(57)【要約】  本発明は、有機発光体を製造するための方法に関する。この方法の場合、ボトム電極層が、提供された基板上にこの基板にわたってストリップ状に形成され、有機発光層が、このボトム電極層の少なくとも一部上にストリップ状に形成され、上部電極層が、この有機電極層の少なくとも一部上にストリップ状に形成される。この課題は、有機発光体の製造時のインライン真空処理装置の効率を向上させること、このときに陰極及び陽極用の電気接続を実施するためのステップを簡単にすることである。この課題は、前記ボトム電極層の少なくとも１つの領域が、前記層の形成後に蒸着されていないように、前記層が、前記基板に沿って設けられた固定式のシャドウマスクと一緒にインライン真空蒸着装置内で蒸着によってストリップ状に形成されることによって解決される。
2014503944.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機発光体を製造するための方法であって、
・基板（２００）を提供するステップと、
・前記基板（２００）上にボトム電極層（２０２）を形成するステップと、
・前記ボトム電極層（２０２）の少なくとも一部上に少なくとも１つの有機発光層（２０３）をストリップ状に形成するステップと、
・前記有機発光層（２０３）の少なくとも一部上に上部電極層（２０４）をストリップ状に形成するステップと、
・導電トラック層（２０５）ストリップ状に形成するステップとを有する当該方法において、
前記ボトム電極層の少なくとも１つの領域が、前記層（２０３，２０４，２０５）の形成後に蒸着されていないように、前記層（２０３，２０４，２０５）が、前記基板に沿って設けられた固定式のシャドウマスクと一緒にインライン真空蒸着装置内で蒸着によってストリップ状に形成されることを特徴とする方法。
【請求項２】
前記方法は、前記ボトム電極層（２０２）を形成するステップの前に前記基板（２００）上に平滑化層（２０１）を形成するステップを有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記方法は、少なくとも１つの有機発光層（２０３）を形成するステップの前にレーザーによって前記ボトム電極層（２０２）をパターン形成するステップを有する請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
レーザーによって前記ボトム電極層（２０２）をパターン形成する前記ステップは、互いに電気絶縁された複数の領域（２０２．１，２０２．２）に分離することを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記方法は、前記上部電極層（２０４）を形成するステップの前にレーザーによって少なくとも１つの有機発光層（２０３）をパターン形成するステップを有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記方法は、前記上部電極層（２０４）と引き続く前記導電トラック層とを形成するステップ後にレーザーによってこれらの層をパターン形成するステップを有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
レーザーによって前記上部電極層（２０４）をパターン形成する前記ステップは、この上部電極層の互いに電気絶縁された複数の領域（２０４．１，２０４．２）に分離することを特徴とする請求項６に記載の方法。
【請求項８】
蒸着方向が、垂直方向に延在するように、前記基板（２０３）が、複数の蒸着源を水平な経路方向に通過することを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
前記固定式のシャドウマスクは、前記蒸着源と通過された前記基板との間に配置されていることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
前記層（２０２，２０３，２０４，２０５）は、真空蒸着法又はスパッタ法によって形成されることを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
複数の前記電極層（２０２，２０４）のうちの少なくとも１つの電極層が、透明な導電層若しくは金属、特に銀を含むか又は透明な導電層若しくは金属、特に銀から成ることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
前記導電トラック層（２０５）は、好ましくは金属を含むか又は金属から成る少なくとも１つの導電トラックを有することを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
前記方法は、有機発光積層スタックを形成するように少なくとも１つの有機発光層（２０３）をストリップ状に形成するステップ中に好ましくは複数の、特に３つの有機発光層（２０３．１，２０３．２，２０３．３）を有し、それぞれの有機発光層（２０３．１，２０３．２，２０３．３）は、光をそれぞれ異なる色彩にさせるために適していることを特徴とする請求項１〜１２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
前記有機発光層スタックは、別の有機発光層、特に正孔輸送層（ＨＴＬ）及び電子輸送層（ＥＴＬ）を有することを特徴とする請求項１〜１３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】
前記ボトム電極層（２０２）は、平坦に又はストリップ状に形成されることを特徴とする請求項１〜１４のいずれか１項に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、請求項１の上位概念に記載の有機発光体、特に有機発光ダイオードを製造するための方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機発光体、特に有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）は、現在では既に家電の多くの分野で、例えば表示装置の用途で使用され、照明産業では未来技術とも考えられている。有機発光ダイオードの構造が、１つ又は複数の有機発光層（ＥＭＩ）を有する。当該有機発光層は、２つの電極の間に配置されている、例えば基板上の陰極と陽極との間に配置されている。当該有機発光ダイオードの構造に関しては、電子の移動度及び電流密度と、正孔の移動度及び電流密度とは異なるので、有機半導体中の正孔の移動度は、電子の移動度と比べて２オーダー大きいので、通常は１つの有機発光ダイオードが、２つの層である正孔輸送層（ＨＴＬ）と電子輸送層（ＥＴＬ）とをさらに有する。この正孔輸送層及び電子輸送層の役割は、正孔及び電子を放射区域内に伝達することである。図１中には、従来の技術から公知の有機発光ダイオードの概略的な構造を示す。この有機発光ダイオードは、基板１００から構成される。オプションとしての平滑化層１０１、陽極層１０２、正孔輸送層１０３（ＨＴＬ）、少なくとも１つの放射層１０４（ＥＭＬ）、電子輸送層１０５（ＥＴＬ）及び陰極層１０６が、この順序でこの基板１００上に蒸着されてある。図１では、放射層１０４は、３つの別々の放射層から構成される。これらの放射層はそれぞれ単独で、異なる色彩（例えば、赤色、緑色、青色）を放射し、白色光を発生させ得る。
【０００３】
電圧が、陽極と陰極との間に印加されるときに、これらの有機発光層が、光を放射する。電荷キャリアが、これらの電極に対する当該印加された電圧によって有機材料中に注入される。当該電荷キャリアの注入は、電荷キャリアを放射区域内に伝達させる。この放射区域では、電荷キャリアが再結合し、次いで発光が引き起こされる。
【０００４】
陰極と陽極との電気接続、及び放射層の通電を可能にするため、個々の層が、全面上に蒸着されるのではなくて、パターン形成されて蒸着される。米国特許第７０４９７５７号明細書は、パターン形成された蒸着の可能性を開示する。この米国特許第７０４９７５７号明細書は、基板と一緒に移動されるシャドウマスクによる蒸着を開示する。さらに、パターン形成方法が、米国特許出願公開第２００５／０２３６９７５号明細書の従来の技術において記されている。この明細書では、蒸着されている層が、レーザーによって取り除かれる。パターン形成された蒸着の別の可能性は、特に基板上に形成された第１ボトム電極をパターン形成するためのリソグラフィーパターンニング／湿式法パターンニングである。これらの公知の方法は、一緒に使用されるシャドウマスクの複雑な操作の欠点を有し、ロールツーロール法で連続するフレキシブル基板を蒸着するためには適しない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】米国特許第７０４９７５７号明細書
【特許文献２】米国特許出願公開第２００５／０２３６９７５号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の課題は、有機発光体の製造時のインライン真空処理装置の効率を向上させること、このときに陰極及び陽極用の電気接続を実施するためのステップを簡単にすることである。この場合、当該製造は、経費効率が良くなくてはならず、特に商業的に使用可能でなければならず、従来よりも高い処理能力によって可能でなければならない。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
この課題は、請求項１に記載の方法によって解決される。この方法の好適なその他の構成は、それぞれの従属請求項に記載されている。
【０００８】
有機発光体を製造するための本発明の方法は、複数の層がストリップ状に蒸着される点で優れている。この場合、ボトム電極層の少なくとも１つの領域が、これらの層の形成後に蒸着されていないように、すなわちボトム電極層の少なくとも１つの領域が、これらの層の形成後に引き続き蒸着されないように、これらの層が、基板に沿って設けられた固定式のシャドウマスクと一緒にインライン真空蒸着装置内で蒸着によってストリップ状に形成される。少なくとも１つの有機発光層、１つの上部電極層及び１つの導電トラック層が、当該ストリップ状に形成されるこれらの層に含まれる。換言すると、ボトム電極層の少なくとも１つの領域が、これらの層の形成後に蒸着されていないとは、これらの層のうちの１回のストリップ状の蒸着ごとに、ボトム電極層の少なくとも１つの領域が蒸着されていないことを意味する。このことは、ボトム電極層の少なくとも１つの領域が、最後の層の蒸着後に蒸着されていないことを意味する。
【０００９】
本発明では、「インラインプロセス制御」は、異なる層を形成するために基板を１つの蒸着ステーションからその次の蒸着ステーションまで物理的に搬送することを意味する。この場合、当該基板は、その蒸着工程中にもさらに搬送される。当該方法は、連続装置内で基板つまりロールツーロール方式で蒸着されている１つの連続基板又はほぼ連続して同期移動する一続きの複数の平坦なパッケージ基板を連続搬送するコンベヤベルトを用いて実施され得る。
【００１０】
本発明の方法の好適なその他の構成では、当該方法が、ボトム電極層を形成するステップの前に基板上にオプションとして絶縁する平滑化層を形成するステップを有する。表面が粗いときに、当該構成要素内の短絡及び当該構成要素間の短絡を阻止するため、例えば、この基板の表面を滑らかにするためのラッカーを絶縁する平滑化層の下に施すことが必要である。好ましくは、平滑化層が、この基板上に平坦に形成される。
【００１１】
本発明の方法の好適なその他の構成では、当該方法が、少なくとも１つの有機発光層を形成するステップの前にレーザーによってボトム電極層をパターン形成するステップを有する。レーザーによって処理されてあるボトム電極層の領域内では、ボトム電極層の材料が、基板まで、オプションとしては平滑化層まで取り除かれる。その結果、互いに電気絶縁されているボトム電極層の領域が形成されている。好ましくは、それぞれ１つの有機発光体に対して、ボトム電極層が、このボトム電極層の２つの領域に分離される。これらの領域は、互いに電気絶縁されている。この場合、互いに電気絶縁されたこれらの領域の少なくとも一部が、後続する層の蒸着によって蒸着されないままである、すなわち引き続き蒸着されない。これによって、接続可能な有機発光ダイオード構造体を簡単に製造するため、パターン形成方法、すなわちレーザーパターン形成方法と固定式のシャドウマスクによる蒸着とを一緒に組み合わせる方法が実施される。基板を蒸着源又はパターン形成ステーションの前方で停止させることなしに、且つ、シャドウマスクを一緒に移動させることなしに、複数の工程のこの組み合わせは、１つのインライン真空蒸着装置内の連続して移動する連続基板で又はほぼ連続する一続きの複数のウェハで実施され得る。
【００１２】
本発明の方法の別の好適なその他の構成では、当該方法が、上部電極層を形成するステップの前にレーザーによって少なくとも１つの有機発光層をパターン形成するステップを有する。この場合、少なくとも１つの有機発光層が、シャドウマスクによってパターン形成された当該有機発光層の蒸着後に引き続きレーザーを用いてパターン形成され得る。
【００１３】
本発明の方法の別の好適なその他の構成によれば、当該方法が、上部電極層と引き続く導電トラック層とを形成するステップ後にレーザーによってこれらの層をパターン形成するステップを有する。これによって、この上部電極層の互いに電気絶縁された領域と、この導電トラック層の互いに電気絶縁された領域とが分離され得る。
【００１４】
本発明によれば、それぞれの層が、複数の蒸着源によって蒸着される。これらの蒸着源は、基板の経路の下方に配置されている。すなわち、これらの蒸着源は、ほぼ垂直に上方を向いている。この場合、蒸着方向が、垂直方向に延在するように、基板が、これらの蒸着源を水平方向に通過する。この場合、これらの用語「水平方向」及び「垂直方向」は、真の水平方向又は垂直方向から２０％まで外れるものも一緒に含みうる。すなわち、これらの用語は、蒸着方向がほぼ垂直方向に延在するように、基板がこれらの蒸着源をほぼ水平方向に通過することを意味する。こうして、インライン真空蒸着装置が使用され得る。このインライン真空蒸着装置内では、これらの蒸着源が、当該真空蒸着装置の蒸着方向に対して垂直方向に整列されている。当該真空蒸着装置では、基板が、水平方向に搬送される。これによって、搬送中の基板の操作が簡単になる。何故なら、この基板が、例えば搬送ローラによって搬送され得るからである。
【００１５】
この代わりに、基板と蒸着源と蒸着方向との間に別の空間関係も適用され得る。例えば、水平な蒸着方向のときの垂直方向に配向された基板が適用され得る。
【００１６】
本発明によれば、少なくとも１つの固定式のシャドウマスクが、それぞれの蒸着源と通過されたそれぞれの基板との間に配置されている。この場合、各固定式のシャドウマスクは、少なくとも１つのストリップ状の開口部を有する。複数の層が、当該開口部を通じてストリップ状のパターン構造で、通過された又は通過する基板上に動的に蒸着される。一緒に移動されるシャドウマスクの複雑な操作が回避され得る。有機発光層、上部電極層及び導電トラック層のような層が、固定式のシャドウマスクを用いて蒸着される。ボトム電極層が、平坦に又はストリップ状に蒸着され得る。ボトム電極層をストリップ状に形成する場合には、１つの固定式のシャドウマスクが、対応する蒸着源と通過された基板との間に設けられている。
【００１７】
本発明によれば、スパッタ法又は熱蒸着法が、蒸着方法として使用される。特に、ボトム電極層、有機発光層、上部電極層及び導電トラック層のような層が、真空蒸着法によって形成される。ボトム電極層は、オプションとしてスパッタ法によってインライン式に又は外部の装置内で蒸着され得る。
【００１８】
本発明の少なくとも１つの実施の形態によれば、複数の電極層のうちの少なくとも１つの電極層が、透明な導電層若しくは金属、特に銀（Ａｇ）を含むか又は透明な導電層若しくは金属、特に銀（Ａｇ）から成る。銀は、その導電率に起因して電極として非常に良好な特性を有する。本発明の方法の別の構成では、ボトム電極層が、透明な導電層として形成される。金属層を含むか又は金属層から成る電極層が、有機層スタックから放射された光に対して透過性に形成されなければならない場合、当該金属層は、十分に薄く形成される必要がある。特に、半透明な金属層の厚さは、約１００ｎｍである。
【００１９】
発光体の少なくとも１つの実施の形態によれば、導電トラック層が、好ましくは金属を含むか又は金属から成る少なくとも１つの導電トラックを有する。当該導電トラックは、上部電極層に電気接続し、第１接続領域として働く。当該第２接触領域は、−例えば第２給電線を通じて−第２電極、すなわち発光体のボトム電極層に適切に導電接続されている。
【００２０】
本発明の方法の好適な構成では、当該方法が、有機発光積層スタックを形成するように少なくとも１つの有機発光層をストリップ状に形成するステップ中に好ましくは複数の、特に３つの別々の有機発光層を有する。この場合、それぞれの有機発光層は、光をそれぞれ異なる色彩、例えば赤色、緑色又は青色にさせるために適している。
【００２１】
本発明の方法の別の好適な構成では、有機発光層スタックが、別の有機発光層、特に正孔輸送層及び電子輸送層を有する。この場合、ボトム電極層の少なくとも１つの領域が、蒸着されていないように、これらの層も、ストリップ状に形成される。
【００２２】
有機発光層スタックが、有機発光層に加えて、例えば正孔注入層、正孔輸送層、電子遮断層、電子注入層、電子輸送層及び正孔遮断層のような、別の有機層を有することが考えられる。この場合、正孔注入層、正孔輸送層及び電子遮断層は、好ましくは有機発光層スタックの陽極側に配置されている。一方で、電子注入層、電子輸送層及び正孔遮断層は、好ましくは有機発光層スタックの陰極側に配置されている。この場合、有機発光層は、好ましくは電子遮断層と正孔遮断層との間に配置されている。複数の有機発光層を使用する場合、別の電気機能層が、これらの有機発光層の間に配置され得る。
【００２３】
以下に、本発明を図面を参照しつつ好適な実施の形態に基づいて詳しく説明する。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】従来の技術による有機発光体の概略構造図である。
【図２ａ】有機発光体を製造するための個々のステップに対する層構造の平面図である。
【図２ｂ】有機発光体を製造するための個々のステップに対する層構造の平面図である。
【図２ｃ】有機発光体を製造するための個々のステップに対する層構造の平面図である。
【図２ｄ】有機発光体を製造するための個々のステップに対する層構造の平面図である。
【図３】本発明の方法によって製造された有機発光体の横断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
本発明の方法では、インライン真空蒸着装置が使用される。このインライン真空蒸着装置内では、複数の基板又は１つの大面積の基板が、蒸着ステーション又は処理ステーションを通過し、複数の有機発光ダイオードが、これらの基板／この大面積の基板上に製造される。図２ａ〜２ｄ中には、４つの有機発光ダイオード構造体が、当該大面積の基板上に示されているものの、これらの有機発光ダイオード構造体の配置及び数は、この例に限定されず、有機発光ダイオード構造体の別の組み合わせも考えられる。
【００２６】
本発明の方法の第１ステップでは、１つの基板２００が提供される。この基板２００は、アルミニウムを含むか又はアルミニウムから成る。この基板２００の厚さは、０．２〜０．５ｍｍの範囲内にある。この基板が、長手方向に延在した真空蒸着装置内で基板搬送システム（図示せず）によって搬送方向に移動され、この真空蒸着装置を通過し、別の複数の処理ステーションを通過する。
【００２７】
その次のステップでは、オプションとして、平滑化層２０１が、基板２００上に蒸着される。基板の表面が粗いときに、当該構成要素内の短絡及び当該構成要素間の短絡を阻止するため、例えば、この基板の表面を滑らかにするためのラッカーを平滑化層２０１の下に施すことが必要である。好ましくは、平滑化層２０１が、この基板上に平坦に形成される。本発明の方法のその次のステップでは、ボトム電極層２０２が、この平滑化層２０１上に平坦に形成される。当該ボトム電極層２０２の蒸着は、真空蒸着装置内で又は外部の装置内でスパッタ法によってインライン式に実施され得る。当該ボトム電極層２０２の形成は、熱蒸着法によっても可能である。このボトム電極層２０２は、銀（Ａｇ）を含むか又は銀（Ａｇ）から成る。このボトム電極層２０２の終了した蒸着工程後に、オプションとして、ベース電極層とも呼ばれるこのボトム電極層２０２が、レーザーによってパターン形成され得る。図２ａには、レーザーによってパターン形成された（黒色で印を付けた）４つの同じ構造体が、基板の上側内と下側内とにそれぞれ２つずつ示されている。この場合、中心線が、基板の搬送方向に対して平行に延在する。これらの構造体は、この中心線に沿って且つ基板の搬送方向に対して直角に互いに対称に配置されている。図３中で分かるように、当該黒色で印を付けた領域は、ボトム電極層２０２の領域を示す。当該領域は、レーザーによって平滑層２０１まで又はオプションとして基板２００まで取り除かれてある。これによって、それぞれの有機発光構造体（ＯＬＥ構造体）用のボトム電極層２０２の互いに絶縁されたこれらの領域が分離されてある。４つの構造体の各々の内側領域がそれぞれ、第１電気絶縁領域２０２．１を示す。以下で外側領域とも呼ばれる長方形を成す４つの構造体のうちの１つの構造体の周りに配置されている領域がそれぞれ、当該第１電気絶縁領域から絶縁された第２電気絶縁領域２０２．２を示す。当該それぞれの長方形の大きさは、基板の面積の４分の１の大きさに相当する。
【００２８】
図２ｂでは、その次のステップで、少なくとも１つの有機発光層（放射層）２０３が、ボトム電極層２０２上にストリップ状に蒸着される。当該有機発光層２０３の蒸着は、熱蒸着法によってインライン式に実施される。その層厚は、約２００ｎｍである。それ外の有機発光層２０３．２，２０３．３が、ストリップ状に蒸着されてもよい。図２ｂ中の当該ストリップ状の蒸着は、基板の搬送方向に対して平行に延在するこの基板の中心線からこの基板の上側の部分内と下側の部分内との双方のそれぞれで実施される。この場合、４つの構造体のそれぞれ１つの構造体に対するボトム電極層２０２の少なくとも１つの領域が、蒸着されていないことが重要である。この場合、それぞれの構造体に対する当該領域は、その構造体の内側領域２０２．１と外側領域２０２．２とのうちの少なくとも１つの領域を有する。これらの両領域２０２．１及び２０２．２は、互いに電気絶縁されている。ボトム電極層２０２の材料が、レーザーを用いたパターン形成によって基板２００まで、オプションとしては平滑化層２０１まで取り除かれたことによって、放射層２０３が、このボトム電極層２０２のこれらの領域のうちの（黒色で印を付けた）１つの領域上に同様に蒸着されるので、この放射層２０３の一部が、基板２００上に又は平滑化層２０１上に直接蒸着される。オプションとしては、有機発光層２０３が、レーザーによってもパターン形成され得る（図示せず）。
【００２９】
図２ｃ中に示されている本発明の方法のその次のステップでは、上部電極層２０４が、有機発光層２０３の少なくとも１つの領域上にストリップ状に蒸着される。その結果、この有機発光層２０３の少なくとも１つの領域が、蒸着されていなく、ボトム電極層２０２の有機発光層なしの領域も覆われない。当該上部電極層２０４は、銀を含むか又は銀から成る。蒸着が、インライン真空蒸着装置内で固定式のシャドウマスクの開口部を通じて熱蒸着法によって実施される。図２ｃ中の当該ストリップ状の蒸着は、基板の搬送方向に対して平行に延在するこの基板の中心線からこの基板の上側の部分内と下側の部分内との双方のそれぞれで実施される。オプションとして、この上部電極層２０４が、互いに電気絶縁された複数の上部電極層に分離されるようにレーザーによってパターン形成され得る（図示せず）。
【００３０】
その次の図２ｄ中に示された本発明の方法のステップが、導電トラック層２０５をストリップ状に形成することを含む。この場合、少なくともボトム電極層２０２の有機発光層なしの領域が、導電トラック層で蒸着されていない。ボトム電極層２０２と上部電極層２０４との間の短絡を阻止するため、好ましくは、上部電極層２０４と導電トラック層２０４との下では、基板２００の搬送方向に対して直角に、有機発光層２０３が、その両側で張り出しているように、この導電トラック層２０５が、有機発光層２０３上に形成される。この導電トラック層２０５は、好ましくは金属を含むか又は金属から成る少なくとも１つの導電トラックを構成する。この導電トラック層２０５は、通常は良好な導電性を呈する。その結果、この導電トラック層２０５は、電荷キャリアを有機層スタック中に注入するために特に良好に適している。さらに、好ましくは、図２ｄ中の当該金属トラックが、この金属トラックを包囲している上部電極層の面積のうちのこの上部電極層のほんの少しの部分しか占有しないように、この金属トラックは形成されている。この金属トラックは、上部電極層に電気接続し、接続領域として働く。当該第２接触領域は、−例えば第２給電線を通じて−第２電極、すなわち発光体のボトム電極層に適切に導電接続されている。
【００３１】
オプションとして、当該導電トラック層が、レーザーによってパターン形成され得る（図示せず）。複数の同じ有機発光体が、１つのインライン真空蒸着装置内で製造されることが、当該方法によって可能である。
【００３２】
図３によれば、本発明の方法によって製造された有機発光体が、基板２００を有する。層組織が、この基板２００上に形成されている。この層組織は、レーザーによってパターン形成されたボトム電極層２０２、有機発光層２０３、上部電極層２０４及び導電トラック層２０５をこの順序で有する。当該パターン形成されたボトム電極層２０２は、レーザーを用いたパターン形成の結果として互いに電気絶縁されている２つの領域２０２．１，２０２．２を有する。当該レーザーを用いたパターン形成の結果として、ボトム電極層２０２の材料が、平滑化層２０１まで取り除かれた。その結果、溝が、ボトム電極層２０２内に形成されている。この溝は、当該両領域２０２．１，２０２．２を互いに分離させる。当該有機発光層は、３つの別々の有機発光層２０３．１，２０３．２，２０３．３から構成される。この場合、各層が、光を異なる色彩で放射する。ボトム電極層の少なくとも１つの領域が、蒸着されていないように、これらの層２０３．１，２０３．２，２０３．３，２０４，２０５が蒸着されてある。当該ボトム電極層のこの領域が、互いに電気絶縁された両領域２０２．１，２０２．２の一部を有する。当該有機発光層が、レーザーによってパターン形成されたボトム電極層の領域の１つの領域上に同様に蒸着されるので、この放射層の一部が、当該レーザーを用いてパターン形成された溝としてのこの領域内で平滑化層上に直接蒸着される。少なくともボトム電極層の有機発光層なしの領域と、この有機発光層の少なくとも１つの領域とが、ストリップ状の上部電極層２０４によって蒸着されていないように、この上部電極層２０４は蒸着されている。導電トラック層２０５が、同様にストリップ状に形成される。この場合、この導電トラック層２０５が、この上部電極層２０４の面積のうちのほんの少しの部分しか占有しないように、この導電トラック層２０５は有益に形成されている。
【符号の説明】
【００３３】
１００                    基板
１０１                    平滑化層
１０２                    陽極層
１０３                    正孔輸送層
１０４                    発光層
１０５                    電子輸送層
１０６                    陰極層
２００                    基板
２０１                    平滑化層
２０２                    ボトム電極層
２０２．１，２０２．２    ボトム電極層の互いに電気絶縁された領域
２０３                    有機発光層
２０３．１，２０３．２，  異なる色の光を発光する有機層
２０３．３                
２０４                    上部電極層
２０４．１，２０４．２    上部電極層の互いに電気絶縁された領域
２０５                    導電トラック層
【図１】
2014503944.tif 000003
【図２ａ】
2014503944.tif 000004
【図２ｂ】
2014503944.tif 000005
【図２ｃ】
2014503944.tif 000006
【図２ｄ】
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【図３】
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【手続補正書】
【提出日】平成25年6月25日(2013.6.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機発光体を製造するための方法であって、
・基板（２００）を提供するステップと、
・前記基板（２００）上にボトム電極層（２０２）を形成するステップと、
・前記ボトム電極層（２０２）の少なくとも一部上に少なくとも１つの有機発光層（２０３）をストリップ状に形成するステップと、
・前記有機発光層（２０３）の少なくとも一部上に上部電極層（２０４）をストリップ状に形成するステップと、
・導電トラック層（２０５）ストリップ状に形成するステップとを有する当該方法において、
前記ボトム電極層の少なくとも１つの領域が、前記層（２０３，２０４，２０５）の形成後に蒸着されていないように、前記層（２０３，２０４，２０５）が、前記基板に沿って設けられた固定式のシャドウマスクを用いてインライン真空蒸着装置内で蒸着によってストリップ状に形成されることを特徴とする方法。
【請求項２】
前記方法は、前記ボトム電極層（２０２）を形成するステップの前に前記基板（２００）上に平滑化層（２０１）を形成するステップを有することを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記方法は、少なくとも１つの有機発光層（２０３）を形成するステップの前にレーザーによって前記ボトム電極層（２０２）をパターン形成するステップを有する請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
レーザーによって前記ボトム電極層（２０２）をパターン形成する前記ステップは、互いに電気絶縁された複数の領域（２０２．１，２０２．２）に分離することを特徴とする請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記方法は、前記上部電極層（２０４）を形成するステップの前にレーザーによって少なくとも１つの有機発光層（２０３）をパターン形成するステップを有することを特徴とする請求項１又は４に記載の方法。
【請求項６】
前記方法は、前記上部電極層（２０４）と引き続く前記導電トラック層とを形成するステップ後にレーザーによってこれらの層をパターン形成するステップを有することを特徴とする請求項１又は５に記載の方法。
【請求項７】
レーザーによって前記上部電極層（２０４）をパターン形成する前記ステップは、この上部電極層の互いに電気絶縁された複数の領域（２０４．１，２０４．２）に分離することを特徴とする請求項６に記載の方法。
【請求項８】
蒸着方向が、垂直方向に延在するように、前記基板（２０３）が、複数の蒸着源を水平な経路方向に通過することを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
前記固定式のシャドウマスクは、前記蒸着源と通過された前記基板との間に配置されていることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
前記層（２０２，２０３，２０４，２０５）は、真空蒸着法又はスパッタ法によって形成されることを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
複数の前記電極層（２０２，２０４）のうちの少なくとも１つの電極層が、透明な導電層若しくは金属、特に銀を含むか又は透明な導電層若しくは金属、特に銀から成ることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
前記導電トラック層（２０５）は、好ましくは金属を含むか又は金属から成る少なくとも１つの導電トラックを有することを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
有機発光積層スタックを形成するため、前記方法は、少なくとも１つの有機発光層（２０３）をストリップ状に形成するステップで、好ましくは複数の、特に３つの有機発光層（２０３．１，２０３．２，２０３．３）を形成し、
それぞれの有機発光層（２０３．１，２０３．２，２０３．３）は、光をそれぞれ異なる色彩で発生させることに適していることを特徴とする請求項１〜１２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
前記有機発光層スタックは、別の有機発光層、特に正孔輸送層（ＨＴＬ）及び電子輸送層（ＥＴＬ）を有することを特徴とする請求項１〜１３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】
前記ボトム電極層（２０２）は、平坦に又はストリップ状に形成されることを特徴とする請求項１〜１４のいずれか１項に記載の方法。
【国際調査報告】
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