(57)【要約】媒体上に特徴のパターンの画像を形成する方法が提供され、当該方法は、第一及び第二の方向に沿って特徴のピッチを決定し、第一の方向に沿った特徴のピッチに少なくとも基づいて第一の画素の第一のサイズを決定することを含む。第二の方向に沿った特徴のピッチに少なくとも基づいて第二の画素の第二のサイズが決定される。スキュー角及び第一のサイズに少なくとも基づいて、第一及び第二の画素のスキャンライン間の走査方向に沿ってオフセットが決定される。イメージングヘッドが制御され、決定された第一のサイズを有する第一の画素と決定された第二のサイズを有する第二の画素とが形成される。イメージングヘッドが制御され、決定されたオフセットだけ互いにオフセットされる、第一のスキャンラインと第二のスキャンラインとが形成される。
2011511312.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
走査方向に沿って媒体にわたり走査する間、イメージングヘッドにより放射される放射線ビームで前記媒体上に特徴のパターンの画像を形成する方法であって、
前記パターンにおける特徴は、第一の方向と該第一の方向に交差する第二の方向に沿って規則的に配置され、前記パターンは、前記走査方向に関してスキュー角だけ曲げられた方向に沿って延びる第一のエッジ部分をもつ特徴を含み、
当該方法は、
前記第一の方向に沿った前記特徴のピッチを決定するステップと、
前記第一の方向に沿った前記特徴のピッチに少なくとも基づいて前記媒体上に形成される第一の画素の第一のサイズであって、前記走査方向に交差する方向に沿った第一のサイズを決定するステップと、
前記第二の方向に沿った前記特徴のピッチを決定するステップと、
前記第二の方向に沿った前記特徴のピッチに少なくとも基づいて前記媒体上に形成される第二の画素の第二のサイズであって、前記走査方向に沿った第二のサイズを決定するステップと、
前記媒体上に形成される画素の第二のスキャンラインと前記媒体上に形成される画素の第一のスキャンラインとの間の前記走査方向に沿ったオフセットであって、前記スキュー角と前記第一のサイズとに少なくとも基づいて決定されるオフセットを決定するステップと、
前記走査方向に沿って走査する間、前記イメージングヘッドを制御して前記放射線ビームを放射し、前記媒体上に画像を形成するステップと、
前記媒体にわたり走査する間、前記イメージングヘッドを制御して、前記決定された第一のサイズを有する前記第一の画素と前記決定された第二のサイズを有する前記第二の画素とを形成するステップと、
前記媒体にわたり走査する間、前記イメージングヘッドを制御して、前記画素の第一のスキャンラインと、前記決定されるオフセットだけ前記画素の第一のスキャンラインからずれる前記画素の第二のスキャンラインとを形成するステップと、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記第一の方向に沿った前記特徴のピッチは、前記第一のサイズの整数倍に等しい、
請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記第二の方向に沿った前記特徴のピッチは、前記第二のサイズの整数倍に等しい、
請求項２記載の方法。
【請求項４】
前記画素の第一のスキャンサイズは、前記第一の画素を含み、前記画素の第二のスキャンラインは、前記第二の画素を含む、
請求項１記載の方法。
【請求項５】
前記画素の第一のスキャンラインと前記画素の第二のスキャンラインのそれぞれは、同じサイズの画素を含む、
請求項１記載の方法。
【請求項６】
前記画素の第一のスキャンラインは、前記第二のサイズよりも小さい量だけ、前記走査方向に沿った前記画素の第二のスキャンラインからずれる、
請求項１記載の方法。
【請求項７】
前記画素の第一のスキャンラインは、前記第二のサイズよりも大きい量だけ、前記走査方向に沿った前記画素の第二のスキャンラインからずれる、
請求項１記載の方法。
【請求項８】
関係Offset＝（T*X）/Tan(θ)に少なくとも基づいて、前記走査方向に沿って前記オフセットを決定するステップを含み、
前記Offsetは前記走査方向に沿ったオフセットであり、前記Ｘは第一のサイズであり、前記Ｔは１よりも大きいか又は１に等しい整数であり、前記θは前記スキュー角に対応する角度である、
請求項１記載の方法。
【請求項９】
前記特徴は、前記第一のエッジ部分が延びる方向に平行な方向に沿って延びる第二のエッジ部分を有する、
請求項１記載の方法。
【請求項１０】
前記第二のエッジ部分及び前記第一のエッジ部分は互いにずれる、
請求項９記載の方法。
【請求項１１】
前記第二のエッジ部分と前記第一のエッジ部分は前記走査方向に沿って互いにずれる、
請求項９記載の方法。
【請求項１２】
前記パターンの特徴のそれぞれは、前記第一のエッジ部分が延びる方向に平行な方向に沿って延びるエッジ部分を有し、前記エッジ部分のそれぞれは、前記走査方向に沿って規則的に配置される、
請求項１記載の方法。
【請求項１３】
前記パターンのそれぞれの特徴は、エッジ部分のセットを含み、それぞれのセットにおけるエッジ部分のそれぞれは、前記第一のエッジ部分が延びる方向に平行な方向に沿って延び、それぞれのセットにおけるそれぞれのエッジ部分は、前記セットにおける他のエッジ部分から前記走査方向に沿ってオフセットされる、
請求項１記載の方法。
【請求項１４】
前記特徴は、前記第一の方向と前記第二の方向とに沿って繰り返される、
請求項１記載の方法。
【請求項１５】
前記特徴は、横向きの山形の形状を有する、
請求項１記載の方法。
【請求項１６】
前記特徴は、前記走査方向に平行な方向に沿って延びる対称軸をもつ形状である、
請求項１記載の方法。
【請求項１７】
前記特徴は、横向きの山形の形状を有する、
請求項１記載の方法。
【請求項１８】
前記第二の方向は、前記走査方向に平行である、
請求項１記載の方法。
【請求項１９】
前記イメージングヘッドの画像形成チャネルの作動を遅延させることで、前記決定されたオフセットにより前記第二のスキャンラインを前記第一のスキャンラインからオフセットするステップを含む、
請求項１記載の方法。
【請求項２０】
前記第二のサイズに等しい前記走査方向に沿ったサイズで前記媒体上に画素を形成するために放射線ビームが放射される期間を制御するステップを含む、
請求項１記載の方法。
【請求項２１】
前記イメージングヘッドを制御して放射線ビームを放射し、前記媒体上に放射線スポットを形成するステップを含み、
当該方法は、前記第二のサイズに等しい前記走査方向に沿ったサイズで前記媒体に画素を形成するために前記放射線スポットが走査される期間を制御するステップを含む、
請求項１記載の方法。
【請求項２２】
前記イメージングヘッドは光バルブを有しており、
当該方法は、前記第二のサイズに等しい前記走査方向に沿ったサイズをもつ画素を形成するために前記光バルブのチャネルがオン及びオフにされる時間の長さを変えるステップを含む、
請求項１記載の方法。
【請求項２３】
前記イメージングヘッドを制御して放射線ビームを放射し、前記媒体上に放射線スポットを形成するステップを含み、
当該方法は、前記第一のサイズに等しいクロススキャンサイズをもつ画素を前記媒体上に形成するために前記放射線ビームが走査される前記媒体の表面に交差する軸に関する角度で前記放射線スポットを位置合わせするステップを含む、
請求項１記載の方法。
【請求項２４】
前記イメージングヘッドを回転して前記第一のサイズに等しいクロススキャンサイズをもつ画素を前記媒体上に形成するステップを含む、
請求項１記載の方法。
【請求項２５】
前記イメージングヘッドを制御して放射線ビームを放射し、前記媒体上に放射線スポットを形成するステップを含み、
当該方法は、前記放射線スポットを拡大又は縮小して、前記第一のサイズに等しいクロススキャンサイズをもつ画素を前記媒体上に形成するステップを含む、
請求項１記載の方法。
【請求項２６】
前記イメージングヘッドは、前記走査方向に交差する方向に沿った画素のサイズとは異なる前記走査方向に沿った画素のサイズを調節するように制御される、
請求項１記載の方法。
【請求項２７】
熱転写プロセスにより前記媒体上に前記画像を形成するステップを含む、
請求項１記載の方法。
【請求項２８】
前記パターンは、複数の異なる色の特徴を含み、それぞれの色の特徴は、別々に画像形成される、
請求項１記載の方法。
【請求項２９】
前記パターンは、カラーフィルタの特徴のパターンである、
請求項１記載の方法。
【請求項３０】
前記第二のサイズは、前記第二の画素のエッジの大きさに対応し、前記第一のサイズは、前記第一の画素のエッジの大きさに対応する、
請求項１記載の方法。
【請求項３１】
コントローラにより実行されたとき、前記コントローラに、
走査方向に沿って媒体にわたり走査する間、イメージングヘッドを制御して放射線ビームを放射し、前記媒体上に特徴のパターンの画像を形成するステップと、前記パターンにおける特徴は、第一の方向と該第一の方向に交差する第二の方向に沿って規則的に配置され、前記パターンは、前記走査方向に関してスキュー角だけ曲げられた方向に沿って延びる第一のエッジ部分をもつ特徴を含み、
前記第一の方向に沿った前記特徴のピッチを決定するステップと、
前記第一の方向に沿った前記特徴のピッチに少なくとも基づいて前記媒体上に形成される第一の画素の第一のサイズであって、前記走査方向に交差する方向に沿った第一のサイズを決定するステップと、
前記第二の方向に沿った前記特徴のピッチを決定するステップと、
前記第二の方向に沿った前記特徴のピッチに少なくとも基づいて前記媒体上に形成される第二の画素の第二のサイズであって、前記走査方向に沿った第二のサイズを決定するステップと、
前記媒体上に形成される画素の第二のスキャンラインと前記媒体上に形成される画素の第一のスキャンラインとの間の前記走査方向に沿ったオフセットであって、前記スキュー角と前記第一のサイズとに少なくとも基づいて決定されるオフセットを決定するステップと、
前記イメージングヘッドを制御して、前記第一の画素と前記第二の画素とを形成するステップと、
前記媒体にわたり走査する間、前記イメージングヘッドを制御して、前記画素の第一のスキャンラインと、前記決定されるオフセットだけ前記画素の第一のスキャンラインからずれる前記画素の第二のスキャンラインとを形成するステップと、
を実行させる命令を含むコンピュータ読み取り可能な信号のセットを含むプログラムプロダクト。
【請求項３２】
走査方向に沿って媒体にわたり走査する間、イメージングヘッドにより放射される放射線ビームで前記媒体上に複数の特徴を含む画像を形成する方法であって、
当該方法は、
前記イメージングヘッドを制御して放射線ビームを放射し、それぞれの特徴の複数のエッジが前記走査方向に関してスキュー角だけ曲げられる方向であって、前記複数のエッジのそれぞれが互いに平行であり且つ前記走査方向に沿って互いにオフセットされる方向で前記媒体上に前記複数の特徴を形成するステップと、
前記媒体にわたり走査する間、前記イメージングヘッドを制御して画素の第一のスキャンラインを形成するステップと、
前記媒体にわたり走査する間、前記イメージングヘッドを制御して画素の第二のスキャンラインを形成するステップとを含み、
前記第二のスキャンラインは、前記スキュー角に少なくとも基づいて決定されるオフセット距離だけ前記第一のスキャンラインから前記走査方向に沿ってオフセットされ、前記画素の第一のスキャンラインと前記画素の第二のスキャンラインのそれぞれは、それぞれの特徴の前記複数のエッジのそれぞれと交差し、それぞれの特徴の他のエッジと交差しない、
ことを特徴とする方法。
【請求項３３】
前記複数の特徴は、前記特徴のパターンを含み、前記特徴のそれぞれは、前記走査方向と前記走査方向に交差する方向とに沿って規則的に配置される、
請求項３２記載の方法。
【請求項３４】
前記特徴のそれぞれは、前記走査方向と該走査方向に交差する方向とに沿って繰り返される、
請求項３３記載の方法。
【請求項３５】
前記画素の第一のスキャンラインの画素は、クロススキャン方向に沿って第一のサイズを有し、
当該方法は、少なくとも前記第一のサイズに基づいて前記オフセット距離を決定するステップを更に含む、
請求項３２記載の方法。
【請求項３６】
前記複数の特徴は、前記特徴のパターンを含み、前記特徴のそれぞれは、前記クロススキャン方向に沿って規則的に配置され、前記クロススキャン方向に沿った前記特徴のピッチは、前記第一のサイズの整数倍に等しい、
請求項３５記載の方法。
【請求項３７】
前記画素の第一のスキャンライン及び前記画素の第二のスキャンラインは、互いに隣接する、
請求項３２記載の方法。
【請求項３８】
前記それぞれの特徴の他のエッジは、前記複数のエッジのそれぞれのエッジが延びる方向とは異なる方向に沿って延びる、
請求項３２記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、画像形成システム、及び所望の走査方向に関して歪められたエッジを有する特徴のパターンを形成する方法に関する。  
本発明は、たとえば電子ディスプレイ用のカラーフィルタの製造に適用される場合がある。
【背景技術】
【０００２】
ディスプレイパネルで使用されるカラーフィルタは、典型的に、複数の色特性を有するパターンを含む。色の特徴は、たとえば赤、緑及び／又は青の色の特徴のパターンを含む場合がある。カラーフィルタは、他の色の色特徴で構成される場合がある。色特徴は、様々な適切なコンフィギュレーションの何れかで構成される場合がある。従来技術の「ストライプ」コンフィギュレーションは、図１Ａで示されるような赤、緑及び青の色の特徴の交互する列を有する。
【０００３】
図１Ａは、レシーバエレメント１８にわたり交互する列でそれぞれ形成される複数の赤、緑及び青の色の特徴１２，１４及び１６を有する従来技術の「ストライプ」コンフィギュレーションのカラーフィルタ１０の一部を示す。色の特徴１２，１４及び１６は、（マトリクス２０とも呼ばれる）カラーフィルタマトリクス２０の一部により概説される。列は、マトリクスセル３１により個々の色の特徴１２，１４及び１６に小分割される細長いストライプで画像形成することができる。関連されるＬＣＤパネル（図示せず）上のＴＦＴトランジスタは、マトリクス２０の領域２２によりマスクされる場合がある。
【０００４】
当該技術分野において様々な画像形成方法が知られており、媒体上に様々な特徴を形成するために使用される。たとえば、ディスプレイの製造、特にカラーフィルタでの使用のため、レーザで誘起される熱転写プロセスが提案されている。幾つかの製造技術において、カラーフィルタを製造するためにレーザで誘起される熱転写プロセスが使用されるとき、レシーバエレメントとしても知られるカラーフィルタの基板は、ドナーエレメントとオーバレイされ、このドナーエレメントは、次いで、画像毎に露光される。ドナーエレメントからレシーバエレメントに着色剤を選択的に転写するために画像毎に露光される。好適な露光方法は、レシーバエレメントへの着色剤の転写を誘導するため、レーザビームのような放射線ビームを使用する。ダイオードレーザは、それらの低コスト及び小型サイズのために特に好まれる。
【０００５】
レーザで誘起される「熱転写プロセス」は、レーザで誘起される「ダイ（dye）転写」プロセス、レーザで誘起される「メルト（melt）転写」プロセス、レーザで誘起される「アブレーション（ablation）転写」プロセス、及びレーザで誘起される「マス（mass）転写」プロセスを含む。レーザで誘起される熱転写プロセスの間に転写される着色剤は、適切な染料に基づく組成又は顔料に基づく組成を含む。１以上の結合剤のような更なるエレメントが転写される場合がある。
【０００６】
幾つかの従来の画像形成システムは、制限された数の放射線ビームを生成する。他の従来のシステムは、多数の個々に変調される画像形成チャネルで多数の放射線ビームを生成することで、画像を仕上げるために要する時間を低減する。多数の係る「チャネル」をもつイメージングヘッドが利用可能である。たとえば、カナダ合衆国のブリティッシュコロンビアにあるKodak  Graphic  Communications  Canada  Companyにより製造されるSQUAREspot（登録商標）モデルの熱画像形成ヘッドは、数百の個々のチャネルを有する。それぞれのチャネルは、２５ｍＷを超える電力を有することができる。画像形成チャネルのアレイは、連続画像を形成するために構成される一連の画像の帯状の領域に画像を書き込むために制御される。
【０００７】
放射線ビームは、様々な画像を形成するため、スキャンパスに沿ってスキャニングされる。形成される画像の視覚的な品質は、特定の画像形成プロセスの選択において重要な考慮を有することができる。カラーフィルタの特徴のレーザで誘起される熱転写のような応用において、形成されたカラーフィルタの品質は、実質的に同じ視覚的な特性を有する画像形成の特徴に依存する。たとえば、１つの特定の視覚的な特性は、（たとえば光学濃度又は色濃度といった）濃度を含む。画像形成された色の特徴の間の濃度は、好ましくない画像のアーチファクトを招く可能性がある。画像のアーチファクトは、画像形成された特徴におけるバンディング又はカラーバリエーションを含む可能性がある。
【０００８】
図１Ａに示されるストライプコンフィギュレーションは、カラーフィルタの特徴に関する１つの例示的なコンフィギュレーションを説明する。カラーフィルタは、他のコンフィギュレーションを有する場合がある。モザイクコンフィギュレーションは、それぞれの色の特徴が「アイランド」に類似するように（たとえば列及び行といった）両方の方向で交互する色の特徴を有する。デルタコンフィギュレーション（図示せず）は、互いに三角形の関係で構成される赤、緑及び青の色の特徴からなるグループを有する。モザイク及びデルタコンフィギュレーションは、「アイランド」コンフィギュレーションの例である。図１Ｂは、色の特徴１２，１４及び１６が列で配置され、共に列にわたり且つ列に沿って交互するモザイクコンフィギュレーションで構成される従来技術のカラーフィルタ１０の一部を示す。
【０００９】
当該技術分野において、他のカラーフィルタのコンフィギュレーションも知られている。上述された例は、矩形の形状のカラーフィルタエレメントのパターンを示す一方で、他の形状の特徴を含む他のパターンも知られている。
【００１０】
図１Ｃは、三角形の形状の色の特徴１２Ａ，１４Ａ及び１６Ａのコンフィギュレーションをもつ従来技術のカラーフィルタ１０の一部を示す。図１Ｃで例示されるように、それぞれの色の特徴のそれぞれは、列に沿って配置され、マトリクス２０と揃えられる。
【００１１】
図１Ｄは、三角形の形状の色の特徴１２Ａ，１４Ａ及び１６Ａのコンフィギュレーションをもつ従来技術のカラーフィルタ１０の一部を示す。図１Ｄに例示されるように、それぞれの色の特徴のそれぞれは、列及び行のカラーフィルタ１０に沿って交互する。図１Ｃ及び図１Ｄに示されるように、色の特徴１２Ａ，１４Ａ及び１６Ａは、所与の行又は列内で異なる向きを有することができる。
【００１２】
図１Ｅは、横向きの山形の形状の色の特徴１２Ｂ，１４Ｂ及び１６Ｂのコンフィギュレーションを含む従来技術のカラーフィルタ１０の一部を示す。図１Ｅに例示されるように、それぞれの色の特徴のそれぞれは、列に沿って配置され、マトリクス２０と揃えられる。色の特徴１２Ｂ，１４Ｂ及び１６Ｂは、左右に曲がるストライプから形成され、カラーフィルタマトリクス２０の一部により輪郭が描かれる。
【００１３】
図１Ｆは、横向きの山形の形状の色の特徴１２Ｂ，１４Ｂ及び１６Ｂのコンフィギュレーションを含む従来技術のカラーフィルタ１０の一部を示す。図１Ｆで例示されるように、それぞれの色の特徴のそれぞれは、カラーフィルタ１０の列及び行に沿って交互する。
【００１４】
カラーフィルタの特徴の形状及びコンフィギュレーションは、良好なカラーミックス又はエンハンスされた視角のような所望のカラーフィルタの特性を提供するために選択される。所望の画像形成の走査方向に関して曲げられるエッジをもつ特徴は、それらの製造に関して更なる課題を形成する可能性がある。
【００１５】
幾つかの応用では、媒体上に設けられるレジストレーション領域との十分なアライメントで特徴が形成されることが必要とされる。たとえば、図１Ａでは、様々な色の特徴１２，１４及び１６は、マトリクス２０により設けられるマトリクスセル３４のパターンと揃えられる。色の特徴１２，１４及び１６は、バックライトの漏洩効果を低減するため、マトリクス２０とオーバラップすることができる。カラーフィルタのような幾つかの応用では、最終的な製品の視覚的な品質は、（たとえばカラーフィルタの特徴のパターンといった）特徴のパターンが（たとえばカラーフィルタマトリクスといった）レジストレーションサブ領域のパターンと揃えられる精度に依存する可能性がある。ミスアライメントは、望まれない色のないボイドの形成につながる可能性があるか、又は望まれない色の特性となる可能性がある隣接する特徴とのオーバラップにつながる可能性がある。
【００１６】
マトリクス２０にオーバラップすることは、色の特徴がカラーフィルタの応用においてマトリクス２０が位置合わせされる必要がある精度を低減する助けとなる一方で、マトリクス２０がオーバラップすることができる範囲に対する制限が典型的に存在する。オーバラップの程度（及び最終的なアライメント）を制限するファクタは、限定するものではないが、カラーフィルタの特定のコンフィギュレーション、マトリクスラインの幅、マトリクスラインの粗さ、バックライトの漏れを防止するために必要とされるオーバラップ、及びポストアニーリングの収縮を含む。特徴を形成するために採用される特定の方法と関連されるファクタは、オーバラップの程度を制限する。たとえば、レーザ画像形成方法が採用されるとき、レーザイメージャがカラーフィルタをスキャンすることができる精度は、得られる最終的なレジストレーションに影響を有する。ディスプレイ業界において、より薄いライン幅をもつカラーフィルタマトリクスを採用することが望まれる。この要求は、アライメントの要件を更に複雑にする可能性がある。
【００１７】
特徴を画像形成することができる画像形成の解像度は、最終的なアライメントに影響を有する。画像形成の解像度は、画像形成プロセスの間に対応する放射線ビームにより形成される画素のサイズの特性に関連する。より小さな寸法で画素を形成するため、より高い解像度が使用される。画像形成された特徴を更に正確に形成するため、より小さな画素が結合される場合がある。しかし、より高い解像度は、常に可能ではない。たとえば、放射線スポットが媒体に沿って走査されるために放射線ビームが放射され、その結果、画素が形成される。走査方向における画素のサイズは、走査方向に沿うスポットのサイズ、及び走査方向に沿って走査される速度に関連される。スポットのサイズは、走査方向に沿って達成することができる画像形成の解像度を制限する。スポットのサイズは、放射線ビームが放射されるスイッチング周波数に関連する。したがって、スイッチング周波数への制限は、画像形成の解像度を制限する可能性がある。また、より高い画像形成の解像度は、画像形成された媒体自身により制限される。媒体の露光特性は、形成される画素のサイズを制限する。たとえば、幾つかの熱転写プロセスにおいて、適切な強度の放射線ビームは、画像を形成する材料の領域がドナーエレメントから分離して、レシーバエレメントに転写することが要求される。媒体に関連される転写メカニズムは、高解像度の画素の使用を制限する。しかし、比較的大きな画素をもつ特徴を形成することは、特徴と該特徴が揃えられるレジストレーション領域との間で達成されるアライメントを制限する場合がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１８】
特徴のパターンの高品質画像の形成につながる効果的且つ実用的な画像形成方法及びシステムの必要が残されている。これらの特徴の様々な部分は、所望の走査方向に関して異なる向きを有する。これらの特徴の様々なエッジは、スキャンパスの方向に関して曲げられる。
【００１９】
媒体上に設けられるレジストレーションのサブ領域のパターンとの十分なアライメントで特徴を形成することができる効果的且つ実用的な画像形成方法の必要が残されている。これらの特徴の様々な部分は、スキャンパスの方向に関して曲げられる。これらの特徴は、カラーディスプレイの一部である。
【００２０】
特徴自身のサイズと比較して、又は媒体上に設けられるレジストレーションのサブ領域のパターンとの特徴の所望のアライメントにより必要とされる所望の許容範囲と比較して、比較的粗い画像形成の解像度をもつ特徴を形成する効果的且つ実用的な画像形成方法及びシステムの必要が残されている。これらの特徴の様々なエッジは、スキャンパスの方向に関して曲げられる。これらの特徴は、カラーディスプレイの一部である。
【００２１】
低減されたライン幅を有するカラーフィルタマトリクスとのアライメントで色の特徴が形成される効果的且つ実用的な画像形成方法の必要が残されている。
【課題を解決するための手段】
【００２２】
本発明は、放射線ビームに関して媒体が移動される間、媒体上に画像を形成する方法に関する。この媒体は、たとえばマトリクスのようなレジストレーションのサブ領域のパターンを含む。画像は、カラーフィルタ又は有機発光ダイオードディスプレイの一部としての着色された照明光源の色の特徴のような、１以上の特徴のパターンを含む。１以上の特徴のパターンは、レジストレーションのサブ領域のパターンと揃えられる。これら特徴は、アイランドの特徴であり、第一の色の第一の複数の特徴のそれぞれの特徴は、異なる色の特徴により第一の色の特徴から互いに分離される。特徴は、１以上の方向で遮断されるか、遮断されない場合があるストライプである。特徴のエッジは、イメージングヘッドの画像形成チャネルの配置方向に関して曲げられる。特徴は、横向きの山形の形状である。
【００２３】
画像は、レーザで誘起されるダイ転写プロセス、レーザで誘起されるマス転写プロセス又はドナーエレメントからレシーバエレメントに材料を転写する他の手段のような、レーザで誘起される熱転写プロセスにより形成される。
【００２４】
本発明の１つの例示的な実施の形態では、特徴のパターンの画像は、走査方向に沿って媒体にわたり走査する間、イメージングヘッドにより放射される放射線ビームにより媒体上に形成される。パターンにおける特徴は、第一の方向と、該第一の方向と交差する第二の方向に沿って規則的に配置される。第二の方向は、走査方向に並行である。パターンは、第一の方向と第二の方向に沿って繰り返される特徴を含む。特徴は、走査方向に関してスキュー角だけ曲げられる方向に沿って延びる第一のエッジ部分を有する。特徴は、走査方向に平行である方法に沿って延びる対称軸を有し、横向きの山形の形状である。
【００２５】
本方法は、第一の方向に沿って特徴のピッチを決定するステップ、少なくとも第一の方向に沿った特徴のピッチに基づいて媒体で形成される第一の画素の第一のサイズを決定するステップを含む。第一のサイズは、走査方向に交差する方向に沿っている。特徴のピッチは、第一のサイズの整数倍に等しい場合がある。第二の方向に沿った特徴のピッチが決定される。媒体上で形成される第二の画素の走査方向に沿った第二のサイズは、少なくとも第二の方向に沿った特徴のピッチに基づいて決定される。第一及び第二のサイズは、画素のエッジのサイズ、又は画素の他の部分のサイズである。第二の方向に沿った特徴のピッチは、第二のサイズの整数倍に等しい。オフセットは、媒体上で形成される画素の第二のスキャンラインと媒体上で形成される画素の第一のスキャンラインとの間の走査方向に沿って決定され、オフセットは、少なくともスキュー角及び第一のサイズに基づく。イメージングヘッドは、走査方向に沿った走査の間、放射線ビームを放射して媒体上に画像を形成するために制御される。イメージングヘッドは、媒体を走査する間、決定された第一のサイズの第一の画素と決定された第二のサイズの第二の画素とから制御される。イメージングヘッドは、媒体を走査する間、第一の画素のスキャンラインと第二の画素のスキャンラインとを形成するために制御される。第二の画素のスキャンラインは、決定されたオフセットにより第一の画素のスキャンラインからずれる。
【００２６】
１つの例示的な実施の形態では、第一の画素のスキャンラインは、第一の画素を有し、第二の画素のスキャンラインは、第二の画素を有する。第一の画素のスキャンライン及び第二の画素のスキャンラインのそれぞれは、同じサイズの画素を有する場合があり、又は有さない場合がある。幾つかの実施の形態では、第一の画素のスキャンラインは、第二のサイズよりも小さい量だけ走査方向に沿って第二の画素のスキャンラインからずれる。他の実施の形態では、第一の画素のスキャンラインは、第二のサイズよりも大きい量だけ走査方向に沿って画素の第二のラインからずれる。
【００２７】
１実施の形態では、走査方向に沿うオフセットは、関係Offset＝（T*X）／Tan(θ)に少なくとも基づいて決定され、ここでOffsetは走査方向に沿ったオフセットであり、Xは第一のサイズであり、Tは１以上の整数であり、θはスキュー角に対応する角度である。
【００２８】
特徴は、第一のエッジの部分が延びる方向に平行な方向に沿って延びる第二のエッジ部分を含む。第二のエッジ部分及び第一のエッジ部分は、走査方向に沿って互いにオフセットされる。
【００２９】
１実施の形態では、パターンにおけるそれぞれの特徴は、第一のエッジ部分が延びる方向に平行な方向に沿って延びるエッジ部分を含み、それぞれのエッジ部分は、走査方向に沿って規則的に配置される。
【００３０】
別の実施の形態では、パターンにおけるそれぞれの特徴は、エッジ部分のセットを含む。それぞれのセットにおけるエッジ部分のそれぞれは、第一のエッジ部分が延びる方向に平行な方向に沿って延び、それぞれのセットにおけるそれぞれのエッジ部分は、セットにおける他のエッジ部分から走査方向に沿ってオフセットされる。
【００３１】
第二の画素のスキャンラインは、イメージングヘッドの画像形成チャネルの作動を遅延させることで、決定されたオフセットだけ第一の画素のスキャンラインからオフセットされる。放射線ビームが放射される期間は、第二のサイズに等しい走査方向に沿ったサイズをもつ画素を媒体上に形成するために制御される。
【００３２】
イメージングヘッドの光バルブのチャネルがオン及びオフにされる時間の長さは制御することができ、第二のサイズに等しい走査方向に沿ったサイズをもつ画素を形成するために変化される。イメージングヘッドは、イメージングヘッドを回転するか、又は放射線ビームが第一のサイズに等しいクロススキャンサイズをもつ画素を媒体上に形成するために走査される媒体の表面に交差する軸に関する角度で放射線スポットを位置合わせすることで、放射線ビームを放射して媒体上に放射線スポットを形成するために制御することができる。代替的に、放射線スポットは、第一のサイズに等しいクロススキャンサイズで媒体上に画素を形成するために拡大又は縮小される。
【００３３】
別の実施の形態では、複数の特徴を含む画像は、走査方向に沿って媒体にわたり走査する間、イメージングヘッドにより放射される放射線ビームで媒体上に形成される。複数の特徴は、特徴のパターンを含み、この場合、それぞれの特徴は、走査方向に沿って、及び走査方向に交差する方向に沿って規則的に配列される。それぞれの特徴は、走査方向に沿って、及び走査方向に交差する方向に沿って繰り返される。イメージングヘッドは、放射線ビームを放射して、それぞれの特徴の複数のエッジが走査方向に関してスキュー角により歪曲され、且つ複数のエッジのそれぞれが互いに平行であって走査方向に沿って互いにオフセットされる方向で媒体上に複数の特徴を形成するように制御される。イメージングヘッドは、媒体にわたり走査する間、第一の画素のスキャンラインを形成するように制御される。イメージングヘッドは、媒体にわたり走査する間、第二の画素のスキャンラインを形成するように制御される。第二の画素のスキャンラインは、少なくともスキュー角に基づいて決定されるオフセット距離だけ第一の画素のスキャンラインから走査方向に沿ってオフセットされ、第一の画素のスキャンラインと第二の画素のスキャンラインのそれぞれは、それぞれの特徴の複数のエッジのそれぞれと交差し、一方、それぞれの特徴の他のエッジと交差しない。それぞれの特徴の他のエッジは、複数のエッジのそれぞれのエッジが延びる方向とは異なる方向に沿って延びる。
【００３４】
第一の画素のスキャンラインの画素は、クロススキャン方向に沿って第一のサイズを有する。それぞれの特徴は、クロススキャン方向に沿って規則的に配列され、クロススキャン方向に沿った特徴のピッチは、第一のサイズの整数倍に等しい。本方法は、少なくとも第一のサイズに基づいてオフセット距離を決定することを含む。第一の画素のスキャンライン及び第二の画素のスキャンラインは、互いに隣接する。
【００３５】
コンピュータ読み取り可能な信号のセットを担持するプログラムプロダクトは、上記方法を実行するために使用される。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
本発明の実施の形態及び応用は、限定するものではない添付図面により例示される。添付図面は、本発明の概念を例示するためのものであり、スケーリングされていない場合がある。
【図１Ａ】従来技術のカラーフィルタの一部の平面図である。
【図１Ｂ】従来技術のカラーフィルタの一部の平面図である。
【図１Ｃ】三角形の形状の特徴を含む従来技術のフィルタの一部の平面図である。
【図１Ｄ】三角形の形状の特徴を含む別の従来技術のフィルタの一部の平面図である。
【図１Ｅ】横向きの山形の形状の特徴を含む従来技術のフィルタの一部の平面図である。
【図１Ｆ】横向きの山形の形状の特徴を含む別の従来技術のフィルタの一部の平面図である。
【図２Ａ】従来の熱転写プロセスにおける画像形成可能な媒体に特徴のパターンを画像形成するマルチチャネルヘッドの配置図である。
【図２Ｂ】カラーストライプが左右に曲がる「ストライプコンフィギュレーション」のカラーフィルタの一部の平面図である。
【図２Ｃ】正しくないクロススキャン解像度で図２Ｂのカラーフィルタを製造するために使用されるレーザで誘起される熱転写プロセスを示す図である。
【図２Ｄ】正しくない走査解像度で図２Ｂのカラーフィルタを製造するために使用されるレーザで誘起される熱転写プロセスを示す図である。
【図３】例示的な従来技術のマルチチャネルイメージングヘッドの光学系の概略斜視図である。
【図４Ａ】本発明の例示的な実施の形態に係る、図２Ｂのカラーフィルタの画像形成を示す図である。
【図４Ｂ】本発明の別の例示的な実施の形態に係る、図２Ｂのカラーフィルタの画像形成を示す図である。
【図５】本発明の例示的な実施の形態により採用されるズームシステムを示す図である。
【図６】放射線ビームを走査することで形成される画素のグリッドのような配列を示す図である。
【図７Ａ】走査方向に関して歪曲された方向に延びるマトリクスラインを含むレシーバエレメントの複数の特徴部分の形成と関連される許容範囲の量を示す図である。
【図７Ｂ】図７Ａの特徴部分を含む特徴のパターンを示す図である。
【図７Ｃ】高い走査解像度を有する画素で形成される図７Ｂの特徴のパターンを示す図である。
【図８】本発明の例示的な実施の形態で使用される装置９０を示す図である。
【図９】本発明の例示的な実施の形態に係る、歪曲されたエッジをもつ特徴のパターンを画像形成するフローチャートである。
【図１０Ａ】本発明の例示的な実施の形態に係る、マトリクスとのアライメントで形成される特徴のパターンを示す図である。
【図１０Ｂ】図１０Ａの特徴の様々な部分の拡大された図である。
【図１０Ｃ】本発明の別の例示的な実施の形態に係る、マトリクスとのアライメントで形成される特徴のパターンを示す図であり、マトリクスは、図７Ａのマトリクスよりも薄いマトリクスラインを有する。
【発明を実施するための形態】
【００３７】
以下の記載を通して、より完全な理解を当業者に提供するため、詳細な説明が与えられる。しかし、開示を不必要に曖昧にするのを回避するため、公知のエレメントは図示されず、詳細に説明されない。したがって、説明及び図面は、限定的な意味ではなく、例示の意味において考慮されるべきである。
【００３８】
図２Ａは、図１Ａに示されるものに類似したストライプコンフィギュレーションのカラーフィルタ１０を製造するために使用される従来のレーザで誘起される熱転写プロセスを示す。この場合、赤のストライプの特徴３０の画像形成が示される。赤のストライプの特徴３０は、明確さのために僅かに影付けされる。イメージングヘッド２６は、ドナーエレメント２４から下層のレシーバエレメント１８に画像を形成する材料（図示せず）を転写するために設けられる。ドナーエレメント２４は、明確さのみのため、レシーバエレメント１８よりも小さいように示される。ドナーエレメント２４は、必要とされるように、レシーバエレメント１８の１以上の部分にオーバラップする。イメージングヘッド２６は、幾つかのイメージングチャネルのアレンジメントを含む。この場合、イメージングヘッドは、個々のアドレス可能なチャネル４０のチャネルアレイ４３を含む。
【００３９】
レシーバエレメント１８は、レジストレーション領域を含み、この領域により、十分なアライメントで１以上の特徴の画像を形成することが望まれる。レシーバエレメント１８は、レジストレーションのサブ領域のパターンを含み、このサブ領域により、十分なアライメントで１以上の特徴の画像を形成することが望まれる。レシーバエレメント１８は、（大きな破線で表される）レジストレーション領域４７を含む。この場合、レジストレーション領域４７は、カラーフィルタマトリクス２０を含む。マトリクス２０は、レジストレーションのサブ領域のパターンの例である。レーザで誘起される熱転写プロセスは、レシーバエレメント１８にマトリクス２０を形成するために使用され、マトリクス２０は、典型的に、リソグラフィ技術により形成される。
【００４０】
画像を形成するマテリアルは、イメージングヘッド２６により放射される放射線ビームがドナーエレメント２４にわたり走査されるとき、レシーバエレメント１８に画像毎に転写される。フィルタ１０の赤、緑及び青の部分は、典型的に、個別の画像形成ステップで画像形成され、それぞれの画像形成ステップは、先行するカラードナーエレメントを画像形成されるべき次のカラードナーエレメントと置き換えるステップを含む。フィルタの赤、緑及び青の特徴のそれぞれは、対応するマトリクスセル３１との十分なアライメントでレシーバエレメント１８に転写される。色の特徴が転写された後、画像形成されたカラーフィルタは、たとえば画像形成された色の特徴の１以上の物理的な特性（たとえば硬度）を変えるため、アニーリングステップのような１以上の更なるプロセスステップを受ける。
【００４１】
従来のレーザに基づくマルチチャネル画像形成プロセスにより採用されるイルミネーションシステムの例は、図３に示される。空間光変調器又は光バルブは、複数の画像形成チャネルを形成するために使用される。説明される例では、リニアライトバルブアレイ１００は、半導体基板１０２上に製造される複数の変形可能なミラーアレイを含む。ミラーエレメント１０１は、個々にアドレス可能である。ミラーエレメント１０１は、たとえば変形可能なミラーマイクロエレメントのようなMEMS（Micro-Electro-Mechanical）エレメントである。レーザ１０４は、円筒形レンズ１０８及び１１０を含むアナモルフィックビームエキスパンダを使用して、光バルブ１００上にイルミネーションライン１０６を生成する。イルミネーションライン１０６は、複数のエレメント１０１にわたり横方向に広がり、これにより、それぞれのミラーエレメント１０１は、イルミネーションライン１０６の一部により照明される。Gelbartによる米国特許第5517359号は、イルミネーションラインを形成する方法を記載する。
【００４２】
レンズ１１２は、典型的に、エレメント１０１がそれらの不作動の状態にあるとき、アパーチャストップ１１６におけるアパーチャ１１４を通してレーザイルミネーションの焦点を合わせる。作動されたエレメントからの光は、アパーチャストップ１１６により阻止される。レンズ１１８は、光バルブを画像形成して、複数の個々の画像毎に変調されたビーム１２０を形成し、これらのビームは、画像形成された帯状の領域を形成するために基板の領域を通して走査される。それぞれのビームは、エレメント１０１のうちの１つにより制御される。それぞれのエレメント１０１は、マルチチャネルイメージングヘッドのうちのイメージングチャネルに対応する。
【００４３】
それぞれのビームは、対応するエレメント１０１の駆動される状態に従って、画像形成されるレシーバエレメントに「画素」を画像形成するか、又は画像形成しないために作用する。すなわち、画像データに従って画素を画像形成することが要求されるとき、所与のエレメント１０１は、基板上の画素を形成するために適した強度及び期間をもつ対応する放射線ビームを生成するために駆動される。画像データに従って画素を画像形成することが必要とされないとき、所与のエレメント１０１は、放射線ビームを生成しないように駆動される。本実施の形態では使用されるように、画素は、アセンブルされたディスプレイ装置で表示される画像の一部に関連する単語「画素」の使用とは区別されるように、基板上の画像の１つの単位エレメントを示す。たとえば、本発明がカラーディスプレイのフィルタを形成するために使用されるとき、本発明により形成される画素は、隣接する画素と結合され、ディスプレイ装置で表示される画像の（「特徴“feature”」とも呼ばれる）単一の画素が形成される。
【００４４】
図２Ａは、画像形成チャネル４０と転写されるパターンとの間の対応関係を破線４１として示す。ストライプ３０のような特徴は、画像形成チャネル４０により画像形成される画素の幅よりも大きいサイズを一般的に有する。イメージングヘッド２６により生成される放射線ビームは、書込みされるべき特徴のパターンを指定する画像データに従って画像毎に変調されている間、レシーバエレメント１８を通して走査される。チャネルのグループ４８は、何処で特徴を形成することが望まれようと、放射線ビームを生成するために駆動される。特徴に対応しないチャネル４０は、対応する領域を画像形成しないように駆動される。したがって、画像形成チャネルがオンにされるたびに、放射線ビームが放射される。したがって、画像形成チャネルはオン及びオフにされるので、チャネルがオンにされるたびに、新たな放射線ビームがそのチャネルから放射される。
【００４５】
画像を形成するために画像データに応答して画像形成チャネル４０が制御される間、レシーバエレメント１８、イメージングヘッド２６、又はその組み合わせは、互いに対して移動される。幾つかのケースでは、イメージングヘッド２６は静止しており、レシーバエレメント１８は移動する。他のケースでは、レシーバエレメント１８は静止しており、イメージングヘッド２６は移動する。更なる他のケースでは、イメージングヘッド２６及びレシーバエレメント１８の両者が移動される。
【００４６】
画像形成チャネル４０は、イメージングヘッド２６の走査の間に画像の帯状の領域を形成するために作動される。レシーバエレメント１８は、余りに大きすぎて、１つの画像の帯状の領域内で画像形成することができない。したがって、イメージングヘッド２６の多数の走査は、レシーバエレメント１８で画像を完成するために典型的に必要とされる。
【００４７】
サブの走査軸４４に沿ったイメージングヘッド２６の動きは、それぞれの帯状の領域の画像形成がメインの走査軸４２に沿って終了した後に行われる。代替的に、ドラムタイプのイメージャによれば、メインの走査軸４２とサブの走査軸４４の両者に沿ってイメージングヘッド２６を相対的に移動させることができ、したがってドラムに螺旋状に延びる画像の帯状の領域を書き込むことができる。図２Ａにおいて、イメージングヘッド２６とレシーバエレメント１８との間の相対的な動きは、メインの走査軸４２と揃えられるパスに沿って、及びサブの走査軸４４と揃えられるパスに沿って提供される。
【００４８】
適切なメカニズムは、レシーバエレメント１８に関してイメージングヘッド２６を移動するために適用される。フラットベッドイメージャは、ディスプレイパネルの製造において一般的である、比較的厳密なレシーバエレメント１８を画像形成するために典型的に使用される。フラットベッドイメージャは、フラットな向きでレシーバエレメント１８を固定するサポートを有する。Gelbartによる米国特許第6957773号は、ディスプレイパネルの画像形成に適した高速のフラットベッドイメージャを記載する。代替的に、フレキシブルレシーバエレメント１８は、画像の帯状の領域の画像形成に影響を与えるため、「ドラム型」サポートの外部又は内部の表面の何れかに固定される。
【００４９】
図２Ａでは、マトリクス２０は、メインの走査軸４２とサブの走査軸４４とに関して歪曲される。マトリクス２０は、画像形成チャネル４０の配置方向に関して歪曲される。この場合、ストライプの特徴３０は、マトリクス２０と正しく揃えられるように、歪曲されたやり方で形成されることが必要とされる。歪曲された特徴又は歪曲されたエッジをもつ特徴は、放射線ビームがスキャンパスに沿って向けられるので、レシーバエレメント１８とイメージングヘッド２６との間の制御される相対的な動きを確立することで画像形成される。この場合、サブスキャンの動きは、歪曲の程度に従ってメインスキャンの動きと調整される。メインスキャンの動きは、イメージングヘッド２６とレシーバエレメント１８との間で提供されるので、これら両者間の同期したサブスキャンの動きが提供され、「強調的な動き」と呼ばれる動きが形成される。それぞれのドラムの回転の間のサブスキャンの動きの量が形成されるべき画像とは独立に定義される、画像の帯状の領域が螺旋の方式で画像形成されるドラムに基づく画像形成方法とは異なり、それぞれの走査の間のサブスキャンの動きの量は、強調された動きの技術が採用されたとき、形成されるべき画像に依存する。強調された動きは、幾つかの応用において特徴のパターンとレジストレーションのサブ領域のパターンとのアライメントを容易にするために使用される実質的に平滑且つ連続なエッジをもつ特徴を形成するために使用される。図２Ａに示されるように、それぞれのストライプの特徴３０の部分は、マトリクス２０の様々なラインとオーバラップする。
【００５０】
図２Ｂは、図１Ｅに示されたものに類似するストライプコンフィギュレーションのカラーフィルタ１０を示す。この場合、赤（Ｒ）のストライプの特徴３２は、ストライプの特徴３２を形成するために使用されるイメージングヘッド２６のイメージングチャネル（図示せず）の配置方向に関して歪曲される様々な部分を含む。所望のストライプの特徴３２は、明確さのために影付けされている。ドナーエレメント２４を画像形成して、レシーバエレメント１８に画像を形成する材料を転写し、「ジグザグ」のようなストライプの特徴３２を形成するように、イメージングヘッド２６が制御されることが望まれる。この場合、ストライプは、ストライプは、走査方向に平行な方向で延びるので左右に曲がる。横向きの山形の形状を有するカラーフィルタの特徴３３は、転写されるストライプの特徴３２に対応する領域においてマトリクス２０Ａのそれぞれのマトリクスセル３１Ａにより定義される。この場合、様々な特徴３３は、互いに関して隣接している。幾つかの場合、ストライプの特徴は隔たりが設けられ、結果として得られる特徴３３は、不連続である。
【００５１】
慣習的な強調された動きの技術を採用することでストライプの特徴３２を形成することは可能であるが、これらの技術は、画像形成プロセスの生産性を低減することができる。ジグザグのストライプの特徴３２のような特徴の画像形成の間に使用される強調された動きの技術は、往復する動きの形態を必要とする。たとえば、イメージングヘッド２６がメインの走査軸４２に揃えられるパスに沿ってレシーバエレメント１８に関して移動されるとき、イメージングヘッド２６は、ジグザグ形状の特徴に従うため、サブの走査軸４４に揃えられるパスに沿ってレシーバエレメント１８に関して同調して往復運動することが必要とされる。必要とされるメインスキャン及びサブスキャンに関連する動きを確立するために使用される動きのメカニズムは、それぞれのストライプの特徴３２の様々なコーナ（たとえばコーナ５５）に関して移動することが必要とされる高い減速及び加速を扱うことが必要である。以下の式は、これを説明するために使用される。
【００５２】
【数１】
2011511312.tif 000003
ここでＶsubscanは、強調された動きのサブスキャンの速度であり、Ｖmainscanは、強調された動きの相対的なメインスキャンの速度であり、λは、メインの走査軸４２に関して測定される特徴の部分の傾斜の程度に対応する角度である。
【００５３】
【数２】
2011511312.tif 000004
ここでｔは、サブスキャンの動きが往復されるポイント（たとえばコーナ５５）でＶsubscanをゼロに低減するために必要とされる時間であり、Ａsubscanは、往復するポイントでＶsubscanとゼロとの間の変化を確立するために必要とされる減速である。
【００５４】
【数３】
2011511312.tif 000005
ここでｄは、時間ｔの間にメインスキャンの方向において進行される距離である。
【００５５】
式（１），（２）及び（３）を再結合することで、距離ｄは以下のように表現される。
【００５６】
【数４】
2011511312.tif 000006
典型的な条件について、往復のポイントに到達するために、Ｖmainscan=１m/sec、Ａsubscan＝５m/sec2、及び角度λ＝３０°、距離ｄ＝１１５．５mmが必要とされる。「傾斜された」特徴の部分を有する特徴を含む幾つかの要求される応用について、往復される強調された動きは、実用的ではない。たとえば、カラーフィルタの用途では、横向きの山形の形状の色の特徴は、長さで数百ミクロン程度の傾斜された部分を含む。ミリメータで測定される減速の距離“ｄ”は、係る小さな特徴の画像形成のために適していない。
【００５７】
歪曲された特徴又は歪曲されたエッジをもつ特徴を画像形成するために採用される他の方法は、画素の「階段室」の配列をもつ形成されたエッジを近似することを含む。強調された動きの技術を採用する画像形成方法とは異なり、これらの技術は、平滑ではなく、ギザギザ又は階段室の外見であるエッジをもつ特徴の形成となる。イメージングヘッド２６は、レシーバエレメント１８上の（図２Ｂに示されない）画素の２次元グリッドを形成するために制御される。歪曲された特徴のエッジは、その配置がグリッドにより支配されるがその階段室の配置により近似的に画像形成される。
【００５８】
特徴のパターンをレジストレーションのサブ領域のパターンと揃えることは、画素の配置により特徴を形成するために採用される画像形成プロセスについて課題を形成する可能性がある。特徴は、異なるパターンで配列される。幾つかのパターンでは、特徴は、１以上の方向に沿って規則的に配列される。係るパターンでは、それぞれの特徴は、共通のリファレンスを含み、特徴のパターンの配列方向に沿って等しい距離だけ、それぞれの共通のリファレンスが互いに分離されるように、特徴が配列される。この等しい距離は、「ピッチ」と呼ばれる。共通の特徴は、特徴のエッジ、特徴のコーナ、特徴の中心点等を含む。
【００５９】
図２Ｂは、レジストレーションのサブ領域のパターンを含むレジストレーション領域との特徴のパターンの所望のアライメントの例を示す。この例では、セル３１Ａ（そのうちの幾つかは、小さな破線で部分的に示される）は、メインの走査軸４２に平行な第一の方向とサブの走査軸４４に平行な第二の方向とに沿って規則的に配列される。この場合、ストライプの特徴３２（及び対応する色の特徴３３）はマトリクス２０Ａとの十分なアライメントで形成され、横向きの山形の形状の色の特徴を有する「ストライプコンフィギュレーション」のカラーフィルタを形成することが望まれる。ストライプの特徴３２のそれぞれは、複数の赤（Ｒ）のカラーフィルタの特徴３３を形成するために、セル３１Ａにより輪郭が描かれる。したがって、結果として得られる色の特徴３３のパターンのピッチ“ＰA”は、第一の方向に沿った対応するセル３１Ａのパターンのピッチ“ＰRA”に実質的に等しいことが望まれる。したがって、結果として得られる色の特徴のパターンのピッチ“ＰB”は、第二の方向に沿った対応するセル３１Ａのパターンのピッチ“ＰRB”に実質的に等しいことが望まれる。この場合、第一の方向は、所望の画像形成と関連されるクロススキャン方向に実質的に平行であり、第二の方向は、所望の画像形成と関連するスキャン方法に実質的に平行である。カラーフィルタ１０により必要とされるような（明確さのために図示されない）他の色の他の特徴は、類似のアライメント要件により支配される場合もあることを理解されたい。
【００６０】
図２Ｃは、図２Ｂにより必要とされるようなセル３１Ａとの正しいアライメントで所望のストライプの特徴３２を画像形成するように、画像形成されたストライプの特徴３２Ａを形成する画像形成プロセスを示す。イメージングヘッド２６は、非一様にサイズが設定され、アレイの配列方向に沿って繰り返される個々にアドレス可能なチャネル４０のチャネルアレイ４３を含む。この場合、配列方向は、サブの走査軸４４に平行である。それぞれのチャネルは、クロススキャン方向（すなわち、この場合にはサブの走査軸４４に平行である）に沿って第一のサイズを有し、走査方向（すなわち、この場合にはメインの走査軸４４に平行である）に沿って第二のサイズを有する画素（図示せず）を形成する放射線ビームを放射する。
【００６１】
図２Ｃは、クロススキャン方向に沿って第一の画素のサイズにより示される特徴のパターンを画像形成する困難さを示す。適切なレジストレーションは、赤のストライプの特徴３２Ａがセル３１ＡのピッチＰRAに一致するピッチにより形成されることを必要とする。図２Ｃは、この要件が適合されないことを示す。本質的に、画像形成チャネル４０の第一のクロススキャンの解像度により、画像形成されたストライプの特徴３２Ａは、ＰRAに等しくない最初のピッチＰIAで形成される。
【００６２】
典型的に、画像形成されたストライプの特徴３２Ａのそれぞれのサイズ及び位置を制御する機能は、画素サイズの関数である。イメージングヘッド２６により生成される放射線ビームは、ストライプの特徴３２の所望のパターンに一致するピッチをもつ画像形成されたストライプの特徴３２Ａの画像形成されたパターンを形成することができないクロススキャン方向に沿って画素のサイズをそれぞれ形成する。画像形成チャネル４０の解像度により、画像のストライプの特徴３２Ａのそれぞれが所望の赤のストライプの特徴３２の対応するサイズに等しいクロススキャン方向に沿ったサイズで画像形成される場合があるか、画像形成されない場合があるが、この解像度は、所望のピッチに一致することができないものである。
【００６３】
図２Ｃに示されるように、画像形成されるストライプの特徴３２Ａの幾つかは、量を変化させることで対応するセル３１Ａからオフセットされる。この場合、幾つかのオフセットは、ストライプの特徴３２Ａのうちの１つがマトリクス２０Ａの領域４５における他のカラードナーエレメントにより画像形成される他の特徴によりオーバラップされるポイントに増加される。また、領域４９において、幾つかのマトリクスセル３１Ａは、赤のストライプの特徴４９で完全にカバーされておらず、色のないボイドの可能性につながる。これらの作用の両者は、最終的なカラーフィルタにおける望まれない視覚的な特性につながる可能性がある。これらの作用は、多数の画像形成チャネル４０の構成が画像形成の生産性を改善するために作用されるので、更に合成されることが明らかである。領域４５及び４９は、明確さのために影付けされる。
【００６４】
図４Ａは、本発明の例示的な実施の形態に係る、図２Ｂに示される特徴の所望のパターンの画像形成を示す。赤のストライプの特徴３２Ｂは、図２Ｃに示される画像形成プロセスで示されるのと同じイメージングヘッド２６で画像形成される。本発明のこの例示的な実施の形態によれば、イメージングヘッド２６は、放射線ビームが走査されるレシーバエレメント１８の平面に交差する軸に関して角度δだけ回転される。角度δは、サブの走査軸４４とイメージングチャネル４０の配列方向との間で測定される。回転されるイメージングヘッド２６の画像形成の解像度が適切に設定され、赤のストライプの特徴３２Ｂの画像形成されたパターンがセル３１ＡのピッチＰRAに実質的に等しいピッチＰFAで画像形成されるように、角度δが選択される。イメージングヘッド２６の回転により、画像形成される画素（図示せず）のクロススキャンサイズが変化する。画像形成される画素の結果的に得られるサイズにより、画像形成される赤のストライプの特徴３２Ｂは、図２Ｂに示される所望のストライプの特徴３２Ａの対応するクロススキャンのサイズに等しいクロススキャンのサイズで形成される場合があり、又は形成されない場合がある。しかし、要求されるクロススキャンのピッチに適したサイズの画素を調節することで、一致しないピッチから生じる前述されたアーチファクトの多くが実質的に回避される。
【００６５】
図４Ａにおいて、イメージングヘッド２６はサブの走査軸４を基準とされたときに角度δだけ回転されるが、他の基準が容易に使用されることを理解されたい。
【００６６】
他の方法は走査方法と交差する方向で画像形成される画素のサイズを変化させるため、他の方法を採用することができる。図４Ｂは、本発明の別の実施の形態に係る、図２Ｂで示される特徴の所望のパターンの画像形成を示す。本発明のこの態様によれば、イメージングヘッド２６は、ズームメカニズム８０を含む。ズームメカニズム８０は、イメージングヘッド２６により放射される放射線ビームのサイズを調節し、これにより、画像形成された赤のストライプの特徴３２Ｃのパターンは、セル３１ＡのピッチＰRAに実質的に等しいピッチＰFAで画像形成される。
【００６７】
図５は、本発明の様々な実施の形態により採用されるズームシステム８０を示す。ズームシステム８０は、固定フィールド光学要素８１、２以上の可動ズーム光学要素８２、アパーチャストップ８３、固定光学要素８４及び可動式のフォーカス光学要素８５を含む。この例示的な実施の形態では、アパーチャストップ８３は、ズーム光学要素８２と固定光学要素８４との間に位置される。ズームメカニズム８０は、ズーム調節範囲を通して、オブジェクトプレーン８６とイメージプレーン８７の位置を維持する。ズーム光学要素８２の位置は、光学系の倍率を設定するために様々な位置間で移動される。光学要素のそれぞれは、１以上のレンズを含む。１以上の光学要素は、アナモルフィックである。他のタイプのズームメカニズムが本発明により採用することができる。
【００６８】
同様のやり方で、所望のストライプの特徴３２Ａは、その走査方向に沿ったサイズが適合されるべき第二の方向に沿ったカラーフィルタの特徴３３の所望のピッチを生じるためにサイズ指定される画素により形成される必要がある。図２Ｄは、画像形成されるストライプの特徴３２Ｄをもつ色の特徴３３の形成を示す。この点に関して、図２Ｄは、この要件に適合することができない走査方向に沿った第二の画素のサイズによる特徴３３のパターンの画像形成の困難さを示す。本質的に、採用される走査の解像度により、色の特性３３は、ＰRBに等しくない最初のピッチＰIBで形成される。
【００６９】
図２Ｄに示されるように、画像形成される赤のストライプの特徴３２Ｄの部分は、量を変化させることで対応するセル３１Ａからオフセットされる。図２Ｃに示されるのと同様なやり方で、これらのオフセットは、たとえば色のないボイドのような様々な画像形成されるアーチファクトとなる可能性がある。したがって、イメージングヘッドの解像度は、走査方向に沿ったピッチＰRBに一致するように調節されることが必要とされる。
【００７０】
その走査方向に沿ったサイズが走査方向に沿った所望の画像ピッチに従って調節される画素を形成するために走査解像度を調節することは、様々な技術により達成される。たとえば、図６は、レシーバエレメント１８にわたり放射線ビームを走査することで形成される画素７０のグリッドのような配列を示す。それぞれの画素７０のサイズは、異なる方向に沿って様々な大きさで特徴付けられる。画素７０のそれぞれは、画素７０の形成に関連する走査方向に沿ったサイズ“ｂ”に等しい大きさ、及びクロススキャン方向において差イズ“ａ”に等しい大きさを有する。この例では、それぞれの画素７０の特定のサイズは、それぞれの画素７０の領域にわたり矩形の放射線スポット７７を走査することで生成される。走査は、画像の全体的な走査の一部として達成される。画素領域にわたりスポット７７を走査するため、速度“Ｖ”を有する相対的な動きが要求される。相対的な動きは、放射線スポット７７を移動させるか、レシーバエレメント１８を移動させるか、又はその両者を移動させることで生成される。この場合、走査方向は、相対的な動きの方向に平行であり、走査方向におけるスポットのサイズは“ｗ”である。レーザスポットが媒体上の任意のポイントにある時間は、ｗ／Ｖにより定義される。この場合、それぞれの画素７０の走査方向におけるサイズは、画素を形成するために使用される放射線ビーム“ｗ”の最初のサイズと、放射線ビームがレシーバエレメント１８にわたり走査される時間との関数である。走査方向におけるサイズは速度を変えることで調節されるが、これにより、放射線ビームにより形成される露光における変化が得られる。所与の走査速度について走査方向に沿って画素のサイズを変える１つの方法は、画像形成チャネルが作動される時間の長さを調節することを含む。たとえば、光バルブを含む幾つかの画像形成システムでは、タイミングパルスのパターンを含むタイミング信号は、全ての光バルブエレメントに供給され、個々のエレメントは、画像データに従って作動される。タイミングパルス間の時間は、画像データの関数として、それぞれの光バルブエレメントが作動されるか又は作動されない時間の長さに関連し、画像データに従って形成される画素の走査方向に沿ってサイズを定義する。本発明のこの例示的な実施の形態では、走査方向に沿って画像形成される特徴の所望のピッチに従ってサイズｂを調節するため、タイミングパルス間の時間が制御される。
【００７１】
矩形の放射線スポット７７は、矩形のアパーチャを使用することを含む様々な方法により形成される。スポットは、矩形である必要はないが、望まれるように他の形状を含む。本発明の幾つかの例示的な実施の形態では、走査方向に沿った画素のサイズは、画素を形成するために放射線ビームを走査する間、対応する画像形成チャネル４０が作動される時間の量を調節することで変化される。本発明の他の例示的な実施の形態は、他の方法により走査方向に沿って画素のサイズを変化させることができる。
【００７２】
本発明の幾つかの例示的な実施の形態では、特徴の画像形成されたパターンがクロススキャン方向に沿った画素のサイズの整数倍である第一の方向に沿った所望の特徴のピッチを有するように、クロススキャン方向に沿った画素のサイズが選択される。さらに、又は代替的に、本発明の幾つかの例示的な実施の形態では、特徴の画像形成されたパターンが走査方向に沿った画素のサイズの整数倍である第二の方向に沿った第二の方向に沿った所望の特徴のピッチを有するように、走査方向に沿った画素のサイズが選択される。第一の方向は、クロススキャン方向に実質的に平行であり、第二の方向は、走査方向に実質的に平行である。
【００７３】
要求されるピッチは、様々なやり方で決定される場合がある。たとえば、レジストレーションのサブ領域のパターン（たとえばカラーフィルタマトリクスにおけるセルのパターン）のピッチは、直接の測定により決定される場合がある。様々な光学センサは、様々なレジストレーションのサブ領域の位置を検出するために使用され、検出された位置は、サブ領域間のピッチを決定するために使用される。画素、放射線ビーム又は画像形成される帯状の領域のサイズは、直接の測定により決定される。様々なピッチは、異なるやり方で決定される。
【００７４】
レジストレーションのサブ領域のパターンとの十分なアライメントで特徴のパターンを形成しようとするとき、他のファクタが作用しはじめる。たとえば、カラーフィルタの製造において、色の特徴がマトリクスセルのパターンと揃えられなければならない精度を低減するのを助けるため、カラーフィルタの特徴はマトリクスのラインの一部とオーバラップするように、カラーフィルタの特徴が形成される。しかし、典型的に、マトリクスがオーバラップされる程度に限界が存在する。画像形成プロセス自身は、許容されるオーバラップの程度に影響を及ぼす可能性がある。たとえば、レーザで誘起される熱転写プロセスで生成される画像の視覚的な品質は、典型的に、ドナーエレメントとレシーバエレメントとの間のインタフェースの非一様性に感度が高い。非一様なインタフェースは、ドナーエレメントからレシーバエレメントに転写される画像を形成するマテリアルの量に影響を及ぼす可能性がある。隣接する特徴がマトリクスラインを通して互いにオーバラップする場合、ドナーエレメントとレシーバエレメント間のインタフェースの非一様性は、これらの領域に転写されている更なる材料の関数としてオーバラップされた領域に影響を及ぼす可能性がある。更なるマテリアルは、更なるドナーエレメントによる更なる画像形成の間に形成される特徴の視覚的な品質に悪影響を及ぼす可能性がある。この点に関して、隣接する特徴は、マトリクスラインにわたり互いにオーバラップしないことが典型的に好まれる。この要件は、繰り返される色の特性のパターンと繰り返されるマトリクスセルのパターンとの間の必要とされるアライメントへの更なるアライメントの制約を与える。
【００７５】
図７Ａは、そのエッジ５６が大きな破線により表される歪曲されたマトリクスライン２１Ａとのオーバラップされた関係における第一の特徴の部分３３Ａと第二の特徴の部分３４Ａの形成に関連する許容範囲を示す。オーバラップされたマトリクスライン２１Ａは、明確さのために影付けされる。エッジ５６は、この場合にメインの走査軸４２に平行な走査方向を基準としたとき、θに等しい角度だけ曲げられる。特徴の部分３３Ａ及び３４Ａは、画像形成システムの所望の走査方向に関して歪曲される方向に沿って延びるエッジを有する異なる特徴の部分である。図１Ｃ，図１Ｄ，図１Ｅ及び図１Ｆは、特徴を形成するために使用される１以上の放射線ビームの走査方向に関して歪曲される様々なエッジ部分を有するカラーフィルタの特徴の例を示す。この例では、特徴の部分３３Ａ及び３４Ａは、（図１Ｅに示されるカラーフィルタに類似した）横向きの山形の形状のストライプの特徴のコンフィギュレーションカラーフィルタの一部であり、特徴の部分３３Ａは、第一の色（たとえば赤）に対応し、特徴の部分３４Ａは、別の色（たとえば緑）に対応する。
【００７６】
特徴の部分３３Ａ及び３４Ａは、画素７０Ａの階段のアレンジメントで形成される。画素７０Ａは、クロススキャン方向に沿って第一のサイズＡを有し、走査方向に沿って第二のサイズＢを有する。この場合、特徴部分３３Ａ及び３４Ａのそれぞれは、対応する２次元の矩形の色特徴のパターンに属し、第一のサイズＡは、パターンの第一の方向に沿った特徴の所望のピッチＰAに従って選択される（すなわち、対応する色特徴のパターンのそれぞれは、第一の方向に沿って同じピッチを有する）。この場合、第二のサイズＢは、パターンの第二の方向に沿った特徴の所望のピッチＰBに従って選択される（すなわち、対応する色特徴のパターンのそれぞれは、第二の方向に沿って同じピッチを有する）。この場合、第一の方向は、サブの走査軸４４に平行であり、第二の方向は、メインの走査軸４２に平行である。
【００７７】
例示される許容範囲の量は、カラーフィルタの特徴がマトリクスライン２１Aと互いにオーバラップすることなしに揃えられるように、カラーフィルタの特徴を画像形成するときに考慮される様々なファクタを考慮する。たとえば、特徴の部分３３Ａ及び３４Ａのそれぞれは、これらの特徴がカラーフィルタの所望の品質の特性を達成するために所定の量だけマトリクスライン２１Ａとオーバラップするように形成される。この場合、特徴３３Ａ及び３４Ａのそれぞれは、最小のオーバラップされる（ＭＲＯ）距離だけマトリクスライン２１Ａにオーバラップすることが必要とされる。距離ＭＲＯは、様々なファクタに依存する。１つの可能性のあるファクタは、特徴３３Ａ及び３４Ａを画像形成するために使用される画像形成システムの画像形成の精度である。画像形成の精度は、画像形成プロセスの間に（図７Ａに示されない）イメージングヘッドの位置と関連される機械的な再現性、放射線ビームの特性における変動、及び結果として得られる形成される画像の粗度により影響される可能性がある。別の可能性のあるファクタは、マトリクスラインが形成されるレシーバエレメント１８に関するマトリクスライン２１Ａの位置における変動を表すマトリクスラインの再現性である。別の可能性のあるファクタは、（たとえば、アニーリングプロセスの間の特徴の収縮といった）様々な更なる問題について必要とされる絶対の最小の必要とされるオーバラップを含む。距離ＭＲＯは、他のファクタに依存する可能性もある。ＭＲＯの境界ライン３５は、マトリクスライン２１Ａの対応するオーバラップされたエッジ５６に関して示される。この場合、ＭＲＯの境界ライン３５は、エッジ５６に平行である。
【００７８】
図７Ａは、特徴の部分３３Ａ及び３４Ａのそれぞれが最小のギャップＭＧにより互いに分離されることを示す。最小のギャップＭＧは、特徴の部分３３Ａ及び３４Ａがそれらの形成においてマトリクスライン２１Ａにわたり互いにオーバラップすることを防止するために割り当てられる。最小のギャップＭＧは、特徴の部分３３Ａ及び３４Ａのそれぞれの画像形成に関連する画像形成の再現性により典型的に支配される。画像形成の再現性は、画像形成システムの機械的な再現性を含む様々なファクタに依存する可能性がある（たとえば、媒体及びイメージングヘッドの位置合わせシステムの機械的な再現性、及び熱効果から生じるビームドリフト等）。
【００７９】
また、図７Ａに示される許容範囲の値は、画素７０Ａの階段のアレンジメントを確立するために必要とされる「ステップサイズ」に対応する走査方向における画像形成の解像度を考慮する。画素の階段のアレンジメントは、走査方向に沿った画像形成の解像度の関数である立ち上がり（すなわち、立ち上がりは走査方向と揃えられる）をそれぞれのステップが有するステップエッジを形成する。図７Ａに示されるように、特徴の部分３３Ａ及び３４Ａの階段室のエッジは、ＭＧ要件に等しい特徴間のギャップを確立するために互いに関して「ネスト化した」関係で示される。
【００８０】
（小さな破線により表される）ＭＲＯの境界ライン３５は、マトリクスラインのエッジ５６のそれぞれに関して特徴の部分３３Ａ及び３４Ａのそれぞれの最小の要求されるオーバラップを定義する。図７Ａに示されるように、画素の階段のアレンジメントは、様々な位置で様々なオーバラップの量を生じさせる。たとえば、特徴部分３４Ａを参照して、ＭＲＯ要件は、全て実質的に適合されるか、位置５７Ａで要件を超える。特徴の部分３３Ａは、（明確さのために暗くされる）オーバラップしない領域３６の形成となる位置５７Ｂでマトリクスライン２１Ａに完全にオーバラップしない。これらオーバラップしない領域は、カラーフィルタにおける視覚的なアーチファクトを生じる可能性がある。図７Ａに示されるように、マトリクスライン２１の幅ＷAは、ＭＧ及びＭＲＯ要件の両者に適合するに十分に大きくなく、これにより望まれないオーバラップしない領域３６が得られる。オーバラップしない領域３６に対処する可能なオプションは、マトリクスライン２１Ａのライン幅を更に増加することであるが、これはカラーディスプレイにおけるマトリクスラインの幅を低減しようとする業界の願望に反する。
【００８１】
図７Ｂは、図７Ａの特徴の部分３３Ａ及び３４Ａ並びにマトリクスライン２１Ａに対応する様々な特徴のパターンの大きな視野における図である。この場合、特徴部分３３Ａ及び３４Ａは、横向きの山形の形状の特徴１２Ｄ及び１４Ｄの一部である。様々なマトリクスラインのエッジ５６は、この場合に６０°に等しい角度θだけ走査方向に関して曲げられる。図７Ｂは、第一の方向に沿ったピッチＰCと第二の方向に沿ったピッチＰDで配列される赤（Ｒ）の特徴１２Ｄのパターンである。緑（Ｇ）の特徴１４Ｄ及び青（Ｂ）の特徴１６Ｄも同じ色を有する他の特徴（図示せず）と第二の方向に沿ってピッチＰDで配列されることが理解される。この場合、ＰCは、第一の画素のサイズＡの整数倍Ｍにサイズ的に等しく、ＰDは、第二の画素のサイズＢの整数倍Ｎにサイズ的に等しい。
【００８２】
図７Ｂは、特徴１２Ｄ，１４Ｄ及び１６Ｄのそれぞれを形成する画素７０Ａの様々なアレンジメントにより所望のオーバラップしない領域３６がどのように形成されるかを示す。画素７０Ａは、様々な階段のアレンジメントで配置される。この場合、特徴１２Ｄ、４Ｄ及び１６Ｄのそれぞれのエッジは、幾つかの画素パターン７１及び画素パターン７２で形成される。それぞれの画素パターン７１は、画素７０Ａの階段のアレンジメントを含み、その画素のエッジは、２*Ａに等しいランについて１*Ｂに等しい立ち上がりを形成する一方、それぞれの画素パターン７２は、画素７０Ａの階段のアレンジメントを含み、そのエッジは、１*Ａに等しいランについて１*Ｂに等しい立ち上がりを形成する。この例では、「立ち上がり」は、メインの走査軸４２に平行な方向を示し、「ラン」は、サブの走査軸４４に平行な方向を示す。画素パターン７１及び７２は、図７ＢのKEYで識別される。特徴１２Ｄ，１４Ｄ及び１６Ｄのそれぞれを対応するマトリクスセル３１Ａと適切に位置合わせするため、画素サイズＡ及びＢは、様々なマトリクスセル３１Ａのピッチに対応する所望のピッチＰC及びＰDにより特徴１２Ｄ，１４Ｄ及び１６Ｄの対応するパターンのそれぞれを形成するために選択される。画素パターン７１及び７２は、マトリクスライン２１Ａの向きにできるたけ近く特徴１２Ｄ，１４Ｄ及び１６Ｄのエッジを揃えるために配置される。すなわち、画素パターン７１及び７２は、歪曲されたマトリクスラインの方向に一致する方向に沿って配置される。しかし、「一致するピッチ」に基づいて選択されるそれぞれの画素７０Ａのサイズは、マトリクスライン２１Ａの様々な必要とされる歪曲された向きと正確に一致しないアライメントとなる。画素パターン７１及び７２のそれぞれの画素の階段のアレンジメントにより形成されるステップは、様々なピッチ角度により特徴付けられる。たとえば、画素パターン７１における画素は、ピッチ角度αを生成するために配置され、パターン７２における画素は、ピッチ角度βを生成するために配置される。ピッチ角度α及びピッチ角度βのいずれも、θに等しい必要とされるスキュー角に等しくない。
【００８３】
画素パターン７１及び７２は、必要とされる最小のオーバラップ及び最小のギャップの基準にできるだけ近く維持するように配置される。図７Ｂに示されるように、特徴の部分３３Ａ及び３４Ａのエッジに対応する画素パターンは、ＭＧ要件により定義されるものよりも小さくない特徴の部分間のギャップを確立するため、マトリクスライン２１Ａにわたり互いに関してネスト化される。しかし、画素パターン７１及び７２はマトリクスライン２１Ａの対応する歪曲された傾斜を近似する傾斜をもつ様々な特徴のエッジを生成するために配置されるので、最小の必要とされるオーバラップ（ＭＲＯ）の基準は完全に維持されていない。マトリクスライン２１Ａとオーバラップする特徴の部分３４Ａの階段のエッジは、対応するＭＲＯの境界ライン３５により定義される必要とされるＭＲＯの値に実質的に等しいか、又はＭＲＯの値よりも大きいオーバラップを維持する。しかし、マトリクスライン２１Ａとオーバラップする特徴の部分３３Ａの階段のエッジは、その対応するＭＲＯの境界ライン３５により定義される必要とされるＭＲＯの値に実質的に等しいか、又はＭＲＯの値よりも大きいオーバラップを完全に維持しない。特に、領域３６は、ＭＲＯの値により定義される最小の要件のように、マトリクスライン２１Ａの様々な領域を示す。カラーフィルタの場合、周囲の色の特徴により適切にオーバラップしないマトリクスラインの部分は、ディスプレイの品質を損なう視覚的なアーチファクトにつながる可能性がある。
【００８４】
例示されるミスアライメントは様々な画素のパターンを形成するために使用される画素７０Ａのサイズから生じることは、当業者にとって明らかとなるであろう。画素７０Ａのサイズにより、特徴１２Ｄ，１４Ｄ及び１６Ｄのパターンがそれらの所望のピッチＰC及びＰDにより形成されるのを可能にするが、特徴のエッジは、それらがθに等しいスキュー角で指向されるように形成されない。
【００８５】
図８は、本発明の例示的な実施の形態で使用される装置９０を示す。装置９０は、レシーバエレメント１８で画像を形成するために作用する。本発明のこの例示的な実施の形態では、レシーバエレメント１８にわたり走査する間、イメージングヘッド２６を動作させて放射線ビームを向けることで、画像がレシーバエレメント１８に形成される。装置９０は、メインの走査軸４２と揃えられるパスに沿ってレシーバエレメント１８を伝達するために作用するキャリア９２を含む。キャリア９２は、往復運動するやり方で移動することができる。本発明のこの例示的な実施の形態では、キャリアは、順方向４２Ａ及び逆方向４２Ｂで移動可能である。イメージングヘッド２６は、キャリア９２をきょうさ（straddle）する支持体９３上に移動可能に配置される。イメージングヘッド２６は、サブの走査軸４４と揃えられるパスに沿って移動するように制御される。本発明のこの例示的な実施の形態では、イメージングヘッド２６は、支持体９３に沿って移動するように制御される。イメージングヘッド２６は、アウェイ方向４４Ａ及びインホーム方向４４Ｂにおいて移動可能である。装置９０は、レシーバエレメント１８を双方向に走査することで画像を形成する。
【００８６】
本発明のこの例示的な実施の形態では、レーザで誘起される熱転写プロセスが採用される。イメージングヘッド２６は、画像を形成する材料（図示せず）がドナーエレメント２４からレシーバエレメント１８に転写されるように、複数の放射線ビームで媒体を走査するために制御される。イメージングエレクトロニクス（図示せず）は、放射線ビームの放射を規制するために画像形成チャネル４０を制御する。（１以上のモーションシステムを含むことができる）モーションシステム９４は、キャリア９２の動きを生じさせるため、適切なドライブ、トランスミッションメンバ、及び／又はガイドメンバを含む。本発明の例示的な実施の形態では、モーションシステム９４は、イメージングヘッド２６の動きを制御し、キャリア９２の動きを制御する。当業者であれば、装置９０内で異なるシステムを動作させるため、個別のモーションシステムが使用されることを理解するであろう。
【００８７】
コントローラ６０は、１以上のコントローラを含むことができ、限定されるものではないが、キャリア９２及びイメージングヘッド２６により使用されるモーションシステム９４を含む装置９０の１以上のシステムを制御するために使用される。コントローラ６０は、レシーバエレメント１８及びドナーエレメント２４のロード及び／又はアンロードを始動するメディアハンドリングメカニズムを制御する。また、コントローラ６０は、画像データ２４０をイメージングヘッド２６に供給し、イメージングヘッド２６を制御して、このデータに従って放射線ビームを放射させる。様々な制御信号を使用して及び／又は様々な方法を実現することで、様々なシステムが制御される。コントローラ６０は、適切なソフトウェアを実行するために構成され、限定されるものではないが、アクセス可能なメモリ、ロジック回路、ドライバ、増幅器、Ａ／Ｄ及びＤ／Ａコンバータ、入力／出力ポート等をも含めて、適切なソフトウェアと共に、１以上のデータプロセッサを含む。コントローラ６０は、限定されることなしに、マイクロプロセッサ、コンピュータオンチップ、コンピュータのＣＰＵ、又は他の適切なマイクロコントローラを有する。
【００８８】
図８は、本発明の例示的な実施の形態に従って、マトリクス２０Ａに一致して形成される赤（Ｒ）の色の特徴１２Ｅ，緑（Ｇ）の色の特徴１４Ｅ及び青（Ｂ）の色の特徴１６Ｅのパターンを含むカラーフィルタ１０の形成を示す。マトリクス２０Ａは、図７Ｂに示されるのと同じマトリクスに対応する。
【００８９】
図９は、本発明の例示的な実施の形態に係る、走査方向に沿って走査する間、イメージングヘッドを制御して放射線ビームを放射することで、１以上のパターンを画像形成するフローチャートを示す。１以上の特徴のパターンのそれぞれは、走査方向に関して歪曲される１以上のエッジ部分を含む特徴を含む。この例示的な実施の形態では、（図１０Ａに示されるような）特徴１２Ｅ，１４Ｅ及び１６Ｅの対応するパターンのそれぞれは、画素７０Ｂのパターンで形成される。形成される色の特徴１２Ｅ，１４Ｅ及び１６Ｅのピッチは、対応するマトリクスセル３１Ａのピッチに実質的に等しいことが望まれる。また、色の特徴１２Ｅ，１４Ｅ及び１６Ｅのそれぞれは、これらが、色の特徴１２Ｄ，１４Ｄ及び１６Ｄが図７Ｂにおいて対応する画像形成された特徴よりも正確にマトリクスライン２１Ａと一致して形成されることが望まれる。図９の以下のフローチャートは、他の装置も例示されるプロセスとの使用に適するが、図８に示されたよな装置９０を示す。
【００９０】
プロセスは、ステップ３００で開始し、ここでレシーバエレメント１８で形成されるべき複数の画素７０Ｂの第一のサイズＣが決定される。それぞれの画素は、クロススキャン方向に沿った第一のサイズＣで設計され、走査方向に沿った第二のサイズＤである。この例示的な実施の形態では、クロススキャン方向は、走査方向に実質的に垂直である。この例示的な実施の形態では、クロススキャン方向は、サブの走査軸４４に平行である。第一のサイズＣは、クロススキャン方向においてイメージングヘッド２６の解像度に対応する。本発明の例示的な実施の形態では、第一のサイズＣは、画素のエッジに沿っている。本発明の他の例示的な実施の形態では、第一のサイズは、画素の他の大きさに対応する。
【００９１】
ステップ３１０において、形成されるべき画素の第二のサイズＤは、様々なパラメータに基づいて決定される。この例示的な実施の形態では、第二のサイズＤは、走査方向に沿ったイメージングヘッド２６の解像度に対応する。この例示的な実施の形態では、走査方向は、メインの走査軸４２に平行である。本発明の例示的な実施の形態では、第二のサイズは、画素のエッジに沿っている。
【００９２】
本発明の例示的な実施の形態では、色の特徴１２Ｄ，１４Ｄ及び１６Ｄのパターンのそれぞれが図７Ｂにおけるそれらの所望のピッチで形成されるように画素７０Ａのサイズが設定されたのと非常に類似して、色の特徴１２Ｅ，１４Ｅ及び１６Ｅの色のそれぞれが複数の方向に沿って必要なピッチで形成されるように、第一のサイズＣ及び第二のサイズＤが決定される。この例示的な実施の形態では、画素７０Ｂの第一の画素のサイズＣ及び第二の画素のサイズＤは、図７Ｂに示される画素７０Ａの対応する第一の画素のサイズＡ及び第二の画素のサイズＢにサイズ的に等しい。図１０Ａに示されるように、形成されるべき特徴のパターンのそれぞれのピッチＰCは、第一のサイズＣの整数倍Ｍに等しく、形成されるべき特徴のパターンのそれぞれのピッチＰDは、第二のサイズＤの整数倍Ｎに等しい。この例示的な実施の形態では、色の特徴１２Ｅ，１４Ｅ及び１６Ｅのパターンのそれぞれは、イメージングヘッド２６の異なる走査の間に形成される。例示的な実施の形態では、色の特徴１２Ｅ，１４Ｅ及び１６Ｅのそれぞれは、同じピッチで形成され、同じサイズの画素７０Ｂで画像形成される。本発明の他の例示的な実施の形態では、異なるサイズの画素により異なる特徴のパターンが画像形成される。本発明の幾つかの例示的な実施の形態では、異なるパターンの特徴は、１以上の方向に沿って異なるピッチを有する。
【００９３】
ステップ３２０では、少なくとも必要とされるスキュー角に基づいて、画素７０Ｂについてアレンジメントが決定される。色の特徴１２Ｅ，１４Ｅ及び１６Ｅのそれぞれは、様々な方向に延びる様々なエッジを有する。これらの方向の幾つかは、所望の走査方向に関して様々なスキュー角だけ曲げられる。この例示される実施の形態では、それらのエッジの幾つかが走査方向に関して所望のスキュー角だけ曲げられる方向に沿って延びるように、色の特徴１２Ｅ，１４Ｅ及び１６Ｅのそれぞれが形成されることが望まれる。この例示的な実施の形態では、所望のスキュー角はθに等しく、この場合、この角度は、マトリクスライン２１Ａの向きを表す。本発明の例示的な実施の形態では、画素７０Ｂのスキャンラインが形成され、画素７０Ｂの様々なスキャンライン間のオフセットは、少なくとも所望のスキュー角の量に基づいて決定される。特に、この例示的な実施の形態では、画素７０Ｂの第一のスキャンライン７４Ａと画素７０Ｂの第二のスキャンライン７４Ｂとの間のオフセットは、スキャンラインにおける画素７０Ｂのスキュー角及び第一のサイズＣとに少なくとも基づいて決定される。画素のスキャンラインは、スキャニングパスに沿って走査する間、イメージングヘッド２６の画像形成チャネル４０が、放射線ビームを選択的に放射するために制御されるときに形成される。一連の画素は、スキャンラインに沿って形成され、それぞれの画素は、放射線ビームのうちの１つにより形成される。異なる画像形成チャネル４０は、画素の対応するスキャンラインを形成するために制御される。本発明の例示的な実施の形態では、スキャンライン間のオフセットは、スキャンラインを形成するために使用される画像形成チャネル４０の作動における遅延を調節することにより形成される。別の画像形成チャネル４０の作動に関する所与の画像形成チャネル４０の作動における遅延により、所与の画像形成チャネル４０により形成される画素のスキャンラインは、他の画像形成チャネル４０により形成される画素のスキャンラインから走査方向に沿ってずれる。図１０Ａに示されるように、それぞれの特徴１２Ｅの部分は、ある走査の間に他のスキャンラインにより形成される。特徴１４Ｅ及び１６Ｅの部分は、他のスキャンの間により他のスキャンラインにより形成される。
【００９４】
図１０Ａは、色の特徴１２Ｅ，１４Ｅ及び１６Ｅを形成するために使用される決定された第一のサイズＣ及び決定された第二のサイズＤを含む画素７０Ｂのスキャンラインの例を示す。画素７０Ｂは、色の特徴１２Ｅ，１４Ｅ及び１６Ｅのそれぞれの様々なエッジ部分に沿って画素のパターン７３において配置される。さらに、この例示的な実施の形態では、異なる色の特徴は、異なる走査の間に形成され、したがって、異なる画素のスキャンラインにより形成される。様々なスキャンラインは、共通の走査方向に沿って延び、色の特徴１２Ｅ，１４Ｅ及び１６Ｅのそれぞれの様々なエッジは、θに等しいスキュー角だけ走査方向に関して曲げられる。画素７０Ｂの階段のアレンジメントに画素のパターン７３を形成するため、画像形成チャネルのタイミング遅延が採用される。本発明の例示的な実施の形態では、階段のパターン７３は、所望のスキュー角（すなわち、この場合θ）だけ走査方向に関して曲げられる方向に沿って繰り返される。
【００９５】
図１０Ｂは、画素７０Ｂのパターン７３の詳細な図を示す。特に、図１０Ｂは、特徴の部分３３Ｂ及び３４Ｂの詳細な図を示す。図１０Ｂは、歪曲されたマトリクスライン２１Ａと、特徴の部分３３Ｂ及び３４Ｂのそれぞれとの間の一致した最小の必要とされるオーバラップ（ＭＲＯ）が維持されることを示す。有利なことに、オーバラップしない領域３６は存在しない。また、図１０Ｂは、最小のオーバラップする要件を維持しつつ、特徴の部分３３Ｂ及び３４Ｂが最小のギャップＭＧの要件よりも大きい距離Ｓだけマトリクスライン２１Ａを通して互いに分離されることを示す。
【００９６】
本発明の例示的な実施の形態では、画素７０Ｂの様々なスキャンライン間のオフセットは、以下の関係により決定される。
【００９７】
【数５】
2011511312.tif 000007
ここでOffsetは、走査方向に沿った走査線間のオフセットであり、Xは第一のサイズであり、θは走査方向を基準としたときのスキュー角に対応し、Tは１よりも大きいか又は１に等しい。
【００９８】
この例示的な実施の形態では、θはマトリクスライン２１Ａの向きを表すが、係るように限定されず、特徴のエッジの走査方向に関して他の所望の向きを表すことができる。本発明の例示的な実施の形態では、T=1，θ=60°及びX=Cである。第一の走査線及び第二の走査線は、隣接する走査線である。この例示的な実施の形態では、それぞれのステップが第二のサイズＤよりも小さいように、それぞれの画素のパターン７３の階段のアレンジメントにおいてステップが形成される。幾つかの例示的な実施の形態では、ステップは第二のサイズＤよりも大きい。図１０ＡのKEYで示されるように、画素のパターン７３のそれぞれの階段のアレンジメントにより形成されるステップは、スキュー角（すなわち、この場合θ）に等しいピッチ角ωにより特徴付けされる。特徴１２Ｅ，１４Ｅ及び１６Ｅのパターンのそれぞれは、それらの要求されるピッチで形成され、歪曲された特徴のエッジに関連されるアライメントの問題が更に解決される。図７Ａ及び図７Ｂに示されるオーバラップされない領域３６は存在せず、改善された視覚的な品質をもつカラーフィルタが得られる。さらに、従来の画像形成技術が採用されたときに必要とされるように、マトリクスライン２１Ａの幅が増加される必要がない。
【００９９】
本発明の例示的な実施の形態では、クロススキャン方向に沿って延びるように向けられるカラーストライプから色の特徴１２Ｅ，１４Ｅ及び１６Ｅの様々なパターンを形成するように、画像形成が制御される。カラーストライプは、これらがクロススキャン方向に沿って延びるとき左右に曲がる。本発明の例示的な実施の形態では、走査線間のオフセットがそれぞれのパターンにおける特徴のそれぞれの複数のエッジを正しく形成するために使用される画素のパターン７３を形成するように、特徴１２Ｅ，１４Ｅ及び１６Ｅのパターン１２が指向される。画像形成チャネルのタイミング遅延は、所与のスキャンラインの画素における局所的な変化を典型的に生じないが、画素の全体の走査線の位置を全体的にシフトする。幾つかの場合、スキャンラインのオフセットにより、特徴の第一のエッジ部分が所望の向きで形成される一方、これら同じオフセットにより、第二のエッジ部分は、所望の向きで形成されない。この影響は、第一及び第二のエッジ部分が走査方向に関して異なる向きを有するときに生じる可能性がある。
【０１００】
例示的な実施の形態では、特徴１２Ｅ，１４Ｅ及び１６Ｅのそれぞれが走査方向に実質的に平行な対称軸５００を有するように、特徴１２Ｅ，１４Ｅ及び１６Ｅのパターンの向きが選択される。この例示的な実施の形態では、それぞれの特徴が走査方向に関して歪曲され、互いに平行であって、互いにオフセットされる少なくとも２つのエッジ部分を有するように、特徴１２Ｅ，１４Ｅ及び１６Ｅのそれぞれが指向される。この例示的な実施の形態では、平行なエッジ部分は走査方向に沿って互いにオフセットされる。これら平行なエッジ部分が走査方向に沿って互いにオフセットされる画素７０Ｂの複数の関連される走査線に交差するように、特徴１２Ｅ、１４Ｅ及び１６Ｅのそれぞれが指向される。たとえば、走査線７４Ａ及び７４Ｂは、走査方向に沿って互いに平行であって、互いにオフセットされる特徴１２Ｅの様々なエッジ部分に交差するオフセットスキャンラインである。この例示される実施の形態では、オフセットスキャンライン７４Ａ及び７４Ｂは、交差したエッジ部分が延びる方向とは異なる他の方向に沿って延びる特徴１２Ｅの他のエッジ部分に交差することなしに、これら平行且つオフセットされたエッジ部分に交差する。したがって、画素７０Ｂの様々なスキャンラインのそれぞれの間の決定されたオフセットにより、平行なエッジ部分のそれぞれは、それらの所望の向きで形成される。それぞれの特徴１２Ｅの様々なエッジが走査方向に関して同じスキュー角だけ曲げられる向きで、複数の特徴１２Ｅが形成される。更に、及び有利なことに、画素７０Ｂは「ピッチ」に基づいて決定された第一及び第二のサイズを有するので、特徴１２Ｅのパターンのそれぞれは、第一及び第二の方向に沿った所望のピッチで形成される。同様のことが、特徴１４Ｅ及び１６Ｅのパターンについても当てはまる。
【０１０１】
ステップ３３０において、特徴１２Ｅ，１４Ｅ及び１６Ｅのパターンのそれぞれは、レシーバエレメント１８を走査する間、イメージングヘッド２６の画像形成チャネル４０を制御して放射線ビームを放射することで形成される。画素７０Ｂのスキャンラインは、特徴のパターンのそれぞれがそれらの要求されたピッチで形成されるのを可能にするサイズで形成される。画素７０Ｂは、たとえば本実施の形態で教示される技術に従ってそれぞれ大きさが設計される。画素７０Ｂの様々なスキャンラインは、特徴１２Ｅ，１４Ｅ及び１６Ｅのそれぞれの様々なエッジ部分の曲がりに従って他の走査線からずれる。
【０１０２】
図７Ｃは、図７Ｂに示される特徴１２Ｄ，１４Ｄ及び１６Ｄのパターンの変形となる画像形成を示す。図７Ｃは、図７Ｂで使用される画素よりも小さな画素を使用することで、画像形成された特徴１２Ｄ，１４Ｄ及び１６Ｄ間のアライメントを改善する。図７Ｂと同様に、それぞれの特徴は、第一の方向に沿った特徴のピッチに従って大きさが設計されるクロススキャン方向に沿った第一のサイズＡを有する画素７０Ｃで形成される。また、画素７０Ｃは、第二の方向に沿った特徴のピッチに関して決定される、走査方向に沿った第二のサイズＥを有する。しかし、この場合、第二のサイズＥは、高解像度（すなわち、小さな画素サイズ）に対応する。第二の方向に沿った特徴のピッチは、画素サイズＥの整数倍Ｑに等しい。
【０１０３】
走査方向に沿った高い解像度は、最小のオーバラップ（ＭＲＯ）の要件に実質的に適合している画素７０Ｃのアレンジメントを形成する。図７Ｃは、図７Ｂに示される望まれないオーバラップしない領域がない場合を示す。しかし、図７Ｃに示されるように、所与のマトリクス２１Ａとオーバラップする隣接する特徴は、最小のギャップ（ＭＧ）の要件に等しい間隔だけ互いに分離される。図７Ｃは、高い画像形成の解像度の使用にもかかわらず、より薄いマトリクスラインを使用する機会が提供されないことを示す。
【０１０４】
図１０Ａ及び図１０Ｂは、特徴１２Ｅ，１４Ｅ及び１６Ｅのそれぞれ間の走査方向に沿った距離Ｓが図７Ｂに示される最小のギャップの間隔ＭＧよりも大きいことを示す。有利なことに、特徴の要求されるピッチに従って大きさが設計される、画素７０Ｃと結合される走査線のオフセットは、隣接する特徴間の間隔を低減する機会を提供し、これにより、ディスプレイ業界で望まれる更に薄型のマトリクスラインの幅に対応することができる。図１０Ｃは、本発明の例示的な実施の形態に従って形成される特徴１２Ｆ，１４Ｆ及び１６Ｆを示し、隣接する特徴間の間隔は、最小のギャップＭＧに等しく、これにより、より薄型のマトリクスライン２１Ｂをカラーフィルタで使用することができる（すなわち、マトリクスライン２１Ｂは、マトリクスライン２１Ａの幅ＷAよりも薄い幅ＷBを有する）。それぞれの特徴１２Ｆ，１４Ｆ及び１６Ｆは、画素７０Ｄのパターンにより形成される。それぞれの画素７０Ｄは、Ｃに等しいクロススキャン方向に沿った第一のサイズを有する。この実施の形態における画素の第一のサイズは、図１０Ａに示される画素７０Ｂの第一のサイズと同じである。これは、これら第一のサイズの両者は、第一の方向に沿った同じ特徴のピッチに基づいて決定されるためである。それぞれの画素７０Ｄは、Ｆに等しい走査方向に沿って第二のサイズを有する。第二のサイズＦは、特徴１２Ｆ，１４Ｆ及び１６Ｆのそれぞれのパターンの所望のピッチＰEに基づいて決定される。ピッチＰEは図１０Ａに示される例示的な実施の形態のピッチＰDとは異なるので（すなわち、より薄いマトリクスライン２１Ｂのために第二の方向に沿って近くに特徴が配置される）、第二のサイズＦは、第二のサイズＤとは異なる。この例示的な実施の形態では、ピッチＰEは、第二のサイズＦの整数倍Ｒに等しい。本発明の他の類似の例示的な実施の形態によれば、画素７０Ｄの走査線間のオフセットは、特徴１２Ｆ，１４Ｆ及び１６Ｆのそれぞえの様々なエッジの所望のスキュー角及び第一のサイズＣに基づいて決定される。図１０ＣのKEYに示されるように、決定されたオフセットは、所望のスキュー角（すなわち、この場合θ）に等しいピッチ角δで画素パターン７５を生成する。所望の最小のオーバラップＭＲＯの要件及び最小のギャップＭＧの要件に実質的に等しいギャップサイズＳとを維持するために、走査線間のオフセットが決定され、これにより、低減されたマトリクスラインの幅が可能となる。さらに、望まれないオーバラップしない領域が存在しない。
【０１０５】
図１０Ｃは、より薄いマトリクスラインの幅が本発明の例示的な実施の形態により有利に収容されることを示す。本発明の例示的な実施の形態に従って、特徴のパターンの様々なピッチ及び画素のオフセットスキャンラインとに基づいて画素の大きさを設計することで、色の特徴とカラーフィルタマトリクスとの間の良好なアライメントが提供されることが明らかとなる。これらの影響の両者により、高い視覚的な品質をもつカラーフィルタが得られる。画素７０Ｄは、本発明の例示的な実施の形態に従って、オフセットされなかった図７Ｃに示される高解像度の画素７０Ｃよりも大きなサイズを有する。画像形成の生産性を改善するため、粗い解像度を使用することができる。たとえば、走査方向に沿った画素のサイズは、走査速度及び画像形成チャネルのスイッチング周波数（すなわち、媒体にわたり放射線スポットが走査される時間量を定義する周波数）に依存する。スイッチング周波数は、典型的に、実用的な上限を有し、これらの上限で、走査方向に沿った画素のサイズが走査速度により定義される。したがって、これらの上限で、より高い解像度（すなわち、走査方向に沿った小さな画素サイズ）は、遅い走査速度を必要とすることができる。これは、走査方向に沿って小さな画素サイズを形成するために放射線スポットが媒体にわたり走査される間、小さな走査距離が必要とされるためである。低い解像度により（すなわち、走査方向に沿った大きな画素サイズ）、速い走査速度が有利にも可能となる。これは、走査方向に沿って大きな画素サイズを形成するために放射線スポットが媒体にわたり走査される間、大きな走査距離が必要とされるからである。イメージングヘッド２６は、個々にアドレス可能な画像形成チャネルを有するマルチチャネルイメージングヘッドを有し、それぞれのチャネルは、画素を形成するために作用する放射線ビームを生成可能である。イメージングヘッド２６は、画像形成チャネル４０の１次元又は２次元アレイを含む画像形成チャネル４０の様々なアレンジメントを含む。適切なメカニズムは、放射線ビームを生成するために使用される。放射線ビームは、適切なやり方で配置される。
【０１０６】
本発明の幾つかの実施の形態は、赤外線レーザを採用する。８３０ｎｍの波長で５０Ｗ前後の全体の電力出力をもつ１５０μｍエミッタを採用する赤外線ダイオードレーザアレイは、レーザで誘起される熱転写プロセスにおいて本発明者により使用されている。また、本発明の実施において、可視光レーザを含む代替的なレーザが使用される。画像形成される媒体の特性により、採用されるレーザ源の選択が行われる。
【０１０７】
本発明の様々な例示的な実施の形態は、画像を形成するマテリアルがレシーバエレメントに転写されるレーザで誘起される熱転写プロセスの観点で記載された。本発明の他の例示的な実施の形態は、他の画像形成方法及び媒体で採用される場合がある。本発明の範囲から逸脱することなしに、異なる方法により画像を媒体に形成することができる。たとえば、媒体は、画像を修正可能な表面を含むことができ、修正可能な表面の特徴又は特性は、画像を形成するために放射線ビームにより照射されたときに変化する。放射線ビームは、画像を形成するために媒体の表面を除去するために使用することができる。当業者であれば、異なる画像形成方法を容易に採用することができることを認識するであろう。
【０１０８】
プログラムプロダクト９７は、装置９０により必要とされる様々な機能を実行するためにコントローラ６０により使用される。本発明の１つの例示的な実施の形態によれば、１つの係る機能は、形成される特徴のパターンの第一の方向に沿った所望のピッチの関数として、クロススキャンの方法に沿った第一の画素のサイズを設定することを含む。別の係る機能は、形成される機能のパターンの第二の方向に沿った所望のピッチの関数として、走査方向に沿った第二の画素のサイズを設定することを含み、第二の方向は、第一の方向と交差する。更に別の係る機能は、画像形成される特徴のエッジの所望のスキュー角及び第一のサイズに基づいて、走査方向に沿って互いに画素の走査線をオフセットすることを含む。プログラムプロダクト９７は、それぞれの画素がクロススキャン方法に沿って第一のサイズを有し、走査方向に沿って第二のサイズを有するように、媒体上に形成される複数の画素の少なくとも１つのサイズを決定するためにコントローラ６０を構成するために使用される。第二のサイズは、第一のサイズとは異なる。第一のサイズ、第二のサイズ及び様々な走査線間のオフセットの量は、プログラムプロダクト９７のプログラム命令に従って決定される。代替的に、又は付加的に、コントローラ６０は、適切なユーザインタフェースを通してコントローラ６０と通信するオペレータのガイダンスの下で、画素サイズ及び走査線のオフセットの手動による割り当て又は調節を許容する場合がある。画素サイズ及び走査線のオフセットの決定は、適切なアルゴリズム及び／又はコントローラ６０に入力されたデータに基づいて行われるか、プログラムプロダクト９７内でプログラムされる。画素のサイズ及び走査線のオフセットのパラメータは、画像形成の前に決定されるか、画像形成が進展するときに「オンザフライ」で決定される場合がある。
【０１０９】
限定されることなしに、プログラムプロダクト９７は、コンピュータプロセッサにより実行されたとき、コンピュータプロセッサに本実施の形態で記載された方法を実行させる命令を含むコンピュータ読み取り可能な信号のセットを保持する媒体を有する場合がある。プログラムプロダクト９７は、様々な形態の何れかである場合がある。プログラムプロダクト９７は、たとえばフロプティカルディスク、ハードディスクドライブのような磁気記憶媒体、ＣＤ  ＲＯＭ、ＤＶＤを含む光データ記憶媒体、ＲＯＭ，フラッシュＲＡＭ等を含む電子データ記憶媒体のような物理的な媒体を含むことができる。命令は、随意に、媒体上で圧縮及び／又は暗号化される。
【０１１０】
特徴のパターンは、ディスプレイにおける色の特徴のパターンの観点で記載された。本発明の幾つかの例示的な実施の形態では、特徴はＬＣＤディスプレイの一部とすることができる。本発明の他の例示的な実施の形態では、特徴は、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）ディスプレイの一部とすることができる。ＯＬＥＤディスプレイは、異なるコンフィギュレーションを含むことができる。たとえば、ＬＣＤディスプレイに類似の方式では、異なる色の特徴は、白色のＯＬＥＤ源と共に使用されるカラーフィルタに形成される。代替的に、ディスプレイにおける異なる色照明光源は、本発明の様々な実施の形態により異なるＯＬＥＤ材料で形成することができる。これらの実施の形態では、ＯＬＥＤに基づく照明光源自身は、パッシブなカラーフィルタを必要とすることなしに、着色された光の放出を制御する。ＯＬＥＤ材料は、適切な媒体に転写される。ＯＬＥＤ材料は、レーザで誘起される熱転写技術によりレシーバエレメントに転写される。
【０１１１】
本発明の様々な例示的な実施の形態が横向きの山形の形状の特徴を画像形成する観点で記載された。しかし、本発明は、横向きの山形の形状の特徴を画像形成することに限定されず、所望の走査方向に関して曲げられるエッジを有する他の形状を含む様々な特徴を画像形成ために使用される。本発明は、アイランドの特徴を画像形成するためにも使用される。
【０１１２】
本発明は例としてディスプレイ及び電子装置の製造における応用を使用して記載されたが、本実施の形態に記載される方法は、ラボオンチップ（ＬＯＣ）の製造について生物医学の画像形成において使用される応用を含む他の応用にも直接適用可能である。ＬＯＣ装置は、様々なパターンの特徴を含む場合がある。本発明は、医療、印刷及び電子製造技術のような他の技術への適用を有する。
【０１１３】
例示的な実施の形態は本発明の単なる例示的なものであって、上述された実施の形態の多くの変形例は本発明の範囲から逸脱することなしに当業者により創作されることを理解されたい。
【図１Ａ】
2011511312.tif 000008
【図１Ｂ】
2011511312.tif 000009
【図１Ｃ】
2011511312.tif 000010
【図１Ｄ】
2011511312.tif 000011
【図１Ｅ】
2011511312.tif 000012
【図１Ｆ】
2011511312.tif 000013
【図２Ａ】
2011511312.tif 000014
【図２Ｂ】
2011511312.tif 000015
【図２Ｃ】
2011511312.tif 000016
【図２Ｄ】
2011511312.tif 000017
【図３】
2011511312.tif 000018
【図４Ａ】
2011511312.tif 000019
【図４Ｂ】
2011511312.tif 000020
【図５】
2011511312.tif 000021
【図６】
2011511312.tif 000022
【図７Ａ】
2011511312.tif 000023
【図７Ｂ】
2011511312.tif 000024
【図７Ｃ】
2011511312.tif 000025
【図８】
2011511312.tif 000026
【図９】
2011511312.tif 000027
【図１０Ａ】
2011511312.tif 000028
【図１０Ｂ】
2011511312.tif 000029
【図１０Ｃ】
2011511312.tif 000030
【手続補正書】
【提出日】平成23年1月20日(2011.1.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
走査方向に沿って媒体にわたり走査する間、イメージングヘッドにより放射される放射線ビームで前記媒体上に特徴のパターンの画像を形成する方法であって、
前記パターンにおける特徴は、第一の方向と該第一の方向に交差する第二の方向に沿って規則的に配置され、前記パターンは、前記走査方向に関してスキュー角だけ曲げられた方向に沿って延びる第一のエッジ部分をもつ特徴を含み、
当該方法は、
前記第一の方向に沿った前記特徴のピッチを決定するステップと、
前記第一の方向に沿った前記特徴のピッチに少なくとも基づいて前記媒体上に形成される第一の画素の第一のサイズであって、前記走査方向に交差する方向に沿った第一のサイズを決定するステップと、
前記第二の方向に沿った前記特徴のピッチを決定するステップと、
前記第二の方向に沿った前記特徴のピッチに少なくとも基づいて前記媒体上に形成される第二の画素の第二のサイズであって、前記走査方向に沿った第二のサイズを決定するステップと、
前記媒体上に形成される画素の第二のスキャンラインと前記媒体上に形成される画素の第一のスキャンラインとの間の前記走査方向に沿ったオフセットであって、前記スキュー角と前記第一のサイズとに少なくとも基づいて決定されるオフセットを決定するステップと、
前記走査方向に沿って走査する間、前記イメージングヘッドを制御して前記放射線ビームを放射し、前記媒体上に画像を形成するステップと、
前記媒体にわたり走査する間、前記イメージングヘッドを制御して、前記決定された第一のサイズを有する前記第一の画素と前記決定された第二のサイズを有する前記第二の画素とを形成するステップと、
前記媒体にわたり走査する間、前記イメージングヘッドを制御して、前記画素の第一のスキャンラインと、前記決定されるオフセットだけ前記画素の第一のスキャンラインからずれる前記画素の第二のスキャンラインとを形成するステップと、
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記第一の方向に沿った前記特徴のピッチは、前記第一のサイズの整数倍に等しい、
請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記第二の方向に沿った前記特徴のピッチは、前記第二のサイズの整数倍に等しい、
請求項２記載の方法。
【国際調査報告】
2011511312.tif 000031
2011511312.tif 000032
2011511312.tif 000033