(57)【要約】  この開示は、光を分配するために光ガイドを使用することによって照明を供給するためのシステム、方法、及び装置を供給する。１つの態様において、光ガイドは、光が導入される光入力端と、光入力端の横方向にある横端とを持つ。横端は、滑らかで、鏡面反射板として動作する。光入力端は、粗く、拡散インターフェースを供給する。光エミッタは、約ΔＬである光エミッタのピッチで、隣接し、光入力端に沿って中心に置かれ、ここで、ΔＬは、光エミッタの数によって分割される横端間の距離である。拡散光入力端は、光ガイド内に入る光を拡散させることができ、横端は、アーティファクトの低いレベルを持つ光を反射することができ、反射板はまた、光ガイド内の光の高い均一性のある分配を容易にするように仮想光源として動作する。光ガイドは、光ガイド外に光を向け直す光変更特性により供給されることができる。いくつかの実施形態において、向け直される光は、ディスプレイを照らすために供給されることができる。
2014503108.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の光エミッタと、
前記複数の光エミッタから光を受信するための光入力端と、前記光入力端の横方向にある第１レーザカット端と、を含む光ガイドと、
を備える照明システム。
【請求項２】
前記光ガイドは、ガラスから形成される、
前記請求項１に記載の照明システム。
【請求項３】
前記光入力端は、つや消しされる、
前記請求項１に記載の照明システム。
【請求項４】
前記光入力端は、約０．１−５μｍの表面粗度Ｒａを持つ、
前記請求項３に記載の照明システム。
【請求項５】
前記光エミッタは、約ΔＬのピッチを持ち、ここで、
【数１】
2014503108.tif 000007
但し、ΔＬは、隣接する光エミッタの個々の位置の間の距離であり、
Ｌｌｉｇｈｔ  ｇｕｉｄｅは、前記光ガイドの前記横端間の距離であり、
Ｎｌｉｇｈｔ  ｅｍｉｔｔｅｒｓは、前記複数の光エミッタにおける光エミッタの数である、
前記請求項４に記載の照明システム。
【請求項６】
さらに、
前記光ガイドのエリアよりも小さい活動表示エリアを持つディスプレイを備え、
前記光入力端の長さは、前記光入力端を向く前記活動表示エリアの相当する寸法よりも長い、
前記請求項５に記載の照明システム。
【請求項７】
さらに、
前記光ガイドの主要な表面に向く前記主要な表面を持つディスプレイを備え、
前記光ガイドは、前記光ガイドの外に及び前記光ガイドの前記主要な表面へ光を排出するように構成される複数の光変更特性を備える、
前記請求項１に記載の照明システム。
【請求項８】
前記光ガイドは、前灯の一部を形成する、
前記請求項１７に記載の照明システム。
【請求項９】
前記ディスプレイは、分岐干渉変調器の例を含む反射ディスプレイである、
前記請求項１７に記載の照明システム。
【請求項１０】
さらに、
前記ディスプレイと通信するように構成されるプロセッサであって、ここで前記プロセッサは、イメージデータを処理するように構成される、プロセッサと、
前記プロセッサと通信するように構成されるメモリ機器と、
を備える、
前記請求項１７に記載の照明システム。
【請求項１１】
さらに、
前記ディスプレイに少なくとも１つの信号を送信するように構成されるドライバ回路を備える、
前記請求項１０に記載の照明システム。
【請求項１２】
さらに、
前記ドライバ回路へ前記イメージデータの少なくとも一部を送信するように構成されるコントローラを、備える、
前記請求項１１に記載の照明システム。
【請求項１３】
さらに、
前記プロセッサへ前記イメージデータを送信するように構成されるイメージソースモジュールを、備える、
前記請求項１０に記載の照明システム。
【請求項１４】
前記イメージソースモジュールは、受信機、トランシーバ、及び、送信器の少なくとも１つを含む、
前記請求項１３に記載の照明システム。
【請求項１５】
さらに、
入力データを受信するように、及び、前記プロセッサに前記入力データを伝達するように構成される入力機器を、備える、
前記請求項１０に記載の照明システム。
【請求項１６】
さらに、
前記第１レーザカット端と反対にあり前記光入力端の横方向にある第２レーザカット端を、備える、
前記請求項１に記載の照明システム。
【請求項１７】
前記光ガイドは、一般的に光学的に透明な材料の平面プレートである、
前記請求項１に記載の照明システム。
【請求項１８】
光エミッタと、
ガラスから構成される光ガイドであって、ここで、前記光ガイドは、前記光エミッタから光を受信するための光入力端と、前記光入力端の横方向にある横端と、を備える、光ガイドと、
前記横端に沿う鏡面反射板と、
を備える照明システム。
【請求項１９】
前記光入力端は、つや消しされる、
前記請求項１８に記載の照明システム。
【請求項２０】
前記鏡面反射板は、前記横端の全体の長さを相当に延ばす、
前記請求項１８に記載の照明システム。
【請求項２１】
前記鏡面反射板は、前記横端の表面である、
前記請求項１８に記載の照明システム。
【請求項２２】
さらに、
前記横端に隣接し及び前記光ガイド内に再度前記横端を出る光を反射するように構成される補助反射板を備える、
前記請求項２１に記載の照明システム。
【請求項２３】
前記補助反射板は、前記横端から離れて配置される、
前記請求項２２に記載の照明システム。
【請求項２４】
前記鏡面反射板は、前記光ガイドへ取り付けられる、
前記請求項１８に記載の照明システム。
【請求項２５】
さらに、
複数の光エミッタを備え、
前記光エミッタは、約ΔＬの距離によって離れて均一に配置され、ここで、
【数２】
2014503108.tif 000008
但し、ΔＬは、隣接する光エミッタの個々の位置の間の距離であり、
Ｌｌｉｇｈｔ  ｇｕｉｄｅは、前記光ガイドの前記横端間の距離であり、
Ｎｌｉｇｈｔ  ｅｍｉｔｔｅｒｓは、前記複数の光エミッタにおける光エミッタの数である、
前記請求項１８に記載の照明システム。
【請求項２６】
さらに、
前記光ガイドの主要な表面に向く前記主要な表面を持つディスプレイを備え、
前記光ガイドは、前記光ガイドの外へ及び前記光ガイドの前記主要な表面へ光を排出するように構成される複数の光変更特性を備える、
前記請求項１８に記載の照明システム。
【請求項２７】
さらに、
前記光ガイドの前方にある表板であって、ここで、前記表板は、アンチグレア層、耐引っ掻き層、耐指紋層、タッチパネル、光学フィルタ層、光拡散層及びそれらの組み合わせから成る前記グループから選択される構造を含む、表板を、備える、
前記請求項２６に記載の表示システム。
【請求項２８】
前記光ガイドは、前記表板と前記ディスプレイとの間に配置され、
さらに、
前記光ガイドと前記表板及び前記ディスプレイの１つ又は両者との間に配置される光学的外装層を備える、
前記請求項１に記載の表示システム。
【請求項２９】
前記第１鏡面反射表面は、前記第１横端の途切れない長さ上で鏡面反射を供給する、
前記請求項１８に記載の照明システム。
【請求項３０】
光を受信するための光入力端であって、ここで、前記光入力端は、長さを持つ、光入力端と、第１横端であって、ここで、前記第１横端は、前記光入力端の横方向にある第１横端を含む光ガイドと、
前記第１横端に沿う第１鏡面反射表面と、
活動エリアを持つディスプレイであって、ここで、前記ディスプレイの主要な表面は、前記光ガイドの主要な表面に向き、前記光入力端の前記長さは、前記長さに向くピクセルエリアの相当する寸法よりも長い、ディスプレイと、
前記光入力端内へ光を導入するように構成される複数の離れて配置される光エミッタと、
を備え、
ここで、前記光エミッタ間の距離は、約ΔＬであり、ここで、
【数３】
2014503108.tif 000009
但し、ΔＬは、隣接する光エミッタの個々の位置の間の距離であり、
Ｌｌｉｇｈｔ  ｇｕｉｄｅは、前記光ガイドの前記横端間の距離であり、
Ｎｌｉｇｈｔ  ｅｍｉｔｔｅｒｓは、前記複数の光エミッタにおける光エミッタの数である、
表示システム。
【請求項３１】
前記光エミッタのそれぞれは、前記光入力端の幅と同一の軸上で相当に延びる高さの光発光面を持ち、ここで、前記光発光面の前記高さは、前記光入力端の前記幅より大きいか等しい、
前記請求項３０に記載の表示システム。
【請求項３２】
前記第１鏡面反射表面は、前記第１横端の表面である、
前記請求項３０に記載の表示システム。
【請求項３３】
さらに、
前記入力端の横にあり前記第１横端の反対にある第２横端に沿う第２鏡面反射表面と、
前記光入力端の反対にある前記光ガイドの側の他の光入力端と、
前記他の光入力端内に光を導入するように構成される他の複数の光エミッタと、
を備え、ここで、前記光エミッタ間の距離は、約ΔＬ’であって、ここで、
【数４】
2014503108.tif 000010
但し、ΔＬは、隣接する光エミッタの個々の位置の間の距離であり、
Ｌｌｉｇｈｔ  ｇｕｉｄｅは、前記光ガイドの前記横端を分離する距離であり、
Ｎｌｉｇｈｔ  ｅｍｉｔｔｅｒｓは、前記複数の光エミッタにおける光エミッタの数である、
前記請求項３０に記載の表示システム。
【請求項３４】
前記複数の光エミッタは、前記光入力端に沿って中心に置かれる、
前記請求項３０に記載の表示システム。
【請求項３５】
前記光ガイドは、前記ディスプレイの前にあり、前灯の一部であって、ここで、前記ディスプレイは、反射ディスプレイである、
前記請求項３０に記載の表示システム。
【請求項３６】
光源と、
前記光エミッタから光を受信するように構成される光入力端と、前記光入力端の横方向にある逆横端と、を持つ光ガイドと、
前記横端の少なくとも１つに沿う光を反射するための手段と、
を備える照明システム。
【請求項３７】
前記光源は、前記光ガイド手段内に光を導入するように構成される複数の光エミッタを含む、
前記請求項３６に記載の照明システム。
【請求項３８】
前記光ガイドは、ガラスから形成される、
前記請求項３７に記載の照明システム。
【請求項３９】
光を反射するための前記手段は、前記横端の少なくとも１つの表面である、
前記請求項３７に記載の照明システム。
【請求項４０】
前記表面は、前記横端の前記少なくとも１つに沿う少なくとも約５ｍｍの途切れない距離上で鏡面反射を供給する、
前記請求項３９に記載の照明システム。
【請求項４１】
光を反射するための前記手段は、前記横端から離れて配置される鏡面反射板を含む、
前記請求項３７に記載の照明システム。
【請求項４２】
前記光入力端は、つや消しされる表面を含む、
前記請求項３７に記載の照明システム。
【請求項４３】
鏡面反射板である光学端を持つ光ガイドを供給することであって、ここで、前記鏡面反射板は、前記横端の途切れない長さ上で鏡面反射を供給し、前記長さは約５ｍｍ又はそれ以上である、供給することと、
前記光ガイドの光入力端で光エミッタを供給することと、
を備え、
ここで、前記光学端は、前記光入力端の横方向にある、
照明システムを製造するための方法。
【請求項４４】
前記光ガイドを供給することは、前記光ガイドの前記端で前記鏡面反射板を形成するため光学的に透明な材料をレーザカッティングすることを含む、
前記請求項４３に記載の方法。
【請求項４５】
光学的に透明な前記材料は、ガラスである、
前記請求項４４に記載の方法。
【請求項４６】
前記光ガイドを供給することは、前記光学端を研ぎ及び磨くことを含む、
前記請求項４３に記載の方法。
【請求項４７】
前記光ガイドを供給することは、前記入力端の横方向にある前記光ガイドの端に隣接する前記鏡面反射板を取り付けることを含む、
前記請求項４３に記載の方法。
【請求項４８】
前記鏡面反射板を取り付けることは、前記光入力端の横方向にある前記光ガイドの前記端から離れて配置される前記鏡面反射板をそのままにしておく、
前記請求項４７に記載の方法。
【請求項４９】
前記光エミッタを供給することは、前記光入力端に沿って中心に置かれる複数の前記光エミッタを供給することを含み、ここで、前記光エミッタのピッチは、約ΔＬであり、ここで、
【数５】
2014503108.tif 000011
但し、ΔＬは、隣接する光エミッタの個々の位置の間の距離であり、
Ｌｌｉｇｈｔ  ｇｕｉｄｅは、前記光ガイドの前記横端間の距離であり、
Ｎｌｉｇｈｔ  ｅｍｉｔｔｅｒｓは、前記複数の光エミッタにおける光エミッタの数である、
前記請求項４３に記載の方法。
【請求項５０】
前記光ガイドを供給することは、前記光入力端状に光学的に拡散する表面を形成するために前記光入力端を粗くすることを含む、
前記請求項４３に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この開示は、ディスプレイのための照明機器、特に、光ガイドを有する照明機器を含む照明機器に、及び、電気機械的システムに関連する。
【背景技術】
【０００２】
電気機械的システムは、電気的並びに機械的要素、アクチュエータ、変換器、センサ、光学的コンポーネント（たとえば、鏡）及び電子装置を持つ機器を含む。電気機械的システムは、限定でなく、マイクロスケール及びナノスケールを含む様々なスケールで製造されることができる。たとえば、マイクロ電気機械的システム（ＭＥＭＳ）機器は、約ミクロンから数百ミクロン又はそれ上に及ぶサイズを持つ構造を含むことができる。ナノ電気機械的システム（ＮＥＭＳ）機器は、たとえば、数百ナノメータよりも小さいサイズを含むミクロンよりも小さいサイズを持つ構造を含むことができる。電気機械的要素は、堆積、エッチング、リトグラフィ、及び／又は、基板並びに／若しくは堆積物質層（deposited material layer）の一部をエッチングし又は電気的並びに電気機械的機器を形成するための層を加える他のマイクロマシン処理を使用して作成され得る。
【０００３】
１つのタイプの電気機械的システム機器は、分岐干渉変調器（ＩＭＯＤ）と呼ばれる。本文中に使用されるように、分岐干渉変調器又は分岐干渉光変調器という用語は、光学的な干渉の原理を使用して光を選択的に吸収し及び／又は反射する機器を示す。いくつかの実施形態において、分岐干渉変調器は、伝導プレートのペアを含み、それらの１つ又は両者は、全体的に又は一部で、透明であり及び／又は反射し得、及び、適切な電気的信号の適用による相補的な動作を可能とする。実施形態において、１つのプレートは、基板に置かれる固定層（stationary layer）を含み得、及び、他のプレートは、空間ギャップによって固定層から分離される金属膜を含み得る。他のプレートに関する１つのプレートの位置は、分岐干渉変調器上の入射光の光学的干渉を喧嘩させることができる。分岐干渉変調機器は、幅広い適用を有し、及び、既存の製品を改善すること並びに新しい製品を製造すること、特に表示能力によるそれらにおいて使用されることが期待される。
【０００４】
反射されるアンビエント光は、分岐干渉変調器によって形成されるピクセルを使用する表示機器のような、いくつかの表示機器においてイメージを形成するために使用される。これらのディスプレイの知覚される光度は、見る人へ反射される光の量に依存する。低いアンビエント光状況において、人為的な光源からの光は、反射するピクセルを示すために使用され、ここでそれは、そのときイメージを生成するために見る人へ光を反射する。市場の要求及び設計基準を満たすために、新しい照明機器は、反射し及び透明なディスプレイを含む、表示機器の必要を満たすために継続的に開発される。
【発明の概要】
【０００５】
開示のシステム、方法及び機器はそれぞれ、いくつかの革新的な態様を持ち、それらのただ１つは、本文中に開示される望ましい特徴の原因ではない。
【０００６】
この開示において示される技術手段の１つの革新的な態様は、照明システムにおいて実施されることができる。照明システムは、複数の光エミッタ及び光ガイドを含む。光ガイドは、複数の光エミッタから光を受信するための光入力端と、光入力端の横方向にある第１レーザカット端とを含む。光入力端は、覆われることができ、及び、約０．１−５μｍの表面粗度（surface roughness）Ｒａを持つことができる。複数の光エミッタは、光入力端に沿って広げられ、約ΔＬのピッチを持つことができ、ここで、
【数１】
2014503108.tif 000003
【０００７】
ここで、ΔＬは、隣接する光エミッタの等間隔間の距離であり、Ｌｌｉｇｈｔ  ｇｕｉｄｅは、光ガイドの横端間の距離であり、Ｎｌｉｇｈｔ  ｅｍｉｔｔｅｒｓは、複数の光エミッタにおける光エミッタの番号である。いくつかの実施形態において、光エミッタは、光入力端に沿って中心に位置される。
【０００８】
この開示において記述される技術主題の他の革新的な態様は、光エミッタ、グラスの形成される光ガイド及び横端に沿った鏡面反射板を含む他の照明システムにおいて実施されることができる。光ガイドは、光エミッタから光を受信するための光入力端と光入力端の横方向にある横端とを含む。いくつかの実施形態において、鏡面反射板は、横端の表面であることができる。加えて又はその代わりに、鏡面反射板は、横端に取り付けられることができる。鏡面反射板は、いくつかの実施形態において横端から離れて間隔をあけて置かれることができる。
【０００９】
この開示において記述される技術主題のまた他の革新的な態様は、表示システムにおいて実施されることができる。表示システムは、光入力端、第１鏡面反射板、ディスプレイ、及び複数のスペース解離光エミッタを持つ光ガイドを含む。光ガイドの光入力端は、長さ、及び第１横端を持ち、ここで第１横端は、光入力端の横方向にある。この第１鏡面反射板の表面は、第１横端に沿う。ディスプレイは、活動中のエリアを持ち、ここで、ディスプレイの主要な表面は、光ガイドの主要な表面に向き、及び、光入力端の長さは、縦に一直線に並んだピクセルエリアの相当する次元よりも大きい。相当する次元は、光入力端の光に向き得る。光エミッタ間の間隔は、約ΔＬであり、ここで、
【数２】
2014503108.tif 000004
【００１０】
ここで、ΔＬは、隣接する光エミッタの等間隔間の距離であり、Ｌｌｉｇｈｔ  ｇｕｉｄｅは、光ガイドの横端と離れる距離であり、Ｎｌｉｇｈｔ  ｅｍｉｔｔｅｒｓは、複数の光エミッタにおける光エミッタの番号である。複数の光エミッタは、光入力端の長さに沿って中心に配置され得る。
【００１１】
この開示において記述される技術主題の他の革新的な態様は、照明システムにおいて実施されることができる。照明システムは、光を発散する手段と、光発散手段に向く光入力端を持ち光入力端の横方向にある横端と反対にある光ガイドと、横端方法の少なくとも１つに沿って光を反射する手段と、を含む。
【００１２】
この開示において記述される技術主題のまた他の革新的な態様は、照明システムを製造する方法において実施されることができる。方法は、鏡面反射板である光学端を持つ光ガイドを供給することと、光ガイドの光入力端で光エミッタを供給することとを含む。
【００１３】
この明細書において記述される技術主題の１つ又はそれ以上の実施形態の詳細は、添付の図及び以下の記述において列挙される。他の特徴、態様、及び利点は、記述、図、及び請求項から明らかになるだろう。次の図の関連する寸法がスケールのために書かれ得ないことを注意する。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】図１は、分岐干渉変調器（ＩＭＯＤ）表示機器のピクセルのシリーズにおいて隣接する２つのピクセルを描くアイソメトリックビューの例を示す。
【図２】図２は、３×３の分岐干渉変調器ディスプレイを組み入れる電気的機器を示すシステムブロック図の例を示す。
【図３】図３は、図１の分岐干渉変調器に印加される電圧に対する移動可能な反射層位置を示すブロック図の例を示す。
【図４】図４は、様々な共通及び部分電圧が適用される場合に分岐干渉変調器の様々な状態を示すテーブルの例を示す。
【図５Ａ】図５Ａは、図２の３×３の分岐干渉変調器ディスプレイにおけるディスプレイデータのフレームを示すブロック図の例を示す。
【図５Ｂ】図５Ｂは、図５Ａにおいて示されるディスプレイデータのフレームを書くために使用され得る共通及び部分信号に関するタイミングブロック図の例を示す。
【図６Ａ】図６Ａは、図１の分岐干渉変調器ディスプレイの一部分のクロスセクションの例を示す。
【図６Ｂ】図６Ｂは、分岐干渉変調器の様々な実施形態のクロスセッションの例を示す。
【図６Ｃ】図６Ｃは、分岐干渉変調器の様々な実施形態のクロスセッションの例を示す。
【図６Ｄ】図６Ｄは、分岐干渉変調器の様々な実施形態のクロスセッションの例を示す。
【図６Ｅ】図６Ｅは、分岐干渉変調器の様々な実施形態のクロスセッションの例を示す。
【図７】図７は、分岐干渉変調器に関する処理を製造することを示すフローブロック図の例を示す。
【図８Ａ】図８Ａは、分岐干渉変調器を作る方法において様々なステージのクロスセッションの概略的な図解の例を示す。
【図８Ｂ】図８Ｂは、分岐干渉変調器を作る方法において様々なステージのクロスセッションの概略的な図解の例を示す。
【図８Ｃ】図８Ｃは、分岐干渉変調器を作る方法において様々なステージのクロスセッションの概略的な図解の例を示す。
【図８Ｄ】図８Ｄは、分岐干渉変調器を作る方法において様々なステージのクロスセッションの概略的な図解の例を示す。
【図８Ｅ】図８Ｅは、分岐干渉変調器を作る方法において様々なステージのクロスセッションの概略的な図解の例を示す。
【図９Ａ】図９Ａは、不均一な光分布を促進することができる光ガイドのトップダウンビューの例を示す。
【図９Ｂ】図９Ｂは、不均一な光分布を持つ光ガイドのトップダウンビューの写真例を示す。
【図１０Ａ】図１０Ａは、ダイアモンドホイールを用いたカットによって形成される光ガイド端の例の写真を示す。
【図１０Ｂ】図１０Ｂは、図１０Ａにおいて示されもする光ガイドのセクションのトップダウンビューの写真の例を示す。
【図１１】図１１は、光ガイドの１つのサイドで光量のパイロットと一緒に図１０Ｂの光ガイドのエンティティのトップダウンビューの写真の例を示す。
【図１２】図１２は、滑らかな横端を備える光ガイドを持つ照明システムのトップダウンビューの例を示す。
【図１３Ａ】図１３Ａは、レーザカッティングによって形成される光ガイドの端の写真の例を示す。
【図１３Ｂ】図１３Ｂは、図１３Ａにおいて示されもする光ガイドのセッションのトップダウンビューの写真の例を示す。
【図１４Ａ】図１４Ａは、多数の光エミッタアレイを持つ光ガイドの例を示す。
【図１４Ｂ】図１４Ｂは、図１４Ａの光ガイドを組み込む表示システムの側断面の例を示す。
【図１５】図１５は、いくつかの実施形態に従って間隔をあけて置かれる光エミッタを持つ光ガイドのトップダウンビューの写真の例を示す。
【図１６】図１６は、光学的に拡散する光入力端を備え及び備えない光ガイドを示す写真の例を示す。
【図１７Ａ】図１７Ａは、空間ギャップによって光ガイドから離れて置かれる補助反射板を備える表示システムのサイドビューの例を示す。
【図１７Ｂ】図１７Ｂは、固形金属の層によって光ガイドから離れて置かれる補助反射板を備える表示システムのサイドビューの例を示す。
【図１８Ａ】図１８Ａは、表板（superstrate）に取り付けられる補助反射板を備える表示システムのクロスセクションの例を示す。
【図１８Ｂ】図１８Ｂは、光ガイドに取り付けられる補助反射板を備える表示システムのクロスセクションの例を示す。
【図１９】図１９は、照明システムを製造する方法の例を描くブロック図である。
【図２０Ａ】図２０Ａは、複数の分岐干渉変調器を含む表示機器を示すシステムブロック図の例を示す。
【図２０Ｂ】図２０Ｂは、複数の分岐干渉変調器を含む表示機器を示すシステムブロック図の例を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
次の詳細な記述は、革新的な態様を記述する目的のためある実施形態に向けられる。しかしながら、本文中の教示は、多数の異なる方法において適用されることができる。記述される実施形態は、動作（たとえば、ビデオ）で又は固定（たとえば、スチールイメージ）であろうとなかろうと、及び、テキスト、図、又は写真のいずれであっても、イメージを表示するために構成される任意の機器において実施され得る。特に、実施形態は、限定ではなく、モバイルテレフォン、携帯電話で可能となるマルチメディアインターネット、モバイルテレビレシーバ、無線機器、スマートフォン、ブルートゥース機器、携帯情報端末（ＰＤＡ）、無線電子メールレシーバ、ハンドヘルド若しくはポータブルコンピュータ、ネットブック、ノートブック、スマートブック、プリンタ、コピー機、スキャナ、複写機、ＧＰＳレシーバ／ナビゲータ、カメラ、ＭＰ３プレイヤ、小型ビデオカメラ、ゲームコンソール、腕時計、時計、計算機、テレビモニタ、フラットパネルディスプレイ、電気リーディング機器（たとえば、ｅリーダ）、コンピュータモニタ、自動ディスプレイ（たとえば、走行距離計ディスプレイなど）、コクピット制御並びに／若しくはディスプレイ、カメラビューディスプレイ（たとえば、乗り物におけるリアビューカメラのディスプレイ）、電気的写真、電気的ビルボード若しくはサイン、プロジェクタ、建築構造、マイクロ波、冷蔵庫、ステレオシステム、カセットリーダ若しくはプレイヤ、ＤＶＤプレイヤ、ＣＤプレイヤ、ＶＣＲ、無線、ポータブルメモリチップ、洗濯機、ドライヤ、洗濯機／ドライヤ、パッケージング（たとえば、ＭＥＭＳ及びノンＭＥＭＳ）、美的な構造（たとえば、宝石の部分上のイメージの表示）、及び様々な電気機械的システム機器のような様々な電気的機器において又は関連して実施され得ることが意図される。本文中の技術はまた、限定ではなく、電気的スイッチ機器、無線周波数フィルタ、センサ、加速度測定器、ジャイロスコープ、モーションセンサ機器、磁力探知機、コンシューマ電子装置に関する慣性コンポーネント、コンシューマ電子装置製品の一部、バラクタ、液晶機器、電気泳動機器、ドライブスキーム、製造プロセス、電気的テスト装備のようなノンディスプレイアプリケーションにおいて使用されることができる。したがって、教示は、図において単に描かれる実施形態に限定されることを意図されず、しかし代わりに当業者に容易に明らかであるように広い適用性を持つ。
【００１６】
いくつかの実施形態において、照明システムは、光を分配するため光ガイドに供給される。１つの態様において、光ガイドは、光が導入される第１光入力端と、第１光入力端の横方向にある横端とを持つ。横端の１つ又は両者は、滑らかで、鏡面反射板として動作し、及び／又は横端の１つ又は両者を侵害する光を反射するために、取り付けられる鏡面反射板を持つことができる。第１光入力端は、粗いことができ、それによって隣接する光エミッタのアレイに拡散干渉を供給する。光エミッタは、約ΔＬである光エミッタのピッチにより、第１光入力端に沿って配置され中心に置かれ、ここで、ΔＬは、光エミッタの数によって分割される光ガイドの横端間の距離と等しい。光ガイドは、ディスプレイエリアを持つディスプレイのスタックにおいて配置されることができる。光エミッタアレイによってカバーされる長さは、ディスプレイの表示エリアを通じて広がることができる。それ自身の拡散表面を備える第２光入力端は、第２光入力端に沿って中心に配置され及び均一に配置される第２の複数の光エミッタにより、第１光入力端に繁体の光ガイドのサイドに配置されることができる。
【００１７】
光エミッタは、光入力端を通じて光ガイドへ光を導入する。光ガイドは、光ガイドの外側の光の方向を変える光変更特性により供給されることができる。いくつかの実施形態において、方向を変えられる光は、ディスプレイを照らすために適用されることができる。ある実施形態において、ディスプレイは、光ガイドの基礎をなす反射型ディプレイである。
【００１８】
この開示において記述される技術主題の個々の実施形態は、次の潜在的な利点の１つ又はそれ以上を実現するために実施される。拡散光入力端は、光ガイドに入射する光を拡散させることができ、それによって特に光入力端に近い領域において、光ガイド内の光分布の均一さを上昇させる。光が光ガイドを通じて広まるように、横端の鏡面反射板は、アーティファクトを有する光反射を供給せず、反射はまた、仮想の光源のように動作し、ここで、それは、特に光入力端からより遠い領域において、光ガイド内の光の均一な分布をさらに容易にすることができる。加えて、光エミッタの間隔と配置とは、光ガイドと光ガイドを横切る暗い「Ｘ」型のパターンのコーナーで不均一を減少させ又は除去することに役立つことができる。光ガイド内の光分布のより大きな均一さは、ディスプレイのような、物を照らすために光ガイドから排出される光の均一さを上昇させる。したがって、ディスプレイの高い均一な照明は、いくつかの実施形態において達成される。
【００１９】
記述される実施形態が適用され得る適切なＭＥＭＳ機器の１つの例は、反射型表示機器である。反射型表示放置は、光学的干渉の原理を使用して入射光を選択的に吸収し及び／又は反射するため分岐干渉変調器（ＩＭＯＤ）を組み込むことができる。ＩＭＯＤは、吸収体、吸収体に関連して移動可能である反射板、及び吸収体と反射板との間に限定される光学的に反響するくぼみを含むことができる。反射板は、２つ又はそれ以上の異なる位置へ移動されることができ、ここでそれらは、光学的に反響するくぼみのサイズを変化させることができ、それによって分岐干渉変調器の反射に影響を及ぼす。ＩＭＯＤの反射率の幅は、異なる色を生成するため可視波長に通じてシフトされることができる相当に幅の広いスペクトル帯を生成することができる。スペクトル帯の位置は、光学的に反響するくぼみに厚さを変えることによって、即ち、反射板の位置を変えることによって、調整されることができる。
【００２０】
図１は、分岐干渉変調器ＩＭＯＤ表示機器の一列のピクセルにおいて２つの隣接するピクセルを描くアイソメトリックビューに例を示す。ＩＭＯＤ表示機器は、１つ又はそれ以上の分岐干渉ＭＥＭＳ表示用を含む。これらの機器において、ＭＥＭＳ表示要素のピクセルは、光る又は暗い状態の何れかであることができる。光る（「緩和」、「開く」又は「オン」）状態において、表示要素は、たとえば、ユーザへの、入射可視光の大部分を反射する。逆に、暗い（「作動」、「閉じる」又は「オフ」）状態において、表示要素は、入射可視光をほとんど反射しない。いくつかの実施形態において、オン及びオフ状態の光反射率プロパティは、受信され得る。ＭＥＭＳピクセルは、黒及び白に加えて色表示を可能にする特定の波長で主に反射するために構成されることができる。
【００２１】
ＩＭＯＤ表示機器は、ＩＭＯＤの行／列アレイを含むことができる。各ＩＭＯＤは、反射層のペア、即ち、空間ギャップ（または光学ギャップ又はくぼみと呼ばれる）から互いに変化し及び制御可能な距離に配置される、移動可能な反射層及び固定の部分的な反射層、を含むことができる。移動可能な反射層は、少なくとも２つの位置の間で移動され得る。第１位置、即ち、緩和位置、において、移動可能な反射層は、固定の部分的な反射層から比較的大きな距離に配置されることができる。第２位置、即ち、作動位置、において、移動可能な反射層は、部分的な反射層のより近くに位置されることができる。２つの層から反射する入射光は、移動可能な反射層の位置に依存して有益に又は有害に干渉し、各ピクセルに関してすべて反射又は非反射状態の何れかを生成する。いくつかの実施形態において、ＩＭＯＤは、作動されない場合に反射状態であり得、可視スペクトル内で光を反射し、作動される場合に暗い状態であり得、可視レンジの外側の光（たとえば、赤外線）を反射する。いくつかの他の実施形態において、しかしながら、ＩＭＯＤは、作動されない場合に暗い状態であり、作動される場合に反射状態であり得る。いくつかの実施形態において、印加される電圧の導入は、状態を変化させるためにピクセルを動作させることができる。いくつかの他の実施形態において、印加される電荷は、状態を変化させるためにピクセルを動作させることができる。
【００２２】
図１におけるピクセルアレイの描かれる一部は、２つの隣接する分岐干渉変調器１２を含む。（示されるように）左にあるＩＭＯＤ１２において、移動可能な反射層１４は、光学スタック１６から所定の距離で緩和位置において示され、ここで、それは、部分的な反射層を含む。左にあるＩＭＯＤ１２を横切って印加される電圧Ｖ０は、移動可能な反射層１４の作動を引き起こすには不十分である。右にあるＩＭＯＤ１２において、移動可能な反射層１４は、光学スタック１６に近い又は隣接する作動位置において示される。右にあるＩＭＯＤ１２を横切って印加される電圧Ｖｂｉａｓは、作動位置において移動可能な反射層を維持するのに十分である。
【００２３】
図１において、ピクセル１２の反射プロパティは、ピクセル１２上に入射する光を示す矢印１３と左にあるピクセル１２から反射する光１５とによって一般に示される。詳細に示されないが、ピクセル１２上に入射する光１３の多くは、光学スタック１６へ、透明基板を通じて送信されるであろうことは、当業者によって理解されるだろう。光学スタック１６上に入射する光の一部は、光学スタック１６の部分的な反射層を通じて送信されるだろうし、一部は、透明基板２０を通じて戻るように反射するである。光学スタック１６を通じて送信される光１３の一部は、透明基板２０へ（及び通じて）戻るように、移動可能な反射層１４で反射されるだろう。光学スタック１６の部分的な反射層から反射される光と移動可能な反射層１４から反射される光との間の（有益な又は有害な）干渉は、ピクセル１２から反射される光１５の（複数の）波長を決定するだろう。
【００２４】
光学スタック１６は、単一の層又はいくつかの層を含むことができる。（複数の）層は、電極層、部分的に反射する並びに部分的に透明な層、及び透明絶縁層の１つ又はそれ以上を含むことができる。いくつかの実施形態において、光学スタック１６は、電気的に伝導し、部分的に透明であり、及び、部分的に反射し、たとえば、透明基板２０に上の層の１つ又はそれ以上を置くことによって、作成され得る。電極層は、様々な金属、たとえば、酸化インジウムスズ、のような様々な金属から形成されることができる。部分的な反射層は、様々な金属、たとえば、クロム、半導体、絶縁体、のような、部分的に反射する様々な金属から形成されることができる。部分的な反射層は、金属の１つ又はそれ以上の層から形成されることができ、各層は、単一の金属又は金属の組み合わせで形成されることができる。いくつかの実施形態において、光学スナック１６は、光学吸収体及び導体として役立つ金属又は半導体の単一の半透明層を含むことができるが、異なるより伝導の層又は部分（たとえば、光学スタック１６の、又は、ＩＭＯＤの他の構造の）は、ＩＭＯＤピクセル間で信号を運ぶために役に立つことができる。光学スタック１６はまた、１つ又はそれ以上の伝導層又は伝導／吸収層をカバーする１つ又はそれ以上の遮断又は絶縁層を含むことができる。
【００２５】
いくつかの実施形態において、光学スタック１６の（複数の）層は、平行なストリップにパターンづけられることができ、以下にさらに記述するように表示機器において行電極を形成し得る。当業者によって理解されるように、「パターンづけられる」という用語は、エッチング処理はもちろんマスキングを示すために本文中で使用される。いくつかの実施形態において、アルミニウムのような、非常に伝導がよく反射する金属は、移動可能な反射層１４に使用され得、これらのストリップは、表示機器において列電圧を形成し得る。移動可能な反射層１４は、ポスト１８のトップに置かれる列とポスト１８間に置かれる干渉する犠牲的な材料を形成するため置かれる金属層又は複数の層（光学スタック１６の行電極と直行する）の平行なストリップのシリーズとして形成される。犠牲的な材料がエッチングされなくなる場合、限定されるギャップ１９又は光学的なくぼみは、移動可能な反射層１４と光学スタック１６との間に形成されることができる。いくつかの実施形態において、ポスト１８間の間隔は、１−１０００ｕｍのオーダであり得るが、ギャップ１９は、１０，０００オングストローム（Å）＞のオーダであり得る。
【００２６】
いくつかの実施形態において、ＩＭＯＤの各ピクセルは、作動される又は緩和される状態であるかに関わらず、本質的には、固定及び動作する反射層によって形成される容量である。電圧が印加されない場合、移動可能な反射層１４ａは、移動可能な反射層１４と光学スタック１６との間のギャップ１９により、図１において左にあるピクセル１２によって示されるように、機械的な緩和される状態を維持する。しかしながら、ポテンシャルギャップ、たとえば、電圧、が少なくとも選択される行及び列に適用される場合、相当するピクセルでの行及び列電極の交点で形成される容量は、チャージされ、静電力は、一緒に電極を引く。印加される電圧が閾値を超える場合、移動可能な反射層１４は、光学スタック１６の近くに又は反対に変形し及び移動することができる。光学スタック１６内の絶縁層（図視されない）は、図１において右にある作動されるピクセルによって示されるように、層１４と１６との間の分離距離を短くなくことを妨げ、制御し得る。振る舞いは、適用される潜在的な差と正反対にもかかわらず同じである。アレイにおけるピクセルのシリーズは、「行」又は「列」としてのいくつかの例において言及され得、当業者は、「行」としての１つの方向と「列」としての他の方向とに言及することは、恣意的であることを容易に理解する。言い換えると、いくつかのオリエンテーションにおいて、行は列と考えられることができ、列は行と考えられる。さらに、表示要素は、直交する行及び列（アレイ）において均等に調整され、又は、たとえば、他のものに関連するあるあるポテンシャルオフセット（モザイク）を持つ、非線形な構成において調整され得る。「アレイ」及び「モザイク」という用語は、いずれの構成を示し得る。したがって、ディスプレイが「アレイ」又は「モザイク」を含むことを示されるが、要素自身は、任意の例において、他のものと直行して調整され、又は、均一に分布される必要はないが、非対称な形状及び非平行的に分配される要素を持つ調整を含み得る。
【００２７】
図２は、３×３分岐干渉変調器ディプレイを組み込む電子機器を示すシステムブロック図の例を示す。電子機器は、１つ又はそれ以上のソフトウェアモジュールを実行するために構成され得るプロセッサ２１を含む。動作システムを実行することに加えて、プロセッサ２１は、ウェブブラウザ、テレフォンアプリケーション、イーメールプログラム、又は任意の他のソフトウェアアプリケーションを含む、１つ又はそれ以上のソフトウェアアプリケーションを実行するために構成され得る。
【００２８】
プロセッサ２１は、アレイドライバ２２と通信するように構成されることができる。アレイドライバ２２は、たとえばディスプレイアレイ又はパネル３０へ信号を供給する行ドライバ回路２４及び列ドライバ回路２６を含むことができる。図１において示されるＩＭＯＤ表示機器のクロスセクションは、図２におけるライン１−１によって示される。図２は、明確さの目的のためＩＭＯＤの３×３アレイを示すが、表示アレイ３０は、非常にタスのＩＭＯＤを含み得、列と異なる行におけるＩＭＯＤの数を持ち得、逆も同じである。
【００２９】
図３は、図１の分岐干渉変調器へ印加される電圧に対する移動可能な反射層位置を示すブロック図の例を示す。ＭＥＭＳ分岐干渉変調器に関して、行／列（即ち、列／セグメント）書込プロシーシャは、図３において示されるようなこれらの機器のヒステリシスプロパティの利点があり得る。たとえば、分岐干渉変調器は、移動可能な反射層又は鏡に、緩和される状態から作動される状態へ変化させるため、約１０ボルトの潜在的な差を供給し得る。電圧がその値から減少される場合、移動可能な反射層は、電圧がたとえば１０Ｖ以下に戻るようにその状態を維持し、しかしながら、移動可能な反射層は、電圧が２ボルト以下になるまで完全には緩和しない。したがって、電圧の範囲、約３−７ボルト、は、図３において示されるように、機器が緩和される又は作動される状態のいずれかに安定する印加される電圧の窓がある場所に存在する。これは、「ヒステリシス窓」又は、「安定性ウィンドウ」と本文中で呼ばれる。図３のヒステリシスの特徴を持つ表示アレイ３０に関して、与えられる行にアドレスを指定する中に作動されるべきアドレスを指定される行におけるピクセルは、約１０ボルトの電圧差にさらされ、緩和されるべきピクセルは、ゼロボルトに近い電圧差にさらされるように、行／列書込プロシーシャは、一度に１つ又はそれ以上の行にアドレスを指定するように設計されることができる。アドレス指定の後、ピクセルが前にストロボ状態を維持するように、ピクセルは、安定した状態又は約５ボルトのバイアス電圧差にさらされる。この例において、アドレスを指定される後に、各ピクセルは、約３−７ボルトの「安定性ウィンドウ」内で潜在的な差を観察する。ヒステリシスプロパティの特徴は、たとえば、図１において示される、ピクセル設計に同一の印加される電圧状況の下で作動又は緩和先行存在状態のいずれに安定することを維持させることを可能にする。各ＩＭＯＤが、作動される又は緩和される状態であるかに関わらず、本質的に固定の又は移動する反射層によって形成される容量であるので、この安定した状態は、パワーを相当に消費し又はロスすることなくヒステリシス窓内に安定した電圧で保たれることができる。さらに、印加される潜在的な電圧が相当に固定され続けている場合、電流は、ＩＭＯＤピクセル内へ本質的にほとんど又は全く流れない。
【００３０】
いくつかの実施形態において、イメージのフレームは、与えられる行におけるピクセルの状態への所望の変化（もしあれば）に従って、列電極のセットに沿って「セグメント」電圧の形でデータ信号を適用することによって作成され得る。フレームが一度に１つの行に書かれるように、アレイの各行は、順々にアドレスを指定されることができる。第１行におけるピクセルに所望のデータを書き込むため、第１行におけるピクセルの所望の状態に相当するセグメント電圧は、列電圧に印加されることができ、特定の「列」電圧又は信号の形における第１行パルスは、第１行電極へ印加されることができる。セグメント電圧のセットは、そのとき第２行におけるピクセルの状態への所望の変化（もしあれば）に相当するように変化されることができ、第２列電圧は、第２列電極へ印加されることができる。いくつかの実施形態において、第１行におけるピクセルは、列電圧にそって印加されるセグメント電圧における変化によって影響を及ぼされず、第１列電圧行パルス中にセットされた状態に留まる。この処理は、イメージフレームを生成するため一連の流れにおいて、行、あるいは、列の全体のシリーズに関して繰り返される。フレームは、秒ごとにフレームのいくつかの所望の回数でこの処理を繰り返し続けることによって新しいイメージデータにリフレッシュされ及び／又はアップデートされることができる。
【００３１】
各ピクセルを横切って適用されるセグメント及び列信号の組み合わせ（つまり、各ピクセルを横切る潜在的な差）は、各ピクセルの結果状態を決定する。図４は、様々な列及びセグメント電圧が印加される場合に分岐干渉変調器の様々な状態を示すテーブルの例を示す。当業者によって容易に理解されるように、「セグメント」電圧は、列電極又は行電極の何れかに印加されることができ、「列」電圧は、列電極又は行電極の他のものに印加されることができる。
【００３２】
図４において（図５Ｂにおいて示されるタイミングブロック図においてはもちろん）示されるように、放出電圧ＶＣＲＥＬは、コモンラインに沿って印加される場合に、セグメントライン、即ち、ハイセグメント電圧ＶＳＨ及びローセグメント電圧ＶＳＬ、に沿って印加される電圧にもかかわらず、コモンラインに沿う全ての分岐干渉変調器要素は、緩和される状態に配置され、あるいはまた、放出または非作動状態と呼ばれるだろう。特に、放出電圧ＶＣＲＥＬは、コモンラインに沿って印加される場合、変調器を横切る潜在的な電圧（あるいはまたピクセル電圧と呼ばれる）は、ハイセグメント電圧ＶＳＨとローセグメント電圧ＶＳＬとがそのピクセルに相当するセグメントラインに沿って印加される場合の両者の場合に緩和ウィンドウ（図３参照、また放出窓とも呼ばれる）内にある。
【００３３】
ハイホールド電圧ＶＣＨＯＬＤ_Ｈ又はローホールド電圧ＶＣＨＯＬＤ_Ｌ保たれる電圧がコモンラインに印加される場合、分岐干渉変調器の状態は、一定のままでいるだろう。たとえば、緩和ＩＭＯＤは、緩和位置においてそのままでいるだろうし、作動ＩＭＯＤは、作動位置においてそのままでいるだろう。ハイセグメント電圧ＶＳＨとローセグメント電圧ＶＳＬとが相当するセグメントラインに沿って印加される場合の両者の場合にピクセル電圧が安定性ウィンドウ内のままでいるように、保たれる電圧は、選択されることができる。したがって、セグメント電圧変動、即ち、ハイセグメント電圧ＶＳＨとローセグメント電圧ＶＳＬとの差、は、ポジティブ又はネガティブ安定性ウィンドウの何れかの幅よりも小さい。
【００３４】
ハイアドレッシング電圧ＶＣＡＤＤ_Ｈ又はローアドレッシング電圧ＶＣＡＤＤ_Ｌのような、アドレッシング又は作動電圧がコモンラインに印加される場合、データは、各セグメントラインに沿ったセグメント電圧の適用によってそのラインに沿って変調器へ選択的に書かれることができる。作動は、印加されるセグメント電圧に依存するように、セグメント電圧は、選択され得る。アドレッシング電圧がコモンラインに沿って印加される場合、セグメント電圧の適用は、安定性ウィンドウ内にピクセル電圧を結果として生じ、ピクセルに非作動のままでいさせるだろう。反対に、他のセグメント電圧の適用は、安定性ウィンドウを超えたピクセル電圧を結果として生じ、ピクセルの作動を結果として生じるだろう。作動の原因となる特定のセグメント電圧は、アドレッシング電圧が使用されるかに依存して変化することができる。いくつかの実施形態において、ハイアドレッシング電圧ＶＣＡＤＤ_Ｈが、コモンラインに沿って印される場合、ハイセグメント電圧ＶＳＨの適用は、変調器にその現在の位置を維持させるが、ローセグメント電圧ＶＳＬの適用は、変調器の作動の原因となる。結果として、セグメント電圧の効果は、変調器の作動の原因となるハイセグメント電圧ＶＳＨと変調器の状態で効果のない（即ち、安定を維持する）ローセグメント電圧ＶＳＬとにより、ローアドレッシング電圧ＶＣＡＤＤ_Ｌが適用される場合に逆になることができる。
【００３５】
いくつかの実施形態において、変調器を横切る同一の極性の潜在的な差をいつも生成する、保たれる電圧、アドレス電圧、及びセグメント電圧は、使用され得る。いくつかの他の実施形態において、変調器の潜在的な差の極性を交互にする信号は、使用されることができる。変調器を横切る逆極性の交代（つまり、書込プロシーシャの極性の交代）は、単一の極性の繰り返される書込動作の後に生じる電荷蓄積を減少させ又は抑制し得る。
【００３６】
図５Ａは、図２の３×３の分岐干渉変調器ディスプレイにおいて表示データのフレームを示すブロック図の例である。図５Ｂは、図５Ａにおいて示される表示データのフレームを書くために使用され得る列及びセグメント信号に関するタイミングブロック図の例を示す。信号は、たとえば、図２の３×３アレイに適用されることができ、ここでそれは、図５Ａにおいて示されるライン時間６０ｅ表示調整を最終的には結果として生じるだろう。図５Ａにおける作動変調器は、暗い状態であり、即ち、反射される光の相当の部分は、たとえば、見る人へ、暗い外観を結果として生じるために可視スペクトルの外側である。図５Ａにおいて示されるフレームに書き込む前に、ピクセルは、任意の状態であることができるが、図５Ｂのタイミングブロックにおいて示される書込プロシーシャは、各変調器が第１ライン時間６０ａの前に放出され非作動状態に属していることを推定する。
【００３７】
第１ライン時間６０ａの間に、放出電圧７０は、コモンライン１で印加され、コモンライン２で印加される電圧は、ハイホールド電圧７２で開始し、放出電圧７０へ移動し、ローホールド電圧７６は、コモンライン３に沿って印加される。したがって、コモンライン１に沿った変調器（列１、セグメント１）（１，２）及び（１，３）は、第１ライン時間６０ａの間ずっと緩和又は非動作状態を維持し、コモンライン２に沿った変調器（２，１）、（２，２）及び（２，３）は、緩和される状態へ移動するだろうし、コモンライン３に沿った変調器（３，１）、（３，２）及び（３，３）は、それらの前の状態を維持するだろう。図４に関連して、コモンライン１，２又は３は、ライン時間６０ａ（即ち、ＶＣＲＥＬ−緩和及びＶＣＨＯＬＤ_Ｌ−安定）の間に作動の原因となる電圧レベルにさらされないように、セグメントライン１，２及び３に沿って印加されるセグメント電圧は、分岐干渉変調器の状態で効果を持たないだろう。
【００３８】
第２ライン時間６０ｂの間に、コモンライン１の電圧は、ハイホールド電圧７２へ移動し、コモンライン１に沿った全ての変調器は、アドレッシング又は作動電圧がコモンライン１に沿って印加されたので印加されるセグメント電圧にも関わらず緩和される状態を維持する。コモンライン２に沿う変調器は、放出電圧７０の適用のせいで緩和される状態を維持し、コモンライン３に沿う変調器（３，１）、（３，２）及び（３，３）は、コモンライン３に沿う電圧が放出電圧７０へ移動する場合に緩和するだろう。
【００３９】
第３ライン時間６０ｃの間に、コモンライン１は、コモンライン１上でハイアドレス電圧７４を印加することによってアドレスを指定される。ローセグメント電圧６４がアドレス電圧の適用の間にセグメントライン１及び２に沿って適用されるので、変調器（１，１）及び（１，２）を横切るピクセル電圧は、ポジティブ安定性ウィンドウのハイエンドよりも大きく、変調器（１，１）及び（１，２）は、作動される。逆に、ハイセグメント電圧６２がセグメントライン３によって印加されるので、変調器（１，３）を横切るピクセル電圧は、変調器（１，１）及び（１，２）のそれよりも小さく、変調器のポジティブ安定性ウィンドウ内であることを維持し、したがって変調器（１，３）は、緩和を維持する。また、ライン時間６０ｃの間に、コモンライン２に沿う電圧は、ローホールド電圧７６へ減少し、コモンライン３に沿う電圧は、放出電圧７０で維持し、緩和位置においてコモンライン２及び３に沿う変調器を残す。
【００４０】
第４ライン時間６０ｄの間に、コモンライン１上の電圧は、ハイホールド電圧７２へ戻り、それらにそれぞれアドレスを指定される状態におけるコモンライン１に沿う変調器を残す。コモンライン２上の電圧は、ローアドレス電圧７８へ減少させられる。ハイセグメント電圧６２がセグメントライン２に沿って印加されるので、変調器（２，２）を横切るピクセル電圧は、変調器のネガティブ安定性ウィンドウの下端以下であって、変調器に作動させる。逆に、ローセグメント電圧６４がセグメントライン１及び３に沿って印加されるので、変調器（２，１）及び（２，３）は、緩和位置で維持する。コモンライン３上の電圧は、ハイホールド電圧７２へ上昇し、緩和される状態においてコモンライン３に沿う変調器を残す。
【００４１】
最終的に、第５ライン時間６０ｅの間に、コモンライン１上の電圧は、ハイホールド電圧７２で維持し、コモンライン２上の電圧は、ローホールド電圧７６で維持し、それらそれぞれにアドレスを指定される状態においてコモンライン１及び２に沿う変調器を残す。コモンライン３上の電圧は、コモンライン３に沿って変調器にアドレスを指定するためハイアドレス電圧７４へ上昇する。ローセグメント電圧６４がセグメントライン２及び３上で印加されるように、一方では、セグメントライン１に沿って印加されるハイセグメント電圧６２は、変調器（３，１）に緩和位置において維持させる。したがって、第５ライン時間６０ｅの終わりで、３×３ピクセルアレイは、図５Ａにおいて示される状態であり、他のコモンライン（示されない）に沿って変調器がアドレスを指定されている場合に生じ得るセグメント電圧における変化にもかかわらず、ホールド電圧がコモンラインに沿って印加される限りその状態に維持するだろう。
【００４２】
図５Ｂのタイミングブロック図において、与えられる書込プロシーシャ（即ち、ライン時間６０ａ−６０ｅ）は、ハイホールド及びアドレス電圧、又は、ローホールド及びアドレス電圧の何れかの使用を含むことができる。書込プロシーシャが与えられるコモンラインに関して完成されている（及び、列電圧は、作動電圧として同一の極性を持つホールド電圧にセットされる）と、ピクセル電圧は、与えられる安定性ウィンドウ内で維持し、放出電圧がそのコモンラインに印加されるまでに緩和ウィンドウを通じてパスしない。さらに、各変調器が変調器にアドレスを指定する前に書込プロシーシャの一部として放出されるように、変調器の作動時間、むしろ放出時間、は、必要なライン時間を決定し得る。特に、変調器の放出時間が作動時間よりも大きい実施形態において、放出電圧は、図５Ｂにおいて描かれるように、単一のライン時間よりも長く印加され得る。いくつかの他の実施形態において、コモンライン又はセグメントに沿って印加される電圧は、作動における変化の原因となるように変化し、異なる色の変調器のような、異なる変調器の電圧を放出し得る。
【００４３】
上に列挙される原理に従って動作する分岐干渉変調器の構造の詳細は、広く変化し得る。たとえば、図６Ａ−６Ｅあ、移動可能な反射層１４及びその支持構造を含む、分岐干渉変調器の実施形態を変化させるクロスセクションの例を示す。図６Ａは、図１の分岐干渉変調器ディスプレイの部分的クロスセクションの例を示し、ここで、金属材料のストリップ、即ち、移動可能な反射層１４、は、基板２０から直交に拡張する支持１８に配置される。図６Ｂにおいて、各ＩＭＯＤの移動可能な反射層１４は、形状において一般的に正方形又は長方形であり、テザー３２に、コーナーに又は近くで支持するために取り付けられる。図６Ｃにおいて、移動可能な反射層１４は、形状において一般的に正方形または長方形であり、変形可能層３４から吊るされ、こｋで、そらは、固定金属を含み得る。変形可能層３４は、移動可能な反射層１４の周囲に基板２０に、直接的に又は非直接的に、接続することができる。これらの接続は、支持ポストと本文中に呼ばれる。図６Ｃにおいて示される実施形態は、その機械的な機能から移動可能な反射層１４の光学的な機能を分離することから得る追加の利益を持ち、ここで、それらは、変形可能層３４によって運び出される。この分離は、反射層１４のために使用される構造設計及び材料と他のものの独立的に最適化されるためため変形可能層３４のために使用されるそれらとを可能にする。
【００４４】
図６Ｄは、ＩＭＯＤの他の例を示し、ここで、移動可能な反射層１４は、反射サブ層１４ａを含む。移動可能な反射層１４は、支持ポスト１８のような、支持構造に支えられる。支持ポスト１８は、より低い固定の電極（即ち、示されるＩＭＯＤにおける光学スタック１６の一部）から移動可能な反射層１４の分離を供給するので、ギャップ１９は、たとえば、移動可能な反射層１４が緩和位置にある場合に、移動可能な反射層１４と光学スタック１６との間に形成される。移動可能な反射層１４はまた、伝導層１４ｃを含むことができ、ここでそれは、電極及び支持層１４ｂとして役立つように構成され得る。この例において、伝導層１４は、基板２０から遠方の、支持層１４ｂの１つのサイドに配置され、反射サブ層１４ａは、基板２０から近い、支持層１４ｂの他のサイドに配置される。いくつかの実施形態において、反射サブ層１４ａは、伝導であることができ、支持層１４ｂと光学スタック１６との間に配置されることができる。支持層１４ｂは、絶縁材料、たとえば、酸窒化ケイ素（ＳｉＯＮ）又は二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、の１つ又はそれ以上の層を含むことができる。いくつかの実施形態において、支持層１４ｂは、たとえば、ＳｉＯ２／ＳｉＯＮ／ＳｉＯ２の３層スタックのような、層のスタックであることができる。反射サブ層１４ａと伝導層１４ｃとの何れか又は両者は、たとえば、約Ｃｕ５％を持つＡｌ合金、又は他の反射金属材料を含むことができる。上で及び下で伝導層１４ａと１４ｃとを使用すると、絶縁支持層１４ｂは、荷重をバランスし、強化された伝導性を供給することができる。いくつかの実施形態において、反射サブ層１４ａと伝導層１４ｃとは、移動可能な反射層１４内に特定の荷重プロファイルを達成するような、様々な設計目的のため異なる材料で形成されることができる。
【００４５】
図６Ｄにおいて示されるように、いくつかの実施形態はまた、ブラックマスク構造２３を含むことができる。ブラックマスク構造２３は、周囲の又は時折の光を吸収するため光学的に活動しない領域（たとえば、ピクセルの間、又はポスト１８の下）において形成されることができる。ブラックマスク構造２３はまた、ディスプレイの活動しない部分から反射され又は通じて送信される光を抑制することによって表示機器の光学的プロパティを改善することができ、それによって、コントラスト比を上昇させる。追加的に、ブラックマスク構造２３は、伝導であって、電気的バス層として機能するように構成されることができる。いくつかの実施形態において、行電極は、接続される行電極の抵抗を減少させるためブラックマスク構造２３に接続されることができる。ブラックマスク構造２３は、堆積又はパターン化技術を含む、様々な方法を使用して形成されることができる。ブラックマスク構造２３は、１つ又はそれ以上の層を含むことができる。たとえば、いくつかの実施形態において、ブラックマスク構造２３は、それぞれ、約３０−８０Å、５００−１０００Å及び５００−６０００Åの厚さを持つ、光学的吸収体として役立つクロムモリブデン（ＭｏＣｒ）層と、ＳｉＯ２層と、反射板及びバス層として役立つアルミニウム化合物と、を含むことができる。１つ又はそれ以上の層は、たとえば、ＭｏＣｒ及びＳｉＯ２層のためのＣＦ４及び／又はＯ２と、アルミニウム化合物層のためのＣｌ２及び／ＢＣｌ３を含む、写真平板及びドライエッチングを含む、様々な技術を使用してパターン化されることができる。いくつかの実施形態において、ブラックマスク構造２３は、エタロン又は分岐干渉変調器の構造であることができる。そのような分岐干渉スタックブラックマスク構造２３において、伝導吸収体は、各行又は列の光学スタック１６においてより低い固定の電極間の信号を送信する又はバスするために使用されることができる。いくつかの実施形態において、スペーサ層３５は、ブラックマスク２３において伝導層から吸収体層を一般的に電気的に分離させるために役立つことができる。
【００４６】
図６Ｅは、移動可能な反射層１４が自ら支持するＩＭＯＤの例を示す。図６Ｄと反対に、図６Ｅの実施形態は、支持ポスト１８を含まない。代わりに、移動可能な反射層１４は、多数の位置で基礎をなす光学スタック１６に接触し、移動可能な反射層１４の湾曲は、分岐干渉変調器を横切る電圧が作動の原因となるのに不十分である場合に移動可能な反射層１４が図６Ｅの非作動位置へ戻る十分な支持を供給する。複数のいくつかの異なる層を含み得る光学スタック１６は、光学吸収体１６ａ及び絶縁体１６ｂを含む明確さのためにここに示される。いくつかの実施形態において、光学吸収体１６ａは、固定の電極として及び部分的な反射層としての両者として役立つことができる。
【００４７】
図６Ａ−６Ｅにおいて示されるそのような実施形態において、ＩＭＯＤは、イメージが透明基板２０の前側、即ち、変調器が調整される側と逆側、から見られる、ダイレクトビュー機器として作用する。これらの実施形態において、機器の後ろ部分（つまり、たとえば図６Ｃにおいて示される変形可能層３４を含む移動可能な反射層１４の後ろのディスプレイの任意の部分）は、反射層１４が機器のこれらの部分を光学的にシールドするので、表示機器のイメージクオリティに影響を与え、又はネガティブに作用することなく、設定され、動作されることができる。たとえば、いくつかの実施形態において、バス構造（図視されない）は、電圧アドレッシング及びそのようなアドレッシングから結果として生じる動きのような、変調器の電気機械的プロパティから変調器の光学プロパティを分離する能力を供給する移動可能な反射層１４の後ろに含まれることができる。加えて、図６Ａ−６Ｅの実施形態は、たとえば、パターン化のような処理を単純化することができる。
【００４８】
図７は、分岐干渉変調器のため製造処理８０を示すフローブロック図の例を示し、図８Ａ−８Ｅは、そのような製造処理８０の相当するステージのクロスセクション概念図の例を示す。いくつかの実施形態において、製造処理８０は、図７に示されない他のブロックに加えて、たとえば、図１及び６において示される一般的なタイプの分岐干渉変調器を製造するために実施されることができる。図１、６及び７に関連して、処理８０は、基板２０の上で光学スタック１６の構成を用いてブロック８２で開始する。図８Ａは、基板２０の上で形成されるそのような光学スタック１６を示す。基板２０は、ガラス又はプラスチックのような透明基板であり得、それは、柔軟である又は比較的固く及び強固であり得、光学スタック１６の効果的な構成を容易にするため、準備処理、たとえば、クリーニング、の前に受けさせされる。上に議論されるように、光学スタック１６は、電気的に伝導し、部分的に透明で、部分的に反射することができ、たとえば、透明基板２０上に所望のプロパティを持つ１つ又はそれ以上の層を配置することによって、作成され得る。図８Ａにおいて、より多くの又はより少ないサブ層がいくつかの他の実施形態において、含まれ得るが、光学スタック１６は、サブ層１６ａ及び１６ｂを持つ多層構造を含む。いくつかの実施形態において、サブ層１６ａ、１６ｂの１つは、組み合わされる導体／吸収体サブ層１６ａのような、光学的吸収及び伝導プロパティの両者によって構成されることができる。加えて、サブ層１６ａ、１６ｂの１つ又はそれ以上は、平行なストリップにパターン化されることができ、表示機器における行電極を形成し得る。そのようなパターン化は、マスキング及びエッチング処理又は技術において知られる他の適切な処理によって実行されることができる。いくつかの実施形態において、サブ層１６ａ、１６ｂの１つは、１つ又はそれ以上の金属層（たとえば、１つ又はそれ以上の反射及び／又は導電層）の上に配置されるサブ層１６ｂのような、隔離又は絶縁層であることができる。加えて、光学スタック１６は、ディスプレイの行を形成する個々の平行なストリップにパターン化されることができる。
【００４９】
処理８０は、光学スタック１６の上で犠牲層２５の構成を用いてブロック８４で継続する。犠牲層２５は、くぼみ１９を形成するために後に取り除かれ（たとえば、ブロック９０で）、したがって、犠牲層２５は、図１において示される結果として生じる分岐干渉変調器において示されない。図８Ｂは、光学スタック１６の上に形成される犠牲層２５を含む部分的に作成される機器を示す。光学スタック１６の上の犠牲層２５の構成は、所望の設計サイズを持つギャップ又はくぼみ１９（図１及び８Ｅも参照）を後の除去の後に供給するために選択される厚さにおいて、モリブデン（Ｍｏ）又はアモルファスシリコン（Ｓｉ）のような二フッ化キセノン（ＸｅＦ２）エッチアブル材料の堆積を含み得る。犠牲層の堆積は、物理気相成長（ＰＶＤ、たとえば、スパッタリング）、プラズマ促進化学気相成長（ＰＥＣＶＤ）、サーマル化学気相成長（サーマルＣＶＤ）、又は遠心被覆のような堆積技術を使用して実行され得る。
【００５０】
処理８０は、支持構造、たとえば、図１、６及び８Ｃにおいて示されるようなポスト１８、の構成によりブロック８６で継続する。ポスト１８の構成は、支持構造の隙間を形成するため犠牲層２５をパターン化すること、そのときＰＶＤ、ＰＥＣＶＤ、サーマルＣＶＤ又は遠心被覆のような堆積技術を使用して、ポスト１８を形成するため隙間に材料（たとえば、ポリマー又は無機材料、たとえば、酸化ケイ素）を堆積することを含み得る。いくつかの実施形態において、犠牲層において形成される支持構造の隙間は、犠牲層２５と光学スタック２０との両者を通じて基礎基板へ広がることができ、そのためポスト１８のより下端は、図６Ａにおいて示されるように基板２０に接触する。あるいはまた、図８Ｃにおいて描かれるように、犠牲層２５において形成される隙間は、光学スタック１６でなく犠牲層２５を通じて広がることができる。たとえば、図８Ｅは、光学スタック１６のより上方の表面と接触している支持ポスト１８の下端を示す。ポスト１８又は他の支持構造は、犠牲層２５上に支持構造材料の層を堆積させることと犠牲層２５において隙間から離れて配置される支持構造材料の一部をパターン化することとによって形成され得る。支持構造は、図８Ｃにおいて示されるように、隙間内に配置され得、しかしまた、犠牲層２５の一部上に、少なくとも部分的に、広がることができる。上に示されるように、犠牲層２５及び／又は支持ポスト１８のパターン化は、パターン化又はエッチング処理によって実行されることができ、しかしまた、代わりのエッチング方法によって実行され得る。
【００５１】
処理８０は、図１、６及び８Ｄにおいて示される移動可能な反射層１４のような移動可能な反射層又は膜の構成によりブロック８８で継続する。移動可能な反射層１４は、１つ又はそれ以上のパターン化、マスキング及び／又はエッチングステップに加えて、１つ又はそれ以上の堆積ステップ、たとえば、反射層（たとえば、アルミニウム、又はアルミニウム化合物）堆積、を用いることによって形成され得る。移動可能な反射層１４は、電気的に伝導であって、電気的伝導層と呼ばれることができる。いくつかの実施形態において、移動可能な反射層１４は、図８Ｄにおいて示されるような複数のサブ層１４ａ、１４ｂ、１４ｃを含み得る。いくつかの実施形態において、サブ層１４ａ、１４ｃのよう、１つ又はそれ以上のサブ層は、それらの光学プロパティのために選択される高反射サブ層を含み得、他のサブ層１４ｂは、その機械的プロパティのために選択される機械的サブ層を含み得る。犠牲層２５がブロック８８で形成される部分的に製造される分岐干渉変調器においてまだ存在するので、移動可能な反射層１４は、このステージで一般的に移動可能でない。犠牲層２５を含む部分的に製造されるＩＭＯＤはまた、「非放出」ＩＭＯＤと本文中では呼ばれ得る。図１に関連して上に記述されるように、移動可能な反射層１４は、ディスプレイの列を形成する個々の平行なストリップへパターン化されることができる。
【００５２】
処理８０は、くぼみ、たとえば、図１、６及び８Ｅにおいて示されるようなくぼみ１９の構成によりブロック９０で継続する。くぼみ１９は、エッチング液へ犠牲材料２５（ブロック８４で堆積される）をさらすことによって形成され得る。たとえば、Ｍｏ又は非結晶ケイ素のようなエッチアブル犠牲材料は、ドライ化学的エッチングによって、たとえば、くぼみ１９を囲む構造との関連で一般的に選択的に取り除かれる、材料の所望の量を取り除くために効果的な期間に固形のＸｅＦ２から運ばれる気体のような、ガス状又は気体のようなエッチング液に犠牲層２５をさらすことによって、取り除かれ得る。他のエッチング方法、たとえば、ウェットエッチング及び／又はプラズマエッチング、はまた、使用され得る。犠牲層２５がブロック９０の間に取り除かれるので、移動可能な反射層１４は、このステージの後に一般的に移動可能である。犠牲材料の除去の後に、生じる完全に又は部分的に製造されるＩＭＯＤは、「放出」ＩＭＯＤと本文中で呼ばれ得る。
【００５３】
本文中で記述されるように、分岐干渉変調器は、反射表示要素として機能し得、いくつかの実施形態において、それらの動作のために周囲の光又は内部の照明を使用し得る。これらの実施形態のいくつかにおいて、照明源は、表示要素の前方に配置される光ガイド内へ光を向け、ここで、光は、その後は、照明要素へ再度向けられ得る。光ガイド内の光の分布は、光表示要素の輝度の均一さを決定するだろう。光ガイド内の光が均一でない分布又は強烈なプロフィールを持つ場合、光ガイドがディスプレイを照らすために適用される場合に、それは、光ガイド内でより暗い及びより明るい領域とその結果表示要素の乏しい照明を生成し得る。
【００５４】
図９Ａは、不均一な光分布を促進することができる光ガイド１０１０のトップダウンビューの例を示す。離れて配置される光エミッタ１０２０ａ及び１０３０ａの２つのアレイ１０２０及び１０３０は、光ガイド１０１０の逆の光入力端１０２２及び１０３２内に光を導入するように構成される。光ガイド１０１０はまた、光入力端１０２２及び１０３２へ横断するエッジ１０４０及び１０５０を持つ。光ガイド１０１０及び光エミッタアレイ１０２０並びに１０３０は、ディスプレイ（図視されない）を照らすために利用されることができる照明システムを形成する。ディスプレイは、ピクセルがイメージを形成するためにある活動エリアを持つことができる。活動エリアは、図９Ａにおいて数字１０６０によって表される。光ガイド１０１０内の光は、活動エリア１０６０を照らすために光ガイドの外側へ排除されることができる。
【００５５】
光ガイド１０１０が光分布における様々な不均一によって苦しめられることは、知られている。図９Ｂは、不均一な光分布を持つ光ガイドのトップダウンビューの写真の例である。外径端１０４０及び１０５０の隣に、交互になる多い及び少ない光量の縞は、見られることができる。光入力端１０２２及び１０３２の隣に、クロスハッチパターンは、少ない量の光によって分離される多い光量の四角と一緒に見られることができる。加えて、Ｘ型の暗いパターンは、光ガイドの角から光ガイド１０１０を横切って対角線上に広がって見られることができる。理論によって限定されることなく、発明者は、何がこれら不均一を生じさせると信じられているかを特定している。いくつかの実施形態において、これら不均一は、減少され又は除去される。
【００５６】
不均一の様々なあり得る原因は、最初に議論される。図９Ａと９Ｂに継続して関連して、光ガイド１０１０は、材料のより大きなシートから形成され得る。たとえば、より大きなシートは、所望の寸法を持つ光ガイド１０１０を形成するため、ダイアモンドホイールを用いて、又は、材料に線を付けること及び切断することによって、カットされ得る。これら及び同様な方法によって形成されるエッジが、粗く、ピークと谷とを有する不均一なエッジを残すことができることは、知られている。
【００５７】
図１０Ａは、ダイアモンドホイールを用いるカットによって形成される光ガイド端の例の写真を示す。特に、横端１０５０は、示される。横端１０５０は、カッティングホイールのカッティング動作によって原因とされるように信じられる対角縞を定義するピーク及び谷を持つ。これらの縞は、光を反射する場合にアーティファクトの原因となることができる。
【００５８】
図１０Ｂと関連して、図１０Ａの光ガイド１０１０のセクションのトップダウンビューの写真の例は示される。光エミッタ１０２０ａは、光ガイド１０１０の光入力端１０２２内に光を導入する。横端１０５０は、光を不均一に反射し得るピーク及び谷（図１０Ａ）を持つ。たとえば、各ピークは、光エミッタ１０２０ａに向き光エミッタからの光を反射するサイドを持ち得るが、ピークの逆のサイドは、ピークの陰にあり、より少ない光を反射し得る。横端１０５０の不均一さの正味の効果は、図１０Ｂにおいて示される。光エミッタ１０２０ａによって導入される光は、光ガイド１０１０を横切って広がり、横端１０５０へ接触する。横端１０５０における不均一さは、光が不均一に反射されることの原因となる。不均一な光分布は、多い及び少ない光量の交互にある領域によって定義される反射される光の縞として容易に見られることができる。
【００５９】
横端１０５０からの反射によって生じる不均一に加えて、暗いＸ型の光パターンは、光ガイド１０１０の全体を横切って存在し得る。図１１は、光ガイドの１つのサイドの光量のパイロットに加えて、図１０Ｂの光ガイドの全体のトップダウンビューの写真の例を示す。「Ｘ」の先端は、光ガイド１０１０の角にある。理論によって限定されることなく、Ｘ型の暗い領域が、横端１０４０及び１０５０の関連で光エミッタ１０２０ａ及び１０３０ａの位置によって生じさせされることは、信じられている。いくつかの取り決めにおいて、図９Ａに再度関連して、光ガイド１０１０は、活動エリア１０６０より大きくなり得、ここでそれは、光入力端１０３２及び／又は１０２２と並ぶ寸法１０６２を持つ。光エミッタ１０２０ａ及び１０３０ａからの光が活動エリア１０６０を照らすために簡単に使用されるので、光エミッタ１０２０ａ及び１０３０ａは、活動エリア１０６０の角と並び得るが、寸法１０６２より大きな長さ１０３４を横切って広がらないこともあり得る。この配置は、光ガイド１０１０の角で暗い領域の原因となる。活動エリア１０６０が光ガイド１０１０のこれらの角へ広がらないこともあり得ることは、注意される。しかしながら、暗い領域が、図１１において見られるように、角でのみに場所を限定されないことは、知られている。むしろ、横端１０４０及び１０５０から反射される光を用いて光エミッタアレイ１０２０及び１０３０から発せられる光の相互作用は、この暗い領域を、光ガイド１０１０を横切って対角線状に広げさせる。
【００６０】
加えて、図１１に関連して、光入力端１０２２及び１０３２の隣の光量は、多い光量の領域が少ない光量の領域によって分割されるクロスパッチパターンを展開し得る。光エミッタ１０２０ａ及び１０３０ａが離れて配置され光エミッタ１０２０及び１０３０のアレイへ標準の最も大きい量で光を発するので、より少ない光は、光エミッタ１０２０ａと１０３０ａとの間に直接、光ガイド１０１０の領域内へ導入される。これは、高い及び低い輝度のその交互にある領域により、クロスハッチ効果の生成に寄与する。光ガイド１０１０へ入った後に、光は、光エミッタ１０２０ａ及び１０３０ａからの距離により自然に広がり得る。結果として、クロスハッチ効果は、光エミッタ１０２０ａ及び１０３０ａに直接隣接する領域において最も多く宣言される。
【００６１】
様々な実施形態において、本文中に議論される様々な光分布の不均一に取り組むことができる。
【００６２】
いくつかの実施形態において、光ガイドは、鏡面反射板として動作する滑らかな横端を供給される。鏡面反射板は、いくつかの実施形態において可視波長での光の鏡面反射板を供給することができ、この反射は、いくつかの実施形態において全反射によって生じることができる。図１２は、滑らかな横端１２０及び１３０を備える光ガイド１００を持つ照明システムのトップダウンビューの写真の例を示す。光は、光エミッタアレイ１１０によって光ガイド１００内へ導入され、それは、複数の光エミッタ１１０ａを含む。光エミッタ１１０ａは、光入力表面１１２を通じて光ガイド１００内に光を導入する。光エミッタ１１０ａは、均一に間隔をあけて配置され、ΔＬのピッチを持つ。図１２において示されるように、光エミッタのピッチは、隣接する光エミッタ上の個々のポイント間の距離である。横端１２０及び１３０は、光入力表面の横方向にある光ガイド１００のサイドを定義する。示されるように、これら端のそれぞれは、平面であって、異なる水平面において広がることができる。横端１２０及び１３０の１つ又は両者は、滑らかであって、鏡面反射板として機能する。反射は、いくつかの実施形態において全反射（ＴＩＲ）によって生じ得る。いくつかの実施形態において、横端１２０及び１３０は、光ガイド１００の、光入力端１１２と比較して、より長い寸法である。いくつかの他の実施形態において、横端１２０及び１３０は、光入力端１１２と比較して、より短い寸法であり得る。
【００６３】
図１２を継続して関連して、光ガイド１００は、光学的に透明な材料の１つ又はそれ以上の層により形成されることができる。材料の例は、次の、アクリル、アクリエートコポリマ、紫外線硬化樹脂、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマ、ポリマ、有機物、無機物、ケイ酸塩、アルミナ、サファイア、ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）、ポリエチレンテレフタレートグリコール（ＰＥＴ−Ｇ）、オキシ窒化ケイ素、及び／又は、他の光学的に透明な材料を含む。いくつかの他の実施形態において、光学的に透明な材料は、ガラスである。
【００６４】
光エミッタ１１０ａは、限定ではなく、発光ダイオード（ＬＥＤ）、電球、レーザ、蛍光灯、又は、光エミッタの任意の他の形式のような発光機器であり得ある。いくつかの他の実施形態において、光入力端１１２の大部分に沿って広がる光バーの形式における単一の信号光エミッタ１１０ａ。ある実施形態において、光が全反射（ＴＩＲ）によって光ガイド１００内に反射するように、光の一部が光ガイド１００の主要表面１１０ａと比較して低度の各で光ガイド１００の少なくとも一部を横切る方向において広がるように、光エミッタ１１０ａからの光は、光ガイド１００内へ導入される。
【００６５】
図１２に継続して関連して、横端１２０及び／又は１３０は、滑らかな表面を結果として生じる処理によって形成され得る。いくつかの実施形態において、横端１２０及び／又は１３０の表面は、滑らかで、鏡面反射板として機能し得る。滑らかな表面は、横端１２０及び／又は１３０が定義されるように形成され得、又は、端１２０及び１３０を定義した後の処理によって形成され得る。たとえば、横端１２０及び／又は１３０は、レーザカッティングによって定義されるレーザカット端であり得、ここで、レーザは、その端を形成するために材料を通じて（たとえば、材料を溶かすことによって）完全にカットする。いくつかの他の実施形態において、横端１２０及び／又は１３０は、カッティングホイール又は材料の１つに線を付けること及び切断することによるカッティングであって、ここで、それは、粗い又は不均一な表面を残し得るカッティングのような、任意の方法によって形成され得る。粗い又は不均一な表面は、そのとき、研ぐこと、又は、細かい砂を用いる研磨及び／又は表面を磨くことのような、滑らかにする処理を受ける必要があり得る。
【００６６】
横端１２０及び／又は、いくつかの実施形態において、約０．１ｍｍ若しくはそれ以上、約０．５ｍｍ若しくはそれ以上、約１ｍｍ若しくはそれ以上、約５ｍｍ若しくはそれ以上、又は約１０ｍｍ又はそれ以上の横端の途切れない長さで鏡面反射を供給する。鏡面反射のそのようなレベルは、横端の全体で存在し得る。いくつかの実施形態において、横端１２０及び／又は１３０は、それらの長さの大体全体で鏡面反射板として機能する。
【００６７】
いくつかの実施形態において、横端は、横端の長さに沿う完全に歪曲していない（可視光の）反射からの低い誤差（minor deviations）を持つ間に、鏡面反射板として機能し得る。たとえば、横端の長さを横切る１ｃｍの長さで、全体としてこれらの誤差は、約１ｍｍを超えない、約０．０５ｍｍを超えない、約０．０３ｍｍを超えない、約０．０２ｍｍを超えない、又は約０．０１を超えない距離をカバーし得る。いくつかの実施形態において、完全に歪まない反射からの誤差によって生じる個々の光の縞の幅は、約１ｍｍを超えない、約０．０５ｍｍを超えない、約０．０３ｍｍを超えない、約０．０２ｍｍを超えない、又は約０．０１ｍｍを超えない。
【００６８】
鏡面反射を供給する横端は、滑らかな外観を持ち得る。図１３Ａは、レーザカッティングによって形成される光ガイドの端の写真の例を示す。光ガイド１００の横端１３０は、その端の均一な外観で明らかなように、非常に滑らかである。
【００６９】
横端１３０は、不均一な表面によって生じる反射アーティファクトを減少させるために鏡面反射板として機能する。図１３Ｂは、図１３Ａにおいてまた示されるような光ガイド１００のセクションのトップダウンビューの写真の例を示す。光エミッタ１１０ａからの光は、光入力表面１１２を通じて光ガイド１００内へ導入される。光は、光ガイド１００を通じて広がり、横端１３０に影響を及ぼし、ここで、それは、反射される。横端１３０に影響を及ぼす光の均一によって決定される均一の角度により、横端１３０は、鏡面反射板として作用し、反射される光は、非常に均一である。いくつかの実施形態において、反射される光の均一さは、横端１３０に影響を与える光の均一さと相当にマッチする。図１０Ｂにおいて示される不均一な端１０５０と比較すると、横端１３０から離れる反射によって生じるアーティファクトは、観測されない。多い又は少ない量の光の縞は、明確でない。したがって、滑らかな横端１３０は、不均一な表面から離れる反射によって生じる光の部鵜ぷにおいてアーティファクト及び不均一さを減少させ、又は、除去する。
【００７０】
加えて、横端がまた、その端に沿って「仮想の」光エミッタを供給することによって均一さを上昇させることができることは、信じられる。アレイ１１０の光エミッタ１１０ａは、離れて配置され、これらの光エミッタのイメージは、横端１２０及び／又は１３０に沿って異なる位置で反射される（図１２）。当業者は、光がこれら反射されるイメージのそれぞれから広がり、それなりに、反射されるイメージが離れて配置される「仮想の」光エミッタ自身として機能することを認識するだろう。これは、光ガイド周辺の光エミッタの明確な数を上昇させ、それにより光ガイド１００内の光分布の均一さを改善する影響を持つことができる。
【００７１】
図１４に関連して、実際の光エミッタは、光ガイド１００の多数のサイドに位置されることができる。図１４Ａは、多数の光エミッタアレイを持つ光ガイド１００の例を示す。アレイ１１０は、光入力端１１２にあり、光エミッタ１４０ａの第２アレイ１４０は、逆にある光入力端１４２にある。光エミッタ１４０ａは、ピッチΔＬを持ち、ここでそれは、光エミッタ１１０ａの隣接するものの間の分離として同一の値であることができ、又は、異なる値であり得る（たとえば、光ガイド１００の各サイド上の光エミッタの数が異なり、そのとき各サイドの光エミッタ間の分離が異なり得る）。横端１２０及び１３０は、端１１２及び１４２の間の線にそってそれぞれ拡張し得る。横端１２０及び１３０は、距離１５０によって離れて配置され得、ここでそれはまた、いくつかの実施形態において端１１２及び１４２の長さであり得、又は、光ガイド１００の角が曲げられ若しくは端１１２及び１４２へ先細りになる実施形態において端１１２及び１４２の長さよりも長くなり得る。いくつかの他の実施形態において、光入力端１１２及び１４２の長さは、異なり得る。
【００７２】
光エミッタ１１０ａ及び１４０ａの間隔及び配置が光ガイド１００内の光分布の均一さに影響を与えることができることは、知られている。図１４Ｂに関連して、光ガイド１００は、ディスプレイ２００を照らすために使用され得る。図１４Ｂは、図１４Ａの光ガイド１００を組み込む表示システムの側断面の例を示す。示されるように、ディスプレイ２００は、光ガイド１００より下に供給され得る。そのような実施形態において、光ガイド１００は、前灯の一部であり、ディスプレイ２００の前に配置され、ディスプレイ２００よりも見る人２０２に近い。光ガイド１００は、光ガイド１００内に広がる光を曲げる複数の光変更特性により供給されることができるので、光は、ディスプレイ２００へ光ガイドの外側に向けられる。光変更特性１０２は、限定でなく、プリズム反射特性、回折特性（たとえば、フォログラフィ特性又は回折格子）又はそれらの組み合わせであり得る。
【００７３】
示されるように、光エミッタ１１０ａ及び１４０ａからの光線１１４及び１４４は、光ガイド１００内へ導入され、光ガイド１００を通じて広がり、及び、そのとき光変更特性１０２によって光ガイド１００の主要な表面の外側に排出されることができる。排出される光線１１４及び１４４は、底にあるディスプレイ２００を照らし、ここでそれは、見る人２０２へ光ガイド１００を通じて光を後方へ反射する反射ディスプレイであることができる。ディスプレイ２００は、分岐干渉変調器１２のような反射表示要素を持つことができる（図１）。他の実施形態において、光ガイド１００は、ディスプレイ２００の背後に配置され、バックライトの一部であり得る。そのような実施形態において、ディスプレイ２００は、液晶ディスプレイのような、透明なディスプレイであり得る。
【００７４】
図１４Ｂに継続して関連して、光エミッタ１１０ａ及び１４０ａは、それぞれ、光が外側に発せられる面１１１及び１４１を持つ。面１１１及び１４１は、光ガイドの厚い寸法と同一の軸において広がる高さ、又は光入力端１４２の幅をそれぞれ持つ。いくつかの実施形態において、面１１１及び１４１の高さは、光入力端１４２の幅とおおよそ同じか又はより大きく、又は光ガイド１００の厚さである。
【００７５】
図１４Ａ及び１４Ｂの両者に関連して、ディスプレイ２００のピクセルは、活動エリアと呼ばれるエリアを占有することができる。活動エリアは、イメージが見る人２０２へ表示されるディスプレイ２００の一部である。いくつかの実施形態において、図１４Ａに関連して、参照番号１６０によって表される活動エリアは、光ガイド１００の主要な表面１００ａによって占有されるエリアよりも小さい。たとえば、活動エリア１６０は、整列され光入力端１４２に直接面する寸法１６２を持ち得る。加えて、寸法１６２は、横端１２０及び１３０を分離する距離１５０よりも短くあり得る。本文中に注意されるように、光エミッタ１１０ａ及び１４０ａのピットとアレイ１１０及び１４０によってカバーされる距離とが、活動エリア１６０の寸法に依存して選択されるべきであることは信じられている。たとえば、光ガイド１００の全体を通じて照らされ広がる活動エリア１６０が活動エリア１６０を照らすことを必要としないので、光エミッタ１４０ａの位置が、整列され光ガイド端１４２に最も近い活動エリア１６０の寸法１６２に基づいて選択されるべきであることは、信じられている。しかしながら、そのような設計ルールが光ガイド１００を横切るＸ型光パターンの原因となることは、信じられている。
【００７６】
いくつかの実施形態において、光エミッタ１１０ａ並びに１４０ａの間隔と活動エリア１６２の寸法上のアレイ１１０並びに１４０によってカバーされる距離とのパラメータに基づくよりむしろ、これらのパラメータは、反射横端１２０及び１３０の間の距離１５０によって決定される。たとえば、アレイ１４０及び光エミッタ１４０ａに関して、光エミッタのピッチは、距離１５０によって決定される。いくつかの実施形態において、光エミッタ１４０ａと最も近い横端１２０又は１３０との間の距離は、光エミッタ１４０ａのピッチの半分を超えない。いくつかの実施形態において、アレイ１１０及び１４０は、それぞれ、対応する光入力端１１２及び１４２に沿って中心に配置され、光エミッタ１１０ａ及び１４０ａは、次の公式によって決定さえるピッチΔＬを持つ：
【数３】
2014503108.tif 000005
【００７７】
ここで、ΔＬは、隣接する光エミッタの個々のポイント間の距離であり、Ｌｌｉｇｈｔ  ｇｕｉｄｅは、光ガイドの横端間の距離であり、Ｎｌｉｇｈｔ  ｅｍｉｔｔｅｒｓは、光エミッタのアレイにおける光エミッタの番号である。
【００７８】
光エミッタアレイが活動エリア寸法１６２よりも長い距離をカバーするように、ピッチΔＬで光エミッタを配置することと光入力端に沿って光エミッタを中心に配置することは、活動エリアを超えて広がる光エミッタを結果として生じることができる。いくつかの実施形態において、Ｌｌｉｇｈｔ  ｇｕｉｄｅは、ピッチΔＬが計算されている光入力端での光ガイドの横端間の距離である。
【００７９】
図１５は、いくつかの実施形態にしたがって配置される光エミッタを持つ光ガイドのトップダウンビューの写真の例である。アレイ１１０及び１４０は、それら対応する光入力端１１２及び１４２に沿って中心に配置され、光エミッタ１１０ａ及び１４０ａは、ΔＬに関する上記の公式にしたがって配置される。光エミッタが活動エリア寸法に基づいて選択された、図１１のＸ型パターンが相当に除去されていることは、確かめられている。加えて、図１５の光ガイド１００は、滑らかな横端１２０及び１３０を持つ。写真において見られるように、それらの端に隣接した光分布はまた、非常に均一である。
【００８０】
いくつかの実施形態において、横端の長さから離れて反射する光の量プロフィールがその端に当たる光の量プロフィールに相当にマッチするように、横端１２０及び／又は１３０は、それらの端に当たる光の量プロフィールを保存することができる。たとえば、横端の長さに沿って任意の与えられるポイントで反射される光の量は、そのポイントで端に当たる光の量から、約５％を超えない、約２％を超えない、又は、約１％を超えない差異を持ち得る。
【００８１】
図１５に継続して関連して、クロスハッチパターンは、光入力端１１２及び１４２の近くにまだ観測され得る。図１６に関連して、光学的に拡散する光入力端を持つ又は持たない光ガイドを示す写真の例は、示される。クロスハッチパターンが光学的に拡散する表面を形成するために光入力端１１２及び／又は１４２を扱うことによって減少され又は除去されることができることは、知られている。光入力端を扱うことは、光入力表面自身の物理的構造又はトポロジーを変化させること、たとえば、表面を粗くすること、及び／又は、光拡散コーティング若しくは材料の層、又は粘着される光拡散構造を含む、その表面への追加の構造を追加することを含み得る。
【００８２】
光入力端の粗くされる表面はまた、つや消し表面と呼ばれ得る。いくつかの実施形態において、光入力端１１２及び／１４２は、それらの端の１つ又はそれ以上から材料を取り除き、それによってつや消し表面を形成するための摩耗又は他の処理を受けさせられ得る。光入力表面１２２を摩耗するための処理の例は、研磨粒子を持つ紙やすり又は他の材料を用いて表面をこすること、光入力表面上に研磨粒子を置くこと、光入力表面を化学エッチングすること、及びそれらの組み合わせを含む。
【００８３】
いくつかの実施形態において、光入力表面１２２を磨くことは、約２２０若しくはそれ以上、約２８０−６００、約２８０−５００、又は約３６０−４００のグリッド数を持つ、研磨道具、たとえば、紙やすり、を使用して達成される。いくつかの適用において、約２８０−５００又は訳３６０−４００のグリッド数は、輝度の高いレベルを維持する間、クロスハッチ効果を減少させるための格別の利点を供給する。いくつかの実施形態において、つや消し表面１４０は、訳０．５μｍ、約０．７−２μｍ、約０．８−１．５μｍ、又は、約０．８−１．２μｍの表面粗度Ｒａを持つ。いくつかの適用において、約０．８−１．５μｍ、又は約０．８−１．２μｍの表面粗度Ｒａは、優れた輝度レベルを持つ照明機器を供給する間にクロスハッチ効果における減少を可能にする。いくつかの実施形態において、現在のつや消し表面を持たないことと比べると、輝度における減少は、約２０％を下回り、又は、約１０％を下回る。
【００８４】
図１６に継続して関連して、下左手側の写真は、図１５の写真と同一であり、クロスハッチパターンを示す。図１６の上右手角の写真は、光入力表面１１２がつや消し表面を形成するために扱われる別の同一の光ガイド１００のセクションを示す。クロスハッチパターンが、相当に除去されており、かなり均一な光量プロフィールが達成されることは、知られることができる。加えて、Ｘ型のパターン、及び不均一な横端によって生じさせられる光の縞はまた、帆文中に示されるように、相当に除去される。
【００８５】
図１７Ａ及び１７Ｂに関連して、いくつかの実施形態において、横端１２０及び１３０は、それぞれ補助反射板１７０により供給されることができる。図１７Ａは、空間ギャップによって光ガイドから離れて配置される補助反射板を持つ表示システムのサイドビューの例を示す。図１７Ｂは、固形の材料、たとえば、接着剤、の層によって光ガイドから離れて配置される補助反射板を持つ表示システムのサイドビューの例を示す。
【００８６】
横端１２０及び１３０での反射板が全反射によって占められるので、臨界角よりも低い角度でこれらの端に影響を及ぼす光は、それらが光ガイドの外側に広がる場合に、反射されないだろうし、失われるだろう。この光を再度キャプチャするため、補助反射板１７０及び１８０の１つ又は両者は、光ガイド内に戻って光ガイド１００から逃げる光を反射するために供給されることができる。補助反射板１７０及び１８０は、鏡面反射板であり得、金属的なフィルム、金属シート（たとえば、打ち抜き板金）及び絶縁スタックフィルム（ＥＳＲ）を含む、様々な形式を取り得る。
【００８７】
横端１２０及び１３０でＴＩＲを容易にするために、空間ギャップ１７２及び１８２は、図１７Ａにおいて示されるように、補助反射板１７０及び１８０と、相当する横端１２０及び１３０と、の間に供給される。空間ギャップ１７２及び１８２は、光ガイド１００のより高い屈折率の材料と比較して、より低い屈折率の媒体を供給し、それにより横端１２０及び１３０でＴＩＲを容易にする。
【００８８】
図１７Ｂに関連して、固形の材料１７４の層は、横端１２０及び１３０と補助反射板１７０及び１８０との間に配置される。いくつかの実施形態において、層１７４及び１８４は、補助反射板１７０及び１８０をそれらそれぞれの横端１２０及び１３０に接着する接着層であり得る。層１７４及び１８４は、ＴＩＲを容易にするために光ガイド１００よりも低い屈折率を持ち得る。いくつかの実施形態において、層１７４及び１８４の屈折率は、約０．０５若しくはそれ以上、又は、約０．１０若しくはそれ以上による光ガイドの屈折率よりも低くあり得る。
【００８９】
いくつかの実施形態において、層１７４及び１８４は、率がマッチするか、又は、光ガイド１００よりも高い屈折率を持つ。そのような実施形態において、ＴＩＲは、横端１２０及び１３０で生じえないこともあり得る。むしろ、光は、光ガイド１００の外に広がり、補助反射板１７０及び１８０に影響を及ぼすことによって反射される。光がこれらの実施形態において横端１２０及び１３０によって反射されないので、横端１２０及び１３０は、不均一であり得、滑らかでないこともあり得る。むしろ、補助反射板１７０及び１８０は、いくつかの実施形態において、横端１２０及び１３０に沿って単独の鏡面反射板として機能し得る。
【００９０】
いくつかの他の実施形態において、補助反射板１７０及び１８０は、横端１２０及び１３０から離れて配置されない。むしろ、補助反射板１７０及び１８０は、それら端１２０及び１３０上に直接配置される。たとえば、補助反射板１７０及び１８０は、端１２０及び１３０上に直接配置される金属層であり得る。
【００９１】
図１７Ａ及び１７Ｂに継続して関連して、光ガイド１００及び光エミッタ１１０ａ及び１４２ａを持つ照明システムは、ディスプレイを照らすために表示システム内に統合されることができる。たとえば、照明システムは、ディスプレイ２００を持つスタックにおいて統合されることができる。照明システムが前灯であるスタックはまた、光ガイド１００の上に横たわる表板（superstrate）２１０を含むことができる。表板２１０は、さまざまな機能を供給する機能的な構造であることができ、たとえば、アンチグレア層、耐引っ掻き層、耐指紋層、タッチパネル、光学フィルタ層、光拡散層及びそれらの組み合わせを含むことができる。材料の１つ又はそれ以上の層は、光ガイド１００とディスプレイ２００及び表板２１０との間にあることができる。たとえば、層２２０は、ディスプレイ２００と光ガイド１００とを分離することができ、層２３０は、表板２１０と光ガイド１００とを分離することができる。いくつかの実施形態において、層２２０及び／又は２３０は、接着層である。いくつかの実施形態において、層２２０及び／又は２３０は、光ガイド１００より低い屈折率を持つ外装層であり得る。より低い屈折率は、光ガイド１００内のＴＩＲを容易にし、それにより光ガイド１００を横切る光の広がりを促進する。いくつかの実施形態において、層２２０及び２３０の屈折率は、約０．０５若しくはそれ以上、約０．１０若しくはそれ以上による光ガイド１００の屈折率よりも低くあり得る。いくつかの他の実施形態において、ディスプレイ２００及び表板２１０自身は、外装層として機能し、約０．０５若しくはそれ以上、又は、約０．１０若しくはそれ以上による光ガイド１００の屈折率よりも低い屈折率を持つ材料の層を供給する。
【００９２】
図１８Ａ及び１８Ｂに関して、表示システムスタックにおける様々な他の構造は、補助反射板１７０及び１８０を取り付けるための表面を供給することができる。たとえば、補助反射板１７０及び１８０は、光ガイド１００を超えて突き出る表板２１０のような、構造を取り付けられ得る。図１８Ａは、表板へ取り付けられる補助反射板を持つ表示システムのクロスセクションの例を示す。いくつかの他の実施形態において、補助反射板１７０及び１８０は、光ガイド１００自身に取り付けられる。図１８Ｂは、光ガイドに取り付けられる補助反射板を持つ表示システムのクロスセクションの例を示す。
【００９３】
図１９に今関連して、照明システムを製造する方法の例を示すブロック図が示される。鏡面反射板である光学端を持つ光ガイドは、供給される３００。光エミッタは、光ガイドの光入力端で供給される３１０。光学端は、光入力端の横方向にある光ガイドの端であることができる。光学端は、横端に沿って少なくとも約５ｍｍの継続する距離で鏡面反射を供給し得る。
【００９４】
光学端は、レーザカッティング及び、不均一な表面を持つ光ガイド端を形成しそのとき表面を滑らかにすること（たとえば、端を削り及び／又は磨くことによって）を含む、様々な処理によって形成されることができる。たとえば、不均一な表面は、カッティングホイールを用いるカッティング、又は、材料の一部に刻み目を付け折ることによって形成され得る。
【００９５】
いくつかの実施形態において、鏡面反射板は、光ガイドの横端に隣接する鏡面反射板を取り付けることによって供給される。アタッチメントは、横端に直接鏡面反射板にくっつくことによって作られ得る。いくつかの他の実施形態において、空間ギャップは、横端から鏡面反射板を分離する。
【００９６】
光エミッタを供給することは、光入力端に隣接する光エミッタを取り付けることを含み得る。光エミッタを取り付けることは、光入力端に沿って中心に配置される複数の光エミッタを取り付けることを含むことができる。光エミッタは、約ΔＬのピッチで離れて配置されることができ、ここで、
【数４】
2014503108.tif 000006
【００９７】
ここで、ΔＬは、隣接する光エミッタの個々の位置の間の距離であり、Ｌｌｉｇｈｔ  ｇｕｉｄｅは、光ガイドの横端間の距離であり、Ｎｌｉｇｈｔ  ｅｍｉｔｔｅｒｓは、光エミッタのアレイにおける光エミッタの数である。
【００９８】
光エミッタは、光エミッタを光源に化学的に取り付けること（たとえば、接着によって）又は、留め金具を使用して光源を機械的に取り付けることを含む、様々な方法によって光ガイドに取り付けられることができる。
【００９９】
光入力端は、光学的拡散表面を形成するために粗くされ得る。粗くすることは、サンドペーパ上のそれらのような、研磨粒との接触による研磨を含む、本文中に記述される様々な方法によって生じ得る。粒の動作の方向は、様々な報告において進み得る。いくつかの実施形態において、研磨粒の動作は、相当に、光入力端の短い寸法の方向で（たとえば、光ガイドの薄い寸法の方法で）あり、ここでそれは、光入力端の長い寸法に沿う粒の動作よりもより均一な光分散を与えることができる。
【０１００】
図２０Ａ及び２０Ｂは、複数の分岐干渉変調器を含む表示機器４０を示すシステムブロック図の例を示す。たとえば、表示機器４０は、セルラ又はモバイルテレフォンであることができる。しかしながら、表示機器４０のコンポーネント又はそれのわずかな変化はまた、テレビ、イーリーダ及びポータブルメディアプレイヤのような様々なタイプの表示機器の例である。
【０１０１】
表示機器４０は、覆い４１、ディスプレイ３０、アンテナ４３、スピーカ４５、入力機器４８及びマイクロフォン４６を含む。覆い４１は、射出形成及び真空形成を含む、任意の様々な製造処理から形成されることができる。加えて、覆い４１は、限定ではなく、プラスチック、金属、ガラス、ゴム及びセラミック又はそれらの組み合わせを含む、任意の様々な材料から作られ得る。覆い４１は、異なる色又は異なるロゴ、絵、若しくはシンボルを含む他の取り外し可能な部分と交換され得る取り外し可能な部分（図視されない）を含むことができる。
【０１０２】
ディスプレイ３０は、本文中に記述されるように、双安定又はアナログディスプレイを含む、任意の様々なディスプレイであり得る。ディスプレイ３０はまた、プラズマ、ＥＬ、ＯＬＥＤ、ＳＴＮ  ＬＣＤ若しくはＴＦＴ  ＬＣＤのようなフラットパネルディスプレイ、又は、ＣＲＴ又は他のチューブ機器のような非フラットパネルディスプレイを含むように構成されることができる。加えて、ディスプレイ３０は、本文中に記述されるように、分岐干渉変調器を含むことができる。
【０１０３】
表示機器４０のコンポーネントは、図２１Ｂにおいて概略的に示される。表示機器４０は、覆い４１を含み、その中に少なくとも部分的に封入される追加のコンポーネントを含むことができる。たとえば、表示機器４０は、トランシーバ４７に接続されるアンテナ４３を含むネットワークインターフェース２７を含む。トランシーバ４７は、プロセッサ２１に接続され、ここでそれは、調整ハードウェア５２に接続される。調整ハードウェア５２は、信号を調節する（たとえば、信号をフィルタ処理する）ように構成され得る。調整ハードウェア５２は、スピーカ４５及びマイクロフォン４６に接続される。プロセッサ２１はまた、入力機器４８及びドライバコントローラ２９に接続される。ドライバコントローラ２９は、フレームバッファ２８に及びアンテナドライバ２２に接続され、ここでそれは、表示アレイ３０に順々に接続される。電力供給５０は、個々の表示機器４０の設計によって要求されるような全てのコンポーネントへ電力を供給することができる。
【０１０４】
ネットワークインターフェース２７は、アンテナ４３及びトランシーバ４７を含むので、表示機器４０は、ネットワーク上で１つ又はそれ以上の機器と通信することができる。ネットワークインターフェース２７はまた、たとえば、プロセッサ２１のデータ処理要求を緩和するいくつかの処理性能を持ち得る。アンテナ４３は、信号を送信し及び受信することができる。いくつかの実施形態において、アンテナ４３は、ＩＥＥＥ１６．１１（ａ）、（ｂ）若しくは（ｇ）を含む、ＩＥＥＥ１６．１１標準、又は、ＩＥＥＥ８０２．１１ａ、ｂ、ｇ若しくはｎを含む、ＩＥＥＥ８０２．１１標準に従ってＲＦ信号を送信し及び受信する。いくつかの他の実施形態において、アンテナ４３は、ブルートゥース（BLUETOOTH（登録商標））標準に従ってＲＦ信号を送信し及び受信する。セルラフォンの事例において、アンテナ４３は、符号分割多元接続（ＣＤＭＡ）、周波数分割多元接続（ＦＤＭＡ）、時分割多元接続（ＴＤＭＡ）、モバイル通信用グローバルシステム（Global System for Mobile communications）（ＧＳＭ（登録商標））、ＧＳＭ（登録商標）／汎用パケット無線サービス（GSM（登録商標）/General Packet Radio Service）（ＧＰＲＳ）、促進データＧＳＭ（登録商標）環境（Enhanced Data GSM（登録商標） Environment）（ＥＤＧＥ）、地上基盤無線（Terrestrial Trunked Radio）（ＴＥＴＲＡ）、広帯域ＣＤＭＡ（Ｗ−ＣＤＭＡ）、エボリューションデータオプティマイズ（Evolution Data Optimized）（ＥＶ−ＤＯ）、高速ダウンリンクパケットアクセス（High Speed Downlink Packet Access）（ＨＳＤＰＡ）、高速アップリンクパケットアクセス（High Speed Uplink Packet Access）、発展ハイスピードパケットアクセス（Evolved High Speed Packet Access）（ＨＳＰＡ＋）、ロングタームエボルブド（Long Term Evolved）（ＬＴＥ）、ＡＭＰＳ、又は、３Ｇ若しくは４Ｇ技術を利用するシステムのような、無線ネットワーク内で通信するために使用される他の知られる信号を受信するように設計される。トランシーバ４７は、アンテナ４３から受信される信号を仮に処理することができ、そのため、それらは、受信され、及び、さらにプロセッサによって多重化され得る。トランシーバ４７はまた、プロセッサ２１から受信される信号を処理することができ、そのため、それらは、アンテナ４３を通じて表示機器４０から送信され得る。
【０１０５】
いくつかの実施形態において、トランシーバ４７は、受信機によって置き換えられることができる。加えて、ネットワークインターフェース２７は、イメージソースによって置き換えられることができ、ここで、それは、プロセッサ２１へ送信されるためのイメージデータを格納し又は生成することができる。プロセッサ２１は、表示機器４０の全体の動作を制御することができる。プロセッサ２１は、ネットワークインターフェース２７又はイメージソースから圧縮されるイメージデータのような、データを受信し、及び、生のイメージデータ内で、又は、生のイメージデータ内に容易に処理されるフォーマット内でデータを処理する。プロセッサ２１は、ドライバコントローラ２９へ又は記録のためのフレームバッファ２８へ処理されるデータを送信することができる。生のデータは、イメージ内の各位置でイメージ特性を決定する情報を一般的に示す。たとえば、そのようなイメージ特性は、色、再度、及びグレイスケールレベルを含むことができる。
【０１０６】
プロセッサ２１は、表示装置４０の動作を制御するためマイクロコントローラ、ＣＰＵ、又はロジックユニットを含むことができる。調整ハードウェア５２は、スピーカ４５へ信号を送信するため及びマイクロフォン４６から信号を受信するためのアンプ及びフィルタを含み得る。調整ハードウェア５２は、表示機器４０内のディスクリートコンポーネントであり得、又は、プロセッサ若しくはコンポーネント内に組み込まれ得る。
【０１０７】
ドライバコントローラ２９は、プロセッサ２１から又はフレームバッファ２８から直接プロセッサ２１によって生成される生のイメージデータを取ることができ、及び、アレイドライバ２２への高速送信のため適切に生のイメージデータを再フォーマットすることができる。いくつかの実施形態において、それが表示アレイ３０を横切ってスキャンするために適切な時間オーダを持つように、ドライバコントローラ２９は、ラスタライクフォーマットを持つデータフロー内に生のイメージデータを再フォーマットすることができる。そのとき、ドライバコントローラ２９は、アレイドライバ２２へフォーマットされる情報を送信する。ＬＣＤコントローラのような、ドライバコントローラ２９は、スタンドアローン集積回路（ＩＣ）としてシステムプロセッサ２１にしばしば関連するが、そのようなコントローラは、多くの方法において実施され得る。たとえば、コントローラは、ハードウェアとしてプロセッサ２１において埋め込まれ、ソフトウェアとしてプロセッサ２１において埋め込まれ、又は、アレイドライバ２２にハードウェアにおいて完全に統合され得る。
【０１０８】
アレイドライバ２２は、ドライバコントローラ２９からフォーマットされる情報を受信することができ、及び、ピクセルの表示ｘ−ｙ行列から来る数百、及び時々数千のリードへ毎秒多数回適用される波形の平行なセット内へビデオデータを再フォーマットすることができる。
【０１０９】
いくつかの実施形態において、ドライバコントローラ２９、アレイドライバ２２及び表示アレイ３０は、本文中に記述される任意のタイプの表示に適応する。たとえば、ドライバコントローラ２９は、従来のディスプレイコントローラ又は、双安定ディスプレイコントローラ（たとえば、ＩＭＯＤコントローラ）であることができる。加えて、アレイドライバ２２は、従来のドライバ又は双安定ディスプレイドライバ（たとえば、ＩＭＯＤディスプレイドライバ）であることができる。さらに、表示アレイ３０は、伝統的な表示アレイ又は双安定表示アレイ（たとえば、ＩＭＯＤのアレイを含むディスプレイ）であることができる。いくつかの実施形態において、ドライバコントローラ２９は、アレイドライバ２２に統合されることができる。そのような実施形態は、セルラフォン、時計、又は他の小エリアディスプレイのような高統合システムにおいて共通である。
【０１１０】
いくつかの実施形態において、入力機器４８は、たとえば、表示機器４０の動作を制御することをユーザに可能にするように構成されることができる。入力機器４８は、クウェティ（QWERTY）キーボード若しくはテレフォンキーパッドのような、キーパッド、ボタン、スイッチ、ロッカー、タッチ感応画面、又は、感圧若しくは感熱膜を含むことができる。マイクロフォン４６は、表示機器４０のための入力機器として構成されることができる。いくつかの実施形態において、マイクロフォン４６を通じる声の命令は、表示機器４０の動作を制御するために使用されることができる。
【０１１１】
電源供給５０は、技術においてよく知られるような様々なエネルギー蓄積機器を含むことができる。たとえば、電源供給５０は、ニッケルカドミウムバッテリ又はリチウムイオンバッテリのような、充電可能なバッテリであることができる。電源供給５０はまた、プラスチックソーラーセル、又はソーラーセル塗装を含む、再生可能なエネルギーソース、キャパシティ、又はソーラーセルであることができる。電源供給５０はまた、コンセントからパワーを受信するように構成されることができる。
【０１１２】
いくつかの実施形態において、制御プログラム可能性は、電気的な表示システムにおいていくつかの位置において配置されることができるドライバコントローラ２９に存在する。いくつかの他の実施形態において、制御プログラム可能性は、アレイドライバ２２に存在する。上に記述される最適化は、任意の数のハードウェア並びに／若しくはソフトウェアコンポーネントにおいて及び様々な構成において実施され得る。
【０１１３】
本文中に開示される実施形態に関連して記述される様々な例示のロジック、ロジックブロック、モジュール、回路及びアルゴリズムステップは、電気的なハードウェア、コンピュータソフトウェア又は両者の組み合わせとして実施され得る。ハードウェアとソフトウェアとの交換可能性は、機能性の観点から一般に記述されて、及び、上に記述される様々な例示のコンポーネント、ブロック、モジュール、回路、及びステップにおいて示されている。そのような機能性がハードウェア又はソフトウェアにおいて実施されるかは、個々のアプリケーションおよび全体のシステムに課せられる設計制約に依存する。
【０１１４】
本文中に開示される態様に関連して記述される様々な例示のロジック、ロジックブロック、モジュール及び回路を実施するために使用されるハードウェア及びデータ処理装置は、汎用単一若しくは多重チッププロセッサ、デジタル信号プロセッサ（ＤＰＳ）、特定用途向け集積回路（ＡＳＩＣ）、フィールドプログラマブルゲートアレイ（ＦＰＧＡ）若しくは他のプログラマブルロジック機器、ディスクリートゲート若しくはトランジスタロジック、ディスクリートハードウェアコンポーネント、又は、本文中に記述される機能を実行するように設計されるそれらの任意の組み合わせを用いて実施され又は実行され得る。汎用プロセッサは、マイクロプロセッサ若しくは任意の従来のプロセッサ、コントローラ、マイクロコントローラ又は状態機械であり得る。プロセッサはまた、コンピューティング機器の組み合わせ、たとえば、ＤＳＰとマイクロプロセッサとの組み合わせ、複数のマイクロプロセッサ、ＤＳＰコアに関連する１つ若しくはそれ以上のマイクロプロセッサ、又は、任意の他のそのような構成、として実施され得る。いくつかの実施形態において、個々のステップ及び方法は、与えられる機能に特有の回路によって実行され得る。
【０１１５】
１つ又はそれ以上の態様において、記述される機能は、この明細書において記述される構造及びそれらと構造的に同等物を含む、ハードウェア、デジタル電気回路、コンピュータソフトウェア及びファームウェアにおいて、又は、それらの任意の組み合わせにおいて実施され得る。この明細書において記述される記述主題の実施形態はまた、データ処理装置による実行のため、又は、動作を制御するため、コンピュータ記録媒体上にエンコードされる１つ又はコンピュータプログラム、即ち、コンピュータプログラム命令の１つ又はそれ以上のモジュール、として実施されることができる。
【０１１６】
この開示において記述される実施形態の様々な修正は、当業者によって容易に明らかであり得、及び、本文中に定義される一般的な原理は、この開示の精神又は範囲から離れることなく他の実施形態に適用され得る。したがって、開示は、本文中に示される実施形態に限定されることを意図しないが、本文中に開示される請求項、原理、及び新規な特徴と一致する最も広い範囲に従うべきである。「例示の（exemplary）」という単語は、「例（example）、例示（instance）又は事例（illustration）を提供する」を意味するために本文中にもっぱら使用される。「例示の（exemplary）」として本文中に記述される任意の実施形態は、他の実施形態よりもより良い又は利点があると解釈される必要はない。追加的に、当業者は、「上方の（upper）」及び「下方の（lower）」という用語が図をそれぞれ記述することのためにしばしば使用され、適切に向けられるページでの図の向きに対応する相対的な位置を示し、実施されるようにＩＭＯＤの適切な向きを反映していないこともあることを容易に認識するだろう。
【０１１７】
別々の実施形態の文脈でこの明細書において記述されるある特徴はまた、単一の実施形態において組み合わせて実施されることができる。反対に、単一の実施形態の文脈で記述される様々な特徴はまた、多数の実施形態において別々に、又は、任意の適切なサブコンビネーションにおいて実施されることができる。さらに、特徴がある組み合わせにおいて動作するように上に記述され、そのようにさえ最初にクレームされ得るが、クレームされる組み合わせからの１つ又はそれ以上の特徴は、いくつかの事例において組み合わせから削除されることができ、及び、クレームされる組み合わせは、サブコンビネーション又はサブコンビネーションの多様性に向けられ得る。
【０１１８】
同様に、動作が特定の順序において図において記述されるが、これは、そのような動作が、示される特定の順序において又は一連の順序において実行されること、又は、全ての示される動作が所望の結果を達成するために実行されることを要求するように理解されるべきではない。ある事情において、マルチタスキング及び平行処理は、利点があり得る。さらに、上に記述される実施形態において様々なシステムコンポーネントの分離は、全ての実施形態におけるそのような分離を要求するように理解されるべきではなく、記述されるプログラムコンポーネント及びシステムが一般的に単一のソフトウェア製品において一緒に統合され又は多数のソフトウェア製品内にパッケージされることができることは、理解されるべきである。追加的に、他の実施形態は、次の請求項の範囲内である。いくつかの事例において、請求項に列挙される動作は、異なる順序において実行され、及びなお所望の結果を達成することができる。
【図１】
2014503108.tif 000012
【図２】
2014503108.tif 000013
【図３】
2014503108.tif 000014
【図４】
2014503108.tif 000015
【図５Ａ】
2014503108.tif 000016
【図５Ｂ】
2014503108.tif 000017
【図６Ａ】
2014503108.tif 000018
【図６Ｂ】
2014503108.tif 000019
【図６Ｃ】
2014503108.tif 000020
【図６Ｄ】
2014503108.tif 000021
【図６Ｅ】
2014503108.tif 000022
【図７】
2014503108.tif 000023
【図８Ａ】
2014503108.tif 000024
【図８Ｂ】
2014503108.tif 000025
【図８Ｃ】
2014503108.tif 000026
【図８Ｄ】
2014503108.tif 000027
【図８Ｅ】
2014503108.tif 000028
【図９Ａ】
2014503108.tif 000029
【図９Ｂ】
2014503108.tif 000030
【図１０Ａ】
2014503108.tif 000031
【図１０Ｂ】
2014503108.tif 000032
【図１１】
2014503108.tif 000033
【図１２】
2014503108.tif 000034
【図１３Ａ】
2014503108.tif 000035
【図１３Ｂ】
2014503108.tif 000036
【図１４Ａ】
2014503108.tif 000037
【図１４Ｂ】
2014503108.tif 000038
【図１５】
2014503108.tif 000039
【図１６】
2014503108.tif 000040
【図１７Ａ】
2014503108.tif 000041
【図１７Ｂ】
2014503108.tif 000042
【図１８Ａ】
2014503108.tif 000043
【図１８Ｂ】
2014503108.tif 000044
【図１９】
2014503108.tif 000045
【図２０Ａ】
2014503108.tif 000046
【図２０Ｂ】
2014503108.tif 000047
【手続補正書】
【提出日】平成25年9月5日(2013.9.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の光エミッタと、
前記複数の光エミッタから光を受信するための光入力端であって、つや消しされ約０．１−３μｍの表面粗度Ｒａを持つ光入力端と、前記光入力端の横方向にある第１レーザカット端と、を含む光ガイドと、
前記第１レーザカット端に沿う前記光エミッタの鏡面反射を供給するように構成される鏡面反射板と、
を備える照明システム。
【請求項２】
前記光ガイドは、ガラスから形成される、
前記請求項１に記載の照明システム。
【請求項３】
前記光エミッタは、約ΔＬのピッチを持ち、ここで、
【数１】
2014503108.tif 000048
但し、ΔＬは、隣接する光エミッタの個々の位置の間の距離であり、
Ｌｌｉｇｈｔ  ｇｕｉｄｅは、前記光ガイドの前記横端間の距離であり、
Ｎｌｉｇｈｔ  ｅｍｉｔｔｅｒｓは、前記複数の光エミッタにおける光エミッタの数である、
前記請求項１に記載の照明システム。
【請求項４】
さらに、
前記光ガイドのエリアよりも小さい活動表示エリアを持つディスプレイを備え、
前記光入力端の長さは、前記光入力端を向く前記活動表示エリアの相当する寸法よりも長い、
前記請求項３に記載の照明システム。
【請求項５】
さらに、
前記光ガイドの主要な表面に向く前記主要な表面を持つディスプレイを備え、
前記光ガイドは、前記光ガイドの外に及び前記光ガイドの前記主要な表面へ光を排出するように構成される複数の光変更特性を備える、
前記請求項１に記載の照明システム。
【請求項６】
前記光ガイドは、前灯の一部を形成する、
前記請求項５に記載の照明システム。
【請求項７】
前記ディスプレイは、分岐干渉変調器の例を含む反射ディスプレイである、
前記請求項６に記載の照明システム。
【請求項８】
さらに、
前記ディスプレイと通信するように構成されるプロセッサであって、ここで前記プロセッサは、イメージデータを処理するように構成される、プロセッサと、
前記プロセッサと通信するように構成されるメモリ機器と、
を備える、
前記請求項５に記載の照明システム。
【請求項９】
さらに、
前記ディスプレイに少なくとも１つの信号を送信するように構成されるドライバ回路を備える、
前記請求項８に記載の照明システム。
【請求項１０】
さらに、
前記ドライバ回路へ前記イメージデータの少なくとも一部を送信するように構成されるコントローラを、備える、
前記請求項９に記載の照明システム。
【請求項１１】
さらに、
前記プロセッサへ前記イメージデータを送信するように構成されるイメージソースモジュールを、備える、
前記請求項８に記載の照明システム。
【請求項１２】
前記イメージソースモジュールは、受信機、トランシーバ、及び、送信器の少なくとも１つを含む、
前記請求項１１に記載の照明システム。
【請求項１３】
さらに、
入力データを受信するように、及び、前記プロセッサに前記入力データを伝達するように構成される入力機器を、備える、
前記請求項８に記載の照明システム。
【請求項１４】
さらに、
前記第１レーザカット端と反対にあり前記光入力端の横方向にある第２レーザカット端を、備える、
前記請求項１に記載の照明システム。
【請求項１５】
前記光ガイドは、一般的に光学的に透明な素材の平面プレートである、
前記請求項１に記載の照明システム。
【請求項１６】
光エミッタと、
ガラスから構成される光ガイドであって、ここで、前記光ガイドは、前記光エミッタから光を受信するための光入力端であって、つや消しされ約０．１−３μｍの表面粗度Ｒａを持つ光入力端と、前記光入力端の横方向にある横端と、を備える、光ガイドと、
前記横端に沿う前記光エミッタの鏡面反射を供給するように構成される鏡面反射板と、
を備える照明システム。
【請求項１７】
前記鏡面反射板は、前記横端の全体の長さを相当に延ばす、
前記請求項１６に記載の照明システム。
【請求項１８】
前記鏡面反射板は、前記横端の表面である、
前記請求項１６に記載の照明システム。
【請求項１９】
さらに、
前記横端に隣接し及び前記光ガイド内に再度前記横端を出る光を反射するように構成される補助反射板を備える、
前記請求項１８に記載の照明システム。
【請求項２０】
前記補助反射板は、前記横端から離れて配置される、
前記請求項１９に記載の照明システム。
【請求項２１】
前記鏡面反射板は、前記光ガイドへ取り付けられる、
前記請求項１６に記載の照明システム。
【請求項２２】
さらに、
複数の光エミッタを備え、
前記光エミッタは、約ΔＬの距離によって離れて均一に配置され、ここで、
【数２】
2014503108.tif 000049
但し、ΔＬは、隣接する光エミッタの個々の位置の間の距離であり、
Ｌｌｉｇｈｔ  ｇｕｉｄｅは、前記光ガイドの前記横端間の距離であり、
Ｎｌｉｇｈｔ  ｅｍｉｔｔｅｒｓは、前記複数の光エミッタにおける光エミッタの数である、
前記請求項１６に記載の照明システム。
【請求項２３】
さらに、
前記光ガイドの主要な表面に向く前記主要な表面を持つディスプレイを備え、
前記光ガイドは、前記光ガイドの外へ及び前記光ガイドの前記主要な表面へ光を排出するように構成される複数の光変更特性を備える、
前記請求項１６に記載の照明システム。
【請求項２４】
さらに、
前記光ガイドの前方にある表板であって、ここで、前記表板は、アンチグレア層、耐引っ掻き層、耐指紋層、タッチパネル、光学フィルタ層、光拡散層及びそれらの組み合わせから成る前記グループから選択される構造を含む、表板を、備える、
前記請求項２３に記載の表示システム。
【請求項２５】
前記光ガイドは、前記表板と前記ディスプレイとの間に配置され、
さらに、
前記光ガイドと前記表板及び前記ディスプレイの１つ又は両者との間に配置される光学的外装層を備える、
前記請求項１に記載の表示システム。
【請求項２６】
前記第１鏡面反射表面は、前記第１横端の途切れない長さ上で鏡面反射を供給する、
前記請求項１６に記載の照明システム。
【請求項２７】
光を受信するための光入力端であって、ここで、前記光入力端は、長さを持ち、つや消しされ約０．１−３μｍの表面粗度Ｒａを持つ光入力端と、第１横端であって、ここで、前記第１横端は、前記光入力端の横方向にある第１横端を含む光ガイドと、
前記第１横端に沿う前記光エミッタの鏡面反射を供給するように構成される第１鏡面反射表面と、
活動エリアを持つディスプレイであって、ここで、前記ディスプレイの主要な表面は、前記光ガイドの主要な表面に向き、前記光入力端の前記長さは、前記長さに向くピクセルエリアの相当する寸法よりも長い、ディスプレイと、
前記光入力端内へ光を導入するように構成される複数の離れて配置される光エミッタと、
を備え、
ここで、前記光エミッタ間の距離は、約ΔＬであり、ここで、
【数３】
2014503108.tif 000050
但し、ΔＬは、隣接する光エミッタの個々の位置の間の距離であり、
Ｌｌｉｇｈｔ  ｇｕｉｄｅは、前記光ガイドの前記横端間の距離であり、
Ｎｌｉｇｈｔ  ｅｍｉｔｔｅｒｓは、前記複数の光エミッタにおける光エミッタの数である、
表示システム。
【請求項２８】
前記光エミッタのそれぞれは、前記光入力端の幅と同一の軸上で相当に延びる高さの光発光面を持ち、ここで、前記光発光面の前記高さは、前記光入力端の前記幅より大きいか等しい、
前記請求項２７に記載の表示システム。
【請求項２９】
前記第１鏡面反射表面は、前記第１横端の表面である、
前記請求項２７に記載の表示システム。
【請求項３０】
さらに、
前記入力端にの横にあり前記第１横端の反対にある第２横端に沿う第２鏡面反射表面と、
前記光入力端の反対にある前記光ガイドの側の他の光入力端と、
前記他の光入力端内に光を導入するように構成される他の複数の光エミッタと、
を備え、ここで、前記光エミッタ間の距離は、約ΔＬ’であって、ここで、
【数４】
2014503108.tif 000051
但し、ΔＬは、隣接する光エミッタの個々の位置の間の距離であり、
Ｌｌｉｇｈｔ  ｇｕｉｄｅは、前記光ガイドの前記横端を分離する距離であり、
Ｎｌｉｇｈｔ  ｅｍｉｔｔｅｒｓは、前記複数の光エミッタにおける光エミッタの数である、
前記請求項２７に記載の表示システム。
【請求項３１】
前記複数の光エミッタは、前記光入力端に沿って中心に置かれる、
前記請求項２７に記載の表示システム。
【請求項３２】
前記光ガイドは、前記ディスプレイの前にあり、前灯の一部であって、ここで、前記ディスプレイは、反射ディスプレイである、
前記請求項２７に記載の表示システム。
【請求項３３】
光源と、
前記光エミッタから光を受信するように構成される光入力端であって、つや消しされ約０．１−３μｍの表面粗度Ｒａを持つ光入力端と、前記光入力端の横方向にある逆横端と、を持つ光ガイドと、
前記横端の少なくとも１つに沿う前記光源からの光を鏡面的に反射するための手段と、
を備える照明システム。
【請求項３４】
前記光源は、前記光ガイド手段内に光を導入するように構成される複数の光エミッタを含む、
前記請求項３３に記載の照明システム。
【請求項３５】
前記光ガイドは、ガラスから形成される、
前記請求項３４に記載の照明システム。
【請求項３６】
光を反射するための前記手段は、前記横端の少なくとも１つの表面である、
前記請求項３４に記載の照明システム。
【請求項３７】
前記表面は、前記横端の前記少なくとも１つに沿う少なくとも約５ｍｍの途切れない距離上で鏡面反射を供給する、
前記請求項３６に記載の照明システム。
【請求項３８】
光を反射するための前記手段は、前記横端から離れて配置される鏡面反射板を含む、
前記請求項３４に記載の照明システム。
【請求項３９】
鏡面反射板である光学端を持つ光ガイドを供給することと、
前記光ガイドの光入力端で光エミッタを供給することと、
を備え、
ここで、前記鏡面反射板は、前記第１横端の途切れない長さ上で前記光エミッタからの光の鏡面反射を供給するように構成され、前記長さは、約５ｍｍ又はそれ以上であり、
ここで、前記光学端は、前記光入力端の横方向にあり、
ここで、光入力端は、つや消しされ約０．１−３μｍの表面粗度Ｒａを持つ、
照明システムを製造するための方法。
【請求項４０】
前記光ガイドを供給することは、前記光ガイドの前記端で前記鏡面反射板を形成するため光学的に透明な素材をレーザカッティングすることを含む、
前記請求項３９に記載の方法。
【請求項４１】
光学的に透明な前記素材は、ガラスである、
前記請求項４０に記載の方法。
【請求項４２】
前記光ガイドを供給することは、前記光学端を研ぎ及び磨くことを含む、
前記請求項３９に記載の方法。
【請求項４３】
前記光ガイドを供給することは、前記入力端の横方向にある前記光ガイドの端に隣接する前記鏡面反射板を取り付けることを含む、
前記請求項３９に記載の方法。
【請求項４４】
前記鏡面反射板を取り付けることは、前記光入力端の横方向にある前記光ガイドの前記端から離れて配置される前記鏡面反射板をそのままにしておく、
前記請求項４３に記載の方法。
【請求項４５】
前記光エミッタを供給することは、前記光入力端に沿って中心に置かれる複数の前記光エミッタを供給することを含み、ここで、前記光エミッタのピッチは、約ΔＬであり、ここで、
【数５】
2014503108.tif 000052
但し、ΔＬは、隣接する光エミッタの個々の位置の間の距離であり、
Ｌｌｉｇｈｔ  ｇｕｉｄｅは、前記光ガイドの前記横端間の距離であり、
Ｎｌｉｇｈｔ  ｅｍｉｔｔｅｒｓは、前記複数の光エミッタにおける光エミッタの数である、
前記請求項３９に記載の方法。
【請求項４６】
前記光ガイドを供給することは、前記光入力端状に光学的に拡散する表面を形成するために前記光入力端を粗くすることを含む、
前記請求項３９に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１８】
同様に、動作が特定の順序において図において記述されるが、これは、そのような動作が、示される特定の順序において又は一連の順序において実行されること、又は、全ての示される動作が所望の結果を達成するために実行されることを要求するように理解されるべきではない。ある事情において、マルチタスキング及び平行処理は、利点があり得る。さらに、上に記述される実施形態において様々なシステムコンポーネントの分離は、全ての実施形態におけるそのような分離を要求するように理解されるべきではなく、記述されるプログラムコンポーネント及びシステムが一般的に単一のソフトウェア製品において一緒に統合され又は多数のソフトウェア製品内にパッケージされることができることは、理解されるべきである。追加的に、他の実施形態は、次の請求項の範囲内である。いくつかの事例において、請求項に列挙される動作は、異なる順序において実行され、及びなお所望の結果を達成することができる。
以下に本件出願当初の特許請求の範囲に記載された発明を付記する。
［１］
複数の光エミッタと、
前記複数の光エミッタから光を受信するための光入力端と、前記光入力端の横方向にある第１レーザカット端と、を含む光ガイドと、
を備える照明システム。
［２］
前記光ガイドは、ガラスから形成される、
前記［１］に記載の照明システム。
［３］
前記光入力端は、つや消しされる、
前記［１］に記載の照明システム。
［４］
前記光入力端は、約０．１−５μｍの表面粗度Ｒａを持つ、
前記［３］に記載の照明システム。
［５］
前記光エミッタは、約ΔＬのピッチを持ち、ここで、
【数５】
2014503108.tif 000053
但し、ΔＬは、隣接する光エミッタの個々の位置の間の距離であり、
Ｌｌｉｇｈｔ  ｇｕｉｄｅは、前記光ガイドの前記横端間の距離であり、
Ｎｌｉｇｈｔ  ｅｍｉｔｔｅｒｓは、前記複数の光エミッタにおける光エミッタの数である、
前記［４］に記載の照明システム。
［６］
さらに、
前記光ガイドのエリアよりも小さい活動表示エリアを持つディスプレイを備え、
前記光入力端の長さは、前記光入力端を向く前記活動表示エリアの相当する寸法よりも長い、
前記［５］に記載の照明システム。
［７］
さらに、
前記光ガイドの主要な表面に向く前記主要な表面を持つディスプレイを備え、
前記光ガイドは、前記光ガイドの外に及び前記光ガイドの前記主要な表面へ光を排出するように構成される複数の光変更特性を備える、
前記［１］に記載の照明システム。
［８］
前記光ガイドは、前灯の一部を形成する、
前記［１７］に記載の照明システム。
［９］
前記ディスプレイは、分岐干渉変調器の例を含む反射ディスプレイである、
前記［１７］に記載の照明システム。
［１０］
さらに、
前記ディスプレイと通信するように構成されるプロセッサであって、ここで前記プロセッサは、イメージデータを処理するように構成される、プロセッサと、
前記プロセッサと通信するように構成されるメモリ機器と、
を備える、
前記［１７］に記載の照明システム。
［１１］
さらに、
前記ディスプレイに少なくとも１つの信号を送信するように構成されるドライバ回路を備える、
前記［１０］に記載の照明システム。
［１２］
さらに、
前記ドライバ回路へ前記イメージデータの少なくとも一部を送信するように構成されるコントローラを、備える、
前記［１１］に記載の照明システム。
［１３］
さらに、
前記プロセッサへ前記イメージデータを送信するように構成されるイメージソースモジュールを、備える、
前記［１０］に記載の照明システム。
［１４］
前記イメージソースモジュールは、受信機、トランシーバ、及び、送信器の少なくとも１つを含む、
前記［１３］に記載の照明システム。
［１５］
さらに、
入力データを受信するように、及び、前記プロセッサに前記入力データを伝達するように構成される入力機器を、備える、
前記［１０］に記載の照明システム。
［１６］
さらに、
前記第１レーザカット端と反対にあり前記光入力端の横方向にある第２レーザカット端を、備える、
前記［１］に記載の照明システム。
［１７］
前記光ガイドは、一般的に光学的に透明な材料の平面プレートである、
前記［１］に記載の照明システム。
［１８］
光エミッタと、
ガラスから構成される光ガイドであって、ここで、前記光ガイドは、前記光エミッタから光を受信するための光入力端と、前記光入力端の横方向にある横端と、を備える、光ガイドと、
前記横端に沿う鏡面反射板と、
を備える照明システム。
［１９］
前記光入力端は、つや消しされる、
前記［１８］に記載の照明システム。
［２０］
前記鏡面反射板は、前記横端の全体の長さを相当に延ばす、
前記［１８］に記載の照明システム。
［２１］
前記鏡面反射板は、前記横端の表面である、
前記［１８］に記載の照明システム。
［２２］
さらに、
前記横端に隣接し及び前記光ガイド内に再度前記横端を出る光を反射するように構成される補助反射板を備える、
前記［２１］に記載の照明システム。
［２３］
前記補助反射板は、前記横端から離れて配置される、
前記［２２］に記載の照明システム。
［２４］
前記鏡面反射板は、前記光ガイドへ取り付けられる、
前記［１８］に記載の照明システム。
［２５］
さらに、
複数の光エミッタを備え、
前記光エミッタは、約ΔＬの距離によって離れて均一に配置され、ここで、
【数６】
2014503108.tif 000054
但し、ΔＬは、隣接する光エミッタの個々の位置の間の距離であり、
Ｌｌｉｇｈｔ  ｇｕｉｄｅは、前記光ガイドの前記横端間の距離であり、
Ｎｌｉｇｈｔ  ｅｍｉｔｔｅｒｓは、前記複数の光エミッタにおける光エミッタの数である、
前記［１８］に記載の照明システム。
［２６］
さらに、
前記光ガイドの主要な表面に向く前記主要な表面を持つディスプレイを備え、
前記光ガイドは、前記光ガイドの外へ及び前記光ガイドの前記主要な表面へ光を排出するように構成される複数の光変更特性を備える、
前記［１８］に記載の照明システム。
［２７］
さらに、
前記光ガイドの前方にある表板であって、ここで、前記表板は、アンチグレア層、耐引っ掻き層、耐指紋層、タッチパネル、光学フィルタ層、光拡散層及びそれらの組み合わせから成る前記グループから選択される構造を含む、表板を、備える、
前記［２６］に記載の表示システム。
［２８］
前記光ガイドは、前記表板と前記ディスプレイとの間に配置され、
さらに、
前記光ガイドと前記表板及び前記ディスプレイの１つ又は両者との間に配置される光学的外装層を備える、
前記［１］に記載の表示システム。
［２９］
前記第１鏡面反射表面は、前記第１横端の途切れない長さ上で鏡面反射を供給する、
前記［１８］に記載の照明システム。
［３０］
光を受信するための光入力端であって、ここで、前記光入力端は、長さを持つ、光入力端と、第１横端であって、ここで、前記第１横端は、前記光入力端の横方向にある第１横端を含む光ガイドと、
前記第１横端に沿う第１鏡面反射表面と、
活動エリアを持つディスプレイであって、ここで、前記ディスプレイの主要な表面は、前記光ガイドの主要な表面に向き、前記光入力端の前記長さは、前記長さに向くピクセルエリアの相当する寸法よりも長い、ディスプレイと、
前記光入力端内へ光を導入するように構成される複数の離れて配置される光エミッタと、
を備え、
ここで、前記光エミッタ間の距離は、約ΔＬであり、ここで、
【数７】
2014503108.tif 000055
但し、ΔＬは、隣接する光エミッタの個々の位置の間の距離であり、
Ｌｌｉｇｈｔ  ｇｕｉｄｅは、前記光ガイドの前記横端間の距離であり、
Ｎｌｉｇｈｔ  ｅｍｉｔｔｅｒｓは、前記複数の光エミッタにおける光エミッタの数である、
表示システム。
［３１］
前記光エミッタのそれぞれは、前記光入力端の幅と同一の軸上で相当に延びる高さの光発光面を持ち、ここで、前記光発光面の前記高さは、前記光入力端の前記幅より大きいか等しい、
前記［３０］に記載の表示システム。
［３２］
前記第１鏡面反射表面は、前記第１横端の表面である、
前記［３０］に記載の表示システム。
［３３］
さらに、
前記入力端の横にあり前記第１横端の反対にある第２横端に沿う第２鏡面反射表面と、
前記光入力端の反対にある前記光ガイドの側の他の光入力端と、
前記他の光入力端内に光を導入するように構成される他の複数の光エミッタと、
を備え、ここで、前記光エミッタ間の距離は、約ΔＬ’であって、ここで、
【数８】
2014503108.tif 000056
但し、ΔＬは、隣接する光エミッタの個々の位置の間の距離であり、
Ｌｌｉｇｈｔ  ｇｕｉｄｅは、前記光ガイドの前記横端を分離する距離であり、
Ｎｌｉｇｈｔ  ｅｍｉｔｔｅｒｓは、前記複数の光エミッタにおける光エミッタの数である、
前記［３０］に記載の表示システム。
［３４］
前記複数の光エミッタは、前記光入力端に沿って中心に置かれる、
前記［３０］に記載の表示システム。
［３５］
前記光ガイドは、前記ディスプレイの前にあり、前灯の一部であって、ここで、前記ディスプレイは、反射ディスプレイである、
前記［３０］に記載の表示システム。
［３６］
光源と、
前記光エミッタから光を受信するように構成される光入力端と、前記光入力端の横方向にある逆横端と、を持つ光ガイドと、
前記横端の少なくとも１つに沿う光を反射するための手段と、
を備える照明システム。
［３７］
前記光源は、前記光ガイド手段内に光を導入するように構成される複数の光エミッタを含む、
前記［３６］に記載の照明システム。
［３８］
前記光ガイドは、ガラスから形成される、
前記［３７］に記載の照明システム。
［３９］
光を反射するための前記手段は、前記横端の少なくとも１つの表面である、
前記［３７］に記載の照明システム。
［４０］
前記表面は、前記横端の前記少なくとも１つに沿う少なくとも約５ｍｍの途切れない距離上で鏡面反射を供給する、
前記［３９］に記載の照明システム。
［４１］
光を反射するための前記手段は、前記横端から離れて配置される鏡面反射板を含む、
前記［３７］に記載の照明システム。
［４２］
前記光入力端は、つや消しされる表面を含む、
前記［３７］に記載の照明システム。
［４３］
鏡面反射板である光学端を持つ光ガイドを供給することであって、ここで、前記鏡面反射板は、前記横端の途切れない長さ上で鏡面反射を供給し、前記長さは約５ｍｍ又はそれ以上である、供給することと、
前記光ガイドの光入力端で光エミッタを供給することと、
を備え、
ここで、前記光学端は、前記光入力端の横方向にある、
照明システムを製造するための方法。
［４４］
前記光ガイドを供給することは、前記光ガイドの前記端で前記鏡面反射板を形成するため光学的に透明な材料をレーザカッティングすることを含む、
前記［４３］に記載の方法。
［４５］
光学的に透明な前記材料は、ガラスである、
前記［４４］に記載の方法。
［４６］
前記光ガイドを供給することは、前記光学端を研ぎ及び磨くことを含む、
前記［４３］に記載の方法。
［４７］
前記光ガイドを供給することは、前記入力端の横方向にある前記光ガイドの端に隣接する前記鏡面反射板を取り付けることを含む、
前記［４３］に記載の方法。
［４８］
前記鏡面反射板を取り付けることは、前記光入力端の横方向にある前記光ガイドの前記端から離れて配置される前記鏡面反射板をそのままにしておく、
前記［４７］に記載の方法。
［４９］
前記光エミッタを供給することは、前記光入力端に沿って中心に置かれる複数の前記光エミッタを供給することを含み、ここで、前記光エミッタのピッチは、約ΔＬであり、ここで、
【数９】
2014503108.tif 000057
但し、ΔＬは、隣接する光エミッタの個々の位置の間の距離であり、
Ｌｌｉｇｈｔ  ｇｕｉｄｅは、前記光ガイドの前記横端間の距離であり、
Ｎｌｉｇｈｔ  ｅｍｉｔｔｅｒｓは、前記複数の光エミッタにおける光エミッタの数である、
前記［４３］に記載の方法。
［５０］
前記光ガイドを供給することは、前記光入力端状に光学的に拡散する表面を形成するために前記光入力端を粗くすることを含む、
前記［４３］に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成25年9月11日(2013.9.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の光エミッタと、
前記複数の光エミッタから光を受信するための光入力端であって、つや消しされ約０．１−３μｍの表面粗度Ｒａを持つ光入力端と、前記光入力端の横方向にある第１レーザカット端と、を含む光ガイドと、
前記第１レーザカット端に沿う前記光エミッタの鏡面反射を供給するように構成される鏡面反射板と、
を備える照明システム。
【請求項２】
前記光ガイドは、ガラスから形成される、
前記請求項１に記載の照明システム。
【請求項３】
前記光エミッタは、約ΔＬのピッチを持ち、ここで、
【数１】
2014503108.tif 000058
但し、ΔＬは、隣接する光エミッタの個々の位置の間の距離であり、
Ｌｌｉｇｈｔ  ｇｕｉｄｅは、前記光ガイドの前記横端間の距離であり、
Ｎｌｉｇｈｔ  ｅｍｉｔｔｅｒｓは、前記複数の光エミッタにおける光エミッタの数である、
前記請求項１に記載の照明システム。
【請求項４】
さらに、
前記光ガイドのエリアよりも小さい活動表示エリアを持つディスプレイを備え、
前記光入力端の長さは、前記光入力端を向く前記活動表示エリアの相当する寸法よりも長い、
前記請求項３に記載の照明システム。
【請求項５】
さらに、
前記光ガイドの主要な表面に向く前記主要な表面を持つディスプレイを備え、
前記光ガイドは、前記光ガイドの外に及び前記ディスプレイの前記主要な表面へ光を排出するように構成される複数の光変更特性を備える、
前記請求項１に記載の照明システム。
【請求項６】
前記光ガイドは、前灯の一部を形成する、
前記請求項５に記載の照明システム。
【請求項７】
前記ディスプレイは、分岐干渉変調器の例を含む反射ディスプレイである、
前記請求項６に記載の照明システム。
【請求項８】
さらに、
前記ディスプレイと通信するように構成されるプロセッサであって、ここで前記プロセッサは、イメージデータを処理するように構成される、プロセッサと、
前記プロセッサと通信するように構成されるメモリ機器と、
を備える、
前記請求項５に記載の照明システム。
【請求項９】
さらに、
前記ディスプレイに少なくとも１つの信号を送信するように構成されるドライバ回路を備える、
前記請求項８に記載の照明システム。
【請求項１０】
さらに、
前記ドライバ回路へ前記イメージデータの少なくとも一部を送信するように構成されるコントローラを、備える、
前記請求項９に記載の照明システム。
【請求項１１】
さらに、
前記プロセッサへ前記イメージデータを送信するように構成されるイメージソースモジュールを、備える、
前記請求項８に記載の照明システム。
【請求項１２】
前記イメージソースモジュールは、受信機、トランシーバ、及び、送信器の少なくとも１つを含む、
前記請求項１１に記載の照明システム。
【請求項１３】
さらに、
入力データを受信するように、及び、前記プロセッサに前記入力データを伝達するように構成される入力機器を、備える、
前記請求項８に記載の照明システム。
【請求項１４】
さらに、
前記第１レーザカット端と反対にあり前記光入力端の横方向にある第２レーザカット端を、備える、
前記請求項１に記載の照明システム。
【請求項１５】
前記光ガイドは、一般的に光学的に透明な素材の平面プレートである、
前記請求項１に記載の照明システム。
【請求項１６】
光エミッタと、
ガラスから構成される光ガイドであって、ここで、前記光ガイドは、前記光エミッタから光を受信するための光入力端であって、つや消しされ約０．１−３μｍの表面粗度Ｒａを持つ光入力端と、前記光入力端の横方向にある横端と、を備える、光ガイドと、
前記横端に沿う前記光エミッタの鏡面反射を供給するように構成される鏡面反射板と、
を備える照明システム。
【請求項１７】
前記鏡面反射板は、前記横端の全体の長さを相当に延ばす、
前記請求項１６に記載の照明システム。
【請求項１８】
前記鏡面反射板は、前記横端の表面である、
前記請求項１６に記載の照明システム。
【請求項１９】
さらに、
前記横端に隣接し及び前記光ガイド内に再度前記横端を出る光を反射するように構成される補助反射板を備える、
前記請求項１８に記載の照明システム。
【請求項２０】
前記補助反射板は、前記横端から離れて配置される、
前記請求項１９に記載の照明システム。
【請求項２１】
前記鏡面反射板は、前記光ガイドへ取り付けられる、
前記請求項１６に記載の照明システム。
【請求項２２】
さらに、
複数の光エミッタを備え、
前記光エミッタは、約ΔＬの距離によって離れて均一に配置され、ここで、
【数２】
2014503108.tif 000059
但し、ΔＬは、隣接する光エミッタの個々の位置の間の距離であり、
Ｌｌｉｇｈｔ  ｇｕｉｄｅは、前記光ガイドの前記横端と他の横端と間の距離であり、
Ｎｌｉｇｈｔ  ｅｍｉｔｔｅｒｓは、前記複数の光エミッタにおける光エミッタの数である、
前記請求項１６に記載の照明システム。
【請求項２３】
さらに、
前記光ガイドの主要な表面に向く前記主要な表面を持つディスプレイを備え、
前記光ガイドは、前記光ガイドの外へ及び前記ディスプレイの前記主要な表面へ光を排出するように構成される複数の光変更特性を備える、
前記請求項１６に記載の照明システム。
【請求項２４】
さらに、
前記光ガイドの前方にある表板であって、ここで、前記表板は、アンチグレア層、耐引っ掻き層、耐指紋層、タッチパネル、光学フィルタ層、光拡散層及びそれらの組み合わせから成る前記グループから選択される構造を含む、表板を、備える、
前記請求項２３に記載の照明システム。
【請求項２５】
前記光ガイドは、前記表板と前記ディスプレイとの間に配置され、
さらに、
前記光ガイドと前記表板及び前記ディスプレイの１つ又は両者との間に配置される光学的外装層を備える、
前記請求項２４に記載の表示照明。
【請求項２６】
前記鏡面反射板は、前記横端の途切れない長さ上で鏡面反射を供給する、
前記請求項１６に記載の照明システム。
【請求項２７】
光を受信するための光入力端であって、ここで、前記光入力端は、長さを持ち、つや消しされ約０．１−３μｍの表面粗度Ｒａを持つ光入力端と、第１横端であって、ここで、前記第１横端は、前記光入力端の横方向にある第１横端を含む光ガイドと、
前記第１横端に沿う前記光エミッタの鏡面反射を供給するように構成される第１鏡面反射表面と、
活動エリアを持つディスプレイであって、ここで、前記ディスプレイの主要な表面は、前記光ガイドの主要な表面に向き、前記光入力端の前記長さは、前記長さに向くピクセルエリアの相当する寸法よりも長い、ディスプレイと、
前記光入力端内へ光を導入するように構成される複数の離れて配置される光エミッタと、
を備え、
ここで、前記光エミッタ間の距離は、約ΔＬであり、ここで、
【数３】
2014503108.tif 000060
但し、ΔＬは、隣接する光エミッタの個々の位置の間の距離であり、
Ｌｌｉｇｈｔ  ｇｕｉｄｅは、前記光ガイドの前記横端と他の横端と間の距離であり、
Ｎｌｉｇｈｔ  ｅｍｉｔｔｅｒｓは、前記複数の光エミッタにおける光エミッタの数である、
表示システム。
【請求項２８】
前記光エミッタのそれぞれは、前記光入力端の幅と同一の軸上で相当に延びる高さの光発光面を持ち、ここで、前記光発光面の前記高さは、前記光入力端の前記幅より大きいか等しい、
前記請求項２７に記載の表示システム。
【請求項２９】
前記第１鏡面反射表面は、前記第１横端の表面である、
前記請求項２７に記載の表示システム。
【請求項３０】
さらに、
前記入力端の横にあり前記第１横端の反対にある前記第２横端に沿う第２鏡面反射表面と、
前記光入力端の反対にある前記光ガイドの側の他の光入力端と、
前記他の光入力端内に光を導入するように構成される他の複数の光エミッタと、
を備え、ここで、前記他の光入力端内へ光を導入するように構成される前記光エミッタ間の距離は、約ΔＬ’であって、ここで、
【数４】
2014503108.tif 000061
但し、ΔＬは、前記他の光入力端内へ光を導入するように構成される隣接する光エミッタの個々の位置の間の距離であり、
Ｌｌｉｇｈｔ  ｇｕｉｄｅは、前記光ガイドの前記第１及び第２横端を分離する距離であり、
Ｎｌｉｇｈｔ  ｅｍｉｔｔｅｒｓは、前記他の複数の光エミッタにおける光エミッタの数である、
前記請求項２７に記載の表示システム。
【請求項３１】
前記複数の光エミッタは、前記光入力端に沿って中心に置かれる、
前記請求項２７に記載の表示システム。
【請求項３２】
前記光ガイドは、前記ディスプレイの前にあり、前灯の一部であって、ここで、前記ディスプレイは、反射ディスプレイである、
前記請求項２７に記載の表示システム。
【請求項３３】
光源と、
前記光源から光を受信するように構成される光入力端であって、つや消しされ約０．１−３μｍの表面粗度Ｒａを持つ光入力端と、前記光入力端の横方向にある逆横端と、を持つ光ガイドと、
前記横端の少なくとも１つに沿う前記光源からの光を鏡面的に反射するための手段と、
を備える照明システム。
【請求項３４】
前記光源は、前記光ガイド内に光を導入するように構成される複数の光エミッタを含む、
前記請求項３３に記載の照明システム。
【請求項３５】
前記光ガイドは、ガラスから形成される、
前記請求項３４に記載の照明システム。
【請求項３６】
光を反射するための前記手段は、前記横端の少なくとも１つの表面である、
前記請求項３４に記載の照明システム。
【請求項３７】
前記表面は、前記横端の前記少なくとも１つに沿う少なくとも約５ｍｍの途切れない距離上で鏡面反射を供給する、
前記請求項３６に記載の照明システム。
【請求項３８】
光を反射するための前記手段は、前記横端の少なくとも１つから離れて配置される鏡面反射板を含む、
前記請求項３４に記載の照明システム。
【請求項３９】
鏡面反射板である光学端を持つ光ガイドを供給することと、
前記光ガイドの光入力端で光エミッタを供給することと、
を備え、
ここで、前記鏡面反射板は、前記光学端の途切れない長さ上で前記光エミッタからの光の鏡面反射を供給するように構成され、前記長さは、約５ｍｍ又はそれ以上であり、
ここで、前記光学端は、前記光入力端の横方向にあり、
ここで、光入力端は、つや消しされ約０．１−３μｍの表面粗度Ｒａを持つ、
照明システムを製造するための方法。
【請求項４０】
前記光ガイドを供給することは、前記光ガイドの前記光学端で前記鏡面反射板を形成するため光学的に透明な素材をレーザカッティングすることを含む、
前記請求項３９に記載の方法。
【請求項４１】
光学的に透明な前記素材は、ガラスである、
前記請求項４０に記載の方法。
【請求項４２】
前記光ガイドを供給することは、前記光学端を研ぎ及び磨くことを含む、
前記請求項３９に記載の方法。
【請求項４３】
前記光ガイドを供給することは、前記入力端の横方向にある前記光ガイドの前記光学端に隣接する前記鏡面反射板を取り付けることを含む、
前記請求項３９に記載の方法。
【請求項４４】
前記鏡面反射板を取り付けることは、前記光入力端の横方向にある前記光ガイドの前記光学端から離れて配置される前記鏡面反射板をそのままにしておく、
前記請求項４３に記載の方法。
【請求項４５】
前記光エミッタを供給することは、前記光入力端に沿って中心に置かれる複数の前記光エミッタを供給することを含み、ここで、前記光エミッタのピッチは、約ΔＬであり、ここで、
【数５】
2014503108.tif 000062
但し、ΔＬは、隣接する光エミッタの個々の位置の間の距離であり、
Ｌｌｉｇｈｔ  ｇｕｉｄｅは、前記光ガイドの前記横端間の距離であり、
Ｎｌｉｇｈｔ  ｅｍｉｔｔｅｒｓは、前記複数の光エミッタにおける光エミッタの数である、
前記請求項３９に記載の方法。
【請求項４６】
前記光ガイドを供給することは、前記光入力端状に光学的に拡散する表面を形成するために前記光入力端を粗くすることを含む、
前記請求項３９に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
この開示において記述される技術主題の他の革新的な態様は、照明システムにおいて実施されることができる。照明システムは、光を発散する手段と、光発散手段に向く光入力端を持ち光入力端の横方向にある横端と反対にある光ガイドと、横端の少なくとも１つに沿って光を反射する手段と、を含む。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
光エミッタ１１０ａは、限定ではなく、発光ダイオード（ＬＥＤ）、電球、レーザ、蛍光灯、又は、光エミッタの任意の他の形式のような発光機器であり得ある。いくつかの他の実施形態において、光バーの形式における単一の信号光エミッタ１１０ａは、光入力端１１２の大部分に沿って広がる。ある実施形態において、光が全反射（ＴＩＲ）によって光ガイド１００内に反射するように、光の一部が光ガイド１００の主要表面１１０ａと比較して低度の各で光ガイド１００の少なくとも一部を横切る方向において広がるように、光エミッタ１１０ａからの光は、光ガイド１００内へ導入される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８２】
光入力端の粗くされる表面はまた、つや消し表面と呼ばれ得る。いくつかの実施形態において、光入力端１１２及び／１４２は、それらの端の１つ又はそれ以上から材料を取り除き、それによってつや消し表面を形成するための摩耗又は他の処理を受けさせられ得る。光入力表面１１２を摩耗するための処理の例は、研磨粒子を持つ紙やすり又は他の材料を用いて表面をこすること、光入力表面上に研磨粒子を置くこと、光入力表面を化学エッチングすること、及びそれらの組み合わせを含む。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８３】
いくつかの実施形態において、光入力表面１１２を磨くことは、約２２０若しくはそれ以上、約２８０−６００、約２８０−５００、又は約３６０−４００のグリッド数を持つ、研磨道具、たとえば、紙やすり、を使用して達成される。いくつかの適用において、約２８０−５００又は訳３６０−４００のグリッド数は、輝度の高いレベルを維持する間、クロスハッチ効果を減少させるための格別の利点を供給する。いくつかの実施形態において、つや消し表面１１２は、訳０．５μｍ、約０．７−２μｍ、約０．８−１．５μｍ、又は、約０．８−１．２μｍの表面粗度Ｒａを持つ。いくつかの適用において、約０．８−１．５μｍ、又は約０．８−１．２μｍの表面粗度Ｒａは、優れた輝度レベルを持つ照明機器を供給する間にクロスハッチ効果における減少を可能にする。いくつかの実施形態において、現在のつや消し表面を持たないことと比べると、輝度における減少は、約２０％を下回り、又は、約１０％を下回る。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０３】
表示機器４０のコンポーネントは、図２０Ｂにおいて概略的に示される。表示機器４０は、覆い４１を含み、その中に少なくとも部分的に封入される追加のコンポーネントを含むことができる。たとえば、表示機器４０は、トランシーバ４７に接続されるアンテナ４３を含むネットワークインターフェース２７を含む。トランシーバ４７は、プロセッサ２１に接続され、ここでそれは、調整ハードウェア５２に接続される。調整ハードウェア５２は、信号を調節する（たとえば、信号をフィルタ処理する）ように構成され得る。調整ハードウェア５２は、スピーカ４５及びマイクロフォン４６に接続される。プロセッサ２１はまた、入力機器４８及びドライバコントローラ２９に接続される。ドライバコントローラ２９は、フレームバッファ２８に及びアンテナドライバ２２に接続され、ここでそれは、表示アレイ３０に順々に接続される。電力供給５０は、個々の表示機器４０の設計によって要求されるような全てのコンポーネントへ電力を供給することができる。
【国際調査報告】
2014503108.tif 000063
2014503108.tif 000064
2014503108.tif 000065
2014503108.tif 000066
2014503108.tif 000067
2014503108.tif 000068