(57)【要約】  本発明は、特に１次光源としての半導体光源を含む白色または着色光源のための変換材料に関し、この変換材料は、約１ｍｍの厚さｄを有するバルク材料として用いられるとき、３５０ｎｍから８００ｎｍの波長領域において、また１次光源が発光する領域において、８０％を超える内部透過率τｉを有するマトリックスガラスを含み、発光団を含まない焼結マトリックスガラスの透過率およびリミッタンス（ｒｅｍｉｔｔａｎｃｅ）の合計は、３５０ｎｍから８００ｎｍのスペクトル領域において、また１次光源が発光するスペクトル領域において、少なくとも８０％を超える。
2011518752.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
約１ｍｍの厚さｄのバルク材料として、３５０から８００ｎｍの波長領域において、また１次光源が発光する領域において、８０％を超える、純粋透過率τｉを有し、
ｄ１０≧０．７μｍ、ｄ５０≧３μｍ、およびｄ９０≦１５０μｍという粒径分布を有するマトリックスガラスの粉末から、焼結されたコンパクトとして成形される、
マトリックスガラスを含む、特に１次光源として半導体光源を含む白色または着色光源のための変換材料。
【請求項２】
ルミノフォアを含まない焼結コンパクトとして、３５０ｎｍから８００ｎｍのスペクトル領域において、また１次光源が発光するスペクトル領域において、透過率および反射率の合計が、少なくとも８０％を超え、好ましくは８５％を超え、最も好ましくは９０％を超える、請求項１に記載の変換材料。
【請求項３】
焼結コンパクトのための粒径分布が、３５０から８００ｎｍのスペクトル領域において、Ｔｈａｌｆ：Ｔｆｏｒｗａｒｄの比が、１＜Ｔｈａｌｆ：Ｔｆｏｒｗａｒｄ≦７０であるように選択される、請求項１または２に記載の変換材料。
【請求項４】
３５０から８００ｎｍのスペクトル領域において、また１次光源が発光するスペクトル領域において、このスペクトル領域に渡って確定された反射と透過の差に対する最大および最少の寄与が、４０％以下、好ましくは２５％以下、最も好ましくは１５％以下の差である、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の変換材料。
【請求項５】
焼結状態においてルミノフォアによりドーピングされたマトリックスガラスの反射率が、１次光源が発光するスペクトル領域において、３０％未満、好ましくは２５％未満、最も好ましくは１５％未満であり、
焼結状態においてルミノフォアによりドーピングされたマトリックスガラスの透過率と反射率の合計が、１次光源が発光するスペクトル領域を除いて、３５０ｎｍから８００ｎｍのスペクトル領域において、少なくとも８０％を超え、好ましくは８５％を超え、最も好ましくは９０％を超える、
請求項１乃至４のいずれか１項に記載の変換材料。
【請求項６】
１μｍと５０μｍの間、特に好ましくは１μｍと２０μｍの間、最も好ましくは１μｍと１５μｍの間の平均直径ｄ５０を有する粒径をもつ少なくとも１種のルミノフォアを含む、請求項１乃至５のいずれか１項に記載の変換材料。
【請求項７】
３００ｎｍ未満、特に好ましくは１００ｎｍ未満、最も好ましくは４０ｎｍ未満の平均直径ｄ５０を有する粒径をもつ少なくとも１種のルミノフォアを含む、請求項１乃至６のいずれか１項に記載の変換材料。
【請求項８】
３５０から８００ｎｍのスペクトル領域において、但し１次光源が発光する領域を除いて、このスペクトル領域に渡って確定された反射と透過の差に対する最大および最少の寄与が、４０％以下、好ましくは２５％以下、最も好ましくは１５％以下の差である、請求項１乃至７のいずれか１項に記載の変換材料。
【請求項９】
ガラスマトリックスに埋め込まれたルミノフォアの内部変換量子収率が、埋め込まれていないルミノフォアの内部変換収率に対して、２０％以下、好ましくは１０％以下、最も好ましくは５％以下の低下である、請求項１乃至８のいずれか１項に記載の変換材料。
【請求項１０】
マトリックスガラスが、バルク材料として、１．６以上、好ましくは１．６５から２．０、最も好ましくは１．８から１．９５の屈折率を有する、請求項１乃至９のいずれか１項に記載の変換材料。
【請求項１１】
少量の亜鉛を含むランタンホウケイ酸塩ガラス、少量のイットリウムを含むアルミニウムホウケイ酸塩、およびアルカリ土類ケイ酸塩を含む、請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の変換材料。
【請求項１２】
それぞれの場合に、重量パーセントで、
【表１】
2011518752.tif 000025
を含むマトリックスガラスによる、請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の変換材料。
【請求項１３】
それぞれの場合に、重量パーセントで、
【表２】
2011518752.tif 000026
を含むマトリックスガラスによる、請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の変換材料。
【請求項１４】
それぞれの場合に、重量パーセントで、
【表３】
2011518752.tif 000027
を、
好ましくは、それぞれの場合に、
【表４】
2011518752.tif 000028
を含むマトリックスガラスによる、請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の変換材料。
【請求項１５】
マトリックスガラスが、バルク材料として、１．６未満、好ましくは１．４３から１．６、最も好ましくは１．４５から１．５９の屈折率を有する、請求項１乃至９のいずれか１項に記載の変換材料。
【請求項１６】
リン酸亜鉛、ホウケイ酸塩、アルミニウムホウケイ酸塩、および／またはアルカリ土類ケイ酸塩を含むマトリックスガラスによる、請求項１乃至９または１５のいずれか１項に記載の変換材料。
【請求項１７】
それぞれの場合に、重量パーセントで、
【表５】
2011518752.tif 000029
を含み、
好ましくは、それぞれの場合に、
【表６】
2011518752.tif 000030
を含むマトリックスガラスによる、請求項１乃至９、１５または１６のいずれか１項に記載の変換材料。
【請求項１８】
それぞれの場合に、重量パーセントで、
【表７】
2011518752.tif 000031
を含み、
好ましくは、それぞれの場合に、
【表８】
2011518752.tif 000032
を含むマトリックスガラスによる、請求項１乃至９、１５または１６のいずれか１項に記載の変換材料。
【請求項１９】
それぞれの場合に、重量パーセントで、
【表９】
2011518752.tif 000033
を含み、
好ましくは、それぞれの場合に、
【表１０】
2011518752.tif 000034
を含むマトリックスガラスによる、請求項１乃至９、１５または１６のいずれか１項に記載の変換材料。
【請求項２０】
それぞれの場合に、重量パーセントで、
【表１１】
2011518752.tif 000035
を含むマトリックスガラスによる、請求項１乃至９、１５または１６のいずれか１項に記載の変換材料。
【請求項２１】
それぞれの場合に、重量パーセントで、
【表１２】
2011518752.tif 000036
を含むマトリックスガラスによる、請求項１乃至９、１５または１６のいずれか１項に記載の変換材料。
【請求項２２】
製造可能性の最低限の必要条件は、変換材料が、その製造後に、請求項４に記載の特徴を有するということでありながら、Ｔｌ２Ｏ、ＴｅＯ２、およびＡｓ２Ｏ３を使用せず、好ましくはまた、Ｂｉ２Ｏ３および／またはＰｂＯ成分も含まない、そのマトリックスガラスの製造可能性をさらに特徴とする、請求項１乃至２１のいずれか１項に記載の変換材料。
【請求項２３】
ホスト材料として、酸化物、窒化物、オキシ窒化物、硫化物、オキシ硫化物、ハロゲン化物、ハロゲン酸化物、ハロゲン硫化物、テルル化物、およびセレン化物を含む群からの少なくとも１種の物質を含み、該ホスト材料が、希土類（Ｃｅ、Ｅｕ、Ｔｂ、Ｇｄ、・・・）、遷移金属（Ｃｒ、Ｍｎ）、および重金属（Ｔｌ、Ｂｉ）を含む群からの少なくとも１種の物質によりドーピングされているルミノフォアを含む、請求項１乃至２２のいずれか１項に記載の変換材料。
【請求項２４】
マトリックスガラス、特に請求項１乃至２３のいずれか１項に記載の特性を有するマトリックスガラスを準備すること、
マトリックスガラスを、粒径ｄ１０≧０．７μｍ、ｄ５０≧３μｍ、およびｄ９０≦１５０μｍの粒径分布を有する粉末に粉砕すること、
粉砕されたマトリックスガラスを、粉末状で存在するルミノフォアと混合すること、
粉末状で存在するルミノフォアと混合された、粉砕されたマトリックスガラスを、プレスすること、
さらには、マトリックスガラスとルミノフォアを含む、プレスされた混合物を焼結すること
を含む、変換材料、特に請求項１乃至２３のいずれか１項に記載の特徴を有する変換材料の製造方法。
【請求項２５】
特に、窒素、生成ガス、および／またはアルゴンによって、または低下した圧力として与えられる、特定の雰囲気において焼結することをさらに特徴とする、請求項２４に記載の方法。
【請求項２６】
特に、窒素、生成ガス、および／またはアルゴンによって、または低下した圧力として与えられる、好ましくは特定の雰囲気における、ルミノフォアの前熱処理をさらに特徴とする、請求項２４または２５に記載の方法。
【請求項２７】
マトリックスガラスおよびルミノフォアを含むプレスされた混合物の加圧焼結をさらに特徴とする、請求項２４乃至２６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２８】
加圧焼結が、１００から３０００ｂａｒ、好ましくは５００から２５００ｂａｒ、特に好ましくは５００から１５００ｂａｒの範囲の圧力で実施されることをさらに特徴とする、請求項２４乃至２７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２９】
ルミノフォアの表面への保護層の形成をさらに特徴とする、請求項２４乃至２８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項３０】
最終加工され、好ましくは後加工された変換要素への保護層の形成をさらに特徴とする、請求項２４乃至２９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項３１】
保護層が、湿式化学法、ゾル−ゲル法、ＰＶＤおよび／またはＣＶＤによって形成されることをさらに特徴とする、請求項２９または３０に記載の方法。
【請求項３２】
１μｍと５０μｍの間、特に好ましくは１μｍと２０μｍの間、最も好ましくは１μｍと１５μｍの間の粒径平均直径ｄ５０を有する粒径をもつルミノフォア、例えばＣｅ：ＹＡＧが用いられる、請求項２４乃至３１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項３３】
３００ｎｍ未満、特に好ましくは１００ｎｍ未満、最も好ましくは４０ｎｍ未満の粒径平均直径ｄ５０を有する粒径をもつルミノフォアが用いられる、請求項２４乃至３２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項３４】
焼結が、マトリックスガラスおよびルミノフォアを含む混合物をプレスした後、出発ガラスにそれらの軟化点の点で適合した温度および／または時間要件（加熱速度および保持時間）で行われる、請求項２４乃至３３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項３５】
焼結が、マトリックスガラスおよびルミノフォアを含むプレスされた混合物を、マトリックスガラスの軟化温度ＥＷと加工温度Ｖａの間の範囲にある目標温度に、好ましくは、軟化温度より高く、軟化温度より約１５０Ｋ高い温度までの温度範囲にある目標温度に加熱することを含む、請求項２４乃至３４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項３６】
用いられるガラスの粘度が、ｈ＝１０１４ｄＰａｓとｈ＝１０６ｄＰａｓの間、好ましくは、ｈ＝１０１３．５ｄＰａｓとｈ＝１０７ｄＰａｓの間、特に好ましくは、ｈ＝１０１０ｄＰａｓとｈ＝１０７ｄＰａｓの間の範囲にあるような温度で焼結が実施される、請求項２４乃至３４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項３７】
加熱の間、１Ｋ／分から３０Ｋ／分、好ましくは１Ｋ／分から２０Ｋ／分、最も好ましくは１Ｋ／分から１０Ｋ／分の加熱速度が用いられる、請求項２４乃至３６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項３８】
マトリックスガラスおよびルミノフォアを含む、プレスされ加熱された混合物が、その冷却の前に、ほぼ目標温度で、０から６０分、好ましくは０から３０分、最も好ましくは１０から３０分の時間、保持され、その後、室温まで冷却される、請求項２４乃至３７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項３９】
さらなるアニーリング、すなわち、マトリックスガラスおよびルミノフォアを含む、プレスされ焼結された混合物の、温度支援、および任意選択で圧力支援処理を、さらに特徴とする、請求項２４乃至３８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項４０】
さらなるアニーリングが２回目の焼結であることをさらに特徴とする、請求項３９に記載の方法。
【請求項４１】
さらなるアニーリングが、２５０から２５００ｂａｒ、好ましくは５００から１５００ｂａｒの範囲の圧力で実施されることをさらに特徴とする、請求項３９または４０に記載の方法。
【請求項４２】
用いられるガラスの粘度が、ｈ＝１０１４ｄＰａｓとｈ＝１０６ｄＰａｓの間、好ましくは、ｈ＝１０１３．５ｄＰａｓとｈ＝１０７ｄＰａｓの間、特に好ましくは、ｈ＝１０１０ｄＰａｓとｈ＝１０７ｄＰａｓの間の範囲にあるような温度で、さらなるアニーリングが実施されることをさらに特徴とする、請求項３９乃至４１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項４３】
さらなるアニーリングが、３０から６００分、好ましくは６０から３００分、特に好ましくは１００から１８０分の保持時間で実施されることをさらに特徴とする、請求項３９乃至４２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項４４】
請求項１乃至２３のいずれか１項に記載の特徴を好ましくは備え、請求項２４乃至４３のいずれか１項に記載の特徴を有する方法によって製造される、または製造できる、変換材料。
【請求項４５】
請求項１乃至２３のいずれか１項に記載の変換材料の特徴を好ましくは備え、また請求項２４乃至４３のいずれか１項に記載の特徴を有する方法によって好ましくは製造される、または製造できる変換材料を有し、
２２５ｎｍから５２０ｎｍ、好ましくは３５０ｎｍから４８０ｎｍの領域の波長を有し、最も好ましくは４００ｎｍから４８０ｎｍの領域の波長を有する光を放出する、１次光源、特に１次光源としての半導体光源を有する、
光源、特に白色または着色光源。
【請求項４６】
１次光源がＬＥＤを含み、それが、４００ｎｍから４８０ｎｍ、好ましくは４２０ｎｍから４８０ｎｍの領域の波長を有する光を放出する、請求項４５に記載の光源。
【請求項４７】
１次光源が、ＵＶ  ＬＥＤを含み、それが、２３５ｎｍから４００ｎｍ、好ましくは３６５ｎｍから４００ｎｍの領域の波長を有する光を放出する、請求項４５に記載の光源。
【請求項４８】
１次光源が、半導体レーザーダイオードを含み、それが、４００ｎｍから４８０ｎｍの領域の波長を有する光を放出する、請求項４５に記載の光源。
【請求項４９】
特に、１次光源を選択することによって、１種または複数のルミノフォアを選択することによって、さらには、ルミノフォアの濃度および／またはコンバーター材料の厚さを調節することによって、該光源により、（Ｘ，Ｙ）色空間における次の色座標：
Ａ＝（０．１６，０．０２）
Ｂ＝（０．０５，０．３０）
Ｃ＝（０．０２，０．７６）
Ｄ＝（０．２１，０．７６）
Ｅ＝（０．７２，０．２８）
で発光でき、
また、こうして、ＡＢＣＤＥを横切る多角形内の色空間が定まり、その内部で、本質的に全ての色座標の光を該光源によって発光できる、請求項４５乃至４８のいずれか１項に記載の光源。
【請求項５０】
特に、１次光源を選択することによって、１種または複数のルミノフォアを選択することによって、さらには、ルミノフォアの濃度および／またはコンバーター材料の厚さを調節することによって、該光源により、色空間における次の色座標（Ｘ，Ｙ）：
Ｆ＝（０．２８，０．２４）
Ｇ＝（０．３７，０．３５）
Ｈ＝（０．３７，０．４０）
Ｉ＝（０．２４，０．２８）
で発光でき、
また、こうして、ＦＧＨＩを横切る多角形内の色空間が定まり、その内部で、本質的に全ての色座標の光を該光源によって発光できる、請求項４５乃至４８のいずれか１項に記載の光源。
【請求項５１】
特に、１次光源を選択することによって、１種または複数のルミノフォアを選択することによって、さらには、ルミノフォアの濃度および／またはコンバーター材料の厚さを調節することによって、該光源により、色空間における次の色座標（Ｘ，Ｙ）：
Ｊ＝（０．３７，０．３５）
Ｋ＝（０．３７，０．４２）
Ｌ＝（０．５０，０．４５）
Ｍ＝（０．５０，０．３８）
で発光でき、
また、こうして、ＪＫＬＭを横切る多角形内の色空間が定まり、その内部で、本質的に全ての色座標の光を該光源によって発光できる、請求項４５乃至４８のいずれか１項に記載の光源。
【請求項５２】
特に、１次光源を選択することによって、１種または複数のルミノフォアを選択することによって、さらには、ルミノフォアの濃度および／またはコンバーター材料の厚さを調節することによって、該光源により、色空間における次の色座標（Ｘ，Ｙ）：
Ｎ＝（０．２１，０．７６）
０＝（０．６６，０．３４）
Ｐ＝（０．６０，０．３４）
Ｑ＝（０．１５，０．７６）
で発光でき、
また、こうして、ＮＯＰＱを横切る多角形内の色空間が定まり、その内部で、本質的に全ての色座標の光を該光源によって発光できる、請求項４５乃至４８のいずれか１項に記載の光源。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、特に半導体光源を含む白色または着色光源のための、変換材料、さらには、前記変換材料を含む光源に関する。
【０００２】
本発明は、特に、１次光源（この光源における１次放射は例えば青色光を含み得る）の放射の、別の波長の光（これは以下では２次放射とも呼ばれ、例えば１次放射と重複する黄色光を含み得る）への、少なくとも部分的な変換のための変換材料を提供しようとするものであり、場合によっては広帯域の２次放射は、着色または白色光を生成できる。
【０００３】
変換材料の適切な選択およびシステム全体の調整により、この光源の光の色または色座標を調節することが可能である。
【背景技術】
【０００４】
１次光源の放射を他の波長の光に変換するために用いられるのは、発色団（発光団）であり、これらは、また、慣習的に、「蛍光体」とも呼ばれている。これらの発色団は、通常、マトリックスに埋め込まれており、このマトリックスは１次光の放射を伝播する。変換の度合いは、変換材料の厚さと、発色団を伴う１種または複数のドーピングの種類および濃度とによって調節できる。
【０００５】
放出される光の色座標は、この場合、変換の度合いを通じて、一定の範囲内で調節できるので、白色光が生成されるとき、得られる全放射の暖色および寒色のいずれの白色点も可能になる。
【０００６】
例えば、青色光（これは、１次光源から放出される）と、黄色光（これは、１次光源の青色光の変換によって生成される）とを重ね合わせることによる白色光の生成は、しばらく前から知られている。
【０００７】
現在、確立されている技術的解決策は、ポリマーマトリックスに存在し、束縛された蛍光体に基づいており、ポリマーマトリックスは、通常、エポキシ樹脂またはシリコーンからなる。
【０００８】
これらの実施形態の場合における欠点は、特に、環境条件、例えば、湿気および放射、とりわけ短波長（ＵＶ）に対する、および、例えば１２０℃を超える高められた温度に対する、ポリマーの脆弱さである。独立に、または組み合わされて発生するとき、これらには光学ポリマー特性の低下、または経年劣化を引き起こし、これらは、どの場合でも、すでに、ある程度、最適ではない。膨潤、かすみ、変色（黄色化、茶色化）、または、それどころか、続いて起こるポリマーの分解によって、これらの使用された光学システムの性能および耐用年数は、ひどく損なわれる。
【０００９】
ＬＥＤおよびレーザーダイオード（ＬＤ）に基づく半導体光源の性能容量、特に光出力が増すにつれ、これらの光源の性能の向上が、とりわけ、大きな許容出力密度および大きな電流を有する半導体システムのため、システム全体が、一層大きな放射出力だけでなく、また一層大きな熱負荷にも曝されるという理由で、熱安定性が益々重要性を呈する。
【００１０】
現在すでに普通に見られる温度レベルは、約１５０℃と１５０℃を著しく超える範囲にあり、ある場合には、実に１８０℃を超え、２００℃を超える温度に向かう明らかな傾向を辿る。したがって、数万時間以上の長期使用では、ポリマーは、現在、すでにそれらの適用の限界にあり、このような光源の耐用年数を制限するパラメータとして分類されうる。
【００１１】
ＥＰ  ０  ９３６  ６８２  Ｂ９（Ｎｉｃｈｉａ、「Ｌｉｇｈｔ  ｅｍｉｔｔｉｎｇ  ｄｅｖｉｃｅ  ａｎｄ  ｄｉｓｐｌａｙ  ｄｅｖｉｃｅ」）において、ＧａＮ系青色発光ダイオード（ＬＥＤ）が、変換のための黄色蛍光発色団と共に、１次光源として記載され、この発色団は、（Ｙ１−ｒＧｄｒ）３Ａｌ５Ｏ１２：Ｃｅ（ｒは０と１の間）に基づく。透明材料、例えば、エポキシ樹脂、ユリア樹脂、シリコーン樹脂、またはガラスが、発色団を埋め込むためのマトリックスとして用いられる。しかし、この場合、ポリマーの前記欠点の全てが現れる。この文書では、例えば特定の組成のＺｎリン酸塩の場合に起こるような、例えば発色団との反応性、例として、この環境におけるレドックス反応、および固有の着色（これらは、全光源の変換および性能特性に負の影響を及ぼす）のような、特定のタイプのガラスに固有の欠点に考慮が払われていない。
【００１２】
ＵＳ  ２００６／０１１３９０６  Ａｌ（Ｎｉｃｈｉａ、「Ｌｉｇｈｔ  ｅｍｉｔｔｉｎｇ  ｄｅｖｉｃｅ  ａｎｄ  ｍｅｔｈｏｄ  ｏｆ  ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇ  ｔｈｅｒｅｏｆ」）は、発光チップを保護および被覆するためのガラス板を有し、ガラスが、必須でＢ２Ｏ３（２０〜３０ｗｔ％）およびＺｎＯ（５０〜６０ｗｔ％）と、任意選択で、ＳｉＯ２（０〜１０ｗｔ％）および／またはＴｉＯ２（０〜１０ｗｔ％）および／または他の成分とからなり、２００℃と７００℃、好ましくは４３０℃と６００℃の間にガラス温度Ｔｇを有し、光変換のための蛍光物質を含み得る、ダイオードを記載する。ガラス板は半導体チップのカバーとして記載され、ガラス板はチップから離して配置される。さらに、このガラスは発色団を含み得ると記載されているが、例えば、Ｃｅ：ＹＡＧ、および他の発色団は、カバーとしてここに記載されているガラス板を得るために必要であると思われる、ガラス溶融物中に加工することが不可能であることを、経験は示しているのに、このガラスが、この発色団を用いて如何にして製造されるかに、全く考慮が払われていない。通常の熱処理の間に、ガラスと発色団との間には相互の化学反応に向かう傾向が、２つの成分が、この点で、互いに、明らかに調和しない限り、通常存在する。さらに、それぞれの場合に、その発色団を含むガラスの具体的設計において、固有の着色、さらには偏析が、起こり得る。
【００１３】
ＥＰ  １  ４７１  ７７７  Ａ２に記載されているのは、Ｃｅにより活性化され、また、ガーネット構造（この構造では、テルビウムおよびＹ、Ｌｕ、Ｓｃ、Ｌａ、Ｇｄ、またはＳｍが、ホスト格子の主な成分である）を有する発色団である。用いられるシーリングコンパウンドは、すでに記載された欠点の全てを有するポリマーを含む。
【００１４】
ＤＥ  １０  １３７  ６４１  Ａｌは、ガラス体でできている、発色団を埋め込むためのドーム形マトリックスを記載する。１次光を放出するチップと、発色団が埋め込まれたドームとの間に、くぼみがあり、これは、高屈折率を有する光学的に透明な媒体で満たされる。このドームは、ガラスからなっていてよく、ガラスは、発光団、蛍光ガラス、または蛍光ガラスセラミックを含み得る。発光団が基本的に如何にしてガラスに埋め込まれるかは記載されているが、不適切なガラスの場合に、発光団が、埋め込み工程の間に攻撃され、そのために、その変換特性を、少なくとも部分的に、またはそれどころか完全に失い、ガラスの透過性がこの工程によって悪影響を受け、それゆえに、この場合、固有の着色に向かう著しい傾向が存在するために、ＬＥＤの効率がひどく低下し得るという事実に考慮が払われていない。
【００１５】
ＤＥ  １０２００５０２３１３４は、ガラスマトリックスに埋め込まれた発光団の使用を記載する。ガラスマトリックスとして記載されているのは、２種類のガラス、ホウ素クラウンガラス（例えば１６〜２５％のＫ２Ｏを含む）およびランタンクラウンガラス（例えば５〜２５％のＴｈＯ２を含む）である。この公開文書においてもやはり、ガラスコンバーターシステムの製造可能性が考慮されておらず、１次光源およびコンバーターを含む、システム全体への、予想される負の影響が依然として存在する。さらに、ホウ素クラウンガラスのために、高いアルカリ含量、および、特に比較的高温での、半導体へのアルカリの移動（これは、耐用年数にとってひどく不利である）の理由で、チップとコンバーターとの間の負の相互作用が予想される。そこに挙げられているランタンクラウンガラスは、ＴｈＯ２の含量によって、思わしくないものとして特徴付けられ、さらに、用いられる原材料のために、高価である。製造、使用、およびリサイクルの間のその環境適合性は、さらなる深刻な問題を提出する。
【００１６】
ＵＳ  ６，６４２，６１８  Ｂ２は、ゾル−ゲル・ガラスからなる層の使用を記載し、このガラスは、変換材料として、蛍光物質によりドーピングされている。蛍光物質として用いられるのは、（Ｓｒ、Ｂａ、Ｃａ）Ｇａ２Ｓ４：Ｅｕ２＋のタイプの硫化物である。ゾル−ゲル法によって製造されるガラスは、ＰｂＯ、Ｇａ２Ｏ３、Ｂｉ２Ｏ３、ＣｄＯ、ＺｎＯ、ＢａＯ、およびＡｌ２０３の群からの少なくとも１種の成分を含む。ゾル−ゲル法は、今度は、１０μｍ未満の厚さを有する非常に薄い層だけが、成形体で作製できるので、コンバーターおよびそれ自体の、変動性に関する欠点を伴う。ゾル−ゲル法による固体成形体の作製は、原理的には可能であるが、２４時間を超える長い乾燥時間（これは、多くの重要な用途にとって、費用が掛かり、実行不可能であるという評価を生じる）のために、それは厄介である。さらに、知られている前記ガラスは、また、ＲｏＨＳにより禁止された成分を含む。
【００１７】
ＲｏＨＳ（英語では、Ｒｅｓｔｒｉｃｔｉｏｎ  ｏｆ  ｔｈｅ  ｕｓｅ  ｏｆ  ｃｅｒｔａｉｎ  ｈａｚａｒｄｏｕｓ  ｓｕｂｓｔａｎｃｅｓ  ｉｎ  ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌ  ａｎｄ  ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ  ｅｑｕｉｐｍｅｎｔ）は、要するに、電気・電子機器および部品の製造および加工において特定の物質を禁止するＥＣ指令２００２／９５／ＥＣ、さらには、国家の法律における、指令の個々の実施を表し、その法律は、それぞれ、最大で０．０１重量パーセントのカドミウム、最大で０．１重量パーセントの鉛、水銀、６価クロム、ＰＢＢ、およびＰＢＤＥを許容する。
【００１８】
ゾル−ゲル層のこの厚さは、同様に、発光団でドーピングされる能力を制限し、結果的に、非常に限定された数の妥当な色座標、とりわけ、青色に偏った色の印象を有するものだけを作製できるので、システムの有効性は上限を有する。目の感度の低下のために、青色部分は、全体の明度に僅かしか寄与しない。通常のゾル−ゲル前駆体の組成は、それらのタイプに応じて、化学的に非常に攻撃的な物質もまた含み（注目すべき濃度の鉱酸）、その製造中にチップが損傷され得るという、可能性を少なくとも伴う。
【００１９】
ＥＰ  １  ６０５  ５２６  Ａは、埋め込まれた変換材料を含むガラス板の使用、さらには、これらの板の分割、およびドームへのそれらの加工を記載する。マトリックスガラスは、ＧｅＯ２、ＴｅＯ２、ＰｂＯ、ＣａＯ、およびＢ２０３の群からの少なくとも１つの成分を含む。しかし、前記の問題を含めて、欠点には、ＲｏＨＳによる禁止を受けるＰｂ含量、さらには高価なＧｅＯ２および毒性のＴｅＯ２原材料の使用が含まれる。
【００２０】
日本の公開特許公報：２００７−１２３４１０は、蛍光体が埋め込まれた高屈折性ガラスで覆われた発光ダイオードを記載する。ドーピングされたガラスは、粉末にしたガラス破片と個々の蛍光体との共同（同時）融解によって得られる。用いられるガラスは、ＴｅＯ２（４０〜５３ｍｏｌ％）、Ｂ２Ｏ３（５〜３０ｍｏｌ％）、およびＺｎＯ（３〜２０ｍｏｌ％）を必ず含み、さらには、任意選択で、Ｇａ２Ｏ３、Ｂｉ２Ｏ３、ＧｅＯ２、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、Ｇｄ２Ｏ３（０〜７ｍｏｌ％）、およびＴａ２Ｏ５を含む。一方では、Ｂｉ２Ｏ３およびＴｅＯ２含量による、このガラスに固有の着色のリスク、また他方では、すでに上に記載された欠点、さらには、高価、および、ある程度は毒性の原材料（ＴｅＯ２、Ｇａ２Ｏ３、Ｂｉ２Ｏ３、ＧｅＯ２）の使用（これらは、一部は、高い比率で存在する）は、その商業的使用にとって極めて不利である。さらに、特定の場合におけるその商業的適用は、偏析／結晶化の高い傾向のために、問題である。
【００２１】
日本の公開特許公報：２００７−０１６１７１は、７００℃以上の軟化点を有し、窒化物系蛍光材料がその中に分散したオキシ窒化物ガラスからなる波長変換材料を記載し、この発光団は溶融物に前もって添加されるか、さもなければ、ガラス自体を発光団から実用的に製造することが可能である。反応性および固有の着色のような欠点が、ここでも同様に存在する。高められた相互の反応性が、特に、６００℃を超える温度で、高められた温度要件（ｒｅｇｉｍｅｎ）において、予想される。さらに、オキシ窒化物ガラスの製造は、例えばケイ酸塩ガラスの製造に比べて、複雑であり、費用が掛かる。
【００２２】
ＷＯ  ２００７／１４５０４７  Ａｌに開示されているのは、主成分がＳｎＯ、Ｂ２Ｏ３、およびＰ２Ｏ５、ならびにそれに分散した窒化物系蛍光材料を含む低融点ガラスからなる波長変換材料である。ここに記載されているガラスまたはガラス類は、Ｐ２Ｏ５含量のために着色する傾向があり、したがって、少なくとも特定の組成では、効果的な波長コンバーターの製造には不適切である。
【００２３】
ＥＰ  １  ８８０  ９８３は、コンポジット材料を記載し、これは、発光団とブレンドしたガラス粉末を混合し、焼き固めることによって得られる。このようにして製造されるコンバーターは、少なくとも１０％のエネルギー変換効率を達成する。記載のガラスは−すでに挙げたものの多くが含むように−例えば、ＺｎＯ、Ｂ２Ｏ３、およびアルカリを大きな比率で含み、それに伴う欠点を有する。記載の組成範囲および記載の製造方法は、特に、固有の着色の可能性をもたらす。したがって、システム全体の効率は、低下し、大きくても、１０％の特許請求範囲の限界を僅かに超える値であり得る。
【００２４】
要約すると、先行技術は、発光団およびマトリックス材料を含む波長コンバーターを有する、ＬＥＤまたはレーザーダイオード光源に基づく光源を記載し、これらの光源では、特に、マトリックス材料は固有の弱点および欠点を有する。ポリマーの場合には、これらは、特に、熱負荷および環境の影響に対するそれらの不安定性、さらにはそれらの比較的低い屈折率がある。
【００２５】
挙げられた無機マトリックス材料の場合には、これらの欠点には、以下が含まれる。
・埋め込まれる発光団との化学反応性、これは、特に、高められた温度（ガラス質マトリックス）または高温（セラミックマトリックスもしくは溶融ガラス）でのコンバーターの製造工程の間に、蛍光体の蛍光特性に有害な影響を及ぼす、あるいはそれらの特性を無くしてしまう（例えばＣｅ：ＹＡＧのような、熱安定性が工程温度を超えている蛍光体でさえも）。
・コンバーターの製造の間の発光団の損傷。
・それらを製造できるかを左右する、マトリックスの個々の成分の毒性。
・特殊な、またそれゆえに費用の掛かる合成、これらは、同様に、特殊な製造方法を必要とし、それは少量だけが製造されるので、今度は、コストを上昇させるように作用する。
・マトリックスガラスの高価な組成。
・記載されているマトリックス材料、ガラス、およびガラス類の、それらのアニーリング、粉末からの融解または再融解の後の、固有の着色の少なくとも可能性としての危険性。
【００２６】
別々に、または合わせると、これらは、光出力の低い非効率コンバーターに、または機能しない例にさえ導き、このことは、本発明者が、前記ガラスおよびガラス類のいくつかについての、本発明者自身の実験によって実証することができた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００２７】
【特許文献１】ＥＰ  ０  ９３６  ６８２  Ｂ９
【特許文献２】ＵＳ  ２００６／０１１３９０６  Ａｌ
【特許文献３】ＥＰ  １  ４７１  ７７７  Ａ２
【特許文献４】ＤＥ  １０  １３７  ６４１  Ａｌ
【特許文献５】ＤＥ  １０２００５０２３１３４
【特許文献６】ＵＳ  ６，６４２，６１８  Ｂ２
【特許文献７】ＥＰ  １  ６０５  ５２６  Ａ
【特許文献８】日本の公開特許公報：２００７−１２３４１０
【特許文献９】日本の公開特許公報：２００７−０１６１７１
【特許文献１０】ＷＯ  ２００７／１４５０４７  Ａｌ
【特許文献１１】ＥＰ  １  ８８０  ９８３
【特許文献１２】庁内整理番号（ｉｎｔｅｒｎａｌ  ｆｉｌｅ  ｒｅｆｅｒｅｎｃｅ）０８ＳＧＬ００２０ＤＥＰもしくはＰ  ３１５６を有し、「Ｏｐｔｉｋ−Ｋｏｎｖｅｒｔｅｒ−Ｓｙｓｔｅｍ  ｆｕｒ  （Ｗ）ＬＥＤｓ（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｃｏｎｖｅｒｔｅｒ  Ｓｙｓｔｅｍ  ｆｏｒ  （Ｗ）ＬＥＤｓ）」という名称の出願
【特許文献１３】庁内整理番号０８ＳＧＬ００６０ＤＥＰもしくはＰ  ３０６３を有し、「Ｇｅｈａｕｓｅ  ｆｕｒ  ＬＥＤｓ  ｍｉｔ  ｈｏｈｅｒ  Ｌｅｉｓｔｕｎｇ（Ｈｏｕｓｉｎｇ  ｆｏｒ  ＬＥＤｓ  ｗｉｔｈ  Ｈｉｇｈ  Ｐｏｗｅｒ）」という名称の出願
【非特許文献】
【００２８】
【非特許文献１】ＥＣ指令２００２／９５／ＥＣ
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００２９】
本発明は、異なる波長の光、またはそれらのスペクトル曲線に関して特徴の異なるスペクトルの光を加法混色することによって、白色または着色光を生成するための、少なくとも１種の発光団が埋め込まれたマトリックスガラスを有する無機波長変換材料を提供しようとするものである。
【課題を解決するための手段】
【００３０】
この問題は、請求項１に記載の特徴を有する変換材料によって解決され、その材料は、好ましくは、方法２２の特徴を有する方法に従って製造される。利点のある実施形態は、個々の従属請求項の主題である。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】、図１は、積分球３による、マトリックスガラスの試料２の、パラメータＴｈａｌｆ（上）およびＴｆｏｒｗａｒｄ（下）の測定を示す。
【図２】図２は、粒子の直径の関数としての、粒径分布の累積値を示す。
【図３】図３は、実施例ＩからＩＩＩについて、光の波長の関数としての透過ＴｈａｌｆおよびＴｆｏｒｗａｒｄを示す。
【図４】図４は、実施例ＩＶおよびＶについて、光の波長の関数としての透過ＴｈａｌｆおよびＴｆｏｒｗａｒｄを示す。
【図５】図５は、Ｔｈａｌｆ／Ｔｆｏｒｗａｒｄの比を示す。
【発明を実施するための形態】
【００３２】
前記変換材料はガラスを含み、このガラスは、以後、マトリックスまたはマトリックスガラスとも呼ばれる。マトリックスガラスの出発材料は、バルク／嵩のある材料の状態で、またはそれから得られる、ほぐれた粉末として存在する。
【００３３】
前記バルク材料または嵩のある材料は、その製造後の、すなわち、その融解後で、フリットの生成前および／またはガラスを粉末に粉砕する前のマトリックスガラスを表す。したがって、バルク材料は、成形体（ｃｏｍｐａｃｔ）、または溶融ガラス体である。それは、均一な密度の固体の材料または物体である。バルク材料は、例えば、ガラス板またはガラスブロックとして存在し得る。
【００３４】
本発明の骨格として特に存在するのは、変換材料であり、これは、約１ｍｍの厚さｄを有するバルク材料として、３５０ｎｍから８００ｎｍの波長領域において、および１次光源が発光する領域において、８０％を超える、純粋透過率（ｐｕｒｅ  ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ）τｉを有する、マトリックスガラスを含み、
ここで、マトリックスガラスは、粒径ｄ１０≧０．７μｍ、ｄ５０≧３μｍ、およびｄ９０≦１５０μｍという粒径分布を有する粉末から、焼結されたコンパクトとして、構築される。その使用される準備の整った状態において、変換材料は、少なくとも１種の発光団をさらに含む。そのとき、この少なくとも１種の発光団は、マトリックスガラスに埋め込まれている、または組み込まれている。
【００３５】
コンバーターは、特に、１次光源として、半導体光源を含む、白色または着色光源に適している。
【００３６】
焼結されたコンパクトは、また、焼結ガラス体とも呼ばれる。それは、マトリックスガラスによって形成され、マトリックスガラスは、粉末に粉砕された後、焼結によって結合（ｂｏｎｄｅｄ）される。マトリックスガラスは粉砕される。粉末はモールドに入れられる。焼結コンパクトは粉末の焼結によって形成される。
【００３７】
本発明に従う粒径分布、ｄ１０≧０．７μｍ、ｄ５０≧３μｍ、およびｄ９０≦１５０μｍは、粉末で求められる。
【００３８】
埋め込まれた発光団なしの焼結コンパクトに対して、３５０ｎｍから８００ｎｍのスペクトル領域において、および１次光源が発光するスペクトル領域において、透過率と反射率の合計が、少なくとも８０％を超え、好ましくは８５％を超え、最も好ましくは９０％を超えるように、好ましくは、焼結コンパクトは焼結され、および／または、粒径分布が選択される。
【００３９】
特に、３５０ｎｍから８００ｎｍのスペクトル領域において、Ｔｈａｌｆ：Ｔｆｏｒｗａｒｄの比が、１＜Ｔｈａｌｆ：Ｔｆｏｒｗａｒｄ≦７０になるように、焼結コンパクトは焼結され、および／または、粒径分布が選択される。この比は、その透過および／または散乱挙動に関して、製造される焼結コンパクトの特性を可能にする。さらなる詳細、ならびにパラメータＴｈａｌｆおよびＴｆｏｒｗａｒｄの定義については、図１に関連する下の記載が参照される。
【００４０】
また、本発明の範囲内にあるのは、１次光源として、半導体光源を含む、白色または着色光源のための変換材料であり、これは、
純粋なガラス体として、約１ｍｍの厚さｄで、３５０ｎｍから８００ｎｍの波長領域において、および１次光源が発光する領域において、８０％を超える、純粋透過率τｉを有し、
さらには、ｄ１０≧０．７μｍ、ｄ５０≧３μｍ、およびｄ９０≦１５０μｍの粒径分布を有する粉末から得られる粉砕されたガラス、それから得られ、モールドに置かれるグリーンコンパクト、ならびに、発光団なしに、焼結によって後で作製される焼結ガラス体の透過率と反射率の合計、
３５０ｎｍから８００ｎｍのスペクトル領域において、および１次光源が発光するスペクトル領域において、少なくとも８０％を超え、
さらには、３５０ｎｍから８００ｎｍのスペクトル領域において、この焼結コンパクトのＴｈａｌｆ：Ｔｆｏｒｗａｒｄの比が、１＜Ｔｈａｌｆ：Ｔｆｏｒｗａｒｄ≦７０である、
マトリックスガラスを含む。グリーンコンパクトは、焼結工程に供給される、粉末からなる物体である。
【００４１】
本発明者等は、このようなマトリックスガラス、および特にそれから生成されるガラス粉末（これは、焼結後に、埋め込まれた発光団のマトリックスとなる）の特性は、コンバーターの光学的性質に決定的な影響を及ぼすことを確認した。
【００４２】
本発明者等は、一方では、マトリックスガラスの粒径の大きさおよび分布が、焼結マトリックスガラス（無ドーピング）およびコンバーターエレメント（蛍光体によりドーピング）の光学的性質に、かなりの影響を及ぼすことを確認した。他方で、本発明者等は、また、選ばれる粒径は、より大きな直径に向かうに従い、焼結マトリックスガラス（無ドーピング）およびコンバーターエレメント（蛍光体によりドーピング）の光学的性質に、利点のある影響を及ぼすことも確認した。これは、先行技術と対照をなし、先行技術によれば、むしろ小さい粒径を有する粉末−例えば、約２．５μｍ未満の平均直径ｄ５０を有するもの−を供用する試みがなされた。
【００４３】
この場合に広く一般に存在する見解は、粗すぎる粒子は焼結コンパクトの空隙率を増すことに繋がり、そのため、これは、制御不能の多数の散乱中心という結果を生じると推定され、それゆえに、結果は、制御された仕方で調節され得ない、コンバーターエレメントの光学的要件であることが予想され得る、という仮定から生じる。このようにして製造された物体またはコンバーターエレメントの効率は、満足のできないレベルに低下すると思われた。
【００４４】
本発明者等は、対照的に、本発明に従う粒径分布によって、透過、反射、吸収、および／または散乱からなる、光学に関連する要件は、目標の仕方で、調節または変更できることを見出した。加えて、彼らは、大きなまたは粗い粒子は、結果的に、ほぼ透明な焼結コンパクトに導き、さらに、一層容易に焼結できることを見出した。
【００４５】
本発明において透明マトリックスとして用いられるのは、好ましい実施形態の第１グループにおいて、熱膨張係数が３Ｋ−１と１１・１０−６Ｋ−１の間にあり、屈折率ｎｄが１．６以上の値を呈するガラスである。
【００４６】
前記マトリックスガラスは、用いられる蛍光体（例えば、Ｃｅ：ＹＡＧ）が、融解／アニーリング／焼結の間に、全く、または注目に値する程度に、攻撃される、もしくは溶け出すということ（これは、その機能の、少なくとも制限を、または全ての喪失を生じると推定される）がない点に、さらに特徴がある。
【００４７】
融解／アニーリング／焼結の後で得られる物質は、また、以下では、焼結コンパクトとも呼ばれ、でなければ、コンバーターもしくは変換材料と呼ばれる。
【００４８】
マトリックスガラスの組成は、毒性のある、および／または環境に問題のある成分を含まない。
【００４９】
変換材料の使用状態において、変換材料は、１μｍと５０μｍとの間、特に好ましくは１μｍと２０μｍの間、最も好ましくは１μｍと１５μｍの間の平均直径ｄ５０を有する粒径をもつ少なくとも１種の発光団を含む。
【００５０】
本発明の代替または追加の実施形態において、変換材料は、３００ｎｍ未満、特に好ましくは１００ｎｍ未満、最も好ましくは４０ｎｍ未満の平均直径ｄ５０を有する粒径をもつ少なくとも１種の発光団を含む。
【００５１】
１次放射は、発光団の添加により、吸収される。生成される２次放射は、１次放射と同様に、さらに散乱される。適切な吸収、従って１次放射の変換を保証するために、１次放射の散乱は大きすぎるべきではない。これは、比較的大きな発光団粒子（１μｍと５０μｍの間、特に好ましくは１μｍと２０μｍの間、最も好ましくは１μｍと１５μｍの間のｄ５０）によるか、さもなければ、ナノスケール粒子（３００ｎｍ未満、特に好ましくは１００ｎｍ未満、最も好ましくは４０ｎｍ未満のｄ５０）によるかのいずれかで実現される。発光団粒子が大きすぎると、それらは、焼結工程において加工することが難しい。さらに、実際に使用できる粒径は、変換エレメントの厚さ（通常＜２５０μｍ）によって決定される上限を有する。
【００５２】
また、本発明の範囲内にあるのは、変換材料の製造方法である。この製造は、ガラス原材料を融解すること、溶融物を、例えば水（または、冷却されたロールの間）に注ぐことによるフリット（または薄い破片）の生成、ガラス粉末へのフリットの粉砕、蛍光物質（蛍光体）によるマトリックスガラス粉末の処理、および、新しいガラス体／ガラスマトリックスコンポジット材料、コンバーターを形成するための、例えば焼結のような、熱処理を経て、好ましくは行われる。粉末へのマトリックスガラスの粉砕は、粉末が、粒径ｄ１０≧０．７μｍ、ｄ５０≧３μｍ、およびｄ９０≦１５０μｍの粒径分布を有する様に行われる。
【００５３】
前記方法は、本発明による変換材料の製造に特に適している。
【００５４】
一実施形態において、焼結は、特定の雰囲気内で行われる。この特定の雰囲気は、好ましくは、窒素、フォーミングガス、および／またはアルゴンによって、あるいは、減圧として、例えば、１０−６ｍｂａｒに下がった真空として与えられる。このタイプの工程計画は、外部の影響に対して、例えば酸化または還元に対して、発光団を保護する。さらに、特定のガラスへの埋め込みは、それによって、ともかく可能になる。さらに、このようにして、マトリックスガラスおよび／または発光団を特定のレドックス状態に調節することも可能である。減圧下での焼結によって、見込まれるポアの大きさおよび／または数を調節することができる、または最低限にすることが可能である。代替または追加として、これは、また、加圧（１軸または等方）焼結によっても実現でき、この場合、特定の雰囲気の調節は、加工される材料の組合せに対して利点のあるパラメータに従うように、注意を払われるべきである。これは、１００ｂａｒから３０００ｂａｒ、好ましくは５００ｂａｒから２５００ｂａｒ、最も好ましくは５００ｂａｒから１５００ｂａｒの範囲の圧力で行われる。次に、この熱処理は、ガラスの軟化点（ＥＷ）を約１５０Ｋ超えるまでの温度範囲で、あるいは、用いられるガラスの粘度が、ｈ＝１０１４ｄＰａｓとｈ＝１０６ｄＰａｓの間、好ましくは、ｈ＝１０１３．５ｄＰａｓとｈ＝１０７ｄＰａｓの間、特に好ましくは、ｈ＝１０１０ｄＰａｓとｈ＝１０７ｄＰａｓの間の範囲にあるようにして、行われる。この場合、アニーリングは、０分から３００分、好ましくは１５分から３００分、特に好ましくは１００分から１８０分の範囲の保持時間で実施され得る。
【００５５】
１μｍと５０μｍの間、特に好ましくは１μｍと２０μｍの間、最も好ましくは１μｍと１５μｍの間の平均粒径ｄ５０を有する粒径をもつ発光団、例えば、Ｃｅ：ＹＡＧ−が用いられる。代替または追加として、３００ｎｍ未満、特に好ましくは１００ｎｍ未満、最も好ましくは４０ｎｍ未満の平均粒径ｄ５０を有する粒径をもつ発光団が、用いられる。
【００５６】
前記方法の別の実施形態において、発光団は、前処理、好ましくは前熱処理を受ける。その温度は、発光団のタイプに応じて選択されるべきである。好ましくは、前処理は、特定の雰囲気内で行われる。これは、特に、窒素、フォーミングガス、および／またはアルゴンによって、あるいは、減圧として、例えば、１０−６ｍｂａｒに下がった真空として与えられる。
【００５７】
本発明の別の実施形態において、例えば、焼結の間のガラスによる蛍光体の化学的攻撃に対する保護（またこの逆も）のための保護層、あるいは、例えば、ＬＥＤシステムにおける湿気に対するバリア層として備えられるものが、発光団の表面または外側に形成される。これは、マトリックスガラスとブレンドする前に行われる。この保護層は、発光団を、環境の影響および／または熱の影響から「遮蔽する」。発光団はカプセル化される。結果的に、発光団の劣化は防ぐことができる、または、少なくとも減少できる。保護層は、任意選択で、無機物であり得る。それは、例えば、湿式化学法、ゾル−ゲル法、ＰＶＤおよび／またはＣＶＤによって、形成される、または被覆される。
【００５８】
代替または追加として、最終加工され、後加工された変換エレメントは、また、例えば前記方法の１つに従って、保護層を付けられてもよい。例えば、湿気に対するバリア層は、保護層の１つの可能な実施形態を与える。
【００５９】
前記方法の拡張として、焼結後に、焼結コンパクトへの、さらなる温度支援、および任意選択で圧力支援（１軸または等方）処理が行われる。結果的に、変換材料またはドーピングされていない焼結マトリックスガラスの、すでに上に記載された、光学的要件が、さらに最適に調節され、固体コンポジットが実現され、および／または見込まれる張力（ｔeｎｓｉｏｎ）が除かれる。
【００６０】
一実施形態において、前記のさらなるアニーリングは、第２の焼結である。このさらなるアニーリングは、２５０ｂａｒから２５００ｂａｒ、好ましくは５００ｂａｒから１５００ｂａｒの範囲の圧力で好ましくは実施される。さらに、さらなるアニーリングは、用いられるガラスの粘度が、ｈ＝１０１４ｄＰａｓとｈ＝１０６ｄＰａｓの間、好ましくは、ｈ＝１０１３．５ｄＰａｓとｈ＝１０７ｄＰａｓの間、特に好ましくは、ｈ＝１０１０ｄＰａｓとｈ＝１０７ｄＰａｓの間の範囲にあるような温度で、行われる。この場合、さらなるアニーリングは、３０分から６００分、好ましくは６０分から３００分、特に好ましくは１００分から１８０分の範囲の保持時間で、実施される。ガラスマトリックスは、純粋で、コンパクトな、融合したガラス体またはガラス板（上記でバルク材料とも呼ばれている）としてでさえ、上記の工程による固有の色を有せず、したがって、１次光および２次光のどちらも、理想的な仕方で変わらない（これは、それらが、吸収による減衰またはスペクトル変化なしに、混合色に用いられることを意味する）ことをさらに特徴とする。
【００６１】
したがって、一般に、これにより、波長ｗ１もしくはスペクトル波長領域ｗ１の光を、スペクトル波長領域ｗ２の波長ｗ２の光に、あるいは、ｎ種の発光団が用いられる場合、合わせて、基本スペクトル分布、ｚｌ＊ｗｌ＋ｚ２＊ｗ２＋・・・＋ｚｎ＊ｗｎ（因子ｚは、混合色に含まれる関連する波長もしくは波長領域の比率および色強度を与える）を有する光を得るために、波長ｗｎの光もしくはスペクトル波長領域ｗｎの光に変換することが考えられる。発光団の励起スペクトルに相当する光を、少なくとも一部は、そのスペクトルが放出する、例えばＬＥＤ（発光ダイオード）またはＬＤ（レーザーダイオード）のような、１次光源に基づけば、このことは別の波長の光の放出に繋がる。用いられる光源は、少なくとも部分的に他の波長に変換されなかったそれ自体の光との混合に寄与できるが、必ずしもそうする必要はない。
【００６２】
したがって、また、
・熱的および化学的に安定であり、環境の影響に対して安定である、
・環境に問題のある如何なる成分も、または健康に問題のある如何なる成分も含んでいない、
・複雑な方法を用いないで、したがって費用を掛けずに、バルクに製造できる、
・埋め込まれる発光団に対して化学的に不活性を示す（またこの逆）、
・発光団を含まない、変換材料のマトリックスとして生成する際に如何なる固有の色も本質的に有さない（１）、また、（２）発光団を含む場合、その吸収帯のスペクトル領域において、特に本発明に従う粒径分布では、低反射（後方散乱）を有する、詳細には、
○マトリックスガラスは、バルク材料／ガラスとして、厚さｄ＝１ｍｍのマトリックスガラスを通る放射に対して、高い純粋透過率τｉ＞８０％を有し、３５０ｎｍから８００ｎｍの波長範囲に吸収帯が本質的にないこと、および
○単独で焼結された（すなわち、ドーピングなし）マトリックスガラスの、好ましくは３５０ｎｍから８００ｎｍのスペクトル領域（１つまたは複数の１次光源のスペクトル領域を含む）における、透過率および反射率の合計は、少なくとも＞８０％、好ましくは＞８５％、最も好ましくは＞９０％である、
○および／または、これらのスペクトル領域に渡って確定された反射および透過の差に寄与する最大および最小が、４０％以上の、好ましくは２５％にすぎない、最も好ましくは１５％にすぎない、差でないこと、
○および／または、焼結状態で発光団によりドーピングされたマトリックスガラスの反射率は、１次光源のスペクトル領域において、＜３０％、好ましくは＜２５％、最も好ましくは＜１５％であること、および１
○および／または、焼結状態で発光団によりドーピングされたマトリックスガラスの透過率と反射率の合計は、１次光源のスペクトル領域を除いて、３５０ｎｍから８００ｎｍのスペクトル領域において、少なくとも＞８０％、好ましくは＞８５％、最も好ましくは＞９０％である、
○および／または、これらのスペクトル領域に渡って確定された反射および透過の差に寄与する最大および最小が、４０％以上の、好ましくは２５％にすぎない、最も好ましくは１５％にすぎない、差でないこと
・ならびに／あるいは、好ましい実施形態の第１グループでは、１．６以上の屈折率を有する、
無機マトリックス材料／マトリックスガラスを提供することにも利点がある。
【００６３】
それゆえに可能になるのは、さらなる光の色の生成に関する一般性を制限することなく、合わせて、白色光または生理学的に白色光の色の印象を得るための、青色光の黄色光への変換である。白色光は、以下において、可視光の完全なスペクトルだけでなく、むしろ、特に、少なくともヒトに、白色光の印象を生じさせる任意の種類の光もまた表す。
【００６４】
特に、本発明は、好ましくは、以下を含む：
−合わせて、白色光の色の印象を得るための、発光団による、１次光源の青色光の、黄色光への変換。特別な場合は、青色ＬＥＤ、およびＣｅ：ＹＡＧタイプの発光団（約５６０ｎｍの波長領域に発光を有する）に基づき、白色と感じられる光源の製造である。
−合わせて、（ＲＧＢまたはＲＧＧＢの混合として）白色光を得るための、それぞれの場合に少なくとも１種の適切な発光団による、青色光の、黄色および／または赤色および／または緑色の光への変換。
合わせて、特定の色の光を得るための、それぞれの場合に少なくとも１種の適切な発光団による、青色光の、黄色および／または赤色および／または緑色の光への変換。
好ましい発光団は、ホスト材料として、酸化物、窒化物、オキシ窒化物、硫化物、オキシ硫化物、ハロゲン化物、ハロゲン酸化物、ハロゲン硫化物、テルル化物、およびセレン化物を含む群からの少なくとも１種の物質を含み、ホスト材料は、希土類（Ｃｅ、Ｅｕ、Ｔｂ、Ｇｄ、・・・）、遷移金属（Ｃｒ、Ｍｎ）、重金属（Ｔｌ、Ｐｂ、Ｂｉ）を含む群からの少なくとも１種の物質によりドーピングされている。
【００６５】
記載された場合におけるＵＶ光の変換では、青色スペクトル領域を放出するさらに１種の発光団が、それぞれの場合に、必要とされる。
【００６６】
［第１グループのガラスおよびガラス類］
本発明に従う好ましいマトリックスガラスの第１グループは、次の特性を有する。
ａ．）１．６以上の屈折率、マトリックスガラスは、１．６以上、好ましくは１．６５〜２．０、好ましくは１．８〜１．９５の屈折率を有し、このため、発光団に合致する（特に、Ｃｅ：ＹＡＧのｎは約１．８）。
ｂ．）半導体エレメントの材料の屈折率との相違は、「最小限になる」、この屈折率は、半導体エレメントの構成に応じて、例えば、１．８（サファイア）、２．５（ＧａＮもしくはＩｎＧａＮ）、３．５（ＡｌＩｎＧａＰ）である。特に、コンバーターおよび半導体エレメントの直接接触において、この合致は、コンバーターへ光を効率的に送るために、可能な範囲内で、重要である。
ｃ．）このマトリックスガラスは、本質的に、固有の色を有さない、これは、以下のことを含む。
○マトリックスガラスは、バルク材料／ガラスとして、ｄ＝１ｍｍで、高い純粋透過率τｉ＞８０％を有し、３５０ｎｍから８５０ｎｍの波長領域において吸収帯を有さないこと、
○特に本発明に従う粒径分布、ｄ１０≧０．７μｍ、ｄ５０≧３μｍ、およびｄ９０≦１５０μｍの場合に、単独で焼結された（すなわち、ドーピングなし）、ベースガラス／ガラスマトリックスの透過率と反射率の合計は、３５０ｎｍから８００ｎｍのスペクトル領域（それぞれの１次光源のスペクトル領域を含む）において、少なくとも＞８０％、好ましくは＞８５％、最も好ましくは＞９０％であること（１次光源が発光する範囲内のスペクトル領域が、１次光源のスペクトル領域と呼ばれている）、
○さらには、これらのスペクトル領域に渡って確定された反射および透過の差に寄与する最大および最少が、４０％以上の、好ましくは２５％にすぎない、最も好ましくは１５％にすぎない、差でないこと、
○焼結状態で発光団によりドーピングされたマトリックスガラスの反射率は、１次光源のスペクトル領域において、＜３０％、好ましくは＜２５、最も好ましくは＜１５％であること、および
○焼結状態で発光団によりドーピングされたマトリックスガラスの透過率と反射率の合計は、１次光源のスペクトル領域を除いて、３５０ｎｍから８００ｎｍのスペクトル領域において、少なくとも＞８０％、好ましくは＞８５％、最も好ましくは＞９０％であること、
○さらには、これらのスペクトル領域に渡って確定された反射および透過の差に寄与する最大および最少が、４０％以上の、好ましくは２５％にすぎない、最も好ましくは１５％にすぎない、差でないこと。
【００６７】
本発明に従うマトリックスガラスで、やはり有利であるのは、広い範囲で調節できるコンバーターの厚さである（約３０μｍから数１０００μｍ）。これは、非常に効率的な変換材料を提供する場合に、大きな設計上の自由に繋がるが、理由は、発光団の濃度および絶対量を独立に変えることができ、このため、マトリックスガラスおよび１次光源を備える光源の色座標と効率を最適に調節できるためである。
【００６８】
非常に有利であるのは、また、埋め込まれる蛍光体に対する化学的不活性である（逆の場合も同じであり）、これは、マトリックスガラスに対する、埋め込まれる蛍光体または発光団の化学的不活性を意味する。
【００６９】
さらに、非常に有利であるのは、ガラスマトリックスと発光団が互いに対して不活性であるだけでなく、また高められた温度で互いに反応しないとき、あるいは、反応する場合に、発光団の特性が悪影響を受けない。これは、コンバーターの製造の場合、および得られる光源の動作中の両方で、当てはまる。
【００７０】
また、有利であるのは、確立された工業的プロセスで、その工程を実施できることであり、これは、簡単な、妥当なコストでの最終形態の製造、または最終形態に近い製造、さらには、特殊なコンバーターの実現（例えば、発光団のドーピングの勾配、付加的な光学エレメント）を許容する。
【００７１】
以下のガラスおよびガラス類は、本発明での必要条件を、驚くべき仕方で、非常によく満たす：
少量の亜鉛を含むランタンホウケイ酸塩ガラス、少量のイットリウムを含むアルミニウムホウケイ酸塩、およびアルカリ土類ケイ酸塩。
【００７２】
実例となるガラスは、次の通りである：
・Ｎ−ＬａＳＦ４０（ＳＣＨＯＴＴ  ＡＧ）、Ｎ−ＬＡＳＦ４６（ＳＣＨＯＴＴ  ＡＧ）、
・Ｐ−ＬａＳＦ４７（ＳＣＨＯＴＴ  ＡＧ）、Ｋ−ＶＣ８９（Ｓｕｍｉｔａ）、
・Ｎ−ＫｚＦＳ５（ＳＣＨＯＴＴ  ＡＧ）、Ｓ−ＮＢＨ５（Ｏｈａｒａ）、
・Ｎ−ＫｚＦＳ８（ＳＣＨＯＴＴ  ＡＧ）、
・１．６以上のｎｄを有するＹ２Ｏ３含有ガラス（ＳＣＨＯＴＴ  ＡＧ）：Ｎ−ＬＡＫ９、Ｎ−ＬＡＫ３３Ａ、Ｎ−ＬＡＫ３４、Ｎ−ＬＡＦ２、Ｎ−ＬＡＦ７、Ｎ−ＬＡＦ２１、Ｎ−ＬＡＦ３４、Ｎ−ＬＡＳＦ４４、Ｐ−ＬＡＳＦ４７、およびＫ−ＬＡＦＫ６０（Ｓｕｍｉｔａ）。
【００７３】
さらに、本発明により、とりわけ、変換材料のためのガラスマトリックスを提供することが、有利にも可能であり、そのガラスマトリックスでは、特にまた環境保全への考慮によって、Ｔｌ２Ｏ、ＴｅＯ２、およびＡｓ２Ｏ３を用いないで、好ましくは、また、Ｂｉ２Ｏ３成分も用いないで、望まれ、利点のある光学的性質（ｎｄ／νｄ）が、同時に比較的低い加工温度で、可能となる。
【００７４】
これらのガラスは、マトリックスガラスとして、如何なるヘーズ、結晶化、および固有の着色も有するべきでなく、さらに、固有の色なしに焼結可能で、後に含められる発光団に対して、可能な限り僅かに、化学的に反応性であるべきである。
【００７５】
本発明に従うマトリックスガラスの第１グループでは、これらは、ｎｄ≧１．６の屈折率ｎｄを、また好ましくは、比較的低い加工温度を有する。それらは、また、溶融および加工が容易であるべきであり、さらには、適切な失透に対する安定性を有するべきであり、このことは、連続運転される設備でのガラスの製造を可能にする。
【００７６】
提供されるのは、特に、ヒ素を含まず、好ましくはＢｉ２Ｏ３を含まず、ｎｄ≧１．６の屈折率ｎｄを有するガラスであり、これは以下の成分を含む（酸化物に対するｗｔ％で）。
【実施例】
【００７７】
次の表は、第１グループの実施例２から４を含む。
【００７８】
【表１】
2011518752.tif 000003
【００７９】
次の表は、第１グループの実施例５を含む。
【００８０】
【表２】
2011518752.tif 000004
【００８１】
次の表は、第１グループの実施例６を含む。
【００８２】
【表３】
2011518752.tif 000005
【００８３】
好ましくは、
【００８４】
【表４】
2011518752.tif 000006
である。
【００８５】
本発明によるガラスは、好ましくは、また、着色成分、および／または、光学的にアクティブな成分、さらにはレーザーにアクティブな成分を含まない。
【００８６】
特に、好ましくは、本発明に従うガラスは、例えば、Ａｇ２ＯもしくはＢｉ２Ｏ３のような、酸化を受け易い成分を含まない、および／または、例えば、Ｔｌ、Ｔｅ、Ｂｅ、およびＡｓの酸化物のような、毒性成分もしくは健康に有害な成分を含まない。
【００８７】
本発明の別の実施形態によれば、この説明および特許請求の範囲に記載のガラスは、また、好ましくは、特許請求の範囲に挙げられていない他の成分を含まない。すなわち、このような付加的な実施形態によれば、ガラスは、挙げられている成分を、本質的には含む。「本質的には含む」という表現は、この場合、他の成分はせいぜい不純物として存在するだけであり、別個の成分として意図的にガラス組成物に添加されないことを意味する。
【００８８】
本発明に従うガラスは、通常の清澄剤を少量、含み得る。好ましくは、添加される清澄剤の合計は、多くても２．０ｗｔ％、より好ましくは、多くても１．０ｗｔ％である。清澄剤として、本発明に従うガラスは、次の成分の少なくとも１つを含み得る（ｗｔ％で、残りのガラス組成物に付加して）。
【００８９】
【表５】
2011518752.tif 000007
【００９０】
フッ素、およびフッ素含有化合物は、また、溶融および溶解操作の間、および焼結工程の間に、蒸発する傾向があり、結果的に、ガラスの組成を、または焼結後に、ガラスマトリックスを、精密に調節することを、一層難しくする。そのため、本発明に従うガラスは、好ましくは、また、フッ素を含まない。
【００９１】
前記の表は、好ましい組成範囲の例示的実施形態を含む。実施例に記載のガラスは、様々なプロセスパラメータを用いて製造されたが、これらのパラメータは、ガラスの物理的性質に関連する。
【００９２】
［マトリックスガラスの製造の例示的実施形態］
［製造実施例６の製造］
酸化物に対しての原材料を秤量し、１種または複数の清澄剤、例えば、Ａｓ２Ｏ３を加え、次いで、よく混ぜる。ガラスの計量した量を、連続的でない溶融設備で、約１３３０℃で溶融し、その後、清澄化し（１３８０℃）、均質化する。約１３８０℃の注ぎ温度で、ガラスは、注がれ、例えばリボンのような所望の寸法に加工できる。大容量の連続設備では、温度は、経験によれば、少なくとも約１００Ｋだけ下げられ得る。
【００９３】
リボンは、ガラスを、２つのロールの上に注ぐことによって得られる。リボンは、破片よりも、焼結の前駆体である粉末に、より粉砕され得る。
【００９４】
【表６】
2011518752.tif 000008
【００９５】
こうして得られたガラスの性質は、実施例６として次の表に記載されている。
【００９６】
【表７】
2011518752.tif 000009
【００９７】
［変換材料の製造方法の好ましい例示的実施形態］
本発明による実施形態の第１グループおよび第２グループの両方について以下に記載される実施例は、それぞれの場合に、本質的に同じ製造方法に従う。
【００９８】
ｄ１０≧０．７μｍ、ｄ５０≧３μｍ、およびｄ９０≦１５０μｍという分布を有する粒径に粉砕された、出発ガラスの粉末を、１μｍと５０μｍの間、特に好ましくは１μｍと２０μｍの間、最も好ましくは１μｍと１５μｍの間の平均直径ｄ５０を有する粒径をもつ発光団（例えば、Ｃｅ：ＹＡＧ）と共に、重量パーセントに基づいて秤量し、混合設備、例えば、Ｔｕｒｂｕｌａタンブリングミキサー（Ｔ２Ｃ型／Ｗｉｌｌｉ  Ａ．  Ｂａｃｈｏｆｅｎ社／バーゼル）、もしくはＳｐｅｅｄｍｉｘ（ＤＡＣ  １５０  ＦＶＺ型／Ｈａｕｓｃｈｉｌｄｔ  Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ）で、１分から１２０分間、好ましくは１分から５分間（Ｓｐｅｅｄｍｉｘ）、もしくは１５分から１２０分間（Ｔｕｒｂｕｌａ）、最も好ましくは１分から３分間（Ｓｐｅｅｄｍｉｘ）、もしくは６０分から１２０分間（Ｔｕｒｂｕｌａ）、ブレンドする。
【００９９】
ここで、ｄ５０２、または代わりに中央値は、粒子の５０％が、この所定の値より細かく、５０％がより粗い、粒径を与える値である。
【０１００】
また、使用され得るナノスケールの蛍光体、すなわち、数ナノメートルの範囲、特に１００ｎｍ未満から２００ｎｍの範囲の外径を有する発光団もまた存在する。
【０１０１】
粉末混合物、あるいは純粋なガラス粉末は、次に、約１０ｍｍ、好ましくは５ｍｍ、最も好ましくは５ｍｍ未満であるが、少なくとも１ｍｍの直径、および約３ｍｍまたは１ｍｍまたは０．５ｍｍから０．１ｍｍの高さを有する粉体が調製され得るような仕方で、小分けにされる。
【０１０２】
バルクは、バルクの境界を定める、例えば、チューブもしくはリング状のエレメントで熱的に安定な基材上に堆積され、手作業で圧縮される、および／または、１軸（例えば、Ｐａｕｌ  Ｗｅｂｅｒ社；ＰＷ４０型のプレス）および／もしくは冷間静水圧（Ｐａｕｌ  Ｗｅｂｅｒ社；ＫＩＰ５００Ｅ型プレス）のプレス工程に供給され、この工程は、慣例の加工補助具の追加によって最適に設計され得る。１軸プレスの圧力範囲は、１００ｂａｒから５０００ｂａｒ、好ましくは５００ｂａｒから２５００ｂａｒである。これは、後に、境界を定める外側のものを、取り除くことができる様な仕方で行われる。
【０１０３】
その後、試料のアニーリングが、マトリックスガラスに、それらの軟化温度の観点で適する温度および時間の要件（加熱速度および保持時間）で行われる。ガラスの粘度曲線の勾配に応じて、一般的制限なしに、目標とするアニーリング温度Ｔは、ＥＷ（軟化温度）とＶａ（加工温度）の間の範囲に、通常、ＥＷ＋１５０Ｋの要件内にある、あるいは、用いられるガラスの粘度が、ｈ＝１０１４ｄＰａｓとｈ＝１０６ｄＰａｓの間、好ましくは、ｈ＝１０１３．５ｄＰａｓとｈ＝１０７ｄＰａｓの間、特に好ましくは、ｈ＝１０１０ｄＰａｓとｈ＝１０７ｄＰａｓの間の範囲にあるような温度範囲にある。加熱は、オーブン内で、バルク、または、場合によっては、いくつかのバルクに対して、平衡化温度レベルと見なすことが可能であるように行われる。
【０１０４】
特に、この場合に選択される時間要件は、通常、アニーリング設備のタイプ、大きさ、および構造（制御も）に応じて決まる。ここにあるオーブン（Ｎａｂｅｒｔｈｅｒｍ  Ｎ７０／Ｈ型；Ｎａｂｅｒ  Ｃ１６コントロールおよびＥｕｒｏｔｈｅｒｍ  ２６０４型）では、１Ｋ／分から３０Ｋ／分、好ましくは１Ｋ／分から２０Ｋ／分、最も好ましくは１Ｋ／分から１０Ｋ／分の、目標とする温度までの加熱速度、および、オーブンの特性曲線による冷却の前の、０分から６０分、好ましくは０分から３０分、最も好ましくは１０分から３０分の保持時間が有用であると分かった。
【０１０５】
１回または複数のアニーリングの後、こうして生成したガラスマトリックスおよび少なくとも１種の発光団を含むコンポジット体は、粒径＜１μｍ（片面）の研削（ｇｒｉｎｄｉｎｇ）剤および／または研磨（ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ）剤を用いて、後加工され、その結果、両側で、もしくは片側で加工されていない、または両側で研磨された表面がある。
【０１０６】
反射および透過の光学的データの測定は、前記パラメータを求めるために、通常の分光計（例えば、Ｐｅｒｋｉｎ  Ｅｌｍｅｒ  Ｌａｍｂｄａ  ９または９００）で、試料を積分球の前面に（透過）または背面に（反射）置いて、２５０ｎｍから２５００ｎｍの波長範囲においてであるが、少なくとも３００ｎｍから８００ｎｍの範囲で行われた。パラメータＴｈａｌｆおよびＴｆｏｒｗａｒｄの決定は、また、積分球によって行われる。さらなる詳細については、図１に関する記述が参照される。
【０１０７】
ガラスマトリックスに埋め込まれた発光団の内部変換量子収率は、埋め込まれていない発光団の内部変換量子収率に対して、２０％以下だけ、好ましくは１０％以下だけ、最も好ましくは５％以下だけ低下した。内部変換量子収率は、それぞれの場合に、発光団における励起による光遷移の減衰時間によって測定された。
【０１０８】
【表８】
2011518752.tif 000010
【０１０９】
［第２グループのガラスおよびガラス類］
以下に記載される、例示的実施形態の第２の好ましいグループのガラスおよびガラス類は、本発明に従う必要条件を、同様に満たすが、１．６未満の屈折率を有する。
【０１１０】
これらのガラスの屈折率は、好ましくは１．４３から１．６、最も好ましくは１．４５から１．４９にある。結果的に、これらのガラスは、周囲のポリマー（１．３と１．６の間のｎｄを有するポリマーを含むエポキシドまたはシリコーン）の光源／ユニットの屈折率に、比較的よく合致している。
【０１１１】
さらに、空気の屈折率、これは、最終的に、全光源システムを取り囲む媒体、との違いは、著しく小さくなる。
【０１１２】
この合致は、コンバーターを通過する励起光（例えば、青色ＬＥＤの光）、さらにはコンバーターで生成した光を、コンバーターから効率的に取り出す（ｏｕｔ−ｃｏｕｐｌｅ）ために、半導体エレメントおよびさらなる周囲の（コンポーネント）エレメントに対するコンバーター材料の間接的な接触において重要である。ここで、間接的接触は、直接の機械的接触のない配置構成を意味すると理解されており、これは、特に、伝播する光（ｄｉｓｓｅｍｉｎａｔｉｎｇ  ｌｉｇｈｔ）のエバネッセント場（これらの場は、個々の材料を取り囲む）が、測定できるほどには全く重ならない、または本質的に全然重ならないことを意味する。
【０１１３】
このグループの好ましいガラスは、例えば、リン酸亜鉛、ホウケイ酸塩、アルミニウムホウケイ酸塩、およびアルカリ土類ケイ酸塩を含む。
【０１１４】
実例となるガラスは、次の通りである：
・ＢＦ３３／ＢＦ４０（ＳＣＨＯＴＴ  ＡＧ）、Ｐｙｒｅｘ（Ｃｏｒｎｉｎｇ）
・８２５０（ＳＣＨＯＴＴ  ＡＧ）
・ＡＦ３２（ＳＣＨＯＴＴ  ＡＧ）、ＡＦ３７（ＳＣＨＯＴＴ  ＡＧ）、ＡＦ４５（ＳＣＨＯＴＴ  ＡＧ）、１７３７（Ｃｏｒｎｉｎｇ）、Ｅａｇｌｅ  ２０００（Ｃｏｒｎｉｎｇ）、Ｅａｇｌｅ  ＸＧ（Ｃｏｒｎｉｎｇ）
・Ｎ−ＳＫ  ５７（ＳＣＨＯＴＴ  ＡＧ）
・Ｄ２６３（ＳＣＨＯＴＴ  ＡＧ）
・光学ガラスＫ−ＰＢＫ４０（Ｓｕｍｉｔａ）、Ｋ−ＣＳＫ１２０（Ｓｕｍｉｔａ）、Ｐ−ＳＫ５（Ｈｉｋａｒｉ）、Ｋ−ＰＳＫ５０（Ｓｕｍｉｔａ）、Ｄ−Ｋ９Ｌ（ＧＤＧＭ）、Ｄ−ＺＫ２（ＧＤＧＭ）、Ｄ−ＺＫ３  （ＧＤＧＭ）
【０１１５】
利点をもって本発明により提供されるのは、とりわけ、変換材料のためのガラスマトリックスであり、そのガラスマトリックスでは、特に環境保全への考慮によって、ＴｌＯ２、ＴｅＯ２、およびＡｓ２Ｏ３を用いないで、好ましくは、また、Ｂｉ２Ｏ３成分もなしに、望まれ、利点のある光学的性質（ｎｄ／νｄ）が、同時に比較的低い加工温度で、可能となる。
【０１１６】
これらのガラスは、マトリックスガラスとして、如何なるヘーズ、結晶化、および固有の着色も有さず、さらに、固有の着色なしに焼結可能である。この場合、これらのガラスは、使用した発光団に対して、ほんの僅かに化学的に反応性である。
【０１１７】
さらに、これらのガラスは、融解および加工が容易であり、偏析および結晶化に対する適切な安定性を有し、このことは、連続運転される設備でのガラスの製造を可能にする。
【０１１８】
特に、ヒ素を含まず、好ましくはＢｉ２Ｏ３を含まず、ｎｄ＜１．６の屈折率ｎｄを有するガラスが提供され、これは以下の成分を含む（酸化物に対するｗｔ％で）。
【０１１９】
次の表は、第２グループの実施例１を含む。
【０１２０】
【表９】
2011518752.tif 000011
【０１２１】
好ましくは、
【０１２２】
【表１０】
2011518752.tif 000012
である。
【０１２３】
次の表は、第２グループの実施例２を含む。
【０１２４】
【表１１】
2011518752.tif 000013
【０１２５】
好ましくは、
【０１２６】
【表１２】
2011518752.tif 000014
である。
【０１２７】
次の表は、第２グループの実施例３を含む。
【０１２８】
【表１３】
2011518752.tif 000015
【０１２９】
好ましくは、
【０１３０】
【表１４】
2011518752.tif 000016
である。
【０１３１】
次の表は、第２グループの実施例５を含む。
【０１３２】
【表１５】
2011518752.tif 000017
【０１３３】
次の表は、第２グループの実施例６を含む。
【０１３４】
【表１６】
2011518752.tif 000018
【０１３５】
本発明に従うガラスは、好ましくは、また、着色成分、および／または、光学的に活性な成分、さらにはレーザーに活性な成分を含まない。
【０１３６】
特に、好ましくは、本発明に従うガラスは、また、例えば、Ａｇ２ＯもしくはＢｉ２Ｏ３のような、酸化を受け易い成分を含まない、および／または、例えば、Ｔｌ、Ｔｅ、Ｂｅ、およびＡｓの酸化物のような、毒性成分もしくは健康に有害な成分を含まない。どのような場合でも、ガラスは、好ましくは、ヒ素を含まない。
【０１３７】
本発明の実施形態によれば、好ましくは、ガラスは、また、特許請求の範囲に挙げられていない他の成分を含まない。すなわち、このような付加的な実施形態によれば、ガラスは、挙げられている成分を、本質的には含む。
【０１３８】
「本質的には含む」とは、この場合、他の成分はせいぜい不純物として存在するだけであり、別個の成分として意図的にガラス組成物に添加されないことを意味する。
【０１３９】
本発明に従うガラスは、通常の清澄剤を少量、含み得る。好ましくは、添加される清澄剤の合計は、多くても２．０ｗｔ％、より好ましくは、多くても１．０ｗｔ％である。清澄剤として、本発明に従うガラスは、次の成分の少なくとも１つを含み得る（ｗｔ％で、残りのガラス組成物に付加して）。
【０１４０】
【表１７】
2011518752.tif 000019
【０１４１】
フッ素、およびフッ素含有化合物は、また、溶融および溶解操作の間、および焼結工程の間に、蒸発する傾向があり、結果的に、ガラスの組成、または焼結後に、ガラスマトリックスを精密に調節することを、一層難しくする。そのため、本発明に従うガラスは、好ましくは、また、フッ素を含まない。
【０１４２】
実施例に記載のガラスは、様々なプロセスパラメータを用いて製造されたが、これらのパラメータは、ガラスの物理的性質に関連する。
【０１４３】
製造実施例２
酸化物に対しての原材料を秤量し、１種または複数の清澄剤、例えば、Ｓｂ２Ｏ３を加え、次いで、よく混ぜる。ガラスの計量した量を、連続的でない溶融設備で、約１３２０℃で溶融し、後で、清澄化し（１３７０℃）、均質化する。約１３２０℃の注ぎ温度で、ガラスは、注がれ、例えばリボンのような所望の寸法に加工できる。大容量の連続設備では、温度は、経験によれば、少なくとも約１００Ｋだけ下げられ得る。リボンは、ガラスを、２つのロールの上に注ぐことによって得られる。リボンは、破片よりも、焼結の前駆体である粉末に、より粉砕され得る。
【０１４４】
【表１８】
2011518752.tif 000020
【０１４５】
こうして得られたガラスの性質が、実施例８として次の表５に記載されている。
【０１４６】
【表１９】
2011518752.tif 000021
【０１４７】
［変換材料の製造のさらなる例示的実施形態］
第２グループのガラスに関して下に記載される実施例は、それぞれの場合に、本質的に同じ製造方法（これについては、第１グループのガラスを参照）に従う。さらなる、または欠けている詳細については、先の説明が参照される。
【０１４８】
ｄ１０≧０．７μｍ、ｄ５０≧３μｍ、およびｄ９０≦１５０μｍという分布を有する粒径に粉砕された、出発ガラスの粉末を、１μｍと５０μｍの間、特に好ましくは１μｍと２０μｍの間、最も好ましくは１μｍと１５μｍの間の平均直径ｄ５０を有する粒径をもつ発光団（例えば、Ｃｅ：ＹＡＧ）と共に、重量パーセントに基づいて秤量し、混合設備（例えば、Ｔｕｒｂｕｌａタンブリングミキサー（Ｔ２Ｃ型／Ｗｉｌｌｉ  Ａ．  Ｂａｃｈｏｆｅｎ社／バーゼル）、もしくはＳｐｅｅｄｍｉｘ（ＤＡＣ  １５０  ＦＶＺ型／Ｈａｕｓｃｈｉｌｄｔ  Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ））で、１分から１２０分間、好ましくは１分から５分間（Ｓｐｅｅｄｍｉｘ）もしくは１５分から１２０分間（Ｔｕｒｂｕｌａ）、最も好ましくは１分から３分間（Ｓｐｅｅｄｍｉｘ）もしくは６０分から１２０分間（Ｔｕｒｂｕｌａ）、ブレンドする。
【０１４９】
粉末混合物、でなければ純粋なガラス粉末は、次に、約１２ｍｍ／８ｍｍ／＜５ｍｍの直径、および約３ｍｍ／２ｍｍ／１ｍｍの高さを有する粉体が作製され得るような仕方で、小分けにされる。
【０１５０】
バルクは、バルクの境界を定める、例えば、チューブもしくはリング状のエレメントで熱的に安定な基材上に堆積され、手作業で圧縮される、および／または、１軸および／もしくは冷間静水圧のプレス工程に供給され、この工程は、慣例の加工補助具の追加によって最適に設計され得る。これは、後に、境界を定める外側のものを、取り除くことができる様な仕方で行われる。
【０１５１】
その後、試料のアニーリングが、マトリックスガラスに、それらの軟化温度の観点で適する温度および時間要件（加熱速度および保持時間）で行われる。ガラスの粘度曲線の勾配に応じて、一般的制限なしに、目標とするアニーリング温度Ｔは、マトリックスガラスの軟化温度（ＥＷ）と加工温度（Ｖａ）の間の範囲に、通常、ＥＷ＋１５０Ｋの要件内にある。
【０１５２】
加熱は、オーブン内で、バルク、または、場合によっては、いくつかのバルクに対して、平衡化温度レベルと見なすことが可能であるように行われる。
【０１５３】
特に、この場合に選択される時間要件は、通常、アニーリング設備のタイプ、大きさ、および設計（制御も）に応じて決まる。ここにあるオーブン（Ｎａｂｅｒｔｈｅｒｍ  Ｎ７０／Ｈ型；Ｎａｂｅｒ  Ｃ１６コントロールおよびＥｕｒｏｔｈｅｒｍ  ２６０４型）では、１Ｋ／分から３０Ｋ／分、好ましくは１Ｋ／分から２０Ｋ／分、最も好ましくは１Ｋ／分から１０Ｋ／分の、目標とする温度までの加熱速度、および、オーブンの特性曲線による冷却の前の、０分から６０分、好ましくは０分から３０分、最も好ましくは１０分から３０分の保持時間が有用であると分かった。
【０１５４】
１回または複数のアニーリングの後、こうして生成したコンポジット体（ガラスマトリックスおよび少なくとも１種の発光団を含む）は、粒径＜４００μｍの研磨剤および／または研削剤を用いて（両面）、後加工され、さらには、場合に応じて、例えば、＜１μｍまでの粒径のダイアモンド研磨剤が用いられ（片面）、その結果、両側で、もしくは片側で加工されていない、または両側で研磨された表面がある。
【０１５５】
反射および透過の光学的データの測定は、前記の値を求めるために、通常の分光計で、試料を、積分球の前面もしくは入射側に（透過）、または背面もしくは出射の後ろに（反射）置いて、２５０ｎｍから２５００ｎｍの波長範囲においてであるが、少なくとも３００ｎｍから８００ｎｍの範囲で行われた。
【０１５６】
【表２０】
2011518752.tif 000022
【０１５７】
本発明が、図１から５に基づいて、下で説明される。
【０１５８】
最初に、図１は、積分球３による、マトリックスガラスの試料２（これは、粉末に粉砕され、焼結されている）の、パラメータＴｈａｌｆ（上）およびＴｆｏｒｗａｒｄ（下）の測定を例示する。
【０１５９】
積分球３は、直径６０ｍｍであり、約１２ｍｍから１５ｍｍの直径を有する球開口部を有する。矩形のダイアフラム（断面積：６×１２ｍｍ２）が、追加の部品として積分球３の前に置かれる。光源１は、測定光線として、光軸に対して本質的に平行な光だけを放出し、積分球３から約５０ｃｍの距離に位置する。測定光線は、４×１０ｍｍ２の断面積を有する。調べられる試料２は、積分球３と光源１との間で、様々な距離に配置される。試料２は、約１２ｍｍを超える外径、または、約１２ｍｍ×１２ｍｍ超（矩形試料２の場合）を有する。試料の厚さは約１ｍｍ（±０．０５ｍｍ）である。積分球３によって記録される光を検出するための光検出器を有する分光計４は、光線方向において、積分球３のすぐ後ろに配置される。
【０１６０】
Ｔｈａｌｆの測定の間、平行光源１から放出され、まっすぐに透過した光の部分および試料２で散乱された部分の両方を記録するために、試料２は、積分球３から約３ｍｍ以下の距離に位置する。
【０１６１】
対照的に、Ｔｆｏｒｗａｒｄの測定の間、試料２は、積分球３から離れて位置する。その距離は、約４３ｃｍである。結果的に、本質的にまっすぐに透過した部分、または前方に透過した部分だけが記録される。
【０１６２】
この種の測定は、ここで調べられているドーピングされていない試料２、および／または、場合によっては、ドーピングされた試料２の、透過および／または散乱挙動に関する、分類を可能にする。試料２の分類、または試料２の特性評価は、比、Ｔｈａｌｆ：Ｔｆｏｒｗａｒｄによって表すことができる。
【０１６３】
光学的に理想的に透明で、散乱がなく、その結果、光線が専ら光線方向に進むと思われる試料２では、比、Ｔｈａｌｆ：Ｔｆｏｒｗａｒｄについて、１または１に近い値が得られると推定される。対照的に、大きな散乱挙動を示す試料では、Ｔｈａｌｆ：Ｔｆｏｒｗａｒｄの値は、非常に大きくなると推定される。
【０１６４】
このように、透過の測定の間、試料２は、前に、特に、積分球３の入射側に、位置する。これに対して、反射の測定の間、試料２は、後ろに、特に、積分球３の出射側に位置する。分光計４の検出器は、積分球３の円周上の任意の位置に置かれる。
【０１６５】
図２から５に示されるのは、前記ガラス実施例２（表２および３を参照）、ならびに前記ガラス実施例１１（表２および３を参照）について求められたいくつかの結果である。図２に示されるのは、本発明に従う粒径分布であり、他方、図３から５は、Ｔｈａｌｆ：Ｔｆｏｒｗａｒｄについての関連する結果を示す。
【０１６６】
これらの光学的特性値は、例えば、市販の分光計（例えば、Ｐｅｒｋｉｎ  Ｅｌｍｅｒ  Ｌａｍｂｄａ  ９または９００）によって測定できる。
【０１６７】
この目的のために図２に例示されているのは、粒子の直径の関数としての、粒径分布の累積値である（測定は、例えば、Ｃｉｌａｓ  Ｍｏｄｅｌ  １０６４粒径測定装置による）。詳細に示されているのは、前記の２つのガラス実施例２および１１についての、３つの異なる粒径分布（ＫＧＶ１、ＫＧＶ２、およびＫＧＶ３）［ＫＧＶ＝粒径分布］である。図２に属する、ｄ１０、ｄ５０、およびｄ９０の粒径に対する「数値」結果は、表７に要約されている。第１列に示されているのは、表８において用いられる表示である。
【０１６８】
【表２１】
2011518752.tif 000023
【０１６９】
図を、実施例１１のＫＧＶ３（曲線Ｖ）を基に説明する：１０％の粒子または顆粒が、約２３．６μｍ未満の直径を有し、粒子の５０％が、約５５．８μｍ未満の直径を有し、粒子の９０％が９４．９μｍ未満の直径を有する。実施例１１のＫＧＶ３の粒子は、最も大きい直径を有することが分かる。
【０１７０】
ガラス実施例２のＫＧＶ１（ＩＩ）、ガラス実施例２のＫＧＶ２（Ｉ）、ガラス実施例１１のＫＧＶ１（ＩＶ）、ガラス実施例１１のＫＧＶ３（Ｖ）に対して用いられたプロセスパラメータが、表８に要約されている。この場合、２つの異なる方法が、ガラス実施例２のＫＧＶ１に対して記載されている：２回アニーリングの（ＩＩ）、すなわち、焼結、およびその後の熱処理、さらには、例えば、第２の焼結、および１回のアニーリングまたは焼結の（ＩＩＩ）。パラメータ（ｔ＠Ｔ／  ’）は、保持時間Ｔ（分）を表す。
【０１７１】
【表２２】
2011518752.tif 000024
【０１７２】
図３は、前記実施例ＩからＩＩＩについて、光の波長の関数としての透過ＴｈａｌｆおよびＴｆｏｒｗａｒｄを示す。図４は、前記実施例ＩＶおよびＶについて、光の波長の関数としての透過ＴｈａｌｆおよびＴｆｏｒｗａｒｄを示す。ＴｈａｌｆおよびＴｆｏｒｗａｒｄの曲線の分離、すなわち、縦座標の値の差が、比較的小さい場合、［その結果］３、試料２は小さい散乱を有する。対照的に、曲線が互いに、比較的大きな分離を有する場合、試料２は、大きな散乱を有する。試料２の特性は、比、Ｔｈａｌｆ：Ｔｆｏｒｗａｒｄによって行われる。
【０１７３】
この目的のために、最後に、図５に示されているのは、Ｔｈａｌｆ／Ｔｆｏｒｗａｒｄの比である。示された実施例ＩからＶの全てで、達成された比は、本発明に従い、利点のある範囲にある。粒子が最も大きい直径を有する実施例Ｖでは、実に１に近いＴｈａｌｆ：Ｔｆｏｒｗａｒｄの値が得られている。焼結ガラス体は小さな散乱を有する。試料内の散乱が、望ましくないか、またはそれどころか望ましいかどうかは、コンバーターシステム（すなわち、埋め込まれた発光団を含む）に基づいて、あるいは、システムに課される必要条件に基づいて、変換−ＬＥＤシステム全体に基づいて決められる。例えば、屈折率が、互いに近いシステムでは、比較的大きな散乱が必要とされ得る。特に、透過率および反射率の合計に対する基準が満たされることもまた極めて重要である。
【０１７４】
請求項１乃至２１のいずれか１項に記載の変換材料の特徴を好ましくは含み、また請求項２２乃至２８のいずれか１項の特徴を有する方法によって好ましくは製造される変換材料に相当する、１種または複数の発光団を含むマトリックスガラスを有する、光源、特に、白色もしくは着色光源を作り出すために、前記マトリックスガラスは使用され得る。
【０１７５】
好ましい実施形態において、光源は、１次光源、特に半導体光源を含み、これは、２２５ｎｍから５２０ｎｍ、好ましくは３５０ｎｍから４８０ｎｍの領域の波長を有し、最も好ましくは４００ｎｍから４８０ｎｍの領域の波長を有する光を放出する。
【０１７６】
別の実施形態において、１次光源は、ＬＥＤを含み、これは、４００ｎｍから４８０ｎｍ、好ましくは４２０ｎｍから４８０ｎｍの領域の波長を有する光を放出する。
【０１７７】
別の好ましい実施形態において、１次光源は、ＵＶ  ＬＥＤを含み、これは、２３５ｎｍから４００ｎｍ、好ましくは３５０ｎｍから４００ｎｍの領域の波長を有する光を放出する。
【０１７８】
さらに別の実施形態において、１次光源は、半導体レーザーダイオードの１次光源を含み、これは、４００ｎｍから４８０ｎｍの領域の波長を有する光を放出する。
【０１７９】
光源は、１つまたは複数の、特にまた、いくつかの異なる１次光源を有し得る。
【０１８０】
これらの光源のさらなる説明、さらにはそれらの空間的配置構成と特性は、庁内整理番号（ｉｎｔｅｒｎａｌ  ｆｉｌｅ  ｒｅｆｅｒｅｎｃｅ）０８ＳＧＬ００２０ＤＥＰもしくはＰ  ３１５６を有し、「Ｏｐｔｉｋ−Ｋｏｎｖｅｒｔｅｒ−Ｓｙｓｔｅｍ  ｆｕｒ  （Ｗ）ＬＥＤｓ（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｃｏｎｖｅｒｔｅｒ  Ｓｙｓｔｅｍ  ｆｏｒ  （Ｗ）ＬＥＤｓ）」という名称の出願に、また、庁内整理番号０８ＳＧＬ００６０ＤＥＰもしくはＰ  ３０６３を有し、「Ｇｅｈａｕｓｅ  ｆｕｒ  ＬＥＤｓ  ｍｉｔ  ｈｏｈｅｒ  Ｌｅｉｓｔｕｎｇ（Ｈｏｕｓｉｎｇ  ｆｏｒ  ＬＥＤｓ  ｗｉｔｈ  Ｈｉｇｈ  Ｐｏｗｅｒ）」という名称の同じ出願人の出願に、見出すことができ、これらの出願は本出願と同じ日に出願された、また、これらは、全範囲が、参考文献として、この出願の内容の一部でもある。
【０１８１】
いくつかの１次光源および幾種類かの発光団により、特に、１種または複数の発光団を選択することによって、さらには、発光団の濃度および／またはコンバーター材料の厚さを調節することによって、（Ｘ、Ｙ）色空間における次の色座標で発光することができる光源を作り出すことが可能である。
Ａ＝（０．１６，０．０２）
Ｂ＝（０．０５，０．３０）
Ｃ＝（０．０２，０．７６）
Ｄ＝（０．２１，０．７６）
Ｅ＝（０．７２，０．２８）
【０１８２】
このようにして、横断ＡＢＣＤＥ内の色空間が、定められる、または取り囲まれ、その内部の、全ての色座標の光が、本質的に、その光源から放射され得る。
【０１８３】
前記横断、さらには下に記載される横断内での色座標の調節は、個々の発光団の比率および濃度、さらには、いくつかの光源の場合には、個々の光源の放出強度を確定することによって、一度に、また明確に定められた仕方で実施できる。
【０１８４】
さらに、いくつかの１次光源の場合には、特定の範囲内で、１つまたは複数の１次光源の放出強度を変えることによって、色座標を変えることが、さらに可能である。
【０１８５】
本発明の光源の別の実施形態において、特に、１次光源を選択することによって、１種または複数の発光団を選択することによって、さらには、発光団の濃度および／またはコンバーター材料の厚さを調節することによって、（Ｘ、Ｙ）色空間における次の色座標で発光することが可能である。
Ｆ＝（０．２８，０．２４）
Ｇ＝（０．３７，０．３５）
Ｈ＝（０．３７，０．４０）
Ｉ＝（０．２４，０．２８）
【０１８６】
本発明の光源のさらに別の実施形態において、特に、１次光源を選択することによって、１種または複数の発光団を選択することによって、さらには、発光団の濃度および／またはコンバーター材料の厚さを調節することによって、（Ｘ、Ｙ）色空間における次の色座標で発光することが可能である。
Ｊ＝（０．３７，０．３５）
Ｋ＝（０．３７，０．４２）
Ｌ＝（０．５０，０．４５）
Ｍ＝（０．５０，０．３８）
【０１８７】
本発明の光源のさらに別の実施形態において、特に、１次光源を選択することによって、１種または複数の発光団を選択することによって、さらには、発光団の濃度および／またはコンバーター材料の厚さを調節することによって、（Ｘ、Ｙ）色空間における次の色座標で発光することが可能である。
Ｎ＝（０．２１，０．７６）
Ｏ＝（０．６６，０．３４）
Ｐ＝（０．６０，０．３４）
Ｑ＝（０．１５，０．７６）
【０１８８】
このようにして、特に飽和色の緑−黄色−オレンジ色（琥珀色）ＮＯＰＱを生み出すことが可能であり、さらに、１つまたは複数の１次光源を選択することによって、５３５ｎｍから６１０ｎｍのスペクトル領域における全ての飽和色を生み出すことが可能であり、それは、別の面では、単なるＬＥＤの低い効率を有するにすぎないと推定される。
【０１８９】
以下の特許請求の範囲を理解するために、本発明の第１の実施形態では、用語「１次光源が発光するスペクトル領域において」は、１つの１次光源のスペクトル領域だけを含むことが許されることに留意されたい。この１つの１次光源は、この場合、これまでの説明に、または以下の特許請求の範囲に記される１次光源の１つである。
【０１９０】
本発明によるさらなる実施形態において、用語「１次光源が発光するスペクトル領域において」は、２つ以上の１次光源のスペクトル領域を含む。この場合、様々な放出スペクトルを有する２つ以上の１次光源が、特に一層大きな色空間にもまた跨るように、使用され得る。しかし、これらの２つ以上の１次光源は、それぞれ、これまでの説明に、または以下の特許請求の範囲にのみ記される１次光源だけを含む。
【０１９１】
記載の実施形態は、例としてのみ理解されるべきであることは、当業者には明白である。本発明は、これらに限定されず、むしろ、本発明の精神から逸脱することなく、様々な仕方で変更され得る。個々の実施形態の特徴、および説明の一般的な部分に挙げられた特徴は、それぞれ、各々の間でも、互いにも組み合わせることができる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【国際調査報告】
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