(57)【要約】  吸い込んだ空気及び／又は呼気からの生物学的及び機械的不純物の除去のためのフェイスマスク（１）であって、内側繊維層及び外側繊維層を含んでなり、その間に、その構造中に一つ又は複数の殺菌性物質を含有する、高分子ナノファイバーのろ過層及び／又は高分子ナノファイバーの活性層が配置されている。外側並びに内側繊維層はマイクロファイバーで形成されており、一方、少なくとも外側繊維層及びそれと隣接する高分子ナノファイバーのろ過又は活性層は疎水性であり、そして全ての層はそれらの相互運動を防止し、フェイスマスクのみの通気性を最低限に低下させる接合部のネットによって相互連結される。内側繊維層が、ユーザーの顔に留めるための接着剤の層を備えたフェイスマスク（１）の周辺にあり、未ろ過の空気の吸い込みを防ぐ。本発明はさらに、そのようなフェイスマスクの生産方法に関する。
2014502551.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
吸い込んだ空気及び／又は呼気からの生物学的及び機械的不純物の除去のためのフェイスマスク（１）であって、内側繊維層及び外側繊維層を含んでなり、その間に、その構造中に一つ又は複数の殺菌性物質を含有する、高分子ナノファイバーのろ過層及び／又は高分子ナノファイバーの活性層が配置されており、外層並びに内層はマイクロファイバーで形成されており、一方、少なくとも外側繊維層及びそれと隣接する高分子ナノファイバーのろ過又は活性層は疎水性であり、そして全ての層はそれらの相互運動を防止し、フェイスマスクのみの通気性を最低限に低下させる接合部のネットによって相互に相互連結され、そして内側繊維層が、ユーザーの顔に留めるための接着剤の層を備えたフェイスマスク（１）の周辺にあることを特徴とする、前記フェイスマスク（１）。
【請求項２】
内側繊維層はスパンボンド又はスパンレースタイプの不織布で形成され、外側繊維層はメルトブロータイプの不織布織物で形成されることを特徴とする、請求項１に記載のフェイスマスク（１）。
【請求項３】
請求項１に記載のフェイスマスク（１）であって、内側繊維層はスパンボンド又はスパンレースタイプの不織布で形成され、外側繊維層はメルトブロータイプの不織布織物で形成されたサブ層及びスパンボンドタイプの不織布で形成されたサブ層を含み、一方メルトブロータイプの不織布で形成されたサブ層は、ナノファイバーのろ過又は活性層と隣接することを特徴とする、前記フェイスマスク（１）。
【請求項４】
ナノファイバーのろ過層がポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、ポリウレタン（ＰＵＲ）、ポリエステル（ＰＥＳ）、ポリ乳酸（ＰＬＡ）、ポリカプロラクトン（ＰＣＬ）のグループからのポリマーのナノファイバーを含有することを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１項に記載のフェイスマスク（１）。
【請求項５】
ナノファイバーの活性層が、その構造中に一つ又は複数の殺菌性物質を含有する、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、ポリウレタン（ＰＵＲ）、ポリエステル（ＰＥＳ）、ポリ乳酸（ＰＬＡ）、ポリカプロラクトン（ＰＣＬ）のグループからのポリマーのナノファイバーを含有することを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項に記載のフェイスマスク（１）。
【請求項６】
活性層のナノファイバーが銀のナノ粒子を含むことを特徴とする、請求項５に記載のフェイスマスク（１）。
【請求項７】
フェイスマスクの全ての層が、フェイスマスクの表面（１）のｃｍ２に対して２〜５０のスポット接合部の密度を有しているスポット接合部のネットによって相互連結されることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか１項に記載のフェイスマスク（１）。
【請求項８】
フェイスマスクの全ての層が、横座標接合部のネットによって相互連結されることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか１項に記載のフェイスマスク（１）。
【請求項９】
フェイスマスクの全ての層が、相互に接合した横座標接合部のネットによって相互連結されることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか１項に記載のフェイスマスク（１）。
【請求項１０】
フェイスマスクの層が、マスク（１）の全面に相互連結されることを特徴とする、請求項７〜９のいずれか１項に記載のフェイスマスク（１）。
【請求項１１】
フェイスマスクの層が、マスク（１）の活性部分に相互連結されることを特徴とする、請求項７〜９のいずれか１項に記載のフェイスマスク（１）。
【請求項１２】
フェイスマスク（１）の上部の長い側（２）が、鼻を覆い、その付け根にはめ合うために、上方向に伸びている突出部（２１）に形付けられる、そしてフェイスマスク（１）の下部の長い側（２０）が、ユーザーのあご及び首にはめ合うために、上方向に向いている凹部（２０１）によって形付けられることを特徴とする、請求項１〜１１のいずれか１項に記載のフェイスマスク（１）。
【請求項１３】
フェイスマスク（１）の生産方法であって、それらが、布地に沿って並んで配置された少なくとも２つの長手方向のストライプに、布地から裁断され、そこでは、フェイスマスク（１）の外側繊維層とフェイスマスク（１）の内側繊維層の間に、一つ又は複数の殺菌性物質を含有し、そして布地の幅並びに長さ方向に均一である、高分子ナノファイバーのろ過層及び／又は高分子ナノファイバーの活性層が位置しており、そして裁断のプロセスが開始される前に、繊維の層は、布地の層の相互移動を防ぐ接合部のネットによって相互に相互接合される、一方、布地は、フェイスマスク（１）の生産開始時に、フェイスマスク（１）の内層によって上方に配置され、そして第一の工程で、布地の全長に沿って、フェイスマスク（１）のそれぞれの縦列のフェイスマスク（１）の本体部分のための連続した折り目が作り出され、それはフェイスマスク（１）のより短い側（３，  ３０）の場にある布地の幅に沿って取り付けられる、次いで、接着剤がこの後のフェイスマスク（１）の周辺部分に塗布された後、この接着は癒着防止材によって重ねられ、並んで配置されたフェイスマスク（１）の列は、フェイスマスク（１）の最終的形状に裁断される、前記方法。
【請求項１４】
フェイスマスク（１）の生産方法であって、それらが、布地から布地に沿って並んで配置された少なくとも２つの長手方向のストライプに裁断され、フェイスマスク（１）の外側繊維層とフェイスマスク（１）の内側繊維層の間の布地において、一つ又は複数の殺菌性物質を含有し、そして布地の幅並びに長さ方向に均一である、高分子ナノファイバーのろ過層及び／又は高分子ナノファイバーの活性層が位置しており、そして裁断が開始される前に、布地の層は、布地の層の相互移動を防ぐ接合部のネットによって相互に相互接合される、一方、フェイスマスク（１）の生産開始時に、布地はフェイスマスク（１）の内層によって上方に配置され、そして第一の工程で、布地の全長に沿って、フェイスマスク（１）のそれぞれの縦列のフェイスマスク（１）の本体部分のための連続した折り目が作り出され、それはフェイスマスク（１）のより短い側（３，３０）の場にある布地の幅に沿って取り付けられる、次いで、接着剤がこの後のフェイスマスク（１）の周辺部分に塗布された後、続いて並んで配置されたフェイスマスク（１）の列は、フェイスマスク（１）の最終的形状に裁断され、そして接着の層は癒着防止材によって重ねられる、前記方法。
【請求項１５】
折り目が超音波溶着によって取り付けられることを特徴とする請求項１３又は１４に記載の方法。
【請求項１６】
布地の層が互いにスポット接合部のネットによって相互に相互連結されることを特徴とする、請求項１３〜１４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１７】
布地の層が横座標接合部のネットによって相互に相互連結されることを特徴とする、請求１〜１６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１８】
布地の層が相互に接合した横座標接合部のネットによって相互に相互連結されることを特徴とする、請求項１３〜１５のいずれか１項に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、その間に、その構造中に一つ又は複数の殺菌性物質を含有する、高分子ナノファイバーのろ過層及び／又は高分子ナノファイバーの活性層が配置されている、内側繊維層（ｔｅｘｔｉｌｅ  ｌａｙｅｒ）及び外側繊維層を含む、吸い込んだ空気及び／又は呼気からの生物学的及び機械的不純物の除去のためのフェイスマスクに関する。
【０００２】
本発明はまた、そのようなフェイスマスクの生産方法に関する。
【背景技術】
【０００３】
多くの特許文献は、ナノファイバーの少なくとも１つの層を含有する、吸い込んだ空気及び／又は呼気からの生物学的及び機械的不純物の除去のために設計されたフェイスマスクのいくつかの変形を開示する。
【０００４】
特許文献１に開示されたフェイスマスクは、布地（ｆａｂｒｉｃ）の２つの層の間に配置されたナノファイバーの一つのろ過層を含むので、そのようなフェイスマスクのもっともシンプルな変形に属する。ここで、ナノファイバーの層は不織布の二つの層の間に配置されているが、特許文献２に開示されたフェイスマスクはその構造において同様である。これらのフェイスマスクの両方は、機械的、恐らく同様に生物学的不純物、特に微生物（細菌、ウイルスなど）を捕捉することができ、その寸法は、ナノファイバーの層での繊維間空隙の寸法より大きい。微生物並びにより小さな寸法の機械的不純物がフェイスマスクに浸透する。
【０００５】
特許文献３は、製造及び技術に関して、より要求の多い、フェイスマスクの変形を開示する。このフェイスマスクでは、不織布の２つの層の間で、抗菌性添加剤の粒子を含むナノファイバーの活性層が配置され、それはナノファイバーの層によって捕えられた微生物にそしてまた部分的に微生物についてアクティブに作用し、小さい寸法のおかげで、それを通過する。吸引の後の望ましくない作用が全く又は少なくとも部分的に取り除かれるように、フェイスマスクを通過した微生物は、抗菌性添加剤の作用によって殺されるか又は少なくとも弱くされる。
【０００６】
特許文献４に記載の彼フェイスマスクは、最も高い効率を実現する。マスクは、２つの繊維層の間で配置された抗菌性添加剤の粒子を備えたナノファイバーのろ過層並びにナノファイバーの活性層の両方を含む。ナノファイバーのろ過層は生物学的並びに機械的不純物を捕え、そしてナノファイバーの活性層は、捕えられた又は通過する微生物を殺し、又は少なくとも弱める。ナノファイバーの２つの層の組み合わせは同時に、実質的にフェイスマスクのフィルター効率を高め、それはこうしてナノファイバーの１つの層を備えたフェイスマスクを通過する可能性がある不純物を捕える。
【０００７】
これまで知られた全てのフェイスマスクは、それらの効率及び利用価値、従って同様に、それらを利用するユーザーの意欲を実質的に減少させる多くの重大な欠点を示す。最も実質的な欠点は、ユーザーの頭又は耳の周りに導かれている、通常、布地の２本又は４本のストライプによって、ユーザーの顔へのフェイスマスクの固定の不適切な方法である。この取り付け方法では、ユーザーの殆どどんな活動に対しても、フェイスマスクの脱離が、鼻の領域のようなより大きい曲率のある顔の領域又は例えば口付近及びほおのようなより大きい動きの領域で発生し、従ってフェイスマスクの取り付けの気密性が阻害され、フェイスマスクによって捕えられるべき生物学的及び／又は機械的不純物の吸引を起こす可能性がある。さらに、欠点は、フェイスマスクの個々の層を相互連結する従来の方法である。これらの層は通常、それらの周辺にのみ相互連結され、それは、特にフェイスマスクの一つ又は複数の中間層が、フェイスマスクの製造又は使用の間、他の層から脱離し、最終的には折り目（ｆｏｌｄ）又は移動を作り出すかもしれないということを引き起こし、それは実質的にフェイスマスクのろ過効率を低下させ、最終的には、ナノファイバーの層のナノファイバーに含有された抗菌性添加剤の、捕えられた微生物又は他生物学的不純物への作用の効率を制限する。層をくっつけるために、ソーイング（ｓｅｗｉｎｇ）又はニードリング（ｎｅｅｄｌｉｎｇ）のような一般的な繊維技術が使用され、そこで、使用されたツールが全厚さを通常貫通している穴をフェイスマスク内に作り上げ、それが、フェイスマスクは捕えるべき生物学的及び機械的不純物のための通路として働き得る。これに次いで、この穴を通して繊維材料がガイドされ、それは、いわゆるウィッキング作用によって湿度に含有された生物学的不純物の移動に特に貢献し得る。これらの欠陥の組み合わせの故に、本フェイスマスクは必要な効率を達成しない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】中国特許第２６４０５２３号
【特許文献２】中国特許第２６５０７９０号
【特許文献３】チェコ特許第１６９８８号（ＣＺ  ＵＶ１６９８８）
【特許文献４】チェコ特許第２９７６９７号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明の目標は背景技術の欠点を改善する、又は少なくとも除外するだろうフェイスマスクを提案し、その製造の方法を提案することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の目標は、吸い込んだ空気及び／又は呼気からの生物学的及び機械的不純物の除去のためのフェイスマスクによって達成され、それは内側繊維層及び外側繊維層を含み、その間に、その構造中に一つ又は複数の殺菌性物質を含む、高分子ナノファイバーのろ過層及び／又は高分子ナノファイバーの活性層が配置されており、その原理は、外層並びに内層はマイクロファイバーで形成されており、一方、少なくとも外側繊維層及びそれと隣接する高分子ナノファイバーのろ過又は活性層は疎水性であり、そしてフェイスマスクの全ての層はそれらの相互運動を防止し、フェイスマスクのみの通気性を最低限に低下させる接合部のネットによって相互に相互連結される、ということにある。同時に、内側繊維層は、ユーザーの顔に留めるための接着剤の層を備えたフェイスマスクの周辺にある。そのような配置では、フェイスマスクは高いろ過効果を達成し、そして少なくとも外側繊維層とそれに隣接するナノファイバーの層の疎水的性質故に、そして空気湿度並びにユーザーの呼気からの湿気に対しては実質的に透過性でない、その結果、それが濡れなく、微生物の侵入のための条件を作り出さない、ナノファイバー層の内部繊維スペースより次元的に小さいためにではない。内部の繊維層上の接着剤の層は、その全周囲の回りで、ユーザーの顔にフェイスマスクのきっちりとした接着を保証する、その結果、一切の脱離は起こらず、全ての吸い込んだ空気及び／又は呼気はフェイスマスクを通過する。
【００１１】
フェイスマスクのもっとも好ましい実施形態では、その内側繊維層は、ユーザーの顔の皮膚との接触時に心地よい、スパンボンドタイプの不織布で形成される、一方、外側繊維層は、メルトブロータイプの不織布で形成され、おそらくメルトブロータイプの不織布で形成されたサブ層、及びスパンボンドタイプの不織布で形成されたサブ層を含、一方で、メルトブロータイプの不織布で形成したサブ層は、ナノファイバーのろ過又は活性層と隣接する。後者の配置において、スパンボンドタイプの不織布から形成したサブ層は、フェイスマスクの機械的特性を改善し、そして同時に摩耗又は他の損傷に対して、メルトブロータイプの不織布で形成されたサブ層を保護する。
【００１２】
疎水性を実現するために、ナノファイバーのろ過層は、例えば（ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、ポリウレタン（ＰＵＲ）、ポリエステル（ＰＥＳ）、ポリ乳酸（ＰＬＡ）、ポリカプロラクトン（ＰＣＬ）などのような紡糸可能な疎水性ポリマーからのナノファイバーを含む。
【００１３】
ナノファイバーの活性層は好ましくは、同様の疎水性ポリマーからのナノファイバーを含み、それはまた、その構造中に一つ又は複数の殺菌性物質を含み、それはフェイスマスクで捕えられた微生物を殺す又は少なくとも弱める。同時に、銀は、適切な殺菌性物質である。
【００１４】
その透過性を最低限にのみ低下させるだろうフェイスマスクの個々の層の充分な相互連結に対しては、フェイスマスクの個々の層は、その密度が好ましくは、フェイスマスク表面のうちｃｍ２に対して２〜５０のスポット接合部の間の範囲である、スポット接合部のネットによって又は横座標関節のネットによって相互連結される。ある変形においては、横座標接合部は、グリッドに相互に接合され得る。
【００１５】
その生産方法及び／又は要求によれば、接合部のネットは、規則的又は不規則であり、そしてフェイスマスクの全面に又はその選択された部分にのみ実施される。
【００１６】
ユーザーの顔に最もしっかりした密着性及びユーザーの鼻並びに口のカバリングを確保するために、フェイスマスクは原則として長方形の形状を有し、一方、上側の端は、鼻をカバーし、その根元にはめ合うために上に伸びている突出部の形になり、そしてより低い端は、ユーザーのあご及び首にはめ合うために上の方向に向いている凹部を有する。
【００１７】
これに次いで、発明の目標は、そのようなフェイスマスクの製造方法によって、達成される。その原理は、布地に沿って並んで配置された少なくとも２つの長手方向の列に、布地から裁断され（ｃｕｔ  ｏｕｔ）、そこでは、フェイスマスクの外側繊維層とフェイスマスクの内側繊維層の間に、一つ又は複数の殺菌性物質を含む、高分子ナノファイバーのろ過層及び／又は高分子ナノファイバーの活性層が位置しており、そしてそれは布地の幅並びに長さ方向に均一である。裁断される前に、繊維の層は、これらの層の相互移動を防ぐ接合部のネットによって相互に相互接合される。フェイスマスクの生産開始時に、布地はその内層によって上方に配置される。引き続いて第一の工程において、布地の全長に沿って、フェイスマスクのそれぞれの縦列のフェイスマスクの本体部分のための連続した折り目が作り出され、それは個々のフェイスマスクの側面の場所に、布地の幅に沿って固定され、次いで、接着剤がこの後の（ｆｕｔｕｒｅ）フェイスマスクの周辺部分に塗布された後、この接着は癒着防止材によって重ねられ、そして並んで配置されたフェイスマスクの列は、最終的形状に裁断される。
【００１８】
別の変形では、フェイスマスク形状に裁断後、接着剤の層を癒着防止材のみに重ねることが可能である、それは、癒着防止材がフェイスマスクの端の上に伸び、そのおかげで除去することがより容易である。
【００１９】
布地の折り目の固定のためには、超音波溶着を用いるのが有利である、何故なら、この後のフェイスマスクの効果が低下するだろう一切の穴が布地に作り出されないし、捕えられた微生物の移動に役立つ一切の材料が布地に持ち込まれないからである。
【００２０】
フェイスマスクの透過性を少なくとも出来るだけ阻害する目的のために、布地の層が、スポット又は横座標接合部のネットによって、おそらく相互に接合された横座標接合部のネットによって相互連結される。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【発明を実施するための形態】
【００２２】
発明に記載の吸い込んだ空気及び／又は呼気からの生物学的及び機械的不純物の除去のためのフェイスマスク１は、実質的に長方形の図１に記載の実施形態の例にあり、一方、長方形の長い側２及び２０が、ユーザーの顔へのフェイスマスク１のアプリケーション時に、鼻を超えてそしてあごの下を通過し、一方、短い側３及び３０が、ユーザーの耳の前にある頬から首に通過する。口及び鼻の上を通過する本体部分では、フェイスマスク１が折り目４を備えており、実施形態の代表例では、これらの折り目は水平である。これらの折り目４は、フェイスマスク１の側面に、如何なる公知の方法、例えば、超音波の手段による融解結合によって固定され、そしてユーザーの顔の形状及び／又はサイズに従ったフェイスマスク１を形成することを可能にする。長方形の長い側２及び２０の上部は、鼻をカバーするために、その本体部分では上向きに形作られ、実施形態の代表例では、上方に伸びている突出部２１の形状に形作られる。長方形の長い側２及び２０の下部は、その本体部分では凹部２０１に向いている上方向に形作られ、代表的実施形態では、アーチの形状に形作られる。この成形は、ユーザーの顔にフェイスマスク１のより良い密着を可能にする。
【００２３】
その周辺では、フェイスマスク１は、良好な皮膚適合性を備えた公知の接着材料の示されていない層を備えたユーザーの顔と接触するために指定された側にある。フェイスマスク１の使用前、接着材料の層は、シリコン紙の（カバリングストライプ５，５０及び６，６０を備えた代表的実施形態では、癒着防止材でカバーされる。より容易な除去のために、これらのストライプ５，５０及び６，６０は、フェイスマスク１のそれぞれの側２，２０及び３，３０より長く、そして、その端を越えて伸びる。これによって、それらは、フェイスマスク１の適用前に、た易い把持と除去を可能にする。同時に、その形状が広い布地の長い帯で形成される半製品から裁断された後、これらのストライプ５，５０及び６，６０をフェイスマスクに適用する必要がある。それどころか、製造の観点から、シリコン紙の事前に貼られたストライプ（ｓｔｕｃｋ  ｓｔｒｉｐｅ）５、５０及び６、６０と一緒に１つの成形工具を使用している１回の操作で、幅のある及び長い布地からフェイスマスク１の形状を裁断することは目的にかなっていて、それはフェイスマスク１のそれぞれの部分の形の場合に、それらは位置して、そして、それらはその上の端を超えて伸びない。
【００２４】
フェイスマスク１の適用前、シリコン紙のカバリングストライプ５、５０及び６、６０は、フェイスマスク１から除去される。フェイスマスク１の端がユーザーの顔に貼られた後、ユーザーの鼻及び口の周りのスペースは取り囲まれ、従って、全ての吸い込んだ空気並びに呼気がフェイスマスク１を通過する。
【００２５】
発明に記載のフェイスマスク１は、即ち、それからこのフェイスマスク１が生産される布地は、内側繊維層及び外側繊維層を含み、その間に、高分子ナノファイバーのろ過及び／又は活性層が配置される。ユーザーの顔と接触している内側繊維層は、好ましくは、例えば、ポリプロピレン（ＰＰ）又はポリエステル（ＰＥＳ）のような疎水性材料からのマイクロファイバーのスパンボンドの不織布、又はビスコース（ＶＳ）、セルロース又はポリマーマイクロファイバーからのスパンレースタイプの不織布から作られる。外側繊維層は、好ましくは、ポリプロピレン（ＰＰ）、ビスコースＶＳ）、ポリエステル（ＰＥＳ）又は他のマイクロファイバーからのメルトブロータイプの不織布の構造からの疎水性材料からのマイクロファイバーの不織布織物で作られる。最も好適な実施形態では、外側繊維層がスパンボンドタイプの不織布で作られたサブ層とメルトブロータイプの不織布で作られたサブ層の組み合わせで形成され、スパンボンドタイプの不織布で作られたサブ層がフェイスマスク１の外側繊維層の機械的性質を改善し、メルトブロータイプのスパンボンド式の不織布で作られたサブ層を機械的磨耗及び損傷に対して、外部から保護する。ナノファイバーのろ過層は、例えば、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、ポリウレタン（ＰＵＲ）、ポリエステル（ＰＥＳ）、ポリ乳酸（ＰＬＡ）、ポリカプロラクトン（ＰＣＬ）などのような疎水性ポリマーからのナノファイバーで形成される。ナノファイバーの活性層は、同じ疎水性高分子からのナノファイバーで形成され、その構造において、殺菌作用を備えた適切な一つ又は複数の物質が配置される、それは、フェイスマスク１で捕えられた又はフェイスマスクを通過する微生物（細菌、ウイルス、糸状菌、酵母など）を殺す、又は少なくとも弱くする。
【００２６】
外側繊維層及び高分子ナノファイバーの層、そしてまた、必要な場合は、同時に内側繊維層の疎水的性質は、フェイスマスク１が、空気湿度並びにユーザーの息の湿度に対して、実質的に浸透性ではないことを確実にする、従って、それは濡れなくて、捕えられた微生物の侵入及び再生に対して適切な条件を作成しない。高分子ナノファイバーのろ過及び／又は活性層は、そのサブミクロン多孔性及び吸い込んだ空気に含有された物理的及び生物学的不純物の高い非表面大部分（ｍａｊｏｒｉｔｙ）故に、特に、フェイスマスク１の外側繊維層を通過したダスト粒子などを捕える。
【００２７】
疎水性の内部繊維層の利用の場合は、ユーザーの息からの湿気がユーザーの顔と接触しているフェイスマスク１の内面に沈着するのが、その欠点である。ユーザーのより大きい心地よさについては、その表面に凝縮が一切ないように、ユーザーの息からの湿気を吸収できる、親水性材料からこの層を作成することは有利である。この変形は、ユーザーのより良い生理的心地よさに貢献する。
【００２８】
発明に記載のフェイスマスク１の工業生産については、のうち、各々生成されたフェイスマスク１に対して同じ特性、特に濾過特性を確保する必要があり、それは、主として布地内に配置される高分子ナノファイバーのろ過及び／又は活性層によって確保される。それ故に、高分子ナノファイバーのこの層は、布地の幅の方向に、及び長さの方向に均一でなければならない。幅がより小さいディメンションを表す事実故に、布地の長さ方向における均一性は最も重要である。これは、長期の及び繰り返し安定な紡糸プロセスによってのみ達成でき、それは、現時点では、例えば、欧州特許ＥＰ１６７３４９３に記載の又は欧州特許ＥＰ２０５９６３０又は欧州特許出願ＥＰ２１７３９３０に記載の、紡糸電極及び集電極の間に誘導された電場におけるポリマーマトリックス無針静電防止によって表わされる。同時に、高分子ナノファイバーの活性層の生産に対して、例えば、欧州特許出願第ＥＰ１８６９２３２記述された同様の手順が、適用される。
【００２９】
その生産では、高分子ナノファイバーの層が、メルトブロータイプの不織布又はスパンボンド及びメルトブロータイプの不織布組み合わせによって作られる、搬送（ｃａｒｒｙｉｎｇ）基板層上に堆積される。この基板層は、１〜５マイクロメートルの繊維の直径を備えた、通常３０〜８０ｇ／ｍ２の間隔の坪量を有する。高分子ナノファイバーの層を堆積する前に、基板層と高分子ナノファイバーの層のより良い相互連結を確保しているバインダーが、基板層に塗布され得る。示された及び記述された実施形態では、基板層がフェイスマスク１の外層を表す。
【００３０】
高分子ナノファイバーの層が搬送基材層の上に堆積した後そしてナノファイバーの可能な乾燥及び／又は架橋後、高分子ナノファイバーの層の上に、疎水性材料からのマイクロファイバー、好ましくはスパンボンドタイプのカバリング層が堆積され、それは、生産されたフェイスマスク１において、ユーザーの顔と接触するために指定された内層を形成する。このカバリング層は通常、１〜５マイクロメートルの繊維の直径を備えた、通常１２〜５０ｇ／ｍ２の間隔の坪量を有する。
【００３１】
発明に記載のフェイスマスク１の生産用の布地の全ての３層は、実施形態の１つの例において、バインダー及び／又は融着バインダーによって形成されたスポット継ぎ目の表わされなかった密集したネットによって相互に相互連結され、布地での操作の間、フェイスマスク１の生産の間並びにその貯蔵又は使用時にフェイスマスク１を扱う間、全ての層の一定の相互の位置を確保する。スポット接合部の密集したネットは、フェイスマスク１の生産に役立つ布地の表面の２〜５０接合点／ｃｍ２を備えたネットと理解される。使用バインダーの比重量は通常、２〜２０ｇ／ｍ２の範囲で変化する。層のスポット相互連結の利点は、それが実質的にフェイスマスク１の全透過性に影響を及ぼさないということであり、たとえそれがその全表面に使われても、これは否であり、そして同時に、フェイスマスク１の層の現在まで一般的なソーイング又はニードリングに反して、それはフェイスマスク中に、生物学的及び／又は機械的不純物の通過を可能にする穴を作り出さないし、それは所謂ウィッキング効果によってそのような通過に貢献する可能性がある如何なる材料をもそれに持ち込まない。バインダー及び／又は融着バインダーによってフェイスマスク１の層を相互連結するために、該バインダー又は融着バインダーが、フェイスマスク１の層のいくつかに、おそらくフェイスマスク１のいくつかの層についてそして全ての支持する層に接続する後ラミネートでフェイスマスク１の幾層かに塗布されるとき、例えばＣＺ  ＰＶ  ２０１０−３７３で開示された手順を使用することが可能である。スポット接合部のネットは、規則的なもの又は不規則なものであるかもしれない、そしてフェイスマスク１の機械的ストレスの増加の場所に緻密化されるかもしれない。実施形態の他の変形において、バインダー及び／又は融着バインダーが、生産の間に、フェイスマスク１のいくつかの層に、恐らく、繊維の形状又は事前に作成されたウェブでフェイスマスク１のいくつかの層に塗布される、その結果、実施された接合部は横座標の形状を有し、恐らくそれらはネットワークの形にまとまる、それでもなお、それらはスポット接合部と同じ又は同様の長所を有する。実施形態の他の変異では、フェイスマスク１の層が、別の方法で相互連結され、それは、それらの適切な結合、例えば、超音波溶着によって、恐らくこの手順と上記のもののあるものとの組合せ、を確保する。フェイスマスク１の層の相互連結は、フェイスマスク１のニーズ及び指定によると、その全面に又は一部のみに、例えば、折り目４の領域に、実施される。
【００３２】
発明に記載のフェイスマスク１は、接着剤の層を備えた内層の自由表面上にあり、殆ど、ユーザーの顔への固定のためのフェイスマスク１の全周囲に沿って案内されたストライプの形状である。フェイスマスク１が、布地のストライプ又は他の同様の方法でユーザーの顔に固定される、今日まで一般的な場合と比較する場合、発明に記載のフェイスマスク１は、顔にフェイスマスク１の完全な密着を可能にし、そのおかげで、空気がフェイスマスク１及びユーザーの顔のカーブした又は動く部分の間で作り出されるギャップを通して、又はその脱離を通して、吸い込まれないか吐き出されないので、フェイスマスク１の全効率及びその利用価値が実質的に増加する。別の変形では、発明に記載のフェイスマスク１は、その内側及び／又は外側繊維層に堆積したさらなる層を備えられ、それは、生物学的及び／又は機械的不純物に対してのろ過効率を増加させ、恐らくそれらは、捕えられた微生物に活発に作用し、又はフェイスマスク１のユーザーの顔との接触をより心地よくさせ、その有効寿命、摩耗抵抗、硬度（ｃｏｎｓｉｓｔｅｎｃｙ）などを増加させる。同時に、更なる層の１つは、高分子ナノファイバーの更なる濾過及び／又は活性層によって表され得る。これに次いで、フェイスマスク１は、周知の補強エレメントでさらに供給され得て、それはさらに、その取り付け気密性を高める及び／又は成形を通してユーザーの顔からのその脱離を防ぐ。
【００３３】
その後、発明に記載のフェイスマスク１の工業生産は、フェイスマスク１の生産に役立つ布地の全ての層が他の上に位置するように実施され、次いで、上記方法のいくつかにおいて、それらは、さらなる操作への望ましくない移動を防止する、スポット及び／又は横座標接合部のネットによって相互連結される。さらなる層を堆積する搬送基板層は、好ましくはその後のフェイスマスク１の外側繊維層を提供するにつれて、その時に、この後のフェイスマスクの内側繊維層を表す、ナノファイバーのろ過及び／又は活性層及びカバリング層が、徐々に堆積する。ナノファイバーのろ過層及び／又はナノファイバーの活性層は好ましくは、静電防止を通して直接、搬送基板層の上に堆積する。生産の開始時に、布地がこの後のフェイスマスクのその内側繊維層によって上方に配置される。その後に、公知の装置を使用してそのように作成された布地の全長に沿って、必要なサイズ及び密度の連続折り目が作成され、それは、個別のこの後のフェイスマスク１のより短い側３，３０の場所にある布地の横幅に沿って、布地に穴を作らない適当な方法で固定され、それは、例えば、超音波溶着によって、フェイスマスク１のろ過特性を劣化させるだろう。その後、この後のフェイスマスク１の端部部分上の布地の層の上で、良好な皮膚適合性を備えた適切な接着剤の層が塗布され、該層は、粘着防止剤、例えば、シリコン紙のストライプ５、５０及び６、６０によって、重ねられる。その後に、布地から、必要形状から並んで配置されたフェイスマスク１の列が裁断される。
【００３４】
フェイスマスクの生産のさらなる変形において、接着材料及び／又は癒着防止材の層が、フェイスマスク１の形が布地から裁断された後でのみ適用されるかもしれない。
【００３５】
以下の実施例は一般に、発明に記載のフェイスマスク１の実施形態の種々の変形を記載する。
【実施例１】
【００３６】
フェイスマスク１の内側繊維層は、好ましくはポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエステル（ＰＥＳ）又は他のマイクロファイバーからのスパンボンドタイプの不織布で作られ、その坪量は、間隔１２〜５０ｇ／ｍ２でフェイスマスク１のニーズ及び指定に従って変化する。該層の上に、疎水性ポリマー、例えば、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、ポリウレタン（ＰＵＲ）、ポリエステル（ＰＥＳ）、ポリ乳酸（ＰＬＡ）、ポリカプロラクトン（ＰＣＬ）などからの、無針静電紡糸を通して作成されたナノファイバーのろ過層が堆積され、その坪量は、間隔０．０３〜１ｇ／ｍ２でフェイスマスク１のニーズ及び指定に従って変化する。ナノファイバーの直径は、１５０〜６００ナノメートルに達する。ナノファイバーのろ過層の上にさらに、メルトブロータイプの不織布、好ましくはポリプロピレン（ＰＰ）、ビスコース（ＶＳ）、ポリエステル（ＰＥＳ）、恐らく同様に他のマイクロファイバーから作られたフェイスマスク１の外側繊維層が堆積され、その坪量が間隔３０〜８０ｇ／ｍ２でるフェイスマスク１のニーズ及び指定によって変化する。フェイスマスク１の全ての層は、スポット接合部のネットワークによって相互連結される。
【００３７】
フェイスマスク１の内側繊維層は、良好な皮膚適合性の接着材料の層をそなえたその外面上の端にある。
【実施例２】
【００３８】
フェイスマスク１の内側繊維層及びその上に堆積したナノファイバーのろ過層が、実施例１と同じ方法で作り出される。ナノファイバーのろ過層の上に、メルトブロータイプの不織布から、好ましくはポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエステル（ＰＥＳ）、恐らく他のマイクロファイバーから作られたサブ層、及びスパンボンドタイプの不織布織物から、好ましくはポリプロピレン（ＰＰ）、恐らく他のマイクロファイバーから作られたサブ層の組み合わせで形成された外側繊維層が堆積され、一方、その得られた坪量は、間隔３０〜８０ｇ／ｍ２で、フェイスマスク１のニーズ及び指定に従って変化する。スパンボンドタイプの不織布で作られたサブ層は同時に、フェイスマスク１の機械的特性を改善し、そしてメルトブロータイプの不織布で作られたサブ層を機械的磨耗又は他の損傷から保護する。
【００３９】
フェイスマスク１の全ての層は、実施例１と同じ方法で相互連結される。
【００４０】
フェイスマスク１の内側繊維層は、良好な皮膚適合性の接着材料の層を備えた外面上の端にある。
【実施例３】
【００４１】
フェイスマスク１の外側繊維層及びナノファイバーのろ過層は、実施例１と同じ方法で作り出される。これら層の両方は、フェイスマスク１の内側繊維層に堆積され、それはスパンレースタイプの不織布、好ましくはビスコース（ＶＳ）、セルロース又は高分子ナノファイバーから作られ、その坪量は、間隔３０〜８０ｇ／ｍ２でフェイスマスク１のニーズ及び指定に従って変化する。
【００４２】
フェイスマスク１の全ての層は、実施例１と同じ方法に相互連結される。
【００４３】
フェイスマスク１の内側繊維層は、良好な皮膚適合性の接着材料の層を備えた外面の上の端にある。
【実施例４】
【００４４】
フェイスマスク１の内側及び外側繊維層は、実施例１と同じ方法で不織布で作られる。両者間には、無針静電紡糸を通して作成されたナノファイバーの活性層がたいせきされ、それは、疎水性ポリマー、例えば、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、ポリウレタン（ＰＵＲ）、ポリエステル（ＰＥＳ）、ポリ乳酸（ＰＬＡ）、ポリカプロラクトン（ＰＣＬ）などのナノファイバーを含み、その構造中に、一つ又は複数の殺菌性物質、例えば、銀のナノ粒子、又は殺菌作用を備えた他の適当な物質を含有している。ナノファイバーの活性層の坪量は間隔０，０３〜１ｇ／ｍ２でフェイスマスク１のニーズ及び指定によって変化する。ナノファイバーの直径は、１５０〜６００ナノメートルに達する。
【００４５】
フェイスマスク１の全ての層は、実施例１と同じ方法で相互連結される。
【００４６】
フェイスマスクの内側繊維層は、良好な皮膚適合性の接着材料の層を備えた外面の上の端にある。
【実施例５】
【００４７】
フェイスマスク１の内側及び外側繊維層は、実施例２と同じ方法で不織布で作られる。それらの間には、実施例４に記載のナノファイバーの活性層が堆積される。
【００４８】
フェイスマスク１の全ての層は、実施例１と同じ方法に相互連結される。
【００４９】
フェイスマスクの内側繊維層は、良好な皮膚適合性の接着材料の層を備えた外面上の端にある。
【実施例６】
【００５０】
フェイスマスク１の内側及び外側繊維層は、実施例３と同じ方法で不織布で作られている。それらの間には、実施例４に記載のナノファイバーの活性層が堆積される。
【００５１】
フェイスマスク１の全ての層は、実施例１と同じ方法に相互連結される。
【００５２】
フェイスマスクの内側繊維層は、良好な皮膚適合性の接着材料の層を備えた外面上の端にある。
【実施例７】
【００５３】
フェイスマスク１の内側繊維層は、実施例１と同じ方法で、不織布で出きている。該層の上に、疎水性ポリマー、例えば、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、ポリウレタン（ＰＵＲ）、ポリエステル（ＰＥＳ）、ポリ乳酸（ＰＬＡ）、ポリカプロラクトン（ＰＣＬ）などのナノファイバーの活性層が堆積され、その構造中に、一つ又は複数の殺菌性物質、例えば、銀のナノ粒子、又は殺菌作用を備えた他の適当な物質を含有し、その坪量は、間隔０，０３〜１ｇ／ｍ２で変化する。ナノファイバーの活性層上にはさらに、疎水性ポリマーのナノファイバーのろ過層が堆積され、その坪量は、間隔０，０３〜１ｇ／ｍ２で変化する。ナノファイバーの両方の層は無針静電紡糸をとして生産される。ナノファイバーの活性層の上にはさらに、実施例１のように不織布でできたフェイスマスク１の外側繊維層が堆積される。
【００５４】
フェイスマスク１の全ての層は、実施例１と同じ方法に相互連結される。
【００５５】
フェイスマスクの内側繊維層は、良好な皮膚適合性の接着材料の層を備えた外面上の端にある。
【実施例８】
【００５６】
フェイスマスク１の内側繊維層は実施例２と同じ方法で、不織布でできている、該層の上には、疎水性ポリマーのナノファイバーの活性層が堆積され、その構造中に実施例７のように一つ又は複数の殺菌性物質を含有し、そしてその上に、疎水性ポリマーからのナノファイバーのろ過層が堆積される。ナノファイバーの両方の層は、無針静電紡糸を通して生産される。ナノファイバーのろ過層の上ではさらに、実施例２のように不織布から形成されたフェイスマスク１の外側繊維層が堆積される。
【００５７】
フェイスマスク１の全ての層は、実施例１と同じ方法に相互連結される。
【００５８】
フェイスマスクの内側繊維層は、良好な皮膚適合性の接着材料の層を備えた外面上の端にある。
【実施例９】
【００５９】
フェイスマスク１の内側繊維層は実施例３と同じ方法で、不織布でできている、該層の上には、その構造中に実施例７のように一つ又は複数の殺菌性物質を含有する疎水性ポリマーのナノファイバーの活性層、及び疎水性ポリマーのナノファイバーのろ過層が堆積される。ナノファイバーの両方の層は、無針静電紡糸を通して生産される。ナノファイバーのろ過層の上では、実施例２のように不織布から形成されたフェイスマスク１の外側繊維層が堆積される。
【００６０】
フェイスマスク１の全ての層は、実施例１と同じ方法に相互連結される。
【００６１】
フェイスマスクの内側繊維層は、良好な皮膚適合性の接着材料の層を備えた外面上の端にある。
【図１】
2014502551.tif 000003
【手続補正書】
【提出日】平成24年7月4日(2012.7.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
吸い込んだ空気及び／又は呼気からの生物学的及び機械的不純物の除去のためのフェイスマスク（１）であって、内側繊維層及び外側繊維層を含んでなり、その間に、その構造中に一つ又は複数の殺菌性物質を含有する、高分子ナノファイバーのろ過層及び／又は高分子ナノファイバーの活性層が配置されており、外層並びに内層はマイクロファイバーで形成されており、一方、少なくとも外側繊維層及びそれと隣接する高分子ナノファイバーのろ過又は活性層は疎水性であり、そして全ての層はそれらの相互運動を防止し、フェイスマスクのみの通気性を最低限に低下させる接合部のネットによって相互に相互連結され、そして内側繊維層が、ユーザーの顔に留めるための接着剤の層を備えたフェイスマスク（１）の周辺にあり、
前記フェイスマスク（１）は、短い側に固定されている横幅に沿った折り目が提供された、顔と鼻をカバーするための本体部分を少なくとも含んでいることを特徴とする、前記フェイスマスク（１）。
【請求項２】
内側繊維層はスパンボンド又はスパンレースタイプの不織布で形成され、外側繊維層はメルトブロータイプの不織布織物で形成されることを特徴とする、請求項１に記載のフェイスマスク（１）。
【請求項３】
請求項１に記載のフェイスマスク（１）であって、内側繊維層はスパンボンド又はスパンレースタイプの不織布で形成され、外側繊維層はメルトブロータイプの不織布織物で形成されたサブ層及びスパンボンドタイプの不織布で形成されたサブ層を含み、一方メルトブロータイプの不織布で形成されたサブ層は、ナノファイバーのろ過又は活性層と隣接することを特徴とする、前記フェイスマスク（１）。
【請求項４】
ナノファイバーのろ過層がポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、ポリウレタン（ＰＵＲ）、ポリエステル（ＰＥＳ）、ポリ乳酸（ＰＬＡ）、ポリカプロラクトン（ＰＣＬ）のグループからのポリマーのナノファイバーを含有することを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１項に記載のフェイスマスク（１）。
【請求項５】
ナノファイバーの活性層が、その構造中に一つ又は複数の殺菌性物質を含有する、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、ポリウレタン（ＰＵＲ）、ポリエステル（ＰＥＳ）、ポリ乳酸（ＰＬＡ）、ポリカプロラクトン（ＰＣＬ）のグループからのポリマーのナノファイバーを含有することを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項に記載のフェイスマスク（１）。
【請求項６】
活性層のナノファイバーが銀のナノ粒子を含むことを特徴とする、請求項５に記載のフェイスマスク（１）。
【請求項７】
フェイスマスクの全ての層が、フェイスマスクの表面（１）のｃｍ２に対して２〜５０のスポット接合部の密度を有しているスポット接合部のネットによって相互連結されることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか１項に記載のフェイスマスク（１）。
【請求項８】
フェイスマスクの全ての層が、横座標接合部のネットによって相互連結されることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか１項に記載のフェイスマスク（１）。
【請求項９】
フェイスマスクの全ての層が、相互に接合した横座標接合部のネットによって相互連結されることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか１項に記載のフェイスマスク（１）。
【請求項１０】
フェイスマスクの層が、マスク（１）の全面に相互連結されることを特徴とする、請求項７〜９のいずれか１項に記載のフェイスマスク（１）。
【請求項１１】
フェイスマスクの層が、マスク（１）の活性部分に相互連結されることを特徴とする、請求項７〜９のいずれか１項に記載のフェイスマスク（１）。
【請求項１２】
フェイスマスク（１）の上部の長い側（２）が、鼻を覆い、その付け根にはめ合うために、上方向に伸びている突出部（２１）に形付けられる、そしてフェイスマスク（１）の下部の長い側（２０）が、ユーザーのあご及び首にはめ合うために、上方向に向いている凹部（２０１）によって形付けられることを特徴とする、請求項１〜１１のいずれか１項に記載のフェイスマスク（１）。
【請求項１３】
フェイスマスク（１）の生産方法であって、それらが、布地に沿って並んで配置された少なくとも２つの長手方向のストライプに、布地から裁断され、そこでは、フェイスマスク（１）の外側繊維層とフェイスマスク（１）の内側繊維層の間に、一つ又は複数の殺菌性物質を含有し、そして布地の幅並びに長さ方向に均一である、高分子ナノファイバーのろ過層及び／又は高分子ナノファイバーの活性層が位置しており、そして裁断のプロセスが開始される前に、繊維の層は、布地の層の相互移動を防ぐ接合部のネットによって相互に相互接合される、一方、布地は、フェイスマスク（１）の生産開始時に、フェイスマスク（１）の内層によって上方に配置され、そして第一の工程で、布地の全長に沿って、フェイスマスク（１）のそれぞれの縦列のフェイスマスク（１）のミドル部分のための連続した折り目が作り出され、それはフェイスマスク（１）のより短い側（３，３０）の場にある布地の幅に沿って取り付けられる、次いで、接着剤がこの後のフェイスマスク（１）の周辺部分に塗布された後、この接着は癒着防止材によって重ねられ、並んで配置されたフェイスマスク（１）の列は、フェイスマスク（１）の最終的形状に裁断される、前記方法。
【請求項１４】
フェイスマスク（１）の生産方法であって、それらが、布地から布地に沿って並んで配置された少なくとも２つの長手方向のストライプに裁断され、フェイスマスク（１）の外側繊維層とフェイスマスク（１）の内側繊維層の間の布地において、一つ又は複数の殺菌性物質を含有し、そして布地の幅並びに長さ方向に均一である、高分子ナノファイバーのろ過層及び／又は高分子ナノファイバーの活性層が位置しており、そして裁断が開始される前に、布地の層は、布地の層の相互移動を防ぐ接合部のネットによって相互に相互接合される、一方、フェイスマスク（１）の生産開始時に、布地はフェイスマスク（１）の内層によって上方に配置され、そして第一の工程で、布地の全長に沿って、フェイスマスク（１）のそれぞれの縦列のフェイスマスク（１）のミドル部分のための連続した折り目が作り出され、それはフェイスマスク（１）のより短い側（３，３０）の場にある布地の幅に沿って取り付けられる、次いで、接着剤がこの後のフェイスマスク（１）の周辺部分に塗布された後、続いて並んで配置されたフェイスマスク（１）の列は、フェイスマスク（１）の最終的形状に裁断され、そして接着の層は癒着防止材によって重ねられる、前記方法。
【請求項１５】
折り目が超音波溶着によって取り付けられることを特徴とする請求項１３又は１４に記載の方法。
【請求項１６】
布地の層が互いにスポット接合部のネットによって相互に相互連結されることを特徴とする、請求項１３〜１４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１７】
布地の層が横座標接合部のネットによって相互に相互連結されることを特徴とする、請求１〜１６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１８】
布地の層が相互に接合した横座標接合部のネットによって相互に相互連結されることを特徴とする、請求項１３〜１５のいずれか１項に記載の方法。
【国際調査報告】
2014502551.tif 000004
2014502551.tif 000005
2014502551.tif 000006