(57)【要約】  不活性化層又はｐＨ保護皮膜をＰＥＣＶＤにより基板表面上に設けるための方法を提供する。方法は、重合ガス、例えば、有機ケイ素化合物前駆体、及び任意選択的にＯ2を含む気体反応物からプラズマを発生させるステップを含む。不活性化層又はｐＨ保護皮膜の滑性、不動態化、ｐＨ保護、疎水性及び／又はバリア特性が、前駆体供給物中におけるＯ2と有機ケイ素化合物前駆体の比率を設定することによって、及び／又はプラズマを発生させるために使用される電力を設定することによって設定される。特に、前記方法によって作製された滑性及び／又は不活性化層又はｐＨ保護皮膜が提供される。
2014533177.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
・少なくとも部分的に壁によって画定された内腔を有する容器であって、前記壁が、前記内腔に面した内部表面と外部表面とを有する、容器と、
・ＳｉＯxのバリア皮膜又は層であって、ｘが１．５乃至２．９、厚さが２乃至１０００ｎｍであり、ＳｉＯxの前記バリア皮膜又は層が前記内腔に面した内部表面と前記壁内部表面に面した外部表面とを有し、前記バリア皮膜又は層が、バリア皮膜も層もない容器と比較すると、前記内腔への大気ガスの進入を低減するのに効果的である、ＳｉＯxのバリア皮膜又は層と、
・ＳｉＯxＣy又はＳｉＮxＣyの不活性化層又はｐＨ保護皮膜であって、ｘが約０．５乃至約２．４及びｙが約０．６乃至約３であり、前記不活性化層又はｐＨ保護皮膜が、前記内腔に面した内部表面と前記バリア皮膜又は層の前記内部表面に面した外部表面とを有し、前記不活性化層又はｐＨ保護皮膜が前記パッケージの計算保管寿命（総Ｓｉ／Ｓｉ溶解速度）を増加するのに効果的である、ＳｉＯxＣy又はＳｉＮxＣyの不活性化層又はｐＨ保護皮膜と、
・前記内腔に収容されており、４乃至１０、任意選択的に、５乃至９のｐＨを有する流体組成物と、を含み、
４℃の保管温度における前記パッケージの前記計算保管寿命が６か月超である、
充填済みパッケージ。
【請求項２】
・少なくとも部分的に壁によって画定された内腔を有する容器であって、前記壁が、ガラスを含む、前記内腔に面した内部表面と、外部表面とを有する、容器と、
・ＳｉＯxＣy又はＳｉＮxＣyの不活性化層又はｐＨ保護皮膜であって、ｘが約０．５乃至約２．４及びｙが約０．６乃至約３であり、前記不活性化層又はｐＨ保護皮膜が、前記内腔に面した内部表面と、ガラスを含む前記内部表面に面した外部表面とを有し、前記不活性化層又はｐＨ保護皮膜が、ガラスを含む前記内部表面のＳｉ溶解速度を低下させるのに効果的である、ＳｉＯxＣy又はＳｉＮxＣyの不活性化層又はｐＨ保護皮膜と、
・前記内腔に収容されており、４乃至１０、任意選択的に、５乃至９のｐＨを有する流体組成物と、
を含む、充填済みパッケージ。
【請求項３】
・表面を有する壁と、
・ＳｉＯxのバリア皮膜又は層であって、ｘが１．５乃至２．９、厚さが２乃至１０００ｎｍであり、ＳｉＯxの前記バリア皮膜又は層が、前記内腔に面した内部表面と前記壁内部表面に面した外部表面とを有し、前記バリア皮膜又は層が、非被覆壁と比較すると、前記壁を通じた大気ガスの進入を低減するのに効果的である、ＳｉＯxのバリア皮膜又は層と、
・ＳｉＯxＣy又はＳｉＮxＣyの不活性化層又はｐＨ保護皮膜であって、ｘが約０．５乃至約２．４及びｙが約０．６乃至約３であり、前記バリア皮膜又は層上に、前記不活性化層又はｐＨ保護皮膜が、直鎖シロキサン、単環シロキサン、多環シロキサン、ポリシルセスキオキサン、直鎖シラザン、単環シラザン、多環シラザン、ポリシルセスキアザン、シラトラン、シルクアシラトラン、シルプロアトラン、アザシラトラン、アザシルクアシアトラン、アザシルプロアトラン、又はこれら前駆体のいずれか２つ以上の複合体から選択される前駆体の化学気相成長によって形成される、ＳｉＯxＣy又はＳｉＮxＣyの不活性化層又はｐＨ保護皮膜と、
を含み、
５乃至９のいずれかのｐＨを有する流体組成物が直接接触する場合の前記不活性化層又はｐＨ保護皮膜の浸食速度が、前記流体組成物が直接接触する場合の前記バリア皮膜又は層の前記浸食速度未満である、
物品。
【請求項４】
・内腔を囲む内部表面を有する熱可塑性プラスチック壁と、
・  前記内腔内に配置された、５を超えるｐＨを有する、前記内腔に収容された流体と、
・ＳｉＯxのバリア皮膜又は層であって、ｘが１．５乃至２．９であり、前記バリア皮膜又は層がＰＥＣＶＤによって塗布され、前記熱可塑性プラスチック壁の前記内部表面と前記流体との間に配置され、前記熱可塑性プラスチック壁によって支持され、前記バリア皮膜又は層が、前記流体による攻撃の結果、６か月未満でバリア改善度が測定可能な程度低下するという特徴を有する、ＳｉＯxのバリア皮膜又は層と、
・ＳｉＯxＣyの不活性化層又はｐＨ保護皮膜であって、ｘが０．５乃至２．４及びｙが０．６乃至３であり、前記不活性化層又はｐＨ保護皮膜がＰＥＣＶＤによって塗布され、前記バリア皮膜又は層と前記流体との間に配置され、前記熱可塑性プラスチック壁によって支持され、前記不活性化層又はｐＨ保護皮膜が、前記流体による攻撃の結果、少なくとも６か月の期間の間前記バリア皮膜又は層を少なくとも実質的に溶解しないまま維持するのに効果的である、
容器。
【請求項５】
前記容器の前記壁の少なくとも一部が、ポリオレフィン、任意選択的に、ポリプロピレン、環式オレフィン重合体、環式オレフィン共重合体、ポリエステル、任意選択的に、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリ乳酸、ガラス、任意選択的に、ホウケイ酸ガラス、又はこれらの複合体又は共重合体を含む、又は実質的にこれらからなる、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の発明。
【請求項６】
前記容器が、シリンジバレル、カートリッジ、バイアル又はブリスタパッケージを含む、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の発明。
【請求項７】
前記流体組成物が、４乃至１０、あるいは５乃至９、あるいは５乃至６、あるいは６乃至７、あるいは７乃至８、あるいは８乃至９、あるいは６．５乃至７．５、あるいは７．５乃至８．５、あるいは８．５乃至９のｐＨを有する、請求項１、２又は４乃至６のいずれか一項に記載の発明。
【請求項８】
前記流体組成物が、２０℃及び７６０ｍｍＨｇ．大気圧の液体である、請求項１、２又は４乃至７のいずれか一項に記載の発明。
【請求項９】
前記バリア皮膜又は層が、４ｎｍ乃至５００ｎｍの厚さ、あるいは７ｎｍ乃至４００ｎｍの厚さ、あるいは１０ｎｍ乃至３００ｎｍの厚さ、あるいは２０ｎｍ乃至２００ｎｍの厚さ、あるいは３０ｎｍ乃至１００ｎｍの厚さである、請求項１又は３乃至８のいずれか一項に記載の発明。
【請求項１０】
前記不活性化層又はｐＨ保護皮膜がＳｉＯxＣyを含む、請求項１乃至９のいずれか一項に記載の発明。
【請求項１１】
前記不活性化層又はｐＨ保護皮膜がＳｉＮxＣyを含む、請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の発明。
【請求項１２】
前記不活性化層又はｐＨ保護皮膜が、直鎖シロキサン、例えば、ヘキサメチルジシロキサン、直鎖シラザン、例えば、ヘキサメチルジシラザン、単環シロキサン、例えば、オクタメチルシクロテトラシロキサン（ＯＭＣＴＳ）、多環シロキサン、ポリシルセスキオキサン、単環シラザンシラザン、多環シラザン、ポリシルセスキアザン、シラトラン、シルクアシラトラン、シルプロアトラン、アザシラトラン、アザシルクアシアトラン、アザシルプロアトラン、又はこれら前駆体のいずれか２つ以上の複合体を含む前駆体供給物のＰＥＣＶＤによって塗布される、請求項１乃至１１のいずれか一項に記載の発明。
【請求項１３】
前記不活性化層又はｐＨ保護皮膜が、オクタメチルシクロテトラシロキサン（ＯＭＣＴＳ）を含む前駆体供給物のＰＥＣＶＤによって塗布される、請求項１乃至１２のいずれか一項に記載の発明。
【請求項１４】
前記前駆体供給物が、酸化性ガス、例えば、酸素を更に含む、請求項１３に記載の発明。
【請求項１５】
前記前駆体供給物が、希ガス、例えば、アルゴンを更に含む、請求項１２乃至１４のいずれか一項に記載の発明。
【請求項１６】
前記前駆体供給物が、
・０．５乃至１０標準体積の前記有機ケイ素化合物前駆体、例えば、オクタメチレンシクロテトラシロキサン（ＯＭＣＴＳ）と、
・０．１乃至１０標準体積の酸化性ガス、例えば、酸素と、
・１乃至１００ｓｃｃｍのキャリアガス、例えば、アルゴンと、
を含む、請求項１２乃至１５のいずれか一項に記載の発明。
【請求項１７】
塗布された際の前記不活性化層又はｐＨ保護皮膜が、１０乃至１０００ｎｍの厚さ、あるいは５０乃至８００ｎｍの厚さ、あるいは１００乃至７００ｎｍの厚さ、あるいは３００乃至６００ｎｍの厚さである、請求項１乃至１６のいずれか一項に記載の発明。
【請求項１８】
前記流体組成物に接触する前記不活性化層又はｐＨ保護皮膜が、前記発明の組立の２年後、１０乃至１０００ｎｍの厚さ、あるいは２０乃至７００ｎｍの厚さ、あるいは５０乃至５００ｎｍの厚さ、あるいは１００乃至４００ｎｍの厚さ、あるいは１５０乃至３００ｎｍの厚さである、請求項１、２又は４乃至１７のいずれか一項に記載の発明。
【請求項１９】
８のｐＨを有する流体組成物に直接接触する場合の前記不活性化層又はｐＨ保護皮膜の前記浸食速度が、前記同じ流体組成物に前記同じ条件下で直接接触する場合の前記バリア皮膜又は層の前記浸食速度の２０％未満、あるいは１５％未満、あるいは１０％未満、あるいは７％未満、あるいは５％乃至２０％、あるいは５％乃至１５％、あるいは５％乃至１０％、あるいは５％乃至７％である、請求項１又は３乃至１８のいずれか一項に記載の発明。
【請求項２０】
前記不活性化層又はｐＨ保護皮膜が前記バリア皮膜又は層と少なくとも同一領域を占める、請求項１又は３乃至１９のいずれか一項に記載の発明。
【請求項２１】
前記発明の組立後、少なくとも１年、あるいは少なくとも２年、あるいは少なくとも３年、あるいは少なくとも４年、あるいは少なくとも５年、あるいは少なくとも６年、あるいは少なくとも７年、あるいは少なくとも８年、あるいは少なくとも９年の最低保管寿命を有する、請求項１、２又は４乃至２０のいずれか一項に記載の発明。
【請求項２２】
１０年以下の保管寿命を有する、請求項２１に記載の発明。
【請求項２３】
前記保管寿命が３℃、あるいは４℃、あるいは２０℃、あるいは２３℃、あるいは４０℃において決定される、請求項２１又は２２に記載の発明。
【請求項２４】
前記保管寿命の終了時、前記流体組成物のｐＨが５乃至６、あるいは６乃至７、あるいは７乃至８、あるいは８乃至９、前記不活性化層又はｐＨ保護皮膜の厚さが少なくとも８０ｎｍ、あるいは少なくとも１５０ｎｍである、請求項２１乃至２３のいずれか一項に記載の発明。
【請求項２５】
前記流体組成物が、前記流体組成物との４４時間の接触毎、あるいは８８時間の接触毎、あるいは３５０時間の接触毎に、不活性化層又はｐＨ保護皮膜厚さの１ｎｍ以下の割合で前記不活性化層又はｐＨ保護皮膜を除去する、請求項１乃至２４のいずれか一項に記載の発明。
【請求項２６】
前記不活性化層又はｐＨ保護皮膜が、前記非被覆内部表面よりも低い摩擦抵抗を提供するのに効果的である、請求項１乃至２５のいずれか一項に記載の発明。
【請求項２７】
前記摩擦抵抗が、前記非被覆内部表面と比較して、少なくとも２５％、あるいは最低４５％、あるいは少なくとも６０％減少する、請求項２６に記載の発明。
【請求項２８】
前記不活性化層又はｐＨ保護皮膜が、前記発明の組立後、あるいは前記発明の組立の少なくとも２年後、前記流体組成物と接触する前記壁の部分と、相対的に摺動する部分との間における前記摩擦抵抗を低減するのに効果的である、請求項１乃至２７のいずれか一項に記載の発明。
【請求項２９】
シリンジである、請求項２８に記載の発明。
【請求項３０】
前記シリンジが、シリンジバレルと、プランジャチップ、ピストン、ストッパ又はシールと、を含み、前記壁が前記シリンジバレルの少なくとも一部を画定する、請求項２９に記載の発明。
【請求項３１】
前記相対的に摺動する部分が、前記プランジャチップ、ピストン、ストッパ又はシールを含む、請求項３０に記載の発明。
【請求項３２】
・前記不活性化層又はｐＨ保護皮膜と前記内腔との間に塗布された滑性皮膜と、
・任意選択的に、前記不活性化層又はｐＨ保護皮膜の前記内部表面の近傍に塗布された更なる皮膜であって、前記更なる皮膜が、前記熱可塑性プラスチック壁の前記内部表面に面した外部表面と、前記内腔に面した内部表面とを有する、更なる皮膜と、
・前記不活性化層又はｐＨ保護皮膜と接触している流体と、
を更に含む、請求項１乃至３１のいずれか一項に記載の発明。
【請求項３３】
・約１０００乃至１０４０ｃｍ−１におけるＳｉ−Ｏ−Ｓｉ対称伸縮ピークの最大振幅と、
・約１０６０乃至約１１００ｃｍ-1におけるＳｉ−Ｏ−Ｓｉ非対称伸縮ピークの最大振幅と、
の間における、前記不活性化層又はｐＨ保護皮膜のＦＴＩＲ吸光度スペクトルが、０．７５超、あるいは少なくとも０．８、あるいは少なくとも０．９、あるいは少なくとも１、あるいは少なくとも１．１、あるいは少なくとも１．２の比率を有する、請求項１乃至３２のいずれか一項に記載の発明。
【請求項３４】
前記不活性化層又はｐＨ保護皮膜の前記ＦＴＩＲ吸光度スペクトルが、最大で１．７、あるいは最大で１．６、あるいは最大で１．５、あるいは最大で１．４、あるいは最大で１．３の比率を有する、請求項３３に記載の発明。
【請求項３５】
前記不活性化層又はｐＨ保護皮膜が非油性の外観を有する、請求項１乃至３４のいずれか一項に記載の発明。
【請求項３６】
注射用水で希釈し、濃縮硝酸でｐＨ８に調整し、０．２ｗｔ．％ポリソルベート８０界面活性剤を含有する５０ｍＭリン酸カリウム緩衝液による、前記容器からのケイ素溶解速度が、１７０ｐｐｂ／日未満、あるいは１６０ｐｐｂ／日未満、あるいは１４０ｐｐｂ／日未満、あるいは１２０ｐｐｂ／日未満、あるいは１００ｐｐｂ／日未満、あるいは９０ｐｐｂ／日未満、あるいは８０ｐｐｂ／日未満である、請求項１乃至３５のいずれか一項に記載の発明。
【請求項３７】
前記容器から、４０℃の０．１Ｎ水酸化カリウム水溶液に溶解する場合の、前記不活性化層又はｐＨ保護皮膜及びバリア皮膜又は層の総ケイ素含有量が、６６ｐｐｍ未満、あるいは６０ｐｐｍ未満、あるいは５０ｐｐｍよりも、あるいは４０ｐｐｍ未満、あるいは３０ｐｐｍ未満、あるいは２０ｐｐｍ未満である、請求項１又は３乃至３６のいずれか一項に記載の発明。
【請求項３８】
前記計算保管寿命（総Ｓｉ／Ｓｉ溶解速度）が、１年超、あるいは１８か月超、あるいは２年超、あるいは２年半超、あるいは３年超である、請求項１、２又は４乃至３７のいずれか一項に記載の発明。
【請求項３９】
前記計算保管寿命（総Ｓｉ／Ｓｉ溶解速度）が、４年未満、あるいは５年未満である、請求項１、２又は４乃至３８のいずれか一項に記載の発明。
【請求項４０】
前記不活性化層又はｐＨ保護皮膜が、ＰＥＣＶＤ反応室内において、重合ガスの質量の２２，０００ｋＪ／ｋｇ超、あるいは３０，０００ｋＪ／ｋｇ超、あるいは４０，０００ｋＪ／ｋｇ超、あるいは５０，０００ｋＪ／ｋｇ超、あるいは６０，０００ｋＪ／ｋｇ超、あるいは７０，０００ｋＪ／ｋｇ超、あるいは８０，０００ｋＪ／ｋｇ超あたりの電力レベルでＰＥＣＶＤによって塗布される、請求項１乃至３９のいずれか一項に記載の発明。
【請求項４１】
前記不活性化層又はｐＨ保護皮膜が、前記ＰＥＣＶＤ反応室内において、重合ガスの質量の１００，０００ｋＪ／ｋｇ未満、あるいは９０，０００ｋＪ／ｋｇ未満あたりの電力レベルでＰＥＣＶＤによって塗布される、請求項１乃至４０のいずれか一項に記載の発明。
【請求項４２】
前記不活性化層又はｐＨ保護皮膜が、０．１乃至５００Ｗ、あるいは０．１乃至４００Ｗ、あるいは１乃至２５０Ｗ、あるいは１乃至２００Ｗ、あるいは１０乃至１５０Ｗ、あるいは２０乃至１５０Ｗ、あるいは４０乃至１５０Ｗ、あるいは６０乃至１５０Ｗの電力レベルでＰＥＣＶＤによって塗布される、請求項１乃至４１のいずれか一項に記載の発明。
【請求項４３】
電極電力とプラズマ量の比率が、１Ｗ／ｍｌ乃至１００Ｗ／ｍｌ、あるいは５Ｗ／ｍｌ乃至７５Ｗ／ｍｌ、あるいは６Ｗ／ｍｌ乃至６０Ｗ／ｍｌ、あるいは１０Ｗ／ｍｌ乃至５０Ｗ／ｍｌ、あるいは２０Ｗ／ｍｌ乃至４０Ｗ／ｍｌである、請求項１乃至４２のいずれか一項に記載の発明。
【請求項４４】
前記不活性化層又はｐＨ保護皮膜が、約２乃至約９、あるいは約６乃至約８、あるいは約４乃至約６、あるいは約４．６乃至約５．８の（ＡＦＭによって測定された）ＲＭＳ表面粗さ値を有する、請求項１乃至４３のいずれか一項に記載の発明。
【請求項４５】
前記不活性化層又はｐＨ保護皮膜が、ＡＦＭによって測定された、約７０乃至約１６０、あるいは約８４乃至約１４２、あるいは約９０乃至約１３０の、前記不活性化層又はｐＨ保護皮膜のＲmax表面粗さ値を有する、請求項１乃至４４のいずれか一項に記載の発明。
【請求項４６】
内部壁が不活性化層又はｐＨ保護皮膜で被覆されたシリンジバレルを含み、前記バレル内における摺動のために配置されたプランジャチップ、ピストン、ストッパ又はシールと、前記プランジャチップ、ピストン、ストッパ又はシールの少なくとも一部の上にある滑性皮膜又は層と、を更に含む、請求項１乃至４５のいずれか一項に記載の発明。
【請求項４７】
前記滑性皮膜又は層が、前記非被覆基板よりも低い、プランジャチップ、ピストン、ストッパ又はシールの摺動力又はブレイクアウト力を提供するように構成されている、請求項４６に記載の発明。
【請求項４８】
前記滑性皮膜又は層が、Ｘ線光電子分光器（ＸＰＳ）によって測定された、原子比率、ＳｉwＯxＣy（又はその均等のＳｉＯxＣy）又はＳｉwＮxＣy（又はその均等のＳｉＮxＣy）（式中ｗが１、この式のｘが約０．５乃至２．４、及びｙが約０．６乃至約３である）の１つを有する、請求項４６又は４７に記載の発明。
【請求項４９】
前記滑性皮膜又は層前記滑性層が、透過電子顕微鏡法（ＴＥＭ）による、１０乃至５００ｎｍの厚さを有する、請求項４６乃至４８のいずれか一項に記載の発明。
【請求項５０】
前記滑性皮膜又は層前記滑性層が、プラズマ化学気相成長（ＰＥＣＶＤ）によって堆積される、請求項４６乃至４９のいずれか一項に記載の発明。
【請求項５１】
前記滑性皮膜又は層が、直鎖シロキサン、単環シロキサン、任意選択的に、オクタメチルシクロテトラシロキサン（ＯＭＣＴＳ）、多環シロキサン、ポリシルセスキオキサン、直鎖シラザン、単環シラザン、多環シラザン、ポリシルセスキアザン、シラトラン、シルクアシラトラン、シルプロアトラン、アザシラトラン、アザシルクアシアトラン、アザシルプロアトラン、又はこれら前駆体のいずれか２つ以上の複合体から選択される前駆体から皮膜を形成するのに効果的な条件下で堆積される、請求項４６乃至５０のいずれか一項に記載の発明。
【請求項５２】
前記不動態化皮膜又はｐＨ防護層が、減衰全反射（ＡＴＲ）によって測定され、
【数１】
2014533177.tif 000035
のように測定された、０．４未満、あるいは０．１乃至０．３９、あるいは０．１５乃至０．３７、あるいは０．１７乃至０．３５のＯパラメータを示す、請求項１乃至５１のいずれか一項に記載の発明。
【請求項５３】
前記不動態化皮膜又はｐＨ防護層が、減衰全反射（ＡＴＲ）によって測定され、
【数２】
2014533177.tif 000036
のように測定された、０．７未満、あるいは０．４乃至０．６、あるいは少なくとも０．３のＮパラメータを示す、請求項１乃至５２のいずれか一項に記載の発明。
【請求項５４】
前記不動態化皮膜又はｐＨ防護層が少なくとも０．３のＮパラメータを示す、請求項５３に記載の発明。
【請求項５５】
・基板と、
・前記基板上のバリア皮膜又は層と、
・前記バリア皮膜又は層上の不活性化層又はｐＨ保護皮膜であって、前記不活性化層又はｐＨ保護皮膜が、
○約１０００乃至１０４０ｃｍ-1におけるＦＴＩＲスペクトルのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ対称伸縮ピークの最大振幅と、
○約１０６０乃至約１１００ｃｍ-1におけるＦＴＩＲスペクトルのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ非対称伸縮ピークの最大振幅との間において、
０．７５を超えるＦＴＩＲ吸光度比を示す、前記バリア皮膜又は層上の不活性化層又はｐＨ保護皮膜と、
を含む、複合材料。
【請求項５６】
約１０００乃至１０４０ｃｍ-1におけるＦＴＩＲスペクトルの前記Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ対称伸縮ピークの前記最大振幅が０．５乃至１．５であり、約１０６０乃至約１１００ｃｍ-1における前記ＦＴＩＲスペクトルの前記Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ非対称伸縮ピークの前記最大振幅が０．９乃至２である、請求項５５に記載の発明。
【請求項５７】
約１０００乃至１０４０ｃｍ-1におけるＦＴＩＲスペクトルの前記Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ対称伸縮ピークの前記最大振幅が０．７乃至１．３、約１０６０乃至約１１００ｃｍ-1における前記ＦＴＩＲスペクトルの前記Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ非対称伸縮ピークの前記最大振幅が０．９乃至２である、請求項５５又は５６に記載の発明。
【請求項５８】
約１０００乃至１０４０ｃｍ−１におけるＦＴＩＲスペクトルの前記Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ対称伸縮ピークの前記最大振幅が０．８乃至１．２、約１０６０乃至約１１００ｃｍ-1における前記ＦＴＩＲスペクトルの前記Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ非対称伸縮ピークの前記最大振幅が０．９乃至１．５である、請求項５５乃至５７のいずれか一項に記載の発明。
【請求項５９】
約１０００乃至１０４０ｃｍ-1におけるＦＴＩＲスペクトルの前記Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ対称伸縮ピークの前記最大振幅が０．９乃至１．２、約１０６０乃至約１１００ｃｍ-1における前記ＦＴＩＲスペクトルの前記Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ非対称伸縮ピークの前記最大振幅が０．９乃至１．４である、請求項５５乃至５８のいずれか一項に記載の発明。
【請求項６０】
約１０００乃至１０４０ｃｍ-1におけるＦＴＩＲスペクトルの前記Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ対称伸縮ピークの前記最大振幅が０．９２乃至１．０７、約１０６０乃至約１１００ｃｍ-1における前記ＦＴＩＲスペクトルの前記Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ非対称伸縮ピークの前記最大振幅が１．１６乃至１．３３である、請求項５５乃至５９のいずれか一項に記載の発明。
【請求項６１】
原子間力顕微鏡法によって測定された前記不活性化層又はｐＨ保護皮膜の前記ＲＭＳ表面粗さ値が、約２乃至約９、任意選択的に、約６乃至約８、任意選択的に、約６．４乃至約７．８である、請求項１乃至６０のいずれか一項に記載の発明。
【請求項６２】
原子間力顕微鏡法によって測定された前記不活性化層又はｐＨ保護皮膜のＲa表面粗さ値が、約４乃至約６、任意選択的に、約４．６乃至約５．８である、請求項１乃至６１のいずれか一項に記載の発明。
【請求項６３】
原子間力顕微鏡法によって測定された前記不活性化層又はｐＨ保護皮膜の前記Ｒmax表面粗さ値が、約７０乃至約１６０、任意選択的に、約８４乃至約１４２、任意選択的に、約９０乃至約１３０である、請求項１乃至６２のいずれか一項に記載の発明。
【請求項６４】
前記流体組成物が、
吸入麻酔薬
アリフルラン
クロロホルム
シクロプロパン
デスフルラン（Ｓｕｐｒａｎｅ）
ジエチルエーテル
エンフルラン（Ｅｔｈｒａｎｅ）
塩化エチル
エチレン
ハロタン（Ｆｌｕｏｔｈａｎｅ）
イソフルラン（Ｆｏｒａｎｅ、Ｉｓｏｆｌｏ）
イソプロペニルビニルエーテル
メトキシフルラン
メトキシフルラン
メトキシプロパン
亜酸化窒素
ロフルラン
セボフルラン（Ｓｅｖｏｒａｎｅ、Ｕｌｔａｎｅ、Ｓｅｖｏｆｌｏ）
テフルラン
トリクロロエチレン
ビニルエーテル
キセノン
注射剤
Ａｂｌａｖａｒ（ガドホスベセット三ナトリウム注射薬）
アバレリックスデポ
アボボツリナムトキシンＡ注射薬（Ｄｙｓｐｏｒｔ）
ＡＢＴ−２６３
ＡＢＴ−８６９
ＡＢＸ−ＥＦＧ
Ａｃｃｒｅｔｒｏｐｉｎ（ソマトロピン注射薬）
Ａｃｅｔａｄｏｔｅ（アセチルシステイン注射薬）
アセタゾラミド注射薬（アセタゾラミド注射薬）
アセチルシステイン注射薬（Ａｃｅｔａｄｏｔｅ）
アクテムラ（トシリズマブ注射薬）
Ａｃｔｈｒｅｌ（注射用コルチコレリンオーバイントリフルテート）
Ａｃｔｕｍｍｕｎｅ
アクチバーゼ
注射用アシクロビル（ゾビラックス注射薬）
Ａｄａｃｅｌ
アダリムマブ
アデノスキャン（アデノシン注射薬）
アデノシン注射薬（アデノスキャン）
Ａｄｒｅｎａｃｌｉｃｋ
ＡｄｒｅＶｉｅｗ（ヨーベングアンＩ１２３静脈内使用用注射薬）
Ａｆｌｕｒｉａ
Ａｋ−Ｆｌｕｏｒ（フルオレセイン注射薬）
アウドラザイム（ラロニダーゼ）
アルグルセラーゼ注射薬（セレデース）
アルケラン注射薬（メルファランＨｃｌ注射薬）
注射用アロプリノールナトリウム（Ａｌｏｐｒｉｍ）
Ａｌｏｐｒｉｍ（注射用アロプリノールナトリウム）
アルプロスタジル
Ａｌｓｕｍａ（スマトリプタン注射薬）
ＡＬＴＵ−２３８
アミノ酸注射薬
Ａｍｉｎｏｓｙｎ
アピドラ
アプレミラスト
注射用アルプロスタジルデュアルチャンバシステム（Ｃａｖｅｒｊｅｃｔ  Ｉｍｐｕｌｓｅ）
ＡＭＧ００９
ＡＭＧ０７６
ＡＭＧ１０２
ＡＭＧ１０８
ＡＭＧ１１４
ＡＭＧ１６２
ＡＭＧ２２０
ＡＭＧ２２１
ＡＭＧ２２２
ＡＭＧ２２３
ＡＭＧ３１７
ＡＭＧ３７９
ＡＭＧ３８６
ＡＭＧ４０３
ＡＭＧ４７７
ＡＭＧ４７９
ＡＭＧ５１７
ＡＭＧ５３１
ＡＭＧ５５７
ＡＭＧ６２３
ＡＭＧ６５５
ＡＭＧ７０６
ＡＭＧ７１４
ＡＭＧ７４５
ＡＭＧ７８５
ＡＭＧ８１１
ＡＭＧ８２７
ＡＭＧ８３７
ＡＭＧ８５３
ＡＭＧ９５１
アミオダロンＨＣｌ注射薬（アミオダロンＨＣｌ注射薬）
アモバルビタールナトリウム注射薬（アミタールナトリウム）
アミタールナトリウム（アモバルビタールナトリウム注射薬）
アナキンラ
Ａｎｔｉ−Ａｂｅｔａ
Ａｎｔｉ−Ｂｅｔａ７
Ａｎｔｉ−Ｂｅｔａ２０
Ａｎｔｉ−ＣＤ４
Ａｎｔｉ−ＣＤ２０
Ａｎｔｉ−ＣＤ４０
Ａｎｔｉ−ＩＦＮａｌｐｈａ
Ａｎｔｉ−ＩＬ１３
Ａｎｔｉ−ＯＸ４０Ｌ
Ａｎｔｉ−ｏｘＬＤＳ
Ａｎｔｉ−ＮＲＰ１
Ａｎｔｉ−ＮＲＰ１
アリクストラ
Ａｍｐｈａｄａｓｅ（ヒアルロニダーゼ注射薬）
Ａｍｍｏｎｕｌ（フェニル酢酸ナトリウム及び安息香酸ナトリウム注射薬）
Ａｎａｐｒｏｘ
アンゼメット注射薬（メシル酸ドラセトロン注射薬）
アピドラ（インスリングルリシン［ｒＤＮＡ由来］注射薬）
Ａｐｏｍａｂ
Ａｒａｎｅｓｐ（ダルベポエチンアルファ）
アルガトロバン（アルガトロバン注射薬）
塩酸アルギニン注射薬（Ｒ−Ｇｅｎｅ１０）
アリストコート
アリストスパン
三酸化ヒ素注射薬（トリセノックス）
アルチケーンＨＣＩ及びエピネフリン注射薬（Ｓｅｐｔｏｃａｉｎｅ）
アーゼラ（オファツムマブ注射薬）
Ａｓｃｌｅｒａ（ポリドカノール注射薬）
アタルレン
アタルレン−ＤＭＤ
アテノロール注射薬（テノーミンＩ．Ｖ．注射薬）
ベシル酸アトラクリウム注射薬（ベシル酸アトラクリウム注射薬）
アバスチン
アザクタム注射薬（アズトレオナム注射薬）
アジスロマイシン（ジスロマック注射薬）
アズトレオナム注射薬（アザクタム注射薬）
バクロフェン注射薬（リオレサール髄注）
静菌水（注射用静菌水）
バクロフェン注射薬（リオレサール髄注）
Ｂａｌ  ｉｎ  Ｏｉｌ  Ａｍｐｕｌｅｓ（ジメルカープロール注射薬）
ＢａｙＨｅｐＢ
ＢａｙＴｅｔ
ベナドリル
塩酸ベンダムスチン注射薬（トレアンダ）
メシル酸ベンズトロピン注射薬（コゲンチン）
ベタメタゾン懸濁注射液（Ｃｅｌｅｓｔｏｎｅ  Ｓｏｌｕｓｐａｎ）
ベキサール
バイシリンＣ−Ｒ９００／３００（ペニシリンＧベンザチン及びペニシリンＧプロカイン注射薬）
ブレノキサン（ブレオマイシン硫酸塩注射薬）
ブレオマイシン硫酸塩注射薬（ブレノキサン）
ボニバ注射薬（イバンドロネートナトリウム注射薬）
ボトックスコスメティック（注射用ボツリヌストキシンＡ）
ＢＲ３−ＦＣ
Ｂｒａｖｅｌｌｅ（ウロホリトロピン注射薬）
ブレチリウム（ブレチリウムトシラート注射薬）
ブレビタールナトリウム（メトヘキシタールナトリウム注射用）
Ｂｒｅｔｈｉｎｅ
Ｂｒｉｏｂａｃｅｐｔ
ＢＴＴ−１０２３
ブピバカインＨＣＩ
バイエッタ
Ｃａ−ジエチレントリアミン五酢酸（ペンテト酸カルシウム三ナトリウム注射薬）
カバジタキセル注射薬（ジェブタナ）
カフェインアルカロイド（カフェイン及び安息香酸ナトリウム注射薬）
カルシジェックス注射薬（カルシトリオール）
カルシトリオール（カルシジェックス注射薬）
塩化カルシウム（塩化カルシウム注射薬１０％）
カルシウムジナトリウムベルセネート（エデト酸カルシウム二ナトリウム注射薬）
キャンパス（アルテムツズマブ）
Ｃａｍｐｔｏｓａｒ注射薬（イリノテカン塩酸）
カナキヌマブ注射薬（イラリス）
カパスタット硫酸塩（注射用カプレオマイシン）
注射用カプレオマイシン（カパスタット硫酸塩）
カーディオライト（注射用テクネチウムＴｃ９９セスタミビ用調製キット）
カーティセル
Ｃａｔｈｆｌｏ
注射用セファゾリン及びブドウ糖（セファゾリン注射薬）
セフェピム塩酸塩
セフォタキシム
セフトリアキソン
セレザイム
Ｃａｒｎｉｔｏｒ注射薬
Ｃａｖｅｒｊｅｃｔ
Ｃｅｌｅｓｔｏｎｅ  Ｓｏｌｕｓｐａｎ
Ｃｅｌｓｉｏｒ
Ｃｅｒｅｂｙｘ（ホスフェニトインナトリウム注射薬）
セレデース（アルグルセラーゼ注射薬）
Ｃｅｒｅｔｅｃ（テクネチウムＴｃ９９ｍエキサメタジム注射薬）
セルトリズマブ
ＣＦ−１０１
クロラムフェニコールコハク酸ナトリウム（クロラムフェニコールコハク酸ナトリウム注射薬）
クロラムフェニコールコハク酸ナトリウム注射薬（クロラムフェニコールコハク酸ナトリウム）
コレスタゲル（コレセベラムＨＣＬ）
絨毛性ゴナドトロピンアルファ注射薬（Ｏｖｉｄｒｅｌ）
シムジア
シスプラチン（シスプラチン注射薬）
クロラール（クロファラビン注射薬）
クエン酸クロミフィン
クロニジン注射薬（Ｄｕｒａｃｌｏｎ）
コゲンチン（メシル酸ベンズトロピン注射薬）
コリスチメタート注射薬（Ｃｏｌｙ−Ｍｙｃｉｎ  Ｍ）
Ｃｏｌｙ−Ｍｙｃｉｎ  Ｍ（コリスチメタート注射薬）
Ｃｏｍｐａｔｈ
コニバプタンＨｃｌ注射薬（バプリゾール）
注射用結合型エストロゲン（プレマリン注射薬）
コパキソン
注射用コルチコレリンオーバイントリフルテート（Ａｃｔｈｒｅｌ）
コルベルト（フマル酸イブチリド注射薬）
キュビシン（ダプトマイシン注射薬）
ＣＦ−１０１
Ｃｙａｎｏｋｉｔ（注射用ヒドロキソコバラミン）
シタラビンリポソーム注射薬（デポサイト）
シアノコバラミン
サイトベン（ガンシクロビル）
Ｄ．Ｈ．Ｅ．４５
ダセツズマブ
ダコゲン（デシタビン注射薬）
ダルテパリン
ダントリウムＩＶ（注射用ダントロレンナトリウム）
注射用ダントロレンナトリウム（ダントリウムＩＶ）
ダプトマイシン注射薬（キュビシン）
ダルベポエチンアルファ
ＤＤＡＶＰ注射薬（デスモプレシン酢酸塩注射薬）
Ｄｅｃａｖａｘ
デシタビン注射薬（ダコゲン）
無水アルコール（無水アルコール注射薬）
デノスマブ注射薬（プロリア）
デラテストリル
デルエストロゲン
デルテパリンナトリウム
Ｄｅｐａｃｏｎ（バルプロ酸ナトリウム注射薬）
デポメロドール（酢酸メチルプレドニゾロン懸濁注射液）
デポサイト（シタラビンリポソーム注射薬）
デポデュール（モルヒネ硫酸塩ＸＲリポソーム注射薬）
デスモプレシン酢酸塩注射薬（ＤＤＡＶＰ注射薬）
デポエストラジオール
デポプロベラ１０４ｍｇ／ｍｌ
デポプロベラ１５０ｍｇ／ｍｌ
デポテストステロン
注射用デキスラゾキサン、静注のみ（Ｔｏｔｅｃｔ）
ブドウ糖／電解質
ブドウ糖及び塩化ナトリウム注射薬（０．９％塩化ナトリウム中ブドウ糖５％）
ブドウ糖
ジアゼパム注射薬（ジアゼパム注射薬）
ジゴキシン注射薬（ラノキシン注射薬）
ジラウジッド−ＨＰ（ヒドロモルホン塩酸注射薬）
ジメルカープロール注射薬（Ｂａｌ  ｉｎ  Ｏｉｌ  Ａｍｐｕｌｅｓ）
ジフェンヒドラミン注射薬（ベナドリル注射薬）
ジピリダモール注射薬（ジピリダモール注射薬）
ＤＭＯＡＤ
ドセタクセル注射用（タキソテール）
メシル酸ドラセトロン注射薬（アンゼメット注射薬）
ドリバックス（ドリペネム注射用）
ドリペネム注射用（ドリバックス）
ドキセルカルシフェロール注射薬（Ｈｅｃｔｏｒｏｌ注射薬）
ドキシル（ドキソルビシンＨｃｌリポソーム注射薬）
ドキソルビシンＨｃｌリポソーム注射薬（ドキシル）
Ｄｕｒａｃｌｏｎ（クロニジン注射薬）
Ｄｕｒａｍｏｒｐｈ（モルヒネ注射薬）
Ｄｙｓｐｏｒｔ（アボボツリナムトキシンＡ注射薬）
エカランチド注射薬（Ｋａｌｂｉｔｏｒ）
ＥＣ−ナプロシン（ナプロキセン）
エデト酸カルシウム二ナトリウム注射薬（カルシウムジナトリウムベルセネート）
Ｅｄｅｘ（注射用アルプロスタジル）
Ｅｎｇｅｒｉｘ
エドロホニウム注射薬（Ｅｎｌｏｎ）
エリグルスタットターテート
エロキサチン（オキサリプラチン注射薬）
イメンド注射薬（フォサプレピタントジメグルミン注射薬）
エナラプリラート注射薬（エナラプリラート注射薬）
Ｅｎｌｏｎ（エドロホニウム注射薬）
エノキサパリンナトリウム注射薬（ラブノックス）
エオビスト（ガドキセト酸二ナトリウム注射薬）
エンブレル（エタネルセプト）
エノキサパリン
Ｅｐｉｃｅｌ
エピネフェリン
エピペン
エピペンＪｒ．
エピラツズマブ
アービタックス
エルタペネム注射薬（Ｉｎｖａｎｚ）
エリスロポエテン
必須アミノ酸注射薬（Ｎｅｐｈｒａｍｉｎｅ）
エストラジオールシピオネート
吉草酸エストラジオール
エタネルセプト
エキセナチド注射薬（バイエッタ）
エブロトラ（Ｅｖｌｏｔｒａ）
ファブラザイム（アダルシダーゼベータ）
ファモチジン注射薬
ＦＤＧ（フルデオキシグルコースＦ１８注射薬）
フェラヘム（フェルモキシトール注射薬）
フェリデックスＩ．Ｖ．（フェルモキシデス注射可能溶液）
Ｆｅｒｔｉｎｅｘ
フェルモキシデス注射可能溶液（フェリデックスＩ．Ｖ．）
フェルモキシトール注射薬（フェラヘム）
フラジール注射薬（メトロニダゾール注射薬）
Ｆｌｕａｒｉｘ
フルダラ（リン酸フルダラビン）
フルデオキシグルコースＦ１８注射薬（ＦＤＧ）
フルオレセイン注射薬（Ａｋ−Ｆｌｕｏｒ）
フォリスチムＡＱカートリッジ（フォリトロピンベータ注射薬）
フォリトロピンアルファ注射薬（ゴナールエフＲＦＦ）
フォリトロピンベータ注射薬（フォリスチムＡＱカートリッジ）
フォロチン（プララトレキサート溶液静注用）
フォンダパリヌクス
フォルテオ（テリパラチド（ｒＤＮＡ由来）注射薬）
Ｆｏｓｔａｍａｔｉｎｉｂ
フォサプレピタントジメグルミン注射薬（イメンド注射薬）
ホスフェニトインナトリウム注射薬（ホスカビル）
ホスカビル（ホスフェニトインナトリウム注射薬）
ホスフェニトインナトリウム注射薬（Ｃｅｒｅｂｙｘ）
ホスプロポフォール二ナトリウム注射薬（Ｌｕｓｅｄｒａ）
フラグミン
フゼオンン（エンフビルチド）
ＧＡ１０１
ガドベン酸メグルミン注射薬（Ｍｕｌｔｉｈａｎｃｅ）
ガドホスベセット三ナトリウム注射薬（Ａｂｌａｖａｒ）
ガドテリドール注射薬溶液（プロハンス）
カドベルセタミド注射薬（ＯｐｔｉＭＡＲＫ）
ガドキセト酸二ナトリウム注射薬（エオビスト）
ガニレリクス（ガニレリクス酢酸塩注射薬）
ガーダシル
ＧＣ１００８
ＧＤＦＤ
注射用ゲムツズマブオゾガマイシン（マイロターグ）
ジェノトロピン
ゲンタマイシン注射薬
ＧＥＮＺ−１１２６３８
ゴリムマブ注射薬（シンポニー注射薬）
ゴナールエフＲＦＦ（フォリトロピンアルファ注射薬）
グラニセトロン塩酸塩（カイトリル注射薬）
ゲンタマイシン硫酸塩
グラチラマー酢酸塩
Ｇｌｕｃａｇｅｎ
グルカゴン
ＨＡＥ１
Ｈａｌｄｏｌ（ハロペリドール注射薬）
Ｈａｖｒｉｘ
Ｈｅｃｔｏｒｏｌ注射薬（ドキセルカルシフェロール注射薬）
ヘッジホッグ経路阻害薬
へパリン
ハーセプチン
ｈＧ−ＣＳＦ
ヒューマログ
ヒト成長ホルモン
ヒューマトロープ
ＨｕＭａｘ
ヒュメゴン
ヒュミラ
ヒューマリン
イバンドロネートナトリウム注射薬（ボニバ注射薬）
イブプロフェンリシン注射薬（ＮｅｏＰｒｏｆｅｎ）
フマル酸イブチリド注射薬（コルベルト）
イダマイシンＰＦＳ（イダルビシン塩酸注射薬）
イダルビシン塩酸注射薬（イダマイシンＰＦＳ）
イラリス（カナキヌマブ注射薬）
注射用イミペネム及びシラスタチン（プリマキシンＩ．Ｖ．）
イミトレックス
インコボツリナムトキシンＡ注射用（Ｘｅｏｍｉｎ）
Ｉｎｃｒｅｌｅｘ（メカセルミン［ｒＤＮＡ由来］注射薬）
インダシンＩＶ（インドメタシン注射薬）
インドメタシン注射薬（インダシンＩＶ）
Ｉｎｆａｎｒｉｘ
イノヘップ
インスリン
インスリンアスパルト［ｒＤＮＡ由来］注射薬（ＮｏｖｏＬｏｇ）
インスリングラルギン［ｒＤＮＡ由来］注射薬（ランタス）
インスリングルリシン［ｒＤＮＡ由来］注射薬（アピドラ）
インターフェロンアルファ−２ｂ、遺伝子組換え注射用（イントロンＡ）
イントロンＡ（インターフェロンアルファ−２ｂ、遺伝子組換え注射用）
Ｉｎｖａｎｚ（エルタペネム注射薬）
Ｉｎｖｅｇａ  Ｓｕｓｔｅｎｎａ（パリペリドンパルミチン酸エステル持効性懸濁注射液）
インビラーゼ（サキナビルメシル酸塩）
ヨーベングアンＩ１２３静脈内使用用注射薬（ＡｄｒｅＶｉｅｗ）
イオプロミド注射薬（Ｕｌｔｒａｖｉｓｔ）
イオベルソール注射薬（オプチレイ注射薬）
Ｉｐｌｅｘ（メカセルミンリンファバート［ｒＤＮＡ由来］注射薬）
Ｉｐｒｉｖａｓｋ
イリノテカン塩酸（Ｃａｍｐｔｏｓａｒ注射薬）
含糖酸化鉄注射薬（ヴェノファー）
Ｉｓｔｏｄａｘ（ロミデプシン注射用）
イトラコナゾール注射薬（スポラノックス注射薬）
ジェブタナ（カバジタキセル注射薬）
Ｊｏｎｅｘａ
Ｋａｌｂｉｔｏｒ（エカランチド注射薬）
ＫＣＬ  ｉｎ  Ｄ５ＮＳ（５％ブドウ糖及び塩化ナトリウム中塩化カリウム注射薬）
ＫＣＬ  ｉｎ  Ｄ５Ｗ
ＫＣＬ  ｉｎ  ＮＳ
ケナログ１０注射薬（トリアムシノロンアセトニド懸濁注射液）
ケピバンス（パリフェルミン）
ケプラ注射薬（レベチラセタム）
ケラチノサイト
ＫＦＧ
キナーゼ阻害薬
Ｋｉｎｅｒｅｔ（アナキンラ）
Ｋｉｎｌｙｔｉｃ（ウロキナーゼ注射薬）
Ｋｉｎｒｉｘ
クロノピン（クロナゼパム）
カイトリル注射薬（グラニセトロン塩酸塩）
ラコサミド錠及び注射薬（ビンパット）
乳酸リンゲル液
ラノキシン注射薬（ジゴキシン注射薬）
ランソプラゾール注射用（プレバシドＩ．Ｖ．）
ランタス
ロイコボリンカルシウム（ロイコボリンカルシウム注射薬）
レンテ（Ｌ）
レプチン
レベミル
リューカインサルグラモスチム
ロイプロリド酢酸塩
レボチロキシン
レベチラセタム（ケプラ注射薬）
ラブノックス
レボカルニチン注射薬（Ｃａｒｎｉｔｏｒ注射薬）
レキスキャン（レガデノソン注射薬）
リオレサール髄注（バクロフェン注射薬）
リラグルチド［ｒＤＮＡ］注射薬（ビクトーザ）
ラブノックス（エノキサパリンナトリウム注射薬）
ルセンティス（ラニビズマブ注射薬）
Ｌｕｍｉｚｙｍｅ
ルプロン（ロイプロリド酢酸塩注射薬）
Ｌｕｓｅｄｒａ（ホスプロポフォール二ナトリウム注射薬）
Ｍａｃｉ
マグネシウム硫酸塩（マグネシウム硫酸塩注射薬）
マンニトール注射薬（マンニトールＩＶ）
マーカイン（ブピバカイン塩酸及びエピネフリン注射薬）
マキシピーム（セフェピム塩酸塩注射用）
テクネチウム注射薬のＭＤＰ多用量キット（テクネチウムＴｃ９９ｍメドロナート注射薬）
メカセルミン［ｒＤＮＡ由来］注射薬（Ｉｎｃｒｅｌｅｘ）
メカセルミンリンファバート［ｒＤＮＡ由来］注射薬（Ｉｐｌｅｘ）
メルファランＨｃｌ注射薬（アルケラン注射薬）
メトトレキサート
メナクトラ
Ｍｅｎｏｐｕｒ（メノトロピンス注射薬）
メノトロピンス注射用（Ｒｅｐｒｏｎｅｘ）
メトヘキシタールナトリウム注射用（ブレビタールナトリウム）
メチルドーパート塩酸塩注射薬、溶液（メチルドーパートＨｃｌ）
メチレンブルー（メチレンブルー注射薬）
酢酸メチルプレドニゾロン懸濁注射液（デポメロドール）
ＭｅｔＭａｂ
メトクロプラミド注射薬（Ｒｅｇｌａｎ注射薬）
Ｍｅｔｒｏｄｉｎ（ウロホリトロピン注射用）
メトロニダゾール注射薬（フラジール注射薬）
Ｍｉａｃａｌｃｉｎ
ミダゾラム（ミダゾラム注射薬）
ミンパラ（シナカレト）
ミノシン注射薬（ミノサイクリン注射薬）
ミノサイクリン注射薬（ミノシン注射薬）
ミポメルセン
ミトキサントロン注射用濃縮液（ノバントロン）
モルヒネ注射薬（Ｄｕｒａｍｏｒｐｈ）
モルヒネ硫酸塩ＸＲリポソーム注射薬（デポデュール）
モルイン酸ナトリウム（モルイン酸ナトリウム注射薬）
モテサニブ
モゾビル（プレリキサフォル注射薬）
Ｍｕｌｔｉｈａｎｃｅ（ガドベン酸メグルミン注射薬）
多電解質及びブドウ糖注射薬
多電解質注射薬
マイロターグ（注射用ゲムツズマブオゾガマイシン）
マイオザイム（アルグルコシダーゼアルファ）
ナフシリン注射薬（ナフシリンナトリウム）
ナフシリンナトリウム（ナフシリン注射薬）
ナルトレキソンＸＲ注射薬（ビビトロル）
ナプロシン（ナプロキセン）
ＮｅｏＰｒｏｆｅｎ（イブプロフェンリシン注射薬）
ナンドロルデカン酸エステル
ネオスチグミンメチル硫酸塩（ネオスチグミンメチル硫酸塩注射薬）
ＮＥＯ−ＧＡＡ
ＮｅｏＴｅｃｔ（テクネチウムＴｃ９９ｍデプレオチド注射薬）
Ｎｅｐｈｒａｍｉｎｅ（必須アミノ酸注射薬）
Ｎｅｕｌａｓｔａ（ペグフィルグラスチム）
Ｎｅｕｐｏｇｅｎ（フィルグラスチム）
ノボリン
Ｎｏｖｏｌｏｇ
ＮｅｏＲｅｃｏｒｍｏｎ
Ｎｅｕｔｒｅｘｉｎ（グルコン酸トリメトレキサート注射薬）
ＮＰＨ（Ｎ）
Ｎｅｘｔｅｒｏｎｅ（アミオダロンＨＣｌ注射薬）
ノルディトロピン（ソマトロピン注射薬）
生理食塩水（塩化ナトリウム注射薬）
ノバントロン（ミトキサントロン注射用濃縮液）
ノボリン７０／３０イノレット（７０％ＮＰＨ、ヒトインスリンイソフェン懸濁液及び３０％レギュラー、ヒトインスリン注射薬）
ＮｏｖｏＬｏｇ（インスリンアスパルト［ｒＤＮＡ由来］注射薬）
Ｎｐｌａｔｅ（ロミプロスチム）
ニュートロピン（ソマトロピン（ｒＤＮＡ由来）注射用）
ニュートロピンＡＱ
ニュートロピンデポ（ソマトロピン（ｒＤＮＡ由来）注射用）
オクトレオチド酢酸塩注射薬（サンドスタチンＬＡＲ）
オクレリズマブ
オファツムマブ注射薬（アーゼラ）
徐放性オランザピン懸濁注射液（Ｚｙｐｒｅｘａ  Ｒｅｌｐｒｅｖｖ）
Ｏｍｎｉｔａｒｇ
Ｏｍｎｉｔｒｏｐｅ（ソマトロピン［ｒＤＮＡ由来］注射薬）
オンダンセトロン塩酸注射薬（ゾフラン注射薬）
ＯｐｔｉＭＡＲＫ（カドベルセタミド注射薬）
オプチレイ注射薬（イオベルソール注射薬）
オレンシア
Ｏｓｍｉｔｒｏｌ注射薬ｉｎＡｖｉｖａ（マンニトール注射薬ｉｎＡｖｉｖａプラスチック容器）
Ｏｓｍｉｔｒｏｌ注射薬ｉｎＶｉａｆｌｅｘ（マンニトール注射薬ｉｎＶｉａｆｌｅｘプラスチック容器）
オステオプロテグリン
Ｏｖｉｄｒｅｌ（絨毛性ゴナドトロピンアルファ注射薬）
オキサシリン（オキサシリン注射用）
オキサリプラチン注射薬（エロキサチン）
オキシトシン注射薬（ピトシン）
パリペリドンパルミチン酸エステル持効性懸濁注射液（Ｉｎｖｅｇａ  Ｓｕｓｔｅｎｎａ）
パミドロン酸二ナトリウム注射薬（パミドロン酸二ナトリウム注射薬）
パニツムマブ静注用（ベクティビックス）
パパベリン塩酸塩注射薬（パパベリン注射薬）
パパベリン注射薬（パパベリン塩酸塩注射薬）
副甲状腺ホルモン
パリカルシトール注射薬フリップトップ型バイアル（Ｚｅｍｐｌａｒ注射薬）
ＰＡＲＰ阻害薬
Ｐｅｄｉａｒｉｘ
ペグイントロン
ペグインターフェロン
ペグフィルグラスチム
ペニシリンＧベンザチン及びペニシリンＧプロカイン
ペンテト酸カルシウム三ナトリウム注射薬（Ｃａ−ジエチレントリアミン五酢酸）
ペンテト酸亜鉛三ナトリウム注射薬（Ｚｎ−ジエチレントリアミン五酢酸）
ペプシド注射薬（ファモチジン注射薬）
Ｐｅｒｇｏｎａｌ
ペルツズマブ
フェントラミンメシル酸塩（フェントラミンメシル酸塩注射用）
サリチル酸フィゾスチグミン（サリチル酸フィゾスチグミン（注射薬））
サリチル酸フィゾスチグミン（注射薬）（サリチル酸フィゾスチグミン）
ピペラシリン及びタゾバクタム注射薬（ゾシン）
ピトシン（オキシトシン注射薬）
Ｐｌａｓｍａ−Ｌｙｔｅ１４８（多電解質注射薬）
Ｐｌａｓｍａ−Ｌｙｔｅ５６及びブドウ糖（多電解質及びブドウ糖注射薬、Ｖｉａｆｌｅｘプラスチック容器）
ＰｌａｓｍａＬｙｔｅ
プレリキサフォル注射薬（モゾビル）
ポリドカノール注射薬（Ａｓｃｌｅｒａ）
塩化カリウム
プララトレキサート溶液静注用（フォロチン）
酢酸プラムリンタイド注射薬（Ｓｙｍｌｉｎ）
プレマリン注射薬（注射用結合型エストロゲン）
注射用テクネチウムＴｃ９９セスタミビ用調製キット（カーディオライト）
プレバシドＩ．Ｖ．（ランソプラゾール注射用）
プリマキシンＩ．Ｖ．（注射用イミペネム及びシラスタチン）
Ｐｒｏｃｈｙｍａｌ
プロクリット
黄体ホルモン
プロハンス（ガドテリドール注射薬溶液）
プロリア（デノスマブ注射薬）
プロメタジンＨＣｌ注射薬（プロメタジン塩酸注射薬）
プロプラノロール塩酸塩注射薬（プロプラノロール塩酸塩注射薬）
グルコン酸キニジン注射薬（キニジン注射薬）
キニジン注射薬（グルコン酸キニジン注射薬）
Ｒ−Ｇｅｎｅ１０（塩酸アルギニン注射薬）
ラニビズマブ注射薬（ルセンティス）
ラニチジン塩酸塩注射薬（ザンタック注射薬）
ラプティバ
リクラスト（ゾレドロン酸注射薬）
Ｒｅｃｏｍｂｉｖａｒｉｘ  ＨＢ
レガデノソン注射薬（レキスキャン）
Ｒｅｇｌａｎ注射薬（メトクロプラミド注射薬）
レミケード
レナジェル
Ｒｅｎｖｅｌａ（炭酸セベラマー）
Ｒｅｐｒｏｎｅｘ（メノトロピンス注射用）
レトロビルＩＶ（ジドブジン注射薬）
ｒｈＡｐｏ２Ｌ／ＴＲＡＩＬ
リンゲル及び５％ブドウ糖注射薬（ブドウ糖加リンガー液）
リンゲル液（リンガー液）
リツキサン
リツキシマブ
ロセフィン（セフトリアキソン）
ロクロニウム臭化物注射薬（Ｚｅｍｕｒｏｎ）
Ｒｏｆｅｒｏｎ−Ａ（インターフェロンアルファ−２ａ）
Ｒｏｍａｚｉｃｏｎ（フルマゼニル）
ロミデプシン注射用（Ｉｓｔｏｄａｘ）
サイゼン（ソマトロピン注射薬）
サンドスタチンＬＡＲ（オクトレオチド酢酸塩注射薬）
スクレロスチンＡｂ
Ｓｅｎｓｉｐａｒ（シナカルセト）
Ｓｅｎｓｏｒｃａｉｎｅ（ブピバカインＨＣＩ注射薬）
Ｓｅｐｔｏｃａｉｎｅ（アルチケーンＨＣＩ及びエピネフリン注射薬）
Ｓｅｒｏｓｔｉｍ  ＬＱ（ソマトロピン（ｒＤＮＡ由来）注射薬）
シンポニー注射薬（ゴリムマブ注射薬）
ナトリウム酢酸塩（ナトリウム酢酸塩注射薬）
炭酸水素ナトリウム（炭酸水素ナトリウム５％注射薬）
乳酸ナトリウム（乳酸ナトリウム注射薬、ＡＶＩＶＡ）
フェニル酢酸ナトリウム及び安息香酸ナトリウム注射薬（Ａｍｍｏｎｕｌ）
ソマトロピン（ｒＤＮＡ由来）注射用（ニュートロピン）
スポラノックス注射薬（イトラコナゾール注射薬）
ステラーラ注射薬（ウステキヌマブ）
Ｓｔｅｍｇｅｎ
Ｓｕｆｅｎｔａ（クエン酸スフェンタニル注射薬）
クエン酸スフェンタニル注射薬（Ｓｕｆｅｎｔａ）
Ｓｕｍａｖｅｌ
スマトリプタン注射薬（Ａｌｓｕｍａ）
Ｓｙｍｌｉｎ
Ｓｙｍｌｉｎ  Ｐｅｎ
全身用ヘッジホッグ拮抗薬
Ｓｙｎｖｉｓｃ−Ｏｎｅ（ヒランＧ−Ｆ２０単回関節内注射薬）
タルセバ
タキソテール（ドセタクセル注射用）
テクネチウムＴｃ９９ｍ
テラバンシン注射用（ヴィバティブ）
テムシロリムス注射薬（トーリセル）
テノーミンＩ．Ｖ．注射薬（アテノロール注射薬）
テリパラチド（ｒＤＮＡ由来）注射薬（フォルテオ）
テストステロンシピオネート
テストステロンエナント酸エステル
テストステロンプロピオン酸エステル
Ｔｅｖ−Ｔｒｏｐｉｎ（ソマトロピン、ｒＤＮＡ由来、注射用）
ｔｇＡＡＣ９４
塩化タリウム
テオフィリン
チオテパ（チオテパ注射薬）
サイモグロブリン（抗胸腺細胞免疫グロブリン（ウサギ）
タイロゲン（チロトロピンアルファ注射用）
チカルシリンナトリウム及びクラブラン酸カリウムギャラクシー（チメンチン注射薬）
Ｔｉｇａｎ注射薬（塩酸トリメトベンズアミド注射可能物質）
チメンチン注射薬（チカルシリンナトリウム及びクラブラン酸カリウムギャラクシー）
ＴＮＫａｓｅ
トブラマイシン注射薬（トブラマイシン注射薬）
トシリズマブ注射薬（アクテムラ）
トーリセル（テムシロリムス注射薬）
Ｔｏｔｅｃｔ（注射用デキスラゾキサン、静注のみ）
トラスツズマブ−ＤＭ１
Ｔｒａｖａｓｏｌ（アミノ酸（注射薬））
トレアンダ（塩酸ベンダムスチン注射薬）
トレルスター（トリプトレリンパモエート懸濁注射液用）
トリアムシノロンアセトニド
酢酸トリアムシノロン
トリアムシノロンヘキサアセトニド懸濁注射液（アリストスパン注射薬２０ｍｇ）
Ｔｒｉｅｓｅｎｃｅ（トリアムシノロンアセトニド懸濁注射液）
塩酸トリメトベンズアミド注射可能物質（Ｔｉｇａｎ注射薬）
グルコン酸トリメトレキサート注射薬（Ｎｅｕｔｒｅｘｉｎ）
トリプトレリンパモエート懸濁注射液用（トレルスター）
Ｔｗｉｎｊｅｃｔ
Ｔｒｉｖａｒｉｓ（トリアムシノロンアセトニド懸濁注射液）
トリセノックス（三酸化ヒ素注射薬）
Ｔｗｉｎｒｉｘ
腸チフスＶｉ
Ｕｌｔｒａｖｉｓｔ（イオプロミド注射薬）
ウロホリトロピン注射用（Ｍｅｔｒｏｄｉｎ）
ウロキナーゼ注射薬（Ｋｉｎｌｙｔｉｃ）
ウステキヌマブ（ステラーラ注射薬）
ウルトラレンテ（Ｕ）
バリウム（ジアゼパム）
バルプロ酸ナトリウム注射薬（Ｄｅｐａｃｏｎ）
Ｖａｌｔｒｏｐｉｎ（ソマトロピン注射薬）
バルプロ酸ナトリウム（バルプロ酸ナトリウム注射薬）
バルプロ酸ナトリウム注射薬（バルプロ酸ナトリウム）
バプリゾール（コニバプタンＨｃｌ注射薬）
ＶＡＱＴＡ
バソビスト（ガドホスベセット三ナトリウム静注用）
ベクティビックス（パニツムマブ静注用）
ヴェノファー（含糖酸化鉄注射薬）
ベルテポルフィン注射薬（ビスダイン）
ヴィバティブ（テラバンシン注射用）
ビクトーザ（リラグルチド［ｒＤＮＡ］注射薬）
ビンパット（ラコサミド錠及び注射薬）
ビンブラスチン硫酸塩（ビンブラスチン硫酸塩注射薬）
Ｖｉｎｃａｓａｒ  ＰＦＳ（ビンクリスチン硫酸塩注射薬）
ビクトーザ
ビンクリスチン硫酸塩（ビンクリスチン硫酸塩注射薬）
ビスダイン（ベルテポルフィン注射薬）
ビタミンＢ−１２
ビビトロル（ナルトレキソンＸＲ注射薬）
ボルベン（塩化ナトリウム中ヒドロキシエチルデンプン注射薬）
ゼローダ
ゼニカル（オルリスタット）
Ｘｅｏｍｉｎ（インコボツリナムトキシンＡ注射用）
ゾレア
ザンタック注射薬（ラニチジン塩酸塩注射薬）
Ｚｅｍｐｌａｒ注射薬（パリカルシトール注射薬フリップトップ型バイアル）
Ｚｅｍｕｒｏｎ（ロクロニウム臭化物注射薬）
ゼナパックス（ダクリズマブ）
ゼバリン
ジドブジン注射薬（レトロビルＩＶ）
ジスロマック注射薬（アジスロマイシン）
Ｚｎ−ジエチレントリアミン五酢酸（ペンテト酸亜鉛三ナトリウム注射薬）
ゾフラン注射薬（オンダンセトロン塩酸注射薬）
Ｚｉｎｇｏ
ゾレドロン酸注射用（ゾメタ）
ゾレドロン酸注射薬（リクラスト）
ゾメタ（ゾレドロン酸注射用）
ゾシン（ピペラシリン及びタゾバクタム注射薬）
Ｚｙｐｒｅｘａ  Ｒｅｌｐｒｅｖｖ（徐放性オランザピン懸濁注射液）
液剤（非注射型）
エビリファイ
ＡｃｃｕＮｅｂ（アルブテロール硫酸塩吸入液）
Ａｃｔｉｄｏｓｅ  Ａｑｕａ（薬用炭懸濁液）
薬用炭懸濁液（Ａｃｔｉｄｏｓｅ  Ａｑｕａ）
アドベア
Ａｇｅｎｅｒａｓｅ経口液（アンプレナビル経口液）
Ａｋｔｅｎ（リドカイン塩酸塩眼用ゲル）
Ａｌａｍａｓｔ（ペミロラストカリウム点眼液）
アルブミン（ヒト）５％溶液（ブミネート５％）
アルブテロール硫酸塩吸入液
Ａｌｉｎｉａ
Ａｌｏｃｒｉｌ
アルファガン
Ａｌｒｅｘ
オルベスコ
アンプレナビル経口液
Ａｎａｌｐｒａｍ−ＨＣ
アルフォルモテロール酒石酸塩吸入液（Ｂｒｏｖａｎａ）
アリストスパン注射薬２０ｍｇ（トリアムシノロンヘキサアセトニド懸濁注射液）
アサコール
アズマネックス
Ａｓｔｅｐｒｏ
Ａｓｔｅｐｒｏ（アゼラスチン塩酸塩鼻用スプレー）
アトロベント鼻用スプレー（臭化イプラトロピウム鼻用スプレー）
アトロベント鼻用スプレー．０６
オーグメンチンＥＳ−６００
Ａｚａｓｉｔｅ（アジスロマイシン点眼液）
アゼライン酸（Ｆｉｎａｃｅａゲル）
アゼラスチン塩酸塩鼻用スプレー（Ａｓｔｅｐｒｏ）
Ａｚｅｌｅｘ（アゼライン酸クリーム）
エイゾプト（ブリンゾラミド懸濁性点眼液）
静菌性生理食塩水（Ｂａｃｔｅｒｉｏｓｔａｔｉｃ  Ｓａｌｉｎｅ）
平衡塩類（ｂａｌａｎｃｅｄ  ｓａｌｔ）
ベポタスチン
バクトロバン鼻腔用
バクトロバン
Ｂｅｃｌｏｖｅｎｔ
Ｂｅｎｚａｃ  Ｗ
Ｂｅｔｉｍｏｌ
ベトプティックエス
Ｂｅｐｒｅｖｅ
ビマトプロスト点眼液
Ｂｌｅｐｈ  １０（スルファセタミドナトリウム点眼液１０％）
ブリンゾラミド懸濁性点眼液（エイゾプト）
ブロムフェナク点眼液（Ｘｉｂｒｏｍ）
Ｂｒｏｍｈｉｓｔ
Ｂｒｏｖａｎａ（アルフォルモテロール酒石酸塩吸入液）
ブデソニド吸入用懸濁液（パルミコート吸入液）
Ｃａｍｂｉａ（ジクロフェナクカリウム経口液用）
Ｃａｐｅｘ
Ｃａｒａｃ
Ｃａｒｂｏｘｉｎｅ−ＰＳＥ
Ｃａｒｎｉｔｏｒ
Ｃａｙｓｔｏｎ（アズトレオナム吸入液用）
セルセプト
Ｃｅｎｔａｎｙ
Ｃｅｒｕｍｅｎｅｘ
Ｃｉｌｏｘａｎ点眼液（シプロフロキサシンＨＣＬ点眼液）
Ｃｉｐｒｏｄｅｘ
シプロフロキサシンＨＣＬ点眼液（Ｃｉｌｏｘａｎ点眼液）
クレマスチンフマル酸塩シロップ（クレマスチンフマル酸塩シロップ）
ＣｏＬｙｔｅ（ＰＥＧ電解質溶液）
Ｃｏｍｂｉｖｅｎ
コムタン
Ｃｏｎｄｙｌｏｘ
Ｃｏｒｄｒａｎ
Ｃｏｒｔｉｓｐｏｒｉｎ懸濁性点眼液
Ｃｏｒｔｉｓｐｏｒｉｎ耳用懸濁液
クロモリンナトリウム吸入液（Ｉｎｔａｌ噴霧器溶液）
クロモリンナトリウム点眼液（Ｏｐｔｉｃｒｏｍ）
電解質加結晶アミノ酸溶液（Ａｍｉｎｏｓｙｎ電解質）
Ｃｕｔｉｖａｔｅ
Ｃｕｖｐｏｓａ（グリコピロレート経口液）
シアノコバラミン（ＣａｌｏＭｉｓｔ鼻用スプレー）
サイクロスポリン経口液（Ｇｅｎｇｒａｆ経口液）
サイクロジル
Ｃｙｓｖｉｅｗ（ヘキサミノレブリナート塩酸塩膀胱内溶液）
ＤｅｒｍＯｔｉｃオイル（フルオシノロンアセトニドオイル点耳薬）
デスモプレシン酢酸塩鼻用スプレー
ＤＤＡＶＰ
Ｄｅｒｍａ−Ｓｍｏｏｔｈｅ／ＦＳ
デキサメサゾンＩｎｔｅｎｓｏｌ
ダイアニール低カルシウム
ダイアニールＰＤ
ジクロフェナクカリウム経口液用（Ｃａｍｂｉａ）
ジダノシン小児用散経口液用（ヴァイデックス）
ディフェリン
ディランチン１２５（フェニトイン経口懸濁液）
Ｄｉｔｒｏｐａｎ
ドルゾラミド塩酸塩点眼液（トルソプト）
ドルゾラミド塩酸塩−チモロールマレイン酸塩点眼液（コソプト）
ドボネックススカルプ（カルシポトリエン溶液）
ドキシサイクリンカルシウム経口懸濁液（ビブラマイシン経口用）
Ｅｆｕｄｅｘ
エラプレース（イデュルスルファーゼ溶液）
Ｅｌｅｓｔａｔ（エピナスチンＨＣｌ点眼液）
Ｅｌｏｃｏｎ
エピナスチンＨＣｌ点眼液（Ｅｌｅｓｔａｔ）
エピビルＨＢＶ
Ｅｐｏｇｅｎ（エポエチンアルファ）
エリスロマイシン局所用液１．５％（Ｓｔａｔｉｃｉｎ）
Ｅｔｈｉｏｄｏｌ（エチオダイズド油）
エトスクシミド経口液（ザロンチン経口液）
オイラックス
Ｅｘｔｒａｎｅａｌ（イコデキストリン腹膜透析溶液）
Ｆｅｌｂａｔｏｌ
フェリデックスＩ．Ｖ．（フェルモキシデス注射可能溶液）
Ｆｌｏｖｅｎｔ
Ｆｌｏｘｉｎ耳用薬（オフロキサシン耳科用液）
Ｆｌｏ−Ｐｒｅｄ（プレドニゾロン酢酸エステル経口懸濁液）
Ｆｌｕｏｒｏｐｌｅｘ
フルニソリド点鼻液（フルニソリド鼻用スプレー．０２５％）
フルオロメトロン懸濁性点眼液（ＦＭＬ）
フルルビプロフェンナトリウム点眼液（Ｏｃｕｆｅｎ）
ＦＭＬ
Ｆｏｒａｄｉｌ
フマル酸ホルモテロール吸入液（Ｐｅｒｆｏｒｏｍｉｓｔ）
フォサマックス
フラダンチン（ニトロフラントイン経口懸濁液）
フロキソン
ガンマガード液体（静注用免疫グロブリン（ヒト）１０％）
ガントリシン（アセチルスルフイソキサゾール小児用懸濁液）
ガチフロキサシン点眼液（Ｚｙｍａｒ）
Ｇｅｎｇｒａｆ経口液（サイクロスポリン経口液）
グリコピロレート経口液（Ｃｕｖｐｏｓａ）
ハルシノニド局所用液（Ｈａｌｏｇ溶液）
Ｈａｌｏｇ溶液（ハルシノニド局所用液）
ＨＥＰ−ＬＯＣＫ  Ｕ／Ｐ（防腐剤無添加ヘパリンロック用フラッシュ液）
ヘパリンロック用フラッシュ液（Ｈｅｐｆｌｕｓｈ  １０）
ヘキサミノレブリナート塩酸塩膀胱内溶液（Ｃｙｓｖｉｅｗ）
酒石酸水素ヒドロコドン及びアセトアミノフェン経口液（Ｌｏｒｔａｂ  Ｅｌｉｘｉｒ）
ヒドロキノン３％局所用液（Ｍｅｌｑｕｉｎ−３局所用液）
ＩＡＰ拮抗薬
Ｉｓｏｐｔｏ
臭化イプラトロピウム鼻用スプレー（アトロベント鼻用スプレー）
イトラコナゾール経口液（スポラノックス経口液）
ケトロラクトロメタミン点眼液（Ａｃｕｌａｒ  ＬＳ）
カレトラ
ラノキシン
レクシヴァ
ロイプロリド酢酸塩デポー懸濁液用（ルプロンデポ１１．２５ｍｇ）
レボベタキソロール塩酸塩懸濁性点眼液（ベタキソン）
レボカルニチン錠、経口液、無糖（Ｃａｒｎｉｔｏｒ）
レボフロキサシン点眼液０．５％（Ｑｕｉｘｉｎ）
リドカインＨＣｌ無菌液（キシロカインＭＰＦ無菌液）
Ｌｏｋ  Ｐａｋ（ヘパリンロック用フラッシュ液）
ロラゼパムＩｎｔｅｎｓｏｌ
Ｌｏｒｔａｂ  Ｅｌｉｘｉｒ（酒石酸水素ヒドロコドン及びアセトアミノフェン経口液）
Ｌｏｔｅｍａｘ（エタボン酸ロテプレドノール懸濁性点眼液）
エタボン酸ロテプレドノール懸濁性点眼液（Ａｌｒｅｘ）
低カルシウム腹膜透析溶液（ダイアニール低カルシウム）
ルミガン（ビマトプロスト点眼液０．０３％緑内障用）
ルプロンデポ１１．２５ｍｇ（ロイプロリド酢酸塩デポー懸濁液用）
メゲストロール酢酸塩経口懸濁液（メゲストロール酢酸塩経口懸濁液）
ＭＥＫ阻害薬
Ｍｅｐｒｏｎ
Ｍｅｓｎｅｘ
メスチノン
メサラミン注腸剤（Ｒｏｗａｓａ）
Ｍｅｌｑｕｉｎ−３局所用液（ヒドロキノン３％局所用液）
ＭｅｔＭａｂ
メチルドーパートＨｃｌ（メチルドーパート塩酸塩注射薬、溶液）
Ｍｅｔｈｙｌｉｎ経口液（メチルフェニデートＨＣｌ経口液５ｍｇ／５ｍＬ及び１０ｍｇ／５ｍＬ）
酢酸メチルプレドニゾロン懸濁注射液（デポメロドール）
メチルフェニデートＨＣｌ経口液５ｍｇ／５ｍＬ及び１０ｍｇ／５ｍＬ（Ｍｅｔｈｙｌｉｎ経口液）
コハク酸メチルプレドニゾロンナトリウム（ソルメドロール）
メチプラノロール点眼液（Ｏｐｔｉｐｒａｎｏｌｏｌ）
Ｍｉｇｒａｎａｌ
Ｍｉｏｃｈｏｌ−Ｅ（アセチルコリン塩化物眼内溶液）
Ｍｉｃｒｏ−Ｋ液体懸濁液用（塩化カリウム徐放製剤液体懸濁液用）
ミノシン（ミノサイクリン塩酸経口懸濁液）
ナサコート
ネオマイシン硫酸塩及びポリミキシンＢ硫酸塩及びヒドロコルチゾン
ネパフェナク懸濁性点眼液（ネバナック）
ネバナック（ネパフェナク懸濁性点眼液）
ニトロフラントイン経口懸濁液（フラダンチン）
Ｎｏｘａｆｉｌ（ポサコナゾール経口懸濁液）
ニスタチン（経口）（ニスタチン経口懸濁液）
ニスタチン経口懸濁液（ニスタチン（経口））
Ｏｃｕｆｅｎ（フルルビプロフェンナトリウム点眼液）
オフロキサシン点眼液（オフロキサシン点眼液）
オフロキサシン耳科用液（Ｆｌｏｘｉｎ耳用薬）
オロパタジン塩酸点眼液（Ｐａｔａｄａｙ）
Ｏｐｔｉｃｒｏｍ（クロモリンナトリウム点眼液）
Ｏｐｔｉｐｒａｎｏｌｏｌ（メチプラノロール点眼液）
パタノール
Ｐｅｄｉａｐｒｅｄ
ＰｅｒｉｏＧａｒｄ
フェニトイン経口懸濁液（ディランチン１２５）
Ｐｈｉｓｏｈｅｘ
ポサコナゾール経口懸濁液（Ｎｏｘａｆｉｌ）
塩化カリウム徐放製剤液体懸濁液用（Ｍｉｃｒｏ−Ｋ液体懸濁液用）
Ｐａｔａｄａｙ（オロパタジン塩酸点眼液）
Ｐａｔａｎａｓｅ鼻用スプレー（オロパタジン塩酸鼻用スプレー）
ＰＥＧ電解質溶液（ＣｏＬｙｔｅ）
ペミロラストカリウム点眼液（Ａｌａｍａｓｔ）
Ｐｅｎｌａｃ（シクロピロクス局所用液）
ＰＥＮＮＳＡＩＤ（ジクロフェナクナトリウム局所用液）
Ｐｅｒｆｏｒｏｍｉｓｔ（フマル酸ホルモテロール吸入液）
腹膜透析溶液
フェニレフリン塩酸塩点眼液（ネオシネフリン）
フォスフォリンアイオダイド（エコチオパートヨウ化物点眼液用）
ポドフィロックス（ポドフィロックス局所用液）
Ｐｒｅｄ  Ｆｏｒｔｅ（プレドニゾロン酢酸エステル懸濁性点眼液）
プララトレキサート溶液静注用（フォロチン）
Ｐｒｅｄ  Ｍｉｌｄ
Ｐｒｅｄｎｉｓｏｎｅ  Ｉｎｔｅｎｓｏｌ
プレドニゾロン酢酸エステル懸濁性点眼液（Ｐｒｅｄ  Ｆｏｒｔｅ）
プレバシド
ＰｒｉｓｍａＳｏｌ溶液（滅菌血液濾過血液濾過透析溶液）
プロエアー
Ｐｒｏｇｌｙｃｅｍ
プロハンス（ガドテリドール注射薬溶液）
塩酸プロパラカイン点眼液（Ａｌｃａｉｎｅ）
Ｐｒｏｐｉｎｅ
パルミコート
プルモザイム
Ｑｕｉｘｉｎ（レボフロキサシン点眼液０．５％）
ＱＶＡＲ
ラパミューン
レベトール
Ｒｅｌａｃｏｎ−ＨＣ
ロタリックス（経口生ロタウイルスワクチン懸濁液）
経口生ロタウイルスワクチン懸濁液（ロタリックス）
Ｒｏｗａｓａ（メサラミン注腸剤）
サブリル（ビガバトリン経口液）
サクロシダーゼ経口液（Ｓｕｃｒａｉｄ）
サンディミュン
Ｓｅｐｒａ
Ｓｅｒｅｖｅｎｔ  Ｄｉｓｋｕｓ
ソルコーテフ（ヒドロコルチゾンコハク酸エステルナトリウム）
ソルメドロール（コハク酸メチルプレドニゾロンナトリウム）
スピリーバ
スポラノックス経口液（イトラコナゾール経口液）
Ｓｔａｔｉｃｉｎ（エリスロマイシン局所用液１．５％）
スタレボ
Ｓｔａｒｌｉｘ
滅菌血液濾過血液濾過透析溶液（ＰｒｉｓｍａＳｏｌ溶液）
Ｓｔｉｍａｔｅ
スクラルファート（カラファート懸濁液）
スルファセタミドナトリウム点眼液１０％（Ｂｌｅｐｈ  １０）
Ｓｙｎａｒｅｌ点鼻液（子宮内膜症用酢酸ナファレリン点鼻液）
Ｔａｃｌｏｎｅｘ  Ｓｃａｌｐ（カルシポトリエン及びジプロピオン酸ベタメタゾン局所懸濁液）
タミフル
トービイ
ＴｏｂｒａＤｅｘ
Ｔｏｂｒａｄｅｘ  ＳＴ（トブラマイシン／デキサメサゾン懸濁性点眼液０．３％／０．０５％）
トブラマイシン／デキサメサゾン懸濁性点眼液０．３％／０．０５％（Ｔｏｂｒａｄｅｘ  ＳＴ）
チモロール
Ｔｉｍｏｐｔｉｃ
トラバタンズ
トレプロスチニル吸入液（Ｔｙｖａｓｏ）
トルソプト（ドルゾラミド塩酸塩点眼液）
Ｔｙｖａｓｏ（トレプロスチニル吸入液）
ベントリン
ブイフェンド
ビブラマイシン経口用（ドキシサイクリンカルシウム経口懸濁液）
ヴァイデックス（ジダノシン小児用散経口液用）
ビガバトリン経口液（サブリル）
Ｖｉｏｋａｓｅ
ビラセプト
ビラミューン
ビタミンＫ１（ビタミンＫ１の流体コロイド溶液）
ボルタレン眼科用薬（ジクロフェナクナトリウム点眼液）
ザロンチン経口液（エトスクシミド経口液）
ザイアジェン
ザイボックス
Ｚｙｍａｒ（ガチフロキサシン点眼液）
Ｚｙｍａｘｉｄ（ガチフロキサシン点眼液）
薬物分類
５α還元酵素阻害薬
５−アミノサリチル酸塩
５ＨＴ３受容体拮抗薬
アダマンタン抗ウイルス薬
副腎皮質ステロイド
副腎皮質ホルモン阻害薬
アドレナリン作動性気管支拡張薬
高血圧性緊急疾患用薬剤
肺高血圧症用薬剤
アルドステロン受容体拮抗薬
アルキル化薬
αアドレナリン受容体拮抗薬
αグルコシダーゼ阻害薬
代替薬
殺アメーバ薬
アミノグリコシド
アミノペニシリン類
アミノサリチル酸塩
アミリン類似体
鎮痛薬配合剤
鎮痛薬
アンドロゲン及びアナボリックステロイド
アンジオテンシン変換酵素阻害薬
アンジオテンシンＩＩ阻害薬
肛門直腸製剤
食欲抑制薬
制酸薬
駆虫薬
抗血管原性眼用薬
抗ＣＴＬＡ−４モノクローナル抗体
感染症薬
抗アドレナリン作動薬、中枢作用型
抗アドレナリン作動薬、末梢作用型
抗アンドロゲン薬
抗狭心症薬
抗不整脈薬
抗喘息薬配合剤
抗生物質／抗腫瘍薬
抗コリン性制吐剤
抗コリン性抗パーキンソン薬
抗コリン性気管支拡張薬
抗コリン性変時性薬
抗コリン作動薬／鎮痙薬
凝固阻止剤
抗痙攣薬
抗うつ薬
抗糖尿病薬
抗糖尿病薬配合剤
止瀉薬
抗利尿ホルモン
解毒薬
制吐薬／抗暈眩薬
抗真菌薬
抗ゴナドトロピン薬
痛風治療薬
抗ヒスタミン薬
高脂血症用薬
高脂血症用配合剤
降圧配合剤
尿酸降下薬
抗マラリア薬
抗マラリア薬配合剤
抗マラリア薬キノリン類
代謝拮抗薬
抗片頭痛薬
抗腫瘍性解毒剤
抗腫瘍性インターフェロン
抗腫瘍性モノクローナル抗体
抗腫瘍薬
抗パーキンソン薬
抗血小板薬
抗緑膿菌ペニシリン系薬
抗乾癬薬
抗精神病薬
抗リウマチ薬
防腐薬及び殺菌薬
抗甲状腺薬
抗毒素及び抗蛇毒素
抗結核薬
抗結核薬配合剤
鎮咳薬
抗ウイルス薬
抗ウイルス配合剤
抗ウイルスインターフェロン
抗不安薬、鎮静薬及び催眠薬
アロマターゼ阻害薬
非定型抗精神病薬
アゾ−ル抗真菌薬
細菌性ワクチン
バルビツール酸系抗痙攣薬
バルビツール薬
ＢＣＲ−ＡＢＬチロシンナーゼ阻害薬
ベンゾジアゼピン系抗痙攣薬
ベンゾジアゼピン
βアドレナリン遮断薬
βラクタマーゼ阻害薬
胆汁酸金属イオン封鎖剤
生物学的製剤
ビスホスホネート製剤
骨吸収阻害薬
気管支拡張薬配合剤
気管支拡張薬
カルシトニン
カルシウムチャネル遮断薬
カルバメート系抗痙攣薬
カルバペネム
炭酸脱水酵素阻害抗痙攣薬
炭酸脱水酵素阻害薬
心緊張薬
心選択性β遮断薬
心血管作動薬
カテコールアミン
ＣＤ２０モノクローナル抗体
ＣＤ３３モノクローナル抗体
ＣＤ５２モノクローナル抗体
中枢神経系薬
セファロスポリン
耳垢水
キレート剤
ケモカイン受容体拮抗薬
クロライドチャネルアクチベーター
コレステロール吸収阻害薬
コリン作動薬
コリン作動性筋興奮薬
コリンエステラーゼ阻害薬
中枢興奮薬
凝固調整剤
コロニー刺激因子
避妊薬
副腎皮質刺激ホルモン
クマリン類及びインダンジオン類
ｃｏｘ−２阻害薬
充血除去薬
外皮用薬
診断的放射性医薬品
ジベンザゼピン系抗痙攣薬
消化酵素
ジペプチジルペプチダーゼ４阻害薬
利尿薬
ドパミン作用性抗パーキンソン薬
アルコール依存性に使用される薬物
エキノカンジン
ＥＧＦＲ阻害薬
エストロゲン受容体拮抗薬
エストロゲン
去痰薬
第Ｘａ因子阻害剤
脂肪酸誘導体抗痙攣薬
フィブリン酸誘導体
第１世代セファロスポリン
第４世代セファロスポリン
機能性腸疾患薬
胆石可溶化薬
ＧＡＢＡ類似体
ＧＡＢＡ再取り込み阻害薬
ＧＡＢＡトランスアミナーゼ阻害薬
胃腸薬
全身麻酔薬
尿生殖路薬
胃腸刺激薬
グルココルチコイド
グルコース上昇剤
グリコペプチド系抗生物質
糖タンパク質血小板阻害薬
グリシルシクリン類
ゴナドトロピン放出ホルモン
ゴナドトロピン放出ホルモン拮抗薬
ゴナドトロピン
Ｉ群抗不整脈薬
ＩＩ群抗不整脈薬
ＩＩＩ群抗不整脈薬
ＩＶ群抗不整脈薬
Ｖ群抗不整脈薬
成長ホルモン受容体遮断薬
成長ホルモン
ヘリコバクターピロリ除菌薬
Ｈ２拮抗薬
造血幹細胞モビライザー
へパリン拮抗薬
へパリン
ＨＥＲ２阻害薬
植物製品
ヒストン脱アセチル化酵素阻害薬
ホルモン補充療法
ホルモン
ホルモン／抗腫瘍薬
ヒダントイン系抗痙攣薬
違法（ストリート）薬物
免疫グロブリン
免疫薬
免疫抑制薬
インポテンス薬
インビボ診断生物学的製剤
インクレチンミメティクス
吸入感染症薬
吸入コルチコステロイド
強心薬
インスリン
インスリン様増殖因子
インテグラーゼ鎖移転阻害薬
インターフェロン
静脈内栄養製品
ヨード造影剤
イオン化ヨード造影剤
鉄製品
ケトライド類
緩下薬
鎮癩薬
ロイコトリエン調整剤
リンコマイシン誘導体
脂質化グリコペプチド
局所注射麻酔薬
ループ利尿薬
肺表面活性剤
リンパ管染色剤
リソソーム酵素
マクロライド誘導体
マクロライド類
磁気共鳴イメージング造影剤
肥満細胞安定化剤
医療ガス
メグリチニド類
代謝薬
メチルキサンチン類
ミネラルコルチコイド
ミネラル及び電解質
その他薬剤
その他鎮痛薬
その他抗生物質
その他抗痙攣薬
その他抗うつ薬
その他抗糖尿病薬
その他制吐剤
その他抗真菌薬
その他高脂血症用薬
その他抗マラリア薬
その他抗腫瘍薬
その他抗パーキンソン薬
その他抗精神病薬
その他抗結核薬
その他抗ウイルス薬
その他抗不安薬、鎮静薬及び催眠薬
その他生物学的製剤
その他骨吸収阻害薬
その他心血管作動薬
その他中枢神経系薬
その他凝固調整剤
その他利尿薬
その他尿生殖路薬
その他ＧＩ薬
その他ホルモン
その他代謝薬
その他眼用薬
その他耳用薬
その他呼吸薬
その他性ホルモン
その他局所薬
その他未分類薬
その他腟用薬
有糸分裂阻害薬
モノアミン酸化酵素阻害薬
モノクローナル抗体
口及び咽喉製品
ｍＴＯＲ阻害薬
ｍＴＯＲキナーゼ阻害薬
粘液溶解薬
マルチキナーゼ阻害薬
筋弛緩薬
散瞳薬
麻薬性鎮痛薬配合剤
麻薬性鎮痛薬
鼻用感染症薬
鼻用抗ヒスタミン薬及び充血除去薬
鼻用潤滑剤及び灌注剤
鼻用製剤
鼻用ステロイド
天然ペニシリン系薬
ノイラミニダーゼ阻害薬
神経筋遮断薬
次世代セファロスポリン
ニコチン酸誘導体
硝酸薬
非ヌクレオシド系逆転写酵素阻害薬
非心選択性β遮断薬
非ヨード造影剤
非イオン性ヨード造影剤
非スルホニル尿素
非ステロイド性抗炎症薬
ノルエピネフィリン再取り込み阻害薬
ノルエピネフィリン−ドパミン再取り込み阻害薬
ヌクレオシド系逆転写酵素阻害薬（ＮＲＴＩｓ）
栄養補助食品
栄養製品
眼用麻酔薬
眼用感染症薬
眼用抗炎症薬
眼用抗ヒスタミン薬及び充血除去薬
眼用診断用薬
眼用緑内障薬
眼用潤滑剤及び灌注剤
眼用製剤
眼用ステロイド
感染症薬追加眼用ステロイド
眼外科薬
経口栄養補助食
耳用麻酔薬
耳用感染症薬
耳用製剤
耳用ステロイド
感染症薬追加耳用ステロイド
オキサゾリジンジオン系抗痙攣薬
上皮小体ホルモン及び類似体
ペニシリナーゼ耐性ペニシリン
ペニシリン系薬
末梢性オピオイド受容体拮抗薬
末梢性血管拡張薬
末梢作用型抗肥満薬
フェノチアジン制吐剤
フェノチアジン系抗精神病薬
フェニルピペラジン系抗うつ薬
血漿増量剤
血小板凝集阻害薬
血小板刺激剤
ポリエン類
カリウム保持性利尿薬
プロバイオティクス
黄体ホルモン受容体調節薬
プロゲスチン
プロラクチン阻害薬
プロスタグランジンＤ２拮抗薬
タンパク分解酵素阻害薬
プロトンポンプ阻害薬
ソラレン類
精神治療薬
精神治療用複合剤
プリンヌクレオシド
ピロリジン抗痙攣薬
キノロン剤
造影剤
放射線補助剤
放射線剤
放射線共役剤
放射性医薬品
ＲＡＮＫリガンド阻害薬
遺伝子組換えヒトエリスロポエチン
レニン阻害薬
呼吸薬
呼吸吸入薬製品
リファマイシン誘導体
サリチル酸塩
硬化剤
第２世代セファロスポリン
選択的エストロゲン受容体調節薬
選択的セロトニン再取り込み阻害薬
セロトニン−ノルエピネフィリン再取り込み阻害薬
セロトニン作動性神経腸調節薬
性ホルモン複合剤
性ホルモン
骨格筋弛緩薬複合剤
骨格筋弛緩薬
禁煙薬
ソマトスタチン及びソマトスタチン類似体
殺精子剤
スタチン
滅菌洗浄溶液
ストレプトミセス誘導体
スクシンイミド抗痙攣薬
スルホンアミド
スルホニル尿素
合成排卵誘発剤
四環系抗うつ薬
テトラサイクリン
治療用放射性医薬品
サイアザイド系利尿薬
チアゾリジンジオン類
チオキサンテン類
第３世代セファロスポリン
トロンビン阻害剤
血栓溶解薬
甲状腺剤
陣痛抑制薬
局所座瘡薬
局所薬
局所麻酔薬
局所感染症薬
局所抗生物質
局所抗真菌薬
局所抗ヒスタミン薬
局所抗乾癬薬
局所抗ウイルス薬
局所収斂薬
局所排膿促進薬
局所脱色剤
局所皮膚軟化薬
局所角質溶解薬
局所ステロイド
感染症薬追加局所ステロイド
トキソイド
トリアジン抗痙攣薬
三環系抗うつ薬
三官能性モノクローナル抗体
腫瘍壊死因子（ＴＮＦ）阻害薬
チロシンナーゼ阻害薬
超音波造影剤
上気道用複合剤
尿素抗痙攣薬
尿路感染症薬
尿路鎮痙薬
尿ｐＨ調整剤
子宮収縮薬
ワクチン
混合ワクチン
腟抗感染薬
膣坐剤
血管拡張薬
バソプレッシン拮抗薬
昇圧薬
ＶＥＧＦ／ＶＥＧＦＲ阻害薬
ウイルス性ワクチン
関節内補充薬
ビタミンミネラル複合体
ビタミン
診断試験
１７−ヒドロキシプロゲステロン
ＡＣＥ（アンジオテンシンＩ変換酵素）
アセトアミノフェン
酸性ホスファターゼ
ＡＣＴＨ
活性凝固時間
活性化プロテインＣ耐性
副腎皮質刺激ホルモン（ＡＣＴＨ）
アラニンアミノトランスフェラーゼ（ＡＬＴ）
アルブミン
アルドラーゼ
アルドステロン
アルカリフォスファターゼ
アルカリフォスファターゼ（ＡＬＰ）
α１−抗トリプシン
α−フェトプロテイン
α−フェトプロティエン
アンモニアレベル
アミラーゼ
ＡＮＡ（抗核アントボディ）
ＡＮＡ（抗核抗体）
アンジオテンシン変換酵素（ＡＣＥ）
アニオンギャップ
抗カルジオリピン抗体
抗カルジオリピンアンティブボディ（ＡＣＡ）
抗セントロメア抗体
抗利尿ホルモン
抗ＤＮＡ
抗デオキシリボヌクレアーゼＢ
抗グリアジン抗体
抗糸球体基底膜抗体
抗ＨＢｃ（Ｂ型肝炎コア抗体
抗ＨＢｓ（Ｂ型肝炎表面抗体
抗リン脂質抗体
抗ＲＮＡポリメラーゼ
抗スミス（Ｓｍ）抗体
抗平滑筋抗体
抗ストレプトリジンＯ価（ＡＳＯ）
抗トロンビンＩＩＩ
抗Ｘａ活性
抗Ｘａアッセイ
アポリポタンパク
ヒ素
アスパラギン酸アミノトランスフェラーゼ（ＡＳＴ）
Ｂ１２
塩基好性白血球
β２−ミクログロブリン
β−ヒドロキシブチレート
Ｂ−ＨＣＧ
ビリルビン
直接ビリルビン
間接ビリルビン
総ビリルビン
出血時間
血液ガス（動脈性）
血液尿素窒素（ＢＵＮ）
ＢＵＮ
ＢＵＮ
ＣＡ１２５
ＣＡ１５−３
ＣＡ１９−９
カルシトニン
カルシウム
カルシウム（イオン化）
一酸化炭素（ＣＯ）
癌胎児性抗原（ＣＥＡ）
ＣＢＣ
ＣＥＡ
ＣＥＡ（癌胎児性抗原）
セルロプラスミン
ＣＨ５０クロライド
コレステロール
コレステロール、ＨＤＬ
血栓溶解時間
血餅退縮時間
ＣＭＰ
ＣＯ２
寒冷凝集素
補体第３成分
銅
副腎皮質刺激ホルモン放出ホルモン（ＣＲＨ）刺激試験
コルチゾル
コートロシン刺激試験
Ｃペプチド
ＣＰＫ（総）
ＣＰＫ−ＭＢ
Ｃ反応性タンパク
クレアチニン
クレアチニンキナーゼ（ＣＫ）
クリオグロブリン
ＤＡＴ（直接抗グロブリン試験）
Ｄダイマー
デキタメタゾン抑制試験
ＤＨＥＡ−Ｓ
希釈ラッセルクサリ蛇毒
楕円赤血球
好酸球
赤血球沈降速度（ＥＳＲ）
エストラジオール
エストリオール
エタノール
エチレングリコール
ユーグロブリン溶解
第Ｖ因子ライデン
第ＶＩＩＩ因子阻害薬
第ＶＩＩＩ因子レベル
フェリチン
フィブリン体分解産物
フィブリノーゲン
葉酸塩
葉酸塩（血清
ナトリウム分画排泄率（ＦＥＮＡ）
ＦＳＨ（卵胞刺激因子）
ＦＴＡ−ＡＢＳ
γグルタミルトランスフェラーゼ（ＧＧＴ）
ガストリン
ＧＧＴＰ（γグルタミルトランスフェラーゼ）
グルコース
成長ホルモン
ハプトグロビン
ＨＢｅＡｇ（Ｂ型肝炎ｅ抗原）
ＨＢｓ−Ａｇ（Ｂ型肝炎表面抗原）
ヘリコバクターピロリ
ヘマトクリット
ヘマトクリット（ＨＣＴ））
ヘモグロビン
ヘモグロビンＡ１Ｃ
ヘモグロビン電気泳動
Ａ型肝炎抗体
Ｃ型肝炎抗体
ＩＡＴ（間接抗グロブリン試験）
免疫固定法（ＩＦＥ）
鉄
乳酸脱水素酵素（ＬＤＨ）
乳酸（乳酸塩）
乳酸脱水素酵素
ＬＨ（ルーティナイジングホルモン
リパーゼ
ループス抗凝固因子
リンパ球
マグネシウム
ＭＣＨ（平均赤血球ヘモグロビン量
ＭＣＨＣ（平均赤血球ヘモグロビン濃度）
ＭＣＶ（平均赤血球容積）
マロン酸メチル
単球
ＭＰＶ（平均血小板容積）
ミオグロビン
好中球
上皮小体ホルモン（ＰＴＨ）
リン
血小板（ｐｌｔ）
カリウム
プレアルブミン
プロラクチン
前立腺特異抗原（ＰＳＡ）
タンパク質Ｃ
タンパク質Ｓ
ＰＳＡ（前立腺特異抗原）
ＰＴ（プロトロンビン時間）
ＰＴＴ（部分トロンボプラスチン時間）
ＲＤＷ（赤血球分布幅）
レニン
レンニン
網状赤血球数
網状赤血球
リウマチ因子（ＲＦ）
血沈速度
血清グルタミン酸ピルビン酸トランスアミナーゼ（ＳＧＰＴ
血清タンパク電気泳動（ＳＰＥＰ）
ナトリウム
Ｔ３レジン摂取率（Ｔ３ＲＵ）
フリーＴ４
トロンビン時間
甲状腺刺激ホルモン（ＴＳＨ）
チロキシン（Ｔ４）
全鉄結合能（ＴＩＢＣ）
総タンパク
トランスフェリン
トランスフェリン飽和剤
トリグリセリド（ＴＧ）
トロポニン
尿酸
ビタミンＢ１２
白血球（ＷＢＣ）
ウィダール試験
からなる群から選択される要素を含む、請求項１乃至６３のいずれか一項に記載の発明。
【請求項６５】
前記流体組成物が吸入麻酔薬を含む、請求項１乃至６４のいずれか一項に記載の発明。
【請求項６６】
前記流体組成物が薬物を含む、請求項１乃至６５のいずれか一項に記載の発明。
【請求項６７】
前記流体組成物が診断検査材料を含む、請求項１乃至６６のいずれか一項に記載の発明。
【請求項６８】
前記不活性化層又はｐＨ保護皮膜が前記ガラス内部表面の層間剥離を低減するのに効果的である、請求項２、５乃至８、１０乃至１８又は２１乃至６７のいずれか一項に記載の発明。
【請求項６９】
前記不活性化層又はｐＨ保護皮膜が、ヘキサメチルシクロトリシロキサン（ＨＭＣＴＳ）を含む前駆体供給物のＰＥＣＶＤによって塗布される、請求項１乃至６８のいずれか一項に記載の発明。
【請求項７０】
前記不活性化層又はｐＨ保護皮膜が、デカメチルシクロペンタシロキサン（ＤＭＣＰＳ）を含む前駆体供給物のＰＥＣＶＤによって塗布される、請求項１乃至６９のいずれか一項に記載の発明。
【請求項７１】
前記不活性化層又はｐＨ保護皮膜が、２，２，４，４，６，６，８，８−オクタメチル−１，５−ジメタノ−３，７−ジオキサ−２，４，６，８−テトラシロキサンを含む前駆体供給物のＰＥＣＶＤによって塗布される、請求項１乃至７０のいずれか一項に記載の発明。
【請求項７２】
ＰＥＣＶＤが、規定範囲内の初期の高い電力レベルに続いて前記規定範囲内の次の低い電力レベルを印加することによって開始される、請求項４２乃至７１のいずれか一項に記載の発明。
【請求項７３】
前記初期の高い電力レベルが１乃至３秒間印加される、請求項７２に記載の発明。
【請求項７４】
前記次の低い電力レベルがＰＥＣＶＤの残りにおいて印加される、請求項７２又は７３に記載の発明。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
関連出願の相互参照
２０１１年１１月１１日出願の米国仮特許出願第６１／５５８，８８５号明細書、２０１２年４月２０日出願の米国仮特許出願第６１／６３６，３７７号明細書、及び２０１２年５月９日出願の米国仮特許出願第６１／６４５，００３号明細書の優先権を主張する。
【０００２】
２００９年５月１３日出願の米国仮特許出願第６１／１７７，９８４号明細書、２００９年７月２日出願の米国仮特許出願第６１／２２２，７２７号明細書、２００９年７月２４日出願の米国仮特許出願第６１／２１３，９０４号明細書、２００９年８月１７日出願の米国仮特許出願第６１／２３４，５０５号明細書、２００９年１１月１４日出願の米国仮特許出願第６１／２６１，３２１号明細書、２００９年１１月２０日出願の米国仮特許出願第６１／２６３，２８９号明細書、２００９年１２月１１日出願の米国仮特許出願第６１／２８５，８１３号明細書、２０１０年１月２５日出願の米国仮特許出願第６１／２９８，１５９号明細書、２０１０年１月２９日出願の米国仮特許出願第６１／２９９，８８８号明細書、２０１０年３月２６日出願の米国仮特許出願第６１／３１８，１９７号明細書、２０１０年５月１１日出願の米国仮特許出願第６１／３３３，６２５号明細書、２０１０年１１月１２日出願の米国仮特許出願第６１／４１３，３３４号明細書、２０１０年５月１２日出願の米国仮特許出願第１２／７７９，００７号明細書、２０１１年５月１１日出願の米国特許第７，９８５，１８８号明細書、国際出願ＰＣＴ／ＵＳ１１／３６０９７号明細書、２０１１年１１月１１日出願の米国仮特許出願第６１／５５８，８８５号明細書、２０１２年４月２０日出願の米国仮特許出願第６１／６３６，３７７号明細書、２０１２年５月９日出願の米国仮特許出願第６１／６４５，００３号明細書、及び２０１２年１０月１９日出願の米国仮特許出願第６１／７１６，３８１号明細書はそれら全体が参照により本明細書に組み入れられる。
【０００３】
また、全体が参照により組み入れられるのは、以下、２０１０年５月１２日出願の欧州特許出願公開第１０１６２７５５．２号明細書、２０１０年５月１２日出願の欧州特許出願公開第１０１６２７６０．２号明細書、２０１０年５月１２日出願の欧州特許出願公開第１０１６２７５６．０号明細書、２０１０年５月１２日出願の欧州特許出願公開第１０１６２７５８．６号明細書、２０１０年５月１２日出願の欧州特許出願公開第１０１６２７６１．０号明細書、及び２０１０年５月１２日出願の欧州特許出願公開第１０１６２７５７．８号明細書である。
【０００４】
本発明は、被覆表面の技術分野に関し、例えば、保管又は他の流体との接触用の薬剤パッケージ又は他の容器の内部表面に関する。適切な流体の例は、食品又は生物学的に活性の化合物又は体液、例えば、血液を含む。本発明は、また、薬剤パッケージ又は他の容器に関し、また、薬剤パッケージ又は他の容器の内側又は内部表面を被覆するための方法に関する。本発明は、また、より全般的には、パッケージ又は容器以外のデバイス、例えば、カテーテルを含む医療デバイスに関する。
【０００５】
本開示は、また、薬剤パッケージ又は他の容器、例えば、製剤保管及び送達、静脈穿刺及び他の医療サンプル採集並びに他の目的のために使用される複数の同一薬剤パッケージ又は他の容器を加工するための改良された方法に関する。このような薬剤パッケージ又は他の容器はこれら目的において多数が使用されることから製造が比較的経済的でなければならないが、保管及び使用においても非常に信頼性の高いものでなければならない。
【背景技術】
【０００６】
保管又は他の流体との接触用の薬剤パッケージ又は他の容器、例えば、バイアル及びプレフィルドシリンジの製造において重要なことの１つは、薬剤パッケージ又は他の容器の内容が望ましくは相当な保管寿命を有することである。この保管寿命の間、薬剤パッケージ又は他の容器に充填された物質を、それを含む容器壁から、又は薬剤パッケージ又は他の容器壁に塗布されたバリア皮膜又は層、又は他の機能層から分離し、薬剤パッケージ又は他の容器壁、バリア皮膜又は層、又は他の機能層から、充填済み内容に、又はその逆に物質が浸出することを回避することが重要となりうる。
【０００７】
これら薬剤パッケージ又は他の容器の多くは安価であり大量に使用されることから、特定用途においては、製造コストを極端に高い水準にまで増加させることなく必要な保管寿命を確実に得るのに有用となろう。
【０００８】
数十年もの間、ほとんどの非経口治療はバイアル又はプレフィルドシリンジなどのタイプＩ（Ｔｙｐｅ  Ｉ）医療グレードホウケイ酸ガラス容器において最終使用者に送達されてきた。ホウケイ酸ガラスの比較的丈夫な、不浸透性及び不活性表面はほとんどの薬物製品において適切に機能してきた。しかしながら、高価、複雑且つ敏感な生物学的製剤、並びにオートインジェクタなどの高性能の送達システムの近頃の出現により、数ある問題の中でも、金属による汚染の可能性、フレーキング、層間剥離及び破損を含む、ガラス薬剤パッケージ又は他の容器の物理的及び化学的欠点が明らかとなった。更に、ガラスは、保管中に浸出するおそれがあり、保管された物質を損傷する原因となるいくつかの成分を含む。
【０００９】
より詳細には、ホウケイ酸薬剤パッケージ又は他の容器はいくつかの欠点を呈する。
【００１０】
ガラスは多くの元素（ケイ素、酸素、ホウ素、アルミニウム、ナトリウム、カルシウム）と微量レベルの他のアルカリ及び土類金属の不均質混合物を含有する砂から製造される。タイプＩホウケイ酸ガラスは、約７６％のＳｉＯ2、１０．５％のＢ2Ｏ3、５％のＡｌ2Ｏ3、７％のＮａ2Ｏ及び１．５％のＣａＯを含み、鉄、マグネシウム、亜鉛、銅及びその他などの微量の金属をしばしば含む。ホウケイ酸ガラスの不均質な性質は分子レベルにおいて不均一な表面の化学的性質を形成する。ガラス容器を作製するために使用されるガラス成形プロセスは容器の一部を１２００℃のように高い温度に曝露する。そのような高温下、アルカリイオンは局所表面に移動し、酸化物を形成する。ホウケイ酸ガラスデバイスから抽出されたイオンの存在は一部の生物学的製剤の劣化、凝集及び変質に関与するおそれがある。多くのタンパク質及び他の生物学的製剤はそれらがガラスバイアル又はシリンジ内の溶液では十分に安定でないため、凍結乾燥（フリーズドライ）せねばならない。
【００１１】
ガラスシリンジでは、通常、プランジャチップ、ピストン、ストッパ又はシールがバレル内において摺動することを可能にするためにシリコーン油が潤滑剤として使用される。シリコーン油はインスリン及び他のいくつかの生物学的製剤などのタンパク質溶液の沈殿に関与してきた。更に、シリコーン油皮膜又は層はしばしば不均一であり、結果的に、市場でのシリンジの破損につながる。
【００１２】
ガラス薬剤パッケージ又は他の容器は、製造、充填作業、発送及び使用中に破損又は劣化しやすく、これはガラス微粒子が薬物に入る可能性があることを意味する。ガラス粒子の存在により多くのＦＤＡ警告書及び製品回収につながっている。
【００１３】
ガラス成形プロセスでは新型のオートインジェクタ及び送達システムのいくつかにおいて要求される厳格な寸法公差は提供されない。
【００１４】
その結果、一部の企業では、より厳格な寸法公差を提供し、且つガラスに比べ破損の少ないプラスチック薬剤パッケージ又は他の容器を採用している。
【００１５】
プラスチックは破損、寸法公差及び表面均一性に関してガラスよりも優れているが、以下の欠点により、その一次薬剤包装としての使用は依然限定されている。
【００１６】
ガス（酸素）透過性：プラスチックは小分子ガスをデバイス内に（又は外に）透過させる。プラスチックのガス透過性はガラスのガス透過性より極めて大きくなる場合があり、多くの場合（エピネフリンなどの酸素に敏感な薬物のように）、プラスチックはこの理由のためこれまで容認されてこなかった。
【００１７】
水分透過：プラスチックはガラスに比べてデバイスに水分を透過させる度合いが大きい。これは固形（凍結乾燥）薬物の保管寿命には好ましくない可能性がある。あるいは、乾燥した環境で液体製品が水を失うおそれがある。
【００１８】
浸出可能物（ｌｅａｃｈａｂｌｅｓ）及び抽出可能物（ｅｘｔｒａｃｔａｂｌｅｓ）：プラスチック薬剤パッケージ又は他の容器は、薬物製品に浸出又は抽出されるおそれのある有機化合物を含む。これら化合物が薬物を汚染する、及び／又は薬物の安定性に悪影響を及ぼす可能性がある。
【００１９】
明らかに、プラスチック及びガラス薬剤パッケージ又は他の容器は薬剤の一次包装においてそれぞれ特定の利点を提供するが、いずれも全ての薬物、生物学的製剤又は他の治療法に最適というわけではない。したがって、プラスチック薬剤パッケージ又は他の容器、特に、ガラスの特性に近いガス及び溶質バリア特性を備えたプラスチックシリンジが所望されうる。更に、十分な滑性及び／又は不動態化又は保護特性を備えたプラスチックシリンジ並びにシリンジ内容と融和しうる滑性及び／又は不活性化層又はｐＨ保護皮膜に対する需要がある可能性がある。また、層間剥離する、又は容器内容と接触しているときに成分を溶解もしくは浸出する傾向がない表面を備えたガラス容器に対する需要がある可能性がある。
【００２０】
プレフィルドシリンジを製造する際には余分に考慮すべきことがある。プレフィルドシリンジは一般的に提供及び販売されているため、使用前にシリンジを充填する必要はなく、使用後には廃棄することができる。シリンジには、いくつかの例として、生理食塩水、注射用染料、又は薬剤的に活性な製剤を予め充填することができる。
【００２１】
一般に、プレフィルドシリンジは遠位端をキャップ（又は、皮下針が予め装着されている場合、キャップともなりうる針シールド）で覆うことができ、且つ近位端をその延伸されたプランジャチップ、ピストン、ストッパ又はシールによって閉じることができる。プレフィルドシリンジは使用前に滅菌パッケージで包装されうる。プレフィルドシリンジを使用するため、包装及びキャップを取り外し、任意選択的に、皮下針又は別の送達導管をバレルの遠位端に取り付けることができ、送達導管又はシリンジを使用位置に移動し（患者の血管内又はシリンジの内容でリンスすべき装置内に皮下針を挿入することなどによって）、プランジャチップ、ピストン、ストッパ又はシールをバレル内において前進させてバレルの内容を放出することができる。
【００２２】
医療シリンジに関する重要なことは、プランジャチップ、ピストン、ストッパ又はシールが、それがバレル内に押し込まれる際に一定速度及び一定力で動くことができることを確実にすることとされうる。ストッパで閉じねばならない薬剤バイアルなどの容器及びストッパ自体、より全般的には、可動部品の平滑な動作を提供する、及び／又は不動態化されるか保護的に被覆されることになる任意の表面にも同様のことが当てはまる。
【００２３】
考えられる関連文書の非網羅的リストには、米国特許第７，９０１，７８３号明細書、米国特許第６，０６８，８８４号明細書、米国特許第４，８４４，９８６号明細書、及び米国特許第８，０６７，０７０号明細書、及び米国特許出願公開第２００８／００９００３９号明細書、米国特許出願公開第２０１１／０１５２８２０号明細書、米国特許出願公開第２００６／００４６００６号明細書、及び米国特許出願公開第２００４／０２６７１９４号明細書を含む。これら文書は全て参照によって組み入れられる。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【００２４】
本発明の一態様は、容器と、バリア皮膜又は層と、容器上の不活性化層又はｐＨ保護皮膜と、容器内に収容された流体組成物とを含む充填済みパッケージである。パッケージの計算保管寿命は４℃の保管温度で６か月超とされうる。
【００２５】
容器は少なくとも部分的に壁によって画定された内腔を有しうる。壁は内腔に面した内部表面と外部表面とを有しうる。
【００２６】
バリア皮膜又は層は、ｘが１．５乃至２．９、厚さが２乃至１０００ｎｍのＳｉＯxを含む。ＳｉＯxのバリア皮膜又は層は内腔に面した内部表面と壁内部表面に面した外部表面とを有しうる。
【００２７】
不活性化層又はｐＨ保護皮膜は、ｘが約０．５乃至約２．４及びｙが約０．６乃至約３のＳｉＯxＣy又はＳｉＮxＣyを含む。任意選択的に、一実施形態においては、ｘは約１．１とすることができ、且つｙは約１．１とすることができる。不活性化層又はｐＨ保護皮膜は、内腔に面した内部表面と、バリア皮膜又は層の内部表面に面した外部表面とを有しうる。不活性化層又はｐＨ保護皮膜はパッケージの計算保管寿命（総Ｓｉ／Ｓｉ溶解速度）を増加するのに効果的とされうる。
【００２８】
流体組成物は内腔内に収容することができ、４乃至１０、あるいは５乃至９のｐＨを有しうる。
【００２９】
本発明の別の態様は、容器と、容器上の不活性化層又はｐＨ保護皮膜と、容器内に収容された流体組成物とを含む充填済みパッケージとされうる。
【００３０】
容器は少なくとも部分的に壁によって画定された内腔を有しうる。壁は、ガラスを含む、内腔に面した内部表面と、外部表面とを有しうる。
【００３１】
不活性化層又はｐＨ保護皮膜は、ｘが約０．５乃至約２．４及びｙが約０．６乃至約３のＳｉＯxＣy又はＳｉＮxＣyを含む。不活性化層又はｐＨ保護皮膜は、内腔に面した内部表面と、バリア皮膜又は層の内部表面に面した外部表面とを有しうる。不活性化層又はｐＨ保護皮膜はガラス内部表面のＳｉ溶解速度を低下させるのに効果的とされうる。
【００３２】
流体組成物は内腔内に収容することができ、４乃至１０、あるいは５乃至９のｐＨを有しうる。
【００３３】
更に本発明の別の態様は、壁と、バリア皮膜又は層と、不活性化層又はｐＨ保護皮膜とを含む物品とされうる。
【００３４】
壁は内腔に面した内部表面を有しうる。
【００３５】
バリア皮膜又は層は、ｘが１．５乃至２．９、厚さが２乃至１０００ｎｍのＳｉＯxを含む。ＳｉＯxのバリア皮膜又は層は内腔に面した内部表面と壁内部表面に面した外部表面とを有しうる。バリア皮膜又は層は、非被覆壁と比較すると、壁を通じた大気ガスの進入を低減するのに効果的とされうる。
【００３６】
不活性化層又はｐＨ保護皮膜は、バリア皮膜又は層上に、任意選択的に、１つ又は複数の介在層（ｉｎｔｅｒｖｅｎｉｎｇ  ｌａｙｅｒ）とともに配置することができる。不活性化層又はｐＨ保護皮膜は、ｘが約０．５乃至約２．４及びｙが約０．６乃至約３の、ＳｉＯxＣy又はＳｉＮxＣyを含む。不活性化層又はｐＨ保護皮膜は、直鎖シロキサン、単環シロキサン、多環シロキサン、ポリシルセスキオキサン、直鎖シラザン、単環シラザン、多環シラザン、ポリシルセスキアザン、シラトラン、シルクアシラトラン、シルプロアトラン、アザシラトラン、アザシルクアシアトラン、アザシルプロアトラン、又はこれら前駆体のいずれか２つ以上の複合体から選択される前駆体の化学気相成長によって形成されうる。４乃至１０、あるいは５乃至９のｐＨを有する流体組成物が直接接触した場合の不活性化層又はｐＨ保護皮膜の浸食速度は、流体組成物が直接接触する場合のバリア皮膜又は層の浸食速度よりも低くなりうる。
【００３７】
本発明の更に別の態様は、壁を含む容器と、容器内に収容された流体と、バリア皮膜又は層と、不活性化層又はｐＨ保護皮膜とされうる。
【００３８】
壁は、内腔を囲む内部表面を有する熱可塑性プラスチック壁とされうる。
【００３９】
流体は内腔内に配置することができ、５を超えるｐＨを有しうる。
【００４０】
バリア皮膜又は層は、ｘが１．５乃至２．９であるＳｉＯxを含む。バリア皮膜又は層はＰＥＣＶＤによって塗布されうる。バリア皮膜又は層は熱可塑性プラスチック壁の内部表面と流体との間に配置することができ、且つ熱可塑性プラスチック壁によって支持されうる。バリア皮膜又は層は、一般に、流体による攻撃の結果、６か月未満でバリア改善度（ｂａｒｒｉｅｒ  ｉｍｐｒｏｖｅｍｅｎｔ  ｆａｃｔｏｒ）が測定可能な程度低下するという特徴を有しうる。しかし、これは本発明に必須とする特徴ではない。
【００４１】
不活性化層又はｐＨ保護皮膜は、ｘが０．５乃至２．４及びｙが０．６乃至３であるＳｉＯxＣyを含む。不活性化層又はｐＨ保護皮膜はＰＥＣＶＤによって塗布することができ、且つバリア皮膜又は層と流体との間に配置されうる。不活性化層又はｐＨ保護皮膜は熱可塑性プラスチック壁によって支持されうる。不活性化層又はｐＨ保護皮膜は、流体による攻撃の結果、少なくとも６か月の期間、バリア皮膜又は層を少なくとも実質的に溶解しないまま維持するのに効果的とされうる。
【００４２】
本発明の更に別の態様は、基板と、基板上のバリア皮膜又は層と、バリア皮膜又は層上の（米国特許第８，０６７，０７０号明細書において不活性化層と呼ばれるものと同じ機能を有しうる）不活性化層又はｐＨ保護皮膜と、を含む複合材料とされうる。不活性化層又はｐＨ保護皮膜は、（１）約１０００乃至１０４０ｃｍ-1におけるＦＴＩＲスペクトルのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ対称伸縮ピークの最大振幅と、（２）約１０６０乃至約１１００ｃｍ-1におけるＦＴＩＲスペクトルのＳｉ−Ｏ−Ｓｉ非対称伸縮ピークの最大振幅との間において０．７５を超えるＦＴＩＲ吸光度比を示す。
【００４３】
任意選択的に、容器は内腔とクロージャとに通じる開口部を更に含む。方法は、任意選択的に、開口部を通じて流体を内腔内に配置し、クロージャで開口部を閉じるステップを更に含む。流体は、例えば、薬物などの薬剤流体とされうる。
【００４４】
当業者には、本開示及び特許請求の範囲を考察後、本発明の他の態様が明らかになろう。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】本開示の一実施形態によるキャップが嵌められたプリアセンブリの立面図である。
【図２】図１のキャップが嵌められたプリアセンブリの長手方向断面図である。
【図３】図１及び図２のキャップが嵌められたプリアセンブリの拡大部分図である。
【図４】化学気相成長被覆台に配置された、図１及び図２のキャップが嵌められたプリアセンブリの概略長手方向断面図である。
【図５】図４の断面線Ａ−Ａに沿って切った断面図である。
【図６】図４及び図５に示した化学気相成長被覆台の更なる詳細を示す概略図である。
【図７】図１乃至６のキャップが嵌められたプリアセンブリのうち図２に類似する図であり、製剤が充填されており、プランジャチップ、ピストン、ストッパ又はシールが取り付けられ、プレフィルドシリンジを画定している。示したオプションにおいては、プランジャチップ、ピストン、ストッパ又はシールと、プランジャプッシュロッドとが取り付けられている。
【図８】セプタム及びクリンプが取り付けられており、図７と同じバリア皮膜又は層、不活性化層又はｐＨ保護皮膜、及び他の共通の特徴を有するバイアルの長手方向断面図である。
【図９】図７と同じバリア皮膜又は層、不活性化層又はｐＨ保護皮膜、及び他の共通の特徴を有するブリスタパックの長手方向断面図である。
【図１０】実施例ＰのＳＥＭ画像を示す。水平方向における端から端までの大きさは５μｍである。
【図１１】実施例ＳのＳＥＭ画像を示す。水平方向における端から端までの大きさは５μｍである。
【図１２】ＳｉＯxバリア皮膜又は層上に被覆され、更にはＣＯＣ基板上に被覆された、本発明による不活性化層又はｐＨ保護皮膜のＴＥＭ画像を示す。
【図１３】ＣＯＣ基板上に被覆されたＳｉＯ2バリア皮膜又は層のＴＥＭ画像を示す。
【図１４】内側壁に被覆されたＳｉＯxバリア皮膜又は層を有するプラスチックコンテナ対ガラスコンテナの、ｐＨ６におけるケイ素溶解対曝露時間のプロットである。
【図１５】内側壁に被覆されたＳｉＯxバリア皮膜又は層を有するプラスチックコンテナ対ガラスコンテナの、ｐＨ７におけるケイ素溶解対曝露時間のプロットである。
【図１６】内側壁に被覆されたＳｉＯxバリア皮膜又は層を有するプラスチックコンテナ対ガラスコンテナの、ｐＨ８におけるケイ素溶解対曝露時間のプロットである。
【図１７】３乃至９の異なる名目ｐＨ値の溶液とともに保管した場合に、３０ｎｍの残留皮膜厚さを残すために最初に必要とされるＳｉＯx皮膜厚さのプロットである。
【図１８】ｐＨ８及び４０℃における、種々のＰＥＣＶＤ皮膜のケイ素溶解速度を示す。
【図１９】反応性前駆体ガスとしてＯＭＣＴＳ及び酸素を使用するＰＥＣＶＤ皮膜の単位質量あたりエネルギ入カ（Ｗ／ＦＭ又はＫＪ／ｋｇ）対Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ対称／非対称伸縮モードの比率のプロットである。
【図２０】反応性前駆体ガスとしてＯＭＣＴＳ及び酸素を使用するＰＥＣＶＤ皮膜の単位質量あたりエネルギ入カ（Ｗ／ＦＭ又はＫＪ／ｋｇ）対ケイ素保管寿命（日）のプロットである。
【図２１】ＰＥＣＶＤ皮膜のフーリエ変換赤外吸収分光（ＦＴＩＲ）吸光度スペクトルである。
【図２２】ＰＥＣＶＤ皮膜のフーリエ変換赤外吸収分光（ＦＴＩＲ）吸光度スペクトルである。
【図２３】ＰＥＣＶＤ皮膜のフーリエ変換赤外吸収分光（ＦＴＩＲ）吸光度スペクトルである。
【図２４】ＰＥＣＶＤ皮膜のフーリエ変換赤外吸収分光（ＦＴＩＲ）吸光度スペクトルである。
【図２５】本来、米国特許第８，０６７，０７０号明細書の図５として示したＰＥＣＶＤ皮膜のフーリエ変換赤外吸収分光（ＦＴＩＲ）吸光度スペクトルであり、同特許において言及したＯパラメータの計算を示すために注釈するものである。
【発明を実施するための形態】
【００４６】
図面では以下の参照符号を使用する。
【００４７】
【表１】
2014533177.tif 000003
【００４８】
定義の項
本発明の文脈においては、以下の定義及び略語を使用する。
【００４９】
ＲＦは高周波である。
【００５０】
用語「少なくとも（ａｔ  ｌｅａｓｔ）」は、本発明の文脈においては、同用語に続く整数と「等しいかそれを超える（ｅｑｕａｌ  ｏｒ  ｍｏｒｅ）」ことを意味する。「を含む（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」という語は他の要素又はステップを排除するものではなく、また、不定冠詞「ａ」又は「ａｎ」は別段の定めがなければ複数形を排除するものではない。パラメータ範囲が示される場合、範囲の限界として提供するパラメータ値及び前記範囲内にあるパラメータの全ての値を開示することを意図する。
【００５１】
例えば、処理台又は処理デバイスに対する「第１の」及び「第２の」又は類似の言及は、存在する最小数の処理台又はデバイスを意味するものであり、必ずしも処理台及びデバイスの順序又は総数を示すものとは限らない。これら用語は、処理台又は各々の台において実施される特定の処理の数を限定するものではない。
【００５２】
本発明の目的においては、「有機ケイ素化合物前駆体」は、酸素又は窒素原子及び有機炭素原子（有機炭素原子は少なくとも１個の水素原子と結合した炭素原子である）に結合した四価ケイ素原子である、以下の結合の少なくとも１つを有する化合物である。
【化１】
2014533177.tif 000004
揮発性の有機ケイ素化合物前駆体は、ＰＥＣＶＤ装置に蒸気として供給されうる前駆体と定義され、任意の有機ケイ素化合物前駆体とされうる。任意選択的に、有機ケイ素化合物前駆体は、直鎖シロキサン、単環シロキサン、多環シロキサン、ポリシルセスキオキサン、アルキルトリメトキシシラン、直鎖シラザン、単環シラザン、多環シラザン、ポリシルセスキアザン、及びこれら前駆体のいずれか２つ以上の複合体からなる群から選択されうる。
【００５３】
明細書及び特許請求の範囲において、ＰＥＣＶＤ前駆体、気体反応物又はプロセスガス及びキャリアガスの供給量は「標準体積（ｓｔａｎｄａｒｄ  ｖｏｌｕｍｅｓ）」で表される場合がある。チャージガス又は他の一定量のガスの標準体積は、（実際の送達温度及び圧力を考慮しない）標準温度及び圧力において占める一定量のガスの体積である。標準体積は異なる体積の単位を使用して測定することができるが、それでもなお本開示及び特許請求の範囲の範囲内とされうる。例えば、同じ一定量のガスを、標準立方センチメートルの数値、標準立方メートルの数値、又は標準立方フィートの数値として表すことができる。標準体積もまた異なる標準温度及び圧力を使用して定義することができるが、それでもなお本開示及び特許請求の範囲の範囲内とされうる。例えば、標準温度が０℃、標準圧力が７６０トル（従来のまま）である可能性も、標準温度が２０℃、標準圧力が１トルである可能性もある。しかし、特定の場合においてどのような標準を使用したとしても、２つ以上の異なるガスの相対体積を特定のパラメータを明示せずに比較する場合、特に明示しない限りは、各ガスに対して同じ体積、標準温度及び標準圧力の単位が使用される。
【００５４】
本明細書においては、ＰＥＣＶＤ前駆体、気体反応物又はプロセスガス及びキャリアガスの対応する供給速度は単位時間あたりの標準体積で表される。例えば、実施例において、流量は標準立方センチメートル／分として表され、ｓｃｃｍと略される。他のパラメータと同様、秒又は時間などの他の時間単位を使用できるが、２つ以上のガスの流量を比較する場合、特に明記されない限りは一貫したパラメータが使用される。
【００５５】
「容器」は、本発明の文脈においては、少なくとも１つの開口部と、内側又は内部表面を画定する壁とを備えた任意の種類の物品とされうる。基板は内腔を有する容器の内側壁とされうる。本発明は特定の容量の薬剤パッケージ又は他の容器に必ずしも限定されるわけではないが、内腔が０．５乃至５０ｍＬ、任意選択的に、１乃至１０ｍＬ、任意選択的に、０．５乃至５ｍＬ、任意選択的に、１乃至３ｍＬの空隙容量を有しうる薬剤パッケージ又は他の容器が企図される。基板表面は、少なくとも１つの開口部及び内側又は内部表面内側又は内部表面を有する容器の内側又は内部表面内側又は内部表面の一部又は全てとされうる。
【００５６】
容器は、本発明の文脈においては、１つ又は複数の開口部を有しうる。サンプルチューブ（１つの開口部）又はシリンジバレル（２つの開口部）の開口部のような１つ又は２つの開口部が好適である。容器が２つの開口部を有する場合、それらは同じ大きさとすることも異なる大きさとすることもできる。１つより多い開口部がある場合、１つの開口部は本発明によるＰＥＣＶＤ皮膜法のガス注入用に使用することができる一方で、もう一方の開口部はキャップが嵌められるか開放されるかのいずれかである。本発明による容器は、例えば、血液又は尿などの生物学的流体を採集又は保管するためのサンプルチューブ、生物学的に活性の化合物又は組成物、例えば、薬剤又は薬剤組成物を保管又は送達するためのシリンジ（又はその一部、例えば、シリンジバレル）、生物学的材料又は生物学的に活性の化合物又は組成物を保管するためのバイアル、管、例えば、生物学的材料又は生物学的に活性の化合物又は組成物を輸送するためのカテーテル、又は流体を保持するための、例えば、生物学的材料又は生物学的に活性の化合物又は組成物を保持するためのキュベットとすることができる。
【００５７】
容器にはサンプル採集又は分析用の試薬又は防腐薬が提供されうる。例えば、採血用容器は内腔を画定する内側又は内部表面と外側表面とを有しうる。不活性化層又はｐＨ保護皮膜を内側又は内部表面上に設けることができ、容器は、その内腔内に化合物又は組成物、例えば、クエン酸塩又はクエン酸塩含有組成物を含みうる。
【００５８】
容器はあらゆる形状のものとすることができる。その開端部の少なくとも１つに隣接する、実質的に円筒状の壁を有する容器が好適である。一般に、容器の内部壁は、例えば、サンプルチューブ又はシリンジバレル内のように円筒状の形状とされうる。サンプルチューブ及びシリンジ又はそれらの部品（例えば、シリンジバレル）が考えられる。
【００５９】
「疎水性層」は、本発明の文脈においては、皮膜又は層が、皮膜又は層で被覆された表面のぬれ張力を、対応する非被覆表面と比べて低下させることを意味する。疎水性は、したがって、非被覆基板及び皮膜又は層両方の機能とされうる。用語「疎水性」が使用される他の文脈の適切な代替物にも同じことが当てはまる。用語「親水性」は逆、すなわち、基準サンプルと比べてぬれ張力が増加することを意味する。本疎水性層は、それら疎水性及び疎水性を提供するプロセス条件によって主に画定される。適切な疎水性皮膜又は層及びそれらの用途、特性及び使用については米国特許第７，９８５，１８８号明細書に記載されている。疎水性皮膜又は層の特性も有する二重機能（ｄｕａｌ  ｆｕｎｃｔｉｏｎａｌ）不活性化層又はｐＨ保護皮膜を本発明の任意の実施形態に提供することができる。
【００６０】
この明細書全体を通じ、実験組成物ＳｉwＯxＣyＨzにｗ、ｘ、ｙ及びｚの値を適用可能である。この明細書全体を通じて使用されるｗ、ｘ、ｙ及びｚの値は、分子中の原子の数又は種類を限定するものではなく（例えば、皮膜又は層の）比率又は実験式と理解すべきである。例えば、分子組成Ｓｉ4Ｏ4Ｃ8Ｈ24を有するオクタメチルシクロテトラシロキサンは、分子式のｗ、ｘ、ｙ及びｚそれぞれを最大公約数である４で割ることにより得た以下の実験式、Ｓｉ1Ｏ1Ｃ2Ｈ6、によって記載されうる。ｗ、ｘ、ｙ及びｚの値は、また、整数に限定されない。例えば、（非環式）オクタメチルトリシロキサンの分子組成Ｓｉ3Ｏ2Ｃ8Ｈ24はＳｉ1Ｏ0.67Ｃ2.67Ｈ8に可約である。また、ＳｉＯxＣyＨzはＳｉＯxＣyの均等として記載されうるが、ＳｉＯxＣyの存在を示すために任意の割合の水素の存在を示す必要はない。
【００６１】
「ぬれ張力」は表面の疎水性又は親水性の特定の測度である。任意のぬれ張力測定方法は、本発明の文脈においては、ＡＳＴＭ  Ｄ２５７８又はＡＳＴＭ  Ｄ２５７８に記載されている方法の変更形態である。この方法では、標準的なぬれ張力の溶液（ダイン溶液（ｄｙｎｅ  ｓｏｌｕｔｉｏｎｓ）と称される）を使用してプラスチック膜表面をちょうど２秒間濡らすのに最も近い溶液を決定する。これが膜のぬれ張力である。本明細書中において使用する手順はＡＳＴＭ  Ｄ  ２５７８から変更することができ、基板は平坦なプラスチック膜でなく、ＰＥＴチューブを形成するためのプロトコルに従い作製され、チューブ内側を疎水性皮膜又は層（欧州特許出願公開第２２５１６７１Ａ２号明細書の実施例９を参照）で被覆するためのプロトコルに従い被覆された（対照以外）チューブである。
【００６２】
本発明による「滑性皮膜又は層」は、非被覆表面に比べて低い摩擦抵抗を有する皮膜又は層である。
【００６３】
本発明による「不活性化層又はｐＨ保護皮膜」は（この明細書内の別の場所でより広範に定義されるように）、下地表面又は層を、不動態化する、又は層に接触する流体組成物から保護する。
【００６４】
「摩擦抵抗」は静的摩擦抵抗及び／又は動的摩擦抵抗とされうる。
【００６５】
任意の本発明の実施形態の１つは、シリンジ部品、例えば、滑性及び／又は不活性化層又はｐＨ保護皮膜で被覆されたシリンジバレル又はプランジャチップ、ピストン、ストッパ又はシールとされうる。この考えられる実施形態では、本発明の文脈において該当する静的摩擦抵抗は本明細書中に定義されるブレイクアウト力（ｂｒｅａｋｏｕｔ  ｆｏｒｃｅ）であり、本発明の文脈において該当する動的摩擦抵抗は本明細書中において定義されるプランジャ摺動力である。例えば、本発明の文脈においては、本明細書中において定義及び決定されるプランジャ摺動力は、皮膜又は層が任意のシリンジ又はシリンジ部品、例えば、シリンジバレルの内壁に塗布されるときには、滑性及び／又は不活性化層又はｐＨ保護皮膜の存在又は欠如並びに滑性及び／又は不動態化又は防護特性を判断するのに好適である。ブレイクアウト力は、プレフィルドシリンジ、すなわち、被覆後充填することができ、プランジャチップ、ピストン、ストッパ又はシールが再び動かされる（「破壊（ｂｒｏｋｅｎ  ｏｕｔ）」されねばならない）まで、ある時間、例えば、数か月又は更には数年保管することができるシリンジに対する皮膜又は層の効果の評価に特に関係するものとされうる。
【００６６】
「プランジャ摺動力」（同様にこの明細書内で使用される「グライド力（ｇｌｉｄｅ  ｆｏｒｃｅ）」、「維持力（ｍａｉｎｔｅｎａｎｃｅ  ｆｏｒｃｅ）」又はＦmの類義語）は、本発明の文脈においては、例えば、吸引又は分与時、シリンジバレル内において、プランジャチップ、ピストン、ストッパ又はシールの運動を維持するのに必要な力である。プランジャ摺動力は本明細書中に記載され、且つ当技術分野において公知のＩＳＯ７８８６−１：１９９３試験を使用して有利に決定されうる。当技術分野においてしばしば使用される「プランジャ摺動力」の類義語は「プランジャ力」又は「押力」である。
【００６７】
「プランジャブレイクアウト力（ｐｌｕｎｇｅｒ  ｂｒｅａｋｏｕｔ  ｆｏｒｃｅ）」（同様に本明細書において使用される「ブレイクアウト力」、「ブレイクルーズ力（ｂｒｅａｋ  ｌｏｏｓｅ  ｆｏｒｃｅ）」、「イニテーション力（ｉｎｉｔａｔｉｏｎ  ｆｏｒｃｅ）」、Ｆｉの類義語）は、本発明の文脈においては、プランジャチップ、ピストン、ストッパ又はシールをシリンジ内、例えば、プレフィルドシリンジ内において動かすのに必要な初期カである。
【００６８】
「プランジャ摺動力」及び「プランジャブレイクアウト力」の両方並びにそれらの測定の方法については本明細書の後の部分に更に詳細に記載する。これら２つの力は、Ｎ、ｌｂｓ又はｋｇで表すことができ、本明細書中においては全３つの単位を使用する。これら単位は以下のように相関する：１Ｎ＝０．１０２ｋｇ＝０．２２４８ｌｂｓ（ポンド）。
【００６９】
摺動力及びブレイクアウト力は、本明細書中においては、ストッパを容器に配置して容器を閉じるために、ストッパ又は他のクロージャを医療サンプルチューブ又はバイアルなどの薬剤パッケージ又は他の容器内に前進させるのに必要な力を表すためにしばしば使用される。少なくともほとんどの場合においてクロージャを着座位置に前進させた場合に液体が容器から排出されないこと以外は、その使用は、シリンジ及びそのプランジャチップ、ピストン、ストッパ又はシールの文脈における使用に類似しうるものであり、容器及びそのクロージャのこれら力の測定はシリンジのこれら力の測定に類似するものであると考えられる。
【００７０】
「摺動可能に」は、プランジャチップ、ピストン、ストッパ又はシール、又は他の着脱部分が、シリンジバレル又は他の容器内において摺動することを可能とされうることを意味する。
【００７１】
ＳｉＯxの皮膜を、プラズマ化学気相成長（ＰＥＣＶＤ）又は他の化学気相成長法によって薬剤パッケージの容器、特に、熱可塑性プラスチックパッケージ上に堆積させ、酸素、空気、二酸化炭素又は他のガスが容器に入ることを防止する、及び／又は薬剤材料がパッケージ壁内に又はパッケージ壁を通じて浸出することを防止するバリア皮膜又は層として機能させる。バリア皮膜又は層は、不活性化層又はｐＨ保護皮膜のない容器と比べて、大気ガス、例えば、酸素の、内腔内への進入を低減するのに効果的とされうる。
【００７２】
任意の実施形態においては、蒸着皮膜又は層は、任意選択的に、また、又は代替的に、溶質バリア皮膜又は層とされうる。ガラスからプラスチックシリンジに転換する上での懸念は、主に、プラスチックから材料が浸出可能となる可能性である。プラズマ被覆技術によって、非金属気体前駆体、例えば、ＨＭＤＳＯ又はＯＭＣＴＳ又は他の有機ケイ素化合物から得られる皮膜又は層が微量金属を含まず、無機金属及び有機溶質のバリア皮膜又は層として機能し、被覆された基板からこれら種がシリンジ流体中に浸出することを防止する。プラスチックシリンジの浸出制御に加えて、同プラズマ不活性化層又はｐＨ保護皮膜技術は、更に高いレベルの浸出性有機オリゴマー及び触媒を含有するエラストマプラスチック組成物で通常作製されたプランジャチップ、ピストン、ストッパ又はシールに溶質バリアを設ける可能性を提供する。
【００７３】
更に、合成及び生物学的医薬製剤が予め充填された特定のシリンジは酸素及び水分に非常に敏感である。ガラスからプラスチックシリンジバレルへの転換における重要な要素はプラスチックにおける酸素及び水分バリア性能の向上であろう。プラズマ不活性化層又はｐＨ保護皮膜技術は、長期間の保管寿命にわたり酸素及び水分から保護するためのＳｉＯxバリア皮膜又は層又は層を維持するのに好適とされうる。
【００７４】
任意の実施形態において、バリア層によって有用に排除される薬物中の溶質の例は、抗菌性防腐剤、酸化防止剤、キレート剤、ｐＨ緩衝液、及びこれらいずれかの組み合わせを含む。任意の実施形態においては、蒸着皮膜又は層は、任意選択的に、薬物の可溶化を増加するために使用される助溶剤を含む溶剤用の溶剤バリア皮膜又は層とされうる。
【００７５】
任意の実施形態においては、蒸着皮膜又は層は、任意選択的に、水、グリセリン、プロピレングリコール、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、アセトン、ベンジルアルコール、ポリエチレングリコール、綿実油、ベンゼン、ジオキサン、又はこれらのいずれか２つ以上の複合体のためのバリア皮膜又は層とされうる。
【００７６】
任意の実施形態においては、蒸着皮膜又は層は、任意選択的に、金属イオンバリア皮膜又は層とされうる。
【００７７】
任意の実施形態においては、蒸着皮膜又は層は、任意選択的に、前に言及したベースバレル樹脂のいずれか及び任意の他のそれらの関連する組成の原料などの、バレル材料の浸出を防止又は低減するためのバレル壁材料バリア皮膜又は層とされうる。
【００７８】
しかしながら、本発明者は、そのようなバリア皮膜もしくは層又はＳｉＯxの皮膜は一部の流体組成物、例えば、約５を超えるｐＨを有する水性組成物によって浸食又は溶解されることを発見した。化学気相成長によって塗布される皮膜は非常に薄くなりうる（厚さ数１０乃至数百ナノメートル）ため、比較的遅い速度の浸食であっても製品パッケージの所望の保管寿命よりも短い時間でバリア皮膜又は層の有効性を排除又は低減する可能性がある。これは流体薬剤組成物においては特に問題となりうるが、その理由は、それらの多くが血液及び他のヒト又は動物の体液のｐＨと同様のおよそ７のｐＨを有するかより広範には５乃至９の範囲内であるためである。製剤のｐＨが高くなるほどそれはＳｉＯx皮膜をより急速に侵食又は溶解する。
【００７９】
本発明者は、更に、保護皮膜がなければ、ホウケイ酸ガラス表面は一部の流体組成物、例えば、約５を超えるｐＨを有する水性組成物によって浸食又は溶解されることを発見した。これは流体薬剤組成物においては特に問題となりうるが、その理由は、それらの多くが血液及び他のヒト又は動物の体液のｐＨと同様のおよそ７のｐＨを有するかより広範には５乃至９の範囲内であるためである。製剤のｐＨが高くなるほどそれはガラスを侵食又はより急速に溶解する。ガラスの小粒子は約５を超えるｐＨを有する水性組成物によってアンダーカット（ｕｎｄｅｒｃｕｔ）されるため、そのような浸食又は溶解によってガラスの層間剥離もまた生じる可能性がある。
【００８０】
本発明者は、更に、環式ポリシロキサン前駆体から形成された特定のＳｉＯxＣy又はＳｉＮxＣyの不活性化層又はｐＨ保護皮膜（この不活性化層又はｐＨ保護皮膜はかなりの有機成分を有する）は、流体組成物に曝露された場合に急速に侵食せず、実際のところ、流体組成物が５乃至９の範囲内におけるより高いｐＨを有する場合にはよりゆっくりと侵食又は溶解することを発見した。例えば、ｐＨ８においては、前駆体オクタメチルシクロテトラシロキサン、すなわちＯＭＣＴＳから作製された不活性化層又はｐＨ保護皮膜の溶解速度は非常に遅いものとなりうる。これらＳｉＯxＣy又はＳｉＮxＣyの不活性化層又はｐＨ保護皮膜を、したがって、ＳｉＯxのバリア皮膜又は層を被覆するために使用することができ、それを不動態化又は薬剤パッケージ内の流体組成物から保護することによってバリア皮膜又は層の利点を保持する。これらＳｉＯxＣy又はＳｉＮxＣyの不活性化層又はｐＨ保護皮膜は、また、ガラス表面、例えば、ホウケイ酸ガラス表面を被覆するために使用することができ、それを不動態化又は薬剤パッケージ内の流体組成物から保護することによってガラスの層間剥離、浸食及び溶解を防止する。
【００８１】
本発明は以下の理論の精度に依拠しないが、効果的なＳｉＯxＣy不活性化層又はｐＨ保護皮膜の材料特性と、米国特許第７，９８５，１８８号明細書及び国際出願ＰＣＴ／ＵＳ１１／３６０９７号明細書に記載されている効果的な滑性層の材料特性は場合によっては類似するため、本明細書の特定実施例、米国特許第７，９８５，１８８号明細書又は国際出願ＰＣＴ／ＵＳ１１／３６０９７号明細書に記載されている滑性層の特性を有する皮膜は、また、特定の場合においては、パッケージのバリア皮膜又は層を不動態化又は保護するため、及びその逆のための機能する並びに不活性化層又はｐＨ保護皮膜と考えられる。
【００８２】
本発明は以下の理論の精度に依拠しないが、更に、最も効果的な滑性及び／又は不活性化層又はｐＨ保護皮膜は、本開示に記載される環式シロキサン類及びシラザン類から作製されたものであると考えられる。直鎖シロキサン前駆体又は直鎖シラザン前駆体、例えば、ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）から堆積させたＳｉＯxＣy又はＳｉＮxＣy皮膜は、かなりの量の本来の前駆体断片及び少量の有機成分を含有すると考えられる。そのようなＳｉＯxＣy又はＳｉＮxＣy皮膜はわずかな水混和性又は膨潤性を有するため、それらへの水溶液による攻撃を可能にする。環式シロキサン前駆体又は直鎖シラザン前駆体、例えば、オクタメチルシクロテトラシロキサン（ＯＭＣＴＳ）から堆積させたＳｉＯxＣy又はＳｉＮxＣy皮膜は、しかしながら、より完全な（ｉｎｔａｃｔ）環式シロキサン環及び前駆体構造の繰り返し単位のより長い列を含むと考えられる。これら皮膜は、ナノ多孔性であるが構造化され、且つ疎水性であると考えられ、また、これら特性はそれらの不活性化層又はｐＨ保護皮膜としての成功に寄与すると考えられる。これは、例えば、米国特許第７，９０１，７８３号明細書に示されている。
【００８３】
ここで、いくつかの実施形態を示す添付の図面を参照して本発明をより詳細に説明する。しかしながら、本発明は多くの異なる形態で具現化することができ、ここで説明する実施形態に限定されるものと解釈すべきではない。むしろ、これら実施形態は本発明の例であり、特許請求の範囲の文言により示される全範囲を有する。全体にわたり同様の数は同様の要素又は対応する要素を意味する。以下の開示は、特定の実施形態に特に限定されない限りは全実施形態に関連する。
【００８４】
ＰＥＣＶＤ処理された薬剤パッケージ又は他の容器
本明細書中に記載される及び／又は本明細書中に記載される方法に従い用意される不活性化層又はｐＨ保護皮膜を備えた容器は、化合物又は組成物の受容及び／又は保管及び／又は送達のために使用されうる。化合物又は組成物は敏感であり、例えば、空気に敏感、酸素に敏感、湿度に敏感、及び／又は機械的作用（ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ  ｉｎｆｌｕｅｎｃｅｓ）に敏感となりうる。それは生物学的に活性の化合物又は組成物、例えば、インスリン又はインスリンを含む組成物などの製剤又は薬剤とされうる。インスリンなどの注射可能な又は他の液剤を含むプレフィルドシリンジが特に考慮されうる。
【００８５】
別の態様においては、化合物又は組成物は、生物学的流体、任意選択的に、体液、例えば、血液又は血液分画とされうる。本発明の特定態様においては、化合物又は組成物は、その必要に応じて患者に投与される製品、例えば、（ドナーからレシピエントへの血液の輸血又はある患者からこの患者への血液の再導入のように）血液又はインスリンなどの、注射される製品とされうる。
【００８６】
本明細書中に記載される及び／又は本明細書中に記載される方法に従い用意される不活性化層又はｐＨ保護皮膜を備えた容器は、更に、その内部空間に収容された化合物又は組成物を容器材料の表面の機械的及び／又は化学的効果から保護するために使用されうる。例えば、それは、化合物又は組成物の成分の沈殿及び／又は凝固又は血小板活性化、例えば、インスリン沈殿又は血液凝固又は血小板活性化を防止又は低減するために使用されうる。
【００８７】
それは、更に、その内部に収容された化合物又は組成物を、例えば、１つ又は複数の化合物の、容器周囲の環境から容器の内部空間への進入を防止又は低減することにより、薬剤パッケージ又は他の容器外部の環境から保護するために使用されうる。そのような環境化合物は、ガス又は液体、例えば、大気ガス又は酸素、空気及び／又は水分を含有する液体とされうる。
【００８８】
図を参照すると、本発明の一態様は、バリア皮膜又は層３０及び不活性化層又はｐＨ保護皮膜３４が、化合物又は組成物との接触及び／又は化合物又は組成物の保管及び／又は送達のための、図７乃至９のいずれかの薬剤パッケージ２１０などの容器の内部壁１６の少なくとも一部、サンプル採集チューブ（例えば、血液サンプリングチューブ及び／又は閉端型サンプル採集チューブ）、導管、キュベット、又は容器部品（例えば、プランジャチップ、ピストン、ストッパ又はシール）に直接塗布される、又は間接的に塗布される方法とされうる。
【００８９】
容器壁の構造
任意選択的に、図７乃至９のいずれかの実施形態においては、薬剤パッケージ２１０の内面壁１６の少なくとも一部が、ポリマー、例えば、ポリオレフィン（例えば、環式オレフィン重合体、環式オレフィン共重合体又はポリプロピレン）、ポリエステル（例えば、ポリエチレンテレフタレート又はポリエチレンナフタレート）、ポリカーボネート、ポリ乳酸、又は上記材料のいずれか２つ以上の任意の複合体、合成物もしくは混合物を実質的に含むか、それらからなる。
【００９０】
任意選択的に、図７乃至９のいずれかの実施形態においては、薬剤パッケージ２１０の内面壁１６の少なくとも一部は、ホウケイ酸ガラスなどのガラスを実質的に含むか、ホウケイ酸ガラスなどのガラスからなる。
【００９１】
前述の実施形態のいずれかの任意の特徴として、高分子材料は、２つの例として、シリコーンエラストマ又は熱可塑性プラスチックポリウレタン、又は血液又はインスリンとの接触に適した任意の材料とされうる。例えば、インスリンを保管するため、記載したいずれかの実施形態による被覆された基板の使用が企図される。
【００９２】
任意選択的に、図７の実施形態に関しては、薬剤パッケージ２１０はシリンジバレルを含む。
【００９３】
任意選択的に、薬剤パッケージはカートリッジを含む。
【００９４】
任意選択的に、図８の実施形態に関しては、薬剤パッケージ２１０はバイアルを含む。
【００９５】
任意選択的に、図９の実施形態に関しては、薬剤パッケージ２１０はブリスタパッケージを含む。
【００９６】
任意選択的に、薬剤パッケージはアンプルを含む。
【００９７】
あるいは、容器は、長さ約１ｃｍ乃至約２００ｃｍ、任意選択的に、約１ｃｍ乃至約１５０ｃｍ、任意選択的に、約１ｃｍ乃至約１２０ｃｍ、任意選択的に、約１ｃｍ乃至約１００ｃｍ、任意選択的に、約１ｃｍ乃至約８０ｃｍ、任意選択的に、約１ｃｍ乃至約６０ｃｍ、任意選択的に、約１ｃｍ乃至約４０ｃｍ、任意選択的に、約１ｃｍ乃至約３０ｃｍの長さのチューブ類とすることができ、それを以下に記載されるようにプローブ電極で加工する。特に上記範囲内の長い方の長さにおいては、不活性化層又はｐＨ保護皮膜形成時における、ＰＥＣＶＤ又は他の化学気相成長用プローブと容器との間の相対運動が有用となりうると考えられる。これは、例えば、容器をプローブに対して動かすことによって、又はプローブを容器に対して動かすことによって実施することができる。
【００９８】
これら実施形態においては、以下に記載するバリア皮膜又は層は、真空にした血液サンプリングチューブに必要とされる高度なガスバリア完全性（ｇａｓ  ｂａｒｒｉｅｒ  ｉｎｔｅｇｒｉｔｙ）、故に、バリア皮膜又は層と長期間接触する液体物質を保管するのに必要な長い保管寿命を提供するのに好適なものに比べて薄いか、完全に満たない（ｌｅｓｓ  ｃｏｍｐｌｅｔｅ）ものとされうると考えられる。
【００９９】
前述の実施形態のいずれかの任意の特徴として、容器は中心軸線を有しうる。前述の実施形態のいずれかの任意の特徴として、容器壁は、２０℃において、壁を破損することなく少なくとも実質的に直線から、容器の外径の１００倍以下の中心軸線曲げ半径（ｂｅｎｄｉｎｇ  ｒａｄｉｕｓ  ａｔ  ｔｈｅ  ｃｅｎｔｒａｌ  ａｘｉｓ）までの範囲にわたり少なくとも一度撓むほど十分に可撓性を有しうる。
【０１００】
前述の実施形態のいずれかの任意の特徴として、中心軸線曲げ半径は、容器の外径の、例えば、９０倍以下、又は８０倍以下、又は７０倍以下、又は６０倍以下、又は５０倍以下、又は４０倍以下、又は３０倍以下、又は２０倍以下、又は１０倍以下、又は９倍以下、又は８倍以下、又は７倍以下、又は６倍以下、又は５倍以下、又は４倍以下、又は３倍以下、又は２倍以下、又は容器の外径以下とされうる。
【０１０１】
前述の実施形態のいずれかの任意の特徴として、容器壁は可撓性材料で作製された流体接触面（ｆｌｕｉｄ−ｃｏｎｔａｃｔｉｎｇ  ｓｕｒｆａｃｅ）とされうる。
【０１０２】
前述の実施形態のいずれかの任意の特徴として、容器内腔はポンプの流体流通路とされうる。
【０１０３】
前述の実施形態のいずれかの任意の特徴として、容器は血液を含む容器とされうる。不活性化層又はｐＨ保護皮膜は、疎水性層で非被覆の同じタイプの壁と比較すると、内側又は内部表面に曝露される血液の凝固又は血小板活性化を低減するのに効果的とされうる。
【０１０４】
疎水性層を組み込むと、その未修飾高分子（ｕｎｍｏｄｉｆｉｅｄ  ｐｏｌｙｍｅｒｉｃ）又はＳｉＯx表面に接触する特性に比べて血液の癒着又は凝塊形成傾向を低減すると考えられる。この特性は、心臓手術中に人工心肺を使用する場合のように、患者から血液を抜き、その後、患者に戻すことを必要とする種類の手術を受ける患者に必要なへパリンの血中濃度を低減することによって、血液をへパリンで処理する必要を低下又は場合によっては排除すると考えられる。これによりへパリンの使用に起因する出血合併症を低減することによって、そのような薬剤パッケージ又は他の容器を血液が通過することに伴う手術の合併症を低減すると考えられる。
【０１０５】
別の実施形態は、壁を含み、且つ内腔を画定する内側又は内部表面を有する容器とされうる。内側又は内部表面は疎水性表面を呈する少なくとも部分（ｐａｒｔｉａｌ）不活性化層又はｐＨ保護皮膜を有しうる。不活性化層又はｐＨ保護皮膜の厚さは内側又は内部表面上で単分子の厚さ乃至約１０００ｎｍの厚さであり、不活性化層又はｐＨ保護皮膜は内側又は内部表面に曝露される血液の凝固又は血小板活性化を低減するのに効果的である。
【０１０６】
そのような容器のいくつかの非限定的な例は、輸血バッグ、サンプルが採集された血液サンプル採集容器、人工心肺のチューブ類、可撓性壁採血バッグ、又は手術中に患者の血液を採取するために、及び血液を患者の血管系に再導入するために使用されるチューブ類である。容器が血液を圧送するためのポンプ含む場合、特に好適なポンプは遠心ポンプ又はペリスタルティックポンプとされうる。容器は壁を有しうる。壁は内腔を画定する内側又は内部表面を有しうる。壁の内側又は内部表面は、任意選択的に疎水性表面も呈する、保護層の少なくとも部分不活性化層又はｐＨ保護皮膜を有しうる。不活性化層又はｐＨ保護皮膜は単分子の厚さほどの薄さとすることも約１０００ｎｍの厚さとすることもできる。任意選択的に、容器は、内腔内に疎水性層と接触して配置された、患者の血管系に戻すために生存可能な（ｖｉａｂｌｅ）血液を含みうる。
【０１０７】
一実施形態は、壁を含み、且つ内腔を画定する内側又は内部表面を有する、血液を含む容器とされうる。内側又は内部表面は、任意選択的に疎水性表面も呈する、少なくとも部分不活性化層又はｐＨ保護皮膜を有しうる。不活性化層又はｐＨ保護皮膜は、また、ＳｉＯxＣyを含みうるか実質的にＳｉＯxＣyからなりうる。ｘ及びｙはこの明細書に定義される通りである。容器は、内腔内に疎水性皮膜又は層と接触して配置された、患者の血管系に戻すための生存可能な血液を含む。
【０１０８】
一実施形態は、疎水性不活性化層又はｐＨ保護皮膜を基板上に形成するのに効果的な条件下で実施されうる。任意選択的に、不活性化層又はｐＨ保護皮膜の疎水性特性は、気体反応物中における酸化性ガスの有機ケイ素化合物前駆体に対する比率を設定することによって及び／又はプラズマを発生させるために使用される電力を設定することによって設定されうる。任意選択的に、不活性化層又はｐＨ保護皮膜は非被覆表面よりも低いぬれ張力、任意選択的に、２０乃至７２ダイン／ｃｍ、任意選択的に、３０乃至６０ダイン／ｃｍ、任意選択的に、３０乃至４０ダイン／ｃｍ、任意選択的に、３４ダイン／ｃｍのぬれ張力を有しうる。任意選択的に、不活性化層又はｐＨ保護皮膜は非被覆表面よりも更に疎水性とされうる。
【０１０９】
任意の実施形態においては、容器は少なくとも２ｍｍ又は少なくとも４ｍｍの内径を有しうる。
【０１１０】
前述の実施形態のいずれかの任意の特徴として、容器はチューブとされうる。
【０１１１】
前述の実施形態のいずれかの任意の特徴として、内腔は少なくとも２つの開端部を有しうる。
【０１１２】
シリンジ
図１乃至７の容器はシリンジであり、不活性化層又はｐＨ保護皮膜が設けられた、企図されたタイプの容器である。シリンジは、シリンジバレル１４と、プランジャチップ、ピストン、ストッパ又はシール３６とを含みうる。内面壁１６はシリンジバレル２５０の少なくとも一部を画定しうる。プランジャチップ、ピストン、ストッパ又はシール３６は、シリンジの、シリンジバレル２５０に対して相対的に摺動する部品とされうる。用語「シリンジ」は、カートリッジ、「ペン」型注射器、及び１つ又は複数の他の構成要素と組み立てられ機能的なシリンジを提供するようになっている他の種類のバレル又はリザーバを含むよう広く定義される。「シリンジ」は、また、オートインジェクタなどの、内容を分与するための機構を提供する関連物品を含むよう広く定義される。
【０１１３】
シリンジを作製するための１つの非限定的な手法として、バレル１４と、分与部２０と、シールド２８とを含む、キャップが嵌められたプリアセンブリ１２が提供されうる。キャップが嵌められたプリアセンブリ１２は、シリンジ、カートリッジ、カテーテル、又は他の物品などの、流体を分与するようになっている完全な物品とすることも、完全な物品の一部とすることもできる。
【０１１４】
バレル１４はバレル内腔１８を画定する内面壁１６を有しうる。任意選択的に、任意の実施形態においては、バレル１４は、分与部２０から間隔をおいて配置され、且つ内面壁１６内に通じる開口部３２を更に含みうる。そのような開口部は、例えば、シリンジ又はカートリッジ内の従来のものとすることができる。一般的な例は、プレフィルドシリンジバレルの後部開口部３２とされ、分与されることになる適切な製剤又は他の流体物質４０をバレル内腔１８に充填した後、そこを通じて、プランジャチップ、ピストン、ストッパ又はシール３６を挿入することができる。
【０１１５】
バレル１４は、例えば、成形によって形成することができるが、その形成の手法は重要ではなく、それは、例えば、固体プリフォーム（ｓｏｌｉｄ  ｐｒｅｆｏｒｍ）の機械加工によっても形成することができる。好ましくは、バレルは、熱可塑性プラスチック材料の射出成形によって成形することができるが、それは、ブロー成形又は複合的な方法によっても形成することができる。
【０１１６】
１つの好適な例として、バレル１４は、以下に記載される分与部２０を射出金型内に配置し、熱可塑性プラスチック材料を分与部の周りに射出成形することによって形成することができ、このようにしてバレルを形成し、且つ分与部をバレルに固定する。あるいは、分与部及びバレルは、単一部品として成形又はそうでなければ形成されうる。あるいは、別々に形成され他の手法で接合されうる。任意の実施形態のバレルは任意の適切な材料で作製されうる。特に考えられるバレル材料のいくつかは、ＣＯＣ（環式オレフィン共重合体）、ＣＯＰ（環式オレフィン重合体）、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）及びポリプロピレンである。
【０１１７】
キャップが嵌められたプリアセンブリ１２の分与部２０は、キャップが嵌められたプリアセンブリ１２から形成された完全な物品のバレル内腔１８から分与される流体用の出口としての機能を果たすために提供されうる。図に示される好適な分与部の一例は皮下針２０とされうる。
【０１１８】
あるいは、任意の実施形態においては、代わりに、分与部２０を、針なしディスペンサ（ｎｅｅｄｌｅ−ｆｒｅｅ  ｄｉｓｐｅｎｓｅｒ）とすることができる。好適な針なしディスペンサの１つの例は、流体物質４０を移動するために相補的結合部内に受容されることを意図した平滑（ｂｌｕｎｔ）又は可撓性分与部とされうる。そのような平滑又は可撓性分与部は、シリンジ、静脈内注入システム、並びに、物質を分与する一方で、医療専門家又は他の人物を誤って刺すおそれのある鋭利な針による作業の危険を回避するための他のシステム及び機器での使用において周知である。針なしディスペンサの別の例は、媒介する針（ｉｎｔｅｒｍｅｄｉａｔｅ  ｎｅｅｄｌｅ）の必要なく流体の自由噴射又は噴霧を患者の皮膚を通じて直接注入する流体噴射又は噴霧式注入システムとされうる。本発明の任意の実施形態による使用においては、皮下針であろうと任意の形態の針なしディスペンサであろうと、任意の種類の分与部２０が考えられる。
【０１１９】
分与部２０はバレル１４に固定されるか固定することができ、近位開口部２２と、遠位開口部２４と、分与部内腔２６とを含む。近位開口部２２はバレル内腔１８と連通する。遠位開口部２４はバレル１４の外側に配置されうる。分与部内腔２６は分与部２０の近位開口部２２と遠位開口部２４との間において連通する。示される実施形態においては、遠位開口部２４は皮下針２０の鋭利な先端に設けることができる。
【０１２０】
シールド２８はバレル１４に固定することができ、分与部２０の遠位開口部２４をシールド２８外側の圧力状態から少なくとも実質的に分離する。任意選択的に、任意の実施形態においては、シールド２８は、キャップが嵌められたプリアセンブリ１２の、経皮的な注入のための安全な使用を促進するのに十分なバイオバリア（ｂｉｏ−ｂａｒｒｉｅｒ）を提供するため、アセンブリ１２の一部を十分に分離する。
【０１２１】
シールド２８は遠位開口部２４を種々の手法で分離することができる。本図２、３、４及び７に示すように、効果的な分離は少なくとも部分的にシールド２８と遠位開口部２４との間の接触により提供されうる。示される実施形態においては、分与部２０の先端はシールド２８の材料に埋設されうる。あるいは、任意の実施形態においては、同様に本図２、３、４及び７に示すように、効果的な分離は少なくとも部分的にシールド２８とバレル１４との間の接触により提供されうる。示される実施形態においては、シールド２８とバレル１４との間の一次接触線（ｐｒｉｍａｒｙ  ｌｉｎｅ  ｏｆ  ｃｏｎｔａｃｔ）はバレル１４の先端において略円筒状表面４４を取り囲み、且つそれに配置されるリブ４２（図３に最も良く見える）とされうる。あるいは任意の実施形態においては、図２乃至３に示されるこれら両タイプの接触により、又は限定されることなく他の手法において効果的な分離が提供されうる。
【０１２２】
任意の実施形態のシールド２８は、任意選択的に、係合してシールド２８を所定の位置に保持するバーブ４６とキャッチ４８とを含むラッチング機構を有しうる。これは図３に最も良く示される。キャッチ４８は、シールド２８を容易に取り外し、交換することを可能にするために十分に弾性の材料で作製されうる。
【０１２３】
分与部２０が皮下針である場合、シールド２８は特別に形成された針シールドとされうる。針シールドの本来の用途は、使用前の皮下針をカバーして偶発的な針の突き出しを防止し、針が患者又は注射ポートに注射される前の針の汚染を防止することである。分与部２０が針なしディスペンサであっても、取り扱い時のディスペンサの汚染を防止するために類似のシールドを使用することが好ましい。
【０１２４】
シールド２８は任意の適切な手法で形成されうる。例えば、シールド２８は熱可塑性プラスチック材料の成形によって形成されうる。任意選択的に、任意の実施形態においては、熱可塑性プラスチック材料はエラストマ材料又はシールを形成するのに適しうる他の材料とされうる。エラストマ材料の１つの適切なカテゴリは総称的に熱可塑性エラストマ（ＴＰＥ）として公知である。シールド２８を作製するのに好適な熱可塑性エラストマの例はＳｔｅｌｍｉ（登録商標）Ｆｏｒｍｕｌａｔｉｏｎ  ４８００（可撓性シールド配合物（ｆｌｅｘｉｂｌｅ  ｓｈｉｅｌｄ  ｆｏｒｍｕｌａｔｉｏｎ））。任意の実施形態においては、好適な特性を有する任意の他の材料を代わりに使用することができる。
【０１２５】
任意の実施形態における別の任意の特徴として、シールド２８は、アセンブリ１２の、シールドによって分離された部分を滅菌するため、滅菌ガスに対して十分に透過性とされうる。適切な滅菌ガスの１つの例はエチレンオキシドである。シールドによって分離された部分を分離されているにもかかわらず滅菌することができる、滅菌ガスに対して十分に透過性を有するシールド２８が利用可能である。エチレンオキサイドガス滅菌に対応するほど十分に透過性を有するシールド配合物の例は、Ｓｔｅｌｍｉ（登録商標）Ｆｏｒｍｕｌａｔｉｏｎ  ４８００とされうる。
【０１２６】
多くの共通の特徴を有する本発明の３つの実施形態は図７乃至９のものである。それら共通の特徴のいくつかは以下の通りであり、多くの場合、共通の参照符号又は名称によって示される。各実施形態の特徴の性質は明細書内で後述するようなものとされうる。
【０１２７】
図７乃至９の薬剤パッケージはそれぞれ、容器２１０と、流体組成物４０と、ＳｉＯxバリア皮膜又は層３０と、不活性化層又はｐＨ保護皮膜３４とを含む。各容器２１０は、熱可塑性プラスチック材料で作製された壁内部部分１６によって少なくとも部分的に画定された内腔１８を有しうる。
【０１２８】
内面壁１６は、内腔１８に面した内部表面２５４と、外部表面２１６とを有しうる。
【０１２９】
流体組成物４０は内腔１８内に収容することができ、４乃至１０、あるいは５乃至９のｐＨを有しうる。
【０１３０】
バリア皮膜又は層
充填済み薬剤パッケージ又は他の容器２１０においては、バリア皮膜又は層３０は熱可塑性プラスチック内面壁１６の内側又は内部表面と、流体物質４０との間に配置されうる。ＳｉＯxのバリア皮膜又は層２８６は熱可塑性プラスチック内面壁１６によって支持されうる。バリア皮膜又は層２８６は、流体物質４０による攻撃の結果、６か月未満でバリア改善度が測定可能な程度低下するという特徴を有しうる。この明細書の別の場所又は米国特許第７，９８５，１８８号明細書に記載されるように、バリア皮膜又は層２８６は任意の実施形態において使用されうる。
【０１３１】
バリア皮膜又は層３０は、その他の点では薬剤パッケージ又は他の容器２１０と同じである非被覆コンテナと比較すると、内腔１８への大気ガスの進入を低減するのに効果的とされうる。この明細書に定義される任意の実施形態のバリア皮膜又は層は（特定の例において明記されない限りは）、任意選択的に、米国特許第７，９８５，１８８号明細書に示されるようにＰＥＣＶＤによって塗布される。
【０１３２】
バリア皮膜又は層のバリア改善度（ＢＩＦ）は、同一コンテナの２つの群を用意して、バリア皮膜又は層をコンテナの１つの群に付加し、バリア皮膜又は層を有するコンテナのバリア特性（マイクログラム／分又は別の適切な測度におけるガス放出の速度など）を試験し、バリア皮膜も層もないコンテナに同じ試験を実施し、バリア皮膜又は層を有する材料の特性の比率に対する、バリア皮膜又は層を有しない材料の特性の比率を得ることによって決定されうる。例えば、バリア皮膜又は層を通過するガス放出の速度がバリア皮膜も層もないガス放出の速度の３分の１であれば、バリア皮膜又は層は３のＢＩＦを有する。
【０１３３】
バリア皮膜又は層は、任意選択的に、「ＳｉＯx」皮膜と特徴付けることができ、ケイ素、酸素、及び任意選択的に、他の元素を含有する。酸素原子とケイ素原子の比率であるｘは、約１．５乃至約２．９、又は１．５乃至約２．６、又は約２とされうる。ｘのこれら選択的定義はこの明細書における用語ＳｉＯxのいずれの使用にもあてはまる。バリア皮膜又は層は、例えば、薬剤パッケージ又は他の容器、例えば、サンプル採集チューブ、シリンジバレル、バイアル又は別のタイプの容器の内側に塗布されうる。
【０１３４】
バリア皮膜又は層３０はＳｉＯxを含むか実質的にＳｉＯxからなり、厚さが２乃至１０００ｎｍである。ＳｉＯxのバリア皮膜又は層３０は、内腔１８に面した内部表面と、内面壁１６に面した外部表面とを有する。バリア皮膜又は層３０は、非被覆薬剤パッケージ２１０と比較すると、内腔１８への大気ガスの進入を低減するのに効果的とされうる。１つの好適なバリア組成物は、例えば、ｘが２．３のものとされうる。
【０１３５】
例えば、３０などの、任意の実施形態のバリア皮膜又は層は、少なくとも２ｎｍ、又は少なくとも４ｎｍ、又は少なくとも７ｎｍ、又は少なくとも１０ｎｍ、又は少なくとも２０ｎｍ、又は少なくとも３０ｎｍ、又は少なくとも４０ｎｍ、又は少なくとも５０ｎｍ、又は少なくとも１００ｎｍ、又は少なくとも１５０ｎｍ、又は少なくとも２００ｎｍ、又は少なくとも３００ｎｍ、又は少なくとも４００ｎｍ、又は少なくとも５００ｎｍ、又は少なくとも６００ｎｍ、又は少なくとも７００ｎｍ、又は少なくとも８００ｎｍ、又は少なくとも９００ｎｍの厚さで塗布されうる。バリア皮膜又は層は、１０００ｎｍ以下、又は最大で９００ｎｍ、又は最大で８００ｎｍ、又は最大で７００ｎｍ、又は最大で６００ｎｍ、又は最大で５００ｎｍ、又は最大で４００ｎｍ、又は最大で３００ｎｍ、又は最大で２００ｎｍ、又は最大で１００ｎｍ、又は最大で９０ｎｍ、又は最大で８０ｎｍ、又は最大で７０ｎｍ、又は最大で６０ｎｍ、又は最大で５０ｎｍ、又は最大で４０ｎｍ、又は最大で３０ｎｍ、又は最大で２０ｎｍ、又は最大で１０ｎｍ、又は最大で５ｎｍの厚さとされうる。上に記載した最小厚さのいずれか１つに加え、上に記載した最大厚さの任意の１つに等しい又はそれを超えるものを含む特定の厚さ範囲が特に企図される。ＳｉＯx又は他のバリア皮膜又は層の厚さは、例えば、透過電子顕微鏡法（ＴＥＭ）によって測定することができ、その組成はＸ線光電子分光器（ＸＰＳ）によって測定することができる。本明細書中に記載される不活性化層又はｐＨ保護皮膜は、プラスチック又はガラス製の種々の薬剤パッケージ又は他の容器、例えば、プラスチックチューブ、バイアル及びシリンジに適用されうる。
【０１３６】
不活性化層又はｐＨ保護皮膜
ＳｉＯxＣyの不活性化層又はｐＨ保護皮膜３４は、例えば、ＰＥＣＶＤにより直接又は間接的にバリア皮膜又は層３０に塗布されうるため、それは、完成物品において、バリア皮膜又は層３０と流体物質４０との間に配置されうる。不活性化層又はｐＨ保護皮膜３４は、内腔１８に面した内部表面と、バリア皮膜又は層３０の内部表面に面した外部表面とを有しうる。不活性化層又はｐＨ保護皮膜３４は熱可塑性プラスチック内面壁１６によって支持されうる。非限定的な一実施形態において、不活性化層又はｐＨ保護皮膜３４は、バリア皮膜又は層３０を、流体物質４０による少なくとも６か月の期間の攻撃の結果、少なくとも実質的に溶解しない状態で維持するのに効果的とされうる。
【０１３７】
任意選択的に、不活性化層又はｐＨ保護皮膜は、それぞれこの明細書に定義されるように、ＳｉwＯxＣyＨz（又はその均等のＳｉＯxＣy）又はＳｉwＮxＣyＨz又はその均等のＳｉＮxＣy）を含みうる。Ｈ原子を考慮すると、不活性化層又はｐＨ保護皮膜は、故に、一態様においては、例えば、式ＳｉwＯxＣyＨz、又はその均等のＳｉＯxＣyを有してもよく、この場合、ｗは１、ｘは約０．５乃至約２．４、ｙは約０．６乃至約３、ｚ（定義される場合）は約２乃至約９である。
【０１３８】
原子比率はＸＰＳ（Ｘ線光電子分光器）によって決定されうる。ＸＰＳは水素原子を検出しないため、原子比率をＸＰＳによって決定する場合は、定式（ｓｔａｔｅｄ  ｆｏｒｍｕｌａｔｉｏｎ）から水素を除外することが通例である。式は、したがって、通常、ＳｉwＯxＣyとして表すことができる。この場合、ｗは１、ｘは約０．５乃至約２．４、ｙは約０．６乃至約３であり、ｚに制限はない。
【０１３９】
「滑性及び／又は不活性化層又はｐＨ保護皮膜」におけるＳｉ、Ｏ及びＣの原子比率は、いくつかの選択肢として、以下の通りとされうる。
【０１４０】
Ｓｉ  １００：Ｏ  ５０乃至１５０：Ｃ  ９０乃至２００（すなわち、ｗ＝１、ｘ＝０．５乃至１．５、ｙ＝０．９乃至２）
【０１４１】
Ｓｉ  １００：Ｏ  ７０乃至１３０：Ｃ  ９０乃至２００（すなわち、ｗ＝１、ｘ＝０．７乃至１．３、ｙ＝０．９乃至２）
【０１４２】
Ｓｉ  １００：Ｏ  ８０乃至１２０：Ｃ  ９０乃至１５０（すなわち、ｗ＝１、ｘ＝０．８乃至１．２、ｙ＝０．９乃至１．５）
【０１４３】
Ｓｉ  １００：Ｏ  ９０乃至１２０：Ｃ  ９０乃至１４０（すなわち、ｗ＝１、ｘ＝０．９乃至１．２、ｙ＝０．９乃至１．４）、又は、
【０１４４】
Ｓｉ  １００：Ｏ  ９２乃至１０７：Ｃ  １１６乃至１３３（すなわち、ｗ＝１、ｘ＝０．９２乃至１．０７、ｙ＝１．１６乃至１．３３）
【０１４５】
通常、このような皮膜又は層は、炭素と酸素とケイ素の１００％に正規化した３６％乃至４１％の炭素を含む。あるいは、不活性化層又はｐＨ保護皮膜は、５０％未満の炭素及び２５％超のケイ素のＸ線光電子分光（ＸＰＳ）によって決定される、炭素、酸素及びケイ素の１００％に正規化した原子濃度を有しうる。あるいは、原子濃度は、２５乃至４５％炭素、２５乃至６５％ケイ素、及び１０乃至３５％酸素とされうる。あるいは、原子濃度は、３０乃至４０％炭素、３２乃至５２％ケイ素、及び２０乃至２７％酸素とされうる。あるいは、原子濃度は、３３乃至３７％炭素、３７乃至４７％ケイ素、及び２２乃至２６％酸素とされうる。
【０１４６】
任意選択的に、Ｘ線光電子分光（ＸＰＳ）によって決定される、炭素、酸素及びケイ素の１００％に正規化した保護層における炭素の原子濃度は、有機ケイ素化合物前駆体の原子式における炭素の原子濃度を超えることができる。例えば、炭素の原子濃度が、１乃至８０原子百分率、あるいは１０乃至７０原子百分率、あるいは２０乃至６０原子百分率、あるいは３０乃至５０原子百分率、あるいは３５乃至４５原子百分率、あるいは３７乃至４１原子百分率だけ増加する実施形態が企図される。
【０１４７】
任意選択的に、不活性化層又はｐＨ保護皮膜における炭素対酸素の原子比率は有機ケイ素化合物前駆体と比べて増加させることができる、及び／又は、酸素対ケイ素の原子比率は有機ケイ素化合物前駆体と比べて減少させることができる。
【０１４８】
任意選択的に、不活性化層又はｐＨ保護皮膜は、Ｘ線光電子分光（ＸＰＳ）によって決定される、炭素、酸素及びケイ素の１００％に正規化したケイ素の原子濃度を有することができ、これは、供給ガスの原子式におけるケイ素の原子濃度よりも小さい。例えば、ケイ素の原子濃度が１乃至８０原子百分率、あるいは１０乃至７０原子百分率、あるいは２０乃至６０原子百分率、あるいは３０乃至５５原子百分率、あるいは４０乃至５０原子百分率、あるいは４２乃至４６原子百分率だけ減少する実施形態が企図される。
【０１４９】
別のオプションとして、有機ケイ素化合物前駆体の合計式と比べて、原子比率Ｃ：Ｏを増加することができる、及び／又は原子比率Ｓｉ：Ｏを減少することができる合計式を特徴としうる不活性化層又はｐＨ保護皮膜が企図される。
【０１５０】
不活性化層又はｐＨ保護皮膜は、Ｘ線反射率（ＸＲＲ）によって決定されるように、１．２５乃至１．６５ｇ／ｃｍ3、あるいは１．３５乃至１．５５ｇ／ｃｍ3、あるいは１．４乃至１．５ｇ／ｃｍ3、あるいは１．４乃至１．５ｇ／ｃｍ3、あるいは１．４４乃至１．４８ｇ／ｃｍ3の密度を有しうる。任意選択的に、有機ケイ素化合物はオクタメチルシクロテトラシロキサンとすることができ、不活性化層又はｐＨ保護皮膜は、同じＰＥＣＶＤ反応条件下で有機ケイ素化合物としてＨＭＤＳＯから作製された不活性化層又はｐＨ保護皮膜の密度よりも高くされうる密度を有することができる。
【０１５１】
不活性化層又はｐＨ保護皮膜は、任意選択的に、約２乃至約９、任意選択的に約６乃至約８、任意選択的に約６．４乃至約７．８の（ＡＦＭによって測定された）ＲＭＳ表面粗さ値を有しうる。ＡＦＭによって測定された不活性化層又はｐＨ保護皮膜のＲa表面粗さ値は、約４乃至約６、任意選択的に、約４．６乃至約５．８とされうる。ＡＦＭによって測定された不活性化層又はｐＨ保護皮膜のＲmax表面粗さ値は、約７０乃至約１６０、任意選択的に、約８４乃至約１４２、任意選択的に、約９０乃至約１３０とされうる。
【０１５２】
流体物質４０が直接接触した場合の、不活性化層又はｐＨ保護皮膜３４を含む構造の浸食、溶解又は浸出の速度（関連概念の異なる名称）は、流体物質４０が直接接触した場合のバリア皮膜又は層３０の浸食、溶解又は浸出の速度よりも低いものとされうる。
【０１５３】
不活性化層又はｐＨ保護皮膜３４は、薬剤パッケージ又は他の容器２１０の保管寿命の間、バリア皮膜又は層がバリアとして機能することを可能にするのに少なくとも十分な時間、バリア皮膜又は層３０を流体物質４０から分離又は保護するのに効果的とされうる。
【０１５４】
任意選択的に、図７乃至９の任意の実施形態の不活性化層又はｐＨ保護皮膜３４のＦＴＩＲ吸光度スペクトルは、通常、約１０００乃至１０４０ｃｍ-1に位置するＳｉ−Ｏ−Ｓｉ対称伸縮ピークの最大振幅と、通常、約１０６０乃至約１１００ｃｍ-1に位置するＳｉ−Ｏ−Ｓｉ非対称伸縮ピークの最大振幅との間において０．７５を超える比率を有しうる。あるいは、任意の実施形態においては、この比率は、少なくとも０．８、又は少なくとも０．９、又は少なくとも１．０、又は少なくとも１．１、又は少なくとも１．２とされうる。あるいは、任意の実施形態においては、この比率は、最大で１．７、又は最大で１．６、又は最大で１．５、又は最大で１．４、又は最大で１．３とされうる。図７乃至９の本発明の別の実施形態として、ここで記載した任意の最小比率はここで記載した任意の最大比率と組み合わせることができる。
【０１５５】
任意選択的に、図７乃至９の任意の実施形態においては、薬剤のない状態の不活性化層又はｐＨ保護皮膜は非油性の外観を有しうる。この外観により、場合によっては、効果的な不活性化層又はｐＨ保護皮膜を、場合によっては油性（すなわち、光沢のある）外観を有することが認められている滑性層と区別されることが認められている。
【０１５６】
任意選択的に、図７乃至９の任意の実施形態においては、注射用水で希釈され、濃縮硝酸でｐＨ８に調整され、０．２ｗｔ．％ポリソルベート８０界面活性剤を含有し（溶解試薬の変化を回避するために薬剤のない状態で測定した）、４０℃である５０ｍＭリン酸カリウム緩衝液によるケイ素溶解速度は１７０ｐｐｂ／日未満とされうる。（ポリソルベート８０は、例えば、Ｔｗｅｅｎ（登録商標）−８０としてＵｎｉｑｅｍａ  Ａｍｅｒｉｃａｓ  ＬＬＣ，Ｗｉｌｍｉｎｇｔｏｎ  Ｄｅｌａｗａｒｅから入手可能な一般的な製剤の原料である。）実施例から分かるように、ケイ素溶解速度は、容器からその内容に浸出される総ケイ素を決定することによって測定することができるものであり、不活性化層又はｐＨ保護皮膜３４、滑性層２８７、バリア皮膜又は層３０、又は存在する他の物質から由来するケイ素間において区別するものではない。
【０１５７】
任意選択的に、図７乃至９の任意の実施形態においては、ケイ素溶解速度は、１６０ｐｐｂ／日未満、又は１４０ｐｐｂ／日未満、又は１２０ｐｐｂ／日未満、又は１００ｐｐｂ／日未満、又は９０ｐｐｂ／日未満、又は８０ｐｐｂ／日未満とされうる。任意選択的に、図７乃至９の任意の実施形態においては、ケイ素溶解速度は、１０ｐｐｂ／日超、又は２０ｐｐｂ／日超、又は３０ｐｐｂ／日超、又は４０ｐｐｂ／日超、又は５０ｐｐｂ／日超、又は６０ｐｐｂ／日超とされうる。図７乃至９の本発明の別の実施形態として、ここで記載した任意の最低速度はここで記載した任意の最大速度と組み合わせることができる。
【０１５８】
任意選択的に、図７乃至９の任意の実施形態においては、容器からｐＨ８の試験組成物への溶解時の不活性化層又はｐＨ保護皮膜及びバリア皮膜又は層の総ケイ素含有量は、６６ｐｐｍ未満、又は６０ｐｐｍ未満、又は５０ｐｐｍ未満、又は４０ｐｐｍ未満、又は３０ｐｐｍ未満、又は２０ｐｐｍ未満とされうる。
【０１５９】
任意選択的に、図７乃至９の任意の実施形態においては、パッケージの計算保管寿命（総Ｓｉ／Ｓｉ溶解速度）は、６か月超、又は１年超、又は１８か月超、又は２年超、又は２年半超、又は３年超、又は４年超、又は５年超、又は１０年超、又は２０年超とされうる。任意選択的に、図７乃至９の任意の実施形態においては、パッケージの計算保管寿命（総Ｓｉ／Ｓｉ溶解速度）は６０年未満とされうる。
【０１６０】
図７乃至９の本発明の別の実施形態として、ここで記載した任意の最低時間はここで記載した任意の最大時間と組み合わせることができる。
【０１６１】
不動態化皮膜又は保護層のＯパラメータ又はＰパラメータ
不活性化層又はｐＨ保護皮膜３４は、任意選択的に、減衰全反射（ＡＴＲ）によって測定される０．４未満のＯパラメータを有することができ、以下のように測定される。
【数１】
2014533177.tif 000005
Ｏパラメータは、最も広くは０．４乃至０．９のＯパラメータ値を請求する米国特許第８，０６７，０７０号明細書において定義される。１２５３ｃｍ-1において０．０４２４の吸光度及び１０００乃至１１００ｃｍ-1において０．０８の最大吸光度を得るための波数及び吸光度スケールの補間の結果として計算されたＯパラメータの０．５３を示すために注釈されること以外は、米国特許第８，０６７，０７０号明細書の図５と同じである図２５に示すように、Ｏパラメータは、上記式の分子及び分母を見いだすための、ＦＴＩＲ振幅対波数プロットの物理的分析から測定されうる。Ｏパラメータは、また、デジタル波数対吸光度データから測定されうる。
【０１６２】
米国特許第８，０６７，０７０号明細書では、双方がともに非環式シロキサン類であるＨＭＤＳＯ及びＨＭＤＳＮのみによる実験に依拠し、その請求されるＯパラメータ範囲が優れた不活性化層又はｐＨ保護皮膜を提供すると主張する。驚くべきことに、本発明者は、ＰＥＣＶＤ前駆体が環式シロキサン、例えば、ＯＭＣＴＳである場合、ＯＭＣＴＳを使用した米国特許第８，０６７，０７０号明細書において請求された範囲外のＯパラメータが、米国特許第８，０６７，０７０号明細書においてＨＭＤＳＯを用いて得られるものよりも良好な結果を提供することができることを発見した。
【０１６３】
あるいは、図７乃至９の実施形態においては、Ｏパラメータは、０．１乃至０．３９、又は０．１５乃至０．３７、又は０．１７乃至０．３５の値を有しうる。
【０１６４】
本発明の更に別の態様は、正に記載した、図７乃至９に例証したような複合材料とすることができる。不活性化層又はｐＨ保護皮膜は減衰全反射（ＡＴＲ）によって測定される０．７未満のＮパラメータを示し、以下のように測定される。
【数２】
2014533177.tif 000006
Ｎパラメータもまた米国特許第８，０６７，０７０号明細書に記載されており、２つの特定波数（これら波数のどちらも範囲ではない）における強度が使用されること以外はＯパラメータと同様に測定されうる。米国特許第８，０６７，０７０号明細書は、０．７乃至１．６のＮパラメータを有する不活性化層又はｐＨ保護皮膜を請求する。同じく、本発明者は、上述のように、０．７を下回るＮパラメータを有する不活性化層又はｐＨ保護皮膜３４を用いてより良好な皮膜を作製した。あるいは、Ｎパラメータは、０．３乃至０．７未満、又は０．４乃至０．６、又は少なくとも０．５３乃至０．７未満の値を有しうる。
【０１６５】
動作理論
本発明者は、ここで記載した不活性化層又はｐＨ保護皮膜の動作理論を以下に記載する。本発明は、この理論の精度にも、この理論の使用によって予測可能な実施形態にも限定されるものではない。
【０１６６】
ＳｉＯxバリア皮膜又は層、又はガラスの溶解速度は層又はガラス内のＳｉＯ結合に依存すると考えられる。酸素結合部位（シラノール）が溶解速度を増加させると考えられる。
【０１６７】
ＯＭＣＴＳベースの不活性化層又はｐＨ保護皮膜はＳｉＯxバリア皮膜又は層又はガラスのシラノール部位と結合して、ＳｉＯx表面又はガラスを「治癒」、すなわち不動態化するため、溶解速度を大幅に低減すると考えられる。この仮説においては、ＯＭＣＴＳ層の厚さは保護の主要手段ではなく、主要手段はＳｉＯx又はガラス表面の不動態化とされうる。本明細書に記載されるように、不活性化層又はｐＨ保護皮膜は、不活性化層又はｐＨ保護皮膜の架橋結合密度を増加することによって改良することができると考えられる。
【０１６８】
任意の段階的複合層
図７乃至９の任意の実施形態の不活性化層又はｐＨ保護皮膜３４及び滑性層は、明確な遷移（ｓｈａｒｐ  ｔｒａｎｓｉｔｉｏｎ）を有する別個の層、又は不活性化層又はｐＨ保護皮膜３４と滑性層との間においてそれらの間に明確な界面を有することなく遷移する１つの累進的な層（ｇｒａｄｕａｔｅｄ  ｌａｙｅｒ）のいずれかとされうる。ここで企図されるＳｉＯx及び不活性化層又はｐＨ保護皮膜の隣接する層の別の任意の手法は、定義の項に定義されるように、ＳｉＯx及びＳｉwＯxＣy、又はその均等のＳｉＯxＣyの段階的複合物（ｇｒａｄｅｄ  ｃｏｍｐｏｓｉｔｅ）とされうる。
【０１６９】
段階的複合物は、別個の滑性層及び／又は保護層及び／又はバリア皮膜、又は、それらの間に中間組成物の遷移又は界面を有する層又は皮膜、又は、それらの間に中間組成物の中間にある明確な（ｉｎｔｅｒｍｅｄｉａｔｅ  ｄｉｓｔｉｎｃｔ）不活性化層又はｐＨ保護皮膜を有する別個の滑性層及び／又は保護層及び／又は疎水性層及びＳｉＯx、又は、滑性及び／又は保護及び／又は疎水性層の組成物から、よりＳｉＯxのような組成物に、不活性化層又はｐＨ保護皮膜を法線方向に連続的に又は段階的に変化させる１つの皮膜又は層とされうる。
【０１７０】
段階的複合物の段階はどの方向にも進むことができる。例えば、ＳｉＯxの組成物は基板に直接塗布することができ、不活性化層又はｐＨ保護皮膜の表面から離れた組成物まで累進することができ、任意選択的に、更に、疎水性皮膜又は層、又は滑性皮膜又は層などの別の種類の皮膜又は層まで累進することができる。更に、任意の実施形態においては、接着皮膜又は層、例えば、ＳｉwＯxＣy、又はその均等のＳｉＯxＣyを、任意選択的に、バリア皮膜又は層を塗布する前に基板に直接塗布することができる。
【０１７１】
累進的不活性化層又はｐＨ保護皮膜は、ある組成物の層が別の組成物の層に比べて基板に接着するのにより好適である場合に特に企図される。この場合、より良好に接着する組成物は、例えば、基板に直接塗布することができる。段階的不活性化層又はｐＨ保護皮膜のより遠い部分は、隣接する段階的不活性化層又はｐＨ保護皮膜の部分に比べて基板とあまり融和しないものとなりうることが考えられる。これは、いずれの箇所においても不活性化層又はｐＨ保護皮膜は特性が徐々に変化しうるため、不活性化層又はｐＨ保護皮膜のほぼ同じ深さの隣接する部分はほぼ同一の組成物を有し、実質的に異なる深さの物理的により広く分離した部分はより多種多様な特性を有しうることが理由である。また、より劣るバリアを形成する、より離れた不活性化層又はｐＨ保護皮膜部分が、バリアによって妨げられるか遮断されることを意図した物質で汚染されることを防止するため、基板への又は基板からの物質の移動に対するより良好なバリアを形成する不活性化層又はｐＨ保護皮膜部分を基板に直接設けることができると考えられる。
【０１７２】
塗布された皮膜又は層は、段階的とされる代わりに、任意選択的に、１つの層と次の層との間における組成物の大きな勾配なしで明確な遷移を有することができる。そのような不活性化層又はｐＨ保護皮膜は、例えば、層を形成するためのガスを非プラズマ状態における定常状態流として提供し、その後、皮膜又は層を基板上に形成するために短時間のプラズマ放電によりシステムを励起することによって作製することができる。次の不活性化層又はｐＨ保護皮膜が塗布される場合、前の不活性化層又はｐＨ保護皮膜用のガスは除去され、次の不活性化層又はｐＨ保護皮膜用のガスがプラズマを励起する前に定常状態で適用され、再度、基板又はその最も離れた前の不活性化層又はｐＨ保護皮膜の表面に、存在する場合、界面におけるわずかな徐々の遷移を有して別の層を形成する。
【０１７３】
ＰＥＣＶＤ装置
本明細書に記載されているバリア皮膜又は層、滑性皮膜又は層及び／又は不活性化層又はｐＨ保護皮膜を提供するために、米国特許第７，９８５，１８８号明細書に記載されている低圧ＰＥＣＶＤ法を使用することができる。そのプロセスの短い概要を本図４乃至６を参照して以下に記載する。
【０１７４】
本目的に好適なＰＥＣＶＤ装置又は被覆台６０は、容器保持器５０と、プローブ１０８によって画定された内部電極と、外部電極１６０と、電源１６２と、を含む。容器保持器５０上に配置されたプリアセンブリ１２は、任意選択的に真空室とされうるプラズマ反応室を画定する。任意選択的に、真空源９８、反応ガス源１４４、ガス供給部（プローブ１０８）又はこれらの２つ以上の組み合わせが供給されうる。
【０１７５】
ＰＥＣＶＤ装置は大気圧ＰＥＣＶＤのために使用されうる。この場合、プリアセンブリ１２によって画定されるプラズマ反応室が真空室として機能する必要はない。
【０１７６】
図４乃至６を参照すると、容器保持器５０は、開口部８２上に配置されたプリアセンブリ１２内にガスを運ぶためのガス注入ポート１０４を含む。ガス注入ポート１０４は、例えば、プローブ１０８がガス注入ポート１０４を通じて挿入されると円筒状プローブ１０８に配置されうる少なくとも１つのＯリング１０６、又は連続する２つのＯリング又は連続する３つのＯリングによって提供される摺動シールを有しうる。プローブ１０８はその遠位端１１０にあるガス送達ポートまで延在するガス注入導管とされうる。示される実施形態の遠位端１１０は、１つ又は複数のＰＥＣＶＤ反応物及び他の前駆体供給物又はプロセスガスを提供するために適切な深さでプリアセンブリ１２内に挿入されうる。
【０１７７】
図６は、例えば、示される全ての実施形態において使用可能な被覆台６０の更なる任意の詳細を示す。被覆台６０は、また、圧力センサ１５２に繋がるその真空ライン５７６内にメイン真空バルブ５７４を有しうる。手動バイパスバルブ５７８がバイパスライン５８０内に提供されうる。ベントバルブ５８２がベント４０４における流れを制御する。
【０１７８】
ＰＥＣＶＤガス又は前駆体源１４４を出る流れは、メイン反応物供給ライン５８６を通過する流れを調整するメイン反応ガスバルブ５８４によって制御されうる。ガス源１４４の１つの構成要素は、前駆体を含む有機ケイ素化合物液体リザーバ５８８とされうる。リザーバ５８８の内容は有機ケイ素化合物毛管ライン５９０を通じて引き出されうる。有機ケイ素化合物毛管ライン５９０は、任意選択的に、所望の流量を提供するのに適した長さで提供されうる。有機ケイ素化合物蒸気の流れは有機ケイ素化合物締切弁５９２によって制御されうる。大気圧（及びその変動）に依存しない反復可能な有機ケイ素化合物液体の送達を確立するために、液体リザーバ５８８のヘッドスペース６１４に、圧力源６１６から、圧力ライン６１８によってヘッドスペース６１４に連結された加圧空気などの圧力、例えば、０乃至１５ｐｓｉ（０乃至７８ｃｍ．Ｈｇ）の範囲内の圧力が印加されうる。リザーバ５８８は密閉することができ、毛管連結部６２０は、純粋な（ｎｅａｔ）有機ケイ素化合物液体（ヘッドスペース６１４の加圧ガスではない）のみが毛管チューブ５９０内を流れることを確実にするためにリザーバ５８８の底部に設けられうる。有機ケイ素化合物液体は、任意選択的に、有機ケイ素化合物液体を蒸発させて有機ケイ素化合物蒸気を形成することが必要であるか所望であれば周囲温度を超えて加熱することができる。この加熱を実現するため、装置は、有利には、前駆体リザーバの出口からシリンジへのガス注入口の可能な限り近傍までの、加熱された送達ラインを含みうる。例えば、ＯＭＣＴＳを供給する際には予熱が有用とされうる。
【０１７９】
酸化剤ガスタンク５９４から、質量流量制御器５９８によって制御されるとともに酸化剤締切弁６００が設けられた酸化剤ガス供給ライン５９６を通じて酸化剤ガスが提供されうる。
【０１８０】
任意選択的に、任意の実施形態においては、必要であれば、特定の堆積プロセスのための更なる材料を供給するために、６０２などの、他の前駆体リザーバ、酸化剤リザーバ及び／又はキャリアガスリザーバが提供されうる。６０２などの、そのようなリザーバのそれぞれは適切な供給ライン６０４及び締切弁６０６を有しうる。
【０１８１】
特に図４を参照すると、処理台６０は、処理中、プリアセンブリ１２内においてプラズマを発生させるための電界を提供するために、高周波電源１６２によって給電される電極１６０を含みうる。この実施形態においては、プローブ１０８は電気的に導電性とされうるとともに接地されうるため、プリアセンブリ１２内にカウンタ−電極を提供する。あるいは、任意の実施形態においては、外部電極１６０は接地することができ、プローブ１０８は電源１６２に直接接続されうる。
【０１８２】
図４乃至６の実施形態においては、外部電極１６０は、図４及び図５に示されるような略円筒状又は図６に示されるような略Ｕ字形の細長いチャネルのいずれかとされうる（図５は図４の断面線Ａ−Ａに沿って切った断面図の別の実施形態である）。示される各実施形態は、１６４及び１６６などの１つ又は複数の側壁と、任意選択的に、プリアセンブリ１２の周りに近接して配置された上端部１６８とを有しうる。
【０１８３】
バリア皮膜又は層の塗布
本方法を実施する場合、バリア皮膜又は層３０はバレル１４の内面壁１６の少なくとも一部に直接又は間接的に塗布されうる。示される実施形態においては、バリア皮膜又は層３０が塗布されうる一方で、プリアセンブリ１２にはキャップが嵌められるが、これは必須条件ではない。バリア皮膜又は層３０は、実質的に米国特許第７，９８５，１８８号明細書に記載されるような条件下でプラズマ化学気相成長（ＰＥＣＶＤ）によって塗布されるＳｉＯxバリア皮膜又は層とされうる。バリア皮膜又は層３０は、塗布ステップの終了時に、近位開口部２２を介してバレル内腔１８と分与部内腔２６との間の連通を維持するのに効果的な条件下で塗布されうる。
【０１８４】
任意の実施形態においては、バリア皮膜又は層３０は、任意選択的に、開口部３２を通じて塗布されうる。
【０１８５】
任意の実施形態においては、バリア皮膜又は層３０は、任意選択的に、開口部を通じて気相前駆体物質を導入し、化学気相成長を用いて前駆体物質の反応生成物をバレルの内面壁に堆積させることによって塗布されうる。
【０１８６】
任意の実施形態においては、バリア皮膜を形成するための前駆体物質は、任意選択的に、米国特許第７，９８５，１８８号明細書又は本明細書に記載されている不動態化層又はｐＨ保護皮膜の形成用のいずれかの前駆体とされうる。
【０１８７】
任意の実施形態においては、反応物蒸気物質（ｒｅａｃｔａｎｔ  ｖａｐｏｒ  ｍａｔｅｒｉａｌ）は、任意選択的に、酸化剤ガスを含みうる。
【０１８８】
任意の実施形態においては、反応物蒸気物質は、任意選択的に、酸素を含みうる。
【０１８９】
任意の実施形態においては、反応物蒸気物質は、任意選択的に、キャリアガスを含みうる。
【０１９０】
任意の実施形態においては、反応物蒸気物質は、任意選択的に、ヘリウム、アルゴン、クリプトン、キセノン、ネオン又はこれら２つ以上の複合体を含みうる。
【０１９１】
任意の実施形態においては、反応物蒸気物質は、任意選択的に、アルゴンを含みうる。
【０１９２】
任意の実施形態においては、反応物蒸気物質は、任意選択的に、開口部を通じて部分真空状態にある１種又は複数種の酸化剤ガス及びキャリアガスとの前駆体物質混合物とすることができ、化学気相成長を用いて前駆体物質混合物の反応生成物をバレルの内面壁上に堆積させる。
【０１９３】
任意の実施形態においては、反応物蒸気物質は、任意選択的に、準大気圧で開口部を通過しうる。
【０１９４】
任意の実施形態においては、プラズマは、任意選択的に、開口部３２を通じて内部電極をバレル内腔１８内に配置し、外部電極をバレル１４の外側に配置し、この電極を使用して、任意選択的に、高周波エネルギとされうるプラズマ誘導された電磁エネルギをバレル内腔１８内で印加することにより、バレル内腔１８内で発生させることができる。異なる装置が使用される場合、プラズマ誘導された電磁エネルギはマイクロ波エネルギ又は他の形態の電磁エネルギとすることができる。
【０１９５】
任意の実施形態においては、電磁エネルギは、任意選択的に、直流とされうる。
【０１９６】
任意の実施形態においては、電磁エネルギは、任意選択的に、交流とされうる。交流は、任意選択的に、可聴周波、又はマイクロ波、又は高周波、又は可聴周波、マイクロ波、又は高周波の２つ以上の組み合わせを含む周波数において変調されうる。
【０１９７】
任意の実施形態においては、電磁エネルギは、任意選択的に、バレル内腔（１８）全体に印加されうる。
【０１９８】
不活性化層又はｐＨ保護皮膜の塗布
任意の実施形態においては、上述のように第１の皮膜又は層を塗布するステップに加えて、方法は、任意選択的に、同じ材料又は異なる材料の第２の又は更なる皮膜又は層を塗布するステップを含みうる。任意の実施形態において有用な１つの例として、第１の皮膜又は層がＳｉＯxバリア皮膜又は層である場合、更なる皮膜又は層をバリア皮膜又は層上に直接又は間接的に配置されうることが特に企図される。任意の実施形態において有用なそのような更なる皮膜又は層の１つの例は不活性化層又はｐＨ保護皮膜３４である。
【０１９９】
前駆体
バリア皮膜又は層、不活性化層又はｐＨ保護皮膜、又は滑性皮膜又は層を形成するためのいずれかのプロセスのための有機ケイ素化合物前駆体は以下の前駆体のいずれかを含みうる。
【０２００】
本発明の不活性化層又はｐＨ保護皮膜の前駆体は有機金属前駆体と広く定義される。有機金属前駆体は、本明細書においては、有機残渣、例えば、炭化水素、アミノカーボン（ａｍｉｎｏｃａｒｂｏｎ）又はオキシカーボン（ｏｘｙｃａｒｂｏｎ）残渣を有する、周期表の第ＩＩＩ族及び／又は第ＩＶ族の金属元素の包含（ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｄｉｎｇ）化合物と定義される。本明細書において定義される有機金属化合物は、ケイ素又は他の第ＩＩＩ族／第ＩＶ族金属原子に直接結合した、又は任意選択的に、酸素又は窒素原子を介して結合した有機部分を有する任意の前駆体を含む。周期表の第ＩＩＩ族の関連元素は、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム、スカンジウム、イットリウム、及びランタンであり、アルミニウム及びホウ素が好適である。周期表の第ＩＶ族の関連元素は、ケイ素、ゲルマニウム、スズ、鉛、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、及びトリウムであり、ケイ素及びスズが好適である。他の揮発性有機化合物も企図される。しかしながら、本発明の実施には有機ケイ素化合物が好適である。
【０２０１】
有機ケイ素化合物前駆体が企図される。「有機ケイ素化合物前駆体」は、この明細書全体において、最も広くは、以下の結合の少なくとも１つを有する化合物と定義される。
【化２】
2014533177.tif 000007
すぐ上に記載した第１の構造は、酸素原子及び有機炭素原子（有機炭素原子は少なくとも１個の水素原子に結合した炭素原子である）に結合した四価ケイ素原子である。すぐ上に記載した第２の構造は、−ＮＨ−結合及び有機炭素原子（有機炭素原子は少なくとも１個の水素原子に結合した炭素原子である）に結合した四価ケイ素原子である。
【０２０２】
任意選択的に、有機ケイ素化合物前駆体は、直鎖シロキサン、単環シロキサン、多環シロキサン、ポリシルセスキオキサン、直鎖シラザン、単環シラザン、多環シラザン、ポリシルセスキアザン、及びこれら前駆体のいずれか２つ以上の複合体からなる群から選択されうる。また、直前の２つの式内にはないが前駆体として考えられるのはアルキルトリメトキシシランとされうる。
【０２０３】
酸素含有前駆体（ｏｘｙｇｅｎ−ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ  ｐｒｅｃｕｒｓｏｒ）（例えば、シロキサン）を使用する場合、疎水性又は潤滑性不活性化層又はｐＨ保護皮膜を形成する条件下でＰＥＣＶＤにより形成される代表的な予測実験組成物は、定義の項に定義されるように、ＳｉwＯxＣyＨz又はその均等のＳｉＯxＣyである一方で、バリア皮膜又は層を形成する条件下でＰＥＣＶＤにより形成される代表的な予測実験組成物はＳｉＯxであり、この式におけるｘは約１．５乃至約２．９である。窒素含有前駆体（ｎｉｔｒｏｇｅｎ−ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ  ｐｒｅｃｕｒｓｏｒ）（例えば、シラザン）を使用する場合、予測組成物は、Ｓｉw*Ｎx*Ｃy*Ｈz*である。すなわち、定義の項に明記されるように、ＳｉwＯxＣyＨz又はその均等のＳｉＯxＣyにおいては、ＯはＮに置換され、Ｈの指数はＯと比べてより高い原子価のＮ（２ではなく３）に適応される。後者の適応は、全般的に、シロキサンにおいては、そのアザ対応物（ａｚａ  ｃｏｕｎｔｅｒｐａｒｔ）の対応する指数に対するｗ、ｘ、ｙ及びｚの比率に従う。本発明の特定の態様においては、Ｓｉw*Ｎx*Ｃy*Ｈz*（又はその均等のＳｉＮx*Ｃy*)であり、ｗ＊、ｘ＊、ｙ＊、及びｚ＊がシロキサン対応物のｗ、ｘ、ｙ及びｚと同様に定義されるが、これは水素原子数の任意の偏差のためである。
【０２０４】
上記実験式を有する前駆体出発物質の１つのタイプは、直鎖シロキサン、例えば、以下の式を有する物質とされうる。
【化３】
2014533177.tif 000008
式中、各Ｒは、アルキル基、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ビニル、アルキン又はその他から独立して選択されうる。ｎは、１、２、３、４又はそれ以上、任意選択的に、２以上とされうる。考えられる直鎖シロキサン類のいくつかの例は、
ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）（特に容器のバリア皮膜又は層３０の形成のため）、
オクタメチルトリシロキサン、
デカメチルテトラシロキサン、
ドデカメチルペンタシロキサン、
又はこれらの２つ以上の複合体である。上記構造において−ＮＨ−を酸素原子に置換されうる類似シラザン類もまた、類似不活性化層又はｐＨ保護皮膜又は層の作製に有用である。考えられる直鎖シラザン類のいくつかの例は、オクタメチルトリシラザン、デカメチルテトラシラザン、又はこれら２つ以上の複合体である。
【０２０５】
本文脈における好適な出発物質のうち別の種類の前駆体出発物質は単環シロキサンとされ、例えば、以下の構造式を有する物質である。
【化４】
2014533177.tif 000009
式中、Ｒは、線状構造のものと同様に定義することができ、「ａ」は３乃至約１０、又は類似単環シラザン類とすることができる。考えられるヘテロ置換及び未置換単環シロキサン類及びシラザン類のいくつかの例には、以下を含む。
１，３，５−トリメチル−１，３，５−トリス（３，３，３−トリフルオロプロピル）メチル］シクロトリシロキサン
２，４，６，８−テトラメチル−２，４，６，８−テトラビニルシクロテトラシロキサン、
ペンタメチルシクロペンタシロキサン、                  
ペンタビニルペンタメチルシクロペンタシロキサン、
ヘキサメチルシクロトリシロキサン、
ヘキサフェニルシクロトリシロキサン（ＨＭＣＴＳ、
オクタメチルシクロテトラシロキサン（ＯＭＣＴＳ）、
デカメチルシクロペンタシロキサン（ＤＭＣＰＳ）、
２，２，４，４，６，６，８，８−オクタメチル−１，５−ジメタノ−３，７−ジオキサ−２，４，６，８−テトラシロキサン
オクタフェニルシクロテトラシロキサン、
デカメチルシクロペンタシロキサン
ドデカメチルシクロヘキサシロキサン、
メチル（３，３，３−トリフルオロプロプル）シクロシロキサン、
以下のような環式オルガノシラザンもまた考えられる。
オクタメチルシクロテトラシラザン、
１，３，５，７−テトラビニル−１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシラザンヘキサメチルシクロトリシラザン、
オクタメチルシクロテトラシラザン、
デカメチルシクロペンタシラザン、
ドデカメチルシクロヘキサシラザン、又は
これらのいずれか２つ以上の複合体。
【０２０６】
本文脈における好適な出発物質における別の種類の前駆体出発物質は多環シロキサンとすることができ、例えば、以下の構造式のうちの１つを有する物質である。
【化５】
2014533177.tif 000010
式中、Ｙは酸素又は窒素とすることができ、Ｅはケイ素であり、Ｚは水素原子又は有機置換基であり、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ビニル、アルキン又はその他などのアルキル基である。各Ｙが酸素である場合、各々の構造は、左から右に、シラトラン、シルクアシラトラン、シルプロアトランである。Ｙが窒素である場合、各々の構造は、アザシラトラン、アザシルクアシアトラン、アザシルプロアトランである。
【０２０７】
本文脈における好適な出発物質における別の種類の多環シロキサン前駆体出発物質は、実験式ＲＳｉＯ1.5及び以下の構造式を有するポリシルセスキオキサンとされうる。
【化６】
2014533177.tif 000011
式中、各Ｒは水素原子又は有機置換基であり、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ビニル、アルキン、又はその他などのアルキル基である。この種の２つの市販物質は、各ＲがメチルとされうるＳＳＴ−ｅＭ０１ポリ（メチルシルセスキオキサン）及びＲ群の９０％がメチル、１０％が水素原子であるＳＳＴ−３ＭＨ１．１ポリ（メチル−ヒドリドシルセスキオキサン）である。この物質は、例えば、テトラヒドロフランの１０％溶液において入手可能である。これら２つ以上の複合体もまた考えられる。考えられる前駆体の他の例は、各Ｙが酸素、Ｚがメチルであるメチルシラトラン（ＣＡＳ  Ｎｏ．２２８８−１３−３）、メチルアザシラトラン、各Ｒが任意選択的にメチルとされうるポリ（メチルシルセスキオキサン）（例えば、ＳＳＴ−ｅＭ０１ポリ（メチルシルセスキオキサン））、Ｒ群の９０％がメチル、１０％が水素原子であるＳＳＴ−３ＭＨ１．１ポリ（メチル−ヒドリドシルセスキオキサン）（例えば、ＳＳＴ−３ＭＨ１．１ポリ（メチル−ヒドリドシルセスキオキサン））、又はこれらのいずれか２つ以上の複合体である。
【０２０８】
上記構造において−ＮＨ−を酸素原子に置換しうる類似ポリシルセスキアザンもまた、類似不活性化層又はｐＨ保護皮膜の作製に有用である。考えられるポリシルセスキアザンの例は、各Ｒがメチルとされうるポリ（メチルシルセスキアザン）、及びＲ群の９０％が、１０％が水素原子であるポリ（メチル−ヒドリドシルセスキアザンである。これら２つ以上の複合体もまた考えられる。
【０２０９】
本発明によるバリア皮膜又は層のために特に考えられる前駆体の１つは、直鎖シロキサン、例えば、ヘキサメチルジシロキサン、すなわちＨＭＤＳＯとされうる。本発明による滑性皮膜又は層及び不活性化層又はｐＨ保護皮膜のために特に企図される前駆体の１つは、環式シロキサン、例えば、オクタメチルシクロテトラシロキサン（ＯＭＣＴＳ）とされうる。
【０２１０】
ＯＭＣＴＳ又は他の環式シロキサン分子は他のシロキサン材料に比べていくつかの利点を提供すると考えられる。第１に、その環構造によって、（ＨＭＤＳＯから作製された不活性化層又はｐＨ保護皮膜と比較すると）より低密度の不活性化層又はｐＨ保護皮膜が形成されることになると考えられる。分子は、また、選択的イオン化を可能にすると考えられることから、不活性化層又はｐＨ保護皮膜の最終構造及び化学組成がプラズマ電力の印加により直接制御されうる。他の有機ケイ素化合物分子は容易にイオン化される（断片化される）ため、分子の本来の構造を維持することは更に困難となりうる。
【０２１１】
本発明によるＰＥＣＶＤ方法のいずれかにおいては、塗布ステップは、任意選択的に、前駆体を蒸発させ、それを基板の近傍に提供することによって実施されうる。例えば、ＯＭＣＴＳはそれをＰＥＣＶＤ装置に適用する前にそれを約５０℃まで加熱することによって蒸発させることができる。
【０２１２】
環式有機ケイ素化合物前駆体、特に、単環有機ケイ素化合物前駆体（本明細書の別の場所に記載される単環前駆体など）、特に、ＯＭＣＴＳは、不活性化層又はｐＨ保護皮膜を実現するのに特に好適である。
【０２１３】
有機ケイ素化合物前駆体は、１０ｓｃｃｍ以下、任意選択的に、６ｓｃｃｍ以下、任意選択的に、２．５ｓｃｃｍ以下、任意選択的に、１．５ｓｃｃｍ以下、任意選択的に、１．２５ｓｃｃｍ以下の速度で送達されうる。薬剤パッケージ又は他の容器が大きくなるほど、又は他の条件又はスケールの変化により、必要とする前駆体を増加又は減少してもよい。
【０２１４】
ＰＥＣＶＤ反応混合物の他の成分及び不活性化層又はｐＨ保護皮膜の成分比率
概して、不活性化層又はｐＨ保護皮膜においては、Ｏ2は、有機ケイ素化合物量よりも１桁未満多くなりうる量（例えば、流量ｓｃｃｍによって表されうる）において存在しうる。対照的に、バリア皮膜又は層を実現するため、Ｏ2の量は、通常、有機ケイ素化合物前駆体の量よりも少なくとも１桁多くされうる。
【０２１５】
各々の成分の好適な比率のいくつかの特定の例として、不活性化層又はｐＨ保護皮膜の有機ケイ素化合物前駆体とＯ2の体積比（ｓｃｃｍ）は、０．１：１乃至１０：１の範囲内、任意選択的に、０．３：１乃至８：１の範囲内、任意選択的に、０．５：１乃至５：１の範囲内、任意選択的に、１：１乃至３：１とされうる。前駆体ガス、酸素及びキャリアガスのいくつかの非網羅的な代替的選択肢及び好適な比率を以下に記載する。
プロセスガスは、滑性及び／又は不活性化層又はｐＨ保護皮膜を形成するためにこの比率のガスを含みうる。
０．５乃至１０標準体積の前駆体、
１乃至１００標準体積のキャリアガス、
０．１乃至１０標準体積の酸化剤。
あるいはこの比率：
１乃至６標準体積の前駆体、
１乃至８０標準体積のキャリアガス、
０．１乃至２標準体積の酸化剤。
あるいはこの比率：
２乃至４標準体積の前駆体、
１乃至１００標準体積のキャリアガス、
０．１乃至２標準体積の酸化剤。
あるいはこの比率：
１乃至６標準体積の前駆体、
３乃至７０標準体積のキャリアガス、
０．１乃至２標準体積の酸化剤。
あるいはこの比率：
２乃至４標準体積の前駆体、
３乃至７０標準体積のキャリアガス、
０．１乃至２標準体積の酸化剤。
あるいはこの比率：
１乃至６標準体積の前駆体、
１乃至１００標準体積のキャリアガス、
０．２乃至１．５標準体積の酸化剤。
あるいはこの比率：
２乃至４標準体積の前駆体、
１乃至１００標準体積のキャリアガス、
０．２乃至１．５標準体積の酸化剤。
あるいはこの比率：
１乃至６標準体積の前駆体、
３乃至７０標準体積のキャリアガス、
０．２乃至１．５標準体積の酸化剤。
あるいはこの比率：
２乃至４標準体積の前駆体、
３乃至７０標準体積のキャリアガス、
０．２乃至１．５標準体積の酸化剤。
あるいはこの比率：
１乃至６標準体積の前駆体、
１乃至１００標準体積のキャリアガス、
０．２乃至１標準体積の酸化剤。
あるいはこの比率：
２乃至４標準体積の前駆体、
１乃至１００標準体積のキャリアガス、
０．２乃至１標準体積の酸化剤。
あるいはこの比率：
１乃至６標準体積の前駆体、
３乃至７０標準体積のキャリアガス、
０．２乃至１標準体積の酸化剤。
あるいはこの比率：
２乃至４標準体積の前駆体、
３乃至７０標準体積のキャリアガス、
０．２乃至１標準体積の酸化剤。
あるいはこの比率：
１乃至６標準体積の前駆体、
５乃至１００標準体積のキャリアガス、
０．１乃至２標準体積の酸化剤。
あるいはこの比率：
２乃至４標準体積の前駆体、
５乃至１００標準体積のキャリアガス、
０．１乃至２標準体積の酸化剤。
あるいはこの比率：
１乃至６標準体積の前駆体、
１０乃至７０標準体積のキャリアガス。
０．１乃至２標準体積の酸化剤。
あるいはこの比率：
２乃至４標準体積の前駆体、
１０乃至７０標準体積のキャリアガス、
０．１乃至２標準体積の酸化剤。
あるいはこの比率：
１乃至６標準体積の前駆体、
５乃至１００標準体積のキャリアガス、
０．５乃至１．５標準体積の酸化剤。
あるいはこの比率：
２乃至４標準体積の前駆体、
５乃至１００標準体積のキャリアガス、
０．５乃至１．５標準体積の酸化剤。
あるいはこの比率：
１乃至６標準体積の前駆体、
１０乃至７０標準体積のキャリアガス、
０．５乃至１．５標準体積の酸化剤。
あるいはこの比率：
２乃至４標準体積の前駆体、
１０乃至７０標準体積のキャリアガス、
０．５乃至１．５標準体積の酸化剤。
あるいはこの比率：
１乃至６標準体積の前駆体、
５乃至１００標準体積のキャリアガス、
０．８乃至１．２標準体積の酸化剤。
あるいはこの比率：
２乃至４標準体積の前駆体、
５乃至１００標準体積のキャリアガス、
０．８乃至１．２標準体積の酸化剤。
あるいはこの比率：
１乃至６標準体積の前駆体、
１０乃至７０標準体積のキャリアガス、
０．８乃至１．２標準体積の酸化剤。
あるいはこの比率：
２乃至４標準体積の前駆体、
１０乃至７０標準体積のキャリアガス、
０．８乃至１．２標準体積の酸化剤。
【０２１６】
１／８”直径チューブ（端部が開いている）の３ｍｌサンプルサイズシリンジ内に本発明による不活性化層又はｐＨ保護皮膜を形成するための例示的な反応条件は以下の通りである。
流量範囲：
ＯＭＣＴＳ：  ０．５乃至１０ｓｃｃｍ
酸素：  ０．１乃至１０ｓｃｃｍ
アルゴン：  １．０乃至２００ｓｃｃｍ
電力：  ０．１乃至５００ワット
【０２１７】
別の考えられる実施形態においては、前駆体、酸素及びアルゴンの比率は、例えば、以下とされうる。
ＯＭＣＴＳ：  ０．５乃至５．０ｓｃｃｍ
酸素：  ０．１乃至５．０ｓｃｃｍ
アルゴン：  １．０乃至２０ｓｃｃｍ
【０２１８】
更に別の考えられる実施形態においては、前駆体、酸素及びアルゴンの比率、並びに電力レベルは、例えば、以下とされうる。
特定流量：
ＯＭＣＴＳ：  ２．０ｓｃｃｍ
酸素：  ０．７ｓｃｃｍ
アルゴン：  ７．０ｓｃｃｍ
電力：  ３．５ワット
【０２１９】
しかしながら、被覆は上記比率から変更することができる。例えば、不活性化層又はｐＨ保護皮膜としての機能も果たす滑性の皮膜を提供するために以下の比率のガスが使用されうる。
０．５乃至１０標準体積、任意選択的に、１乃至６標準体積、任意選択的に、２乃至４標準体積、任意選択的に、６以下の標準体積、任意選択的に、２．５以下の標準体積、任意選択的に、１．５以下の標準体積、任意選択的に、１．２５以下の標準体積の前駆体、例えば、ＯＭＣＴＳ又は任意の実施形態の他の前駆体の１つ。
０乃至１００標準体積、任意選択的に、１乃至８０標準体積、任意選択的に、５乃至１００標準体積、任意選択的に、１０乃至７０標準体積の任意の実施形態のキャリアガス。
０．１乃至１０標準体積、任意選択的に、０．１乃至２標準体積、任意選択的に、０．２乃至１．５標準体積、任意選択的に、０．２乃至１標準体積、任意選択的に、０．５乃至１．５標準体積、任意選択的に、０．８乃至１．２標準体積の酸化剤。
【０２２０】
表９乃至１１に記載される体積比における前駆体及びＯ2の存在は不活性化層又はｐＨ保護皮膜を実現するのに特に好適とされうる。
【０２２１】
本発明の一態様においては、反応混合物中からキャリアガスを排除することができ、本発明の別の態様においては、それは存在することができる。好適なキャリアガスは、任意の希ガスであり、例えば、アルゴン、ヘリウム、ネオン、キセノン又はこれら２つ以上の組み合わせを含む。キャリアガスが反応混合物中に存在する場合、それは、通常、有機ケイ素化合物前駆体の体積を超える体積（ｓｃｃｍ）において存在する。例えば、有機ケイ素化合物前駆体とキャリアガスの比率は、１：１乃至１：５０、任意選択的に、１：５乃至１：４０、任意選択的に、１：１０乃至１：３０とされうる。キャリアガスの１つの機能は、基板に付着せず主として排出ガスとともに除去される粉末反応生成物の代わりに、プラズマ中における反応物を希釈し、基板上における皮膜の形成を促進することとされうる。
【０２２２】
アルゴンガスを添加すると不活性化層又はｐＨ保護皮膜３４の性能が向上することが分かっている。アルゴンの存在下における分子の更なるイオン化がこの性能に寄与すると考えられる。分子のＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合はＳｉ−Ｃに次いで高い結合エネルギを有し、Ｃ−Ｈ結合が最も弱い。不動態化又はｐＨ保護はＣ−Ｈ結合の一部が破壊された場合に達成されるようである。これにより、構造が成長する際にその連結（架橋）を可能にする。酸素（アルゴンとともに）の添加はこのプロセスを強化すると理解されている。少量の酸素もまた、他の分子が結合することができるＣ−Ｏ結合を提供することができる。Ｃ−Ｈ結合の破壊と酸素の添加の組み合わせを全て低圧及び低電力で実施すると、不動態化又はｐＨ保護を提供する一方で、安定（ｓｏｌｉｄ）とされうる化学構造となる。
【０２２３】
開示される実施形態のいずれかにおいては、プロセスガスの１つの好適な複合体には、前駆体としてのオクタメチルシクロテトラシロキサン（ＯＭＣＴＳ）又は別の環式シロキサン、Ｏ2、亜酸化窒素（Ｎ2Ｏ）、オゾン（Ｏ3）、又は別の酸化性ガスを含み、これは、好ましくは、Ｏ2及びキャリアガス、例えば、希キャリアガス（ｎｏｂｌｅ  ｃａｒｒｉｅｒ  ｇａｓ）、例えば、アルゴン（Ａｒ）を用いた条件におけるＰＥＣＶＤ中に前駆体を酸化する任意の他のガスを意味する。気体反応物又はプロセスガスは少なくとも実質的に窒素を含まないものとされうる。生じる不活性化層又はｐＨ保護皮膜を向上させるためにこの組み合わせが考えられる。
【０２２４】
塗布方法
不活性化層又はｐＨ保護皮膜３４は、任意選択的に、バリア皮膜又は層３０上に直接又は間接的に塗布することができ、任意選択的に、１２などのプリアセンブリに塗布されうる一方で、不活性化層又はｐＨ保護皮膜３４の塗布の終了時に、近位開口部２２を介してバレル内腔１８と分与部内腔２６との間の連通を維持するのに効果的な条件下でプリアセンブリにキャップが嵌められる。
【０２２５】
ガラス製の容器
任意選択的に、任意の実施形態においては、不活性化層又はｐＨ保護皮膜３４は、その更なる層としての塗布の代わりに、又はその更なる層としての塗布に加えて、第１の又は唯一の蒸着皮膜又は層３０として塗布されうる。この手法は、以下に記載されるように、例えば、バレルがガラス製である場合に有用であってもよい。本開示の不活性化層又はｐＨ保護皮膜は、また、ＳｉＯx皮膜又は層を攻撃するとして示されたｐＨ値を有する内容によるガラスの溶解を低減することができる。
【０２２６】
任意の実施形態、例えば、図７乃至９に示すような、ガラス製の容器又は容器部品と、任意選択的に、容器又は容器部品上のバリア皮膜又は層又は３０などの層と、容器、容器部品上の３４などの不活性化層又はｐＨ保護皮膜、又はバリア皮膜又は層又は層と、容器内に収容された薬剤組成物又は製剤と、を含む、薬剤パッケージ２１０が企図される。
【０２２７】
このガラス実施形態においては、バリア皮膜又は層又は層は任意とされうる。これは、ガラス容器壁はそれ自体が極めて良好なバリア皮膜又は層であることが理由である。主として分離を提供するために、換言すると、容器壁と容器の内容との間におけるガラスのイオン又は薬剤組成物又は製剤の成分などのあらゆる種類の物質の接触及び交換を防止するために、任意選択的に、バリア皮膜又は層を提供することが企図される。この明細書に定義される保護層は分離機能を単独で少なくともある程度実施するように企図されうる。本実施例では薬剤包装において現在一般的に使用されているホウケイ酸ガラスが５を超えるｐＨを有する流体組成物によって溶解しうることを示すため、この不動態化皮膜又はｐＨ防護層は薬剤組成物又は製剤に接触しているガラスに有用な機能を提供するように企図されうる。特に、そのような溶解が不利益とされうるか、不利益であると認識される場合の用途においては、本不活性化層又は保護皮膜もしくは層は有用であろう。
【０２２８】
容器は、例えば、ソーダ石灰ガラス、ホウケイ酸ガラス又は他のガラス配合物（ｇｌａｓｓ  ｆｏｒｍｕｌａｔｉｏｎ）などの医療又は実験室用途で使用される任意のタイプのガラス製とされうる。ガラス容器上の不活性化層又はｐＨ保護皮膜の１つの機能は、意図的に又は不純物（例えば、ナトリウム、カルシウム又はその他）としてのいずれかにおいて、ガラス内のイオンが、ガラスから、真空にした血液サンプリングチューブ内の試薬又は血液などの薬剤パッケージ又は他の容器の内容に進入するのを低減しうることである。あるいは、二重機能の保護／滑性皮膜又は層が、ガラス容器上の全体又は一部に、例えば、選択的に、摺動関係において他の部品と接触する表面に、例えば、ストッパの挿入もしくは取り外し又はシリンジ内のピストンなどの摺動要素の通過を容易にするための滑性を提供するために、並びに不活性化層又はｐＨ保護皮膜の分離を提供するために使用されうる。ガラス容器を、例えば、二重機能疎水性及び不活性化層又はｐＨ保護皮膜で被覆する更に別の理由は、試薬又は血液などの薬剤パッケージもしくは他の容器用のサンプルが容器の壁に固着すること、又は容器の壁に接触している血液の凝固の速度を増加することを防止するため、並びに不活性化層又はｐＨ保護皮膜の分離を提供するためとされうる。
【０２２９】
関連する実施形態は、バリア皮膜又は層又は層がソーダ石灰ガラス、ホウケイ酸ガラス製又は基板上の別のタイプのガラス皮膜又は層とされうる、前段落に記載したような容器とされうる。
【０２３０】
不活性化層又はｐＨ保護皮膜のプラズマ条件
前駆体は、前駆体の近傍を高周波で動作する電極で励起することによって形成されたプラズマと接触されうる。高周波は、任意選択的に、１０ｋＨｚ乃至２．４５ＧＨｚ、任意選択的に、１０ｋＨｚ乃至３００ＭＨｚ未満、任意選択的に、１乃至５０ＭＨｚ、任意選択的に、１０乃至１５ＭＨｚ、あるいは、約１３乃至約１４ＭＨｚ、任意選択的に、１３．５６ＭＨｚ又は約１３．５６ＭＨｚの周波数である。通常、ＰＥＣＶＤ法におけるプラズマはＲＦ周波数で発生させることができるが、マイクロ波又は他の電磁エネルギもまた使用されうる。容器内において実施されるプラズマ反応によって容器の内側に保護層を提供するため、任意の実施形態のプラズマは、０．１乃至５００Ｗ、任意選択的に、０．１乃至４００Ｗ、任意選択的に、０．１乃至３００Ｗ、任意選択的に、１乃至２５０Ｗ、任意選択的に、１乃至２００Ｗ、更に任意選択的に、１０乃至１５０Ｗ、任意選択的に、２０乃至１５０Ｗ、例えば、４０Ｗ、任意選択的に、４０乃至１５０Ｗ、更に任意選択的に、６０乃至１５０Ｗの電力によって発生させることができる。
【０２３１】
本明細書中の任意の実施形態における任意のＰＥＣＶＤ法においては、ＰＥＣＶＤは規定範囲内の初期の高い電力レベルに続いて規定範囲内の次の低い電力レベルを印加することによって開始されうる。初期の高い電力レベルは、例えば、１乃至３秒間印加されうる。次の低い電力レベルは、例えば、ＰＥＣＶＤの残りにおいて印加されうる。
【０２３２】
不動態化又はｐＨ保護に加えて滑性を提供することを意図した皮膜を形成するため、０．１乃至２５Ｗ、任意選択的に、１乃至２２Ｗ、任意選択的に、１乃至１０Ｗ、更に任意選択的に、１乃至５Ｗ、任意選択的に、２乃至４Ｗ、例えば、３Ｗ、任意選択的に、３乃至１７Ｗ、更に任意選択的に、５乃至１４Ｗ、例えば、６Ｗ又は７．５Ｗ、任意選択的に、７乃至１１Ｗ、例えば、８Ｗの電力が供給された電極によって前駆体の近傍を励起することによって形成されたプラズマと前駆体を接触させることができる。
【０２３３】
電極電力とプラズマ量の比率は、１００Ｗ／ｍｌ未満、任意選択的に、０．１乃至１００Ｗ／ｍＬ、任意選択的に、５Ｗ／ｍｌ乃至７５Ｗ／ｍｌ、任意選択的に、６Ｗ／ｍｌ乃至６０Ｗ／ｍｌ、任意選択的に、１０Ｗ／ｍｌ乃至５０Ｗ／ｍｌ、任意選択的に、２０Ｗ／ｍｌ乃至４０Ｗ／ｍｌとされうる。これら電力レベルは、不活性化層又は保護皮膜又は層を、ＰＥＣＶＤプラズマを発生させることができる５ｍＬの空隙容量を有するシリンジ及びサンプルチューブ及び薬剤パッケージ又は類似の幾何学的形状の他の容器に塗布するのに好適である。より大きな又はより小さな物体においては、プロセスを基板のサイズに合わせて変えるために印加される電力（ワット）を増加又は低減すべきであると考えられる。
【０２３４】
不動態化又はｐＨ保護に加えて滑性を提供することを意図した皮膜を形成するため、１０Ｗ／ｍｌ未満のプラズマ量、あるいは６Ｗ／ｍｌ乃至０．１Ｗ／ｍｌのプラズマ量、あるいは５Ｗ／ｍｌ乃至０．１Ｗ／ｍｌのプラズマ量、あるいは４Ｗ／ｍｌ乃至０．１Ｗ／ｍｌのプラズマ量、あるいは２Ｗ／ｍｌ乃至０．２Ｗ／ｍｌのプラズマ量、あるいは１０Ｗ／ｍｌ乃至５０Ｗ／ｍｌ、任意選択的に２０Ｗ／ｍｌ乃至４０Ｗ／ｍｌの電力密度が供給された電極によって前駆体の近傍を励起することによって形成されたプラズマと前駆体を接触させることができる。
【０２３５】
任意選択的に、図７乃至９の任意の実施形態においては、不活性化層又はｐＨ保護皮膜は、ＰＥＣＶＤによって、２２，０００ｋＪ／ｋｇ超の質量の前駆体、又は３０，０００ｋＪ／ｋｇ超の質量の前駆体、又は４０，０００ｋＪ／ｋｇ超の質量の前駆体、又は５０，０００ｋＪ／ｋｇ超の質量の前駆体、又は６０，０００ｋＪ／ｋｇ超の質量の前駆体、又は６２，０００ｋＪ／ｋｇ超の質量の前駆体、又は７０，０００ｋＪ／ｋｇ超の質量の前駆体、又は８０，０００ｋＪ／ｋｇ超の質量の前駆体、又は１００，０００ｋＪ／ｋｇ超の質量の前駆体、又は２００，０００ｋＪ／ｋｇ超の質量の前駆体、又は３００，０００ｋＪ／ｋｇ超の質量の前駆体、又は４００，０００ｋＪ／ｋｇ超の質量の前駆体、又は５００，０００ｋＪ／ｋｇ超の質量の前駆体あたりの電力レベルで塗布されうる。
【０２３６】
任意選択的に、図７乃至９の任意の実施形態においては、不活性化層又はｐＨ保護皮膜３４は、ＰＥＣＶＤによって、２，０００，０００ｋＪ／ｋｇ未満の質量の前駆体、１，０００，０００ｋＪ／ｋｇ未満の質量の前駆体、又は７００，０００ｋＪ／ｋｇ未満の質量の前駆体、又は５００，０００ｋＪ／ｋｇ未満の質量の前駆体、又は１００，０００ｋＪ／ｋｇ未満の質量の前駆体、又は９０，０００ｋＪ／ｋｇ未満の質量の前駆体、又は８１，０００ｋＪ／ｋｇ未満の質量の前駆体あたりの電力レベルで塗布されうる。
【０２３７】
ＰＥＣＶＤ法においては、堆積時間は、１乃至３０秒、あるいは２乃至１０秒、あるいは３乃至９秒とされうる。堆積時間を任意選択的に限定する目的は、基板の過熱を回避するため、製造の速度を増加するため、及びプロセスガス及びその成分の使用を低減するためとされうる。堆積時間を任意選択的に延長する目的は特定の堆積条件においてより厚い不活性化層又はｐＨ保護皮膜を提供するためとされうる。
【０２３８】
不活性化層又はｐＨ保護皮膜を塗布するために他の方法を使用することができる。例えば、ヘキサメチレンジシラザン（ＨＭＤＺ）を前駆体として使用することができる。ＨＭＤＺはその分子構造に酸素を含まないという利点を有する。この不活性化層又はｐＨ保護皮膜処理は、ＳｉＯxバリア皮膜又は層の、ＨＭＤＺによる表面処理であると考えられる。ＨＭＤＺは二酸化ケイ素皮膜中に存在する−ＯＨ部位と反応し、その結果、ＮＨ3の放出及びＳ−（ＣＨ3）3のケイ素への結合（水素原子が発生してＨＭＤＺの窒素と結合し、ＮＨ3を生成すると考えられる）が生じると考えられる。
【０２３９】
このＨＭＤＺ不活性化層又はｐＨ保護皮膜はいくつかの可能な経路を通じて達成することが可能であると考えられる。
【０２４０】
１つの考えられる経路は、周囲温度におけるＨＭＤＺの脱水／気化とされうる。まず、例えば、ヘキサメチレンジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）を使用してＳｉＯx表面を堆積させることができる。被覆されたそのままの二酸化ケイ素表面は、その後、ＨＭＤＺ蒸気と反応させることができる。一実施形態においては、ＳｉＯx表面が対象の物品上に堆積されるとすぐに真空が維持されうる。ＨＭＤＳＯ及び酸素は押し出され、ベース真空（ｂａｓｅ  ｖａｃｕｕｍ）が達成される。ベース真空が達成されると、ＨＭＤＺ蒸気はｍＴｏｒｒ範囲から大きなＴｏｒｒ（ｍａｎｙ  Ｔｏｒｒ）の圧力で二酸化ケイ素の表面上を流れることができる（対象の部分が被覆されたため）。ＨＭＤＺは、その後、（生じた反応の副産物であるＮＨ3とともに）押し出されうる。ガス流中のＮＨ3の量は（残留ガス分析器、例としてＲＧＡを用いて）監視することができ、それ以上のＮＨ3が検出されない場合には反応が完了する。この部分は、その後、（清浄なドライガス又は窒素とともに）大気に排出されうる。生じた表面には、その後、不動態化又は保護されていることが認められる。この方法は、任意選択的に、プラズマを形成することなく達成することが可能であると考えられる。
【０２４１】
あるいは、ＳｉＯxバリア皮膜又は層の形成後、ＨＭＤＺの脱水／気化前に、真空を遮断することができる。ＨＭＤＺの脱水／気化は、その後、ＳｉＯxバリア皮膜又は層の形成に使用したものと同じ装置又は異なる装置のいずれかにおいて実施されうる。
【０２４２】
高温でのＨＭＤＺの脱水／気化もまた考えられる。上記プロセスは、あるいは、室温を超えて約１５０℃までの高温で実施されうる。最高温度は被覆された部品が構成される物質によって決定されうる。被覆される部分を歪ませない、又はそうでなければ損傷しない上限温度を選択すべきである。
【０２４３】
プラズマアシストによるＨＭＤＺの脱水／気化もまた考えられる。上記実施形態の脱水／気化のいずれかを実施した後、その部分にＨＭＤＺ蒸気が入ると、プラズマが発生されうる。プラズマ電力は数ワット乃至１００＋ワットの範囲とされうる（ＳｉＯxを堆積させるのに使用したものと同様の電力）。上記はＨＭＤＺに限定されるものではなく、水素と反応する任意の分子に適用可能とすることができ、例えば、この明細書に記載されている窒素含有前駆体のいずれかである。
【０２４４】
驚くべきことに、上記の皮膜又は層は、分与部内腔２６内に蒸着皮膜３０の堆積が実質的にない、キャップが嵌められたプリアセンブリ１２に適用できることが判明した。これは、以下の実施例によって示される。
【０２４５】
特定の実施形態においては、特定の例においてより良好な不活性化層又はｐＨ保護皮膜が発生することが判明したため、容器の被覆される部分全体にわたる均一なプラズマの生成が考えられる。均一なプラズマとは、大量のホロー陰極プラズマ（通常のプラズマよりも高い放出強度を有し、通常のプラズマのより均一な強度を遮る、より高い強度の局所領域として顕在化しうる）を含まない通常のプラズマを意味する。
【０２４６】
更に、この明細書に記載されている不活性化層又はｐＨ保護皮膜プロセスの任意の実施形態は、また、プラズマを閉じ込めるために、被覆される物品を使用することなく実施されうると考えられる。例えば、医療デバイス、例えば、カテーテル、外科用器具、クロージャ、及びその他の外部表面は、高周波目標を用いた皮膜のスパッタリングによって不動態化又は保護されうる。
【０２４７】
非有機ケイ素化合物（Ｎｏｎ−Ｏｒｇａｎｏｓｉｌｉｃｏｎ）不活性化層又はｐＨ保護皮膜
不活性化層又はｐＨ保護皮膜を塗布する別の方法は、不活性化層又はｐＨ保護皮膜として無定形炭素又はフッ素化ポリマー皮膜又はこの２つの複合体を塗布することとされうる。
【０２４８】
無定形炭素皮膜は、飽和炭化水素（例えば、メタン、エタン、エチレン又はプロパン）又は不飽和炭化水素（例えば、エチレン、アセチレン）又はこれら２つ以上の複合体をプラズマ重合のための前駆体として使用するＰＥＣＶＤによって形成されうる。
【０２４９】
フッ素化ポリマー皮膜は、前駆体を、流体受容内部表面上又は流体受容内部表面の近傍にある間に化学的に修飾することによって塗布されうる。
【０２５０】
任意選択的に、前駆体は以下を含む。
テトラフルオロパラキシリレン二量体、
ジフルオロカルベン、
テトラフルオロエチレン単量体、
式Ｆ２Ｃ＝ＣＦ（ＣＦ２）ｘＦを有するテトラフルオロエチレンオリゴマー、式中、ｘは１乃至１００、任意選択的に２乃至５０、任意選択的に２乃至２０、任意選択的に２乃至１０とされうる、
ナトリウムクロロジフルオロアセタート、
クロロジフルオロメタン、
ブロモジフルオロメタン、
ヘキサフルオロプロピレンオキシド、
１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ペルフルオロデシルアクリル（ＦＤＡ）、
アルカン部分が１乃至６個の炭素原子を有しうるブロモフルオロアルカン、
アルカン部分が１乃至６個の炭素原子を有しうるヨードフルオロアルカン、又は
これらのいずれか２つ以上の複合体。
【０２５１】
フッ素化ポリマーは、
任意選択的に、少なくとも０．０１マイクロメートル乃至最大で１００マイクロメートルの厚さ、
任意選択的に、少なくとも０．０５マイクロメートル乃至最大で９０マイクロメートルの厚さ、
任意選択的に、少なくとも０．１マイクロメートル乃至最大で８０マイクロメートルの厚さ、
任意選択的に、少なくとも０．１マイクロメートル乃至最大で７０マイクロメートルの厚さ、
任意選択的に、少なくとも０．１マイクロメートル乃至最大で６０マイクロメートルの厚さ、
任意選択的に、少なくとも０．１マイクロメートル乃至最大で５０マイクロメートルの厚さ、
任意選択的に、少なくとも０．１マイクロメートル乃至最大で４０マイクロメートルの厚さ、
任意選択的に、少なくとも０．１マイクロメートル乃至最大で３０マイクロメートルの厚さ、
任意選択的に、少なくとも０．１マイクロメートル乃至最大で２０マイクロメートルの厚さ、
任意選択的に、少なくとも０．１マイクロメートル乃至最大で１５マイクロメートルの厚さ、
任意選択的に、少なくとも０．１マイクロメートル乃至最大で１２マイクロメートルの厚さ、
任意選択的に、少なくとも０．１マイクロメートル乃至最大で１０マイクロメートルの厚さ
任意選択的に、少なくとも０．１マイクロメートル乃至最大で８マイクロメートルの厚さ、
任意選択的に、少なくとも０．１マイクロメートル乃至最大で６マイクロメートルの厚さ、
任意選択的に、少なくとも０．１マイクロメートル乃至最大で４マイクロメートルの厚さ、
任意選択的に、少なくとも０．１マイクロメートル乃至最大で２マイクロメートルの厚さ、
任意選択的に、少なくとも０．１マイクロメートル乃至最大で１マイクロメートルの厚さ、
任意選択的に、少なくとも０．１マイクロメートル乃至最大で０．９マイクロメートルの厚さ、
任意選択的に、少なくとも０．１マイクロメートル乃至最大で０．８マイクロメートルの厚さ、
任意選択的に、少なくとも０．１マイクロメートル乃至最大で０．７マイクロメートルの厚さ、
任意選択的に、少なくとも０．１マイクロメートル乃至最大で０．６マイクロメートルの厚さ、
任意選択的に、少なくとも０．１マイクロメートル乃至最大で０．５マイクロメートルの厚さ、
任意選択的に、少なくとも０．５マイクロメートル乃至最大で５マイクロメートルの厚さ、
任意選択的に、少なくとも０．５マイクロメートル乃至最大で４マイクロメートルの厚さ、
任意選択的に、少なくとも０．５マイクロメートル乃至最大で３マイクロメートルの厚さ、
任意選択的に、少なくとも０．５マイクロメートル乃至最大で２マイクロメートルの厚さ、
任意選択的に、少なくとも０．５マイクロメートル乃至最大で１マイクロメートル厚さ、
任意選択的に、約１０マイクロメートルの厚さ、
任意選択的に、約２マイクロメートルの厚さ。
【０２５２】
フッ素化ポリマーは、任意選択的に、蒸着、例えば、化学気相成長によって塗布されうる。任意選択的に、フッ素化ポリマーは、テトラフルオロパラキシリレン二量体の化学気相成長によって塗布されうる。好適なフッ素化ポリマーの一例はポリテトラフルオロパラキシリレンとされうる。任意選択的に、フッ素化ポリマーは本質的にポリテトラフルオロパラキシリレンからなる。
【０２５３】
任意選択的に、任意の実施形態においては、フッ素化ポリマー皮膜又は層はポリテトラフルオロエチレンを含む。任意選択的に、任意の実施形態においては、フッ素化ポリマー皮膜又は層は本質的にポリテトラフルオロエチレンからなる。
【０２５４】
例えば、任意の実施形態においては、フッ素化ポリマー皮膜又は層は、流体受容内部表面上又は流体受容内部表面の近傍にある間に前駆体を化学的に修飾し、フッ素化ポリマー皮膜又は層を流体受容内部表面上に生成することによって塗布されうる。任意選択的に、任意の実施形態においては、フッ素化ポリマー皮膜又は層は化学気相成長によって塗布されうる。１つの例では、任意の実施形態においては、フッ素化ポリマー皮膜又は層はホットワイヤ型化学気相成長（ＨＷＣＶＤ）によって塗布されうる。別の例では、任意の実施形態においては、フッ素化ポリマー皮膜又は層はプラズマ化学気相成長（ＰＥＣＶＤ）によって塗布されうる。任意の実施形態においては、好適な皮膜を塗布するためのプロセスの混合又は他のプロセスも企図される。
【０２５５】
フッ素化ポリマー皮膜を塗布するための好適なＨＷＣＶＤプロセスの別の例は、Ｈｉｌｔｏｎ  Ｇ．  Ｐｒｙｃｅ  Ｌｅｗｉｓ，  Ｎｅｅｔａ  Ｐ．  Ｂａｎｓａｌ，  Ａｌｅｋｓａｎｄｒ  Ｊ．  Ｗｈｉｔｅ，  Ｅｒｉｋ  Ｓ．  Ｈａｎｄｙ，  ＨＷＣＶＤ  ｏｆ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ：Ｃｏｍｍｅｒｃｉａｌｉｚａｔｉｏｎ  ａｎｄ  Ｓｃａｌｅ−ｕｐ，ＴＨＩＮ  ＳＯＬＩＤ  ＦＩＬＭＳ  ５１７  ２００９）３５５１−３５５４、２０１２年１月５日公開の米国特許出願公開第２０１２／０００３４９７Ａ１号明細書及び２０１１年８月４日公開の米国特許出願公開第２０１１／０１８６５３７号明細書に記載のプロセスとされうる。これらの、フッ素化ポリマー皮膜及びそれら用途の記載の全体が参照によって本明細書に組み入れられる。
【０２５６】
無定形炭素及び／又はフッ素化ポリマー皮膜は、無定形炭素及び／又はフッ素化ポリマー皮膜はシラノール結合を含まないことから、シロキサン皮膜に比べて、ＳｉＯxバリア皮膜又は層のより良好な不動態化又は保護を提供すると考えられる。
【０２５７】
更に、不活性化層又はｐＨ保護皮膜をＳｉＯxバリア皮膜又は層上に提供するためにフルオロシリコン（ｆｌｕｏｒｏｓｏｌｉｃｏｎ）前駆体が使用されうることが考えられる。これは、前駆体としてヘキサフルオロシランなどのフッ素化シラン前駆体及びＰＥＣＶＤ法を使用することによって実施されうる。生じる皮膜は、また、非湿潤性皮膜（ｎｏｎ−ｗｅｔｔｉｎｇ  ｃｏａｔｉｎｇ）となることが予想される。
【０２５８】
液体が塗布された不活性化層又はｐＨ保護皮膜
ＰＥＣＶＤで塗布された不活性化層又はｐＨ保護皮膜、又は本明細書で開示される他のＰＥＣＶＤ処置とともに使用可能な、好適なバリア又は他の種類の不活性化層又はｐＨ保護皮膜の別の例は、液体バリア、潤滑剤、表面エネルギ調整（ｓｕｒｆａｃｅ  ｅｎｅｒｇｙ  ｔａｉｌｏｒｉｎｇ）、又は薬剤パッケージ又は他の容器の内側又は内部表面に、直接、又はこの明細書に記載されている１つ又は複数の、介在する、ＰＥＣＶＤで塗布された皮膜又は層、例えば、ＳｉＯxによるいずれかにより塗布された不活性化層又はｐＨ保護皮膜９０、滑性皮膜又は層及び／又は不活性化層又はｐＨ保護皮膜又はその両方とされうる。
【０２５９】
適切な液体バリア、滑性又は不活性化層又はｐＨ保護皮膜９０もまた、任意選択的に、例えば、液体モノマー又は他の重合性又は硬化性材料を容器８０の内側又は内部表面に塗布し、液体モノマーを硬化、重合又は架橋させ、固体ポリマーを形成することによって、又は溶剤分散型ポリマー（ｓｏｌｖｅｎｔ−ｄｉｓｐｅｒｓｅｄ  ｐｏｌｙｍｅｒ）を表面８８に塗布し溶剤を除去することによって塗布されうる。
【０２６０】
上記方法のいずれかは、処理台又はデバイス２８の容器ポート９２を通じて不活性化層又はｐＨ保護皮膜９０を容器８０の内側８８に形成するステップを含みうる。１つの例は、例えば、硬化性モノマー、プレポリマー又はポリマー分散物の液体不活性化層又はｐＨ保護皮膜を、容器８０の内側又は内部表面８８に塗布し、それを硬化させて、容器８０の内容をその内側又は内部表面８８から物理的に分離する膜を形成するステップとされうる。先行技術では、プラスチック血液サンプリングチューブを処理するのにポリマー不活性化層又はｐＨ保護皮膜技術が好適であると記載している。例えば、参照により本明細書に組み入れられる米国特許第６，１６５，５６６号明細書に記載されているアクリル系及びポリ塩化ビニリデン（ＰＶｄＣ）不活性化層又はｐＨ保護皮膜材料及び方法を、任意選択的に、使用することができる。
【０２６１】
上記方法のいずれかは、皮膜又は層を容器８０の外側外壁上に形成するステップもまた含みうる。外側皮膜又は層は、任意選択的に、バリア皮膜又は層又は層、任意選択的に、酸素バリア皮膜又は層又は層、又は任意選択的に、水バリア皮膜又は層又は層とされうる。外側皮膜又は層は、また、容器８０の外壁を保護する外装層（ａｒｍｏｒ  ｌａｙｅｒ）とされうる。適切な外側皮膜又は層の一例は、水バリア及び酸素バリアの両方として機能するポリ塩化ビニリデンとされうる。任意選択的に、外側皮膜又は層は水ベースの皮膜又は層として塗布されうる。外側皮膜又は層は、任意選択的に、容器をその中に浸漬すること、薬剤パッケージ又は他の容器にそれを噴霧すること、又は他の手法によって塗布されうる。
【０２６２】
ＳｉＯxバリア皮膜又は層の保護又は不動態化のために企図される更に別の皮膜様式は、ポリアミドアミンエピクロルヒドリン樹脂を使用したバリア皮膜又は層の皮膜とされうる。例えば、バリア皮膜又は層は、流体ポリアミドアミンエピクロルヒドリン樹脂融液、溶液又は分散液（ｄｉｓｐｅｒｓｉｏｎ）中における浸漬皮膜によって塗布され、高圧蒸気殺菌又は他の６０乃至１００℃の温度での加熱によって硬化されうる。
【０２６３】
ｐＨ５乃至８の水性環境においてはポリアミドアミンエピクロルヒドリン樹脂の皮膜が優先的に使用されうることが企図される。これは、そのような樹脂がそのｐＨ範囲内において紙の高い湿潤強度を提供することが公知であることが理由である。湿潤強度は長期間にわたり完全な水の浸漬にさらされた紙が機械強度を維持する能力であり、ＳｉＯxバリア皮膜又は層上のポリアミドアミンエピクロルヒドリン樹脂の皮膜は水性媒体中の溶解に対して同様の抵抗を有することが考えられる。また、ポリアミドアミンエピクロルヒドリン樹脂は滑性の向上を紙に付与することから、それはまた、例えば、ＣＯＣ又はＣＯＰから作製した、熱可塑性プラスチック表面上の皮膜の形態において滑性を提供することが企図される。
【０２６４】
流体物質
任意選択的に、図７乃至９のいずれかの実施形態においては、流体物質４０は、５乃至６、任意選択的に、６乃至７、任意選択的に、７乃至８、任意選択的に、８乃至９、任意選択的に、６．５乃至７．５、任意選択的に、７．５乃至８．５、任意選択的に、８．５乃至９のｐＨを有しうる。
【０２６５】
任意選択的に、図７乃至９のいずれかの実施形態においては、流体物質４０は、２０℃及び海面における周囲圧力（７６０ｍｍＨｇの圧力と定義される）の液体とされうる。
【０２６６】
任意選択的に、図７乃至９のいずれかの実施形態においては、流体物質４０は水性の液体とされうる。
【０２６７】
任意選択的に、図７乃至９のいずれかの実施形態においては、流体物質４０は、
吸入麻酔薬
アリフルラン
クロロホルム
シクロプロパン
デスフルラン（Ｓｕｐｒａｎｅ）
ジエチルエーテル
エンフルラン（Ｅｔｈｒａｎｅ）
塩化エチル
エチレン
ハロタン（Ｆｌｕｏｔｈａｎｅ）
イソフルラン（Ｆｏｒａｎｅ、Ｉｓｏｆｌｏ）
イソプロペニルビニルエーテル
メトキシフルラン
メトキシフルラン
メトキシプロパン
亜酸化窒素
ロフルラン
セボフルラン（Ｓｅｖｏｒａｎｅ、Ｕｌｔａｎｅ、Ｓｅｖｏｆｌｏ）
テフルラン
トリクロロエチレン
ビニルエーテル
キセノン
注射剤
Ａｂｌａｖａｒ（ガドホスベセット三ナトリウム注射薬）
アバレリックスデポ
アボボツリナムトキシンＡ注射薬（Ｄｙｓｐｏｒｔ）
ＡＢＴ−２６３
ＡＢＴ−８６９
ＡＢＸ−ＥＦＧ
Ａｃｃｒｅｔｒｏｐｉｎ（ソマトロピン注射薬）
Ａｃｅｔａｄｏｔｅ（アセチルシステイン注射薬）
アセタゾラミド注射薬（アセタゾラミド注射薬）
アセチルシステイン注射薬（Ａｃｅｔａｄｏｔｅ）
アクテムラ（トシリズマブ注射薬）
Ａｃｔｈｒｅｌ（注射用コルチコレリンオーバイントリフルテート）
Ａｃｔｕｍｍｕｎｅ
アクチバーゼ
注射用アシクロビル（ゾビラックス注射薬）
Ａｄａｃｅｌ
アダリムマブ
アデノスキャン（アデノシン注射薬）
アデノシン注射薬（アデノスキャン）
Ａｄｒｅｎａｃｌｉｃｋ
ＡｄｒｅＶｉｅｗ（ヨーベングアンＩ１２３静脈内使用用注射薬）
Ａｆｌｕｒｉａ
Ａｋ−Ｆｌｕｏｒ（フルオレセイン注射薬）
アウドラザイム（ラロニダーゼ）
アルグルセラーゼ注射薬（セレデース）
アルケラン注射薬（メルファランＨｃｌ注射薬）
注射用アロプリノールナトリウム（Ａｌｏｐｒｉｍ）
Ａｌｏｐｒｉｍ（注射用アロプリノールナトリウム）
アルプロスタジル
Ａｌｓｕｍａ（スマトリプタン注射薬）
ＡＬＴＵ−２３８
アミノ酸注射薬
Ａｍｉｎｏｓｙｎ
アピドラ
アプレミラスト
注射用アルプロスタジルデュアルチャンバシステム（Ｄｕａｌ  Ｃｈａｍｂｅｒ  Ｓｙｓｔｅｍ）（Ｃａｖｅｒｊｅｃｔ  Ｉｍｐｕｌｓｅ）
ＡＭＧ００９
ＡＭＧ０７６
ＡＭＧ１０２
ＡＭＧ１０８
ＡＭＧ１１４
ＡＭＧ１６２
ＡＭＧ２２０
ＡＭＧ２２１
ＡＭＧ２２２
ＡＭＧ２２３
ＡＭＧ３１７
ＡＭＧ３７９
ＡＭＧ３８６
ＡＭＧ４０３
ＡＭＧ４７７
ＡＭＧ４７９
ＡＭＧ５１７
ＡＭＧ５３１
ＡＭＧ５５７
ＡＭＧ６２３
ＡＭＧ６５５
ＡＭＧ７０６
ＡＭＧ７１４
ＡＭＧ７４５
ＡＭＧ７８５
ＡＭＧ８１１
ＡＭＧ８２７
ＡＭＧ８３７
ＡＭＧ８５３
ＡＭＧ９５１
アミオダロンＨＣｌ注射薬（アミオダロンＨＣｌ注射薬）
アモバルビタールナトリウム注射薬（アミタールナトリウム）
アミタールナトリウム（アモバルビタールナトリウム注射薬）
アナキンラ
Ａｎｔｉ−Ａｂｅｔａ
Ａｎｔｉ−Ｂｅｔａ７
Ａｎｔｉ−Ｂｅｔａ２０
Ａｎｔｉ−ＣＤ４
Ａｎｔｉ−ＣＤ２０
Ａｎｔｉ−ＣＤ４０
Ａｎｔｉ−ＩＦＮａｌｐｈａ
Ａｎｔｉ−ＩＬ１３
Ａｎｔｉ−ＯＸ４０Ｌ
Ａｎｔｉ−ｏｘＬＤＳ
Ａｎｔｉ−ＮＧＦ
Ａｎｔｉ−ＮＲＰ１
アリクストラ
Ａｍｐｈａｄａｓｅ（ヒアルロニダーゼ注射薬）
Ａｍｍｏｎｕｌ（フェニル酢酸ナトリウム及び安息香酸ナトリウム注射薬）
Ａｎａｐｒｏｘ
アンゼメット注射薬（メシル酸ドラセトロン注射薬）
アピドラ（インスリングルリシン［ｒＤＮＡ由来］注射薬）
Ａｐｏｍａｂ
Ａｒａｎｅｓｐ（ダルベポエチンアルファ）
アルガトロバン（アルガトロバン注射薬）
塩酸アルギニン注射薬（Ｒ−Ｇｅｎｅ１０
アリストコート
アリストスパン
三酸化ヒ素注射薬（トリセノックス）
アルチケーンＨＣＩ（Ａｒｔｉｃａｎｅ  ＨＣｌ）及びエピネフリン注射薬（Ｓｅｐｔｏｃａｉｎｅ）
アーゼラ（オファツムマブ注射薬）
Ａｓｃｌｅｒａ（ポリドカノール注射薬）
アタルレン
アタルレン−ＤＭＤ
アテノロール注射薬（テノーミンＩ．Ｖ．注射薬）
ベシル酸アトラクリウム注射薬（ベシル酸アトラクリウム注射薬）
アバスチン
アザクタム注射薬（アズトレオナム注射薬）
アジスロマイシン（ジスロマック注射薬）
アズトレオナム注射薬（アザクタム注射薬）
バクロフェン注射薬（リオレサール髄注（Ｉｎｔｒａｔｈｅｃａｌ））
静菌水（注射用静菌水）
バクロフェン注射薬（リオレサール髄注）
Ｂａｌ  ｉｎ  Ｏｉｌ  Ａｍｐｕｌｅｓ（ジメルカープロール（Ｄｉｍｅｒｃａｒｐｒｏｌ）注射薬）
ＢａｙＨｅｐＢ
ＢａｙＴｅｔ
ベナドリル
塩酸ベンダムスチン注射薬（トレアンダ）
メシル酸ベンズトロピン注射薬（コゲンチン）
ベタメタゾン懸濁注射液（Ｃｅｌｅｓｔｏｎｅ  Ｓｏｌｕｓｐａｎ）
ベキサール
バイシリンＣ−Ｒ９００／３００（ペニシリンＧベンザチン及びペニシリンＧプロカイン注射薬）
ブレノキサン（ブレオマイシン硫酸塩注射薬）
ブレオマイシン硫酸塩注射薬（ブレノキサン）
ボニバ注射薬（イバンドロネートナトリウム注射薬）
ボトックスコスメティック（注射用ボツリヌストキシンＡ）
ＢＲ３−ＦＣ
Ｂｒａｖｅｌｌｅ（ウロホリトロピン注射薬）
ブレチリウム（ブレチリウムトシラート注射薬）
ブレビタールナトリウム（メトヘキシタールナトリウム注射用）
Ｂｒｅｔｈｉｎｅ
Ｂｒｉｏｂａｃｅｐｔ
ＢＴＴ−１０２３
ブピバカインＨＣＩ
バイエッタ
Ｃａ−ジエチレントリアミン五酢酸（ペンテト酸カルシウム三ナトリウム注射薬）
カバジタキセル注射薬（ジェブタナ）
カフェインアルカロイド（カフェイン及び安息香酸ナトリウム注射薬）
カルシジェックス注射薬（カルシトリオール）
カルシトリオール（カルシジェックス注射薬）
塩化カルシウム（塩化カルシウム注射薬１０％）
カルシウムジナトリウムベルセネート（エデト酸カルシウム二ナトリウム注射薬）
キャンパス（アルテムツズマブ（Ａｌｔｅｍｔｕｚｕｍａｂ））
Ｃａｍｐｔｏｓａｒ注射薬（イリノテカン塩酸）
カナキヌマブ注射薬（イラリス）
カパスタット硫酸塩（Ｃａｐａｓｔａｔ  Ｓｕｌｆａｔｅ）（注射用カプレオマイシン）
注射用カプレオマイシン（カパスタット硫酸塩（Ｃａｐａｓｔａｔ  Ｓｕｌｆａｔｅ））
カーディオライト（注射用テクネチウムＴｃ９９セスタミビ用調製キット（Ｐｒｅｐ  ｋｉｔ））
カーティセル
Ｃａｔｈｆｌｏ
注射用セファゾリン及びブドウ糖（セファゾリン注射薬）
セフェピム塩酸塩
セフォタキシム
セフトリアキソン
セレザイム
Ｃａｒｎｉｔｏｒ注射薬
Ｃａｖｅｒｊｅｃｔ
Ｃｅｌｅｓｔｏｎｅ  Ｓｏｌｕｓｐａｎ
Ｃｅｌｓｉｏｒ
Ｃｅｒｅｂｙｘ（ホスフェニトインナトリウム注射薬）
セレデース（アルグルセラーゼ注射薬）
Ｃｅｒｅｔｅｃ（テクネチウムＴｃ９９ｍエキサメタジム注射薬）
セルトリズマブ
ＣＦ−１０１
クロラムフェニコールコハク酸ナトリウム（クロラムフェニコールコハク酸ナトリウム注射薬）
クロラムフェニコールコハク酸ナトリウム注射薬（クロラムフェニコールコハク酸ナトリウム）
コレスタゲル（コレセベラムＨＣＬ）
絨毛性ゴナドトロピンアルファ注射薬（Ｏｖｉｄｒｅｌ）
シムジア
シスプラチン（シスプラチン注射薬）
クロラール（クロファラビン注射薬）
クエン酸クロミフィン（Ｃｌｏｍｉｐｈｉｎｅ  Ｃｉｔｒａｔｅ）
クロニジン注射薬（Ｄｕｒａｃｌｏｎ）
コゲンチン（メシル酸ベンズトロピン注射薬）
コリスチメタート注射薬（Ｃｏｌｙ−Ｍｙｃｉｎ  Ｍ）
Ｃｏｌｙ−Ｍｙｃｉｎ  Ｍ（コリスチメタート注射薬）
Ｃｏｍｐａｔｈ
コニバプタンＨｃｌ注射薬（バプリゾール）
注射用結合型エストロゲン（プレマリン注射薬）
コパキソン
注射用コルチコレリンオーバイントリフルテート（Ａｃｔｈｒｅｌ）
コルベルト（フマル酸イブチリド注射薬）
キュビシン（ダプトマイシン注射薬）
ＣＦ−１０１
Ｃｙａｎｏｋｉｔ（注射用ヒドロキソコバラミン）
シタラビンリポソーム注射薬（デポサイト）
シアノコバラミン（ビタミンＢ１２）
サイトベン（ガンシクロビル）
Ｄ．Ｈ．Ｅ．４５
ダセツズマブ
ダコゲン（デシタビン注射薬）
ダルテパリン
ダントリウムＩＶ（注射用ダントロレンナトリウム）
注射用ダントロレンナトリウム（ダントリウムＩＶ）
ダプトマイシン注射薬（キュビシン）
ダルベポエチンアルファ
ＤＤＡＶＰ注射薬（デスモプレシン酢酸塩注射薬）
Ｄｅｃａｖａｘ
デシタビン注射薬（ダコゲン）
無水アルコール（無水アルコール注射薬）
デノスマブ注射薬（プロリア）
デラテストリル
デルエストロゲン
デルテパリンナトリウム
Ｄｅｐａｃｏｎ（バルプロ酸ナトリウム注射薬）
デポメロドール（酢酸メチルプレドニゾロン懸濁注射液）
デポサイト（シタラビンリポソーム注射薬）
デポデュール（モルヒネ硫酸塩ＸＲリポソーム注射薬）
デスモプレシン酢酸塩注射薬（ＤＤＡＶＰ注射薬）
デポエストラジオール
デポプロベラ１０４ｍｇ／ｍｌ
デポプロベラ１５０ｍｇ／ｍｌ
デポテストステロン
注射用デキスラゾキサン、静注のみ（Ｔｏｔｅｃｔ）
ブドウ糖／電解質
ブドウ糖及び塩化ナトリウム注射薬（０．９％塩化ナトリウム中ブドウ糖５％）
ブドウ糖
ジアゼパム注射薬（ジアゼパム注射薬）
ジゴキシン注射薬（ラノキシン注射薬）
ジラウジッド−ＨＰ（ヒドロモルホン塩酸注射薬）
ジメルカープロール（Ｄｉｍｅｒｃａｒｐｒｏｌ）注射薬（Ｂａｌ  ｉｎ  Ｏｉｌ  Ａｍｐｕｌｅｓ）
ジフェンヒドラミン注射薬（ベナドリル注射薬）
ジピリダモール注射薬（ジピリダモール注射薬）
ＤＭＯＡＤ
ドセタクセル注射用（タキソテール）
メシル酸ドラセトロン注射薬（アンゼメット注射薬）
ドリバックス（ドリペネム注射用）
ドリペネム注射用（ドリバックス）
ドキセルカルシフェロール注射薬（Ｈｅｃｔｏｒｏｌ注射薬）
ドキシル（ドキソルビシンＨｃｌリポソーム注射薬）
ドキソルビシンＨｃｌリポソーム注射薬（ドキシル）
Ｄｕｒａｃｌｏｎ（クロニジン注射薬）
Ｄｕｒａｍｏｒｐｈ（モルヒネ注射薬）
Ｄｙｓｐｏｒｔ（アボボツリナムトキシンＡ注射薬）
エカランチド注射薬（Ｋａｌｂｉｔｏｒ）
ＥＣ−ナプロシン（ナプロキセン）
エデト酸カルシウム二ナトリウム注射薬（カルシウムジナトリウムベルセネート）
Ｅｄｅｘ（注射用アルプロスタジル）
Ｅｎｇｅｒｉｘ
エドロホニウム注射薬（Ｅｎｌｏｎ）
エリグルスタットターテート（Ｅｌｉｇｌｕｓｔａｔ  Ｔａｒｔａｔｅ）
エロキサチン（オキサリプラチン注射薬）
イメンド注射薬（フォサプレピタントジメグルミン注射薬）
エナラプリラート注射薬（エナラプリラート注射薬）
Ｅｎｌｏｎ（エドロホニウム注射薬）
エノキサパリンナトリウム注射薬（ラブノックス）
エオビスト（ガドキセト酸二ナトリウム注射薬）
エンブレル（エタネルセプト）
エノキサパリン
Ｅｐｉｃｅｌ
エピネフェリン（Ｅｐｉｎｅｐｈｅｒｉｎｅ）
エピペン
エピペンＪｒ．
エピラツズマブ
アービタックス
エルタペネム注射薬（Ｉｎｖａｎｚ）
エリスロポエテン（Ｅｒｙｔｈｒｏｐｏｉｅｔｅｎ）
必須アミノ酸注射薬（Ｎｅｐｈｒａｍｉｎｅ）
エストラジオールシピオネート
吉草酸エストラジオール
エタネルセプト
エキセナチド注射薬（バイエッタ）
エブロトラ（Ｅｖｌｏｔｒａ）
ファブラザイム（アダルシダーゼベータ（Ａｄａｌｓｉｄａｓｅ  ｂｅｔａ））
ファモチジン注射薬
ＦＤＧ（フルデオキシグルコースＦ１８注射薬）
フェラヘム（フェルモキシトール注射薬）
フェリデックスＩ．Ｖ．（フェルモキシデス注射可能溶液）
Ｆｅｒｔｉｎｅｘ
フェルモキシデス注射可能溶液（フェリデックスＩ．Ｖ．）
フェルモキシトール注射薬（フェラヘム）
フラジール注射薬（メトロニダゾール注射薬）
Ｆｌｕａｒｉｘ
フルダラ（リン酸フルダラビン）
フルデオキシグルコースＦ１８注射薬（ＦＤＧ）
フルオレセイン注射薬（Ａｋ−Ｆｌｕｏｒ）
フォリスチムＡＱカートリッジ（フォリトロピンベータ注射薬）
フォリトロピンアルファ注射薬（ゴナールエフＲＦＦ）
フォリトロピンベータ注射薬（フォリスチムＡＱカートリッジ）
フォロチン（プララトレキサート溶液静注用）
フォンダパリヌクス
フォルテオ（テリパラチド（ｒＤＮＡ由来）注射薬）
Ｆｏｓｔａｍａｔｉｎｉｂ
フォサプレピタントジメグルミン注射薬（イメンド注射薬）
ホスフェニトインナトリウム注射薬（ホスカビル）
ホスカビル（ホスフェニトインナトリウム注射薬）
ホスフェニトインナトリウム注射薬（Ｃｅｒｅｂｙｘ）
ホスプロポフォール二ナトリウム注射薬（Ｌｕｓｅｄｒａ）
フラグミン
フゼオン（エンフビルチド）
ＧＡ１０１
ガドベン酸メグルミン注射薬（Ｍｕｌｔｉｈａｎｃｅ）
ガドホスベセット三ナトリウム注射薬（Ａｂｌａｖａｒ）
ガドテリドール注射薬溶液（プロハンス）
カドベルセタミド注射薬（ＯｐｔｉＭＡＲＫ）
ガドキセト酸二ナトリウム注射薬（エオビスト）
ガニレリクス（ガニレリクス酢酸塩注射薬）
ガーダシル
ＧＣ１００８
ＧＤＦＤ
注射用ゲムツズマブオゾガマイシン（マイロターグ）
ジェノトロピン
ゲンタマイシン注射薬
ＧＥＮＺ−１１２６３８
ゴリムマブ注射薬（シンポニー注射薬）
ゴナールエフＲＦＦ（フォリトロピンアルファ注射薬）
グラニセトロン塩酸塩（カイトリル注射薬）
ゲンタマイシン硫酸塩
グラチラマー酢酸塩
Ｇｌｕｃａｇｅｎ
グルカゴン
ＨＡＥ１
Ｈａｌｄｏｌ（ハロペリドール注射薬）
Ｈａｖｒｉｘ
Ｈｅｃｔｏｒｏｌ注射薬（ドキセルカルシフェロール注射薬）
ヘッジホッグ経路阻害薬
へパリン
ハーセプチン
ｈＧ−ＣＳＦ
ヒューマログ
ヒト成長ホルモン
ヒューマトロープ
ＨｕＭａｘ
ヒュメゴン
ヒュミラ
ヒューマリン
イバンドロネートナトリウム注射薬（ボニバ注射薬）
イブプロフェンリシン注射薬（ＮｅｏＰｒｏｆｅｎ）
フマル酸イブチリド注射薬（コルベルト）
イダマイシンＰＦＳ（イダルビシン塩酸注射薬）
イダルビシン塩酸注射薬（イダマイシンＰＦＳ）
イラリス（カナキヌマブ注射薬）
注射用イミペネム及びシラスタチン（プリマキシンＩ．Ｖ．）
イミトレックス
インコボツリナムトキシンＡ注射用（Ｘｅｏｍｉｎ）
Ｉｎｃｒｅｌｅｘ（メカセルミン［ｒＤＮＡ由来］注射薬）
インダシンＩＶ（インドメタシン注射薬）
インドメタシン注射薬（インダシンＩＶ）
Ｉｎｆａｎｒｉｘ
イノヘップ
インスリン
インスリンアスパルト［ｒＤＮＡ由来］注射薬（ＮｏｖｏＬｏｇ）
インスリングラルギン［ｒＤＮＡ由来］注射薬（ランタス）
インスリングルリシン［ｒＤＮＡ由来］注射薬（アピドラ）
インターフェロンアルファ−２ｂ、遺伝子組換え注射用（イントロンＡ）
イントロンＡ（インターフェロンアルファ−２ｂ、遺伝子組換え注射用）
Ｉｎｖａｎｚ（エルタペネム注射薬）
Ｉｎｖｅｇａ  Ｓｕｓｔｅｎｎａ（パリペリドンパルミチン酸エステル持効性懸濁注射液）
インビラーゼ（サキナビルメシル酸塩）
ヨーベングアンＩ１２３静脈内使用用注射薬（ＡｄｒｅＶｉｅｗ）
イオプロミド注射薬（Ｕｌｔｒａｖｉｓｔ）
イオベルソール注射薬（オプチレイ注射薬）
Ｉｐｌｅｘ（メカセルミンリンファバート［ｒＤＮＡ由来］注射薬）
Ｉｐｒｉｖａｓｋ
イリノテカン塩酸（Ｃａｍｐｔｏｓａｒ注射薬）
含糖酸化鉄注射薬（ヴェノファー）
Ｉｓｔｏｄａｘ（ロミデプシン注射用）
イトラコナゾール注射薬（スポラノックス注射薬）
ジェブタナ（カバジタキセル注射薬）
Ｊｏｎｅｘａ
Ｋａｌｂｉｔｏｒ（エカランチド注射薬）
ＫＣＬ  ｉｎ  Ｄ５ＮＳ（５％ブドウ糖及び塩化ナトリウム中塩化カリウム（Ｐｏｔａｓｓｉｕｍ  Ｃｈｌｏｒｉｄｅ  ｉｎ  ５％  Ｄｅｘｔｒｏｓｅ  ａｎｄ  Ｓｏｄｉｕｍ  Ｃｈｌｏｒｉｄｅ）注射薬）
ＫＣＬ  ｉｎ  Ｄ５Ｗ
ＫＣＬ  ｉｎ  ＮＳ
ケナログ１０注射薬（トリアムシノロンアセトニド懸濁注射液）
ケピバンス（パリフェルミン）
ケプラ注射薬（レベチラセタム）
ケラチノサイト
ＫＦＧ
キナーゼ阻害薬
Ｋｉｎｅｒｅｔ（アナキンラ）
Ｋｉｎｌｙｔｉｃ（ウロキナーゼ注射薬）
Ｋｉｎｒｉｘ
クロノピン（クロナゼパム）
カイトリル注射薬（グラニセトロン塩酸塩）
ラコサミド錠及び注射薬（ビンパット）
乳酸リンゲル液
ラノキシン注射薬（ジゴキシン注射薬）
ランソプラゾール注射用（プレバシドＩ．Ｖ．）
ランタス
ロイコボリンカルシウム（ロイコボリンカルシウム注射薬）
レンテ（Ｌ）
レプチン
レベミル
リューカインサルグラモスチム
ロイプロリド酢酸塩
レボチロキシン
レベチラセタム（ケプラ注射薬）
ラブノックス
レボカルニチン注射薬（Ｃａｒｎｉｔｏｒ注射薬）
レキスキャン（レガデノソン注射薬）
リオレサール髄注（バクロフェン注射薬）
リラグルチド［ｒＤＮＡ］注射薬（ビクトーザ）
ラブノックス（エノキサパリンナトリウム注射薬）
ルセンティス（ラニビズマブ注射薬）
Ｌｕｍｉｚｙｍｅ
ルプロン（ロイプロリド酢酸塩注射薬）
Ｌｕｓｅｄｒａ（ホスプロポフォール二ナトリウム注射薬）
Ｍａｃｉ
マグネシウム硫酸塩（マグネシウム硫酸塩注射薬）
マンニトール注射薬（マンニトールＩＶ）
マーカイン（ブピバカイン塩酸及びエピネフリン注射薬）
マキシピーム（セフェピム塩酸塩注射用）
テクネチウム注射薬のＭＤＰ多用量（Ｍｕｌｔｉｄｏｓｅ）キット（テクネチウムＴｃ９９ｍメドロナート注射薬）
メカセルミン［ｒＤＮＡ由来］注射薬（Ｉｎｃｒｅｌｅｘ）
メカセルミンリンファバート［ｒＤＮＡ由来］注射薬（Ｉｐｌｅｘ）
メルファランＨｃｌ注射薬（アルケラン注射薬）
メトトレキサート
メナクトラ
Ｍｅｎｏｐｕｒ（メノトロピンス注射薬）
メノトロピンス注射用（Ｒｅｐｒｏｎｅｘ）
メトヘキシタールナトリウム注射用（ブレビタールナトリウム）
メチルドーパート塩酸塩注射薬、溶液（メチルドーパートＨｃｌ）
メチレンブルー（メチレンブルー注射薬）
酢酸メチルプレドニゾロン懸濁注射液（デポメロドール）
ＭｅｔＭａｂ
メトクロプラミド注射薬（Ｒｅｇｌａｎ注射薬）
Ｍｅｔｒｏｄｉｎ（ウロホリトロピン注射用）
メトロニダゾール注射薬（フラジール注射薬）
Ｍｉａｃａｌｃｉｎ
ミダゾラム（ミダゾラム注射薬）
ミンパラ（シナカレト（Ｃｉｎａｃａｌｅｔ））
ミノシン注射薬（ミノサイクリン注射薬）
ミノサイクリン注射薬（ミノシン注射薬）
ミポメルセン
ミトキサントロン注射用濃縮液（ノバントロン）
モルヒネ注射薬（Ｄｕｒａｍｏｒｐｈ）
モルヒネ硫酸塩ＸＲリポソーム注射薬（デポデュール）
モルイン酸ナトリウム（モルイン酸ナトリウム注射薬）
モテサニブ
モゾビル（プレリキサフォル注射薬）
Ｍｕｌｔｉｈａｎｃｅ（ガドベン酸メグルミン注射薬）
多電解質及びブドウ糖注射薬
多電解質注射薬
マイロターグ（注射用ゲムツズマブオゾガマイシン）
マイオザイム（アルグルコシダーゼアルファ）
ナフシリン注射薬（ナフシリンナトリウム）
ナフシリンナトリウム（ナフシリン注射薬）
ナルトレキソンＸＲ注射薬（ビビトロル）
ナプロシン（ナプロキセン）
ＮｅｏＰｒｏｆｅｎ（イブプロフェンリシン注射薬）
ナンドロルデカン酸エステル（Ｎａｎｄｒｏｌ  Ｄｅｃａｎｏａｔｅ）
ネオスチグミンメチル硫酸塩（ネオスチグミンメチル硫酸塩注射薬）
ＮＥＯ−ＧＡＡ
ＮｅｏＴｅｃｔ（テクネチウムＴｃ９９ｍデプレオチド注射薬）
Ｎｅｐｈｒａｍｉｎｅ（必須アミノ酸注射薬）
Ｎｅｕｌａｓｔａ（ペグフィルグラスチム）
Ｎｅｕｐｏｇｅｎ（フィルグラスチム）
ノボリン
Ｎｏｖｏｌｏｇ
ＮｅｏＲｅｃｏｒｍｏｎ
Ｎｅｕｔｒｅｘｉｎ（グルコン酸トリメトレキサート注射薬）
ＮＰＨ（Ｎ）
Ｎｅｘｔｅｒｏｎｅ（アミオダロンＨＣｌ注射薬）
ノルディトロピン（ソマトロピン注射薬）
生理食塩水（塩化ナトリウム注射薬）
ノバントロン（ミトキサントロン注射用濃縮液）
ノボリン７０／３０イノレット（７０％ＮＰＨ、ヒトインスリンイソフェン懸濁液及び３０％レギュラー、ヒトインスリン注射薬）
ＮｏｖｏＬｏｇ（インスリンアスパルト［ｒＤＮＡ由来］注射薬）
Ｎｐｌａｔｅ（ロミプロスチム）
ニュートロピン（ソマトロピン（ｒＤＮＡ由来）注射用）
ニュートロピンＡＱ
ニュートロピンデポ（Ｄｅｐｏｔ）（ソマトロピン（ｒＤＮＡ由来）注射用）
オクトレオチド酢酸塩注射薬（サンドスタチンＬＡＲ）
オクレリズマブ
オファツムマブ注射薬（アーゼラ）
徐放性オランザピン懸濁注射液（Ｚｙｐｒｅｘａ  Ｒｅｌｐｒｅｖｖ）
Ｏｍｎｉｔａｒｇ
Ｏｍｎｉｔｒｏｐｅ（ソマトロピン［ｒＤＮＡ由来］注射薬）
オンダンセトロン塩酸注射薬（ゾフラン注射薬）
ＯｐｔｉＭＡＲＫ（カドベルセタミド注射薬）
オプチレイ注射薬（イオベルソール注射薬）
オレンシア
Ｏｓｍｉｔｒｏｌ注射薬、Ａｖｉｖａ（マンニトール注射薬、Ａｖｉｖａプラスチック薬剤パッケージ２１０）
Ｏｓｍｉｔｒｏｌ注射薬、Ｖｉａｆｌｅｘ（マンニトール注射薬、Ｖｉａｆｌｅｘプラスチック薬剤パッケージ２１０）
オステオプロテグリン（Ｏｓｔｅｏｐｒｏｔｅｇｒｉｎ）
Ｏｖｉｄｒｅｌ（絨毛性ゴナドトロピンアルファ注射薬）
オキサシリン（オキサシリン注射用）
オキサリプラチン注射薬（エロキサチン）
オキシトシン注射薬（ピトシン）
パリペリドンパルミチン酸エステル持効性懸濁注射液（Ｉｎｖｅｇａ  Ｓｕｓｔｅｎｎａ）
パミドロン酸二ナトリウム注射薬（パミドロン酸二ナトリウム注射薬）
パニツムマブ静注用（ベクティビックス）
パパベリン塩酸塩注射薬（パパベリン注射薬）
パパベリン注射薬（パパベリン塩酸塩注射薬）
副甲状腺ホルモン
パリカルシトール注射薬フリップトップ型バイアル（Ｚｅｍｐｌａｒ注射薬）
ＰＡＲＰ阻害薬
Ｐｅｄｉａｒｉｘ
ペグイントロン
ペグインターフェロン
ペグフィルグラスチム
ペニシリンＧベンザチン及びペニシリンＧプロカイン
ペンテト酸カルシウム三ナトリウム注射薬（Ｃａ−ジエチレントリアミン五酢酸）
ペンテト酸亜鉛三ナトリウム注射薬（Ｚｎ−ジエチレントリアミン五酢酸）
ペプシド注射薬（ファモチジン注射薬）
Ｐｅｒｇｏｎａｌ
ペルツズマブ
フェントラミンメシル酸塩（フェントラミンメシル酸塩注射用）
サリチル酸フィゾスチグミン（サリチル酸フィゾスチグミン（注射薬））
サリチル酸フィゾスチグミン（注射薬）（サリチル酸フィゾスチグミン）
ピペラシリン及びタゾバクタム注射薬（ゾシン）
ピトシン（オキシトシン注射薬）
Ｐｌａｓｍａ−Ｌｙｔｅ１４８（多電解質注射薬）
Ｐｌａｓｍａ−Ｌｙｔｅ５６及びブドウ糖（多電解質及びブドウ糖注射薬、Ｖｉａｆｌｅｘプラスチック薬剤パッケージ２１０）
ＰｌａｓｍａＬｙｔｅ
プレリキサフォル注射薬（モゾビル）
ポリドカノール注射薬（Ａｓｃｌｅｒａ）
塩化カリウム
プララトレキサート溶液静注用（フォロチン）
酢酸プラムリンタイド注射薬（Ｓｙｍｌｉｎ）
プレマリン注射薬（注射用結合型エストロゲン）
注射用テクネチウムＴｃ９９セスタミビ用調製キット（Ｐｒｅｐ  ｋｉｔ）（カーディオライト）
プレバシドＩ．Ｖ．（ランソプラゾール注射用）
プリマキシンＩ．Ｖ．（注射用イミペネム及びシラスタチン）
Ｐｒｏｃｈｙｍａｌ
プロクリット
黄体ホルモン
プロハンス（ガドテリドール注射薬溶液）
プロリア（デノスマブ注射薬）
プロメタジンＨＣｌ注射薬（プロメタジン塩酸注射薬）
プロプラノロール塩酸塩注射薬（プロプラノロール塩酸塩注射薬）
グルコン酸キニジン注射薬（キニジン注射薬）
キニジン注射薬（グルコン酸キニジン注射薬）
Ｒ−Ｇｅｎｅ１０（塩酸アルギニン注射薬）
ラニビズマブ注射薬（ルセンティス）
ラニチジン塩酸塩注射薬（ザンタック注射薬）
ラプティバ
リクラスト（ゾレドロン酸注射薬）
Ｒｅｃｏｍｂｉｖａｒｉｘ  ＨＢ
レガデノソン注射薬（レキスキャン）
Ｒｅｇｌａｎ注射薬（メトクロプラミド注射薬）
レミケード
レナジェル
Ｒｅｎｖｅｌａ（炭酸セベラマー）
Ｒｅｐｒｏｎｅｘ（メノトロピンス注射用）
レトロビルＩＶ（ジドブジン注射薬）
ｒｈＡｐｏ２Ｌ／ＴＲＡＩＬ
リンゲル及び５％ブドウ糖注射薬（ブドウ糖加リンガー液（Ｒｉｎｇｅｒｓ））
リンゲル液（リンガー（Ｒｉｎｇｅｒｓ）液）
リツキサン
リツキシマブ
ロセフィン（セフトリアキソン）
ロクロニウム臭化物注射薬（Ｚｅｍｕｒｏｎ）
Ｒｏｆｅｒｏｎ−Ａ（インターフェロンアルファ−２ａ）
Ｒｏｍａｚｉｃｏｎ（フルマゼニル）
ロミデプシン注射用（Ｉｓｔｏｄａｘ）
サイゼン（ソマトロピン注射薬）
サンドスタチンＬＡＲ（オクトレオチド酢酸塩注射薬）
スクレロスチンＡｂ
Ｓｅｎｓｉｐａｒ（シナカルセト）
Ｓｅｎｓｏｒｃａｉｎｅ（ブピバカインＨＣＩ注射薬）
Ｓｅｐｔｏｃａｉｎｅ（アルチケーンＨＣＩ（Ａｒｔｉｃａｎｅ  ＨＣｌ）及びエピネフリン注射薬）
Ｓｅｒｏｓｔｉｍ  ＬＱ（ソマトロピン（ｒＤＮＡ由来）注射薬）
シンポニー注射薬（ゴリムマブ注射薬）
ナトリウム酢酸塩（ナトリウム酢酸塩注射薬）
炭酸水素ナトリウム（炭酸水素ナトリウム５％注射薬）
乳酸ナトリウム（乳酸ナトリウム注射薬、ＡＶＩＶＡ）
フェニル酢酸ナトリウム及び安息香酸ナトリウム注射薬（Ａｍｍｏｎｕｌ）
ソマトロピン（ｒＤＮＡ由来）注射用（ニュートロピン）
スポラノックス注射薬（イトラコナゾール注射薬）
ステラーラ注射薬（ウステキヌマブ）
Ｓｔｅｍｇｅｎ
Ｓｕｆｅｎｔａ（クエン酸スフェンタニル注射薬）
クエン酸スフェンタニル注射薬（Ｓｕｆｅｎｔａ）
Ｓｕｍａｖｅｌ
スマトリプタン注射薬（Ａｌｓｕｍａ）
Ｓｙｍｌｉｎ
Ｓｙｍｌｉｎ  Ｐｅｎ
全身用ヘッジホッグ（Ｓｙｓｔｅｍｉｃ  Ｈｅｄｇｅｈｏｇ）拮抗薬
Ｓｙｎｖｉｓｃ−Ｏｎｅ（ヒラン（Ｈｙｌａｎ）Ｇ−Ｆ２０単回関節内注射薬）
タルセバ
タキソテール（ドセタクセル注射用）
テクネチウムＴｃ９９ｍ
テラバンシン注射用（ヴィバティブ）
テムシロリムス注射薬（トーリセル）
テノーミンＩ．Ｖ．注射薬（アテノロール注射薬）
テリパラチド（ｒＤＮＡ由来）注射薬（フォルテオ）
テストステロンシピオネート
テストステロンエナント酸エステル
テストステロンプロピオン酸エステル
Ｔｅｖ−Ｔｒｏｐｉｎ（ソマトロピン、ｒＤＮＡ由来、注射用）
ｔｇＡＡＣ９４
塩化タリウム
テオフィリン
チオテパ（チオテパ注射薬）
サイモグロブリン（抗胸腺細胞免疫グロブリン（ウサギ）
タイロゲン（チロトロピンアルファ注射用）
チカルシリンナトリウム及びクラブラン酸カリウムギャラクシー（Ｇａｌａｘｙ）（チメンチン注射薬）
Ｔｉｇａｎ注射薬（塩酸トリメトベンズアミド注射可能物質（ｉｎｊｅｃｔａｂｌｅ））
チメンチン注射薬（チカルシリンナトリウム及びクラブラン酸カリウムギャラクシー（Ｇａｌａｘｙ））
ＴＮＫａｓｅ
トブラマイシン注射薬（トブラマイシン注射薬）
トシリズマブ注射薬（アクテムラ）
トーリセル（テムシロリムス注射薬）
Ｔｏｔｅｃｔ（注射用デキスラゾキサン、静注のみ）
トラスツズマブ−ＤＭ１
Ｔｒａｖａｓｏｌ（アミノ酸（注射薬））
トレアンダ（塩酸ベンダムスチン注射薬）
トレルスター（トリプトレリンパモエート懸濁注射液用）
トリアムシノロンアセトニド
酢酸トリアムシノロン
トリアムシノロンヘキサアセトニド懸濁注射液（アリストスパン注射薬２０ｍｇ）
Ｔｒｉｅｓｅｎｃｅ（トリアムシノロンアセトニド懸濁注射液）
塩酸トリメトベンズアミド注射可能物質（ｉｎｊｅｃｔａｂｌｅ）（Ｔｉｇａｎ注射薬）
グルコン酸トリメトレキサート注射薬（Ｎｅｕｔｒｅｘｉｎ）
トリプトレリンパモエート懸濁注射液用（トレルスター）
Ｔｗｉｎｊｅｃｔ
Ｔｒｉｖａｒｉｓ（トリアムシノロンアセトニド懸濁注射液）
トリセノックス（三酸化ヒ素注射薬）
Ｔｗｉｎｒｉｘ
腸チフスＶｉ
Ｕｌｔｒａｖｉｓｔ（イオプロミド注射薬）
ウロホリトロピン注射用（Ｍｅｔｒｏｄｉｎ）
ウロキナーゼ注射薬（Ｋｉｎｌｙｔｉｃ）
ウステキヌマブ（ステラーラ注射薬）
ウルトラレンテ（Ｕ）
バリウム（ジアゼパム）
バルプロ酸ナトリウム注射薬（Ｄｅｐａｃｏｎ）
Ｖａｌｔｒｏｐｉｎ（ソマトロピン注射薬）
バルプロ酸ナトリウム（バルプロ酸ナトリウム注射薬）
バルプロ酸ナトリウム注射薬（バルプロ酸ナトリウム）
バプリゾール（コニバプタンＨｃｌ注射薬）
ＶＡＱＴＡ
バソビスト（ガドホスベセット三ナトリウム静注用）
ベクティビックス（パニツムマブ静注用）
ヴェノファー（含糖酸化鉄注射薬）
ベルテポルフィン注射薬（ビスダイン）
ヴィバティブ（テラバンシン注射用）
ビクトーザ（リラグルチド［ｒＤＮＡ］注射薬）
ビンパット（ラコサミド錠及び注射薬）
ビンブラスチン硫酸塩（ビンブラスチン硫酸塩注射薬）
Ｖｉｎｃａｓａｒ  ＰＦＳ（ビンクリスチン硫酸塩注射薬）
ビクトーザ
ビンクリスチン硫酸塩（ビンクリスチン硫酸塩注射薬）
ビスダイン（ベルテポルフィン注射薬）
ビタミンＢ−１２
ビビトロル（ナルトレキソンＸＲ注射薬）
ボルベン（塩化ナトリウム中ヒドロキシエチルデンプン（Ｈｙｄｒｏｘｙｅｔｈｙｌ  Ｓｔａｒｃｈ  ｉｎ  Ｓｏｄｉｕｍ  Ｃｈｌｏｒｉｄｅ）注射薬）
ゼローダ
ゼニカル（オルリスタット）
Ｘｅｏｍｉｎ（インコボツリナムトキシンＡ注射用）
ゾレア
ザンタック注射薬（ラニチジン塩酸塩注射薬）
Ｚｅｍｐｌａｒ注射薬（パリカルシトール注射薬フリップトップ型バイアル）
Ｚｅｍｕｒｏｎ（ロクロニウム臭化物注射薬）
ゼナパックス（ダクリズマブ）
ゼバリン
ジドブジン注射薬（レトロビルＩＶ）
ジスロマック注射薬（アジスロマイシン）
Ｚｎ−ジエチレントリアミン五酢酸（ペンテト酸亜鉛三ナトリウム注射薬）
ゾフラン注射薬（オンダンセトロン塩酸注射薬）
Ｚｉｎｇｏ
ゾレドロン酸注射用（ゾメタ）
ゾレドロン酸注射薬（リクラスト）
ゾメタ（ゾレドロン酸注射用）
ゾシン（ピペラシリン及びタゾバクタム注射薬）
Ｚｙｐｒｅｘａ  Ｒｅｌｐｒｅｖｖ（徐放性オランザピン懸濁注射液）
液剤（非注射型）
エビリファイ
ＡｃｃｕＮｅｂ（アルブテロール硫酸塩吸入液）
Ａｃｔｉｄｏｓｅ  Ａｑｕａ（薬用炭懸濁液）
薬用炭懸濁液（Ａｃｔｉｄｏｓｅ  Ａｑｕａ）
アドベア
Ａｇｅｎｅｒａｓｅ経口液（アンプレナビル経口液）
Ａｋｔｅｎ（リドカイン塩酸塩眼用ゲル）
Ａｌａｍａｓｔ（ペミロラストカリウム点眼液）
アルブミン（ヒト）５％溶液（ブミネート５％）
アルブテロール硫酸塩吸入液
Ａｌｉｎｉａ
Ａｌｏｃｒｉｌ
アルファガン
Ａｌｒｅｘ
オルベスコ
アンプレナビル経口液
Ａｎａｌｐｒａｍ−ＨＣ
アルフォルモテロール酒石酸塩吸入液（Ｂｒｏｖａｎａ）
アリストスパン注射薬２０ｍｇ（トリアムシノロンヘキサアセトニド懸濁注射液）
アサコール
アズマネックス
Ａｓｔｅｐｒｏ
Ａｓｔｅｐｒｏ（アゼラスチン塩酸塩鼻用スプレー）
アトロベント鼻用スプレー（臭化イプラトロピウム鼻用スプレー）
アトロベント鼻用スプレー．０６
オーグメンチンＥＳ−６００
Ａｚａｓｉｔｅ（アジスロマイシン点眼液）
アゼライン酸（Ｆｉｎａｃｅａゲル）
アゼラスチン塩酸塩鼻用スプレー（Ａｓｔｅｐｒｏ）
Ａｚｅｌｅｘ（アゼライン酸クリーム）
エイゾプト（ブリンゾラミド懸濁性点眼液）
静菌性生理食塩水（Ｂａｃｔｅｒｉｏｓｔａｔｉｃ  Ｓａｌｉｎｅ）
平衡塩類（ｂａｌａｎｃｅｄ  ｓａｌｔ）
ベポタスチン
バクトロバン鼻腔用
バクトロバン
Ｂｅｃｌｏｖｅｎｔ
Ｂｅｎｚａｃ  Ｗ
Ｂｅｔｉｍｏｌ
ベトプティックエス
Ｂｅｐｒｅｖｅ
ビマトプロスト点眼液
Ｂｌｅｐｈ  １０（スルファセタミドナトリウム点眼液１０％）
ブリンゾラミド懸濁性点眼液（エイゾプト）
ブロムフェナク点眼液（Ｘｉｂｒｏｍ）
Ｂｒｏｍｈｉｓｔ
Ｂｒｏｖａｎａ（アルフォルモテロール酒石酸塩吸入液）
ブデソニド吸入用懸濁液（パルミコート吸入液）
Ｃａｍｂｉａ（ジクロフェナクカリウム経口液用）
Ｃａｐｅｘ
Ｃａｒａｃ
Ｃａｒｂｏｘｉｎｅ−ＰＳＥ
Ｃａｒｎｉｔｏｒ
Ｃａｙｓｔｏｎ（アズトレオナム吸入液用）
セルセプト
Ｃｅｎｔａｎｙ
Ｃｅｒｕｍｅｎｅｘ
Ｃｉｌｏｘａｎ点眼液（シプロフロキサシンＨＣＬ点眼液）
Ｃｉｐｒｏｄｅｘ
シプロフロキサシンＨＣＬ点眼液（Ｃｉｌｏｘａｎ点眼液）
クレマスチンフマル酸塩シロップ（クレマスチンフマル酸塩シロップ）
ＣｏＬｙｔｅ（ＰＥＧ電解質溶液）
Ｃｏｍｂｉｖｅｎ
コムタン
Ｃｏｎｄｙｌｏｘ
Ｃｏｒｄｒａｎ
Ｃｏｒｔｉｓｐｏｒｉｎ懸濁性点眼液
Ｃｏｒｔｉｓｐｏｒｉｎ耳用懸濁液
クロモリンナトリウム吸入液（ＩｎｔａｌＮｅｂｕｌｉｚｅｒ溶液）
クロモリンナトリウム点眼液（Ｏｐｔｉｃｒｏｍ）
電解質加結晶アミノ酸溶液（Ｃｒｙｓｔａｌｌｉｎｅ  Ａｍｉｎｏ  Ａｃｉｄ  Ｓｏｌｕｔｉｏｎ  ｗｉｔｈ  Ｅｌｅｃｔｒｏｌｙｔｅｓ）（Ａｍｉｎｏｓｙｎ電解質）
Ｃｕｔｉｖａｔｅ
Ｃｕｖｐｏｓａ（グリコピロレート経口液）
シアノコバラミン（ビタミンＢ１２）（ＣａｌｏＭｉｓｔ鼻用スプレー）
サイクロスポリン経口液（Ｇｅｎｇｒａｆ経口液）
サイクロジル
Ｃｙｓｖｉｅｗ（ヘキサミノレブリナート塩酸塩膀胱内溶液（Ｉｎｔｒａｖｅｓｉｃａｌ  Ｓｏｌｕｔｉｏｎ））
ＤｅｒｍＯｔｉｃオイル（フルオシノロンアセトニドオイル点耳薬（Ｏｉｌ  Ｅａｒ  Ｄｒｏｐｓ））
デスモプレシン酢酸塩鼻用スプレー
ＤＤＡＶＰ
Ｄｅｒｍａ−Ｓｍｏｏｔｈｅ／ＦＳ
デキサメサゾンＩｎｔｅｎｓｏｌ
ダイアニール低カルシウム
ダイアニールＰＤ
ジクロフェナクカリウム経口液用（Ｃａｍｂｉａ）
ジダノシン小児用散経口液用（ヴァイデックス）
ディフェリン
ディランチン１２５（フェニトイン経口懸濁液）
Ｄｉｔｒｏｐａｎ
ドルゾラミド塩酸塩点眼液（トルソプト）
ドルゾラミド塩酸塩−チモロールマレイン酸塩点眼液（コソプト）
ドボネックススカルプ（Ｓｃａｌｐ）（カルシポトリエン溶液）
ドキシサイクリンカルシウム経口懸濁液（ビブラマイシン経口用）
Ｅｆｕｄｅｘ
エラプレース（イデュルスルファーゼ溶液）
Ｅｌｅｓｔａｔ（エピナスチンＨＣｌ点眼液）
Ｅｌｏｃｏｎ
エピナスチンＨＣｌ点眼液（Ｅｌｅｓｔａｔ）
エピビルＨＢＶ
Ｅｐｏｇｅｎ（エポエチンアルファ）
エリスロマイシン局所用液１．５％（Ｓｔａｔｉｃｉｎ）
Ｅｔｈｉｏｄｏｌ（エチオダイズド油）
エトスクシミド経口液（ザロンチン経口液）
オイラックス
Ｅｘｔｒａｎｅａｌ（イコデキストリン腹膜透析溶液）
Ｆｅｌｂａｔｏｌ
フェリデックスＩ．Ｖ．（フェルモキシデス注射可能溶液）
Ｆｌｏｖｅｎｔ
Ｆｌｏｘｉｎ耳用薬（オフロキサシン耳科用液）
Ｆｌｏ−Ｐｒｅｄ（プレドニゾロン酢酸エステル経口懸濁液）
Ｆｌｕｏｒｏｐｌｅｘ
フルニソリド点鼻液（フルニソリド鼻用スプレー．０２５％）
フルオロメトロン懸濁性点眼液（ＦＭＬ）
フルルビプロフェンナトリウム点眼液（Ｏｃｕｆｅｎ）
ＦＭＬ
Ｆｏｒａｄｉｌ
フマル酸ホルモテロール吸入液（Ｐｅｒｆｏｒｏｍｉｓｔ）
フォサマックス
フラダンチン（ニトロフラントイン経口懸濁液）
フロキソン
ガンマガード液（静注用免疫グロブリン（ヒト）１０％）
ガントリシン（アセチルスルフイソキサゾール小児用懸濁液）
ガチフロキサシン点眼液（Ｚｙｍａｒ）
Ｇｅｎｇｒａｆ経口液（サイクロスポリン経口液）
グリコピロレート経口液（Ｃｕｖｐｏｓａ）
ハルシノニド局所用液（Ｈａｌｏｇ溶液）
Ｈａｌｏｇ溶液（ハルシノニド局所用液）
ＨＥＰ−ＬＯＣＫ  Ｕ／Ｐ（防腐剤無添加ヘパリンロック用フラッシュ液）
ヘパリンロック用フラッシュ液（Ｈｅｐｆｌｕｓｈ  １０
ヘキサミノレブリナート塩酸塩膀胱内溶液（Ｉｎｔｒａｖｅｓｉｃａｌ  Ｓｏｌｕｔｉｏｎ）（Ｃｙｓｖｉｅｗ）
酒石酸水素ヒドロコドン及びアセトアミノフェン経口液（Ｌｏｒｔａｂ  Ｅｌｉｘｉｒ）
ヒドロキノン３％局所用液（Ｍｅｌｑｕｉｎ−３局所用液）
ＩＡＰ拮抗薬
Ｉｓｏｐｔｏ
臭化イプラトロピウム鼻用スプレー（アトロベント鼻用スプレー）
イトラコナゾール経口液（スポラノックス経口液）
ケトロラクトロメタミン点眼液（Ａｃｕｌａｒ  ＬＳ）
カレトラ
ラノキシン
レクシヴァ
ロイプロリド酢酸塩デポー懸濁液用（ルプロンデポ１１．２５ｍｇ）
レボベタキソロール塩酸塩懸濁性点眼液（ベタキソン）
レボカルニチン錠、経口液、無糖（Ｃａｒｎｉｔｏｒ）
レボフロキサシン点眼液０．５％（Ｑｕｉｘｉｎ）
リドカインＨＣｌ無菌液（キシロカインＭＰＦ無菌液）
Ｌｏｋ  Ｐａｋ（ヘパリンロック用フラッシュ液）
ロラゼパムＩｎｔｅｎｓｏｌ
Ｌｏｒｔａｂ  Ｅｌｉｘｉｒ（酒石酸水素ヒドロコドン及びアセトアミノフェン経口液）
Ｌｏｔｅｍａｘ（エタボン酸ロテプレドノール懸濁性点眼液）
エタボン酸ロテプレドノール懸濁性点眼液（Ａｌｒｅｘ）
低カルシウム腹膜透析溶液（ダイアニール低カルシウム）
ルミガン（ビマトプロスト点眼液０．０３％緑内障用）
ルプロンデポ１１．２５ｍｇ（ロイプロリド酢酸塩デポー懸濁液用）
メゲストロール酢酸塩経口懸濁液（メゲストロール酢酸塩経口懸濁液）
ＭＥＫ阻害薬
Ｍｅｐｒｏｎ
Ｍｅｓｎｅｘ
メスチノン
メサラミン注腸剤（Ｒｅｃｔａｌ  Ｓｕｓｐｅｎｓｉｏｎ  Ｅｎｅｍａ）（Ｒｏｗａｓａ）
Ｍｅｌｑｕｉｎ−３局所用液（ヒドロキノン３％局所用液）
ＭｅｔＭａｂ
メチルドーパートＨｃｌ（メチルドーパート塩酸塩注射薬、溶液）
Ｍｅｔｈｙｌｉｎ経口液（メチルフェニデートＨＣｌ経口液５ｍｇ／５ｍＬ及び１０ｍｇ／５ｍＬ）
酢酸メチルプレドニゾロン懸濁注射液（デポメロドール）
メチルフェニデートＨＣｌ経口液５ｍｇ／５ｍＬ及び１０ｍｇ／５ｍＬ（Ｍｅｔｈｙｌｉｎ経口液）
コハク酸メチルプレドニゾロンナトリウム（ソルメドロール）
メチプラノロール点眼液（Ｏｐｔｉｐｒａｎｏｌｏｌ）
Ｍｉｇｒａｎａｌ
Ｍｉｏｃｈｏｌ−Ｅ（アセチルコリン塩化物眼内溶液（Ｉｎｔｒａｏｃｕｌａｒ  Ｓｏｌｕｔｉｏｎ））
Ｍｉｃｒｏ−Ｋ液体懸濁液用（塩化カリウム徐放製剤液体懸濁液用）
ミノシン（ミノサイクリン塩酸経口懸濁液）
ナサコート
ネオマイシン硫酸塩及びポリミキシンＢ硫酸塩及びヒドロコルチゾン
ネパフェナク懸濁性点眼液（ネバナック）
ネバナック（ネパフェナク懸濁性点眼液）
ニトロフラントイン経口懸濁液（フラダンチン）
Ｎｏｘａｆｉｌ（ポサコナゾール経口懸濁液）
ニスタチン（経口）（ニスタチン経口懸濁液）
ニスタチン経口懸濁液（ニスタチン（経口））
Ｏｃｕｆｅｎ（フルルビプロフェンナトリウム点眼液）
オフロキサシン点眼液（オフロキサシン点眼液）
オフロキサシン耳科用液（Ｆｌｏｘｉｎ耳用薬）
オロパタジン塩酸点眼液（Ｐａｔａｄａｙ）
Ｏｐｔｉｃｒｏｍ（クロモリンナトリウム点眼液）
Ｏｐｔｉｐｒａｎｏｌｏｌ（メチプラノロール点眼液）
パタノール
Ｐｅｄｉａｐｒｅｄ
ＰｅｒｉｏＧａｒｄ
フェニトイン経口懸濁液（ディランチン１２５）
Ｐｈｉｓｏｈｅｘ
ポサコナゾール経口懸濁液（Ｎｏｘａｆｉｌ）
塩化カリウム徐放製剤液体懸濁液用（Ｍｉｃｒｏ−Ｋ液体懸濁液用）
Ｐａｔａｄａｙ（オロパタジン塩酸点眼液）
Ｐａｔａｎａｓｅ鼻用スプレー（オロパタジン塩酸鼻用スプレー）
ＰＥＧ電解質溶液（ＣｏＬｙｔｅ）
ペミロラストカリウム点眼液（Ａｌａｍａｓｔ）
Ｐｅｎｌａｃ（シクロピロクス局所用液）
ＰＥＮＮＳＡＩＤ（ジクロフェナクナトリウム局所用液）
Ｐｅｒｆｏｒｏｍｉｓｔ（フマル酸ホルモテロール吸入液）
腹膜透析溶液
フェニレフリン塩酸塩点眼液（ネオシネフリン）
フォスフォリンアイオダイド（エコチオパートヨウ化物点眼液用）
ポドフィロックス（ポドフィロックス局所用液）
Ｐｒｅｄ  Ｆｏｒｔｅ（プレドニゾロン酢酸エステル懸濁性点眼液）
プララトレキサート溶液静注用（フォロチン）
Ｐｒｅｄ  Ｍｉｌｄ
Ｐｒｅｄｎｉｓｏｎｅ  Ｉｎｔｅｎｓｏｌ
プレドニゾロン酢酸エステル懸濁性点眼液（Ｐｒｅｄ  Ｆｏｒｔｅ）
プレバシド
ＰｒｉｓｍａＳｏｌ溶液（滅菌血液濾過（Ｓｔｅｒｉｌｅ  Ｈｅｍｏｆｉｌｔｒａｔｉｏｎ）血液濾過透析溶液（Ｈｅｍｏｄｉａｆｉｌｔｒａｔｉｏｎ  Ｓｏｌｕｔｉｏｎ））
プロエアー
Ｐｒｏｇｌｙｃｅｍ
プロハンス（ガドテリドール注射薬溶液）
塩酸プロパラカイン点眼液（Ａｌｃａｉｎｅ）
Ｐｒｏｐｉｎｅ
パルミコート
プルモザイム
Ｑｕｉｘｉｎ（レボフロキサシン点眼液０．５％）
ＱＶＡＲ
ラパミューン
レベトール
Ｒｅｌａｃｏｎ−ＨＣ
ロタリックス（経口生ロタウイルスワクチン懸濁液）
経口生ロタウイルスワクチン懸濁液（ロタリックス）
Ｒｏｗａｓａ（メサラミン注腸剤（Ｒｅｃｔａｌ  Ｓｕｓｐｅｎｓｉｏｎ  Ｅｎｅｍａ））
サブリル（ビガバトリン経口液）
サクロシダーゼ経口液（Ｓｕｃｒａｉｄ）
サンディミュン
Ｓｅｐｒａ
Ｓｅｒｅｖｅｎｔ  Ｄｉｓｋｕｓ
ソルコーテフ（ヒドロコルチゾンコハク酸エステルナトリウム）
ソルメドロール（コハク酸メチルプレドニゾロンナトリウム）
スピリーバ
スポラノックス経口液（イトラコナゾール経口液）
Ｓｔａｔｉｃｉｎ（エリスロマイシン局所用液１．５％）
スタレボ
Ｓｔａｒｌｉｘ
滅菌血液濾過（Ｓｔｅｒｉｌｅ  Ｈｅｍｏｆｉｌｔｒａｔｉｏｎ）血液濾過透析溶液（Ｈｅｍｏｄｉａｆｉｌｔｒａｔｉｏｎ  Ｓｏｌｕｔｉｏｎ）（ＰｒｉｓｍａＳｏｌ溶液）
Ｓｔｉｍａｔｅ
スクラルファート（カラファート懸濁液）
スルファセタミドナトリウム点眼液１０％（Ｂｌｅｐｈ  １０
Ｓｙｎａｒｅｌ点鼻液（子宮内膜症用酢酸ナファレリン点鼻液）
Ｔａｃｌｏｎｅｘ  Ｓｃａｌｐ（カルシポトリエン及びジプロピオン酸ベタメタゾン局所懸濁液（Ｔｏｐｉｃａｌ  Ｓｕｓｐｅｎｓｉｏｎ））
タミフル
トービイ
ＴｏｂｒａＤｅｘ
Ｔｏｂｒａｄｅｘ  ＳＴ（トブラマイシン／デキサメサゾン懸濁性点眼液０．３％／０．０５％）
トブラマイシン／デキサメサゾン懸濁性点眼液０．３％／０．０５％（Ｔｏｂｒａｄｅｘ  ＳＴ）
チモロール
Ｔｉｍｏｐｔｉｃ
トラバタンズ
トレプロスチニル吸入液（Ｔｙｖａｓｏ）
トルソプト（ドルゾラミド塩酸塩点眼液）
Ｔｙｖａｓｏ（トレプロスチニル吸入液）
ベントリン
ブイフェンド
ビブラマイシン経口用（ドキシサイクリンカルシウム経口懸濁液）
ヴァイデックス（ジダノシン小児用散経口液用）
ビガバトリン経口液（サブリル）
Ｖｉｏｋａｓｅ
ビラセプト
ビラミューン
ビタミンＫ１（ビタミンＫ１の流体コロイド溶液）
ボルタレン眼科用薬（ジクロフェナクナトリウム点眼液）
ザロンチン経口液（エトスクシミド経口液）
ザイアジェン
ザイボックス
Ｚｙｍａｒ（ガチフロキサシン点眼液）
Ｚｙｍａｘｉｄ（ガチフロキサシン点眼液）
薬物分類
５α還元酵素阻害薬
５−アミノサリチル酸塩
５ＨＴ３受容体拮抗薬
アダマンタン抗ウイルス薬
副腎皮質ステロイド
副腎皮質ホルモン阻害薬
アドレナリン作動性気管支拡張薬
高血圧性緊急疾患用薬剤
肺高血圧症用薬剤
アルドステロン受容体拮抗薬
アルキル化薬
αアドレナリン受容体拮抗薬
αグルコシダーゼ阻害薬
代替薬
殺アメーバ薬
アミノグリコシド
アミノペニシリン類
アミノサリチル酸塩
アミリン類似体
鎮痛薬配合剤
鎮痛薬
アンドロゲン及びアナボリックステロイド
アンジオテンシン変換酵素阻害薬
アンジオテンシンＩＩ阻害薬
肛門直腸製剤
食欲抑制薬
制酸薬
駆虫薬
抗血管原性眼用薬
抗ＣＴＬＡ−４モノクローナル抗体
感染症薬
抗アドレナリン作動薬、中枢作用型
抗アドレナリン作動薬、末梢作用型
抗アンドロゲン薬
抗狭心症薬
抗不整脈薬
抗喘息薬配合剤
抗生物質／抗腫瘍薬
抗コリン性制吐剤
抗コリン性抗パーキンソン薬
抗コリン性気管支拡張薬
抗コリン性変時性薬（ａｎｔｉｃｈｏｌｉｎｅｒｇｉｃ  ｃｈｒｏｎｏｔｒｏｐｉｃ  ａｇｅｎｔｓ）
抗コリン作動薬／鎮痙薬
凝固阻止剤
抗痙攣薬
抗うつ薬
抗糖尿病薬
抗糖尿病薬配合剤
止瀉薬
抗利尿ホルモン
解毒薬
制吐薬／抗暈眩薬
抗真菌薬
抗ゴナドトロピン薬
痛風治療薬
抗ヒスタミン薬
高脂血症用薬
高脂血症用配合剤
降圧配合剤
尿酸降下薬
抗マラリア薬
抗マラリア薬配合剤
抗マラリア薬キノリン類
代謝拮抗薬
抗片頭痛薬
抗腫瘍性解毒剤
抗腫瘍性インターフェロン
抗腫瘍性モノクローナル抗体
抗腫瘍薬
抗パーキンソン薬
抗血小板薬
抗緑膿菌ペニシリン系薬
抗乾癬薬
抗精神病薬
抗リウマチ薬
防腐薬及び殺菌薬
抗甲状腺薬
抗毒素及び抗蛇毒素
抗結核薬
抗結核薬配合剤
鎮咳薬
抗ウイルス薬
抗ウイルス配合剤
抗ウイルスインターフェロン
抗不安薬、鎮静薬、及び催眠薬
アロマターゼ阻害薬
非定型抗精神病薬
アゾ−ル抗真菌薬
細菌性ワクチン
バルビツール酸系抗痙攣薬
バルビツール薬
ＢＣＲ−ＡＢＬチロシンナーゼ阻害薬
ベンゾジアゼピン系抗痙攣薬
ベンゾジアゼピン
βアドレナリン遮断薬
βラクタマーゼ阻害薬
胆汁酸金属イオン封鎖剤
生物学的製剤
ビスホスホネート製剤
骨吸収阻害薬
気管支拡張薬配合剤
気管支拡張薬
カルシトニン
カルシウムチャネル遮断薬
カルバメート系抗痙攣薬
カルバペネム
炭酸脱水酵素阻害抗痙攣薬
炭酸脱水酵素阻害薬
心緊張薬（ｃａｒｄｉａｃ  ｓｔｒｅｓｓｉｎｇ  ａｇｅｎｔ）
心選択性β遮断薬
心血管作動薬
カテコールアミン
ＣＤ２０モノクローナル抗体
ＣＤ３３モノクローナル抗体
ＣＤ５２モノクローナル抗体
中枢神経系薬
セファロスポリン
耳垢水
キレート剤
ケモカイン受容体拮抗薬
クロライドチャネルアクチベーター
コレステロール吸収阻害薬
コリン作動薬
コリン作動性筋興奮薬
コリンエステラーゼ阻害薬
中枢興奮薬
凝固調整剤
コロニー刺激因子
避妊薬
副腎皮質刺激ホルモン
クマリン類及びインダンジオン類
ｃｏｘ−２阻害薬
充血除去薬
外皮用薬
診断的放射性医薬品
ジベンザゼピン系抗痙攣薬
消化酵素
ジペプチジルペプチダーゼ４阻害薬
利尿薬
ドパミン作用性抗パーキンソン薬
アルコール依存性に使用される薬物
エキノカンジン
ＥＧＦＲ阻害薬
エストロゲン受容体拮抗薬
エストロゲン
去痰薬
第Ｘａ因子阻害剤
脂肪酸誘導体抗痙攣薬
フィブリン酸誘導体
第１世代セファロスポリン
第４世代セファロスポリン
機能性腸疾患薬
胆石可溶化薬（ｇａｌｌｓｔｏｎｅ  ｓｏｌｕｂｉｌｉｚｉｎｇ  ａｇｅｎｔ）
ＧＡＢＡ類似体
ＧＡＢＡ再取り込み阻害薬
ＧＡＢＡトランスアミナーゼ阻害薬
胃腸薬
全身麻酔薬
尿生殖路薬（ｇｅｎｉｔｏｕｒｉｎａｒｙ  ｔｒａｃｔ  ａｇｅｎｔｓ）
胃腸刺激薬
グルココルチコイド
グルコース上昇剤（ｇｌｕｃｏｓｅ  ｅｌｅｖａｔｉｎｇ  ａｇｅｎｔｓ）
グリコペプチド系抗生物質
糖タンパク質血小板阻害薬（ｇｌｙｃｏｐｒｏｔｅｉｎ  ｐｌａｔｅｌｅｔ  ｉｎｈｉｂｉｔｏｒｓ）
グリシルシクリン類
ゴナドトロピン放出ホルモン
ゴナドトロピン放出ホルモン拮抗薬
ゴナドトロピン
Ｉ群抗不整脈薬
ＩＩ群抗不整脈薬
ＩＩＩ群抗不整脈薬
ＩＶ群抗不整脈薬
Ｖ群抗不整脈薬
成長ホルモン受容体遮断薬
成長ホルモン
ヘリコバクターピロリ除菌薬
Ｈ２拮抗薬
造血幹細胞モビライザー（ｍｏｂｉｌｉｚｅｒ）
へパリン拮抗薬
へパリン
ＨＥＲ２阻害薬
植物製品
ヒストン脱アセチル化酵素阻害薬
ホルモン補充療法
ホルモン
ホルモン／抗腫瘍薬
ヒダントイン系抗痙攣薬
違法（ストリート）薬物
免疫グロブリン
免疫薬
免疫抑制薬
インポテンス薬
インビボ診断生物学的製剤
インクレチンミメティクス
吸入感染症薬（ｉｎｈａｌｅｄ  ａｎｔｉ−ｉｎｆｅｃｔｉｖｅｓ）
吸入コルチコステロイド
強心薬
インスリン
インスリン様増殖因子
インテグラーゼ鎖移転阻害薬
インターフェロン
静脈内栄養製品（ｉｎｔｒａｖｅｎｏｕｓ  ｎｕｔｒｉｔｉｏｎａｌ  ｐｒｏｄｕｃｔｓ）
ヨード造影剤
イオン化ヨード造影剤
鉄製品
ケトライド類
緩下薬
鎮癩薬
ロイコトリエン調整剤
リンコマイシン誘導体
脂質化グリコペプチド
局所注射麻酔薬
ループ利尿薬
肺表面活性剤
リンパ管染色剤
リソソーム酵素
マクロライド誘導体
マクロライド類
磁気共鳴イメージング造影剤
肥満細胞安定化剤
医療ガス
メグリチニド類
代謝薬
メチルキサンチン類
ミネラルコルチコイド
ミネラル及び電解質
その他薬剤
その他鎮痛薬
その他抗生物質
その他抗痙攣薬
その他抗うつ薬
その他抗糖尿病薬
その他制吐剤
その他抗真菌薬
その他高脂血症用薬
その他抗マラリア薬
その他抗腫瘍薬
その他抗パーキンソン薬
その他抗精神病薬
その他抗結核薬
その他抗ウイルス薬
その他抗不安薬、鎮静薬及び催眠薬
その他生物学的製剤
その他骨吸収阻害薬
その他心血管作動薬
その他中枢神経系薬
その他凝固調整剤
その他利尿薬
その他尿生殖路薬
その他ＧＩ薬
その他ホルモン
その他代謝薬
その他眼用薬
その他耳用薬
その他呼吸薬
その他性ホルモン
その他局所薬
その他未分類薬
その他腟用薬（ｖａｇｉｎａｌ  ａｇｅｎｔｓ）
有糸分裂阻害薬
モノアミン酸化酵素阻害薬
モノクローナル抗体
口及び咽喉製品（ｍｏｕｔｈ  ａｎｄ  ｔｈｒｏａｔ  ｐｒｏｄｕｃｔｓ）
ｍＴＯＲ阻害薬
ｍＴＯＲキナーゼ阻害薬
粘液溶解薬
マルチキナーゼ阻害薬
筋弛緩薬
散瞳薬
麻薬性鎮痛薬配合剤
麻薬性鎮痛薬
鼻用感染症薬
鼻用抗ヒスタミン薬及び充血除去薬
鼻用潤滑剤及び灌注剤
鼻用製剤
鼻用ステロイド
天然ペニシリン系薬
ノイラミニダーゼ阻害薬
神経筋遮断薬
次世代セファロスポリン
ニコチン酸誘導体
硝酸薬
非ヌクレオシド系逆転写酵素阻害薬
非心選択性β遮断薬
非ヨード造影剤
非イオン性ヨード造影剤
非スルホニル尿素
非ステロイド性抗炎症薬
ノルエピネフィリン再取り込み阻害薬
ノルエピネフィリン−ドパミン再取り込み阻害薬
ヌクレオシド系逆転写酵素阻害薬（ＮＲＴＩｓ）
栄養補助食品
栄養製品
眼用麻酔薬
眼用感染症薬
眼用抗炎症薬
眼用抗ヒスタミン薬及び充血除去薬
眼用診断用薬
眼用緑内障薬
眼用潤滑剤及び灌注剤
眼用製剤
眼用ステロイド
感染症薬追加眼用ステロイド
眼外科薬（ｏｐｈｔｈａｌｍｉｃ  ｓｕｒｇｉｃａｌ  ａｇｅｎｔｓ）
経口栄養補助食
耳用麻酔薬
耳用感染症薬
耳用製剤
耳用ステロイド
感染症薬追加耳用ステロイド
オキサゾリジンジオン系抗痙攣薬
上皮小体ホルモン及び類似体
ペニシリナーゼ耐性ペニシリン
ペニシリン系薬
末梢性オピオイド受容体拮抗薬
末梢性血管拡張薬
末梢作用型抗肥満薬
フェノチアジン制吐剤
フェノチアジン系抗精神病薬
フェニルピペラジン系抗うつ薬
血漿増量剤
血小板凝集阻害薬
血小板刺激剤
ポリエン類
カリウム保持性利尿薬
プロバイオティクス
黄体ホルモン受容体調節薬
プロゲスチン
プロラクチン阻害薬
プロスタグランジンＤ２拮抗薬
タンパク分解酵素阻害薬
プロトンポンプ阻害薬
ソラレン類
精神治療薬
精神治療用複合剤（ｐｓｙｃｈｏｔｈｅｒａｐｅｕｔｉｃ  ｃｏｍｂｉｎａｔｉｏｎｓ）
プリンヌクレオシド
ピロリジン抗痙攣薬
キノロン剤
造影剤
放射線補助剤（ｒａｄｉｏｌｏｇｉｃ  ａｄｊｕｎｃｔｓ）
放射線剤
放射線共役剤（ｒａｄｉｏｌｏｇｉｃ  ｃｏｎｊｕｇａｔｉｎｇ  ａｇｅｎｔｓ）
放射性医薬品
ＲＡＮＫリガンド阻害薬
遺伝子組換えヒトエリスロポエチン
レニン阻害薬
呼吸薬
呼吸吸入薬製品（ｒｅｓｐｉｒａｔｏｒｙ  ｉｎｈａｌａｎｔ  ｐｒｏｄｕｃｔｓ）
リファマイシン誘導体
サリチル酸塩
硬化剤
第２世代セファロスポリン
選択的エストロゲン受容体調節薬
選択的セロトニン再取り込み阻害薬
セロトニン−ノルエピネフィリン再取り込み阻害薬
セロトニン作動性神経腸調節薬
性ホルモン複合剤
性ホルモン
骨格筋弛緩薬複合剤
骨格筋弛緩薬
禁煙薬
ソマトスタチン及びソマトスタチン類似体
殺精子剤
スタチン
滅菌洗浄溶液（ｓｔｅｒｉｌｅ  ｉｒｒｉｇａｔｉｎｇ  ｓｏｌｕｔｉｏｎｓ）
ストレプトミセス誘導体
スクシンイミド抗痙攣薬
スルホンアミド
スルホニル尿素
合成排卵誘発剤
四環系抗うつ薬
テトラサイクリン
治療用放射性医薬品
サイアザイド系利尿薬
チアゾリジンジオン類
チオキサンテン
第３世代セファロスポリン
トロンビン阻害剤
血栓溶解薬
甲状腺剤
陣痛抑制薬
局所座瘡薬
局所薬
局所麻酔薬
局所感染症薬
局所抗生物質
局所抗真菌薬
局所抗ヒスタミン薬
局所抗乾癬薬
局所抗ウイルス薬
局所収斂薬
局所排膿促進薬
局所脱色剤
局所皮膚軟化薬
局所角質溶解薬
局所ステロイド
感染症薬追加局所ステロイド
トキソイド
トリアジン抗痙攣薬
三環系抗うつ薬
三官能性モノクローナル抗体
腫瘍壊死因子（ＴＮＦ）阻害薬
チロシンナーゼ阻害薬
超音波造影剤
上気道用複合剤（ｕｐｐｅｒ  ｒｅｓｐｉｒａｔｏｒｙ  ｃｏｍｂｉｎａｔｉｏｎｓ）
尿素抗痙攣薬（ｕｒｅａ  ａｎｔｉｃｏｎｖｕｌｓａｎｔｓ）
尿路感染症薬
尿路鎮痙薬
尿ｐＨ調整剤
子宮収縮薬
ワクチン
混合ワクチン
腟抗感染薬
膣坐剤
血管拡張薬
バソプレッシン拮抗薬
昇圧薬
ＶＥＧＦ／ＶＥＧＦＲ阻害薬
ウイルス性ワクチン
関節内補充薬
ビタミンミネラル複合体
ビタミン
診断試験
１７−ヒドロキシプロゲステロン
ＡＣＥ（アンジオテンシンＩ変換酵素）
アセトアミノフェン
酸性ホスファターゼ
副腎皮質刺激ホルモン
活性凝固時間
活性化プロテインＣ耐性
副腎皮質刺激ホルモン（ＡＣＴＨ）
アラニンアミノトランスフェラーゼ（ＡＬＴ）
アルブミン
アルドラーゼ
アルドステロン
アルカリフォスファターゼ
アルカリフォスファターゼ（ＡＬＰ）
α１−抗トリプシン
α−フェトプロテイン
α−フェトプロティエン（ｆｅｔｏｐｒｏｔｉｅｎ）
アンモニアレベル
アミラーゼ
ＡＮＡ（抗核アントボディ（ａｎｔｉｎｕｃｌｅａｒ  ａｎｔｂｏｄｉｅｓ））
ＡＮＡ（抗核抗体）
アンジオテンシン変換酵素（ＡＣＥ）
アニオンギャップ
抗カルジオリピン抗体
抗カルジオリピンアンティブボディ（ａｎｔｉｖｂｏｄｉｅｓ）（ＡＣＡ）
抗セントロメア抗体
抗利尿ホルモン
抗ＤＮＡ
抗デオキシリボヌクレアーゼＢ
抗グリアジン抗体
抗糸球体基底膜抗体
抗ＨＢｃ（Ｂ型肝炎コア抗体
抗ＨＢｓ（Ｂ型肝炎表面抗体
抗リン脂質抗体
抗ＲＮＡポリメラーゼ
抗スミス（Ｓｍ）抗体
抗平滑筋抗体
抗ストレプトリジンＯ価（ＡＳＯ）
抗トロンビンＩＩＩ
抗Ｘａ活性
抗Ｘａアッセイ
アポリポタンパク
ヒ素
アスパラギン酸アミノトランスフェラーゼ（ＡＳＴ）
Ｂ１２
塩基好性白血球
β２−ミクログロブリン
β−ヒドロキシブチレート
Ｂ−ＨＣＧ
ビリルビン
直接ビリルビン
間接ビリルビン
総ビリルビン
出血時間
血液ガス（動脈性）
血液尿素窒素（ＢＵＮ）
血液尿素窒素
ＢＵＮ
ＣＡ１２５
ＣＡ１５−３
ＣＡ１９−９
カルシトニン
カルシウム
カルシウム（イオン化）
一酸化炭素（ＣＯ）
ＣＥＡ（癌胎児性抗原）
全血球計算（値）、全血算
癌胎児性抗原
ＣＥＡ
セルロプラスミン
ＣＨ５０クロライド（ＣＨ５０Ｃｈｌｏｒｉｄｅ）
コレステロール
コレステロール、ＨＤＬ
血栓溶解時間
血餅退縮時間
ＣＭＰ
ＣＯ２
寒冷凝集素
補体第３成分
銅
副腎皮質刺激ホルモン放出ホルモン（ＣＲＨ）刺激試験
コルチゾル
コートロシン刺激試験
Ｃペプチド
ＣＰＫ（総）
ＣＰＫ−ＭＢ
Ｃ反応性タンパク
クレアチニン
クレアチニンキナーゼ（ＣＫ）
クリオグロブリン
ＤＡＴ（直接抗グロブリン試験）
Ｄダイマー
デキタメタゾン抑制試験
ＤＨＥＡ−Ｓ
希釈ラッセルクサリ蛇毒
楕円赤血球
好酸球
赤血球沈降速度（ＥＳＲ）
エストラジオール
エストリオール
エタノール
エチレングリコール
ユーグロブリン溶解
第Ｖ因子ライデン
第ＶＩＩＩ因子阻害薬
第ＶＩＩＩ因子レベル
フェリチン
フィブリン体分解産物
フィブリノーゲン
葉酸塩
葉酸塩（血清
ナトリウム分画排泄率（ＦＥＮＡ）
ＦＳＨ（卵胞刺激因子）
ＦＴＡ−ＡＢＳ
γグルタミルトランスフェラーゼ（ＧＧＴ）
ガストリン
ＧＧＴＰ（γグルタミルトランスフェラーゼ）
グルコース
成長ホルモン
ハプトグロビン
ＨＢｅＡｇ（Ｂ型肝炎ｅ抗原）
ＨＢｓ−Ａｇ（Ｂ型肝炎表面抗原）
ヘリコバクターピロリ
ヘマトクリット（赤血球容積率）
ヘマトクリット（ＨＣＴ））
ヘモグロビン
ヘモグロビンＡ１Ｃ
ヘモグロビン電気泳動
Ａ型肝炎抗体
Ｃ型肝炎抗体
ＩＡＴ（間接抗グロブリン試験）
免疫固定法（ＩＦＥ）
鉄
乳酸脱水素酵素（ＬＤＨ）
乳酸（乳酸塩）
ＬＤＨ
ＬＨ（ルーティナイジング（Ｌｅｕｔｉｎｉｚｉｎｇ）ホルモン
リパーゼ
ループス抗凝固因子
リンパ球
マグネシウム
ＭＣＨ（平均赤血球ヘモグロビン量
ＭＣＨＣ（平均赤血球ヘモグロビン濃度）
ＭＣＶ（平均赤血球容積）
マロン酸メチル
単球
ＭＰＶ（平均血小板容積）
ミオグロビン
好中球
上皮小体ホルモン
リン
血小板（ｐｌｔ）
カリウム
プレアルブミン
プロラクチン
前立腺特異抗原（ＰＳＡ）
タンパク質Ｃ
タンパク質Ｓ
ＰＳＡ（前立腺特異抗原）
ＰＴ（プロトロンビン時間）
ＰＴＴ（部分トロンボプラスチン時間）
ＲＤＷ（赤血球分布幅）
レニン
レンニン
網状赤血球数
網状赤血球
リウマチ因子（ＲＦ）
血沈速度
血清グルタミン酸ピルビン酸トランスアミナーゼ（ＳＧＰＴ
血清タンパク電気泳動（ＳＰＥＰ）
ナトリウム
Ｔ３レジン摂取率（Ｔ３ＲＵ）
フリーＴ４
トロンビン時間
甲状腺刺激ホルモン（ＴＳＨ）
チロキシン（Ｔ４
全鉄結合能（ＴＩＢＣ）
総タンパク
トランスフェリン（鉄結合性グロブリン）
トランスフェリン飽和剤
トリグリセリド（ＴＧ）
トロポニン
尿酸
シアノコバラミン（ビタミンＢ１２）
白血球（ＷＢＣ）
ウィダール試験
からなる群から選択される要素又は２つ以上の要素の組み合わせを含む。
【０２６８】
いくつかの例として、流体物質４０は、吸入麻酔薬、薬物又は診断検査材料とされうる。これら流体物質４０のいずれかは、注射可能物質、吸入することが可能な、又はそうでなければ患者に導入することが可能な揮散物質とされうる。
【０２６９】
不活性化層又はｐＨ保護皮膜の他の用途
本明細書中に記載される不活性化層又はｐＨ保護皮膜を備えた容器は、また、真空排気することができ、且つ真空排気した状態で保管されうる。例えば、不活性化層又はｐＨ保護皮膜は、対応する、不活性化層又はｐＨ保護皮膜のない容器と比較して、真空のより良好な維持を可能にする。この実施形態の一態様においては、不活性化層又はｐＨ保護皮膜を有する容器は血液サンプリングチューブとされうる。チューブは、また、血液凝固又は血小板活性化を防止するための薬剤、例えば、ＥＤＴＡ又はへパリンを含みうる。
【０２７０】
更に別の実施形態は、本明細書中のいずれかの実施形態において定義された基板上の、本明細書中のいずれかの実施形態において定義された不活性化層又はｐＨ保護皮膜を有する容器を含む医療又は診断キットとされうる。任意選択的に、キットは、付加的に、不活性化層又はｐＨ保護皮膜を有する容器内に皮膜又は層と接触して収容された、本明細書中のいずれかの実施形態において定義された薬剤又は診断用薬及び／又は皮下針、両頭針又は他の送達導管及び／又は取扱説明書を含む。
【０２７１】
皮膜又は層と接触している化合物又は組成物の成分の沈殿及び／又は凝固又は血小板活性化を防止又は低減するために、記載したいずれかの実施形態による不活性化層又はｐＨ保護皮膜の使用が企図される。
【０２７２】
インスリンを保管するために、記載したいずれかの実施形態による被覆された基板の使用が企図される。１つのオプションとして、不活性化層又はｐＨ保護皮膜を含む接触面を有する、インスリンを収容するための容器を用意することによって、インスリンの沈殿が防止又は低減されうる。
【０２７３】
別のオプションとして、化合物又は組成物の成分は血液又は血液分画とすることができ、血液を血液サンプリングチューブ内に不活性化層又はｐＨ保護皮膜と接触させて保管することにより血液凝固又は血小板活性化を防止又は低減することができる。任意選択的に、血液サンプリングチューブは、血液凝固又は血小板活性化を防止するための薬剤、例えば、エチレンジアミン四酢酸（ＥＤＴＡ）、そのナトリウム塩、又はへパリン、を含みうる。血液サンプリングチューブは、薬剤が容器内のＳｉＯxバリア皮膜又は層を攻撃することを防止するために不活性化層又はｐＨ保護皮膜を含みうる。血液を保管するために、記載したいずれかの実施形態による被覆された基板の使用が企図される。任意選択的に、保管された血液は患者の血管系に戻すために生存可能（ｖｉａｂｌｅ）とされうる。
【０２７４】
（ｉ）非被覆表面に比べてより低い摩擦抵抗を有する滑性皮膜、及び／又は（ｉｉ）流体と接触しているバリア皮膜又は層の溶解を防止する不活性化層又はｐＨ保護皮膜、及び／又は（ｉｉｉ）非被覆表面よりも更に疎水性とされうる疎水性層としての、記載したいずれかの実施形態による皮膜又は層の使用が企図されうる。
【０２７５】
皮膜厚さの測定
不活性化層又はｐＨ保護皮膜、バリア皮膜又は層、滑性皮膜又は層及び／又はこれら層の任意の２つ以上の複合物などのＰＥＣＶＤ皮膜又は層の厚さは、例えば、透過電子顕微鏡法（ＴＥＭ）によって測定されうる。ＳｉＯxバリア皮膜又は層上の滑性及び／又は不活性化層又はｐＨ保護皮膜の例示的なＴＥＭ画像が図１２に示される。基板上のＳｉＯxバリア皮膜又は層の例示的なＴＥＭ画像は図１３に示される。
【０２７６】
ＴＥＭは、例えば、以下のように実施されうる。２方向の断面を取る（ｃｒｏｓｓ−ｓｅｃｔｉｏｎｉｎｇｉｎ  ｔｗｏ  ｗａｙｓ）集束イオンビーム（ＦＩＢ）用にサンプルが用意されうる。いずれのサンプルもＫ５７５Ｘ  Ｅｍｉｔｅｃｈ不活性化層又はｐＨ保護皮膜システムを使用して炭素の薄層（厚さ５０〜１００ｎｍ）がまず被覆され、その後、スパッタリングされた白金の皮膜又は層（厚さ５０〜１００ｎｍ）で被覆されうる。あるいは、サンプルは保護スパッタＰｔ層（ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ  ｓｐｕｔｔｅｒｅｄ  Ｐｔ  ｌａｙｅｒ）で直接被覆されうる。被覆されたサンプルはＦＥＩ  ＦＩＢ２００  ＦＩＢシステム内に配置されうる。３０ｋＶガリウムイオンビームを対象の領域上にラスターする間、白金の追加皮膜又は層が有機金属ガスの注入によってＦＩＢ堆積されうる。各サンプルの対象の領域は、シリンジバレルの長さの半分の位置になるように選択されうる。長さ約１５μｍ（「マイクロメートル」）、幅２μｍ及び深さ１５μｍの寸法の薄い断面はダイ表面からその位置でＦＩＢリフトアウト法を使用して抽出されうる。断面は２００メッシュ銅製ＴＥＭグリッドにＦＩＢ堆積した白金を使用して取り付けられうる。幅約８μｍの寸法の、各断面内の１つ又は２つの窓はＦＥＩ  ＦＩＢのガリウムイオンビームを使用して電子透かしになるまで薄くされうる。
【０２７７】
用意したサンプルの断面画像分析は透過電子顕微鏡（ＴＥＭ）又は走査透過電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）のいずれか又は両方を利用して実施することができる。全画像化データはデジタル方式で記録されうる。ＳＴＥＭ画像化では、薄箔のグリッドをＳＴＥＭ専用のＨｉｔａｃｈｉ  ＨＤ２３００に移動する。走査透過電子画像は原子番号コントラストモード（ＺＣ）及び透過電子モード（ＴＥ）において適切な倍率で取得されうる。以下の機器設定が使用されうる。
【０２７８】
【表２】
2014533177.tif 000012
【０２７９】
ＴＥＭ分析では、サンプルグリッドはＨｉｔａｃｈｉ  ＨＦ２０００透過電子顕微鏡に移動されうる。透過電子画像は適切な倍率で取得されうる。画像取得時に使用される関連機器設定は以下に記載するものとされうる。
【０２８０】
【表３】
2014533177.tif 000013
【０２８１】
シリンジバレルを形成及び被覆するための基本プロトコル
後の実施例において試験される薬剤パッケージ又は他の容器は個々の実施例に特に定めのない限りは以下の例示的なプロトコルに従い形成及び被覆した。以下の基本プロトコルに記載される特定のパラメータ値、例えば、電力及び気体反応物又はプロセスガス流は典型的な値である。これら典型的な値と比較してパラメータ値に変化があった場合、これは後の実施例において示される。気体反応物又はプロセスガスのタイプ及び組成にも同様のことが当てはまる。
【０２８２】
場合によっては、以下のプロトコルにおいて言及される参照符号及び図、並びに更なる詳細については米国特許第７，９８５，１８８号明細書に記載されうる。
【０２８３】
シリンジバレル内部をＳｉＯxで被覆するためのプロトコル
シリンジバレル内部をＳｉＯxバリア皮膜又は層で被覆するため、全般的に米国特許第７，９８５，１８８号明細書に記載されているような装置及びプロトコルを使用し、場合によっては僅かな変更を加えた。バイアルをＳｉＯxバリア皮膜又は層で被覆するために同様の装置及びプロトコルを使用し、場合によっては僅かな変更を加えた。
【０２８４】
シリンジバレル内部をＯＭＣＴＳ不活性化層又はｐＨ保護皮膜で被覆するためのプロトコル
前に示したように、ＳｉＯxのバリア皮膜又は層で既に内部が被覆されているシリンジバレルは、実施例に記載するような特定の例おいて変更した条件を用いること以外は、全般的に滑性皮膜又は層を塗布するための米国特許第７，９８５，１８８号明細書のプロトコルに従い、前に示した不活性化層又はｐＨ保護皮膜で更に内部が被覆される。ここで記載する条件はＣＯＣシリンジバレル用であり、他の材料から作製されたシリンジバレル用に適宜変更することができる。シリンジバレルの基部にある突き当てシーリング（ｂｕｔｔ  ｓｅａｌｉｎｇ）によりシリンジバレルを保持するために全体として図４に示されるような装置が使用されうる。
【０２８５】
シリンジバレルは、延在するプローブ又はカウンタ電極１０８上において密封位置に慎重に動かされ、プラズマスクリーンに押し付けられる。プラズマスクリーンはプローブ又はカウンタ電極１０８の周りにぴったりと嵌合し良好な電気接触を確実にする。プローブ又はカウンタ電極１０８はＲＦ整合ネットワークのケーシングに接地される。
【０２８６】
ガス送達ポート１１０は、排出用の手動ボールバルブ又は類似の装置と、熱電対圧力計と、真空ポンピングラインに連結されたバイパスバルブとに連結される。加えて、ガスシステムはガス送達ポート１１０に連結され、気体反応物又はプロセスガス、オクタメチルシクロテトラシロキサン（ＯＭＣＴＳ）（又は特定の例において報告される特定の気体反応物又はプロセスガス）が（プロセス圧力下で）ガス送達ポート１１０を通じてシリンジバレルの内部に流れることを可能にする。
【０２８７】
ガスシステムは、ＯＭＣＴＳを約１００℃まで加熱する、市販されている加熱式質量流量気化システム（ｈｅａｔｅｄ  ｍａｓｓ  ｆｌｏｗ  ｖａｐｏｒｉｚａｔｉｏｎ  ｓｙｓｔｅｍ）を含む。加熱式質量流量気化システムは、液体オクタメチルシクロテトラシロキサン（Ａｌｆａ  Ａｅｓａｒ（登録商標）品番Ａ１２５４０、９８％）に連結される。ＯＭＣＴＳ流量は特定の例において報告される特定の有機ケイ素化合物前駆体流に合わせて設定される。蒸発したＯＭＣＴＳ流の凝縮がこのポイントを越えて発生しないようにするため、ガス流はそれが処理のためにＣＯＣシリンジバレルの内部に流れていないときはポンピングラインに分流される。
【０２８８】
シリンジバレルが配置されると、真空ポンプバルブは容器保持器５０及びＣＯＣシリンジバレルの内部に対して開かれる。真空ポンプ及びブロワが真空ポンプシステムに含まれる。ポンピングシステムは、気体反応物又はプロセスガスが指示された速度で流れている間、ＣＯＣシリンジバレルの内部の圧力（複数）を１００ｍＴｏｒｒ未満に低下することを可能にする。
【０２８９】
ベース真空レベルが達成されると、容器保持器５０アセンブリは電極１６０アセンブリ内に移動する。ガス流（ＯＭＣＴＳ蒸気）がガス送達ポート１１０内に流される（３方弁をポンピングラインからガス送達ポート１１０に調節することによって。ＰＥＣＶＤ用のプラズマは、使用される場合、減圧で発生させることができる。減圧は、３００ｍＴｏｒｒ未満、任意選択的に、２００ｍＴｏｒｒ未満、更に任意選択的に、１００ｍＴｏｒｒ未満とされうる。ＣＯＣシリンジバレル内部の圧力は、ポンピングラインの真空を制御するバルブの近辺に配置された静電容量型圧力計（ＭＫＳ）によって測定した場合、一例として、約１４０ｍＴｏｒｒとされうる。ＣＯＣシリンジバレル圧力に加え、ガス送達ポート１１０及びガスシステム内部の圧力もまたガスシステムに連結された熱電対真空計によって測定される。この圧力は、通常、６Ｔｏｒｒ未満である。
【０２９０】
ガスがＣＯＣシリンジバレルの内部に流れると、ＲＦ電源がオンにされ、その一定の電力レベル又は特定の例又は明細書に記載される別のレベルにされる。不活性化層又はｐＨ保護皮膜の物理的及び化学的特性は、気体反応物中における酸化性ガスと有機ケイ素化合物前駆体の比率を設定することによって及び／又はプラズマを発生させるために使用される電力を設定することによって設定されうる。６００ワットＲＦ電源が（１３．５６ＭＨｚで）一定の電力レベル、又は特定の例又は明細書に記載される別のレベルで使用される。ＲＦ電源は、プラズマの複素インピーダンス（容器内で形成される）をＲＦ電源の出力インピーダンスに整合させるオートマッチ（ａｕｔｏ  ｍａｔｃｈ）に接続される。進行波電力（ｆｏｒｗａｒｄ  ｐｏｗｅｒ）は記載した通りであり、反射波電力（ｒｅｆｌｅｃｔｅｄ  ｐｏｗｅｒ）は０ワットである。このため、定格電力が容器の内部に送達される。ＲＦ電源は、実験室タイマ及び１０秒（又は特定の例において定められた異なる時間）に設定された電源オン時間によって制御される。
【０２９１】
ＲＦ電力を開始すると、容器の内部の内側に均一なプラズマが提供される。プラズマはＲＦ電力がタイマによって遮断されるまでの、不活性化層又はｐＨ保護被覆の全時間の間維持される。プラズマは不活性化層又はｐＨ保護皮膜を容器の内部に生成する。
【０２９２】
不活性化層又はｐＨ保護皮膜の塗布後、ガス流は真空ラインに再度分流され、真空バルブは閉じられる。その後、ベントバルブが開かれ、ＣＯＣシリンジバレルの内部を大気圧（約７６０トル）に戻す。（容器保持器５０アセンブリを電極１６０アセンブリから出した後）処理後の容器はその後容器保持器５０アセンブリから慎重に取り外される。
【０２９３】
不活性化層又はｐＨ保護皮膜をバイアルに塗布するために全般的に図１のもののような装置を使用する以外は同様のプロトコルが使用される。
【０２９４】
総ケイ素測定のためのプロトコル
このプロトコルは、容器壁全体に存在するケイ素皮膜の総量を決定するために使用される。溶液又は成分とガラスとの間の接触を回避するよう留意し、ある供給量の０．１Ｎ水酸化カリウム（ＫＯＨ）水溶液を用意する。使用される水は精製水で、１８ＭΩ品質である。特に定めのない限りは測定にＰｅｒｋｉｎ  Ｅｌｍｅｒ  Ｏｐｔｉｍａ  Ｍｏｄｅｌ  ７３００ＤＶ  ＩＣＰ−ＯＥＳ機器が使用される。
【０２９５】
試験される各デバイス（バイアル、シリンジ、チューブ等）並びにそのキャップ及びクリンプ（バイアルの場合）又は他のクロージャを空〜０．００１ｇにおいて計量し、その後、ＫＯＨ溶液で完全に充填し（ヘッドスペースなしで）、キャップを嵌め、クリンプし、０．００１ｇ以下において再計量した。温浸ステップにおいては、４０℃の超音波処理水浴中に各バイアルが最低８〜１０時間配置される。温浸ステップはケイ素皮膜を容器壁からＫＯＨ溶液中に定量的に除去するために実施される。この温浸ステップ後、バイアルは超音波処理水浴から取り出され、室温まで冷却される。バイアルの内容は１５ｍｌＩＣＰチューブに移動される。各溶液の総Ｓｉ濃度がＩＣＰ／ＯＥＳによってＩＣＰ／ＯＥＳの実施手順に従い実行される。
【０２９６】
総Ｓｉ濃度はＫＯＨ溶液中のＳｉの１０億分率として報告される。この濃度は、温浸ステップが使用されそれが除去される前に容器壁上にあったケイ素皮膜の総量を示す。
【０２９７】
総Ｓｉ濃度は、また、ＳｉＯxバリア皮膜又は層が塗布され、ＳｉＯxＣy第２層（例えば、滑性層又は不活性化層又はｐＨ保護皮膜）がその後塗布され、ＳｉＯxＣy層だけの総ケイ素濃度を知りたい場合のように、容器上の全ケイ素層よりも少数の層について決定することができる。この決定は、２セットの容器を用意し、その１つのセットにはＳｉＯx層のみを塗布し、そのもう一方のセットには同じＳｉＯx層、続いてＳｉＯxＣy層又は関心のある他の層を塗布することによって実施される。各セットの容器の総Ｓｉ濃度は上に記載したのと同じ手法で決定される。２つのＳｉ濃度間の差がＳｉＯxＣy第２層の総Ｓｉ濃度である。
【０２９８】
容器中の溶解したケイ素を測定するためのプロトコル
実施例のいくつかにおいては、例えば、試験溶液の溶解速度を評価するために、試験溶液によって容器の壁から溶解したケイ素の量が１０億分率（ｐｐｂ）で決定される。この溶解したケイ素の決定は、試験条件下でＳｉＯx及び／又はＳｉＯxＣy皮膜又は層が提供された容器内に試験溶液を保管し、その後、溶液のサンプルを容器から除去し、サンプルのＳｉ濃度を試験することによって実施される。試験は、総ケイ素測定のためのプロトコルと同じ手法で実施されるが、そのプロトコルの温浸ステップの代わりにこのプロトコルに記載されるような容器内における試験溶液の保管が使用される。総Ｓｉ濃度は試験溶液中のＳｉの１０億分率として報告される。
【０２９９】
平均溶解速度を決定するためのプロトコル
実施例において報告される平均溶解速度は以下のように決定される。既知の総総ケイ素測定値を有する一連の試験容器に、総ケイ素測定のためのプロトコルにおいてバイアルにＫＯＨ溶液を充填する手法と類似の手法で所望の試験溶液を充填する。（試験溶液は、本実施例で用いられるような生理的に不活性の試験溶液とすることも、薬剤パッケージを形成するために容器内に保管されることを意図した生理的に活性な製剤とすることもできる）。試験溶液は各々の容器内にいくつかの異なる時間量の間保管され、その後、各保管時間おける試験溶液中のＳｉ濃度を１０億分率で分析する。各々の保管時間及びＳｉ濃度は、その後、プロットされる。プロットを分析し、最急勾配を有する実質的に線形の点の列を求める。
【０３００】
日数に対する溶解量（ｐｐｂ  Ｓｉ）のプロットでは時間とともに勾配が減少する。Ｓｉ層は試験溶液によって完全に温浸されているため溶解速度は平坦にならないと考えられる。
【０３０１】
以下、表１０のＰＣ１９４試験データにおいては、最小二乗線形回帰プログラムを使用し、各実験プロットのうち最初の５つの標本値群に合致する線形プロットを求めることにより溶解対時間のデータの線形プロットを作成する。その後、各線形プロットの勾配が決定され、試験に適用可能な平均溶解速度を示すものとして、単位時間あたりの試験溶液中に溶解したＳｉの１０億分率で報告される。
【０３０２】
計算保管寿命を決定するためのプロトコル
以下の実施例において報告される計算保管寿命値は、総ケイ素測定のためのプロトコル及び平均溶解速度を決定するためのプロトコルにそれぞれ記載したように決定された総ケイ素測定値及び平均溶解速度の外挿によって決定される。示された保管条件下において、ＳｉＯxＣy不活性化層又はｐＨ保護皮膜は皮膜が完全に除去されるまで平均溶解速度で除去されると想定される。したがって、容器の総ケイ素測定値を溶解速度によって除算すると、試験溶液がＳｉＯxＣy皮膜を完全に溶解するのに要する時間が得られる。この期間は計算保管寿命として報告される。市販保管寿命の計算とは異なり、安全率は計算されない。その代わり、計算保管寿命は計算破損時間である。
【０３０３】
ｐｐｂ  Ｓｉ対時間のプロットでは時間とともに勾配が減少するため、比較的短い測定時間から比較的長い計算保管寿命への外挿は、実際に得られる計算保管寿命を低く見積もる傾向にある「最悪の場合」の試験（「ｗｏｒｓｔ  ｃａｓｅ」ｔｅｓｔ）であると考えられると理解すべきである。
【０３０４】
ＳＥＭの手順
ＳＥＭサンプルの調製：各シリンジサンプルをその長さに沿って半分に切断した（内側又は内部表面を露出させるため）。サンプルを小さくするためにシリンジ（ルアー端部）の上部を切り取った。
【０３０５】
サンプルを導電性黒鉛接着剤によってサンプルホルダ上に取り付け、その後、Ｄｅｎｔｏｎ  Ｄｅｓｋ  ＩＶ  ＳＥＭサンプル調製システム内に配置し、薄い（約５０Å）金不活性化層又はｐＨ保護皮膜をシリンジの内側又は内部表面上にスパッタした。金不活性化層又はｐＨ保護皮膜は測定中における表面の帯電を除去するのに必要とされる。
【０３０６】
サンプルをスパッタシステムから取り出し、Ｊｅｏｌ  ＪＳＭ  ６３９０  ＳＥＭ（走査型電子願徴鏡）のサンプルステージ上に取り付けた。サンプルをサンプル隔室内において少なくとも１ｘ１０-6トルまで排気した。サンプルが必要な真空レベルに達すると、スリットバルブを開き、サンプルを分析台に移動させた。
【０３０７】
サンプルをまずは粗い分解能で画像化し、その後、より高い倍率の画像を蓄積した。図に提供したＳＥＭ画像は端から端まで（水平及び垂直）が５μｍである。
【０３０８】
ＡＦＭ（原子間力顕微鏡法）手順
ＡＦＭ画像は、ＮａｎｏＳｃｏｐｅ  ＩＩＩ  Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ  ３０００マシン（Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ，Ｓａｎｔａ  Ｂａｒｂａｒａ，Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ，ＵＳＡ）を使用して収集した。機器はＮＩＳＴにトレース可能な標準に照らして校正した。エッチングされたシリコン製の走査型プローブ顕微鏡（ＳＰＭ）チップを使用した。自動平坦化（ａｕｔｏ−ｆｌａｔｔｅｎｉｎｇ）、平面フィッティング又は畳み込みを含む画像処理手順を用いた。１つの１０μｍｘ１０μｍ面積を画像化した。粗さ分析を実施し、以下において表した。（１）二乗平均粗さ（Ｒｏｏｔ−Ｍｅａｎ−Ｓｑｕａｒｅ  Ｒｏｕｇｈｎｅｓｓ）、ＲＭＳ、２  平均粗さ、Ｒａ、及び（３）最大高さ（山対谷）、Ｒmax。これらは全てｎｍで測定した（表５を参照）。粗さ分析のため、各サンプルを１０μｍｘ１０μｍ面積上において画像化し、続いて、１０μｍｘ１０μｍ画像においてフィーチャを切断する３つの断面を分析者が選択した。フィーチャの垂直深さは断面ツール（ｃｒｏｓｓ  ｓｅｃｔｉｏｎ  ｔｏｏｌ）を使用して測定した。各断面について、二乗平均粗さ（ＲＭＳ）をナンメートルで報告した。これらＲＭＳ値を各サンプルの３つの断面の平均値とともに表５に示す。
【０３０９】
実施例Ｑ、Ｔ及びＶに代表される１０μｍｘ１０μｍ画像の更なる分析を実施した。この分析では、各画像から３つの断面を抽出した。画像内においてフィーチャを切断するための断面の位置を分析者が選択した。フィーチャの垂直深さは断面ツールを使用して測定した。
【０３１０】
デジタル機器のＮａｎｏｓｃｏｐｅ  ＩＩＩ  ＡＦＭ／ＳＴＭは、表面の３次元表示をデジタル形式で取得及び保存する。これら表面は種々の手法で分析されうる。
【０３１１】
Ｎａｎｏｓｃｏｐｅ  ＩＩＩソフトウェアは任意のＡＦＭ又はＳＴＭ画像の粗さ分析を実行することができる。この分析の産物（ｐｒｏｄｕｃｔ）は選択した画像を上面図で再生する単一ページである。画像の右上は「画像統計」ボックスであり、阻止域（それを通過するＸを有するボックス）によって除外される任意の面積を差し引いた画像全体の計算した特性を列挙する。画像の選択した部分について類似の更なる統計を計算することができ、これらはページの右下部分の「ボックス統計（Ｂｏｘ  Ｓｔａｔｉｓｔｉｃｓ）」内に列挙される。以下に続くのはこれら統計の記載及び説明である。
【０３１２】
画像統計：
Ｚ範囲（Ｒр）：画像の最高点と最低点との間の差。この値は画像の平面内の傾きに関して補正されない。したがって、平面フィッティング又はデータの平坦化により値は変化する。
【０３１３】
平均：画像化された面積内の全Ｚ値の平均。この値は画像の平面内の傾きに関して補正されない。したがって、平面フィッティング又はデータの平坦化によりこの値は変化する。
【０３１４】
ＲＭＳ（Ｒq）：これは画像におけるＺ値（又はＲＭＳ粗さ）の標準偏差である。それは以下の式により計算される。
【０３１５】
Ｒq＝｛Σ（Ｚ1−Ｚavg）２／Ｎ｝
【０３１６】
式中、Ｚavgは画像内の平均Ｚ値であり、Ｚ1はＺの現在値であり、Ｎは画像内における点の数である。この値は画像の平面内の傾きに関して補正されない。したがって、平面フィッティング又はデータの平坦化によりこの値は変化する。
【０３１７】
平均粗さ（Ｒa）：これは中心平面に対する表面の平均値であり、以下の式を使用して計算される。
【数３】
2014533177.tif 000014
式中、ｆ（ｘ，ｙ）は中心平面に対する表面であり、Ｌx及びＬyは表面の寸法である。
【０３１８】
最大高さ（Ｒmax）：これは平均平面に対する表面の最高点と最低点との間の高さの差である。
【０３１９】
表面積：（光学的計算）：これは画像化された面積の３次元表面の面積である。それは画像全体において３つの隣接する標本値群によって形成された三角形の面積の合計をとることにより計算される。
【０３２０】
表面積差：（任意の計算）これは表面積が画像化された面積を超過する量である。それは割合として表され、以下の式により計算される。
【０３２１】
表面積差＝１００［（表面積／Ｓ1２−１］
【０３２２】
式中、Ｓ1は走査された面積から阻止域によって除外された任意の面積を差し引いた長さ（及び幅）である。
【０３２３】
中心平面：平均平面に平行する平坦平面である。中心平面の上及び下の画像面によって囲まれた体積は等しい。
【０３２４】
平均平面：画像データはこの平坦平面に関して最小分散を有する。それはＺデータに適合する一次最小二乗による結果である。
【実施例】
【０３２５】
実施例を以下に記載する。試験の多くは、ガラス容器ではなく熱可塑性プラスチック容器を使用することにより、また、ガラスの層間剥離を防止するのではなくバリア皮膜を保護することにより実施されるが、いずれのタイプの容器においても不活性化層又はｐＨ保護皮膜の試験は類似している。
【０３２６】
実施例Ａ〜Ｄ
シリンジサンプルは以下のように作製した。ＣＯＣシリンジバレルを形成するためのプロトコルに従い、ＣＯＣ８００７延伸バレルシリンジを作製した。ＣＯＣシリンジバレル内部をＳｉＯxで被覆するためのプロトコルに従い、ＳｉＯx皮膜又は層をシリンジのいくつかに塗布した。ＣＯＣシリンジバレル内部をＯＭＣＴＳ滑性皮膜で被覆するためのプロトコルに従い、滑性及び／又は不活性化層又はｐＨ保護皮膜をＳｉＯxで被覆されたシリンジに塗布し、以下のように変更を加えた。ＯＭＣＴＳをその低い揮発性により気化器から供給した。アルゴンキャリアガスを使用した。プロセス条件は以下のように設定した。
ＯＭＣＴＳ  −  ３ｓｃｃｍ
アルゴンガス  −  ６５ｓｃｃｍ
電力  −  ６ワット
時間  −  １０秒
【０３２７】
表に示されるＬ２サンプルを作製する間、コータは後にわずかな漏れを有するように決定され、これにより１．０ｓｃｃｍの推定酸素流が生じた。Ｌ３サンプルは酸素を導入せずに作製した。
【０３２８】
いくつかのシリンジについて、その後、滑性試験用のプロトコルに従い、Ｇｅｎｅｓｉｓ  Ｐａｃｋａｇｉｎｇ  Ｐｌｕｎｇｅｒ  Ｆｏｒｃｅ  Ｔｅｓｔｅｒ（Ｇｅｎｅｓｉｓ  Ｍａｃｈｉｎｅｒｙ，Ｌｉｏｎｖｉｌｌｅ，ＰＡ製のＭｏｄｅｌ  ＳＦＴ−０１  Ｓｙｒｉｎｇｅ  Ｆｏｒｃｅ  Ｔｅｓｔｅｒ）を使用して滑性を試験した。開始力（ｉｎｉｔｉａｔｉｏｎ  ｆｏｒｃｅ）及び維持力（ｍａｉｎｔｅｎａｎｃｅｆｏｒｃｅ）（ニュートン）の両方を非被覆サンプルに対して示し、表１に報告する。
【０３２９】
シリコーン油で被覆されたシリンジを基準として含めたが、その理由は、これが現在の業界標準であるためである。
【０３３０】
これら実施例に従い作製される滑性皮膜は、バリア皮膜又は層が設けられているが滑性皮膜又は層は設けられていない類似の容器と比較すると、容器の保管寿命を増加するための不活性化層又はｐＨ保護皮膜又は層として機能するようにも企図される。
【０３３１】
実施例Ｅ〜Ｈ
シリンジサンプルは以下のように作製した。ＣＯＣシリンジバレルを形成するためのプロトコルに従い、ＣＯＣ  ８００７延伸バレルシリンジを作製した。ＣＯＣシリンジバレル内部をＳｉＯxで被覆するためのプロトコルに従い、ＳｉＯx不活性化層又はｐＨ保護皮膜をシリンジバレルに塗布した。ＣＯＣシリンジバレル内部をＯＭＣＴＳで被覆するためのプロトコルに従い、滑性及び／又は不活性化層又はｐＨ保護皮膜をＳｉＯxで被覆されたシリンジに塗布し、以下のように変更を加えた。表２に示すアルゴンキャリアガス及び酸素を使用した。プロセス条件は以下のように又は表２に示すように設定した。
ＯＭＣＴＳ  −  ３ｓｃｃｍ（使用する場合）
アルゴンガス  −  ７．８ｓｃｃｍ（使用する場合）
酸素  ０．３８ｓｃｃｍ（使用する場合）
電力  −  ３ワット
電源オン時間  −  １０秒
【０３３２】
シリンジＥ及びＦはこれら条件下で用意した。シリンジＧは、滑性層又は不活性化層又はｐＨ保護皮膜がないこと以外はこれら条件下で用意した。シリンジＨ（シリコーン油で被覆された市販シリンジ）は、その後、滑性試験用のプロトコルに従いＧｅｎｅｓｉｓ  Ｐａｃｋａｇｉｎｇ  Ｐｌｕｎｇｅｒ  Ｆｏｒｃｅ  Ｔｅｓｔｅｒを使用して滑性を試験した。開始力及び維持力の両方（ニュートン）を非被覆サンプルに対して示し、表２に報告する。シリコーン油で被覆されたシリンジを基準として含めたが、その理由は、これが現在の業界標準であるためである。
【０３３３】
滑性の結果を表２に示す（開始力及び維持力）。表２は、これら試験条件下においても、滑性及び／又は不活性化層又はｐＨ保護皮膜が全くないシリンジＧと比べて、シリンジＥ及びＦの滑性及び／又は不活性化層又はｐＨ保護皮膜はそれら滑性が著しく向上したことを示す。業界における標準滑性皮膜又は層を含むシリンジＨと比較して、シリンジＥ及びＦの滑性及び／又は不活性化層又はｐＨ保護皮膜は、また、それら滑性が著しく向上した。
【０３３４】
シリンジＥ、Ｆ及びＧを、また、容器中の溶解したケイ素を測定するためのプロトコルを使用して試験し、総抽出可能レベル（有機ケイ素化合物ベースＰＥＣＶＤ不活性化層又はｐＨ保護皮膜の抽出を示す）を決定し、この例に示すように変更を加えるとともに補足した。
【０３３５】
ケイ素は塩水温浸（ｓａｌｉｎｅ  ｗａｔｅｒ  ｄｉｇｅｓｔｉｏｎ）を使用して抽出した。エラストマ製の先端の材料から材料が抽出することを防止するために各シリンジプランジャチップ、ピストン、ストッパ又はシールの先端をＰＴＦＥテープで被覆し、その後、シリンジバレル基部内に挿入した。シリンジバレルに、２ミリリットルの０．９％水性の生理食塩水を、シリンジのルアーチップを通じて挿入した皮下針を介して充填した。生理食塩水を収容及び送達するために多くのプレフィルドシリンジが使用されることから、これは抽出可能性に適した試験である。ルアーチップは適切な直径を有する一片のＰＴＦＥビーディングとともに差し込んだ。シリンジをＰＴＦＥ試験台にルアーチップを上向きにした状態でセットし、オーブン内に５０℃で７２時間配置した。
【０３３６】
その後、静的又は動的モードのいずれかを使用して生理食塩水をシリンジバレルから除去した。表２に示す静的モードにおいては、シリンジプランジャチップ、ピストン、ストッパ又はシールを試験台から取り外し、シリンジ内の流体を容器内に移した。表２に示す動的モードにおいては、ルアーチップシールを取り外し、プランジャチップ、ピストン、ストッパ又はシールを押下して流体をシリンジバレル内に通し、内容を容器内に排出した。いずれの場合においても、各シリンジバレルから得られる流体を１８．２ＭΩ−ｃｍ脱イオン水を使用して５０ｍｌの体積にし、更に、分析中におけるナトリウムバックグラウンド（ｓｏｄｉｕｍ  ｂａｃｋｇｒｏｕｎｄ）を最小にするために２倍希釈した。ＣＶＨバレルは２ミリリットルを収容し、市販バレルは２．３２ミリリットルを収容した。
【０３３７】
次に、容器中の溶解したケイ素を測定するためのプロトコルを使用し、各シリンジから回収した流体を抽出可能ケイ素に関して試験した。使用した機器はＣｅｔａｃ  ＡＳＸ−５２０オートサンプラを備えたＰｅｒｋｉｎ  Ｅｌｍｅｒ  Ｅｌａｎ  ＤＲＣ  ＩＩであった。以下のＩＣＰ−ＭＳ条件を用いた。
噴霧器：Ｑｕａｒｔｚ  Ｍｅｉｎｈａｒｄｔ
噴霧室：Ｃｙｃｌｏｎｉｃ
ＲＦ（高周波）電力：１５５０ワット
アルゴン（Ａｒ）流：１５．０Ｌ／分
補助Ａｒ流：１．２Ｌ／分
噴霧器ガス流：０．８８Ｌ／分
積分時間：８０秒
走査モード：ピークホッピング（ｐｅａｋ  ｈｏｐｐｉｎｇ）
ＣｅＯ（ｍ／ｚ１５６：＜２％としてのセリウムのＲＰｑ（ＲＰｑは除去パラメータ（ｒｅｊｅｃｔｉｏｎ  ｐａｒａｍｅｔｅｒ））
【０３３８】
シリンジＥ、Ｆ及びＧから得た水性希釈物の一定分量を注入し、Ｓｉに関して１リットルあたりマイクログラムの濃度単位において分析した。この試験の結果を表２に示す。結果は定量的でないが、それらは、滑性及び／又は不活性化層又はｐＨ保護皮膜からの抽出可能物が、ＳｉＯxバリア皮膜又は層のみの抽出可能物に比べて明らかに高いわけではないことは示している。また、静的モードは動的モードに比べて大幅に少ない抽出可能物を生じ、これは予想通りであった。
【０３３９】
実施例Ｉ〜Ｋ
３つの異なる滑性及び／又は不活性化層又はｐＨ保護皮膜又は層を用いたシリンジサンプルＩ、Ｊ及びＫを、以下又は表３に示すもの以外は実施例Ｅ〜Ｈと同じ手法で作製した。
ＯＭＣＴＳ  −  ２．５ｓｃｃｍ
アルゴンガス  −  ７．６ｓｃｃｍ（使用する場合）
酸素  ０．３８ｓｃｃｍ（使用する場合）
電力  −  ３ワット
電源オン時間  −  １０秒
【０３４０】
シリンジＩは、ＯＭＣＴＳ、酸素及びキャリアガスを用いた３成分の不活性化層又はｐＨ保護皮膜を有するものであった。シリンジＪは、ＯＭＣＴＳ及び酸素を用いるがキャリアガスは用いない２成分の不活性化層又はｐＨ保護皮膜を有するものであった。シリンジＫは、１成分の不活性化層又はｐＨ保護皮膜（ＯＭＣＴＳのみ）を有するものであった。実施例Ｅ〜Ｈに関して記載したように、シリンジＩ、Ｊ及びＫを、その後、滑性に関して試験した。
【０３４１】
滑性の結果を表３に示す（開始力及び維持力）。ＯＭＣＴＳ、酸素及びキャリアガスを用いた３成分の不活性化層又はｐＨ保護皮膜を有するシリンジＩが開始力及び維持力の両方において最良の滑性を示した。キャリアガスを除いたシリンジＪは中間の結果となった。シリンジＫは１成分の不活性化層又はｐＨ保護皮膜（ＯＭＣＴＳのみ）を有するものでり、最低の滑性を示した。この例は、試験した条件下においてはキャリアガス及び酸素の両方をプロセスガスに添加すると滑性が向上することを示す。
【０３４２】
これら実施例に従い作製される滑性皮膜は、バリア皮膜又は層が設けられているが滑性皮膜又は層は設けられていない類似の容器と比較すると、容器の保管寿命を増加するための不活性化層又はｐＨ保護皮膜又は層として機能するようにも企図される。
【０３４３】
実施例Ｌ〜Ｎ
実施例Ｌ〜Ｎにおいては、実施例Ｌ〜Ｎで前駆体としてＨＭＤＳＯを使用したこと以外は、ＯＭＣＴＳ前駆体ガスを使用する実施例Ｉ〜Ｋを繰り返した。結果を表３に示す。結果は、試験した３成分、２成分及び１成分の滑性皮膜又は層においては、ＯＭＣＴＳ不活性化層又はｐＨ保護皮膜がＨＭＤＳＯ不活性化層又はｐＨ保護皮膜に比べてより低い抵抗、故に、より良好な滑性を提供したことを示し、滑性に関するＯＭＣＴＳの前駆体ガスとしての価値を実証した。
【０３４４】
これら実施例に従い作製される滑性皮膜は、バリア皮膜又は層が設けられているが滑性皮膜又は層は設けられていない類似の容器と比較すると、容器の保管寿命を増加するための不活性化層又はｐＨ保護皮膜又は層として機能するようにも企図される。
【０３４５】
実施例Ｏ〜Ｙ
これら実施例においては、滑性及び／又は不活性化層又はｐＨ保護皮膜の表面粗さは滑性及び／又は保護性能と相関する。
【０３４６】
ＯＭＣＴＳ滑性皮膜又は層を、上記機器を用いて、示される特定のプロセス条件（表５）で１ミリリットルＣＯＣ  ６０１３成形シリンジバレル上に塗布した。プランジャ力測定（Ｆi、Ｆm）（表５）を、上記機器を用いて同じプロトコル下で実施した。以下に示す手順を使用して、走査型電子分光法（ＳＥＭ）顕微鏡写真（表５、図１０及び図１１）及び原子間力顕微鏡法（ＡＦＭ）二乗平均（ＲＭＳ）及び他の粗さ決定（表５及び表６）を行った。平均ＲＭＳ値は表面における３つの異なるＲＭＳ読取り値から得た。全試験を１つのサンプルにおいて実施することを妨げる個々の試験の性質により、表５に報告するプランジャ力試験、ＡＦＭ及びＳＥＭ試験は異なるサンプルにおいて実施した。
【０３４７】
Ｆi／Ｆm、ＳＥＭ顕微鏡写真、ＡＦＭ平均ＲＭＳ値の比較では、不連続の、より粗いＯＭＣＴＳプラズマ被覆表面（サンプルＯ乃至Ｑ対サンプルＲ乃至Ｖを参照）によって、より低いプランジャ力が実現されることを明確に示す。
【０３４８】
姉妹サンプル（ｓｉｓｔｅｒ  ｓａｍｐｌｅｓ）の実施例Ｗ、Ｘ及びＹに対して更なる試験を実施した。姉妹サンプルはそれぞれ、ＡＦＭ粗さデータに対応するＦi値及びＦm値を示すために、実施例Ｑ、Ｔ及びＶと同様の条件下で作製した。より高い表面粗さ（表５の実施例Ｑと比較）を有する実施例Ｗは実施例Ｘ又はＹよりもかなり低いＦi及びＦm摩擦値（表６）を有する。表６に示すＦm試験は、Ｆm値が高すぎたことから、実施例Ｘ及びＹのＦmの測定値に達する前に中断した。
【０３４９】
これら実施例に従い作製される滑性皮膜は、バリア皮膜又は層が設けられているが滑性皮膜又は層は設けられていない類似の容器と比較すると、容器の保管寿命を増加するための不活性化層又はｐＨ保護皮膜又は層として機能するようにも企図される。
【０３５０】
滑性及び／又は保護性の測定の概要
表８は、上記ＯＭＣＴＳ皮膜又は層及びそれらのＦi値及びＦm値の一覧を示す。初期滑性及び／又は不活性化層又はｐＨ保護皮膜作業（Ｃ−Ｋ；粗さは既知でない）は、実現可能な、可能な限り低いプランジャチップ、ピストン、ストッパ又はシール前進力（ａｄｖａｎｃｉｎｇ  ｆｏｒｃｅ）を特定するためであると理解すべきである。後の市場におけるインプット（ｍａｒｋｅｔ  ｉｎｐｕｔ）から、一般的な記載において説明される理由のため（例えば、時期尚早の溶出）達成可能な最も低い力が最も望ましいとは限らないことが明らかになった。このため、実際的な市場用途のプランジャチップ、ピストン、ストッパ又はシール力を得るためにＰＥＣＶＤ反応パラメータを変更した。
【０３５１】
実施例Ｚ：滑性及び／又は不活性化層又はｐＨ保護皮膜抽出可能物
シリンジからのケイ素抽出可能物を、容器中の溶解したケイ素を測定するためのプロトコルに記載されるようにＩＣＰ−ＭＳ分析を使用して測定した。シリンジを静的状況及び動的状況の両方において評価した。以下のように変更を加えた容器中の溶解したケイ素を測定するためのプロトコルにより試験手順を説明する。
【０３５２】
シリンジに２ｍｌの０．９％生理食塩水を充填する。
【０３５３】
シリンジを台に配置し、５０℃で７２時間保管する。
【０３５４】
７２時間後、溶解したケイ素に対して生理食塩水試験を行う。
【０３５５】
シリンジを通じて生理食塩水を排出する前及び後に溶解したケイ素を測定する。
【０３５６】
シリコーン油で被覆されたガラスシリンジと、滑性及び／又は保護的に被覆され、且つＳｉＯxで被覆されたＣＯＣシリンジの抽出可能なケイ素レベルを表７に示す。ＩＣＰ−ＭＳ総ケイ素測定の精度は＋／−３％である。
【０３５７】
比較実施例ＡＡ：ＳｉＯx皮膜の溶解対ｐＨ
ここで変更を加えるもの以外の、容器中の溶解したケイ素を測定するためのプロトコルは以下の通りである。試験溶液、ｐＨ３、６、７、８、９及び１２の５０ｍＭ緩衝溶液を用意する。研究されるｐＨ値を提供するのに適切なｐＫａ値を有する緩衝液を選択する。ｐＨ３、７、８及び１２についてはリン酸カリウム緩衝液を選択し、ｐＨ６についてはクエン酸ナトリウム緩衝液を利用し、ｐＨ９についてはトリス緩衝液を選択する。３ｍｌの各試験溶液をホウケイ酸ガラス５ｍｌ薬剤バイアル及びＳｉＯxで被覆された５ｍｌ熱可塑性プラスチック薬剤バイアル内に配置する。バイアルは全て、標準的な、被覆されたストッパで閉じられ、圧着される。バイアルをストレージ内に２０乃至２５℃で配置し、誘導結合プラズマ分光計（ＩＣＰ）により、異なる保管時間の、バイアル内に収容された溶液中のＳｉ含有量を１０億分率（ｐｐｂ）重量において分析するため、種々の時点において引き出す。
【０３５８】
ガラス溶解の速度を監視するためにここで変更を加えるもの以外は平均溶解速度Ｓｉ含有量を決定するためのプロトコルを使用する。各ｐＨ条件におけるホウケイ酸ガラス又はＳｉＯx皮膜の溶解の平均速度を決定するためにデータをプロットする。ｐＨ６乃至８の代表的なプロットは図１４乃至１６である。
【０３５９】
ｐｐｂにおけるＳｉ溶解の速度は、除去されたＳｉの総重量を決定し、その後、溶液に曝露したバイアル表面（１１．６５ｃｍ2）の量の表面積計算及びＳｉＯxの密度の２．２ｇ／ｃｍ3を使用することによってＳｉ溶解速度における予測厚さ（ｎｍ）に変換される。図１７は、この例の条件及び想定に基づく（所望の２年の保管寿命の終了時に少なくとも３０ｎｍの残留ＳｉＯx皮膜を想定し、且つ２０乃至２５℃での保管を想定する）必要とされるＳｉＯx皮膜の予測初期厚さを示す。図１７に示すように、皮膜の予測初期厚さは、ｐＨ５において約３６ｎｍ、ｐＨ６において約８０ｎｍ、ｐＨ７において約２３０ｎｍ、ｐＨ７．５において約４００ｎｍ、ｐＨ８において約７５０ｎｍ、及びｐＨ９において約２６００ｎｍである。
【０３６０】
図１７における皮膜厚さは、医薬品及びバイオテクノロジー製品における典型的でない過酷な場合の状況を表す。大部分のバイオテクノロジー製品及び多くの医薬製品は冷却された状態で保管され、いずれも室温を超える温度での保管は通常推奨されない。一般的な経験則として、他の全ての条件が同じであれば、保管の温度が低くなるほど必要とされる厚さが低減される。
【０３６１】
この試験に基づき以下の結論に達した。第１に、ＳｉＯx皮膜又はガラスの溶解するＳｉの量はｐＨが増加するにつれて指数関数的に増加する。第２に、８未満のｐＨにおいてＳｉＯx皮膜はホウケイ酸ガラスよりもゆっくりと溶解する。ＳｉＯx皮膜は、経時的に、線形の、単相性（ｍｏｎｏｐｈａｓｉｃ）の溶解を示し、その一方で、ホウケイ酸ガラスは溶液への曝露の早期において、よりゆっくりとした線形の溶解の後に、より急速な溶解を示す傾向にある。これは、ＳｉＯx皮膜の均一な組成に対し、形成プロセス中、いくらかの塩及び要素がホウケイ酸に表面蓄積することに起因する可能性がある。この結果は、８未満のｐＨにおいてガラスの溶解を低減するためにＳｉＯx皮膜をホウケイ酸ガラスバイアルの壁に設けることの有用性を付随的に示唆する。第３に、製剤が保管されるバイアルのための、ＰＥＣＶＤが塗布されたバリア皮膜又は層は、少なくとも製剤がバリア皮膜又は層と著しく相互作用する場合においては、特定の製剤及び提案された保管条件に適合させることが必要である（又はその逆）。
【０３６２】
実施例ＢＢ
滑性層をその不活性化層又はｐＨ保護皮膜としての機能性について試験するために、ＳｉＯx皮膜＋ＯＭＣＴＳ滑性層で被覆された容器について実験を実施した。容器は、環式オレフィンコポリマー（ＣＯＣ、Ｔｏｐａｓ（登録商標）６０１３Ｍ−０７）を含む５ｍＬバイアル（バイアルには、通常、５ｍＬまでの製品が充填され、キャップが嵌められている場合の、ヘッドスペースなしのそれら容量は約７．５ｍＬである）である。
【０３６３】
６０個の容器のそれら内部表面をＳｉＯx皮膜で被覆した。ＳｉＯx皮膜は、バイアルを被覆するのに好適な機器が使用されること以外は、上に説明した、チューブ内側をＳｉＯxで被覆するためのプロトコルに従い、ＨＭＤＳＯ前駆体ガスを使用して、プラズマ化学気相成長（ＰＥＣＶＤ）法で作製した。以下の条件が使用される。
ＨＭＤＳＯ流量：０．４７ｓｃｃｍ
酸素流量：７．５ｓｃｃｍ
ＲＦ電力：７０ワット
被覆時間：１２秒（２秒のＲＦ電力ランプアップ時間を含む）
【０３６４】
次に、ＳｉＯx皮膜のものと同じ皮膜装置を使用すること以外は、上に説明したＣＯＣシリンジバレル内部をＯＭＣＴＳ滑性皮膜で被覆するためのプロトコルに従い、ＳｉＯxで被覆されたバイアルのＳｉＯx上を、ＰＥＣＶＤ法でＯＭＣＴＳ前駆体ガスを使用して作製したＳｉＯxＣy皮膜で被覆した。したがって、シリンジを被覆するためのプロトコルにおいて特別な適応は使用されない。以下の条件が使用される。
ＯＭＣＴＳ流量：２．５ｓｃｃｍ
アルゴン流量：１０ｓｃｃｍ
酸素流量：０．７ｓｃｃｍ
ＲＦ電力：３．４ワット
被覆時間：５秒
【０３６５】
８つのバイアルを選択し、上に説明した総ケイ素測定のためのプロトコルを使用して、ＰＥＣＶＤ皮膜（ＳｉＯx＋ＳｉＯxＣy）の総堆積量をＰｅｒｋｉｎ  Ｅｌｍｅｒ  Ｏｐｔｉｍａ  Ｍｏｄｅｌ  ７３００ＤＶ  ＩＣＰ−ＯＥＳ機器により決定した。この測定は、両皮膜中のケイ素の総量を決定するものであり、それぞれＳｉＯx皮膜とＳｉＯxＣy皮膜とを区別するものではない。結果を以下に示す。
【０３６６】
【表４】
2014533177.tif 000015
【０３６７】
以下の研究においては、この実施例に特に明記されない限り、平均溶解速度を決定するためのプロトコルに従う。ｐＨの溶解速度に対する効果を試験するため、残りの実験では、それぞれｐＨ４及びｐＨ８の２つの緩衝ｐＨ試験溶液を使用する。両試験溶液は、リン酸カリウムを緩衝液として使用し、注射用水（ＷＦＩ）で希釈した（０．１ｕｍ滅菌済、濾過済）５０ｍＭ緩衝液である。ｐＨは濃縮硝酸でｐＨ４又は８にそれぞれ調整した。
【０３６８】
２５本のバイアルに、各バイアルに７．５ｍｌの、ｐＨ４の緩衝試験溶液を充填し、他の２５本のバイアルに、各バイアルに７．５ｍｌの、ｐＨ４の緩衝試験溶液を充填した（充填レベルはバイアルの上部まででありヘッドスペースはないことに留意されたい）。バイアルは、予洗したブチルストッパ及びアルミニウムクリンプを使用して閉じた。各ｐＨのバイアルは２つの群に分割した。１２本のバイアルを含む各ｐＨの１つの群を４℃で保管し、１３本のバイアルの第２の群を２３℃で保管する。
【０３６９】
バイアルは、１日目、３日目、６日目、及び８日目にサンプル採取する。この実施例において特に明記されない限りは、容器中の溶解したケイ素を測定するためのプロトコルを使用する。分析結果は各バイアルの緩衝試験溶液中のケイ素の１０億分率に基づき報告される。平均溶解速度を決定するためのプロトコルにおいては、溶解速度は上述のように１日あたりの１０億分率の観点から計算される。各々の保管温度における結果は以下の通りである。
【０３７０】
【表５】
2014533177.tif 000016
【０３７１】
【表６】
2014533177.tif 000017
【０３７２】
ｐＨ８及びｐＨ４におけるＯＭＣＴＳベース皮膜のＳｉ溶解対時間の観察では、ｐＨ４の速度は室温条件において高くなることを示す。したがって、ｐＨ４の速度は、溶解するであろう初期皮膜の量を考慮した上で、保管寿命の終了時に適切な厚さの皮膜を残すには初めにどれほどの材料を塗布する必要があるかを決定するために使用される。この計算の結果は以下の通りである。
【０３７３】
【表７】
2014533177.tif 000018
【０３７４】
この計算に基づくと、３年の計算保管寿命を達成するにはＯＭＣＴＳ滑性層を約２．５倍厚くする必要がある（試験された皮膜の全質量を示す１４，３７１ｐｐｂの溶解に対し、３３９４５ｐｐｂの溶解となる）。
【０３７５】
実施例ＣＣ
上記の比較実施例ＡＡの結果と実施例ＢＢの結果が以下のように比較されうる。ここで、「滑性層」とは、実施例ＢＢにおいて言及したＳｉＯxＣyの皮膜である。
【０３７６】
【表８】
2014533177.tif 000019
【０３７７】
このデータは、ｐＨ８においては、ＳｉＯxＣy皮膜も被覆されたバイアルの、ＳｉＯxのケイ素溶解速度のみが２桁超減少することを示す。
【０３７８】
同様の加速させた溶解条件下で実施したいくつかの異なる実験の以下のデータによって別の比較を示す。そのうちの１日のデータを同様に図１８に示す。
【０３７９】
【表９】
2014533177.tif 000020
【０３８０】
【表１０】
2014533177.tif 000021
【０３８１】
図１８並びに行Ａ（ＯＭＣＴＳ皮膜を有するＳｉＯx）と行Ｃ（ＯＭＣＴＳ皮膜のないＳｉＯx）の比較では、ｐＨ８においては、ＯＭＣＴＳ滑性層もまた、ＳｉＯx皮膜に対する効果的な不活性化層又はｐＨ保護皮膜であることを示す。ＯＭＣＴＳ皮膜では、１日目の溶解速度が２５０４ｕｇ／Ｌ（本明細書では「ｕ」又はμ又はギリシャ文字「ｍｕ」は同一であり、「マイクロ」の略語である）から１６５ｕｇ／Ｌに減少した。このデータは、また、ＨＭＤＳＯベースのＳｉwＯxＣy（又はその均等のＳｉＯxＣy）オーバーコート（行Ｄ）では、ＯＭＣＴＳベースのＳｉwＯxＣy（又はその均等のＳｉＯxＣy）オーバーコート（行Ａ）よりもかなり高い溶解速度になったことを示す。このデータは、線状前駆体に対し、環式前駆体を使用することによりかなりの利点が得られることを示す。
【０３８２】
実施例ＤＤ
表９に列挙したサンプル１乃至６を実施例ＡＡに記載したように調製した。更なる詳細は以下の通りである。
【０３８３】
環式オレフィン共重合体（ＣＯＣ）樹脂を射出成形して５ｍｌバイアルのバッチを形成する。シリコンチップを両面粘着テープによってバイアルの内面壁に接着する。バイアル及びチップはプラズマ化学気相成長（ＰＥＣＶＤ）によって２層皮膜で被覆した。第１層は本開示に定義されるバリア皮膜又は層特性を備えたＳｉＯxを含み、第２層はＳｉＯxＣy不活性化層又はｐＨ保護皮膜であった。
【０３８４】
ＯＭＣＴＳ、アルゴン及び酸素を含む前駆体混合ガスを各バイアル内部に導入した。図４乃至６とともに記載されるように、バイアル内部のガスを高周波（１３．５６ＭＨｚ）電源により容量結合電極間において励起した。単位ｓｃｃｍにおけるモノマー流量（Ｆm）、単位ｓｃｃｍにおける酸素流量（Ｆo）、ｓｃｃｍにおけるアルゴン流量、及び単位ワットにおける電力（Ｗ）を表９に示す。
【０３８５】
ｋＪ／ｋｇの単位における複合パラメータ（ｃｏｍｐｏｓｉｔｅ  ｐａｒａｍｅｔｅｒ）Ｗ／ＦＭは、プロセスパラメータＷ、Ｆm、Ｆo及び個々のガス種のｇ／モルにおける分子量Ｍから計算した。Ｗ／ＦＭは重合ガスの単位質量あたりエネルギ入カと定義される。重合ガスは、モノマー及び酸素などであるがそれらに限定されない、成長する皮膜に組み込まれる種と定義される。非重合ガス（Ｎｏｎ−ｐｏｌｙｍｅｒｉｚｉｎｇ  ｇａｓｅｓ）は、対照的に、アルゴン、ヘリウム及びネオンなどであるがそれらに限定されない、成長する皮膜に組み込まれることのない種である。
【０３８６】
この試験においては、高Ｗ／ＦＭにおけるＰＥＣＶＤ処理によりより高いモノマーフラグメンテーション（ｍｏｎｏｍｅｒ  ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ）が発生し、より高い架橋結合密度を有する有機シロキサン皮膜を生成したと考えられる。比較すると、低いＷ／ＦＭにおけるＰＥＣＶＤ処理により、より低いモノマーフラグメンテーションが発生し、比較的低い架橋結合密度を有する有機シロキサン皮膜を生成したと考えられる。
【０３８７】
異なる皮膜間におけるサンプル５、６、２及び３の相対的な架橋結合密度を、ＦＴＩＲ吸光度スペクトルを測定することによって比較した。サンプル５、６、２及び３のスペクトルを図２１乃至２４に提供する。各スペクトルにおいて、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の対称伸縮モード（１０００乃至１０４０ｃｍ-1）におけるピーク吸光度に対する非対称伸縮モード（１０６０乃至１１００ｃｍ-1）におけるピーク吸光度の比率を測定し、これら２つの測定値の比率を全て表９に示すように計算した。図１９及び図２０に示すように、各々の比率は複合パラメータＷ／ＦＭに対して線形相関を有することが判明した。
【０３８８】
定性的関係（シリコンチップに塗布した場合に皮膜が油性（光沢があり、しばしば虹色の光彩を伴う）に見えるか非油性（光沢がない）に見えるか）もまた、表９のＷ／ＦＭ値と相関することが判明した。表９に確認されるように、低いＷ／ＦＭ値で堆積させた油性外観の皮膜（Ｏｉｌｙ  ａｐｐｅａｒｉｎｇ  ｃｏａｔｉｎｇｓ）は、それらのより低い対称／非対称比率によって決定されるように、より高いＷ／ＦＭ及びより高い架橋結合密度で堆積させた非油性皮膜と比べてより低い架橋結合密度を有すると考えられる。この一般的な経験則から唯一除外されるのは表９のサンプル２である。サンプル２の皮膜はそれが薄すぎるために見えなかったことから非油性の外観を呈したと考えられる。したがって、表９においてサンプル２の油性観察は報告されなかった。赤外線スペクトルをチップ及びサンプル皮膜に透過させ、非被覆ヌルチップ（ｎｕｌｌ  ｃｈｉｐ）の透過を減じた、透過モードにおけるＦＴＩＲによってチップを分析した。
【０３８９】
下地ＳｉＯx皮膜を高いｐＨ及び温度の水溶液から保護する、高いＷ／ＦＭ値で作製した非油性有機シロキサン層が好適であったが、これは、表９に確認されるように、それらが低いＳｉ溶解及び長い保管寿命を提供したことが理由である。例えば、油性皮膜における大幅に短い保管寿命及び高い溶解速度とは対照的に、非油性皮膜においてはｐＨ８及び４０℃のバイアルの内容による計算ケイ素溶解は低減され、結果的な保管寿命はある場合においては１３８１日、別の場合においては１１４７日であった。計算保管寿命は実施例ＡＡに関して示したように決定した。計算保管寿命は、また、有機シロキサン不活性化層又はｐＨ保護皮膜におけるＳｉ−Ｏ−Ｓｉ結合の対称伸縮モードと非対称伸縮モードの比率に線形に相関する。
【０３９０】
サンプル６は特にサンプル５と比較されうる。有機シロキサン、ｐＨ不活性化層又はｐＨ保護皮膜を表９のサンプル６のプロセス条件に従い堆積させた。皮膜を高Ｗ／ＦＭで堆積させた。これにより、０．９５８の高いＳｉ−Ｏ−Ｓｉ対称／非対称比率を有する非油性皮膜が形成され、結果的に、８４．１ｐｐｂ／日の低い溶解速度（平均溶解速度を決定するためのプロトコルによって測定した）及び１１４７日の長い保管寿命（計算保管寿命を決定するためのプロトコルによって測定した）となった。対称Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉピーク吸光度と比べると比較的類似している非対称Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉピーク吸光度を呈するこの皮膜のＦＴＩＲスペクトルを図３５に示す。これは高い架橋結合密度の皮膜を示すものであり、ｐＨ保護及び長い保管寿命において好適な特性である。
【０３９１】
有機シロキサンｐＨ不活性化層又はｐＨ保護皮膜を表９のサンプル５のプロセス条件に従い堆積させた。皮膜は中程度のＷ／ＦＭで堆積させた。これにより、０．６７３の低いＳｉ−Ｏ−Ｓｉ対称／非対称比率を有する油性皮膜が形成され、結果的に、２３６．７ｐｐｂ／日の高い溶解速度（平均溶解速度を決定するためのプロトコルに準ずる）及び２７１日のより短い保管寿命（計算保管寿命を決定するためのプロトコルに準ずる）になった。対称Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉピーク吸光度と比べると比較的高い非対称Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉピーク吸光度を呈するこの皮膜のＦＴＩＲスペクトルを図２１に示す。これは低い架橋結合密度の皮膜を示すものであり、ｐＨ保護及び長い保管寿命においては好ましくない特性であると考えられる。
【０３９２】
サンプル２は特にサンプル３と比較されうる。不活性化層又はｐＨ保護皮膜は表９のサンプル２のプロセス条件に従い堆積させた。皮膜は低いＷ／ＦＭで堆積させた。これにより、０．５８２の低いＳｉ−Ｏ−Ｓｉ対称／非対称比率を呈する皮膜が形成され、結果的に、１７４ｐｐｂ／日の高い溶解速度及び１０７日の短い保管寿命になった。対称Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉピーク吸光度と比べると比較的高い非対称Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉピーク吸光度を呈するこの皮膜のＦＴＩＲスペクトルを図３６に示す。これは低い架橋結合密度の皮膜を示すものであり、ｐＨ保護及び長い保管寿命においては好ましくない特性である。
【０３９３】
有機シロキサン、ｐＨ不活性化層又はｐＨ保護皮膜は表９のサンプル３のプロセス条件に従い堆積させた。皮膜は高Ｗ／ＦＭで堆積させた。これにより、０．９４７の高いＳｉ−Ｏ−Ｓｉ対称／非対称比率を有する非油性皮膜が形成され、結果的に、７９．５ｐｐｂ／日の低いＳｉ溶解速度（平均溶解速度を決定するためのプロトコルに準ずる）及び１３８１日の長い保管寿命（計算保管寿命を決定するためのプロトコルに準ずる）になった。対称Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉピーク吸光度と比べると比較的類似している非対称Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉピーク吸光度を呈するこの皮膜のＦＴＩＲスペクトルを図３７に示す。これは高い架橋結合密度の皮膜を示すものであり、ｐＨ保護及び長い保管寿命において好適な特性である。
【０３９４】
実施例ＥＥ
この例及び表１０（結果が表にされている）に示すように変更を加え、実施例ＢＢと同様の実験を実施した。１００本の５ｍＬＣＯＰバイアルを作製し、サンプルＰＣ１９４では不活性化層又はｐＨ保護皮膜のみを塗布したこと以外は、上に記載したようにＳｉＯxバリア皮膜又は層及びＯＭＣＴＳベースの不活性化層又はｐＨ保護皮膜で被覆した。表１０に報告されるように、バイアルの表面から抽出され、全不活性化層又はｐＨ保護皮膜を除去する皮膜量を１０億分率において再度測定した。
【０３９５】
この例では、いくつかの異なる皮膜溶解条件を用いた。溶解のために使用した試験溶液は、０．０２ｗｔ．％又は０．２ｗｔ．％いずれかのポリソルベート８０界面活性剤、並びに８のｐＨを維持するための緩衝液を含有するものであった。溶解試験を２３℃又は４０℃のいずれかにおいて実施した。
【０３９６】
複数のシリンジに各試験溶液を充填し、示した温度で保管し、抽出プロファイル及び抽出されたケイ素の量を決定するためにいくつかの間隔をおいて分析した。長期に及んだ保管時間の平均溶解速度を、その後、平均溶解速度を決定するためのプロトコルに従って得たデータを外挿することによって計算した。結果は上に記載した通りに計算し、表１０に示す。特に注目すべきは、表１０に示すように、ＰＣ１９４不活性化層又はｐＨ保護皮膜によって充填済みパッケージの非常に長い計算保管寿命が提供されたことである。
【０３９７】
ｐＨ８、０．０２ｗｔ．％ポリソルベート８０界面活性剤、２３℃における保管に基づくと、２１０４５日（５７年超）、
【０３９８】
ｐＨ８、０．２ｗｔ．％ポリソルベート８０界面活性剤、２３℃における保管に基づくと、３８７６８日（１００年超）
【０３９９】
ｐＨ８、０．０２ｗｔ．％ポリソルベート８０界面活性剤、４０℃における保管に基づくと、８１８４日（２２年超）、及び、
【０４００】
ｐＨ８、０．２ｗｔ．％ポリソルベート８０界面活性剤、４０℃における保管に基づくと、１４７３２日（４０年超）。
【０４０１】
表１０を参照すると、最長計算保管寿命は１５０ワットのＲＦ電力レベル及び対応する高Ｗ／ＦＭ値の使用に対応する。使用する電力レベルが高くなるほど不活性化層又はｐＨ保護皮膜の架橋結合密度が高くなると考えられる。
【０４０２】
実施例ＦＦ
ＲＦ電力レベルの継続的な増加の、不活性化層又はｐＨ保護皮膜のＦＴＩＲ吸光度スペクトルに対する影響を示す、実施例ＥＥのものに類似する更なる一連の実験を実施した。結果は表１１に示す。表１１では、いずれの場合においても、通常、約１０００乃至１０４０ｃｍ-1に位置するＳｉ−Ｏ−Ｓｉ対称伸縮ピークの最大振幅と、通常、約１０６０乃至約１１００ｃｍ-1に位置するＳｉ−Ｏ−Ｓｉ非対称伸縮ピークの最大振幅との間において０．７５を超える対称／非対称比率を示す。したがって、特に定めのない限り比較可能な条件下における対称／非対称比率は、２０Ｗの電力レベルにおいては０．７９、４０Ｗ、６０Ｗ又は８０Ｗの電力レベルにおいては１．２１又は１．２２、１００ワットにおいては１．２６である。
【０４０３】
表１１の１５０ワットのデータは他のデータとは幾分異なる条件下でとったものであり、上に記載した２０乃至１００ワットのデータと直接比較することはできない。表１１のサンプル６及び８のＦＴＩＲデータはバイアルの上部からとったものであり、表１１のサンプル７及び９のＦＴＩＲデータはバイアルの下部からとったものである。また、表１１のサンプル８及び９においては、ＯＭＣＴＳの量をサンプル６及び７に比べて半分に削減した。表１１のサンプル６及び７とサンプル８及び９との比較によって示されるように、１５０Ｗの電力レベルを維持する一方で酸素レベルを低減すると対称／非対称比率が更に上昇した。
【０４０４】
他の条件が等しければ、対称／非対称比率を増加すると、５を超えるｐＨを有する材料が充填された容器の保管寿命は増加すると考えられる。
【０４０５】
表１２は、表１１に概要を示した実験の、計算したＯパラメータ及びＮパラメータ（米国特許第８，０６７，０７０号明細書に定義された）を示す。表１２に示すように、０．１３４乃至０．３４３の範囲のＯパラメータ及び０．４０８乃至０．６２３の範囲のＮパラメータは全て米国特許第８，０６７，０７０号明細書において請求した範囲外である。
【０４０６】
実施例ＧＧ  −  接触角の測定
試験目的は、２種類のプラスチックバイアル及び１種類のガラスバイアルの内側表面上の接触角又は表面エネルギを決定することである。
【０４０７】
ここで報告される、試験及び分析を実施した試験体は３種類のバイアルである。試験体は、（Ａ）非被覆ＣＯＰバイアル、（Ｂ）シリンジバレル内部をＳｉＯxで被覆するための上記プロトコルに続き、シリンジバレル内部をＯＭＣＴＳ不活性化層又はｐＨ保護皮膜で被覆するためのプロトコルに従い調製した、ＣＯＰバイアル上のＳｉＯx＋不活性化層又はｐＨ保護皮膜、及び（Ｃ）ガラスバイアルである。内側表面を試験するため、プラスチックバイアルの切断又はガラスバイアルの破砕により小片を得た。
【０４０８】
接触角試験用の分析機器は、協和界面科学株式会社（東京、日本）製造の接触角計型式ＤＭ−７０１である。接触角を得るため、５個の水滴を各試験体から得た小片の内側表面に堆積させた。試験条件及びパラメータを以下に要約する。両プラスチックバイアルは切断して整える一方で、ガラスバイアルは破砕する必要があった。各試験体の最も良好で代表的な片を試験のために選定した。全サンプルについて１μＬ（１マイクロリットル）の液滴サイズを使用した。試験体の曲率のため、曲率補正ルーチンを使用して接触角を正確に測定した。以下の第２表は各試験体において使用した曲率半径の値を含む。
【０４０９】
接触角試験条件及びパラメータ
試験機器  −  ＤＭ−７０１接触角計
液体ディスペンサ  −  ２２ゲージステンレススチール針
液滴サイズ  −  １μＬ
試験液体  蒸留水
環境  周囲空気、室温
【０４１０】
各バイアル試験体の曲率半径
試験体  曲率半径
（μｍ、マイクロメートル）
ＣＯＰ  ９２４０
ＣＯＰに不活性化層又はｐＨ保護皮膜を加えたもの    ９２３５
ガラス                  ９９００
【０４１１】
各試験体における接触角の結果を以下に記載する。
【０４１２】
ＣＯＰに不活性化層又はｐＨ保護皮膜を加えたものから作製した試験体は試験を実施した全試験体の中で最大の平均接触角を有していた。ＣＯＰに不活性化層又はｐＨ保護皮膜を加えたものから作製した試験体の平均接触角は９９．１°であった。非被覆ＣＯＰ試験体の平均接触角は９０．５°であった。ガラス試験体は１０．６°の極めて低い平均接触角を有した。このデータは、非被覆ＣＯＰ容器の接触角を増す不活性化層又はｐＨ保護皮膜の有用性を示す。不活性化層又はｐＨ保護皮膜のないＳｉＯx被覆された容器は、不活性化層又はｐＨ保護皮膜に対してに対して親水性皮膜を示すガラスに類似する結果を示すであろうことが予想される。
【０４１３】
【表１１】
2014533177.tif 000022
【０４１４】
実施例ＨＨ−
この実施例の目的は、ガラス、ＣＯＰ及び被覆されたバイアルからの、わずかに粘性の水溶液の回収性（ｒｅｃｏｖｅｒａｂｉｌｉｔｙ）又は排出を評価することである。
【０４１５】
この研究では、（Ａ）非被覆ＣＯＰバイアル、（Ｂ）シリンジバレル内部をＳｉＯxで被覆するための上記プロトコルに続き、シリンジバレル内部をＯＭＣＴＳ不活性化層又はｐＨ保護皮膜で被覆するためのプロトコルに従い調製したＣＯＰバイアル上のＳｉＯx＋不活性化層又はｐＨ保護皮膜、及び（Ｃ）ガラスバイアルからの、注射用水中の３０ｃｐｓ（センチポアズ）炭水化物溶液の回収率を評価した。
【０４１６】
２．０ｍｌの炭水化物溶液を、それぞれ、ガラス、ＣＯＰ、及び不活性化層又はｐＨ保護皮膜で被覆されたバイアルである３０個のバイアルにピペットで移した。溶液をバイアルから１０ｍｌシリンジで、２３ゲージ、１．５”針により吸引した。溶液が回収される量が最大になるように吸引するため、バイアルを片側に傾けた。全バイアルについて同じ手法及び同様の引き出し時間（ｗｉｔｈｄｒａｗａｌ  ｔｉｍｅ）を使用した。バイアルを、空のとき、２．０ｍｌの溶液をバイアルに配置した後、バイアルから溶液の吸引を終えたときに計量した。バイアルに送達された量は、（Ａ）空バイアルの重量を、２．０ｍｌの溶液を有するバイアルの重量から減ずることにより決定した。回収されなかった溶液の重量は、（Ｂ）空バイアルの重量を、溶液をバイアルから吸引した後のバイアルの重量から減ずることにより決定した。未回収比率はＢをＡで除算し、１００を乗じることにより決定した。
【０４１７】
薬物製品の吸引時、ガラスバイアルが溶液で濡れたままであることが観察された。ＣＯＰバイアルは液体をはじいた及び溶液がバイアルから吸引された際。これが回収の助けとなったが、液滴が吸引時バイアルの側壁に玉を形成する（ｂｅａｄ）のが観察された。不活性化層又はｐＨ保護皮膜で被覆されたバイアルもまた吸引時に液体をはじいたが側壁に溶液の玉形成（ｂｅａｄｉｎｇ）は観察されなかった。
【０４１８】
結論は、不活性化層又はｐＨ保護皮膜で被覆されたバイアルはガラスバイアルが濡れるようには水溶液で濡れず、ガラスと比して薬物製品の優れた回収につながるというものであった。不活性化層又はｐＨ保護皮膜で被覆されたバイアルでは、水性製品の吸引時、側壁における溶液の玉形成の発生は観察されなかった。したがって、製品回収実験においては、被覆されたバイアルは非被覆ＣＯＰバイアルよりも良好に機能した。
【０４１９】
実施例ＩＩ−ガラス層間剥離
２層が被覆された（ＳｉＯxバリア皮膜又は層に加えて不活性化層又はｐＨ保護皮膜）ガラスバイアルを広範な化学的及び物理的課題の対象とした。
ｐＨ２．５乃至９．５
バイアル内に収容された注射用水（ＷＦＩ）、
多様な緩衝液  −  バイアル内に収容された酢酸塩、クエン酸塩、リン酸塩及びＨＥＰＥＳ、
バイアル内に収容された４−（２−ヒドロキシエチル）−１−ピペラジンエタンスルホン酸、
１キログラムあたり０乃至６００ミリオスモルのイオン強度、
Ｔｗｅｅｎ  ８０、濃度２％以下
温度４０℃以下
これら試験において層間剥離事象は認められなかった。２層皮膜は、また、液体窒素（−２００℃）凍結−解凍温度サイクルを実施した場合に層間剥離しなかった。２層皮膜は、更に、傷を付け、その後、液体窒素（−２００℃）凍結−解凍温度サイクルを実施した場合に層間剥離しなかった。
【０４２０】
【表１２】
2014533177.tif 000023
【０４２１】
【表１３】
2014533177.tif 000024
【０４２２】
【表１４】
2014533177.tif 000025
【０４２３】
【表１５】
2014533177.tif 000026
【０４２４】
【表１６】
2014533177.tif 000027
【０４２５】
【表１７】
2014533177.tif 000028
【０４２６】
【表１８】
2014533177.tif 000029
【０４２７】
【表１９】
2014533177.tif 000030
【０４２８】
【表２０】
2014533177.tif 000031
【０４２９】
【表２１】
2014533177.tif 000032
【０４３０】
【表２２】
2014533177.tif 000033
【０４３１】
【表２３】
2014533177.tif 000034
【０４３２】
本発明を図面及び前述の記載において詳細に示し且つ説明したが、そのような説明及び記載は例証的又は例示的であり、限定的でないとみなされる。本発明は開示した実施形態に限定されるものではない。図面、開示及び添付の特許請求の範囲の研究により、当業者及び請求される発明を実施する者であれば、開示した実施形態の他の変形形態を理解し、且つ実施することができる。特許請求の範囲においては、「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」という語は他の要素又はステップを排除するものではなく、不定冠詞「ａ」又は「ａｎ」は複数形を排除するものではない。特定の方策が互いに異なる従属請求項に述べられているという単なる事実は、これら方策の組み合わせを有利には使用できないことを示すものではない。特許請求の範囲におけるいかなる参照符号も範囲を限定するものと解釈されるべきではない。
【図１】
2014533177.tif 000037
【図２】
2014533177.tif 000038
【図３】
2014533177.tif 000039
【図４】
2014533177.tif 000040
【図５】
2014533177.tif 000041
【図６】
2014533177.tif 000042
【図７】
2014533177.tif 000043
【図８】
2014533177.tif 000044
【図９】
2014533177.tif 000045
【図１０】
2014533177.tif 000046
【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【国際調査報告】
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