(57)【要約】  本発明は、フレキシブルカラーフィルタ基板及びその製造方法に関し、より具体的には、フレキシブル基板と、上記フレキシブル基板上に形成されたＲ、Ｇ、Ｂパターンと、を含み、上記Ｒ、Ｇ、Ｂパターンは相変化インク組成物で形成されるフレキシブルカラーフィルタ基板及びその製造方法に関する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
フレキシブル基板と、
前記フレキシブル基板上に形成されたＲ、Ｇ、Ｂパターンと、
を含み、
前記Ｒ、Ｇ、Ｂパターンは相変化インク組成物で形成される、フレキシブルカラーフィルタ基板。
【請求項２】
前記フレキシブル基板は、プラスチック、薄型ガラス、紙、金属箔繊維で強化されたプラスチック又はこれらの複合体からなる、請求項１に記載のフレキシブルカラーフィルタ基板。
【請求項３】
前記相変化インク組成物は、融点が５０℃〜１２０℃である、請求項１又は２に記載のフレキシブルカラーフィルタ基板。
【請求項４】
前記Ｒ、Ｇ、Ｂパターンは、上部表面の算術平均粗さがパターンの高さの５％以下である、請求項１から３の何れか１項に記載のフレキシブルカラーフィルタ基板。
【請求項５】
前記Ｒ、Ｇ、Ｂパターンは、パターンの高さ対幅の比が１：２０〜１：２００である、請求項１から４の何れか１項に記載のフレキシブルカラーフィルタ基板。
【請求項６】
フレキシブル基板上に相変化インク組成物を吐出してＲ、Ｇ、Ｂパターンを形成する段階と、
前記Ｒ、Ｇ、Ｂパターンを（相変化インクの融点−２０）℃〜（相変化インクの融点＋１５）℃の温度で加圧する段階と、
を含む、フレキシブルカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項７】
前記フレキシブル基板は、フレキシブル基板が巻き取られたロールから巻き出される、請求項６に記載のフレキシブルカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項８】
前記吐出は、（相変化インク組成物の融点＋５）℃〜（相変化インク組成物の融点＋７５）℃の温度で行われる、請求項６又は７に記載のフレキシブルカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項９】
前記吐出は、７０℃〜１２５℃の温度で行われる、請求項６から８の何れか１項に記載のフレキシブルカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項１０】
前記加圧する段階は、０．０１〜５０ＭＰａの圧力で行われる、請求項６から９の何れか１項に記載のフレキシブルカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項１１】
前記加圧する段階は、加圧ロール又は平板によって行われる、請求項６から１０の何れか１項に記載のフレキシブルカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項１２】
前記加圧する段階は、加圧ロールと前記基板を相対速度１〜１００ｍ／ｓで移動させながら行われる、請求項１１に記載のフレキシブルカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項１３】
前記加圧する段階の前に、前記Ｒ、Ｇ、Ｂパターンの上部に保護シートを積層する段階をさらに含む、請求項６から１２の何れか１項に記載のフレキシブルカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項１４】
前記加圧されたＲ、Ｇ、Ｂパターンを固定させる段階をさらに含む、請求項６から１３の何れか１項に記載のフレキシブルカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項１５】
前記固定させる段階は、光硬化によって行われる、請求項１４に記載のフレキシブルカラーフィルタ基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フレキシブルカラーフィルタ基板及びその製造方法に関し、より詳細には、連続工程が可能であり、ブラックマトリックスを必要としないフレキシブルカラーフィルタ基板及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、カラーフィルタのＲＧＢパターンのような微細パターンは、主に、フォトリソグラフィー方式で製作されていた。しかしながら、フォトリソグラフィー方式の場合、全面積をフォトレジストでコーティングし、フォトマスクを用いてパターンを選択的に露光し、パターンの形成が不要な部分を現像により除去する方法でパターンを形成するため、不要な材料の消耗量が多く、多段階工程を必要とするため、製造費用が高くて製造時間が長いという問題がある。
【０００３】
最近では、フレキシブルディスプレイへの関心が急増するにつれ、表示装置の基板をガラスからプラスチックに代替する研究が活発化している。ガラス基板をプラスチック基板に代替する場合、表示装置全体の重量が軽くなり、デザインに柔軟性を付与することができる上、耐衝撃性が向上し、連続工程による製造が可能となるため、ガラス基板を用いる場合と比べて製造費用が低くなるという長所がある。
【０００４】
しかしながら、上述したフォトリソグラフィー方式は、連続工程に適合しない。したがって、フレキシブルディスプレイにカラーフィルタ基板を形成する方法の代案としてインクジェット方式が注目を浴びている。
【０００５】
しかしながら、フレキシブルディスプレイに用いられる基板の場合、基板の表面エネルギーが製作工程によって変化し、基板の表面の位置によって相違した値を有する等、基板の表面エネルギーがほとんど不均一であった。よって、従来のインクジェット方式が用いられていたカラーフィルタ形成用インクを適用すると、上記のような表面エネルギーが不均一な基板上に均一な幅及び高さを有するパターンを形成するのが困難になるという問題がある。また、従来の方法の場合には、インクが乾燥して残った固形分でパターンが形成されることから、乾燥工程で溶媒の揮発が不均一に起こるため、パターンの表面が平らでなく凹状又は凸状に形成されやすくなるという問題もある。
【０００６】
また、従来用いられていたカラーフィルタ形成用インクの場合、流れ性が高いため、パターン形成過程でＲ、Ｇ、Ｂパターンが混合されやすい。したがって、これを防止するために、従来は、ブラックマトリックス隔壁パターンを形成した後、その内部にＲ、Ｇ、Ｂインクを充填する方式を用いていた。しかしながら、この方法には、工程数が多くて工程が複雑であるという問題がある。また、上記のような方法で形成された従来のカラーフィルタには、Ｒ、Ｇ、Ｂパターンの中心部と周辺部の高さが相違することからパターンの上部表面が平坦に形成されないという問題があった。このような現象は、ブラックマトリックスとカラーフィルタ形成用インクの表面張力の差によって発生する。用いられるインクの種類によって多少偏差はあるが、従来のカラーフィルタ基板の画素パターンの場合には上部表面の算術平均粗さＲａが画素パターンの高さの１０％以上であることがほとんどであった。このように、画素パターンの上部表面が平坦でない場合には、均一な色相を具現するのが困難であるという問題があった。
【０００７】
よって、連続工程に適合し、ブラックマトリックスパターンを形成することなくプラスチック基板に適用されてもパターンの線幅と高さを一定に具現することができるカラーフィルタの開発が求められている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、上記のような問題を解決するためのものであり、相変化インクを用いて連続工程に適合し、ブラックマトリックスがなくても均一なパターンを形成することができるフレキシブルカラーフィルタ基板及びその製造方法を提供することを目的とする。
【０００９】
本発明の課題は、上述した内容に限定されない。本発明の課題は、本明細書の全内容から理解されることができる。本発明の属する技術分野における通常の知識を有する者であれば、本発明の更なる課題を理解するのに何ら困難がない。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の一実施形態によれば、フレキシブル基板と、上記フレキシブル基板上に周期的な配列で形成されたＲ、Ｇ、Ｂパターンと、を含み、上記Ｒ、Ｇ、Ｂパターンが相変化インク組成物で形成されるフレキシブルカラーフィルタ基板が提供される。
【００１１】
この際、上記フレキシブル基板は、プラスチック、薄型ガラス、紙、金属箔繊維で強化されたプラスチック又はこれらの複合体からなることができる。
【００１２】
一方、上記相変化インク組成物は、融点が５０℃〜１２０℃程度であることが好ましい。
【００１３】
また、上記Ｒ、Ｇ、Ｂパターンは、上部表面の算術平均粗さＲａがパターンの高さの５％以下、好ましくは０．１〜５％程度であり、高さ対幅の比が１：２０〜１：２００程度であることが好ましい。
【００１４】
本発明の他の実施形態によれば、フレキシブル基板上に相変化インクを吐出してＲ、Ｇ、Ｂパターンを形成する段階と、上記Ｒ、Ｇ、Ｂパターンを（相変化インクの融点−２０）℃〜（相変化インクの融点＋１５）℃の温度で加圧する段階と、を含むフレキシブルカラーフィルタ基板の製造方法が提供される。
【００１５】
この際、上記フレキシブル基板は、フレキシブル基板が巻き取られたロールから巻き出され、上記吐出は、（相変化インクの融点＋５）℃〜（相変化インクの融点＋７５）℃の温度で行われ、好ましくは７０℃〜１２５℃の温度で行われることができる。
【００１６】
また、上記加圧する段階は、０．０１〜５０ＭＰａの圧力で行われ、例えば、加圧ロール又は平板によって行われることができる。加圧ロールを用いて加圧する場合、上記加圧ロールと上記基板との相対速度は１〜１００ｍ／ｓ程度であることが好ましい。
【００１７】
一方、上記加圧する段階の前に、上記Ｒ、Ｇ、Ｂパターンの上部に保護シートを積層する段階がさらに含まれることができる。
【００１８】
また、必要に応じて、本発明の製造方法は、上記加圧されたＲ、Ｇ、Ｂパターンを固定させる段階をさらに含み、この際、上記固定させる段階は、光硬化によって行われることができる。
【００１９】
なお、上述した課題を解決するための手段は、本発明の特徴をすべて列挙したものではない。本発明の多様な特徴とそれによる長所と効果は、後述する具体的な実施形態を参照してより詳細に理解されることができる。
【発明の効果】
【００２０】
本発明のフレキシブルカラーフィルタ基板及びその製造方法は、相変化インクを用いてＲ、Ｇ、Ｂパターンを形成することから、Ｒ、Ｇ、Ｂパターンの混色を防止するためのブラックマトリックスを形成する必要がないため、連続工程が可能であり、簡単な工程により均一で正確なパターンを製造することができるという長所を有する。
【００２１】
また、本発明のフレキシブルカラーフィルタ基板は、画素部の下端に位置していたブラックマトリックスがないことから、画素部内又はピクセルの間に段差が発生せず、画素部内に未充填領域も発生しないため、光漏れ現象が最小化され、優れた光学特性を示す。
【００２２】
一方、上記のような方法によりフレキシブルカラーフィルタ基板を製造する場合、相変化インク組成物の吐出時にドットピッチ又は加圧圧力等を調節することにより、Ｒ、Ｇ、Ｂパターンの線幅及び高さを制御することができるため、解像度の異なる多様なディスプレイ装置に有用に適用されることができる。
【００２３】
また、本発明のように相変化インクを用いてＲ、Ｇ、Ｂパターンを形成する場合、インクの広がり性が低いため、狭い線幅のパターンを容易に形成することができ、ブラックマトリックスがないため、相対的に低い高さのカラーフィルタパターンを形成することができるという長所がある。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明のフレキシブルカラーフィルタ基板の一具現例を示す図である。
【図２】本発明の一実施例によるフレキシブルカラーフィルタ基板の製造方法を示す模式図である。
【図３】フレキシブル基板上にドットピッチを変えながら相変化インクを吐出した後に基板上に形成されたパターンの形状を示す光学イメージである。
【図４】図３のパターンを加圧した後のパターンの形状を示す光学イメージである。
【図５】図３（ｃ）のパターンを３Ｄビューアーで観察したイメージである。
【図６】図５のイメージのＹ方向（Ｙ  ａｘｉｓ）に沿う断面のプロファイルである。
【図７】図４（ｃ）のパターンを３Ｄビューアーで観察したイメージである。
【図８】図７のイメージのＹ方向（Ｙ  ａｘｉｓ）に沿う断面のプロファイルである。
【図９】実施例１及び４のカラーフィルタ基板の耐熱性テストの結果を示す写真である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下では、図面を参照して本発明をより具体的に説明する。
【００２６】
本発明者らは、連続工程に適用可能であり、均一で正確なカラーフィルタパターンを形成する技術を開発するために研究を重ねた結果、相変化インクを用いてカラーフィルタ基板を製造することにより上記のような目的を達成することができることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００２７】
図１には、本発明のフレキシブルカラーフィルタ基板の一具現例が示されている。図１に示されているように、本発明のフレキシブルカラーフィルタ基板は、フレキシブル基板３０と、上記フレキシブル基板上に形成されたＲ、Ｇ、Ｂパターン１５と、を含む。この際、上記Ｒ、Ｇ、Ｂパターン１５は、相変化インク組成物で形成され、当該Ｒ、Ｇ、Ｂパターンの間にブラックマトリックスが形成されないことを特徴とする。一方、本発明のフレキシブルカラーフィルタ基板において、上記Ｒ、Ｇ、Ｂパターンは、各画素パターンが一定の間隔で離隔するように形成されることもでき、各画素パターンが離隔せずに隣接するように形成されることもできる。
【００２８】
本発明において、上記フレキシブル基板３０は、柔軟性のある基板であればいずれのものでも良く、その材質に特別な制限はなく、当該技術分野で使用可能なフレキシブル基板の材料、例えば、プラスチック、薄型ガラス、紙、金属箔繊維で強化されたプラスチック又はこれらの複合体等からなることができる。この中でも、プラスチック基板は、重量が軽く、デザインの柔軟性、耐衝撃性等に優れ、連続工程により製造されることができるため、製造費用が低い点で特に好ましい。
【００２９】
一方、上記プラスチック基板としては、当該技術分野で商用されている多様な材質のプラスチック基板を制限なく用いることができ、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、アクリル、シクロオレフィンポリマー、アクリル系プライマー処理されたポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネートフィルム及びポリノルボルネン（ＰＮＢ）系フィルム等のような材質のプラスチック基板を用いることができる。
【００３０】
但し、上述したように、プラスチック基板の場合には、工程上の影響又は材質によって均一な表面エネルギーを有するのが困難であるため、従来のカラーフィルタ用インク組成物では均一なパターンを形成するのが困難であるという問題があった。しかしながら、本発明のように、相変化インク組成物を用いてＲ、Ｇ、Ｂパターンを形成する場合は、基板の表面の表面エネルギーにかかわらず一定の幅の微細パターンを形成することができる。
【００３１】
相変化インクとは、常温では固体であるが、インクジェット装置の動作温度では液体に転換されて液相で噴射されて印刷媒体に付着され、付着された後には急速に凝固されてパターンを形成するインクのことである。このような相変化インクを用いる場合、噴射された後に急速に凝固されることから、インクの広がりが少ないため、ブラックマトリックスを形成しなくてもＲ、Ｇ、Ｂパターンの混色が起こらず、インクの凝固速度が温度によって制御されるため、基板の表面状態にかかわらず比較的一定のパターンを形成することができる。
【００３２】
一方、本発明において使用可能な相変化インク組成物は、相変化物質と、着色剤と、を含む。
【００３３】
上記相変化物質は、インクに相変化特性を付与するためのものであり、特に限定されず、常温で固体である脂肪酸、高級アルコール、各種ワックス類であれば良い。上記相変化物質の具体的な例としては、脂肪酸としてデカン酸、ウンデカン酸、ドデカン酸、トリデカン酸、テトラデカン酸、ペンタデカン酸、ヘキサデカン酸、ヘプタデカン酸、オクタデカン酸、ノナデカン酸、エイコサン酸、ヘンエイコサン酸、ドコサン酸、トリコサン酸、テトラコサン酸、ペンタコサン酸、ヘキサコサン酸、ヘプタコサン酸、オクタコサン酸、ノナコサン酸、トリアコンタン酸、ヘントリアコンタン酸、ドトリアコンタン酸、トリトリアコンタン酸、テトラトリアコンタン酸、ペンタトリアコンタン酸、ヘキサトリアコンタン酸；高級アルコールとしてデカノール、ウンデカノール、ドデカノール、トリデカノール、テトラデカノール、ペンタデカノール、ヘキサデカノール、ヘプタデカノール、オクタデカノール、ノナデカノール、エイコサノール、ヘネイコサノール、ドコサノール、トリコサノール、テトラコサノール、ペンタコサノール、ヘキサコサノール、ヘプタコサノール、オクタコサノール、ノナコサノール、トリアコンタノール、ヘントリアコンタノール、ドトリアコンタノール、トリトリアコンタノール、テトラトリアコンタノール、ペンタトリアコンタノール、ヘキサトリアコンタノール；ワックス類として鉱物由来の、パラフィンワックス、微細結晶ワックス、バンダルワックス、オゾケライト、セレシン、モンタンワックス、植物由来のカルバナワックス、オウリクリワックス、カンデリラワックス、ジャパンワックス、ココナッツバター、動物由来の蜜蝋、鯨蝋、合成ワックスとしてポリエチレンワックス、ポリオキシエチレングリコールワックス、ハロゲン炭化水素ワックス、ワックスエステル等が挙げられるが、これに限定されるものではない。
【００３４】
一方、上記相変化物質の含量は、相変化インクの全含量に対して３〜９５重量部程度、好ましくは５〜８０重量部又は５〜５０重量部程度であれば良い。この際、上記相変化物質の含量が上記範囲を満たす場合、有効な相変化特性が得られ、精密で均一なパターンを形成することができる。
【００３５】
一方、上記着色剤は、Ｒ、Ｇ、Ｂパターンにカラー特性を付与するためのものであり、特に限定されず、一種以上の顔料、染料又はこれらの混合物であれば良い。顔料としては、無機顔料と有機顔料をすべて用いることができる。上記着色剤の具体的な例としては、カーミン６Ｂ（Ｃ．Ｉ．１２４９０）、フタロシアニングリーン（Ｃ．Ｉ．７４２６０）、フタロシアニンブルー（Ｃ．Ｉ．７４１６０）、ビクトリアピュアブルー（Ｃ．Ｉ．４２５９５）、Ｃ．Ｉ．ＰＩＧＭＥＮＴ  ＲＥＤ３、２３、９７、１０８、１２２、１３９、１４０、１４１、１４２、１４３、１４４、１４９、１６６、１６８、１７５、１７７、１８０、１８５、１８９、１９０、１９２、２０２、２１４、２１５、２２０、２２１、２２４、２３０、２３５、２４２、２５４、２５５、２６０、２６２、２６４、２７２；Ｃ．Ｉ．ＰＩＧＭＥＮＴ  ＧＲＥＥＮ７、３６；Ｃ．Ｉ．ＰＩＧＭＥＮＴ  ｂｌｕｅ１５：１、１５：３、１５：４、１５：６、１６、２２、２８、３６、６０、６４等が挙げられるが、これに限定されず、当該技術分野に知られている他の顔料及び染料を用いることもできる。
【００３６】
上記着色剤の含量は、相変化インクの全含量に対して５〜５０重量部程度であれば良く、例えば、５〜４０重量部、５〜３０重量部程度であれば良い。上記着色剤の含量が５０重量部を超えると、染料の場合は、十分に溶解されない問題が発生し、顔料の場合は、分散が困難であるため、ノズルの出口のサイズより大きい相変化インクの塊が生じる現象が発生する可能性があるため、吐出工程が困難となる可能性がある。
【００３７】
一方、本発明の相変化インク組成物は、必要に応じて、高分子バインダーをさらに含むことができる。この場合、高分子バインダーの含量は、特に限定されず、相変化インクの全含量に対して０〜２０重量部程度であれば良く、例えば、１〜１０重量部又は３〜５重量部程度であれば良い。この際、高分子バインダーの含量が上記数値範囲を外れる場合は、液体状態での相変化インクの粘度が増加してジェッティング工程が困難となる可能性がある。
【００３８】
一方、上記高分子バインダーは、特に限定されず、下記モノマーのホモポリマー又はコポリマー樹脂であれば良い。使用可能なモノマーとしては、ベンジル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ‐ブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、２‐フェノキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２‐ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２‐ヒドロキシ‐３‐クロロプロピル（メタ）アクリレート、４‐ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、アシルオクチルオキシ‐２‐ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリセロール（メタ）アクリレート、２‐メトキシエチル（メタ）アクリレート、３‐メトキシブチル（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール）メチルエーテル（メタ）アクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ｐ‐ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ｐ‐ノニルフェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、１，１，１，３，３，３‐ヘキサフルオロイソプロピル（メタ）アクリレート、オクタフルオロペンチル（メタ）アクリレート、ヘプタデカフルオロデシル（メタ）アクリレート、トリブロモフェニル（メタ）アクリレート、ジシクロフェンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、アダマンチル（メタ）アクリレート、メチルα‐ヒドロキシメチルアクリレート、エチルα‐ヒドロキシメチルアクリレート、プロピルα‐ヒドロキシメチルアクリレート、及びブチルα‐ヒドロキシメチルアクリレートからなる群から選択された一種以上の不飽和カルボン酸エステル類；スチレン、α‐メチルスチレン、（ｏ，ｍ，ｐ）‐ビニルトルエン、（ｏ，ｍ，ｐ）‐メトキシスチレン、及び（ｏ，ｍ，ｐ）‐クロロスチレンからなる群から選択された一種以上の芳香族ビニル類；ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、及びアリルグリシジルエーテルからなる群から選択された一種以上の不飽和エーテル類；Ｎ‐フェニルマレイミド、Ｎ‐（４‐クロロフェニル）マレイミド、Ｎ‐（４‐ヒドロキシフェニル）マレイミド、及びＮ‐シクロヘキシルマレイミドからなる群から選択された一種以上の不飽和イミド類；及び無水マレイン酸、無水メチルマレイン酸のような無水マレイン酸類からなる群から選択される一種又は二種以上を用いた高分子樹脂が挙げられるが、これに限定されるものではない。
【００３９】
一方、本発明の相変化インク組成物は、必要に応じて、反応性モノマー又はオリゴマーをさらに含むことができる。この場合、反応性モノマー又はオリゴマーの含量は、特に限定されず、相変化インクの全含量に対して０〜９０重量部程度であれば良く、例えば、２〜６０重量部、３〜５０、５〜３０重量部程度であれば良い。
【００４０】
この際、上記反応性モノマー又はオリゴマーは、放射線や電子線によって硬化が可能な光硬化性化合物であれば良く、例えば、エチレン性不飽和結合を有する官能性モノマー又はオリゴマー、開環重合が可能なモノマー又はオリゴマー等であれば良い。より具体的には、例えば、アクリル誘導体、ビスフェノールＡ誘導体、エポキシ又はオキセタン基を含む化合物であれば良い。上記反応性モノマー又はオリゴマーの具体的な例としては、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、及びフェノキシエチル（メタ）アクリレートからなる群から選択された一種以上の単官能性モノマー；ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメチルロールプロパントリアクリレート、ネオペンチルグリコール（メタ）アクリレート、ペンタエリトリトールテトラアクリレート、ペンタエリトリトールトリアクリレート、ジペンタエリトリトールペンタアクリレート、及びジペンタエリトリトールヘキサアクリレートからなる群から選択された一種以上の多官能性モノマー；ウレタン系の多官能性アクリレートであるＵ‐３２４Ａ、Ｕ１５ＨＡ、Ｕ‐４ＨＡ；ビスフェノールＡ誘導体のエポキシアクリレート、ノボラック‐エポキシアクリレート；エポキシ基含有エチレン性不飽和モノマーであるアリルグリシジルエーテル、グリシジル５‐ノルボルネン‐２‐メチル‐２‐カルボキシレート（エンド、エキソ混合物）、１，２‐エポキシ‐５‐ヘキセン、１，２‐エポキシ‐９‐デセン、３，４‐グリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルα‐エチル（メタ）アクリレート、グリシジルα‐ｎ‐プロピル（メタ）アクリレート、グリシジルα‐ｎ‐ブチル（メタ）アクリレート、３，４‐エポキシブチル（メタ）アクリレート、４，５‐エポキシペンチル（メタ）アクリレート、５，６‐エポキシヘプチル（メタ）アクリレート、６，７‐エポキシヘプチルα‐エチルアクリレート、メチルグリシジル（メタ）アクリレート；オキセタン基を含有する３‐エチル‐３‐（２‐エチルヘキシルオキシメチル）オキセタン単官能オキセタン；３‐エチル‐３‐フェノキシメチルオキセタンのような芳香族基含有単官能オキセタン、１，４‐ビス〔（３‐エチルオキセタン‐３‐イル）メトキシメチル〕ベンゼン、１，４‐ビス〔（３‐エチルオキセタン‐３‐イル）メトキシ〕ベンゼン、１，３‐ビス〔（３‐エチルオキセタン‐３‐イル）メトキシ〕ベンゼン、１，２‐ビス〔（３‐エチルオキセタン‐３‐イル）メトキシ〕ベンゼン、４，４'‐ビス〔（３‐エチルオキセタン‐３‐イル）メトキシ〕ビフェニル、２，２'‐ビス［（３‐エチルオキセタン‐３‐イル）メトキシ〕ビフェニル、３，３'，５、５'‐テトラメチル‐４，４'‐ビス〔（３‐エチルオキセタン‐３‐イル）メトキシ〕ビフェニル、２，７‐ビス〔（３‐エチルオキセタン‐３‐イル）メトキシ〕ナフタレン、ビス〔４‐｛（３‐エチルオキセタン‐３‐イル）メトキシ｝フェニル〕メタン、ビス〔２‐｛（３‐エチルオキセタン‐３‐イル）メトキシ｝フェニル〕メタン、２，２‐ビス〔４‐｛（３‐��チルオキセタン‐３‐イル）メトキシ｝フェニル〕プロパン、３（４），８（９）‐ビス〔（３‐エチルオキセタン‐３‐イル）メトキシメチル〕‐トリシクロデカン、２，３‐ビス〔（３‐エチルオキセタン‐３‐イル）メトキシメチル〕ノルボルナン、１，１，１‐トリス〔（３‐エチルオキセタン‐３‐イル）メトキシメチル〕プロパン、１‐ブトキシ‐２，２‐ビス〔（３‐エチルオキセタン‐３‐イル）メトキシメチル〕ブタン、１，２‐ビス〔｛２‐（３‐エチルオキセタン‐３‐イル）メトキシ｝エチルチオ〕エタン、ビス〔｛４‐（３‐エチルオキセタン‐３‐イル）メチルチオ｝フェニル〕スルフィド、１，６‐ビス〔（３‐エチルオキセタン‐３‐イル）メトキシ〕‐２，２，３，３，４，４，５，５‐オクタフルオロヘキサン、３‐〔（３‐エチルオキセタン‐３‐イル）メトキシ〕プロピルトリメトキシシラン、３‐［（３‐エチルオキセタン‐３‐イル）メトキシ〕プロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。
【００４１】
一方、本発明の相変化インク組成物は、必要に応じて、光重合開始剤をさらに含むことができる。相変化インク組成物に光重合開始剤と光硬化性化合物が含まれる場合、光硬化によってＲ、Ｇ、Ｂパターンを固定させることにより、パターン形成後の温度変化によるパターンの変形を防止することができるという長所がある。上記光重合開始剤としては、特に限定されず、当該技術分野に知られているラジカル又は陽イオン系光重合開始剤を用いることができる。
【００４２】
例えば、上記ラジカル光重合開始剤としては、２，４‐トリクロロメチル‐（４'‐メトキシフェニル）‐６‐トリアジン、２，４‐トリクロロメチル‐（４'‐メトキシスチリル）‐６‐トリアジン、２，４‐トリクロロメチル‐（ピペロニル）‐６‐トリアジン、２，４‐トリクロロメチル‐（３'，４'‐ジメトキシフェニル）‐６‐トリアジン、３‐｛４‐［２，４‐ビス（トリクロロメチル）‐ｓ‐トリアジン‐６‐イル］フェニルチオ｝プロパン酸等のトリアジン化合物；２，２'‐ビス（２‐クロロフェニル）‐４，４'，５，５'‐テトラフェニルビイミダゾール、２，２'‐ビス（２，３‐ジクロロフェニル）‐４，４'，５，５'‐テトラフェニルビイミダゾール等のビイミダゾール化合物；２‐ヒドロキシ‐２‐メチル‐１‐フェニルプロパン‐１‐オン、１‐（４‐イソプロピルフェニル）‐２‐ヒドロキシ‐２‐メチルプロパン‐１‐オン、４‐（２‐ヒドロキシエトキシ）‐フェニル（２‐ヒドロキシ）プロピルケトン、１‐ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、２，２‐ジメトキシ‐２‐フェニルアセトフェノン、２‐メチル‐（４‐メチルチオフェニル）‐２‐モルホリノ‐１‐プロパン‐１‐オン、２‐ベンジル‐２‐ジメチルアミノ‐１‐（４‐モルホリノフェニル）‐ブタン‐１‐オン等のアセトフェノン系化合物；ベンゾフェノン、４，４'‐ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４'‐ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２，４，６‐トリメチルアミノベンゾフェノン、メチル‐ｏ‐ベンゾイルベンゾエート、３，３‐ジメチル‐４‐メトキシベンゾフェノン、３，３'，４，４'‐テトラ（ｔ‐ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物；９‐フルオレノン、２‐クロロ‐９‐フルオレノン、２‐メチル‐９‐フルオレノン等のフルオレノン系化合物；チオキサントン、２，４‐ジエチルチオキサントン、２‐クロロチオキサントン、１‐クロロ‐４‐プロピルオキシチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン系化合物；キサントン、２‐メチルキサントン等のキサントン系化合物；アントラキノン、２‐メチルアントラキノン、２‐エチルアントラキノン、ｔ‐ブチルアントラキノン、２，６‐ジクロロ‐９，１０‐アントラキノン等のアントラキノン系化合物；９‐フェニルアクリジン、１，７‐ビス（９‐アクリジニル）ヘプタン、１，５‐ビス（９‐アクリジニル）ペンタン、１，３‐ビス（９‐アクリジニル）プロパン等のアクリジン系化合物；１，７，７‐トリメチル‐ビシクロ［２，２，１］ヘプタン‐２，３‐ジオン、９，１０‐フェナントレンキノン等のジカルボニル化合物；２，４，６‐トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６‐ジメトキシベンゾイル）‐２，４，４‐トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、ビス（２，６‐ジクロロベンゾイル）プロピルホスフィンオキサイド等のホスフィンオキサイド系化合物；メチル４‐（ジメチルアミノ）ベンゾエート、エチル‐４‐（ジメチルアミノ）ベンゾエート、２���ｎ‐ブトキシエチル４‐（ジメチルアミノ）ベンゾエート、２，５‐ビス（４‐ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノン、２，６‐ビス（４‐ジエチルアミノベンザル）シクロヘキサノン、２，６‐ビス（４‐ジエチルアミノベンジル）‐４‐メチル‐シクロヘキサノン等のアミン系化合物；３，３'‐カルボニルビニル‐７‐（ジエチルアミノ）クマリン、３‐（２‐ベンゾチアゾリル）‐７‐（ジエチルアミノ）クマリン、３‐ベンゾイル‐７‐（ジエチルアミノ）クマリン、３‐ベンゾイル‐７‐メトキシ‐クマリン、１０，１０'‐カルボニルビス［１，１，７，７‐テトラメチル‐２，３，６，７‐テトラヒドロ‐１Ｈ，５Ｈ，１１Ｈ‐Ｃｌ］‐ベンゾピラノ［６，７，８‐ｉｊ］‐キノリジン‐１１‐オン等のクマリン系化合物；４‐ジエチルアミノカルコン、４‐アジドベンザルアセトフェノン等のカルコン化合物；２‐ベンゾイルメチレン、３‐メチル‐β‐ナフトチアゾリン又はこれらの混合物等を用いることができる。
【００４３】
また、上記陽イオン系光重合開始剤としては、例えば、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードアルミニウム塩や芳香族スルホニウム塩のようなオニウム塩、鉄‐アレン錯体等を用いることができる。
【００４４】
上記光重合開始剤の含量は、相変化インクの全含量に対して０〜１０重量部程度であれば良く、例えば、０．０１〜５重量部、又は０．１〜３重量部程度であれば良い。上記光重合開始剤の含量が１０重量部以下の場合は、相変化インクを加熱するときに光重合開始剤の昇華による装備及び周辺の汚染を低くすることができるため、好ましい。
【００４５】
一方、光重合開始剤の効率によって光架橋増減剤をさらに用いることもできる。上記光架橋増減剤は、特に限定されず、例えば、ベンゾフェノン、４，４‐ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４‐ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２，４，６‐トリメチルアミノベンゾフェノン、メチル‐ｏ‐ベンゾイルベンゾエート、３，３‐ジメチル‐４‐メトキシベンゾフェノン、３，３，４，４‐テトラ（ｔ‐ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物；９‐フルオレノン、２‐クロロ‐９‐フルオレノン、２‐メチル‐９‐フルオレノン等のフルオレノン系化合物；チオキサントン、２，４‐ジエチルチオキサントン、２‐クロロチオキサントン、１‐クロロ‐４‐プロピルオキシチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン系化合物；キサントン、２‐メチルキサントン等のキサントン系化合物；アントラキノン、２‐メチルアントラキノン、２‐エチルアントラキノン、ｔ‐ブチルアントラキノン、２，６‐ジクロロ‐９，１０‐アントラキノン等のアントラキノン系化合物；９‐フェニルアクリジン、１，７‐ビス（９‐アクリジニル）ヘプタン、１，５‐ビス（９‐アクリジニルペンタン）、１，３‐ビス（９‐アクリジニル）プロパン等のアクリジン系化合物；１，７，７‐トリメチル‐ビシクロ［２，２，１］ヘプタン‐２，３‐ジオン、９，１０‐フェナントレンキノン等のジカルボニル化合物；２，４，６‐トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６‐ジメトキシベンゾイル）‐２，４，４‐トリメチルペンチルホスフィンオキサイド等のホスフィンオキサイド系化合物；メチル‐４‐（ジメチルアミノ）ベンゾエート、エチル‐４‐（ジメチルアミノ）ベンゾエート、２‐ｎ‐ブトキシエチル‐４‐（ジメチルアミノ）ベンゾエート等のベンゾフェノン系化合物；２，５‐ビス（４‐ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノン、２，６‐ビス（４‐ジエチルアミノベンザル）シクロヘキサノン、２，６‐ビス（４‐ジエチルアミノベンザル）‐４‐メチル‐シクロペンタノン等のアミノシナージスト；３，３‐カルボニルビニル‐７‐（ジエチルアミノ）クマリン、３‐（２‐ベンゾチアゾリル）‐７‐（ジエチルアミノ）クマリン、３‐ベンゾイル‐７‐（ジエチルアミノ）クマリン、３‐ベンゾイル‐７‐メトキシ‐クマリン、１０，１０‐カルボニルビス［１，１，７，７‐テトラメチル‐２，３，６，７‐テトラヒドロ‐１Ｈ，５Ｈ，１１Ｈ‐Ｃ１］‐ベンゾピラノ［６，７，８‐ｉｊ］‐キノリジン‐１１‐オン等のクマリン系化合物；４‐ジエチルアミノカルコン、４‐アジドベンザルアセトフェノン等のカルコン化合物；２‐ベンゾイルメチレン、又は３‐メチル‐ｂ‐ナフトチアゾリンであれば良い。
【００４６】
上記光架橋増減剤の含量は、相変化インクの全含量に対して０〜１０重量部程度であれば良く、例えば、０．０１〜５重量部、又は０．１〜３重量部程度であれば良い。
【００４７】
一方、本発明の相変化インク組成物は、相変化インクの粘度の調節又はパターンとなる固形分の量の調節のために、必要に応じて、溶剤をさらに含むことができる。この際、上記溶剤の含量は、特に限定されず、相変化インクの全含量に対して０〜６０重量部程度であれば良く、例えば、０〜５０、０〜３０重量部程度であれば良い。溶剤が６０重量部を超えて添加される場合は、相変化インクの形状が温度による相変化によって固定されず、常温で相変化物質の微細な塊が溶剤中に浮遊する現象が発生する可能性がある。
【００４８】
一方、上記溶剤は、特に限定されず、メチル‐３‐メトキシプロピオネート（沸点１４４℃、以下、括弧で表示）、エチレングリコールメチルエーテル（１２５℃）、エチレングリコールエチルエーテル（１３５℃）、エチレングリコールジエチルエーテル（１２１℃）、イソプロピルモノエチレングリコール（１４３℃）、ジブチルエーテル（１４０℃）、エチルピルベート（１４４℃）、プロピレングリコールメチルエーテル（１２１℃）、ｎ‐ブチルアセテート（１２５℃）、イソブチルアセテート（１１６℃）、イソアミルアセテート（１４３℃）、エチルブチレート（１２０℃）、プロピルブチレート（１４３℃）、メチルラクテート（１４５℃）、メチル‐２‐ヒドロキシイソブチレート（１３７℃）、２‐メトキシエチルアセテート（１４５℃）、エチレングリコールメチルエーテルアセテート（１４５℃）、ジブチルエーテル（１４０℃）、シクロペンタノン（１３１℃）、２‐ヘキサノン（１２７℃）、３‐ヘキサノン（１２３℃）、５‐メチル‐２‐ヘキサノン（１４５℃）、４‐ヘプタノン（１４５℃）、及び１‐メトキシ‐２‐プロバノール（１１８℃）、２‐エトキシエチルエーテル（１８５℃）、ジプロピレングリコールメチルエーテル（１８８℃）、３‐ノナノン（１８８℃）、５‐ノナノン（１８７℃）、２，２，６‐トリメチルシクロヘキサノン（１７９℃）、シクロヘプタノン（１７９℃）、アミルブチレート（１８５℃）、ブチルラクテート（１８６℃）、エチル‐３‐ヒドロキシブチレート（１８０℃）、プロピレングリコールジアセテート（１８６℃）、ジプロピレングリコールメチルエーテル（１８８℃）、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル（１７６℃）、ジエチレングリコールメチルイソプロピルエーテル（１７９℃）、ジエチレングリコールジエチルエーテル（１８９℃）、ジエチレングリコールモノメチルエーテル（１９４℃）、４‐エチルシクロヘキサノン（１９３℃）、２‐ブトキシエチルアセテート（１９２℃）、ジエチレングリコールモノエチルエーテル（２０２℃）、ブチロラクトン（２０４℃）、ヘキシルブチレート（２０５℃）、ジエチレングリコールメチルエーテルアセテート（２０９℃）、ジエチレングリコールブチルメチルエーテル（２１２℃）、トリプロピルグリコールジメチルエーテル（２１５℃）、トリエチレングリコールジメチルエーテル（２１６℃）、ジエチレングリコールエチルエーテルアセテート（２１７℃）、ジエチレングリコールブチルエーテルアセテート（２４５℃）、３‐エポキシ‐１，２‐プロパンジオール（２２２℃）、エチル‐４‐アセチルブチレート（２２２℃）、ジエチレングリコールモノブチルエーテル（２３１℃）、トリプロピルグリコールメチルエーテル（２４２℃）、ジエチレングリコール（２４５℃）、２‐（２‐ブトキシエトキシ）エチルアセテート（２４５℃）、カテコール（２４５℃）、トリエチレングリコールメチルエーテル（２４９℃）等であれば良く、好ましくは、相変化インクに添加される相変化物質の相変化温度より５℃以上高い沸点を有する溶剤であれば良い。
【００４９】
一方、本発明の相変化インク組成物は、上記成分以外にも、必要に応じて、分散剤、密着促進剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、熱重合防止剤からなる群から選択された一種以上の添加剤をさらに含むことができる。この際、上記添加剤の含量は、特に限定されず、相変化インクの全含量に対して０〜１０重量部程度であれば良く、例えば、１〜８重量部又は１〜５重量部程度であれば良い。添加剤の含量が１０重量部を超える場合は、効果の上昇が弱く、インク製造費用が増加して非経済的である。
【００５０】
一方、上記密着促進剤としては、特に限定されず、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２‐メトキシエトキシ）‐シラン、Ｎ‐（２‐アミノエチル）‐３‐アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ‐（２‐アミノエチル）‐３‐アミノプロピルメチルトリメトキシシラン、３‐アミノプロピルトリエトキシシラン、３‐グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３‐グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２‐（３，４‐エトキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３‐クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３‐クロロプロピルトリメトキシシラン、３‐メタアクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、及び３‐メルカプトプロピルトリメトキシシランからなる群から選択された一種以上のものを用いることができる。
【００５１】
また、上記酸化防止剤としては、特に限定されず、例えば、２，２‐チオビス（４‐メチル‐６‐ｔ‐ブチルフェノール）、又は２，６‐ｇ，ｔ‐ブチルフェノール等を用いることができ、上記紫外線吸収剤としては、例えば、２‐（３‐ｔ‐ブチル‐５‐メチル‐２‐ヒドロキシフェニル）‐５‐クロロ‐ベンゾトリアゾール、又はアルコキシベンゾフェノン等を用いることができ、上記熱重合防止剤としては、例えば、ヒドロキノン、ｐ‐メトキシフェノール、ジ‐ｔ‐ブチル‐ｐ‐クレゾール、ピロガロール、ｔ‐ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４‐チオビス（３‐メチル‐６‐ｔ‐ブチルフェノール）、２，２‐メチレンビス（４‐メチル‐６‐ｔ‐ブチルフェノール）、又は２‐メルカプトイミダゾール等を用いることができる。
【００５２】
一方、本発明の相変化インク組成物は、融点が５０℃〜１２０℃程度であることが好ましい。相変化インク組成物の融点が上記範囲を外れる場合は、インク液滴の噴射後に固化が迅速に起こらないため、パターンの広がりが発生するか、又は吐出が困難となる可能性がある。
【００５３】
以下では、上述した本発明のフレキシブルカラーフィルタ基板を製造する方法について説明する。
【００５４】
図２には、本発明のフレキシブルカラーフィルタ基板を製造する方法の一実施例が示されている。図２に示されているように、本発明のフレキシブルカラーフィルタ基板は、（１）フレキシブル基板３０上に相変化インク組成物１０を吐出してＲ、Ｇ、Ｂパターンを形成する段階と、（２）上記Ｒ、Ｇ、Ｂパターンを（相変化インク組成物の融点−２０）℃〜（相変化インク組成物の融点＋１５）℃の温度で加圧する段階と、を含んで製造されることができる。
【００５５】
この際、上記フレキシブル基板の種類、相変化インク組成物の成分、含量及び物性は、上述したものと同じであるため、その具体的な説明を省略する。
【００５６】
まず、フレキシブル基板３０上に赤色、緑色、青色着色剤をそれぞれ含む相変化インク組成物を吐出してＲ、Ｇ、Ｂパターンを形成する。この際、上記フレキシブル基板３０は、図２に示されているように裁断された状態の基板であっても良く、図示されてはいないが、長さの長いフレキシブル基板が巻き取られているロールから巻き出されたものであっても良い。この中でも、後者の方が、連続工程であるロールツロール工程に適用可能である点で好ましい。
【００５７】
一方、上記吐出は、インクジェットプリンタのヘッド等を用いて行われることができる。相変化インク組成物が吐出されるためには、インク組成物が液体状態にならなければならないため、インクジェットプリンタのヘッド等を相変化インク組成物の融点以上の温度に加熱することが好ましい。
【００５８】
より具体的には、上記吐出は、上記相変化インク組成物の融点以上の温度、例えば、（相変化インク組成物の融点＋３）℃〜（相変化インク組成物の融点＋８５）℃、又は（相変化インク組成物の融点＋５）℃〜（相変化インク組成物の融点＋７５）℃の温度範囲で行われることが良い。吐出が相変化インクの融点より低い温度で行われる場合は、相変化インクが完全に溶けずに固体状態に残存する可能性があるため、吐出時に吐出部を塞ぐ可能性がある。
【００５９】
より好ましくは、上記吐出は、５０℃〜１６０℃の温度範囲で行われ、例えば、６０℃〜１４０℃、７０℃〜１２５℃の温度で行われることができる。吐出時の温度は、相変化インク組成物の融点、吐出部の種類等によって変わる可能性があるが、装備の価格的な利点を考慮すると、７０℃〜１２５℃程度であることが好ましい。
【００６０】
一方、吐出された相変化インク組成物は、フレキシブル基板と接触し、常温の周囲に熱を奪われながら急速に固化されてＲ、Ｇ、Ｂパターンを形成する。
【００６１】
次に、上記Ｒ、Ｇ、Ｂパターンを加圧する段階を行う。上記加圧する段階は、Ｒ、Ｇ、Ｂパターンの表面の平坦度を向上させるためのものであり、（相変化インク組成物の融点−２０）℃〜（相変化インク組成物の融点＋１５）℃の温度で行われる。
【００６２】
相変化インク組成物で形成されたＲ、Ｇ、Ｂパターンは、比較的均一な線幅を有するが、相変化インク組成物の表面張力及び固化速度の差異によって、パターンの表面が平らでなく凹状又は凸状に形成されやすくなる。しかしながら、このように、Ｒ、Ｇ、Ｂパターンの表面が平らでない場合は、位置による着色剤の濃度が異なってしまい、ディスプレイ画面にムラ現象が発生する可能性がある。したがって、本発明では、インクの塗布後にＲ、Ｇ、Ｂパターンを加圧する段階を行うことにより、Ｒ、Ｇ、Ｂパターンの表面の平坦度を向上させて上記のような問題を解決することができるようにした。
【００６３】
一方、上記加圧する段階は、相変化インク組成物がＲ、Ｇ、Ｂパターンの形状を崩すことなく表面の形態が調節できる程度の柔軟性を有する温度及び圧力範囲で行われなければならない。
【００６４】
好ましくは、上記加圧する段階は、（相変化インク組成物の融点−２０）℃〜（相変化インク組成物の融点＋１５）℃の温度で行われ、例えば、（相変化インク組成物の融点−１５）℃〜（相変化インク組成物の融点＋１０）℃又は（相変化インク組成物の融点−１０）℃〜（相変化インク組成物の融点＋５）℃の温度範囲で行われることができる。上記加圧する段階の温度が上記数値範囲を外れる場合は、柔軟性が十分に付与されないことから平坦面が均一に形成されないか、又は柔軟性が多く付与されることからパターンの形状が崩れてしまい所望の形状のパターンが得られない可能性がある。
【００６５】
一方、上記加圧する段階は、特に限定されず、好ましくは、０．０１〜５０ＭＰａ程度の圧力で行われ、例えば、０．０３ＭＰａ〜３０ＭＰａ、０．０５〜１５ＭＰａ程度の圧力で行われることができる。この際、上記圧力は、設計者が所望するパターンの幅と高さに応じて適宜調節可能であるが、平坦度の向上及びＲ、Ｇ、Ｂパターン間の混色の防止の面で上記圧力範囲を満たすことがより好ましい。
【００６６】
一方、上記加圧する段階は、当該技術分野に広く知られている方法により行われ、例えば、加圧ロール、平板等によって行われることができる。
【００６７】
加圧ロール４０を用いて加圧する段階を行う場合、図２に示されているように加圧ロール４０とフレキシブル基板３０が相対的に移動しながら加圧が行われることができる。この際、上記加圧ロールと基板との相対速度は、好ましくは、１〜１５０ｍ／ｓ程度の進行速度で行われ、例えば、３〜１４０ｍ／ｓ、５〜１３０ｍ／ｓ程度の進行速度で行われることができる。加圧ロールと基板との相対速度が上記数値範囲を外れる場合は、工程速度が遅くなりすぎるか、又は基板の上下に微細な振動が発生するため、パターンが精密に形成されない可能性がある。
【００６８】
一方、図示されてはいないが、上記加圧する段階は、平板によって行われることもできる。この場合、Ｒ、Ｇ、Ｂパターン上に平板を積層した後にプレスする方法により加圧が行われることができる。
【００６９】
一方、本発明の製造方法は、必要に応じて、上記加圧ロール又は平板を用いた加圧段階の前に、Ｒ、Ｇ、Ｂパターンの上部に保護フィルムを積層する段階をさらに含むことができる。上記のように保護フィルムを積層する段階をさらに行う場合、加圧ロールや平板に相変化インク組成物がついて汚染することを防止し、加圧がより均一に行われることができるという長所がある。加圧ロールや平板が相変化インク組成物によって汚染する場合、次のパターンを加圧するときに影響を及ぼして連続的なパターンの形成において不良をもたらす可能性がある。
【００７０】
一方、本発明によるフレキシブルカラーフィルタ基板の製造方法は、上記加圧されたＲ、Ｇ、Ｂパターンを固定させる段階をさらに含むことができる。相変化インクによって形成されたパターンは、温度によって相（ｐｈａｓｅ）が変わる性質があるため、温度変化に弱い可能性がある。したがって、高温の環境に露出する場合は、Ｒ、Ｇ、Ｂパターンに変形が発生してディスプレイ性能が格段に低下する可能性がある。上記加圧されたＲ、Ｇ、Ｂパターンを固定させる段階は、上記のような問題を解決するためのものであり、カラーフィルタの形成が終わったらＲ、Ｇ、Ｂパターンを熱又は光で硬化させて固定させることにより、温度変化によってパターンが変形されることを防止することができる。
【００７１】
本発明において、上記固定させる段階は、光硬化によって行われることができる。このために、上記相変化インク組成物は、光硬化性化合物及び光重合開始剤をさらに含むことができる。添加可能な光硬化性化合物、光重合開始剤の具体的な内容は、上述した通りである。このように相変化インク組成物に光硬化性化合物及び光重合開始剤が含まれている場合、相変化インク組成物で形成されたパターンに紫外線を照射すると、上記光硬化性化合物が硬化されながらパターンが固定されるため、温度が上昇しても相変化が起こらない。
【００７２】
一方、上記光硬化方法は、特に限定されず、当該技術分野によく知られている光硬化方法により行われ、例えば、図２に示されているように光照射装置５０を用いてＲ、Ｇ、Ｂパターンに紫外線を１０ｍＪ／ｃｍ２〜１０００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で１〜１００秒程度照射する等の方法により行われることができる。
【００７３】
上記のような方法により製造された本発明のフレキシブルカラーフィルタ基板は、Ｒ、Ｇ、Ｂパターンの上部表面の平坦度に優れ、ほぼ長方形の断面を有する。より具体的には、本発明のフレキシブルカラーフィルタ基板において、Ｒ、Ｇ、Ｂパターンは、上部表面の算術平均粗さＲａがパターンの高さの５％以下、好ましくは０．１％〜５％程度である。従来の通常のカラーフィルタ製造用インクによって製造されたカラーフィルタ基板のＲ、Ｇ、Ｂパターンの上部表面の算術平均粗さＲａがパターンの高さの１０％以上であることを考慮すると、本発明のフレキシブルカラーフィルタ基板は画素パターンの表面の平坦度に非常に優れることが分かる。このように、本発明のフレキシブルカラーフィルタ基板は、画素パターンの上部表面が平坦であるため、ディスプレイ装置に適用されて均一で鮮明なカラーを具現することができるという長所を有する。
【００７４】
一方、上記算術平均粗さＲａとは、表面の凹凸の程度を示す値であって、測定しようとするパターンの断面の曲線と中心線によって取り囲まれた面積の和を求めてその値を測定区間の長さで割った値のことである。上記算術平均粗さＲａは、当該技術分野によく知られている表面粗さ測定装置、例えば、アルファステップ、３Ｄビューアーのような装置を用いて測定されることができる。
【００７５】
また、本発明のフレキシブルカラーフィルタ基板は、従来の画素部の下端に位置していたブラックマトリックスがないため、画素部内又はピクセルの間に段差が発生せず、画素部内に未充填領域も発生しないため、光漏れ現象が最小化され、優れた光学特性を示す。
【００７６】
一方、上記のような方法によりフレキシブルカラーフィルタ基板を製造する場合、相変化インク組成物の吐出時にドットピッチ又は加圧圧力等を調節することにより、Ｒ、Ｇ、Ｂパターンの線幅及び高さを制御することができるため、解像度の異なる多様なディスプレイ装置に有用に適用されることができる。なお、ディスプレイの解像度が高いほど、Ｒ、Ｇ、Ｂパターンの線幅は小さくなければならないが、本発明のように相変化インクを用いてＲ、Ｇ、Ｂパターンを形成すると、インクの広がり性が低くなるため、狭い線幅のパターンを容易に形成することができる。また、最近、ディバイスの小型化に伴い、カラーフィルタパターンの高さも低くなることが求められているが、本発明によれば、ブラックマトリックスを必要としないため、相対的に低い高さのカラーフィルタパターンの形成が可能となる。
【００７７】
一方、本発明において、それぞれのカラーフィルタ画素パターン（即ち、Ｒ、Ｇ、Ｂパターン）の幅は、特に限定されず、３０μｍ〜２００μｍ程度、例えば、３５μｍ〜１７０μｍ程度又は４０〜１５０μｍ程度であれば良い。
【００７８】
また、上記それぞれのカラーフィルタ画素パターン（即ち、Ｒ、Ｇ、Ｂパターン）の高さは、好ましくは、１μｍ〜１０μｍ程度であり、例えば、１μｍ〜８μｍ、１〜５μｍ程度であれば良い。
【００７９】
また、上記それぞれのパターンの高さ対幅の比は、１：２０〜１：２００程度であれば良く、例えば、１：３０〜１：７０程度又は１：４０〜１：７０程度であれば良い。画素パターンの高さ対幅の比が上記範囲を外れる場合は、パターンの形成が困難となり、ディスプレイ画面における色相具現率が落ちる可能性がある。
【実施例】
【００８０】
以下では、具体的な実施例を挙げて本発明をより具体的に説明する。
【００８１】
実施例１
レッド染料（（ｎｅｏｚａｐｏｎ(r)ｒｅｄ３９５）４０重量％と、トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＴＰＡ）３０重量％と、ジペンタエリトリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）２０重量％と、相変化物質（Ｃ２２ＯＨ）１０重量％とを混合して融点６５℃の相変化インク組成物を製造した。
【００８２】
リザーバ内に上記相変化インク組成物を注入した後、リザーバの温度を７５℃に設定し、ＨＭ‐３０ヘッド（Ｄｉｍａｔｉｘ社、吐出量３０ｐｌ）を用いて印加電圧８０Ｖで２５６個の全ノズルでジェッティングを行った。ＰＥＴフィルム（（株)ＬＡＭＩＡＣＥ）上にジェッティングを行い、ジェッティング時のドットピッチ（ｄｏｔ  ｐｉｔｃｈ）を４０μｍの間隔に設定した。ジェッティングの後、平均５０μｍレベルの線幅と平均１４μｍの高さを有する線パターンが形成された。図３（ａ）には、ジェッティング後に形成されたパターンの形状が示されている。
【００８３】
次に、上記パターンを加圧ロールを用いて６０℃で０．１ＭＰａの圧力で加圧してパターンを平坦化した。図４（ａ）には、加圧後のパターンの形状が示されている。図３（ａ）及び図４（ａ）を参照すると、加圧後のパターンの線幅が広くなったことが分かる。加圧前後のパターンの線幅及び高さは、下記表１の通りである。
【００８４】
実施例２
ドットピッチ（ｄｏｔ  ｐｉｔｃｈ）を２０μｍの間隔に設定した点を除き、実施例１と同じ方式でジェッティングを行い、平均７０μｍレベルの線幅と平均２０μｍの高さを有する線パターニングを形成した。図３（ｂ）には、ジェッティング後に形成されたパターンの形状が示されている。
【００８５】
次に、上記パターンを加圧ロールを用いて６０℃で０．１ＭＰａの圧力で加圧してパターンを平坦化した。図４（ｂ）には、加圧後のパターンの形状が示されている。図３（ｂ）及び図４（ｂ）を参照すると、加圧後のパターンの線幅が広くなったことが分かる。加圧前後のパターンの線幅及び高さは、下記表１の通りである。
【００８６】
実施例３
ドットピッチ（ｄｏｔ  ｐｉｔｃｈ）を１０μｍの間隔に設定した点を除き、実施例１と同じ方式でジェッティングを行い、平均９０μｍレベルの線幅と平均２８μｍの高さを有する線パターニングを形成した。図３（ｃ）には、ジェッティング後に形成されたパターンの形状が示されている。
【００８７】
次に、上記パターンを加圧ロールを用いて６０℃で０．１ＭＰａの圧力で加圧してパターンを平坦化した。図４（ｃ）には、加圧後のパターンの形状が示されている。図３（ｃ）及び図４（ｃ）を参照すると、加圧後のパターンの線幅が広くなったことが分かる。加圧前後のパターンの線幅及び高さは、下記表１の通りである。
【００８８】
【表１】
2014529765.tif 000003
【００８９】
図３、図４及び表１を参照すると、本発明のように相変化インク組成物を用いてパターンを形成する場合は、ドットピッチを調節することにより多様な線幅及び高さを有するパターンを形成することができることが分かる。
【００９０】
実験例１
加圧工程前後のパターンの形状の変化を調べるために、３Ｄビューアーで実施例３の加圧前後のパターンの形状を観察した。図５には、加圧前の実施例３のパターンのイメージ、即ち、図３（ｃ）のパターンを３Ｄビューアーで観察したイメージが示されており、図７には、加圧後の実施例３のパターンのイメージ、即ち、図４（ｃ）のパターンを３Ｄビューアーで観察したイメージが示されている。また、図６には、図５のイメージのＹ方向（Ｙ  ａｘｉｓ）に沿う断面のプロファイルが示されており、図８には、図７のイメージのＹ方向（Ｙ  ａｘｉｓ）に沿う断面のプロファイルが示されている。
【００９１】
図５〜図８を参照すると、相変化インクを用いて画素パターンを形成した直後には、パターンの形状が凸の山形であるため、画素パターンに適合しないが、加圧工程を行った後には、断面の形状がほぼ長方形であり、画素パターンの上部表面の算術平均粗さがほぼ０．５μｍ程度と平坦度に非常に優れたパターンが形成されることが分かる。また、それぞれのパターンの線幅及び高さが位置にかかわらずほぼ均一に形成されたことが分かる。これは、本発明によりカラー画素パターンを形成すると、ブラックマトリックス隔壁を形成しなくても、均一な長方形の画素パターンを形成することができることを示す。
【００９２】
実施例４
レッド染料（ｎｅｏｚａｐｏｎ(r)ｒｅｄ３９５）４０重量％と、トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＴＰＡ）２０重量％と、ジペンタエリトリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）２０重量％と、光重合開始剤（Ｉｇａｃｕｒｅ９０７）１０重量％と、相変化物質（Ｃ２２ＯＨ）１０重量％とを混合して融点６５℃の相変化インク組成物を製造した。
【００９３】
リザーバ内に上記相変化インクを注入した後、リザーバの温度を７５℃に設定し、ＨＭ‐３０ヘッド（Ｄｉｍａｔｉｘ社、吐出量３０ｐｌ）を用いて印加電圧８０Ｖで２５６個の全ノズルでジェッティングを行った。ＰＥＴフィルム（（株)ＬＡＭＩＡＣＥ）上にジェッティングを行い、ジェッティング時のドットピッチ（ｄｏｔ  ｐｉｔｃｈ）を４０μｍの間隔に設定した。ジェッティングの後、平均４５μｍレベルの線幅と平均１５μｍの高さを有する線パターンが形成された。
【００９４】
次に、上記パターンを加圧ロールを用いて６０℃で０．１ＭＰａの圧力で加圧してパターンを平坦化した。
【００９５】
次に、上記パターン上に３９５ｎｍの波長のＵＶ硬化機（Ｐｈｏｓｅｏｎ社）を用いて８Ｗ、４００ｍＷ／ｃｍ２の露光量で２〜３秒間紫外線を照射した。
【００９６】
実験例２
光硬化の有無による耐熱性の差異を観察するために、実施例１及び４によって製造されたカラーフィルタ基板を８０℃のオーブンに１分間露出させた後、画素パターンの形状を観察した。
【００９７】
図９には、実施例１及び４のカラーフィルタ基板を高温に露出させた後のパターンの形状を示す写真が示されている。図９の（ａ）は、実施例４のカラーフィルタ基板のパターンの形状を示す写真であり、図９の（ｂ）は、実施例１のカラーフィルタ基板のパターンの形状を示す写真である。
【００９８】
図９を参照すると、光硬化によるパターン固定段階を経ていない実施例１のカラーフィルタ基板の場合は高温に露出した後にパターンの形状に変化が生じたのに対し、光硬化を行った実施例４のカラーフィルタ基板の場合は高温に露出した後でもパターンの形状に変化がほぼ生じていないことが分かる。
【符号の説明】
【００９９】
１０  相変化インク組成物
２０  インクジェットヘッド
３０  フレキシブル基板
４０  加圧ロール
５０  光照射装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
2014529765.tif 000009
【図７】
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【図８】
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【図９】
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【国際調査報告】
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