(57)【要約】【課題】１枚のＩＴＯフィルムでＸ軸パターンとＹ軸パターンを実現する静電容量タッチパネルの製造方法及びこれによって製造されるタッチパネルを提供する。【解決手段】本発明による静電容量タッチパネルの製造方法は、絶縁体の上に光学性特性を有する光学物質を形成する段階と、光学物質の中の透明導電層からなる複数の第１軸静電電極−前記それぞれの第１軸静電電極は互いに一定の距離離れている−と複数の第１軸静電電極と一定の距離離隔する複数の第２軸静電電極とが交差する領域に第１軸静電電極間を電気的に連結する導電性物質を埋められる形態に埋没させる段階と、第１軸静電電極の間の第１連結部分と第１連結部分と一定の距離離れた第２軸静電電極の間の第２連結部分を絶縁膜で分離する絶縁膜パターンを光学物質の上に形成する段階と、絶縁膜パターンを用いて複数の第１軸静電電極と複数の第２軸静電電極が分離されて絶縁して、複数の第１軸静電電極を示す第１軸パターンと複数の第２軸静電電極を示す第２軸パターンを透明導電層で形成する段階を含む。【選択図】図７
2014520326.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁体の上に光学性特性を有する光学物質を形成する段階；
前記光学物質の中の透明導電層からなる複数の第１軸静電電極−前記それぞれの第１軸静電電極は互いに一定の距離離れている−と前記複数の第１軸静電電極と一定の距離離隔する複数の第２軸静電電極と交差する領域に前記第１軸静電電極間を電気的に連結する導電性物質を埋められる形態に埋没させる段階；
前記第１軸静電電極の間の第１連結部分と前記第１連結部分と一定の距離離れた前記第２軸静電電極の間の第２連結部分を絶縁膜で分離する絶縁膜パターンを前記光学物質の上に形成する段階；及び
前記絶縁膜パターンを用いて前記複数の第１軸静電電極と前記複数の第２軸静電電極が分離されて絶縁して、前記複数の第１軸静電電極を示す第１軸パターンと前記複数の第２軸静電電極を示す第２軸パターンを前記透明導電層で形成する段階
を含む静電容量タッチパネルの製造方法。
【請求項２】
前記絶縁膜パターンを前記光学物質の上に形成する段階は、
前記導電性物質は前記光学物質の中のタッチパネルのウィンドウ領域に該当する部分に位置し、前記導電性物質の上部面の一部領域が外部に開放され、前記開放された一部領域に前記絶縁膜を挟んで前記第１連結部分が形成される段階
を含むことを特徴とする請求項１に記載の静電容量タッチパネルの製造方法。
【請求項３】
前記導電性物質を埋められる形態に埋没させる段階は、
前記導電性物質は前記光学物質の中のタッチパネルの縁領域であるバス電極に該当する部分に位置し、前記導電性物質の上部面を外部に開放し、前記それぞれの第１軸静電電極が形成される段階
を含むことを特徴とする請求項１に記載の静電容量タッチパネルの製造方法。
【請求項４】
前記透明導電層で形成する段階は、
前記複数の第１軸静電電極及び前記複数の第２軸静電電極と、前記それぞれの第１軸静電電極に連結されるタッチパネルの縁領域であるそれぞれの第１バス電極と、前記それぞれの第２軸静電電極に連結されるそれぞれの第２バス電極に該当する部分を前記透明導電層で同時にパターニングして形成する段階
を含むことを特徴とする請求項１に記載の静電容量タッチパネルの製造方法。
【請求項５】
静電容量タッチパネルにおいて、
絶縁体；
前記絶縁体の上に形成され、透明導電層からなり複数の第１軸静電電極−前記それぞれの第１軸静電電極は互いに一定の距離離れている−と前記複数の第１軸静電電極と一定の距離離隔する複数の第２軸静電電極と交差する領域に前記第１軸静電電極間を電気的に連結する導電性物質を埋められる形態に埋没させる光学物質；
前記第１軸静電電極の第１連結部分と前記第１連結部分と一定の距離離れた前記第２軸静電電極の間の第２連結部分を絶縁膜で分離するパターンを前記光学物質の上に形成する絶縁膜パターン；及び
前記光学物質の上に前記絶縁膜パターンを用いて前記複数の第１軸静電電極と前記複数の第２軸静電電極が分離されて絶縁する前記複数の第１軸静電電極と前記複数の第２軸静電電極を形成した透明導電層
を含む静電容量タッチパネル。
【請求項６】
前記導電性物質は前記光学物質の中のタッチパネルのウィンドウ領域に該当する部分に位置し、上部面の一部領域が外部に開放され前記開放された一部領域に前記絶縁膜を挟んで前記第１連結部分が形成されることを特徴とする請求項５に記載の静電容量タッチパネル。
【請求項７】
前記導電性物質は前記光学物質の中のタッチパネルの縁領域であるバス電極に該当する部分に位置し、上部面が外部に開放され前記開放された上部面に前記それぞれの第１軸静電電極が形成されることを特徴とする請求項５に記載の静電容量タッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はタッチパネルの製造方法に係り、特にＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）フィルム一枚でＸ軸パターンとＹ軸パターンを実現する静電容量タッチパネルの製造方法及びこれによって製造されるタッチパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
一般にタッチパネルはボタンを指で接触してコンピュータなどを対話的、直感的に操作することによって誰でも容易に使用できる入力装置であり、これをディスプレイと共に集積した場合、タッチスクリーンとして使用され指をスクリーンに接触して入力を遂行する入力装置である。
【０００３】
このようなタッチパネルは接触を感知する方式によって抵抗膜方式と静電容量方式、赤外線方式、超音波方式などが使用されており、現在は抵抗膜方式が多く使用されているが、今後耐久性及び軽薄短小な特性に有利な静電容量方式の使用が増加することが予想される。
【０００４】
このような静電容量方式のタッチパネル、特にタッチスクリーンはその構造がポリエチレンテレフタレート（Ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ  Ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ、ＰＥＴ）やガラスなどの透明な絶縁体フィルム上に透光導電体からなるＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）と、ＩＴＯの周縁にシルバーペーストなどのリード線からなるパッドを接着剤層や絶縁体層を付加して上下に積層して構成される。
【０００５】
ここで、ＩＴＯはＸ軸のＸ軸静電電極を等間隔に形成したＸ軸ＩＴＯとＹ軸のＹ軸静電電極を等間隔に形成したＹ軸ＩＴＯから構成して、積層過程で複層で積層されるようにする。
【０００６】
前記のように形成されたタッチスクリーンは使用者のタッチによるタッチ信号をコントローラーが受信して座標信号を出力するものである。
【０００７】
しかし、このようにＸ軸またはＹ軸に並んで配置される静電電極はリード線からそれぞれ異なる離隔距離を有して配置され、これらの間には異なる静電電極が配置されるので、リード線が連結される部分から見れば、それぞれの静電電極は互いに異なる電気的特性を有する。
【０００８】
以下、このようなタッチパネルの従来技術について図１乃至図４を参照して説明する。
【０００９】
図１は従来のボトム（Ｂｏｔｔｏｍ）パターン層を示す図面であってＸ軸パターンを示し、図２は従来のトップ（Ｔｏｐ）パターン層を示す図面であってＹ軸パターンを示す。
【００１０】
従来は図１及び図２のようなＸ軸静電電極１０を有するトップ（Ｔｏｐ）パターンとＹ軸静電電極２０を有するボトムパターンをそれぞれ製作した後、層間張り合わせ後にウィンドウ付着を行ってタッチパネルを製造した。このような製造過程によって完成されたタッチパネルは平面図を図３に示した。
【００１１】
図３に示す通り、従来の静電方式タッチパネルは、Ｘ軸静電電極１０を有するトップ（Ｔｏｐ）パターンとＹ軸静電電極２０を有するボトム（Ｂｏｔ）パターンがパネルの 全面に均等に形成され、一側に連結電極３０、４０を形成した。
【００１２】
このような従来の静電方式タッチパネルの層構造は図４の通りである。
【００１３】
図４に示す通り、従来はトップ（Ｔｏｐ）パターンとボトム（Ｂｏｔ）パターンをそれぞれ製作するので、トップ（Ｔｏｐ）パターンとボトム（Ｂｏｔ）パターンに使用されるＩＴＯフィルムが２枚必要であった。
【００１４】
また、ＩＴＯフィルムの上部には接着剤層（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｃｌｅａｒ  Ａｄｈｅｓｉｖｅ、ＯＣＡ）が必須的に付加されなければならないが、ＩＴＯフィルムが２枚使用されるので、ＯＣＡも２枚必要であった。
【００１５】
したがって、従来のタッチパネルは一つのタッチパネル製品を作るために２枚のＩＴＯフィルムと２枚のＯＣＡが使用されるために価格が高いという短所がある。
【００１６】
また、従来のタッチパネルはトップパターン層とボトムパターン層を張り合わせる時、セルバイセル（Ｃｅｌｌ  ｂｙ  ｃｅｌｌ）方式ではなくシートバイシート（Ｓｈｅｅｔ  ｂｙ  ｓｈｅｅｔ）方式にするため、パターン層別に不良率を測定する特性によって収率が良くなかった。特に、層別張り合わせ時に 整列（Ａｌｉｇｎ）公差を合わせるのが困難で収率が良くなく、タイトな公差管理が難しいという短所がある。 
【００１７】
したがってこのような問題が解決できる静電容量タッチパネルの構造が開発されなければならない。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１８】
このような問題点を解決するために、本発明は１枚のＩＴＯフィルムでＸ軸パターンとＹ軸パターンを実現する静電容量タッチパネルの製造方法及びこれによって製造されるタッチパネルを提供することにその目的がある。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
前記目的を達成するために、本発明の実施形態による静電容量タッチパネルの製造方法は、
絶縁体の上に光学性特性を有する光学物質を形成する段階；
前記光学物質の中の透明導電層からなる複数の第１軸静電電極−前記それぞれの第１軸静電電極は互いに一定の距離離れている−と前記複数の第１軸静電電極と一定の距離離隔する複数の第２軸静電電極とが交差する領域に前記第１軸静電電極間を電気的に連結する導電性物質を埋められる形態に埋没させる段階；
前記第１軸静電電極の間の第１連結部分と前記第１連結部分と一定の距離離れた前記第２軸静電電極の間の第２連結部分を絶縁膜で分離する絶縁膜パターンを前記光学物質の上に形成する段階；及び
前記絶縁膜パターンを用いて前記複数の第１軸静電電極と前記複数の第２軸静電電極が分離されて絶縁して、前記複数の第１軸静電電極を示す第１軸パターンと前記複数の第２軸静電電極を示す第２軸パターンを前記透明導電層で形成する段階を含む。
【００２０】
本発明の実施形態による静電容量タッチパネルは、
静電容量タッチパネルにおいて、
絶縁体；
前記絶縁体の上に形成され、透明導電層からなり複数の第１軸静電電極−前記それぞれの第１軸静電電極は互いに一定の距離離れている−と前記複数の第１軸静電電極と一定の距離離隔する複数の第２軸静電電極とが交差する領域に前記第１軸静電電極間を電気的に連結する導電性物質を埋められる形態に埋没させる光学物質；
前記第１軸静電電極の第１連結部分と前記第１連結部分と一定の距離離れた前記第２軸静電電極の間の第２連結部分を絶縁膜で分離するパターンを前記光学物質の上に形成する絶縁膜パターン；及び
前記光学物質の上に前記絶縁膜パターンを用いて前記複数の第１軸静電電極と前記複数の第２軸静電電極が分離されて絶縁して、前記複数の第１軸静電電極と前記複数の第２軸静電電極を形成した透明導電層を含む。
【発明の効果】
【００２１】
本発明は静電容量タッチパネルの製造方法及びこれによって製造されるタッチパネルによれば、Ｘ軸パターンとＹ軸パターンをＩＴＯフィルム一枚で実現が可能であるため、原価節減及び工程が簡素化される効果がある。
【００２２】
本発明は静電容量タッチパネルの製造方法でジャンピング工程を先に進行した後、ＩＴＯパターンを実現することによってジャンピング領域が肉眼でよく見えないようにすることができ、初期印刷工程で回路領域とジャンピング領域を予め形成するので工程の簡素化が可能である。
【００２３】
本発明は静電容量タッチパネルの製造方法でシルバー（導電性物質）がレジン内側に存在するため信頼性確保が有利であるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】従来の静電容量方式タッチパネルでＸ軸電極パターンを示した図面である。
【図２】従来の静電容量方式タッチパネルでＹ軸電極パターンを示した図面である。
【図３】従来の静電容量方式タッチパネルでＸ軸電極パターンとＹ軸電極パターンを合体した状態を示した図面である。
【図４】従来の静電容量方式タッチパネルでＸ軸電極パターンとＹ軸電極パターンを合体した状態の層構造を示した図面である。
【図５】本発明の実施形態による静電容量タッチパネルの構成を示した図面である。
【図６】本発明の実施形態による静電容量タッチパネルでＡ部分の詳細構造を示した図面である。
【図７】本発明の実施形態による静電容量タッチパネルで図５のＡとＢ部分の層構造を示した図面である。
【図８】本発明の実施形態による静電容量タッチパネルの製造方法を側面から見たものを示した図面である。
【図９】本発明の実施形態による静電容量タッチパネルの層構造を示した図面である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下、添付した図面を参照して本発明の実施形態について本発明の属する技術分野における通常の知識を有する者が容易に実施できるように詳しく説明する。しかし、本発明は様々な異なる形態に実現でき、ここで説明する実施形態に限定されない。そして図面で本発明を明確に説明するために説明上不必要な部分は省略し、明細書全体にわたって類似の部分については類似の図面符号を付けた。
【００２６】
明細書全体で、ある部分がある構成要素を“含む”という時、これは特に反対になる記載がない限り他の構成要素を除くのではなく他の構成要素をさらに含むことができるのを意味する。
【００２７】
図５は本発明の実施形態による静電容量タッチパネルの構成を示した図面であり、図６は本発明の実施形態による静電容量タッチパネルでＡ部分の詳細構造を示した図面であり、図７は本発明の実施形態による静電容量タッチパネルで図５のＡとＢ部分の層構造を示した図面であり、図８は本発明の実施形態による静電容量タッチパネルの製造方法を側面から見たものを示した図面である。
【００２８】
図５乃至図８に示されているように、透明導電層に複数のＸ軸静電電極１００を含むＸ軸パターン及び複数のＹ軸静電電極２００を含むＹ軸パターンを形成する。
【００２９】
ここで、透明導電層は透明導電性酸化物（Ｔｒａｎｓｐａｒｅｎｔ  Ｃｏｎｄｕｃｔｉｎｇ  Ｏｘｉｄｅ、ＴＣＯ）のような透明な材質の導電性物質から形成され、具体的にはＩＴＯまたはＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）を含むかＩＴＯまたはＩＺＯからなる透明導電性物質から形成する。
【００３０】
Ｘ軸静電電極１００間は所定の長さで互いに離隔しており、Ｙ軸静電電極２００間は互いに電気的に連結されている。
【００３１】
図６は本発明の静電容量タッチパネルを上から見たものを示した図面であり、図７は本発明の静電容量タッチパネルの側面層構造を示す断面図である。
【００３２】
図７及び図８に示されているように、本発明の実施形態によるタッチパネル用パッドを製造するためには光学フィルム３００の上にＸ軸静電電極１００間を連結するジャンピング（Ｊｕｍｐｉｎｇ）領域４１０と配線電極パターンである回路領域４２０を形成する。
【００３３】
ここで、配線電極パターンは複数のＸ軸、Ｙ軸静電電極１００、２００の一側端と連結されタッチパネルのウィンドウ領域を除いた縁領域の金属回路であり、複数のＸ軸、Ｙ軸静電電極１００、２００と印刷回路基板を連結させて使用者のタッチパターンを感知、制御するバス電極を示す。
【００３４】
ここで、光学フィルム３００はアンダーコーティングした絶縁体を示したもので、絶縁体は透明な材質の有機絶縁体または無機絶縁体から形成され、有機絶縁体はポリイミドまたはポリエチレンテレフタレート（Ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ  Ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ、ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）を含み、無機絶縁体はガラスからなる。
【００３５】
前述のアンダーコーティングはＩＴＯパターン後にＩＴＯ有無が確認されないように処理するコーティングであって、つまり、静電容量ＩＴＯフィルム製作時にＩＴＯが存在する部分と存在しない部分が目で感知されないようにＩＴＯ下地層に光学処理を行うことを意味する。つまり、アンダーコーティングは乾式方式（蒸着）でＳｉＯ２、ＴｉＯ２、Ｃｅｏ２などを上げる場合もあり、湿式方式で薬品処理を行う場合もある。
【００３６】
ジャンピング領域４１０と回路領域４２０は光学フィルム３００の上に光学物質４００を塗布し溝を掘る工程を遂行して形成する（Ｓ１００）。ここで、光学物質４００はレジン（ＵＶ、熱硬化タイプ）のように光学性特性を有する物質であればいずれのものでも可能である。
【００３７】
Ｘ軸静電電極１００間を電気的に連結するためにジャンピング領域４１０に、配線電極パターンを形成するために回路領域４２０に導電性物質４３０を塗布する（Ｓ１０２）。
【００３８】
ここで、導電性物質４３０はシルバー（Ｓｉｌｖｅｒ）、導電性ポリマーのような導電性物質であれば良い。
【００３９】
言い換えると、段階Ｓ１００、Ｓ１０２は光学物質４００に互いに一定の距離離れたＸ軸静電電極１００間を電気的に連結する導電性物質４３０をＸ軸静電電極１００の連結部分とＹ軸静電電極の連結部分が交差するジャンピング領域４１０と、配線電極パターンを示す回路領域４２０に埋められる形態に埋没させる。
【００４０】
段階Ｓ１０２以後に、絶縁膜（ＳｉＯ２）５００が蒸着されてはならない領域を保護するために第１ドライフィルムレジスト（Ｄｒｙ  Ｆｉｌｍ  Ｒｅｓｉｓｔ、ＤＦＲ）マスキングを処理する（Ｓ１０４）。ここで、第１ＤＦＲマスキングは第１ＤＦＲラミネーティング（Ｌａｍｉｎａｔｉｎｇ）、第１露光、第１現像工程を遂行する。
【００４１】
段階Ｓ１０４以後に、絶縁膜５００を全体領域にスパッタリング、蒸着方式、イービーム方式などの公知の方法で蒸着させ、ドライフィルムを剥離する工程を遂行する（Ｓ１０６）。
【００４２】
言い換えると、段階Ｓ１０４、Ｓ１０６はＸ軸静電電極１００の間の連結部分と一定の距離離れたＹ軸静電電極２００の間の連結部分を絶縁膜５００で分離する絶縁膜パターンを光学物質４００の上に形成する。
【００４３】
回路領域４２０に形成された導電性物質４３０は上部面が外部に開放され、光学物質４００の中のタッチパネルの縁領域であるそれぞれのバス電極に該当する部分に位置し、開放された上部面にそれぞれのＸ軸静電電極１００を形成する。
【００４４】
ジャンピング領域４１０に形成された導電性物質４３０は上部面の一部領域が開放され、開放された一部領域に絶縁膜５００を挟んでそれぞれのＸ軸静電電極１００の間の連結部分を形成する。
【００４５】
段階Ｓ１０６以後に、透明導電層（ＩＴＯ）を全体領域にスパッタリング、蒸着方式、イービーム方式などの公知の方法で蒸着させ、第２ＤＦＲマスキング処理とＩＴＯエッチング工程を遂行してＸ軸、Ｙ軸のＩＴＯ回路１００、２００を実現する（Ｓ１０８）。
【００４６】
ここで、第２ＤＦＲマスキングは第２ＤＦＲラミネーティング（Ｌａｍｉｎａｔｉｎｇ）、第２露光、第２現像工程を遂行する。
【００４７】
段階Ｓ１０８以後に、ＤＦＲ剥離工程を遂行してＩＴＯフィルムに複数のＸ軸静電電極１００を含むＸ軸パターン及び複数のＹ軸静電電極２００を含むＹ軸パターンを形成する（Ｓ１１０）。この時、段階Ｓ１１０はタッチパネルのウィンドウ領域（画面が表示される透明な部分）に該当するＸ軸、Ｙ軸パターンと、タッチパネルの縁領域であるバス電極の配線電極パターンを透明導電層で同時にパターニングして形成する。
【００４８】
言い換えると、図５及び図８に示されているように、複数のＸ軸静電電極１００と複数のＹ軸静電電極２００と、それぞれのＸ軸静電電極１００と連結されたバス電極と、それぞれのＹ軸静電電極２００と連結されたバス電極を透明導電層で同時にパターニングして形成する。
【００４９】
本発明の実施形態によるタッチパネルは光学物質４００の上に導電性物質４３０を塗布またはコーティングした後、その上に絶縁膜５００を形成し、その後にＩＴＯ１００、２００をコーティング及び蒸着してパターニングする方式である。
【００５０】
このような工程によってＸ軸パターンとＹ軸パターン、つまり、複数のＹ軸静電電極２００を含むＹ軸パターンであるトップ（Ｔｏｐ）パターンと複数のＸ軸静電電極１００を含むＸ軸パターンであるボトム（Ｂｏｔ）パターンをＩＴＯフィルム一枚で実現するため原価節減及び工程が簡素化される効果がある。このようなタッチパネルを構成する層は図９のように３つになる。
【００５１】
図９に示す通り、タッチパネルはウィンドウ層、ＯＣＡ層、ＩＴＯ層１００、２００の３つから構成され、ウィンドウ層及びＯＣＡ層は既存と類似し、ジャンピング領域４１０と回路領域４２０をレジン４００内側に予め形成した後、ＩＴＯ層１００、２００を実現する方式である。
【００５２】
図７及び図８に示されているように、ジャンピング工程を先に遂行した後、ＩＴＯパターン１００、２００を実現することによってジャンピング領域４１０が肉眼でよく見えないようにすることができ、初期印刷工程でジャンピング領域４１０と回路領域４２０を予め形成するので工程簡素化が可能である。
【００５３】
本発明の実施形態はシルバー（導電性物質）４３０がレジン４００内側に存在するため信頼性確保が有利である。
【００５４】
このような本発明の実施形態は多様な変形が可能であり、Ｘ軸パターンとＹ軸パターンが互いに変わって形成できるのは自明である。
【００５５】
前述の回路領域４２０は図５、図６、図７のＢのように、光学物質４００でタッチパネルの配線電極パターンが形成される領域に該当する部分に溝を形成し、形成された溝に導電性物質４３０を塗布して形成する。
【００５６】
前述のジャンピング領域４１０は図５、図６、図７のＡのように、タッチパネルのウィンドウ領域（画面が表示される透明な部分）に該当する部分のうちのＸ軸静電電極１００とＹ軸静電電極２００が交差する領域を意味する。
【００５７】
ジャンピング領域４１０は段階Ｓ１０４、Ｓ１０６を通じて絶縁膜５００が蒸着されてはならない領域に第１ドライフィルムレジストでマスキング処理した後、第１ドライフィルムレジストがない領域に絶縁膜を蒸着し、段階Ｓ１０８、Ｓ１１０を通じて複数のＸ軸静電電極１００を含むＸ軸パターンと複数のＹ軸静電電極２００を含むＹ軸パターンを形成する。
【００５８】
以下、図６、図７及び図８に示されているように、本発明の実施形態による静電容量タッチパネルの構造を説明する。
【００５９】
ウィンドウパネル層と接着剤層を備えた静電容量タッチパネルは接着剤層の下部に互いに一定の距離だけ離隔した複数のＸ軸静電電極１００と互いに電気的に連結された複数のＹ軸静電電極２００が備えられた透明導電層が形成される。
【００６０】
光学物質４００は透明導電層の下部に形成されタッチパネルの中の配線電極パターンが形成される領域に該当する部分に溝を掘り、形成された溝に導電性物質４３０を塗布する。
【００６１】
また、光学物質４００はタッチパネルの中のウィンドウ領域に該当する部分のうちのＸ軸静電電極１００とＹ軸静電電極２００が交差する連結部分に溝を掘り、形成された溝に導電性物質４３０を塗布する。導電性物質４３０の上に複数のＸ軸静電電極１００の連結部分が位置して離隔した複数のＸ軸静電電極１００間を電気的に連結する。
【００６２】
図６及び図７に示す通り、複数のＹ軸静電電極２００の間の連結部分と連結部分から一定の距離離れた複数のＸ軸静電電極１００の間の連結部分間を絶縁膜５００で分離させて絶縁する。言い換えると、Ｘ軸静電電極１００の間の連結部分は光学物質４００に形成された導電性物質４３０を通じて電気的に連結される。
【００６３】
複数のＹ軸静電電極２００の間の連結部分の下部には絶縁膜５００を挟んで複数のＸ軸静電電極１００の間の連結部分が形成される。
【００６４】
このようにジャンピング領域４１０は光学物質４００の内部に形成された導電性物質４３０とその上に複数のＸ軸静電電極１００の連結部分が位置し、Ｘ軸静電電極１００の連結部分の上に絶縁膜５００を挟んで、互いに電気的に連結されたＹ軸静電電極２００の連結部分が形成される。
【００６５】
このような静電容量タッチパネルの構造はＸ軸ＩＴＯパターン１００とＹ軸ＩＴＯパターン２００をＩＴＯフィルム一枚で実現することができる。
【００６６】
以上で説明した本発明の実施形態は装置及び／または方法を通じてのみ実現されるのではなく、本発明の実施形態の構成に対応する機能を実現するためのプログラム、そのプログラムが記録された記録媒体などを通じて実現することもでき、このような実現は前述した実施形態の記載から本発明の属する技術分野の専門家であれば容易に実現することができる。
【００６７】
以上で本発明の実施形態について詳細に説明したが、本発明の権利範囲はこれに限定されるのではなく、次の請求の範囲で定義している本発明の基本概念を利用した当業者の様々な変形及び改良形態も本発明の権利範囲に属する。
【産業上の利用可能性】
【００６８】
本発明は静電容量タッチパネルの製造方法及びこれによって製造されるタッチパネルによれば、Ｘ軸パターンとＹ軸パターンをＩＴＯフィルム一枚で実現が可能であるため、原価節減及び工程が簡素化される効果がある。
【００６９】
本発明は静電容量タッチパネルの製造方法でジャンピング工程を先に遂行した後、ＩＴＯパターンを実現することによってジャンピング領域が肉眼でよく見えないようにすることができ、初期印刷工程で回路領域とジャンピング領域を予め形成するので工程簡素化が可能である。
【００７０】
本発明は静電容量タッチパネルの製造方法でシルバー（導電性物質）がレジン内側に存在するため信頼性確保が有利であるという効果がある。
【符号の説明】
【００７１】
１００      Ｘ軸静電電極
２００      Ｙ軸静電電極
３００      光学フィルム
４００      光学物質
４１０      ジャンピング領域
４２０      回路領域
４３０      導電性物質
５００      絶縁膜
【図１】
2014520326.tif 000003
【図２】
2014520326.tif 000004
【図３】
2014520326.tif 000005
【図４】
2014520326.tif 000006
【図５】
2014520326.tif 000007
【図６】
2014520326.tif 000008
【図７】
2014520326.tif 000009
【図８】
2014520326.tif 000010
【図９】
2014520326.tif 000011
【国際調査報告】
2014520326.tif 000012
2014520326.tif 000013
2014520326.tif 000014
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