(57)【要約】本発明は、基板上に薄膜コーティングを被覆するための装置に関する。被覆装置は、被覆装置中において、１つ以上の分離デバイスおよび／または方法によって、被覆する気体状反応物質材料を互いに離隔した状態で保持させるように設計される。この被覆装置は、商業的に実現可能な被覆速度において均等な膜を生成できるくらいの充分な速度で基板表面またはその近隣において化学反応体を混合させ、かつ反応させる。【特許請求の範囲】
【請求項１】
移動している高温基板上に薄膜を被覆するための装置であって、
主要塗工機本体であって、前記主要塗工機本体は、それぞれｘ、ｙおよびｚとして指定された所定の長さ、幅および高さと、上面ｚ１および下面ｚ２を有する、主要塗工機本体と、
複数の入口開口部であって、前記複数の入口開口部は、気体化学物質反応体の流れが内部を通過できるように前記主要塗工機本体の前記ｚ１表面内に形成され、前記入口開口部はそれぞれ、気体状反応物質材料および／または不活性ガスの源と流体連通する、複数の入口開口部と、
複数の出口開口部であって、気体状反応物質の流れが複数の所定の流路内において内部を通過できるように前記主要塗工機本体の前記ｚ２表面内に形成される、複数の出口開口部と、
前記主要塗工機本体内に規定された複数の流路であって、１つのこのような流路は、前記入口開口部それぞれと、前記出口開口部それぞれとの間に規定される、複数の流路と、
前記流路のうち１つ以上の中に配置された流れ調節デバイスと、
を含む、装置。
【請求項２】
複数の供給ラインのうち少なくとも１つが、前記複数の気体状反応物質入口開口部それぞれに接続される、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
少なくとも１つの出口開口部のｙ方向における幅は異なり、各別個の吐出流経路中の気体の流速は同じである、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
１つ以上の熱制御デバイスが、少なくとも前記装置の前記気体出口開口部を所望の設定点温度から±５０°Ｆ（±１０℃）以内で維持することが可能である、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
１つ以上の気体状反応物質排出開口部が、前記複数の吐出流経路の近隣の前記ｚ２表面内に形成される、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記複数の流路のうち少なくとも１つの一部が、１つ以上の吐出方向付け器によって規定される、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記流れ調節デバイスは、ハニカム構成を有する構造を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項８】
前記吐出方向付け器と、前記基板の表面との間の距離は、５．５ｍｍを超えない、請求項１に記載の装置。
【請求項９】
前記気体出口開口部は、前記装置の前記主要本体中において前記装置の下側ｚ２面から約５．５ｍｍまで凹状である、請求項１に記載の装置。
【請求項１０】
吐出方向付け器が、少なくとも１つの気体出口開口部を超えて所定の距離だけ延びる、請求項に記載の装置。
【請求項１１】
移動している高温ガラス基板上に薄膜を被覆するための化学蒸着方法であって、
溶融金属槽上において支持された連続ガラスリボンを含むフロートガラス槽筺体であって、約１１００Ｆ（６００Ｃ）〜約１３５０Ｆ（７５０Ｃ）の温度であり、実質的に大気圧にある、前記筺体を提供することと、
前記連続ガラスリボンの上方において所定の距離だけ空けて配置された少なくとも１つの薄膜被覆装置を設けることとを含み、前記少なくとも１つの薄膜被覆装置は、
気体化学物質反応体の少なくとも１つの源と、
不活性ガスの少なくとも１つの源と、
前記少なくとも１つの気体化学物質反応体および前記少なくとも１つの不活性ガスを前記薄膜被覆装置へ搬送するための別個の供給ラインと、
前記少なくとも１つの気体化学物質反応体を、前記被覆装置の上面ｚ１内に形成された１つ以上の別個の気体入口開口部中に進入させることと、
前記少なくとも１つの気体化学物質反応体および前記少なくとも１つの不活性ガスを、前記被覆装置を通じて延びる別個の気体流路であって、前記気体入口開口部から１つ以上の気体出口開口部へと延び、それぞれ、前記被覆装置の下面ｚ２内に形成されたスロット形状を有する、前記流路を通じて搬送することと、
前記別個の流路のうち１つ以上の内部に配置された少なくとも１つの流れ調節デバイスにより、前記少なくとも１つの気体化学物質反応体および前記少なくとも１つの不活性ガスの前記流れを調節することと、
前記気体出口開口部の領域と、このような気体出口開口部の近隣の領域とを±５０°Ｆ（±１０℃）の範囲内の温度に維持することと、
前記少なくとも１つの気体状反応物質および前記少なくとも１つの不活性ガスのそれぞれの別個の気体出口開口部からの実質的に層流調節された別個の流れを１つ以上の所定の気体流速で吐出させることと、
前記少なくとも１つの気体化学物質反応体の前記別個の調節された流れを、前記移動している高温ガラス基板の被覆表面またはその近隣の混合ゾーン内において混合することと、
前記少なくとも１つの気体化学物質反応体の反応生成物の薄膜を前記移動している高温ガラス基板の前記被覆表面上に商業的に実現可能な被覆速度で被覆することと、
を含む、方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本出願は、シリアル番号第６１／４６６，５０１号下に付与された３５Ｕ．Ｓ．Ｃ．１１１（ｂ）の下の仮出願（出願日：２０１１年３月２３日）の３５Ｕ．Ｓ．Ｃ．１１９（ｅ）の下の恩恵を主張する。本明細書中、この仮出願全体を参考のため援用する。
【背景技術】
【０００２】
本発明は、基板上に薄膜コーティングを効率的に被覆するための装置に関する。より詳細には、本発明は、特定の薄膜の被覆を商業的に実現可能な被覆速度において行うことが可能でありかつ従来の被覆装置では不可能であった所望の特性を有する装置に関する。
【０００３】
薄膜について、２つのカテゴリーが近年公知である。これら２つのカテゴリーを区別する方法は多数有るが、本出願の目的のため、主な区別方法として、（１）被覆方法（すなわち、オンラインかまたはオフライン）と、（２）このような方法によってそれぞれ主に生成される膜の種類（ハードコート（または熱分解）あるいはソフトコート）とがある。
【０００４】
オンラインコーティングは好適には、ガラス製造プロセス（典型的には連続フロートガラス製造プロセス）時において例えばガラス基板上の１つ以上の薄膜層の被覆によって生成される。フロートガラス製造プロセスの特性に起因して、薄膜被覆プロセスを商業的に実現可能とするためには、薄膜被覆プロセスを比較的高温において極めて短い化学反応時間でかつ高い被覆速度で行う必要がある。
【０００５】
オンラインコーティング動作が成功した場合、得られた薄膜は、ほとんどのソフトコート膜よりも比較的に機械的耐久性および化学的耐久性が高い。
【０００６】
オフライン膜被覆においては、いくつかの公知の種類のスパッタコーティングプロセスのうち１つが用いられることが多い。そのようなスパッタコーティングプロセスにおいて、ガラスパネルを１つ以上のコーティングチャンバ中に配置し、「ターゲット」材料の物理反応または化学反応に起因して発生する雰囲気にガラスパネルを露出させて、ガラスパネル表面上をこの材料で被覆する。スパッタリングプロセスは、ガラス製造プロセスの速度によって制御されないため、より複雑な膜スタックをスパッタリングプロセスによって被覆することが可能である。これらの膜スタックは、場合によっては熱分解薄膜の特性よりも優れた特性を持ち得るが、このようなスパッタ膜の場合も、製造するのが大幅に高コストになる可能性がある。
【０００７】
オンラインコーティングのための装置は、例えば、以下の特許文献から公知である。
【０００８】
米国特許第４，４４６，８１５号において、ノズルの３つの集中的羽口から、気相状態の試薬を基板上へと噴出する。偏向器部材は、偏向器部材と基板との間のガスを導くように適合され、ノズルのいずれかの側部上に延びる。第１の偏向器部材の表面は、基板がノズルに対して移動する方向と反対方向に延び、基板に対して平行であり、第３の羽口の延びる外壁と鋭角を形成して、第１の羽口の軸方向中央の面に対する基板の移動方向において横方向にオフセットする。これとは対照的に、第２の偏向器部材の表面は、第２の羽口の対応する長手方向壁と鈍角縁部を形成する。そのため、第１の偏向器部材および第２の偏向器部材との間の縁部の間のノズルの開口部は有効に屈曲され、この開口部からのガスは、基板の移動方向において規則的に偏向される。
【０００９】
米国特許第４，９３４，０２０号において、コンベヤを用いた大気化学蒸着装置についての記載がある。この大気化学蒸着装置は、高温のマッフル炉と、コーティング対象物を炉を通じて搬送するためのコンベヤベルトとを含む。少なくとも１つの化学蒸着ゾーンがマッフル炉中に設けられる。インジェクタアセンブリも設けられる。インジェクタアセンブリは、第１の反応ガスおよび第２の反応ガスをコンベヤベルトの幅にわたる被覆ゾーン中に均等に注入し、コーティング対象物の表面に対して注入する。これらのガスは、分配プレナムへ接続されたスロットから出て行く。表面上の化学物質の被覆を最小化する目的のために、研磨された冷却表面をインジェクタアセンブリ上において用いる。
【００１０】
米国特許第５，０４１，１５０号において、高温ガラス製の移動するリボンを化学蒸着によってコーティングするプロセスについての記載がある。このコーティングは、ガラスの移動方向に対して実質的に平行な高温ガラス表面に沿って第１の反応ガスの第１の流れを確立し、第２の反応ガスの第２の流れを乱流としてガラス表面に対して角度を以て確立することによって行われ、これにより、第１の流れ中の第２の反応ガスの上流流れを回避しつつ、第１の流れ中に第２の流れを上記角度において導入し、第１のガスおよび第２のガスの組み合わせを乱流として高温ガラス表面上において方向付ける。
【００１１】
米国特許第５，１２２，３９１号において、非バッチプロセスにおいてデュアル電子供与体を生成すると言われているスズおよびフッ素双方を用いて酸化インジウム膜をドープするための大気圧化学蒸着システムについての記載がある。被覆システムは、窒素パージカーテンによって分離された１つ以上の反応チャンバを通じた連続処理を行うためのコンベヤベルトおよび駆動システムを有する。システムを通過した基板は、いくつかのヒーターによって加熱されたマッフル炉内へと進入し、反応チャンバは、ソース化学物質送達システムから供給される。ソース化学物質送達システムは、酸化剤源、フッ素化学物質源、窒素源、上記源のためのロタメータ、質量流コントローラ、スズ化学バブラー、高温ライン、インジウム化学バブラー、ヒーターを備えた一対の水槽、および関連付けられたバルビングを含む。
【００１２】
米国特許第５，１３６，９７５号において、大気圧化学蒸着機器において用いられる上記種類のインジェクタが記載されている。このインジェクタは、複数の直線状穴アレイを備えた複数のプレートを含む。これらのプレートを積層することで、複数のいわゆるカスケード式穴アレイが得られる。これらの積層プレートは、協働して穴マトリックスを規定すると言われる。穴マトリックスの下側に、シュートが配置される。シュートの両側に、冷却プレートが設けられる。シュートは、通路と、冷却プレートとシュート型ダクトとの間の領域とを含む。穴マトリックスの上部は、複数の気体化学物質を受容し、これらの化学物質を個々のカスケード穴アレイの上部へと別個に搬送する。その後、これらの気体化学物質を、カスケード式穴アレイを通じて強制移動させる。カスケード式穴アレイ中において、気体はますます均等に送られる。その後、これらの気体化学物質は個々に通路およびダクトへと送られて、表面の上方の領域へと送られる。この領域において、これらの化学物質は相互に接触および反応して、基板表面上に層を形成する。
【００１３】
米国特許第５，７０４，９８２号において、少なくとも１つの前駆体ガスの流れを、移動しているガラス基板の表面上に熱分解／分解反応によって分配するためのノズルについての記載がある。このノズルは、ノズル本体と、少なくとも１つの前駆体ガスの流れを本体ノズル中へ供給するための主要ガス供給システムと、主要ガス供給システムから独立した補助ガス供給システムとを含む。補助ガス供給システムは、少なくとも１つの前駆体ガスをノズル本体の主要ガスの近隣のノズル本体へ供給して、主要ガスの化学組成を局所的に変化させる。ノズル本体中への補助ガス流れは、経時的に変化する流量で制御される。
【００１４】
米国特許第６，０２２，４１４号において、表面へガスを送達する単一の本体インジェクタについての記載がある。このインジェクタは、細長部材と、少なくとも１つのガス送達表面とを含む。細長部材は、端面を含む。少なくとも１つのガス送達表面は、部材の長さに沿って延び、内部に複数の細長通路が形成される。また、部材内には、複数の肉薄の分配チャンネルが設けられる。これらの分配チャンネルは、細長通路と、ガス送達表面との間に延びる。ガスは、細長通路へと搬送され、分配チャンネルを通じてガス送達表面へと送られて、所望の領域へと方向付けられる。この所望の領域において、これらのガスの混合および反応により、インジェクタの下側に配置された基板上に薄膜が形成される。ガス送達表面は、曲線状の側領域と、ガス送達表面の中央凹領域とを含む。
【００１５】
米国特許第６，２０６，９７３号において、化学蒸着システムについての記載がある。このシステムは、高温マッフルと、チャンバと、ベルトとを含む。チャンバは、気化化学反応体を導入するためのインジェクタアセンブリを有する。ベルトにより、基板がマッフルおよびチャンバを通じて移動する。ベルトは、ベルト上の被覆（特に、酸化クロムの被覆）を低減するための抗酸化コーティングを有する。
【００１６】
米国特許第６，５２１，０４８号において、被覆チャンバおよび主要チャンバを含む化学蒸着装置についての記載がある。この被覆チャンバは、少なくとも１つの単一のインジェクタと、１つ以上の排出チャンネルとを含む。主要チャンバは、被覆チャンバを支持し、少なくとも１つの気体入口を含む。これらの気体入口により、少なくとも１つの気体が主要チャンバ中へと注入される。これらの気体を排出チャンネルを通じて除去することで、被覆チャンバを隔離する機能を果たす、内側方向に流れるパージが得られる。少なくとも１つのいわゆるセミシールを被覆チャンバと基板との間に形成することで、反応性化学物質を各被覆領域内に閉じ込める。
【００１７】
米国特許第６，８９０，３８６号において、ガスを基板へ送達するためのインジェクタおよび排出アセンブリについての記載がある。これらのインジェクタおよび排出アセンブリは、少なくとも２つのインジェクタと、取付用プレートとを含む。これらのインジェクタは、相互に隣接して配置され、間隔を空けて配置されて、相互間に少なくとも１つの排出チャンネルを形成する。取付用プレートは、これら少なくとも２つのインジェクタを固定するために用いられる。これら少なくとも２つのインジェクタはそれぞれ、取付用プレートへ個々に取り付けられるかまたは取付用プレートから取り外され、取付用プレートには、少なくとも１つの排出チャンネルと流体連通する少なくとも１つの排出スロットが設けられる。排出アセンブリは、インジェクタからの排出ガスを除去するように、取付用プレートへと接続される。
【発明の概要】
【００１８】
本発明は、移動している高温基板上に薄膜を被覆するための装置に関連する。この装置は、主要塗工機本体を有する。主要塗工機本体は、所定の長さ、幅および高さ（それぞれ、ｘ、ｙおよびｚとして記載する）と、上面ｚ１と、下面ｚ２とを有する。複数の入口開口部を主要塗工機本体のｚ１表面内に形成することで、気体化学物質反応体の流れがこれらの入口開口部を通過できるようにする。これらの入口開口部はそれぞれ、気体状反応物質材料および／または不活性ガスの源と流体連通する。複数の出口開口部を主要塗工機本体のｚ２表面内に形成することで、気体状反応物質の流れがこれらの出口開口部内を複数の所定の流路を通じて通過することが可能になり、複数の流路が主要塗工機本体内に規定され、このような流路は、入口開口部それぞれと、出口開口部のそれぞれとの間に規定される。これらの流路のうち１つ以上内に、流れ調節デバイスが配置される。
【００１９】
上記した装置を用いて薄膜コーティングを被覆する方法も、本発明の一部である。
【００２０】
当業者であれば、以下の詳細な説明を添付図面と共に読めば、本発明の上記および他の利点を容易に理解する。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の薄膜コーティング装置を用いたフロートガラス製造動作の模式図である。
【図２】本発明の実施形態によるコーティング装置の正面図である。
【図３】本発明の実施形態によるコーティング装置の端面図である。
【図４】本発明の実施形態によるコーティング装置の断面図である。
【図５】本発明の実施形態によるコーティング装置の断面図である。
【図６】本発明の実施形態によるコーティング装置の断面図である。
【図７】本発明の実施形態によるコーティング装置の断面図である。
【図８】本発明の実施形態によるコーティング装置の一部の斜視図である。
【図９】本発明の実施形態による図８に示すコーティング装置の一部の拡大図である。
【図１０】本発明の実施形態による図９に示すコーティング装置の一部の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
本発明は、基板（例えば、透明ガラス基板）上に薄膜コーティングを被覆するための装置に関する。
【００２３】
好適には、ガラス基板製造時において、移動中の高温ガラス基板上に薄膜コーティング（例えば、金属、金属酸化物）を好適にはフロートガラス方法によって被覆する。好適には、これらの薄膜は化学蒸着によって被覆され、最も好適には大気化学蒸着によって被覆される。一例として、酸化亜鉛コーティングの化学蒸着がある（例えば、米国特許出願第６１／４６６，４９８号に記載のもの）。同文献の開示内容全体を参考のため援用する。
【００２４】
もちろん、選択された薄膜コーティングを被覆するためのコーティング装置を用いて、任意の適切なＣＶＤおよび／またはＡＰＣＶＤ化学作用を実行することが可能である。しかし、コーティング装置は、混合されたときおよび／または公知のコーティング装置から排出される前に実質的に反応する気体前駆体化合物を送達する際において、特に有用である。混合されたときおよび／または他の公知のコーティング装置から排出される前に実質的に反応することが公知である気体前駆体化合物を挙げると、例えば、特定のアミン化合物を含むＺｎ（ＣＨ３）２およびＨ２０、Ｚｎ（Ｃ２Ｈ５）２およびＨ２０、ＴｉＣｌ４およびＮＨ３、およびＴｉＣｌ４がある。理解されるように、本明細書中に記載のコーティング装置と共に適切に用いられる上記の気体前駆体化合物のリストは、網羅的なものを意図していない。また、このコーティング装置は、相互に「事前反応する」気体前駆体化合物の利用に限定されないことが理解されるべきである。よって、相互に混合された際に実質的に反応しない気体前駆体化合物をこのコーティング装置と共に用いることが可能である。例えば、コーティング装置と共に適切に用いられる気体前駆体化合物のうち、混合された際に実質的に反応しないものを挙げると、例えばＳｎ（ＣＨ３）２Ｃｌ２およびＨ２０がある。
【００２５】
本発明の装置は、公知の化学蒸着装置から逸脱する。公知の化学蒸着装置の設計の場合、多様な化学成分を制御された様態で事前混合することで混合物の反応温度を下回る温度において均等な事前混合物を発生させた後、薄膜が被覆されるガラス基板表面またはその近隣において反応させる。なぜならば、高温ガラス基板の温度は、事前混合された化学反応体の温度よりも高いからである。
【００２６】
これとは対照的に、本発明の被覆装置の場合、多様な反応物質を被覆装置内において相互に離隔して保持するように設計されており、また、記載の多様な方法により、均等な膜を商業的に実現可能な速度で生成できるくらいに高速で化学反応体をガラス表面またはその近隣において混合および反応させることが可能であり、また、例えばソーラー制御コーティングに適するように所望の範囲内の特性を有する。被覆装置を用いた被覆された膜は、所望であれば、極めて均等な色および導電性も示す。
【００２７】
より詳細には、本発明の被覆装置の主要本体は、適切な材料（好適には金属材料）からなる少なくとも１つのブロックから生成され得る。これらのブロックは、内部に気体状反応物質入口開口部が形成され、複数の流路を介して気体状反応物質出口開口部へと接続される。これら複数の流路は、多様な細流をコーティング装置中において相互に離隔して保持するように設計される。好適には、これらの気体状反応物質出口開口部は、スロット状の構成を有する（すなわち、各出口開口部の幅よりも長い長さを有する）。好適には、これらのスロットは、平行に配置され、相互に間隔を空けて配置される。これらの気体状反応物質出口開口部は、相互に同じ寸法であってよいし、異なる寸法であってもよい。
【００２８】
実施形態において、上記流路のうち少なくとも１つは、実質的に直線状であり得る。他の実施形態において、これらの流路のうち少なくとも１つは、実質的に直線状である部分（単数または複数）を有する。さらなる実施形態において、これらの流路のうち少なくとも１つは、これらの流路の実質的に直線状な部分へ接続されたかまたは接続する屈曲部を持ち得る。これらの実施形態において、流路は、複数の屈曲部を持ち得る。さらなる実施形態において、流路は、ほぼ同一の形状、長さおよび幅を持つように構成される。しかし、図８に示すように、特定の流路の幅を隣接する流路と同じにしてもよいし、あるいは異なるようにしてもよい。
【００２９】
１つ以上の気体流れ調節デバイスを、気体状反応物質入口開口部と、気体状反応物質出口開口部との間において流路のうち１つ以上内に配置することができる。このような流れ調節デバイス（単数または複数）は、気体状反応物質出口開口部のうち１つ以上からの気体流れの層流化を増加させることができる。
【００３０】
気体状反応物質出口開口部間の分離距離は均等にしてもよいし、あるいは、ある出口開口部と隣接する出口開口部との間で分離距離は異なっていてもよい。
【００３１】
気体状反応物質の細流がガラス基板表面またはその近隣において反応することが望ましいタイミングになるまでこれらの細流を分離した状態でさらに確実に保持するために、少なくとも１つの気体吐出方向付け器により、気体状反応物質の流れをガラス基板表面に向かう規定パターンとして方向付けることを支援することができる。不活性ガスの細流を用いて、化学反応体気体細流の反応が望まれるタイミングになるまで、この化学反応体気体細流を分離した状態で保持することも可能である。
【００３２】
気体状反応物質が各気体状反応物質出口開口部から流れる速度は、気体状反応物質出口開口部からの集合的吐出の乱流のレベルを制御するための手段として用いることが可能であり、よって、膜被覆速度および膜厚さの均一性に対して大きな影響を持つ。そのため、気体流れ速度は、所望の目的に応じて、ある気体状反応物質出口開口部と隣接する出口開口部との間において同じにしてもよいし、別個にしてもよい。
【００３３】
特に気体状反応物質出口開口部の領域内において、装置温度を所定の範囲内に収まるように公知の方法によって制御することが好ましい。このような所望の温度範囲は、１つ以上の要素（例えば、装置によって処理されている特定の化学反応体）によって異なり得る。
【００３４】
図面を参照して、本被覆装置１０は、１つ以上の活性気体化学物質反応体を被覆装置１０中の別個の流路中に維持するように設計され、特定の実施形態において、少なくとも１つの気体状反応物質が被覆装置１０の主要本体１２から吐出された後、流路ジオメトリを一定の時間／距離にわたって制御するように設計される。後述する方法により、本発明の装置は、その場合もなお、基板被覆表面１４上に均等な膜を商業的に実現可能な速度（例えば、５ｎｍ／秒以上、好適には５０ｎｍ／秒以上、およびさらには３５０ｎｍ／秒以上）で生成できるだけの高速でガラス基板被覆表面１４またはその近隣において化学反応体の混合および反応を可能にし、一例としてソーラー制御性、低放射率または透明導電性を有する薄膜コーティングに適した所望の特性を有する。
【００３５】
本発明の被覆装置１０の主要本体１２は、適切な材料（例えば、金属（高グレードのスチールまたはスチール合金））からなる少なくとも１つのブロックから生成され得るが、ガラスフロート槽の環境に耐えることが可能なものであれば、装置１０の主要本体１２を形成する際、他の材料および方法も用いてよい。図４に示すように、主要本体の多様な面は、ｘ１６、ｙ１８、およびｚ２０、２２（ｚ１およびｚ２）として従来指定されている。１つ以上の気体状反応物質入口開口部２４を、任意の適切な方法によって上面ｚ１２０内に形成する。１つ以上の気体状反応物質入口開口部は、任意の所望の幾何学的形状を持ち得る。好適には、複数のこのような気体状反応物質入口開口部２４は、装置１０のｚ１面２０内にこのように形成される。特定の実施形態において、例えば図５に示すように、いわゆる「カバーブロック」７２を１つ以上の流路２８内に配置することができる。このようなカバーブロック７２を用いて、流れを所望の様態で個々の流路２８内に制限することができる。よって、このようなカバーブロック７２を１つ以上の流路２８のうち１つ以上の気体状反応物質入口開口部２４の近隣の部分内に配置すると好適である。
【００３６】
以下にさらに詳述するように、少なくとも１つの気体状反応物質出口開口部２６を、被覆装置１０の主要本体１２の下面またはｚ２面２２またはその近隣に形成する。少なくとも１つの別個の流路２８が主要本体１２を通じて延びて、少なくとも１つの気体状反応物質入口開口部２４を少なくとも１つの気体状反応物質出口開口部２６へと流動接続する。好適には、複数の別個の流路２８（例えば、３、５、７または９本の流路２８）が装置１０の主要本体１２を通じて延びて、複数の気体状反応物質入口開口部２４を複数の気体状反応物質出口開口部２６へと接続する。このような流路２８は、任意の所望の幾何学的構成を持ち得る。
【００３７】
被覆装置１０の特定の実施形態において、「バッフルブロック」７４は、例えば図５に示すように１つ以上の流路２８内に配置され得る。好適には、バッフルブロックが存在する場合、このバッフルブロックは、カバーブロック７２と流れ調節器３０との間において流路２８内に配置される。好適には、バッフルブロックは、各流路内に配置される。バッフルブロック７４は、流路２８内の気体状反応物質細流の均一性を増加させることを意図する。
【００３８】
気体状反応物質出口開口部２６は、任意の所望の形状を持ち得るが、好適にはスロット状の構成にするとよい（すなわち、気体状反応物質出口開口部２６は好適には、被覆装置１０の主要本体１２の「ｙ」寸法においてよりも、被覆装置１０の主要本体１２の「ｘ」寸法において大きくなっている）。好適には、スロット状の気体状反応物質出口開口部２６は平行に配置され、相互に間隔を空けて配置される。任意の所望の数の気体状反応物質出口開口部２６が利用可能であるが、３個、５個、７個または９個の出口開口部２６が好適である。このような出口開口部２６間の分離距離は典型的には、約０．５ｍｍ〜３ｍｍであり得る。気体状反応物質出口開口部２６間の好適な分離距離は約１ｍｍを超えず、より好適には、このような分離距離は約０．５ｍｍである。
【００３９】
気体状反応物質出口開口部２６は、被覆装置１０の主要本体１２のｚ２面２２内に形成してもよいし、あるいは、所定の距離（例えば約５．５ｍｍの距離）まで被覆装置１０の主要本体１２中に凹ませてもよい。気体状反応物質出口開口部２６を凹ませることで、溶融スズ槽および高温ガラス基板被覆表面１４からの熱から被覆装置１０の気体吐出部分を一定レベルまで保護できるため有利であることが分かっている。このような温度は、１０５０°Ｆ（５６６℃）〜１４００°Ｆ（７５０℃）のオーダーであり得る。好適には、ガラス表面温度は、１１００°Ｆ（６００℃）〜１２００°Ｆ（６５０℃）である。
【００４０】
気体状反応物質出口開口部２６は、サイズ（特に、被覆装置１０の主要本体１２の「ｙ」寸法）が異なり得る。場合によっては、不活性ガスを吐出する気体状反応物質出口開口部２６の「ｙ」寸法（すなわち、出口開口部の幅）を、活性気体化学物質反応体を吐出する気体状反応物質出口開口部２６よりも大きくすると有利であることが分かっている。
【００４１】
少なくとも１つの気体状反応物質入口開口部２４と少なくとも１つの気体状反応物質出口開口部２６との間に延びる気体流路２８のうち１つ以上内に、１つ以上の気体流れ調節デバイス３０を固定することができる。このような気体流れ調節デバイス３０は、１つ以上の気体状反応物質出口開口部２６からの１つ以上の気体吐出細流の層流化を高めることを意図している。図９に示すような「ハニカム」構成は、１つ以上の気体流れ調節デバイス３０において好適である。他の面積ももちろん可能であるが、ハニカムのセルの好適な面積は約１平方ミリメートルである。このハニカムの好適な垂直方向寸法（厚さ）は好適には、約５ｍｍ〜約２５ｍｍであり得る。
【００４２】
気体状反応物質細流および不活性ガス細流を反応させることが望ましいタイミングまで両者をさらに確実に分離するために、ガラス基板被覆表面１４またはその近隣において、少なくとも１つの気体吐出方向付け器３２により、流路の１つ以上の部分が規定される。図６に示すような特定の実施形態において、少なくとも１つの気体吐出方向付け器３２は、出口開口部２６を超える距離にわたって、気体状反応物質出口開口部２６のいずれかの側部上において延び得、これにより、気体状反応物質の流れをガラス基板の被覆表面１４へ向かう規定されたパターンとして方向付ける。気体状反応物質を混合するゾーンのサイズおよび位置と、このような混合を行うための機構とは、本発明のいくつかの実施形態において異なり得る。例えば、気体状反応物質の拡散による混合は、流れ調節器またはその近隣、被覆装置１０のｚ２面またはその近隣、および基板被覆表面１４またはその近隣において行うことができる。少なくとも１つの気体吐出方向付け器が気体状反応物質出口開口部２６を超えて延びる実施形態において、少なくとも１つの気体吐出方向付け器３２は肉薄の突起（好適には肉薄の金属材料）であり、１つ以上の気体状反応物質出口開口部２６の近隣の被覆装置１０の主要本体１２から、好適には移動している約５．５ｍｍの高温の移動しているガラス基板の被覆表面１４内において延びる。１つ以上の気体化学物質反応体出口開口部２６に隣接する１つ以上の不活性気体状反応物質出口開口部２６からの不活性ガスの細流を用いて、気体化学物質反応体細流を反応させることが望ましいタイミングまで、気体化学物質反応体細流を分離した状態で保持することもできる。
【００４３】
各気体状反応物質出口開口部２６から気体状反応物質の流れの速度は、気体状反応物質出口開口部２６からの集合的吐出の乱流のレベルを制御するための手段として用いることが可能であり、よって、膜被覆速度および膜厚さの均一性に対して大きな影響を持つ。そのため、気体流れ速度は、所望の目的に応じて、ある気体状反応物質出口開口部２６と隣接する出口開口部２６との間において同じにしてもよいし、別個にしてもよい。しかし、好適には、気体流れ速度は、気体出口開口部２６間において実質的に等しい。
【００４４】
本発明の装置は、１つ以上の気体排出開口部３６も有利に含む。１つ以上の気体排出開口部３６は、被覆装置１０の主要本体１２を通じて延びて、使用後または未使用の気体状反応物質を連続的に除去することを可能にする。このような使用後または未使用の気体状反応物質に起因して、基板１４の被覆表面上に望ましくない汚染物質が発生し得る。このような気体排出抽出を用いて、高温ガラス基板の被覆表面またはその近隣において発生する気体流れ乱流および反応物質混合物の量に影響を与えることも可能であり、これにより、薄膜被覆速度を向上させる可能性が得られる。
【００４５】
任意の公知の方法により、特に少なくとも１つの気体状反応物質出口開口部２６の近隣の領域および少なくとも１つの気体状反応物質出口開口部２６を含む領域において、被覆装置１０の温度を所定の範囲内に収まるように制御すると好適である。例えば、温度制御方法は好適には油冷却および水冷却を含むが、空気冷却も可能である。
【００４６】
例えば図４〜図７中に、代表的な冷却材料通路７６を示す。当業者であれば、このような温度制御システムを実行するためには多様な熱デバイスおよび電子デバイスが必要になることが多いことを理解する。装置１０の所望の温度制御範囲は、１つ以上の要素に応じて異なり得る（例えば、被覆装置１０によって処理されている特定の化学反応体）が、典型的には装置の温度を±５０°Ｆ（±１０℃）の範囲内に制御すると好適である。他の利点として、このような温度制御システムは、被覆装置１０の気体吐出部分（例えば、気体吐出方向付け器３２）と関連付けられたコンポーネントの熱安定性および構造完全性を維持することが分かっている。化学事前反応を回避することも、本温度制御システムの目的である。
【００４７】
本明細書中上述したように、本発明の装置１０の主要本体１２は、好適には金属材料製の少なくとも１つのブロックから形成され得る。装置の主要本体を複数の金属ブロックから組み立てると有利である。複数の金属ブロックを用いることによって得られる利点を挙げると、例えば容易な組み立ておよびメンテナンス、被覆装置１０の個々の領域の温度制御の向上、および被覆装置１０の構造および熱安定性の向上がある。
【００４８】
本発明の装置１０について説明してきた。ここで、被覆装置１０を用いて薄膜コーティングを被覆する方法について説明する。本明細書中において別の箇所において説明したようなフロートガラス製造プロセスにおいて、より詳細にはフロートガラス製造プロセスのフロート浴部において、本発明による少なくとも１つの薄膜被覆装置１０を、溶融スズ槽上に支持された連続移動するガラス基板の被覆表面１４の上方において所定の距離を以て配置する。
【００４９】
別個の供給ラインが、気体化学物質反応体の少なくとも１つの源から延び、同様に、不活性ガスの少なくとも１つの源から延びる。これらの不活性ガスの少なくとも１つの源は好適には、フロート槽の外部に配置されて、被覆装置１０の主要本体１２内の気体入口開口部２４を分離する。少なくとも１つの気体化学物質反応体および少なくとも１つの不活性ガスの所定の流量における流動を開始させ、供給ラインを通じて少なくとも１つの気体入口開口部２４へと搬送する。少なくとも１つの気体入口開口部２４において、少なくとも１つの気体化学物質反応体および少なくとも１つの不活性ガスは、被覆装置１０の主要本体１２を通じて延びた別個の流路２８を通じて所定の速度で流動する。
【００５０】
好適には、各気体流路２８内の所定の位置において、少なくとも１つの気体状反応物質および少なくとも１つの不活性ガスは、流れ調節デバイス３０と接触する。流れ調節デバイス３０は、各別個の気体流路２８の層流化を向上させることを意図する。好適には、少なくとも１つの流れ調節デバイス３０は、図９に示すような「ハニカム」構成であるが、他の構成も可能である。ハニカムのセルの寸法は、サイズおよび形状が異なっていてもよい。特定の気体細流の層流化を変化させることが所望される範囲に応じて、図１０に示すような流れ調節デバイス３０の垂直方向寸法または「厚さ」も、変化し得る。
【００５１】
好適には少なくとも１つの流れ調節デバイス３０を通過した後、別個の気体流路２８内を流動する気体は、各別個の気体出口開口部２６に近づく。各別個の気体出口開口部２６は好適には、スロット状の構成を有する。特定の実施形態において、少なくとも１つの流れ調節デバイスは、気体出口開口部２６に近接する。
【００５２】
あるいは、別個の気体出口開口部２６から吐出された後、被覆装置の特定の実施形態において、気体化学物質反応体および不活性ガスの別個の流れを、本明細書中に上記したような少なくとも１つの気体吐出方向付け器３２により、未だに分離されている流路において基板１４の被覆表面へとさらに方向付ける。上記した理由のため、被覆装置１０の温度（特に、気体状反応物質出口開口部２６の近隣領域の温度）を±５０°Ｆ（±１０℃）の範囲内に制御すると好適であることが分かっている。
【００５３】
移動している高温ガラス基板の被覆表面１４またはその近隣において、別個の気体流れ細流を所望の混合ゾーン内において混合し、所定の様態で化学反応させる。このような反応の結果、移動している高温ガラス基板１４の被覆表面上に、薄膜が商業的に実現可能な被覆速度で被覆される。
【００５４】
上述したように、本発明の方法は、連続ガラスリボン基板の形成と関連して実行されることが多い。活性気体状反応物質は、ガラスの表面１４またはその近隣において組み合わされることが企図される。気体混合物中には、搬送ガスまたは希釈剤（例えば、窒素、空気またはヘリウム）も含まれることが多い。この気体混合物を混合ゾーンへ送る温度は、この気体混合物が反応して薄膜コーティングを形成する温度よりも低く、基板表面１４は、この反応温度よりも高い温度である。本発明により、薄膜コーティングの生成を商業的に実現可能な被覆速度（好適には、５ｎｍ／秒以上、より好適には５０ｎｍ／秒以上、さらには３５０ｎｍ／秒以上）で行うことが可能になる。高い被覆速度は、ガラス製造プロセスにおいてガラス基板上に薄膜を被覆する際に重要である。なぜならば、ガラスリボンがラインを移動する速度は、数百インチ／分の範囲内であり、特定の厚さの薄膜を僅か数分の１秒で被覆する必要があるからである。反応物質の任意の特定の組み合わせについて、高い被覆速度を達成するための最適な濃度および流量を試験またはコンピュータモデリングによって決定することができる。より高濃度の反応物質および高気体流量を用いた場合、反応物質を薄膜へと全体的に変換するための効率が低くなる可能性が高くなるため、商用動作のための最適な条件は、最高被覆速度が得られる条件と異なり得ることが理解される。
【００５５】
フロートガラス製造導入は、本発明の方法を実行するための手段として用いることができる。本明細書中に記載されるフロートガラス導入は、このような導入の例示であり、本発明について限定するものではない。
【００５６】
より詳細には、図１に示すようなフロートガラス導入は、管部を含む。この管部に沿って、溶融炉からの溶融ガラスがフロート槽部４２へと送達され、連続ガラスリボン５１が周知のフロートプロセスに従って形成される。フロート槽部中の温度は典型的には、１０５０°Ｆ（５６６℃）〜１４００°Ｆ（７５０℃）である。好適には、温度は１１００°Ｆ（６００℃）〜１２００°Ｆ（６５０℃）である。ガラスリボン５１は、槽部４２から隣接する焼きなまし炉４４および冷却部４６を通じて前進する。連続ガラスリボン５１は好適には基板であり、その表面上に本発明の装置１０によって薄膜が形成される。フロート槽部４２は、溶融スズ５０の槽を収容する下部４８と、対向する側壁（図示せず）の屋根部５２と、端壁５４とを含む。屋根部５２、側壁および端壁５４は、協働して筺体５６を規定する。筺体５６内において、溶融スズ５０の酸化を回避するための非酸化性雰囲気が保持される。
【００５７】
動作時において、溶融ガラスは、制御された量で調節綾織部の下側の管に沿って流れて、スズ槽５０の表面上に下方に流れる。溶融スズ表面５０上において、重力および表面張力の影響下ならびに特定の機械的影響下において溶融ガラスが横方向に拡散し、スズ槽４２上を前進してガラスリボン５１を形成する。ガラスリボン５１は、リフトアウトロール６４上においてスズ槽部４２から除去され、その後、アライメントされたロール上において焼きなまし炉４４および冷却部４６を通じて搬送される。本発明の薄膜の被覆は好適にはフロート槽部４２内において行われるが、さらにガラス製造ラインに沿って（例えば、フロート槽４２と焼きなまし炉４４との間の隙間４５中または焼きなまし炉４４中）において被覆を行うことも可能である。
【００５８】
適切な非酸化性雰囲気（一般的には、窒素または窒素を主成分として含む窒素および水素の混合物）をフロート槽筺体５６中において維持することで、スズ槽５０を構成する溶融スズの酸化を回避する。分配マニホルド６８へ動作可能に接続された導管６６を通じて、雰囲気ガスを送る。非酸化性ガスを導入する際、正常損失を補償しかつ若干の陽圧を維持するに充分な速度で、環境大気圧を約０．００１〜約０．０１気圧超えるオーダーで導入を行い、これにより、外部雰囲気の浸入を回避する。本発明の目的のため、上記した圧力範囲は、通常の大気圧を構成するものとして考えられる。スズ槽４２および筺体５６中において所望の温度体制を維持するための熱は、筺体５６内の放射ヒーターによって提供される。炉４４内の雰囲気は典型的には大気である。なぜならば、冷却部４６は封入されておらず、その内部のガラスリボン５１は大気に露出されるからである。冷却部中のファン７０などによって、外気をガラスリボンへ当てることができる。焼きなまし炉４４内にヒーターを設けて、内部を搬送されるガラスリボン５１の温度を所定の体制に従って徐々に低下させてもよい。
【実施例】
【００５９】
本被覆装置は、ベルトコンベヤ炉（より詳細には、基板加熱ゾーン、コーティングゾーンおよび冷却ゾーンを有する３つのゾーン炉）を通じて搬送されるガラス基板上にコーティングを被覆するために用いられる。先行被覆されたシリカバリア層を表面上に備えたソーダ石灰シリカガラスのシートおよびソーダ石灰シリカガラスのシートを、炉から出てきた搬送ベルト上にロードして、ガラス温度を６５０℃にした後、コーティングゾーン内へと進入させた。その後、高温ガラス基板を被覆装置の下側を通過させた。この被覆装置は、ガラス基板表面から約４ｍｍだけ上方に配置した。寸法が１００×３００ｍｍであり厚さが３ｍｍであるガラスシート上において、０．５〜３メートル／分のライン速度で被覆を行った。被覆装置は、１５０℃の温度で維持した。被覆プロセスとの干渉を回避するために、入力された使用後／未使用のガスのうち実質的に全てをコーティングゾーンから排出した。以下の実施例において、「スロット」とは、気体流路２８と同様のものとして解釈されるべきであり、対応する気体状反応物質出口開口部２６を通じて被覆装置から出て行く。
【００６０】
実施例１−５スロット塗工機を用いた添加化合物を用いた酸化亜鉛の被覆
【００６１】
塗工機の左側にスロット１を設け、塗工機の右側にスロット５を設けて、各スロットへの前駆体の入力を以下のように行った。
【００６２】
スロット１およびスロット５−これらの２つのスロットにより、Ｎ２およびＨ２０（蒸気状）の混合物を搬送した。簡潔さのため、単一の蒸発器を用いて、蒸気およびＮ２の混合物を生成し、この混合物を均等に分割して、例えばスロット１および５に送達した。凝縮を回避するため、全ての反応物質送達ラインを、露点を超えた温度において維持した。蒸気およびＮ２の混合物は、加熱された蒸発器中に水を注入することによって生成した。Ｎ２搬送ガスを蒸発器に付加して、蒸気およびＮ２の混合物をスロット１および５へ搬送した。１０ｍｌ／分の水を蒸発器中に注入し、蒸発器へ付加するＮ２の量は、Ｎ２＋蒸気の流量合計が２０ｓｌｍに等しくなり、そのうち１０ｓｌｍが各スロット１および５へと移動するように設定した。
【００６３】
スロット２およびスロット４−計量された１０ｓｌｍＮ２搬送ガスの流れを、各スロット２および４において下方に流した。
【００６４】
スロット３−スロット３内を流れる気体状反応物質を、ジメチル亜鉛（ＤＭＺ）および添加化合物（すなわち、アセチルアセトネート）の混合物を含むように変更した。２つのバブラーを用いて、これら２つの化学物質の混合物を生成した。温度３６℃で維持された基準バブラーを用いることにより、ＤＭＺ前駆体混合物を生成した。Ｈｅの流れをバブラー内に通過させることにより、０．０７７ｍｏｌ／分の気体ＤＭＺを蒸発させた。第２のアセチルアセトネートバブラーを温度６０℃で維持した。Ｎ２ガスを第２のバブラー内に通過させて、アセチルアセトネートを生成した。これら２つの化学物質をパイプ中において事前混合し、さらなるＮ２を付加して、気体流れ合計をスロット３内において１０ｓｌｍで生成した。
【００６５】
これらの条件下において、ガラスシートを塗工機下において１．８ｍ／分のライン速度で移動させた。厚さ４５０ｎｍの酸化亜鉛膜を６８ｎｍ／秒の被覆速度で被覆したところ、得られたコーティングガラスは、ヘイズが４．８％でありかつ可視光透過率が７６％と高かった。
【００６６】
実施例２−５スロット塗工機を用いた添加化合物を用いたＧａドープ酸化亜鉛被覆
【００６７】
実施例１に関連して上述した実験条件を用いて、Ｎ２＋Ｈ２０の気体混合物をスロット１およびスロット５を通じて送った。水を２４ｍｌ／分で蒸発器中に注入し、０．５ｓｌｍのＮ２を付加した。ＤＭＺ、アセチルアセトネートおよびドーパント化合物の混合物（すなわち、トリメチルガリウム（ＴＭＧ））を含むように、スロット３中を通る気体状反応物質の流れを変更した。３つのバブラーを用いて、これら３つの化学物質の混合物を生成した。ＤＭＺバブラーおよびアセチルアセトネートバブラーを、実施例１に記載のように操作した。ＤＭＺをＨｅによって第１のバブラー内を通過させて、ＤＭＺを０．０７７ｍｏｌ／分で蒸発させた。第２のトリメチルガリウムバブラーを温度１０℃で維持した。Ｎ２ガスを第２のバブラー中に通過させて、ガリウム流れを発生させた。これら３つの前駆体をパイプ中において事前混合した後、さらなるＮ２を付加して、１０ｓｌｍのスロット３を通る気体流れ全体を生成した。これらの条件下において、ガラスシートを塗工機下においてライン速度３．０ｍ／分において移動させ、厚さ２００〜２３０ｎｍでありかつ抵抗が１×１０−３オームｃｍである導電性酸化亜鉛コーティングを被覆速度５０〜６０ｎｍ／秒で被覆した。ＤＭＺ／ドーパント混合物の組成を変更することにより、抵抗がより高いかまたはより低い膜を生成することが可能であることが理解される。例えば、気相の０．００２モル／分のＴＭＧを用いて被覆された膜の場合、抵抗が１．３×１０−２オームｃｍである一方、気相の０．００４モル／分のＴＭＧを用いたコーティングガラスの場合、抵抗は４．３×１０−３オームｃｍであった。また、これらのコーティングガラスは、可視光透過率が６０〜７０％と高く、ＩＲ放射線吸収が１３〜２０％と低く、またヘイズは０．６〜１．１％と低かった。比較のため、上記のＴＭＧと同量を用いかつアセチルアセトネートを添加していない膜の場合、抵抗は３．９×１０−１オームｃｍおよび９．３×１０−２オームｃｍとそれぞれずっと高かった。
【００６８】
実施例３−７スロット塗工機を用いた添加化合物を用いたＧａドープ酸化亜鉛被覆
【００６９】
実施例（３−１）において、実施例１、実施例２および実施例３と同様の表記法を７スロット塗工機のスロットに用い、スロット１およびスロット７をそれぞれ塗工機の左端および右端に配置した。
【００７０】
スロット１およびスロット７−これらの２つのスロットを本実施例において用いて、Ｎ２＋Ｈ２０の混合物を（蒸気形態で）搬送した。実施例１と同様に、単一の蒸発器を用いて、蒸気およびＮ２の混合物を生成し、スロット１とスロット７との間に均等に分配した。ここでも、全ての前駆体送達ラインを露点よりも高く維持した。水を６ｍｌ／分で蒸発器に注入した。ここでも、Ｎ２を蒸気およびＮ２の混合物のための搬送ガスとして用いた。スロット１およびスロット７をそれぞれ下方に流れる１０ｓｌｍの蒸気およびＮ２の混合物の総流量はここでも２０ｓｌｍであった。
【００７１】
スロット２、３および５、６−Ｎ２搬送ガスの計量された流れを５ｓｌｍでスロット２、３および５、６それぞれにおいて下方に流動させて、スロット４を下方に流れる化学混合物と、スロット１および７を下方に流れる化学混合物との間を確実に分離した。
【００７２】
スロット４−このスロットをここでも用いて、ジメチル亜鉛（ＤＭＺ）、アセチルアセトネートおよびトリメチルガリウム（ＴＭＧ）の前駆体混合物を搬送した。基準バブラーを３６℃でここでも用いて気体ＤＭＺを生成し、ＤＭＺをＨｅによってバブラー内を通過させて、ＤＭＺを０．０７７ｍｏｌ／分で蒸発させた。第２の基準バブラーを６０℃でここでも用いて気体アセチルアセトネートを生成し、バブラーを通じてＮ２によって送った。第３の基準バブラーを温度１０℃においてここでも用いて気体ＴＭＧを生成し、バブラーを通じてＨｅによって送って、ＴＭＧを０．００５ｍｏｌ／分で蒸発させた。３つの化学物質をパイプ中において事前混合し、さらにＮ２を付加して、スロット４を通る気体流れ合計を１０ｓｌｍで生成した。これらの条件下において、ガラスシートを塗工機下においてライン速度０．５〜３．０ｍ／分で移動させ、厚さ２８０〜１４２０ｎｍの導電性酸化亜鉛コーティングを被覆速度６０〜７０ｎｍ／秒で被覆した。得られたコーティングの抵抗は＜１×１０−３オームｃｍであった。このコーティングガラスの他の特性を挙げると、高い可視光透過率＞７１％および低いヘイズ＜２．０％がある。ここでも、ＤＭＺ／ドーパント混合物の組成を変更することにより、抵抗がより高いかおよびより低い膜を生成することが可能であることが理解される。
【００７３】
実施例（３−２）スロット１およびスロット７−計量された１０ｓｌｍのＮ２搬送ガスの流れをこれらのスロットにおいて下方に流動させて、スロット２およびスロット６中における流れの混合を向上させた。
【００７４】
スロット２およびスロット６−これら２つのスロットを本実施例において用いて、実施例４−１と同様にＮ２＋Ｈ２０の混合物を（蒸気の形態で）搬送した。単一の蒸発器を用いて蒸気およびＮ２の混合物を生成し、スロット２および６間において均等に分配した。ここでも、全ての前駆体送達ラインを露点よりも高く維持した。６ｍｌ／分の水を蒸発器中に注入した。ここでも、Ｎ２を蒸気およびＮ２の混合物搬送ガスとして用いた。ここでも、総流量は２０ｓｌｍであり、１０ｓｌｍの蒸気およびＮ２の混合物をスロット２および６それぞれにおいて下方に流動させた。
【００７５】
スロット３およびスロット５−計量された１０ｓｌｍのＮ２の搬送ガスをこれらのスロットそれぞれにおいて下方に流動させて、スロット４を下方に流れる化学混合物と、スロット２および６を下方に流れる化学混合物とを確実に分離した。
【００７６】
スロット４−このスロットをここでも用いて、ジメチル亜鉛（ＤＭＺ）、アセチルアセトネートおよびトリメチルガリウム（ＴＭＧ）の前駆体混合物を搬送した。基準バブラーを３６℃でここでも用いて気体ＤＭＺを生成し、ＤＭＺをＨｅによってバブラー内を通過させて、ＤＭＺを０．０７７ｍｏｌ／分で蒸発させた。第２の基準バブラーを６０℃でここでも用いて気体アセチルアセトネートを生成し、バブラーを通じてＮ２によって送った。第３の基準バブラーを温度１０℃においてここでも用いて気体ＴＭＧを生成し、バブラーを通じてＨｅによって送って、ＴＭＧを０．００５ｍｏｌ／分で蒸発させた。これら３つの化学物質をパイプ中において事前混合し、さらにＮ２を付加して、１３．５ｓｌｍのスロット４を通気体流れにした。
【００７７】
これらの条件下において、ガラスシートを塗工機下においてライン速度３．０ｍ／分で移動させ、厚さ５７０ｎｍでありかつ抵抗８．５×１０−４オームｃｍである導電性酸化亜鉛コーティングを被覆速度１４１ｎｍ／秒で被覆した。得られたコーティングガラス物品のＴｖｉｓは約６２％であり、ヘイズは約７．７％であった。
【００７８】
アセチルアセトネートに加えて、本発明に関連して適切であると考えられる他の添加化合物を挙げると、トリフルオロアセチルアセトネートおよびヘキサフルオロアセチルアセトネートである。
【００７９】
特許法の規定に従い、本発明について、その好適な実施形態を示すものと思われるものを説明してきた。しかし、本発明の意図および範囲から逸脱することなく、本発明を特定の図示および記載以外の様態で実行することが可能である点に留意されたい。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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