(57)【要約】回路基板上の磁気マニュピュレーターを推進させる方法であって、該方法は、磁気マニュピュレーターを回路基板の表面上の反磁性層上に配置する工程と、コントローラーを用いて駆動信号を生成する工程と、反磁性層の下側の回路基板内に配置された少なくとも２つの導電トレースに駆動信号を供給する工程とを含む。磁気マニュピュレーターの移動を制御する回路基板は、基板の表面上に位置する反磁性層と、反磁性層の下側に配置された導電トレースとを有する。導電トレースは、少なくとも２つの分離した層内に、平行配線パターン状に配置されている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも第１の層の独立したゾーン内に配置された導電トレースを有する回路基板と、
前記回路基板の第１の表面上に位置する反磁性層と、
磁性層に隣接して配置され、前記ゾーン内を移動可能であり、磁性を有し、磁場を介して制御可能な少なくとも２つのマニュピュレーターと、
前記導電トレースに電気的に接続され、前記磁場を発生させるための信号を生成するために配置されたコントローラーとを含むことを特徴とするシステム。
【請求項２】
前記導電トレースは、直交駆動信号が前記マニュピュレーターに供給されるよう構成された繰り返しパターンを形成する請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記回路基板は、導電トレースの複数の層を有し、前記各層は、前記導電トレースのパターンを有している請求項１に記載のシステム。
【請求項４】
前記システムは、異なるジャンパーセットの接続が、前記導電トレースの異なるパターン間を接続するように構成されたジャンパーをさらに含む請求項３に記載のシステム。
【請求項５】
前記回路基板の前記第１の表面から離れている前記層は、前記回路基板の前記第１の表面により近い層よりも高電流で駆動されるよう構成されている請求項３に記載のシステム。
【請求項６】
前記導電トレースは、ビアパターン、回転パターン、円形パターンおよび格子パターンのいずれか１つの繰り返しパターンを形成する請求項１に記載のシステム。
【請求項７】
前記導電トレースは、少なくとも２つの分離した層内に平行配線パターンで形成されている請求項１に記載のシステム。
【請求項８】
前記平行配線パターンは、交互配置されたパターンを含む請求項７に記載のシステム。
【請求項９】
前記交互配置されたパターンは、２つの交互配置されたパターンを有する第１の導電層を含み、第２の平行配線パターンは、第１の平行配線パターンから、第１の方向に空間的にオフセットしている請求項８に記載のシステム。
【請求項１０】
前記第２の平行配線パターンは、前記第１の平行配線パターンから、前記第１の配線パターンのトレース間距離の半分の距離、空間的にオフセットしている請求項９に記載のシステム。
【請求項１１】
前記システムは、前記第１の層の外側に接続するためのビアを有する第２の層をさらに含み、前記ビアは、第１の平行配線パターンと第２の平行配線パターンとが接触するであろう領域に配置されている請求項７に記載のシステム。
【請求項１２】
前記システムは、前記第１および第２の平行配線パターンに対して、９０度回転された第３の平行配線パターンおよび第４の平行配線パターンを有する第３の層をさらに含み、前記第４の平行配線パターンは、前記第３の平行配線パターンから、空間的にオフセットしている請求項１１に記載のシステム。
【請求項１３】
前記導電トレースは、ジグザグパターン状に配置されている請求項７に記載のシステム。
【請求項１４】
前記ジグザグパターンは、
前記回路基板の前記第１の層内の第１のジグザグパターンと、
前記第１のジグザグパターンから、第１の方向に空間的にオフセットしている、前記回路基板の第２の層内の第２のジグザグパターンと、
前記第１のジグザグパターンに対して９０度回転され、前記回路基板の第３の層内の第３のジグザクパターンと、
前記第３のジグザグパターンから、第２の方向に空間的にオフセットしている、前記回路基板の第４の層内の第４のジグザグパターンとを含む請求項１３に記載のシステム。
【請求項１５】
前記システムは、前記第１のジグザグパターンの角部の１つおきに対して、直線状に配置されている角部を有する回転パターンをさらに含む請求項１４に記載のシステム。
【請求項１６】
前記システムは、前記反磁性層上に位置する電流ダンピング層をさらに含む請求項１に記載のシステム。
【請求項１７】
前記システムは、前記回路基板の前記第１の層に隣接して配置された機械的な止め具をさらに備える請求項１に記載のシステム。
【請求項１８】
前記機械的止め具は、前記反磁性層上の電流ダンピング層上に配置されている請求項１７に記載のシステム。
【請求項１９】
前記システムは、少なくとも１つのセンサーをさらに備える請求項１に記載のシステム。
【請求項２０】
前記導電トレースは、少なくとも１つの前記マニュピュレーターの位置を誘導的に感知するよう構成された前記センサーに電気的に接続された少なくとも１つの導電トレースを備える請求項１９に記載のシステム。
【請求項２１】
前記システムは、第２の回路基板をさらに含み、前記信号は、前記第１の回路基板から前記第２の基板に、少なくとも１つの前記マニュピュレーターを移動させるよう構成されている請求項１に記載のシステム。
【請求項２２】
前記システムは、前記回路基板の前記第１の表面上に研磨された表面をさらに含み、前記マニュピュレーターは、前記研磨された表面上を移動するよう配置されている請求項１に記載のシステム。
【請求項２３】
前記研磨された面は、前記マニュピュレーターの浮上距離よりも小さい粗さを有する請求項２２に記載のシステム。
【請求項２４】
前記回路基板は、前記トレース内の電流を制御するよう構成された電気部品を含む請求項１に記載のシステム。
【請求項２５】
前記マニュピュレーターは、同じ動作平面内で他のマニュピュレーターを反発するよう構成されている請求項１に記載のシステム。
【請求項２６】
前記マニュピュレーターは、ゼロネット磁気双極子モーメントを有する請求項１に記載のシステム。
【請求項２７】
前記マニュピュレーターは、前記マニュピュレーターの前記磁気モーメントをゼロとし、他のマニュピュレーターを反発するように構成された、外側の極が打ち消されている中央の磁石を含む請求項１に記載のシステム。
【請求項２８】
請求項１に記載のシステム内の前記回路基板上の磁気マニュピュレーターを推進させる方法であって、
前記コントローラーを用いて駆動信号を生成する工程と、
前記駆動信号を、前記回路基板内に配置された少なくとも２つの導電トレースに供給する工程とを含むことを特徴とする方法。
【請求項２９】
前記導電トレースは、交互配置された２つのトレースセットが、第１の方向に空間的にオフセットされたパターン状で配置され、前記駆動信号を供給する工程は、前記第１の方向と平行に前記マニュピュレーターを移動させるようなタイムシーケンスで前記駆動信号を供給する工程を含む請求項２８に記載の方法。
【請求項３０】
前記導電トレースは、第１の方向に空間的にオフセットされたジグザグパターン状に配置され、前記駆動信号を供給する工程は、前記第１の方向に前記マニュピュレーターを移動させるようなタイムシーケンスで前記駆動信号を供給する工程を含む請求項２８に記載の方法。
【請求項３１】
前記導電トレースに前記駆動信号を供給する工程は、離散ステップで、前記駆動信号を供給する工程を含み、前記離散ステップは、正の電流または負の電流のいずれか一方を前記導電トレースのそれぞれに対し、独立に供給した結果生じる請求項２８に記載の方法。
【請求項３２】
前記駆動信号を供給する工程は、前記離散ステップの間の中間位置を実現するため、前記トレースの１つにおける電流がゼロに設定されるマイクロステッピングを含む請求項３１に記載の方法。
【請求項３３】
前記駆動信号を供給する工程は、
第１のゾーン内に第１の電流を生成するために、前記第１のゾーン内でトレースを駆動する工程と、
第２のゾーン内に第２の電流を生成するために、前記第２のゾーン内でトレースを駆動する工程と、
前記第１および第２のゾーン間に連続した磁場パターンを発生させるために、前記第１および前記第２の電流を使用する工程とを含む請求項２８に記載の方法。
【請求項３４】
前記駆動信号を供給する工程は、
特定の位置の第１の側面側で、前記回路基板の前記表面に平行な第１の方向に、正の電流を供給する工程と、
前記特定の位置の第２の側面側で、前記第１の方向と反対の方向であって、前記回路基板の前記表面に平行な第２の方向に、負の電流を供給する工程と、
前記特定の位置の第３の側面側で、前記回路基板の前記表面に平行な第３の方向に、正の電流を供給する工程と、
前記特定の位置にマニュピュレーターを定常的に保持するため、前記特定の位置の第４の側面側で、前記第３の方向と反対の方向であって、前記回路基板の前記表面に平行な第４の方向に、負の電流を供給する工程とを含む請求項２８に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【背景技術】
【０００１】
磁石浮上（magnet levitation）は、多くの応用可能性を有している。ペルライン（Pelrine）によるアメリカ特許第５，０９９，２１６号“磁気浮上装置（Magnetically Levitated Apparatus）”は、磁気的に浮上しているロボットマニピュレーターについて議論している。このマニュピュレーターは、永久磁石のような磁気的に活性な部品を備えている。該部品上には、電磁石（electromagnets）によって発生する場（field）によって、磁力が付与されている。また、この議論は、ロボットマニュピュレーターの動作の安定性およびダンピング（制動）にも及んでおり、該マニュピュレーターは、６つの自由度を有して、動くことができる。
【０００２】
ペルラインによるアメリカ特許第５，３９６，１３６号“磁場浮上（Magnetic Field Levitation）”は、磁石アレイを有する磁力部材と、反磁性（diamagnetic）または磁力部材よりも透磁率（permeability）の低いその他の材料を用いることを議論している。この反磁性材料は、磁性部材が、外部の磁力によって浮上され、移動されることが可能な領域を定めるベースとして機能する。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
これらのアプローチは、一般的に、磁気ロボットに作用する磁場を提供するための電磁石アレイを利用する。この電磁石アレイは、電磁石によって発生した場を用いたロボットの制御をすることができる領域を規定する。これらアレイは、ロボットをかなり正確に制御することができるが、このようなアプローチにおいても、ロボットに作用させるための外力を提供する電磁石が必要である。別のアプローチとして、アメリカ特許第６，８５８，１８４号“マイクロラボラトリーデバイスおよび方法（Microlaboratory Devices and Methods）”は、基板上の駆動素子アレイと協働する付勢素子（biasing element）を内部に有する基板を用いることを議論している。この駆動素子は、基板と駆動素子との間の空間内で、磁性素子を動かすことができる。
【図面の簡単な説明】
【０００４】
図１は、磁気浮上マニュピュレーターシステムの側面図である。
【０００５】
図２は、磁石アレイを有するマニュピュレーターの実施例を示す図である。
【０００６】
図３は、磁気浮上マニュピュレーターシステム回路基板の側面図である。
【０００７】
図４〜６は、磁場を発生させるために用いられるトレースパターンの実施例を示す図である。
【０００８】
図７および８は、磁場を発生させるために用いられるトレースパターンの別の実施例を示す図である。
【０００９】
図９〜１２は、磁場を発生させるために用いられるトレースパターンの別の実施例を示す図である。
【００１０】
図１３および１４は、磁場を発生させるために用いられる回転トレースパターンの実施例を示す図である。
【００１１】
図１５Ａ〜Ｄは、制御パターンを有する回路基板を示す図である。
【００１２】
図１６は、浮上マイクロファクトリーの実施例を示す図である。
【００１３】
図１７は、ジグザクパターン内のゾーンを横断するマニュピュレーターを示す図である。
【００１４】
図１８および１９は、格子パターン内のゾーン内の境界および電流の流れの実施例を示す図である。
【００１５】
図２０は、浮上マニュピュレーターシステムにおけるトレース用の駆動回路を示す図である。
【００１６】
図２１〜２８は、マイクロファクトリーシステムの構成の実施例を示す図である。
【００１７】
図２９および３０は、エンドエフェクターの実施例を示す図である。
【００１８】
図３１は、重力補助傾斜に適したエンドエフェクターの実施例を示す図である。
【００１９】
図３２は、多重基板磁気浮上マニュピュレーターシステムの実施例を示す図である。
【００２０】
図３３は、フレキシブル回路基板を有する磁気浮上マニュピュレーターシステムの実施例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
図１は、磁気浮上マニュピュレーターシステム１０の側面図である。このシステムは、電流通過用の回路トレース１６、２２を内部に有する回路基板１２を備えている。本実施例では、回路トレース２２は電流通過に用いられ、励磁（energized）される。電流は、トレース２２内をページ奥側に向かって流れている。その結果として生じる磁場は、磁石１８（以下、マニュピュレーターとも称される）に作用する。マニュピュレーター１８は、マニュピュレーターの磁気双極子モーメント（magnetic dipole moment）または磁化（magnetization）と、励磁されたトレース２２によって発生した場とが平行に（直線状に）並ぶように、位置２０に移動する。図２では、磁石１８は、水平方向かつ右方向への磁化を有する。この磁化は、垂直上方向または垂直下方向等の異なる方向に配向していてもよい。この場合、マニュピュレーターは、励磁されたトレース２２に応答するが、励磁されたトレース２２に対して、異なる平衡場所（equilibrium location）に移動する（水平方向の場というよりむしろ、トレース２２からの垂直方向の場に対して平行に並ぶように移動する）。回路基板１２は、磁石を所望の位置に機械的に停止させる１５のような機械的な止め具（stopper）を備えていてもよい。これにより、単純に磁石を制御することができる。また、回路基板１２は、光学センシング等の誘導性フィードバック（inductive feedback）を用いてマニュピュレーターの位置を感知する１７のようなセンサーをさらに備えていてもよい。例えば、光学センシングは、センサー１９として図示されているように、センサーに光を導く孔（hole）を有する基板の層内の光学センサーによって遂行されることができる。磁石またはマニュピュレーター構造の一部が孔の上方を通過する際、光が遮られるので、光学センサーは、その通過を感知することができる。
【００２２】
反磁性層１４は、マニュピュレーター１８を浮上させる揚力（lift force）を提供する領域を規定している。該領域上では、マニュピュレーターが浮上可能となっている。回路基板１２内の個々のトレース内の電流を制御することにより、マニュピュレーターを移動させ、タスクを実行させることができる。したがって、マニュピュレーター、回路基板および電流の供給を制御するコントローラーを組み合わせることによって、有用なタスクを実行するようマニュピュレーターの移動をコーディネート（調整）することができる。これにより、物体（固体および液体の双方を含む）の輸送、接着剤の付与やその他の工程を通じた物体の組み立て、物体の仕分け、材料特性の品質管理評価等の幅広い様々な物理的タスクを実行することができる。これらおよび類似の独立したタスクは、以下、ユニット操作（unit operation）と称される。
【００２３】
さらに、システムレベルにおける、より高度なコーディネートと制御によって、複雑な部品の製造やその他複数の有用な工業的工程を実行することができる。このコーディネートは、フルスケールファクトリーの自動化と同様であり、ここで議論する実施例のマイクロスケールファクトリーにも適用可能である。このコーディネートされたマニュピュレーターのフルシステムは、浮上マニュピュレーターのマイクロファクトリーまたは浮上マイクロファクトリーとして適用可能である。浮上マイクロファクトリーの例は、図１６を参照して、後に詳述する。
【００２４】
マニュピュレーターは、一般的に、１つまたは接触して配置された複数の磁石によって構成される。実施例の１つでは、マニュピュレーターは、１つの中央の磁石と、４つの外側の磁石とから構成されている。これら磁石の極（pole）および配置は、多くの効果を奏することができる。マニュピュレーターは、同一の動作平面内の他のマニュピュレーターを反発するよう構成されていてもよい。例えば、外側の極が打ち消されている中央の磁石は、マニュピュレーターの磁気モーメントをゼロとし、同様に構成された他のマニュピュレーターに対して反発するよう構成されている。または、もしくはそれに加えて、マニュピュレーターは、地球の磁場等の大きなスケールの外部磁場による相互作用を低減するため、ゼロネット（zero net；正味ゼロ、すなわち、正と負の電荷の和がゼロ）磁気双極子モーメントを有していてもよい。浮上の際、マニュピュレーターは、６つの自由度、すなわち、ｘ、ｙ、ｚ軸に沿った３並進方向、およびピッチ(pitch)回転、ヨー（yaw）回転およびロール(roll)回転の３回転の自由度を有して、動くことができる。
【００２５】
図２に示す実施例では、マニュピュレーターは、磁石アレイで構成されている。図２の実施例では、Ｎ極を有する中央の磁石が１×１ｍｍであり、Ｓ極を有する打ち消し磁石が１×０．２５ｍｍである。本実施例では、１×１ｍｍの磁石および１×０．２５ｍｍの磁石は、０．４ｍｍの厚さを有している。これらの磁石は、エポキシ等を用いて互いに接着されたグレード５０ネオジム鉄磁石（grade 50 neodymium-iron magnets）であってもよい。この具体的な構成は、単に、例として挙げているにすぎない。別の構成では、例えば、中央の磁石は同様に１×１ｍｍであり、４つの打ち消し磁石は０．７５×０．３３ｍｍである。実施例の１つでは、１×１ｍｍの磁石および０．７５×０．３３ｍｍの４つの磁石は、０．４ｍｍの厚さを有する。また、ノーネット磁気モーメントのチェッカーボード（格子縞）配列等の多くの種類のアレイが構成可能であり、また使用可能である。９つの磁石のチェッカーボードアレイは、ネット磁気モーメントを有し、同様に配向された９つの磁石アレイを反発する。また、磁気シールドは、マニュピュレーター間（manipulator-manipulator）の磁気相互作用を最小化し、マニュピュレーターの最密パッキング（close packing）を可能とする。
【００２６】
また、磁石アレイは、ロッドやワイヤー等の剛体かつ軽量の部材に、接着剤によって、接合されていてもよい。接合されたマニュピュレーターの磁気的な挙動は、接合の性質（剛性や柔軟性）およびアレイ同士の位置関係に依存する。実施例の１つにおいては、例えば、図２に示す磁気構成の第１のアレイは、シアノアクリレート接着剤を有する０．３ｍｍグラファイトロッドによって、第２のアレイに、２つのアレイの底部が平行になるよう剛接合（rigidly connected）されている。本実施例におけるアレイの双方は、同じように配向しており、さらに、剛接合のオフセット距離は、アレイの双方が、以下に詳述するような繰り返しトレースパターンから、同一の磁力を受けるよう選択されている。
【００２７】
マニュピュレーターは、回路基板上のトレースに流れる電流によって発生した磁場に応答することにより移動する。なお、回路基板は、プリント配線基板、セラミック基板、半導体ウエハー等の数多くの代替手段のいずれか１つで構成することができる。回路基板は、特に限定されるものではなく、回路基板の如何なる具体的な構成および材料に限定されるものではない。図３は、そのような基板の実施例を示す図である。本実施例では、回路基板１２は、典型的には銅である４つの導電トレースの層３２、３０、２８、２６を有している。各層３２、３０、２８、２６の間は、３６のような絶縁層によって分離されている。絶縁層３６は、典型的には、最小限度の厚さを有している。同様に、層３２から２６までの層全体は、最小限度の厚さを有している。一般的に、下側の層ほど低いゲインを有している。ここでいうゲインとは、導電層２４の上面での電流単位当たりの磁場勾配（magnetic field gradient）によって定義される。永久磁石ひいてはマニュピュレーターは、磁場勾配によって移動する。下側のトレースにおける低いゲインは、トレース内に流れる電流を必要なだけ増加させることによって、補われてもよい。
【００２８】
実施例の１つでは、例えば、絶縁層３６は、０．００２”（インチ）の厚さを有し、導電層３２、３０、２８、２６は、厚さ０．００２８”（インチ）の銅を用いている（プリント配線基板の産業では、２オンス銅と呼ばれることが多い）。本実施例では、トレース幅は、典型的には０．０１０”（インチ）幅であり、層２６、２８、３０、３２用の電流は、それぞれ、０．２５Ａ、０．３３Ａ、０．４８Ａ、０．７０Ａである。以下に詳述するように、同じ大きさの負の電流は、ロボットを動かすための直交駆動（quadrature drive）に用いることができる。当然、その他の値の電流も用いることができ、より低い電流は発熱を減らすことができる一方、より高い電流は、より大きな力を発生するために用いることができ、ロボットを表面に沿ってスライドさせるというよりも、上方に浮上させ易くすることができる。
【００２９】
回路の底部の層３２と接続層３４との間には、比較的大きな絶縁層３８が配置されている。ある実験では、内部の絶縁層３８は、１ｍｍ以上の厚さを有している。接続層３４は、基板の上側の各トレースと各絶縁層との間と同様に、ビアによって内部の絶縁層３８を介して、導電トレース層に接続されている。実施例の１つでは、このビア接続は、基板の端部を経ている。
【００３０】
反磁性層１４は、回路基板１２の第１の面上に位置している。上述のように、反磁性層は、マニュピュレーターを浮上させる揚力を提供するものである。場を用いたより正確な制御を実現するための渦電流ダンピング（eddy current damping）を提供する導電層２４が、反磁性層の上側に位置していてもよい。電流ダンピング層は、トレースパターンを有する内部の導電層と異なり、典型的には、反磁性層の全面を覆う導電層である。反磁性層１４と導電層２４の厚さは、マニュピュレーターおよび磁石の大きさに依存し、一般的に、より大きなマニュピュレーターおよび磁石は、より厚い層を必要とする。
【００３１】
図２に示す１×１×０．４ｍｍの中央の磁石と、０．７５×０．３３×０．４ｍｍの外側の磁石とを有する磁石アレイを用いた実施例の１つでは、反磁性層１４は、０．５ｍｍ厚の研磨された熱分解グラファイト（pyrolytic graphite）のシートを用いて形成されている。導電層は、約０．０１２ｍｍ厚の研磨された銅で形成されている。いくつかの実施例においては、マニュピュレーターは、反磁性層および導電層上で完全に浮上しているわけではなく、その表面上をスライドする。スライドモーションを用いるその他の実施例では、反磁性層は、省略可能である。しかしながら、マニュピュレーターが浮上しない場合であっても、反磁性層１４は、マニュピュレーターを表面から遠ざける反磁性力を提供する。これにより、スライドモーションを用いる場合であっても、垂直抗力を減らすことができ、実質的な摩擦力を低減することができる。実施例の１つにおいては、摩擦力をさらに低減するため、非常に薄い反磁性グラファイトの第２の層（０．０２５ｍｍ厚）が導電層２４の上面に設けられている（図示せず）。
【００３２】
図１〜３は、比較的平坦な回路基板１２を図示しているが、回路基板１２は、従来技術において既知の回路製造手段を用いて、凹凸またはその他複雑な形状に湾曲していてもよい。例えば、回路基板１２は、従来技術において既知のフレックス回路製造プロセスを用いて製造されてもよいし、インジェクトプリント回路のようなプロセスを用いて、湾曲物体上に直接製造されてもよい。いくつかの実施例においては、絶縁層３８は、回路の機械的な柔軟性を向上させるため、非常に薄いかまたは全体が省略されていてもよい。また、いくつかの実施例においては、従来技術において既知のビアおよび導体パッドを用いて、磁気的に活性な領域側と接続しないようにすることにより、接続層３４も同様に省略することができる。
【００３３】
マニュピュレーターが移動可能な制御ゾーンを利用するマニュピュレーターを制御するために、回路基板の各層は、ビアにより互いに接続された、または互いに直接接続された繰り返しのトレースパターンを有している。図４〜６は、ビア配列の実施例を示す図である。実施例の１つでは、図３の層２６、すなわち第１の導電層は、２つの平行配線パターン４０、４１を有しており、平行配線パターン４１は、平行配線パターン４０に対し、図４に示すように、各パターンのトレース間距離（trace-to-trace distance）の半分の距離、オフセットしている。例えば、第１の平行配線パターンは、パターン中のトレース間距離が１ｍｍであり、第２の平行配線パターンは、第１のパターンから０．５ｍｍオフセットしている。このパターンは、各配線の末端において、次の配線またはパターン中の配線と接続されているので、パターン中のトレースの長さの大部分は、平行配線を構成している。
【００３４】
４３のようなビアは、層２６内で２つのパターンが接触するであろう領域において、図３の第２の層２８内へ交差（cross over）を行うために用いられる。これらのビアは、トレース４１をパターン内に保持しつつ、トレース４０に接触しないようにする一種の“地下道（underpass）”を形成する。図４に示すトレースは、典型的に、マニュピュレーターを図示のｘ方向または水平方向に移動させるために用いられることから、ｘトレースと呼ばれる。
【００３５】
図５は、図示のｙ方向または垂直方向への移動に用いられる同様のパターンおよびトレースを示す図である。図３の第２の導電層２８は、互いにトレース間距離の半分、オフセットしている２つの平行配線パターン４４、４６を有している。４８のようなビアは、平行配線パターン４４用の層１を用いた交差接続（crossover connections）を提供するために、第１の導電層２６へ繋がっている。図６は、第１の層および第２の層のビアパターンの組み合わせを示す図である。用語“ピクセル（pixel）”は、主として、“画素（picture element）”または画像の最小部を意味し、これら組み合わせパターンは、以下ピクセル（pixels）と称される。これらピクセルは、一般的には、ピクセルパターン（pixilated pattern）で配列されており、ディスプレイ素子のピクセルと非常によく似た状態となっている。このピクセルそれぞれは、１つのマニュピュレーターを駆動させることができる。また、もしピクセルが十分に大きければ、複数のマニュピュレーターを同時に駆動させることができる。そのような場合、ピクセル上の全てのマニュピュレーターは、一致して同時に動く。
【００３６】
図７および８は、磁場を発生させるために用いられるトレースパターンの別の実施例を示す図である。図７は、図４〜６に示したピクセルと同様のオフセットパターンを用いるＸピクセル５０を示す図である。しかしながら、この実施例において、Ｘピクセル用の２つのオフセットパターンは、互いに分離している層内に配置されている。これにより、交差用のビアを省略できるものの、より多くの層が必要となる。Ｙピクセルも同様に、オフセットパターン用の２つの層を必要とするので、結果として４つの導電層を使用する必要がある。
【００３７】
ピクセルの境界におけるいくつかの場を打ち消す必要があることから、ＸおよびＹパターンの“フリップ（反転）”バージョンが必要となる。例えば、図７は、図４と同様のＸピクセル５０と、垂直方向のフリップバージョンＸｆ５２との組み合わせを示す図である。これらピクセル５０と５２との境界において、各ピクセルの平行配線パターンは、次の垂直トレースを形成するために短いセグメントを水平方向にターンさせるので、これら２つのピクセルのトレースは、互いに近接近（close proximity）している。これら短い水平方向のセグメントは、不要な磁場が発生した場合、垂直方向の動きを妨げてしまう。しかしながら、ピクセル５０用の水平方向のセグメントを、反対方向の電流が流れているピクセル５２の水平方向のセグメントに近接させて並べることによって、Ｘ方向パターン内の水平方向のセグメントからの不要な磁場を、２つのピクセル間において効率的に打ち消すことができる。図の拡大部分において、矢印は、異なるトレース内に流れる電流が互いに異なる方向に流れていることを示している。なお、図ではトレースの最上部（トップ）層のみを示している。図示のとおり、垂直方向のトレース内に流れる電流は直線状に並べられており、水平方向のトレース内に流れる電流は互いに反対方向に流れている。この結果、両ピクセル間での打消し（cancellation）を実現することができる。
【００３８】
同様に、図５に示したものと同様のＹピクセル５４には、そのフリップバージョンＹｆ５６が存在する。ｘ方向およびｙ方向の双方にマニュピュレーターを移動可能なピクセル集合体（aggregate pixel）と考えられるユニットを形成するため、Ｘ＋Ｙ、Ｘ＋Ｙｆ、Ｘｆ＋Ｙ、Ｘｆ＋Ｙｆの組み合わせのバリエーションが用いられる。ビアは、回路基板を通して、図３の接続層３４上への外部接続に用いることができる。このユニットは、マニュピュレーター制御の必要に応じて、回路基板の全面にタイル状に配置することができる。電流源との適切な接続によって、最下部（ボトム）の層３４上の外部接続を介し、ピクセル内のトレースを駆動するために電流を供給することができる。また、外部接続は、共通の制御下に置かれたピクセル群を提供するため、ピクセルを直列または並列に接続するようにジャンパー接続（jumpered）されていてもよい。その際、それぞれのトレース内を流れる電流は、同一であってもよいし、もし必要であれば、接続に応じた逆極性（reversed polarity）であってもよい。
【００３９】
図９〜１２は、トレースパターンの別の実施例を示す図である。図９は、駆動トレース用に第１の導電層内に設けられた対称なジグザク配線パターン７０の一例を示す図である。ジグザクトレースによって構成されたジグザク配線パターンは、パターン内の各矩形部の高さおよび幅が全て等しくＬであり、対称である。矩形部の角部は、パターン内の他の矩形部との隙間（clearance）を確保するため、曲げられている。第１の層は、７２のようなコネクターを有している。オフセットされた同じジグザグ配線パターンが層２および層３に用いられている。
【００４０】
例えば、図１０では、図９に示したジグザク配線パターン７０がトレース層２６（図３参照）上で繰り返されている。トレース層２８（図３参照）上に設けられた図１０のパターン７４は、ジグザク配線パターン７０に対して、矩形部の長さＬ（図９参照）の半分の距離、水平方向にオフセットされている。これらの図に示されたジグザグパターンを用いることにより、マニュピュレーターを、トレースがオフセットされた方向のいずれの方向にも移動させることができる。実際に、トレースは、図１０に示すｘ方向およびｙ方向に対して４５度に、ジグザグパターンで延伸（run）している。図４〜８に示した平行配線パターンでは、マニュピュレーターは、以下に詳述するような連続的に動作するトレースに対して垂直に移動することとなる。一方、パターン７０と協働して動作する図１０のパターン７４は、図示のＸ軸方向にマニュピュレーターを移動させることができる。図１１は、パターン７８のように、垂直方向にオフセットしているジグザグパターンを示す図である。パターン７０と協働して動作するパターン７８は、図示のＹ軸方向にマニュピュレーターを移動させることができる。
【００４１】
図１２は、結果として得られるパターンを示す図である。図９のジグザクパターン７０は、第２および第３の導電層内において繰り返され、各繰り返しは、ジグザクトレースによって形成される略矩形部の一辺の長さの半分の距離、オフセットされている。第２の導電層用のパターン７４は、例えば、矩形部の長さの半分の距離、水平方向にオフセットされている。第３の導電層用のパターン７８は、矩形部の長さの半分の距離、垂直方向にオフセットされている。第２および第３の導電層は、それぞれ独自の接続部７６、８０を有しており、各接続部と電流源とを接続することにより、パターン内のトレースを励磁させることができる。
【００４２】
図９の基本パターンは、さらに適用を拡げることができる。図９の基本パターンを４５度回転させることにより、浮上するマニュピュレーターを回転させる機能を実現することができる。図１３は、回転パターン８２の一例を示す図である。このパターンは層４内に設けることができる。図１４は、複数の層を組み合わせた図であり、第１の層のパターン７０と、第２の層のパターン７４と、第３の層のパターン７８と、第４の層の回転パターン８２とを組み合わせて得られる配線パターンを示す図である。
【００４３】
実施例の１つでは、回転パターン８２は、対称ジグザク配線パターン７０内の矩形部のサイズに対して、回転パターン８２内の矩形部が２０．５＝１．４１４倍となるよう形成され、対称ジグザグパターン７０と共に配置されている。本実施例の回転パターン８２は、回転パターン８２の矩形部の角部と、対称ジグザク配線パターン７０内の矩形部の角部の対角の１つおきとが直線状になるよう配列されている。直線状に配列された回転アレイ８２の角部および対称ジグザク配線パターン７０の角部は、適切に設計された本実施例の磁石アレイマニュピュレーターを回転させるために用いることができる。具体的には、極性を打ち消す４つの等しいサイズの矩形磁石のアレイを用いたマニュピュレーターは、上方から見たときに、チェッカーボード状となるＮ極およびＳ極を有しており、回転させることができる。実施例の１つでは、４つのマグネットのそれぞれは、１ｍｍ×１ｍｍ×０．４ｍｍの寸法を有し、Ｌ＝１ｍｍサイズの矩形を有するパターンと共に用いられる（図９参照）。本実施例における回転は、層１および層４上の回転パターンを用いて、以下に詳述する電流の４つのパターンを駆動することにより達成される。別の実施例においては、回転パターンは、上述のＸＹビアパターンの下側に設けられており、回転を実行する。典型的には、上述のパターンと組み合わせた回転パターンは、適切に設計されたマニュピュレーターを特定の位置において回転させることができる。
【００４４】
また、別の選択肢として、多様な異なったトレースパターンを使用することができる。例えば、以下にさらに詳述するような円形および湾曲したトレースが使用可能である。図１５Ａ〜１５Ｄは、プリント回線基板のような、結果として得られる回路基板であって、矩形状のｘ−ｙパターンと円形パターンを有する回路基板を示す図である。
【００４５】
図１５Ａのｘ−ｙパターン９０では、図１５Ａに示す第１の層は、接続部９２と、既知のトレース間距離とを有する平行配線パターン９１とを含んでいる。図１５Ｂに示す第２の層は、接続部９４と、層１から第１の層のトレース間距離の半分の距離、垂直方向にオフセットしている平行配線パターン９３を含んでいる。これら２つのパターンを互いに重ね合わせた場合、パターン９３は、パターン９１の下側であって、ちょうどパターン９１の隙間に位置する。
【００４６】
図１５Ｃに示す第３の層は、接続部９６と、第１の層のパターン９１に対して９０度回転している平行配線パターン９５とを含む。第４の層は、接続部９８と、第１の層に対して９０度回転し、第３の層パターンからトレース間距離の半分の距離、水平方向にオフセットしている平行配線パターン９７とを有する。第３および第４の層のパターンを互いに重ね合わせた場合、第１および第２の層の場合と同じようであるが、９０度回転した状態で、パターン９７がパターン９５の隙間に位置する。
【００４７】
また、トレースパターンは湾曲していてもよい。図１５Ａ〜１５Ｄの回路基板は、円形パターン１００を有している。第１の層のパターン１０１は、接続部１０２を有し、平行配線パターンのトレース間距離と同じトレース間距離を有して、円形パターンに延伸している。第２の層のパターン１０３は、第１の層のパターンの円の９０度分と一致（overlap）している。この実施例では、層１と一致する１／４円形パターンが、第２の層の接続部１０４の近傍に、ページ上に左上４分円として配置されている。これら２つの図（drawings）を互い重ね合わせた場合、第２の層のパターン１０３を、第１の層のパターン１０１から区別して（separated from）、視認することはできない。
【００４８】
図１５Ｃの第３の層のパターン１０５は、第１および第２の層のパターンの円形パターンとは異なり、配線が第１の層に形成された円形パターンを内外に横切るようにして形成された、接続部１０６を有する放射状パターンである。この内外のトレース間距離は、１つの実施例の磁石のサイズとほぼ同じであるが、パターンの湾曲部の特徴として、内側部のトレース間距離は、外側部のトレース間距離と比較してわずかに狭い。図１５Ｄの接続部１０８を有する第４の層のパターン１０７は、第３の層のパターンと同じであるが、本実施例では、１．５度回転しており、第４の層の放射状の各配線は、第３の層の２つの放射状の配線の中間を通過する。別の実施例では、第４の層のパターンは、そのトレースが、対応する第３の層のトレースに対して、円に沿って、磁石のサイズの約１／２移動するよう回転されている。同様に、内外のトレース間距離は、ほぼ同じであり、実際には、内側部と外側部でトレース間距離がわずかに変化している。この円形パターンは、マニュピュレーターをレーストラック（競技場のトラック）のような円状に移動させることができる。層３を層４上に配置した場合、層４の配線は、層３のトレースの隙間から視認できる。
【００４９】
上述の議論は、単に、多重層上に形成された湾曲パターンを用いることができるということを示しているにすぎない。トレースパターンは、格子パターン、平行配線パターン、矩形パターン、湾曲パターンもしくはこれらの組み合わせ等の如何なる所望のタイプのパターンであってもよい。
【００５０】
回路基板内の構造を参照して、このような構造がマニュピュレーターを移動させるためにどのように用いられるのかについて議論する。マイクロファクトリーに対する如何なる特定の構成を限定するものではないが、議論用の情報（context）を提供するために、図１６は、液相堆積（liquid deposition）およびクリーニングステーション１１２、入力ステーション１１４、複数の出力ステーション１１６、再循環バッファーゾーン１１８、ステージゾーン１２０の８つのゾーンを含むワーク面を示している。このワーク面は、協調して動く複数のマニュピュレーターを有していてもよく、別々（alternate）のゾーン内にはマニュピュレーターセットを有していてもよい。マニュピュレーターの駆動は、コーディネートされる必要がある。また、従来技術において既知の様々なエンドエフェクター（ツール）を、マニュピュレーターに取り付けることによって、使用方法を拡張することができる。いくつかの例では、エンドエフェクターは、シンプルな、シャープな先端またはシャープでない先端（tips）である。
【００５１】
ジグザグおよび平行配線パターンでは、マニュピュレーターを推進させる磁力を発生させるために、直交駆動信号が用いられる。２つのトレースは、直交する時間依存の電流によって駆動される。進行波（traveling wave）は、マニュピュレーターを、平行配線パターンの直交駆動されているトレースに対して垂直な方向に、移動させることができる。例えば、上述した図４のトレース４０、４１のような、ｙ方向に対し空間的に変化する２つの交互配置（interleaved）された平行配線パターンは、マニュピュレーターをｘ方向に移動させることができる。以下、各トレースが正の電流で駆動されているという位相を意味する（＋，＋）、第１の層および第２の層を意味する（Ｌ１，Ｌ２）、Ｌ１が負で駆動され、Ｌ２が正で駆動されているという位相を意味する（−，＋）等の表記法を用いる。平行配線トレースに対して垂直な方向に移動させるための直交駆動は、次の電流のタイムシーケンスによって得られる。すなわち、（＋，−）、（−，＋）、（−，−）および（＋，−）である。このシーケンスを反転させることによって、移動の方向を反転させることができる。さらに、個々のステップ間の中間位置（状態）を実現するため、マイクロステッピング（microstepping）を用いてもよい。マイクロステッピングは、中間値を用いることによって実現してもよい。例えば、（＋，＋）と（−，＋）の間の位置を実現するため、（０，＋）で駆動してもよい。（０，＋）という表記における“０”は、トレース１中の平均電流がゼロであり、２つの状態の間であることを意味する。また、マイクロステッピングは、例えば、状態（＋，＋）と（−，＋）の間を高速で変動させる場合のように、平均して所望の状態となるような高速タイムシーケンスを用いて実現することができる。
【００５２】
この制御方法においては、マニュピュレーターの慣性（inertia）が高速シーケンスを実質的に平均化できるようにするため、電流を、マニュピュレーターの各々の電流状態（セット）に対する応答速度よりも素早く切り替える必要がある。さらに、マニュピュレーターは、第３の層（Ｌ３）および第４の層（Ｌ４）の内部の別のトレースセット等によって、垂直方向に移動することができる。ｘ方向への移動の際、典型的には、ｘ方向への移動中におけるｙ移動への不要な移動を防止するため、ｙトレース内の電流（値）は固定されたまま保持される。同様に、ｙ方向への移動の際、ｘトレース内の電流（値）は、典型的には、固定されたまま保持される。しかしながら、図６に示すようなトレースパターンを用いて、ｘトレース内およびｙトレース内の双方の直交電流を適切に駆動させることによって、マニュピュレーターを任意の対角方向に移動させることも可能である。ここでの記述は、直交駆動を用いたｘ方向およびｙ方向への移動について議論したが、トレース電流の大きさも制御に利用することができる。例えば、より高い電流およびその結果得られるより強い磁力を用いて、反磁性層１４の表面近傍に浮上しているマニュピュレーターの全部または一部を引き寄せる等の制御である。
【００５３】
図１７は、トレースの平行配線パターン内の直交駆動信号を用いることにより、マニュピュレーター１８を、ゾーン境界１２２を横切るように推進させる磁力を発生させるタイミングの一例を示す図である。この図では、図の簡略化のため、ページの垂直方向またはＹ方向に移動させるための１つのトレースセットのみが図示されている。別のトレースセット、すなわちＸトレースは、Ｘ移動が所望される際に、同様に駆動される。ゾーン１２４の直交トレースＡ、Ｂおよびゾーン１２６の対応トレースＡ’、Ｂ’は、それぞれ独立して制御される。マニュピュレーター１８をゾーン１２４からゾーン１２６に移動させるように、ゾーン１２４内のトレースＡおよびゾーン１２６内のトレースＡ’は、互いに逆方向の電流で駆動される。２つのＢトレース（トレースＢおよびトレースＢ’）も同様である。この方法では、ゾーン１２４内のトレースＡによって形成される磁場内の磁気パターンのピークおよびトラフ（谷）は、局地的に、電流が逆方向に流れているトレースＡ’を有するゾーン１２６内へ広がっている。トレースＢおよびトレースＢ’によって形成される磁気パターンも同様である。
【００５４】
図１８は、複数または全てのワーク面１３０が、１３２のようなより小さいゾーンに分割されている別の例を示す図である。各ゾーンは、１３４のような垂直方向に配向している水平駆動トレースと、１３６のような水平方向に配向している垂直駆動トレースを有している。これらのそれぞれ異なるゾーンは、駆動トレースのセグメントを制御しており、例えば、回路基板の底面との接続を行うビアによって、制御電子機器および電力源と接続可能である。議論を簡単にするため、これらのゾーンは、水平方向および垂直方向に１〜７に番号付けされている。例えば、本実施例のマニュピュレーター１８は、位置（４，４）に保持されている。一般的に、電流によって発生した場内の所望の磁気位置に、マニュピュレーター１８の磁気エネルギー極小値（local magnetic energy minimum）を配置（設定）するよう、水平および垂直トレースに電流を流すことによって、マニュピュレーターを定常位置（steady state position）に保持することができる。例えば、図１８に示すマニュピュレーター１８を用いた場合、マニュピュレーター１８の中心部のｘ位置およびｙ位置を（ｘ，ｙ）と表記し、位置（ａ，ｂ）のゾーンをＺ（ａ，ｂ）と表記したとき、ゾーンＺ（ｘ−１，ｙ）＝Ｚ（ｘ−１，ｙ−１）＝Ｚ（ｘ−１，ｙ＋１）＝Ｚ（ｘ−１，ｙ−２）＝Ｚ（ｘ−１，ｙ＋２）を通過する矢印１３８に示すような電流を下側から上側に流すと、格子の右方向への力が発生する。マニュピュレーターを（４，４）に保持している例では、正の電流が（３，２）、（３，３）、（３，４）、（３，５）、（３，６）を通過している。負の電流は、格子の左方向への等しい力を発生させるため、ゾーンＺ（ｘ＋１，ｙ）＝Ｚ（ｘ＋１，ｙ−１）＝Ｚ（ｘ＋１，ｙ＋１）、Ｚ（ｘ＋１，ｙ−２）＝Ｚ（ｘ＋１，ｙ＋２）を通過する矢印１４０に示すように上側から下側に流れている。または、負の電流は、保持点の左側の水平トレースを通過するように、保持点の上側の２つのゾーンからスタートし、保持点の下側の２つのゾーンで終わるように上側から下側に流れている。
【００５５】
同様に、電流は、水平方向に配向している垂直方向の制御トレース１４２、１４４を通過する。正の電流は、左側から右側への矢印１４４のように流れ、保持点から垂直方向への電圧上昇（step up）がなされる。これにより、格子の下方向への力が発生する。負の電流は、トレース１４２に沿って右側から左側に流れ、保持点から垂直方向への電圧降下（step down）がなされる。これにより、格子の上方向への力が発生する。このように、適切なゾーン内の電流を設定することによって、所望の磁気的位置を定めることができる。また、他の磁気配位（magnetic geometries）を有するマニュピュレーターは、所望の位置を設定するため、上述とは異なった電流セットを用いることとなる。
【００５６】
これらの原理を用いて、図１９に示すような隣接したトレース内の電流を制御することによって、マニュピュレーターを隣接するゾーンに移動させることができる。垂直方向に配向しており、（４，６）から（４，２）を通過する水平トレース１４６内の電流をいくつかの正のレベルに設定し、（３，６）から（３，２）を通過するトレース１３８内の電流をゼロに設定し、（５，２）から（５，６）を通過するトレース１４０内の電流をゼロに設定し、（６，２）から（６，６）を通過するトレース１４８内の電流をトレース１４６内の電流と同じ負の電流とすることによって、マニュピュレーターを図１８の位置から隣接するゾーンへ移動することができる。トレース１４８内の電流は、マニュピュレーターがさらに前進することを防いでいる。トレース１４２、１４４は、図１８の例と同じ電流を維持していてもよい。トレース１４２、１４４は、本実施例では、マニュピュレーターを動かさないものの、マニュピュレーターをページ内の所望のＹ位置または垂直位置に維持し続けるための磁気ガイドとして機能している。
【００５７】
マニュピュレーターを、水平方向または垂直方向の他の隣接するゾーンに移動させることと同様、マニュピュレーターを水平方向および垂直方向に同時に動かし、対角方向に移動させることも可能である。また、マニュピュレーターの異なる部分に対してトルクを与えるように、ゾーンと電流のセグメントを選択的に駆動することによって、回転させることも可能である。
【００５８】
格子状トレースでは、各ゾーン内の各トレースは、トレース下側の電子機器の２次元アレイによって、独立して駆動される。各トレース用に、トレース内の電流を双方向に駆動する４つのトランジスタが用いられてもよい。例えば、電流の状態を保持するフリップ−フロップ（flip-flops）のような他の回路と共に用いられ、従来技術において既知のトランジスタの配置によって構成される “Ｈ−ブリッジ（H-bridge）”を構成する４つのトランジスタである。ゾーンの格子用に設定された電流値の挙動は、２次元発光ダイオード（light-emitting diode）ディスプレイ内で設定されたピクセル値の挙動と同様である。コントローラーは、各タイムサイクルの間、電子機器に電流値を送る。もしくは、コントローラーは、サイクルを次のサイクルに変化させるための値のみを送り、電子機器は適切なゾーンの電流値を変更してもよい。
【００５９】
ここで示すデザインは、ジグザグ状の交互のトレース、もしくは水平および垂直トレースを有し、平行配線パターンとして説明した格子パターンを有する。いずれのデザインも、それぞれ長所と短所を有する。ジグザグパターンは、より少ない接続を必要し、制御もより単純である。また、ジグザクパターンは、平行配線パターンと同じような方法で、モザイク状に繋げていくこと（tesselate）ができる。これにより、ジグザグパターンは、格子レイアウトと同じ数のマニュピュレーターを制御することができる。また、格子または平行配線パターンは、マニュピュレーターを固定位置に保持するための電流を流す２つのトレース（一方はｘ、他方はｙ）を必要とするのに対して、ジグザグパターンは、マニュピュレーターを固定位置に保持するための電流を流す１つのトレースのみ必要とする。一方、格子レイアウトは、はるかに多くの自由度を有し、さらにより正確な制御を実行できるものの、より多くの信号とより多くの接続を必要とする。
【００６０】
【００６１】
トレースへの電流の供給は、多くの異なる方法で実現することができる。図２０は、トレース用のスイッチと駆動回路の一例を示す図である。上述したコントローラー１６０は、上述のように、トレースへの電流の供給とタイミングを制御する。ソリッドステートリレー（solid state relay）のようなリレー（relay）１６２は、正の電流を特定のトレースに流し、リレー１６４は、負の電流を流す。本実施例では、各リレーは、コントローラー１６０からの５〜１０ミリアンペア（milliamps）の入力電流によって、切り替えられる。リレーの出力の一方の端子は、正または負の電圧源に接続されている。本実施例では、１２ボルト（volts）の電圧供給であるが、システムの構成、材料、応用分野に応じてその他の電圧（値）を供給してもよい。
【００６２】
抵抗１６６は、可変抵抗器（potentiometer）１６８が不正確に設定された場合に、安全装置として電流を制限する。図２０の具体例では、電圧と電流が供給されると、駆動している回路のトレースが有する抵抗にもよるが、合計抵抗は、約１０〜４０オーム（ohms）となる。インダクタ１７０は、回路基板上のトレースそのものを表し、電源供給用のグランド１７２に接地されている。回路の制御用の他の要素と同様に、抵抗も回路基板内に備えられていてもよい。
【００６３】
動作において、システムは、最適な制御のために、アナログ電流を用いてもよい。ここまでは、トレースによって規定される領域上での制御を中心に議論した。しかしながら、マニュピュレーターは、制御されていない領域を横切って、分割された制御領域から他の制御領域へ移動してもよい。これは、弾道（ballistic）モーションと称される。１つのゾーン内でのマニュピュレーターの動作が実行された（構成された）後、制御されていない領域を横切って、別の制御領域へ“飛ばされる（flown）”。この動作は、同じ回路基板上の異なるゾーン間においても実行可能であるし、隙間（gaps）を横切って、１つの回路基板から他の回路基板に移動するような場合にも実行可能である。
【００６４】
異なるタイプの動作においては、１つの領域上に浮上している磁石があり、別の領域上に表面と接している磁石があってもよい。しかしながら、一般的には、浮上しているマニュピュレーターを用いる場合のほうが、摩耗が少なく、さらに、動作の自由度を多く確保できる。図３に示す反磁性層もしくは電流ダンピング層は、マニュピュレーターの移動を容易にするために研磨されていてもよい。層の表面は、マニュピュレーターの浮上距離よりも小さい粗さ（roughness）を有している。非浮上領域は、電源ＯＦＦ状態時の非制御位置に、マニュピュレーターを浮上移動または浮動（floating）させることなく、システムの電源を安全にＯＦＦにするために用いられる。別の実施例では、浮上領域表面は、電源ＯＦＦ時に、マニュピュレーターを特定の位置に保持するための浅い窪みを有することができる。マニュピュレーターは、このシステムを通じて自由に移動するので、電源シャットダウン手続きは、トレースへのシステム電源がＯＦＦにされる前に、安全にパワーをＯＦＦできる位置に、マニュピュレーターを移動させる。
【００６５】
ここまで、移動され、制御されるマニュピュレーター用のシステム全体を説明してきたが、次に、これらマニュピュレーターの様々なファクトリータイプのセッティングの応用について説明する。図２１〜２８は、ファクトリー系のシステムにおける様々なプロセスを実行するための様々な構成を示す図である。図２１では、回路基板１２は、トレース内の電流を制御するために接続されたコントローラー１６０を有している。マニュピュレーター１８は、基本的なマニュピュレーターのワーク部品であるエンドエフェクター１８２を有している。この具体的なエンドエフェクターは、プローブまたは傾斜先端部（dip tip）１８４と、その表面上に付着している液体１８６とを有している。液体１８６は、ワーク対象物１９０上へ付着（deposited）される液体であってもよく、部品のピックアップまたはワーク対象物１９０上への部品配置を可能とするために、先端部１８４の表面粘着力（エネルギー）を変化させる液体であってもよい。液体は、収容部１８０からピックアップされ、エッチング液（etchant）、付着可能材料(depositable material)等として機能してもよい。トレース内の電流を制御することにより、マニュピュレーターを収容部１８０に移動させ、液体をピックアップさせ、さらに、ワーク対象物１９０上で作業させることができる。
【００６６】
図２２は、マニュピュレーターの別の構成を示す図である。本実施例では、ワーク対象物１９０は、非常に大きな高さを有するので、マニュピュレーターをワーク対象物１９０上方まで浮上させることができない。その代わり、本実施例のエンドエフェクター１８２は、延伸された長さを有しており、それにより、マニュピュレーターがワーク対象物の末端を超えてワークを実行することができる。このエンドエフェクターは、延伸された長さと同じ距離だけ、ワーク対象物の内側に到達する（エンドエフェクターの手を伸ばす）ことができる。
【００６７】
図２３に示すような、ワーク対象物１９０がシステムの作業場（floor）の向こう側に配置されている構成においても、同じような制限が存在する。回路基板１２は、ワーク対象物１９０と隣接して配置されており、マニュピュレーターは、延伸アーム１８２を有しており、ワーク対象物１９０の隣でホバリング（hover）している。ここでも同様に、このエンドエフェクターは、延伸アームの長さと同じ距離だけ、ワーク対象物の内側に到達することができる。
【００６８】
上述のように、複数のマニュピュレーターは、同時に動作することができる。図２４の構成では、複数のマニュピュレーター１８、２００は、ワーク対象物１９０上でワークを実行する。回路基板１２は、１９４のような孔（hole）を有しており、マニュピュレーターは、孔１９４を介して動作することができる。マニュピュレーターは、作業場の深さ方向へ下回転（下方向へのピボット運動）をする。本実施例または他の実施例において、複数のマニュピュレーターは、ワーク対象物１９０の異なる部分に到達するため、それぞれ異なる延伸された長さを有するエンドエフェクターを有していてもよい。
【００６９】
図２５では、ワーク対象物は、回路基板１２の上方に位置している。ワーク対象物は、重力に抗するように固定されているか、その他の物体の底面に取り付けられている。エンドエフェクターは、マニュピュレーターが上方のワーク対象物に対して、タスクを実行できるように配向されている。同様に、図２６では、ワーク対象物が回路基板１２の側面側に位置しており、回路基板１２上のエンドエフェクターが、ワーク対象物１９０上で、ピックアンドプレース（pick and place）を実行することができる。この場合、ワーク対象物１９０は、全ての領域を作業可能とするよう、回路基板に対して上下方向に平行移動可能としてもよい。
【００７０】
図２７に示す別の配置では、ワーク対象物１９０は、マニュピュレーター１８に対する揚力を提供する回路基板１２の下側に位置している。マニュピュレーター１８は、回路基板によって、ワーク対象物１９０上方の天井（ceiling）となるように、浮上されている。
【００７１】
図２８は、ある表面から別の表面へマニュピュレーターが移動する一例を示す図である。回路基板１２は、マニュピュレーター１８を浮上させ、第２の表面２１０へ向けてマニュピュレーター１８を移動させる。マニュピュレーターが第２の回路基板２１０に近づくにつれ、マニュピュレーターの制御は、回路基板２１０へ移行する。マニュピュレーター１８を制御している回路基板１２内のトレースは、回路基板２１０への制御の移行を促進（facilitate）するため、ＯＦＦされてもよい。実施例の１つでは、０．８〜１．０Ａの高電流パルスが回路基板２１０のトレース内で用いられ、制御の移行を促進する。垂直方向への移動に関し、マニュピュレーターは、典型的には、重力に抗するために、回路基板２１０の表面上に配置されている。この説明は、単に、タスクの実行に合わせて、マニュピュレーターを移動させるシステムの自由度および能力を実例として説明したにすぎない。
【００７２】
図２８に示されているように、システムは、様々な方向に配向された複数の回路基板１２から構成されてもよい。例えば、回路基板１２は、マニュピュレーターがワーク対象物１９０上の複数の点においてワーク実行可能とするように、図２６に示した回路基板を並列に複数個、複製（duplicated）されていてもよい。別のケースでは、例えば、マニュピュレーター１８の下側に回路基板１２を、マニュピュレーター１８の上側近傍に第２の回路基板を設置するように、複数の回路基板が、性能向上のために用いられてもよい。これは、図２７に示したマニュピュレーター１８の上側の回路基板１２に類似しているが、マニュピュレーター１８の下側の回路基板というより、ワーク対象物１９０の下側の回路基板と類似している。１つの回路基板よりむしろ２つの回路基板でマニュピュレーター１８を駆動することにより、マニュピュレーター１８の最大力（peak force）および最大速度（peak speed）を増加させることができる。また、図２８に示したような方法を用いて、回路基板間で自由に動く複数のマニュピュレーター１８を用いる図３２に示すような回路基板の３次元アレイを構成することができる。また、このシステムは、回路基板１２用のフレキシブル回路を用いて、図３３に示すような、曲がっている（bent）または湾曲している(curved)経路を構成することができる。
【００７３】
複数の回路基板１２を用いるシステムでは、複数のボードが固定されている。もしくは、いくつかの実施例では、ボードは、異なった方法を用いて、異なる所望の機能を実現するシステムを構成するために、交換可能であってもよい。例えば、システムは、各回路基板１２を交換可能な方法でマザーボードに差し込む、従来技術において既知の“マザーボード（mother board）”アプローチを用いてもよい。
【００７４】
上述の記載から、マニュピュレーター１８は、回路１２上で様々な姿勢（向き）で動作可能であることは十分に理解される。すなわち、回路１２のトレース内に十分な電流が供給されれば、マニュピュレーター１８は、例えば、回路基板１２が携帯型ハンドヘルド機器内にある場合、または回路基板１２が姿勢の変化が可能なロボットの手首（wrist）に取り付けられている場合のように、姿勢（向き）が動的に変化している間であっても、動作することができる。実施例の１つでは、図２６、２８に示したようなビアパターンは、０．８Ａのトレース電流と共に導電層２６、２８内で用いられている。それは、手によってその姿勢が変化する間にも動作可能なデバイスに用いられる。
【００７５】
マニュピュレーターによって実行されるタスクは、エンドエフェクターおよびその構成に部分的に依存してもよい。例えば、図２１〜２８のエンドエフェクター１８２は、付着液、エッチング液、もしくは、物体または他の部品をエンドエフェクターに接着するための接着剤のいずれかの液体を用いている。図２９は、物体を複数の方向に動き回らせ、ワーク面を横切って物を運ぶのに有用な“フォーク（fork）”または“シャベル（shovel）”タイプのエンドエフェクターを示す図である。図３０は、物体を一方の方向に押す出すための“押し込み（pusher）”タイプのエンドエフェクターを示す図である。実施例の１つでは、あるマニュピュレーターの端部上のシャベルエンドエフェクターは、別のマニュピュレーターのホウキ（broom）エンドエフェクターの前に物体を設置してもよく、ホウキエンドタイプのエフェクターは、物体をワーク対象物に対してプッシュすることができる。
【００７６】
上述のように、適切なプログラミングによって、マニュピュレーターは、平行移動および回転され、様々な所望のタスクを実行するよう、取り付けられたエンドエフェクターを平行移動および回転させることができる。また、反磁性層１４の面に平行な軸に対して傾斜させるために、例えば、マニュピュレーター１８の他の部分の磁石を引き寄せつつ、マニュピュレーター１８の一部の磁石を押しるように（反発させるように）、トレース電流を駆動させてもよい。これにより、マニュピュレーター１８を、反磁性層１４に平行な軸に対して、回転また傾斜させることができる。ここで、“ヨー（yaw）”を回路基板１２のローカル面に垂直な軸に対する回転と定義し、“ロール（roll）”および”ピッチ(pitch)”を回転方向に対する傾斜とする。また、重力に加えて、エンドエフェクターの付加質量が加わる多くの場合において、同等の単純な制御方法（simpler control strategies）を、傾斜のために用いてもよい。
【００７７】
図３１は、図２３に示した構成と似た単純な例を示す図である。回路基板１２上を移動し、エンドエフェクター１８２を有するマニュピュレーター１８は、ワーク対象物１９０に対し、図３１ａに示すようなパワーＯＮ状態で近づいていく。エンドエフェクター１８２を、ワーク対象物１９０に接触するよう、下方向に傾斜させるため、パワーがＯＦＦされる。本実施例では、エンドエフェクター１８２は、マニュピュレーター１８に対して十分な質量を有している。重力は、マニュピュレーター１８と、マニュピュレーター１８に堅固に取り付けられているエンドエフェクター１８２を、図３１ｂに示されているページ奥側に延伸している傾斜軸２３０周りに回転させることで、それらを“下側傾斜（tilt-down）”状態で傾斜させる。傾斜軸２３０は、一般的には、回転軸を定めるマニュピュレーター１８上の少なくとも２つの点と一致する。また、質量分布によっては、マニュピュレーター１８上の単一の点を用いてもよく、単一の点は、反磁性層１４に平行というよりは垂直な軸に対するいくつかの回転を発生させる。
【００７８】
上側に傾斜させるために、回路基板１２にパワーが供給され、マニュピュレーター１８およびエンドエフェクター１８２が再度元の位置に戻るために十分な磁力が発生し、“上側傾斜（tilt-up）”状態に戻る。また、回路基板１２からの利用可能な磁力によって、下側傾斜状態および上側傾斜状態を確実に実現するために、エンドエフェクター１８２の構成に質量を追加またはエンドエフェクター１８２の構成から質量を除去（subtract）してもよい。また、反磁性層１４の低い摩擦力とバランスを取るように質量を適切に調整することによって、低電流モードでは、マニュピュレーター１８が回路基板の面に対して平行に移動し、高電流モードでは、マニュピュレーター１８が上側傾斜動作を実行するように構成することができる。実施例の１つでは、回路基板１２内の導電層２６、２８、３０、３２用（図３参照）の低電流モード用の低電流は、それぞれ、０．２５Ａ、０．３３Ａ、０．５Ａ、０．７Ａである。回路基板１２内の導電層２６、２８、３０、３２用の高電流モード用の高電流は、それぞれ、０．８Ａ、０．８Ａ、０．５Ａ、０．７Ａである。
【００７９】
このように、マイクロファクトリーシステムは、複数のマニュピュレーター１８を回路基板の表面上で制御するよう構成されている。この回路基板は、通常の製造技術を用いて製造することができる。コントローラーは、ワーク対象物上に対するタスクを実行するため、マニュピュレーターの正確な制御を提供する。
【００８０】
上記開示された他の特徴および機能、もしくは、それらの代替手段が、多くの異なるシステムや応用において、適切に組み合わせることができることは十分に理解されるであろう。また、現在予測していないまたは予期せぬ様々な代替手段、変更、バリエーション、またはこれらの改良が、以降、当該技術分野において知識を有するものによって為されるであろうが、それらも同様に、特許請求の範囲に記載された発明の範囲内である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５Ａ】
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【図１５Ｂ】
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【図１５Ｃ】
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【図１５Ｄ】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１ａ】
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【図３１ｂ】
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【図３２】
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【図３３】
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【国際調査報告】
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