(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数枚の基板を処理部に収容することにより、複数枚の基板に対して所定の処理を行う基板処理装置において、  複数枚の基板を収容して処理を行う処理部と、  前記処理部の上方にあたる受け渡し位置と、前記処理部の側方にあたる待機位置との間にわたって移動可能に構成され、複数枚の基板を所定の整列方向に整列させた状態で、各基板の側縁を保持して搬送する基板搬送機構と、  前記処理部の上方にあたる受け渡し位置と、前記処理部の内部にあたる処理位置との間にわたって昇降可能に構成され、前記受け渡し位置にて前記基板搬送機構との間で複数枚の基板を受け渡し、各基板の下縁を保持するリフタと、  前記基板搬送機構から複数枚の基板を前記リフタが受け取った後、複数枚の基板が整列方向にぶれることを抑制するブレ抑制手段と、  を備え、 前記ブレ抑制手段は、前記リフタが支持している各基板の側縁と隣り合う基板の側縁との間隔を保持する間隔保持手段と、前記間隔保持手段を昇降させる間隔保持手段昇降機構と、を備え、前記基板搬送機構が複数枚の基板を開放する際に、前記間隔保持手段に各基板の側縁と隣り合う基板の側縁との間隔を保持させ、 前記間隔保持手段は、複数枚の基板の両側の縁につき、隣り合う基板の側縁との間隔を保持することを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
複数枚の基板を処理部に収容することにより、複数枚の基板に対して所定の処理を行う基板処理装置において、 複数枚の基板を収容して処理を行う処理部と、 前記処理部の上方にあたる受け渡し位置と、前記処理部の側方にあたる待機位置との間にわたって移動可能に構成され、複数枚の基板を所定の整列方向に整列させた状態で、各基板の側縁を保持して搬送する基板搬送機構と、 前記処理部の上方にあたる受け渡し位置と、前記処理部の内部にあたる処理位置との間にわたって昇降可能に構成され、前記受け渡し位置にて前記基板搬送機構との間で複数枚の基板を受け渡し、各基板の下縁を保持するリフタと、 前記基板搬送機構から複数枚の基板を前記リフタが受け取った後、複数枚の基板が整列方向にぶれることを抑制するブレ抑制手段と、 を備え、  前記ブレ抑制手段は、前記リフタが支持している各基板の側縁と隣り合う基板の側縁との間隔を保持する間隔保持手段と、前記間隔保持手段を昇降させる間隔保持手段昇降機構と、を備え、前記基板搬送機構が複数枚の基板を開放する際に、前記間隔保持手段に各基板の側縁と隣り合う基板の側縁との間隔を保持させ、 前記間隔保持手段昇降機構は、前記リフタに取り付けられていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項３】
複数枚の基板を処理部に収容することにより、複数枚の基板に対して所定の処理を行う基板処理装置において、 複数枚の基板を収容して処理を行う処理部と、 前記処理部の上方にあたる受け渡し位置と、前記処理部の側方にあたる待機位置との間にわたって移動可能に構成され、複数枚の基板を所定の整列方向に整列させた状態で、各基板の側縁を保持して搬送する基板搬送機構と、 前記処理部の上方にあたる受け渡し位置と、前記処理部の内部にあたる処理位置との間にわたって昇降可能に構成され、前記受け渡し位置にて前記基板搬送機構との間で複数枚の基板を受け渡し、各基板の下縁を保持するリフタと、 前記基板搬送機構から複数枚の基板を前記リフタが受け取った後、複数枚の基板が整列方向にぶれることを抑制するブレ抑制手段と、 を備え、 前記ブレ抑制手段は、前記リフタが支持している各基板の側縁と隣り合う基板の側縁との間隔を保持する間隔保持手段と、前記間隔保持手段を昇降させる間隔保持手段昇降機構と、を備え、前記基板搬送機構が複数枚の基板を開放する際に、前記間隔保持手段に各基板の側縁と隣り合う基板の側縁との間隔を保持させ、 前記間隔保持手段昇降機構は、前記リフタが処理位置に位置している際に、前記間隔保持手段を微小距離だけ往復昇降させることを特徴とする基板処理装置。
【請求項４】
複数枚の基板を処理部に収容することにより、複数枚の基板に対して所定の処理を行う基板処理装置において、 複数枚の基板を収容して処理を行う処理部と、 前記処理部の上方にあたる受け渡し位置と、前記処理部の側方にあたる待機位置との間にわたって移動可能に構成され、複数枚の基板を所定の整列方向に整列させた状態で、各基板の側縁を保持して搬送する基板搬送機構と、 前記処理部の上方にあたる受け渡し位置と、前記処理部の内部にあたる処理位置との間にわたって昇降可能に構成され、前記受け渡し位置にて前記基板搬送機構との間で複数枚の基板を受け渡し、各基板の下縁を保持するリフタと、 前記基板搬送機構から複数枚の基板を前記リフタが受け取った後、複数枚の基板が整列方向にぶれることを抑制するブレ抑制手段と、 を備え、 前記ブレ抑制手段は、前記リフタが支持している各基板の側縁と隣り合う基板の側縁との間隔を保持する間隔保持手段と、前記間隔保持手段を昇降させる間隔保持手段昇降機構と、を備え、前記基板搬送機構が複数枚の基板を開放する際に、前記間隔保持手段に各基板の側縁と隣り合う基板の側縁との間隔を保持させ、 前記間隔保持手段昇降機構は、前記間隔保持手段を複数枚の基板の整列方向に移動する水平移動機構をさらに備え、前記リフタが処理位置に位置している際に、前記水平移動機構を作動させて前記間隔保持手段を前記整列方向に微小距離だけ往復移動させることを特徴とする基板処理装置。
【請求項５】
複数枚の基板を処理部に収容することにより、複数枚の基板に対して所定の処理を行う基板処理装置において、 複数枚の基板を収容して処理を行う処理部と、 前記処理部の上方にあたる受け渡し位置と、前記処理部の側方にあたる待機位置との間にわたって移動可能に構成され、複数枚の基板を所定の整列方向に整列させた状態で、各基板の側縁を保持して搬送する基板搬送機構と、 前記処理部の上方にあたる受け渡し位置と、前記処理部の内部にあたる処理位置との間にわたって昇降可能に構成され、前記受け渡し位置にて前記基板搬送機構との間で複数枚の基板を受け渡し、各基板の下縁を保持するリフタと、 前記基板搬送機構から複数枚の基板を前記リフタが受け取った後、複数枚の基板が整列方向にぶれることを抑制するブレ抑制手段と、 を備え、 前記ブレ抑制手段は、前記処理部の内部側壁であって、前記リフタに支持された状態のままで前記複数枚の基板をそれぞれ収納するための溝を備えた内部ガイドと、前記受け渡し位置と前記内部ガイドとの間にあたる案内位置と、前記案内位置から離れた待機位置とにわたって移動可能に構成され、複数枚の基板の側縁の移動を上下方向に許容する可動式案内部材とを備え、 前記リフタが受け渡し位置から処理位置に下降する際と、前記リフタが処理位置から受け渡し位置に上昇する際には、前記可動式案内部材を案内位置に移動させることを特徴とする基板処理装置。
【請求項６】
複数枚の基板を処理部に収容することにより、複数枚の基板に対して所定の処理を行う基板処理装置において、 複数枚の基板を収容して処理を行う処理部と、 前記処理部の上方にあたる受け渡し位置と、前記処理部の側方にあたる待機位置との間にわたって移動可能に構成され、複数枚の基板を所定の整列方向に整列させた状態で、各基板の側縁を保持して搬送する基板搬送機構と、 前記処理部の上方にあたる受け渡し位置と、前記処理部の内部にあたる処理位置との間にわたって昇降可能に構成され、前記受け渡し位置にて前記基板搬送機構との間で複数枚の基板を受け渡し、各基板の下縁を保持するリフタと、 前記基板搬送機構から複数枚の基板を前記リフタが受け取った後、複数枚の基板が整列方向にぶれることを抑制するブレ抑制手段と、 を備え、 前記ブレ抑制手段は、前記リフタが支持している各基板の側縁と隣り合う基板の側縁との間隔を保持する間隔保持手段と、前記間隔保持手段を前記リフタに対して相対的に昇降移動させる間隔保持手段昇降機構と、を備え、前記基板搬送機構が複数枚の基板を開放する際に、前記間隔保持手段に各基板の側縁と隣り合う基板の側縁との間隔を保持させることを特徴とする基板処理装置。
【請求項７】
複数枚の基板を処理部に収容することにより、複数枚の基板に対して所定の処理を行う基板処理装置において、 複数枚の基板を収容して処理を行う処理部と、 前記処理部の上方にあたる受け渡し位置と、前記処理部の側方にあたる待機位置との間にわたって移動可能に構成され、複数枚の基板を所定の整列方向に整列させた状態で、各基板の側縁を保持して搬送する基板搬送機構と、 前記処理部の上方にあたる受け渡し位置と、前記処理部の内部にあたる処理位置との間にわたって昇降可能に構成され、前記受け渡し位置にて前記基板搬送機構との間で複数枚の基板を受け渡し、各基板の下縁を保持するリフタと、 前記基板搬送機構から複数枚の基板を前記リフタが受け取った後、複数枚の基板が整列方向にぶれることを抑制するブレ抑制手段と、 を備え、 前記ブレ抑制手段は、前記リフタが支持している複数枚の基板の上縁部における隣接する基板との間隔を保持する上縁間隔保持手段と、前記リフタに取り付けられ、前記リフタの昇降に同期して、前記上縁間隔保持手段を昇降させる上縁間隔保持手段昇降機構と、を備え、前記基板搬送機構が複数枚の基板を開放する際に、前記上縁間隔保持手段に複数枚の基板の上縁部における隣接する基板との間隔を保持させることを特徴とする基板処理装置。
【請求項８】
請求項２から４のいずれかに記載の基板処理装置において、  前記間隔保持手段は、複数枚の基板の両側の縁につき、隣り合う基板の側縁との間隔を保持することを特徴とする基板処理装置。
【請求項９】
請求項２から４のいずれかに記載の基板処理装置において、  前記間隔保持手段昇降機構は、受け渡し位置で複数枚の基板の受け渡しが行われる際には、その動作に干渉しない待避位置に前記間隔保持手段を移動させることを特徴とする基板処理装置。
【請求項１０】
請求項２から４のいずれかに記載の基板処理装置において、  前記間隔保持手段昇降機構は、前記リフタの昇降に同期して前記間隔保持手段を昇降させることを特徴とする基板処理装置。
【請求項１１】
請求項３または４に記載の基板処理装置において、  前記間隔保持手段昇降機構は、前記リフタに取り付けられていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項１２】
請求項７に記載の基板処理装置において、  前記上縁間隔保持手段昇降機構は、受け渡し位置で複数枚の基板の受け渡しが行われる際には、その動作に干渉しない待避位置に前記上縁間隔保持手段を移動させることを特徴とする基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】  本発明は、半導体ウエハ、液晶ディスプレイ用基板、プラズマディスプレイ用基板、有機ＥＬ用基板、ＦＥＤ(Field Emission Display)用基板、光ディスプレイ用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、太陽電池用基板（以下、単に基板と称する）に対して、リフタで複数枚の基板を受け取った後、リフタを下降させて複数枚の基板を処理部に収容させることにより、複数枚の基板に対して処理を行う技術に関する。
【背景技術】
【０００２】  従来、この種の装置として、基板搬送機構と、処理槽と、リフタとを備えたものがある（例えば、特許文献１参照）。基板搬送機構は、処理槽の上方と、処理槽の上方から側方に離れた搬送位置との間にわたって複数枚の基板を水平方向に搬送する。基板搬送機構は、複数枚の基板の両側縁を把持することで、複数枚の基板を保持している。処理槽は、処理液を貯留し、複数枚の基板を収容して処理液による処理を複数枚の基板に対して行う。リフタは、処理槽の上方にあたり、基板搬送機構との間で複数枚の基板を受け渡すための受け渡し位置と、処理槽の内部にあたる処理位置とにわたって昇降する。また、リフタは、基板の中央部よりも下方の縁を当接して支持することにより、複数枚の基板を起立姿勢で保持している。【０００３】  このように構成された基板処理装置は、受け渡し位置にあるリフタに対して、基板搬送機構から複数枚の基板が載置される。複数枚の基板がリフタに載置された後、基板搬送機構は、複数枚の基板の両側縁を開放し、複数枚の基板をリフタに対して下縁だけで支持させる。その後、リフタは、複数枚の基板を下縁だけで保持した状態で受け渡し位置から処理位置に下降して、所定時間だけ処理液に浸漬させることにより、複数枚の基板に対して処理を行わせる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００８−２５２１２２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】  しかしながら、このような構成を有する従来例の場合には、次のような問題がある。  すなわち、従来の装置は、複数枚の基板がリフタにより起立姿勢で支持され、しかもが複数枚の基板が下縁だけで当接支持されている。したがって、複数枚の基板がリフタに載置され、基板搬送機構が複数枚の基板の把持を解除した後、隣接する基板同士の上部が当接し、各基板に形成されたデバイス形成面が損傷する恐れがある。特に、リフタは、複数枚の基板の下縁を緩く保持しているので、処理位置に下降する際や処理位置から上昇するリフタの昇降に基板同士の接触が生じやすい。【０００６】  なお、基板の直径が３００ｍｍである場合には、そのような問題が生じにくいものの、基板の直径が４５０ｍｍになった場合には、上述した問題が頻繁に生じる恐れがある。【０００７】  本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、処理部への搬入出時における複数枚の基板の衝突を抑制することができる基板処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】  本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。  すなわち、請求項１に記載の発明は、複数枚の基板を処理部に収容することにより、複数枚の基板に対して所定の処理を行う基板処理装置において、複数枚の基板を収容して処理を行う処理部と、前記処理部の上方にあたる受け渡し位置と、前記処理部の側方にあたる待機位置との間にわたって移動可能に構成され、複数枚の基板を所定の整列方向に整列させた状態で、各基板の側縁を保持して搬送する基板搬送機構と、前記処理部の上方にあたる受け渡し位置と、前記処理部の内部にあたる処理位置との間にわたって昇降可能に構成され、前記受け渡し位置にて前記基板搬送機構との間で複数枚の基板を受け渡し、各基板の下縁を保持するリフタと、前記基板搬送機構から複数枚の基板を前記リフタが受け取った後、複数枚の基板が整列方向にぶれることを抑制するブレ抑制手段と、を備え、前記ブレ抑制手段は、前記リフタが支持している各基板の側縁と隣り合う基板の側縁との間隔を保持する間隔保持手段と、前記間隔保持手段を昇降させる間隔保持手段昇降機構と、を備え、前記基板搬送機構が複数枚の基板を開放する際に、前記間隔保持手段に各基板の側縁と隣り合う基板の側縁との間隔を保持させ、前記間隔保持手段は、複数枚の基板の両側の縁につき、隣り合う基板の側縁との間隔を保持することを特徴とするものである。【０００９】  ［作用・効果］請求項１に記載の発明によれば、基板搬送機構からリフタが複数枚の基板を受け取った後、リフタが処理位置へ移動する際や、処理部での処理を終えてリフタが受け渡し位置へ上昇する際には、複数枚の基板が整列方向にぶれることをブレ抑制手段が抑制する。したがって、処理部への搬入出時における複数枚の基板の衝突を抑制することができる。また、基板搬送機構が複数枚の基板を開放する際に、間隔保持手段に複数枚の基板の側縁と隣り合う基板の側縁との間隔を保持させるので、受け渡し位置と処理位置との間にわたって、複数枚の基板の衝突を抑制することができる。さらに、間隔保持手段が複数枚の基板の両側縁と隣り合う基板の側縁との間隔を保持するので、効果的に基板の衝突を抑制することができる。【００１０】 また、請求項２に記載の発明は、複数枚の基板を処理部に収容することにより、複数枚の基板に対して所定の処理を行う基板処理装置において、複数枚の基板を収容して処理を行う処理部と、前記処理部の上方にあたる受け渡し位置と、前記処理部の側方にあたる待機位置との間にわたって移動可能に構成され、複数枚の基板を所定の整列方向に整列させた状態で、各基板の側縁を保持して搬送する基板搬送機構と、前記処理部の上方にあたる受け渡し位置と、前記処理部の内部にあたる処理位置との間にわたって昇降可能に構成され、前記受け渡し位置にて前記基板搬送機構との間で複数枚の基板を受け渡し、各基板の下縁を保持するリフタと、前記基板搬送機構から複数枚の基板を前記リフタが受け取った後、複数枚の基板が整列方向にぶれることを抑制するブレ抑制手段と、を備え、前記ブレ抑制手段は、前記リフタが支持している各基板の側縁と隣り合う基板の側縁との間隔を保持する間隔保持手段と、前記間隔保持手段を昇降させ��間隔保持手段昇降機構と、を備え、前記基板搬送機構が複数枚の基板を開放する際に、前記間隔保持手段に各基板の側縁と隣り合う基板の側縁との間隔を保持させ、前記間隔保持手段昇降機構は、前記リフタに取り付けられていることを特徴とするものである。【００１１】 ［作用・効果］請求項２に記載の発明によれば、基板搬送機構からリフタが複数枚の基板を受け取った後、リフタが処理位置へ移動する際や、処理部での処理を終えてリフタが受け渡し位置へ上昇する際には、複数枚の基板が整列方向にぶれることをブレ抑制手段が抑制する。したがって、処理部への搬入出時における複数枚の基板の衝突を抑制することができる。また、基板搬送機構が複数枚の基板を開放する際に、間隔保持手段に複数枚の基板の側縁と隣り合う基板の側縁との間隔を保持させるので、受け渡し位置と処理位置との間にわたって、複数枚の基板の衝突を抑制することができる。さらに、別体の機構を備えることなく、リフタの昇降に同期して間隔保持手段を昇降させることができる。したがって、昇降制御を単純化できるとともに構成を簡易化でき、コストを抑制することができる。【００１２】  また、請求項３に記載の発明は、複数枚の基板を処理部に収容することにより、複数枚の基板に対して所定の処理を行う基板処理装置において、複数枚の基板を収容して処理を行う処理部と、前記処理部の上方にあたる受け渡し位置と、前記処理部の側方にあたる待機位置との間にわたって移動可能に構成され、複数枚の基板を所定の整列方向に整列させた状態で、各基板の側縁を保持して搬送する基板搬送機構と、前記処理部の上方にあたる受け渡し位置と、前記処理部の内部にあたる処理位置との間にわたって昇降可能に構成され、前記受け渡し位置にて前記基板搬送機構との間で複数枚の基板を受け渡し、各基板の下縁を保持するリフタと、前記基板搬送機構から複数枚の基板を前記リフタが受け取った後、複数枚の基板が整列方向にぶれることを抑制するブレ抑制手段と、を備え、前記ブレ抑制手段は、前記リフタが支持している各基板の側縁と隣り合う基板の側縁との間隔を保持する間隔保持手段と、前記間隔保持手段を昇降させる間隔保持手段昇降機構と、を備え、前記基板搬送機構が複数枚の基板を開放する際に、前記間隔保持手段に各基板の側縁と隣り合う基板の側縁との間隔を保持させ、前記間隔保持手段昇降機構は、前記リフタが処理位置に位置している際に、前記間隔保持手段を微小距離だけ往復昇降させることを特徴とするものである。【００１３】 ［作用・効果］請求項３に記載の発明によれば、基板搬送機構からリフタが複数枚の基板を受け取った後、リフタが処理位置へ移動する際や、処理部での処理を終えてリフタが受け渡し位置へ上昇する際には、複数枚の基板が整列方向にぶれることをブレ抑制手段が抑制する。したがって、処理部への搬入出時における複数枚の基板の衝突を抑制することができる。また、基板搬送機構が複数枚の基板を開放する際に、間隔保持手段に複数枚の基板の側縁と隣り合う基板の側縁との間隔を保持させるので、受け渡し位置と処理位置との間にわたって、複数枚の基板の衝突を抑制することができる。さらに、間隔保持手段が基板の端縁を保持しているので、処理液や処���気体がその部分に滞留したり、行き渡らなかったりすることが生じ得る。そこで、微小距離だけ間隔保持手段を往復昇降させることで、そのような不都合を回避することができる。したがって、基板の面内における処理を均一にすることができる。【００１４】  また、請求項４に記載の発明は、複数枚の基板を処理部に収容することにより、複数枚の基板に対して所定の処理を行う基板処理装置において、複数枚の基板を収容して処理を行う処理部と、前記処理部の上方にあたる受け渡し位置と、前記処理部の側方にあたる待機位置との間にわたって移動可能に構成され、複数枚の基板を所定の整列方向に整列させた状態で、各基板の側縁を保持して搬送する基板搬送機構と、前記処理部の上方にあたる受け渡し位置と、前記処理部の内部にあたる処理位置との間にわたって昇降可能に構成され、前記受け渡し位置にて前記基板搬送機構との間で複数枚の基板を受け渡し、各基板の下縁を保持するリフタと、前記基板搬送機構から複数枚の基板を前記リフタが受け取った後、複数枚の基板が整列方向にぶれることを抑制するブレ抑制手段と、を備え、前記ブレ抑制手段は、前記リフタが支持している各基板の側縁と隣り合う基板の側縁との間隔を保持する間隔保持手段と、前記間隔保持手段を昇降させる間隔保持手段昇降機構と、を備え、前記基板搬送機構が複数枚の基板を開放する際に、前記間隔保持手段に各基板の側縁と隣り合う基板の側縁との間隔を保持させ、前記間隔保持手段昇降機構は、前記間隔保持手段を複数枚の基板の整列方向に移動する水平移動機構をさらに備え、前記リフタが処理位置に位置している際に、前記水平移動機構を作動させて前記間隔保持手段を前記整列方向に微小距離だけ往復移動させることを特徴とするものである。【００１５】 ［作用・効果］請求項４に記載の発明によれば、基板搬送機構からリフタが複数枚の基板を受け取った後、リフタが処理位置へ移動する際や、処理部での処理を終えてリフタが受け渡し位置へ上昇する際には、複数枚の基板が整列方向にぶれることをブレ抑制手段が抑制する。したがって、処理部への搬入出時における複数枚の基板の衝突を抑制することができる。また、基板搬送機構が複数枚の基板を開放する際に、間隔保持手段に複数枚の基板の側縁と隣り合う基板の側縁との間隔を保持させるので、受け渡し位置と処理位置との間にわたって、複数枚の基板の衝突を抑制することができる。さらに、間隔保持手段が基板の端縁を保持しているので、処理液や処理気体がその部分に滞留したり、行き渡らなかったりすることが生じ得る。そこで、水平方向移動機構により、微小距離だけ間隔保持手段を往復移動させることで、そのような不都合を回避することができる。したがって、基板の面内における処理を均一にすることができる。【００１６】  また、請求項５に記載の発明は、複数枚の基板を処理部に収容することにより、複数枚の基板に対して所定の処理を行う基板処理装置において、複数枚の基板を収容して処理を行う処理部と、前記処理部の上方にあたる受け渡し位置と、前記処理部の側方にあたる待機位置との間にわたって移動可能に構成され、複数枚の基板を所定の整列方向に整列させた状態で、各基板の側縁を保持して搬送する基板搬送��構と、前記処理部の上方にあたる受け渡し位置と、前記処理部の内部にあたる処理位置との間にわたって昇降可能に構成され、前記受け渡し位置にて前記基板搬送機構との間で複数枚の基板を受け渡し、各基板の下縁を保持するリフタと、前記基板搬送機構から複数枚の基板を前記リフタが受け取った後、複数枚の基板が整列方向にぶれることを抑制するブレ抑制手段と、を備え、前記ブレ抑制手段は、前記処理部の内部側壁であって、前記リフタに支持された状態のままで前記複数枚の基板をそれぞれ収納するための溝を備えた内部ガイドと、前記受け渡し位置と前記内部ガイドとの間にあたる案内位置と、前記案内位置から離れた待機位置とにわたって移動可能に構成され、複数枚の基板の側縁の移動を上下方向に許容する可動式案内部材とを備え、前記リフタが受け渡し位置から処理位置に下降する際と、前記リフタが処理位置から受け渡し位置に上昇する際には、前記可動式案内部材を案内位置に移動させることを特徴とするものである。【００１７】 ［作用・効果］請求項５に記載の発明によれば、基板搬送機構からリフタが複数枚の基板を受け取った後、リフタが処理位置へ移動する際や、処理部での処理を終えてリフタが受け渡し位置へ上昇する際には、複数枚の基板が整列方向にぶれることをブレ抑制手段が抑制する。したがって、処理部への搬入出時における複数枚の基板の衝突を抑制することができる。また、リフタが受け渡し位置から処理位置に下降する際と、リフタが処理位置から受け渡し位置に上昇する際には、可動式案内部材を案内位置に移動させる。したがって、その際には、可動式案内部材と内部ガイドにより複数枚の基板の端縁が整列方向にぶれることを抑制できる。その結果、処理部への搬入出時における複数枚の基板の衝突を抑制することができる。【００１８】  また、請求項６に記載の発明は、複数枚の基板を処理部に収容することにより、複数枚の基板に対して所定の処理を行う基板処理装置において、複数枚の基板を収容して処理を行う処理部と、前記処理部の上方にあたる受け渡し位置と、前記処理部の側方にあたる待機位置との間にわたって移動可能に構成され、複数枚の基板を所定の整列方向に整列させた状態で、各基板の側縁を保持して搬送する基板搬送機構と、前記処理部の上方にあたる受け渡し位置と、前記処理部の内部にあたる処理位置との間にわたって昇降可能に構成され、前記受け渡し位置にて前記基板搬送機構との間で複数枚の基板を受け渡し、各基板の下縁を保持するリフタと、前記基板搬送機構から複数枚の基板を前記リフタが受け取った後、複数枚の基板が整列方向にぶれることを抑制するブレ抑制手段と、を備え、前記ブレ抑制手段は、前記リフタが支持している各基板の側縁と隣り合う基板の側縁との間隔を保持する間隔保持手段と、前記間隔保持手段を前記リフタに対して相対的に昇降移動させる間隔保持手段昇降機構と、を備え、前記基板搬送機構が複数枚の基板を開放する際に、前記間隔保持手段に各基板の側縁と隣り合う基板の側縁との間隔を保持させることを特徴とするものである。【００１９】 ［作用・効果］請求項６に記載の発明によれば、基板搬送機構からリフタが複数枚の基板を受け取った後、リフタが処理位置へ移動する際や���処理部での処理を終えてリフタが受け渡し位置へ上昇する際には、複数枚の基板が整列方向にぶれることをブレ抑制手段が抑制する。したがって、処理部への搬入出時における複数枚の基板の衝突を抑制することができる。また、基板搬送機構が複数枚の基板を開放する際に、間隔保持手段に複数枚の基板の側縁と隣り合う基板の側縁との間隔を保持させるので、受け渡し位置と処理位置との間にわたって、複数枚の基板の衝突を抑制することができる。【００２０】  また、請求項７に記載の発明は、複数枚の基板を処理部に収容することにより、複数枚の基板に対して所定の処理を行う基板処理装置において、複数枚の基板を収容して処理を行う処理部と、前記処理部の上方にあたる受け渡し位置と、前記処理部の側方にあたる待機位置との間にわたって移動可能に構成され、複数枚の基板を所定の整列方向に整列させた状態で、各基板の側縁を保持して搬送する基板搬送機構と、前記処理部の上方にあたる受け渡し位置と、前記処理部の内部にあたる処理位置との間にわたって昇降可能に構成され、前記受け渡し位置にて前記基板搬送機構との間で複数枚の基板を受け渡し、各基板の下縁を保持するリフタと、前記基板搬送機構から複数枚の基板を前記リフタが受け取った後、複数枚の基板が整列方向にぶれることを抑制するブレ抑制手段と、を備え、前記ブレ抑制手段は、前記リフタが支持している複数枚の基板の上縁部における隣接する基板との間隔を保持する上縁間隔保持手段と、前記リフタに取り付けられ、前記リフタの昇降に同期して、前記上縁間隔保持手段を昇降させる上縁間隔保持手段昇降機構と、を備え、前記基板搬送機構が複数枚の基板を開放する際に、前記上縁間隔保持手段に複数枚の基板の上縁部における隣接する基板との間隔を保持させることを特徴とするものである。【００２１】 ［作用・効果］請求項７に記載の発明によれば、基板搬送機構からリフタが複数枚の基板を受け取った後、リフタが処理位置へ移動する際や、処理部での処理を終えてリフタが受け渡し位置へ上昇する際には、複数枚の基板が整列方向にぶれることをブレ抑制手段が抑制する。したがって、処理部への搬入出時における複数枚の基板の衝突を抑制することができる。また、別体の機構を備えることなく、リフタの昇降に同期して間隔保持手段を昇降させることができる。したがって、昇降制御を単純化できるとともに構成を簡易化でき、コストを抑制することができる。さらに、基板搬送機構からリフタが複数枚の基板を受け取った後、リフタが処理位置へ移動する際や、処理部での処理を終えてリフタが受け渡し位置へ上昇する際には、上縁間隔保持手段が複数枚の基板の上縁を保持するので、複数枚の基板が整列方向にぶれることを抑制する。したがって、処理部への搬入出時における複数枚の基板の衝突を抑制することができる。【００２２】  また、本発明において、前記間隔保持手段は、複数枚の基板の両側の縁につき、隣り合う基板の側縁との間隔を保持することが好ましい（請求項８）。【００２３】 間隔保持手段が複数枚の基板の両側縁と隣り合う基板の側縁との間隔を保持するので、効果的に基板の衝突を抑制することができる。【００２４】  また、本発明において、前記間隔保持手段昇降機構��、受け渡し位置で複数枚の基板の受け渡しが行われる際には、その動作に干渉しない待避位置に前記間隔保持手段を移動させることが好ましい（請求項９）。【００２５】 複数枚の基板の受け渡し時には、間隔保持手段昇降機構が間隔保持手段を待避位置に待避させるので、複数枚の基板の受け渡しを円滑に行うことができる。【００２６】  また、本発明において、前記間隔保持手段昇降機構は、前記リフタの昇降に同期して前記間隔保持手段を昇降させることが好ましい（請求項１０）。【００２７】 リフタの昇降に同期して間隔保持手段を昇降させることで、リフタの位置や昇降移動の動作にかかわらず、基板の衝突を抑制することができる。【００２８】 また、本発明において、前記間隔保持手段昇降機構は、前記リフタに取り付けられていることが好ましい（請求項１１）。【００２９】 別体の機構を備えることなく、リフタの昇降に同期して間隔保持手段を昇降させることができる。したがって、昇降制御を単純化できるとともに構成を簡易化でき、コストを抑制することができる。【００３０】 また、本発明において、前記上縁間隔保持手段昇降機構は、受け渡し位置で複数枚の基板の受け渡しが行われる際には、その動作に干渉しない待避位置に前記上縁間隔保持手段を移動させることが好ましい（請求項１２）。【００３１】 複数枚の基板の受け渡し時には、上縁間隔保持手段昇降機構が上縁間隔保持手段を待避位置に待避させるので、複数枚の基板の受け渡しを円滑に行うことができる。
【発明の効果】
【００３２】  本発明に係る基板処理装置によれば、基板搬送機構からリフタが複数枚の基板を受け取った後、リフタが処理位置へ移動する際や、処理部での処理を終えてリフタが受け渡し位置へ上昇する際には、複数枚の基板が整列方向にぶれることをブレ抑制手段が抑制する。したがって、処理部への搬入出時における複数枚の基板の衝突を抑制することができる。また、基板搬送機構が複数枚の基板を開放する際に、間隔保持手段に複数枚の基板の側縁と隣り合う基板の側縁との間隔を保持させるので、受け渡し位置と処理位置との間にわたって、複数枚の基板の衝突を抑制することができる。さらに、間隔保持手段が複数枚の基板の両側縁と隣り合う基板の側縁との間隔を保持するので、効果的に基板の衝突を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】実施例１に係る基板処理システムの概略構成を示した平面図である。
【図２】基板処理装置の概略構成を示す側面図である。
【図３】間隔保持機構の正面図である。
【図４】間隔保持機構の一部を示す平面図である。
【図５】基板の受け渡し動作の説明に供する図であり、（ａ）〜（ｄ）は複数枚の基板の受け渡しから処理位置への移動を示す。
【図６】実施例２に係る基板処理装置の概略構成を示す側面図である。
【図７】間隔保持機構の概略構成を示す正面図である。
【図８】実施例３に係る基板処理装置の概略構成を示す正面図である。
【図９】間隔保持機構の概略構成を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３４】  以下、基板処理システムに備えられた基板処理装置を例にとって説明する。
【実施例１】
【００３５】  以下、図面を参照して本発明の実施例１について説明する。  図１は、実施例１に係る基板処理システムの概略構成を示した平面図であり、図２は、基板処理装置の概略構成を示す側面図である。また、図３は、間隔保持機構の正面図であり、図４は、間隔保持機構の一部を示す平面図である。【００３６】  基板処理システム１は、複数枚の基板Ｗを効率的に処理するためのものである。基板処理システム１は、収納器載置部３と、シャッタ駆動機構５と、基板移載ロボット７と、姿勢変換機構９と、プッシャ１１と、基板搬送機構ＷＴＲと、処理部１３とを備えている。【００３７】  収納器載置部３は、収納器１５を載置される。収納器１５は、複数枚の基板Ｗが水平姿勢で高さ方向に整列されて収納され、開閉自在の蓋（不図示）を備えている。収納器１５は、未処理の基板Ｗを収納した状態で収納器載置部３に載置されたり、処理済の基板Ｗを収納するために、空の状態で収納器載置部３に載置されたりする。【００３８】  収納器載置部３に隣接して、開閉自在のシャッタ１７を一部位に備えた隔壁（不図示）が処理部１３側に設けられている。収納器載置部３に載置された収納器１５の内部と処理部１３側とは、シャッタ１７を開放することで連通される。シャッタ駆動機構５は、シャッタ１７を開閉駆動する。【００３９】  基板移載ロボット７は、姿勢変換機構９と収納器１５との間において複数枚の基板Ｗを受け渡しする。基板移載ロボット７は、水平面内で旋回自在に構成されている。姿勢変換機構９は、複数枚の基板Ｗの姿勢を起立姿勢と水平姿勢との間で変換する。プッシャ１１は、姿勢変換機構９と基板搬送機構ＷＴＲとの間で、起立姿勢の複数枚の基板Ｗを受け渡しする。【００４０】  基板搬送機構ＷＴＲは、プッシャ１１に対向した「待機位置」から処理部１３に沿って水平方向に移動する。また、基板搬送機構ＷＴＲは、一対の懸垂アーム１９を備えている。この一対の懸垂アーム１９は、一対の懸垂アーム１９の下縁を互いに離れる方向に水平軸周りで揺動して複数枚の基板Ｗを開放し、一対の懸垂アーム１９の下縁を互いに接近させる方向に水平軸周りに揺動して複数枚の基板Ｗを挟持する。【００４１】  処理部１３は、基板搬送機構ＷＴＲの待機位置側に、乾燥処理部２１を備えている。この乾燥処理部２１は、洗浄液による洗浄処理を終えた複数枚の基板Ｗに対して乾燥処理を行う。【００４２】  さらに、処理部１３は、乾燥処理部２１を挟んだ基板搬送機構ＷＴＲの待機位置の反対側に、第1処理部２３と第２処理部２５とを備えている。第1処理部２３及び第２処理部２５は、同一の構成を備えているので、ここでは第１処理部２３だけについて説明する。【００４３】  第１処理部２３は、処理液処理部２７と洗浄処理部２９とを備えている。処理液処理部２７は、処理液を貯留する処理槽３１を備え、洗浄処理部２９は、洗浄液を貯留する処理槽３３を備えている。また、第１処理部２３は、処理槽３１と処理槽３３との間だけを水平移動して、複数枚の基板Ｗを各処理槽３１，３３で移動させるためのリフタ３５を備えている。【００４４】  リフタ３５は、複数枚の基板Ｗを基板搬送機構ＷＴＲとの間で受け渡しを行う「受け渡し位置」（図２及び図３中に二点鎖線で示す）と、処理槽３１の内部にあたる「処理位置」（図２及び図３中に実線で示す）とにわたって昇降可能に構成されている。リフタ３５は、背板３７と、支持部材３９と、延出部材４１とを備えている。背板３７は、処理槽３１の一方の内壁に沿って底面に延出されている。支持部材３９は、背板３７の下端部側面から処理槽３１の他方の内壁に沿って延出されている。この例では、３本の支持部材３９が設けられている。各支持部材３９は、基板Ｗの厚さより若干幅広のＶ字状の溝（不図示）を上面に形成されている。延出部材４１は、背板３７の上端部背面から処理槽３１の背面側に向かって延出されている。リフタ３５は、図２に示すように全体としてＬ字状を呈している。なお、リフタ３５の最上昇位置は、基板搬送機構ＷＴＲが複数枚の基板Ｗを保持した状態であっても支持部材３９の上方を通過できる高さに設定されている。【００４５】  リフタ３５の下部であって処理槽３１の背面には、リフタ駆動機構４３が設けられている。リフタ駆動機構４３は、昇降モータ４５と、ボールネジ４７と、昇降ベース４９と、昇降支柱５１とを備えている。昇降モータ４５は、回転軸を縦置きにした状態で基板処理システム１のフレーム（不図示）に取り付けられている。ボールネジ４７は、昇降モータ４５の回転軸に連結されている。昇降ベース４９は、ボールネジ４７に一方側が螺合されている。昇降支柱５１は、基端部側が昇降ベース４９の中央部に取り付けられ、他端部側が延出部材４１の下面に取り付けられている。昇降モータ４５が駆動されると、ボールネジ４７が回転し、昇降ベース４９とともに昇降支柱５１が昇降するようになっている。【００４６】  昇降ベース４９の他方側には、間隔保持部材駆動機構５３が配置されている。間隔保持部材駆動機構５３は、昇降駆動部５５と水平駆動部５７とを備えている。昇降駆動部５５は、昇降モータ５９とボールネジ６１とを備えている。昇降モータ５９は、回転軸を縦置きにした状態で可動ベース６３に固定されている。ボールネジ６１は、昇降モータ５９の回転軸に連結されている。【００４７】  水平駆動部５７は、上述した可動ベース６３と、水平モータ６５と、ボールネジ６７とを備えている。水平モータ６５は、回転軸を横置きにした姿勢で昇降ベース４９に固定されている。ボールネジ６７は、水平モータ６５の回転軸に連結されている。ボールネジ６７は、可動ベース６３に螺合されている。【００４８】  間隔保持部材駆動機構５３には、間隔保持機構６９が取り付けられている。間隔保持機構６９は、二本の間隔保持部材７１と、垂下片７３と、延出片７５とを備えている。二本の間隔保持部材７１は、水平方向において対向する基板Ｗの側縁を保持する。各間隔保持部材７１は、図４に示すように、リフタ３５が保持する複数枚の基板Ｗ間隔に一致するように保持溝７７が形成されている。保持溝７７は、平面視で、基板Ｗ側が基板Ｗの厚さより若干幅広のＶ字状を呈する。また、間隔保持部材７１は、基板Ｗの側縁を保持するので、処理中に処理液の流れを妨げにくいように、また、基板Ｗの側縁への処理液の供給が不足しないように、可能な限り高さ方向の長さを短く形成するのが好ましい。垂下片７３は、背板３７に沿って設けら���、その下端部側面に間隔保持部材７１を設けられている。延出片７３は、垂下片７３の上部から処理槽３１の背面側に延出されている。延出片７３は、上述したボールネジ６１に螺合されている。【００４９】  また、基板処理システム１は、上述した各動作部を統括的に制御するための制御部７９を備えている。【００５０】  なお、上述した処理液処理部２７が本発明における「処理部」に相当し、間隔保持機構６９が本発明における「ブレ抑制手段」に相当する。また、間隔保持部材７１が本発明における「間隔保持手段」に相当し、リフタ昇降機構４３及び昇降駆動部５５が本発明における「間隔保持手段昇降機構」に相当し、水平駆動部５７が本発明における「水平移動機構」に相当する。【００５１】  上述した構成の基板処理システム１における動作ついて図５を参照して説明する。なお、図５は、基板の受け渡し動作の説明に供する図であり、（ａ）〜（ｄ）は複数枚の基板の受け渡しから処理位置への移動を示す。初期状態としては、収納器１５に収容された複数枚の基板Ｗが既に基板搬送機構ＷＴＲに挟持されて、基板搬送機構ＷＴＲがその「待機位置」にあるものとする。また、処理槽３１のリフタ３５は、その「処理位置」または、その「受け渡し位置」より若干下方に待機しているものとする。また、処理槽３１には、既に処理液が貯留しているものとする。【００５２】  基板搬送機構ＷＴＲは、複数枚の基板Ｗを挟持した状態で、リフタ３５の上方にあたる「受け渡し位置」に移動する（図５（ａ））。このとき、間隔保持部材７１は、「待避位置」に待避している。次に、リフタ３５は、基板搬送機構ＷＴＲが位置している「受け渡し位置」にまで上昇する（図５（ｂ））。これにより、基板搬送機構ＷＴＲに挟持されている複数枚の基板Ｗは、その下縁がリフタ３５の支持部材３９によって支持される。つまり、この状態では、複数枚の基板Ｗは、その両側縁と下縁とが保持されている。【００５３】  次に、基板搬送機構ＷＴＲは、一対の懸垂アーム１９を開放して、複数枚の基板Ｗをリフタ３５に渡す（図５（ｃ））。この状態では、複数枚の基板Ｗがリフタ３５により下縁だけで支持されている。このときさらに、一対の懸垂アーム１９が開放されるのと入れ替わるようにほぼ同時に、待避位置にあった間隔保持部材７１を上昇させる。これは、間隔保持部材駆動機構５３を作動させることによって行われる。これにより、リフタ３５に支持されている複数枚の基板Ｗは、間隔保持部材７１の溝７７内に挿入されることによって両側縁が保持され、その基板Ｗの整列方向（隣り合う基板への方向）へのぶれは、溝７７内での遊びの範囲内に抑制される。これによって、隣り合う基板Ｗの側縁同士の間隔は十分に保持されるので、隣り合う基板Ｗ同士の接触は抑制される。【００５４】  次に、リフタ３５は、複数枚の基板Ｗを保持したまま、処理槽３１内の「処理位置」にまで下降する（図５（ｄ））。これにより複数枚の基板Ｗは、処理槽３１内の処理液による処理が行われる。このリフタ３５の下降時に、昇降ベース４９に間隔保持部材駆動機構５３を介して取り付けられている間隔保持機構６９も同期して下降するので、基板Ｗはその隣り合う基板Ｗの側縁同士の間隔が保持されてそれ���の接触を抑制した状態で下降する。好ましくは、水平駆動部５７により、間隔保持部材７１を基板Ｗの整列方向に対して微小距離（例えば、基板Ｗの厚さと溝７７の幅との差分の１／２程度）の範囲内で往復移動させる。また、好ましくは、昇降駆動部５５により、間隔保持部材７１を高さ方向に対して微小距離（例えば、数ミリないし数センチ）の範囲内で往復移動させる。これにより、間隔保持部材７１に起因して、処理液がその部分に滞留したり、行き渡らなかったりすることによる、基板Ｗの両側縁における処理ムラを抑制できる。【００５５】  また、所定時間が経過した後、上述した動作を逆の順序で行うことにより、処理槽３１内で処理を終えた複数枚の基板Ｗを基板搬送機構ＷＴＲに渡すことができる。【００５６】  本実施例装置によると、基板搬送機構ＷＴＲからリフタ３５が複数枚の基板Ｗを受け取った後、リフタ３５が処理位置へ移動する際や、処理槽３１における処理を終えてリフタ３５が受け渡し位置へ上昇する際には、間隔保持部材７１が、複数枚の基板Ｗが整列方向にぶれることを抑制し、基板Ｗの側縁同士の間隔を保持することにより、それらの接触を抑制する。したがって、処理槽３１への搬入出時における複数枚の基板Ｗの衝突を抑制することができる。また、処理中も複数枚の基板Ｗの端縁を間隔保持部材７１が保持しているので、処理液の流れによって複数枚の基板Ｗがぶれることも抑制できる。【００５７】  また、リフタ３５を昇降するリフタ昇降機構４３に間隔保持機構６９が取り付けられているので、リフタ３５の昇降に間隔保持機構６９の昇降を容易に同期させることができる。したがって、別体の構成を備える場合に比較して制御を簡単化できるとともに構成を簡易化することができ、コストを抑制することができる。【００５８】  なお、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、以下のように変形実施することができる。【００５９】  （１）上述した実施例１では、複数枚の基板Ｗの両側縁を間隔保持部材７１で保持するようにしている。しかし、間隔保持部材７１を一つだけとして、複数枚の基板Ｗの一方側の側縁だけを保持する構成を採用してもよい。これにより、複数枚の基板Ｗのブレを抑制することができるとともに、装置コストを抑制することができる。【００６０】  （２）上述した実施例１では、処理中において、昇降駆動部５５及び水平駆動部５７により、間隔保持部材７１を上下及び前後に微小距離だけ移動させるようにした。しかし、間隔保持部材７１による悪影響が小さい、あるいは無視できるような場合には、そのような動作を行わせる必要はない。【００６１】  （３）上述した実施例１では、間隔保持機構６９の昇降や前後移動のために昇降モータ５９や水平モータ６５を採用しているが、これに代えて、例えば、エアシリンダなどのアクチュエータを採用してもよい。【００６２】  （４）間隔保持部材駆動機構５３をリフタ昇降機構４３から独立させて、個別に駆動制御してもよい。【００６３】  （５）上述した実施例１において、間隔保持部材７１に形成する溝７７の大きさを、間隔保持部材７１の上側を大きく、下側を小さく形成することで、間隔保持部材７１を上昇させる際に基板Ｗの両側縁が溝７７内に収まり���すくなり、基板Ｗの両側縁を容易に保持することができる。【００６４】  （６）上述した実施例１では、間隔保持部材７１が水平方向において対向する基板Ｗの側縁を保持することによって、基板Ｗのぶれを抑制し、隣り合う基板Ｗの側縁同士の間隔を保持している。間隔保持部材７１は、少なくとも隣り合う基板Ｗの側縁と側縁とが衝突しない程度にぶれを抑制できればよい。換言すると、隣り合う基板Ｗの側縁と側縁の間に位置して両者の間隔を保持し、両者の接触を抑制できればよい。従って、間隔保持部材７１は必ずしも上述した実施例１のように基板Ｗの側縁を溝などで保持する必要はなく、例えば基板の間隔に対して十分に薄い薄板材あるいは微小な突起物などの部材を基板の側縁と側縁の間に挿入して、両者の直接的な接触を防止、抑制するような構成として、基板と基板の間隔を保持するものであってもよい。
【実施例２】
【００６５】  次に、図面を参照して本発明の実施例２について説明する。  図６は、実施例２に係る基板処理装置の概略構成を示す側面図であり、図７は、間隔保持機構の概略構成を示す正面図である。なお、実施例１と共通する構成については同符号を付すことで詳細な説明については省略する。また、基板処理システム１のうちの処理槽３１だけを例にとって説明する。【００６６】  本実施例におけるリフタ駆動機構４３は、間隔保持部材駆動機構５３、昇降駆動部５５、水平駆動部５７を備えていない点で実施例１と相違する。【００６７】  また、リフタ３５は、上縁保持機構８１を備えている。上縁保持機構８１は、上縁保持部材８３と、垂下片８５と、延出片８７とを備えている。上縁保持部材８３は、下面に複数個の溝８８が形成され、それらは複数枚の基板Ｗの整列方向に形成されている。この上縁保持部材８３の正面寸法（図７）は、複数枚の基板Ｗのブレが抑制できる範囲内で、できるだけ細い方が好ましい。これにより、処理ムラを抑制することができる。垂下片８５は、下端部に上縁保持部材８３が取り付けられている。延出片８７は、垂下片８５の上端に、処理槽３１の背面側へ向かって取り付けられている。垂下片８５の長さは、上縁保持部材８３が移動された際に、上縁保持部材８３が複数枚の基板Ｗの上縁を保持できるように設定されている（図６）。【００６８】  リフタ３５の延出部材４１には、揺動機構８９が設けられている。揺動機構８９は、延出片８７の基端部を揺動駆動する。具体的には、揺動機構８９は、揺動モータ９１と、回転軸９３と、ベルト９５とを備えている。揺動モータ９１は、回転軸を横置きにした状態で延出部材４１に設けられている。ベルト９５は、回転軸９３と揺動モータ９１の回転軸とに架け渡されている。揺動モータ９１を駆動すると、上縁保持機構８１が図６中に実線で示す「抑制位置」と、図６中に二点鎖線で示す「待避位置」とにわたって移動される。【００６９】  なお、上述した上縁保持機構８１が本発明における「ブレ抑制手段」に相当し、上述した上縁保持部材８３が本発明における「上縁間隔保持手段」に相当する。また、リフタ昇降機構４３及び揺動機構８９が本発明における「上縁間隔保持手段昇降機構」に相当する。【００７０】  上述した構成では、複数枚の基板Ｗを「受け渡し位置」で受け取る際には、上縁保持機構８１が「待避位置」（図６中の二点鎖線）に待避しているので、受け渡し時において基板搬送機構ＷＴＲとの干渉が回避できる。そして、複数枚の基板Ｗがリフタ３５に渡されるとともに、基板搬送機構ＷＴＲが「受け渡し位置」から待避した場合には、揺動機構８９により上縁保持機構８１を「抑制位置」（図６中の実線）に移動させる。その後、リフタ３５を処理槽３１内の「処理位置」に下降させ、所定時間だけ浸漬させて処理液による処理を行わせる。所定時間の経過後、上記の動作とは逆の動作を行うことにより、処理を終えた複数枚の基板Ｗを基板搬送機構ＷＴＲに渡す。【００７１】  本実施例２の構成であっても上述した実施例１と同様の効果を奏する。【００７２】  なお、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、以下のように変形実施することができる。【００７３】  （１）���述した実施例２では、上縁保持機構８１を揺動駆動したが、本発明はこのような構成に限定されるものではない。例えば、リフタ３５の背板３７に開口を設け、その背面側から直線状の上縁保持部材８１を進退させる構成を採用してもよい。【００７４】  （２）上述した実施例２では、上縁保持機構８１の揺動のために揺動モータ９１を採用しているが、これに代えて、例えば、エアシリンダなどのアクチュエータを採用してもよい。【００７５】  （３）上述した実施例２では、処理中に上縁保持機構８１を微小距離だけ移動させるような構成を備えていないが、実施例１と同様に処理中は微小距離だけ移動するように構成してもよい。
【実施例３】
【００７６】  次に、図面を参照して本発明の実施例３について説明する。  図８は、実施例３に係る基板処理装置の概略構成を示す正面図であり、図９は、間隔保持機構の概略構成を示す平面図である。なお、実施例１と共通する構成については同符号を付すことで詳細な説明については省略する。また、基板処理システム１のうちの処理槽３１だけを例にとって説明する。【００７７】  処理槽３１は、内部ガイド９７を備えている。この内部ガイド９７は、複数枚の基板Ｗの整列方向に沿って複数個の溝９９を備えている。内部ガイド９７は、処理槽３１内の処理液の流れを乱しにくいように、処理槽３１の底部までは達しない深さまでしか形成されていない。内部ガイド９７は、複数枚の基板Ｗの周縁を案内しつつ「処理位置」にまで複数枚の基板Ｗの下降を許容する。【００７８】  処理槽３１の上縁付近には、可動式案内機構１０１が配置されている。この可動式案内機構１０１は、案内部材１０３を備えている。案内部材１０３は、内部ガイド９７と同様の溝１０５を備えている。案内部材１０３は、平面視にて内部ガイド９７の溝９９と同じ位置に溝１０５が形成されている。案内部材１０３は、内部ガイド９７の上方にあたる「案内位置」と、内部ガイド９７の外側にあたる「待機位置」とにわたって水平方向に移動可能に構成されている。【００７９】  なお、上述した内部ガイド９７と案内部材１０３とが本発明における「ブレ抑制手段」に相当する。また、案内部材１０３が本発明における「可動式案内部材」に相当する。【００８０】  本実施例では、リフタ３５が基板搬送機構ＷＴＲから複数枚の基板Ｗを受け取って、「受け渡し位置」から下降を開始するまでに「待機位置」から「案内位置」に案内部材１０３を移動する。すると、複数枚の基板Ｗを受け取ったリフタ３５が下縁のみを支持した状態で下降を開始するが、処理槽３１の上部では案内部材１０３の案内で複数枚の基板Ｗのブレが抑制される。また、処理槽３１内では、内部ガイド９７により複数枚の基板Ｗのブレが抑制される。【００８１】  本実施例によると、上述した実施例１，２と同等の効果を奏する。但し、リフタ３５が下降を開始した直後から案内部材１０３の位置まではブレが抑制できない点で不利であるものの、リフタ３５が従来と同じ構成でよく、処理槽３１周りの変更だけでよい点で有利である。【００８２】  本発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。【００８３】  （１）上述した各実施例１〜３では、処理液処理部２７（処理槽３１）を例にとって説明したが、本発明は処理液や洗浄液を用いず、気体だけで処理する基板処理装置にも適用することができる。例えば、処理部がチャンバのみであって、チャンバ内に複数枚の基板Ｗを収容して気体での処理を行う装置が挙げられる。【００８４】  （２）上述した各実施例１〜３では、上述したような構成の基板処理システム１に用いられる基板処理装置を例に採ったが、このような基板処理システム１は必須ではない。つまり、基板搬送機構ＷＴＲとリフタ３５との間で複数枚の基板Ｗを受け渡し、リフタ３５が処理部に対して複数枚の基板を昇降させる基板処理装置であれば本発明を適用することができる。
【符号の説明】
【００８５】  Ｗ  …  基板  １  …  基板処理システム  １３  …  処理部  ２３  …  第１処理部  ２５  …  第２処理部  ２７  …  処理液処理部  ２９  …  洗浄処理部  ３１，３３  …  処理槽  ３５  …  リフタ  ３７  …  背板  ３９  …  支持部材  ５３  …  間隔保持部材駆動機構  ５５  …  昇降駆動部  ５７  …  水平駆動部  ６９  …  間隔保持機構  ７１  …  間隔保持部材
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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