図中の一点鎖線Ｚにおいて切断した場合の断面図を示す。プラズマＰ２用出口部１４が中空体５０の内部に位置するように、プラズマガイド部１３は中空体５０の開口部５２を通って突き出ている。なお、プラズマガイド部１３が前記内部まで突き出た深さは、中空体５０の内部表面５１上にプラズマＰ２が均一に分布するために設定するパラメータとなる。例えば、プラズマ処理される中空体５０は、円形の開口部５２を有する。ここに示した実施形態では、この円形形状に対応して、プラズマガイド部１３は円形断面を有する。プラズマガイド部１３は、中空体５０の開口部５２の内径ｄ５２よりも細い外径ｄ１３を有する。プラズマガイド部１３は、中空体５０の開口部５２と同心円となる。このように円周状の隙間５３を形成することで、中空体５０から出る均一な流れＥを確保できる。
従って、プラズマＰが均一に作用することが達成でき、及び／又は中空体５０の内部表面全体にわたり、処理材料Ｍが均一に作用することが達成できる。さらに、本発明の上記実施形態は、中空体５０の内部表面だけを選択的に処理できるという利点を有する。
【符号の説明】
【００３０】
１          装置
１０        プラズマ源
１１        処理ガス供給部
１２        プラズマ源出口部
１３        プラズマガイド部
１４        出口部
２０        処理容器
３０        電圧源
３１        電極
３２        接地
３３        制御部
４０        処理材料用供給ライン
４１        開口部
５０        中空体
５１        中空体内部表面
５２        中空体開口部
５３        円周状の隙間
６０        吸引装置
ｇ１        処理ガス
ｇ２        キャリアーガス
Ｍ          処理材料
Ａ          活性物質
Ｖ（ｔ）    電圧
Ｄ１        第１供給制御部
Ｄ２        第２供給制御部
ｐ１０      プラズマ源内圧力
ｐ２０      低圧容器内の低圧力
Δｐ        圧力差
Ｐ          プラズマ
Ｐ２        中空体に供給したプラズマ
Ｚ−Ｚ      図２用の断面線
ｄ１３      外径
ｄ５２      内径
Ｅ          中空体から出る流れ
【図１】
2014526116.tif 000003
【図２】
2014526116.tif 000004
【国際調査報告】
2014526116.tif 000005
2014526116.tif 000006
2014526116.tif 000007
2014526116.tif 000008