(57)【要約】良好な耐レーザー性及び良好な反射防止性のどちらも可能にするために、基板（２０）及びその基板上の少なくとも４つの層を有するコーティングを含む、特にＵＶリソグラフィ用の光学素子（２）を提案する。この光学素子において、低い屈折率の無機フッ素化合物を含む第１層（２１）が基板（２０）上に配置され、無機酸化物含有化合物を含む層（２３）が基板（２０）から基も離れた層として配置され、各々が無機フッ素化合物又は無機酸化物含有化合物を含む少なくとも２つの更なる層（２２２，２２３）が、第一層と最も離れた層（２１，２３）との間に交互に配置される。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板及び該基板上の少なくとも４つの層を有するコーティングを含む、ＵＶリソグラフィ用光学素子であって、
−低屈折率無機フッ素化合物を含む第１層（２１）が前記基板（２０）上に配置され、−無機酸化物含有化合物を含む層（２３）が前記基板（２０）から最も離れた層として配置され、
−各々が無機フッ素化合物又は無機酸化物含有化合物を含む少なくとも２つの更なる層（２２２，２２３）が、前記第１層と前記最も離れた層（２１，２３）との間に交互に配置されることを特徴とする光学素子。
【請求項２】
請求項１に記載の光学素子において、前記基板（２０）から最も離れた前記層（２３）及び／又は前記少なくとも２つの更なる層（２２２，２２３）の内の一つの前記無機酸化物含有化合物が、紫外線波長範囲内の波長において、前記第１層（２１）及び又は前記少なくとも２つの更なる層（２２２，２２３）の内の一つの無機フッ素化合物よりも高い屈折率を有する光学素子。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の光学素子において、前記基板（２０）から最も離れた前記層（２３）及び／又は前記少なくとも２つの更なる層（２２２，２２３）の内の一つの無機酸化物含有化合物が、紫外線波長範囲の波長において、フッ化カルシウムよりも高い屈折率を有する光学素子。
【請求項４】
請求項１〜３の何れか一項に記載の光学素子において、前記第１層（２１）が無機金属フッ化物を含む光学素子。
【請求項５】
請求項１〜４の何れか一項に記載の光学素子において、前記第１層（２１）が、フッ化アルミニウム、フッ化マグネシウム、フッ化リチウム、フッ化ナトリウム、フッ化イットリウム、フッ化ストロンチウム、フッ化バリウム又は２つ以上の上述のフッ化物の混合物から成る光学素子。
【請求項６】
請求項１〜５の何れか一項に記載の光学素子において、前記最も離れた層（２３）が、無機酸化物、酸化フッ化物又は酸窒化物を含む光学素子。
【請求項７】
請求項１〜６の何れか一項に記載の光学素子において、前記最も離れた層（２３）が二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、フッ素のドープされた二酸化ケイ素若しくは窒素のドープされた二酸化ケイ素、又は２つ以上の上述の酸化物含有化合物の混合物から成る光学素子。
【請求項８】
請求項１〜７の何れか一項に記載の光学素子において、前記基板（２０）が金属フッ化物を含む光学素子。
【請求項９】
請求項１〜８の何れか一項に記載の光学素子において、前記基板（２０）がフッ化マグネシウム、フッ化ストロンチウム、フッ化バリウム、フッ化リチウム、フッ化カルシウム又は２つ以上の上述のフッ化物の混合物から成る光学素子。
【請求項１０】
請求項１〜９の何れか一項に記載の光学素子において、前記少なくとも２つの更なる層（２２２，２２３）の内の一つの層又は複数の層が、前記第１層（２１）及び／又は前記最も離れた層（２３）と同じ材料から成る光学素子。
【請求項１１】
請求項１〜１０の何れか一項に記載の光学素子において、前記第１層（２１）が前記基板（２０）上に直接配置される光学素子。
【請求項１２】
請求項１１に記載の光学素子において、前記（２０）が結晶性フッ化物化合物から成り、前記第１層（２１）が物理的及び／又は化学的に蒸着される光学素子。
【請求項１３】
請求項１２に記載の光学素子において、前記基板（２０）がフッ化カルシウムから成る光学素子。
【請求項１４】
請求項１〜１０の何れか一項に記載の光学素子において、高屈折率無機酸化物含有化合物を含む追加層（２４）が前記基板（２０）と前記第１層（２１）との間に配置される光学素子。
【請求項１５】
請求項１４に記載の光学素子において、前記追加層（２４）が二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、フッ素のドープされた二酸化ケイ素若しくは窒素のドープされた二酸化ケイ素又は２つ以上の上述の酸化物含有化合物の混合物から成る光学素子。
【請求項１６】
請求項１〜１５の何れか一項に記載の光学素子において、前記少なくとも４つの層（２１，２２２，２２３，２３，２４）の数、材料及び厚さは、最大透過率が２０°〜４０°又は６０°〜８０°の入射角で達成されるように選択される光学素子。
【請求項１７】
請求項１〜１６の何れか一項に記載の少なくとも一つの光学素子（２）を含む、ＵＶソグラフィ用の光学系。
【請求項１８】
請求項１〜１６の何れか一項に記載の少なくとも一つの光学素子（２）を含む、ＵＶソグラフィ用の装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板及び少なくとも４つの層から成るコーティングを含む、特にＵＶリソグラフィ用の光学素子に関する。更に本発明はこのような光学素子を含むＵＶリソグラフィ用の光学系及び装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
光学素子は照射源としてのレーザーと共に多くの技術分野で使用されている。レーザーは高い電力密度を有する場合があり、これは特定の条件下において光学素子に損傷を与える可能性がある。光学素子をレーザー照射源と共に使用する分野には、紫外線照射によるリソグラフィがある。この方法により、特に小さな構造を、構造化する対象物に結像することができる。従ってこの方法は、例えば、半導体構成部品の製造に使用される。
【０００３】
特許文献１は、寿命の長いエキシマレーザーを使用する光学素子を開示している。この光学素子は、例えば、フッ化マグネシウム、フッ化バリウム又は特にフッ化カルシウムなどの金属フッ化物から成る基板を含む。先ず、光学素子の反射防止コーティングに使用することのできる、一つ又は複数の層を基板上に配置させることができる。酸化アルミニウム、二酸化ケイ素又は特にフッ素をドープした二酸化ケイ素から成る密封保護層がその上に配置される。高屈折率と低屈折率の金属フッ化物が交互に配置された層系が、多層反射防止コーティングとして提案されている。波長１９３ｎｍで動作される光学素子には、高屈折率金属フッ化物として、フッ化ネオジム、フッ化ランタン及びフッ化ガドリニウムが提案されている。フッ化マグネシウム、フッ化アルミニウム及びフッ化バリウムが、低屈折率金属フッ化物として提案されている。この場合、個々の層は、高屈折率の金属フッ化物が基板に直接配置されるように配置されている。
【０００４】
更に特許文献２は、特に少なくとも最大で４０°までの大きな入射角において、約１８０ｎｍ〜約３７０ｎｍの波長の紫外線に対する反射率の低い光学構成部品を開示している。この光学構成部品は減反射多層系を有しており、この層系内の基板に隣接する層は、実質的にフッ化マグネシウムを含んでおらず、どの層も、例えばマイクロリソグラフィで光学構成部品を照射源としてのレーザーと共に使用する紫外線波長範囲における動作波長の約半分以上の層厚を有していない。好適な実施形態において、基板から最も離れた層はフッ化マグネシウムから成る。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】米国特許出願公開第２００７／０００３２８Ａ１号明細書
【特許文献２】欧州特許出願第１２２３４３７Ａ２号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、良好な耐レーザー性及び良好な透過性を有する更なる光学素子を提案することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
この目的は、基板及び当該基板上の少なくとも４つの層を有するコーティングを含むＵＶリソグラフィ用の光学素子によって達成され、
−無機フッ素化合物を含む第１層が基板上に配置され、
−低屈折率の無機酸化物含有化合物を含む層が、基板から最も離れた層として配置され、
−それぞれ無機フッ素化合物又は無機酸化物含有化合物を含む少なくとも２つの更なる層が、第１層と最も離れた層との間に交互に配置される。
【０００８】
特に、３８０ｎｍ未満、好適には２５０ｎｍ未満、特に好適には２００ｎｍ未満の波長用に設計され、少なくとも２つの更なる層が、ＵＶリソグラフィが行われるＵＶ範囲の波長において低い屈折率を有する無機フッ素化合物を含む材料から成る、基板上に配置された第１層と、周囲と境界を成し、基板から最も離れ、無機酸化物含有化合物を含む材料から成る層との間に配置され、材料として、２つの更なる層と同様に、無機フッ素化合物又は無機酸化物含有化合物を含む光学素子は、良好な耐レーザー性と同時に、この光学素子が設計されたＵＶ波長において良好な透過性を有することがわかった。この際、２つ以上の更なる層がある場合には、フッ化物層及び酸化物層は交互に配置される。ここで提案するこの特別なコーティングは、反射防止効果と同時に、過度に高いレーザー強度による照射損傷の低減をもたらす。尚、フッ化カルシウムの屈折率は、無機フッ素化合物が低屈折率を有するか否かの判断基準と考えることができる。無機フッ素化合物の屈折率が、紫外線波長範囲の特定の波長において、フッ化カルシウムの屈折率よりも小さい場合、無機フッ素化合物はその波長において低い屈折率を有する。ここで提案する光学素子の場合、この光学素子が使用される主に波長又は波長範囲に対して、材料が低屈折率を有するか否かは重要である。
【０００９】
好適には、基板から最も離れた層及び／又は少なくとも２つの更なる層の内の一つの無機酸化物含有化合物は、紫外線波長範囲の波長において、第１層及び／又は少なくとも２つの更なる層の内の一つの無機フッ素化合物よりも高い屈折率を有する。これによって透過性の増大が達成可能であることがわかった。特に好適には、基板から最も離れた層及び少なくとも２つの更なる層の内の一つの無機酸化物含有化合物は、紫外線波長範囲の波長において、第１層及び少なくとも２つの更なる層の無機フッ素化合物よりも高い屈折率を有する。
【００１０】
基板から最も離れた層及び／又は少なくとも２つの更なる層の内の一つの無機酸化物含有化合物が、紫外線波長範囲の波長においてフッ化カルシウムよりも高い屈折率を有するのであれば、特に有利である。特に、基板から最も離れた層と、少なくとも２つの更なる層の内の一つとの無機酸化物含有化合物が、紫外線波長範囲の波長においてフッ化カルシウムよりも高い屈折率を有するのであれば、特に有利である。これによって特に高い透過性を達成することができる。紫外線波長範囲の波長においてフッ化カルシウムよりも高い屈折率を有する無機酸化物含有化合物も、高屈折率化合物と称される。
【００１１】
有利には、光学素子のコーティングの第１層は、透過性と耐レーザー性の両方を高めるために、無機金属フッ化物を含んでいる。好適には、第１層は、フッ化アルミニウム、フッ化マグネシウム、フッ化リチウム、フッ化ナトリウム、フッ化イットリウム、フッ化ストロンチウム、フッ化バリウム又は上述のフッ化物を２つ以上混合したものから構成される。好適な変形例において、第１層は上述の金属フッ化物の内の一つ又は上述の金属フッ化物の内の厳密に２つの混合物から構成される。この場合、フッ化アルミニウムとフッ化イットリウム、若しくはフッ化マグネシウム、フッ化ストロンチウム若しくはフッ化バリウム、又はフッ化リチウムとフッ化ナトリウムなどのように、同じ価数を持つ金属フッ化物を、各々の場合において相互に結合させることができる。しかしながら、価数の異なる金属フッ化物を相互に結合させることも同様に可能である。
【００１２】
好適には、基板から最も離れた光学素子のコーティング層は、無機酸化物、酸化フッ化物又は酸窒化物を含み、その結果、コーティングの反射防止効果を増大させることができ、その効果により照射損傷に対する保護が可能となる。酸化フッ化物又は酸窒化物は、酸化物にフッ素又は窒素をドープした化合物であると理解されよう。またこれは、ＯｘＦｙ又はＯｘＮｙの部分を有する個々の化合物と言い換えることもでき、この場合、ｘ及びｙはいずれの場合においても０〜１で、合計で１になる。照射抵抗は、フッ素又は窒素をドープすることによって更に増大させることができる。
【００１３】
好適な実施形態において、基板から最も離れた光学素子のコーティング層は、二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、フッ素をドープした二酸化ケイ素若しくは窒素をドープした二酸化ケイ素、又は上述の酸化物含有化合物を２つ以上混合したものから成る。このタイプの光学素子は、レーザー照射下において長寿命であることに加え、非常に低い反射率を呈する。
【００１４】
好適には、基板は金属フッ化物を含む。有利には、光学素子の基板は、フッ化マグネシウム、フッ化ストロンチウム、フッ化バリウム、フッ化リチウム、フッ化カルシウム又は２つ以上の上述のフッ化物の混合物から成る。このタイプの基板は提案するコーティングにより、照射損傷から特に良好に保護される。
【００１５】
光学素子の好適な実施形態において、少なくとも２つの更なる層の内の一つの層又は複数の層は、第１層及び／又は最も離れた層と同じ材料から成る。すなわち、少なくとも２つの更なる層の無機フッ素化合物は第１層の低屈折率無機フッ素化合物に対応し、及び／又は少なくとも２つの更なる層の無機酸化物含有化合物は、基板から最も離れた層の無機酸化物含有化合物に対応する。特に、全ての更なる層が第１層及び／又は最も離れた層と同じ材料から成る場合、製造工程を特に簡素化することができ、それにもかかわらず、コーティングの良好な照射抵抗を達成することができ、これにより、レーザー照射に対する基板の保護と同時に高透過率を達成することができる。フッ化物層及び酸化物層は、任意の既知の方法によって塗布することができる。これらは好適にはプラズマ又はイオンアシストによって蒸着される。有利には、記載するコーティングを塗布する前に基板を研磨する。従来のあらゆる既知の研磨法をこの目的のために使用することができる。特に好適には、散乱損失をもたらす可能性のあるマイクロラフネスをできる限り小さくするために、研磨後の基板表面の欠陥をできる限り少なくする、又は損傷の深さをできる限り浅くする研磨法を用いる。
【００１６】
好適な実施形態において、第１層は基板に直接配置される。これにより、高い透過率と良好な耐レーザー性が、できる限り複雑でない光学素子のコーティング構造と共に可能となる。この場合、第１層と基板の間には、光学的に有効な層を更に設けることはないことをすぐに理解されよう。基板及び第１層の材料の選択によっては、第１層を基板に十分に接着させるために、接着促進層又は基板表面の前処理を提供することが必要となるだろう。
【００１７】
好適には、基板は結晶性フッ化物化合物からなり、第１層は物理蒸着及び／又は化学蒸着される（ＰＶＤ及び／又はＣＶＤ）。耐レーザー性は、その上に、特に抵抗加熱又は電子ビーム加熱による真空熱蒸着、スパッタリング、プラズマ増強若しくは光増強化学蒸着、原子層蒸着、又はプラズマ増強若しくは光増強原子層蒸着によって、低屈折率の無機フッ素化合物を含む第１層が物理及び／又は化学蒸着された、結晶性フッ化物化合物から成る基板を設けることにより、実質的に向上させることができることがわかった。レーザー照射による基板内の格子欠陥を、第１層から下に位置する基板へとフッ素を拡散させることによって修復することが提案されており、第１層内の原子及びイオンは、蒸着によって比較的高い移動性を有している。有利には、結晶性基板はフッ化カルシウムから成る。結晶性フッ化カルシウムから成る基板を有する光学素子は、その上に蒸着された第１層と組み合わせることにより、特に良好な耐レーザー性を呈することがわかった。被覆されていないレンズ又は従来の反射防止コーティングを有するレンズと比較すると、寿命をおよそ２５％延ばすことができる。
【００１８】
更なる好適な実施形態において、高屈折率の無機酸化物含有化合物を含む追加層は、基板と第１層の間に配置される。これにより、透過率と反射防止コーティングのどちらも改善することができる。特に、紫外線波長範囲での吸収を低減することができる。特に好適には、追加層は基板から最も離れた層及び／又は少なくとも２つの更なる層の内の一つと同じ材料から成る。無機酸化物含有化合物は、光学素子の使用が意図されている波長又は波長範囲に対して、フッ化カルシウムよりも高い屈折率を有しているのであれば、これらの波長又は波長範囲に対して高い屈折率を有すると考えられる。
【００１９】
有利には、追加層は、二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、フッ素のドープされた二酸化ケイ素若しくは窒素のドープされた二酸化ケイ素、又は２つ以上の上述の酸化物含有化合物の混合物から成る。このような材料の追加層は、紫外線及び深紫外線波長範囲における光の吸収並びに熱レンズ効果の現象を低減させることがわかった。好適には、追加層の厚さは少なくとも１ｎｍ、より好適には少なくとも３ｎｍである。
【００２０】
有利には、少なくとも４つの層の数、材料及び厚さは、最大透過率が２０°〜４０°又は６０°〜８０°の入射角で達成されるように選択される。この場合、特に、個々の層の厚さを、光学素子の表面の反射が最も抑えられるような入射角範囲に影響を与えるように使用することができる。好適には、少なくとも２つの更なる層の厚さは、少なくとも４つの層全ての厚さに特に好適となる様に最適化される。
【００２１】
更に、本目的は、ここで提案する少なくとも一つの光学素子を含むＵＶリソグラフィ用の光学系、及びここで提案する少なくとも一つの光学素子を含むＵＶリソグラフィ用の装置によって達成される。
【００２２】
好適な例示的実施形態を参照して、本発明を以下に詳述する。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】ＵＶリソグラフィ用の装置の系列的な基本略図である；
【図２】紫外線照射によるリソグラフィでの使用に適切な光学素子の第１実施形態を概略的に示す図である；
【図３】紫外線照射によるリソグラフィでの使用に適切な光学素子の第２実施形態を概略的に示す図である；
【発明を実施するための形態】
【００２４】
図１はＵＶリソグラフィ用装置１の基本略図である。ＵＶリソグラフィ装置１は、不可欠な構成部品として特に、２つの光学系である、照明系１２及び投影系１４を含んでいる。リソグラフィの実行には、照射源１０、特に好適にはエキシマレーザーが必要であり、これは、例えば２４８ｎｍ、１９３ｎｍ又は１５７ｎｍで照射され、ＵＶリソグラフィ装置と一体化させることができる。照射源１０によって放出される照射１１は、レチクルとも称されるマスク１３がそれによって照明されるように、照明系１２によって調整される。このため、照明系１２は少なくとも一つの透過光学素子を含む。ここで、光学素子１２０は一般的な方法で示されており、例えば、この光学素子は照射１１を集光する。既知の方法では、照明系１２において、種々の透過素子及びその他の光学素子を相互に、任意のより複雑な方法で組み合わせることができる。
【００２５】
マスク１３はその表面に、半導体構成部品の製造において、露光する素子１５、例えばウエハーに、投影系１４によって転写される構造を有している。投影系１４も少なくとも一つの透過光学素子を含んでいる。ここで示す例では２つの透過光学素子１４０，１４１が代表的に示されており、これらは、例えば、特にマスク１３上の構造をウエハー１５の露光に所望されるサイズに低減する。投影系１４においても、種々の光学素子を既知の方法で任意に組み合わせることができる。
【００２６】
光学素子１２０，１４０，１４１及びマスク１３も、基板及び当該基板上の少なくとも４つの層を有するコーティングを含む光学素子とすることができ、この場合、低屈折率無機フッ素化合物を含む第１層が基板上に配置され、無機酸化物含有化合物を含む層が基板から最も離れた層として配置され、各々が無機フッ素化合物又は無機酸化物含有化合物を含む少なくとも２つの更なる層が、第１層及び最も離れた層との間に交互に配置される。有利には、光学素子は、ＵＶリソグラフィが好適に実行される波長、例えば２４８ｎｍ、１９３ｎｍ又は１５７ｎｍでの使用のために最適化される。この場合、高強度のエキシマレーザーを照射源として使用することができる。
【００２７】
特に好適には、光学素子１２０の様な光学素子を照明系１２に配置したものが上述の様に具現化される。というのも、照射強度は光路の上流になるほど、すなわち、照射源に近くなるほど特に高くなるため、特にこれらの光学素子の場合、照射損傷への高い抵抗が必要となる。
【００２８】
ここに記載する光学素子のコーティングの特別な構造を図２と併せて説明する。図２は、特に紫外線照射を使ったリソグラフィの使用に適した光学素子の例示的実施形態を模式的に示したものである。
【００２９】
尚、ここに説明する例では、光学素子２の基板２０の片側のみが被覆されているが、言うまでもなく、基板２０の２つの対辺も本明細書で提案するコーティングを施すことができる。任意選択で、２辺以上又は基板全体をコーティングしてもよい。
【００３０】
好適な例示的一実施形態において、光学素子２は波長１９３ｎｍのＤＵＶリソグラフィ用に設計されている。このために、基板２０はフッ化マグネシウム、フッ化ストロンチウム、フッ化バリウム、フッ化リチウム又はフッ化物混合物で構成することができる。ここでより詳しく検討する例において、基板２０はフッ化カルシウムから成る。基板２０上の第１層２１は金属フッ化物層であり、これは１９３ｎｍで低い屈折率を有し、例えば、フッ化アルミニウム、フッ化リチウム、フッ化ナトリウム、フッ化イットリウム、フッ化ナトリウム若しくはフッ化ストロンチウム、又は異なる低屈折率金属フッ化物の混合物から成る。ここでより詳しく検討する例において、層はフッ化マグネシウムから成る。基板２０も同様に金属フッ化物、ここでは例えばフッ化カルシウムから成るのであれば、ここでは例えばフッ化マグネシウムから成る第１層２１を基板上に直接蒸着することができる。その他の基板材料の場合には、特定の状況において接着促進層を設ける、又は基板の表面を調整して、第１層２１が基板２０の表面に良好に付着するようにする必要がある。しかしながら原則として、図２に示す例において、第１層２１を基板の表面にできる限り直接的に塗布するための準備が行われる。第１層２１及び連続する層２２２，２２３の蒸着は、好適には、プラズマ又はイオンアシストによって行われる。特に金属フッ化物層を蒸着する場合、工程は、好適には、フッ素含有ガスまたは混合ガスの雰囲気において、プラズマまたはイオンアシストによって行われる。
【００３１】
各々が無機フッ素化合物又は無機酸化物含有化合物を含む少なくとも２つの更なる層は、第１層２１上に配置される。ここで示す例では、無機酸化物含有化合物をベースにした２つの層２２３及び無機フッ素化合物をベースにした２つの層２２２を含む層系２２が配置されている。基板から最も離れ、無機酸化物含有化合物をベースにした層２３は、光学素子２の周囲と境界を成す様に、層系２２上に配置される。
【００３２】
全ての層厚は、好適には、光学素子の使用が意図された、又はリソグラフィ工程が実行される波長の約４分の１である、つまり、例えば、約４８ｎｍである。この場合、層厚は、屈折率と幾何学的な層厚との積と定義される光学厚さであると理解されたい。
【００３３】
本例において、層系２２は４つの層を含んでいる。他の変形例において、層系は４つ以上又は以下の層も含むことができる。好適には偶数の数の層を含む。よって、第１層２１、層系２２及び最も離れた層２３から成るコーティング全体において、酸化物含有層が常に確実にフッ化物含有層に続くようにする、又はその逆が可能となる。その結果、照射損傷への抵抗及び反射防止効果の両方を特に良好に最適化することが可能となる。
【００３４】
最も離れた層２３及び層系２２の酸化物層２２３は、好適には、酸化アルミニウム、二酸化ケイ素、フッ素のドープされた二酸化ケイ素又は窒素のドープされた酸化ケイ素から成る。ここでより詳しく検討する好適な例示的実施形態においては、二酸化ケイ素が含まれる。更に、ここで検討する好適な例示的実施形態において、層系２２のフッ化物層２２２の材料も、フッ化マグネシウムから成る低屈折率第１層の材料に対応する。
【００３５】
ここでより詳しく検討する好適な例示的実施形態の変形例において、基板２０は結晶性フッ化カルシウムから成り、フッ化マグネシウムの第１層２１は、特に抵抗加熱又は電子ビーム加熱による真空熱蒸着、スパッタリング、プラズマ増強若しくは光増強化学蒸着、原子層蒸着、又はプラズマ増強若しくは光増強原子層蒸着によって蒸着される。蒸着により、フッ化マグネシウム層２１内のフッ素を、結晶性基板２０内の、例えば格子空孔状の格子欠陥がレーザー照射によって生じた場所に簡単に拡散して、それらの空孔を埋めることができる。このように、この変形例では自己修復能力が示され、耐レーザー性の向上がもたらされる。
【００３６】
光学素子２の更なる例示的実施形態を図３に示す。これは、高屈折率無機酸化物含有化合物から成る追加層２４が、基板２０と低屈折率無機フッ素化合物から成る第１層２１との間に配置されている点で、図２に示す例示的実施形態とは異なる。この場合、図２に示す例示的実施形態と同様に、同じ材料を選択することができる。図２に示す例示的実施形態と比較すると、追加層２４を有する図３に示す例示的実施形態では、同じ使用条件において、透過率はより高く、反射防止はより優れており、その結果、このような光学素子２は、ＵＶリソグラフィ用の光学系及び装置への使用に特に適切である。特に、図３による実施形態は、同じ使用条件において低い吸収を示す。
【００３７】
更なる例示的実施形態の好適な変形例において、追加層２４は、二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、フッ素のドープされた二酸化ケイ素若しくは窒素のドープされた二酸化ケイ素、又は２つ以上の上述の酸化物含有化合物の混合物から成る。いくつかの好適な変形例において、追加層２４は二酸化ケイ素、酸化アルミニウム又はこれらの混合物から成る。有利には、追加層２４の厚さは少なくとも１ｎｍ、好適には３ｎｍである。例えば、波長１９３ｎｍにおいて、このような光学素子の吸収はおよそ２５％低減させることができ、１９３ｎｍで放出されるレーザーによって照射された場合、著しく低減された熱レンズ効果を示すことができる。
【００３８】
特に層厚を変化させることにより、光学素子２の表面において、コーティングによって特に低い反射率が生じる入射角範囲に影響を与えることができ、特に高い透過率となる。ここでより詳しく検討する好適な例示的実施形態において、最初の厚さは、２０°〜４０°の入射角で透過率が最大になるように選択し、面法線に対する入射角を測定する。更なる変形例として、６０°〜８０°の入射角で最大透過率となるようにする。具体的な個々の層厚は、既知のやり方で、模擬計算によって決定することができる。このような、より高い入射角範囲において透過率が高いと、結果として、本実施形態の光学素子は、複合構造で、スペース的な理由によってより高い入射角を使用しなければならないＵＶリソグラフィの照明系又は投影系での使用に特に適する。好適には、ここに示す実施形態における光学素子は、２０°〜４０°又は６０°〜８０°の入射角のできる限り広い範囲において最大透過率を有するように設計される。
【００３９】
本明細書で説明する例示的実施形態は、更に、比較的高い照射電力であっても、紫外線波長範囲でのレーザー照射に対する抵抗が高いという特徴を有しており、その結果、紫外線範囲、特に３００ｎｍ以下の波長の深紫外線波長範囲においても、リソグラフィ用光学系及び装置に更に適している。紫外線波長範囲におけるレーザー照射に対して高い抵抗を持つことに加え、これらの実施形態は、特に低い反射率を示している。図３による実施形態も、紫外線波長範囲において特に低い吸収を示している。
【図１】
2014531061.tif 000003
【図２】
2014531061.tif 000004
【図３】
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【手続補正書】
【提出日】平成26年7月1日(2014.7.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板及び該基板上の少なくとも４つの層を有するコーティングを含む、ＵＶリソグラフィ用光学素子であって、
−低屈折率無機フッ素化合物を含む第１層（２１）が前記基板（２０）上に配置され、−無機酸化物含有化合物を含む層（２３）が前記基板（２０）から最も離れた層として配置され、
−各々が無機フッ素化合物又は無機酸化物含有化合物を含む少なくとも２つの更なる層（２２２，２２３）が、前記第１層と前記最も離れた層（２１，２３）との間に、酸化物含有層が常にフッ化物含有層に続き、逆もまた同様となるように交互に配置され、
−前記基板と前記第１層との間に追加層が配置されることを特徴とする光学素子。
【請求項２】
請求項１に記載の光学素子において、前記基板（２０）から最も離れた前記層（２３）及び／又は前記少なくとも２つの更なる層（２２２，２２３）の内の一つの前記無機酸化物含有化合物が、紫外線波長範囲内の波長において、前記第１層（２１）及び又は前記少なくとも２つの更なる層（２２２，２２３）の内の一つの無機フッ素化合物よりも高い屈折率を有する光学素子。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の光学素子において、前記基板（２０）から最も離れた前記層（２３）及び／又は前記少なくとも２つの更なる層（２２２，２２３）の内の一つの無機酸化物含有化合物が、紫外線波長範囲の波長において、フッ化カルシウムよりも高い屈折率を有する光学素子。
【請求項４】
請求項１〜３の何れか一項に記載の光学素子において、前記第１層（２１）が無機金属フッ化物を含む光学素子。
【請求項５】
請求項１〜４の何れか一項に記載の光学素子において、前記第１層（２１）が、フッ化アルミニウム、フッ化マグネシウム、フッ化リチウム、フッ化ナトリウム、フッ化イットリウム、フッ化ストロンチウム、フッ化バリウム又は２つ以上の上述のフッ化物の混合物から成る光学素子。
【請求項６】
請求項１〜５の何れか一項に記載の光学素子において、前記最も離れた層（２３）が、無機酸化物、酸化フッ化物又は酸窒化物を含む光学素子。
【請求項７】
請求項１〜６の何れか一項に記載の光学素子において、前記最も離れた層（２３）が二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、フッ素のドープされた二酸化ケイ素若しくは窒素のドープされた二酸化ケイ素、又は２つ以上の上述の酸化物含有化合物の混合物から成る光学素子。
【請求項８】
請求項１〜７の何れか一項に記載の光学素子において、前記基板（２０）が金属フッ化物を含む光学素子。
【請求項９】
請求項１〜８の何れか一項に記載の光学素子において、前記基板（２０）がフッ化マグネシウム、フッ化ストロンチウム、フッ化バリウム、フッ化リチウム、フッ化カルシウム又は２つ以上の上述のフッ化物の混合物から成る光学素子。
【請求項１０】
請求項１〜９の何れか一項に記載の光学素子において、前記少なくとも２つの更なる層（２２２，２２３）の内の一つの層又は複数の層が、前記第１層（２１）及び／又は前記最も離れた層（２３）と同じ材料から成る光学素子。
【請求項１１】
請求項１〜１０の何れか一項に記載の光学素子において、前記基板（２０）と前記第１層（２１）との間に配置された前記追加層（２４）が、高屈折率無機酸化物含有化合物を含む光学素子。
【請求項１２】
請求項１１に記載の光学素子において、前記追加層（２４）が二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、フッ素のドープされた二酸化ケイ素若しくは窒素のドープされた二酸化ケイ素又は２つ以上の上述の酸化物含有化合物の混合物から成る光学素子。
【請求項１３】
請求項１〜１２の何れか一項に記載の光学素子において、前記少なくとも４つの層（２１，２２２，２２３，２３，２４）の数、材料及び厚さは、最大透過率が２０°〜４０°又は６０°〜８０°の入射角で達成されるように選択される光学素子。
【請求項１４】
請求項１〜１３の何れか一項に記載の少なくとも一つの光学素子（２）を含む、ＵＶソグラフィ用の光学系。
【請求項１５】
請求項１〜１３の何れか一項に記載の少なくとも一つの光学素子（２）を含む、ＵＶソグラフィ用の装置。
【国際調査報告】
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2014531061.tif 000007
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