(57)【要約】  炭化水素源から出発する１，２−ジクロロエタンの、および１，２−ジクロロエタンとは異なる少なくとも１つのエチレン誘導体化合物の製造方法であって、ａ）炭化水素源が、エチレンおよび他の成分を含有する生成物の混合物を生成する簡略化分解にかけられ；ｂ）前記生成物の混合物が少なくとも、エチレンの一部を含有する、エチレンより軽質である化合物に富む画分（画分Ａ）へ、エチレンに富む画分（画分Ｂ）へ、および重質画分（画分Ｃ）へ分離され；ｃ）画分Ａおよび画分Ｂのうちの一方の画分が、任意選択的にアセチレン水素化にかけられた後に、１，２−ジクロロエタンの、および任意選択的にそれから誘導される任意の化合物の製造に搬送され、そして一方では、他方の画分が、１，２−ジクロロエタンとは異なるエチレンから出発して直接製造される少なくとも１つのエチレン誘導体化合物の、および任意選択的にそれから誘導される任意の化合物の製造に搬送される方法。【特許請求の範囲】
【請求項１】
炭化水素源から出発する１，２−ジクロロエタンのおよび１，２−ジクロロエタンとは異なる少なくとも１つのエチレン誘導体化合物の製造方法であって、
ａ）前記炭化水素源が、エチレンおよび他の成分を含有する生成物の混合物を生成する簡略化分解にかけられ；
ｂ）前記生成物の混合物が少なくとも、エチレンの一部を含有する、エチレンより軽質である化合物に富む画分（画分Ａ）へ、エチレンに富む画分（画分Ｂ）へおよび重質画分（画分Ｃ）へ分離され；
ｃ）画分Ａおよび画分Ｂのうちの一方の画分が、任意選択的にアセチレン水素化にかけられた後に、１，２−ジクロロエタンの、および任意選択的にそれから誘導される任意の化合物の製造に搬送され、そして一方では、他方の画分が、１，２−ジクロロエタンとは異なるエチレンから出発して直接製造される少なくとも１つのエチレン誘導体化合物の、および任意選択的にそれから誘導される任意の化合物の製造に搬送される
製造方法。
【請求項２】
工程ａ）およびｂ）後に、
ｃ）画分Ａが、任意選択的にアセチレン水素化にかけられた後に、１，２−ジクロロエタンの、および任意選択的にそれから誘導される任意の化合物の製造に搬送され、そして画分Ｂが、１，２−ジクロロエタンとは異なるエチレンから出発して直接製造される少なくとも１つのエチレン誘導体化合物の、および任意選択的にそれから誘導される任意の化合物の製造に搬送される
ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
工程ａ）およびｂ）後に、
ｃ）任意選択的にアセチレン水素化にかけられた後に、画分Ａが、１，２−ジクロロエタンとは異なるエチレンから出発して直接製造される少なくとも１つのエチレン誘導体化合物の、および任意選択的にそれから誘導される任意の化合物の製造に搬送され、そして画分Ｂが、１，２−ジクロロエタンの、および任意選択的にそれから誘導される任意の化合物の製造に搬送される
ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
１，２−ジクロロエタンが塩化ビニルを生成するために１，２−ジクロロエタン分解工程にかけられることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
塩化ビニルがポリ塩化ビニルを生成するために重合されることを特徴とする請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記炭化水素源が、ナフサ、ガスオイル、天然ガス液、エタン、プロパン、ブタン、イソブタンおよびそれらの混合物からなる群から選択されることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記炭化水素源が、エタン、プロパン、ブタンおよびプロパン／ブタン混合物からなる群から選択されることを特徴とする請求項６に記載の方法。
【請求項８】
画分Ｂが、画分Ｂの全体積に対して４０体積％〜９９．５体積％のエチレンを含有することを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
画分Ａが、画分Ｂのエチレンの体積含有率の１０％〜９０％を表わすようなものである体積含有率のエチレンを含有することを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
画分Ｃが燃料として燃やされるかまたは化学的に付加価値化されることを特徴とする請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、１，２−ジクロロエタン（ＤＣＥ）のおよびＤＣＥとは異なる少なくとも１つのエチレン誘導体化合物の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
今日まで、９９．８％純度を超えるエチレンが、エチレン誘導体化合物の製造のために通常使用されている。非常に高い純度のこのエチレンは、様々な石油製品の分解、引き続く分解の他の生成物からエチレンを単離し、そして非常に高い純度の製品を得るための多数の複雑な、費用のかかる分離操作によって得られる。
【０００３】
かかる高純度のエチレンの生産に関連した高いコストを鑑みて、９９．８％未満の純度を有するエチレンを使用する、エチレン誘導体化合物、特にＤＣＥの様々な製造方法が開発されてきた。これらの方法は、分解から生じた生成物を分離する過程を簡略化することによって、このようにしてエチレン誘導体化合物、特にＤＣＥの製造にとって何の利益もない複雑な分離を放棄することによってコストを削減するという利点を有する。
【０００４】
例えば、国際公開第００／２６１６４号パンフレットは、エチレンの塩素化と結び付いたエタンの簡略化分解によるＤＣＥの製造方法を記載している。この趣旨で、エチレン塩素化工程は、エタンの分解中に得られた不純物の存在下に行われる。
【０００５】
国際公開第０３／０４８０８８号パンフレットは、エタンの脱水素を用いた塩素との化学反応用の低濃度エチレンの製造を記載している。エタン負荷ガス流れは、水素およびメタンのみならず、多量の未転化エタンをも含有する。この方法の経済的デザインのためには、未転化エタンは、複雑な清浄化工程の後にエタン脱水素にフィードバックしなければならない。この方法は、供給原料としてエタンを使用できるにすぎない。重大な不利点は、水素、プロピレン、ブタジエンなどのガス流れのさらなる成分が非常に特別なプロセスでエチレンを使用するのを可能にするにすぎないという事実だけでなく、エチレンの非常に低い濃度−６０％未満−である。
【０００６】
さらに、国際公開第２００６／０６７１８８号パンフレット、同第２００６／０６７１９０号パンフレット、同第２００６／０６７１９１号パンフレット、同第２００６／０６７１９２号パンフレット、同第２００６／０６７１９３号パンフレットおよび同第２００７／１４７８７０号パンフレットは、先ず簡略化分解にかけられる、炭化水素源、特にナフサ、ガスオイル、天然ガス液、エタン、プロパン、ブタン、イソブタンまたはそれらの混合物から出発するＤＣＥの製造方法を記載している。
【０００７】
国際公開第２００８／０００７０５号パンフレット、同第２００８／０００７０２号パンフレットおよび同第２００８／０００６９３号パンフレットは、一方で、先ず接触オキシ脱水素にかけられるエタンの流れから出発するＤＣＥの製造方法を記載している。その目標が９９．８％未満の純度を有するエチレンを製造し、使用することである、上述の特許出願に記載されている方法は、しかしながら、生産コストの増大をもたらす重大な投資を必要とする接触オキシ脱水素の第１工程を必要とするという不利点を示す。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
上に記載された方法は全て、それらが全て、唯一のエチレン誘導体化合物としてのＤＣＥの製造をもたらすという事実でさらに特徴づけられる。それ故、ＤＣＥの、および少なくとも別のエチレン誘導体化合物の両方の製造をもたらす９９．８％未満の純度を有するエチレンを使用する統合された方法が依然として必要とされている。
【０００９】
本発明の目標はそれ故、９９．８％未満の純度のエチレンを使用する、ＤＣＥとは異なる少なくとも１つのエチレン誘導体化合物の製造と組み合わせられる、かつ、上述の方法の不利点を示さないＤＣＥの製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
この趣旨で、本発明は、炭化水素源から出発するＤＣＥの、およびＤＣＥとは異なる少なくとも１つのエチレン誘導体化合物の製造方法であって、
ａ）炭化水素源が、エチレンおよび他の成分を含有する生成物の混合物を生成する簡略化分解にかけられ；
ｂ）前記生成物の混合物が少なくとも、エチレンの一部を含有する、エチレンより軽質である化合物に富む画分（画分Ａ）へ、エチレンに富む画分（画分Ｂ）へ、および重質画分（画分Ｃ）へ分離され；
ｃ）画分Ａおよび画分Ｂのうちの一方の画分が、任意選択的にアセチレン水素化にかけられた後に、１，２−ジクロロエタンの、および任意選択的にそれから誘導される任意の化合物の製造に搬送され、そして一方では、他方の画分が、１，２−ジクロロエタンとは異なるエチレンから出発して直接製造される少なくとも１つのエチレン誘導体化合物の、および任意選択的にそれから誘導される任意の化合物の製造に搬送される
方法に関する。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
表現「少なくとも１つのエチレン誘導体化合物」は、本発明の目的のためには、１つ以上のエチレン誘導体化合物が本発明による方法によって製造され得ることを意味すると理解される。
【００１２】
単数形でまたは複数形で本明細書で以下用いられる、表現「エチレン誘導体化合物」は、本発明の目的のためには、エチレンから出発して直接製造される任意のエチレン誘導体化合物ならびにそれから誘導される任意の化合物を意味すると理解される。
【００１３】
単数形でまたは複数形で本明細書で以下用いられる、表現「エチレンから出発して直接製造されるエチレン誘導体化合物」は、本発明の目的のためには、エチレンから直接製造される任意の化合物を意味すると理解される。
【００１４】
単数形でまたは複数形で本明細書で以下用いられる、表現「それから誘導される化合物」は、本発明の目的のためには、エチレンから製造される１つの化合物そのものから製造される任意の化合物ならびにそれから誘導される任意の化合物を意味すると理解される。
【００１５】
エチレンから出発して直接製造されるかかるエチレン誘導体化合物の例として、とりわけ、エチレンオキシド、線状アルファ−オレフィン、線状第一級アルコール、エチレンのホモポリマーおよびコポリマー、エチルベンゼン、酢酸ビニル、アセトアルデヒド、エチルアルコール、プロピオンアルデヒドおよびＤＣＥが挙げられてもよい。
【００１６】
それから誘導されるかかる化合物の例として、とりわけ、
−  エチレンオキシドから製造されるグリコールおよびエーテル、
−  エチルベンゼンから製造されるスチレンおよびスチレンから誘導されるスチレンのポリマー、
−  ＤＣＥから製造される塩化ビニル（ＶＣ）、
−  ＶＣから誘導される塩化ビニリデン、フッ素化炭化水素およびポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）ならびにフッ素化炭化水素から誘導されるフッ素化ポリマー、ならびに
−  塩化ビニリデンから誘導されるポリ塩化ビニリデンおよびフッ素化炭化水素（およびフッ素化ポリマー）
が挙げられてもよい。
【００１７】
本発明による方法は、炭化水素源から出発する方法である。
【００１８】
考えられる炭化水素源は、任意の公知の炭化水素源であってもよい。好ましくは、分解（工程ａ））にかけられる炭化水素源は、ナフサ、ガスオイル、天然ガス液、エタン、プロパン、ブタン、イソブタンおよびそれらの混合物からなる群から選択される。特に好ましいやり方では、炭化水素源は、エタン、プロパン、ブタンおよびプロパン／ブタン混合物からなる群から選択される。より特に好ましいやり方では、炭化水素源は、プロパン、ブタンおよびプロパン／ブタン混合物からなる群から選択される。プロパン／ブタン混合物は、そのようなものとして存在してもよいし、またはプロパンとブタンとの混合物からなってもよい。
【００１９】
表現エタン、プロパン、ブタンおよびプロパン／ブタン混合物は、本発明の目的のためには、商業的に入手可能である、すなわち主として純製品（エタン、プロパン、ブタンまたは混合物としてのプロパン／ブタン）と、二次的に純製品そのものより軽質または重質である、他の飽和または不飽和炭化水素とからなる製品を意味すると理解される。
【００２０】
本発明によるＤＣＥの、およびＤＣＥとは異なる少なくとも１つのエチレン誘導体化合物の製造方法では、炭化水素源は、エチレンおよび他の成分を含有する生成物の混合物を生成する簡略化分解（工程ａ））にかけられる。
【００２１】
表現簡略化分解（工程ａ））は、本発明の目的のためには、本発明による方法の工程ｂ）で少なくとも画分Ａ、ＢおよびＣへ分離されるエチレンおよび他の成分を含有する生成物の混合物の形成をもたらす炭化水素源を処理するための工程全てを意味すると理解される。
【００２２】
かかる分解は、それがエチレンおよび他の成分を含有する生成物の混合物の生成を可能にする限り、任意の公知の技法に従って実施されてもよい。有利には、分解は、水、酸素、硫黄誘導体および／または触媒などの第３化合物の存在下または不存在下での炭化水素源の熱分解（すなわち熱の作用下の転化）の第１分解工程を含む。熱分解のこの第１分解工程は有利には、分解生成物の混合物の形成を引き起こすために少なくとも１つの分解炉で実施される。
【００２３】
分解生成物のこの混合物は有利には、水素、一酸化炭素、二酸化炭素、窒素、酸素、硫化水素、少なくとも１個の炭素原子を含む有機化合物、および水を含む。
【００２４】
熱分解の第１分解工程は好ましくは、少なくとも２つの分解炉で、特に好ましくは少なくとも３つの分解炉で実施される。熱分解の第１分解工程は好ましくは、多くとも５つの分解炉で、特に好ましくは多くとも４つの分解炉で実施される。より特に有利には、使用中の炉の１つがデコーキング操作を受けなければならないときに当該炉と交換するために追加の分解炉が利用可能である。
【００２５】
より特に好ましいやり方では、熱分解の第１分解工程は３つの分解炉で実施される。最も特に好ましいやり方では、熱分解の第１分解工程は３つの異なる分解炉で実施され、それらのそれぞれに由来する分解生成物の混合物は一緒に集められる。より特に有利には、使用中の３つの炉の１つがデコーキング操作を受けなければならないときに当該炉と交換するために第４の分解炉が利用可能である。
【００２６】
３つの異なる分解炉で熱分解の第１分解工程を実施し、それらのそれぞれに由来する分解生成物の混合物が後で一緒に集められ、そして使用中の３つの炉の１つと交換するために第４の分解炉を利用可能にすることがそれ故特に有利である。
【００２７】
熱分解のこの第１分解工程の後に、前記分解生成物の混合物は、エチレンおよび他の成分を含有する生成物の混合物を得ることを可能にする、有利には以下の工程からなる一連の処理工程にかけられる：分解ガスの熱の熱回収、任意選択的にガスの有機急冷（任意選択的に中間液体での交換器のネットワークにわたる熱の回収を含む）、水性急冷、ガスの圧縮および乾燥、ならびにまた（例えば、アルカリ性洗浄による）二酸化炭素の大部分と、存在するかまたは加えられる硫黄化合物の大部分との除去、任意選択的に、例えば、アセチレンなどの望ましくない誘導体の水素化および任意選択的に、例えばＰＳＡ（圧力スイング吸着）法によるかまたは膜処理による、水素および／またはメタンの幾らかの除去。
【００２８】
有利には、本発明による方法では、工程ａ）に由来するエチレンおよび他の成分を含有する生成物の混合物は、水素、メタン、２〜７個の炭素原子を含む化合物、一酸化炭素、窒素および酸素を含む。水素、メタンおよびアセチレン以外の２〜７個の炭素原子を含む化合物は好ましくは、前記生成物の混合物の総体積に対して少なくとも２００体積ｐｐｍの量で存在する。一酸化炭素、窒素、酸素およびアセチレンは、前記生成物の混合物の総体積に対して２００体積ｐｐｍ未満の量でまたは少なくとも２００体積ｐｐｍの量で存在してもよい。７個超の炭素原子を含有する化合物、二酸化炭素、硫化水素および他の硫黄化合物ならびにまた水はまた、前記生成物の混合物の総体積に対して２００体積ｐｐｍ未満の量で上述の生成物の混合物中に存在してもよい。
【００２９】
ガスの圧縮および乾燥は有利には、少なくとも６個の炭素原子を含む化合物の通過を最小限にするように、特定の条件下で行われてもよい。使用されてもよい冷却流体は有利には、大気冷却塔からの水の温度より低い温度でのものである。冷却流体は好ましくは少なくとも−５℃の、より好ましくは少なくとも０℃の温度でのものである。冷却流体は最も好ましくは氷水である。
【００３０】
上に定義された工程ａ）の後に、エチレンおよび他の成分を含有する生成物の混合物は、工程ｂ）によって少なくとも、エチレンの一部を含有する、エチレンより軽質である化合物に富む画分（画分Ａ）へ、エチレンに富む画分（画分Ｂ）へ、および重質画分（画分Ｃ）へ分離される。
【００３１】
表現「少なくとも画分Ａへ、画分Ｂへおよび画分Ｃへ分離される」は、本発明の目的のためには、少なくともそれらの３つの画分Ａ、ＢおよびＣが工程ｂ）後に得られること、しかし例えばエタンの個々の画分などの他の画分もまた得ることができることを意味すると理解される。
【００３２】
エチレンおよび他の成分を含有する生成物の混合物は好ましくは、工程ｂ）によって、エチレンの一部を含有する、エチレンより軽質である化合物に富む画分（画分Ａ）へ、エチレンに富む画分（画分Ｂ）へ、任意選択的にエタンの個々の画分へおよび重質画分（画分Ｃ）へ分離される。
【００３３】
より好ましくは、工程ｂ）によって、エチレンおよび他の成分を含有する生成物の混合物は、画分Ａへ、画分Ｂへおよび画分Ｃへ分離される。
【００３４】
工程ｂ）は有利には、エチレンを含有する少なくとも２つの画分、すなわち、画分Ａおよび画分Ｂ、ならびに重質画分、すなわち、画分Ｃを得るために最大４つの、好ましくは最大３つの分離工程を含む。
【００３５】
本発明による方法の工程ｂ）の第１実施形態によれば、工程ａ）に由来する生成物の混合物は有利には、画分Ａ、画分Ｂおよび画分Ｃを得るために工程Ｓ１と呼ばれる第１分離工程に、および工程Ｓ１’と呼ばれる第２分離工程にかけられる。
【００３６】
工程Ｓ１は有利には、主塔（塔Ｃ１と呼ばれる）内部での３つの異なる画分、すなわち、塔Ｃ１のトップで出る画分Ａ、塔Ｃ１のボトムで出る画分Ｃおよび塔Ｃ１の側面から抜き取られる画分（画分Ｆ１と呼ばれる）への工程ａ）に由来する生成物の混合物の分離にある。
【００３７】
工程Ｓ１’は有利には、画分Ｆ１を２つの異なる画分、すなわち、塔Ｃ１に搬送される画分Ｆ１’と画分Ｂとへ分離することにある。
【００３８】
本発明による方法の工程ｂ）の第１実施形態によれば、工程ｂ）はそれ故好ましくは：
−  主塔Ｃ１内部での塔Ｃ１のトップでの画分Ａへの、塔Ｃ１のボトムでの画分Ｃへのおよび塔Ｃ１の側面から抜き取られる画分Ｆ１への前記生成物の混合物の分離にある第１分離工程Ｓ１と、
−  塔Ｃ１に搬送される画分Ｆ１’へのおよび画分Ｂへの画分Ｆ１の分離にある第２分離工程Ｓ１’と
を含む。
【００３９】
特に好ましいやり方では、工程ｂ）は上述の２つの工程を含むにすぎない。
【００４０】
塔Ｃ１へのその導入の前に、工程ａ）に由来する生成物の混合物は、熱調節工程にかけられてもよい。表現熱調節工程は、エネルギーの使用を最適化する一連の熱交換、例えば、先ず冷却水で、次に氷冷水で、次に段々と冷えた流体で冷却される一連の交換器と、生成する流れの顕熱を回収するクロス交換器とでの生成物の混合物の漸次冷却を意味すると理解される。
【００４１】
前記生成物の混合物は、単一画分としてかまたは幾つかのサブ画分として工程Ｓ１中に塔Ｃ１へ導入されてもよい。それは好ましくは幾つかのサブ画分として導入される。
【００４２】
主塔Ｃ１は有利には、ストリッピング部および／または精留部を含む塔である。これらの２つの部分が存在する場合、精留部が好ましくはストリッピング部の上にある。
【００４３】
塔Ｃ１は有利には、上述の２つの部分を含む蒸留塔およびこれら２つの部分の１つだけを含有する塔から選択される。好ましくは塔Ｃ１は蒸留塔である。
【００４４】
工程Ｓ１はそれ故好ましくは蒸留工程である。
【００４５】
塔Ｃ１は有利には、例えば少なくとも１つのリボイラーおよび少なくとも１つの凝縮器などの関連補助装置を備えつけられる。中間抜き取りおよび中間熱交換を可能にする装置が主塔に追加されてもよい。
【００４６】
最も揮発性の化合物に富む画分Ａは有利には塔Ｃ１のトップで出るが、揮発性が最も少ない化合物に富む画分Ｃは有利には塔Ｃ１のボトムで出る。
【００４７】
画分Ｆ１に関しては、それは有利には、塔中を循環する液体またはスチームを集めることによって塔Ｃ１の側面から抜き取られる。この抜き取りは好ましくは液体に関して行われる。
【００４８】
この抜き取りは、塔のストリッピング部でまたは精留部で行われてもよい。それは好ましくは精留部で行われる。精留部の中央第３番目での抜き取りが特に好ましい。精留部の中央第３番目での液体の抜き取りが最も特に好ましい。
【００４９】
上述の工程Ｓ１は有利には、少なくとも８バール、好ましくは少なくとも１０バール、特に好ましいやり方では少なくとも１２バールの圧力で行われる。工程Ｓ１は有利には、高くても４５バール、好ましくは高くても４０バール、特に好ましいやり方では高くても３８バールの圧力で行われる。
【００５０】
工程Ｓ１が行われる温度は、塔Ｃ１のトップで、有利には少なくとも−１００℃、好ましくは少なくとも−９０℃、特に好ましいやり方では少なくとも−８０℃である。それは、塔Ｃ１のトップで、有利には高くても−３０℃、好ましくは高くても−４０℃、特に好ましいやり方では高くても−５０℃である。
【００５１】
塔Ｃ１の側面から抜き取られる画分Ｆ１は有利には、２つの異なる画分、すなわち、塔Ｃ１に搬送される画分Ｆ１’と画分Ｂとへ分離されるように分離工程Ｓ１’にかけられる。
【００５２】
画分Ｆ１は、液体状態でまたはガス状態で塔Ｃ１から抜き取られてもよい。
【００５３】
画分Ｆ１が液体状態で抜き取られる場合、それは、エバポレーターにまたは補助塔Ｃ１’に搬送されてもよい。
【００５４】
画分Ｆ１がエバポレーターに搬送される場合には、画分Ｆ１の一部は、画分Ｆ１’の形態で、有利には蒸発され、主塔Ｃ１にリサイクルされるが、他の部分は有利にはエバポレーターから抜き出され、こうして画分Ｂを構成する。変形として、画分Ｆ１はまた、画分Ｂを生成するために部分的に気化されてもよく、残りは、画分Ｆ１’の形態で、塔Ｃ１にリサイクルされる。
【００５５】
画分Ｆ１が補助塔Ｃ１’に搬送される場合には、補助塔Ｃ１’は好ましくはストリッピング塔、すなわち、たった１つのストリッピング部を含む塔である。補助塔Ｃ１’は有利には、関連補助装置、好ましくはリボイラーを備えつけられる。画分Ｂは有利にはそれから抜き出され、画分Ｆ１の残りは、そのときエチレンより揮発性である不純物（Ｈ２、ＣＯ、Ｎ２、Ｏ２およびＣＨ４）が濃縮した流れである画分Ｆ１’の形態で、有利には塔Ｃ１に搬送される。
【００５６】
画分Ｆ１が液体状態で抜き取られる場合、それは、好ましくはストリッピング塔である補助塔Ｃ１’に好ましくは搬送される。工程Ｓ１’はその結果この場合には好ましくはストリッピング工程である。
【００５７】
画分Ｆ１がガス状態で抜き取られる場合、それは、凝縮器にかまたは補助塔Ｃ１’に搬送されてもよい。
【００５８】
画分Ｆ１が凝縮器に搬送される場合には、画分Ｆ１の一部は、画分Ｆ１’の形態で、有利には凝縮され、主塔Ｃ１にリサイクルされるが、他の部分は有利には凝縮器から抜き出され、こうして画分Ｂを構成する。変形として、画分Ｆ１はまた、画分Ｂを生成するために部分的に凝縮されてもよく、残りは、画分Ｆ１’の形態で、塔Ｃ１にリサイクルされる。
【００５９】
画分Ｆ１が補助塔Ｃ１’に搬送される場合には、補助塔Ｃ１’は好ましくは精留塔、すなわち、精留部のみを含む塔である。補助塔Ｃ１’は有利には、関連補助装置、好ましくは凝縮器を備えつけられる。画分Ｂは有利にはそれから抜き出され、画分Ｆ１の残りは、そのときエチレンより揮発性が少ない不純物（エタン、少なくとも３個の炭素原子を含有する化合物）が濃縮した流れである画分Ｆ１’の形態で、有利には塔Ｃ１に搬送される。
【００６０】
画分Ｆ１がガス状態で抜き取られる場合、それは、好ましくは精留塔である補助塔Ｃ１’に好ましくは搬送される。工程Ｓ１’はその結果この場合には好ましくは精製工程である。
【００６１】
本発明による方法の工程ｂ）の第１実施形態によれば、画分Ｆ１が補助塔Ｃ１’に搬送される場合が最も特に好ましい。
【００６２】
この最も特に好ましいものによれば、工程ｂ）はそれ故特に好ましいやり方では：
−  主塔Ｃ１内部での塔Ｃ１のトップでの画分Ａへの、塔Ｃ１のボトムでの画分Ｃへの、および塔Ｃ１の側面から抜き取られる画分Ｆ１への前記生成物の混合物の分離からなる第１分離工程Ｓ１と、
−  塔Ｃ１’内部での塔Ｃ１’のトップでの塔Ｃ１に搬送される画分Ｆ１’への、および塔Ｃ１’のボトムでの画分Ｂへの画分Ｆ１の分離からなる第２分離工程Ｓ１’と
を含む。
【００６３】
本発明による方法の工程ｂ）の第１実施形態によれば、画分Ｆ１が液体状態で塔Ｃ１から抜き取られ、そしてストリッピング塔である補助塔Ｃ１’に搬送される場合が真に最も特に好ましい。
【００６４】
上述の工程Ｓ１’はそのとき有利には、少なくとも８バール、好ましくは少なくとも１０バール、特に好ましいやり方では少なくとも１２バールの圧力で行われる。工程Ｓ１’は有利には、高くても４５バール、好ましくは高くても４０バール、特に好ましいやり方では高くても３８バールの圧力で行われる。
【００６５】
工程Ｓ１’が行われる温度は、ストリッピング塔Ｃ１’のトップで、有利には少なくとも−７０℃、好ましくは少なくとも−６５℃、特に好ましいやり方では少なくとも−６０℃である。それは、塔Ｃ１’のトップで、有利には高くても０℃、好ましくは高くても−１０℃、特に好ましいやり方では高くても−１５℃である。
【００６６】
ストリッピング塔Ｃ１’のボトムでの温度は、少なくとも−３０℃、好ましくは少なくとも−２０℃、特に好ましいやり方では少なくとも−１５℃である。それは、有利には高くても２０℃、好ましくは高くても１５℃、特に好ましいやり方では高くても１０℃である。
【００６７】
本発明による方法の工程ｂ）の第１実施形態によれば、画分Ｂは有利には、画分Ｆ１が液体状態で抜き取られる場合には蒸発および膨張後に、または画分Ｆ１がガス状態で抜き取られる場合には膨張後に、両場合とも有利にはエネルギーを回収して、１，２−ジクロロエタンの製造に、または１，２−ジクロロエタンとは異なる少なくとも１つのエチレン誘導体化合物の製造に搬送される。特に好ましいやり方では、画分Ｂは、画分Ｆ１が液体状態で抜き取られる場合には蒸発および膨張後に、有利にはエネルギーを回収して、１，２−ジクロロエタンの製造に、または１，２−ジクロロエタンとは異なる少なくとも１つのエチレン誘導体化合物の製造に搬送される。
【００６８】
本発明による方法の工程ｂ）の第１実施形態の好ましい亜変形は、両塔が任意選択的に熱的に統合され、異なる圧力で動作し；１方の凝縮器が他方へのリボイラーとして働く、主塔Ｃ１と同一の補助塔Ｃ１’を用いて分離工程Ｓ１’を実施することである。
【００６９】
本発明による方法の工程ｂ）の第２実施形態によれば、工程ａ）に由来する生成物の混合物は有利には、画分Ａ、画分Ｂおよび画分Ｃを得るために画分工程Ｓ２と呼ばれる第１分離工程に、工程Ｓ２’と呼ばれる第２分離工程に、および工程Ｓ２”と呼ばれる第３分離工程にかけられる。
【００７０】
工程Ｓ２は有利には、塔（塔Ｃ２と呼ばれる）における２つの異なる画分、すなわち、塔Ｃ２のトップで出る画分Ｆ２と塔Ｃ２のボトムで出る画分Ｃとへの工程ａ）に由来する生成物の混合物の分離にある。
【００７１】
工程Ｓ２’は有利には、２つの異なる画分、すなわち、画分Ａと画分Ｆ２’とへの画分Ｆ２の分離にある。
【００７２】
工程Ｓ２”は有利には、２つの異なる画分、すなわち、画分Ｂと画分Ｆ２”とへの画分Ｆ２’の分離にある。
【００７３】
本発明による方法の工程ｂ）の第２実施形態によれば、工程ｂ）はそれ故好ましくは：
−  主塔Ｃ２における塔Ｃ２のトップでの画分Ｆ２へのおよび塔Ｃ２のボトムでの画分Ｃへの前記生成物の混合物の分離にある第１分離工程Ｓ２と、
−  画分Ａへのおよび画分Ｆ２’への画分Ｆ２の分離にある第２分離工程Ｓ２’と、
−  画分Ｂへのおよび画分Ｆ２”への画分Ｆ２’の分離にある第３分離工程Ｓ２”と
を含む。
【００７４】
特に好ましいやり方では、工程ｂ）は上述の３つの工程を含むにすぎない。
【００７５】
塔Ｃ２へのその導入の前に、工程ａ）に由来する生成物の混合物は、その定義が塔Ｃ１の説明において見いだされ得る、熱調節工程にかけられてもよい。
【００７６】
前記生成物の混合物は、単一画分としてかまたは幾つかのサブ画分として工程Ｓ２中に塔Ｃ２へ導入されてもよい。それは好ましくは幾つかのサブ画分として導入される。
【００７７】
主塔Ｃ２は有利には、ストリッピング部および／または精留部を含む塔である。これらの２つの部分が存在する場合、精留部が好ましくはストリッピング部の上にある。
【００７８】
塔Ｃ２は有利には、上述の２つの部分を含む蒸留塔およびこれら２つの部分の１つだけを含む塔から選択される。好ましくは、塔Ｃ２は蒸留塔である。
【００７９】
工程Ｓ２はそれ故好ましくは蒸留工程である。
【００８０】
塔Ｃ２は有利には、例えば少なくとも１つのリボイラーおよび少なくとも１つの凝縮器などの関連補助装置を備えつけられる。
【００８１】
最も揮発性の化合物に富む画分Ｆ２は有利には塔Ｃ２のトップで出るが、揮発性が最も少ない化合物に富む画分Ｃは有利には塔Ｃ２のボトムで出る。
【００８２】
上述の工程Ｓ２は有利には、少なくとも１５バール、好ましくは少なくとも２０バール、特に好ましいやり方では少なくとも２５バールの圧力で行われる。工程Ｓ２は有利には、高くても４５バール、好ましくは高くても４０バール、特に好ましいやり方では高くても３８バールの圧力で行われる。
【００８３】
工程Ｓ２が行われる温度は、塔Ｃ２のトップで、有利には少なくとも−７０℃、好ましくは少なくとも−６５℃、特に好ましいやり方では少なくとも−６０℃である。それは、塔Ｃ２のトップで、有利には高くても−２０℃、好ましくは高くても−３０℃、特に好ましいやり方では高くても−４０℃である。
【００８４】
塔Ｃ２のトップで出る画分Ｆ２は有利には、２つの異なる画分、すなわち、画分Ａと画分Ｆ２’とへ分離されるように分離工程Ｓ２’にかけられる。
【００８５】
分離工程Ｓ２’は有利には、画分Ｆ２が溶媒を含有する洗浄剤と接触させられる吸収工程である。
【００８６】
本説明では、用語「溶媒を含有する洗浄剤」またはより簡単に「洗浄剤」は、溶媒が液体状態で存在する組成物を意味すると理解される。
【００８７】
本発明に従って使用されてもよい洗浄剤はそれ故有利には、液体状態で溶媒を含有する。前記洗浄剤中の、他の化合物の存在は、本発明の範囲から決して排除されない。しかしながら、洗浄剤が少なくとも５０体積％、より特に少なくとも６５体積％、特に好ましいやり方では少なくとも７０体積％の溶媒を含有することが好ましい。
【００８８】
溶媒は有利には、アルコール、グリコール、ポリオール、エーテル、グリコールとエーテルとの混合物、炭化水素、炭化水素の混合物、鉱油ならびにＤＣＥの中から選択される。炭化水素混合物の例は、Ｃ４、Ｃ５およびＣ６カットである。溶媒は好ましくは、アルコール、炭化水素、炭化水素の混合物、鉱油およびＤＣＥの中から、より好ましくは共沸エタノール（有利には少なくとも７０体積％、好ましくは少なくとも８０体積％、より好ましくは少なくとも８５体積％のエタノールの水性エタノール）およびＤＣＥの中から選択される。溶媒は最も好ましくはＤＣＥである。
【００８９】
工程Ｓ２’のために使用される洗浄剤は、任意の起源の新鮮洗浄剤からなり、例えば粗共沸エタノールまたはオキシ塩素化装置を出たＤＣＥであり、そしてそれらは精製されておらず、前記洗浄剤は、前もって精製されるか、洗浄剤は、下に詳述される工程Ｓ２”中に回収され、任意選択的に新鮮洗浄剤で補足される。
【００９０】
好ましくは、工程Ｓ２’のために使用される洗浄剤は、任意選択的に新鮮洗浄剤で補足された、画分Ｆ２”からなる。特に好ましいやり方では、工程Ｓ２’のために使用される洗浄剤は、（工程Ｓ２’およびＳ２”中の洗浄剤の損失を補うために）新鮮洗浄剤で補足された画分Ｆ２”からなる。
【００９１】
ＤＣＥが溶媒として使用されるときの本発明による方法の主な利点は、ＤＣＥがオキシ塩素化または塩素化中に主として形成される化合物であるので、このＤＣＥの存在が全く厄介ではないという事実にある。
【００９２】
洗浄剤および画分Ｆ２から抜き出されるべきエチレンのそれぞれのスループット間の比は、決定的に重要であるわけではなく、大幅に変わることができる。それは実際に、洗浄剤の再生のコストによって制限されるにすぎない。一般に、洗浄剤のスループットは、画分Ｆ２から抜き出されるべきエチレンの１トン当たり少なくとも１トン、好ましくは少なくとも５トン、特に好ましいやり方では少なくとも１０トンである。一般に、洗浄剤のスループットは、画分Ｆ２から抜き出されるべきエチレンの１トン当たり多くとも１００トン、好ましくは多くとも５０トン、特に好ましいやり方では多くとも２５トンである。
【００９３】
工程Ｓ２’は有利には、例えば流下膜もしくは上昇膜吸収装置またはプレート塔、充填塔、構造化充填剤の塔、上述のインターナルの１つ以上を組み合わせた塔およびスプレー塔から選択される吸収塔Ｃ２’のような吸収装置を用いて行われる。工程Ｓ２’は好ましくは、吸収塔Ｃ２’を用いて、特に好ましいやり方ではプレート吸収塔Ｃ２’を用いて行われる。
【００９４】
塔Ｃ２’は有利には、例えば、少なくとも１つの凝縮器または塔の内部もしくは外部の１つの冷却器などの関連補助装置を備えつけられる。
【００９５】
上述の工程Ｓ２’は有利には、少なくとも１５バール、好ましくは少なくとも２０バール、特に好ましいやり方では少なくとも２５バールの圧力で行われる。工程Ｓ２’は有利には、高くても４０バール、好ましくは高くても３５バール、特に好ましいやり方では高くても３０バールの圧力で行われる。
【００９６】
工程Ｓ２’が行われる温度は、吸収装置のまたは塔Ｃ２’のトップで、有利には少なくとも−１０℃、好ましくは少なくとも０℃、特に好ましくは少なくとも１０℃である。それは、吸収装置のまたは塔Ｃ２’のトップで、有利には高くても６０℃、好ましくは高くても５０℃、特に好ましくは高くても４０℃である。
【００９７】
吸収装置または塔Ｃ２’のボトムでの温度は、少なくとも０℃、好ましくは少なくとも１０℃、特に好ましいやり方では少なくとも２０℃である。それは有利には高くても７０℃、好ましくは高くても６０℃、特に好ましいやり方では高くても５０℃である。
【００９８】
画分Ｆ２’は有利には、２つの異なる画分、すなわち、画分Ｂと画分Ｆ２”とへ分離されるように分離工程Ｓ２”にかけられる。
【００９９】
分離工程Ｓ２”は有利には、画分Ｂが洗浄剤から抜き出される脱着工程である。
【０１００】
画分Ｆ２”を構成する工程Ｓ２”後に回収される洗浄剤は取り除かれ、任意選択的に、必要な場合中間のさらなる処理ありで、存在するとき完全にまたは部分的にオキシ塩素化セクションにまたは塩素化セクションに搬送されても、または新鮮洗浄剤を任意選択的に添加して工程Ｓ２’に搬送されてもよい。好ましくは、画分Ｆ２”は、新鮮洗浄剤を任意選択的に添加して工程Ｓ２’に搬送される。特に好ましいやり方では、画分Ｆ２”は、新鮮洗浄剤を任意選択的に添加して工程Ｓ２’に搬送される。
【０１０１】
工程Ｓ２”は有利には、例えば流下膜もしくは上昇膜脱着装置、リボイラーまたはプレート塔、充填塔、構造化充填剤の塔、上述のインターナルの１つ以上を組み合わせた塔およびスプレー塔から選択される脱着塔Ｃ２”のような脱着装置を用いて行われる。工程Ｓ２”は好ましくは、脱着塔Ｃ２”を用いて、特に好ましいやり方ではプレート脱着塔Ｃ２”を用いて行われる。
【０１０２】
塔Ｃ２”は有利には、例えば、少なくとも１つの凝縮器または塔の内部もしくは外部の１つの冷却器および少なくとも１つのリボイラーなどの関連補助装置を備えつけられる。
【０１０３】
上述の工程Ｓ２”は有利には、少なくとも１バール、好ましくは少なくとも２バール、特に好ましいやり方では少なくとも３バールの圧力で行われる。工程Ｓ２”は有利には、高くても２０バール、好ましくは高くても１５バール、特に好ましいやり方では高くても１０バールの圧力で行われる。
【０１０４】
工程Ｓ２”が行われる温度は有利には、画分Ｆ２’中に含有されるエチレンの９０％超、好ましくは９５％超が画分Ｂ中に見いだされるように選択される。工程Ｓ２”が行われる温度は、脱着装置のまたは塔Ｃ２”のトップで、有利には少なくとも−１０℃、好ましくは少なくとも０℃、特に好ましいやり方では少なくとも１０℃である。それは、脱着装置または塔Ｃ２”のトップで、有利には高くても６０℃、好ましくは高くても５０℃、特に好ましいやり方では高くても４０℃である。
【０１０５】
脱着装置または塔Ｃ２”のボトムでの温度は、少なくとも６０℃、好ましくは少なくとも８０℃、特に好ましいやり方では少なくとも１００℃である。それは、有利には高くても２００℃、好ましくは高くても１６０℃、特に好ましいやり方では高くても１５０℃である。
【０１０６】
本発明による方法の工程ｂ）の第２実施形態によれば、画分Ｆ２が吸収塔Ｃ２’に搬送され、そして画分Ｆ２’が脱着塔Ｃ２”に搬送される場合が最も特に好ましい。
【０１０７】
この最も特に好ましいものによれば、工程ｂ）はそれ故特に好ましいやり方では：
−  主塔Ｃ２における塔Ｃ２のトップでの画分Ｆ２へのおよび塔Ｃ２のボトムでの画分Ｃへの前記生成物の混合物の分離にある第１分離工程Ｓ２と、
−  吸収塔Ｃ２’における塔Ｃ２’のトップでの画分Ａへのおよび塔Ｃ２’のボトムでの画分Ｆ２’への画分Ｆ２の分離にある第２分離工程Ｓ２’と、
−  脱着塔Ｃ２”における塔Ｃ２”のトップでの画分Ｂへのおよび塔Ｃ２”のボトムでの画分Ｆ２”への画分Ｆ２’の分離にある第３分離工程Ｓ２”と
を含む。
【０１０８】
本発明による方法の工程ｂ）の第３実施形態によれば、工程ａ）に由来する生成物の混合物は有利には、画分Ａ、画分Ｂおよび画分Ｃを得るために工程Ｓ３と呼ばれる第１分離工程に、および工程Ｓ３’と呼ばれる第２分離工程にかけられる。
【０１０９】
工程Ｓ３は有利には、主塔（塔Ｃ３と呼ばれる）における２つの異なる画分、すなわち、塔Ｃ３のトップで出る画分Ｆ３と塔Ｃ３のボトムで出る画分Ｃとへの工程ａ）に由来する生成物の混合物の分離にある。
【０１１０】
工程Ｓ３’は有利には、塔Ｃ３’における２つの異なる画分、すなわち、塔Ｃ３’のトップで出る画分Ａと塔Ｃ３’のボトムで出る画分Ｂとへの画分Ｆ３の分離にある。
【０１１１】
本発明による方法の工程ｂ）の第３実施形態によれば、工程ｂ）はそれ故好ましくは：
−  主塔３における塔Ｃ３のトップでの画分Ｆ３へのおよび塔Ｃ３のボトムでの画分Ｃへの前記生成物の混合物の分離にある第１分離工程Ｓ３と、
−  塔Ｃ３’における塔Ｃ３’のトップでの画分Ａへのおよび塔Ｃ３’のボトムでの画分Ｂへの画分Ｆ３の分離にある第２分離工程Ｓ３’と
を含む。
【０１１２】
特に好ましいやり方では、工程ｂ）は上述の２つの工程を含むにすぎない。
【０１１３】
塔Ｃ３へのその導入の前に、工程ａ）に由来する生成物の混合物は、その定義が塔Ｃ１の説明において見いだされ得る、熱調節工程にかけられてもよい。
【０１１４】
前記生成物の混合物は、単一画分としてかまたは幾つかのサブ画分として工程Ｓ３中に塔Ｃ３へ導入されてもよい。それは好ましくは幾つかのサブ画分として導入される。
【０１１５】
主塔Ｃ３は有利には、ストリッピング部および／または精留部を含む塔である。これらの２つの部分が存在する場合、精留部が好ましくはストリッピング部の上にある。
【０１１６】
塔Ｃ３は有利には、上述の２つの部分を含む蒸留塔およびこれら２つの部分の１つだけを含有する塔から選択される。好ましくは、塔Ｃ３は蒸留塔である。
【０１１７】
工程Ｓ３はそれ故好ましくは蒸留工程である。
【０１１８】
塔Ｃ３は有利には、例えば、少なくとも１つのリボイラーおよび少なくとも１つの凝縮器などの関連補助装置を備えつけられる。
【０１１９】
最も揮発性の化合物に富む画分Ｆ３は有利には塔Ｃ３のトップで出るが、揮発性が最も少ない化合物に富む画分Ｃは有利には塔Ｃ３のボトムで出る。
【０１２０】
上述の工程Ｓ３は有利には、少なくとも８バール、好ましくは少なくとも１０バール、特に好ましいやり方では少なくとも１２バールの圧力で行われる。工程Ｓ３は有利には、高くても４５バール、好ましくは高くても４０バール、特に好ましいやり方では高くても３８バールの圧力で行われる。
【０１２１】
工程Ｓ３が行われる温度は、塔Ｃ３のトップで、有利には少なくとも−１００℃、好ましくは少なくとも−９０℃、特に好ましいやり方では少なくとも−８０℃である。それは、塔Ｃ３のトップで、有利には高くても−２０℃、好ましくは高くても−３０℃、特に好ましいやり方では高くても−４０℃である。
【０１２２】
塔Ｃ３のトップで出る画分Ｆ３は次に有利には、２つの異なる画分、すなわち、塔Ｃ３’のトップでの画分Ａと塔Ｃ３’のボトムでの画分Ｂとへ分離されるように塔Ｃ３’で分離工程Ｓ３’にかけられる。
【０１２３】
塔Ｃ３’は有利には、ストリッピング部および／または精留部を含む塔である。これらの２つの部分が存在する場合、精留部が好ましくはストリッピング部の上にある。
【０１２４】
塔Ｃ３’は有利には、上述の２つの部分を含む蒸留塔およびこれら２つの部分の１つだけを含む塔から選択される。好ましくは、塔Ｃ３’は蒸留塔である。
【０１２５】
工程Ｓ３’はそれ故好ましくは蒸留工程である。
【０１２６】
塔Ｃ３’は有利には、例えば、少なくとも１つのリボイラーおよび少なくとも１つの凝縮器などの関連補助装置を備えつけられる。
【０１２７】
上述の工程Ｓ３’は有利には、少なくとも８バール、好ましくは少なくとも１０バール、特に好ましいやり方では少なくとも１２バールの圧力で行われる。工程Ｓ３’は有利には、高くても４０バール、好ましくは高くても３７バール、特に好ましいやり方では高くても３５バールの圧力で行われる。
【０１２８】
工程Ｓ３’が行われる温度は、塔Ｃ３’のトップで、有利には少なくとも−９０℃、好ましくは少なくとも−８５℃、特に好ましくは少なくとも−８０℃である。それは、塔Ｃ３’のトップで、有利には高くても−４０℃、好ましくは高くても−４５℃、特に好ましくは高くても−５０℃である。
【０１２９】
塔Ｃ３’のボトムでの温度は、少なくとも−３０℃、好ましくは少なくとも−２５℃、特に好ましいやり方では少なくとも−２０℃である。それは、有利には高くても２０℃、好ましくは高くても１５℃、特に好ましいやり方では高くても１０℃である。
【０１３０】
本発明による方法の工程ｂ）の第４実施形態によれば、工程ａ）に由来する生成物の混合物は有利には、画分Ａ、画分Ｂおよび画分Ｃを得るために工程Ｓ４と呼ばれる第１分離工程に、および工程Ｓ４’と呼ばれる第２分離工程にかけられる。
【０１３１】
工程Ｓ４は有利には、主塔（塔Ｃ４と呼ばれる）における２つの異なる画分、すなわち、塔Ｃ４のトップで出る画分Ａと塔Ｃ４のボトムで出る画分Ｆ４とへの工程ａ）に由来する生成物の混合物の分離にある。
【０１３２】
工程Ｓ４’は有利には、塔Ｃ４’における２つの異なる画分、すなわち、塔Ｃ４’のトップで出る画分Ｂと塔Ｃ４’のボトムで出る画分Ｃとへの画分Ｆ４の分離にある。
【０１３３】
本発明による方法の工程ｂ）の第４実施形態によれば、工程ｂ）はそれ故好ましくは：
−  主塔Ｃ４における塔Ｃ４のトップでの画分Ａへのおよび塔Ｃ４のボトムでの画分Ｆ４への前記生成物の混合物の分離にある第１分離工程Ｓ４と、
−  塔Ｃ４’における塔Ｃ４’のトップでの画分Ｂへのおよび塔Ｃ４’のボトムでの画分Ｃへの画分Ｆ４の分離にある第２分離工程Ｓ４’と
を含む。
【０１３４】
特に好ましいやり方では、工程ｂ）は上述の２つの工程を含むにすぎない。
【０１３５】
塔Ｃ４へのその導入の前に、工程ａ）に由来する生成物の混合物は、その定義が塔Ｃ１の説明において見いだされ得る、熱調節工程にかけられてもよい。
【０１３６】
前記生成物の混合物は、単一画分としてかまたは幾つかのサブ画分として工程Ｓ４中に塔Ｃ４へ導入されてもよい。それは好ましくは幾つかのサブ画分として導入される。
【０１３７】
主塔Ｃ４は有利には、ストリッピング部および／または精留部を含む塔である。これらの２つの部分が存在する場合、精留部が好ましくはストリッピング部の上にある。
【０１３８】
塔Ｃ４は有利には、上述の２つの部分を含む蒸留塔およびこれら２つの部分の１つだけを含む塔から選択される。好ましくは、塔Ｃ４は蒸留塔である。
【０１３９】
工程Ｓ４はそれ故好ましくは蒸留工程である。
【０１４０】
塔Ｃ４は有利には、例えば、少なくとも１つのリボイラーおよび少なくとも１つの凝縮器などの関連補助装置を備えつけられる。
【０１４１】
最も揮発性の化合物に富む画分Ａは有利には塔Ｃ４のトップで出るが、揮発性が最も少ない化合物に富む画分Ｆ４は有利には塔Ｃ４のボトムで出る。
【０１４２】
上述の工程Ｓ４は有利には、少なくとも８バール、好ましくは少なくとも１０バール、特に好ましいやり方では少なくとも１２バールの圧力で行われる。工程Ｓ４は有利には、高くても４５バール、好ましくは高くても４０バール、特に好ましいやり方では高くても３８バールの圧力で行われる。
【０１４３】
工程Ｓ４が行われる温度は、塔Ｃ４のトップで、有利には少なくとも−１００℃、好ましくは少なくとも−９０℃、特に好ましいやり方では少なくとも−８０℃である。それは、塔Ｃ４のトップで、有利には高くても−２０℃、好ましくは高くても−３０℃、特に好ましいやり方では高くても−４０℃である。
【０１４４】
塔Ｃ４のボトムで出る画分Ｆ４は次に有利には、２つの異なる画分、すなわち、塔Ｃ４’のトップでの画分Ｂと塔Ｃ４’のボトムでの画分Ｃとへ分離されるように塔Ｃ４’での分離工程Ｓ４’にかけられる。
【０１４５】
塔Ｃ４’は有利には、ストリッピング部および／または精留部を含む塔である。これらの２つの部分が存在する場合、精留部が好ましくはストリッピング部の上にある。
【０１４６】
塔Ｃ４’は有利には、上述の２つの部分を含む蒸留塔およびこれら２つの部分の１つだけを含む塔から選択される。好ましくは、塔Ｃ４’は蒸留塔である。
【０１４７】
工程Ｓ４’はそれ故好ましくは蒸留工程である。
【０１４８】
塔Ｃ４’は有利には、例えば、少なくとも１つのリボイラーおよび少なくとも１つの凝縮器などの関連補助装置を備えつけられる。
【０１４９】
上述の工程Ｓ４’は有利には、少なくとも８バール、好ましくは少なくとも１０バール、特に好ましいやり方では少なくとも１２バールの圧力で行われる。工程Ｓ４’は有利には、高くても４０バール、好ましくは高くても３７バール、特に好ましいやり方では高くても３５バールの圧力で行われる。
【０１５０】
工程Ｓ４’が行われる温度は、塔Ｃ４’のトップで、有利には少なくとも−７０℃、好ましくは少なくとも−６５℃、特に好ましいやり方では少なくとも−６０℃である。それは、塔Ｃ４’のトップで、有利には高くても０℃、好ましくは高くても−５℃、特に好ましいやり方では高くても−１０℃である。
【０１５１】
塔Ｃ４’のボトムでの温度は、少なくとも−２０℃、好ましくは少なくとも−１５℃、特に好ましいやり方では少なくとも−１０℃である。それは、有利には高くても２０℃、好ましくは高くても１５℃、特に好ましいやり方では高くても１０℃である。
【０１５２】
本発明による方法の工程ｂ）の第５実施形態によれば、工程ａ）に由来する生成物の混合物は有利には、画分Ａ、画分Ｂおよび画分Ｃを得るために工程Ｓ５と呼ばれる第１分離工程に、工程Ｓ５’と呼ばれる第２分離工程に、および工程Ｓ５”と呼ばれる第３分離工程にかけられる。
【０１５３】
工程Ｓ５は有利には、２つの異なる画分、すなわち、塔Ｃ５のトップで出る画分Ａと塔Ｃ５のボトムで出る画分Ｆ５とへの主塔（塔Ｃ５と呼ばれる）での工程ａ）に由来する生成物の混合物の分離にある。
【０１５４】
工程Ｓ５’は有利には、２つの異なる画分、すなわち、塔Ｃ５’のトップで出る画分Ｆ５’と塔Ｃ５’のボトムで出る画分Ｃとへの塔Ｃ５’での画分Ｆ５の分離にある。
【０１５５】
工程Ｓ５”は有利には、２つの異なる画分、すなわち、塔Ｃ５”のトップで出る画分Ｂと塔Ｃ５”のボトムで出る画分Ｆ５”とへの塔Ｃ５”での画分Ｆ５’の分離にある。
【０１５６】
本発明による方法の工程ｂ）の第５実施形態によれば、工程ｂ）はそれ故好ましくは：
−  主塔Ｃ５における塔Ｃ５のトップでの画分Ａへのおよび塔Ｃ５のボトムでの画分Ｆ５への前記生成物の混合物の分離にある第１分離工程Ｓ５と、
−  塔Ｃ５’における塔Ｃ５’のトップでの画分Ｆ５’へのおよび塔Ｃ５’のボトムでの画分Ｃへの画分Ｆ５の分離にある第２分離工程Ｓ５’と、
−  塔Ｃ５”における塔Ｃ５”のトップでの画分Ｂへのおよび塔Ｃ５”のボトムでの画分Ｆ５”への画分Ｆ５’の分離にある第３分離工程Ｓ５”と
を含む。
【０１５７】
特に好ましいやり方では、工程ｂ）は上述の３つの分離工程を含むにすぎない。
【０１５８】
塔Ｃ５へのその導入の前に、工程ａ）に由来する生成物の混合物は、その定義が塔Ｃ１の説明において見いだされ得る、熱調節工程にかけられてもよい。
【０１５９】
前記生成物の混合物は、単一画分としてかまたは幾つかのサブ画分として工程Ｓ５中に塔Ｃ５へ導入されてもよい。それは好ましくは幾つかのサブ画分として導入される。
【０１６０】
主塔Ｃ５は有利には、ストリッピング部および／または精留部を含む塔である。これらの２つの部分が存在する場合、精留部が好ましくはストリッピング部の上にある
【０１６１】
塔Ｃ５は有利には、上述の２つの部分を含む蒸留塔およびこれら２つの部分の１つだけを含む塔から選択される。好ましくは、塔Ｃ５は蒸留塔である。
【０１６２】
工程Ｓ５はそれ故好ましくは蒸留工程である。
【０１６３】
塔Ｃ５は有利には、例えば、少なくとも１つのリボイラーおよび少なくとも１つの凝縮器などの関連補助装置を備えつけられる。
【０１６４】
画分Ａは有利には塔Ｃ５のトップから出るが、有利には少なくとも揮発性の化合物に富む、画分Ｆ５は有利には塔Ｃ５のボトムから出る。
【０１６５】
上述の工程Ｓ５は有利には、少なくとも５バール絶対、好ましくは少なくとも１０バール絶対、特に好ましくは少なくとも１２バール絶対の圧力で実施される。工程Ｓ５は有利には、高くても４０バール絶対、好ましくは高くても３８バール絶対、特に好ましくは高くても３６バール絶対の圧力で実施される。
【０１６６】
工程Ｓ５が実施される温度は、塔Ｃ５のボトムで有利には少なくとも０℃、好ましくは少なくとも５℃、特に好ましくは少なくとも１０℃である。それは、塔Ｃ５のボトムで有利には高くても８０℃、好ましくは高くても６０℃、特に好ましくは高くても４０℃である。
【０１６７】
工程Ｓ５が実施される温度は、塔Ｃ５のトップで有利には少なくとも−７０℃、好ましくは少なくとも−６０℃、特に好ましくは少なくとも−５５℃である。それは、塔Ｃ５のトップで有利には高くても０℃、好ましくは高くても−１５℃、特に好ましくは高くても−２５℃である。
【０１６８】
塔Ｃ５のボトムで出る画分Ｆ５は次に有利には、画分Ｆ５を塔Ｃ５’内部で画分Ｆ５’へおよび重質画分（画分Ｃ）へ分離することからなる第２分離工程Ｓ５’にかけられる。
【０１６９】
塔Ｃ５’へのその導入の前に、生成物の混合物は、例えば、アセチレン水素化などの、熱および／または化学的調節工程にかけられてもよい。用語「熱調節工程」は、エネルギーの使用を最適化する一連の熱交換、例えば、先ず冷却水で、次に氷冷水で、次に段々と冷えた液体で冷却される一連の交換器と、生成する流れの顕熱を回収するクロス交換器とでの生成物の混合物の漸次冷却を意味すると理解される。
【０１７０】
前記生成物の混合物は、単一画分としてかまたは幾つかのサブ画分として工程Ｓ５’中に塔Ｃ５’へ導入されてもよい。それは好ましくは幾つかのサブ画分として導入される。
【０１７１】
塔Ｃ５’は有利には、ストリッピング部および／または精留部を含む塔である。両部分が存在する場合、精留部が好ましくはストリッピング部の上にある。
【０１７２】
塔Ｃ５’は有利には、上述の２つの部分を含む蒸留塔およびこれら２つの部分の１つを含むにすぎない塔から選択される。好ましくは、塔Ｃ５’は蒸留塔である。
【０１７３】
工程Ｓ５’はそれ故好ましくは蒸留工程である。
【０１７４】
塔Ｃ５’は有利には、例えば、少なくとも１つのリボイラーおよび少なくとも１つの凝縮器などの関連補助装置を備えつけられる。
【０１７５】
有利には最も揮発性の化合物に富む、画分Ｆ５’は、有利には塔Ｃ５’のトップから出るが、有利には揮発性が最も少ない化合物に富む、重質画分Ｃは、有利には塔Ｃ５’のボトムから出る。
【０１７６】
上述の工程Ｓ５’は有利には、少なくとも５バール絶対、好ましくは少なくとも８バール絶対、特に好ましくは少なくとも１０バール絶対の圧力で実施される。工程Ｓ５’は有利には、高くても４０バール絶対、好ましくは高くても３７バール絶対、特に好ましくは高くても３５バール絶対の圧力で実施される。
【０１７７】
工程Ｓ５’が実施される温度は、塔Ｃ５’のボトムで、有利には少なくとも０℃、好ましくは少なくとも１０℃、特に好ましくは少なくとも１５℃である。それは、塔Ｃ５’のボトムで、有利には高くても９０℃、好ましくは高くても８６℃、特に好ましくは高くても８３℃である。
【０１７８】
工程Ｓ５’が実施される温度は、塔Ｃ５’のトップで、有利には少なくとも−６５℃、好ましくは少なくとも−５５℃、特に好ましくは少なくとも−５０℃である。それは、塔Ｃ５’のトップで、有利には高くても５℃、好ましくは高くても０℃、特に好ましくは高くても−２℃である。
【０１７９】
画分Ｆ５’は、画分Ｆ５’を塔Ｃ５”内部でエチレンに富む画分（画分Ｂ）へおよびエタンから主としてなる画分Ｆ５”へ分離することからなる第３分離工程Ｓ５”にかけられる。
【０１８０】
塔Ｃ５”へのその導入の前に、生成物の混合物は、例えば、アセチレン水素化などの、熱および／または化学的調節工程にかけられてもよい。用語「熱調節工程」は、エネルギーの使用を最適化する一連の熱交換、例えば、先ず冷却水で、次に氷冷水で、次に段々と冷えた液体で冷却される一連の交換器と、生成する流れの顕熱を回収するクロス交換器とでの生成物の混合物の漸次冷却を意味すると理解される。
【０１８１】
前記生成物の混合物は、単一画分としてかまたは幾つかのサブ画分として工程Ｓ５”中に塔Ｃ５”へ導入されてもよい。それは好ましくは幾つかのサブ画分として導入される。
【０１８２】
主塔Ｃ５”は有利には、ストリッピング部および／または精留部を含む塔である。両部分が存在する場合、精留部が好ましくはストリッピング部の上にある。
【０１８３】
塔Ｃ５”は有利には、上述の２つの部分を含む蒸留塔およびこれら２つの部分の１つを含むにすぎない塔から選択される。好ましくは、塔Ｃ５”は蒸留塔である。
【０１８４】
工程Ｓ５”はそれ故好ましくは蒸留工程である。
【０１８５】
画分Ｂは有利には塔のトップから出るが、エタンから主としてなる、画分Ｆ５”は有利には塔のボトムから出る。
【０１８６】
上述の工程Ｓ５”は有利には、少なくとも５バール絶対、好ましくは少なくとも６バール絶対、特に好ましくは少なくとも７バール絶対の圧力で実施される。工程Ｓ５”は有利には、高くても３０バール絶対、好ましくは高くても２５バール絶対、特に好ましくは高くても２２バール絶対の圧力で実施される。
【０１８７】
工程Ｓ５”が実施される温度は、塔Ｃ５のボトムで有利には少なくとも−５０℃、好ましくは少なくとも−４５℃、特に好ましくは少なくとも−４０℃である。それは、塔Ｃ５”のボトムで有利には高くても１０℃、好ましくは高くても０℃、特に好ましくは高くても−５℃である。
【０１８８】
工程Ｓ５”が実施される温度は、塔Ｃ５”のトップで有利には少なくとも−７０℃、好ましくは少なくとも−６５℃、特に好ましくは少なくとも−６０℃である。それは、塔Ｃ５”のトップで有利には高くても−１５℃、好ましくは高くても−２０℃、特に好ましくは高くても−２５℃である。
【０１８９】
本発明による方法では、蒸留塔の使用が述べられるたびに、それは、プレート蒸留塔、充填蒸留塔、構造化充填剤の蒸留塔および上述のインターナルの２つ以上を組み合わせた蒸留塔から選択されてもよい。
【０１９０】
本発明による方法の異なる実施形態による分離工程は有利には熱的に統合される。熱的統合は好ましくは、直接にか、多かれ少なかれ冷たい温度レベルの１つ以上の冷凍サイクル、好ましくは低温での１つと中温での他方との２つの冷凍サイクルによってか、それらの組み合わせによってかのどれかで、より好ましくはそれらの組み合わせによって行われる。
【０１９１】
冷凍サイクルは有利には、２個の炭素原子を含有する化合物、３個の炭素原子を含有する化合物またはそれらの混合物をベースとしている。２個の炭素原子を含有する化合物の中には、エチレン、エタンおよびそれらの混合物が挙げられてもよい。エチレンが好ましい。３個の炭素原子を含有する化合物の中には、プロピレン、プロパンおよびそれらの混合物が挙げられてもよい。プロピレンが好ましい。
【０１９２】
低温サイクルおよび中温サイクルは好ましくは相互連結され、それは、低温サイクルの高熱源が中温サイクルの冷熱源であり、そして一方中温サイクルの高熱源が大気冷却塔からの水であることを意味する。低温サイクルは好ましくは２個の炭素原子の化合物を使用し、より好ましくは少なくとも９５モル％のエチレンンを含有する。中温サイクルは好ましくは３個の炭素原子の化合物を使用し、より好ましくは少なくとも９５モル％のプロパンまたは少なくとも９５モル％のプロピレンを含有する。より好ましくは、中温サイクルは少なくとも９５モル％のプロピレンを含有する。
【０１９３】
本発明による方法の工程ｂ）の第６実施形態によれば、工程ａ）に由来する生成物の混合物は有利には、画分Ａ、画分Ｂおよび画分Ｃを得るために工程Ｓ６と呼ばれる一分離工程にかけられる。
【０１９４】
工程Ｓ６は有利には、主塔（塔Ｃ６と呼ばれる）内部での３つの異なる画分、すなわち、塔Ｃ６のトップで出る画分Ａ、塔Ｃ６のボトムで出る画分Ｃおよび塔Ｃ６の側面から抜き取られる画分Ｂへの工程ａ）に由来する生成物の混合物の分離にある。
【０１９５】
本発明による方法の工程ｂ）の第６実施形態によれば、工程ｂ）はそれ故好ましくは、主塔Ｃ６内部での塔Ｃ６のトップでの画分Ａへの、塔Ｃ６のボトムでの画分Ｃへの、塔Ｃ６の側面から抜き取られる画分Ｂへの前記生成物の混合物の分離にある一分離工程Ｓ６を含む。
【０１９６】
塔Ｃ６へのその導入の前に、工程ａ）に由来する生成物の混合物は、熱調節工程にかけられてもよい。表現熱調節工程は、エネルギーの使用を最適化する一連の熱交換、例えば、先ず冷却水で、次に氷冷水で、次に段々と冷えた流体で冷却される一連の交換器と、生成する流れの顕熱を回収するクロス交換器とでの生成物の混合物の漸次冷却を意味すると理解される。
【０１９７】
前記生成物の混合物は、単一画分としてかまたは幾つかのサブ画分として工程Ｓ６中に塔Ｃ６へ導入されてもよい。それは好ましくは幾つかのサブ画分として導入される。
【０１９８】
主塔Ｃ６は有利には、ストリッピング部および／または精留部を含む塔である。これらの２つの部分が存在する場合、精留部が好ましくはストリッピング部の上にある。
【０１９９】
塔Ｃ６は有利には、上述の２つの部分を含む蒸留塔およびこれら２つの部分の１つだけを含む塔から選択される。好ましくは、塔Ｃ６は蒸留塔である。
【０２００】
蒸留塔Ｃ６は、従来の蒸留塔および分割壁塔から選択することができる。
【０２０１】
蒸留塔が分割壁塔である場合には、供給物は有利には分割壁部分に導入され、側流は、供給物が導入されるゾーン以外のゾーンで分割壁部分から抜き取られる。
【０２０２】
より好ましくは、塔Ｃ６は従来の蒸留塔である。
【０２０３】
工程Ｓ６はそれ故好ましくは蒸留工程である。
【０２０４】
塔Ｃ６は有利には、例えば少なくとも１つのリボイラーおよび少なくとも１つの凝縮器などの関連補助装置を備えつけられる。中間抜き取りおよび中間熱交換を可能にする装置が主塔に追加されてもよい。
【０２０５】
最も揮発性の化合物に富む画分Ａは有利には塔Ｃ６のトップで出るが、揮発性が最も少ない化合物に富む画分Ｃは有利には塔Ｃ６のボトムで出る。
【０２０６】
画分Ｂに関しては、それは有利には、塔中を循環する液体またはスチームを集めることによって塔Ｃ６の側面から抜き取られる。この抜き取りは好ましくは液体に関して行われる。
【０２０７】
この抜き取りは、塔のストリッピング部でまたは精留部で行われてもよい。それは好ましくは精留部で行われる。精留部の中央第３番目での抜き取りが特に好ましい。精留部の中央第３番目での液体の抜き取りが最も特に好ましい。
【０２０８】
上述の工程Ｓ６は有利には、少なくとも８バール、好ましくは少なくとも１０バール、特に好ましいやり方では少なくとも１２バールの圧力で行われる。工程Ｓ６は有利には、高くても４５バール、好ましくは高くても４０バール、特に好ましいやり方では高くても３８バールの圧力で行われる。
【０２０９】
工程Ｓ６が行われる温度は、塔Ｃ６のトップで、有利には少なくとも−１００℃、好ましくは少なくとも−９０℃、特に好ましいやり方では少なくとも−８０℃である。それは、塔Ｃ６のトップで、有利には高くても−３０℃、好ましくは高くても−４０℃、特に好ましいやり方では高くても−５０℃である。
【０２１０】
本発明による方法の工程ｂ）の第６実施形態によれば、画分Ｂは有利には、画分Ｂが液体状態で抜き取られる場合には蒸発および膨張後に、または画分Ｂがガス状態で抜き取られる場合には膨張後に、両場合とも有利にはエネルギーを回収して、１，２−ジクロロエタンの製造に、または１，２−ジクロロエタンとは異なる少なくとも１つのエチレン誘導体化合物の製造に搬送される。特に好ましいやり方では、画分Ｂは、画分Ｂが液体状態で抜き取られる場合には蒸発および膨張後に、有利にはエネルギーを回収して、１，２−ジクロロエタンの製造に、または１，２−ジクロロエタンとは異なるエチレン誘導体化合物の製造に搬送される。
【０２１１】
本発明による方法では、工程ｂ）の第４および第５実施形態が好ましい。
【０２１２】
画分Ａおよび画分Ｂを特徴づけるために下に明示される量は、エチレン誘導体化合物のそれぞれの製造に入る前のものである。
【０２１３】
画分Ｂは有利には、画分Ｂの総体積に対して２％体積以下の、好ましくは０．５％体積以下の、特に好ましいやり方では０．１体積％以下の水素含有率で特徴づけられる。
【０２１４】
画分Ｂは、画分Ｂの総体積に対して有利には０．０１体積％以下、好ましくは０．００５体積％以下、特に好ましいやり方では０．００１体積％以下の少なくとも３個の炭素原子を含有する化合物の含有率で特徴づけられる。
【０２１５】
画分Ｂは有利には、画分Ｂの総体積に対して４０体積％〜９９．５体積％のエチレンを含有する。画分Ｂは有利には、画分Ｂの総体積に対して少なくとも４０体積％、好ましくは少なくとも５０体積％、特に好ましいやり方では少なくとも６０体積％のエチレンを含有する。画分Ｂは有利には、画分Ｂの総体積に対して多くとも９９．５体積％、好ましくは多くとも９９．２体積％、特に好ましいやり方では多くとも９９体積％のエチレンを含有する。
【０２１６】
画分Ａは、エチレンより軽質である化合物に富む。これらの化合物は一般に、メタン、窒素、酸素、水素および一酸化炭素である。有利には、画分Ａは、工程ｂ）にかけられる生成物の混合物中に含有されるエチレンより軽質の化合物の少なくとも７０％、好ましくは少なくとも８０％、特に好ましいやり方では少なくとも８５％を含有する。有利には、画分Ａは、工程ｂ）にかけられる生成物の混合物中に含有されるエチレンより軽質の化合物の多くとも９９．９９％、好ましくは多くとも９９．９７％、特に好ましいやり方では多くとも９９．９５％を含有する。
【０２１７】
画分Ａは、画分Ａの総体積に対して有利には０．０１体積％以下、好ましくは０．００５体積％以下、特に好ましいやり方では０．００１体積％以下の少なくとも３個の炭素原子を含有する化合物の含有率で特徴づけられる。
【０２１８】
画分Ａは有利には、それが画分Ｂのエチレンの体積含有率の１０％〜９０％を表すようなものである体積含有率のエチレンを含有する。画分Ａは有利には、それが画分Ｂのエチレンの体積含有率の９０％以下、好ましくは８５％以下、特に好ましいやり方では８０％以下であるようなものである体積含有率のエチレンを含有する。画分Ａは有利には、それが画分Ｂのエチレンの体積含有率の少なくとも１０％、好ましくは少なくとも１５％、特に好ましいやり方では少なくとも２０％であるようなものである体積含有率のエチレンを含有する。
【０２１９】
画分Ｃは有利には、少なくとも３個の炭素原子を含む化合物を含有する。有利には、少なくとも３個の炭素原子を含むこれらの化合物は、工程ａ）に由来するエチレンおよび他の成分を含有する生成物の混合物に由来するか、または工程ｂ）中の副反応によって発生する。少なくとも３個の炭素原子を含む化合物の中には、プロパン、プロピレン、ブタンおよびそれらの不飽和誘導体ならびに飽和または不飽和のより重質の化合物全てが挙げられてもよい。
【０２２０】
画分Ｃは有利には、工程ｂ）にかけられる生成物の混合物中に含有される少なくとも３個の炭素原子を含む化合物の少なくとも９５％、好ましくは少なくとも９８％および特に好ましくは少なくとも９９％を含有する。
【０２２１】
画分Ｃは有利には、画分Ｃの総重量に対して多くとも１重量％、好ましくは多くとも０．８重量％、特に好ましくは多くとも０．５重量％のエチレンを含有する。
【０２２２】
画分Ｃは有利にはエチレンより重質の成分に富む。好ましくは、画分Ｃは燃料として燃やされるかまたは化学的に付加価値化（ｖａｌｏｒｉｚｅｄ）される。より好ましくは、画分Ｃは化学的に付加価値化される。画分Ｃは、最も好ましくは、例えば蒸留により、それぞれ５個未満の炭素原子を備える化合物を含む一方の画分（画分Ｃ１）と、少なくとも５個の炭素原子を備える化合物を含むもう一方の画分（画分Ｃ２）という２つの異なる画分にそれぞれ分離されることからなる分離工程にかけられる。特にベンゼンに富む、画分Ｃ２は特に好ましくは、エチルベンゼンの製造に搬送される。ベンゼンがその回収率を最大にするために画分Ｃに導かれるように工程ｂ）を適合させることはそれ故興味深いことであり得る。
【０２２３】
幾つかの場合には、それを付加価値化するためにエタンを単離することは興味深いことであり得る。これらの状況では、本発明による方法は、エタンが画分Ｃに導かれるかまたは個別の画分として単離されるように適合させることができる。
【０２２４】
エタンが画分Ｃに導かれる場合には、エタンは、さらなる蒸留塔を用いて画分Ｃ中に存在する重質炭化水素から分離することができる。エタンはまた、他の画分から（ボトムで抜き取られる）画分Ｃを単離するために使用される蒸留塔の側面からそれを抜き取ることによってか、または画分Ｃを単離するときに従来の蒸留塔の代わりに分割壁塔を使用することによって回収することができる。
【０２２５】
エタンが個別の画分として単離される場合には、それは、工程ｂ）中に他の画分から分離することができる。
【０２２６】
回収された後に、エタンは、燃料として燃やすかまたは化学的に付加価値化することができる。エタンは好ましくは化学的に付加価値化される。エタンはそれ故より好ましくは、工程ａ）にリサイクルされるか、後でオキシ塩素化にかけられるエチレンを生成するために国際公開第２００８／０００７０５号パンフレット、同第２００８／０００７０２号パンフレットおよび同第２００８／０００６９３号パンフレットに記載されているようにオキシ脱水素化（ＯＤＨ）にかけられるかのどちらかである。エタンは最も好ましくは工程ａ）にリサイクルされる。
【０２２７】
本発明による方法の工程ｃ）によれば、画分Ａおよび画分Ｂのうちの一方の画分は、任意選択的にアセチレン水素化にかけられた後に、ＤＣＥのおよび任意選択的にそれから誘導される任意の化合物の製造に搬送され、そして一方では、他方の画分は、１，２−ジクロロエタンとは異なるエチレンから出発して直接製造される少なくとも１つのエチレン誘導体化合物の、および任意選択的にそれから誘導される任意の化合物の製造に搬送される。
【０２２８】
第１実施形態によれば、本発明による方法は有利には、工程ａ）およびｂ）の後に、ｃ）画分Ａが、任意選択的にアセチレン水素化にかけられた後に、ＤＣＥのおよび任意選択的にそれから誘導される任意の化合物の製造に搬送され、そして画分ＢがＤＣＥとは異なるエチレンから出発して直接製造される少なくとも１つのエチレン誘導体化合物のおよび任意選択的にそれから誘導される任意の化合物の製造に搬送されるようなものである。
【０２２９】
この第１実施形態によれば、ＤＣＥは有利にはさらに、ＶＣを生成するためにＤＣＥ分解工程にかけられ、ＶＣは好ましくは後で、ＰＶＣを生成するために重合される。
【０２３０】
第１実施形態の第１変形によれば、本方法は有利には、工程ａ）およびｂ）の後に、
ｃ）画分Ａが、任意選択的にアセチレン水素化にかけられた後に、画分Ａ中に存在するエチレンのほとんどが分子塩素との反応によってＤＣＥに転化される塩素化反応器でのＤＣＥの製造に搬送され、そして画分ＢがＤＣＥとは異なるエチレンから出発して直接製造される少なくとも１つのエチレン誘導体化合物のおよび任意選択的にそれから誘導される任意の化合物の製造に搬送される；
ｄ）得られたＤＣＥが塩素化反応器に由来する生成物の流れから分離される；
ｅ）分離されたＤＣＥがＤＣＥ分解工程にかけられ、こうしてＶＣおよび塩化水素を生成する；ならびに
ｆ）得られたＶＣおよび塩化水素がＤＣＥ分解工程に由来する生成物の流れから分離されるようなものである。
【０２３１】
塩素化反応（普通は直接塩素化と呼ばれる）は有利には、ＦｅＣｌ３または別のルイス（Ｌｅｗｉｓ）酸などの溶解触媒を含有する液相（好ましくは主にＤＣＥ）で実施される。この触媒をアルカリ金属塩化物などの共触媒と有利に組み合わせることが可能である。良好な結果を与えたペアは、ＦｅＣｌ３とＬｉＣｌとの錯体（リチウムテトラクロロフェラート−オランダ国特許出願第６９０１３９８号明細書に記載されている）である。
【０２３２】
有利に使用されるＦｅＣｌ３の量は、液体ストックの１ｋｇ当たり約１〜３０ｇのＦｅＣｌ３である。ＦｅＣｌ３対ＬｉＣｌのモル比は有利にはおよそ０．５〜２である。
【０２３３】
加えて、塩素化反応は好ましくは塩素化有機液体媒体中で行われる。より好ましくは、液体ストックとも呼ばれる、この塩素化有機液体媒体は主にＤＣＥからなる。
【０２３４】
本発明による塩素化反応は有利には、３０〜１５０℃の温度で行われる。良好な結果は、沸点より下の温度（サブクールされた条件下での塩素化法）でおよび沸点そのもの（沸点での塩素法）での両方で圧力にかかわらず得られた。
【０２３５】
本発明による塩素化プロセスがサブクール条件下の塩素化プロセスであるとき、それは、有利には５０℃以上、好ましくは６０℃以上、しかし有利には８０℃以下、好ましくは７０℃以下の温度で、そして有利には１バール絶対以上、好ましくは１．１バール絶対以上、しかし有利には２０バール絶対以下、好ましくは１０バール絶対以下、特に好ましくは６バール絶対以下の気相での圧力で操作することによって良好な結果を与えた。
【０２３６】
沸点での塩素化方法が反応熱を役立つように回収するために好ましいかもしれない。この場合、反応は有利には、６０℃以上、好ましくは７０℃以上、特に好ましくは８５℃以上、しかし有利には１５０℃以下、好ましくは１３５℃以下の温度で、そして有利には０．２バール絶対以上、好ましくは０．５バール絶対以上、特に好ましくは１．１バール絶対以上、より特に好ましくは１．３バール絶対以上、しかし有利には１．３バール絶対以下、好ましくは６バール絶対以下の気相での圧力で行われる。
【０２３７】
塩素化プロセスはまた、沸点での塩素化のためのハイブリッド・ループ冷却プロセスであってもよい。表現「沸点での塩素化のためのハイブリッド・ループ冷却プロセス」は、形成されたＤＣＥの少なくともその量を気相に生成しながら、反応媒体の冷却が、例えば反応媒体中に浸漬された交換器を用いてか、または交換器中を循環するループによって実施されるプロセスを意味すると理解される。有利には、反応温度および圧力は、生成したＤＣＥが気相にあるままにし、かつ、反応媒体からの熱の残りが交換表面積によって除去されるように調整される。
【０２３８】
塩素化を受ける画分およびまた分子塩素（それ自体純粋なまたは希釈された）は、一緒にかまたは別々に、任意の公知の装置によって反応媒体へ導入されてもよい。塩素化を受ける画分の別個の導入が、その分圧を高め、そしてプロセスの律速段階を多くの場合に構成するその溶解を容易にするために有利である可能性がある。
【０２３９】
分子塩素がエチレンのほとんどを転化するのに十分な量で、かつ、過剰の未転化塩素の添加を必要とせずに加えられる。用いられる塩素／エチレン比は、好ましくは１．２〜０．８モル／モル、特に好ましくは１．０５〜０．９５モル／モルである。
【０２４０】
得られた塩素化生成物は主にＤＣＥ、そしてまた１，１，２−トリクロロエタンなどの少量の副生物または少量のエタンもしくはメタン塩素化生成物を含有する。
【０２４１】
塩素化反応器に由来する生成物の流れから得られるＤＣＥの分離は、公知のモードに従って実施され、一般に塩素化反応の熱を利用することを可能にする。それは次に好ましくは、凝縮および気／液分離によって実施される。
【０２４２】
未転化生成物（メタン、エタン、一酸化炭素、窒素、酸素および水素）は次に有利には、最初の混合物から出発して純エチレンを分離するために必要であったであろうものより容易な分離にかけられる。
【０２４３】
特に水素は未転化生成物から抜き出し、例えば過酸化水素製造における作業溶液の水素化のためかまたは過酸化水素の直接合成のためのように付加価値化することができる。
【０２４４】
ＤＣＥ分解工程が実施されてもよい条件は、当業者に公知である。ＤＣＥ分解は、その中に触媒を挙げることができる第３化合物の存在下にまたは不存在下に行うことができ；ＤＣＥ分解はこの場合には接触ＤＣＥ分解である。しかしながら、ＤＣＥ分解は好ましくは、第３化合物の不存在下に、熱のみの作用下に行われ；ＤＣＥ分解はこの場合にはしばしば熱分解と呼ばれる。
【０２４５】
この熱分解は有利には、管型炉での気相反応によって得られる。通常の熱分解温度は４００〜６００℃であり、４８０℃〜５４０℃の範囲が好ましい。滞留時間は有利には１〜６０秒であり、５〜２５秒の範囲が好ましい。ＤＣＥの転化率は有利には、副生物の形成および管型炉の管の汚れを制限するために４５〜７５％に制限される。
【０２４６】
熱分解に由来する生成物の流れから得られるＶＣと塩化水素との分離は、精製されたＶＣおよび塩化水素を集めるために、任意の公知の装置を使用して、公知のモードに従って実施される。精製後に、未転化ＤＣＥは有利には熱分解炉に搬送される。
【０２４７】
第１実施形態の第１変形のこの第１亜変形によれば、ＶＣは好ましくは後で、ＰＶＣを生成するために重合される。
【０２４８】
ＰＶＣの製造は、塊状、溶液または水性分散重合法であってもよく、好ましくはそれは水性分散重合法である。
【０２４９】
表現水性分散重合は、水性エマルジョンでのフリーラジカル重合および水性マイクロサスペンジョンでの重合だけでなく水性懸濁液でのフリーラジカル重合を意味すると理解される。
【０２５０】
表現水性懸濁液でのフリーラジカル重合は、分散剤および油溶性フリーラジカル開始剤の存在下に水性媒体中で行われる任意のフリーラジカル重合法を意味すると理解される。
【０２５１】
表現水性エマルジョンでのフリーラジカル重合は、乳化剤および水溶性フリーラジカル開始剤の存在下に水性媒体中で行われる任意のフリーラジカル重合法を意味すると理解される。
【０２５２】
均質化水性分散系での重合とも呼ばれる、表現水性マイクロサスペンジョン重合は、油溶性開始剤が使用され、そしてモノマー小滴のエマルジョンが強力な機械撹拌および乳化剤の存在によって調製される任意のフリーラジカル重合法を意味すると理解される。
【０２５３】
分離後に、塩化水素は任意の目的のために使用されてもよい。それは、例えば、塩化カルシウム、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオールまたは１，２，３−プロパントリオール（エピクロロヒドリンの合成につながるグリセリンまたはグリセロール）との反応によるクロロプロパノールなどのクロロアルコール、メタノールとの反応によるクロロメタンなどのクロロアルカン、水性塩酸、塩化第二鉄、塩化アルミニウム、クロロシラン、塩化チタン、塩化亜鉛、塩化アンモニウムのような他の無機塩化物のような化合物の合成に、しかしまた例えば芳香族化合物のオキシ塩素化法、アルキンの塩化水素化（例えばＶＣへのアセチレンの塩化水素化）もしくはアルケンの塩化水素化に搬送するかまたは分子塩素へ酸化することができる。
【０２５４】
工程ｆ）による分離の後に、ｇ）塩化水素は好ましくは、後でより好ましくは塩素化反応器にリサイクルされる分子塩素への酸化にかけられる。
【０２５５】
分離された塩化水素の分子塩素への酸化は、任意の公知の方法に従って行うことができる。
【０２５６】
それらの公知の方法の中に、塩酸の電解、Ｋｅｌｌｏｇｇと呼ばれるＫＥＬ塩素法（触媒として濃硫酸およびニトロシル硫酸を使用する）、Ｓｈｅｌｌ−Ｄｅａｃｏｎ法（触媒としてシリケート担体上の塩化銅（ＩＩ）と他の金属塩化物との混合物を使用する）および三井東圧（ＭＴ−塩素）法（触媒としてシリケート担体上の酸化クロム（ＩＩＩ）を使用する）のような修正Ｄｅａｃｏｎ法のような酸素による塩化水素の接触酸化法ならびに硝酸による塩化水素の酸化が挙げられてもよい。
【０２５７】
酸素による塩化水素の接触酸化が本発明による方法にとって好ましい。この酸化は有利には、酸素を含有するガスで行われる。
【０２５８】
酸素を含有するガスとして、分子酸素または空気を使用することができる。酸素は、空気の圧力スイング法または空気の深冷分離などの、通常の工業的方法によって製造されてもよい。
【０２５９】
１モルの塩化水素を酸化するために必要な酸素の理論的モル量は０．２５モルであるが、理論量を超える量の酸素を使用することが好ましく、より好ましくは、塩化水素の１モル当たり０．２５〜２モルの酸素が使用される。
【０２６０】
本発明による酸化反応に使用される触媒は、塩化水素の酸化による塩素の製造に使用される任意の公知の触媒であってもよい。
【０２６１】
触媒の例は、Ｄｅａｃｏｎ法におけるような銅ベースの触媒、酸化クロム、酸化ルテニウムまたは酸化ルテニウムと酸化チタンとの混合物である。Ｄｅａｃｏｎ触媒は、有利には塩化銅、塩化カリウムおよび様々な種類の化合物を第３成分として含む。
【０２６２】
触媒の形状は、球形粒子、円筒形ペレット、押出形態、リング形態、ハニカム形態、または成形材料のミリング引き続く篩い分けによって製造される好適なサイズを有する顆粒などの通常使用される形状のいずれであってもよい。触媒のサイズは好ましくは１０ｍｍ以下である。触媒のサイズの下限は限定されなくてもよいが、触媒のサイズは有利には少なくとも０．１ｍｍである。本明細書では、触媒のサイズは、球形粒子の場合には球の直径、円筒形ペレットの場合には横断面の直径または他の形態の場合には横断面の最大サイズを意味する。
【０２６３】
酸素を含有するガスを部分に分割し、そしてそれを少なくとも２つの反応ゾーンに導入することは興味深いことであり得る。
【０２６４】
酸化反応は有利には、それぞれが、好ましくは直列に配置された、触媒充填層を含む、少なくとも２つの反応ゾーンで実施される。
【０２６５】
反応圧力は有利には０．１〜５ＭＰａである。反応温度は有利には２００〜６５０℃、より好ましくは２００〜５００℃である。
【０２６６】
反応器は有利には管型反応器であり、それらの内径は好ましくは１０〜５０ｍｍ、より好ましくは１０〜４０ｍｍである。
【０２６７】
分子塩素はより好ましくは塩素化反応器にリサイクルされる。このリサイクリングは、任意の公知の方法に従って行うことができる。分子塩素は有利には先ず乾燥され、次に塩素化に入るための必要な圧力にされる。乾燥は有利には、圧縮による出口での凝縮でまたは硫酸のもしくは塩素と相性がよい吸着剤の塔を使ってのどれか、好ましくは硫酸の塔を使って行われる。
【０２６８】
第１実施形態によれば、画分Ｂは、ＤＣＥとは異なるエチレンから出発して直接製造される少なくとも１つのエチレン誘導体化合物の、および任意選択的にそれから誘導される任意の化合物の製造に搬送される。
【０２６９】
ＤＣＥとは異なる、画分Ｂから製造することができるエチレンから出発して直接製造されるエチレン誘導体化合物の例として、とりわけ、エチレンオキシド、線状アルファ−オレフィン、線状第一級アルコール、エチレンのホモポリマーおよびコポリマー、エチルベンゼン、酢酸ビニル、アセトアルデヒド、エチルアルコールおよびプロピオンアルデヒドが挙げられてもよい。
【０２７０】
それから誘導される任意選択的な化合物の例として、とりわけ、エチレンオキシドから製造されるグリコール、エチルベンゼンから製造されるスチレンおよびスチレンから誘導されるスチレンのポリマーが挙げられてもよい。
【０２７１】
画分Ｂはそれ故、ＤＣＥとは異なるエチレンから出発して直接製造される１つのまたは幾つかのエチレン誘導体化合物の製造に搬送することができる。
【０２７２】
ＤＣＥとは異なるエチレンから出発して直接製造される幾つかのエチレン誘導体化合物の製造に送られるために、画分Ｂは有利には、必要に応じて同じ組成の多くの画分として分けられる。
【０２７３】
好ましくは、画分Ｂは、ＤＣＥとは異なるエチレンから出発して直接製造される１つのエチレン誘導体化合物の製造に搬送される。
【０２７４】
画分Ｂはより好ましくはエチルベンゼンの製造に、最も好ましくはスチレンのポリマーを得るために後で重合されるスチレンの製造に搬送されるエチルベンゼンそのものの製造に搬送される。
【０２７５】
第１実施形態の第２変形によれば、本方法は、工程ａ）およびｂ）の後に、
ｃ）画分Ａが、任意選択的にアセチレン水素化にかけられた後に、画分Ａ中に存在するエチレンの多くとも９０％が分子塩素との反応によってＤＣＥに転化される塩素化反応器でのＤＣＥの製造に搬送され、そして画分ＢがＤＣＥとは異なるエチレンから出発して直接製造される少なくとも１つのエチレン誘導体化合物のおよび任意選択的にそれから誘導される任意の化合物の製造に搬送される；
ｄ）塩素化反応器で形成されたＤＣＥが塩素化反応器に由来する生成物の流れから任意選択的に単離される；
ｅ）ＤＣＥが任意選択的にそれから抜き出された、塩素化反応器に由来する生成物の流れが、塩素化反応器で形成されたＤＣＥが前に抜き出されなかった場合に任意選択的に抜き出される、吸収／脱着工程ｅ’）に後者を任意選択的にかけた後に、エチレンの残りの大部分がＤＣＥに転化されるオキシ塩素化反応器に搬送される；ならびに
ｆ）オキシ塩素化反応器で形成されたＤＣＥがオキシ塩素化反応器に由来する生成物の流れから単離され、塩素化反応器で形成されたＤＣＥに任意選択的に加えられる
ようなものである。
【０２７６】
第１実施形態のこの第２変形によれば、ＤＣＥは有利にはさらに、ＶＣを生成するためにＤＣＥ分解工程にかけられ、ＶＣは好ましくは後で、ＰＶＣを生成するために重合される。
【０２７７】
本明細書で以下に詳述される塩素のフローを除いて第１実施形態の第２変形の特定の場合には、塩素化反応に関する詳細については第１実施形態の第１変形について言及される。
【０２７８】
塩素の流量は、エチレンの有利には少なくとも１０％、好ましくは少なくとも２０％、特に好ましくは少なくとも３０％がＤＣＥに転化されるようなものである。塩素の流量は、エチレンの有利には多くとも９０％、好ましくは多くとも８０％、特に好ましくは多くとも７０％がＤＣＥに転化されるようなものである。
【０２７９】
本発明による方法の第１実施形態の第２変形の工程ｄ）によれば、塩素化反応器で形成されたＤＣＥは任意選択的に、塩素化反応器に由来する生成物の流れから単離される。場合によっては、塩素化反応器に由来する生成物の流れから塩素化反応器で形成されたＤＣＥを単離しないことが有利であるかもしれない。しかしながら好ましくは、塩素化反応器で形成されたＤＣＥは塩素化反応器に由来する生成物の流れから単離される。
【０２８０】
それが行われる場合、塩素化反応器に由来する生成物の流れからの得られたＤＣＥの分離は公知方法に従って実施され、塩素化反応の熱を利用することを一般に可能にする。それはそのとき好ましくは凝縮および気／液分離によって実施される。
【０２８１】
本発明による方法の第１実施形態の第２変形の工程ｅ）によれば、ＤＣＥが任意選択的にそれから抜き出された、塩素化反応器に由来する生成物の流れは、塩素化反応器で形成されたＤＣＥが前に抜き出されなかった場合に任意選択的に抜き出される、吸収／脱着工程ｅ’）に後者を任意選択的にかけた後に、エチレンの残りの大部分がＤＣＥに転化されるオキシ塩素化反応器に搬送される。
【０２８２】
オキシ塩素化反応は有利には、不活性担体上に沈着された銅をはじめとする、活性元素を含む触媒の存在下に実施される。不活性担体は有利には、アルミナ、シリカゲル、混合酸化物、粘土および天然起源の他の担体から選択される。アルミナが好ましい不活性担体である。
【０２８３】
数が有利には少なくとも２つであり、その１つが銅である活性元素を含む触媒が好ましい。銅以外の活性元素のうち、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類金属ならびにルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、白金および金からなる群からの金属が挙げられてもよい。以下の活性元素を含有する触媒が特に有利である：銅／マグネシウム／カリウム、銅／マグネシウム／ナトリウム；銅／マグネシウム／リチウム、銅／マグネシウム／セシウム、銅／マグネシウム／ナトリウム／リチウム、銅／マグネシウム／カリウム／リチウムおよび銅／マグネシウム／セシウム／リチウム、銅／マグネシウム／ナトリウム／カリウム、銅／マグネシウム／ナトリウム／セシウムおよび銅／マグネシウム／カリウム／セシウム。参照により援用される、欧州特許出願公開第２５５  １５６Ａ号明細書、欧州特許出願公開第４９４  ４７４Ａ号明細書、欧州特許出願公開第６５７  ２１２Ａ号明細書および欧州特許出願公開第６５７  ２１３Ａ号明細書に記載されている触媒が最も特に好ましい。
【０２８４】
金属形態で計算される、銅含有率は有利には、触媒１ｋｇ当たり３０〜９０ｇ、好ましくは触媒１ｋｇ当たり４０〜８０ｇ、特に好ましくは触媒１ｋｇ当たり５０〜７０ｇの触媒である。
【０２８５】
金属形態で計算される、マグネシウム含有率は有利には、触媒１ｋｇ当たり１０〜３０ｇ、好ましくは触媒１ｋｇ当たり１２〜２５ｇ、特に好ましくは触媒１ｋｇ当たり１５〜２０ｇである。
【０２８６】
金属形態で計算される、アルカリ金属含有率は有利には、触媒１ｋｇ当たり０．１〜３０ｇ、好ましくは触媒１ｋｇ当たり０．５〜２０ｇ、特に好ましくは触媒１ｋｇ当たり１〜１５ｇの触媒である。
【０２８７】
Ｃｕ：Ｍｇ：アルカリ金属原子比は、有利には１：０．１〜２：０．０５〜２、好ましくは１：０．２〜１．５：０．１〜１．５、特に好ましくは１：０．５〜１：０．１５〜１である。
【０２８８】
窒素でＢＥＴ法に従って測定される、有利には２５ｍ２／ｇ〜３００ｍ２／ｇ、好ましくは５０〜２００ｍ２／ｇ、特に好ましくは７５〜１７５ｍ２／ｇの比表面積を有する触媒が特に有利である。
【０２８９】
触媒は固定床でまたは流動床で使用されてもよい。この第２選択肢が好ましい。オキシ塩素化プロセスは、この反応向けに通常推奨される範囲の条件下に操作される。温度は有利には１５０〜３００℃、好ましくは２００〜２７５℃、最も好ましくは２１５〜２５５℃である。圧力は有利には大気圧より上である。２〜１０バール絶対の値が良好な結果を与えた。４〜７バール絶対の範囲が好ましい。この圧力は、反応器での最適滞留時間を達成するためにおよび様々な運転速度に対して一定の通過速度を維持するために役立つように調整されてもよい。通常の滞留時間は、１〜６０秒、好ましくは１０〜４０秒の範囲である。
【０２９０】
このオキシ塩素化のための酸素源は、空気、純酸素またはそれらの混合物、好ましくは純酸素であってもよい。未転化反応体の容易なリサイクリングを可能にする後者の解決策が好ましい。
【０２９１】
反応体は、任意の公知デバイスによって床へ導入されてもよい。安全上の理由から酸素を他の反応体とは別々に導入することが一般に有利である。これらの安全性理由はまた、反応器を出るまたはそれにリサイクルされるガス混合物が当該圧力および温度で可燃限界外に保たれることを要求する。いわゆる濃混合気を維持すること、すなわち、燃料に対して余りにも少ない酸素を含有するので点火しないことが好ましい。この関連で、水素の豊富な存在（＞２ｖｏｌ％、好ましくは＞５ｖｏｌ％）は、この化合物の広範囲の可燃性を考えると不利点を構成するであろう。
【０２９２】
用いられる塩化水素／酸素比は有利には３〜６モル／モルである。エチレン／塩化水素比は有利には０．４〜０．６モル／モルである。
【０２９３】
得られた塩素化生成物は、主としてＤＣＥおよびまた１，１，２−トリクロロエタンなどの少量の副生物を含有する。
【０２９４】
場合によっては、オキシ塩素化反応器に入る前に、ＤＣＥが場合により抽出された、塩素化反応器に由来する生成物の流れを、塩素化反応器で形成されたＤＣＥが予め抽出されなかった場合には場合により抽出される吸収／脱着工程ｅ’）にかけることが有利であるかもしれない。
【０２９５】
表現「塩素化反応器で形成されたＤＣＥが予め抽出されなかった場合には場合により抽出される工程ｅ’）」は、塩素化反応器で形成されたＤＣＥが、工程ｅ’）が行われる場合およびそれが予め抽出されなかった場合にはこの工程中に抽出されてもよいことを意味すると理解される。好ましくは、塩素化反応器で形成されたＤＣＥは、工程ｅ’）が行われる場合およびそれが予め抽出されなかった場合にはこの工程中に抽出される。
【０２９６】
こうして、ＤＣＥが場合により抽出された、塩素化反応器に由来する生成物の流れ（本明細書では以下塩素化流れとして知られる）は有利には、吸収工程におよび脱着工程にかけられ、そこで前記流れは溶媒を含有する洗浄剤と好ましくは接触させられる。
【０２９７】
表現「溶媒を含有する洗浄剤」またはより簡単に「洗浄剤」は、溶媒が液体状態で存在する組成物を意味すると理解される。
【０２９８】
本発明に従って使用することができる洗浄剤はそれ故有利には、液体状態での溶媒を含有する。前記洗浄剤中の、他の化合物の存在は、本発明の範囲から決して排除されない。しかしながら、洗浄剤は少なくとも５０体積％、より特に少なくとも６５体積％、最も特に好ましくは少なくとも７０体積％の溶媒を含有することが好ましい。
【０２９９】
溶媒は有利には、アルコール、グリコール、ポリオール、エーテル、グリコールとエーテルとの混合物、鉱油ならびにＤＣＥの中から選択される。溶媒は好ましくは、アルコール、鉱油およびＤＣＥの中から、より好ましくは共沸エタノール（有利には少なくとも７０体積％、好ましくは少なくとも８０体積％、より好ましくは少なくとも８５体積％のエタノールの水性エタノール）およびＤＣＥの中から選択される。溶媒は最も好ましくはＤＣＥである。
【０３００】
吸収工程のために使用される洗浄剤は、任意の起源の新しい洗浄剤、例えば粗共沸エタノールまたは塩素化装置を出る粗ＤＣＥ、オキシ塩素化装置を出る粗ＤＣＥまたは精製されなかったこれら２つの混合物からなってもよい。それはまた、予め精製された前記ＤＣＥから、場合により新しい洗浄剤を添加した、下に説明されるような、エタンより重質な化合物の、ＤＣＥ中の濃度を下げることを可能にする任意の処理後の、塩素化反応器で形成された、そして脱着工程で抽出されるＤＣＥを場合により含有する下に説明される脱着工程中に回収された洗浄剤の全てかもしくは一部からなってもよい。
【０３０１】
好ましくは、吸収工程のために使用される洗浄剤は、場合により新しい洗浄剤を添加した、上述の任意の処理後の、塩素化反応器で形成された、そして脱着工程で抽出されるＤＣＥを場合により含有する脱着工程中に回収された洗浄剤の全てかもしくは一部からなる。塩素化反応で形成されたＤＣＥが塩素化出口で塩素化反応器に由来する生成物の流れから単離される場合、特に好ましい方法では、吸収工程のために使用される洗浄剤は、新しい洗浄剤（吸収および脱着工程中の洗浄剤の損失を補填するための）を添加した、前述の任意の処理後の、脱着工程中に回収された洗浄剤の全てかもしくは一部からなる。
【０３０２】
エタンより重質な化合物の、好ましくは少なくとも３個の炭素原子を含む化合物の洗浄剤中の濃度を下げることを可能にする上述の任意の処理は、エタンより重質で、そして洗浄剤より軽質な化合物を脱着する工程かまたは洗浄剤を蒸留する工程であってもよい。好ましくは、それは、エタンより重質で、そして洗浄剤より軽質な化合物を脱着する工程からなる。好ましくは、洗浄剤のこの処理が行われる。
【０３０３】
ＤＣＥが洗浄剤であるときの最も好ましい場合の本質的な利点は、それがオキシ塩素化または塩素化中に主として形成される化合物であるので、このＤＣＥの存在が全く面倒ではないという事実にある。
【０３０４】
洗浄剤および塩素化流れのそれぞれのスループット間の比は決定的に重要であるわけではなく、大幅に変わることができる。それは実際には、洗浄剤の再生コストによって制限されるにすぎない。一般に、洗浄剤のスループットは、塩素化流れの１トン当たり少なくとも１、好ましくは少なくとも５、特に好ましくは少なくとも１０トンである。一般に、洗浄剤のスループットは、塩素化流れから抽出されるべきエチレンおよびエタン混合物の１トン当たり１００トン以下、好ましくは５０トン以下、特に好ましくは２５トン以下である。
【０３０５】
吸収工程は有利には、例えば、クライミングフィルムもしくは流下薄膜吸収器などの吸収器またはプレート塔、ランダム充填材の塔、構造化充填材の塔、前述のインターナルおよびスプレー塔の１つ以上を組み合わせた塔から選択された吸収塔を用いて実施される。吸収工程は好ましくは吸収塔を用いて、特に好ましくはプレート吸収塔を用いて実施される。
【０３０６】
吸収塔は有利には、塔の内部または外部にある、例えば、少なくとも１つの凝縮器または冷却装置などの関連付属品を備えている。
【０３０７】
上述の吸収工程は有利には、少なくとも１５、好ましくは少なくとも２０、特に好ましくは少なくとも２５バール絶対の圧力で実施される。吸収工程は有利には、４０バール絶対以下、好ましくは３５バール絶対以下、特に好ましくは３０バール絶対以下の圧力で実施される。
【０３０８】
吸収工程が実施される温度は有利には、吸収器または吸収塔の頂部で少なくとも−１０、好ましくは少なくとも０、特に好ましくは少なくとも１０℃である。それは有利には、吸収器または吸収塔の頂部で６０℃以下、好ましくは５０以下℃、特に好ましくは４０℃以下である。
【０３０９】
吸収器または吸収塔の底部での温度は、少なくとも０、好ましくは少なくとも１０、特に好ましくは少なくとも２０℃である。それは有利には、７０℃以下、好ましくは６０℃以下、特に好ましくは５０℃以下である。
【０３１０】
エチレンより軽質で洗浄剤に富む化合物から精製された塩素化流れである、吸収工程から生じた流れは、有利には脱着工程にかけられる。
【０３１１】
塩素化反応器で形成された、その後抽出されるＤＣＥを場合により含有する、脱着工程後に回収された洗浄剤は取り出され、このＤＣＥがオキシ塩素化反応器で形成されたＤＣＥと一緒になるオキシ塩素化部に完全にもしくは部分的に搬送されても、または場合により上述の処理後に、場合により新しい洗浄剤を添加して、吸収工程に完全にもしくは部分的に搬送されてもよい。好ましくは、脱着工程後に回収された洗浄剤は、上述の任意の処理後に、場合により新しい洗浄剤を添加して、吸収工程に、またはオキシ塩素化部に再搬送される。塩素化反応器で形成されたＤＣＥが塩素化出口で塩素化反応器に由来する生成物の流れから単離される場合、特に好ましい方法では、脱着工程後に回収された洗浄剤は、上述の任意の処理後に、新しい洗浄剤を添加して、吸収工程に完全にまたは部分的に再搬送される。
【０３１２】
脱着工程は有利には、例えば、クライミングフィルムもしくは流下薄膜脱着器などの脱着器、リボイラーまたはプレート塔、ランダム充填材の塔、構造化充填材の塔、前述のインターナルおよびスプレー塔の１つ以上を組み合わせた塔から選択された脱着塔を用いて実施される。脱着はまた、ＤＣＥを集めるために蒸気の直接注入によって行うことができる。脱着工程は好ましくは、脱着塔を用いて、特に好ましくはプレート脱着塔を用いて実施される。
【０３１３】
脱着塔は有利には、塔の内部または外部にある、例えば、少なくとも１つの凝縮器または冷却装置および少なくとも１つのリボイラーなどの関連付属品を備えている。
【０３１４】
脱着圧力は有利には、脱着ガス中の少なくとも３個の炭素原子を有する化合物の含有率が１００体積ｐｐｍ未満、好ましくは５０体積ｐｐｍ以下、特に好ましくは２０体積ｐｐｍｍ以下であるように選択される。
【０３１５】
上述の脱着工程は有利には、少なくとも１、好ましくは少なくとも２、特に好ましくは少なくとも３バール絶対の圧力で実施される。脱着工程は有利には、２０バール絶対以下、好ましくは１５バール絶対以下、特に好ましくは１０バール絶対以下の圧力で実施される。
【０３１６】
脱着工程が実施される温度は有利には、脱着器または脱着塔の頂部で少なくとも−１０、好ましくは少なくとも０、特に好ましくは少なくとも１０℃である。それは有利には、脱着器または脱着塔の頂部で６０℃以下、好ましくは５０℃以下、特に好ましくは４５℃以下である。
【０３１７】
脱着器または脱着塔の底部での温度は、少なくとも６０、好ましくは少なくとも８０、特に好ましくは少なくとも１００℃である。それは有利には、２００℃以下、好ましくは１６０℃以下、特に好ましくは１５０℃以下である。
【０３１８】
吸収工程が吸収塔で、そして脱着工程が脱着塔で実施される場合が最も特に好ましい。
【０３１９】
吸収工程の後に回収される水素は有利には、燃料としてまたは、場合により精製工程後に反応体として展開される。このように、水素は、ＤＣＥ分解工程における燃料として開発されてもよい。それはまた、例えば水素化反応器用の反応剤として開発されてもよい。
【０３２０】
本発明による方法の第１実施形態の第２変形の工程ｆ）によれば、オキシ塩素化反応器で形成されたＤＣＥは、オキシ塩素化反応器に由来する生成物の流れから単離され、塩素化反応器で形成されたＤＣＥに任意選択的に加えられる。
【０３２１】
オキシ塩素化反応器に由来する生成物の流れからの得られたＤＣＥの分離は、公知方法に従って実施される。それは好ましくは先ず凝縮によって実施される。オキシ塩素化反応器の熱は蒸気状態で一般に回収され、それは分離のために、または任意の他の使用のために使用されてもよい。
【０３２２】
オキシ塩素化反応器から出た後、この反応器に由来する生成物の流れはまた有利には、未転化ＨＣｌを回収するために洗浄される。この洗浄操作は有利にはアルカリ性洗浄工程である。それに好ましくは気／液分離工程が続き、それは液体形態で形成されたＤＣＥを回収し、そして最終的にＤＣＥを乾燥させることを可能にする。
【０３２３】
表現「塩素化反応器で形成されたＤＣＥに場合により加えられる」は、塩素化反応器で形成されたＤＣＥがこの反応器に由来する生成物の流れから単離される場合、塩素化反応器を出るとすぐに、または工程ｅ’）の後に、オキシ塩素化反応器で形成されたＤＣＥがそれに加えられても加えられなくてもよいことを意味すると理解される。好ましくは、ＤＣＥはそれに加えられる。一方、この第１ＤＣＥが単離されない場合、オキシ塩素化反応器に由来する生成物の流れから単離されたＤＣＥは有利には、回収されたＤＣＥの唯一の流れである。別の代替策は有利には、オキシ塩素化反応器に由来する生成物の流れから単離されたＤＣＥを塩素化反応器に由来する生成物の流れから単離されたＤＣＥの一部と混合することおよびこの後者の他の部分をＤＣＥ分解工程に直接送ることである。
【０３２４】
ＤＣＥ分解工程に関するおよびＤＣＥ分解工程に由来する生成物の流れから得られるＶＣの分離に関するより詳細については第１実施形態の第１変形の方法について言及される。
【０３２５】
第１実施形態のこの第２変形によれば、ＶＣは好ましくは後で、ＰＶＣを生成するために重合される。ＰＶＣの製造に関するより詳細については第１実施形態の第１変形について言及される。
【０３２６】
画分Ｂから製造することができるエチレン誘導体化合物とは何を意味するかについては、およびそれに関連する特徴および好ましさについては第１実施形態の第１変形について言及される。
【０３２７】
第１実施形態の第３変形によれば、本方法は有利には、工程ａ）およびｂ）の後に、
ｃ）画分Ａが、同じ組成のまたは異なる組成の画分Ａ１と画分Ａ２とへ分離された後に、任意選択的にアセチレン水素化にかけられた後に、ＤＣＥの製造に搬送され、そして画分ＢがＤＣＥとは異なるエチレンから出発して直接製造されるエチレン誘導体化合物のおよび任意選択的にそれから誘導される任意の化合物の製造に搬送される
ｄ）画分Ａ１が塩素化反応器に、そして画分Ａ２がオキシ塩素化反応器に搬送され、それらの反応器で画分Ａ１およびＡ２中に存在するエチレンのほとんどがＤＣＥに転化される；ならびに
ｅ）得られたＤＣＥが塩素化およびオキシ塩素化反応器に由来する生成物の流れから分離される
ようなものである。
【０３２８】
画分Ａ１と画分Ａ２とへの画分Ａの分離は有利には、画分Ａを、任意の公知の手段を用いて同じ組成のまたは異なる組成の２つの別個の画分へ分割することによって操作される。
【０３２９】
画分Ａが同じ組成の画分Ａ１と画分Ａ２とへ分割される場合は、工程ａ）を出るエチレンおよび他の成分を含有する生成物の混合物が簡単に分割できるときに、好ましくは工程ａ）を出る生成物の混合物が水素に乏しいおよび／または水素化工程中に水素と反応するときに、第１実施形態の第３変形との関連で特に興味深い。
【０３３０】
画分Ａが異なる組成の画分Ａ１と画分Ａ２とへ分割される場合は、異なる組成の画分が工程ｃ）のために必要とされるときに第１実施形態の第３変形との関連で特に興味深い。画分Ａはそれ故有利には、画分Ａ１が後で塩素化反応器に、そして画分Ａ２がオキシ塩素化反応器に搬送されるように異なる組成の画分Ａ１と画分Ａ２とへ分割される。
【０３３１】
画分Ａ１と画分Ａ２とへの画分Ａの分割は、任意の公知の手段によって行うことができる。好ましくは、画分Ａは熱交換器での間接冷却によって冷やされ、熱交換器で画分Ａ２は好適な圧力への膨張後に気化し、冷却された熱交換器での好適な冷却媒体との間接接触によってその温度の規定の低下まで過冷却される。液体蒸気は好ましくは、蒸気画分Ａ１と液体画分Ａ２とを生成するために分割される。温度低下は有利には５℃より大きく、好ましくは７℃より大きく、より好ましくは８℃より大きい。温度低下は有利には３０℃より少なく、好ましくは２５℃より少なく、より好ましくは２２℃より少ない。
【０３３２】
画分Ａ１は有利には、画分Ａ中に含有されるエチレン量の１０％超、好ましくは２０％超、より好ましくは２５％超を含有する。画分Ａ１は有利には、画分Ａ中に含有されるエチレン量の９０％未満、好ましくは８０％未満、より好ましくは７５％未満を含有する。
【０３３３】
画分Ａ１は有利には、画分Ａ中に含有される水素量の８０％超、好ましくは８５％超、より好ましくは９０％超を含有する。
【０３３４】
画分Ａ１は有利には、画分Ａ中に含有されるメタン量の７０％超、好ましくは７５％超、より好ましくは８０％超を含有する。
【０３３５】
画分Ａ１は有利には、画分Ａ中に含有されるエタン量の４０％未満、好ましくは３０％未満、より好ましくは２５％未満を含有する。
【０３３６】
第１実施形態の第３変形によれば、ＤＣＥは有利にはさらに、ＶＣを生成するためにＤＣＥ分解工程にかけられ、ＶＣは後で、ＰＶＣを生成するために好ましくは重合される。
【０３３７】
塩素化反応器に由来する生成物の流れから分離されたＤＣＥは、ＤＣＥ分解工程の前にオキシ塩素化反応器に由来する生成物の流れから分離されたＤＣＥと混合することもしないこともできる。両ＤＣＥが混合されるとき、それらは全体的にまたは部分的に混合することができる。好ましい場合は、オキシ塩素化反応器に由来する生成物の流れから単離されたＤＣＥが塩素化反応器に由来する生成物の流れから単離されたＤＣＥの一部と混合され、そしてこの後者の他の部分がＤＣＥ分解工程に直接送られるときである。
【０３３８】
塩素化反応および塩素化反応器に由来する生成物の流れから得られるＤＣＥの分離に関する詳細については第１実施形態の第１変形について言及される。ＤＣＥ分解工程およびＤＣＥ分解工程に由来する生成物の流れから得られるＶＣの分離に関する詳細については同じ第１変形についてまた言及される。オキシ塩素化反応およびオキシ塩素化反応器に由来する生成物の流れから得られるＤＣＥの分離に関する詳細については第１実施形態の第２変形について言及される。
【０３３９】
第１実施形態のこの第３変形によれば、ＶＣは好ましくは後で、ＰＶＣを生成するために重合される。ＰＶＣの製造に関するより詳細については第１実施形態の第１変形について言及される。
【０３４０】
画分Ｂから製造することができるエチレン誘導体化合物とは何を意味するかについては、およびそれに関連する特徴および好ましさについては第１実施形態の第１変形について言及される。
【０３４１】
第２実施形態によれば、本発明による方法は有利には、工程ａ）およびｂ）の後に、ｃ）画分Ａが、ＤＣＥとは異なるエチレンから出発して直接製造されるエチレン誘導体化合物のおよび任意選択的にそれから誘導される任意の化合物の製造に搬送され、そして画分Ｂが、任意選択的にアセチレン水素化にかけられた後に、ＤＣＥのおよび任意選択的にそれから誘導される任意の化合物の製造に搬送されるようなものである。
【０３４２】
この第２実施形態によれば、ＤＣＥは有利にはさらに、ＶＣを生成するためにＤＣＥ分解工程にかけられ、ＶＣは好ましくは後で、ＰＶＣを生成するために重合される。
【０３４３】
第２実施形態の第１変形によれば、本方法は有利には、工程ａ）およびｂ）後に、
ｃ）画分Ａが、ＤＣＥとは異なるエチレンから出発して直接製造されるエチレン誘導体化合物のおよび任意選択的にそれから誘導される任意の化合物の製造に搬送され、そして画分Ｂが、任意選択的にアセチレン水素化にかけられた後に、画分Ｂ中に存在するエチレンのほとんどが分子塩素との反応によってＤＣＥに転化される塩素化反応器でのＤＣＥの製造に搬送される；
ｄ）得られたＤＣＥが塩素化反応器に由来する生成物の流れから分離される；
ｅ）分離されたＤＣＥがＤＣＥ分解工程にかけられ、こうしてＶＣおよび塩化水素を生成する；ならびに
ｆ）得られたＶＣおよび塩化水素がＤＣＥ分解工程に由来する生成物の流れから分離される
ようなものである。
【０３４４】
第２実施形態のこの第１変形の特徴および好ましさは、画分Ａを画分Ｂでおよび逆に置き換えた、本発明による第１実施形態の第１変形について明示されるものと同じものである。
【０３４５】
第２実施形態の第２変形によれば、本方法は好ましくは、工程ａ）およびｂ）後に、
ｃ）画分Ａが、ＤＣＥとは異なるエチレンから出発して直接製造されるエチレン誘導体化合物のおよび任意選択的にそれから誘導される任意の化合物の製造に搬送され、そして画分Ｂが、任意選択的にアセチレン水素化にかけられた後に、画分Ｂ中に存在するエチレンの多くとも９０％が分子塩素との反応によってＤＣＥに転化される塩素化反応器でのＤＣＥの製造に搬送される；および
ｄ）塩素化反応器で形成されたＤＣＥが任意選択的に塩素化反応器に由来する生成物の流れから単離される；
ｅ）ＤＣＥが任意選択的にそれから抜き出された、塩素化反応器に由来する生成物の流れが、塩素化反応器で形成されたＤＣＥが前に抜き出されなかった場合に任意選択的に抜き出される、吸収／脱着工程ｅ’）に後者を任意選択的にかけた後に、エチレンの残りの大部分がＤＣＥに転化されるオキシ塩素化反応器に搬送される；ならびに
ｆ）オキシ塩素化反応器で形成されたＤＣＥがオキシ塩素化反応器に由来する生成物の流れから単離され、塩素化反応器で形成されたＤＣＥに任意選択的に加えられる
ようなものである。
【０３４６】
第２実施形態の第２変形によれば、ＤＣＥは有利にはさらに、ＶＣを生成するためにＤＣＥ分解工程にかけられ、ＶＣは好ましくは後で、ＰＶＣを生成するために重合される。
【０３４７】
第２実施形態の第２変形の特徴および好ましさは、画分Ａを画分Ｂでおよび逆に置き換えて、しかしながら、この特定の第２変形において、オキシ塩素化反応器へ入る前に、ＤＣＥが任意選択的にそれから抜き出された、塩素化反応器に由来する生成物の流れを吸収／脱着工程ｅ’）にかけないことが有利である可能性があるという特殊性つきで、本発明による第１実施形態の第２変形について明示されるものと同じものである。
【０３４８】
第２実施形態の第３変形によれば、本方法は有利には、工程ａ）およびｂ）の後に、
ｃ）画分Ａが、ＤＣＥとは異なるエチレンから出発して直接製造されるエチレン誘導体化合物のおよび任意選択的にそれから誘導される任意の化合物の製造に搬送され、そして画分Ｂが、同じ組成のまたは異なる組成の画分Ｂ１と画分Ｂ２とへ分離された後に、任意選択的にアセチレン水素化にかけられた後に、ＤＣＥの製造に搬送される；
ｄ）画分Ｂ１が塩素化反応器に搬送され、そして画分Ｂ２がオキシ塩素化反応器に搬送され、それらの反応器で画分Ｂ１およびＢ２中に存在するエチレンのほとんどがＤＣＥに転化される；ならびに
ｅ）得られたＤＣＥが塩素化およびオキシ塩素化反応器に由来する生成物の流れから分離される
ようなものである。
【０３４９】
第２実施形態のこの第３変形によれば、ＤＣＥは有利にはさらに、ＶＣを生成するためにＤＣＥ分解工程にかけられ、ＶＣは好ましくは後で、ＰＶＣを生成するために重合される。
【０３５０】
第２実施形態のこの第３変形の特徴および好ましさは、画分Ａを画分Ｂでおよび逆にならびに画分Ａ１およびＡ２を画分Ｂ１およびＢ２で置き換えて、本発明による第１実施形態の第３変形について明示されるものと同じものである。
【０３５１】
本発明による方法の利点は、それがＤＣＥ製造と、ＤＣＥとは異なる少なくとも１つのエチレン誘導体化合物の製造との統合を可能にすることである。
【０３５２】
この統合は、共通工程に関連したコストの共有のおかげで総コストの低減を可能にする。
【０３５３】
ＤＣＥ／ＶＣ／ＰＶＣ製造とエチルベンゼン／スチレン／ポリスチレン製造との統合の特定の場合には、本方法は、ベンゼンに富む画分（本明細書では上での画分Ｃ２）の付加価値化をさらに可能にする。
【０３５４】
本発明による方法の別の利点は、それが、同じ工業用地で、完全に統合されたプロセスを有することを可能にすることである。
【国際調査報告】
2011521997.tif 000002
2011521997.tif 000003