(57)【要約】本発明は、芳香族炭化水素の製造用の触媒または改質触媒を再生する方法であって、少なくとも２つの床（Ａ１）および（Ａ２）を含む領域（Ａ）における燃焼工程と、領域（Ｂ）におけるオキシ塩素化工程と、領域（Ｃ）における焼成工程とを含む、方法に関する。オキシ塩素化領域からの流出ガスは、部分的に、少なくとも１つの洗浄区間（Ｄ）を介して床（Ａ１）および（Ａ２）の入口の方に再循環させられる。さらに、領域（Ｂ）からの流出ガスは、ファン中を通過させ、かつ、前記洗浄区間（ｄ）中を通過させないことによって、部分的に、燃焼床（Ａ２）の方に再循環させられ、前記ファン中を通過させ、かつ、前記洗浄区間中を通過させないことによって、部分的に、領域（Ｂ）の入口の方に再循環させられる。本発明はまた、この方法が実施される容器に関する。
2011500321.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
芳香族炭化水素製造用の触媒または改質触媒を再生する方法であって、
少なくとも２つの直列の燃焼床（Ａ１）および（Ａ２）を含む燃焼帯域（Ａ）における燃焼工程ａ）と、
少なくとも１つのオキシ塩素化床を含むオキシ塩素化帯域（Ｂ）におけるオキシ塩素化工程ｂ）であって、前記オキシ塩素化帯域（Ｂ）は、少なくとも１種の塩素化剤、少なくとも水または水前駆体および少なくとも酸素含有ガスを供給される、工程ｂ）と、
少なくとも１つの焼成床を含む焼成帯域（Ｃ）における焼成工程ｃ）であって、該焼成帯域（Ｃ）は、少なくとも１つの補給の乾燥空気を含むガスを供給される、工程ｃ）と
を含み、
前記触媒は、担体、塩素および少なくとも１種の貴金属を含み、床（Ａ１）、次いで（Ａ２）、次いでオキシ塩素化帯域Ｂに、次いで焼成帯域Ｃに順番に移動し；
床（Ａ１）からの流出ガスは、床（Ａ２）に送られ；
焼成帯域（Ｃ）に供給するガスは、オキシ塩素化帯域Ｂに自由に移動し；
補給の酸素含有ガスは、前記焼成帯域への入口に少なくとも導入され；
オキシ塩素化帯域からの流出ガスの一部は、少なくとも１つの洗浄区間（Ｄ）を介して、燃焼床（Ａ１）および（Ａ２）への入口の方に再循環させられ；
オキシ塩素化帯域からの流出ガスの少なくとも一部は、ブロアを経由し、かつ、前記洗浄区間（Ｄ）中を経由せずに、少なくとも一部が燃焼床（Ａ２）に、少なくとも一部がオキシ塩素化帯域（Ｂ）への入口に再循環させられ；
燃焼床（Ａ２）からの流出ガスの一部は、少なくとも前記洗浄区間（Ｄ）を介して、床（Ａ１）および（Ａ２）への入口に再循環させられる、方法。
【請求項２】
オキシ塩素化帯域（Ｂ）において、温度は３５０〜６００℃の範囲であり、触媒の滞留時間は３０分〜３時間の範囲である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
オキシ塩素化帯域（Ｂ）において、触媒と接触するガス中の酸素の量は、４〜２１容積％の範囲である、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
焼成帯域（Ｃ）において、ガスは、最大で２１容積％の酸素と最大で１容積％の水とを含む、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
補給の酸素含有ガスのみが、焼成帯域への入口に導入される、請求項１〜４のいずれか１つに記載の方法。
【請求項６】
塩素化剤は塩素である、請求項１〜５のいずれか１つに記載の方法。
【請求項７】
触媒は、帯域（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）の各々において移動床にある、請求項１〜６のいずれか１つに記載の方法。
【請求項８】
オキシ塩素化帯域中のガスは、
焼成帯域（Ｃ）から得られるガスを
少なくとも１種の塩素化剤；
水または水前駆体；
補給の酸素；
（Ａ２）からの流出ガスの一部であって、洗浄区間（Ｄ）において少なくとも洗浄され、乾燥区間（Ｅ）において少なくとも乾燥させられ、かつ、圧縮機において少なくとも圧縮された、流出ガスの一部；および
ブロアを介して前記オキシ塩素化帯域に再循環させられたオキシ塩素化帯域からの流出物の一部
と混合することにより得られる、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
焼成帯域中のガスは、
補給の乾燥空気を；
燃焼床（Ａ２）からの流出ガスの一部であって、洗浄区間（Ｄ）において少なくとも洗浄され、乾燥区間（Ｅ）において少なくとも乾燥させられ、かつ、前記圧縮機において少なくとも圧縮された、流出ガスの一部
と混合することにより得られる、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
オキシ塩素化帯域からの流出物ガスの一部は、少なくとも洗浄区間（Ｄ）、乾燥区間（Ｅ）および圧縮機を介して燃焼床（Ａ１）および（Ａ２）への入口に再循環させられ、オキシ塩素化帯域からの流出ガスの一部は、燃焼床（Ａ２）およびオキシ塩素化帯域への入口に再循環させられ、前記再循環は、ブロアを経由し、かつ、前記乾燥区間、前記洗浄区間および前記圧縮機を介して通過することなく行われる、請求項８または９に記載の方法。
【請求項１１】
酸素補給のみが、
床（Ａ２）への入口；
オキシ塩素化帯域への入口；
焼成帯域への入口
にある、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
補給の酸素のみが、焼成帯域への補給の乾燥空気に由来する、請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれか１つに記載の方法を実行するための容器であって、直列の２つの燃焼床（Ａ１）および（Ａ２）を含む燃焼帯域（Ａ）と、少なくと１つのオキシ塩素化床を含む少なくとも１つのオキシ塩素化帯域（Ｂ）と、焼成床を含む少なくとも１つの焼成帯域（Ｃ）とを備え、前記容器は、２つの燃焼床、オキシ塩素化帯域および焼成帯域中に順番に触媒を流通させる手段を含み、前記容器は、オキシ塩素化帯域からのガスの一部を抜き出すポイントを含み、前記抜き出し手段はブロアに連結されており、前記ブロアは、下流において、第１のラインの少なくとも一部および少なくとも１つの第２のラインに連結されており、該第１のラインは、ガスの一部を最終の燃焼床（Ａ２）に再循環させるものであり、該第２のラインは、ガスの別の部分を、ガスをオキシ塩素化帯域に導入するポイントに再循環させるものであり、前記導入ポイントは、オキシ塩素化帯域からの抜き出しポイントの下方に位置し、前記第２の再循環ラインは、水または水前駆体を導入するための少なくとも１つのポイントと、少なくとも１つの炉と、塩素化剤を導入するための少なくとも１つのポイントとを含み、前記第２の再循環ラインは、ブロアの上流において、洗浄区間（Ｄ）を介してガスの一部を再流通させるために、ガスを抜き出すポイントを含み、洗浄区間からの流出物の一部は、圧縮機を介して移動される前にパージされ、圧縮機からの流出ガスの一部は、少なくとも燃焼床（Ａ１）および（Ａ２）に再循環させられ、前記容器は、最終燃焼床（Ａ２）の第１のポイントにおいてガスの一部を抜き出す手段を含み、前記抜き出し手段は、少なくとも洗浄区間に連結され、前記容器は、プレートまたは燃焼帯域およびオキシ塩素化帯域分けるための任意の他の手段を含んで、燃焼帯域からのガスが、オキシ塩素化帯域からのガスと混合することが防止される、容器。
【請求項１４】
前記第２再循環ラインは、ブロアの上流において、洗浄区間（Ｄ）を介してガスの一部を再流通させるためのガスを抜き出すポイントを含み、洗浄区間からの流出物の一部はパージされた後に、乾燥区間（Ｅ）、次いで、圧縮機を介して移動され、圧縮機からの流出ガスの一部は、少なくとも燃焼床（Ａ１）および（Ａ２）に再循環させられ、一部は、オキシ塩素化帯域および焼成帯域に再循環させられる、請求項１３に記載の容器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、改質触媒および芳香族炭化水素製造用の触媒の再生に関するものである。
【０００２】
一般に、そのような触媒はナフテン炭化水素およびパラフィン系炭化水素の転化に用いられ、これらは、芳香族炭化水素の改質または製造（例えば、ベンゼン、トルエン、またはオルト−、メタ−またはパラキシレンの製造）の間に脱水環化および／または脱水素化によって転換され得る。前記炭化水素は蒸留または他の転換法によって原油を分留することから得られる。
【０００３】
そのような改質法および芳香族製造方法の収率を増大させる１つの手段は、対象となる種々の反応が行われるときの作動圧を低減させることである。一例を挙げると、３０年前には対象となる改質反応は４０ｂａｒ（１ｂａｒ＝０．１ＭＰａ）で行われていた。２０年前には対象となる改質反応は１５ｂａｒであった。現在、改質反応器は一般に、１０ｂａｒ未満の圧力で、特に３〜８ｂａｒの範囲の圧力で動作する。
【０００４】
しかし、圧力を低減させることによる有益な反応の改善には、コーキングによる触媒のより急速な不活化を伴う。コークスまたはコークス前駆体は本質的に炭素および水素によって構成される化合物である。コークスまたはコークス前駆体は触媒の活性部位に付着する。形成されたコークスのＨ／Ｃモル比およびその前駆体のＨ／Ｃモル比は一般に、０．３〜１．０の範囲である。炭素原子および水素原子は一般に縮合多環芳香族構造を形成し、その結晶組織化の程度は触媒の性質および反応器の運転条件に左右される。炭化水素のコークスへの転換選択性は非常に低いが、触媒上に付着したコークスおよびコークス前駆体の量は相当なものになる可能性がある。固定床装置に関して、その量は一般に２．０〜３５．０重量％の範囲である。移動床装置に関して、前記量は一般に１０．０重量％未満である。
【０００５】
コークスの付着は低圧力ではより急速であり、触媒のより急速な再生をも必要とする。現行の再生サイクルは、２〜３日ほどの短さであり得る。
【背景技術】
【０００６】
特許文献１および特許文献２は、改質触媒の再生に関するものである。これらの特許は改質触媒の再生方法であって、燃焼、オキシ塩素化および焼成の連続する工程を含む、方法に関するものである。
【０００７】
本発明の方法は、少なくとも２つの燃焼床（Ａ１）および（Ａ２）を含み、２つの特許（特許文献１および特許文献２）に記載されている方法とは、オキシ塩素化帯域からの流出物の一部がブロアを介して最終燃焼床Ａ２へと再循環させられる点で異なるものである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】欧州特許第０８７２２７６号明細書
【特許文献２】欧州特許第０８７２２７７号明細書
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、芳香族炭化水素の製造用の触媒または改質用触媒の再生方法に関し、前記方法は、少なくとも２つの床（Ａ１）および（Ａ２）を備える帯域（Ａ）における燃焼工程と、帯域（Ｂ）におけるオキシ塩素化工程と、帯域（Ｃ）における焼成工程とを含んでなる。オキシ塩素化帯域からの流出ガスの一部を少なくとも１つの洗浄区間Ｄを介して床（Ａ１）および（Ａ２）の入口へと再循環させる。さらに、帯域Ｂからの流出ガスの一部は、ブロアを通過させるが前記洗浄区間Ｄを通過させずに燃焼床Ａ２へ再循環させられ、一部は、前記ブロアを介して通過して、かつ、前記洗浄区画を介することなく、帯域（Ｂ）への入口に再循環させられる。本発明はまた、前記方法が行われる容器に関する。
【００１０】
（発明の詳細な説明）
再生されるべき触媒は一般に担体を含み、前記担体は少なくとも１種の耐火性酸化物および／または１種以上のゼオライトを含む。該触媒は、少なくとも１種の貴金属（好ましくは白金）と少なくとも１種のハロゲンとを含む。該触媒は、第Ia族、第IIa族からの元素、ランタニド類、第IVa族元素（好ましくはケイ素および／またはスズ）、第IIIb族元素、第IIIa族元素（好ましくはインジウム）、第Va族元素（好ましくはリン）および第VIIb族元素（好ましくはレニウム）によりなる群より選択される１種以上の追加の元素を含み得る（前記族の番号は、CRC Press社刊行のCRC Handbook of Chemistry and Physics（編集責任D R Lide、第８１版、２０００−２００１）のＣＡＳ分類に対応する）。
【００１１】
好適な実施形態では、触媒は少なくとも白金、塩素およびアルミナ担体を含む。
【００１２】
白金のコストは高いため、その金属相を可能な限り最大に分散させる（すなわち、転換されるべき分子および表面が接触する白金の比率を増大させる）ことが重要である。転化率を可能な限り高くするためには、該金属の比表面積（金属の重量（グラム）当たりの表面積として表される）を最大にしなければならない。このため、アクセシビリティ（accessibility）の低下は、粒径または１つに集合する基本粒子の増加と等価であり、反応の生産性に非常に不利である。
【００１３】
したがって、目的は、調製中の粒径を最小化し、且つ、高い分散度を維持することにある。十分な量の塩素の存在は、この問題に対する答えを構成する。
【００１４】
ここで、本発明者らは、オキシ塩素化帯域からの流出物の一部を、ブロアを介して、部分的に最終燃焼床（Ａ２）に、部分的にオキシ塩素化帯域（Ｂ）への入口に再循環させることにより、特に床（Ａ２）に塩素化剤が供給されることを明らかにしている。この供給によって、塩素の溶出が低減させられ、塩素化剤の消費量が低減させられる。前記再循環は、白金の焼結を低減させることができ、ひいてはオキシ塩素化工程（Ｂ）中に白金を効果的に再分散させることが促進される。
【００１５】
この再分散の改善は、触媒が増大された量の毒（例えば鉄）を含んでいる場合により効果的である。
【００１６】
燃焼帯域Ａは少なくとも２つの燃焼床（Ａ１）および（Ａ２）（好ましくは２つの床（Ａ１）および（Ａ２））を備える。前記床は、好ましくは、放射式の移動床（moving, radial bed）である。
【００１７】
オキシ塩素化帯域（Ｂ）は少なくとも１つの床を備える。前記床は一般に、移動床である。好ましくは、前記床はまた、軸線方向（axial）である。
【００１８】
焼成帯域（Ｃ）は、少なくとも１つの床を備える。前記床は一般に、移動床である。好ましくは、前記床はまた軸線方向である。
【００１９】
（燃焼床（Ａ１））
床Ａ１では、触媒は一般に、３〜８ｂａｒの圧力および３５０〜５５０℃の範囲の温度で、０．０１〜１．３容積％の酸素を含み且つ触媒との並流として流通する燃焼ガスにより処理される。床（Ａ１）中のガスは一般に、オキシ塩素化帯域（Ｂ）からのガスの一部を床（Ａ２）からのガスの一部と混合することに由来するものである。
【００２０】
（第２燃焼床（Ａ２））
床（Ａ２）では、触媒は一般に、３〜８ｂａｒの圧力で処理される。この圧力は一般に、床（Ａ１）に存在する圧力に実質的に等しい。
【００２１】
床（Ａ２）の温度は一般に、床（Ａ１）に存在する温度よりも少なくとも２０℃高い。
【００２２】
床（Ａ２）における燃焼は一般に、床（Ａ１）中を移動したガスの存在下およびオキシ塩素化帯域（Ｂ）からの出口から来る流出物の一部の存在下に行われる。さらに、不活性補給ガス（好ましくは窒素）が床（Ａ２）に場合によっては加えられてもよい。さらに、乾燥補給空気が場合によっては床（Ａ２）に加えられてもよい。
【００２３】
目的は０．０１〜１．３容積％の酸素を含んだガスに触媒を接触させることにあり、これらのガスは触媒に対する並流として移動する。
【００２４】
（オキシ塩素化帯域（Ｂ））
オキシ塩素化帯域（Ｂ）では、触媒は一般的に以下の酸素含有ガスと混合することによって向流として処理される：
・一部が焼成帯域に由来する酸素含有ガス、
・一部がブロアに介するオキシ塩素化帯域からのガス状流出物の再循環に由来する酸素含有ガス、
・場合によっては、一部が酸素補給によるもの（好ましくは空気の形態）に由来する酸素含有ガス
・場合によっては、一部が洗浄区間および任意の乾燥区間から来るガスの一部に由来するする酸素含有ガス。
【００２５】
さらに、オキシ塩素化帯域に供給するこのガス混合物は一般に、補給の少なくとも１種の塩素化剤を含む。さらに、オキシ塩素化帯域に供給するこのガス混合物は一般に、補給の水または水前駆体を含む。
【００２６】
オキシ塩素化からのガスの一部はブロアを介して床（Ａ２）に再流通させられる。
【００２７】
１種以上の塩素化剤は一般に、塩素、塩化水素およびハロゲン化炭化水素（炭素原子数が４未満、塩素原子数が１〜６）からなる群より選択される。
【００２８】
一例を挙げると、塩素化剤はＣ２Ｃｌ４、ＣＣｌ４または係る再生方法において塩素を放出することが知られている任意の塩素化剤であってもよい。これらは、好ましくは、酸素含有ガスとの混合物として導入される。
【００２９】
オキシ塩素化帯域が移動床と軸線方向床とから構成されている場合、一般的に、それは、塩素化剤は塩素化剤が触媒に対する向流として流れるようにオキシ塩素化帯域の下方部分に導入される。
【００３０】
水は一般に、液体または蒸気の形態で供給されるが、好ましくは蒸気形態である。水または水前駆体は一般に、オキシ塩素化帯域に供給されて酸素含有ガスと混合され得る。
【００３１】
帯域（Ｂ）のＨ２Ｏ／ＨＣｌモル比は、一般に１〜５０の範囲、好ましくは１〜４０の範囲、より好ましくは１〜３０の範囲である。
【００３２】
オキシ塩素化工程は、一般的には４０容積％未満、好ましくは３０容積％未満、さらに好ましくは２１容積％未満、非常に好ましくは４〜２１容積％、さらに一層好ましくは１０〜２１容積％の酸素および一般に少なくとも５０重量ｐｐｍの塩素を含むガスの存在下、一般に３５０〜６００℃の範囲、好ましくは３５０〜５５０℃の範囲、さらに好ましくは４５０〜５５０℃の範囲、さらに一層好ましくは４９０〜５５０℃の範囲の温度で行われる。
【００３３】
この帯域の圧力は一般に、移動床方法に関して、特に低圧改質方法に関して３〜８ｂａｒである。オキシ塩素化工程での触媒の滞留時間は、一般に３時間未満、好ましくは３０分〜３時間の範囲である。
【００３４】
移動床方法の好適な実施形態では、少なくとも１回の酸素補給がオキシ塩素化帯域に導入される。
【００３５】
移動床プロセスの好適な別の実施形態では、丁度１種の塩素化剤と水前駆体がオキシ塩素化帯域に導入される。次いで、オキシ塩素化帯域に存在する酸素は、焼成帯域から来るガスおよびオキシ塩素化帯域から前記オキシ塩素化帯域への入口への流出物の再循環に由来する。
【００３６】
移動床方法の好適な別の実施形態では、オキシ塩素化帯域に供給するガスは、焼成帯域からのガスを、補給の１種以上の塩素化剤、補給の水または水前駆体、およびオキシ塩素化帯域に導入された１種以上の酸素含有ガスと混合することによって得られる。該１種以上の酸素含有ガスは、洗浄され、好ましくは、乾燥させられ、酸素補給を補給された最終燃焼床からのガス並びにオキシ塩素化帯域からの流出物の部分を、ブロアを介してオキシ塩素化帯域の方に再流通させるガスの一部であり得る。
【００３７】
（焼成帯域（Ｃ））
焼成工程は帯域（Ｃ）で行われ、該帯域では、触媒が、２０〜１６０分間にわたって、３５０〜６００℃の範囲の温度および３〜８ｂａｒの圧力で、補給の乾燥空気によって、場合によっては、洗浄区間および場合による乾燥帯域からのガスの一部と混合されて処理される。焼成帯域に供給するガスは一般に、１容積％超の水、好ましくは０．１容積％以下の水を含まない。一般に、このガスは最大で２１容積％の酸素を含む。
【００３８】
軸線方向焼成帯域を用いる移動床方法では、ガスは一般に、触媒に対する向流として移動する。
【００３９】
一変法では、補給の酸素含有ガスのみが焼成帯域の入口に導入される。
【００４０】
（洗浄区間（Ｄ）および乾燥区間（Ｅ））
床（Ａ２）からのガス状流出物は一般に、オキシ塩素化帯域（Ｂ）からのガス状流出物の一部との混合物として、洗浄区間（Ｄ）に送られる。この洗浄区間からの流出物の一部はパージされ、その他の部分は一般に、乾燥区間（Ｅ）に送られ、次いで一般に圧縮機に送られる。該圧縮機からの流出物の一部は一般に、燃焼床（Ａ１）および（Ａ２）に送られ、任意の部分はオキシ塩素化帯域および焼成帯域に送られる。
【００４１】
好適な実施形態では、触媒は帯域（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）の各々において移動床触媒である。この好適な実施形態では、オキシ塩素化帯域におけるガスは、焼成帯域（Ｃ）からのガスを、
・少なくとも１種の塩素化剤；
・水および水前駆体；
・補給の酸素；
・最後の燃焼床（Ａ２）からのガスの一部であって、該最後の燃焼床からのガスは、洗浄区画（Ｄ）において少なくとも洗浄され、乾燥区画（Ｅ）において少なくとも乾燥させられ、圧縮機において少なくとも圧縮された、もの；
・オキシ塩素化帯域からの流出物の一部を、ブロアを介して、前記オキシ塩素化帯域に再流通させるガス
と混合することに由来する。
【００４２】
好適な実施形態では、焼成帯域におけるガスは、燃焼床（Ａ２）からの、洗浄され、乾燥させられかつ圧縮されたガスの一部と混合された補給の乾燥空気に由来する。補給の酸素（好ましくは空気の形態）のみが、通常、最終燃焼床（Ａ２）の入口、オキシ塩素化帯域への入口、および焼成帯域への入口に送られ、好ましくは、該補給の酸素のみが焼成帯域およびオキシ塩素化帯域への入口に送られ、非常に好ましくは、単一の酸素補給が、焼成帯域への入口において行われる。オキシ塩素化帯域からの流出ガスからの一部は、少なくとも１つの洗浄区間（Ｄ）、乾燥区間（Ｅ）および圧縮機を介して燃焼床（Ａ１）および（Ａ２）の入口へ再循環させられる。さらに、オキシ塩素化帯域からの流出ガスからの一部は、燃焼床（Ａ２）とオキシ塩素化帯域への入口とに再循環させられ、前記再循環はブロアを経由して行われるが、乾燥区間、洗浄区間および圧縮機区間を介して通過することはない。
【００４３】
本発明はまた、該方法を実行する容器であって、直列の２つの燃焼床（Ａ１）および（Ａ２）を含む燃焼帯域（Ａ）と、少なくと１つのオキシ塩素化床を含むオキシ塩素化帯域（Ｂ）と、焼成床を含む少なくとも１つの焼成帯域（Ｃ）とを備える、容器に関する。該容器は、ｎ個の燃焼床、オキシ塩素化帯域および焼成帯域中に順番に触媒を流通させる手段を含む。該容器はオキシ塩素化帯域からのガスの一部を抜き出すポイントを含み、該抜き出し手段はブロアに連結されており、前記ブロアは、下流において、第１ラインの少なくとも一部および少なくとも１つの第２ラインに連結されており、該第１ラインは、ガスの一部を、最終燃焼床（Ａ２）に再循環させるものであり、該第２ラインは、ガスの別の部分を、ガスをオキシ塩素化帯域に導入するポイントに再循環させるものである。この導入ポイントはオキシ塩素化帯域からの抜き出しポイントの下方に位置し、前記第２再循環ラインは、水または水前駆体を導入する少なくとも１つのポイントと、少なくとも１つの炉と、塩素化剤を導入する少なくとも１つのポイントとを含む。該第２再循環ラインは、ブロアの上流において、洗浄区間（Ｄ）を介してガスの一部を再流通させるためにガスを抜き出すポイントを含み、洗浄区画からの流出物の一部は、パージされ、次いで、好ましくは、乾燥区間（Ｅ）、次いで圧縮機に送られ、圧縮機からの流出ガスの一部は、少なくとも燃焼床（Ａ１）および（Ａ２）に再循環させられる。該容器は、最終燃焼床Ａ２の第１ポイントにおいてガスの一部を抜き出す手段を含み、該抜き出し手段は少なくとも洗浄区間に連結している。該容器は、プレートまたは燃焼帯域とオキシ塩素化帯域とを分ける任意の他の手段を含み、燃焼帯域からのガスがオキシ塩素化帯域からのガスと混合するのが阻止される。
【００４４】
燃焼から来るガスがオキシ塩素化から来るガスと混合するのを阻止するために、プレートまたは燃焼帯域とオキシ塩素化帯域とを分ける任意の他の手段が通常は設けられる。対照的に、焼成からのガスは通常、オキシ塩素化帯域に自由に流入し得る。
【００４５】
一変形例では、第２再循環ラインは、ブロアの上流において、ガスを抜き出してガスの一部を、洗浄区間（Ｄ）を経由して再流通させるポイントを含み、洗浄区間からの流出物の一部はパージされてから、乾燥区間（Ｅ）を介して、次いで圧縮機を介して移動し、該圧縮機からの流出ガスの一部は少なくとも燃焼床（Ａ１）および（Ａ２）へ再循環させられ、一部はオキシ塩素化帯域および焼成帯域へ再循環させられる。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】図１は、本発明の実施形態を示す。
【図２】図２は、時間の関数としての白金焼結に関する塩素注入の影響を例証する。
【発明を実施するための形態】
【００４７】
図１を参照すると、容器（２）は燃焼帯域（Ａ）、オキシ塩素化帯域（Ｂ）および焼成帯域（Ｃ）を含む。燃焼帯域（Ａ）は２つの燃焼床（Ａ１）および（Ａ２）を含む。
【００４８】
触媒がライン（１）を介して容器の頭部（Ｆ）に導入され、次いで、重力により燃焼床（Ａ１）および（Ａ２）に落下し、次いでライン（３）を介して床（Ａ２）からオキシ塩素化帯域（Ｂ）に入り、次いで、焼成帯域（Ｃ）へ入り、最後にライン（４）を介して容器から出て行く。
【００４９】
床（Ａ１）はライン（１０）を介して移動するガス用の入口とライン（２４）を介して移動するガス用の出口とを含む。
【００５０】
床（Ａ２）はライン（２３）を介して移動するガス用の入口とライン（５）を介し、次いで冷却塔（３６）を介して移動するガス用の出口とを含む。
【００５１】
帯域（Ｂ）はライン（８）を介して移動するガス用の入口とライン（１７）を介して移動するガス用の出口とを含む。さらに、補給の塩素化剤はライン（６）を介して移動し、ライン（２８）を介して移動するガスと混合されてライン（８）を介してオキシ塩素化帯域に供給される。さらに、補給の水または水前駆体はライン（７）を介して移動し、ライン（２５）を介して移動するガスと混合され、ライン（２８）を介し、次いで炉（１９）を介して移動し、ライン（８）を介してオキシ塩素化工程に導入され、ライン（６）を介して移動する補給の塩素化剤と混合される。
【００５２】
帯域（Ｃ）はライン（１４）を介して移動するガス用の入口を含む。
【００５３】
種々のガス再流通経路を以下に示す：
（再流通１）
オキシ塩素化帯域（Ｂ）からの流出ガスの一部はライン（１７）を介して移動し、次いで冷却塔（３５）によって冷却され、ライン（３３）を介して、次いでブロア（１８）を介して、次いでライン（２０）を介して、次いでライン（３０）を介して、次いでライン（３１）を介して、次いでライン（２３）を介して移動する。
【００５４】
（再流通２）
ライン（１７）を介して移動するオキシ塩素化帯域（Ｂ）からの流出ガスの一部は、冷却塔（３５）によって冷却され、ライン（３２）を介して移動し、ライン（５）を介して移動する燃焼床（Ａ２）からのガスと混合される。この混合物はライン（３７）を介して洗浄区間（Ｄ）中を通過し、次いでライン（２９）を介して一部がパージされ、その他の部分は乾燥区間（Ｅ）へ、次いで圧縮機（２６）へ送られる。乾燥区間（Ｅ）からの流出物はライン（３８）を介して移動し、次いで一部がライン（９）を介して、次いで一部がライン（２７）を介して、次いで弁（２２）を介して移動し、次いで、ライン（３０）、次いでライン（３１）、次いでライン（２３）を介して床（Ａ２）へ送られる。ライン（９）を介して移動するガス混合物のその他の部分はライン（１０）を介して炉（１３）へ送られ、次いで第１燃焼床（Ａ１）に注入される。
【００５５】
（再流通３）
（Ａ１）からの流出ガスはライン（２４）を介して通過し、ライン（３１）を介して通過するガスと混合され、ライン（２３）を介して第２燃焼床に供給される。ライン（３１）を介して移動するガスは、ライン（３０）を介して移動するガスと任意の補給の酸素含有ガス（２１）との混合物に相当する。
【００５６】
（再流通４）
補給の塩素化剤はライン（６）を介して注入され、ライン（２８）から来るガスと混合され、ライン（８）を介してオキシ塩素化帯域に注入される。
【００５７】
（再流通５）
ライン（３８）を介して移動するガスの一部はライン（９）を介して燃焼床（Ａ１）および（Ａ２）へ再循環させられ、一部はライン（１１）を介して焼成帯域とオキシ塩素化帯域へ再循環させられる。
【００５８】
ライン（１１）を介して移動するガスの一部はライン（１５）、次いでライン（２５）、次いでライン（２８）、次いでライン（８）を介して帯域（Ｂ）に送られる。別の部分は、ライン（１２）を介して移動する補給の乾燥空気と混合され、炉（１６）を介して通過し、次いでライン（１４）を介して焼成工程に送られ得る。
【００５９】
（再流通６）
オキシ塩素化を出たガスの一部は、ライン（１７）を介し、次いで冷却塔（３５）を介し、次いでライン（３３）を介し、次いでブロア（１８）を介し、続いてライン（３４）を介し、次いでライン（２５）を介し、次いでライン（２８）を介し、次いで炉（１９）を介し、最終的にライン（８）を介してオキシ塩素化帯域への入口に再流通させられる。
【００６０】
（実施例）
（実施例１）
図１のフローチャートは、ProIIソフトウェアを用いて実行されたシミュレーションに用いられた本発明のフローチャートに相当する。
【００６１】
焼成帯域への入口およびオキシ塩素化帯域への入口に注入されたガスの温度は、基準フローチャートおよび本発明のフローチャートについて５１０℃であった。
【００６２】
種々のラインを介して移動するガス混合物の流量を表１に示す。
【００６３】
基準フローチャートは、ブロアを介したオキシ塩素化帯域から第２燃焼床への入口への流出物の再流通もオキシ塩素化帯域からオキシ塩素化帯域への入口への流出物の再流通も行われなかった場合を例証する（ライン（２０）、（３３）および（３４）を介して移動するガスの流量ゼロを参照されたい）。本発明のフローチャートは、これらの２つの再循環が行われた場合を例証する。
【表１】
2011500321.tif 000003
【００６４】
本発明のレイアウトでは、９０容積ｐｐｍのＨＣｌが第２燃焼床からの出口において生じさせられたが、基準レイアウトではＨＣｌは７８容積ｐｐｍであった。
【００６５】
（実施例２）
第２燃焼床における塩素の存在の影響を特徴付けるために、固定床反応器で試験を行った。本試験は第２燃焼床で記録された状態を表すものである。
【００６６】
この目的のために、１００００ｐｐｍの水を含有する空気の雰囲気中、流量２０００ＮＬ／ｋｇ／時および温度６５０℃にて、初期塩素含有量が１．１重量％の塩素化されたアルミナ担持白金触媒を試験した。試験は６０時間の期間にわたって行われた。
【００６７】
反応器に塩素を注入して１．１重量％（＋／−０．２重量％）の安定した塩素含有量を試験全体に亘って発生させた。
【００６８】
白金のコストは高いため、その金属相を可能な限り最大に分散させる（すなわち、その表面と転換されるべき分子と接触する白金の比率を増大させる）ことが重要である。転化率を可能な限り高くするためには、該金属の比表面積（金属の重量（グラム）当たりの表面積として表される）を最大にしなければならない。このため、粒径または１つに集合する基本粒子の増加と等価であるアクセシビリティの低下は、反応の生産性に非常に不利である。したがって、目的は、調製中の粒径を最小化し、且つ、この高い分散度を維持することにある。十分な量の塩素が存在すれば、この問題に対する答えが構成され得る。
【００６９】
本発明で使用される用語「アクセシビリティ（accessibility）」とは、触媒上に存在する白金の総量に対する、転化されるべき仕込原料へ近付き易い白金の量である。アクセシビリティが低減すると、白金の焼結が生じることになる。
【００７０】
白金のアクセシビリティをＨ２／Ｏ２滴定によって測定した。
【００７１】
Ｈ２／Ｏ２滴定は、水素下で触媒を還元する工程後に反応（１）によって消費された酸素の容積を測定することからなる。
【化１】
2011500321.tif 000004
【００７２】
式中、Ｐｔｓは表面の白金原子を表す。
【００７３】
該触媒を４５０℃にて水素下で還元し、次いで水素下で周囲温度まで冷却した後、既知の容積の酸素を注入した。酸素の消費をクロマトグラフィーにより測定し、発生したシグナルを積分して、注入された総容積との差によって、反応（１）により消費された酸素の容積を推定することが可能となる。反応（１）の化学量論係数を用いて、表面の白金の割合、すなわち、アクセシビリティが下記の関係式により決定される：
【数１】
2011500321.tif 000005
【００７４】
式中：
・ＭＰｔ：白金のモル質量（１９５．０９ｇ／ｍｏｌ）；
・ＶＭ：２５℃におけるガスのモル容積（２４４００ｍｌ／ｍｏｌ）；
・ＶＯ２：酸素の消費に相当する測定された容積；
・％Ｐｔ：触媒中の白金の重量含量。
【００７５】
図２から、塩素の注入がないと、経時的にアクセシビリティが低下し、したがって、白金の焼結が大きくなっているのがわかる。
【００７６】
オキシ塩素化流出物を第２燃焼床への入口に再流通させることによって、塩素を供給することが可能となり、したがって白金の非焼結が促進される。
【００７７】
上記の結果は、オキシ塩素化帯域からの流出物の一部を、ブロアを介して部分的に燃焼床（Ａ２）に、部分的にオキシ塩素化帯域に再循環させることの利点を説明するものである。該再流通により塩素化剤が燃焼床（Ａ２）に供給されるので、塩素の溶出が低減することになる。該再循環によって白金の焼結も大幅に低減させることができ、その結果、オキシ塩素化工程中に塩素の効果的な再分散が促進される。
【図１】
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【図２】
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【国際調査報告】
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