(57)【要約】支持体およびこの支持体上に順番に配置される記録層および光透過層を備える光学記録媒体であって、支持体が、射出成形部品、成形表面層および成形コア層を有する射出成形サンドイッチ構造体または２つの射出成形部品であって紫外線結合されているもの、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される１以上の部品を備え、ＡＳＴＭ  Ｅ  ７５６−０５に従って２５℃において２０００Ｈｚで測定される支持体のヤング率Ｅが少なくとも２．１５ＧＰａでありかつＱファクターが１６０以下である、光学記録媒体。【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体および該支持体上に順番に配置される記録層および光透過層を備える光学記録媒体であって、該支持体が、射出成形部品、成形表面層および成形コア層を有する射出成形サンドイッチ構造体または紫外線結合される２つの射出成形部品、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される１以上の部品を備え、該支持体のＡＳＴＭ  Ｅ  ７５６−０５に従って２５℃において２０００Ｈｚで測定されるヤング率Ｅが少なくとも２．１５ＧＰａであり、かつ、Ｑファクターが１６０以下である、光学記録媒体。
【請求項２】
該支持体のＡＳＴＭ  Ｅ  ７５６−０５に従って２５℃において２０００Ｈｚで測定されるヤング率Ｅが少なくとも２．１５ＧＰａであり、かつ、Ｑファクターが１００以下である、請求項１に記載の光学記録媒体。
【請求項３】
該支持体のＡＳＴＭ  Ｅ  ７５６−０５に従って２５℃において２０００Ｈｚで測定されるヤング率Ｅが少なくとも２．９３ＧＰａであり、かつ、Ｑファクターが１６０以下である、請求項１に記載の光学記録媒体。
【請求項４】
該光透過層が、屈折率の実部ｎが少なくとも１．４１である紫外線硬化性スピンコート性樹脂を含有する、請求項１に記載の光学記録媒体。
【請求項５】
該光透過層が、紫外線硬化性スピンコート性樹脂を含有し、（ｉ）屈折率の実部ｎが少なくとも１．７０であり、かつ、虚部ｋが０．０１６以下である複素屈折率を有し；（ｉｉ）表面粗度Ｒａが２０ｎｍ以下であり；（ｉｉｉ）掻き傷の深さが０．７５μｍ以下である耐引掻き性を有し、該複素屈折率の実部ｎおよび虚部ｋが波長４００〜４１０ｎｍにおいて測定され；該表面粗度Ｒａが原子間力顕微鏡によって測定され；該掻き傷の深さが半径５０μｍのチップを有するダイヤモンド針を適用重量４０ｇのもとで該光透過層上を前進速度１．５ｃｍ／秒で動かすことによって測定される、請求項１に記載の光学記録媒体。
【請求項６】
該光透過層が、平均粒度（ｄ５０）１００ｎｍ以下のナノ粒子を含有する紫外線硬化性スピンコート可能樹脂を含有する、請求項１に記載の光学記録媒体。
【請求項７】
該光透過層の厚さが１ｎｍ〜３０００ｎｍである、請求項１に記載の光学記録媒体。
【請求項８】
該光透過層の厚さが２００ｎｍ〜２０００ｎｍである、請求項１に記載の光学記録媒体。
【請求項９】
該光透過層の厚さが５００ｎｍ〜１５００ｎｍである、請求項１に記載の光学記録媒体。
【請求項１０】
該支持体が１−Ｋ射出成形法によって製造されるパーツを備える、請求項１に記載の光学記録媒体。
【請求項１１】
該支持体が２−Ｋサンドイッチ射出成形法によって製造されるパーツを備える、請求項１に記載の光学記録媒体。
【請求項１２】
該支持体が紫外線結合法によって結合される２つの射出成形支持体を備える、請求項１に記載の光学記録媒体。
【請求項１３】
該支持体が、ポリカーボネート樹脂、アクリル酸樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリシクロオレフィン樹脂、水素化ポリスチレン樹脂、およびそれらの組み合わせから成る群から選択される樹脂を含有する、請求項１に記載の光学記録媒体。
【請求項１４】
該支持体が、一般式（１）：
ＨＯ−Ｚ−ＯＨ      （１）
（式中、Ｚは、一般式（１ａ）：
【化１】
2011501336.tif 000010
（式中、それぞれのＲ１およびＲ２は、独立して、ＨまたはＣ１〜Ｃ８−アルキルであり、Ｘは、単結合、Ｃ１〜Ｃ６−アルキレン、Ｃ２〜Ｃ５−アルキリデンまたは任意にＣ１〜Ｃ６−アルキル置換されていてもよいＣ５〜Ｃ６−シクロアルキリデンであり、但し、Ｘが３，３，５−トリメチルシクロヘキシリデンである場合、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ水素である。）の基である。）
の芳香族ジヒドロキシモノマー化合物で製造されるポリカーボネート樹脂を含有する、請求項１に記載の光学記録媒体。
【請求項１５】
該支持体が、ポリカーボネート樹脂、アクリル酸樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリシクロオレフィン樹脂、水素化ポリスチレン樹脂、およびそれらの組み合わせから成る群から選択される樹脂を含有する、請求項２に記載の光学記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
情報信号の記録および再生用の既知の記録媒体、例えばオーディオまたはビデオ用記録媒体、としては、ディスク型光学記録媒体およびディスク型磁気記録媒体が挙げられる。
【０００２】
これらの記録媒体の中には、情報信号が例えばピットおよびグルーブによって微小な凸凹として書き込まれる光ディスク、相変化光ディスク、光磁気ディスク、光磁気効果利用記録フィルム（ｅｘｐｌｏｉｔｉｎｇ  ｐｈｏｔｏｍａｇｎｅｔｉｃ  ｅｆｆｅｃｔ  ｏｆ  ｔｈｅ  ｒｅｃｏｒｄｉｎｇ  ｆｉｌｍ）、および磁気書込信号用ハードディスクがある。
【０００３】
光学記録媒体上に記録層を形成するために、情報信号、例えばデータ情報またはトラッキングサーボ信号、に関連して微小な凹凸、例えば位相ピットまたはプレグルーブ、を有するこれらの記録媒体の中で、プラスチック材料の支持体の射出成形が通常用いられる。特に、ディスク型支持体は、射出成形デバイス、金属金型およびスタンパーを使用して形成され、情報信号は、この時にスタンパーから転写される。
【背景技術】
【０００４】
そのような光ディスクに対して情報を読み出し、かつ記録するために、通常、所定の開口数ＮＡの単純な対物レンズを通して波長λのレーザービームを、厚さｄがλよりも非常に大きい光透過層を通じて、λよりも非常に長い対物レンズと光透過層表面との間の作動距離ＷＤで記録層に集光させる。ここで、集束レーザービームのスポット径ＤはＤ＝λ／ＮＡと示される。市販のディスク、例えばコンパクトディスク（ＣＤ、λ＝７８０ｎｍ、ＮＡ＝０．４５、ｄ＝１．２ｍｍ）、デジタル多用途ディスク（ＤＶＤ、λ＝６５０ｎｍ、ＮＡ＝０．６０、ｄ＝０．６ｍｍ）、高密度デジタル多用途ディスク（ＨＤ−ＤＶＤ、λ＝４０５ｎｍ、ＮＡ＝０．６５、ｄ＝０．６ｍｍ）またはブルーレイディスク（ＢＤ、λ＝４０５ｎｍ、ＮＡ＝０．８５、ｄ＝０．１ｍｍ）は、この遠距離場光学原理を使用している。λを低減させ、かつ、ＮＡを増加させることによって、スポット径Ｄが低減され、従って、データ密度が増加する。
【０００５】
しかしながら、そのような遠距離場光（ｄおよびＷＤ＞＞λ）では、対物レンズのＮＡは１．０未満の値に制限される。データ密度を更に増加させるために、ＮＡは１．０よりも大きくなる必要があり、これは近接場光（ＮＦＲ）によって実現されうる。ＮＦＲの１つの手段は、いわゆるソリッドイマージョンレンズ（ＳＩＬ）を利用することである（例えばＳ．Ｍ．Ｍａｎｓｆｉｅｌｄ，Ｗ．Ｒ．Ｓｔｕｄｅｎｍｕｎｄ，Ｇ．Ｓ．Ｋｉｎｏ，ａｎｄ  Ｋ．Ｏｓａｔｏ，“Ｈｉｇｈ−ｎｕｍｅｒｉｃａｌ−ａｐｅｒｔｕｒｅ  ｌｅｎｓ  ｓｙｓｔｅｍ  ｆｏｒ  ａｎ  ｏｐｔｉｃａｌ  ｓｔｏｒａｇｅ  ｈｅａｄ，”Ｏｐｔ．Ｌｅｔｔ．１８，３０５頁以降（１９９３年）参照。この全ての内容を参照することによって本明細書中に組み込む。）。例えば、ＮＡが１．０未満の遠距離場レンズおよび屈折率ｎＳＩＬの材料で作られた半球レンズで構成されるレンズシステムにおいて、有効開口数ＮＡｅｆｆは、ＮＡ・ｎＳＩＬで与えられ、これはｎＳＩＬが十分大きいと１．０を超える。別の手段は、λよりも非常に小さい開口径ＤＡｐによる。これは、末端開口が非常に狭い光ファイバー（例えばＨ．Ｂｒｕｅｃｋｌ，Ｐｈｙｓｉｋ  ｉｎ  ｕｎｓｅｒｅｒ  Ｚｅｉｔ，２８，Ｊａｈｒｇａｎｇ  １９９７年，第２巻，６７頁以降参照。この全ての内容を参照することによって本明細書中に組み込む。）によって、または光学非直線応答性の薄いマスキング層（いわゆる超解像強化近接場構造、例えばＪ．Ｔｏｍｉｎａｇａら，Ａｐｐｌｉｅｄ  Ｐｈｙｓｉｃｓ  Ｌｅｔｔｅｒｓ，第７３巻（１５）１９９８年，２０７８〜２０８０頁参照。この全ての内容を参照することによって本明細書中に組み込む。）によって実現される。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ＮＦＲは、λよりも非常に短いレンズシステムの表面または開口とディスクの表面または記録層との間のＷＤで電磁場を利用する。例えば、Ｋ．Ｓａｉｔｏら，Ｔｅｃｈｎｉｃａｌ  Ｄｉｇｅｓｔ  ＩＳＯＭ  ２００１，２４４頁以降において、４０５ｎｍよりも非常に短い作動距離ＷＤにおいて、ＳＩＬのエバネセント波の十分な光がディスクに結合することが示されており、ＳＩＬのＮＡｅｆｆは遠距離場限界１．０を超えて上昇する。安定再生信号を得るためにＷＤの精度を数ｎｍのレベルに制御しなければならないことも示されている。これは、レンズ表面からの距離とともにエバネセント波の強度が指数関数的に減衰すると理解される。そのような制御メカニズムを確立するために、Ｔ．Ｉｓｈｉｍｏｔｏら，Ｔｅｃｈｎｉｃａｌ  Ｄｉｇｅｓｔ  ＩＳＯＭ／ＯＤＳ  ２００２，ＷＣ３，２８７頁以降によってアクティブフィードバックサーボループが提供され、導入された（この全ての内容を参照することによって本明細書中に組み込む。）。このサーボループは、回転ディスクのモード振動に由来するＷＤの変動も相殺できる（Ｊ．Ｉ．Ｌｅｅら，Ｔｅｃｈｎｉｃａｌ  Ｄｉｇｅｓｔ  ＯＤＳ  ２００６  ＭＣ４，４３頁以降。この全ての内容を参照することによって本明細書中に組み込む。）。しかしながら、サーボループのバンド幅制限のために、そのような相殺は、低いディスク回転速度およびモード周波数が８００Ｈｚ未満の低周波数モード振動でしかあまり作用しない。従って、例えば厚さ１．１ｍｍの直径１２０ｍｍの大型ポリカーボネートディスクの高周波数モード振動の振幅に起因して、データ転送速度に限界がある。上記文献に開示されている支持体は本発明の支持体の要求を満たさない。高いディスク回転速度でもギャップサーボ制御操作を改良するために、特にディスクの高い周波数モード振動挙動を改良しなければならない。
【０００７】
モード振動は、モード周波数ｆｎによって識別され、モード周波数ｆｎが（Ｅ／ρ）０．５に比例するので、ｆｎはディスクのジオメトリおよびヤング率Ｅと質量密度ρとの比に関連する（更に、式１も参照。）。クオリティファクターＱ（式２参照。）は、Ｑ＝３／ｔａｎδによってｔａｎδに関連する。その意味で、Ｑは、ｔａｎδと同様に減衰の尺度として使用される。低いＱは、ｔａｎδが高いので高い減衰を意味する。一般的に、ＥおよびＱは、周波数ｆへの明瞭な依存性を示す。
【０００８】
ＵＳ  ６，９０８，６５５  Ｂ２（この全ての内容を参照することによって本明細書中に組み込む。）は、典型的な厚さ１．１ｍｍの直径１２０ｍｍの大型ポリカーボネートディスクにおいて約１４０Ｈｚにおいて生じる低周波数（第１）モード振動の影響に焦点を合わせており、更に遠距離場光学ピックアップヘッドにも関連している。
【０００９】
ＷＯ  ００／４８１７２（この全ての内容を参照することによって本明細書中に組み込む。）は、ディスクの第１モード周波数（３００Ｈｚ未満）挙動に焦点を合わせており、第１モード周波数が好ましくはディスクの回転操作範囲外に位置することが言われている。高周波数モード振動（２０００Ｈｚ以下）の挙動に関する解決策は開示されていない。ＷＯ  ００／４８１７２の実施例２に基づくこの出願の実験部分にある比較例３は、減衰に関する低周波数要求を満たす解決策が本発明の高周波数要求に合わないことを示している。
【００１０】
ＷＯ  ２００３／００５３５４Ａ１（この全ての内容を参照することによって本明細書中に組み込む。）は、特別なコポリカーボネートがディスクの改良された減衰を達成することを記載している。この開示は、ポリマーの化学構造が本発明と異なるかまたは減衰に関する低い（第１）モード周波数要求を記載しており、本発明の高周波数要求を記載していない点で本発明と異なる。
【００１１】
本発明の高周波数モード振動要求に十分でないが、低周波数（１Ｈｚ〜１６Ｈｚ）における改良された減衰を達成するための別の解決策は、ＵＳ  ６，３９１，４１８Ｂ１、ＥＰ  １  １５８  ０２４  Ａ１およびＵＳ  ２００４／０２６５６０５  Ａ１に開示されている（これらそれぞれの全ての内容を参照することによって本明細書中に組み込む。）。ＵＳ  ６，３９１，４１８  Ｂ１は、粘度平均分子量が１０，０００〜４０，０００であり、ビフェニル、テルフェニル化合物またはそれらの混合物ベースのポリカーボネートを含有するポリカーボネート組成物で作られた情報記録媒体用支持体を記載している。ＥＰ  １  １５８  ０２４  Ａ１は、（ａ）損失ｔａｎδが０．０１〜０．０４であり、かつ、荷重撓み温度が１２０℃以上であるアモルファス熱可塑性樹脂５０〜９０ｗｔ．％および（ｂ）メチルメタクリレート樹脂５０〜１０ｗｔ．％を含有する振動減衰熱可塑性樹脂組成物であって、それらから成形される物品がある物理特性を有する振動減衰熱可塑性樹脂組成物を記載している。ＵＳ  ２００４／０２６５６０５  Ａ１は、フィジカル部分が少なくとも１種類のポリイミドを含有する支持体およびこの支持体上の少なくとも１つのデータ層を備える振動減衰データ記憶媒体を記載している。これは第１モード（低周波数）振動に関連している。
【００１２】
ＮＦＲに関する別の重要な特性は、エバネセント場からの光をλよりも非常に短いＷＤを通して記録媒体の表面に結合させてＤをλ／ＮＡｅｆｆに低減させるためにＳＩＬのＮＡｅｆｆを完全に利用する能力である。そのために、記録媒体の最上部光透過層の屈折率の実部ｎは、ＮＡｅｆｆよりも大きくなければならない。そのような層は、高屈折率層（ＨＲＩコーティング）であって、本発明によって記録媒体の最上層を形成し、エバネセント場中の光の記録媒体への結合を可能にする高屈折率層（ＨＲＩコーティング）によって実現されうる。ＨＲＩコーティングは、更に、２以上の再生層または記録層同士の間のスペーサー層としても使用されうる。それぞれの最良遠距離場光（ＮＡ＜１．０）と比較して記録密度を少なくとも２倍増加させるために、ＮＡｅｆｆは少なくとも１．４１よりも大きくなくてはならず、従って、ＨＲＩ層の屈折率の実部ｎは少なくとも１．４１でなければならない。遠距離場光に焦点を合わせている先行技術はそのことを説明する必要がなかった。
【００１３】
ＵＳ  ６，８７５，４８９  Ｂ２またはＥＰ  １，５１８，８８０  Ａ（これらのそれぞれの全内容を参照することによって本明細書中に組み込む。）は、これらの態様が遠距離場光学ディスク、例えばＢＤ、に関連しているので、厚さｄが３μｍを超える光透過層に重点的に取り組んでいる。ＮＦＲでは有効ＮＡｅｆｆが１．０よりも大きいので、例えば収差を補正することが容易であるので、光透過層の厚さｄをより小さな値（例えば３μｍ以下）に限定することが重要である（Ｚｉｊｐら，Ｐｒｏｃ．ｏｆ  ＳＰＩＥ  第５３８０巻，２０９頁以降）。
【００１４】
ＨＲＩ層の上記光学特性に加え、ＮＦＲ光ピックアップヘッドの非常に短いＷＤのために、偶発的なヘッドクラッシュの場合に、そのようなＨＲＩ層は、記録媒体に貯蔵される情報および光ピックアップヘッドの保護層の役割も果たさなければならない。そのために、ＨＲＩ層は、ＷＤがわずか数十ｎｍの範囲内にあるので、耐引掻き性が高く、かつ、表面粗度Ｒａが低いべきである。更に、ＨＲＩ層で構成されるスペーサー層によって離される多重積層記録層からの十分高い反射を可能にするために、および、高い読み出し安定性を実現するために、ＨＲＩ層の吸収または屈折率の虚部ｋもまた低いべきである。ここでもまた、先行技術はディスク構造のそのような複素特性プロファイルを説明する必要がなかった。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明の様々な態様は、ギャップサーボ制御ＮＦＲディスク用光学記録媒体であって、少なくとも記録層および光透過層が支持体上に順番に形成されており、光が光透過層側から情報信号の記録および／または再生用に照射され、前記支持体が２０００Ｈｚの高周波数においてヤング率および減衰（Ｑファクター）に関する特定の要求を満たすギャップサーボ制御ＮＦＲディスク用光学記録媒体を提供する。更に、本発明の様々な態様は、屈折率、耐引掻き性および表面粗度に関する特定の要求を有する光透過層を有する上記のような光学記録媒体を提供する。
【００１６】
本発明は、様々な情報信号、例えば近接場光ピックアップヘッド（Ｎｅａｒ  Ｆｉｅｌｄ  Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｐｉｃｋ  ｕｐ  Ｈｅａｄ）に適合するデジタルデータ、の記録用の特別な構造を有するディスク型高密度記録媒体に関する。
【００１７】
ギャップサーボ制御近接場記録および近接場読み出しにおいて、レンズとディスク表面との間の作動距離ＷＤは、レーザー光の波長λをはるかに下回って減らされなければならず、狭い範囲内に制御されなければならない。従って、ディスクの高周波数モード振動挙動並びに光透過層の厚さ、光学および機械的特性に関する厳しい要求が存在する。本発明は、上記問題を解決するのに好適な材料で実現されるディスクアーキテクチャ（ｄｉｓｃ  ａｒｃｈｉｔｅｃｔｕｒｅｓ）の特別な選択を示す。
【００１８】
本発明の一態様としては、支持体並びにこの支持体上に順番に配置される記録層および光透過層を備える光学記録媒体であって、支持体が、射出成形部品、成形面層および成形コア層を有する射出成形サンドイッチ構造体または２つの射出成形パーツであって紫外線結合されているもの、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される１以上のパーツを含有し、かつ、ＡＳＴＭ  Ｅ  ７５６−０５に従って２５℃において２０００Ｈｚで測定される支持体のヤング率Ｅが少なくとも２．１５ＧＰａであり、Ｑファクターが１６０未満である光学記録媒体が挙げられる。
【００１９】
上記の要旨、並びに下記本発明の詳細な説明は、添付の図面と併せて読むとよりよく理解できる。本発明の説明を補助する目的で、実例と理解されるそれぞれの態様を図面に示す。しかしながら、本発明が示される正確な配置および手段に決して限定されないと理解されるべきである。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】図１は、ＡＳＴＭ  Ｅ  ７５６−０５に記述されているものと同様のレーザドップラ振動計（ＬＤＶ）の構成（ｓｅｔ−ｕｐ）であって、本発明の様々な態様に使用される支持体のヤング率ＥおよびＱファクターの測定に用いられるレーザドップラ振動計の構成を図示している。
【００２１】
本明細書中で特に数を示さずに使用される名詞は、言い回しおよび／または文脈が特に明確に示さない限り、その数は「１以上」および「少なくとも１つ」である。従って、例えば、本明細書または添付の特許請求の範囲中、「樹脂」は、単一樹脂または１種類よりも多くの樹脂を示す。加えて、全ての数値は、特に他に示さない限り、用語「約」によって修飾されていると理解される。
【００２２】
高周波数のディスクのモード振動に影響を及ぼすものとしては、モード振動を高周波数にシフトさせ、それによって振幅を所定の減衰で低減させる、ヤング率Ｅ（弾性率）の上昇；または振動振幅を低減させるクオリティファクターＱの低減（減衰を増加させる）が挙げられる。前記問題を解決するために、弾性率または減衰が単一パラメータまたは両方のパラメータとして改良されうる。
【００２３】
本発明の様々な態様は、少なくとも記録層と光透過層とを備える光学記録媒体を含む。記録層および光透過層は支持体上に順番に形成され、光は情報信号の記録および／または再生のために光透過層側から照射される。支持体は、射出成形部品で構成されるかまたは成形面層（スキン層）と成形コア層とを有する射出成形サンドイッチ構造を有するかまたは紫外線結合される２つの射出成形パーツで構成される。ＡＳＴＭ  Ｅ  ７５６−０５に従って２５℃において２０００Ｈｚで測定される支持体のヤング率Ｅは少なくとも２．１５ＧＰａであり、かつ、Ｑファクターは１６０以下である。
【００２４】
光透過層の厚さは、好ましくは１ｎｍ〜３０００ｎｍ、より好ましくは２００ｎｍ〜２０００ｎｍ、特に５００ｎｍ〜１５００ｎｍである。
【００２５】
支持体材料：
支持体の形成に好適な支持体材料の例としては、支持体がヤング率ＥおよびＱファクターの要求を満たすポリマー、ブンレンドおよびコンパウンド（充填剤入り熱可塑性樹脂組成物）が挙げられる。しかしながら、前記支持体用の本発明のポリマー樹脂は、下記の例に限定されない。
【００２６】
熱可塑性樹脂それ自体が塊状射出成形部品においてヤング率ＥおよびＱファクターに関する要求を満たさない場合、その熱可塑性樹脂のブレンドもしくは充填剤入り組成物またはサンドイッチ構造もしくは結合構造における熱可塑性樹脂支持体材料の組み合わせが使用されうる。
【００２７】
ヤング率ＥおよびＱファクターに関する要求に加えて、熱可塑性樹脂、ブレンドまたはコンパウンドは、吸水性が低く、耐熱性が高く、かつ、常套の方法、例えば射出成形、射出圧縮成形などを用いてディスクに加工可能でなければならない。
【００２８】
そのような熱可塑性樹脂としては、ポリカーボネート樹脂、アクリル酸樹脂、ポリスチレン樹脂およびアモルファス多環式オレフィン並びに水素化ポリスチレンが挙げられる。熱可塑性樹脂は、異種熱可塑性樹脂からなるブレンド並びに熱可塑性樹脂と充填剤および／または添加剤とのコンパウンドであってもよい。
【００２９】
ポリカーボネート樹脂：
ポリカーボネート樹脂は、一般的に、芳香族ジヒドロキシ化合物とカーボネート前駆体との溶液重合または溶融重合によって得られる。上記条件を満たせば、あらゆる芳香族ジヒドロキシ化合物が許容可能である。
【００３０】
好ましい芳香族ジヒドロキシ化合物としては、式（１）：
ＨＯ−Ｚ−ＯＨ      （１）
（式中、Ｚは、式（１ａ）
【化１】
2011501336.tif 000002
（式中、
Ｒ１およびＲ２は、互いに独立して、ＨまたはＣ１〜Ｃ８−アルキル、好ましくはＨまたはＣ１〜Ｃ４−アルキル、特に水素またはメチルであり、
Ｘは、単結合、Ｃ１〜Ｃ６−アルキレン、Ｃ２〜Ｃ５−アルキリデンまたはＣ５〜Ｃ６−シクロアルキリデンであって、Ｃ１〜Ｃ６−アルキル、好ましくはメチルもしくはエチルで置換されていてもよいものであり、
但し、Ｘが３，３，５−トリメチルシクロヘキシリデンである場合、Ｒ１およびＲ２は水素である。）
の基である。）
の化合物が挙げられる。
【００３１】
最も好ましくは、Ｘは、単結合、メチレン、イソプロピリデンまたはシクロヘキシリデンまたは３，３，５−トリメチルシクロヘキシリデンであり、特に、Ｘは、イソプロピリデンまたは３，３，５−トリメチルシクロヘキシリデンである。
【００３２】
芳香族ジヒドロキシ化合物は、一般的に知られており、一般的に知られている方法に従って製造されうる。
【００３３】
芳香族ジヒドロキシ化合物の例としては、ヒドロキノン、レソルシノール、４，４’−ビフェノール、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタン、４，４’−（ｐ−フェニレン−ジイソプロピリデン）ジフェノール、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−４−イソプロピルシクロヘキサン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、９，９−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）フルオレンおよびα，α’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ｍ−ジイソプロピルベンゼンが挙げられる。好ましいジヒドロキシ化合物は、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノールＡ）、４，４’−（ｍ−フェニレン−ジイソプロピリデン）ジフェノールおよび１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサンである。
【００３４】
ポリカーボネート樹脂は、上記芳香族ジヒドロキシ化合物をホモ重合することによって得られるホモポリカーボネート、または２種類以上の芳香族ジヒドロキシ化合物を共重合することによって得られるコポリカーボネートである。更に、上記芳香族ジヒドロキシ化合物を１種類以上の別のジヒドロキシ化合物と重合させることによって得られるコポリカーボネートであってもよい。
【００３５】
溶液法による反応は、通常、二価フェノールとホスゲンとの間の反応であり、通常、酸カップリング剤および有機溶媒の存在下において行われる。酸カップリング剤として、アルカリ金属水酸化物、例えば水酸化ナトリウムもしくは水酸化カリウム、またはアミン化合物、例えばピリジン、が使用される。有機溶媒として、ハロゲン化炭化水素、例えば塩化メチレンまたはクロロベンゼン、が使用される。反応を促進するために、触媒、例えば第三級アミン、第四級アンモニウム化合物または第四級ホスホニウム化合物、例えばトリエチルアミン、Ｎ−エチル−ピペリジン、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロミド、またはテトラ−ｎ−ブチルホスホニウムブロミド、もそれぞれ使用されうる。好ましくは、反応温度は、通常０〜４０℃であり、反応時間は１０分〜５時間であり、かつ、反応中のｐＨは９以上である。
【００３６】
重合反応において、通常、末端キャッピング剤が用いられる。これらの使用される末端キャッピング剤は、単官能性フェノールでありうる。これらの単官能性フェノールは、分子量を調節するための末端キャッピング剤として日常的に使用されている。得られるポリカーボネート樹脂は、上記のように得られていないポリカーボネート樹脂よりも熱安定性が優れるように、単官能性フェノールベース基によってキャップされた末端を有する。単官能性フェノールは、一般的に、フェノールまたは低級アルキル置換フェノール、例えば、フェノール、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、ｐ−クミルフェノール、イソオクチルフェノールまたは長鎖アルキルフェノール、例えばデシルフェノール、ドデシルフェノール、ヘキサデシルフェノール、オクタデシルフェノール、エイコシルフェノール、ドコシルフェノールおよびトリアコンチルフェノールである。
【００３７】
末端キャッピング剤は、適切な分子量を達成する量で導入される。末端キャッピング剤は単独で使用されても組み合わせで使用されてもよい。
【００３８】
ポリカーボネートまたはコポリカーボネートの平均分子量は、Ｕｂｂｅｌｈｏｄｅキャピラリー粘度計（キャピラリータイプ０Ｃ）を用いるポリマーのジクロロメタン溶液の相対溶液粘度によって同定される。ポリマー濃度は５ｇ／ｌであり、測定は温度２５℃において行われる。相対溶液粘度は、１．１５〜１．３０、好ましくは１．１８〜１．２５、特に好ましくは１．１９〜１．２３である。
【００３９】
溶融法による反応は、通常、二価フェノールと炭酸エステルとのエステル交換反応であり、二価フェノールと炭酸エステルとを不活性ガスの存在下で、加熱および生じるアルコールまたはフェノールの留去のもとで混合することを含む方法によって行われうる。反応温度は、例えば生じるアルコールまたはフェノールの沸点と異なるが、通常１２０〜３５０℃である。反応の後半で、この反応システムの圧力を約１．３３×１０３〜１３．３Ｐａに低減させて生じるアルコールまたはフェノールの蒸留を促進する。反応時間は、通常、１〜４時間である。
【００４０】
炭酸エステルの中には、エステル、例えばＣ６〜Ｃ１０アリール基またはアラルキル基またはＣ１〜４アルキル基であって、場合によっては置換されていてもよいもの、があり、特にジフェニルカーボネート、ビス（クロロフェニル）カーボネート、ジナフチルカーボネート、ビス（ジフェニル）カーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネートおよびジブチルカーボネートがある。もちろん、ジフェニルカーボネートが最も好ましい。
【００４１】
重合を加速するために、重合触媒を使用してもよい。これらの重合触媒として、エステル化またはエステル交換反応に通常使用される触媒、例えばアルカリ金属化合物、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、または二価フェノールのナトリウムもしくはカリウム塩、アルカリ土類金属化合物、例えば水酸化カルシウム、水酸化バリウムまたは水酸化マグネシウム、窒素含有塩基性化合物、例えばテトラメチルアンモニウム水酸化物、テトラエチルアンモニウム水酸化物、トリメチルアミンまたはトリエチルアミン、アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属のアルコキシド、リン含有塩基性化合物、例えばテトラフェニルホスホニウムフェノレートまたはアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の有機酸塩、亜鉛化合物、ホウ素化合物、アルミニウム化合物、ケイ素化合物、ゲルマニウム化合物、有機錫化合物、鉛化合物、オスミウム化合物、アンチモン化合物、マンガン化合物、チタン化合物またはジルコニウム化合物、が使用されうる。これらの触媒は単独で使用されても組み合わせで使用されてもよい。これらの触媒は、出発原料としての二価フェノール１ｍｏｌに対して、好ましくは１×１０−８〜１×１０−３当量、より好ましくは１×１０−７〜５×１０−４当量の量で使用される。
【００４２】
芳香族ポリカーボネート樹脂は、重合における異性化反応の結果としてポリマー中に３官能性以上の芳香族化合物を含むかまたは分枝成分を含みうる。３官能性以上の芳香族化合物の例としては、好ましくは、フロログルシン、フロログルシド、トリスフェノール、例えば４，６−ジメチル−２，４，６−トリス（４−ヒドロキシフェニル）ヘプテン−２、２，４，６−トリメチル−２，４，６−トリス（４−ヒドロキシフェニル）ヘプタン、１，３，５−トリス（４−ヒドロキシフェニル）ベンゼン、１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１，１−トリス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，６−ビス（２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェノール、および４−（４−［１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エチル］ベンゼン）−α，α−ジメチルベンジルフェノール、テトラ（４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）ケトン、１，４−ビス（４，４−ジヒドロキシトリフェニルメチル）ベンゼン、トリメリット酸、ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸およびそれらの酸塩化物が挙げられる。これらの中で、１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタンおよび１，１，１−トリス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）エタンが好ましい。
【００４３】
リンベースの熱安定剤を熱可塑性樹脂に添加してもよい。好適なリンベースの熱安定剤は、例えば、亜リン酸、リン酸、亜ホスホン酸、ホスホン酸およびそれらのエステルである。特に、ホスファイト化合物、例えばトリフェニルホスファイト、トリスノニルフェニルホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリデシルホスファイト、トリオクチルホスファイト、トリオクタデシルホスファイト、ジデシルモノフェニルホスファイト、ジオクチルモノフェニルホスファイト、ジイソプロピルモノフェニルホスファイト、モノブチルジフェニルホスファイト、モノデシルジフェニルホスファイト、モノオクチルジフェニルホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト、ビス（ノニルフェニル）ペンタエリトリトールジホスファイトおよびビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスファイト、およびホスフェート化合物、例えばトリブチルホスフェート、トリメチルホスフェート、トリクレシルホスフェート、トリフェニルホスフェート、トリクロロフェニルホスフェート、トリエチルホスフェート、ジフェニルクレシルホスフェート、ジフェニルモノオルトキセニルホスフェート、トリブトキシエチルホスフェート、ジブチルホスフェートおよびジイソプロピルホスフェートが望ましい。別のリンベースの熱安定剤は、例えばテトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３，３’−ビフェニレンジホスホナイトおよびビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４−ビフェニレンホスホナイトである。これらの中で、トリスノニルフェニルホスホナイト、ジステアリルペンタエリトリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリフェニルホスフェート、トリメチルホスフェート、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイトおよびビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４−ビフェニレンホスホナイトが好ましい。これらの熱安定剤は単独で使用しても混合物として使用してもよい。これらの熱安定剤の量は、熱可塑性樹脂組成物１００重量部に対して、好ましくは０．０００１〜０．５重量部、より好ましくは０．０００５〜０．２重量部、最も好ましくは０．００２〜０．２重量部である。
【００４４】
一般的に知られている酸化防止剤を本発明の熱可塑性樹脂に添加して酸化を防いでもよい。酸化防止剤の例は、フェノールベースの酸化防止剤である。酸化防止剤の量は、好ましくは熱可塑性樹脂に対して０．０００１〜０．０５ｗｔ％である。
【００４５】
要すれば、一価アルコールまたは多価アルコールの高級脂肪酸エステルを本発明の熱可塑性樹脂に添加してもよい。一価または多価アルコールの高級脂肪酸エステルをブレンドすることによって、熱可塑性樹脂の成形時における離型性が改良され、ディスク支持体の成形における離型負荷が小さくなり、それによってディスク支持体の変形および離型不良によって生じるピットの抜けを防ぐことを可能にする。熱可塑性樹脂の溶融物流動性もまた改良する。
【００４６】
アルコールと高級脂肪酸とのエステルの量は、熱可塑性樹脂に対して０．０１〜２ｗｔ％、好ましくは０．０１５〜０．５ｗｔ％、より好ましくは０．０２〜０．２ｗｔ％である。
【００４７】
転写性および成形ディスクの吸湿および脱湿工程におけるそりを減らす効果が損なわれない範囲で、添加剤、例えば別の熱可塑性樹脂、光安定剤、着色剤、帯電防止剤および滑剤を、本発明の光ディスク支持体用の樹脂に添加してもよい。
【００４８】
本発明の樹脂組成物の製造において、ポリカーボネート樹脂同士の混合および／またはポリカーボネート樹脂と別の樹脂との混合が、ポリマー溶液または成形物品、例えば粒子もしくはペレット、の段階で行われることが考えられる。これは特に限定されない。混合手段に関しては、ポリマー溶液の段階では、スターラを備える容器が主に使用され、成形品、例えば粒子もしくはペレット、の段階では、タンブラー、Ｖ型ブレンダー、Ｎａｕｔｅｒミキサー、バンバリーミキサー、混練ロールまたは押出機が使用されうる。いずれの場合も、あらゆる技術が使用され、特に限定されない。
【００４９】
上記樹脂組成物中に、弾性率および振動減衰特性改良のために様々な充填剤が追加の成分として添加されうる。充填剤としては、グラスファイバー、ガラスフレーク、カーボンファイバー、ミルドファイバー、ウォラストナイトホイスカー、カーボンブラック、カーボンナノチューブ、シリカ粒子、酸化チタン粒子、アルミナ粒子、タルク、マイカおよび別の無機材料が挙げられる。耐熱性有機充填剤、例えばアラミド繊維、ポリアリーレートファイバー、ポリベンゾチアゾールファイバー、およびアラミドパウダーもまた使用されうる。そのような成分を使用する場合、タルク充填剤およびグラファイト充填剤が好ましい。この成分の添加量は、好ましくは樹脂組成物の重量に対して１〜３０ｗｔ％である。
【００５０】
熱可塑性樹脂組成物は、熱可塑性樹脂組成物のそれぞれの成分を、ニーダー、例えばタンブラー、Ｖ型ブレンダー、Ｎａｕｔａミキサー、バンバリーミキサー、混練ロールまたは押出機、によって混合することによって製造されうる。より好ましくは、それぞれの成分を押出機、特に二軸押出機によって共に溶融し、混練する。
【００５１】
アクリル酸樹脂：
好適なアクリル酸樹脂としては、ポリメチルメタクリレートまたはメチルメタクリレートと１種類以上の別の成分とのコポリマーが挙げられる。そのようなコモノマーの例は、アクリル酸アルキルエステル、例えばメチルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ブチルアクリレート、アミルアクリレート、ヘキシルアクリレート、オクチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ドデシルアクリレート、オクタデシルアクリレート、フェニルアクリレート、およびベンジルアクリレート、メタクリル酸アルキルエステル、例えばエチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ブチルメタクリレート、アミルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、オクチルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ドデシルメタクリレート、オクタデシルメタクリレート、フェニルメタクリレート、およびベンジルメタクリレート、およびそれらのコポリマーである。アクリル酸樹脂の混合物もまた使用されうる。ポリメチルメタクリレートが最も好ましいアクリル酸樹脂である。
【００５２】
アクリル酸樹脂の分子量Ｍｗ（重量平均）は、好ましくは５０，０００〜２，０００，０００ｇ／ｍｏｌ、より好ましくは６０，０００〜１，０００，０００ｇ／ｍｏｌ、最も好ましくは７０，０００〜５００，０００ｇ／ｍｏｌ、特に８０，０００〜３００，０００ｇ／ｍｏｌである（光散乱によって測定。）。
【００５３】
これらのアクリル酸樹脂を、上記ポリカーボネートとのブレンドで使用してもよい。この場合、アクリル酸樹脂の量は、組成物全体に対して好ましくは５０ｗｔ％以下、より好ましくは２０ｗｔ％以下、特に好ましくは１０ｗｔ％以下である。
【００５４】
ポリカーボネートとのブレンドにおいて、アクリル酸樹脂は、アクリル弾性材料であってもよい。この場合、必須成分としてのアクリレートゴム成分、メチルメタクリレート、Ｃ１〜Ｃ８アルキル基を有するアルキルアクリレート、および必要に応じて、コポリマー成分としてそれらと共重合性のビニルモノマーで構成される。そのようなアクリル弾性材料中、メチルメタクリレートの量は、弾性材料１００ｗｔ％中、１５〜６５ｗｔ％である。
【００５５】
アクリレートゴムは、Ｃ２〜Ｃ１０アルキルアクリレートおよび、必要に応じて、それらと共重合性の成分として、スチレン、メチルメタクリレートまたはブタジエンを含む。
【００５６】
Ｃ２〜Ｃ１０アルキルアクリレートとして、２−エチルヘキシルアクリレートおよびｎ−ブチルアクリレートが好ましい。このアルキルアクリレートは、好ましくはアクリレートゴム１００ｗｔ％中５０ｗｔ％の量で含まれる。更に、好ましくは、アクリレートゴムは、少なくとも部分的に架橋されている。架橋に使用される架橋剤としては、例えば、エチレングリコールジアクリレート、ブチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、アリルメタクリレートおよびポリプロピレングリコールジアクリレートが挙げられる。好ましくはこれらの架橋剤０．０１〜３ｗｔ％がアクリレートゴム中で使用される。
【００５７】
アクリル弾性材料の好ましい形態として、アクリル弾性材料は、好ましくは、アクリレートゴム成分、メチルメタクリレート、Ｃ１〜Ｃ８アルキル基を有するアルキルアクリレート、スチレンおよびそれらと共重合性のビニルモノマーを、必要に応じて複数の層で重合すると得られるコアシェル構造体および多層構造体である。このアクリル弾性材料はあらゆる既知の方法、例えば、ブロック重合、サスペンジョン重合、ブロック−サスペンジョン重合、溶液重合またはエマルジョン重合、によって製造されうる。多層構造体は、更に、多段階重合でグラフトベース上にグラフトされない成分も含みうる。
【００５８】
これらの弾性アクリル酸樹脂は、上記ポリカーボネートとのブレンドで使用する場合、好ましくは全組成物の１０ｗｔ％以下で使用される。より好ましくはそれらの含量は５ｗｔ％以下である。
【００５９】
ポリスチレン樹脂：
本発明の様々な態様に好適な合成樹脂としては、スチレンのホモポリマー、スチレンコポリマーまたはスチレン熱可塑性エラストマーまたはブレンド、例えばポリスチレンとポリフェニレンオキシドとのブレンドが挙げられる。それらの材料はいくつかの形態で提供されるが、そのほとんどの部分はスチレン、イソプレンおよびブタジエンを含有するコポリマーを含む。コポリマーとしては、トリブロック、例えばＳ−Ｂ−Ｓ、Ｓ−Ｉ−Ｓ、Ｓ−ＥＢ−Ｓ、およびＳ−ＥＰ−Ｓ；交互ブロックコポリマー、例えば（Ｓ−Ｉ）；分枝ブロックコポリマー、例えば（Ｓ−Ｂ）および（Ｓ−Ｉ）およびトリブロック／ジブロックブレンド（例えば、Ｓ−Ｂ−Ｓ／Ｓ−Ｂ）が挙げられる。
【００６０】
これらのスチレン樹脂は、重合の既知のルールに従って、既知の手順によって製造されうる。スチレンポリマーは、例えば、Ｈｏｕｂｅｎ  Ｗｅｙｌ，Ｍｅｔｈｏｄｓ  ｏｆ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，第４版，第ＸＩＶ／１巻，７６１〜８４１頁，Ｇｅｏｒｇ  Ｔｈｉｅｍｅ−Ｖｅｒｌａｇ（１９６１）の方法によって製造されうる。それらは更に市場でも好適な形態で入手可能である。フリーラジカル手順が好ましいが、イオン重合手順もまた使用されうる。本発明によって使用されるポリマーの分子量Ｍｗは、通常２０００ダルトン以上、好ましくは５０００〜５，０００，０００ダルトン、特に好ましくは２０，０００〜２００，０００ダルトンである（光散乱によって測定；Ｕｌｌｍａｎｎ’ｓ  Ｅｎｃｙｃｌｏｐｅｄｉａ  ｏｆ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉａｌ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，第４版，第１５巻，２８５〜３８７頁，Ｖｅｒｌａｇ  Ｃｈｅｍｉｅ  １９７８参照。）。
【００６１】
ホモポリマーおよびコポリマーは既知の手順によって製造されうる（Ｈ．Ｒａｕｃｈ−Ｐｕｎｔｉｇａｍ，Ｔｈ．Ｖｏｌｋｅｒ，Ａｃｒｙｌｉｃ  ａｎｄ  Ｍｅｔｈａｃｒｙｌｉｃ  Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ，Ｓｐｒｉｎｇｅｒ−Ｖｅｒｌａｇ  １９６７参照。）。原理的にはそれらをアニオン重合または基転移重合（更にＯ．Ｗ．Ｗｅｂｓｔｅｒら，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１０５，５７０６（１９８３）も参照。）によって製造することが可能であるが、製造の好ましい形態はフリーラジカル重合である。
【００６２】
スチレン熱可塑性エラストマーの分子量Ｍｗ（重量平均）は一般的に２０００ダルトン以上、一般的に１０，０００〜２，０００，０００ダルトン、好ましくは２０，０００〜２００，０００ダルトンである（光散乱によって測定。）。
【００６３】
更に、アモルファスポリオレフィンの群からのポリマーもまた使用されうる。そのようなポリマーは、環状オレフィンの重合、環状オレフィンの開環重合、並びに特別の水素化ポリオレフィン、例えば水素化ポリスチレンベースポリマーから生じる。
【００６４】
ポリシクロオレフィン樹脂：
環状オレフィンの好適なポリマーとしては、例えば、オレフィンおよびノルボルネン構造、例えばノルボルネンそれ自体、テトラシクロドデセン、ビニルノルボルネンまたはノルボルナジエンの重合生成物が挙げられる。好適なポリシクロオレフィン樹脂としては、更に、そのようなノルボルネン構造を有するオレフィンとオレフィンとのコポリマー、例えばエチレンとノルボルネンとのコポリマーおよびエチレンとテトラシクロドデセンとのコポリマーも挙げられる。そのような生成物は、例えば、特開昭６１−２９２６０１、特開昭６０−２６０２４、特開昭６２−１９８０１および特開昭６２−１９８０２並びにＥＰ−Ａ  ３１７  ２６２およびＥＰ−Ａ  ５３２  ３３７に記述されている（それぞれの内容を全て参照することによって本明細書中に組み込む。）。
【００６５】
水素化ポリスチレン樹脂：
好適な水素化ポリスチレンベースポリマーは、直鎖または星形分枝構造の水素化ポリスチレンベースポリマーである。直鎖タイプは、例えば、特公平０７−１１４０３０に開示されており、星形分枝構造を有するポリマーは、例えば、ＷＯ  ０１４８０３１に開示されている。
【００６６】
支持体樹脂として、上記ポリマーのブレンドも使用されうる。好適な添加剤、例えば熱安定剤、離型剤など並びに充填剤もまたアクリル酸樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリシクロオレフィン樹脂および水素化ポリスチレン樹脂に添加されうる。
【００６７】
ボンダー材料：
ボンダー材料は、一般的に、紫外線硬化性でありスピンコート可能な樹脂であって、バインダーおよび反応性シンナーおよび添加剤、例えば紫外線開始剤または溶媒で構成される樹脂である。典型的な光開始剤（紫外線開始剤）は、α−ヒドロキシケトン（Ｉｒｇａｃｕｒｅ  １８４（登録商標）、Ｃｉｂａ）、（Ｄａｒｏｃｕｒ  １１７３（登録商標）、Ｃｉｂａ）またはアシルホスフィン（Ｄａｒｏｃｕｒ  ＴＰＯ（登録商標）、Ｃｉｂａ）である。
【００６８】
バインダーは、例えば、ウレタンアクリレート、例えばＢａｙｅｒ  ＭａｔｅｒｉａｌＳｃｉｅｎｃｅ  ＡＧ製のＤｅｓｍｏｌｕｘ（登録商標）ＸＰ  ２５１３、Ｄｅｓｍｏｌｕｘ（登録商標）Ｕ  １００、Ｄｅｓｍｏｌｕｘ（登録商標）Ｕ  ２００、Ｄｅｓｍｏｌｕｘ（登録商標）ＸＰ  ２６１４もしくはＤｅｓｍｏｌｕｘ（登録商標）ＶＰ  ＬＳ  ２２２０または  アミン変性ポリエーテルアクリレート、例えばＢａｙｅｒ  ＭａｔｅｒｉａｌＳｃｉｅｎｃｅ  ＡＧ製のＤｅｓｍｏｌｕｘ（登録商標）ＶＰ  ＬＳ  ２２９９またはポリエステルアクリレート、例えばＢａｙｅｒ  ＭａｔｅｒｉａｌＳｃｉｅｎｃｅ  ＡＧ製のＤｅｓｍｏｌｕｘ（登録商標）ＬＰ  ＷＤＪ  １６０２のクラスから選択されうる。
【００６９】
ウレタンアクリレートは、アルコールと（メタ）アクリロイル基を含むジ−もしくはポリイソシアネートとから合成されうる。ウレタンアクリレートの合成方法は既知であり、例えばＤＥ−Ａ−１  ６４４  ７９８、ＤＥ−Ａ  ２  １１５  ３７３またはＤＥ−Ａ−２  ７３７  ４０６に記述されている。（メタ）アクリロイル基を含むアルコールは、アクリル酸またはメタクリル酸と二官能性アルコールとのエステルであって、１つのフリーヒドロキシル基を含むエステル、例えば２−ヒドロキシエチル−、２もしくは３−ヒドロキシプロピルまたは２−、３−、４−、ヒドロキシブチル−（メタ）アクリレートおよびそれらの混合物である。更に、単官能性（メタ）アクリロイル基を含むアルコールを使用しても、ｎ官能性アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル化であって、ｎが２〜４の整数もしくは平均値、好ましくは３になるような異種アルコールの混合物をアルコールとして使用していてもよく、上記アルコール１モルあたり最も好ましくは（ｎ−１）ｍｏｌの（メタ）アクリル酸を使用するエステル化によって得られるアルコールで主に構成される生成物を使用してもよい。
【００７０】
更に、単官能性（メタ）アクリロイル基を含むアルコールとε−カプロラクトンとの生成物を使用してもよい。ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートとε−カプロラクトンとからの生成物が好ましい。
【００７１】
ジイソシアネートまたはポリイソシアネートとして、原則として全ての（環状）脂肪族、脂肪族および芳香族構造体が好適であり、好ましい（環状）脂肪族構造体は、例えばヘキサメチレン−ジ−イソシアネートまたはイソホロンジ−イソシアネート、トリ−メチルヘキサ−メチレンジ−イソシアネート、ジ−（イソシアナトシクロヘキシル）メタンまたはそれらのウレタン−イソシアヌレート−、アロファネート−、ビウレット−、ウレトジオン−構造を有する誘導体およびそれらの混合物である。
【００７２】
好適なアミン変性ポリエーテルアクリレートは原則として既知であり、メタクリル酸と３官能性アルコールまたはそれらの混合物とのエステル化および次の第１級アミンとの反応によって製造されうる。これらのアルコールまたはそれらの混合物には、例えばアルコキシル化ｏグリセロールまたはトリメチロールプロパンの低分子量生成物、例えばエチレンオキシドとトリメチロールプロパンとのＯＨ価５５０ｍｇＫＯＨ／ｇの反応生成物、が属する。アルコール１ｍｏｌあたり、好ましくは０．７〜０．９ｍｏｌの（メタクリル）酸を使用する。次の第１級アミンとの反応に関して、モノアルキルアミンおよびヒドロキシアルキルアミン、例えばヒドロキシエチルアミン、が好適である。使用されるモノアルキルアミンの量は、モノアルキルアミンと（メタ）アクリル酸二重結合とのモル比０．００５：１〜０．４：１、好ましくは０．０１：１〜０．３：１と同等である。
【００７３】
好適なポリエステルアクリレートは、原理的に既知の共沸エステル化方法によって合成される低粘度生成物である。α，β−エチレン性不飽和炭酸、アルコキシル化ポリエーテルトリオール、特にプロポキシル化トリオールおよびアクリル酸、で構成されるポリエステルアクリレートが特に好適であり、それによるＯＨ基対カルボキシル基の比１．２〜１．６が好ましい。
【００７４】
反応性シンナーは、エトキシル化アルキルアクリレート、例えば２−（２−エトキシエトキシ）エチルアクリレート（Ｓａｒｔｏｍｅｒ  ＳＲ  ２５６（登録商標）、Ｓａｒｔｏｍｅｒ）、およびｔアクリル酸の単官能性エステル、例えばエトキシル化フェニルアクリレート、例えばエトキシル化（３）フェノールモノアクリレート（Ｐｈｏｔｏｍｅｒ  ４０３９  Ｆ（登録商標）、Ｃｏｇｎｉｓ）、アルキルアクリレート、例えばラウリル−またはステアリルアクリレート、脂環式アクリル酸エステル、例えばイソボルニルアクリレートおよび複素環式アクリル酸エステル、例えばテトラヒドロフルフリルアクリレートのクラスから選択されうる。
【００７５】
光透過層：
光透過層は、一般的に、４０５ｎｍにおいて測定される屈折率の実部が少なくとも１．４１である、紫外線硬化性でありスピンコート可能な樹脂である。この樹脂は、バインダーおよび反応性シンナー分子および別の添加剤、例えば紫外線開始剤または溶媒で構成されうる。典型的な光開始剤（紫外線開始剤）は、α−ヒドロキシケトン、例えば１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）１８４、Ｃｉｂａ）もしくは例えば２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−１−プロパノン（Ｄａｒｏｃｕｒ  １１７３（登録商標）、Ｃｉｂａ）、またはモノアシルホスフィン、例えば２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキシド（Ｄａｒｏｃｕｒ（登録商標）ＴＰＯ、Ｃｉｂａ）である。バインダー分子は、例えば、ウレタンアクリレートまたはポリエーテルアクリレートのクラスから選択されうる。反応性シンナーは、エトキシル化アルキルアクリレート、エトキシル化フェニルアクリレート、脂環式アクリル酸エステルおよび複素環式アクリル酸エステルのクラスから選択されうる。
【００７６】
高屈折率層コーティングＡ（ＨＲＩ）としての光透過層：
高屈折率光透過層（コーティングＡ）は、キャスティング溶液Ａ＊から得られ、キャスティング溶液Ａ＊は支持体（Ｓ）または情報および記録層（Ｂ）に塗布され、架橋されている。
【００７７】
成分Ａ＊（キャスティング溶液）
【００７８】
本発明の態様によるキャスティング溶液Ａ＊は、下記成分を含む：
Ａ１：ナノ粒子および水と少なくとも１種類の有機溶媒との混合物を含むサスペンジョン、
Ａ２：バインダー
および要すれば
Ａ３：別の添加剤
【００７９】
本明細書中で使用されるナノ粒子は、平均粒度（ｄ５０）が１００ｎｍ以下、好ましくは０．５〜５０ｎｍ、特に好ましくは１〜４０ｎｍ、より特に好ましくは５〜３０ｎｍの粒子であると理解される。更に、好ましいナノ粒子のｄ９０値は、２００ｎｍ以下、特に１００ｎｍ以下、特に好ましくは４０ｎｍ以下、より特に好ましくは３０ｎｍ以下である。ナノ粒子は、好ましくは、サスペンジョン中の単分散形態である。平均粒度ｄ５０は、その上下にそれぞれ５０ｗｔ％の粒子が存在する直径である。ｄ９０値は、その下に９０ｗｔ％の粒子が存在する直径である。レーザー光散乱または、好ましくは、分析超遠心分離（ＡＵＣ）の使用が粒度の測定および単分散性の証明に好適である。ＡＵＣは、例えば“Ｐａｒｔｉｃｌｅ  Ｃｈａｒａｃｔｅｒｉｚａｔｉｏｎ”，Ｐａｒｔ．Ｐａｒｔ．Ｓｙｓｔ．Ｃｈａｒａｃｔ．，１９９５，１２，１４８〜１５７に記述されているように、当業者に既知である。
【００８０】
成分Ａ１（ナノ粒子および水と少なくとも１種類の有機溶媒との混合物を含むサスペンジョン）の製造には、Ａｌ２Ｏ３、ＺｒＯ２、ＺｎＯ、Ｙ２Ｏ３、ＳｎＯ２、ＳｉＯ２、ＣｅＯ２、Ｔａ２Ｏ５、Ｓｉ３Ｎ４、Ｎｂ２Ｏ５、ＮｂＯ２、ＨｆＯ２またはＴｉＯ２のナノ粒子の水性サスペンジョンが好適であり、ＣｅＯ２ナノ粒子の水性サスペンジョンが特に好適である。特に好ましくは、ナノ粒子の水性サスペンジョンは、１種類以上の酸、例えばカルボン酸ＲＣ（Ｏ）ＯＨ（式中、Ｒ＝Ｈ、Ｃ１〜Ｃ１８−アルキルであって任意にハロゲン、好ましくは塩素および／もしくは臭素によって置換されていてもよいもの、またはＣ５〜Ｃ６−シクロアルキル、Ｃ６〜Ｃ２０−アリールまたはＣ７〜Ｃ１２−アラルキルであってそれぞれ任意にＣ１〜Ｃ４−アルキルおよび／もしくはハロゲン、好ましくは塩素、臭素によって置換されていてもよいものである。）を含む。Ｒは、好ましくはメチル、エチル、プロピルまたはフェニルであり、特に好ましくはエチルである。ナノ粒子サスペンジョンは、更に、酸として、鉱酸、例えば硝酸、塩化水素酸または硫酸も含みうる。ナノ粒子の水性サスペンジョンは、酸および水の重量部の合計に対して好ましくは０．５〜１０重量部、特に好ましくは１〜５重量部の酸を含む。例えば、米国のＮｙａｃｏｌ  ＮａｎｏＴｅｃｈｎ．，Ｉｎｃ．製のナノ粒子サスペンジョンＮａｎｏＣｅｒｉａ（登録商標）ＣｅＯ２−ＡＣＴ（酢酸で安定化されたＣｅＯ２ナノ粒子の水性サスペンジョン、ｐＨ＝３．０）およびＣｅＯ２−ＮＩＴ（硝酸で安定化されたＣｅＯ２ナノ粒子の水性サスペンジョン、ｐＨ＝１．５）が好適である。
【００８１】
これらの水性サスペンジョン由来の水の中には少なくとも１種類の有機溶媒によって置換されるものもある。この部分溶媒交換は、蒸留によってまたは膜濾過によって、好ましくは限外濾過によって、例えば「クロスフロー（ｃｒｏｓｓ−ｆｌｏｗ）」プロセスに従って、行われる。クロスフロー限外濾過は、工業規模の限外濾過の形態（Ｍ．Ｍｕｌｄｅｒ：Ｂａｓｉｃ  Ｐｒｉｎｃｉｐｌｅｓ  ｏｆ  Ｍｅｍｂｒａｎｅ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，Ｋｌｕｗｅｒ  Ａｃａｄ．Ｐｕｂｌ．，１９９６年，第１版）であって、濾過される溶液（供給溶液）はこの膜を接線方向に通って流れる。この溶媒交換に、好ましくは、アルコール、ケトン、ジケトン、環状エーテル、グリコール、グリコールエーテル、グリコールエステル、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミドおよびプロピレンカーボネートからなる群から選択される少なくとも１種類の溶媒が使用される。上記群からの少なくとも２種類の溶媒の溶媒混合物の使用が好ましく、１−メトキシ−２−プロパノールとジアセトンアルコールとの溶媒混合物が特に好ましく使用される。１−メトキシ−２−プロパノール（ＭＯＰ）とジアセトンアルコール（ＤＡＡ）との、好ましくは９５：５〜３０：７０、特に好ましくは９０：１０〜５０：５０の比の溶媒混合物の使用が特に好ましい。水は、使用される溶媒中に、好ましくは２０ｗｔ．％以下の量で、より好ましくは５〜１５ｗｔ．％の量で存在しうる。
【００８２】
本発明の別の態様において、ナノ粒子のサスペンジョンは、上記有機溶媒の少なくとも１種類における溶媒交換によって製造され、次に別の溶媒が添加され、この別の溶媒は、アルコール、ケトン、ジケトン、環状エーテル、例えばテトラヒドロフランまたはジオキサン、グリコール、グリコールエーテル、グリコールエステル、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド、ソルケタール（ｓｏｌｋｅｔａｌ）、プロピレンカーボネートおよびアルキルアセテート、例えばブチルアセテート、からなる群から選択される。この態様においても、水は使用される溶媒中に、好ましくは２０ｗｔ．％以下の量で、より好ましくは５〜１５ｗｔ．％の量で存在してもよい。
【００８３】
ポリエーテルポリスルホンで作られた限外濾過膜であって、好ましくはカットオフ（ｃｕｔ−ｏｆｆ）が２００，０００Ｄ以下、好ましくは１５０，０００Ｄ以下、特に好ましくは１００，０００Ｄ以下である限外濾過膜の使用が好ましい。膜のカットオフは、下記のように定義される：対応サイズ（例えば２００，０００以上）の分子が保持され、よりサイズが小さい分子および粒子が通過できる（“Ｂａｓｉｃ  Ｐｒｉｎｃｉｐｌｅｓ  ｏｆ  Ｍｅｍｂｒａｎｅ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ”，Ｍ．Ｍｕｌｄｅｒ，Ｋｌｕｗｅｒ  Ａｃａｄｅｍｉｃ  Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ，１９９６，第１版）。そのような限外濾過膜は、高い流量においてもナノ粒子を保持し、溶媒は通過する。本発明によると、溶媒交換は、連続濾過によって行われ、通過する水は対応量の溶媒または溶媒混合物によって置換される。ポリマー膜の代わりに、溶媒交換の処理工程中にセラミック膜を使用することもまた可能である。
【００８４】
本発明のそのような態様による方法は、１種類の上記有機溶媒または溶媒混合物による水の置換が生じるナノ粒子サスペンジョン（成分Ａ１）中、５ｗｔ．％の限界値を下回らないことを特徴とする。好ましくは、有機溶媒または溶媒混合物による水の置換を、生じるナノ粒子サスペンジョン（成分Ａ１）の含水量が５〜５０ｗｔ．％、好ましくは７〜３０ｗｔ．％、特に好ましくは１０〜２０ｗｔ．％になるように行う。生じるナノ粒子サスペンジョンは、好ましくは１〜５０ｗｔ．％、より好ましくは５〜４０ｗｔ．％、特に好ましくは１５〜３５ｗｔ．％のナノ粒子を含む（以下、「ナノ粒子固形分」という。）。
【００８５】
含水量が５ｗｔ．％よりも低くなるようにメンブランセル（ｍｅｍｂｒａｎｅ  ｃｅｌｌ）においてナノ粒子サスペンジョンの溶媒交換を長く行うと、粒子の凝集が起こり、生じるコーティングが単分散性および高い透明度の条件に合わない。他方、有機ベースのナノ粒子サスペンジョン中の含水量が５０ｗｔ．％よりも高いと、次の工程で使用されるバインダーが含水サスペンジョン中に溶解せずクリアな溶液を生じないので、これらのいずれの場合も、すなわち、溶解せずクリアな溶液を生じなかった凝集ナノ粒子またはバインダーを用いると、生じるコーティングは高い屈折率ｎおよび高い透明度に関する同時の要求を満たさない。
【００８６】
バインダー（成分Ａ２）として、非反応性熱乾燥熱可塑性樹脂、例えばポリメチルメタクリレート（Ｅｌｖａｃｉｔｅ（登録商標）、Ｔｅｎｎａｎｔｓ）またはポリビニルアセテート（Ｍｏｗｉｌｉｔｈ  ３０（登録商標）、Ｓｙｎｔｈｏｍｅｒ）と、反応性モノマー成分であって、コーティング後に化学反応によってまたは光化学反応によって反応して高架橋ポリマーマトリクスを生じる反応性モノマー成分の両方が使用されうる。例えば、架橋は、紫外線照射によって行われる。紫外線照射による架橋は、耐引掻き性の増加の観点から特に好ましい。反応性成分は、好ましくは、例えばＰ．Ｇ．Ｇａｒｒａｔｔ  ｉｎ“Ｓｔｒａｈｌｅｎｈａｅｒｔｕｎｇ”１９９６，Ｃ．Ｖｉｎｃｅｎｔｚ  Ｖｌｇ．，ハノファーに記述されているような紫外線架橋製アクリレートシステムである。バインダー（成分Ａ２）は、好ましくは、ポリビニルアセテート、ポリメチルメタクリレート、ポリウレタンおよびアクリレートからなる群の少なくとも１つから選択される。バインダー（成分Ａ２）は、特に好ましくは、ヘキサンジオールジアクリレート（ＨＤＤＡ）、トリプロピレングリコールジアクリレート、ジペンタエリトリトールペンタアクリレート、ジペンタエリトリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート（ＤＴＭＰＴＴＡ）、トリス−（２−ヒドロキシエチル）−イソシアヌレートトリアクリレート、ペンタエリトリトールトリアクリレート、トリス−（２−ヒドロキシエチル）−イソシアヌレートトリアクリレートおよびヘキサンジオールジアクリレート（ＨＤＤＡ）からなる群の少なくとも１つから選択される。
【００８７】
キャスティング溶液中で別の添加剤として使用される成分（成分Ａ３）は、好ましくは、光開始剤および熱開始剤からなる群から選択される少なくとも１種類の添加剤である。コーティング溶液の成分の重量部の合計に対して、３重量部以下、好ましくは０．０５〜１重量部、特に好ましくは０．１〜０．５重量部の添加剤（成分Ａ３）を使用する。典型的な光開始剤（紫外線開始剤）は、α−ヒドロキシケトン（Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）１８４、Ｃｉｂａ）またはモノアシルホスフィン（Ｄａｒｏｃｕｒｅ（登録商標）ＴＰＯ、Ｃｉｂａ）である。紫外線重合を開始するのに要求されるエネルギー（紫外線照射のエネルギー）の量は、被覆面１ｃｍ２あたり約０．５〜４Ｊ／ｃｍ２、特に好ましくは２．０〜３．０Ｊ／ｃｍ２である。いわゆるコーティング添加剤、例えば  Ｂｙｋ／Ａｌｔａｎａ（ドイツ４６４８３ヴェーゼル）によって商品名ＢＹＫ、例えばＢＹＲ  ３４４（登録商標）、で供給されているコーティング添加剤もまた別の添加剤として好適である。
【００８８】
本発明のこの態様による高屈折率コーティング用のキャスティング溶液Ａ＊は、少なくとも１種類のバインダー（成分Ａ２）および要すれば別の添加剤（成分Ａ３）を、有機溶媒または溶媒混合物であって、水を含んでいてもよいものの中に溶解することによって製造されうる。生じる溶液（以下、バインダー溶液という。）を成分Ａ１と混合し、要すれば濾過および脱ガスする。好ましい態様において、成分Ａ１は、バインダー溶液と同じ有機溶媒または溶媒混合物を含む。
【００８９】
キャスティング溶液Ａ＊の組成は、好ましくは下記の通りである：
ナノ粒子固形分、１２〜３０重量部、好ましくは１３〜２５重量部、特に好ましくは１４〜１９重量部、
バインダー、２〜８重量部、好ましくは２．５〜５重量部、
別の添加剤（成分Ａ３）、０〜３重量部、好ましくは０．０５〜１重量部、特に好ましくは０．１〜５重量部、
水、７〜２８重量部、好ましくは１５〜２７重量部、特に好ましくは２０〜２６重量部、
有機溶媒、３２〜７９重量部、好ましくは４２〜７０重量部、特に好ましくは５０〜６３重量部
（成分の重量部の合計は１００に標準化されている。）
【００９０】
キャスティング溶液Ａ＊の固形分は、一般的に、１０〜５０ｗｔ．％、好ましくは１４〜２８ｗｔ．％である。キャスティング溶液Ａ＊の固形分は、成分Ａ２、Ａ３およびナノ粒子固形分の合計である。キャスティング溶液中のバインダー（成分Ａ２）とナノ粒子固形分との比は、好ましくは４０：６０〜７：９３、特に好ましくは２６：７４〜１２：８８である。
【００９１】
コーティングＡの層厚は、一般的に、１ｎｍ〜３０００ｎｍ、好ましくは２００ｎｍ〜２０００ｎｍ、特に好ましくは５００ｎｍ〜１５００ｎｍである。層厚は、特にスピンコーティング法の場合、キャスティング溶液の固形分によって調節されうる。高いコーティングの層厚が望ましい場合、固形分の高いキャスティング溶液を使用し、薄いコーティングが望ましい場合、固形分の低いキャスティング溶液を使用する。
【００９２】
被覆製品のコーティングＡの特性を以下のように測定した。複素屈折率の実部ｎおよび虚部ｋを波長４００〜４１０ｎｍ（すなわち、青色レーザーの波長範囲）において測定した。ＡＦＭ（原子間力顕微鏡）によって表面粗度をＲａ値として測定した。耐引掻き性の測定に関して、半径５０μｍのチップを用いてダイヤモンド針をコーティング上で前進速度１．５ｃｍ／秒かつ適用重量４０ｇで動かし、生じる掻き傷の深さを測定した。それぞれの測定方法の詳細を被覆製品の製造および試験に関する段落に示す。
【００９３】
支持体Ｓ：
支持体（Ｓ）は、上記ポリマー樹脂から下記方法によって製造されるディスク型物品を備える。少なくとも１つの記録層および１つの光透過層をその支持体上に順番に適用することによって光学記録媒体を製造する。
【００９４】
光学記録媒体用支持体の製造方法：
上記樹脂から光学記録媒体用の支持体を製造するために、光学記録媒体に要求される仕様を満たすピットおよびグルーブおよび表面精度を有するスタンパーを備える射出成形マシーン（射出圧縮成形マシーンを含む。）を使用して光ディスク支持体を射出成形によって製造する。ディスク支持体の厚さは０．３〜２．０ｍｍである。この射出成形マシーンは一般的に使用されるマシーンであってもよいが、好ましくはカーバイドの生成を抑制し、かつ、ディスク支持体の信頼性を改良するためにシリンダーおよびスクリューが樹脂に対して低接着性、耐腐食性かつ耐摩耗性の材料で作られたマシーンである。成形工程の環境は、好ましくは本発明の対象に関してできるだけクリーンである。成形される材料を完全に乾燥して水を除去すること、および溶融樹脂の分解を引き起こす残留物を防ぐことも重要である。
【００９５】
本発明の光ディスク支持体用樹脂は、好ましくは十分高い流動性を有し、この十分高い流動性は射出成形または射出圧縮成形中の転写性に有利である。
【００９６】
光学記録媒体は、少なくとも反射フィルムを本発明の支持体の少なくとも片側に形成することによって製造されうる。反射フィルムの材料は、元素金属または複合金属である。ＡｌもしくはＡｕを単独で使用するか、または好ましくはＴｉを０．５〜１０ｗｔ％、好ましくは３．０〜１０ｗｔ％の量で含むＡｌ合金もしくはＣｒを０．５〜１０ｗｔ％の量で含むＡｌ合金を使用する。反射フィルムは、物理蒸着、イオンビームスパッタリング、ＤＣスパッタリングまたはＲＦスパッタリングによって生成されうる。この金属薄膜（反射層）だけで本発明の事前記録光学記録媒体に十分であるが、この反射層に加えて、記録層（例えば、書換可能または追記型および追記型光学記録媒体の場合、相変化フィルムおよび染料、光磁気光学記録媒体の場合、光磁気記録フィルム）および光透過層を形成して本発明の書換可能または追記型光学記録媒体を得てもよい。
【００９７】
相変化フィルム記録材料層は、カルコゲン単独またはカルコゲン化合物から作られる。特に、Ｔｅ、Ｓｅまたはカルコゲナイトベースの材料、例えばＧｅ−Ｓｂ−Ｔｅ、Ｇｅ−Ｔｅ、Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ、Ｉｎ−Ｓｅ−Ｔｅ−Ａｇ、Ｉｎ−Ｓｅ、Ｉｎ−Ｓｅ−Ｔｌ−Ｃｏ、Ｉｎ−Ｓｂ−Ｓｅ、Ｂｉ２Ｔｅ３、ＢｉＳｅ、Ｓｂ２Ｓｅ３またはＳｂ２Ｔｅ３が使用されうる。
【００９８】
カー効果またはファラデー効果を含む光磁気特性を有する垂直に磁化されたフィルム、例えばＴｂ−Ｆｅ−Ｃｏのアモルファス合金薄膜が光磁気記録フィルム層として使用される。
【００９９】
光透過層は、記録層上に形成される。光透過層は、レーザー光を透過させる材料で作られ、光透過層の概要の段落および高屈折率層コーティング（ＨＲＩ）としての光透過層の概要の段落により詳細に記述されている。
【０１００】
光透過層の製造方法は、光透過層の製造方法の段落および高屈折率層としての光透過層の製造方法の段落により詳細に記述されている。更に、光透過層の厚さは、球面収差および色収差を抑制するために１ｎｍ〜３０００ｎｍ、好ましくは２００ｎｍ〜２０００ｎｍ、特に好ましくは５００〜１５００ｎｍに制限される。
【０１０１】
本発明の光学記録媒体のベーシックな構成を上に記述した。誘電層を上記構成に加えて光学記録媒体の光学特性および熱特性を制御してもよい。この場合、光反射層、第１誘電層、記録層、第２誘電層および光透過層が支持体上に上記順序で形成されうる。加えて、上記本発明の光学記録媒体は、上記さまざまな層で構成される支持体上１つの層スタックだけに限定されない。本発明の光学記録媒体は、更に光透過層にも使用される材料で作られるスペーサー層によってそれぞれ離される多層スタックも有しうる。
【０１０２】
単一成分射出成形プロセス（１−Ｋ成形）：
以下に、本発明による態様による光学記録媒体における使用に好適な標準１−Ｋ成形支持体の製造を記述する。この方法は実施例部分で使用され、支持体がヤング率ＥとＱファクターの要求を満たす限り本発明の範囲を限定しない。直径１２０ｍｍかつ厚さ１．２ｍｍのディスク支持体を、金型ＡＷＭ２３１３およびＤＶＤ−ＲＯＭスタンパーを備えるＡｒｂｕｒｇ  Ａｌｌｄｉｓｃを使用してそれぞれのペレットから射出成形する。代わりに、サンドイッチプレート、Ｐｈｉｌｉｐｓ  ＣＤ−ＭｏｕｌｄおよびＤＶＤ−ＲＯＭスタンパーを備えるＡｒｂｕｒｇ  ３７０  Ｕ  ７００  ３０／３０  ２−Ｋ射出成形マシーンを使用する。そのために変性ランナーを金型に使用してサンドイッチプレートに適合させる。１−Ｋ成形支持体のために、マシーンに同一樹脂のペレットを供給する。
【０１０３】
それぞれの光学記録媒体を製造するために、反射層（Ａｇ１００ｎｍ）を物理蒸着（Ｌｅｙｂｏｌｄ  Ａ１１００）によってまたはＤＣスパッタリング（Ｒｅｕｔｅｒ  ＬＰ  ８００）によって１−Ｋ成形支持体上に形成する。その反射層上にＨＲＩタイプの光透過層を上記方法に従って形成する。
【０１０４】
ＡＳＴＭ  Ｅ  ７５６−０５に従うヤング率ＥおよびクオリティファクターＱの測定用試験ビーム（ｔｅｓｔ  ｂｅａｍ）を形成するために、ビームを、それぞれの光学記録媒体の支持体、または記録層スタックでカバーされた支持体または記録層スタックと光透過層とでカバーされた支持体から切り取るか、または本発明の支持体に使用されるそれぞれの樹脂からの試験ビームの直接１−Ｋ射出成形による。
【０１０５】
２成分サンドイッチ射出成形プロセス（２−Ｋ成形）：
以下に、本発明の態様による光学記録媒体における使用に好適な標準２−Ｋサンドイッチ成形支持体の製造を記述する。この方法は、実施例部分で使用され、支持体がヤング率ＥおよびＱファクターの要求を満たす場合、本発明の範囲を限定しない。直径１２０ｍｍかつ厚さ１．２ｍｍのディスク支持体をそれぞれのペレットから、サンドイッチプレート、Ｐｈｉｌｉｐｓ  ＣＤ−ＭｏｕｌｄおよびＤＶＤ−ＲＯＭスタンパーを備えるＡｒｂｕｒｇ  ３７０  Ｕ  ７００  ３０／３０  ２−Ｋ射出成形マシーンを使用して射出成形する。そのために変性ランナーを金型に使用してサンドイッチプレートに適合させる。２−Ｋサンドイッチ成形支持体に、１種類の樹脂でできたコア層および他の樹脂でできた２つのスキン層を有する３層サンドイッチ支持体を形成させる異種樹脂のペレットをマシーンに供給する。コア層の厚さとスキン層の厚さとの比は、主に計量添加される材料の相対量によって制御される。第１ショットにおいて、スキン層樹脂を金型のキャビティに射出し、第２ショットにおいて、コア層を金型のキャビティに射出し、かつ、第３ショットにおいて、スプルーを再度スキン層材料でシールする。均質なコア層の厚さを達成するために、樹脂および処理温度を、スキンが流動性の高い樹脂によって形成されるように選択することが好ましい。
【０１０６】
それぞれの光学記録媒体を形成するためおよびヤング率ＥおよびクオリティファクターＱ測定用の試験ビームを切り取るために、試験ビームの直接１−Ｋ射出成形以外、単一成分射出成形プロセス（１−Ｋ成形）に記述されているのと同じ手順を使用する。
【０１０７】
紫外線結合プロセス（紫外線結合）：
以下に、本発明の態様による光学記録媒体における使用に好適な標準紫外線結合支持体の製造を記述する。この方法は実施例部分において使用され、支持体がヤング率ＥおよびＱファクターの要求を満たす場合、本発明の範囲を制限しない。直径１２０ｍｍかつ厚さ０．６ｍｍのディスクを、Ａｘｘｉｃｏｎ  ｍｏｕｌｄｓ製のＳＴ−ｍｏｕｌｄｓおよびＤＶＤ＋ＲまたはＤＶＤ−Ｒスタンパーを備えるＳｉｎｇｕｌｕｓ  Ｓｔｒｅａｍｌｉｎｅ  ＩＩ  ＤＶＤ−Ｒに取り付けられたＳｉｎｇｕｌｕｓ  Ｅ  Ｍｏｕｌｄ  ＤＶＤ−Ｒマシーンを使用してそれぞれのペレットから射出成形する。紫外線結合支持体を、２つの厚さ０．６ｍｍのディスクから、下流の染料ディスペンスが奪活され、かつ、金属化が奪活されているが、紫外線結合が活性化されている上記Ｓｉｎｇｕｌｕｓ  Ｓｔｒｅａｍｌｉｎｅ  ＩＩ  ＤＶＤ−Ｒのプロセスを使用することによって製造する。そのために紫外線結合材料をＳｉｎｇｕｌｕｓ  Ｓｔｒｅａｍｌｉｎｅ  ＩＩ  ＤＶＤ−Ｒボンダータンクに供給する。示される結合層厚に到達するように下記セッティングを使用することによってスピンスタンドにおける紫外線ボンダー分散および紫外線硬化を行う：
・結合層厚：            〜９０μｍ            〜４０μｍ
・回転速度１：      １８００ＲＰＭ        ４５００ＲＰＭ
・回転速度２：      ２６００ＲＰＭ        ６５００ＲＰＭ
・ボンダーの添加量：    １．２ｇｒ            ０．６ｇｒ
・照明時間：              １．５秒              ０．９秒
・ベース出力：          １．８ｋＷ            １．８ｋＷ
・最大出力：            ４．０ｋＷ            ４．０ｋＷ
・タンク温度：              ３４℃                ３４℃
・ニードル温度：            ３４℃                ３４℃
【０１０８】
代わりに、紫外線結合支持体を、２つの厚さ０．６ｍｍのディスクから、実験室のスピンコーター（Ｋａｒｌ  Ｓｕｓｓ  ＣＴ６２）であって、１つの０．６ｍｍディスクをクランプし、紫外線結合材料をスリンジ（ｓｒｉｎｇｅ）によって既にクランプされているディスクの内周に低い回転速度２００ＲＰＭにおいて分配するスピンコーターを使用することによって製造してもよい。第２の０．６ｍｍディスクを、クランプされた第１ディスク上に置き、次にスピンコーターを１５００ＲＰＭで８秒間回転させることによって紫外線結合材料をこれらの２つのディスクの間に広げる。
【０１０９】
ヤング率ＥおよびクオリティファクターＱ測定のためにそれぞれの光学記録媒体を形成し、試験ビームを切り取るために、試験ビームの直接１−Ｋ射出成形以外、単一成分射出成形プロセス（１−Ｋ成形）に記述しているのと同じ手順を使用する。
【０１１０】
光透過層の製造方法：
樹脂をスピンコーティングによって支持体の表面または情報および記録層の表面に塗布する。次の樹脂の架橋は、例えば紫外線暴露装置において行われる。このために、被覆支持体をコンベヤベルト上に置き、これを速度約１ｍ／１分において紫外線光源（Ｈｇランプ、８０Ｗ）を通過させて動かす。このプロセスを更に繰り返して、１ｃｍ２あたりの照射エネルギーを左右してもよい。少なくとも１Ｊ／ｃｍ２、好ましくは２〜１０Ｊ／ｃｍ２の照射量が好ましい。次に被覆支持体に、例えば５〜３０分間、温度６０℃〜１２０℃において、好ましくは熱風を用いて、熱による後処理をしてもよい。
【０１１１】
高屈折率層（ＨＲＩ）としての光透過層の製造方法：
コーティング（Ａ）は下記のように製造されうる：
（ｉ）  水性ナノ粒子サスペンジョン中に含まれる水のうちいくらかを少なくとも１種類の有機溶媒によって置換して生じるナノ粒子サスペンジョン（成分Ａ１）の含水量を５〜５０ｗｔ．％にし、
（ｉｉ）  少なくとも１種類のバインダー（成分Ａ２）をナノ粒子サスペンジョン（成分Ａ１）に添加してキャスティング溶液（Ａ＊）を生じ、
（ｉｉｉ）  キャスティング溶液（Ａ＊）を支持体（Ｓ）または情報および記録層（Ｂ）に塗布し、
（ｉｖ）  キャスティング溶液（Ａ＊）を熱またはフォトケミカル法によって架橋させる。
【０１１２】
好ましくは、工程（ｉｉｉ）の後に、残留溶媒をキャスティング溶液（Ａ＊）で被覆された支持体（Ｓ）から完全にまたは部分的に除去し、かつ／または、熱による処理後を工程（ｉｖ）の後に得られるコーティングに適用する。
【０１１３】
キャスティング溶液Ａ＊を、要すれば５分以下、好ましくは１０〜６０秒間、超音波で処理し、かつ／またはフィルターを通して、好ましくは０．２μｍ膜（例えばＲＣメンブラン、Ｓａｒｔｏｒｉｕｓ）を用いて、濾過する。ナノ粒子凝集体が存在する場合、ナノ粒子凝集体を破壊するために超音波処理を利用してもよい。
【０１１４】
キャスティング溶液を支持体の表面または情報および記録層の表面に塗布する。過剰キャスティング溶液の、好ましくはスピンによる、除去後、キャスティング溶液の残留物が支持体上に残り、この残留物の厚さはキャスティング溶液の固形分に依存し、かつ、スピンコーティングの場合、スピン条件に依存する。任意に、キャスティング溶液中に含まれる溶媒のいくつかまたは全てを、好ましくは熱処理によって、除去してもよい。次のキャスティング溶液、または残留物の架橋は、熱による方法（例えば熱風を使用する。）またはフォトケミカル方法（例えば紫外線）によって行われる。フォトケミカル架橋は、例えば、紫外線暴露装置において行われうる。このために、被覆支持体はコンベヤベルト上に置かれ、速度約１ｍ／分において紫外線光源（Ｈｇランプ、８０Ｗ）を通過して動かされる。このプロセスを更に繰り返して、１ｃｍ２あたりの照射エネルギーを左右してもよい。少なくとも１Ｊ／ｃｍ２、好ましくは２〜１０Ｊ／ｃｍ２の照射量が好ましい。次に被覆支持体に、例えば５〜３０分間、温度６０℃〜１２０℃において、好ましくは熱風を用いて、熱による後処理を行ってもよい。
【０１１５】
従って、本発明は、更に、下記工程：
（ｉ）  水性ナノ粒子サスペンジョンから出発して、水性ナノ粒子サスペンジョン中に存在する水を除去し、同時に少なくとも１種類の有機溶媒によって置換してナノ粒子サスペンジョンの含水量を５〜５０ｗｔ．％にする、少なくとも１種類の有機溶媒中の単分散ナノ粒子サスペンジョンの製造工程、
（ｉｉ）  少なくとも１種類のバインダー（成分Ａ２）および要すれば別の添加剤（成分Ａ３）をナノ粒子サスペンジョン（成分Ａ１）に添加してキャスティング溶液（Ａ＊）を生じる工程、
（ｉｉｉ）  工程（ｉｉ）で得られるキャスティング溶液を支持体または情報および記録層（Ｂ）に塗布する工程、
（ｉｖ）  要すればキャスティング溶液中に含まれる溶媒のいくらかまたは全てを、好ましくは熱処理によって、除去して支持体上に残留物を生じる工程、
（ｖ）  キャスティング溶液または残留物を熱による方法またはフォトケミカル方法によって架橋する工程、並びに
（ｖｉ）  要すればコーティングを、好ましくは６０〜１２０℃において、熱処理する工程
を包含する、光透過層の製造方法も提供する。
【０１１６】
試験手順の説明：
【０１１７】
１．ヤング率ＥおよびクオリティファクターＱの測定
周波数領域約１０Ｈｚ〜１０ＫＨｚにおける材料のヤング率Ｅおよび減衰に関連するファクターＱ（クオリティファクター）を測定するために、ＡＳＴＭ  Ｅ  ７５６−０５に記述されているのと同様の構成（ｓｅｔ  ｕｐ）（図１）を使用する。この測定原理は、注目されている材料の振動ビームの共鳴周波数ｆｎの評価ベースである。共鳴周波数を起こすために、ビームの片側をピエゾ振動子（Ｐｉｅｚｏ−ｓｈａｋｅｒ）にクランプする。このピエゾ振動子は１ｍＨｚから１０ＫＨｚまで広がるアナログホワイトノイズ信号によって駆動する。その励振に対するビーム応答、例えばピエゾ振動子にクランプされているビームの末端における励振の周波数に対する速度に標準化された、レーザドップラ振動計（ＬＤＶ）で測定されるピエゾ振動子にクランプされていないビームの先端における周波数に対する速度、を記録する。この応答曲線から、ＥおよびＱを以下のように計算する：
2011501336.tif 000003
（Ｅ    ＝ビーム材料のヤング率（Ｐａ）、
ｆｎ  ＝モードｎに対する共鳴周波数（Ｈｚ）、
Δｆｎ＝モードｎの半値幅における全帯域幅（ＦＷＨＭ）（Ｈｚ）、
Ｃｎ  ＝クランプフリー（均一）ビームのモードｎに関する係数、
Ｈ    ＝振動方向におけるビームの厚さ（メートル）、
ｌ    ＝ビームの長さ（メートル）、
ｎ    ＝モード数：１、２、３、
Ｑ    ＝ビーム材料のクオリティファクター（無次元）、
ρ    ＝ビームの質量密度（ｋｇ／ｍ３））
【０１１８】
例えば、ビームは、上記手順に従って製造されたディスクから切り取られるかまたは射出成形される。この説明は、ビームの製造方法を限定せず、少なくともビームの厚さの方向でみられる層構造は同じである。ビームの幅Ｗは、０．０１３ｍになるように選択され、長さｌは、共鳴周波数が１０Ｈｚ〜１０ｋＨｚの測定周波数領域によく合うように選択される。２０００ＨｚにおけるＥおよびＱの値は、２０００Ｈｚよりも下の測定ｆｎと２０００Ｈｚよりも上の測定ｆｎ＋１とにおいて式１および式２から導き出されるそれぞれの値を使用する直線補間によって計算される。
【０１１９】
２．ＡＦＭを用いるピットの高さの測定
ピットの高さを、原子間力顕微鏡によってタッピングモードで測定した。
【０１２０】
３．ＡＦＭを用いる表面粗度
原子間力顕微鏡によってＡＳＴＭ  Ｅ−４２．１４  ＳＴＭ／ＡＦＭに従ってタッピングモードで測定される表面粗度をＲａで示す。
【０１２１】
４．質量密度
ディスクから切り取られたサンプルの質量密度ρを、Ｍｅｔｔｌｅｒ密度キットＭｅｔｔｌｅｒ  ＡＴ  ２５０  Ｈ６６７６５を用いて、室温において浸液としてエタノールを使用して測定した。または代わりに幅Ｗ、高さＨおよび長さｌが既知のディスクの方形片をこのディスクから切り取った。はかり（例えばＭｅｔｔｌｅｒ  ＡＴ  ２５０）を用いてディスクの方形片の質量ｍを検量し、ρ＝ｍ／（ｌ・Ｈ・Ｗ）によってρを計算した。
【０１２２】
５．ボンダー（ｂｏｎｄｅｒ）の厚さの測定
２つのハーフディスクの厚さｄ１およびｄ２を、ＤＶＤ支持体モードにおいてＳｃｈｅｎｋ  Ｐｒｏｍｅｔｈｅｕｓ  １４０オフラインスキャナを用いて測定した。結合ディスクの全厚ｄｔを、ＣＤ支持体モードにおいてＳｃｈｅｎｋ  Ｐｒｏｍｅｔｈｅｕｓ  １４０オフラインスキャナを用いて測定した。これらの厚さからボンダーの厚さｄＢを
ｄＢ＝ｄｔ−（ｄ１＋ｄ２）      式３
によって計算した。
【０１２３】
６．コア層厚ｄＣおよびスキン層厚ｄＳ１およびｄＳ２の測定
２つのスキン層の厚さｄＳ１およびｄＳ２並びにコア層の厚さｄＣを、ディスクのミクロトーム処理切片の断面に対して立体顕微鏡によって測定した。
【０１２４】
７．傾斜測定
ディスクの傾斜をＳｃｈｅｎｋ  Ｐｒｏｍｅｔｈｅｕｓ  １４０オフラインスキャナを用いて測定した。
【０１２５】
８．複素屈折率ｎ＊＝ｎ＋ｉｋの測定
コーティングの複素屈折率ｎ＊の実部ｎおよび複素屈折率の虚部ｋ（以下、吸光係数ｋともいう。）は、その透過および反射スペクトルから得られる。これらのスペクトルを得るために、厚さ約１００〜３００ｎｍのコーティングのフィルムを希釈溶液からスピンコーティングによって石英ガラスキャリアに塗布した。この層構造の透過および反射スペクトルを、ＳＴＥＡＧ  ＥＴＡ−Ｏｐｔｉｋ製の分光計ＣＤ−Ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔ  Ｓｙｓｔｅｍ  ＥＴＡ−ＲＴによって測定し、次にコーティングの層厚およびｎおよびｋのスペクトル依存性を測定透過率および反射スペクトルに適合させる。この適合は、分光計の内部ソフトウェアを使用して行われ、これは予めブランク測定において測定された石英ガラス支持体のｎおよびｋのスペクトル依存性を必要とする。ｋは、以下のように光強度の減衰定数αに関連する
2011501336.tif 000004
（式中、λは光の波長である。）。
【０１２６】
９．耐引掻き性の測定
ディスク支持体上のコーティングの耐引掻き性を測定するために、被覆支持体の半径方向に、内側から外側へ、半径５０μｍのチップを有するダイヤモンド針を使用して前進速度１．５ｃｍ／秒かつ適用重量４０ｇで掻き傷をつける。Ｔｅｎｃｏｒ製のＡｌｐｈａ  Ｓｔｅｐ  ５００段差計を使用して掻き傷の深さを測定する。この掻き傷の深さを、耐引掻き性の尺度とする。掻き傷の深さの小さな値は、対応コーティングの高い耐引掻き性を意味する。
【０１２７】
１０．コーティング溶液の含水量の測定
コーティング溶液の含水量をＫａｒｌ  Ｆｉｓｃｈｅｒの方法によって測定する。
【０１２８】
１１．光透過層の厚さの測定
１ｎｍ〜１５００ｎｍの厚さ範囲に関して、光透過層を、本発明の光学記録媒体の支持体に塗布するのと同じ方法で、ブランクスタンパー（ピットもグルーブも存在しない。）を用いて成形された透明ＢＰＡ−ポリカーボネートＣＤ−支持体に塗布する。この層構造の透過および反射スペクトルを、ＳＴＥＡＧ  ＥＴＡ−Ｏｐｔｉｋ製の分光計ＣＤ−Ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔ  Ｓｙｓｔｅｍ  ＥＴＡ−ＲＴによって測定し、次にコーティングの層厚を測定透過および反射スペクトルに適合させる。この適合は、分光計の内部ソフトウェアを使用して行われ、これはブランク測定で予め決定されたポリカーボネート支持体のｎおよびｋのスペクトル依存性と複素屈折率ｎ＊＝ｎ＋ｉｋの測定の説明に従って決定された光透過層のｎおよびｋとを要求する。厚さ１５００ｎｍ〜１５００００ｎｍに関しては、モジュール「ＥＴＡ−ＤＶＲ  Ｍｅａｓｕｒｉｎｇ  Ｓｙｓｔｅｍ  ｆｏｒ  Ｂｌｕ−ｒａｙ／Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｖｉｄｅｏ  Ｒｅｃｏｒｄｉｎｇ（ＤＶＲ）Ｄｉｓｋｓ」を有するＣＤ−Ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔ  Ｓｙｓｔｅｍ  ＥＴＡ−ＲＴによって、光学記録媒体の支持体に塗布された光透過層の厚さを測定する。そのためには複素屈折率ｎ＊＝ｎ＋ｉｋの測定の説明に従って測定された光透過層の複素屈折率の実部ｎが必要とされる。
【０１２９】
下記非限定の実施例を参照して本発明を更に詳細に説明する。
【実施例】
【０１３０】
Ａｇ１００ｎｍの反射層（Ｂ）を、塗布する場合、ＤＣスパッタリングによって支持体（Ｓ）上に生じる（Ｒｅｕｔｅｒ  ＬＰ  ８００）。
【０１３１】
光透過層を、支持体（Ｓ）上の、塗布される場合、反射層のトップに、下記成分および手順から得た：
【０１３２】
成分Ａ．０
セリアＣｅＯ２−ＡＣＴ（登録商標）：ＣｅＯ２の水性サスペンジョン：水７７ｗｔ．％および酢酸３ｗｔ．％中にＣｅＯ２ナノ粒子２０ｗｔ．％、このサスペンジョンのｐＨ：３．０、懸濁ＣｅＯ２ナノ粒子の粒度：１０〜２０ｎｍ、比重：１．２２ｇ／ｍｌ、粘度１０ｍＰａ．ｓ、製造業者：米国マサチューセッツ州アッシュランドのＮｙａｃｏｌ  Ｉｎｃ．
【０１３３】
成分Ａ．２−１
バインダー：ジペンタエリトリトールペンタ−／ヘキサ−アクリレート（ＤＰＨＡ、Ａｌｄｒｉｃｈ）
【０１３４】
成分Ａ．２−２
バインダー：ヘキサンジオールジアクリレート（ＨＤＤＡ、Ａｌｄｒｉｃｈ）
【０１３５】
成分Ａ．３
紫外線光開始剤：Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）１８４（１−ヒドロキシ−シクロヘキシルフェニルケトン）、スイスのバーゼルのＣｉｂａ  Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ  Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ  Ｉｎｃ．
【０１３６】
下記成分を実施例中で有機溶媒として使用した：
１−メトキシ−２−プロパノール（ＭＯＰ）、製造業者：Ａｌｄｒｉｃｈ
ジアセトンアルコール（ＤＡＡ）、製造業者：Ａｌｄｒｉｃｈ
【０１３７】
水性ＣｅＯ２ナノ粒子サスペンジョン（成分Ａ．０）を下記のようにクロスフロー限外濾過によって水およびＭＯＰを含むナノ粒子サスペンジョン（成分Ａ．１）に転化した：
【０１３８】
ＵＦ膜カセット（ＵＦ  ｍｅｍｂｒａｎｅ  ｃａｓｓｅｔｔｅ）（ＰＥＳ、ＭＷ  １００，０００）を有するＰＡＬＬ製の膜モジュール（Ｃｅｎｔｒａｍａｔｅ  ＯＳ０７０Ｃ１２）をクロスフロー限外濾過（ＵＦ）に使用した。含水浸透を廃棄し、かつ、減少する透過残液（ｒｅｔｅｎｔａｔｅ）をアルコール溶媒１−メトキシ−２−プロパノール（ＭＯＰ）によって置換する浸透を圧力２．５ｂａｒにおいて行った。成分Ａ．０を６．５リットル使用した。下記表に示されるように、濾過を異なる長さの３つのサイクルの後に終わらせ、そのようにして有機溶媒ＭＯＰと水との混合物中のナノ粒子サスペンジョン（成分Ａ．１）を得た。
【表１】
2011501336.tif 000005
【０１３９】
溶液Ａと溶液Ｂとを混合することによって含水量１０ｗｔ．％のキャスティング溶液（成分Ａ＊）を得た：
溶液Ａ：  成分Ａ．２−１  ２５ｇと成分Ａ．２−２  ６．２ｇとを撹拌しながら溶媒ＤＡＡ  １０８ｇ中に溶解した。次に成分Ａ．３  ２．３５ｇを添加し、その結果クリアな溶液が生じる。
溶液Ｂ：  ガラスビーカー中で、溶媒ＤＡＡ  ５４ｇを成分Ａ．１  ４３５ｇに添加し、この混合物を撹拌し、その結果透明黄色サスペンジョンを得た。これを超音波で３０秒間処理した。その間、水３２．５ｇを添加した。
【０１４０】
溶液ＡおよびＢを組み合わせ、次に再度超音波で３０秒間処理し、０．２μｍフィルター（Ｍｉｎｉｓａｒｔ  ＲＣメンブラン）で濾過した。キャスティング溶液（成分Ａ＊）の計算組成は以下の通りである。
【表２】
2011501336.tif 000006
【０１４１】
複素屈折率の実部ｎは、４０５ｎｍにおいて１．８４であることが測定され、複素屈折率の虚部ｋは、４０５ｎｍにおいて０．００４であることが測定された。
【０１４２】
コーティング溶液（成分Ａ＊）をディスク型支持体（Ｓ）上の反射層（Ｂ）に塗布するために、クランプされた支持体の内径におけるスリンジ（ｓｒｉｎｇｅ）からの低い回転速度２４０ＲＰＭにおける２．１秒間にわたる成分Ａ＊の添加、７５０ＲＰＭにおける３．５秒間にわたるディスクの全エリアにわたる成分Ａ＊の分配、分配成分Ａ＊の１０ＲＰＭにおける４０秒間にわたるコンディショニング、高い回転速度３０００ＲＰＭにおける４０秒間にわたるスピニングによる過剰成分Ａ＊の除去によって、成分Ａ＊をスピンコートした。このコーティングを水銀灯で５．５Ｊ／ｃｍ２において架橋した。光透過層の残りの層厚は７３０ｍｍであった。
【０１４３】
比較例１
単一成分射出成形プロセス（１−Ｋ成形）、本発明の光学記録媒体の標準１−Ｋ成形支持体の製造、に記述している手順に従って、厚さ１．２ｍｍかつ直径１２０ｍｍのディスクを、金型ＡＷＭ２３１３およびＤＶＤ−ＲＯＭスタンパーを備えるＡｒｂｕｒｇ  Ａｌｌｄｉｓｃ射出成形マシーンにおいてビスフェノールＡポリカーボネート（ＢＰＡ−ＰＣ、相対溶液粘度１．２０２）Ｍａｋｒｏｌｏｎ  ＤＯ  ２０１５（登録商標）から成形した。ＡＳＴＭ  Ｅ  ７５６−０５に従うヤング率ＥおよびクオリティファクターＱの測定用の試験ビームを生じるために、ビームをそれぞれのディスクから長さｌ＝１１４ｍｍ、厚さＨ＝１．２ｍｍかつ幅Ｗ＝１２．７ｍｍで切り取った。Ｍｅｔｔｌｅｒ密度キットＭｅｔｔｌｅｒ  ＡＴ  ２５０  Ｈ６６７６５を用いて質量密度が１．１９０ｇ／ｃｍ３であると決定した。それを用いて、２０００Ｈｚにおけるヤング率ＥおよびクオリティファクターＱをＥ＝２．５３ＧＰａかつＱ＝１６７と決定した。
【０１４４】
比較例２
単一成分射出成形プロセス（１−Ｋ成形）、本発明の光学記録媒体の標準１−Ｋ成形支持体の製造、に記述している手順に従って、厚さ１．６４ｍｍ、幅Ｗ  １３．１ｍｍかつ長さｌ  ８１ｍｍの試験ビームを、ポリスチレン（ＣＡＳ番号２９８−０７−７、分子量１４００００ダルトン、Ａｌｄｒｉｃｈ／ドイツ）からＡｒｂｕｒｇ  ３７０射出成形マシーンにおいて直接射出成形した。Ｍｅｔｔｔｌｅｒ密度キットＭｅｔｔｌｅｒ  ＡＴ  ２５０  Ｈ６６７６５を用いて質量密度が１．０１４ｇ／ｃｍ３であると決定した。それを用いて、ＡＳＴＭ  Ｅ  ７５６−０５に従う２０００Ｈｚにおけるヤング率ＥおよびクオリティファクターＱをＥ＝３．２８ＧＰａかつＱ＝１７５と決定した。
【０１４５】
比較例３
単一成分射出成形プロセス（１−Ｋ成形）、本発明の光学記録媒体の標準１−Ｋ成形支持体の製造、に記述している手順に従って、厚さ１．６４ｍｍ、幅Ｗ  １３．１ｍｍかつ長さｌ  ８１ｍｍの試験ビームを、ビスフェノールＡで作られた溶液粘度１．２０２のポリカーボネートとカーボンファイバー（ドイツヴッパータールのＴｏｈｏ  Ｔｅｎａｘ  Ｅｕｒｏｐｅ  ＧｍｂＨ製のカーボンファイバーＴｅｎａｘ−Ｕ  Ｔｙｐｅ  ２３４）２０重量％とのコンパウンド（コンパウンド４）からＡｒｂｕｒｇ  ３７０射出成形マシーンにおいて、直接射出成形した。質量密度を、Ｍｅｔｔｌｅｒ密度キットＭｅｔｔｌｅｒ  ＡＴ  ２５０  Ｈ６６７６５を用いて１．２０６ｇ／ｃｍ３であると決定した。それを用いて、２０００Ｈｚにおけるヤング率ＥおよびクオリティファクターＱを、ＡＳＴＭ  Ｅ  ７５６−０５に従ってＥ＝６．１８ＧＰａかつＱ＝１７０であると決定した。
【０１４６】
実施例１（支持体）
コンパウンド（コンパウンド１）を、溶液粘度１．２０２のＢＰＡ−ポリカーボネート（Ｍａｋｒｏｌｏｎ  ＯＤ  ２０１５（登録商標）、Ｂａｙｅｒ  ＭａｔｅｒｉａｌＳｃｉｅｎｃｅ）７９．９５ｗｔ．％、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ  ６Ｎ（登録商標）、Ｄｅｇｕｓｓａ）５ｗｔ．％、タルク（Ｆｉｎｎｔａｌｃ  ＭＯ５ＳＬ（登録商標）、Ｍｏｎｄｏ  Ｍｉｎｅｒａｌｓ、フィンランド／ヘルシンキ）１５ｗｔ．％およびグリセリンモノステアレート（Ｄｉｏｍｏｄａｎ、Ｄａｎｉｓｃｏ／ドイツ）０．０５ｗｔ．％から、それぞれの成分をＺＳＫ  ２５／４押出機（Ｃｏｐｅｒｉｏｎ  Ｈｏｌｄｉｎｇ  ＧｍｂＨ，ドイツ／シュトゥットガルト）において配合し、溶融ストランドをウォーターバス中で冷却後にペレット化することによって製造した。これらのペレットを１−Ｋ射出成形プロセスにおいて上記のように単一成分射出成形プロセス（１−Ｋ成形）において、サンドイッチプレート、Ｐｈｉｌｉｐｓ  ＣＤ−ＭｏｕｌｄおよびＤＶＤ−ＲＯＭスタンパーを備えるＡｒｂｕｒｇ  ３７０  Ｕ  ７００  ３０／３０  ２−Ｋ射出成形マシーンを使用して直径１２０ｍｍかつ厚さ１．２ｍｍのディスクに成形した。それからディスク支持体試験ビームを単一成分射出成形プロセス（１−Ｋ成形）に記述されているように製造した。測定ヤング率ＥおよびクオリティファクターＱを表３に示す。
【０１４７】
実施例２（光学記録媒体）
上記のように、反射層および光透過層を実施例１のディスク支持体に塗布した。掻き傷の深さは０．６３８μｍと測定され、表面粗度はＲａ＝９．９９ｎｍと測定された。そのディスク支持体から、試験ビームを、単一成分射出成形プロセス（１−Ｋ成形）に記述されているように製造した。測定ヤング率ＥおよびクオリティファクターＱを表３に示す。
【０１４８】
実施例３（支持体）
コンパウンド（コンパウンド２）を、ＢＰＡ−ポリカーボネート（Ｍａｋｒｏｌｏｎ  ＯＤ  ２０１５（登録商標）、Ｂａｙｅｒ  ＭａｔｅｒｉａｌＳｃｉｅｎｃｅ）５９．９０ｗｔ．％、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ  ６Ｎ（登録商標）、Ｄｅｇｕｓｓａ）１０ｗｔ．％、タルク（Ｆｉｎｎｔａｌｃ  ＭＯ５ＳＬ（登録商標）、Ｍｏｎｄｏ  Ｍｉｎｅｒａｌｓ、フィンランド／ヘルシンキ）３０ｗｔ．％、ビス（２−エチルヘキシル）ホスフェート（ＣＡＳ番号２９８−０７−７、Ａｌｆａ  Ａｅｓａｒ  ＧｍｂＨ＆Ｃｏ  ＫＧ、ドイツ／カールスルーエ）０．０５ｗｔ．％およびグリセリンモノステアレート（Ｄｉｍｏｄａｎ、Ｄａｎｉｓｃｏ／ドイツ）０．０５ｗｔ．％から、それぞれの成分をＺＳＫ  ２５／４押出機（Ｃｏｐｅｒｉｏｎ  Ｈｏｌｄｉｎｇ  ＧｍｂＨ、ドイツ／シュトゥットガルト）において配合し、溶融ストランドをウォーターバス中で冷却後にペレット化することによって製造した。これらのペレットを１−Ｋ射出成形プロセスにおいて上に単一成分射出成形プロセス（１−Ｋ成形）において記述されているように、サンドイッチプレート、Ｐｈｉｌｉｐｓ  ＣＤ−ＭｏｕｌｄおよびＤＶＤ−ＲＯＭスタンパーを備えるＡｒｂｕｒｇ  ３７０  Ｕ  ７００  ３０／３０  ２−Ｋ射出成形マシーンを使用して、直径１２０ｍｍかつ厚さ１．２ｍｍのディスクに成形した。そのディスク支持体から、試験ビームを、単一成分射出成形プロセス（１−Ｋ成形）に記述されているように製造した。測定ヤング率ＥおよびクオリティファクターＱを表３に示す。
【０１４９】
実施例４（光学記録媒体）
上記のように、反射層および光透過層を実施例３のディスク支持体に塗布した。掻き傷の深さは０．７０６μｍと測定され、表面粗度はＲａ＝８．０６ｎｍと測定された。そのディスク支持体から、試験ビームを、単一成分射出成形プロセス（１−Ｋ成形）に記述されているように製造した。測定ヤング率ＥおよびクオリティファクターＱを表３に示す。
【０１５０】
実施例５（支持体）
コンパウンド（コンパウンド３）を、ＢＰＡ−ポリカーボネート（Ｍａｋｒｏｌｏｎ  ＯＤ  ２０１５（登録商標）、Ｂａｙｅｒ  ＭａｔｅｒｉａｌＳｃｉｅｎｃｅ）７７．９５ｗｔ．％、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ  ６Ｎ（登録商標）、Ｄｅｇｕｓｓａ）１０ｗｔ．％、グラファイトＣｏｎｄ  ５／９９（Ｇｒａｐｈｉｔ  Ｋｒｏｐｆｍｕｅｈｌ  ＡＧ、ドイツ／ハウツェンベルク）１２ｗｔ．％およびグリセリンモノステアレート（Ｄｉｍｏｄａｎ、Ｄａｎｉｓｃｏ／ドイツ）０．０５ｗｔ．％から、  それぞれの成分をＺＳＫ  ２５／４押出機（Ｃｏｐｅｒｉｏｎ  Ｈｏｌｄｉｎｇ  ＧｍｂＨ、ドイツ／シュトゥットガルト）において配合し、溶融ストランドをウォーターバス中で冷却後にペレット化することによって製造した。これらのペレットを１−Ｋ射出成形プロセスにおいて上に単一成分射出成形プロセス（１−Ｋ成形）において記述されているように、サンドイッチプレート、Ｐｈｉｌｉｐｓ  ＣＤ−ＭｏｕｌｄおよびＤＶＤ−ＲＯＭスタンパーを備えるＡｒｂｕｒｇ  ３７０  Ｕ  ７００  ３０／３０  ２−Ｋ射出成形マシーンを使用して、直径１２０ｍｍかつ厚さ１．２ｍｍのディスクに成形した。そのディスク支持体から、試験ビームを、単一成分射出成形プロセス（１−Ｋ成形）に記述されているように製造した。測定ヤング率ＥおよびクオリティファクターＱを表３に示す。
【０１５１】
実施例６（光学記録媒体）
上記のように、反射層および光透過層を実施例３のディスク支持体に塗布した。掻き傷の深さは０．６９０μｍと測定され、表面粗度はＲａ＝３．７ｎｍと測定された。そのディスク支持体から、試験ビームを、単一成分射出成形プロセス（１−Ｋ成形）に記述されているように製造した。測定ヤング率ＥおよびクオリティファクターＱを表３に示す。
【表３】
2011501336.tif 000007
【０１５２】
実施例７
直径１２０ｍｍかつ厚さ１．２ｍｍの２−Ｋサンドイッチ射出成形ディスクを、上記のように２成分サンドイッチ射出成形プロセス（２−Ｋ成形）において、サンドイッチプレート、Ｐｈｉｌｉｐｓ  ＣＤ−ＭｏｕｌｄおよびＤＶＤ−ＲＯＭスタンパーを備えるＡｒｂｕｒｇ  ３７０  Ｕ  ７００  ３０／３０  ２−Ｋ射出成形マシーンを使用して、コア樹脂としての実施例３に記述されているコンパウンド２のペレットおよびスキン樹脂としてのＢＰＡ−ポリカーボネート（Ｍａｋｒｏｌｏｎ  ＯＤ  ２０１５（登録商標）、Ｂａｙｅｒ  ＭａｔｅｒｉａｌＳｃｉｅｎｃｅ）のペレットから製造した。マシーンのセッティングを第１ショットのスキン材料５０％添加容積（５０％ｄｏｓａｇｅ  ｖｏｌｕｍｅ）および第２ショットのコア材料５０％添加容積にセットした。このショットにおいて、スプルーをスキン材料でシールした。そのディスクにおいて測定される平均コア層厚ｄｃは全厚の５７％であり、２つの平均スキン層厚ｄＳ１およびｄＳ２はそれぞれ全層厚の２１．５％であった。そのディスク支持体から、試験ビームを、２成分サンドイッチ射出成形プロセス（２−Ｋ成形）に記述されているように製造した。測定ヤング率ＥおよびクオリティファクターＱを表４に示す。
【０１５３】
実施例８
上記のように、反射層および光透過層を実施例７のディスク支持体に塗布した。掻き傷の深さは０．６６５μｍと測定され、表面粗度はＲａ＝７．９１ｎｍと測定された。そのディスク支持体から試験ビームを、２成分サンドイッチ射出成形プロセス（２−Ｋ成形）に記述されているように製造した。測定ヤング率ＥおよびクオリティファクターＱを表４に示す。
【表４】
2011501336.tif 000008
【０１５４】
実施例９
直径１２０ｍｍかつ厚さ１．２ｍｍの紫外線結合ディスクを上記のように紫外線結合プロセス（紫外線結合）において、ＢＰＡ−ポリカーボネート（Ｍａｋｒｏｌｏｎ  ＯＤ  ２０１５（登録商標）、Ｂａｙｅｒ  ＭａｔｅｒｉａｌＳｃｉｅｎｃｅ）のペレットから上記構成のＳｉｎｇｕｌｕｓ  Ｓｔｒｅａｍｌｉｎｅ  ＩＩ  ＤＶＤ−Ｒを使用して成形された２つの厚さ０．６ｍｍのハーフディスクから製造した。紫外線ボンダーは、Ｂａｙｅｒ  ＭａｔｅｒｉａｌＳｃｉｅｎｃｅ製のＤｅｓｍｏｌｕｘ  ＸＰ  ２５１３（登録商標）６７．９ｗｔ．％、Ｓａｒｔｏｍｅｒ製のＳａｒｔｏｍｅｒ  ＳＲ  ２５６（登録商標）２９．１ｗｔ．％および（Ｄａｒｏｃｕｒ  １１７３（登録商標）、Ｃｉｂａ）２．９ｗｔ．％の混合物で構成されていた。成分の混合を、当業者に既知の最先端技術に従ってＳｐｅｅｄＭｉｘｅｒＴＭを使用して行った。スピンスタンド（ｓｐｉｎ  ｓｔａｎｄ）における紫外線ボンダー分配および紫外線硬化は、上にも記述されているようにこのセッティングを使用することによって行われて〜９０μｍ結合層厚に達する。そのディスクにおいて測定される平均ボンダー層厚ｄＢは８９μｍであった。そのディスク支持体から試験ビームを紫外線結合プロセス（紫外線結合）に記述されているように製造した。測定ヤング率ＥおよびクオリティファクターＱを表５に示す。
【０１５５】
実施例１０
上記のように、反射層および光透過層を実施例９のディスク支持体に塗布した。掻き傷の深さは０．５２３μｍと測定され、表面粗度はＲａ＝３．６ｎｍと測定された。そのディスク支持体から、試験ビームを、紫外線結合プロセス（紫外線結合）に記述されているように製造した。測定ヤング率ＥおよびクオリティファクターＱを表５に示す。
【表５】
2011501336.tif 000009
【０１５６】
広い発明の概念から逸脱せずに上記態様に変形が行われることが当業者に理解される。従って、本発明は開示している特定の態様に限定されるわけではなく、添付の特許請求の範囲によって定義されるように本発明の精神および範囲内で変形をカバーすることを意図している。
【図１】
2011501336.tif 000011
【国際調査報告】
2011501336.tif 000012
2011501336.tif 000013
2011501336.tif 000014