(57)【要約】  カプセル（１）、例えば、コーヒーカプセルを挿入するためのデバイスであって、カプセルがそれを通して移送され、そしてカプセル（１）の断面より小さい断面で特徴付けられる通路（２）を含む、デバイス。【選択図】  図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
カプセル（１）、例えばコーヒーカプセルを挿入し及び／又は排出するためのデバイスであって、カプセル（１）が通して移送され、そしてカプセル（１）の断面より小さい断面で特徴付けられる通路（２）を含んでなる、上記デバイス。
【請求項２】
通路（２）の断面が、カプセル（１）の側壁レベルでカプセルの断面より狭い、請求項１に記載のデバイス。
【請求項３】
前記より小さい断面がプレート中に形成される、請求項１又は２に記載のデバイス。
【請求項４】
前記より小さい断面が、カプセルの断面と同等又はそれより大きい断面の通路の周辺部に配置された小プレート又はローラなどのエレメントによって形成される、請求項１又は２に記載のデバイス。
【請求項５】
円錐台形形状のカプセルを対象とした請求項１〜４のいずれか１項に記載のデバイス。
【請求項６】
通路が、マシーンでのカプセルの導入サイトと抽出ゾーンの間に配置される、請求項１〜５のいずれか１項に記載のデバイス。
【請求項７】
通路が、抽出ゾーンとカプセルの回収サイト間に配置される、請求項１〜５のいずれか１項に記載のデバイス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一回分の製品、例えば、コーヒーを含むカプセルを通して温水を通過させることによる飲料の製造に関する。
【背景技術】
【０００２】
コーヒーメーカー（coffee maker）は公知であり、例えば、特許文献１に記載のものを参照、それは、カプセルの挿入のためのデバイスを含む。このデバイスは、カプセルが導入される通路（passage）を含む。この通路の断面（cross section）は、カプセルの断面より若干大きい。「断面」は、カプセルの対称軸を含む面に従って画成されるエリア（area）を意味すると理解される。
【０００３】
カプセルが導入されると直ちに、カプセルは抽出位置に指定された位置に位置する。
【０００４】
従って、通路は、カプセルをその抽出位置まで容易に案内するように、寸法付けされている（dimensioned）。
【０００５】
しかしながら、先行技術のカプセル挿入デバイスは、マシーン（machine）内へのその導入時にカプセルのしっかりした位置付けを確実にできない不都合を有している。
【０００６】
このタイプの不都合はまた、以前に述べたものと類似しているが、抽出位置とカプセルの回収サイト間に配置された通路を有するある種のデバイスには観察されるはずである（to be）。
【０００７】
この不都合は、通路の断面がカプセルの断面より若干大きいという事実から発生する。
【０００８】
従って、特に、この問題を改善するための必要性が存在する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】ＥＰ第２１０３２３６号Ａ１
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明が解決することを提案する問題は、マシーン内へのその導入、及び／又は、その抽出位置から排出時のカプセルの位置付けの改善にある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は、多数のカプセルがある種の可撓性を備えた側壁を有するという事実に基づく。従って、これらのカプセルの壁を破壊することなく実質的に変形することは可能であり、それ故、マシーン内でのカプセルの最適の案内を確実にすることが可能である。
【００１２】
従って、本発明は、目的として、それを経由してカプセルが移送され、カプセルの断面より小さい断面を特徴とする通路を含むカプセル、例えば、コーヒーカプセルを挿入し、及び／又は、排出するためのデバイスを有する。
【００１３】
本発明の様々な実施態様は、特許請求範囲に記載される。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本発明は以下の図によって図示される例によって、より詳細に下記に記載される。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】通路を通して通過する前後のカプセルの平面図を表わす。
【図２】通路を横切って移送する前のカプセルを表わす。
【図３】通路を通してその位置にあるカプセルを表わす。
【図４】レバーによってカプセルを導入する連続工程を表わす。
【図５】レバーによってカプセルを導入する連続工程を表わす。
【図６】レバーによってカプセルを導入する連続工程を表わす。
【図７】特別の配置を有する通路を横切ってカプセルを導入する連続工程を表わす。
【図８】特別の配置を有する通路を横切ってカプセルを導入する連続工程を表わす。
【図９】特別の配置を有する通路を横切ってカプセルを導入する連続工程を表わす。
【図１０】通路を横切ってカプセルを導入する連続工程を表わし、その断面は変更可能な輪郭を有する。
【図１１】通路を横切ってカプセルを導入する連続工程を表わし、その断面は変更可能な輪郭を有する。
【図１２】通路を横切ってカプセルを導入する連続工程を表わし、その断面は変更可能な輪郭を有する。
【図１３】通路を通したカプセルの導入機構を図示する。
【図１４】通路を通したカプセルの導入機構を図示する。
【図１５】通路を通したカプセルの導入機構を図示する。
【図１６】減少した断面を有する通路が抽出位置とカプセル回収サイトの間に配置される変形例を図示する。
【図１７】減少した断面を有する通路が抽出位置とカプセル回収サイトの間に配置される変形例を図示する。
【図１８】減少した断面を有する通路が抽出位置とカプセル回収サイトの間に配置される変形例を図示する。
【００１６】
参照番号リスト
１：カプセル；
２：通路；
３：変形ゾーン；
４：レバー；
５：ローラ；
６：小プレート；
７：保持エレメント；
８：ドラム；
９：下部通路；
１０：上部通路；
１１：上部プレート；
１２：下部プレート；
１３：案内エレメント；
１４：ハウジング；
【００１７】
図１は、通路２が配置されるプレート１１、１２（中心図）を示し、その断面は標準状態（左図）におけるカプセル１の断面より小さい。より正確には、通路２はカプセル１の高さと実質的に等しい高さ及びカプセル１の幅に対して減少した幅を有する。減少した幅のゾーンは、カプセルの変形ゾーン３を構成する。
【００１８】
通路２を通過すると直ちに、カプセル１は変形し（右図）、そしてその断面は、通路２の断面と実質的に等しい。
【００１９】
プレート１１、１２は、上部レベル、即ち、抽出位置の上流、又は下部レベル、即ち、抽出位置の下流に配置できる。
【００２０】
明らかに、ある可撓性を有するカプセル、即ち、十分な弾性的又は塑性的変形に耐えられるカプセルのみが、損傷を受けることなく通路を通過することができる。カプセルの剛性係数が高すぎる場合、カプセルは通路を通過することができない。
【００２１】
図４及び５は、通路２を通したカプセル１の移動がレバーで確実になる本発明の変形例を図示する。
【００２２】
図７〜９に図示された変形例において、変形ゾーンは、回転ローラ５の形体で存在し、その回転軸はプレート１１で画成される面に位置する。
【００２３】
変形例１０〜１２及び１６〜１８において、変形ゾーンは、通路２の端部に向かって配置された案内エレメント１３を通して摺動することができる移動可能な小プレート６の形体で存在する。
【００２４】
小プレート６の動きは、レバー４に固定された保持エレメント７によって保持できる。
【００２５】
図１３〜１５に図示した変形例は、カプセル１を一時的に受ける予定の少なくとも一つのハウジングを含むドラム１１を表わす。初めに、新しいカプセル１は、ハウジング１４内に導入される。その後、ドラム１１は一般に１８０°の回転を行い、その間、カプセル１が通路２を通過する。
【００２６】
図１６〜１８の実施態様は、下部プレート１２に配置された減少した断面を表わす。
【００２７】
この場合、上部プレート１１に配置された通路１０は、カプセルの断面と実質的に等しい断面、即ち、変形ゾーンなしの断面を含む。
【００２８】
保持エレメント７は、レバーが完全に低下すると直ちに小プレート６を解放するための角度を有する。
【００２９】
明らかに、減少した断面のその他のジオメトリは、例えば、図１〜９のそれらのように、下部プレート１２と一緒に使用できる。
【００３０】
言うまでもなく、本発明は、特定の断面に限定されず、いかなる断面も求められる効果を得ることを可能にする。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【国際調査報告】
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