(57)【要約】  特定の許容差の範囲内で蒸発源の蒸着速度を測定し且つ／又は制御する必要がある蒸着アプリケーション、とりわけＯＬＥＤの大量生産において、基板上に蒸着される層の厚さが測定され、制御され得るように、高速／低速源においてロバスト且つ正確な光学的厚さ測定法を使用するように測定システムが適合される。第１の蒸発源１１が、材料の層を基板２０上に蒸着させる。蒸着位置Ｄ１内に第２の蒸発源１２ｂから膜が蒸着される移動式要素４１が設けられる。その後、移動式要素は、厚さ検出器４５によって膜の厚さが測定される測定位置Ｄ２に搬送される。測定機器は、移動式要素上に蒸着される膜の厚さに応じて第１の蒸発源の蒸着を制御するように構成される。
2014515789.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
蒸着アプリケーション、とりわけ有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）の大量生産において、第１の蒸発源の蒸着速度すなわち前記第１の蒸発源によって基板上に蒸着される層の厚さを求めるための測定機器であって、
気化物質の少なくとも１つの膜が蒸着され得る面を与えるための移動式要素であって、前記膜は第２の蒸発源によって蒸着位置に蒸着される、前記移動式要素と、
前記移動式要素上に蒸着される膜の前記厚さを求めるための厚さ検出器であって、前記移動式要素上に蒸着される膜の前記厚さが検出される検出位置において、前記移動式要素と向かい合って配置される、前記厚さ検出器と、
前記移動式要素を搬送するためのアクチュエータ装置と
を含む測定機器であって、
前記測定機器は、前記移動式要素を前記蒸着位置から前記検出位置まで供給し、
前記測定機器は、前記第２の蒸発源によって前記移動式要素上に蒸着される前記少なくとも１つの膜の前記厚さに応じて、前記第１の蒸発源の前記蒸着を更に測定し且つ／又は制御する、
測定機器。
【請求項２】
前記測定機器が、特定の時間遅延の範囲内で前記移動式要素を前記蒸着位置から前記検出位置まで更に供給し、
特定の検出時点について、前記測定機器が、前記移動式要素の特定の表面領域を前記蒸着時点に更に相関させ、それによりこの表面領域内の前記膜の前記厚さが前記蒸着時点との相関関係において検出され得る、
請求項１に記載の測定機器。
【請求項３】
前記機器が、前記蒸着位置における蒸着点及び前記検出位置における検出点に関連して、前記蒸着時点と前記検出時点との間の時間遅延を調節し、前記時間遅延が数秒から数分の範囲内にある、請求項２に記載の測定機器。
【請求項４】
前記アクチュエータ装置が搬送速度を調節し、前記厚さ検出器が前記膜の前記厚さを光学的に検出し、前記アクチュエータ装置が送り装置及びカセットを含み、前記膜の最適な厚さの厚さ値が約１０ｎｍから２００ｎｍの範囲内にある、請求項１に記載の測定機器。
【請求項５】
前記アクチュエータ装置が、送り装置、カセット、及び少なくとも１つの偏向滑車を含むカセットテープシステム形式で提供され、
前記移動式要素が、テープ形式で提供されるバンド式コンベアであり、
前記バンド式コンベアが、１０ｎｍから２００ｎｍの厚さの膜を扱う、
請求項１に記載の測定機器。
【請求項６】
請求項１に記載の測定機器を含む蒸発装置であって、基板上に少なくとも１つの層を蒸着させるための多数のシャワーノズルを有するシャワーヘッド形式の第１の蒸発源と、前記測定機器によって与えられる移動式要素上に少なくとも１つの膜を蒸着させるための第２の蒸発源とを更に含み、
前記測定機器によって与えられる前記アクチュエータ装置が、前記移動式要素上に膜が蒸着され得るように、前記移動式要素を前記第２の蒸発源に沿って搬送し、
前記蒸発装置が、前記基板上に蒸着される任意の層の前記厚さとは独立に、前記移動式要素上に膜厚を与える、
蒸発装置。
【請求項７】
前記移動式要素は、搬送速度が前記基板の送り速度に一致するように前記基板の前記送り速度と同じ送り速度で、前記基板上に層が前記蒸着されるのと同時に、前記第２の蒸発源によって膜が蒸着され得る面を与え、
更に前記蒸発装置が、層の厚さを求めるために、とりわけ前記測定機器によって与えられる特定の時間遅延情報に基づき、第１の蒸発源によって前記基板上に蒸着される層の前記厚さに対し、測定される膜厚を相関させる、
請求項６に記載の蒸発装置。
【請求項８】
前記測定機器が、従来の水晶発振器の位置と向かい合った位置に、又は従来の水晶発振器が代わりに配置され得る位置に配置され、
前記基板及び前記移動式要素に蒸着させるための気化物質が、前記蒸発装置に配置される蒸発器によって与えられ、
前記蒸発装置が、前記第２の蒸発源のサイズ、前記第２の蒸発源の幾何学的配置、蒸着点における前記移動式要素と前記第２の蒸発源との間の距離、及び／又は前記搬送速度のうちの少なくとも１つにより、前記移動式要素上に蒸着される前記膜の前記厚さを調節し、
前記第２の蒸発源及び前記測定機器が、前記移動式要素上に様々な材料を独立に蒸着させ、単一層膜を測定する、
請求項６に記載の蒸発装置。
【請求項９】
蒸着アプリケーション、とりわけ有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）の大量生産において、第１の蒸発源の蒸着速度すなわち前記第１の蒸発源によって基板上に蒸着される層の厚さを求める方法であって、
基板上に少なくとも１つの層が蒸着され得るように前記基板を前記第１の蒸発源に沿って通過させるステップと、
基板を通過させるステップと同時に、蒸着位置において移動式要素上に少なくとも１つの膜が蒸着され得るように、前記移動式要素を第２の蒸発源に沿ってアクチュエータ装置によって搬送するステップと、
前記第２の蒸発源により前記移動式要素上に少なくとも１つの膜を蒸着させるステップであって、それぞれの膜は、前記基板上に蒸着されるそれぞれの層の前記厚さの目標値に応じて規定される厚さで与えられる、前記蒸着させるステップと、
それぞれの膜に、前記膜の最適な厚さの厚さ値を与えるために、前記アクチュエータ装置を調節するステップと
を含む、方法。
【請求項１０】
検出位置内の前記蒸着膜の前記厚さを厚さ検出器によって検出するステップであって、一定の時間遅延の後に検出が行われても良いように前記検出位置が前記蒸着位置と異なる、検出するステップを更に含み、
特定の検出時点について、前記測定機器が、前記移動式要素の特定の表面領域を前記蒸着時点に更に相関させ、これによりこの表面領域内の前記膜の前記厚さが前記蒸着時点との相関関係において検出され得る、
請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記機器が、前記移動式要素を前記蒸着位置から前記検出位置まで供給し、
検出の測定値が、基板上に蒸着される層の前記厚さに比例する、
請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
初期較正が、従来の水晶発振器に使用されるツーリングプロセスと同様のツーリングプロセスによって行われる、請求項９に記載の方法。
【請求項１３】
蒸着アプリケーション、とりわけ有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）の大量生産において、第１の蒸発源の蒸着速度すなわち前記第１の蒸発源によって基板上に蒸着される層の厚さを求めるためのシステムであって、
請求項６に記載の蒸発装置と、
蒸発チャンバーと
を含み、
第２の蒸発源が、前記第１の蒸発源の前記蒸着速度に応じた膜厚を有する少なくとも１つの膜を蒸着できるように、前記蒸発装置によって与えられる前記第２の蒸発源が前記蒸発装置によって与えられる前記第１の蒸発源と通信し、
測定機器は、基板上に蒸着される層の前記厚さとは独立に、移動式要素上に蒸着される膜の厚さを調節する、
システム。
【請求項１４】
前記厚さ検出器は別にして、前記測定機器が前記蒸発チャンバー内に完全に配置され、
前記厚さ検出器の少なくとも測定ヘッドが前記蒸発チャンバーの外側に設置され、前記移動式要素がのぞき窓を介して観測され、
前記基板及び前記移動式要素に蒸着させるための気化物質が、前記蒸発装置の本体構造内に配置される蒸発器によって与えられる、
請求項１３に記載のシステム。
【請求項１５】
計算装置上で実行されるときに請求項９に記載の方法のステップを作り出すためのコード手段を含む、コンピュータプログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、蒸着アプリケーション、とりわけＯＬＥＤの大量生産において、蒸発源の蒸着速度を特定の許容差の範囲内で測定し且つ／又は制御するために蒸発源の蒸着速度、すなわち基板上に蒸着される層の厚さを求めるためのシステム、機器、装置、方法、及びコンピュータプログラム製品に関する。
【背景技術】
【０００２】
蒸着技術は、規定された材料及び厚さの層を、とりわけ真空チャンバー内で完全に自動化されたプロセスで基板に与えるために製造業で一般に使用されている。蒸着装置の適切な機能を制御するための任意選択肢として、蒸着される層の厚さは、とりわけ基板上に層を蒸着させるのと同時に、別のセンサー上に膜を蒸着させることによって間接的に求められても良い。原理は、センサー上の膜厚の測定値が基板上の層厚さを推論するためのデータを提供できることである。
【０００３】
最近では、基板、例えば有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）用の基板の製造及び蒸着には、様々な材料、例えば有機材料及び／又は金属材料の比較的薄い層を、小さい境界すなわち小さい許容差を持つ規定された層厚さによって蒸着させることが必要である。これらの層の蒸着は通常、数週間にわたって保守なしで稼動されるインライン式の真空蒸着ツールによって行われる。所要の層厚さの許容差を実現するには、使用される（有機）蒸発源の蒸着速度を非常に正確に測定し、制御することが必要である。蒸発源の蒸着速度を測定する一般的方法は、所謂水晶発振器を使用することである。そのような速度感知発振器は、例えば蒸着ビーム内に装着されても良く、有機層は、基板上への蒸着と同時に水晶の位置上に蒸着されても良い。水晶発振器は、典型的にはツーリング測定により基板上の層厚さに合わせて較正され、試験層が基板上に蒸着される。試験蒸着中、この試験層の厚さは、所謂偏光解析法又は所謂反射率測定法によって測定され、測定された速度感知発振器の信号に関連して設定されても良い。
【０００４】
その結果、所謂水晶発振器は蒸着ツール内の蒸着速度を測定するための最新式のセンサーだが、とりわけ工業的応用に関して幾つかの不都合がある。例えば、水晶の寿命は非常に限られており、そのため蒸着ツールの保守期間を決定する。更に、これらの水晶発振器の測定精度は、しばしば所要の許容差の範囲内で蒸発源の蒸着速度を制御する丁度限界にある。更に、これらの水晶センサーの信頼性は、工業上の大量生産ツールを必要とされる動作時間で稼動させるには十分でない場合がある。また、センサーの測定値は、冷却水、真空揺らぎ、振動などの外部要因によって頻繁に且つ容易に乱される。
【０００５】
これらの不都合は業界で知られている。従って、センサーの供給業者は、信頼性及び寿命の問題を補うために例えば６クオーツや１２クオーツのリボルバシステムを提供する。つまり、層厚さを測定するために多数のセンサーが設けられる。しかし、多数のセンサーを設けることは、これらのセンサーのそれぞれに関する異なる測定誤差や、多数のセンサーを較正する必要性などの更なる問題も含意する。即ち、例えば特定の許容差の範囲内で有機源の蒸着速度を制御する必要があるＯＬＥＤの大量生産では、最新式のセンサーは通常、とりわけ十分な可用時間及びロバスト性とともに所要の許容差の範囲内で厳密な蒸着速度を保証することはできない。
【０００６】
数年来、一部の機器供給業者は、基板のインラインの正規位置に蒸着される層の厚さを偏光解析法又は反射率測定法によって測定し、蒸発源の蒸着速度を制御するためにこの測定値をフィードバックすることを促進している。しかし、この測定技法は今に至るまで成功裏に実現されておらず、所要の精度の範囲内で全ての層について可能かどうかも疑問である。主に以下の問題がこの技術を制限している。多層スタックの層の測定（基板上で直接測定する必要がある）は非常に複雑且つ労力を要し、スタックごとに新しい状態で（on new）展開される必要がある。更に、十分な精度で測定できるようにするための最低限の層厚さ、典型的には１０ｎｍ〜２０ｎｍがある。しかし、例えばＯＬＥＤスタックでは概して１０ｎｍ〜２０ｎｍよりも薄い多くの層があり、そのため特にドーパントがこの方法によっては測定され得ない。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的は、層厚さ又は基板上に設けられる少なくとも１つの層の厚さを高度に求めるための装置及び方法を提供することである。本発明の更なる目的は、基板の製造及び蒸着プロセスと同時に層厚さを高度に求めるための装置及び方法を提供することであり、従来の蒸発源の設計、とりわけ蒸発チャンバー内に配置される有機低速源の設計を大いに保てるべきである。つまり、高速／低速源においてロバスト且つ正確な厚さ測定法を使用することは従来の応用において可能だが、これまで使用されてきた発振器を置換し又は無くても済むようにする。また、薄い層、とりわけ２０ｎｍ更には１０ｎｍよりも薄い層の厚さを連続して求めるための装置及び方法を提供することも目的である。更に、熱的に蒸発した（有機）材料に対して容易に較正され得る改善された速度測定センサーを提供することも目的である。即ち本発明は、従来の蒸着アプリケーションにおいて、より高信頼に蒸着速度を測定し、且つ基板層の厚さを求めるための装置及び方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
これらの目的の少なくとも１つが、請求項１に記載の測定機器、請求項６に記載の蒸発装置、請求項１３に記載のシステム、及び請求項９に記載の方法によって実現される。
【０００９】
従って、以下で更に説明するように、蒸着中に動作中でも停滞していても良い（例えばバンド状コンベアの）移動式要素すなわち可動要素の表面上に膜が蒸着されても良く、優れた測定精度をもたらすために多数の変動要素に応じて膜の厚さが予め定められても良いような方法で、層厚さを求めるための測定機器が提供される。その結果、請求項１に記載の移動式要素上に蒸着される少なくとも１つの膜の厚さに依存して第１の蒸発源の蒸着速度を間接的に求めることにより、基板上に蒸着される層の厚さを測定し且つ／又は制御することが実現され得る。それにより、かかる移動式要素は、例えばバンド式コンベア、又は円状の若しくは環状のスライス又は滑車の一種のディスク、特に回転ディスクとして提供されても良い。とりわけディスクでは、蒸着及び検出が異なるセグメントにおいて行われても良く、ディスクには少なくとも２つの異なる材料が特に異なる面すなわち側方領域に与えられても良い。とりわけバンド式コンベアは、コンベアバンド又は平面コンベア、即ち例えば長い保守期間を実現するために、有利には小さな厚み例えば任意の膜式材料を有するテープ又はストリップ状のコンベアの形で提供されても良い。そのようなテープの剛性又は硬さは、例えば蒸着される膜の厚さを考慮して、及び／又は測定機器の絶対的大きさを考慮して経験若しくは計算に基づいて、又はテープ内の任意の張力に基づいて設計され得る。或いは、移動式要素は実質的に柔軟性がない材料の形で提供されても良い。
【００１０】
概して、蒸着される層は有機材料及び／又は金属材料の形で与えられても良く、材料の種類は、層厚さすなわち膜厚を検出するための特定の配置又は方法を必ずしも含意しない。即ち、材料の種類とは関係なく測定機器、蒸発装置、システム、及び方法が設計され得る。
【００１１】
従って、優れた精度で蒸着速度を測定するための有利な方法は、とりわけ２０ｎｍ〜１００ｎｍ、更には１０ｎｍ〜２００ｎｍの厚さの単一層膜を蒸着させ、一般に使用される技法、とりわけ偏光解析法又は反射率測定法により膜厚を測定することであり、測定は層を蒸着させるそれぞれの瞬間を基準にして時間的にシフトされても良い。その結果、概して、偏光解析法又は反射率測定法により１ｎｍから１００μｍの範囲の厚さが測定可能だが、上記で述べた応用又は以下の応用に関しては、１０ｎｍから２００ｎｍの範囲内で正確に測定するように構成される偏光解析器又は反射率計を使用するのが妥当である。かかる測定の精度、繰返し性、及び信頼性は素晴らしく、即ち非常に申し分なく、層厚さの判定は、多数の水晶発振器とは独立に更には基板上に蒸着される層の実効厚さとも独立に成し遂げられても良く、一般に知られている厚さ検出器を使って検出するためのロバスト且つ正確な測定機構が提供され得る。これにより、厚さ検出器が従来の水晶発振器と同じ位置に、又は蒸着チャンバー内の適切な位置に設置され得るように、熱的に蒸発した（有機）材料層の厚さを求めるための速度測定センサーシステムが設計され得る。
【００１２】
つまり厚さ検出器は、補足的な蒸発源、例えば１つ又は複数のノズルの前に、調節可能な、特に一定の速度で移動される移動式要素から成ることができる。特定の構成では、この速度は、とりわけ基板が蒸着中に連続して搬送されない場合、少なくとも一時的にゼロとすることができる。従来の発振器のヘッド上に膜を蒸着させるための従来のノズルとは対照的に、補足的な蒸発源は、厚さ検出器の検出能力に応じて最適な膜厚で膜を蒸着させるために、例えば幾何学的配置及び／又は寸法の点で特別に設計されても良い。可動要素が補足的な蒸発源を通過する間、蒸発した材料の膜が移動式要素の正規位置に蒸着され、蒸発膜の厚さも、蒸発源の寸法、移動式要素の供給源までの距離などの幾つかのパラメータによって、及び特に移動式要素の速度、つまりバンド式コンベアの搬送速度又はディスクの回転速度によって容易に調節されても良く、それにより非常に薄い層、例えば１０ｎｍ更には５ｎｍ未満が基板上に蒸着される場合でさえ、（膜厚を正確に検出することによる）層厚さを求める精度が保証され得る。
【００１３】
その結果、第２の蒸発源は第１の蒸発源の位置とは別の位置に、又は第１の蒸発源の配置に基本的に対応する位置に設けられても良い。つまり、時間的にだけでなく場所に関しても膜の蒸着が層の蒸着と同時に行われ得る。即ち、第１の蒸発源によって与えられる気化物質と少なくともほぼ同じ方向に気化物質が与えられるように、第２の蒸発源が方向付けられ、構成されても良い。個々に、可動要素は基板と少なくともほぼ同じ位置に移動されても良い。また、可動要素は、基板と同じ方向に及び少なくともほぼ同じ位置の両方に移動されても良い。或いは、可動要素すなわち移動式要素は、第１の蒸発源の蒸着ビーム内に直に移動されても良く、第２の蒸発源は単に任意選択的に設けられるに過ぎない。
【００１４】
上記で述べたように、測定を行う移動式要素上に蒸着される膜の厚さは、基板上に蒸着される層の厚さと完全に独立に調節されても良く、低速の蒸発源上でさえ測定用の十分厚い層を蒸着させる可能性をもたらす。これにより蒸着時に、移動式要素、とりわけバンド式コンベアすなわちテープが、例えば１つ又は１組の偏向滑車により、移動式要素上に蒸着される膜の厚さを測定可能な厚さ検出器、例えば偏光解析器や反射率計の測定ヘッドまで搬送されても良く、測定速度は有利には基板上に蒸着される層の厚さに比例し、即ち膜厚は層厚さに比例する。その結果、測定ヘッドは蒸発チャンバー内に直接設置され、又は蒸発チャンバーの外側に設置され、チャンバーののぞき窓を介して見られても良く、初期較正は、とりわけ水晶発振器に使用されるツーリングプロセスと同様のツーリングプロセスによって行われ得る。
【００１５】
つまり、基板層の蒸着プロセスとは独立に走っている移動式要素上に単一層膜が蒸着される場合、非常に低速の蒸着源でさえ所要の膜厚に容易に到達することができる。その結果、例えば移動式要素の速度を落とすことにより、適切な膜厚並びに十分な精度が保証され得る。従って、比較的薄いドープ層、例えばそれぞれが１０ｎｍ未満の薄さを有するＯＬＥＤスタック内の層でさえ、移動式要素上に様々な材料を独立に蒸着させ、単一層膜を測定することができる。かかる測定ツールの可用時間は、移動式要素の寸法によって、即ちバンド式コンベアの長さにより又はディスク式回転装置の直径により制限され得るが、有利には、カセットシステムを適切な寸法で設計することにより可用時間が制限要因ではないように、バンド式コンベアはカセットシステムの形で提供されても良い。これにより、厚さ検出器を有する速度センサーすなわち測定機器が、薄い膜が蒸着されるあらゆる種類の（熱的）蒸発源に適用されても良く、これらの層は偏光解析法又は反射率測定法によって（間接的に）測定され得る。かかる厚さ検出器は、最新式のセンサー、とりわけ水晶発振器がその限界に達する、ＯＬＥＤ製造のための有機層の蒸着において特に興味深い。
【００１６】
第１の態様によれば、測定機器が、移動式要素の特定の表面領域が蒸着位置から検出位置に通過する必要がある時間を示す特定の時間遅延の範囲内に、移動式要素を蒸着位置から検出位置まで供給するように構成され得る。時間遅延は、例えば数秒又は数分程度とすることができる。有利には、時間遅延は少なくとも数秒、例えば５秒から１０秒程度であり、それによりその間移動式要素上に蒸着される膜が、厚さ検出器の測定技法に十分な濃度（consistency）により、例えば特定の湿度値により提示され得る。更に、有利には、時間遅延は長くても数分、例えば５分から１０分程度であり、それにより、材料及びエネルギの消費増となる過度の廃棄を回避するために、長過ぎないプロセス時間内で欠陥のある厚さの層が検出され得る。更に、特定の検出時点について、測定機器は、移動式要素の特定の表面領域を蒸着時点に相関させるように構成されても良く、それによりこの表面領域内の膜の厚さが膜及び層の両方の蒸着時点の相関関係において検出され得る。その結果、基板及び／若しくは移動式要素の動きに関係するタイミング手段並びに／又は動き検出手段により相関が簡単に実現されても良く、それにより層厚さの欠陥又は誤りが、基板の特定の領域に関係付けられ得る。従って、蒸着される層が許容差外れの厚さで与えられている特定の処理期間の場合でさえ、正しく処理されている基板の領域が識別されるような方法で基板が保たれ得る。
【００１７】
上記の第１の態様と組み合わせることもできる第２の態様によれば、測定機器は、蒸着位置における蒸着点及び検出位置における検出点に関連し、蒸着時点と検出時点との間の時間遅延を調節するように構成されても良い。その結果、膜の密度などの基準と過度の廃棄の恐れとの間の最適条件が見出せるように、例えば数秒から数分の範囲内で時間遅延が調節されても良い。
【００１８】
上記の第１の態様及び第２の態様と組み合わせることもできる第３の態様によれば、とりわけ膜の最適な厚さの厚さ値に応じて搬送速度を調節するように、アクチュエータ装置が構成されても良い。厚さ検出器は、膜の厚さを光学的に検出するように構成され得る。アクチュエータ装置は、送り装置及びカセットを含むことができる。偏光解析法又は反射率測定法のために、膜の最適な厚さの厚さ値は、有利には約１０ｎｍから２００ｎｍの範囲内、例えば５ｎｍの層厚さの場合は５０ｎｍである。最適な厚さの他の値は、例えば移動式要素の材料、検出技法、及び／又は搬送速度に応じて３０ｎｍ、７０ｎｍ、又は例えば１５０ｎｍの範囲内とすることができる。また、膜は、例えば移動式要素の材料、検出技法、及び／又は搬送速度に応じて１０ｎｍの厚さしかない場合に測定されても良い。つまり、厚さ検出器に使用される移動式要素、例えばバンド式コンベアすなわちテープは、とりわけ機器の保守中に容易に置換され得る供給機構、例えばカセットバンドコンベアシステムや回転駆動装置によって操作され得る。その結果、最適な厚さの値は、厚さ検出器の測定能力に応じてだけではなく、カセット内に巻き取られる膜の最適な膜密度を与えるために、カセットシステムの種類にも応じて規定され得る。
【００１９】
上記で述べた態様と組み合わせることもできる第４の態様によれば、アクチュエータ装置が、送り装置及びカセットだけではなく少なくとも１つの偏向滑車も含むカセットテープシステム形式で設けられても良い。これにより、蒸発源を基準にした膜の位置が、例えば偏向滑車の回転軸に設けられる位置調節手段によって調節されても良く、位置調節手段は例えばレールガイドの形で設けられる。例え膜張力調節手段をアクチュエータ装置自体によって、例えばカセットシステムの送り装置内に設けられるブレーキ機構によって更に提供できても、かかる位置調節手段は膜張力調節手段とともに設けられ得る。更に、移動式要素は、テープ形式、とりわけ更なる表面被覆を有する又は有さない、プラスチック、金属箔、又はガラスで作られたテープの形で提供されても良く、移動式要素の材料は蒸着中の熱による任意の影響及び光学的測定技法に適合することができ、即ちバンド式コンベアの材料は例えば更なる表面被覆を有する又は有さない、プラスチック又は金属箔として提供され得る。代替策として、バンド式コンベアはガラス材料で提供されても良い。更に、移動式要素及びアクチュエータ装置は、約１０ｎｍから２００ｎｍの厚さの膜を処理するように構成されても良い。その結果、２００ｎｍ程度の厚さの場合でさえ、とりわけ厚さ検出器又は真空チャンバー内に設けられる他の要素に対してカセットが十分離された関係で配置され得るように偏向滑車を設けることにより、十分長い保守期間が保証され得るように、アクチュエータ装置が十分なバッファすなわち収納室とともに設計されても良い。
【００２０】
上記の態様のどれとも組み合わせることができる第５の態様によれば、基板上に少なくとも１つの層を蒸着させるための多数のシャワーノズルを有するシャワーヘッド形式の第１の蒸発源と、測定機器によって与えられる移動式要素上に少なくとも１つの膜を蒸着させるための第２の蒸発源とを含む、測定機器を有する蒸発装置が提供されても良い。測定機器によって与えられるアクチュエータ装置は、移動式要素、即ちバンド式コンベアを搬送するように構成することができ、膜が移動式要素上に、とりわけ第２の蒸発源と向かい合って位置する蒸着位置内に連続して、又は任意選択的に少なくとも時間的に非連続に蒸着され得るように第２の蒸発源に沿ってディスクを回転させるように構成されても良い。更に、第２の蒸発源は、移動式要素と向かい合った位置、とりわけ蒸発装置の本体構造に設けられても良い。蒸発装置は、基板上に蒸着される任意の層の厚さとは独立に、とりわけ基板上に蒸着される任意の層の厚さに比例して、移動式要素上に膜厚を与えるように構成されても良い。これにより、薄い層の蒸着さえ制御することができ、蒸着される材料並びにアクチュエータ装置の幾何学的配置及び構成に応じて膜が最適な厚さの範囲内で与えられ得る。
【００２１】
アクチュエータ装置は、蒸着される膜の厚さが蒸着位置とは異なる位置で検出され得るように、及び特定の時点において蒸着される膜の厚さが特定の時点に対する相関関係により厚さ検出器によって検出され得るように、特定の蒸着時点に対する蒸着点と検出点との間の距離の一定の明確な相関関係を使用可能にするために、一定の搬送速度で移動式要素を搬送するように構成されても良い。その結果、基板上の欠陥に対する測定される膜厚の相関が促進され得る。或いは、又はそれに加えて、移動式要素は不定速度すなわち可変速度、例えば蒸着中の一時停止や停止を伴って搬送されても良く、又は移動式要素の特定の表面領域を厚さ検出器に若しくはその反対方向に与えるために、蒸着中よりも大幅に高速で搬送されても良い。更に、アクチュエータ装置及び移動式要素は、蒸着位置と検出位置との間の経路長が例えば数ミリから数センチの範囲内にあるように調節され得るように構成されても良く、それにより最適な搬送速度に応じて、特定の時間遅延の設定を可能にするために経路長が設けられ得る。その結果、厚さ検出器によってもたらされる最高の精度が採用され得るように、経路長を調節することにより、検出時点における蒸着膜の特性が調節され得る。
【００２２】
上記の態様のどれとも組み合わせることができる第６の態様によれば、搬送速度が基板の送り速度に一致するように基板の送り速度と同じ送り速度で、基板上に層が蒸着されるのと同時に、第２の蒸発源によって膜が蒸着され得る面を与えるように移動式要素が構成されても良い。その結果、基板上の欠陥に対する測定される膜厚の相関が促進され得る。更に蒸発装置は、層の厚さを求めるために、とりわけ測定機器によって与えられる特定の時間遅延情報に基づき、第１の蒸発源によって基板上に蒸着される層の厚さに対し、測定される膜厚を相関させるように構成されても良い。その結果、蒸発装置、例えば蒸発装置内に設けられるプロセッサーによる相関は、真空チャンバーの外側にある如何なる相関装置への更なるリンク及び接続も与える必要がないという利点をもたらすことができる。
【００２３】
上記の態様のどれとも組み合わせることができる第７の態様によれば、従来の水晶発振器の位置と向かい合った位置に、又は従来の水晶発振器が代わりに配置され得る位置に測定機器が配置されても良く、最新式の発振器が測定機器によって再装備される必要がある場合にも著しい設計審査は必要ない。更に、気化物質を膜上に蒸着させるための更なる気化物質発生器が必要ないように、基板及び移動式要素に蒸着させるための気化物質は、蒸発装置に配置される蒸発器によって与えられても良い。更に、蒸発装置は、第２の蒸発源のサイズ、第２の蒸発源の幾何学的配置、蒸着点における移動式要素と第２の蒸発源との間の距離、及び／又は搬送速度のうちの少なくとも１つにより、移動式要素上に蒸着される膜の厚さを調節するように構成されても良く、それにより、測定システムを調節するために、容易に調節可能な変動要素が特定の設計ごとに選択され得る。更に、第２の蒸発源及び測定機器は、移動式要素上に様々な材料を独立に蒸着させるように、及び単一層膜を測定するように構成されても良く、それにより、１つの移動式要素だけで多層ＯＬＥＤスタックの処理がシミュレートされ制御され得る。
【００２４】
更に、第１の蒸発源に沿って基板を通過させるのと同時に、移動式要素がとりわけ蒸発チャンバー内で第２の蒸発源に沿って搬送されるように、請求項９に記載の方法が提供されても良い。その結果、アクチュエータ装置は、膜の最適な厚さ、とりわけ２０ｎｍから２００ｎｍ程度の厚さ値を有する膜を与えるために、特に基板上に蒸着されるそれぞれの層の厚さの目標値を基準にして例えば位置及び／又は速度に関して調節されても良く、それにより、例えば厚さ検出技法に関する最適な膜厚がもたらされ得る。
【００２５】
更に、厚さ検出器による検出位置内の蒸着膜の厚さ検出が行われても良く、移動式要素の特定の表面領域が蒸着位置から検出位置まで通過するのにかかる時間を示す一定の時間遅延の後に検出が行われても良いように、検出位置は蒸着位置と異なることができる。時間遅延は、数秒から数分の範囲内とすることができる。更に、特定の検出時点について、測定機器は、移動式要素の特定の表面領域を蒸着時点に相関させるように構成されても良く、それによりこの表面領域内の膜の厚さが蒸着時点との相関関係において検出され得る。
【００２６】
また、蒸着される膜の厚さが蒸着位置とは異なる位置で検出され得るように、この機器は、移動式要素を継続的に及び／又は少なくとも時間的に非連続に蒸着位置から検出位置まで供給するように構成されても良い。更に、検出、とりわけ光学的検出の測定値は、基板上に蒸着される層の厚さに比例しても良い。その結果、基板上の欠陥に対する測定される膜厚の相関が促進され得る。それでもなお、比例しない関係に基づいて膜厚を層厚さに相関させることが有利又は不可欠な応用もある場合があり、そのため代替的に又はそれに加え、比例しない測定値が与えられても良い。
【００２７】
また、初期較正は、従来の水晶発振器に使用されるツーリングプロセスと同様のツーリングプロセスによって行われ得る。その結果、著しい設計審査又はサービス要員の再教育は必要ない。更に、移動式要素の動きが基板の動きと、とりわけどちらの反対方向にもそれぞれ同期され得るように、基板がシャワーヘッドに沿って継続的に通過されても良い。
【００２８】
更に、それぞれの膜が約１０ｎｍから２００ｎｍの厚さで蒸着され得るように測定機器によって与えられるアクチュエータ装置を調節するために、測定機器が第２の蒸発源と通信するように請求項１３に記載のシステムが提供されても良い。更に、或いは移動式要素に蒸着させるための気化物質は、基板に蒸着させるための気化物質を与える蒸発器とは異なる補足的な蒸発器によって与えられても良く、そのため例えばドーパント又は危険な若しくは費用のかかる高価な任意の層の材料の場合、移動式要素上に蒸着される膜は危険でなく且つ／又は費用を節減する材料の形で与えられ得る。
【００２９】
当然ながら、他の測定選択肢が使用されても良い。例えば厚さ検出は、必ずしも光学的検出の準備を行う必要がないように、音響効果に基づいて実行されても良い。
【００３０】
上記の機器は、単一のチップ又はチップセット上に組み込まれ、又は回路基板上に配線されるハードウェア回路として実装されても良い。代替策として、機器の少なくとも一部が、プロセッサー若しくはコンピュータ装置を制御するソフトウェアプログラム又はルーチンとして実装されても良い。
【００３１】
請求項１に記載の測定機器、請求項６に記載の蒸発装置、請求項９に記載の方法、請求項１３に記載のシステム、及び請求項１５に記載のコンピュータプログラムは、とりわけ従属請求項の中で定められる類似の及び／又は同一の好ましい実施形態を有することを理解すべきである。
【００３２】
本発明の好ましい実施形態は、それぞれの独立請求項を伴う従属請求項の任意の組合せとすることができることも理解すべきである。
【００３３】
本発明のこれらの及び他の態様が、以下に記載される実施形態から明らかになり、かかる実施形態を参照することで明らかにされる。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】蒸発チャンバー内の一般的に使用されるセンサー構成、即ち最新式の構成の概略図を示す。
【図２】第１の実施形態による、とりわけ蒸発チャンバー内に蒸発装置に隣接して配置される層厚さを求めるための測定機器の概略図を示す。
【図３】第２の実施形態による、とりわけ蒸発チャンバー内に蒸発装置に隣接して配置される層厚さを求めるための測定機器の概略図を示す。
【図４】第３の実施形態による、とりわけ蒸発装置に隣接して配置され、蒸発チャンバーの外側に部分的に配置される層厚さを求めるための測定機器の概略図を示す。
【図５】本発明による測定機器及び蒸発システムの概略的ブロック図を示す。
【発明を実施するための形態】
【００３５】
以下の実施形態では、蒸発源の蒸着速度すなわち基板上に蒸着される層の厚さを求めるための改良システムが提案され、膜の厚さは層の蒸着とは独立に検出可能である。
【００３６】
これらの実施形態によれば、膜の厚さは、厚さ検出が層厚さとは独立に高精度で実行され得るように定められても良い。従って、非常に薄い層の蒸着さえ制御され得る。即ちこれらの実施形態は、改良された基板製造のための方法及び装置を提供する。
【００３７】
以下、一般的に使用される最新式の構成から始まり、調節可能な測定機器すなわち厚さ検出器を使う３つの実施形態について説明されている。
【００３８】
図１は、発振器の形を取る速度センサーを備える従来技術によるシステムを示す。基板２０が蒸発装置１０Ａのシャワーヘッド１１Ａに隣接して設けられ、蒸発装置１０Ａは、シャワーヘッド１１Ａに結合されるシャワーヘッド本体１２Ａを更に含む。シャワーヘッド１１Ａにおいて、基板２０上に蒸着される気化物質を蒸発させるために幾つかのシャワーノズル１１ａが設けられ、気化物質はシャワーヘッド本体１２Ａ内に配置される熱蒸発源１３Ａから生じる。基板２０はシャワーヘッド１１Ａに沿って、とりわけ移動方向Ｔの方に、即ちシャワーノズル１１ａの向きに対して直角に通され、図１に示されているどちらの反対方向も可能である。全てのシステム部分が蒸発チャンバー５０ａ内に配置される。シャワーヘッド本体１２Ａにおいて、最新式の速度感知発振器３０のセンサーヘッド上に気化物質を蒸着させるために、蒸発ノズル１２ａが設けられる。即ち、インライン式の大量生産ツール用の熱蒸発源１３Ａがシャワーヘッド本体１２Ａを備え、シャワーヘッド本体１２Ａは、とりわけ一定の速度でシャワーヘッド１１Ａを通過する基板２０に対して気化物質を均一に散布する。従来の速度感知発振器（水晶発振器）３０が、基板２０の近くに又は（図１に示されているように）蒸発ノズル１２ａの前に、とりわけシャワーヘッド本体１２Ａに対して横方向に配置される。これにより、速度感知発振器３０上に蒸着される膜の厚さが基板２０上の蒸着速度に比例する。速度感知発振器３０上に蒸着される膜の厚さを測定することにより、基板２０上に蒸着される層２０ａの層厚さが推論され得る。
【００３９】
図２は、第１の実施形態による、とりわけ蒸発チャンバー５０ａ内に蒸発装置１０に隣接して配置される層厚さを求めるための測定機器４０の概略図を示す。測定機器、すなわち速度感知装置４０は、従来の速度感知発振器３０の位置と同様の位置、例えば図２に示されているように補足的な蒸発源１２ｂの前に置かれても良い。これにより、蒸発源１２ｂは従来の水晶発振器３０の位置と向かい合った位置に配置され、この位置は従来の水晶発振器３０が代わりに配置され得る位置に相当することができる。補足的な蒸発源１２ｂとともに、測定機器４０は、従来技術において、従来の水晶発振器３０上に膜を蒸着させるために設けられる、発振器のヘッド３１及び蒸発ノズル１２ａを有する従来の水晶発振器３０を置換できるが、これらのコンポーネント１２ａ、３０、３１は、測定機器４０及びコンポーネント１２ａ、３０、３１がとりわけ蒸発チャンバー５０ａ内で共存し得ることを指摘するために図２に示されている。そのような方法で、従来の発振器３０及び測定機器４０の両方、並びに／又は測定機器４０の冗長性が、蒸発装置１０の大幅な設計のレビューなしに提供され得る。この実施形態によれば、速度センサー４０は、調節可能な速度で蒸発源１２ｂの前で移動されるバンド式コンベアすなわちテープ４１から成ることができる。この搬送速度は有利には一定だが、特定の層２０ａを基準にして速度が一定であるように基板２０上に実際に蒸着される層に応じて継続的に調節されても良く、但し例えば連続して蒸着される２つの異なる層の間で異なっても良い。テープ４１が蒸発源１２ｂを通過する間、蒸発された材料の膜４１ａがテープ４１の正規位置に蒸着される。これにより、この膜４１ａの厚さは、例えば蒸発源１２ｂのサイズや幾何学的配置、テープ４１から蒸発源１２ｂまでの距離、更にとりわけテープ４１の搬送速度によってなど、幾つかのパラメータによって容易に調節され得る。更に、かかる測定機器４０によってもたらされる別の利点として、測定テープ４１上に蒸着される膜４１ａの膜厚が、基板２０上に蒸着される層２０ａの実際の厚さとは完全に独立に調節され得る。従って、低速源においてさえ測定用に十分厚い膜４１ａを蒸着させることが可能であり、例えば５ｎｍから１０ｎｍ、更には５ｎｍよりも薄い範囲内の層２０ａの層厚さの場合でさえ、測定テープ４１上の膜４１ａに十分な厚さを与えることができ、それにより基板２０上へのドーパントの蒸着さえ制御され得る。或る例示的方法によれば、これは、５ｎｍから１０ｎｍ、更にはそれよりも薄い範囲内の層厚さの場合、不釣合いに高い膜厚がテープ４１上に与えられるように測定機器４０を較正することによってとりわけ行われ得る。それでもなお、概して、テープ４１上に蒸着される膜４１ａの厚さは、基板２０上に蒸着される層の厚さに比例しても良い。つまり、テープ４１上に蒸着される膜４１ａの厚さが基板２０上に蒸着される層２０ａの厚さに比例するように測定機器４０の較正が行われても良く、或いは、又はそれに加え、５ｎｍから１０ｎｍ、更には５ｎｍよりも薄い範囲内の層厚さでは、不釣合いに高い膜厚が測定テープ４１上に与えられても良い。
【００４０】
膜４１ａがテープ４１の特定の区画上に蒸着された後すなわち蒸着と並行して、それぞれのテープの区画が、テープ４１上の膜厚を特に光学的に測定可能な偏光解析器４５ａ又は反射率計４５ｂそれぞれの測定ヘッドに搬送され、この搬送はとりわけ１組の偏向滑車４２によって継続的に及び／又は少なくとも時間的に非連続に行われ得る。これにより、偏向滑車の位置を同時に又はそれぞれ個別に調節することにより、移動式要素すなわちバンド式コンベア４１から、蒸発源１２ｂ、厚さ検出器４５までの適切な距離が設定可能であり、そのため膜厚に著しい差がある場合でも、厚さ検出器４５及び蒸発源１２ｂそれぞれのフォーカス又は位置を修正する必要がない。また、偏向滑車４２の位置により、及び／又は摩擦力すなわち送り装置４３ａ内の転がり抗力により、バンド式コンベア４１の張力すなわち事前負荷が調節され得る。厚さ検出器４５の測定ヘッドは、真空内に、即ち蒸発チャンバー５０ａ内に直接設置されても良いが、代わりに図４に示されているように蒸発チャンバーの外側の大気内に設置し、のぞき窓を介してテープ４１を観測しても良い。
【００４１】
測定テープ４１上の膜厚は、正確な及びより正確な測定値を得るために調節されても良い。とりわけ、２０ｎｍから１００ｎｍ又は１０ｎｍから２００ｎｍの膜厚が十分な精度をもたらすと考えられているが、最適な厚さの正確な厚さ値ｖｔは測定技法、とりわけ偏光解析器４５ａ又は反射率計４５ｂの種類に依存し得るが、例えば蒸着される膜４１ａの材料や搬送速度にも依存する。図２に示されている速度センサー４０は、蒸着点４１１と検出点４５１との間に、特定の蒸発システム内の測定要件に適合され得る特定の運転長さがあるように構成される。蒸着点４１１から検出点４５１までのテープ４１の搬送時間が原因で、基板２０上への気化物質の蒸着中に補足的な蒸発源１２ｂによって蒸着される膜が、偏光解析器４５ａ又は反射率計４５ｂのそれぞれを通過するとき、例えば偏光解析器４５ａ又は反射率計４５ｂのそれぞれが配置される位置に応じて測定の時間遅延Δｔがある。この時間遅延Δｔは、数秒から数分まで様々とすることができ、とりわけテープの速度及び測定機器４０の幾何学的配置、例えば偏光解析器４５ａ又は反射率計４５ｂそれぞれの位置に依存する。蒸着速度に関して、蒸着源は通常短い時間尺度では非常に安定しており、そのため数秒から数分程度の時間遅延Δｔは測定精度に関する問題をもたらすことはない。
【００４２】
測定される膜厚の測定値は、基板２０上に蒸着される層の厚さに比例しても良い。測定機器４０を較正するために、水晶発振器にとって一般的であるのと同じ方法でツーリングを行うことが可能である。或いは、又はそれに加え、特に５ｎｍから１０ｎｍ、更には５ｎｍよりも薄い範囲内の厚さに関して、不釣合いに高い膜厚がバンド式コンベア４１上に与えられるように測定機器４０を較正することにより、例えば１０ｎｍ未満の厚さを有する蒸着層２０ａも同じ構成で測定され得る。それでもなお、概して、テープ４１上に蒸着される膜４１ａの厚さは、基板２０上に蒸着される層の厚さに比例しても良い。
【００４３】
測定機器４０に使用されるバンド式コンベア４１は、例えば送り装置４３ａ及びカセット４３ｂを有するカセットテープシステム形式で、機器の保守中に容易に交換可能な方法で設けられても良いテープ供給機構によって操作され得る。テープ材料が蒸着中の熱による影響及び光学的測定要件に適合するために、テープ４１は、例えば更なる表面被覆を有する又は有さない、プラスチック又は金属箔の形で提供されても良い。
【００４４】
この技術により、基板製造プロセスの制御が、層厚さとは無関係の精度で、とりわけ長期間にわたり及び発振器を一切置換する必要なしに行われ得る。
【００４５】
図３は、第２の実施形態による、とりわけ蒸発チャンバー５０ａ内に蒸発装置１０に隣接して配置される層厚さを求めるための測定機器４０の概略図を示す。アクチュエータ装置４３が、送り装置４３ａ及びカセット４３ｂの形で設けられる。図２に示されている構成とは対照的に、バンド式コンベア４１すなわち移動式要素が送り装置４３ａからカセット４３ｂに直接送られ、即ち偏向滑車は設けられない。この構成は、とりわけ補足的な蒸発源１２ｂが、蒸発源１２ｂとバンド式コンベア４１との間の距離を調節する装置として機能できる支持体１２１ｂに設けられる場合、アクチュエータ装置４３のロバストな設計を実現するために有利であり得る。気化物質がバンド式コンベア４１上に蒸着される点に印を付ける蒸着点４１１と、膜厚が測定される点に印を付ける測定点４５１とは距離ｄについて離されており、そのため所与の搬送速度での特定の検出時点ｔｄ２について、バンド式コンベア４１の特定の表面領域が蒸着位置Ｄ１から検出位置Ｄ２まで通過するのに必要な時間を示す特定の時間遅延Δｔの範囲内で、測定機器４０は、バンド式コンベア４１の特定の表面領域を蒸着時点ｔｄ１に相関させることができ、それによりこの表面領域内の膜の厚さが蒸着時点ｔｄ１との相関関係において検出され得る。これにより、搬送速度が、例えば送り装置４３ａ又はカセット４３ｂの１つの中で例えば角速度を検出することにより、又は厚さ検出器４５によって直接測定され得る。また、従来の速度感知発振器３０が蒸発ノズル１２ａとともに設けられても良く、発振器３０は真空チャンバー５０ａの内壁に固定されても良い。
【００４６】
この技術により、図２に示されている実施形態によって与えられる任意の利点に加え、高いロバスト性並びに低い費用及び保守要件を有するコンパクトな構成が実現され得る。
【００４７】
図４は、第３の実施形態による、とりわけ蒸発装置１０に隣接して配置され、のぞき窓５０２ｂを含む蒸発チャンバー５０ｂの外側に部分的に配置される層厚さを求めるための測定機器４０の概略図を示す。図２及び図３に示されている実施形態とは対照的に、最新式の発振器３０が図示されていない。上記で述べたように、測定機器４０はかかる最新式の発振器３０を完全に置換し、より高い精度のような更なる利点をとりわけ薄い層２０ｂに関して提供することができる。それでもなお、かかる最新式の発振器３０は、この第３の実施形態でも設けられても良い。厚さ測定装置４５は真空チャンバー５０ｂのほぼ外側に配置され、膜の厚さはのぞき窓５０２ｂを介して検出され得る。この第３の実施形態では、蒸発源１２ｂが、とりわけ多層ＯＬＥＤスタックの層に応じて異なる膜を蒸着させるように構成され得ることを指摘するために３つの異なる蒸着点４１１が提案されている。特定の移動式要素すなわちバンド式コンベア４１が数回使用され得るように、これは単一の蒸発源１２ｂ又は多数の蒸発源１２ｂにより、同時に又は連続して行われても良い。つまり保守期間を延ばすために、バンド式コンベア４１上に幾つかの膜が、例えば互いに隣接して並んで設けられても良く、バンド式コンベア４１は両方の方向に搬送されても良く、即ち送り装置４３ａが或る時は送り装置として機能し、或る時はカセットとして機能し、逆にカセット４３ｂの場合も同様である。
【００４８】
この技術により、コンパクトな蒸発チャンバーすなわち真空チャンバーについて、又は最新式の発振器とともにかつて機能したシステムについて、厚さ検出器が真空チャンバーのほぼ外側に配置され得るので、多大な費用のかかる蒸発チャンバーの設計審査の必要なしに測定機器４０が設けられ得る。
【００４９】
図５は、とりわけ全構成を包含する真空チャンバー５０ａ内に（或いは厚さ検出器４５用ののぞき窓を有する真空チャンバー５０ｂ内に部分的に）設けられる、測定機器４０及び蒸発システム１０の概略的ブロック図を示し、測定機器４０に与えられる蒸着気化物質の膜の厚さを基板に与えられる蒸着気化物質の層の厚さに相関させるために、基板２０に気化物質を与える第１の蒸発源１１が測定機器４０に気化物質を与える第２の蒸発源１２ｂと通信する。更に、移動式要素の特定の表面領域（不図示、図２、３、４を参照）について、検出時点に蒸着時点を例えば搬送速度に応じて相関させるために、第２の蒸発源１２ｂが測定機器４０の厚さ検出器４５と通信する。通信は、無線接続又は有線接続によって実現され得る。更に、第２の測定機器の代わりに又は基本的に１つ若しくは幾つかの測定機器に加え、（従来の）最新式の発振器３０が、とりわけ第１の蒸発源１１及び／又は第２の蒸発源１２ｂと通信してだが、測定される厚さ値を突き合わせるために、又はそれぞれのセンサー３０、４０の適切な機能を制御するために、測定機器４０とも通信して設けられても良い。
【００５０】
この技術により、基板製造プロセスの高度な制御が提供され、任意選択的に最新式の発振器に対する突き合わせ又は補償も可能である。
【００５１】
要約すれば、特定の許容差の範囲内で蒸発源の蒸着速度を制御する必要がある蒸着アプリケーション、とりわけＯＬＥＤの大量生産において、基板上に蒸着される層の厚さが測定され、制御され得るように、高速／低速源においてロバスト且つ正確な光学的厚さ測定法を使用するように測定システムが適合される。
【００５２】
開示した実施形態に対する他の改変形態が、図面、本開示、及び添付の特許請求の範囲を検討することにより、特許請求の範囲に記載の本発明を実施する際当業者によって理解され、実行され得る。
【００５３】
特許請求の範囲では、「含む」という語は他の要素又はステップを排除せず、不定冠詞「a」又は「an」は複数形を排除しない。
【００５４】
単一のプロセッサー、感知ユニット、又は他のユニットが、特許請求の範囲に列挙する幾つかの項目の機能を実現しても良い。或る手段が互いに異なる従属請求項の中で列挙されているという単なる事実は、これらの手段の組合せが有利に使用されてはならないことを示すものではない。
【００５５】
上記の実施形態による提案した解決策は、関係のある機能ブロックにおいてソフトウェアモジュール内に少なくとも部分的に実装され得ることを指摘しておく。その結果生じるコンピュータプログラム製品は、図２及び図３の機能の上記の手順のステップをコンピュータに実行させるためのコード手段を含むことができる。従って、手順のステップは、コンピュータ上で実行されるときにコンピュータプログラム製品によって作り出される。
【００５６】
コンピュータプログラムは、他のハードウェアとともに供給される、又は他のハードウェアの一部として供給される、光学記憶媒体やソリッドステート媒体などの適当な媒体上に記憶／分散され得るが、インターネットや他の有線又は無線通信システムによってなど他の形態で分散されても良い。
【００５７】
特許請求の範囲の中の如何なる参照符号も、特許請求の範囲を限定するものとして解釈すべきでない。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【国際調査報告】
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2014515789.tif 000009