(57)【要約】本発明は、ポリカーボネートの分子量の調節のためのアルキルフェノールの使用、並びに前記ポリカーボネートから作られ、熱安定剤、離型剤、および光安定剤の群から選択される添加剤を含む組成物に関する。本発明は、更に成形物品の製造への前記組成物の使用並びにそれによって得られる成形物品にも関する。【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）
【化１】
2011511869.tif 000008
〔式中、
Ｒ１およびＲ２は、互いに独立して、水素、Ｃ１〜Ｃ１８−アルキル、Ｃ６〜Ｃ１２−アリール、フェニル−Ｃ１〜Ｃ６−アルキルまたはナフチル−Ｃ１〜Ｃ６−アルキルであり、Ｒ１およびＲ２は同時に水素ではない。〕
のアルキルフェノールの、所定の不均質ファクターを有する直鎖または分枝ポリカーボネートの製造のための連続界面法における使用であって、それぞれの分子量範囲に対する不均質ファクターが
平均分子量（重量平均）１８，０００〜２２，０００ｇ／ｍｏｌの低粘度ポリカーボネートに関して、Ｕが１．０８〜１．１８であり、
平均分子量（重量平均）２２，０００〜２６，０００ｇ／ｍｏｌの中粘度ポリカーボネートに関して、Ｕが１．１８〜１．６０であり、
平均分子量（重量平均）２６，０００〜４０，０００ｇ／ｍｏｌの高粘度ポリカーボネートに関して、Ｕが１．３０〜１．７５である、
使用。
【請求項２】
平均分子量（重量平均）が１８，０００〜２２，０００ｇ／ｍｏｌの低粘度ポリカーボネートに関して、不均質ファクターＵが１．１０〜１．１６である、請求項１に記載の使用。
【請求項３】
平均分子量（重量平均）が２２，０００〜２６，０００ｇ／ｍｏｌの中粘度ポリカーボネートに関して、不均質ファクターＵが１．２０〜１．５０である、請求項１に記載の使用。
【請求項４】
平均分子量（重量平均）が２６，０００〜４０，０００ｇ／ｍｏｌの高粘度ポリカーボネートに関して、不均質ファクターＵが１．３５〜１．６０である、請求項１に記載の使用。
【請求項５】
平均分子量（重量平均）が２２，０００〜２６，０００ｇ／ｍｏｌの中粘度ポリカーボネートに関して、不均質ファクターＵが１．２０〜１．５０である、請求項１に記載の使用。
【請求項６】
平均分子量（重量平均）が２６，０００〜４０，０００ｇ／ｍｏｌの高粘度ポリカーボネートに関して、不均質ファクターＵが１．３５〜１．５５である、請求項１に記載の使用。
【請求項７】
該式（１）の化合物がｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノールまたはｎ−ブチルフェノールである、請求項１に記載の使用。
【請求項８】
（Ａ）  請求項１に記載の式（Ｉ）のアルキルフェノールを末端基として有するポリカーボネートであって、不均質ファクターが分子量範囲に依存して下記値
平均分子量（重量平均）１８，０００〜２０，０００ｇ／ｍｏｌの低粘度ポリカーボネートに関して、Ｕが１．０８〜１．１８であり、
平均分子量（重量平均）２２，０００〜２６，０００ｇ／ｍｏｌの中粘度ポリカーボネートに関して、Ｕが１．１８〜１．６０であり、
平均分子量（重量平均）２６，０００〜４０，０００ｇ／ｍｏｌの高粘度ポリカーボネートに関して、Ｕが１．３０〜１．７５である、
を有する、ポリカーボネート、
（Ｂ）  熱安定剤、離型剤および光安定剤からなる群から選択される少なくとも１種類の添加剤
を含有する組成物。
【請求項９】
０．００１〜１ｗｔ．％（組成物全体に対する。）含有する、請求項８に記載の組成物。
【請求項１０】
０．００５〜０．８ｗｔ．％（組成物全体に対する。）含有する、請求項８に記載の組成物。
【請求項１１】
該熱安定剤、離型剤および光安定剤が、トリス−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）［１，１−ビフェニル］−４，４’−ジイル−ビスホスホナイト、トリイソオクチルホスフェート、ペンタエリトリトールテトラステアレート、グリセロールモノステアレート、ステアリルステアレート、プロパンジオールステアレート、オクタデシル３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロプリオネート、ビス（２，４−ジクミルフェニル）ペンタエリトリトールジホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスファイト、トリフェニルホスフィン、ベンゾトリアゾール、トリアジン、ベンゾフェノール、シアノアクリレート、桂皮酸エステルおよびオキサルイミドからなる群の少なくとも１種類から選択される、請求項８に記載の組成物。
【請求項１２】
トリフェニルホスフィンおよびペンタエリトリトールテトラステアレートを含有する、請求項８に記載の組成物。
【請求項１３】
コンパウンドおよびブレンドの製造への請求項８に記載の組成物の使用。
【請求項１４】
成形品の製造への請求項８に記載の組成物の使用。
【請求項１５】
請求項８に記載の組成物から得られる成形品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ポリカーボネートの分子量の調節へのアルキルフェノールの使用並びに熱安定剤、離型剤および光安定剤の群から選択される添加剤を有する上記ポリカーボネートの組成物、成形品の製造へのその使用並びにそれから得られる成形品に関する。
【背景技術】
【０００２】
ポリカーボネートは、工業用熱可塑性樹脂の群に属する。これは、電気電子分野に様々な用途、例えばランプのハウジング材、および特定の機械的特性が要求される用途がある。別の広い使用分野は、光データ記憶媒体、例えば様々なＣＤおよびＤＶＤフォーマット並びにブルーレイディスクおよびＨＤ−ＤＶＤ、および押出用途、例えばポリカーボネートシート、ディフューザーシートおよび別のディスプレイ用途または水筒、更に自動車分野における光学的用途、例えばグレージング、プラスチックのカバー、ディフュージングスクリーンまたはロングフィールドランプ（ｌｏｎｇ  ｆｉｅｌｄ  ｌａｐｍｓ）用の光伝導素子（ｌｉｇｈｔ  ｃｏｎｄｕｃｔｏｒ  ｅｌｅｍｅｎｔｓ）およびランプカバーである。
【０００３】
良好な熱特性および機械特性、例えばビカー温度（加熱撓み温度）、ガラス転移温度および衝撃強さが上記用途にほぼ常に必ず要求される。
【０００４】
ポリマーでは、上記特性が分子量に依存することが知られている。一般的に、上記特性は、分子量が増加すると増加し、極限値に近づく。しかしながら、この関連で、分子量それ自体だけでなく、分子の不均質ファクター（ｉｎｈｏｍｏｇｅｎｅｉｔｙ  ｆａｃｔｏｒ）Ｕ＝（Ｍｗ／Ｍｎ）−１が重要である。高い不均質ファクターは、ポリカーボネートの熱特性および機械特性に悪影響を及ぼす。同様に、分子量は、粘度（溶液および溶融粘度）に直接の影響力を有し、従って、所定の加工温度におけるポリマー溶融物の流動性に影響力を有する。しかしながら、高分子量生成物は流動しにくく、従って、非常に短いサイクル時間でしか加工できない。従って、この手段は、比較的低い分子量で必要な機械特性および加熱撓み温度も満たすのに適していない。更に、低分子量化合物およびオリゴマーがポリマーの熱特性および機械特性に悪影響を及ぼすことも知られている。
【０００５】
ポリカーボネートの製造用の連鎖停止剤として、アルキルフェノール、特にｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール（以下、単純にＢＵＰと云う。）が知られている（ＥＰ−Ａ  １，２４９，４６３およびＷＯ  ２００４／０６３２４９）。しかしながら、上記文献は、所定の分子量分布を有するポリカーボネートの製造へのアルキルフェノールの使用を記載していない。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
従って、本発明の目的は、低分子量化合物およびオリゴマーの含量および高分子量含有物が減少させられ、すなわち、不均質ファクターＵ＝（Ｍｗ／Ｍｎ）−１が小さくなり、同時に熱特性（ビカー温度）および機械特性（例えばノッチ付き衝撃強さ、特に低温におけるノッチ付き衝撃強さ）が改良された、所定の分子量分布を有するポリカーボネートを製造することである。
【０００７】
更に、本発明の目的は、改良された加熱撓み温度およびノッチ付き衝撃強さを有する芳香族ポリカーボネート組成物を開発することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
意外なことに、ポリカーボネートの連続製造用の、分子量および従って粘度を調節するために使用されるアルキルフェノールの群の連鎖停止剤、特にｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノールが、ＧＰＣカーブのコース、すなわち分子量分布、に決定的な影響力を有し、従って避ける必要のある低分子量化合物およびオリゴマーの含量にも決定的な影響力を有することがわかった。分子量分布の制御された改良、すなわち狭い分布または低い不均質ファクターＵ＝（Ｍｗ／Ｍｎ）−１、およびその調節のためのこの手段および界面法による連続法における連鎖停止剤の性質への依存性は、これまで未知であった。これは、射出成形部品または押出部品の機械性能および熱性能に関する重要な基準を示す。このようにして得られるポリカーボネートから製造される本発明によるポリカーボネート組成物並びにそれから得られる射出成形部品および押出品は、著しく改良された熱特性（ガラス転移温度Ｔｇおよびビカー温度）および機械特性（特に低温における、靱性、鋼球押込温度（ｂａｌｌ  ｉｎｄｅｎｔａｔｉｏｎ  ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ）およびノッチ付き衝撃強さ）を有する。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】ポリカーボネートのＧＰＣカーブの比較を示すグラフ
【００１０】
従って、本発明は、それぞれの分子量範囲に対して下記不均質ファクター：
平均分子量（重量平均）１８，０００ｇ／ｍｏｌ〜２２，０００ｇ／ｍｏｌの低粘度ＰＣに関しては、Ｕは１．０８〜１．１８、好ましくは１．１０〜１．１６、
平均分子量（重量平均）２２，０００ｇ／ｍｏｌ超〜２６，０００ｇ／ｍｏｌの中粘度ＰＣに関しては、Ｕは１．１８〜１．６０、好ましくは１．２０〜１．５５、特に好ましくは１．２０〜１．５０、
平均分子量（重量平均）２６，０００ｇ／ｍｏｌ超〜４０，０００ｇ／ｍｏｌの高粘度ＰＣに関しては、Ｕは１．３０〜１．７５、好ましくは１．３０〜１．７５、特に好ましくは１．３５〜１．６０、特に１．３５〜１．５５
を有する直鎖または分枝ポリカーボネートの製造に関する連続界面法における、一般式（１）
【化１】
2011511869.tif 000002
〔式中、Ｒ１およびＲ２は、互いに独立して、水素、Ｃ１〜Ｃ１８−アルキル、Ｃ６〜Ｃ１２−アリール、フェニル−Ｃ１〜Ｃ６−アルキルまたはナフチル−Ｃ１〜Ｃ６−アルキルであり、Ｒ１およびＲ２は同時に水素ではない。〕
のアルキルフェノールの使用を提供する。
【００１１】
式１において、Ｒ１およびＲ２は、互いに独立して、好ましくは、水素または炭素原子を１〜８個、特に好ましくは１〜４個有するアルキルであり、但し、Ｒ１およびＲ２は同時に水素ではない。ｔｅｒｔ−ブチルフェノールまたはｎ−ブチルフェノールがより特に好ましく、特にｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノールである。
【００１２】
本発明との関連で、熱可塑性芳香族ポリカーボネートは、ホモポリカーボネートとコポリカーボネートの両方であり、既知の方法で、ポリカーボネートは直鎖であっても分枝されていてもよい。
【００１３】
熱可塑性芳香族ポリエステルカーボネートを含む本発明の熱可塑性ポリカーボネートおよびコポリカーボネート（いずれも単純に用語ポリカーボネートにまとめる。）は、上記分子量Ｍｗ（重量平均Ｍｗ、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）測定、ポリカーボネート較正によって決定される。）を有する。分子量は数平均Ｍｎによって記載することも可能であり、これは同様に事前のポリカーボネートの較正後のＧＰＣによって測定される。
【００１４】
従って、ポリカーボネート組成物ＰＣの分子量分布の尺度としての不均質ファクターＵ＝（Ｍｗ／Ｍｎ）−１は、様々な分子量範囲に関して測定されうる。
【００１５】
本発明は、更に、
（Ａ）式Ｉのアルキルフェノールを末端基として有する上記ポリカーボネートであって、不均質ファクターが分子量範囲に依存して上記値を有するポリカーボネート、並びに
（Ｂ）熱安定剤、離型剤および光安定剤からなる群から選択される少なくとも１種類の添加剤
を含有する組成物も提供する。
【００１６】
本発明の組成物は、概して、成分（Ｂ）の添加剤を０．００１〜１ｗｔ．％、好ましくは０．００５〜０．８ｗｔ．％、特に好ましくは０．０４〜０．５ｗｔ．％（組成物全体に対する。）含有する。
【００１７】
トリス−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）［１，１−ビフェニル］−４，４’−ジイル−ビスホスホナイト、トリイソオクチルホスフェート、オクタデシル３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロプリオネート（ｏｃｔａｄｅｃｙｌ  ３−（３，５−ｄｉ−ｔｅｒｔ−ｂｕｔｙｌ−４−ｈｙｄｒｏｘｙｐｈｅｎｙｌ）ｐｒｏｐｒｉｏｎａｔｅ）（Ｉｒｇａｎｏｘ  １０７６）、ビス（２，４−ジクミルフェニル）ペンタエリトリトールジホスファイト（Ｄｏｖｅｒｐｈｏｓ  Ｓ−９２２８）、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスファイト（ＡＤＫ  ＳＴＡＢ  ＰＥＰ−３６）またはトリフェニルホスフィンが熱安定剤として好ましく好適である。それらは単独で使用されるかまたは混合物（例えばＩｒｇａｎｏｘ  Ｂ  ９００）で使用される。
【００１８】
ペンタエリトリトールテトラステアレート、グリセロールモノステアレート、ステアリルステアレートまたはプロパンジオールステアレートが離型剤として好ましく好適である。それらは単独で使用されるかまたは混合物で使用される。
【００１９】
ベンゾトリアゾール、トリアジン、ベンゾフェノール、シアノアクリレート、桂皮酸エステルまたはオキサルイミドが光安定剤として好ましく好適である。それらは単独で使用されるかまたは混合物で使用される。
【００２０】
本発明によって使用されるポリカーボネートの製造は、原則として、既知の方法でジフェノール、炭酸誘導体および要すれば分枝剤から行われる。
【００２１】
ポリカーボネート合成の方法は、一般的に知られており、多数の刊行物に記載されている。ＥＰ−Ａ  ０  ５１７  ０４４、ＷＯ  ２００６／０７２３４４、ＥＰ−Ａ  １  ６０９  ８１８、ＷＯ  ２００６／０７２３４４およびＥＰ−Ａ  １  ６０９  ８１８およびそれらに列挙されている文献が、例えばポリカーボネートの製造に関する界面法および溶融法を記載している。
【００２２】
しかしながら、非常に良好なノッチ付き衝撃強さおよび改良された加熱撓み温度を有するポリカーボネートを連続法で得るために合成中にいずれの手段を行わなければならなかったのかは先行技術から推測できない。特に、不均質ファクターＵに対する連鎖停止剤の影響の徴候は知られていなかった。
【００２３】
いわゆる界面法による比較的狭い分子量分布を有する芳香族ポリカーボネートまたはコポリカーボネートの製造のための連続法において、本発明によると、アルカリ性水溶液（または懸濁液）で最初に反応容器に導入されるビスフェノール（または種々のビスフェノールの混合物）の二ナトリウム塩のホスゲン化は、第２の相を形成する不活性有機溶媒または、好ましくは溶媒混合物、の存在下において行われる。主に有機相中に存在する、生成されるオリゴカーボネートは、好適な触媒を用いて縮合を受けて有機相中に溶解された所望の分子量を有するポリカーボネートを生じる。この有機相を最後に分離し、そこからポリカーボネートを様々なワークアップ工程によって、好ましくは脱蔵押出機または押出蒸発器によって、単離する。非常に良好なノッチ付き衝撃強さおよび改良された加熱撓み温度の生成物を得るための決定的な工程は、この連続プロセスを可能な最も狭いポリカーボネートの分子量分布、すなわち、低い不均質ファクター、が合成中に、特別なワークアップ、例えば沈殿またはスプレー蒸発、なしに既に得られるように行うことからなる。これは、本発明による連鎖停止剤の好適な選択によって達成され、低い不均質ファクターをもたらす。
【００２４】
ポリカーボネートの製造に好適なジヒドロキシアリール化合物は、式（２）
ＨＯ−Ｚ−ＯＨ      （２）
〔式中、Ｚは、Ｃ原子を６〜３０個有し、１以上の芳香核を含んでいてもよく、置換されていてもよく、脂肪族もしくは脂環式基またはアルキルアリールまたはヘテロ原子をブリッジメンバーとして含んでいてもよい芳香族基である。〕
のジヒドロキシアリール化合物である。
【００２５】
好ましくは、式（２）中、Ｚは、式（３）
【化２】
2011511869.tif 000003
〔式中、
Ｒ６およびＲ７は、互いに独立して、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ１８−アルキル、Ｃ１〜Ｃ１８−アルコキシ、ハロゲン、例えばＣｌもしくはＢｒ、またはそれぞれ任意に置換されていてもよいアリールもしくはアラルキル、好ましくはＨまたはＣ１〜Ｃ１２−アルキル、特に好ましくはＨまたはＣ１〜Ｃ８−アルキル、より特に好ましくはＨまたはメチルであり、
Ｘは、単結合、−ＳＯ２−、−ＣＯ−、−Ｏ−、−Ｓ−、Ｃ１−〜Ｃ６−アルキレン、Ｃ２〜Ｃ５−アルキリデンまたはＣ６〜Ｃ１２−アリーレンであって、任意にヘテロ原子を含む別の芳香環と縮合していてもよいものである。〕
の基である。
【００２６】
好ましくは、Ｘは、単結合、Ｃ１〜Ｃ５−アルキレン、Ｃ２〜Ｃ５−アルキリデン、−Ｏ−、−ＳＯ−、−ＣＯ−、−Ｓ−または−ＳＯ２−であり、Ｘは、特に好ましくは単結合、イソプロピリデンまたは酸素である。
【００２７】
本発明によって使用されるポリカーボネートの製造に好適なジフェノールは、例えばヒドロキノン、レソルシノール、ジヒドロキシジフェニル、ビス−（ヒドロキシフェニル）−アルカン、ビス−（ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス−（ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス−（ヒドロキシフェニル）ケトン、ビス−（ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス−（ヒドロキシフェニル）スルホキシド、α，α’−ビス−（ヒドロキシフェニル）−ジイソプロピルベンゼン、およびそれらのアルキル化、核アルキル化および核ハロゲン化化合物である。
【００２８】
好ましいジフェノールは、４，４’−ジヒドロキシジフェニル、２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルプロパン、１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−フェニルエタン、２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、２，２−ビス−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、２，４−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−２−メチルブタン、１，３−ビス−［２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−プロピル］−ベンゼン（ビスフェノールＭ）、２，２−ビス−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−メタン、２，２−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、２，４−ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−メチルブタンおよび１，３−ビス［２−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−プロピル］−ベンゼンである。
【００２９】
特に好ましいジフェノールは、２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパン（ＢＰＡ）、４，４’−ジヒドロキシジフェニル（ＤＯＤ）および２，２−ビス−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロパンである。
【００３０】
これらおよび別の好適なジフェノールは、例えばＵＳ−Ａ−２  ９９９  ８３５、３  １４８  １７２、２  ９９１  ２７３、３  ２７１  ３６７、４  ９８２  ０１４および２  ９９９  ８４６、ドイツ国公開特許１  ５７０  ７０３、２  ０６３  ０５０、２  ０３６  ０５２、２  ２１１  ９５６および３  ８３２  ３９６、フランス国特許明細書１  ５６１  ５１８、モノグラフ“Ｈ．Ｓｃｈｎｅｌｌ，Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ａｎｄ  Ｐｈｙｓｉｃｓ  ｏｆ  Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅｓ，Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ  Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ，ニューヨーク  １９６４年，２８頁以降；１０２頁以降”および“Ｄ．Ｇ．Ｌｅｇｒａｎｄ，Ｊ．Ｔ．Ｂｅｎｄｌｅｒ，Ｈａｎｄｂｏｏｋ  ｏｆ  Ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ  Ｓｃｉｅｎｃｅ  ａｎｄ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，Ｍａｒｃｅｌ  Ｄｅｋｋｅｒ  Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ  ２０００年，７２頁以降”に記載されている。
【００３１】
ホモポリカーボネートの場合、１種類のジフェノールのみが使用され、コポリカーボネートの場合、２種類以上のジフェノールが使用される。使用されるジフェノールは、別のあらゆる薬品および合成に添加される補助物質と同様に、その合成、取り扱いおよび貯蔵由来の不純物で汚染されていてもよい。しかしながら、できるだけ純粋な原料を用いることが好ましい。
【００３２】
ＮａＯＨ、１種類以上のビスフェノールおよび水の水相がこのプロセスに使用され、ビスフェノールの合計に関するこの水溶液の濃度（ナトリウム塩として計算せずにフリーフェノールとして計算する。）は、Ｍｗが４５，０００よりも大きいポリカーボネートについては、１〜３０ｗｔ．％、好ましくは３〜２５ｗｔ．％、特に好ましくは３〜８ｗｔ．％、Ｍｗが４５，０００よりも小さいポリカーボネートについては１２〜２２ｗｔ．％であることが可能である。この関連で、高い濃度では、溶液を加熱することが必要である。ビスフェノールを溶解するために使用される水酸化ナトリウムは、固体として使用されても水酸化ナトリウム水溶液として使用されてもよい。水酸化ナトリウム溶液の濃度は、必要とされるビスフェノレート溶液の標的濃度に依存するが、概して、５〜２５ｗｔ．％、好ましくは５〜１０ｗｔ．％であるか、またはより高い濃度が選択され、この溶液は次に水で希釈される。次の希釈を伴うプロセスでは、濃度１５〜７５ｗｔ．％、好ましくは２５〜５５ｗｔ．％（要すれば加熱する。）の水酸化ナトリウム溶液を使用する。ビスフェノール１ｍｏｌあたりのアルカリ含量は、ビスフェノールの構造に大きく依存するが、一般的に、アルカリ０．２５ｍｏｌ／ビスフェノール１ｍｏｌ〜アルカリ５．００ｍｏｌ／ビスフェノール１ｍｏｌ、好ましくはアルカリ１．５〜２．５ｍｏｌ／ビスフェノール１ｍｏｌであり、ビスフェノールＡを単独のビスフェノールとして使用する場合、アルカリ１．８５〜２．１５ｍｏｌである。１種類よりも多くのビスフェノールを使用する場合、それらは共に溶解されてもよい。しかしながら、ビスフェノールを別々に最適なアルカリ相中に溶解し、これらの溶液を別々に計量添加するかまたは組み合わされた形態で反応に供給することが有利である。更に、ビスフェノールを水酸化ナトリウム溶液にではなく、追加のアルカリが供給される希ビスフェノール溶液に溶解することが有利である。溶解操作は、固体ビスフェノール（通常フレークまたは顆粒（ｐｒｉｌｌ）の形態）から出発しても、更に溶融ビスフェノールから出発してもよい。用いられる水酸化ナトリウムまたは水酸化ナトリウム溶液は、アマルガム法によって製造されていてもいわゆるメンブラン法（ｍｅｍｂｒａｎｅ  ｐｒｏｃｅｓｓ）によって製造されていてもよい。いずれの方法も長い間使用されており、当業者によく知られている。メンブラン法由来の水酸化ナトリウム溶液が好ましく使用される。
【００３３】
このように製造される水相は、反応に対して不活性であり第２の相を形成するポリカーボネート用の溶媒を含有する有機相と共にホスゲン化される。
【００３４】
ホスゲンの導入後または導入中に要すれば行われるビスフェノールの計量添加は、ホスゲンまたはその直接副生成物、クロロ炭酸エステル、が反応溶液に存在するまで行ってもよい。
【００３５】
ポリカーボネートのビスフェノールおよびホスゲンからのアルカリ媒体中での合成は、発熱反応であり、−５℃〜１００℃、好ましくは１５℃〜８０℃、より特に好ましくは２５℃〜６５℃の温度範囲で行われ、適切な場合、溶媒または溶媒混合物に依存して、加圧下で行うことが必要である。
【００３６】
有機相は、１種類の溶媒を含有していても数種類の溶媒の混合物を含有していてもよく、混合物が好ましい。好適な溶媒は、塩素化炭化水素（脂肪族および／または芳香族）、好ましくは塩化メチレン、トリクロロエチレン、１，１，１−トリクロロエタン、１，１，２−トリクロロエタンおよびクロロベンゼンおよびそれらの混合物である。しかしながら、芳香族炭化水素、例えばベンゼン、トルエンもしくはｍ／ｐ／ｏ−キシレン、または芳香族エーテル、例えばアニソール、を単独で、混合物でまたは塩素化炭化水素に加えてもしくは塩素化炭化水素との混合物で使用してもよい。合成の別の態様は、ポリカーボネートを溶解せずに単に膨潤させるだけの溶媒を使用する。従って、溶媒との組み合わせでポリカーボネートの非溶媒を単に使用してもよい。この場合、溶媒パートナーが第２の有機相を形成する場合、水相に可溶性の溶媒、例えばテトラヒドロフラン、１，３／１，４−ジオキサンまたは１，３−ジオキソランを更に溶媒として使用してもよい。しかしながら、塩化メチレンとクロロベンゼンとの混合比（重量比）６０：４０〜５５：４５の混合物が好ましい。
【００３７】
反応混合物を生成するこれらの２つの相は、反応を加速するために混合される。これは、剪断力、すなわちポンプもしくは撹拌、によるエネルギーの導入によって、またはスタティックミキサーによってまたはノズルおよび／もしくはダイアフラムによる乱流の発生によって行われる。これらの手段の組み合わせもまた使用され、しばしば更に一連の時間または装置で繰り返し使用される。アンカー、プロペラおよびＭＩＧスターラーなど、例えばＵｌｌｍａｎｎ，“Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ  ｏｆ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ”，第５版，第Ｂ２巻，２５１頁以降に記載されているもの、がスターラーとして好ましく使用される。遠心ポンプ、しばしば更に多段式（２〜９段式が好ましい。）がポンプとして用いられる。使用されるノズルおよび／またはダイアフラムは、穿孔ダイアフラムまたはその位置が狭まったパイプ片または更にベンチュリノズルもしくはレフォス（Ｌｅｆｏｓ）ノズルである。
【００３８】
ホスゲンは、ガス状または液体の形態で導入されても溶媒に溶解されていてもよい。用いられるビスフェノールの合計に対して使用される過剰のホスゲンは、３〜１００ｍｏｌ％、好ましくは５〜５０ｍｏｌ％である。この場合、水相のｐＨは、ホスゲンの計量添加中および計量添加後は、水酸化ナトリウム溶液の１回または数回の補給または相当するビスフェノレート溶液の補給によって、アルカリの範囲に、好ましくは８．５〜１２に保持されるが、触媒の添加後は、好ましくは１０〜１４にされるべきである。ホスゲン化中の温度は２５℃〜８５℃、好ましくは３５℃〜６５℃であり、使用される溶媒に依存して、加圧下で操作することも可能である。
【００３９】
ホスゲンの計量添加は、上記有機相と水相との混合物に直接行っても、更に完全にもしくは部分的に、上記相の混合前に、２つの相の一方に行って、次に対応する別の相と混合してもよい。ホスゲンは、更に、上記２相の合成混合物のリサイクル部分ストリームに完全にまたは部分的に計量添加してもよく、この部分ストリームは好ましくは触媒の添加前にリサイクルされる。別の態様では、上記水相を、ホスゲンを含む有機相と混合し、次に１秒〜５分、好ましくは３秒〜２分のドゥエル時間（ｄｗｅｌｌ  ｔｉｍｅ）の後に上記リサイクル部分ストリームに添加するか、または２相、上記水相とホスゲンを含む有機相と、を上記リサイクル部分ストリームに直接混合する。これらの態様のいずれにおいても、上記ｐＨ範囲が観測され、適切な場合、水酸化ナトリウム溶液１回もしくは数回の補給または相当するビスフェノレート溶液の補給によって維持される。温度範囲も同様に、必要に応じて冷却または希釈によって、維持されなければならない。
【００４０】
ポリカーボネート合成は連続的に行われる。従って、反応は、ポンプ循環リアクターで行っても、チューブリアクターで行っても、撹拌タンクカスケードで行っても、それらの組み合わせで行ってもよく、既に言及した混合容器を使用することによって、合成混合物が完全に反応すると、すなわち、ホスゲンもしくはクロロ炭酸エステル由来の加水分解性塩素を含まなくなると、水相と有機相とができるだけ単純に分離することを確実にするようにする。
【００４１】
分子量の調節に必要とされる式１の一官能価連鎖停止剤もしくはその混合物を、それ自体でもしくはそのクロロ炭酸エステルの形態で、ビスフェノレートと共に反応に供給するかまたはホスゲンもしくはクロロ炭酸末端基が反応混合物中に存在する限りかもしくは、連鎖停止剤として酸塩化物およびクロロ炭酸エステルの場合、生成されるポリマーの十分なフェノール性末端基が利用可能な限り、合成の所望の時点において添加する。しかしながら、好ましくは、連鎖停止剤は、ホスゲン化後に、ホスゲンがもはや存在しないが触媒がまだ計量添加されていない位置または時点において添加されるか、または触媒の前に、触媒と共にもしくは触媒と平行して計量添加される。
【００４２】
用いられる連鎖停止剤の量は、用いられる特定のジフェノールのモルに対して０．５ｍｏｌ％〜１０ｍｏｌ％、好ましくは１ｍｏｌ％〜８ｍｏｌ％、特に好ましくは２ｍｏｌ％〜６ｍｏｌ％である。連鎖停止剤の添加は、ホスゲン化の前、間または後に、好ましくは塩化メチレンとクロロベンゼンとの溶媒混合物中の溶液として行われうる（８〜１５ｗｔ．％強度）。
【００４３】
界面合成において使用される触媒は、第３級アミン、特にトリエチルアミン、トリブチルアミン、トリオクチルアミン、Ｎ−エチルピペリジン、Ｎ−メチルピペリジンまたはＮ−ｉ／ｎ−プロピルピペリジン、特に好ましくはトリエチルアミンおよびＮ−エチルピペリジンである。触媒は、合成に単独で添加しても混合物で添加しても更に同時に連続して、要すれば更にホスゲン化の前に添加してもよいが、ホスゲンの導入後の計量添加が好ましい。触媒の計量添加は、実質的に、不活性溶媒中で、好ましくはポリカーボネート合成の不活性溶媒中で、または更に水溶液として、第３級アミンの場合、酸、好ましくは無機酸、特に塩化水素酸、とのアンモニウム塩として行われうる。数種類の触媒を使用するかまたは触媒の全量の部分量を計量添加する場合、もちろん、異なる計量添加方法を様々な位置または様々な時間において行うことも可能である。使用される触媒の総量は、用いられるビスフェノールのモルに対して、０．００１〜１０ｍｏｌ％、好ましくは０．０１〜８ｍｏｌ％、特に好ましくは０．０５〜５ｍｏｌ％である。
【００４４】
ホスゲンの導入後、有機相と水相とを、適切な場合、分枝剤、ビスフェノレートと共に計量添加されない場合、連鎖停止剤および触媒を添加する前のある時間にわたって、完全に混合することが有利である。そのような反応後の時間がそれぞれの計量添加後に有利である。これらの撹拌後の時間は、挿入される場合、１０秒〜６０分、好ましくは３０秒〜４０分、特に好ましくは１〜１５分である。従って、上記はドゥエルリアクター（ｄｗｅｌｌ  ｒｅａｃｔｏｒｓ）において行われる。
【００４５】
完全に反応し、クロロ炭酸エステルを高々痕跡量（２ｐｐｍ未満）しか含まない少なくとも２相の反応混合物を、相の分離のために澄ませる。この水性アルカリ相を、水相として完全にまたは部分的にポリカーボネート合成に戻すか、または廃水処理に供給する。廃水処理では溶媒および触媒含有物を分離し、リサイクルする。ワークアップの別の変形では、有機不純物、特に溶媒およびポリマー残留物、を分離した後、要すれば（例えば水酸化ナトリウム溶液の添加による）所定のｐＨへの調節後に、塩を分離し、例えば塩素アルカリ電気分解に供給し、水相を要すれば合成にフィードバックする。
【００４６】
今度は、ポリマーを含む有機相を、アルカリ性、イオン性または触媒性のあらゆる汚染から精製しなければならない。
【００４７】
要すればセトリングタンク、撹拌槽、コアレッサーまたはセパレータまたはこれらの手段の組み合わせを通るフローによってアシストされる１以上の澄まし操作−−能動混合容器または受動混合容器を使用するある状況の下でそれぞれの分離工程または分離工程のいくつかに要すれば水を計量添加することが可能である−−後であっても、有機相は、微小液滴の水性アルカリ相および触媒（通常第３級アミン）の含有物を含む。
【００４８】
このアルカリ水相の粗分離後に、有機相を、希酸、例えば無機酸、カルボン酸またはヒドロキシカルボン酸および／またはスルホン酸、で１回または数回洗浄する。水性無機酸、特に塩化水素酸、亜リン酸およびリン酸またはこれらの酸の混合物が好ましい。これらの酸の濃度は、０．００１〜５０ｗｔ．％、好ましくは０．０１〜５ｗｔ．％であるべきである。
【００４９】
脱塩水または蒸留水を用いて有機相を更に繰り返し洗浄する。有機相、適切な場合、水相の一部と分散している、をセトリングタンク、撹拌槽、コアレッサーまたはセパレータまたはこれらの手段の組み合わせを用いる個々の洗浄工程の後に分離する。要すれば能動混合容器または受動混合容器を使用して洗浄工程と洗浄工程との間に洗浄水を計量添加することが可能である。
【００５０】
酸、好ましくはポリマー溶液がベースとする溶媒中に溶解されている酸を、要すればこれらの洗浄工程同士の間または更に洗浄後に添加することが可能である。好ましくは、塩化水素ガスおよびリン酸または亜リン酸（これらは要すれば混合物として使用してもよい。）がここで使用される。
【００５１】
最終分離操作後に、このようにして得られる精製ポリマー溶液は、水を５ｗｔ。％以下、好ましくは１ｗｔ．％未満、より特に好ましくは０．５ｗｔ．％未満含むはずである。
【００５２】
ポリマーは、熱、真空または加熱共留ガス（ｈｅａｔｅｄ  ｅｎｔｒａｉｎｉｎｇ  ｇａｓ）を用いる溶媒の蒸発によって溶液から単離されうる。
【００５３】
ポリマー溶液の濃縮および適切な場合、更にポリマーの単離を溶媒の留去によって、要すれば過熱および降下によって、行う場合、「フラッシュ法（ｆｌａｓｈ  ｐｒｏｃｅｓｓ）」と云われ、更に“Ｔｈｅｒｍｉｓｃｈｅ  Ｔｒｅｎｎｖｅｒｆａｈｒｅｎ”，ＶＣＨ  Ｖｅｒｌａｇｓａｎｓｔａｌｔ  １９８８，１１４頁参照；この代わりに蒸発させられる溶液と共に加熱キャリアガスをスプレーする場合、「スプレー蒸発／スプレー乾燥」と云われ、一例としてＶａｕｃｋ，“Ｇｒｕｎｄｏｐｅｒａｔｉｏｎｅｎ  ｃｈｅｍｉｓｃｈｅｒ  Ｖｅｒｆａｈｒｅｎｓｔｅｃｈｎｉｋ”，Ｄｅｕｔｓｃｈｅｒ  Ｖｅｒｌａｇ  ｆｕｅｒ  Ｇｒｕｎｄｓｔｏｆｆｉｎｄｕｓｔｒｉｅ  ２０００年，第１１版，６９０頁に記載されている。これらの方法は全て特許文献およびテキストブックに記載されており、当業者によく知られている。
【００５４】
熱による溶媒の除去（留去）または産業的により有効なフラッシュ法では、高度濃縮ポリマー溶融物が得られる。既知のフラッシュ法では、わずかに高い圧力のもとでポリマー溶液を常圧での沸点よりも高い温度に繰り返し加熱し、次に、常圧に対して過熱されているこの溶液を低圧（例えば常圧）下の容器に降下させる。この関連で、濃縮段階、すなわち、過熱の加熱段階を大きくなりすぎるようにせず、好ましくは２〜４段階プロセスを選択することが有利である。
【００５５】
溶媒の残留物は、このようにして得られる高度濃縮ポリマー溶融物から、脱蔵押出機（ｄｅｖｏｌａｔｉｌｉｚａｔｉｏｎ  ｅｘｔｒｕｄｅｒｓ）（ＢＥ−Ａ  ８６６  ９９１、ＥＰ−Ａ  ０  ４１１  ５１０、ＵＳ−Ａ  ４  ９８０  １０５、ＤＥ−Ａ  ３３  ３２  ０６５）、薄膜式蒸発器（ｔｈｉｎ  ｆｉｌｍ  ｅｖａｐｏｒａｔｏｒｓ）（ＥＰ−Ａ  ０  ２６７  ０２５）、流下液膜式蒸発器（ｆａｌｌｉｎｇ  ｆｉｌｍ  ｅｖａｐｏｒａｔｏｒｓ）または押出蒸発器を使用するかまたは摩擦圧縮（ｆｒｉｃｔｉｏｎ  ｃｏｍｐａｃｔｉｎｇ）（ＥＰ−Ａ  ０  ４６０  ４５０）によって、要すれば更に共留剤、例えば窒素もしくは二酸化炭素、の添加を伴うかまたは真空を使用（ＥＰ−Ａ  ０  ０３９  ９６、ＥＰ−Ａ  ０  ２５６  ００３、ＵＳ−Ａ  ４  ４２３  ２０７）して溶融物から直接、または代わりに更に次の結晶化（ＤＥ−Ａ  ３４  ２９  ９６０）および固相中の溶媒の残留物の加熱（ＵＳ−Ａ  ３  ９８６  ２６９、ＤＥ−Ａ  ２０  ５３  ８７６）によって除去されうる。
【００５６】
可能であれば、溶融物の直接紡糸および次のグラニュール化によって、または紡糸が大気中もしくは液体、通常水、の下で行われる溶融押出機を使用することによって、グラニュールを得る。押出機を使用する場合、押出機の前に、要すればスタティックミキサーを使用して、またはこの押出機におけるサイド押出機（ｓｉｄｅ  ｅｘｔｒｕｄｅｒ）を通じて、溶融物に添加剤を添加してもよい。
【００５７】
冷却、紡糸、グラニュール化および次のガスもしくは液体を伴うグラニュールの輸送または運搬、および次の貯蔵を、要すれば完全混合またはホモジナイズプロセスの後に、静電荷が存在する可能性があるにもかかわらず、不純物、例えばダスト、機械からの磨耗材料、エアロゾル様滑剤、および別の液体、並びに使用されるウォーターバスまたは使用される可能性のある冷却システム由来の塩、がポリマー、ストランドまたはグラニュールの表面にできるだけ付着しないように設定する。
【００５８】
このようにして得られる材料を、スプレー蒸発に関して記載したように、グラニュールに加工し、要すれば添加剤と共に提供する。
【００５９】
添加剤の添加は、耐用年数を長くするかもしくは色を長持ちさせる役割を果たす（安定剤）か、加工を簡単にする役割を果たす（例えば離型剤、流動助剤、帯電防止剤）か、またはポリマーの特性をあるストレスに曝すのに適合させる役割を果たす（耐衝撃性改良剤、例えばゴム；防炎加工剤、着色剤、グラスファイバー）。
【００６０】
これらの添加剤をポリマー溶融物に、個々に添加しても、所望の混合物で添加しても、いくかの異なる混合物で添加してもよく、特にポリマーの単離中にまたはグラニュールの溶融後に直接いわゆる配合工程で添加する。この関連で、添加剤またはその混合物は、ポリマー溶融物に固体として、すなわちパウダーとして、または溶融物として添加されうる。別のタイプの計量添加は、添加剤または添加剤混合物のマスターバッチまたはマスターバッチ混合物の使用である。
【００６１】
好適な添加剤は、例えば“Ａｄｄｉｔｉｖｅｓ  ｆｏｒ  Ｐｌａｓｔｉｃｓ  Ｈａｎｄｂｏｏｋ，Ｊｏｈｎ  Ｍｕｒｐｈｙ，Ｅｌｓｅｖｉｅｒ，オックスフォード１９９９年”、“Ｐｌａｓｔｉｃｓ  Ａｄｄｉｔｉｖｅｓ  Ｈａｎｄｂｏｏｋ，Ｈａｎｓ  Ｚｗｅｉｆｅｌ，Ｈａｎｓｅｒ，ミュンヘン２００１年”またはＷＯ  ９９／５５７７２，１５〜２５頁に記載されている。
【００６２】
常套の添加剤は、例えば充填剤、成分Ｂと異なる紫外線安定剤、成分Ｂと異なる熱安定剤、帯電防止剤、顔料、成分Ｂと異なる離型剤、流動助剤および防炎加工剤である。例えば、アルキルおよびアリールホスファイト、ホスフェートまたはホスファン、低分子量カルボン酸エステル、ハロゲン化合物、塩、チョーク、石英粉、グラスファイバー、カーボンファイバーおよびそれらの組み合わせが用いられうる。
【００６３】
更に、着色剤、例えば有機染料もしくは顔料、または無機顔料、赤外線吸収剤を、単独で、混合物でまたは更に安定剤、ガラス（中空）ビーズ、無機充填剤または有機もしくは無機散乱顔料との組み合わせで添加してもよい。
【００６４】
本発明によるポリカーボネートおよびポリカーボネート組成物を、常套の機械、例えば押出機または射出成形マシーンにおいて常套の方法で加工して所望の形態の物品、またはフィルムもしくはシートもしくはボトルを生じる成形品を生じてもよい。
【００６５】
このようにして得られる本発明による分子量分布が狭いポリカーボネートおよびこのポリカーボネートから得られるポリカーボネート組成物は、押出品（シート、フィルムおよびそれらのラミネート、例えばカード使用およびチューブ用のもの）および成形物品（ボトル）、特に透明セクター、特に光学用途の分野における使用のためのもの、例えばシート、マルチウォールシート、自動車および建築用グレージング、拡散またはカバースクリーン、ランプカバー、プラスチックのカバースクリーン、光伝導素子または光データ記憶媒体、例えばオーディオＣＤ、ＣＤ−Ｒ（Ｗ）、ＤＶＤ、ＤＶＤ−Ｒ（Ｗ）、さまざまな読み取り専用もしくは追記型および要すれば更に書換可能な態様のミニディスク、および近視野光（ｎｅａｒ−ｆｉｅｌｄ  ｏｐｔｉｃｓ）用データキャリアの製造に用いられうる。更に、Ｅ／ＥおよびＩＴ分野用の物体、例えばハウジング部品またはカバーの製造にも用いられうる。別の光学用途は、レンズ、コリメーター、ＬＥＤおよびＬＥＤイルミネーションユニット中の導光体である。
【００６６】
ポリカーボネート組成物は、特にコンパウンド、ブレンドおよび熱特性および機械特性が利用される部品、例えばハウジング、Ｅ／Ｅ分野における物体、例えばプラグ、スイッチ、パネル、ソケットおよびランプカバー、自動車分野における物体、例えばソケット、ランプカバーおよびグレージング、医療分野における物体、例えばダイアライザー、コネクタおよびタップ、および包装、例えばボトルおよび容器、の製造に使用される。
【００６７】
本願は、同様に、本発明によるポリマーからの押出品および成形部品または成形品も提供する。
【００６８】
本発明によるポリカーボネート成形組成物の別の可能な用途は、建築、乗物および航空機の多くの部分において、およびヘルメット用のシールドとして必要とされることが知られているセイフティスクリーン（ｓａｆｅｔｙ  ｓｃｒｅｅｎｓ）である。ディスプレイまたは電気モーター用の押出フィルムおよび溶媒膜（ｓｏｌｖｅｎｔ  ｆｉｌｍ）、更にスキーホイル（ｓｋｉ  ｆｏｉｌｓ）の製造。下記成形品、例えば水筒、の製造（例えば米国特許第２  ９６４  ７９４号参照。）。透明シート、特に中空シート、例えば建物、例えばステーション、温室および照明設備、を覆うためのシートの製造。信号機のハウジングまたは交通標識の製造用。フォーム（ｆｏａｍｓ）の製造用（例えば、ＤＥ−Ｂ  １  ０３１  ５０７参照。）。フィラメントおよびワイヤーの製造用（例えば、ＤＥ−Ｂ  １  １３７  １６７およびＤＥ−Ａ  １  ７８５  １３７参照。）。照明用の所定量のグラスファイバーを有する半透明プラスチックとして（例えば、ＤＥ−Ａ  １  ５５４  ０２０参照。）。小型精密射出成形品、例えばレンズホルダー、の製造用。このために、所定量のグラスファイバーを有するポリカーボネートであって、任意に更にＭｏＳ２を総重量に対して約１〜１０ｗｔ．％含んでいてもよいポリカーボネートを使用する。光学用途、例えば光学記録媒体（ＣＤ、ＤＶＤ）、安全メガネまたは写真用カメラおよびフィルムカメラ用のレンズ（例えば、ＤＥ−Ａ  ２  ７０１  １７３参照。）。光送信機、特に光伝導ケーブルとして（例えば、ＥＰ−Ａ１  ０  ０８９  ８０１参照。）導電体およびプラグハウジングおよびプラグコネクタ用の電気絶縁材料として。有機光伝導体用のキャリア材料として。ランプ、例えばサーチライト、例えばいわゆる「ヘッドランプ」または散乱光スクリーンまたはランプカバーの製造用。医療用途、例えば酸素供給器、ダイアライザー用。食料品用途、例えばボトル、テーブルウェアおよびチョコレート型用。燃料および滑剤との接触が起こりうる自動車分野における用途用。スポーツ用品、例えばスラロームポール用。家庭用品、例えばキッチンシンクおよびレターボックスハウジング用。ハウジング、例えば配電盤（ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌ  ｄｉｓｔｒｉｂｕｔｉｏｎ  ｃａｂｉｎｅｔｓ）、電気設備、屋内電気器具用。家庭用品、電気電子機器の部品。オートバイおよび安全ヘルメットの製造用。自動車部品、例えばグレージング、ダッシュボード、車体部品および衝撃吸収剤。別の用途に関しては、例えば肥育用ステーブルドア（ｆａｔｔｅｎｉｎｇ  ｓｔａｂｌｅ  ｄｏｏｒ）および動物の檻。
【実施例】
【００６９】
実施例１〜８
【００７０】
それぞれ分子量分布が異なる様々なポリカーボネートを連続界面法において製造した。
【００７１】
反応を、塩化メチレン５２．２ｗｔ．％およびクロロベンゼン４７．５ｗｔ．％、および水で構成される溶媒混合物を含有するエマルジョンにおいて連続的に行う。ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール（ＢＵＰ）およびフェノール（ＰＨＥ）を連鎖停止剤として用いる。Ｎ−エチルピペリジン（ＥＰＰ）またはトリエチルアミン（ＴＥＡ）を触媒として使用する。生成するポリカーボネート溶液を、水相を分離した後、塩化水素酸を用いる酸性条件下で洗浄し、次に中性条件下でディスク型分離器（ｄｉｓｃ  ｓｅｐａｒａｔｏｒｓ）を用いて完全脱塩水を用いて塩がなくなるまで洗浄する。このようにして洗浄されるポリカーボネート溶液を、多段階の熱による予備蒸発においてポリカーボネートの濃度６０〜７０ｗｔ．％に濃縮する。残留溶媒を脱蔵押出機によって蒸発させ、生じるポリカーボネートを溶融ストランドとして得て、これをウォーターバスにおける冷却後にグラニュール化に供給した。
【００７２】
下記反応条件を満たした（％で示される数字は、特に明記しない限り、重量％である。）。
・Ｎａビスフェノレート溶液：処理量６５０．０ｋｇ／時間、濃度１４．６５％
・ホスゲン：４９．２ｋｇ／時間
・溶媒：５２６．０ｋｇ／時間
・水酸化ナトリウム溶液１：８．３４ｋｇ／時間、濃度３２．０％
・水酸化ナトリウム溶液２：２０．９ｋｇ／時間、濃度３２．０％
・連鎖停止剤ＢＵＰ：２２．０ｋｇ／時間（溶媒中１１％）
・触媒ＥＰＰ：２５．３ｋｇ／時間（溶媒中３％）
・ホスゲン／ビスフェノールＡ（ＢＰＡ）：ＢＰＡの物質量に対して１１９．３ｍｏｌ％
・ＥＰＰ／ＢＰＡ：ＢＰＡの物質量に対して１．６ｍｏｌ％
・ＢＵＰ／ＢＰＡ：ＢＰＡの物質量に対して３．８ｍｏｌ％
・反応温度：３６℃
・ポリカーボネート濃度：１６．５％
・Ｖ数（粘度数）：ＩＳＯ  １６２８−１に準拠して測定して２５．５＋／−０．５ｃｍ３／ｇ
・３段階手順
【００７３】
一連の実験で、溶媒、触媒および連鎖停止剤の影響および対応する組み合わせを、その他は同一の反応条件のもとで調査した。目標粘度（またはＶ数）に到達するように連鎖停止剤を添加した。
【００７４】
下記連続反応条件を実現した：上記反応条件のもとで実施例１〜５のポリカーボネートを製造し、実施例６〜８のポリカーボネートは１００倍高い処理量で行ったこと以外実施例１〜５の製造と同様に製造した。溶媒、連鎖停止剤および触媒を表１に示す。
【００７５】
【表１】
2011511869.tif 000004
【００７６】
ＴｇをＩＳＯ  １１３５７に準拠して測定し、ＨＤＴをＩＳＯ  ７５に準拠して測定する。溶液粘度ηｒｅｌを塩化メチレン中（ポリカーボネート０．５ｇ／Ｌ）で２５℃において測定する。窒素含量をＡｎｔｅｋ法によって測定する。ポリカーボネート中のフェノール性ＯＨの測定（末端基測定）を四塩化チタンＴｉＣｌ４との錯形成の後に光度的に行う（ビスフェノールＡを用いて較正。）。
【００７７】
ポリカーボネート中の加水分解性塩素の測定（末端基測定）を、４−（４−ニトロベンジル）−ピリジンとの反応の後に光度的に行う（ビスフェノールＡのビスクロロ炭酸エステルを用いて較正。）。
【００７８】
下記熱特性および機械特性を有する表２に列挙されるポリカーボネートをここで得た。
【００７９】
【表２】
2011511869.tif 000005
【００８０】
条件４および５（それぞれ連鎖停止剤としてフェノールを用いる条件）は、条件１〜３（いずれの場合も連鎖停止剤としてｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノールを用いる。）と比較して非常に低いビカー温度（約１４４℃）を示す。他方、連鎖停止剤としてＢＵＰを用いる本発明による条件は、連続操作において高いビカー温度（約１４７℃）を与える。
【００８１】
図１（ＧＰＣカーブの比較）から分かるように、末端基としてのＢＵＰを有するポリカーボネートは、非常に狭い分子量分布を示す（不均質性Ｕ＝１．２６）。この関連で、別の「狭い」カーブのコースが低い分子量Ｍと高い分子量Ｍの領域において見られる。このことは、図１中に矢印によって示される。
【００８２】
実施例６〜８
【００８３】
実施例６〜８のポリカーボネートの製造を、１００倍高い処理量を用いること以外、実施例１〜５の製造と同様に行った。
実施例６：ＰＣ１（本発明による）−ＰＣ２（比較）
実施例７：ＰＣ３（本発明による）−ＰＣ４（比較）
実施例８：ＰＣ５（本発明による）−ＰＣ６（比較）
【００８４】
結果を表３にまとめる。
【００８５】
【表３】
2011511869.tif 000006
【００８６】
本発明によって製造されるポリカーボネートが低温において比較のポリカーボネートよりも非常に良好なノッチ付き衝撃強さを有することが分かった。
【００８７】
実施例９：
【００８８】
ポリカーボネート組成物の製造への実施例６由来のポリカーボネートの使用。
【００８９】
ＰＣ１（連鎖停止剤としてＢＵＰ）およびＰＣ２（連鎖停止剤としてＰＨＥ）を二軸押出機において混合し、熱安定剤としてトリフェニルホスフィン０．０２５ｗｔ．％および離型剤としてペンタエリトリトールテトラステアレート０．４ｗｔ．％と共にコンパウンドに配合した。
【００９０】
上記コンパウンドは、表４に示される値を示した。
【００９１】
【表４】
2011511869.tif 000007
【００９２】
ＰＣ１を含有する本発明による組成物がＰＣ２を含有する組成物と比較して高いビカー温度と高い鋼球押込温度（ＢＩＴ）の両方を有することがはっきりと分かる。
【００９３】
実施例１０：
【００９４】
ＰＣ９（比較）：
分枝ポリカーボネートを、連鎖停止剤としてのフェノールおよび更に分枝剤としてのイサチンビスクレゾール（ＩＢＣ）０．３ｗｔ．％を用いて実施例４と同様に製造した。この相対溶液粘度は１．３１であった。
【００９５】
ＰＣ１０（本発明による）：
分枝ポリカーボネートを、連鎖停止剤としてのＢＵＰおよび更に分枝剤としてのＩＢＣ  ０．３ｗｔ．％を用いて実施例６と同様に製造した。この相対溶液粘度は１．３１であった。
【００９６】
試験結果ＰＣ９：
ビカー温度１４９．６℃
ＨＤＴ−Ａ：１２８．２℃
ＨＤＴ−Ｂ：１４２．０℃
【００９７】
試験結果ＰＣ１０：
ビカー温度１５２．４℃
ＨＤＴ−Ａ：１３０．２℃
ＨＤＴ−Ｂ：１４４．７℃
【００９８】
本発明によるポリカーボネートＰＣ１０は、いずれの場合もＰＣ９よりも高い加熱撓み温度を示す。
【図１】
2011511869.tif 000009
2011511869.tif 000010
【国際調査報告】
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