(57)【要約】  本発明は半導体ウェーハ検査システムにおいて用いられる高速回転チャックを対象とする。本開示のチャックは乱流低減リップ部を有するよう構成される。チャックの回転は、ウェーハ表面の近傍およびチャック底部の近傍において径方向空気流を生成する。本開示のチャックの乱流低減リップ部は、これらの径方向空気流同士の間で形成される低圧ゾーンの寸法が最小化される様式で、ウェーハの上面およびチャックの底面から離脱する方向に径方向空気流を誘導する。低圧ゾーンの最小化は、チャックおよび基板の周縁部周りにおける空気乱流を低減し、それにより、システム内の混入物質が係る空気乱流により基板の表面上に誘導される可能性が低減される。【選択図】図２Ａ
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を支持および保持するよう構成された第１面と、
前記第１面に略反対側に構成され、傾斜部分および湾曲部分のうちの少なくとも１つを含む、第２面と、
を備えるチャックであって、
チャックは、前記第１面に対して垂直である垂直軸を中心にチャックを回転させるよう構成された駆動機構に接続されるよう構成され、
チャックの前記第１面、およびチャックの前記第２面の前記傾斜部分および湾曲部分のうちの少なくとも１つは、チャックの回転時にチャックの近傍における空気乱流の低減を促進し、チャックの回転時に前記基板の近傍において生成される第１径方向空気流とチャックの前記第２面の近傍において生成される第２径方向空気流との間の分離の低減を促進し、それにより前記基板上における混入物質の堆積を低減することを促進するために、乱流低減リップ部を形成する、
チャック。
【請求項２】
前記軸はチャックの垂直中心軸である、請求項１に記載のチャック。
【請求項３】
前記基板は半導体ウェーハである、請求項１に記載のチャック。
【請求項４】
チャックは真空チャックである、請求項１に記載のチャック。
【請求項５】
チャックは縁部ハンドリングチャックである、請求項１に記載のチャック。
【請求項６】
前記駆動機構はモータに接続されたシャフトを備える、請求項１に記載のチャック。
【請求項７】
前記乱流低減リップ部は１〜２ミリメートルの範囲の厚さを有する、請求項１に記載のチャック。
【請求項８】
チャックはチャックの垂直中心軸を中心に１，０００〜１０，０００回転／分の範囲の速度で回転する、請求項１に記載のチャック。
【請求項９】
基板を検査するための検査システムであって、
前記基板を支持および保持するよう構成され、チャックを回転させるための駆動機構に接続されるよう構成された、チャックと、
前記基板の１つのエリアを照明する光ビームを生成するよう構成された光源と、
前記基板上の前記照明されたエリアから発せられた光を検出するよう構成された撮像カメラと、
前記光源からの光を前記基板の前記エリア上に集束するよう構成された照明光学系の組を含む光学要素の組であって、前記基板の前記エリアから発せられた光を収集し前記基板の前記エリアを前記撮像カメラの検出器部分上に撮像するよう構成された集光光学系の組をさらに備える、光学要素の組と、
を備え、
前記チャックは第１面および第２面を備え、前記第２面は前記第１面の略反対側に構成され、前記第１面は前記基板を支持するよう構成され、前記第２面は傾斜部分および湾曲部分のうちの少なくとも１つを備え、前記チャックの前記第１面、および前記チャックの前記第２面の前記傾斜部分および湾曲部分のうちの少なくとも１つは、前記チャックの回転時に前記チャックの近傍における空気乱流の低減を促進し、前記チャックの回転時に前記基板の近傍において生成される第１径方向空気流と前記チャックの前記第２面の近傍において生成される第２径方向空気流との間の分離の低減を促進し、それにより前記基板上におけるシステム内の混入物質の堆積を低減することを促進するために、乱流低減リップ部を形成する、
システム。
【請求項１０】
検査機器は明視野（ＢＦ）検査機器および暗視野（ＤＦ）検査機器のうちの少なくとも１つを含む、請求項９に記載のシステム。
【請求項１１】
前記チャックは、
真空チャックを含む、請求項９に記載のシステム。
【請求項１２】
前記光源は、
レーザ光源を含む、請求項９に記載のシステム。
【請求項１３】
前記乱流低減リップ部は０．１〜１０ミリメートルの範囲の厚さを有する、請求項９に記載のシステム。
【請求項１４】
前記基板は半導体ウェーハである、請求項９に記載のシステム。
【請求項１５】
前記チャックはスピンドルに接続される、請求項９に記載のシステム。
【請求項１６】
前記スピンドルはモータに接続され、前記モータは、前記スピンドルを駆動し、前記チャックを回転させるよう構成された、請求項１５に記載のシステム。
【請求項１７】
前記チャックは１０００〜２０００回転／分の範囲の速度で回転する、請求項１６に記載のシステム。
【請求項１８】
半導体ウェーハを検査するためのシステムであって、
前記半導体ウェーハを支持および保持するよう構成された真空チャックであって、シャフトおよびモータに接続されるよう構成され、前記シャフトおよびモータを介して回転されるよう構成された、真空チャックと、
前記半導体ウェーハ上の１つのエリアを照明する光ビームを生成するよう構成されたレーザ光源と、
前記半導体ウェーハ上の前記照明されたエリアから発せられた光を検出するよう構成された撮像カメラと、
前記光源からの光を前記半導体ウェーハの前記エリア上に集束するよう構成された照明光学系の組を含む光学要素の組であって、前記半導体ウェーハの前記エリアから発せられた光を収集し前記半導体ウェーハの前記エリアを前記撮像カメラの検出器部分上に撮像するよう構成された集光光学系の組をさらに備える、光学要素の組と、
を備え、
前記真空チャックは第１面および第２面を備え、前記第２面は前記第１面の略反対側に構成され、前記第１面は前記半導体ウェーハを支持するよう構成され、前記第２面は傾斜部分および湾曲部分のうちの少なくとも１つを備え、前記チャックの前記第１面および前記チャックの前記第２面の前記傾斜部分および湾曲部分のうちの少なくとも１つは、前記チャックの回転時に前記チャックの近傍における空気乱流の低減を促進し、前記チャックの回転時に前記基板の近傍において生成される第１径方向空気流と前記チャックの前記第２面の近傍において生成される第２径方向空気流との間の分離の低減を促進し、それにより前記ウェーハ上におけるシステム内の混入物質の堆積を低減することを促進するために、乱流低減リップ部を形成する、
システム。
【請求項１９】
検査機器は明視野（ＢＦ）検査機器および暗視野（ＤＦ）検査機器のうちの少なくとも１つを含む、請求項１８に記載のシステム。
【請求項２０】
前記乱流低減リップ部は１〜２ミリメートルの範囲の厚さを有する、請求項１８に記載のシステム。
【請求項２１】
前記チャックは１４００〜１６００回転／分の範囲の速度で前記チャックの中心軸を中心に回転し、前記中心軸は前記第１面に対して垂直である、請求項１８に記載のシステム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一般に、半導体ウェーハ検査システム等の検査システムと組み合わせて用いられる回転チャックに関し、より詳細には、係る検査システムとともに用いられる場合に空気流管理を可能にする高速回転チャックに関する。
【背景技術】
【０００２】
常に縮小化する半導体デバイスに対する需要が増え続けるのに伴い、改善された半導体製作手法および半導体ウェーハ検査感度に対する需要も増え続ける。最新の集積回路の複雑度が増大し続けるために、製作中および／または製作後に半導体ウェーハの表面上における欠陥の存在に対する許容範囲は縮小し続ける。一般にデバイスの製作および性能に悪影響を及ぼす１つの部類の欠陥は異物欠陥である。異物欠陥の１つの原因は既存のウェーハチャックシステムを利用することに起因する。高回転速度で回転すると、既存の回転ウェーハチャックシステムではウェーハとチャックとの組合せの上面および底面は渦巻きポンプとして作用する。この効果により、上面上および底面上に、中心部（例えばウェーハの中心）から表面の縁部に高速で移動する空気の層が上面底面形成される。外向きの空気流は、次に、上面および底面の中心部に低圧ゾーンを生成する。低圧ゾーンの作用により、より多量の空気がウェーハ領域の外側領域から中心部へと移動するよう促進される。低圧ゾーンに流れ込む傾向を有する空気は様々な種類の混入物質を含み得る。噴出された空気の頂部層および底部層は、チャック縁部からわずかに離れた場所で交わり、既存のチャックにおいては、チャックからある程度離れた場所で混合する。この結果、これら２つの空気流同士の間に低圧ゾーンが形成される。この低圧ゾーンは周囲の空気により直ちに充填され、それにより空気乱流ゾーンが生成される。この乱流は混入物質を下流側領域（すなわちチャックの下方）から導き得る。なお、この下流側領域のクリーン度は一般に十分ではない。この乱流の結果、混入物質が、ウェーハおよび／またはウェーハチャックの下方領域からウェーハの上面へと移動され得る。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】米国特許第７，０９２，０８２号
【特許文献２】米国特許第６，７０２，３０２号
【特許文献３】米国特許第６，６２１，５７０号
【特許文献４】米国特許第５，８０５，２７８号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
これらの混入物質が所与の半導体ウェーハの表面上に導入されることは、ウェーハ上に製作される半導体デバイスの性能に重大な影響を与える。そのため、乱流を沈静化し、それにより半導体製作プロセスまたは検査プロセスにおいてチャック回転により導入される異物混入を低減する、改善された回転ウェーハチャックを提供することが望ましい。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
したがって、本発明の一実施形態は高速回転チャックを対象とし、この高速回転チャックは、基板を支持および保持するよう構成された第１面と、第１面の略反対側に構成された第２面と、を含むがこれに限定されない。なお、第２面は傾斜部分および湾曲部分の少なくとも１つを備える。このチャックは、第１面に対して垂直な垂直軸を中心にこのチャックを回転させるよう構成された駆動機構に接続されるよう構成される。このチャックの第１面およびこのチャックの第２面の傾斜部分および湾曲部分のうちの少なくとも１つは、このチャックの回転時にこのチャックの近傍における空気乱流の低減を促進し、このチャックの回転時に基板の近傍において生成される第１径方向空気流とこのチャックの第２面の近傍において生成される第２径方向空気流との間の分離の低減を促進し、それにより基板上における混入物質の堆積を低減することを促進するために、乱流低減リップ部を形成する。
【０００６】
本開示のさらなる実施形態は半導体ウェーハ検査システムを対象とし、この半導体ウェーハ検査システムは、半導体ウェーハを支持および保持するよう構成された真空チャックであって、シャフトおよびモータに接続されるよう構成され、このシャフトおよびモータを介して回転されるよう構成された、真空チャックと、真空チャックにより支持および保持される半導体ウェーハの少なくとも１部分を光学的に検査するよう構成された検査機器であって、半導体ウェーハ上の１つのエリアを照明する光ビームを生成するよう構成されたレーザ光源を備える検査機器と、半導体ウェーハ上の照明されたエリアから発せられた光を検出するよう構成された撮像カメラと、光ビームにより照明される半導体ウェーハ上のエリアをカメラの撮像部分上に撮像するよう構成された光学要素の組と、を含むがこれに限定されない。なお、真空チャックは第１面および第２面を備え、第２面は第１面の略反対側に構成され、第１面は半導体ウェーハを支持するよう構成され、第２面は傾斜部分および湾曲部分のうちの少なくとも１つを備え、チャックの第１面およびチャックの第２面の傾斜部分および湾曲部分のうちの少なくとも１つは、チャックの回転時にチャックの近傍における空気乱流の低減を促進し、チャックの回転時に基板の近傍において生成される第１径方向空気流とチャックの第２面の近傍において生成される第２径方向空気流との間の分離の低減を促進し、それによりウェーハ上におけるシステム内の混入物質の堆積を低減することを促進するために、乱流低減リップ部を形成する。
【０００７】
上述の一般的な説明および以下の詳細な説明の両方が、単に代表的説明的であり、請求項に定められる本発明を必ずしも限定するものではないことを理解すべきである。添付の図面は、本明細書に組み込まれ本明細書の一部を構成するものであって、本発明の実施形態を例示し、一般的な説明とともに、本発明の原理を説明する機能を有する。
【０００８】
本発明の多くの利点は、以下の添付の図面を参照することにより、当業者により、よりよく理解され得る。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本開示の代表的な実施形態に係るウェーハチャックの概略図である。
【図２Ａ】基板を支持し本発明の代表的な実施形態に係るチャックを回転させるための駆動機構に接続されたチャックを示す、本実施形態に係る略円筒形状を有するウェーハチャックの概略図である。
【図２Ｂ】本開示の代表的な実施形態に係るウェーハチャックの概略図である。
【図３Ａ】本発明の一実施形態に係るウェーハチャックが備えられた検査システムのブロック図である。
【図３Ｂ】本発明の一実施形態に係るウェーハチャックが備えられた検査システムのブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
上述の一般的な説明および以下の詳細な説明の両方が、単に代表的な説明であり、請求項に定められる本発明を必ずしも限定するものではないことを理解すべきである。添付の図面は、本明細書に組み込まれ本明細書の一部を構成するものであって、本発明の実施形態を例示し、一般的な説明とともに、本発明の原理を説明する機能を有する。添付の図面に示す本開示の発明主題についてここで詳細に参照する。
【００１１】
概略的に図１〜図３Ｂを参照すると、本発明に係るウェーハチャック装置１００が図示される。本発明は、ウェーハ検査システム等の実装するシステム内で、高いウェーハ回転速度により生成される空気流パターンにより生じる異物混入の低減化に好適である改善されたウェーハチャック１００を対象とする。本発明は、空気流により導入される異物混入の低減化の結果としての精度および効率の改善に好適なウェーハチャック１００が備えられた検査システム３００をさらに対象とする。一般にウェーハの回転が検査プロセスの実施に要求されるため、高チャック／ウェーハ回転速度における低異物混入環境を提供する能力は全域の検査における増加をもたらす。
【００１２】
図１は、本発明の一実施形態に係る、ウイング形状のウェーハチャック１００の概略図を示す。本発明の一態様において、ウェーハチャック１００は、チャック１００およびウェーハ１０２が高速回転する間、ウェーハ１０２の外辺部周りにおける空気乱流を低減するよう構成された翼型構造体１０１を備える。例えば、この翼型構造体は、図１に示すように、高速回転（例えば１０，０００ＲＰＭまでの回転速度）時にウェーハ／チャック縁部の外辺部周りにおける空気乱流を低減するにあたり好適なウイング形状の翼型構造体を備え得る。チャック１００の外辺部周りにおける空気乱流の軽減化は、次に、チャック１００およびウェーハ１０２の下方領域からウェーハ１０２の表面１０３へと「上昇」される混入物質の量を低減することにより、実装する環境（例えば検査システム）の異物混入を低減することを支援する。一般的な意味において、ウェーハ１０２およびチャック１００の外辺部周りにおける空気乱流を低減する能力を有する任意の翼型構造体は本発明を実施するにあたり好適である。一実施形態において、実装される翼型構造体１０１は堅固な機械加工された部分を備え得る（図１に示すように）。当該部分は、チャック１００の最底部分とチャック１００の最頂部分との間に、傾斜領域１１６およびリップ部１１８を備える。他の実施形態において、実装される翼型構造体１０１は１つまたは複数のリング構造体を備え得る。このリング構造体は、既存のチャック（例えば図２Ａに示すチャック２０２）に取り付け可能である。取り付け可能なリング構造体（図示せず）は、図１に示す傾斜１１６およびリップ部分と同様の特徴を含み、それによりユーザが既存のチャックシステムに本発明の異物混入低減能力をレトロフィットすることが可能である。
【００１３】
本発明の他の態様では、ウェーハチャック１００は、供給された真空を利用してウェーハ１０２（例えば半導体ウェーハ）を固定するよう構成された、真空ベースのウェーハチャックから構成される。一実施形態において、真空チャック１００は略円形のボウル形状構造体として構成され得、ウェーハ１０２を定位置に支持（例えば保持）するよう構成された上面１０４（例えば支持面）を備え得る。代替的な実施形態において、ウェーハチャック１００は縁部ハンドリングウェーハチャック（図示せず）を含み得る。
【００１４】
他の実施形態において、真空チャック１００は、真空チャック１００を通ってエアカレントが引き込まれ、それによりウェーハ１０２をチャック１００の支持面に固定するための真空が形成されるよう構成され得る。この点に関して、真空チャック１００の頂部上に配置されたウェーハ１０２は外部環境と真空チャックの真空化された容積（図示せず）との間の圧力差を経験し、それによりウェーハ１０２がチャック１００の支持面上に固定される。例えば、真空が、外部真空ポンプ（図示せず）に連結された真空ライン（図示せず）を介してウェーハ１０２の底面に加えられる。真空ラインのための入口はチャック１００の底面１０８（例えば支持面に対向する表面）上に配置される。この点に関して、真空システムが真空を確立し、この真空は、チャック１００の支持面に対してウェーハ１０２を確実に吸い込み、保持するよう作用する。
【００１５】
他の実施形態において、真空チャック１００はシャフト１１４（例えばスピンドル）により一体的に支持され得る。例えば、シャフト１１４はモータ（例えばスピンドルモータ）（図示せず）に接続され得る。この点に関して、スピンドルモータはシャフト１１４を回転させ、それにより支持面１０４に対して垂直な軸（例えばＺ軸）を中心に真空チャック１００を回転させるよう、構成され得る。例えば、チャック１００は１，０００回転／分（ｒｐｍ）より大きい速度（例えば１，０００〜１０，０００ｒｐｍ）で回転し得る。
【００１６】
図２Ａおよび図２Ｂはそれぞれ、既存のウェーハチャック２０２および本発明のウェーハチャック１００の両方の概略図を示す。現在入手可能な真空チャック（例えば図２Ａに示すウェーハチャック２０２）は略円筒形状であって、円筒形状外側壁部２０４を介して接続された上面支持面および底面を有する。それにより、チャック２０２の上面および底面は円筒の対向する端部を形成する。ウェーハ１０２のウェーハ検査プロセスを実施する間、円筒形チャック２０２およびウェーハ１０２が高速回転される構成においては、径方向空気流２０６，２０８が、ウェーハ１０２の上面１０３の近傍および円筒形チャック２０２の底面１０８の近傍において形成される。対向する表面において生成される径方向空気流２０６，２０８が、チャック２０２の高回転速度から生じる渦巻き空気ポンプ作用により起こるものであることがここで認識される。次に、ウェーハ１０２の表面１０３およびチャック２０２の底面１０８における径方向空気流２０６，２０８は、チャック２０２の外辺部周りにおいて径方向空気流２０６と２０８との間に大きい低圧ゾーン２１０を生成する。次に、低圧ゾーン２１０は円筒形チャック２０２の外辺部周りに局所的空気乱流を生じさせる。円筒形チャック２０２の外辺部周りに形成される空気乱流は、実装するシステム（例えば検査システム３００）の下方部分から混入物質２１１の上昇を生じさせる傾向を有し、その結果、混入物質がウェーハ１０２の表面上に堆積することとなり得る。
【００１７】
ここで図２Ｂを参照すると、本発明の真空チャック１００は、高速回転チャック１００の外辺部周りにおける空気乱流を最小化することにより、現在入手可能なチャック２０２に関連する上記の欠点を解決する。チャック１００の外辺部周りにおける空気乱流を低減することにより、実装するシステム（例えばウェーハ検査システム３００）において低異物混入環境が促進される。図２Ｂに示すように、チャック１００の支持面１０４はウェーハ１０２を受容するにあたり好適な略平坦表面であり得る。代替的な実施形態において、チャック１００の支持面１０４は凹陥部分（例えば凹状部分）を備え得る。本発明のさらなる態様において、チャック１００の底面１０８は、丸められた部分または湾曲部分１１６を備え（例えば形成し）得、それにより湾曲部分１１６はチャック１００の上面１０４に接続する（例えば垂直方向上向きに湾曲または傾斜して上面１０４に達する）。加えて、チャック１００の傾斜した底面１０８とチャック１００の上面１０４との交差部分は外側構造体すなわちリップ部１１８（例えば乱流低減リップ部、径方向空気流分離リップ部など）を形成し得る。外側リップ部１１８はミリメートルのオーダーの範囲の厚さを有し得る。例えば、外側リップ部１１８の厚さは１〜２ｍｍであり得る。本発明のチャック１００のウイング形状の構造体１０１は、径方向空気流２０６，２０８（図２Ｂに示す）が徐々に混合することを可能にする。径方向空気流２０６，２０８が徐々に混合することは、チャック１００の外辺部周りに形成される径方向空気流２０６と２０８との間の低圧ゾーンの縮小化を促進するよう作用する。次に、低圧ゾーンの縮小化はチャック１００の外辺部の近傍領域における空気乱流を低減させ、それによりウェーハ１０２の下方領域から上昇される異物混入の量が低減されることとなる。この結果、ウェーハ１００は実装する環境（例えばウェーハ検査システム３００の領域）において低レベルの異物混入を促進する。
【００１８】
代替的な実施形態において、ウイング形状のリング（真横から見た場合）（図示せず）から構成される翼型構造体は標準的なチャック２０２に選択的に取り付けられ得る。この点に関して、本明細書で前述した湾曲、傾斜、およびリップの特徴を組み込むリング構造体は、標準的なチャック２０２（例えば円筒形状チャック）の表面に取り付けられ得る。本発明のチャック１００に顕在化されるウイング形状構造体の利点が既存の真空ベースのウェーハチャック２０２にレトロフィットするにあたり好適なウイング形状リングアタッチメントにも当てはまり得ることが期待される。
【００１９】
追加的な代替的実施形態において、翼型構造体は標準的なチャック（例えばチャック２０２）の上面の近傍に配置された静的な翼型構造体（図示せず）を含み得る。静的な翼型構造体は、本明細書で前述のように空気流パターンを混乱させ、それによりチャック・ウェーハ組立体の下方の領域からウェーハ１０２の表面まで移動される混入物質の量が低減されるよう、作用する。
【００２０】
図３Ａおよび図３Ｂは、本発明の実施形態に係る低異物混入ウイング形状ウェーハチャック１００が備えられた検査システム３００の高レベルブロック図を示す。一般的な意味において、本発明のウェーハ検査システム３００は、本明細書で前述したウイング形状ウェーハチャック１００と、ウェーハ１０２の表面上の１つのエリアを照明するよう構成された少なくとも１つの光源３０２（例えばレーザ）と、光源により照明されたエリアから反射または散乱される光を検出するにあたり好適な検出器もしくはカメラ３０４（例えばＣＣＤまたはＴＤＩベースの検出器）または光電子倍増管検出器と、を備え得る。加えて、検査システム３００は、光源３０２からの照明をウェーハ１０２の表面上へと誘導（および集束）し、次に、ウェーハ１０２の表面からの照明を検査システム３００のカメラ３０４の撮像部分へと誘導するよう構成された、光学要素の組（例えば照明光学系、集光光学系など）を備え得る。例えば、この光学要素の組は、半導体ウェーハ上の照射エリアをカメラの集光領域上に撮像するにあたり好適な主要撮像レンズを含むが、これに限定されない。さらに、撮像カメラ３０４は画像処理コンピュータに通信可能に連結され得、この画像処理コンピュータはカメラ３０４から取得された画像データを識別および格納し得る。
【００２１】
本発明の検査システム３００は当該技術分野で周知の任意の検査システムとして構成され得る。例えば、図３Ａに示すように、本発明の検査システム３００は明視野（ＢＦ）検査システムとして構成され得る。代替的に、図３Ｂに示すように、検査システム３００は暗視野（ＤＦ）検査システムとして構成され得る。本出願人らは、図３Ａおよび図３Ｂに示す光学構成が単に例示目的のために提供されたものであり、限定として解釈されるべきでないことを指摘する。一般的な意味において、本発明の検査システム３００は、ウェーハ１０２の表面を撮像するにあたり好適な任意の組の撮像要素および光学要素を備え得る。現在利用可能なウェーハ検査機器の例は米国特許第７，０９２，０８２号、米国特許第６，７０２，３０２号、米国特許第６，６２１，５７０号、および米国特許第５，８０５，２７８号に記載される。これらの特許のそれぞれは参照により本明細書に援用される。
【００２２】
本開示のさらなる態様において、検査システム３００の真空チャック１００、ウェーハ１０２、光源３０２、撮像カメラ３０４、および様々な光学要素は、システム３００の加圧された筐体（例えば検査チャンバ）（図示せず）内に収容され得る。検査チャンバは真空ポンプによりウェーハ１０２の処理に好適な真空圧力レベルに保持され得る。
【００２３】
当業者は、装置および／または処理を本明細書において説明された方法で記載すること、および、技術的手法を用いて係る記載された装置および／またはプロセスをデータ処理システムに統合することが、当該技術分野において一般的であることを認識するであろう。すなわち、装置および／またはプロセスの少なくとも１部分は適切な量の実験を介してデータ処理システムに統合することが可能である。典型的なデータ処理システムが、１つまたは複数のシステムユニット筐体、ビデオディスプレイ装置、揮発性メモリならびに不揮発性メモリ等のメモリ、マイクロプロセッサならびにデジタル信号プロセッサ等のプロセッサ、オペレーティングシステム、ドライバ、グラフィカル・ユーザ・インターフェース、ならびにアプリケーションプログラム等の演算実体、タッチパッドまたはスクリーン等の１つまたは複数の相互作用装置、および／またはフィードバックループならびに制御モータ（例えば、位置および／または速度を検出するためのフィードバック、および構成品の移動および／または調節および／または量を調節するための制御モータ）を含む制御システムを、一般に含むことを認識するであろう。典型的なデータ処理システムは、データ演算／通信および／またはネットワーク演算／通信システムにおいて一般的に見られる構成品等の、任意の好適な市販の構成品を利用して実装され得る。
【００２４】
本明細書において記載された発明主題に係る特定の態様について図示および記載したが、当業者は、本明細書の教示に基づいて、本明細書で記載した発明主題およびその広範な態様から逸脱することなく様々な変更例および修正例が可能であること、したがって、添付の請求項は、本明細書において記載された発明主題の真の精神および範囲に含まれる係る変更例および改変例をその範囲に含むものであることを、当業者は理解するであろう。
【００２５】
本発明の特定の実施形態について例示してきたが、本発明の様々な改変例および実施形態が前述の開示の範囲および精神から逸脱することなく当業者により可能であることは明白である。したがって、本発明の範囲は本明細書に添付される請求項によってのみ限定されるべきである。本開示および本開示に付随する特徴は前述の説明により理解されると考えられ、様々な変更例が、開示された発明主題から逸脱することなく、またはその物質的特徴の必ずしも全部を犠牲にすることなく、これらの構成品の形態、構成、および配列において可能であることは明白であろう。上に記載した形態は単に説明を目的とするものであり、以下の請求項は係る変更例を含むことを意図する。
【図１】
2014522127.tif 000003
【図２Ａ】
2014522127.tif 000004
【図２Ｂ】
2014522127.tif 000005
【図３Ａ】
2014522127.tif 000006
【図３Ｂ】
2014522127.tif 000007
【国際調査報告】
2014522127.tif 000008
2014522127.tif 000009