(57)【要約】磁気軸受構造を使用した輸送のための方法及びシステムが開示される。一態様では、磁化可能構造に沿って荷重を運ぶための装置がある。一実施形態では、該装置は、磁化可能構造から垂直方向に離され、磁束を生成するように及び磁化可能構造から反発するように構成された第３の構造を含む。一実施形態では、装置は、磁化可能構造に近接する少なくとも１つの末端部分に位置決めされた少なくとも１つのコイルを含む。一実施形態では、装置は、磁化可能材料を含み磁束を集中させるように構成された少なくとも１つの磁束ガイドを含む。磁束ガイドの第１の部分は、該磁束ガイドの第１の部分と比べて磁化可能構造の近くに位置決めされた磁束ガイドの第２の部分よりも薄い。【選択図】図４
2014506106.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
荷重を運ぶための装置であって、
磁化可能構造の第１の側から水平方向に離され、磁束を生成するように構成された第１の構造と、
前記磁化可能構造の第２の側から水平方向に離され、磁束を生成するように構成された第２の構造であって、前記第２の側は、前記第１の側の反対側であり、前記第１の構造及び前記第２の構造は、前記磁化可能構造に磁気的に引き付けられる、第２の構造と、
前記磁化可能構造から垂直方向に離され、磁束を生成するように構成された第３の構造であって、前記第３の構造は、極性が反対の上方部分と下方部分とを含み、前記下方部分は、前記磁化可能構造の上方部分から磁気的に反発するように位置決めされる、第３の構造と、
を備える装置。
【請求項２】
請求項１に記載の装置であって、
前記第３の構造は、前記装置によって生成される浮上力を増加させるように位置決めされる、装置。
【請求項３】
請求項１に記載の装置であって、
前記第３の構造は、永久磁石及び電磁石の少なくとも１つを含む、装置。
【請求項４】
請求項１に記載の装置であって、
前記第３の構造は、希土類磁石、サマリウム・コバルト磁石、アルニコ磁石、及びネオジム磁石の少なくとも１つを含む、装置。
【請求項５】
請求項１に記載の装置であって、
前記第３の構造の厚さは、前記磁束源のおおよそ５分の１の厚さであり、前記第３の構造の長さは、前記磁束源の長さのおおよそ２分の１である、装置。
【請求項６】
請求項１に記載の装置であって、更に、
前記第１の構造及び前記第２の構造の少なくともいずれかの内表面と、前記第３の構造の外表面との間に位置決めされた磁束ガイドであって、磁化可能材料を含む磁束ガイドを備える装置。
【請求項７】
請求項１に記載の装置であって、更に、
前記磁化可能構造に相対的な前記第１の構造及び前記第２の構造の位置を制御するように構成されたコントローラを備える装置。
【請求項８】
請求項４に記載の装置であって、
前記コントローラは、
前記第１の構造及び前記第２の構造によって生成される磁束にバイアスをかけるために電流を運ぶように構成された１つ以上の制御コイルと、
前記構造の少なくとも１つの、前記磁化可能構造に対する水平位置を示すセンサデータを生成するように構成された１つ以上のセンサと、
前記センサデータに基づいて前記電流を供給するように構成された回路と、
を含む、装置。
【請求項９】
請求項１に記載の装置であって、更に、
前記磁化可能構造に沿って推進力を提供するように構成された機関車を備える装置。
【請求項１０】
請求項１に記載の装置であって、更に、
第２の磁化可能構造の第１の側から水平方向に離され、磁束を生成するように構成された第４の構造と、
前記第２の磁化可能構造の第２の側から水平方向に離され、磁束を生成するように構成された第５の構造であって、前記第２の磁化可能構造の前記第２の側は、前記第２の磁化可能構造の前記第１の側の反対側であり、前記第４の構造及び前記第５の構造は、前記第２の磁化可能構造に磁気的に引き付けられる、第５の構造と、
前記第２の磁化可能構造から垂直方向に離され、磁束を生成するように構成された第６の構造であって、前記第６の構造は、極性が反対の第２の上方部分と第２の下方部分とを含み、前記第２の下方部分は、前記第２の磁化可能構造の上方部分から磁気的に反発するように位置決めされる、第６の構造と、
を備える装置。
【請求項１１】
請求項７に記載の装置であって、更に、
前記第１の構造、前記第２の構造、及び前記第３の構造、並びに前記第４の構造、前記第５の構造、及び前記第６の構造に、これらの構造によって回転を抑制されるように結合された荷重を備える装置。
【請求項１２】
荷重を運ぶための装置であって、
磁化可能構造の第１の側から水平方向に離され、磁束を生成するように構成された第１の構造と、
前記磁化可能構造の第２の側から水平方向に離され、磁束を生成するように構成された第２の構造であって、前記第２の側は、前記第１の側の反対側であり、前記第１の構造及び前記第２の構造は、前記磁化可能構造に磁気的に引き付けられる、第２の構造と、
前記第１の構造及び前記第２の構造の、少なくとも１つの末端領域に位置決めされた少なくとも１つのコイルと、
を備える装置。
【請求項１３】
請求項１２に記載の装置であって、
前記第１の構造及び前記第２の構造の少なくとも１つは、磁化可能材料を含み前記構造の内表面又は外表面に取り付けられた磁束ガイドを含み、前記コイルの少なくとも１つは、前記磁束ガイドの周りに位置決めされる、装置。
【請求項１４】
請求項１２に記載の装置であって、
前記末端領域の長さは、前記末端領域の厚さにおおよそ等しい、装置。
【請求項１５】
請求項１２に記載の装置であって、
前記末端領域は、前記第１の構造及び前記第２の構造の厚さのおおよそ５分の１の距離を前記磁化可能構造から離されている、装置。
【請求項１６】
請求項１２に記載の装置であって、
前記少なくとも１つのコイルは、前記第１の構造の内側の末端領域に位置決めされた第１のコイルと、前記第１の構造の外側の末端領域に位置決めされた第２のコイルと、前記第２の構造の内側の末端領域に位置決めされた第３のコイルと、前記第２の構造の外側の末端領域に位置決めされた第４のコイルとを含む、装置。
【請求項１７】
請求項１６に記載の装置であって、更に、
前記磁化可能構造に相対的な前記第１の構造及び前記第２の構造の位置を制御するために前記コイルの少なくとも１つに電流を供給するように構成されたコントローラを備える装置。
【請求項１８】
請求項１７に記載の装置であって、
前記コントローラは、前記第１のコイル及び前記第２のコイルを前記第３のコイル及び前記第４のコイルとは独立に制御する、装置。
【請求項１９】
荷重を運ぶための装置であって、
磁化可能構造の第１の側から水平方向に離され、磁束を生成するように構成された第１の構造と、
前記磁化可能構造の第２の側から水平方向に離され、磁束を生成するように構成された第２の構造であって、前記第２の側は、前記第１の側の反対側であり、前記第１の構造及び前記第２の構造は、前記磁化可能構造に磁気的に引き付けられる、第２の構造と、
磁化可能材料を含み、前記第１の構造及び前記第２の構造によって生成される磁束を集中させるように構成された磁束ガイドであって、前記磁束ガイドの第１の部分は、前記磁束ガイドの前記第１の部分と比べて前記磁化可能構造の近くに位置決めされた前記磁束ガイドの第２の部分よりも薄い、磁束ガイドと、
を備える装置。
【請求項２０】
請求項１９に記載の装置であって、
前記磁束ガイドは、前記第１の構造及び前記第２の構造の内表面に取り付けられた内側の磁束ガイドと、前記第１の構造及び前記第２の構造の外表面に取り付けられた外側の磁束ガイドとを含む、装置。
【請求項２１】
請求項２０に記載の装置であって、
前記内側の磁束ガイドの第１の部分は、前記内側の磁束ガイドの前記第１の部分と比べて前記磁化可能構造の近くに位置決めされた前記内側の磁束ガイドの第２の部分よりも薄く、前記外側の磁束ガイドの第１の部分は、前記外側の磁束ガイドの前記第１の部分と比べて前記磁化可能構造の近くに位置決めされた前記外側の磁束ガイドの第２の部分よりも薄い、装置。
【請求項２２】
請求項１９に記載の装置であって、
前記磁束ガイドの厚さは、前記磁束ガイドの末端部分から中間に向かっておおよそ線形に減少する、装置。
【請求項２３】
請求項１９に記載の装置であって、
前記磁束ガイドは、前記磁束ガイドのなかの磁束密度が半径方向に実質的に均一であるように成形される、装置。
【請求項２４】
請求項１９に記載の装置であって、更に、
前記磁化可能構造に相対的な前記第１の構造及び前記第２の構造の位置を制御するように構成されたコントローラを備える装置。
【請求項２５】
請求項２４に記載の装置であって、
前記コントローラは、
前記第１の構造及び前記第２の構造によって生成される磁束にバイアスをかけるために電流を運ぶように構成された１つ以上の制御コイルと、
前記構造の少なくとも１つの、前記磁化可能構造に対する水平位置を示すセンサデータを生成するように構成された１つ以上のセンサと、
前記センサデータに基づいて前記電流を供給するように構成された回路と、
を含む、装置。
【請求項２６】
請求項１９に記載の装置であって、更に、
前記磁化可能構造から垂直方向に離され、磁束を生成するように構成された第３の構造であって、前記第３の構造は、極性が反対の上方部分と下方部分とを含み、前記下方部分は、前記磁化可能構造の上方部分から磁気的に反発するように位置決めされる、第３の構造と、
前記少なくとも１つの磁束ガイドの、少なくとも１つの末端に位置決めされた少なくとも１つのコイルと、
を備える装置。
【請求項２７】
請求項１９に記載の装置であって、更に、
第２の磁化可能構造の第１の側から水平方向に離され、磁束を生成するように構成された第３の構造と、
前記第２の磁化可能構造の第２の側から水平方向に離され、磁束を生成するように構成された第４の構造であって、前記第２の磁化可能構造の前記第２の側は、前記第２の磁化可能構造の前記第１の側の反対側であり、前記第３の構造及び前記第４の構造は、前記第２の磁化可能構造に磁気的に引き付けられる、第４の構造と、
磁化可能材料を含み、前記第３の構造及び前記第４の構造によって生成される磁束を集中させるように構成された第２の磁束ガイドであって、前記第２の磁束ガイドの第１の部分は、前記第２の磁束ガイドの前記第１の部分と比べて前記第２の磁化可能構造の近くに位置決めされた前記第２の磁束ガイドの第２の部分よりも薄い、第２の磁束ガイドと、
を備える装置。
【請求項２８】
請求項２６に記載の装置であって、更に、
前記第１の構造、前記第２の構造、前記第３の構造、及び前記第４の構造に、これらの構造によって回転を抑制されるように結合された荷重を備える装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
（関連出願の相互参照）
本出願は、２０１０年１２月３日に出願されその全体を参照によって本明細書に組み込まれる米国出願第１２／９６０，３３６号の利益を主張する。本出願は、２０１０年３月２５日に出願されその全体を参照によって本明細書に組み込まれる米国出願第１２／７３２，０９８号に関連している。
【背景技術】
【０００２】
本発明は、総じて、磁気軸受構造を使用した輸送のための方法及びシステムに関するものである。特に、本発明は、総じて、輸送のための荷重の浮上に適用するものである。
【０００３】
一態様では、荷重を運ぶための装置がある。該装置は、磁化可能構造の第１の側から水平方向に離され、磁束を生成するように構成された第１の構造と、磁化可能構造の第２の側から水平方向に離され、磁束を生成するように構成された第２の構造とを含む。第２の側は、第１の側の反対側であり、第１の構造及び第２の構造は、磁化可能構造に磁気的に引き付けられる。装置は、磁化可能構造から垂直方向に離され、磁束を生成するように構成された第３の構造を含む。第３の構造は、極性が反対の第３の上方部分と第３の下方部分とを含み、該第３の下方部分は、磁化可能構造の上方部分から磁気的に反発するように位置決めされる。
【０００４】
別の一態様では、荷重を運ぶための装置がある。該装置は、磁化可能構造の第１の側から水平方向に離され、磁束を生成するように構成された第１の構造と、磁化可能構造の第２の側から水平方向に離され、磁束を生成するように構成された第２の構造とを含む。第２の側は、第１の側の反対側であり、第１の構造及び第２の構造は、磁化可能構造に磁気的に引き付けられる。装置は、第１の構造及び第２の構造の、少なくとも１つの末端に位置決めされた、少なくとも１つのコイルを含む。
【０００５】
別の態様では、荷重を運ぶための装置がある。該装置は、磁化可能構造の第１の側から水平方向に離され、磁束を生成するように構成された第１の構造と、磁化可能構造の第２の側から水平方向に離され、磁束を生成するように構成された第２の構造とを含む。第２の側は、第１の側の反対側であり、第１の構造及び第２の構造は、磁化可能構造に磁気的に引き付けられる。装置は、磁化可能材料を含み、第１の構造及び第２の構造によって生成される磁束を集中させるように構成された少なくとも１つの磁束ガイドを含む。磁束ガイドの第１の部分は、磁束ガイドの第１の部分と比べて磁化可能構造の近くに位置決めされた磁束ガイドの第２の部分よりも薄い。
【図面の簡単な説明】
【０００６】
【図１】レールに近接して位置決めされた筒状の磁気軸受構造を含むシステムの断面図であり、複数の磁束経路が描かれている。
【図２】磁束集束源を有する筒状の磁気軸受構造を含むシステムの断面図であり、複数の磁束経路が描かれている。
【図３】半径方向に非均一性を有する筒状の磁気軸受構造を含むシステムの断面図であり、複数の磁束経路が描かれている。
【図４】図３の筒状の磁気軸受構造を、該磁気軸受構造の水平位置を維持するための制御システムとともに含むシステムの、正面図である。
【図５】一実施形態にしたがった制御システムの機能ブロック図である。
【図６】制御コイルに電流を供給する方法を示したフローチャートである。
【図７】荷重を有する車両を、レールに近接して位置決めされた磁気軸受構造に結合されたシステムの、斜視図である。
【０００７】
以下の詳細な説明は、発明の幾つかの特定の態様に関するものである。しかしながら、発明は、例えば特許請求の範囲によって定められて対象とされるように、数々の多様な形で具現化することができる。本明細書で挙げられる態様は、多岐にわたる形態で具現化可能であること、及び本明細書で開示される特定の構造、機能、又はその両方は、いずれも単に代表例に過ぎないことが明らかである。本明細書で挙げられる教示内容に基づいて、当業者ならば、本明細書で開示される態様が、その他のどの態様からも独立に実装可能であること、及びこれらの態様の２つ以上が、様々に組み合わせ可能であることがわかる。例えば、本明細書で挙げられる任意の数の態様を使用し、１つの装置を実装する又は１つの方法を実施することができる。また、このような装置又はこのような方法は、本明細書で挙げられる態様の１つ以上に追加される又は取って代わるその他の構造、機能、又は構造と機能とを使用して実装又は実施することが可能である。同様に、本明細書で開示される方法は、コンピュータによって読み取り可能なストレージ媒体から読み出された命令を実行するように構成された１つ以上のコンピュータプロセッサによって実施することができる。コンピュータによって読み取り可能なストレージ媒体は、データ又は命令などの情報が幾らかの期間にわたってコンピュータによって読み取り可能であるように、その期間にわたってそのような情報を格納するものである。コンピュータによって読み取り可能なストレージ媒体の例として、ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）のようなメモリや、ハードドライブ、光ディスク、フラッシュメモリ、フロッピィディスク、磁気テープ、紙テープ、及びパンチカードのようなストレージが挙げられる。
【０００８】
図１は、レール１２０に近接して位置決めされた筒状磁気軸受構造１００を含むシステム１０の断面図であり、第１の磁束経路１９０及び第２の磁束経路１９２が描かれている。磁気軸受構造１００は、内側ケース１０６と外側ケース１０２との間に磁束源１０４を含む。一実施形態では、外側ケース１０２は、Ｃ字型の断面を有し、やはり同様にＣ字型の断面を有する内側ケース１０６を中心にして同心状に位置決めされる。内側ケース１０６及び外側ケース１０２は、ともに、鉄や鋼などの磁化可能材料を含む。ケース１０２及び１０６は、磁束源１０４によって生成される磁束を磁気軸受構造１００の内周及び外周に沿って誘導することができる。これは、磁束源１０４の磁束を、磁気軸受構造１００とレール１２０との間の空隙１８０を横断するように封じ込める及び集中させるのを助けることができる。
【０００９】
図１に示されたレール１２０は、概ねＩ字型の断面を有する。その他の実施形態では、その他の形状が使用されてよい。一実施形態では、レール１２０は、外側ケース１０２の末端領域１５２と内側ケース１０６の末端領域１５６との間の隙間にちょうど収まるのに十分な狭さである。一実施形態では、レール１２０は、磁気軸受１００に物理的に接触することなく末端領域１５２と末端領域１５６との間の隙間にちょうど収まるのに十分な狭さである。レール１２０は、浮上に加えて推進を可能にするために、任意の軸長であることができる。
【００１０】
一実施形態では、レール１２０は、鋼又は鉄などの磁化可能材料を含む。別の一実施形態では、レール１２０は、磁性材料を含む。磁気軸受構造１００の垂直運動は、磁束源１０４によって生成される磁力による抵抗を受け、これは、磁束経路１９０及び１９２の長さを最短にする傾向があるので、軸受１００は、レール１２０を「捉えて抑制する」ことができる。
【００１１】
一実施形態では、レール１２０は、ゲージによって隔てられた少なくとも２本の実質的に平行なレールを含み、各レールは、ウェブによってヘッドとフットとを隔てられた概ね
Ｉ字型の形状を有する。一実施形態では、レール１２０は、標準軌間又は国際軌間のレールを含み、例えば、軌間は、おおよそ１，４３５ｍｍである。ゲージは、１，４３５ｍｍよりも小さくてよい又は大きくてよい。一実施形態では、レールは、フランジ付きの車輪がレールのヘッドに沿って乗ることを可能にする。したがって、本明細書で説明される実施形態は、既存のレール技術及びその他の全車両に対応可能だと考えられる。
【００１２】
磁束が磁気軸受構造１００とレール１２０との間の空隙１８０を横断するときに、磁気軸受構造１００とレール１２０との間には磁力がある。この磁力ゆえに、磁気軸受構造は、レール１２０に接触することなく荷重を支えることができる。したがって、磁気軸受構造１００は、車両にかかる重力を打ち消す浮上力を提供するために使用することができる。該浮上力は、車両がレール１２０に沿って動くのに伴う摩擦を軽減することができる。
【００１３】
一実施形態では、磁束源１０４は、外側ケース１０２に接する外縁表面１４２と、内側ケース１０６に接する内縁表面１４６とを含む。一実施形態では、外縁表面１４２が一方の極性であり、内縁表面１４６がその反対の極性である。例えば、一実施形態では、磁束源１０４は、半径方向に均一に磁化可能である。
【００１４】
一実施形態では、磁束源１０４は、１つの永久磁石を含む。永久磁石は、希土類磁石、サマリウム・コバルト磁石、アルニコ磁石、及びネオジム磁石を含むことができる。永久磁石の使用は、軸受１００が、電源を必要としない「常時オンの」浮上力を提供することを可能にする。その他の実施形態では、磁束源１０４は、１つ以上の永久磁石及び／又は１つ以上の電磁石を含むことができる。一実装形態では、電磁石を通電するように構成された電源に、電磁石を結合することができる。
【００１５】
一実施形態では、磁束源１０４は、ボンド磁石である。一実施形態では、ボンド磁石は、磁性粉を熱可塑性樹脂と混ぜ合わせて射出成形し、圧縮性の又は可撓性の磁石に形成したものを含む。磁性粉は、樹脂が液体である間に、好ましい方向に整列させることができ、この好ましい方向は、樹脂の硬化によって維持することができる。ボンド磁石は、例えば磁気軸受１００の望ましい境界の外側に突き出した磁束である浮遊磁束を最小限に抑えるために使用することができる。
【００１６】
別の一実施形態では、磁束源１０４は、分離された又は接合された複数の磁石を含む。一実施形態では、複数の磁石のそれぞれは、一方の極性が外側ケース１０２に面し、もう一方の極性が内側ケース１０６に面するように配置される。一実施形態では、ガラス、木、樹脂、又は空気などの非磁化可能物質が、磁石と磁石との間に配される。磁束源１０４は、もし１つの磁石ではなく複数の磁石を含む場合は、より安価にできるだろう。しかしながら、もし磁石どうしが離れすぎている場合は、磁束がレール１２０を通してではなく非磁化可能材料を通して漏洩する恐れがある。このような磁束漏洩は、浮上力を減少させる恐れがある。
【００１７】
図１では、筒状の磁気軸受構造１００が示されているが、その他の断面形状が使用されてもよいことがわかる。例えば、一実施形態では、磁気軸受構造１００は、矩形の断面又は三角形の断面を有することができる。もし磁気軸受構造が、例えば矩形の断面を有するならば、その磁気軸受構造１００は、より容易に車両に取り付けることができる、又はより容易に収納することができる。更に、もし磁気軸受構造１００が、１つ以上の平坦表面を有するならば、磁束源１０４の製造が簡略化され、その他のハードウェアがより容易に導入可能になる。
【００１８】
磁束経路１９０及び１９２は、図１の半分にのみ示されているが、磁束源１０４によって生成される磁束は、垂直軸を中心にして対称であろうことがわかる。更に、図１では、
４本の磁束経路１９０及び１９２のみが示されているが、磁束源１０４によって生成される磁束は、連続磁場であり、該磁場を表すには、３本以下又は５本以上の磁束経路１９０及び１９２が使用可能であろうこともわかる。
【００１９】
外側ケース１０２は、レール１２０の突端に近接して位置する２つの末端領域１５２を含む。内側ケース１０６もまた、同様にレール１２０の突端に近接して位置する２つの末端領域１５６を含む。一実施形態では、磁束源１０４は、第１の磁束経路１９０及び第２の磁束経路１９２によって表される磁場を生成する。第１の磁束経路１９０及び第２の磁束経路１９２は、磁束源１０４で始まって、磁束源１０４で終わる。外側ケース１０２は、磁束経路１９０及び１９２を外側ケース１０２に沿って末端領域１５２の１つへ誘導し、そこで、磁束経路は、外側ケース１０２とレール１２０との間の空隙１８０を横断する。第１の磁束経路１９０は、レール１２０を伝い続け、レール１２０と内側ケース１０６の末端領域１５６の１つとの間の空隙１８０を横断することによって、レール１２０から出て行く。内側ケース１０６は、第１の磁束経路１９０を内側ケース１０６に沿って磁束源１０４に戻るように誘導する。この順番は、磁束源１０４の極性によっては逆であってもよい。
【００２０】
上記のように、磁束が磁気軸受構造１００とレール１２０との間の空隙１８０を横断するときに、磁気軸受構造１００とレール１２０との間には磁力がある。磁気軸受構造１００がレール１２０に対して中心合わせされているときは、第１の磁束経路１９０の水平成分は、合計でおおよそゼロになるだろう。レール１２０の各側にかかる第１の磁束経路１９０の垂直成分は、それぞれ、磁気軸受構造１００に作用する垂直力に寄与することができる。したがって、磁気軸受構造１００は、車両などの荷重にかかる重力を打ち消す浮上力を提供するために使用することができる。浮上力は、車両がレール１２０に沿って動くのに伴う摩擦を軽減することができる。
【００２１】
構成によっては、必ずしも全ての磁束経路１９０及び１９２がレール１２０から磁気軸受構造１００へ空隙１８０を横断するのではないことが可能である。第１の磁束経路１９０は、磁気軸受構造１００からレール１２０へ流れるときに１回目、レール１２０から磁気軸受構造１００へ横断するときに２回目の、計２回にわたって空隙１８０を横断するだろう。第２の磁束経路１９２は、空隙１８０を２回にわたって横断することはないだろう。第２の磁束経路１９２は、磁束源１０４のうち空隙１８０から遠く離れた部分で始まるだろう。第２の磁束経路１９２は、第１の磁束経路１９０と同様に、外側ケース１０２によって外側ケース１０２の末端領域１５２の１つへ誘導され、そこで、外側ケース１０２とレールとの間の空隙１８０を横断するだろう。しかしながら、第２の磁束経路１９２は、第１の磁束経路１９０とは異なり、内側ケース１０６の末端領域１５６の１つから空隙１８０を横断することはなく、むしろ、内側ケース１０６のうち末端領域１５６からは遠い部分へ「近道」すると考えられる。
【００２２】
第２の磁束経路１９２は、空隙１８０を２回にわたって横断することはなく、空隙１８０を２回にわたって横断する第１の磁束経路１９０よりも、生成する浮上力が小さいゆえに、第１の磁束経路１９０ほどは望ましくないと考えられる。レール１２０から内側ケース１０６に至る部分の第２の磁束経路１９２の垂直成分は、下向きの力を生成し、磁気軸受構造１００によって生成される浮上力を減少させる恐れがあるので、第２の磁束経路１９２は、第１の磁束経路１９０ほどは望ましくないと考えられる。
【００２３】
図２は、磁束集束源２０５を有する筒状の磁気軸受構造２００を含むシステム２０の断面図であり、第１の磁束経路２９０、第２の磁束経路２９２、及び第３の磁束経路２９５が描かれている。システム２０は、内側ケース１０６とレール１２０との間に位置決めされた磁束集束源２０５を追加で含むという点で、図１に関して説明された実施形態と異な
っている。その他の点では、システム２０の残りの構造は、上述された図１のシステム１０と同じ又は同様であってよい。
【００２４】
一実施形態では、磁束集束源２０５は、１つの永久磁石を含む。その他の実施形態では、磁束集束源２０５は、１つ以上の永久磁石及び／又は１つ以上電磁石を含むことができる。一実装形態では、電磁石を通電するように構成された電源に、電磁石を結合することができる。一実施形態では、磁束集束源は、ボンド磁石である。別の一実施形態では、磁束集束源２０５は、分離された又は接合された複数の磁石を含む。
【００２５】
一実施形態では、磁束集束源２０５は、希土類磁石、サマリウム・コバルト磁石、アルニコ磁石、及びネオジム磁石の少なくとも１つを含む。一実施形態では、磁束集束源２０５は、（図２に示されるように）磁束源１０４の半径方向厚さのおおよそ５分の１の半径方向厚さを有する。一実施形態では、磁束集束源２０５は、磁束源１０４の長さのおおよそ半分である。
【００２６】
一実施形態では、磁束集束源２０５は、内側ケース１０６に接する外縁表面１４５を含む。一実施形態では、磁束集束源２０５の外縁表面１４５は、磁束源１０４の内縁表面１４６と同じ極性である。
【００２７】
磁束集束源２０５は、磁束源１０４で始まる磁束経路２９０及び２９２を変化させることができる。第１の磁束経路２９０は、磁気軸受構造１００からレール１２０へ流れるときに１回目、レール１２０から磁気軸受構造１００へ横断するときに２回目の、計２回にわたって空隙１８０を横断するだろう。第２の磁束経路２９２は、空隙１８０を２回にわたって横断することはないだろう。第３の磁束経路２９５は、磁束集束源２０５で始まって、磁束集束源２０５で終わるだろう。
【００２８】
磁束集束源２０５は、第１の磁束経路２９０の数を増やし、第２の磁束経路２９２の数を減らすことができる。概念上、第３の磁束経路２９５は、少なくとも第２の磁束経路２９２を遠ざけることができる。上述のように、第２の磁束経路２９２は、空隙１８０を２回にわたって横断することはなく、空隙１８０を２回にわたって横断する第１の磁束経路２９０よりも、生成する浮上力が小さいゆえに、第１の磁束経路１９０ほどは望ましくないと考えられる。レール１２０から内側ケース２０６に至る部分の第２の磁束経路２９２の垂直成分は、下向きの力を生成し、磁気軸受構造２００によって生成される浮上力を減少させる恐れがあるので、第２の磁束経路２９２は、第１の磁束経路２９０ほどは望ましくないと考えられる。したがって、磁束集束源２０５は、第１の磁束経路２９０の数を増やし、第２の磁束経路２９２の減らすことができるゆえに、磁気軸受構造２００によって生成される浮上合力を増加させることができる。具体的には、磁束集束源２０５は、磁気軸受構造２００によって生成される浮上合力を、磁束集束源を伴わない磁気軸受構造２００によって生成される浮上合力と比べて少なくとも１０パーセント増加させることができる。
【００２９】
図２からわかるように、外側ケース１０２及び内側ケース１０６のなかの磁束経路２９０及び２９２の密度は、半径方向に均一でないと考えられる。具体的には、空隙１８０に近い部分の外側ケース１０２及び内側ケース１０６は、空隙１８０から遠い部分の外側ケース１０２及び内側ケース１０６よりも、多くの磁束を誘導すると考えられる。したがって、空隙１８０から遠い部分の外側ケース１０２及び内側ケース１０６は、誘導される磁束に対して不必要に厚いと考えられる。これは、磁気軸受構造２００の重量を不必要に増加させ、浮上合力を減少させる恐れがある。
【００３０】
図３は、半径方向に非均一性を有する筒状の磁気軸受構造３００を含むシステム３０の
断面図であり、複数の磁束経路３９０が描かれている。システム３０は、外側ケース３０２、磁束源３０４、及び内側ケース３０６が半径方向に不均一な厚さであるという点で、図２に関して説明された実施形態と異なっている。具体的には、外側ケース３０２、磁束源３０４、及び内側ケース３０６は、厚さが変化すると考えられる。一実施形態では、空隙１８０に近い部分の外側ケース３０２、磁束源３０４、及び内側ケース３０６は、それぞれ、空隙１８０から遠い部分の外側ケース３０２、磁束源３０４、及び内側ケース３０６よりも厚くなっている。一実施形態では、外側ケース３０２は、外側ケース３０２の半径方向厚さが末端部分１５２から外側ケースの中間３１２に向かって減少するように成形される。一実施形態では、内側ケース３０６は、内側ケース３０６の半径方向厚さが末端部分１５６から内側ケースの中間３１６に向かって減少するように成形される。一実施形態では、外側ケース３０２及び内側ケース３０６の少なくともいずれかの半径方向厚さが、末端部分１５２及び１５６からケースの中間３１２及び３１６に向かっておおよそ線形に減少する。別の一実施形態では、外側ケース３０２及び内側ケース３０６の少なくともいずれかの半径方向厚さが、末端部分１５２及び１５６からケースの中間３１２及び３１６に向かって非線形に減少する。一実施形態では、外側ケース３０２及び内側ケース３０６は、各ケース３０２及び３０６のなかの磁束密度が半径方向に実質的に均一であるように成形される。
【００３１】
非均一な半径方向厚さを有する外側ケース３０２、磁束源３０４、及び内側ケース３０６の使用は、磁気軸受構造３００の重さを軽減することができる。磁気軸受構造３００の軽量化は、追加の荷重重量が可能であることに等しいと考えられるので、磁気軸受構造３００の重さの軽減は、磁気軸受構造３００によって生成される浮上合力を増加させることができる。
【００３２】
システム３０は、磁束源３０４の半径方向の強さが非均一であろう点でも、図２に関して説明された実施形態と異なっている。一実施形態では、空隙１８０に近い部分の磁束源３０４は、空隙１８０から遠い部分の磁束源３０４よりも強い。
【００３３】
図２からわかるように、第２の流速経路２９２は、磁束源１０４のうち第１の流速経路２９０が発生する部分よりも空隙１８０から遠くに位置する部分の磁束源１０４から発生する傾向がある。半径方向に均一でない強さを有する磁束源３０４の使用は、空隙１８０を２回にわたって横断しない磁束経路の数を減らすことができる。上述のように、このような磁束経路は、望ましくなく、磁気軸受構造３００によって生成される浮上合力を減少させる恐れがある。したがって、半径方向に均一でない強さを有する磁束源３０４の使用は、磁気軸受構造３００によって生成される浮上合力を増加させることができる。
【００３４】
上述された半径方向の非均一性を別にすれば、システム３０の残りの構造は、やはり上述された図２のシステム２０と同じ又は同様であってよい。
【００３５】
上記のように、磁気軸受構造３００がレール１２０に対して中心合わせされているときに、レール１２０の両側において空隙１８０を横断する磁束経路３９０の水平成分は、合計でおおよそゼロになるだろう。しかしながら、これは、不安定な位置であると考えられる。
【００３６】
図４は、図３の筒状の磁気軸受構造を、該磁気軸受構造４００の水平位置を維持するための制御システム４１０とともに含むシステム４０の、正面図である。システム４０は、磁気軸受構造４００が該磁気軸受構造の水平位置を維持するための制御システム４１０を含むという点で、図３に関して説明された実施形態と異なっている。その他の点では、システム４０の残りの構造は、上述された図３のシステム３０と同じ又は同様であってよい。
【００３７】
制御システム４１０は、コントローラ４１２と、１つ以上のセンサ４１４ａ及び４１４ｂと、１つ以上のコイル４１６ａ及び４１６ｂとを含むことができる。一実施形態では、コントローラ４１２は、レール１２０と磁束集束源２０５との間で磁束集束源２０５に取り付けられる。コントローラ４１２は、図４では磁気軸受構造内に示されているが、どこか別の場所に位置してもよいことがわかる。例えば、コントローラ４１２は、コントローラ４１２内の電子機器との干渉を最小限に抑える若しくは排除するために、又はコントローラ４１２を使用可能にすることの難しさを排除する若しくは軽減するために、磁束源４０５から十分な距離の位置に位置決めすることが望ましいだろう。コントローラ４１２は、（図４に示されるように）磁気軸受構造４００によって形成された内部空間内に位置してよく、その一方では、例えば磁気軸受構造４００によって運ばれる車両荷重内などのように、磁気軸受構造４００によって形成された内部空間の完全に外側に位置してもよい。コントローラ４１２は、例えば、後述される図７の磁気軸受構造７１０と７１２との間の中ほどのように、対応するレールに近接してそれぞれ位置決めされた２つの磁気軸受構造の間の中ほどの位置に位置してもよい。
【００３８】
１つ以上のセンサ４１４ａ及び４１４ｂは、磁束源３０４に取り付けられて、レール１２０と磁束源３０４との間で磁束源３０４の末端に位置決めすることができる。１つ以上のコイル４１６ａ及び４１６ｂのぞれぞれは、外側ケース３０２の２つの末端領域１５２の１つ又は内側ケース３０６の２つの末端領域１５６の１つ若しくは２つに巻き付けることができる。一実施形態では、末端領域１５２及び１５６の長さは、末端領域１５２及び１５６の厚さにおおよそ等しい。センサ４１４ａ及び４１４ｂ並びにコイル４１６ａ及び４１６ｂは、１つ以上の無線接続又は有線接続によってコントローラ４１２に接続することができる。
【００３９】
制御システム４１０は、磁気軸受構造４００をレール１２０に対して水平に中心合わせするために、コイル４１６ａ及び４１６ｂを流れる電流の振幅及び方向を制御することができる。一実施形態では、制御システム４１０は、磁束源３０４とレール１２０との間の水平磁力を均衡させることによって、磁束源３０４とレール１２０との間に実質的に一定の大きさの空隙１８０を維持する。空隙１８０の大きさは、磁気軸受構造４００の末端領域１５２及び１５６とレール１２０との間の最短距離として定めることができる。一実施形態では、空隙の大きさは、末端領域１５２及び１５６に最も近い部分の磁束源３０４の半径方向厚さのおおよそ５分の１である。一実施形態では、制御システム４１０は、レール１２０の両側において磁束を等しくするように機能する。一実施形態では、制御システム４１０は、レールの両側において実質的に等しい空隙１８０を維持する。
【００４０】
１つ以上のセンサ４１４ａ及び４１４ｂは、磁気軸受構造４００の水平位置を決定するために及びこの情報をコントローラ４１２に提供するために使用することができる。センサ４１４ａ及び４１４ｂは、センサ４１４ａ及び４１４ｂの少なくとも１つからレール１２０まで、別の物体まで、又は既定の基準点までの距離を示すセンサデータを生成することができる。センサ４１４ａ及び４１４ｂとしては、誘導式近接センサ、容量式変位センサ、又はレーザ式距離測定器が挙げられるが、これらに限定はされない。一実施形態では、センサ４１４ａ及び４１４ｂは、レール１２０に向かって光信号又は音響信号を発し、レール１２０によって反射される光信号又は音響信号の変化を測定する。別の一実施形態では、センサ４１４ａ及び４１４ｂは、センサ４１４ａ及び４１４ｂの少なくとも１つからレール１２０まで、別の物体まで、又は既定の基準点までの距離の変化率を示すセンサデータを生成することができる。センサ４１４ａ及び４１４ｂとしては、ドップラーベースのセンサが挙げられる。一実施形態では、センサ４１４ａ及び４１４ｂは、レール１２０に向かって光信号又は音響信号を発し、レール１２０によって反射される光信号又は音響信号の波長の変化を測定する。
【００４１】
各コイル４１６ａ及び４１６ｂは、電流を運ぶことができ、このような電流は、コイル４１６ａ及び４１６ｂのなかに磁束を生成する。したがって、各コイル４１６ａ及び４１６ｂは、コントローラ４１２によって供給される電流に応えて磁束を生成する電磁石として機能することができる。コイル４１６ａ及び４１６ｂの１つを流れる電流によって生成される磁束の方向を決定するためには、「右手の法則」を使用することができる。右手の法則は、人が、その右手の指を電流の流れる方向に（時計回り又は反時計回りのいずれかに）握ったときに、その親指が、生成される磁束の方向を指す、という考えを概して表すものである。生成される磁束は、磁束源３０４によって生成される磁束にバイアスをかけ、分別磁束制御を通じて磁気軸受構造４００への水平合力を提供すると考えられる。具体的には、レール１２０の両側において空隙１８０を横断する磁束の量は、コイル４１６ａ及び４１６ｂによって生成されるバイアス磁束を、磁束源３０４によって生成される磁束に追加することによって、分別的に調節することができる。
【００４２】
一実施形態では、コイル４１６ａ及び４１６ｂは、４つのコイルを含み、各コイルは、外側ケース３０２の２つの末端領域１５２の１つ又は内側ケース３０６の２つの末端領域１５６の１つ若しくは２つに巻き付けられる。具体的には、コイル４１６ａ及び４１６ｂは、末端領域１５２及び１５６の突端に巻き付けることができる。所望の方向への水平合力を生成するために、レール１２０の片側Ａにおける２つのコイル４１６ａは、直列に又は並列につなぐことができる。同様に、所望の方向への水平合力を生成するために、レール１２０の片側Ｂにおける２つのコイル４１６ｂは、直列に又は並列につなぐことができる。一実施形態では、同じ方向への水平合力を生成するために、４つのコイル４１６ａ及び４１６ｂが直列につながれる。別の一実施形態では、レール１２０の片側Ａにおける２つのコイル４１６ａ及びレール１２０の片側Ｂにおける２つのコイル４１６ｂは、独立に制御可能である。レールの両側におけるコイル４１６ａ及び４１６ｂの独立制御は、コントローラ４１２が、個々の磁束のみならず全磁束を制御することも可能にする。コイル４１６ａ及び４１６ｂによって生成される全磁束の調節は、磁気軸受構造４００によって生成される浮上合力を調節することができる。
【００４３】
コントローラ４１２は、垂直運動の能動減衰を提供するために、浮上合力を調節することができる。例えば、磁気軸受構造４００の垂直位置を決定するために及びこの情報をコントローラ４１２に提供するために、センサ４１４ａ及び４１６ｂの１つ以上を使用することができる。センサ４１４ａ及び４１４ｂは、センサ４１４ａ及び４１４ｂの少なくとも１つから大地まで、別の物体まで、又は既定の基準点までの距離を示すセンサデータを生成することができる。一実施形態では、もし磁気軸受構造４００の垂直位置が、所定の場所よりも上方であるならば、コントローラ４１２は、コイル４１６ａ及び４１６ｂを流れる電流を減少させることによって、浮上合力を減少させることができる。もし磁気軸受構造４００の垂直位置が、所定の場所よりも下方であるならば、コントローラ４１２は、コイル４１６ａ及び４１６ｂを流れる電流を増加させることによって、浮上合力を増加させることができる。
【００４４】
コイル４１６ａ及び４１６ｂによって生成される磁束は、空隙１８０をレール１２０へ横断する傾向が、より強いので、コイル４１６ａ及び４１６ｂは、レールに近接して配置することが、とりわけ有利である。レールに近接したコイル４１６ａ及び４１６ｂの配置は、磁気軸受構造４００の水平位置を制御するために必要とされる電力量を減らすことができる。
【００４５】
コントローラ４１２は、センサ４１４ａ及び４１４ｂの少なくとも１つから磁気軸受構造４００の水平位置を示している情報を受信し、該受信情報に基づいて、コイル４１６ａ及び４１６ｂの１つ以上を流れる電流を生成するように構成された、プロセッサ又はその
他の回路であってよい。
【００４６】
一実施形態では、制御システム４１０は、センサ４１４ａ及び４１４ｂによって決定されたレール１２０に相対的な磁気軸受構造４００の水平位置に基づいて、電流を生成する。一実施形態では、電流の強さは、センサ４１４ａ及び４１４ｂによって示される距離に比例する又は反比例する。例えば、一実施形態では、磁束源３０４は、磁束が外側ケース３０２から（例えば片側Ａにおける）その末端領域１５２を経てレール１２０を通り、同じ側における（例えば片側Ａにおける）内側ケース３０６の末端領域１５６を経て内側ケース３０６に戻るように誘導されるように、極性を付与される。一実施形態では、レール１２０の片側Ａにおける１つのコイル４１６ａは、内側ケース３０６の周りを（末端領域１５６に面しているレール１２０からの視点で見て）時計回りに電流が流れるように、内側ケース３０６の末端領域１５６に巻き付けることができる。レールの片側Ａにおけるもう１つのコイル４１６ａは、外側ケース３０２の周りを（末端領域１５２に面しているレール１２０からの視点で見て）反時計回りに電流が流れるように、外側ケース３０２の末端領域１５２に巻き付けることができる。制御システム４１０によって生成される電流がコイル４１６ａを上述の方向に（内側ケース３０６の末端領域１５６の周りを時計回りに及び外側ケース３０２の末端領域１５２の周りを反時計回りに）流れるときは、電流は、レール１２０の片側Ａにおいて空隙１８０を横断する磁束の量を増加させるバイアス磁束を生成することができる。レール１２０の片側Ａにおいて空隙１８０を横断する磁束の量の増加は、レール１２０の片側Ａにおけるレール１２０と末端領域１５２及び１５６との間の磁力を増加させると考えられる。制御システム４１０によって生成される電流がコイル４１６ａを反対方向に流れるときは、電流は、レール１２０の片側Ａにおいて空隙１８０を横断する磁束の量を減少させるバイアス磁束を生成することができる。レール１２０の片側Ａにおいて空隙１８０を横断する磁束の量の減少は、レール１２０の片側Ａにおけるレール１２０と末端領域１５２及び１５６との間の磁力を減少させると考えられる。
【００４７】
同様に、一実施形態では、レール１２０の片側Ｂにおける１つのコイル４１６ｂは、内側ケース３０６の周りを（末端領域１５６に面しているレール１２０からの視点で見て）反時計回りに電流が流れるように、内側ケース３０６の末端領域１５６に巻き付けることができる。レールの片側Ｂにおけるもう１つのコイル４１６ｂは、外側ケース３０２の周りを（末端領域１５２に面しているレール１２０からの視点で見て）時計回りに電流が流れるように、外側ケース３０２の末端領域１５２に巻き付けることができる。制御システム４１０によって生成される電流がコイル４１６ｂを上述の方向に（内側ケース３０６の末端領域１５６の周りを反時計回りに及び外側ケース３０２の末端領域１５２の周りを時計回りに）流れるときは、電流は、レール１２０の片側Ｂにおいて空隙１８０を横断する磁束の量を減少させるバイアス磁束を生成することができる。レール１２０の片側Ｂにおいて空隙１８０を横断する磁束の量の減少は、レール１２０の片側Ｂにおけるレール１２０と末端領域１５２及び１５６との間の磁力を減少させると考えられる。制御システム４１０によって生成される電流がコイル４１６ｂを反対方向に流れるときは、電流は、レール１２０の片側Ｂにおいて空隙１８０を横断する磁束の量を増加させるバイアス磁束を生成することができる。レール１２０の片側Ｂにおいて空隙１８０を横断する磁束の量の増加は、レール１２０の片側Ｂにおけるレール１２０と末端領域１５２及び１５６との間の磁力を増加させると考えられる。
【００４８】
制御システム４１０は、コイル４１６ａ及び４１６ｂを流れる電流の振幅及び方向を制御することによって、空隙１８０を横断する磁束を調節することができる。制御システム４１０は、レール１２０の一方の側における磁束を増加させつつ反対の側における磁束を減少させることによって、横方向の力を調節することができる。制御システム４１０は、レール１２０の両側の磁束を同時に増加させることによって、浮上力を増加させることができる。制御システム４１０は、レール１２０の両側の磁束を同時に減少させることによ
って、浮上力を減少させることができる。
【００４９】
一実施形態では、制御システム４１０によって生成され、レール１２０の片側Ａにおけるコイル４１６ａを流れる電流の強さは、レール１２０とレール１２０の片側Ａにおけるセンサ４１４ａとの間の距離に比例すると考えられる。一実施形態では、制御システム４１０によって生成され、レール１２０の片側Ａにおけるコイル４１６ａを流れる電流の強さは、レール１２０とレール１２０の片側Ｂにおけるセンサ４１４ｂとの間の距離に反比例すると考えられる。
【００５０】
一実施形態では、電流の強さは、センサ４１４ａ及び４１４ｂによって示される距離の二乗に比例する又は反比例する。別の一実施形態では、電流は、レール１２０の両側におけるセンサ４１４ａ及び４１４ｂによって示される距離の差に線形に又は非線形に比例する。電流は、少なくとも一部には、センサ４１４ａ及び４１４ｂからの測定結果に基づき、該測定結果は、少なくとも一部には、供給される電流に基づくので、制御システム４１０は、このフィードバック状況を効率よく実施するためのサーボ駆動を含むことができる。総じて、サーボ駆動は、制御システムからコマンド信号を受信し、該信号を増幅させ、コマンド信号に比例する運動を生成するための電流を送るものである。
【００５１】
図５は、一実施形態にしたがった制御システム４１０の機能ブロック図である。制御システム４１０は、メモリ４１９に結合されたコントローラ４１２と、１つ以上のセンサ４１４と、１つ以上のコイル４１６ａ及び４１６ｂに結合された電源４１８とを含むことができる。コントローラ４１２は、１つ以上のセンサ４１４から信号を受信し、図４に関して上述されたように、１つ以上のコイル４１６を流れる電流を生成するために電源４１８を制御する。
【００５２】
コントローラ４１２は、汎用プロセッサ、デジタル信号プロセッサ（ＤＳＰ）、特殊用途向け集積回路（ＡＳＩＣ）、フィールドプログラマブルゲートアレイ（ＦＰＧＡ）、又はその他のプログラマブルロジックデバイス、個別のゲート若しくはトランジスタロジック、個別のハードウェアコンポーネント、又はこれらを任意に適切に組み合わせて本明細書で説明された機能を実施するように設計されたものであってよい。コントローラ４１２は、また、ＤＳＰとマイクロプロセッサとの組み合わせ、複数のマイクロプロセッサ、１つ以上のマイクロプロセッサをＤＳＰコアと併せたもの、又は同様なその他の任意の構成などのように、計算装置を組み合わせたものとして実装することもできる。
【００５３】
コントローラ４１２は、メモリ４１９から情報を読み出す又はメモリ４１９に情報を書き込むために、１本以上のバスを通じて結合することができる。コントローラ４１２は、追加又は代わりとして、プロセッサレジスタなどのメモリを含むことができる。メモリ４１９は、異なるレベルが異なる容量とアクセス速度とを有するマルチレベル階層型キャッシュなどのプロセッサキャッシュを含むことができる。メモリ４１９は、また、ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）、その他の揮発性ストレージデバイス、又は不揮発性ストレージデバイスも含むことができる。一実施形態では、メモリ４１９は、センサ４１６から受信された信号に基づいて適切な電流を決定するためのアルゴリズムを格納している。
【００５４】
図６は、制御コイルに電流を供給する方法６００を示したフローチャートである。方法６００は、例えば、図５の制御システム４１０によって実施することができる。方法６００は、ブロック６１０において、水平位置を示すセンサデータの受信によって開始する。一実施形態では、センサデータは、センサからレールまで、別の物体まで、又は既定の基準点までの距離を示す。一実施形態では、センサデータは、センサからレールまで、別の物体まで、又は既定の基準点までの距離の変化率を示す。別の一実施形態では、センサデータは、それぞれが距離又は距離の変化率を示している複数のセンサからのデータを含む
。
【００５５】
次に、ブロック６２０において、センサデータが所定の閾値を超える距離又は速度を示しているかどうかが決定される。該決定は、例えば、図５のコントローラ４１２によって実施することができる。一実施形態では、所定の閾値は、ゼロであってよい。もし距離又は速度が、所定の閾値未満であるならば、方法６００は、ブロック６３０に進み、そこで、所定の時間にわたって休止する。ブロック６２０及び６３０を含むことによって、方法６００は、エネルギの不効率又は過剰なガタツキをもたらす可能性がある連続調整を実施することはない。
【００５６】
もしセンサデータが、所定の閾値を上回る距離又は速度を示していると決定されたならば、方法６００は、ブロック６４０に進み、受信されたセンサデータに対応する電流が決定される。該決定は、例えば、図５のコントローラ４１２によって実施することができる。一実施形態では、電流は、図４に関して上述されたように決定される。例えば、一実施形態では、電流は、センサによって示される距離に線形に比例する。別の一実施形態では、電流は、センサによって示される距離に反比例する。別の一実施形態では、電流は、センサによって示される距離の二乗に比例する又は反比例する。別の一実施形態では、電流は、レールの両側における２つのセンサによって示される距離の差に線形に又は非線形に比例する。更に別の一実施形態では、電流は、ルックアップテーブルに基づいて決定される。このようなルックアップテーブルは、例えば、図５のメモリ４１９に格納することができる。一実施形態では、電流は、センサによって示される速度に比例して決定される。別の一実施形態では、電流は、センサによって示される距離又は速度に基づいて決定される。
【００５７】
続いてブロック６５０において、決定された電流は、１つ以上の制御コイルに供給される。電流は、例えば、図５のコントローラ４１２による制御のもとで、電源４１８によって供給することができる。制御コイルに供給される電流は、制御コイルのなかに磁束を生成し、それによって、図５に関して上述されたように磁場にバイアスをかけ、水平力を提供するとともにレール上において軸受を水平方向に中心合わせする。一部の実施形態では、決定された電流は、ゼロであるかもしれないことがわかる。例えば、決定された電流は、外力の不在下でレールに対して磁気軸受が中心合わせされているときに、ゼロであると考えられる。
【００５８】
ブロック６５０の後に、方法６００は、ブロック６１０に戻って繰り返される。したがって、方法６００は、センサデータに基づいて、電流を連続的に供給する。一実施形態では、制御システム４１０は、レールに対して磁気軸受を連続的に中心合わせする。
【００５９】
図７は、レール１２０ａ及び１２０ｂに近接して位置決めされた磁気軸受構造７１０、７１２、７１４、及び７１６に荷重７６０を結合された車両７３０を含むシステム７０の、斜視図である。１本のレールではなく、２本の別々のレール１２０ａ及び１２０ｂ上で２つの磁気軸受構造を使用することは、それぞれのレール１２０ａ及び１２０ｂに対する磁気軸受構造の回転を有利に抑制することができる。更に、１本のレールではなく、２本の別々のレール１２０ａ及び１２０ｂ上で２つの磁気軸受構造を使用することは、車両７３０の回転も有利に抑制することができる。したがって、一実施形態では、車両７３０は、２本以上のレール１２０ａ及び１２０ｂ上に、２つ以上の磁気軸受構造を含む。
【００６０】
別の一実施形態では、車両７３０は、１本のレール上に、１つの磁気軸受構造を又は複数の磁気軸受構造を含むのみであり、回転は、その他の手段によって抑制される。例えば、車両７３０は、磁気軸受構造の両側に、地面に又はその他のレールに物理的に接触する２つ以上の車輪を含むことによって、車両７３０の回転に対抗することができる。
【００６１】
図７に示された実施形態では、車両７３０は、第１のレール１２０ａに近接して位置決めされた第１の軸受７１０と、第２のレール１２０ｂに近接して位置決めされた第２の軸受７１２とを含む。車両７３０は、更に、第１のレール１２０ａに近接して位置決めされた第３の軸受７１４と、第２のレール１２０ｂに近接して位置決めされた第４の軸受７１６とを含む。軸受７１０、７１２、７１４、及び７１６は、車両７３０及び荷重７６０に作用する重力に反作用する浮遊力又は浮上力を提供し、それによって、レールに沿った摩擦を軽減する。軸受７１０、７１２、７１４、及び７１６は、１つ以上の支持構造７６２を通じて荷重７６０に取り付けられる。これらの軸受は、溶接、ネジ留め、又はその他の取り付け手段を通じて荷重７６０に取り付けることができる。各軸受７１０、７１２、７１４、及び７１６は、図１〜４に関して上述された磁気軸受構造の１つと構造的に同じであってよい。一実施形態では、軸受７１０、７１２、７１４、及び７１６の少なくとも１つが、磁束集束源２０５を含む。一実施形態では、軸受７１０、７１２、７１４、及び７１６の少なくとも１つが、半径方向に非均一な厚さ及び／又は強度を有する外側ケース３０２、磁束源３０４、又は内側ケース３０６を含む。一実施形態では、軸受７１０、７１２、７１４、及び７１６の少なくとも１つが、軸受７１０、７１２、７１４、及び７１６の末端に位置する少なくとも１つの制御コイルを含む。
【００６２】
１つ以上の位置センサと１つ以上の制御コイルとを含む制御システム（不図示）が、車両７３０の水平位置を制御することができる。例えば、制御システムは、軸受７１０、７１２、７１４、及び７１６がレール１２０ａ及び１２０ｂに接触しないように、軸受７１０、７１２、７１４、及び７１６を水平方向に中心合わせされた状態で維持することができる。この非接触は、摩擦を軽減することができる。一実施形態では、１つ以上の制御コイルは、図４に関して上述されたように水平力を提供するために、それぞれ１つ以上の電流を運ぶように構成される。
【００６３】
一実施形態では、システムは、参照によって全体を本明細書に組み込まれる米国特許出願第１２／０４８，０６２号に記載されるように、非対称的な空隙を使用することができる。一実施形態では、軸受７１０、７１２、７１４、及び７１６とレール１２０ａ及び１２０ｂとの間の内側空隙１８０ａは、軸受７１０、７１２、７１４、及び７１６とレール１２０ａ及び１２０ｂとの間の外側空隙１８０ｂとは異なる大きさである。したがって、もし車両７３０が、例えば制御システムの機能不良又は「オフ」状態ゆえに水平方向に変位されたならば、一方の軸受のみがレールに接触するだろう。
【００６４】
この接触状態からの車両７３０の脱離は、車両がレールに接触するところに近接して位置決めされたコイルを流れる大電流を制御システムによって生成することによって、実施することができる。車両７３０は、また、磁力を打ち消す水平力を提供する機械的な持ち上げシステムを使用して、この接触状態から脱離させることも可能と考えられる。一実施形態では、車両７３０は、レールに物理的に接触することによって車両の水平運動を阻止する展開式の接触部（不図示）を含む。有利なことに、該展開式接触部は、ひとたび制御システムが機能したら、展開式接触部とレールとの間の摩擦を阻止するために、車両７３０がレールに沿って動き始める前に引っ込めることが可能だと考えられる。
【００６５】
制御システムは、車両７３０の水平位置、垂直位置、縦揺れ、偏揺れ、及び横揺れを制御するために、各軸受７１０、７１２、７１４、及び７１６に巻き付けられた制御コイルを流れる電流を独立に生成するように構成することができる。車両７３０は、レール１２０ａ及び１２０ｂの方向に推進力を提供する機関車も含むことができる。したがって、車両７３０は、６つの自由度を与えられる。一実施形態では、機関車は、従来の、車輪付き機関車を含む。別の一実施形態では、機関車は、参照によって全体を本明細書に組み込まれる米国特許出願第１２／０４８，０６２号又は米国特許第７，６１７，７７９号に記載
されるようなリニアモータを含む。
【００６６】
図７には、４つの軸受７１０、７１２、７１４、及び７１６のみが示されているが、車両又はシステムは、更なる独立軸受けを様々な構成で含むことが可能だろうことがわかる。例えば、軸受は、車両の四隅におおよそ位置決めすることができる。別の例として、車両の軸長と同様なおおよその軸長を有する軸受を、車両の各側に位置決めすることができる。このような一実施形態では、軸受は、縦揺れを制御するために、軸受の各軸端に近接して位置決めされた独立制御式の制御コイルを含むことができる。一実施形態では、軸受を有する複数の車両を、１つ以上の車輪付き機関車又は浮上式機関車によって引っ張る又は押すことができる。
【００６７】
図７の車両７３０などの浮上式プラットフォームが、車輪付きカートとは対照的に有する幾つかの利点として、なかでも特に、機械的パーツの摩耗の減少、生成される外部からの熱の減少、及びノイズの減少が挙げられる。ハイブリッド式浮上システムは、摩擦を軽減されるおかげで、従来のシステムよりもエネルギ効率が良いという潜在性を有する。本発明の一実施形態は、１つ以上の磁気軸受を含むマグレブシステムを含む。
【００６８】
上記の説明は、本発明の新規の特徴を様々な実施形態に適用して挙げているが、当業者にならば、例示された装置又はプロセスの形態及び詳細において、発明の範囲から逸脱することなく様々な省略、置換、及び変更をなすことが可能であることが理解される。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【国際調査報告】
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