(57)【要約】  一実施形態において、光視準調整された拡散フィルムは、第１側と第２側とを有するプラスチック層を包含し、複数の突出部分および／または複数の溝部分を包含する第１表面加工面を第１側が有し、第１軸に近接する第１表面加工面での勾配角度の２０から５０パーセントが０より大から５度までの値を有する。突出部分および／または溝部分は、２０μｍ以上の平均幅を有する。一実施形態において、バックライト装置は、光源と、光源から光線を受け取るため光源に近接して配置される光導体と、拡散フィルムとを包含する。一実施形態において、拡散フィルムの視準を調整する方法は、拡散フィルムに望ましい視準度を決定することと、第１表面加工面を形成するためプラスチック層を表面加工することとを包含し、第１軸に近接する第１表面加工面での勾配角度の２０から５０パーセントが０より大から５度までの値を有する。
2014517338.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光視準調整された拡散フィルムであって、
第１側と、前記第１側と反対の第２側と、第１周辺エッジとを有して、複数の突出部分および／または複数の溝部分を包含する第１表面加工面を前記第１側が有する、プラスチック層、
を包含し、
第１軸に近接した前記第１表面加工面での勾配角度の２０から５０パーセントが０より大から５度までの値を有し、
前記突出部分および／または前記溝部分が２０μｍ以上の平均幅を有する、
拡散フィルム。
【請求項２】
前記平均幅が２０μｍから１００μｍである、請求項１に記載の拡散フィルム。
【請求項３】
前記平均幅が２０μｍから７０μｍである、請求項２に記載の拡散フィルム。
【請求項４】
前記複数の突出部分の平均高が前記複数の突出部分の前記平均幅の５から２５パーセントである、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の拡散フィルム。
【請求項５】
前記プラスチック層の表面に対して垂直な軸への、前記プラスチック層を通る光線の視準を前記プラスチック層が調整する、請求項１乃至４のいずれか１項に記載の拡散フィルム。
【請求項６】
前記プラスチック層が、前記表面加工面を通る光線の９０パーセント以上を前記表面加工面に対して垂直な軸へ誘導する、請求項１乃至５のいずれか１項に記載の拡散フィルム。
【請求項７】
前記第２側が第２表面加工面を包含し、前記第２表面加工面での勾配角度の７０パーセント以上が０より大から５度までの値を有する、請求項１乃至６のいずれか１項に記載の拡散フィルム。
【請求項８】
第２軸に近接する前記第１表面加工面での勾配角度の２０から５０パーセントが０より大から５度までの値を有し、前記第２軸が前記第１軸に対して実質的に垂直である、請求項１乃至７のいずれか１項に記載の拡散フィルム。
【請求項９】
前記プラスチック層の総質量の８０パーセント以上がポリカーボネート化合物を包含する、請求項１乃至８のいずれか１項に記載の拡散フィルム。
【請求項１０】
前記プラスチック層が単一の単体層である、請求項１乃至９のいずれか１項に記載の拡散フィルム。
【請求項１１】
前記プラスチック層が前記プラスチック層の総重量に基づいて５重量％未満の拡散粒子を包含する、請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の拡散フィルム。
【請求項１２】
前記プラスチック層に拡散粒子が含まれない、請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の拡散フィルム。
【請求項１３】
光遅延として表される前記プラスチック層の内部応力が５０ナノメートル以下である、請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の拡散フィルム。
【請求項１４】
前記プラスチック層が８０％以上の濁度値を有する、請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の拡散フィルム。
【請求項１５】
光源と請求項１乃至１４のいずれか１項に記載の拡散フィルムとを包含する、バックライト装置。
【請求項１６】
前記第１表面加工面に近接して配置される光誘導フィルムをさらに包含する、請求項１５に記載のバックライト装置。
【請求項１７】
前記光源に近接して前記光源と前記拡散フィルムとの間に配置される光導体をさらに包含する、請求項１５または１６に記載の装置。
【請求項１８】
前記表面加工面が、前記光源に隣接する前記プラスチック層の側にある、請求項１５乃至１７のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１９】
前記表面加工面が、前記光源と反対の前記プラスチック層の側にある、請求項１５乃至１７のいずれか１項に記載の装置。
【請求項２０】
拡散フィルムの視準を調整する方法であって、
前記拡散フィルムについて望ましい視準度を決定することと、
第１側と、前記第１側と反対の第２側と、第１周辺エッジとを有するプラスチック層を形成することと、
複数の突出部分および／または複数の溝部分を包含する第１表面加工面を形成するため前記第１側を表面加工することと、
を包含して、
第１軸に近接する前記第１表面加工面での勾配角度の２０から５０パーセントが０より大から５度までの値を有し、
前記突出部分および／または前記溝部分が２０μｍ以上の平均幅を有する、
方法。
【発明の詳細な説明】
【背景技術】
【０００１】
従来の液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）バックライトユニットは、バックライトユニットの不連続箇所にある一つまたは多数のランプ（蛍光灯タイプまたはＬＥＤタイプ）と、ＬＣＤパネルのディスプレイエリア全体にわたって均一かつ充分な輝度を提供するためランプからの光線を拡散および誘導する、ランプの上に積層された光線管理フィルムとを使用する。従来の光線管理フィルム積層体は一般的に、プリズム状フィルムなど少なくとも一つの輝度向上フィルムと、輝度向上フィルムの下または上の少なくとも一つの拡散フィルムとを包含する。輝度向上フィルムは、フィルムを透過する光線の角度分布をよりディスプレイの目標方向（一般的にディスプレイの垂直軸）へと形成し直し、そのためこの目標方向での輝度を上昇させる。輝度向上フィルムは、それ自体は均一な光線分布を生成するのに有効ではなく、光源の箇所およびパターンがフィルムを通して視認可能である。それゆえ、バックライトユニットの表面における光線パターンの可視性と輝度プロフィールの不均一性とを回避するように局在的な光源からの光線を「拡張」または拡散するため、フィルム積層体に拡散フィルムが追加される。ディスプレイ表面にわたって横方向に光線を「拡張する」拡散フィルムの特性は、拡散フィルムの濁度と直接的に相関する「隠蔽力」と呼ばれる。ランプが小型で、隠蔽が困難なＬＥＤランプのように非常に輝度が高い時には、高い濁度を備える拡散フィルムが特に望ましい。
【０００２】
バックライトモジュールにおける輝度向上フィルムおよび拡散フィルムの機能性は対立することが多い。前者は光線を集束および誘導するのに対して、後者は光線を拡散および拡張する。光学設計者は、実用的なフィルム積層体を得るためにこれらの機能性の一方または両方を犠牲にせざるを得ない。拡散フィルムとして充分な機能性を有することに加えて、ディスプレイエリア全体にわたって光線を均一に分散させて必要な隠蔽力を達成することで光線の指向または視準の程度を調整状態に保持する拡散フィルムの必要性があることは、明白である。このような光視準調整された拡散フィルムは、フィルム積層体の輝度と隠蔽力の両方を最大化する。光視準調整された拡散フィルムの必要性は、以下の二つのバックライト用途を含めて、いくつかのフィルム積層体構成で見られる。１）個々のプリズム配向が相互に交差する二つのプリズム状フィルムの下に使用される底部拡散フィルム（例えば小型ポータブルＬＣＤ装置）、２）単一のプリズム状フィルムの上で使用される上部拡散フィルム。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００３】
ここに開示されるのは、拡散フィルム、バックライトモジュール、そしてこれを製作および使用するための方法である。
【０００４】
一実施形態において、光視準調整された拡散フィルムは、第１側と、この第１側と反対の第２側と、第１周辺エッジとを有するプラスチック層を包含し、複数の突出部分および／または複数の溝部分を包含する第１表面加工面を第１側が有し、第１軸に近接する第１表面加工面での勾配角度の２０から５０パーセントが０から５度、詳しくは０より大から５度までの値を有する。
【０００５】
一実施形態において、バックライト装置は、光源と、光源から光線を受け取るため光源に近接して配置される光導体と、拡散フィルムとを包含する。
【０００６】
一実施形態において、拡散フィルムの視準を調整する方法は、拡散フィルムに望ましい視準度を決定することと、第１側と、第１側と反対の第２側と、第１周辺エッジとを有するプラスチック層を形成することと、第１表面加工面を形成するため第１側を表面加工することとを包含し、第１軸に近接する第１表面加工面での勾配角度の２０から５０パーセントが０より大から５度までの値を有する。
【０００７】
実施形態による他のシステムおよび／または方法は、以下の図面および詳細な説明を検討することで当業者には明白となるか、明白である。このような付加的なシステムおよび方法は発明の範囲に含まれ、添付の請求項によって保護されることが意図されている。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
さて、例示的であって限定的な意味を持たない図面が参照され、同様の要素には同じ数字が付与されている。
【０００９】
【図１】高い光視準の概略図である。
【図２】光視準調整の概略図である。
【図３】概略的な拡散または非光視準である。
【図４】例示的な直接照明式バックライト装置の分解図である。
【図５】図４のバックライト装置の一部分の概略図である。
【図６】例示的なエッジ照明式バックライト装置の分解図である。
【図７】図６のバックライト装置の一部分の概略図である。
【図８】図４および６のバックライト装置で使用される例示的な光視準調整拡散フィルムの断面概略図である。
【図９】光視準調整された拡散フィルムの例１の前面での勾配分布を示すグラフである。
【図１０】光視準調整された拡散フィルムの例２の前面での勾配分布を示すグラフである。
【図１１】光視準調整されていない拡散フィルムの比較例１の前面での勾配分布を示すグラフである。
【図１２】光視準調整されていない拡散フィルムの比較例２の前面での勾配分布を示すグラフである。
【図１３】勾配角度分布を決定するための例示的な軌道を図示する円筒形ローラの上面図である。
【図１４】勾配角度分布を決定するための例示的な軌道を図示する光視準調整拡散フィルムの上面図である。
【図１５】勾配角度分布を決定するための例示的な軌道を図示する円筒形ローラの上面図である。
【図１６】勾配角度分布を決定するための例示的な軌道を図示する光視準調整拡散フィルムの上面図である。
【図１７】光視準調整された拡散フィルムを製造するための溶融カレンダ加工システムの概略図である。
【図１８】光視準調整された拡散フィルムを製造するためのエンボス加工システムの概略図である。
【図１９】円筒形ローラに表面加工面を設けるためのエネルギービーム彫刻システムの概略図である。
【図２０】図１９のエネルギービーム彫刻システムを用いて設けられる円筒形ローラの表面加工面の概略図である。
【図２１】図２０の円筒形ローラを用いて設けられる光視準調整拡散フィルムの表面加工面の概略図である。
【図２２】円筒形ローラに表面加工面を設けるための金属イオン沈着システムの概略図である。
【図２３】円筒形ローラに表面加工面を設けるための化学エッチング彫刻システムの概略図である。
【図２４】図２３のシステムにより使用される円筒形ローラの一部分の拡大断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
ここで、光視準とは、所望または目標の方向へ光線を集束および誘導するフィルムの能力を指している。高光視準のフィルムは、目標方向への光線の集束および誘導を最大化するものである（図１参照）。光視準調整フィルムは、光線の集束および誘導のレベルが調整されるもので（図２参照）、例えば望ましいフィルム用途に基づいて選択され、選択されたレベルを有するようにフィルムが形成される。換言すると、光視準調整フィルムでは、表面（つまり表面加工面）に対して垂直な軸へ、ある量（例えば０度より大、詳しくは１度より大）だけ光線が誘導されることができるのである。光線が誘導される量はフィルムの設計に基づいて「調整」（例えば選択）され得ることが判明している。例として、フィルムは、表面加工面を通過する光線の９０％以上（詳しくは光線の９５％以上、より詳しくは光線の９９％以上）を表面加工面に対して垂直な軸へ誘導することができる。
【００１１】
ここに開示される拡散フィルムは、８０％以上の高い濁度と、バックライトの用途に望ましい輝度プロファイルを可能にする光視準調整作用の両方を提供することが可能である。ここで使用される際に、濁度は、標準的な発光体Ａが光源として使用される、１９８１年ＪＩＳＫ７１０５の第６．４節および第５．５．２節に明記された手順にしたがって決定される。光視準調整された拡散フィルムの製造は、所与の用途に望ましい光視準特性を決定することと、望ましい光視準を達成する勾配角度を決定することと、望ましい勾配角度を有するようにプラスチックフィルムを表面加工することとを包含する。概して、望ましい視準を達成するために、表面加工の何パーセントかは特定の勾配角度を有する。
【００１２】
カレンダ加工、エンボス加工、およびその他、さらには以上の少なくとも一つを包含する組み合わせなど様々な方法を用いて、表面加工が達成され得る。表面加工のためのこのような技術、システム、および工具は、例を挙げるとＢａｓｔａｗｒｏｓ  ｅｔ  ａｌ．の米国特許第７，８８９，４２７号に開示されている。
【００１３】
例として、光視準調整された拡散フィルムを製造するための方法は、プラスチック層を形成するように加熱プラスチックをダイで押出成形することを含み得る。プラスチック層は第１側と第２側とを有する。プラスチック層は、第１軸（例えばフィルム２８の第１軸は図６では矢印Ａ１である）と、第１軸に対して実質的に垂直な第２軸（例えばフィルム２８の第２軸は図６では矢印Ａ２である）の両方に沿って延在する。この方法はさらに、第１および第２回転円筒形ローラの少なくとも一方を所定の温度を下回るまで冷却することを含む。この方法はさらに、第１および第２回転円筒形ローラの間でプラスチック層を移動させることを含み、第１円筒形ローラはプラスチック層の第１側と接触して第２円筒形ローラは第２側と接触する。第１円筒形ローラはプラスチック層の第１側に第１表面加工面を形成し、ほぼ第１軸に沿った第１表面加工面での勾配角度の２０から５０パーセントが、０より大（＞）から５度までの値を有する。
【００１４】
システムは、ダイに動作結合された押出装置を含む。押出装置は、プラスチック層を形成するように加熱プラスチックをダイに圧入する。プラスチック層は第１側と第２側とを有する。プラスチック層は第１軸と、第１軸に対して実質的に垂直な第２軸とに沿って延在する。システムはさらに、プラスチック層を受け取るため相互に近接して配置される第１および第２円筒形ローラを含む。システムはさらに、第１および／または第２円筒形ローラを所定の温度を下回るまで冷却するように構成された冷却装置を含む。
【００１５】
別の実施形態において、この方法は、第１側と第２側とを有して第１軸と第１軸に対して実質的に垂直な第２軸の両方に沿って延在するプラスチック層を加熱することを含む。この方法はさらに、第１および第２円筒形ローラの少なくとも一方を所定の温度を上回るまで加熱することを含む。この方法はさらに、第１および第２回転円筒形ローラの間でプラスチック層を移動させることを含み、第１円筒形ローラはプラスチック層の第１側と接触し、第２円筒形ローラは第２側と接触する。第１円筒形ローラはプラスチック層の第１軸に近接して第１側に第１表面加工面を形成し、第１軸に近接する第１表面加工面での勾配角度の２０より大から５０パーセントまでが、０から５度まで、詳しくは０より大から５度までの値を有する。
【００１６】
フィルムを形成するためのシステムは、プラスチック層を加熱するように構成された加熱装置と、プラスチック層を受け取るため相互に近接して配置される円筒形ローラと、第１および／または第２円筒形ローラを加熱するように構成された加熱装置とを含む。円筒形ローラの一方または両方は、複数の突出部分と複数の溝部分とを有する外側表面加工面を包含し、各突出部分は少なくとも一つの隣接の溝部分から外向きに延在する。複数の突出部分と複数の溝部分とは複数の勾配角度を画定する。
【００１７】
外側表面加工面は、パルスエネルギー、金属イオン沈着、耐薬品性コーティングと組み合わされたエッチング、その他を含む様々な手法で形成され得る。例えば、円筒形ローラの外面に所定の強度で接触するようにパルス式エネルギービームが放射され得る。（例えば、円筒形ローラの回転中に円筒形ローラの第１端部から第２端部へエネルギービームを移動させることにより）ビームとローラとの間に相対運動が生じ、望ましい表面加工面を得るためエネルギービームが外面の部分を除去する。代替例において、電解質流体の使用は、電解質流体の中で第１軸を中心に所定の回転速度で円筒形ローラを回転させることを包含し、円筒形ローラは電気的に接地されている。電解質流体には所定の電流密度が印加され、流体内の金属イオンは円筒形ローラの外面に付着して所望の表面加工面を形成する。別の代替例では、耐薬品性コーティングが使用され、この方法は耐薬品層で円筒形ローラをコーティングすることを含み、耐薬品層が所定の箇所で除去されると、これらの箇所で下の円筒形ローラ面が露出する。所望の表面加工面を得るため所定の箇所で円筒形ローラの部分を除去するエッチング溶液を収容する容器において、円筒形ローラが第１軸を中心に所定の回転速度で回転される。
【００１８】
別の例示的実施形態によるバックライト装置が提供される。バックライト装置は、光源と、光源が光線を放射する時に光源との光伝達状態に配置される任意の光導体とを含む。所望の表面加工面を備える拡散フィルムが、光源の視認者側（例えば光源（または使用の場合に光導体）と潜在的視認者との間）に配置されるとよい。
【００１９】
拡散フィルム（例えばプラスチック層）は任意で、光視準調整された単一の単体フィルムであり、例えばモノリシック層でよい。いくつかの実施形態では、単体層の総質量の８０パーセント以上がポリカーボネート化合物を包含する。単体フィルムの第１側（例えば視認者側）は第１表面加工面を有し、第１軸に近接する第１表面加工面での勾配角度の２０から５０パーセントが、０より大から５度までの値を有する。拡散フィルムは、これを伝搬する光線の視準を調整できる。
【００２０】
図６および７を参照すると、液晶ディスプレイ装置（不図示）を照明するためのバックライト装置２０が図示されている。バックライト装置２０は、光源２２と、反射フィルム２４と、光導体２６と、光視準調整された拡散フィルム２８と、輝度向上フィルム３０と、輝度向上フィルム３２と、光拡散フィルム３４とを含む。図示のように、光源２２は、光導体２６の第１端部に配置されている。さらに、反射フィルム２４は、光導体２６の第２側に近接して配置されている。光視準調整された拡散フィルム２８の第２側は光導体２６の第１側に近接して配置され、ポスト３６，３８を使用して光導体２６から離間している。ポスト３６，３８は、光源２６とフィルム２８との間に空隙４０を形成する。光視準フィルム３０は、フィルム２８の第１側に近接して配置されている。最後に、光視準フィルム３２は光視準フィルム３０に近接して配置され、光拡散フィルム３４は光視準フィルム３２に近接して配置されている。
【００２１】
図７を参照して、光導体２６と光視準調整された拡散フィルム２８の両方を伝搬する例示的な光ビームの経路がこれから説明される。光源２２は、光導体２６を伝搬して、光導体２６の上面に対して実質的に垂直である軸４４の方へ光導体で屈折される光ビーム４２を放射する。光ビーム４２が光導体２６と空隙４０とを出る時に、光ビーム４２は軸４４から（例えばおよそ４５°で）離れるように屈折される。光視準調整された拡散フィルム２８に光ビーム４２が入る時に、フィルム２８は光ビーム４２を軸４４の方へ屈折させる。その後、光ビーム４２がフィルム２８を出る時に、光ビームが軸４４の方へ（およそ３５°で）屈折される。こうして、フィルム２８は、光ビーム４２を軸４４の方へ（例えば約１０°だけ）視準または誘導する。言うまでもないが、フィルム２８が１０°より多くまたは１０°より少なく軸４４の方へ光ビームを誘導してもよいことが理解されるべきである。
【００２２】
フィルム２８を出る時のビーム４２の特定方向は、出口点での表面要素４９の局所勾配により規定され、表面要素４９は、溝または突起（例えばビームがフィルム２８を出る点）の区分（例えば小区分）である（図７および８参照）。屈折規則（スネルの法則）の適用により、光ビームを軸４４の方へ屈折させるための好ましい表面勾配が決定され得る。表面勾配の２０から５０パーセントが０より大から５度までである、詳しくは表面勾配の２０から４０パーセントが０より大から５度までである、より詳しくは表面勾配の２０から３５パーセントが０より大から５度までである、より詳しくは表面勾配の２１から３５パーセントが０より大から５度までである時に、光視準調整を提供しながら高い拡散機能性を保持する拡散フィルムが達成される。このようなフィルムを出る複数の光ビームは調整された視準度を有して、拡散フィルムから予想される高い隠蔽力を提供し続ける。
【００２３】
図４および５を参照すると、液晶ディスプレイ装置（不図示）を照明するための直接照明式バックライト装置の別の例が図示されている。この構成において、光源２２は、光導体または拡散プレート２６のすぐ下に設けられた一連のランプを包含する。バックライト装置２０は、光源２２と、光導体または拡散プレート２６と、拡散フィルム３４と、輝度向上フィルム３０と、光視準調整された拡散フィルム２８とを含む。輝度向上フィルム３０と光視準調整された拡散フィルム２８の両方を伝搬する例示的な光ビーム４２の経路が、図５に示されている。図７の経路と同様に、光視準調整された拡散フィルム２８に光ビーム４２が入ると、フィルム２８は光ビーム４２を軸４４の方へ屈折させる。その後、光ビーム４２がフィルム２８を出る時に、光ビームは軸４４の方へ（例えばおよそ３５°で）屈折される。こうして、フィルム２８は光ビーム４２を（例えば約１０°だけ）軸４４の方へ視準または誘導する。言うまでもなく、フィルム２８が光ビームを軸４４の方へ１０°より多く、または１０°未満だけ誘導してもよいことが理解されるべきである。
【００２４】
図５，７，８を参照して、光視準調整された拡散フィルム２８がこれから一層詳細に説明される。フィルム２８は、光ビームを軸４４の方へ屈折させるのに使用される。フィルム２８は、１０ミリメートル（ｍｍ）まで、詳しくは０．０１から１０ミリメートル、より詳しくは０．０１ｍｍから２ｍｍ、さらにより詳しくは０．０１ｍｍから１ｍｍの厚さを有するプラスチック層から構築される。言うまでもないが、単一材料による単層、または最終フィルムを製作するのに使用されるカレンダ加工またはエンボス加工プロセス中に一緒に同時押出成形または同時積層される同じか異なる材料による多層から、フィルム２８が構築されてもよい。
【００２５】
フィルム２８は、プラスチック層に配置される蛍光増白化合物を有するとよく、蛍光増白化合物の質量はプラスチック層の総質量の０．００１から１．０パーセントでよい。フィルム２８はまた、あるいは代替的に、例えばプラスチック層に分散される紫外線（ＵＶ）吸収化合物を含んでもよい。紫外線吸収化合物の質量は、プラスチック層の総質量の０．０１から１．０パーセントでよい。フィルム２８は付加的または代替的に、プラスチック層に配置されるフッ素化スルホン酸ホスホニウムなどの帯電防止化合物を包含する。フッ素化スルホン酸ホスホニウムは、以下の一般式を有する。
｛ＣＦ３（ＣＦ２）ｎ（ＳＯ３）｝θ｛Ｐ（Ｒ１）（Ｒ２）（Ｒ３）（Ｒ４）｝Φ
上式において、Ｆはフッ素、ｎは１から１２の整数、Ｓは硫黄、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３は同じ元素で、炭素原子が１から８個の脂肪族炭化水素基または炭素原子が６から１２個の芳香族炭化水素基を各々が有し、Ｒ４は炭素原子が１から１８個の炭化水素基である。
【００２６】
フィルム２８は、複数の突出部分５２と複数の溝部分５４とを有する表面加工上面４６を含む。（例えば突起の最下点から最上点まで測定された）複数の突出部分５２の平均高（「ｈ」）は、（例えば一つの突出部分の始点から次の突出部分の始点まで測定された）複数の突出部分の平均幅（「ｗ」）の５から２５パーセントでよい。さらに、複数の突出部分５２の平均幅は、１００マイクロメートルまで、詳しくは０．５から１００マイクロメートル（μｍ）まで、より詳しくは２０μｍから１００μｍまで、さらにより詳しくは２５μｍから１００μｍまで、なお一層詳しくは３０μｍから７０μｍまでであるとよい。例を挙げると、平均幅は２０μｍから７０μｍまで、詳しくは２５μｍから７０μｍまで、より詳しくは３０μｍから７０μまででよい。突出部分５２と溝部分５４とは、所望の勾配角度分布を得るように上面４６に分布される。複数の溝部分５４の平均奥行（「ｄ」）は、複数の溝部分の平均幅（「ｗ」）の５から２５パーセントであるとよい。さらに、複数の溝部分５４の平均幅は、１００μｍまで、詳しくは０．５から１００マイクロメートル（μｍ）まで、より詳しくは２０μｍから１００μｍまで、２５μｍから１００μｍまで、さらにより詳しくは３０μｍから７０μｍまでであるとよい。例を挙げると、平均幅は２０μｍから７０μｍまで、詳しくは２５μｍから７０μｍまで、より詳しくは３０μｍから７０μｍまでであるとよい。突出部分５２と溝部分５４とは、所望の勾配角度分布を得るように上面４６に分布される。言うまでもないが、所望の勾配角度分布を得るために、フィルム２８の表面加工上面４６が占有的な突出部分と小さい溝部分とを有しても、占有的な溝部分と小さい突出部分とを有しても、突出部分と溝との混合を有してもよい。
【００２７】
勾配角度分布とは、拡散フィルム２８において少なくとも一つの所定軌跡に沿った複数の勾配角度の分布である。さらに、各勾配角度（Φ）は以下の方程式を用いて計算される。
勾配角度Φ＝ａｒｃｔａｎ｜Δｈ／Δｗ｜
上式において、Δｗは表面加工面４６に沿った所定の幅（例えば０．５マイクロメートル）を表す。Δｈは、（ｉ）幅（Δｗ）に沿った表面加工面４６での最下位置と、（ｉｉ）幅（Δｗ）に沿った表面４６での最上位置との間の高さの差を表す。
【００２８】
ここで開示される拡散フィルムについての勾配角度は、Ｋｏｓａｋａ  Ｌａｂｏｒａｔｏｒｙ  Ｌｉｍｉｔｅｄ（日本、東京）により製造されているＳｕｒｆｃｏｒｄｅｒ  ＥＴ４０００機器により作成されるフィルタリング二次元表面プロファイルデータから計算され得る。Ｓｕｒｆｃｏｒｄｅｒ  ＥＴ４０００の動作設定は、以下の通りである。カットオフ＝０．２５ミリメートル（ｍｍ）、サンプル長さおよび評価長さの両方が１０ｍｍに設定。速度は毎秒０．１ミリメートル（ｍｍ／秒）に設定され、等間隔の８，０００個の点でプロファイルデータが取得される。
【００２９】
ここに開示される円筒形ローラ表面の勾配角度は、やはりＫｏｓａｋａ  Ｌａｂｏｒａｔｏｒｙ  Ｌｉｍｉｔｅｄにより製造されているＳｕｒｆｃｏｒｄｅｒ  ＳＥ１７００α機器を用いて作成されるフィルタリング二次元表面プロファイルデータから計算され得る。Ｋｏｓａｋａ  ＳＥ１７００αの動作設定は、以下の通りである。評価長さ７．２ｍｍ、カットオフＬｃ＝０．８００ｍｍ。速度は０．５００ｍｍ／秒に設定され、１４，４００個の点でプロファイルデータが取得される。
【００３０】
勾配角度分布は、プラスチック層の上の所定の基準軌跡またはラインに沿って決定されるとよい。代替的に、多数の基準軌跡またはラインを用いてプラスチック層の全表面で勾配角度分布が決定されてもよい。
【００３１】
例として、図１４および１６を参照すると、ライン６０またはライン６２など、表面加工面４６上の所定の軌跡に沿って複数の勾配角度（Φ）が計算され得る。代替的に、複数の勾配角度（Φ）がライン８０またはライン８２に沿って計算されてもよい。上記の軌跡の一つ以上では、所望の勾配角度分布は、０より大から５度までの値を有する勾配角度を２０から５０パーセント包含する、詳しくは、０より大から５度までの値を有する勾配角度を所望の勾配角度分布が２０より大から５０パーセントまで包含するのである。
【００３２】
図９を参照すると、例示的実施形態によるフィルム２８の第１側（一般に視認側、例えば光源と反対の側とも呼ばれる）にある表面加工面４６の例１の勾配角度分布を示すグラフが図示されている。図のように、表面加工面４６での勾配角度の２０より大から５０パーセントまでが、０より大から５度までの値を有することが望ましい。図１０を参照すると、例示的実施形態によるフィルム２８の第１側にある表面加工面４６の別の例である例２の勾配角度分布を示すグラフが図示されている。図示のように、表面加工面４６の勾配角度の２０より大から５０パーセントまでが０より大から５度までの値を有することが望ましい。図１１および１２を参照すると、二つのフィルム例（比較例１および２）での勾配角度分布をグラフが図示しており、勾配角度の５０パーセントより多くが、０より大から５度までの値を有する。比較例１および２の拡散フィルムは、視準調整されていない（例えば表１の輝度低下を参照）。
【００３３】
図８を参照すると、フィルム２８は、フィルム２８の第２側（例えば第１側と反対の側）にも表面加工面４８を有する。表面加工面４８は、表面加工面４８の勾配角度の７０パーセント以上が０より大から５度までの値を有するような勾配角度分布を有する。
【００３４】
図１７を参照すると、光視準調整された拡散フィルム２８を形成するように続いて所定の形状に切断される表面加工プラスチック層１０６を製造するための例示的な溶融カレンダ加工システム１００が図示されている。溶融カレンダ加工システム１００は、少なくとも一つの押出成形装置１０２と、ダイ１０４と、円筒形ローラ６４，１０８，１１０，１１２，１１４，１１６と、円筒形スプール１１８と、ローラ冷却システム１２０と、フィルム厚スキャナ１２２と、モータ１２４，１２６，１２８と、制御コンピュータ１３０とを含む。
【００３５】
プラスチックが液体状態（例えば溶融プラスチック）を有するようにするため、押出成形装置１０２は所定の温度を上回るまでプラスチックを加熱できる。例を挙げると、押出成形装置１０２はダイ１０４と制御コンピュータ１３０とに動作結合される。制御コンピュータ１３０からの制御信号（Ｅ）を受けて、押出成形装置１０２は中のプラスチックを所定温度を上回るまで加熱し、プラスチック層１０６を形成するようにプラスチックをダイ１０４へ圧入する。言うまでもないが、多数のプラスチック流をダイ１０４へ圧入するのに多数の押出成形装置が使用されてもよい。様々な内部構造を有するプラスチック層１０６を構築するため、流れは異なる材料および異なる流量のものであってもよい。
【００３６】
プラスチック層１０６をダイ１０４から間に受け取ってプラスチック層１０６の少なくとも片側に表面加工面を形成するために、円筒形ローラ６４，１０８が設けられている。円筒形ローラ６４，１０８は金属（例えば鋼）で構築され、ローラ冷却システム１２０に動作結合される。言うまでもないが、代替的実施形態では、円筒形ローラ６４，１０８は他の金属または非金属材料で構築されてもよい。ローラ６４，１０８の間を通過する際にプラスチック層１０６を凝固させるため、ローラ冷却システム１２０はローラ６４，１０８の温度を所定温度未満に維持する。円筒形ローラ６４は表面加工面１０７を有し、表面加工面１０７での、または表面加工面１０７上の少なくとも一つの軌道に沿った勾配角度の２０より大から５０パーセントまでが、０より大から５度までの値を有する。ゆえに、円筒形ローラ６４がプラスチック層１０６の第１側と接触する時に、円筒形ローラ６４がプラスチック層１０６に表面加工面を形成し、層１０６の表面６４での、または表面加工面４６上の少なくとも一つの軌道に沿った勾配角度の２０より大から５０パーセントが、０より大から５度までの値を有する。
【００３７】
図１３および１５を参照すると、円筒形ローラ６４の勾配角度（Φ）は、実質的にローラ６４を横切って延在するライン６８または実質的にローラ６４の周囲に延在するライン７０など、外面１０７を横切る所定の軌道に沿って決定されるとよい。代替的に、円筒形ローラ６４の勾配角度（Φ）がライン８４または８６に沿って決定されてもよい。
【００３８】
円筒形ローラ６４，１０８は、プラスチック層１０６をダイ１０４から間に受け取ってプラスチック層１０６の少なくとも片側に表面加工面を形成する際に、内部応力をプラスチックフィルムに発生させ得る。概して、内部応力は拡散フィルム性能にマイナスの影響を与える。視準調整拡散フィルムでの内部応力レベルを低下させるための方法が発見された。円筒形ローラ６４，１０８の両方が剛性材料（例えば金属）から製作された時の、一般的には約４００から約５００ｎｍ（ナノメートル）の概算範囲である光遅延によって表される内部応力は、円筒形ローラの少なくとも一方が耐熱性の可撓性材料（例えばゴム）で被覆された時には５０ｎｍ未満まで低下した。ここで使用される際に、Ｓｔｒａｉｎｏｐｔｉｃｓ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ  Ｉｎｃ．（米国ペンシルベニア州Ｎｏｒｔｈ  Ｗａｌｅｓ）により製作されるＳｔｒｅｓｓ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ  Ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔ  Ｓｙｓｔｅｍ  Ｍｏｄｅｌ  ＳＣＡ１５０２Ａを用いて光遅延が測定された。このシステムは、ＳＣＡ−２００４Ｐ制御ソフトウェアのバージョン１．１．１を使用している。言うまでもないが、代替的実施形態では、必要な可撓性作用を提供することが周知である他の金属または非金属材料から円筒形ローラ６４，１０８が構築されてもよい。
【００３９】
円筒形ローラ１１０，１１２は、ローラ６４，１０８の間をプラスチック層１０６が通過した後でこの層１０６を受け取るように構成されている。円筒形ローラ１１０の位置は、円筒形ローラ１０８と接触するプラスチック層１０６の表面エリアの量を変化させるように調節され得る。プラスチック層１０６を凝固させるために所定温度未満にローラ１１０の温度を維持するローラ冷却システム１２０に、円筒形ローラ１１０が動作結合されている。円筒形ローラ１１２はローラ１１０の下流でプラスチック層１０６の一部分を受け取り、円筒形ローラ１１４，１１６の方へプラスチック層１０６を送る。
【００４０】
円筒形ローラ１１４，１１６は、プラスチック層１０６を間に受け取って円筒形スプール１１８へプラスチック層１０６を移動させるために設けられている。円筒形ローラ１１４，１１６は、モータ１２６，１２４にそれぞれ動作結合されている。制御コンピュータ１３０は、プラスチック層１０６をスプール１１８へ送出するための所定方向にローラ１１６，１１４を回転させるようにそれぞれモータ１２４，１２６を起動する制御信号（Ｍ１），（Ｍ２）を発生させる。
【００４１】
円筒形スプール１１８は、表面加工プラスチック層１０６を受け取ってプラスチック層１０６のロールを形成するために設けられている。円筒形スプール１１８はモータ１２８に動作結合されている。制御コンピュータ１３０は、プラスチック層１０６のロールを形成するための所定方向にスプール１１８を回転させるようにモータ１２８を起動する制御信号（Ｍ３）を発生させる。
【００４２】
フィルム厚スキャナ１２２は、円筒形ローラ１１４，１１６により層１０６が受け取られる前にプラスチック層１０６の厚さを測定するために設けられている。フィルム厚スキャナ１２２は、プラスチック層１０６の厚さを表し制御コンピュータ１３０へ送信される信号（Ｔ１）を発生させる。
【００４３】
図１８を参照すると、フィルム２８を形成するために続いて所定形状に切断されるプラスチック層１５４を製造するためのエンボス加工システム１５０が図示されている。エンボス加工システム１５０は、円筒形スプール１５２と、フィルム加熱装置１５６と、円筒形ローラ６４，１６０，１６２，１６４，１６６，１６８と、円筒形スプール１７０と、ローラ加熱システム１７２と、フィルム厚スキャナ１７４と、モータ１７６，１７８，１８０と、制御コンピュータ１８２とを含む。
【００４４】
円筒形スプール１５２は、プラスチック層１５４を上に保持するために設けられている。円筒形スプール１５２が回転すると、プラスチック層１５４の一部分がスプール１５２から巻き出されて円筒形ローラ６４，１６０の方へ移動する。言うまでもないが、材料およびゲージの異なる多数のプラスチック層１５４を提供するために多数のスプール１５２が使用されてもよい。プラスチック層は、円筒形ローラ６４および１６０を通る際に、可変内部構造を有する単層に組み合わされるか積層されてもよい。
【００４５】
フィルム加熱装置１５６は、プラスチック層１５４が円筒形スプール１５２から円筒形ローラ６４，１６０の方へ移動する際にこの層を加熱するために設けられている。制御コンピュータ１８２は、プラスチック層１５４を所定温度より上まで加熱するように装置１５６を起動する、フィルム加熱装置１５６へ送信される信号（Ｈ１）を発生させる。
【００４６】
円筒形ローラ６４，１６０は、プラスチック層１５４を円筒形スプール１５２から間に受け取ってプラスチック層１５４の少なくとも片側に表面加工面を形成するために設けられている。円筒形ローラ６４，１６０は鋼で構築されるとよく、ローラ加熱システム１７２に動作結合される。言うまでもないが、代替的実施形態では、円筒形ローラ６４，１６０が他の金属または非金属材料で構築されてもよい。ローラ加熱システム１７２はローラ６４，１６０の温度を所定温度より上に維持して、ローラ６４，１６０の間を通過する際にプラスチック層１５４を少なくとも部分的に溶融させる。円筒形ローラ６４は外側表面加工面１０７を有し、表面加工面１０７での勾配角度の２０より大から５０パーセントまでが０より大から５度までの値を有する。ゆえに、円筒形ローラ６４がプラスチック層１５４の第１側と接触する時に円筒形ローラ６４はプラスチック層１５４に表面加工面を形成し、層１５４の上面での勾配角度の２０より大から５０パーセントが０より大から５度までの値を有する。
【００４７】
円筒形ローラ１６２，１６４は、プラスチック層１５４がローラ６４，１６０の間を通過した後でこの層１５４を受け取るように構成されている。円筒形ローラ１６０と接触するプラスチック層１５４の表面エリアの量を変化させるように、円筒形ローラ１６２の位置が調節され得る。円筒形ローラ１６４はローラ１６２の下流でプラスチック層１５４の一部分を受け取って、プラスチック層１５４を円筒形ローラ１６６，１６８の方へ送る。
【００４８】
円筒形ローラ１６６，１６８は、プラスチック層１５４を受け取って、プラスチック層１５４を円筒形スプール１７０の方へ移動させるために設けられている。円筒形ローラ１６６，１６８はそれぞれモータ１７８，１７６に動作結合されている。制御コンピュータ１８２は、プラスチック層１５４をスプール１７０の方へ送出するためローラ１６８，１６６を所定方向に回転させるようにモータ１７６，１７８をそれぞれ起動する制御信号（Ｍ４），（Ｍ５）を発生させる。
【００４９】
円筒形ローラ１７０は、プラスチック層１５４を受け取ってプラスチック層１５４のロールを形成するために設けられている。円筒形スプール１７０はモータ１８０に動作結合されている。制御コンピュータ１８２は、プラスチック層１５４のロールを形成するためスプール１７０を所定方向に回転させるようにモータ１８０を起動する制御信号（Ｍ６）を発生させる。
【００５０】
円筒形ローラ１１４，１１６によってプラスチック層１５４が受け取られる前にこの層の厚さを測定するために、フィルム厚スキャナ１７４が設けられている。フィルム厚スキャナ１７４は、プラスチック層１５４の厚さを表し制御コンピュータ１８２へ送信される信号（Ｔ２）を発生させる。
【００５１】
図１９を参照すると、例示的実施形態により円筒形ローラ６４に表面加工面を形成するためのシステム２００が図示されている。円筒形ローラ６４は、フィルム２８を得るのに使用される表面加工プラスチック層を形成するため溶融カレンダ加工システム１００またはエンボス加工システム１５０で使用され得る表面加工面を有する。システム２００は、レーザ２０２と、線形アクチュエータ２０４と、モータ２０６と、制御コンピュータ２０８とを含む。
【００５２】
レーザ２０２は、表面加工面を設けるため所定の強度で外面と接触して外面２０９の部分を除去するパルス式レーザビームを放射するために設けられている。レーザ２０２により放射されるレーザビームは、円筒形ローラ６４の外面２０９で０．００５から０．５ミリメートル（ｍｍ）の焦点直径を有する。さらに、レーザビームは、円筒形ローラ６４の所定エリアについて０．１から１００マイクロ秒の時間にわたって送達される０．０５から１．０ジュール（Ｊ）のエネルギーレベルを有し得る。レーザ２０２は制御コンピュータ２０８に動作結合されて、制御コンピュータ２０８から制御信号（Ｃ１）が受け取られるとレーザビームを発生させる。レーザ２０２は、１．０６マイクロメートルの波長を有するレーザビームを放射するように構成されたネオジウム（Ｎｄ）：イットリウム・アルミニウム・ガーネット（ＹＡＧ）レーザを包含し得る。しかし、円筒形ローラに所望の表面加工面を形成できるいかなるレーザ源が使用されてもよいことが理解されるべきである。代替的実施形態では、円筒形ローラに所望の表面加工面を形成するように構成された電子ビーム放射装置でレーザ２０２が置き換えられ得る。さらに別の代替的実施形態では、円筒形ローラに所望の表面加工面を形成するように構成されたイオンビーム放射装置でレーザ２０２が置き換えられ得る。
【００５３】
線形アクチュエータ２０４は、軸２０３に沿ってレーザ２０２を移動させるためレーザ２０２に動作結合されている。軸２０３は、円筒形ローラ６４の外面２０９に対して実質的に平行である。線形アクチュエータ２０４は、例えば毎秒０．００１から０．１ミリメートルの速度でレーザ２０２を円筒形ローラ６４に対して移動させる。代替的実施形態では、固定レーザに対してローラ６４を軸方向に移動させるため線形アクチュエータ２０４が円筒形ローラ６４に結合されてもよい。
【００５４】
ローラ６４の端部２１１から端部２１３まで線形アクチュエータ２０４がレーザ２０２を軸２０３に沿って移動させている間にローラ６４を回転させるため、モータ２０６が円筒形ローラ６４に動作結合されている。制御コンピュータ２００は、円筒形ローラ６４を所定速度で回転させるようにモータ２０６を起動する信号（Ｍ７）を発生させる。すなわち、外面２０９の線形速度が毎秒２５から２，５００ミリメートルの範囲内となるようにモータ２０６が円筒形ローラ６４を回転させるのである。
【００５５】
図２０を参照すると、円筒形ローラ６４の表面加工面２０９の部分の断面図が図示されている。エネルギービーム彫刻システム２００を用いて表面加工面２０９が設けられた。表面加工面２０９は、表面加工面２０９での勾配角度の２０から５０パーセント（詳しくは２０％より大、より詳しくは勾配角度の２０％より大から３５％まで）が、０より大から５度までの値を有するような勾配角度分布を有している。
【００５６】
図２１を参照すると、円筒形ローラ６４により形成された表面加工プラスチック層から切断された光視準調整拡散フィルム２８の表面加工面２１５の一部分の断面図が図示されている。フィルム２８は、フィルム２８での勾配角度の２０より大から５０パーセントまで（詳しくは２０％より大、より詳しくは勾配角度の２０％より大から３５％まで）が０より大から５度までの値を有するような勾配角度分布を有する。
【００５７】
図２２を参照すると、別の例示的実施形態による円筒形ローラ２７８に表面加工面を形成するためのシステム２７０が図示されている。円筒形ローラ２７８は、上述したフィルム２８と実質的に類似した物理的特性を有するフィルムを得るのに使用される表面加工プラスチック層を形成するため溶融カレンダ加工システム１００またはエンボス加工システム１５０のいずれかで円筒形ローラ６４として使用され得る。システム２７０は、ハウジング２７２と、モータ２８０と、電流源２８２と、制御コンピュータ２８４とを含む。
【００５８】
ハウジング２７２は、円筒形ローラ２７８を受け取るための内部領域２７４を画定する。ハウジング２７２は、複数の金属イオン２７６を含有する電解質流体を保持する。一実施形態において、複数の金属イオン２７６はクロムイオンを包含する。電解質流体に所定密度の電流が印加されると、金属イオン２７６が円筒形ローラ２７８の外面２７９に付着して表面加工面を形成する。表面加工面を得るため円筒形ローラ２７８が電解質流体の中で回転され、表面加工面での勾配角度の２０より大から５０パーセントまでが０より大から５度までの値を有する。
【００５９】
モータ２８０は円筒形ローラ２７８に動作結合され、所定時間にわたって所定回転速度で円筒形ローラ２７８を回転させるために設けられている。例を挙げると、モータ２８０は、０．５から５０時間の時間にわたって毎分１から１０回転の回転速度（ｒｐｍ）で円筒形ローラ２７８を回転させることができる。モータ２８０はハウジング２７２内に配置されている。代替的実施形態では、円筒形ローラ２７８を回転させるため、ローラ２７８に結合されたハウジング２７２にシャフト（不図示）が延在する状態でモータ２８０がハウジング２７２の外側に配置される。すなわち、所望の回転速度で円筒形ローラ２７８を回転させるようにモータ２８０を起動する信号（Ｍ９）を制御コンピュータ２８４が発生させるのである。
【００６０】
電解質流体の金属イオンを円筒形ローラ２７８の外面２７９へ付着させるように所定の電流密度を電解質流体に印加するため、電流源２８２が設けられる。電流源２８２は、電解質流体に浸漬された金属棒２７５と円筒形ローラ２７８との間に電気結合されている。電流源２８２はさらに、制御コンピュータ２８４に動作結合されている。制御コンピュータ２８４は、電解質流体に電流を発生させるように電流源２８２を起動する調整信号（Ｉ１）を発生させる。一実施形態において、電流源２８２は１平方ミリメートルあたり０．００１から０．１アンペア（ａｍｐ／ｍｍ２）の範囲の電流密度を発生させて、流体中の金属イオンを円筒形ローラ２７８に付着させる。
【００６１】
図２３を参照すると、別の例示的実施形態にしたがって円筒形ローラ３４０に表面加工面を形成するためのシステム３３０が図示されている。上述したフィルム２８と実質的に類似した物理的特性を有するフィルムを得るため続いて所定形状に切断される表面加工プラスチック層を形成するように、溶融カレンダ加工システム１００またはエンボス加工システム１５０のいずれかで円筒形ローラ３４０が円筒形ローラ６４のように使用され得る。システム３３０は、ハウジング３２２と、モータ３３６と、制御コンピュータ３３８とを含む。
【００６２】
システム３３０の動作を説明する前に、円筒形ローラ３４０の構造の簡単な説明が提供される。図２４を参照すると、円筒形ローラ３４０は、耐薬品層３４３でコーティングされた実質的円筒形の内側部分３４２を有する。耐薬品層３４３はプラスチック層を包含する。代替的実施形態において、耐薬品層３４３はワックス層を包含する。また別の代替的実施形態では、耐薬品層３４３はフォトレジスト層を包含する。耐薬品層３４３によって円筒形ローラ３４０がコーティングされた後に、所定箇所（例えば箇所３４６）の層３４３の部分が除去される。層３４３の部分は、レーザなどのエネルギービームを用いて所定箇所で除去される。代替的実施形態では、耐薬品層３４３より高いが円筒形内側部分３４２の硬度より低い硬度を有する工具（不図示）を用いて、層３４３の部分が所定箇所で除去される。また別の代替的実施形態では、当業者に周知の平版印刷技術を用いて耐薬品層３４３が所定箇所で除去される。
【００６３】
ハウジング３３２は、円筒形ローラ３４０を収容するための内部領域３３４を画定する。ハウジング３３２は、円筒形ローラ３４０の内側部分３４２の露出部分を除去するためのエッチング溶液を収容している。エッチング溶液は硝酸を含み、エッチング溶液の質量の５から２５パーセントが硝酸である。代替的実施形態では、エッチング溶液は塩酸を含み、エッチング溶液の質量の５から２５パーセントが塩酸である。円筒形ローラ３４０がエッチング流体中で回転すると、箇所３４６に近接する円筒形ローラ３４０の部分をエッチング流体が除去して表面加工面を形成し、表面加工面の勾配角度の２０より大から５０パーセントまでが０より大から５度までの値を有する。
【００６４】
モータ３３６は円筒形ローラ３４０に動作結合され、所定回転速度で円筒形ローラ３４０を回転させるために設けられている。モータ３３６はハウジング３３２の中に配置されている。代替的実施形態では、ハウジング３３２に延在するシャフト（不図示）が円筒形ローラ３４０を回転させるためローラ３４０に結合された状態で、モータ３３６がハウジング３３２の外側に配置される。制御コンピュータ３３８は、円筒形ローラ３４１を所定回転速度で回転させるようにモータ３３６を起動する信号（Ｍ１１）を発生させる。すなわち、毎分１から５０回転（ｒｐｍ）の範囲の回転速度で、モータ３３６が円筒形ローラ３４１を回転させることができる。
【００６５】
光視準調整された拡散フィルムを製造する際の使用により円筒形ローラ６４に表面加工面を形成するための付加的システムは、Ｂａｓｔａｗｒｏｓ  ｅｔ  ａｌ．の米国特許第７，８８９，４２７号で提示されているものからの改変が可能である。
【実施例】
【００６６】
例１：光視準調整された単体ポリカーボネート拡散フィルムが、図１７に示された溶融カレンダ加工システム１００を用いて製作され、円筒形ローラ６４の表面は図１９に示されたシステム２００を用いて用意された。結果的に得られるフィルムは、複数の突出部分と複数の溝部分とを包含する第１表面加工面を有し、図２０に図示されているように各突出部分は少なくとも一つの隣接の溝部分から外向きに延在する。突出部分の幅は２０から４５マイクロメートルであり、突出部分の高さは１から７マイクロメートルである。突出部分の高さを幅で割ったものとして決定されるアスペクト比は、０．０５から０．１５である。第１表面加工面についての０より大から５度までの勾配角度の割合は２１．５％である。図９。この値は第１表面加工面での６個の読取値の平均であり、３個の読取値は第１軸と平行な３本のライン上で取得され、３個の読取値は第２軸と平行な３本のライン上で取得された。第１軸はフィルムのエッジと平行になるように選択され、第２軸は第１軸と垂直になるように選択された。測定が行われたラインは、約２から３ミリメートル離間していた。前述した手順にしたがって勾配分布が決定された。拡散フィルムの第２面は充分に平坦であり、第２表面については０より大から５度までの勾配角度の割合は８０％である。
【００６７】
例２：光視準調整された単体ポリカーボネート拡散フィルムが、図１７に示された溶融カレンダ加工システム１００を用いて製作され、円筒形ローラ６４の表面は図２２に示されたシステム２７０を用いて用意された。結果的に得られるフィルムは、表面を占有する複数のランダムサイズの溝部分を包含する第１表面加工面を有し、個々の溝の幅は２０から１００マイクロメートルであって奥行は１から２０マイクロメートルである。溝部分の奥行を幅で割って決定されるアスペクト比は、０．０５から０．２である。第１表面加工面について０より大から５度までの勾配角度の割合は、３２％である。図１０。拡散フィルムの第２面は充分に平坦であり、第２面について０より大から５度までの勾配角度の割合は７２％である。
【００６８】
比較例１：ランダムに分散された複数の突出部分と複数の溝部分とを包含する第１表面加工面を備える単体ポリカーボネート非視準拡散フィルム。この拡散体は、濁度を発生させるのに表面加工に依存している。フィルムにおける光透過を損なわずにこの拡散フィルムで達成される最大濁度は、７８％であった。第１表面加工面について０より大から５度までの勾配角度の割合は５７％であり（図１１）、第２表面についての０より大から５度までの勾配角度の割合は６２％である。
【００６９】
比較例２は、第１表面加工面についての０より大から５度までの勾配角度の割合が７７％であって（図１２）、第２表面についての０より大から５度までの勾配角度の割合が８５％であることを除いて、比較例１に類似している。
【００７０】
比較例３：複数の突出部分と複数の溝部分とを包含する第１表面加工面を備えて各突出部分が少なくとも一つの隣接の溝部分から外向きに延在する、単体ポリカーボネート高視準拡散フィルム（例えば図１）。第１表面加工面についての０より大から５度までの勾配角度の割合は８．９％であり、第２表面についての０より大から５度までの勾配角度の割合は８０％である。
【００７１】
上記の例および比較例に記載された各個別拡散フィルムの濁度は、１９８１年ＪＩＳ  Ｋ７１０５の第６．４節および第５．５．２節に明記された方法にしたがって測定され、標準的な発光体Ａが光源として使用された。当該分野では「軸上ルミナンス」と呼ばれるバックライト上のフィルム積層体に垂直な方向での光線の輝度が、二つの構成において測定された。
Ｉ．図６の光導体に単独で設けられる単一の拡散フィルム（例えばフィルム２８）。
ＩＩ．光視準調整された拡散フィルム（例えばフィルム２８）が光導体のすぐ上に設けられる、図６に示された完全フィルム積層体構成。
図６のバックライト構成についてのルミナンス結果が、表１にまとめられている。ルミナンスは、Ｔｏｐｃｏｎ  ｌｕｍｉｎａｎｃｅ  Ｃｏｌｏｒｉｍｅｔｅｒ  Ｍｏｄｅｌ  ＢＭ−７−２３２によりバックライトユニットの中央箇所で測定された。
【表１】
2014517338.tif 000003
【００７２】
三つの比較例と比べて、例１の光視準調整拡散フィルムは、図６のバックライト構成で底部拡散体（フィルム２８）として使用された時に、（単一拡散フィルムの軸上ルミナンスによって示されているように）単独で中間レベルの光視準特性を有するが、最高の軸上ルミナンスを提供する。この拡散体は、望ましい９７％の高濁度も提供する。高濁度と光視準調整の両方の組み合わせは、例１の拡散フィルムを図６のバックライト用途に最も適したものにする。
【００７３】
例２の光視準調整拡散フィルムは、単独で中間程度の光視準特性と、比較例１および２より高いが比較例３を下回るルミナンスとを有する。比較例１および２と比べた時に、このフィルムは、図６の構成でかなりのルミナンスを維持しながら、高い濁度つまり隠蔽力を提供する。ルミナンスを損なわずに高い濁度を達成することで、この拡散フィルムは、図６のものと類似したバックライト用途にも適したものになる。表１のデータは、高視準フィルムの使用をすべての用途で必要とするわけではないこと、バックライトのある領域については光視準調整された拡散フィルムがルミナンスと隠蔽力の両方の要件を満たせることも示している。
【００７４】
図４に示された代替的フィルム構成では、光視準調整された拡散フィルム（２８）が今度は上部拡散体として使用されている。この構成では、ランプパターンが認識可能でないような透過光線の拡散、つまり隠蔽力は、重要な性能基準である。表２は、図４のフィルム構成例での光学性能についての結果を挙げたものである。
【表２】
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【００７５】
比較例３と比べると、図４のバックライト構成で上部拡散体（フィルム２８）として使用された時に、例１の拡散フィルムは最高の軸上ルミナンスを提供する。望ましい９７％の濁度により、この拡散体は視覚等級指数では６に達する。ディスプレイ産業で一般に使用されるこの指数は、フィルム積層体の下にランプパターンを隠蔽するフィルム能力（隠蔽力）を指し、高い値の方が良い。この指数について５を超える値は良好な隠蔽力を指す。電源の入ったバックライトでの隠蔽力についてフィルム積層体を検査するのに、一組のゴーグルが使用される。ゴーグルは減光フィルタとして作用し、視覚等級指数と呼ばれる識別番号を有する。検査者は、積層体を通してランプパターンが認識可能であるかどうかを評価しながらゴーグルを変える。ランプパターンが隠された点で、使用中のゴーグルの識別番号がこの積層体についての視覚等級指数を指す。良好な隠蔽力と光視準調整の両方の組み合わせは、例１の拡散フィルムを図４のバックライト用途に最も適したものにする。
【００７６】
光視準調整された拡散フィルムとこのフィルムを製造するための方法とは、他のシステムおよび方法を超える実質的な長所を呈する。すなわち、アクリル酸溶液中のポリスチレンビーズなど、プラスチック層に追加材料が添加されずに容易に製造可能である、光線を拡散できる表面加工面を有するプラスチック層を提供するという技術的効果をこのシステムおよび方法は有するのである。換言すると、拡散粒子を使用しなくても、このフィルムは望ましい隠蔽力（例えば５以上）と、望ましい濁度（例えば９５％以上）と、望ましいルミナンス（例えば９０以上）とを達成できるのである。ゆえに、この拡散フィルムは任意で、拡散粒子を含まなくてもよい。
【００７７】
光視準調整された拡散フィルムは、第１側と、第１側と反対の第２側と、第１周辺エッジとを包含して、複数の突出部分および／または複数の溝部分を包含する第１表面加工面を第１側が有し、第１軸に近接する第１表面加工面での勾配角度の２０から５０パーセントが０より大から５度までの値を有する。突出部分および／または溝部分は、２０μｍ以上の平均幅を有する。
【００７８】
光視準調整された拡散フィルムは単体層を包含し、単体層の総質量の８０パーセント以上がポリカーボネート化合物を包含し、単体層は第１側と、第１側と反対の第２側と、第１周辺エッジとを有し、第１側は第１表面加工面を有し、また第１軸に近接する第１表面加工面での勾配角度の２０から５０パーセントが０より大から５度までの値を有し、第１軸は第１周辺エッジに対して実質的に平行であり、またプラスチック層はこれを伝搬する光線の視準を調整する。
【００７９】
様々な実施形態において、（ｉ）第１表面加工面は複数の突出部分と複数の溝部分とを包含して、各突出部分が隣接の溝部分から外向きに延在する、および／または（ｉｉ）複数の突出部分の平均高が複数の突出部分の平均幅の５から２５パーセントである、および／または（ｉｉｉ）複数の突出部分の平均幅が０．５から１００マイクロメートルである、および／または（ｉｖ）第２側から第１側へプラスチック層を伝搬する光線の視準をプラスチック層が調整できる、および／または（ｖ）プラスチック層が、プラスチック層を通過する光線の視準をプラスチック層に対して垂直な軸の方へ調整できる、および／または（ｖｉ）第２側が第２表面加工面を包含して、第２表面加工面での勾配角度の７０パーセント以上が０より大から５度までの値を有する、および／または（ｖｉｉ）プラスチック層の総質量の０．００１〜１．０パーセントの範囲の蛍光増白剤をプラスチック層が含有する、および／または（ｖｉｉｉ）プラスチック層がさらに帯電防止化合物を中に含有する、および／または（ｉｘ）帯電防止化合物がフッ素化スルホン酸ホスホニウムを包含し得る、および／または（ｘ）プラスチック層の総質量の０．０１から１．０パーセントの量の紫外線吸収化合物をプラスチック層がさらに包含する、（ｘｉ）０．０２５ミリメートルから１０ミリメートルの厚さをプラスチック層が有する、および／または（ｘｉｉ）厚さが０．０２５ミリメートルから２ミリメートルである、（ｘｉｉｉ）プラスチック層の総質量の８０パーセント以上がポリカーボネート化合物を包含する、および／または（ｘｉｖ）プラスチック層の総質量の０．００１〜１．０パーセントの範囲の蛍光増白剤をプラスチック層が含有し得る、および／または（ｘｖ）光遅延として表されるプラスチック層の内部応力が５０ナノメートル以下である、および／または（ｘｖｉ）８０％以上の濁度値をプラスチック層が有する、および／または（ｘｖｉｉ）第２軸に近接する第１表面加工面での勾配角度の２０から５０パーセントが０より大から５度の値を有して、第２軸が第１軸に対して実質的に垂直である、および／または（ｘｖｉｉｉ）プラスチックフィルムが拡散粒子を含まない、および／または（ｘｉｘ）プラスチックフィルムが単体フィルムである、および／または（ｘｘ）プラスチック層が、表面加工面を通過する光線の９０％以上を表面加工面に対して垂直な軸の方へ誘導する、および／または（ｘｘｉ）プラスチック層の総重量に基づいてプラスチック層が拡散粒子を５重量％未満だけ包含する、および／または（ｘｘｉｉ）プラスチック層が拡散粒子を含まない。
【００８０】
バックライト装置は、光源と、上記の拡散フィルムのいずれかとを包含し得る。任意であるが、光源から光線を受け取るため光源に近接して光導体が配置されてもよい。光導体は光源に近接して光源と拡散フィルムとの間に配置されるとよい。任意であるが、この装置はさらに、第１表面加工面に近接して配置される光誘導フィルムを包含してもよい。表面加工面は、光源に隣接するプラスチック層の側にあるとよい、および／または光源と反対のプラスチック層の側にあるとよい。
【００８１】
例示的実施形態を参照して本発明を説明したが、発明の範囲を逸脱することなく様々な変更が加えられて発明の要素の代わりに同等物が使用されてもよいことは、当業者には理解されるだろう。加えて、発明の範囲を逸脱せずに特定の状況に適応するように発明の教示に多くの変更が加えられてもよい。そのため、本発明を実行するために開示された実施形態に発明が限定されることはなく、意図される請求項の範囲に含まれるすべての実施形態を本発明が含むことが意図されている。また、第１、第２などの語の使用は重要性の順序を指すのではなく、第１、第２などの語は一つの要素を別のものと区別するのに使用されている。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【国際調査報告】
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