(57)【要約】  本発明は、画像をホログラフィで表示するための装置および方法に関する。複数のＳＬＭ画素を有する空間光変調器（ＳＬＭ）を用いて、画像をホログラフィで表示する方法は、前記ＳＬＭの前記画素に回折パターンを表示するステップと、前記ＳＬＭ画素上で前記回折パターンによって回折する光が前記表示画像の内容を含むように、前記ＳＬＭの前記画素を照射するステップとを含み、前記表示画像全体にわたる前記表示画像の輝度の変化が、個々の前記画素の回折パターンによって決定される強度包絡線、例えば正弦包絡線によって変調され、該方法はさらに、位相遅延のパターンを前記ＳＬＭ画素に課すことによって前記強度包絡線のピークまたは重心を０次スポットから前記表示画像の中心に向かって移動させることを含み、前記位相遅延のパターンは前記ＳＬＭの画素間隔に対応する空間間隔で繰り返される。
2011503650.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のＳＬＭ画素を有する空間光変調器（ＳＬＭ）を用いてホログラフィで画像を表示する方法であって、
前記ＳＬＭの前記画素上に回折パターンを表示するステップと、
前記ＳＬＭ画素上の前記回折パターンによって回折される光が前記表示画像の内容を含むように、前記ＳＬＭの前記画素を照射するステップと、
を含み、前記表示画像全体にわたる前記表示画像の輝度の変化が、個々の前記画素の回折パターンによって決定される強度包絡線によって変調され、
前記ＳＬＭ画素に位相遅延のパターンを課すことによって、前記強度包絡線を０次スポットから前記表示画像の中心に向かって移動させるステップをさらに含み、前記位相遅延のパターンが前記ＳＬＭの画素間隔に対応する空間間隔で繰り返される、方法。
【請求項２】
前記ＳＬＭは、前記ＳＬＭ画素が３つ以上の選択可能な位相遅延を有する多値位相ＳＬＭを含み、前記回折パターンは３つ以上の異なる位相値を持つパターンを含み、前記方法はさらに、前記表示画像の共役画像が抑制されるように、表示するための前記回折パターンを決定するステップを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記ＳＬＭ画素における前記位相遅延のパターンは、前記画素にわたって増大しかつ各画素に対して繰り返される位相遅延を含む、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記位相遅延は前記強度包絡線が移動する方向とは逆の方向に増大する、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
ホログラフィで表示される前記画像を規定する画像データを入力するステップと、前記画像データによって規定された前記画像を、前記強度包絡線の移動方向と直交する方向に２等分された画像データプレーンの半分に位置付けるステップと、次いで前記画像データプレーンの両半分のデータから前記回折パターンを決定するステップとをさらに含む、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記ＳＬＭ画素における前記位相遅延のパターンが、前記表示画像において、前記画素にわたって実質的にπ／２の位相シフトの変化に対応する距離だけ前記強度包絡線を変位させるように構成された位相遅延パターンを含む、請求項１から５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
前記位相遅延のパターンが、前記各ＳＬＭ画素における階段状位相シフトを持つ階段状パターンを含み、前記階段状位相シフトが２つ以上の異なる位相遅延を有する、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
次式：
段階＝π÷（２ｘレベル）
に従って前記ＳＬＭ画素における前記異なる位相遅延の位相遅延間の差を決定するステップをさらに含み、ここで段階とは位相遅延間の差であり、レベルとは異なる位相遅延の個数である、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記ＳＬＭが反射型ＳＬＭを含み、前記階段状パターンが、前記強度包絡線の移動方向とは略直交方向の前記ＳＬＭの反射部分におけるストライプのパターンを含む、請求項７または８に記載の方法。
【請求項１０】
ＯＳＰＲ型方法を用いて表示するために前記回折パターンを決定するステップをさらに含む、請求項１から９のいずれかに記載の方法。
【請求項１１】
複数のＳＬＭ画素を有する空間光変調器（ＳＬＭ）を用いてホログラフィで画像を表示するための装置であって、
前記ＳＬＭの前記画素に回折パターンを表示するシステムと、
前記ＳＬＭ画素の前記回折パターンによって回折する光が前記表示画像の内容を含むように前記ＳＬＭの前記画素を照射するレーザと、
を備え、前記表示画像全体にわたる前記表示画像の輝度の変化が、個々の前記画素の回折パターンによって決定される強度包絡線によって変調され、
位相遅延のパターンを前記ＳＬＭ画素に課すことによって前記強度包絡線を０次スポットから前記表示画像の中心に向かって移動させるように構成され、前記位相遅延のパターンが前記ＳＬＭの画素間隔に対応する空間間隔で繰り返されて成る装置。
【請求項１２】
請求項１から１１のいずれかに記載の方法または請求項１２に記載の装置で特に使用するための空間光変調器（ＳＬＭ）であって、複数の画素を有し、かつ前記画素における位相遅延のパターンを有し、前記パターンが前記画素にわたって増大し且つ各画素に対して繰り返される位相遅延を含むＳＬＭ。
【請求項１３】
前記画素が前記ＳＬＭの面内に２つの略直交方向を画定し、前記位相遅延は前記直交方向のうちの１方向に対して、前記画素にわたって増大しかつ各画素に対して繰り返され、前記位相遅延は前記直交方向のうちのもう１つの方向に対して略一定である、請求項１２に記載のＳＬＭ。
【請求項１４】
前記位相遅延のパターンが、前記各ＳＬＭ画素において階段状位相シフトを持つ階段状パターンを含み、前記階段状位相シフトが２つ以上の異なる位相遅延を有する、請求項１２または１３に記載のＳＬＭ。
【請求項１５】
前記ＳＬＭ画素における前記異なる位相遅延の位相遅延間の差が、次式：
段階＝π÷（２ｘレベル）
に従って決定され、ここで段階とは位相遅延間の差であり、レベルとは異なる位相遅延の個数である、請求項１４に記載のＳＬＭ。
【請求項１６】
前記ＳＬＭは反射型液晶ＳＬＭを含み、前記パターンは略平行なストライプを複数の画素からなる線当たり少なくとも実質的に１つ含み、前記各ストライプは前記ＳＬＭの複数の画素からなる線のそれぞれの画素内に領域を含み、前記画素内の前記領域は同じ前記画素内の別の前記領域とは異なる位相遅延を有する、請求項１２から１５のいずれかに記載のＳＬＭ。
【請求項１７】
請求項１６に記載のＳＬＭを製作する方法であって、前記ストライプを画定するために、前記ＳＬＭの反射層をエッチングするか、又は前記ＳＬＭの反射層に材料を堆積するステップを含む方法。
【請求項１８】
多値位相ピクセル化空間光変調器（ＳＬＭ）を用いてホログラフィで画像を表示する方法であって、
前記ＳＬＭが照射されたときに前記画像が実質的に共役画像無しでホログラムの再生フィールドに表示されるように、前記ＳＬＭの画素に対し３つ以上の異なる位相値を用いて前記ＳＬＭに１つ以上の前記ホログラムを表示するステップと、
変調位相パターンを前記表示されたホログラムに適用して、前記再生フィールドに表示された前記画像を、前記照射されたＳＬＭの０次の実質的非回折スポットから離れるように移動させるステップと、
を含む方法。
【請求項１９】
多値位相ピクセル化空間光変調器（ＳＬＭ）を用いて、前記ＳＬＭの画素に対し３つ以上の異なる位相値を使用して、ホログラフィで画像を表示するための装置であって、
前記ＳＬＭが照射されたときに、前記画像が実質的に共役画像無しにホログラムの再生フィールドに表示されるように、前記ＳＬＭ上に１つ以上の前記ホログラムを表示するシステムを含み、
動作中に、前記再生フィールドに表示された前記画像が前記照射されたＳＬＭの０次の実質的非回折スポットから離れるように変位するように、前記ＳＬＭの前記画素に位相変調が適用されて成る装置。
【請求項２０】
前記ＳＬＭが、前記位相変調を適用する機構を組み込んだ反射型ＳＬＭを含む、請求項１８または１９に記載の方法または装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、画像をホログラフィで表示するための方法および装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
我々は以前に、画像をホログラフィで表示するための技術について記載してきた（それぞれの内容全体を参照によって本書に援用する、例えばＷＯ２００５／０５９６６０、ＷＯ２００６／１３４３９８、ＷＯ２００６／１３４４０４、ＷＯ２００７／０３１７９７、ＷＯ２００７／０８５８７４、及びＷＯ２００７／１１０６６８を参照されたい）。それらは、例えばデジタルカメラ、携帯電話機、ポータブル・メディア・プレーヤ、ラップトップコンピュータ等のような電池式ハンドヘルド装置を含め、様々な用途を有する。しかし、これらの用途および他の用途では、動作効率を高めることが一般的に必要である。
【０００３】
背景先行技術は、ＥＰ１７０２２４３Ａ、ＥＰ１４９８７６６、及び、Ｐａｌｉｍａ  Ｄ．とＤａｒｉａ  Ｖ．Ｒ．の「Ｈｏｌｏｇｒａｐｈｉｃ  ｐｒｏｊｅｃｔｉｏｎ  ｏｆ  ａｒｂｉｔｒａｒｙ  ｌｉｇｈｔ  ｐａｔｔｅｒｎｓ  ｗｉｔｈ  ａ  ｓｕｐｐｒｅｓｓｅｄ  ｚｅｒｏ−ｏｒｄｅｒ  ｂｅａｍ」（２００７、Ｖｏｌ．４６、Ｎｏ２０、Ａｐｐｌｉｅｄ  Ｏｐｔｉｃｓ）に見ることができる。
【０００４】
我々は、特に、２値位相空間光変調器とは異なるいわゆる多値位相空間光変調器（すなわち、画素が２つの位相遅延値のうちの１つしか持たない２値装置とは対照的に、画素に対して３つ以上の異なる選択可能な位相遅延値を有するＳＬＭ）により効率の実質的な増加を達成することのできる技術を記載する。多値位相ＳＬＭは連続位相ＳＬＭを含むが、これらの装置はデジタル回路によって駆動されたときに、多くの離散位相遅延値に必然的に量子化される。
【０００５】
我々は以前に、広義には１段階位相回復（ＯＳＰＲ：Ｏｎｅ  Ｓｔｅｐ  Ｐｈａｓｅ  Ｒｅｔｒｉｅｖａｌ）型手続きと呼ぶ、所望の画像を再生するためにＳＬＭに表示するホログラムの効率的計算のための技術について記載した（前掲書）。手続き例の詳細は後掲するが、当業者は、後述の効率を高めるためのスキームが、ＯＳＰＲ型手続きを使用すると有利ではあるが、画像（ビデオのフレーム含む）を再生するためにＳＬＭに表示するためのホログラムを計算するための特定の方法に限定されないことを理解されるであろう。
【０００６】
図１は、表示画像１４を投影するためにホログラフィ画像投影モジュール１２を組み込んだ民生用電子装置１０の例を示す。表示画像１４は、各々が表示画像１４と同じ空間的広がりを持ち且つ表示画像が出現するように高速で連続的に表示される、複数のホログラフィで生成された副画像を含む。
【０００７】
大まかに言えば再生フィールドで各々が空間的に重なり合う複数のホログラムを表示することによって画像を表示するＯＳＰＲ型手続きを用いて、各ホログラフィックサブフレームは生成することができる。各ホログラムが個別に表示された場合、例えば画像データのホログラフィ変換による位相量子化によってノイズが付加されるので、ノイズが比較的多く現れる。しかし、高速で連続的に表示した場合、再生フィールドの画像は、観視者の目では全体として平均され、低ノイズ画像の印象がもたらされる。連続時間的なサブフレームのノイズは疑似ランダム（略独立）であるかもしれず、又はサブフレームのノイズは１つ以上の、少なくとも部分的にこれを消去する目的で、それ以前のサブフレームのノイズに依存するかもしれず、または組合せが使用されるかもしれない。
【０００８】
図２は、図１のホログラフィ投影モジュールの光学システムの例を示す。図２を参照すると、レーザダイオード２０（例えば５３２ｎｍ）は、ミラー２３を介してピクセル化液晶モジュレータのような空間光変調器（ＳＬＭ）２４に略コリメート光２２を提供する。（図示する通り、ＳＬＭは反射型ＳＬＭであるが、透過型ＳＬＭを使用することもできる）。ＳＬＭ２４は光２２をホログラムで位相変調し、位相変調光は好ましくは縮小光学システム２６に提供される。図示する実施形態では、光学システム２６は、それぞれの焦点距離ｆ３、ｆ４（ｆ４＜ｆ３）を持ち、距離ｆ３＋ｆ４の間隔を置いて配置された１対のレンズ（Ｌ３、Ｌ４）２８、３０を含む。光学システム２６は、表示画像を形成する光を発散させることによって、投影ホログラフィ画像（再生フィールドＲ）のサイズを増大させる。それは変調器の画素サイズを効果的に低減させ、こうして回折角を増大させる。レンズＬ１およびＬ２は、変調器の表面全体を覆うように光源からのビームを拡大するビーム拡大対を形成する。ビーム２２およびＳＬＭ２４の相対サイズによっては、これは省かれるかもしれない。画像を表示するためのホログラムがどのように生成されるかによっては、表示画像の天地逆バージョンとして表示されるかもしれない表示画像の望ましくない部分、例えば０次非回折スポットまたは反復１次（共役）画像を減衰するために、空間フィルタが含まれるかもしれない。しかし、空間フィルタリングが実践的であるために、表示画像と減衰される再生フィールドの部分との間の再生フィールドに多少の空間分離が存在することが望ましい。
【０００９】
適切な２値位相ＳＬＭの例として、ＣＲＬ  Ｏｐｔｏ（英国スコットランドのＦｏｒｔｈ  Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ  Ｄｉｓｐｌａｙｓ  Ｌｉｍｉｔｅｄ）社製のＳＸＧＡ（１２８０×１０２４）反射型２値位相変調強誘電性液晶ＳＬＭがある。強誘電性液晶ＳＬＭは、その高速切替え時間のため、有利である。２値位相装置は便利であるが、３つ以上の量子化位相を持つ装置（当業界で多値位相ＳＬＭと呼ばれる）を使用することもできる。２値量子化は共役画像を生じる一方、２値を超える位相を使用すると、共役画像が抑制される（ＷＯ２００５／０５９６６０参照）。
【００１０】
カラーホログラフィ投影システムは、上述した光学システムを用いて、カラー画像を生成するために重ね合わされる赤、青および緑の３つの光学チャネルを形成することによって構成することができる。実際には、異なるカラー画像をスクリーン上で位置合わせしなければならないのでこれは困難であり、よりよい方法は、時系列の赤、緑、および青色ビームを形成し、これらを共通ＳＬＭ兼縮小光学系に提供することである。しかし、この場合、異なるカラー画像は異なる大きさであり、これに対処する技術は、２００６年６月２日出願の我々の同時係属英国特許出願第ＧＢ０６１０７８４．１号に記載されており、その内容を参照によって本書に援用する。
【００１１】
再び図２を参照すると、デジタル信号プロセッサ１００は、表示される画像を定める民生用電子装置から画像データを受け取るために入力１０２を有する。ＤＳＰ１００はＯＳＰＲ型手続きを実行して、複数のホログラフィサブフレームのための位相ホログラムデータを生成し、それは、任意選択的に必要ならばドライバ集積回路を介して、ＤＳＰ１００の出力１０４からＳＬＭ２４に提供される。ＤＳＰ１００はＳＬＭ２４を駆動して複数の位相ホログラムサブフレームを投影させ、該サブフレームは結合して再生フィールド（ＲＰＦ：replay field）に表示画像１４の印象（impression）をもたらす。ＤＳＰ１００は、ホログラム生成手続きを実行するプロセッサ制御コードを格納する専用ハードウェア及び／又はフラッシュもしくは他の読出し専用メモリを含むかもしれない。
【００１２】
ＯＳＰＲ型技術は、高品質ホログラフィック画像ディスプレイに必要な計算量をかなり低減し、時間平均化は知覚ノイズのレベルを低減する。しかし、ホログラフィック画像ディスプレイ技術の光学効率を高めることが一般的に必要である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１３】
【特許文献１】国際公開第２００５／０５９６６０号パンフレット
【特許文献２】国際公開第２００６／１３４３９８号パンフレット
【特許文献３】国際公開第２００６／１３４４０４号パンフレット
【特許文献４】国際公開第２００７／０３１７９７号パンフレット
【特許文献５】国際公開第２００７／０８５８７４号パンフレット
【特許文献６】国際公開第２００７／１１０６６８号パンフレット
【特許文献７】ヨーロッパ特許公開第１７０２２４３号公報
【特許文献８】ヨーロッパ特許公開第１４９８７６６号公報
【特許文献９】国際公開第２００５／０５９６６０号パンフレット
【特許文献１０】英国特許出願第０６１０７８４．１号
【非特許文献】
【００１４】
【非特許文献１】「Ｈｏｌｏｇｒａｐｈｉｃ  ｐｒｏｊｅｃｔｉｏｎ  ｏｆ  ａｒｂｉｔｒａｒｙ  ｌｉｇｈｔ  ｐａｔｔｅｒｎｓ  ｗｉｔｈ  ａ  ｓｕｐｐｒｅｓｓｅｄ  ｚｅｒｏ−ｏｒｄｅｒ  ｂｅａｍ」（Ｐａｌｉｍａ  Ｄ．とＤａｒｉａ  Ｖ．Ｒ．，２００７、Ｖｏｌ．４６、Ｎｏ２０、Ａｐｐｌｉｅｄ  Ｏｐｔｉｃｓ）
【発明の概要】
【００１５】
本発明の第１態様では、複数のＳＬＭ画素を有する空間光変調器（ＳＬＭ）を用いてホログラフィで画像を表示する方法であって、前記ＳＬＭの前記画素上に回折パターンを表示するステップと、前記ＳＬＭ画素上の前記回折パターンによって回折される光が前記表示画像の内容を含むように、前記ＳＬＭの前記画素を照射するステップとを含み、前記表示画像全体にわたる前記表示画像の輝度の変動が、個々の前記画素の回折パターンによって決定される強度包絡線、例えば正弦包絡線によって変調され、該方法がさらに、前記ＳＬＭ画素に位相遅延のパターンを課すことによって、前記強度包絡線（のピークまたは重心）を０次スポットから前記表示画像の中心に向かって移動させるステップを含み、前記位相遅延のパターンが前記ＳＬＭの画素間隔に対応する空間間隔で繰り返される、方法を提供する。
【００１６】
該方法の実施形態において、画素は方形または矩形であり、画素回折パターンは正弦関数（包絡線）を含むが、理論的には異なる形状、例えば円形の画素が使用されるかもしれず、それは異なる形の回折パターンを有するであろう（例えば円形であるならばベッセル関数）。該方法の一部の実施形態、例えば２値位相ＳＬＭを使用する実施例では、共役画像の存在のため、表示画像は０次非回折スポットからオフセットする。しかし、多値位相ＳＬＭが使用される場合、共役画像は存在しないが、その代わり、表示画像を０次非回折スポットから変位させることが望ましい。そうしなければ、これは表示画像の視覚的出現を妨げることがあり得る。いずれの場合も、（個々の画素の回折パターンによって決定され、例えば正弦包絡線である）強度包絡線のピークまたは重心を０次スポットから表示画像の中心に向かって変位させることによって、特に位相遅延の規則的な反復パターンを各画素に課すことによって、画像表示技術の効率を高めることができる。
【００１７】
該方法の実施形態において、例えばフーリエ（または逆フーリエ）変換によって回折パターンを決定するために使用される画像は、ホログラフィ変換を実行する前に、画素回折パターンの逆、例えば逆正弦関数によって乗算される。これは、画素回折パターンの翼部の光損失を部分的に補償する、例えば正弦関数を近似トップハット関数に変換する効果を有する。しかし、ＳＬＭに表示するために画像データをホログラムデータに変換する前に、画素回折パターンの多少の補償が適用されるか否かに関わらず、全体的強度包絡線のピークまたは重心を０次の非回折スポットから離れるように移動させることによって、効率利得が達成される。２値ＳＬＭの場合、これは強度包絡線のピークまたは重心を共役画像対（すなわち所望の向きを有する対の画像）の表示画像に向かって効果的に移動させる。多値位相ＳＬＭの場合、当該技術の実施形態は、表示画像が非回折スポットから離れるように移動することを可能にし、そうしなければ引き起こされたはずの画像の視覚的減損を回避し、強度包絡線のピークまたは重心はそれに対応して移動する。当該技術の実施形態は、多値位相ＳＬＭ（すなわち２値位相値より多くの値を持つ画素を有するＳＬＭ）の文脈で使用される場合に特に有利である。それは、この場合に、強度包絡線のピークまたは重心を非回折スポットから離れるように移動させることができ、共役画像を失うという効率上の利益（効率の事実上の倍化）が得られると同時に、表示画像が中心輝点に重なり合うという問題が回避されるからであり、そうしなければ当該技術は非現実的になったはずである。０次輝点を完全に抑制することが事実上不可能であることから生じる、多値位相ＳＬＭで出力フィールドの中心に高効率画像を得ることの難しさは、以前から認識されていた。（このスポットは画像の画素全体に分散される光と比較して事実上の焦点であり、したがってこのスポットが輝度について表示画像の画素と匹敵するのに必要な光の量は非常にわずかですむ）。
【００１８】
好適な実施形態では、各ＳＬＭ画素における位相遅延のパターンは、むしろブレーズド回折格子（blazed grating）のように、画素にわたって増大し、次いで繰り返す位相遅延を含む。２次元配列の画素の場合、この「ブレーズ（blaze）」は、配列の２つの直交方向のうちの１方向のみに適用される。画素における位相遅延は、強度包絡線のピークが移動する方向とは反対の方向に増大する。
【００１９】
一部の好適な実施形態では、位相の線形増加を含む位相遅延ではなく、むしろ画素における階段状パターンが使用され、画素における位相遅延は２つ以上（例えば４つ、８つ等々）の段階に事実上量子化される。これは製作を容易化し、しかも画素における線形増加とほぼ同程度に効率的でもあるという利点を有する。実施形態では、位相遅延パターンは、前記表示画像において、画素にわたって実質的にπ／２の位相シフトの変化に対応する距離だけ、強度包絡線のピークまたは重心を変位させるように構成される。このように位相変化のパターンは、もたらされる強度包絡線のピークまたは重心の変位が、画素における線形的な０からπ／２のランプ位相遅延パターンの場合と同じになるように選択することが好ましい。実施形態では、目的は正弦関数のピークまたはトップハットの重心が表示画像の略中央にくるようにすることであり、したがって（２πの位相変化が包絡線を１次数だけシフトさせることを思い出して）π／２の位相遅延に対応する変位が好ましい。
【００２０】
実施形態では、位相遅延（または屈折率）が１直交方向に、例えばホログラム面内でｙ方向に傾斜する場合、強度包絡線は同じ方向に、例えば画像が表示されるν方向に移動する。したがって、方法の実施形態では、ホログラフィ変換、例えばフーリエまたは逆フーリエ変換を実行して画像データプレーンの両半分のデータから回折パターンを決定する前に、表示される画像を規定する画像データは、強度包絡線の移動方向と直交する方向に２等分された画像データプレーンの半分に（例えば画像にパディング（padding）を行うことによって）位置付けられる。したがって実施形態では、表示される画像は、ホログラフィ変換を実行する前に、画像データプレーンの例えば上半分に事実上埋め込まれ、再構成または再生される画像が再生フィールドの上半分に位置し、かつ強度包絡線が再生フィールドの上半分に向かって移動して、表示画像および強度包絡線が好ましくは実質的に合致するように、ＳＬＭの位相遅延のパターンは配置される（この実施形態では垂直方向に傾斜される）。
【００２１】
一部の好適な実施形態では、例えば０およびπ／２の値に量子化するのではなく、むしろ階段状パターンの位相遅延を使用することにより、階段状の位相遅延がこれらの２つの値の中間に介在するように選択される。さらに詳しくは、各画素内に単一の階段（２つの異なる位相遅延値）が存在する場合には、位相遅延値はπ／４の間隔を置くことが好ましく、４つの階段がある場合には、位相遅延はπ／８の間隔を置くことが好ましく、一般的に、位相遅延値の間隔は好ましくは、π÷（２×（画素における異なる位相遅延の数））である。これは、例えば値０およびπ／２を選択する２レベル量子化の場合より正確な線形ランプの量子化であり、位相遅延は循環し、かつ事実上任意の０点を選択することができるという観察に由来する。
【００２２】
一部の好適な実施形態では、ＳＬＭは反射型ＳＬＭを含み、段階状位相遅延は、一連のストライプとして、例えば各ストライプが画素幅の約２分の１の幅を有し、１画素当たり１つのストライプとして、実現される（この構成では、各画素は事実上真二つに分割され、したがって１画素当たり２つのストライプが存在するとみなすことができる）。他の構成では、１画素当たりより多数のストライプが存在するかもしれない。例えば１画素当たり４つの異なる位相遅延値が存在する場合、１画素当たり３つのストライプ（または「０遅延」ストライプを計数するか否かによって、１画素当たり４つのストライプ）が存在するかもしれない。
【００２３】
したがって関連する態様では、複数の画素を有し、前記画素は位相遅延のパターンを有し、前記パターンは前記画素にわたって増大しかつ各画素に対し繰り返される位相遅延を含む、特に上述した方法または装置で使用するための、空間光変調器（ＳＬＭ）を提供する。
【００２４】
一部の好適な実施形態では、ＳＬＭは反射型液晶ＳＬＭを含み、さらに詳しくは多値位相ＳＬＭを含む。しかし、他の多値位相技術を使用するかもしれない。
【００２５】
反射型ＳＬＭの場合、ＳＬＭは、ストライプを画定するために、ＳＬＭの反射性の、例えばアルミニウム層をエッチングすることによって、簡便に製作することができる。これは、わずかな追加コストで１つ（またはそれ以上）のエッチング工程を追加するだけで簡単に実現される。
【００２６】
本発明はまた、複数のＳＬＭ画素を有する空間光変調器（ＳＬＭ）を使用してホログラフィで画像を表示するための装置であって、前記ＳＬＭの前記画素に回折パターンを表示するシステムと、前記ＳＬＭ画素の前記回折パターンによって回折する光が前記表示画像の内容を含むように前記ＳＬＭの前記画素を照射するレーザとを備え、前記表示画像全体にわたる前記表示画像の輝度の変化が、個々の前記画素の回折パターンによって決定される強度包絡線、例えば正弦包絡線によって変調され、位相遅延のパターンを前記ＳＬＭ画素に課すことによって前記強度包絡線（のピークまたは重心）を０次スポットから離れて前記表示画像の中心に向かって移動させるように構成され、前記位相遅延のパターンが前記ＳＬＭの画素間隔に対応する空間間隔で繰り返されて成る、装置を提供する。
【００２７】
装置の好適な実施形態は、本発明の態様および実施形態に係る上記方法の好適な特徴に関連して上述した特徴に対応する装置の特徴を含む。実施形態では、装置は、入力画像データにホログラフィ変換を実行して、これをＳＬＭ上に表示するためのホログラフィデータに変換するシステムをも含むかもしれない。装置および前述の装置の一部の好適な実施形態では、ＳＬＭ上に表示するための回折パターンは、ＯＳＰＲ型の方法を用いて決定される（したがって、単一の表示画像またはビデオフレームの内容を提供するために、複数の回折パターンがＳＬＭに表示されるかもしれない）。
【００２８】
関連する態様では、本発明は、多値位相ピクセル化空間光変調器（ＳＬＭ）を用いてホログラフィで画像を表示する方法であって、前記ＳＬＭが照射されたときに、実質的に共役画像無しで前記画像が前記ホログラムの再生フィールドに表示されるように、前記ＳＬＭの画素に３つ以上の異なる位相値を使用して１つ以上のホログラムを前記ＳＬＭに表示するステップと、前記表示されたホログラムに変調位相パターンを適用して、前記再生フィールドに表示された前記画像を前記照射されたＳＬＭの０次の実質的回折スポットから離れるように移動させるステップと、を含む方法である。
【００２９】
本発明はさらに、多値位相ピクセル化空間光変調器（ＳＬＭ）を用いて、前記ＳＬＭの画素に対し３つ以上の異なる位相値を使用して、ホログラフィで画像を表示するための装置であって、前記ＳＬＭが照射されたときに、前記画像が前記ホログラムの再生フィールドに実質的に共役画像無しに表示されるように、１つ以上のホログラムを前記ＳＬＭに表示するシステムを備え、動作中に、前記再生フィールドに表示される前記画像が前記照射されたＳＬＭの０次の実質的非回折スポットから変位するように、前記ＳＬＭの前記画素に位相変調が適用される。
【００３０】
上述した方法および装置の一部の好適な実施形態では、ＳＬＭは反射型液晶ＳＬＭのような反射型ＳＬＭを含み、ＳＬＭは、位相変調を適用するための機構、例えばＳＬＭ内の階段状表面を組み込んで、規則的な反復的位相遅延パターンを設け、ＳＬＭ全体にわたって１方向に「ブレーズ」をもたらす。
【００３１】
本発明のこれらおよび他の態様について、次に、単なる実施例として、添付の図を参照しながらさらに説明する。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】ホログラフィ投影モジュールを組み込んだ民生用電子装置の一例を示す。
【図２】図１のホログラフィ投影モジュールのための光学システムを示す。
【図３ａ】ＳＬＭを用いたホログラフィ画像形成のモデルを示す。
【図３ｂ】ＳＬＭ画素に位相ランプを適用した結果としての正弦減衰ピークの移動を示す。
【図３ｃ】２値位相ＳＬＭの場合の正弦画素回折包絡線の表示画像へのマッピングを示す。
【図３ｄ】多値位相ＳＬＭの場合の正弦画素回折包絡線の表示画像へのマッピングを示す。
【図３ｅ】２値位相ＳＬＭの場合の本発明の実施形態に係る正弦画素回折包絡線の表示画像へのマッピングを示す。
【図３ｆ】多値位相ＳＬＭの場合の本発明の実施形態に係る正弦画素回折包絡線の表示画像へのマッピングを示す。
【図４ａ】反射型液晶ＳＬＭの簡易平面図である。
【図４ｂ】反射型液晶ＳＬＭの簡易縦断面図である。
【図４ｃ】画素回折包絡線のピーク強度のシフトの略図である。
【図４ｄ】平滑な位相シフトランプ（左側）、４段階ランプ近似（中央；Ｑ＝４ストライプ）、および２段階ランプ近似（右側；Ｑ＝２ストライプ）を示す２つの隣接画素例の位相シフトの略図である。
【図５ａ】ＳＬＭにピークシフト位相パターンを適用せずに正弦減衰したシミュレーション再生フィールドを示す。
【図５ｂ】Ｑ＝４ストライプのピークシフト位相パターンをＳＬＭに適用して正弦減衰したシミュレーション再生フィールドを示す。
【図６ａ】ＯＳＰＲホログラムデータ計算システムのブロック図である。
【図６ｂ】図６ａのシステム内で実行される演算である。
【発明を実施するための形態】
【００３３】
ＳＬＭ画素回折（正弦減衰）包絡線をシフトすることによって、ホログラフィ投影の回折効率を改善するための技術について記載する。
【００３４】
ホログラフィで形成された画像は、「正弦減衰」として知られる効果、即ち、ＳＬＭの方形画素が再生フィールドの全体にわたって０次を中心とする正弦波形の強度変調をもたらし、フィールドの縁部に向かって強度が低下するという望ましくない結果を生じることによって引き起こされる効果に悩まされる。これは結果的に次の２つの問題をもたらす。
１．画像強度がフィールド全体にわたって均一でなくなる。これは、入力画像に変調正弦包絡線の逆を事前に乗算することによって補償することができる。
２．正弦包絡線の中心から離れたポイントが徐々に減衰され、結果的に回折効果がかなり低減する。厳密に言うと、光は１次回折次数（第１正弦ローブ）の縁部から望ましくないより高次の回折次数（正弦テール）に移動する。したがって理想的には、この効果を最小化するために、画像は振幅が１（unity）に最も近い正弦包絡線のピーク付近を中心にすべきである。残念ながら、これは０次（非回折光の焦点）が位置する場所であるので、そうすることは現実的ではない。
【００３５】
我々は、略同一の位相ランプを各ＳＬＭ画素に重ね合わせて、その中心が画像の中心に位置するように正弦減衰包絡線をシフトし、効率のこの低下を最小限にすることを記載する。
【００３６】
ホログラフィ再生を介して得られる再生フィールドは、図３ａに示すように、ＳＬＭの形状、デバイスに表示されるホログラム、ＳＬＭの画素サンプリンググリッド、およびＳＬＭ画素自体の形状によって異なる。図は単なる説明図であって、原寸に比例するものではなく、また簡単のために照射プロファイルの効果は省略されている。
【００３７】
図３ｂを参照すると、画像への正弦減衰プロファイル（ここでは正確な縮尺比を用いている）の重ね合せ（図３ｂ、左）は、正弦包絡線がｘ方向について最適に画像の中心に位置する一方、ｙ方向についてはそうでないことを示す。
【００３８】
フーリエ空間の位相ランプは、画像空間の位置シフトに対応するので、（フィールドの高さの４分の１だけｙ方向にシフトするように勾配を選択した）位相ランプをＳＬＭ画素ユニットに組み込むことにより、正弦減衰包絡線を希望通りに画像の中心にシフトさせる効果がもたらされる（図３ｂ、右）。この効果はｙ方向の正弦減衰を著しく低減し、したがって回折効率を改善し、その増加は画像面積に対するそれぞれの正弦曲線のエネルギの積分の比によって求められ、それは２３％と計算することができる。
【００３９】
図３ｃは、２値位相ＳＬＭの場合の問題の簡略図を示しており、垂直方向に正弦包絡線の中心は再生フィールド３００の中心と位置合わせされている一方、表示画像３０２はこの上に変位され、したがって正弦分布のテール部に位置することが分かる。正弦包絡線上の破線は、ホログラフ変換、例えばフーリエまたはフレネル変換を適用する前に、入力画像に画素正弦関数の逆を乗算することによって得られる近似トップハット（top hat）関数に対応する。図３ｃに示す表示画像は、中心の０次非回折スポット３０４をも含む。図３ｃのスキームの最大効率は４１％である。図３ｄは、多値位相ＳＬＭを使用した場合に得られる、共役画像の無い表示を示す。表示画像は再生フィールドの中心に変位しており、この配列は約９８％の理論的最大効率を有する。しかし、見て分かるように表示画像は非回折スポット３０４と重なり合い、一つには、全ての非回折光がこのスポットに到達し、したがってこれは本質的に画像の画素よりずっと明るくなるので、このスポットの輝度を画像と干渉しないレベルまで低減させることは、実際には非常に難しい。
【００４０】
ここで図３ｅを参照すると、これは、垂直正弦包絡線のピークが表示画像３０２と一致するように垂直正弦包絡線を変位させるスキームの実施形態を概念的に示す。これは、２値位相ＳＬＭに対しおそらく２０％の著しい効率の向上をもたらす。しかし、好適な構成は図３ｆに示された構成であり、それは多値位相ＳＬＭを使用して非回折スポット３０４から変位した画像３０２を表示し、したがって視覚的に混乱させる、表示画像内に存在する非回折スポットがなく、多値位相ＳＬＭを使用する効率上の利点をもたらす。図３ｆから分かるように、表示画像は、ＳＬＭ画素におけるπ／２の位相変化に対応する距離だけ変位する（これは、πの位相変化が再生フィールドの縁部に対応することを認識することによって理解することができる）。
【００４１】
画素回折包絡線をいかにして、図３ｂ、３ｅ、および３ｆに示すように変位させることができるかをここで説明する。大まか言えば、これは位相格子をＳＬＭ画素に適用することによって、さらに詳しくは、ＳＬＭ画素配列内で１方向に線形位相ランプを各画素に適用することによって達成される。この線形ランプは結果的に、位相が変化するＳＬＭの方向に対応する再生フィールド内の方向に、回折パターンの位置の変化をもたらす。実際的には、線形ランプを各画素に適用するというよりむしろ、画素に適用される位相変化は、例えば２段階（これは１８％の効率利得をもたらす）で、または４段階（これは線形ランプによって達成されるのとほぼ同じ２２％の効率利得をもたらす）で量子化される。以下でさらに詳細に説明するように、各画素で反復されるそのような階段状位相変化は、ＳＬＭを製作するときに追加エッチング工程を使用することによって容易に達成することができる。
【００４２】
ここで図４を参照すると、これは反射型液晶空間光変調器（ＳＬＭ）４００の略平面図を示す。しかし、当業者は、我々が記載する技術および原理はこの特定のＳＬＭ設計に限定されないことを理解されるであろう。図４ａを参照すると、各画素４０２は、アルミニウムの反射層４０４を含み、その周りには隣接画素同士の短絡を防止するための非導電性領域４０６がある。図４ｂは、画素４０２の縦断面図を概略的に示しており、そこで、ＳＬＭは、典型的にはプリント回路板である基板４０８を含み、その上に電気接続配線を有するシリコン回路構成（silicon circuitry）４１０が実装され、その回路構成は液晶セル４１２に１つの接点をもたらす反射性のアルミニウム４０４に接続されていることが分かる。もう一つの接点は、例えばインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）被覆ガラスからなる最上層４１４によってもたらされ、それは接地をもたらす。例えばＳＬＭの縁部の周りで接着剤に埋め込まれたビード（bead）４１６は、液晶セル４１２の２つの導電面間の分離を維持する。（分離は一般的に小さく、たるみ（sag）はほとんど存在しない）。
【００４３】
再び図４ａを参照すると、各ストライプの幅が画素の幅の一部分にすぎないストライプ４１８を縦列の画素にわたってエッチングすることによって、アルミニウム４０４の厚さを低減することができ、それによって画素の液晶のその領域内の位相遅延が増大する。画素幅内における所望の位相段階の数に応じて、１つ以上の（重なり合う）ストライプがエッチングされることは理解されるであろう。
【００４４】
ここで図４ｃを参照すると、これは、画素における「ブレーズド」位相遅延がいかにしてＳＬＭ画素回折包絡線を移動させるかを説明する、ホログラム面Ｈおよび像面Ｉを概念的に示す。図示する通り、ホログラフィ変換を実行する前に、入力画像のためのデータをより大きい配列に埋め込むことによって、表示画像は相応して回折包絡線と一致するように移動する。（この埋込みは概念的なものであり、実際には０のパディングによって達成されるかもしれず、その場合、「パディングされる」領域のためのデータを格納するメモリは実際には不要であることは理解されるであろう。）
次に、（概念的）画素の位相ランプの量子化の効果について説明する。
【００４５】
上記の分析では、線形位相ランプを各ＳＬＭ画素に適用することを言及した。実際には、製作を容易にするために、各画素を有限数Ｑ個のストライプに分割することが好ましく、それらは一緒に、正弦包絡線を希望するとおりにシフトさせる量子化格子（quantised grating）を形成する。Ｑが大きければ大きいほど、画素は平滑な位相ランプに近似するようになり、かつ実際の利得も２３％の理論的に可能な改善に接近する。位相は相対的であるので、第１のストライプの位相シフトを０に固定し、その他をそれに対して相対的に定義することができる。したがって、このことは、ディスプレイを製造するときにＱ−１回の追加マスク工程が必要であることを意味する。したがって、実際の用途におけるＱの選択は、追加の製作工程によるコストと効率利得の増加との間のトレードオフに依存する。我々は、Ｑ＝２（すなわち１回の追加マスク工程）で約１８％の改善がもたらされ、Ｑ＝４（３回の追加マスク工程）で２２％の改善がもたらされることを見いだした。したがってＱ＝４を超えるポイントはほとんど無い。実際には、製造が比較的容易であるため、Ｑ＝２はコスト／複雑性および性能間の最適なトレードオフを表わすかもしれない。
【００４６】
量子化位相シフト
線形位相ランプ（すなわちＱが大きいか理論的に無限大）を特徴とする画素では、画素における位相変化はπ／２とすべきである（図４ｄ、左）。Ｑ個のストライプを持つ実際のシステムの場合、要求される位相シフトＰは次式によって得られる。
【数１】
2011503650.tif 000003
１例として、Ｑ＝２の場合、位相シフトは０およびπ／４である（図４ｄ、右）。Ｑ＝４の場合、図４ｄの中央に示す通り、位相シフトは０、π／８、π／４、および３π／８である。
【００４７】
このＳＬＭ副画素構造がデバイスのアルミニウム画素層をさらにエッチングすることによって形成される場合、所与の位相シフトＰが、必要になるエッチング深さｄにいかに関係するかは、次の関係：
【数２】
2011503650.tif 000004
に従って液晶材料の屈折率ｎによって決定される。ここでλは、ディスプレイの中心設計波長、名目上緑（５３２ｎｍ）に等しくなるように選択される。したがって、Ｑ＝２、およびｎ＝１．４のＬＣ材料を選択した場合、各画素のアルミニウム層の半分を４７．５ｎｍの深さだけ追加的にエッチングすることを含む追加処理工程が使用される。同様に、エッチングの代わりに、この厚さの追加アルミニウムを既存の層に堆積してもよい。
【００４８】
図５に示す画像は、簡単のために単一の２値ホログラムに対して得られる再生フィールドのシミュレーションであり、当該技術を用いて可能になる回折効率の改善を実証するものである。例のため、正弦包絡線の補償は適用されない。図５ａのシミュレートしたディスプレイは画素位相ランプを欠いており、図５ｂのシミュレートしたディスプレイは、各画素に対しＱ＝４のストライプについてシミュレートしたものである。ストライプ画素ディスプレイを用いて得られる再生フィールドには、光の量の著しい増加が存在する。また、この実施例では、画像上への正弦包絡線の調整センタリングのため、使用される正弦包絡線の補償の量が著しく低減されるかもしれず、このことは計算時間上の利点、または画像の前処理段階で使用される精度の低下につながり得ることも注目に値する。
【００４９】
上記技術の適用はＯＳＰＲ型手続きに限定されないが、該技術のいくつかの好適な実現は該手続きと共に使用される。したがって、そのような手続きについて簡単に説明する。さらなる詳細は我々の以前の出願（前掲書）に見ることができる。
【００５０】
ＯＳＰＲ
大まかに言うと、我々の好適な方法では、ＳＬＭは、表示すべき画像のホログラムを近似するホログラフィデータで変調される。しかしこのホログラフィデータは特別な方法で選択され、表示画像は、複数の時間的なサブフレームから構成される。サブフレームの各々は、ＳＬＭをそれぞれのサブフレームホログラムで変調することによって生成される。これらのサブフレームは連続的にかつ十分に高速に表示されるので、（人間の）観察者の目では（各々が表示画像の空間的広がりを有する）サブフレームが一つに統合されて、所望の表示用の画像が生成される。各サブフレームを個別に観察した場合にノイズが比較的多くても、サブフレーム間の時間平均化は、知覚されるノイズのレベルを低下させる。
【００５１】
ＯＳＰＲ手続きは、各画像Ｉ＝Ｉｘｙに対しＮ個の２値位相ホログラムｈ（１）．．．ｈ（Ｎ）の組を生成する方法である。実施形態では、そのようなホログラムの組が、相互に独立した加法的ノイズを示す再生フィールドを形成する。実施例を下に示す。
【００５２】
１．１≦ｎ≦Ｎ／２かつ１≦ｘ，ｙ≦ｍに対し、
【数３】
2011503650.tif 000005
とする。ただし
【数４】
2011503650.tif 000006
は０と２πとの間で一様に分布する。
２．１≦ｎ≦Ｎ／２に対し、
【数５】
2011503650.tif 000007
とする。ただしＦ−１は２次元逆フーリエ変換演算子を表す。
３．１≦ｎ≦Ｎ／２に対し、
【数６】
2011503650.tif 000008
とする。
４．１≦ｎ≦Ｎ／２に対し、
【数７】
2011503650.tif 000009
とする。
５．
【数８】
2011503650.tif 000010
とする。ただし
【数９】
2011503650.tif 000011
であり、かつ１≦ｎ≦Ｎである。
【００５３】
ステップ１は、供給される強度目標Ｉｘｙの振幅に等しいが、独立した同一分布（ｉ．ｉ．ｔ）の一様にランダムな位相を持つ、Ｎ個の目標値Ｇ（ｎ）ｘｙを形成する。ステップ２は、Ｎ個の対応する完全な複素フーリエ変換ホログラムｇ（ｎ）ｕｖを計算する。ステップ３および４は、ホログラムの実部および虚部をそれぞれ計算する。この実施例では、ホログラムの実部および虚部の各々の２値化ルーチンがステップ５で実行される（中央値ｍ（ｎ）ｕｖ又は０あたりを閾値として２値化することは、ＤＣバランスを達成すべく、略同数の−１および１のポイントがホログラムに存在することを確実にすることを目的とする）。
【００５４】
図６ａは、この手続きを実行するホログラムデータ計算システムのブロック図を示す。入力画像データは、コントローラから制御信号が供給される１つ以上の入力バッファに一時的に格納される。入力（および出力）バッファは、データのバッファへの書込みおよびバッファからの読出しを同時に行うことができるように、デュアルポートメモリを含むことが好ましい。ビデオフレーム周期当たり１つ以上のホログラフィサブフレームが生成され且つＳＬＭに送信されるように、制御信号はタイミング、初期化、およびフロー制御情報を含む。入力バッファからの出力は画像フレームＩを含み、これは、ハードウェアブロックへの入力になり（他の実施形態では、処理の一部または全部がソフトウェアで実行されるかもしれないが）、ハードウェアブロックは画像フレームＩの各々に一連の演算を実行し、各々に対して１つ以上のホログラフィサブフレームｈを生成し、該ホログラフィサブフレームは出力バッファに送られ、そこから、任意選択的にドライバチップを介して、ＳＬＭのようなディスプレイ装置に供給される。
【００５５】
図６ｂは、各画像フレームに対し１つ以上のホログラフィサブフレームを生成するように設計された１組の要素を含む、図６ａのシステムの詳細を示す。１つの画像フレームＩｘｙが、ビデオフレーム周期当たり１回以上、入力として供給されることが好ましい。次いで、各画像フレームＩｘｙは、位相変調段、空間周波数変換段、および任意選択的量子化段のうちの１つ以上を含む１組の演算を用いて、１つ以上のホログラフィサブフレームを生成するために使用される。実施形態では、上述した１組の演算を逐次的に使用するか、異なるサブフレームに並行して作用する数組のそのような演算を使用するか、あるいはこれら２通りの方法を組み合わせることによって、フレーム周期当たりＮ個１組のサブフレームが生成される。ここでＮは１以上である。位相変調段は、その後の演算を実行した後に最終画像品質の改善が得られるように、入力フレームのエネルギを空間周波数領域全体により均等に再配分する。任意選択的量子化段は、先行する空間周波数変換から複素ホログラムデータを取り込み、それを、目標の例えば２値位相ＳＬＭ上で達成することのできる実際の変調レベルに対応する制限された組の値にマッピングする（１対のホログラフィサブフレームを生成するために、ＡＤＯＳＰＲ無しに、実成分および虚成分を使用することができる：下記参照）。しかし、当該技術のいくつかの好適な実施形態では、多値位相ＳＬＭが使用され、その場合、別個の量子化段は不要である。この場合、共役画像は形成されない。
【００５６】
上述したＯＳＰＲ法では、サブフレームホログラムは独立して生成され、したがって独立したノイズを呈する。しかし、各サブフレームの生成プロセスは、前のサブフレームによって発生したノイズを消去するためにそのノイズを考慮に入れ、例えばｎ個のＯＳＰＲフレーム後に形成された知覚画像を手続きのｎ＋１段に事実上「フィードバック」し、閉ループシステムを形成することができる。そのような適応（ＡＤ）ＯＳＰＲ手続きは、フィードバックを次のように使用する。すなわち、アルゴリズムの各段ｎで、前に生成されたホログラムＨ１〜Ｈｎ−１から結果的に生じるノイズを計算し、このノイズをホログラムＨｎの生成に考慮し、それを消去させる。その結果、ノイズ分散は１／Ｎ２となる（目標画像Ｔは１組Ｎ個のホログラムを出力する）。さらなる詳細は、ＷＯ２００７／０３１７９７およびＷＯ２００７／０８５８７４に見ることができる。
【００５７】
記載した技術および変調器の用途は、携帯電話機、ＰＤＡ、ラップトップ、デジタルカメラ、デジタル・ビデオ・カメラ、ゲーム・コンソール、車内シネマ、ナビゲーション・システム（車内ＧＰＳまたは個人用例えば腕時計ＧＰＳ）、自動車および航空機用のヘッドアップ・ディスプレイおよびヘルメット搭載型ディスプレイ、腕時計、パーソナル・メディア・プレーヤ（例えばＭＰ３プレーヤ、パーソナル・ビデオ・プレーヤ）、ダッシュボード装着型ディスプレイ、レーザ光ショー・ボックス、パーソナル・ビデオ・プロジェクタ（「ビデオｉＰｏｄ（登録商標）」コンセプト）、広告および看板システム、コンピュータ（デスクトップを含む）、リモート・コントロール・ユニット、ホログラフィック画像表示システムを組み込んだ建築設備、より一般的に、ピクチャーを共有すること、及び／又は２人以上の人間が一度に画像を見ることが望まれる場合の任意の装置を含むが、それらに限定されない。
【００５８】
おそらく、当業者は多くの有効な代替形態を想起するであろう。本発明は記載した実施形態に限定されず、本書に添付する特許請求の範囲の趣旨および範囲に該当する、当業者には明白な変形例を包含することは理解されるであろう。
【図１】
2011503650.tif 000012
【図２】
2011503650.tif 000013
【図３ａ】
2011503650.tif 000014
【図３ｂ】
2011503650.tif 000015
【図３ｃ】
2011503650.tif 000016
【図３ｄ】
2011503650.tif 000017
【図３ｅ】
2011503650.tif 000018
【図３ｆ】
2011503650.tif 000019
【図４ａ】
2011503650.tif 000020
【図４ｂ】
2011503650.tif 000021
【図４ｃ】
2011503650.tif 000022
【図４ｄ】
2011503650.tif 000023
【図５ａ】
2011503650.tif 000024
【図５ｂ】
2011503650.tif 000025
【図６ａ】
2011503650.tif 000026
【図６ｂ】
2011503650.tif 000027
【国際調査報告】
2011503650.tif 000028
2011503650.tif 000029
2011503650.tif 000030
2011503650.tif 000031
2011503650.tif 000032