(57)【要約】  アルカリ金属触媒を用いるエステル交換プロセスにより形成される、アルカリ金属触媒残留物を含有するポリエーテルポリオールの水溶液を準備するステップ；この水溶液を、前記アルカリ金属触媒残留物の量に基づいて化学量論的に過剰の硫酸マグネシウム、亜硫酸マグネシウム又はこれらの組合せに接触させて、第２水溶液を形成するステップを含む、精製されたポリエーテルポリオールを回収するための濾過方法が開示される。前記第２水溶液から、水が、前記ポリエーテルポリオールの所定の限界を超える温度で除去されて、残留アルカリ金属を実質的に含まないポリエーテルポリオール相と、アルカリ金属触媒の硫酸塩及び／又は亜硫酸塩、水酸化マグネシウム、並びに過剰の硫酸マグネシウム及び／又は亜硫酸マグネシウムを含む沈殿固体相とを含有する、脱水されたスラリーを生成し、ここで、前記沈殿固体相の粒径分布は、その中の３ミクロンより小さい粒子の量を最小化するように制御される。次いで、脱水されたスラリーは、ポリエーテルポリオール相を沈殿固体相から分離するために、濾過システムを通される。【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）アルカリ金属触媒を用いるエステル交換プロセスにより形成される、アルカリ金属触媒残留物を含有するポリエーテルポリオールの水溶液を準備するステップ；
（ｂ）ステップ（ａ）のポリエーテルポリオール水溶液を、前記アルカリ金属触媒残留物の量に基づいて化学量論的に過剰の硫酸マグネシウム、亜硫酸マグネシウム又はこれらの組合せに接触させて、第２水溶液を形成するステップ；
（ｃ）ステップ（ｂ）の前記第２水溶液から、水を、１２５℃〜１４５℃の範囲の温度で除去して、１ｐｐｍ未満の残留アルカリ金属含有量を有するポリエーテルポリオール相と、アルカリ金属触媒の硫酸塩及び／又は亜硫酸塩、水酸化マグネシウム、並びに過剰の硫酸マグネシウム及び／又は亜硫酸マグネシウムを含む沈殿固体相とを含有する、脱水されたスラリーを生成するステップであって、前記沈殿固体相の粒径分布が、その中の３ミクロンより小さい粒子の量を最小化するように制御されるステップ；
（ｄ）ステップ（ｃ）の脱水されたスラリーを、濾過システムに通して、ポリエーテルポリオール相を沈殿固体相から分離するステップ；並びに
（ｅ）分離されたポリエーテルポリオール相から、ポリエーテルポリオールを回収するステップ；
を含む、精製されたポリエーテルポリオールを回収するための濾過方法。
【請求項２】
ステップ（ｂ）の前記第２水溶液から水を除去することが、乾燥器再循環システムにおいて成し遂げられ、乾燥器再循環システムが、第１乾燥器及び第１乾燥器ヒーター、並びに任意選択の第２乾燥器及び第２乾燥器ヒーターを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
ステップ（ｃ）の沈殿固体相の粒径分布を制御することが、乾燥器再循環システムにおける圧力降下を調節することによって成し遂げられ、且つステップ（ｄ）の濾過システムを通るフィード速度が粒径分布によって決められる、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
乾燥器再循環システムにおける圧力降下が、前記沈殿固体相における３ミクロンより小さくなる粒子の量を最小化するように最適化される、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記沈殿固体相における３ミクロンより小さい粒子の量が、１５体積％未満である、請求項２から４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
前記の乾燥器再循環システムが再循環バルブを含み、前記再循環バルブの位置が、乾燥器再循環システムにおける圧力降下を制御するために調節可能である、請求項２から４のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
前記再循環バルブの位置が、ステップ（ａ）によるポリエーテルポリオールの分子量に基づいて決められる、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記アルカリ金属触媒が、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属アルコキシド、アルカリ土類金属水酸化物、アルカリ土類金属アルコキシド、及びこれらの組合せからなる群から選択され、前記沈殿固体相が、水酸化マグネシウム、前記アルカリ金属触媒の硫酸塩、及び過剰の硫酸マグネシウム、亜硫酸マグネシウム又はこれらの混合物を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記アルカリ金属触媒が、ナトリウムメチラートであり、前記沈殿固体相が、水酸化マグネシウム及び硫酸ナトリウムを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記ポリエーテルポリオールが、６５０〜３０００ダルトンの範囲の分子量を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記ポリエーテルポリオールが、ポリ（テトラメチレンエーテル）グリコール又はそのコポリマーである、請求項１に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本出願は、２０１１年７月１９日出願の米国特許仮出願第６１／５０９４９６号及び２０１１年１０月２８日出願の中国特許出願第２０１１１０３３３７５８．３号に基づく優先権の利益を主張する。その結果として、本出願は、両出願全体を組み込むものとする。
【０００２】
本開示は、ポリエーテルポリオールの製造方法に関する。より詳細には、精製されたポリエーテルポリオール生成物を回収するための、残留金属触媒の濾過を改善する方法に関する。
【背景技術】
【０００３】
ＴＨＦのホモポリマーは、ポリテトラメチレンエーテルグリコール（ＰＴＭＥＧ）としても知られ、スパンデックス、ポリウレタン及び他のエラストマーに用いられることがよく知られている。これらのホモポリマーは、優れた機械的及び動力学的特性を、ポリウレタンエラストマー、繊維及び他の形態の最終製品に付与する。米国特許第４１２０９０３号において論じられているように、中間体のＰＴＭＥＡ（すなわち、ＰＴＭＥＧジアセテート）を経由することによってポリテトラメチレンエーテルグリコール（ＰＴＭＥＧ）を製作するための、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を用いる重合方法は、１９９７年頃から工業的に実施されてきた。この方法は、ＰＴＭＥＡの製造における第１ステップとして、パーフルオロスルホン酸イオノマー樹脂を用いる、ＴＨＦの開環を含む。ＰＴＭＥＡをＰＴＭＥＧに変換するための最も一般的に知られている方法は、アルカリ金属触媒、例えば、ナトリウムメチラートを用いる、通常のエステル交換によるものである。この方法は、ＰＴＭＥＧ生成物から除去される必要がある残留触媒を生じる。
【０００４】
エステル交換ステップの後で、ＰＴＭＥＧ生成物から、残存しているアルカリ金属触媒を除去するための方法が、数多く知られている。これらの既知の方法のいくつかが、米国特許第４１３７３９６号、米国特許第４９８５５５１号、米国特許第４４６０７９６号、米国特許第４３０６９４３号及び米国特許第６０３７３８１号に開示されている。米国特許第５４１００９３号は、アルカリ金属触媒が、水性媒体中で、過剰量の硫酸マグネシウムの存在下に中和される方法に関し、参照を通じて、その全体が本明細書に組み込まれる。この中和の無機副生成物は、硫酸ナトリウム及び水酸化マグネシウムを含み得る。次いで、ＰＴＭＥＧ中に存在する様々な無機固体は、チャンバプレートフィルタープレス工程において分離される。濾過の前に、残留触媒を含有する溶液から、水が除去されなければならない。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
触媒除去プロセスを改善するために、停止と洗浄との間のフィルターへのフィード速度及びフィルター処理量とを増すことが望ましい。さらに、濾過システム中にわたって圧力降下を保つことは、停止と停止との間のフィルターフィード速度及びフィルター処理量の両方に影響を及ぼすという共通の問題である。圧力降下の増加は、濾過システムへのフィード速度の減少を生じ得ることが、よく知られている。これは、また、濾過システムの停止と洗浄との間の処理量の低下に繋がる。
【０００６】
結果として、ポリエーテルポリオール生成物を回収するためのプロセスにおいて、濾過フィード速度を増し、また、濾過システムの停止と洗浄との間の処理量を増やすために、濾過システム中にわたって望ましい圧力降下を保つ方法が求められている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
ポリエーテルポリオール生成物を回収するための方法において、濾過フィード速度を増し且つ濾過システムの停止と洗浄との間の処理量を増すための、濾過システム中にわたる望ましい圧力降下を保つ方法を開示する。
【０００８】
フィルターを通しての圧力降下は、濾過システムに供給される前に、乾燥器システムを出て行く粒子の粒径分布を制御することによって、望ましいレベルに保たれる。本発明の一実施形態において、粒径分布は、乾燥器循環バルブの再循環バルブの位置を調節することによって制御され、乾燥器循環バルブは、乾燥器システムにおける圧力降下を制御し、乾燥器システムにおける粒子の再循環を可能にする。
【０００９】
一実施形態は、
（ａ）アルカリ金属触媒を用いるエステル交換プロセスにより形成される、アルカリ金属触媒残留物を含有するポリエーテルポリオールの水溶液を準備するステップ；
（ｂ）ステップ（ａ）のポリエーテルポリオール水溶液を、前記アルカリ金属触媒残留物の量に基づいて化学量論的に過剰の硫酸マグネシウム、亜硫酸マグネシウム又はこれらの組合せに接触させて、第２水溶液を形成するステップ；
（ｃ）ステップ（ｂ）の前記第２水溶液から、水を、１２５℃〜１４５℃の範囲の温度で除去して、１ｐｐｍ未満の残留アルカリ金属含有量を有するポリエーテルポリオール相と、アルカリ金属触媒の硫酸塩及び／又は亜硫酸塩、水酸化マグネシウム、並びに過剰の硫酸マグネシウム及び／又は亜硫酸マグネシウムを含む沈殿固体相とを含有する、脱水されたスラリーを生成するステップであって、前記沈殿固体相の粒径分布が、その中の３ミクロンより小さい粒子の量を最小化するように制御されるステップ；
（ｄ）ステップ（ｃ）の脱水されたスラリーを、濾過システムに通して、ポリエーテルポリオール相を沈殿固体相から分離するステップ；並びに
（ｅ）分離されたポリエーテルポリオール相から、ポリエーテルポリオールを回収するステップ；
を含む。
【００１０】
別の実施形態において、ステップ（ｂ）の前記第２水溶液から水を除去することが、乾燥器再循環システムにおいて成し遂げられ、ここで、乾燥器再循環システムは、第１乾燥器及び第１乾燥器ヒーター、並びに任意選択の第２乾燥器及び第２乾燥器ヒーターを含む。
【００１１】
別の実施形態において、ステップ（ｃ）の沈殿固体相の粒径分布を制御することが、乾燥器再循環システムにおける圧力降下を調節することによって成し遂げられ、且つステップ（ｄ）の濾過システムを通るフィード速度は、粒径分布によって決められる。
【００１２】
別の実施形態において、乾燥器再循環システムにおける圧力降下は、前記沈殿固体相における３ミクロンより小さくなる粒子の量を最小化するように最適化される。
【００１３】
別の実施形態において、前記沈殿固体相における３ミクロンより小さい粒子の量は、１５体積％未満である。
【００１４】
別の実施形態において、乾燥器再循環システムは再循環バルブを含み、前記再循環バルブの位置は、乾燥器再循環システムにおける圧力降下を制御するために調節可能である。
【００１５】
別の実施形態において、前記再循環バルブの位置は、ステップ（ａ）によるポリエーテルポリオールの分子量に基づいて決められる。
【００１６】
別の実施形態において、アルカリ金属触媒は、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属アルコキシド、アルカリ土類金属水酸化物、アルカリ土類金属アルコキシド、及びこれらの組合せからなる群から選択され、前記沈殿固体相は、水酸化マグネシウム、前記アルカリ金属触媒の硫酸塩、及び過剰の硫酸マグネシウム、亜硫酸マグネシウム又はこれらの混合物を含む。
【００１７】
別の実施形態において、アルカリ金属触媒は、ナトリウムメチラートであり、前記沈殿固体相は、水酸化マグネシウム及び硫酸ナトリウムを含む。
【００１８】
別の実施形態において、ポリエーテルポリオールは、６５０〜３０００ダルトンの範囲の分子量を有する。
【００１９】
別の実施形態において、ポリエーテルポリオールは、ポリ（テトラメチレンエーテル）グリコール又はそのコポリマーである。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】先行技術を示すプロセス図である。
【図２】本発明の実施形態のプロセス図である。
【図３】異なる再循環バルブ位置での粒径分布を示すチャートである。
【図４】異なる再循環バルブ位置でのフィルタープレス処理量を示すチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
濾過システムに供給される前に、乾燥器システムを出て行く粒子の粒径分布を制御することによって、濾過システム中にわたって望ましい圧力降下を保つ方法が開示される。本発明の一実施形態において、粒径分布は、乾燥器における粒子の再循環を制御する、乾燥器の再循環バルブのバルブ位置を調節することによって制御される。
【００２２】
全ての特許、特許出願、試験手順、優先権文書、論文、出版物、マニュアル、及び本明細書に引用されている他の文書は、参照を通じて、開示が本発明と矛盾しない範囲で、また組み込みが許される全ての法域について、全体として組み込まれる。
【００２３】
本明細書で用いられる場合、用語「重合」は、特に断らなければ、その意味の範囲内に、用語「共重合」を含む。
【００２４】
本明細書で用いられる場合、用語「ＰＴＭＥＧ」は、特に断らなければ、ポリ（テトラメチレンエーテルグリコール）を意味する。ＰＴＭＥＧは、また、ポリオキシブチレングリコールとしても知られている。
【００２５】
本明細書で用いられる場合、用語「ＴＨＦ」は、特に断らなければ、テトラヒドロフランを意味し、その意味の範囲内に、ＴＨＦと共重合することが可能な、アルキル置換されたテトラヒドロフラン、例えば、２−メチルテトラヒドロフラン、３−メチルテトラヒドロフラン、及び３−エチルテトラヒドロフランを含む。
【００２６】
固定された再循環バルブ（１６０）を有する、米国特許第５４１００９３号による方法が、図１に示されている。ＰＴＭＥＧ製作プロセスでは、アルカリ金属触媒を用いるエステル交換プロセスにより形成される、アルカリ金属触媒残留物を含有するポリマーの流れ（示されていない）が、化学量論的に過剰の硫酸マグネシウム、亜硫酸マグネシウム又はこれらの組合せと、水とに、ミキサー（示されていない）中で接触させられて、水性のポリマーの流れ（８０）を形成する。水性のポリマーの流れ（８０）は、それと共に、固体のＭｇ（ＯＨ）2、溶解したＭｇＳＯ4及びＮａ2ＳＯ4を運び、第１乾燥器（１００）再循環流に供給される。これらの無機塩は、製作プロセスにおける先のステップにおける中和反応で形成される。
【００２７】
顧客の要求を満たすために、これらの無機塩は、最終生成物として保管される前に、生成物から十分に除去されなければならない。これらの塩の乾燥及び濾過は、２段階乾燥器システム（１００及び２００）と、その後のプレート及びフレームクロスフィルター（２８０）とを用いて達成される。
【００２８】
乾燥は、第１乾燥器（１００）、真空下にあるヒーター（１４０）、及び、流れをフィルタープレス（２８０）に供給する前に流れが定常状態を達成することを可能にする第１乾燥器への再循環戻りを用いて達成される。さらなる乾燥は、濾過の前に痕跡量の水を除去するために、真空凝縮器（１２０）と共に第２乾燥器（２００）を用いて達成される。通常、乾燥器（１００、２００）は、１２５℃と１４５℃の間の温度範囲、及び約４０と約１００ｍｍＨｇ（絶対）の間の真空圧力範囲で運転される。本発明の特定の実施形態において、このプロセスでの目標温度は、１３０℃である。
【００２９】
加熱された再循環流が、固定された再循環バルブ（１６０）を通じて、第１乾燥器に入る時、水は、急速蒸発して除かれ、本流の循環流から蒸発して出て行く。流れに溶けた塩は、溶液から現れて、既知の分布の固体結晶を形成し、次いで、これらの結晶が、フィルタープレス（２８０）において濾過して除かれる。本発明者等は、ポリマーにおける結晶形成及び固体分布が、フィルタープレスの有効性に大きな影響を有することを見出した。
【００３０】
図２に示すように、本発明の特定の実施形態を示して、本明細書において説明する。生成物から無機固体を濾過して除くためのプロセスは、次の工程ユニットからなる。
【００３１】
固体Ｍｇ（ＯＨ）2である溶けた無機固体、溶けたＭｇＳＯ4及びＮａ2ＳＯ4を含有する生成物が、循環ポンプ（１８０）、ヒーター（１４０）及び制限オリフィスを含有する循環ループにおける、第１乾燥器（１００）を通される。生成物流の一部は、第２乾燥器（２００）に抜き出される。この２段階乾燥プロセスは、フィルタープレス（２８０）に入る前に、水分が完全に除去されることを保証する。乾燥器から、凝縮器（１２０）を経由して、貯蔵タンク（２２０）まで、真空に引かれる。同様の循環ループが、残留水分を除去するために、それ自体のポンプ（２４０）及びヒーター（２６０）を有する第２乾燥器の周りに備えられる。この第２システムは、また、凝縮物をタンク（２２０）に捕捉するために、凝縮器を有する同じ真空システムに連結される。流れの一部が、このループから、フィルタープレス（２８０）への前方フィードとして抜き取られる。
【００３２】
本発明者は、フィルタープレス（２８０）工程は、結晶形成によって評価した場合、バルブの位置に、より影響を受けない、より低分子量のグレードとは対照的に、１６００ダルトン以上の範囲の分子量を有する生成物では、再循環バルブ（１６５）の位置に非常に影響を受け易いことを見出した。より高い分子量のグレードでは、再循環バルブ（１６５）位置を絞ることにより、乾燥器において、小さい粒径の結晶が、より少なく形成されることもまた見出された。これは、粒径分布をかなり変えることが見出され、所定の流動速度で、フィルタープレス（２８０）中にわたる圧力降下は、減少した。粒径を３ミクロンより大きく保つことが、最適な濾過工程に繋がることが見出された。最適な運転条件で、フィルターでの圧力降下の減少は、より大きなフィルターフィード速度を可能にするので、生産能力を高める。これは、また、フィルターシステムの停止と洗浄との間の全累積処理量を増大させた。
【００３３】
再循環バルブの位置は、乾燥器システムの中での圧力降下を制御することによって、粒径分布を保つ助けとなる。乾燥器システムの中を循環する溶融ポリマーのレオロジーは、再循環バルブを通過する時に、極めて大きな剪断を経る。これは、懸濁される塩が溶液から現れる時に、それらの粒径の変化を引き起こす。結果的に得られる粒径分布は、乾燥器再循環ループにおける圧力降下の関数としての純エネルギーに依存し、圧力降下は、ポリマーのグレードの関数として、再循環バルブ（１６５）の位置を変えることによって調節できる。本発明の一実施形態において、最適な濾過工程は、乾燥器を出て行く結晶の粒径分布が、粒子の１５体積％未満が３ミクロン未満の大きさであるように保たれる場合に、達成される。
【００３４】
調節可能な再循環バルブ（１６５）は、また、６５０〜３，０００ダルトンの範囲の分子量を有する様々なグレードのポリマーが、同一の製造設備で製造されることも可能にする。再循環バルブ（１６５）の様々な位置が、最適な設定を見出すために、様々なグレードで試みられた。ケーキ濾過での圧力降下を予測するために用いられる標準的な式は、次の通りである。
Δｐ＝ｋε(MC)μＭcｕ／Ａ
式中、Δｐ＝フィルターケーキ中にわたる圧力降下
ｕ＝ポリマーの流量
μ＝ポリマーの粘度（温度及び分子量の関数）
Ｍc＝フィルターケーキの質量（プレスへの累積ポンド数で近似することができる）
ε(MC)＝フィルターケーキの質量、粒径などの関数としての多孔度
Ａ＝濾過面積
ｕ／Ａ＝流動速度
ｋ＝濾過物の粒径、密度及び体積の関数である定数
【００３５】
結合項であるｋε(MC)は、フィルターケーキに固有のケーキ抵抗であると考えられる。この値は、製造プロセスにおいて生じる固体、及び選択される濾過助剤に依存する。ポリマーの分子量及び温度は、粘度項で考慮されている。同じ温度及び流量で、分子量の増加は、粘度を増加させるので、圧力降下を増大させる。この圧力降下の増加は、濾過助剤の種類に依存しない。ポリマー流量及び濾過面積は、全体としての流動を決定する。フィルターの作動は、通常、圧力降下が、フィードポンプ（２４０）の最大限界に、又は安全性への考慮に基づいて設定されるプロセス限界に達すると終了する。
【実施例】
【００３６】
以下の実施例は、方法及びその利用可能性を明らかにするものである。本発明は、他の実施形態又は異なる実施形態が可能であり、本発明のいくつかの詳細は、本発明の範囲及び精神から逸脱することなく、容易に認められる様々な点において変更が可能である。したがって、実施例は、実際には例示であり、非限定的であると見なされるべきである。
【００３７】
（実施例１）
実施例１は、１０００〜２０００グレードのＴｅｒａｔｈａｎｅ（登録商標）ＰＴＭＥＧの試料を用いて得られた、ＩＮＶＩＳＴＡのＬａＰｏｒｔｅ事業所により取得されたデータを考察するものである。乾燥器（１００）を、１３０℃の目標温度、及び４０〜１００ｍｍＨｇ（絶対）の真空圧力範囲で運転した。図３は、循環バルブ（１６５）の位置が８０％及び３２％に設定された乾燥器（１００）による粒径分布を示す（循環バルブの位置は、０〜１００％の間のバルブ開度（ｏｕｔｐｕｔ、ＯＰ）で設定され得る）。粒径分布は、小体積モデュールを有するＢｅｃｋｍａｎ−Ｃｏｕｌｔｅｒ  ＬＳ２３０粒径分析装置を用いて求められた。粒径分布のパターンは、循環バルブの位置が変えられると、違っていることが見出された。３２％の絞ったバルブ（１６５）位置では、３ミクロン未満の粒子の量は、約２５体積％から約１５％体積へと減少する。結果として、循環バルブの位置を変えることによって、３ミクロンを超える粒子の量の増加が可能なことが示される。
【００３８】
（実施例２）
この実施例のデータは、ＩＮＶＩＳＴＡのＬａＰｏｒｔｅ事業所により取得され、この場合、乾燥器（１００）は、１３０℃の目標温度、及び４０〜１００ｍｍＨｇ（絶対）の真空圧力範囲で運転された。図４は、高ＭＷポリマー（ＭＷ＞１６００ダルトン）に対する、それぞれ５５％及び３５％の循環バルブ位置での、「規格化された圧力降下（ΔＰ／（ｕ／Ａ）／μ）」ｖｓ．「累積プレス処理量」を示す。循環バルブ位置を３５％に設定する時、最大のフィルターフィード速度は、約７，２００ｐｐｈから約９，０００ｐｐｈへと増加する、すなわち２５％の能力増加である。結果として、循環バルブの位置を変えると、累積フィルタープレス全処理量は、約５００，０００ポンドから約１，１００，０００ポンドへと、すなわち、フィルタープレス寿命の２倍を超える量へと増加する。
【００３９】
比率、濃度、量、及び他の数値データは、本明細書において、範囲の形で表されていることがあることに注意するべきである。このような範囲の形は、便利さと簡潔さのために用いられ、このため、範囲の限界値として明示して挙げられている数値を含むだけでなく、その範囲内に包含される個々の数値又は従属範囲の全てもまた、それぞれの数値及び従属範囲が明示して挙げられているかの如くに含まれると、柔軟に解釈されるべきであることが理解されるべきである。例示すると、「約０．１％〜約５％」の濃度範囲は、約０．１重量％〜約５重量％という明示して挙げられている濃度だけでなく、個々の濃度（例えば、１％、２％、３％、及び４％）、並びに、示されている範囲内の従属範囲（例えば、０．５％、１．１％、２．２％、３．３％、及び４．４％）もまた含まれると解釈されるべきである。用語「約」は、修飾されている数値の、±１％、±２％、±３％、±４％、±５％、±８％、又は±１０％を含み得る。さらに、句「約「ｘ」〜「ｙ」」は、「約「ｘ」〜約「ｙ」」を含む。
【００４０】
本発明の例示的実施形態が詳細に説明されたが、本発明は、他の実施形態及び異なる実施形態が可能であり、また、本発明の精神及び範囲から逸脱することなく、様々な他の変更が当業者には明らかであろうし、当業者によって容易に成され得ることが理解されるであろう。したがって、本発明の特許請求の範囲が、本明細書に記載された例及び説明に限定されることは意図されておらず、むしろ、特許請求の範囲は、本開示に存する特許申請可能な新規性の全ての特徴を、本発明に関連する当業者によってそれらの均等物として扱われ得る全ての特徴を含めて、包含すると解釈されるべきである。
【図１】
2014520952.tif 000002
【図２】
2014520952.tif 000003
【図３】
2014520952.tif 000004
【図４】
2014520952.tif 000005
【国際調査報告】
2014520952.tif 000006
2014520952.tif 000007