(57)【要約】  本発明は、少なくとも１つの真空被覆法および少なくとも１つの湿潤被覆法を共に組み合わせる、フレキシブル基材、好ましくは多層被覆物を含有するプラスチックフィルムのロールツーロール被覆法における連続製造方法、およびこのような方法における使用のための装置に関する。
2014516306.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フレキシブル基材、好ましくは多層被覆物を含有するプラスチックフィルムのロールツーロール被覆法における連続製造方法であって、該多層被覆物は、少なくとも１つの無機層および少なくとも１つの有機層を有し、
（ａ）多層被覆物の少なくとも１つの無機層を、少なくとも１つの真空被覆チャンバーにおいて１０−２バール未満の圧力にて真空被覆法により適用し、および
（ｂ）多層被覆物の少なくとも１つの有機層を、大気圧にて湿潤被覆法により適用し、
ここで、少なくとも１つのガスゲートを、真空被覆チャンバーと湿潤被覆法のためのエリアの間に配置し、および
真空被覆チャンバー外での被覆フレキシブル基材の輸送を、被覆物を有するフレキシブル基材の側が輸送および／またはガイドロールとの直接接触を有さないように行う、方法。
【請求項２】
真空被覆チャンバーにおける圧力は、１０−３〜１０−７バールであることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
無機層は、少なくとも１つの酸化物、窒化物、炭化物、ホウ化物、フッ化物またはこれらの混合物を含有することを特徴とする、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
真空被覆法は、化学的または物理的蒸着、反応性スパッタリング法または反応性蒸発法であることを特徴とする、請求項１〜３の少なくとも１つに記載の方法。
【請求項５】
湿潤被覆法は、噴霧法、キャスト法、ナイフ塗布法、印刷法、ローラー被覆または他の湿潤被覆法であることを特徴とする、請求項１〜４の少なくとも１つに記載の方法。
【請求項６】
適用後、有機層を、必要に応じて乾燥し、好ましくは熱的に乾燥し、および必要に応じて乾燥した有機層を硬化し、好ましくは放射線硬化することを特徴とする、請求項１〜５の少なくとも１つに記載の方法。
【請求項７】
有機層のための被覆組成物は、エチレン不飽和化合物を含有することを特徴とする、請求項１〜６の少なくとも１つに記載の方法。
【請求項８】
無機層および有機層は、多層被覆物において交互であり、および被覆工程（ａ）および（ｂ）の後に、少なくとも工程（ａ）がもう一度、好ましくは工程（ａ）および（ｂ）が少なくとももう一度続くことを特徴とする、請求項１〜７の少なくとも１つに記載の方法。
【請求項９】
多層被覆物は、障壁被覆物であることを特徴とする、請求項１〜８の少なくとも１つに記載の方法。
【請求項１０】
フレキシブル基材、好ましくは多層被覆物を含有するプラスチックフィルムの連続製造のためのロールツーロール被覆装置であって、
・少なくとも１つの巻出装置、
・少なくとも１つの真空被覆モジュールを有する１０−２バール未満の圧力での少なくとも１つの真空被覆チャンバー、
・少なくとも１つの湿潤被覆装置を有する大気圧における少なくとも１つの湿潤被覆エリア、
・真空チャンバーおよび湿潤被覆エリアの間に少なくとも１つのガスゲート、
・真空チャンバー外での被覆フレキシブル基材の非接触輸送のための１以上の空気回転ローラー、および
・少なくとも１つの巻取装置
を有することを特徴とする、装置。
【請求項１１】
乾燥装置、好ましくは熱的乾燥装置を、湿潤被覆エリア内または下流に有することを特徴とする、請求項１０に記載のロールツーロール被覆装置。
【請求項１２】
有機被覆物を硬化するための装置、好ましくはＵＶ照射装置を、湿潤被覆エリア内または下流に有することを特徴とする、請求項１０または１１に記載のロールツーロール被覆装置。
【請求項１３】
真空チャンバーおよび湿潤被覆エリアは、いずれの場合にも互いに交互に続くことを特徴とする、請求項１０〜１２の少なくとも１つに記載のロールツーロール被覆装置。
【請求項１４】
ガスゲートは、真空チャンバーおよび湿潤被覆エリアの間にいずれの場合にも配置されることを特徴とする、請求項１０〜１３の少なくとも１つに記載のロールツーロール被覆装置。
【請求項１５】
・それぞれ少なくとも１つの真空被覆モジュールを有する１０−２バール未満の圧力での少なくとも２つの真空被覆チャンバー、
・前記２つの真空被覆チャンバー間に少なくとも１つの湿潤被覆装置を有する大気圧における少なくとも１つの湿潤被覆エリア、
・真空チャンバーおよび湿潤被覆エリアの間に少なくとも１つの、好ましくはいずれの場合にも１つのガスゲート
を有することを特徴とする、請求項１０〜１４の少なくとも１つに記載のロールツーロール被覆装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、少なくとも１つの真空被覆法および少なくとも１つの湿潤被覆法を共に組み合わせる、フレキシブル基材、好ましくは多層被覆物を含有するプラスチックフィルムのロールツーロール被覆法、およびこのような方法における使用のための装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
特に、無機層および有機層をいずれも含有する多層被覆物を有する被覆フィルムにおいて、一般に、このような層は極めて異なった被覆法を用いて適用する必要があるという問題がある。特にプラスチックフィルムの酸素および／または水の透過性を減少させることが意図される被覆物（いわゆる障壁被覆物）の場合には、無機層および有機相は、全被覆物の障壁効果を改善するため交互である場合が多い。無機層は一般に、真空蒸着方法によって適用される密に充填された酸化物または窒化物層である。これらの層の欠陥および生じる障壁効果の損傷を補うために、有機層は好ましくは、分離欠陥のために、また場合により平滑表面を平滑にするために、および引き続きの無機層中の欠陥密度を低減するために幾つかの無機層の間に適用される。アクリレートは、これらの有機層のために好ましくは使用される。しかしながら、この型の有機被覆材料は好ましくは、雰囲気圧力における湿潤被覆法によって溶液から適用され、この結果、著しく異なった圧力条件に起因して、これらの無機および有機層で交互に被覆するためにバッチ法に頼ることがこれまで多くの場合に必要であった。しかしながら、単に経済的理由のために、これらのバッチ法は、このような生成物の工業規模製造には不利である。
【０００３】
更に、湿潤被覆法の代わりに有機層を堆積させてフラッシュ蒸発を用いる連続法において無機層および有機層での被覆を行う試みが過去にあった（例えばＵＳ５２６００９５またはＵＳ６３５８５７０を参照）。しかしながら、フラッシュ蒸発によるアクリレートモノマーの適用は特に、アクリレートが被覆される基材上だけでなくコーティング設備の内部および成分上に堆積し、特定の操作期間後に、例えばポンプ、輸送ロール、バルブ等の操作での問題を引き起こし得る欠点を伴う。その後、時間のかかるクリーニングのために生産作業を中断しなければならない。
【０００４】
無機層および有機層の交互の適用のための連続ロールツーロール法の真空および湿潤被覆法の直接の組み合わせは、これまで記載されていない。
【０００５】
ＷＯ２０１０／０１４０５８Ａ１は、薄い被覆フィルムでの電子装置の製造方法を記載し、多層障壁被覆物の適用にとりわけ言及する。しかしながら、ＷＯ２０１０／０１４０５８Ａ１は一方では、特に、どのようにして無機酸化物層および有機平滑層の交互の構築が、記載された連続法において得られるのかを開示せず、および他方では、無機酸化物層およびＷＯ２０１０／０１４０５８Ａ１に記載の方法により、プラスチック基材の全表面にわたり被覆物を得ることは、プラスチック基材の被覆側との接触が収集チャンバー内の複雑なロールガイドシステムで回避することができないので可能ではない。ＷＯ２０１０／０１４０５８Ａ１は、輸送ロールにおける凹部により適用された被覆物との接触を回避するか低減するが、これらのロールとの接触、従って損傷の虞を伴わずに全表面の被覆物は可能ではない。更に、覆われる基材の幅は、単に輸送ロールとの側面の接触によりかなり制限される。特に多層障壁被覆物、しかし特にまた導電性被覆物の無機層は、ガイドロールとの接触で非常に容易に破損される場合があるので、ここで、障壁効果またはこのような被覆物の導電率は、著しく害され得る。さらに、ＷＯ２０１０／０１４０５８Ａ１に記載の方法は、真空被覆チャンバーの上流に収集チャンバーを必要とし、この収集チャンバーは、大気圧と、真空被覆チャンバーの圧力の間の圧力において操作され、ＷＯ２０１０／０１４０５８Ａ１によれば、大気圧から真空被覆チャンバーの圧力への圧力差に橋渡しをする２つのガスゲートの使用に必ず必要となる。このような配置は、複雑制御技術および異なった圧力エリア間の幾つかのガスゲートの高価な使用だけでなく、これらのガスゲートによる被覆基材の繰り返しの輸送をも必要とするので、効率的なウェブハンドリングの理由、輸送ローラーを有するプラスチック基材の被覆表面の直接接触、従って摩擦効果をすべて回避することができない。従って、このようなガスゲートのできるだけ少ない数が被覆工程の間で望ましい。
【０００６】
従って、これまで知られた方法の欠点を回避することができる、フレキシブル基材、好ましくは多層被覆物を含有するプラスチックフィルムのロールツーロール被覆法における連続製法ならびにこのような方法における使用のための装置についての必要性が未だ存在した。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】米国特許第５２６００９５号明細書
【特許文献２】米国特許第６３５８５７０号明細書
【特許文献３】国際公開第２０１０／０１４０５８Ａ１号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
従って、本発明が基づく目的は、このようなフレキシブル基材、好ましくは多層被覆物を含有するプラスチックのロールツーロール被覆法における連続製造法を見出すことであり、少なくとも１つの真空被覆法および少なくとも１つの湿潤被覆法は、簡単な手段によって互いに組み合わせることができる。更に、全表面の被覆物は、広いフレキシブル基材上でさえ、この方法で可能となり、輸送ロールとの接触または摩擦効果による被覆物への損傷の虞は可能な限り低くなる。更なる目的は、そのような方法で使用される装置を見出すことであった。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的は、少なくとも１つの真空チャンバーおよび少なくとも１つの湿潤被覆エリアを共に、少なくとも１つのガスゲート、好ましくはいずれの場合にも１つだけのガスゲートより接続し、真空被覆チャンバー外でのフレキシブル基材の輸送を、輸送および／またはガイドロールとのプラスチックの被覆側の直接接触を伴わずに行う、フレキシブル基材、好ましくは多層被覆物を含有するプラスチックフィルムのロールツーロール被覆法における連続製法により達成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】図１は、真空被覆チャンバー（１）、湿潤被覆エリア（２）およびガスゲート（１０）を含む本発明による装置を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
従って、本発明は、多層被覆物が少なくとも１つの無機層および少なくとも１つの有機層を有し、
（ａ）多層被覆物の少なくとも１つの無機層を、少なくとも１つの真空被覆チャンバーにおいて１０−２バール未満の圧力にて真空被覆法で適用し、および
（ｂ）多層被覆物の少なくとも１つの有機層を大気圧にて湿潤被覆法により適用し、
ここで、少なくとも１つのガスゲートを、真空被覆チャンバーと湿潤被覆法のためのエリアの間に配置し、および
被覆フレキシブル基材、好ましくは被覆プラスチックフィルムの真空被覆チャンバー外での輸送を、被覆物を有するフレキシブル基材の側が、輸送および／またはガイドロールと直接接触しないように行うことを特徴とする、フレキシブル基材、好ましくは多層被覆物を含有するプラスチックフィルムのロールツーロール被覆法における連続製造方法を提供する。
【００１２】
本発明の方法の好ましい実施態様では、１つだけのガスゲートをいずれの場合にも、真空被覆チャンバーと湿潤被覆法用のエリアとの間に配置する。
【００１３】
本発明の方法のこれらの好ましい実施態様では、特に、２以上のガスゲートを、１０−２バール未満の圧力での真空被覆チャンバーと大気圧における湿潤被覆法についてのエリアとの間に用いることを必要としない。その結果、輸送ローラーとのプラスチックの被覆表面の接触から生じ得る摩擦効果は、幾つかのガスゲートの使用と比べて著しく減少する。
【００１４】
被覆フレキシブル基材、好ましくは、被覆プラスチックフィルムの真空被覆チャンバー外での輸送を、被覆物を有するフレキシブル基材側が、輸送および／またはガイドローラーと直接接触しないように、被覆フレキシブル基材を、従来法による輸送および／またはガイドロール、例えば金属製輸送および／またはガイドロール等を用いてフレキシブル基材の未被覆側がこれらのロールと接触するようにのみ輸送することにより行う。輸送を、輸送および／またはガイドロールに面するフレキシブル基材の被覆側で行う場合には、いわゆる空気回転ローラーを、本発明の方法に用い、これにより、被覆フレキシブル基材は、空気膜上で完全に接触がないように輸送され、ロールの表面から分けられる。従って、輸送および／またはガイドロールを有するフレキシブル基材の被覆側の接触および生じる被覆物への損傷は、完全に回避することができる。更に、この方法は、輸送および／またはガイドロールによる被覆物を損傷する虞および被覆物用基材として用いるフィルムウェブの幅を、輸送および／またはガイドロールにより不必要に制限しない。更に、この方法は、輸送および／またはガイドロールによる被覆物を損傷する虞がなく完全被覆基材でさえ製造する可能性を提供し、および被覆物用基材として用いるフィルムウェブの幅を、輸送および／またはガイドロールにより不必要に制限しない。
【００１５】
本発明による方法は、例えば障壁被覆物、すなわち、プラスチックフィルム、透明導電性皮膜または反射防止被覆物の酸素および／または水の透過性を低減する被覆物の製造に適している。好ましくは、本発明による方法は、障壁被覆物の製造に適している。本発明による方法には、無機層および有機層が交互である被覆物に好適である。特に好ましくは、本発明による方法は、交互の無機層および有機層を有する障壁被覆物の製造に適している。
【００１６】
無機層は、好ましくは特に薄層である。特に好ましくは、無機層はそれぞれ、１０〜８００ｎｍ、好ましくは２０〜４００ｎｍ、特に好ましくは５０〜２００ｎｍの層厚みを有する。
【００１７】
好ましくは、有機層はそれぞれ、５ｎｍ〜５０μｍ、好ましくは１０ｎｍ〜２５μｍ、特に好ましくは２０ｎｍ〜２０μｍの層厚みを有し、これらの図は、乾燥フィルム厚みに関する。
【００１８】
無機層は好ましくは、少なくとも１つの酸化物、窒化物、炭化物、ホウ化物、フッ化物またはこれらの混合物を含有する無機層である。
【００１９】
障壁被覆物のための無機層は好ましくは、少なくとも１つの酸化物、窒化物、炭化物、ホウ化物、フッ化物またはこれらの混合物を含有する無機層である。更に、これらの被覆物は、必要に応じて、群周期律表のＩＩＡ、ＩＩＩＡ、ＩＶＡ、ＶＡ、ＩＶＡ、ＶＩＩＡ、ＩＢあるいはＩＩＢからの一以上の元素、群周期律表のＩＩＩＢ、ＩＶＢあるいはＶＢからの金属あるいは希土類金属を更に含有し得る。特に、酸化物、窒化物、炭化物または混合酸化物、オキシ炭化物、オキシ窒化物あるいはオキシ炭窒化物が好ましい。シリコン酸化物、シリコン窒化物、シリコンオキシ窒化物、シリコンオキシ炭化物、金属酸化物、金属の混合酸化物、金属窒化物、金属オキシ窒化物、金属オキシ炭窒化物またはこれらの混合物は特に好ましい。極めて特に好ましくは、無機層は、シリコン酸化物、アルミニウム酸化物、亜鉛−錫酸化物、シリコン窒化物、シリコンオキシ炭化物、シリコンオキシ窒化物あるいはアルミニウムオキシ炭窒化物を含有する。好ましい実施態様では、無機層は、シリコン酸化物、アルミニウム酸化物、亜鉛−錫酸化物あるいはシリコン窒化物を含有する。
【００２０】
透明導電性被覆物のための無機層は好ましくは、インジウム錫オキサイド（ＩＴＯ）、アンチモンドープト錫酸化物（ＡＴＯ）またはアルミニウムドープト亜鉛酸化物（ＡＺＯ）の群から選択される少なくとも１種を含有する無機層である。
【００２１】
反射防止被覆物用の無機層は好ましくは、少なくとも１つの低い、中間または高い屈折率ｎを有する酸化物またはフッ化物を含有する無機層である。上記低屈折率を有する材料は、ｎが１．５より小さいような材料であり、上記中間屈折率を有する材料は、ｎが１．５〜２であるような材料であり、上記高屈折率を有する材料は、ｎが２より大きいような材料である。低屈折率を有する材料は、例えばＳｉＯ２またはＭｇＦ２であり、中間屈折率を有する材料は、例えばＣｅＦ３またはＡｌ２Ｏ３であり、高屈折率を有する材料は、例えばＺｒＯ２またはＴｉＯ２である。好ましい実施態様では、反射防止被覆物用の無機層は、１以上の無機層を含み、これらの異なった層は異なった屈折率を有する。特に好ましいのは、１を超える無機層での実施態様であり、異なった無機層は、低い、中間または高い屈折率を有する材料の異なった群から選択される。このような多層無機層は好ましくは、異なった材料の被覆物のための異なった真空モジュールを用いることにより１の真空被覆法において基材上に被覆することができる。
【００２２】
当業者に知られていた真空蒸着方法は、無機層に適した真空被覆法と見なし得る。真空被覆法は好ましくは、化学的または物理的蒸着、反応性スパッタリング法または反応性蒸発法である。化学蒸着法、例えばプラズマ化学気相堆積法（ＰＥＣＶＤ）のための方法として、高周波プラズマ化学気相堆積法（ＲＦＰＥＣＶＤ）、膨張性熱プラズマ化学蒸着（ＥＴＰＣＶＤ）、電子サイクロトロン共鳴プラズマ化学気相堆積法（ＥＣＲＰＥＣＶＤ）、マイクロ波プラズマ化学気相堆積法（ＭＷＰＥＣＶＤ）または誘導結合プラズマ化学気相堆積法（ＩＣＰＥＣＶＤ）、好ましくはプラズマ化学気相堆積法（ＰＥＣＶＤ）が適当である。反応性スパッタリング法として、ＤＣマグネトロンスパッタリング、パルス化ＤＣマグネトロンスパッタリング、ＡＣマグネトロンスパッタリングあるいはイオンビームスパッタリングが好適である。反応性蒸発法として、熱または電子ビーム蒸着は好適である。
【００２３】
化学蒸着法、特にプラズマ化学気相堆積法については、適当な前駆体を、必要に応じて酸素または窒素と組合わせて所望の無機材料の製造に任意に用いる。これらの前駆体は当業者に知られている。前駆体についての非限定例としては、Ｓｉ３Ｎ４を形成するためのシラン（ＳｉＨ４）およびアンモニア（ＮＨ３）、ＳｉＯ２を形成するためのテトラエチルオルトシリケート（ＴＥＯＳ）（Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）４）またはヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）（Ｏ［Ｓｉ（ＣＨ３）３］２）、ＺｎＯを形成するためのジメチル亜鉛（Ｚｎ（ＣＨ３）２）またはジエチル亜鉛（Ｃ２Ｈ５）２Ｚｎ）、Ａｌ２Ｏ３を形成するためのトリエチルアルミニウム（Ｃ１２Ｈ３０Ａｌ２）の二量体形態、ＳｎＯ２を形成するためのＳｎＣｌ４およびＨ２Ｏが挙げられる。
【００２４】
本発明の方法では、動作圧力は真空被覆チャンバーにおいて、１０−２バール未満、好ましくは１０−３〜１０−７バール、特に好ましくは１０−３〜１０−６バールである。好ましい実施態様では、真空チャンバーは、真空被覆法を始める前に、１０−５バール未満のベース圧、好ましくは１０−６〜１０−１０バールのベース圧へ排気する。このようなより低いベース圧への予備排気は、例えば真空被覆法前の真空チャンバーを清掃するために有利であり得る。
【００２５】
湿潤被覆法のために、フレキシブル基材の連続被覆に適した当業者に知られた全ての湿潤被覆法は、原則としては適当である。例えば、湿潤被覆法は、噴霧法、キャスト法、ナイフ塗布法、印刷法、ローラー被覆または他の連続湿潤被覆法であり得る。例えばスロットダイを用いるキャスト法、ローラー被覆または印刷法、例えばグラビア印刷またはフレキソ印刷等が好ましい。
【００２６】
湿潤被覆法は、周囲に完全に開放された、または囲いで密閉されたエリアで行うことができる。湿潤被覆法を囲い中で行うことが好ましい。湿潤被覆法を囲い中で行うことは、溶媒蒸気が周囲に出ることができないので有利である。好ましい実施態様では、溶媒蒸気は収集および再利用することができる。さらに、湿潤被覆法は、不活性ガス、例えば窒素等、または特に低い酸素または低い湿度水準環境を与える乾燥空気下で行うことも好ましい場合がある。乾燥空気は、被覆材が酸素敏感性または水分敏感性である場合には特に有利であり得る。湿潤被覆法を、クリーンルーム条件、特に低い粒子密度条件下で行うことは好ましい場合がある。低い粒子密度条件は、被覆物の質について特に有利であり得る。
【００２７】
好ましくは、湿潤被覆法の後に、湿潤被覆により適用された層の乾燥を行う。この乾燥は、室温または高温にて、すなわち熱的に行い得る。乾燥は、好ましくは熱的に行う。含有溶媒は、この方法の間に完全にまたは部分的に除去される。
【００２８】
好ましくは、湿潤被覆法および可能な乾燥に続いて、湿潤被覆によって適用された層を硬化する。硬化は、熱的にまたは照射によって行い得る。好ましい実施態様では、硬化は放射線硬化の形態で行う。適当な放射線源は、例えばＵＶ放射体または電子ビームである。放射線硬化は、好ましくはＵＶ放射を用いて行う。熱硬化の場合には、乾燥および硬化は、必要に応じて同じプロセス段階において行うことができる。これは、ＩＲ放射または乾燥炉もしくは乾燥ラインの通過または乾燥装置により行う。
【００２９】
乾燥と硬化はいずれも、完全にまたは部分的に行うことができる。湿潤被覆により適用された層を硬化および／または硬化することは、有機層での被覆に続いて更なる被覆工程を行う場合、すなわち、更なる無機層を、直後に有機被覆物へ適用する場合に特に好ましい。更に、湿潤被覆により適用された層の乾燥および／または硬化は、被覆基材を、フィルムのロールへ直ぐに巻き取る場合に好ましいことがある。
【００３０】
しかしながら、更なる被覆、または予備乾燥および／または硬化を行わずにまたは予備部分乾燥および／または部分硬化を行って、例えばリリースフィルムを適用することによる引き続きの巻取の可能性もまた存在する。リリースフィルムの適用は、完全予備乾燥および／または硬化の場合でさえ、フレキシブル基材を損傷から保護するために有利であり、好ましいことがある。
【００３１】
乾燥および／または硬化を、湿潤被覆法と同様に低酸素または低湿度水準環境下においておよび／またはクリーンルーム条件下で行うことは好ましい場合がある。
【００３２】
有機層のための被覆組成物は好ましくは、物理的に乾燥および／または重合することができ、および／または必要に応じて引き続きの硬化により横に架橋することもでき、すなわち、硬化により高分子量状態へ変換することができる有機化合物を含有する。この目的のために、全ての重合性モノマーならびに更に架橋することができるプレポリマーまたはポリマーまたはこれらの混合物は適当である。重合は、この場合、フリーラジカルにより、カチオン的、アニオン的、重縮合によりまたは重付加により行うことができる。被覆組成物は、対応する重合を開示する必要がある場合には、適当な重合開始剤を更に含有する。
【００３３】
好ましくは、有機層のための被覆組成物は、エチレン不飽和化合物を含有する。これらは、例えばエチレン不飽和モノマーまたはポリマーおよびこれらの混合物であってよい。
【００３４】
有機層のための被覆組成物は好ましくは、アクリレート、メタクリレート、ビニル芳香族化合物、ビニルエステル、ビニルエーテル、モノ−またはポリ不飽和アルケンおよびエチレン不飽和ニトリルから選択された少なくとも１つの化合物を含有する。最も特に好ましくは、有機層のための被覆組成物は、１以上のアクリレートまたはメタクリレートを含有する。
【００３５】
上記の好ましい化合物の例は、例えばビニルラウレート、ステアリン酸ビニル、プロピオン酸ビニルおよび酢酸ビニル、スチレン、ビニルトルエン、α−ブチルスチレン、４−ｎ−ブチルスチレン、４−ｎ−デシルスチレン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、ビニルメチルエーテル、ビニルイソブチルエーテル、ビニルヘキシルエーテル、ビニルオクチルエーテル、ブタジエン、イソプレン、エチレン、プロピレンおよびイソブチレン、およびアクリレートまたはメタクリレートアルコキシル化または非アルコキシル化モノ−、ジ−、トリ−、テトラ−、ペンタ−またはヘキサアクリレートである。
【００３６】
これらのアクリレートとメタクリレートとして適当なのは、例えばアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、ｎ−アクリル酸ブチル、イソブチルアクリレート、ｔ−アクリル酸ブチルおよび２−エチルヘキシルアクリレート、イソデシルアクリレート、ｎ−ラウリルアクリレート、Ｃ１２−Ｃ１５アルキルアクリレート、ｎ−ステアリルアクリレート、ｎ−ブトキシエチルアクリレート、ブトキシジエチレングリコールアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、２−フェノキシエチルアクリレート、イソボルニルアクリレートである。
【００３７】
これらのアクリレートとメタクリレートとして適当なのは、例えばアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、ｎ−アクリル酸ブチル、イソブチルアクリレート、ｔ−アクリル酸ブチルおよび２−エチルヘキシルアクリレート、イソデシルアクリレート、ｎ−ラウリルアクリレート、Ｃ１２−Ｃ１５アルキルアクリレート、ｎ−ステアリルアクリレート、ｎ−ブトキシエチルアクリレート、ブトキシジエチレングリコールアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、２−フェノキシエチルアクリレート、イソボルニルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシブチルアクリレート、メタンジオールジアクリラート、グリセロールジアクリラート、ネオペンチルグリコールジアクリラート、２−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールジアクリラート、トリメチロールプロパンジアクリラート、ペンタエリトリトールトリアクリレート、グリセロールトリアクリレート、１，２，４−ブタントリオールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリラート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリトリトールテトラアクリレート、ジペンタエリトリトールテトラアクリレート、ジペンタエリトリットペンタアクリレート、ジペンタエリトリトールヘキサアクリレートおよび対応するメタクリレートである。上記のアルコキシル化、好ましくはエトキシル化アクリレートおよびメタクリレートはまた、アクリレートおよびメタクリレートとして適当である。
【００３８】
有機層用の被覆組成物が、放射線硬化性である場合、これは少なくとも１つの適当な光開始剤を更に含有する。これらの適当な光開始剤（ＵＶ駆動開始剤）は好ましくは、高い光化学反応性および近紫外線範囲（＞３００ｎｍ＞および特に好ましくは＞３５０ｎｍ）中の吸収帯を有する。
【００３９】
適当な光開始剤は、アシルホスフィンオキシド誘導体、α−アミノアルキルフェノン誘導体、ヒドロキシアルキルフェノン、ベンゾフェノン、ベンジルケタール、メチルベンゾイルホルメートおよびフェニルアセトフェノンの群から選択される光開始剤である。
【００４０】
これらの光開始剤の例は、ベンゾフェノン、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド（Ｃｉｂａ  Ｓｐｅｃｉａｌｉｔｙ  ＣｈｅｍｉｃａｌｓからのＩｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）８１９）、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（Ｃｉｂａ  Ｓｐｅｃｉａｌｉｔｙ  ＣｈｅｍｉｃａｌｓからのＩｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）１８４）、２−ベンジル−２−（ジメチルアミノ）−１−（４−モルホリノフェニル）−１−ブタノン（Ｃｉｂａ  Ｓｐｅｃｉａｌｉｔｙ  ＣｈｅｍｉｃａｌｓからのＩｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）３６９）、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−１−プロパノン（Ｃｉｂａ  Ｓｐｅｃｉａｌｉｔｙ  ＣｈｅｍｉｃａｌｓからのＩｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）９０７）、（１−ヒドロキシシクロヘキシル）フェニルメタノン（Ｃｉｂａ  Ｓｐｅｃｉａｌｉｔｙ  ＣｈｅｍｉｃａｌｓからのＩｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）１８００）、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−１−プロパノン（Ｃｉｂａ  Ｓｐｅｃｉａｌｉｔｙ  ＣｈｅｍｉｃａｌｓからのＩｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）１７００）、ビス（２，６−ジメチルベンゾイル）（２，４，４−トリメチルペンチル）ホスフィンオキシド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）（２，４，４−トリメチルペンチル）ホスフィンオキシド、（２，４，６−トリメチルベンゾイル）ジフェニルホスフィンオキシド（ＢＡＳＦ  ＡＧからのＬｕｃｉｒｉｎ（登録商標）ＴＰＯ  Ｓｏｌｉｄ）、２，４，６−トリメチルベンゾイルエトキシフェニルホスフィンオキシド（ＢＡＳＦ  ＡＧからのＬｕｃｉｒｉｎ（登録商標）ＴＰＯ−Ｌ）、ベンゾイルホスホン酸ビス（２，６−ジメチルフェニルエステル（ＢＡＳＦ  ＡＧからのＬｕｃｉｒｉｎ（登録商標）８７２８）および２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−１−プロパノン（Ｃｉｂａ  Ｓｐｅｃｉａｌｉｔｙ  ＣｈｅｍｉｃａｌｓからのＤａｒｏｃｕｒ（登録商標）４２６５）である。
【００４１】
さらに、これらの互いの光開始剤の混合物は適当である。
【００４２】
そのような有機層は、障壁被覆物、透明な導電性フィルムあるいは反射防止被覆物に適している。
【００４３】
このような有機層は、基材または予め適用した無機層の表面を平滑にすることにより有利になり得る。特に、障壁被覆物については、このような有機層は好ましくは、引き続きの無機層において分離欠陥のためにおよび／または欠陥密度を低減するために幾つかの無気層間に適用する。
【００４４】
さらに、あるいは有機層のための代替として、特に透明導電性被覆物のために、好ましくは導電性ポリマーを含有する被覆組成物、例えばポリチオフェンまたはポリピロール等を用いることができる。特に好ましいのは、少なくとも１つの任意に置換されたポリチオフェンを含んでなる被覆組成物である。本発明の好ましい実施態様では、少なくとも１つの任意に置換されたポリチオフェンは、一般式（ＩＶ）：
【化１】
2014516306.tif 000003
〔Ａは、必要に応じて置換されたＣ１−Ｃ５アルキレン残基を表わし、
Ｒは、直鎖状または分枝状の必要に応じて置換されたＣ１−Ｃ１８アルキル残基、必要に応じて置換されたＣ５−Ｃ１２シクロアルキル残基、必要に応じて置換されたＣ６−Ｃ１４アリール残基、必要に応じて置換されたＣ７−Ｃ１８アラルキル残基、必要に応じて置換されたＣ１−Ｃ４ヒドロキシアルキル残基またはヒドロキシル残基を表し、
ｘは、０〜８の整数を表し、および１以上の残基ＲがＡへ結合する場合については、これらは同一または異なっていてよい〕
示された繰り返し単位を有するポリチオフェンである。
【００４５】
一般式（ＩＶ）は、本発明では、ｘ個の置換基Ｒがアルキル残基Ａへ結合し得ると理解される。
【００４６】
特に好ましいのは、Ａが任意に置換されたＣ２−Ｃ３アルキレン残基を表わし、ｘが０または１を表す一般式（ＩＶ）で示される繰り返し単位を有するポリチオフェンである。必要に応じて置換されてよいポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）は、導電性ポリマーとしてより特に好ましい。導電性ポリマーとして極めて好ましいのは、非置換ポリ（３，４−エチレン−ジオキシチオフェンである。
【００４７】
導電性ポリマー、特にポリチオフェンに関して、接頭辞ポリ−は、本発明では、ポリマーまたはポリチオフェンが１を超える同一または異なった繰り返し単位を含有すると理解される。ポリチオフェンは、ｎが２〜２０００、好ましくは２〜１００の整数である一般式（ＩＶ）で示される合計ｎ個の繰り返し単位を含有する。ポリチオフェン内の一般式（ＩＶ）で示される繰り返し単位はそれぞれ、同一または異なっていてよい。一般式（ＩＶ）で示される同一の繰り返し単位を有するポリチオフェンが好ましい。
【００４８】
好ましくは、ポリチオフェンはそれぞれ、末端基上にＨを有する。
【００４９】
残基Ａおよび／または残基Ｒの更なる任意の置換基として、本発明では、例えば、多くの有機基、例えばアルキル、シクロアルキル、アリール、アラルキル、アルコキシ、ハロゲン、エーテル、チオエーテル、ジスルフィド、スルホキシド、スルホン、スルホネート、アミノ、アルデヒド、ケト、カルボン酸エステル、カルボン酸、カーボネート、カルボキシレート、シアノ、アルキルシランおよびアルコキシシランおよびカルボキシルアミド基を想定し得る。
【００５０】
ポリチオフェンは、中性またはカチオン性であり得る。好ましい実施態様では、これらはカチオン性であり、「カチオン性」とは、ポリチオフェン主鎖上にある電荷のみを指す。残基Ｒ上の置換基に応じて、ポリチオフェンは、構造単位において正および負の電荷を有し得、正の電荷は、ポリチオフェン主鎖上にあり、負の電荷は、必要に応じて、スルホネートまたはカルボキシレート基により置換された残基Ｒ上にある。ポリチオフェン主鎖の正の電荷は、残基Ｒ上の任意に付与されたアニオン基により部分的または完全に置換されてよい。全体を考慮すれば、ポリチオフェンは、これらの場合において、カチオン性、中性またはアニオン性であってよい。しかしながら、本発明では、これらは、ポリチオフェン主鎖上の正の電荷が極めて重要であるので、全てカチオン性ポリチオフェンと見なされる。正の電荷は、それらの正確な数および位置を容易に確立することができないので、正の電荷は式で表されない。しかしながら、正の電荷の数は、少なくとも１個、多くともｎ（ここで、ｎはポリチオフェン内の全ての繰り返し単位（同一または異なった）の総数である）である。
【００５１】
正の電荷を補うために、これが任意にスルホネート−またはカルボキシレート−置換された、従って負に帯電した残基Ｒによりなされていなければ、カチオン性ポリチオフェンは対イオンとしてアニオンを必要とする。
【００５２】
対イオンは、モノマーまたはポリマーアニオンであってよく、ポリマーアニオンは以下、ポリアニオンとも称される。
【００５３】
ポリマーアニオンは、フィルム形成に寄与するので、モノマーアニオンより好ましい。ポリマーアニオンは、この場合には、例えばポリマーカルボン酸のアニオン、例えばポリアクリル酸、ポリメタクリル酸またはポリマレイン酸、またはポリマースルホン酸等、ポリマースルホン酸、例えばポリスチレンスルホン酸およびポリビニルスルホン酸等の陰イオンであってよい。これらのポリカルボン酸および−スルホン酸は、ビニルカルボン酸およびビニルスルホン酸と他の重合性モノマー、例えばアクリル酸エステルおよびスチレン等とのコポリマーであってもよい。ポリマーカルボン酸またはスルホン酸のアニオンは、ポリマーアニオンとして好ましい。ポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）のアニオンは、ポリマーアニオンとして特に好ましい。
【００５４】
ポリアニオンを供給するポリ酸の分子量は、１０００〜２００００００、特に好ましくは２０００〜５０００００である。例えばポリアニオンまたはこれらのアルカリ塩は、例えば市販のポリスチレンスルホン酸およびポリアクリル酸である。
【００５５】
ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸またはカンファースルホン酸のアニオンは、モノマーアニオンとして好ましい。
【００５６】
このような被覆組成物は、当業者に良く知られている。このような導電性ポリマーを含んでなる有機層は、無機透明導電性層の柔軟性を更に改善し、クラックがこれらの無機層において形成される場合でさえ、このような無機透明導電性層を維持するのに有利であってよい。
【００５７】
有機被覆組成物のための溶媒として適当なのは、例えば必要に応じて水と混合物中での１以上の有機溶媒である。一以上の有機溶媒が好ましい。これらの有機溶媒は、芳香族溶媒、例えばキシレンまたはトルエン、ケトン、例えばアセトン、２−ブタノン、メチルイソブチルケトン、ジアセトンアルコール等、アルコール、例えばメタノール、エタノール、ｉプロパノール、２−メトキシプロピルアルコール等、エーテル、例えば１，４−ジオキサン、エチレングリコールｎ−プロピルエーテル、またはエステル、例えば酢酸エチル、酢酸ブチル、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、またはこれらの溶媒を含有する混合物を含有する群から選択することができる。特に、ｉ−プロパノール、酢酸エチル、酢酸ブチル、２−メトキシプロピルアルコール、キシレンまたはトルエンが好ましい。
【００５８】
本発明による方法では、真空被覆法または湿潤被覆法は、第１被覆法として行なうことができる。本発明の方法の好ましい実施態様では、真空被覆法は、少なくとも引き続きの湿潤被覆法の前に第１被覆法として行なう。本発明の方法の代替の好ましい実施態様では、湿潤被覆法は、少なくとも引き続きの真空被覆法の前に第１被覆法として行なう。透明な導電性皮膜および反射防止被覆物の応用のために、まず、有機層を、少なくとも引き続きの真空被覆法の前に湿潤被覆法を用いてフレキシブル基材へ適用することが好ましい。
【００５９】
障壁被覆物の適用のために、まず、有機層を、少なくとも真空被覆法の前に湿潤被覆法を用いてフレキシブル基材へ適用するか、またはまず、無機層を、少なくとも引き続きの湿潤被覆法の前に真空被覆法を用いてフレキシブル基材へ適用することが好ましい場合がある。障壁被覆物の適用のために、まず、無機層を、引き続きの湿潤被覆法の前に真空被覆法を用いてフレキシブル基材へ適用することは特に好ましい。本発明の方法における使用のための適当なフレキシブル基材として、任意のフレキシブル基材、例えばプラスチックフィルム、金属フィルム、薄ガラス基板またはゾルゲル基材等が適用である。
【００６０】
本発明の方法における使用のために好ましいフレキシブル基材は、プラスチックフィルムであり、特に好ましくは熱可塑性フィルムが適当である。本発明によれば、少なくとも１つの熱可塑性プラスチックを含有する少なくとも１つの層を含有するフィルムは、熱可塑性フィルムとして適当である。この型の熱可塑性フィルムは、単一または多層熱可塑性フィルムであってよい。基材として多層熱可塑性フィルムの場合には、これは、共押出、押出ラミネーションまたはラミネーションにより製造された、好ましくは共押出により製造された熱可塑性フィルムでありえる。プラスチックフィルムは、好ましくは１０μｍ〜１０００μｍ、特に好ましくは２０〜５００μｍ、極めて特に好ましくは３０〜３００μｍの厚みを有する。
【００６１】
プラスチック層のための熱可塑性プラスチックとして適当なのは、互いに独立して、エチレン不飽和モノマーのポリマーおよび／または二官能性反応性化合物の重縮合物から選択された熱可塑性プラスチックである。透明熱可塑性プラスチックは特に好ましい。
【００６２】
特に適当な熱可塑性プラスチックは、ジフェノール、ポリ−またはコポリアクリレートおよびポリ−またはコポリメタクリレートに基づくポリカーボネートまたはコポリカーボネート、例えば好ましくはポリメチルメタクリレート、スチレンでのポリマーまたはコポリマー、例えば好ましくは透明ポリスチレンあるいはポリスチレン−アクリロニトリル（ＳＡＮ）、透明熱可塑性ポリウレタン並びにポリオレフィン、例えば好ましくは透明ポリプロピレン型または環状オレフィンに基づいたポリオレフィン（例えばＴＯＰＡＳ（登録商標）、Ｈｏｅｃｈｓｔ）、テレフタル酸またはナフタレンジカルボン酸のポリ−または共重縮合、例えば好ましくは（ポリ）−またはコポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴまたはＣｏＰＥＴ）、グリコール変性ＰＥＴ（ＰＥＴＧ）またはポリ−またはコポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴまたはＣｏＰＢＴ）、ポリ−またはコポリエチレンナフタレート（ＰＥＮまたはＣｏＰＥＮ）あるいは前述のものの混合物である。
【００６３】
特に好ましいのは、高透明性および低ヘイズ値を有する熱可塑性プラスチックであるが、これらは、光学またはオプトエレクトロニクスの応用に、例えば表示アプリケーション等に特に適している。これらの熱可塑性プラスチックは、特に好ましくは、テレフタル酸のポリカーボネートまたはコポリカーボネート、例えば好ましくはポリ−またはコポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴまたはＣｏＰＥＴ）、グリコール変性ＰＥＴ（ＰＥＴＧ）またはポリ−あるいはコポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴまたはＣｏＰＢＴ）、ポリ−またはコポリエチレンテレフタレート（ＰＥＮまたはＣｏＰＥＮ）または上記の混合物である。
【００６４】
適当なポリカーボネートまたはコポリカーボネートは、特に芳香族ポリカーボネートまたはコポリカーボネートである。ポリカーボネートまたはコポリカーボネートは、直鎖状または分枝状であってよい。
【００６５】
これらのポリカーボネートまたはコポリカーボネートの製造は、ジフェノール、炭酸誘導体、任意に連鎖停止剤および任意に分枝剤から既知の方法で行ってよい。ポリカーボネートの製造は、当業者に良く知られている。
【００６６】
適当なジフェノールは、一般式（Ｉ）：
ＨＯ−Ｚ−ＯＨ（Ｉ）
〔ここで、Ｚは、６〜３４Ｃの原子を有する芳香族基であり、これは一以上の任意に置換された芳香属核および脂肪族または脂環式基またはアルキルアリールまたはブリッジメンバーとしてヘテロ原子を含有してよい〕
で示されるジヒドロキシアリール化合物であってよい。
【００６７】
適当なジヒドロキシアリール化合物の非限定例は、以下の通りである：ジヒドロキシベンゼン、ジヒドロキシジフェニル、ビス−（ヒドロキシフェニル）−アルカン、ビス−（ヒドロキシフェニル）−シクロアルカン、ビス−（ヒドロキシフェニル）−アリール、ビス−（ヒドロキシフェニルエーテル、ビス−（ヒドロキシフェニルケトン、ビス−（ヒドロキシフェニルスルフィド、ビス−（ヒドロキシフェニルスルホン、ビス−（ヒドロキシフェニル）−スルホキシド、１’，１’−ビス−（ヒドロキシフェニル）−ジイソプロピルベンゼンおよびこれらの核アルキル化および核ハロゲン化化合物。
【００６８】
好ましいジヒドロキシアリール化合物は、例えばレゾルシノール、４，４’−ジヒドロキシジフェニル、ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−メタン、ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−メタン、ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−ジフェニル−メタン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニル−エタン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−１−（１−ナフチル）−エタン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−１−（２−ナフチル）−エタン、２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、２，２−ビス−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、２，２−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニル−プロパン、２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−ヘキサフルオロ−プロパン、２，４−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−２−メチル−ブタン、２，４−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−メチルブタン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサン、１，１−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−４−メチル−シクロヘキサン、１，３−ビス−［２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−プロピル］−ベンゼン、１，１’−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３−ジイソプロピル−ベンゼン、１，１’−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−４−ジイソプロピル−ベンゼン、１，３−ビス−［２−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−プロピル］−ベンゼン、ビス−（４−ヒドロキシフェニルエーテル、ビス−（４−ヒドロキシフェニルスルフィド、ビス−（４−ヒドロキシフェニルスルホン、ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニルスルホン、２，２’，３，３’−テトラヒドロ−３，３，３’，３’−テトラメチル−１，１’−スピロビ−［１Ｈ−インデン］−５，５’−ジオール、または式（Ｉａ）：
【化２】
2014516306.tif 000004
〔式中、Ｒ１およびＲ２は、互いに独立して、水素、ハロゲン、好ましくは塩素または臭素、Ｃ１−Ｃ８アルキル、Ｃ５−Ｃ６−シクロアルキル、Ｃ６−Ｃ１０−アリール、好ましくはフェニルおよびＣ７−Ｃ１２−アラルキル、特にフェニル−Ｃ１−Ｃ４−アルキル、特にベンジルを表し、
ｍは、４〜７、好ましくは４または５を表し、
Ｒ３およびＲ４はそれぞれ各Ｘについて選択されるか、または互いに独立して水素またはＣ１−Ｃ６−アルキルを表し、および
Ｘは、炭素を表してよく、
但し、少なくとも１つの原子Ｘ、Ｒ３およびＲ４は同時にアルキルを表す〕
で示されるジヒドロキシジフェニルシクロアルカンである。
【００６９】
好ましくは、式（Ｉａ）では、Ｒ３とＲ４は同時に、１または２の原子Ｘ上での、特に１の原子Ｘ上でのアルキルである。ジフェニル置換Ｃ原子（Ｃ−１）についてのα位におけるＸ原子は好ましくは、ジアルキル置換されないが、対照的に、Ｃ−１へのベータ位におけるアルキルジ置換は好ましい。
【００７０】
特に好ましい式（Ｉａ）で示されるジヒドロキシジフェニルシクロアルカンは、脂環式基において５および６環Ｃ原子Ｘを有するもの（式（Ｉａ）においてｍ＝４または５）、例えば式（Ｉｂ）〜（Ｉｄ）：
【化３】
2014516306.tif 000005
【化４】
2014516306.tif 000006
【化５】
2014516306.tif 000007
で示されるジフェノールである。
【００７１】
極めて特に好ましい式（Ｉａ）で示されるジヒドロキシジフェニルシクロアルカンは、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチル−シクロヘキサン（式（Ｉａ−１）、ここでＲ１およびＲ２はＨである）である。
【００７２】
このようなポリカーボネートは、式（Ｉａ）で示されるジヒドロキシジフェニルシクロアルカンからＥＰ−Ａ３５９９５３に従って製造することができる。
【００７３】
特に好ましいジヒドロキシアリール化合物は、レゾルシノール、４，４’−ジヒドロキシジフェニル、ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−ジフェニル−メタン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニル−エタン、ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−１−（１−ナフチル）−エタン、ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−１−（２−ナフチル）−エタン、２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、２，２−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサン、１，１−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチル−シクロヘキサン、１，１’−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３−ジイソプロピル−ベンゼンおよび１，１’−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−４−ジイソプロピル−ベンゼンである。
【００７４】
極めて特に好ましいジヒドロキシアリール化合物は、４，４’−ジヒドロキシジフェニル、２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパンおよび１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチル−シクロヘキサンである。
【００７５】
ホモポリカーボネートを形成するジヒドロキシアリール化合物または種々のコポリカーボネートを形成するジヒドロキシアリール化合物のいずれか１つを用いることは可能である。
【００７６】
ホモポリカーボネートを形成する式（Ｉ）または（Ｉａ）で示されるジヒドロキシアリール化合物または子ポリカーボネートを形成する式（Ｉ）および／または（Ｉａ）で示される幾つかのジヒドロキシアリール化合物のいずれか１つを用いることは可能である。本発明では、種々のジヒドロキシアリール化合物は、不規則的またはブロック状のいずれかで互いに結合することができる。式（Ｉ）および（Ｉａ）で示されるジヒドロキシアリール化合物からのコポリカーボネートの場合には、式（Ｉａ）で示されるジヒドロキシアリール化合物と必要に応じて併用する式（Ｉ）で示される他のジヒドロキシアリール化合物のモル比は、好ましくは９９モル％の（Ｉａ）対１モル％の（Ｉ）および２モル％の（Ｉａ）対９８モル％の（Ｉ）の間、好ましくは９９モル（％）の（Ｉａ）対１モル％の（Ｉ）および１０モル％の（Ｉａ）対９０モル％の（Ｉ）の間、特に９９モル％の（Ｉａ）対１モル％の（Ｉ）および３０モル％の（Ｉａ）対７０モル％の（Ｉ）の間である。
【００７７】
極めて特に好ましいコポリカーボネートは、式（Ｉａ）および（Ｉ）で示されるジヒドロキシアリール化合物として１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチル−シクロヘキサンおよび２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパンを用いて製造することができる。
【００７８】
適当な炭酸誘導体は、例えば一般式（ＩＩ）：
【化６】
2014516306.tif 000008
〔Ｒ、Ｒ’およびＲは、互いに独立して、同一または異なっていて、および水素、直鎖状または分枝状Ｃ１−Ｃ３４−アルキル、Ｃ７−Ｃ３４−アルキルアリールまたはＣ６−Ｃ３４−アリールを表わし、Ｒはまた、−ＣＯＯ−Ｒ’’’（式中、Ｒ’’’は、水素、直鎖状または分枝状Ｃ１−Ｃ３４アルキル、Ｃ７−Ｃ３４−アルキルアリールまたはＣ６−Ｃ３４アリールを表わす）を表してよい〕
で示されるジアリールカーボネートであり得る。
【００７９】
好ましいジアリールカーボネートは、例えば炭酸ジフェニル、メチルフェニルフェニルカーボネートおよびジ−（メチルフェニル）カーボネート、４−エチルフェニルフェニルカーボネート、ジ−（４−エチルフェニル）カーボネート、（４−ｎ−プロピルフェニル）フェニルカーボネート、ジ−（４−ｎ−プロピルフェニル）カーボネート、（４−イソ−プロピルフェニル）フェニルカーボネート、ジ−（４−イソ−プロピルフェニル）カーボネート、４−ｎ−ブチルフェニルフェニルカーボネート、ジ−（４−ｎ−ブチルフェニル）カーボネート、４−イソ−ブチルフェニルフェニルカーボネート、ジ−（４−イソ−ブチルフェニル）カーボネート、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルフェニルカーボネート、ジ−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）カーボネート、４−ｎ−ペンチルフェニルフェニルカーボネート、ジ−（４−ｎ−フェニルフェニルカーボネート、４−ｎ−ヘキシルフェニルフェニルカーボネート、ジ−（４−ｎ−ヘキシルフェニル）カーボネート、４−イソ−オクチルフェニルフェニルカーボネート、ジ−（４−イソ−オクチルフェニルカーボネート、４−ｎ−ノニルフェニルフェニルカーボネート、ジ−（４−ｎ−ノニルフェニル）カーボネート、４−シクロヘキシルフェニルフェニルカーボネート、ジ−（４−シクロヘキシルフェニル）カーボネート、４−（１−メチル−１−フェニルエチル）−フェニルフェニルカーボネート、ジ−［４−（１−メチル−１−フェニルエチル）−フェニル］カーボネート、ビフェニル−４−イルフェニルカーボネート、ジ（ビフェニル−４−イル）カーボネート、４−（１−ナフチル）−フェニルフェニルカーボネート、４−（２−ナフチル）−フェニルフェニルカーボネート、ジ−［４−（１−ナフチル）−フェニル］カーボネート、ジ−［４−（２−ナフチル）−フェニル］カーボネート、４−フェノキシフェニルフェニルカーボネート、ジ−（４−フェノキシフェニル）カーボネート、３−ペンタデシルフェニルフェニルカーボネート、ジ−（３−ペンタデシルフェニル）カーボネート、４−トリチルフェニルフェニルカーボネート、ジ−（４−トリチルフェニルカーボネート、サリチル酸メチルフェニルカーボネート、ジ−（サリチル酸メチル）カーボネート、サリチル酸エチルフェニルカーボネート、ジ−（サリチル酸エチル）カーボネート、ｎ−プロピル−サリチレートフェニルカーボネート、ジ−（ｎ−プロピル−サリチレート）カーボネート、イソ−プロピル−サリチレートフェニルカーボネート、ジ−（イソ−プロピル−サリチレート）カーボネート、ｎ−ブチル−サリチレートフェニルカーボネート、ジ−（ｎ−ブチル−サリチレート）カーボネート、イソ−ブチル−サリチレートフェニルカーボネート、ジ−（イソ−ブチル−サリチレートカーボネート、ｔｅｒｔ−ブチル−サリチレートフェニルカーボネート、ジ−（ｔｅｒｔ−ブチル−サリチレートカーボネート、ジ−（サリチル酸フェニルカーボネートおよびジ−（サリチル酸ベンジルカーボネートである。
【００８０】
特に好ましいジアリール化合物は、炭酸ジフェニル、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルフェニルカーボネート、ジ−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）カーボネート、ジフェニル−４−イルフェニルカーボネート、ジ−（ビフェニル−４−イル）カーボネート、４−（１−メチル−１−フェニルエチル）−フェニルフェニルカーボネート、ジ−［４−（１−メチル−１−フェニルエチル）−フェニル］カーボネートおよびジ−（サリチル酸メチル）カーボネートである。
【００８１】
炭酸ジフェニルは、極めて特に好ましい。
【００８２】
ジアリールカーボネートまたは種々のジアリールカーボネートのいずれか１つを使用することができる。
【００８３】
末端基を制御または変性するために、例えばジアリールカーボネートの製造に使用されていない１以上のモノヒドロキシアリール化合物は、連鎖停止剤として更に用いることができる。本発明では、これらは、一般式（ＩＩＩ）：
【化７】
2014516306.tif 000009
〔式中、ＲＡは、直鎖状または分枝状Ｃ１−Ｃ３４−アルキル、Ｃ７−Ｃ３４−アルキルアリール、Ｃ６−Ｃ３４−アリールまたはＣＯＯ−ＲＤを表し、ここで、ＲＤは、水素、直鎖状または分枝状Ｃ１−Ｃ３４−アルキル、Ｃ７−Ｃ３４−アルキルアリールまたはＣ６−Ｃ３４−アリールを表し、および
ＲＢ、ＲＣは、互いに独立して、同一であるかまたは異なり、および水素、直鎖状または分枝状Ｃ１−Ｃ３４−アルキル、Ｃ７−Ｃ３４−アルキルアリールまたはＣ６−Ｃ３４−アリールを表わす〕
で示されるものである。
【００８４】
このようなモノヒドロキシアリール化合物は、例えば１−，２−または３−メチルフェノール、２，４−ジメチルフェノール、４−エチルフェノール、４−ｎ−プロピルフェノール、４−イソ−プロピルフェノール、４−ｎ−ブチルフェノール、４−イソブチルフェノール、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、４−ｎ−ペンチルフェノール、４−ｎ−ヘキシルフェノール、４−イソ−オクチルフェノール、４−ｎ−ノニルフェノール、３−ペンタデシルフェノール、４−シクロヘキシルフェノール、４−（１−メチル−１−フェニルエチル）−フェノール、４−フェニルフェノール、４−フェノキシフェノール、４−（１−ナフチル）−フェノール、４−（２−ナフチル）−フェノール、４−トリチルフェノール、サリチル酸メチル、サリチル酸エチル、ｎ−プロピルサリチレート、イソ−プロピルサリチレートｎ−ブチルサリチレート、イソ−ブチルサリチレート、ｔｅｒｔ−ブチルサリチレート、サリチル酸フェニルとサリチル酸ベンジルである。
【００８５】
４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、４−イソ−オクチルフェノールおよび３−ペンタデシルフェノールが好ましい。
【００８６】
適当な分枝剤は、３以上の官能基を有する化合物、好ましくは３以上のヒドロキシル基を有する化合物であり得る。
【００８７】
適当な３以上のフェノールヒドロキシル基を有する化合物は、例えばフロログルシノール、４，６−ジメチル−２，４，６−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−ヘプタ−２−エン、４，６−ジメチル−２，４，６−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−ヘプタン、１，３，５−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−ベンゼン、１，１，１−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−エタン、トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−フェニルメタン、２，２−ビス−（４，４−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘキシル］−プロパン、２，４−ビス−（４−ヒドロキシフェニル−イソプロピル）−フェノールおよびテトラ−（４−ヒドロキシフェニル）−メタンである。
【００８８】
他の適当な３以上の官能基を有する化合物は、例えば２、４−ジヒドロキシ安息香酸、トリメシン酸（トリクロリド）、シアヌル酸トリクロリドおよび３，３−ビス−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−オキソ−２，３−ジヒドロインドールである。
【００８９】
好ましい分枝剤は、３，３−ビス−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−オキソ−２，３−ジヒドロインドールおよび１，１，１−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−エタンである。
【００９０】
ポリ−またはコポリアルキレンテレフタレートまたはポリ−またはコポリアルキレンナフタレートは、テレフタル酸またはナフタレンジカルボン酸のポリ−またはコポリ縮合物として本発明の好ましい実施態様において適当である。適当なポリ−またはコポリアルキレンテレフタレートまたはポリ−またはコポリアルキレンナフタレートは、例えば芳香族ジカルボン酸の反応性生成物またはその反応性誘導体（例えばジメチルエステルまたは無水物）および脂肪族、脂環式または芳香脂肪族ジオールおよびこれらの反応生成物の混合物である。
【００９１】
好ましいポリ−またはコポリアルキレンテレフタレートは、テレフタル酸（またはその反応性誘導体）および２〜１０個のＣ原子を有する脂肪族または脂環式ジオールから既知の方法により製造することができる（Ｋｕｎｓｔｓｔｏｆｆ−Ｈａｎｄｂｕｃｈ、第ＶＩＩＩ巻、第６９５頁以下、Ｋａｒｌ−Ｈａｎｓｅｒ−Ｖｅｒｌａｇ、ミュンヘン、１９７３年）。
【００９２】
好ましいポリ−またはコポリアルキレンテレフタレートまたはポリ−またはコポリアルキレンナフタレートは、ジカルボン酸成分に対して少なくとも８０モル％、好ましくは９０モル％テレフタル酸またはナフタレンジカルボン酸基およびジオール成分に対して少なくとも８０モル％、好ましくは９０モル％エチレングリコールおよび／またはブタンジオール−１，４基を含有する。
【００９３】
好ましいポリ−またはコポリアルキレンテレフタレートまたはポリ−またはコポリアルキレンナフタレートは、テレフタル酸またはナフタレンジカルボン酸基に加えて２０モル％までの８〜１４個のＣ原子を有する他の芳香族ジカルボン酸または４〜１２個のＣ原子を有する脂肪族ジカルボン酸、例えばフタル酸、イソフタル酸、ナフタレン−２，６−ジカルボン酸（ポリ−またはコポリアルキレンテレフタレートの場合）、テレフタル酸（ポリ−またはコポリアルキレンなフタレートの場合）、４、４’−ジフェニルジカルボン酸、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、アゼライン酸および／またはシクロヘキサンジアセチン酸を含有することができる。
【００９４】
好ましいポリ−またはコポリアルキレンテレフタレートまたはポリ−またはコポリアルキレンなフタレートは、エチレンあるいはブタンジオール−１，４グリコールに加えて、２０モル％まで他の３〜１２個のＣ原子を有する脂肪族ジオール、６〜２１個のＣ原子を有する脂環式ジオール、例えばプロパンジオール−１，３、２−エチルプロパンジオール−１，３、ネオペンチルグリコール、ペンタンジオール−１，５、ヘキサンジオール−１，６、シクロヘキサンジメタノール−１，４、３−メチルペンタンジオール−２，４、２−メチルペンタンジオール−２，４、２，２，４−トリメチルペンタンジオール−１，３および２−エチルヘキサンジオール１，６（２，２−ジエチルプロパンジオール−１，３）、ヘキサンジオール−２、５、１，４−ジ−（［ベータ］−ヒドロキシエトキシ）−ベンゼン、２，２−ビス−（４−ヒドロキシシクロヘキシル）プロパン、２，４−ジヒドロキシ−１，１，３，３−テトラメチルシクロブタン、２，２−ビス−（３−［ベータ］−ヒドロキシエトキシフェニル）プロパンおよび２，２−ビス−（４−ヒドロキシプロポキシフェニル）プロパンの基を含有してよい（ＤＥ−ＯＳ２４０７６７４、２４０７７７６、２７１５９３２参照）。
【００９５】
ポリ−またはコポリアルキレンテレフタレートまたはポリ−またはコポリアルキレンナフタレートは、例えばＤＥ−ＯＳ１９００２７０およびＵＳ−ＰＳ３６９２７４４に記載の通り、比較的少量の３価アルコールまたは４価アルコールまたは３塩基または４塩基カルボン酸を組み込むことにより分枝することができる。好ましい分枝剤の例は、トリメシン酸、トリメリット酸、トリメチロールエタン、およびプロパンおよびペンタエリトリトールである。
【００９６】
酸成分に対して１モル％以下の分枝剤を、好ましく用いる。
【００９７】
ポリ−またはコポリアルキレンテレフタレートまたはポリ−またはコポリアルキレンナフタレートは、ＵＳ２００９−０３２４９２２Ａ１に記載の通り、引き続きの架橋前に、比較的少量のエチレン不飽和基をポリマー鎖中へ組み込むことにより分子させることもできる。
【００９８】
専らテレフタル酸および反応性誘導体（例えばそのジアルキルエステル）およびエチレングリコールおよび／またはブタンジオール−１，４から製造されたポリ−またはコポリアルキレンテレフタレートおよびこれらのポリアルキルエンテレフタレートの混合物は、特に好ましい。
【００９９】
専らナフタレンジカルボン酸およびその反応性誘導体（例えばそのジアルキルエステル）およびエチレングリコールから製造されたポリ−またはコポリアルキレンナフタレートは、特に好ましい。
【０１００】
好ましいポリ−またはコポリアルキレンテレフタレートまたはポリ−またはコポリアルキレンナフタレートはまた、上記酸成分の少なくとも２つからおよび／または上記アルコール成分の少なくとも２つから製造されたコポリエステルであり、特に好ましいコポリエステルは、ポリ（エチレングリコール／ブタンジオール−１，４）テレフタレートである。
【０１０１】
好ましい実施態様では、本発明による方法のプロセス工程（ａ）および（ｂ）を数回連続して通す。被覆工程（ａ）および（ｂ）は、好ましくは少なくとも工程（ａ）の後にもう一度行い、多層被覆物、すなわち、２の無機層間に１．５のダイアドを含有する有機層を適用する。本発明では、一連の無機および有機層はダイアドと称する。被覆工程（ａ）および（ｂ）を、工程（ａ）および（ｂ）の後にもう一度行うことはさらに好ましいが、これは、交互の無機および有機相を有する多層被覆物をもたらす。これらの実施態様は、系列中の真空および湿潤被覆に適した装置を接続して、幾つかの無機層および有機層のダイアドをロールツーロール連続法により適用し得るか、または工程（ａ）および（ｂ）により被覆されたフレキシブル基材を巻いて、これを本発明の方法へ再び被覆すべきフレキシブル基材として戻して導入して、無機層および有機層の１だけのダイアドをロールツーロール連続法により適用することにより行うことができる。
【０１０２】
特に好ましい被覆フレキシブル基材は、少なくとも被覆側で巻く前または巻く間にリリースフィルムが付与される。これは、特に被覆物を損傷、従って機能への障害またはその損失から保護するために行う。
【０１０３】
この型の多層構築は、好ましくは数桁向上した被覆プラスチックフィルムの酸素および／または水障壁特性を可能にする。このように被覆されたプラスチックフィルムは、好ましくは１０−３ｃｍ３／ｍ２／日未満、好ましくは１０−４ｃｍ３／ｍ２／日未満、特に好ましくは１０−５ｃｍ３／ｍ２／日未満の酸素透過性、および／または１０−３ｇ／ｍ２／日未満、好ましくは１０−４ｇ／ｍ２／日未満、特に好ましくは１０−５ｇ／ｍ２／日未満の水透過性で製造することができる。
【０１０４】
本発明によれば、少なくとも１つのガスゲートは、真空被覆チャンバーと湿潤被覆法用のエリアの間に、好ましくはいずれの場合にも１つのガスゲートを配置して１０−２バール未満の圧力から大気圧へ逆に変化させる。
【０１０５】
本発明はまた、
・少なくとも１つの巻出装置、
・少なくとも１つの真空被覆モジュールを有する１０−２バール未満の圧力での少なくとも１つの真空被覆チャンバー、
・大気圧にて少なくとも１つの湿潤被覆装置を有する少なくとも１つの湿潤被覆エリア、
・真空チャンバーおよび湿潤被覆エリアの間に少なくとも１つのガスゲート、
・真空チャンバー外での被覆フィルムの非接触輸送のための一以上の空気回転ローラー、および
・少なくとも１つの巻取装置
を有する、フレキシブル基材、好ましくは多層被覆物を含有するプラスチックフィルムのロールツーロール被覆装置を提供する。
【０１０６】
空気回転ローラーを用いることにより、輸送および／またはガイドロールとフレキシブル基材の被覆側の接触および被覆物への損傷が生じることを完全に避けることができる。さらに、この方法は、輸送および／またはガイドロールによる被覆物を損傷させる虞がなく完全被覆基材でさえ製造することの可能性を提供し、基材の幅、特に被覆物のための基材として用いるフィルムウェブは、輸送および／またはガイドロールにより不必要に制限されない。
【０１０７】
さらに、本発明のロールツーロール被覆装置は、輸送が、基材の未被覆側のみをこれらのロールと接触するようにする場合には、従来法による輸送および／またはガイドロール、例えば被覆フレキシブル基材を輸送するための金属および／またはガイドロール等を更に含んでよい。
【０１０８】
湿潤被覆エリア内では、被覆組成物の適用のための少なくとも１つの装置が存在する。これは、例えば噴霧、キャスト、ナイフ被覆、印刷またはローラーコーターのための装置であってよい。キャストのための１以上のスロットダイまたは少なくとも１つのローラーコーターまたはグラビア印刷またはフレキソ印刷のための少なくとも１つのロールを用いることが好ましい。
【０１０９】
好ましくは、湿潤被覆法をクリーンルーム条件下および／または低酸素または低湿度水準環境において用いる場合に限定されないが、湿潤被覆エリアは適切に封止した容器に配置する。湿潤法をクリーンルーム条件下でおよび／または低酸素または低湿度水準において用いる場合のために、環境クリーンルーム制御技術および／または酸素または湿度水準制御技術が必要である。
【０１１０】
本発明の意味において用語大気圧は、本発明の方法を行う位置において優勢な周囲圧であると理解される。しかしながら、本発明の意味において、週威圧は、０．８および１．２バールの間、好ましくは０．９および１．１バールの間の圧力であってもよい。
【０１１１】
本発明の装置は、好ましくは、乾燥装置、好ましくは熱乾燥装置を湿潤被覆エリアの中または下流に含む。これは、例えば炉、乾燥ラインまたは乾燥ユニットまたは１以上の連続送風機であり得る。乾燥は、室温または高温において行うことができる。好ましくは、高温において行う。
【０１１２】
本発明の装置は、好ましくは、湿潤被覆エリアの中または下流において有機被覆物を硬化するための装置を含む。乾燥装置もまた存在する場合には、硬化するための装置は、好ましくは、この乾燥装置の下流に配置する。硬化するための装置は、熱硬化のための装置であってよく、および硬化するための装置は、好ましくは、放射線硬化のための装置である。特に好ましくは、ＵＶ放射線または電子ビームにより硬化するための、極めて特に好ましくはＵＶ放射により硬化するための装置である。好ましい実施態様では、直列におよび／または並列に配置した１以上のＵＶ放射体であってよい。
【０１１３】
同一工程において、例えば同じ装置において、例えばこれらに限られないが赤外（ＩＲ）放射体を含む乾燥ラインまたは乾燥装置等の内部において乾燥および硬化を行うことも可能である。さらに、乾燥および硬化のための装置は、硬化が乾燥装置において既に開始するか、または乾燥が効果装置において完了さえもするように配置することができる。
【０１１４】
クリーンルーム条件下でおよび／または低酸素または低湿度水準環境において乾燥および／または硬化する場合には、乾燥および／または硬化するための装置は、好ましくは湿潤被覆法のための封止容器中へ統合する。
【０１１５】
本発明の装置では、真空チャンバーおよび湿潤被覆エリアは、好ましくは、互いに交互に続く。最も簡単な実施態様では、本発明の装置は、１つの真空チャンバーを含み、これは湿潤被覆エリアの前にある。最も簡単な実施態様では、本発明の装置は、１つの真空チャンバーを含み、この後に湿潤被覆エリアが続く。本発明の装置の他の実施態様では、これは１の湿潤被覆エリアの後に更なる真空チャンバーが続いてよく、この場合には、乾燥および／または硬化装置は、必要に応じて湿潤被覆エリアおよび第２真空チャンバーの間に存在してもよい。
【０１１６】
全ての実施態様において、少なくとも１つの、好ましくはいずれの場合にも１つのガスゲートを真空チャンバーおよび湿潤被覆エリアの間に配置して１０−２バール未満の圧力から大気圧への変化およびその逆を可能とする。このようなガスゲートは、当業者に既知であり、例えばＵＳ６８７８２０７Ｂ２に記載されている。
【０１１７】
さらに、本発明のロールツーロール被覆装置は、所望の圧力範囲を、真空チャンバーおよびガスゲートにおいて並びに真空チャンバーおよびガスゲートの間で任意に用いる圧力同等化エリアにおいて得るために、１以上の、好ましくは１を超えるポンプを含む。
【０１１８】
好ましい実施態様では、真空チャンバーおよびガスゲートの間の圧力同等化エリアを、例えばチャンバーまたはトンネルの形態で存在させてもよく、ここで、圧力は、１０−２バール未満から１０−６バールまでの値へ、好ましくは１０−７バールまでの値へ連続的に減少させることができる。チャンバーまたはトンネルは、好ましくは、ガス流を制限するために限られた伝導性（小断面）を有するように設計する。好ましくは、複数のポンプ装置を、チャンバーまたはトンネルに沿って差動ポンプのために配置して１０−２〜１０−６までの値、好ましくは１０−７バールまでの値への連続圧力変化を可能とする圧力段階を形成する。
【０１１９】
典型的な特に好ましい実施態様では、本発明のロールツーロール被覆装置は、
・それぞれ少なくとも１つの真空被覆モジュールをそれぞれ有する１０−２未満の圧力での少なくとも２つの真空被覆チャンバー、
・これらの２つの真空被覆チャンバー間に少なくとも１つの湿潤被覆装置を有する大気圧における少なくとも１つの湿潤被覆エリア、
・真空チャンバーおよび湿潤被覆エリア間に少なくとも１つの、好ましくはいずれの場合にも１つのガスゲート
を有する。
【０１２０】
本発明の装置では、被覆すべきフレキシブル基材を巻き戻すための巻出しロールを、１０−２バール未満の圧力が優勢であり、および真空被覆のための第１（任意に１つだけの）真空チャンバーへ接続するが、これから封止することもできる真空チャンバーに配置することができるが、真空槽に位置することができる。これは、大気圧から真空への変化のための更なるガスゲートについての必要がなく、および真空被覆チャンバー全体を換気することを必要とせずに変えるべきフレキシブル基材の回転を可能とする。
【０１２１】
この真空チャンバーまたは第１（任意に１つだけ）真空被覆チャンバーにおいて、本発明の方法へ供給された好ましくは被覆されていないフレキシブル基材の表面を清浄および／または予備処理して接着性を改善する装置を含み得る。このような清浄および／または前処理は、フレキシブル基材への直接接触の有無にかかわらず行うことができる。フレキシブル基材表面の接触清掃は、粘着性ローラーを用いることにより行うことができる。非接触清掃または予備処理は、例えばプラズマ予備処理またはイオンイオンビーム予備処理により行うことができる。さらに、非接触および接触清掃および／または予備処理は、組み合わせて用いることができる。
【０１２２】
更に、真空チャンバーまたは第１（任意に１つだけの）真空被覆チャンバーにおいて、本発明の方法へ供給された好ましくは被覆されていないフレキシブル基材、特に未被覆プラスチックフィルムを脱ガスする装置を含むことができる。例えばこのような装置は、加熱装置、例えば１以上のＩＲ放射体等であってよい。
【０１２３】
本発明の方法へ供給されたフレキシブル基材は好ましくは、被覆前および任意の表面処理および／または脱ガスの前にデマスカーを用いて取り除くリリースフィルムを有し得る。
【０１２４】
本発明の方法を用いて被覆されたフレキシブル基材は好ましくは、リリースフィルムをリマスカーにより、少なくとも被覆側に、巻取前または巻取中に供給することができる。
【０１２５】
本発明のロールツーロール装置の典型的な極めて特に好ましい実施態様は、図１に図式的に示される。図１は、本発明の例を説明することを目的とし、制限として解釈されるべきでない。
【０１２６】
図１は、真空被覆チャンバー（１）、湿潤被覆エリア（２）およびガスゲート（１０）を含む本発明による装置を示す。真空被覆チャンバー（１）には、３つの真空被覆モジュール（３）、被覆すべきプラスチックフィルムを通過して誘導する真空被覆モジュール中心金属ドラム（４）が存在する。中心金属ドラム（４）は好ましくは、被覆する間にプラスチックフィルムを冷却するドラムの内部に冷却システムを含有する。外部チャンバー（１８）には、そこに、巻出装置（７）、ここへフィルムのロールを挿入し、プラスチックフィルムを巻出す間にリリースフィルムを同時に取り除くためのデマスカー（８）および１以上の脱ガスのためのＩＲランプ（５）および被覆すべきプラスチックフィルムの表面のプラズマまたはイオンビーム処理のための装置（６）が存在する。リリースフィルムを巻出しおよび除去した後、被覆すべきプラスチックフィルムを、ＩＲランプまたは複数のＩＲランプ（５）およびプラズマまたはイオンビーム処理のための装置（６）を連続して通過させて誘導する。
【０１２７】
真空被覆チャンバー（１）およびガスゲート（１０）の間に、圧力同等化トンネル（９）が存在する。
【０１２８】
湿潤被覆エリア（２）の内部に、有機層を無機被覆物上へ適用するスロットダイ（１２）を有する湿潤コーター（１１）、並びに熱乾燥装置（１３）、１以上のＵＶランプ（１４）、幾つかの空気回転ローラー（１７）、巻取装置（１５）およびリマスカー（１６）が存在する。ガスゲート（１０）を出た後に、無機層で被覆したプラスチックフィルムを、空気回転ローラー（１７）および従来法によるガイドおよび／または輸送ロール（番号は付けられていない）より湿潤コーター（１１）へ通過させ、次いで熱乾燥装置（１３）より通過させる。次いで、プラスチックフィルムを、それに面する被覆側を有する１以上のＵＶランプを通過させて供給し、空気回転ローラー（１７）および従来法によるガイドおよび／または輸送ロール（番号は付けられていない）より巻取装置（１５）へ運び、リリースフィルムを被覆側上でリマスカー（１６）により巻取操作と並行して適用する。
【０１２９】
図１において番号が付けられていないガイドおよび／または輸送ロールは、従来法による金属ガイドおよび／または輸送ロールである。被覆フィルムは、未被覆逆側上でこれらとの接触を有するだけである。被覆プラスチックフィルムの輸送が、プラスチックフィルムの被覆側とガイドおよび／または輸送ロールに面するように行う必要がある場合はいつでも、輸送は空気回転ローラー（１７）より行う。
【０１３０】
本発明はさらに、被覆フレキシブル基材、好ましくは本発明による方法で得られる被覆プラスチックフィルムを提供する。好ましくは、そのような被覆フレキシブル基材、好ましくは被覆プラスチックフィルムは、障壁被覆物、透明な導電性被覆物または反射防止被覆物を含んでなる。
【図１】
2014516306.tif 000010
【国際調査報告】
2014516306.tif 000011
2014516306.tif 000012
2014516306.tif 000013