(57)【要約】ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーは、少なくとも１つのポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックと少なくとも１つのポリ（アリーレンエーテル）ブロックとを含み、それらのモル比は０．９５：１〜約１．００：１である。該ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーは、末端ヒドロキシル基を有するテレケリックポリ（アリーレンエーテル）と末端エポキシ基を有するテレケリックポリ（ヒドロキシエーテル）エポキシ樹脂とを、テレケリックポリ（ヒドロキシエーテル）とテレケリックポリ（アリーレンエーテル）とのモル比が０．９５：１〜１．００：１の範囲で反応させるステップを備えた方法で調製され得る。該ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーは、押出、熱成形または型成形によって物品に成形され、また、無極性ポリマーおよび極性ポリマー用の相溶化剤である。【選択図】図１
2014518316.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つのポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックと、
少なくとも１つのポリ（アリーレンエーテル）ブロックと、を、
モル比が０．９５：１〜１．００：１の範囲で含むことを特徴とするポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー。
【請求項２】
前記ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーの数平均分子量は約５，０００〜約５０，０００原子質量単位であることを特徴とする請求項１に記載のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー。
【請求項３】
前記ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーは、０．０９質量％未満の末端エポキシ基を有することを特徴とする請求項１に記載のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー。
【請求項４】
約１〜約９９質量％の前記少なくとも１つのポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックと、
約１〜約９９質量％の前記少なくとも１つのポリ（アリーレンエーテル）ブロックと、を含むことを特徴とする請求項１に記載のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー。
【請求項５】
前記少なくとも１つのポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックは下式の構造を有することを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー：
【化１】
2014518316.tif 000048
式中、Ａは下式の構造
【化２】
2014518316.tif 000049
［式中、Ｇ１はそれぞれ独立にＣ６−Ｃ２０芳香族基であり、Ｅはそれぞれ独立に、直接結合または下式の構造
【化３】
2014518316.tif 000050
（式中、Ｒ１１〜Ｒ１４はそれぞれ独立に、水素またはＣ１ーＣ１２ヒドロカルビル）から構成される群から選択された構造であり、ｓは０または１であり、ｔとｕはそれぞれ独立に１〜１０である］を有する残基であり；
Ｂは下式の構造
【化４】
2014518316.tif 000051
（式中、Ｒ８〜Ｒ１０はそれぞれ独立に、水素またはＣ１−Ｃ１２ヒドロカルビル）を有する残基であり；
ｎは約１〜約６０である。
【請求項６】
前記Ａは、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノールＡ）、２，２−ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン（テトラクロロビスフェノールＡ）、２，２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン（テトラブロモビスフェノールＡ）、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン（ビスフェノールＦ）、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン（ビスフェノールＡＣＰ）、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン（ビスフェノールＳ）、２，２−ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシル）プロパン（水素化ビスフェノールＡ）、１，５−ジヒドロキシナフタレン、２，２’，６，６’−テトラメチル−４，４’−ジヒドロキシビフェニールおよびこれらの組み合わせから構成される群から選択されたジヒドロキシ芳香族化合物から誘導されることを特徴とする請求項５に記載のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー。
【請求項７】
前記Ｂは、エピクロロヒドリン、エピブロモヒドリン、１，２−エポキシ−１−メチル−３−クロロプロパン、１，２−エポキシ−１−ブチル−３−クロロプロパン、１，２−エポキシ−２−メチル−３−フルオロプロパンおよびこれらの組み合わせから構成される群から選択されたエピハロヒドリンから誘導されることを特徴とする請求項５に記載のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー。
【請求項８】
前記少なくとも１つのポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックは下式の構造（式中、ｎは約１〜約６０である）を有することを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー。
【化５】
2014518316.tif 000052
【請求項９】
前記少なくとも１つのポリ（アリーレンエーテル）ブロックは、下式の構造
【化６】
2014518316.tif 000053
（式中、Ｑ５とＱ６はそれぞれ独立に、メチル、ジ−ｎ−ブチルアミノメチルまたはモルホリノメチルであり、ａとｂは、その合計が少なくとも２であることを条件に、それぞれ独立に０〜約２０である）を有し；
前記少なくとも１つのポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックは、下式の構造
【化７】
2014518316.tif 000054
（式中、ｎは約１〜約６０である）を有することを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー。
【請求項１０】
少なくとも１つのポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックと、
少なくとも１つのポリ（アリーレンエーテル）ブロックと、を含み、
数平均分子量が約５，０００〜約５０，０００原子質量単位であることを特徴とするポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー。
【請求項１１】
その質量に対して、０．０９質量％未満の末端エポキシ基を有することを特徴とする請求項１０に記載のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー。
【請求項１２】
その質量に対して、
約１〜約９９質量％の前記少なくとも１つのポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックと、
約１〜約９９質量％の前記少なくとも１つのポリ（アリーレンエーテル）ブロックと、を含むことを特徴とする請求項１０に記載のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー。
【請求項１３】
前記少なくとも１つのポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックは下式の構造を有することを特徴とする請求項１０乃至請求項１２のいずれかに記載のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー：
【化８】
2014518316.tif 000055
式中、Ａは下式の構造
【化９】
2014518316.tif 000056
［式中、Ｇ１はそれぞれ独立にＣ６−Ｃ２０芳香族基であり、Ｅはそれぞれ独立に、直接結合または下式の構造
【化１０】
2014518316.tif 000057
（式中、Ｒ１１〜Ｒ１４はそれぞれ独立に、水素またはＣ１−Ｃ１２ヒドロカルビル）から構成される群から選択された構造であり、ｓは０または１であり、ｔとｕはそれぞれ独立に１〜１０である］を有する残基であり；
Ｂは下式の構造
【化１１】
2014518316.tif 000058
（式中、Ｒ８〜Ｒ１０はそれぞれ独立に、水素またはＣ１−Ｃ１２ヒドロカルビル）を有する残基であり；
ｎは約１〜約６０である。
【請求項１４】
前記少なくとも１つのポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックは下式の構造を有することを特徴とする請求項１０乃至請求項１２のいずれかに記載のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー：
【化１２】
2014518316.tif 000059
式中、ｎは約１〜約６０である。
【請求項１５】
前記少なくとも１つのポリ（アリーレンエーテル）ブロックは、下式の構造
【化１３】
2014518316.tif 000060
（式中、ａとｂは、その合計が少なくとも３であることを条件に、それぞれ独立に０〜５０）を含み；
前記少なくとも１つのポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックは、下式の構造
【化１４】
2014518316.tif 000061
（式中、ｎは約１〜約６０）を有することを特徴とする請求項１０乃至請求項１２のいずれかに記載のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー。
【請求項１６】
請求項１乃至請求項４または請求項１０乃至請求項１２のいずれかに記載のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーと、
ポリ（アリーレンエーテル）、ポリ（アルケニル芳香族）、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとのブロックコポリマー、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマーおよびこれらの組み合わせから構成される群から選択された無極性ポリマーと、を含むことを特徴とする組成物。
【請求項１７】
前記無極性ポリマーはポリスチレンを含むことを特徴とする請求項１６に記載の組成物。
【請求項１８】
前記ポリスチレンと前記ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーとの合計質量に対して、約１〜約１５質量％の前記ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーと、約８５〜約９９質量％の前記ポリスチレンと、を含むことを特徴とする請求項１７に記載の組成物。
【請求項１９】
前記ポリスチレンと前記ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーとの合計質量に対して、約１〜約１５質量％のポリスチレンと、約８５〜約９９質量％のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーと、を含むことを特徴とする請求項１７に記載の組成物。
【請求項２０】
ポリエステル、ポリ（エチレン−酢酸ビニル）、ポリ（エチレン−エチルアクリレート）、ポリ（酢酸ビニル）、ポリ（ビニルアルコール）およびこれらの組み合わせから構成される群から選択された極性ポリマーをさらに含むことを特徴とする請求項１７に記載の組成物。
【請求項２１】
ポリ（エチレンテレフタレート）、ポリ（トリメチレンテレフタレート）、ポリ（ブチレンテレフタレート）、ポリ（乳酸）およびこれらの組み合わせから構成される群から選択されたポリエステルをさらに含むことを特徴とする請求項１７に記載の組成物。
【請求項２２】
前記無極性ポリマーはポリ（アリーレンエーテル）を含むことを特徴とする請求項１６に記載の組成物。
【請求項２３】
前記ポリ（アリーレンエーテル）と前記ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーとの合計質量に対して、約１〜約５０質量％のポリ（アリーレンエーテル）と、約５０〜約９９質量％のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーと、を含むことを特徴とする請求項２２に記載の組成物。
【請求項２４】
前記ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーと前記ポリ（アリーレンエーテル）との合計質量に対して、約１０〜約５０質量％のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーと、約５０〜約９０質量％のポリ（アリーレンエーテル）と、を含むことを特徴とする請求項２２に記載の組成物。
【請求項２５】
ポリエステル、ポリ（エチレン−酢酸ビニル）、ポリ（エチレン−エチルアクリレート）、ポリ（酢酸ビニル）、ポリ（ビニルアルコール）およびこれらの組み合わせから構成される群から選択された極性ポリマーをさらに含むことを特徴とする請求項２２に記載の組成物。
【請求項２６】
ポリ（エチレンテレフタレート）、ポリ（トリメチレンテレフタレート）、ポリ（ブチレンテレフタレート）、ポリ（乳酸）およびこれらの組み合わせから構成される群から選択されたポリエステルをさらに含むことを特徴とする請求項２２に記載の組成物。
【請求項２７】
さらにガラス繊維を含むことを特徴とする請求項１６に記載の組成物。
【請求項２８】
前記無極性ポリマーはポリスチレンを含むことを特徴とする請求項２７に記載の組成物。
【請求項２９】
末端ヒドロキシル基を有するテレケリックポリ（アリーレンエーテル）と末端エポキシ基を有するテレケリックポリ（ヒドロキシエーテル）エポキシ樹脂とを、テレケリックポリ（ヒドロキシエーテル）とテレケリックポリ（アリーレンエーテル）とのモル比が０．９５：１〜１．００：１の範囲で反応させるステップを備えたことを特徴とするポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーの製造方法。
【請求項３０】
前記テレケリックポリ（ヒドロキシルエーテル）は、約１５〜約３００分かけて前記テレケリックポリ（アリーレンエーテル）に部分的に添加されることを特徴とする請求項２９に記載の方法。
【請求項３１】
請求項２９または請求項３０に記載の方法で調製されたことを特徴とするポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー。
【請求項３２】
請求項１６に記載の組成物の成分を溶融混合または溶融混練するステップを備えた組成物の形成方法。
【請求項３３】
請求項１乃至請求項４または請求項１０乃至請求項１２のいずれかに記載のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーを含むことを特徴とする物品。
【請求項３４】
押出、熱成形または型成形により、請求項１乃至請求項４または請求項１０乃至請求項１２のいずれかに記載のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーを成形するステップを備えた物品の形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示はポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーとその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ポリ（ヒドロキシエーテル）、すなわちフェノキシ樹脂は、典型的には、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノールＡ）と２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン−エピクロロヒドリンポリマー（エポキシ樹脂）との共重合で調製される線状ポリマーである。フェノキシ樹脂は、約６質量％の第二アルコール基を含む。
【０００３】
フェノキシ樹脂は、コーティング剤、接着剤、インク、複合材、繊維およびプラスチック組成物の特性向上に用いられる。ペンダントヒドロキシル基とエーテル骨格との結合によって、極性基板、顔料および充填剤に対する濡れ性と結合が促進される。熱可塑性プラスチックにフェノキシ樹脂を添加することによって、押出、型成形およびフィルム成形におけるプロセスレオロジーの制御が容易になり得る。フェノキシ樹脂の非晶質性は、熱可塑性物質の結晶化動力学の制御に有用であり得る。
【０００４】
フェノキシ樹脂の溶解パラメータは１０．６８であり、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアミドおよびポリウレタンなどの極性ポリマーとの相溶性が優れている。しかしながら、ポリスチレン、ポリ（アリーレンエーテル）、ポリオレフィン、（メタ）アクリルおよびその他の無極性ポリマーに対するフェノキシ樹脂の相溶性は低い。無極性ポリマーとの相溶性が低いために、フェノキシ樹脂の無極性ポリマーに対する添加剤としての有用性は限定されており、また、極性ポリマーと無極性ポリマーのブレンド用の相溶化剤としての有用性も限定されている。
【０００５】
フェノキシ樹脂の有用な特性にもかかわらず、無極性ポリマーと極性ポリマーの両方に対して相溶性を有し、フェノキシ樹脂としての有利な特性を維持していずれのポリマーにも使用できる材料が当分野では求められている。また、無極性ポリマーと極性ポリマーのブレンド用の相溶化剤として機能し得る材料も当分野では求められている。
【発明の概要】
【０００６】
一実施形態は、少なくとも１つのポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックと少なくとも１つのポリ（アリーレンエーテル）ブロックとを、モル比が０．９５：１〜１．００：１の範囲で含むポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーである。
【０００７】
別の実施形態は、少なくとも１つのポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックと、少なくとも１つのポリ（アリーレンエーテル）ブロックと、を含み、数平均分子量が約５，０００〜約５０，０００原子質量単位のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーである。
【０００８】
別の実施形態は、押出、熱成形または型成形により、前述のいずれかのポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーを成形するステップを備えた物品の形成方法である。
【０００９】
別の実施形態は、請求項１に記載のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーと、ポリ（アリーレンエーテル）、ポリ（アルケニル芳香族）、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとのブロックコポリマー、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマーおよびこれらの組み合わせから構成される群から選択された無極性ポリマーと、を含む組成物である。
【００１０】
別の実施形態は、前記ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーと、前記無極性ポリマーと、を溶融混合または溶融混練するステップを備えた組成物の形成方法である。
【００１１】
別の実施形態は、末端ヒドロキシル基を有するテレケリックポリ（アリーレンエーテル）と末端エポキシ基を有するテレケリックポリ（ヒドロキシエーテル）エポキシ樹脂とを、テレケリックポリ（ヒドロキシエーテル）とテレケリックポリ（アリーレンエーテル）とのモル比が０．９５：１〜１．００：１の範囲で反応させるステップを備えたポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーの製造方法である。
【００１２】
別の実施形態は、前記の方法で調製されたポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーである。
【００１３】
これらおよびその他の実施形態について以下詳細に説明する。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】ガラス転移温度（Ｔｇ）と、ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー中のポリ（アリーレンエーテル）ブロックの質量％と、の関係を示す棒グラフである。
【図２】Ｔｇと、ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー中のポリ（アリーレンエーテル）ブロックの質量％と、の関係を示すグラフである。フォックス（ＦＯＸ）式に基づく理論値Ｔｇ、体積分率Ｔｇ、質量分率Ｔｇおよび実験値Ｔｇを示す。
【図３】ポリスチレンとポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーとの二相クロロホルム溶液の表相中のポリスチレン（半黒塗り四角）およびポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー（白抜き円）と、ポリ（アリーレンエーテル）ブロック含量と、の関係を示すグラフである。
【図４】ポリスチレンとポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーとのブレンドの二相クロロホルム溶液の低相中のポリスチレン（半黒塗り四角）およびポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー（白抜き円）と、ポリ（アリーレンエーテル）ブロック含量と、の関係を示すグラフである。
【図５】ポリ（アリーレンエーテル）とポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーとの二相クロロホルム溶液の表相中のポリ（アリーレンエーテル）（黒塗り菱形）およびポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー（白抜き円）と、ポリ（アリーレンエーテル）ブロック含量と、の関係を示すグラフである。
【図６】ポリ（アリーレンエーテル）とポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーとの二相クロロホルム溶液の低相中のポリ（アリーレンエーテル）（黒塗り菱形）およびポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー（白抜き円）と、ポリ（アリーレンエーテル）ブロック含量と、の関係を示すグラフである。
【図７】フェノキシ樹脂およびポリ（アリーレンエーテル）含量が増加するポリ（アリーレンエーテル）ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーでの、８０℃温水浸漬時間と吸湿量との関係を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
本発明者は、高分子量および低エポキシ含量の線状熱可塑性ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーを調製した。該ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーは、一部にはその低エポキシ含量により、溶融安定性が良好である。該ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーは、溶融押出および射出成形できることが確認された。該ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーは、フェノキシ樹脂に対して、高ガラス転移温度、高熱変形温度、低密度、低吸湿性および高曲げ弾性率と曲げ破断強度などの、いくつかの優れた特性を示す。また、該ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーの密度は、フェノキシ樹脂より低い。該ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーは、フェノキシ樹脂よりガラス転移温度と熱変形温度が高いために、より高温の用途で使用できる。該ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーは、フェノキシ樹脂より低密度であるために、単位質量当たりより多くの物品を成形でき、最終製品のコストが低減できる。また、該ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーの密度は低いため、成形部品の質量はフェノキシ樹脂のものより小さく、該部品を搭載する車両の燃費は向上するであろう。
【００１６】
また、本発明者は、該ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーの、ポリスチレンやポリ（アリーレンエーテル）などの無極性ポリマーに対する相溶性は、フェノキシ樹脂と比較して向上することも見出した。従って、該ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーは、フェノキシ樹脂では不適当なポリスチレンやポリ（アリーレンエーテル）とのブレンドに使用できる。また、該ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーは、ポリスチレンやポリ（アリーレンエーテル）などの無極性ポリマーと、ポリエステル、ポリ（エチレン−酢酸ビニル）、ポリ（エチレン−エチルアクリレート）、ポリ（酢酸ビニル）、ポリ（ビニルアルコール）およびこれらの組み合わせなどの極性ポリマーと、のブレンド用の相溶化剤としても使用できる。一部の実施形態では、該極性ポリマーは、ポリ（エチレンテレフタレート）、ポリ（トリメチレンテレフタレート）、ポリ（ブチレンテレフタレート）、ポリ（乳酸）およびこれらの組み合わせから構成される群から選択されたポリエステルである。該ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーによって、無極性ポリマー相と極性ポリマー相との界面接着が、それぞれの相のガラス転移温度以上であっても以下であっても向上する。ガラス転移温度以下では、衝撃力下で、無極性ポリマー相と極性ポリマー相との層間剥離の可能性が低減するため、ノッチ付アイゾッド衝撃強度が向上する。ガラス転移温度以上では、押出および型成形時のせん断力下で、無極性ポリマー相と極性ポリマー相との層間剥離の可能性が低減するため、押出および型成形時の溶融加工性が向上する。
【００１７】
一部の実施形態では、該ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーは、少なくとも１つのポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックと少なくとも１つのポリ（アリーレンエーテル）ブロックとを、モル比が０．９５：１〜１．００：１の範囲で含む。
【００１８】
該ポリ（アリーレンエーテル）ブロックは、末端フェノール性ヒドロキシ基を有するテレケリックポリ（アリーレンエーテル）から誘導される。「フェノール性ヒドロキシル基」は、置換または未置換ベンゼン環に結合したヒドロキシル基である。「テレケリック」は、ポリマー鎖の２つの末端基が同じ官能性を有する線状ポリマーを表す。一部の実施形態では、該ポリ（アリーレンエーテル）ブロックは下式の構造を有する：
【００１９】
【化１】
2014518316.tif 000003
式中、Ｑ１とＱ２は、各アリーレンエーテル単位内で同一であり、ハロゲン、ヒドロカルビル基が第三級ヒドロカルビルではない未置換または置換Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビル、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルチオ、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルオキシ、および少なくとも２つの炭素原子がハロゲン原子と酸素原子とを分離しているＣ２−Ｃ１２ハロヒドロカルビルオキシから構成される群から選択され；Ｑ３とＱ４はそれぞれ独立に、水素、ハロゲン、ヒドロカルビル基が第三級ヒドロカルビルではない未置換または置換Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビル、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルチオ、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルオキシ、および少なくとも２つの炭素原子がハロゲン原子と酸素原子とを分離しているＣ２−Ｃ１２ハロヒドロカルビルオキシから構成される群から選択され；ｘとｙは独立に、その合計が少なくとも２、具体的には少なくとも３、より具体的には少なくとも４であることを条件に、０〜約３０、具体的には０〜約２０、より具体的には０〜約１５、さらにより具体的には０〜約１０、さらにより具体的には０〜約８であり；Ｌは以下の構造
【００２０】
【化２】
2014518316.tif 000004
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立に、水素、ハロゲン、ヒドロカルビル基が第三級ヒドロカルビルではない未置換または置換Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビル、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルチオ、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルオキシ、および少なくとも２つの炭素原子がハロゲン原子と酸素原子とを分離しているＣ２−Ｃ１２ハロヒドロカルビルオキシから構成される群から選択され；ｚは０または１であり；Ｙは、下式の構造
【００２１】
【化３】
2014518316.tif 000005
（式中、Ｒ５はそれぞれ独立に、水素およびＣ１−Ｃ１２ヒドロカルビルから構成される群から選択され、Ｒ６およびＲ７はそれぞれ独立に、水素、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルおよびＣ１−Ｃ６ヒドロカルビレンから構成される群から選択され、Ｒ６およびＲ７は共同でＣ４−Ｃ１２アルキレン基を形成する）から選択された構造を有する］を有する。本明細書において、「ヒドロカルビル」は、単独であるいは別の用語の接頭辞、接尾辞またはフラグメントとして使用されたとしても、炭素と水素だけを含む残基を指す。該残基は、脂肪族または芳香族、直鎖、環式、二環式、分枝鎖、飽和または不飽和であってもよい。それはまた、脂肪族、芳香族、直鎖、環式、二環式、分枝鎖、飽和および不飽和炭化水素部分の組み合わせを含んでいてもよい。しかしながら、ヒドロカルビル残基と言及された場合は、その置換残基の炭素員および水素員上にヘテロ原子が含まれていてもよい。従って、こうしたヘテロ原子を含むと特定的に記された場合、該ヒドロカルビル残基は、１個または複数個のカルボニル基、アミノ基、水酸基などを含んでいてもよく、あるいは、該ヒドロカルビル残基の骨格内にヘテロ原子を含んでいてもよい。一例として、Ｑ１は、末端の３，５−ジメチル−１，４−フェニル基と酸化重合触媒のジ−ｎ−ブチルアミン成分との反応で形成されたジ−ｎ−ブチルアミノメチル基であってもよい。一部の実施形態では、Ｑ１とＱ２はそれぞれメチルであり、Ｑ３はそれぞれ水素であり、Ｑ４はそれぞれ水素またはメチルであり、ｘとｙの合計は２〜約１５であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立に水素またはメチルであり、Ｙは、下式の構造を有しており：
【００２２】
【化４】
2014518316.tif 000006
式中、Ｒ６およびＲ７はそれぞれ独立に、水素、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルおよびＣ１−Ｃ６ヒドロカルビレンから構成される群から選択され、Ｒ６およびＲ７は共同でＣ４−Ｃ１２アルキレン基を形成する。
【００２３】
上記の構造において、変数ｘとｙは限定されているが、それらは、二官能性ポリ（アリーレンエーテル）分子中の２つの異なる場所におけるアリーレンエーテル繰り返し単位数に相当する。該構造では、ｘとｙは独立に０〜約３０であり、具体的には０〜約２０であり、より具体的には０〜約１５であり、さらにより具体的には０〜約１０であり、さらにより具体的には０〜約８である。ｘとｙの合計は少なくとも２であり、具体的には少なくとも３であり、より具体的には少なくとも４である。特別の多官能性ポリ（アリーレンエーテル）樹脂では、プロトン核磁気共鳴分光法（１Ｈ−ＮＭＲ）で分析して、樹脂全体に対してこれらの限定が平均で満たされているかを決定できる。具体的には、１Ｈ−ＮＭＲで、内部および末端アリーレンエーテル基に関連するプロトン共鳴と、多価フェノールの内部および末端残基およびその他の末端残基に関連するプロトン共鳴と、を識別できる。従って、１分子当たりのアリーレンエーテル繰り返し単位の平均数と、二価フェノール由来の内部および末端残基の相対存在量が求められる。
【００２４】
一実施形態では、該少なくとも１つのポリ（アリーレンエーテル）ブロックは下式の構造を有する：
【００２５】
【化５】
2014518316.tif 000007
式中、Ｑ５とＱ６はそれぞれ独立に、メチル、ジ−ｎ−ブチルアミノメチルまたはモルホリノメチルであり；ａとｂは、その合計が少なくとも２、具体的には少なくとも３、より具体的には少なくとも４であることを条件に、それぞれ独立に０〜約２０である。
【００２６】
該少なくとも１つのポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックは下式の構造を有する：
【００２７】
【化６】
2014518316.tif 000008
式中、Ａは価数２のヒドロカルビル残基であり、Ｂは下式の構造
【００２８】
【化７】
2014518316.tif 000009
（式中、Ｒ８〜Ｒ１０はそれぞれ独立に、水素またはＣ１−Ｃ１２ヒドロカルビル）の残基であり；ｎは約１〜約６０である。
【００２９】
一部の実施形態では、Ａは、下式の構造
【００３０】
【化８】
2014518316.tif 000010
［式中、Ｇ１はそれぞれ独立にＣ６−Ｃ２０芳香族基であり、Ｅはそれぞれ独立に、直接結合または下式の構造
【００３１】
【化９】
2014518316.tif 000011
（式中、Ｒ１１〜Ｒ１４はそれぞれ独立に、水素またはＣ１−Ｃ１２ヒドロカルビル）から選択された構造であり、ｓは０または１であり、ｔとｕは、それぞれ独立に１〜１０である］を有する残基であり；Ｂは下式の構造
【００３２】
【化１０】
2014518316.tif 000012
（式中、Ｒ８〜Ｒ１０はそれぞれ独立に、水素またはＣ１−Ｃ１２ヒドロカルビル）を有する残基であり；ｎは約１〜約６０である。
【００３３】
一部の実施形態では、該少なくとも１つのポリ（ヒドロキシルエーテル）ブロックは下式の構造を有する：
【００３４】
【化１１】
2014518316.tif 000013
式中、Ｒはそれぞれ独立に、水素またはメチルであり；Ｘはそれぞれ独立に、水素、クロロ、フルオロ、ブロモまたは、カルボキシ、カルボキサミド、ケトン、アルデヒド、アルコール、ハロゲンおよびニトリルから選択された一つまたは複数の員をさらに選択的に含むＣ１−Ｃ１８ヒドロカルビルであり；Ｂはそれぞれ独立に、炭素−炭素単結合、Ｃ１−Ｃ１８ヒドロカルビル、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルオキシ、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルチオ、カルボニル、スルフィド、スルホニル、スルフィニル、ホスホリル、シランあるいは、カルボキシアルキル、カルボキサミド、ケトン、アルデヒド、アルコール、ハロゲンおよびニトリルから選択された一つまたは複数の員をさらに含むこれらの基であり；ｐは独立に１〜約２０である。
【００３５】
一部の実施形態では、該少なくとも１つのポリ（ヒドロキシルエーテル）ブロックは下式の構造を有する：
【００３６】
【化１２】
2014518316.tif 000014
式中、Ｒ、Ｘおよびｐは上記に定義した通りである。
【００３７】
一部の実施形態では、該少なくとも１つのポリ（ヒドロキシルエーテル）ブロックは下式の構造を有する：
【００３８】
【化１３】
2014518316.tif 000015
式中、ｎは約１〜約６０であり、具体的には約１〜約４０であり、より具体的には約１〜約２０である。
【００３９】
一部の実施形態では、該ポリ（ヒドロキシルエーテル）ブロックの残基Ａは、ジヒドロキシ芳香族化合物から誘導される。好適なジヒドロキシ芳香族化合物としては、レゾルシノール、カテコール、ヒドロキノン、１，５−ジヒドロキシナフタレン、２，６−ジヒドロキシナフタレン、２，７−ジヒドロキシナフタレン、２−（ジフェニルホスホリル）ヒドロキノン、ビス（２，６−ジメチルフェノール）２，２’−ビフェノール、４，４−ビフェノール、２，２’，６，６’−テトラメチルビフェノール、２，２’，３，３’，６，６’−ヘキサメチルビフェノール、３，３’，５，５’−テトラブロモ−２，２’，６，６’−テトラメチルビフェノール、３，３’−ジブロモ−２，２’，６，６’−テトラメチルビフェノール、２，２’，６，６’−テトラメチル−３，３’，５−ジブロモビフェノール、４，４’−イソプロピリデンジフェノール（ビスフェノールＡ）、４，４’−イソプロピリデンビス（２，６−ジブロモフェノール（テトラブロモビスフェノールＡ）、４，４’−イソプロピリデンビス（２，６−ジメチルフェノール（テトラメチルビスフェノールＡ）、４，４’−イソプロピリデンビス（２−メチルフェノール）、４，４’−イソプロピリデンビス（２−アリルフェノール）、４，４’−（１，３−フェニレンジイソプロピリデン）ビスフェノール（ビスフェノールＭ）、４，４’−イソプロピリデンビス（３−フェニルフェノール）、４，４’−（１，４−フェニレンジイソプロピリデン）ビスフェノール（ビスフェノールＰ）、４，４’−エチリデンジフェノール（ビスフェノールＥ）、４，４’−オキシジフェノール、４，４’−チオジフェノール、４，４’−チオビス（２，６−ジメチルフェノール）、４，４’−スルホニルジフェノール、４，４’−スルホニルビス（２，６−ジメチルフェノール）、４，４’−スルフィニルジフェノール、４，４’−ヘキサフルオロイソプロピリデンビスフェノール（ビスフェノールＡＦ）、４，４’−（１−フェニルエチリデン）ビスフェノール（ビスフェノールＡＰ）、ビス（４−ヒドロキシフェニル）−２，２−ジクロロエチレン（ビスフェノールＣ）、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン（ビスフェノールＦ）、ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、４，４’−（シクロペンチリデン）ジフェノール、４，４’−（シクロヘキシリデン）ジフェノール（ビスフェノールＺ）、４，４’−（シクロドデシリデン）ジフェノール）、４，４’−（ビシクロ［２．２．１］ヘプチリデン）ジフェノール、４，４’−（９Ｈ−フルオレン−９，９−ジイル）ジフェノール、３，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）イソベンゾフラン−１（３Ｈ）−オン、１−（４−ヒドロキシフェニル）−３，３−ジメチル−２，３−ジヒドロ−１Ｈ−インデン−５−オール、１−（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−１，３，３，４，６−ペンタメチル−２，３−ジヒドロ−１Ｈ−インデン−５−オール、３，３，３’，３’−テトラメチル−２，２’−３，３’−テトラヒドロ−１，１’−スピロビ［インデン］−５，６’−ジオール（スピロビインダン）、ジヒドロキシベンゾフェノン（ビスフェノールＫ）、トリス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、トリス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、トリス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、トリス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、トリス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、テトラキス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、テトラキス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）エタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）フェニルホスフィン酸化物、ジシクロペンタジエニルビス（２，６−ジメチルフェノール）、ジシクロペンタジエニルビス（２−メチルフェノール）、ジシクロペンタジエニルビスフェノールおよび４，４’−ジヒドロキシ−α−メチルスチルベンなどが挙げられる。
【００４０】
一部の実施形態では、残基Ａは、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノールＡ）、２，２−ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン（テトラクロロビスフェノールＡ）、２，２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン（テトラブロモビスフェノールＡ）、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン（ビスフェノールＦ）、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン（ビスフェノールＡＣＰ）、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン（ビスフェノールＳ）、２，２−ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシル）プロパン（水素化ビスフェノールＡ）、１，５−ジヒドロキシナフタレン、２，２’，６，６’−テトラメチル−４，４’−ジヒドロキシビフェニールおよびこれらの組み合わせから構成される群から選択されたジヒドロキシ芳香族化合物から誘導される。特定のジヒドロキシ芳香族化合物は、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノールＡ）である。
【００４１】
一部の実施形態では、該ポリ（ヒドロキシルエーテル）ブロックの残基Ａは、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−シクロヘキシル）プロパン、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールなどから構成される群から選択されたジヒドロキシ化合物から誘導される。
【００４２】
一部の実施形態では、残基Ｂは、エピクロロヒドリン、エピブロモヒドリン、１，２−エポキシ−１−メチル−３−クロロプロパン、１，２−エポキシ−１−ブチル−３−クロロプロパン、１，２−エポキシ−２−メチル−３−フルオロプロパンおよびこれらの組み合わせから構成される群から選択されたエピハロヒドリンから誘導される。特定のエピハロヒドリンはエピクロロヒドリンである。
【００４３】
一部の実施形態では、ポリ（ヒドロキシルエーテル）ブロックとポリ（アリーレンエーテル）ブロックとのモル比は０．９５：１〜１．００：１である。ポリ（ヒドロキシルエーテル）ブロックとポリ（アリーレンエーテル）ブロックとのモル比の下限値は０．９６：１であり得、具体的には０．９７：１であり得、より具体的には０．９８：１であり得、さらにより具体的には０．９９：１であり得る。上記のモル比の上限値は０．９９：１であり得、具体的には０．９８：１であり得、より具体的には０．９７：１であり得、さらにより具体的には０．９６：１であり得る。ポリ（ヒドロキシルエーテル）ブロックとポリ（アリーレンエーテル）ブロックとのモル比をこうした範囲に維持することによって、該ブロックコポリマーの分子量は最大化され、エポキシ末端基は実質的に回避される。従って、該ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーは溶融安定性を有する。ポリ（ヒドロキシルエーテル）ブロックとポリ（アリーレンエーテル）ブロックとのモル比は、１．００：１をわずかでも上回れないことに留意することが重要である。従って、モル比が１．００１：１の比較実施例１およびモル比が１．００２：１の比較実施例２は、これらの実施形態の範囲外である。
【００４４】
一部の実施形態では、該ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーは、約１〜約９９質量％の、具体的には約１０〜約９０質量％の、より具体的には約２０〜約８０質量％の、さらにより具体的には約３０〜約７０質量％の、さらにより具体的には約４０〜約６０質量％の、少なくとも１つのポリ（ヒドロキシルエーテルブロック）と；約１〜約９９質量％の、具体的には約１０〜約９０質量％の、より具体的には約２０〜約８０質量％の、さらにより具体的には約３０〜約７０質量％の、さらにより具体的には約４０〜約６０質量％の、少なくとも１つのポリ（アリーレンルエーテル）ブロックと、を含む。
【００４５】
一部の実施形態では、該ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーの数平均分子量は、ポリスチレン標準を用いたゲル透過クロマトグラフィ（ＧＰＣ）で測定して、約５，０００〜約５０，０００原子質量単位であり、具体的には約５，５００〜約３０，０００原子質量単位であり、より具体的には約５，０００〜約３０，０００原子質量単位であり、さらにより具体的には約５，５００〜約２０，０００原子質量単位であり、さらにより具体的には約５，５００〜約１０，０００原子質量単位である。
【００４６】
一部の実施形態では、ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー中の末端エポキシ基の量（すなわち、末端グリシジル基の質量％）は、該ポリマーの質量に対して約０．０９質量％未満であり、具体的には約０．０５質量％未満であり、より具体的には約０．０２５質量％未満であり、さらにより具体的には約０．０１質量％未満であり、さらにより具体的には約０．００５質量％未満である。末端エポキシ基の量は、実施例に記載のプロトン核磁気共鳴（１Ｈ−ＮＭＲ）分光法で測定される。末端エポキシ基含量が約０．０９質量％未満の場合、該ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーは熱安定性を有しており、押出、カレンダー成形、型成形および射出成形などの熱成形プロセスに適している。
【００４７】
該ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーは、末端ヒドロキシル基を有するテレケリックポリ（アリーレンエーテル）と末端エポキシ基を有するテレケリックポリ（ヒドロキシエーテル）エポキシ樹脂とを、テレケリックポリ（ヒドロキシエーテル）とテレケリックポリ（アリーレンエーテル）とのモル比が０．９５：１〜１．００：１の範囲で反応させるステップを備えた方法で調製され得る。該反応は、芳香族炭化水素、塩素化炭化水素および極性非プロトン性溶媒から構成される群から選択された溶媒の存在下で行える。好適な極性非プロトン性溶媒は、ケトン、エステル、エーテル、アミド、ニトリル、スルホキシド、スルホンおよびこれらの混合物である。一部の実施形態では、該溶媒はシクロヘキサノンである。
【００４８】
該反応は、該反応条件下で不揮発性である第三アミン触媒の存在下で行える。好適な第三アミン触媒の例としては、トリエチルアミン、トリ−ｎ‐プロピルアミン、トリ−ｎ‐ブチルアミン、ジメチルアニリン、ジエチルアニリン、α−メチルベンジルジメチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエタノール、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）、アルキルイミダゾールなど、およびこれらの混合物が挙げられる。特定の第三アミン触媒は、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）である。
【００４９】
一部の実施形態では、反応混合物中のエポキシ基に対してフェノール基が常に過剰になるように、テレケリックポリ（ヒドロキシルエーテル）エポキシ樹脂をテレケリックポリ（アリーレンエーテル）に添加する。エポキシ樹脂は約１５〜約３００分かけて、具体的には約３０〜約２７０分かけて、より具体的には約４５〜約２４０分かけて、さらにより具体的には約６０〜約２１０分かけて、さらにより具体的には約９０〜約１８０分かけて、部分的に添加され得る。エポキシ樹脂のポリ（アリーレンエーテル）への添加終了後、混合物を該反応温度で約１〜約１２時間撹拌してもよい。該反応は温度約１００〜約２００℃で、具体的には約１２０〜約１８０℃で、より具体的には約１３０〜約１７０℃で、さらにより具体的には約１４０〜約１６０℃で行われ得る。
【００５０】
反応が終了すると、反応混合物を冷却し、芳香族炭化水素、塩素化炭化水素および極性非プロトン性溶媒から構成される群から選択された共溶媒で希釈する。一部の実施形態では、該共溶媒は２−ブタノンである。反応混合物を共溶媒で希釈後、貧溶媒を添加してポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーを沈殿させる。該共溶媒はアルコールであり得る。好適なアルコールとしてはメタノールとイソプロパノールが挙げられる。沈殿後、生成物をろ過・貧溶媒で洗浄し、減圧乾燥させるとポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーが得られる。
【００５１】
該ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーは、成形用組成物として有用な好都合な物性を有する。これらの物性はフェノキシ樹脂に対して向上している。該ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーの密度は、温度２３℃で測定して、約１．１〜約１．２ｇ／ｃｍ３であり、一方、フェノキシ樹脂のそれは１．１７４４ｇ／ｃｍ３であり；ガラス転移温度（Ｔｇ）は、ＡＳＴＭ  Ｄ３４１８−０８に準拠し示差走査熱量法で測定して、約１００〜約１７０℃であり、一方、フェノキシ樹脂のそれは９０℃であり；熱変形温度は、ＡＳＴＭ  Ｄ６４８−０７  方法Ｂに準拠し応力１．８２ＭＰａで測定して、約９０〜約１４０℃であり、一方、フェノキシ樹脂のそれは７７℃であり；曲げ弾性率は、ＡＳＴＭ  Ｄ７９０−１０  方法Ａに準拠し温度２３℃、速度６．４ｍｍ／ｍｉｎで測定して、約２９００〜約３３００ＭＰａであり、一方、フェノキシ樹脂のそれは２７６１ＭＰａである。
【００５２】
上記のように、該ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーにおけるポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックとポリ（アリーレンエーテル）とのモル比は０．９５：１〜１．００：１である。これによって、末端エポキシ基が約０．０９質量％未満のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーが得られる。これは、該ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーが良好な溶融安定性を有するため、特に好都合な特長である。該ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーは溶解混合または溶融混錬でき、押出、カレンダー成形または型成形で該組成物から物品を形成できる。これは、末端エポキシ基が０．０９質量％以上のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーと明らかに対照的である。これらのブロックコポリマーでは、融液のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーの末端エポキシ基とヒドロキシル基が架橋反応する。従って、これらのブロックコポリマーは、熱可塑性ではなく、熱硬化性材料である。従って、末端エポキシ基が０．０９質量％以上のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーは溶融混合または溶融混錬できず、この材料から押出では物品を成形できない。該ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーで形成できる物品の例としては、例えば、遮断性が良好な容器が挙げられる。該ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーを相溶化剤として含む組成物で形成される物品の例としては、ポリ（アリーレンエーテル）と、ポリエステルと、該ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーと、のブレンドで形成される電気コネクタが挙げられる。
【００５３】
該ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーは、無極性ポリマーと混和する。従って、一実施形態は、ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーと、ポリ（アリーレンエーテル）、ポリ（アルケニル芳香族）（ポリスチレンを含む）、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとのブロックコポリマー、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマーおよびこれらの組み合わせから構成される群から選択された無極性ポリマーと、を含む組成物である。
【００５４】
該ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーは、ポリスチレと混和する。従って、一実施形態は、これらを含む組成物である。本明細書において、ポリスチレンはスチレンのホモポリマーを指す。従って、該ポリスチレンには、スチレン以外のいかなるモノマーの残基も含まれない。該ポリスチレンは、アタクチック、シンジオタクチックあるいはアイソタクチックであり得る。一部の実施形態では、該ポリスチレンは、アタクチックポリスチレンで構成される。一部の実施形態では、該ポリスチレンのメルトボリュームフローレートは、ＩＳＯ１１３３に準拠し温度２００℃、荷重５ｋｇで測定して、１．５〜５ｃｍ３／１０ｍｉｎである。
【００５５】
図３は、ポリ（アリーレンエーテル）とポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーとの二相クロロホルム溶液の表相中のポリスチレン含量（半黒塗り四角）およびポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー含量（白抜き円）と、ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー中のポリ（アリーレンエーテル）ブロック含量と、の関係を示すグラフである。該ポリスチレンは、Ａｍｅｒｉｃａｓ  Ｓｔｒｅｎｉｃｓ社から６８５Ｄ１として入手したアタクチックポリスチレンである。該ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーのポリ（アリーレンエーテル）ブロックは、Ｓａｂｉｃ  Ｉｎｎｏｖａｔｉｖｅ  Ｐｌａｓｔｉｃｓ社からＰＰＯ  ＳＡ９０として市販されているテレケリックポリ（アリーレンエーテル）から誘導される。フェノキシ樹脂は、ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー中のポリ（アリーレンエーテル）ブロック０質量％の点のデータで表される。図３からわかるように、フェノキシ樹脂は、ポリスチレンと非混和性である。しかしながら、０質量％超のポリ（アリーレンエーテル）ブロックを有するポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーはポリスチレンと混和し、ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーの混和性は、ポリ（アリーレンエーテル）ブロック量の増加と共に上昇する。一部の実施形態では、該組成物は、その合計質量に対して、０超〜約１５質量％の、具体的には約１〜約１５質量％の、より具体的には約５〜約１５質量％のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーと；約８５〜１００質量％未満の、具体的には約８５〜約９９質量％の、より具体的には約８５〜約９５質量％のポリスチレンと、を含む。一部の実施形態では、該組成物は、ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーとポリスチレンとの合計質量に対して、０超〜約１５質量％の、具体的には約１〜約１５質量％の、より具体的には約５〜約１５質量％のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーと；約８５〜１００質量％未満の、具体的には約８５〜約９９質量％の、より具体的には約８５〜９５質量％のポリスチレンと、を含む。
【００５６】
図４は、ポリ（アリーレンエーテル）とポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーとの二相クロロホルム溶液の底相中のポリスチレン含量（白抜き円）およびポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー含量（半黒塗り四角）と、ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー中のポリ（アリーレンエーテル）ブロック含量と、の関係を示すグラフである。フェノキシ樹脂は、ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー中のポリ（アリーレンエーテル）ブロック０質量％の点のデータで表される。図４からわかるように、ポリスチレンはフェノキシ樹脂と非混和性である。しかしながら、ポリスチレンは、３６質量％超のポリ（アリーレンエーテル）ブロックを有するポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーとは混和し、ポリスチレンの混和性は、ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー中のポリ（アリーレンエーテル）ブロック量の増加と共に上昇する。一部の実施形態では、該組成物は、その合計質量に対して、０超〜約１５質量％の、具体的には約１〜約１５質量％のポリスチレンと、約８５〜１００質量％未満の、具体的には約８５〜約９９質量％のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーと、を含む。一部の実施形態では、該組成物は、ポリスチレンとポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーとの合計質量に対して、０超〜約１５質量％の、具体的には約１〜約１５質量％のポリスチレンと、約８５〜１００質量％未満の、具体的には約８５〜約９９質量％のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーと、を含む。
【００５７】
一部の実施形態では、該無極性ポリマーはポリ（アリーレンエーテル）である。該ポリ（アリーレンエーテル）は、下式の繰り返し構造単位を含む：
【００５８】
【化１４】
2014518316.tif 000016
式中、Ｚ１はそれぞれ独立に、ハロゲン、ヒドロカルビル基が第三級ヒドロカルビルではない未置換または置換Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビル、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルチオ、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルオキシ、あるいは少なくとも２つの炭素原子がハロゲン原子と酸素原子とを分離しているＣ２−Ｃ１２ハロヒドロカルビルオキシであり；Ｚ２はそれぞれ独立に、水素、ハロゲン、ヒドロカルビル基が第三級ヒドロカルビルではない未置換または置換Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビル、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルチオ、Ｃ１−Ｃ１２ヒドロカルビルオキシ、あるいは少なくとも２つの炭素原子がハロゲン原子と酸素原子とを分離しているＣ２−Ｃ１２ハロヒドロカルビルオキシである。本明細書において、「ヒドロカルビル」は、単独であるいは別の用語の接頭辞、接尾辞またはフラグメントとして使用されたとしても、炭素と水素だけを含む残基を指す。該残基は、脂肪族または芳香族、直鎖、環式、二環式、分枝鎖、飽和または不飽和であり得る。それはまた、脂肪族、芳香族、直鎖、環式、二環式、分枝鎖、飽和および不飽和炭化水素部分の組み合わせも含み得る。しかしながら、該ヒドロカルビル残基が置換であると記載された場合、それは選択的に、該置換残基の炭素と水素員上にヘテロ原子を含んでいてもよい。従って、置換であると特定的に記載された場合、該ヒドロカルビル残基は、１個または複数個のカルボニル基、アミノ基、水酸基なども含み得、あるいは、該ヒドロカルビル残基の骨格内にヘテロ原子を含み得る。例えば、Ｚ１は、末端３，５−ジメチル−１，４−フェニル基と酸化重合触媒のジ−ｎ−ブチルアミン成分との反応で形成されるジ−ｎ−ブチルアミノメチル基あるいは、末端３，５−ジメチル−１，４−フェニル基と酸化重合触媒のモルホリン成分との反応で形成されるモルホリノメチル基であり得る。
【００５９】
図５は、ポリ（アリーレンエーテル）とポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーとの二相クロロホルム溶液の表相中のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー含量（白抜き円）およびポリ（アリーレンエーテル）含量（黒塗り菱形）と、ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー中のポリ（アリーレンエーテル）ブロック含量と、の関係を示すグラフである。該ポリ（アリーレンエーテル）は、２５℃クロロホルム中での固有粘度が約０．４０ｄＬ／ｇのポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）（Ｓａｂｉｃ  Ｉｎｎｏｖａｔｉｖｅ  Ｐｌａｓｔｉｃｓ社からＰＰＯ６４０として入手）である。フェノキシ樹脂は、ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー中のポリ（アリーレンエーテル）ブロック０質量％の点のデータで表される。図５からわかるように、ポリ（アリーレンエーテル）はフェノキシ樹脂と非混和性である。しかしながら、ポリ（アリーレンエーテル）は、３６質量％超のポリ（アリーレンエーテル）ブロックを有するポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーとは混和し、ポリ（アリーレンエーテル）の混和性は、ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー中のポリ（アリーレンエーテル）ブロック量の増加と共に上昇する。一部の実施形態では、該組成物は、その合計質量に対して、０超〜約５０質量％の、具体的には約１〜約５０質量％のポリ（アリーレンエーテル）と、約５０〜１００質量％未満の、具体的には約５０〜約９９質量％のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーと、を含む。一部の実施形態では、該組成物は、ポリ（アリーレンエーテル）とポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーとの合計質量に対して、０超〜約５０質量％の、具体的には約１〜約５０質量％のポリ（アリーレンエーテル）と、約５０〜１００質量％未満の、具体的には約５０〜約９９質量％のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーと、を含む。
【００６０】
図６は、ポリ（アリーレンエーテル）とポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーとの二相クロロホルム溶液の低相中のポリ（アリーレンエーテル）含量（白抜き円）およびポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー含量（黒塗り菱形）と、ポリ（アリーレンエーテル）ブロック含量と、の関係を示すグラフである。フェノキシ樹脂は、ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー中のポリ（アリーレンエーテル）ブロック０質量％の点のデータで表される。図６からわかるように、フェノキシ樹脂は、約１０質量％程度までのポリ（アリーレンエーテル）だけと混和する。しかしながら、ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー中のポリ（アリーレンエーテル）ブロック量の増加に伴って、ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーのポリ（アリーレンエーテル）との混和性は上昇する。一部の実施形態では、該組成物は、その合計質量に対して、約１０〜約５０質量％の、具体的には約１０〜約１５質量％のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーと、約５０〜約９０質量％の、具体的には約８５〜約９０質量％のポリ（アリーレンエーテル）と、を含む。一部の実施形態では、該組成物は、ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーとポリ（アリーレンエーテル）の合計質量に対して、約１０〜約５０質量％の、具体的には約１０〜約１５質量％のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーと、約５０〜約９０質量％の、具体的には約８５〜約９０質量％のポリ（アリーレンエーテル）と、を含む。
【００６１】
一実施形態は、ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーと、ポリスチレンまたはポリ（アリーレンエーテル）などの無極性ポリマーあるいはこれらの混合物と、ガラス繊維と、を含む組成物である。ガラス繊維およびその製造法は、当分野では一般に周知である。一実施形態では、該ガラスは相対的にソーダを含まない。「Ｅ」ガラスとしても既知の石灰アルミナホウケイ酸ガラスから成るガラス繊維フィラメントは特に好適であることが多い。ガラス繊維は、曲げ弾性率と強度を上げるために組成物に添加される。ガラスフィラメントは、例えば、蒸気または空気吹付法、火炎吹付法または機械的引出法などの標準的なプロセスで製造できる。プラスチック補強に好適なフィラメントは機械的引出法で製造される。最適な機械的特性を得るには、繊維径は約６〜約２０μｍであることが好ましく、約１０〜約１５μｍであることがより好ましい。成形用組成物の調製においては、約０．１２５インチ（約３．１７５ｍｍ）〜約０．５インチ（約１２．７ｍｍ）長さのチョップドストランドの形態の繊維の使用が便利であるが、ロービングを使用してもよい。該組成物で成形される物品においては、恐らくは組成物混合の間の繊維破砕のために、繊維長は典型的には短い。最終の成形用組成物中のこうしたガラス短繊維の長さは、典型的には約４ｍｍ未満である。これらの繊維を広範なカップリング剤で処理して、マトリックス樹脂との接着を向上させられる。好適なカップリング剤としては、アミノ官能化シラン、エポキシ官能化シラン、アミド官能化シランおよびメルカプト官能化シランが挙げられる。有機金属カップリング剤、例えば、チタンまたはジルコニウム系有機金属化合物も使用できる。他の好適なサイジング剤被覆ガラス繊維は、Ｏｗｅｎｓ  Ｃｏｒｎｉｎｇ  Ｆｉｂｅｒｇｌａｓｓ社から、例えばＯＣＦ  Ｋフィラメントガラス繊維１８３Ｆとして市販されている。
【００６２】
別の実施形態では、径が約１０〜約２４μｍの、具体的には約１３〜約１８μｍのガラス繊維モノフィラメントを含む連続ガラス繊維束を溶融熱可塑性プラスチックに、好適にはポリエステルに含浸させた長ガラス繊維が使用できる。冷却後、該含浸束を、５ｍｍ超の長さの、好適には９ｍｍ超の長さのペレットに裁断する。本発明によるポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーを含浸用に用いて、フィラメントの濡れ速度を向上させて長ガラス繊維ペレットを製造できる。これらのペレットをポリスチレン組成物に組み込むことにより、長ガラス繊維強化ポリスチレン組成物が形成できる。この方法で調製した組成物中の長ガラス繊維の長さは、典型的には短繊維の組み込みで調製したものより長く、成形部品に存在する長ガラス繊維の主要部分の長さは４ｍｍ超である。こうした長ガラス繊維強化組成物は、射出成形、圧縮成形、熱成形などの異なる成形法で使用できる。短繊維の場合のように、長繊維も広範なカップリング剤で処理して、樹脂との接着を向上させられる。当業者には、長ガラス繊維を高流動性組成物中に直接組み込む引抜法などの連続プロセスも可能であろう。
【００６３】
ガラス繊維が組成物中に存在する場合、その量は、組成物の合計質量に対して、約５〜約６０質量％であり得、具体的には約１０〜約５０質量％であり得、より具体的には約２０〜約４０質量％であり得る。
【００６４】
一部の実施形態では、ポリスチレンとガラス繊維との接着は、該ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーを含まない同じ組成物に対して、ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーによって向上する。接着が向上することによって、例えば、２３℃での向上した曲げ弾性率および強度で客観的に測定されるように、剛性および延性が向上する。
【００６５】
上記のように、該ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーは、無極性ポリマーと混和する。該ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーは、極性ポリマーとも混和する。無極性ポリマーおよび極性ポリマーの両方に対する二重親和性により、該ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーは、無極性ポリマーと極性ポリマーの混合物用の相溶化剤としての使用に理想的に適している。従って、一実施形態は、ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーと、無極性ポリマーと、極性ポリマーと、を含む組成物である。一実施形態では、該無極性ポリマーはポリスチレンであり、該極性ポリマーは、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ乳酸およびこれらの組み合わせから構成される群から選択される。別の実施形態では、該無極性ポリマーはポリ（アリーレンエーテル）であり、該極性ポリマーは、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ乳酸、ポリ（エチレン−酢酸ビニル）（ＥＶＡ）、ポリ（エチレン−エチルアクリレート）（ＥＥＡ）、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコールおよびこれらの組み合わせから構成される群から選択される。
【００６６】
一実施形態は、ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーと、無極性ポリマーと、極性ポリマーと、を含み、前記無極性ポリマーと極性ポリマーとの相溶性は、前記ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーを含まない同じ組成物に対して向上したノッチ付アイゾッド衝撃強度に見られるように、前記ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーの存在によって向上している組成物である。この実施形態での無極性ポリマーは、ポリ（アリーレンエーテル）またはポリスチレンを含む。理論に拘束されることなく、このノッチ付アイゾッド衝撃強度の向上は、該組成物中の極性ポリマー相と無極性ポリマー相間の界面接着が向上した結果によるものである。界面接着が向上することによって、衝撃力下、相間の層間剥離の可能性が低減する。
【００６７】
また、無極性ポリマーと極性ポリマーとを含む組成物中に該ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーが存在することによって、該組成物のガラス転移温度以上で行われる押出および型成形プロセス中の組成物の溶融加工性も向上する。理論に拘束されることなく、該加工性の向上は、該ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーによる融液の組成物形態の安定化によるものである。ガラス転移温度以上での無極性ポリマー相と極性ポリマー相間の界面接着の向上によって、溶融加工時のせん断力下、相間の層間剥離の可能性が低減する。
【００６８】
一実施形態は、ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーと、ポリスチレンと、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ乳酸およびこれらの組み合わせから構成される群から選択された極性ポリマーと、を含み、前記ポリスチレンと極性ポリマーとの相溶性は、前記ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーを含まない同じ組成物に対して向上したノッチ付アイゾッド衝撃強度に見られるように、前記ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーの存在によって向上している。
【００６９】
一実施形態は、ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーと、ポリ（アリーレンエーテル）と、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ乳酸、ポリ（エチレン−酢酸ビニル）（ＥＶＡ）、ポリ（エチレン−エチルアクリレート）（ＥＥＡ）、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコールおよびこれらの組み合わせから構成される群から選択された極性ポリマーと、を含み、前記ポリ（アリーレンエーテル）と極性ポリマーとの相溶性は、前記ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーを含まない同じ組成物に対して向上したノッチ付アイゾッド衝撃強度に見られるように、前記ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーの存在によって向上している。
【００７０】
本明細書で開示された組成物はいずれも、その合計質量に対して、約０．５〜約５質量％の、具体的には約１〜約４質量％の、より具体的には約１．５〜約３質量％の、充填剤、安定剤、離型剤、加工助剤、防滴剤、成核剤、ＵＶカット剤、染料、顔料、酸化防止剤、帯電防止剤、鉱油、金属不活性化剤、ブロッキング防止剤、ナノクレイおよび導電性付与剤で構成される群から選択された１種または複数種の添加剤を選択的に含み得る。
【００７１】
該組成物は、それぞれの成分を互いに溶融混合または溶融混練することによって調製できる。溶融混合または溶融混練は、リボンブレンダ、Ｈｅｎｓｃｈｅｌミキサー、Ｂａｎｂｕｒｙミキサー、ドラムタンブラー、単軸押出機、二軸押出機、多軸押出機、共混練機などの既知の装置を用いて行える。
【００７２】
物品は、押出、熱成形または型成形によって該組成物から形成できる。一実施形態では、該物品は型成形で形成される。例えば、射出成形、射出圧縮成形、ガスアシスト射出成形、ロータリー成形、ブロー成形、圧縮成形などの種々の既知の成形法が使用できる。
【００７３】
一部の実施形態では、該物品は射出成形で形成される。射出成形では、溶融混合または溶融混練によってペレット状に製造された組成物は、ホッパーから加熱された射出バレル内にオーガで供給される。射出バレルは、組成物を型内に供給するスクリューと外部ヒータとを備える。射出バレル内に供給されると、組成物は射出バレルによって外部から加熱されて軟化・溶融し、溶融組成物すなわち融液を形成する。組成物は、組成物を前方に送るスクリューのせん断力によってさらに加熱される。組成物をダイから押出して連続ストランドを形成し、これを組成物のガラス転移温度以下に冷却しペレット化する。一部の実施形態では、目標の溶融温度は約１００〜約３００℃であり、具体的には約１２０〜約３８０℃であり、より具体的には約１４０〜約２６０℃である。一部の実施形態では、ダイ温度は約１９０〜約２８０℃であり、具体的には約２００〜約２６０℃であり、より具体的には約２２０〜約２４０℃である。
【００７４】
金型を完全に満たすに十分な溶融組成物の量はロードまたはショットと呼ばれる。該ショットは、圧力下で射出スクリューから加熱金型内へ押し込まれ、そこで理想的には、金型の開口容積内の空間をすべて満たす。その後、組成物を十分に冷却し、堅固なピースとして脱型する。一実施形態では、金型温度は約３０〜約１００℃であり、具体的には約４０〜約９０℃であり、より具体的には約５０〜約８０℃である。一部の実施形態では、該物品は射出圧縮成形で形成される。射出圧縮成形は、組成物が金型内にある間さらに圧力が加えられる点を除き、射出成形と同じである。射出成形と射出圧縮成形については、Ｗｅｂｅｒの米国特許第５，９１６，４９６号に開示されている。
【００７５】
本発明は少なくとも以下の実施形態を含む。
【００７６】
実施形態１：少なくとも１つのポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックと少なくとも１つのポリ（アリーレンエーテル）ブロックとを、モル比が０．９５：１〜１．００：１の範囲で含むことを特徴とするポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー。
【００７７】
実施形態２：前記ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーの数平均分子量は約５，０００〜約５０，０００原子質量単位であることを特徴とする実施形態１に記載のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー。
【００７８】
実施形態３：前記ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーは、０．０９質量％未満の末端エポキシ基を有することを特徴とする実施形態１または実施形態２に記載のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー。
【００７９】
実施形態４：約１〜約９９質量％の前記少なくとも１つのポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックと、約１〜約９９質量％の前記少なくとも１つのポリ（アリーレンエーテル）ブロックと、を含むことを特徴とする実施形態１乃至実施形態３のいずれかに記載のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー。
【００８０】
実施形態５：前記少なくとも１つのポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックは下式の構造を有することを特徴とする実施形態１乃至実施形態４のいずれかに記載のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー：
【００８１】
【化１５】
2014518316.tif 000017
式中、Ａは下式の構造
【００８２】
【化１６】
2014518316.tif 000018
［式中、Ｇ１はそれぞれ独立にＣ６−Ｃ２０芳香族基であり、Ｅはそれぞれ独立に、直接結合または下式の構造
【００８３】
【化１７】
2014518316.tif 000019
（式中、Ｒ１１〜Ｒ１４はそれぞれ独立に、水素またはＣ１ーＣ１２ヒドロカルビル）から構成される群から選択された構造であり、ｓは０または１であり、ｔとｕはそれぞれ独立に１〜１０である］を有する残基であり；Ｂは下式の構造
【００８４】
【化１８】
2014518316.tif 000020
（式中、Ｒ８〜Ｒ１０はそれぞれ独立に、水素またはＣ１−Ｃ１２ヒドロカルビル）を有する残基であり；ｎは約１〜約６０である。
【００８５】
実施形態６：前記Ａは、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノールＡ）、２，２−ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン（テトラクロロビスフェノールＡ）、２，２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン（テトラブロモビスフェノールＡ）、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン（ビスフェノールＦ）、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン（ビスフェノールＡＣＰ）、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン（ビスフェノールＳ）、２，２−ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシル）プロパン（水素化ビスフェノールＡ）、１，５−ジヒドロキシナフタレン、２，２’，６，６’−テトラメチル−４，４’−ジヒドロキシビフェニールおよびこれらの組み合わせから構成される群から選択されたジヒドロキシ芳香族化合物から誘導されることを特徴とする実施形態５に記載のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー。
【００８６】
実施形態７：前記Ｂは、エピクロロヒドリン、エピブロモヒドリン、１，２−エポキシ−１−メチル−３−クロロプロパン、１，２−エポキシ−１−ブチル−３−クロロプロパン、１，２−エポキシ−２−メチル−３−フルオロプロパンおよびこれらの組み合わせから構成される群から選択されたエピハロヒドリンから誘導されることを特徴とする実施形態５または実施形態６に記載のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー。
【００８７】
実施形態８：前記少なくとも１つのポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックは下式の構造を有することを特徴とする実施形態１乃至実施形態７のいずれかに記載のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー：
【００８８】
【化１９】
2014518316.tif 000021
式中、ｎは約１〜約６０である。
【００８９】
実施形態９：前記少なくとも１つのポリ（アリーレンエーテル）ブロックは、下式の構造
【００９０】
【化２０】
2014518316.tif 000022
（式中、Ｑ５とＱ６はそれぞれ独立に、メチル、ジ−ｎ−ブチルアミノメチルまたはモルホリノメチルであり、ａとｂは、その合計が少なくとも２であることを条件に、それぞれ独立に０〜約２０である）を有し；前記少なくとも１つのポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックは、下式の構造
【００９１】
【化２１】
2014518316.tif 000023
（式中、ｎは約１〜約６０である）を有することを特徴とする実施形態１乃至実施形態８のいずれかに記載のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー。
【００９２】
実施形態１０：少なくとも１つのポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックと、少なくとも１つのポリ（アリーレンエーテル）ブロックと、を含み、数平均分子量が約５，０００〜約５０，０００原子質量単位であることを特徴とするポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー。
【００９３】
実施形態１１：その質量に対して、０．０９質量％未満の末端エポキシ基を有することを特徴とする実施形態１０に記載のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー。
【００９４】
実施形態１２：その質量に対して、約１〜約９９質量％の前記少なくとも１つのポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックと、約１〜約９９質量％の前記少なくとも１つのポリ（アリーレンエーテル）ブロックと、を含むことを特徴とする実施形態１０または実施形態１１に記載のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー。
【００９５】
実施形態１３：前記少なくとも１つのポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックは下式の構造を有することを特徴とする実施形態１０または実施形態１２のいずれかに記載のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー：
【００９６】
【化２２】
2014518316.tif 000024
式中、Ａは下式の構造
【００９７】
【化２３】
2014518316.tif 000025
［式中、Ｇ１はそれぞれ独立にＣ６−Ｃ２０芳香族基であり、Ｅはそれぞれ独立に、直接結合または下式の構造
【００９８】
【化２４】
2014518316.tif 000026
（式中、Ｒ１１〜Ｒ１４はそれぞれ独立に、水素またはＣ１−Ｃ１２ヒドロカルビル）から構成される群から選択された構造であり、ｓは０または１であり、ｔとｕはそれぞれ独立に１〜１０である］を有する残基であり；Ｂは下式の構造
【００９９】
【化２５】
2014518316.tif 000027
（式中、Ｒ８〜Ｒ１０はそれぞれ独立に、水素またはＣ１−Ｃ１２ヒドロカルビル）を有する残基であり；ｎは約１〜約６０である。
【０１００】
実施形態１４：前記少なくとも１つのポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックは下式の構造を有することを特徴とする実施形態１０乃至実施形態１３のいずれかに記載のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー：
【０１０１】
【化２６】
2014518316.tif 000028
式中、ｎは約１〜約６０である。
【０１０２】
実施形態１５：前記少なくとも１つのポリ（アリーレンエーテル）ブロックは、下式の構造
【０１０３】
【化２７】
2014518316.tif 000029
（式中、ａとｂは、その合計が少なくとも３であることを条件に、それぞれ独立に０〜５０）を含み；
前記少なくとも１つのポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックは、下式の構造
【０１０４】
【化２８】
2014518316.tif 000030
（式中、ｎは約１〜約６０）を有することを特徴とする実施形態１０乃至実施形態１４のいずれかに記載のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー。
【０１０５】
実施形態１６：実施形態１乃至実施形態１５のいずれかに記載のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーと、ポリ（アリーレンエーテル）、ポリ（アルケニル芳香族）、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとのブロックコポリマー、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマーおよびこれらの組み合わせから構成される群から選択された無極性ポリマーと、を含むことを特徴とする組成物。
【０１０６】
実施形態１７：前記無極性ポリマーはポリスチレンを含むことを特徴とする実施形態１６に記載の組成物。
【０１０７】
実施形態１８：その合計質量に対して、約１〜約１５質量％の前記ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーと、約８５〜約９９質量％の前記ポリスチレンと、を含むことを特徴とする実施形態１７に記載の組成物。
【０１０８】
実施形態１９：前記ポリスチレンと前記ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーとの合計質量に対して、約１〜約１５質量％のポリスチレンと、約８５〜約９９質量％のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーと、を含むことを特徴とする実施形態１７に記載の組成物。
【０１０９】
実施形態２０：ポリエステル、ポリ（エチレン−酢酸ビニル）、ポリ（エチレン−エチルアクリレート）、ポリ（酢酸ビニル）、ポリ（ビニルアルコール）およびこれらの組み合わせから構成される群から選択された極性ポリマーをさらに含むことを特徴とする実施形態１７乃至実施形態１９のいずれかに記載の組成物。
【０１１０】
実施形態２１：ポリ（エチレンテレフタレート）、ポリ（トリメチレンテレフタレート）、ポリ（ブチレンテレフタレート）、ポリ（乳酸）およびこれらの組み合わせから構成される群から選択されたポリエステルをさらに含むことを特徴とする実施形態１７乃至実施形態１９のいずれかに記載の組成物。
【０１１１】
実施形態２２：前記無極性ポリマーはポリ（アリーレンエーテル）を含むことを特徴とする実施形態１６に記載の組成物。
【０１１２】
実施形態２３：前記ポリ（アリーレンエーテル）と前記ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーとの合計質量に対して、約１〜約５０質量％のポリ（アリーレンエーテル）と、約５０〜約９９質量％のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーと、を含むことを特徴とする実施形態２２に記載の組成物。
【０１１３】
実施形態２４：前記ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーと前記ポリ（アリーレンエーテル）との合計質量に対して、約１０〜約５０質量％のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーと、約５０〜約９０質量％のポリ（アリーレンエーテル）と、を含むことを特徴とする実施形態２２または実施形態２３に記載の組成物。
【０１１４】
実施形態２５：ポリエステル、ポリ（エチレン−酢酸ビニル）、ポリ（エチレン−エチルアクリレート）、ポリ（酢酸ビニル）、ポリ（ビニルアルコール）およびこれらの組み合わせから構成される群から選択された極性ポリマーをさらに含むことを特徴とする実施形態２２乃至実施形態２４のいずれかに記載の組成物。
【０１１５】
実施形態２６：ポリ（エチレンテレフタレート）、ポリ（トリメチレンテレフタレート）、ポリ（ブチレンテレフタレート）、ポリ（乳酸）およびこれらの組み合わせから構成される群から選択されたポリエステルをさらに含むことを特徴とする実施形態２２乃至実施形態２４のいずれかに記載の組成物。
【０１１６】
実施形態２７：さらにガラス繊維を含むことを特徴とする実施形態１６乃至実施形態２６のいずれかに記載の組成物。
【０１１７】
実施形態２８：前記無極性ポリマーはポリスチレンを含むことを特徴とする実施形態２７に記載の組成物。
【０１１８】
実施形態２９：末端ヒドロキシル基を有するテレケリックポリ（アリーレンエーテル）と末端エポキシ基を有するテレケリックポリ（ヒドロキシエーテル）エポキシ樹脂とを、テレケリックポリ（ヒドロキシエーテル）とテレケリックポリ（アリーレンエーテル）とのモル比が０．９５：１〜１．００：１の範囲で反応させるステップを備えたことを特徴とするポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーの製造方法。
【０１１９】
実施形態３０：前記テレケリックポリ（ヒドロキシルエーテル）は、約１５〜約３００分かけて前記テレケリックポリ（アリーレンエーテル）に部分的に添加されることを特徴とする実施形態２９に記載の方法。
【０１２０】
実施形態３１：実施形態２９または実施形態３０に記載の方法で調製されたことを特徴とするポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー。
【０１２１】
実施形態３２：実施形態１６乃至実施形態２８のいずれかに記載の組成物の成分を溶融混合または溶融混練するステップを備えた組成物の形成方法。
【０１２２】
実施形態３３：実施形態１乃至実施形態１５のいずれかに記載のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーを含むことを特徴とする物品。
【０１２３】
実施形態３４：押出、熱成形または型成形により、実施形態１乃至実施形態１５のいずれかに記載のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーを成形するステップを備えた物品の形成方法。
【０１２４】
以下の非限定的実施例によって、本発明をさらに例証する。
【０１２５】
（実施例１〜８、比較実施例１〜３）
実施例における組成物の調製に用いたそれぞれの成分を表１に要約する。
【０１２６】
【表１】
2014518316.tif 000031
【０１２７】
テレケリックポリ（アリーレンエーテル）と２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン−エピクロロヒドリンポリマーとの反応により、ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーを調製した。その手順を以下に記載する。
【０１２８】
（調製例１：２４質量％のポリ（アリーレンエーテル）ブロックを含むポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー）
【０１２９】
【表２】
2014518316.tif 000032
【０１３０】
機械的撹拌機、熱電対プローブ、パウダー漏斗およびマントルヒータを備えた２Ｌ三ツ口丸底フラスコに、シクロヘキサノン５００ｍＬを添加した。シクロヘキサノンを撹拌しながら１５０℃に加熱した。テレケリックポリ（アリーレンエーテル）を添加し溶解させた。その後、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）５．０ｇ（０．０４０９モル）を添加し溶解させた。以下のように、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン−エピクロロヒドリンポリマーを９０分かけて部分的に添加した。
時間（分）        添加量（質量％）
０              ７３
３０              ２３
６０                ３．５
９０                ０．５
【０１３１】
この溶液を１５０℃で７時間撹拌した。反応混合物を８０℃未満に冷却し、２−ブタノン４００ｍＬで希釈した。メタノール沈殿でポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーを単離し、ろ過・メタノール洗浄後、１００℃の真空オーブン内で乾燥させた。収量は４６５ｇ（９３％）であった。
【０１３２】
（調製例２：３０質量％のポリ（アリーレンエーテル）ブロックを含むポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー）
【０１３３】
【表３】
2014518316.tif 000033
【０１３４】
機械的撹拌機、熱電対プローブ、パウダー漏斗およびマントルヒータを備えた２Ｌ三ツ口丸底フラスコに、シクロヘキサノン５００ｍＬを添加した。シクロヘキサノンを撹拌しながら１５０℃に加熱した。テレケリックポリ（アリーレンエーテル）を添加し溶解させた。その後、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）５．０ｇ（０．０４０９モル）を添加し溶解させた。以下のように、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン−エピクロロヒドリンポリマーを９０分かけて部分的に添加した。
時間（分）        添加量（質量％）
０              ６３
３０              ３２
６０                ４
９０                １
【０１３５】
この溶液を１５０℃で７時間撹拌した。反応混合物を８０℃未満に冷却し、２−ブタノン４００ｍＬで希釈した。メタノール沈殿でポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーを単離し、ろ過・メタノール洗浄後、１００℃の真空オーブン内で乾燥させた。収量は４６２ｇ（９２．４％）であった。
【０１３６】
（調製例３：３６質量％のポリ（アリーレンエーテル）ブロックを含むポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー）
【０１３７】
【表４】
2014518316.tif 000034
【０１３８】
機械的撹拌機、熱電対プローブ、パウダー漏斗およびマントルヒータを備えた２Ｌ三ツ口丸底フラスコに、シクロヘキサノン５００ｍＬを添加した。シクロヘキサノンを撹拌しながら１５０℃に加熱した。テレケリックポリ（アリーレンエーテル）を添加し溶解させた。その後、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）５．０ｇ（０．０４０９モル）を添加し溶解させた。以下のように、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン−エピクロロヒドリンポリマーを９０分かけて部分的に添加した。
時間（分）          添加量（質量％）
０              ６３
３０              ３１
６０                ５
９０                １
【０１３９】
この溶液を１５０℃で７時間撹拌した。反応混合物を８０℃未満に冷却し、２−ブタノン４００ｍＬで希釈した。メタノール沈殿でポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーを単離し、ろ過・メタノール洗浄後、１００℃の真空オーブン内で乾燥させた。収量は４５５ｇ（９１％）であった。
【０１４０】
（調製例４：５４質量％のポリ（アリーレンエーテル）ブロックを含むポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー）
【０１４１】
【表５】
2014518316.tif 000035
【０１４２】
機械的撹拌機、熱電対プローブ、パウダー漏斗およびマントルヒータを備えた２Ｌ三ツ口丸底フラスコに、シクロヘキサノン５００ｍＬを添加した。シクロヘキサノンを撹拌しながら１５０℃に加熱した。テレケリックポリ（アリーレンエーテル）を添加し溶解させた。その後、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）５．０ｇ（０．０４０９モル）を添加し溶解させた。以下のように、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン−エピクロロヒドリンポリマーを９０分かけて部分的に添加した。
時間（分）          添加量（質量％）
０              ７０
３０              ２５
６０                ４
９０                １
【０１４３】
この溶液を１５０℃で７時間撹拌した。反応混合物を８０℃未満に冷却し、２−ブタノン４００ｍＬで希釈した。メタノール沈殿でポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーを単離し、ろ過・メタノール洗浄後、１００℃の真空オーブン内で乾燥させた。収量は４６０ｇ（９２％）であった。
【０１４４】
（調製例５：６０質量％のポリ（アリーレンエーテル）ブロックを含むポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー）
【０１４５】
【表６】
2014518316.tif 000036
【０１４６】
機械的撹拌機、熱電対プローブ、パウダー漏斗およびマントルヒータを備えた２Ｌ三ツ口丸底フラスコに、シクロヘキサノン５００ｍＬを添加した。シクロヘキサノンを撹拌しながら１５０℃に加熱した。テレケリックポリ（アリーレンエーテル）を添加し溶解させた。その後、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）５．０ｇ（０．０４０９モル）を添加し溶解させた。以下のように、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン−エピクロロヒドリンポリマーを９０分かけて部分的に添加した。
時間（分）          添加量（質量％）
０              ６２
３０              ２５
６０              １２
９０                １
【０１４７】
この溶液を１５０℃で７時間撹拌した。反応混合物を８０℃未満に冷却し、２−ブタノン４００ｍＬで希釈した。メタノール沈殿でポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーを単離し、ろ過・メタノール洗浄後、１００℃の真空オーブン内で乾燥させた。収量は４７１ｇ（９４．２％）であった。
【０１４８】
（調製例６：８０質量％のポリ（アリーレンエーテル）ブロックを含むポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー）
【０１４９】
【表７】
2014518316.tif 000037
【０１５０】
機械的撹拌機、熱電対プローブ、パウダー漏斗およびマントルヒータを備えた２Ｌ三ツ口丸底フラスコに、シクロヘキサノン５００ｍＬを添加した。シクロヘキサノンを撹拌しながら１５０℃に加熱した。テレケリックポリ（アリーレンエーテル）を添加し溶解させた。その後、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）５．０ｇ（０．０４０９モル）を添加し溶解させた。以下のように、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン−エピクロロヒドリンポリマーを９０分かけて部分的に添加した。
時間（分）          添加量（質量％）
０              ６７
３０              ２６
６０                ６
９０                １
【０１５１】
この溶液を１５０℃で７時間撹拌した。反応混合物を８０℃未満に冷却し、２−ブタノン４００ｍＬで希釈した。メタノール沈殿でポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーを単離し、ろ過・メタノール洗浄後、１００℃の真空オーブン内で乾燥させた。収量は４６６ｇ（９３．２％）であった。
【０１５２】
（調製例７：４６．５質量％のポリ（アリーレンエーテル）ブロックを含むポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー）
【０１５３】
【表８】
2014518316.tif 000038
【０１５４】
機械的撹拌機、熱電対プローブ、パウダー漏斗およびマントルヒータを備えた２Ｌ三ツ口丸底フラスコに、シクロヘキサノン２５０ｍＬを添加した。シクロヘキサノンを撹拌しながら１５０℃に加熱した。テレケリックポリ（アリーレンエーテル）を添加し溶解させた。その後、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）２．５ｇ（０．０２０５モル）を添加し溶解させた。以下のように、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン−エピクロロヒドリンポリマーを１２０分かけて部分的に添加した。
時間（分）          添加量（質量％）
０              ８５．９
３０                ８．７
６０                ５．２
９０                ０．１５
１２０                ０．０６
【０１５５】
この溶液を１５０℃で７時間撹拌した。反応混合物を８０℃未満に冷却し、２−ブタノン２００ｍＬで希釈した。メタノール沈殿でポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーを単離し、ろ過・メタノール洗浄後、１００℃の真空オーブン内で乾燥させた。収量は２３７ｇ（９４．８％）であった。
【０１５６】
（調製例８：４８．６質量％のポリ（アリーレンエーテル）ブロックを含むポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー）
【０１５７】
【表９】
2014518316.tif 000039
【０１５８】
機械的撹拌機、熱電対プローブ、パウダー漏斗およびマントルヒータを備えた２Ｌ三ツ口丸底フラスコに、シクロヘキサノン２５０ｍＬを添加した。シクロヘキサノンを撹拌しながら１５０℃に加熱した。テレケリックポリ（アリーレンエーテル）を添加し溶解させた。その後、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）２．５ｇ（０．０２０５モル）を添加し溶解させた。以下のように、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン−エピクロロヒドリンポリマーを１２０分かけて部分的に添加した。
時間（分）          添加量（質量％）
０              ８９．５
３０                ７
６０                ３．３
９０                ０．１
１２０                ０．１
【０１５９】
この溶液を１５０℃で７時間撹拌した。反応混合物を８０℃未満に冷却し、２−ブタノン２００ｍＬで希釈した。メタノール沈殿でポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーを単離し、ろ過・メタノール洗浄後、１００℃の真空オーブン内で乾燥させた。収量は２２６ｇ（９０．４％）であった。
【０１６０】
（比較実施例１：３６質量％のポリ（アリーレンエーテル）ブロックを含むポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー）
【０１６１】
【表１０】
2014518316.tif 000040
【０１６２】
機械的撹拌機、熱電対プローブ、パウダー漏斗およびマントルヒータを備えた２Ｌ三ツ口丸底フラスコに、シクロヘキサノン５００ｍＬを添加した。シクロヘキサノンを撹拌しながら１５０℃に加熱した。テレケリックポリ（アリーレンエーテル）を添加し溶解させた。その後、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）５．０ｇ（０．０４０９モル）を添加し溶解させた。以下のように、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン−エピクロロヒドリンポリマーを９０分かけて部分的に添加した。
時間（分）          添加量（質量％）
０              ６３
３０              ３１
６０                ５
９０                １
【０１６３】
この溶液を１５０℃で７時間撹拌した。反応混合物を８０℃未満に冷却し、２−ブタノン４００ｍＬで希釈した。メタノール沈殿でポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーを単離し、ろ過・メタノール洗浄後、１００℃の真空オーブン内で乾燥させた。収量は４４６ｇ（８９．２％）であった。
【０１６４】
（比較実施例２：６０質量％のポリ（アリーレンエーテル）ブロックを含むポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー）
【０１６５】
【表１１】
2014518316.tif 000041
【０１６６】
機械的撹拌機、熱電対プローブ、パウダー漏斗およびマントルヒータを備えた２Ｌ三ツ口丸底フラスコに、シクロヘキサノン５００ｍＬを添加した。シクロヘキサノンを撹拌しながら１５０℃に加熱した。テレケリックポリ（アリーレンエーテル）を添加し溶解させた。その後、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）５．０ｇ（０．０４０９モル）を添加し溶解させた。以下のように、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン−エピクロロヒドリンポリマーを９０分かけて部分的に添加した。
時間（分）          添加量（質量％）
０              ６２
３０              ２５
６０              １２
９０                １
【０１６７】
この溶液を１５０℃で７時間撹拌した。反応混合物を８０℃未満に冷却し、２−ブタノン４００ｍＬで希釈した。メタノール沈殿でポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーを単離し、ろ過・メタノール洗浄後、１００℃の真空オーブン内で乾燥させた。収量は４４３ｇ（８８．６％）であった。
【０１６８】
（比較実施例３：フェノキシ樹脂）
比較実施例３は、Ｍｎが１３，０００の線状熱可塑性フェノキシ樹脂であり、ＩｎＣｈｅｍ社から市販されているＩＮＣＨＥＭＲＥＺ  Ｐｈｅｎｏｘｙ  Ｒｅｓｉｎ  ＰＫＨＨである。ＰＫＨＨは、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンと２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン−エピクロロヒドリンポリマーとの共重合で生成される。
【０１６９】
（ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーのキャラクタリゼーション）
調製例１〜８および比較実施例１〜３のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーの特性を表１３に示す。ガラス転移温度（Ｔｇ）は、ＡＳＴＭ  Ｄ３４１８−０８に準拠し示差走査熱量測定法（ＤＳＣ）で測定した。数平均分子量（Ｍｎ）、質量平均分子量（Ｍｗ）および多分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は、ポリスチレン標準を用いたゲル透過クロマトグラフィ（ＧＰＣ）で測定した。密度は、ＡＳＴＭ  Ｄ７９２−０８に準拠し温度２３℃で測定した。曲げ弾性率（ＭＰａ）および曲げ破断応力（ＭＰａ）は、ＡＳＴＭ  Ｄ７９０−１０  方法Ｂに準拠し、厚み３．２ｍｍ×幅１２．７ｍｍのサンプルを用い、支点間距離１０ｃｍ（３．９３７インチ）、クロスヘッド速度１．３５ｍｍ／ｍｉｎ（０．０５３インチ／ｍｉｎ）で測定した。熱変形温度（℃）は、ＡＳＴＭ  Ｄ６４８−０７  方法Ｂに準拠し、荷重１．８２ＭＰａ、幅３．２０ｍｍ×高さ１２．８０ｍｍの射出成形サンプルを用いて測定した。熱変形試験では、初期温度が３０℃未満のシリコーン油にサンプルを浸漬した。試験前に、サンプルを２３℃×２４時間状態調節した。
【０１７０】
末端エポキシ基含量は、Ｖａｒｉａｎ  Ｍｅｒｃｕｒｙ  Ｐｌｕｓ４００Ｍｅｇａｈｅｒｔｚ  １Ｈ−ＮＭＲ  Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｅｒを用いたプロトン核磁気共鳴（１Ｈ−ＮＭＲ）分光法で測定した。末端エポキシ基量は、下式の構造中の「ａ」プロトンと「ｈ」プロトンに対応するピークの高さおよび下式から算出した：
末端エポキシ基質量％＝ｈ／（ｈ＋ａ）×１００
【０１７１】
下式の化学構造中のラベル化されたプロトンに対応するプロトンピークの割り当てを表１２に示す。この方法での末端エポキシ基の検出限界は０．０５質量％未満である。調製例１〜６および比較実施例１〜３における末端エポキシ基（Ｔｅｒｍｉｎａｌ  ｅｐｏｘｙ  ｇｒｏｕｐ）含量を表１３に示す。
【０１７２】
【化２９】
2014518316.tif 000042
【０１７３】
【表１２】
2014518316.tif 000043
【０１７４】
【表１３】
2014518316.tif 000044
【０１７５】
（実施例１：ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーの押出）
この実施例によって、本発明のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーが押出できることを示す。Ｃｏｐｅｒｉｏｎ  Ｔｙｐｅ  ＺＳＫ１８ｍｍ押出機を用いて調製例２、３を押出した。Ｃ．Ｗ．Ｂｒａｂｅｎｄｅｒ  Ｐｒｅｐ  Ｃｅｎｔｅｒ（Ｄｒｉｖｅ）、Ｔｙｐｅ  Ｄ５２Ｔ、Ｎｏ．８６／ＳＡＦ−９Ｐ押出機を用いて、調製例４、５を押出した。押出条件を表１４に示す。
【０１７６】
【表１４】
2014518316.tif 000045
【０１７７】
（実施例２：ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーの射出成形）
この実施例によって、本発明のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーが射出成形できることを示す。Ｄｅｍａｇ  Ｐｌａｓｔｉｃ  Ｇｒｏｕｐ、ｍｏｄｅｌ  Ｅｘｔｒａ４０−８０射出成形機を用いて、比較実施例１および調製例２、３、４および５を射出成形した。射出条件を表１５に示す。
【０１７８】
【表１５】
2014518316.tif 000046
【０１７９】
（実施例３：ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーのガラス転移温度）
示差走査熱量測定法（ＤＳＣ）を用いて、調製例１〜８のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーのキャラクタリゼーションを行った。それらはそれぞれ、単一のガラス転移温度（Ｔｇ）を示した。図１は、Ｔｇと、ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー中のポリ（アリーレンエーテル）ブロックの質量％と、の関係を示す棒グラフである。図１からわかるように、ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーのガラス転移温度は、テレケリックポリ（アリーレンエーテル）ブロック量の増加と共に上昇する。
【０１８０】
ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーのガラス転移温度は、ポリ（アリーレンエーテル）ブロックおよびポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックのガラス転移温度とそれらの成分の質量分率または体積分率との関数である。ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーのガラス転移温度は、テレケリックポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレンエーテル）のガラス転移温度（１５０℃）から算出した。エポキシ樹脂は低分子量材料であるため、ガラス転移温度は検知が困難であり、あるいは存在しない。従って、高分子量である２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン−エピクロロヒドリンポリマー（フェノキシ樹脂）のガラス転移温度（９０℃）を用いた。質量分率と体積分率を用いたガラス転移温度算出に加えて、Ｆｏｘ式も用いた。ガラス転移温度算出式を以下に示す：
質量分率によるＴｇ算出式：Ｔｇ＝Ｗ１・Ｔｇ１＋Ｗ２・Ｔｇ２
体積分率によるＴｇ算出式：Ｔｇ＝Ｖ１・Ｔｇ１＋Ｖ２・Ｔｇ２
Ｆｏｘ式
Ｔｇ＝ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーのガラス転移温度
Ｔｇ１＝テレケリックポリ（アリーレンエーテル）のガラス転移温度
Ｔｇ２＝２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン−エピクロロヒドリンポリマー（フェノキシ樹脂）のガラス転移温度
Ｗ１＝テレケリックポリ（アリーレンエーテル）の質量分率
Ｗ２＝２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン−エピクロロヒドリンポリマーの質量分率
Ｖ１＝テレケリックポリ（アリーレンエーテル）の体積分率
Ｖ２＝２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン−エピクロロヒドリンポリマーの体積分率
【０１８１】
ガラス転移温度実験値とガラス転移温度計算値との比較を図２に示す。調製例１〜６のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーのガラス転移温度は、計算値より一貫して高い。
【０１８２】
（実施例４：ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーの熱安定性）
ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーの熱安定性を、２００℃×４時間エイジングさせた試験サンプルのトルエン中での溶解度を測定することにより評価した。試験サンプル５ｇを秤量してアルミニウムポットに入れ、２００℃×水銀柱１６０ｍｍのオーブンに入れた。４時間後、サンプルをオーブンから取り出し、トルエン（１６．６７質量％溶液）２５ｇ中での溶解度を評価した。上記の方法で、末端エポキシ基含量を１Ｈ−ＮＭＲ分光法で測定した。調製例１〜６および比較実施例１〜３における熱エイジング結果と末端エポキシ基含量を表１６に示す。
【０１８３】
表１６からわかるように、末端エポキシ基がない（該方法での検出限界内で）調製例１〜６および比較実施例３は、熱エイジング後、トルエンに可溶であった。一方、エポキシ基を０．９質量％および１．９質量％有する比較実施例１および２は、熱エイジング後、トルエンに不溶であった。本出願人は、理論に拘束されることなく、エポキシ基は、ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーの内部および末端ヒドロキシル基と反応し得ると考える。これらの反応によって鎖延長と架橋が起こり、ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーが不溶性材料に変換する。
【０１８４】
この熱エイジング試験は、ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーの溶融安定性に対するスクリーニング試験である。この試験において、ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーが熱的に不安定であれば、押出および射出成形には適さないと考えられる。従って、エポキシ基が０．０５質量％未満の調製例１〜５は、このスクリーニング試験において熱的に安定であり、同様に無事に押出し（実施例１）および射出成形（実施例２）できた。対照的に、末端エポキシ基をそれぞれ０．０９質量％および０．１９質量％有する比較実施例１および２のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーは、この試験では熱的に不安定であり、従って、押出または射出成形には適さない。
【０１８５】
【表１６】
2014518316.tif 000047
【０１８６】
（実施例５：ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーとポリスチレンとの相溶性）
ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー中のポリ（アリーレンエーテル）ブロック量の増加が無極性ポリマーとの相溶性に与える影響について調べた。ポリ（アリーレンエーテル）ブロックの量を０〜８０質量％の範囲で変えた。フェノキシ樹脂として既知の、市販の２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン−エピクロロヒドリンポリマーを、ポリ（アリーレンエーテル）ブロック含量が０の対照として用いた。このポリマーは、ＩｎＣｈｅｍ社からＰｈｅｎｏｘｙ  Ｒｅｓｉｎ  ＰＫＨＨとして入手した。
【０１８７】
ポリスチレン溶液ブレンドは、ポリスチレン３．０ｇと、異なる量のポリ（アリーレンエーテル）ブロックすなわちフェノキシ樹脂を有するポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー３．０ｇと、をクロロホルム２５ｇに溶解させて調製した。ポリマー溶解後放置すると、該溶液は２つの液相に分離した。これらの相を分離してクロロホルムを蒸発させ、残留物を１Ｈ−ＮＭＲ分光法で分析した。結果を図３と図４に示す。これらの図において、「ポリヒドロキシエーテル」は、ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーを表す。
【０１８８】
図３からわかるように、表相はポリスチレンリッチであった。しかしながら、表相中のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーの量は、ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー中のポリ（アリーレンエーテル）ブロック量の増加と共に増加した。図４からわかるように、低相は、ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーすなわちフェノキシ樹脂リッチであった。しかしながら、低相中のポリスチレン量は、ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー中のポリ（アリーレンエーテル）ブロック量の増加と共に増加した。これらの結果から、ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー中のポリ（アリーレンエーテル）ブロック量の増加と共に、ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーのポリスチレンとの相溶性は向上することが明らかである。
【０１８９】
（実施例６：ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーとポリ（アリーレンエーテル）との相溶性）
固有粘度が０．４０ｄＬ／ｇのポリ（アリーレンエーテル）３．０ｇと、異なる量のテレケリックポリ（アリーレンエーテル）ブロックを有するポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー３．０ｇと、をクロロホルム２５ｇに溶解させて、ポリ（アリーレンエーテル）溶液ブレンドを調製した。ポリマー溶解後放置すると、該溶液の大部分は２つの液相に分離した。しかしながら、８０質量％のポリ（アリーレンエーテル）ブロックを有するポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーから成る溶液は、単相を呈した。複相の場合はこれらを分離してクロロホルムを蒸発させ、残留物を１Ｈ−ＮＭＲ分光法で分析した。結果を図５と図６に示す。これらの図において、「ポリヒドロキシエーテル」は、ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーを表す。
【０１９０】
図５からわかるように、表相は、ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーすなわちフェノキシ樹脂リッチであった。しかしながら、表相中のポリ（アリーレンエーテル）量は、ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー中のポリ（アリーレンエーテル）ブロック量の増加と共に増加した。図６からわかるように、低相は、ポリ（アリーレンエーテル）リッチであった。しかしながら、ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー量は、ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー中のポリ（アリーレンエーテル）ブロック量の増加と共に増加した。これらの結果から、ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー中のポリ（アリーレンエーテル）ブロック量の増加と共に、ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーのポリ（アリーレンエーテル）との相溶性は向上することが明らかである。
【０１９１】
（実施例７：吸湿性）
以下の方法で、実施例２〜５における吸湿量をフェノキシ樹脂（比較実施例３）と比較した。射出成形サンプルを、７５℃×水銀柱２５インチの真空オーブン内で６０時間乾燥させた。乾燥サンプルを秤量後、８０℃の脱イオン水中に入れた。一定時間経過後サンプルを取り出し、表面の水分を拭き取って秤量後、水中に戻した。結果を図７に示す。図７からわかるように、フェノキシ樹脂の吸湿量は最も多い。ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーはすべて吸湿量が少なく、また吸湿量は、ポリ（アリーレンエーテル）ブロック含量の増加と共に低減する。
【０１９２】
本明細書では実施例を用いて最良の実施形態を含めて本発明を開示しており、当業者によって本発明をなし使用することを可能にしている。本発明の特許範囲は請求項によって定義され、当業者がもたらすその他の実施例も包含し得る。こうしたその他の実施例は、請求項の文字どおりの解釈と違わない構成要素を有する場合、  あるいは請求項の文字どおりの解釈とごくわずかな違いしかない等価な構成要素を含む場合には、請求項の範囲内であると意図される。
【０１９３】
引用された特許、特許出願および他の参考文献はすべて、参照により本明細書に援用される。しかしながら、本出願中の用語が援用された参考文献の用語と矛盾するか対立する場合、本出願の用語が援用された参考文献の矛盾する用語に優先する。
【０１９４】
本明細書で開示された範囲はすべて、終点を含むものであり、該終点は互いに独立に組み合わせできる。
【０１９５】
本発明の記述文脈（特に以下の請求項の文脈）における単数表現は、本明細書で別途明示がある場合または文脈上明らかに矛盾する場合を除き、単数および複数を含むものと解釈される。また、本明細書で用いられる、「第１の」「第２の」などの用語は、いかなる順序や量あるいは重要度を表すものではなく、ある成分と他の成分とを区別するために用いられるものである。量に関連して用いた「約」は、  記載された数値を含むものであり、文脈上決定される意味（例えば、特定の量の測定に関連した誤差の程度を含む）を有するものである。
【図１】
2014518316.tif 000062
【図２】
2014518316.tif 000063
【図３】
2014518316.tif 000064
【図４】
2014518316.tif 000065
【図５】
2014518316.tif 000066
【図６】
2014518316.tif 000067
【図７】
2014518316.tif 000068
【手続補正書】
【提出日】平成26年2月27日(2014.2.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つのポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックと、
少なくとも１つのポリ（アリーレンエーテル）ブロックと、を、
モル比が０．９５：１〜１．００：１の範囲で含むことを特徴とするポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー。
【請求項２】
前記ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーの数平均分子量は５，０００〜５０，０００原子質量単位であることを特徴とする請求項１に記載のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー。
【請求項３】
前記ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーは、前記ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーの質量に対して、０．０９質量％未満の末端エポキシ基を有することを特徴とする請求項１または２に記載のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー。
【請求項４】
１〜９９質量％の前記少なくとも１つのポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックと、
１〜９９質量％の前記少なくとも１つのポリ（アリーレンエーテル）ブロックと、を含むことを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー。
【請求項５】
前記少なくとも１つのポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックは下式の構造を有することを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー：
【化１】
2014518316.tif 000069
式中、Ａは下式の構造
【化２】
2014518316.tif 000070
［式中、Ｇ１はそれぞれ独立にＣ６−Ｃ２０芳香族基であり、Ｅはそれぞれ独立に、直接結合または下式の構造
【化３】
2014518316.tif 000071
（式中、Ｒ１１〜Ｒ１４はそれぞれ独立に、水素またはＣ１ーＣ１２ヒドロカルビル）から構成される群から選択された構造であり、ｓは０または１であり、ｔとｕはそれぞれ独立に１〜１０である］を有する残基であり；
Ｂは下式の構造
【化４】
2014518316.tif 000072
（式中、Ｒ８〜Ｒ１０はそれぞれ独立に、水素またはＣ１−Ｃ１２ヒドロカルビル）を有する残基であり；
ｎは１〜６０である。
【請求項６】
前記Ａは、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノールＡ）、２，２−ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン（テトラクロロビスフェノールＡ）、２，２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン（テトラブロモビスフェノールＡ）、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン（ビスフェノールＦ）、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン（ビスフェノールＡＣＰ）、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン（ビスフェノールＳ）、２，２−ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシル）プロパン（水素化ビスフェノールＡ）、１，５−ジヒドロキシナフタレン、２，２’，６，６’−テトラメチル−４，４’−ジヒドロキシビフェニールおよびこれらの組み合わせから構成される群から選択されたジヒドロキシ芳香族化合物から誘導され、
前記Ｂは、エピクロロヒドリン、エピブロモヒドリン、１，２−エポキシ−１−メチル−３−クロロプロパン、１，２−エポキシ−１−ブチル−３−クロロプロパン、１，２−エポキシ−２−メチル−３−フルオロプロパンおよびこれらの組み合わせから構成される群から選択されたエピハロヒドリンから誘導されることを特徴とする請求項５に記載のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー。
【請求項７】
前記少なくとも１つのポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックは下式の構造（式中、ｎは１〜６０である）を有し、
【化５】
2014518316.tif 000073
前記少なくとも１つのポリ（アリーレンエーテル）ブロックは、下式の構造
【化６】
2014518316.tif 000074
（式中、Ｑ５とＱ６はそれぞれ独立に、メチル、ジ−ｎ−ブチルアミノメチルまたはモルホリノメチルであり、ａとｂは、その合計が少なくとも２であることを条件に、それぞれ独立に０〜２０である）を有し；
前記少なくとも１つのポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックは、下式の構造
【化７】
2014518316.tif 000075
（式中、ｎは１〜６０である）を有することを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれかに記載のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマー。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれかに記載のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーと、
ポリ（アリーレンエーテル）、ポリ（アルケニル芳香族）、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとのブロックコポリマー、アルケニル芳香族化合物と共役ジエンとの水素化ブロックコポリマーおよびこれらの組み合わせから構成される群から選択された無極性ポリマーと、を含むことを特徴とする組成物。
【請求項９】
前記無極性ポリマーと前記ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーとの合計質量に対して、１〜１５質量％の前記ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーと、８５〜９９質量％の前記無極性ポリマーと、を含み、
前記無極性ポリマーは、ポリスチレンを含むことを特徴とする請求項８に記載の組成物。
【請求項１０】
前記無極性ポリマーと前記ポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーとの合計質量に対して、１〜５０質量％の前記無極性ポリマーと、５０〜９９質量％のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーと、を含み、
前記無極性ポリマーは、ポリ（アリーレンエーテル）を含むことを特徴とする請求項８に記載の組成物。
【請求項１１】
ポリエステル、ポリ（エチレン−酢酸ビニル）、ポリ（エチレン−エチルアクリレート）、ポリ（酢酸ビニル）、ポリ（ビニルアルコール）およびこれらの組み合わせから構成される群から選択された極性ポリマーをさらに含むことを特徴とする請求項９または１０に記載の組成物。
【請求項１２】
ポリ（エチレンテレフタレート）、ポリ（トリメチレンテレフタレート）、ポリ（ブチレンテレフタレート）、ポリ（乳酸）およびこれらの組み合わせから構成される群から選択されたポリエステルをさらに含むことを特徴とする請求項９または１０に記載の組成物。
【請求項１３】
さらにガラス繊維を含むことを特徴とする請求項８乃至１２のいずれかに記載の組成物。
【請求項１４】
末端ヒドロキシル基を有するテレケリックポリ（アリーレンエーテル）と末端エポキシ基を有するテレケリックポリ（ヒドロキシエーテル）エポキシ樹脂とを、テレケリックポリ（ヒドロキシエーテル）とテレケリックポリ（アリーレンエーテル）とのモル比が０．９５：１〜１．００：１の範囲で反応させるステップを備えたことを特徴とするポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーの製造方法。
【請求項１５】
請求項１乃至７のいずれかに記載のポリ（アリーレンエーテル）−ポリ（ヒドロキシエーテル）ブロックコポリマーを含むことを特徴とする物品。
【国際調査報告】
2014518316.tif 000076
2014518316.tif 000077