(57)【要約】  金属製基板を有する電気化学セルの電極、特に負極を製造するための方法であって、前記方法は、前記金属製基板を紫外線照射によって処理するステップと、前記金属製基板を有機酸を用いて処理するステップとを有している。
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属製基板を有する電気化学セルの電極、特に負極を製造するための方法において、
前記方法が、前記金属製基板を紫外線照射によって処理するステップと、
前記金属製基板を有機酸を用いて処理するステップと、
を有していることを特徴とする方法。
【請求項２】
前記金属製基板が銅を有しており、好ましくは銅を含有するホイルとして、又は、銅ホイルとして構成されていることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記金属製基板の紫外線照射は、前記金属製基板の有機酸での処理の前若しくは後、又は、前及び後に行われることを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記有機酸は無水シュウ酸として構成されていることを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記無水シュウ酸はＮＭＰに溶解していることを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記金属製基板の有機酸での処理は、前記金属製基板への電気化学活物質のコーティングの３０分から４０分前に行われることを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記電気化学活物質は紫外線照射で処理されることを特徴とする請求項６に記載の方法。
【請求項８】
電気化学セルの電極、特に負極の金属製基板を洗浄するための方法において、
前記方法が、前記金属製基板を紫外線照射によって処理するステップと、
前記金属製基板を有機酸を用いて処理するステップと、
を有していることを特徴とする方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
優先権出願ＤＥ １０ ２０１１ ０１１ １５４．９の全内容は、参照することにより本願の構成要素となる。
【背景技術】
【０００２】
本発明は、電気化学セルの電極、特に負極を製造するための方法に関する。当該電気化学セルは、好ましくは、電気モータ、好ましくはハイブリッド駆動部を有する車両の駆動に、及び／又は、「プラグイン」モードにおいて利用可能である。
【０００３】
電気化学セル、特にリチウム二次バッテリは、その高いエネルギー密度と大きな容量ゆえに、携帯電話等のモバイル情報装置、工具、又は、電気駆動自動車及びハイブリッド駆動部を有する自動車において、エネルギー貯蔵装置として用いられる。電気化学セル、特に自動車の駆動に用いられるセルのこれらの様々な使用領域において、電気化学セルは高い要求を満たさなければならない。すなわち、可能な限り小さい重量における、多数の充放電サイクルにわたって安定した、可能な限り大きな電気容量及びエネルギー密度である。
【０００４】
電気化学セルの寿命は、しばしば、電極の経年劣化、特に負極の経年劣化に依存する。経年劣化プロセスにおいて、電気化学セルはその容量と出力とを失う。このプロセスは、大部分の従来の電気化学セルでは、多かれ少なかれ大きな規模で行われ、使用状況（温度、保管条件、充電状態等）に著しく依存するが、材料の質及び電気化学セルの製造プロセス中の加工にも依存する。したがって、非常に純度の高い材料を高い質で加工した場合、非常に寿命の長い電気化学セルが得られる。当該電気化学セルは、比較的長い期間にわたってもほとんど経年劣化せず、わずかに容量及び出力を失うのみである。
【０００５】
使用される材料の純度には、しばしば物理的又は化学的限界が、例えば合成プロセスに基づいて設定されているので、バッテリ製造者の優先的な目標は、特許文献１に記載されているように、電極の製造方法の最適化によって、つねにより質が高く、したがって寿命の長い電気化学セルを得ることにある。
【０００６】
特に、電気化学活物質の金属製基板表面への付着は、電気化学セルの質に決定的に寄与する。先行技術から知られていることには、コロナ処理、すなわち金属製基板表面の硫酸クロムを用いたエッチングによって、電気化学活物質の金属製基板表面への付着が決定的に改善される。この方法の大きな欠点は、人体及び環境に対して毒性が高く、電気化学セル内でさらに加工するにも毒性が高い硫酸クロムの使用が、許容できない汚染であるということにある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】欧州特許出願公開第２００６９４２号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
したがって、先行技術に照らして本発明の課題は、寿命の長い電気化学セルの電極、特に負極を製造するための最適化された方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明によると、本課題は独立請求項の教示によって解決される。本発明の好ましいさらなる構成は、下位請求項の対象である。
【００１０】
本課題を解決するために、以下に詳細に説明するように、電気化学セルの電極、特に負極を製造するための方法が設けられており、当該方法は、紫外線照射と有機酸の使用とによる金属製基板の処理を有している。
【００１１】
本発明に係る方法の利点は、金属製基板の環境に優しく確実な洗浄が可能であり、それによって、特に電気化学活物質の金属製基板表面への付着が改善され、電気化学セルの寿命が長くなることにある。
【００１２】
「電気化学セル」は、エネルギーの電気的貯蔵のためのあらゆる種類の装置であると理解される。この概念は、特に一次又は二次タイプの電気化学セルを規定するが、また、コンデンサ等の他の形態のエネルギー貯蔵装置も規定する。好ましくは、本発明において電気化学セルとは、リチウムイオンセルであると理解される。
【００１３】
「負極」という概念は、当該電極が、電気モータ等の負荷（Verbraucher）に接続されると電子を放出することを意味している。したがって、ここでは負極はアノードである。対応して、「正極」という概念は、当該電極が、電気モータ等の負荷に接続されると電子を受容することを意味している。したがって、ここでは正極はカソードである。
【００１４】
本発明に係る方法によって製造される電極、すなわち正極及び／又は負極は、少なくとも１つの金属製基板と少なくとも１つの電気化学活物質とを有している。
【００１５】
「電気化学活物質」という概念は、イオン、特にカチオン、好ましくはリチウムイオンの貯蔵及び放出に適した材料であると理解される。
【００１６】
一実施形態において、電気化学活物質は、カソード活物質である。
【００１７】
好ましい一実施形態において、電気化学活物質は、アノード活物質である。アノード活物質は、好ましくは炭素を含有している。
【００１８】
一実施形態において、本発明に係る方法によって製造された電極は、金属製基板及び電気化学活物質に加えて、少なくとも１つのさらなる添加物を有しており、これは好ましくは伝導性を高めるための添加物であり、例えばカーボンブラック等の炭素ベースの添加物、及び／又は、電気化学セルの過充電時に電気化学活物質の破壊を減少させ、好ましくは最小限にし、好ましくは妨げる酸化還元活性な添加物である。
【００１９】
「金属製基板」という概念は、好ましくは電気化学セルの「電極担体」及び「コレクタ」として知られている部材に関する。本発明において金属製基板は、活物質の塗布に適しており、概ね金属的性質を、好ましくは完全に金属的性質を有している。
【００２０】
好ましくは、金属製基板は、少なくとも部分的にホイルとして、又は、網状構造として、又は、ウェブとして構成されており、好ましくは銅又は銅を含有する合金を有している。
【００２１】
本発明に係る方法は、好ましくは、金属製基板、特に金属製基板の表面を、時間的間隔をおいて、電気化学活物質を塗布するために、有機酸で処理する、特に少なくとも部分的に洗浄する、好ましくは完全に洗浄するステップを有している。
【００２２】
「時間的間隔」という概念は、処理、特に金属製基板の少なくとも部分的な洗浄、特に金属製基板表面の有機酸での処理の開始又は終了と、電気化学活物質の処理された金属製基板への塗布の開始との間に、時間差ｄｔ＞０が存在するということであると理解される。処理、特に金属製基板の有機酸を用いた少なくとも部分的な洗浄は、電気化学活物質の処理された金属製基板への塗布の前に行われる。処理、特に金属製基板の有機酸を用いた少なくとも部分的な洗浄と、電気化学活物質の処理された、特に少なくとも部分的に洗浄されたコレクタへの塗布との間の時間差ｄｔは、好ましくはｄｔ＝３時間まで、好ましくは２時間まで、好ましくは１時間までである。
【００２３】
好ましい一実施形態において、処理、特に金属製基板の少なくとも部分的な洗浄、特に金属製基板表面の有機酸での処理と、電気化学活物質の処理された、特に少なくとも部分的に洗浄された金属製基板への塗布との間の時間差は、３０分から４０分、好ましくは３５分（±２分）である。
【００２４】
この処理、特に金属製基板の少なくとも部分的な洗浄、特に金属製基板表面の有機酸での処理と、電気化学活物質の処理された、特に少なくとも部分的に洗浄された金属製基板への塗布との間の時間差は、金属製基板、特にその表面の好ましくは５０％までの汚染物質、特に好ましくは１００％までの汚染物質が除去されるような特に効果的な洗浄が可能であるという利点を有する。
【００２５】
金属製基板の有機酸を用いた洗浄と電気化学活物質の塗布との間では、金属製基板表面をさらに処理するための、乾燥ステップ等のようなさらなるステップが行われても良い。
【００２６】
「有機酸」という概念は、酸性基Ｏ＝Ｘ−ＯＨを有する化合物、すなわち、中心原子（Ｘ）を有し、中心原子ＸとＯＨ基の酸素原子Ｏとの間における単結合によってＯＨ基を有し、中心原子Ｘへの二重結合によってさらなる酸素原子を有する化合物であると理解される。中心原子Ｘは、二重結合の形成によって酸素原子と結合するのと同時に、単結合の形成によってＯＨ基の酸素原子Ｏと結合することが可能な元素周期表（ＰＳＥ）の非金属又は半金属の群から選択され得る。好ましくは、中心原子Ｘは、炭素、硫黄、リン、ケイ素の群から選択され、炭素が特に好ましい。
【００２７】
さらに、中心原子Ｘは、炭素原子及び水素原子の他にさらなるヘテロ原子、好ましくは窒素、酸素、硫黄又はリンを有し得るアルキル置換基又はアリール置換基から選択された有機置換基の構成要素であるさらなる原子、好ましくは炭素原子に結合する。「有機酸」という概念を単数で用いることは、異なる有機酸の混合物も該当することを排除しない。
【００２８】
有機酸が「固体酸」として、すなわち標準条件（２５℃、１０３１ｂａｒ）において固体として存在する酸として構成されている場合、当該酸を使用前に適切な溶媒に溶解させることが好ましい。好ましくは、有機酸及び／又は溶媒の水分含有量は、２０％より少なく、好ましくは１０％より少なく、好ましくは５％より少なく、好ましくは２％より少なく、特に好ましくは１％か又はそれより少ない。好ましくは、有機酸は、紫外線照射又は温度上昇の際に分解するように選択される。好ましくは、紫外線照射の際に生成される分解生成物は、少なくとも部分的に気体状である。好ましい分解生成物は、例えば二酸化炭素又は水である。
【００２９】
一実施形態において、有機酸は、酢酸、コハク酸、フマル酸、クエン酸、マレイン酸、シュウ酸、乳酸、ピルビン酸、ギ酸、オキサロコハク酸、オキサロ酢酸、シュウ酸又はそれらの混合物から選択される。
【００３０】
好ましい一実施形態において、有機酸は、場合によってはさらなる成分の他に、シュウ酸（エタン二酸とも呼ばれる）を含有している。
【００３１】
有機酸、特にシュウ酸の使用は、当該有機酸が、例えば加熱又は紫外線照射によって分解され得るという利点を有する。このようにして得られた有機酸の分解生成物は、概ね二酸化炭素及び水であり、容易に除去することができる。加えて、有機酸の取り扱いは、例えばコロナエッチングで用いられる硫酸クロムの取り扱いよりも概ね容易であり、危険も少ない。これは、特に電気化学セルの製造時に存在する「クリーンルーム」条件との関連において有効である。
【００３２】
特に好ましい一実施形態において、有機酸は「無水」シュウ酸として構成される。これはＣＡＳ番号１４４−６２−７で商品として入手可能である。ここで「無水」とは、シュウ酸の水分含有量が１％か又はそれよりも少ないということを意味している。
【００３３】
さらなる特に好ましい一実施形態において、有機酸は、「無水」シュウ酸として構成されており、少なくとも部分的にＮＭＰ（Ｎ−メチル−２−ピロリドン）に溶解している。ＮＭＰの水分含有量は、好ましくは１００ｐｐｍより少なく、好ましくは６０ｐｐｍより少なく、好ましくは３０ｐｐｍより少なく、好ましくは１０ｐｐｍより少なく、ＮＭＰはいわゆる「バッテリ品質（Battery Quality）」において、アミンを含有する汚染物質をほぼ含まずに存在している。
【００３４】
無水有機酸、特に無水シュウ酸の使用は、金属製基板、特にその表面の汚染物質が、特に金属製基板が銅ホイルとして構成されている場合、特に効率的かつ容易に、少なくとも部分的に、好ましくは完全に除去されるという利点を有する。金属製基板表面の汚染物質は、金属製基板の保管、輸送、包装を通じて又は製造の間に生じ得る。汚染物質は、例えば電気化学活物質の金属製基板表面への付着にネガティブな影響を与え得る。それによって、電気化学セルはより早く「経年劣化」するか、又は、金属製基板の機能、すなわち電気化学活物質からの若しくは電気化学活物質への電子の受容若しくは放出も侵害される。これは例えば、電気化学セルの内部抵抗の増大及びそれに伴う容量又は出力の損失の形で明らかになる。
【００３５】
一実施形態において、金属製基板は、銅若しくは銅を含有するホイル、特に銅ホイルであるか、又はそれを含んでいる。銅ホイルコレクタの表面は、その製造の間、例えば圧延プロセス又は切断プロセスにおいて、脂肪を含有する及び／又は油性の物質、特に牛脂又は粉塵粒子によって汚染され得る。さらに、銅を含有するホイル、特に銅ホイルの表面は、周囲空気と比較的長く接触した場合、周囲空気によって少なくとも部分的に、特に酸化を通じて不動態化され、不動態被膜を形成し、これは一実施形態においては酸化銅（Ｉ）Ｃｕ２Ｏを有するもので、やはり汚染物質であると見なされる。したがって、有機置換基を有する有機酸を使用するのは有利である。なぜなら、同じく有機の脂肪を含有する及び／又は油性の物質は、化学原則「似たもの同士はよく溶ける」（similia similibus solvuntur）に従い、少なくとも部分的に、好ましくは完全に有機酸に溶解し、それによって、金属基板表面から除去され得るからである。有機酸を用いるさらなる利点は、一実施形態においては酸化銅（Ｉ）Ｃｕ２Ｏを有する不動態被膜は、少なくとも部分的に、好ましくは完全に除去され得る点にある。好ましくは、このように処理された、特に少なくとも部分的に洗浄された金属製基板表面は、有機酸とはもはや反応しない。
【００３６】
特に好ましい一実施形態において、金属製基板は、銅を含有するホイル、特に銅ホイルとして構成されており、その表面は、脂肪を含有する及び／若しくは油性の物質、特に牛脂、並びに／又は、少なくとも部分的に酸化銅（Ｉ）Ｃｕ２Ｏを有する不動態被膜によって少なくとも部分的に汚染されており、有機酸、好ましくは無水シュウ酸で少なくとも部分的に、好ましくは完全に処理され、特に少なくとも部分的に、好ましくは完全に前記汚染物質が取り除かれ、すなわち洗浄される。
【００３７】
「洗浄」及び「洗浄された」という概念は、好ましくは５０％まで、好ましくは７０％まで、好ましくは１００％までの汚染物質が金属製基板表面から除去されたこと、しかしながらそのつど好ましくは少なくとも５％、１０％、１５％、２０％、２５％、３０％、３５％、４０％、４５％、５０％、５５％、６０％、６５％、７０％、８０％、８５％、９０％、９５％の汚染物質が金属製基板表面から除去されたことであると理解される。
【００３８】
「処理」及び「処理する」という概念は、好ましくは５０％まで、好ましくは７０％まで、好ましくは１００％までの金属表面が有機酸と接触し、特に有機酸で湿らされたこと、しかしながらそのつど好ましくは少なくとも５％、１０％、１５％、２０％、２５％、３０％、３５％、４０％、４５％、５０％、５５％、６０％、６５％、７０％、８０％、８５％、９０％、９５％の金属製基板の表面が有機酸に接触し、特に有機酸で湿らされたことであると理解される。
【００３９】
金属製基板表面を有機酸で湿らせることは、一実施形態においては、金属製基板表面に有機酸を噴霧することによって行われる。
【００４０】
さらなる一実施形態において、金属製基板表面を有機酸で湿らせることは、金属製表面に有機酸を注ぐことによって行われる。
【００４１】
さらなる一実施形態において、金属製基板表面を有機酸で湿らせることは、金属製基板の有機酸浴によって行われる。
【００４２】
さらなる一実施形態において、金属製基板表面を有機酸で湿らせることは、表面が有機酸で湿らされたローラ等の装置を用いて行われる。このとき、有機酸は、金属製基板表面が装置表面と接触した際に、装置表面から金属製基板表面に少なくとも部分的に移される。
【００４３】
さらなる一実施形態において、金属製基板表面の有機酸での処理は、有機酸を有するか又は有機酸から成る蒸気での金属製基板の蒸着によって行われる。これによって、表面の特に均質な処理が、特にウェッティング効果（Benetzungseffekt）をほぼ生じずに可能になる。この処理は、好ましくは最低でも８５℃、１００℃、１５０℃の温度で行われる。この処理には蒸気流が用いられ、当該蒸気は圧力と共に、処理されるべき表面に衝突し、それによって機械的な洗浄効果がもたらされる。この圧力は、そのつど好ましくは少なくとも１ｂａｒ、２ｂａｒ、５ｂａｒ、１０ｂａｒ、２５ｂａｒ、５０ｂａｒ、１００ｂａｒ、２００ｂａｒ又は５００ｂａｒである。しかしながら、当該圧力又は金属製基板上の周囲圧力は、１ｂａｒ未満でも良い。蒸気流の横断面は、面ＡＤを有しており、面ＡＤは処理されるべき表面の少なくとも面ＡＯに対応する。しかしながら、この横断面ＡＤが面ＡＯの分数（Bruchteil）ｆに対応し（ＡＤ＝ｆ*ＡＯ）、好ましくはｆが最低又は最高でｆ＝０．５；０．２５；０．１；０．０５であることも可能であり好ましい。蒸気流の横断面は、そのつど好ましくは、及び、ほぼ、直方体状、帯状又は線状の輪郭を有している。
【００４４】
金属製基板の処理、特にその洗浄は、特に金属製基板の周囲圧力が０．０５ｂａｒから１ｂａｒの間の場合に、好ましくはプラズマを用いて、特にプラズマ流を用いても行われる。プラズマは、部分的又は完全に、イオン又は電子等の自由な電荷担体から成る気体であり、例えば製品として入手可能なプラズマ設備内の交流電場における気体の電気的処理によって発生する。プラズマは、酸素又は有機酸を用いて生成され得る。このとき、温度は任意で選択可能であり、特にほぼ雰囲気温度である。柔軟又は緩やかな洗浄が行われる。
【００４５】
有機酸と特に有機酸を有する蒸気流と処理されるべき表面とは、特に均質な結果を得るために、互いに対して、好ましくは一定の速度で動かされることも可能であり好ましい。このとき好ましくは、例えば処理されるべき表面が有機酸（若しくは蒸気流）に対して動かされるか、又は、有機酸（若しくは蒸気流）が処理されるべき表面に対して動かされる。
【００４６】
一実施形態において、金属製基板表面を湿らせるステップに引き続いて、さらなるステップが行われる。当該ステップでは、振動等の機械的プロセスを用いて、有機酸が金属製基板表面上で均質に分散する。
【００４７】
一実施形態において、有機酸の金属製基板表面上での均質な分散は、金属製基板表面を有機酸で湿らすのと同時に行われる。
【００４８】
一実施形態において、当該方法は、金属製基板表面の機械的洗浄を有しており、これは、例えばブラシ又は繊維の装置を用いた研磨によって行われ得る。機械的洗浄のステップは、金属製基板表面を有機酸で湿らせる前に、金属製基板表面を有機酸で湿らせる間、すなわち同時に、又は、その後で行われ得る。
【００４９】
好ましい一実施形態において、金属製基板表面を有機酸で湿らせるステップと、金属製基板表面に有機酸を均質に分散させるステップと、金属表面の機械的洗浄ステップとは、１つのステップに統合される。これは、例えば有機酸を有する蒸気流によって、又は、可動性ブラシの使用によって行われ得る。このブラシは、有機酸で満たされたストック容器からの有機酸で持続的に湿らされており、金属製基板表面と接触することによって、有機酸を金属製基板に放出する。このとき、可動性ブラシは、例えば金属製基板表面上で円形の動きを行い、それによって有機酸が金属製基板表面上で均質に分散する。ブラシによって金属製基板表面に圧力を任意で与えることによって、これは同時に機械的に洗浄される。
【００５０】
有機酸が金属製基板表面に留まる時間は、好ましくは３０秒まで、５分まで、好ましくは３０分まで、好ましくは６０分まで、好ましくは２時間までである。しかしながら、この時間は、より長くてもより短くても良い。
【００５１】
さらに、本発明に係る方法は、金属製基板の紫外線光による処理を有している。
【００５２】
一実施形態において、金属製基板の紫外線処理は、有機酸での処理の前に行われる。
【００５３】
さらなる一実施形態において、金属製基板の紫外線処理は、有機酸での処理の後に行われる。
【００５４】
好ましい一実施形態において、金属製基板の紫外線処理は、有機酸での処理の前及び後に行われる。
【００５５】
好ましい一実施形態において、金属製基板に加えて電気化学活物質にも紫外線光が照射される。
【００５６】
電気化学活物質への紫外線光の照射は、当該電気化学活物質を金属製基板に塗布する直前に、又は、時間的間隔を置いて行われる。
【００５７】
金属製基板及び電気化学活物質の紫外線処理は、電気化学活物質の金属製基板表面への接着に有利に作用する。紫外線照射によって、酸化による金属製基板表面の有機汚染物質は、少なくとも部分的に除去される。このとき、二酸化炭素や水等の分解生成物が生成される。したがって、紫外線照射によって、金属製基板表面は少なくとも部分的に洗浄され、金属製基板表面の接着力は少なくとも部分的に向上する。
【００５８】
金属製基板の紫外線処理のさらなる利点は、金属製基板表面に塗布された有機酸は、紫外線照射によって少なくとも部分的に、好ましくは有機酸の分解によって完全に除去されることにある。紫外線照射の際に、軽度の揮発性を有する分解生成物、例えば二酸化炭素等の気体が生成されると特に有利に作用する。さらに、紫外線照射の際に分解生成物として水が生成されることがあり得る。これらの分解生成物は、さらなる方法において容易に取り除くことができるか、又は、電気化学セル内で有害ではない。
【００５９】
紫外線照射源として適しているのは、例えば、低圧水銀ランプ等の水銀蒸気ランプ、又は、紫外線発光ダイオードである。紫外線光は、波長１ｎｍから３８０ｎｍの電磁ビームである。
【００６０】
好ましくは、当該方法は、金属製基板を乾燥させるステップ、すなわち金属製基板表面に吸着した液体、特に水を減少させる又は取り除くステップを有している。乾燥ステップは、紫外線光での処理の前及び／又は後に行われ得る。さらに、乾燥ステップは、有機酸での処理の前並びに／又は処理の前及び／若しくは後に行われ得る。
【００６１】
好ましくは、本発明に係る方法は、紫外線照射及び／又は有機酸で処理された金属製基板表面に、好ましくはやはり紫外線照射で処理された電気化学活物質をコーティングするステップを有している。コーティングに引き続いて、紫外線照射によるさらなる処理が行われると、やはり有利である。
【００６２】
一実施形態において、本発明に係る電気化学セルは、本発明に係る方法によって製造された少なくとも１つの電極を有しており、当該電極、好ましくは負極は、金属製基板を有しており、当該金属製基板は、好ましくは銅を含有し、ホイルとして構成されており、その表面全体は、好ましくは３０％まで、好ましくは５０％まで、好ましくは７０％まで、好ましくは１００％までが電気化学活物質でコーティング、好ましくは材料接続的にコーティングされており、当該電気化学活物質は炭素、好ましくは結晶黒鉛、土状黒鉛、「ハードカーボン」、又はそれらの混合物から選択される炭素を含有している。
【００６３】
電気化学セルのさらなる一実施形態では、さらに電気化学活物質と金属製基板との間の接着を改善することができる接合剤が含まれている。好ましくは、このような接合剤はポリマー、好ましくはフッ素化ポリマー、好ましくはポリフッ化ビニリデンを有しており、これはＫｙｎａｒ（登録商標）、Ｓｏｌｅｆ（登録商標）、Ｋｕｒｅｈａ（登録商標）又はＤｙｎｅｏｎ（登録商標）という商標で販売されている。
【図面の簡単な説明】
【００６４】
【図１】本発明に係る方法の実施例を概略的に示した図である。
【発明を実施するための形態】
【００６５】
本発明に係る電極製造方法の一実施例は、以下のステップを有している。
【００６６】
金属製基板、好ましくは銅金属コレクタ又は銅を含有する金属コレクタを準備する（１１）。次に、金属製基板、特に金属製基板の表面を紫外線照射によって処理する（１２）。有機酸、特にシュウ酸を準備し（２１）、引き続いてＮＭＰに少なくとも部分的に溶解させる（２２）。ステップ（１１）及び／又は（１２）を、ステップ（２１）及び／又は（２２）と並行して実施することができる。しかしながら、ステップ（１１）及び／又は（１２）を、ステップ（２１）及び／又は（２２）とは時間的に無関係に、又は、時間をずらして実施しても良い。例えば、ステップ（１１）及び（２１）をすでに行った後、ステップ（２２）を行い、その後初めてステップ（１２）を行うことも可能である。
【００６７】
ＮＭＰに溶解させた有機酸、好ましくはＮＭＰに溶解した無水シュウ酸を、紫外線処理された金属製基板表面に塗布する（３０）。
【００６８】
ステップ（３０）で塗布された、ＮＭＰに溶解した有機酸を、金属製基板表面から少なくとも部分的に除去する（４０）。ステップ（３０）が、ステップ（４０）に対して時間的間隔を有して行われると有利である。それによって、より効果的な洗浄が可能になる。
【００６９】
ステップ（４０）において有機酸で洗浄された金属製基板表面を紫外線照射で処理する。
【００７０】
電気化学活物質、特にアノードのための電気化学活物質を準備し（７１）、電気化学活物質を紫外線照射で処理する。ステップ（７１）及び（７２）は、それぞれ任意の時点で実施可能である。しかしながら、ステップ（７２）が、ステップ（６０）に対して時間的間隔を置かずに実施されると特に有利である。ステップ（６０）は、先のステップ（１２）、（３０）、（４０）及び（５０）において処理された金属製基板、特にその処理された表面のコーティングを含んでいる。
【００７１】
ステップ（６０）において電気化学活物質でコーティングされた金属製基板を紫外線照射で処理する（８０）。ステップ（８０）は任意のステップである。
【符号の説明】
【００７２】
１１  金属製基板、好ましくは銅金属コレクタ又は銅を含有する金属コレクタを準備するステップ
１２  金属製基板、特に金属製基板の表面を紫外線照射によって処理するステップ
２１  有機酸、特にシュウ酸を準備するステップ
２２  ＮＭＰに少なくとも部分的にシュウ酸を溶解させるステップ
３０  ＮＭＰに溶解させた有機酸、好ましくはＮＭＰに溶解した無水シュウ酸を、紫外線処理された金属製基板表面に塗布するステップ
４０  ステップ３０で塗布された、ＮＭＰに溶解させた有機酸を、金属製基板表面から少なくとも部分的に除去するステップ
５０  ステップ４０において有機酸で洗浄された金属製基板表面を紫外線照射で処理するステップ
６０  ステップ１２、３０、４０及び５０において処理された金属製基板、特にその処理された表面にコーティングを行うステップ
７１  電気化学活物質、特にアノードのための電気化学活物質を準備するステップ
７２  電気化学活物質を紫外線照射で処理するステップ
８０  ステップ６０において電気化学活物質でコーティングされた金属製基板を紫外線照射で処理するステップ
【図１】
2014505341.tif 000003
【国際調査報告】
2014505341.tif 000004
2014505341.tif 000005
2014505341.tif 000006
2014505341.tif 000007
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