(57)【要約】制御された形態を有するコーティングで基板をコーティングする方法を開示し、該方法は、基板を準備する工程と、エアロゾル支援堆積法を用いて該基板の表面上に核形成層を堆積する工程と、化学蒸着により少なくとも１つのさらなる層を堆積する工程とを含む。前記核形成層及びさらなる層は、好適には酸化スズを含む。前記基板は、好適にはガラスである。該方法は、可視及び赤外線領域において高い透過率及び低い拡散透過率をもたらす。
2014517145.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）基板を準備する工程と、
ｂ）該基板の少なくとも１つの表面上にコーティングを堆積する工程と
を含む、基板をコーティングする方法であって、該コーティングを堆積する工程が
ｉ）エアロゾル支援堆積法を用いて該基板の表面上に核形成層を堆積する工程、及び
ｉｉ）化学蒸着により少なくとも１つのさらなる層を堆積する工程
を含むことを特徴とする、方法。
【請求項２】
前記エアロゾル支援堆積法が、前記基板の表面を前駆体溶液のエアロゾルと接触させる工程を含む、前記請求項のいずれか１つに記載の方法。
【請求項３】
前記エアロゾル支援堆積法が、液滴サイズが直径５０μｍ以下のエアロゾルを用いる、請求項の１又は請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記少なくとも１つのさらなる層が、透明な導電酸化物の層を含む、前記請求項のいずれか１つに記載の方法。
【請求項５】
前記透明な導電酸化物が、酸化スズ、好適にはフッ素ドープした酸化スズを含む、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記核形成層及び／又は前記さらなる層の堆積中の前記基板の温度が３５０℃〜６００℃の範囲内である、前記請求項のいずれか１つに記載の方法。
【請求項７】
前記エアロゾル支援堆積中のコーティング時間が３０分以下である、前記請求項のいずれか１つに記載の方法。
【請求項８】
前記基板が、ガラス、石英、サファイア又はプラスチックを含む、前記請求項のいずれか１つに記載の方法。
【請求項９】
前記前駆体溶液が、金属酸化物前駆体、ドーパント前駆体及び任意に溶媒を含む、請求項２〜８のいずれか１つに記載の方法。
【請求項１０】
前記金属酸化物前駆体が、酸化スズの前駆体を含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記酸化スズの前駆体が、塩化スズ、二塩化ジメチルスズ又は三塩化モノブチルスズを含む、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記エアロゾル支援堆積法が、衝突型の衝突噴霧器、エレクトロスプレーエアロゾル発生又は圧電エアロゾル発生器を用いた方法により生成されるエアロゾルを用いる、前記請求項のいずれか１つに記載の方法。
【請求項１３】
ガラス基板と、該基板の少なくとも１つの表面上におけるコーティングとを含むコーティングした基板であって、該コーティングは
ｉ）核形成層、及び
ｉｉ）透明で導電性のさらなる層
を含み、
４００ｎｍでの拡散透過率が≦２％であり、可視領域の合計ヘイズが≦２％であることを特徴とする、コーティングした基板。
【請求項１４】
請求項１３に記載のコーティングした基板を備える、光電池モジュール。
【請求項１５】
請求項１３に記載のコーティングした基板を備える、二重窓ガラスユニット。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板をコーティングする方法に関する。特に、本発明は、制御された形態のコーティングでガラスをコーティングする方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
建築製品の窓ガラスにおいては、しばしば、ガラスの高い光透過率が望まれる。従って、この光透過率は、ガラス基板上への機能的コーティングの堆積時においても維持されなければならない。
【０００３】
光電池では、電池の効率を向上するため、最大量の入射光が電池に入ることが重要である−これは、高い透過率を必要とする。さらに、電気的短絡を制限するには、光電池における透明導電コーティングと光吸収層との間の良好な接触が必要であり、また、良好な光吸収には、高い表面積が有利である。
【０００４】
ダイヤモンドの化学蒸着（ＣＶＤ）は、既知である。Ｍａｌｓｈｅ  ｅｔ  ａｌ  Ｄｉａｍｏｎｄ  ａｎｄ  Ｒｅｌａｔｅｄ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ  ６（１９７７）ｐｐ４３０−４３４は、ＣＶＤのダイヤモンド成長のための超高核形成密度を達成する技術について報告する。Ｈａｎ  ｅｔ  ａｌ  Ａｐｐｌｉｅｄ  Ｓｕｒｆａｃｅ  Ｓｃｉｅｎｃｅ  ２５４（２００８）ｐｐ２０５４−２０５８は、グラファイト播種及びＣＯ２レーザー照射による銅基板上での向上したダイヤモンドの核形成について報告する。
【０００５】
その他の材料も、ＣＶＤ又は噴霧熱分解により堆積させることができる。Ｓｈｅｗａｌｅ  ｅｔ  ａｌ  Ｓｅｍｉｃｏｎｄ．Ｓｃｉ．Ｔｅｃｈｎｏｌ．２５（２０１０）１１５００８は、噴霧熱分解技術による低い基板温度でのフッ素ドープした酸化スズ膜の調製について報告する。
【０００６】
ナノ粒子膜については、報告されている。ＷＯ−Ａ−２００７／０５１９９４は、ナノ粒子膜を加熱された基板上に作製するためのエアロゾル輸送操作の使用について開示する。
【０００７】
有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）においては、透明導電層と発光層との間の良好な接触が、高効率のためには必要である。
【０００８】
比較的低ヘイズの透明な導電酸化物のコーティングを基板上に堆積する方法は、既知である。こうした方法は、例えばＣＡ−１３３３５１５、ＵＳ−４７８８０７９（Ａ）、ＵＳ−６２６８０５９（Ｂ１）及びＵＳ−５９００２７５において開示されている。残念ながら、比較的低ヘイズのコーティングを基板上に堆積する既知の方法は、より短波長でのヘイズが十分に低いことを保証するとは限らず、また、それらは、さらなる被覆層又は互換性のない堆積技術を必要とすることが多い。従って、特により短い波長での適切な透過率及びさらなる層の電気的接触のための良好な表面を確保するための、基板上のコーティング、特に透明な導電酸化物コーティングのフィーチャーサイズを制御する必要性がある。本発明の目的はこの問題を解決することである。
【発明の概要】
【０００９】
本発明は従って、第１態様では、基板をコーティングする方法であって、該方法が、ａ）基板を準備する工程と、ｂ）該基板の少なくとも１つの表面上にコーティングを堆積する工程とを含み、該コーティングを堆積する工程が、ｉ）エアロゾル支援堆積法を用いて該基板の表面上に核形成層を堆積する工程、及びｉｉ）化学蒸着により少なくとも１つのさらなる層を堆積する工程を含むことを特徴とする、方法を提供する。
【００１０】
本発明の第１態様による方法の大きな利点は、本発明がコーティングのフィーチャーサイズの制御を可能にし、より短い波長での光の散乱を変化させ、また、表面積を増加させ、その後の層との電気的接触を変化させることができることである。これは、可視及び赤外線領域において高い透過率及び低い拡散透過率を維持する一方で、視覚的に透明な導電層をもたらす。装置の電流−電圧特性及び効率を改善するためには、層間の電気的接触及び表面の表面積が重視されるため、これは、例えば高い光透過率及びコーティングの高い赤外線反射率を必要とする低放射率の窓ガラスのような建築製品にとって、並びにＯＬＥＤ装置及び薄膜の（例えばテルル化カドミウム系の）太陽電池にとって、特に重要である。
【００１１】
かかる方法は、エアロゾル支援堆積により堆積した核形成層を表面に播種し、次いでＣＶＤ層を上に堆積することにより、基板上のコーティングの形態及び構造を制御することを伴うので、便利であり、効率的であり、また、比較的効率的なやり方で特定のヘイズを有するコーティングの作製を可能にする。
【００１２】
よって、好適には、その方法は、制御された形態及び／又は構造のコーティングで基板をコーティングする方法である。
【００１３】
好適には、コーティングは、化合物、好適には酸化物を含む。
【００１４】
好適には、エアロゾル支援堆積法は、基板の表面を前駆体溶液のエアロゾルと接触させる工程を含む。
【００１５】
好適には、エアロゾル支援堆積法は、液滴サイズが直径５０μｍ以下のエアロゾルを用いる。この液滴サイズを有するエアロゾルを生成するため、さまざまな方法を用いることができる。かかる方法は、好適には、液滴サイズが直径４０μｍ以下、直径３０μｍ以下、直径２０μｍ以下又は１０μｍ以下のエアロゾルを生成する。かかるエアロゾルを生成するための好適な（最も好適には１μｍ以下の液滴サイズを生成する）方法としては、衝突型の衝突噴霧器、エレクトロスプレーエアロゾル発生又は圧電エアロゾル発生器を用いた方法が挙げられる。
【００１６】
一般に、前駆体溶液は、金属酸化物前駆体、及び／又は任意にドーパント前駆体、及び／又は任意に溶媒を含む。よって、好適には、コーティングの少なくとも１つの層は、金属酸化物を含む。
【００１７】
好適には、金属酸化物前駆体は、酸化スズ前駆体を含む。
【００１８】
最も好適な酸化スズ前駆体は、三塩化モノブチルスズである（又は、これを含む）。エアロゾル支援堆積法を用いた酸化スズコーティングの堆積に適したその他の前駆体としては、二塩化ジメチルスズ（ＤＭＴ）又は四塩化スズが挙げられる。
【００１９】
好適な溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール（ＩＰＡ又はｎ−プロパノール）及び／又は水が挙げられる。溶媒の混合物が有用な場合がある。
【００２０】
一般に、さらなる層は、金属酸化物、好適には透明な導電酸化物、またより好適には酸化スズ（特にはドープした酸化スズ）の層を含む。透明な導電酸化物がフッ素ドープした酸化スズを含む場合に、最も好適である。好適なフッ素前駆体としては、フッ化水素（ＨＦ）及び／又はトリフルオロ酢酸（ＴＦＡ）が挙げられる。
【００２１】
よって、好適には、エアロゾル支援堆積法を用いて基板の表面上に堆積した核形成層及びさらなる層がいずれも、酸化スズ、好適にはフッ素ドープした酸化スズを含む。
【００２２】
一般に、核形成層の堆積及び／又はさらなる層の堆積中の基板の温度は、３５０℃〜６００℃の範囲内である。基板の温度は、好適には、核形成層の堆積中は３５０℃〜５５０℃の範囲内であり、さらなる層の堆積中は４００℃〜６００℃である。
【００２３】
一般に、核形成層を堆積するエアロゾル支援堆積中のコーティング時間は、３０分以下である。コーティング時間は、各個別の液滴の体積及び液滴中の前駆体濃度を考慮して、基板表面上に堆積されるエアロゾルの単位体積当たり液滴の数によって決まる。一般に、単位時間当たりの合計体積が高いこと及び濃度が高いことは、必要なコーティング時間がより少ないことを意味する。
【００２４】
一般に、さらなる層の化学蒸着のためのコーティング時間は、２０秒以下である。
【００２５】
本発明の第１態様による方法は、核形成層及びさらなる層でコーティングされた基板を生成する。核形成層及びさらなる層は、組み合わせて、さらなる層単独のコーティングよりも光学ヘイズが著しく低い傾向がある。
【００２６】
その結果、本発明の第２態様によれば、ガラス基板と、該基板の少なくとも１つの表面上のコーティングとを含むコーティングした基板であって、該コーティングが、ｉ）核形成層、及び、ｉｉ）透明で導電性のさらなる層を含み、拡散透過率が好適には４００ｎｍで＜４％、好適には８００ｎｍで＜１％であり、及び／又は可視領域のヘイズが２％未満、好適には１．５％未満、より好適には１．３％未満である、基板が提供される。
【００２７】
好適には、透明で導電性のさらなる層は、酸化物、より好適には金属酸化物、最も好適には特にドープした酸化スズ（例えば、Ｆドープした酸化スズ）を含む。好適には、核形成層は酸化スズを含む。
【００２８】
好適には、可視領域の透過率は、＞８０％である。
【００２９】
本発明の第２態様のその他の好適な特徴は、本発明の第１態様の特徴に対応する。
【００３０】
本発明の第２態様による（すなわち、本発明の第１態様により作製したような）コーティングしたガラスは、低放射率の窓ガラス及び光電池において特定の用途を有する。
【００３１】
さらなる態様において、本発明は、本発明の第２態様によるコーティングした基板を含む二重窓ガラスモジュールを含む。
【００３２】
さらなる態様において、本発明は、本発明の第２態様によるコーティングした基板を含む光電池モジュールを含む。
本発明は、以下の図面により示される。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】比較例ＡのＡＦＭの結果を示す。
【図２】実施例１のＡＦＭの結果を示す。
【図３】実施例２のＡＦＭの結果を示す。
【図４】実施例３のＡＦＭの結果を示す。
【図５】実施例４のＡＦＭの結果を示す。
【図６】比較例Ａ（曲線１）及び実施例５〜７（それぞれ曲線２、３及び４）の波長の関数としての拡散透過率（％）を示す。
【発明を実施するための形態】
【００３４】
本発明は、フッ素ドープした酸化スズの薄膜の表面構造を、予備核形成経路を用いて変えることができる方法に関する。この技術は、エアロゾル堆積時間と以下の表面パラメーター：ヘイズ値、拡散透過率、表面粗さ平均（Ｒａ）、及び二乗平均平方根高さばらつき（ＲＭＳσ）との間の強い相関を示す。よって、得られる透明導電薄膜のテクスチャリングの制御を可能にし、それによって、エアロゾルの予備核形成は、前述の表面パラメーターの増加及びコーティングにおけるヘイズの低減をもたらす。フッ素ドープした酸化スズの薄膜の変更された特性は、透明導電用途におけるそれらの使用に必要な光散乱性能を満たすように調整し、また、薄膜光電池に必要な表面構造に適合するように調整することができる。
【００３５】
ＡＡＣＶＤを用いた基板表面の予備核形成
基板表面（例えばガラス、石英、サファイア及びプラスチック）の予備核形成は、エアロゾル支援化学蒸着（ＡＡＣＶＤ）を用いて達成される。適切な溶媒（例えばメタノール）を有する、又は有さない可溶性スズ及びフッ素前駆体（例えば三塩化モノブチルスズ及びトリフルオロ酢酸）が混合され、前駆体溶液を形成する。前駆体溶液のエアロゾルは、その後、適切なエアロゾル生成法を用いて形成される。この方法は、直径が４０μｍ未満、好適には１μｍ未満の前駆体溶液のエアロゾル液滴を生成することができるべきである。適切なエアロゾル発生器としては、衝突型の衝突噴霧器、エレクトロスプレーエアロゾル発生器及び圧電エアロゾル発生器を挙げることができる。
【００３６】
前駆体溶液のエアロゾルを、キャリアガス（例えば空気／窒素／アルゴン）を用いて、加熱した基板の上に通す。エアロゾル液滴は、加熱した基板に接近する（溶媒があれば、蒸発が起こる）。試薬の熱活性化が起こり、それらが表面に近づくと、前駆体種の反応をもたらす。この反応は、フッ素ドープした酸化スズの種粒子を形成し、これは基板表面と密着している。これら種粒子のサイズ及び密度分布は、以下のパラメーター；基板温度、エアロゾル曝露時間、前駆体溶液の組成、エアロゾルの液滴サイズ、溶媒のタイプ、エアロゾル供給物のガス希釈、を用いて制御することができる。
【００３７】
播種された基板表面は、その後、制御された表面テクスチャリングを有するフッ素ドープした酸化スズの薄膜の大気圧化学蒸着（ＡＰＣＶＤ）のための核形成表面として用いられる。
【００３８】
ＡＰＣＶＤを用いた、予備核形成した基板（ＡＡＣＶＤにより生成）上へのフッ素ドープした酸化スズの薄膜形成
大気圧化学蒸着は、フッ素ドープした酸化スズ薄膜の形成への迅速で且つ商業的に実行可能な経路として、広く用いられている。ＡＰＣＶＤは、フッ素ドープした酸化スズの薄膜を形成するのに適当な前駆体の組み合わせの気相反応を含む。
【００３９】
ＡＡＣＶＤにより形成した予備核形成播種基板は、ＡＰＣＶＤを用いてフッ素ドープした酸化スズの薄膜でコーティングされ、これにより、フッ素ドープした酸化スズの種粒子のサイズ及び密度分布が、得られる薄膜の表面テクスチャリングを調整する。最終的なフッ素ドープした酸化スズの薄膜の特性は、予備核形成した基板上の播種粒子のサイズ及び密度分布、堆積温度、ＡＰＣＶＤ前駆体の組み合わせ、流速、バブラー温度により制御される。
【００４０】
追加の薄膜層を、改変した表面の上にコーティングすることができる。
【００４１】
全体的なプロセス
本発明は、ＡＰＣＶＤにより形成されるフッ素ドープした酸化スズの薄膜の表面テクスチャリングの制御を可能にする。ＡＰＣＶＤは、フッ素ドープした酸化スズの薄膜を作製するのに現在工業的に用いられているが、材料の表面テクスチャー及び光散乱特性の制御をあまり提供しない。表面構造を改変するには、堆積後改変段階が現在利用可能である。しかしながら、本発明は、工業プロセスにおける堆積前改変を可能にし、表面構造の制御を達成する。予備核形成段階の迅速な処理時間及びこの段階において用いられる装置の簡素さは、工業スケールでのＡＰＣＶＤプロセスに対する改変が少しの努力で低コストで容易に達成可能であること、及び、かかるプロセスが連続製造ラインとして機能すること、を意味する。ＣＶＤ技術に対するこの改変は、バッチ処理を要するさらなる堆積後処理の必要なく、非常に機能的な薄膜の作製を可能にする。
【００４２】
ＡＡＣＶＤ及びＡＰＣＶＤ技術の制御はともに、以下の表面特性：ヘイズ値、拡散透過率、表面粗さ平均（Ｒａ）、及び二重平均平方根高さばらつき（ＲＭＳσ）において特定の値が求められる透明導電用途に用いられるフッ素ドープした酸化スズの薄膜の作製を可能にする。
【００４３】
本発明は、他の薄膜材料（フッ素ドープした酸化スズ以外）まで、又は表面構造の制御が製品に求められる他の薄膜堆積技術（ＡＰＣＶＤ以外）への追加として広げることができる。
【実施例】
【００４４】
実施例１〜７及び比較例Ａ
本発明を、以下の実施例及び比較例によりさらに説明する。
【００４５】
エアロゾル支援化学蒸着（ＡＡＣＶＤ）による核形成層及びさらなる化学蒸着層の堆積を、基板上への前駆体の堆積のため、ガス層流を有する水平ベッド、石英、冷壁付管状炭素反応器を用いて達成した。１０ｃｍ３の断面積を有する水平管状反応器を基板上の上板に設置し、縦回転の対流を制限して、ガス／エアロゾル層流をもたらした。
【００４６】
衝突型噴霧器を用い、ＡＡＣＶＤのための小さい液滴径のエアロゾルを生成した。前駆体溶液を、ＴＳＩ  ３０７６定出力衝突型噴霧器を用いて作製したエアロゾルとして、キャリアガスとして圧縮空気（空気圧３０ｐｓｉ（２０７ｋＰａ））を用いて送達した。このタイプのエアロゾル発生器は、約１０７／ｃｍ３の一定の液滴濃度及び０．３μｍの平均液滴径を生成する。
【００４７】
エアロゾル溶液を、塩化モノブチルスズ（ＭＢＴＣ）、トリフルオロ酢酸（ＴＦＡ）及び様々な体積のメタノールを用いて調製した。基板の温度は５００℃であり、Ｆ／Ｓｎのモル比は前駆体溶液中３０％だった。ＡＡＣＶＤの堆積時間は、３秒〜３０分の間で変えた。
【００４８】
基板材料として、ナトリウムバリアガラス（５０ｎｍのＳｉＯ２の層がフロートガラスにコーティングされた）を用い、ガラスからのイオン性不純物が溶出するのを回避した。イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）及びアセトンを用い、基板を洗浄した。
【００４９】
フッ素ドープした酸化スズ（Ｆ：ＳｎＯ２）の大気圧化学蒸着（ＡＰＣＶＤ）を用い、さらなる層を核形成層上に、堆積した。
【００５０】
ＡＰＣＶＤスズ前駆体として三塩化モノブチルスズ（ＭＢＴＣ）を用い、加熱されたバブラーにより送達した（１６５℃、０．５Ｌ／分）。フッ素供給源として水性トリフルオロ酢酸を用い、加熱された蒸発器を通してシリンジドライバーにより送達した（０．５ｍｌ／分、水中１０体積％の酸、２００℃）。酸素供給源として酢酸エチルのガス流を用い（６５℃、３Ｌ／分）、また、５Ｌ／分の窒素キャリアガスのプレーン流を用いた。堆積は、５００℃の温度で、核形成層で予めコーティングした基板上に行った。ＡＰＣＶＤのコーティング時間は、１０秒だった。
【００５１】
堆積の条件を、以下の表１にまとめる。
【表１】
2014517145.tif 000003
【００５２】
膜は光学的に透明であり、ＡＡＣＶＤの層成長速度は５〜１５０ｎｍ／分だった。膜はピンホール欠陥を有さず、かかる堆積プロセスが大スケールの気相核形成を引き起こさなかったことを示した。膜はガラス基板との良好な接着を示し、スコッチテープ試験及びスチールメススクラッチ試験の両方に合格した。この特性によって、かかる膜が表面で密着した核形成点から成長している可能性があり、従って商業的用途に適していることが示される。
【００５３】
加速電圧５ｋｅＶのＪＥＯＬ  ＪＳＭ−６３０１Ｆ電界放出ＳＥＭを用い、走査電子顕微鏡法を行って表面トポロジー及び膜厚を測定した。ＳＥＭから、コーティングは通常、一般に同様のサイズの粒子を有する微粒子であることが示された。
【００５４】
付属先端を有するカンチレバーがその共振周波数で振動するＶｅｅｃｏ  Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ  ３１００を断続接触モードで用いて原子力顕微鏡分析を行い、膜の表面上を走査させて形態を測定した。比較例Ａ及び実施例１、２、３、及び４についての結果を、それぞれ図１〜５に示す。
【００５５】
光学ヘイズ測定を、試料について行った。光の波長に対する試料のヘイズ測定の結果を図６に示す。図６からわかるように、核形成層の堆積は、ＵＶ、可視及び遠赤外線領域における拡散透過率の著しい減少をもたらす。これは、かかるコーティングした基板を低放射率の建築製品に使用することによって窓の透明度が増加するので、大いに有益である。
【００５６】
比較例Ａ及び実施例５〜７のヘイズの測定値を表２に記載する。
【表２】
2014517145.tif 000004
【００５７】
表２は、実施例５〜７の、可視領域の合計ヘイズ％、並びに４００ｎｍ及び８００ｎｍでの拡散透過率％を示す。
【００５８】
表３は、実施例１〜４のＡＦＭ由来の表面パラメーターを示す。
【表３】
2014517145.tif 000005
【００５９】
比較例Ａ及び実施例１〜４におけるコーティング表面のＡＦＭ統計分析を、表３に示す。かかる値から、エアロゾル技術による予備核形成によって、コーティングの表面積の増加及び二乗平均平方根うねりの増加をもたらすことができることが示される。これは、薄膜光電池に用いられるのに大いに有益である。表面特性のより長い波長による大きな表面積及び良好な電気的接触は、効率を上げ、電気的短絡問題を低減する。
【図１】
2014517145.tif 000006
【図２】
2014517145.tif 000007
【図３】
2014517145.tif 000008
【図４】
2014517145.tif 000009
【図５】
2014517145.tif 000010
【図６】
2014517145.tif 000011
【手続補正書】
【提出日】平成25年6月3日(2013.6.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）基板を準備する工程と、
ｂ）該基板の少なくとも１つの表面上にコーティングを堆積する工程と
を含む、基板をコーティングする方法であって、該コーティングを堆積する工程が
ｉ）エアロゾル支援堆積法を用いて該基板の表面上に核形成層を堆積する工程、及び
ｉｉ）化学蒸着により少なくとも１つのさらなる層を堆積する工程
を含み、
前記基板が、ガラス、石英、サファイア又はプラスチックを含み、
前記核形成層及び／又は前記さらなる層の堆積中の前記基板の温度が３５０℃〜６００℃の範囲内であり、
前記核形成層が、金属酸化物を含み、
前記さらなる層が、金属酸化物を含み、
前記エアロゾル支援堆積中のコーティング時間が、３０分以下であり、
前記化学蒸着中のコーティング時間が、２０秒以下である、
ことを特徴とする、方法。
【請求項２】
前記エアロゾル支援堆積法が、前記基板の表面を前駆体溶液のエアロゾルと接触させる工程を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記エアロゾル支援堆積法が、液滴サイズが直径５０μｍ以下のエアロゾルを用いる、請求項の１又は請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記少なくとも１つのさらなる層が、透明な導電酸化物の層を含む、前記請求項のいずれか１つに記載の方法。
【請求項５】
前記透明な導電酸化物が、酸化スズ、好適にはフッ素ドープした酸化スズを含む、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記前駆体溶液が、金属酸化物前駆体、ドーパント前駆体及び任意に溶媒を含む、請求項２〜５のいずれか１つに記載の方法。
【請求項７】
前記金属酸化物前駆体が、酸化スズの前駆体を含む、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記酸化スズの前駆体が、塩化スズ、二塩化ジメチルスズ又は三塩化モノブチルスズを含む、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記エアロゾル支援堆積法が、衝突型の衝突噴霧器、エレクトロスプレーエアロゾル発生又は圧電エアロゾル発生器を用いた方法により生成されるエアロゾルを用いる、前記請求項のいずれか１つに記載の方法。
【請求項１０】
ガラス基板と、該基板の少なくとも１つの表面上におけるコーティングとを含むコーティングした基板であって、該コーティングは
ｉ）金属酸化物を含む核形成層、及び
ｉｉ）金属酸化物を含む透明で導電性のさらなる層
を含み、
４００ｎｍでの拡散透過率が≦２％であり、８００ｎｍでの拡散透過率が＜１％であり、可視領域の合計ヘイズが≦２％であることを特徴とする、コーティングした基板。
【請求項１１】
請求項１０に記載のコーティングした基板を備える、光電池モジュール。
【請求項１２】
請求項１０に記載のコーティングした基板を備える、二重窓ガラスユニット。
【国際調査報告】
2014517145.tif 000012
2014517145.tif 000013
2014517145.tif 000014