(57)【要約】電気アクチュエータを制御可能に駆動するドライブシステムは、アクチュエータ（Ｍ１）によって送られる電流（Ｉ）を感知する電流センサシステムと、電流センサシステムの出力信号に基づいてアクチュエータを電気的に駆動するドライバ（１４１）を含む。電流センサシステムは、感知される電流に対して相互に異なる感度を有する少なくとも第１電流センサ（１４４、１４６）および第２電流センサ（１４５、１４７）を含み、ドライブシステムは、電流センサの各々が電流センサシステムの出力信号を決定する度合を制御する電流センサコントローラ（１４８）を含む。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気アクチュエータを制御可能に駆動するドライブシステムであって、
前記電気アクチュエータによって送られる電流を感知する電流センサシステムであって、感知される前記電流に対して相互に異なる感度を有する少なくとも第１電流センサおよび第２電流センサを含む、電流センサシステムと、
前記電流センサシステムの出力信号に基づいて前記電気アクチュエータを電気的に駆動するドライバであって、前記少なくとも第１電流センサおよび第２電流センサの各々が前記電流センサシステムの前記出力信号を決定する度合を制御する電流センサコントローラを含む、ドライバと
を含む、ドライブシステム。
【請求項２】
前記電流センサコントローラは、前記電流の値が閾値より高い場合に最も低い感度を有する前記電流センサシステムの電流センサを選択し、かつ前記電流の前記値が閾値より低い場合に最も高い感度を有する電流センサを選択するセレクタを含む、請求項１に記載のドライブシステム。
【請求項３】
前記電流センサコントローラは、前記第１電流センサおよび前記第２電流センサの各々に対して重み係数を決定し、前記第１電流センサおよび前記第２電流センサは、それぞれ、前記電流センサシステムの前記出力信号に寄与し、前記重み係数の値は決定された前記電流の大きさに依拠し、前記電流の大きさが閾値より低い場合に前記最も高い感度を有する電流センサに対する前記重み係数は、前記最も低い感度を有する電流センサに対する前記重み係数より高く、前記電流の大きさが閾値より高い場合に前記最も高い感度を有する電流センサに対する前記重み係数は、前記最も低い感度を有する電流センサに対する前記重み係数より低い、請求項１に記載のドライブシステム。
【請求項４】
前記最も高い感度を有する電流センサ対する前記重み係数は、前記決定された電流が閾値に達するまで値０に減少して前記閾値より高い決定された電流に対して０のまま残る、前記決定された電流の減少関数であり、前記最も低い感度を有する前記電流センサに対する前記重み係数は、前記決定された電流が閾値に達するまで値０から増加し、その後前記電流のより高い決定された値に対して一定のまま残る、前記決定された電流の増加係数である、請求項３に記載のドライブシステム。
【請求項５】
前記電流センサのトランスインピーダンスの差を補償する可変利得増幅器を含む、請求項１に記載のドライブシステム。
【請求項６】
前記セレクタの動作は、前記第１電流センサおよび前記第２電流センサのうちの少なくとも１つから得られる大きさ表示信号によって制御されており、前記セレクタは、前記大きさ表示信号が前記電気アクチュエータによって送られる前記電流が第１の値を超えたことを示した場合に前記第１電流センサおよび前記第２電流センサのうちの第１電流センサを有効にするように構成され、前記セレクタは、前記大きさ表示信号が前記アクチュエータによって送られる前記電流が第２の値より下に低下したことを示した場合に前記電流センサのうちの第２電流センサを有効にするように構成される、請求項２に記載のドライブシステム。
【請求項７】
前記電気アクチュエータによって変位された物体の位置を示す第１位置信号を提供する位置センサと、前記第１位置信号によって示される位置と第１セットポイント信号によって示される前記物体の所望の位置との差を示す差分信号を提供する第１比較器と、前記差分信号に依拠して前記ドライバを制御するコントローラとを含む、請求項１に記載のドライブシステム。
【請求項８】
第１フィードフォーワードコントローラをさらに含む、請求項７に記載のドライブシステム。
【請求項９】
前記ドライブシステムは、前記電気アクチュエータを位置決めする追加の電気アクチュエータを駆動し、前記ドライバは、前記第１位置信号と前記追加の電気アクチュエータによって生じる変位を示す第２変位信号との差を示す第２差分信号を提供する第２比較器を含み、追加のドライバは前記追加の電気アクチュエータを駆動し、かつ追加のコントローラは前記第２差分信号に依拠して前記追加のドライバを制御する、請求項７に記載のドライブシステム。
【請求項１０】
第２フィードフォーワードコントローラをさらに含む、請求項９に記載のドライブシステム。
【請求項１１】
前記アクチュエータによって位置決めされる物体の所望の位置を示す信号を提供し、かつ制御信号を前記制御デバイスに提供するセットポイントジェネレータを含むマスタコントローラを含む、請求項１に記載のドライブシステム。
【請求項１２】
前記ドライバによって提供される前記電流は第１電流と第２電流とに分割され、前記第１電流は固定インピーダンスおよび前記第１電流センサを有する第１分岐を通過し、前記第２電流は可変インピーダンスおよび前記第２電流センサを有する第２分岐を通過し、前記コントローラは前記可変インピーダンスの値を制御するように構成される、請求項１に記載のドライブシステム。
【請求項１３】
放射ビームを提供する放射システムと、
所望のパターンに従って前記放射ビームにパターンを付与してパターン付けされた放射ビームを形成するパターニングデバイスを支持するパターニングデバイスサポートと、
基板を保持する基板サポートと、
前記基板のターゲット部分上に前記パターン付けされたビームを投影する投影システムと、
サポートのうちの少なくとも１つを位置決めする電気アクチュエータと、
前記電気アクチュエータを制御可能に駆動するドライブシステムとを含むリソグラフィ投影装置であって、前記ドライブシステムは、
前記電気アクチュエータによって送られる電流を感知する電流センサシステムであって、感知される前記電流に対して相互に異なる感度を有する少なくとも第１電流センサおよび第２電流センサを含む、電流センサシステムと、
前記電流センサシステムの出力信号に基づいて前記電気アクチュエータを電気的に駆動するドライバであって、前記少なくとも第１電流センサおよび第２電流センサの各々が前記電流センサシステムの前記出力信号を決定する度合を制御する電流センサコントローラを含む、ドライバとを含む、リソグラフィ投影装置。
【請求項１４】
電気アクチュエータを制御可能に駆動する方法であって、
前記電気アクチュエータに提供される電流の大きさを決定することと、
前記電流に対する前記決定された大きさが相対的に低い場合、相対的に高い電流感度を有する第１センサの出力信号により多く依拠して前記アクチュエータを電気的に駆動し、前記電流に対する前記決定された大きさが相対的に高い場合、相対的に低い電流感度を有する第２センサの出力信号により多く依拠して前記アクチュエータを電気的に駆動することとを含む、方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
関連出願への相互参照
[0001]  本願は、２００８年３月５日に出願した米国仮出願第６１／０６４，４３１号の優先権を主張し、その全体を本願に参考として組み込む。
【０００２】
[0002]  本発明は、リソグラフィ装置および方法に関する。
【背景技術】
【０００３】
[0003]  リソグラフィ装置は、所望のパターンを基板上、通常、基板のターゲット部分上に付与する機械である。リソグラフィ装置は、例えば、集積回路（ＩＣ）の製造に用いることができる。その場合、ＩＣの個々の層上に形成される回路パターンを生成するために、マスクまたはレチクルとも呼ばれるパターニングデバイスを用いることができる。このパターンは、基板（例えば、シリコンウェーハ）上のターゲット部分（例えば、ダイの一部、または１つ以上のダイを含む）に転写することができる。通常、パターンの転写は、基板上に設けられた放射感応性材料（レジスト）層上への結像によって行われる。一般には、単一の基板が、連続的にパターニングされる隣接したターゲット部分のネットワークを含んでいる。公知のリソグラフィ装置としては、ターゲット部分上にパターン全体を一度に露光することにより各ターゲット部分を照射するいわゆるステッパ、および放射ビームによってある特定の方向（「スキャン」方向）にパターンをスキャンすると同時に、この方向に平行または逆平行に基板をスキャンすることにより各ターゲット部分を照射する、いわゆるスキャナが含まれる。パターンを基板上にインプリントすることにより、パターニングデバイスから基板にパターンを転写することも可能である。
【０００４】
[0004]  分かりやすくするために、以下では、投影システムを「レンズ」と呼ぶこともあるが、この用語は、屈折型光学系、反射型光学系および反射屈折型システムなどを含む様々なタイプの投影システムを包含していると広く解釈されるべきである。放射システムは、投影放射ビームを誘導し、整形し、または制御するためにこれらの設計タイプのいずれかによって動作するコンポーネントを含むことができる。下記では、そのようなコンポーネントも総称してあるいは単独で「レンズ」または「投影システム」と呼ぶことができる。
【０００５】
[0005]  基板上にパターンを投影するために、パターニングデバイスおよび基板を正確に位置合わせすること、すなわち互いに対して位置決めすることが望ましい。さらに、リソグラフィ装置に含まれる放射ビームおよび／または他のデバイスに対してパターニングデバイスおよび基板を位置合わせすることが必要となることがある。
【０００６】
[0006]  従来のリソグラフィ装置では、基板およびパターニングデバイスを基準点に対して正確に位置決めするように構成されたアクチュエータアセンブリが、基板テーブルおよびパターンサポートの両方に設けられている。アクチュエータアセンブリは、ロングストロークアクチュエータおよびショートストロークアクチュエータを含むことができる。ロングストロークアクチュエータとショートストロークアクチュエータが動作可能に結合され、ロングストロークアクチュエータを使用して相対的に長距離にわたって基板またはパターニングデバイスを移動することが可能となり、ショートストロークアクチュエータを使用して基板またはパターニングデバイスを正確に位置決めすることが可能となる。ロングストロークアクチュエータなどの、物体を長距離にわたって移動するアクチュエータは、それ自体では正確な位置決めには一般には不適当であることに留意されたい。
【０００７】
[0007]  ショートストロークアクチュエータのためのドライバは、大きな動的範囲内の電流を供給する。通常、ドライバのためのコントローラは、電流の瞬時値を測定するように構成された電流センサユニットを含むフィードバックループを含む。供給される電流は、非常に小さい値から異なることがあり、例えば、スキャン位相中の１アンペア分の１から加速中の数十アンペアの非常に高い電流までの範囲で異なる。電流センサユニットは、加速中に生じる最も高い電流も測定できる電流センサを有するべきである。電流センサによって生成される雑音は実際その最大測定範囲のある割合を占めるので、スキャン位相中の相対的に低い電流を測定する場合、電流測定の信号対雑音比は相対的に低い。フィードバック構成で使用されるため、電流センサユニットの雑音はモータ電流内の雑音に寄与し得る。結果として生じるモータ電流は、リソグラフィ機械に対して望まれる仕様と比較して大きい位置決めエラーという結果となり得る。これは、特に、ＥＵＶ−ＲＳ（極端ＵＶ）システムに当てはまる。
【発明の概要】
【０００８】
[0008]  本発明の一態様は、改良されたドライブシステムおよび電気アクチュエータを駆動する方法を提供する。
【０００９】
[0009]  本発明の別の態様は、改良されたリソグラフィ装置を提供する。
本発明の一態様によると、ドライブシステムは、電気アクチュエータを制御可能に駆動するように構成される。ドライブシステムは、電気アクチュエータによって送られる(conducted)電流を感知するように構成された電流センサシステムであって、感知される電流に対して相互に異なる感度を有する少なくとも第１電流センサおよび第２電流センサを含む、電流センサシステムと、電流センサシステムの出力信号に基づいて電気アクチュエータを電気的に駆動するように構成されたドライバであって、少なくとも第１電流センサおよび第２電流センサの各々が電流センサシステムの出力信号を決定する度合を制御するように構成された電流センサコントローラを含む、ドライバとを含む。
【００１０】
[0010]  ドライブシステムは、感知される電流に対する上部の範囲に対して相互に異なる値を有する少なくとも第１電流センサおよび第２電流センサを含む。ドライブシステムは、電流センサの各々が電流センサシステムの出力信号を決定する度合を制御するために電流センサコントローラをさらに含む。第１電流センサは、加速モードに対して典型的なアクチュエータ電流の値と等しい最大値ｍ１、例えば加速中に予測される最大電流を有する範囲を有してよい。第２電流センサは、第１電流センサのものより低い最大値ｍ２を有する範囲を有してよい。
【００１１】
[0011]  一実施形態では、電流センサコントローラは、電流の値が閾値より高く推定された場合に最も低い感度を有する電流センサを選択し、かつ電流の値が閾値より低く推定された場合に最も高い感度を有する電流センサを選択するように構成されたセレクタを含む。閾値は、例えば最大値ｍ２である。あるいは、ドライブシステムの公差を考慮に入れるために、最大値ｍ２より低い、例えば１０％低い閾値が選択されてよい。
【００１２】
[0012]  セレクタは、アクチュエータに供給された電流が第２センサの範囲内に入った場合に第２電流センサを選択するように構成される。この第２電流センサの測定範囲はより低い最大値を有するので、第２電流センサがその測定範囲の最大値において同じ相対的な信号対雑音レベルを有してもより低い絶対雑音レベルが達成される。供給される電流が、例えば加速中に、第２センサの範囲を超えた場合、選択デバイスは第１電流センサを選択するように構成される。比率ｍ１／ｍ２が２以上であった場合、信号対雑音比におけるかなりの向上がすでに達成される。好ましくは、比率ｍ１／ｍ２は少なくとも１０である。
【００１３】
[0013]  ２つの電流センサを有する電流センサシステムが十分であるが、電流センサシステムは２つより多くの電流センサを有してもよい。その場合、選択デバイスが、測定される電流より高い最低最大値を有する測定範囲を有する電流センサを選択した場合、最大測定精度が得られる。
【００１４】
[0014]  センサ信号のうち１つのみを電流センサの出力信号として選択する代わりに、電流センサは、共同して電流センサシステムの出力信号に寄与してよい。その場合、電流センサ制御デバイスは、電流センサの各々に対して重み係数を決定し、電流センサは、それぞれ、電流センサシステムの出力信号に寄与する。重み係数の値は決定された電流の大きさに依拠し、電流の大きさが閾値より低いと決定された場合、最も高い感度を有する電流センサに対する重み係数は、最も低い感度を有する電流センサに対する重み係数より高い。電流の大きさが閾値より高いと決定された場合、最も高い感度を有する電流センサに対する重み係数は、最も低い感度を有する電流センサに対する重み係数より低い。特定の実施形態では、最も高い感度を有する電流センサに対する重み係数は、決定された電流の減少関数である。そこで、その電流センサに対する重み係数は、決定された電流が閾値に達するまで値０に減少し、閾値より高い決定された電流に対して０のまま残る。最も低い感度を有する電流センサに対する重み係数は、決定された電流が閾値に達するまで値０から増加してその後電流のより高い決定された値に対して一定のまま残る、決定された電流の増加関数である。閾値は、最も高い感度を有する電流センサの感知範囲に対して、例えば最大値ｍ２である。あるいは、ドライブシステムの公差を考慮に入れるために、最大値ｍ２よりより低い、例えば１０％低い閾値が選択されてよい。
【００１５】
[0015]  電流の大きさを決定するためにいくつかの選択肢が可能である。ドライブシステムの一実施形態では、電流センサコントローラの動作は、電流センサのうちの少なくとも１つから得られる大きさ表示信号によって制御される。これは、選択デバイスがすでに存在する信号に基づいて制御されるという利点を有する。大きさ表示信号は、最も高い最大値を有する測定範囲を有する電流センサによって提供されてよい。この電流センサの測定精度は相対的に低いが、状況下においてどの電流センサが最適測定範囲を有するかを判断するにはまだ十分である。あるいは、最も低い最大値を有する電流センサを使用してもよい。電流がそのセンサの範囲の最大値に近づくと、これは、より高い最大値を有する測定範囲を有する別の電流センサが使用されるべきであるという表示として使用することができる。そのときに、この別の電流センサは、更なる電流センサの選択を開始するオーバーロード信号を提供してもよい。
【００１６】
[0016]  あるいは、電流センサ制御デバイスのための制御信号は、外部ソースによって、例えば、以下により詳細に説明されるようなマスタコントローラによって提供されてもよい。
【００１７】
[0017]  一実施形態では、ドライブシステムは、アクチュエータによって変位された物体の位置を示す第１位置信号を提供する位置センサを含む。そこで、第１比較器は、第１位置信号によって示される位置と第１セットポイント信号によって示される物体の所望の位置との差を示す差分信号を提供するように構成される。第１コントローラは、差分信号に依拠してドライブユニットを制御するように構成される。この場合、電流制御ループは位置制御ループによって制御される。電流制御ループは迅速に補助し、位置制御ループによって設定されるターゲットを正確に達成する。
【００１８】
[0018]  一実施形態では、フィードフォーワードフィルタの出力信号は、第１コントローラの出力信号に重ね合わされる。第１フィードフォーワードコントローラは、アクチュエータの動的性質を考慮に入れ、制御回路を所定の共振周波数、所望の帯域幅、あるいは他のあらゆる特性または仕様に適合し得る。したがって、位置フィードバックループは、不測のエラーをだけを補償しなければならない。
【００１９】
[0019]  一実施形態では、ドライブシステムは、更なるまたは追加のアクチュエータを駆動するように構成される。そこで、更なるまたは追加のアクチュエータは、アクチュエータを位置決めするように構成される。ドライブシステムは、第１位置信号とロングストロークアクチュエータによって生じる変位を示す第２変位信号との差を示す第２差分信号を提供するように構成された第２比較器を含む。ドライブシステムは、ロングストロークアクチュエータを駆動するように構成された第２ドライブユニットと、第２差分信号に依拠して第２ドライブユニットを制御するように構成された第２コントローラとを含む。ロングストロークアクチュエータは、広い位置範囲において物体の位置決めを可能とする。ショートストロークアクチュエータは、正確な位置決めを提供するように構成される。この実施形態では、ショートストロークアクチュエータの位置フィードバックループは、物体を所望のセットポイントで位置決めするように構成される一方、ロングストロークアクチュエータに対する位置フィードバックループを制御するためにロングストロークアクチュエータに対する固定セットポイントと物体の達成された位置との差が使用される。一実施形態では、第２コントローラは第２比較器に結合される。第２フィードフォーワードコントローラからの信号は、第２コントローラの出力信号に重ね合わされてよい。この第２フィードフォーワードコントローラは、ロングストロークアクチュエータの動的性質を考慮に入れる。
【００２０】
[0020]  一実施形態では、ドライブシステムは、アクチュエータによって位置決めされる物体の所望の位置を示す信号を提供し、かつ制御信号を電流センサ制御デバイスに提供するように構成されたセットポイントジェネレータを含むマスタ制御ユニットを含む。マスタ制御ユニットは物体の計画された位置についての情報を有するとともに、予測された加速についての情報も有するので、（１つまたは複数の）アクチュエータに届けられる電流を予測できる。したがって、マスタ制御ユニットは、どの電流センサが最も適切であるか、または電流センサの出力信号がどのように重み付けされるべきかを決定するために制御信号を電流センサ制御デバイスに提供できる。
【００２１】
[0021]  本発明の一態様では、放射ビームを提供するように構成された放射システムと、所望のパターンに従って放射ビームにパターンを付与してパターン付けされた放射ビームを形成するパターニングデバイスを支持するように構成されたパターニングデバイスサポートと、基板を保持するように構成された基板サポートと、基板のターゲット部分上にパターン付けされたビームを投影するように構成された投影システムと、サポートのうちの少なくとも１つを位置決めするように構成された電気アクチュエータと、電気アクチュエータを制御可能に駆動するように構成されたドライブシステムとを含むリソグラフィ投影装置であって、ドライブシステムは、電気アクチュエータによって送られる電流を感知するように構成された電流センサシステムであって、感知される電流に対して相互に異なる感度を有する少なくとも第１電流センサおよび第２電流センサを含む、電流センサシステムと、電流センサシステムの出力信号に基づいて電気アクチュエータを電気的に駆動するように構成されたドライバであって、少なくとも第１電流センサおよび第２電流センサの各々が電流センサシステムの出力信号を決定する度合を制御するように構成された電流センサコントローラを含むドライバとを含む、リソグラフィ投影装置が提供される。
【００２２】
[0022]  リソグラフィ投影装置では、パターンに対して基板を位置決めするために高い精度が望ましい一方、位置決めは高スピードで行われる必要がある。本発明の一実施形態によるドライブシステムがこれを可能にする。
【００２３】
[0023]  リソグラフィ投影装置は、基板テーブルのためのおよび／またはサポート構造のためのおよび／またはリソグラフィ装置の他のコンポーネントのためのアクチュエータを含んでよい。コンポーネントの位置決めは、単一のアクチュエータの代わりにロングストロークアクチュエータおよびショートストロークアクチュエータの組み合わせを用いることによって行うことができる。各々のアクチュエータは、本発明の一実施形態によるドライブシステムによって制御されてよい。複数のドライブシステムが共有のマスタコントローラによって統合されてよい。
【００２４】
[0024]  本発明のさらなる態様によると、電気アクチュエータを制御可能に駆動する方法であって、電気アクチュエータに提供される電流の大きさを決定することと、電流に対する決定された大きさが相対的に低い場合、相対的に高い電流感度を有する第１センサの出力信号により多く依拠してアクチュエータを電気的に駆動し、電流に対する決定された大きさが相対的に高い場合、相対的に低い電流感度を有する第２センサの出力信号により多く依拠してアクチュエータを電気的に駆動することとを含む方法が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
[0025]  本発明のこれらのおよび他の態様を、図面を参照して説明する。
【００２６】
【図１】[0026]  図１は、本発明の一実施形態によるリソグラフィ装置を示す。
【図２】[0027]  図２は、本発明の一実施形態による、リソグラフィ装置のコンポーネントを位置決めするように構成されたアクチュエータアセンブリを示す。
【図３】[0028]  図３は、本発明の一実施形態によるアクチュエータアセンブリのためのドライブシステムを概略的に示す。
【図４】[0029]  図４は、本発明の一実施形態によるドライブシステムのモジュールをより詳細に示す。
【図４Ａ】[0030]  図４Ａは、本発明の一実施形態による図４のモジュールの一部を示す。
【図５】[0031]  図５は、本発明の一実施形態によるモジュールの一部を示す。
【図５Ａ】[0032]  図５Ａは、本発明の一実施形態による図５の一部に対する代替のコンポーネントを示す。
【図５Ｂ】[0033]  図５Ｂは、本発明の一実施形態による図５の一部に対するさらなる代替のコンポーネントを示す。
【図６】[0034]  図６は、本発明の一実施形態によるドライブシステムのための代替のモジュールを示す。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
[0035]  以下の詳細な説明では、本発明の様々な実施形態の十分な理解を提供するために多数の具体的な詳細を説明するが、本発明の実施形態をこれらの具体的な詳細なしに実施してもよいことが当業者に理解されるであろう。他の場合には、本発明の様々な態様を不明瞭にしないように、周知の方法、手順、およびコンポーネントを詳細に説明していない。以下、本発明の様々な実施形態は、本発明の実施形態が示されている添付の図面を参照して、さらに十分に説明される。しかしながら、本発明は、多数の様々な形態で実施することができるものであり、本明細書中に説明される実施形態に限定されるものと解釈すべきでない。それどころか、これらの実施形態は、この開示が十分で完全なものとなるように、かつ本発明の範囲を当業者に完全に伝えるように提供されている。
【００２８】
[0036]  図面中、明確にするために層および領域のサイズおよび相対的なサイズは誇張される場合がある。本発明の実施形態は、本明細書中、本発明の理想化された実施形態（および中間構造）の概略図である断面図を参照して説明される。したがって、例えば製造技術および／または公差の結果として生じる図の形状の変形が予測される。したがって、本発明の実施形態は、本明細書中に示される領域の特定の形状に限定されるものと解釈すべきでなく、例えば製造から結果として生じる形状の偏差を含むべきである。したがって、図に示される領域は、本質的には概略的なものであり、それらの形状はデバイスの領域の実際の形状を示すことを意図しておらず、本発明の範囲を限定することを意図していない。
【００２９】
[0037]  第１、第２、第３などの用語が本明細書中に様々なエレメント、コンポーネント、領域、層および／または部分を説明するために使用される場合があるが、これらのエレメント、コンポーネント、領域、層および／または部分はこれらの用語に限定されるべきではない。これらの用語は、１つのエレメント、コンポーネント、領域、層または部分を別の領域、層または部分から区別するためだけに使用される。したがって、以下に説明する第１のエレメント、コンポーネント、領域、層または部分は、本発明の教示から逸脱することなく第２のエレメント、コンポーネント、領域、層または部分と呼ぶことができる。
【００３０】
[0038]  別段の規定がない限り、本明細書で使用される（技術用語および科学用語を含む）すべての用語は、本発明が属する技術分野の当業者によって一般に理解されるものと同じ意味を有する。さらに、一般に使用される辞書に規定されているものなどの用語は、関連の技術分野の文脈におけるそれらの意味と一致する意味を有するものと解釈すべきであり、本明細書でそのように明確に規定されていない限り、理想化された、または過度に形式的な意味で解釈されないことがさらに理解されるであろう。
【００３１】
[0039]  図１は、ベースフレームＢＦと、メトロロジフレームＭＦに結合された投影システムＰＪＳとを有する本発明の一実施形態によるリソグラフィ装置を示す。メトロロジフレームＭＦは、ソフトサスペンションシステムＦＳ（例えばエアマウントまたは非常に柔軟な機械ストリング）によってＢＦから離されている。基準面ＲＰは破線で示されている。基準面ＲＰは、投影システムＰＪＳの光軸ＯＡと平行であるが、それとは異なるように選択してもよい。
【００３２】
[0040]  サポート構造（パターニングデバイスサポートまたはパターンサポート）ＰＳが光軸ＯＡの第１端に位置決めされ、基板テーブルまたは基板サポートＳＴが光軸ＯＡの他端に位置決めされる。動作中、パターニングデバイス（図示せず）がパターンサポートＰＳ上に位置決めされ、基板が基板テーブルＳＴ上に位置決めされる。放射ビームＢＲが放射源ＲＳによって生成され、パターニング手段を通じて光路（ここでは光軸ＯＡ）に沿って基板テーブルＳＴ上の基板（図２ではＳＢ）まで誘導される。光路は、図１の例が示すような直線である必要はない。米国特許第６，８６７，８４６号は、例えば、放射ビームが反射によって複数の真っ直ぐなセグメントを含む光路に沿って誘導されるＥＵＶリソグラフィ装置を記載している。あるいは、光学システムは光学要素を含み、放射ビームは曲線の軌跡をたどってもよい。パターニングデバイスは、所望のパターンに従って投影ビームＢＲをパターン付けする。その後投影システムＰＪＳは、パターン付けされたビームを基板のターゲット部分上に結像する。基板上に正しく投影するために、パターニングデバイス、投影システムＰＪＳおよび基板を位置合わせすることが望ましい。
【００３３】
[0041]  例示の装置は、２つの異なるモードで使用できる。
【００３４】
[0042]  ステップモードにおいては、パターンサポートＰＳを基本的に静止状態に保ち、パターニングデバイスイメージ全体を一度に基板のターゲット部分上に投影する（すなわち、単一の「フラッシュ」）。その後、基板テーブルＳＴは、ｘおよび／またはｙ方向に移動され、それによって別のターゲット部分をパターン付きビームによって照射することができる。
【００３５】
[0043]  スキャンモードにおいては、所与のターゲット部分が単一の「フラッシュ」で露光されない点を除き、ほぼ同じ状況が当てはまる。その代わりに、パターンサポートが、所与の方向（いわゆる「走査方向」、例えばｙ方向）に速度ｖで移動可能であり、それによって、放射ビームＲＢがマスク像の上を走査する。それに並行して、基板テーブルＳＴが同時に同方向または反対方向に速度Ｖ＝Ｍｖで移動し、ここでＭは投影システムＰＪＳの倍率（通常、Ｍ＝［１／４］または［１／５］）である。このようにして、基板の比較的大きなターゲット部分を、解像力を損なわずに露光することができる。
【００３６】
[0044]  図２に概略的に示すように、リソグラフィ装置は、サポート構造または基板テーブルＳＴのうちの少なくとも１つを位置決めするように構成された電気アクチュエータＭ１を含む。示される実施形態では、基板テーブルには、ショートストロークアクチュエータＭ１およびロングストロークアクチュエータＭ２を含むアクチュエータアセンブリが設けられる。
【００３７】
[0045]  図３により詳細に示すように、リソグラフィ装置は、ショートストロークアクチュエータＭ１およびロングストロークアクチュエータＭ２を駆動するように構成されたドライブシステム１０および２０をさらに含む。ショートストロークおよびロングストロークアクチュエータとして使用される適切なアクチュエータは当業者には公知である。ショートストロークアクチュエータは、例えば米国公開番号第２００３−１５５８２１号に記載されている。図３に示すドライブシステムは、マスタ制御ユニットまたはマスタコントローラ１０を含む。マスタ制御ユニットまたはコントローラ１０は、位置決めされる物体の所望の位置ｙsetpointを示す信号を提供するように構成されたセットポイントジェネレータを含み、ここでは基板テーブルＳＴは時間の関数である。マスタ制御ユニットは、制御信号Ｓｃｔｒｌも提供する。基板テーブルＳＴを所望のセットポイントに可能な限り近くに位置決めするために、マスタ制御ユニットは、これらの信号をアクチュエータアセンブリＭ１およびＭ２を制御するように構成されたコントローラユニット２０に提供する。図４にコントローラユニット２０をより詳細に示す。
【００３８】
[0046]  図４に示すように、コントローラ２０は、ショートストロークアクチュエータＭ１を制御するように構成された第１制御モジュール１００およびロングストロークアクチュエータＭ２を制御するように構成された第２制御モジュール２００を含む。ロングストロークアクチュエータＭ２は、相対的に広い範囲にわたる変位ｙＬＳを提供する。ショートストロークアクチュエータは、相対的に短い範囲にわたる正確な変位ｙｄｉｆｆを提供する。第１制御モジュール１００について以下により詳細に説明する。
【００３９】
[0047]  ショートストロークアクチュエータ１００は、所望の位置ｙｓｅｔｐｏｉｎｔに対する値を基板の実際の位置ｙｃａｒｒｉｅｒを示す値と比較するように構成された比較器１１０を含む。差分信号が比較器によって増幅器１３０に提供される。差分信号はコントローラ１２０によって処理される。図４Ａにより詳細に示すように、コントローラ１２０は、フィードバックコントローラ、例えばＰＩＤコントローラ１２１を含む。示される実施形態では、コントローラ１２０は、基板ＳＢを有する基板テーブルＳＴの所望の加速を示す信号Ｙａｃｃ＿ｓｅｔｐｏｉｎｔを処理するフィードフォーワードフィルタ１２２をさらに含む。フィードフォーワードフィルタ１２２は、基板テーブルＳＴとその上の基板ＳＢの質量および第１アクチュエータＭ１の移動部の質量の合計を考慮に入れて、所望の加速を達成するためにアクチュエータＭ１によって加えられるべき所要の力を計算する。加算器１２３は、フィードバックコントローラ１２１およびフィードフォーワードフィルタ１２２の出力信号を加算する。さらに、例えばシステム内の共振周波数がフィードフォーワードフィルタを介して導入される信号によって励起されることを防ぐために、ポストフィルタ１２４が設けられてよい。コントローラ１３０は制御信号Ｖをアクチュエータドライバ１４０に提供し、これはショートストロークアクチュエータＭ１に駆動電流Ｉを提供する。アクチュエータドライブ１４０は、マスタ制御ユニットまたはマスタコントローラ１０から制御信号Ｓｃｔｒｌをさらに受信してもよい。この信号Ｓｃｔｒｌは、アクチュエータドライバ１４０によって運ばれるべき電流の予想範囲を示す。アクチュエータドライバ１４０は、図５を参照してより詳細に説明される。ブロック１５０は、基板ショートストロークアクチュエータＭ１に提供される電流から力ＦＳＳへの変換を表す。ブロック１６０は、チャック（すなわち、基板ＳＢを有するキャリアＳＴ）の動的モデルを表し、これはチャックが基板ショートストロークアクチュエータＭ１によってその上に加えられる力Ｆｓｓにどのように反応するかを示す。比較器１１０にフィードバックされる、ベースフレームに対するチャックの位置を表す信号ｙｃａｒｒｉｅｒは、位置センサＳＤＳによって提供される。位置センサは、干渉計システムまたはエンコーダシステムに基づいてよい。エンコーダシステムは、格子および当該格子を検出する光エンコーダを含む。
【００４０】
[0048]  信号ｙｃａｒｒｉｅｒはさらに基板ロングストロークアクチュエータ２００に提供され、ロングストロークアクチュエータＭ２によって決定される位置を表す信号ＹＬＳと比較器２１０によって比較し、それによって差分信号Ｙｄｉｆｆを計算する。差分信号はコントローラ２２０を介して増幅器２３０へと提供される。増幅器２３０は、基板ロングストロークアクチュエータ２４０を駆動するように構成されたドライバ２４０に制御電圧を提供する。コントローラ２２０は、コントローラ１２０と同じ構成を有してもよい。第２アクチュエータＭ２は第１アクチュエータＭ１の動きに続くので、コントローラ２２０内のフィードフォーワードフィルタに提供されるべき所望の加速を表すセットポイント信号は、基本的にコントローラ１２０に提供されるセットポイント信号Ｙａｃｃ＿ｓｅｔｐｏｉｎｔと同じである。コントローラのフィードフォーワードフィルタは、基板ＳＢを有する基板テーブルＳＴの質量およびアクチュエータＭ１の質量、ならびにアクチュエータＭ２の移動部の質量を考慮に入れて、この加速を達成するための所望の力を計算する。この場合、ドライバ２４０は、一組の駆動電流ｉＲ，Ｓ，Ｔを基板ロングストロークアクチュエータＭ２，２５０に提供するように構成された整流器(commutator)を含む。ブロック２５０は、力ＦＬＳへの基板ロングストロークアクチュエータＭ２の反応を表す。ブロック２６０は、力ＦＬＳからロングストロークアクチュエータＭ２の変位ＹＬＳへの変換を表す。信号ＹＬＳは、平衡質量ＢＭを位置決めするためにコントローラ３００にさらに提供される。あるいは、平衡質量は制振ばねシステム(damped spring system)において懸吊されてもよい。
【００４１】
[0049]  図５は、本発明の一実施形態によるショートストロークアクチュエータＭ１のためのアクチュエータドライバ１４０を示す。図５に示すように、アクチュエータドライブはアクチュエータＭ１によって送られる電流Ｉを感知するように構成された電流感知ユニットまたはセンサシステム１４３を含む。アクチュエータドライバ１４０は、電流感知ユニットまたはセンサシステム１４３の出力信号Ｖｍｅａｓに依拠してアクチュエータＭ１を電気的に駆動するように構成されたドライブユニットまたはドライバ１４２をさらに含む。電流感知ユニットまたはセンサシステム１４３は、少なくとも第１電流センサ１４４および１４６と第２電流センサ１４５および１４７を含む。第１電流センサおよび第２電流センサは、感知される電流に対して互いに異なる感度を有する。第１電流センサ１４４および１４５は、相対的に低い感度を有し、かつ最大値ｍ１を有する電流測定範囲を有する。第２電流センサ１４６および１４７は、相対的に高い感度有し、かつ相対的に小さい最大値ｍ２、すなわち最大値ｍ１より小さい最大値ｍ２を有する電流測定範囲を有する。ドライブシステムは、各々の電流センサが電流感知ユニットまたはセンサシステム１４３の出力信号Ｖｍｅａｓを決定する度合を制御するように構成された電流センサ制御デバイスまたは電流センサコントローラ１４８を含む。
【００４２】
[0050]  示される実施形態では、電流センサ制御デバイス１４８は、第１電流センサまたは第２電流センサのうちの１つが電流感知ユニットまたはセンサシステム１４３の出力信号Ｖｍｅａｓを提供することを可能にするように構成された選択デバイスまたはセレクタであるか、あるいはそれを含む。ドライブユニットは、第１アクチュエータＭ１のための駆動電流を提供する固定電力増幅器１４２を含む。電流センサの出力信号Ｖｍｅａｓは、選択デバイス１４８によってさらに提供される利得制御信号Ｇによって制御された可変利得増幅器１４１によって増幅される。増幅器１４９の出力は、加算器１４９に提供される。可変利得は、電流センサ１４４、１４６、１４５および１４７の互いに異なる利得値を補償することを可能にする。あるいは、一方にある電流センサ１４４および１４６と他方にある電流センサ１４５および１４７との間の利得の差は、差動増幅器１４６および１４７の増幅要因を適切に選択することによって回避することができる。このようにして、電流ループの全利得は一定のまま維持される。図５に示すように、電流センサは、それぞれの直列抵抗にわたる測定された電圧低下を示す差分信号を提供する差動増幅器１４６および１４７と組み合わされた直列抵抗の形態を有してよい。しかしながら、他の電流センサ（例えば、ホール効果センサ）も適している。図５に示すように、選択デバイスまたはセレクタ１４８の選択は、マスタ制御ユニット１０によって提供される制御信号Ｓｃｔｒｌによって決定される。
【００４３】
[0051]  図５Ａに示す代替の実施形態では、選択デバイスまたはセレクタ１４８ａの動作は、電流センサのうちの少なくとも１つから得られる大きさ表示信号Ｉｍａｇｎによって制御される。選択デバイスまたはセレクタ１４８ａは、大きさ表示信号ＩｍａｇｎがアクチュエータＭ１によって送られる電流が第１の値を超えたことを示した場合に電流センサのうちの第１電流センサを有効に (enable)するマルチプレクサ１４８ｂを含む。選択デバイスまたはセレクタ１４８ａは、大きさ表示信号ＩｍａｇｎがアクチュエータＭ１によって送られる電流が第２の値より下に落ちたことを示した場合に電流センサのうちの第２電流センサを有効にする。大きさ表示信号Ｉｍａｇｎは、最も高い最大値を有する電流感知範囲を有する電流センサによって提供されてよい。この信号Ｉｍａｇｎは、マルチプレクサ１４８ｂを制御するバイナリ信号を提供する閾値デバイス１４８ｃに提供されてもよい。あるいは、例えば、２つの電流センサが存在した場合、最も低い最大値の範囲を有する電流センサがその電流感知範囲が超えられたか否かを示すオーバーフロー信号を提供してもよい。このオーバーフロー信号を用いてマルチプレクサ１４８ｂを制御することができる。
【００４４】
[0052]  図５Ｂは別の実施形態を示す。図５のものと対応する図５Ｂの部分は３００より高い参照番号を有する。図５Ｂでは、ドライバ４４２によって提供される電流は第１電流と第２電流とに分けられる。第１電流は固定インピーダンス４４８ａおよび電流センサ４４４を有する第１分岐を通過し、第２電流は可変インピーダンス４４８ｂおよび電流センサ４４５を有する第２分岐を通過する。電流センサ制御デバイスまたは電流センサコントローラ４４８は、各々の電流センサに対する重み係数を決定し、電流センサはそれぞれ電流感知ユニットまたはセンサシステム４４３の出力信号に寄与する。重み係数の値は決定される電流の大きさに依拠する。可変インピーダンス４４８ｂのインピーダンスは適宜制御される。相対的に低い電流では、可変インピーダンス４４８ｂはインピーダンス４４８ａのものより実質的に小さく、それによって電流は相対的に小さい測定範囲を有する第２電流センサ４４５を実質的に通過する。結果的に、最も高い感度を有する電流センサに対する重み係数は、最も低い感度を有する電流センサに対する重み係数より高い。
【００４５】
[0053]  電流が増加した場合、電流センサ制御デバイス４４８は可変インピーダンス４４８ｂを実質的に増加させ、それによって相対的に小さい測定範囲を有する第２電流センサ４４５の寄与は減少される。結果的に、出力信号Ｖｍｅａｓへの第１電流センサ４４４の寄与が増加するように電流のより大きい部分は電流センサ４４４を有する分岐を通って流れる。よって、最も高い感度を有する電流センサに対する重み係数は、最も低い感度を有する電流センサに対する重い係数より低い。
【００４６】
[0054]  一実施形態では、最も高い感度を有する電流センサ４４５に対する重み係数は、決定された電流が閾値に達成するまで値０に減少して閾値より高い決定された電流に対して０のまま残る、決定された電流の減少関数である。最も低い感度を有する電流センサ４４４に対する重み係数は、決定された電流が閾値に達成するまで値０から増加し、その後電流のより高い決定された値に対して一定のまま残る、決定された電流の増加関数である。これは、電流が０から閾値まで増加した場合、インピーダンス４４８ｂの値がインピーダンス４４８ａの値より実質的に小さい値、例えば０オーム、からインピーダンス４４８ａの値より実質的に大きい値、例えば１０倍大きい値まで制御されるというように行われる。閾値の上では、４４８ａのインピーダンスはさらに増加するか、または一定のまま残ることがあり、それによって第２電流センサ４４５のための重み係数は実質的に０のまま残る。
【００４７】
[0055]  １つ以上の分岐は可変インピーダンスを含んでよい。２つより多い分岐は、複数の電流センサの間で選択するために存在してもよい。この場合、電流センサ４４４および４４５のトランスインピーダンスの差は可変利得増幅器４４１によって補償される。この増幅器４４１の利得は、電流センサのトランスインピーダンス間の比率に対応する係数によって異なる。したがって、第２電流センサ４４５が第１電流センサのものより高い係数ｐであるトランスインピーダンスを有する場合、可変利得増幅器の利得は、第２電流センサが選択された場合により高い係数ｐに設定される。増幅器４４１の出力は、加算器４４９によって出力信号Ｖｍｅａｓに加算される。
【００４８】
[0056]  上記した実施形態は、単一の電流センサが使用される従来の実施形態と比較された。従来のリソグラフィ装置では電流ループに導入される雑音は位置決めの不正確さ全体に対して１８４ｎｍ寄与したが、本発明の一実施形態によるリソグラフィ装置では電流ループによる寄与は３００ｐｍ未満に減少され、これはかなりの改善である。
【００４９】
[0057]  上記した実施形態では、基板テーブルＳＴはアクチュエータアセンブリＭ１およびＭ２によって位置決めされる。代替の実施形態では、パターンサポートＰＳは位置ＰＬＨにおいてロングストロークアクチュエータＰＬＳによって位置決めされる。位置はセンサＰＤＳによって測定される。基板テーブルＳＴにはショートストロークアクチュエータが設けられる。基板テーブルＳＴ、よって基板は、基準面ＲＰに対して１自由度で正確に位置決めすることができる。パターンサポートＰＳにはショートストロークアクチュエータが設けられていないため、パターニングデバイスは基準面ＲＰに対して１自由度で相対的に低い位置決め精度によって位置決めされ得る。しかしながら、相対的に低い位置決め精度から結果として生じる位置決めエラーは、パターニングデバイスの実際の位置に基板を一致させて位置決めすることによって補償することができる。
【００５０】
[0058]  図６は、基板テーブルＳＴを移動させるように構成されたアクチュエータアセンブリのための制御システムを示す。アクチュエータアセンブリは、基板を１自由度で相対的に短い距離ｙｄｉｆｆにわたって移動するように構成された基板ショートストロークアクチュエータを含む。例えば、基板テーブルＳＴを１自由度ＰＶ以上移動させるためにより多くのアクチュエータが設けられてもよい。基準面ＲＰに対する基板の位置を決定するために基板位置決定システムＳＤＳが設けられてよい。位置決定システムの例としては、干渉計システムまたはエンコーダシステムが挙げられる。エンコーダシステムは、格子および格子を検出する光エンコーダを含む。パターンサポートＰＳを移動させるように構成されたアクチュエータアセンブリは、パターニングデバイスを１自由度で相対的に大きい距離ＰＬＨにわたって移動させるように構成されたパターンロングストロークアクチュエータＰＬＳを含む。パターンサポートＰＳを１自由度ＳＶ以上移動させるためにより多くのアクチュエータが設けられてもよい。基準面ＲＰに対するパターニングデバイスの位置を決定するために干渉計システムまたはエンコーダシステムなどのパターン位置決定システムＰＤＳが設けられてよい。
【００５１】
[0059]  パターンサポートＰＳを位置決めするために、所望のパターンサポート位置セットポイントＰＳ＿Ｓｅｔｐ＿ｐｏｓおよび所望のパターンサポート加速セットポイントＰＳ＿Ｓｅｔｐ＿ａｃｃが制御システムの制御回路網内に入力される。第１フィルタＰＳ＿Ａｃｃ２Ｆは、所望の加速ＰＳ＿Ｓｅｔｐ＿ａｃｃを所望の力にフィルタするように構成される。所望の位置ＰＳ＿Ｓｅｔｐ＿ｐｏｓから位置決定システム（図１のＰＤＳ）によって決定された実際位置ＰＳ＿ＬＳ２ＲＰ＿ｐｏｓを減算し、結果として基準点または基準面に対する位置エラーＰＳ＿ＬＳ２ＲＰ＿ｐｏｓ＿ｅｒｒｏｒが生ずる。位置エラーＰＳ＿ＬＳ２ＲＰ＿ｐｏｓ＿ｅｒｒｏｒは、パターンサポートＰＳを所望の位置ＰＳ＿Ｓｅｔｐ＿ｐｏｓに移動させるための適切な力を得るためにＰＩＤコントローラなどのコントローラＰＳ＿ＣＴＲＬに入力される。コントローラＰＳ＿ＣＴＲＬおよび第１フィルタＰＳ＿Ａｃｃ２Ｆによって提供される制御信号の合計は、駆動電流をパターンサポートアクチュエータに提供するアクチュエータドライバに提供される。例えば図５、図５Ａおよび図５Ｂを参照して説明されるように、アクチュエータドライバ３４０は、本発明の一実施形態によるアクチュエータドライバである。パターンサポートＰＳの機械的特性は、パターンサポートＰＳの実際位置を出力する生成された力に対するフィルタとして示される。上記したように、ショートストロークアクチュエータは省かれるため、パターンサポートＰＳは正確に位置決めされない。結果として生じる位置決めエラーを補償するために、位置エラーＰＳ＿ＬＳ２ＲＰ＿ｐｏｓ＿ｅｒｒｏｒは、基板テーブルＳＴの動きを制御するための制御回路網に供給される。
【００５２】
[0060]  基板テーブルＳＴは、所望の加速ＳＴ＿Ｓｅｔｐ＿ａｃｃをコントローラＳＴ＿ＣＴＲＬによって出力される力に加算される所望の力にフィルタするための第２フィルタＳＴ＿Ａｃｃ２Ｆを含む同様の制御回路網を用いて制御されてよい。コントローラＳＴ＿ＣＴＲＬは、所望の位置ＳＴ＿Ｓｅｔｐ＿ｐｏｓおよび実際の位置ＳＴ＿ＳＳ２ＲＰ＿ｐｏｓに対応する信号を受信する。基板テーブルＳＴは、パターンサポートＰＳの位置決めエラーＰＳ＿ＬＳ２ＲＰ＿ｐｏｓ＿ｅｒｒｏｒを受けるフィードフォーワード回路によって生成される力によってさらに制御される。この位置決めエラーＰＳ＿ＬＳ２ＲＰ＿ｐｏｓ＿ｅｒｒｏｒは、拡大フィルタＭａＦおよび場合によっては別のフィードフォーワードフィルタＦＦＦによってフィルタリングした後に位置セットポイントＳＴ＿Ｓｅｔｐ＿ｐｏｓに加算される。フィードフォーワード回路は、例えば、制御回路を所定の共振周波数、所望の帯域幅、あるいは他のあらゆる特性または仕様に適合させてよい。フィードフォーワードフィルタＦＦＦは、位置決めエラーＰＳ＿ＬＳ２ＲＰ＿ｐｏｓ＿ｅｒｒｏｒから加速エラーＰＳ＿ＬＳ２ＲＰ＿ａｃｃ＿ｅｒｒｏｒを決定するときに時間微分フィルタＰＯＳ２ＡＣＣに起きる時間遅延を補償するように構成された時間遅延フィルタをさらに含んでもよい。例えば、本願に参考として組み込まれた欧州特許出願第１２６５１０４号に開示されるように、制御回路には予測回路が設けられてもよい。
【００５３】
[0061]  さらに、位置決めエラーＰＳ＿ＬＳ２ＲＰ＿ｐｏｓ＿ｅｒｒｏｒは、位置決めエラーＰＳ＿ＬＳ２ＲＰ＿ｐｏｓ＿ｅｒｒｏｒを時間に対して２度微分するための時間微分フィルタＰＯＳ２ＡＣＣに供給され、それによってパターンサポート加速エラーＰＳ＿ＬＳ２ＲＰ＿ａｃｃ＿ｅｒｒｏｒを決定する。この加速エラーＰＳ＿ＬＳ２ＲＰ＿ａｃｃ＿ｅｒｒｏｒを基板テーブルＳＴの質量ｍによってフィルタすることは、加速エラーＰＳ＿ＬＳ２ＲＰ＿ａｃｃ＿ｅｒｒｏｒをフィードフォーワード補償するための基板テーブルＳＴ上に加えられる適切な力を決定する。したがって、基板テーブルＳＴの制御回路への位置決めエラーＰＳ＿ＬＳ２ＲＰ＿ｐｏｓ＿ｅｒｒｏｒのフィードフォーワードは、基板テーブルＳＴの所望の位置および／または所望の加速を調整することによって位置決めエラーＰＳ＿ＬＳ２ＲＰ＿ｐｏｓ＿ｅｒｒｏｒおよび／またはパターンサポートの加速エラーＰＳ＿ＬＳ２ＲＰ＿ａｃｃ＿ｅｒｒｏｒを補償することを可能にする。時間微分フィルタＰＯＳ２ＡＣＣ、第２フィルタＳＴ＿Ａｃｃ２ＦおよびコントローラＳＴ＿ＣＴＲＬによって生成される制御信号は、重ね合わされ、ショートストローク基板サポートアクチュエータに駆動電流を提供するアクチュエータドライバ４４０に提供される。第２フィルタＳＴ＿Ａｃｃ２Ｆには、加速位置セットポイントＳＴ＿Ｓｅｔｐ＿ｐｏｓが提供される。例えば図５、図５Ａおよび図５Ｂを参照して記載されるように、アクチュエータドライバ４４０は、本発明の実施形態によるアクチュエータドライバである。
【００５４】
[0062]  上記したように、フィードフォーワード回路には拡大フィルタＭａＦが設けられてよい。拡大はパターニングデバイスおよび基板に対して異なる所望の位置およびスピードという結果となり得るため、拡大フィルタＭａＦは投影システムの拡大を補償することができる。例えば、投影システムの［１／４］の拡大率の場合、投影システムに対するパターニングデバイスの変位は、投影システムに対するパターニングデバイスの変位に対して［１／４］倍である基板の変位によって補償することができる。したがって、位置決めエラーＰＳ＿ＬＳ２ＲＰ＿Ｐｏｓ＿ｅｒｒｏｒもこの拡大に対して修正される必要がある。
【００５５】
[0063]  特許請求の範囲では、「ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ（含む）」という語は、他のエレメントまたは工程を除外せず、不定冠詞「ａ」または「ａｎ」は、複数を除外しない。単一のコンポーネントまたは他のユニットが、特許請求の範囲に述べられているいくつかの項目の機能を満たすことができる。単にいくらかの手段が相互に異なる従属クレームに記載されているというだけでは、これらの手段の組み合わせを有利に使用できないということを示すことにならない。特許請求の範囲内のあらゆる参照符号は、その範囲を限定するものと解釈すべきではない。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図４Ａ】
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【図５】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図６】
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【国際調査報告】
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