(57)【要約】  本発明は、置換ピペリジンアルカン酸インテグリン拮抗物質化合物をエナンチオ選択的に調製する  プロセスを目的とする。【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）及び式（ＩＩ）の化合物を調製するための方法であって、
【化１】
2011519340.tif 000097
式中、
αはキラル炭素鎖原子を表わし、
Ｗは−Ｃ0〜6アルキル（Ｒ1）、−Ｃ1〜6アルキル（Ｒ1a）、−Ｃ0〜6アルキル−アリール（Ｒ1，Ｒ8）、−Ｃ0〜6アルキル−ヘテロシクリル（Ｒ1，Ｒ8）、−Ｃ0〜6アルコキシ（Ｒ1）、−Ｃ0〜6アルコキシ−アリール（Ｒ1，Ｒ8）及び−Ｃ0〜6アルコキシ−ヘテロシクリル（Ｒ1，Ｒ8）からなる群から選択され、
Ｒ1は水素、−Ｎ（Ｒ4）2、−Ｎ（Ｒ4）（Ｒ5）、−Ｎ（Ｒ4）（Ｒ6）、−ヘテロシクリル（Ｒ8）及び−ヘテロアリール（Ｒ8）からなる群から選択され、
Ｒ1aは−Ｃ（Ｒ4）（＝Ｎ−Ｒ4）、−Ｃ（＝Ｎ−Ｒ4）−Ｎ（Ｒ4）2、−Ｃ（＝Ｎ−Ｒ4）−Ｎ（Ｒ4）（Ｒ6）、−Ｃ（＝Ｎ−Ｒ4）−Ｎ（Ｒ4）−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ4、−Ｃ（＝Ｎ−Ｒ4）−Ｎ（Ｒ4）−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒ4）2、−Ｃ（＝Ｎ−Ｒ4）−Ｎ（Ｒ4）−ＣＯ2−Ｒ4、−Ｃ（＝Ｎ−Ｒ4）−Ｎ（Ｒ4）−ＳＯ2−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ7）及び−Ｃ（＝Ｎ−Ｒ4）−Ｎ（Ｒ4）−ＳＯ2−Ｎ（Ｒ4）2からなる群から選択され、
Ｒ4は水素及び−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ7）からなる群から選択され、
Ｒ5は−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ4、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒ4）2、−Ｃ（＝Ｏ）−シクロアルキル（Ｒ8）、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロシクリル（Ｒ8）、−Ｃ（＝Ｏ）−アリール（Ｒ8）、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロアリール（Ｒ8）、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒ4）−シクロアルキル（Ｒ8）、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒ4）−アリール（Ｒ8）、−ＣＯ2−Ｒ4、−ＣＯ2−シクロアルキル（Ｒ8）、−ＣＯ2−アリール（Ｒ8）、−Ｃ（Ｒ4）（＝Ｎ−Ｒ4）、−Ｃ（＝Ｎ−Ｒ4）−Ｎ（Ｒ4）2、−Ｃ（＝Ｎ−Ｒ4）−Ｎ（Ｒ4）（Ｒ6）、−Ｃ（＝Ｎ−Ｒ4）−Ｎ（Ｒ4）−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ4、−Ｃ（＝Ｎ−Ｒ4）−Ｎ（Ｒ4）−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒ4）2、−Ｃ（＝Ｎ−Ｒ4）−Ｎ（Ｒ4）−ＣＯ2−Ｒ4、−Ｃ（＝Ｎ−Ｒ4）−Ｎ（Ｒ4）−ＳＯ2−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ7）、−Ｃ（＝Ｎ−Ｒ4）−Ｎ（Ｒ4）−ＳＯ2−Ｎ（Ｒ4）2、−Ｎ（Ｒ4）−Ｃ（Ｒ4）（＝Ｎ−Ｒ4）、−Ｎ（Ｒ4）−Ｃ（＝Ｎ−Ｒ4）−Ｎ（Ｒ4）2、−Ｎ（Ｒ4）−Ｃ（＝Ｎ−Ｒ4）−Ｎ（Ｒ4）（Ｒ6）、−Ｎ（Ｒ4）−Ｃ（＝Ｎ−Ｒ4）−Ｎ（Ｒ4）−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ4、−Ｎ（Ｒ4）−Ｃ（＝Ｎ−Ｒ4）−Ｎ（Ｒ4）−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒ4）2、−Ｎ（Ｒ4）−Ｃ（＝Ｎ−Ｒ4）−Ｎ（Ｒ4）−ＣＯ2−Ｒ4、−Ｎ（Ｒ4）−Ｃ（＝Ｎ−Ｒ4）−Ｎ（Ｒ4）−ＳＯ2−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ7）、−Ｎ（Ｒ4）−Ｃ（＝Ｎ−Ｒ4）−Ｎ（Ｒ4）−ＳＯ2−Ｎ（Ｒ4）2、−ＳＯ2−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ7）、−ＳＯ2−Ｎ（Ｒ4）2、−ＳＯ2−シクロアルキル（Ｒ8）及び−ＳＯ2−アリール（Ｒ8）からなる群から選択され、
Ｒ6は−シクロアルキル（Ｒ8）、−ヘテロシクリル（Ｒ8）、−アリール（Ｒ8）及び−ヘテロアリール（Ｒ8）からなる群から選択され、
Ｒ7は水素、−Ｃ1〜8アルコキシ（Ｒ9）、−ＮＨ2、−ＮＨ−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9）、−Ｎ（Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9））2、−Ｃ（＝Ｏ）Ｈ、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9）、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ2、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9）、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9））2、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−アリール（Ｒ10）、−Ｃ（＝Ｏ）−シクロアルキル（Ｒ10）、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロシクリル（Ｒ10）、−Ｃ（＝Ｏ）−アリール（Ｒ10）、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロアリール（Ｒ10）、−ＣＯ2Ｈ、−ＣＯ2−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9）、−ＣＯ2−アリール（Ｒ10）、−Ｃ（＝ＮＨ）−ＮＨ2、−ＳＨ、−Ｓ−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9）、−Ｓ−Ｃ1〜8アルキル−Ｓ−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9）、−Ｓ−Ｃ1〜8アルキル−Ｃ1〜8アルコキシ（Ｒ9）、−Ｓ−Ｃ1〜8アルキル−ＮＨ−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9）、−ＳＯ2−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9）、−ＳＯ2−ＮＨ2、−ＳＯ2−ＮＨ−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9）、−ＳＯ2−Ｎ（Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9））2、−ＳＯ2−アリール（Ｒ10）、シアノ、（ハロ）1〜3、ヒドロキシ、ニトロ、オキソ、−シクロアルキル（Ｒ10）、−ヘテロシクリル（Ｒ10）、−アリール（Ｒ10）及び−ヘテロアリール（Ｒ10）からなる群から独立に選択される１〜２個の置換基であり、
Ｒ8は、窒素原子に結合するとき、水素、−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9）、−Ｃ（＝Ｏ）Ｈ、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9）、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ2、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9）、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9））2、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−アリール（Ｒ10）、−Ｃ（＝Ｏ）−シクロアルキル（Ｒ10）、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロシクリル（Ｒ10）、−Ｃ（＝Ｏ）−アリール（Ｒ10）、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロアリール（Ｒ10）、−ＣＯ2Ｈ、−ＣＯ2−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9）、−ＣＯ2−アリール（Ｒ10）、−Ｃ（＝ＮＨ）−ＮＨ2、−ＳＯ2−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9）、−ＳＯ2−ＮＨ2、−ＳＯ2−ＮＨ−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9）、−ＳＯ2−Ｎ（Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9））2、−ＳＯ2−アリール（Ｒ10）、−シクロアルキル（Ｒ10）及び−アリール（Ｒ10）からなる群から選択され、並びに、
Ｒ8は、炭素原子に結合するとき、水素、−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9）、−Ｃ1〜8アルコキシ（Ｒ9）、−Ｏ−シクロアルキル（Ｒ10）、−Ｏ−アリール（Ｒ10）、−Ｃ（＝Ｏ）Ｈ、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9）、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ2、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9）、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9））2、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−アリール（Ｒ10）、−Ｃ（＝Ｏ）−シクロアルキル（Ｒ10）、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロシクリル（Ｒ10）、−Ｃ（＝Ｏ）−アリール（Ｒ10）、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロアリール（Ｒ10）、−ＣＯ2Ｈ、−ＣＯ2−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9）、−ＣＯ2−アリール（Ｒ10）、−Ｃ（＝ＮＨ）−ＮＨ2、−ＳＯ2−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9）、−ＳＯ2−ＮＨ2、−ＳＯ2−ＮＨ−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9）、−ＳＯ2−Ｎ（Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9））2、−ＳＯ2−アリール（Ｒ10）、−ＳＨ、−Ｓ−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9）、−Ｓ−Ｃ1〜8アルキル−Ｓ−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9）、−Ｓ−Ｃ1〜8アルキル−Ｃ1〜8アルコキシ（Ｒ9）、−Ｓ−Ｃ1〜8アルキル−ＮＨ−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9）、−ＮＨ2、−ＮＨ−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9）、−Ｎ（Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9））2、シアノ、ハロ、ヒドロキシ、ニトロ、オキソ、−シクロアルキル（Ｒ10）、−ヘテロシクリル（Ｒ10）、−アリール（Ｒ10）及び−ヘテロアリール（Ｒ10）からなる群から独立に選択される１〜４個の置換基であり、
Ｒ9は水素、−Ｃ1〜8アルコキシ、−ＮＨ2、−ＮＨ−Ｃ1〜8アルキル、−Ｎ（Ｃ1〜8アルキル）2、−Ｃ（＝Ｏ）Ｈ、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ2、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−Ｃ1〜8アルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｃ1〜8アルキル）2、−ＣＯ2Ｈ、−ＣＯ2−Ｃ1〜8アルキル、−ＳＯ2−Ｃ1〜8アルキル、−ＳＯ2−ＮＨ2、−ＳＯ2−ＮＨ−Ｃ1〜8アルキル、−ＳＯ2−Ｎ（Ｃ1〜8アルキル）2、シアノ、（ハロ）1〜3、ヒドロキシ、ニトロ及びオキソからなる群から選択され、
Ｒ10は、窒素原子に結合するとき、水素、−Ｃ1〜8アルキル、−Ｃ（＝Ｏ）Ｈ、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ1〜8アルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ2、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−Ｃ1〜8アルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｃ1〜8アルキル）2、−ＣＯ2Ｈ、−ＣＯ2−Ｃ1〜4アルキル、−ＳＯ2−Ｃ1〜8アルキル、−ＳＯ2−ＮＨ2、−ＳＯ2−ＮＨ−Ｃ1〜8アルキル及び−ＳＯ2−Ｎ（Ｃ1〜8アルキル）2からなる群から選択され、並びに、
Ｒ10は、炭素原子に結合するとき、水素、−Ｃ1〜8アルキル、−Ｃ1〜8アルコキシ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｈ、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ1〜8アルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ2、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−Ｃ1〜8アルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｃ1〜8アルキル）2、−ＣＯ2Ｈ、−ＣＯ2−Ｃ1〜4アルキル、−ＳＯ2−Ｃ1〜8アルキル、−ＳＯ2−ＮＨ2、−ＳＯ2−ＮＨ−Ｃ1〜8アルキル、−ＳＯ2−Ｎ（Ｃ1〜8アルキル）2、−ＮＨ2、−ＮＨ−Ｃ1〜8アルキル、−Ｎ（Ｃ1〜8アルキル）2、シアノ、ハロ、ヒドロキシ、ニトロ及びオキソからなる群から独立に選択される１〜４個の置換基であり、
Ｒ2は−シクロアルキル（Ｒ8）、−ヘテロシクリル（Ｒ8）、−アリール（Ｒ8）及び−ヘテロアリール（Ｒ8）からなる群から選択され、
βは−シクロアルキル（Ｒ8）及び−ヘテロシクリル（Ｒ8）のキラル炭素環員原子を表わし、
ｑは０、１、２又は３であり、
Ｚはヒドロキシ及び−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルからなる群から選択され、
次の工程：
工程１．化合物Ａ１（式中、ＰＧはＢｏｃなどのＣ1〜4アルコキシカルボニル保護基である）を、所望による第一添加剤の存在下、第一溶媒中で、第一高温及び第一高圧において、第一水素源、第一配位子金属錯体であって、第一金属付加物と配位結合した第一配位子から本質的になる錯体と反応させ、実質的に純粋な化合物Ａ２又は実質的に純粋な化合物Ａ３を得る：
【化２】
2011519340.tif 000098
工程２．所望により化合物Ａ２又は化合物Ａ３（それぞれ、式中、Ｚはヒドロキシである）を、化合物Ａ２又は化合物Ａ３（それぞれ、式中、Ｚは−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルである）に変換する、
工程３．所望により化合物Ａ２又は化合物Ａ３（式中、Ｒ2は−アリール（Ｒ8）及び−ヘテロアリール（Ｒ8）からなる群から選択される）を、第二溶媒中で、第二高温及び第二高圧において、第二水素源及び水素化剤で水素化し、化合物Ａ４、化合物Ａ５、化合物Ａ６及び化合物Ａ７を含む異性体混合物を得る（式中、Ｒ2は、−シクロアルキル（Ｒ8）及び−ヘテロシクリル（Ｒ8）からなる群から選択される）：
【化３】
2011519340.tif 000099
並びに
工程４．化合物Ａ４、化合物Ａ５、化合物Ａ６又は化合物Ａ７（式中、Ｚはヒドロキシである）のいずれかが存在するとき、これらの化合物それぞれを、対応する化合物Ａ４、化合物Ａ５、化合物Ａ６又は化合物Ａ７（式中、Ｚは−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルである）に変換する、
工程５．化合物Ａ２、化合物Ａ３、化合物Ａ４、化合物Ａ５、化合物Ａ６及び化合物Ａ７（それぞれ、式中、Ｚは−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルである）のそれぞれを、前記異性体混合物から分離する、
工程６．化合物Ａ２〜化合物Ａ７から選択される化合物（それぞれ、式中、Ｚは−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルである）を脱保護し、化合物Ａ８〜化合物Ａ１３からそれぞれ選択される対応化合物を得る：
【化４】
2011519340.tif 000100
工程７．化合物Ａ８〜化合物Ａ１３から選択される化合物（それぞれ、式中、Ｚは−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルである）を、化合物Ａ１４と反応させ、式（Ｉ）の化合物Ａ１５〜化合物Ａ２０からそれぞれ選択される対応化合物を得る：
【化５】
2011519340.tif 000101
並びに、
工程８．化合物Ａ１５〜化合物Ａ２０から選択される化合物（それぞれ、式中、Ｚは−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルである）を、式（Ｉ）の化合物Ａ１５〜化合物Ａ２０（それぞれ、式中、Ｚはヒドロキシである）に変換する、を含む、方法。
【請求項２】
次の工程：
工程５ａ．化合物Ａ７（式中、Ｚは−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルであり、Ｒ2は−シクロアルキル（Ｒ8）又は−ヘテロシクリル（Ｒ8）から選択される）を脱水素化して、化合物Ａ３（式中、Ｚは−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルであり、Ｒ2は−アリール（Ｒ8）又は−ヘテロアリール（Ｒ8）から選択される）とし、次に前記脱水素化された化合物Ａ３を出発物質として工程３を繰り返す、を更に含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記第一配位子が、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ，Ｒ）−Ｍｅ−ＤｕＰｈｏｓ、（Ｓ，Ｓ）−Ｍｅ−ＤｕＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ、（Ｓ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＰＣｙ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＰＣｙ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ及び（Ｓ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚからなる群から選択され、
前記第一金属付加物が、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2、［Ｒｈ（エチレン）2（ａｃａｃ）］、［Ｒｈ（ＣＯ）2（ａｃａｃ）］、［Ｒｈ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、［Ｒｈ（ＣＯＤ）（ａｃａｃ）］、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＦ3ＣＯＯ）2］2、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＨ3ＣＯＯ）2］、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（メチルアリル）2］、［Ｒｕ（ベンゼン）Ｃｌ2］2、［Ｒｕ（ｐ−シメン）Ｃｌ2］2、［Ｒｕ（メシチレン）Ｃｌ2］2、［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、［Ｉｒ（ＣＯＤ）］ＢＦ4及び［Ｉｒ（ＣＯＤ）2］ＢＡｒFからなる群から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記第一配位子金属錯体が、（Ｒ）−Ａｎ−Ｐｈａｎｅｐｈｏｓ／［Ｒｈ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ／［Ｉｒ（ＣＯＤ）］ＢＡｒF、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ／［Ｉｒ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｒｈ（ＣＯ）2（ａｃａｃ）］、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｒｈ（エチレン）2（ａｃａｃ）］、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、（Ｒ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［Ｒｈ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｒ）−Ｐｈａｎｅｐｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［Ｒｈ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、（Ｒ）−Ｐｈａｎｅｐｈｏｓ＆［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、（Ｒ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ／［Ｉｒ（ＣＯＤ）］ＢＡｒF、（Ｒ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｔｏｌ−Ｂｉｎａｐ／［ＲｕＣｌ（ｐ−シメン）］Ｃｌ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐｈａｎｅｐｈｏｓ／［Ｒｈ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＦ3ＣＯＯ）2］2、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｒｕ（ＣＯＤ）（メチルアリル）2］、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｒｈ（ＣＯ）2（ａｃａｃ）］、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｒｈ（エチレン）2（ａｃａｃ）］、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ／［Ｒｕ（ｐ−シメン）Ｃｌ］Ｃｌ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、（Ｒ，Ｒ）−ＭｅＤｕＰｈｏｓ／［Ｒｈ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、（Ｓ）−エチル−ナフチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［Ｒｈ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｐｈａｎｅｐｈｏｓ／［Ｒｈ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ／［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ／［Ｒｕ（ベンゼン）Ｃｌ］Ｃｌ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、（Ｓ）−Ｔｏｌ−Ｂｉｎａｐ／［ＲｕＣｌ（ｐ−シメン）］Ｃｌ、（Ｓ）−Ｔｏｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ／［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、２，４，６−Ｆ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、３，４−ｄｉＣｌＰｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、ＤＰＰＦ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、ＤｔＢＰＦ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、ＰＣｙ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、ＰＣｙ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2及びＸｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2からなる群から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記第一水素源が、気体水素又は過剰蟻酸から選択され、前記第一溶媒が、ＭｅＯＨ、ＤＣＥ、ＥｔＯＨ、ＩＰＡ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ、２−プロパノール及びＤＭＦ並びにこれらの混合物からなる群から選択され、前記所望による第一添加剤が、ＡｃＯＨ、Ｅｔ3Ｎ、ＨＢＦ4、ＨＢＦ4エーテル化合物、ＨＣｌ、ＨＣｌエーテル化合物、ＣＦ3ＣＯＯＨ、ＣＨ3ＣＯＯＨ及びＴｓＯＨからなる群から選択され、存在する場合には、約１．２当量以下の量である、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記第一温度が約２５℃〜約９０℃の範囲、又は約５０℃〜約９０℃の範囲であり、前記第一圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約３０００ｋＰａ（３０ｂａｒ）の範囲、又は約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）〜約３０００ｋＰａ（３０ｂａｒ）の範囲である、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
化合物Ａ１についてＺがヒドロキシであるとき、
前記第一配位子が、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、ＰＣｙ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ及びＰＣｙ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚからなる群から選択され、
前記第一金属付加物が、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2、［Ｒｈ（エチレン）2（ａｃａｃ）］、［Ｒｈ（ＣＯ）2（ａｃａｃ）］、［Ｒｈ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、［Ｒｈ（ＣＯＤ）（ａｃａｃ）］、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＦ3ＣＯＯ）2］2、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＨ3ＣＯＯ）2］、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（メチルアリル）2］、［Ｒｕ（ベンゼン）Ｃｌ2］2、［Ｒｕ（ｐ−シメン）Ｃｌ2］2、［Ｒｕ（メシチレン）Ｃｌ2］2、［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、［Ｉｒ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4及び［Ｉｒ（ＣＯＤ）2］ＢＡｒFからなる群から選択され、
前記第一温度が約２５℃〜約７０℃の範囲であり、
前記第一圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約３０００ｋＰａ（３０ｂａｒ）の範囲である、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
化合物Ａ１についてＺがヒドロキシであるとき、前記第一配位子金属錯体が、（Ｒ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［Ｒｈ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［Ｒｈ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［Ｒｈ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、（Ｒ）−Ｔｏｌ−Ｂｉｎａｐ／［ＲｕＣｌ（ｐ−シメン）］Ｃｌ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＦ3ＣＯＯ）2］2、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｒｕ（ＣＯＤ）（メチルアリル）2］、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［Ｒｈ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、（Ｓ）−Ｔｏｌ−Ｂｉｎａｐ／［ＲｕＣｌ（ｐ−シメン）］Ｃｌ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ及び（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］からなる群から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
化合物Ａ１についてＺがヒドロキシであるとき、
前記第一配位子が、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ及び（Ｓ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓからなる群から選択され、
前記第一金属付加物が、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＦ3ＣＯＯ）2］2、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（メチルアリル）2］及び［Ｒｕ（ベンゼン）Ｃｌ2］2からなる群から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
化合物Ａ１についてＺが−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルであるとき、
前記第一配位子が、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ，Ｒ）−Ｍｅ−ＤｕＰｈｏｓ、（Ｓ，Ｓ）−Ｍｅ−ＤｕＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ、（Ｓ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＰＣｙ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＰＣｙ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ及び（Ｓ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚからなる群から選択され、
前記第一金属付加物が、［Ｉｒ（ＣＯＤ）2］ＢＡｒF、［Ｉｒ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4、［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2、［Ｒｈ（エチレン）2（ａｃａｃ）］2、［Ｒｈ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、及び［Ｒｈ（ＣＯＤ）（ａｃａｃ）］からなる群から選択され、
前記第一溶媒が、ＭｅＯＨ、ＤＣＥ、ＥｔＯＨ、ＩＰＡ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ、ＤＭＦ、及びこれらの混合物からなる群から選択され、
前記所望による第一添加剤がＥｔ3Ｎ、ＨＢＦ4、ＣＨ3ＣＯＯＨ及びＴｓＯＨからなる群から選択され、存在する場合には、約１．２当量以下の量であり、
前記第一温度が約５０℃〜約７０℃の範囲であり、
前記第一圧力が約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）〜約３０００ｋＰａ（３０ｂａｒ）の範囲である、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
化合物Ａ１についてＺが−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルであるとき、前記第一配位子金属錯体が（Ｒ）−Ａｎ−Ｐｈａｎｅｐｈｏｓ／［Ｒｈ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ／［Ｉｒ（ＣＯＤ）］ＢＡｒF、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ／［Ｉｒ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｒｈ（ＣＯ）2（ａｃａｃ）］、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｒｈ（エチレン）2（ａｃａｃ）］、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、（Ｒ）−Ｐｈａｎｅｐｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｐｈａｎｅｐｈｏｓ＆［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ／［Ｉｒ（ＣＯＤ）］ＢＡｒF、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐｈａｎｅｐｈｏｓ／［Ｒｈ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｒｈ（ＣＯ）2（ａｃａｃ）］、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｒｈ（エチレン）2（ａｃａｃ）］、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ／［Ｒｕ（ｐ−シメン）Ｃｌ］Ｃｌ、（Ｒ，Ｒ）−ＭｅＤｕＰｈｏｓ／［Ｒｈ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［Ｒｈ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ／［Ｉｒ（ＣＯＤ）］Ｃｌ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ／［Ｒｕ（ベンゼン）Ｃｌ］Ｃｌ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ／［Ｉｒ（ＣＯＤ）］Ｃｌ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、３，４−ｄｉＣｌＰｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、ＰＣｙ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2及びＸｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2からなる群から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
化合物Ａ１についてＺが−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルであるとき、
前記第一配位子が（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ及び（Ｓ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚからなる群から選択され、
前記第一金属付加物が、［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2及び［Ｉｒ（ＣＯＤ）2］ＢＡｒFからなる群から選択され、
前記第一溶媒が、ＭｅＯＨ、ＤＣＥ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ、ＩＰＡ、及びこれらの混合物からなる群から選択され、
前記所望による第一添加剤がＨＢＦ4であり、存在する場合には、約１．２当量以下の量であり、
前記第一温度が約５０℃〜約９０℃の範囲であり、
前記第一圧力が約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）〜約３０００ｋＰａ（３０ｂａｒ）である、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
化合物Ａ２又は化合物Ａ３について、Ｒ2が−アリール（Ｒ8）及び−ヘテロアリール（Ｒ8）から選択されるとき、
前記第二水素源が気体水素であり、
前記水素化剤が１０％Ｐｄ／Ｃ又は第二配位子金属錯体のいずれかから選択され、
前記第二配位子金属錯体が、第二配位子及び［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2金属付加物を、約０．１当量以下のヨウ素と組み合わせたものから本質的になり、
１０％Ｐｄ／Ｃが約５％重量／重量（ｗ／ｗ）〜約２０％（ｗ／ｗ）の重量％範囲で存在し、
前記第二配位子が、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ，Ｒ）−Ｍｅ−ＤｕＰｈｏｓ、（Ｓ，Ｓ）−Ｍｅ−ＤｕＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｔｏｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｔｏｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ、（Ｓ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−エチル−Ｎａｐｔｈｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−２，４，６−Ｆ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−２，４，６−Ｆ3Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−２，４，６−Ｆ3Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−２，４，６−Ｆ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＰＣｙ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｓ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｓ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ及びＤＰＰＦからなる群から選択され、
前記第二溶媒がＭｅＯＨ、ＤＣＥ、ＥｔＯＨ、ＩＰＡ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ、１−ＢｕＯＨ及びＭＴＢＥ、並びにこれらの混合物からなる群から選択され、
前記所望による第二添加剤がＥｔ3Ｎ、ｉＰｒ2−ＮＨ、Ｃｙ2ＮＨ、（Ｒ）−Ｐｈ−エチル−ＮＨ2、（Ｓ）−Ｐｈ−エチル−ＮＨ2、ＫＩ、ＫＯＨ、Ｋ2ＣＯ3、（Ｒ／Ｓ）−カンファースルホン酸及びＣＨ3ＣＯＯＨからなる群から選択され、存在する場合には、約１．２当量以下の量であり、
前記第二温度が約３０℃〜約８０℃の範囲であり、又は約４０℃〜約６０℃の範囲であり、
前記第二圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）の範囲である、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
化合物Ａ２又は化合物Ａ３について、Ｚがヒドロキシであり、Ｒ2が−アリール（Ｒ8）及び−ヘテロアリール（Ｒ8）から選択されるとき、前記第二配位子金属錯体が（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｔｏｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2及び（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2からなる群から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
化合物Ａ２又は化合物Ａ３について、Ｚが−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルであり、Ｒ2が−アリール（Ｒ8）及び−ヘテロアリール（Ｒ8）から選択されるとき、前記第二配位子金属錯体が（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−エチル−ナフチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、２，４，６−Ｆ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、ＤＰＰＦ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、ＤｔＢＰＦ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、ＰＣｙ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2及びＸｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2からなる群から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項１６】
化合物Ａ２又は化合物Ａ３について、Ｒ2が−アリール（Ｒ8）及び−ヘテロアリール（Ｒ8）から選択されるとき、
前記第二水素源が気体水素であり、
１０％Ｐｄ／Ｃが約５％（ｗ／ｗ）〜約２０％（ｗ／ｗ）の重量％範囲で存在し、
前記第二溶媒がＭｅＯＨ、ＤＣＥ、ＥｔＯＨ、ＩＰＡ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ、１−ＢｕＯＨ及びＭＴＢＥ、並びにこれらの混合物からなる群から選択され、
前記所望による第二添加剤がＥｔ3Ｎ、ｉＰｒ2−ＮＨ、Ｃｙ2ＮＨ、（Ｒ）−Ｐｈ−エチル−ＮＨ2、（Ｓ）−Ｐｈ−エチル−ＮＨ2、ＫＩ、ＫＯＨ、Ｋ2ＣＯ3、（Ｒ／Ｓ）−カンファースルホン酸及びＣＨ3ＣＯＯＨからなる群から選択され、存在する場合には、約１．２当量以下の量であり、
前記第二温度が約３０℃〜約８０℃の範囲であり、又は約４０℃〜約６０℃の範囲であり、
前記第二圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）の範囲である、請求項１に記載の方法。
【請求項１７】
化合物Ａ２又は化合物Ａ３について、Ｒ2が−アリール（Ｒ8）及び−ヘテロアリール（Ｒ8）から選択されるとき、
前記第二配位子金属錯体が、第二配位子及び［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2第二金属付加物を、約０．１当量以下のヨウ素と組み合わせたものから本質的になり、
前記第二配位子が、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ，Ｒ）−Ｍｅ−ＤｕＰｈｏｓ、（Ｓ，Ｓ）−Ｍｅ−ＤｕＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｔｏｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｔｏｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ、（Ｓ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−エチル−Ｎａｐｔｈｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−２，４，６−Ｆ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−２，４，６−Ｆ3Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−２，４，６−Ｆ3Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−２，４，６−Ｆ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＰＣｙ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｓ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｓ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ及びＤＰＰＦからなる群から選択され、
前記第二溶媒がＭｅＯＨ、ＤＣＥ、ＥｔＯＨ、ＩＰＡ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ、１−ＢｕＯＨ及びＭＴＢＥ、並びにこれらの混合物からなる群から選択され、
前記所望による第二添加剤がＥｔ3Ｎ、ｉＰｒ2−ＮＨ、Ｃｙ2ＮＨ、（Ｒ）−Ｐｈ−エチル−ＮＨ2、（Ｓ）−Ｐｈ−エチル−ＮＨ2、ＫＩ、ＫＯＨ、Ｋ2ＣＯ3、（Ｒ／Ｓ）−カンファースルホン酸及びＣＨ3ＣＯＯＨからなる群から選択され、存在する場合には、約１．２当量以下の量であり、
前記第二温度が約３０℃〜約８０℃の範囲であり、又は約４０℃〜約６０℃の範囲であり、
前記第二圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）の範囲である、請求項１に記載の方法。
【請求項１８】
式（Ｉａ）及びその中間体の化合物を調製するための方法であって、
【化６】
2011519340.tif 000102
次の工程：
工程１．化合物Ｃ１を、所望による第一添加剤の存在下、第一溶媒中で、第一高温及び第一高圧において、第一水素源、第一配位子金属錯体であって、第一金属付加物と配位結合した第一配位子から本質的になる錯体と反応させ、実質的に純粋な化合物Ｃ３を得る：
【化７】
2011519340.tif 000103
工程２．化合物Ｃ３を、第二溶媒中で、所望による第二添加剤の存在下、第二高温及び第二高圧において、第二水素源及び水素化剤と反応させ、化合物Ｃ４及び化合物Ｃ５の異性体混合物を得る：
【化８】
2011519340.tif 000104
工程３．化合物Ｃ４及び化合物Ｃ５それぞれを、前記異性体混合物から分離する、
工程４．所望により化合物Ｃ５を脱水素化して化合物Ｃ３とし、前記化合物Ｃ３を出発物質として使用して工程２を繰り返す、
工程５．前記化合物Ｃ４を脱保護し、化合物Ｃ６を得る：
【化９】
2011519340.tif 000105
工程６．化合物Ｃ６を化合物Ｃ７と反応させ、化合物Ｃ８を得る：
【化１０】
2011519340.tif 000106
工程７．化合物Ｃ８を変換して式（Ｉａ）の化合物を得る、を含む、方法。
【請求項１９】
化合物Ｃ１を、所望による第一添加剤の存在下、第一溶媒中で、第一高温及び第一高圧において、第一水素源、第一配位子金属錯体であって、第一金属付加物と配位結合した第一配位子から本質的になる錯体と反応させ、実質的に純粋な化合物Ｃ２を得る工程を含む、実質的に純粋な化合物Ｃ２を製造するための方法。
【化１１】
2011519340.tif 000107
【請求項２０】
前記第一水素源が気体水素又は過剰量の蟻酸から選択され、
前記第一配位子が、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ，Ｒ）−Ｍｅ−ＤｕＰｈｏｓ、（Ｓ，Ｓ）−Ｍｅ−ＤｕＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ、（Ｓ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＰＣｙ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＰＣｙ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ及び（Ｓ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚからなる群から選択され、
前記第一金属付加物が、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2、［Ｒｈ（エチレン）2（ａｃａｃ）］、［Ｒｈ（ＣＯ）2（ａｃａｃ）］、［Ｒｈ（ＣＯＤ）（ａｃａｃ）］、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＦ3ＣＯＯ）2］2、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（メチルアリル）2］、［Ｒｕ（ベンゼン）Ｃｌ2］2、［Ｒｕ（ｐ−シメン）Ｃｌ2］2、［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、［Ｉｒ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4及び［Ｉｒ（ＣＯＤ）2］ＢＡｒFからなる群から選択され、
前記第一溶媒が、ＭｅＯＨ、ＥｔＯＨ、ＩＰＡ、ＤＣＥ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ、ＤＭＦ及びこれらの混合物からなる群から選択され、
前記所望による第一添加剤が、ＡｃＯＨ、Ｅｔ3Ｎ、ＨＢＦ4、ＨＢＦ4エーテル化合物、ＨＣｌ、ＨＣｌエーテル化合物、ＣＦ3ＣＯＯＨ、ＣＨ3ＣＯＯＨ及びＴｓＯＨからなる群から選択され、存在する場合には、約１．２当量以下の量であり、
前記第一温度が約２５℃〜約７０℃の範囲であり、
前記第一圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約３０００ｋＰａ（３０ｂａｒ）の範囲であり、
前記第二水素源が気体水素であり、
前記水素化剤が１０％Ｐｄ／Ｃ又は第二配位子金属錯体のいずれかから選択され、
前記第二配位子金属錯体が、第二配位子及び［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2金属付加物を、約０．１当量以下のヨウ素と組み合わせたものから本質的になり、
１０％Ｐｄ／Ｃが約５％重量／重量（ｗ／ｗ）〜約２０％（ｗ／ｗ）の重量％範囲で存在し、
前記第二配位子が（Ｒ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｔｏｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ及び（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐからなる群から選択され、
前記第二溶媒がＭｅＯＨ、ＤＣＥ、ＥｔＯＨ、ＩＰＡ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ及びＭＴＢＥ、並びにこれらの混合物からなる群から選択され、
前記所望による第二添加剤がＥｔ3Ｎ、ｉＰｒ2−ＮＨ、Ｃｙ2ＮＨ、（Ｒ）−Ｐｈ−エチル−ＮＨ2、（Ｓ）−Ｐｈ−エチル−ＮＨ2、ＫＩ、ＫＯＨ、Ｋ2ＣＯ3、（Ｒ／Ｓ）−カンファースルホン酸及びＣＨ3ＣＯＯＨからなる群から選択され、存在する場合には、約１．２当量以下の量であり、
前記第二温度が約４０℃〜約６０℃の範囲であり、
前記第二圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）の範囲である、請求項１８に記載の方法。
【請求項２１】
前記第一水素源が気体水素であり、
前記第一配位子金属錯体が（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2であり、
前記第一溶媒がＤＣＥであり、
前記第一温度が約７０℃であり、前記第一圧力が約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）であり、
前記第二水素源が気体水素であり、
前記水素化剤が１０％Ｐｄ／Ｃ又は第二配位子金属錯体のいずれかから選択され、
前記水素化剤が（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2から選択される第二配位子金属錯体を約０．１当量の量のヨウ素と組み合わせたものであるとき、前記第二溶媒がＥｔＯＡｃであり、前記第二温度が約５０℃であり、前記第二圧力が約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）であり、
前記水素化剤が約１０％（ｗ／ｗ）の量の１０％Ｐｄ／Ｃから選択されるとき、前記第二溶媒がＩＰＡであり、前記所望による第二添加剤が約０．７５当量の量のＥｔ3Ｎであり、前記第二温度が約４０℃であり、前記第二圧力が約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）である、請求項２０に記載の方法。
【請求項２２】
次の工程：
工程１．化合物Ｄ１を、所望による第一添加剤の存在下、第一溶媒中で、第一高温及び第一高圧において、第一水素源、第一配位子金属錯体であって、第一金属付加物と配位結合した第一配位子から本質的になる錯体と反応させ、実質的に純粋な化合物Ｄ３を得る：
【化１２】
2011519340.tif 000108
工程２．所望により、化合物Ｄ３ヒドロキシ基を変換して、−Ｏ−Ｃ1〜8アルキル基を有する化合物Ｃ３をもたらし、請求項１８に記載の工程２の化合物Ｃ３を後の工程に進める、
工程３．化合物Ｄ３を、第二溶媒中で、所望による第二添加剤の存在下、第二高温及び第二高圧において、第二水素源及び水素化剤と反応させ、化合物Ｄ４及び化合物Ｄ５の異性体混合物を得る：
【化１３】
2011519340.tif 000109
並びに、
工程４．化合物Ｄ４及び化合物Ｄ５の異性体混合物のヒドロキシ基を、−Ｏ−Ｃ1〜8アルキル基に変換し、化合物Ｃ４及び化合物Ｃ５の異性体混合物を得て、次に請求項１８に記載の工程３の化合物Ｃ４及び化合物Ｃ５の異性体混合物を後の工程に進める、を更に含む、請求項１８に記載の方法。
【請求項２３】
化合物Ｄ１を、所望による第一添加剤の存在下、第一溶媒中で、第一高温及び第一高圧において、第一水素源、第一配位子金属錯体であって、第一金属付加物と配位結合した第一配位子から本質的になる錯体と反応させ、実質的に純粋な化合物Ｄ２を得る工程を含む、実質的に純粋な化合物Ｄ２を製造するための方法。
【化１４】
2011519340.tif 000110
【請求項２４】
前記第一水素源が気体水素又は過剰量の蟻酸から選択され、
前記第一配位子が、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、ＰＣｙ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ及びＰＣｙ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚからなる群から選択され、
前記第一金属付加物が、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＦ3ＣＯＯ）2］2、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（メチルアリル）2］、［Ｒｕ（ベンゼン）Ｃｌ2］2及び［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2からなる群から選択され、
前記第一溶媒が、ＭｅＯＨ、ＥｔＯＨ、ＩＰＡ、ＤＣＥ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ、ＤＭＦ及びこれらの混合物からなる群から選択され、
前記所望による第一添加剤が、ＡｃＯＨ、Ｅｔ3Ｎ、ＨＢＦ4、ＨＢＦ4エーテル化合物、ＨＣｌ、ＨＣｌエーテル化合物、ＣＦ3ＣＯＯＨ、ＣＨ3ＣＯＯＨ及びＴｓＯＨからなる群から選択され、存在する場合には、約１．２当量以下の量であり、
前記第一温度が約２５℃〜約７０℃の範囲であり、
前記第一圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約３０００ｋＰａ（３０ｂａｒ）の範囲であり、
前記第二水素源が気体水素であり、
前記水素化剤が１０％Ｐｄ／Ｃ又は第二配位子金属錯体のいずれかから選択され、
前記第二配位子金属錯体が、第二配位子及び［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2金属付加物を、約０．１当量以下のヨウ素と組み合わせたものから本質的になり、
１０％Ｐｄ／Ｃが約５％重量／重量（ｗ／ｗ）〜約２０％（ｗ／ｗ）の重量％範囲で存在し、
前記第二配位子が（Ｒ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｔｏｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ及び（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐからなる群から選択され、
前記第二溶媒がＭｅＯＨ、ＤＣＥ、ＥｔＯＨ、ＩＰＡ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ及びＭＴＢＥ、並びにこれらの混合物からなる群から選択され、
前記所望による第二添加剤がＥｔ3Ｎ、ｉＰｒ2−ＮＨ、Ｃｙ2ＮＨ、（Ｒ）−Ｐｈ−エチル−ＮＨ2、（Ｓ）−Ｐｈ−エチル−ＮＨ2、ＫＩ、ＫＯＨ、Ｋ2ＣＯ3、（Ｒ／Ｓ）−カンファースルホン酸及びＣＨ3ＣＯＯＨからなる群から選択され、存在する場合には、約１．２当量以下の量であり、
前記第二温度が約４０℃〜約６０℃の範囲であり、
前記第二圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）の範囲である、請求項２２に記載の方法。
【請求項２５】
前記第一水素源が気体水素であり；
前記第一配位子金属錯体が（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＦ3ＣＯＯ）2］2であり、
前記第一溶媒がＭｅＯＨであり、
前記第一温度が約４０℃であり、
前記第一圧力が約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）であり、
前記第二水素源が気体水素であり、
前記水素化剤が１０％Ｐｄ／Ｃ又は第二配位子金属錯体のいずれかから選択され、
前記水素化剤が（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2から選択される第二配位子金属錯体を約０．１当量の量のヨウ素と組み合わせたものであるとき、前記第二溶媒がＥｔＯＡｃであり、前記第二温度が約５０℃であり、第二圧力が約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）であり、
前記水素化剤が約１０％（ｗ／ｗ）の量の１０％Ｐｄ／Ｃから選択されるとき、第二溶媒がＭｅＯＨであり、前記所望による第二添加剤が約０．７５当量の量のＥｔ3Ｎであり、前記第二温度が約４０℃であり、前記第二圧力が約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）である、請求項２４に記載の方法。
【請求項２６】
β−［１−［［３−［（１，４，５，６−テトラヒドロ−５−ヒドロキシ−２−ピリミジニル）アミノ］フェニル］アセチル］−４−ピペリジニル］−３−キノリンプロパン酸、
３−（１−｛２−［３−（５−ヒドロキシ−１，４，５，６−テトラヒドロ−ピリミジン−２−イルアミノ）−フェニル］−アセチル｝−ピペリジン−４−イル）−３−キノリン−３−イル−プロピオン酸メチルエステル、
β−［１−［１−オキソ−４−（５，６，７，８−テトラヒドロ−１，８−ナフチリジン−２−イル）ブチル］−４−ピペリジニル］−３−キノリンプロパン酸、
３−キノリン−３−イル−３−［１−（４−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−ブチリル）−ピペリジン−４−イル］−プロピオン酸メチルエステル、
３−［１−（４−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−ブチリル）−ピペリジン−４−イル］−３−（１，２，３，４−テトラヒドロ−キノリン−３−イル）−プロピオン酸、
（３Ｒ*，３’Ｓ*）−３−［１−（４−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−ブチリル）−ピペリジン−４−イル］−３−（１，２，３，４−テトラヒドロ−キノリン−３−イル）−プロピオン酸、
（３Ｒ*，３’Ｒ*）−３−［１−（４−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−ブチリル）−ピペリジン−４−イル］−３−（１，２，３，４−テトラヒドロ−キノリン−３−イル）−プロピオン酸、
（３Ｓ*，３’Ｒ*）−３−［１−（４−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−ブチリル）−ピペリジン−４−イル］−３−（１，２，３，４−テトラヒドロ−キノリン−３−イル）−プロピオン酸、
（３Ｓ*，３’Ｓ*）−３−［１−（４−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−ブチリル）−ピペリジン−４−イル］−３−（１，２，３，４−テトラヒドロ−キノリン−３−イル）−プロピオン酸、
３−［１−（４−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−ブチリル）−ピペリジン−４−イル］−３−（１，２，３，４−テトラヒドロ−キノリン−３−イル）−プロピオン酸メチルエステル、
β−［２−［１−［３−［（１，４，５，６−テトラヒドロ−２−ピリミジニル）アミノ］ベンゾイル］−４−ピペリジニル］エチル］−３−ピリジンプロパン酸、
３−ピリジン−３−イル−５−｛１−［３−（１，４，５，６−テトラヒドロ−ピリミジン−２−イルアミノ）−ベンゾイル］−ピペリジン−４−イル｝−ペンタン酸メチルエステル、
β−［２−［１−［３−［（１，４，５，６−テトラヒドロ−５−ヒドロキシ−２−ピリミジニル）アミノ］ベンゾイル］−４−ピペリジニル］エチル］−３−ピリジンプロパン酸、
５−｛１−［３−（５−ヒドロキシ−１，４，５，６−テトラヒドロ−ピリミジン−２−イルアミノ）−ベンゾイル］−ピペリジン−４−イル｝−３−ピリジン−３−イル−ペンタン酸メチルエステル、
β−［２−［１−［１−オキソ−３−（５，６，７，８−テトラヒドロ−１，８−ナフチリジン−２−イル）プロピル］−４−ピペリジニル］エチル］−３−ピリジンプロパン酸、
３−ピリジン−３−イル−５−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−ペンタン酸メチルエステル、
β−［２−［１−［１−オキソ−４−（２−ピリジニルアミノ）ブチル］−４−ピペリジニル］エチル］−３−ピリジンプロパン酸、
３−ピリジン−３−イル−５−｛１−［４−（ピリジン−２−イルアミノ）−ブチリル］−ピペリジン−４−イル｝−ペンタン酸メチルエステル、
６−メトキシ−β−［２−［１−［３−［（１，４，５，６−テトラヒドロ−５−ヒドロキシ−２−ピリミジニル）アミノ］ベンゾイル］−４−ピペリジニル］エチル］−３−ピリジンプロパン酸、
５−｛１−［３−（５−ヒドロキシ−１，４，５，６−テトラヒドロ−ピリミジン−２−イルアミノ）−ベンゾイル］−ピペリジン−４−イル｝−３−（６−メトキシ−ピリジン−３−イル）−ペンタン酸メチルエステル、
β−（１，３−ベンゾジオキソール−５−イル）−１−［１−オキソ−３−（５，６，７，８−テトラヒドロ−１，８−ナフチリジン−２−イル）プロピル］−４−ピペリジンブタン酸、
３−ベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸メチルエステル、
β−［２−［１−［３−［（１，４，５，６−テトラヒドロ−２−ピリミジニル）アミノ］ベンゾイル］−４−ピペリジニル］エチル］−３−キノリンプロパン酸、
３−キノリン−３−イル−５−｛１−［３−（１，４，５，６−テトラヒドロ−ピリミジン−２−イルアミノ）−ベンゾイル］−ピペリジン−４−イル｝−ペンタン酸メチルエステル、
１−［１−オキソ−３−（５，６，７，８−テトラヒドロ−１，８−ナフチリジン−２−イル）プロピル］−β−フェニル−４−ピペリジンブタン酸、
３−フェニル−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸メチルエステル、
β−（１，３−ベンゾジオキソール−５−イル）−１−［１−オキソ−３−（５，６，７，８−テトラヒドロ−１，８−ナフチリジン−２−イル）プロピル］−４−ピペリジンプロパン酸、
３−ベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル−３−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−プロピオン酸メチルエステル、
β−（１，３−ベンゾジオキソール−５−イル）−１−［１−オキソ−４−（５，６，７，８−テトラヒドロ−１，８−ナフチリジン−２−イル）ブチル］−４−ピペリジンプロパン酸、
３−ベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル−３−［１−（４−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−ブチリル）−ピペリジン−４−イル］−プロピオン酸メチルエステル、
β−（１，３−ベンゾジオキソール−５−イル）−１−［（５，６，７，８−テトラヒドロ−１，８−ナフチリジン−２−イル）アセチル］−４−ピペリジンプロパン酸、
３−ベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル−３−［１−（２−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−アセチル）−ピペリジン−４−イル］−プロピオン酸メチルエステル、
６−メトキシ−β−［１−［１−オキソ−４−（５，６，７，８−テトラヒドロ−１，８−ナフチリジン−２−イル）ブチル］−４−ピペリジニル］−３−ピリジンプロパン酸、
３−（６−メトキシ−ピリジン−３−イル）−３−［１−（４−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−ブチリル）−ピペリジン−４−イル］−プロピオン酸メチルエステル、
３−（２−メチル−１，４，５，６−テトラヒドロ−ピリミジン−５−イル）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸、
３−（２−メチル−１，４，５，６−テトラヒドロ−ピリミジン−５−イル）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸メチルエステル、
４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−３−（１，２，３，４−テトラヒドロ−キノリン−３−イル）−酪酸、
（３Ｒ，３’Ｒ）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−３−（１，２，３，４−テトラヒドロ−キノリン−３−イル）−酪酸、
（３Ｒ，３’Ｒ）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−３−（１，２，３，４−テトラヒドロ−キノリン−３−イル）−酪酸メチルエステル、
（３Ｒ，３’Ｓ）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−３−（１，２，３，４−テトラヒドロ−キノリン−３−イル）−酪酸、
（３Ｒ，３’Ｓ）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−３−（１，２，３，４−テトラヒドロ−キノリン−３−イル）−酪酸メチルエステル、
（３Ｓ，３’Ｒ）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−３−（１，２，３，４−テトラヒドロ−キノリン−３−イル）−酪酸、
（３Ｓ，３’Ｒ）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−３−（１，２，３，４−テトラヒドロ−キノリン−３−イル）−酪酸メチルエステル、
（３Ｓ，３’Ｓ）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−３−（１，２，３，４−テトラヒドロ−キノリン−３−イル）−酪酸、
（３Ｓ，３’Ｓ）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−３−（１，２，３，４−テトラヒドロ−キノリン−３−イル）−酪酸メチルエステル、
４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−３−（１，２，３，４−テトラヒドロ−キノリン−３−イル）−酪酸メチルエステル、
β−（１，３−ベンゾジオキソール−５−イル）−１−［１−オキソ−３−（５，６，７，８−テトラヒドロ−１，８−ナフチリジン−２−イル）プロピル］−４−ピペリジンペンタン酸、
３−ベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル−５−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−ペンタン酸メチルエステル、
６−メトキシ−β−［２−［１−［１−オキソ−３−（５，６，７，８−テトラヒドロ−１，８−ナフチリジン−２−イル）プロピル］−４−ピペリジニル］エチル］−３−ピリジンプロパン酸、
３−（６−メトキシ−ピリジン−３−イル）−５−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−ペンタン酸メチルエステル、
（３Ｓ*）−３−（６−メトキシ−ピリジン−３−イル）−５−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−ペンタン酸、
（３Ｒ*）−３−（６−メトキシ−ピリジン−３−イル）−５−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−ペンタン酸、
β−［２−［１−［１−オキソ−４−（２−ピリジニルアミノ）ブチル］−４−ピペリジニル］エチル］−３−キノリンプロパン酸、
５−｛１−［４−（ピリジン−２−イルアミノ）−ブチリル］−ピペリジン−４−イル｝−３−キノリン−３−イル−ペンタン酸メチルエステル、
β−（１，３−ベンゾジオキソール−５−イル）−１−［１−オキソ−４−（２−ピリジニルアミノ）ブチル］−４−ピペリジンペンタン酸、
３−ベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル−５−｛１−［４−（ピリジン−２−イルアミノ）−ブチリル］−ピペリジン−４−イル｝−ペンタン酸メチルエステル、
β−（１，３−ベンゾジオキソール−５−イル）−１−［１−オキソ−４−（２−ピリジニルアミノ）ブチル］−４−ピペリジンプロパン酸、
３−ベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル−３−｛１−［４−（ピリジン−２−イルアミノ）−ブチリル］−ピペリジン−４−イル｝−プロピオン酸メチルエステル、
６−メトキシ−β−［２−［１−［１−オキソ−４−（２−ピリジニルアミノ）ブチル］−４−ピペリジニル］エチル］−３−ピリジンプロパン酸、
３−（６−メトキシ−ピリジン−３−イル）−５−｛１−［４−（ピリジン−２−イルアミノ）−ブチリル］−ピペリジン−４−イル｝−ペンタン酸メチルエステル、
β−（１，３−ベンゾジオキソール−５−イル）−１−［１−オキソ−４−（５，６，７，８−テトラヒドロ−１，８−ナフチリジン−２−イル）ブチル］−４−ピペリジンブタン酸、
３−ベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル−４−［１−（４−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−ブチリル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸メチルエステル、
β−（１，３−ベンゾジオキソール−５−イル）−１−［３−［（１，４，５，６−テトラヒドロ−５−ヒドロキシ−２−ピリミジニル）アミノ］ベンゾイル］−４−ピペリジンブタン酸、
３−ベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル−４−｛１−［３−（５−ヒドロキシ−１，４，５，６−テトラヒドロ−ピリミジン−２−イルアミノ）−ベンゾイル］−ピペリジン−４−イル｝−酪酸メチルエステル、
６−メトキシ−β−［［１−［１−オキソ−３−（５，６，７，８−テトラヒドロ−１，８−ナフチリジン−２−イル）プロピル］−４−ピペリジニル］メチル］−３−ピリジンプロパン酸、
３−（６−メトキシ−ピリジン−３−イル）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸メチルエステル、
（３Ｒ*）−３−（６−メトキシ−ピリジン−３−イル）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸、
（３Ｓ*）−３−（６−メトキシ−ピリジン−３−イル）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸、
β−［［１−［１−オキソ−４−（５，６，７，８−テトラヒドロ−１，８−ナフチリジン−２−イル）ブチル］−４−ピペリジニル］メチル］−３−キノリンプロパン酸、
３−キノリン−３−イル−４−［１−（４−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−ブチリル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸メチルエステル、
β−（３−フルオロフェニル）−１−［１−オキソ−３−（５，６，７，８−テトラヒドロ−１，８−ナフチリジン−２−イル）プロピル］−４−ピペリジンブタン酸、
３−（３−フルオロ−フェニル）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸メチルエステル、
（３Ｒ*）−３−（３−フルオロ−フェニル）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸、
（３Ｓ*）−３−（３−フルオロ−フェニル）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸、
β−（３−フルオロフェニル）−１−［１−オキソ−４−（５，６，７，８−テトラヒドロ−１，８−ナフチリジン−２−イル）ブチル］−４−ピペリジンブタン酸、
３−（３−フルオロ−フェニル）−４−［１−（４−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−ブチリル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸メチルエステル、
β−［［１−［１−オキソ−３−（５，６，７，８−テトラヒドロ−１，８−ナフチリジン−２−イル）プロピル］−４−ピペリジニル］メチル］−３−キノリンプロパン酸、
３−キノリン−３−イル−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸メチルエステル、
β−（４−フルオロフェニル）−１−［１−オキソ−３−（５，６，７，８−テトラヒドロ−１，８−ナフチリジン−２−イル）プロピル］−４−ピペリジンブタン酸、
３−（４−フルオロ−フェニル）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸メチルエステル、
β−（４−フルオロフェニル）−１−［１−オキソ−４−（５，６，７，８−テトラヒドロ−１，８−ナフチリジン−２−イル）ブチル］−４−ピペリジンブタン酸、
３−（４−フルオロ−フェニル）−４−［１−（４−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−ブチリル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸メチルエステル、
２−メチル−β−［［１−［１−オキソ−３−（５，６，７，８−テトラヒドロ−１，８−ナフチリジン−２−イル）プロピル］−４−ピペリジニル］メチル］−５−ピリミジンプロパン酸、
３−（２−メチル−ピリミジン−５−イル）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸メチルエステル、
β−（２，３−ジヒドロ−６−ベンゾフラニル）−１−［１−オキソ−３−（５，６，７，８−テトラヒドロ−１，８−ナフチリジン−２−イル）プロピル］−４−ピペリジンブタン酸、
３−（２，３−ジヒドロ−ベンゾフラン−６−イル）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸メチルエステル、
（３Ｓ*）−３−（２，３−ジヒドロ−ベンゾフラン−６−イル）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸、
（３Ｒ*）−３−（２，３−ジヒドロ−ベンゾフラン−６−イル）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸、
β−（３，５−ジフルオロフェニル）−１−［１−オキソ−３−（５，６，７，８−テトラヒドロ−１，８−ナフチリジン−２−イル）プロピル］−４−ピペリジンブタン酸、
３−（３，５−ジフルオロ−フェニル）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸メチルエステル、
β−（３，５−ジフルオロフェニル）−１−［１−オキソ−４−（５，６，７，８−テトラヒドロ−１，８−ナフチリジン−２−イル）ブチル］−４−ピペリジンブタン酸、
３−（３，５−ジフルオロ−フェニル）−４−［１−（４−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−ブチリル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸メチルエステル、
１−［１−オキソ−３−（５，６，７，８−テトラヒドロ−１，８−ナフチリジン−２−イル）プロピル］−β−［３−（トリフルオロメチル）フェニル］−４−ピペリジンブタン酸、
４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−３−（３−トリフルオロメチル−フェニル）−酪酸メチルエステル、
１−［１−オキソ−３−（５，６，７，８−テトラヒドロ−１，８−ナフチリジン−２−イル）プロピル］−β−［４−（トリフルオロメトキシ）フェニル］−４−ピペリジンブタン酸、
４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−３−（４−トリフルオロメトキシ−フェニル）−酪酸メチルエステル、
β−（２−フルオロ［１，１’−ビフェニル］−４−イル）−１−［１−オキソ−３−（５，６，７，８−テトラヒドロ−１，８−ナフチリジン−２−イル）プロピル］−４−ピペリジンブタン酸、
３−（２−フルオロ−ビフェニル−４−イル）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸メチルエステル、
β−（３−フルオロ−４−メトキシフェニル）−１−［１−オキソ−３−（５，６，７，８−テトラヒドロ−１，８−ナフチリジン−２−イル）プロピル］−４−ピペリジンブタン酸、
３−（３−フルオロ−４−メトキシ−フェニル）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸メチルエステル、
１−［１−オキソ−３−（５，６，７，８−テトラヒドロ−１，８−ナフチリジン−２−イル）プロピル］−β−（４−フェノキシフェニル）−４−ピペリジンブタン酸、
３−（４−フェノキシ−フェニル）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸メチルエステル、
β−［［１−［１−オキソ−３−（５，６，７，８−テトラヒドロ−１，８−ナフチリジン−２−イル）プロピル］−４−ピペリジニル］メチル］−４−イソキノリンプロパン酸、
３−イソキノリン−４−イル−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸メチルエステル、
β−［［１−［１−オキソ−３−（５，６，７，８−テトラヒドロ−１，８−ナフチリジン−２−イル）プロピル］−４−ピペリジニル］メチル］−３−ピリジンプロパン酸、
３−ピリジン−３−イル−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸メチルエステル、
β−（２，３−ジヒドロ−５−ベンゾフラニル）−１−［１−オキソ−３−（５，６，７，８−テトラヒドロ−１，８−ナフチリジン−２−イル）プロピル］−４−ピペリジンブタン酸、
３−（２，３−ジヒドロ−ベンゾフラン−５−イル）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸メチルエステル、
２，４−ジメトキシ−β−［［１−［１−オキソ−３−（５，６，７，８−テトラヒドロ−１，８−ナフチリジン−２−イル）プロピル］−４−ピペリジニル］メチル］−５−ピリミジンプロパン酸、
３−（２，４−ジメトキシ−ピリミジン−５−イル）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸メチルエステル、
２−メトキシ−β−［［１−［１−オキソ−３−（５，６，７，８−テトラヒドロ−１，８−ナフチリジン−２−イル）プロピル］−４−ピペリジニル］メチル］−５−ピリミジンプロパン酸、
３−（２−メトキシ−ピリミジン−５−イル）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸メチルエステル、
β−［２−［１−［３−［（１，４，５，６−テトラヒドロ−５−ヒドロキシ−２−ピリミジニル）アミノ］ベンゾイル］−４−ピペリジニル］エチル］−３−キノリンプロパン酸、
５−｛１−［３−（５−ヒドロキシ−１，４，５，６−テトラヒドロ−ピリミジン−２−イルアミノ）−ベンゾイル］−ピペリジン−４−イル｝−３−キノリン−３−イル−ペンタン酸メチルエステル、
β−［２−［１−［３−［（３，４，５，６−テトラヒドロ−２−ピリジニル）アミノ］ベンゾイル］−４−ピペリジニル］エチル］−３−キノリンプロパン酸、
３−キノリン−３−イル−５−｛１−［３−（３，４，５，６−テトラヒドロ−ピリジン−２−イルアミノ）−ベンゾイル］−ピペリジン−４−イル｝−ペンタン酸メチルエステル、
β−［２−［１−［１−オキソ−３−（５，６，７，８−テトラヒドロ−１，８−ナフチリジン−２−イル）プロピル］−４−ピペリジニル］エチル］−３−キノリンプロパン酸、
３−キノリン−３−イル−５−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−ペンタン酸メチルエステル、
β−［２−［１−［１−オキソ−３−（５，６，７，８−テトラヒドロ−１，８−ナフチリジン−２−イル）プロピル］−４−ピペリジニル］エチル］−３−キノリンプロパン酸、
３−キノリン−３−イル−５−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−ペンタン酸メチルエステル、
β−（１，３−ベンゾジオキソール−５−イル）−１−［３−［（３，４，５，６−テトラヒドロ−２−ピリジニル）アミノ］ベンゾイル］−４−ピペリジンペンタン酸、
３−ベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル−５−｛１−［３−（３，４，５，６−テトラヒドロ−ピリジン−２−イルアミノ）−ベンゾイル］−ピペリジン−４−イル｝−ペンタン酸メチルエステル、
β−（１，３−ベンゾジオキソール−５−イル）−１−［３−［（１，４，５，６−テトラヒドロ−５−ヒドロキシ−２−ピリミジニル）アミノ］ベンゾイル］−４−ピペリジンペンタン酸、
３−ベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル−５−｛１−［３−（５−ヒドロキシ−１，４，５，６−テトラヒドロ−ピリミジン−２−イルアミノ）−ベンゾイル］−ピペリジン−４−イル｝−ペンタン酸メチルエステル、
β−（１，３−ベンゾジオキソール−５−イル）−１−［（５，６，７，８−テトラヒドロ−１，８−ナフチリジン−２−イル）アセチル］−４−ピペリジンペンタン酸、
３−ベンゾ［１，３］ジオキソール−５−イル−５−［１−（２−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−アセチル）−ピペリジン−４−イル］−ペンタン酸メチルエステル、
β−（２−ナフタレニル）−１−［１−オキソ−３−（５，６，７，８−テトラヒドロ−１，８−ナフチリジン−２−イル）プロピル］−４−ピペリジンブタン酸、
３−ナフタレン−２−イル−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸メチルエステル、
（３Ｓ*）−３−ナフタレン−２−イル−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸、
（３Ｒ*）−３−ナフタレン−２−イル−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸、
３−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−４−（５，６，７，８−テトラヒドロ−キノリン−３−イル）−酪酸、
３−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−４−（５，６，７，８−テトラヒドロ−キノリン−３−イル）−酪酸メチルエステル、
５，６，７，８−テトラヒドロ−β−［１−［１−オキソ−４−（５，６，７，８−テトラヒドロ−１，８−ナフチリジン−２−イル）ブチル］−４−ピペリジニル］−３−キノリンプロパン酸、
５，６，７，８−テトラヒドロ−β−［１−［１−オキソ−４−（５，６，７，８−テトラヒドロ−１，８−ナフチリジン−２−イル）ブチル］−４−ピペリジニル］−３−キノリンプロパン酸、
５，６，７，８−テトラヒドロ−β−［１−［１−オキソ−４−（５，６，７，８−テトラヒドロ−１，８−ナフチリジン−２−イル）ブチル］−４−ピペリジニル］−３−キノリンプロパン酸、
３−［１−（４−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−ブチリル）−ピペリジン−４−イル］−３−（５，６，７，８−テトラヒドロ−キノリン−３−イル）−プロピオン酸メチルエステル、
３−（３−メトキシ−フェニル）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸、
３−（３−メトキシ−フェニル）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸メチルエステル、
３−（４−メトキシ−フェニル）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸、
３−（４−メトキシ−フェニル）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸メチルエステル、
３−（テトラヒドロ−フラン−３−イル）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸、
３−（テトラヒドロ−フラン−３−イル）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸メチルエステル、
４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−３−チオフェン−２−イル−酪酸、
４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−３−チオフェン−２−イル−酪酸メチルエステル、
３−（２，３−ジヒドロ−ベンゾ［１，４］ジオキシン−６−イル）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸、
３−（２，３−ジヒドロ−ベンゾ［１，４］ジオキシン−６−イル）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸メチルエステル、
３−（３−メチルスルファニル−フェニル）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸、
３−（３−メチルスルファニル−フェニル）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸メチルエステル、
Ｎ−メチル−１，２，３，４−テトラヒドロ−β−［［１−［１−オキソ−３−（５，６，７，８−テトラヒドロ−１，８−ナフチリジン−２−イル）プロピル］−４−ピペリジニル］メチル］−３−キノリンプロパン酸、
３−（１−メチル−１，２，３，４−テトラヒドロ−キノリン−３−イル）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸メチルエステル、
３−（３−ジメチルアミノ−フェニル）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸、
３−（３−ジメチルアミノ−フェニル）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸メチルエステル、
３−（４−ヒドロキシ−３−メトキシ−フェニル）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸、
３−（４−ヒドロキシ−３−メトキシ−フェニル）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸メチルエステル、
（３Ｓ*）−３−（４−ヒドロキシ−３−メトキシ−フェニル）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸、
４−｛１−［３−（４，５−ジヒドロ−１Ｈ−イミダゾール−２−イルアミノ）−ベンゾイル］−ピペリジン−４−イル｝−３−（３−フルオロ−フェニル）−酪酸、
４−｛１−［３−（４，５−ジヒドロ−１Ｈ−イミダゾール−２−イルアミノ）−ベンゾイル］−ピペリジン−４−イル｝−３−（３−フルオロ−フェニル）−酪酸メチルエステル、
３−（３−エチルアミノ−フェニル）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸、
３−（３−エチルアミノ−フェニル）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸メチルエステル、
３−（３−メチルアミノ−フェニル）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸、
３−（３−メチルアミノ−フェニル）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸メチルエステル、
３−（２，３−ジヒドロ−ベンゾフラン−６−イル）−３−［１−（４−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−ブチリル）−ピペリジン−４−イル］−プロピオン酸、
３−（２，３−ジヒドロ−ベンゾフラン−６−イル）−３−［１−（４−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−ブチリル）−ピペリジン−４−イル］−プロピオン酸メチルエステル、
３−（３−フルオロ−フェニル）−４−｛１−［３−（５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル）−プロピル］−ピペリジン−４−イル｝−酪酸、
３−（３−フルオロ−フェニル）−４−｛１−［３−（５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル）−プロピル］−ピペリジン−４−イル｝−酪酸メチルエステル、
３−（２，３−ジヒドロ−ベンゾフラン−６−イル）−３−［１−４−（５，６，７，８−テトラヒドロ−１，８−ナフチリジン−２−イル）ブチル］−４−ピペリジニル］−プロパン酸、
３−（２，３−ジヒドロ−ベンゾフラン−６−イル）−３−［１−４−（５，６，７，８−テトラヒドロ−１，８−ナフチリジン−２−イル）ブチル］−４−ピペリジニル］−プロパン酸メチルエステル、
３−｛４−［２−（２−ブロモ−エトキシ）−エトキシ］−３−メトキシ−フェニル｝−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸、
３−｛４−［２−（２−ブロモ−エトキシ）−エトキシ］−３−メトキシ−フェニル｝−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸メチルエステル、
３−｛４−［２−（２−アセチルスルファニル−エトキシ）−エトキシ］−３−メトキシ−フェニル｝−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸、
３−｛４−［２−（２−アセチルスルファニル−エトキシ）−エトキシ］−３−メトキシ−フェニル｝−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸メチルエステル、
３−｛４−［２−（２−メルカプト−エトキシ）−エトキシ］−３−メトキシ−フェニル｝−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸、
３−｛４−［２−（２−メルカプト−エトキシ）−エトキシ］−３−メトキシ−フェニル｝−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸メチルエステル、
３−（４−｛２−［２−（２−クロロ−エトキシ）−エトキシ］−エトキシ｝−３−メトキシ−フェニル）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸、
３−（４−｛２−［２−（２−クロロ−エトキシ）−エトキシ］−エトキシ｝−３−メトキシ−フェニル）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸メチルエステル、
３−（４−｛２−［２−（２−メルカプト−エトキシ）−エトキシ］−エトキシ｝−３−メトキシ−フェニル）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸、
３−（４−｛２−［２−（２−メルカプト−エトキシ）−エトキシ］−エトキシ｝−３−メトキシ−フェニル）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸メチルエステル、
３−（４−｛２−［２−（２−アセチルスルファニル−エトキシ）−エトキシ］−エトキシ｝−３−メトキシ−フェニル）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸メチルエステル、及び
３−（４−｛２−［２−（２−アセチルスルファニル−エトキシ）−エトキシ］−エトキシ｝−３−メトキシ−フェニル）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−酪酸からなる群から選択される、式（Ｉ）の化合物又は式（ＩＩ）の化合物のエナンチオマー又はジアステレオマーを提供する、請求項１に記載の方法。
【請求項２７】
（Ｚ）−４−（３−メトキシカルボニル−２−キノリン−３−イル−アリル）−ピペリジン−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル及び
（Ｚ）−４−（３−カルボキシ−２−キノリン−３−イル−アリル）−ピペリジン−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステルからなる群から選択される、請求項１に記載の化合物Ａ１。
【請求項２８】
次の工程：
工程１．化合物Ｆ１及びカルボニルジイミダゾールの第一混合物をテトラヒドロフラン中で反応させる、
工程２．前記第一混合物をテトラヒドロフラン中でマロン酸メチルのカリウム塩及びＭｇＣｌ2と反応させ、化合物Ｆ２を得る：
【化１５】
2011519340.tif 000111
工程３．化合物Ｆ２を、水素化ナトリウム及びＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンのトルエン溶液の第二混合物中で、トリフルオロメタンスルホン酸無水物と反応させ、（Ｚ）−異性体化合物Ｆ３を得る：
【化１６】
2011519340.tif 000112
並びに、
工程４．化合物Ｆ３を、２ＭのＮａ2ＣＯ3のテトラヒドロフラン溶液の第三混合物中で、キノリン−３−ボロン酸及びビストリフェニルホスフィンパラジウム二塩化物と反応させ、（Ｚ）−４−（３−メトキシカルボニル−２−キノリン−３−イル−アリル）−ピペリジン−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステルを得る、を含む、請求項２７に記載の（Ｚ）−４−（３−メトキシカルボニル−２−キノリン−３−イル−アリル）−ピペリジン−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステルを調製するための方法。
【化１７】
2011519340.tif 000113
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、置換アルカン酸インテグリン拮抗物質化合物をエナンチオ選択的に調製するプロセスを目的とする。より具体的には、このプロセスは、置換ピペリジンアルカン酸二重αvβ3／αvβ5インテグリン拮抗物質のエナンチオ選択的合成を目的とする。
【背景技術】
【０００２】
単一エナンチオマーキラル分子の、経済的に実行可能な合成の重要性は、十分に確立されており、周知である。このことは製薬業界において最も明白であり、ここで、キラル薬剤分子の一方のエナンチオマーが、もう一方のエナンチオマーに比べ、より強化された（又は異なる）治療的特性を有することがある。
【０００３】
多くの場合、キラル分離は大規模製造のための選択方法であることが多いが、不要なエナンチオマーをリサイクル又は廃棄しなければならない古い分離技法に比べ、経済的及び環境的な利点から、不斉水素化が依然として最も広く用いられる触媒による代替方法である。
【０００４】
しかしながら、単一エナンチオマー分子を生成する不斉触媒使用には本質的有利性がある一方で、このプロセスは数多くの要因のため、工業規模での使用には容易に適用できない。この要因には例えば、公開使用又はライセンス使用でキラル触媒の必要量を手頃な価格で容易に入手できるかという点、触媒自体の効果を阻害し得るか又は最終生成物に残存して除去が難しくなり得るような触媒中の不純物の存在、及び、あらゆる基質で高いエナンチオマー選択性をもたらすような単一の配位子系がなく、ましてや系の個々の員は更に少ないことが挙げられる。
【０００５】
加えて、さまざまな基質の立体選択的な不斉水素化還元については広範にわたって記述されているが（Ｏｈｔａ  Ｔ，Ｍｉｙａｋｅ  Ｔ，Ｓｅｉｄｏ  Ｎ，Ｋｕｍａｂａｙａｓｈｉ  Ｈ  ａｎｄ  Ｔａｋａｙａ  Ｈ，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．１９９５，６０，３５７；Ｄｏｂｂｓ  ＤＡ，Ｖａｎｈｅｓｓｃｈｅ  ＫＰＭ，Ｂｒａｚｉ  Ｅ，Ｒａｕｔｅｎｓｔｒａｕｃｈ  Ｖ，Ｌｅｎｏｉｒ  Ｊ−Ｙ，Ｇｅｎｅｔ  Ｊ−Ｐ，Ｗｉｌｅｓ  Ｊ，ａｎｄ  Ｂｅｒｇｅｎｓ  ＳＨ，Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．，Ｉｎｔ．Ｅｄ．Ｅｎｇｌ．２０００，３９，１９９２；Ｍｅｎｇｅｓ  Ｆ  ａｎｄ  Ｐｆａｌｔｚ  Ａ，Ａｄｖ．Ｓｙｎｔｈ．Ｃａｔａｌ．２００２，３４４，４０；Ｔａｎｇ  Ｗ  ａｎｄ  Ｚｈａｎｇ  Ｘ，Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．２００３，１０３，３０２９；Ｏｈｔａ  Ｔ，Ｔａｋａｙａ  Ｈ，Ｋｉｔａｍｕｒａ  Ｍ，Ｎａｇａｉ  Ｋ  ａｎｄ  Ｎｏｙｏｒｉ  Ｒ，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．１９８７，５２，３１７４；Ｌｉｑｉｎ  Ｑ，Ｌｉ  Ｙ．−Ｍ，Ｋｗｏｎｇ  ＦＹ，Ｙｕ  Ｗ−Ｙ，Ｆａｎ  Ｑ−Ｈ  ａｎｄ  Ｃｈａｎ  ＡＳＣ，Ａｄｖ．Ｓｙｎｔｈ．Ｃａｔａｌ．２００７，３４９，５１７；Ｈａｙａｓｈｉ  Ｔ，Ｋａｗａｍｕｒａ  Ｎ  ａｎｄ  Ｉｔｏ  Ｙ，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１９８７，１０９，７８７６；Ｕｅｍｕｒａ  Ｔ，Ｚｈａｎｇ  Ｘ，Ｍａｔｓｕｍｕｒａ  Ｋ，Ｓａｙｏ  Ｎ，Ｋｕｍｏｂａｙａｓｈｉ  Ｈ，Ｏｈｔａ  Ｔ，Ｎｏｚａｋｉ  Ｋ  ａｎｄ  Ｔａｋａｙａ  Ｈ，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．１９９６，６１，５５１０；Ｔｅｌｌｅｒｓ  ＤＭ，ＭｃＷｉｌｌｉａｍｓ  ＪＣ，Ｈｕｍｐｈｒｅｙ  Ｇ，Ｊｏｕｒｎｅｔ  Ｍ，ＤｉＭｉｃｈｅｌｅ  Ｌ，Ｈｉｎｋｓｍｏｎ  Ｊ，ＭｃＫｅｏｗｎ  ＡＥ，Ｒｏｓｎｅｒ  Ｔ，Ｓｕｎ  Ｙ，ａｎｄ  Ｔｉｌｌｙｅｒ  ＲＤ，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．２００６，１２８，１７０６３；Ｃｏｓｓｙ  Ｊ  ａｎｄ  Ｂｅｌｏｔｔｉ  Ｄ，Ｂｉｏｒｇ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．Ｌｅｔｔ  ２００１，１１，１９８９；Ｂｌａｓｅｒ  ＨＵ，Ｍａｌａｎ  Ｃ，Ｐｕｇｉｎ  Ｂ，Ｓｔｅｉｎｅｒ  Ｈ，Ｓｐｉｎｄｌｅｒ  Ｆ  ａｎｄ  Ｓｔｕｄｅｒ  Ｍ，Ａｄｖ．Ｓｙｎｔｈ．Ｃａｔａｌ．Ａ  ２００３，３４５，１０３及びそこに記載されている参照文献；Ｒｏｍｅｒｏ  ＤＬ，Ｍａｎｎｉｎｅｎ  ＰＲ，Ｈａｎ  Ｆ及びＲｏｍｅｒｏ  ＡＧ，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．１９９９，６４，４９８０〜４９８５；米国特許第６，４６５，６６４号；及び、米国特許第６，７８７，６５５号）、一般的な方法論は存在しない。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
キラルインテグリン拮抗物質のための、生成物への変換率が最大で、望ましい異性体のエナンチオマー及びジアステレオマーが最高に過剰になるような、エナンチオ選択的かつジアステレオ選択的な効果的水素化プロセスのニーズが依然として存在する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、式（Ｉ）及び式（ＩＩ）の化合物、並びにこれらの中間体を調製するための不斉水素化プロセスを目的とする：
【０００８】
【化１】
2011519340.tif 000002
式中、Ｒ2、Ｗ、Ｚ及びｑは本明細書において定義され、式中、αはキラル炭素鎖原子を表わし、式中、βはキラル炭素環員原子を表わす。
【０００９】
式（ＩＩＩ）及び式（ＩＶ）の、一連のアルカン酸二重αvβ3／αvβ5インテグリン拮抗物質：
【００１０】
【化２】
2011519340.tif 000003
については、Ｄｅ  Ｃｏｒｔｅ  ＢＬ，Ｋｉｎｎｅｙ  ＷＡ，Ｌｉｕ  Ｌ，Ｇｈｏｓｈ  Ｓ，Ｂｒｕｎｎｅｒ  Ｌ，Ｈｏｅｋｓｔｒａ  ＷＪ，Ｓａｎｔｕｌｌｉ  ＲＪ，Ｔｕｍａｎ  ＲＷ，Ｂａｋｅｒ  Ｊ，Ｂｕｒｎｓ  Ｃ，Ｐｒｏｏｓｔ  ＪＣ，Ｔｏｕｎｇｅ  ＢＡ，Ｄａｍｉａｎｏ  ＢＰ，Ｍａｒｙａｎｏｆｆ  ＢＥ，Ｊｏｈｎｓｏｎ  ＤＬ  ａｎｄ  Ｇａｌｅｍｍｏ  ＲＡ  Ｊｒ．，Ｂｉｏｏｒｇ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．Ｌｅｔｔ．，２００４，１４，５２２７；並びに、米国特許公報第２００４／００７７６８４号及び同第２００４／０２２４９８６号に開示されており、これらの明細書において式（Ｉ）及び式（ＩＩ）の化合物として参照されており、これらはそれぞれ全体が参考として、あらゆる目的のために本明細書に組み込まれる。
【００１１】
更に、米国特許公報第２００４／００７７６８４号及び同第２００４／０２２４９８６号は、式（ＩＩＩ）及び式（ＩＶ）のラセミ及び立体異性化合物について記述している。このような化合物は、本発明の式（Ｉ）及び式（ＩＩ）の化合物を代表する立体異性化合物を提供する本プロセスを使用して、不斉的に調製することができる。
【００１２】
本発明は更に、式（Ｉａ）の化合物及びこの中間体を調製するための不斉水素化プロセスを目的とし：
【００１３】
【化３】
2011519340.tif 000004
【００１４】
本明細書において、（３Ｓ，３’Ｓ）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−３−（１，２，３，４−テトラヒドロ−キノリン−３−イル）−酪酸として言及される。
【００１５】
式（Ｉａ）の化合物は、米国特許公報第２００４／００７７６８４号、同第２００４／０２２４９８６号（同第２００４／００７７６８４号のＣＩＰ）及び米国特許出願第１１／８９７４８４号（第２００４／０２２４９８６号の継続）の両方に開示されており、これらは参考として、あらゆる目的のために、それぞれ全体が、本明細書に組み込まれる。式（Ｉａ）の化合物は、これらの明細書において、１，２，３，４−テトラヒドロ−β−［［１−［１−オキソ−３−（５，６，７，８−テトラヒドロ−１，８−ナフチリジン−２−イル）プロピル］−４−ピペリジニル］メチル］−３−キノリンプロパン酸の異性体化合物１９−４として参照されている。式（Ｉａ）の化合物は、スキームＥ（別の方法としてはスキームＦ）及びその実施例１５において開示されているように合成された。
【００１６】
本発明のプロセスは、立体選択的なオレフィン還元による幾何異性体形成の制御を改善し、逐次キラルカラムクロマトグラフィーを使用した異性体分離を実質的に避けることにより、式（Ｉ）、式（ＩＩ）及び式（Ｉａ）並びにこれらの中間体の化合物のための最適化された反応条件によって、望ましい生成物の変換率及びエナンチオマー過剰を改善する、効率的かつ立体選択制のエナンチオマー及びジアステレオマー水素化である。
【００１７】
本発明のプロセスは、式（Ｉ）、式（ＩＩ）及び式（Ｉａ）の化合物並びにこれらの中間体の望ましいエナンチオマーの、改善された変換率並びに改善されたエナンチオマー過剰及びジアステレオマー過剰を提供する。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
本発明は、スキームＡに示すように、式（Ｉ）及び式（ＩＩ）の化合物を調製するためのプロセスを目的とする：
【００１９】
【化４】
2011519340.tif 000005
式中、
αはキラル炭素鎖原子を表わし、
Ｗは−Ｃ0〜6アルキル（Ｒ1）、−Ｃ1〜6アルキル（Ｒ1a）、−Ｃ0〜6アルキル−アリール（Ｒ1、Ｒ8）、−Ｃ0〜6アルキル−ヘテロシクリル（Ｒ1、Ｒ8）、−Ｃ0〜6アルコキシ（Ｒ1）、−Ｃ0〜6アルコキシ−アリール（Ｒ1，Ｒ8）、及び−Ｃ0〜6アルコキシ−ヘテロシクリル（Ｒ1，Ｒ8）からなる群から選択され、
Ｒ1は水素、−Ｎ（Ｒ4）2、−Ｎ（Ｒ4）（Ｒ5）、−Ｎ（Ｒ4）（Ｒ6）、−ヘテロシクリル（Ｒ8）及び−ヘテロアリール（Ｒ8）からなる群から選択され、
Ｒ1aは−Ｃ（Ｒ4）（＝Ｎ−Ｒ4）、−Ｃ（＝Ｎ−Ｒ4）−Ｎ（Ｒ4）2、−Ｃ（＝Ｎ−Ｒ4）−Ｎ（Ｒ4）（Ｒ6）、−Ｃ（＝Ｎ−Ｒ4）−Ｎ（Ｒ4）−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ4、−Ｃ（＝Ｎ−Ｒ4）−Ｎ（Ｒ4）−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒ4）2、−Ｃ（＝Ｎ−Ｒ4）−Ｎ（Ｒ4）−ＣＯ2−Ｒ4、−Ｃ（＝Ｎ−Ｒ4）−Ｎ（Ｒ4）−ＳＯ2−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ7）及び−Ｃ（＝Ｎ−Ｒ4）−Ｎ（Ｒ4）−ＳＯ2−Ｎ（Ｒ4）2からなる群から選択され、
Ｒ4は水素及び−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ7）からなる群から選択され、
Ｒ5は−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ4、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒ4）2、−Ｃ（＝Ｏ）−シクロアルキル（Ｒ8）、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロシクリル（Ｒ8）、−Ｃ（＝Ｏ）−アリール（Ｒ8）、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロアリール（Ｒ8）、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒ4）−シクロアルキル（Ｒ8）、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒ4）−アリール（Ｒ8）、−ＣＯ2−Ｒ4、−ＣＯ2−シクロアルキル（Ｒ8）、−ＣＯ2−アリール（Ｒ8）、−Ｃ（Ｒ4）（＝Ｎ−Ｒ4）、−Ｃ（＝Ｎ−Ｒ4）−Ｎ（Ｒ4）2、−Ｃ（＝Ｎ−Ｒ4）−Ｎ（Ｒ4）（Ｒ6）、−Ｃ（＝Ｎ−Ｒ4）−Ｎ（Ｒ4）−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ4、−Ｃ（＝Ｎ−Ｒ4）−Ｎ（Ｒ4）−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒ4）2、−Ｃ（＝Ｎ−Ｒ4）−Ｎ（Ｒ4）−ＣＯ2−Ｒ4、−Ｃ（＝Ｎ−Ｒ4）−Ｎ（Ｒ4）−ＳＯ2−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ7）、−Ｃ（＝Ｎ−Ｒ4）−Ｎ（Ｒ4）−ＳＯ2−Ｎ（Ｒ4）2、−Ｎ（Ｒ4）−Ｃ（Ｒ4）（＝Ｎ−Ｒ4）、−Ｎ（Ｒ4）−Ｃ（＝Ｎ−Ｒ4）−Ｎ（Ｒ4）2、−Ｎ（Ｒ4）−Ｃ（＝Ｎ−Ｒ4）−Ｎ（Ｒ4）（Ｒ6）、−Ｎ（Ｒ4）−Ｃ（＝Ｎ−Ｒ4）−Ｎ（Ｒ4）−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ4、−Ｎ（Ｒ4）−Ｃ（＝Ｎ−Ｒ4）−Ｎ（Ｒ4）−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒ4）2、−Ｎ（Ｒ4）−Ｃ（＝Ｎ−Ｒ4）−Ｎ（Ｒ4）−ＣＯ2−Ｒ4、−Ｎ（Ｒ4）−Ｃ（＝Ｎ−Ｒ4）−Ｎ（Ｒ4）−ＳＯ2−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ7）、−Ｎ（Ｒ4）−Ｃ（＝Ｎ−Ｒ4）−Ｎ（Ｒ4）−ＳＯ2−Ｎ（Ｒ4）2、−ＳＯ2−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ7）、−ＳＯ2−Ｎ（Ｒ4）2、−ＳＯ2−シクロアルキル（Ｒ8）及び−ＳＯ2−アリール（Ｒ8）からなる群から選択され、
Ｒ6は−シクロアルキル（Ｒ8）、−ヘテロシクリル（Ｒ8）、−アリール（Ｒ8）及び−ヘテロアリール（Ｒ8）からなる群から選択され、
Ｒ7は水素、−Ｃ1〜8アルコキシ（Ｒ9）、−ＮＨ2、−ＮＨ−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9）、−Ｎ（Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9））2、−Ｃ（＝Ｏ）Ｈ、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9）、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ2、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9）、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9））2、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−アリール（Ｒ10）、−Ｃ（＝Ｏ）−シクロアルキル（Ｒ10）、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロシクリル（Ｒ10）、−Ｃ（＝Ｏ）−アリール（Ｒ10）、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロアリール（Ｒ10）、−ＣＯ2Ｈ、−ＣＯ2−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9）、−ＣＯ2−アリール（Ｒ10）、−Ｃ（＝ＮＨ）−ＮＨ2、−ＳＨ、−Ｓ−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9）、−Ｓ−Ｃ1〜8アルキル−Ｓ−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9）、−Ｓ−Ｃ1〜8アルキル−Ｃ1〜8アルコキシ（Ｒ9）、−Ｓ−Ｃ1〜8アルキル−ＮＨ−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9）、−ＳＯ2−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9）、−ＳＯ2−ＮＨ2、−ＳＯ2−ＮＨ−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9）、−ＳＯ2−Ｎ（Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9））2、−ＳＯ2−アリール（Ｒ10）、シアノ、（ハロ）1〜3、ヒドロキシ、ニトロ、オキソ、−シクロアルキル（Ｒ10）、−ヘテロシクリル（Ｒ10）、−アリール（Ｒ10）及び−ヘテロアリール（Ｒ10）からなる群から独立に選択される１〜２個の置換基であり、
Ｒ8は、窒素原子に結合するとき、水素、−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9）、−Ｃ（＝Ｏ）Ｈ、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9）、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ2、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9）、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9））2、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−アリール（Ｒ10）、−Ｃ（＝Ｏ）−シクロアルキル（Ｒ10）、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロシクリル（Ｒ10）、−Ｃ（＝Ｏ）−アリール（Ｒ10）、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロアリール（Ｒ10）、−ＣＯ2Ｈ、−ＣＯ2−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9）、−ＣＯ2−アリール（Ｒ10）、−Ｃ（＝ＮＨ）−ＮＨ2、−ＳＯ2−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9）、−ＳＯ2−ＮＨ2、−ＳＯ2−ＮＨ−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9）、−ＳＯ2−Ｎ（Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9））2、−ＳＯ2−アリール（Ｒ10）、−シクロアルキル（Ｒ10）及び−アリール（Ｒ10）からなる群から選択され、並びに、
Ｒ8は、炭素原子に結合するとき、水素、−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9）、−Ｃ1〜8アルコキシ（Ｒ9）、−Ｏ−シクロアルキル（Ｒ10）、−Ｏ−アリール（Ｒ10）、−Ｃ（＝Ｏ）Ｈ、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9）、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ2、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9）、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9））2、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−アリール（Ｒ10）、−Ｃ（＝Ｏ）−シクロアルキル（Ｒ10）、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロシクリル（Ｒ10）、−Ｃ（＝Ｏ）−アリール（Ｒ10）、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロアリール（Ｒ10）、−ＣＯ2Ｈ、−ＣＯ2−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9）、−ＣＯ2−アリール（Ｒ10）、−Ｃ（＝ＮＨ）−ＮＨ2、−ＳＯ2−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9）、−ＳＯ2−ＮＨ2、−ＳＯ2−ＮＨ−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9）、−ＳＯ2−Ｎ（Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9））2、−ＳＯ2−アリール（Ｒ10）、−ＳＨ、−Ｓ−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9）、−Ｓ−Ｃ1〜8アルキル−Ｓ−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9）、−Ｓ−Ｃ1〜8アルキル−Ｃ1〜8アルコキシ（Ｒ9）、−Ｓ−Ｃ1〜8アルキル−ＮＨ−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9）、−ＮＨ2、−ＮＨ−Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9）、−Ｎ（Ｃ1〜8アルキル（Ｒ9））2、シアノ、ハロ、ヒドロキシ、ニトロ、オキソ、−シクロアルキル（Ｒ10）、−ヘテロシクリル（Ｒ10）、−アリール（Ｒ10）及び−ヘテロアリール（Ｒ10）からなる群から独立に選択される１〜４個の置換基であり、
Ｒ9は水素、−Ｃ1〜8アルコキシ、−ＮＨ2、−ＮＨ−Ｃ1〜8アルキル、−Ｎ（Ｃ1〜8アルキル）2、−Ｃ（＝Ｏ）Ｈ、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ2、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−Ｃ1〜8アルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｃ1〜8アルキル）2、−ＣＯ2Ｈ、−ＣＯ2−Ｃ1〜8アルキル、−ＳＯ2−Ｃ1〜8アルキル、−ＳＯ2−ＮＨ2、−ＳＯ2−ＮＨ−Ｃ1〜8アルキル、−ＳＯ2−Ｎ（Ｃ1〜8アルキル）2、シアノ、（ハロ）1〜3、ヒドロキシ、ニトロ及びオキソからなる群から選択され、
Ｒ10は、窒素原子に結合するとき、水素、−Ｃ1〜8アルキル、−Ｃ（＝Ｏ）Ｈ、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ1〜8アルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ2、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−Ｃ1〜8アルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｃ1〜8アルキル）2、−ＣＯ2Ｈ、−ＣＯ2−Ｃ1〜4アルキル、−ＳＯ2−Ｃ1〜8アルキル、−ＳＯ2−ＮＨ2、−ＳＯ2−ＮＨ−Ｃ1〜8アルキル及び−ＳＯ2−Ｎ（Ｃ1〜8アルキル）2からなる群から選択され、並びに、
Ｒ10は、炭素原子に結合するとき、水素、−Ｃ1〜8アルキル、−Ｃ1〜8アルコキシ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｈ、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ1〜8アルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ2、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−Ｃ1〜8アルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｃ1〜8アルキル）2、−ＣＯ2Ｈ、−ＣＯ2−Ｃ1〜4アルキル、−ＳＯ2−Ｃ1〜8アルキル、−ＳＯ2−ＮＨ2、−ＳＯ2−ＮＨ−Ｃ1〜8アルキル、−ＳＯ2−Ｎ（Ｃ1〜8アルキル）2、−ＮＨ2、−ＮＨ−Ｃ1〜8アルキル、−Ｎ（Ｃ1〜8アルキル）2、シアノ、ハロ、ヒドロキシ、ニトロ及びオキソからなる群から独立に選択される１〜４個の置換基であり、
Ｒ2は−シクロアルキル（Ｒ8）、−ヘテロシクリル（Ｒ8）、−アリール（Ｒ8）及び−ヘテロアリール（Ｒ8）からなる群から選択され、
βは−シクロアルキル（Ｒ8）及び−ヘテロシクリル（Ｒ8）のキラル炭素環員原子を表わし、
ｑは０、１、２又は３であり、
Ｚはヒドロキシ及び−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルからなる群から選択され、
次の工程：
【００２０】
スキームＡ
工程１．化合物Ａ１（式中、ＰＧはＢｏｃなどのＣ1〜4アルコキシカルボニル保護基である）を、所望による第一添加剤の存在下、第一溶媒中で、第一高温及び第一高圧において、第一水素源、第一配位子金属錯体であって、第一金属付加物と配位結合した第一配位子から本質的になる錯体と反応させ、実質的に純粋な化合物Ａ２又は実質的に純粋な化合物Ａ３を得る：
【００２１】
【化５】
2011519340.tif 000006
【００２２】
工程２．所望により化合物Ａ２又は化合物Ａ３（それぞれ、式中、Ｚはヒドロキシである）を、化合物Ａ２又は化合物Ａ３（それぞれ、式中、Ｚは−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルである）に変換する、
工程３．所望により化合物Ａ２又は化合物Ａ３（このとき、Ｒ2は−アリール（Ｒ8）及び−ヘテロアリール（Ｒ8）から選択される）を、第二溶媒中で、第二高温及び第二高圧において、第二水素源及び水素化剤で水素化し、化合物Ａ４、化合物Ａ５、化合物Ａ６及び化合物Ａ７の異性体混合物を得る（式中、Ｒ2は、化合物Ａ２又は化合物Ａ３にそれぞれ対応する−アリール（Ｒ8）及び−ヘテロアリール（Ｒ8）から水素化される−シクロアルキル（Ｒ8）又は−ヘテロシクリル（Ｒ8）から選択される）：
【００２３】
【化６】
2011519340.tif 000007
【００２４】
工程４．化合物Ａ４、化合物Ａ５、化合物Ａ６又は化合物Ａ７（式中、Ｚはヒドロキシである）のいずれかが存在するとき、これらの化合物それぞれを、対応する化合物Ａ４、化合物Ａ５、化合物Ａ６又は化合物Ａ７（式中、Ｚは−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルである）に変換する、
工程５．化合物Ａ２、化合物Ａ３、化合物Ａ４、化合物Ａ５、化合物Ａ６及び化合物Ａ７（それぞれ、式中、Ｚは−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルである）のそれぞれを、異性体混合物から分離する、
工程６．化合物Ａ２〜化合物Ａ７から選択される化合物（それぞれ、式中、Ｚは−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルである）を脱保護し、化合物Ａ８〜化合物Ａ１３からそれぞれ選択される対応化合物を得る：
【００２５】
【化７】
2011519340.tif 000008
【００２６】
工程７．化合物Ａ８〜化合物Ａ１３から選択される化合物（それぞれ、式中、Ｚは−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルである）を、化合物Ａ１４と反応させ、式（Ｉ）の化合物Ａ１５〜化合物Ａ２０からそれぞれ選択される対応化合物を得る：
【００２７】
【化８】
2011519340.tif 000009
【００２８】
工程８．化合物Ａ１５〜化合物Ａ２０から選択される化合物（それぞれ、式中、Ｚは−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルである）を、式（Ｉ）の対応化合物Ａ１５〜化合物Ａ２０（それぞれ、式中、Ｚはヒドロキシである）に変換する、を含む。
【００２９】
上記のプロセスは所望により、次の工程：
工程５ａ  化合物Ａ７（式中、Ｚは−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルであり、Ｒ2は−シクロアルキル（Ｒ8）又は−ヘテロシクリル（Ｒ8）から選択される）を脱水素化して、化合物Ａ３（式中、Ｚは−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルであり、Ｒ2は、化合物Ａ７の対応する−シクロアルキル（Ｒ8）又は−ヘテロシクリル（Ｒ8）からそれぞれ脱水素化される−アリール（Ｒ8）又は−ヘテロアリール（Ｒ8）から選択される）とし、次にこの化合物Ａ３を出発物質として工程３を繰り返す、を更に含む。
【００３０】
本発明の実施例１は、第一水素源が気体水素又は過剰量の蟻酸から選択されるプロセスを含む。
【００３１】
本発明の実施例２は、第一配位子金属錯体が、第一金属付加物と配位結合した第一配位子から本質的になり、
第一配位子が、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ，Ｒ）−Ｍｅ−ＤｕＰｈｏｓ、（Ｓ，Ｓ）−Ｍｅ−ＤｕＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ、（Ｓ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＰＣｙ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＰＣｙ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ及び（Ｓ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚからなる群から選択され、
第一金属付加物が、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2、［Ｒｈ（エチレン）2（ａｃａｃ）］、［Ｒｈ（ＣＯ）2（ａｃａｃ）］、［Ｒｈ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、［Ｒｈ（ＣＯＤ）（ａｃａｃ）］、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＦ3ＣＯＯ）2］2、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＨ3ＣＯＯ）2］、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（メチルアリル）2］、［Ｒｕ（ベンゼン）Ｃｌ2］2、［Ｒｕ（ｐ−シメン）Ｃｌ2］2、［Ｒｕ（メシチレン）Ｃｌ2］2、［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、［Ｉｒ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4及び［Ｉｒ（ＣＯＤ）2］ＢＡｒFからなる群から選択される、プロセスを含む。
【００３２】
本発明の実施例３は、第一配位子金属錯体が、（Ｒ）−Ａｎ−Ｐｈａｎｅｐｈｏｓ／［Ｒｈ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ／［Ｉｒ（ＣＯＤ）］ＢＡｒF、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ／［Ｉｒ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｒｈ（ＣＯ）2（ａｃａｃ）］、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｒｈ（エチレン）2（ａｃａｃ）］、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、（Ｒ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［Ｒｈ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｒ）−Ｐｈａｎｅｐｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［Ｒｈ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、（Ｒ）−Ｐｈａｎｅｐｈｏｓ＆［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、（Ｒ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ／［Ｉｒ（ＣＯＤ）］ＢＡｒF、（Ｒ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｔｏｌ−Ｂｉｎａｐ／［ＲｕＣｌ（ｐ−シメン）］Ｃｌ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐｈａｎｅｐｈｏｓ／［Ｒｈ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＦ3ＣＯＯ）2］2、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｒｕ（ＣＯＤ）（メチルアリル）2］、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｒｈ（ＣＯ）2（ａｃａｃ）］、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｒｈ（エチレン）2（ａｃａｃ）］、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｒｕ（ｐ−シメン）Ｃｌ］Ｃｌ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、（Ｒ，Ｒ）−ＭｅＤｕＰｈｏｓ／［Ｒｈ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、（Ｓ）−エチル−ナフチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［Ｒｈ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｐｈａｎｅｐｈｏｓ／［Ｒｈ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ／［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ／［Ｒｕ（ベンゼン）Ｃｌ］Ｃｌ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、（Ｓ）−Ｔｏｌ−Ｂｉｎａｐ／［ＲｕＣｌ（ｐ−シメン）］Ｃｌ、（Ｓ）−Ｔｏｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ／［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、２，４，６−Ｆ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、３，４−ｄｉＣｌＰｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、ＤＰＰＦ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、ＤｔＢＰＦ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、ＰＣｙ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、ＰＣｙ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2及びＸｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2からなる群から選択される、プロセスを含む。
【００３３】
本発明の実施例４は、第一溶媒が、ＭｅＯＨ、ＤＣＥ、ＥｔＯＨ、ＩＰＡ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ、２−プロパノール、及びＤＭＦ、並びにこれらの混合物からなる群から選択される、プロセスを含む。
【００３４】
本発明の実施例５は、所望による第一添加剤が、ＡｃＯＨ、Ｅｔ3Ｎ、ＨＢＦ4、ＨＢＦ4エーテル化合物、ＨＣｌ、ＨＣｌエーテル化合物、ＣＦ3ＣＯＯＨ、ＣＨ3ＣＯＯＨ及びＴｓＯＨからなる群から選択され、存在する場合には、約１．２当量以下の量であるプロセスを含む。
【００３５】
本発明の実施例６は、第一温度が約２５℃〜約９０℃であるか、又は約５０℃〜約９０℃の範囲であるプロセスを含む。
【００３６】
本発明の実施例７は、第一圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約３０００ｋＰａ（３０ｂａｒ）、又は約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）〜約３０００ｋＰａ（３０ｂａｒ）の範囲であるプロセスを含む。
【００３７】
本発明の実施例８は、化合物Ａ１についてＺがヒドロキシであるとき、
第一配位子が、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、ＰＣｙ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ及びＰＣｙ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚからなる群から選択され、
第一金属付加物が、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2、［Ｒｈ（エチレン）2（ａｃａｃ）］、［Ｒｈ（ＣＯ）2（ａｃａｃ）］、［Ｒｈ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、［Ｒｈ（ＣＯＤ）（ａｃａｃ）］、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＦ3ＣＯＯ）2］2、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＨ3ＣＯＯ）2］、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（メチルアリル）2］、［Ｒｕ（ベンゼン）Ｃｌ2］2、［Ｒｕ（ｐ−シメン）Ｃｌ2］2、［Ｒｕ（メシチレン）Ｃｌ2］2、［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、［Ｉｒ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4及び［Ｉｒ（ＣＯＤ）2］ＢＡｒFからなる群から選択され、
第一温度が約２５℃〜約７０℃の範囲であり、
第一圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約３０００ｋＰａ（３０ｂａｒ）の範囲であるプロセスを含む。
【００３８】
本発明の実施例９は、化合物Ａ１についてＺがヒドロキシであるとき、第一配位子金属錯体が、（Ｒ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［Ｒｈ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［Ｒｈ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［Ｒｈ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、（Ｒ）−Ｔｏｌ−Ｂｉｎａｐ／［ＲｕＣｌ（ｐ−シメン）］Ｃｌ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＦ3ＣＯＯ）2］2、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｒｕ（ＣＯＤ）（メチルアリル）2］、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［Ｒｈ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、（Ｓ）−Ｔｏｌ−Ｂｉｎａｐ／［ＲｕＣｌ（ｐ−シメン）］Ｃｌ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ及び（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］からなる群から選択されるプロセスを含む。
【００３９】
本発明の実施例１０は、化合物Ａ１についてＺがヒドロキシであるとき、
第一配位子が、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ及び（Ｓ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓからなる群から選択され、
第一金属付加物が、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＦ3ＣＯＯ）2］2、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（メチルアリル）2］、［Ｒｕ（ベンゼン）Ｃｌ2］2及び［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2からなる群から選択されるプロセスを含む。
【００４０】
本発明の実施例１１は、化合物Ａ１についてＺがヒドロキシであるとき、
第一配位子が、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ及び（Ｓ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓからなる群から選択され、
第一金属付加物が、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＦ3ＣＯＯ）2］2、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（メチルアリル）2］及び［Ｒｕ（ベンゼン）Ｃｌ2］2からなる群から選択されるプロセスを含む。
【００４１】
本発明の実施例１２は、化合物Ａ１についてＺがヒドロキシであるとき、
第一配位子が（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ及び（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚからなる群から選択され、
第一金属付加物が［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2であり、
第一溶媒がＴＨＦ、ＤＣＥ及びＥｔＯＡｃからなる群から選択され、
第一温度が約６５℃〜約７０℃の範囲であり、
第一圧力が約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）〜約３０００ｋＰａ（３０ｂａｒ）の範囲であるプロセスを含む。
【００４２】
本発明の実施例１３は、化合物Ａ１についてＺがヒドロキシであるとき、
第一配位子が、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ及び（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓからなる群から選択され、
第一金属付加物が、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2、［Ｒｈ（エチレン）2（ａｃａｃ）］、［Ｒｈ（ＣＯ）2（ａｃａｃ）］、［Ｒｈ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2及び［Ｒｈ（ＣＯＤ）（ａｃａｃ）］からなる群から選択され、
第一溶媒がＭｅＯＨであり、第一温度が約２５℃〜約６０℃であり、
第一圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約３０００ｋＰａ（３０ｂａｒ）であるプロセスを含む。
【００４３】
本発明の実施例１４は、化合物Ａ１についてＺがヒドロキシであるとき、
第一配位子が、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ及び（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓからなる群から選択され、
第一金属付加物が、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＦ3ＣＯＯ）2］2、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＨ3ＣＯＯ）2］、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（メチルアリル）2］、［Ｒｕ（ベンゼン）Ｃｌ2］2、［Ｒｕ（ｐ−シメン）Ｃｌ2］2及び［Ｒｕ（メシチレン）Ｃｌ2］2からなる群から選択され、
第一溶媒が、ＭｅＯＨ、ＥｔＯＨ、ＩＰＡ、ＤＣＥ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ、ＤＭＦ及びこれらの混合物からなる群から選択され、
所望による第一添加剤がＡｃＯＨ、ＣＦ3ＣＯ2Ｈ及びＥｔ3Ｎからなる群から選択され、
第一温度が約４０℃〜約７０℃の範囲であり、
第一圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約３０００ｋＰａ（３０ｂａｒ）の範囲であるプロセスを含む。
【００４４】
本発明の実施例１５は、化合物Ａ１についてＺがヒドロキシであるとき、
第一配位子が（Ｒ）−ＸｙｌＰｈａｎｅＰｈｏｓであり、
第一金属付加物が、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＦ3ＣＯＯ）2］2、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＨ3ＣＯＯ）2］、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（メチルアリル）2］、［Ｒｕ（ベンゼン）Ｃｌ2］2、［Ｒｕ（ｐ−シメン）Ｃｌ2］2及び［Ｒｕ（メシチレン）Ｃｌ2］2からなる群から選択され、
第一溶媒が、ＭｅＯＨ、ＤＭＦ及びこれらの混合物からなる群から選択され、
所望による第一添加剤がＥｔ3Ｎであり、
第一温度が約４０℃〜約６０℃の範囲であり、
第一圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約３０００ｋＰａ（３０ｂａｒ）の範囲であるプロセスを含む。
【００４５】
本発明の実施例１６は、化合物Ａ１についてＺがヒドロキシであるとき、
第一配位子が（Ｒ）−ＸｙｌＰｈａｎｅＰｈｏｓであり、
第一金属付加物が、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＦ3ＣＯＯ）2］2、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＨ3ＣＯＯ）2］、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（メチルアリル）2］、［Ｒｕ（ベンゼン）Ｃｌ2］2、［Ｒｕ（ｐ−シメン）Ｃｌ2］2及び［Ｒｕ（メシチレン）Ｃｌ2］2からなる群から選択され、
第一溶媒が、ＭｅＯＨ、ＤＭＦ及びこれらの混合物からなる群から選択され、
所望による第一添加剤がＡｃＯＨであり、
第一温度が約４０℃であり、
第一圧力が約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）であるプロセスを含む。
【００４６】
本発明の実施例１７は、化合物Ａ１についてＺがヒドロキシであるとき、
第一配位子が（Ｒ）−ＸｙｌＰｈａｎｅＰｈｏｓであり、
第一金属付加物が、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＦ3ＣＯＯ）2］2、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＨ3ＣＯＯ）2］、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（メチルアリル）2］、［Ｒｕ（ベンゼン）Ｃｌ2］2、［Ｒｕ（ｐ−シメン）Ｃｌ2］2及び［Ｒｕ（メシチレン）Ｃｌ2］2からなる群から選択され、
第一溶媒が、ＭｅＯＨ、ＥｔＯＨ、ＩＰＡ、ＤＣＥ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ、ＤＭＦ及びこれらの混合物からなる群から選択され、
第一温度が約４０℃であり、
第一圧力が約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）であるプロセスを含む。
【００４７】
本発明の実施例１８は、化合物Ａ１についてＺがヒドロキシであるとき、
第一配位子が（Ｒ）−ＸｙｌＰｈａｎｅＰｈｏｓであり、
第一金属付加物が［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＦ3ＣＯＯ）2］2、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＨ3ＣＯＯ）2］及び［Ｒｕ（ＣＯＤ）（メチルアリル）2］であり、
第一溶媒がＭｅＯＨであり、
所望による第一添加剤がＡｃＯＨであり、
第一温度が約４０℃であり、
第一圧力が約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）であるプロセスを含む。
【００４８】
本発明の実施例１９は、化合物Ａ１についてＺが−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルであるとき、
第一配位子が、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ，Ｒ）−Ｍｅ−ＤｕＰｈｏｓ、（Ｓ，Ｓ）−Ｍｅ−ＤｕＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ、（Ｓ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＰＣｙ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＰＣｙ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ及び（Ｓ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚからなる群から選択され、
第一金属付加物が、［Ｉｒ（ＣＯＤ）2］ＢＡｒF、［Ｉｒ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4、［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2、［Ｒｈ（エチレン）2（ａｃａｃ）］、［Ｒｈ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、及び［Ｒｈ（ＣＯＤ）（ａｃａｃ）］からなる群から選択され、
第一溶媒が、ＭｅＯＨ、ＤＣＥ、ＥｔＯＨ、ＩＰＡ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ、ＤＭＦ、及びこれらの混合物からなる群から選択され、
所望による第一添加剤がＥｔ3Ｎ、ＨＢＦ4、ＣＨ3ＣＯＯＨ及びＴｓＯＨからなる群から選択され、存在する場合には、約１．２当量以下の量であり、
第一温度が約５０℃〜約７０℃の範囲であり、
第一圧力が約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）〜約３０００ｋＰａ（３０ｂａｒ）の範囲であるプロセスを含む。
【００４９】
本発明の実施例２０は、化合物Ａ１についてＺが−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルであるとき、第一配位子金属錯体が（Ｒ）−Ａｎ−Ｐｈａｎｅｐｈｏｓ／［Ｒｈ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ／［Ｉｒ（ＣＯＤ）］ＢＡｒF、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ／［Ｉｒ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｒｈ（ＣＯ）2（ａｃａｃ）］、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｒｈ（エチレン）2（ａｃａｃ）］、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、（Ｒ）−Ｐｈａｎｅｐｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｐｈａｎｅｐｈｏｓ＆［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ／［Ｉｒ（ＣＯＤ）］ＢＡｒF、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐｈａｎｅｐｈｏｓ／［Ｒｈ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｒｈ（ＣＯ）2（ａｃａｃ）］、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｒｈ（エチレン）2（ａｃａｃ）］、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ／［Ｒｕ（ｐ−シメン）Ｃｌ］Ｃｌ、（Ｒ，Ｒ）−ＭｅＤｕＰｈｏｓ／［Ｒｈ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［Ｒｈ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ／［Ｉｒ（ＣＯＤ）］Ｃｌ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ／［Ｒｕ（ベンゼン）Ｃｌ］Ｃｌ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ／［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、３，４−ｄｉＣｌＰｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、ＰＣｙ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2及びＸｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2からなる群から選択されるプロセスを含む。
【００５０】
本発明の実施例２１は、化合物Ａ１についてＺが−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルであるとき、
第一配位子が（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ及び（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚからなる群から選択され、
第一金属付加物が、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2、［Ｒｈ（エチレン）2（ａｃａｃ）］、［Ｒｈ（ＣＯ）2（ａｃａｃ）］、［Ｒｕ（ｐ−シメン）Ｃｌ2］2、［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2及び［Ｉｒ（ＣＯＤ）］ＢＡｒFからなる群から選択され、
第一溶媒が、ＭｅＯＨ、ＤＣＥ、ＥｔＯＨ、トルエン、ＥｔＯＡｃ、２−プロパノール、ＴＨＦ、及びこれらの混合物からなる群から選択され、
所望による第一添加剤がＨＢＦ4、ＡｃＯＨ及びＴｓＯＨからなる群から選択され、存在する場合には、約１．２当量以下の量であり、
第一温度が約５０℃〜約９０℃の範囲であり、
第一圧力が約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）〜約３０００ｋＰａ（３０ｂａｒ）の範囲であるプロセスを含む。
【００５１】
本発明の実施例２２は、化合物Ａ１についてＺが−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルであるとき、
第一配位子が、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ及び（Ｓ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚからなる群から選択され、
第一金属付加物が、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、［Ｒｈ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2、［Ｒｈ（エチレン）2（ａｃａｃ）］、［Ｒｈ（ＣＯ）2（ａｃａｃ）］、［Ｒｕ（ｐ−シメン）Ｃｌ2］2、［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、［Ｉｒ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4及び［Ｉｒ（ＣＯＤ）2］ＢＡｒFからなる群から選択され、
第一溶媒が、ＤＣＥ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ及びこれらの混合物からなる群から選択され、
所望による第一添加剤がＨＢＦ4及びＴｓＯＨからなる群から選択され、存在する場合には、約１．２当量以下の量であり、
第一温度が約５０℃〜約９０℃の範囲であり、
第一圧力が約３０００ｋＰａ（３０ｂａｒ）であるプロセスを含む。
【００５２】
本発明の実施例２３は、化合物Ａ１についてＺが−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルであるとき、
第一配位子が（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ及び（Ｓ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚからなる群から選択され、
第一金属付加物が、［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2及び［Ｉｒ（ＣＯＤ）2］ＢＡｒFからなる群から選択され、
第一溶媒が、ＭｅＯＨ、ＤＣＥ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ、ＩＰＡ、及びこれらの混合物からなる群から選択され、
所望による第一添加剤がＨＢＦ4であり、存在する場合には、約１．２当量以下の量であり、
第一温度が約５０℃〜約９０℃の範囲であり、
第一圧力が約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）〜約３０００ｋＰａ（３０ｂａｒ）であるプロセスを含む。
【００５３】
本発明の実施例２４は、化合物Ａ２又は化合物Ａ３について、Ｒ2が−アリール（Ｒ8）及び−ヘテロアリール（Ｒ8）から選択されるとき、
第二水素源が気体水素であり、
水素化剤が１０％Ｐｄ／Ｃ又は第二配位子金属錯体のいずれかから選択され、
第二配位子金属錯体が、第二配位子及び［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2金属付加物を、約０．１当量以下のヨウ素と組み合わせたものから本質的になり、
１０％Ｐｄ／Ｃが約５％重量／重量（ｗ／ｗ）〜約２０％（ｗ／ｗ）の重量％範囲で存在し、
第二配位子が、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ，Ｒ）−Ｍｅ−ＤｕＰｈｏｓ、（Ｓ，Ｓ）−Ｍｅ−ＤｕＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｔｏｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｔｏｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ、（Ｓ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−エチル−Ｎａｐｔｈｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−２，４，６−Ｆ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−２，４，６−Ｆ3Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−２，４，６−Ｆ3Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−２，４，６−Ｆ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＰＣｙ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｓ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｓ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ及びＤＰＰＦからなる群から選択され、
第二溶媒がＭｅＯＨ、ＤＣＥ、ＥｔＯＨ、ＩＰＡ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ、１−ＢｕＯＨ及びＭＴＢＥ、並びにこれらの混合物からなる群から選択され、
所望による第二添加剤がＥｔ3Ｎ、ｉＰｒ2−ＮＨ、Ｃｙ2ＮＨ、（Ｒ）−Ｐｈ−エチル−ＮＨ2、（Ｓ）−Ｐｈ−エチル−ＮＨ2、ＫＩ、ＫＯＨ、Ｋ2ＣＯ3、（Ｒ／Ｓ）−カンファースルホン酸及びＣＨ3ＣＯＯＨからなる群から選択され、存在する場合には、約１．２当量以下の量であり、
第二温度が約３０℃〜約８０℃の範囲であり、又は約４０℃〜約６０℃の範囲であり、
第二圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）の範囲であるプロセスを含む。
【００５４】
本発明の実施例２５は、化合物Ａ２又は化合物Ａ３について、Ｚがヒドロキシであり、Ｒ2が−アリール（Ｒ8）及び−ヘテロアリール（Ｒ8）から選択されるとき、第二配位子金属錯体が（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ−＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｔｏｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2及び（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2からなる群から選択されるプロセスを含む。
【００５５】
本発明の実施例２６は、化合物Ａ２又は化合物Ａ３について、Ｚが−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルであり、Ｒ2が−アリール（Ｒ8）及び−ヘテロアリール（Ｒ8）から選択されるとき、第二配位子金属錯体が（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−エチル−ナフチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、２，４，６−Ｆ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、ＤＰＰＦ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、ＤｔＢＰＦ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、ＰＣｙ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2及びＸｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2からなる群から選択されるプロセスを含む。
【００５６】
本発明の実施例２７は、化合物Ａ２又は化合物Ａ３について、Ｚがヒドロキシであり、Ｒ2が−アリール（Ｒ8）及び−ヘテロアリール（Ｒ8）から選択されるとき、
第二配位子が（Ｒ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｔｏｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ及び（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐからなる群から選択され、
第二溶媒がＭｅＯＨ、ＤＣＥ、ＥｔＯＨ、ＩＰＡ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ及びＭＴＢＥ、並びにこれらの混合物からなる群から選択され、
第二温度が約４０℃〜約６０℃の範囲であり、
第二圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）の範囲であるプロセスを含む。
【００５７】
本発明の実施例２８は、化合物Ａ２又は化合物Ａ３について、Ｚが−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルであり、Ｒ2が−アリール（Ｒ8）及び−ヘテロアリール（Ｒ8）から選択されるとき、
第二配位子が（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｔｏｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−エチル−Ｎａｐｔｈｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−２，４，６−Ｆ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＰＣｙ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ、ＤｔＢＰＦ及びＤＰＰＦからなる群から選択され、
第二溶媒がＭｅＯＨ、ＤＣＥ、ＥｔＯＨ、ＩＰＡ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ、１−ＢｕＯＨ及びＭＴＢＥ、並びにこれらの混合物からなる群から選択され、
第二温度が約３０℃〜約８０℃の範囲であり、
第二圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であるプロセスを含む。
【００５８】
本発明の実施例２９は、化合物Ａ２又は化合物Ａ３について、Ｒ2が−アリール（Ｒ8）及び−ヘテロアリール（Ｒ8）から選択されるとき、
第二水素源が気体水素であり、
１０％Ｐｄ／Ｃが約５％（ｗ／ｗ）〜約２０％（ｗ／ｗ）の重量％範囲で存在し、
第二溶媒がＭｅＯＨ、ＤＣＥ、ＥｔＯＨ、ＩＰＡ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ、１−ＢｕＯＨ及びＭＴＢＥ、並びにこれらの混合物からなる群から選択され、
所望による第二添加剤がＥｔ3Ｎ、ｉＰｒ2−ＮＨ、Ｃｙ2ＮＨ、（Ｒ）−Ｐｈ−エチル−ＮＨ2、（Ｓ）−Ｐｈ−エチル−ＮＨ2、ＫＩ、ＫＯＨ、Ｋ2ＣＯ3、（Ｒ／Ｓ）−カンファースルホン酸及びＣＨ3ＣＯＯＨからなる群から選択され、存在する場合には、約１．２当量以下の量であり、
第二温度が約３０℃〜約８０℃の範囲であり、又は約４０℃〜約６０℃の範囲であり、
第二圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）の範囲であるプロセスを含む。
【００５９】
本発明の実施例３０は、化合物Ａ２又は化合物Ａ３について、Ｒ2が−アリール（Ｒ8）及び−ヘテロアリール（Ｒ8）から選択されるとき、
第二配位子金属錯体が、第二配位子及び［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2第二金属付加物を、約０．１当量以下のヨウ素と組み合わせたものから本質的になり、
第二配位子が、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ，Ｒ）−Ｍｅ−ＤｕＰｈｏｓ、（Ｓ，Ｓ）−Ｍｅ−ＤｕＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｔｏｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｔｏｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ、（Ｓ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−エチル−Ｎａｐｔｈｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−２，４，６−Ｆ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−２，４，６−Ｆ3Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−２，４，６−Ｆ3Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−２，４，６−Ｆ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＰＣｙ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｓ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｓ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ及びＤＰＰＦからなる群から選択され、
第二溶媒がＭｅＯＨ、ＤＣＥ、ＥｔＯＨ、ＩＰＡ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ、１−ＢｕＯＨ及びＭＴＢＥ、並びにこれらの混合物からなる群から選択され、
所望による第二添加剤がＥｔ3Ｎ、ｉＰｒ2−ＮＨ、Ｃｙ2ＮＨ、（Ｒ）−Ｐｈ−エチル−ＮＨ2、（Ｓ）−Ｐｈ−エチル−ＮＨ2、ＫＩ、ＫＯＨ、Ｋ2ＣＯ3、（Ｒ／Ｓ）−カンファースルホン酸及びＣＨ3ＣＯＯＨからなる群から選択され、存在する場合には、約１．２当量以下の量であり、
第二温度が約３０℃〜約８０℃の範囲であり、又は約４０℃〜約６０℃の範囲であり、
第二圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）の範囲であるプロセスを含む。
【００６０】
本発明の実施例３１は、化合物Ａ２又は化合物Ａ３について、Ｚがヒドロキシであり、Ｒ2が−アリール（Ｒ8）及び−ヘテロアリール（Ｒ8）から選択されるとき、
第二配位子が（Ｒ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｔｏｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ及び（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐからなる群から選択され、
第二溶媒がＭｅＯＨ、ＤＣＥ、ＥｔＯＨ、ＩＰＡ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ及びＭＴＢＥ、並びにこれらの混合物からなる群から選択され、
第二温度が約４０℃〜約６０℃の範囲であり、
第二圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）の範囲であるプロセスを含む。
【００６１】
本発明の実施例３２は、化合物Ａ２又は化合物Ａ３について、Ｚが−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルであり、Ｒ2が−アリール（Ｒ8）及び−ヘテロアリール（Ｒ8）から選択されるとき、
第二配位子が（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｔｏｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−エチル−Ｎａｐｔｈｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−２，４，６−Ｆ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＰＣｙ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ及びＤＰＰＦなる群から選択され、
第二溶媒がＭｅＯＨ、ＤＣＥ、ＥｔＯＨ、ＩＰＡ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ、１−ＢｕＯＨ及びＭＴＢＥ、並びにこれらの混合物からなる群から選択され、
第二温度が約３０℃〜約８０℃の範囲であり、
第二圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であるプロセスを含む。
【００６２】
本発明の実施例３３は、次の工程を含むプロセスを含む：
工程１．化合物Ａ１（式中、Ｚはヒドロキシであり、ＰＧはＢｏｃなどのＣ1〜4アルコキシカルボニル保護基である）を、所望による第一添加剤の存在下、第一溶媒中で、第一高温及び第一高圧において、第一水素源、第一配位子金属錯体であって、第一金属付加物と配位結合した第一配位子から本質的になる錯体と反応させ、実質的に純粋な化合物Ａ２又は実質的に純粋な化合物Ａ３を得る、ここで、
第一水素源が気体水素又は過剰量の蟻酸から選択され、
第一配位子が、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、ＰＣｙ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ及びＰＣｙ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚからなる群から選択され、
第一金属付加物が、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＦ3ＣＯＯ）2］2、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（メチルアリル）2］、［Ｒｕ（ベンゼン）Ｃｌ2］2及び［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2からなる群から選択され、
第一溶媒が、ＭｅＯＨ、ＥｔＯＨ、ＩＰＡ、ＤＣＥ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ、ＤＭＦ及びこれらの混合物からなる群から選択され、
所望による第一添加剤が、ＡｃＯＨ、Ｅｔ3Ｎ、ＨＢＦ4、ＨＢＦ4エーテル化合物、ＨＣｌ、ＨＣｌエーテル化合物、ＣＦ3ＣＯＯＨ、ＣＨ3ＣＯＯＨ及びＴｓＯＨからなる群から選択され、存在する場合には、約１．２当量以下の量であり、
第一温度が約２５℃〜約７０℃の範囲であり、
第一圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約３０００ｋＰａ（３０ｂａｒ）の範囲である、
工程２．所望により化合物Ａ２又は化合物Ａ３（それぞれ、式中、Ｚはヒドロキシ）を、化合物Ａ２又は化合物Ａ３（それぞれ、式中、Ｚは−Ｏ−Ｃ1〜8アルキル）に変換する、
工程３．化合物Ａ２又は化合物Ａ３（このとき、Ｒ2は−アリール（Ｒ8）及び−ヘテロアリール（Ｒ8）から選択される）を、第二溶媒中で、所望による第二添加剤の存在下で、第二高温及び第二高圧において、第二水素源及び水素化剤と反応させ、化合物Ａ４、化合物Ａ５、化合物Ａ６及び化合物Ａ７（式中、Ｒ2は、化合物Ａ２又は化合物Ａ３にそれぞれ対応する−アリール（Ｒ8）及び−ヘテロアリール（Ｒ8）から水素化される−シクロアルキル（Ｒ8）又は−ヘテロシクリル（Ｒ8）から選択される）の異性体混合物を得る、ここで、
水素化剤が１０％Ｐｄ／Ｃ又は第二配位子金属錯体のいずれかから選択され、
第二配位子金属錯体が、第二配位子及び［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2金属付加物を、約０．１当量以下のヨウ素と組み合わせたものから本質的になり、
１０％Ｐｄ／Ｃが約５％重量／重量（ｗ／ｗ）〜約２０％（ｗ／ｗ）の重量％範囲で存在し、
第二配位子が（Ｒ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｔｏｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ及び（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐからなる群から選択され、
第二溶媒がＭｅＯＨ、ＤＣＥ、ＥｔＯＨ、ＩＰＡ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ及びＭＴＢＥ、並びにこれらの混合物からなる群から選択され、
所望による第二添加剤がＥｔ3Ｎ、ｉＰｒ2−ＮＨ、Ｃｙ2ＮＨ、（Ｒ）−Ｐｈ−エチル−ＮＨ2、（Ｓ）−Ｐｈ−エチル−ＮＨ2、ＫＩ、ＫＯＨ、Ｋ2ＣＯ3、（Ｒ／Ｓ）−カンファースルホン酸及びＣＨ3ＣＯＯＨからなる群から選択され、存在する場合には、約１．２当量以下の量であり、
第二温度が約４０℃〜約６０℃の範囲であり、
第二圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）の範囲である。
【００６３】
本発明の実施例３４は、次の工程を含むプロセスを含む：
工程１．化合物Ａ１（式中、Ｚは−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルであり、ＰＧはＢｏｃなどのＣ1〜4アルコキシカルボニル保護基である）を、所望による第一添加剤の存在下、第一溶媒中で、第一高温及び第一高圧において、第一水素源、第一配位子金属錯体であって、第一金属付加物と配位結合した第一配位子から本質的になる錯体と反応させ、実質的に純粋な化合物Ａ２又は実質的に純粋な化合物Ａ３を得る、ここで、
第一水素源が気体水素又は過剰量の蟻酸から選択され、
第一配位子が、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ，Ｒ）−Ｍｅ−ＤｕＰｈｏｓ、（Ｓ，Ｓ）−Ｍｅ−ＤｕＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ、（Ｓ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＰＣｙ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＰＣｙ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ及び（Ｓ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚからなる群から選択され、
第一金属付加物が、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2、［Ｒｈ（エチレン）2（ａｃａｃ）］、［Ｒｈ（ＣＯ）2（ａｃａｃ）］、［Ｒｈ（ＣＯＤ）（ａｃａｃ）］、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＦ3ＣＯＯ）2］2、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（メチルアリル）2］、［Ｒｕ（ベンゼン）Ｃｌ2］2、［Ｒｕ（ｐ−シメン）Ｃｌ2］2、［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、［Ｉｒ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4及び［Ｉｒ（ＣＯＤ）2］ＢＡｒFからなる群から選択され、
第一溶媒が、ＭｅＯＨ、ＥｔＯＨ、ＩＰＡ、ＤＣＥ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ、ＤＭＦ及びこれらの混合物からなる群から選択され、
所望による第一添加剤が、ＡｃＯＨ、Ｅｔ3Ｎ、ＨＢＦ4、ＨＢＦ4エーテル化合物、ＨＣｌ、ＨＣｌエーテル化合物、ＣＦ3ＣＯＯＨ、ＣＨ3ＣＯＯＨ及びＴｓＯＨからなる群から選択され、存在する場合には、約１．２当量以下の量であり、
第一温度が約２５℃〜約７０℃の範囲であり、
第一圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約３０００ｋＰａ（３０ｂａｒ）の範囲である、並びに、
工程２．化合物Ａ２又は化合物Ａ３（このとき、Ｒ2は−アリール（Ｒ8）及び−ヘテロアリール（Ｒ8）から選択され、Ｚは−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルである）を、第二溶媒中で、所望による第二添加剤の存在下で、第二高温及び第二高圧において、第二水素源及び水素化剤と反応させ、化合物Ａ４、化合物Ａ５、化合物Ａ６及び化合物Ａ７（式中、Ｒ2は、化合物Ａ２又は化合物Ａ３にそれぞれ対応する−アリール（Ｒ8）及び−ヘテロアリール（Ｒ8）から水素化される−シクロアルキル（Ｒ8）又は−ヘテロシクリル（Ｒ8）から選択される）の異性体混合物を得る、ここで、
第二水素源が気体水素であり、
水素化剤が１０％Ｐｄ／Ｃ又は第二配位子金属錯体のいずれかから選択され、
第二配位子金属錯体が、第二配位子及び［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2金属付加物を、約０．１当量以下のヨウ素と組み合わせたものから本質的になり、
１０％Ｐｄ／Ｃが約５％（ｗ／ｗ）〜約２０％（ｗ／ｗ）の重量％範囲で存在し、
第二配位子が（Ｒ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｔｏｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ及び（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐからなる群から選択され、
第二溶媒がＭｅＯＨ、ＤＣＥ、ＥｔＯＨ、ＩＰＡ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ及びＭＴＢＥ、並びにこれらの混合物からなる群から選択され、
所望による第二添加剤がＥｔ3Ｎ、ｉＰｒ2−ＮＨ、Ｃｙ2ＮＨ、（Ｒ）−Ｐｈ−エチル−ＮＨ2、（Ｓ）−Ｐｈ−エチル−ＮＨ2、ＫＩ、ＫＯＨ、Ｋ2ＣＯ3、（Ｒ／Ｓ）−カンファースルホン酸及びＣＨ3ＣＯＯＨからなる群から選択され、存在する場合には、約１．２当量以下の量であり、
第二温度が約４０℃〜約６０℃の範囲であり、
第二圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）の範囲である。
【００６４】
本発明の実施例３５は、次の工程を含むプロセスを含む：
工程１．化合物Ａ１（式中、Ｚはヒドロキシであり、ＰＧはＢｏｃなどのＣ1〜4アルコキシカルボニル保護基である）を、第一溶媒中で、第一温度及び第一圧力において、第一水素源、第一配位子金属錯体であって、第一金属付加物と配位結合した第一配位子から本質的になる錯体と反応させ、実質的に純粋な化合物Ａ２又は実質的に純粋な化合物Ａ３を得る、ここで、
第一水素源が気体水素又は過剰量の蟻酸から選択され、
第一配位子が（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚからなる群から選択され、
第一金属付加物が［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、［Ｉｒ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4及び［Ｉｒ（ＣＯＤ）2］ＢＡｒFであり、
第一溶媒がＴＨＦ、ＥｔＯＡｃ及びトルエンからなる群から選択され、
第一温度が約７０℃であり、
第一圧力が約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）である、並びに、
工程２．化合物Ａ２又は化合物Ａ３（このとき、Ｒ2は−アリール（Ｒ8）及び−ヘテロアリール（Ｒ8）から選択され、Ｚはヒドロキシである）を、約０．１当量以下のヨウ素の直接添加によって反応させ、第二高温及び第二高圧でこの反応混合物を再反応させる、ここで、
第二温度が約３０℃〜約８０℃の範囲であり、
第二圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲である。
【００６５】
本発明の実施例３６は、化合物Ａ１についてＺがヒドロキシであるとき、
第一配位子が（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ及び（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚからなる群から選択され、
第一金属付加物が［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2であるプロセスを含む。
【００６６】
本発明の実施例３７は、次の工程を含むプロセスを含む：
工程１．化合物Ａ１（式中、Ｚは−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルであり、ＰＧはＢｏｃなどのＣ1〜4アルコキシカルボニル保護基である）を、第一溶媒中で、第一温度及び第一圧力において、第一水素源、第一配位子金属錯体であって、第一金属付加物と配位結合した第一配位子から本質的になる錯体と反応させ、実質的に純粋な化合物Ａ２又は実質的に純粋な化合物Ａ３を得る、ここで、
第一水素源が気体水素又は過剰量の蟻酸から選択され、
第一配位子が、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ，Ｒ）−Ｍｅ−ＤｕＰｈｏｓ、（Ｓ，Ｓ）−Ｍｅ−ＤｕＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ、（Ｓ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＰＣｙ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＰＣｙ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ及び（Ｓ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚからなる群から選択され、
第一金属付加物が、［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、［Ｉｒ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4及び［Ｉｒ（ＣＯＤ）2］ＢＡｒFからなる群から選択され、
第一溶媒が、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ及びこれらの混合物からなる群から選択され、
第一温度が約２５℃〜約７０℃の範囲であり、
第一圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約３０００ｋＰａ（３０ｂａｒ）の範囲である、並びに、
工程２．化合物Ａ２又は化合物Ａ３（このとき、Ｒ2は−アリール（Ｒ8）及び−ヘテロアリール（Ｒ8）から選択され、Ｚは−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルである）を、約０．１当量以下のヨウ素の直接添加によって反応させ、第二高温及び第二高圧でこの反応混合物を再反応させる、ここで、
第二温度が約３０℃〜約８０℃の範囲であり、
第二圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲である。
【００６７】
本発明の実施例３８は、化合物Ａ１についてＺが−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルであるとき、
第一配位子が（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ及び（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚからなる群から選択され、
第一金属付加物が［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2であるプロセスを含む。
【００６８】
本発明の実施例３９は化合物Ａ１を含み、この化合物は次のものからなる群から選択される：
【００６９】
【表１】
2011519340.tif 000010
【００７０】
提示されているさまざまなスキーム全体にわたって使用されているギリシャ文字「α」及び「β」は、本発明のプロセスによるエナンチオ選択的水素化のための式（Ｉ）の化合物中にある標的のキラル炭素原子を指す。ギリシャ文字「α」は、例えば、キラル炭素原子が「α」である化合物Ａ１のビニルエステル結合の不斉水素化を指し、この結合が水素化されて、使用される配位子金属錯体の異性体に応じてＲ又はＳエナンチオマーとなる。ギリシャ文字「β」は、例えば、キラル炭素原子が「β」である化合物Ａ２又はＡ３のＲ2芳香環系（式中Ｒ2は−アリール（Ｒ8）及び−ヘテロアリール（Ｒ8）から選択される）のエナンチオ選択的水素化を指し、この結合が水素化されて、化合物Ａ４（αＲ，βＲ異性体）、化合物Ａ５（αＲ，βＳ異性体）、化合物Ａ６（αＳ，βＳ異性体）及び化合物Ａ７（αＳ，βＲ異性体）の異性体混合物となる（式中Ｒ2は−シクロアルキル（Ｒ8）又は−ヘテロシクリル（Ｒ8）から選択される）。
【００７１】
別の方法として、スキームＢは式（Ｉ）の化合物の望ましい異性体を提供するためのプロセスを提示する。
【００７２】
スキームＢ
工程１．化合物Ｂ１を、所望による第一添加剤の存在下、第一溶媒中で、第一高温及び第一高圧において、第一水素源、第一配位子金属錯体であって、第一金属付加物と配位結合した第一配位子から本質的になる錯体と反応させ、実質的に純粋な化合物Ｂ２又は実質的に純粋な化合物Ｂ３を得る：
【００７３】
【化９】
2011519340.tif 000011
【００７４】
工程２．所望により化合物Ｂ２又は化合物Ｂ３（それぞれ、式中、Ｚはヒドロキシである）を、化合物Ｂ２又は化合物Ｂ３（それぞれ、式中、Ｚは−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルである）に変換する、
工程３．所望により化合物Ｂ３（このとき、Ｒ2は−アリール（Ｒ8）及び−ヘテロアリール（Ｒ8）から選択される）を、第二溶媒中で、第二高温及び第二高圧において、第二水素源及び水素化剤で反応させ、化合物Ｂ４及び化合物Ｂ５の異性体混合物を得る（式中、Ｒ2は、化合物Ｂ３にそれぞれ対応する−アリール（Ｒ8）及び−ヘテロアリール（Ｒ8）から水素化される−シクロアルキル（Ｒ8）又は−ヘテロシクリル（Ｒ8）から選択される）：
【００７５】
【化１０】
2011519340.tif 000012
【００７６】
工程４．化合物Ｂ４及び化合物Ｂ５（このときそれぞれＺはヒドロキシである）の異性体混合物を、化合物Ｂ４及び化合物Ｂ５（それぞれ、式中、Ｚは−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルである）に変換する、
工程５．化合物Ｂ４及び化合物Ｂ５（それぞれ、式中、Ｚは−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルである）のそれぞれを、異性体混合物から分離する、
工程６．所望により、化合物Ｂ５（式中、Ｚは−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルであり、Ｒ2は−シクロアルキル（Ｒ8）又は−ヘテロシクリル（Ｒ8）から選択される）を脱水素化して、化合物Ｂ３（式中、Ｚは−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルであり、Ｒ2は、化合物Ｂ５の対応する−シクロアルキル（Ｒ8）又は−ヘテロシクリル（Ｒ8）からそれぞれ脱水素化される−アリール（Ｒ8）又は−ヘテロアリール（Ｒ8）から選択される）とし、次にこの化合物Ｂ３を出発物質として工程３を繰り返す、
工程７．化合物Ｂ４（式中、Ｚは−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルである）を脱保護し、化合物Ｂ６を得る：
【００７７】
【化１１】
2011519340.tif 000013
【００７８】
工程８．化合物Ｂ６（式中、Ｚは−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルである）を化合物Ａ１４と反応させ、式（Ｉ）の化合物Ｂ７（式中、Ｚは−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルである）を得る：
【００７９】
【化１２】
2011519340.tif 000014
【００８０】
並びに、
工程９．化合物Ｂ７（式中、Ｚは−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルである）を、式（Ｉ）の化合物Ｂ７（式中、Ｚはヒドロキシである）に変換する。
【００８１】
本発明の実施例４０は、化合物Ｂ２が化合物Ｂ３の代わりに後の工程に進められ、式（Ｉ）の（αＲ，βＲ）異性体及び（αＲ，βＳ）異性体を得るプロセスを含む。
【００８２】
本発明の実施例４１は、化合物Ｂ１についてＺがヒドロキシであるとき、
第一配位子が、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、ＰＣｙ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ及びＰＣｙ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚからなる群から選択され、
第一金属付加物が、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2、［Ｒｈ（エチレン）2（ａｃａｃ）］、［Ｒｈ（ＣＯ）2（ａｃａｃ）］、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2Ｃｌ］2、［Ｒｈ（ＣＯＤ）（ａｃａｃ）］、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＦ3ＣＯＯ）2］2、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＨ3ＣＯＯ）2］、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（メチルアリル）2］、［Ｒｕ（ベンゼン）Ｃｌ2］2、［Ｒｕ（ｐ−シメン）Ｃｌ2］2、［Ｒｕ（メシチレン）Ｃｌ2］2、［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、［Ｉｒ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4及び［Ｉｒ（ＣＯＤ）2］ＢＡｒFからなる群から選択され、
第一温度が約２５℃〜約７０℃の範囲であり、
第一圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約３０００ｋＰａ（３０ｂａｒ）の範囲であるプロセスを含む。
【００８３】
本発明の実施例４２は、化合物Ｂ１についてＺがヒドロキシであるとき、第一配位子金属錯体が、（Ｒ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［Ｒｈ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［Ｒｈ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［Ｒｈ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、（Ｒ）−Ｔｏｌ−Ｂｉｎａｐ／［ＲｕＣｌ（ｐ−シメン）］Ｃｌ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＦ3ＣＯＯ）2］2、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｒｕ（ＣＯＤ）（メチルアリル）2］、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［Ｒｈ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、（Ｓ）−Ｔｏｌ−Ｂｉｎａｐ／［ＲｕＣｌ（ｐ−シメン）］Ｃｌ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ及び（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］からなる群から選択されるプロセスを含む。
【００８４】
本発明の実施例４３は、化合物Ｂ１についてＺがヒドロキシであるとき、
第一配位子が、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ及び（Ｓ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓからなる群から選択され、
第一金属付加物が、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＦ3ＣＯＯ）2］2、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（メチルアリル）2］、［Ｒｕ（ベンゼン）Ｃｌ2］2及び［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2からなる群から選択されるプロセスを含む。
【００８５】
本発明の実施例４４は、化合物Ｂ１についてＺがヒドロキシであるとき、
第一配位子が、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ及び（Ｓ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓからなる群から選択され、
第一金属付加物が、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＦ3ＣＯＯ）2］2、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（メチルアリル）2］、［Ｒｕ（ベンゼン）Ｃｌ2］2及び［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2からなる群から選択されるプロセスを含む。
【００８６】
本発明の実施例４５は、化合物Ｂ１についてＺがヒドロキシであるとき、
第一配位子が（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ及び（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚからなる群から選択され、
第一金属付加物が［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2であり、
第一溶媒がＴＨＦ、ＤＣＥ及びＥｔＯＡｃからなる群から選択され、
第一温度が約６５℃〜約７０℃の範囲であり、
第一圧力が約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）〜約３０００ｋＰａ（３０ｂａｒ）の範囲であるプロセスを含む。
【００８７】
本発明の実施例４６は、化合物Ｂ１についてＺがヒドロキシであるとき、
第一配位子が、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ及び（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓからなる群から選択され、
第一金属付加物が、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2、［Ｒｈ（エチレン）2（ａｃａｃ）］、［Ｒｈ（ＣＯ）2（ａｃａｃ）］、［Ｒｈ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2及び［Ｒｈ（ＣＯＤ）（ａｃａｃ）］からなる群から選択され、
第一溶媒がＭｅＯＨであり、第一温度が約２５℃〜約６０℃であり、
第一圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約３０００ｋＰａ（３０ｂａｒ）であるプロセスを含む。
【００８８】
本発明の実施例４７は、化合物Ｂ１についてＺがヒドロキシであるとき、
第一配位子が、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ及び（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓからなる群から選択され、
第一金属付加物が、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＦ3ＣＯＯ）2］2、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＨ3ＣＯＯ）2］、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（メチルアリル）2］、［Ｒｕ（ベンゼン）Ｃｌ2］2、［Ｒｕ（ｐ−シメン）Ｃｌ2］2及び［Ｒｕ（メシチレン）Ｃｌ2］2からなる群から選択され、
第一溶媒が、ＭｅＯＨ、ＥｔＯＨ、ＩＰＡ、ＤＣＥ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ、ＤＭＦ及びこれらの混合物からなる群から選択され、
所望による第一添加剤がＡｃＯＨ、ＣＦ3ＣＯ2Ｈ及びＥｔ3Ｎからなる群から選択され、
第一温度が約４０℃〜約７０℃の範囲であり、
第一圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約３０００ｋＰａ（３０ｂａｒ）の範囲であるプロセスを含む。
【００８９】
本発明の実施例４８は、化合物Ｂ１についてＺがヒドロキシであるとき、
第一配位子が（Ｒ）−ＸｙｌＰｈａｎｅＰｈｏｓであり、
第一金属付加物が、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＦ3ＣＯＯ）2］2、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＨ3ＣＯＯ）2］、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（メチルアリル）2］、［Ｒｕ（ベンゼン）Ｃｌ2］2、［Ｒｕ（ｐ−シメン）Ｃｌ2］2及び［Ｒｕ（メシチレン）Ｃｌ2］2からなる群から選択され、
第一溶媒が、ＭｅＯＨ、ＤＭＦ及びこれらの混合物からなる群から選択され、
所望による第一添加剤がＥｔ3Ｎであり、
第一温度が約４０℃〜約６０℃の範囲であり、
第一圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約３０００ｋＰａ（３０ｂａｒ）の範囲であるプロセスを含む。
【００９０】
本発明の実施例４９は、化合物Ｂ１についてＺがヒドロキシであるとき、
第一配位子が（Ｒ）−ＸｙｌＰｈａｎｅＰｈｏｓであり、
第一金属付加物が、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＦ3ＣＯＯ）2］2、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＨ3ＣＯＯ）2］、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（メチルアリル）2］、［Ｒｕ（ベンゼン）Ｃｌ2］2、［Ｒｕ（ｐ−シメン）Ｃｌ2］2及び［Ｒｕ（メシチレン）Ｃｌ2］2からなる群から選択され、
第一溶媒が、ＭｅＯＨ、ＤＭＦ及びこれらの混合物からなる群から選択され、
所望による第一添加剤がＡｃＯＨであり、
第一温度が約４０℃であり、
第一圧力が約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）であるプロセスを含む。
【００９１】
本発明の実施例５０は、化合物Ｂ１についてＺがヒドロキシであるとき、
第一配位子が（Ｒ）−ＸｙｌＰｈａｎｅＰｈｏｓであり、
第一金属付加物が、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＦ3ＣＯＯ）2］2、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＨ3ＣＯＯ）2］、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（メチルアリル）2］、［Ｒｕ（ベンゼン）Ｃｌ2］2、［Ｒｕ（ｐ−シメン）Ｃｌ2］2及び［Ｒｕ（メシチレン）Ｃｌ2］2からなる群から選択され、
第一溶媒が、ＭｅＯＨ、ＥｔＯＨ、ＩＰＡ、ＤＣＥ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ、ＤＭＦ及びこれらの混合物からなる群から選択され、
第一温度が約４０℃であり、
第一圧力が約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）であるプロセスを含む。
【００９２】
本発明の実施例５１は、化合物Ｂ１についてＺがヒドロキシであるとき、
第一配位子が（Ｒ）−ＸｙｌＰｈａｎｅＰｈｏｓであり、
第一金属付加物が［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＦ3ＣＯＯ）2］2、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＨ3ＣＯＯ）2］及び［Ｒｕ（ＣＯＤ）（メチルアリル）2］であり、
第一溶媒がＭｅＯＨであり、
所望による第一添加剤がＡｃＯＨであり、
第一温度が約４０℃であり、
第一圧力が約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）であるプロセスを含む。
【００９３】
本発明の実施例５２は、化合物Ｂ１についてＺが−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルであるとき、
第一配位子が、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ，Ｒ）−Ｍｅ−ＤｕＰｈｏｓ、（Ｓ，Ｓ）−Ｍｅ−ＤｕＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ、（Ｓ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＰＣｙ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＰＣｙ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ及び（Ｓ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚからなる群から選択され、
第一金属付加物が、［Ｉｒ（ＣＯＤ）2］ＢＡｒF、［Ｉｒ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4、［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2、［Ｒｈ（エチレン）2（ａｃａｃ）］、［Ｒｈ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、及び［Ｒｈ（ＣＯＤ）（ａｃａｃ）］からなる群から選択され、
第一溶媒が、ＭｅＯＨ、ＥｔＯＨ、ＩＰＡ、ＤＣＥ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ、ＤＭＦ、及びこれらの混合物からなる群から選択され、
所望による第一添加剤がＥｔ3Ｎ、ＨＢＦ4、ＣＨ3ＣＯＯＨ及びＴｓＯＨからなる群から選択され、存在する場合には、約１．２当量以下の量であり、
第一温度が約５０℃〜約７０℃の範囲であり、
第一圧力が約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）〜約３０００ｋＰａ（３０ｂａｒ）の範囲であるプロセスを含む。
【００９４】
本発明の実施例５３は、化合物Ｂ１についてＺが−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルであるとき、第一配位子金属錯体が（Ｒ）−Ａｎ−Ｐｈａｎｅｐｈｏｓ／［Ｒｈ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ／［Ｉｒ（ＣＯＤ）］ＢＡｒF、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ／［Ｉｒ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｒｈ（ＣＯ）2（ａｃａｃ）］、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｒｈ（エチレン）2（ａｃａｃ）］、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、（Ｒ）−Ｐｈａｎｅｐｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｐｈａｎｅｐｈｏｓ＆［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ／［Ｉｒ（ＣＯＤ）］ＢＡｒF、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐｈａｎｅｐｈｏｓ／［Ｒｈ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｒｈ（ＣＯ）2（ａｃａｃ）］、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｒｈ（エチレン）2（ａｃａｃ）］、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ／［Ｒｕ（ｐ−シメン）Ｃｌ］Ｃｌ、（Ｒ，Ｒ）−ＭｅＤｕＰｈｏｓ／［Ｒｈ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［Ｒｈ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ／［Ｉｒ（ＣＯＤ）］Ｃｌ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ／［Ｒｕ（ベンゼン）Ｃｌ］Ｃｌ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ／［Ｉｒ（ＣＯＤ）］Ｃｌ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、３，４−ｄｉＣｌＰｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、ＰＣｙ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2及びＸｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2からなる群から選択されるプロセスを含む。
【００９５】
本発明の実施例５４は、化合物Ｂ１についてＺが−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルであるとき、
第一配位子が（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ及び（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚからなる群から選択され、
第一金属付加物が、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2、［Ｒｈ（エチレン）2（ａｃａｃ）］、［Ｒｈ（ＣＯ）2（ａｃａｃ）］、［Ｒｕ（ｐ−シメン）Ｃｌ2］2、［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2及び［Ｉｒ（ＣＯＤ）2］ＢＡｒFからなる群から選択され、
第一溶媒が、ＭｅＯＨ、ＤＣＥ、ＥｔＯＨ、トルエン、ＥｔＯＡｃ、２−プロパノール、ＴＨＦ、及びこれらの混合物からなる群から選択され、
所望による第一添加剤がＨＢＦ4、ＡｃＯＨ及びＴｓＯＨからなる群から選択され、存在する場合には、約１．２当量以下の量であり、
第一温度が約５０℃〜約９０℃の範囲であり、
第一圧力が約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）〜約３０００ｋＰａ（３０ｂａｒ）の範囲であるプロセスを含む。
【００９６】
本発明の実施例５５は、化合物Ｂ１についてＺが−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルであるとき、
第一配位子が、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ及び（Ｓ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚからなる群から選択され、
第一金属付加物が、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、［Ｒｈ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2、［Ｒｈ（エチレン）2（ａｃａｃ）］、［Ｒｈ（ＣＯ）2（ａｃａｃ）］、［Ｒｕ（ｐ−シメン）Ｃｌ2］2、［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、［Ｉｒ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4及び［Ｉｒ（ＣＯＤ）2］ＢＡｒFからなる群から選択され、
第一溶媒が、ＤＣＥ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ及びこれらの混合物からなる群から選択され、
所望による第一添加剤がＨＢＦ4及びＴｓＯＨからなる群から選択され、存在する場合には、約１．２当量以下の量であり、
第一温度が約５０℃〜約９０℃の範囲であり、
第一圧力が約３０００ｋＰａ（３０ｂａｒ）であるプロセスを含む。
【００９７】
本発明の実施例５６は、化合物Ｂ１についてＺが−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルであるとき、
第一配位子が（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ及び（Ｓ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚからなる群から選択され、
第一金属付加物が、［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2及び［Ｉｒ（ＣＯＤ）2］ＢＡｒFからなる群から選択され、
第一溶媒が、ＭｅＯＨ、ＤＣＥ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ、ＩＰＡ、及びこれらの混合物からなる群から選択され、
所望による第一添加剤がＨＢＦ4であり、存在する場合には、約１．２当量以下の量であり、
第一温度が約５０℃〜約９０℃の範囲であり、
第一圧力が約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）〜約３０００ｋＰａ（３０ｂａｒ）であるプロセスを含む。
【００９８】
本発明の実施例５７は、化合物Ｂ２又は化合物Ｂ３について、Ｒ2が−アリール（Ｒ8）及び−ヘテロアリール（Ｒ8）から選択されるとき、
第二水素源が気体水素であり、
水素化剤が１０％Ｐｄ／Ｃ又は第二配位子金属錯体のいずれかから選択され、
第二配位子金属錯体が、第二配位子及び［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2金属付加物を、約０．１当量以下のヨウ素と組み合わせたものから本質的になり、
１０％Ｐｄ／Ｃが約５％重量／重量（ｗ／ｗ）〜約２０％（ｗ／ｗ）の重量％範囲で存在し、
第二配位子が、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ，Ｒ）−Ｍｅ−ＤｕＰｈｏｓ、（Ｓ，Ｓ）−Ｍｅ−ＤｕＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｔｏｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｔｏｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ、（Ｓ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−エチル−Ｎａｐｔｈｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−２，４，６−Ｆ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−２，４，６−Ｆ3Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−２，４，６−Ｆ3Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−２，４，６−Ｆ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＰＣｙ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｓ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｓ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ及びＤＰＰＦからなる群から選択され、
第二溶媒がＭｅＯＨ、ＤＣＥ、ＥｔＯＨ、ＩＰＡ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ、１−ＢｕＯＨ及びＭＴＢＥ、並びにこれらの混合物からなる群から選択され、
所望による第二添加剤がＥｔ3Ｎ、ｉＰｒ2−ＮＨ、Ｃｙ2ＮＨ、（Ｒ）−Ｐｈ−エチル−ＮＨ2、（Ｓ）−Ｐｈ−エチル−ＮＨ2、ＫＩ、ＫＯＨ、Ｋ2ＣＯ3、（Ｒ／Ｓ）−カンファースルホン酸及びＣＨ3ＣＯＯＨからなる群から選択され、存在する場合には、約１．２当量以下の量であり、
第二温度が約３０℃〜約８０℃の範囲であり、又は約４０℃〜約６０℃の範囲であり、
第二圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）の範囲であるプロセスを含む。
【００９９】
本発明の実施例５８は、化合物Ｂ２又は化合物Ｂ３について、Ｚがヒドロキシであり、Ｒ2が−アリール（Ｒ8）及び−ヘテロアリール（Ｒ8）から選択されるとき、第二配位子金属錯体が（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｔｏｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2及び（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2からなる群から選択されるプロセスを含む。
【０１００】
本発明の実施例５９は、化合物Ｂ２又は化合物Ｂ３について、Ｚが−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルであり、Ｒ2が−アリール（Ｒ8）及び−ヘテロアリール（Ｒ8）から選択されるとき、第二配位子金属錯体が（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−エチル−ナフチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、２，４，６−Ｆ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、ＤＰＰＦ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、ＤｔＢＰＦ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、ＰＣｙ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2及びＸｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2からなる群から選択されるプロセスを含む。
【０１０１】
本発明の実施例６０は、化合物Ｂ２又は化合物Ｂ３について、Ｚがヒドロキシであり、Ｒ2が−アリール（Ｒ8）及び−ヘテロアリール（Ｒ8）から選択されるとき、
第二配位子が（Ｒ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｔｏｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ及び（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐからなる群から選択され、
第二溶媒がＭｅＯＨ、ＤＣＥ、ＥｔＯＨ、ＩＰＡ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ及びＭＴＢＥ、並びにこれらの混合物からなる群から選択され、
第二温度が約４０℃〜約６０℃の範囲であり、
第二圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）の範囲であるプロセスを含む。
【０１０２】
本発明の実施例６１は、化合物Ｂ２又は化合物Ｂ３について、Ｚが−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルであり、Ｒ2が−アリール（Ｒ8）及び−ヘテロアリール（Ｒ8）から選択されるとき、
第二配位子が（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｔｏｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−エチル−Ｎａｐｔｈｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−２，４，６−Ｆ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＰＣｙ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ、ＤｔＢＰＦ及びＤＰＰＦからなる群から選択され、
第二溶媒がＭｅＯＨ、ＤＣＥ、ＥｔＯＨ、ＩＰＡ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ、１−ＢｕＯＨ及びＭＴＢＥ、並びにこれらの混合物からなる群から選択され、
第二温度が約３０℃〜約８０℃の範囲であり、
第二圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であるプロセスを含む。
【０１０３】
本発明の実施例６２は、化合物Ｂ２又は化合物Ｂ３について、Ｒ2が−アリール（Ｒ8）及び−ヘテロアリール（Ｒ8）から選択されるとき、
第二水素源が気体水素であり、
１０％Ｐｄ／Ｃが約５％（ｗ／ｗ）〜約２０％（ｗ／ｗ）の重量％範囲で存在し、
第二溶媒がＭｅＯＨ、ＤＣＥ、ＥｔＯＨ、ＩＰＡ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ、１−ＢｕＯＨ及びＭＴＢＥ、並びにこれらの混合物からなる群から選択され、
所望による第二添加剤がＥｔ3Ｎ、ｉＰｒ2−ＮＨ、Ｃｙ2ＮＨ、（Ｒ）−Ｐｈ−エチル−ＮＨ2、（Ｓ）−Ｐｈ−エチル−ＮＨ2、ＫＩ、ＫＯＨ、Ｋ2ＣＯ3、（Ｒ／Ｓ）−カンファースルホン酸及びＣＨ3ＣＯＯＨからなる群から選択され、存在する場合には、約１．２当量以下の量であり、
第二温度が約３０℃〜約８０℃の範囲であり、又は約４０℃〜約６０℃の範囲であり、
第二圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）の範囲であるプロセスを含む。
【０１０４】
本発明の実施例６３は、化合物Ｂ２又は化合物Ｂ３について、Ｒ2が−アリール（Ｒ8）及び−ヘテロアリール（Ｒ8）から選択されるとき、
第二配位子金属錯体が、第二配位子及び［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2第二金属付加物を、約０．１当量以下のヨウ素と組み合わせたものから本質的になり、
第二配位子が、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ，Ｒ）−Ｍｅ−ＤｕＰｈｏｓ、（Ｓ，Ｓ）−Ｍｅ−ＤｕＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｔｏｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｔｏｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ、（Ｓ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−エチル−Ｎａｐｔｈｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−２，４，６−Ｆ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−２，４，６−Ｆ3Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−２，４，６−Ｆ3Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−２，４，６−Ｆ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＰＣｙ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｓ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｓ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ及びＤＰＰＦからなる群から選択され、
第二溶媒がＭｅＯＨ、ＤＣＥ、ＥｔＯＨ、ＩＰＡ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ、１−ＢｕＯＨ及びＭＴＢＥ、並びにこれらの混合物からなる群から選択され、
所望による第二添加剤がＥｔ3Ｎ、ｉＰｒ2−ＮＨ、Ｃｙ2ＮＨ、（Ｒ）−Ｐｈ−エチル−ＮＨ2、（Ｓ）−Ｐｈ−エチル−ＮＨ2、ＫＩ、ＫＯＨ、Ｋ2ＣＯ3、（Ｒ／Ｓ）−カンファースルホン酸及びＣＨ3ＣＯＯＨからなる群から選択され、存在する場合には、約１．２当量以下の量であり、
第二温度が約３０℃〜約８０℃の範囲であり、又は約４０℃〜約６０℃の範囲であり、
第二圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）の範囲であるプロセスを含む。
【０１０５】
本発明の実施例６４は、化合物Ｂ２又は化合物Ｂ３について、Ｚがヒドロキシであり、Ｒ2が−アリール（Ｒ8）及び−ヘテロアリール（Ｒ8）から選択されるとき、
第二配位子が（Ｒ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｔｏｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ及び（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐからなる群から選択され、
第二溶媒がＭｅＯＨ、ＤＣＥ、ＥｔＯＨ、ＩＰＡ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ及びＭＴＢＥ、並びにこれらの混合物からなる群から選択され、
第二温度が約４０℃〜約６０℃の範囲であり、
第二圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）の範囲であるプロセスを含む。
【０１０６】
本発明の実施例６５は、化合物Ｂ２又は化合物Ｂ３について、Ｚが−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルであり、Ｒ2が−アリール（Ｒ8）及び−ヘテロアリール（Ｒ8）から選択されるとき、
第二配位子が（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｔｏｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−エチル−Ｎａｐｔｈｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−２，４，６−Ｆ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＰＣｙ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ及びＤＰＰＦなる群から選択され、
第二溶媒がＭｅＯＨ、ＤＣＥ、ＥｔＯＨ、ＩＰＡ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ、１−ＢｕＯＨ及びＭＴＢＥ、並びにこれらの混合物からなる群から選択され、
第二温度が約３０℃〜約８０℃の範囲であり、
第二圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であるプロセスを含む。
【０１０７】
本発明の実施例６６は、次の工程を含むプロセスを含む：
工程１．化合物Ｂ１（式中、Ｚはヒドロキシである）を、所望による第一添加剤の存在下、第一溶媒中で、第一高温及び第一高圧において、第一水素源、第一配位子金属錯体であって、第一金属付加物と配位結合した第一配位子から本質的になる錯体と反応させ、実質的に純粋な化合物Ｂ２又は実質的に純粋な化合物Ｂ３を得る、ここで、
第一水素源が気体水素又は過剰量の蟻酸から選択され、
第一配位子が、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、ＰＣｙ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ及びＰＣｙ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚからなる群から選択され、
第一金属付加物が、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＦ3ＣＯＯ）2］2、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（メチルアリル）2］、［Ｒｕ（ベンゼン）Ｃｌ2］2及び［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2からなる群から選択され、
第一溶媒が、ＭｅＯＨ、ＥｔＯＨ、ＩＰＡ、ＤＣＥ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ、ＤＭＦ及びこれらの混合物からなる群から選択され、
所望による第一添加剤が、ＡｃＯＨ、Ｅｔ3Ｎ、ＨＢＦ4、ＨＢＦ4エーテル化合物、ＨＣｌ、ＨＣｌエーテル化合物、ＣＦ3ＣＯＯＨ、ＣＨ3ＣＯＯＨ及びＴｓＯＨからなる群から選択され、存在する場合には、約１．２当量以下の量であり、
第一温度が約２５℃〜約７０℃の範囲であり、
第一圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約３０００ｋＰａ（３０ｂａｒ）の範囲である、
工程２．所望により化合物Ｂ２又は化合物Ｂ３（それぞれ、式中、Ｚはヒドロキシである）を、化合物Ｂ２又は化合物Ｂ３（それぞれ、式中、Ｚは−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルである）に変換する、
工程３．化合物Ｂ２又は化合物Ｂ３（このとき、Ｒ2は−アリール（Ｒ8）及び−ヘテロアリール（Ｒ8）から選択される）を、第二溶媒中で、所望による第二添加剤の存在下で、第二高温及び第二高圧において、第二水素源及び水素化剤と反応させ、化合物Ｂ４及び化合物Ｂ５（式中、Ｒ2は、化合物Ｂ２又は化合物Ｂ３にそれぞれ対応する−アリール（Ｒ8）及び−ヘテロアリール（Ｒ8）から水素化される−シクロアルキル（Ｒ8）又は−ヘテロシクリル（Ｒ8）から選択される）の異性体混合物を得る、ここで、
水素化剤が１０％Ｐｄ／Ｃ又は第二配位子金属錯体のいずれかから選択され、
第二配位子金属錯体が、第二配位子及び［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2金属付加物を、約０．１当量以下のヨウ素と組み合わせたものから本質的になり、
１０％Ｐｄ／Ｃが約５％重量／重量（ｗ／ｗ）〜約２０％（ｗ／ｗ）の重量％範囲で存在し、
第二配位子が（Ｒ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｔｏｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ及び（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐからなる群から選択され、
第二溶媒がＭｅＯＨ、ＤＣＥ、ＥｔＯＨ、ＩＰＡ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ及びＭＴＢＥ、並びにこれらの混合物からなる群から選択され、
所望による第二添加剤がＥｔ3Ｎ、ｉＰｒ2−ＮＨ、Ｃｙ2ＮＨ、（Ｒ）−Ｐｈ−エチル−ＮＨ2、（Ｓ）−Ｐｈ−エチル−ＮＨ2、ＫＩ、ＫＯＨ、Ｋ2ＣＯ3、（Ｒ／Ｓ）−カンファースルホン酸及びＣＨ3ＣＯＯＨからなる群から選択され、存在する場合には、約１．２当量以下の量であり、
第二温度が約４０℃〜約６０℃の範囲であり、
第二圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）の範囲である。
【０１０８】
本発明の実施例６７は、次の工程を含むプロセスを含む：
工程１．化合物Ｂ１（式中、Ｚは−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルである）を、所望による第一添加剤の存在下、第一溶媒中で、第一高温及び第一高圧において、第一水素源、第一配位子金属錯体であって、第一金属付加物と配位結合した第一配位子から本質的になる錯体と反応させ、実質的に純粋な化合物Ｂ２又は実質的に純粋な化合物Ｂ３を得る、ここで、
第一水素源が気体水素又は過剰量の蟻酸から選択され、
第一配位子が、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ，Ｒ）−Ｍｅ−ＤｕＰｈｏｓ、（Ｓ，Ｓ）−Ｍｅ−ＤｕＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ、（Ｓ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＰＣｙ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＰＣｙ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ及び（Ｓ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚからなる群から選択され、
第一金属付加物が、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2、［Ｒｈ（エチレン）2（ａｃａｃ）］、［Ｒｈ（ＣＯ）2（ａｃａｃ）］、［Ｒｈ（ＣＯＤ）（ａｃａｃ）］、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＦ3ＣＯＯ）2］2、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（メチルアリル）2］、［Ｒｕ（ベンゼン）Ｃｌ2］2、［Ｒｕ（ｐ−シメン）Ｃｌ2］2、［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、［Ｉｒ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4及び［Ｉｒ（ＣＯＤ）2］ＢＡｒFからなる群から選択され、
第一溶媒が、ＭｅＯＨ、ＥｔＯＨ、ＩＰＡ、ＤＣＥ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ、ＤＭＦ及びこれらの混合物からなる群から選択され、
所望による第一添加剤が、ＡｃＯＨ、Ｅｔ3Ｎ、ＨＢＦ4、ＨＢＦ4エーテル化合物、ＨＣｌ、ＨＣｌエーテル化合物、ＣＦ3ＣＯＯＨ、ＣＨ3ＣＯＯＨ及びＴｓＯＨからなる群から選択され、存在する場合には、約１．２当量以下の量であり、
第一温度が約２５℃〜約７０℃の範囲であり、
第一圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約３０００ｋＰａ（３０ｂａｒ）の範囲である、並びに、
工程２．化合物Ｂ２又は化合物Ｂ３（このとき、Ｒ2は−アリール（Ｒ8）及び−ヘテロアリール（Ｒ8）から選択され、Ｚは−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルである）を、第二溶媒中で、所望による第二添加剤の存在下で、第二高温及び第二高圧において、第二水素源及び水素化剤と反応させ、化合物Ｂ４及び化合物Ｂ５（式中、Ｒ2は、化合物Ａ２又は化合物Ａ３にそれぞれ対応する−アリール（Ｒ8）及び−ヘテロアリール（Ｒ8）から水素化される−シクロアルキル（Ｒ8）又は−ヘテロシクリル（Ｒ8）から選択される）の異性体混合物を得る、ここで、
第二水素源が気体水素であり、
水素化剤が１０％Ｐｄ／Ｃ又は第二配位子金属錯体のいずれかから選択され、
第二配位子金属錯体が、第二配位子及び［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2金属付加物を、約０．１当量以下のヨウ素と組み合わせたものから本質的になり、
１０％Ｐｄ／Ｃが約５％（ｗ／ｗ）〜約２０％（ｗ／ｗ）の重量％範囲で存在し、
第二配位子が（Ｒ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｔｏｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ及び（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐからなる群から選択され、
第二溶媒がＭｅＯＨ、ＤＣＥ、ＥｔＯＨ、ＩＰＡ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ及びＭＴＢＥ、並びにこれらの混合物からなる群から選択され、
所望による第二添加剤がＥｔ3Ｎ、ｉＰｒ2−ＮＨ、Ｃｙ2ＮＨ、（Ｒ）−Ｐｈ−エチル−ＮＨ2、（Ｓ）−Ｐｈ−エチル−ＮＨ2、ＫＩ、ＫＯＨ、Ｋ2ＣＯ3、（Ｒ／Ｓ）−カンファースルホン酸及びＣＨ3ＣＯＯＨからなる群から選択され、存在する場合には、約１．２当量以下の量であり、
第二温度が約４０℃〜約６０℃の範囲であり、
第二圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）の範囲である。
【０１０９】
本発明の実施例６８は、次の工程を含むプロセスを含む：
工程１．化合物Ｂ１（式中、Ｚはヒドロキシである）を、第一溶媒中で、第一温度及び第一圧力において、第一水素源、第一配位子金属錯体であって、第一金属付加物と配位結合した第一配位子から本質的になる錯体と反応させ、実質的に純粋な化合物Ｂ２又は実質的に純粋な化合物Ｂ３を得る、ここで、
第一水素源が気体水素又は過剰量の蟻酸から選択され、
第一配位子が（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚからなる群から選択され、
第一金属付加物が［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、［Ｉｒ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4及び［Ｉｒ（ＣＯＤ）2］ＢＡｒFであり、
第一溶媒がＴＨＦ、ＥｔＯＡｃ及びトルエンからなる群から選択され、
第一温度が約７０℃であり、
第一圧力が約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）である、並びに、
工程２．化合物Ｂ２又は化合物Ｂ３（このとき、Ｒ2−アリール（Ｒ8）及び−ヘテロアリール（Ｒ8）から選択され、Ｚはヒドロキシである）を、約０．１当量以下のヨウ素の直接添加によって反応させ、第二高温及び第二高圧でこの反応混合物を再反応させる、ここで、
第二温度が約３０℃〜約８０℃の範囲であり、
第二圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲である。
【０１１０】
本発明の実施例６９は、化合物Ｂ１についてＺがヒドロキシであるとき、
第一配位子が（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ及び（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚからなる群から選択され、
第一金属付加物が［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2であるプロセスを含む。
【０１１１】
本発明の実施例７０は、次の工程を含むプロセスを含む：
工程１．化合物Ｂ１（式中、Ｚは−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルである）を、第一溶媒中で、第一温度及び第一圧力において、第一水素源、第一配位子金属錯体であって、第一金属付加物と配位結合した第一配位子から本質的になる錯体と反応させ、実質的に純粋な化合物Ｂ２又は実質的に純粋な化合物Ｂ３を得る、ここで、
第一水素源が気体水素又は過剰量の蟻酸から選択され、
第一配位子が、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ，Ｒ）−Ｍｅ−ＤｕＰｈｏｓ、（Ｓ，Ｓ）−Ｍｅ−ＤｕＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ、（Ｓ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＰＣｙ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＰＣｙ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ及び（Ｓ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚからなる群から選択され、
第一金属付加物が、［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、［Ｉｒ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4及び［Ｉｒ（ＣＯＤ）2］ＢＡｒFからなる群から選択され、
第一溶媒が、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ及びこれらの混合物からなる群から選択され、
第一温度が約２５℃〜約７０℃の範囲であり、
第一圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約３０００ｋＰａ（３０ｂａｒ）の範囲である、並びに、
工程２．化合物Ｂ２又は化合物Ｂ３（このとき、Ｒ2は−アリール（Ｒ8）及び−ヘテロアリール（Ｒ8）から選択され、Ｚは−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルである）を、約０．１当量以下のヨウ素の直接添加によって反応させ、第二高温及び第二高圧でこの反応混合物を再反応させる、ここで、
第二温度が約３０℃〜約８０℃の範囲であり、
第二圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲である。
【０１１２】
本発明の実施例７１は、化合物Ｂ１についてＺが−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルであるとき、
第一配位子が（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ及び（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚからなる群から選択され、
第一金属付加物が［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2であるプロセスを含む。
【０１１３】
本発明は更に、スキームＣに示すように、式（Ｉａ）の化合物及びその中間体の調製のためのプロセスに関連する：
【０１１４】
【化１３】
2011519340.tif 000015
【０１１５】
次の工程を含む：
【０１１６】
スキームＣ
工程１．化合物Ｃ１を、所望による第一添加剤の存在下、第一溶媒中で、第一高温及び第一高圧において、第一水素源、第一配位子金属錯体であって、第一金属付加物と配位結合した第一配位子から本質的になる錯体と反応させ、実質的に純粋な化合物Ｃ３を得る：
【０１１７】
【化１４】
2011519340.tif 000016
【０１１８】
工程２．化合物Ｃ３を、第二溶媒中で、所望による第二添加剤の存在下、第二高温及び第二高圧において、第二水素源及び水素化剤と反応させ、化合物Ｃ４及び化合物Ｃ５の異性体混合物を得る：
【０１１９】
【化１５】
2011519340.tif 000017
【０１２０】
工程３．化合物Ｃ４及び化合物Ｃ５それぞれを、異性体混合物から分離する、
工程４．所望により化合物Ｃ５を脱水素化して化合物Ｃ３とし、この化合物Ｃ３を出発物質として使用して工程２を繰り返す、
工程５．化合物Ｃ４を脱保護し、化合物Ｃ６を得る：
【０１２１】
【化１６】
2011519340.tif 000018
【０１２２】
工程６．化合物Ｃ６を化合物Ｃ７と反応させ、化合物Ｃ８を得る：
【０１２３】
【化１７】
2011519340.tif 000019
【０１２４】
並びに、
工程７．化合物Ｃ８を変換して式（Ｉａ）の化合物を得る。
【０１２５】
本発明は、次の工程からなる、実質的に純粋な化合物Ｃ２を生成するためのプロセスを提供する：
化合物Ｃ１を、所望による第一添加剤の存在下、第一溶媒中で、第一高温及び第一高圧において、第一水素源、第一配位子金属錯体であって、第一金属付加物と配位結合した第一配位子から本質的になる錯体と反応させ、実質的に純粋な化合物Ｃ２を得る：
【０１２６】
【化１８】
2011519340.tif 000020
【０１２７】
本発明の実施例７２は、化合物Ｃ２が化合物Ｃ３の代わりに後の工程に進められ、式（Ｉ）の（αＲ，βＲ）異性体及び（αＲ，βＳ）異性体を得るプロセスを含む。
【０１２８】
本発明の実施例７３は、化合物Ｃ１を反応させて化合物Ｃ２を得るためのプロセス、並びに、化合物Ｃ１を反応させて化合物Ｃ３を得るプロセスを含み、これらのプロセスは両方とも上記に記述されており、ここで、
第一配位子が、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ，Ｒ）−Ｍｅ−ＤｕＰｈｏｓ、（Ｓ，Ｓ）−Ｍｅ−ＤｕＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ、（Ｓ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＰＣｙ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＰＣｙ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ及び（Ｓ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚからなる群から選択され、
第一金属付加物が、［Ｉｒ（ＣＯＤ）2］ＢＡｒF、［Ｉｒ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4、［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2、［Ｒｈ（エチレン）2（ａｃａｃ）］、［Ｒｈ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、及び［Ｒｈ（ＣＯＤ）（ａｃａｃ）］からなる群から選択され、
第一溶媒が、ＭｅＯＨ、ＤＣＥ、ＥｔＯＨ、ＩＰＡ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ、ＤＭＦ、及びこれらの混合物からなる群から選択され、
所望による第一添加剤がＥｔ3Ｎ、ＨＢＦ4、ＣＨ3ＣＯＯＨ及びＴｓＯＨからなる群から選択され、存在する場合には、約１．２当量以下の量であり、
第一温度が約５０℃〜約７０℃の範囲であり、
第一圧力が約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）〜約３０００ｋＰａ（３０ｂａｒ）の範囲である。
【０１２９】
本発明の実施例７４は、化合物Ｃ１を反応させるプロセスを含み、ここで、第一配位子金属錯体が、（Ｒ）−Ａｎ−Ｐｈａｎｅｐｈｏｓ／［Ｒｈ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ／［Ｉｒ（ＣＯＤ）］ＢＡｒF、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ／［Ｉｒ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｒｈ（ＣＯ）2（ａｃａｃ）］、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｒｈ（エチレン）2（ａｃａｃ）］、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、（Ｒ）−Ｐｈａｎｅｐｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｐｈａｎｅｐｈｏｓ＆［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ／［Ｉｒ（ＣＯＤ）］ＢＡｒF、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐｈａｎｅｐｈｏｓ／［Ｒｈ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｒｈ（ＣＯ）2（ａｃａｃ）］、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｒｈ（エチレン）2（ａｃａｃ）］、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ／［Ｒｕ（ｐ−シメン）Ｃｌ］Ｃｌ、（Ｒ，Ｒ）−ＭｅＤｕＰｈｏｓ／［Ｒｈ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［Ｒｈ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ／［Ｉｒ（ＣＯＤ）］Ｃｌ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ／［Ｒｕ（ベンゼン）Ｃｌ］Ｃｌ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ／［Ｉｒ（ＣＯＤ）］Ｃｌ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、３，４−ｄｉＣｌＰｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、ＰＣｙ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2及びＸｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2からなる群から選択される。
【０１３０】
本発明の実施例７５は、化合物Ｃ１を反応させるためのプロセスを含み、ここで、
第一配位子が（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ及び（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚからなる群から選択され、
第一金属付加物が、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2、［Ｒｈ（エチレン）2（ａｃａｃ）］、［Ｒｈ（ＣＯ）2（ａｃａｃ）］、［Ｒｕ（ｐ−シメン）Ｃｌ2］2、［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2及び［Ｉｒ（ＣＯＤ）2］ＢＡｒFからなる群から選択され、
第一溶媒が、ＭｅＯＨ、ＤＣＥ、ＥｔＯＨ、トルエン、ＥｔＯＡｃ、２−プロパノール、ＴＨＦ、及びこれらの混合物からなる群から選択され、
所望による第一添加剤がＨＢＦ4、ＡｃＯＨ及びＴｓＯＨからなる群から選択され、存在する場合には、約１．２当量以下の量であり、
第一温度が約５０℃〜約９０℃の範囲であり、
第一圧力が約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）〜約３０００ｋＰａ（３０ｂａｒ）の範囲である。
【０１３１】
本発明の実施例７６は、化合物Ｃ１を反応させるためのプロセスを含み、ここで、
第一配位子が、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ及び（Ｓ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚからなる群から選択され、
第一金属付加物が、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、［Ｒｈ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2、［Ｒｈ（エチレン）2（ａｃａｃ）］、［Ｒｈ（ＣＯ）2（ａｃａｃ）］、［Ｒｕ（ｐ−シメン）Ｃｌ2］2、［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、［Ｉｒ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4及び［Ｉｒ（ＣＯＤ）2］ＢＡｒFからなる群から選択され、
第一溶媒が、ＤＣＥ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ及びこれらの混合物からなる群から選択され、
所望による第一添加剤がＨＢＦ4及びＴｓＯＨからなる群から選択され、存在する場合には、約１．２当量以下の量であり、
第一温度が約５０℃〜約９０℃の範囲であり、
第一圧力が約３０００ｋＰａ（３０ｂａｒ）である。
【０１３２】
本発明の実施例７７は、化合物Ｃ１を反応させるためのプロセスを含み、ここで、
第一配位子が（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ及び（Ｓ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚからなる群から選択され、
第一金属付加物が、［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2及び［Ｉｒ（ＣＯＤ）2］ＢＡｒFからなる群から選択され、
第一溶媒が、ＭｅＯＨ、ＤＣＥ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ、ＩＰＡ、及びこれらの混合物からなる群から選択され、
所望による第一添加剤がＨＢＦ4であり、存在する場合には、約１．２当量以下の量であり、
第一温度が約５０℃〜約９０℃の範囲であり、
第一圧力が約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）〜約３０００ｋＰａ（３０ｂａｒ）である。
【０１３３】
本発明の実施例７８は、化合物Ｃ２又は化合物Ｃ３を反応させるためのプロセスを含み、ここで、
第二水素源が気体水素であり、
水素化剤が１０％Ｐｄ／Ｃ又は第二配位子金属錯体のいずれかから選択され、
第二配位子金属錯体が、第二配位子及び［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2金属付加物を、約０．１当量以下のヨウ素と組み合わせたものから本質的になり、
１０％Ｐｄ／Ｃが約５％重量／重量（ｗ／ｗ）〜約２０％（ｗ／ｗ）の重量％範囲で存在し、
第二配位子が、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ，Ｒ）−Ｍｅ−ＤｕＰｈｏｓ、（Ｓ，Ｓ）−Ｍｅ−ＤｕＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｔｏｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｔｏｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ、（Ｓ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−エチル−Ｎａｐｔｈｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−２，４，６−Ｆ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−２，４，６−Ｆ3Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−２，４，６−Ｆ3Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−２，４，６−Ｆ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＰＣｙ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｓ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｓ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ及びＤＰＰＦからなる群から選択され、
第二溶媒がＭｅＯＨ、ＤＣＥ、ＥｔＯＨ、ＩＰＡ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ、１−ＢｕＯＨ及びＭＴＢＥ、並びにこれらの混合物からなる群から選択され、
所望による第二添加剤がＥｔ3Ｎ、ｉＰｒ2−ＮＨ、Ｃｙ2ＮＨ、（Ｒ）−Ｐｈ−エチル−ＮＨ2、（Ｓ）−Ｐｈ−エチル−ＮＨ2、ＫＩ、ＫＯＨ、Ｋ2ＣＯ3、（Ｒ／Ｓ）−カンファースルホン酸及びＣＨ3ＣＯＯＨからなる群から選択され、存在する場合には、約１．２当量以下の量であり、
第二温度が約３０℃〜約８０℃の範囲であり、又は約４０℃〜約６０℃の範囲であり、
第二圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）の範囲である。
【０１３４】
本発明の実施例７９は、化合物Ｃ２又は化合物Ｃ３を反応させるプロセスを含み、ここで、第二配位子金属錯体が（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−エチル−ナフチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、２，４，６−Ｆ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、ＤＰＰＦ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、ＤｔＢＰＦ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、ＰＣｙ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2及びＸｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2からなる群から選択される。
【０１３５】
本発明の実施例８０は、化合物Ｃ２又は化合物Ｃ３を反応させるためのプロセスを含み、ここで、
第二配位子が（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｔｏｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−エチル−Ｎａｐｔｈｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−２，４，６−Ｆ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＰＣｙ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ、ＤｔＢＰＦ及びＤＰＰＦからなる群から選択され、
第二溶媒がＭｅＯＨ、ＤＣＥ、ＥｔＯＨ、ＩＰＡ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ、１−ＢｕＯＨ及びＭＴＢＥ、並びにこれらの混合物からなる群から選択され、
第二温度が約３０℃〜約８０℃の範囲であり、
第二圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲である。
【０１３６】
本発明の実施例８１は、化合物Ｃ２又は化合物Ｃ３を反応させるためのプロセスを含み、ここで、
第二水素源が気体水素であり、
１０％Ｐｄ／Ｃが約５％（ｗ／ｗ）〜約２０％（ｗ／ｗ）の重量％範囲で存在し、
第二溶媒がＭｅＯＨ、ＤＣＥ、ＥｔＯＨ、ＩＰＡ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ、１−ＢｕＯＨ及びＭＴＢＥ、並びにこれらの混合物からなる群から選択され、
所望による第二添加剤がＥｔ3Ｎ、ｉＰｒ2−ＮＨ、Ｃｙ2ＮＨ、（Ｒ）−Ｐｈ−エチル−ＮＨ2、（Ｓ）−Ｐｈ−エチル−ＮＨ2、ＫＩ、ＫＯＨ、Ｋ2ＣＯ3、（Ｒ／Ｓ）−カンファースルホン酸及びＣＨ3ＣＯＯＨからなる群から選択され、存在する場合には、約１．２当量以下の量であり、
第二温度が約３０℃〜約８０℃の範囲であり、又は約４０℃〜約６０℃の範囲であり、
第二圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）の範囲である。
【０１３７】
本発明の実施例８２は、化合物Ｃ２又は化合物Ｃ３を反応させるためのプロセスを含み、ここで、
第二配位子金属錯体が、第二配位子及び［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2第二金属付加物を、約０．１当量以下のヨウ素と組み合わせたものから本質的になり、
第二配位子が、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ，Ｒ）−Ｍｅ−ＤｕＰｈｏｓ、（Ｓ，Ｓ）−Ｍｅ−ＤｕＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｔｏｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｔｏｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ、（Ｓ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−エチル−Ｎａｐｔｈｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−２，４，６−Ｆ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−２，４，６−Ｆ3Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−２，４，６−Ｆ3Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−２，４，６−Ｆ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＰＣｙ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｓ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｓ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ及びＤＰＰＦからなる群から選択され、
第二溶媒がＭｅＯＨ、ＤＣＥ、ＥｔＯＨ、ＩＰＡ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ、１−ＢｕＯＨ及びＭＴＢＥ、並びにこれらの混合物からなる群から選択され、
所望による第二添加剤がＥｔ3Ｎ、ｉＰｒ2−ＮＨ、Ｃｙ2ＮＨ、（Ｒ）−Ｐｈ−エチル−ＮＨ2、（Ｓ）−Ｐｈ−エチル−ＮＨ2、ＫＩ、ＫＯＨ、Ｋ2ＣＯ3、（Ｒ／Ｓ）−カンファースルホン酸及びＣＨ3ＣＯＯＨからなる群から選択され、存在する場合には、約１．２当量以下の量であり、
第二温度が約３０℃〜約８０℃の範囲であり、又は約４０℃〜約６０℃の範囲であり、
第二圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）の範囲である。
【０１３８】
本発明の実施例８３は、化合物Ｃ２又は化合物Ｃ３を反応させるためのプロセスを含み、ここで、
第二配位子が（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｔｏｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−エチル−Ｎａｐｔｈｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−２，４，６−Ｆ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＰＣｙ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ及びＤＰＰＦなる群から選択され、
第二溶媒がＭｅＯＨ、ＤＣＥ、ＥｔＯＨ、ＩＰＡ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ、１−ＢｕＯＨ及びＭＴＢＥ、並びにこれらの混合物からなる群から選択され、
第二温度が約３０℃〜約８０℃の範囲であり、
第二圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲である。
【０１３９】
本発明の実施例８４は、次の工程を含むプロセスを含む：
工程１．化合物Ｃ１を、所望による第一添加剤の存在下、第一溶媒中で、第一高温及び第一高圧において、第一水素源、第一配位子金属錯体であって、第一金属付加物と配位結合した第一配位子から本質的になる錯体と反応させ、実質的に純粋な化合物Ｃ２又は実質的に純粋な化合物Ｃ３を得る、ここで、
第一水素源が気体水素又は過剰量の蟻酸から選択され、
第一配位子が、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ，Ｒ）−Ｍｅ−ＤｕＰｈｏｓ、（Ｓ，Ｓ）−Ｍｅ−ＤｕＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ、（Ｓ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＰＣｙ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＰＣｙ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ及び（Ｓ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚからなる群から選択され、
第一金属付加物が、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2、［Ｒｈ（エチレン）2（ａｃａｃ）］、［Ｒｈ（ＣＯ）2（ａｃａｃ）］、［Ｒｈ（ＣＯＤ）（ａｃａｃ）］、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＦ3ＣＯＯ）2］2、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（メチルアリル）2］、［Ｒｕ（ベンゼン）Ｃｌ2］2、［Ｒｕ（ｐ−シメン）Ｃｌ2］2、［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、［Ｉｒ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4及び［Ｉｒ（ＣＯＤ）2］ＢＡｒFからなる群から選択され、
第一溶媒が、ＭｅＯＨ、ＥｔＯＨ、ＩＰＡ、ＤＣＥ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ、ＤＭＦ及びこれらの混合物からなる群から選択され、
所望による第一添加剤が、ＡｃＯＨ、Ｅｔ3Ｎ、ＨＢＦ4、ＨＢＦ4エーテル化合物、ＨＣｌ、ＨＣｌエーテル化合物、ＣＦ3ＣＯＯＨ、ＣＨ3ＣＯＯＨ及びＴｓＯＨからなる群から選択され、存在する場合には、約１．２当量以下の量であり、
第一温度が約２５℃〜約７０℃の範囲であり、
第一圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約３０００ｋＰａ（３０ｂａｒ）の範囲である、並びに、
工程２．化合物Ｃ３を、第二溶媒中で、所望による第二添加剤の存在下、第二高温及び第二高圧において、第二水素源及び水素化剤と反応させ、化合物Ｃ４及び化合物Ｃ５の異性体混合物を得る、ここで、
第二水素源が気体水素であり、
水素化剤が１０％Ｐｄ／Ｃ又は第二配位子金属錯体のいずれかから選択され、
第二配位子金属錯体が、第二配位子及び［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2金属付加物を、約０．１当量以下のヨウ素と組み合わせたものから本質的になり、
１０％Ｐｄ／Ｃが約５％重量／重量（ｗ／ｗ）〜約２０％（ｗ／ｗ）の重量％範囲で存在し、
第二配位子が（Ｒ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｔｏｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ及び（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐからなる群から選択され、
第二溶媒がＭｅＯＨ、ＤＣＥ、ＥｔＯＨ、ＩＰＡ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ及びＭＴＢＥ、並びにこれらの混合物からなる群から選択され、
所望による第二添加剤がＥｔ3Ｎ、ｉＰｒ2−ＮＨ、Ｃｙ2ＮＨ、（Ｒ）−Ｐｈ−エチル−ＮＨ2、（Ｓ）−Ｐｈ−エチル−ＮＨ2、ＫＩ、ＫＯＨ、Ｋ2ＣＯ3、（Ｒ／Ｓ）−カンファースルホン酸及びＣＨ3ＣＯＯＨからなる群から選択され、存在する場合には、約１．２当量以下の量であり、
第二温度が約４０℃〜約６０℃の範囲であり、
第二圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）の範囲である。
【０１４０】
本発明の実施例８５は、次の工程を含むプロセスを含む：
工程１．化合物Ｃ１を、第一溶媒中で、第一温度及び第一圧力において、第一水素源、第一配位子金属錯体であって、第一金属付加物と配位結合した第一配位子から本質的になる錯体と反応させ、実質的に純粋な化合物Ｃ２又は実質的に純粋な化合物Ｃ３を得る、ここで、
第一水素源が気体水素又は過剰量の蟻酸から選択され、
第一配位子が、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ，Ｒ）−Ｍｅ−ＤｕＰｈｏｓ、（Ｓ，Ｓ）−Ｍｅ−ＤｕＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ、（Ｓ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＰＣｙ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＰＣｙ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ及び（Ｓ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚからなる群から選択され、
第一金属付加物が、［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、［Ｉｒ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4及び［Ｉｒ（ＣＯＤ）2］ＢＡｒFからなる群から選択され、
第一溶媒が、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ及びこれらの混合物からなる群から選択され、
第一温度が約２５℃〜約７０℃の範囲であり、
第一圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約３０００ｋＰａ（３０ｂａｒ）の範囲である、並びに、
工程２．化合物Ｃ２又は化合物Ｃ３を、約０．１当量以下のヨウ素の直接添加によって反応させ、第二高温及び第二高圧でこの反応混合物を再反応させる、ここで、
第二温度が約３０℃〜約８０℃の範囲であり、
第二圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲である。
【０１４１】
本発明の実施例８６は、化合物Ｃ１を反応させるためのプロセスを含み、ここで、
第一配位子が（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ及び（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚからなる群から選択され、
第一金属付加物が［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2である。
【０１４２】
本発明の実施例８７は、スキームＣによる、式（Ｉａ）の化合物及びその中間体の調製のためのプロセスを含み、ここで、
第一水素源が気体水素であり、
第一配位子金属錯体が（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2であり、
第一溶媒がＤＣＥであり、
第一温度が約７０℃であり、第一圧力が約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）であり、
第二水素源が気体水素であり、
水素化剤が１０％Ｐｄ／Ｃ又は第二配位子金属錯体のいずれかから選択され、
水素化剤が（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2から選択される第二配位子金属錯体を約０．１当量の量のヨウ素と組み合わせたものであるとき、第二溶媒がＥｔＯＡｃであり、第二温度が約５０℃であり、第二圧力が約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）であり、
水素化剤が約１０％（ｗ／ｗ）の量の１０％Ｐｄ／Ｃから選択されるとき、第二溶媒がＩＰＡであり、所望による第二添加剤が約０．７５当量の量のＥｔ3Ｎであり、第二温度が約４０℃であり、第二圧力が約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）である。
【０１４３】
本発明は更に、スキームＤに示すように、式（Ｉａ）の化合物及びその中間体の調製のためのプロセスに関連し、次の工程を含む：
スキームＤ
工程１．化合物Ｄ１を、所望による第一添加剤の存在下、第一溶媒中で、第一高温及び第一高圧において、第一水素源、第一配位子金属錯体であって、第一金属付加物と配位結合した第一配位子から本質的になる錯体と反応させ、実質的に純粋な化合物Ｄ３を得る：
【０１４４】
【化１９】
2011519340.tif 000021
【０１４５】
工程２．所望により、化合物Ｄ３ヒドロキシ基を変換して、化合物Ｃ３−Ｏ−Ｃ1〜8アルキル基をもたらし、スキームＣの工程２の化合物Ｃ３を後の工程に進める、
工程３．化合物Ｄ３を、第二溶媒中で、所望による第二添加剤の存在下、第二高温及び第二高圧において、第二水素源及び水素化剤と反応させ、化合物Ｄ４及び化合物Ｄ５の異性体混合物を得る：
【０１４６】
【化２０】
2011519340.tif 000022
【０１４７】
並びに、
工程４．化合物Ｄ４及び化合物Ｄ５の異性体混合物のヒドロキシ基を、−Ｏ−Ｃ1〜8アルキル基に変換し、化合物Ｃ４及び化合物Ｃ５の異性体混合物を得て、次にスキームＣの工程３の化合物Ｃ４及び化合物Ｃ５の異性体混合物を後の工程に進める。
【０１４８】
本発明は、次の工程からなる、実質的に純粋な化合物Ｄ２を生成するためのプロセスを提供する：
化合物Ｄ１を、所望による第一添加剤の存在下、第一溶媒中で、第一高温及び第一高圧において、第一水素源、第一配位子金属錯体であって、第一金属付加物と配位結合した第一配位子から本質的になる錯体と反応させ、実質的に純粋な化合物Ｄ２を得る：
【０１４９】
【化２１】
2011519340.tif 000023
【０１５０】
本発明の実施例８８は、化合物Ｄ２が化合物Ｄ３の代わりに後の工程に進められ、式（Ｉ）の（αＲ，βＲ）異性体及び（αＲ，βＳ）異性体を得るプロセスを含む。
【０１５１】
本発明の実施例８９は、化合物Ｄ１を反応させて化合物Ｄ２を得るためのプロセス、並びに、化合物Ｄ１を反応させて化合物Ｄ３を得るプロセスを含み、これらのプロセスは両方とも上記に記述されており、ここで、
第一配位子が、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、ＰＣｙ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ及びＰＣｙ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚからなる群から選択され、
第一金属付加物が、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2、［Ｒｈ（エチレン）2（ａｃａｃ）］、［Ｒｈ（ＣＯ）2（ａｃａｃ）］、［Ｒｈ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、［Ｒｈ（ＣＯＤ）（ａｃａｃ）］、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＦ3ＣＯＯ）2］2、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＨ3ＣＯＯ）2］、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（メチルアリル）2］、［Ｒｕ（ベンゼン）Ｃｌ2］2、［Ｒｕ（ｐ−シメン）Ｃｌ2］2、［Ｒｕ（メシチレン）Ｃｌ2］2、［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、［Ｉｒ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4及び［Ｉｒ（ＣＯＤ）2］ＢＡｒFからなる群から選択され、
第一温度が約２５℃〜約７０℃の範囲であり、
第一圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約３０００ｋＰａ（３０ｂａｒ）の範囲である。
【０１５２】
本発明の実施例９０は、化合物Ｄ１を反応させるためのプロセスを含み、ここで、第一配位子金属錯体が、（Ｒ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［Ｒｈ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［Ｒｈ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［Ｒｈ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、（Ｒ）−Ｔｏｌ−Ｂｉｎａｐ／［ＲｕＣｌ（ｐ−シメン）］Ｃｌ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＦ3ＣＯＯ）2］2、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｒｕ（ＣＯＤ）（メチルアリル）2］、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［Ｒｈ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、（Ｓ）−Ｔｏｌ−Ｂｉｎａｐ／［ＲｕＣｌ（ｐ−シメン）］Ｃｌ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ及び（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］からなる群から選択される。
【０１５３】
本発明の実施例９１は、化合物Ｄ１を反応させるためのプロセスを含み、ここで、
第一配位子が、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ及び（Ｓ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓからなる群から選択され、
第一金属付加物が、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＦ3ＣＯＯ）2］2、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（メチルアリル）2］、［Ｒｕ（ベンゼン）Ｃｌ2］2及び［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2からなる群から選択される。
【０１５４】
本発明の実施例９２は、化合物Ｄ１を反応させるためのプロセスを含み、ここで、
第一配位子が、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ及び（Ｓ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓからなる群から選択され、
第一金属付加物が、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＦ3ＣＯＯ）2］2、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（メチルアリル）2］、［Ｒｕ（ベンゼン）Ｃｌ2］2及び［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2からなる群から選択される。
【０１５５】
本発明の実施例９３は、化合物Ｄ１を反応させるためのプロセスを含み、ここで、
第一配位子が（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ及び（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚからなる群から選択され、
第一金属付加物が［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2であり、
第一溶媒がＴＨＦ、ＤＣＥ及びＥｔＯＡｃからなる群から選択され、
第一温度が約６５℃〜約７０℃の範囲であり、
第一圧力が約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）〜約３０００ｋＰａ（３０ｂａｒ）の範囲である。
【０１５６】
本発明の実施例９４は、化合物Ｄ１を反応させるためのプロセスを含み、ここで、
第一配位子が、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ及び（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓからなる群から選択され、
第一金属付加物が、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2、［Ｒｈ（エチレン）2（ａｃａｃ）］、［Ｒｈ（ＣＯ）2（ａｃａｃ）］、［Ｒｈ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2及び［Ｒｈ（ＣＯＤ）（ａｃａｃ）］からなる群から選択され、
第一溶媒がＭｅＯＨであり、第一温度が約２５℃〜約６０℃であり、
第一圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約３０００ｋＰａ（３０ｂａｒ）である。
【０１５７】
本発明の実施例９５は、化合物Ｄ１を反応させるためのプロセスを含み、ここで、
第一配位子が、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ及び（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓからなる群から選択され、
第一金属付加物が、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＦ3ＣＯＯ）2］2、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＨ3ＣＯＯ）2］、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（メチルアリル）2］、［Ｒｕ（ベンゼン）Ｃｌ2］2、［Ｒｕ（ｐ−シメン）Ｃｌ2］2及び［Ｒｕ（メシチレン）Ｃｌ2］2からなる群から選択され、
第一溶媒が、ＭｅＯＨ、ＥｔＯＨ、ＩＰＡ、ＤＣＥ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ、ＤＭＦ及びこれらの混合物からなる群から選択され、
所望による第一添加剤がＡｃＯＨ、ＣＦ3ＣＯ2Ｈ及びＥｔ3Ｎからなる群から選択され、
第一温度が約４０℃〜約７０℃の範囲であり、
第一圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約３０００ｋＰａ（３０ｂａｒ）の範囲である。
【０１５８】
本発明の実施例９６は、化合物Ｄ１を反応させるためのプロセスを含み、ここで、
第一配位子が（Ｒ）−ＸｙｌＰｈａｎｅＰｈｏｓであり、
第一金属付加物が、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＦ3ＣＯＯ）2］2、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＨ3ＣＯＯ）2］、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（メチルアリル）2］、［Ｒｕ（ベンゼン）Ｃｌ2］2、［Ｒｕ（ｐ−シメン）Ｃｌ2］2及び［Ｒｕ（メシチレン）Ｃｌ2］2からなる群から選択され、
第一溶媒が、ＭｅＯＨ、ＤＭＦ及びこれらの混合物からなる群から選択され、
所望による第一添加剤がＥｔ3Ｎであり、
第一温度が約４０℃〜約６０℃の範囲であり、
第一圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約３０００ｋＰａ（３０ｂａｒ）の範囲である。
【０１５９】
本発明の実施例９７は、化合物Ｄ１を反応させるためのプロセスを含み、ここで、
第一配位子が（Ｒ）−ＸｙｌＰｈａｎｅＰｈｏｓであり、
第一金属付加物が、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＦ3ＣＯＯ）2］2、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＨ3ＣＯＯ）2］、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（メチルアリル）2］、［Ｒｕ（ベンゼン）Ｃｌ2］2、［Ｒｕ（ｐ−シメン）Ｃｌ2］2及び［Ｒｕ（メシチレン）Ｃｌ2］2からなる群から選択され、
第一溶媒が、ＭｅＯＨ、ＤＭＦ及びこれらの混合物からなる群から選択され、
所望による第一添加剤がＡｃＯＨであり、
第一温度が約４０℃であり、
第一圧力が約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）である。
【０１６０】
本発明の実施例９８は、化合物Ｄ１を反応させるためのプロセスを含み、ここで、
第一配位子が（Ｒ）−ＸｙｌＰｈａｎｅＰｈｏｓであり、
第一金属付加物が、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＦ3ＣＯＯ）2］2、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＨ3ＣＯＯ）2］、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（メチルアリル）2］、［Ｒｕ（ベンゼン）Ｃｌ2］2、［Ｒｕ（ｐ−シメン）Ｃｌ2］2及び［Ｒｕ（メシチレン）Ｃｌ2］2からなる群から選択され、
第一溶媒が、ＭｅＯＨ、ＥｔＯＨ、ＩＰＡ、ＤＣＥ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ、ＤＭＦ及びこれらの混合物からなる群から選択され、
第一温度が約４０℃であり、
第一圧力が約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）である。
【０１６１】
本発明の実施例９９は、化合物Ｄ１を反応させるためのプロセスを含み、ここで、
第一配位子が（Ｒ）−ＸｙｌＰｈａｎｅＰｈｏｓであり、
第一金属付加物が［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＦ3ＣＯＯ）2］2、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＨ3ＣＯＯ）2］及び［Ｒｕ（ＣＯＤ）（メチルアリル）2］であり、
第一溶媒がＭｅＯＨであり、
所望による第一添加剤がＡｃＯＨであり、
第一温度が約４０℃であり、
第一圧力が約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）である。
【０１６２】
本発明の実施例１００は、化合物Ｄ２又は化合物Ｄ３を反応させるためのプロセスを含み、ここで、
第二水素源が気体水素であり、
水素化剤が１０％Ｐｄ／Ｃ又は第二配位子金属錯体のいずれかから選択され、
第二配位子金属錯体が、第二配位子及び［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2金属付加物を、約０．１当量以下のヨウ素と組み合わせたものから本質的になり、
１０％Ｐｄ／Ｃが約５％重量／重量（ｗ／ｗ）〜約２０％（ｗ／ｗ）の重量％範囲で存在し、
第二配位子が、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ，Ｒ）−Ｍｅ−ＤｕＰｈｏｓ、（Ｓ，Ｓ）−Ｍｅ−ＤｕＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｔｏｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｔｏｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ、（Ｓ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−エチル−Ｎａｐｔｈｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−２，４，６−Ｆ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−２，４，６−Ｆ3Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−２，４，６−Ｆ3Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−２，４，６−Ｆ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＰＣｙ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｓ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｓ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ及びＤＰＰＦからなる群から選択され、
第二溶媒がＭｅＯＨ、ＤＣＥ、ＥｔＯＨ、ＩＰＡ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ、１−ＢｕＯＨ及びＭＴＢＥ、並びにこれらの混合物からなる群から選択され、
所望による第二添加剤がＥｔ3Ｎ、ｉＰｒ2−ＮＨ、Ｃｙ2ＮＨ、（Ｒ）−Ｐｈ−エチル−ＮＨ2、（Ｓ）−Ｐｈ−エチル−ＮＨ2、ＫＩ、ＫＯＨ、Ｋ2ＣＯ3、（Ｒ／Ｓ）−カンファースルホン酸及びＣＨ3ＣＯＯＨからなる群から選択され、存在する場合には、約１．２当量以下の量であり、
第二温度が約３０℃〜約８０℃の範囲であり、又は約４０℃〜約６０℃の範囲であり、
第二圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）の範囲である。
【０１６３】
本発明の実施例１０１は、化合物Ｄ２又は化合物Ｄ３を反応させるためのプロセスを含み、ここで、第二配位子金属錯体が、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｔｏｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2及び（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2からなる群から選択される。
【０１６４】
本発明の実施例１０２は、化合物Ｄ２又は化合物Ｄ３を反応させるためのプロセスを含み、ここで、
第二配位子が（Ｒ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｔｏｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ及び（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐからなる群から選択され、
第二溶媒がＭｅＯＨ、ＤＣＥ、ＥｔＯＨ、ＩＰＡ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ及びＭＴＢＥ、並びにこれらの混合物からなる群から選択され、
第二温度が約４０℃〜約６０℃の範囲であり、
第二圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）の範囲である。
【０１６５】
本発明の実施例１０３は、化合物Ｄ２又は化合物Ｄ３を反応させるためのプロセスを含み、ここで、
第二水素源が気体水素であり、
１０％Ｐｄ／Ｃが約５％（ｗ／ｗ）〜約２０％（ｗ／ｗ）の重量％範囲で存在し、
第二溶媒がＭｅＯＨ、ＤＣＥ、ＥｔＯＨ、ＩＰＡ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ、１−ＢｕＯＨ及びＭＴＢＥ、並びにこれらの混合物からなる群から選択され、
所望による第二添加剤がＥｔ3Ｎ、ｉＰｒ2−ＮＨ、Ｃｙ2ＮＨ、（Ｒ）−Ｐｈ−エチル−ＮＨ2、（Ｓ）−Ｐｈ−エチル−ＮＨ2、ＫＩ、ＫＯＨ、Ｋ2ＣＯ3、（Ｒ／Ｓ）−カンファースルホン酸及びＣＨ3ＣＯＯＨからなる群から選択され、存在する場合には、約１．２当量以下の量であり、
第二温度が約３０℃〜約８０℃の範囲であり、又は約４０℃〜約６０℃の範囲であり、
第二圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）の範囲である。
【０１６６】
本発明の実施例１０４は、化合物Ｄ２又は化合物Ｄ３を反応させるためのプロセスを含み、ここで、
第二配位子金属錯体が、第二配位子及び［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2第二金属付加物を、約０．１当量以下のヨウ素と組み合わせたものから本質的になり、
第二配位子が、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ，Ｒ）−Ｍｅ−ＤｕＰｈｏｓ、（Ｓ，Ｓ）−Ｍｅ−ＤｕＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｔｏｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｔｏｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ、（Ｓ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＣＦ3Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−エチル−Ｎａｐｔｈｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、３，４−ｄｉＣｌ−Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−２，４，６−Ｆ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−２，４，６−Ｆ3Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−２，４，６−Ｆ3Ｐｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−２，４，６−Ｆ3Ｐｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、Ｘｙｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｉｎｏｌ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ＰＣｙ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｓ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−フェネチル−（Ｒ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−フェネチル−（Ｓ）−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ、ｐＦＰｈ−（Ｓ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ及びＤＰＰＦからなる群から選択され、
第二溶媒がＭｅＯＨ、ＤＣＥ、ＥｔＯＨ、ＩＰＡ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ、１−ＢｕＯＨ及びＭＴＢＥ、並びにこれらの混合物からなる群から選択され、
所望による第二添加剤がＥｔ3Ｎ、ｉＰｒ2−ＮＨ、Ｃｙ2ＮＨ、（Ｒ）−Ｐｈ−エチル−ＮＨ2、（Ｓ）−Ｐｈ−エチル−ＮＨ2、ＫＩ、ＫＯＨ、Ｋ2ＣＯ3、（Ｒ／Ｓ）−カンファースルホン酸及びＣＨ3ＣＯＯＨからなる群から選択され、存在する場合には、約１．２当量以下の量であり、
第二温度が約３０℃〜約８０℃の範囲であり、又は約４０℃〜約６０℃の範囲であり、
第二圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）の範囲である。
【０１６７】
本発明の実施例１０５は、化合物Ｄ２又は化合物Ｄ３を反応させるためのプロセスを含み、ここで、
第二配位子が（Ｒ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｔｏｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ及び（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐからなる群から選択され、
第二溶媒がＭｅＯＨ、ＤＣＥ、ＥｔＯＨ、ＩＰＡ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ及びＭＴＢＥ、並びにこれらの混合物からなる群から選択され、
第二温度が約４０℃〜約６０℃の範囲であり、
第二圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）の範囲である。
【０１６８】
本発明の実施例１０６は、次の工程を含むプロセスを含む：
工程１．化合物Ｄ１を、所望による第一添加剤の存在下、第一溶媒中で、第一高温及び第一高圧において、第一水素源、第一配位子金属錯体であって、第一金属付加物と配位結合した第一配位子から本質的になる錯体と反応させ、実質的に純粋な化合物Ｄ２又は実質的に純粋な化合物Ｄ３を得る、ここで、
第一水素源が気体水素又は過剰量の蟻酸から選択され、
第一配位子が、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｒ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、（Ｓ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ、ＰＣｙ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ及びＰＣｙ−（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚからなる群から選択され、
第一金属付加物が、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4、［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＦ3ＣＯＯ）2］2、［Ｒｕ（ＣＯＤ）（メチルアリル）2］、［Ｒｕ（ベンゼン）Ｃｌ2］2及び［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2からなる群から選択され、
第一溶媒が、ＭｅＯＨ、ＥｔＯＨ、ＩＰＡ、ＤＣＥ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ、ＤＭＦ及びこれらの混合物からなる群から選択され、
所望による第一添加剤が、ＡｃＯＨ、Ｅｔ3Ｎ、ＨＢＦ4、ＨＢＦ4エーテル化合物、ＨＣｌ、ＨＣｌエーテル化合物、ＣＦ3ＣＯＯＨ、ＣＨ3ＣＯＯＨ及びＴｓＯＨからなる群から選択され、存在する場合には、約１．２当量以下の量であり、
第一温度が約２５℃〜約７０℃の範囲であり、
第一圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約３０００ｋＰａ（３０ｂａｒ）の範囲である、
工程２．所望により化合物Ｄ２又は化合物Ｄ３ヒドロキシ基を変換して、化合物Ｃ２又は化合物Ｃ３−Ｏ−Ｃ1〜8アルキル基をもたらし、スキームＣの工程２の化合物Ｃ２又は化合物Ｃ３の異性体混合物を後の工程に進める、並びに、
工程３．化合物Ｄ３を、第二溶媒中で、所望による第二添加剤の存在下、第二高温及び第二高圧において、第二水素源及び水素化剤と反応させ、化合物Ｄ４及び化合物Ｄ５の異性体混合物を得る、ここで、
第二水素源が気体水素であり、
水素化剤が１０％Ｐｄ／Ｃ又は第二配位子金属錯体のいずれかから選択され、
第二配位子金属錯体が、第二配位子及び［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2金属付加物を、約０．１当量以下のヨウ素と組み合わせたものから本質的になり、
１０％Ｐｄ／Ｃが約５％重量／重量（ｗ／ｗ）〜約２０％（ｗ／ｗ）の重量％範囲で存在し、
第二配位子が（Ｒ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｔｏｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐ及び（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｂｉｎａｐからなる群から選択され、
第二溶媒がＭｅＯＨ、ＤＣＥ、ＥｔＯＨ、ＩＰＡ、ＴＨＦ、トルエン、ＥｔＯＡｃ及びＭＴＢＥ、並びにこれらの混合物からなる群から選択され、
所望による第二添加剤がＥｔ3Ｎ、ｉＰｒ2−ＮＨ、Ｃｙ2ＮＨ、（Ｒ）−Ｐｈ−エチル−ＮＨ2、（Ｓ）−Ｐｈ−エチル−ＮＨ2、ＫＩ、ＫＯＨ、Ｋ2ＣＯ3、（Ｒ／Ｓ）−カンファースルホン酸及びＣＨ3ＣＯＯＨからなる群から選択され、存在する場合には、約１．２当量以下の量であり、
第二温度が約４０℃〜約６０℃の範囲であり、
第二圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲であり、又は約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）の範囲である。
【０１６９】
本発明の実施例１０７は、次の工程を含むプロセスを含む：
工程１．化合物Ｄ１を、所望による第一添加剤の存在下、第一溶媒中で、第一高温及び第一高圧において、第一水素源、第一配位子金属錯体であって、第一金属付加物と配位結合した第一配位子から本質的になる錯体と反応させ、実質的に純粋な化合物Ｄ２又は実質的に純粋な化合物Ｄ３を得る、ここで、
第一水素源が気体水素又は過剰量の蟻酸から選択され、
第一配位子が（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ、（Ｒ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｅｔ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−ｉＰｒ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｂｎ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｒ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚ、（Ｓ）−Ｐｈ−ＢｏＰｈｏｚからなる群から選択され、
第一金属付加物が［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2、［Ｉｒ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4及び［Ｉｒ（ＣＯＤ）2］ＢＡｒFであり、
第一溶媒がＴＨＦ、ＥｔＯＡｃ及びトルエンからなる群から選択され、
第一温度が約７０℃であり、
第一圧力が約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）である、並びに、
工程２．所望により化合物Ｄ２又は化合物Ｄ３ヒドロキシ基を変換して、化合物Ｃ２又は化合物Ｃ３−Ｏ−Ｃ1〜8アルキル基をもたらし、スキームＣの工程２の化合物Ｃ２又は化合物Ｃ３の異性体混合物を後の工程に進める、並びに、
工程３．化合物Ｄ３を、約０．１当量以下のヨウ素の直接添加によって反応させ、第二高温及び第二高圧でこの反応混合物を再反応させる、ここで、
第二温度が約３０℃〜約８０℃の範囲であり、
第二圧力が約３００ｋＰａ（３ｂａｒ）〜約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）の範囲である。
【０１７０】
本発明の実施例１０８は、化合物Ｄ１を反応させるためのプロセスを含み、ここで、
第一配位子が（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ及び（Ｓ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚからなる群から選択され、
第一金属付加物が［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2である。
【０１７１】
本発明の実施例１０９は、スキームＤによる、式（Ｉａ）の化合物及びその中間体の調製のためのプロセスを含み、ここで、
第一水素源が気体水素であり、
第一配位子金属錯体が（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＦ3ＣＯＯ）2］2であり、
第一溶媒がＭｅＯＨであり、
第一温度が約４０℃であり、
第一圧力が約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）であり、
第二水素源が気体水素であり、
水素化剤が１０％Ｐｄ／Ｃ又は第二配位子金属錯体のいずれかから選択され、
水素化剤が（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2から選択される第二配位子金属錯体を約０．１当量の量のヨウ素と組み合わせたものであるとき、第二溶媒がＥｔＯＡｃであり、第二温度が約５０℃であり、第二圧力が約２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）であり、
水素化剤が約１０％（ｗ／ｗ）の量の１０％Ｐｄ／Ｃから選択されるとき、第二溶媒がＭｅＯＨであり、所望による第二添加剤が約０．７５当量の量のＥｔ3Ｎであり、第二温度が約４０℃であり、第二圧力が約１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）である。
【０１７２】
本発明の実施例１１０は、次のものからなる群から選択される、式（Ｉ）の化合物又は式（ＩＩ）の化合物のエナンチオマー又はジアステレオマーをもたらすプロセスを含む：
【０１７３】
【表２−１】
2011519340.tif 000024
【０１７４】
【表２−２】
2011519340.tif 000025
【０１７５】
【表２−３】
2011519340.tif 000026
【０１７６】
【表２−４】
2011519340.tif 000027
【０１７７】
【表２−５】
2011519340.tif 000028
【０１７８】
【表２−６】
2011519340.tif 000029
【０１７９】
【表２−７】
2011519340.tif 000030
【０１８０】
上述のスキームは、例示の目的で提供され、本発明は、示される化学反応及び条件に限定されると解釈すべきではない。これらスキームで用いる種々の出発物質を調製する方法は、当業者に周知である。
【０１８１】
問題の検討
本発明の不斉均質反応において、出発物質の変換量と生成物のエナンチオマー純度は、数多くの要因に依存することが見出された。この要因には、さまざまな金属付加物と配位結合したさまざまな配位子、その結果として形成される配位子金属錯体、使用される溶媒及びその他の添加剤、反応温度及び圧力条件、並びに反応時間長さが挙げられるが、これらに限定されない。これらそれぞれの要因の影響が、単独並びに組み合わせとして研究された。
【０１８２】
スキームＥは、式（Ｉａ）の化合物の合成を図解するものである（Ｇｈｏｓｈ  Ｓ，Ｓａｎｔｕｌｌｉ  ＲＪ，Ｋｉｎｎｅｙ  ＷＡ，ＤｅＣｏｒｔｅ  ＢＬ，Ｌｉｕ  Ｌ，Ｌｅｗｉｓ  ＪＭ，Ｐｒｏｏｓｔ  ＪＣ，Ｌｅｏ  ＧＣ，Ｍａｓｕｃｃｉ  Ｊ，Ｈａｇｅｍａｎ  ＷＥ，Ｔｈｏｍｐｓｏｎ  ＡＳ，Ｃｈｅｎ  Ｉ，Ｋａｗａｈａｍａ  Ｒ，Ｔｕｍａｎ  ＲＷ，Ｇａｌｅｍｍｏ  ＲＡ  Ｊｒ．，Ｊｏｈｎｓｏｎ  ＤＬ，Ｄａｍｉａｎｏ  ＢＰ  ａｎｄ  Ｍａｒｙａｎｏｆｆ  ＢＥ，Ｂｉｏｏｒｇ．Ｍｅｄ．Ｌｅｔｔ．，２００４，１４，５９３７に記載されている）。
【０１８３】
【化２２】
2011519340.tif 000031
【０１８４】
４−（２−オキソ−２−キノリン−３−イル−エチル）−ピペリジン−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル化合物Ｅ３を調製するための反応工程では、低い反応温度で一定時間をかけ、試薬として３−リチオキノリン付加物、並びに過剰のｎ−ＢｕＬｉ及び３−ブロモキノリンを使用する。
【０１８５】
更に、ホーナー・エモンズ反応によって、幾何異性体の化合物Ｃ１（Ｚ−異性体）及び化合物Ｅ４（Ｅ−異性体）の混合物として生成物を産生すると、雑多な異性体比がもたらされる。
【０１８６】
化合物Ｃ１及び化合物Ｅ４の混合物の水素化により、化合物Ｃ２、化合物Ｃ３、化合物Ｅ４及び化合物Ｅ５の４つのジアステレオマーを等分に含む混合物として生成物が得られ、連続するキラルカラムクロマトグラフィーによって２回の分離を順次行う必要がある。
【０１８７】
スキームＦは、酸Ｆ１を出発物質として、化合物Ｆ２及びビニルトリフラート化合物Ｆ３を経て、（Ｚ）−４−（３−メトキシカルボニル−２−キノリン−３−イル−アリル）−ピペリジン−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル化合物Ｃ１の立体制御合成のためのプロセスを提供する（無水トリフラートを使用して立体異性体の向きを制御する別法については、Ｒｏｍｅｒｏ  ＤＬ，Ｍａｎｎｉｎｅｎ  ＰＲ，Ｈａｎ  Ｆ  ａｎｄ  Ｒｏｍｅｒｏ  ＡＧ，Ｊ．Ｃｈｅｍ．１９９９，６４，４９８０〜４９８５を参照）。
【０１８８】
【化２３】
2011519340.tif 000032
【０１８９】
本発明の実施例１１１は、（Ｚ）−４−（３−メトキシカルボニル−２−キノリン−３−イル−アリル）−ピペリジン−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル化合物Ｃ１の調製のためのプロセスを含み、次の工程を含む：
工程１．化合物Ｆ１及びカルボニルジイミダゾール（ＣＤＩ）の混合物をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）中で反応させる、
工程２．この混合物をＴＨＦ中でマロン酸メチルのカリウム塩及びＭｇＣｌ2と反応させ、化合物Ｆ２を得る、
工程３．化合物Ｆ２を、水素化ナトリウム（ＮａＨ）及びＤＩＰＥＡのトルエン溶液混合物中で、トリフルオロメタンスルホン酸無水物（Ｔｆ2Ｏ）と反応させ、（Ｚ）−異性体化合物Ｆ３を得る、並びに、
工程４．化合物Ｆ３を、２ＭのＮａ2ＣＯ3のＴＨＦ溶液中で、キノリン−３−ボロン酸及びＰｄ（ＰＰｈ3）2Ｃｌ2（ビストリフェニルホスフィンパラジウム二塩化物）と反応させ、化合物Ｃ１を得る。
【０１９０】
スキームＧは、結晶形態の（１Ｓ）−（−）−カンファン酸誘導体化合物Ｇ１の調製を図解するものである。化合物Ｇ１は単結晶Ｘ線回折研究に使用され、本発明の化合物の絶対的形状が確認された。
【０１９１】
【化２４】
2011519340.tif 000033
【０１９２】
立体定義された不飽和エステルのエナンチオ選択的還元反応は、溶媒中の（Ｒ，Ｓ）−ＪｏｓｉＰｈｏｓシリーズのキラル配位子の触媒量存在下において、不飽和エステルが水素化銅［（ＰＰｈ3）ＣｕＨ］6（ストライカー試薬）と反応して、立体選択的生成物を提供することが記述されている（Ｌｉｐｓｈｕｔｚ  ＢＨ，Ｓｅｒｖｅｓｋｏ  ＪＭ  ａｎｄ  Ｔａｆｔ  ＢＲ，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．２００４，１２６，８３５２）。（Ｒ）−Ｔｏｌ−Ｂｉｎａｐ配位子を用いた不飽和エステルの水素化反応は、キラル化合物をもたらした（Ｈｕｇｈｅｓ  Ｇ，Ｋｉｍｕｒａ  Ｍ  ａｎｄ  Ｂｕｃｈｗａｌｄ  ＳＬ，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．２００３，１２５，１１２５３；米国特許第６，４６５，６６４号及び同第６，７８７，６５５号）。
【０１９３】
文献では、不飽和エステル及び酸のこのようなエナンチオ選択的な還元反応について記述されているが、より効率的な合成経路が必要とされている。
【０１９４】
化合物の定義
本明細書で使用するとき、置換基に関して、用語「独立に」は、１つ超のこのような置換基が可能であるとき、このような置換基は、互いに同じであってもよく、異なってもよいことを意味する。
【０１９５】
用語「Ｃ1〜8アルキル」は、１〜８個の炭素原子を含む直鎖又は分枝鎖の炭化水素ラジカルを意味し、ここで、ラジカルは、１つの炭素原子から水素原子を１つ除去することにより誘導される。例としては、メチル、エチル、１−プロピル、２−プロピル、１−ブチル、２−ブチル、第３級ブチル（ｔ−ブチル又はｔｅｒｔ−ブチルとも呼ばれる）、１−ペンチル、２−ペンチル、３−ペンチル、１−ヘキシル、２−ヘキシル、３−ヘキシルなどが挙げられる。他の例としては、Ｃ1〜4アルキル基が挙げられる。Ｃ1〜8アルキルは、利用可能な価数が許容する場合、１つ又はそれ以上の利用可能な炭素鎖原子上で、１つ又はそれ以上の置換基で置換される。
【０１９６】
用語「Ｃ1〜8アルコキシ」は、１〜８個の炭素原子を含む、式−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルの、直鎖又は分枝鎖の炭化水素アルキルラジカルを意味する。例としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシなどが挙げられる。他の例としては、Ｃ1〜4アルコキシが挙げられる。Ｃ1〜8アルコキシは、利用可能な価数が許容する場合、１つ又はそれ以上の利用可能な炭素鎖原子上で、１つ又はそれ以上の置換基で置換される。
【０１９７】
用語「アリール」は、環内に６〜１２個の炭素を含む単環式又は二環式芳香環系を意味する。例としては、フェニル、ビフェニル、ナフタレン（ナフタレニル及びナフチルとも呼ばれる）、アズレニル、アントラセニルなどが挙げられる。アリールラジカルは、コア分子に結合してもよく、利用可能な価数が許容する場合、任意の原子上で更に置換されてもよい。
【０１９８】
用語「ヘテロ」は、環系に対して接頭辞として用いられるとき、Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｓ（Ｏ）又はＳＯ2から選択されるヘテロ原子による、環系内の少なくとも１つの炭素原子員（carbon atom member）の置換を指す。ヘテロ環は、窒素原子により置換された１、２、３又は４つの炭素原子員を有してよい。あるいは、環は、０、１、２又は３個の窒素原子員、及び１個の酸素又は硫黄原子員を有してもよい。あるいは、最大２個の隣接する環員は、ヘテロ原子であってもよく、ここで一方のヘテロ原子は窒素であり、他方のヘテロ原子はＮ、Ｓ又はＯから選択される。
【０１９９】
用語「ヘテロシクリル」は、コア分子としてシクロアルキル環を有する、飽和又は部分的に不飽和である、単環式又は多環式「ヘテロ」環系を意味する。ヘテロシクリル環系としては、アゼチジニル、２Ｈ−ピロール、２−ピロリニル、３−ピロリニル、ピロリジニル、１，３−ジオキソラニル、２−イミダゾリニル（４，５−ジヒドロ−１Ｈ−イミダゾリルとも呼ばれる）、イミダゾリジニル、２−ピラゾリニル、ピラゾリジニル、テトラゾリル、テトラゾリジニル、ピペリジニル、１，４−ジオキサニル、モルホリニル、１，４−ジチアニル、チオモルホリニル、ピペラジニル、１，４，５，６−テトラヒドロ−ピリミジン−２−イル、アゼパニル、ヘキサヒドロ−１，４−ジアゼピニル、ヘキサヒドロ−１，４−オキサゼパニル、テトラヒドロ−フラニル、テトラヒドロ−チエニル、テトラヒドロ−ピラニル、テトラヒドロ−ピリダジニルなどが挙げられる。ヘテロシクリルラジカルは、コア分子に結合してもよく、利用可能な価数が許容する場合、任意の原子上で更に置換されてもよい。
【０２００】
用語「ヘテロシクリル」としてはまた、ベンゾ縮合ヘテロシクリル環系ラジカル及び同様物が挙げられ、例えばインドリニル（２，３−ジヒドロ−インドリルとも呼ばれる）、ベンゾ［１，３］ジオキソリル（１，３−ベンゾジオキソリルとも呼ばれる）、５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル、１，２，３，４−テトラヒドロ−キノリン−３−イル、２，３−ジヒドロ−１，４−ベンゾジオキシニル、２，３−ジヒドロ−ベンゾフラニル、１，２−ジヒドロ−フタラジニル、及び同様物が挙げられる。ベンゾ縮合ヘテロシクリルラジカルは、コア分子に結合してもよく、利用可能な価数が許容する場合、任意の原子上で更に置換されてもよい。
【０２０１】
用語「ヘテロアリール」は、芳香族単環式又は多環式ヘテロシクリルラジカルを意味する。ヘテロアリール環系としては、フラニル、チエニル、ピロリル、オキサゾリル、チアゾリル、１Ｈ−イミダゾリル、ピラゾリル、イソキサゾリル、イソチアゾリル、オキサジアゾリル、トリアゾリル、チアジアゾリル、１Ｈ−テトラゾリル、２Ｈ−テトラゾリル、１Ｈ−［１，２，３］トリアゾリル、２Ｈ−［１，２，３］トリアゾリル、４Ｈ−［１，２，４］トリアゾリル、ピリジニル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニルなどが挙げられる。ヘテロアリールラジカルは、コア分子に結合してもよく、利用可能な価数が許容する場合、任意の原子上で更に置換されてもよい。
【０２０２】
用語「ヘテロアリール」はまた、インドリジニル、インドリル、インドリニル、アザインドリル、イソインドリル、ベンゾ［ｂ］フラニル、ベンゾ［ｂ］チエニル、インダゾリル、アザインダゾリル、ベンゾイミダゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾオキサゾリル、ベンゾイソキサゾリル、ベンゾチアジアゾリル、ベンゾトリアゾリル、プリニル、４Ｈ−キノリジニル、キノリニル、イソキノリル、シノリニル、フタラジニル、キナゾリニル、キノキサリニル、１，８−ナフチリジニル、プテリジニルなどのような、ベンゾ縮合ヘテロアリール環系ラジカルなどを含む。ベンゾ縮合ヘテロアリールラジカルは、コア分子に結合してもよく、利用可能な価数が許容する場合、任意の原子上で更に置換されてもよい。
【０２０３】
用語「ベンゾ縮合」は、環系に対して接頭辞として使用するとき、ベンゼン環に縮合した任意の単環式ラジカルにより形成されるラジカルを指し、ベンゾ縮合ラジカルは、二環式系のいずれかの環を介してコア分子に結合してもよい。
【０２０４】
用語「Ｃ1〜4アルコキシカルボニル保護基」は、式−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−Ｃ1〜4アルキルのラジカルを意味する。
【０２０５】
用語「−Ｃ0〜6アルキル（Ｒ1）」は、式−（Ｒ1）又は−Ｃ1〜6アルキル−（Ｒ1）のラジカルを意味する。
【０２０６】
用語「−Ｃ0〜6アルキル−アリール（Ｒ1，Ｒ8）」は、式−アリール（Ｒ1，Ｒ8）又は−Ｃ1〜6アルキル−アリール（Ｒ1，Ｒ8）のラジカルを意味する。
【０２０７】
一般に、本開示全体で使用される標準的な命名法の規則の下では、指定される側鎖の末端部が最初に記載され、結合点に向かって隣接する官能基が続く。
【０２０８】
したがって、例えば、「フェニル−Ｃ1〜6アルキル−アミノ−カルボニル−Ｃ1〜6アルキル」置換基は、式：
【０２０９】
【化２５】
2011519340.tif 000034
【０２１０】
分子内のある位置における任意の置換基又は可変要素の定義は、その分子内の他の場所の定義とは無関係であることを意図する。当業者であれば、本発明の化合物上の置換基及び置換パターンを選択して、化学的に安定であり、かつ当該技術分野で知られている技術並びに本明細書に記載する方法により容易に合成できる化合物を提供することができるであろう、と理解される。
【０２１１】
化合物の形
用語「形（form）」は、本発明の化合物に関して、制限なく、塩、立体異性体、互変異性体、結晶質、多形体、非晶質、溶媒和物、水和物、エステル、プロドラッグ又は代謝産物形として存在し得るものを意味する。本発明は、このような化合物の形及びその混合物を全て包含する。
【０２１２】
用語「単離形」は、本発明の化合物に関して、制限なく、鏡像異性体、ラセミ混合物、幾何異性体（シス又はトランス立体異性体のような）、幾何異性体の混合物などのような、本質的に純粋状態で存在し得るものを意味する。本発明は、このような化合物の形及びその混合物を全て包含する。
【０２１３】
式（Ｉ）、式（ＩＩ）又は式（Ｉａ）の特定の化合物は、種々の立体異性体又は互変異性体形及びこれらの混合物で存在してもよい。本発明は、本質的に純粋な鏡像異性体、ラセミ混合物及び互変異性体の形の活性化合物を含む、このような全ての化合物を包含する。
【０２１４】
本発明の化合物は製薬学的に許容し得る塩の形態で存在し得る。医薬で用いる場合、本発明の化合物の「製薬学的に許容し得る塩」は無毒の酸性／アニオン性又は塩基性／カチオン性の塩の形態を指す。
【０２１５】
本発明の化合物の好適な製薬上許容できる塩としては、例えば、塩酸、硫酸、フマル酸、マレイン酸、コハク酸、酢酸、安息香酸、クエン酸、酒石酸、炭酸又はリン酸のような、製薬上許容できる酸の溶液を、本発明による化合物の溶液と混合することにより形成し得る、酸付加塩が挙げられる。
【０２１６】
更に、本発明の化合物が酸性部分を持つとき、その好適な製薬上許容できる塩としては、アルカリ金属塩、例えばナトリウム又はカリウム塩；アルカリ土類金属塩、例えばカルシウム又はマグネシウム塩；及び好適な有機配位子と一緒に形成される塩、例えば第４級アンモニウム塩などを挙げてもよい。このように、代表的な製薬上許容できる塩としては、酢酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、安息香酸塩、重炭酸塩、重硫酸塩、重酒石酸塩、ホウ酸塩、臭化物、カルシウム、カンシル酸塩（又は樟脳スルホン酸塩）、炭酸塩、塩化物、クラブラン酸塩、クエン酸塩、二塩酸塩、エデト酸塩、フマル酸塩、グルコン酸塩、グルタミン酸塩、ヒドラバミン、臭化水素酸塩、塩酸塩、ヨウ化物、イセチオン酸塩、乳酸塩、リンゴ酸塩、マレイン酸塩、マンデル酸塩、メシル酸塩、硝酸塩、オレイン酸塩、パモ酸塩、パルミチン酸塩、リン酸塩／２リン酸塩、サリチル酸塩、ステアリン酸塩、硫酸塩、こはく酸塩、酒石酸塩、トシル酸塩が挙げられる。
【０２１７】
本発明はその範囲内に、本発明の化合物のプロドラッグを含む。一般に、かかるプロドラッグは、インビボで必要な化合物に容易に変換され得る化合物の機能的誘導体である。すなわち、本発明の治療法では、用語「投与」は、記載する種々の障害の、具体的に開示する化合物を用いた、又は具体的には開示しないくともよいが、患者に投与された後にインビボで特定の化合物に転換する化合物を用いた治療を包含すべきである。好適なプロドラッグ誘導体の選択及び調製に関する通常の手順は、例えば、「Ｄｅｓｉｇｎ  ｏｆ  Ｐｒｏｄｒｕｇｓ」，ｅｄ．Ｈ．Ｂｕｎｄｇａａｒｄ，Ｅｌｓｅｖｉｅｒ，１９８５に述べられている。
【０２１８】
本発明は、化合物の種々の異性体及びその混合物を含む。用語「異性体」は、組成及び分子量は同じであるが、物理的及び／又は化学的特性が異なる化合物を指す。このような物質が有する原子の数及び種類は同じであるが、構造は異なる。その構造の違いは構成の違い（幾何異性体）又は偏光面を回転させる能力の違い（立体異性体）であり得る。
【０２１９】
用語「光学異性体」は、その基の空間的配置のみが異なる同一構造の異性体を意味する。光学異性体は、異なる方向に偏光面を回転させる。用語「光学活性」は、光学異性体が偏光面を回転させる程度を意味する。
【０２２０】
用語「ラセミ化合物」又は「ラセミ混合物」は、２種の鏡像異性種の等モル混合物を意味し、ここで単離された種のそれぞれは、混合物が光学活性を有しないように、反対方向に偏光面を回転させる。
【０２２１】
用語「鏡像異性体」は、重ね合わせることができない鏡像を有する異性体を意味する。用語「ジアステレオマー」は、鏡像異性体ではない立体異性体を意味する。
【０２２２】
用語「キラル」は、所与の配置で、その鏡像に重ね合わせることができない分子を意味する。これは、その鏡像に重ね合わせることができるアキラル分子と対照的である。
【０２２３】
本発明は、式（Ｉ）、式（ＩＩ）又は式（Ｉａ）の全ての化合物の互変異性体形を含むと考えられる。更に、式（Ｉ）、式（ＩＩ）又は式（Ｉａ）により表される化合物の一部は、プロドラッグ、すなわち、活性薬物と比較して、優れた送達能及び治療的価値を有する薬物の誘導体であってよい。プロドラッグは、インビボの酵素的又は化学的プロセスにより、活性薬物に変換される。
【０２２４】
記号「Ｒ」及び「Ｓ」は、カーン・インゴルド・プレローグ順位則によって決定される、不斉中心炭素原子の周辺の基の構成を表わす。
【０２２５】
用語「幾何異性体」は、炭素−炭素二重結合、シクロアルキル環又は架橋二環式系に関して置換基の原子の配置が異なる異性体を意味する。炭素−炭素二重結合の各側における置換原子（ハロゲン以外）は、その順位により、Ｅ又はＺ配置であり得る。「Ｅ」配置においては、最高順位を有する置換基が、炭素−炭素二重結合に対して反対側に位置する。「Ｚ」配置においては、最高順位を有する置換基が、炭素−炭素二重結合に対して同じ側に位置する。
【０２２６】
用語「変換率」は、配置に関する考慮なしに、又は生成される立体異性体のエナンチオマー過剰に関する考慮なしに、出発物質のビニル結合の還元又は水素化の効率を指す。
【０２２７】
用語「変換する」又は「変換された」は、Ｚがヒドロキシであるとき、Ｚのアルキル化を行い、−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルであるＺをもたらすことを指す。また逆に、Ｚが−Ｏ−Ｃ1〜8アルキルであるとき、Ｚの脱アルキル化を行い、ヒドロキシであるＺをもたらすことを指す。
【０２２８】
環系に結合している置換基原子（水素以外）は、シス又はトランス配置であってもよい。「シス」配置では、置換基は環の面との関係で同じ側に存在し、「トランス」配置では、置換基は環の面との関係で反対側に存在する。「シス」及び「トランス」種の混合物を有する化合物を「シス／トランス」と表記する。
【０２２９】
異性体の記述語（「Ｒ」、「Ｓ」、「Ｅ」及び「Ｚ」）は、中心分子に対する原子配置を示し、文献中で定義されているように使用することを意図する。
【０２３０】
本発明に従う化合物の調製のプロセスが、立体異性体の混合物を生じさせる場合は、これらの異性体は、分取クロマトグラフィーなどの通常の技術により、望ましいように分離することができる。化合物はラセミ体で調製されてもよく、又は個々のエナンチオマーをエナンチオ選択的合成、又は分割のいずれかにより調製することができる。化合物は、例えば標準的な技術、例えば（−）−ジ−ｐ−トルオイル−Ｄ−酒石酸及び／又は（＋）−ジ−ｐ−トルオイル−Ｌ−酒石酸などの光学的に活性な酸と共に塩を形成することによりジアステレオマー対を形成した後、分別結晶化及び遊離塩基の再生を行ってそれらの成分であるエナンチオマーに分割することができる。化合物は、ジアステレオマーエステル又はアミドの形成と、その後のクロマトグラフ分離及びキラル補助基の除去により分割することもできる。別の方法としては、化合物を溶解させ、エナンチオマー過剰（ｅ．ｅ．）率をキラルＨＰＬＣカラムを用いて決定することができる。
【０２３１】
用語「触媒量」は、当該技術分野において知られており、反応物質に比べ、化学量論以下の量又は試薬を意味する。本明細書で使用されるとき、触媒量は、反応物質に対して約０．０００１〜約９０モルパーセントの試薬、約０．００１〜約５０パーセントの量、約０．０１〜約１０パーセントの量、又は約０．１〜約５パーセントの量を意味する。加えて、使用される配位子金属錯体の量も、配位子金属錯体に対する基質又は反応物質のモル比として表わすことができ、用語「Ｓ／Ｃ」又は「基質／錯体」によって表わすことができる。
【０２３２】
用語「形成済み」配位子金属錯体は、当該技術分野において、安定な形態で分離されていた金属付加物と配位子が結合又は配位した任意の形態として認識され、ここで、その金属付加物と配位子との間に化学量論比が存在する。金属付加物の配位子に対する比は、典型的には固定された化学量論比であり、ここで、配位子金属錯体は対イオンを伴ってよく、又は溶媒和物として存在してよく、これによりこの錯体の安定化と、分離可能性の実現が得られる。形成済み配位子金属錯体は、開放雰囲気において分離可能である場合もそうでない場合もあるが、しばしば、当該技術分野において既知の方法を用い、不活性雰囲気下で取り扱われる。形成済み配位子金属錯体は典型的に使用のために保管されてから、基質又は反応物質との反応のために、その基質又は反応物質と共に、及び所望により添加剤と共に、溶媒に加えられる。当業者は、文献で知られる方法を使用して、本明細書に記載されている形成済み触媒を調製及び分離することができる。更に、形成済み配位子金属錯体には、反応混合物中で沈殿し、安定的な形態で分離かつ保管され、後の反応において「形成済み」配位子金属錯体として使用されるような、その場で形成される副産物として得ることができる配位子金属錯体が含まれる。例えば、錯体の形成中にＤＭＦを金属付加物を配位させることにより、安定な形成済み触媒にＤＭＦを組み込んで［（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ  ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］とすることができる。本明細書で形成済み触媒を表わすために使用される記号は「／」であり、配位子／［金属付加物］を示すのに使用される。
【０２３３】
別様に形成されたものではない形成済み触媒は、市販業者から購入することもできる。
【０２３４】
本明細書において開示され使用される形成済み触媒には、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、（Ｒ）−ＭｅＢｏＰｈｏｚ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ／［Ｒｕ（ベンゼン）Ｃｌ］Ｃｌ、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ／［Ｒｕ（ｐ−シメン）Ｃｌ］Ｃｌ、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［Ｒｈ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｒ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［Ｒｈ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ／［Ｉｒ（ＣＯＤ）］Ｃｌ、（Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ／［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ／［Ｉｒ（ＣＯＤ）］ＢＡｒF、（Ｒ）−Ｐｈ−ＰＨＯＸ／［Ｉｒ（ＣＯＤ）］ＢＡｒF、（Ｒ）−ＭｅＯＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［Ｒｈ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｒ）−Ａｎ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［Ｒｈ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［Ｒｈ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、（Ｒ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、（Ｓ）−ＭｅＢｏＰｈｏｚ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］、（Ｒ）−Ｔｏｌ−Ｂｉｎａｐ／［ＲｕＣｌ（ｐ−シメン）］Ｃｌ、（Ｓ）−Ｂｉｎａｐ／［ＲｕＣｌ（ｐ−シメン）］Ｃｌ及び（Ｒ，Ｒ）−ＭｅＤｕＰｈｏｓ／［Ｒｈ（ＣＯＤ）］ＢＦ4、並びに、特記されていない場合は、これらの形成済み触媒のエナンチオマーが挙げられるが、これらに限定されない。これらの名称の同義語は、表記の互換が可能である。すなわち、［（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ  ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］は、意味又は効果の喪失なしに、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］と表わすことができる。
【０２３５】
形成済み配位子金属錯体を調製するための合成方法の実施例は、さまざまな形成条件を含むが、当業者であれば、一般に、一組の形成条件がこれら錯体それぞれに固有であることを予測できるであろう。例えば、形成済み（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［Ｒｈ（ＣＯＤ）］ＢＦ4配位子金属錯体を調製するための合成方法には、１つの（ＣＯＤ）基の喪失を伴う（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ配位子及び金属付加物［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4の配位が含まれる。形成済み触媒［（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ  Ｉｒ（ＣＯＤ）］Ｃｌの調製のために、［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2の場合のような二量体金属付加物を使用する場合、一般的な調製は、（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ配位子を用い、［（Ｓ）−Ｐ−Ｐｈｏｓ  Ｉｒ（ＣＯＤ）］Ｃｌに固有の一組の形成条件を用いて実施することが期待される。
【０２３６】
用語「その場での（in situ）」配位子金属錯体は、当該技術分野において、別個の工程として、又は基質と組み合わせて、金属付加物及び配位子を溶媒に加えることによって配位子金属錯体を調製する方法として認識され、ここで配位子金属錯体は反応混合物中に形成される。金属付加物及び配位子は、この組み合わせが望ましい配位子金属錯体をもたらすように、典型的には、化学量比に従って混合される。いくつかの場合において、配位子金属錯体が実際に形成されたことを証明するため、さまざまな分析技法が使用されている。他の場合において、配位子金属錯体の形成は絶対的な証明を行うことができない。その場で形成される配位子金属錯体は更に、典型的に、付随する安定化対イオンを有することができ、あるいは、溶媒和物として存在することができるため、反応中にこの配位子金属錯体が安定化される。その場で形成される配位子金属錯体は、形成済み配位子金属錯体と同じように作用し、上記の形成済み配位子金属錯体と同じ特性を有する。その場で形成される配位子金属錯体は更に、安定な溶媒中で調製され、必要になるまで溶液中で保管することができる。本明細書において「その場での」触媒を表わすのに使用される記号は「＆」記号であり、配位子＆［金属付加物］基を示すのに使用される。例えば、その場での配位子金属錯体（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2の使用には、配位子（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚと金属付加物［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2とを一定時間、（適切な溶媒中で）あらかじめ混合し、これにより活性触媒を形成させ、次に適切な出発物質及び水素源との還元反応を実施することが含まれ得る。本明細書のいくつかの場合において、二量体金属付加物を含む「その場での」配位子金属錯体については、この錯体は「配位子＆金属前駆体」（説明は下記参照）とも記すことができる。
【０２３７】
用語「金属付加物」は、当業者に理解されるように、安定化配位子及び対イオンを備えた、便利な、秤量可能な、安定な金属の形態を意味する。いくつかの場合において、金属付加物は二量体で最も安定であり、これは指定された一組の反応条件下での不均化により、単量体形態を生じ、これは本明細書において「金属前駆体」と呼ばれる。二量体金属付加物の例は［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＦ3ＣＯＯ）2］2であり、これは不均化により金属前駆体［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＦ3ＣＯＯ）2］を生じる。不均化の化学量論は、１当量の二量体金属付加物が、２当量の金属前駆体を供給するものとして、当業者には理解される。
【０２３８】
より詳しく下記で検討するように、本発明において想到される反応には、エナンチオ選択的、ジアステレオ選択的、及び／又は位置選択的である反応が挙げられる。加えて、本発明のキラルな実施形態については、本発明は、純粋鏡像異性体、ラセミ混合物、並びに０．００１％〜９９．９９％の鏡像体過剰率を有する鏡像異性体の混合物を含むと考えられる。更に、エナンチオ選択的反応は、アキラルな反応物質を水素化し、１つのエナンチオマーが豊富なキラル生成物にする反応である。エナンチオ選択性は、一般に、次の式で定義される「エナンチオマー過剰」（ｅ．ｅ．）として定量化される：
％エナンチオマー過剰Ａ（ｅｅ）＝（％エナンチオマーＡ）−（％エナンチオマーＢ）、
式中、Ａ及びＢは形成されたエナンチオマーである。
【０２３９】
エナンチオ選択的反応は、約５％ｅ．ｅ．〜約９９％ｅ．ｅ．の範囲、又は約３０％ｅ．ｅ〜約９９％ｅ．ｅ．の範囲、又は約６０％ｅ．ｅ．〜約９９％ｅ．ｅ．の範囲、又は約７０％ｅ．ｅ．〜約９９％ｅ．ｅ．の範囲、又は約８０％ｅ．ｅ．〜約９９％ｅ．ｅ．の範囲におけるｅ．ｅ．で生成物を得る。
【０２４０】
用語「実質的に純粋」は、本発明の範囲内において、エナンチオマー豊富な形態のエナンチオマーを含む異性体混合物を意味し、ここで、この混合物は、もう一方のエナンチオマーを実質的に含まない。この文脈において、実質的に純粋とは、もう一方のエナンチオマーが、混合物の約２５％未満、約１０％未満、約５%未満、約２％未満、又は約１％未満の範囲の量であり得る。
【０２４１】
ラセミ混合物からＨＰＬＣで分離されたＳ−エナンチオマーの、エナンチオマー豊富な形態は、次の式によって決定され得る：
【０２４２】
【数１】
2011519340.tif 000035
【０２４３】
ラセミ混合物からＨＰＬＣで分離されたＲ−エナンチオマーの、エナンチオマー豊富な形態は、次の式によって決定され得る：
【０２４４】
【数２】
2011519340.tif 000036
【０２４５】
更に、本発明の化合物は、少なくとも１つの結晶質、多形体、又は非晶質を有してよい。このような形の大部分が本発明の範囲に含まれる。更に、化合物の一部は、水（例えば、水和物）又は一般的な有機溶媒（例えば、エタノレート（ethanolate）などのような有機エステル）と、溶媒和物を形成することができる。このような溶媒和物の大部分もまた、本発明の範囲内に包含されることを意図する。
【０２４６】
本発明の化合物の任意の製造方法中、関与する任意の分子の感受性又は反応性基を保護することが必要かつ／又は望ましい場合がある。これは、「Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ  Ｇｒｏｕｐｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，」  ｅｄ．Ｊ．Ｆ．Ｗ．ＭｃＯｍｉｅ，Ｐｌｅｎｕｍ  Ｐｒｅｓｓ，１９７３、及びＴ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ  ＆  Ｐ．Ｇ．Ｍ．Ｗｕｔｓ，「Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ  Ｇｒｏｕｐｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，」Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ  ＆  Ｓｏｎｓ，１９９１に記述されているように、保護基を用いる従来の手法によって達成することができる。保護基は、当該技術分野において既知の方法を用いて、都合のよいその後の段階で除去してよい。
【０２４７】
本発明に関する検討
次の実施例に従った、スキームＣ及びスキームＤの不斉均質水素化反応において、基質化合物Ｃ１及び化合物Ｄ１は、配位子金属錯体と反応し、ここで、この配位子金属錯体は配位子及び金属付加物から本質的になる。下記の実施例は、本発明のこれらの実施例に従って使用される、配位子、金属付加物、これらにより形成される配位子金属錯体、他の添加剤、並びに反応温度及び圧力条件のさまざまな実施例を説明するものである。
【０２４８】
スクリーニング実施例
基質化合物Ｃ１及び化合物Ｄ１の不斉水素化のために適切な配位子金属錯体を識別するため、配位子にさまざまな金属付加物が配位結合したさまざまな錯体のスクリーニングが実施された。このスクリーニングは、基質化合物Ｃ１及び化合物Ｄ１を、一連の形成済み及びその場で形成された配位子金属錯体と反応させることからなっていた。更に、基質化合物Ｃ１及びＤ１の水素化において、特定の反応条件が最適化された（溶媒、添加剤、温度及び圧力など）。
【０２４９】
本明細書全体にわたって参照され、下記の実施例において使用された配位子には、下記に示すものが挙げられる：
【０２５０】
【表３−１】
2011519340.tif 000037
【０２５１】
【表３−２】
2011519340.tif 000038
【０２５２】
【表３−３】
2011519340.tif 000039
【０２５３】
一般的情報。1Ｈ  ＮＭＲスペクトルは、特に記載がない限り、ＣＤＣｌ3中で、Ｍｅ4Ｓｉを内部標準として使用し、Ｂｒｕｋｅｒ  Ａｖａｎｃｅ−３００スペクトロメーター上で３００ＭＨｚで取得された。使用されたＮＭＲ略号：ｓ，一重線；ｄ，二重線；ｄｄ，二重線の二重線；ｔ，三重線；ｍ，多重線；ｂｒ，幅広。順相分取クロマトグラフィーは、Ｂｉｏｔａｇｅ  ＦＬＡＳＨ  Ｓｉ  ４０Ｍシリカゲルカートリッジ（ＫＰ−Ｓｉｌ  Ｓｉｌｉｃａ、３２〜６３μ、６０Å；４×１５ｃｍ）を備えた、Ｉｓｃｏ  Ｃｏｍｂｉｆｌａｓｈ  Ｓｅｐａｒａｔｉｏｎ  Ｓｙｓｔｅｍ  Ｓｇ１００ｃ上で実施され、３５ｍＬ／分で溶出させ、２５４ｎｍで検出した。旋光度はＰｅｒｋｉｎ−Ｅｌｍｅｒ２４１偏光計で測定された。エレクトロスプレー（ＥＳ）マススペクトルは、Ｍｉｃｒｏｍａｓｓ  Ｐｌａｔｆｏｒｍ  ＬＣ単一四極子マススペクトロメーターの正モードで取得された。元素分析及びカール・フィッシャー水分分析は、Ｑｕａｎｔｉｔａｔｉｖｅ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ  Ｉｎｃ．，Ｗｈｉｔｅｈｏｕｓｅ，ＮＪ．によって測定された。
【０２５４】
ＨＰＬＣ（Ｄｉａｃｅｌ  ＣｈｉｒａｌＰａｋ  ＡＤ−Ｈカラムを、３５℃、１ｍＬ／分、溶離剤比はヘキサン：ＩＰＡが８０：２０、メチルエステルへの誘導体化後）によってパーセントｅ．ｅ．を決定するとき、パーセントｅ．ｅ．について結果として得られた標準誤差は、ＨＰＬＣピーク面積の約２〜３％である。メチルエステルへの誘導体化については、０．１Ｍ反応物：５０μＬ反応サンプル（２ｍｇ基質／生成物、０．００５ｍｍｏｌ）を、ＨＰＬＣバイアル内で、５０μＬのＥｔ2Ｏ中２ＭのＴＭＳＣＨＮ2（０．１ｍｍｏｌ）及びＭｅＯＨ（１．５ｍＬ）で処理した。
【０２５５】
合成実施例
本発明の説明で用いられる用語は、一般的に用いられており、当業者に既知である。本明細書で使用するとき、以下の略称は指示された意味を有する。
【０２５６】
一般的な合成方法
代表的な本発明の化合物は、以下に記載する一般的な合成方法に従って合成でき、以下のスキームにより具体的に例示される。スキームは、本発明の中間体及び標的化合物が調製され得る方法の実例であるため、本発明は、記載されている化学反応及び条件によって限定されるものとして解釈されるべきではない。追加の代表的な化合物、並びにその立体異性体、ラセミ混合物、ジアステレオマー及びエナンチオマーは、これらのスキームに従って調製された中間体、並びに、当該技術分野において知られている他の物質、化合物及び試薬を使用して、合成することができる。このような化合物、これらの立体異性体、ラセミ混合物、ジアステレオマー及びエナンチオマーの全てが、本発明の範囲内に包含されることが意図されている。スキームで使用される種々の出発物質の調製は十分に、当業者の対応できる範囲内である。
【０２５７】
本明細書、特にスキ−ム及び実施例で用いられる略称は以下の通りである。
【０２５８】
【表４−１】
2011519340.tif 000040
【０２５９】
【表４−２】
2011519340.tif 000041
【０２６０】
合成実施例１
化合物Ｃ１のＲｕ付加錯体水素化
さまざまな基礎的スクリーニングの後、形成済みＲｕ付加錯体を、基質：錯体比が５０：１で、さまざまな溶媒（３ｍＬ）中において、約５０℃の温度で、約２５００ｋＰａ（３６０ｐｓｉｇ（２５ｂａｒ））のＨ2圧力下、約１６〜約１８時間、化合物Ｃ１（８２ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）と反応させた。変換率及びｅ．ｅ．がＨＰＬＣ（２１０ｎｍ）によって決定された。
【０２６１】
【表５】
2011519340.tif 000042
【０２６２】
合成実施例１の結果、変換率及びｅ．ｅ．は、選択した溶媒と配位子の両方に依存していることが示されている。この反応はまた、より高い変換率及びｅ．ｅ．を得るために、より高い温度で実施する必要がある可能性がある。
【０２６３】
合成実施例２
化合物Ｃ１のＲｈ−ＢｏＰｈｏｚ水素化
配位子及び［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆからその場で形成されたさまざまなＲｈ−ＢｏＰｈｏｚ錯体を、基質：錯体比が５０：１で、さまざまな溶媒（３ｍＬ）中において、約５０℃の温度で、約２５００ｋＰａ（３６０ｐｓｉｇ（２５ｂａｒ））のＨ2圧力下、約１６〜約１８時間、化合物Ｃ１（８２ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）と反応させた。変換率及びｅ．ｅ．がＨＰＬＣ（２１０ｎｍ）によって決定された。
【０２６４】
【表６】
2011519340.tif 000043
【０２６５】
全般に、ＭｅＯＨは所与の錯体について改善された変換率をもたらしているが、非プロトン性溶媒（ＴＨＦ及びＤＣＥなど）中で得られたエナンチオ選択性は、ＭｅＯＨよりも向上していた。しかしながら、基質の変換に関する低反応性が、錯体に対するキノリン環窒素原子の配位に寄与している可能性がある。
【０２６６】
合成実施例３
化合物Ｃ１のＰｈａｎｅｐｈｏｓ−Ｒｈ水素化
形成済み（Ｓ）−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［Ｒｈ（ＣＯＤ）］ＢＦ4錯体を、基質：錯体比が５０：１で、さまざまな酸添加剤のＭｅＯＨ溶液（３ｍＬ）中において、約５０℃の温度で、約２５００ｋＰａ（３６０ｐｓｉｇ（２５ｂａｒ））のＨ2圧力下、約１６〜約１８時間、化合物Ｃ１（８２ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）と反応させた。変換率及びｅ．ｅ．がＨＰＬＣ（２１０ｎｍ）によって決定された。
【０２６７】
【表７】
2011519340.tif 000044
【０２６８】
全般的に、得られた変換率（参照エントリー７に比較して）は、錯体のキノリン環窒素原子の配位効果を低下させる添加剤の使用（約０当量〜約１．２当量の範囲内で）により改善された（エントリー１、５、及び６を参照）。
【０２６９】
変換及びエナンチオ選択性の向上は、キノリン環窒素原子の配位効果を低下させる添加剤の使用により達成された。
【０２７０】
合成実施例４
化合物Ｃ１のＩｒ−配位子錯体水素化
エントリー１〜１０について、下の表４に示すように、さまざまな形成済みＰ−Ｐｈｏｓ−イリジウム及びＰｈｏｘ−イリジウム錯体を、基質：錯体比が５０：１で、さまざまな酸添加剤のＭｅＯＨ又はＤＣＥいずれかの溶液（３ｍＬ）中において、約５０℃の温度で、約２５００ｋＰａ（３６０ｐｓｉｇ（２５ｂａｒ））のＨ2圧力下、約１６〜約１８時間、化合物Ｃ１（８２ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）と反応させた。変換率及びｅ．ｅ．がＨＰＬＣ（２１０ｎｍ）によって決定された。
【０２７１】
【表８】
2011519340.tif 000045
【０２７２】
全般的に、イリジウム錯体の使用により、ロジウム錯体に比べて（表４のエントリー３を表１のエントリー３と比較）、改善された変換及びｅ．ｅ．が得られた。しかしながら、この変換及びｅ．ｅ．結果は溶媒の影響を受けやすかった。
【０２７３】
合成実施例５
化合物Ｃ１のＩｒ−配位子錯体水素化
形成済み（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ／［Ｉｒ（ＣＯＤ）］ＢＡｒF錯体を、基質：錯体比が５０：１で、さまざまな溶媒（３ｍＬ）中において、さまざまな温度（℃）において、さまざまなＨ2圧力下、約１６〜約１８時間、化合物Ｃ１（８２ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）と反応させた。変換率及びｅ．ｅ．がＨＰＬＣ（２１０ｎｍ）によって決定された。
【０２７４】
【表９】
2011519340.tif 000046
【０２７５】
（Ｒ）−ｉＰｒ−ＰＨＯＸ／［Ｉｒ（ＣＯＤ）］ＢＡｒF錯体を使用した場合、５０℃を超える反応温度及び１０００ｋＰａ（１４５ｐｓｉｇ）を超える反応圧力において、低級アルコール溶媒で、評価できる変換率及びｅ．ｅ．が得られた。
【０２７６】
合成実施例６
化合物Ｄ１の水素化
形成済みＲｕ配位子錯体を、基質：錯体比が１００：１で、さまざまな添加剤のＭｅＯＨ溶液（２ｍＬ）中において、約６０℃の温度で、約３０００ｋＰａ（４３０ｐｓｉｇ（３０ｂａｒ））のＨ2圧力下、約２０時間、化合物Ｄ１（８２ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）と反応させた。
【０２７７】
変換率ｅ．ｅ．は、ＨＰＬＣによって決定された（Ｄｉａｃｅｌ  ＣｈｉｒａｌＰａｋ  ＡＤ−Ｈカラムを使用、３５℃、１ｍＬ／分、溶離剤比はヘキサン：ＩＰＡが８０：２０、メチルエステルへの誘導体化後）。
【０２７８】
【表１０】
2011519340.tif 000047
【０２７９】
エントリー５＆６は、本発明の代表的な反応条件における、Ｏｈｔａ  Ｔ，Ｔａｋａｙａ  Ｈ，Ｋｉｔａｍｕｒａ  Ｍ，Ｎａｇａｉ  Ｋ  ａｎｄ  Ｎｏｙｏｒｉ  Ｒ，Ｊ．Ｃｈｅｍ．１９８７，５２，３１７６に記述されているような、金属付加物と組み合わせた配位子の使用を示している。
【０２８０】
全般的に、添加剤Ｅｔ3Ｎの存在下におけるＲｕ金属付加物及び（Ｒ，Ｓ）−Ｘｙｌ−Ｐ−Ｐｈｏｓ錯体は、高い変換率をもたらしたが、ｅ．ｅ．は低かった。
【０２８１】
合成実施例７
化合物Ｃ１のイリジウム錯体及びロジウム錯体水素化
形成済みイリジウム錯体及びロジウム錯体を、基質：錯体比が５０：１で、ＭｅＯＨ（３ｍＬ）中において、約５０℃の温度で、約２５００ｋＰａ（３６０ｐｓｉｇ（２５ｂａｒ））のＨ2圧力下、約１６〜１８時間、化合物Ｃ１（８２ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）と反応させた。変換率及びｅ．ｅ．がＨＰＬＣ（２１０ｎｍ）によって決定された。
【０２８２】
【表１１】
2011519340.tif 000048
【０２８３】
イリジウム錯体及びロジウム錯体の存在下でのＨＢＦ4の使用は、反応をＭｅＯＨ中で実施した場合、エナンチオ選択性を向上させた。
【０２８４】
合成実施例８
化合物Ｃ１のロジウム水素化
さまざまな配位子（０．００５ｍｍｏｌ）及び金属付加物［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2（０．００２ｍｍｏｌ）を溶媒（２ｍＬ）中で室温で攪拌することによりその場で形成されたさまざまなロジウム錯体を、基質：錯体比が５０：１で、溶媒（１ｍＬ）において、所望によりＨＢＦ4（１当量）添加剤と共に、約５０℃の温度で、約２５００ｋＰａ（３６０ｐｓｉｇ（２５ｂａｒ））のＨ2圧力下、約１６〜１８時間、化合物Ｃ１の溶液（８２ｍｇ、１ｍＬ溶媒中に０．２ｍｍｏｌ）と反応させた。変換率及びｅ．ｅ．がＨＰＬＣ（２１０ｎｍ）によって決定された。
【０２８５】
【表１２】
2011519340.tif 000049
【０２８６】
合成実施例８の結果は、特定の配位子金属錯体によってもたらされた変換及びエナンチオ選択性が、溶媒の影響を受けやすいことを示している。例えば、表８のエントリー１は、ＭｅＯＨが、ロジウム付加物及びＭｅ−ＢｏＰｈｏｚ配位子錯体について、前述のイリジウム及びロジウムＰｈａｎｅＰｈｏｓ錯体に比較して、低い変換率及びｅ．ｅ．をもたらすことが示されている。また、表８のエントリー２は、ＤＣＥが、ロジウム付加物及びＭｅ−ＢｏＰｈｏｚ配位子錯体について、イリジウム及びロジウムＰｈａｎｅＰｈｏｓ錯体に比較して、望ましい変換率及びｅ．ｅ．をもたらすことが示されている。
【０２８７】
更に、イリジウム及びロジウムＰｈａｎｅＰｈｏｓ錯体とは異なり、ロジウム付加物及び（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ配位子錯体についてＨＢＦ4などの添加剤を使用すると、低い変換率及びｅ．ｅ．がもたらされる。
【０２８８】
合成実施例９
化合物Ｃ１のロジウム水素化
表９に記載のさまざまな配位子（０．００５ｍｍｏｌ）及び［Ｒｈ（エチレン）2（ａｃａｃ）］（０．００４ｍｍｏｌ）を溶媒（２ｍＬ）中で室温で約３０分間攪拌することによりその場で形成されたさまざまなロジウム錯体を、基質：錯体比が５０：１で、溶媒（１ｍＬ）において、約５０℃の温度で、約２５００ｋＰａ（３６０ｐｓｉｇ（２５ｂａｒ））のＨ2圧力下、約１６〜１８時間、化合物Ｃ１（８２ｍｇ、１ｍＬ溶媒中に０．２ｍｍｏｌ）の溶液と反応させた。変換率及びｅ．ｅ．がＨＰＬＣ（２１０ｎｍ）によって決定された。注意：ａｃａｃは負電荷を支持することによって金属を安定化させるのに使用する対イオンである。
【０２８９】
【表１３】
2011519340.tif 000050
【０２９０】
合成実施例９の結果は、特定の配位子−溶媒の組み合わせによってもたらされた変換及びエナンチオ選択性が、使用される金属付加物の影響を（合成実施例８に比べて）受けやすいことを示している。
【０２９１】
合成実施例１０
化合物Ｃ１の［Ｒｈ（ＣＯ）2（ａｃａｃ）］水素化
さまざまな配位子（０．００５ｍｍｏｌ）及び［Ｒｈ（ＣＯ）2（ａｃａｃ）］（０．００４ｍｍｏｌ）を溶媒（２ｍＬ）中で室温で約３０分間攪拌することによりその場で形成されたさまざまなロジウム錯体を、基質：錯体比が５０：１で、溶媒（１ｍＬ）において、約５０℃の温度で、約２５００ｋＰａ（３６０ｐｓｉｇ（２５ｂａｒ））のＨ2圧力下、約１６〜１８時間、化合物Ｃ１（８２ｍｇ、１ｍＬ溶媒中に０．２ｍｍｏｌ）の溶液と反応させた。変換率及びｅ．ｅ．がＨＰＬＣ（２１０ｎｍ）によって決定された。
【０２９２】
【表１４】
2011519340.tif 000051
【０２９３】
合成実施例１０の結果も、特定の配位子−溶媒の組み合わせによってもたらされた変換及びエナンチオ選択性が、使用される金属付加物の影響を（実施例８及び９に比べて）受けやすいことを示している。
【０２９４】
合成実施例１１
化合物Ｃ１の［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2水素化
さまざまな配位子（０．００５ｍｍｏｌ）及び［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2（０．００２ｍｍｏｌ）を溶媒（２ｍＬ）中で室温で約３０分間攪拌することによりその場で形成されたさまざまなイリジウム錯体を、基質：錯体比が５０：１で、溶媒（１ｍＬ）において、所望によりＨＢＦ4（１当量）添加剤と共に、さまざまな温度（℃）で、約２５００ｋＰａ（３６０ｐｓｉｇ（２５ｂａｒ））のＨ2圧力下、約１６〜１８時間、化合物Ｃ１の溶液（８２ｍｇ、１ｍＬ溶媒中に０．２ｍｍｏｌ）と反応させた。
【０２９５】
エントリー１〜１５については、変換率及びｅ．ｅ．がＨＰＬＣ（２１０ｎｍ）によって決定された。エントリー１６〜２０については、変換率及びｅ．ｅ．は、合成実施例１３に記載されているようにＮＭＲで決定され、表１３に示された。
【０２９６】
【表１５】
2011519340.tif 000052
【０２９７】
［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2（０．５当量）とＭｅ−ＢｏＰｈｏｚ（１．２５当量）を反応させることによりその場で生成されたイリジウム錯体は、非プロトン性溶媒において高い選択性を有し、一貫して＞９０％のｅｅが得られた。ＭｅＯＨ中において、ＨＢＦ4を添加すると、エナンチオ選択性の増加が生じた（表１１のエントリー１及び２で、ｅｅが１９％から７３％へ）。ＤＣＥ中において、ＨＢＦ4を添加すると、活性とエナンチオ選択性の両方において減少が生じた（表１１、エントリー３及び４）。
【０２９８】
比較のため、イリジウム（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ錯体が非塩素化非プロトン性溶媒中で試験され（表１１、エントリー１６〜１８）、さまざまな変換率及びエナンチオ選択性の結果が得られた。
【０２９９】
合成実施例１２
化合物Ｃ１の（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2水素化
さまざまな配位子（０．００５ｍｍｏｌ）及び［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2付加物（０．００２ｍｍｏｌ）を溶媒（２ｍＬ）中で室温で約３０分間攪拌することによりその場で形成された（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2錯体を、基質：錯体比が５０：１で、溶媒（１ｍＬ）において、さまざまな温度で、約１８時間、化合物Ｃ１の溶液（８２ｍｇ、１ｍＬ溶媒中に０．２ｍｍｏｌ）と反応させた。変換率及びｅ．ｅ．は、ＨＰＬＣa（２１０ｎｍ）及びＮＭＲbを用いて決定された。
【０３００】
変換率はＨＰＬＣa（２１０ｎｍ）及びＮＭＲbによって決定され、ｅ．ｅ．はＨＰＬＣよって決定された。
【０３０１】
【表１６】
2011519340.tif 000053
【０３０２】
合成実施例１２の結果は、望ましいエナンチオマーへの変換のため、ＨＰＬＣ分析を補うために使用することができる。
【０３０３】
合成実施例１３
化合物Ｃ１の（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2水素化
（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ配位子（０．０１０５ｍｍｏｌ）及び［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2付加物（０．０４ｍｍｏｌ）をＤＣＥ（８ｍＬ）中で室温で約３０分間攪拌することによりその場で形成され、その後、ＤＣＥで０．００１Ｍの容量にした、さまざまな濃度の（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2錯体を、さまざまな基質：錯体比で、温度約９０℃で、約２５００ｋＰａ（３６０ｐｓｉｇ（２５ｂａｒ））のＨ2圧力下、約１８時間、化合物Ｃ１の溶液（１ｍＬのＤＣＥ中に１ｍｍｏｌ）と反応させた。変換率はＨＰＬＣa及び1Ｈ  ＮＭＲbによって決定された。
【０３０４】
【表１７】
2011519340.tif 000054
【０３０５】
合成実施例１３の結果、表１２、エントリー５の基質対錯体比を変えることで、顕著なｅ．ｅ．損失なしに、変換率の低下をもたらしていることが示されている。
【０３０６】
合成実施例１４
化合物Ｄ１のＲｈ−配位子錯体水素化
形成済みＲｈ配位子錯体を、基質：錯体比が１００：１で、ＭｅＯＨ溶液（２ｍＬ）中において、約６０℃の温度で、約３０００ｋＰａ（４３０ｐｓｉｇ（３０ｂａｒ））のＨ2圧力下、約２０時間、化合物Ｄ１（８２ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）と反応させた。
【０３０７】
変換率及びｅ．ｅ．は、ＨＰＬＣによって決定された（Ｄｉａｃｅｌ  ＣｈｉｒａｌＰａｋ  ＡＤ−Ｈカラムを使用、３５℃、１ｍＬ／分、溶離剤比はヘキサン：ＩＰＡが８０：２０、メチルエステルへの誘導体化後）。
【０３０８】
【表１８】
2011519340.tif 000055
【０３０９】
合成実施例１４の結果、酸化合物Ｄ１について、ロジウム金属付加物によって、平均ｅ．ｅ．が少なくとも５０％を伴い、高い変換率が得られたことが示されている。表１４のエントリー４には、錯体の各エナンチオマーが、化合物Ｄ２のもう一方のエナンチオマーを提供していることが示されている。
【０３１０】
合成実施例１５
化合物Ｄ１のＲｈ−ＢｏＰｈｏｚ水素化
ＰＣｙ−（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ配位子＆［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆの配位結合によりその場で形成されたＲｈ−ＢｏＰｈｏｚ錯体を、基質：錯体比が１００：１で、さまざまな溶媒（２ｍＬ）中において、約６０℃の温度で、約３０００ｋＰａ（４３０ｐｓｉｇ（３０ｂａｒ））のＨ2圧力下、約２０時間、化合物Ｄ１（８２ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）と反応させた。変換率（＞９９％）及びｅ．ｅ．（３０％（Ｓ）エナンチオマー）は、ＨＰＬＣ（２１０ｎｍ）によって決定された。
【０３１１】
合成実施例１６
化合物Ｄ１のＲｈ−Ｐｈａｎｅｐｈｏｓ水素化
ＰｈａｎｅＰｈｏｓ配位子及び［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＢＦ4又は［Ｒｈ（ＣＯＤ）2］ＯＴｆ金属付加物をＭｅＯＨ（１ｍＬ）中、室温で攪拌することにより、形成済み（エントリー１）又はその場で調製された（エントリー２〜４）、さまざまなＲｈ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ錯体を、基質：錯体比が１００：１で、所望により存在する添加剤ＨＢＦ4（モル当量で）、ＭｅＯＨ（２ｍＬ）中、温度約６０℃で、約３０００ｋＰａ（４３０ｐｓｉｇ（３０ｂａｒ））のＨ2圧力下、約２０時間、化合物Ｄ１（８２ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）と反応させた。
【０３１２】
変換率及びｅ．ｅ．は、ＨＰＬＣによって決定された（Ｄｉａｃｅｌ  ＣｈｉｒａｌＰａｋ  ＡＤ−Ｈカラムを使用、３５℃、１ｍＬ／分、溶離剤比はヘキサン：ＩＰＡが８０：２０、メチルエステルへの誘導体化後）。
【０３１３】
【表１９】
2011519340.tif 000056
【０３１４】
表１５において、エントリー２〜４は更に、配位子金属錯体の調製に、その場での形成が効果的な手段であること、及びＨＢＦ4の添加が変換率及びｅ．ｅ．を低下させることを示している。
【０３１５】
合成実施例１７
化合物Ｄ１のＲｕ−Ｐｈａｎｅｐｈｏｓ水素化
ＤＭＦ（０．００２ｍｍｏｌ）との溶媒和物を伴うさまざまなＲｕ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ錯体（形成済み）を、基質：錯体比が１００：１で、ＭｅＯＨ（２ｍＬ）及び添加物Ｅｔ3Ｎ（０．１ｍｍｏｌ）中、温度約６０℃で、約３０００ｋＰａ（４３０ｐｓｉｇ（３０ｂａｒ））のＨ2圧力下、約２０時間、化合物Ｄ１（８２ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）と反応させた。
【０３１６】
変換率は、乾燥反応粗混合物について1ＨＮＭＲによって決定され、ｅ．ｅ．率はＨＰＬＣによって決定された（Ｄｉａｃｅｌ  ＣｈｉｒａｌＰａｋ  ＡＤ−Ｈカラムを使用、３５℃、１ｍＬ／分、溶離剤比はヘキサン：ＩＰＡが８０：２０、メチルエステル化合物Ｃ３への誘導体化後）。
【０３１７】
【表２０】
2011519340.tif 000057
【０３１８】
表１６のエントリー１及び２とエントリー４及び５を比較することにより、各立体特異的錯体が、化合物Ｄ２のもう一方のエナンチオマーをもたらすことが示された。
【０３１９】
合成実施例１８
化合物Ｄ１の（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］水素化
（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］錯体（０．００２ｍｍｏｌ）を、さまざまな基質：錯体比で、ＭｅＯＨ及びＥｔ3Ｎ（化合物Ｄ１に対して０．５当量）中、さまざまな温度及びＨ2圧力下、約２０時間、化合物Ｄ１（０．２５Ｍ）と反応させた。
【０３２０】
変換率は、乾燥反応粗混合物について1ＨＮＭＲによって決定され、ｅ．ｅ．率はＨＰＬＣによって決定された（Ｄｉａｃｅｌ  ＣｈｉｒａｌＰａｋ  ＡＤ−Ｈカラムを使用、３５℃、１ｍＬ／分、溶離剤比はヘキサン：ＩＰＡが８０：２０、メチルエステルへの誘導体化後）。
【０３２１】
【表２１】
2011519340.tif 000058
【０３２２】
表１７に示されている反応条件の組（さまざまな基質：錯体比、圧力及び温度を使用）が、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］錯体を使用した変換率及びｅ．ｅ．を最適化した。
【０３２３】
合成実施例１９
化合物Ｄ１のＸｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］水素移動型水素化
立体異性Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］錯体を、基質：錯体比が１００：１で、ＤＣＥ（３ｍＬ）中、蟻酸ＨＣＯ2Ｈ（化合物Ｄ１に対して過剰な３０当量）及びＥｔ3Ｎ（ＨＣＯ2Ｈのモル当量比）と共に、約６０℃の温度で、約２４時間、化合物Ｄ１（８２ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）と反応させた。
【０３２４】
変換率及びｅ．ｅ．は、ＨＰＬＣによって決定された（Ｄｉａｃｅｌ  ＣｈｉｒａｌＰａｋ  ＡＤ−Ｈカラムを使用、３５℃、１ｍＬ／分、溶離剤比はヘキサン：ＩＰＡが８０：２０、メチルエステルへの誘導体化後）。
【０３２５】
【表２２】
2011519340.tif 000059
【０３２６】
基質化合物Ｄ１について、合成実施例１９の結果、ＨＣＯＯＨ／Ｅｔ3Ｎが水素源として使用された場合に中程度の活性及び選択性が示されている。
【０３２７】
合成実施例２０
化合物Ｄ１及びその塩形態の濃縮
合成実施例１８の反応混合物を合わせ、中和し、ＤＣＭ（１．５ｇ）で抽出した。得られた平均ｅ．ｅ．は８４．５％であった。−２０℃でのＤＣＭ／ＭＴＢＥ中の再結晶化で、望ましくない（undersired）エナンチオマーを沈殿させ、母液中で望ましいエナンチオマーの濃縮されたｅ．ｅ．が得られた。母液の蒸発後、望ましいエナンチオマーが分離され、ｅ．ｅ．９７％、収率７０％であった。
【０３２８】
ＤＣＭ：ＭＴＢＥ比が重要である。ＤＣＭがエナンチオマー混合物を溶かし、ＭＴＢＥの添加により望ましくないエナンチオマーが沈殿する。この混合物の比は１：１〜１：３であり得る。
【０３２９】
母液から得られた遊離塩基形態の固体を、過剰のＤＣＭ／ＭＴＢＥに再溶解させ、シクロへキシルアミンで処理して、化合物Ｄ３の塩を得た。化合物Ｄ３の他の塩（Ｅｔ3Ｎ、ｉＰｒ2−ＮＨからの）が試験され、これらもＤＣＭ／ヘキサン及びＤＣＭ／ＭＴＢＥ溶媒混合物にきわめて可溶性であることが見出された。
【０３３０】
合成実施例２１
化合物Ｄ１の（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］不斉水素化
（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］錯体（０．２５Ｍ）を、さまざまな基質：錯体比で、ＭｅＯＨ（３ｍＬ）及びＥｔ3Ｎ（化合物Ｄ１に対して０．５当量）中、さまざまな温度及びＨ2圧力下、約２０時間、化合物Ｄ１（０．２５Ｍ）と反応させた。
【０３３１】
変換率は、乾燥反応粗混合物について1ＨＮＭＲによって決定され、ｅ．ｅ．率はＨＰＬＣによって決定された（Ｄｉａｃｅｌ  ＣｈｉｒａｌＰａｋ  ＡＤ−Ｈカラムを使用、３５℃、１ｍＬ／分、溶離剤比はヘキサン：ＩＰＡが８０：２０、メチルエステルへの誘導体化後）。
【０３３２】
【表２３】
2011519340.tif 000060
【０３３３】
合成実施例２１の結果、反応条件には低いＨ2気体圧力と高い温度が含まれることが示されている。上記表１９のエントリー１は、反応時間約４時間での表１７エントリー６に対応している。エントリー３及び６は、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］錯体について示されている反応条件を用いた基質：錯体比の上限を示している。エントリー４〜６は、示されている反応条件を用いたＨ2気体圧力の下限を示している。
【０３３４】
合成実施例２２
化合物Ｄ１の（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ水素化
さまざまなＲｕ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ錯体を、基質：錯体比１００：１で、化合物Ｄ１と反応させた。Ｒｕ−前駆体（０．００２ｍｍｏｌ）、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ（０．００２ｍｍｏｌ）及び化合物Ｄ１（８２ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）を、内側がガラスライナーの反応チャンバに入れた。このチャンバを密閉し、窒素でパージし、その後、ＭｅＯＨ（１ｍＬ）を注入した。結果として得られた混合物を室温で２０〜３０分間攪拌し、次にＭｅＯＨ（１ｍＬ）を、所望によりＥｔ3Ｎ添加剤（化合物Ｄ１に対して０．５当量）と共に注入し、次に水素パージを行った。約４０℃の温度で、約１０００ｋＰａ（１４５ｐｓｉｇ（１０ｂａｒ））のＨ2圧力下、約２０時間で反応を実施した。
【０３３５】
変換率は、乾燥反応粗混合物について1ＨＮＭＲによって決定され、ｅ．ｅ．率はＨＰＬＣによって決定された（Ｄｉａｃｅｌ  ＣｈｉｒａｌＰａｋ  ＡＤ−Ｈカラムを使用、３５℃、１ｍＬ／分、溶離剤比はヘキサン：ＩＰＡが８０：２０、メチルエステルへの誘導体化後）。
【０３３６】
【表２４】
2011519340.tif 000061
【０３３７】
（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ配位子が、その場で錯体を生成することによりさまざまな対イオンと組み合わせた他のルテニウム金属付加物との組み合わせで試験され、満足できる変換率及びｅ．ｅ．が得られることが見出された。
【０３３８】
合成実施例２３
化合物Ｄ１の（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ水素化
表２１ａの形成済み（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］錯体にさまざまな添加剤を組み合わせ、これを、基質：錯体比が５００：１で、さまざまな温度において、ＭｅＯＨ（１ｍＬ）中、約１０００ｋＰａ（１４５ｐｓｉｇ（１０ｂａｒ））のＨ2圧力下で、約４〜約２０時間、化合物Ｄ１（１９６ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ、０．２５Ｍ）と反応させた。
【０３３９】
表２１ｂの、その場で形成された（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＦ3ＣＯＯ）2］2、及び表２１ｃの（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｒｕ（ＣＯＤ）（メチルアリル）2］錯体が、Ｒｕ金属付加物、（Ｒ）−ＸｙｌＰｈａｎｅＰｈｏｓ配位子及び化合物Ｄ１をガラスライナー内に入れることによって調製された。このライナーを、反応器内に入れた。反応器を密閉し、窒素でパージし、次にＭｅＯＨ（１ｍＬ）を注入して、結果として得られた混合物を室温で２０〜３０分攪拌した後、ＭｅＯＨ（１ｍＬ）（添加剤あり又はなしで）を注入した。
【０３４０】
変換率は、乾燥反応粗混合物について1ＨＮＭＲによって決定され、ｅ．ｅ．率はＤｉａｃｅｌ  ＣｈｉｒａｌＰａｋ  ＡＤ−Ｈカラムを用いて決定された（３５℃、１ｍＬ／分、溶離剤比はヘキサン：ＩＰＡが８０：２０、メチルエステルへの誘導体化後）。
【０３４１】
【表２５】
2011519340.tif 000062
【０３４２】
【表２６】
2011519340.tif 000063
【０３４３】
【表２７】
2011519340.tif 000064
【０３４４】
表２１ａ及び表２１ｂに示されているさまざまな組み合わせは、さまざまな添加剤により満足できる変換率及びｅ．ｅ．が得られることを示している。
【０３４５】
ＨＣｌ（１Ｍ  Ｅｔ2Ｏ）及びＨＢＦ4．Ｅｔ2Ｏは、低い変換率及びＢｏｃ基の部分的脱保護（３〜１５％）をもたらし（表２１ｂのエントリー５、６、１３及び１４）、ＣＨ3ＣＯＯＨ及びＣＦ3ＣＯＯＨ添加剤は、完全な変換率及び少なくとも８５％のｅ．ｅ．をもたらした（表２１ｂのエントリー８、１５及び１７）。
【０３４６】
表２１ｂの反応条件は、Ｒｕ前駆体、添加剤の量と性質、並びに温度の組み合わせを検討したものである。組み合わせにおけるこれら要因それぞれが、変換とエナンチオ選択性の両方の量に影響を与えている。（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］錯体は、０．５当量Ｅｔ3Ｎを用いた場合、２５℃で完全な変換とより高いｅ．ｅ．をもたらした。より多いＥｔ3Ｎ又はＣＨ3ＣＯＯＨを使用すると、より低い変換率がもたらされた。添加剤を使用しなかった場合、反応はわずかに遅くなり、約８時間で完全変換に達した。
【０３４７】
その場で形成された（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＦ3ＣＯＯ）2］2及び（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｒｕ（ＣＯＤ）（メチルアリル）2］錯体を使用した場合、得られたエナンチオ選択性は９０％であった（表２１ｂ、エントリー８をエントリー１０と比較）。Ｓ／Ｃ  ５００において、添加剤としての一定量のＣＨ3ＣＯＯＨは、錯体の活性に影響を有し得ることが示された（表２１ｂ、エントリー９〜１１）。添加剤の性質は、錯体活性に影響を与えた（表２１ｂ、エントリー７、９〜１２）。Ｓ／Ｃ  ５００／１、２５℃及び１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）において、完全な変換及び約９０％のｅ．ｅ．をもたらしたＲｕ−システムが表２１ｂ、エントリー２、９及び１０並びに表２１ｃ、エントリー１７に示されている。
【０３４８】
合成実施例２４
化合物Ｄ１の（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ水素化
Ｓ／Ｃ比５００：１で、さまざまな溶媒（２ｍＬ）中において、添加剤なしで、化合物Ｄ１（０．５ｍｍｏｌ）及び形成済み（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］錯体（０．００１ｍｍｏｌ）を、４０℃、１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ（１４５ｐｓｉｇ））のＨ2下、約２０時間反応させた。
【０３４９】
変換率は、乾燥反応粗混合物について1ＨＮＭＲによって決定され、ｅ．ｅ．率はＤｉａｃｅｌ  ＣｈｉｒａｌＰａｋ  ＡＤ−Ｈカラムを用いて決定された（３５℃、１ｍＬ／分、ヘキサン：ＩＰＡ比が８０：２０、メチルエステルへの誘導体化後）。
【０３５０】
【表２８】
2011519340.tif 000065
【０３５１】
表２２に示すように、不飽和酸化合物Ｄ１は、（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］又は（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＦ3ＣＯＯ）2］2錯体の存在下で、Ｓ／Ｃが５００／１で、メタノール中、１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）水素圧力下、室温において、不斉水素化を介して完全に水素化され、対応するＤ３（Ｓ−酸、約９０％ｅ．ｅ）となった。
【０３５２】
合成実施例２５
化合物Ｄ１の（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ水素化
Ｓ／Ｃ比１０００：１で、ＭｅＯＨ（２ｍＬ）中、さまざまな添加剤と共に、化合物Ｄ１（０．２ｍｍｏｌ、７９ｍｇ、０．１Ｍ）、及び表２５ａの形成済み（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［ＲｕＣｌ2（ＤＭＦ）2］錯体（０．０００２ｍｍｏｌ）を、４０℃で、１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ（１４５ｐｓｉｇ））Ｈ2下で、約２０時間反応させた。
【０３５３】
変換率は、乾燥反応粗混合物について1ＨＮＭＲによって決定され、ｅ．ｅ．率はＤｉａｃｅｌ  ＣｈｉｒａｌＰａｋ  ＡＤ−Ｈカラムを用いて決定された（３５℃、１ｍＬ／分、ヘキサン：ＩＰＡ比が８０：２０、メチルエステルへの誘導体化後）。
【０３５４】
表２５ｂの（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＦ3ＣＯＯ）2］2錯体の配位子金属錯体原液（その場で）、及び表２５ｃの（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ＆［Ｒｕ（ＣＯＤ）（メチルアリル）2］錯体は、ルテニウム付加物をキラルホスフィン配位子（０．０００２ｍｍｏｌ／ｍＬ）と共にＭｅＯＨ中、Ｎ2下で３０〜４０分間室温で攪拌することによって生成された。この錯体溶液（１ｍＬ）を反応器に注入し、次にＣＨ3ＣＯＯＨ（０．５ｍＬ）、ＭｅＯＨ中の原液、更にＭｅＯＨ（０．５ｍＬ）を注入した。エントリー１４の調製は、合成実施例２７に記述されている。
【０３５５】
【表２９】
2011519340.tif 000066
【０３５６】
【表３０】
2011519340.tif 000067
【０３５７】
【表３１】
2011519340.tif 000068
【０３５８】
合成実施例２６
化合物Ｄ１の（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ水素化
Ｓ／Ｃ比１０００：１で、ＭｅＯＨ（２ｍＬ）中、添加剤ＣＨ3ＣＯＯＨ（１．２当量、ＭｅＯＨ中原液０．５ｍＬ）で、化合物Ｄ１（２ｍｍｏｌ、１Ｍ）及び形成済み（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ［［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＦ3ＣＯＯ）2］（０．０００２ｍｍｏｌ）を、４０℃で、１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ（１４５ｐｓｉｇ））Ｈ2下、２０時間、反応させた。
【０３５９】
変換率は、乾燥反応粗混合物について1ＨＮＭＲによって決定され、ｅ．ｅ．率はＤｉａｃｅｌ  ＣｈｉｒａｌＰａｋ  ＡＤ−Ｈカラムを用いて決定された（３５℃、１ｍＬ／分、ヘキサン：ＩＰＡ比が８０：２０、メチルエステルへの誘導体化後）。
【０３６０】
配位子金属錯体原液（その場で使用）は、ルテニウム前駆体をキラルホスフィン配位子（０．００２ｍｍｏｌ／ｍＬ）と共に、ＭｅＯＨ中、Ｎ2下で２時間、５５℃において攪拌し、次に１．２当量のＣＨ3ＣＯＯＨ（出発物質に対して）と共に攪拌することによって生成された。錯体原液の対応する容積を、反応器に注入し、次いでＭｅＯＨ中原液ＣＨ3ＣＯＯＨ（０．５ｍＬ）、次にＭｅＯＨ（０．５ｍＬ）を注入した。
【０３６１】
【表３２】
2011519340.tif 000069
【０３６２】
合成実施例２７
化合物Ｄ１の（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ水素化
Ｓ／Ｃ比１０００：１で、ＭｅＯＨ（２ｍＬ）中、添加剤ＣＨ3ＣＯＯＨ（１．２当量、ＭｅＯＨ中原液０．５ｍＬ）で、化合物Ｄ１（１Ｍ）及び形成済み（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ／［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＦ3ＣＯＯ）2］（０．０００２ｍｍｏｌ）を、独立型パール（Parr）容器中、４０℃で、１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ（１４５ｐｓｉｇ））Ｈ2下、２０時間、反応させた。
【０３６３】
変換率及びｅ．ｅ．率はＤｉａｃｅｌ  ＣｈｉｒａｌＰａｋ  ＡＤ−Ｈカラムを用いて決定された（３５℃、１ｍＬ／分、ヘキサン：ＩＰＡ比が８０：２０、メチルエステルへの誘導体化後）。
【０３６４】
配位子金属錯体原液は、ルテニウム前駆体をキラルホスフィン配位子と共に、合計体積の半量のＭｅＯＨ中で、Ｎ2下、２時間、５５℃で攪拌し、次に冷却しながら１．２当量のＣＨ3ＣＯＯＨ（出発物質に対して）と共に攪拌することによって生成された。この溶液は開始物質に注入され、このシュレンク管を残った溶媒ですすいだ。
【０３６５】
【表３３】
2011519340.tif 000070
【０３６６】
合成実施例２８
化合物Ｄ３の粗酢酸塩の再結晶／抽出
表２４、エントリー１〜３の反応生成物を合わせ、次の組成物からなる酢酸塩形態の粗生成物化合物Ｄ３（２．６ｇ）を得た：０．８％の出発物質、９１％（８３％ｅ．ｅ．）の化合物Ｄ３及び８％の（αＲ）異性体化合物Ｄ２。生成物の両形態（遊離酸及び酢酸塩）とも同様の溶解度を示すため、粗酢酸キノリニウム塩（表２４）が調べられた。ＭＴＢＥ／ヘキサン及びＤＣＭ／ＭＴＢＥ／ヘキサン溶媒の組み合わせにより、収率８０％、ｅ．ｅ．＞９８％での生成物の分離が得られた（表２６、エントリー」６及び８）。
【０３６７】
【表３４】
2011519340.tif 000071
【０３６８】
表２６の結果を、表２５の合わせた反応生成物に適用し、生じた生成物である化合物Ｄ３（５ｇ、＞９８％ｅ．ｅ．）が、キノリン環のジアステレオ選択的水素化のための出発物質として使用された。
【０３６９】
合成実施例２９
化合物Ｄ３のＥｔ3Ｎ塩のＰｄ／Ｃ触媒によるｙ水素化
化合物Ｄ３のＥｔ3Ｎ塩のＰｄ／Ｃ触媒によるジアステレオ選択的水素化における初期の溶媒スクリーニングが、１０％Ｐｄ／Ｃ（ｗ／ｗ、乾燥時）を使用し、６０℃、３００ｋＰａ（３ｂａｒ）Ｈ2下で実施された。
【０３７０】
変換率及びｅ．ｅ．率はＤｉａｃｅｌ  ＣｈｉｒａｌＰａｋ  ＡＤ−Ｈカラムを用いて決定された（３５℃、１ｍＬ／分、ヘキサン：ＩＰＡ比が８０：２０、メチルエステルへの誘導体化後）。
【０３７１】
【表３５】
2011519340.tif 000072
【０３７２】
合成実施例３０
化合物Ｄ３の［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2均質ジアステレオ選択的水素化
Ｓ／Ｃ比５０：１で［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2（０．００４ｍｍｏｌ）、さまざまな配位子立体異性体（０．００４４ｍｍｏｌ）及び化合物Ｄ３（０．２ｍｍｏｌ、８０ｍｇ）を、トルエン（３ｍＬ）中、０．１当量のＩ2（０．０２ｍｍｏｌ、５ｍｇ）と共に、５０℃、２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）水素下で、約２０時間反応させた。
【０３７３】
変換率及びｅ．ｅ．率は、Ｄｉａｃｅｌ  ＣｈｉｒａｌＰａｋ  ＡＤ−Ｈカラム（３５℃、１ｍＬ／分、溶離剤比はヘキサン：ＩＰＡが８０：２０、メチルエステルへの誘導体化後）を使用し、あるいは乾燥粗生成物について１Ｈ  ＮＭＲによる見積りを行うことによって決定された。
【０３７４】
［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2付加物及びさまざまな配位子を、１ｍＬ溶媒中、Ｎ2下、室温で３０分間攪拌した後、Ｉ2原液及びトルエン中の基質を加えた。
【０３７５】
【表３６】
2011519340.tif 000073
【０３７６】
合成実施例３１
化合物Ｄ３のＭｅ−ＢｏＰＨｏｚ／［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2均質ジアステレオ選択的水素化
Ｓ／Ｃ比５０：１で、［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2（０．００４ｍｍｏｌ）、さまざまな配位子立体異性体（０．００４４ｍｍｏｌ）及び化合物Ｄ３（０．２ｍｍｏｌ、８０ｍｇ）を、さまざまな溶媒中（３ｍＬ）、０．１当量Ｉ2（０．０２ｍｍｏｌ、５ｍｇ）と共に、５０℃及び２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）水素下で、約２０時間反応させた。
【０３７７】
変換率及びｅ．ｅ．率は、Ｄｉａｃｅｌ  ＣｈｉｒａｌＰａｋ  ＡＤ−Ｈカラム（３５℃）（１ｍＬ／分、溶離剤比はヘキサン：ＩＰＡが８０：２０、メチルエステルへの誘導体化後）を使用し、あるいは乾燥粗生成物について1ＨＮＭＲによる見積りを行うことによって決定された。
【０３７８】
［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2付加物及び配位子を、１ｍＬ溶媒中、Ｎ2下、室温で３０分間攪拌した後、Ｉ2原液及び指定溶媒中の基質を加えた。
【０３７９】
【表３７】
2011519340.tif 000074
【０３８０】
合成実施例３２
化合物Ｄ３の［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2均質ジアステレオ選択的水素化
Ｓ／Ｃ比５０：１で、［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2（０．００４ｍｍｏｌ）、さまざまな配位子立体異性体（０．００４４ｍｍｏｌ）及び化合物Ｄ３（０．２ｍｍｏｌ、８０ｍｇ）を、ＥｔＯＡｃ（３ｍＬ）中、０．１当量Ｉ2（０．０２ｍｍｏｌ、５ｍｇ）と共に、５０℃及び２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）水素下、約２０時間反応させた。
【０３８１】
変換率及びｅ．ｅ．率は、Ｄｉａｃｅｌ  ＣｈｉｒａｌＰａｋ  ＡＤ−Ｈカラム（３５℃）（１ｍＬ／分、溶離剤比はヘキサン：ＩＰＡが８０：２０、メチルエステルへの誘導体化後）を使用し、あるいは乾燥粗生成物について１ＨＮＭＲによる見積りを行うことによって決定された。
【０３８２】
［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2付加物及び配位子を、１ｍＬ溶媒中、Ｎ2下、室温で３０分間攪拌した後、Ｉ2原液及びＥｔＯＡｃ中の基質を加えた。
【０３８３】
【表３８】
2011519340.tif 000075
【０３８４】
合成実施例３３
化合物Ｃ３の［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2均質ジアステレオ選択的水素化
Ｓ／Ｃ比５０：１で、金属前駆体［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］（０．００４ｍｍｏｌ）、さまざまな配位子立体異性体（０．００４４ｍｍｏｌ）及び化合物Ｃ３（０．２ｍｍｏｌ、８３ｍｇ）をそれぞれ、ＥｔＯＡｃ（３ｍＬ）中、０．１当量Ｉ2（０．０２ｍｍｏｌ、５ｍｇ）と共に５０℃及び２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）水素下で約１８時間反応させた。
【０３８５】
変換率及びｅ．ｅ．率はＤｉａｃｅｌ  ＣｈｉｒａｌＰａｋ  ＡＤ−Ｈカラムを用いて決定された（３５℃、１ｍＬ／分、溶離剤比はヘキサン：ＩＰＡが８０：２０、メチルエステルへの誘導体化後）。
【０３８６】
［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2付加物及び配位子を、１ｍＬ溶媒中、Ｎ2下、室温で３０分間攪拌した後、Ｉ2原液及びＥｔＯＡｃ中の基質を加えた。
【０３８７】
【表３９】
2011519340.tif 000076
【０３８８】
合成実施例３４
化合物Ｃ３の［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2均質ジアステレオ選択的水素化
Ｓ／Ｃ比５０：１で、金属前駆体［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］（０．００４ｍｍｏｌ）、さまざまな配位子立体異性体（０．００４４ｍｍｏｌ）及び化合物Ｃ３（０．２ｍｍｏｌ、８３ｍｇ）を、さまざまな溶媒中（３ｍＬ）、０．１当量Ｉ2（０．０２ｍｍｏｌ、５ｍｇ）と共に、５０℃及び２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）水素下で、約１８〜２０時間反応させた。
【０３８９】
変換率及びｅ．ｅ．率はＤｉａｃｅｌ  ＣｈｉｒａｌＰａｋ  ＡＤ−Ｈカラムを用いて決定された（３５℃、１ｍＬ／分、溶離剤比はヘキサン：ＩＰＡが８０：２０、メチルエステルへの誘導体化後）。
【０３９０】
［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2付加物及び配位子を、１ｍＬ溶媒中、Ｎ2下、室温で３０分間攪拌した後、Ｉ2原液及び指定溶媒中の基質を加えた。
【０３９１】
【表４０】
2011519340.tif 000077
【０３９２】
合成実施例３５
化合物Ｃ３の［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2均質ジアステレオ選択的水素化
Ｓ／Ｃ比５０：１で、金属前駆体［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］（０．００４ｍｍｏｌ）、さまざまな配位子立体異性体（０．００４４ｍｍｏｌ）及び化合物Ｃ３（０．２ｍｍｏｌ、８３ｍｇ）を、ＥｔＯＡｃ（３ｍＬ）中、０．１当量Ｉ2（０．０２ｍｍｏｌ、５ｍｇ）と共に、５０℃及び２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）水素下で、約１８〜２０時間反応させた。
【０３９３】
変換率及びｅ．ｅ．率はＤｉａｃｅｌ  ＣｈｉｒａｌＰａｋ  ＡＤ−Ｈカラムを用いて決定された（３５℃、１ｍＬ／分、溶離剤比はヘキサン：ＩＰＡが８０：２０、メチルエステルへの誘導体化後）。
【０３９４】
［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2付加物及び配位子を、１ｍＬ溶媒中、Ｎ2下、室温で３０分間攪拌した後、Ｉ2原液及びＥｔＯＡｃ中の基質を加えた。
【０３９５】
【表４１】
2011519340.tif 000078
【０３９６】
合成実施例３６
化合物Ｃ１のワンポット（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2触媒による水素化
【０３９７】
【化２６】
2011519340.tif 000079
【０３９８】
次のワンポット反応が開発された：化合物Ｃ１を、その場で形成された（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2配位子金属錯体と、Ｓ／Ｃ比５０／１で、溶媒ＤＣＥ中、２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）Ｈ2下、温度７０℃で、２４時間反応させ、１０％ヨウ素の直接添加後、化合物Ｃ３（７５％変換率、９６％ｅ．ｅ．）を得た。前述の反応混合物を２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）Ｈ2下、温度７０℃で４８時間再反応させ、化合物Ｃ４（４３％）及び化合物Ｃ５（４５％）の異性体混合物を得た。
【０３９９】
合成実施例３７
化合物Ｄ１のワンポット（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2触媒による水素化
【０４００】
【化２７】
2011519340.tif 000080
【０４０１】
次のワンポット反応が開発された：化合物Ｄ１を、その場で形成された（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2配位子金属錯体と、Ｓ／Ｃ比５０／１で、溶媒ＴＨＦ中、２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）Ｈ2下、温度７０℃で、２４時間反応させ、１０％ヨウ素の直接添加後、化合物Ｄ３（５１％変換率、６５％ｅ．ｅ．）を得た。前述の反応混合物を２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）Ｈ2下、温度７０℃で６０時間再反応させ、化合物Ｄ４（３５％）及び化合物Ｄ５（５０％）の異性体混合物、並びに（αＲ）−異性体化合物Ｄ６及び化合物Ｄ７（合わせて１４％）を得た。
【０４０２】
合成実施例３８
化合物Ｄ１の（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ水素化
［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＦ3ＣＯＯ）2］金属前駆体（０．００４ｍｍｏｌ、１．７４ｍｇ）及び（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ配位子（０．００４４ｍｍｏｌ、３．１ｍｇ）（Ｓ／Ｃ１０００／１）を、５ｍＬシュレンク管に入れた。この管を、減圧／窒素充填のサイクルを３回行うことにより脱気し、脱気した無水ＭｅＯＨを２ｍＬ注入した。結果として得られた混合物を５５℃で２時間攪拌した。２時間後、管を加熱浴から取り出し、ＣＨ3ＣＯＯＨ（氷酢酸）（未脱気）（基質に対して１．２当量、４．８ｍｍｏｌ、０．２７５ｍＬ）を注入した。結果として得られた溶液を、冷却しながら攪拌した（約１０分間）。
【０４０３】
固体の基質化合物Ｄ１（４ｍｍｏｌ、１．５８ｇ）を２５ｍＬパール（Parr）容器に入れ、このパール容器を密閉し、水素で１０回パージした。圧力を解放し、配位子金属錯体の溶液を、パール容器の注入ポートから注入した。シュレンク管は２ｍＬ  ＭｅＯＨ（脱気済み、無水、４×０．５ｍＬに分けて）ですすぎ、注入ポートから迅速に注入された。結果として得られた混合物を、攪拌せずに５回パージし、更に攪拌しながら１０回パージした。この反応混合物を１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）Ｈ2下、４０℃で攪拌した。１７時間後、反応物のサンプルを採取し、その場でのメチルエステル化合物Ｃ２への変換後、ＨＰＬＣで分析した：＞９９．５％の変換率、ｅ．ｅ．８６％であった。
【０４０４】
化合物Ｄ２が、その場の誘導体化により、対応するメチルエステル化合物Ｃ２に変換された（０．１Ｍ反応物について）：５０μＬ反応サンプル（２ｍｇ基質／生成物、０．００５ｍｍｏｌ）を、ＨＰＬＣバイアル中で、Ｅｔ2Ｏ（０．１ｍｍｏｌ）中の２Ｍ  ＴＭＳＣＨＮ2５０μＬ及びＭｅＯＨ（１．５ｍＬ）で処理し、次に前述のキラルＨＰＬＣ方法によって直接分析した。ＬＣ／ＭＳ（ＥＳ＋）ｍ／ｚ  ３９９．３（Ｍ＋１）。
【０４０５】
反応粗混合物を、Ｅｔ3Ｎ（４．８ｍｍｏｌ、０．５ｍＬ）で処理し、溶媒を蒸発させ、生成物をＤＣＭ／飽和ＮＨ4Ｃｌ（水性）で抽出した。ＤＣＭ抽出物にＮａ2ＳＯ4を入れて乾燥させ、濾過し、溶媒を蒸発させて、オフホワイトの固形物（１．５２ｇ、９６％）を得た：1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：遊離酸形態。
【０４０６】
この固形物をトルエン（３０ｍＬ）で処理して攪拌した。トルエンの追加後すぐに、微細な固形物が形成された。母液のサンプルをとり、メチルエステルへの変換後、ＨＰＬＣで分析した：ｅ．ｅ．９１％であった。混合物を室温で４８時間超、攪拌した。メチルエステルへの変換後、母液のサンプルを採取し、ｅ．ｅ．９９％であった。反応混合物を濾過し、濾液を蒸発させて、茶色の固形物として化合物Ｄ３を得た（１．１３ｇ、粗生成物１．５２ｇに対する単離収率７５％）。
【０４０７】
ＨＰＬＣ：＞９９％ｅ．ｅ．；1Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：遊離酸形態＋残留トルエン；ｍｐ６０〜７０℃；1Ｈ  ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）δ１０．９（ｂｒ  ｍ，１Ｈ）、８．８６（ｓ，１Ｈ）、８．０７（ｍ，２Ｈ）、７．８２（ｍ，１Ｈ）、７．６６（ｍ，１Ｈ）、７．５５（ｍ，１Ｈ）、４．０４（ｍ，２Ｈ）、３．５５（ｍ，１Ｈ）、２．９〜２．４（ｍ，４Ｈ）、１．９〜１．５（ｍ，３Ｈ）、１．４５（ｓ，９Ｈ）、１．３〜１．０（ｍ，４Ｈ）；13Ｃ  ＮＭＲ（１００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）δ１７４．４７、１５４．８４、１５０．０５、１４５．７９、１３７．２０、１３５．０１、１２９．５４、１２８．１２、１２７．６６、１２７．０７、７９．４２、４３．７０（ｂｒ）、４２．５５、４２．２９、３６．７２、３３．２７、３２．５９、３１．４２、２８．４３；Ｃ23Ｈ30Ｎ2Ｏ4の分析計算値：Ｃ，６９．３２；Ｈ，７．５９；Ｎ，７．０３。実測値：Ｃ，６９．５８；Ｈ，７．９２；Ｎ，６．６８。
【０４０８】
合成実施例３９
化合物Ｄ１の（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ水素化及びエナンチオマー濃縮
［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＦ3ＣＯＯ）2］金属前駆体（０．００４ｍｍｏｌ、１．７４ｍｇ）及び（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ配位子（０．００４４ｍｍｏｌ、３．１ｍｇ）（Ｓ／Ｃ１０００／１）を、５ｍＬシュレンク管に入れた。この管を、減圧／窒素充填のサイクルを３回行うことにより脱気し、脱気した無水ＭｅＯＨを２ｍＬ注入した。結果として得られた混合物を５５℃で２時間攪拌した。２時間後、管を加熱浴から取り出し、ＣＨ3ＣＯＯＨ（氷酢酸）（未脱気）（基質に対して１．２当量、４．８ｍｍｏｌ、０．２７５ｍＬ）を注入した。結果として得られた溶液を、冷却しながら攪拌した（約１０分間）。固体の基質Ｄ１（４ｍｍｏｌ、１．５８ｇ）を２５ｍＬパール（Parr）容器に入れ、このパール容器を密閉し、次いで水素で１０回パージした。圧力を解放し、錯体の溶液を、パール容器の注入ポートから注入した。シュレンク管は２ｍＬ  ＭｅＯＨ（脱気済み、無水、４×０．５ｍＬに分けて）ですすぎ、注入ポートから迅速に注入された。結果として得られた混合物を、攪拌せずに５回パージし、更に攪拌しながら１０回パージした。この反応混合物を３００ｋＰａ（３ｂａｒ）Ｈ2下、４０℃で攪拌した。１６、２４、４８時間後に反応物のサンプルを採取し、その場でのメチルエステルへの変換後、ＨＰＬＣで分析した：１６時間：変換率９０％、ｅ．ｅ．８２％；２４時間：変換率９８％、ｅ．ｅ．８１％；４０時間：変換率９８．５％、ｅ．ｅ．７９％。
【０４０９】
溶媒を蒸発させ、１．４３ｇの茶色く粘り気のある固形物を得た。この固形物に、ＤＣＭ：ヘキサン：ＭＴＢＥが１０ｍＬ：５０ｍＬ：５０ｍＬの比の混合物を加え、室温でこの混合物を攪拌した。攪拌により、粘り気のある固形物が、微細な固形物として溶媒中に分散した。母液のサンプルを採取し、メチルエステルに変換後、ＨＰＬＣで分析した：１．５％化合物Ｄ１、９８．５％生成物Ｄ３、９７．８％ｅ．ｅ．であった。反応混合物を濾過し、固形物を２×５ｍＬヘキサンで洗い、濾液を蒸発させた。１．１４ｇ（粗生成物１．４３ｇに対する単離収率８０％）のオフホワイト固形物Ｄ３が得られた：ＨＰＬＣ：１．６％化合物Ｄ１、９８．４％変換率、９７．８％ｅ．ｅ．；1Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：遊離酸形態、９４％生成化合物Ｄ３、６％化合物Ｄ１。
【０４１０】
合成実施例４０
化合物Ｄ１の（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ水素化及びエナンチオマー濃縮
［Ｒｕ（ＣＯＤ）（ＣＦ3ＣＯＯ）2］金属前駆体（０．００８ｍｍｏｌ、３．５ｍｇ）及び（Ｒ）−Ｘｙｌ−ＰｈａｎｅＰｈｏｓ配位子（０．００８８ｍｍｏｌ、６．１ｍｇ）（Ｓ／Ｃ＝１０００／１）を、５ｍＬシュレンク管に入れた。この管を、減圧／窒素充填のサイクルを３回行うことにより脱気し、脱気した無水ＭｅＯＨを４ｍＬ注入した。結果として得られた混合物を５５℃で２時間攪拌した。２時間後、管を加熱浴から取り出し、ＣＨ3ＣＯＯＨ（氷酢酸）（未脱気）（基質に対して１．２当量、９．６ｍｍｏｌ、０．５５０ｍＬ）を注入した。結果として得られた溶液を、冷却しながら攪拌した（約１０分間）。固体の化合物Ｄ１（８ｍｍｏｌ、３．１７ｇ）を５０ｍＬパール（Parr）容器に入れ、このパール容器を密閉し、次いで水素で１０回パージした。圧力を解放し、錯体の溶液を、パール容器の注入ポートから注入した。シュレンク管は４ｍＬ  ＭｅＯＨ（脱気済み、無水、４×１ｍＬに分けて）ですすぎ、注入ポートから迅速に注入された。結果として得られた混合物を、攪拌せずに５回パージし、更に攪拌しながら１０回パージした。この反応混合物を１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）Ｈ2下、４０℃で攪拌した。１７時間後、反応物のサンプルを採取し、その場でのメチルエステルへの変換後、ＨＰＬＣで分析した：＞９９．５％の変換率、ｅ．ｅ．８７％であった。
【０４１１】
粗生成混合物を５００ｍＬ丸底フラスコに移し、溶媒を蒸発させ、茶色の粘り気のある固形物が形成された。フラスコに空気還流凝縮器を取り付け、６０℃の油浴に浸し、固形物を２０ｍＬ  ＭＴＢＥに溶かした（溶媒は還流凝縮器の上から加えた）。この溶液に、６０ｍＬヘキサンを加え、フラスコの底に粘り気のある固形物が形成された。微細な固形物が形成し始めるまで、ＭＴＢＥ及びヘキサンを少しずつ分けて交互に加え、母液のアリコートを同時に分析した。溶媒の最終的量：１００ｍＬ  ＭＴＢＥ：１００ｍＬヘキサン（メチルエステルへの変換後、ＨＰＬＣによるこの母液の分析：ｅ．ｅ．９８％）。反応混合物を熱いうちに濾過し、固形物を高温のヘキサン（２０ｍＬ）で洗った。溶媒を蒸発させた後、オフホワイト固形物の化合物Ｄ３（２．５ｇ、収率８０％）が得られた。
【０４１２】
合成実施例４１
化合物Ｃ３のＰｄ／Ｃ触媒によるジアステレオ選択的水素化
【０４１３】
【化２８】
2011519340.tif 000081
【０４１４】
さまざまな溶媒中で、化合物Ｃ３（０．２ｍｍｏｌ、０．１Ｍ）のＰｄ／Ｃ触媒による不均質ジアステレオ選択的水素化における溶媒スクリーニングが、１０％Ｐｄ／Ｃ（ｗ／ｗ、乾燥重量）を用い、６０℃、３００ｋＰａ（３ｂａｒ）Ｈ2下において、約１８〜２０時間実施された。
【０４１５】
変換率及びジアステレオマー比（ｄ．ｒ．）は、Ｄｉａｃｅｌ  ＣｈｉｒａｌＰａｋ  ＡＤ−Ｈカラム（３５℃）（１ｍＬ／分、ヘキサン：ＩＰＡ比が８０：２０、メチルエステルへの誘導体化後）を用いて、及び1Ｈ  ＮＭＲにより、決定された。副生成物の化合物３３ａが、ＨＰＬＣにおいて化合物Ｃ４と重複した。
【０４１６】
【表４２】
2011519340.tif 000082
【０４１７】
合成実施例４２
化合物Ｄ３のＰｄ／Ｃ触媒によるジアステレオ選択的水素化
【０４１８】
【化２９】
2011519340.tif 000083
【０４１９】
さまざまな溶媒中で、化合物Ｄ３（０．２ｍｍｏｌ、０．１Ｍ）のＰｄ／Ｃ触媒による不均質ジアステレオ選択的水素化における溶媒スクリーニングが、１０％Ｐｄ／Ｃ（ｗ／ｗ、乾燥重量）を用い、６０℃、３００ｋＰａ（３ｂａｒ）Ｈ2下において、約１８〜２０時間実施された。
【０４２０】
変換率及びジアステレオマー比（ｄ．ｒ．）は、Ｄｉａｃｅｌ  ＣｈｉｒａｌＰａｋ  ＡＤ−Ｈカラム（３５℃）（１ｍＬ／分、ヘキサン：ＩＰＡ比が８０：２０、メチルエステルへの誘導体化後）を用いて、及び1ＨＮＭＲにより、決定された。副生成物の化合物３４ａが、ＨＰＬＣにおいて化合物Ｄ４と重複した。
【０４２１】
【表４３】
2011519340.tif 000084
【０４２２】
合成実施例４４
化合物Ｄ３のＰｄ／Ｃ触媒によるジアステレオ選択的水素化
ＭｅＯＨ中の化合物Ｄ２（０．２ｍｍｏｌ、０．１Ｍ）を、６０℃、３００ｋＰａ（３ｂａｒ）Ｈ2下で、約１８〜２０時間、１０％Ｐｄ／Ｃ（ｗ／ｗ、乾燥重量）と反応させた。
【０４２３】
変換率及びジアステレオマー比（ｄ．ｒ．）は、Ｄｉａｃｅｌ  ＣｈｉｒａｌＰａｋ  ＡＤ−Ｈカラム（３５℃）（１ｍＬ／分、ヘキサン：ＩＰＡ比が８０：２０、メチルエステルへの誘導体化後）を用いて、及び1ＨＮＭＲにより、決定された。副生成物の化合物３３ａが、ＨＰＬＣにおいて化合物Ｄ４と重複した。
【０４２４】
【表４４】
2011519340.tif 000085
【０４２５】
合成実施例４５
化合物Ｄ３及び化合物Ｃ３のＰｄ／Ｃ触媒によるジアステレオ選択的水素化
ＭｅＯＨ中で、化合物Ｄ２（０．２ｍｍｏｌ、０．１Ｍ）のＰｄ／Ｃ触媒によるジアステレオ選択的水素化における温度及び圧力最適化スクリーニングが、１０％Ｐｄ／Ｃ（ｗ／ｗ、乾燥重量）を用い、６０℃、３００ｋＰａ（３ｂａｒ）Ｈ2下において、約１６時間実施された。
【０４２６】
変換率及びジアステレオマー比（ｄ．ｒ．）は、Ｄｉａｃｅｌ  ＣｈｉｒａｌＰａｋ  ＡＤ−Ｈカラム（３５℃）（１ｍＬ／分、ヘキサン：ＩＰＡ比が８０：２０、メチルエステルへの誘導体化後）を用いて、及び1ＨＮＭＲにより、決定された。副生成物の化合物３４ａが、ＨＰＬＣにおいて化合物Ｄ４と重複した。
【０４２７】
エントリー９及び１０は、ＩＰＡ中で化合物Ｃ３を用いて実施され、ここで、ＨＰＬＣ及びＮＭＲによる分析は、化合物Ｃ３、Ｃ４、Ｃ５及び３３ａの対応するＭｅエステル生成物に基づいて行われた。
【０４２８】
【表４５】
2011519340.tif 000086
【０４２９】
合成実施例４５
化合物Ｄ３のＰｄ／Ｃ触媒によるジアステレオ選択的水素化
ＭｅＯＨ中で、さまざまな添加剤を用い、化合物Ｄ２（０．２ｍｍｏｌ、０．１Ｍ）のＰｄ／Ｃ触媒によるジアステレオ選択的水素化における添加剤／ｐＨの最適化が、１０％Ｐｄ／Ｃ（ｗ／ｗ、乾燥重量）を用い、４０℃、１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）Ｈ2下において、約１８時間実施された。
【０４３０】
変換率及びジアステレオマー比（ｄ．ｒ．）は、Ｄｉａｃｅｌ  ＣｈｉｒａｌＰａｋ  ＡＤ−Ｈカラム（３５℃）（１ｍＬ／分、ヘキサン：ＩＰＡ比が８０：２０、メチルエステルへの誘導体化後）を用いて、及び1ＨＮＭＲにより、決定された。副生成物の化合物３４ａが、ＨＰＬＣにおいて化合物Ｄ４と重複した。
【０４３１】
【表４６】
2011519340.tif 000087
【０４３２】
合成実施例４６
化合物Ｄ３のＰｄ／Ｃ触媒によるジアステレオ選択的水素化
ＭｅＯＨ中で、さまざまな添加剤を用い、化合物Ｄ３（０．２ｍｍｏｌ、０．１Ｍ）のＰｄ／Ｃ触媒によるジアステレオ選択的水素化における添加剤の最適化が、１０％Ｐｄ／Ｃ（ｗ／ｗ、乾燥重量）を用い、４０℃、１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）Ｈ2下において、約２０時間実施された。添加剤は、表３９に示すように、化合物Ｄ３との化学量論比（当量）で表わされている。
【０４３３】
変換率及びジアステレオマー比（ｄ．ｒ．）は、Ｄｉａｃｅｌ  ＣｈｉｒａｌＰａｋ  ＡＤ−Ｈカラム（３５℃）（１ｍＬ／分、ヘキサン：ＩＰＡ比が８０：２０、メチルエステルへの誘導体化後）を用いて、及び1ＨＮＭＲにより、決定された。
【０４３４】
【表４７】
2011519340.tif 000088
【０４３５】
合成実施例４７
化合物Ｄ３のＰｄ／Ｃ触媒によるジアステレオ選択的水素化
ＭｅＯＨ（２ｍＬ）中、Ｅｔ3Ｎを添加剤として使用して（０．７５当量のＥｔ3Ｎ：化合物Ｄ３）、化合物Ｄ３（０．２ｍｍｏｌ、０．１Ｍ）のＰｄ／Ｃ触媒によるジアステレオ選択的水素化における濃度最適化が、１０％Ｐｄ／Ｃ（ｗ／ｗ、乾燥重量）を用い、４０℃で、１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）Ｈ2下、約２０時間実施された。
【０４３６】
変換率及びジアステレオマー比（ｄ．ｒ．）は、Ｄｉａｃｅｌ  ＣｈｉｒａｌＰａｋ  ＡＤ−Ｈカラム（３５℃）（１ｍＬ／分、ヘキサン：ＩＰＡ比が８０：２０、メチルエステルへの誘導体化後）を用いて、及び1ＨＮＭＲにより、決定された。
【０４３７】
【表４８】
2011519340.tif 000089
【０４３８】
合成実施例４８
化合物Ｄ３のＰｄ／Ｃ触媒によるジアステレオ選択的水素化
固体基質化合物Ｄ３（４ｍｍｏｌ、１．６ｇ）、１０％Ｐｄ／Ｃ（乾燥重量で基質に対して１０％ｗ／ｗ、６４．７８％  Ｈ2Ｏ、４６０ｍｇ）、ＭｅＯＨ（４ｍＬ）及びＥｔ3Ｎ（３ｍｍｏｌ、０．４２ｍＬ）を２５ｍＬパール容器に入れ、密閉し、攪拌せずに水素で１０回パージし、次に攪拌しながら１０回パージした。この反応混合物を１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）Ｈ2下、４０℃で攪拌した。４時間後、反応物のサンプルを採取し、その場でメチルエステルに変換後、ＨＰＬＣで分析した：＞９９．５％の変換率、化合物Ｄ４：化合物Ｄ５の比は１／１（ｄ．ｒ．）であった。反応を止め、反応混合物を濾過し、Ｐｄ触媒を２０ｍＬメタノールで洗った。この粗溶液をＣＨ3ＣＯＯＨ（８．８．ｍｍｏｌ、０．５ｍＬ）で酸性にし、溶媒を蒸発させ、ＤＣＭ／飽和ＮＨ4ＣｌによってＤＣＭで生成物を抽出した。ＤＣＭ抽出物にＮａ2ＳＯ4を入れて乾燥させ、濾過し、溶媒を蒸発させて乾燥状態にし、化合物Ｄ４及びＤ５の混合物として、１．５５ｇ白色固形物を得た（単離収率９６％）：1Ｈ  ＮＭＲの結果、幾分かのＣＨ3ＣＯＯＨ、ＤＣＭ及び４％副生成物化合物３４ａの残留が示された。
【０４３９】
合成実施例４９
化合物Ｃ３のＰｄ／Ｃ触媒によるジアステレオ選択的水素化
化合物Ｃ３（１．４ｍｍｏｌ、０．６ｇ）、１０％Ｐｄ／Ｃ（乾燥重量で基質に対して１０％  ｗ／ｗ、６４．７８％  Ｈ2Ｏ、１３０ｍｇ）、ｉ−ＰｒＯＨ（１．５ｍＬ）及びＥｔ3Ｎ（１．０５ｍｍｏｌ、０．１４５ｍＬ）を、ガラスライナーに入れ、これを水素化反応器に入れた。反応器を密閉し、窒素で５回パージし、攪拌せずに水素で５回パージし、更に攪拌しながら水素で５回パージした。この反応混合物を１０００ｋＰａ（１０ｂａｒ）Ｈ2下、４０℃で攪拌した。反応完了後、この反応混合物を濾過し、Ｐｄ触媒を２０ｍＬメタノールで洗った。溶媒及びＥｔ3Ｎを高真空下で除去し、反応粗混合物（０．６ｇ）をＨＰＬＣ及び1Ｈ  ＮＭＲで分析した。ＨＰＬＣ：完全変換、化合物Ｃ４：化合物Ｃ５が１／１、副生成物化合物３３ａが１％。1ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：副生成物化合物３３ａが２％。
【０４４０】
合成実施例５０
化合物Ｃ１の（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ＆［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2水素化
［Ｉｒ（ＣＯＤ）Ｃｌ］2付加物（０．００２ｍｍｏｌ、１．３ｍｇ）及び（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ配位子（０．００５ｍｍｏｌ、３．１ｍｇ）を、ガラスライナーに入れた。このライナーを水素化反応器に入れ、密閉して、窒素でパージした。ＤＣＥ（２ｍＬ、無水、脱気済み）を注入ポートから注入し、この混合物を窒素下、室温で３０分間攪拌した。３０分後、ＤＣＥ中化合物Ｃ１の１ｍＬ原液を、注入ポートから注入し（０．２ｍｍｏｌ／ｍＬ、８２ｍｇ基質原液は、窒素下、無水、脱気済みＤＣＥを使用して調製された）、次に１ｍＬのＤＣＥ（無水、脱気済み）を注入した。結果として得られた混合物を、攪拌せずに水素で５回パージし、次に攪拌しながら水素で５回パージした。反応混合物を７０℃、２５００ｋＰａ（２５ｂａｒ）Ｈ2下で１８時間攪拌した。反応粗混合物を、ＨＰＬＣにより変換率及びｅ．ｅ．の分析を行い、化合物Ｃ３の変換率９３％、ｅ．ｅ．９３％が示された。
【０４４１】
合成実施例５１
化合物Ｄ２の化合物Ｃ２へのエステル化
化合物Ｄ２（０．０６ｍｍｏｌ、０．０２５ｇ）を１０ｍＬシュレンク管に入れた。この管は、減圧／窒素サイクルを３回行うことにより脱気され、３ｍＬ無水ＭｅＯＨ及び０．５ｍＬ無水ＤＣＭを注入した。結果として得られた溶液を氷水浴で冷却し、ＴＭＳＣＨＮ2（０．１８ｍｏｌ、Ｅｔ2Ｏ中０．０９ｍＬの２Ｍ溶液）をゆっくり注入した。溶液を室温まで温めながら攪拌した（約２時間）。高真空下で溶媒を除去し、結果として得られた粗生成物を1ＨＮＭＲ及びキラルＨＰＬＣで分析し、メチルエステル化合物Ｃ３への完全変換が示された。
【０４４２】
合成実施例５２
化合物Ｄ３の化合物Ｃ３へのエステル化
化合物Ｄ３（０．１０ｇ、０．２５ｍｍｏｌ）をアセトニトリル（９ｍＬ）に溶かし、室温において、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（０．０３４ｇ、０．２５ｍｍｏｌ）、ジクロロへキシルカルボジイミド（０．１１ｇ、０．５３ｍｍｏｌ）、及びメタノール（２００μＬ、４．９ｍｍｏｌ）で処理した。反応混合物を４時間攪拌し、０．４５μｍフィルターで濾過し、アセトニトリルで洗い（３×３ｍＬ）、減圧下で濃縮し、ジクロロメタンに溶かした。この溶液を飽和重炭酸ナトリウム（２×２５ｍＬ）、水（２×２５ｍＬ）、及び食塩水（２×２５ｍＬ）で洗い、無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥させ、濾過し、減圧下で濃縮した。結果として得られた固形物を沸騰しているヘプタンに溶かした。結果として得られた懸濁液を体積を濃縮し（約１ｍＬ）、濾過して結晶化させ、白色固体の化合物Ｃ３（０．０８０ｇ、７７％）を得、ＬＣ／ＭＳ及び1Ｈ−ＮＭＲによって純粋であることが確認された。
【０４４３】
合成実施例５３
４−（３−メトキシカルボニル−２−キノリン−３−イル−アリル）−ピペリジン−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル化合物Ｃ１の調製
四口５Ｌフラスコに、テフロンコーティングした熱電対、還流冷却器、機械的攪拌器、及び窒素流入口を装備し、これにマロン酸メチルのカリウム塩（３２０．９ｇ、２．０５６ｍｏｌ）、ＭｇＣｌ2（９２．９ｇ、０．９７６ｍｏｌ）、及びＴＨＦ（１．２５Ｌ）を加えた。懸濁液を５０℃で５時間加熱し、室温まで冷ました。
【０４４４】
別の三口１Ｌフラスコに、機械的攪拌器、窒素流入口、テフロンで覆われた熱電対、及び隔膜を装備し、この中に、ＴＨＦ（１．２５Ｌ）中、０℃に冷却した４−カルボキシメチル−ピペリジン−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル化合物Ｆ１（２５０．０ｇ、１．０２８ｍｏｌ）に対し、カルボニルジイミダゾール（ＣＤＩ、３３３．４ｇ、２．０５６ｍｏｌ）を１０分間かけて少しずつ加えた。この混合物を室温まで温め、１．５時間攪拌して、アシルイミダゾール中間体を得た。
【０４４５】
このアシルイミダゾール溶液を、周囲温度のマロン酸メチル及びＭｇＣｌ2懸濁液に入れ、結果として得られた混合物を室温で１２時間攪拌した。結果として得られた濃い白色の懸濁液をＥｔＯＡｃ（１Ｌ）で希釈し、分液漏斗に移して、飽和ＮａＨＳＯ4（２Ｌ）で２回洗った。この水相を合わせ、ＥｔＯＡｃ（１Ｌ）で抽出した。合わせた有機相抽出物を、飽和ＮａＨＣＯ3（５００ｍＬ）で２回洗った。合わせた重炭酸塩抽出物を、ＥｔＯＡｃ（２Ｌ）で逆抽出し、この合わせた有機相抽出物にＮａ2ＳＯ4を入れて乾燥させ、濾過し、減圧下で濃縮し、黄色い油状の粗生成物２９０ｇを得て、これは５時間放置後に結晶化した。シリカゲル上のクロマトグラフィー（２００〜４００メッシュ、１．２５ｋｇ、ヘキサン４Ｌ、２０％のＥｔＯＡｃ／ヘキサン４Ｌ、及び４０％のＥｔＯＡｃ／ヘキサン８Ｌで勾配溶離）によって精製し、４−（３−メトキシカルボニル−２−オキソ−プロピル）−ピペリジン−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル化合物Ｆ２（２７２．１ｇ、８８％）を薄黄色油として得て、放置後にこれは結晶化した。
【０４４６】
1Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）δ４．０５（ｂｒ  ｓ，２Ｈ）、３．７４（ｓ，３Ｈ）、３．４３（ｓ，２Ｈ）、２．７９〜２．６５（ｔ，Ｊ＝１２．４Ｈｚ，２Ｈ）、２．４７（ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ，２Ｈ）、２．１０〜１．９５（ｍ，１Ｈ）、１．７〜１．６（ｄ，Ｊ＝１２．７Ｈｚ，２Ｈ）、１．４４（ｓ，９Ｈ）、１．１８〜１．０２（ｍ，２Ｈ）；13Ｃ  ＮＭＲ（７５ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）（ｐｐｍ）２０１．７、１６７．７、１５４．９、９０．４、７９．６、５２．６、４９．８、４９．６、４３．８、４２．３、３１．９、３１．７、２８．７；ＬＣ／ＭＳ（ＥＳ＋）ｍ／ｚ  ３００．２（Ｍ＋１）；Ｃ15Ｈ25ＮＯ5の分析計算値：Ｃ，６０．１８；Ｈ，８．４２；Ｎ，４．６８。実測値：Ｃ，６０．３２；Ｈ，８．１５；Ｎ，４．５９。
【０４４７】
四口５Ｌフラスコに、機械的攪拌器、テフロンコーティングした熱電対、添加漏斗、及び窒素流入口を装備し、水素化ナトリウム（鉱油中６０％、３０．０ｇ、０．７５２ｍｏｌ）及びトルエン（４５０ｍＬ）を入れた。この懸濁液を内部温度−５℃に冷却し、化合物Ｆ２（１５０．０ｇ、０．５０１ｍｏｌ）のトルエン（１２００ｍＬ）中溶液を滴下で加え、添加中に内部温度−３℃未満を維持するような速度にした。添加が完了したら、混合物を４０分間０℃で寝かせ、次に連続的滴下によりジイソプロピルエチルアミン（４３６．３ｍＬ、２．５０５ｍｏｌ）を加え、次にトリフルオロメタンスルホン酸無水物（１１８．７ｍＬ、０．７０６ｍｏｌ）を加え、添加中に内部温度５℃未満を維持した。添加完了後、混合物を室温まで温め、１時間攪拌した。混合物を０℃に冷却し、飽和食塩水（１．５Ｌ）を入れて反応を止め、ＥｔＯＡｃ（１Ｌ）で希釈し、２相に分離した。この有機相を水（１Ｌ）で洗い、次に合わせた水相をＥｔＯＡｃ（１Ｌ）で再抽出した。合わせた有機相にＮａ2ＳＯ4を入れて乾燥させ、濾過し、濃縮して、（Ｚ）−４−（３−メトキシカルボニル−２−トリフルオロメタンスルホニルオキシ−アリル）−ピペリジン−１−カルボン酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル化合物Ｆ３（２８７ｇ）を、赤茶色の油っぽい固形物として得た。この物質は、1Ｈ  ＮＭＲ分析により、次の反応工程における使用に満足できるものと判断された。ビニルプロトンの信号は、Ｅ−異性体では〜６．０ｐｐｍ、Ｚ−異性体では５．８８ｐｐｍに現われた。
【０４４８】
1Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）δ５．８８（ｓ，１Ｈ）、４．１（ｂｒ  ｓ，２Ｈ）、３．７８（ｓ，３Ｈ）、２．６１〜２．７８（ｔ，Ｊ＝１２．６Ｈｚ，２Ｈ）、２．３１（ｍ，２Ｈ）、１．７８（ｍ，１Ｈ）、１．６５〜１．７７（ｄ，Ｊ＝１２．８Ｈｚ、２Ｈ、１．４５（ｓ，９Ｈ）、１．２０（ｍ，２Ｈ）、０．８０〜１．３０（残留ジイソプロピルエチルアミン）；13Ｃ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3、７５ＭＨｚ）（ｐｐｍ）１６２．８、１５７．０、１５４．８、１１３．２、７９．８、５４．９、５２．３，４１．９、３３．７、３１．７、２９．９、２８．６；ＨＰＬＣ手法Ａ：（Ｐｈｅｎｏｍｅｎｅｘ  Ｊｕｐｉｔｅｒ：５μｍ、Ｃ−１８、３００Å、４．６×２５０ｍｍ、２９℃）Ｈ2Ｏ：ＣＨ3ＣＮ  １５分で９０：１０〜１０：９０、２分で９０：１０に維持。流速：１．５ｍＬ  ｍｉｎ-1、ＵＶ検出：２２０ｎｍ、０．０２５％ＴＦＡ緩衝Ｈ2Ｏ。保持時間：１５．３９分。
【０４４９】
キノリン−３−ボロン酸（１３０．０ｇ、０．７５２ｍｏｌ）の懸濁液に、ＴＨＦ（１．２Ｌ）溶液中、化合物Ｆ３（２１６．１ｇ、０．５０１ｍｏｌ）及びビストリフェニルホスフィンパラジウム二塩化物（１７．５ｇ、０．０２５ｍｏｌ）を加え、２ＭのＮａ2ＣＯ3（１６０ｍＬ，０．３２ｍｏｌ）を加えた。この混合物を４０℃に加熱し、ＨＰＬＣ分析で反応完了を監視した。７時間後、反応が完了したと判断され（ＨＰＬＣにより＞９７％の変換率）、この混合物を濾過し、ＥｔＯＡｃ（１Ｌ）で希釈した。この混合物をＮａＨＣＯ3（２×２Ｌ）で洗い、次に０．５ＭのＮａＯＨ（２×２Ｌ）で洗った。合わせた水相を、ＥｔＯＡｃ（１Ｌ）で抽出し、合わせた有機相にＮａ2ＳＯ4を入れて乾燥させ、濾過し、減圧下で濃縮して、茶色い粗油（２００ｇ）を得た。シリカゲル上のクロマトグラフィー（１ｋｇ、７０〜２３０メッシュ、ヘキサン４Ｌ、１０％  ＥｔＯＡｃ／ヘキサン４Ｌ、４０％  ＥｔＯＡｃ／ヘキサン２Ｌ、及び１００％ＥｔＯＡｃで勾配溶離）によって精製し、濃茶色の油状の固形物を得た。この油状の固形物をヘキサン（１５０ｍＬ）で細かくし、濾過により回収し、標題化合物Ｃ１を得た。これはＨＰＬＣ分析で純度９６％であった（１３９．１ｇ、６７％、ｍｐ  １１９〜１２４℃）。ＮＭＲ分析により、芳香族領域において低い不純物が示された（不純物１５％）。オレフィンは、核オーバーハウザー効果（ｎＯｅ）研究による判定により、Ｚ−異性体であった（Ｚ−異性体ビニルプロトン共鳴は６．０５ｐｐｍ、Ｅ−異性体は６．２８ｐｐｍ）。
【０４５０】
1Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）δ８．７１（ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，１Ｈ）、８．１０（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ）、７．９６（ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，１Ｈ）、７．８１（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ）、７．７２（ｔｄ，Ｊ＝７．０，１．３Ｈｚ，１Ｈ）、７．５６（ｔｄ，Ｊ＝７．０，１．３Ｈｚ，１Ｈ）、６．０５（ｓ，１Ｈ）、４．０１（ｂｒ  ｓ，２Ｈ）、３．４７（ｓ，３Ｈ）、２．５９（ｂｒ  ｓ，２Ｈ）、２．５１（ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，２Ｈ）、１．７０〜１．６０（ｍ，２Ｈ）、１．４２（ｓ，１０Ｈ）、１．２０〜１．０３（ｍ，２Ｈ）；13Ｃ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，７５ＭＨｚ）（ｐｐｍ）１６５．８９、１５４．９１、１５４．１９、１４９．９７、１４７．７２、１３３．８１、１３２．６８、１２９．９５、１２９．５６、１２８．２３、１２７．１４、１２０．３３、５１．５３、４７．７４、４４．０（ｂｒ）、３４．００、３２．１０、２８．６４；ＨＰＬＣ手法Ａ：保持時間：１１．２１ｍｉｎ；ＬＣ／ＭＳ（ＥＳ＋）ｍ／ｚ４１１．２（Ｍ＋１）；Ｃ24Ｈ30Ｎ2Ｏ4の分析計算値：Ｃ，７０．２２；Ｈ，７．３７；Ｎ，６．８２。実測値：Ｃ，６９．８７；Ｈ，７．５６；Ｎ，６．５８。
【０４５１】
合成実施例５４
化合物Ｃ４、Ｃ５、５４ａ及び５４ｂのＨＰＬＣ同定
【０４５２】
【化３０】
2011519340.tif 000090
【０４５３】
化合物Ｃ４、Ｃ５、５４ａ及び５４ｂのラセミ混合物（３２３ｇ、０．７７５ｍｏｌ）を、逐次キラルクロマトグラフィーによって精製した。Ｃｈｉｒａｌｐａｋ  ＡＤ（登録商標）カラムを使用した溶出順序はＣｈｉｒａｌｃｅｌ  ＯＤ（登録商標）カラムを使用した場合には逆になる。このラセミ混合物は、化合物Ｃ５４ｂ、Ｃ５４ａ、Ｃ５及びＣ４の比が１／１／１／１として溶出された。
【０４５４】
化合物５４ｂ及び化合物Ｃ５は、Ｃｈｉｒａｌｃｅｌ  ＯＤ（登録商標）カラム（内径１１０ｍｍ、動的軸圧縮（ＤＡＣ）カラム、２０μｍ  Ｃｈｉｒａｌｃｅｌ  ＯＤ（登録商標）（Ｄａｉｃｅｌ）２０００ｇを充填、溶離剤温度：２８℃；カラム壁温度：３０℃；溶離剤：メタノール；流速：７５０ｍＬ／分）を使用して、化合物５４ａ及び化合物Ｃ４から分離された。サンプルは、ラセミ混合物（５．８ｇ）を２００ｍＬの溶離剤（２９ｍｇ／ｍＬ）に溶かして調製し、１時間当たり３．６回の割合（１時間当たり混合物２０．９ｇ）で注入した。精製は、連続クロマトグラフィーの１５時間後（５６回注入）に完了した。
【０４５５】
化合物５４ａは、Ｃｈｉｒａｌｐａｋ（登録商標）ＡＤカラム（内径１１０ｍｍ、ＤＡＣ、Ｃｈｉｒａｌｐａｋ  ＡＤ（登録商標）２０００ｇ充填；溶離剤温度：３８℃；カラム壁温度：４０℃；溶離剤：アセトニトリル（７５０ｍＬ／分）、エタノール（プラグのすすぎ）；注入量：４ｇ／溶離剤２５０ｍＬ；容量：１４ｇ／ｈで３．５回／ｈ）を使用して、化合物Ｃ４から分離された。
【０４５６】
この手順により、単離された化合物Ｃ４（６５ｇ；収率２０％；キラルＨＰＬＣによる純度９６．１％；化合物Ｃ５、５４ａ及び５４ｂについてそれぞれ０．６８、１．８７、１．３５％）が分離された。他の分画のサンプルも、同様の純度で得られたが、この精製ではこれらの量を最大化するための試みは行われなかった。キラルＨＰＬＣ手法Ａ：Ｃｈｉｒａｌｐａｋ  ＡＤ（登録商標）：（５μｍ、１５０ｍｍ×４．６ｍｍ）、均一濃度エタノール、周囲温度、流速：１．０ｍＬ  ｍｉｎ-1、ＵＶ検出：２５４ｎｍ、保持時間：化合物５４ｂ、５４ａ、Ｃ５及びＣ４についてそれぞれ、５．５分、６．０分、７．５分及び８．５分。
【０４５７】
合成実施例５５
化合物Ｃ４のＨＣｌ脱保護化による二塩酸塩化合物Ｃ６の調製
【０４５８】
【化３１】
2011519340.tif 000091
【０４５９】
３Ｌ三口丸底フラスコに、電磁攪拌器及びアルゴン流入口を装備し、化合物Ｃ４（５５．２２ｇ、３３ｍｍｏｌ）、メトキシベンゼン（１．４４ｍＬ、１３．３ｍｍｏｌ）、及び１，４−ジオキサン（８８０ｍＬ）を入れた。この混合物を、ジオキサン中４Ｍ塩酸（８８３ｍＬ、３．５３ｍｏｌ）で処理し、透明な溶液を得、これには濁りが生じて、濃い赤色の油が沈殿し、攪拌が困難になった。スパチュラを使用して赤い油を攪拌した。４時間後、更に４ＭのＨＣｌ／ジオキサン（９０ｍＬ、０．３６ｍｏｌ）を加え、反応物を更に、ＬＣ／ＭＳによって完了を確認するまで７時間攪拌した。溶媒を減圧下４５℃で除去し、固形物を得て、これをエチルエーテル（１Ｌ）中で細かくし、濾過によって回収し、エチルエーテル（約０．５〜１Ｌ）で洗った。分離した薄いピンク色の固形物を減圧炉内で６時間乾燥させ（５５〜６０℃）、（３Ｓ，３’Ｓ）−４−ピペリジン−４−イル−３−（１，２，３，４−テトラヒドロキノリン−３−イル）−酪酸メチルエステル二塩酸塩化合物Ｃ６（５０．８７ｇ、９８％）を得た。
【０４６０】
1Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ−Ｄ6）δ７．２〜６．８（ｍ，４Ｈ）、３．５８（ｓ，３Ｈ）、３．３３〜３．２１（ｍ，３Ｈ）、３．０〜２．４（ｍ，６Ｈ）、２．３３〜２．２６（ｍ，１Ｈ）、２．０４（ｍ，２Ｈ）、１．８２〜１．７６（ｍ，２Ｈ）、１．５９（ｍ，１Ｈ）、１．４〜１．１（ｍ，４Ｈ）；ＨＰＬＣ（Ｔｈｅｒｍｏ  Ｂｅｔａｂａｓｉｃ（登録商標）−Ｃ−１８、４．６×１５０ｍｍ、周囲、Ｈ2Ｏ：ＣＨ3ＣＮ  ９５：５〜５：９５（１２分）、０．１％ＴＦＡ緩衝Ｈ2Ｏ及びアセトニトリル、流速：１．５ｍＬ  ｍｉｎ-1、ＵＶ検出：２１０ｎｍ、２５４ｎｍ）面積＞９９％、保持時間：４．８５分：；ＬＣ／ＭＳ（ＥＳ＋）ｍ／ｚ３１７．３（Ｍ＋１）；Ｃ19Ｈ28Ｎ2Ｏ2−２ＨＣｌ−０．３５Ｈ2Ｏ−０．６０Ｃ4Ｈ10Ｏの分析計算値：Ｃ，５７．３０；Ｈ，７．９８；Ｎ，６．２４；Ｃｌ，１５．８１。実測値：Ｃ，５６．９４；Ｈ，８．１３；Ｎ，６．７０；Ｃｌ，１５．７７。カールフィッシャー滴定計算値：１．４１％。実測値：１．３９％（ｗ／ｗ）。
【０４６１】
合成実施例５６
化合物Ｃ７の調製
【０４６２】
【化３２】
2011519340.tif 000092
【０４６３】
２００ｍＬ一口丸底フラスコに電磁攪拌器及びアルゴン流入口を装備し、（３Ｓ，３’Ｓ）−４−ピペリジン−４−イル−３−（１，２，３，４−テトラヒドロキノリン−３−イル）−酪酸メチルエステル二塩酸塩化合物Ｃ６（２９．５ｇ、７５．８ｍｍｏｌ）、酸化合物Ｃ７（２０．２３ｇ、８３．３ｍｍｏｌ）、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール水和物（５．８９ｇ、３７．９ｍｍｏｌ）及びジメチルホルムアミド（２９５ｍＬ）のスラリー／溶液を入れた。この反応混合物をアルゴン流でパージし（１５〜２０分）、氷浴で冷却し、１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣＩ、１５．９８ｇ、８３．３ｍｍｏｌ）を一度に加えた。ジイソプロピルエチルアミン（３９．６４ｍＬ、２２７ｍｍｏｌ）を滴下により加えた。この反応混合物を６０分間攪拌し、氷／水浴から出し、室温で１７時間、反応が完了するまで攪拌した。この反応混合物を、飽和重炭酸ナトリウム（３Ｌ）に注ぎ、酢酸エチルで抽出した（４×７５０ｍＬ）。合わせた有機相を飽和塩化アンモニウムで洗い（２×５００ｍＬ）、食塩水で洗い（３×５００ｍＬ）、乾燥させ（ＭｇＳＯ4及びＮａ2ＳＯ4）、濃縮して粗アミド生成物を得た（３５．４ｇ）。この粗生成物をジクロロメタンに溶かし、Ａｎａｌｏｇｉｘ（登録商標）カラム（２回−ＳｉＯ2−２２０ｇ）に入れ、溶出させ（直線勾配、ジクロロメタンから、１：６：３：９０の、ＮＨ4ＯＨ／ＩＰＡ／ＥｔＯＨ／ジクロロメタンへ）、粗化合物Ｃ８（４．１ｇ）を得て、次いで精製化合物Ｃ８（３１．７ｇ）を得た。この混合分画をジクロロメタンに溶かし、Ｉｓｃｏ（登録商標）カラム（ＳｉＯ2−１２０ｇ）に入れ、溶出させ（直線勾配、ジクロロメタンから１．５：６：３：８９．５の、ＮＨ4ＯＨ／ＩＰＡ／ＥｔＯＨ／ジクロロメタンへ）、追加の生成物を得た（２．７ｇ）。各精製から得た生成物を合わせて、クロロホルムから濃縮し、標題化合物Ｃ８（３４．４ｇ、収率８３％）を得た。
【０４６４】
1Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−Ｄ6）δ７．００（ｍ，１Ｈ）、６．８４〜６．８０（ｍ，２Ｈ）、６．４２〜６．３８（ｍ，２Ｈ）、６．２８〜６．２３（ｍ，２Ｈ）、５．６０（ｂｒ  ｓ，１Ｈ）、４．３５（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝１３Ｈｚ，１Ｈ）、３．８２（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝１３Ｈｚ，１Ｈ）、３．５９（ｓ，３Ｈ）、３．３〜３．１（ｍ，３Ｈ）、３．０〜２．８（ｍ，２Ｈ）、２．７〜２．４（ｍ，１０Ｈ）、２．２９〜２．２７（ｍ，１Ｈ）、１．９８（ｍ，１Ｈ）、１．８〜１．４（ｍ，６Ｈ）、１．３０（ｍ，１Ｈ）、１．１４（ｍ，１Ｈ）、０．８８（ｍ，２Ｈ）；ＨＰＬＣ：（Ａｇｉｌｅｎｔ  Ｅｃｌｉｐｓｅ（登録商標）ＸＤＢ−Ｃ１８、３．０×１５０ｍｍ、４５℃、Ａ：Ｂ  ８５：１５〜１５：８５（２７分）、（Ａ）１０ｍＭ酢酸アンモニウム／Ｈ2Ｏ（Ｂ）１０ｍＭ酢酸アンモニウム／（Ｈ2Ｏ：アセトニトリル、１：９、流速：０．６ｍＬ  ｍｉｎ-1、ＵＶ検出：２２０〜４００ｎｍ）、面積＞９９％、保持時間：２１．３分：ＬＣ／ＭＳ（ＥＳ＋）ｍ／ｚ５０５．４（Ｍ＋１）；Ｃ30Ｈ40Ｎ4Ｏ3−０．４ＣＨＣｌ3−０．２５Ｈ2Ｏの分析計算値：Ｃ，６５．５６；Ｈ，７．４０；Ｎ，１０．０６；Ｃｌ，７．６４。実測値：Ｃ，６５．７０；Ｈ，７．４２；Ｎ，１０．０９；Ｃｌ，７．８９；燃焼後残留物：＜０．１０％；カールフィッシャー滴定計算値：０．８１％実測値：０．８７％（ｗ／ｗ）。
【０４６５】
合成実施例５７
（３Ｓ，３’Ｓ）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−３−（１，２，３，４−テトラヒドロキノリン−３−イル）−酪酸式（Ｉａ）
【０４６６】
【化３３】
2011519340.tif 000093
【０４６７】
１Ｌ一口丸底フラスコに電磁攪拌器及びアルゴン流入口を装備し、化合物Ｃ８（３４．４４ｇ、６２．８ｍｍｏｌ）、メタノール（１３８ｍＬ、３．４０ｍｏｌ）及び３Ｍ水酸化ナトリウム溶液（６２．８ｍＬ、１８８ｍｍｏｌ）を入れた。この混合液に、酸素を除くためにアルゴンを泡として通し（３０分間）、反応混合物を室温で攪拌し（１８時間）、次に濃縮してメタノールを除去した。油状の水性残留物を水（７００ｍＬ）で希釈し、２Ｍ塩酸（〜２Ｎ、〜１００ｍＬ）及び水酸化ナトリウム（１Ｎ）でｐＨを６．５に調節し、白色のスラリーを得た。このスラリーをジクロロメタンで抽出した（３×３００ｍＬ）。結果として得られた、合わせた有機相の濁った溶液を、ＴＨＦで希釈し、乾燥させ（Ｎａ2ＳＯ4）、濃縮して、ＴＨＦ（〜０．７５当量）と混合した式（Ｉａ）の標題化合物を得た（３４．７ｇ、９７％）。
【０４６８】
1Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＤＭＳＯ−Ｄ6）δ７．０５（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ）、６．８４〜６．８０（ｍ，２Ｈ）、６．４３〜６．３７（ｍ，２Ｈ）、６．２９（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ）、５．６３（ｂｒ  ｓ，１Ｈ）、４．３５（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝１３Ｈｚ，１Ｈ）、３．８２（ｂｒ  ｄ，Ｊ＝１３Ｈｚ，１Ｈ）、３．２〜３．１（ｍ，３Ｈ）、３．０〜２．８（ｍ，２Ｈ）、２．７〜２．４（ｍ，９Ｈ）、２．３４〜２．１３（ｍ，２Ｈ）、１．９７（ｍ，１Ｈ）、１．８〜１．４（ｍ，６Ｈ）、１．１９（ｍ，１Ｈ）、１．１４（ｍ，１Ｈ）、０．８７（ｍ，２Ｈ）；ＨＰＬＣ（Ａｇｉｌｅｎｔ  Ｅｃｌｉｐｓｅ（登録商標）ＸＤＢ−Ｃ１８、３．０×１５０ｍｍ、４５℃、Ａ：Ｂ  ８５：１５〜１５：８５（２７分）、（Ａ）１０ｍＭ酢酸アンモニウム／Ｈ2Ｏ（Ｂ）１０ｍＭ酢酸アンモニウム／（Ｈ2Ｏ：アセトニトリル，１：９、流速：０．６ｍＬ  ｍｉｎ-1、ＵＶ検出：２２０〜４００ｎｍ）、面積＞９８％、保持時間：１１．９分；ＬＣ／ＭＳ（ＥＳ＋）ｍ／ｚ４９１．２（Ｍ＋１）；Ｃ29Ｈ38Ｎ4Ｏ3−０．７５ＴＨＦ−０．０５ＤＣＭ−０．４５Ｈ2Ｏの分析計算値：Ｃ，６９．１０；Ｈ，８．１４；Ｎ，１０．０６；Ｃｌ，０．６４。実測値：Ｃ，６８．７３；Ｈ，７．６８；Ｎ，９．８５；Ｃｌ，０．６５。燃焼後の残留物：＜０．１０％。カールフィッシャー滴定計算値：１．４６％。実測値：１．２８％（ｗ／ｗ）。
【０４６９】
合成実施例５８
（３Ｓ，３’Ｓ）−４−［１−（３−５，６，７，８−テトラヒドロ−［１，８］ナフチリジン−２−イル−プロピオニル）−ピペリジン−４−イル］−３−（１，２，３，４−テトラヒドロキノリン−３−イル）−酪酸塩酸塩式（Ｉａ）
式（Ｉａ）の化合物（４１．１５ｇ、７４．８５ｍｍｏｌ）を水（６１７ｍＬ）、１Ｍ水性塩酸（１５０ｍＬ、１５０ｍｍｏｌ）、及びアセトニトリル（９３ｍＬ）に溶かした。結果として得られた溶液をシリンジフィルター（０．４５μｍ、ナイロン）で濾過して６００ｍＬ凍結乾燥用ボトル６本に入れ、凍結させた。これらのボトルを５日間凍結させ、望ましい、ＨＣｌ塩としての式（Ｉａ）の化合物を得た（４０．５ｇ、９２％）。
【０４７０】
ｍｐ  １４６〜１４８℃（分解）；ＨＰＬＣ（Ａｇｉｌｅｎｔ  Ｅｃｌｉｐｓｅ（登録商標）ＸＤＢ−Ｃ１８、３．０×１５０ｍｍ、４５℃、Ａ：Ｂ  ９５：５〜２５：７５（２７分）、（Ａ）１０ｍＭ酢酸アンモニウム／Ｈ2Ｏ（Ｂ）１０ｍＭ酢酸アンモニウム／（Ｈ2Ｏ：アセトニトリル、１：９）、流速：０．６ｍＬ  ｍｉｎ-1、ＵＶ検出：２２０〜４００ｎｍ）、面積＞９８％、保持時間：１５．９分：ＬＣ／ＭＳ（ＥＳ＋）ｍ／ｚ４９１．２（Ｍ＋１）；Ｃ29Ｈ38Ｎ4Ｏ3−２．２ＨＣｌ−１Ｈ2Ｏの分析計算値：Ｃ，５９．１５；Ｈ，７．２２；Ｎ，９．５１；Ｃｌ，１３．２５。実測値：Ｃ，５９．５５；Ｈ，７．４７；Ｎ，９．５５；Ｃｌ，１３．７５。燃焼後の残留物：＜０．１０％。カールフィッシャー滴定計算値：３．０６％。実測値：３．３６％（ｗ／ｗ）。
【０４７１】
化合物Ｃ３のキラルＨＰＬＣ分析の追加データ
キラルＨＰＬＣ手法Ｂ：Ｃｈｉｒａｌｐａｋ  ＡＤ−Ｈ：（４．６×２５０ｍｍ）、均一濃度ヘキサン：ＩＰＡ  ８０：２０、２３℃、流速：１．０ｍＬ  ｍｉｎ-1、ＵＶ検出：２５４ｎｍ、保持時間：１６．５分（化合物Ｃ３）、２６．６分（Ｒ−異性体化合物Ｃ２）、９分（化合物Ｃ１）。
【０４７２】
化合物Ｃ３の追加ＮＭＲ及び旋光度データ
1Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ８．８０（ｓ，１Ｈ）、８．１０（ｍ，１Ｈ）、７．９０（ｍ，１Ｈ）、７．８０（ｍ，１Ｈ）、７．７０（ｍ，１Ｈ）、７．５０（ｍ，１Ｈ）、４．００（ｍ，２Ｈ）、３．５５（ｓ，３Ｈ）、３．４５（ｍ，２Ｈ）、２．７０（ｍ，１Ｈ）、２．５０（ｍ，２Ｈ）、１．８０（ｍ，２Ｈ）、１．６０（ｍ，１Ｈ）、１．４０（ｓ，９Ｈ）、１．３−１．０（ｍ，４Ｈ）；ＬＣ／ＭＳ（ＥＳ＋）  ｍ／ｚ：４１３．２５（Ｍ＋１）；Ｃ24Ｈ32Ｎ2Ｏ4−０．２Ｈ2Ｏの分析計算値：Ｃ，６９．２７；Ｈ，７．８５，Ｎ，６．７３。実測値：Ｃ，６９．０８；Ｈ，７．７２；Ｎ，６．３５；［α］D23＝−２３．１８°、ｃ０．４８、ＭｅＯＨ。
【０４７３】
合成実施例５９
化合物Ｃ１の（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ／［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2水素化
（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ配位子（６．７ｍｇ、０．０１１ｍｍｏｌ）及び［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2金属付加物（１．９ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ）を、ガラスライナーに入れ、これを水素化反応器に入れた。反応器を密閉し、窒素でパージした。ジクロロエタン（ＤＣＥ、１ｍＬ、無水、脱気済み）を注入ポートから注入し、混合物を窒素下、室温で３０分間攪拌し、その場で（Ｒ）−Ｍｅ−ＢｏＰｈｏｚ／［Ｒｈ（エチレン）2Ｃｌ］2錯体（０．０１ｍｍｏｌ、Ｓ／Ｃ  １００／１）を形成させた。３０分後、ＤＣＥ（４ｍＬ）中の化合物Ｃ１（４１０ｍｇ、１ｍｍｏｌ）を、注入ポートから注入した。無水、脱気済みＤＣＥを使用して、基質原液を窒素下で調製した。結果として得られた混合物を、攪拌せずに水素で５回パージし、次に攪拌しながら水素で５回パージした。反応混合物を６０℃、３０００ｋＰａ（３０ｂａｒ）Ｈ2下で１６時間攪拌した。反応粗混合物を、キラルＨＰＬＣ手法Ｂにより、変換率及びｅｅを分析し、化合物Ｃ３について変換率９７％、ｅ．ｅ．９３％を示した。キラルＨＰＬＣ手法Ｂ：Ｃｈｉｒａｌｐａｋ  ＡＤ−Ｈ（４．６×２５０ｍｍ）、均一濃度ヘキサン：ＩＰＡ  ８０：２０、３５℃、流速：１．０ｍＬ  ｍｉｎ-1、ＵＶ検出：２１０及び２５４ｎｍ、保持時間：１３．２分（化合物Ｃ３）、２５．９分（Ｒ−異性体化合物Ｃ２）、９．６分（化合物Ｃ１）。フラッシュクロマトグラフ（直径２ｃｍ、ヘプタン中３０〜３５％酢酸エチル）により、ＮＭＲ及びＬＣ／ＭＳによって、純粋な化合物Ｃ３（２７６ｍｇ、６７％）を得た。
【０４７４】
合成実施例６０
化合物Ｃ４から化合物Ｃ３への再芳香族化
【０４７５】
【化３４】
2011519340.tif 000094
【０４７６】
化合物Ｃ５（２１．６ｇ、５１．９ｍｍｏｌ）の溶液を乾燥トルエン（４２０ｍＬ）に溶かし、１０％Ｐｄ／Ｃ（１１．３ｇ）を注意深く加えた。反応は、空気中、穏やかに還流させた。反応を６時間還流させ、室温に一晩置いた。更に５時間還流させ、追加の１０％Ｐｄ／Ｃ（２．０ｇ）をトルエン中スラリー（２０ｍＬ）として加えた。反応混合物を更に１時間還流させ、一晩室温に置き、Ｃｅｌｉｔｅ（登録商標）で濾過し、トルエンで何回か洗い、蒸発させた。結果として得られた黄色の油は、週末放置により蒸発して固化し、オフホワイトの固形物を得た（１９．４ｇ）（ＮＭＲ及びＬＣにより、純度８５〜９０％）。この固形物をヘプタン（１００ｍＬ）で一度再結晶化させ、オフホワイトの固形物として化合物Ｃ３を得た（１５．８ｇ、７４％、ｍｐ  ９０〜１０２℃）。キラルＨＰＬＣ（Ｃｈｉｒａｌｐａｋ  ＡＤ−Ｈ（４．６×１５０ｍｍ）、均一濃度ヘキサン：ＩＰＡ  ８０：２０、３５℃、流速：１．０ｍＬ  ｍｉｎ-1、ＵＶ検出：２１０及び２５４ｎｍ、保持時間ｓ：７分（化合物Ｃ３）、１０分（Ｒ−異性体化合物Ｃ２）、５．５分（化合物Ｃ１）：９９％化合物Ｃ３、０．５６％Ｒ−異性体化合物Ｃ５；Ｃ24Ｈ32Ｎ2Ｏ4の分析計算値：Ｃ，６９．８８；Ｈ，７．８２，Ｎ，６．７９。実測値：Ｃ，６９．８７；Ｈ，７．９８；Ｎ，６．７９。パラジウム１６９ｐｐｍ（ＩＣＰ）。
【０４７７】
合成実施例６１
化合物Ｃ３のアキラル水素化
【０４７８】
【化３５】
2011519340.tif 000095
【０４７９】
化合物Ｃ３のサンプル（４８ｍｇ、０．１２ｍｍｏｌ）、水（９０ｍｇ）、及びメタノール中炭素上１０％パラジウム（５０ｍｇ）を、パール容器中で、３６５ｋＰａ（５３ｐｓｉｇ）下、２８時間水素化させた。Ｃｅｌｉｔｅ（登録商標）で濾過及び蒸発後、残留物をシリカゲルで精製し（３０％酢酸エチル、（及びヘプタン中０．１％トリエチルアミン）で溶出させ）、異性体混合物として化合物Ｃ４及び化合物Ｃ５を得た（３５ｍｇ、７０％）。キラルＨＰＬＣ手法Ａを用いてＨＰＬＣ分析を行い、化合物Ｃ５が４５％、化合物Ｃ４が４５％を示した。
【０４８０】
合成実施例６２
Ｘ線による構造の絶対配置の決定のための、化合物Ｃ５からの化合物Ｇ１カンファン酸アミドの調製
【０４８１】
【化３６】
2011519340.tif 000096
【０４８２】
（２Ｓ，３’Ｒ）−４−ピペリジン−４−イル−３−（１’，２’，３’，４’−テトラヒドロキノリン−３’−イル）−酪酸エチルエステル（Ｃ５）のビス−（−）−（Ｓ）−カンファン酸アミド化合物Ｇ１を、次の手順により調製した：
（２Ｓ，３’Ｒ）−４−ピペリジン−４−イル−３−（１’，２’，３’，４’−テトラヒドロキノリン−３’−イル）−酪酸メチルエステル化合物Ｃ５（４．５０ｇ、１０．８ｍｍｏｌ）を、ジオキサン（４５ｍＬ）に溶かし、アニソール（数滴）及びジオキサン中４Ｎ塩酸（４５ｍＬ）で処理した。２時間後、この反応混合物を蒸発させ、粗固形物を得た（４．５ｇ）。この固形物の一部（２．９ｇ）を、飽和炭酸ナトリウム溶液（２５ｍＬ）及び酢酸エチル（２５ｍＬ）との間で分配した。有機相を乾燥させ（Ｎａ2ＳＯ4）、蒸発させて、（Ｓ）−メチル４−（ピペリジン−４−イル）−３−（（Ｒ）−１，２，３，４−テトラヒドロキノリン−３−イル）ブタノアート化合物６２ａ（２．０６ｇ、９３％，ＬＣ／ＭＳ：一致）を得た。
【０４８３】
化合物６２ａ（１６２ｍｇ、０．５１ｍｍｏｌ）を窒素下でジクロロメタン（１０ｍＬ）に溶かし、０℃でトリエチルアミン（０．２１ｍＬ、１．５ｍｍｏｌ）及び（−）−（Ｓ）−カンファン酸塩化物（２７７ｍｇ、１．２８ｍｍｏｌ）で処理し、１．５時間攪拌した。この反応混合物を飽和重炭酸ナトリウム溶液（２５ｍＬ）に注ぎ、ジクロロメタンで抽出し（３×２５ｍＬ）、食塩水（２５ｍＬ）で洗い、乾燥させ（ＭｇＳＯ4）、蒸発させた。この残留物をジクロロメタンに溶かし、フラッシュカラムに流し（直径２ｃｍ、ヘプタン中３０〜３５％酢酸エチルで勾配溶出）、無色の油としてビスアミド化合物Ｇ１を得、これは後に固形となった（２３４ｍｇ、６８％）。
【０４８４】
ＬＣ／ＭＳ（ＥＳ＋）ｍ／ｚ６７７．０（Ｍ＋１）；1Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ７．２〜７．１（ｍ，４Ｈ）、４．６〜４．２（ｍ，３Ｈ）、３．６７（ｓ，３Ｈ）、３．２〜２．８（ｍ，３Ｈ）、２．６〜１．６（ｍ，１４Ｈ）、１．２２（ｓ，３Ｈ）、１．１８（ｓ，３Ｈ）、１．１０（ｓ，６Ｈ）、１．００（ｓ，６Ｈ）、１．５〜０．８（ｍ，５Ｈ）、０．８８（ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ，２Ｈ）；Ｃ39Ｈ52Ｎ2Ｏ8の分析計算値：Ｃ，６９．２１；Ｈ，７．７４，Ｎ，４．１４。実測値：Ｃ，６９．４４；Ｈ，７．９４；Ｎ，４．０２。
【０４８５】
少量の化合物Ｇ１サンプル（２３ｍｇ）をメタノール（３ｍＬ）に溶かし、水を滴下により、濁るまで加えた。少量のメタノールを加えて透明にし、わずかに通気があるアルミホイルの蓋をして、サンプルをゆっくりと蒸発させた。１日後に第一の固形物を得たら、メタノールを加えて再び溶かし、蒸発させることを繰り返した。５日後に結晶が形成され（ｍｐ  １２２〜１３２℃）、単結晶Ｘ旋回説により調べられた。
【０４８６】
合成実施例６３
化合物Ｃ１からの化合物Ｄ１の調製
化合物Ｃ１（１６．６７ｇ、４０．６ｍｍｏｌ、Ｚ−異性体＞９９％（ＮＭＲによる））をＴＨＦ（４８ｍＬ）及びメタノール（６４ｍＬ）に溶かした。この溶液に、水（６４ｍＬ）に溶かしたＬｉＯＨ（８．２ｇ、２００ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を室温で１．５時間攪拌した。反応の進行はＨＬＰＣで監視した。反応物に１ＭのＨＣｌ（理論上９５％、１９０ｍＬ）を加えて反応を止め、リトマス紙でｐＨ７とし、２７℃のロータリーエバポレーターで濃縮した。最後の量の１ＭのＨＣｌ（１０ｍＬ）を攪拌しながら加え、固形物を濾過により回収し、水で洗い（２ｘ５０ｍＬ）、酸を得て、これを空気乾燥してから、一晩減圧乾燥（６０℃）した。茶色の固形物（１５ｇ）は、ＨＰＬＣにより、約１０：９０のＥ／Ｚ混合物であった。この物質を、イソプロパノール（２００ｍＬ）を加え、加熱して還流させ、溶かし、これを周囲温度まで冷まし、１〜２時間寝かせて再結晶化させた。濾過により白色固形物が分離され、これを氷冷したＩＰＡで洗い、化合物Ｄ１を得た（１０．９６ｇ、６８％、ｍ．ｐ．２１５．９〜２１６．９℃）。化合物は、ＨＰＬＣにより、純度９８．３％のＺ−異性体であった（Ｒt６．８６８分）。（Ｅ）−異性体が存在した（Ｒt６．６５４分で１．６２％）（ＨＰＬＣ条件：Ａｇｉｌｅｎｔ  Ｅｃｌｉｐｓｅ、５μｍ、Ｃ−８、４．６ｍｍ×１５０ｍｍ、ＣＨ3ＣＮ：Ｈ2Ｏ、０．１％ＴＦＡ勾配溶出、１０：９０〜９０：１０（１２分）、保持９０：１０（２分）、流速１．３ｍＬ／分、ＵＶ  ２５４ｎｍ。
【０４８７】
ＬＣ／ＭＳ（ＥＳ＋）ｍ／ｚ３９７（Ｍ＋１）；1Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）δ８．７６（ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，１Ｈ）、８．０２（ｍ，１Ｈ）、７．８２（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，１Ｈ）、７．６７（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１Ｈ）、７．５５（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ）、６．３５（ｂｒ  ｓ，１Ｈ）、６．０９（ｓ，１Ｈ）、４．００（ｂｒ  ｍ，２Ｈ）、２．５１（ｍ，４Ｈ）、１．６１（ｄ，Ｊ＝１２．６Ｈｚ，２Ｈ）、１．４３（ｍ，１０Ｈ）、１．１３（ｍ，２Ｈ）；13Ｃ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3）ｐｐｍ１６８．１、１５４．７、１５２．１、１４９．７、１４６．０、１３４．４、１３２．７、１２８．０、１２７．９、１２７．５、１２７．１、１２１．５、７９．４、４７．１、４３．５、３３．９、３１．８、２８．４；Ｃ23Ｈ28Ｎ2Ｏ4の分析計算値：Ｃ，６９．６７；Ｈ，７．１２，Ｎ，７．０７。実測値：Ｃ，６９．６３；Ｈ，７．１９；Ｎ，７．０６。パラジウム：７４ｐｐｍ（ＩＣＰ）、灰＜０．１％。
【０４８８】
以上、明細書は、例示を目的として提供される実施例と共に、本発明の原理を教示するが、本発明の実践は、以下の特許請求の範囲及びそれらの均等物の範囲内に含まれる全ての通常の変形、改作及び修正を包含することが理解されるであろう。
【０４８９】
本願全体を通じて、様々な出版物が引用されている。これらの出版物は、本発明が関係する現況技術をより完全に説明するため、参照により全体が本明細書に組み込まれる。
【国際調査報告】
2011519340.tif 000114