(57)【要約】  本発明は、断熱ガラスユニット（ＩＧＵ）に埋め込まれたエレクトロクロミックグレージングを制御するシステムに関する。このシステムは、エレクトロクロミックデバイスの特性又はその制御要件のうちの少なくとも幾つかに関する情報を格納する識別回路４１０と、識別システムをモニタし、格納された情報を用いてエレクトロクロミックデバイスに適切な電圧又は電流を印加するように構成された制御システムとを備える。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光の透過を調整するシステムであって、エレクトロクロミックグレージングと、制御システムと、該エレクトロクロミックグレージング又は該制御システムのうちの少なくとも一方と通信する識別回路とを具備し、該識別回路は、前記エレクトロクロミックグレージングと関連する少なくとも１つのパラメータを備え、前記制御システムは、前記識別回路をモニタし、前記エレクトロクロミックグレージングの動作時に前記少なくとも１つの格納されたパラメータを適用する、光の透過を調整するシステム。
【請求項２】
前記パラメータは、前記エレクトロクロミックグレージングの物理特性である、請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
前記物理特性は、製品モデル番号、製品シリアル番号、製造日付、グレージング形状、グレージングサイズ、グレージング表面積、グレージング構成材料、独立して制御可能なグレージングセグメントの数及びサイズ、並びにグレージング設置場所である、請求項２に記載のシステム。
【請求項４】
前記パラメータは、電圧又は電流からなる群から選択された動作特性である、請求項１に記載のシステム。
【請求項５】
前記パラメータはスイッチング電圧である、請求項１に記載のシステム。
【請求項６】
前記パラメータは着色用の電流である、請求項１に記載のシステム。
【請求項７】
前記パラメータは消色用の電流である、請求項１に記載のシステム。
【請求項８】
前記パラメータは漏れ電流である、請求項１に記載のシステム。
【請求項９】
前記パラメータはスイッチング速度である、請求項１に記載のシステム。
【請求項１０】
前記格納されたパラメータは、内部直列抵抗、制御パラメータ、電気特性、並びに対応する保持電圧を伴う最小着色レベル及び最大着色レベルからなる群から選択される、請求項１に記載のシステム。
【請求項１１】
前記識別回路は、コントローラと双方向通信する、請求項１に記載のシステム。
【請求項１２】
前記制御システムは、前記エレクトロクロミックグレージングを動作させるように自己設定することができる、請求項１に記載のシステム。
【請求項１３】
前記識別回路は、前記エレクトロクロミックグレージングの電圧をモニタする、請求項１に記載のシステム。
【請求項１４】
前記制御システムは、前記モニタされた電圧からワイヤの抵抗を計算する、請求項１３に記載のシステム。
【請求項１５】
前記識別回路は温度を測定する、請求項１に記載のシステム。
【請求項１６】
前記識別回路は光レベルを測定する、請求項１に記載のシステム。
【請求項１７】
前記識別回路はマイクロコントローラを備えている、請求項１に記載のシステム。
【請求項１８】
前記識別回路は、前記エレクトロクロミックグレージングとワイヤを共有しており、前記制御システムは、印加された電圧を変調することにより前記識別回路に情報を送信する、請求項１に記載のシステム。
【請求項１９】
前記制御システムは、前記識別回路に情報を送信する手段を備えている、請求項１に記載のシステム。
【請求項２０】
前記識別回路は、電気コネクタに埋め込まれている、請求項１に記載のシステム。
【請求項２１】
前記識別回路は、前記エレクトロクロミックグレージングの外側シールに埋め込まれている、請求項１に記載のシステム。
【請求項２２】
前記識別回路は、前記エレクトロクロミックグレージングの少なくとも１つのバスバーに直接取り付けられている、請求項１に記載のシステム。
【請求項２３】
エレクトロクロミックグレージングを備えるシステムに電源を供給する方法であって、（ａ）前記エレクトロクロミックグレージングを消色状態に設定するステップと、（ｂ）前記エレクトロクロミックグレージングに所定電圧を印加するステップと、（ｃ）前記エレクトロクロミックグレージングに印加された実電圧を測定するステップと、（ｄ）前記システムのワイヤの抵抗を計算するステップと、（ｅ）前記計算されたワイヤの抵抗に基づいて、印加された電圧を調整するステップとを含んでなる、システムに電源を供給する方法。
【請求項２４】
前記システムに識別回路が存在するか否かを判定するステップを更に含む、請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
前記実電圧は、前記識別回路によって測定される、請求項２４に記載の方法。
【請求項２６】
前記識別回路は、格納されたパラメータを制御システムに送信する、請求項２４に記載の方法。
【請求項２７】
前記ワイヤの抵抗及び前記格納されたパラメータは、前記制御システムのメモリに格納される、請求項２６に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
［関連出願の相互参照］
本願は、「Electrochromic Systems And Controls Comprising Unique Identifiers」と題する、２０１１年４月２０日に出願された米国仮特許出願第６１／４７７，２４５号の出願日の利益を主張するものであり、この仮特許出願は、その開示内容を引用することにより本明細書の一部をなす。
【背景技術】
【０００２】
エレクトロクロミックグレージングは、エレクトロクロミック材料を含み、エレクトロクロミック材料は、電位の印加に応じて呈色性等のその光学特性を変化させ、それにより、デバイスの透明度を増減させるか又は反射性を増減させることが知られている。従来技術による通常のエレクトロクロミックデバイス（以降、「ＥＣデバイス」）は、対向電極層と、対向電極層に実質的に平行に配設されるエレクトロクロミック材料層と、このエレクトロクロミック層から対向電極層を分離するイオン伝導性層とをそれぞれ備える。さらに、２つの透明伝導性層は、対向電極層及びエレクトロクロミック層に実質的に平行でかつそれらと接触状態にある。対向電極層、エレクトロクロミック材料層、イオン伝導性層、及び導電性層を作製するための材料は知られており、例えば、引用することにより本明細書の一部をなす米国特許出願公開第２００８／０１６９１８５号に記載され、また、望ましいことには実質的に透明な酸化物又は窒化物である。
【０００３】
各導電性層を低電圧電源に接続すること等によってＥＣデバイスの層状構造両端に電位が印加されると、対向電極層内に格納されるＬｉ＋イオン等のイオンは、対向電極層からイオン導体層を通してエレクトロクロミック層に流れる。さらに、電子は、対向電極層から、低電圧電源を有する外部回路を回って、エレクトロクロミック層に流れて、対向電極層及びエレクトロクロミック層内の電荷的中性を維持する。エレクトロクロミック層へのイオン及び電子の移動は、エレクトロクロミック層、及び任意選択で、相補的ＥＣデバイスでは対向電極層の光学特性を変化させ、それにより、ＥＣデバイスの呈色性、したがって透明性を変化させる。
【０００４】
従来のＥＣデバイス及びそれらを備える断熱ガラスユニット（以降、「ＩＧＵ」）は、図１に示す構造を有している。本明細書で用いる「断熱ガラスユニット」という用語は、縁に沿ったスペーサ１によって分離された２つ以上のガラスの層であって、それらの層の間に断熱空気層（dead air space）（又は他の気体、例えばアルゴン、窒素、クリプトン）を生成するように封止されたガラスの層を意味する。ＩＧＵ２は、内部ガラスパネル３及びＥＣデバイス４を備えている（ＥＣデバイス自体は、薄膜積層体５と薄膜が堆積している基板６から構成されている）。
【０００５】
多くの異なるＥＣデバイス、又はそれらを備えるＩＧＵを、建物全体に、又は更には単一の部屋に設置し、制御システムによって制御することができる（制御システムは、ＥＣデバイスとともに部屋にあるか、又は建物の中心に配置されるか、又は更にはＨＶＡＣ若しくは他の制御装置に結合することがある）。例えば、異なるＥＣデバイスには、異なる薄膜が施され、異なる外部コーティング若しくは着色がなされ、及び／又は、サイズ及び／又は形状が異なり、デバイスごとに１つ以上の独立して制御されるセグメントを備えていることがある。また、透明の状態若しくは完全に暗い状態での色及び透過率、全体的な伝導率並びに温度に対する性能等の特性も変化する。これらの相違があるために、制御プロトコルは、異なるエレクトロクロミックデバイス間で異なる可能性がある。例えば、０．５平方メートルのデバイスを、最大３．０Ｖ及び１５０ｍＡで着色することができるが、１．０平方メートルデバイスでは、４．０Ｖ及び６００ｍＡが必要である可能性がある。または、ダイナミックレンジが非常に広いデバイスでは、完全着色状態に達するために同じ電圧及び電流でより長くスイッチングを行う必要があることになる。したがって、異なるエレクトロクロミックデバイスパネル又はＩＧＵには、通常、異なる制御アルゴリズムが適用される。
【０００６】
一般に、エレクトロクロミックデバイスは、通信ワイヤ又はケーブルを介して、コントローラ又はインタフェースパネルに各々独立して接続されている。図２は、幾つかのパネルがコントローラ又はインタフェースパネルに接続されている実施形態を示す。この実施形態では、コントローラ又はインタフェースパネルは、互いにかつユーザインタフェース（壁面スイッチ）に更に接続されている。幾つかの実施形態では、コントローラを、中央建物管理システムに更に接続することができる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
従来、エレクトロクロミックデバイスからの特定のケーブルは、そのケーブルに取り付けられているエレクトロクロミックデバイスに対応する所定電圧又は電流が印加される特定の箇所で、制御システムとインタフェースしなければならない。各コントローラ又はインタフェースパネルとインタフェースしている接続の数が多いため、いずれのケーブルが各エレクトロクロミックデバイスまで行くかを常に把握することは困難でありうる。設置が不正確に行われる場合、例えば、制御システムの誤った箇所に誤ったケーブルを取り付ける場合、不正確な電圧又は電流が印加される可能性があり、その結果、それが制御性能に影響を与えるか、又はエレクトロクロミックデバイスの寿命を短くすることになる。
【０００８】
この制御構成の別の問題は、ＩＧＵを制御回路に接続する長いワイヤの電気抵抗により、制御装置における電圧よりＥＣデバイス又はＩＧＵにおける電圧が著しく低くなる、ということである。制御システムは、ＥＣ又はＩＧＵを最適に制御するためにこの電圧差を補償する必要がある。これは、１つ以上の追加のワイヤを用いて電圧差を検知することによって行われることが多いが、これによってコスト及び設置の複雑性が追加される。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の一態様は、光の透過を調整するシステムであって、エレクトロクロミックグレージングと、制御システムと、該エレクトロクロミックグレージング又は該制御システムのうちの少なくとも一方と通信する識別回路とを備えており、該識別回路は、前記エレクトロクロミックグレージングと関連する少なくとも１つのパラメータを備え、前記制御システムは、前記識別回路をモニタし、前記エレクトロクロミックグレージングの動作時に前記少なくとも１つの格納されたパラメータ又は識別子を適用する、光の透過を調整するシステムである。
【００１０】
１つの実施形態では、前記パラメータは、前記エレクトロクロミックグレージングの物理特性である。１つの実施形態では、前記物理特性は、製品モデル番号、製品シリアル番号、製造日付、グレージング形状、グレージングサイズ、グレージング表面積、グレージング構成材料、独立して制御可能なグレージングセグメントの数及びサイズ、グレージング設置場所、並びに他の物理特性である。
【００１１】
１つの実施形態では、前記パラメータは、電圧又は電流からなる群から選択された動作特性である。
【００１２】
１つの実施形態では、前記パラメータはスイッチング電圧である。１つの実施形態では、前記パラメータは着色用の電流である。１つの実施形態では、前記パラメータは消色用の電流である。１つの実施形態では、前記パラメータは漏れ電流である。１つの実施形態では、前記パラメータはスイッチング速度である。
【００１３】
１つの実施形態では、前記格納されたパラメータは、内部直列抵抗、制御パラメータ、電気特性、並びに対応する保持電圧を伴うか又は伴わない最小着色レベル及び最大着色レベルからなる群から選択される。
【００１４】
１つの実施形態では、前記識別回路は、コントローラと双方向通信する。１つの実施形態では、前記制御システムは、前記エレクトロクロミックグレージングを自己設定することができる。１つの実施形態では、前記識別回路は、前記エレクトロクロミックグレージングの電圧をモニタする。１つの実施形態では、前記制御システムは、前記モニタされた電圧からワイヤの抵抗を計算する。
【００１５】
１つの実施形態では、前記識別回路は温度を測定する。１つの実施形態では、前記識別回路は光レベル又は光透過率レベルを測定する。１つの実施形態では、前記識別回路はマイクロコントローラを備えている。１つの実施形態では、前記識別回路は、前記エレクトロクロミックグレージングとワイヤを共有し、前記制御システムは、波形を変調することにより前記識別回路に情報を送信する。
【００１６】
１つの実施形態では、前記識別回路は、電気コネクタに埋め込まれている。１つの実施形態では、前記識別回路は、前記エレクトロクロミックグレージングの外側シールに埋め込まれている。１つの実施形態では、前記識別回路は、前記エレクトロクロミックグレージングの少なくとも１つのバスバーに直接取り付けられている。
【００１７】
本発明の別の態様は、エレクトロクロミックグレージングを備えるシステムに電源を供給する方法であって、（ａ）前記エレクトロクロミックグレージングを消色状態（clear state）に設定するステップと、（ｂ）前記エレクトロクロミックグレージングに所定電圧を印加するステップと、（ｃ）前記エレクトロクロミックグレージングに印加された実電圧を測定するステップと、（ｄ）前記システムのワイヤの抵抗を計算するステップと、（ｅ）前記計算されたワイヤの抵抗に基づいて、前記所定電圧を調整するステップとを含んでなる、システムに電源を供給する方法である。
【００１８】
１つの実施形態では、該方法は、前記システムに識別回路が存在するか否かを判定するステップを更に含む。１つの実施形態では、前記実電圧は、前記識別回路によって測定される。１つの実施形態では、前記識別回路は、格納されたパラメータを前記システムに送信する。１つの実施形態では、前記ワイヤの抵抗及び前記格納されたパラメータは、前記制御システムのメモリに格納される。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】ＥＣデバイスを備えるＩＧＵの概略図である。
【図２】個々のエレクトロクロミックデバイスパネル間の接続を示す概略図であり、中央制御システム又はインタフェースパネルが示されている。
【図３】識別回路の概略図である。
【図４】埋め込まれた識別回路の概略図である。
【図５】識別回路と「直列の」バスバーの概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
本発明の一実施形態では、ＥＣデバイス又はＩＧＵは、ＥＣデバイスの特性又はその制御要件のうちの少なくとも幾つかに関する情報を格納する識別回路を備えている。
【００２１】
幾つかの実施形態では、識別回路は、以下のパラメータ又は識別子のうちの１つ以上のものを格納する。すなわち、（ａ）製品モデル及びシリアル番号、（ｂ）製造日付、（ｃ）デバイス形状、（ｄ）デバイスサイズ、（ｅ）デバイス表面積、（ｆ）例えば着色及び／又は消色の最大スイッチング電圧及び／又はスイッチング電流を含む制御パラメータ、（ｇ）漏れ電流及び／又はスイッチング速度を含む特性、（ｈ）設置場所、（ｉ）構成材料、（ｊ）独立して制御可能なセグメントの数及びサイズ、（ｋ）最小着色レベル及び最大着色レベル並びに対応する保持電圧、（ｌ）内部直列抵抗、並びに（ｍ）適切な制御に必要な他の任意の物理パラメータ又は動作パラメータである。
【００２２】
識別回路を備えたＥＣデバイスは、１つ以上の制御システムと通信する。幾つかの実施形態では、制御システムは、識別回路に格納されたデータにアクセスし、その情報を使用して、ＥＣデバイスに適切な電圧及び／又は電流を印加し、かつそのＥＣデバイスの着色レベルを正確に制御することができる。したがって、制御システムは、「自己設定する」ことができ、そのため、デバイスへの誤った電圧又は電流の印加を含む誤りの可能性をなくすか又は低減する。さらに、このようなシステムを使用して、設置プロセスを簡略化することができると考えられる（例えば、ワイヤの束を制御システムから引き出すことができ、識別回路を有する任意のＥＣデバイスにランダムに割り当てることができる）。
【００２３】
別の実施形態では、識別回路を使用して、ＥＣデバイス又はＩＧＵの電圧が測定され、その情報が制御システムに伝送される。この結果、ワイヤの抵抗を計算することができ、制御システムは、この情報を使用して、追加の配線又は不要な配線を使用することなくワイヤの抵抗を補償することができる。
【００２４】
別の実施形態では、識別回路は、温度レベル又は光レベル等の追加の測定を行い、そのデータを同様に制御回路に伝送することができる。
【００２５】
一実施形態では、その情報は、製造時に、識別回路が取り付けられるときに、又はその直後に、識別回路に最初にロードされる。情報を、設置後にロードすることもでき、又はデバイスの使用可能期間中更新することができる。
【００２６】
情報をロードするために、ＩＧＵは、その標準的な電気コネクタを介して、通常のＩＧＵ制御回路、又はこの目的で特別に設計されたものとすることができるプログラミング回路に接続される。この回路は、まず、厳密に制御された電圧でＩＧＵに電源を供給し、そして、識別回路が印加電圧を測定しその不揮発性メモリ（例えばＥＥＰＲＯＭ）に校正基準を格納すべきであることを指示する信号を送信する。そして、プログラミング回路は、製造プロセスを管理し、したがってデバイスに関する全てのサイズ及びプロセス情報に関する情報を格納している、工場制御ソフトウェアと通信して、関連情報の全てを伝送する。そして、識別回路は、このデータを不揮発性メモリに格納する。これが行われるとき、プログラミング回路は、正確なプログラミングを検証するために、識別回路に対して、保存されたメモリの全てを戻すように伝送させる信号を送信する。検証が失敗した場合、データを再度送信することができる。
【００２７】
制御システムを、ＥＣデバイス又はＩＧＵに様々な方法で接続することができる。一実施形態では、（ＥＣデバイス／ＩＧＵに電源を供給するのに必要なワイヤに加えて）１つ以上の追加のワイヤが、制御システムとＥＣデバイス／ＩＧＵとの間の通信のために通されている。（複数の場合もある）このワイヤは、識別回路から制御システムに情報を中継するのに使用される。通信用の接地基準を、追加のワイヤのうちの１つとするか、又はＥＣデバイス／ＩＧＵワイヤと共有することがある。
【００２８】
別の実施形態では、追加のワイヤは通されていない。標準エレクトロクロミック配線構成は、双方向通信が可能であり、ＥＣデバイス／ＩＧＵの電源供給と識別回路に格納された情報の中継との両方を可能とする。
【００２９】
好ましい実施形態では、コントローラ及び識別回路は双方向通信し、すなわち、コントローラは識別回路に情報を送信し、識別回路はコントローラに情報を送信する。
【００３０】
ＩＤがＥＣデバイスとワイヤを共有する幾つかの実施形態では、コントローラは、印加ＥＣ電圧を「オフ」及び「オン」にして信号を送信することにより、識別回路に情報を送信する。幾つかの実施形態では、これは、約１００ビット／秒から約１０００ビット／秒の速度で行われる。送信されるデータを複数の方法で表すことができる。例えば、ＥＣ電圧をオフにして０ビットを表し、ＥＣ電圧をオンにして１ビットを表すことにより、シリアルデジタル形式でデータを送信することができる。代替的に、固定周波数又は可変周波数で電圧をオン・オフすることによって、ただし結果としての波形を（ａ）振幅変調、（ｂ）周波数偏移変調若しくは（ｃ）位相偏移変調、又は当該技術分野において既知である他の任意の変調方法によって変調することによって、データを表すことができる。
【００３１】
幾つかの実施形態では、識別回路は、保存されたデータ及び測定された電圧を含む情報を、好ましくは約１００Ｈｚから約１０００Ｈｚの速度で電流負荷を変化させることにより、制御装置に送信する。この電流は、２値オン／オフ、振幅変調、周波数偏移変調又は位相偏移変調を含む、制御システムから識別回路に送信されるデータと全く同様の方法で、データを表すことができる。一般に、不要な電力を無駄にすることのないロバストな通信に対して、電流の変化は約１ｍＡから約１０ｍＡの範囲である。ＥＣガラス制御システムは、通常、電圧を印加し電流を測定する手段を備えているため、この通信方法には、ＩＤ回路自体とは別に制御ハードウェアに追加の回路部が不要であるという利点がある。
【００３２】
幾つかの実施形態では、ＩＤ回路は、通常は２００Ｈｚと１０００Ｈｚとの間の２つの周波数でＦＳＫ変調を使用して、デジタル値０及び１を表す。データは、スタートビット及びストップビットとともに８ビットパケットに符号化され、低速で、通常は５ビット／秒と５０ビット／秒との間で伝送される。この変調を、ソフトウェアにおいて、又はマイクロコントローラに含まれる変調器ハードウェアにおいて行うことができる。接続された制御回路は、ソフトウェアでは、例えば、２つの周波数を識別し、元の８ビットパケットを復元することができる０及び１のデジタルストリームを作成するように、ゲルツェル（Goertzel）アルゴリズムを実施する。
【００３３】
当該技術分野において既知である任意の既存のコントローラを、識別回路を備えるＥＣデバイス又はＩＧＵとともに使用することができる。幾つかの実施形態では、コントローラに含まれるソフトウェアを、識別回路に問合せを送りデータを受け取るように更新する必要がある場合がある。
【００３４】
図３は、ＥＣデバイスに含めることができる識別回路の一例を提供する。Ｕ１は、「プログラムヘッダ」が付されている５つの接続を介してプログラムすることができるＥＥＰＲＯＭ（電気的に消去可能なプログラマブルリードオンリメモリ）を備えたマイクロコントローラを指す。適切なマイクロコントローラの一例は、Microchip, Inc.製のＰＩＣ１２Ｆ１８２２である。当業者は、本発明に従って他の任意の低出力小型マイクロコントローラを使用することができることを理解するであろう。「ＥＣ−」及び「ＥＣ＋」が付されている接続は、それぞれ負のＥＣデバイスワイヤ及び正のＥＣデバイスワイヤに接続される。
【００３５】
Ｄ２は、コンデンサＣ２ａとともに作用して、マイクロプロセッサを静電放電又は誘導雷サージから保護する、任意選択的な過渡電圧保護ダイオードである。Ｃ１は、供給電圧がゼロまで降下する可能性があるデータ受取中、マイクロプロセッサに電源が供給され続けるように電荷を保持し、Ｄ１．２はＣ１がＥＣワイヤに放電しないようにする。
【００３６】
Ｄ３は、任意選択的に、マイクロプロセッサを損傷する過電圧に対する保護を提供する。
【００３７】
電流引込みを調節するために、マイクロプロセッサは、（「Ｒｘ」が付されている）ピン２を切り換えることができる。Ｒｘがハイであるとき、Ｄ１．１に電流は流れない。Ｒｘがロー（約０Ｖ）であるとき、約数ミリアンペアの電流がピンに流れ込み、制御回路に電流の検出可能な変化をもたらす。流れる電流の量は、Ｒ１及びＲ２によって決まる。示されている値（３９０オーム及び１００オーム）では、約３ＶがＥＣワイヤに印加されて約６ｍＡが流れる。ここに示すＩＤ回路は、印加電圧を正確に測定するという追加の利益を提供することができる。抵抗器網Ｒ３ａ／Ｒ３ｃ及びＲ３ｂ／Ｒ３ｄは、印加電圧の半分の冗長測定値を、マイクロプロセッサのＡＮ３及びＡＮ２が付されている入力ピンに供給し、それら入力ピンは、電圧レベルを測定することができる。Ｃ２ｂ及びＣ２ｃは、ローパスフィルタリングを提供し、より安定しかつ正確な測定をもたらす。
【００３８】
この回路の他の変形形態及び変更形態が当業者には明らかとなろう。例えば、入力ワイヤにフェライトビーズを付加して、放射性放出を制限し静電放電（ＥＳＤ）事象に対する保護に役立つことができる。または、ＥＳＤ事象からのエネルギーの大部分を吸収するＲ１の代りに、直列の複数のより小さい抵抗器（例えば４つの１００オーム抵抗器）を使用して、故障の危険を低減することができる。
【００３９】
抵抗器Ｒ１及びＲ３ａ〜Ｒ３ｄは、薄膜タイプであることが好ましい。このタイプの抵抗器は、故障する場合、抵抗が大きくなるか又は開回路となることによって故障する傾向がある。これは重要であり、それは、これらの構成部品のいずれかが故障して抵抗が低減するか短絡した場合、追加の電流引込みがエレクトロクロミックデバイス又はＩＧＵの信頼性の高い制御を危うくする可能性があるためである。この実施形態では、これらの抵抗器の故障により、回路が機能しなくなる可能性はあるが、ガラスを制御することができなくなる可能性はない。
【００４０】
コントローラに戻すように電圧測定値を伝送することができる。この情報を使用して、以下のように接続ワイヤの抵抗を計算及び／又は補償することができる。
ワイヤの抵抗＝［（印加電圧）−（ＩＧＵにおける電圧）］／（測定電流）
【００４１】
そして、このワイヤの抵抗は、幾つかの実施形態では、ＥＣ制御システムの不揮発性メモリに格納され、以下のように、制御システムにおいて測定された電圧及び電流とともにこのワイヤの抵抗を使用して、任意の時点でのＩＧＵにおける電圧を計算することができる。
ＩＧＵにおける電圧＝印加電圧−（測定電流）×（ワイヤの抵抗）
【００４２】
識別回路を、ＩＧＵワイヤに容易に接続することができる、ＥＣデバイス又は対応するＩＧＵの任意の部分に配置することができる。幾つかの実施形態では、識別回路は、図４に示すように電気コネクタに埋め込まれ、そこでは、接続は容易に利用可能であると考えられる。幾つかの実施形態では、電子回路はコネクタ内に成形され、湿気又は損傷から完全に保護されている。これらの実施形態では、埋め込まれた識別回路は、ワイヤ４００、識別回路ＰＣＩＢ４１０及び環境シール４２０を備えている。
【００４３】
他の実施形態では、識別回路は、ＩＧＵの外側シール領域に埋め込まれ、取り付けられるワイヤは、電気コネクタ又はケーブルが通常取り付けられるのと同じように及び／又は同じ場所においてエレクトロクロミックデバイスにはんだ付けされる。代替的に、識別回路を、追加のワイヤなしにエレクトロクロミックデバイスに直接接続するフレキシブル回路基板に構築することができる。
【００４４】
更に他の実施形態では、識別回路は、ＩＧＵの封止領域の内側に埋め込まれ、ワイヤを介してバスバーへ接続される。
【００４５】
更に他の実施形態では、識別回路は、バスバーに直接取り付けられる。この実施形態では、追加のバスバー材料を、既存のバスバーの近くに（ＩＧＵシール領域の内側又は外側のいずれかに）堆積させ、識別回路を、２つのバスバーに直接取り付けることができる。そして、通常のワイヤ接続が、図５に示すように一般的に行われるように行われる。この実施形態では、識別回路は、孔が露出した銅によって包囲された薄い回路ボード基板（ポリイミド又はポリエステル基板の上の銅導体から構成されたフレキシブル回路等）の上に構成される。バスバーの上に識別回路を置き、当該技術分野において既知であるはんだ付け方法を使用して識別回路をバスバーの上に（上方から）はんだ付けすることができると考えられる。代替的に、識別回路を、導電性接着剤を用いてバスバーに接着することができる。
【００４６】
実施例：単一の制御パネルと以下の表に記載する特性を有する２つのエレクトロクロミックＩＧＵとで構成される制御システムを考慮する。
【表１】
2014515837.tif 000003
【００４７】
ＥＣ制御システムに最初に電源が供給されると、ＩＧＵは、消色状態又は略消色状態になる。消色状態になると、各ＩＧＵに、識別回路をオンにするのに十分な電圧が印加される。識別回路の存在を判定する信号が伝送される。識別回路が見つからない場合、印加電圧は僅かに上昇し、別の信号が伝送される。このプロセスは、識別回路が見つかるか、又は最大電圧に達する（識別回路が存在しないことを示す）まで、繰り返される。場合によっては、ワイヤの抵抗によるライン損失に対応するためにより高い電圧が必要である。
【００４８】
次に、ワイヤの抵抗が求められる。ＥＣ制御システムは、ＩＧＵを事前に確定された電圧に設定し、そして、電圧データを要求する信号を送信する。そして、上述したようにワイヤの抵抗が計算される。
【００４９】
ワイヤの抵抗がわかると、より制御された電圧がＩＧＵに印加され、ＩＧＵ構成情報を要求する信号が送信される。この情報は、受信され確認されると、ＥＣ制御システムの不揮発性メモリに保存される。この時、システムは動作する用意が十分にできている。
【００５０】
エレクトロクロミックガラス制御システム又は他のタイプの制御システムに、他のデバイス（例えば、光学センサ、占有（occupancy）センサ又はセキュリティセンサ）が接続される場合、同じ識別回路概念を適用して、制御システムに取り付けられた物体を安価に識別することができる。これがセンサを用いて行われる場合、入ってくる電圧ではなくセンサ出力に、電圧測定回路を適用することができる。これが行われる場合、追加の信号ワイヤを必要とすることなく、センサを３ワイヤケーブルから２ワイヤケーブルまで低減して、電源ワイヤによって制御システムにセンサデータを戻すことができる。
【００５１】
特定の実施形態を参照しながら本明細書において本発明を説明してきたが、これらの実施形態は、本発明の原理及び応用形態を例示するにすぎないことは理解されたい。それゆえ、添付の特許請求の範囲によって規定されるような本発明の趣旨及び範囲から逸脱することなく、例示的な実施形態に数多くの変更を加えることができること、及び他の構成を考案することができることは理解されたい。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【国際調査報告】
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