(57)【要約】  ボウリングボール表面処理装置は、ボウリングボールを均一に研磨及び艶出しするように構成されている。ボウリングボール表面処理装置は、ハウジングと、ボウリングボールの運動を誘導し、ボウリングボールを限定された表面処理領域内にとどめるためにハウジング内部に設けられたボール運動ガイドと、ボウリングボールを支持し、かつ自転及び公転させるためにボール運動ガイドの下に配置された表面処理ディスクとを含む。表面処理ディスクは、ディスクシャフトと、ボウリングボールを研磨又は艶出しするための表面処理要素とを有している。ボウリングボール表面処理装置は、表面処理ディスクをディスク中心軸を中心に自転させるためのディスク自転デバイスと、表面処理ディスクのディスクシャフトを回転可能に保持し、表面処理ディスクをディスク中心軸から離隔した太陽軸の周りで公転運動させるためのディスク公転デバイスとをさらに含む。【選択図】図１
2011525151.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ハウジングと、
ボウリングボールの運動を誘導し、該ボウリングボールを限定された表面処理領域内にとどめるために前記ハウジングの内部に設けられ、前記ボウリングボールを曲線運動コースに沿ってガイドするための曲線ガイド表面部と、前記ボウリングボールの前記運動コースを変更するための方向転換部とによって形成される内部表面を有するボール運動ガイドと、
前記ボウリングボールを支持し、かつ自転及び公転させるために前記ボール運動ガイドの下に配置され、ディスクシャフトと、前記ボウリングボールと摩擦接触して前記ボウリングボールを研摩又は艶出しするための表面処理要素とを有する表面処理ディスクと、
前記表面処理ディスクをディスク中心軸を中心に自転させるためのディスク自転デバイスと、
前記表面処理ディスクの前記ディスクシャフトを回転可能に保持し、前記表面処理ディスクを前記ディスク中心軸から離隔した太陽軸の周りで公転運動させるためのディスク公転デバイスとを備えるボウリングボール表面処理装置。
【請求項２】
前記太陽軸は、前記曲線ガイド表面部よりも前記方向転換部に近い位置に配置されている請求項１に記載のボウリングボール表面処理装置。
【請求項３】
前記方向転換部は略平面形状を有している請求項１に記載のボウリングボール表面処理装置。
【請求項４】
前記表面処理要素は、表面処理布及び該表面処理布に取り付けられたクッション裏地で形成されており、前記クッション裏地は前記クッション裏地の他の部分よりも硬い硬質中心部を有している請求項１に記載のボウリングボール表面処理装置。
【請求項５】
前記ハウジングは、仕切り板によって上部表面処理室と下部駆動室とに隔てられた内部空間を有しており、前記ボール運動ガイドは、前記仕切り板に固着された複数の支持部材を含み、該支持部材のそれぞれはコイルばね部を有している請求項１に記載のボウリングボール表面処理装置。
【請求項６】
前記ディスク公転デバイスは、前記太陽軸を中心に回転するように前記ハウジングに回転可能に取り付けられたサンシャフトと、前記ディスクシャフトを前記サンシャフトと間隔をあけて回転可能に支持するために前記サンシャフトに取り付けられたキャリアアームと、前記サンシャフトを回転させて前記表面処理ディスクを公転運動させるための駆動機構とを備える請求項１に記載のボウリングボール表面処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ボウリングボール表面処理装置に関し、より詳しくは、ボウリングボールを様々な方向に回転させながら均一に研磨(abrading)及び艶出し(polishing)することが可能なボウリングボール表面処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ボウリングボールはレーンと摩擦接触しながら転がるために、その表面にでこぼこの摩耗部や傷が残ることが多い。特に、ボウリングボールはほぼ同一の周面部でレーンと接触しがちであるため、偏摩耗してしまうおそれがある。傷がついたボウリングボールや偏摩耗したボウリングボールは見栄えが悪いだけでなく、そのようなボウリングボールを使用するとボールが予測不可能な動きをしてしまうために、競技者が、例えば彼／彼女が望む通りのスピン技術を発揮することが難しくなってしまう。その結果、このような傷や偏摩耗がボウリングゲームのスコアに悪影響を及ぼすおそれがあり、そのためにプレーするゲームの楽しさが損なわれてしまいかねない。したがって、ボウリングボールを傷が全く又はほとんどない完全な球形になるように定期的に研磨する必要がある。
【０００３】
ボウリングボールを自動研磨する装置を開示している先行技術文献は数多く存在する。それらのうちのひとつが米国特許第５，６１３，８９６号であり、ボウリングボールを支持するように互いに１２０°間隔で配置された３つのシャフトと、対応するそれぞれのシャフトを順方向又は逆方向に回転させる３つのモータと、シャフトに取り付けられた３つの円錐形の研磨カップとを含むボウリングボール表面再処理装置を教示している。このボウリングボール表面再処理装置には利点もあるが、表面再処理工程中にボウリングボールの回転方向や回転軸をしっかりと変えることができないという欠点がある。このため、このボウリングボール表面再処理装置では、ボウリングボールの表面全体を均一に研磨して完全な球形にすることが困難である。
【０００４】
他の先行技術文献として米国特許第７，０６３，６０７号があり、ここでは、ハウジングと、互いに平行な垂直軸を中心に回転するようにハウジングに取り付けられ、それぞれがボウリングボールの一方の側下部でボウリングボールの表面と接触するように構成されている第一及び第二の垂直支持ローラと、垂直支持ローラとともにボウリングボールを支持するようにハウジングに取り付けられ、それぞれが水平軸を中心に回転可能であり、ボウリングボールの他方の側下部でボウリングボールの表面と接触するように構成されている第一及び第二の水平支持ローラと、垂直支持ローラ及び水平支持ローラを回転させるための駆動モータと、ボウリングボールの表面と摩擦接触してボウリングボールを研磨又は艶出しするための研磨−艶出しホイールアセンブリとを含むボウリングボール表面再処理装置が開示されている。
【０００５】
前述した従来の装置は、ボウリングボールを様々な方向に回転させることによってボウリングボールの表面をほぼ均一に研磨又は艶出しすることが可能である。しかしながら、従来の装置は構造が複雑であり、製造が困難かつ製造コストが高く、また非常に故障しやすいために改良の余地がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は従来の装置における前述又は他の問題を考慮してなされたものであり、その目的は、ボウリングボールを様々な方向に回転させ、より短時間でボウリングボールの表面全体を均一に研磨及び艶出しすることが可能なボウリングボール表面処理装置を提供することである。
【０００７】
本発明の他の目的は、構造が単純、製造が容易、かつ費用が安価なボウリングボール表面処理装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、
ハウジングと、
ボウリングボールの運動を誘導し、該ボウリングボールを限定された表面処理領域内にとどめるために前記ハウジングの内部に設けられ、前記ボウリングボールを曲線運動コースに沿ってガイドするための曲線ガイド表面部と、前記ボウリングボールの前記運動コースを変更するための方向転換部とによって形成される内部表面を有するボール運動ガイドと、
前記ボウリングボールを支持し、かつ自転及び公転させるために前記ボール運動ガイドの下に配置され、ディスクシャフトと、前記ボウリングボールと摩擦接触して前記ボウリングボールを研摩又は艶出しするための表面処理要素とを有する表面処理ディスクと、
前記表面処理ディスクをディスク中心軸を中心に自転させるためのディスク自転デバイスと、
前記表面処理ディスクの前記ディスクシャフトを回転可能に保持し、前記表面処理ディスクを前記ディスク中心軸から離隔した太陽軸の周りで公転運動させるためのディスク公転デバイスとを備えるボウリングボール表面処理装置を提供する。
【発明の効果】
【０００９】
本発明のボウリングボール表面処理装置を使用することで、より短時間でボウリングボールの表面全体を均一に研磨及び艶出しすることが可能となる。さらに、本発明のボウリングボール表面処理装置は単純な構造を有しているため、容易かつ費用効率の良い方法で製造することができる。
【００１０】
本発明の上記及び他の目的及び特徴は、添付図面を参照してなされる以下の好適実施形態の説明により明らかになるであろう。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明に係るボウリングボール表面処理装置を示す側面断面図である。
【図２】図１のII-II線に沿ったボウリングボール表面処理装置の断面図である。
【図３】本発明のボウリングボール表面処理装置に使用されているディスク公転デバイスの動作を示す図である。
【図４】本発明のボウリングボール表面処理装置が実行する表面処理工程中のボウリングボールの動作を示す概略図である。
【図５】本発明のボウリングボール表面処理装置が実行する表面処理工程中のボウリングボールの動作を示す概略図である。
【図６】本発明のボウリングボール表面処理装置が実行する表面処理工程中のボウリングボールの動作を示す概略図である。
【図７】本発明のボウリングボール表面処理装置が実行する表面処理工程中のボウリングボールの動作を示す概略図である。
【図８】本発明のボウリングボール表面処理装置が実行する表面処理工程中のボウリングボールの動作を示す概略図である。
【図９】本発明のボウリングボール表面処理装置が実行する表面処理工程中のボウリングボールの動作を示す概略図である。
【図１０】本発明のボウリングボール表面処理装置が実行する表面処理工程中のボウリングボールの動作を示す概略図である。
【図１１】本発明のボウリングボール表面処理装置が実行する表面処理工程中のボウリングボールの動作を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
ここで、本発明に係るボウリングボール表面処理装置の一好適実施形態について、添付図面を参照して詳細に説明する。
【００１３】
図１及び図２を参照すると、ボウリングボール表面処理装置はハウジング１０を含み、ハウジング１０は、ボウリングボールＢを出し入れするための上部出入開口部１１を有している。出入開口部１１は、蓋１２によって開閉可能な状態で閉じられている。ハウジング１０は、仕切り板１５によって上部表面処理室１３と下部駆動室１４とに隔てられた内部空間を有している。出入開口部１１から挿入されたボウリングボールＢは、表面処理室１３で表面処理を受ける。駆動室１４は、後述する様々な駆動ユニットを収納するように構成されている。
【００１４】
ハウジング１０の内部側面には、ボウリングボール表面処理装置の動作を制御するための制御盤１６が取り付けられている。ボウリングボール表面処理装置の様々な動作条件を設定するための一連の押ボタン１７及びタイマー１８がハウジング１０の外部側面に配列されており、制御盤１６と電気的に接続している。
【００１５】
ハウジング１０の表面処理室１３内には、ボウリングボールＢの運動を誘導し、ボウリングボールＢを限定された表面処理領域内にとどめるための略リング状のボール運動ガイド２０が設けられている。ボール運動ガイド２０は、図示されている実施形態では略円形であるが、楕円形、多角形、又は他の不規則な形状であってもよい。
【００１６】
図示されている実施形態では、ボール運動ガイド２０は、ボール運動ガイド２０から下方に延びる複数の棒状の支持部材２０ａによって仕切り板１５に固着されている。それぞれの支持部材２０ａにはコイルばね部２０ｂが設けられており、コイルばね部２０ｂは、ボウリングボール表面処理装置の稼働中にボール運動ガイド２０で生じるおそれがある振動や雑音を軽減する機能を果たす。あるいは、例えばコイルばねのような緩衝材を介してボール運動ガイド２０をハウジング１０に取り付けてもよい。また、図示されている実施形態では４つの支持部材２０ａを使用しているが、支持部材２０ａの数はそれより多くてもよいし、少なくてもよい。
【００１７】
ボール運動ガイド２０は、ボウリングボールＢを自転可能(rotatably)かつ公転可能(revolvably)に受け入れるためのボール受入開口部２１と、内部表面２０ｃとを有しており、ボウリングボールＢは内部表面２０ｃに沿って公転運動する。ボール受入開口部２１はボウリングボールＢよりも直径が少し大きく、ボール受入開口部２１で受け入れたボウリングボールＢが、自身の軸を中心に自転しながらボール運動ガイド２０の内部表面２０ｃに沿って自由に公転できるようになっている。例えばゴムストリップのような弾性的に変形可能な材料で作られている緩衝ライナー２２が、ボール運動ガイド２０の内部表面２０ｃに取り外し可能に取り付けられている。
【００１８】
ボール運動ガイド２０の内部表面２０ｃは、ボウリングボールＢの公転運動を曲線運動コースに沿ってガイドするための曲線ガイド表面部２０ｃ−１と、ボウリングボールＢがボール運動ガイド２０の中心軸の周りを公転運動する際にボウリングボールＢの運動コースを変更するための方向転換表面部２０ｃ−２とを含む。図２において最も詳細に示されているように、曲線ガイド表面部２０ｃ−１は内部表面２０ｃの約３分の２にわたって延びており、また方向転換部２０ｃ−２は略平面形状に形成され、曲線ガイド表面部２０ｃ−１の両端を相互に連結するように構成されている。方向転換部２０ｃ−２は、ボール運動ガイド２０の背面延長部に配置されていることが好ましい。これによって、表面処理が完了した際にボウリングボールＢを取り出しやすくなる。曲線ガイド表面部２０ｃ−１及び方向転換部２０ｃ−２の長さは図２に示されているものに限定されず、必要に応じて適宜変更することができる。図示されている実施形態では、方向転換部２０ｃ−２は平面形状であるが、例えば隆起した形状、略凹形状、又は他の形状に形成してもよい。また、必要であれば、さらなる方向転換部を方向転換部２０ｃ−２と対称になるように形成してもよい。簡潔に述べると、方向転換部２０ｃ−２がボウリングボールＢの運動コースを確実に変更することが可能である限りは、方向転換部２０ｃ−２の形状及び数を変更することができる。
【００１９】
ボール運動ガイド２０の下方には、ボウリングボールＢを支持し、かつ自転及び公転させるための表面処理ディスク３０が配置されている。表面処理ディスク３０は、ディスクの中心軸に沿って下方に延びるディスクシャフト３１を備える。表面処理ディスク３０は、ボウリングボールＢと摩擦接触して表面処理、すなわち研磨及び／又は艶出しを行う表面処理要素を有している。図示されている実施形態では、表面処理要素は表面処理布４０及び表面処理布４０に取り付けられているクッション裏地４１で形成されている。
【００２０】
表面処理布４０の例としては、サンドペーパー(a sheet of sandpaper)やダイアモンドペーパー(a sheet of diamond-coated paper)のような研磨布及び不織布や綿織物のような艶出し布が挙げられる。研磨布及び艶出し布は、ボウリングボールＢを研磨及び艶出しする際に選択的に使用することができる。また、粗度の異なるボウリングボールＢを研磨するために、３種類の研磨布、すなわち粒度の細かい研磨布、中程度の研磨布、及び粗い研磨布を使用することが好ましい。
【００２１】
クッション裏地４１は、表面処理工程中にボウリングボールＢによって生じる衝撃を吸収する、例えばスポンジ材料で作られている。衝撃を和らげるクッション裏地４１は、表面処理ディスク３０の上面に、例えばベルクロ・ファスナー(a Velcro fastener)によって交換可能に取り付けられている。クッション裏地４１は硬質中心部４１ａを有しており、硬質中心部４１ａの硬度はクッション裏地４１の他の部分よりも高くなっている。硬質中心部４１ａは、ボウリングボールＢが半径方向内側に移動してクッション裏地４１の硬質中心部４１ａの真上で表面処理布４０と接触する際に、ボウリングボールＢと表面処理布４０との間に滑りを生じさせる役割を果たす。これによって、表面処理工程中にボウリングボールＢが極めて高速で回転するのを防ぐことができる。クッション裏地４１の硬質中心部４１ａの真上の位置でボウリングボールＢと表面処理布４０との間に確実に滑りを生じさせるために、クッション裏地４１の硬質中心部４１ａに対応する位置に凸中央部を有するように表面処理ディスク３０を形成する。
【００２２】
ボウリングボール表面処理装置は、表面処理ディスク３０及びディスクシャフト３１をディスク中心軸を中心に自転させるディスク自転デバイス(a disc rotating device)と、表面処理ディスク３０をディスク中心軸から所定の距離離隔している太陽軸の周りで公転、すなわち遊星運動させるディスク公転デバイス(a disc revolving device)とを含む。
【００２３】
ディスク自転デバイスは、仕切り板１５を貫通して表面処理室１３及び駆動室１４に延びるディスク駆動シャフト３２と、駆動室１４内に設けられたディスク駆動モータ３３と、ディスク駆動モータ３３のトルクをディスク駆動シャフト３２に伝達するための一組のプーリ３４ａ及び３４ｂ並びにベルト３５と、ディスク駆動シャフト３２のトルクを表面処理ディスク３０のディスクシャフト３１に伝達するための一組の平歯車３６ａ及び３６ｂとを含む。
【００２４】
一方で、ディスク公転デバイスは、太陽軸を中心に回転するように設置されたサンシャフト５１を含む。サンシャフト５１つまり太陽軸は、ボール運動ガイド２０の垂直中心軸からも離隔しており、ボウリングボールＢが以下で述べる表面処理工程中に表面処理ディスク３０の様々な半径方向位置で表面処理布４０と接触できるようになっている。サンシャフト５１つまり太陽軸は、曲線ガイド表面部２０ｃ−１よりも方向転換部２０ｃ−２に近い位置に配置されている。サンシャフト５１は中空型で、仕切り板１５を貫通して駆動室１４へと延びており、仕切り板１５に回転可能に支持されている。
【００２５】
ディスク公転デバイスは、近位端がサンシャフト５１に固着されたキャリアアーム５２をさらに含む。キャリアアーム５２は、その遠位端において、サンシャフト５１と表面処理ディスク３０のディスクシャフト３１との間に所定の間隔をあけてディスクシャフト３１を回転可能に支持するように構成されている。サンシャフト５１は、サンシャフト駆動デバイスによって回転駆動する。サンシャフト５１が図３に示されているように回転する場合、表面処理ディスク３０はディスク中心軸を中心に反時計回りに自転しながらサンシャフト５１の周りを時計回りに公転する。その際、表面処理ディスク３０の自転方向はその公転方向と反対方向であることが好ましい。表面処理ディスク３０が公転運動することによって、ボウリングボールＢもボール運動ガイド２０の中心軸の周りを公転して、ボール運動ガイド２０の内部表面２０ｃに沿って移動する。図４から図１１を参照して以下で詳細に説明するように、ボウリングボールＢは曲線ガイド表面部２０ｃ−１に沿って比較的低い公転速度で移動するが、方向転換部２０ｃ−２に沿って高速で移動する。さらに、ボウリングボールＢの公転運動は、ボウリングボールＢが方向転換部２０ｃ−２と初期接触する際にしばらくの間停止する。
【００２６】
サンシャフト駆動デバイスは、駆動室１４内に設けられたサンシャフト駆動モータ５３を含む。また、サンシャフト駆動デバイスは、サンシャフト駆動モータ５３のトルクをサンシャフト５１に伝達するための一組のプーリ５４ａ及び５４ｂ並びにベルト５５をさらに含む。
【００２７】
表面処理ディスク３０は、表面処理工程中にディスク自転デバイスによってディスク中心軸を中心に自転すると同時に、ディスク公転デバイスによって太陽軸、つまりサンシャフト５１の周りを公転すなわち遊星運動する。それによって、ボウリングボールＢが表面処理ディスク３０の様々な半径方向位置で表面処理布４０と摩擦接触することが可能となる。
【００２８】
この際、ディスク駆動モータ３３及びサンシャフト駆動モータ５３の動作は制御盤１６によって制御される。押ボタン１７及びタイマー１８を使用して、表面処理ディスクを例えば４００〜１２００ｒｐｍの回転速度で自転し、かつ例えば１又は２秒毎に１回転の速度で公転すなわち遊星運動するように設定する。必要であれば、ディスク駆動モータ３３の稼働を例えば１〜３秒間断続的に停止させてもよい。
【００２９】
ボウリングボール表面処理装置は、ボウリングボールＢに表面処理液を供給するための処理液供給デバイスを含む。ボウリングボール表面処理装置には、２種類の表面処理液が使用される。ひとつはボウリングボールＢの研磨に使用するための研磨液であり、もうひとつは艶出しに使用するための艶出し液である。
【００３０】
処理液供給デバイスは、研磨液をボウリングボールＢの表面に噴射するための研磨液噴射ノズル６１と、艶出し液をボウリングボールＢの表面に噴射するための艶出し液噴射ノズル６２と、研磨液を貯蔵するための研磨液タンク６３と、艶出し液を貯蔵するための艶出し液タンク６４と、研磨液タンク６３に貯蔵されている研磨液を研磨液噴射ノズル６１に送り込むための研磨液ポンプ６５と、艶出し液タンク６４に貯蔵されている艶出し液を艶出し液噴射ノズル６２に送り込むための艶出し液ポンプ６６とを含む。
【００３１】
研磨液噴射ノズル６１及び艶出し液噴射ノズル６２は、表面処理室１３内に挿入されたボウリングボールＢと相対するように蓋１２の内側に取り付けられている。研磨液タンク６３、艶出し液タンク６４、研磨液ポンプ６５、及び艶出し液ポンプ６６は駆動室１４内に配置されている。艶出し液タンク６４は排液管６７を通して表面処理室１３と連結しており、表面処理室１３で噴射された研磨液及び艶出し液を回収する。
【００３２】
ここで、上記のように構成されたボウリングボール表面処理装置の動作について説明する。
【００３３】
まず蓋１２を開けて、図１及び図２において一点鎖線で示されているように、ボウリングボールＢをボール運動ガイド２０のボール受入開口部２１から表面処理ディスク３０上に設置する。
【００３４】
それから、ボウリングボール表面処理装置の動作条件を押ボタン１７及びタイマー１８を使用して設定する。ディスク駆動モータ３３及びサンシャフト駆動モータ５３に電圧を加え、制御盤１６による制御のもとで回転駆動する。ディスク駆動モータ３３のトルクを一組のプーリ３４ａ及び３４ｂ並びにベルト３５を通してディスク駆動シャフト３２に伝達した後、一組の平歯車３６ａ及び３６ｂを通してディスクシャフト３１に伝達し、それによって表面処理ディスク３０をディスクシャフト３１とともに回転させる。それと同時に、サンシャフト駆動モータ５３のトルクを一組のプーリ５４ａ及び５４ｂ並びにベルト５５を通してサンシャフト５１に伝達する。サンシャフト５１がキャリアアーム５２とともに太陽軸を中心に回転すると、表面処理ディスク３０が図３に示すようにサンシャフト５１つまり太陽軸の周りを公転すなわち遊星運動する。
【００３５】
その結果、ボウリングボールＢが表面処理ディスク３０に取り付けられている表面処理布４０と摩擦接触を起こすことによって表面処理される。表面処理ディスク３０がボール運動ガイド２０の中心軸から離隔したサンシャフト５１の周りを公転し続けることで、ボウリングボールＢが表面処理ディスク３０の様々な半径方向位置と接触することになる。表面処理ディスク３０の公転運動によって、ボウリングボールＢもボール運動ガイド２０の中心軸の周りを公転して、ボール運動ガイド２０の内部表面２０ｃに沿って移動する。その際、ボウリングボールＢは比較的低い公転速度で曲線ガイド表面部２０ｃ−１に沿って移動するが、比較的高速で方向転換部２０ｃ−２に沿って直線移動する。ボウリングボールＢの公転運動は、ボウリングボールＢが方向転換部２０ｃ−２と初期接触する際にしばらくの間停止する。ボウリングボールＢの自転軸はこの過程において確実に変更されるため、表面処理装置が稼働し続けることによってボウリングボールＢの様々な表面領域が表面処理ディスク３０の表面処理布４０と接触することになる。これによって、ボウリングボールＢの表面全体を均一に研磨又は艶出しすることが可能となる。
【００３６】
ここで、ボール運動ガイド２０内部でのボウリングボールＢの公転運動すなわち遊星運動について、図４から図１１を参照して詳細に説明する。
【００３７】
まず図４を参照すると、表面処理ディスク３０は、ディスク中心軸Ｄを中心に反時計回りに自転しながら太陽軸Ｓの周りを時計回りに公転する。ボウリングボールＢは、ボール運動ガイド２０の内部表面２０ｃの曲線ガイド表面部２０ｃ−１に沿って７時の位置から９時の位置に向かって比較的低速で移動する。ボウリングボールＢは、７時の位置において表面処理ディスク３０と接触点Ｐ１で接触する。ディスク中心軸Ｄと接触点Ｐ１との間の距離が比較的離れているため、ボウリングボールＢはより大きな回転力で表面処理ディスク３０によって回転させられる。ボウリングボールＢは、このように公転及び自転しながら表面処理ディスク３０の表面処理布４０によって研磨又は艶出しされる。
【００３８】
図５を参照すると、表面処理ディスク３０は、さらにディスク中心軸Ｄを中心に反時計回りに自転しながら太陽軸Ｓの周りを時計回りに公転する。したがって、ボウリングボールＢは、ボール運動ガイド２０の内部表面２０ｃの曲線ガイド表面部２０ｃ−１に沿って９時の位置から１１時の位置に向かって移動する。ボウリングボールＢは、９時の位置において表面処理ディスク３０と接触点Ｐ２で接触する。ディスク中心軸Ｄと接触点Ｐ２との間の距離が比較的離れているため、ボウリングボールＢはより大きな回転力で表面処理ディスク３０によって回転させられる。ボウリングボールＢは、このように公転及び自転しながら表面処理ディスク３０の表面処理布４０によって研磨又は艶出しされる。
【００３９】
図６を参照すると、表面処理ディスク３０は、さらにディスク中心軸Ｄを中心に反時計回りに自転しながら太陽軸Ｓの周りを時計回りに公転する。この際、ボウリングボールＢはボール運動ガイド２０の内部表面２０ｃの方向転換部２０ｃ−２に押し付けられる。ボウリングボールＢは、この状態で自身の軸を中心に自転しながら１１時の位置に固定される。ボウリングボールＢは、１１時の位置において表面処理ディスク３０と接触点Ｐ３で接触する。ディスク中心軸Ｄと接触点Ｐ３との間の距離が比較的離れているため、ボウリングボールＢはより大きな回転力で表面処理ディスク３０によって回転させられる。ボウリングボールＢは、１１時の位置で自転しながら表面処理ディスク３０の表面処理布４０によって研磨又は艶出しされる。
【００４０】
図７を参照すると、表面処理ディスク３０は、さらにディスク中心軸Ｄを中心に反時計回りに自転しながら太陽軸Ｓの周りを時計回りに公転する。ボウリングボールＢは、引き続きボール運動ガイド２０の内部表面２０ｃの方向転換部２０ｃ−２に押し付けられている。ボウリングボールＢは、この状態で自身の軸を中心に自転しながら１１時の位置に固定されたままになっている。ボウリングボールＢは、この時点で表面処理ディスク３０と接触点Ｐ４で接触する。接触点Ｐ４は、図６の接触点Ｐ３よりも表面処理ディスク３０の半径方向内側へ移動するため、ボウリングボールＢは低下した回転力で表面処理ディスク３０によって回転させられる。ボウリングボールＢは、１１時の位置で自転しながら表面処理ディスク３０の表面処理布４０によって研磨又は艶出しされる。
【００４１】
図８を参照すると、表面処理ディスク３０は、さらにディスク中心軸Ｄを中心に反時計回りに自転しながら太陽軸Ｓの周りを時計回りに公転する。ボウリングボールＢは、引き続きボール運動ガイド２０の内部表面２０ｃの方向転換部２０ｃ−２に押し付けられている。ボウリングボールＢは、この状態で自身の軸を中心に自転しながら１１時の位置に固定されたままになっている。この時点で、ボウリングボールＢは、表面処理ディスク３０のクッション裏地４１の硬質中心部４１ａ（図１及び図２参照）の真上において、図７の接触点Ｐ４よりも表面処理ディスク３０の半径方向内側に位置する接触点Ｐ５で表面処理布４０と接触する。したがって、ボウリングボールＢに加えられる表面処理ディスク３０の回転力は大幅に低下するため、ボウリングボールＢの回転を減速させることになる。これにより、ボウリングボールＢが制御不可能なほど高速で回転するのを防ぐことができる。
【００４２】
図９を参照すると、表面処理ディスク３０は、さらにディスク中心軸Ｄを中心に反時計回りに自転しながら太陽軸Ｓの周りを時計回りに公転する。ボウリングボールＢは、引き続きボール運動ガイド２０の内部表面２０ｃの方向転換部２０ｃ−２に押し付けられている。ボウリングボールＢは、この状態で自身の軸を中心に自転しながら１１時の位置に固定されたままになっている。この時点で、ボウリングボールＢは、表面処理ディスク３０のクッション裏地４１の硬質中心部４１ａ（図１及び図２参照）の真上において、ディスク中心軸Ｄとほぼ重なる接触点Ｐ６で表面処理布４０と接触する。したがって、ボウリングボールＢに加えられる表面処理ディスク３０の回転力は非常に小さいままに保たれているため、ボウリングボールＢの回転をさらに減速させる。これにより、ボウリングボールＢが制御不可能なほど高速で回転するのを防ぐことができる。
【００４３】
図１０を参照すると、表面処理ディスク３０は、さらにディスク中心軸Ｄを中心に反時計回りに自転しながら太陽軸Ｓの周りを時計回りに公転する。その結果、ボウリングボールＢは、表面処理ディスク３０のクッション裏地４１の硬質中心部４１ａ（図１及び図２参照）の真上において、ディスク中心軸Ｄからわずかに左に移動した接触点Ｐ７で表面処理布４０と接触する。この時点で、ボウリングボールＢは１１時の位置から移動して、方向転換部２０ｃ−２に沿って図１１（及び図４）に示す７時の位置に向かって急速に直線移動する。ボウリングボールＢの表面上の研磨又は艶出し領域は、この直線運動によって確実に変更される。すなわち、ボウリングボールＢの研磨又は艶出し領域は、表面処理ディスク３０が太陽軸Ｓの周りを１回公転すなわち遊星運動するたびに変更される。したがって、表面処理ディスク３０が公転すなわち遊星運動を続けることで、ボウリングボールＢの表面全体が表面処理ディスク３０の表面処理布４０によって均一に研磨又は艶出しされる。
【００４４】
ボウリングボール表面処理装置が実行する表面処理は研磨工程と艶出し工程とに分けられ、これらは単独で行ってもよいし、組み合わせて行ってもよい。
【００４５】
研磨工程中、表面処理布４０となる研磨布は交換可能に表面処理ディスク３０に取り付けられている。粗度の異なるボウリングボールＢを研磨するために、粒度の粗い研磨布、中程度の研磨布、及び細かい研磨布を選択的に使用してもよい。必要であれば、粒度の粗い研磨布、中程度の研磨布、細かい研磨布を次々に表面処理ディスク３０に取り付けることによって、粗い研磨、中程度の研磨、細かい研磨を連続的に実行することが可能である。研磨工程において、研磨液タンク６３に貯蔵されている研磨液を、研磨液ポンプ６５によって研磨液噴射ノズル６１を通してボウリングボールＢの表面に供給する。
【００４６】
艶出し工程中に、研磨布を表面処理布４０となる艶出し布に取り換える。また、艶出し液タンク６４に貯蔵されている艶出し液を、艶出し液ポンプ６６によって艶出し液噴射ノズル６２を通してボウリングボールＢの表面に供給する。
【００４７】
本発明の好適実施形態を図示及び説明してきたが、下記の特許請求の範囲に記載されている本発明の趣旨及び範囲から逸脱することなく様々な変更及び改良を行うことが可能であることは当業者にとって明らかであろう。
【産業上の利用可能性】
【００４８】
本発明のボウリングボール表面処理装置は、ボウリングボール又はボウリングボールと重さ及び大きさが同等な他の球状物体を均一に研磨及び艶出しするために使用することが可能である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【国際調査報告】
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