(57)【要約】  ボウリングボール表面処理装置は、ハウジングと、ボウリングボールの運動を誘導するためにハウジング内部に設けられ、ガイド中心軸及び内周面を有するボール運動ガイドとを含む。表面処理要素を有する表面処理ディスクが、ボウリングボールを支持及び回転させるためにボール運動ガイドの下方に配置されている。表面処理ディスクは、ガイド中心軸から外れたディスク中心軸を有している。ボウリングボール表面処理装置は、表面処理ディスクをディスク中心軸を中心に回転させるためのディスク駆動モータと、コントローラとをさらに含む。コントローラは、表面処理ディスクを目標回転速度まで加速させるステップと、表面処理ディスクを表面処理位置において目標回転速度で所定の稼働時間回転させるステップと、表面処理ディスクを速度ゼロに向けて減速させるステップとをディスク駆動モータに繰り返させる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ハウジングと、
ボウリングボールの運動を誘導するために前記ハウジング内部に設けられ、該ボウリングボールの運動を誘導するためのガイド中心軸及び内周面を有するボール運動ガイドと、
前記ボウリングボールを支持及び回転させるために前記ボール運動ガイドの下方に配置され、前記ボウリングボールと摩擦接触する表面処理要素を含み、前記ボール運動ガイドの前記ガイド中心軸から外れたディスク中心軸を有する表面処理ディスクと、
前記表面処理ディスクを前記ディスク中心軸を中心に回転させるためのディスク駆動モータと、
前記表面処理ディスクを目標回転速度まで加速させるステップと、前記表面処理ディスクを表面処理位置において前記目標回転速度で所定の稼働時間回転させるステップと、前記表面処理ディスクを速度ゼロに向かって減速させるステップとを、あらかじめ設定された処理時間が経過するまで前記ディスク駆動モータに繰り返させるためのコントローラと、を備えるボウリングボール表面処理装置。
【請求項２】
前記ボール運動ガイドの前記内周面は、前記表面処理位置において前記ディスク中心軸から最も離れている請求項１に記載のボウリングボール表面処理装置。
【請求項３】
前記目標回転速度は４００〜１２００ｒｐｍである請求項１に記載のボウリングボール表面処理装置。
【請求項４】
前記所定の稼働時間は１〜３秒間である請求項１に記載のボウリングボール表面処理装置。
【請求項５】
前記ハウジングは、仕切り板によって上部表面処理室と下部駆動室とに隔てられた内部空間を有しており、前記ボール運動ガイドは、前記仕切り板に固着された複数の支持部材を含み、該支持部材のそれぞれはコイルばね部を有している請求項１に記載のボウリングボール表面処理装置。
【請求項６】
ボウリングボールと摩擦接触する表面処理要素を有する表面処理ディスクと、該表面処理ディスクの上方に配置されて前記ボウリングボールの運動を誘導するボール運動ガイドとを備えるボウリングボール表面処理装置において、
前記ボール運動ガイドと中心がずれている前記表面処理ディスク上に前記ボウリングボールを設置するステップと、
前記表面処理ディスクを目標回転速度まで加速させて、前記ボウリングボールが前記表面処理ディスクの中心軸から最も離れる表面処理位置に前記ボウリングボールを移動させるステップと、
前記ボウリングボールを前記表面処理ディスクの前記表面処理要素によって表面処理できるように、前記表面処理ディスクを前記表面処理位置において前記目標回転速度で所定の稼働時間回転させるステップと、
前記ボウリングボールが前記表面処理位置から離れて前記表面処理ディスクの前記中心軸に向かって移動できるように、前記表面処理ディスクを速度ゼロに向けて減速させるステップと、
前記加速ステップ、前記回転ステップ、及び前記減速ステップを所定の処理時間が経過するまで繰り返すステップと、を含むボウリングボール表面処理方法。
【請求項７】
前記目標回転速度は４００〜１２００ｒｐｍである請求項６に記載のボウリングボール表面処理方法。
【請求項８】
前記所定の稼働時間は１〜３秒間である請求項６に記載のボウリングボール表面処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ボウリングボール表面処理装置に関し、より詳しくは、単純な回転構造でボウリングボールを均一に研磨(abrading)又は艶出し(polishing)することが可能なボウリングボール表面処理装置に関する。さらに、本発明は、該ボウリングボール表面処理装置を使用したボウリングボール表面処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ボウリングボールはレーンと摩擦接触しながら転がるために、その表面にでこぼこの摩耗部や傷が残ることが多い。特に、ボウリングボールはほぼ同一の周面部でレーンと接触しがちであるため、偏摩耗してしまうおそれがある。傷がついたボウリングボールや偏摩耗したボウリングボールは見栄えが悪いだけでなく、そのようなボウリングボールを使用すると主にボールが予測不可能な動きをしてしまうために、競技者が、例えば彼／彼女が望む通りのスピン技術を発揮することが難しくなってしまう。その結果、このような傷や偏摩耗がボウリングゲームのスコアに悪影響を及ぼすおそれがあり、そのためにプレーするゲームの楽しさが損なわれてしまいかねない。したがって、ボウリングボールを傷が全く又はほとんどない完全な球形になるように定期的に研磨する必要がある。
【０００３】
ボウリングボールを自動研磨する装置を開示している先行技術文献は数多く存在する。それらのうちのひとつが米国特許第５，６１３，８９６号であり、ボウリングボールを支持するように互いに１２０°間隔で配置された３つのシャフトと、対応するそれぞれのシャフトを順方向又は逆方向に回転させる３つのモータと、シャフトに取り付けられた３つの円錐形の研磨カップとを含むボウリングボール表面再処理装置を教示している。このボウリングボール表面再処理装置には利点もあるが、表面再処理工程中にボウリングボールの回転方向や回転軸をしっかりと変えることができないという欠点がある。このため、このボウリングボール表面再処理装置では、ボウリングボールの表面全体を均一に研磨して完全な球形にすることが困難である。
【０００４】
他の先行技術文献として米国特許第７，０６３，６０７号があり、ここでは、ハウジングと、互いに平行な垂直軸を中心に回転するようにハウジングに取り付けられ、それぞれがボウリングボールの一方の側下部でボウリングボールの表面と接触するように構成されている第一及び第二の垂直支持ローラと、垂直支持ローラとともにボウリングボールを支持するようにハウジングに取り付けられ、それぞれが水平軸を中心に回転可能であり、ボウリングボールの他方の側下部でボウリングボールの表面と接触するように構成されている第一及び第二の水平支持ローラと、垂直支持ローラ及び水平支持ローラを回転させるための駆動モータと、ボウリングボールの表面と摩擦接触してボウリングボールを研磨又は艶出しするための研磨−艶出しホイールアセンブリとを含むボウリングボール表面再処理装置が開示されている。
【０００５】
前述した従来の装置は、ボウリングボールを様々な方向に回転させることによってボウリングボールの表面をほぼ均一に研磨又は艶出しすることが可能である。しかしながら、従来の装置は構造が複雑であり、製造コストが高く、かつ非常に故障しやすいために改良の余地がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は従来の装置における前述又は他の問題を考慮してなされたものであり、その目的は、より短時間でボウリングボールの表面全体を均一に研磨又は艶出しすることが可能なボウリングボール表面処理装置及びボウリングボール表面処理方法を提供することである。
【０００７】
本発明の他の目的は、構造が非常に単純、製造が容易、かつ費用が安価なボウリングボール表面処理装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の一態様によれば、
ハウジングと、
ボウリングボールの運動を誘導するために前記ハウジング内部に設けられ、該ボウリングボールの運動を誘導するためのガイド中心軸及び内周面を有するボール運動ガイドと、
前記ボウリングボールを支持及び回転させるために前記ボール運動ガイドの下方に配置され、前記ボウリングボールと摩擦接触する表面処理要素を含み、前記ボール運動ガイドの前記ガイド中心軸から外れたディスク中心軸を有する表面処理ディスクと、
前記表面処理ディスクを前記ディスク中心軸を中心に回転させるためのディスク駆動モータと、
前記表面処理ディスクを目標回転速度まで加速させるステップと、前記表面処理ディスクを表面処理位置において前記目標回転速度で所定の稼働時間回転させるステップと、前記表面処理ディスクを速度ゼロに向かって減速させるステップとを、あらかじめ設定された処理時間が経過するまで前記ディスク駆動モータに繰り返させるためのコントローラと、を備えるボウリングボール表面処理装置が提供される。
【０００９】
本発明の他の態様では、
ボウリングボールと摩擦接触する表面処理要素を有する表面処理ディスクと、該表面処理ディスクの上方に配置されて前記ボウリングボールの運動を誘導するボール運動ガイドとを備えるボウリングボール表面処理装置において、
前記ボール運動ガイドと中心がずれている前記表面処理ディスク上に前記ボウリングボールを設置するステップと、
前記表面処理ディスクを目標回転速度まで加速させて、前記ボウリングボールが前記表面処理ディスクの中心軸から最も離れる表面処理位置に前記ボウリングボールを移動させるステップと、
前記ボウリングボールを前記表面処理ディスクの前記表面処理要素によって表面処理できるように、前記表面処理ディスクを前記表面処理位置において前記目標回転速度で所定の稼働時間回転させるステップと、
前記ボウリングボールが前記表面処理位置から離れて前記表面処理ディスクの前記中心軸に向かって移動できるように、前記表面処理ディスクを速度ゼロに向けて減速させるステップと、
前記加速ステップ、前記回転ステップ、及び前記減速ステップを所定の処理時間が経過するまで繰り返すステップと、を含むボウリングボール表面処理方法が提供される。
【００１０】
本発明の上記及び他の目的及び特徴は、添付図面を参照してなされる以下の好適実施形態の説明により明らかになるであろう。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明に係るボウリングボール表面処理装置を示す側面断面図である。
【図２】図１のII-II線に沿ったボウリングボール表面処理装置の断面図である。
【図３】本発明に係るボウリングボール表面処理方法を示すフローチャートである。
【図４】本発明のボウリングボール表面処理装置が実行する表面処理工程中のボウリングボールの動作を示す概略図である。
【図５】本発明のボウリングボール表面処理装置が実行する表面処理工程中のボウリングボールの動作を示す概略図である。
【図６】本発明のボウリングボール表面処理装置が実行する表面処理工程中のボウリングボールの動作を示す概略図である。
【図７】本発明のボウリングボール表面処理装置が実行する表面処理工程中のボウリングボールの動作を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
ここで、本発明に係るボウリングボール表面処理装置及びボウリングボール表面処理方法の好適実施形態について、添付図面を参照して詳細に説明する。
【００１３】
図１及び図２を参照すると、ボウリングボール表面処理装置はハウジング１０を含み、ハウジング１０は、ボウリングボールＢを出し入れするための上部出入開口部１１を有している。出入開口部１１は、蓋１２によって開閉可能な状態で閉じられている。ハウジング１０は、仕切り板１５によって上部表面処理室１３と下部駆動室１４とに隔てられた内部空間を有している。ボウリングボールＢは、表面処理室１３で研磨や艶出しなどの表面処理を受ける。駆動室１４は、後述する駆動ユニットを収納するように構成されている。
【００１４】
ハウジング１０の内部側面には、ボウリングボール表面処理装置の動作を制御するためのコントローラ１６が取り付けられている。ボウリングボール表面処理装置の様々な動作条件を設定するための一連の押ボタン１７及びタイマーノブ１８がハウジング１０の外部側面に配列されており、コントローラ１６と電気的に接続している。
【００１５】
ハウジング１０の表面処理室１３内には、ボウリングボールＢの運動を誘導し、ボウリングボールＢを限定された表面処理領域内にとどめるための略リング状のボール運動ガイド２０が設けられている。ボール運動ガイド２０は、図示されている実施形態では略円形であるが、楕円形、多角形、又は他の不規則な形状であってもよい。
【００１６】
図示されている実施形態では、ガイド中心軸Ｇを有するボール運動ガイド２０は、ボール運動ガイド２０から下方に延びる複数の棒状の支持部材２０ａによって仕切り板１５に固着されている。それぞれの支持部材２０ａにはコイルばね部２０ｂが設けられており、コイルばね部２０ｂは、ボウリングボール表面処理装置の稼働中にボール運動ガイド２０で生じるおそれがある振動や雑音を軽減する機能を果たす。あるいは、例えばコイルばねのような緩衝材を介してボール運動ガイド２０をハウジング１０の内壁面に取り付けてもよい。また、図示されている実施形態では４つの支持部材２０ａを使用しているが、支持部材２０ａの数はそれより多くてもよいし、少なくてもよい。
【００１７】
ボール運動ガイド２０は、ボウリングボールＢを自転可能(rotatably)かつ公転可能(revolvably)に受け入れるためのボール受入開口部２１を有している。ボール受入開口部２１はボウリングボールＢよりも直径が少し大きく、ボール受入開口部２１で受け入れたボウリングボールＢが、ボール運動ガイド２０の内部表面に沿って移動できるようになっている。ボール運動ガイド２０の直径は、ボウリングボールＢの不規則な回転運動によって生じるおそれがある振動や雑音を軽減するために可能な限り小さいことが好ましい。また、例えばゴムストリップのような弾性的に変形可能な材料で作られている緩衝ライナー２２が、ボール運動ガイド２０の内部表面に取り外し可能に取り付けられている。
【００１８】
表面処理ディスク３０がボール運動ガイド２０の下方に配置されており、ボウリングボールＢを支持及び回転させる。表面処理ディスク３０は、ディスク中心軸Ｄに沿って下方に延びるディスクシャフト３１を備える。ディスクシャフト３１は、仕切り板１５を貫通して駆動室１４へと延びており、軸受３２によって仕切り板１５に回転可能に支持されている。ここで、ディスク中心軸Ｄがガイド中心軸Ｇから距離Ｍだけずれていることが重要となる。表面処理ディスク３０は、その上面から上方に突出した凸中央部３０ａを有している。凸中央部３０ａは、ボウリングボールＢが表面処理ディスク３０の中心にとどまるのを防ぐ機能を果たす。その代わりに、又はそれに加えて、ボール運動ガイド２０を、ボウリングボールＢが凸中央部３０ａへと移動するのを防ぐことができるようなサイズ及び配置にしてもよい。
【００１９】
表面処理ディスク３０は、ボウリングボールＢと接触して表面処理、すなわち研磨及び／又は艶出しを行う表面処理要素を有している。図示されている実施形態では、表面処理要素は表面処理布４０及び表面処理布４０に取り付けられているクッション裏地４１で形成されている。
【００２０】
表面処理布４０の例としては、サンドペーパー(a sheet of sandpaper)やダイアモンドペーパー(a sheet of diamond-coated paper)のような研磨布及び不織布や綿織物のような艶出し布が挙げられる。研磨布及び艶出し布は、ボウリングボールＢを研磨及び艶出しする際に選択的に使用することができる。また、粗度の異なるボウリングボールＢを研磨するために、３種類の研磨布、すなわち粒度の細かい研磨布、中程度の研磨布、及び粗い研磨布を使用することが好ましい。
【００２１】
クッション裏地４１は、表面処理工程中にボウリングボールＢによって生じる衝撃を吸収する、例えばスポンジ材料で作られている。衝撃を和らげるクッション裏地４１は、表面処理ディスク３０の上面に、例えばベルクロ・ファスナー(a Velcro fastener)によって交換可能に取り付けられている。
【００２２】
ボウリングボール表面処理装置は、表面処理ディスク３０及びディスクシャフト３１をガイド中心軸Ｇから外れているディスク中心軸Ｄを中心に回転させるディスク回転デバイス(a disc rotating device)を含む。ディスク回転デバイスは、駆動室１４内に設けられたディスク駆動モータ３３と、ディスク駆動モータ３３のトルクを表面処理ディスク３０のディスクシャフト３１に伝達するための、それぞれがディスク駆動モータ３３の出力軸及びディスクシャフト３１の下端部に固定された一組のプーリ３４ａ及び３４ｂ並びにプーリ３４ａ及び３４ｂの周囲に巻かれたベルト３５とを含む。
【００２３】
コントローラ１６はディスク駆動モータ３３と電気的に接続されており、ディスク駆動モータ３３の動作を特定の方法で制御できるようになっている。コントローラ１６は、３つすなわち第一、第二、第三の連続する操作ステップで、ディスク駆動モータ３３に表面処理ディスク３０を操作させることが可能となるように構成されている。第一の操作ステップは、ボウリングボールＢを表面処理ディスク３０の上に設置した状態で、ディスク駆動モータ３３に表面処理ディスク３０を目標回転速度（例えば、４００〜１２００ｒｐｍ）まで加速させる。第二の操作ステップは、ボウリングボールＢがディスク中心軸Ｄから最も離れている固定された表面処理位置でほぼ水平な軸を中心に回転できるように、ディスク駆動モータ３３に表面処理ディスク３０を目標回転速度で所定の稼働時間（例えば、１〜３秒間）回転させる。第二のステップにおいて、ボウリングボールＢは、表面処理ディスク３０の外面領域と放射状に摩擦接触することによって研磨又は艶出しされる。第三の操作ステップは、ボウリングボールＢが固定された表面処理位置から離れ、表面処理ディスク３０の上を半径方向内側に転がって移動できるように、ディスク駆動モータ３３に表面処理ディスク３０を目標回転速度からほぼゼロ又は完全にゼロの回転速度まで減速させる。第三のステップにおいて、表面処理ディスク３０と接触するボウリングボールＢの表面領域は別の領域に変更される。コントローラ１６は、あらかじめ設定された表面処理時間（例えば、５分間）が経過するまで第一から第三の操作ステップを繰り返すように構成されている。第一から第三の操作ステップが繰り返し実行されることで、ボウリングボールＢの様々な表面領域が表面処理ディスク３０によって磨かれ、それによってボウリングボールＢの表面全体が偏摩耗部が全く又はほとんどない状態に均一に研磨又は艶出しされる。コントローラ１６は、第三の操作ステップの終了時に、表面処理ディスク３０を順方向又は逆方向のいずれかに回転させるように構成されている。
【００２４】
ボウリングボール表面処理装置は、ボウリングボールＢに表面処理液を供給するための処理液供給デバイスを含む。ボウリングボール表面処理装置には、２種類の表面処理液を使用することができる。ひとつはボウリングボールＢの研磨に使用するための研磨液であり、もうひとつは艶出しに使用するための艶出し液である。
【００２５】
処理液供給デバイスは、研磨液をボウリングボールＢの表面に噴射するための研磨液噴射ノズル６１と、艶出し液をボウリングボールＢの表面に噴射するための艶出し液噴射ノズル６２と、研磨液を貯蔵するための研磨液タンク６３と、艶出し液を貯蔵するための艶出し液タンク６４と、研磨液タンク６３に貯蔵されている研磨液を研磨液噴射ノズル６１に送り込むための研磨液ポンプ６５と、艶出し液タンク６４に貯蔵されている艶出し液を艶出し液噴射ノズル６２に送り込むための艶出し液ポンプ６６とを含む。
【００２６】
研磨液噴射ノズル６１及び艶出し液噴射ノズル６２は、表面処理室１３内に挿入されたボウリングボールＢと相対するように蓋１２の内側に取り付けられている。研磨液タンク６３、艶出し液タンク６４、研磨液ポンプ６５、及び艶出し液ポンプ６６は駆動室１４内に配置されている。艶出し液タンク６４は排液管６７を通して表面処理室１３と連結しており、表面処理室１３で噴射された研磨液及び艶出し液を回収する。
【００２７】
次に、本発明に係るボウリングボール表面処理方法について、特に図３〜図７を参照して説明する。
【００２８】
まず、例えば表面処理時間や表面処理の種類（研磨及び艶出し）などの動作条件を、押ボタン１７及びタイマーノブ１８を使用してあらかじめ設定する。
【００２９】
図３を参照すると、蓋１２を開けて、ボウリングボールＢをボール運動ガイド２０と中心がずれている表面処理ディスク３０の上に設置する（Ｓ１０）。この際、ボウリングボールＢは、図４に示すような表面処理ディスク３０上のどの位置に設置してもよい。
【００３０】
それから、ディスク駆動モータ３３に電圧を加え、コントローラ１６による制御のもとで回転駆動する。ディスク駆動モータ３３のトルクを一組のプーリ３４ａ及び３４ｂ並びにベルト３５を通してディスクシャフト３１に伝達し、それによって表面処理ディスク３０をディスクシャフト３１とともに回転させる。ディスク駆動モータ３３は、表面処理ディスク３０を目標回転速度（例えば、４００〜１２００ｒｐｍ）まで加速させて、ボウリングボールＢを図５に示す表面処理位置に移動させる（図３のＳ２０）。より具体的には、表面処理ディスク３０が回転して目標回転速度まで加速することで、ボウリングボールＢは遠心力によって表面処理ディスク３０の半径方向外側に移動した後、図２及び図５に示す表面処理位置に到達するまでボール運動ガイド２０の内周面に沿って移動する。図示されている実施形態では、表面処理位置とは、ボウリングボールＢがディスク中心軸Ｄから最も離れる３時の位置を示す。これは、ディスク中心軸Ｄが、ガイド中心軸Ｇから９時の位置に向かって距離Ｍだけずれているためである。このようにディスク中心軸Ｄとガイド中心軸Ｇとがずれていることによって、表面処理ディスク３０の回転速度をほぼゼロ又は完全にゼロになるまで減速しない限りは、ボウリングボールＢを表面処理位置にとどめておくことができる。
【００３１】
ボウリングボールＢが図５に示すように表面処理位置に移動すると、ボウリングボールＢの特定の表面領域を表面処理ディスク３０の表面処理要素によって継続的に研磨又は艶出しすることができるように、ディスク駆動モータ３３が表面処理ディスク３０を目標回転速度で所定の稼働時間（例えば、１〜３秒間）回転させる（図３のＳ３０）。すなわち、ボウリングボールＢは、表面処理位置で表面処理ディスク３０によって回転させられながら表面処理を受ける。所定の稼働時間中、表面処理ディスク３０の表面処理要素によってボウリングボールＢの特定の表面領域を磨くことができるように、ボウリングボールＢはほぼ水平な軸を中心に回転する。
【００３２】
所定の稼働時間が経過すると、コントローラ１６は、ディスク駆動モータ３３への電流の供給を減らすこと又は遮断することによってディスク駆動モータ３３の回転速度を低下させる。このようにして、ディスク駆動モータ３３は表面処理ディスク３０を速度ゼロに向けて減速させる（図３のＳ４０）。表面処理ディスク３０がほぼ速度ゼロまで減速して極めて低速で回転すると、ボウリングボールＢに対して働いている遠心力がなくなり、ボウリングボールＢは図６に示すように表面処理ディスク３０とともに時計回りの方向に移動する。したがって、ボウリングボールＢは表面処理位置から離れ、ディスク中心軸Ｄに向かって表面処理ディスク３０の上面を半径方向内側に移動する。これは、ディスク中心軸Ｄとボール運動ガイド２０の内周面との間の距離が、３時の位置から６時の位置へ、その後９時の位置へと徐々に小さくなっていくためである。ボウリングボールＢが図７に示されているように９時の位置にある場合、ボウリングボールＢはディスク中心軸Ｄに最も近い接触位置で表面処理ディスク３０と接触する。表面処理ディスク３０が再度加速されると、ボウリングボールＢは表面処理ディスク３０とともにほぼ垂直な軸を中心にわずかな時間回転する。ボウリングボールＢが表面処理ディスク３０の上面を転がり運動し、ほぼ垂直な軸を中心に回転運動する間に、表面処理ディスク３０と接触するボウリングボールＢの表面領域はランダムに変更される。
【００３３】
その後、コントローラ１６は、あらかじめ設定された処理時間（例えば、５分間）が経過したか否かを判定する（図３のＳ５０）。答えが否定（ＮＯ）の場合、コントローラ１６はディスク駆動モータ３３にステップＳ２０、Ｓ３０及びＳ４０を繰り返させる。答えが肯定（ＹＥＳ）の場合、コントローラ１６はディスク駆動モータ３３の電源を切り、ボウリングボール表面処理方法のフローを終了する。
【００３４】
図示されている実施形態では、この判定ステップはステップＳ４０の直後に実行されるが、ステップＳ２０又はＳ３０の後に実行することも可能である。ステップＳ２０において表面処理ディスク３０を再度加速させる際、表面処理ディスク３０を逆方向、すなわち反時計回りに回転させてもよく、これは本発明の範囲に含まれる。
【００３５】
上記の表面処理装置及び表面処理方法によれば、表面処理ディスク３０の回転速度をほぼゼロ又は完全にゼロになるまで減速させるたびに、ボウリングボールＢの表面処理領域は確実に変更される。したがって、表面処理操作を実行し続けることで、ボウリングボールＢの表面全体が表面処理ディスク３０の表面処理布４０によって均一に研磨又は艶出しされる。
【００３６】
本発明の表面処理方法は研磨方法と艶出し方法とに分けられ、これらは単独で行ってもよいし、組み合わせて行ってもよい。
【００３７】
研磨方法では、表面処理布４０となる研磨布は交換可能に表面処理ディスク３０に取り付けられている。粗度の異なるボウリングボールＢを研磨するために、粒度の粗い研磨布、中程度の研磨布、及び細かい研磨布を選択的に使用してもよい。必要であれば、粒度の粗い研磨布、中程度の研磨布、細かい研磨布を次々に表面処理ディスク３０に取り付けることによって、粗い研磨、中程度の研磨、細かい研磨を連続的に実行することが可能である。
【００３８】
研磨方法では、研磨液タンク６３に貯蔵されている研磨液を、研磨液ポンプ６５によって研磨液噴射ノズル６１を通してボウリングボールＢの表面に供給する。艶出し方法では、研磨布を表面処理布４０となる艶出し布に取り換える。また、艶出し液タンク６４に貯蔵されている艶出し液を、艶出し液ポンプ６６によって艶出し液噴射ノズル６２を通してボウリングボールＢの表面に供給する。
【００３９】
本発明の好適実施形態を図示及び説明してきたが、下記の特許請求の範囲に記載されている本発明の趣旨及び範囲から逸脱することなく様々な変更及び改良を行うことが可能であることは当業者にとって明らかであろう。
【産業上の利用可能性】
【００４０】
本発明のボウリングボール表面処理装置及びボウリングボール表面処理方法は、ボウリングボール又はボウリングボールに類似する球状物体を研磨、洗浄、又は艶出しするために効果的に使用することができる。本発明の表面処理装置及び方法を使用することによって、ボウリングボールの表面を短時間で均一に処理することが可能となる。
【図１】
2011525401.tif 000003
【図２】
2011525401.tif 000004
【図３】
2011525401.tif 000005
【図４】
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【図５】
2011525401.tif 000007
【図６】
2011525401.tif 000008
【図７】
2011525401.tif 000009
【国際調査報告】
2011525401.tif 000010
2011525401.tif 000011