(57)【要約】紙幣および同様の印刷有価証券を製造するための印刷凹版（１；１＊）が記載されており、この印刷凹版は、被彫刻高分子層（１０）を含み、被彫刻高分子層の表面が、耐摩耗性材料から形成される外側コーティング（１００；３００）を含む１またはそれ以上のコーティング（１００；２００，３００）により被覆されている。外側コーティング（１００；３００）は、有利には、耐摩耗性材料の物理的気相成長（ＰＶＤ）によって形成される。また、印刷凹版（１；１＊）の製造方法も記載されている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
紙幣および同様の印刷有価証券を製造するための印刷凹版（１；１＊）であって、
被彫刻高分子層（１０）を含み、
前記被彫刻高分子層（１０）の表面が、耐摩耗性材料から形成される外側コーティング（１００；３００）を含む１またはそれ以上のコーティング（１００；２００，３００）により被覆され、
前記外側コーティング（１００；３００）が、前記耐摩耗性材料の物理的気相成長（ＰＶＤ）によって形成されることを特徴とする印刷凹版。
【請求項２】
請求項１に記載の印刷凹版（１；１＊）において、
前記高分子層（１０）が、レーザ彫刻可能な高分子層であることを特徴とする印刷凹版。
【請求項３】
請求項２に記載の印刷凹版（１；１＊）において、
前記高分子層（１０）が、当該高分子層に分散されたレーザ吸収粒子または添加物を含むことを特徴とする印刷凹版。
【請求項４】
請求項３に記載の印刷凹版（１；１＊）において、
前記レーザ吸収粒子または添加物が、カーボンブラック材料から作られることを特徴とする印刷凹版。
【請求項５】
請求項３または４に記載の印刷凹版（１；１＊）において、
前記高分子層（１０）が、ポリイミド材料から形成されることを特徴とする印刷凹版。
【請求項６】
請求項５に記載の印刷凹版（１；１＊）において、
前記ポリイミド材料が、カプトン（登録商標）材料であることを特徴とする印刷凹版。
【請求項７】
請求項１乃至６の何れか一項に記載の印刷凹版（１＊）において、
少なくとも１の中間コーティング（２００）が、前記被彫刻高分子層（１０）の表面と前記外側コーティング（３００）との間に配置されていることを特徴とする印刷凹版。
【請求項８】
請求項７に記載の印刷凹版（１＊）において、
前記中間コーティング（２００）が、コーティング材料の物理的気相成長（ＰＶＤ）によって形成されることを特徴とする印刷凹版。
【請求項９】
請求項１乃至８の何れか一項に記載の印刷凹版（１；１＊）において、
前記外側コーティング（１００；３００）の耐摩耗性材料が、クロム（Ｃｒ）、窒化クロム（ＣｒＮ）、窒化炭化クロム（ＣｒＣＮ）、チタン（Ｔｉ）、窒化チタン（ＴｉＮ）、窒化炭化チタン（ＴｉＣＮ）、窒化チタンアルミニウム（ＴｉＡｌＮ）または窒化アルミニウムチタン（ＡｌＴｉＮ）、および窒化炭化チタンアルミニウム（ＴｉＡｌＣＮ）からなるコーティング材料の群の中から選択されることを特徴とする印刷凹版。
【請求項１０】
請求項７または８に記載の印刷凹版（１＊）において、
前記中間コーティング（２００）のコーティング材料が、ニッケル（Ｎｉ）、クロム（Ｃｒ）、チタン（Ｔｉ）およびそれらの誘導体からなるコーティング材料の群の中から選択されることを特徴とする印刷凹版。
【請求項１１】
請求項１０に記載の印刷凹版（１＊）において、
前記中間コーティング（２００）のコーティング材料がチタン（Ｔｉ）であり、前記外側コーティング（３００）の耐摩耗性材料が、窒化チタン（ＴｉＮ）、または窒化炭化チタン（ＴｉＣＮ）、窒化チタンアルミニウム（ＴｉＡｌＮ）、窒化アルミニウムチタン（ＡｌＴｉＮ）または窒化炭化チタンアルミニウム（ＴｉＡｌＣＮ）のような窒化チタンの誘導体であることを特徴とする印刷凹版。
【請求項１２】
請求項１乃至１１の何れか一項に記載の印刷凹版（１；１＊）において、
前記高分子層（１０）を支持する金属製のベースプレート（１２）をさらに備えることを特徴とする印刷凹版。
【請求項１３】
請求項１乃至１２の何れか一項に記載の印刷凹版（１；１＊）において、
前記高分子層（１０）が、１００乃至２００ミクロンの範囲の厚さを有し、前記耐摩耗性材料の外側コーティング（１００；３００）が、５ミクロンまたはそれ未満の厚さ、好ましくは１ミクロンまたはそれ未満の厚さを有することを特徴とする印刷凹版。
【請求項１４】
紙幣および同様の印刷有価証券の製造用の印刷凹版を製造する方法であって、
彫刻可能な高分子層（１０）を有する未彫刻の版媒体を提供するステップと、
前記高分子層（１０）を彫り込むステップと、
耐摩耗性材料から形成される外側コーティング（１００；３００）を含む１またはそれ以上のコーティング（１００；２００，３００）によって、彫り込まれた高分子層（１０）の表面を被覆するステップとを備え、
前記外側コーティング（１００；３００）が、前記耐摩耗性材料の物理的気相成長（ＰＶＤ）によって形成されることを特徴とする方法。
【請求項１５】
請求項１４に記載の方法において、
前記彫刻可能な高分子層（１０）が、レーザ彫刻可能な高分子層であり、前記高分子層の彫り込みが、レーザ彫刻により行われることを特徴とする方法。
【請求項１６】
請求項１５に記載の方法において、
前記高分子層（１０）が、当該高分子層に分散されたレーザ吸収粒子または添加物を含むことを特徴とする方法。
【請求項１７】
請求項１６に記載の方法において、
前記レーザ吸収粒子または添加物が、カーボンブラック材料から作られることを特徴とする方法。
【請求項１８】
請求項１６または１７に記載の方法において、
前記高分子層（１０）が、ポリイミド材料から形成されることを特徴とする方法。
【請求項１９】
請求項１８に記載の方法において、
前記ポリイミド材料が、カプトン（登録商標）材料であることを特徴とする方法。
【請求項２０】
請求項１４乃至１９の何れか一項に記載の方法において、
前記外側コーティング（１００；３００）の耐摩耗性材料が、クロム（Ｃｒ）、窒化クロム（ＣｒＮ）、窒化炭化クロム（ＣｒＣＮ）、チタン（Ｔｉ）、窒化チタン（ＴｉＮ）、窒化炭化チタン（ＴｉＣＮ）、窒化チタンアルミニウム（ＴｉＡｌＮ）または窒化アルミニウムチタン（ＡｌＴｉＮ）、および窒化炭化チタンアルミニウム（ＴｉＡｌＣＮ）からなるコーティング材料の群の中から選択されることを特徴とする方法。
【請求項２１】
請求項１４乃至２０の何れか一項に記載の方法において、
前記彫り込まれた高分子層（１０）の表面と前記外側コーティング（３００）との間に少なくとも１の中間コーティング（２００）を提供するステップをさらに備えることを特徴とする方法。
【請求項２２】
請求項２１に記載の方法において、
前記中間コーティング（２００）が、コーティング材料の物理的気相成長（ＰＶＤ）によって形成されることを特徴とする方法。
【請求項２３】
請求項２１または２２に記載の方法において、
前記中間コーティング（２００）のコーティング材料が、ニッケル（Ｎｉ）、クロム（Ｃｒ）、チタン（Ｔｉ）およびそれらの誘導体からなるコーティング材料の群の中から選択されることを特徴とする方法。
【請求項２４】
請求項２３に記載の方法において、
前記中間コーティング（２００）のコーティング材料がチタン（Ｔｉ）であり、前記外側コーティング（３００）の耐摩耗性材料が、窒化チタン（ＴｉＮ）、または窒化炭化チタン（ＴｉＣＮ）、窒化チタンアルミニウム（ＴｉＡｌＮ）、窒化アルミニウムチタン（ＡｌＴｉＮ）または窒化炭化チタンアルミニウム（ＴｉＡｌＣＮ）のような窒化チタンの誘導体であることを特徴とする方法。
【請求項２５】
紙幣および同様の印刷有価証券を製造するための凹版印刷機における請求項１乃至１３の何れか一項に記載の印刷凹版（１；１＊）の使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一般に、紙幣および同様の印刷有価証券を製造するための凹版印刷用の印刷版（以下、印刷凹版と称する。）およびそのような印刷凹版の製造方法に関し、この印刷凹版は、紙幣および同様の印刷有価証券の製造のために凹版印刷機に使用され得るものである。
【背景技術】
【０００２】
従来より、紙幣および同様の印刷有価証券を製造するための印刷凹版およびその製造方法が既に知られている。
【０００３】
引用によりその全体が本明細書に援用される国際公開ＷＯ０３／１０３９６２Ａ１は、そのような印刷凹版およびその製造方法を開示している。この国際公開ＷＯ０３／１０３９６２Ａ１の有利な実施形態によれば、レーザ彫刻可能な高分子層を有する高分子版、好ましくは分散カーボンブラック材料を含むポリイミド材料が、レーザ彫刻により彫り込まれて、印刷凹版のいわゆる前駆版（precursor plate）が製造される。その後、この前駆版は、通常、銀メッキされて、金属材料、典型的にはニッケルの層を前駆版の表面に堆積および成長させるために、直流電気浴（galvanic baths）において彫刻された前駆版を処理することによっていわゆる（ニッケル）アルト版（alto plate）を製造するために使用される。その後、アルト版は、彫刻された前駆版から分離される（その前駆版はこのプロセスで破壊される）。こうして得られたアルト版は、基本的に、彫刻された前駆版のレリーフの鏡像であり、最終的に印刷機上に落ち着く印刷凹版の製造に使用される。そのような印刷凹版は、金属材料、典型的にはニッケルの層を前駆版の表面に堆積および成長させるべく直流電気浴でアルト版を処理することにより、同様に製造され、アルト版は、こうして得られた印刷凹版から分離されて、印刷凹版の更なる製造に使用するのに再び適したものとなる。また、印刷凹版が凹版印刷機で使用できるようになる前に、更なる処理ステップが必要とされ、その処理ステップには、一般に、前駆版の表面、アルト版の表面および／または印刷凹版の表面を磨くステップと、印刷凹版の表面に、耐摩耗性材料、典型的にはクロム（Ｃｒ）の層を堆積させるステップ（堆積は、典型的には、更なる直流電気浴、例えば、クロム浴において、印刷凹版を処理することによって行われる）と、印刷凹版の後面の歪修正（rectification）を行うステップと、凹版印刷機に取り付けるために印刷凹版を完成させるステップとが含まれる。
【０００４】
凹版印刷機における上記彫刻された高分子前駆版の直接使用は、試験目的および非常に限られた製造工程について可能である。実際に、彫刻された高分子前駆版と、凹版印刷機で一般に使用されるワイピングローラまたはシリンダ（凹版印刷機用のワイピングローラアセンブリの一例の説明について、例えば、国際公開ＷＯ２００７／１１６３５３Ａ１を参照されたい。）との間の摩擦は、ワイピングローラまたはシリンダの表面の急速な劣化を引き起こし、彫刻された高分子前駆版の品質を低下させ、それは直ぐに、非常に低い印刷品質に繋がる。
【０００５】
要約すれば、彫刻された高分子前駆版に基づく印刷凹版の製造は、時間とコストがかかる幾つかの直流電気浴における処理を必要とし、直流電気浴が環境に悪い化学薬品を使用し、かつ／または高度の注意を払う必要がある環境に悪い化学誘導体を生成するという事実を考慮すると、環境的な視点からの潜在的な問題が生じる可能性がある。
【０００６】
引用によりその全体が本明細書に援用される国際公開ＷＯ２００９／１３８９０１Ａ１は、紙の有価証券製造用の印刷凹版を製造する方法およびシステムを開示している。ＷＯ２００９／１３８９０１Ａ１によれば、レーザ彫刻可能な金属性の印刷媒体がレーザビームにより直接彫刻されて、印刷凹版それ自体が生成される。そのような方法によれば、上述した殆どの流電処理をなくすことができる。
【０００７】
しかしながら、金属製の印刷版媒体の直接的レーザ彫刻は、所望の深さまで印刷凹版を十分に彫り込むために、幾つかの彫刻パス（engraving passes）が必要とされ、それに時間がかかるという不利点を依然有している。また、彫刻プロセスからの溶融した残留物が、彫刻品質、ひいては印刷品質に悪影響を与え、それが、ＷＯ２００９／１３８９０１Ａ１に記載されているように、版材料の望ましくない残留物を除去するために、版表面の入念な中間洗浄を必要とする。その結果、合理的に受け入れられる彫刻時間を達成しようとすると、彫刻分解能の低下を招く。
【０００８】
したがって、印刷凹版を製造するための改善策に対する必要性が存在する。
【発明の概要】
【０００９】
よって、本発明の全体的な目的は、既知の印刷凹版およびその製造方法を改善することにある。
【００１０】
具体的に、本発明の目的は、製造時間と費用の観点から最適でありながらも環境に優しい実施のための解決策を提供することにある。
【００１１】
それら目的は、請求項に規定される解決策によって達成される。
【００１２】
より正確には、紙幣および同様の印刷有価証券の製造用の印刷凹版（intaglio printing plate）が提供され、この印刷凹版は、被彫刻高分子層（engraved polymer layer）を含み、この被彫刻高分子層が、耐摩耗性材料から形成される外側コーティングを含む１またはそれ以上のコーティングにより被覆されている。本発明によれば、前記外側コーティングが、有利には、前記耐摩耗性材料の物理的気相成長（ＰＶＤ）によって形成される。
【００１３】
前記外側コーティングは、被彫刻高分子層の表面の実質的な硬化を与え、その結果、長い製造工程の間、凹版印刷機において高分子ベースの印刷凹版を直接使用することが可能になる。
【００１４】
好ましくは、前記高分子層は、レーザ彫刻可能な高分子層であり、この高分子層は、有利には、当該高分子層に分散された、カーボンブラック材料のようなレーザ吸収粒子または添加物を含む。そのような高分子材料は、具体的には、カプトン（登録商標）材料のようなポリイミド材料とすることができる。カプトン（登録商標）材料は、ＰＶＤコーティング技術によってコーティング材料を塗布する際に一般に付随する高処理温度に耐えることができるため、カプトン（登録商標）材料のようなポリイミド材料は、ＰＶＤプロセスに非常に良く適合する。
【００１５】
本発明によれば、外側コーティングが、耐摩耗性材料の物理的気相成長（またはＰＶＤ）により形成される。本出願人により実行された試験によって、物理的気相成長法により形成された外側コーティングが、高分子ベースの印刷凹版の特に耐久性のあるコーティングを与えることが明らかとなっている。
【００１６】
本発明の実施形態によれば、少なくとも１の中間コーティングが、前記被彫刻高分子層の表面と前記外側コーティングとの間に配置されている。この中間コーティングは、好ましくは、コーティング材料の物理的気相成長（またはＰＶＤ）によって形成される。
【００１７】
前記外側コーティングの耐摩耗性材料は、クロム（Ｃｒ）、窒化クロム（ＣｒＮ）、窒化炭化クロム（ＣｒＣＮ）、チタン（Ｔｉ）、窒化チタン（ＴｉＮ）、窒化炭化チタン（ＴｉＣＮ）、窒化チタンアルミニウム（ＴｉＡｌＮ）または窒化アルミニウムチタン（ＡｌＴｉＮ）、および窒化炭化チタンアルミニウム（ＴｉＡｌＣＮ）からなるコーティング材料の群の中から適切に選択することができる。耐摩耗性材料の主要な機能は、摩耗に対する適正で十分な耐久性を確保して、長い製造工程の間、印刷凹版が使用されることを可能にすることにある。
【００１８】
前記中間コーティングのコーティング材料は、ニッケル（Ｎｉ）、クロム（Ｃｒ）、チタン（Ｔｉ）およびそれらの誘導体（derivatives）からなるコーティング材料の群の中から適切に選択することができる。
【００１９】
本発明においては、好ましくは１００乃至２００ミクロンの範囲の厚さを有する高分子層を使用することが考えられる。そのような高分子層は、高分子層に十分な支持を与える金属製のベースプレート上に形成することができる。
【００２０】
前記耐摩耗性材料の外側コーティングの厚さは、有利には、５ミクロンまたはそれ以下であり、好ましくは１ミクロンまたはそれ以下である。それよりも厚さを大きくすることも可能であるが、約１または数ミクロンのコーティング厚は、高分子ベースの印刷凹版の増加した耐久性を達成するのに既に十分である。また、相対的に薄いコーティングは、コーティングの破壊に至ることなく応力下においてある程度の弾性変形を潜在的に可能にするため、印刷中に良好な作用を示すことが期待される。
【００２１】
また、上記印刷凹版の製造方法が請求されており、この方法は、彫刻可能な高分子層を有する未彫刻の版媒体を提供するステップと、前記高分子層を彫り込むステップと、耐摩耗性材料から形成される外側コーティングを含む１またはそれ以上のコーティングによって、彫り込まれた高分子層の表面を被覆するステップとを備え、前記外側コーティングが、前記耐摩耗性材料の物理的気相成長（ＰＶＤ）によって形成される。
【００２２】
好ましくは、前記彫刻可能な高分子層は、上述したように、レーザ彫刻可能な高分子層であり、前記高分子層の彫り込みが、レーザ彫刻により行われる。
【００２３】
また、紙幣および同様の印刷有価証券を製造するための凹版印刷機における上記印刷凹版の使用が請求される。
【００２４】
また、本発明の有利な実施形態は、以下に記載され、従属請求項の発明主題を構成する。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
本発明のその他の特徴および利点は、もっぱら非限定的な実施例により提示されて次の添付図面により例示される以下の本発明の実施形態の詳細な説明を読むことにより、より明確になるであろう。
【図１】図１は、本発明の一実施形態に係る印刷凹版の概略断面図である。
【図２】図２は、本発明の第２実施形態に係る印刷凹版の概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
本発明は、レーザ彫刻可能な高分子層のレーザ彫刻によって製造される印刷凹版との関連において、以下に説明することとする。レーザ彫刻は、本発明に係る高分子層を彫り込む好ましい方法であるが、代替的には、高分子層は、機械的に、例えば、回転チゼルまたは同様の彫刻工具によって、彫り込まれるものであってもよい。
【００２７】
図１は、本発明の一実施形態に係る印刷凹版の概略断面図を示している。なお、寸法、特に様々な層の厚さおよび彫刻のサイズは、必ずしも一定の縮尺で描かれていないことに留意されたい。
【００２８】
より正確には、図１は、符号１により一般に指定される印刷凹版を示し、この印刷凹版は、彫刻１０ａを有する被彫刻高分子層１０を備え、この高分子層１０がベースプレート１２上で支持されている。そのようなベースプレート１２は、例えば、金属製のベースプレートとすることができる。
【００２９】
この実施形態に係る被彫刻高分子層１０は、レーザ彫刻される高分子層であり、すなわち、高分子層１０は、レーザビームによって高分子層１０の彫刻を実行するのに適した材料から作られる。有利には、高分子層１０は、カーボンブラック材料のようなレーザ吸収粒子または添加物を含み、それらが高分子層１０中に分散される。そのような粒子または添加物は、レーザエネルギーの最適吸収と、処理される高分子材料の昇華とが行われるようにし、それによって最適な彫刻品質を確保する。本実施形態との関連で使用される特に好都合な高分子材料は、デュポン社により販売されているカプトン（登録商標）材料のようなポリイミド材料である。
【００３０】
レーザ彫刻可能な高分子層１０は、本明細書の序文で説明して引用により本明細書に援用される国際公開ＷＯ０３／１０３９６２Ａ１に開示される方法に従って、彫り込まれるのが好ましい。しかしながら、その他の彫刻方法によって彫り刻まれるものであってもよい。
【００３１】
高分子層１０は、好ましくは、１００乃至２００ミクロンの範囲の厚さを示し、その厚さが、殆どの種類の凹版パターンの彫刻に適したものとされる。
【００３２】
図１はさらに、被彫刻高分子層１０の表面が、耐摩耗性材料から形成されるコーティング１００によって被覆され、それが印刷凹版１の外側コーティングを形成することを示している。本発明の実施形態によれば、外側コーティング１００は、被彫刻高分子層１０の表面上に直接、耐摩耗性材料の物理的気相成長（またはＰＶＤ）により形成された。
【００３３】
外側コーティング１００は、被彫刻高分子層１０の表面の実質的な硬化を提供して、長い製造工程の間、凹版印刷機に高分子ベースの印刷凹版を直接使用することを可能にする。また、本出願人によって実行された試験は、例えばクロム（Ｃｒ）から形成される外側コーティングが、追加的なコーティング層を必要とすることなく、下方にある例えばカプトン（登録商標）からなる高分子層１０に対して非常に高い付着力を呈することを示している。
【００３４】
これは、高分子前駆版が従来の直流電気浴処理によってアルト版（および結果として得られる印刷凹版）の形成のためにマトリクスとして使用されることのみが意図される、国際公開ＷＯ０３／１０３９６２Ａ１に開示されるような被彫刻高分子前駆版の使用と比べると、大きな利点である。実際に、本発明のおかげで、アルト版および印刷凹版を製造するために従来より典型的に使用されるニッケル直流電気浴を、必要に応じて、完全に省略することができる。
【００３５】
物理的気相成長法（ＰＶＤ）による外側コーティング１００の形成によって、印刷凹版の製造において、すべての直流電流浴を完全になくすことがさらに可能となり、それは、環境の観点から、極めて高い影響を有する。
【００３６】
さらに、印刷凹版の所望の彫刻の形成のための彫刻可能媒体として高分子層１０を保持することは、版全体が単一パスにおいて高い彫刻精度および高分解能で比較的短時間のうちに彫刻され得るという点において、非常に好都合である。
【００３７】
外側コーティング１００のための適用なコーティング材料は、クロム（Ｃｒ）である。しかしながら、窒化クロム（ＣｒＮ）、窒化炭化クロム（ＣｒＣＮ）、チタン（Ｔｉ）、窒化チタン（ＴｉＮ）、窒化炭化チタン（ＴｉＣＮ）、窒化チタンアルミニウム（ＴｉＡｌＮ）または窒化アルミニウムチタン（ＡｌＴｉＮ）、および窒化炭化チタンアルミニウム（ＴｉＡｌＣＮ）のような、クロム（Ｃｒ）以外のその他のコーティング材料を使用することも可能である。
【００３８】
本出願人により実行された試験により、例えばカプトン（登録商標）から形成される被彫刻高分子層の表面上に物理的気相成長法（ＰＶＤ）により形成された例えばクロム（Ｃｒ）の外側コーティング１００が高分子層に適切に付着して、被彫刻高分子層１０の表面の特に耐久性のあるコーティングを与えることが証明されている。
【００３９】
耐摩耗性材料からなる外側コーティング１００の厚さは、好都合なことに、５ミクロンまたはそれ未満の範囲にすることができる。特に、本出願人により実行された試験により、約１ミクロン（またはそれ未満）の厚さが、高分子ベースの印刷凹版１の大幅に増加した耐久性を与えるのに既に十分であることが証明されている。
【００４０】
図２は、符号１＊によって指定される本発明の別の実施形態に係る印刷凹版の概略断面図を示している。なお、ここでも同様に、各層の厚さおよび彫刻のサイズは、必ずしも一定の縮尺で描かれていないことに留意されたい。
【００４１】
図２の印刷凹版１＊は、被彫刻高分子層１０の表面と符号３００でこの実施形態で指定される外側コーティングとの間に中間コーティング２００が介在している点において、図１の印刷凹版１と異なる。
【００４２】
本発明のこの実施形態においては、中間コーティング２００もコーティング材料の物理的気相成長（ＰＶＤ）により被彫刻高分子層の表面に形成された。
【００４３】
中間コーティング２００に適用なコーティング材料は、好ましくは、ニッケル（Ｎｉ）、クロム（Ｃｒ）、チタン（Ｔｉ）またはそれらの誘導体からなる群の中から選択される。中間コーティング２００の機能は、本質的に、被彫刻高分子層１０の表面と外側コーティング３００との間の接着促進剤としての役割を果たすことである。中間コーティング２００は、印刷凹版１＊の表面に露出することはないため、摩耗に対する耐久性は、中間コーティング２００に関する限りは、大きな問題ではない。
【００４４】
図２の実施形態の中間コーティング２００と外側コーティング３００に適した材料の組合せには、ニッケル（Ｎｉ）、クロム（Ｃｒ）またはチタン（Ｔｉ）からなる中間コーティング２００が、上述したようなクロム（Ｃｒ）、窒化クロム（ＣｒＮ）、窒化炭化クロム（ＣｒＣＮ）、チタン（Ｔｉ）、窒化チタン（ＴｉＮ）、窒化炭化チタン（ＴｉＣＮ）、窒化チタンアルミニウム（ＴｉＡｌＮ）または窒化アルミニウムチタン（ＡｌＴｉＮ）および窒化炭化チタンアルミニウム（ＴｉＡｌＣＮ）を含むコーティング材料の群の中から選択されたコーティング材料から形成される外側コーティング３００によって被覆されることが含まれる。そのようなコーティング材料は、更に長いライフサイクルに繋がる、高分子ベースの印刷凹版のための特に耐久性のあるコーティングを形成する価値を明示している。
【００４５】
図２との関連において、中間コーティング２００は、有利には、チタン（Ｔｉ）コーティングとすることができ、一方、外側コーティング３００は、窒化チタン（ＴｉＮ）、または窒化炭化チタン（ＴｉＣＮ）、窒化チタンアルミニウム（ＴｉＡｌＮ）、窒化アルミニウムチタン（ＡｌＴｉＮ）または窒化炭化チタンアルミニウム（ＴｉＡｌＣＮ）のような窒化チタンの誘導体とすることができ、それらコーティング２００，３００はともに、物理的気相成長法（ＰＶＤ）によって適切に形成することができる。
【００４６】
上記記載から明らかなように、紙幣または同様の印刷有価証券の製造用の１または複数の上記印刷凹版の製造方法は、被彫刻高分子層１０（好ましくは、上述したようにレーザ彫刻可能な高分子層）を有する非彫刻版媒体（non-engraved plate medium）を提供するステップと、（好ましくは、レーザ彫刻によって）高分子層１０を彫り込むステップと、耐摩耗性コーティング材料から形成される外側コーティング１００，３００を含む１またはそれ以上のコーティング１００，２００，３００によって、被彫刻高分子層１０の表面を被覆するステップとを備え、外側コーティング１００，３００が耐摩耗性材料の物理的気相成長（ＰＶＤ）によって形成される。
【００４７】
また、当然のことながら、上述した印刷凹版は、紙幣または同様の印刷有価証券を製造するために凹版印刷機に直接使用することができる。
【００４８】
当業者であれば、耐摩耗性材料から形成される外側コーティングを含む１またはそれ以上のコーティングの被彫刻高分子版への直接的な堆積によって、アルト版および印刷凹版を製造するために従来より慣習的に使用されていたニッケル直流電気浴を完全になくすことが可能になることが、本発明の実施形態の上記記載から認識および理解することとなるであろう。また、印刷凹版の後面の歪修正がもはや不要であることが明らかであろう。
【００４９】
また、耐摩耗性材料からなる外側コーティングを含む１またはそれ以上のコーティングを形成するために物理的気相成長（ＰＶＤ）プロセスを選択することによって、当業者は、従来のニッケル版にクロム層を形成するために一般に使用されるクロム直流電気浴を含む、すべての直流電気浴を潜在的に取り除くことができる。
【００５０】
添付の請求項により規定される本発明の範囲から逸脱することなく、本発明の上述した実施形態に様々な修正および／または改善を加えることが可能である。
【００５１】
例えば、レーザ彫刻は、高分子層１０を彫り込むための好ましい方法であるが、代替的には、高分子層１０は、その他の手段、例えば、回転チゼルまたは同様の機械的彫刻工具によって機械的に、彫り込むことも可能である。しかしながら、フレキシビリティ、精度および迅速性に関して、高分子層１０のレーザ彫刻が特に有利であることを強調しておきたい。
【００５２】
また、図１およぶ図２は、一層のコーティング、それぞれ二層のコーティングが被彫刻高分子層１０の表面に与えられる実施形態を示しているが、添付の請求項により規定される本発明の範囲から逸脱することなく、二層より多いコーティングが検討されるものであってもよい。
【００５３】
なお、これとの関連において、図２の実施形態の中間コーティング２００は、被彫刻高分子層１０の表面と耐摩耗性材料からなる外側コーティング３００との間の接着性を実質的に最大化させることをその役割とするコーティング材料とすることができ、中間コーティング２００の摩耗に対する耐久性は、外側コーティング３００によりそのような機能が確保されるこのような場合においては、それほど問題にならなくなることに留意されたい。
【００５４】
一方、図１との関連においては、単一のコーティング１００は、被彫刻高分子層１０の表面への良好な接着性と、摩耗に対する良好な耐久性の双方を示す必要がある。それは、両機能が、一つの同じ層によって達成されるためである。
【００５５】
また、ポリイミド材料と、特にカプトン（登録商標）材料を、適当な高分子材料として述べてきたが、（特に、レーザ彫刻により）十分に彫り込まれてＰＶＤコーティングプロセスの典型的な高い処理温度に耐える限りは、その他の材料を想定することもできる。しかしながら、カプトン（登録商標）は、レーザ彫刻とＰＶＤコーティングの双方に極めて優れた特性を示すため、本発明においては特に有利である。
【符号の説明】
【００５６】
１  印刷凹版（第１実施形態）
１＊  印刷凹版（第２実施形態）
１０  被彫刻高分子層（例えば、レーザ彫刻可能な高分子層）
１０ａ  高分子層１０の彫刻
１２  被彫刻高分子層１０のベースプレート（例えば、金属製のベースプレート）
１００  耐摩耗性材料の外側コーティング
２００  中間コーティング
３００  耐摩耗性材料の外側コーティング
【図１】
2014515708.tif 000003
【図２】
2014515708.tif 000004
【国際調査報告】
2014515708.tif 000005
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