(57)【要約】ゲルは、改善された熱安定性を有し、（Ａ）１分子あたり平均して少なくとも０．１個のケイ素結合アルケニル基を有する有機ポリシロキサンと、（Ｂ）１分子あたり平均して少なくとも２個のケイ素結合水素原子を有する架橋剤とのヒドロシリル化反応生成物である。（Ａ）及び（Ｂ）は、（Ｃ）ヒドロシリル化触媒と、（Ｄ）フタロシアニンとの存在下でヒドロシリル化を介して反応する。（Ｄ）フタロシアニンは、（Ａ）及び（Ｂ）の総重量に基づいて約０．０５〜約３０重量パーセントの量で存在する。ゲルは、ＴＡ−２３プローブを３ｍｍの深さまでゲルに挿入するのに必要とされる重量として計算され、１０００時間２２５℃での熱老化後に測定されるときに、約１５００グラム未満の硬度を有する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
改善された熱安定性を有し、かつ
（Ａ）１分子あたり平均して少なくとも０．１個のケイ素結合アルケニル基を有する有機ポリシロキサンと、
（Ｂ）１分子あたり平均して少なくとも２個のケイ素結合水素原子を有する架橋剤と、のヒドロシリル化反応生成物である、ゲルであって、
（Ａ）及び（Ｂ）が、
（Ｃ）ヒドロシリル化触媒と、
（Ｄ）（Ａ）及び（Ｂ）の総重量に基づいて約０．０５〜約３０重量パーセントの量で存在するフタロシアニンと、の存在下でヒドロシリル化を介して反応し、
（Ａ）及び（Ｂ）が、（Ｃ）及び（Ｄ）の存在下で（Ｅ）シリコーン流体と任意に反応し、
（Ａ）及び（Ｂ）が、（Ｃ）、（Ｄ）、及び（Ｅ）の存在下で任意に反応し、
前記ゲルが、ＴＡ−２３プローブを３ｍｍの深さまで前記ゲルに挿入するのに必要とされる重量として計算され、１０００時間２２５℃での熱老化後に測定されるときに、約１５００グラム未満の硬度を有する、ゲル。
【請求項２】
前記（Ｄ）フタロシアニン又はそのハロゲン塩が、金属を含む、請求項１に記載のゲル。
【請求項３】
前記金属が、遷移金属である、請求項２に記載のゲル。
【請求項４】
前記金属が、鉄、マグネシウム、コバルト、及び銅からなる群から選択される、請求項２に記載のゲル。
【請求項５】
前記ハロゲン塩が、塩化フタロシアニンとして更に定義され、かつ前記金属を含む、請求項２に記載のゲル。
【請求項６】
前記（Ｄ）フタロシアニンが、２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニナト（２−）−Ｎ２９，Ｎ３０，Ｎ３１，Ｎ３２鉄、２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニナト（２−）−Ｎ２９，Ｎ３０，Ｎ３１，Ｎ３２マグネシウム、２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニナト（２−）−Ｎ２９，Ｎ３０，Ｎ３１，Ｎ３２コバルト、及び２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニナト（２−）−Ｎ２９，Ｎ３０，Ｎ３１，Ｎ３２銅からなる群から選択される、請求項４に記載のゲル。
【請求項７】
（Ｅ）が、官能性シリコーン流体として更に定義され、前記ヒドロシリル化反応生成物が、（Ａ）、（Ｂ）、及び（Ｅ）のヒドロシリル化反応生成物として更に定義され、（Ａ）、（Ｂ）、及び（Ｅ）が、（Ｃ）及び（Ｄ）の存在下でヒドロシリル化を介して反応する、請求項１に記載のゲル。
【請求項８】
前記硬度が、熱老化後に最初に減少する、請求項１に記載のゲル。
【請求項９】
前記（Ｄ）フタロシアニンが、誘導結合プラズマ及びＡＳＴＭ／ＵＯＰ  ７１４−０７を使用して判定されるときに、前記ゲルの総重量に基づいて少なくとも４０，０００ｐｐｍの金属を含む、請求項２に記載のゲル。
【請求項１０】
熱老化後に最初に減少する４０グラム未満の硬度を有し、前記フタロシアニンが、（Ａ）及び（Ｂ）の総重量に基づいて０．１〜２重量パーセントの量で存在し、かつ鉄、マグネシウム、コバルト、及び銅からなる群から選択される金属を含み、（Ａ）及び（Ｂ）が、ケイ素結合水素原子とケイ素結合アルケニル基との比が約１．３：１未満であるような量で存在する、請求項１に記載のゲル。
【請求項１１】
電子構成要素と、請求項１〜１０のいずれかに記載のゲルとを備える、電子物品。
【請求項１２】
チップと、請求項１〜１０のいずれかに記載のゲルとを備える、絶縁ゲートバイポーラトランジスタであって、前記ゲルが前記チップを被包する、絶縁ゲートバイポーラトランジスタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、概して、改善された熱安定性を有するヒドロシリル化反応生成物であるゲル、及び該ゲルを含む電子物品に関する。
【背景技術】
【０００２】
典型的なシリコーンは、優れた応力緩衝特性、電気的特性、耐熱性、及び耐候特性を有し、多くの用途で使用され得る。多くの用途において、シリコーンは、発熱する電子構成要素から離れて熱を移動させるために使用され得る。しかしながら、電極及び細い電線を含む高性能の電子物品で使用されるとき、典型的なシリコーンは、長い作動サイクル及び高熱への曝露後、硬化し、脆弱になり、かつ亀裂する傾向がある。硬化及び亀裂は、電極及び電線を分裂又は破壊し、それによって電気的不全を引き起こす。したがって、改善されたシリコーンを開発する機会が依然として存在する。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００３】
本開示は、改善された熱安定性を有するゲルを提供する。ゲルは、（Ａ）１分子あたり平均して少なくとも０．１個のケイ素結合アルケニル基を有する有機ポリシロキサンと、（Ｂ）１分子あたり平均して少なくとも２個のケイ素結合水素原子を有する架橋剤とのヒドロシリル化反応生成物である。（Ａ）及び（Ｂ）は、（Ｃ）ヒドロシリル化触媒と、（Ｄ）フタロシアニンとの存在下でヒドロシリル化を介して反応する。（Ｄ）フタロシアニンは、（Ａ）及び（Ｂ）の総重量に基づいて約０．０５〜約３０重量パーセントの量で存在する。（Ａ）及び（Ｂ）は、（Ｃ）及び（Ｄ）の存在下で（Ｅ）シリコーン流体と任意に反応することができる。あるいは、（Ａ）及び（Ｂ）は、（Ｃ）、（Ｄ）、及び（Ｅ）の存在下で任意に反応する。更に、ゲルは、ＴＡ−２３プローブを３ｍｍの深さまでゲルに挿入するのに必要とされる重量として計算され、１０００時間２２５℃での熱老化後に測定されるときに、約１５００グラム未満の硬度を有する。本開示はまた、電子構成要素と、該電子構成要素上に配設されたゲルとを含む電子物品を提供する。
【０００４】
（Ｄ）フタロシアニンは、広範な熱老化後であっても、ゲルが低ヤング率（即ち、低硬度及び粘度特性）を維持するのを可能にする。ヤング率は、以下では単純に「弾性率」と称される。低弾性率を維持するゲルは、長い作動サイクル及び高熱への曝露後、硬化し、脆弱になり、かつ亀裂する傾向が少なく、電子物品で使用されるとき、いずれの電極又は電線が損傷を受ける可能性も減少させ、それによって電気的不全が生じる可能性を減少させる。
【発明を実施するための形態】
【０００５】
「開示の概要及び利点」並びに要約書は、参照することにより本明細書に組み込まれる。
【０００６】
用語「ヒドロシリル化反応生成物」は、（Ａ）及び（Ｂ）が（Ｃ）及び（Ｄ）の存在下でヒドロシリル化反応を介して反応することを説明する。（Ｃ）も（Ｄ）もこの反応で消費されない（即ち、それらは反応物質ではない）が、この反応に関与し得る。加えて、（Ａ）及び（Ｂ）は、（Ｃ）及び（Ｄ）の存在下で（Ｅ）シリコーン流体と任意に反応することができる。あるいは、（Ａ）及び（Ｂ）は、（Ｃ）、（Ｄ）、及び（Ｅ）の存在下で任意に反応する。その上更に、（Ｅ）は、全く含まれないか、又は利用されなくてもよい。（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）、及び（Ｅ）の各々が以下により詳細に説明される。
【０００７】
（Ａ）有機ポリシロキサン：
（Ａ）有機ポリシロキサンは、単一ポリマーであってもよく、又は以下の特性のうちの少なくとも１つのうちで異なる２種以上のポリマーを含んでもよい：構造、粘度、平均分子量、シロキサン単位、及び配列。（Ａ）有機ポリシロキサンは、個々のポリマー分子あたり平均して少なくとも０．１個のケイ素結合アルケニル基を有し、即ち、平均して１０個の個々のポリマー分子あたり少なくとも１個のケイ素結合アルケニル基がある。より一般的に、（Ａ）有機ポリシロキサンは、１分子あたり平均して１個以上のケイ素結合アルケニル基を有する。様々な実施形態では、（Ａ）有機ポリシロキサンは、１分子あたり平均して少なくとも２個のケイ素結合アルケニル基を有する。（Ａ）有機ポリシロキサンは、直鎖形態若しくは分枝直鎖形態、又は樹枝状形態である分子構造を有してもよい。（Ａ）有機ポリシロキサンは、ホモポリマー、コポリマー、若しくは２種以上のポリマーの組み合わせであってもよく、又はこれらを含んでもよい。（Ａ）有機ポリシロキサンは、有機アルキルポリシロキサンとして更に定義されてもよい。
【０００８】
（Ａ）有機ポリシロキサンのケイ素結合アルケニル基は、特に限定されないが、ビニル、アリル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、又はヘプテニル基のうちの１つ以上として一般的に定義される。それぞれのアルケニル基は、同一であってもよく、又は異なっていてもよく、かつそれぞれは、他のものすべてから独立して選択されてもよい。それぞれのアルケニル基は、末端又は側枝であってもよい。一実施形態では、（Ａ）有機ポリシロキサンは、末端及び側枝アルケニル基の両方を含む。
【０００９】
（Ａ）有機ポリシロキサンはまた、脂肪族不飽和を含まない一価有機基を含むが、これに限定されないケイ素結合有機基も含んでもよい。これらの一価有機基は、少なくとも１個、並びに２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１４、１６、１８、及び２０個もの炭素原子を有してもよく、メチル、エチル、並びにプロピル、ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、及びエイコサニルの異性体などのアルキル基；シクロペンチル、及びシクロヘキシルなどのシクロアルキル基；フェニル、トリル、キシリル、ベンジル、及び２−フェニルエチルなどの芳香族（アリール）基；並びに３，３，３，−トリフルオロプロピル、及び類似のハロゲン化アルキル基によって例示されるが、これらに限定されない。特定の実施形態では、有機基は、メチル基又はフェニル基である。
【００１０】
（Ａ）有機ポリシロキサンはまた、上で説明されるようにアルキル基、若しくはアリール基、及び／又はメトキシ基、エトキシ基、若しくはプロポキシ基によって例示されるアルコキシ基、又はヒドロキシル基として更に定義され得る末端基も含んでもよい。
【００１１】
様々な実施形態では、（Ａ）有機ポリシロキサンは、以下の式：
式（Ｉ）：Ｒ１２Ｒ２ＳｉＯ（Ｒ１２ＳｉＯ）ｄ（Ｒ１Ｒ２ＳｉＯ）ｅＳｉＲ１２Ｒ２、
式（ＩＩ）：Ｒ１３ＳｉＯ（Ｒ１２ＳｉＯ）ｆ（Ｒ１Ｒ２ＳｉＯ）ｇＳｉＲ１３、又は
これらの組み合わせのうちの１つを有してもよい。
【００１２】
式（Ｉ）及び（ＩＩ）では、それぞれのＲ１は独立して、脂肪族不飽和を含まない一価有機基であり、それぞれのＲ２は独立して、脂肪族不飽和有機基である。Ｒ１の好適な一価有機基は、１〜２０、１〜１５、１〜１０、５〜２０、５〜１５、又は５〜１０個の炭素原子、例えば、メチル、エチル、並びにプロピル、ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ウンデシル、及びオクタデシルの異性体を有するアルキル基；シクロペンチル及びシクロヘキシルなどのシクロアルキル基；並びにフェニル、トリル、キシリル、ベンジル、及び２−フェニルエチルなどのアリール基が挙げられるが、これらに限定されない。それぞれのＲ２は、独立して脂肪族不飽和一価有機基であり、ビニル、アリル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、又はヘプテニル基などのアルケニル基によって例示される。Ｒ２がハロゲン原子又はハロゲン基を含み得ることも企図される。
【００１３】
様々な実施形態では、下付き文字「ｄ」は、少なくとも０．１、少なくとも０．５、少なくとも０．８、又は少なくとも２の平均値を有する。あるいは、下付き文字「ｄ」は、ゼロの平均値、又は０．１〜２０００の範囲の平均値を有してもよい。下付き文字「ｅ」は、０又は正の数であってもよい。更に、下付文字「ｅ」は、０〜２０００の範囲の平均値を有してもよい。下付文字「ｆ」は、０又は正の数であってもよい。更に、下付文字「ｆ」は、０〜２０００の範囲の平均値を有してもよい。様々な実施形態では、下付き文字「ｇ」は、少なくとも０．１、少なくとも０．５、少なくとも０．８、又は少なくとも２の平均値を有する。あるいは、下付文字「ｇ」は、０．１〜２０００又は１〜２０００の範囲の平均値を有してもよい。
【００１４】
様々な実施形態では、（Ａ）有機ポリシロキサンは、ビニルジメチルシリル末端封鎖ポリジメチルシロキサンとしてそれ自体を更に定義され得るアルケニルジアルキルシリル末端封鎖ポリジアルキルシロキサンとして更に定義される。（Ａ）有機ポリシロキサンは、ジメチルビニルシロキシ基を有する片方又は両方の分子末端に末端保護されたジメチルポリシロキサン；メチルフェニルビニルシロキシ基を有する片方又は両方の分子末端に末端保護されたジメチルポリシロキサン；ジメチルビニルシロキシ基を有する片方又は両方の分子末端に末端保護されたメチルフェニルビニルシロキシとジメチルシロキサンとのコポリマー；ジメチルビニルシロキシ基を有する片方又は両方の分子末端に末端保護されたジフェニルシロキサンとジメチルシロキサンとのコポリマー、ジメチルビニルシロキシ基を有する片方又は両方の分子末端に末端保護されたメチルビニルシロキサンとジメチルシロキサンとのコポリマー；ジメチルビニルシロキシ基を有する片方又は両方の分子末端に末端保護されたメチル（３，３，３−トリフルオロプロピル）ポリシロキサン、ジメチルビニルシロキシ基を有する片方又は両方の分子末端に末端保護されたメチル（３，３，３−トリフルオロプロピル）シロキサンとジメチルシロキサンとのコポリマー；シラノール基を有する片方又は両方の分子末端に末端保護されたメチルビニルシロキサンとジメチルシロキサンとのコポリマー；シラノール基を有する片方又は両方の分子末端に末端保護されたメチルビニルシロキサンとメチルフェニルビニルシロキサンとジメチルシロキサンとのコポリマー；又は以下の式で表されるシロキサン単位からなる有機シロキサンコポリマー：（ＣＨ３）３ＳｉＯ１／２、（ＣＨ３）２（ＣＨ２＝ＣＨ）ＳｉＯ１／２、ＣＨ３ＳｉＯ３／２、（ＣＨ３）２ＳｉＯ２／２、ＣＨ３ＰｈＳｉＯ２／２、Ｐｈ２ＳｉＯ２／２、及び（ＣＨ３）Ｐｈ（ＣＨ２＝ＣＨ）ＳｉＯ１／２として更に定義されてもよい。
【００１５】
（Ａ）有機ポリシロキサンは、Ｒｘ３ＳｉＯ１／２単位及びＳｉＯ４／２単位を含み、それらから本質的になり、又はそれらからなるものとして定義されるＭＱ樹脂、ＲｘＳｉＯ３／２単位及びＲｘ２ＳｉＯ２／２単位を含み、それらから本質的になり、又はそれらからなるものとして定義されるＴＤ樹脂、Ｒｘ３ＳｉＯ１／２単位及びＲｘＳｉＯ３／２単位を含み、それらから本質的になり、又はそれらからなるものとして定義されるＭＴ樹脂、Ｒｘ３ＳｉＯ１／２単位、ＲｘＳｉＯ３／２単位、及びＲｘ２ＳｉＯ２／２単位を含み、それらから本質的になり、又はそれらからなるものとして定義されるＭＴＤ樹脂、又はこれらの組み合わせなどの樹脂を更に含んでもよい。Ｒｘは、任意の一価有機基、例えば、限定されるものではないが、一価炭化水素基及び一価ハロゲン化炭化水素基を示す。一価炭化水素基としては、メチル、エチル、並びにプロピル、ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、オクチル、ウンデシル、及びオクタデシルの異性体などの１〜２０、１〜１５、１〜１０、５〜２０、５〜１５、又は５〜１０個の炭素原子を有するアルキル基；シクロヘキシルなどのシクロアルキル基；ビニル、アリル、ブテニル、及びヘキセニルなどのアルケニル基；エチニル、プロピニル、及びブチニルなどのアルキニル基；並びにフェニル、トリル、キシリル、ベンジル、及び２−フェニルエチルなどのアリール基が挙げられるが、これらに限定されない。一実施形態では、（Ａ）有機ポリシロキサンは、ハロゲン原子を含まない。別の実施形態では、（Ａ）有機ポリシロキサンは、１個以上のハロゲン原子を含む。
【００１６】
（Ｂ）架橋剤：
（Ｂ）架橋剤は、１分子あたり平均して少なくとも２個のケイ素結合水素原子を有し、ポリ有機シロキサンなどのシラン若しくはシロキサンとして更に定義されてもよく、又はそれらを含む。様々な実施形態では、（Ｂ）架橋剤は、１分子あたり２、３、又は更に４個以上のケイ素結合水素原子を含んでもよい。（Ｂ）架橋剤は、直鎖状、分枝状、又は部分的に分枝状の直鎖状、環状、樹枝状、又は樹脂状の分子構造を有してもよい。ケイ素結合水素原子は、末端又は側枝であってもよい。あるいは、（Ｂ）架橋剤は、末端及び側枝ケイ素結合水素原子の両方を含んでもよい。
【００１７】
ケイ素結合水素原子に加えて、（Ｂ）架橋剤としては、不飽和脂肪族結合を含有しない一価炭化水素基、例えば、メチル、エチル、並びにプロピル、ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、デシル、ウンデシル、ドデシル、又は類似のアルキル基、例として、１〜２０、１〜１５、１〜１０、５〜２０、５〜１５、又は５〜１０個の炭素原子を有するアルキル基；シクロペンチル、シクロヘキシル、又は類似のシクロアルキル基；フェニル、トリル、キシリル、又は類似のアリール基；ベンジル、フェネチル、又は類似のアラルキル基；又は３，３，３−トリフルオロプロピル、３−クロロプロピル、又は類似のハロゲン化アルキル基も挙げられ得る。アルキル及びアリール基が好ましく、メチル及びフェニル基が特に好ましい。
【００１８】
（Ｂ）架橋剤はまた、ＨＲ３２ＳｉＯ１／２、Ｒ３３ＳｉＯ１／２、ＨＲ３ＳｉＯ２／２、Ｒ３２ＳｉＯ２／２、Ｒ３ＳｉＯ３／２、及びＳｉＯ４／２単位を含むがこれらに限定されないシロキサン単位を含むことができる。上記の式で、各Ｒ３は独立して脂肪族不飽和のない１価の有機基から選択される。様々な実施形態では、（Ｂ）架橋剤は、以下の式：
式（ＩＩＩ）Ｒ３３ＳｉＯ（Ｒ３２ＳｉＯ）ｈ（Ｒ３ＨＳｉＯ）ｉＳｉＲ３３、
式（ＩＶ）Ｒ３２ＨＳｉＯ（Ｒ３２ＳｉＯ）ｊ（Ｒ３ＨＳｉＯ）ｋＳｉＲ３２Ｈ、
若しくはこれらの組み合わせ、を含むか、又はその化合物である。
【００１９】
上記式（ＩＩＩ）及び式（ＩＶ）中、下付き文字「ｈ」は、０〜２０００の範囲の平均値を有し、下付き文字「ｉ」は、２〜２０００の範囲の平均値を有し、下付き文字「ｊ」は、０〜２０００の範囲の平均値を有し、下付き文字「ｋ」は、０〜２０００の範囲の平均値を有する。それぞれのＲ３は独立して、一価の有機基である。好適な一価の有機基としては、メチル、エチル、並びにプロピル、ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、オクチル、デシル、ウンデシル、ドデシル、及びオクタデシルの異性体などの１〜２０、１〜１５、１〜１０、５〜２０、５〜１５、又は５〜１０個の炭素原子を有するアルキル基；シクロペンチル及びシクロヘキシルなどのシクロアルキル；ビニル、アリル、ブテニル、及びヘキセニルなどのアルケニル；エチニル、プロピニル、及びブチニルなどのアルキニル；並びにフェニル、トリル、キシリル、ベンジル、及び２−フェニルエチルなどのアリールが挙げられる。
【００２０】
あるいは、（Ｂ）架橋剤は、トリメチルシロキシ基を有する両方の分子末端に末端保護されたメチル水素ポリシロキサン；トリメチルシロキシ基を有する両方の分子末端に末端保護されたメチル水素シロキサンとジメチルシロキサンとのコポリマー；ジメチル水素シロキシ基を有する片方又は両方の分子末端に末端保護されたジメチルポリシロキサン；ジメチル水素シロキシ基を有する片方又は両方の分子末端に末端保護されたメチル水素ポリシロキサン；ジメチル水素シロキシ基を有する片方又は両方の分子末端に末端保護されたメチル水素シロキサンとジメチルシロキサンとのコポリマー；環状メチル水素ポリシロキサン；及び／又は以下の式で表されるシロキサン単位からなる有機シロキサン：（ＣＨ３）３ＳｉＯ１／２、（ＣＨ３）２ＨＳｉＯ１／２、及びＳｉＯ４／２；テトラ（ジメチル水素シロキシ）シラン、又はメチル−トリ（ジメチル水素シロキシ）シランとして更に定義されてもよい。
【００２１】
（Ｂ）架橋剤は、以下の特性、即ち、構造、平均分子量、粘度、シロキサン単位、及び配列のうちの少なくとも１つが異なる２つ以上の有機水素ポリシロキサンの組み合わせであり得るか又はそれを含み得ることも企図される。（Ｂ）架橋剤はまた、シランを含んでもよい。比較的低い重合度（ＤＰ）を有する（例えば、３〜１００の範囲のＤＰ）、ジメチル水素シロキシで終端したポリジメチルシロキサンは、一般的に鎖延長剤と称され、（Ｂ）架橋剤の一部分は、鎖延長剤であってもよく、又はそれを含んでもよい。一実施形態では、（Ｂ）架橋剤は、ハロゲン原子を含まない。別の実施形態では、（Ｂ）架橋剤は、１分子あたり１個以上のハロゲン原子を含む。ゲルが、全体として、ハロゲン原子を含まなくてもよいか、又はハロゲン原子を含んでもよいことが企図される。
【００２２】
（Ｃ）ヒドロシリル化触媒：
（Ｃ）ヒドロシリル化触媒は特に限定されず、当該技術分野において既知のものであってもよい。一実施形態では、（Ｃ）ヒドロシリル化触媒としては、白金、ロジウム、ルテニウム、パラジウム、オスミウム、若しくはイリジウムから選択される白金族金属、これらの有機金属化合物、又はこれらの組み合わせが挙げられる。別の実施形態では、（Ｃ）ヒドロシリル化触媒は、白金金属微粉末、白金黒、白金ジクロリド、白金テトラクロリド；塩化白金酸、アルコール変性塩化白金酸、塩化白金酸六水和物；並びにオレフィンの白金錯体、カルボニルの白金錯体、アルケニルシロキサンの白金錯体、例えば１，３−ジビニルテトラメチルジシロキサン、低分子量有機ポリシロキサンの白金錯体、例えば１，３−ジエテニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、塩化白金酸とβ−ジケトンとの錯体、塩化白金酸とオレフィンとの錯体、及び塩化白金酸と１，３−ジビニルテトラメチルジシロキサンとの錯体などのかかる化合物の錯体として更に定義される。
【００２３】
あるいは、（Ｃ）ヒドロシリル化触媒は、式で表されるものなどの、ロジウム化合物として更に定義されてもよい：ＲｈＸ３［（Ｒ４）２Ｓ］３；（Ｒ５３Ｐ）２Ｒｈ（ＣＯ）Ｘ、（Ｒ５３Ｐ）２Ｒｈ（ＣＯ）Ｈ、Ｒｈ２Ｘ２Ｙ４、ＨｆＲｈｇ（Ｅｎ）ｈＣｌｉ、又はＲｈ［Ｏ（ＣＯ）Ｒ］３−ｊ（ＯＨ）ｊ、式中、各Ｘが独立して水素原子、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子であり、各Ｙが独立してメチル基、エチル基、又は類似のアルキル基であり、ＣＯ、Ｃ８Ｈ１４、又は０．５  Ｃ８Ｈ１２であり；各Ｒ４が独立してメチル、エチル、プロピル、又は類似のアルキル基であり；シクロヘプチル、シクロヘキシル、シクロペンチル、又は類似のシクロアルキル基；又はフェニル、キシリル、若しくは類似のアリール基；各Ｒ５が独立してメチル基、エチル基、又は類似のアルキル基であり；フェニル、トリル、キシリル、又は類似のアリール基；メトキシ、エトキシ、又は類似のアルコキシ基、式中、「Ｅｎ」がエチレン、プロピレン、ブテン、ヘキセン、又は類似のオレフィンであり；下付き文字「ｆ」が０又は１であり；下付き文字「ｇ」が１又は２であり；下付き文字「ｈ」が１〜４の整数であり；下付き文字が「ｉ」が２、３、又は４であり；並びに下付き文字「ｊ」が０又は１である。ロジウム化合物の特に好適であるが非限定的な例は、ＲｈＣｌ（Ｐｈ３Ｐ）３、ＲｈＣｌ３［Ｓ（Ｃ４Ｈ９）２］３、［Ｒｈ（Ｏ２ＣＣＨ３）２］２、Ｒｈ（ＯＣＣＨ３）３、Ｒｈ２（Ｃ８Ｈ１５Ｏ２）４、Ｒｈ（Ｃ５Ｈ７Ｏ２）３、Ｒｈ（Ｃ５Ｈ７Ｏ２）（ＣＯ）２、及びＲｈ（ＣＯ）［Ｐｈ３Ｐ］（Ｃ５Ｈ７Ｏ２）である。
【００２４】
（Ｃ）ヒドロシリル化触媒はまた、以下の式で表されるイリジウム族化合物として更に定義されてもよい：Ｉｒ（ＯＯＣＣＨ３）３、Ｉｒ（Ｃ５Ｈ７Ｏ２）３、［Ｉｒ（Ｚ）（Ｅｎ）２］２、又は［Ｉｒ（Ｚ）（Ｄｉｅｎ）］２、式中、各「Ｚ」が塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、又はメトキシ基、エトキシ基、若しくはアルコキシ基であり、各「Ｅｎ」がエチレン、プロピレン、ブテン、ヘキセン、又は類似のオレフィンであり、「Ｄｉｅｎ」が（シクロオクタジエン）テトラキス（トリフェニル）である。（Ｃ）ヒドロシリル化触媒はまた、パラジウム、パラジウム黒とトリフェニルホスフィンとの混合物であってもよい。
【００２５】
（Ｃ）ヒドロシリル化触媒及び／又は前述の化合物のいずれかは、樹脂若しくはワックスマトリックス又はコアシェル型構造でマイクロカプセル化されてもよく、又は熱可塑性有機樹脂粉末、例えば、メタクリル酸メチル樹脂、炭酸塩樹脂、ポリスチレン樹脂、シリコーン樹脂、又は類似の樹脂で混合され、埋め込まれてもよい。典型的に、（Ｃ）ヒドロシリル化触媒は、（Ａ）及び（Ｂ）の総重量に基づいて、０．０１〜１，０００ｐｐｍ、あるいは０．１〜５００ｐｐｍ、あるいは１〜５００ｐｐｍ、あるいは２〜２００、あるいは５〜１５０ｐｐｍの量で存在する／利用される。
【００２６】
（Ｄ）フタロシアニン：
（Ｄ）フタロシアニンは、金属を含んでもよく、又は金属を含まなくてもよい。あるいは、２個以上のフタロシアニンは、第１のフタロシアニンが金属を含み、第２のフタロシアニンが金属を含まない場合に利用されてもよい。本開示の（Ｄ）フタロシアニンの好適であるが非限定的な例は、各Ｘが独立して水素又はハロゲン原子、例えば、塩素、臭素、及びヨウ素である以下に記載される化学構造で表される。
【化１】
2014534292.tif 000002
【００２７】
あるいは、Ｘは、Ｒ基、即ち、脂肪族又は芳香族基などの有機基として更に定義されてもよい。一実施形態では、（Ｄ）フタロシアニンは、以下の構造を有するものとして更に定義され、２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニンとして当該技術分野において既知であり：
【化２】
2014534292.tif 000003
【００２８】
あるいは、（Ｄ）フタロシアニンは、金属を含むことができ、以下の構造と類似の構造を有してもよい：
【化３】
2014534292.tif 000004
式中、Ｍが遷移金属などの金属、鉄、マグネシウム、コバルト、及び銅からなる群から選択される金属、又は銅、ニッケル、コバルト、鉄、クロム、亜鉛、白金、及びバナジウムからなる群から選択される金属であり、窒素原子の孤立電子対が金属との配位結合を形成する。別の実施形態では、Ｍは、鉄、マグネシウム、コバルト、及び銅からなる群から選択される金属である。
【００２９】
あるいは、（Ｄ）フタロシアニンは、２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニナト（２−）−Ｎ２９，Ｎ３０，Ｎ３１，Ｎ３２鉄、２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニナト（２−）−Ｎ２９，Ｎ３０，Ｎ３１，Ｎ３２マグネシウム、２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニナト（２−）−Ｎ２９，Ｎ３０，Ｎ３１，Ｎ３２コバルト、及び２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニナト（２−）−Ｎ２９，Ｎ３０，Ｎ３１，Ｎ３２銅からなる群から選択されてもよい。あるいは、（Ｄ）フタロシアニンは、ハロゲン塩、例えば、塩化、臭化、又はヨウ化金属フタロシアニンとして更に定義されてもよい。銅ハロゲン塩の非限定的な構造が以下に記載される。
【化４】
2014534292.tif 000005
【００３０】
（Ｄ）フタロシアニンは典型的に、約０．０５〜約１０μｍ、約０．０５〜約５μｍ、約０．０５〜約３μｍ、又は約０．５〜１．６μｍの粒径を有する。様々な実施形態では、粒径は、約５％、約１０％、約１５％、約２０％、約２５％、約３０％など、以下に記載される通りである。
【００３１】
【表１】
2014534292.tif 000006
【００３２】
（Ｄ）フタロシアニンは、（Ａ）及び（Ｂ）の総重量に基づいて約０．０５〜約３０重量パーセントの量で存在する。あるいは、（Ｄ）フタロシアニンは、（Ａ）及び（Ｂ）の総重量に基づいて約０．０５〜約５、約０．１〜約５、約０．１〜約１、約０．０５〜約１、約０．１〜２、約１〜約５、約２〜約４、約２〜約３、約５〜約２５、約１０〜約２０、又は約１５〜約２０重量パーセントの量で存在し得ることが企図される。
【００３３】
（Ｄ）フタロシアニン自体及び／又はゲルは、全体として、（Ｄ）フタロシアニン及び／又はゲル自体の百万重量部あたり１，０００、１，５００、２，５００、５，０００、７，５００、１０，０００、１２，５００、１５，０００、１７，５００、２０，０００、２５，０００、３０，０００、３５，０００、４０，０００、４５，０００、５０，０００、５５，０００、又は金属の更に高い重量部を超える銅又は上で説明される任意の他の金属などの金属の濃度を有し得ることも企図される。一実施形態では、（Ｄ）フタロシアニン及び／又はゲルは、約３０，０００ｐｐｍを超える金属の濃度を有する。別の実施形態では、（Ｄ）フタロシアニン及び／又はゲルは、約４０，０００ｐｐｍを超える金属の濃度を有する。
【００３４】
（Ｅ）シリコーン流体：
ゲルはまた、（Ｅ）シリコーン流体を利用して形成されてもよい。あるいは、（Ｅ）シリコーン流体は、官能性シリコーン流体及び／又は非官能性シリコーン流体のうちの１つのみ、又はこれらの混合物として説明されてもよい。一実施形態では、（Ｅ）は、官能性ではないポリジメチルシロキサンとして更に定義される。別の実施形態では、（Ｅ）は、ビニル官能性ポリジメチルシロキサンとして更に定義される。用語「官能性シリコーン流体」は、典型的には流体がヒドロシリル化反応において反応するために官能化されることを説明し、即ち、不飽和基及び／又はＳｉ−Ｈ基を含む。しかしながら、流体は、１つ以上の不飽和基及び／又はＳｉ−Ｈ基に加えて、又はその不在下で、１つ以上の更なる官能基を含んでもよいことが企図される。様々な非限定的な実施形態では、（Ｅ）は、米国特許第６，０２０，４０９号、同第４，３７４，９６７号、及び／又は同第６，００１，９１８号のうちの１つ以上に説明される通りであり、そのそれぞれは参照することにより本明細書に明示的に組み込まれる。（Ｅ）は、いかなる構造又は粘度にも具体的に限定されない。
【００３５】
最初に上で説明されるように、（Ｅ）は、ヒドロシリル化反応で（Ａ）及び（Ｂ）との反応物質として関与してもよく、又は関与しなくてもよい。一実施形態では、（Ｅ）は、官能性シリコーン流体であり、（Ｃ）及び（Ｄ）の存在下で（Ａ）及び／又は（Ｂ）と反応する。別の言い方をすれば、ヒドロシリル化反応生成物は、（Ａ）、（Ｂ）、及び（Ｅ）官能性シリコーン流体のヒドロシリル化反応生成物として更に定義されてもよく、（Ａ）、（Ｂ）、及び（Ｅ）は、（Ｃ）及び（Ｄ）の存在下でヒドロシリル化を介して反応する。別の実施形態では、（Ａ）及び（Ｂ）は、（Ｃ）、（Ｄ）、及び（Ｅ）非官能性シリコーン流体の存在下でヒドロシリル化を介して反応する。あるいは、（Ｅ）は、全く利用されなくてもよい。
【００３６】
（Ａ）〜（Ｅ）のうちの１つ以上は、混合物を形成するために共に組み合わせられてもよく、混合物は、ゲルを形成するために（Ａ）〜（Ｅ）のうちの残りの構成成分と更に反応してもよく、（Ｅ）は混合物、又は残りの構成成分としてのいずれかで任意選択的な構成成分である。換言すれば、（Ａ）〜（Ｅ）のうちの１つ以上の任意の組み合わせは、ゲルが形成される限り、（Ａ）〜（Ｅ）のうちの１つ以上の任意の他の組み合わせと反応してもよい。
【００３７】
あるいは、当該（Ａ）有機ポリシロキサン、（Ｂ）架橋剤、（Ｃ）ヒドロシリル化触媒、及び／又は（Ｄ）フタロシアニンのうちの１つ以上は、２０１１年１月２６日に出願された米国特許仮出願第６１／４３６，２１４号に説明されるものであり得、これは、参照することにより本明細書に明示的に組み込まれるが本開示を限定しないことが企図される。
【００３８】
任意選択的な添加剤：
（Ａ）〜（Ｅ）のうちのいずれか１つ以上又は（Ａ）〜（Ｅ）のうちの２つ以上を含む混合物は、独立して、顔料（例えば、黒色顔料）、阻害物質、スペーサ、導電及び／若しくは熱伝導並びに／又は非導電充填剤、強化及び／又は非強化充填剤、充填剤処理剤、接着促進剤、溶剤又は希釈剤、界面活性剤、流量剤、酸受容体、ヒドロシリル化安定剤、熱安定剤及び／又はＵＶ安定剤などの安定剤、ＵＶ増感剤、難燃剤などを含むがこれらに限定されない１つ以上の添加剤と組み合わされてもよい。一実施形態では、黒色顔料は、熱老化後の変色を隠すために利用される。前述の添加剤の例は、２０１１年１月２６日に出願された米国特許仮出願第６１／４３６，２１４号に説明され、これは、参照することにより本明細書に明示的に組み込まれるが本開示を限定しない。（Ａ）〜（Ｃ）のうちの１つ以上又は添加剤のうちのいずれか１つ以上は、ＰＣＴ特許／米国特許第２００９／０３９５８８号に説明されるものであり得、これは参照することにより本明細書に明示的に組み込まれることも企図される。本開示のゲル及び／又は電子物品は、前述の添加剤のいずれかのうちの１つ以上を含まなくてもよいことも企図される。
【００３９】
ゲル：
硬度は、ＴＡ−２３プローブを使用して測定され、以下で説明されるように計算される。ゲルは、１０００時間２２５℃での熱老化後に測定されるときに、約１５００グラム未満の硬度を有する。代替的な一実施形態では、ゲルは、５００時間２２５℃での熱老化後に測定されるときに、約１５００グラム未満の硬度を有する。代替的な他の実施形態では、ゲルは、２５０時間、５００時間、又は１０００時間、２２５℃又は２５０℃での熱老化後に測定されるときに、１４００、１３００、１２００、１１００、１０００、９００、８００、７００、６００、５００、４００、３００、２００、１００、９０、８０、７０、６０、５０、４０、３０、又は２０グラム未満の硬度を有する。様々な実施形態では、ゲルは、５００時間２２５℃での熱老化後に測定されるときに、１０５グラム未満、１００グラム未満、９５グラム未満、９０グラム未満、８５グラム未満、８０グラム未満、７５グラム未満、７０グラム未満、６５グラム未満、６０グラム未満、５５グラム未満、５０グラム未満、４５グラム未満、４０グラム未満、３５グラム未満、３０グラム未満、２５グラム未満、又は２０グラム未満の硬度を有する。ゲルの硬度は、異なるが類似の熱老化時間及び温度を使用して測定され得ることも企図される。従来からの知見に反して、ゲルの硬度は一般的に、熱老化後に最初に減少する。ゲルの硬度は、熱老化前より熱老化後により低いままであり得るか、又は一般的に長時間を経た後のみであるが最終的により高い硬度まで上昇し得ることが企図される。様々な実施形態では、これらの硬度値は、約５％、約１０％、約１５％、約２０％、約２５％、約３０％などで変動し得る。
【００４０】
硬度は、ＴＡ−２３プローブを３ｍｍの深さまでゲルに挿入するのに必要とされる重量として計算される。より具体的には、硬度を計算するために使用される本方法は、Ｕｎｉｖｅｒｓａｌ  ＴＡ．ＸＴ２  Ｔｅｘｔｕｒｅ  Ａｎａｌｙｚｅｒ（Ｓｃａｒｅｓｄａｌｅ，ＮＹのＴｅｘｔｕｒｅ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ  Ｃｏｒｐ．から市販）又はその同等物及びＴＡ−２３（１．３ｃｍ（０．５インチ）の円形）プローブを利用する。Ｔｅｘｔｕｒｅ  Ａｎａｌｙｚｅｒは、２４５ニュートン（５５ポンド）の力容量を有し、１．０ｍｍ／秒の速度でプローブを移動させる。トリガ値は５グラムであり、オプションは、カウントするまで繰り返し、かつカウントを５に設定するように設定され、試験出力はピークであり、力は圧縮状態で測定され、容器は、０．１２リットル（４オンス）の広口の丸ガラス瓶である。すべてが２５℃±５℃及び５０％±４％の相対湿度で測定される。更により具体的に、ゲルの試料が調製され、硬化され、室温（２５℃±５℃）まで冷却され、少なくとも０．５時間、２〜３時間、又は安定した硬度に達するまで室温で安定される。次に、試料は、プローブの真下の試験台上に位置決めされる。次に、Ｕｎｉｖｅｒｓａｌ  ＴＡ．ＸＴ２  Ｔｅｘｔｕｒｅ  Ａｎａｌｙｚｅｒは、製造元の操作説明書に従って前述の特定のパラメータでプログラムされる。ゲルの表面上の異なる点で５つの独立した測定値が取られる。５つの独立した測定値の中央値が報告される。試験プローブは、各測定値が取られた後に柔らかいペーパータオルできれいに拭き取られる。報告された値の再現性（即ち、２つの独立した結果間の極大差）は、９５％の信頼水準で６重力を超えるべきではない。一般的に、試料の厚さは、試料が圧縮されるときに、力測定が瓶の底又は試験台の表面によって影響されないことを確保するのに十分である。測定を行うとき、プローブは一般的に、試料の側の１．３ｃｍ（０．５インチ）範囲内ではない。
【００４１】
ゲルは、ＪＩＳ  Ｋ  ２２２０（１／４コーン）方法又はＡＳＴＭ  Ｄ１４０３によって判定されるときに、１０００時間２２５℃での熱老化後に測定されるときに、約２０以上の浸透値を有し得ることも企図される。様々な他の実施形態では、ゲルは、１０００時間２２５℃での熱老化後に、ＪＩＳ  Ｋ  ２２２０（１／４コーン）方法又はＡＳＴＭ  Ｄ１４０３によって判定されるときに、２０〜２００、４０〜１２０、２０〜３０の浸透値を有する。
【００４２】
ゲルを形成する反応前に、（Ａ）〜（Ｄ）の組み合わせ及び任意に（Ｅ）は一般的に、粘度に適したスピンドル、例えば、５０ｒｐｍでのスピンドルＣＰ−５２を使用するＢｒｏｏｋｆｉｅｌｄ  ＤＶ−ＩＩ＋コーン及びプレート粘度計を使用して２５℃で測定される約１００，０００、７５，０００、５０，０００、２５，０００、又は１０，０００ｃｐｓ未満の粘度を有する。様々な実施形態では、ゲルを形成する反応前に、（Ａ）〜（Ｄ）の組み合わせ（及び任意に（Ｅ））は、粘度に適したスピンドル、例えば、５０ｒｐｍでのスピンドルＣＰ−５２を有するＢｒｏｏｋｆｉｅｌｄ  ＤＶ−ＩＩ＋コーン及びプレート粘度計を使用して２５℃で測定される９，５００ｃｐｓ未満、９，０００ｃｐｓ未満、８，５００ｃｐｓ未満、８，０００ｃｐｓ未満、７，５００ｃｐｓ未満、７，０００ｃｐｓ未満、６，５００ｃｐｓ未満、６，０００ｃｐｓ未満、５，５００ｃｐｓ未満、５，０００ｃｐｓ未満、４，５００ｃｐｓ未満、４，０００ｃｐｓ未満、３，５００ｃｐｓ未満、３，０００ｃｐｓ未満、２，５００ｃｐｓ未満、２，０００ｃｐｓ未満、１，５００ｃｐｓ未満、１，０００ｃｐｓ未満、５００ｃｐｓ未満、４００ｃｐｓ未満、３００ｃｐｓ未満、２００ｃｐｓ未満、１００ｃｐｓ未満、９０ｃｐｓ未満、８０ｃｐｓ未満、７０ｃｐｓ未満、６０ｃｐｓ未満、５０ｃｐｓ未満、４０ｃｐｓ未満、３０ｃｐｓ未満、２０ｃｐｓ未満、又は１０ｃｐｓ未満の粘度を有する。
【００４３】
本開示はまた、ゲルを形成する方法も提供する。本方法は、（Ａ）有機ポリシロキサン、（Ｂ）架橋剤、（Ｃ）ヒドロシリル化触媒、及び（Ｄ）フタロシアニン（及び／又は（Ｅ））を提供する工程と、（Ａ）〜（Ｄ）（及び任意に（Ｅ））のうちの１つ以上を共に組み合わせる工程とを含んでもよい。方法は、ヒドロシリル化反応を介して、（Ｃ）及び（Ｄ）並びに任意に（Ｅ）の存在下で、（Ａ）及び（Ｂ）を硬化させる、又は部分的に硬化させる、工程も含んでもよい。（Ａ）及び（Ｂ）は、前述の添加剤、又は上で、若しくは参照することにより本明細書に組み込まれる文書のうちのいずれか１つにおいて説明される、他のモノマー若しくはポリマーのうちの１つ以上と、又はそれらの存在下で、反応又は硬化し得ることも企図される。
【００４４】
一般的に、（Ａ）及び（Ｂ）（又は（Ａ）、（Ｂ）、及び阻害物質、並びに任意に（Ｅ））は、ケイ素結合水素原子とケイ素結合アルケニル基との比が約１．３：１未満であるような量で存在及び／又は反応する。あるいは、この比は、約１：１又は約１：１未満であってもよい。更に他の実施形態では、この比は、０．９：１、０．８：１、０．７：１、０．６：１、又は０．５：１未満である。
【００４５】
更なる実施形態では、ゲルは、熱老化後に最初に減少する４０グラム未満の硬度を有し、フタロシアニンは、（Ａ）及び（Ｂ）の総重量に基づいて０．１〜２重量パーセントの量で存在し、かつ鉄、マグネシウム、コバルト、及び銅からなる群から選択される金属を含み、（Ａ）及び（Ｂ）は、ケイ素結合水素原子とケイ素結合アルケニル基との比が約１．３：１未満であるような量で存在する。
【００４６】
電子物品：
本開示はまた、電子物品（以下「物品」と称される）を提供する。物品は、電力用電子物品であってもよい。物品は、電子構成要素と、該電子構成要素上に配設されるゲルとを含む。ゲルは、ゲルが電子構成要素を部分的又は全面的のいずれかで被包するように電子構成要素上に配設されてもよい。あるいは、電子物品は、電子構成要素と、第１の層とを含んでもよい。ゲルは、電子構成要素と第１の層との間に挟まれてもよく、第１の層上若しくはそれと直接接触して、及び／又は電子構成要素上若しくはそれと直接接触して配設されてもよい。ゲルが第１の層上又はそれと直接接触して配設される場合、ゲルは、電子構成要素上に更に配設されてもよいが、ゲルと電子構成要素との間に１つ以上の層又は構造を含んでもよい。ゲルは、平坦な部材、半球ナビン、凸状部材、ピラミッド、及び／又は錐体として電子構成要素上に配設されてもよい。電子構成要素は、シリコンチップ、ＧａＮチップ、若しくは炭化ケイ素チップ、１つ以上の電線、１つ以上のセンサ、１つ以上の電極などのチップとして更に定義されてもよい。
【００４７】
電子物品は、特に限定されず、絶縁ゲートバイポーラトランジスタ（ＩＧＢＴ）、ショットキーダイオード、ＰＩＮダイオード、マージ型ＰＩＮ／ショットキー（ＭＰＳ）整流器、及び接合バリアダイオードなどの整流器、バイポーラ接合トランジスタ（ＢＪＴ）、サイリスタ、金属酸化電界効果トランジスタ（ＭＯＳＦＥＴ）、高電子移動度トランジスタ（ＨＥＭＴ）、静電誘導トランジスタ（ＳＩＴ）、電力トランジスタなどとして更に定義されてもよい。あるいは、電子物品は、電力コンバータ、インバータ、ブースタ、トラクション制御、産業用モータ制御、配電、及び輸送系のための前述のデバイスのうちの１つ以上を含む電力モジュールとして更に定義されてもよい。あるいは、電子物品は、前述のデバイスのうちの１つ以上を含むものとして更に定義されてもよい。
【００４８】
加えて、第１の層は特に限定されず、半導体、誘電体、金属、プラスチック、炭素繊維メッシュ、金属箔、有孔金属箔（メッシュ）、充填又は無充填プラスチックフィルム（ポリアミドシート、ポリイミドシート、ポリエチレンナフタレートシート、ポリエチレンテレフタレートポリエステルシート、ポリスルホンシート、ポリエーテルイミドシート、又はポリフェニレンスルフィドシートなど）、又は織布若しくは不織布基材（ガラス繊維布、ガラス繊維メッシュ、又はアラミド紙など）として更に定義されてもよい。あるいは、第１の層は、半導体及び／又は誘電体フィルムとして更に定義されてもよい。
【００４９】
開示は、電子物品を形成する方法も提供する。本方法は、ゲルを形成する前述の工程、ゲルを提供する工程、及び／又は電子構成要素を提供する工程のうちの１つ以上を含んでもよい。あるいは、ゲルは、電子構成要素とは別に形成され、その後、電子構成要素上に配設されてもよい。
【実施例】
【００５０】
一連のゲル（ゲル１〜１０）を本開示に従って形成する。２つの比較ゲル（比較ゲル１及び２）も形成されるが、本開示のフタロシアニンを含まない。ゲル１〜１０及び比較ゲル１及び２のそれぞれを評価して、初期硬度、熱老化後の硬度、及び粘度を判定する。
【００５１】
ゲルの各々及び前述の評価の結果を形成するために使用される組成物を以下の表２に示す。より具体的には、Ａ部及びＢ部の等重量部を混合及び脱気して、混合物を形成する。次に、混合物をアルミニウム製のカップに注いで、１５０℃で１時間硬化させて、ゲルを形成する。その後、ゲルを冷却し、上で詳細に説明される方法に従って初期硬度及び粘度を測定する。次に、熱老化し、再び、１０００時間２２５℃での熱老化後に硬度を評価する。表２では、Ａ部に記載されるすべての重量百分率がＡ部の総重量に基づいている。Ｂ部に記載されるすべての重量百分率がＢ部の総重量に基づいている。以下のすべての試験に記載されるゲル硬度の値は、それぞれのゲルの５つの独立した測定の平均（平均値）を示す。
【００５２】
【表２】
2014534292.tif 000007
【００５３】
【表３】
2014534292.tif 000008
【００５４】
【表４】
2014534292.tif 000009
【００５５】
（Ａ）有機ポリシロキサンは、ジメチルビニルシロキシで終端したポリジメチルシロキサンである。
【００５６】
（Ａ’）有機ポリシロキサンは、メチルシルセスキオキサン、トリメチル末端、及びジメチルビニルシロキシ末端を有するジメチルシロキサンである。
【００５７】
（Ｂ）架橋剤は、トリメチルシロキシで終端したジメチルメチル水素シロキサンである。
【００５８】
（Ｂ’）架橋剤は、ジメチル水素シロキシで終端したジメチルシロキサンである。
【００５９】
（Ｃ）ヒドロシリル化触媒は、白金の１，３−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体である。
【００６０】
（Ｄ）フタロシアニンは、以下の通りである：
Ｆｅ（Ｐｃ）は鉄フタロシアニンであり、化学式Ｃ３２Ｈ１６ＦｅＮ８及び１３２−１６−１のＣＡＳ登録番号を有する。
【００６１】
Ｍｇ（Ｐｃ）はマグネシウムフタロシアニンであり、化学式Ｃ３２Ｈ１６ＭｇＮ８及び１６６１−０３−６のＣＡＳ登録番号を有する。
【００６２】
Ｃｏ（Ｐｃ）はコバルトフタロシアニンであり、化学式Ｃ３２Ｈ１６ＣｏＮ８及び３３１７−６７−７のＣＡＳ登録番号を有する。
【００６３】
Ｃｕ（Ｐｃ）は銅フタロシアニンであり、化学式Ｃ３２Ｈ１６ＣｕＮ８及び１４７−１４−８のＣＡＳ登録番号を有する。
【００６４】
Ｃｕ（Ｐｃ）クロライドは銅フタロシアニンクロライドであり、化学式Ｃ３２ＨＣｌ１５ＣｕＮ８及び１３２８−５３−６のＣＡＳ登録番号を有する。
【００６５】
Ｎｉ（Ｐｃ）はニッケルフタロシアニンであり、化学式Ｃ３２Ｈ１６ＮｉＮ８及び１４０５５−０２−８のＣＡＳ登録番号を有する。
【００６６】
（Ｐｃ）はフタロシアニンであり、化学式Ｃ３２Ｈ１８Ｎ８及び５７４−９３−６のＣＡＳ登録番号を有する。
【００６７】
Ｚｎ（Ｐｃ）はフタロシアニンであり、化学式Ｃ３２Ｈ１６ＺｎＮ８  １４３２０−０４−８のＣＡＳ登録番号を有する。
【００６８】
（Ｅ）非反応性シリコーン流体は、Ｄｏｗ  Ｃｏｒｎｉｎｇ  ２００Ｆシリコーン流体である。
【００６９】
（Ｅ’）非反応性シリコーン流体は、Ｄｏｗ  Ｃｏｒｎｉｎｇ  ５１０シリコーン流体である。
【００７０】
阻害物質は、テトラメチルテトラビニルシクロテトラシロキサンである。
【００７１】
阻害物質２は、テトラメチルエチレンジアミンである。
【００７２】
表２のデータは、本開示のゲルが熱老化後の硬度と比較して比較ゲル１及び２よりも優れていることを明確に確証する。より具体的には、ゲル１〜１０のフタロシアニンは、これらのゲルが広範な熱老化後であっても低弾性率特性を維持するのを可能にする。
【００７３】
更なるゲル評価：
ゲル４の追加の試料を更に評価して、上で詳細に説明される試験に従って開発された熱老化及び硬度データの再現性を判定する。第１の群では、ゲル４の試料を０、７０、２５０、５００、及び１０００時間２２５℃で熱老化し、その後、評価して、硬度を判定する。ゲル４の試料の３つの独立した群を熱老化し、硬度を評価し、この結果を下の表３に示す。
【００７４】
【表５】
2014534292.tif 000010
【００７５】
ゲル４の更に追加の試料を更に評価して、上で詳細に説明される試験に従って開発された熱老化及び硬度データの再現性を判定する。第１の群では、ゲル４の試料を０、７０、２５０、５００、及び１０００時間２５０℃で熱老化し、その後、評価して、硬度を判定する。ゲル４の試料の３つの独立した群を熱老化し、硬度を評価し、この結果を下の表４に示す。
【００７６】
【表６】
2014534292.tif 000011
【００７７】
上に記載されるデータは、従来からの知見に反して、本開示のゲルの硬度が標準変動内で熱老化後に低いことを確証する。より具体的には、ゲルにおけるフタロシアニンは、これらのゲルが広範な熱老化後であっても低弾性率特性を維持するのを可能にする。
【００７８】
次に、Ｃｕ（Ｐｃ）の２つの独立したバッチを使用して、更に評価して、上で詳細に説明される試験に従って開発された熱老化及び硬度データの再現性を判定するゲル４の追加の試料を形成する。第１の群では、Ｃｕ（Ｐｃ）の第１のバッチを使用して、ゲル４の２つの試料を形成する。１つの試料を１０００時間２２５℃で熱老化し、第２の試料を１０００時間２５０℃で熱老化する。その後、これらの試料を評価して、硬度を判定する。第２の群では、Ｃｕ（Ｐｃ）の第１２バッチを使用して、ゲル４の２つの試料を形成する。１つの試料を１０００時間２２５℃で熱老化し、第２の試料を１０００時間２５０℃で熱老化する。その後、これらの試料を評価して、硬度を判定する。この結果を下の表５に記載する。
【００７９】
【表７】
2014534292.tif 000012
【００８０】
上に記載されるデータは、（Ｄ）フタロシアニンの性質が結果の性質に影響を与え得ることを確証する。したがって、データに見られる変動は開示全体自体によるものではなく（Ｄ）フタロシアニンの性質による可能性が高い。
【００８１】
直前の結果を更に評価するために、その後、（Ｄ）銅フタロシアニンの３つの追加の試料を評価して、ＡＳＴＭ／ＵＯＰ  ７１４−０７に従う誘導結合プラズマ方法を使用して様々な元素の量を判定する。この元素分析の結果を下の表６に示す。試料１及び２は、５０重量％のマスターバッチである。試料３は、４０重量％のマスターバッチである。
【００８２】
【表８】
2014534292.tif 000013
＊  １ｐｐｍの検出閾値を超える量で元素を検出しなかった。
【００８３】
次に、これらの試料を利用して、上で説明されるように、１％までＣｕ（Ｐｃ）の量の増加につれてゲル４の追加の試料を形成する。次に、ゲル４の試料を評価して、上で詳細に説明される試験に従って開発された熱老化及び硬度データを判定する。第１の群では、Ｃｕ（Ｐｃ）の試料１を使用して、ゲル４の２つの試料を形成する。１つの試料を１０００時間２２５℃で熱老化し、第２の試料を１０００時間２５０℃で熱老化する。その後、これらの試料を評価して、硬度を判定する。第２の群では、Ｃｕ（Ｐｃ）の試料２を使用して、ゲル４の２つの試料を形成する。１つの試料を１０００時間２２５℃で熱老化し、第２の試料を１０００時間２５０℃で熱老化する。第３の群では、Ｃｕ（Ｐｃ）の試料３を使用して、ゲル４の２つの試料を形成する。１つの試料を１０００時間２２５℃で熱老化し、第２の試料を１０００時間２５０℃で熱老化する。その後、これらの試料を評価して、硬度を判定する。この結果を下の表７に示す。
【００８４】
【表９】
2014534292.tif 000014
【００８５】
上に記載されるデータは、フタロシアニン中の銅の量の増加（ｐｐｍ単位）がゲルの熱安定性を改善する上でフタロシアニンの増大効果と関連していることを明確に示す。別の言い方をすれば、より多く量のフタロシアニン中の銅が、熱老化後により低い硬度を有するゲルをもたらす。
【００８６】
追加の一連のゲル（ゲル１１〜１４）も本開示に従って形成する。ゲル１１〜１４は、上で説明される手順に従って形成され、それぞれ０．１重量％、０．５重量％、１重量％、及び５重量％のＣｕ（Ｐｃ）、並びに１０重量％の２００Ｆシリコーン流体を含む。形成後、各ゲルを１０００時間２２５℃で熱老化し、その後、評価して、硬度を判定する。この結果を下の表８に示す。
【００８７】
【表１０】
2014534292.tif 000015
【００８８】
ゲル１２〜１４の独立した試料も５００時間２５０℃で熱老化し、その後、評価して、硬度を判定する。この結果を下の表９に示す。
【００８９】
【表１１】
2014534292.tif 000016
【００９０】
ゲル１４の独立した試料も、以下で記載されるように、２２５℃又は２５０℃で様々な時間、熱老化し、その後、評価して、硬度を判定する。この結果を下の表１０に示す。
【００９１】
【表１２】
2014534292.tif 000017
【００９２】
上に記載されるデータは、従来からの知見に反して、本開示のゲルの硬度が標準変動内で熱老化後に概して減少することを更に確証する。より具体的には、ゲルにおけるフタロシアニンは、これらのゲルが広範な熱老化後であっても低弾性率特性を維持するのを可能にする。
【００９３】
ゲル４及び１４の更なる試料を評価し、本開示の２つの追加のゲル（ゲル１５及び１６）と比較する。上で説明されるように、１０％の非反応性シリコーン流体及び様々な量のＣｕ（Ｐｃ）を使用してゲル４及び１４を形成する。ゲル１５及び１６は、ゲル１５及び１６が非反応性シリコーン流体のいずれかを含まないことを除いて、ゲル４及び１４とそれぞれ同じである。ゲル４、１４、１５、及び１６の様々な試料を１０００時間２２５℃で熱老化するか又は１０００時間２５０℃で熱老化するかのいずれか行い、その後、評価して上で説明される方法を使用して硬度を判定する。この結果を下の表１１に示す。
【００９４】
【表１３】
2014534292.tif 000018
【００９５】
上記のデータは、従来からの知見に反して、フタロシアニン及び非反応性流体の使用がこれらのゲルが広範な熱老化後であっても、低弾性率特性を維持するのを可能にすることを更に確証する。
【００９６】
上で説明される値の１つ以上は、変動が本開示の範囲内に留まる限り、約５％、約１０％、約１５％、約２０％、約２５％などで変動し得る。他のすべての部材とは無関係に、マーカッシュ群の各部材から、予期しない結果が得られることがある。各部材は、個々にかつ／又は組み合わせで依存してもよく、添付の「特許請求の範囲」に含まれる特定の実施形態を十分に支援する。独立請求項と、単一及び多重に従属する従属請求項とのすべての組み合わせの主題が、本明細書で明確に企図される。本開示は、説明の文言を含めて、限定よりもむしろ説明のためのものである。上記の教示を鑑みれば、本開示の多数の修正及び変形が可能となり、本開示は、本明細書で具体的に説明した以外の形でも実施され得る。
【手続補正書】
【提出日】平成26年7月7日(2014.7.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
改善された熱安定性を有し、かつ
（Ａ）１分子あたり平均して少なくとも０．１個のケイ素結合アルケニル基を有する有機ポリシロキサンと、
（Ｂ）１分子あたり平均して少なくとも２個のケイ素結合水素原子を有する架橋剤と、のヒドロシリル化反応生成物である、ゲルであって、
（Ａ）及び（Ｂ）が、
（Ｃ）ヒドロシリル化触媒と、
（Ｄ）（Ａ）及び（Ｂ）の総重量に基づいて約０．０５〜約３０重量パーセントの量で存在するフタロシアニンと、の存在下でヒドロシリル化を介して反応し、
（Ａ）及び（Ｂ）が、（Ｃ）及び（Ｄ）の存在下で（Ｅ）シリコーン流体と任意に反応し、
（Ａ）及び（Ｂ）が、（Ｃ）、（Ｄ）、及び（Ｅ）の存在下で任意に反応し、
前記ゲルが、ＴＡ−２３プローブを３ｍｍの深さまで前記ゲルに挿入するのに必要とされる重量として計算され、１０００時間２２５℃での熱老化後に測定されるときに、約１５００グラム未満の硬度を有する、ゲル。
【請求項２】
前記（Ｄ）フタロシアニン又はそのハロゲン塩が、誘導結合プラズマ及びＡＳＴＭ／ＵＯＰ  ７１４−０７を使用して判定されるときに、前記ゲルの総重量に基づいて少なくとも４０，０００ｐｐｍの前記金属の量で任意に存在する金属を含む、請求項１に記載のゲル。
【請求項３】
前記金属が、鉄、マグネシウム、コバルト、及び銅からなる群から任意に選択される遷移金属である、請求項２に記載のゲル。
【請求項４】
前記ハロゲン塩が、塩化フタロシアニンとして更に定義され、かつ前記金属を含む、請求項２に記載のゲル。
【請求項５】
前記（Ｄ）フタロシアニンが、２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニナト（２−）−Ｎ２９，Ｎ３０，Ｎ３１，Ｎ３２鉄、２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニナト（２−）−Ｎ２９，Ｎ３０，Ｎ３１，Ｎ３２マグネシウム、２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニナト（２−）−Ｎ２９，Ｎ３０，Ｎ３１，Ｎ３２コバルト、及び２９Ｈ，３１Ｈ−フタロシアニナト（２−）−Ｎ２９，Ｎ３０，Ｎ３１，Ｎ３２銅からなる群から選択される、請求項３に記載のゲル。
【請求項６】
（Ｅ）が、官能性シリコーン流体として更に定義され、前記ヒドロシリル化反応生成物が、（Ａ）、（Ｂ）、及び（Ｅ）のヒドロシリル化反応生成物として更に定義され、（Ａ）、（Ｂ）、及び（Ｅ）が、（Ｃ）及び（Ｄ）の存在下でヒドロシリル化を介して反応する、請求項１に記載のゲル。
【請求項７】
前記硬度が、熱老化後に最初に減少する、請求項１に記載のゲル。
【請求項８】
熱老化後に最初に減少する４０グラム未満の硬度を有し、前記フタロシアニンが、（Ａ）及び（Ｂ）の総重量に基づいて０．１〜２重量パーセントの量で存在し、かつ鉄、マグネシウム、コバルト、及び銅からなる群から選択される金属を含み、（Ａ）及び（Ｂ）が、ケイ素結合水素原子とケイ素結合アルケニル基との比が約１．３：１未満であるような量で存在する、請求項１に記載のゲル。
【請求項９】
電子構成要素と、請求項１〜８のいずれかに記載のゲルとを備える、電子物品。
【請求項１０】
チップと、請求項１〜８のいずれかに記載のゲルとを備える、絶縁ゲートバイポーラトランジスタであって、前記ゲルが前記チップを被包する、絶縁ゲートバイポーラトランジスタ。
【国際調査報告】
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