(57)【要約】  少なくとも１つの還元反応炉（３）と、溶融ガス化炉（４）とを備える溶融還元システム（１）のためのプロセスガス高純度化装置（２）を開示する。このプロセスガス高純度化装置においては、還元反応炉（３）からブラスト炉ガス（６）を運び去るための第１ラインシステム（５）と、溶融ガス化炉（４）からジェネレータガス（８）を運び去るための第２ラインシステム（７）とが設けられ、両方のラインシステム（５、７）はそれぞれの湿式スクラブ洗浄システムにつながり、ブラスト炉ガス（６）又はジェネレータガス（８）の流れは、好ましくは制御ギャップ（４０）を変化させる１つ以上の制御要素（４１）によって絞ることができ、スクラブ洗浄液又は冷却液（４９）は回収し排出することができる。本発明によれば、ブラスト炉ガス（６）を搬送するための第１ラインシステム（５）の第１湿式スクラバーシステム（１１）と、ジェネレータガス（８）を搬送するための第２ラインシステム（７）の第２ベンチュリスクラバーシステム（１２）との両方が、共通の液滴分離装置（１４）の中に開口している。
2011525608.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの還元反応炉（３）と、溶融ガス化炉（４）とを備える、銑鉄を得るための溶融還元設備（１）のためのプロセスガス洗浄装置（２）であって、
前記還元反応炉（３）からブラスト炉ガス（６）を運び去るための第１ラインシステム（５）と、前記溶融ガス化炉（４）からジェネレータガス（８）を運び去るための第２ラインシステム（７）とが設けられ、
好ましくは前記ブラストガス（６）又は前記ジェネレータガス（８）を予備洗浄するための予備スクラブ洗浄装置（９、１０）が前記第１ラインシステム（５）及び前記第２ラインシステム（７）内に配置され、
前記第１ラインシステム（５）及び前記第２ラインシステム（７）はそれぞれ湿式スクラバーシステム（１１、１２）につながり、該湿式スクラバーシステム（１１、１２）は好ましくは環状ギャップスクラバーシステムとして形成され、前記湿式スクラバーシステム（１１、１２）において前記ブラスト炉ガス（６）又はジェネレータガス（８）をスクラブ洗浄液又は冷却液（４９）に暴露することができるとともに、制御ギャップ（４０）を変化させる１つ以上の制御要素（４１）によって前記ブラスト炉ガス（６）又は前記ジェネレータガス（８）の貫流を絞ることができ、
前記湿式スクラバーシステム（１１、１２）の中に導入されて前記ブラスト炉ガス（６）又はジェネレータガス（８）の不純物又はダストと混合されるスクラブ洗浄液又は冷却液（４９）を回収し排出することができる、プロセスガス洗浄装置（２）において、
共通の液滴分離装置（１４）が設けられ、該液滴分離装置の中に、前記ブラスト炉ガス（６）を搬送する前記第１ラインシステム（５）の前記第１湿式スクラバーシステム（１１）と、前記ジェネレータガス（８）を搬送する前記第２ラインシステム（７）の前記第２湿式スクラバーシステム（１２）との両方が開口していることを特徴とする、溶融還元設備（１）のためのプロセスガス洗浄装置（２）。
【請求項２】
前記第１湿式スクラバーシステム（１１）と前記第２湿式スクラバーシステム（１２）と前記液滴分離装置（１４）とは共通のスクラブ洗浄タワーに配置されていることを特徴とする請求項１に記載の溶融還元設備（１）のためのプロセスガス洗浄装置（２）。
【請求項３】
前記第１ラインシステム（５）の前記第１湿式スクラバーシステム（１１）の下流に配置された第１の流出ライン（３８）と、前記第２ラインシステム（７）の前記第２湿式スクラバーシステム（１２）の下流に配置された第２の流出ライン（３９）とは、回収ライン部分（１６）の中で合流し、前記回収ライン部分（１６）は、前記液滴分離装置（１４）の中に開口していることを特徴とする請求項１又は２に記載の溶融還元設備（１）のためのプロセスガス洗浄装置（２）。
【請求項４】
前記回収ライン部分（１６）は、実質的に円筒状に構成された液滴分離装置（１４）のジャケット領域に、実質的に接線方向に開口していることを特徴とする請求項３に記載の溶融還元設備（１）のためのプロセスガス洗浄装置（２）。
【請求項５】
前記第２ラインシステム（７）は、圧力制御装置（２０）を有する前記第２湿式スクラバーシステム（１２）の上流に配置された第１供給ライン（１７）の領域に設けられ、前記圧力制御装置（２０）によって、前記ジェネレータガス（８）の貫流を制御することの結果として、前記溶融ガス化炉内（４）の望ましい操業圧力を一定に保持することができ、
前記第２湿式スクラバーシステム（１２）は閉塞不可能なリークギャップを有し、該リークギャップを通じて前記ジェネレータガス（８）の永続的な流出が、制御ギャップ（４０）を狭める又は広げる、好ましくは円錐形状に構成された制御要素（４１）の位置にかかわらず可能とされることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の溶融還元設備（１）のためのプロセスガス洗浄装置（２）。
【請求項６】
第２供給ライン（１８）が設けられ、該第２供給ライン（１８）は、前記第１供給ライン（１７）に並行に接続されるとともに、前記第１供給ライン（１７）と同様に第２湿式スクラバーシステム（１２）に通じ、
前記第２供給ライン（１８）にはバイパス弁（２１）が設けられ、該バイパス弁によって、ジェネレータガスの量が、規定のジェネレータガス量未満であり、前記第２ラインシステム（７）を通じて送られているという状態が生じた場合には、前記第２供給ライン（１８）を閉とすることができ、ジェネレータガスの量が、規定のジェネレータガス量を超過し、前記第２ラインシステム（７）を通じて送られているという状態が生じた場合には、前記第２供給ライン（１８）を開とすることができることを特徴とする請求項５に記載の溶融還元設備（１）のためのプロセスガス洗浄装置（２）。
【請求項７】
前記第２ラインシステム（７）又は前記ジェネレータガス（８）に割り当てられた第２湿式スクラバーシステム（１２）は、単一の環状ギャップスクラバー又は環状ギャップ（４０）を変化させる単一の制御要素（４１）を有することを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の溶融還元設備（１）のためのプロセスガス洗浄装置（２）。
【請求項８】
前記第１ラインシステム（５）は、流量制御装置（２２）を有する前記第１湿式スクラバーシステム（１１)の上流に配置されたライン部分（５ｂ）の領域に設けられ、前記流量制御装置（２２）によって、前記還元反応炉（３）から排出される前記ブラスト炉ガス（６）の、前記第１湿式スクラバーシステム（１１）への流入を制御することができることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の溶融還元設備（１）のためのプロセスガス洗浄装置（２）。
【請求項９】
銑鉄を得るための溶融還元設備（１）のプロセスガスの洗浄の方法であって、
第１ラインシステム（５）によって１つ以上の還元反応炉（３）から排出されたブラスト炉ガス（６）と、第２ラインシステム（７）によって溶融ガス化炉（４）から排出されたジェネレータガス（８）とが、１つ以上の予備スクラブ洗浄装置（９、１０）によって、好ましくはそれぞれ、予備洗浄されるとともに冷却され、前記第１及び第２ラインシステム（５、７）はそれぞれ、湿式スクラバーシステム（１１、１２）に通じ、該湿式スクラバーシステム（１１、１２）は、好ましくは環状ギャップスクラバーシステムとして形成され、前記湿式スクラバーシステム（１１、１２）において、前記ブラスト炉ガス（６）又は前記ジェネレータガス（８）がスクラブ洗浄液又は冷却液に暴露され、前記ブラスト炉ガス（６）又は前記ジェネレータガス（８）の貫流の量はそれぞれ、制御ギャップ（４０）を変化させる１つ以上の制御要素（４１）によって絞ることができ、前記ブラスト炉ガス（６）又は前記ジェネレータガス（８）の不純物又はダストと混合された前記スクラブ洗浄液又は冷却液が回収され排出される、溶融還元設備（１）のプロセスガスの洗浄の方法において、
前記第１湿式スクラバーシステム（１１）によって送られるとともにスクラブ洗浄液又は冷却液（４９）に暴露された前記ブラスト炉ガス（６）と、前記第２湿式スクラバーシステム（１２）によって送られるとともにスクラブ洗浄液又は冷却液（４９）に暴露された前記ジェネレータガス（８）とは、共通の液滴分離装置（１４）に供給されることを特徴とする、溶融還元設備（１）のプロセスガスの洗浄の方法。
【請求項１０】
前記第１湿式スクラバーシステム（１１）によって送られた前記ブラスト炉ガス（６）及び前記第２湿式スクラバーシステム（１２）によって送られたジェネレータガス（８）は、前記液滴分離装置（１４）中へ流入する前にすでに合流していることを特徴とする、溶融還元設備（１）のプロセスガスの洗浄の方法。
【請求項１１】
合流した前記ブラスト炉ガス（６）及び前記ジェネレータガス（８）から、前記液滴分離装置（１４）の上流において得られた前記プロセスガスは、実質的に円筒形状に構成された液滴分離装置（１４）のジャケット領域内に、実質的に接線方向に送られることを特徴とする請求項１０に記載の溶融還元設備（１）のプロセスガスの洗浄の方法。
【請求項１２】
前記ジェネレータガス（８）の圧力制御は、前記第２湿式スクラバーシステム（１２）の上流に配置された、第１供給ライン（１７）の領域の前記第２ラインシステム（７）において実行され、これによって前記溶融ガス化炉（４）内の望ましい操作圧力を一定に保持し、
ジェネレータガス（８）の永続的な流出が、閉鎖不可能な漏れギャップによって、前記第２湿式スクラバーシステム（１２）において可能とされていることを特徴とする請求項９〜１１のいずれか一項に記載の溶融還元設備（１）のプロセスガスの洗浄の方法。
【請求項１３】
前記ジェネレータガス（８）は、前記第１供給ライン（１７）に並行に接続されるとともに前記第１供給ラインと同様に前記第２湿式スクラバーシステム（１２）に通じる第２供給ライン（１８）によって送ることができ、
前記ジェネレータガスの量が、規定のジェネレータガス量未満であり、前記第２ラインシステム（７）を通じて送られている状態が生じた場合には、前記第２供給ライン（１８）をバイパス弁（２１）によって閉とすることができ、一方、前記ジェネレータガスの量が、規定のジェネレータガス量を超過し、前記第２ラインシステム（７）を通じて送られているという状態が生じた場合には、前記バイパス弁（２１）によって前記第２供給ライン（１８）を開とすることができ、
前記操作圧力の制御はそれ以降、前記第２湿式スクラバーシステム（１２）の制御要素（４１）を調整することによって行われることを特徴とする請求項１２に記載の溶融還元設備（１）のプロセスガスの洗浄の方法。
【請求項１４】
前記ブラスト炉ガス（６）の流量制御は、前記第１湿式スクラバーシステム（１１）の上流に配置されたライン部分（５ｂ）の領域における前記第１ラインシステム（５）において実行されることを特徴とする請求項９〜１３のいずれか一項に記載の溶融還元設備（１）のプロセスガスの洗浄の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、還元反応炉と熔融ガス化炉とを備える銑鉄を得るための熔融還元設備用プロセスガス洗浄装置であって、還元反応炉からのブラスト炉ガスを搬出するための第１ラインシステムと、熔融ガス化炉からのジェネレータガスを搬出するための第２ラインシステムとが設けられ、ブラスト炉ガスとジェネレータガスとを予備洗浄するための予備スクラブ洗浄装置とが好ましくは第１及び第２ラインシステム中に配置され、第１及び第２ラインシステムはそれぞれ湿式スクラバーシステムに通じ、この湿式スクラバーは好ましくは環状ギャップスクラバーシステムとして形成されており、この湿式スクラバーにおいてブラスト炉ガス又はジェネレータガスをスクラブ洗浄液又は冷却液に暴露することができ、ブラスト炉ガス若しくはジェネレータガスの貫通流を、制御ギャップを変化させる１つ以上の制御要素によって流量調節することができ、湿式スクラバーシステム中に導入されてブラスト炉ガス又はジェネレータガスの不純物及びダストと混合されるスクラブ洗浄液又は冷却液を回収し、排出することができる、請求項１の特徴部分に先行する部分による銑鉄を得るための熔融還元設備用プロセスガス洗浄装置に関するとともに、請求項９の特徴部分に先行する部分による、対応する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えばＣＯＲＥＸ（登録商標）又はＦＩＮＥＸ（登録商標）プロセスから知られている方法において、銑鉄又は鋼原材料製品を得るために使用される溶融還元設備は、２つの直列に配置されたシステム、具体的には１つ以上の還元反応炉と熔融ガス化炉とを備えている。
【０００３】
ＣＯＲＥＸプロセスによる還元反応炉はシャフトの形状の容器であり、この中に塊状の鉱石（主に酸化鉄鉱石）の冶金学的装入材料が添加物とともにフード領域を通じて装入される。
【０００４】
還元反応炉は、その底部領域に排出開口部を有し、この開口部を通じて冶金学的装入材料を還元反応炉の下方に配置された熔融ガス化炉の中に、搬送装置によって装入することができる。還元反応炉のフード領域には、第２開口部が配置されており、この第２開口部はブラスト炉ガスを搬出する第１ラインシステムを接続するために使用される。
【０００５】
熔融ガス化炉はその内側に耐火ライニングを有する容器であり、そのフード領域は３つの開口部を有している。第１開口部は冶金学的装入材料を熔融ガス化炉の中に搬送するために使用される。第２開口部は、装入装置によって石炭又は炭素を含有する材料を熔融ガス化炉内に搬送するために使用される。
【０００６】
酸素ラインは酸素を熔融ガス化炉の炉床領域に供給するために使用され、使用される炭素含有材料はガス化されて熔融ガス化炉の内側で以下ではジェネレータガスと称されるプロセスガスが生成される。ジェネレータガスは主に一酸化炭素と水素とを含み、熔融ガス化炉のフード領域の第３開口部を使用して第２ラインシステムを通じて排出される。このように排出されるジェネレータガスの大部分は還元プロセスガスとして使用可能とされて、供給ラインによって還元反応炉の中に導入される。還元反応炉中に保持されている冶金学的装入材料が、ジェネレータガスを通過させることによって化学的に還元されるか、又は酸化鉄鉱石がいわゆるスポンジ鉄として知られているものに還元される。
【０００７】
次いで、搬送装置の手段によってこの固体の海綿鉄が溶融ガス化炉の中へと連続的にドロッピングシャフトを下行し、そこで最終還元されるか又は溶融される。既存のブラスト炉プロセスの場合と同様に、溶融銑鉄は溶融ガス化炉の底部領域にスラグとともに溜まり、最終的に溶融ガス化炉の底部領域から取り出すことができる。銑鉄は、製鋼所において精錬プロセスによってさらに処理されて鋼になるか、又は鋳鉄の形で直接製品として使用される。
【０００８】
溶融ガス化炉においては、通常は４〜５バールの一定の操業圧力を維持する努力が為される。単位容量あたりの反応炉からの特定の産出量は圧力増加に伴って増加するので、圧力が増加する状態下での操業が経済的理由から好ましい。したがって、圧力制御システムを第２ラインシステム内に配置する必要があり、この圧力制御システムによって溶融ガス化炉の操業圧力が一定に保持される。
【０００９】
このような操業圧力制御の目的で、還元反応炉のための還元プロセスガスとして主に使用できるようにされたジェネレータガスの一部は、第２湿式スクラバーシステムに送られ、第２ラインシステムから排出され、送出ガスラインの中へ、又は貯蔵タンク中へ供給される。第２ラインシステムから排出されたこの反応炉ガスは、「過剰ガス」と称されている。
【００１０】
効率的に操業される溶融還元設備において、ジェネレータガスの最小量しか排出されるべきではないことは当然である。しかし、溶融ガス化炉中の操業圧力を信頼性高く制御するためには、「過剰ガス」としてのジェネレータガスの所定量（通常は約２０００〜１００００ｍ３／ｈ）の流出は不可避である。
【００１１】
「炉頂ガス」とも称される、還元反応炉から排出されたブラスト炉ガスと、第２ラインシステムから排出されたジェネレータガス又は「過剰ガス」とはそれぞれ、湿式スクラバーシステムにおいて洗浄され、冷却される。このため、第１湿式スクラバーシステムは、ブラスト炉ガスを洗浄し冷却するために第１ラインシステム中に設けられ、第２湿式スクラバーシステムは、ジェネレータガスを洗浄し冷却するために第２ラインシステム中に設けられる。これら湿式スクラバーシステムそれぞれは、前後又は左右に並べて配置されたいずれの数の湿式スクラバーを備えることができる。
【００１２】
湿式スクラバーに対する好ましい実施形態は、ベンチュリ型として知られた設計の環状ギャップスクラバーであり、軸方向に調節可能な円錐形制御要素をベンチュリスロートとして設けられた送気管中に有している。しかし、このタイプの湿式スクラバーは、別の態様に構成することもできる。例えば、円錐状制御要素の代わりに、送気管内の調節可能なフラップを使用することも考えられる。
【００１３】
本願によるプロセスガス洗浄装置の典型的な実施形態の場合には、ベンチュリ型の一般的な環状ギャップスクラバーが使用されている。
【００１４】
この制御要素と環状ギャップスクラバーの送気管との間に形成されるのが制御ギャップであり、制御要素の軸方向の移動によって大きくすることも小さくすることもできる。
【００１５】
制御要素の上流に配置されているのは、制御ギャップ内に配置されている場合もあるのだが、スクラブ洗浄液又は冷却液を噴出するためのノズル装置であり、このノズル装置によって、接近するブラスト炉ガス又はジェネレータガスがスプレーされる。
【００１６】
スクラブ洗浄液又は冷却液によって、通常は予備スクラブ洗浄装置において既に予備冷却されるとともに予備洗浄されているブラスト炉ガス又はジェネレータガスはさらに冷却され、かつ洗浄され、予備スクラブ洗浄装置は主に冷却機能を実行し、ブラスト炉ガス又はジェネレータガスの実際の洗浄は、主に湿式スクラバーシステムによって行われる。
【００１７】
従来技術による溶融還元設備のプロセスガス洗浄プラントは、ブラスト炉ガスを搬送する第１ラインシステムの第１湿式スクラバーシステムと、ジェネレータガスを搬送する第２ラインシステムの第２湿式スクラバーシステムとのそれぞれの下流にそれぞれ自身の液滴分離装置が設けられるように、設計されている。
【００１８】
これら液滴分離装置のそれぞれはハウジングを有し、このハウジングにはバッフルを設けることができ、このバッフルによって、それぞれのスクラバーシステムの中に導入されるとともにブラスト炉ガス又はジェネレータガスの不純物又はダストと混合されるスクラブ洗浄液又は冷却液が回収され、液滴分離装置の底部領域に設けられた流出部によって排出される。
【００１９】
液滴分離装置のハウジングの出口開口部を使用して、スクラブ洗浄され冷却されたブラスト炉ガス又はジェネレータガスは送出ガスの方向に送られ、そこからプロセスガス洗浄システムから得られたプロセスガスがさらなる使用、例えば発電機又は加熱設備においてエネルギー又は熱を生成するために送られる。
【００２０】
したがって、従来技術によれば、第１湿式スクラバーシステムは第１液滴分離装置中に開口し、第２湿式スクラバーシステムは第２液滴分離装置中に開口している。
【００２１】
２つの液滴分離装置のこのような構成は複雑であり、この目的のために設けられたプラントタワーにおいて多くのスペースを占める。このことは、限られたスペースしか使用できないという理由により、特に既存のＣＯＲＥＸ／ＦＩＮＥＸ技術を有する精錬所及び製鋼所を改良する場合に不都合である。
【００２２】
通常、第２湿式スクラバーシステムは２つの環状ギャップスクラバーを備え、第２ラインシステムの第１供給ラインは第２湿式スクラバーシステムの第１の環状ギャップスクラバーの中に開口し、第２ラインシステムの第２供給ラインは第２湿式スクラバーシステムの第２の環状ギャップスクラバーの中に開口している。第２ラインシステムの第１供給ライン及び第２供給ラインの両方が、ここでは閉止弁を設けられている。
【００２３】
それぞれ製造されたジェネレータガスの量に応じて、閉止弁の一つ又は供給ラインの１つが開けられて、よってジェネレータガスの量が任意に第１の環状ギャップスクラバー又は第２の環状ギャップスクラバーへ送られる。２つの環状ギャップスクラバーのうちの１つは、かなり少量のジェネレータガスが貫流するように設計され、他の環状ギャップスクラバーはかなり大量のジェネレータガスが貫流するように設計される。それぞれ所定のジェネレータガスの量に応じて、第１の環状ギャップスクラバー又は第２の環状ギャップスクラバーのいずれかがジェネレータガスを洗浄するか冷却するために使用される。したがって、このような圧力制御システムは多くの環状ギャップスクラバーの設置を必要とし、その結果として製造及び維持が複雑となる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００２４】
本発明の目的は、２段階溶融還元設備の場合において、簡単かつ効果的なプロセスガス洗浄を可能にすることである。
【００２５】
特に、プロセスガス洗浄設備の液滴分離システムは、できるだけ多くのスペースを節約できるように、またできるだけ少ない構成に対する経費で作るように構成されるべきである。
【００２６】
本発明のさらなる目的は、ジェネレータガスを搬送する第２ラインシステムの第２湿式スクラバーシステムを単純化することである。ここで、できるだけ効率的な圧力制御システムを提供することが意図されており、このような圧力制御システムの手段によって、溶融ガス化炉の操業圧力を制御するために必要とされる、第２ラインシステムから排出されるジェネレータガス又は「過剰ガス」の流出量が最小化される。
【課題を解決するための手段】
【００２７】
本発明によればこれら目的は、請求項１の特徴を有するプロセスガス洗浄装置と、請求項９の特徴を有するプロセスガス洗浄のための対応する方法とによって達成される。
【００２８】
請求項１は、少なくとも１つの還元反応炉と、溶融ガス化炉とを備える、銑鉄を得るための溶融還元設備のためのプロセスガス洗浄装置に向けたものであって、第１ラインシステムが、少なくとも１つの還元反応炉からブラスト炉ガスを運び去るために設けられ、第２ラインシステムが溶融ガス化炉からジェネレータガスを運び去るために設けられている。例えばＣＯＲＥＸプロセスに基づいて操業される溶融還元設備の場合には、１つの還元反応炉のみが設けられており、例えばＦＩＮＥＸプロセスに基づいて操業される代替的な溶融還元設備の場合には、多くの還元反応炉を前後に並べて配置して設けることができ、そこでは冶金学的装入材料又は塊鉱のかけらの段階的な予備還元が行われる。
【００２９】
ブラスト炉ガス又はジェネレータガスを予備洗浄するための１つ以上の予備スクラブ洗浄装置が好ましくは前記第１及び第２ラインシステム内にそれぞれ配置され、第１及び第２ラインシステムはそれぞれ湿式スクラバーシステムにつながり、該湿式スクラバーシステムは好ましくは環状ギャップスクラバーシステムとして構成され、この湿式スクラバーシステムにおいてブラスト炉ガス又はジェネレータガスをスクラブ洗浄液又は冷却液に暴露することができるとともに、制御ギャップを変化させる１つ以上の制御要素によってブラスト炉ガス又はジェネレータガスの貫流を絞ることができ、湿式スクラバーシステムの中に導入されてブラスト炉ガス又はジェネレータガスの不純物又はダストと混合されるスクラブ洗浄液又は冷却液は、回収し取り除くことができる。また、例えばガスサイクロン、衝突分離機、又はフィルターのような乾式ダスト除去装置を予備スクラブ洗浄装置の代わりに配置し、ブラスト炉ガス又はジェネレータガスを予備洗浄することもできる。
【００３０】
本発明によれば、共通の液滴分離装置が設けられ、この液滴分離装置の中に、ブラスト炉ガスを搬送する第１ラインシステムの第１湿式スクラバーシステムと、ジェネレータガスを搬送する第２ラインシステムの第２湿式スクラバーシステムとの両方が開口している。
【００３１】
したがって、ここではただ１つの液滴分離装置のみが、スクラブ洗浄液又は冷却液によって混合された「炉頂ガス」及び「過剰ガス」の不純物及びダストを回収して取り除くために必要とされる。
【００３２】
第２湿式スクラバーシステムに割り当てられた液滴分離装置は、従来技術によるプロセスガス洗浄設備の場合には、既に大幅に大きく作られている。これら液滴分離装置は、１００００ｍ３／ｈ〜２０００００ｍ３／ｈのジェネレータガス量における短期間の変動に対処できなければならない。第１及び第２湿式スクラバーシステムに対する本発明による共通の液滴分離装置は、したがってジェネレータガスだけではなく、還元反応炉に発するブラスト炉も受け入れ、従来技術によって第２湿式スクラバーシステムのみに割り当てられた液滴分離装置よりもわずかに大きく寸法を決められる。
【００３３】
したがって、第１湿式スクラバーシステムの除去された液滴分離装置の結果として使われなくなるスペースは、液滴分離装置及び第２湿式スクラバーシステムによって既に占有されたスペースの大きさの関連した増加が結果的に生じることなく、溶融還元設備に関連する他の装置にだけ使用することができる。
【００３４】
したがって、従来技術によるプロセスガス洗浄装置に比べると、１つの液滴分離装置を無しに済ますことができ、結果的にスペースと重量とに関する大幅な節約が実現される。本発明による液滴分離システムは、構成部品に対する比較的少ない経費で作ることができる。
【００３５】
少なくとも１つの還元反応炉から排出されたブラスト炉ガスと、溶融ガス化炉から排出されたジェネレータガスの量とは、共通の液滴分離装置内において既に合流させられ、液滴分離装置のただ１つの出口開口部を使用して、この合流して旋回させられたプロセスガス混合ガスを送出ガスとして直接送出ガスラインの中、又は貯蔵タンクの中に供給することができる。
【００３６】
第２湿式スクラバーシステムによって送られたジェネレータガスの量は、処理の結果として大幅に変動するが、液滴分離装置中への、よって、送出ガスライン中への、プロセスガス混合物の比較的一定な流入量は、液滴分離装置の上流で既に行われているジェネレータガスの量と、（ジェネレータガスの量と比較して非常に多い）第１湿式スクラバーシステムによって送られるブラスト炉ガスの量との混合の結果として達成することができる。
【００３７】
特に小型の構成が、第１湿式スクラバーシステムと第２湿式スクラバーシステムとによって、本願の好ましい構成上の変形体において得られ、液滴分離装置は共通のスクラビングタワーに配置されている。
【００３８】
本願のさらに好ましい構造上の変形体によれば、第１ラインシステムの第１湿式スクラバーシステムの下流に配置された第１の流出ラインと、第２ラインシステムの第２湿式スクラバーシステムの下流に配置された第２の流出ラインとは、回収ライン部分の中で合流し、この回収ライン部分は、共通の液滴分離装置の中に開口している。このように、均一な圧力レベルを有するブラスト炉ガス／ジェネレータガス混合物は、液滴分離装置の中への進入の前に既に得られている。
【００３９】
本発明のさらに好ましい構成上の変形体においては、回収ライン部分は、実質的に円筒状に構成された液滴分離装置の周縁領域に、実質的に接線方向に開口している。このように、ブラスト炉ガス又はジェネレータガスが液滴分離装置の中に流れるにつれて、合流による旋回がブラスト炉ガス又はジェネレータガスに与えられる。この旋回効果によって、求心力が使用可能とされ、より良好な液滴分離を達成させる。
【００４０】
本発明の特定の好ましい構成上の変形体によれば、第２ラインシステムは、圧力制御装置を有する第２湿式スクラバーシステムの上流に配置された第１供給ラインの領域に設けられ、この圧力制御装置によって、ジェネレータガスの貫流を制御することの結果として、溶融ガス化炉内の望ましい操業圧力を一定に保持することができ、第２湿式スクラバーシステムは閉塞不可能なリークギャップを有し、このリークギャップを通じて、制御ギャップを狭める又は広げる、好ましくは円錐形状に構成された制御要素の位置にかかわらず、ジェネレータガスの永続的な流出が可能とされる。
【００４１】
本発明の好ましい構成上の変形体においては、第２供給ラインが設けられ、この第２供給ラインは、第１供給ラインに並行に接続されるとともに、第１供給ラインと同様に第２湿式スクラバーシステムに通じ、第２供給ラインにはバイパス弁が設けられ、このバイパス弁によって、ジェネレータガスの量が、規定のジェネレータガス量未満であり、第２ラインシステムを通じて送られているという状態が生じた場合には、第２供給ラインを閉とすることができ、ジェネレータガスの量が、規定のジェネレータガス量を超過し前記第２ラインシステムを通じて送られているという状態が生じた場合には、第２供給ラインを開とすることができ、これによって、それ以降、操業圧力制御は第２湿式スクラバーシステムの制御要素を調整することによって実行される。
【００４２】
制御要素によって変化する制御ギャップは完全に閉鎖されることはないので、濃縮された液体を取り除く必要が第２ラインシステムにおいて生じる結果、勿論、実際には還元反応炉中に配置された装入材料又は塊鉱のかけらの予備還元のために使用されることが意図されているジェネレータガスの望ましくない損失がある。
【００４３】
本発明による圧力制御システムによって、既述のバイアス弁を設けた状態での、ジェネレータガスのこの損失は、従来技術による溶融還元設備の場合には約１０００ｍ３／ｈであり、大幅に削減することができる。これは、比較的少量のジェネレータガスが第２湿式スクラバーシステムに所定の時間にもたらされた場合に、第２供給ラインをバイパス弁によって閉鎖することができ、よって、それから第１供給ラインを主に通じて流れるジェネレータガスの量の微調整が圧力制御装置によって行われるからである。
【００４４】
本発明による圧力制御システムのさらなる利点はその柔軟性である。これは、溶融ガス化炉における圧力の突然の増加の場合、及びそれによる大量のジェネレータガスを第２湿式スクラバーシステムによって除去する場合においてさえ、この大量のジェネレータガスを、バイパス弁又は第２供給ラインを開とすることにより、迅速に送出ラインの方向に除去することができるからである。圧力制御はそれ以降、第２湿式スクラバーシステムの制御要素を調整することによって、又は制御ギャップを変化させることによって行われる。
【００４５】
したがって、ジェネレータガス洗浄のために意図された第２湿式スクラバーシステムは通常、２つの環状ギャップスクラバーを割り当てられた供給ラインとともに備え、それぞれ生産されるジェネレータガスの量に応じて、供給ラインの一方が閉止弁によって開とされ、結果としてジェネレータガスの量が第１の環状ギャップスクラバー又は第２の環状ギャップスクラバーに送られるのに対して、本願によれば、１つの環状ギャップスクラバーを排除することが可能である。
【００４６】
したがって、本発明の好ましい構成上の変形体においては、第２ラインシステム又はジェネレータガスに割り当てられた第２湿式スクラバーシステムは、それぞれ単一の環状ギャップスクラバー又は環状ギャップを変化させる単一の制御要素を有している。
【００４７】
本発明のさらに好ましい構成上の変形体においては、第１ラインシステムは、流量制御装置を有する第１湿式スクラバーシステムの上流に配置されたライン部分の領域に設けられ、この流量制御装置によって、還元反応炉から排出されるブラスト炉ガスの第１湿式スクラバーシステムへの流入を制御することができる。
【００４８】
送出ガスラインの中に供給される送出ガスの圧力は、第２湿式スクラバーシステムの上流に配置された圧力制御システムの、第１湿式スクラバーシステムの上流に配置された流量制御装置との協同によって正確に制御することができる。
【００４９】
請求項９〜１４は、溶融還元設備のプロセスガス洗浄のための請求項１〜８に対応する方法に向けたものである。
【００５０】
請求項９は、銑鉄を得るための溶融還元設備のプロセスガスの洗浄の方法を記載しており、この方法においては、第１ラインシステムによって１つ以上の還元反応炉から排出されたブラスト炉ガスと、第２ラインシステムによって溶融ガス化炉から排出されたジェネレータガスが、１つ以上の予備スクラブ洗浄装置によって、好ましくはそれぞれ、予備洗浄されるとともに冷却され、これら第１及び第２ラインシステムはそれぞれ、湿式スクラバーシステムに通じ、湿式スクラバーシステムにおいて、ブラスト炉ガス又はジェネレータガスがスクラブ洗浄液又は冷却液に暴露され、ブラスト炉ガス又はジェネレータガスの貫流量はそれぞれ、制御ギャップを変化させる１つ以上の制御要素によって絞ることができ、ブラスト炉ガス又はジェネレータガスの不純物と混合されたスクラブ洗浄液又は冷却液が回収され排出される。本発明によれば、第１湿式スクラバーシステムによって送られるとともにスクラブ洗浄液又は冷却液に暴露されたブラスト炉ガスと、第２湿式スクラバーシステムによって送られるとともにスクラブ洗浄液又は冷却液に暴露されたジェネレータガスとは、共通の液滴分離装置に供給される。
【００５１】
本方法の好ましい変形においては、第１湿式スクラバーシステムによって送られたブラスト炉ガス及び第２湿式スクラバーシステムによって送られたジェネレータガスは、前記液滴分離装置中への進入の前にすでに合流されている。
【００５２】
ここでは、合流されたブラスト炉ガス及びジェネレータガスから、液滴分離装置の上流において得られたプロセスガスが、実質的に円筒形状に構成された液滴分離装置の周縁領域内に、実質的に接線方向に送られることが好ましい。
【００５３】
本方法のさらに好ましい変形においては、ジェネレータガスの圧力制御は、第２湿式スクラバーシステムの上流に配置された、第１供給ラインの領域の第２ラインシステムにおいて実行され、これによって溶融ガス化炉内の望ましい操業圧力を一定に保持し、ジェネレータガスの永続的な流出が、閉鎖不可能な漏れリークギャップによって、第２湿式スクラバーシステムにおいて可能とされている。
【００５４】
本方法のさらに好ましい変形においては、ジェネレータガスは、第１供給ラインに並行に接続されるとともに第１供給ラインと同様に第２湿式スクラバーシステムに通じる第２供給ラインによって送ることができ、第２供給ラインは、ジェネレータガスの量が規定のジェネレータガス量未満であり、第２ラインシステムを通じて送られるという状態にある場合には、第２供給ラインをバイパス弁によって閉とされ、一方、ジェネレータガスの量が規定のジェネレータガス量を超過し、第２ラインシステムを通じて送られるという状態が生じた場合には、バイパス弁によって第２供給ラインを開とされ、前記操業圧力の制御はそれ以降、第２湿式スクラバーシステムの制御要素を調整することによって行われる。
【００５５】
本方法のさらに好ましい変形においては、ブラスト炉ガスの流量制御は、第１湿式スクラバーシステムの上流に配置されたライン部分の領域において第１ラインシステム内で実行される。
【００５６】
本発明によるプロセス技術の方策それぞれの利点は、前述の装置に関する記載の中に既に記述されている。
【００５７】
本発明は、典型的な例に基づいてより詳細に説明される。
【図面の簡単な説明】
【００５８】
【図１】従来技術による熔融還元設備の図であり、プロセスガス洗浄装置が熔融還元装置に接続されている。
【図２】本発明による熔融還元設備の図であり、プロセスガス洗浄装置が熔融還元装置に接続されている。
【図３】本発明による液滴分離装置の簡単化された平面図である。
【図４】従来技術による環状ギャップ式スクラバーシステムの図であり、この環状ギャップ式スクラバーシステムは液滴分離装置の上流に配置されている。
【図５】本発明による液滴分離装置の断面図であり、２つの湿式スクラバーシステムがこの液滴分離装置に接続されている。
【図６】図５に示す液滴分離装置の平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００５９】
図１は、ＣＯＲＥＸプロセスに基づいて作動する、従来技術による２段熔融還元設備１を示している。この熔融還元設備１は、銑鉄又は鋼原材料製品を得るために使用され、還元反応炉３と、プロセスガス洗浄システム２とともに熔融ガス化炉４とを備えている。
【００６０】
還元反応炉３はシャフトの形状の容器であり、この還元反応炉３の中に冶金学的装入材料又は塊状鉱石のかけら３０が添加物とともに充填される。
【００６１】
還元反応炉３は、その底部領域に排出開口部を有し、この開口部を通じて冶金学的装入材料３０を還元反応炉３の下方に配置された熔融ガス化炉４の中に、搬送スクリュー２９によって装入することができる。還元反応炉３は、フード領域３ａにおいて第１ラインシステム５に接続され、この第１ラインシステム５はブラスト炉ガス６を搬出するように設けられている。
【００６２】
ＣＯＲＥＸプロセスとは異なり、関連した若しくはさらに進んだ一連の熔融還元プロセスがあり、この場合には本願の典型的実施形態において示された熔融還元設備１からの離脱物は、構造的設計又はプロセス技術によって予測されることに注意すべきである。
【００６３】
１つの還元反応炉３のみがＣＯＲＥＸプロセスに基づいて作動する熔融還元設備１の場合に設けられているが、また、例えばＦＩＮＥＸプロセスに基づいて作動する代替的な熔融還元設備の場合には、直列に配置された４つの還元反応炉を設けることも可能であり、例えばこれら還元反応炉において冶金学的な装入材料３０の段階的な予備還元が、装入材料が熔融ガス化炉４に供給される前に、流動床炉プロセスによって行われる。
【００６４】
熔融ガス化炉４はその内側に耐火ライニングを有する容器であり、そのフード領域４ａは３つの開口部を有している。第１開口部は冶金学的装入材料３０を熔融ガス化炉４の中に搬送するために使用される。第２の開口部は、装入装置３１によって石炭又は炭素を含有する材料３２を熔融ガス化炉４内に搬送するために使用される。
【００６５】
酸素ライン２６による酸素によってガス化される炭素含有材料３２を燃焼することによって、以下においてジェネレータガス８と称されるプロセスガスが熔融ガス化炉４内において生成される。ジェネレータガス８は主に一酸化炭素（ＣＯ）と水素（Ｈ２）とを含み、熔融ガス化炉４のフード領域４ａの第３開口部を使用して、第２ラインシステム７の第１ライン部分７ａを通じて排出される。このように排出されるジェネレータガス８の主要部分は、還元プロセスガスとして使用可能とされて供給ライン３３によって還元反応炉３の中に導入される。還元反応炉３中に保持される冶金学的装入材料３０は、ジェネレータガス８を通過させることによって化学的に還元されるか、又は酸化鉄鉱石が「海綿鉄」として知られるものに還元される。
【００６６】
搬送スクリュー２９によって、この固体海綿鉄は次いで連続的にシャフト落下領域を下って熔融ガス化炉４中に送られて、そこで最終還元又は熔融が行われる。既存のブラスト炉プロセスの場合と同様にして、熔融銑鉄はスラグ２８とともに熔融ガス化炉４の底部領域において回収され、熔融ガス化炉４の底部領域から最終的に抜き取ることができ、半完成品に鋳造することができる。
【００６７】
しかし、熔融ガス化炉４から排出されたジェネレータガス８は、非常に高温であり、約１１００℃という高温の結果として軟化した、ジェネレータガス８に混入しているダストによって、還元反応炉内に保持された冶金学的装入材料３０の凝集をもたらすので、ジェネレータガス８はまず高温エアサイクロン２３を通過する。高温エアサイクロン２３は、その中でジェネレータガス８が約８００〜８５０℃まで冷却されるとともに部分的にダスト除去される容器である。高温エアサイクロン２３において回収されるジェネレータガスのダストは、ダスト戻しライン２７によって熔融ガス化炉４に戻され、そこで酸素ライン２６によって導入された酸素とともに燃焼される。
【００６８】
熔融ガス化炉４から、又は高温エアサイクロン２３から流出するジェネレータガス８の量のほぼ８０％が還元プロセスガス８ａとして還元反応炉３中に流れる一方、（ジェネレータガス量８ｂとして示された）ジェネレータガス８のほぼ２０％は、第２ラインシステム７の第２ライン部分７ｂによって予備スクラブ洗浄装置１０に流され、この予備スクラブ洗浄装置１０においてジェネレータガス８ｂの量がさらに冷却されるとともに予備洗浄される。「焼入れスクラバー」とも称される、予備スクラブ洗浄装置１０中に配置されるものは、好ましくは木材から生産された複数組の薄板であり、これらはノズル装置３５によって水でスプレーされる。複数組の薄板を流れ落ちる水は、流出管（図示されず）によって、ジェネレータガス８ｂの量からの結合されたダストとともに取り除かれ、更なる処理にかけられる。
【００６９】
このように、予備冷却されるとともに予備洗浄されたジェネレータガス８ｃは、第２ラインシステム７の第３ライン部分７ｃによって予備スクラブ洗浄装置１０から排出される。第２ラインシステム７の第３ライン部分７ｃは、順に３つの供給ライン１７、１８、１９の中に分岐し、予備冷却されて予備スクラブ洗浄装置１０中で予備洗浄されたジェネレータガス８ｃの主な部分、すなわち約９５％（図１及び図２においてはジェネレータガス量８ｃ’として示されている）が、第３供給ライン１９によって、熔融ガス化炉４から直接流出するジェネレータガス８を冷却するための冷却回路中に供給される。
【００７０】
予備スクラブ洗浄装置１０中で予備冷却されるとともに予備洗浄されたジェネレータガス８ｃの残りの部分（図１及び図２においてはジェネレータガス量８ｄとして示されている）は、熔融ガス化炉４において所定の時間行われる燃焼プロセスに応じて１％〜５％の間で変動し、第２湿式スクラバーシステム１２の方向にさらに送られる。このジェネレータガスの流出量８ｄは、さらに詳細に後述されるように、熔融ガス化炉４に必要とされる作動圧力、例えば５バールが一定に維持されるように、圧力制御システムによって制御される。
【００７１】
ここで、熔融ガス化炉４の作動圧力を制御するために必要とされるジェネレータガス量８ｄは、「過剰ガス」とも称され、第２ラインシステム７の第３ライン部分７ｃから第１供給ライン１７及び第２供給ライン１８の方向に送られる。
【００７２】
多くの供給ライン１７、１８を設ける代わりに、第２湿式スクラバーシステム１２に通じる単一の供給ラインを設けることが原理的に考えられることに注意すべきである。
【００７３】
また、第２ラインシステム７によって熔融ガス化炉４から排出されたジェネレータガス８と同様にして、第１ラインシステム５の第１ライン部分５ａによって還元反応炉３のフード領域３ａから排出されたブラスト炉ガス６も洗浄され、冷却される。このため、ブラスト炉ガス６はまず第１ラインシステム５の予備スクラブ洗浄装置９を通過し、予備スクラブ洗浄装置９の構造及び動作モードは第２ラインシステム７の予備スクラブ洗浄装置１０に基づいて既に説明されている。
【００７４】
第１ラインシステム５の予備スクラブ洗浄装置９において予備洗浄され、冷却されたブラスト炉ガス６’は次いで、第１ラインシステム５の第２ライン部分５ｂによって第１湿式スクラバーシステム１１の中に移され、この第１湿式スクラバーシステム１１は、その構造及びその作動モードの点において、ジェネレータガス８を搬送する第２ラインシステム７の第２湿式スクラバーシステム１２に実質的に対応している。
【００７５】
本願の典型的な実施形態によって環状ギャップ式スクラバーシステムとして形成された、従来技術にも対応する、このような湿式スクラバーシステム１１又は１２の基本的な構造は図４に示されており、それぞれのプロセスガス、すなわちブラスト炉ガス６又はジェネレータガス８は、送気管４２を通じてそれぞれ割り当てられたライン部分５ｂ／７ｃ’を通過し、送気管４２はプロセスガス６／８の流れの方向に好ましくは円錐状に先細とされており、この中には制御要素４１が配置されている。制御要素４１は送気管４２の周面に対応する形状を有するとともに、同様にプロセスガス６／８の流れの方向に円錐状に先細となるように構成されている。制御ギャップ４０は制御要素４１と送気管４２との間に形成されている。
【００７６】
制御要素４１は、送気管４２内に軸方向に移動可能な方法で取り付けられ、例えば油圧装置又はサーボモーターとして構成された駆動ユニット４３にプッシュロッド４４によって関着されており、これにより、必要に応じて制御ギャップ４０のギャップ幅を変化させることが出来る。制御要素４１が駆動ユニット４３によって矢印４５の方向に調節されると、送気管４２の周面に実質的に並行に伸びる制御要素４１の周面が送気管４２の周面に接近するので、制御ギャップ４０のギャップ幅は、より小さくされる。逆の方法で、すなわち矢印４５の方向とは反対方向に制御要素４１を調整することによって、制御ギャップ４０のギャップ幅は、より大きくすることが出来る。
【００７７】
複数の制御要素４１を、対応する送気管４２とともにステージの形態で交互に配置することもまた可能であることは言うまでもない。
【００７８】
制御要素４１の上流には、スクラブ洗浄液又は冷却液４９を噴出するためのノズル装置４８が配置され、このノズル装置４８によってブラスト炉ガス６及びジェネレータガス８（より正確には、ジェネレータガスの量８ｄ又は“過剰ガス”）をスプレーすることができる。スクラブ洗浄液又は冷却液４９によって、予備スクラブ洗浄装置９及び１０において予備冷却されるとともに予備洗浄されたブラスト炉ガス６又はジェネレータガス８がさらに冷却され洗浄される。予備スクラブ洗浄装置９及び１０はここでは主として冷却と、あまり重要ではない洗浄機能のみとを行い、一方で、ブラスト炉ガス６又はジェネレータガス８の実際の洗浄は湿式スクラバーシステム１１及び１２によって行われる。
【００７９】
湿式スクラバーシステム１１／１２の円錐状に先細とされた送気管４２は、実質的に円筒状の通路部分４６を通過し、次いで口部４７を通過し、ブラスト炉ガス６／ジェネレータガス８の流れの方向に漏斗形状に広がり、口部４７は液滴分離装置１４中に開いている。
【００８０】
液滴分離装置１４は、実質的に円筒状のハウジング５０を備え、このハウジング５０によって、湿式スクラバーシステム１１、１２それぞれの中に導入されてブラスト炉ガス６又はジェネレータガス８の不純物又はダストと混合されたスクラブ洗浄液又は冷却液４９を回収し取り除くことができる。
【００８１】
様々なバッフルアタッチメント又は整流器５３を、液滴分離装置１４のハウジング５０内に配置することができる。
【００８２】
液滴分離装置１４のハウジング５０の出口開口部５４を使用して、このような方法でスクラブ洗浄されるとともに冷却されるブラスト炉ガス６又はジェネレータガス８は、図１及び２に示されている送出ガスライン２５の方向にさらに送られる。
【００８３】
ブラスト炉ガス６又はジェネレータガス８中に取り込まれたダストは、スクラブ洗浄液又は冷却液４９によって濡らされ、液滴分離装置１４のハウジング５０の底部領域５１に捕捉され、そこでライン部分５ｂ／７ｃ’の中に噴出されたスクラブ洗浄液又は冷却液４９とともに、流出５２によって取り除かれ、廃棄のために取り去られる。
【００８４】
従来技術による溶融還元設備１の図１に示されたプロセスガス洗浄装置２は、図４に示されているように、ブラスト炉ガス６を搬送する第１ラインシステム５の第１湿式スクラバーシステム１１とジェネレータガス８を搬送する第２ラインシステム７の第２湿式スクラバーシステム１２とが、下流にそれぞれ自身の液滴分離装置１４ａ、１４ｂを有するような方法で設計されている。したがって、従来技術によれば、第１ラインシステム５の第１湿式スクラバーシステム１１と第２ライン部分５ｂとは、第１液滴分離装置１４ａの中に開口し、一方、第２ラインシステム７の第２湿式スクラバーシステム１２と第３ライン部分７ｃから分岐している供給ライン１７、１８とは、第２液滴分離装置１４ｂの中に開口している。
【００８５】
図１に示された構成においては、第２湿式スクラバーシステム１２は２つの環状ギャップスクラバー１２ａ、１２ｂを備え、第１供給ライン１７は第２湿式スクラバーシステム１２の第１環状ギャップスクラバー１２ａの中に開口し、第２供給ライン１８は第２湿式スクラバーシステム１２の第２環状ギャップスクラバー１２ｂの中に開口している。しかし、同様に、第２湿式スクラバーシステム１２は、第１液滴分離装置１４ａ中に開口する単一の環状ギャップスクラバーのみを有することもできる。
【００８６】
いずれにしても、第１液滴分離装置１４ａの出口開口部５４ａによって排出された、既に洗浄され、冷却されたブラスト炉ガス６”（「炉頂ガス」）は、第１ラインシステム５の第３ライン部分５ｃによって送出ガスライン２５に送られ、一方、第２液滴分離装置１４ｂの出口開口部５４ｂによって排出された、既に洗浄され、冷却されたジェネレータガス８ｄ’（「過剰ガス」）は、第２ラインシステム７の第４ライン部分７ｄによって送出ガスライン２５に送られる。このために、ここではブラスト炉ガス６”がジェネレータガス８ｄ’と合流されているか、又は第１ラインシステム５の第３ライン部分５ｃが第２ラインシステム７の第４ライン部分７ｄと、交差領域５５において合流されている。
【００８７】
したがって、洗浄され冷却されたブラスト炉ガス６”及びジェネレータガス８ｄ’の量は、一緒にされて、送出ガスライン２５によって送出ガスの形態でさらなる使用のために送られる。
【００８８】
これとは異なり、図２に示されているような溶融還元設備１の本発明によるプロセスガス洗浄装置２の場合には、共通の液滴分離装置１４が設けられ、この液滴分離装置１４の中に、ブラストガス６を搬送する第１ラインシステム５の第１湿式スクラバーシステム１１と、ジェネレータガス８を搬送する第２ラインシステム７の第２湿式スクラバーシステム１２とが開口している（図５及び図６参照）。
【００８９】
したがって、第１湿式スクラバーシステム１１と第１ラインシステム５の第２ライン部分５ｂは、同じ液滴分離装置１４に開口し、この液滴分離装置１４の中に、第２湿式スクラバーシステム１２と、第２ラインシステム７の第３ライン部分７ｃから分岐している供給ライン１７、１８が開口している。このことは、唯一つのハウジング５０しか、スクラブ洗浄液又は冷却液４９の手段によって結び付けられたブラスト炉ガス６’（「炉頂ガス」）とジェネレータガス８ｄの量（「過剰ガス」）との不純物及びダストを回収し取り除くために設ける必要がないということを意味している。
【００９０】
したがって、図２に示された本発明による溶融還元設備プロセスガス洗浄装置２の場合には、還元反応炉３から排出されたブラスト炉ガス６’及び溶融ガス化炉４から排出されたジェネレータガス８ｄの量が、液滴分離装置１４内、若しくは液滴分離装置１４の上流に配置された領域内で、既に一緒にされるか、又は一緒に旋回させられるので、送出ガスライン２５は液滴分離装置１４の出口開口部５４に直接、接続することができる（図５も参照）。
【００９１】
ブラスト炉ガス６’及びジェネレータガス８ｄの、洗浄されて冷却された量は、送出ガスライン２５によって送出ガスの形態でさらなる使用のために送られる。送出ガスライン２５によって溶融還元設備から搬出された送出ガスは、エネルギー又は熱のさらなる生成のためにここで使用可能な状態にされ、点火媒体として様々な発電機又は加熱設備に供給することができる。特に、ジェネレータガス６”又は還元反応炉３において海綿鉄還元プロセスによって既に比較的使い尽くされた「炉頂ガス」に比べれば、ジェネレータガス８ｄ’の量は比較的低いＣＯ２濃度を有するので、そのジェネレータガス８ｄ’の量、又は「過剰ガス」によって供給された送出ガスの成分は、非常に高品質のエネルギー源である。
【００９２】
また、単一の環状ギャップスクラバーの代わりに、第１湿式スクラバーシステム１１と第２湿式スクラバーシステム１２は、それぞれ多数の環状ギャップスクラバーを備えることができる。
【００９３】
湿式スクラバーシステム１１及び１２に対して複数の環状ギャップスクラバーをこのように設ける場合、全ての環状ギャップスクラバーは共通の液滴分離装置１４の中に開口する。
【００９４】
第１湿式スクラバーシステム１１、第２湿式スクラバーシステム１２、及び液滴分離装置１４は、共通の、例えばコンクリート又は金属箔板製のスクラビングタワー中に小型に配置することができる。
【００９５】
本発明の好ましい構成の変形体においては、第１ラインシステム５の第１湿式スクラバーシステム１１の下流に配置された第１流出ライン３８と、第２ラインシステム７の第２湿式スクラバーシステム１２の下流に配置された第２流出ライン３９とが、回収ライン部分１６において合流し、この回収ライン部分１６は、液滴分離装置１４の中に開口している（図３参照）。
【００９６】
このために、回収ライン部分１６は、液滴分離装置１４の実質的に円筒形に構成されたハウジング５０の周縁領域の中に、実質的に接線方向に開口しており、これによって旋回させられたブラスト炉ガス６又はジェネレータガス８の理想的な液滴分離を達成する。
【００９７】
図５に示されるように、本発明による液滴分離装置１４に接続された湿式スクラバーシステム１１及び１２は、図４に基づいて記載された従来技術による湿式スクラバーシステムに比較して構造上の設計に関して多くの相違点を有している。例えば、制御要素４１を取り囲んでいる送気管４２は、ライン部分５ｂ及び７ｃ’内に配置された複数の円筒状又は平板状の内部要素４２’によって作られている。これら内部要素４２’はそれぞれ円筒状ボアを有し、制御ギャップ４０は、この円筒状ボアによって形成された、制御要素４１と内部要素４２’の内壁との間に形成されている。制御要素４１が油圧駆動ユニット４３によって矢印４５の方向に調整されると、制御ギャップ４０のギャップ幅は、より小さくされる。
【００９８】
ライン部分５ｂ及び７ｃ’の通路部分４６の中に配置されているのは、それぞれ湾曲したバッフル板５６であり、これによって流動損失及び圧力損失を最小化する。
【００９９】
ブラスト炉ガス６及びジェネレータガス８のダスト又は不純物と混合されたスクラブ洗浄液又は冷却液４９は、液滴分離装置１４のハウジング５０の底部領域５１に配置された流出口５２によって取り除かれ、一方、スクラブ洗浄され冷却されたブラスト炉ガス６及びジェネレータガス８は、液滴分離装置１４のフード領域５７に配置されたハウジング５０の出口開口部５４によって送出ガスライン２５の方向にさらに送られる。したがって、スクラブ洗浄され、冷却されたブラスト炉ガス／ジェネレータガスの混合物６＋８は、液滴分離装置１４を通じて垂直方向上方に排出される。
【０１００】
図５及び６に示される典型的な実施形態は、湿式スクラバーシステム１１／１２を液滴分離装置１４に接続するための単純化された可能性を示しており、これら図においては、湿式スクラバーシステム１１／１２それぞれが液滴分離装置１４の円筒形状ハウジング５０の周縁領域の中に実質的に半径方向に開口している。また、湿式スクラバーシステム１１／１２及びそれぞれ割り当てられた、図５及び６に示されたライン部分５ｂ／７ｃ’は、例えば図３における図示に基づいて既に記載されたように、ハウジング５０の周縁領域に接線方向に開口することができることは言うまでもない。
【０１０１】
溶融ガス化炉４の操業圧力の制御は、閉ループ制御回路の手段によって、既存の実効値／設定値の比較によって行われ、そこでは適切な制御介入が、図４に基づいて記載された制御要素４１の調整又は制御ギャップ４０の大きさの増減の形で、決定された圧力の偏差にしたがって行われる。
【０１０２】
ここで、このために第２ラインシステム７において、第２湿式スクラバーシステム１２の上流に配置された第１供給ライン１７の領域に組み入れられているのは圧力制御装置２０であり、この圧力制御装置２０によって、溶融ガス化炉４において望ましい、例えば５バールの操業圧力が、対応して制御されるジェネレータガス８の貫流によって一定に保持される。
【０１０３】
したがって、溶融ガス化炉４におけるそれぞれに望ましい操業圧力が降下すると、ジェネレータガス８の貫流量又は「過剰ガス」の貫流量は、図４に示されるような矢印４５の方向における制御要素４１の対応した調整によって絞られる。
【０１０４】
第２湿式スクラバーシステム１２は、閉塞不可能なリークギャップを有し、このリークギャップを通じて、ジェネレータガス８の永続的な流出が、送気管４２内の制御要素４１の位置にかかわらず、可能とされる。したがって、制御ギャップ４０は完全に閉鎖することはできず、所定の最小ギャップ幅だけ永続的に開放された状態のままにされなければならず、これによって第２ラインシステム７内に搬送された濃縮液の流出を可能にしている。
【０１０５】
ジェネレータガス８ｄの量を大幅に変化させることができるので、溶融ガス化炉４内の計り知れない場合のあるプロセスに依存して、従来技術による圧力制御システムは、不適切又は不十分な柔軟性しかないことがたびたび証明された。
【０１０６】
図１に示された従来技術に対応する制御システムの場合には、第２ラインシステムの第１供給ライン１７及び第２供給ライン１８の両方が閉止弁３６、３７を設けられている。
【０１０７】
ジェネレータガス８ｄのそれぞれ所定量に依存して、閉止弁３６、３７のうちの一つ及び供給ライン１７、１８の１つが開けられ、ジェネレータガス８ｄの量は第１環状ギャップスクラバー１２ａ又は第２環状ギャップスクラバー１２ｂのいずれかに送られる。２つの環状ギャップスクラバー１２ａ及び１２ｂは、ここでは異なる寸法に形成されている。例えば、第１供給ライン１７に設けられた環状ギャップスクラバー１２ａは少量のジェネレータガス８ｄが貫流するように設計することができ、一方、第２供給ライン１８に設けられた環状ギャップスクラバー１２ｂは大量のジェネレータガス８ｄが貫流するように設計される。比較的少量のジェネレータガス８ｄの場合には、第１閉止弁３６を開とし、第２閉止弁３７を閉とすることができ、これによってジェネレータガス８ｄの全量が第１供給ライン１７と第１環状ギャップスクラバー１２ａを通じて流れる。一方で、比較的大量のジェネレータガス８ｄの場合には、第２閉止弁３７も開とされ、したがって第２供給ライン１８もまたジェネレータガス８ｄの量が貫流するように開放され、これによってジェネレータガス８ｄの量は第１環状ギャップスクラバー１２ａと第２環状ギャップスクラバー１２ｂの両方を通じて流れる。したがって、このような圧力制御システムは、多くの環状ギャップスクラバー１２ａ、１２ｂの設置を必要とする。
【０１０８】
他方、図２に示された本発明による圧力制御システムの場合には、供給ライン１７及び１８はライン部分７ｃにおいて再度統合されて、単一の環状ギャップスクラバー１２の中に開口する。これは、１つの環状ギャップスクラバーを無しに済ますことを可能にするか、又は図１に示された第２環状ギャップスクラバー１２ｂの設置がもはや不必要であることを意味する。
【０１０９】
図２に示すように、第１供給ライン１７の領域における第２ラインシステム７の統合は、既述の圧力制御装置２０においてであり、この圧力制御装置２０は商業的に入手可能な絞り弁とすることができる。
【０１１０】
さらに、第１供給ライン１７に並行に配置された第２供給ライン１８にはバイパス弁２１が設けられ、このバイパス弁２１によって、第２ラインシステムを通じて、又は第２ラインシステム７の第３ライン部分７ｃを通じて送られるジェネレータガスの量が所定時間において規定量のジェネレータガス８ｄ以下になる場合には、第２供給ライン１８が閉とされる。
【０１１１】
他方、第２ラインシステムを通じて送られるジェネレータガス８ｄの量が、所定時間において規定量のジェネレータガス８ｄを超えるということが生じる場合には、第２供給ライン１８をバイパス弁２１によって開とすることができる。操業圧力制御は、それ以降、第２湿式スクラバーシステム２１の制御要素４１を調整することによって、又は制御ギャップ４０を変化させることによって行われる。
【０１１２】
制御ギャップ４０は上述の理由のために完全に閉とすることができないので、大量のジェネレータガスの量８ｄを、第２ラインシステム７を通じて送出ライン２５の方向に取り除く必要が無い場合には、勿論、実際に還元反応炉３に配置された装入材料の予備還元のために使用することを意図されており、二次的使用又は点火のためを意図されているのではない（第１ラインシステム５のブラスト炉ガス６に比べて非常に高い価値の）ジェネレータガス８の望ましくない損失がある。
【０１１３】
本発明による圧力制御システムによって、従来技術による溶融還元設備１の場合には約１０００ｍ３／ｈであるジェネレータガス８のこの損失は、大幅に削減することができる。これは、比較的少量のジェネレータガス８ｄが所定の時間において第２ラインシステム７の第３ライン部分７ｃを通じて流れる場合に、第２供給ライン１８をバイパス弁２１によって閉とすることができるので、これによって、次いで主として第１供給ライン１７を通じて流れるジェネレータガス８ｄの量の制御を圧力制御装置２０によって行うことができるからである。
【０１１４】
本発明による圧力制御システムのさらなる利点は、その柔軟性である。これは、溶融ガス化炉４における圧力の突然の極端な増加の場合、したがって大量のジェネレータガス８ｄが第２ラインシステム７の第３ライン部分７ｃによって排出される場合でさえ、この圧力を迅速に減少するか、又は対応する量のジェネレータガス８ｄを、バイパス弁２１若しくは第２供給ライン１８を開とすることによって、送出ラインの方向に迅速に排出することができ、よって排出されるジェネレータガス８ｄの量を、第２供給ライン１８によって第２湿式スクラバーシステム１２に妨げられることなく送ることができるからである。圧力制御はそれ以降ずっと、第２湿式スクラバーシステム１２の制御要素４１を調整することによって、又は制御ギャップ４０を変化させることによって行われる。
【０１１５】
第１ラインシステム５は、第１湿式スクラバーシステム１１の上流に配置された第２ライン部分５ｂの領域に、流量制御装置２２を設けられ、この流量制御装置２２によって、還元反応炉３から第１湿式スクラバーシステム１１に排出されるブラスト炉ガス６の流入を制御することができる。流量制御装置２２は、還元反応炉３からのブラスト炉ガス６の流出をできるだけ均一に許容するように意図されており、よって還元反応炉３内に配置された装入材料又は鉱石塊のかけらの物質流れは、それほど迅速には起きないが、中断はしない。
【０１１６】
また、第１ラインシステム５内に設けられた流量制御装置２２及び第２ラインシステム７内に設けられた圧力制御装置２０は、送出ガスライン２５の中の望ましい送出ガス圧を設定するのに役立つ。送出ガスライン２５は、ガスシステム又は貯蔵タンクへ導くことができ、そこで溶融還元設備１のプロセスガス洗浄システム２から得られたプロセスガスが回収される。
【０１１７】
第２ラインシステム７の予備スクラブ洗浄装置１０から分岐し、上述した冷却回路の中に第３供給ライン１９によって供給されるジェネレータガス８ｃ’の量もまた、具体的には追加的な液滴分離装置１５とともに別の環状ギャップスクラバー１３において、スクラブ洗浄されてさらに冷却されるが、本発明の関連では二次的に重要でしかない。
【符号の説明】
【０１１８】
１      溶融還元設備
２      プロセス還元装置
３      還元反応炉
３ａ    還元反応炉のフード領域
４      溶融ガス化炉
４ａ    溶融ガス化炉のフード領域
５      第１ラインシステム
５ａ    第１ラインシステムの第１ライン部分
５ｂ    第１ラインシステムの第２ライン部分
５ｃ    第１ラインシステムの第３ライン部分
６      ブラスト炉ガス（還元反応炉３からの）
７      第２ラインシステム
７ａ    第２ラインシステムの第１ライン部分
７ｂ    第２ラインシステムの第２ライン部分
７ｃ    第２ラインシステムの第３ライン部分
７ｄ    第２ラインシステムの第４ライン部分
８      ジェネレータガス（溶融ガス化炉４からの）
８ａ    生産プロセスガス
８ｂ    高温エアサイクロン２３から分岐したジェネレータガス
８ｃ    予備冷却され、予備洗浄されたジェネレータガス
８ｃ’  冷却回路の方向に送られたジェネレータガスの量
８ｃ”  冷却回路中で冷却されたジェネレータガスの量
８ｄ    第２湿式スクラバーシステム１２を通過したジェネレータガスの量（“過剰ガス”）
９      第１予備洗浄装置
１０    第２湿式スクラバー装置
１１    第１湿式スクラバーシステム
１２    第２湿式スクラバーシステム
１２ａ  第２湿式スクラバーシステムの第１環状ギャップスクラバー
１２ｂ  第２湿式スクラバーシステムの第２環状ギャップスクラバー
１３    冷却回路の別の環状ギャップスクラバー
１４    液滴分離装置
１４ａ  第１液滴分離装置
１４ｂ  第１液滴分離装置
１５    追加的な液滴分離装置
１６    回収ライン部分
１７    第１供給ライン
１８    第２供給ライン
１９    第３供給ライン
２０    圧力制御装置
２１    バイパス弁
２２    流量制御装置
２３    高温エアサイクロン
２４    圧縮機
２５    送出ガスライン
２６    酸素ライン
２７    高温エアサイクロンからのダスト
２８    液状銑鉄及びスラグ
２９    搬送スクリュー
３０    装入材料／塊鉱のかけら
３１    装入装置
３２    石炭
３３    高温エアサイクロン２３から還元反応炉３への供給ライン
３４    第１予備スクラブ洗浄装置のノズル装置
３５    第２予備スクラブ洗浄装置のノズル装置
３６    第１閉止弁
３７    第２閉止弁
３８    第１流出ライン（第１湿式スクラブ洗浄システム１１の）
３９    第２流出ライン（第２湿式スクラブ洗浄システム１１の）
４０    制御ギャップ
４１    制御要素
４２    送気管
４２’  送気管
４３    駆動ユニット
４４    プッシュロッド
４５    制御要素４１の移動方向
４６    通路部分
４７    口部
４８    湿式スクラブ洗浄装置１１、１２のためのノズル装置
４９    スクラブ洗浄液又は洗浄液
５０    液滴分離装置１４のハウジング
５１    液滴分離装置１４の底部領域
５２    流出
５３    内部バッフル
５４    出口開口部
５５    第１ラインシステム５と第２ラインシステム７との交差領域
５６    バッフル板
５７    液滴分離装置１４のフード領域
【図１】
2011525608.tif 000003
【図２】
2011525608.tif 000004
【図３】
2011525608.tif 000005
【図４】
2011525608.tif 000006
【図５】
2011525608.tif 000007
【図６】
2011525608.tif 000008
【手続補正書】
【提出日】平成22年4月16日(2010.4.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの還元反応炉（３）と、溶融ガス化炉（４）とを備える、銑鉄を得るための溶融還元設備（１）のためのプロセスガス洗浄装置（２）であって、
前記還元反応炉（３）からブラスト炉ガス（６）を運び去るための第１ラインシステム（５）と、前記溶融ガス化炉（４）からジェネレータガスを運び去るための第２ラインシステム（７）とが設けられ、
前記ブラストガス（６）と前記ジェネレータガス（８）とを予備洗浄するための予備スクラブ洗浄装置（９、１０）が好ましくは前記第１ラインシステム（５）及び前記第２ラインシステム（７）内に配置され、
前記第１ラインシステム（５）及び前記第２ラインシステム（７）はそれぞれ湿式スクラバーシステム（１１、１２）につながり、該湿式スクラバーシステム（１１、１２）は好ましくは環状ギャップスクラバーシステムとして形成され、前記湿式スクラバーシステム（１１、１２）において予備洗浄された前記ブラスト炉ガス（６）又は予備洗浄されたジェネレータガス（８）をスクラブ洗浄液又は冷却液（４９）に暴露することができるとともに、制御ギャップ（４０）を変化させる１つ以上の制御要素（４１）によって前記ブラスト炉ガス（６）又は前記ジェネレータガス（８）の貫流を絞ることができ、
前記湿式スクラバーシステム（１１、１２）の中に導入され、前記ブラスト炉ガス（６）又はジェネレータガス（８）の不純物又はダストと混合されるスクラブ洗浄液又は冷却液（４９）を回収し排出することができる、プロセスガス洗浄装置（２）において、
共通の液滴分離装置（１４）が設けられ、該液滴分離装置の中に、前記ブラスト炉ガス（６）を搬送する前記第１ラインシステム（５）の前記第１湿式スクラバーシステム（１１）と、前記ジェネレータガス（８）を搬送する前記第２ラインシステム（７）の前記第２湿式スクラバーシステム（１２）との両方が開口し、前記第１湿式スクラバーシステム（１１）と前記第２湿式スクラバーシステム（１２）と前記液滴分離装置（１４）とは共通のスクラブ洗浄タワーに配置されていることを特徴とする、溶融還元設備（１）のためのプロセスガス洗浄装置（２）。
【請求項２】
前記第１ラインシステム（５）の前記第１湿式スクラバーシステム（１１）の下流に配置された第１の流出ライン（３８）と、前記第２ラインシステム（７）の前記第２湿式スクラバーシステム（１２）の下流に配置された第２の流出ライン（３９）とは、回収ライン部分（１６）の中で合流し、前記回収ライン部分（１６）は、前記共通の液滴分離装置（１４）の中に開口していることを特徴とする請求項１に記載の溶融還元設備（１）のためのプロセスガス洗浄装置（２）。
【請求項３】
前記回収ライン部分（１６）は、実質的に円筒状に構成された液滴分離装置（１４）の周縁領域に、実質的に接線方向に開口していることを特徴とする請求項２に記載の溶融還元設備（１）のためのプロセスガス洗浄装置（２）。
【請求項４】
前記第２ラインシステム（７）は、圧力制御装置（２０）を有する前記第２湿式スクラバーシステム（１２）の上流に配置された第１供給ライン（１７）の領域に設けられ、前記圧力制御装置（２０）によって、前記ジェネレータガス（８）の貫流を制御することの結果として、前記溶融ガス化炉（４）内の望ましい操業圧力を一定に保持することができ、
前記第２湿式スクラバーシステム（１２）は閉塞不可能なリークギャップを有し、該リークギャップを通じて前記ジェネレータガス（８）の永続的な流出が、制御ギャップ（４０）を狭める又は広げる、好ましくは円錐形状に構成された制御要素（４１）の位置にかかわらず、可能とされることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の溶融還元設備（１）のためのプロセスガス洗浄装置（２）。
【請求項５】
第２供給ライン（１８）が設けられ、該第２供給ライン（１８）は、前記第１供給ライン（１７）に並行に接続されるとともに、前記第１供給ライン（１７）と同様に第２湿式スクラバーシステム（１２）に通じ、
前記第２供給ライン（１８）にはバイパス弁（２１）が設けられ、該バイパス弁によって、ジェネレータガスの量が、規定のジェネレータガス量未満であり、前記第２ラインシステム（７）を通じて送られているという状態が生じた場合には、前記第２供給ライン（１８）を閉とすることができ、ジェネレータガスの量が、規定のジェネレータガス量を超過し、前記第２ラインシステム（７）を通じて送られているという状態が生じた場合には、前記第２供給ライン（１８）を開とすることができることを特徴とする請求項４に記載の溶融還元設備（１）のためのプロセスガス洗浄装置（２）。
【請求項６】
前記第２ラインシステム（７）又は前記ジェネレータガス（８）に割り当てられた第２湿式スクラバーシステム（１２）は、単一の環状ギャップスクラバー又は環状ギャップ（４０）を変化させる単一の制御要素（４１）を有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の溶融還元設備（１）のためのプロセスガス洗浄装置（２）。
【請求項７】
前記第１ラインシステム（５）は、流量制御装置（２２）を有する前記第１湿式スクラバーシステム（１１）の上流に配置されたライン部分（５ｂ）の領域に設けられ、前記流量制御装置（２２）によって、前記還元反応炉（３）から排出される前記ブラスト炉ガス（６）の、前記第１湿式スクラバーシステム（１１）への流入を制御することができることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の溶融還元設備（１）のためのプロセスガス洗浄装置（２）。
【請求項８】
銑鉄を得るための溶融還元設備（１）のプロセスガスの洗浄の方法であって、
第１ラインシステム（５）によって１つ以上の還元反応炉（３）から排出されたブラスト炉ガス（６）と、第２ラインシステム（７）によって溶融ガス化炉（４）から排出されたジェネレータガス（８）とが、１つ以上の予備スクラブ洗浄装置（９、１０）によって、好ましくはそれぞれ、予備洗浄されるとともに冷却され、前記第１及び第２ラインシステム（５、７）はそれぞれ、湿式スクラバーシステム（１１、１２）に通じ、該湿式スクラバーシステム（１１、１２）は、好ましくは環状ギャップスクラバーシステムとして形成され、前記湿式スクラバーシステム（１１、１２）において、予備洗浄され、冷却された前記ブラスト炉ガス（６）又は予備洗浄され、冷却された前記ジェネレータガス（８）がスクラブ洗浄液又は冷却液に暴露され、前記予備洗浄され、冷却されたブラスト炉ガス（６）又は予備洗浄され、冷却された前記ジェネレータガス（８）の貫流の量はそれぞれ、制御ギャップ（４０）を変化させる１つ以上の制御要素（４１）によって絞ることができ、前記予備洗浄され、冷却されたブラスト炉ガス（６）又は予備洗浄され、冷却された前記ジェネレータガス（８）の不純物又はダストと混合された前記スクラブ洗浄液又は冷却液が回収され排出される、溶融還元設備（１）のプロセスガスの洗浄の方法において、
前記第１湿式スクラバーシステム（１１）によって送られるとともにスクラブ洗浄液又は冷却液（４９）に暴露された前記予備洗浄され、冷却されたブラスト炉ガス（６）と、前記第２湿式スクラバーシステム（１２）によって送られるとともにスクラブ洗浄液又は冷却液（４９）に暴露された前記予備洗浄され、冷却されたジェネレータガス（８）とは、共通の液滴分離装置（１４）に供給され、前記第１湿式スクラバーシステム（１１）によって送られた前記ブラスト炉ガス（６）及び前記第２湿式スクラバーシステム（１２）によって送られたジェネレータガス（８）は、前記液滴分離装置（１４）中へ進入する前にすでに合流していることを特徴とする、溶融還元設備（１）のプロセスガスの洗浄の方法。
【請求項９】
合流した前記ブラスト炉ガス（６）及び前記ジェネレータガス（８）から、前記液滴分離装置（１４）の上流において得られた前記プロセスガスは、実質的に円筒形状に構成された液滴分離装置（１４）の周縁領域内に、実質的に接線方向に送られることを特徴とする請求項８に記載の溶融還元設備（１）のプロセスガスの洗浄の方法。
【請求項１０】
前記ジェネレータガス（８）の圧力制御は、前記第２湿式スクラバーシステム（１２）の上流に配置された、第１供給ライン（１７）の領域の前記第２ラインシステム（７）において実行され、これによって前記溶融ガス化炉（４）内の望ましい操作圧力を一定に保持し、
ジェネレータガス（８）の永続的な流出が、閉鎖不可能な漏れギャップによって、前記第２湿式スクラバーシステム（１２）において可能とされていることを特徴とする請求項８又は９に記載の溶融還元設備（１）のプロセスガスの洗浄の方法。
【請求項１１】
前記ジェネレータガス（８）は、前記第１供給ライン（１７）に並行に接続されるとともに前記第１供給ラインと同様に前記第２湿式スクラバーシステム（１２）に通じる第２供給ライン（１８）によって送ることができ、
前記ジェネレータガスの量が、規定のジェネレータガス量未満であり、前記第２ラインシステム（７）を通じて送られている状態が生じた場合には、前記第２供給ライン（１８）をバイパス弁（２１）によって閉とすることができ、一方、前記ジェネレータガスの量が、規定のジェネレータガス量を超過し、前記第２ラインシステム（７）を通じて送られているという状態が生じた場合には、前記バイパス弁（２１）によって前記第２供給ライン（１８）を開とすることができ、
前記操作圧力の制御はそれ以降、前記第２湿式スクラバーシステム（１２）の制御要素（４１）を調整することによって行われることを特徴とする請求項１０に記載の溶融還元設備（１）のプロセスガスの洗浄の方法。
【請求項１２】
前記ブラスト炉ガス（６）の流量制御は、前記第１湿式スクラバーシステム（１１）の上流に配置されたライン部分（５ｂ）の領域における前記第１ラインシステム（５）において実行されることを特徴とする請求項８〜１１のいずれか一項に記載の溶融還元設備（１）のプロセスガスの洗浄の方法。
【国際調査報告】
2011525608.tif 000009
2011525608.tif 000010
2011525608.tif 000011
2011525608.tif 000012
2011525608.tif 000013
2011525608.tif 000014
2011525608.tif 000015
2011525608.tif 000016