(57)【要約】  本発明は、ホットプレートに関し、より詳しくは保温が可能なホットプレートに関する。ホットプレートは、上面（１００）、上面（１００）とつながった下面（５００）、ならびに上面（１００）および下面（５００）の間に画定されたキャビティを備える。また、ホットプレート（１００）は、前記キャビティ内に配置された保温体（３００）、および下面（５００）に配置されたチャンネル（５１２）を備える。前記チャンネル（５１２）は、開口（５１４）を備える。ホットプレート（１０）は、チャンネル（５１２）とつながったガス透過膜（５２０）を備え、ガス透過膜（５２０）はキャビティ内外へのガスの通過を許容している。【選択図】図１
2011504125.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
上面、前記上面とつながった下面、ならびに前記上および下面の間に画定されたキャビティと、
前記キャビティ内に配置された保温体と、
前記下面に配置されたチャンネルであって、開口を備えているチャンネルと、
前記チャンネルとつながったガス透過膜であって、前記キャビティ内外への気体の経路を許容しているガス透過膜と、
を備えているホットプレート。
【請求項２】
周面が（５０℃以下のやけどを回避する）コールドハンドルとして設計されることを特徴とする、請求項１に記載のホットプレート。
【請求項３】
少なくとも２ハンドルあることを特徴とする、請求項２に記載のホットプレート。
【請求項４】
底部分と足部の接触支持部との間にフリーエア／ヒート対流チャンネルを通すクリアランスがあることを特徴とする、請求項１に記載のホットプレート。
【請求項５】
前記ガス透過膜が前記開口を覆うことを特徴とする、請求項１に記載のホットプレート。
【請求項６】
前記ガス透過膜は、前記キャビティ内への液体の経路を阻害する材料からなることを特徴とする、請求項２に記載のホットプレート。
【請求項７】
前記ガス透過膜は、超極細繊維、熱可塑性ポリマー、ポリテトラフルオロエチレン、ゴアテックス（登録商標）、およびポリエステルの群から選択された多孔質材料からなることを特徴とする、請求項３に記載のホットプレート。
【請求項８】
前記開口は、約０．５ｍｍから約５ｍｍの直径を有することを特徴とする、請求項１に記載のホットプレート。
【請求項９】
前記開口は、約１ｍｍから約２ｍｍの複数の直径を有することを特徴とする、請求項５に記載のホットプレート。
【請求項１０】
さらに、前記ガス透過膜を前記チャンネルとつなげる取付片であって、前記チャンネルの外面を囲んでスリーブがつけられた内孔を有している取付片を備えている、請求項１に記載のホットプレート。
【請求項１１】
さらに、下面に配置された複数のセルであって、前記ホットプレートを絶縁する構成とされた複数のセルを備えている、請求項１に記載のホットプレート。
【請求項１２】
上壁と、
下壁と、
周壁を備えているとともに前記上および下壁とつながって封止されたキャビティを画定する支持構造と、
前記キャビティ内に配置された保温体と、
前記キャビティ内外への経路を許容する構成とされたガス透過チャンネルと、
を備えているホットプレート。
【請求項１３】
前記支持構造は、マイクロ波エネルギーを透過可能であるとともに約１５０℃以上の温度に耐える実質的に剛性のある合成材料からなることを特徴とする、請求項１０に記載のホットプレート。
【請求項１４】
前記支持構造は、さらに、貫通頂面と前記頂面を囲む周面とを備えている、請求項１０に記載のホットプレート。
【請求項１５】
さらに、前記頂面と前記周面との間に配置された凹部を備え、前記凹部は放射線または熱に曝した際に頂面の拡張を許容する構成とされることを特徴とする、請求項１２に記載のホットプレート。
【請求項１６】
前記凹部は、前記支持構造の前記周壁内に配置されることを特徴とする、請求項１２に記載のホットプレート。
【請求項１７】
さらに、前記貫通面により経たひずみおよび応力から前記周面を和らげる構成とされた可撓性ストリップを備えている、請求項１２に記載のホットプレート。
【請求項１８】
前記周面から形成された複数の足部であって、間隔を置いて離れて配置されるとともに垂直方向下方に曲がって実質的に平坦な面上でホットプレートを支持する複数の足部を備えている、請求項１１に記載のホットプレート。
【請求項１９】
頂面と複数の下方に突出しているフィンガーを備えている底面とを有している熱伝導プレートを備えている上壁と、
前記複数のフィンガーと接触する保温体であって、前記保温体から前記熱伝導プレートに熱を伝える保温体と、
前記上壁とつながるとともに前記保温体を囲んでいる周壁を備えている支持構造と、
前記支持構造とつながる下壁であって、前記上壁、支持構造および下壁により画定されたキャビティ内に前記保温体を封止し、実質的に液体を透過不可能であるガス透過性チャンネルを備えている下壁と、
を備えているホットプレート。
【請求項２０】
前記支持構造は、さらに、前記周壁につながった貫通頂面であって、前記複数のフィンガーが通って頂面に接触する交差孔を備えていることを特徴とする、請求項１６に記載のホットプレート。
【請求項２１】
さらに、前記保温体と前記下壁との間に配置された絶縁体を備えている、請求項１６に記載のホットプレート。
【請求項２２】
さらに、前記保温体と前記支持構造の前記周壁との間に配置された複数の支柱であって、前記周壁から前記保温体に間隔を置いて配置して構成された複数の支柱を備えている、請求項１６に記載のホットプレート。
【請求項２３】
前記支柱は、前記絶縁体から前記保温体に間隔を置いて形成されることを特徴とする、請求項１９に記載のホットプレート。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本出願は、米国特許法典第３５編第１１９条の下、２００７年１１月２１日に出願されたフランス特許出願第０７０８１６５の優先権の利益を主張し、その全体が引用文献により本明細書に組み入れられる。
【０００２】
本発明は、ホットプレートに関し、より詳しくは保温が可能なホットプレートに関する。
【背景技術】
【０００３】
フードサービスの多くの問題の１つは、用意された料理を温かく保つことである。多くの料理は、冷めると食感や風味が失われるので、用意したらすぐに供さなければならない。これを行うことは、特に料理が予め用意される必要がある際には極めて難しいことが多い。
【０００４】
用意の後に料理を温かく保つために多くの装置が開発されている。例えば、ヒートランプは、ハンバーガーやサンドイッチを供給する前に温かく保つために広く使用されている。電気ホットプレートも、料理を温かく保持することに使用されている。また、底面にスモールフレームなどの熱源を配置することにより料理を温かく保つトレイを供給するビュッフェがある。しかしながら、これらの装置の欠点は、容易に携帯可能でないとともに、外部電源への接続または熱を供給することに潜在的な危険を伴うオープンフレームが必要なことである。
【０００５】
マイクロ波が適用可能なホットプレートは、携帯可能であり、一般に安全でかつ外部電源への接続が必要ない利点を有する。マイクロ波が適用可能なホットプレートは、通常、マイクロ波エネルギーに曝すと保温される材料からなる。マイクロ波が適用可能なホットプレートの１つの大きな欠点は、マイクロ波オーブン内の洗浄および加熱を繰り返すと膨張したりひずみ（変形）が生じる傾向があることである。この膨張およびひずみは、ホットプレートの内部キャビティやホットプレート自体における水分子の蓄積に起因する。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本明細書で開示されるホットプレートを提供するための形態は、膨張やひずみに耐える構成とされるとともに、マイクロ波オーブンを繰り返しかつ長く使用した際に膨張やひずみに耐える構成とされる。
【０００７】
一好ましい形態では、ホットプレートは、上面、前記上面とつながった下面、ならびに前記上および下面の間に画定されたキャビティを備える。保温体が前記キャビティ内に配置されるとともに、チャンネルが前記下面に配置されている。前記チャンネルは、開口および前記チャンネルにつながったガス透過膜を備えている。前記ガス透過膜は、前記キャビティ内外への気体の経路を許容している。
【０００８】
好ましい形態の一局面によれば、前記ガス透過膜は、前記開口を覆うとともに、前記キャビティ内への液体の経路を阻害する材料からなる。前記ガス透過膜は、例えば、超極細繊維、熱可塑性ポリマー、ポリテトラフルオロエチレン、ゴアテックス(登録商標)、およびポリエステルなどの多孔質材料からなり得る。
【０００９】
好ましい形態の他の一局面によれば、前記開口は、約０．５ｍｍから約５ｍｍ、より好ましくは約１ｍｍから約２ｍｍの直径を有する。
【００１０】
好ましい形態のさらなる局面によれば、取付片（ａｔｔａｃｈｍｅｎｔ  ｐｉｅｃｅ）が前記ガス透過膜を前記チャンネルとつなげる。前記取付片は、外面を囲んでスリーブがつけられた内孔（ｂｏｒｅ）を有している環に形成され得る。
【００１１】
好ましい形態のまたさらなる局面によれば、前記下面は、外部環境から前記ホットプレートを絶縁する構成とされた複数のセルを備える。
【００１２】
他の好ましい形態では、ホットプレートは、上壁と、下壁と、周壁を備えているとともに前記上および下壁とつながって封止されたキャビティを画定する支持構造とを備える。保温体が前記キャビティ内に配置されるとともに、ガス透過チャンネルが前記キャビティ内外への経路を許容する構成とされる。
【００１３】
好ましい形態の一局面によれば、前記支持構造は、マイクロ波エネルギーを透過可能であるとともに約１５０℃以上の温度に耐える実質的に剛性のある合成材料からなる。前記支持構造は、さらに、貫通（ｐｅｒｆｏｒａｔｅｄ）頂面と前記頂面を囲む周面とを備える。
【００１４】
好ましい形態の他の一局面によれば、前記支持構造は、前記頂面と前記周面との間に配置された凹部を備え得る。前記凹部は、放射線または熱に曝した際に頂面の拡張（ｄｉｌａｔｉｏｎ）を許容する構成とされる。前記凹部は、前記支持構造の前記周壁内に配置され得る。可撓性ストリップが、前記凹部に配置されて前記貫通面により経たひずみおよび応力から前記周面を和らげる。
【００１５】
好ましい形態のさらなる局面によれば、複数の足部が前記周面から形成され得る。前記複数の足部は、間隔を置いて離れて配置されるとともに垂直方向下方に曲がって実質的に平坦な面上でホットプレートを支持する。
【００１６】
さらなる好ましい形態では、前記ホットプレートは、頂面と複数の下方に突出しているフィンガーを備えている底面とを有している熱伝導プレートを備えている上壁を備える。保温体が、前記保温体から前記熱伝導プレートに熱を伝える前記複数のフィンガーに接触して配置される。支持構造が、前記上壁とつながるとともに、前記保温体を囲んでいる周壁を備える。下壁が、前記支持構造とつながって、前記上壁、支持構造および下壁により画定されたキャビティ内に前記保温体を封止する。前記下壁は、実質的に液体を透過不可能であるガス透過性チャンネルを備えている。
【００１７】
好ましい形態の一局面によれば、前記支持構造は、さらに、前記周壁につながった貫通頂面を備える。前記貫通頂面は、前記複数のフィンガーが通って頂面に接触する交差孔（ｃｒｏｓｓ  ｈｏｌｅ）を備える。
【００１８】
好ましい形態の他の局面によれば、前記ホットプレートは、前記保温体と前記下壁との間に配置された絶縁体を備える。
【００１９】
好ましい形態のさらなる局面によれば、前記ホットプレートは、さらに、前記保温体と前記支持構造の前記周壁との間に配置された複数の支柱を備える。前記複数の支柱は、前記周壁から前記保温体に間隔を置いて配置して構成される。また、前記支柱は、前記絶縁体から前記保温体に間隔を置いてかつ／または継続して形成され得る。
【００２０】
本発明の他の目的、特徴および利点は、下記の詳細な説明から当業者に明らかになるであろう。
【００２１】
本発明の例示的な実施形態は、本明細書において添付図面を参照して説明される。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】図１は、ホットプレートの一形態の分解斜視図である。
【図２】図２は、図１のホットプレートの下壁の部分斜視断面図である。
【図３】図３は、部分的に組み立てられた図１のホットプレートの部分斜視断面図である。
【図４】図４は、中心軸に沿った、組み立てられた図１のホットプレートの断面図である。
【図５Ａ】図５Ａは、ホットプレートの一部切欠き斜視図である。
【図５Ｂ】図５Ｂは、ホットプレートの一部切欠き斜視図である。
【図６】図６は、図１のホットプレートの下壁に配置されたチャンネルの斜視図である。
【図７】図７は、中心軸に沿ったホットプレートの他の形態の断面図である。
【図８】図８は、３つの異なる切断軸を示している組み立てられた図１のホットプレートの立面図である。
【図９】図９は、完全に組み立てられた図１のホットプレートの斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
図面の各図を通して同じ番号は同じ部材を示す。本発明の実施形態は、マイクロ波にて加熱することが可能であるとともに、長期間保温を行うホットプレートについて述べる。ホットプレートは、長期間熱に曝されるとともに洗浄が繰り返されたことに起因するひずみや膨張に耐える構成とされている。
【００２４】
本発明の試験の際に、本出願人は当初から、（ＰＢＴまたはＰＢＴとＰＥＴとの合金などの合成材料からなる）構造がマイクロ波エネルギーを透過可能なシリコンからなる回収壁を有し、その上部が、セントラルヒート熱回収領域を形成するとともに、この回収壁を介した伝導性により作用することを計画した。
【００２５】
本出願人は、この型のホットプレートが（マイクロ波エネルギーが伝わった際の）熱蓄積フェーズにおいて膨張およびそれに伴うひずみを生じる傾向を有することに気付いた。特定の樹脂による湿度の吸い上げは、マイクロ波の影響下で溶けることの予測に関する限り、進行することができる局所的な膨張の原因であり、キャビティにおける空気の膨張と結びつけて考えられる膨張とは区別された。本出願人は、拡張はホットプレートを組み立てる材料の作用としての膨張を作り出す水分子の内部蓄積とともに行わなければならないことを発見した。したがって、（例えば高温ナイロンなどのように）材料が水分吸収および／またはマイクロ波長吸収に極めて影響されやすいと、マイクロ波に曝した後に膨張をもたらす。
【００２６】
本明細書において開示されたホットプレートの実施形態は、伝導性による保温および伝熱をする材料から構成されている。また、ホットプレートは、加熱の際にホットプレートにより経た応力を解放可能であるように構成されている。意義深いことに、ガス透過性膜は、ホットプレート内外への気体の経路を許容することをもたらす一方、液体（例えば水）がキャビティに入ることを防ぐ。好ましくは、材料は乏しい水吸収感受性であり、（例えば、フィルタを通過した水蒸気から）キャビティに存在する水または他の液体の吸収を回避する。
【００２７】
図１は、ホットプレート１０の実施形態の分解斜視図である。ホットプレート１０は、上面１００、支持構造２００、保温体３００、絶縁体４００、および下面５００を備えている。
【００２８】
上面１００は、マイクロ波エネルギーを透過可能であり、頂部上に料理を支持し得る熱伝導プレート１０２を含みかつ上部周１０４が熱伝導プレート１０２を囲んでいる。上面１００は、支持構造２００の頂部に配置されるとともに、好ましくは、例えば、ショアＡ硬度約５０のＨＣＲシリコン５０などの熱抵抗性シリコンからなっている。好ましくは、シリコン材料は、約４０から約８５の範囲内のショアＡ硬度を有している。
【００２９】
支持構造２００は、上面１００の下方に配置されており、マイクロ波エネルギーを透過可能である。支持構造２００は、貫通頂面２０２を備えており、周面２０６が頂面２０２および周壁２１０を囲んでいる。頂面２０２は、上面１００から下方に突出する複数のフィンガー（図示せず）を収容する構成とされる複数の交差孔２０４を備えている。代替の実施形態では、図７に示すように、支持構造２００は、熱伝導プレート１０２と保温体３００とが直接接触することを許容するように、貫通頂面２０２を伴わずに設けられている。
【００３０】
周面２０６は、好ましくは湾曲した垂直方向片として形成される複数の足部２０８を有している。足部２０８は、ホットプレート１０が例えば床またはテーブルなどの実質的に平坦な面上に配置される際にその安定性を向上させる。足部２０８は、好ましくは、ほぼ等しい角度セクタにより互いから間隔を置いて離れて配置されている。例えば、周面２０６は、互いからそれぞれ９０°または１２０°に位置した、３または４つの垂れ下がって湾曲した足部２０８を含んでいる。
【００３１】
支持構造２００は、無機質強化またはガラス繊維強化ポリエステルなど、強化ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ＰＢＴとＰＥＴの強化合金、高温ポリマーなど、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリスルホン（ＰＳＵ）または液晶ポリマー（ＬＣＰ）などの耐熱性のある合成材料からなる。
【００３２】
保温体３００は、支持構造２００内に少なくとも一部が据え付けられている。図１に示すように、熱伝導プレート１０２、貫通頂面２０２および蓄熱体３００は、円の形状を有し得る。好ましい形態では、保温体３００は、例えばフェライトまたは強磁性材料などの加熱された無機質要素により強化された異なる種類のセラミックからなる。そのような材料は、マイクロ波エネルギーが伝わった際にキューリー点（Ｔｃ）までの高温に加熱可能である。保温体３００は、マイクロ波エネルギーに曝すと加熱される。ひとたび加熱されると、保温体３００は、長期間（例えば１時間程度まで）保温が可能である。保温された熱は、保温体３００から上面の熱伝導プレート１０２に伝えられる。
【００３３】
複数の支柱３０２は、保温体３００の外縁の周囲に間隔を置いて離れて配置されている。例えば、３または４つの支柱が、互いからそれぞれ９０°または１２０°に位置して設けられ得る。支柱３０２は、８０を超えるショアＡ硬度を有する補強ＰＢＴまたはシリコンなどの好ましくは耐熱性の何らかの適切な材料からなる。図１に図示するように、支柱３０２は、広い寸法許容差を伴う周壁２１０内に保温体３００を安定させるために反転Ｖ型を有し得る。また、支柱３０２は、絶縁体４００の上面から保温体３００を、間隔を置いて離して配置している。
【００３４】
絶縁体４００は、保温体３００の底面に配置され得る。絶縁体４００は、何らかの無毒性材料からなり得る。そのような材料の例は、ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３−ＺｒＯ２ベースの材料、セラミックおよびセラブランケット（ＡＦＬＩＳＯ１２６０／１２８）などの繊維を含む。また、絶縁体４００は、支持構造２００内に少なくとも一部が据え付けられている。
【００３５】
下面５００は、支持構造２００の周壁２１０につながるとともに、ホットプレート１０の底面を形成している。これにより、内部キャビティは、上面１００、支持構造２００の周壁２１０、および下面５００により画定されるとともに、境界を接している。保温体３００と絶縁体４００は、このキャビティ内に配置されている。下面５００は、複数のセル５１０とチャンネル５１２とを備えている。セル５１０は絶縁体４００（およびこれにより保温体３００）を絶縁して外部環境による熱伝導を回避し、チャンネル５１２はホットプレートキャビティ内外のガスの経路を許容している。
【００３６】
完全に組み立てられた図１の保温ホットプレート１０を図９に示す。
【００３７】
図２は、下面５００の部分をより詳細に示す。図１および２に表わす形態では、単数のチャンネル５１２は下面５００の中心に配置されている。また、複数のセル５１０は下面５００に配置されて絶縁をもたらす。図１および２は単数のチャンネル５１２を有する下面５００を表わしているが、下面５００は必要に応じていくつチャンネル５１２を有してもよいことが理解される。
【００３８】
好ましい形態では、チャンネル５１２は円柱形の形状を有するとともに、少なくとも１つの開口５１４がチャンネル５１２の底面に配置されている。他の好ましい形態では、図２および６に示すように、チャンネル５１２は複数の開口５１４を有し得る。開口５１４は、好ましくは約０．５ｍｍから約５ｍｍの直径を有し、より好ましくは約１ｍｍから約２ｍｍである。
【００３９】
ガス透過性膜５２０が、チャンネル５１２の上面につながるとともに、チャンネル５１２をクローズオフしている。膜５２０は、極細繊維、熱可塑性ポリマー、ポリテトラフルオロエチレン、ゴアテックス（登録商標）、およびポリエステルなどの多孔性材料からなりうる。また、膜５２０は、例えば、ポリエステルなどの支持布体によりラミネートされて機械抵抗の向上を確保している。好ましくは、膜５２０は、キャビティ内への液体の経路を阻害する材料からなる。図２に概略的に示すように、膜５２０は、ホットプレート１０に熱がかけられた際に外部環境との圧力の均衡を確保するようにキャビティ内外をガスＡが通ることを許容する一方、内部キャビティ内に液体Ａが入ることを制限し、好ましくは妨げる。膜５２０はガス透過性であるので、キャビティ内側からホットプレート１０外側への水蒸気の放出を許容している。
【００４０】
取付片５３０が、膜５２０をチャンネル５１２につなげるのに使用され得る。図２および６に表わすように、取付片５３０は、好ましくは、嵌められるチャンネル５１２の直径とほぼ等しい内径を有する回転リングとして形成されている。取付片５３０は、チャンネル５１２の外面を囲んでスリーブがつけられた内孔を有し得る。膜５２０をチャンネル５１２に固定することに加えて、取付片３０は膜５２０が脆く扱いにくい場所で特に望ましい。この場合には、膜５２０は取付片５３０に密着または接着し得、次いでチャンネル５１２上に組立てられる。さらに、粘着層５３２が、膜５２０の周縁とチャンネル５１２との間に設けられている。取付片５３０は、強制的に埋め込まれるか溶接されて取付片５３０とチャンネル５１２との間に密封シールを確保する。
【００４１】
図３は、支持構造２００の頂部に配置された上面１００の（図８のＩ軸に沿った）斜視断面切欠き図を示すホットプレート１０を表わしている。図３に示すように、支持構造２００は、保温体３００から熱伝導プレート１０２に熱伝導を許容する貫通頂面２０２を備えている。また、貫通頂面２０２は、上面１００から下方に突出するとともに、貫通頂面２０２の交差孔２０４を経て保温体３００に接触する複数のフィンガー１１０を収容している。
【００４２】
フィンガー１１０は、熱伝導プレート１０２と保温体３００との間に直接接触を提供して伝熱を向上させる。つまり、上面１００に設けられたフィンガー１１０の数により保温体３００から伝熱プレート１０２への伝熱量が制御され得る。好ましい形態では、貫通頂面はフィンガー１１０の数より多い数の交差孔２０４を備えている。
【００４３】
支持構造２００を取り囲む軸壁１１２は、上面１００とつながり得る。軸壁１１２は、保温体３００から径方向に離れて伝熱を制限するヒートバリアを提供し得る。好ましくは、軸壁１１２は、上面と同じ材料から加工されるとともに、一体構造として構築されている。
【００４４】
図４は、組み立てられたホットプレート１０の（図８の軸Ｉに沿った）断面図である。上面１００、下面５００および支持構造２００の周壁２１０は、ホットプレート１０の内部キャビティを画定している。保温体３００と絶縁体４００は、ホットキャビティ内に配置されている。
【００４５】
上面１００はホットプレート１０の全頂面を覆うように表わされ、下面５００はホットプレート１０のベースまたは底部を提供するように表わされている。周壁２１０は、側面方向にホットプレートキャビティの境界を画している。図４に示すように、保温体３００と絶縁体４００は、ホットプレートキャビティ内に完全に封止されている。
【００４６】
図４に示すように、複数のフィンガー１１０は、上面から下方に突出し、支持構造２００の貫通頂部２０２の交差孔２０４を経て保温体３００に接触している。複数の支柱３０２は、保温体３００と周壁２１０との間に配置されてキャビティ内の保温体３００を固定するとともに、間隔を置いて離して配置する。さらに、支柱３０２は、ベースが広がる寸法にて、絶縁体４００から保温体３００を、間隔を置いて離して配置する。下面５００上に配置された複数のセル５１０は、熱交換を減らすとともに、それによる絶縁を外部環境からもたらすように各セル５１０の絶縁領域を提供する。
【００４７】
図５Ａおよび５Ｂは、それぞれ、図８の軸ＩＩおよびＩＩＩに沿ったホットプレート１０の形態の部分断面図である。図５Ａおよび５Ｂは、保温体３００と絶縁体４００を取り囲んでいる周壁２１０と、保温体３００と周壁２１０との間に挿入された支柱３０２とを示している。
【００４８】
図５Ａは、図８の軸ＩＩに沿ったホットプレート１０の部分断面図を示している。凹部２２０は、一部が周面２０６から頂面２０２を分離させて設けられており、これによりホットプレート２１０が加熱される際に貫通頂面２０２により経た機械応力を緩和する。任意に、凹部２２０は、支持構造２００により経たひずみや応力を吸収または和らげる可撓性ストリップを含み得る。周壁２１０の幅は、凹部２２０を収容するように厚くし得る。また、保温体３００の直径は、さらに周壁の増えた幅を収容するように絶縁体４００の直径より小さくてもよい。
【００４９】
図５Ｂは、図８の軸ＩＩＩに沿ったホットプレート１０の部分断面図を示している。
【００５０】
図７は、支持構造２００が足部２０８内に形成された周面と周壁２１０とを備えるホットプレート１０のさらに他の形態を示している。特に、支持構造は、貫通頂面を含まないとともに、上面１００の熱伝導プレート１０２から下方に突出しているフィンガー１１０が介在構造を伴わずに保温体３００に直接接触している。さらに、上面は、連続頂面を提供するように支持構造２００の足部２０８を完全に覆う上部周１０４を備えている。下面５００は、好ましくは封止キャビティを画定するように周壁２１０で支持構造２００とつながっている。保温体３００と絶縁体４００は、封止キャビティ内に、封止キャビティと外部環境との間のガスの出入りを許容する膜５２０を有しているチャンネル５１２を伴って配置されている。既に述べたように、膜５２０は、実質的に、完全でないとしても、封止キャビティ内へ液体が入ることを妨げている。
【００５１】
図８は、上記で援用される切断軸Ｉ、ＩＩおよびＩＩＩを示している組み立てられた図１のホットプレートの立面図である。
【００５２】
図９は、完全に組み立てられた図１のホットプレートの斜視図を示している。
【００５３】
本明細書において、記載されかつ図示されたホットプレートは、多くの方法で製造され組み立てられ得る。ホットプレートを組み立てる一例示的な方法は、上面１００の底部を貫通頂面２０２の頂部と連結する工程と、複数のフィンガー１１０が交差孔２０４を通過することを確認する工程とを含んでいる。上面１００は、この方法において、例えば、オーバーモールディング、接着、および／または締結により、支持構造２００に連結し得る。好ましくは、上面１００の支持構造２００へのカップリングは、気密である。
【００５４】
次に、保温体３００は、支持構造２００の内部キャビティ内部に突き立てる。保温体３００の頂面は、上面１００のフィンガー１１０の自由端部に連結されるとともに、貫通頂面２０２の底面にも連結される。再び、保温体３００のフィンガー１１０と貫通頂面２０２とへのカップリングが接着により行われ得る。
【００５５】
任意に、支柱３０２は、保温体３００の周縁と周壁２１０の内面との間に押し込まれ得る。支柱３０２は、周壁２１０に対して保温体３００を固定することが意図されている。支柱３０２は、周壁２１０の内面上および／または保温体３００に接着され得る。好ましくは、支柱３０２は、ほぼ等しい角度セクタにより、互いから間隔を置いて離れて配置されている。例えば、４つの支柱３０２が互いから９０°の間隔を置いて、または３つの支柱３０２が互いから１２０°の間隔を置いて配置されている。また、支柱３０２は、８０を超えるショアＡ硬度を有している強化ＰＢＴまたはシリコン材料からなる。
【００５６】
次いで、絶縁体４００は、頂面が保温体３００の底面に対向しているように支持構造２００の内部キャビティ内部に突き立ち得る。また、支柱３０２は、寸法許容差を伴って保温体３００の底面から特定の距離で絶縁体４００の頂面を保つことに使用され得る。
【００５７】
下面５００は、膜５２０を取付片５３０に接着ないしは取り付けることにより組み立てられる。次いで、取付片５３０と膜５２０は、チャンネル５１２に取り付けられる。粘着層がチャンネル５１２の表面と膜５２０の間に設けられて取付片５３０および膜５２０をチャンネル５１２にさらに固定し得る。本明細書において開示されている好ましい形態によれば、単数のチャンネル５１２を有するホットプレート１０が表されかつ記載されている。しかしながら、ホットプレート１０は、必要に応じていくつチャンネル５１２を有してもよいことが理解される。
【００５８】
次いで、下面５００は、絶縁体４００の底面に配置されるとともに、支持構造２００の周壁２１０につながって密封シールがされるようになっている。再び、下面５００は接着または密着により周壁２１０に連結し得る。
【００５９】
上述の接着は、例えば、ダウコーニング（登録商標）８８８８などのアクリルまたはシリコン型接着剤を使用して行い得る。膜５２０に関しては、高温シアノアクリレート型の接着剤またはシリコン接着剤を使用し得る。
【００６０】
上述したステップは、異なる順序またはある場合には同時に実行され得ることが理解される。また、支持構造２００が貫通頂面２０２を含まない際には、保温体３００の頂面は上面１００の底部に連結し得る。
【００６１】
さらに、ニッケル／チタニウムなどの任意の記憶合金のスプリングブレードが提供されて上面１００の熱伝導プレート１０２から保温体３００に配置され得る。好ましい形態では、変位は約５ｍｍである。これは、保温体３００と熱伝導プレート１０２との間で増した距離が、両要素の間に熱伝導の減少を生じさせるからである。その結果、熱損失は減速し、保温体３００は長期間の保温が可能である。
【００６２】
本発明の好ましい実施形態を示している詳細な説明および具体的な例は、制限されない例示として与えられることが理解される。本発明の範囲内で多くの変更および改良が本発明の精神から逸脱せずになされるとともに、本発明はそのような全ての改良を含む。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【手続補正書】
【提出日】平成22年5月25日(2010.5.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
上面、前記上面とつながった下面、ならびに前記上および下面の間に画定されたキャビティと、
前記キャビティ内に配置された保温体と、
前記下面に配置されたチャンネルであって、開口を備えているチャンネルと、
前記チャンネルとつながったガス透過膜であって、前記キャビティ内外への気体の経路を許容しているガス透過膜と、
を備えているホットプレート。
【請求項２】
周面が（５０℃以下のやけどを回避する）コールドハンドルとして設計されることを特徴とする、請求項１に記載のホットプレート。
【請求項３】
少なくとも２ハンドルあることを特徴とする、請求項２に記載のホットプレート。
【請求項４】
底部分と足部の接触支持部との間にフリーエア／ヒート対流チャンネルを通すクリアランスがあることを特徴とする、請求項１に記載のホットプレート。
【請求項５】
前記ガス透過膜が前記開口を覆うことを特徴とする、請求項１に記載のホットプレート。
【請求項６】
前記ガス透過膜は、前記キャビティ内への液体の経路を阻害する材料からなることを特徴とする、請求項２に記載のホットプレート。
【請求項７】
前記ガス透過膜は、超極細繊維、熱可塑性ポリマー、ポリテトラフルオロエチレン、ゴアテックス（登録商標）、およびポリエステルの群から選択された多孔質材料からなることを特徴とする、請求項３に記載のホットプレート。
【請求項８】
前記開口は、約０．５ｍｍから約５ｍｍの直径を有することを特徴とする、請求項１に記載のホットプレート。
【請求項９】
前記開口は、約１ｍｍから約２ｍｍの複数の直径を有することを特徴とする、請求項５に記載のホットプレート。
【請求項１０】
さらに、前記ガス透過膜を前記チャンネルとつなげる取付片であって、前記チャンネルの外面を囲んでスリーブがつけられた内孔を有している取付片を備えている、請求項１に記載のホットプレート。
【請求項１１】
さらに、下面に配置された複数のセルであって、前記ホットプレートを絶縁する構成とされた複数のセルを備えている、請求項１に記載のホットプレート。
【請求項１２】
上壁と、
下壁と、
周壁を備えているとともに前記上および下壁とつながって封止されたキャビティを画定する支持構造と、
前記キャビティ内に配置された保温体と、
前記キャビティ内外への経路を許容する構成とされたガス透過チャンネルと、
を備えているホットプレート。
【請求項１３】
前記支持構造は、マイクロ波エネルギーを透過可能であるとともに約１５０℃以上の温度に耐える実質的に剛性のある合成材料からなることを特徴とする、請求項１２に記載のホットプレート。
【請求項１４】
前記支持構造は、さらに、貫通頂面と前記頂面を囲む周面とを備えている、請求項１２に記載のホットプレート。
【請求項１５】
さらに、前記頂面と前記周面との間に配置された凹部を備え、前記凹部は放射線または熱に曝した際に頂面の拡張を許容する構成とされることを特徴とする、請求項１４に記載のホットプレート。
【請求項１６】
前記凹部は、前記支持構造の前記周壁内に配置されることを特徴とする、請求項１５に記載のホットプレート。
【請求項１７】
さらに、前記貫通面により経たひずみおよび応力から前記周面を和らげる構成とされた可撓性ストリップを備えている、請求項１４に記載のホットプレート。
【請求項１８】
前記周面から形成された複数の足部であって、間隔を置いて離れて配置されるとともに垂直方向下方に曲がって実質的に平坦な面上でホットプレートを支持する複数の足部を備えている、請求項１４に記載のホットプレート。
【請求項１９】
頂面と複数の下方に突出しているフィンガーを備えている底面とを有している熱伝導プレートを備えている上壁と、
前記複数のフィンガーと接触する保温体であって、前記保温体から前記熱伝導プレートに熱を伝える保温体と、
前記上壁とつながるとともに前記保温体を囲んでいる周壁を備えている支持構造と、
前記支持構造とつながる下壁であって、前記上壁、支持構造および下壁により画定されたキャビティ内に前記保温体を封止し、実質的に液体を透過不可能であるガス透過性チャンネルを備えている下壁と、
を備えているホットプレート。
【請求項２０】
前記支持構造は、さらに、前記周壁につながった貫通頂面であって、前記複数のフィンガーが通って頂面に接触する交差孔を備えていることを特徴とする、請求項１９に記載のホットプレート。
【請求項２１】
さらに、前記保温体と前記下壁との間に配置された絶縁体を備えている、請求項１９に記載のホットプレート。
【請求項２２】
さらに、前記保温体と前記支持構造の前記周壁との間に配置された複数の支柱であって、前記周壁から前記保温体に間隔を置いて配置して構成された複数の支柱を備えている、請求項１９に記載のホットプレート。
【請求項２３】
前記支柱は、前記絶縁体から前記保温体に間隔を置いて形成されることを特徴とする、請求項２２に記載のホットプレート。
【国際調査報告】
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