(57)【要約】  本明細書には、電界放出素子中の電極およびエミッターを製造する方法および上記方法から形成された素子が記載される。電界放出素子中の電極およびエミッターの製造に有用な組成物もまた記載される。
2011521427.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電界放出素子中の電極およびエミッターを製造する方法であって、
（ａ）基板上に光画像形成可能な導電性組成物を印刷する工程、
（ｂ）前記導電性組成物上に光画像形成可能なカーボンナノチューブ（ＣＮＴ）組成物を印刷する工程、
（ｃ）印刷された前記基板をＵＶ光に露光する工程
（ｄ）露光された前記基板を現像する工程、および
（ｅ）現像された前記基板を焼成する工程
を含む、方法。
【請求項２】
前記光画像形成可能なＣＮＴ組成物が、ＣＮＴ、アクリレートモノマー／オリゴマーブレンド、トリメチロールプロパンエトキシトリアクリレート、２−メチル−１−［−（メチルチオ）フェニル］−２−（４−モルホリニル）−１−プロパノンおよび２，４−ジエチル−９Ｈ−チオキサンテン−９−オンを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記２，４−ジエチル−９Ｈ−チオキサンテン−９−オンが、前記ＣＮＴペーストの１〜７重量％であり、前記２−メチル−１−［−（メチルチオ）フェニル］−２−（４−モルホリニル）−１−プロパノンが、前記ＣＮＴペーストの２〜１４重量％である、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
２−メチル−１−［−（メチルチオ）フェニル］−２−（４−モルホリニル）−１−プロパノン対２，４−ジエチル−９Ｈ−チオキサンテン−９−オンの比が、２、４、または２と４の間である、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
ＣＮＴ、アクリレートモノマー／オリゴマー混合物、トリメチロールプロパンエトキシトリアクリレート、２，４−ジエチル−９Ｈ−チオキサンテン−９−オン、および２−メチル−１−［−（メチルチオ）フェニル］−２−（４−モルホリニル）−１−プロパノンを含む光画像形成可能なＣＮＴ組成物であって、前記２，４−ジエチル−９Ｈ−チオキサンテン−９−オンが、前記ＣＮＴペーストの１〜７重量％であり、前記２−メチル−１−［−（メチルチオ）フェニル］−２−（４−モルホリニル）−１−プロパノンが、前記ＣＮＴペーストの２〜１４重量％である、組成物。
【請求項６】
２−メチル−１−［−（メチルチオ）フェニル］−２−（４−モルホリニル）−１−プロパノン対２，４−ジエチル−９Ｈ−チオキサンテン−９−オンの比が、２、４、または２と４の間である、請求項５に記載の組成物。
【請求項７】
前記ＣＮＴが、前記ペースト中の固形分の総重量の０．０１重量％〜約２重量％である、請求項５に記載の組成物。
【請求項８】
前記組成物が、金属レジネートをさらに含む、請求項５に記載の組成物。
【請求項９】
前記金属レジネートが、前記ペースト中の固形分の総重量の１．５〜４重量％である、請求項８に記載の組成物。
【請求項１０】
電界放出素子中の電極およびエミッターを製造する方法であって、
（ａ）基板上に光画像形成可能な導電性組成物を印刷する工程、
（ｂ）印刷された前記基板をＵＶ光に露光する工程、
（ｃ）前記導電性組成物上に光画像形成可能なＣＮＴ組成物を印刷する工程、
（ｄ）印刷された前記基板をＵＶ光に露光する工程、
（ｅ）露光された前記基板を現像する工程、および
（ｆ）現像された前記基板を焼成する工程
を含む、方法。
【請求項１１】
請求項１に記載の方法により作製された電界放出素子中の電極およびエミッター。
【請求項１２】
請求項１０に記載の方法により作製された電界放出素子中の電極およびエミッター。
【請求項１３】
請求項１１に記載の電界放出素子を含むフラットパネルディスプレイ。
【請求項１４】
請求項１２に記載の電界放出素子を含むフラットパネルディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電界放出素子のカソード電極およびエミッターの製造を改善するための、同時に加工され得る新規の光画像形成可能な銀ペースト組成物およびカーボンナノチューブ（ＣＮＴ）ペースト組成物ならびに加工方法に関する。これらの組成物および方法は、ＦＥＤテレビおよびバックライティング用途に有用である。
【背景技術】
【０００２】
電界放出電子源は、電界放出材料または電界エミッターと呼ばれることが多く、様々な電子用途（例えば、真空電子デバイス、コンピューターおよびテレビのフラットパネルディスプレイ、エミッションゲート増幅器（ｅｍｉｓｓｉｏｎ  ｇａｔｅ  ａｍｐｌｉｆｉｅｒ）ならびにバックライティング）に用いられ得る。
【０００３】
電子電界エミッターにおける針状炭素（例えば、カーボンナノチューブ）の使用を可能にする技術の改善に対する継続的な必要性が存在する。その製法において、導体電極およびエミッターは、別個の画像形成工程、現像工程、焼成工程により形成される。電極がＩＴＯで作られる場合、ＩＴＯは真空中でマスクパターンを通してスパッタされる。電極が銀で作られる場合は、まず、光画像形成可能な銀厚膜ペースト（例えば、ＤｕｐｏｎｔのＦｏｄｅｌ（登録商標））がスクリーン印刷され、乾かされ、光画像形成され、現像され、そして焼成される。次いで、ＣＮＴエミッターペーストが導体電極の上面に印刷され、乾かされ、画像形成され、現像され、そして焼成される。
【０００４】
プロセス工程数を最小限に抑え、製法を改善する必要性がある。本発明はこの必要性に応えるものである。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、ＦＥＤのカソード電極およびエミッターの形成のための新規の同時加工方法、ならびにその加工方法のための、同時に加工し得る光画像形成可能な銀組成物およびＣＮＴ組成物に関する。
【０００６】
本発明は、カーボンナノチューブを含む固形分を含有するスクリーン印刷可能なペーストとして使用するためのＣＮＴ組成物であって、カーボンナノチューブがペースト中の固形分の総重量の９重量％未満であるＣＮＴ組成物を包含する。一実施形態において、カーボンナノチューブはペースト中の固形分の総重量の５重量％未満である。さらなる実施形態において、カーボンナノチューブはペースト中の固形分の総重量の１重量％未満である。さらなる実施形態において、カーボンナノチューブはペースト中の固形分の総重量の約０．０１重量％〜約２重量％である。上記組成物はまた、一実施形態において、０．１％〜６．５％、さらなる実施形態において、１．５〜４％の金属レジネートも含み得る。一実施形態において、この組成物は、本発明の新規プロセスを経る電子電界エミッターの製造に有用である。このようなエミッターは、調製の容易さおよび改善された加工条件という利点とともに、優れたエミッター均一性および放出特性を有する。
【０００７】
本発明はまた、銀金属粉末を含む固形分を含有する光画像形成可能なペーストとして使用するための銀組成物であって、銀金属粉末がペースト中の固形分の総重量の１０〜８０重量％である銀組成物を包含する。一実施形態において、銀金属粉末はペースト中の固形分の総重量の４０〜７０重量％の間である。一実施形態において、銀金属粉末はペースト中の固形分の総重量の約６０重量％〜約６８重量％である。この銀組成物は、光画像形成され、そして塩基性水溶液により現像されて、細いラインを形成し得る。この組成物は、本発明の新規プロセスを経るＦＥＤカソード電極の製造に特に有用である。金属粉末は銀に限定されるわけではない。１種以上の他の金属（例えば、Ａｕ、Ｎｉ、Ａｌ、ＣｕおよびＰｄ）が、単独で、または組み合わせて、または銀と組み合わせて、または１種以上の他の金属と組み合わせて、銀の代わりに用いられ得る。
【０００８】
本発明はまた、ＣＮＴ組成物および銀組成物を同時に加工してＦＥＤのカソード電極および電子エミッターを形成する方法を包含する。
【０００９】
本明細書において開示される組成物および方法は、例えば、フラットパネルのコンピューター、テレビおよび他の種類のディスプレイ、真空電子デバイス、エミッションゲート増幅器、クライストロン、ならびに照明デバイスにおいて有用である。この製法は、フラットパネルディスプレイ用の大面積電子電界エミッターの製造、すなわちサイズが３０インチ（７６ｃｍ）より大きいディスプレイ用の電子電界エミッターの製造に特に有利である。このフラットパネルディスプレイは平らであっても湾曲していてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】（Ａ）〜（Ｅ）は、同時に画像形成し、同時に現像し、そして同時に焼成することにより銀カソード電極およびＣＮＴエミッターを形成するための本発明の同時加工方法を図示したものである。
【図２】（Ａ）〜（Ｅ）は、別個に画像形成し、同時に現像し、そして同時に焼成することにより銀カソード電極およびＣＮＴエミッターを形成するための本発明の同時加工方法を図示したものである。
【図３】実施例３に開示される銀／ＣＮＴの二重層のＮ2焼成後の光学顕微鏡写真である。
【図４】実施例３に開示される、同時に加工されたＣＮＴ／銀の二重層により発せられた電子による蛍光体照明（ｐｈｏｓｐｈｏｒ  ｉｌｌｕｍｉｎａｔｉｏｎ）の像である。
【図５】実施例５に開示されるような銀ライン上のＣＮＴダッシュ（ｄａｓｈ）の空気焼成後の光学顕微鏡写真である。
【図６】実施例５に開示される、別個に画像形成し、同時に現像し、同時に空気焼成した電界放出カソード部分により発せられた電子による蛍光体照明の像である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
ＦＥＤの改善された製法に対する必要性が存在する。参照により本明細書に援用される米国特許第７，２７６，８４４号明細書に示されているように、これまでに報告されたＦＥＤの製造プロセスは、細い導体線およびＣＮＴエミッターを得るために多くの工程を要している。そのプロセスにおいて、導体電極およびエミッターは別個の画像形成工程、現像工程および焼成工程により形成される。
【００１２】
本発明は、ＦＥＤのカソード電極およびエミッターの形成の同時加工方法に関する。本発明のさらなる局面は、この加工方法のための、同時に加工し得る光画像形成可能な銀組成物およびＣＮＴ組成物に関する。こうした方法および組成物を包含する本発明は、ＦＥＤ素子の製造の改善（製造工程数の削減を含む）という結果をもたらす。
【００１３】
本発明は、ＦＥＤのカソード電極およびエミッターの改善された形成プロセスに関する。本発明は、さらに、光画像形成可能な銀導体組成物およびＣＮＴ組成物の同時加工を包含するプロセスに関する。さらに本発明は、これらのプロセスにおいて有用な組成物に関する。
【００１４】
本発明の一実施形態は、ＦＥＤのカソード電極およびＣＮＴエミッターを形成する方法に関する。この実施形態の一局面において、電極が形成され、次いで、その電極上にエミッターが形成され得る。本発明の一局面は、同時に画像形成し、同時に現像し、そして同時に焼成するプロセスによりＦＥＤのカソード電極およびエミッターを作製するための、光画像形成可能な銀ペーストとＣＮＴペーストの組み合わせに関する。一実施形態において、銀電極パターンとは異なるエミッターパターンが形成され得る。さらなる局面は、電極とエミッターとで異なるパターンを得るために用いられ得る、別個に画像形成し、同時に現像し、そして同時に焼成するプロセスに関する。本発明のさらなる実施形態は、本明細書に記載される方法において有用な、銀組成物、ＣＮＴ組成物、およびその銀組成物とＣＮＴ組成物の組み合わせに関する。
【００１５】
図１は銀電極およびＣＮＴエミッターを作製する方法における一連の工程を図示したものである。第１の工程において、光画像形成可能な銀ペースト（４）を基板（２）上にスクリーン印刷し、風乾させた。さらなる実施形態において、ペースト（４）は基板上にコーティングされ得る。一実施形態において、基板はガラスであり得る。第２の工程において、光画像形成可能なＣＮＴペースト（６）を、乾燥した銀ペースト（４）の上面にスクリーン印刷し、風乾させた。さらなる実施形態において、ＣＮＴペーストは、銀ペーストを有した基板上にコーティングされ得る。第３の工程において、乾燥させたＣＮＴ／銀層上にフォトマスクを通してＵＶ光を露光し、炭酸ナトリウム水溶液により現像した。他の現像溶液（例えば、ＮＭＰと水との混合物）は、当業者により認識される。最後の工程において、この現像された基板を焼成した。この焼成は、窒素雰囲気下、または空気中で行われ得る。
【００１６】
図２は、異なるパターンを有する銀電極およびＣＮＴエミッターを作製する方法における一連の工程を図示したものである。第１の工程において、光画像形成可能な銀ペースト（４）を基板（２）上にスクリーン印刷し、風乾させた。次いで、第２に、銀電極パターンの第１のフォトマスクを用いて銀層（４）をＵＶ放射に露光した。第３の工程において、光画像形成可能なＣＮＴペースト（６）を、露光された基板（２）の上面にスクリーン印刷し、乾燥させた。第４の工程において、この基板（２）を第２のフォトマスクを通してＵＶ光に露光し、炭酸ナトリウム水溶液により現像した。最後の工程において、この現像された基板を焼成した。この焼成は、窒素雰囲気下、または空気中で行われ得る。
【００１７】
一実施形態において、ＣＮＴエミッターペーストの電流焼成温度（ｃｕｒｒｅｎｔ  ｆｉｒｉｎｇ  ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ）は、摂氏約５００度未満であり得る。一実施形態において、レジネートまたは有機金属材料がＣＮＴ組成物に加えられ得る。一実施形態において、ＣＮＴ組成物は光開始剤系を含み得る。
【００１８】
一実施形態において、銀ペーストは球状の銀粒子を含み得る。この銀粒子は界面活性剤でコーティングされていてもよいし、コーティングされていなくてもよい。一局面において、この銀粒子は結晶質であり得る。銀粒子の形状は限定されず、例えば、少し歪であるか、完全な球形であるか、またはその中間であり得る。一実施形態において、銀の粒径は０．１〜１０ミクロンの間であり得る。さらなる実施形態において、この粒径は０．５〜５ミクロンの間であり得る。
【００１９】
本明細書において用いられる針状炭素は、様々な種類のもの（例えば、カーボンナノチューブまたは薄層カーボンナノチューブなど）であり得る。一実施形態において、個々の薄層カーボンナノチューブは、例えば２〜４層の層を有し得る。
【００２０】
基板はペースト組成物を付着させるものであればどんな物質でもよい。ペーストが非導電性で、かつ非導電性の基板が用いられる場合は、カソード電極として機能し、針状炭素への電圧印加および電子供給の手段を提供するような導体のフィルムが含まれ得る。一実施形態において、シリコン、ガラス、金属または耐火材料（例えば、アルミナ）が基板となり得る。一実施形態において、ディスプレイ用途における基板はガラスであり得る。さらなる局面において、このガラスはソーダ石灰ガラスであり得る。
【００２１】
一実施形態において、スクリーン印刷に用いられる光パターニング用エミッターペーストには、針状炭素と、光開始剤系、水性現像可能なバインダーポリマー（ａｑｕｅｏｕｓ  ｄｅｖｅｌｏｐａｂｌｅ  ｂｉｎｄｅｒ  ｐｏｌｙｍｅｒ）および光硬化性モノマーを含む光画像形成可能な有機媒体と、溶媒と、界面活性剤と、低軟化点のガラスフリット、金属粉末もしくは金属粉塗料のいずれかまたはそれらの混合物とが含まれ得る。このペーストはまた、金属レジネート、またはレジネートの混合物も含み得る。
【００２２】
本明細書に記載される銀導体ペーストおよびＣＮＴエミッターペーストは、例えば、銀もしくは針状炭素と、有機媒体と、界面活性剤と、溶媒と、低軟化点のガラスフリット、金属粉末もしくは金属粉塗料のいずれかまたはそれらの混合物との混合物を、三本ロール練り機で練ることにより調製され得る。
【００２３】
光画像形成可能なカーボンナノチューブペーストの使用を例示するいくつかの実施例が米国特許第７，２７６，８４４号明細書に記載されており、この米国特許明細書は参照により本明細書に援用される。また、光画像形成可能な銀導体ペーストの使用のいくつかの実施例が米国特許第７，１３５，２６７号明細書に記載されており、この米国特許明細書は参照により本明細書に援用される。
【００２４】
Ｉ．カーボンナノチューブ
所望の放出性能をもたらすカーボンナノチューブが企図される。一実施形態において、それらは単層、多層、または、例えば２〜４層であり得る。
【００２５】
ＩＩ．銀粒子
一実施形態において、銀ペーストは球状の銀粒子を含み得る。この銀粒子は界面活性剤でコーティングされていてもよいし、コーティングされていなくてもよい。一局面において、この銀粒子は結晶質であり得る。銀粒子の形状は限定されず、例えば、少し歪であるか、完全な球形であるか、またはその中間であり得る。一実施形態において、銀の粒径は０．１〜１０ミクロンの間であり得る。さらなる実施形態において、この粒径は０．５〜５ミクロンの間であり得る。一実施形態において、導電性粒子の表面積／重量の比は２０ｍ2／ｇ未満であり得る。
【００２６】
ＩＩＩ．有機媒体
一実施形態において、上記有機媒体は、組成物の微細固形分の分散のためのビヒクルとして機能し得る。この分散体はガラスまたは他の基板に容易に塗布され得るような形態にあり得る。本発明において有用な有機媒体は、当業者により認識される。例示的な媒体組成物を表３に示す。この媒体の主要成分を次に記す。
【００２７】
Ａ．ポリマー
一実施形態において、上記ポリマーは、水性現像能（ａｑｕｅｏｕｓ  ｄｅｖｅｌｏｐａｂｉｌｉｔｙ）を有し、高解像力をもたらし得る。このポリマーは、コポリマー、インターポリマー、またはそれらの混合物でできたものであり得、各コポリマーまたはインターポリマーは、（１）Ｃ１〜１０アルキルアクリレート、Ｃ１〜１０アルキルメタクリレート、スチレン、置換スチレン、またはそれらの組み合わせを含む非酸性コモノマーと、（２）エチレン性不飽和カルボン酸含有部分を含む酸性コモノマーとを含む。ビニル基の例としては、メタクリレート基およびアクリレート基が挙げられるが、これらに限定されない。コポリマー、インターポリマーまたはそれらの混合物は、総ポリマー重量の少なくとも１０重量％の酸分を有し、５０〜１５０℃のガラス転移温度、ならびに２，０００〜２５，０００の範囲およびその範囲内に含まれるあらゆる範囲にある重量平均分子量を有する。
【００２８】
一実施形態において、酸性コモノマーの酸性官能基は、塩基水溶液（例えば、０．４〜２．０％の炭酸ナトリウムの水溶液）中で現像される能力をもたらし得る。酸性コモノマーが１０％未満の濃度で含まれる場合には、組成物が塩基水溶液で完全に洗い流されないことがあり得る。酸性コモノマーーが３０％より高い濃度で含まれる場合には、組成物は現像条件下での耐性を低下させ得、画像部分において部分的な現像が起こる。企図される酸性コモノマーとしては、エチレン性不飽和モノカルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリン酸またはクロトン酸）、ならびにエチレン性不飽和ジカルボン酸（例えば、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、ビニルコハク酸およびマレイン酸）およびそれらのへミエステル、ならびに、場合によっては、それらの無水物およびそれらの混合物が挙げられる。一実施形態において、メタクリルポリマーが用いられ得る。
【００２９】
上述のように非酸性コモノマーがアルキルアクリレートまたはアルキルメタクリレートである場合の一実施形態において、これらの非酸性コモノマーは、ポリマーバインダーの約５０重量％を上回り得る。さらなる実施形態において、非酸性コモノマーは、ポリマーバインダーの７０〜７５重量％であり得る。非酸性コモノマーがスチレンまたは置換スチレンである場合の一実施形態において、これらの非酸性コモノマーは、ポリマーバインダーの約５０重量％であり得、その他の約５０重量％は酸無水物（例えば、無水マレイン酸のへミエステル）であり得る。例示の非限定的な置換スチレンは、α−メチルスチレンである。
【００３０】
一実施形態において、ポリマーバインダーの非酸性部分は、このポリマーのアルキルアクリレート、アルキルメタクリレート、スチレンまたは置換スチレン部分の代わりとして約５０重量％未満の他の非酸性コモノマーを含み得る。例としては、アクリロニトリル、酢酸ビニルおよびアクリルアミドが挙げられる。上記のコポリマーに加え、少量の他のポリマーバインダーの添加もまた企図される。非限定的な例としては、ポリオレフィン（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブチレン、ポリイソブチレン、およびエチレン−プロピレンコポリマー）、ポリビニルアルコールポリマー（ＰＶＡ）、ポリビニルピロリドンポリマー（ＰＶＰ）、ビニルアルコールおよびビニルピロリドンのコポリマー、ならびに低級アルキレンオキシドポリマー（例えば、ポリエチレンオキシド）であるポリエーテルが挙げられる。
【００３１】
ポリマーバインダーの重量平均分子量は、一実施形態において、２，０００〜２５０，０００の範囲およびその範囲内に含まれるあらゆる範囲にあり、さらなる実施形態において、５，０００〜１０，０００である。
【００３２】
組成物中の全ポリマーは、一実施形態において、全組成物に基づき５〜７０重量％の範囲およびその範囲内に含まれるあらゆる範囲にあり得、さらなる実施形態において、全組成物に基づき２０〜４０％の範囲およびその範囲内に含まれるあらゆる範囲にあり得る。
【００３３】
Ｂ．光硬化性モノマー
従来の光硬化性メタクリレートモノマーが、本明細書に記載される組成物に必要に応じて加えられる添加剤である。一実施形態において、モノマー成分は、乾燥した光重合性層の総重量に基づき１〜２０重量％の量で含まれ得る。非限定的な例示のモノマーとしては、ｔ−ブチルアクリレートおよびメタクリレート、１，５−ペンタンジオールジアクリレートおよびジメタクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルアクリレートおよびメタクリレート、エチレングリコールジアクリレートおよびジメタクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレートおよびジメタクリレート、ジエチレングリコールジアクリレートおよびジメタクリレート、ヘキサメチレングリコールジアクリレートおよびジメタクリレート、１，３−プロパンジオールジアクリレートおよびジメタクリレート、デカメチレングリコールジアクリレートおよびジメチルアクリレート、１，４−シクロヘキサンジオールジアクリレートおよびジメタクリレート、２，２−ジメチロールプロパンジアクリレートおよびジメタクリレート、グリセロールジアクリレートおよびジメタクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレートおよびジメタクリレート、グリセロールトリアクリレートおよびトリメタクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレートおよびトリメタクリレート、ペンタエリトリトールトリアクリレートおよびトリメタクリレート、ポリオキシエチル化トリメチロールプロパントリアクリレートおよびトリメタクリレートおよび参照により本明細書に援用される米国特許第３，３８０，８３１号明細書に開示される類似の化合物、２，２−ジ（ｐ−ヒドロキシフェニル）−プロパンジアクリレート、ペンタエリトリトールテトラアクリレートおよびテトラメタクリレート、２，２−ジ−（ｐ−ヒドロキシフェニル）−プロパンジメタクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリオキシエチル−２，２−ジ−（ｐ−ヒドロキシフェニル）プロパンジメタクリレート、ビスフェノール−Ａのジ−（３−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプロピル）エーテル、ビスフェノール−Ａのジ−（２−メタクリルオキシエチル）エーテル、ビスフェノール−Ａのジ−（３−アクリルオキシ−２−ヒドロキシプロピル）エーテル、ビスフェノール−Ａのジ−（２−アクリルオキシエチル）エーテル、１，４−ブタンジオールのジ−（３−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプロピル）エーテル、トリエチレングリコールジメタクリレート、ポリオキシプロピルトリメチロールプロパントリアクリレート、ブチレングリコールジアクリレートおよびジメタクリレート、１，２，４−ブタントリオールトリアクリレートおよびトリメタクリレート、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオールジアクリレートおよびジメタクリレート、１−フェニルエチレン−１，２−ジメタクリレート、ジアリルフマレート、スチレン、１，４−ベンゼンジオールジメタクリレート、１，４−ジイソプロペニルベンゼン、ならびに１，３，５−トリイソプロペニルベンゼンが挙げられる。少なくとも３００の重量平均分子量を有するエチレン性不飽和化合物（例えば、炭素が２〜１５個のアルキレングリコールもしくはエーテル結合が１〜１０個のポリアルキレンエーテルグリコールから調製されるアルキレンまたはポリアルキレングリコールジアクリレート）、および参照により本明細書に援用される米国特許第２，９２７，０２２号明細書に開示されているエチレン性不飽和化合物（例えば、特に末端結合として存在する場合の複数のフリーラジカル重合性エチレン結合を有するエチレン性不飽和化合物）もまた企図される。非限定的な例示のモノマーとしては、ポリオキシエチル化トリメチロールプロパントリアクリレート、エチル化ペンタエリトリトールトリアクリレート、ジペンタエリトリトールモノヒドロキシペンタアクリレート、および１，１０−デカンジオールジメタクリレートが挙げられる。
【００３４】
Ｃ．光開始系
適切な光開始系は、周囲温度にて化学線に曝されるとフリーラジカルを生ずる系である。具体的な光開始剤系成分であるＩｒｇａｃｕｒｅ  ９０７とＤＥＴＸ  Ｓｐｅｅｄｃｕｒｅとの組み合わせが企図されており、それらは他の成分よりも有利であることが示された。
【００３５】
一実施形態において、ＤＥＴＸは、ＣＮＴペースト組成物の１〜７重量％であり得る。さらなる実施形態において、ＤＥＴＸは、ＣＮＴペースト組成物の３〜５重量％であり得る。さらなる実施形態において、ＤＥＴＸは、ＣＮＴペースト組成物の２．５〜４．０重量％であり得る。
【００３６】
一実施形態において、Ｉｒｇａｃｕｒｅ  ９０７は、ＣＮＴペースト組成物の２〜１４重量％であり得る。さらなる実施形態において、Ｉｒｇａｃｕｒｅ  ９０７は、ＣＮＴペースト組成物の６〜１２重量％であり得る。さらなる実施形態において、Ｉｒｇａｃｕｒｅ  ９０７は、ＣＮＴペースト組成物の８〜１０重量％であり得る。
【００３７】
一実施形態において、Ｉｒｇａｃｕｒｅ  ９０７対ＤＥＴＸの比は１以上６以下であり得る。さらなる実施形態において、Ｉｒｇａｃｕｒｅ  ９０７対ＤＥＴＸの比は２〜４であり得る。さらなる実施形態において、Ｉｒｇａｃｕｒｅ  ９０７対ＤＥＴＸの比は約３であり得る。
【００３８】
モノマーの例としては、１つの共役炭素環式環系中に２つの環内炭素原子を有する化合物である置換または非置換多核キノン（例えば、２−ベンジル−２−（ジメチルアミノ）−１−（４−モルホリノフェニル）−１−ブタノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、９，１０−アントラキノン、２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，４−ナフトキノン、９，１０−フェナントレンキノン、ベンズ（ａ）アントラセン−７，１２−ジオン、２，３−ナフタセン−５，１２−ジオン、２−メチル−１，４−ナフトキノン、２，４−ジエチル−９Ｈ−チオキサンテン−９−オン、１，４−ジメチル−アントラキノン、２，３−ジメチル−アントラキノン、２−フェニルアントラキノン、２，３−ジフェニルアントラキノン、レテンキノン、７，８，９，１０−テトラヒドロナフタセン−５，１２−ジオン、２−メチル−１−［−（メチルチオ）フェニル］−２−（４−モルホリニル）−１−プロパノン、および１，２，３，４−テトラヒドロベンズ（ａ）アントラセン−７，１２−ジオン）が挙げられる。同様に企図される他の光開始剤としては、参照により本明細書に援用される米国特許第２，７６０，８６３号明細書に記載されているものがあり、ビシナルケトアルドニルアルコール（例えば、ベンゾイン、ピバロイン）、アシロインエーテル（例えば、ベンゾインメチルおよびエチルエーテル）；α−炭化水素置換芳香族アシロイン（α−メチルベンゾイン、α−アリルベンゾインおよびα−フェニルベンゾインを包含する）、チオキサントンおよび／またはチオキサントン誘導体、ならびに適切な水素供与体が挙げられる。非限定的な例示の開始剤としては、参照により本明細書に援用される米国特許第２，８５０，４４５号明細書、米国特許第２，８７５，０４７号明細書、米国特許第第３，０９７，０９６号明細書、米国特許第３，０７４，９７４号明細書、米国特許第３，０９７，０９７号明細書および米国特許第３，１４５，１０４号明細書に開示される光還元性染料および還元剤、フェナジン類、オキサジン類およびキノン類の染料、ならびに参照により本明細書に援用される米国特許第３，４２７，１６１号明細書、米国特許第３，４７９，１８５号明細書および米国特許第３，５４９，３６７号明細書に記載されるようなミヒラーのケトン、ベンゾフェノン、水素供与体（ロイコ染料を包含する）との２，４，５−トリフェニルイミダゾリルダイマー、およびそれらの混合物が挙げられる。参照により本明細書に援用される米国特許第４，１６２，１６２号明細書に開示される増感剤もまた、光開始剤および光阻害剤（ｐｈｏｔｏｉｎｈｉｂｉｔｏｒ）と共に用いるものとして企図される。光開始剤または光開始剤系は、乾燥した光重合性層の総重量に基づき０．０５〜１０重量％で含まれる。
【００３９】
Ｄ．溶媒
一実施形態において、有機媒体は溶媒の混合物であり得、その溶媒成分は、溶媒へのポリマーおよび他の有機成分の溶解を達成するように当業者により選択され得る。溶媒は、組成物のその他の構成成分に対して不活性（非反応性）であり得る。スクリーン印刷可能であり光画像形成可能なペースト用には、この溶媒は、大気圧にて比較的低いレベルの熱を加えることにより溶媒が分散体からエバポレートされ得るのに十分なほどの高い揮発性を有し得る。一実施形態において、溶媒は、印刷過程においてペーストが通常の室温にてスクリーン上で急速に乾いてしまうほどの揮発性はなくてよい。ペースト組成物に用いる溶媒は、一実施形態において、大気圧にて３００℃未満、さらなる実施形態において、２５０℃未満の沸点を有し得る。非限定的な例示の溶媒としては、脂肪族アルコール、そのようなアルコールのエステル（例えば、酢酸エステルおよびプロピオン酸エステル）；テルペン（例えば、パイン油およびα−もしくはβ−テルピネオールまたはそれらの混合物）；エチレングリコールおよびそのエステル（例えば、エチレングリコールモノブチルエーテルおよびブチルセロソルブアセタート）；カルビトールエステル（例えば、ブチルカルビトール、ブチルカルビトールアセタートおよびカルビトールアセタート）、および他の適切な溶媒（例えば、Ｔｅｘａｎｏｌ（登録商標）（２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオールモノイソブチレート））が挙げられる。キャスティングテープ（ｃａｓｔｉｎｇ  ｔａｐｅ）用には、この溶媒は、スクリーン印刷可能なペーストに用いられる溶媒よりも低い沸点を有し得る。そのような溶媒としては、エチルアセタート、メタノール、イソプロパノール、アセトン、キシレン、エタノール、メチルエチルケトン、およびトルエンが挙げられる。
【００４０】
Ｅ．他の添加剤
一実施形態において、有機媒体はまた、１種以上の可塑剤も含み得る。種々のバインダー系において用いられてきた可塑剤を挙げると、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ブチルベンジル、フタル酸ジベンジル、リン酸アルキル、ポリアルキレングリコール、グリセロール、ポリ（エチレンオキシド）、ヒドロキシエチル化アルキルフェノール、リン酸トリクレシルトリエチレングリコールジアセタート、およびポリエステル可塑剤がある。当該技術分野において公知の追加の成分（分散剤、安定剤、離型剤、分散助液、剥離剤、消泡剤および湿潤剤を包含する）が、組成物に含まれ得る。例示の非限定的な材料の一般的な開示が、参照により本明細書に援用される米国特許第５，０４９，４８０号明細書中に在る。
【００４１】
本発明の組成物は、厚膜技術分野の当業者に知られる焼成プロファイルを用いることにより加工され得る。有機媒体の除去および無機材料の焼結は、この焼成プロファイルに依存し得る。
【００４２】
ＩＶ．方法
一実施形態は、電界放出素子中の電極およびエミッターを製造する方法であって、（ａ）基板上に光画像形成可能な導電性組成物を印刷する工程、（ｂ）この導電性組成物上に光画像形成可能なＣＮＴ組成物を印刷する工程、（ｃ）印刷された基板をＵＶ光に露光する工程、（ｄ）露光された基板を現像する工程、および（ｅ）現像された基板を焼成する工程を含む方法に関する。
【００４３】
さらなる実施形態は、電界放出素子中の電極およびエミッターを製造する方法であって、（ａ）基板上に光画像形成可能な導電性組成物を印刷する工程、（ｂ）印刷された基板をＵＶ光に露光する工程、（ｃ）この導電性組成物上に光画像形成可能なＣＮＴ組成物を印刷する工程、（ｄ）印刷された基板をＵＶ光に露光する工程、（ｅ）露光された基板を現像する工程、および（ｆ）現像された基板を焼成する工程を含む方法に関する。
【００４４】
本発明の方法の非限定的な実施形態は、次のように記載される。本発明において記載される銀導体組成物またはペーストは、スクリーン印刷法またはコーティング法のいずれかによって基板上に塗布され得る。一局面において、上記組成物またはペーストは、大面積基板に塗布され得る。この基板は、４つの４０インチテレビのパネルの作製に用いられるのに十分なほど大きいものであり得る。上記組成物またはペーストが、スクリーン印刷法または他のコーティング法により塗布され得る。次いで、銀導体ペーストは、標準的な乾燥条件を用いて基板上で乾かされ得る。必要に応じ、一実施形態においては本方法のこの段階で、フォトマスクが銀導体ペーストに当てられ、ペーストがＵＶに露光され得る。
【００４５】
次いで、ＣＮＴペースト組成物が、乾燥させた銀導体ペーストの上面に塗布され得る。この組成物またはペーストは、スクリーン印刷法または他のコーティング法により塗布され得る。このＣＮＴペーストは、次いで、標準的な乾燥条件を用いて基板上で乾かされ得る。乾燥後、乾燥させたＣＮＴ組成物層の上面に、所望のパターンを有するフォトマスクが乗せられ得る。一実施形態において、フォトマスクはＣＮＴ表面に直接当てられ得る。さらなる実施形態において、フォトマスクとＣＮＴ表面の間に空気間隙が存在し得る。
【００４６】
次いで、ＣＮＴ組成物層および銀組成物層は、フォトマスクの開口部を通るＵＶ光に露光され得る。露光すると、露光された組成物層が硬化し、現像段階後に顕在化するパターンを形成する。
【００４７】
一実施形態において、ＵＶ露光エネルギーは７５ｍＪ／ｃｍ2を上回り得る。一実施形態において、ＵＶ露光エネルギーは７５〜５００ｍＪ／ｃｍ2であり得る。さらなる実施形態において、ＵＶ露光エネルギーは７５〜３００ｍＪ／ｃｍ2であり得る。さらなる実施形態において、ＵＶ露光エネルギーは１００〜２００ｍＪ／ｃｍ2であり得る。ＵＶ露光エネルギーが不十分であると、露光された領域が現像段階中に除去されてしまう。ＵＶ露光エネルギーが過大であると、十分なライン解像度が得られなかった。
【００４８】
次いで、次の段階において、各層は溶液中で現像され得る。一実施形態において、この溶液は塩基性であり得、この実施形態の一局面において、溶液は水性であるか、または溶媒ベースであり得る。さらなる局面において、溶液は、炭酸ナトリウム現像水溶液であり得る。露光されていない部分が現像の間に除去され、露光された部分が残る。露光された部分は、フォトマスクおよび露光パターンの選択の結果としてもたらされる所望のパターンで残る。
【００４９】
次いで、基板上の導体／エミッターは焼成段階である。焼成は、空気中または窒素中で行われ得る。一実施形態において、焼成は３５０℃と５５０℃の間であり得る。さらなる実施形態において、焼成は４００℃と５００℃の間であり得る。さらなる実施形態において、焼成は４２０℃と４８０℃の間であり得る。焼成が窒素中で行われる実施形態の一局面において、焼成は５５０℃を上回り得る。
【実施例】
【００５０】
試料の調製および加工
光画像形成可能な導電性ペーストおよびエミッターペーストを、それぞれ、銀またはカーボンナノチューブの粉末と有機媒体とを一緒に三本ロール練り機で練ることにより調製した。これらのペーストを、３２５〜４００メッシュのステンレス鋼スクリーンを用いることにより、基板上にスクリーン印刷した。他の周知のスクリーン印刷技術が企図されている。次いで、スクリーン印刷されたペーストを、フォトマスクを通して光パターンニングして潜像を形成した。次いで、このパターニングされたペーストを、炭酸ナトリウム水溶液、または所望の導体／エミッターもしくはペーストパターンのための有機溶媒もしくは溶媒混合物（例えば、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（すなわちＮＭＰ）と水との混合物）により現像した。次いで、この導体／エミッターを、約３５０℃〜約４９０℃の温度で焼成した。
【００５１】
実施例１
表１に示した組成を有する銀ペーストを、２インチ×３インチのガラス基板上に印刷し、８０℃にて４０分間乾燥させると６．２ミクロンの厚さとなった。表２に示した組成を有するＣＮＴペーストＩを、上記の乾燥した銀ペーストの上面に印刷し、８０℃にて２０分間乾燥させると、合わせた銀層およびＣＮＴ層の全体で１１．８ミクロンの厚さとなった。印刷された基板を標準的なＦｏｄｅｌテストフォトマスクを通して４００ｍＪ／ｃｍ2にて露光し、０．５重量％炭酸ナトリウム水溶液により２７秒間現像した結果、２０ミクロン幅のライン（すなわち、２０ミクロンのラインアンドスペース解像度）を得た。
【００５２】
実施例２
表１に示した組成を有する銀ペーストを、２インチ×３インチのガラス基板上に印刷し、８０℃にて４０分間乾燥させると６．４ミクロンの厚さとなった。表２に示した組成を有するＣＮＴペーストＩＩを、上記の乾燥した銀ペーストの上面に印刷し、８０℃にて２０分間乾燥させると、合わせた銀層およびＣＮＴ層の全体で１２．０ミクロンの厚さとなった。印刷された基板を標準的なＦｏｄｅｌテストフォトマスクを通して４００ｍＪ／ｃｍ2にて露光し、０．５重量％炭酸ナトリウム水溶液により４４秒間現像した結果、７０ミクロン幅のライン（すなわち、７０ミクロンのラインアンドスペース解像度）を得た。
【００５３】
実施例３
表５に示した組成を有する光画像形成可能なＡｇペーストの３ｃｍ×３ｃｍの小片を、３２５メッシュのスクリーンを用いて２インチ×２インチのソーダ石灰ガラス上に印刷し、８０℃にて３０分間乾燥させると７．０ミクロンの厚さとなった。表１に示した組成を有する光画像形成可能なＣＮＴペーストＩＩの２．４ｃｍ×２．４ｃｍの小片を、上記の乾燥した銀ペーストの上面に印刷して中央に位置させ、８０℃にて１５分間乾燥させると、合わせた銀層およびＣＮＴ層の全体で１３．０ミクロンの厚さとなった。ＣＮＴ層に接するようにしてフォトマスクを当てた。印刷された基板を、２００／１００ミクロンのライン／スペースのフォトマスクを通してＵＶ放射に１２０ｍＪ／ｃｍ2にて露光した。次いで、この露光された基板を、０．５重量％炭酸ナトリウム水溶液の４５秒間の噴霧により現像した結果、ＣＮＴ／銀の二重層の２００ミクロン幅のラインを得た。現像された基板を、箱形炉において４００℃にて２０分間空気焼成し、Ｎ2雰囲気のベルト炉において５１５℃にし、ピーク温度にて２０分間焼成した。図３は、Ｎ2焼成後のＣＮＴ／銀の二重層の光学顕微鏡写真を示している。
【００５４】
次いで、一片の接着テープを、焼成されたＣＮＴ／銀の二重層上に貼り付け、続いてこれを取り除いた。一般に「活性化」、「テープ活性化」または「テープ活性化する」と言い表されるこの処理は、フィルム表面を破壊し、ＣＮＴフィラメントを基板表面から露出させ、引き出して、電子電界放出を飛躍的に向上させることで知られている。この活性化処理は、参照により本明細書に援用される米国特許出願公開第２００２／００７４９３２号明細書に詳細に開示された処理である。次いで、焼成され、活性化された部分をカソードとして用いることにより、ダイオード電界放出素子を組み立てた。このカソードと向かい合わせに、蛍光体コーティングを有するＩＴＯコーティングされたガラス基板からなるアノードプレートを取り付けた。１ｍｍ厚の絶縁スペーサーを用いて、カソード基板とアノード基板の間に一定の間隔を維持した。銀塗料および銅テープを用いてカソード電極およびアノード電極への電気的接触を作り、このダイオード素子を完成させた。この素子を、１×１０-5トル未満の圧力にまで排気した真空チャンバー中に取り付けた。６０Ｈｚの繰返し数および６０μｓのパルス幅を有するパルス方形波を、アノード電極に印加した。カソード電極を大地電位にて維持した。２．５ｋＶのアノード電圧で２００μＡのアノード電流が得られた。この素子により発せられた電子による蛍光体照明の像を図４に示す。
【００５５】
実施例４
表５に示した組成を有する光画像形成可能なＡｇペーストの３ｃｍ×３ｃｍの小片を、３２５メッシュのスクリーンを用いて２インチ×２インチのソーダ石灰ガラス上に印刷し、８０℃にて３０分間乾燥させると７．０ミクロンの厚さとなった。表６に示した組成を有する光画像形成可能なＣＮＴペーストＩＩＩの２．４ｃｍ×２．４ｃｍの小片を、上記の乾燥した銀ペーストの上面に印刷して中央に位置させ、８０℃にて１５分間乾燥させると、合わせた銀層およびＣＮＴ層の全体で１３．０ミクロンの厚さとなった。ＣＮＴ層に接するようにしてフォトマスクを当てた。印刷された基板を、２００／１００ミクロンのライン／スペースのフォトマスクを通してＵＶ放射に２００ｍＪ／ｃｍ2にて露光した。次いで、この露光された基板を、０．５重量％炭酸ナトリウム水溶液の４５秒間の噴霧により現像した結果、ＣＮＴ／銀の二重層の２００ミクロン幅のラインを得た。現像された基板を、空気雰囲気のベルト炉において４９０℃にし、ピーク温度にて２０分間焼成した。焼成された基板を、実施例３に記載されたようにテープ活性化し、ダイオード電界放出素子のカソードとして用いた。この同時に画像形成され、同時に現像され、そして同時に空気焼成された部分を実施例３において用いた同じ条件下で試験すると、２．５ｋＶのパルスアノード電圧で１５０μＡの放出電流が得られた。
【００５６】
実施例５
表５に示した組成を有する光画像形成可能なＡｇペーストの３ｃｍ×３ｃｍの小片を、３２５メッシュのスクリーンを用いて２インチ×２インチのソーダ石灰ガラス上に印刷し、８０℃にて３０分間乾燥させると７．０ミクロンの厚さとなった。この銀層に接するようにしてフォトマスクを当てた。まず、乾燥させた銀層を、２００／１００ミクロンのライン／スペースのフォトマスクを通してＵＶ放射に２００ｍＪ／ｃｍ2にて露光した。表６に示した組成を有する光画像形成可能なＣＮＴペーストＩＩＩの２．４ｃｍ×２．４ｃｍの小片を、上記した乾燥させ、露光させた銀ペーストの上面に印刷して中央に位置させ、８０℃にて１５分間乾燥させると、合わせた銀層およびＣＮＴ層の全体で１３．０ミクロンの厚さとなった。ＣＮＴ層に接するようにしてフォトマスクを当てた。印刷された基板を、１５０×７５０μｍのダッシュからなるダッシュラインパターンの別のフォトマスクを通して再度ＵＶ放射に２００ｍＪ／ｃｍ2にて露光した。次いで、この露光された基板を、０．５重量％炭酸ナトリウム水溶液の４５秒間の噴霧により現像した結果、２００ミクロン幅の銀ライン上にＣＮＴエミッターの１５０×７５０μｍのダッシュを得た。図５は、空気焼成後の銀ライン上のＣＮＴダッシュの光学顕微鏡写真を示している。現像された基板を、空気雰囲気のベルト炉において４９０℃にし、ピーク温度にて２０分間焼成した。焼成された基板をテープ活性化し、ダイオード電界放出素子のカソードとして用いた。この別個に画像形成され、同時に現像され、そして同時に空気焼成された部分を実施例３において用いた同じ条件下で試験すると、２．５ｋＶのパルスアノード電圧で５０μＡの放出電流が得られた。図６は、実施例５に開示された別個に画像形成され、同時に現像され、そして同時に空気焼成された電界放出カソード部分により発せられた電子による蛍光体照明の像を示している。
【００５７】
比較実施例１
表１に示した組成を有する銀ペーストを、２インチ×３インチのガラス基板上に印刷し、８０℃にて４０分間乾燥させると６．４ミクロンの厚さとなった。表２に示した組成を有するＣＮＴペーストＩＩを、上記の乾燥した銀ペーストの上面に印刷し、８０℃にて２０分間乾燥させると、合わせた銀層およびＣＮＴ層の全体で１２．０ミクロンの厚さとなった。印刷された基板を標準的なＦｏｄｅｌテストフォトマスクを通して５０ｍＪ／ｃｍ2にて露光し、０．５重量％炭酸ナトリウム水溶液により４４秒間現像した。露光された部分は硬化せず、現像の間に完全に除去された。
【００５８】
比較実施例２
表１に示した組成を有する銀ペーストを２インチ×３インチのガラス基板上に印刷し、８０℃にて４０分間乾燥させると６．４ミクロンの厚さとなった。表２に示した組成を有するＣＮＴペーストＩＩを、上記の乾燥した銀ペーストの上面に印刷し、８０℃にて２０分間乾燥させると、合わせた銀層およびＣＮＴ層の全体で１２．０ミクロンの厚さとなった。印刷された基板を標準的なＦｏｄｅｌテストフォトマスクを通して８００ｍＪ／ｃｍ2にて露光し、０．５重量％炭酸ナトリウム水溶液により４４秒間現像した。十分なライン解像度が得られなかった。現像されたラインの間の間隔が狭すぎ、剥離したラインもあった。
【００５９】
実施例の材料の用語解説
【００６０】
【表１】
2011521427.tif 000003
【００６１】
【表２】
2011521427.tif 000004
【００６２】
【表３】
2011521427.tif 000005
【００６３】
【表４】
2011521427.tif 000006
【００６４】
【表５】
2011521427.tif 000007
【００６５】
【表６】
2011521427.tif 000008
【００６６】
溶媒Ｉ：α−テルピネオール、ＤＲＴ（Ｆｒａｎｃｅ）から購入。
溶媒ＩＩ：Ｔｅｘａｎｏｌ（登録商標）、Ｅａｓｔｍａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓから購入。
ポリマーＡ：８０重量％のメタクリル酸メチルと２０重量％のメタクリル酸とのコポリマー、重量平均分子量Ｍｗ＝約７，０００、酸価＝約１２５、Ｎｏｖｅｏｎから購入。
ポリマーＢ：ビニルピロリドンと酢酸ビニルとのコポリマー、ＩＳＰのＳ６３０。
光開始剤Ｉ：Ｉｒｇａｃｕｒｅ  ９０７、２−メチル−１−［−（メチルチオ）フェニル］−２−（４−モルホリニル）−１−プロパノン、Ｃｉｂａ  Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓから購入。
光開始剤ＩＩ：ＤＥＴＸ、２，４−ジエチル−９Ｈ−チオキサンテン−９−オン、Ａｃｅｔｏ  ＣｏｒｐｏｒａｔｉｏｎのＤＥＴＸ  ｓｐｅｅｄｃｕｒｅ。
光開始剤ＩＩＩ：Ｉｒｇａｃｕｒｅ  ６５１、Ｃｉｂａ  Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓから購入。
光開始剤ＩＶ：Ｉｒｇａｃｕｒｅ  ３６９、Ｃｉｂａ  Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓから購入。
ＴＡＯＢＮ：ＤｕＰｏｎｔによる１，４，４−トリメチル−２，３−ジアザビシクロ［３，２，２］−ノナ−２−エン−Ｎ，Ｎ'−ジオキシド。
カーボンナノチューブ（ＣＮＴ）：薄層カーボンナノチューブ、ＣＮＩから購入。
アルミナ：アルミナＡＫＰ−２０（Ｄ５０＝０．５ミクロン）、住友化学（Ｓｕｍｉｔｏｍｏ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ）から購入。
モノマーＩ：ＳＢ５１０Ｅ３５、アクリレートモノマー／オリゴマー混合物、Ｓａｒｔｏｍｅｒから購入。
モノマーＩＩ：ＳＲ−４５４Ｄ、トリメチロールプロパンエトキシトリアクリレート、Ｓａｒｔｏｍｅｒから購入。
モノマーＩＩＩ：ＬＲ８９６７、ＢＡＳＦから購入。
マロン酸（Ｍａｌｎｏｎｉｃ  ａｃｉｄ）：Ａｌｄｒｉｃｈ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓから購入。
界面活性剤：ポリ（アルファメチルシロキサン）、ＢＹＫ−Ｃｈｅｍｉｅから購入。
銀粉：Ｆｅｒｒｏ  ７０００−７、Ｆｅｒｒｏから購入。
ガラスフリット:ＢＴ２６０２５、Ｙａｍａｍｏｒｕ  Ｇｌａｓｓから購入。
【図１Ａ−１Ｅ】
2011521427.tif 000009
【図２Ａ−２Ｅ】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
2011521427.tif 000013
【図６】
2011521427.tif 000014
【国際調査報告】
2011521427.tif 000015
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