(57)【要約】  本発明は、積層した太陽集光装置に、及びポリマー材料からのそれらの製造に関する。本発明の太陽集光装置は、光起電力システムにおいて、又は太陽熱エネルギーシステムにおいて使用されうる。本発明の太陽集光装置は、フレネルレンズを含み、かつ目的物、例えば太陽電池又は吸収装置上に太陽放射の効率的な集中を可能にする。本発明は、例えば、集光型光電装置（ＣＰＶ）において使用されるような高性能太陽電池の範囲に、及び同様に、集光型太陽熱エネルギーシステム（ＣＳＰ）において使用される吸収体に関する。本発明は、特に、前記積層させた太陽集光装置のための、光学寿命及び耐候性を改良するための、並びに剥離を防ぐための、ＵＶ安定剤及び耐候安定剤パッケージの使用に関する。本発明は、さらに、太陽集光装置の耐引掻性、防汚性、反射防止性及び耐薬品性に関連する表面仕上げに関する。
2014506667.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＵＶ保護した積層した太陽光集光装置であって、太陽光源から見て、該装置が、少なくとも次の層：
− ポリマーキャリヤー層（３）
− １個以上のフレネルレンズを形成する光学的構造物で型押しされた第一の表面を有し、かつ直接又は接着層（２）によってポリマー層（３）に結合された第二の表面を有するポリマーフィルム（１）
を含み、その際、
キャリヤー層（３）が、少なくとも１種のＵＶ吸収剤及び少なくとも１種のＵＶ安定剤を含み、
かつ／又は
少なくとも１種のＵＶ吸収剤及び少なくとも１種のＵＶ安定剤を含むＵＶ保護ポリマー層（５）が、直接又は接着層（４）によってキャリヤー層（３）の光源側の表面に結合される
ことを特徴とする、前記ＵＶ保護した積層した太陽光集光装置。
【請求項２】
前記装置が、直接もしくは接着層（６）によってＵＶ保護層（５）の光源側の表面に、又は直接もしくは接着剤によってキャリヤー層（３）の光源側の表面に結合し、かつ防汚性及び／又は耐引掻性及び／又は耐摩擦性の向上、並びに／又は反射防止特性を有する追加のポリマー表面保護層（７）を含むことを特徴とする、請求項１に記載のＵＶ保護した積層した太陽光集光装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のＵＶ保護した積層した太陽光集光装置を製造するための方法であって、次の工程、
キャリヤー層（３）とＵＶ保護層（５）とを同時押出し、続いて、接着層（２）を形成して又は形成せずに、ポリマーフィルム（１）をキャリヤー層（３）の裏面に積層する工程、
又は
接着層（４）を形成して又は形成せずに、キャリヤー層（３）とＵＶ保護層（５）とを押出積層によって積層し、続いて、接着層（２）を形成して又は形成せずに、ポリマーフィルム（１）をキャリヤー層（３）の裏面に積層する工程、
又は
接着層（２）を形成して又は形成せずに、キャリヤー層（３）とポリマーフィルム（１）とを積層し、続いて、接着層（４）を形成して又は形成せずに、ＵＶ保護層（５）をキャリヤー層（３）の光源側の表面に積層する工程、
又は
接着層（２）を形成して又は形成せずに、少なくとも１種のＵＶ吸収剤及び少なくとも１種のＵＶ安定剤を含むキャリヤー層（３）とポリマーフィルム（１）とを積層する工程
を含むことを特徴とする、前記方法。
【請求項４】
前記キャリヤー層（３）とポリマーフィルム（１）との積層物を接着層を有さずに形成し、かつ前記方法が、次の工程
− 光学的構造物で型押しされた第一の表面及び反対側の第二の表面を有するフィルム（１）を提供する工程、
− 前記フィルム（１）を１対の積層ロールのニップ点に誘導する工程、
− キャリヤー層（３）又はＵＶ保護したキャリヤー層（３）又はキャリヤー層（３）とＵＶ保護層（５）との積層物又はキャリヤー層（３）とＵＶ保護層（５）との同時押出物を前記ニップ点に供給する工程、ここで前記キャリヤー層（３）は、前記キャリヤー層（３）と前記ポリマー層（１）との熱結合を可能にするために有効な、フィルム（１）に結合される表面の表面温度を有する、並びに
− 前記キャリヤー層（３）を、前記ポリマーフィルム（１）の第二の表面へと積層する工程
を含むことを特徴とする、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
以下、
ポリマーフィルム（１）が、付与された正方形又は長方形のフレネルレンズパターンを含み、
又は
ポリマーフィルム（１）が、格子図形で配置された正方形の個々のフレネルレンズのマトリックスを含み、
又は
該フィルム（１）が、線状のフレネルレンズとして形成され、レンズのパターンが該フィルムの長さにわたって連続的である
ことを特徴とする、請求項１もしくは２に記載のＵＶ保護した積層した太陽光集光装置、又は請求項３もしくは４に記載の方法。
【請求項６】
前記接着層（２）が、溶剤セメント、有利には塩素化溶剤を多く含む調製物であることを特徴とする、請求項１から５までのいずれか１項に記載のＵＶ保護した積層した太陽光集光装置又は方法。
【請求項７】
以下、
ポリマーフィルム（１）が、ポリ（メタ）アクリレート、ポリカーボネート、環状オレフィンポリマー、ポリスチレン、ポリ二フッ化ビニリデン、ポリウレタン又はそれらの混合物もしくはコポリマーからなる群から選択されるポリマーから構成され、
及び／又は
キャリヤー層（３）が、ポリカーボネート、ポリスチレン、スチレンコポリマー、ポリエステル、有利にはポリエチレンテレフタレート又はＰＥＴＧ、フルオロポリマー及び／又はＰＭＭＡを基礎としたフィルムもしくはシート及び／又は２層のＰＭＭＡ／ＰＶＤＦフィルムもしくはシート及び／又はＰＭＭＡ／ＰＶＤＦブレンドから製造されるフィルムもしくはシートであり、
及び／又は
ＵＶ保護層（５）が、それぞれの場合に少なくとも１層の下層においてポリメチル（メタ）アクリレート又はポリメチル（メタ）アクリレート及びポリフッ化ビニリデンを含み、又は少なくとも１層の下層において混合物でポリメチル（メタ）アクリレート及びポリフッ化ビニリデンを含む、透明な単層又は多層（多層の下層）プラスチックホイルからなる
ことを特徴とする、請求項１から６までのいずれか１項に記載のＵＶ保護した積層した太陽光集光装置又は方法。
【請求項８】
前記キャリヤー層（３）及び／又はＵＶ保護層（５）が、少なくとも１種のトリアジン及び少なくとも１種のベンゾトリアゾールから構成されるＵＶ吸収剤の混合物を含み、かつＨＡＬＳ化合物又は種々のＨＡＬＳ化合物の混合物である少なくとも１種のＵＶ安定剤を含むことを特徴とする、請求項１から７までのいずれか１項に記載のＵＶ保護した積層した太陽光集光装置又は方法。
【請求項９】
前記ＵＶ安定剤とＵＶ吸収剤との混合物が、それぞれの層を製造するために使用されるモノマーの質量に対して、それぞれ
０．１質量％〜１０質量％、有利には０．５質量％〜４質量％のベンゾトリアゾールタイプのＵＶ吸収剤、
０．１質量％〜５質量％、有利には０．５質量％〜３質量％のトリアジンタイプのＵＶ吸収剤、及び
０．１質量％〜５質量％、有利には０．２質量％〜２質量％のＨＡＬＳタイプのＵＶ安定剤
の量から構成されることを特徴とする、請求項８に記載のＵＶ保護した積層した太陽光集光装置又は方法。
【請求項１０】
以下、
前記ＵＶ保護層（５）が、１：０．０１〜０．３：１、有利には１：０．１〜０．４：１の質量比でポリ（メタ）アクリレートとポリフッ化ビニリデンとから構成され、かつＵＶ安定剤及びＵＶ吸収剤を含む
又は
前記ＵＶ保護層（５）が、一方がポリ（メタ）アクリレートから構成される下層であり、他方がポリフッ化ビニリデンから構成される下層である、２層の下層を含む
ことを特徴とする、請求項１から９までのいずれか１項に記載のＵＶ保護した積層した太陽光集光装置又は方法。
【請求項１１】
以下、
前記ポリマーフィルム（１）が、０．０１〜１０ｍｍ、有利には０．０２５〜２ｍｍ、より有利には０．０２５〜１ｍｍ、特に好ましくは０．０５〜０．７５ｍｍ、より特に好ましくは０．１〜０．５ｍｍ、又は５〜０．９ｍｍの範囲の厚さを有し、
及び／又は
前記キャリヤーシート（３）が、０．１〜５０ｍｍ、有利には０．５〜２５ｍｍ、より有利には１〜２０ｍｍ、特に好ましくは２〜２０ｍｍ、及びより特に好ましくは２〜１０ｍｍ、及び２〜７ｍｍの範囲の厚さを有し、
及び／又は
前記ポリマーＵＶ保護層（５）フィルムが、１０〜２５０μｍ、より有利には４０〜１２０μｍ、及び特に好ましくは５０〜９０μｍの範囲の厚さを有する
ことを特徴とする、請求項１から１０までのいずれか１項に記載のＵＶ保護した積層した太陽光集光装置又は方法。
【請求項１２】
前記キャリヤー層（３）が、少なくとも１種の熱安定剤を含むことを特徴とする、請求項１から１１までのいずれか１項に記載のＵＶ保護した積層した太陽光集光装置又は方法。
【請求項１３】
太陽光装置であって、
該太陽光装置が、請求項１、２、又は５から１２のいずれか１項に記載の少なくとも１個の太陽光集光装置、及び少なくとも１つの太陽電池を含むＣＰＶエレメントであり、
又は、
該太陽光装置が、請求項１、２、又は５から１２のいずれか１項に記載の少なくとも１個の太陽光集光装置、及び少なくとも１つの吸熱エレメントを含むＣＳＰエレメントである
ことを特徴とする、前記太陽光装置。
【請求項１４】
太陽熱装置、特にＣＳＰ装置を製造するための、又は光電装置、特にＣＰＶ装置を製造するための、請求項１から１３までのいずれか１項に記載のＵＶ保護された積層された太陽光集光装置の使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、積層した太陽光集光装置に、及びポリマー材料からのそれらの製造に関する。本発明の太陽光集光装置は、光起電力システムにおいて、又は太陽熱エネルギーシステムにおいて使用されうる。
【０００２】
本発明の太陽光集光装置は、フレネルレンズを含み、かつ目的物、例えば太陽電池又は吸収装置上に太陽放射の効率的な集中を、それらの幾何学的配置に関係なく可能にする。本発明は、例えば、集光型光電装置（ＣＰＶ）において使用されるような高性能太陽電池の範囲に、及び同様に、集光型太陽熱エネルギーシステム（ＣＳＰ）において使用される吸収体に関する。
【０００３】
本発明は、特に、前記積層させた太陽光集光装置のための、光学寿命及び耐候性を改良するための、並びに剥離を防ぐための、ＵＶ安定剤及び耐候安定剤パッケージの使用に関する。本発明は、さらに、太陽光集光装置の耐引掻性、防汚性、反射防止特性及び耐薬品性に関連する表面仕上げに関する。
【０００４】
先行技術
フレネルレンズは、１８００年代から存在しており、投写型ＴＶ、頭上投影機、自動車用前照灯、灯台等に使用されてきた。近年、フレネルレンズは、エネルギーを電気に変換する光起電太陽光レシーバ上に太陽エネルギーを集めるために使用されている。
【０００５】
光学的エレメントで型押しされたフィルムの性質、例えば剛性、耐候性及び耐摩擦性を改善するために、型押しされたフィルムを支持フィルムに積層することが望まれている。通常、大部分の目的に対しては、薄手の支持フィルムで十分である。しかし、フレネルレンズが太陽光集光器に使用される場合には、フレネルレンズの剛性を増大させるためにフレネルフィルム（Fresnel film）を厚手のシート基材に積層することが望ましく、その結果、このフレネルフィルムは、太陽光集光器に簡単に取り付けることができる。
【０００６】
熱積層は、積層したフレネルレンズを製造するための好ましい方法として提案されている。オフラインの熱積層は、薄手のフィルムを用いて実施されることができるが、しかし、フレネルフィルムのような厚手のフィルムについては問題がある。これは、フレネルフィルムを厚手のシートに熱的に結合することが、大量の熱を要求し、かつこの熱が、通常、光学的構造を破壊するからである。
【０００７】
ＵＳ ５，９４５，０４２号及びＵＳ ６，３７５，７７６号に開示されたオンラインの積層方法は、薄手の型押しされたフィルム及び薄手のキャリヤーフィルムで十分に作業される。ＵＳ ５，９４５，０４２号は、特に、型押しされたフィルムが１０〜１００μｍの範囲内の厚さを有し、キャリヤーフィルムの厚さが一般に３５〜１５０μｍの範囲内にあることを開示している。
【０００８】
厚手の型押しされたシート、例えばアクリル基材を有するフレネルレンズのオンラインの製造は、Ｂｅｎｚの米国特許第５，６５６，２０９号に開示されている。Ｂｅｎｚの米国特許第５，６５６，２０９号は、高粘度の成形化合物及び低粘度の成形化合物の同時押出のために設計された３本のロールつや出しスタックを使用して線状フレネルレンズを製造するための方法が記載されている。この特許は、参照をもって本明細書中に組み込まれたものとする。Ｂｅｎｚの米国特許第５，６５６，２０９号は、フレネルレンズを製造するためのオンラインプロセスを提供する一方で、このプロセスによって製造されたレンズは、端部が殆んど鋭利でないことが見出されている。
【０００９】
他方で、ＷＯ ２００９／１２１７０８号は、型押しされた構造の結着性を破壊することなく、型押しされた光学的構造を有するフィルムをポリマーシートに熱積層するためのプロセスを記載している。
【００１０】
先行技術のほとんどのプロセスが、積層プロセス及びフレネルレンズ構造の品質に焦点を当てている一方で、光学寿命及び耐候性を改良するための、及び剥離を防ぐための十分な解決策は、未だ見出されていない。
【００１１】
課題
本発明の目的は、光起電力使用（ＣＰＶ）での、又は太陽熱エネルギー使用（ＣＳＰ）でのシステムにおける使用のための新規の太陽光集光装置を提供することであった。前記のような公知の太陽光集光装置の欠点を防ぐか、又は少なくとも最小限にする必要がある。
【００１２】
新規の集光器は、有利には、少なくとも１０年の寿命、及び先行技術と比較して環境影響に対して改良された安定性を有するべきである。特定の問題において、使用とは、砂漠条件下で少なくとも２０年での使用である必要がある。
【００１３】
本発明の他の目的は、先行技術と比較して、安く、よりエネルギー効率がよく、単純で、かつ速く実施でき、かつより複雑ではない理論計算を要求する、非常に単純な製造プロセスを提供することであった。
【００１４】
明確に挙げられていない他の目的は、以下の明細書、特許請求の範囲及び実施例の全体の記載内容から明らかである。
【００１５】
解決策
驚くべきことに、積層したフレネルレンズのキャリヤー層における、及び／又は積層されたフレネルレンズに適用されるＵＶ保護層における特定のＵＶ保護パッケージの使用が、存在する集光器設計の記載された欠点を妨げることに役立つことが見出されている。
【００１６】
本発明の特許請求の範囲、明細書及び実施例においてさらに定義された本発明の積層された太陽光集光装置及び本発明の太陽光装置は、改良された耐候性を示す。
【００１７】
本発明の太陽光集光装置の機械的特性は、全期間の使用にわたって非常に良好であり、すなわち、使用中の分子量の低減が最少であり、かつポリマー層からの耐衝撃性改良剤の分解又は損失が最小限であるか又は妨げられる。
【００１８】
本発明の積層した太陽光集光装置は、非常に良好な耐熱性を呈し、本発明の太陽光装置の効率の改良に役立つ。
【００１９】
米国特許第５，６５６，２０９号において開示されている同時押出したフレネルレンズと比較して、フレネル構造の表面品質は非常に良好であり、本発明による装置の効率をさらに改良する。
【００２０】
さらに、新規の本発明の集光器は、次の特性、先行技術に対する利点と組み合わせて、特に光学特性に関する特性を有し、本発明の集光器の構成は、特に色が淡く、かつ湿度の影響下で曇らない。前記集光器は、さらに、顕著な耐候性、及び光学仕上げの場合に、例えば全ての市販の洗浄組成物に対して非常に良好な耐薬品性を呈する。これらの面は、長期間にわたって太陽光集光を維持することにも寄与する。洗浄を容易にするために、表面は、防汚性を有してよい。さらに、その表面は、場合により、耐摩擦性及び／又は耐引掻性がある。
【００２１】
本発明のプロセスは、本発明のフレネルレンズの連続製造を可能にし、かつ本発明の積層品の層構造及び層の厚さの点で非常に可撓性がある。結果として、著しい経済的な利点が得られる。
【００２２】
本発明の目的は、従って、ＵＶ保護した積層した太陽光集光装置であって、光源の方向から見て、該装置が、少なくとも次の層：
− ポリマーキャリヤー層（３）
− １個以上のフレネルレンズを形成する光学的構造物で型押しされた第一の表面を有し、かつ直接又は接着層（２）によってキャリヤー層（３）に結合された第二の表面を有するポリマーフィルム（１）
からなり、その際、
キャリヤー層（３）は、少なくとも１種のＵＶ吸収剤及び少なくとも１種のＵＶ安定剤を含み、
かつ／又は
少なくとも１種のＵＶ吸収剤及び少なくとも１種のＵＶ安定剤を含むＵＶ保護ポリマー層（５）が、直接又は接着層（４）によってキャリヤー層（３）の光源側の表面に結合される
ことを特徴とする、前記太陽光集光装置である。
【００２３】
本発明の他の実施態様は、太陽光装置であって、
該太陽光装置が、本発明による少なくとも１個の太陽光集光装置、及び少なくとも１個の太陽電池を含むＣＰＶエレメントであり、
又は、
該太陽光装置が、本発明による少なくとも１個の太陽光集光装置、及び少なくとも１個の吸熱装置を含むＣＳＰエレメントである
ことを特徴とする、太陽光装置である。
【００２４】
最終的に、本発明は、太陽光装置、特にＣＳＰ又はＣＰＶ装置を製造するためのＵＶ保護した積層した太陽光集光装置の使用に関する。
【００２５】
より詳細に本発明を記載する前に、重要な用語を定義する。
【００２６】
"ポリマー層"及び"層"の用語は、以下で、プレート、シート、フィルム、コーティングシステム、又はポリマーを基礎とするコーティングを含む。かかる層は、原則として、１μｍ〜２ｃｍの厚さを有する。
【００２７】
（メタ）アクリレートの用語は、アクリレート、及びメタクリレート、及び双方の組合せを含む。
【００２８】
発明の詳細な説明
本発明の集光器は、０．５ｍｍ〜５０ｍｍ、有利には１ｍｍ〜２５ｍｍ、より有利には２〜２０ｍｍ及び特に好ましくは３ｍｍ〜１０ｍｍの合計の厚さを有してよい。
【００２９】
本発明による好ましい太陽光集光装置は、以下に詳細に記載されており、図１を参照できる。
【００３０】
ポリマーフィルム（１）
型押ししたフレネルレンズ構造物を有するポリマーフィルムの製造は、当業者によく知られており、例えばＵＳ ５，６５６，２０９号、ＷＯ ０１／１９６０００号及びＷＯ ２０１０／０９７２６３号において記載されている（参照をもってその全体を本明細書に組み込まれたものとする）。適したフィルムは、例えば３Ｍ Ｃｏｒｐ．から市販されてもいる。
【００３１】
フレネルレンズの型押しした構造及び十分な透明性を有する必要がある事実にもかかわらず、ポリマーフィルム（１）の材料又は製造プロセスに特に制限がない。従って、ポリ（メタ）アクリレート、ポリカーボネート、環状オレフィンポリマー、ポリスチレン、ポリ二フッ化ビニリデン、ポリウレタン又はそれらの混合物もしくはコポリマーを含むポリマーフィルム（１）が好ましい。ＷＯ ２０１０／０９７２６３号において記載されたポリマーから製造されたポリマーフィルム（１）が特に好ましい。
【００３２】
フィルム（１）のフレネルレンズ構造物は、有利には、正方形又は長方形であるが、任意の他の所望された形状を有してもよい。他の好ましい変法において、フィルム（１）を線状フレネルレンズとして形成し、このパターンは、フィルムの長さに対して連続的である。特定のフィルムの厚さに限定されることなく、フィルムは、０．０１〜１０ｍｍ、有利には０．０２５〜２ｍｍ、より有利には０．０２５〜１ｍｍ、特に好ましくは０．０５〜０．７５ｍｍ、より特に好ましくは０．１〜０．５ｍｍ、又は５〜０．９ｍｍの範囲であってよい。ポリマーフィルム（１）は、格子図形で配置されたおよそ４''〜３６''×４''〜３６''平方の個々のレンズからなってもよい（図２を参照）。
【００３３】
ポリマーフィルム（１）は、添加剤、有利には熱安定剤、耐衝撃性改良剤、ＵＶ吸収剤、ＵＶ安定剤、離型剤、潤滑剤、又は溶融物流もしくは耐薬品性及びひび割れ抵抗を改良するための添加剤を含んでよい。かかる添加剤は当業者に公知である。
【００３４】
ポリマーキャリヤー層（３）
キャリヤー層（３）を、透明性の高い（コ）ポリマーから、又は種々のポリマーのブレンドから製造する。有利にはシートの形で適用する。好ましいポリマーは、ポリエステル、有利にはポリエチレンテレフタレート又はＰＥＴＧ、ポリカーボネート、ポリスチレン、スチレンコポリマー、フルオロポリマー及びポリ（メタ）アクリレートを含む。ＰＭＭＡ又はフルオロポリマーが特に好ましく、その際フルオロポリマーは、例えばポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＥ）である。特に、ＵＶ保護層（５）について以下に記載されたＰＭＭＡ又はＰＶＤＦ−ポリマーを使用することができる。
【００３５】
キャリヤー層（３）は、種々のポリマーの単層又は多層システムであってよい。多層システムの一例は、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）層とポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）層とから構成されるシステムである。多層システムにおいて、個々の添加剤は、１個以上のこれらの層の間で互いに均一に及び／又は別々に分布される。
【００３６】
キャリヤー層（３）は、有利には以下に記載されている耐候安定性を改良するための添加剤、及び／又は熱安定剤を含んでよい。特定の理論に縛られることなく、発明者は、ＵＶ線が、アクリル鎖の開口を開始すると考える。しかしながら、鎖がＵＶ保護されたキャリヤー（３）中で開く場合に、熱安定剤は、鎖の"アンジップ（ｕｎｚｉｐｐｉｎｇ）"を止める／最小化する。従って、特に有利には、ＵＶ保護層（５）が使用され、かつ／又は熱安定剤のみ及び／又はＵＶ安定剤なしが、キャリヤー層（３）において存在する。これは、より経済的で効率的なシステムを提供する。適した熱安定剤は当業者に公知である。
【００３７】
キャリヤー層（３）は、耐衝撃性改良剤、特にブチルアクリレートを基礎とした耐衝撃性改良剤を含むことが好ましい。さらに、ＵＶ保護層（５）について以下に記載された耐衝撃性改良剤を使用することができる。かかる改良剤は、キャリヤー層（３）に添加される場合に、生じるフィルム（１）及び層（３）の熱積層の反りを著しく減少しうることが見出されている。特定の理論によって縛られることなく、フィルム（１）のベースポリマー樹脂は、耐衝撃性改良剤を有してよく、この耐衝撃性改良剤は、ロール上で脆性及び反りの助長を減少させる。キャリヤー層（３）のベースポリマーが耐衝撃性改良剤を有さない場合に、フィルムとは異なる熱膨張係数を有する。キャリヤー層（３）は、冷却されるにつれて、層（３）及びフィルム（１）は、異なる最終寸法に収縮し、反りを引き起こす。キャリヤー層（３）基材への耐衝撃性改良剤の導入は、フィルム（１）と層（３）との間の熱膨張係数の差を生じ、従って著しく反りを減少させる。
【００３８】
組成に関係なく、透明性の高いキャリヤー層（３）は、有利には、０．１ｍｍ〜５０ｍｍの範囲、有利には０．５〜２５ｍｍの範囲、より有利には１〜２０ｍｍの範囲、特に好ましくは２〜２０ｍｍの範囲、及びより特に好ましくは２〜１０ｍｍ、及び２〜７ｍｍの合計の厚さを有する。
【００３９】
透明性の高いポリマー層の厚さは、より厚い厚さを要求するより大きなレンズでの全体のレンズサイズに関連して、極めて重要である（追加の支持システムが提供されない限り）。これは、風荷重、雪荷重下で、又はポリマークリープによるそれ自体の重みで、レンズの屈折を防ぐ適切な剛性を確実にする。レンズの屈折は、レンズと太陽光レシーバとの間の距離で変化が生じる。これは、光の乏しい集束によってシステムの効率を消極的にする。さらに、レンズの厚さは、レンズが雹からの損傷に耐える十分な衝撃強さを有するために、十分である必要がある。
【００４０】
安定剤パッケージ（光安定剤）
本発明の積層した太陽光集光装置は、少なくとも１種のＵＶ吸収剤及び少なくとも１種のＵＶ安定剤を含む固有のＵＶ保護パッケージによってＵＶ保護される。該パッケージは、キャリヤー層（３）に付加されてよく、及び／又は該ＵＶ保護パッケージを含むＵＶ保護層（５）は、キャリヤー層（３）を覆うために使用されてよい。
【００４１】
本発明に従ったＵＶ保護した太陽光集光装置の特定の構成は、ＵＶ保護パッケージであり、集光器の長い寿命及び耐候安定性に寄与する。より特に、本発明に従って製造された積層された太陽光集光装置は、先行技術と比較して著しく改良されたＵＶ安定性、及び関連してより長い寿命が特徴的である。少なくとも１５年、有利にはさらに少なくとも２０年、より有利には少なくとも２５年の非常に長い期間にわたって、特に長時間のサン時及び特に強い太陽放射を有する場所で、例えば米国南西部又はサハラにおいて、本発明の材料を太陽光集光器において使用することができる。
【００４２】
光安定剤はよく知られており、かつ一例として、Hans Zweifel, Plastics Additives Handbook, Hanser Verlag, 5th Edition , 2001, p. 141 ffにおいて詳細に記載されている。光安定剤は、ＵＶ吸収剤、ＵＶ安定剤、及びラジカル捕捉剤を含むと解される。
【００４３】
ＵＶ吸収剤は、一例として、置換されたベンゾフェノン、サリチル酸エステル、ケイ皮酸エステル、オキサニリド、ベンゾキサジノン、ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール、トリアジン又はベンジリデンマロネートの群に由来してよい。
【００４４】
ＵＶ安定剤／ラジカル捕捉剤のよく知られている代表は、立体障害アミン（ヒンダードアミン光安定剤、ＨＡＬＳ）の群によって提供される。
【００４５】
ＵＶ保護パッケージの個々の添加剤は、本発明の太陽光集光装置の１以上の層の間で互いに均一に及び／又は別々に分布されてよい。
【００４６】
使用されうる典型的なＵＶ吸収剤は、２９０〜３７０ｎｍの範囲の波長で高い吸収を有する群を含む層内重合可能な（intrapolymerizable）ＵＶ吸収剤である。０．００２質量％の濃度でのクロロホルム中で溶液の厚さ５ｍｍの層の形（分光器的な品質）でのＵＶ吸収が少なくとも１０％であるモノマーが好ましい。適した化合物の例は、２−ヒドロキシベンゾフェノンの、ヒドロキシアセトフェノンの、シアノ−β，β−ビフェニルの、ヒドロキシ安息香酸エステルの、オキサニリドの、ｐ−アミノ安息香酸エステルの、又は６，８−ジアルキル−４−オキソ−５−クロマニル基の誘導体である。これらのモノマーに存在し、かつラジカル重合可能なエチレン性不飽和基は、有利には、アクリル基、メタクリル基、アリル基又はビニル基である。
【００４７】
適したモノマーの例は、２−（シアノ−β，β−ビフェニルアクリロイルオキシ）エチル−１メタクリレート、２−（２’−ヒドロキシ−３’−メタクリルアミドメチル−５’−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−メタクリロイルオキシ）プロポキシベンゾフェノン、２−（アルファ−シアノ−β，β−ビフェニルアクリロイルオキシ）エチル−２−メタクリルアミド、２−ヒドロキシ−４−メタクリロイルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−アクリロイルオキシエチルオキシベンゾフェノン、Ｎ−（４−メタクリロイルフェノール）−Ｎ’−（２−エチルフェニル）オキサミド、ビニル４−エチル−アルファ−シアノ−β−フェニルシンナメート、２−（２−ヒドロキシ−５−ビニルフェニル）−２−ベンゾトリアゾールである。
【００４８】
波長が２９０〜３７０ｎｍである入射ＵＶ線の少なくとも９８％をホイル層が吸収する本発明の太陽光集光装置の層におけるＵＶ吸収モノマーの選択された割合は、有利には十分に高くてよい。このために要求される濃度は、層の厚さ及びモノマーの有効性に依存する。該濃度は、一般に、層の製造のために使用されるモノマーの質量に対して、０．１質量％〜２質量％である。
【００４９】
共重合可能なＵＶ吸収剤は、移動しない欠点を有する。風化する過程で、ＵＶ光及び風化に曝された上層は、ＵＶ吸収剤においてますます劣化されるようになるが、ポリマーの構成として分子が固定化されているため、使用されていないＵＶ吸収剤は移動して置き換わることができず、かつ層は、ＵＶ線及び風化の攻撃から保護されない。
【００５０】
対照的に、共重合可能でないＵＶ吸収剤の使用は、結果として生じる表面へのＵＶ吸収剤の移動を可能にする。同時に、しかしながら、加工、例えば押出中にプラスチック成形体から移動性ＵＶ吸収剤のにじみを妨げることが所望される。従って、ここで不揮発性光安定剤の使用が好ましい。揮発性は、ＤＩＮ ＩＳＯ １１３５８のＴＧＡにおける質量損失によって測定されうる。ここで、この試験が空気中での加熱速度２０℃／分を有する純物質上で実施される場合に、２４０℃より高い、有利には２７０℃より高い、及び特に有利には３００℃より高い温度で２％の質量損失を呈する光安定剤が好ましい。
【００５１】
本発明の好ましい一実施態様において、ＵＶ保護パッケージは、少なくとも２種の次の成分：
Ａ）ベンゾトリアゾールタイプのＵＶ吸収剤
Ｂ）トリアジンタイプのＵＶ吸収剤
Ｃ）ＵＶ安定剤、有利にはＨＡＬＳ化合物
を含む。
【００５２】
成分Ａ）及びＢ）は、個々の物質として又は混合物で使用できる。少なくとも１種のＵＶ吸収剤成分は、本発明の積層物中に存在する必要がある。成分Ｃ）は、本発明の積層物において必ず存在する。
【００５３】
成分Ａ：ベンゾトリアゾールタイプのＵＶ吸収剤
使用されうるベンゾトリアゾールタイプのＵＶ吸収剤の例は、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ジ（アルファ，アルファ−ジメチルベンジル）フェニル］−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ブチル−５−メチルフェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−アミル−フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３−ｓｅｃ−ブチル−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール及び２−（２−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−オクチル−フェニル）ベンゾトリアゾール、フェノール、２，２’−メチレンビス［６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）］である。
【００５４】
ベンゾトリアゾールタイプのＵＶ吸収剤の使用される量は、それぞれの層を製造するために使用されるモノマーの質量に対して、０．１質量％〜１０質量％、有利には０．２質量％〜６質量％、及びより特に有利には０．５質量％〜４質量％である。種々のベンゾトリアゾールタイプのＵＶ吸収剤の混合物を使用することもできる。
【００５５】
成分Ｂ：トリアジンタイプのＵＶ吸収剤
トリアジン、例えば２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−ヘキシルオキシフェノールを、さらに、混合物中でＵＶ安定剤として使用することもできる。
【００５６】
トリアジンの使用される量は、それぞれの層を製造するために使用されるモノマーの質量に対して、０．０質量％〜５質量％、有利には０．１質量％〜５質量％、特に有利には０．２質量％〜３質量％、より特に有利には０．５質量％〜３質量％、及び特に有利には０．５質量％〜２質量％である。種々のトリアジンの混合物を使用することもできる。
【００５７】
成分Ｃ：ＵＶ安定剤
ここで挙げられてよいラジカル捕捉剤／ＵＶ安定剤についての例は、ＨＡＬＳ（ヒンダードアミン光安定剤）として公知の立体障害アミンである。これらは、塗料及びプラスチックにおいて、特にポリオレフィンプラスチックにおいてエージング現象を阻害するために使用されうる（Kunststoffe, 74 (1984) 10, pp. 620-623; Farbe + Lack, Volume 96, 9/1990, pp. 689-693）。ＨＡＬＳ化合物中に存在するテトラメチルピペリジン基は、安定効果の要因である。化合物のこの分類は、ピペリジン窒素上での置換又はピペリジン窒素上でのアルキル又はアシル基による置換を有さない。立体障害アミンは、ＵＶ領域で吸収しない。立体障害アミンは、形成された遊離基を捕捉するが、ＵＶ吸収剤はこれを行うことはできない。安定効果を有し及び混合物の形で使用されてもよいＨＡＬＳ化合物の例は、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバセート、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ（４，５）−デカン−２，５−ジオン、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）スクシネート、ポリ（Ｎ−β−ヒドロキシエチル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジンスクシネート）又はビス（Ｎ−メチル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバセートである。
【００５８】
ＨＡＬＳ化合物の使用される量は、それぞれの層を製造するために使用されるモノマーの質量に対して、０．０質量％〜５質量％、有利には０．１質量％〜５質量％、特に有利には０．１質量％〜３質量％、及びより特に有利には０．２質量％〜２質量％である。種々のＨＡＬＳ化合物の混合物を使用することもできる。
【００５９】
使用されうる他の共安定剤は、さらに、前記ＨＡＬＳ化合物、二亜硫酸塩、例えば二亜硫酸ナトリウム、及び立体障害フェノール、及び亜リン酸塩である。
【００６０】
"太陽光熱エネルギー使用"に関連する太陽放射の波長スペクトルは、３００ｎｍ〜２５００ｎｍの範囲である。しかしながら、４００ｎｍ未満、特に３７５ｎｍ未満の範囲は、集光器の寿命を延長するために除かれ、その結果３７５ｎｍ又は４００ｎｍ〜２５０００ｎｍの"有効波長範囲"が保たれる。本発明に従って使用されるＵＶ吸収剤及びＵＶ安定剤の混合物は、広い波長スペクトル（３００ｎｍ〜４００ｎｍ）にわたって安定した長命のＵＶ保護を呈する。
【００６１】
本発明の積層物は、ＵＶ保護層（５）の形でＵＶ保護パッケージを有することが特に好ましい。発明者は、この濃度が、本発明の太陽光集光装置の使用中に、ポリマー層の分子量の減少又はポリマー層から耐衝撃性改良剤の切り出しを妨げる又は最少化する点で、特に有利であることを見出している。
【００６２】
ＵＶ保護パッケージをキャリヤー層（３）に付加させる変法と比較して、この変法の他の利点は、層（５）が通常層（３）より薄いために、同様の効果を有するために要求されるＵＶ吸収剤及び安定剤の量が少ないことである。
【００６３】
ＵＶ保護層（５）として使用されてよいフィルムに適したＵＶ保護は、例えばＷＯ ２００７／０７３９５２号（Ｅｖｏｎｉｋ Ｒｏｅｈｍ）において、又はＤＥ １０ ２００７ ０２９ ２６３号Ａ１において、又はＷＯ ２００７／０７４１３８号において見出すことができ、又は以下でより詳細に記載されている。全ての前記文献は、参照をもって本明細書にその全体を組みこまれたものとする。
【００６４】
ＵＶ保護層（５）
好ましいＵＶ保護層（５）は、それぞれの場合において、少なくとも１つの下層において、ポリメチル（メタ）アクリレート（ＰＭＭＡ）、又はポリメチル（メタ）アクリレート（ＰＭＭＡ）及びポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＥ）を、又は少なくとも１つの下層において混合物でＰＭＭＡ及びＰＶＤＦを含む透明な単層又は多層（多層の下層）プラスチックホイルからなる。
【００６５】
ＵＶ保護層（５）は、有利には、１０〜２５０μｍの範囲、より有利には４０〜１２０μｍの範囲、及び特に好ましくは５０〜９０μｍの範囲の厚さを有する。
【００６６】
前記層（５）の特に好ましい構成は、ＵＶ保護パッケージに加えて、以下に記載したＰＭＭＡを基礎とするプラスチック及びＰＶＤＦポリマーである。
【００６７】
ポリメチルメタクリレートプラスチックは、一般に、メチルメタクリレートを含む混合物のラジカル重合によって得られる。これらの混合物は、一般に、モノマーの質量に対して、少なくとも４０質量％、有利には少なくとも６０質量％、及び特に有利には少なくとも８０質量％のメチルメタクリレートを含む。
【００６８】
ポリメチルメタクリレートの製造のためのこれらの混合物は、メチルメタクリレートで共重合可能な他の（メタ）アクリレートを含んでもよい。（メタ）アクリレートの表現は、メタクリレート及びアクリレート、並びに２つの混合物を含む。これらのモノマーはよく知られている。これらの中で、特に、飽和アルコールに由来する（メタ）アクリレート、例えばメチルアクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート及び２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート；並びに不飽和アルコールに由来する（メタ）アクリレート、例えばオレイル（メタ）アクリレート、２−プロピニル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、ビニル（メタ）アクリレート；並びにアリール（メタ）アクリレート、例えばベンジル（メタ）アクリレート又はフェニル（メタ）アクリレート（それぞれの場合にアリール基は非置換であってよく、又は４個までの置換基を有してよい）；シクロアルキル（メタ）アクリレート、例えば３−ビニルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレート；ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、例えば３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３，４−ジヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート；グリコールジ（メタ）アクリレート、例えば１，４−ブタンジオール（メタ）アクリレート、エーテルアルコールの（メタ）アクリレート、例えばテトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ビニルオキシエトキシエチル（メタ）アクリレート；（メタ）アクリル酸のアミド及びニトリル、例えばＮ−（３−ジメチルアミノプロピル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（ジエチルホスホノ）（メタ）アクリルアミド、１−メタクリロイルアミド−２−メチル−２−プロパノール；硫黄含有メタクリレート、例えばエチルスルフィニルエチル（メタ）アクリレート、４−チオシアネートブチル（メタ）アクリレート、エチルスルホニルエチル（メタ）アクリレート、チオシアネートメチル（メタ）アクリレート、メチルスルフィニルメチル（メタ）アクリレート、ビス（（メタ）アクリロイルオキシエチル）スルフィド；多官能性（メタ）アクリレート、例えばトリメチロイルプロパントリ（メタ）アクリレートである。
【００６９】
重合反応は、一般に、公知のラジカル開始剤によって開始される。好ましい開始剤の中で、特に当業者に公知のアゾ開始剤、例えばＡＩＢＮ及び１，１−アゾビスシクロヘキサンカルボニトリル、並びにペルオキシ化合物、例えばメチルエチルケトンペルオキシド、アセチルアセトンペルオキシドペルオキシド、ジラウリルペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチル２−エチルペルヘキサノエート、ケトンペルオキシド、メチルイソブチルケトンペルオキシド、シクロヘキサノンペルオキシド、ジベンゾイルペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシベンゾエート、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシイソプロピルカーボネート、２，５−ビス（２−エチルヘキサノイルペルオキシ）−２，５−ジメチルヘキサン、ｔｅｒｔ−ブチル２−エチルペルオキシヘキサノエート、ｔｅｒｔ−ブチル３，５，５−トリメチルペルオキシヘキサノエート、ジクミルペルオキシド、１，１−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）シクロヘキサン、１，１−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、クミルヒドロペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシル）ペルオキシジカーボネート、前記化合物の２種以上と互いとの混合物、並びに前記化合物と、同様に遊離基を形成できる挙げられていない化合物との混合物である。
【００７０】
重合されるべき組成物は、前記（メタ）アクリレートだけでなく、メチルメタクリレートと、及び前記（メタ）アクリレートと共重合可能な他の不飽和モノマーも含んでよい。これらの中で、特に、１−アルケン、例えば１−ヘキセン、１−ヘプテン；分枝鎖状アルケン、例えばビニルシクロヘキサン、３，３−ジメチル−１−プロペン、３−メチル−１−ジイソブチレン、４−メチル−１−ペンテン；アクリロニトリル；ビニルエステル、例えば酢酸ビニル；スチレン、側鎖にアルキル基を有する置換されたスチレン、例えばα−メチルスチレン及びα−エチルスチレン、環上にアルキル基を有する置換されたスチレン、例えばビニルトルエン及びｐ−メチルスチレン、ハロゲン化スチレン、例えばモノクロロスチレン、ジクロロスチレン、トリブロモスチレン及びテトラブロモスチレン；複素環式ビニル化合物、例えば２−ビニルピリジン、３−ビニルピリジン、２−メチル−５−ビニルピリジン、３−エチル−４−ビニルピリジン、２，３−ジメチル−５−ビニルピリジン、ビニルピリミジン、ビニルピペリジン、９−ビニルカルバゾール、３−ビニルカルバゾール、４−ビニルカルバゾール、１−ビニルイミダゾール、２−メチル−１−ビニルイミダゾール、Ｎ−ビニルピロリドン、２−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルピロリジン、３−ビニルピロリジン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、Ｎ−ビニルブチロラクタム、ビニルオキソラン、ビニルフラン、ビニルチオフェン、ビニルチオラン、ビニルチアゾール及び水素化ビニルチアゾール、ビニルオキサゾール及び水素化ビニルオキサゾール；ビニルエーテル、例えばイソプレニルエーテル；マレイン酸誘導体、例えばマレイン酸無水物、メチルマレイン酸無水物、マレイミド、メチルマレイミド；並びにジエン、例えばジビニルベンゼンである。
【００７１】
これらのコモノマーの一般に使用される量は、モノマーの質量に対して、０質量％〜６０質量％、有利には０質量％〜４０質量％、及び特に有利には０質量％〜２０質量％であり、かつ該化合物は、個々に又は混合物の形で使用されうる。
【００７２】
さらに、重合可能な構成成分として
ａ． ＞５０質量％〜９９．９質量％のメチルメタクリレート
ｂ． ０．１質量％〜＜５０質量％のＣ１〜Ｃ４アルコールに由来するエステル基を有するアクリレート
ｃ． ０質量％〜１０質量％のモノマーａ．及びｂ．と共重合可能なモノマー
を有する組成物の重合によって得られるポリ（メタ）アクリレートを使用するホイルが好ましい。
【００７３】
さらに、重合可能な構成成分として
ａ． ７８質量％〜９２質量％のメチルメタクリレート
ｂ． ８質量％〜１２質量％のＣ１〜Ｃ４アルコールに由来するエステル基を有するアクリレート
ｃ． ０質量％〜１０質量％のモノマーａ．及びｂ．と共重合可能なモノマー
を有する組成物の重合によって得られるポリ（メタ）アクリレートを使用するホイルが好ましい。
【００７４】
驚くべきことに、８〜１２質量％の範囲でのコアクリレートの割合の使用が、有利にはその量のｎ−ブチルアクリレートを使用して、従来公知である範囲を超えて著しくホイルの固有の安定性を増加することが見出されている。これは、従って、容易に予見できない。選択されたコアクリレートの割合が増加すると、ホイルの安定性も増加する。さらに、限界値を超える増加は不利であり、それというのもコアクリレートの追加の割合が、亀裂の抑制のあらゆる重要な追加についてもたらさないからである。
【００７５】
ポリマーの鎖長は、分子量調整剤の存在でモノマー混合物の重合によって調整することができ、特定の例は、この目的のために公知のメルカプタン、例えばｎ−ブチルメルカプタン、ｎ−ドデシルメルカプタン、２−メルカプトエタノール又は２−エチルヘキシルチオグリコレート、又はペンタエリトリトールテトラチオグリコレートであり、分子量調整剤の一般に使用される量は、モノマー混合物に対して、０．０５〜５質量％であり、０．１〜２質量％の量が好ましく、及び特にモノマー混合物に対して０．２〜１質量％の量が好ましい（一例としてH. Rauch-Puntigam, Th. Voelker, "Acryl- und Methacrylverbindungen" ["Acrylic and Methacrylic Compounds"], Springer, Heidelberg, 1967; Houben-Weyl, Methoden der organischen Chemie, [Methods of Organic Chemistry], Vol. XIV/1, page 66, Georg Thieme, Heidelberg, 1961、又はKirk-Othmer, Encyclopedia of Chemical Technology, Vol. 1, pages 296 et seq., J. Wiley, New York, 1978を参照）。
【００７６】
ポリ（メタ）アクリレートは、有利には、耐衝撃性改良剤を使用することによって耐衝撃性が付与される。
【００７７】
好ましい一変法において、耐衝撃性改良剤の量は、ホイル（５）におけるポリ（メタ）アクリレート及び耐衝撃性改良剤の全体に対して、１質量％〜５０質量％である。
【００７８】
他の好ましい変法において、ホイル（５）における耐衝撃性を改良したポリ（メタ）アクリレートプラスチックは、２０質量％〜８０質量％、有利には３０質量％〜７０質量％のポリ（メタ）アクリレートマトリックス、及び８０質量％〜２０質量％、有利には７０質量％〜３０質量％のエラストマープラスチックから構成され、その平均粒子直径は、１０〜１５０ｎｍである（一例として超遠心法を使用して測定）。
【００７９】
ポリ（メタ）アクリレート及び耐衝撃性改良剤は、有利には、コア−シェルポリマーに由来し、その際シェルは、続くホイル（５）においてポリマーから構成されるマトリックスを形成する。
【００８０】
ポリ（メタ）アクリレートマトリックス中に分散されたエラストマー粒子は、有利には、軟質のエラストマー相を使用する及びそれらに結合された硬質相を使用するコアを有する。
【００８１】
耐衝撃改良したポリ（メタ）アクリレートプラスチック（ｉｍＰＭＭＡ）は、少なくとも８０質量％のメチルメタクリレート単位及び適宜、０質量％〜２０質量％のメチルメタクリレートと共重合可能なモノマー単位から重合された一部のマトリックスポリマー、並びに架橋したポリ（メタ）アクリレートを基礎とし、マトリックス中に分散された一部の耐衝撃性改良剤から構成される。
【００８２】
マトリックスポリマーは、特に、８０質量％〜１００質量％、有利には９０質量％〜９９．５質量％のラジカル重合可能なメチルメタクリレート単位、及び適宜、０質量％〜２０質量％、有利には０．５質量％〜１２質量％のラジカル重合可能な他のコモノマー、例えばＣ1〜Ｃ4−アルキル（メタ）アクリレート、特にメチルアクリレート、エチルアクリレート又はブチルアクリレートから構成される。マトリックスポリマーの分子量が増加すると、ＵＶ保護ホイルの耐候性は向上される。
【００８３】
本発明の特定の一実施態様において、ホイルは、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって測定された、質量平均モル質量Ｍw≧８００００ｇ／ｍｏｌのポリ（メタ）アクリレートによって特徴付けられる。ポリ（メタ）アクリレートの質量平均モル質量Ｍwは、より有利には≧１２００００ｇ／ｍｏｌであり、同様にゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって測定される。本発明の目的のために、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって測定されたポリ（メタ）アクリレートの質量平均モル質量Ｍwが、≧１４００００ｇ／ｍｏｌである場合に、さらにより高い耐候性のホイルを得ることができる。マトリックスの平均（質量平均）モル質量Ｍwは、一般に８００００ｇ／ｍｏｌ〜２０００００ｇ／ｍｏｌの範囲である（Ｍwは、マトリックスＰＭＭＡに対する全てのＭw測定に関して、校正標準としてポリメチルメタクリレートに関連してゲル浸透クロマトグラフィーによって測定される）。しかしながら、特に良好な耐候性は、マトリックスポリマーが、８００００ｇ／ｍｏｌ〜１８００００ｇ／ｍｏｌの範囲、有利には１０８０００ｇ／ｍｏｌ〜１８００００ｇ／ｍｏｌの範囲、より有利には１２２０００ｇ／ｍｏｌ〜１８００００ｇ／ｍｏｌの範囲（それぞれＰＭＭＡ校正標準に対してＧＰＣによって測定される）の平均モル質量Ｍw（質量平均）を有するホイルから得られる。ＧＰＣ法に加えて、モル質量Ｍwの他の測定の例は、光散乱法である（例えば、H. F. Mark et al. , Encyclopedia of Polymer Science and Engineering, 2nd Edition, Vol. 10, pages 1 et seq., J. Wiley, 1989を参照）。
【００８４】
適宜、０〜１２質量％のブチルアクリレートを有する、８５質量％〜９９．５質量％のメチルメタクリレート、及び０．５質量％〜１５質量％のメチルアクリレートから構成されるコポリマーが好ましく、その際その量は、重合可能な構成成分の１００質量％に対する。特に有利なコポリマーは、適宜、０質量％〜１０質量％のブチルアクリレートを有する、９０質量％〜９９．５質量％のメチルメタクリレート、及び０．５質量％〜１０質量％のメチルアクリレートの共重合によって得られるコポリマーであり、その際その量は、重合可能な構成成分の１００質量％に対する。適宜、０質量％〜７質量％のブチルアクリレートを有する、９２．５質量％〜９７．５質量％のメチルメタクリレート、及び２．５質量％〜７．５質量％のメチルアクリレートから得られるコポリマーがさらに好ましく、その際その量は、重合可能な構成成分の１００質量％に対する。ビカー軟化点ＶＳＰ（ＳＩＯ ３０６−Ｂ５０）は、少なくとも９０℃、有利には９５℃〜１１２℃の範囲であってよい。
【００８５】
耐衝撃性改良剤及びマトリックスポリマーを、溶融物中で押出機中で混合して、耐衝撃性を改良したポリメタクリレート成形組成物を得ることができる。吐き出される材料を一般に最初に細断して、ペレットを得る。これらをさらに押出又は射出成形によって加工して、成形体、例えばシート、ホイル又は射出成形部品を得ることができる。
【００８６】
ホイル（５）におけるポリメタクリレートマトリックスは、一例として、２又は３個のシェル構造を有するコア−シェルポリマーであってよい耐衝撃性改良剤を含み、その際２個のシェルの耐衝撃性改良剤の使用が好ましい。
【００８７】
ポリメタクリレートプラスチックのための耐衝撃性改良剤はよく知られている。ＥＰ−Ａ ０ １１３ ９２４号、ＥＰ−Ａ ０ ５２２ ３５１号、ＥＰ−Ａ ０ ４６５ ０４９号及びＥＰ−Ａ ０ ６８３ ０２８号は、一例として、耐衝撃性を付与したポリメタクリレート成形組成物の製造及び構造物を記載している。
【００８８】
１質量％〜３５質量％、有利には２質量％〜２０質量％、特に有利には３質量％〜１５質量％、特に５質量％〜１２質量％の架橋したポリマー粒子から構成されるエラストマー相である耐衝撃性改良剤が、ポリメタクリレートマトリックス中に存在する。耐衝撃性改良剤は、それ自体公知の方法で、ビーズ重合によって又は乳化重合によって得られる。
【００８９】
最も単純な場合に含まれる材料は、平均粒径が１０ｎｍ〜１５０ｎｍ、有利には２０〜１００ｎｍ、特に３０ｎｍ〜９０ｎｍの範囲である、ビーズ重合によって得られた架橋した粒子である。これらは、一般に、少なくとも４０質量％、有利には５０質量％〜７０質量％のメチルメタクリレート、２０質量％〜４０質量％、有利には２５質量％〜３５質量％のブチルアクリレート、及び０．１質量％〜２質量％、有利には０．５質量％〜１質量％の架橋モノマー、例えば多官能（メタ）アクリレート、例えばアリルメタクリレート、並びに適宜、他のモノマー、例えば０質量％〜１０質量％、有利には０．５質量％〜５質量％のＣ1〜Ｃ4−アルキルメタクリレート、例えばエチルアクリレート又はブチルメタクリレート、有利にはメチルアクリレート、又は他のビニル的に重合可能なモノマー、例えばスチレンから構成される。
【００９０】
好ましい耐衝撃性改良剤は、２又は３層のコア−シェル構造を有し、かつ乳化重合によって得られるポリマー粒子である（例えばＥＰ−Ａ ０ １１３ ９２４号、ＥＰ−Ａ ０ ５２２ ３５１号、ＥＰ−Ａ ０ ４６５ ０４９号及びＥＰ−Ａ ０ ６８３ ０２８号を参照）。しかしながら、本発明は、１０ｎｍ〜１５０ｎｍ、有利には２０ｎｍ〜１２０ｎｍ、特に有利には５０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲でこれらのエマルションポリマーの適した粒径を要求する。
【００９１】
１個のコア及び２個のシェルを有する３層又は３相構造は、以下のように製造されうる。最内側の（硬質）シェルは、本質的に、メチルメタクリレートから、少ない割合のコモノマー、例えばエチルアクリレートから、及び一部の架橋剤、例えばアリルメタクリレートから構成されうる。中間の（軟質）シェルは、例えば、ブチルアクリレート、及び適宜スチレンから構成されるが、最内側の（硬質）シェルは、本質的にマトリックスポリマーと同様であり、従って、相溶性及び良好な架橋についてマトリックスにもたらす。耐衝撃性改良剤におけるポリブチルアクリレートの割合は、耐衝撃性を改良する作用に関して決定的であり、かつ有利には２０質量％〜４０質量％の範囲、特に有利には２５質量％〜３５質量％の範囲である。
【００９２】
特にホイル製造のために、それらに制限されることなく、原則として、以下、
ａ１）ガラス転移温度Ｔmgが７０℃より高く、
ａ１１）８０質量％〜１００質量％（ａ１）に対して）のメチルメタクリレート及び
ａ１２）０質量％〜２０質量％のラジカル重合可能な１種以上の他のエチレン性不飽和モノマー
から構成される、１０質量％〜９５質量％の干渉硬質相、並びに
ａ２）ガラス転移温度Ｔmgが−１０℃未満であり、硬質相に分布され、かつ
ａ２１）５０質量％〜９９．５質量％（ａ２）に対して）のＣ1〜Ｃ10−アルキルアクリレート、
ａ２２）０．５質量％〜５質量％のラジカル重合可能な種以上のエチレン性不飽和基を有する架橋モノマー、及び
ａ２３）適宜、ラジカル重合可能な他のエチレン性不飽和モノマー
から構成される、９０質量％〜５質量％の靱性相
から構成される２相の耐衝撃性を改良したポリマーである、ＥＰ ０ ５２８ １９６号Ａ１から公知のシステムの使用が好ましく、その際、硬質相ａ１）の少なくとも１５質量％が、靱性相への共有結合を有する。
【００９３】
２相の耐衝撃性改良剤は、一例としてＤＥ−Ａ ３８ ４２ ７９６号において記載されているように、水中での２工程の乳化重合反応によって製造されうる。第一工程において、靱性相ａ２）が製造され、かつ少なくとも５０質量％、有利には８０質量％より多い低級アルキルアクリレートから構成され、従って、この相について−１０℃未満のガラス転移温度Ｔmgを得る。使用される架橋モノマーａ２２）は、ジオールの（メタ）アクリレート、例えばエチレングリコールジメタクリレート又は１，４−ブタンジオールジメタクリレート、２個のビニル基又はアリル基を有する芳香族化合物、例えばジビニルベンゼン、又はグラフト結合剤としてラジカル重合可能な２個のエチレン性不飽和基を有する架橋剤、例えばアリルメタクリレートを含む。一例として挙げられてよく、かつラジカル重合可能な３種以上の不飽和基、例えばアリル基又は（メタ）アクリル基を有する架橋剤は、トリアリルシアヌレート、トリメチロールプロパントリアクリレート及びトリメチロールプロパントリメタクリレート、並びにペンタエリトリチルテトラアクリレート及びペンタエリトリチルテトラメタクリレートである。ＵＳ ４，５１３，１１８号は、これに関して他の例を提供する。
【００９４】
ラジカル重合可能であり、ａ２３）で挙げられているエチレン性不飽和モノマーは、一例として、アクリル酸もしくはメタクリル酸、又は前記で挙げられていないが炭素原子１〜２０個を有するそれらのアルキルエステルであってよく、ここでアルキル基は、直鎖、分枝鎖又は環状であってよい。さらに、ａ２３）は、ラジカル重合可能であり、かつアルキルアクリレートａ２１）と共重合可能な他の脂肪族コモノマーを含んでよい。しかしながら、本発明は、芳香族コモノマー、例えばスチレン、アルファ−メチルスチレン又はビニルトルエンの有意な割合を除外すべきであり、それというのもそれらは、成形組成物の所望されない特性、特に風化を導くからである。
【００９５】
靱性相が第一工程において製造される場合に、粒径及びその多分散性の調整することに慎重な注意を払わなければならない。ここで靱性相の粒径は、実質的に、乳化剤の濃度に依存する。粒径は、有利には、シードラテックスの使用によって調整されうる。
【００９６】
平均（質量平均）粒径が１３０ｎｍ未満、有利には７０ｎｍ未満であり、かつ粒径多分散性Ｐ80が０．５未満（Ｐ80は、超遠心によって測定された粒径分布の累積評価であり、その関係は、Ｐ80＝［（ｒ90−ｒ10）／ｒ50］−１（式中、ｒ10、ｒ50、ｒ90は、平均累積粒子半径である）であり、粒子半径の１０％、５０％、９０％より大きく、かつ粒子半径の９０％、５０％、１０％より小さい値である）、有利には０．２未満である粒子が、水性相に対して０．１５〜１．０質量％の乳化剤濃度を使用して達せられる。これは、特にアニオン性乳化剤に適用し、例えばアルコキシル化及び硫酸化パラフィンが特に好ましい。使用される重合開始剤の例は、水性相に対して、０．０１質量％〜０．５質量％のアルカリ金属ペルオキソジスルフェート又はアンモニウムペルオキソジスルフェートであり、かつその重合反応は、２０〜１００℃の温度で開始される。例えば０．０１質量％〜０．０５質量％の有機ヒドロペルオキシド、及び０．０５〜０．１５質量％のナトリウムヒドロキシメチルスルフィネートから構成される組合せであるレドックスシステムを、２０〜８０℃の温度で使用することが好ましい。
【００９７】
少なくとも１５質量％が靱性相ａ２）への共有結合を有する硬質相ａ１）のガラス転移温度は、少なくとも７０℃であり、この層は、もっぱらメチルメタクリレートから構成されうる。２０質量％までのラジカル重合可能な１種以上の他のエチレン性不飽和モノマーは、コモノマーａ１２）として硬質相中に存在してよく、かつここで使用されるアルキル（メタ）アクリレート、有利には炭素原子１〜４個を有するアルキルアクリレートの量は、ガラス転移温度が前記ガラス転移温度以上である量である。
【００９８】
硬質相ａ１）の重合は、第二工程においてエマルション中で、通常の助剤、例えば靱性相ａ２）の重合のためにも使用されるものを使用して、同様に実施する。
【００９９】
ＵＶ保護ホイル（５）は、ＰＶＤＦポリマーも含んでよい。本発明の目的のために使用されるＰＶＤＦポリマーはポリフッ化ビニリデンであり、これらは、一般に、透明、半晶質、熱可塑性フッ素プラスチックである。ポリフッ化ビニリデンについての基本単位は、フッ化ビニリデンであり、特定の触媒によって反応（重合）して、高純水中で圧力及び温度の制御された条件下でポリフッ化ビニリデンを得る。フッ化ビニリデンは、順に、一例として、フッ化水素及び出発材料としてメチルクロロホルムから、前駆体としてクロロジフルオロエタンによって得られる。本発明の目的について、原則として、ＰＶＤＦの任意の市販グレードを使用することによって良好な結果を得ることができる。市販グレードには、Ａｒｋｅｍａ社によって製造されるＫｙｎａｒ（登録商標）グレード、Ｄｙｎｅｏｎ社によって製造されるＤｙｎｅｏｎ（登録商標）グレード、及びＳｏｌｖａｙ社によって製造されるＳｏｌｅｆ（登録商標）グレードがある。
【０１００】
極めて高性能の耐候性ホイル（５）は、本発明のＵＶ安定剤及びＵＶ吸収剤パッケージと共に、ポリ（メタ）アクリレートとポリフッ化ビニリデンとの量の１：０．０１〜１：１（ｗ／ｗ）の比で本発明の範囲で、本発明におけるＰＭＭＡ／ＰＶＤＦの組合せを使用することによって得られる。
【０１０１】
好ましい一変法において、本発明の層（５）は、単層のホイルである。この低費用の変法は、単層中でのＰＭＭＡ及びＰＶＤＦのブレンドを特徴とする。
【０１０２】
これらの実施態様は、単層の耐候性ホイル（５）としてより特に興味深いものである。ホイル（５）が、ポリ（メタ）アクリレート及びポリフッ化ビニリデンの１：０．１５〜１：０．４０（ｗ／ｗ）の比での混合物を含む改良がさらに好ましく、その比は、有利には１：０．１５〜１：０．３０（ｗ／ｗ）である。
【０１０３】
他の好ましい変法において、本発明のホイル（５）は、多層のホイルである。これは、１層より多い下層を有し、かつ少なくとも２つの下層が、個々の下層の組成において互いに異なることを意味する。従って、一方の層は、ＰＭＭＡを含んでよく、かつ他方の層は、ＰＶＤＦを含んでよい。本発明は、全ての考えられる組合せも含み、例えば、１層の層は、ＰＭＭＡ／ＰＶＤＦから構成されるブレンドを含んでよく、一方で複合材の第二の層は、ＰＭＭＡのみ又はＰＶＤＦのみを含んでよい。特性の他の適した調整は、種々の材料から構成されるさらなる層を付加することによっても達せられうる。
【０１０４】
ホイルに含まれる少なくとも２層の下層、少なくとも１つのポリ（メタ）アクリレートから構成されるもの、及びポリフッ化ビニリデンから構成されるものを特徴とする実施態様は、多層耐候性ホイルについてより特に興味深いものである。ホイルが、一方がポリ（メタ）アクリレート層であり、他方がポリフッ化ビニリデン層である、２層の下層から構成されているホイルがさらに好ましい。
【０１０５】
１層以上の下層から構成される前記ホイル複合材は、それ自体公知のホイル製造プロセスによって得られる。好ましい一実施態様において、複合材は、同時押出によって得られる。しかしながら、例えば接着促進剤を使用する又は接着促進剤を使用しない、積層プロセスも考えられる。
【０１０６】
好ましい他のホイル複合材は、双方の層が互いの接着を高めるためにブレンドを含むホイル複合材である。一例として、外側のＰＭＭＡ層は、純粋なＰＶＤＦの層への良好な接着を確実にするために、低い割合のＰＶＤＦを含んでよい。
【０１０７】
単フィルム又は１層より多い下層を有するフィルムの形でのＵＶ保護層（５）を、任意の所望の厚さで製造することができる。ここで決定的な要因は、常に、格段の耐候性を有し、かつ基材に提供された極めて高いレベルの風化保護も有する外側のフィルムの高い透明性である。
【０１０８】
単層又は多層の外側のフィルムは、それ自体公知の方法、例えばフラットフィルム押出ダイ、インフレーション、又は溶液流延による押出によって製造される。
【０１０９】
表面保護層（７）
表面保護層（７）は、有利には、表面コーティング層（７）として適用されてよい。本発明の記載内容における"表面コーティング"の用語は、表面の引っ掻きを低減するため及び／又は耐摩擦性を向上するため及び／又は防汚コーティングとして及び／又は反射防止性を有するコーティングとして適用されたコーティングについての総称と解される。反射防止性は、それによって合計の光透過率を高める。
【０１１０】
耐引掻性又は耐摩擦性を向上するために、ポリシロキサン、例えばＳＤＣ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ Ｉｎｃ．製のＣＲＹＳＴＡＬＣＯＡＴ（登録商標）ＭＰ−１００、Ｍｏｍｅｎｔｉｖｅ Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ社製のＡＳ ４００−ＳＨＰ ４０１又はＵＶＨＣ３０００Ｋを使用することができる。これらのコーティング調製物は、例えば、ロールコーティング、ナイフコーティング又はフローコーティングによって、集光器の高い透明性のポリマー層の表面に適用される。
【０１１１】
防汚コーティングのより明確な詳細は、文献において見出すことができ、又は当業者に公知である。
【０１１２】
接着層
場合により、接着層が、本発明の積層物のそれぞれ個々の層の間に存在してよい。より明確に、接着層は、
・ポリマーフィルム（１）とキャリヤー層（３）との間の接着層（２）
及び／又は
・キャリヤー層（３）とＵＶ保護層（５）との間の接着層（４）
及び／又は
・ＵＶ保護層（５）と表面保護層（７）との間の接着層（６）
及び／又は
・多層層（３）及び／又は（５）の個々の層の間
に存在してよい。
【０１１３】
この目的のために使用される接着システムは、それらの組成に関して、互いに接着結合されるべき２層の接着特性から決定される。さらに、接着システムは、長い寿命の性能を提供し、かつ隣接する層の不利な相互作用を妨げるべきである。
【０１１４】
ある条件下では、光学特性もかなり重要である。接着層は、高い透明性である必要がある。適した例は、特にアクリレート接着である。
【０１１５】
接着層（２）が存在しない、すなわちポリマーフィルム（１）及びキャリヤー層（３）が熱積層されている、本発明の積層物が特に好ましい。かかる積層物の製造は、ＷＯ ２００９／１２１７０８号において記載されている（参照をもって全体を本明細書に組み込まれたものとする）。前記プロセスは、１個以上のフレネルレンズを形成する光学的構造物で型押しされた第一の表面及び反対側の第二の表面を有するフィルム（１）を提供する工程；フィルム（１）を１対の積層ロールのニップ点に誘導する工程；キャリヤー層（３）又はＵＶ保護したキャリヤー層又はキャリヤー層（３）とＵＶ保護層（５）との積層物又はキャリヤー層（３）とＵＶ保護層（５）との同時押出物をニップ点に供給する工程（その際相（１）に結合される層（３）の表面の表面温度は、ポリマーシートとフィルムとの間の熱結合を可能にするために有効である）；及びポリマーシートを、フィルムの第二の表面に積層する工程を含む。
【０１１６】
前記プロセスは、接着剤又は追加の熱を全く必要としない。フィルム自体以外の追加の最少の汚染源が存在する。要求される追加の装置は、二次加工のために比較的単純で安価である。
【０１１７】
該プロセスの詳細は記載されており、図３及び図４を参照できる。
【０１１８】
図面、最初に図３に関して、型押しされたフィルム（１）をポリマーシート（３）上に積層することを含むプロセス及び装置を説明する１つの略図が示されている。作業の流れ方向を示す矢印１００を有する図に示されているように、ポリマーシート（３）及びフィルム（１）は、２個のカレンダーロール（１０）と（１１）とのニップ点（１２）中に供給され、互いに結合される。前記カレンダーロールの双方は、冷たい硬質金属ロールである。
【０１１９】
図４に示されているように、フィルム（１）は、フレネル構造を有するように型押しされた第一の表面（１６）及びポリマーシート（３）に積層することができる第二の表面（１５）を有する。フィルム（１）は、任意の公知の方法で型押しすることができ、及び積層前に環境温度である。フィルム（１）は、商業的な源から得ることもできる。図３に言及して言えば、一実施態様において、フィルム（１）は、ロール（８）に供給され、１個以上の誘導ロール（９）によってニップ点（１２）中に供給される。図３に示されたように、フィルム（１）が、例えばオフセット誘導ロール（９’）によって種々の角度からニップ点（１２）に供給されうることが評価される。
【０１２０】
本発明の一実施態様において、ポリマーシート（３）を通常のシート押出プロセスから製造する。シートが未だ熱く柔軟である場合に、このシートは、フィルム（１）の表面（１５）（図４）との緊密な接触を生じるように、ニップ点（１２）中に供給される。ニップ点（１２）でのポリマーシート（３）の温度は、積層の成功にとって極めて重要である。表面温度が低すぎる場合に、全く結合は存在しない。表面温度が高すぎる場合に、フィルム（１）の光学的構造は、破壊される。同時にフィルム（１）の光学的構造の完全性を維持する一方で、ポリマーシート（３）が、シート（３）とフィルム（１）との間の熱結合を保証するために効果的である表面温度を有することが評価される。３ｍｍのＰＭＭＡのポリマーシートのためには、操作点での例示的な表面温度は、約１２０℃〜約１７５℃、有利に１４０℃〜１６０℃の範囲内にある。
【０１２１】
フィルム（１）をニップ点（１２）でポリマーシート（３）との密接に接触させた後に、熱結合が生じ、フィルム（１）は、シート（３）に積層される。積層中に必要とされる外部の熱は、存在しない。熱結合に必要とされる熱は、シート（３）からの内部熱によって提供される。積層プロセス中に、フィルム（１）の表面温度は、該フィルムのガラス転移温度より低く維持され、光学的構造の歪みが回避される。
【０１２２】
積層後に、積層物は、複数の冷却ロールを含む冷却領域（１４）にさらに誘導される。積層物が室温、通常、２２℃に冷却された後、完成品は、例えば端部でのフライングソーによって切断される。
【０１２３】
他の好ましい選択肢において、本発明の積層物は、接着層（２）を含み、好ましい接着剤は溶剤セメントである。特定の調製物において、高い含有量の塩素化溶剤は低い可燃性及びアクリル層中への急速な拡散による加工の利点を有しうる。さらに、先行技術において公知であるアクリレートを基礎とする接着剤が好ましい。接着剤として、塩化メチレン、又は商標名ＡＣＲＩＦＩＸ（登録商標）でＥｖｏｎｉｋ Ｒｏｅｈｍ ＧｍｂＨからもしくは製品Ｗｅｌｄ−Ｏｎ（登録商標）でＩＰＳから市販されているセメント及び他の製造業者の類似の製品が特に好ましい。
【０１２４】
コーティング層（２）、（４）又は（６）の１つのために使用されてよい他の接着剤は、互いに結合されるべき基材に依存して、及び接着層の透明性に課された厳しい要求によって選択されてよい。ＰＭＭＡ及びＰＥＴの組合せについて、溶融接着剤が好ましい。かかる溶融接着剤の例は、エチレン−ビニルアセテートホットメルト（ＥＶＡホットメルト）又はアクリレートエチレンホットメルトである。アクリレート−エチレンホットメルトが好ましい。
【０１２５】
ＰＥＴフィルム、又はポリエステルもしくはポリオレフィンフィルムは、例えば、２Ｋ−ＰＵ接着剤によって、ＥＶＡ又はアクリレート−エチレンを基礎とする溶融接着剤によって、互いに結合されてよい。
【０１２６】
他の適した接着剤は当業者に公知である。
【０１２７】
接着層は、１〜１００μｍ、及び有利には２〜８０μｍの厚さを有してよい。
【０１２８】
本発明の積層物の製造方法は、当業者によく知られている。複合材の製造方法の例は、積層及び／又は（共）押出コーティングである。好ましい選択肢は、
Ｉ）  ＵＶ保護層（５）及びキャリヤー層（３）の同時押出、続いて、前記のように熱的な又は接着層（２）を使用することによるポリマーフィルム（１）のキャリヤー層（３）の裏面への積層
ＩＩ）  場合により接着層（２）によるポリマーフィルム（１）のキャリヤー層（３）への押出積層、続いて、前記のように熱的な又は接着層（２）を使用することによるポリマーフィルム（１）のキャリヤー層（３）の裏面への積層
ＩＩＩ）  接着層（２）を形成して又は形成せずにポリマーフィルム（１）のキャリヤー層（３）への積層、続いて、接着層（４）を形成して又は形成せずにＵＶ保護ホイル（５）のキャリヤー層（３）の光源側への積層
ＩＶ）  有利には続く層（４）及び（５）での積層を有さない、接着層（２）を形成して又は形成せずに少なくとも１種のＵＶ吸収剤及び少なくとも１種のＵＶ安定剤を含むキャリヤー層（３）とポリマーフィルム（１）との積層
である。
【０１２９】
表面コーティング、すなわち層（７）及び任意の（６）は、公知の技術によって適用されてよい。
【０１３０】
本発明に従って製造されたＵＶ保護した積層した太陽光集光装置は、有利には、光線を太陽電池又は熱吸収装置に集める凹型集光器として使用される。従って、本発明は、本発明による少なくとも１個の太陽光集光装置、及び少なくとも１つの太陽電池を含むＣＰＶエレメント、並びに本発明による少なくとも１個の太陽光集光装置、及び少なくとも１つの吸熱装置を含むＣＳＰエレメントを含む。
【０１３１】
太陽光装置、特にＣＳＰ又はＣＰＶ装置を製造するための本発明に従ってＵＶ保護された積層された太陽光集光装置の使用は、本発明の目的でもある。
【図面の簡単な説明】
【０１３２】
【図１】本発明の太陽光集光装置の種々の層を示す図。
【図２】本発明の１つの実施態様による積層されたフレネルフィルムの表面図を示す図。
【図３】型押しされたフィルムとポリマーシートとの積層を含むプロセス及び装置を示す略図。
【図４】図１の装置の一部を拡大した断面図。
【０１３３】
実施例
実施例１
多重の円形のフレネルレンズの型押しされたパターンを有する変性されたアクリルフィルム（１）を、接着層（２）を有さずに、半溶融されたアクリルポリマーシート（３）に積層した。このフィルム（１）は、ミネソタ州ミネアポリス市の３Ｍ社の製品であった。型押しされたフィルムをロール上に供給し、そしてこのロールから一対のカレンダーロールのニップ点中に供給した。ポリマーシート（３）を通常のシート押出プロセスを用いて形成させた。フィルム（１）を積層したアクリルシート（３）は、３ｍｍの厚さであり、積層点で１４８℃〜１５０℃の表面温度を有していた。一対のカレンダーロールの間のロール間隙は、適用されたフィルムが操作点でアクリルポリマーと完全に接触することを確実にするために十分な圧力を提供するように調整された。型押しされたパターンの鮮鋭さを維持するために型押しされた表面の温度を型押しされた表面のガラス転移温度より低く保つことは、重要なことである。最終のロールの速度と上流のロールの速度との比は、０．９８０対１．００の比に維持され、型押しされたフレネルレンズは、シート（３）及びフィルム（１）積層物として歪むようになる冷温から室温に保たれた。
【０１３４】
実施例２
このプロセスは、実施例１の開示内容と同様であるが、連続的な線形フレネルパターンを形成されたシートに適用されるフィルム（１）中に型押しした。
【０１３５】
実施例３
以下、
ａ）全体の組成が
６１．３５質量％のＭＭＡ
３７．１質量％のブチルアクリレート
０．３６質量％のエチルアクリレート
０．６６質量％のアリルメタクリレート
０．５３質量％の前記モノマーを基礎とするドデシルメルカプタン
である、ＥＰ ０ ５２８ １９６号に従った２相の耐衝撃性改良剤から構成されるポリマーの８７．８５質量％
ｂ）Ｒｏｅｈｍ ＧｍｂＨ社から得られる１０質量％のＰＬＥＸＩＧＬＡＳ（登録商標）
ｃ）１．０質量％のＴｉｎｕｖｉｎ ３６０（Ｃｉｂａ ＳＣ社製のベンゾトリアゾールを基礎とするＵＶ吸収剤）
０．７５質量％のＣＧＸ ＵＶＡ ００６（Ｃｉｂａ ＳＣ社製のトリアジンを基礎とする ＵＶ吸収剤）
０．４質量％のＣｈｉｍａｓｓｏｒｂ １１９
から構成される５６μｍの厚さのＰＭＭＡホイル（５）を使用し、そしてこの混合物を、通常のプロセスによって押し出して、ＵＶ保護ホイル（５）を得る。
【０１３６】
そして、そのホイル（５）を、実施例１及び２の生成物に積層して、試験する生成物を得る。その生成物は、従来のフレネルレンズと比較して、向上した風化挙動を示した。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【国際調査報告】
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