(57)【要約】  本発明の開示は、マイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系及びマイクロリソグラフィ露光方法に関する。本発明の態様により、光学系は、光源と、投影露光装置が作動状態にある時に要素に入射する光線を相互に直交する偏光方向を有する第１の部分光線（Ｓ１０１，Ｓ３０１，Ｓ４０１，Ｓ５０１，Ｓ７０１）と第２の部分光線（Ｓ１０２，Ｓ３０２，Ｓ４０２，Ｓ５０２，Ｓ７０２）とに分割する光線分割光学要素（１１０，３１０，４１０，５１０，７０６）と、第１の部分光線（Ｓ１０１，Ｓ３０１，Ｓ４０１，Ｓ５０１，Ｓ７０１）及び第２の部分光線（Ｓ１０２，Ｓ３０２，Ｓ４０２，Ｓ５０２，Ｓ７０２）から望ましい偏光照明設定を生成するための少なくとも１つの光線偏向光学要素（２０５，２０６，３３０，３４０，３５０，３６０，３７０，４７０，５３０，５４０，７１０，７２０，７３０，８１０，８２０，８３０）とを有し、光線分割光学要素（１１０，３１０，４１０，５１０，７０６）は、投影露光装置が作動状態にある時にこの光線分割光学要素上に入射する光が１よりも小さい偏光度を有するように配置される。【選択図】      図１
2014525148.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系であって、
光源と、
前記投影露光装置が作動状態にある時に要素に入射する光線を相互に直交する偏光方向を有する第１の部分光線（Ｓ１０１，Ｓ３０１，Ｓ４０１，Ｓ５０１，Ｓ７０１）と第２の部分光線（Ｓ１０２，Ｓ３０２，Ｓ４０２，Ｓ５０２，Ｓ７０２）とに分割する光線分割光学要素（１１０，３１０，４１０，５１０，７０６）と、
前記第１の部分光線（Ｓ１０１，Ｓ３０１，Ｓ４０１，Ｓ５０１，Ｓ７０１）及び前記第２の部分光線（Ｓ１０２，Ｓ３０２，Ｓ４０２，Ｓ５０２，Ｓ７０２）から望ましい偏光照明設定を生成するための少なくとも１つの光線偏向光学要素（２０５，２０６，３３０，３４０，３５０，３６０，３７０，４７０，５３０，５４０，７１０，７２０，７３０，８１０，８２０，８３０）と、
を含み、
前記光線分割光学要素（１１０，３１０，４１０，５１０，７０６）は、前記投影露光装置が作動状態にある時にこの光線分割光学要素上に入射する光が１よりも小さい偏光度を有するように配置される、
ことを特徴とする光学系。
【請求項２】
前記光線分割光学要素（１１０，３１０，４１０，５１０，７０６）は、前記投影露光装置が作動状態にある時にこの光線分割光学要素上に入射する光が０．５よりも小さい、特に０．３よりも小さい、より一層特にに０．１よりも小さい偏光度を有するように配置されることを特徴とする請求項１に記載の光学系。
【請求項３】
前記望ましい偏光照明設定は、疑似タンジェンシャル偏光分布を有することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の光学系。
【請求項４】
前記望ましい偏光照明設定は、四重極照明設定又は二重極照明設定であることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の光学系。
【請求項５】
前記光源は、非偏光光を発生させることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の光学系。
【請求項６】
前記光源は、ＥＵＶプラズマ源であることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の光学系。
【請求項７】
複数の第１のファセット（７１１，７１２，７１３，．．．；８１１，８１２，８１３，．．．；９１１，９１２，９１３，．．．）と、少なくとも複数の第２のファセット（７２１，７２２，７２３，．．．；８２１，８２２，８２３，．．．；９２１，９２２，９２３，．．．）とで構成された配列であって、該第１のファセット及び該第２のファセットに対して、前記投影露光装置の前記作動中にそれぞれの該ファセットで反射される光の異なる偏光状態が割り当てられる前記配列と、
前記光の伝播方向に前記第１及び前記第２のファセットの下流に配置された複数の第３のファセット（７３１，７３２，７３３，．．．；８３１，８３２，８３３，．．．）で構成された配列と、
を含み、
前記第３のファセット（７３１，７３２，７３３，．．．；８３１，８３２，８３３，．．．）は、それらが前記投影露光装置の前記作動中に前記第１のファセット（７１１，７１２，７１３，．．．；８１１，８１２，８１３，．．．；９１１，９１２，９１３，．．．）のうちの１つからの光を捕捉する第１の切り換え位置と、それらが該投影露光装置の該作動中に前記第２のファセット（７２１，７２２，７２３，．．．；８２１，８２２，８２３，．．．；９２１，９２２，９２３，．．．）のうちの１つからの光を捕捉する少なくとも１つの第２の切り換え位置との間で各場合に切換可能である、
ことを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の光学系。
【請求項８】
より具体的にＥＵＶにおける作動のためのマイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系であって、
複数の第１のファセット（７１１，７１２，７１３，．．．；８１１，８１２，８１３，．．．；９１１，９１２，９１３，．．．）と、少なくとも複数の第２のファセット（７２１，７２２，７２３，．．．；８２１，８２２，８２３，．．．；９２１，９２２，９２３，．．．）とで構成された配列であって、該第１のファセット及び該第２のファセットに対して、前記投影露光装置の作動中にそれぞれの該ファセットで反射される光の異なる偏光状態が割り当てられる前記配列と、
前記光の伝播方向に前記第１及び前記第２のファセットの下流に配置された複数の第３のファセット（７３１，７３２，７３３，．．．；８３１，８３２，８３３，．．．）で構成された配列と、
を含み、
前記第３のファセット（７３１，７３２，７３３，．．．；８３１，８３２，８３３，．．．）は、それらが前記投影露光装置の前記作動中に前記第１のファセット（７１１，７１２，７１３，．．．；８１１，８１２，８１３，．．．；９１１，９１２，９１３，．．．）のうちの１つからの光を捕捉する第１の切り換え位置と、それらが該投影露光装置の該作動中に前記第２のファセット（７２１，７２２，７２３，．．．；８２１，８２２，８２３，．．．；９２１，９２２，９２３，．．．）のうちの１つからの光を捕捉する少なくとも１つの第２の切り換え位置との間で各場合に切換可能である、
ことを特徴とする光学系。
【請求項９】
前記第１のファセット（７１１，７１２，７１３，．．．；８１１，８１２，８１３，．．．；９１１，９１２，３１３，．．．）及び前記第２のファセット（７２１，７２２，７２３，．．．；８２１，８２２，８２３，．．．；９２１，９２２，９２３，．．．）は、各場合に視野ファセットミラー上に配置されることを特徴とする請求項７又は請求項８に記載の光学系。
【請求項１０】
前記第３のファセット（７３１，７３２，７３３，．．．；８３１，８３２，８３３，．．．）は、瞳ファセットミラー上に配置されることを特徴とする請求項７から請求項９のいずれか１項に記載の光学系。
【請求項１１】
前記異なる偏光状態は、互いに対して直交することを特徴とする請求項７から請求項１０のいずれか１項に記載の光学系。
【請求項１２】
前記異なる偏光状態は、反射要素（９５８，９５９，９６８，９６９）でのブリュースター角で達成される反射によって各場合に生成されることを特徴とする請求項７から請求項１１のいずれか１項に記載の光学系。
【請求項１３】
関連の前記反射要素（９５８，９５９，９６８，９６９）のうちの少なくとも１つが、それらで反射される光の偏光方向の変動に対してその位置に関して調節可能であることを特徴とする請求項１２に記載の光学系。
【請求項１４】
光学系の瞳平面に生成される近接照明スポットが、特に互いに直交する互いに異なる偏光状態を有することを特徴とする請求項７から請求項１３のいずれか１項に記載の光学系。
【請求項１５】
互いに異なる前記偏光状態の少なくとも一部が、光学系の更に別の光路において非偏光光を生じることを特徴とする請求項１４に記載の光学系。
【請求項１６】
照明デバイスと投影レンズとを含むマイクロリソグラフィ投影露光装置であって、
前記照明デバイスは、請求項１から請求項１５のいずれか１項に記載の光学系を有する、
ことを特徴とする装置。
【請求項１７】
微細構造化構成要素をマイクロリソグラフィ的に生成する方法であって、
感光材料で構成された層が少なくとも部分的に付加された基板を与える段階と、
結像される構造を有するマスクを与える段階と、
請求項１６に記載のマイクロリソグラフィ投影露光装置を与える段階と、
前記投影露光装置を用いて前記マスクの少なくとも一部を前記層のある一定の領域上に投影する段階と、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１８】
マイクロリソグラフィ露光方法であって、
光源を用いて発生させた照明光が、投影レンズの物体平面を照明するための投影露光装置の照明デバイスに給送され、該物体平面は、該投影レンズを用いて該投影レンズの像平面に結像され、
前記照明デバイスを通過する前記光は、該照明デバイス内の１つの位置で１よりも小さい偏光度を有し、
前記偏光度は、光伝播の方向にこの位置の後で増大し、前記光は、互いに直交する偏光方向を有する第１の部分光線（Ｓ１０１，Ｓ３０１，Ｓ４０１，Ｓ５０１，Ｓ７０１）と第２の部分光線（Ｓ１０２，Ｓ３０２，Ｓ４０２，Ｓ５０２，Ｓ７０２）とに分割される、
ことを特徴とする方法。
【請求項１９】
前記偏光度は、少なくとも０．３だけ、特に少なくとも０．６だけ、より具体的には０．９だけ、より具体的には値ゼロから値１まで増大することを特徴とする請求項１８に記載のマイクロリソグラフィ露光方法。
【請求項２０】
マイクロリソグラフィ露光方法であって、
ＥＵＶ光源を用いて発生させた照明光が、投影レンズの物体平面を照明するための投影露光装置の照明デバイスに給送され、該物体平面は、該投影レンズを用いて該投影レンズの像平面に結像され、
前記照明デバイスの瞳平面に生成される近接照明スポットが、互いに異なる偏光状態を有する、
ことを特徴とする方法。
【請求項２１】
前記照明デバイスの瞳平面に生成される前記近接照明スポットの少なくとも一部が、互いに直交する偏光状態を有することを特徴とする請求項２０に記載のマイクロリソグラフィ露光方法。
【請求項２２】
前記偏光状態の少なくとも一部が、非偏光光に重ね合わされることを特徴とする請求項２０又は請求項２１に記載のマイクロリソグラフィ露光方法。
【請求項２３】
請求項１から請求項１５のいずれか１項に記載の光学系を用いて実行されることを特徴とする請求項１７から請求項２２のいずれか１項に記載のマイクロリソグラフィ露光方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
〔関連出願への相互参照〕
本出願は、両方共に２０１１年７月２６日出願のドイツ特許出願第１０  ２０１１  ０７９  ８３７．４号及び米国特許仮出願第６１／５１１，６４５号に対する優先権を主張するものである。本出願は、更に、両方共に２０１２年３月１４日出願のドイツ特許出願第１０  ２０１２  ２０３  ９５９．７号及び米国特許仮出願第６１／６１０，６７５号に対する優先権を主張するものである。これらの出願の内容は、これにより引用によって組み込まれる。
【０００２】
本発明は、マイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系及びマイクロリソグラフィ露光方法に関する。
【背景技術】
【０００３】
マイクロリソグラフィは、例えば、集積回路又はＬＣＤのような微細構造化構成要素を生成するのに使用される。マイクロリソグラフィ処理は、照明デバイスと投影レンズとを有するいわゆる投影露光装置において実施される。照明デバイスを用いて照明されたマスク（＝レチクル）の像は、この場合に、マスク構造を基板の感光コーティングに転写するために、感光層（フォトレジスト）で被覆されて投影レンズの像平面に配置された基板（例えば、シリコンウェーハ）上に投影レンズを用いて投影される。
【０００４】
照明デバイスでは、像コントラストを最適化するために、瞳平面及び／又はレチクル内に特定の偏光分布をターゲット方式で設定するための様々な手法が公知である。ここでは、望ましい状態にある偏光の程度を説明するいわゆるＩＰＳ値（「好ましい（Ｐｒｅｆｅｒｒｅｄ）状態（Ｓｔｓｔｅ）における強度（Ｉｎｔｅｎｓｉｔｙ）」）が基本的に重要である。一例として、実際に照明デバイスの光学要素又はレンズ要素内で発生する応力複屈折からＩＰＳ値の望ましくない低下が生じる場合があり、これは、より具体的に、偏光状態が楕円になること、又は依然として望ましく好ましい偏光方向を有するが、望ましい方向に偏光されていない光成分を有することをもたらす可能性がある。この場合、この楕円率を補償することによってＩＰＳ値を高めることができる。
【０００５】
予め偏光された（例えば、予め偏光された光を供給するレーザ光源を使用する結果として）光から進んで、偏光方向を回転させることによって望ましい偏光照明設定を達成するためのかつ瞳平面内で適切に偏光された光成分から強度分布を組み立てるための様々な手法が公知である。従来技術に関しては、全く例示的にＷＯ  ２００９／０５４５４１  Ａ２を参照されたい。しかし、実際には、照明光の少なくとも一部が非偏光にされる状況が発生する場合もある。これは、光源が最初から非偏光光を発生させる系、すなわち、例えば、ＥＵＶに向けて設計された投影露光装置、又はｉ線（約３６５ｎｍの波長を有する）を照明光として利用する照明デバイスにおいて特に当て嵌まる。
【０００６】
更に、投影露光装置の作動中に、結像コントラストを最適化するために照明デバイス内の瞳平面及び／又はレチクル内に特定の偏光分布を設定し、かつ投影露光装置の作動中に偏光分布に変更を加えることができることも必要である。投影露光装置内で偏光分布を変更することに関する従来技術に関しては、単なる例としてＤＥ  １０  ２００８  ００２  ７４９  Ａ１及びＵＳ  ２００８／０１９２２２５  Ａ１を参照されたい。
【０００７】
更に、本発明の開示の更に別の態様により、ある一定の照明設定に対して照明光を少なくとも部分的に偏光解消する必要がある場合もある。そのような少なくとも部分的に偏光解消された設定の実現は、特に、例えば、偏光光源の使用に起因して光が予め偏光されている状況では問題を生じる場合がある。ＥＵＶ領域では、光学透過構成要素の利用不能性に起因して、従来の偏光解消概念（光混合系との組合せでのいわゆるハンル偏光解消子の使用のような）が利用可能ではないので、少なくとも部分的に偏光解消された設定の実現は、ＥＵＶシステムでは特に困難である場合がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】ＷＯ  ２００９／０５４５４１  Ａ２
【特許文献２】ＤＥ  １０  ２００８  ００２  ７４９  Ａ１
【特許文献３】ＵＳ  ２００８／０１９２２２５  Ａ１
【特許文献４】ＤＥ  ４４  １２  ０５３  Ａ１
【特許文献５】ＥＰ  ０  ６５８  ８１０  Ａ１
【特許文献６】ＥＰ  １  ３５６  ４７６  Ｂ１
【特許文献７】ＤＥ  １０  ２００８  ０４１  ８０１  Ａ１
【特許文献８】ＷＯ  ２００９／１５２８６７  Ａ１
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
一態様により、本発明の開示の目的は、少なくとも部分的に非偏光である光からの望ましい偏光照明設定の可能な限り効率的な生成を可能にするマイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系及びマイクロリソグラフィ露光方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
この目的は、独立請求項１の特徴によって達成される。
【００１１】
マイクロリソグラフィ投影露光装置の本発明の開示の第１の態様による光学系は、光源と、投影露光装置が作動状態にある時に、入射する光線を相互に直交する偏光方向を有する第１の部分光線と第２の部分光線に分割する光線分割光学要素と、第１の部分光線及び第２の部分光線から望ましい偏光照明設定を生成するための少なくとも１つの光線偏向光学要素とを含み、光線分割光学要素は、投影露光装置が作動状態にある時に、この光線分割光学要素上に入射する光が１よりも小さい偏光度を有するように配置される。
【００１２】
上述の態様による本発明の開示は、非偏光のものであるか又は低い偏光度を有する入力光から進めて、可能な限り僅かな光損失しか伴わずにマイクロリソグラフィ投影露光装置内で偏光度を増大させる概念に基づいている。偏光度の増大は、入力光が最終的に望ましい偏光照明設定が達成されるようにその後に「更に処理される」ことになる相互直交偏光を有する２つの部分光線に分割することによってもたらされる。それによって偏光度が増大し、同時に、偏光子の従来の通常使用に関する光損失（一般的に５０％程度のものとすることができる）を回避することができる。
【００１３】
特に、上述の態様による本発明の開示は、既存の好ましい偏光方向を回転させるだけであり、すなわち、偏光度（ＤｏＰ）を変化させない場合に偏光純度（ＰＰ）だけを増大させ、すなわち、図６の図表内で右から左への遷移を実施する従来の公知の手法に実施される概念には従わない。むしろ、上述の態様による本発明の開示は、偏光度自体を増大させる工程、正確に言えば可能な限り僅かな光損失しか伴わずに増大させる工程（図６の図表内での「下段から上方の」遷移に対応する）を含む。この増大を実施するのに、本発明の開示の範囲では、図６の図表内の同じ列内の下段から上方の遷移である必要はなく、最終的な望ましい偏光照明設定に基づいて、２つの相互垂直偏光部分光線（図６の１行目の左又は右に示す欄に対応する）を生成することができる。更に別の例示的な用途では、望ましい偏光状態は、図６の１行目の中央の欄に示す偏光方向（ｙ方向に対して４５°で延びる）に対応することができることは自明である。
【００１４】
上述の偏光度の変数と偏光純度の変数との間の関係は、次式によって与えられる（１）。
2014525148.tif 000003
ここで、ＤｏＰは偏光度を表し、ＰＰは偏光純度を表し、ＩＰＳは、望ましい偏光状態における強度（好ましい（Ｐｒｅｆｅｒｒｅｄ）状態（Ｓｔｓｔｅ）における強度（Ｉｎｔｅｎｓｉｔｙ））を表している。
【００１５】
上述の態様による本発明の開示は、偏光度を０％（非偏光光に対応する）から実質的に１００％（一定偏光方向を有する完全に偏光された光に対応する）に増大させることに限定されない。むしろ、本発明の開示の更に別の有利な応用はまた、例えば、照明光線経路に存在するミラー（当然ながら部分偏光を予めもたらしている）の後に偏光度を増大させる段階、すなわち、部分的にしか偏光されない光に対して増大させる段階から構成される。本発明の開示により、この増大も、同じく相互直交偏光状態を有する２つの部分光線に光線を分割することによってもたらされる。
【００１６】
一実施形態により、光線分割光学要素は、投影露光装置が作動状態にある時に、この光線分割光学要素上に入射する光が０．５よりも小さい、特に０．３よりも小さい、より具体的には０．１よりも小さい偏光度を有するように配置される。
【００１７】
例として、望ましい偏光照明設定は、疑似タンジェンシャル偏光分布を有することができる。更に、望ましい偏光照明設定は、四重極照明設定又は二重極照明設定とすることができる。
【００１８】
特に、光源は、ｉ線（約３６５ｎｍの波長を有する）を生成する水銀短アーク放電灯の形態にある光源とすることができる。
【００１９】
光線偏向要素は、特に回折光学要素（ＤＯＥ）を有することができる。
【００２０】
光線分割要素は、より具体的には偏光ビームスプリッタ、サブラムダ回折格子、多層膜、又は複屈折要素を有することができる。
【００２１】
更に、光源はまた、ＥＵＶプラズマ源とすることができる。この場合に、光線分割要素は、下記でより詳細に更に説明するように、例えば、ジルコニウム膜を有することができる。
【００２２】
一実施形態により、２つの部分光線の一方の光線経路には、偏光状態を特に９０°だけ回転させるための少なくとも１つの回転子が配置される。
【００２３】
一実施形態により、２つの部分光線の光線経路に拡散器が配置される。
【００２４】
更に、本発明の開示は、上述の特徴を有する光学系を有する照明デバイスと投影レンズとを有するマイクロリソグラフィ投影露光装置に関する。
【００２５】
一実施形態により、光学系は、複数の第１のファセット及び複数の少なくとも第２のファセットで構成され、投影露光装置の作動中に第１のファセットと第２のファセットにそれぞれのファセットで反射される光の異なる偏光状態が割り当てられる配列と、光伝播方向に第１及び第２のファセットの下流に配置された複数の第３のファセットで構成された配列とを含み、第３のファセットは、各場合に、投影露光装置の作動中に第１のファセットのうちの１つからの光を捕捉する第１の切り換え位置と投影露光装置の作動中に第２のファセットのうちの１つからの光を捕捉する第２の切り換え位置との間で切換可能である。
【００２６】
この態様により、本発明の開示は、投影露光装置内に設定することができる偏光分布に関して高い柔軟性を可能にする特にＥＵＶにおける作動のためのマイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系を提供する。この態様は、上述のマイクロリソグラフィ投影露光装置内の偏光度を増大させる概念に限定されず、それとは独立して有利でもある。
【００２７】
従って、更に別の実施形態において、本発明の開示は、より具体的にＥＵＶにおける作動のためのマイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系にも関し、光学系は、複数の第１のファセット及び複数の少なくとも第２のファセットで構成され、投影露光装置の作動中に第１のファセット及び第２のファセットにそれぞれのファセットで反射される光の異なる偏光状態が割り当てられる配列と、光伝播方向に第１及び第２のファセットの下流に配置された複数の第３のファセットで構成された配列とを含み、第３のファセットは、各場合に、投影露光装置の作動中に第１のファセットのうちの１つからの光を捕捉する第１の切り換え位置と投影露光装置の作動中に第２のファセットのうちの１つからの光を捕捉する第２の切り換え位置との間で切換可能である。
【００２８】
この態様により、本発明の開示は、第３のファセット（典型的に瞳ファセットミラー上に実現される）で反射される光線の偏光状態に関して、第１に、これらの第３のファセットが、少なくとも２つの切り換え位置の間で切換可能であるように実施されること、及び第２に、光伝播方向にこれらの第３のファセットの上流に配置されて、第１及び第２のファセット（典型的に１つ又は複数の視野ファセットミラー上に実現される）から構成された少なくとも２つの群が、これらの第１及び第２のファセットそれぞれで反射される光に異なる偏光状態が適用されるように構成されることによって選択可能性を与えるという概念に基づいている。
【００２９】
従って、特に、本発明の開示は、それぞれ静止のファセットを用いて従来方式で瞳ファセットミラーを構成するのではなく、瞳ファセットミラー上でこれらのファセットを各場合にその傾斜角に関して互いに独立して調節可能であるように実施するという概念を含む（この調節機能は、代替的に、連続的に実現することができ、又は２つ又はそれよりも多くの個別の切り換え位置又は傾斜角における段階的な調節機能として実現することができる）。言い換えれば、本発明の開示により、既に従来的に調節可能ファセットを用いて構成されている視野ファセットミラーに加えて、瞳ファセットミラーの個別ファセットによって最終的に生成される光点に対して異なる偏光状態を選択することができるように、瞳ファセットミラーも動的に調節可能であるように構成される。
【００３０】
その結果、本発明の開示は、特に、例えば、光学系内の偏光影響要素の交換を必要とすることなく、投影露光装置の進行中の作動中に動的な偏光（例えば、瞳平面に生成される偏光分布）の柔軟な変更を実現する可能性を提供する。
【００３１】
一実施形態により、第１のファセット及び第２のファセットは、各場合に連続ファセットミラー領域として設けることができる。この場合に、これらの連続ファセットミラー領域は、代替的に、同じファセットミラーの空間的に分離された領域として設けるか、又は別個のファセットミラー上に設けることができる。
【００３２】
一実施形態により、第１のファセット及び第２のファセットは、１つの同じファセットミラー上に交互配置で設けることができる。そのような構成は、それぞれ瞳ファセットミラーの１つの同じファセットに割り当てられ、異なる割り当て偏光状態を有する２つのファセットを例えば各場合に直近に配置することができ、それによって関連の光点の偏光状態の「切り換え」に対して瞳ファセットミラーの関連の割り当てファセットの小さい切り換え距離又は傾斜角のみが必要とされるという利点を有する。
【００３３】
一実施形態により、第３のファセットは、瞳ファセットミラー上に配置される。更に、第１のファセット及び第２のファセットは、各場合に視野ファセットミラー上に配置することができる。
【００３４】
一実施形態により、異なる偏光状態は、互いに対して直交する。しかし、本発明の開示は、これに限定されず、すなわち、第３のファセットのうちの１つの同じファセットによって生成される異なる偏光状態が、互いにいずれかの他の態様で異なる構成、例えば、関連の偏光方向の間でいずれかの望ましい角度だけ異なる構成も包含する。
【００３５】
これらの異なる偏光状態は、特に、非偏光光を発生させる光源からの光の変換によって生成することができる。
【００３６】
一実施形態により、異なる偏光状態は、各場合に、投影露光装置の作動中に入射する光線の互いに対して直交する偏光方向を有する第１の部分光線と第２の部分光線への分割をもたらす光線分割光学要素によって生成される。
【００３７】
すなわち、光伝播方向に光線分割光学要素の下流に少なくとも１つの光線偏向光学要素を設けることができる。
【００３８】
更に別の実施形態により、異なる偏光状態は、各場合にそれぞれの反射要素でのブリュースター角で達成される反射によって生成される。この場合に、関連の反射要素は、第１及び第２のファセットそれぞれによって形成することができる。代替的に、関連の反射要素は、第１及び第２のファセットそれぞれに加えて、光伝播方向にこれらのファセットの上流に設けることができる。
【００３９】
一実施形態により、関連の反射要素のうちの少なくとも１つは、反射要素で反射される光の偏光方向の変動に対してその位置を調節可能にすることができる。
【００４０】
この場合に、光学系は、光軸を有することができ、反射要素の調節機能は、この光軸の回りの円弧に沿って与えられる。
【００４１】
更に別の態様により、本発明の開示は、マイクロリソグラフィ露光方法に関し、光源を用いて発生させた照明光が、投影レンズの物体平面を照明するための投影露光装置の照明デバイスに給送され、物体平面は、投影レンズを用いて投影レンズの像平面に結像され、照明デバイスを通過する光が、照明デバイス内の１つの位置において１よりも小さい偏光度を有し、その偏光度は、光伝播方向に上記位置の背後で増大し、光は、互いに直交する偏光方向を有する第１の部分光線と第２の部分光線とに分割される。
【００４２】
偏光度は、特に少なくとも０．３だけ、より具体的には少なくとも０．６だけ、より具体的には０．９だけ、更に具体的には値ゼロから値１まで増大させることができる。
【００４３】
更に別の態様により、本発明の開示は、マイクロリソグラフィ露光方法に関し、ＥＵＶ光源を用いて発生させた照明光が、投影レンズの物体平面を照明するための投影露光装置の照明デバイスに給送され、物体平面は、投影レンズを用いて投影レンズの像平面に結像され、照明デバイスの瞳平面に生成される近接照明スポットが、互いに異なる偏光状態を有する。
【００４４】
この態様により、本発明は、特に、ＥＵＶ光が元々既に何らかの程度の偏光度を有する状況（例えば、少なくとも部分的に偏光された光源の使用に起因して、又は照明デバイス内の例えば反射構成要素における望ましくない効果に起因して）において非偏光光を有する照明設定を少なくとも領域的に生成することができる。この点に関して、本発明の開示は、以下でより詳細に説明するように、例えばウェーハ平面上で瞳平面のそれぞれの領域の光が非偏光のものとして現れるように、互いに異なる偏光状態を有し、かつ互いに近接／隣接する隣接偏光チャンネル又は偏光スポットそれぞれを使用する概念に基づいている。
【００４５】
一実施形態により、照明デバイスの瞳平面に生成される近接照明スポットの少なくとも一部は、互いに対して直交する偏光状態を有する。しかし、本発明の開示はこれに限定されず、従って、照明瞳内の近接位置に生成される異なる偏光状態がいずれかの他の態様で異なる構成、例えば、関連の偏光方向の間でいずれかの望ましい角度だけ異なる構成も包含する。本発明の開示は、完全に偏光された照明スポットにも限定されず、０と１の間の偏光度を有する部分偏光スポットも含む。
【００４６】
一実施形態により、上述の偏光状態の少なくとも一部は、非偏光光に重ね合わされる。しかし、本発明の開示はこれに限定されず、従って、照明瞳のある一定の領域に対して任意の他の偏光度（例えば、ＤＯＰ＝５０％を有する）を与えることができる。
【００４７】
一実施形態により、上述の方法は、上述の光学系を用いて実行される。上述の方法を用いて達成される好ましい実施形態又は利点に関しては、光学系に関する上述の説明を参照されたい。
【００４８】
更に、本発明の開示は、上述の特徴を含む光学系を有する照明デバイスと投影レンズとを含むマイクロリソグラフィ投影露光装置、及びマイクロリソグラフィによって製造される微細構造化構成要素に関する。
【００４９】
本発明の開示の更に別の実施形態は、本明細書及び従属請求項から集めることができる。
【００５０】
添付図面に例示する例示的な実施形態に基づいて、以下に本発明の開示をより詳細に説明する。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】第１の態様による本発明の開示の根底にある原理を説明するための概略図である。
【図２】本発明の開示の実施形態を説明するための概略図である。
【図３ａ】本発明の開示の更に別の実施形態を説明するための概略図である。
【図３ｂ】本発明の開示の更に別の実施形態を説明するための概略図である。
【図３ｃ】本発明の開示の更に別の実施形態を説明するための概略図である。
【図３ｄ】本発明の開示の更に別の実施形態を説明するための概略図である。
【図４ａ】本発明の開示の更に別の実施形態を説明するための概略図である。
【図４ｂ】本発明の開示の更に別の実施形態を説明するための概略図である。
【図５】本発明の開示の更に別の実施形態を説明するための概略図である。
【図６】第１の態様による本発明の開示の根底にある目的を説明するための模式図である。
【図７】本発明の開示の更に別の態様による実施形態を解説するための概略図である。
【図８】本発明の開示の更に別の態様による実施形態を解説するための概略図である。
【図９】本発明の開示の更に別の態様による実施形態を解説するための概略図である。
【図１０】本発明の開示の更に別の態様による実施形態を解説するための概略図である。
【図１１】本発明の開示の更に別の態様による実施形態を解説するための概略図である。
【図１２】本発明の開示の更に別の態様による実施形態を解説するための概略図である。
【図１３】本発明の開示の更に別の態様による実施形態を解説するための概略図である。
【図１４】本発明の開示の更に別の態様による実施形態を解説するための概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００５２】
図１は、本発明の開示の第１の態様の一般的な概念を説明するための配置を概略図に示している。
【００５３】
この第１の例示的な実施形態により、光源（図１には示していない）からの非偏光照明光は、偏光ビームスプリッタ１１０（この図では簡単にしか示していない）を用いて２つの相互直交偏光の光ビーム又は部分光線Ｓ１０１、Ｓ１０２に分解される。ここでは、偏光ビームスプリッタ１１０を透過した部分光線Ｓ１０２は、図示の座標系のｙ方向に偏光され、偏光ビームスプリッタ１１０上で反射された部分光線Ｓ１０１はｘ方向に偏光される。この図及びそれ以降の図では、偏光ビームスプリッタ立方体１１０上に入射する入力光の非偏光状態をこの光線に対してプロットされている両方の偏光方向によって記号化する。
【００５４】
図１に記載の配置は、部分光線Ｓ１０１がここでもまた部分光線Ｓ１０２と平行に位置合わせされる３つの偏向ミラー１２０、１３０、及び１４０を更に有するが、本発明の開示は、これに限定されない。照明デバイス内で最終的に望ましい偏光照明設定を設定するために、この配置には、更に別の例示的な実施形態に基づいて説明するように、部分光線Ｓ１０１、Ｓ１０２のうちの少なくとも一方の適切な「更に別の処理」が続く。
【００５５】
図２は、本発明の開示に従って設定される望ましい偏光照明設定２０３が、疑似タンジェンシャル偏光分布を有し、すなわち、電界ベクトルの振動方向が、光学系軸（図示の座標系に関してｚ方向に延びる）に向く円の半径に対して少なくとも近似的に垂直に延びる偏光分布を有する四重極照明設定である例示的な実施形態を示している。この目的のために、図２により、各部分光線Ｓ１０１又はＳ１０２の光線経路には、偏光ビームスプリッタ１１０から発し、２つの直交偏光状態の一方を有する光を照明デバイスの瞳平面内の関連の照明設定に適合する位置に案内するそれぞれ１つの回折光学要素（ＤＯＥ）２０５及び２０６がそれぞれ配置される。すなわち、偏光ビームスプリッタ１１０は、それぞれのＤＯＥ２０５、２０６と協働して、偏光された「部分瞳」２０１、２０２を実質的に設定し、瞳平面内でのこれらの部分瞳の重ね合わせは、最終的に望ましい偏光照明設定２０３をもたらす。具体的には、例示的な実施形態において偏光ビームスプリッタ１１０との協働でＤＯＥ２０５によって生成される部分瞳２０１は、ｙ偏光を有する水平二重極照明設定であり、偏光ビームスプリッタ１１０との協働でＤＯＥ２０６によって生成される部分瞳２０２は、ｘ偏光を有する垂直二重極照明設定である。
【００５６】
更に別の例示的な実施形態において、ＤＯＥ２０５、２０６の代わりに、互いに独立して調節することができる複数のミラー要素を有するミラー配置（任意的に、同じくそれぞれ１つのミラー配置）を使用することができる。
【００５７】
更に、本発明の開示は、例えば、ビームスプリッタ立方体の形態にある偏光ビームスプリッタ１１０の特定の実施にも限定されず、原理的に、対応する作動波長に適する限り、あらゆる適切な光線分割要素を使用することができる。
【００５８】
本発明の開示による光線分割を照明デバイスに実施するために、更に、いわゆるサブラムダ回折格子（すなわち、作動波長よりも小さい回折格子構造間隔を有する回折格子）を使用することができる。更に、複数の層（１０ｎｍ程度の幅を有する）が膜を形成し、この膜が適切な角度（一般的に４５°）で位置合わせされる場合に、望ましい偏光感度光線拡幅が発生するような多層膜を使用することができる。
【００５９】
更に別の実施形態において、光線分割に対して複屈折要素を使用することもでき、ここで、通常光線と異常光線の間の空間分離に関して複屈折材料の性質を使用することができる。この場合に、複屈折要素の結果として最初に小さい光線偏向は、更に別の光線偏向、例えば、約９０°の更に別の偏向によって増大させることができる。
【００６０】
図２の配置は、特に、照明光が非偏光光源によって生成される照明デバイスとの併用での実施に適している。ここでは、この非偏光光源は、例えば、約３６５ｎｍの波長を有するｉ線の光を発生させる水銀短アーク灯とすることができる。一般的に、ＤＥ  ４４  １２  ０５３  Ａ１又はＥＰ  ０  ６５８  ８１０  Ａ１から一般に知られているように、そのような水銀短アーク放電灯は、放出された光を第２のフォーカスに集光する楕円ミラーのフォーカスに配置することができる。
【００６１】
しかし、図３ｄには概略的にしか示していないが、更に別の例示的な実施形態において、本発明の開示は、ＥＵＶ領域の作動波長（すなわち、１５ｎｍよりも短い波長）に向けて設計された照明デバイスとの併用に実施することができる。
【００６２】
図３ｄにより、照明デバイス３８０は、ＥＵＶに向けて設計された投影露光装置３７５内に複数の第１の反射ファセット要素３８２を有する第１のファセットミラー３８１と、複数の第２の反射ファセット要素３８４を有する第２のファセットミラー３８３とを有する。プラズマ源３８６と、コレクターミラー３８７とを含む光源ユニット３８５からの光は、第１のファセットミラー３８１に向けられる。第２のファセットミラー３８３の背後の光路内には、第１のテレスコープミラー３８８と第２のテレスコープミラー３８９とが配置される。第２のテレスコープミラー３８９に続く光路内には、入射する放射線を６個のミラーＭ１〜Ｍ６を含む投影レンズ３９５の物体平面ＯＰの物体視野３９１上に案内する偏向ミラー３９０が配置される。物体視野３９１の場所には、投影レンズ３９５を用いて像平面ＩＰに結像される反射性の構造担持マスクＭが配置される。
【００６３】
ＥＵＶに向けて設計されたそのような照明デバイスへの本発明の開示の一実施を説明するために、図３ａに記載の概略図は、今度は、本発明の開示による相互直交偏光状態を有する２つの光線Ｓ３０１及びＳ３０２への最初に非偏光の光線Ｓ３００（例えば、ＥＵＶプラズマ源によって生成された）の分解を示しており、図示の例示的な実施形態では、図示の座標系において、光線Ｓ３０２は、ｙ方向偏光されており、光線Ｓ３０１は、ｘ方向に偏光されている。相互直交偏光状態への分解をもたらす光線分割要素３１０は、この場合に、ジルコニウム膜によって実施することができ、ジルコニウム膜の厚みは、単に例示的に約５０μｍとすることができる。このジルコニウム膜は、光伝播方向（＝プロットされた座標系のｚ方向）に対して４５°の角度で光線経路に配置される。ＥＵＶにおけるジルコニウムの屈折率は１という値に近いので、この角度は、ブリュースター角に対応する。
【００６４】
ＥＵＶリソグラフィにおける電磁放射線の望ましくない成分をフィルタリングで除去するためのジルコニウム膜の使用は、例えば、ＥＰ  １  ３５６  ４７６  Ｂ１及びＤＥ  １０  ２００８  ０４１  ８０１  Ａ１から公知であり、ＥＰ  １  ３５６  ４７６  Ｂ１に記載されているように、ジルコニウム材料の酸化を防ぐために、ジルコニウム膜を２つのシリコン層の間に配置することができる。
【００６５】
本発明の開示による例示的な実施形態に使用されるジルコニウム膜の結果として、ｓ偏光光は、最大限可能な程度まで反射され、ｐ偏光光は、最大限可能な程度まで透過される。具体的には、ブリュースター角で配置されたそのようなジルコニウム膜は、材料内への吸収の得られる減衰を考慮に入れると、ｐ偏光光成分において約（７０〜８０）％の透過率、及びｓ偏光光成分においても同じく約（７０〜８０）％の反射率を得ることができる。
【００６６】
一方、今度は、本発明の開示に従って偏光度の増大の最中の光損失を最小にするために、上述したように生成された相互垂直偏光の部分光線をそれぞれ１つの同じ照明デバイス内に互い対して平行に設けられた２つの部分モジュールの一方に供給することができる。一例として、図３ａに記載の配置において出現する相互直交偏光を有する部分光線が異なる視野ファセットミラー上に入射するように、これらの部分モジュールは、各々別個の視野ファセットミラーを有することができる。視野ファセットミラーは、単一の照明デバイス内への再結合がある前に、異なる強度分布を生成する（すなわち、ある意味で図２の配置内のＤＯＥ２０５、２０６の機能を検出する）。
【００６７】
代替的に、ＥＵＶ内に作動波長を有する照明光に向けて図３ａに説明するように生成された相互垂直偏光の部分光線を最初から２つの別個のＥＵＶ照明デバイス内に結合することができる。
【００６８】
図３ｂは、最初に非偏光の光を分割することによって生成された相互直交偏光の部分光線Ｓ３０１及びＳ３０２が、第１及び第２のファセットミラー３３０、３４０それぞれを通じて第３のファセットミラー３５０のファセット上に伝達される実施形態を示している。第３のファセットミラー３５０のファセットは、これらのファセットが第１のファセットミラー３３０又は第２のファセットミラー３４０のそれぞれ１つのファセットからの光を捕捉する少なくとも２つの切り換え位置の間で交替することができる。その結果、部分光線Ｓ３０１及びＳ３０２から開始して、第３のファセットミラー３５０のファセットの位置を適切に切り換えることにより、この交替は、異なる偏光照明設定を実施することを可能にする。
【００６９】
図３ｃは、最初に非偏光の光を分割することによって生成される相互直交偏光の部分光線Ｓ３０１及びＳ３０２が、２つの空間分離領域（図３ｃのファセットミラー３６０内に破線に示す）を通じて第２のファセットミラー３７０のファセットに伝達される更に別の実施形態を示している。この第２のファセットミラーのファセットは、第１のファセットミラー３６０の領域のそれぞれ１つのファセットからの光を捕捉する少なくとも２つの切り換え位置の間で交替することができる。その結果、部分光線Ｓ３０１及びＳ３０２から開始して、第２のファセットミラー３７０のファセットの切り換え位置を適切に選択することにより、異なる偏光照明設定を実施することが可能になる。
【００７０】
図４ａは、図２と類似の又は実質的にそれと同じ機能を有する要素を「３００」だけ増した値を有する参照符号で表した本発明の開示の更に別の実施形態を示している。図２の配置と同様に、図４ａのものは、特に、ｉ線を用いてＤＵＶ領域に作動波長を有する非偏光光源によって照明光が生成される照明デバイスとの併用での実施に同じく適している。
【００７１】
図４ａに記載の設計は、一定の好ましい偏光方向（図示の座標系のｙ方向に延びる）を有する二重極照明設定の形態にある偏光照明設定４０１、すなわち、いわゆるｙ偏光を有する水平二重極照明設定が最終的に生成される点で図２に記載のものとは異なる。
【００７２】
この目的のために、図４ａに記載の配置は、図２に記載のＤＯＥ２０５、２０６の代わりに部分光線Ｓ４０１の光線経路に配置された９０°回転子４５０を有し、かつ両方の部分光線Ｓ４０１、Ｓ４０２の光線経路に配置された拡散器４６０を有する。例えば、拡散器４６０は、拡散スクリーン又はフライアイコンデンサーとして具現化することができる。例えば、９０°回転子４５０は、光学活性材料（特に、光学結晶軸の向きが光伝播方向又はｚ方向と平行に定められた結晶石英）で作るか、又はそうでなければ直線複屈折を用いて実施する（すなわち、直線複屈折光学単軸材料で作られたλ／２板として組み立てるか、又は光学結晶軸が互いに対して４５°だけ回転された２つのλ／２板から公知の手法で組み立てる）ことができる。更に、図２の設計で設けられたＤＯＥ２０５及び２０６の代わりに、図４ａに記載の配置は、両方の部分光線Ｓ４０１及びＳ４０２の光線経路内で光伝播方向に拡散器４６０の下流に配置され、かつ図４ａに略示する照明設定４０１を実施するためにそれぞれの直線偏光部分光線Ｓ４０１及びＳ４０２（図４に略示するようにこの時点では同じく偏光された、すなわち、ｙ方向に偏光されたもの）を照明デバイスの瞳平面内の望ましい領域に案内する単一のＤＯＥ４７０だけを有する。
【００７３】
図２の場合と同じく、代替的に、両方の部分光線Ｓ４０１及びＳ４０２に対して各場合に別個のＤＯＥを設けることもできることは言うまでもない。更に、図４ａに示す配置とは別に、拡散器４６０を省き、適切なＤＯＥだけを使用することにより、２つの部分光線Ｓ４０１とＳ４０２との混合を提供することができる。
【００７４】
更に別の実施形態において、図４ａに示す設計の修正形態として、図４ｂに略示し、かつ例えばＷＯ  ２００９／１５２８６７  Ａ１から一般に知られているように、部分光線Ｓ４０１における偏光方向の９０°回転を実施するために、３つの（傾斜）ミラー４８１、４８２、４８３を有する３次元ミラー配置を使用することができる。ミラー４８１〜４８３は、図４ａと同様に、ＥＵＶに向けて設計された照明デバイスと併用することができる回転子を形成する。
【００７５】
図５は、概略図において、２つの部分光線の一方に対して本発明の開示による偏光方向の９０°回転を実施することができる更に別の例示的な実施形態を説明するように機能する。図２及び図４に基づいて上述した実施形態と同様に、この例示的な実施形態も、特に、ｉ線を用いてＤＵＶ領域に作動波長を有する非偏光光源によって照明光が生成される照明デバイスとの併用での実施に同じく適している。
【００７６】
図５の配置では、光線分割要素５１０で反射された部分光線Ｓ５０１（図示の座標系に関してｘ方向に偏光されたもの）は、入射光の偏光方向に対して４５°に向けられた速軸を有するλ／４板５２０を通して２回経路指定される。２回通過λ／４板は、実質的にλ／２板として機能するので、部分光線Ｓ５０１における偏光状態の９０°回転が実施される。この実施は、部分光線Ｓ５０１に関する光伝播方向にλ／４板５２０の後に配置され、好ましくは、ｚ方向又は光線Ｓ５００の元の光伝播方向に対して例えばα＜１０°の小さい角度で傾斜されたミラー５３０を用いてもたらされる。λ／４板５２０が２回の通過を受け、従って、偏光方向の約９０°の回転が完了した後に、更に別のミラー５４０が、光線分割要素５１０を通過した後に既にｙ方向に偏光された部分光線Ｓ５０２と平行な偏向をもう一度もたらし、従って、その結果、図５の配置内に結合される実質的に全ての照明光が、均一な偏光状態で、具体的にはｙ方向に延びる一定偏光方向を伴って利用可能である。
【００７７】
部分光線Ｓ５０１に対する偏光方向の約９０°の回転を偏光変動ために、図５の配置内に２回通過λ／４板５２０の代わりに１回通過λ／２板を設けることができることは言うまでもない。
【００７８】
図７は、本発明の開示の更に別の実施形態を概略図に示している。
【００７９】
図７により、光は、以下により詳細に説明する要素７０６、７０７から構成された偏光影響光学配置を通じて、ＥＵＶプラズマ源７０５から第１及び第２のファセット７１１、７１２、７１３及び７２１、７２２、７２３それぞれから構成された２つの配列の一方の上に進み、そこから、光伝播方向に下流に配置された第３のファセット７３１、７３２、７３３、．．．から構成された配列の上に進む。これらのファセット７３１、７３２、７３３、．．．から、光は、適切な場合には、更に別の光線偏向要素（示していない）を通じて、投影レンズ７５０の物体平面に配置された結像される構造を有するマスク７４０上に入射し、これらの構造は、投影レンズ７５０を用いて投影レンズ７５０の像平面に配置されたウェーハ７６０上に結像される。
【００８０】
最初に、図７のＥＵＶプラズマ源７０５と第１及び第２のファセット７１１、７１２、７１３、及び７２１、７２２、７２３それぞれとの間に挿入される上述の偏光影響光学配置をここで下記でより詳細に説明する。
【００８１】
図７により、ＥＵＶプラズマ源７０５によって生成された非偏光照明光は、簡単にしか示していない光線分割要素７０６を用いて、互いに対して直交して偏光された２つの光束又は部分光線Ｓ７０１、Ｓ７０２に分割される。図７に記載の配置は、部分光線Ｓ７０２を部分光線Ｓ７０１と平行に再度位置合わせする偏向ミラーの形態にある光線偏向要素７０７を更に含む（本発明の開示がこれに限定されることなく）。
【００８２】
相互直交偏光状態への分割をもたらす上述の光線分割要素７０６は、特に、一例として厚みを約５０μｍのものとすることができるジルコニウム膜によって実現することができる。このジルコニウム膜は、ビーム経路に光伝播方向（＝プロットされた座標系のｚ方向）に対して４５°の角度で配置される。既に上述したように、ＥＵＶ内でのジルコニウムの屈折率は１という値に近いので、この角度は、ブリュースター角に対応する。
【００８３】
図７では、光線分割要素７０６上に入射する入力光の非偏光状態は、この光線に対して示す両方の偏光方向（ｓ及びｐ）によって記号化されている。本発明の開示による例示的な実施形態に使用されるジルコニウム膜を用いて、ｓ偏光光は、最大限可能な程度まで反射され、ｐ偏光光は、最大限可能な程度まで透過される。具体的には、ブリュースター角で配置されたそのようなジルコニウム膜を使用すると、材料内への吸収による減衰を考慮に入れて、ｐ偏光光部分に対して約（７０〜８０）％の透過率、及びｓ偏光光部分に対しても同じく約（７０〜８０）％の反射率を得ることができる。従って、図７により、光線分割要素７０６によって透過される部分光線Ｓ７０１はｐ偏光され、光線分割要素７０６で反射される部分光線Ｓ７０２はｓ偏光される。
【００８４】
図７により、光線分割要素７０６によって透過されたｐ偏光部分光線Ｓ７０１は、複数の第１のファセット（簡略化のために、そのうちの３つのファセット７１１、７１２、７１３しか示していない）を有する第１の視野ファセットミラー７１０上に入射し、それに対して光線分割要素７０６で反射されたｓ偏光部分光線Ｓ７０２は、複数の第２のファセット（簡略化のために、同じくそのうちの３つのファセット７２１、７２２、７２３しか示していない）を有する第２の視野ファセットミラー７２０上に入射する。一般的に、第１及び第２のファセットそれぞれの個数は有意に大きく、例えば、１０よりも大きいとすることができ、特に１００よりも大きいとすることができる。
【００８５】
光伝播方向に第１及び第２のファセットミラー７１０、７２０それぞれの下流には、複数の第３のファセット（簡略化のために、そのうちの６つのファセット７３１〜７３６しか示していない）を有する瞳ファセットミラー７３０が配置される。第３のファセットの個数も一般的に有意に大きく、例えば、１０よりも大きいとすることができ、特に１００よりも大きいとすることができる。
【００８６】
瞳ファセットミラー７３０のファセット７３１〜７３６により、第１及び第２のファセット７１１、７１２、７１３、及び７２１、７２２、７２３それぞれとの協働で、それ自体公知の（例えば、ＤＥ  １０  ２００８  ００２  ７４９  Ａ１から）方式で光チャンネルが定められ、これらの光チャンネルは、投影レンズ７５０の物体平面に配置された物体視野又はマスク７４０に光チャンネル毎に照明光を案内する。
【００８７】
本発明の開示により、第３のファセット７３１〜７３６の各々を用いて、第１のファセット７１１〜７１３のうちの関連の第３のファセットに割り当てられたファセットと第２のファセット７２１〜７２３のうちの関連の第３のファセットに割り当てられたファセットとの間で、関連の第１のファセットで反射された光又は関連の第２のファセットで反射された光のいずれかを任意的に第３のファセットによって捕捉又はそこで反射することができるように各場合に切り換えを行うことができ、このようにして、瞳平面に生成される関連の光点の偏光状態が相応に選択されるように、第３のファセット７３１〜７３６は、少なくとも１つの傾斜軸の回りの各ファセット７３１〜７３６の傾斜角の変更によって切換可能である。更に別の実施形態において、各ファセット７３１〜７３６の傾斜角は、１つよりも多い傾斜軸、特に２つの傾斜軸の回りに変更可能にすることができ、これは、特に、３つ又はそれよりも多くの偏光方向を設定することが意図され、すなわち、傾斜角を可能な限り小さく保つことが意図される場合に好都合である。
【００８８】
図７の実施形態において達成される第１及び第２のファセットそれぞれの上に向けられた光が有する異なる偏光状態の生成は、図７による最初から非偏光のものである光源７０５からの光をそれぞれ望ましい偏光状態を有する光に特に有効に又は光損失なしに変換することができるという利点を有する。しかし、本発明の開示は、この構成に限定されず、従って、更に別の実施形態において、例えば、図８及びそれ以降を参照して以下に説明するように、第１及び第２のファセットそれぞれで反射された光が有する異なる偏光状態を別々に生成することができる。
【００８９】
更に、本発明の開示は、上述の相互直交偏光状態としての異なる偏光状態の実現に限定されない。むしろ、本発明の開示は、瞳ファセットミラー７３０の第３のファセット７３１〜７３６のうちの１つの同じファセットによって生成される異なる偏光状態が、いずれかの他の態様で異なる構成、例えば、関連の偏光方向の間でいずれかの望ましい角度だけ異なる構成も包含する。
【００９０】
図８は、本発明の開示の更に別の実施形態を図７と比較して類似するか又は機能的に実質的に均等な構成要素を「１００」だけ増した対応する参照番号で表す簡単な概略図に示している。図８の実施形態は、第１のファセット８１１、８１２、８１３、．．．及び第２のファセット８２１、８２２、８２３、．．．上に向けられる光が、それぞれ、例えば、ＵＳ  ２００８／０１９２２２５  Ａ１等から公知である偏光光学構成要素を使用することによって最初から偏光光を発生させる２つの光源８０５ａ、８０５ｂによって入力結合される点で、図７に記載のものとは異なる。
【００９１】
本発明の開示の更に別の実施形態において、２つよりも多い偏光光源８０５ａ、８０５ｂ、．．．を設け、かつ相応に同じく瞳ファセットミラーの第３のファセット８３１、８３２、８３３、．．．のより多くの切り換え位置を設けることができる。
【００９２】
本発明の開示は、図７に示すような互いから空間的に分離された２つのそれぞれ連続する領域内の第１及び第２のファセットそれぞれの実現に限定されず、特に、２つの別個の視野ファセットミラー７１０、７２０それぞれの上での第１及び第２のファセットの配置にも限定されない。
【００９３】
更に別の実施形態において、上述の第１及び第２のファセットは、特に前と同じく視野ファセットミラーである１つの同じファセットミラーの２つの空間分離領域内に設けることができる。
【００９４】
更に、例えば、図９に示す更に別の実施形態において、第１のファセット９１１、９１２、９１３、．．．及び第２のファセット９２１、９２２、９２３、．．．を１つの同じファセットミラー９００上に交互配置で設けることができる。そのような構成は、瞳ファセットミラーの１つの同じファセットにそれぞれ割り当てられ、かつ異なる割り当て偏光状態を有する２つのファセットを例えば各場合に直近に配置することができ、従って、関連の光点の偏光状態の「切り換え」に小さい切り換え距離又は瞳ファセットミラーの関連の割り当てファセットの小さい傾斜角しか必要としないという利点を有する。
【００９５】
図７と図８の両方により、上述したように、互いに対して直交して偏光された部分光線Ｓ７０１、Ｓ７０２及びＳ８０１、Ｓ８０２は、それぞれ、ファセットミラー７１０、７２０、及び８１０、８２０それぞれの第１及び第２のファセットを通じて、瞳ファセットミラー７３０及び８３０それぞれが有する光伝播方向に第１及び第２のファセットの下流に配置された第３のファセット上に向けられる。瞳ファセットミラー７３０及び８３０それぞれの第３のファセットは、第１のファセットのうちの１つからの光（第１の偏光状態を有する）又は第２のファセットのうちの１つからの光（第１の偏光状態に対して直交する偏光状態を有する）それぞれを捕捉する少なくとも２つの切り換え位置の間で変更することができる。その結果、このようにして、瞳ファセットミラーの第３のファセットの切り換え位置の適切な選択により、異なる偏光照明設定（すなわち、瞳平面に生成される異なる偏光分布）を偏光変動ことができる。本発明の開示の実施形態において、瞳ファセットミラー７３０及び８３０それぞれが有するそれぞれの第３のファセットの傾斜角の連続的な設定機能を与えることができる。
【００９６】
瞳ファセットミラーの第３のファセットによって選択可能な異なる偏光状態が各場合に反射要素においてブリュースター角で達成される反射によって生成される本発明の開示の実施形態の説明を図１０及び図１１を参照して以下に提供する。
【００９７】
この場合に、最初に図１０を参照すると、第１、第２、及び第３のファセットが示されておらず、同じく関連するファセットミラーも例示されておらず、これらの構成に関しては、図７〜図９に関する上述の説明を同じく当て嵌めることができ、これらの構成要素は、各場合に照明デバイス９５１の一部であり、概略的にしか示していない。
【００９８】
図１０により、次に、第１及び第２のファセット（図１０には示していない）に加えて、反射要素９５８、９５９が、それぞれ、光伝播方向にこれらの第１及び第２のファセット（照明デバイス９５１に属する）それぞれの上流に設けられる。これらの反射要素９５８、９５９は、反射においてその後に直線偏光光を得るために、光軸に対してブリュースター角に対応する角度で配置される。ＥＵＶの場合には、この角度は、事実上全ての適切な材料において４５°の角度である。
【００９９】
この場合に、図７〜図９に関して記載したものと同じくそれぞれの第１又は第２のファセット上に向けられる直線偏光光の偏光方向が、反射が図１０に示す座標系のｙ−ｚ平面に対してブリュースター角で達成される関連の光源及び関連付けられた反射要素９５８、９５９の角度に依存するという事実を利用することが可能である。
【０１００】
各場合にｙ−ｚ平面に対して垂直な反射要素９５８、９５９の対応する配置（図１０に示す）の場合には、要素９５８、９５９からブリュースター角で反射される直線偏光光の偏光方向も対応するが、これらの偏光方向は、各場合に互いに独立して変更することができ、特に、一方又は両方の光源９５５ａ、９５５ｂをｚ方向に延びる光軸ＯＡの回りにそれぞれ傾斜されるか又はｙ−ｚ平面から外れるように回転される割り当てられた反射要素９５８及び９５９と共に用いて、すなわち、光軸ＯＡに対して垂直な平面内での関連の光源９５５ａ、９５５ｂの方位角方向のアラインメントの変動により、互いに対して直交して設定することができる。
【０１０１】
一例示的実施形態において、例えば、２つの光源９５５ａ、９５５ｂの一方は、この光源によって生成される光線が、光軸ＯＡとそれぞれの他方の光源によって生成される光線との両方に垂直に放出されるように、ｙ−ｚ平面から９０°の角度だけ外れるように回転させることができる。
【０１０２】
割り当てられた反射要素９５８及び９５９それぞれと併せての光源９５５ａ、９５５ｂのうちの一方の光軸ＯＡの回りの傾斜又は回転、又はｙ−ｚ平面から外れる回転は、特に、円弧（光軸に対して垂直な平面又はｘ−ｙ平面に存在する）に沿って可変方式でもたらすことができ、その結果、関連の部分光線Ｓ９５１及びＳ９５２それぞれの偏光方向を望み通りに設定することができる。
【０１０３】
更に、視野ファセットミラーの第１及び第２のファセットのそれぞれ並びに瞳ファセットミラーの第３のファセットの配置に関して、図７〜図９に関する上述の説明を同じく当て嵌めることができ、ここでもまた、図１０では関連のファセットを照明デバイス９５１の一部として示していない。
【０１０４】
図１１は、ブリュースター角での反射が達成される反射要素として視野ファセットミラーの第１及び第２のファセットそれぞれ自体が使用される点においてのみ図１０に記載のものとは異なる本発明の開示の更に別の実施形態を示している。言い換えれば、最初にファセットミラーの機能、更に、特定の偏光状態の生成の機能は、それぞれ１つの同じ要素（すなわち、ファセット９６８、９６９）に組み合わされる。その結果、言うなれば無駄な反射を低減し、制限された反射に起因して反射に関連付けられた光損失を回避することができる。図１１は、例示目的で、下流の光学系９６１（照明デバイスの残りの構成要素を含む）の上流でブリュースター角での反射によって望ましい偏光状態の生成をもたらす関連のファセット９６８、９６９を示している。他の点として、それぞれ設定された偏光状態を変更するための調節可能性に関しては、図１０に関しての説明を同じく当て嵌めることができる。
【０１０５】
図３ｄの投影露光装置３７５内で上述の実施形態を実現するために、次に、視野ファセットミラー３８１は、複数の第１のファセットと複数の少なくとも第２のファセットとで構成された配列を用いて図７から図１１を参照して上述した実施形態と同じく構成することができ、第１のファセットと第２のファセットには、投影露光装置の作動中にそれぞれのファセットで反射される光の異なる偏光状態が割り当てられる。相応に、瞳ファセットミラー３８３は、複数の第３のファセットで構成された配列を用いて、これらの第３のファセットが、第１のファセットのうちの１つからの光を捕捉する第１の切り換え位置と、第２のファセットのうちの１つからの光を捕捉する少なくとも１つの第２の切り換え位置との間で各場合に切換可能であるように構成される。
【０１０６】
その結果、投影露光装置の作動中に、例えば、光学系内の偏光影響要素の交換を必要とすることなく、照明デバイスの瞳平面内の偏光又は偏光分布の柔軟な変更を実現する可能性が提供される。
【０１０７】
本発明の開示の更に別の態様により、本発明の開示に従って例えば図７及びそれ以降に関して上述した実施形態を用いて得ることができる異なる偏光又は偏光分布それぞれを生成するための柔軟性は、少なくとも領域的に非偏光光を含む照明設定を開発するために使用することができる。そのような少なくとも部分的に非偏光の照明設定は、特定の用途に依存して有利又は望ましいとすることができるが、それぞれの非偏光領域の生成は、適切な透過光学構成要素（例えば、ＶＵＶ系において非偏光光を発生させるために光混合系との組合せで使用することができるいわゆるハンル偏光解消子等）の非有利性に起因して、特にＥＵＶシステムでは一般的に問題を生じる可能性がある。
【０１０８】
図１２から図１４に関して以下でより詳細に説明するように、そのような少なくとも部分的に非偏光の照明設定は、特にＥＵＶシステムにおいて、単に一例として本発明の開示をそれに限定することなく、図７及びそれ以降に関して記載したファセット配置を用いて実現することができる。
【０１０９】
この態様により、本発明の開示は、ＥＵＶに向けて設計された照明デバイスでは、照明瞳が（ＶＵＶシステムでは場合によってそうであるように連続的に埋め尽くされるのではなく）図１２に略示するように複数の照明スポットを含むことによって目立った区画を示すことを利用する。この強度に区画化された照明瞳を利用して、それぞれの近接照明スポットに互いに異なる偏光状態を与えることにより、望ましい偏光解消を偏光変動ことができる。この概念の結果として、照明光の断面にわたる照明光の近接／隣接領域内に異なる偏光状態が提供され、この概念は、ハンル偏光解消子の概念とある程度比較することができる。
【０１１０】
上述の異なる偏光状態は、統計的に分布されたものとするか、又は例えば直交偏光状態の交互シーケンス（例えば、照明瞳の近接領域がｘ方向又はｙ方向それぞれに偏光されるような）を開発することにより、照明瞳のある一定の領域にわたるそれぞれのストークスベクトルが、１０％よりも低い、特に５％よりも低い、より具体的には２％よりも低い偏光度（＝ＤＯＰ）を有する少なくとも近似的に非偏光の光に合算されるような別個の照明スポットの偏光の選択的かつターゲット方式の調節からもたらされるかのいずれかとすることができる。
【０１１１】
更に別の実施形態において、近接照明スポットにわたるより細かい／段階的な偏光変動を実現することができる。例えば、照明デバイスの反射構成要素上に適切な微細構造（図７及びそれ以降の実施形態におけるファセットのような）を設けることによって達成することができる光又は照明スポットそれぞれの混合などの結果として、近接照明スポット内に示した異なる（例えば、直交する）偏光状態から真の非偏光偏光分布を得ることができる。更に別の実施形態において、近接照明スポットに割り当てられた異なる偏光状態の混合は、個々の分離照明スポットの電界の重ね合わせの結果としてウェーハ平面内（すなわち、基板上に設けられた感光層上）に達成することができる。
【０１１２】
図１３は、上述の概念を示すために役に立つものである。図１３の模式図内に略示し、かつ下記でより詳細に更に解説するように、照明瞳のある一定の領域にわたって照明スポットを平均化する結果として望ましい非偏光状態が得られる。
【０１１３】
上述の概念の考えられる結果として、図１４は、単に一例として本発明の開示をそれに限定することなく、疑似タンジェンシャル偏光四重極設定と非偏光「低シグマ」設定（すなわち、照明瞳の中心の円形領域内に非偏光光を含む設定）との組合せとして表すことができる照明設定を示している。図１２から図１４の模式図は、瞳の中心においてσ＝０であり、瞳の外縁においてσ＝１であるそれぞれの軸瞳座標を用い、双方向矢印によって偏光方向を示す照明極のみが光で照明される点に注意しなければならない。
【０１１４】
達成される「偏光解消効果」の量的仕様は、平均化カーネルが、例えば、０．１*σ（特に０．０５*σ、より具体的には０．０２*σ）の瞳座標半径を有することができる照明瞳にわたって実施される浮動平均化に基づいて与えることができる。異なる偏光状態が図１３及び図１４に示す照明瞳内で依然として得られるスケールは、そのような平均化が、例えば、図１４に示す照明瞳の中心円形領域のようなそれぞれの非偏光領域において、１０％よりも低い、特に５％よりも低い、より具体的には２％よりも低い残存偏光度（＝ＤＯＰ）をもたらす程に十分に小さくなければならない。上述の浮動平均化が実施される領域は、望ましい照明瞳又は目指す偏光解消に基づいて、１つ又はそれよりも多くの別個の照明極（与えられる場合には、照明極の中心円形領域を「低シグマ領域」、すなわち、例えばσ＜０．１という小さいσ値を有する領域として含む）で構成することができる。言い換えれば、上述の浮動平均化は、各照明極において別個に行うことができ、又は二重極設定の照明極のようないくつかの照明極にわたって行うことができる。
【０１１５】
図１２〜図１４の態様に関する本発明の開示は、少なくとも実質的に非偏光の光の生成に限定されない。むしろ、例えば、図７及びそれ以降に関して記載した実施形態を用いて得られる高い柔軟性を用いて、照明瞳のある一定の領域に対して任意の他の偏光度（例えば、ＤＯＰ＝５０％を有する）を与えることができる。
【０１１６】
図７及びそれ以降に関して記載した動的に切換可能な配列／ファセット（視野ファセットミラー又は瞳ファセットミラーそれぞれの各ファセットの傾斜角の変更を可能にする）を使用することにより、動的な変更又は切り換えも、照明瞳のある一定の領域内の異なる偏光設定間、特に偏光照明と非偏光照明の間の作動において実現することができる。更に、図１２〜図１４に関する本発明の開示は、図７及びそれ以降に関して記載した動的に切換可能なファセットを有する配置の使用に限定されず、視野ファセットミラー又は瞳ファセットミラーそれぞれの静的な実施形態においても実現することができる。
【０１１７】
本発明の開示を特定の実施形態に基づいて記載したが、例えば、個々の実施形態の特徴の組合せ及び／又は交換による多くの変形及び代替実施形態は当業者には明らかである。従って、そのような変形及び代替実施形態が本発明の開示によって付随的に包含され、本発明の開示の範囲が特許請求の範囲及びその均等物の意味の範囲でのみ限定されることは当業者には言うまでもない。
【符号の説明】
【０１１８】
１１０  偏光ビームスプリッタ
１２０、１３０、１４０  偏向ミラー
Ｓ１００  非偏光照明光
Ｓ１０１、Ｓ１０２  部分光線
【図１】
2014525148.tif 000004
【図２】
2014525148.tif 000005
【図３ａ】
2014525148.tif 000006
【図３ｂ】
2014525148.tif 000007
【図３ｃ】
2014525148.tif 000008
【図３ｄ】
2014525148.tif 000009
【図４ａ】
2014525148.tif 000010
【図４ｂ】
2014525148.tif 000011
【図５】
2014525148.tif 000012
【図６】
2014525148.tif 000013
【図７】
2014525148.tif 000014
【図８】
2014525148.tif 000015
【図９】
2014525148.tif 000016
【図１０】
2014525148.tif 000017
【図１１】
2014525148.tif 000018
【図１２】
2014525148.tif 000019
【図１３】
2014525148.tif 000020
【図１４】
2014525148.tif 000021
【手続補正書】
【提出日】平成26年3月28日(2014.3.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系であって、
光源と、
前記投影露光装置が作動状態にある時に要素に入射する光線を相互に直交する偏光方向を有する第１の部分光線（Ｓ１０１，Ｓ３０１，Ｓ４０１，Ｓ５０１，Ｓ７０１）と第２の部分光線（Ｓ１０２，Ｓ３０２，Ｓ４０２，Ｓ５０２，Ｓ７０２）とに分割する光線分割光学要素（１１０，３１０，４１０，５１０，７０６）と、
前記第１の部分光線（Ｓ１０１，Ｓ３０１，Ｓ４０１，Ｓ５０１，Ｓ７０１）及び前記第２の部分光線（Ｓ１０２，Ｓ３０２，Ｓ４０２，Ｓ５０２，Ｓ７０２）から望ましい偏光照明設定を生成するための少なくとも１つの光線偏向光学要素（２０５，２０６，３３０，３４０，３５０，３６０，３７０，４７０，５３０，５４０，７１０，７２０，７３０，８１０，８２０，８３０）と、
を含み、
前記光線分割光学要素（１１０，３１０，４１０，５１０，７０６）は、前記投影露光装置が作動状態にある時にこの光線分割光学要素上に入射する光が１よりも小さい偏光度を有するように配置され、
複数の第１のファセット（７１１，７１２，７１３，．．．；８１１，８１２，８１３，．．．；９１１，９１２，９１３，．．．）と、少なくとも複数の第２のファセット（７２１，７２２，７２３，．．．；８２１，８２２，８２３，．．．；９２１，９２２，９２３，．．．）とで構成された配列であって、該第１のファセット及び該第２のファセットに対して、前記投影露光装置の前記作動中にそれぞれの該ファセットで反射される光の異なる偏光状態が割り当てられる前記配列と、
前記光の伝播方向に前記第１及び前記第２のファセットの下流に配置された複数の第３のファセット（７３１，７３２，７３３，．．．；８３１，８３２，８３３，．．．）で構成された配列と、
を含み、
前記第３のファセット（７３１，７３２，７３３，．．．；８３１，８３２，８３３，．．．）は、それらが前記投影露光装置の前記作動中に前記第１のファセット（７１１，７１２，７１３，．．．；８１１，８１２，８１３，．．．；９１１，９１２，９１３，．．．）のうちの１つからの光を捕捉する第１の切り換え位置と、それらが該投影露光装置の該作動中に前記第２のファセット（７２１，７２２，７２３，．．．；８２１，８２２，８２３，．．．；９２１，９２２，９２３，．．．）のうちの１つからの光を捕捉する少なくとも１つの第２の切り換え位置との間で各場合に切換可能である、
ことを特徴とする光学系。
【請求項２】
前記光線分割光学要素（１１０，３１０，４１０，５１０，７０６）は、前記投影露光装置が作動状態にある時にこの光線分割光学要素上に入射する光が０．５よりも小さい、特に０．３よりも小さい、より一層特にに０．１よりも小さい偏光度を有するように配置されることを特徴とする請求項１に記載の光学系。
【請求項３】
前記望ましい偏光照明設定は、疑似タンジェンシャル偏光分布を有することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の光学系。
【請求項４】
前記望ましい偏光照明設定は、四重極照明設定又は二重極照明設定であることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の光学系。
【請求項５】
前記光源は、非偏光光を発生させることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の光学系。
【請求項６】
前記光源は、ＥＵＶプラズマ源であることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の光学系。
【請求項７】
より具体的にＥＵＶにおける作動のためのマイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系であって、
複数の第１のファセット（７１１，７１２，７１３，．．．；８１１，８１２，８１３，．．．；９１１，９１２，９１３，．．．）と、少なくとも複数の第２のファセット（７２１，７２２，７２３，．．．；８２１，８２２，８２３，．．．；９２１，９２２，９２３，．．．）とで構成された配列であって、該第１のファセット及び該第２のファセットに対して、前記投影露光装置の作動中にそれぞれの該ファセットで反射される光の異なる偏光状態が割り当てられる前記配列と、
前記光の伝播方向に前記第１及び前記第２のファセットの下流に配置された複数の第３のファセット（７３１，７３２，７３３，．．．；８３１，８３２，８３３，．．．）で構成された配列と、
を含み、
前記第３のファセット（７３１，７３２，７３３，．．．；８３１，８３２，８３３，．．．）は、それらが前記投影露光装置の前記作動中に前記第１のファセット（７１１，７１２，７１３，．．．；８１１，８１２，８１３，．．．；９１１，９１２，９１３，．．．）のうちの１つからの光を捕捉する第１の切り換え位置と、それらが該投影露光装置の該作動中に前記第２のファセット（７２１，７２２，７２３，．．．；８２１，８２２，８２３，．．．；９２１，９２２，９２３，．．．）のうちの１つからの光を捕捉する少なくとも１つの第２の切り換え位置との間で各場合に切換可能である、
ことを特徴とする光学系。
【請求項８】
前記第１のファセット（７１１，７１２，７１３，．．．；８１１，８１２，８１３，．．．；９１１，９１２，３１３，．．．）及び前記第２のファセット（７２１，７２２，７２３，．．．；８２１，８２２，８２３，．．．；９２１，９２２，９２３，．．．）は、各場合に視野ファセットミラー上に配置されることを特徴とする請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の光学系。
【請求項９】
前記第３のファセット（７３１，７３２，７３３，．．．；８３１，８３２，８３３，．．．）は、瞳ファセットミラー上に配置されることを特徴とする請求項１から請求項８のいずれか１項に記載の光学系。
【請求項１０】
前記異なる偏光状態は、互いに対して直交することを特徴とする請求項１から請求項９のいずれか１項に記載の光学系。
【請求項１１】
前記異なる偏光状態は、反射要素（９５８，９５９，９６８，９６９）でのブリュースター角で達成される反射によって各場合に生成されることを特徴とする請求項１から請求項１０のいずれか１項に記載の光学系。
【請求項１２】
関連の前記反射要素（９５８，９５９，９６８，９６９）のうちの少なくとも１つが、それらで反射される光の偏光方向の変動に対してその位置に関して調節可能であることを特徴とする請求項１１に記載の光学系。
【請求項１３】
光学系の瞳平面に生成される近接照明スポットが、特に互いに直交する互いに異なる偏光状態を有することを特徴とする請求項１から請求項１２のいずれか１項に記載の光学系。
【請求項１４】
互いに異なる前記偏光状態の少なくとも一部が、光学系の更に別の光路において非偏光光を生じることを特徴とする請求項１３に記載の光学系。
【請求項１５】
照明デバイスと投影レンズとを含むマイクロリソグラフィ投影露光装置であって、
前記照明デバイスは、請求項１から請求項１４のいずれか１項に記載の光学系を有する、
ことを特徴とする装置。
【請求項１６】
微細構造化構成要素をマイクロリソグラフィ的に生成する方法であって、
感光材料で構成された層が少なくとも部分的に付加された基板を与える段階と、
結像される構造を有するマスクを与える段階と、
請求項１５に記載のマイクロリソグラフィ投影露光装置を与える段階と、
前記投影露光装置を用いて前記マスクの少なくとも一部を前記層のある一定の領域上に投影する段階と、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項１７】
マイクロリソグラフィ露光方法であって、
光源を用いて発生させた照明光が、投影レンズの物体平面を照明するための投影露光装置の照明デバイスに給送され、該物体平面は、該投影レンズを用いて該投影レンズの像平面に結像され、
前記照明デバイスを通過する前記光は、該照明デバイス内の１つの位置で１よりも小さい偏光度を有し、
前記偏光度は、光伝播の方向にこの位置の後で増大し、前記光は、互いに直交する偏光方向を有する第１の部分光線（Ｓ１０１，Ｓ３０１，Ｓ４０１，Ｓ５０１，Ｓ７０１）と第２の部分光線（Ｓ１０２，Ｓ３０２，Ｓ４０２，Ｓ５０２，Ｓ７０２）とに分割される、
ことを特徴とする方法。
【請求項１８】
前記偏光度は、少なくとも０．３だけ、特に少なくとも０．６だけ、より具体的には０．９だけ、より具体的には値ゼロから値１まで増大することを特徴とする請求項１７に記載のマイクロリソグラフィ露光方法。
【請求項１９】
マイクロリソグラフィ露光方法であって、
ＥＵＶ光源を用いて発生させた照明光が、投影レンズの物体平面を照明するための投影露光装置の照明デバイスに給送され、該物体平面は、該投影レンズを用いて該投影レンズの像平面に結像され、
前記照明デバイスの瞳平面に生成される近接照明スポットが、互いに異なる偏光状態を有する、
ことを特徴とする方法。
【請求項２０】
前記照明デバイスの瞳平面に生成される前記近接照明スポットの少なくとも一部が、互いに直交する偏光状態を有することを特徴とする請求項１９に記載のマイクロリソグラフィ露光方法。
【請求項２１】
前記偏光状態の少なくとも一部が、非偏光光に重ね合わされることを特徴とする請求項１９又は請求項２０に記載のマイクロリソグラフィ露光方法。
【請求項２２】
請求項１から請求項１４のいずれか１項に記載の光学系を用いて実行されることを特徴とする請求項１６から請求項２１のいずれか１項に記載のマイクロリソグラフィ露光方法。
【国際調査報告】
2014525148.tif 000022
2014525148.tif 000023
2014525148.tif 000024
2014525148.tif 000025