(57)【要約】表示機器（１０）は、発光素子のような表示素子（２０）、またはＭＥＭＳデバイスのような光反射素子と、前記表示素子を覆うガラスタッチパネル（３０）と、を有し、外側表面（５０）は凹凸状に形成される。前記パネルは薄く、１．１ｍｍ以下の厚さを、内側表面（４０）と外側表面（５０）との間に有する。
2014505268.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示素子と、
該表示素子を覆うガラスタッチパネルと、を備え、該ガラスタッチパネルは、アルカリを全く含まない、または２重量％未満のアルカリ含有量、５０ｘ１０−７／℃以下のＣＴＥ、及び０．５以上の散乱率（拡散透過率を合計透過率で除算して得られる）を有し、前記パネルは、対向する内側表面及び外側表面を有し、前記内側表面は前記表示素子に対して内側方向に対向しており、そして前記外側表面は前記表示素子に対して外側方向に離れる位置で対向しており、前記外側表面は凹凸状に形成され、前記内側表面は凹凸状に形成されず、前記パネルは、１．１ｍｍ以下の厚さを、前記内側表面と外側表面との間に有し、前記パネルは、前記外側方向に９０％以上の合計順方向透過率を有する、
表示機器。
【請求項２】
前記ガラスタッチパネルのＣＴＥは、前記表示素子の少なくとも一部のＣＴＥの±１０%以内である、請求項１に記載の表示機器。
【請求項３】
前記ガラスパネルは、３００〜１２００ｎｍの全ての波長に対応して０．５以上の散乱率を有する、請求項１に記載の表示機器。
【請求項４】
前記ガラスパネルの前記外側表面の相関長は、５００ｎｍ超かつ２マイクロメートル未満である、請求項１に記載の表示機器。
【請求項５】
前記ガラスパネルの前記外側表面のＲＭＳ粗さは、５００ｎｍ超かつ１．２５マイクロメートル未満である、請求項１に記載の表示機器。
【請求項６】
前記ガラスパネルの前記外側表面は、前記ガラスパネルの前記外側表面の法線軸の回りの−３０〜＋３０度の間で０．０７（ｓｒ）−１超のｃｃＢＴＤＦ（余弦補正双方向透過率分布関数）を示す、請求項１に記載の表示機器。
【請求項７】
前記ガラスパネルの前記外側表面は、前記ガラスパネルの前記外側表面の法線軸の回りの−２０〜＋２０度の間で０．１０（ｓｒ）−１超のｃｃＢＴＤＦを示す、請求項１に記載の表示機器。
【請求項８】
前記表示素子は、微小電気機械システム（ＭＥＭＳ）デバイス、電気泳動表示（ＥＤＰ）デバイス、液晶表示（ＬＣＤ）デバイス、デジタルライト処理（ＤＬＰ）装置、または液晶オンシリコン（ＬＣＯＳ）デバイスである、請求項１に記載の表示機器。
【請求項９】
ＭＥＭＳデバイスと、
該ＭＥＭＳデバイスを覆うガラスタッチパネルと、を備え、該ガラスタッチパネルは、アルカリを全く含まない、または２重量％未満のアルカリ含有量、５０ｘ１０−７／℃以下のＣＴＥ、及び０．５以上の散乱率（拡散透過率を合計透過率で除算して得られる）を有し、前記パネルは、対向する内側表面及び外側表面を有し、前記内側表面は前記ＭＥＭＳデバイスに対して内側方向に対向しており、そして前記外側表面は前記ＭＥＭＳデバイスに対して外側方向に離れる位置で対向しており、前記外側表面は凹凸状に形成され、前記内側表面は凹凸状に形成されず、前記パネルは、１．１ｍｍ以下の厚さを、前記内側表面と外側表面との間に有し、前記パネルは、前記外側方向に９０％以上の合計順方向透過率を有する、
表示機器。
【発明の詳細な説明】
【関連出願の相互参照】
【０００１】
本出願は、２０１０年１１月３０日に出願された米国仮特許出願第６１／４１８，０２３号の優先権の利益を米国特許法第１１９条（３５Ｕ．Ｓ．Ｃ．§１１９）に基づいて主張するものであり、この仮特許出願の内容は、本明細書で参照することにより、当該出願の内容全体が援用され、そして本明細書に組み込まれる。
【技術分野】
【０００２】
本明細書は概して、表示機器に関するものであり、特にガラスパネルを有する電子表示機器に関するものである。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００３】
本明細書において開示されるのは、表示素子及び該表示素子を覆うガラスパネルにより構成される表示機器である。当該表示素子は、バックライト素子のような発光素子、または光反射素子（バックライトを持たない素子、例えば周囲光を反射する素子のような、ＭＥＭＳディスプレイのような、または電気泳動ディスプレイ（ＥＤＰ）のような）の何れかとすることができ、そして当該表示素子は、画像をガラスパネルに向かって表示するように構成される。当該ガラスパネルは光拡散性であり、そして引っ掻き耐性を有することが好ましく、そして熱的、化学的、かつ機械的に強固であることが好ましい。幾つかの実施形態では、ガラスパネルはガラスタッチパネルである。ガラスパネルは、低アルカリ性とするか、またはアルカリを殆ど含まないかの何れかとすることができ、そして幾つかの実施形態では、アルカリを全く含まない。
【０００４】
幾つかの実施形態では、ガラスパネルは、９０％超の合計透過率、及び７５％超のヘイズ率を実現する。
【０００５】
幾つかの実施形態では、表示素子は、微小電気機械システム（ＭＥＭＳ）デバイス、電気泳動ディスプレイ（ＥＤＰ）、液晶表示デバイス（ＬＣＤ）、デジタルライト処理（ＤＬＰ）装置、または液晶オンシリコン（ＬＣＯＳ）デバイスである。
【０００６】
第１の態様では、光反射素子、及び該光反射素子を覆うガラスタッチパネルにより構成される表示機器が本明細書において開示される。一連の実施形態では、当該光反射素子はＭＥＭＳデバイスであるので、本明細書に開示される表示機器は、ＭＥＭＳデバイス、及び該ＭＥＭＳデバイスを覆うガラスタッチパネルにより構成される。別の一連の実施形態では、当該光反射素子はＥＤＰデバイスであるので、本明細書に開示される表示機器は、ＥＤＰデバイス、及び該ＥＤＰデバイスを覆うガラスタッチパネルにより構成される。
【０００７】
一連の実施形態では、ＭＥＭＳデバイス、及び該ＭＥＭＳデバイスを覆うガラスタッチパネルを備える表示機器が、本明細書において開示される。前記ガラスタッチパネルは、アルカリを全く含まない、５０ｘ１０−７／℃以下のＣＴＥ、及び０．５以上の散乱率（拡散透過率を合計透過率で除算して得られる）を有し、前記パネルは、対向する内側表面及び外側表面を有し、前記内側表面は前記ＭＥＭＳデバイスに対して内側方向に対向しており、そして前記外側表面は、前記ＭＥＭＳデバイスに対して外側方向に離れた位置で対向しており、前記外側表面は凹凸状に形成され、前記内側表面は凹凸状に形成されず、前記パネルは、１．１ｍｍ以下の厚さを、前記内側表面と外側表面との間に有し、前記パネルは、前記外側方向に９０％以上の合計順方向透過率を有する。
【０００８】
別の一連の実施形態では、ＭＥＭＳデバイス、及び該ＭＥＭＳデバイスを覆うガラスタッチパネルを備える表示機器が、本明細書において開示される。前記ガラスタッチパネルは、アルカリを全く含まない、５０ｘ１０−７／℃以下のＣＴＥ、及び０．７５以上の散乱率（拡散透過率を合計透過率で除算して得られる）を有し、前記パネルは、対向する内側表面及び外側表面を有し、前記内側表面は前記ＭＥＭＳデバイスに対して内側方向に対向しており、そして前記外側表面は、前記ＭＥＭＳデバイスに対して外側方向に離れた位置で対向しており、前記外側表面は凹凸状に形成され、前記内側表面は凹凸状に形成されず、前記パネルは、１．１ｍｍ以下の厚さを、前記内側表面と外側表面との間に有し、前記パネルは、前記外側方向に９０％以上の合計順方向透過率を有する。
【０００９】
第２の態様では、表示素子、及び該表示素子を覆うカバーガラスにより構成される表示機器が本明細書において開示される。一連の実施形態では、前記表示素子は光反射素子であるので、本明細書において開示される表示機器は、外側を向いた基板表面を有する光反射素子、及び該光反射素子に接合され、かつ該光反射素子を覆うカバーガラスにより構成される。当該カバーガラスは、コーニングインコーポレーテッド社のＧｏｒｉｌｌａ（登録商標）ガラスのようなイオン交換強化ガラスとすることができる。
【００１０】
本発明の更に別の特徴及び利点は、以下の詳細な説明において開示され、そしてかなりの程度、この技術分野の当業者であれば、当該説明から容易に理解する、または以下の詳細な説明、請求項だけでなく添付の図面を含む本明細書において記載される実施形態を実施することにより容易に理解することができる。
【００１１】
これまでの概要説明、及び以下の詳細な説明の両方は、種々の実施形態について記載しており、そして請求する主題の本質及び特徴を理解するための概要または概略を提供するために利用される。添付の図面は、種々の実施形態を更に深く理解することができるために取り込まれ、そして本明細書の一部に組み込まれ、そして一部を構成する。これらの図面は、本明細書において開示される種々の実施形態を示し、そして説明と併せて、請求する主題の原理及び動作を説明するために利用される。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本明細書において開示され、かつ発光素子及び当該発光素子を覆うガラスパネルにより構成される表示機器の断面模式図である。
【図２】コーニングインコーポレーテッド社のＥＡＧＬＥ  ＸＧ（登録商標）ガラスにより形成されるガラスパネルをメディアブラスト及びエッチングした後の合計透過率を示している。
【図３】コーニングインコーポレーテッド社のＥＡＧＬＥ  ＸＧ（登録商標）ガラスにより形成されるガラスパネルに関して選択される４つの異なるヘイズ率の変化（上から下に見たときの超高ヘイズ率、高ヘイズ率、中ヘイズ率、及び低ヘイズ率の変化）を示している。
【図４】コーニングインコーポレーテッド社のＥＡＧＬＥ  ＸＧ（登録商標）ガラスにより形成される高ヘイズ率の光拡散性ガラスパネルのヘイズ率測定値（すなわち、拡散透過率を合計透過率で除算して得られる比として定義される散乱率）を示している。
【図５】コーニングインコーポレーテッド社のＥＡＧＬＥ  ＸＧ（登録商標）ガラスにより形成される４００，６００，８００，及び１０００ｎｍにおける中ヘイズ率の光拡散性ガラスパネルの小角散乱（すなわち、（ｓｒ）−１単位で表わされる補正後の双方向透過率分布関数（ｃｃＢＴＤＦ））を示している。
【図６】コーニングインコーポレーテッド社のＥＡＧＬＥ  ＸＧ（登録商標）ガラスにより形成される４００，６００，８００，及び１０００ｎｍにおける高ヘイズ率の光拡散性ガラスパネルの小角散乱（すなわち、（ｓｒ）−１単位で表わされる補正後の双方向透過率分布関数（ｃｃＢＴＤＦ））を示している。
【図７】コーニングインコーポレーテッド社のＥＡＧＬＥ  ＸＧ（登録商標）ガラスにより形成される高ヘイズ率の光拡散性ガラスパネルの合計反射率測定値を示している。
【図８】本明細書において開示され、かつＭＥＭＳデバイスを備える表示機器を製造する様子を模式的に示している。
【図９】本明細書において開示され、かつＭＥＭＳアレイ及びガラスパネルを含むＭＥＭＳデバイスにより構成される表示機器を模式的に示している。
【図１０】本明細書において開示され、かつＥＰＤデバイス及びガラスパネルにより構成される表示機器を模式的に示しており、ガラスパネルは、ＥＰＤデバイスの共通電極基板として機能する。
【図１１】本明細書において開示され、かつカバーガラスと、そして光反射素子、例えばＥＰＤデバイスのような表示素子と、により構成される表示機器を模式的に示している。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
次に、ガラスパネルを備える表示装置、及び同表示装置を製造する方法の種々の実施形態を詳細に参照することとし、これらの実施形態の例は、添付の図面に図示される。
【００１４】
図１を参照するに、表示素子２０、及び当該表示素子２０を覆うガラスパネル３０により構成される表示機器１０が本明細書において開示される。表示素子２０は、画像をガラスパネル３０に向かって表示するように構成される。パネル３０は、内側表面４０と、そして外側表面５０と、を有する、すなわち対向する内側表面４０及び外側表面５０を有する。内側表面４０は表示素子２０に対して内側方向に対向し、そして外側表面５０は発光素子２０に対して、外側方向に離れた位置で対向する。従って、表示素子２０は、画像をガラスパネル３０の内側表面４０に向かって表示するように構成される。外側表面５０は、光が拡散するように凹凸状に形成されている。従って、ガラスパネル３０は光拡散性である。内側表面４０は凹凸状に形成されていない、すなわち非凹凸状にしている。パネル３０は厚さ「Ｔ」を有する。
【００１５】
幾つかの実施形態では、ガラスパネルの厚さは、約１．１ｍｍ以下であり、幾つかの実施形態では、約０．７ｍｍ以下であり、そして幾つかの実施形態では、約０．５ｍｍ以下である。
【００１６】
幾つかの実施形態では、内側表面４０は表示素子２０の上に、または表示素子２０の近傍に配置される。幾つかの実施形態では、内側表面４０を表示素子２０に接合させる。幾つかの実施形態では、内側表面４０が表示素子２０に直接接触する。
【００１７】
好適には、ガラスパネル３０は、ガラスパネル３０の内側表面４０に衝突する光の光透過率を高くし、かつ散乱率を低くする。幾つかの実施形態では、ガラスパネル３０は、外側方向に９０％以上の合計順方向透過率を有する。
【００１８】
幾つかの実施形態では、ガラスパネルの内側表面４０は、表示素子２０がＭＥＭＳデバイスである実施形態におけるように平坦であり；これらの実施形態のうちの幾つかの実施形態では、ガラスパネル３０は、フュージョンドロー法で製造されたガラス、研磨ガラス、またはフュージョンドロー法で製造された研磨ガラスから選択され；幾つかの実施形態では、ガラスパネル３０の内側表面４０は、研磨内側表面である。
【００１９】
幾つかの実施形態では、ガラスパネル３０はコーティングされない。幾つかの実施形態では、ガラスパネル３０の外側表面５０はコーティングされない。幾つかの実施形態では、反射防止コーティングは、ガラスパネル３０の外側表面５０に設けない。
【００２０】
幾つかの実施形態では、ガラスパネル３０の外側表面５０の相関長は、５００ｎｍ超であり、かつ２マイクロメートル未満である。幾つかの実施形態では、ガラスパネルの外側表面の相関長は、７５０ｎｍ超であり、かつ１．５マイクロメートル未満である。
【００２１】
幾つかの実施形態では、ガラスパネル３０の外側表面５０のＲＭＳ（自乗平均平方根）粗さは、２５０ｎｍ超であり、かつ１．５マイクロメートル未満である。幾つかの実施形態では、ガラスパネルの外側表面のＲＭＳ粗さは、５００ｎｍ超であり、かつ１．２５マイクロメートル未満である。
【００２２】
幾つかの実施形態では、ガラスパネルの外側表面は、ガラスパネルの外側表面の法線軸の回りの−３０度〜＋３０度の間で、０．０７（ｓｒ）−１超の余弦補正双方向透過率分布関数（ｃｏｓｉｎｅ  ｃｏｒｒｅｃｔｅｄ  ｂｉｄｉｒｅｃｔｉｏｎａｌ  ｔｒａｎｓｍｉｔｔａｎｃｅ  ｄｉｓｔｒｉｂｕｔｉｏｎ  ｆｕｎｃｔｉｏｎ：ｃｃＢＴＤＦ）を示す。
【００２３】
幾つかの実施形態では、ガラスパネルの外側表面は、ガラスパネルの外側表面の法線軸の回りの−２０度〜＋２０度の間で、０．１０（ｓｒ）−１超のｃｃＢＴＤＦを示す。
【００２４】
幾つかの実施形態では、ガラスパネルは、０．５以上の散乱率を、３００〜１２００ｎｍの全ての波長に対応して有し；幾つかの実施形態では、ガラスパネルは、０．７５以上の散乱率を、３００〜１２００ｎｍの全ての波長に対応して有し；幾つかの実施形態では、ガラスパネルは、０．８０以上の散乱率を、３００〜１２００ｎｍの全ての波長に対応して有し；幾つかの実施形態では、ガラスパネルは、０．８５以上の散乱率を、３００〜１２００ｎｍの全ての波長に対応して有し；幾つかの実施形態では、ガラスパネルは、０．９０以上の散乱率を、３００〜１２００ｎｍの全ての波長に対応して有し；そして幾つかの実施形態では、ガラスパネルは、０．９５以上の散乱率を、３００〜１２００ｎｍの全ての波長に対応して有する。
【００２５】
ガラスパネルは、引っ掻き耐性を有することが好ましく、そして熱的、化学的、かつ機械的に強固であることが好ましい。幾つかの実施形態では、ガラスパネルはガラスタッチパネルである。ガラスパネルは、低アルカリ性であるか、またはアルカリを殆ど含まないかの何れかであり、そして幾つかの実施形態では、アルカリを全く含まない。「ｌｏｗ  ａｌｋａｌｉ（低アルカリ性）」とは、アルカリが２重量％未満であることを意味する。「ａｌｋａｌｉ−ｆｒｅｅ（無アルカリ）」とは、殆どアルカリが存在せず、微量にしかガラスに含まれていない状態を指す。
【００２６】
幾つかの実施形態では、ガラスパネルのＣＴＥは、表示素子の少なくとも一部のＣＴＥに一致する。幾つかの実施形態では、ガラスパネルのＣＴＥは、表示素子の少なくとも一部のＣＴＥの±１０％以内である。幾つかの実施形態では、ガラスパネルは、６０ｘ１０−７／℃のＣＴＥを有し、そして幾つかの実施形態では、５０．０ｘ１０−７／℃以下のＣＴＥを有する。幾つかの実施形態では、ガラスパネルは、３０．０ｘ１０−７／℃〜５０．０ｘ１０−７／℃のＣＴＥを有する。
【００２７】
ガラスパネルの外側表面は、例えばラッピング、サンドブラスティングまたはハイドロブラスティング、化学エッチング、及びこれらの組み合わせによって凹凸状に形成することにより、適切な合計透過率及びヘイズ率を実現することができる。得られる凹凸によって、選択範囲の固有サイズ及び形状が得られるので、所望の光学的特性を実現することができる。幾つかの実施形態では、凹凸は、２ステップ法によって得られるような、なだらかなクレーターを含み、この場合、固有直径サイズは、マイクロメートルの範囲であり、幾つかの実施形態では、１〜５μｍであり；この２ステップ法の第１ステップでは、マイクロクラックをガラス表面に発生させるラッピングまたはサンドブラスティングを行ない、そして第２ステップでは、酸エッチングを行ない、このエッチングは、マイクロクラックの縁から始まり、そしてこのエッチングにより、これらの縁を丸めて、よりなだらかなパターンにする。第１ステップでは、ガラス表面を、研磨微粒子流でメディア研磨またはメディアブラストすることができ、これらの研磨微粒子をスラリー内で脱イオン化（ＤＩ）水と混合させる。ラッピングの場合、このようなスラリーをガラスとラッピングプレートとの間に滴下するのに対し、サンドブラスティングの場合は、スラリーを圧縮空気で噴出させる。水を研磨剤と混合して、空気のみを用いる場合よりも微細な研磨粒子を用いることができ、これにより、水が減衰媒体として衝突粒子に作用するので、全体的に表面にはより少ない割れしか発生しない。第２ステップ（酸エッチング）では、第１ステップ後に得られる凹凸を部分的に変化させ、そしてマイクロクラックをガラス表面に発生させるメディア研磨またはメディアブラスト後のガラス表面強度を元通りに回復させる。この結果、極めて高い光拡散性を持つ表面が、合計透過率を高く維持したままで得られ、これにより、光利用率を、反射光線の量が減少することにより向上させることができる。
【００２８】
１つの実施形態では、ガラスパネルは、コーニングインコーポレーテッド社のＥＡＧＬＥ  ＸＧ（登録商標）ガラスにより構成される。別の実施形態では、ガラスパネルは、コーニングインコーポレーテッド社のＧｏｒｉｌｌａ（登録商標）ガラスにより構成される。
【００２９】
図２〜７は、コーニングインコーポレーテッド社のＥＡＧＬＥ  ＸＧ（登録商標）ガラスにより形成され、かつ上に概要説明した２ステップ法によって処理される種々のガラスパネルに関するものであり：微細な網（＃６００、５〜２０μｍの粒子サイズに対応し、メジアン径は１０μｍである）を通過させて得られるアルミナ粒子を用いた研磨溶液を利用し、アルミナは、アルミナの硬度が高いという理由により使用され、そして微細粒子を分散させて微小マイクロクラックをガラス表面に形成し、溶液の含有物は、水に含まれる２０〜８０％重量のアルミナであり；ブラスト処理条件に関しては、処理時間が、研磨粒材の衝突痕跡が形成される表面の割れに影響し；試料は、サンドブラストステップまたはラッピングステップの後にエッチングすることにより、第１ステップ後に得られる凹凸を部分的に変化させ、そしてメディアブラスト法によってマイクロクラックがガラス表面に発生するので、ガラス表面強度を元通りに回復させ、ＨＦ：ＨＣｌ：Ｈ２Ｏの１：１：２０溶液を利用して５〜１５分間のエッチングを行ない；そして全試料をエッチングステップ後に、リンス洗浄し、そしてクリーニングした。
【００３０】
図２は、メディアブラスト及びエッチングを光拡散性ガラスパネルに対して行なった後の合計透過率を示している。
【００３１】
図３は、ガラスパネルに関して選択される４つの異なるヘイズ率の変化（上から下に見て、超高ヘイズ率、高ヘイズ率、中ヘイズ率、及び低ヘイズ率の変化）を示している。
【００３２】
図４は、高ヘイズ率の光拡散性ガラスパネルのヘイズ率測定値（すなわち、拡散透過率を合計透過率で除算した比として定義される散乱率）を示している。
【００３３】
図５は、４００，６００，８００，及び１０００ｎｍにおける中ヘイズ率の光拡散性ガラスパネルの小角散乱（すなわち、（ｓｒ）−１単位で表わされる補正後の双方向透過率分布関数（ｃｃＢＴＤＦ））を示している。
【００３４】
図６は、４００，６００，８００，及び１０００ｎｍにおける高ヘイズ率の光拡散性ガラスパネルの小角散乱（すなわち、（ｓｒ）−１単位で表わされる補正後の双方向透過率分布関数（ｃｃＢＴＤＦ））を示している。
【００３５】
図７は、高ヘイズ率の光拡散性ガラスパネルの合計反射率測定値を示している。
【００３６】
一連の実施形態では、ＭＥＭＳデバイスと、そして当該ＭＥＭＳデバイスを覆うガラスタッチパネルと、を備える表示機器が本明細書において開示される。ガラスタッチパネルは、コーニングインコーポレーテッド社のＥＡＧＬＥ  ＸＧ（登録商標）ガラスにより構成され、かつ５０ｘ１０−７／℃以下のＣＴＥ、及び０．５以上の散乱率（拡散透過率を合計透過率で除算して得られる）を有し、当該パネルは、対向する内側表面及び外側表面を有し、内側表面はＭＥＭＳデバイスに対して内側方向に対向し、そして外側表面はＭＥＭＳデバイスに対して、外側方向に離れた位置で対向しており、外側表面は、２ステッププロセスにより凹凸状に形成され、内側表面は凹凸状に形成されず、パネルは、１．１ｍｍ以下の厚さを、内側表面と外側表面との間に有し、パネルは、外側方向に９０％以上の合計順方向透過率を有する。内側表面は、平坦かつ平滑である。
【００３７】
別の一連の実施形態では、ＭＥＭＳデバイスと、そして当該ＭＥＭＳデバイスを覆うガラスタッチパネルと、を備える表示機器が本明細書において開示される。ガラスタッチパネルは、コーニングインコーポレーテッド社のＥＡＧＬＥ  ＸＧ（登録商標）ガラスにより構成され、かつ５０ｘ１０−７／℃以下のＣＴＥ、及び０．５以上の散乱率（拡散透過率を合計透過率で除算して得られる）を有し、当該パネルは、対向する内側表面及び外側表面を有し、内側表面はＭＥＭＳデバイスに対して内側方向に対向しており、そして外側表面はＭＥＭＳデバイスに対して外側方向に離れた位置で対向しており、外側表面は、２ステッププロセスにより凹凸状に形成され、内側表面は凹凸状に形成されず、パネルは、約０．３ｍｍの厚さを、内側表面と外側表面との間に有し、パネルは、外側方向に９０％以上の合計順方向透過率を有する。内側表面は平滑であり、そしてＭＥＭＳデバイスは、平滑な内側表面に配置されるＭＥＭＳアレイを含む。従って、凹凸状に形成される外側表面は視聴者に対向して、視聴者がガラスパネル（または、基板）を通してアレイを眺めるようになっている。表示機器の外側の周囲光及び／又は前面光は、アレイにより反射されて視聴者の方に戻るようにして進む。
【００３８】
図８は、本明細書において開示され、かつＭＥＭＳデバイスを備える表示機器を製造する様子を模式的に示している。ＭＥＭＳアレイをガラスパネル３０の平滑な内側表面４０に堆積させ、内側表面４０は、凹凸状に形成される外側表面５０とは反対側に位置している。図９は、完成品のＭＥＭＳデバイス（ＭＥＭＳアレイを含む）及びガラスパネル３０により構成される表示機器１０を模式的に示している。
【００３９】
更に別の一連の実施形態では、ＥＰＤ（電子ペーパーディスプレイ）デバイスと、そして当該ＥＰＤデバイスを覆うガラスタッチパネルと、を備える表示機器が本明細書において開示される。ガラスタッチパネルは、コーニングインコーポレーテッド社のＥＡＧＬＥ  ＸＧ（登録商標）ガラスにより構成され、かつ５０ｘ１０−７／℃以下のＣＴＥ、及び０．５以上の散乱率（拡散透過率を合計透過率で除算して得られる）を有し、当該パネルは、対向する内側表面及び外側表面を有し、内側表面はＥＰＤデバイスに対して内側方向に対向しており、そして外側表面はＥＰＤデバイスに対して外側方向に離れる位置で対向しており、外側表面は、２ステッププロセスにより凹凸状に形成され、内側表面は凹凸状に形成されず、当該パネルは、約１．１ｍｍ未満の厚さを内側表面と外側表面との間に有し、当該パネルは、外側方向に９０％以上の合計順方向透過率を有する。幾つかの実施形態では、ＥＰＤデバイスは、下側基板に配置されるＴＦＴアレイを備え、ＴＦＴアレイは、上側基板に配置される共通電極に対向しており；ガラスパネルのうちの凹凸状に形成されていない方の（平滑な）内側表面は、上側基板に直接接合させて、凹凸状に形成されている外側表面が視聴者に対向して、視聴者がガラスパネルを通してアレイを眺めるようになっており；表示機器の外側の周囲光及び／又は前面光は、アレイにより反射されて視聴者の方に戻るようにして進み；ガラスパネルは従って、カバーガラスとして機能する。他の実施形態では、ＥＰＤデバイスは、下側基板に配置されるＴＦＴアレイを備え、ＴＦＴアレイは、ガラスパネルのうちの凹凸状に形成されていない方の（平滑な）内側表面に配置される共通電極に対向しているので（ガラスパネルは従って、上側基板として機能する）、凹凸状に形成されている外側表面が視聴者に対向して、視聴者がガラスパネルを通してアレイを眺めるようになっており；表示機器の外側の周囲光及び／又は前面光は、アレイにより反射されて視聴者の方に戻るようにして進み；ガラスパネルは従って、ＥＰＤデバイスの上側基板として機能し；このような表示機器は、前面偏光板を持たないのが好ましい。
【００４０】
別の一連の実施形態では、ＥＰＤデバイスと、そして当該ＥＰＤデバイスを覆うガラスタッチパネルと、を備える表示機器が本明細書において開示される。図１０及び１１を参照するに、ＥＰＤデバイスは、ＴＦＴ基板９０と、当該ＴＦＴ基板に配置されるＴＦＴアレイ８０と、共通電極基板と、当該共通電極基板に配置される共通電極６０と、そして共通電極６０とＴＦＴアレイ８０との間に配置されるインクカプセル７０と、により構成される。図１０は、本明細書において開示され、かつＥＰＤデバイス及びガラスパネル３０により構成される表示機器を模式的に示しており、この場合、ガラスパネル３０は、ＥＰＤデバイスの共通電極基板として機能する。幾つかの実施形態では、ガラスパネル３０は、コーニングインコーポレーテッド社のＥＡＧＬＥ  ＸＧ（登録商標）ガラスである。図１１は、本明細書において開示され、かつ光反射素子、例えばＥＰＤデバイスのような表示素子と、そしてカバーガラスパネル３０と、により構成される表示機器を模式的に示しており、この場合、外側表面５０は凹凸状に形成される。カバーガラスパネル３０は、コーニングインコーポレーテッド社のＧｏｒｉｌｌａ（登録商標）ガラスとすることができ、そして共通電極基板５５は、コーニングインコーポレーテッド社のＥＡＧＬＥ  ＸＧ（登録商標）ガラスとすることができる。カバーガラスパネル３０は、共通電極基板５５に接合させることができる。
【００４１】
この技術分野の当業者であれば、種々の変形及び変更を本明細書において記載されるこれらの実施形態に、請求する主題の思想及び範囲から逸脱しない限り加えることができることを理解できるであろう。従って、本明細書は、このような変形及び変更が添付の請求項、及びこれらの請求項の均等物の範囲に含まれる場合には、本明細書において記載される種々の実施形態の変形及び変更を包含するものである。
【符号の説明】
【００４２】
１０    表示機器
２０    表示素子、発光素子
３０    ガラスパネル
４０    内側表面
５０    外側表面
５５    共通電極基板
６０    共通電極
７０    インクカプセル
８０    ＴＦＴアレイ
９０    ＴＦＴ基板
Ｔ    厚さ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【国際調査報告】
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