(57)【要約】  プレート状基板を被覆するための被覆チャンバに合わせて構成された背面被覆防止装置が提供され、この被覆チャンバは、連続的又は非連続的に搬送されるプレート状基板を被覆するように構成されており、基板搬入口を有する前方壁と、基板搬出口を有する後方壁と、被覆材料を被覆チャンバに供給するように構成された被覆材料供給源と、搬送システムとを含み、搬送システムの正面は被覆材料供給源に面しており、搬送システムは、その正面上の搬送経路に沿って複数のプレート状基板を連続的又は非連続的に搬送するように構成されており、背面被覆防止装置は、プレート状基板の背面への被覆を防止するために、搬送システムの正面と複数のプレート状基板の背面の近隣でガスバリアを提供するように構成されている。
2011513588.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プレート状基板を被覆するための被覆チャンバに合わせて構成された背面被覆防止装置であって、
被覆チャンバは、連続的又は非連続的に搬送されるプレート状基板を被覆するように構成されており、基板搬入口を有する前方壁と、基板搬出口を有する後方壁と、被覆材料を被覆チャンバに供給するように構成された被覆材料供給源と、搬送システムとを備え、搬送システムの正面は被覆材料供給源に面しており、搬送システムは、その正面上の搬送経路に沿って複数のプレート状基板を連続的又は非連続的に搬送するように構成されており、
背面被覆防止装置は、プレート状基板の背面への被覆を防止するために、搬送システムの正面と複数のプレート状基板の背面の近隣でガスバリアを提供するように構成されている背面被覆防止装置。
【請求項２】
搬送システムの正面と複数のプレート状基板の背面の近隣でバリアガスを供給するように構成されたバリアガス供給ユニットを備える請求項１記載の背面被覆防止装置。
【請求項３】
バリアガス供給ユニットが、
搬送システムの正面に設置された１つ以上のバリアガス流出口と、
１つ以上のバリアガス流出口に接続された１本以上のバリアガス導管と、
１本以上のバリアガス導管に接続されたバリアガス供給源とを備える請求項２記載の背面被覆防止装置。
【請求項４】
搬送システムの正面であり且つ複数のプレート状基板の背面の下に配置されたカバーパネルを更に備え、これによってカバーパネルと複数のプレート状基板の背面との間に空間が画成され、被覆防止装置が、カバーパネルと複数の基板の背面との間に画成された空間にガスバリアを提供するように構成される先行の請求項のいずれか１項記載の背面被覆防止装置。
【請求項５】
プレート状基板を被覆するための被覆チャンバであって、
連続的又は非連続的に搬送されるプレート状基板を被覆するように構成されており、基板搬入口を有する前方壁と、基板搬出口を有する後方壁と、被覆材料を被覆チャンバに供給するように構成された被覆材料供給源と、搬送システムとを備え、搬送システムの正面は被覆材料供給源に面しており、搬送システムは、その正面上の搬送経路に沿って複数のプレート状基板を連続的又は非連続的に搬送するように構成されており、
背面被覆防止装置は、プレート状基板の背面への被覆を防止するために、搬送システムの正面と複数のプレート状基板の背面の近隣でガスバリアを提供するように構成されている被覆チャンバ。
【請求項６】
背面被覆防止装置が、搬送システムの正面と複数のプレート状基板の背面の近隣でバリアガスを供給するように構成されたバリアガス供給ユニットを備える請求項５記載の被覆チャンバ。
【請求項７】
バリアガス供給ユニットが、
搬送システムの正面に設置された１つ以上のバリアガス流出口と、
バリアガス流出口に接続された１本以上のバリアガス導管と、
１本以上のバリアガス導管に接続されたバリアガス供給源とを備える請求項６記載の被覆チャンバ。
【請求項８】
バリアガス導管の１本以上が１つ以上のバリアガスバルブを介してバリアガス供給源に接続され、バリアガス供給ユニットが、１つ以上のバリアガスバルブを制御するように構成された制御手段を備える請求項７記載の被覆チャンバ。
【請求項９】
バリアガス流出口の１つ以上が搬送システムの正面に形成された長さ方向のスリットの形状を有し、バリアガス流出口が互いに平行に且つ搬送経路を横断するように配置される請求項６〜８のいずれか１項記載の被覆チャンバ。
【請求項１０】
バリアガス流出口の１つ以上が搬送システムの正面の全幅にわたって延びる請求項６〜９のいずれか１項記載の被覆チャンバ。
【請求項１１】
搬送システムが複数の回転ロールを備え、回転ロールが、前方壁から後方壁へと連続的に互いに平行に配置されており、各ロールが、ロールに各々同軸に取り付けられ且つガラス基板を支持する複数の離間されたリングを有する請求項６〜１０のいずれか１項記載の被覆チャンバ。
【請求項１２】
被覆チャンバが真空被覆チャンバである並びに／又は真空被覆チャンバの前方壁及び後方壁の開口部の１つ以上が、真空ロック、エアロック、スリットバルブ若しくはこれらの組み合わせを備える請求項６〜１１のいずれか１項記載の被覆チャンバ。
【請求項１３】
被覆材料供給源が、被覆材料を被覆チャンバの少なくとも被覆領域に供給し、また各バリアガス流出口が少なくとも被覆領域に設置される請求項６〜１２のいずれか１項記載の被覆チャンバ。
【請求項１４】
被覆チャンバがスパッタリングによる被覆に合わせて構成されており、被覆材料供給源が１つ以上のスパッタリング陰極である請求項６〜１３のいずれか１項記載の被覆チャンバ。
【請求項１５】
背面被覆防止装置が被覆チャンバの２つの対向する側壁に設置された少なくとも２つのスクリーンを更に備え、側壁が被覆チャンバの前方壁から後方壁へと延び、２つの側壁の各々にスクリーンの少なくとも一方が設置され、各スクリーンが各側壁から突出する突出部材を有し、各スクリーンが、各側壁に沿って搬送経路に対して平行に延び且つ被覆中、プレート状基板から１．５ｍｍ〜５ｍｍ離間されるように位置決めされた突出部材を有する請求項６〜１４のいずれか１項記載の被覆チャンバ。
【請求項１６】
搬送システムの正面であり且つ複数のプレート状基板の背面の下に配置されたカバーパネルを更に備え、これによってカバーパネルと複数のプレート状基板の背面との間に空間が画成され、被覆防止装置が、カバーパネルと複数の基板の背面との間に画成された空間にガスバリアを提供するように構成される請求項６〜１５のいずれか１項記載の被覆チャンバ。
【請求項１７】
被覆チャンバ内でプレート状基板を被覆する方法であって、
被覆チャンバ内を複数のプレート状基板を運搬することを含み、これが
（ａ）プレート状基板のうちの１枚を被覆チャンバの前方壁の基板搬入口を通して被覆チャンバ内に送り出し、プレート状基板を、複数のプレート状基板を正面の搬送経路に沿って連続的又は非連続的に搬送するための搬送システム上に配置し、
（ｂ）プレート状基板を搬送経路に沿って連続的又は非連続的に搬送し、一方、被覆材料を、被覆チャンバ内に設置された被覆材料供給源からプレート状基板の正面に向かって供給しながら、プレート状基板の背面への被覆を防止するためにガスバリアを搬送システムの正面及びプレート状基板の背面の近隣で提供し、
（ｃ）プレート状基板を被覆チャンバの後方壁の基板搬出口を通して搬出することによって行われ、プレート状基板は、別のプレート状基板が被覆チャンバ内を運搬されている間に搬出される方法。
【請求項１８】
プレート状基板の２枚以上が被覆チャンバ内を連続的に運搬され、
２枚以上の連続的に運搬されるプレート状基板の間には間隙が形成され、各間隙が２枚の連続して運搬される基板によって画成され且つ搬送経路の全幅にわたって延び、
ガスバリアが、ある量のバリアガスを搬送システムの正面で供給することによって提供され、供給されるバリアガスの量が工程（ａ）〜（ｃ）の最中に制御される請求項１７記載の方法。
【請求項１９】
ガスバリアが、ある量のバリアガスをバリアガス供給源から１本以上のバリアガス導管及び搬送システムの正面に設置された１つ以上のバリアガス流出口を通して供給することによって提供される請求項１７又は１８に記載の方法。
【請求項２０】
バリアガス流出口の１つ以上に供給されるバリアガスの量が制御手段によって制御される請求項１９記載の方法。
【請求項２１】
バリアガスがバリアガス流出口の１つ以上を通して供給され、バリアガス流出口の１つ以上が、搬送システムの正面に形成された長さ方向のスリットの形状を有し、また互いに平行に且つ搬送経路を横断するように配置される請求項１９又は２０記載の方法。
【請求項２２】
バリアガスがバリアガス流出口の１つ以上を通して供給され、バリアガス流出口の１つ以上が、搬送システムの正面の全幅に亘って延びる、請求項１９〜２１のいずれか１項記載の方法。
【請求項２３】
工程（ａ）〜（ｃ）の間、バリアガス流出口の少なくとも１つが間隙の少なくとも１つの近くに配置される場合、その少なくとも１つのバリアガス流出口に供給されるバリアガスの量が減量され、一方、その少なくとも１つのバリアガス流出口以外のバリアガス流出口に供給されるバリアガスの量が増量される、請求項１９〜２２のいずれか１項記載の方法。
【請求項２４】
プレート状基板の１枚以上が、被覆チャンバの基板搬入口と基板搬出口との間の距離より長く、
運搬中、搬送されるプレート状基板の１枚が基板搬入口と基板搬出口との間の距離にまたがる場合は、ガスバリアを提供するために供給されるバリアガスの量を減量し、運搬中、連続的に搬送される基板同士の間の間隙の１つが被覆チャンバ内にある場合は増量する請求項１７〜２３のいずれか１項記載の方法。
【請求項２５】
工程（ｂ）中、プレート状基板の背面への被覆が、被覆チャンバの２枚の対向する側壁に設置された少なくとも２つのスクリーンによって更に防止され、側壁は被覆チャンバの前方壁から後方壁に向かって延び、２つの側壁の各々にスクリーンの少なくとも一方が設置され、各スクリーンが各側壁から突出する突出部材を有し、各スクリーンが、各側壁に沿って搬送経路に対して平行に延び且つ被覆中、プレート状基板から１．５ｍｍ〜５ｍｍ離間されるように位置決めされた突出部材を有する請求項１７〜２４のいずれか１項記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【発明の技術分野】
【０００１】
本発明は、背面被覆防止装置、被覆チャンバ及び被覆方法に関する。特に、本発明は、プレート状基板を被覆するための被覆チャンバに合わせて構成された背面被覆防止装置、プレート状基板を被覆するための、背面被覆防止装置を備えた被覆チャンバ及びプレート状基板を被覆する方法に関する。
【発明の背景】
【０００２】
プレート状基板への材料の薄膜被覆は多くのやり方、例えば被覆材料の蒸着又はスパッタによって行うことができる。場合によっては、例えば太陽電池の製造においてはプレート状基板の片面だけを被覆することが望ましく、側面の被覆が望ましい場合もある。
【０００３】
連続的に運搬されていくプレート状基板（典型的にはガラス基板）を陰極スパッタリングによって薄層で被覆する既知の設備において、幾つかの区画は隣り合って位置している。各区画は、少なくとも１つのスパッタリング陰極と処理ガス流入口を備え、排気用の真空ポンプに接続されている。これらの区画は、互いに開口部（典型的には真空ロック又はエアロック）によって接続されており、開口部は１つ以上のスリットバルブを備え得る。プレート状基板をスパッタリング陰極下の経路に沿って搬送し、また区画から区画へと開口部を通じて基板を受け渡すための搬送ロールを備えた搬送システムが設置される。
【０００４】
スパッタリング陰極を作動させるとプラズマが発生し、そのプラズマのイオンが、基板に堆積させる被覆材料のターゲットに向かって加速される。イオンのターゲットへのこの衝突によって被覆材料の原子が飛び出し、スパッタリング陰極下の基板上に堆積膜として蓄積される。
【０００５】
連続的に搬送されていく矩形プレート状基板をスパッタするための既知のデザインの区画において、被覆材料は、望んだようにこのプレート状基板の正面、場合によっては側面にも堆積されるだけではなく、その背面にも堆積されてしまうことがあり、背面への堆積は、太陽電池用のガラス基板の場合、特に望ましくない。
【発明の概要】
【０００６】
一態様において、プレート状基板を被覆するための被覆チャンバに合わせて構成された背面被覆防止装置が提供され、この被覆チャンバは、連続的又は非連続的に搬送されるプレート状基板を被覆するように構成されており、基板搬入口を有する前方壁と、基板搬出口を有する後方壁と、被覆材料を被覆チャンバに供給するように構成された被覆材料供給源と、搬送システムとを含み、搬送システムの正面は被覆材料供給源に面しており、搬送システムは、その正面上の搬送経路に沿って複数のプレート状基板を連続的又は非連続的に搬送するように構成されており、背面被覆防止装置は、プレート状基板の背面への被覆を防止するために、搬送システムの正面と複数のプレート状基板の背面の近隣でガスバリアを提供するように構成されている。
【０００７】
別の態様は、プレート状基板を被覆するための被覆チャンバについてのものであり、この被覆チャンバは、連続的又は非連続的に搬送されるプレート状基板を被覆するように構成されており、基板搬入口を有する前方壁と、基板搬出口を有する後方壁と、被覆材料を被覆チャンバに供給するように構成された被覆材料供給源と、搬送システムとを含み、搬送システムの正面は被覆材料供給源に面しており、搬送システムは、その正面上の搬送経路に沿って複数のプレート状基板を連続的又は非連続的に搬送するように構成されており、背面被覆防止装置は、プレート状基板の背面への被覆を防止するために、搬送システムの正面と複数のプレート状基板の背面の近隣でガスバリアを提供するように構成されている。
【０００８】
別の態様において、被覆チャンバ内でプレート状基板を被覆する方法は、被覆チャンバ内を複数のプレート状基板を運搬することを含み、これは（ａ）プレート状基板のうちの１枚を被覆チャンバの前方壁の基板搬入口を通して被覆チャンバ内に送り出し、このプレート状基板を、複数のプレート状基板を正面の搬送経路に沿って連続的又は非連続的に搬送するための搬送システム上に配置し、（ｂ）プレート状基板を搬送経路に沿って連続的又は非連続的に搬送し、一方、被覆材料を、被覆チャンバ内に設置された被覆材料供給源からプレート状基板の正面に向かって供給しながら、プレート状基板の背面への被覆を防止するためにガスバリアを搬送システムの正面及びプレート状基板の背面の近隣で提供し、（ｃ）プレート状基板を被覆チャンバの後方壁の基板搬出口を通して搬出することによって行われ、プレート状基板は、別のプレート状基板が被覆チャンバ内を運搬されている間に搬出される。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
前記の態様の一部を、以下の図面を参照しながら、典型的な実施形態についての以下の記載においてより詳細に説明する。
【００１０】
【図１】本願に記載の実施形態による背面被覆防止装置を含む被覆チャンバの断面図である。
【図２】図１に図示の線Ａ−Ａに沿った被覆チャンバの断面図であり、本願に記載の実施形態による被覆チャンバの外にある背面被覆防止装置の一部の概略図を含む。
【図３】図１及び２に図示の被覆チャンバの搬送システムの一部の上面図である。
【図４】本願に記載の実施形態による被覆方法のフロー図である。
【図５】本願に記載の実施形態による別の被覆方法のフロー図である。
【図６】本願に記載の実施形態による更に別の被覆方法のフロー図である。
【図７】本願に記載の実施形態による別の被覆チャンバの搬送システムの一部の上面図である。
【図８】本願に記載の実施形態による別の被覆チャンバの搬送システムの一部の上面図である。
【図９】本願に記載の実施形態による別の被覆チャンバの搬送システムの一部の上面図である。
【図１０】本願に記載の実施形態による背面被覆防止装置の変形の一部を示す図である。
【図１１】本願に記載の実施形態による背面被覆防止装置の別の変形の一部を示す図である。
【図１２】本願に記載の実施形態による背面被覆防止装置の更に別の変形の一部を示す図である。
【図１３】本願に記載の実施形態による背面被覆防止装置の別の変形の一部を示す図である。
【図１４】本願に記載の実施形態による背面被覆防止装置の更に別の変形の一部を示す図である。
【図１５】本願に記載の実施形態による背面被覆防止装置の更に別の変形の一部を示す図である。
【図１６】本願に記載の実施形態による背面被覆防止装置の更に別の変形の一部を示す図である。
【図１７】本願に記載の実施形態による背面被覆防止装置の別の変形の一部を示す図である。
【実施形態の詳細な説明】
【００１１】
ここで様々な実施形態について詳細に触れるが、その１つ以上の例が図に示される。各例は説明のためのものであり、本発明を限定することを意図するものではない。以下の図の説明において、同じ参照番号は同じ部品を示す。一般に、個々の実施形態の差異についてのみ説明する。
【００１２】
典型的には、本発明の背面被覆防止装置、被覆チャンバ及び被覆方法の用途は、連続的又は非連続的に運搬されるプレート状基板を薄膜で被覆するための設備の真空スパッタリング区画内にある。本発明は、太陽電池の製造における、プレート状ガラス基板の金属薄膜（例えば、Ａｇ膜）での被覆に特に有用である。
【００１３】
本発明の範囲を限定することなく、以下は、連続的に搬送される矩形のプレート状ガラス基板をＡｇ薄膜で被覆するための真空スパッタ被覆チャンバ内の背面被覆防止装置についての説明である。本発明の実施形態は、薄膜蒸着等の別の被覆方法や、Ａｇ以外の別の被覆材料（例えば、その他の金属又は合金）にも応用することができる。更に、形の異なる他の基板（薄い金属板、プラスチックフィルム等）を使用してもよい。更に、基板を被覆チャンバに連続的に送り出しても、被覆チャンバに非連続モードで送り出してもよい。加えて、被覆チャンバは真空チャンバに限定されない。典型的には、ガラス基板は厚さ２ｍｍ〜１９ｍｍを有する。例えば、典型的な太陽電池応用例において、ガラス基板は、厚さ２ｍｍ〜５ｍｍを有する。更に、ガラス基板のサイズは、用途によっては３ｍｘ６ｍにも達し得る。
【００１４】
図１は、連続的に搬送される矩形のプレート状ガラス基板１００を薄膜で被覆するための真空スパッタリングチャンバとして設計された被覆チャンバ１０の断面図である。被覆チャンバ１０は、本願に記載の実施形態による背面被覆防止装置２００、２０２を含む。図２は、線Ａ−Ａに沿った、図１の被覆チャンバ１０の断面図である。被覆チャンバ１０は、底壁１２と、天壁１４と、前方壁１６と、後方壁１８と、２枚の側壁１７を備える。全ての壁の材料がステンレススチールであり、被覆チャンバ１０は真空気密である。前方壁１６は基板搬入口２０を含み、後方壁１８は基板搬出口２２を含む。基板搬入口及び搬出口２０、２２は、ガラス基板１００の搬入及び搬出時に被覆チャンバ１０内の真空を維持するために、真空ロック又はエアロック、典型的にはスリットバルブとして設計される。被覆チャンバ１０は処理ガス流入口（図示せず）を更に有し、また約１０−６Ｔｏｒｒの真空を確立するために真空ポンプ（図示せず）に接続される。当然のことながら、１０−６Ｔｏｒｒの圧力値は一例として理解されるべきであり、その他の圧力値又は範囲も利用可能である。例えば、スパッタリング用の典型的な圧力範囲は１０−３ｈＰａ〜１０−２ｈＰａであり、蒸着用の典型的な圧力範囲は１０−６ｈＰａ未満〜１０−３ｈＰａであり、より典型的には１０−５ｈＰａ〜１０−４ｈＰａの範囲である。更に、天壁１４において、１つ以上、典型的には２つの、各々がＡｇのターゲットを備えるスパッタリング陰極２６が、被覆材料を被覆チャンバ内に供給するように構成された被覆材料供給源として設置される。
【００１５】
底壁１２上には、基板支持体として、複数のガラス基板１００を連続的に運搬するための搬送システム３０が取り付けられ、図１及び２、特に図２に図示される通りである。搬送システム３０は、スパッタリング陰極２６に面した正面３１を有し、またこの正面３１上で１枚以上のプレート状ガラス基板１００を支持するように構成されている。搬送システム３０は、複数の（典型的には、２つの）回転ロール３２を備え、回転ロールは、被覆チャンバ１０全体にわたって前方壁１６から後方壁１８へと連続的に互いに平行に配置されている。ロール３２は、一方の側壁１７から反対側の側壁１７へと延びている。更に、各ロール３２は、搬送システム３０のカバーパネル３６下に位置決めされており、また複数の離間されたリング３３がロール３２に各々同軸に取り付けられている。リング３３は、搬送システム３０のカバーパネル３６に開いた開口部３４を超えて延び、またガラス基板１００を支持し、これによって基板支持面１２０がカバーパネル３６上に画成される。基板支持面１２０は図１及び２において点線として示される。リング３３上に支持されたガラス基板１００の正面１０５は、スパッタリング陰極２６に面する。カバーパネル３６は搬送システムの正面３１に配置され、また基板支持面１２０から典型的には約２ｍｍ〜約１０ｍｍ、より典型的には約２ｍｍ〜約５ｍｍ、最も典型的には少なくとも約２ｍｍ下に位置決めされるような設置高さを有する。カバーパネル３６と基板支持面１２０又は搬送されたガラス基板１００との間に生まれる少なくとも約２ｍｍの距離によって、搬送中、ガラス基板１００が振動する又はたわむ余裕がでる。同時に、ガラス基板１００とカバーパネル３６との接触又は衝突が回避される。更に、カバーパネル３６と基板支持面１２０との間の距離によって、基板支持面下に空間が画成される。
【００１６】
ロール３２は駆動ユニット４０に接続され、駆動ユニットは制御ユニット５０に接続され、本願において、制御ユニットは制御手段とも称される。駆動ユニット４０及び制御ユニット５０は共に、図２に概略的に図示されるように被覆チャンバの外側に設置される。搬送システム３０は、搬送経路６０に沿った搬送方向にプレート状ガラス基板１００を運搬するように構成されている。搬送経路６０は搬送されるガラス基板１００によって画成され、また基板支持面１２０の上であり且つスパッタリング陰極２６の下である位置にあり、また被覆チャンバ１０の基板搬入口及び搬出口２０、２２を通る。被覆作業中、搬送方向は基板搬入口２０から基板搬出口２２まで延びる。
【００１７】
図２に図示されるように、各ガラス基板１００は、被覆対象であり且つ搬送システム３０上での搬送中にスパッタリング陰極２６に面する正面１０５を有する。各ガラス基板１００は更に、正面１０５とは反対であり且つ搬送システム３０上での搬送中に搬送システム３０に面する背面１１０と、各々が側面１１４を備える２つの側方端部１１２を含む。ガラス基板１００の搬送中、図１に図示されるように、間隙２１０が、搬送システム３０上を連続的に搬送される矩形のプレート状ガラス基板１００同士の間に形成される。間隙２１０は、搬送経路６０の全幅にわたって延びる。典型的には、連続的に搬送される複数の基板を被覆する場合、スパッタリング電極の効率的な動作は連続モードである。本発明の被覆チャンバ１０内でスパッタリング陰極２６によってガラス基板１００に向かってスパッタされるＡｇ粒子は直線的な軌道に沿って移動し、別の粒子又は被覆チャンバ１０の壁との衝突によって逸れる場合もある。ガラス基板１００の正面１０５に向かって移動する多数のＡｇ被覆材料粒子が、連続的に搬送される矩形のプレート状ガラス基板１００同士の間の間隙２１０を通りぬけ、望ましくないことにガラス基板１００の背面１１０上に堆積されることがある。更に、別の側部間隙５００が、連続的に搬送される矩形のプレート状ガラス基板１００の側面１１４と被覆チャンバ１０の側壁１７との間に、図２に図示されるように形成される。従って、スパッタされたＡｇ粒子が、この側部間隙５００を通りぬけてガラス基板１００の背面１１０に堆積される場合もある。
【００１８】
従って、図１〜３に図示されるように、被覆チャンバ１０内に背面被覆防止装置が設置され、本願に記載の実施形態の背面被覆防止装置は、バリアガス供給ユニットを備える。図１〜３に図示の典型例において、バリアガス供給ユニットは複数のバリアガス導管２００と、複数のバリアガス流出口２０２と、バリアガス供給源２０４を含む。バリアガスは不活性ガスであってもよく、例えば適切な純度のＡｒガスであり、典型的には、処理に使用するスパッタガスと同じ純度となるように選択される。しかしながら、バリアガスが必ずしも不活性である必要はなく、反応ガスを含有するガス混合物も使用し得る。例えば、Ａｒ、Ｎ２及びＯ２の混合物を反応性の処理に使用する。このような混合物は、Ｏ２に因り不活性ではない。一般に、処理に悪影響を与えないいずれのガスも、開示の装置及び処理で使用するバリアガスとして適格である。バリアガスの典型的だが非限定的な例には、不活性ガス及び／又は高い分子量を有するガスが含まれる。バリアガス導管２００はカバーパネル３６の背面に取り付けられ、搬送システム３０のロール３２に対して平行に延びる。図１〜３に図示の例における各ロール３２は、２本のバリアガス導管２００の間に位置決めされる。各バリアガス導管２００は、バルブ２０６、典型的には制御バルブ、より典型的には圧力制御バルブによってバリアガス供給源２０４に接続される。当業者なら、マスフローコントローラ（ＭＦＣ）をバルブ２０６の代わりに又はバルブ２０６と組み合わせて使用し得ることを理解できる。例えば、主ＭＦＣが、追加のバルブ又はＭＦＣと共に個々の流入口に設置される。バリアガスバルブとも称されるバルブ２０６及びバリアガス供給源２０４が、被覆チャンバ１０の外側に設置される。本願に記載の実施形態による典型的なデザインの背面被覆防止装置においては、全てのバリアガス導管２００に対して１つの共通バルブ２０６が設置される。別の典型的なデザインにおいては、各バリアガス導管２００が個々のバルブ２０６を有する。バルブ２０６は典型的には電磁的に動作させられ、制御ユニット５０によって制御される。更に、各バリアガス導管２００は、バリアガス流出口２０２の１つに接続される。バリアガス流出口２０２はカバーパネル３６にロール３２と平行に設置され、搬送経路６０を典型的には直角に横断する。即ち、被覆作業中の搬送方向を典型的には直角に横断する。
【００１９】
図３のカバーパネル３６の上面図に図示されるように、バリアガス流出口２０２は、カバーパネル３６に形成された長さ方向のスリットである。バリアガス流出口２０２は互いに平行に配置され、またカバーパネル３６の全幅にわたって延びる。更に、図１に図示されるように、カバーパネル３６の設置高さのせいで、バリアガス流出口２０２は、基板支持面１２０から、即ち搬送されるガラス基板１００の背面１１０から典型的には約２〜約１０ｍｍ、より典型的には約２〜約５ｍｍ、最も典型的には少なくとも約２ｍｍ離間される。
【００２０】
典型的な被覆作業において、複数の矩形のプレート状ガラス基板１００は、被覆チャンバ１０内を次から次へと運搬されていき、その間、スパッタリング陰極２６を連続的に運転する。各ガラス基板１００は基板搬入口２０から被覆チャンバ１０内に送られ、搬送システム３０のリング３３上に配置される。その後、各ガラス基板１００は、搬送システム３０によって、稼働中のスパッタリング陰極２６下の搬送経路６０に沿って連続的に搬送される。最終的に、各ガラス基板１００は基板搬出口２２から搬出される。複数のガラス基板１００を被覆することから、また被覆処理の有効性を改善するために、２枚以上のガラス基板１００を搬送チャンバ１０内の搬送システム３０で次から次へと同時に搬送し得る。従って、毎回、２枚の矩形のプレート状ガラス基板１００が連続的に被覆チャンバ１０を通って搬送され、間隙２１０の１つが２枚のガラス基板１００の間に形成される。この間隙２１０は、ガラス基板１００の搬送中、搬送経路６０に沿って移動する。
【００２１】
本願に記載の被覆方法の典型的な実施形態においては、プレート状基板の背面への被覆を防止するために、ガスバリアを、搬送システムの正面及びプレート状基板の背面の近隣で提供する。より典型的には、プレート状基板の背面への被覆を防止するために、ガスバリアを、搬送システムの正面とプレート状基板との間に提供する。一例においては、Ａｒガスバリアを、被覆チャンバ１０内のガラス基板１００下、即ち、カバーパネル３６とガラス基板１００の背面１１０との間の空間及び連続的に搬送される矩形のプレート状ガラス基板１００同士の間に形成される間隙２１０に確立する。Ａｇ被覆材料の粒子は、スパッタリング陰極２６からガラス基板１００に向かって、また連続するガラス基板１００同士の間の間隙２１０に向かって飛び出す。Ａｒガスバリアのおかげで、連続的に搬送されるガラス基板１００同士の間の間隙２１０を通ってガラス基板１００の背面１１０に向かうＡｇ粒子の移動が減少する又は実質的に阻害される。更に、Ａｒガスバリアは、ガラス基板１００の側方端部１１４と被覆チャンバ１０の側壁１７との間に形成された側部間隙５００を通っても延びている。このため、ガラス基板１００と側壁１７との間のこの側部間隙５００に向かって移動するＡｇ粒子も、この側部間隙５００を通過してガラス基板１００の背面１１０上に堆積することはできない。即ち、本願に記載の実施形態による背面被覆防止装置によって確立されたＡｒガスバリアによって、ガラス基板１００に向かってスパッタされるＡｇターゲット材料による、ガラス基板１００周囲に形成された間隙を通したガラス基板１００下の領域への侵入が困難となり、防止される。
【００２２】
以下は、本願に記載の実施形態による被覆方法の例であって、その方法の始まりが図４に概略的に示される。第１ガラス基板１００（（ｎ−１）番目のガラス基板。ｎは≧２の整数）の前方端部が被覆チャンバ１０に進入するや否や、制御ユニット５０が一定のＡｒバリアガス流をオンに切り替える。このバリアガス流は、対応するバリアガスバルブ２０６を開放することによって、バリアガス供給源２０４からバリアガス導管２００を通ってバリアガス流出口２０２へと確立される。典型的には、ガス流量は、処理対象となる基板のタイプ、被覆チャンバ１０のタイプ、サイズ及び／又は形状並びに間隙２１０のサイズに左右される。例示的な流量は、約２０ｓｃｃｍ〜約５００ｓｃｃｍである。典型的には、バリアガス流は、チャンバ内のバリアガスの最大量が処理ガスと同程度となるように調節される。次に、スパッタリング陰極２６をオンに切り替える。或いは、スパッタリング陰極２６はすでに稼働している。第１ガラス基板１００は連続的に稼働中のスパッタリング陰極２６の下を搬送されて被覆チャンバ１０を通り抜け、その間にその正面１０５がＡｇ粒子で被覆され、その背面１１０にはＡｒバリアガスが供給される。第１ガラス基板１００の後方端部が被覆チャンバ１０内に進入しきったら、第２（２番目）ガラス基板１００の前方端部が基板搬入口２０を通して被覆チャンバ１０内に送られる。第２ガラス基板１００は、搬送システム３０のリング３３上に配置され、その上で搬送される。バリアガス流出口２０２を通るバリアガス流は、上記と同様に一定に維持される。ここでもまた、第２ガラス基板１００は、稼働中のスパッタリング陰極２６下を連続的に搬送されて被覆チャンバ１０を通り抜け、その間にその正面１０５がＡｇ粒子で被覆され、その背面１１０にはＡｒバリアガスが供給される。第２ガラス基板１００を運搬中、第１期間又は第２期間が過ぎた後、連続的に搬送されていた第１ガラス基板１００の前方端部及び後方端部が次々に搬出口２２に到着し、また搬出される。当業者ならわかるように、第１期間及び第２期間は長さ、即ち第１ガラス基板１００の前方端部と後方端部との間の距離に依存する。その後、第２ガラス基板１００の前方端部が基板搬出口２２に到着し、被覆チャンバ１０から搬出される。最後に、第２ガラス基板１００の長さに応じた期間が過ぎた後に、その後方端部が基板搬出口２２から搬出され、第２ガラス基板１００の被覆処理が完了する。
【００２３】
上記の被覆作業の間、一定のＡｒバリアガス流のおかげで、第１及び第２ガラス基板１００の下、搬送中に第１ガラス基板１００と第２ガラス基板１００との間に形成される間隙２１０及びガラス基板１００と被覆チャンバの側壁１７との間の側部間隙５００にはガスバリアが確立される。従って、間隙２１０及び側部間隙５００を通るＡｇ粒子の移動は減少する又は実質的に阻害される。これによって、第１及び第２ガラス基板１００の背面への被覆が回避される。第２ガラス基板１００についての上で説明した方法工程を第３（ｎ＋１）及び別の連続的に搬送されるガラス基板１００についてＡｒバリアガス流をその背面１１０に供給しながら繰り返すことによって、複数のガラス基板１００をＡｇ薄膜で被覆し、それと同時にその背面１１０への被覆を軽減又は防止する。
【００２４】
被覆方法の上記の例においては、第１ガラス基板１００が被覆チャンバ１０に進入してから最後のガラス基板１００が被覆チャンバ１０から搬出されるまで、一定のＡｒバリアガス流がバリアガス流出口２０２から連続的に供給される。制御ユニット５０は、バリアガスバルブ２０６を開閉することによって、Ａｒバリアガス流を制御する。この例において、制御ユニット５０は、第１ガラス基板１００の前方端部が被覆チャンバ内に送り込まれた時点でＡｒバリアガス流をオンに切り替え、最後のガラス基板１００の後方端部が被覆チャンバから搬出された際にオフに切り替える。この両方のスイッチ切り替えのタイミングは、ガラス基板１００の長さ、連続的に搬送されるガラス基板１００同士の間の間隙２１０の幅についての既に判明している情報及び制御ユニット５０によって制御される搬送速度に基づいて制御ユニット５０により計算可能である。或いは、スイッチ切り替えのタイミングを、制御ユニット５０に接続されたセンサ（典型的には、運動センサ）からの情報に基づいて決定する。このようなセンサは、例えば、被覆チャンバ１０の外側の、基板搬入口２０及び基板搬出口２２に近い前方壁１６及び後方壁１８に位置決めされる。被覆方法のこの例において、複数のバリアガスバルブ２０６の代わりに、全てのバリアガス導管２００に接続される１つの共通バリアガスバルブ２０６を使用してもよい。
【００２５】
その始まりが図５に概略的に示されている本願に記載の実施形態による別の被覆方法においては、Ａｒバリアガス流を搬送中に制御し得る。Ａｒガス流のこの制御によって、１つ以上のバリアガス流出口２０２へのＡｒバリアガスの供給量が変化する又は断続的にさえなる。本例において、各バリアガス導管２００には、別々のバリアガスバルブ２０６が設置される。これは、各バリアガス流出口２０２が、バリアガス導管２００の１つを介して対応するバリアガスバルブ２０６に接続されていることを意味し、バリアガスバルブ２０６はバリアガス供給源２０４に接続されている。連続的に搬送されるガラス基板１００同士の間の間隙２１０の１つがバリアガス流出口２０２に近づくたびに、制御ユニット５０は、各バリアガス流出口２０２に接続されたバリアガスバルブ２０６に切り替え指令を出してバリアガス流量を削減する又はバリアガス流れを停止させる。間隙２１０がバリアガス流出口２０２を通過しきったら、このバリアガス流出口を流れるバリアガス流を、制御ユニット５０から対応するバリアガスバルブ２０６への指令によって再開させる。
【００２６】
ガラス基板１００の長さ及び連続的に搬送されるガラス基板１００同士の間の間隙２１０の幅についての情報は、図５に示す被覆処理を開始するまえに制御ユニット５０に送ることができる。或いは、このような情報を、制御ユニット５０に接続された対応するセンサによって、搬送中に求めてもよい。制御ユニットは、搬送システム３０の駆動ユニット４０、ひいてはガラス基板１００の搬送速度も制御する。従って、制御ユニット５０は、連続するガラス基板１００同士の間の各間隙２１０の移動位置を決定することができ、バリアガスバルブ２０６がしかるべく制御される。このようにして、図５に示す本例において、被覆中の背面への被覆を防止するのに必要なＡｒバリアガスの量が削減されるが、これは連続的に搬送されるガラス基板１００同士の間の間隙２１０を直接通り抜けるバリアガス流出口２０２からのバリアガス流の流量が減少する又はバリアガス流の通り抜けが回避されるからである。同時に、その他のバリアガス流出口２０２を流れるバリアガス流は、これらの流出口が、搬送されるガラス基板１００下に位置決めされている限り維持される。従って、ガラス基板１００下にＡｒガスバリアが確立、維持され、ガスバリアは、背面への被覆を安全に回避するに十分なガス圧及び間隙２１０内へのガス流量を有する。
【００２７】
本願に記載の典型的な実施形態の一例は、被覆チャンバ１０の前方壁１６から後方壁１８までの距離より短いガラス基板１００の被覆方法についてのものである。これは、連続的に搬送されるガラス基板１００同士の間の間隙２１０が、搬送中、被覆チャンバ１０内に１つ以上並ぶことを意味する。この場合、上述し且つ図５に示した被覆方法を利用する。ここでもまた、ガラス基板１００の背面への被覆が回避され、その一方で背面への堆積の防止に必要なバリアガスの量が減少する。
【００２８】
その始まりが図６に概略的に示されている本願に記載の実施形態による被覆方法の別の例において、ガラス基板１００は、前方壁１６と後方壁１８との間の距離に等しい又はそれより長い。従って、被覆チャンバ１０内を搬送するある期間中、各ガラス基板１００は、被覆チャンバ１０の前方壁１６と後方壁１８との間、即ち基板搬入口２０と基板搬出口２２との間の距離にまたがる。この結果、この期間中、連続するガラス基板１００同士の間の間隙２１０は被覆チャンバ１０内に存在しない。従って、全てのバリアガス流出口２０２へのバリアガス流量を、バリアガスバルブ２０６を制御する制御ユニット５０によって削減する又はバリアガス流れをオフに切り替える。被覆チャンバ内に間隙２１０が存在しない期間は、上述したように求めることができる。即ち、ガラス基板１００の長さ、連続するガラス基板１００同士の間の間隙２１０の幅及び搬送速度についての情報又は対応するセンサからのデータに基づいて求めることができる。２枚の連続するガラス基板１００の間の間隙２１０の１つが被覆チャンバ１０に進入するや否や、全バリアガス流出口２０２を流れるバリアガス流が開始され、Ａｒガスバリアがガラス基板１００下に確立される。或いは、バリアガスを、移動している間隙２１０に隣接する及び／又はその下のバリアガス流出口２０２にだけ連続的に供給してもよい。別の変形においては、被覆チャンバ１０内を移動する間隙２１０の１つの前及び後ろに位置決めされ、同時にこの間隙２１０を形成する連続するガラス基板１００の下に位置決めされたバリアガス流出口２０２にだけバリアガスを供給する。
【００２９】
被覆チャンバ１０の前方壁１６と後方壁１８との間の距離より短いガラス基板１００及びその距離に等しい又はそれより長いガラス基板１００を含む様々な長さを有するガラス基板１００を被覆する場合、図４又は５及び図６に示した方法の少なくとも一部を組み合わせたものを使用することができる。これは、連続的に搬送されるガラス基板１００同士の間の間隙２１０が被覆チャンバ内に存在しない限り、Ａｒバリアガス流の量を削減する又はガス流をオフに切り替えることができることを意味する。間隙２１０の１つがガラス基板１００の搬送中に被覆チャンバ内に進入するや否や、図４及び５に示したバリアガスの工程シーケンスの１つが開始される。どのケースにおいても、バリアガスの必要量を可能な限り少量に維持しつつ、ガラス基板の背面への被覆が回避される。
【００３０】
図７には、本願に記載の背面被覆防止装置の更に別の実施形態が図示されており、この装置は、搬送システム３０のカバーパネル３６に取り付けられた特殊なデザインのバリアガス流出口を備えている。図７においては、図３に図示される、カバーパネル３６の全幅にわたって延びる各バリアガス流出口２０２の代わりに、長さ方向の開口部として形成された複数のバリアガス流出口３０２が直列に設置されている。本例において、カバーパネル３６の開口部３４を通って延びる各リング３３は、２つの平行な長さ方向の開口部３０２の間に位置決めされている。当業者なら理解できるように、この変形の実施形態においては、バリアガス流を、バリアガス流出口３０２の特殊なデザインに合わせて調節する。本願に記載の背面被覆防止装置の実施形態の別の適切な改変も可能であり、例えば、当業者なら思い至るように、図３及び７に図示のバリアガス流出口のデザインを組み合わせることができる。
【００３１】
図８及び９は、背面被覆防止装置の典型的な実施形態のその他の例を示す。図８のバリアガス流出口４０２は図３のバリアガス流出口２０２より短いため、カバーパネル３６の全幅にわたっては延びていない。更に、追加のガスバリア流出口４０４が、図８に図示されるように、カバーパネル３６の側方端部に、側壁１７と平行、即ちバリアガス流出口４０２に直角に設置される。カバーパネル３６の反対側の側方端部（図示せず）にも、このような追加のバリアガス流出口４０４が鏡対称となるように設置される。バリアガス流出口４０４は、追加のバリアガス導管（図示せず）に接続される。上述したように、また図４に示す方法に適するように全てのバリアガス導管に対して共通バリアガスバルブ２０６を１つしか有さない実施形態の場合、バリアガス流出口４０４のバリアガス導管も共通バルブ２０６に接続することができる。得られたバリアガス流出口４０４の系を通してバリアガスを供給することによって、搬送されるガラス基板１００と側壁１７との間の側部間隙５００に強力なＡｒガスバリアが確立され、背面への被覆防止効果が促進される。或いは、追加のバリアガス流出口４０４を、制御ユニット５０によって別々に制御される１つ以上の追加のバリアガスバルブ（図示せず）に接続された追加のバリアガス導管によって、バリアガス供給源２０４に接続することができる。この例は、図６に示した工程シーケンスの少なくとも一部を含む被覆方法の一変形（即ち、ガラス基板１００の一部又は全てが、前方壁１６から後方壁１８にかけての距離に等しい又はそれより長い場合）に特に適している。この例では、ガラス基板のうちの１枚が被覆チャンバ１０の前方壁１６と後方壁１８との間の距離にまたがって延び且つバリアガス流出口４０２を流れるバリアガス流量を削減する又はバリアガス流を停止している間、バリアガス流出口４０２とは別にバリアガスをバリアガス流出口４０４に供給することができる。このため、主にガラス基板１００と側壁１７との間の側部間隙５００に関して背面への被覆が防止される。
【００３２】
図９は、図８に図示の例のデザインを変形したものを示し、図８に図示のバリアガス流出口４０２、４０４が複数のより短い長さ方向の開口部に分割されている。図９のデザインによる背面への被覆防止効果は、図８に図示の例のものに相当する。
【００３３】
更に、上記の実施形態において、被覆チャンバ１０が、特定の寸法のガラス基板に合わせて設計されることが当業者には理解できる。従って、背面被覆防止装置の寸法及び対応する被覆方法の特徴（例えば、バリアガス流の量）を、ガラス基板のその寸法に合わせて特別に調節することができる。このため、被覆チャンバ及び被覆方法を合わせて設計するところのガラス基板の寸法を知ることによって、当業者なら、背面被覆装置の正確な寸法及び対応する被覆方法の正確な特徴を求めることができ、背面への被覆を防止するための適切なガスバリアが達成される。
【００３４】
本願に記載されるような実施形態の上記の例の一変形においては、バリアガス流出口を、スパッタリング陰極２６と整列させて設置する。これは、上記のバリアガス流出口（典型的には、バリアガス流出口２０２、３０２、４０２、５０２、５０４）の一部又は全てをスパッタリング陰極２６下の１つ以上の被覆領域７０にのみ設置することを意味し、この結果、背面への被覆防止に必要なバリアガスの量が削減される。
【００３５】
本願に記載の背面被覆防止装置の実施形態の別の変形においては、バリアガス導管及びバリアガス流出口が、ガラス基板１００を冷却するための冷却装置に組み込まれ、被覆チャンバ内の空間が節約される。
【００３６】
本願に記載の実施形態の別の変形において、背面被覆防止装置は、被覆チャンバの２つの対向する側壁に少なくとも２つのスクリーンを更に備え、側壁は、被覆チャンバの前方壁から後方壁まで延び、２つの側壁の各々にはスクリーンの少なくとも一方が設置されており、各スクリーンは、各側壁から突出する突出部材を有し、各スクリーンは、各側壁に沿って搬送経路に対して平行となり且つ被覆中、プレート状基板から１．５ｍｍ〜５ｍｍ離間されるように位置決めされた突出部材を有する。
【００３７】
上述され且つ例えば図１０において図示されるように、各ガラス基板１００は、被覆対象であり且つ搬送システム３０上での搬送中にスパッタリング陰極２６に面する正面１０５を有する。更に、各ガラス基板１００は、正面１０５とは反対側であり且つガラス基板の搬送中に搬送システム３０に面する背面１１０と、各々が１つの側面１１４を備える２つの側方端部１１２を有する。図１０は、ガラス基板１００の２つの側方端部１１２の一方しか図示していないことに留意すること。当業者なら、図１０に図示の配置を、ガラス基板１００の反対側の側面１１４にもただし鏡対称にあてはめることが理解できる。上述されるように、またガラス基板１００のうちの１枚の一方の側方端部１１２だけを図示する図１０において特に明らかなように、２つの側部間隙５００が、搬送システム３０上に配置された矩形のプレート状ガラス基板１００の側面１１４と区画の側壁１７との間に形成される。側部間隙５００は、被覆チャンバ１０の側壁１７に沿って、搬送方向に対して平行に延びる。飛び出した多数のターゲット材料原子が、この側部間隙５００を通過して、望ましくないことにガラス基板１００の背面１１０上に堆積される場合がある。
【００３８】
以上を鑑みると、上述したようなバリアガス供給ユニットに加えて、本願に記載の実施形態による背面被覆防止装置は、任意で、被覆チャンバ１０の壁のうちの少なくとも２つに設置される２つ以上のスクリーンを含んでいてもよく、このスクリーンは任意で基板支持面下に設置される。各スクリーンは、各壁から突出する突出部材を有する。図２に図示されるような背面被覆防止装置の例においては２つの側方スクリーン２０００が任意で含まれ、被覆チャンバ１０の各側壁１７には、基板支持面１２０下に、スクリーン２０００の一方が設置される。
【００３９】
図１０は、図２に図示のスクリーン２０００の一方の拡大断面図である。各側方スクリーン２０００はステンレススチールから形成され、典型的にはＬ字型の断面（即ち、互いに直角に配置された２つの枝部２００２、２００４を備える）を有する。枝部２００２は、被覆チャンバ１０の側壁１７の内側に取り付けられる。枝部２０００４は、枝部２００２の上端部に取り付けられ、被覆チャンバの中心に向かって基板支持面１２０に対して平行、即ち側壁１７に対して直角に突出している。従って、枝部２００４は突出部材を構成し且つ側壁１７に沿って搬送経路６０に対して平行に延びる。被覆チャンバ１０における側壁１７での枝部２００２の設置高さは、枝部２００４が、約２〜約１０ｍｍ、典型的には約２〜約５ｍｍ、最も典型的には少なくとも約２ｍｍ、基板支持面１２０の下に位置決めされるようなものである。側方スクリーン２０００の両枝部２００２、２００４は更に、基板支持面１２０に対して平行に、側壁１７に沿って被覆チャンバ１０全体にわたって（典型的には、被覆チャンバ１０の少なくともスパッタ領域全体にわたって）延びている。これは、被覆材料供給源を構成しているスパッタリング陰極２６が、被覆材料を少なくとも被覆チャンバ１０の被覆領域７０に供給するように構成されており、また各スクリーン２０００が少なくともこの被覆領域７０に設置されることを意味する。
【００４０】
背面被覆防止装置のこの変形の典型的な実施形態において、突出枝部２００４は、被覆中、１枚以上のプレート状基板１００から少なくとも２ｍｍ離間されるように位置決めされる。更に、枝部２００４は、基板支持面１２０が、スパッタリング陰極２６と枝部２００４との間に位置決めされるような形で側壁１７から突出する。より具体的には、上述したように、基板支持面１２０上に支持された各ガラス基板１００は、背面１１０と、各々が側面１１４を備える２つの側方端部１１２を有する。図１０に図示されるように、間隙２０１０がガラス基板１００の背面１１０と枝部２００４との間には形成され、枝部２００４は、ガラス基板１００の背面１１０から約２〜約１０ｍｍ、典型的には約２〜約５ｍｍ、最も典型的には少なくとも約２ｍｍ離間されており、上述したように枝部２００２の設置高さに依存する。従って、間隙２０１０は、約１．５ｍｍ〜約１０ｍｍ、典型的には約１．５ｍｍ〜約５ｍｍ、最も典型的には少なくとも約２ｍｍの幅を有する。この狭い幅のおかげで、ガラス基板１００の側方端部１１２に向かってスパッタされたＡｇ粒子の殆どが、ガラス基板の背面１１０への移動を阻まれる。これは粒子が、枝部２００４の上面及びガラス基板の側面１１４上に堆積されるからである。突出枝部２００４とガラス基板１００との間の間隙２０１０によって、搬送中のガラス基板１００に振動する又はたわむ余裕もでき、ガラス基板１００と背面被覆防止装置の突出枝部２００４との接触又は衝突が回避される。
【００４１】
被覆作業中、ガラス基板１００は、被覆チャンバ１０内へと基板搬入口２０を通して連続的に搬入され、搬送システム３０によって、基板支持面１２０上の搬送経路６０に沿って稼働中のスパッタリング陰極２６の下を連続的に運搬され、基板搬出口２２を通って搬出される。Ａｇ被覆材料の粒子は、スパッタリング陰極２６からガラス基板１００に向かって、また矩形のプレート状ガラス基板１００と被覆チャンバ１０の側壁１７との間に形成された側部間隙５００に向かって横方向にも飛び出す。これらの側部間隙５００に向かって横方向に飛び出した被覆粒子は主としてスクリーン２０００の突出枝部２００４の上面に堆積される。これによって、ガラス基板１００と側壁１７との間の側部間隙５００を通ってガラス基板１００の背面１１０に向かうＡｇ粒子の移動が減少する又は実質的に阻害される。更に、この例において、ガラス基板１００の側面１１４は、ガラス基板の用途によっては望ましいようには被覆を免れない。
【００４２】
更に、本願に記載の実施形態において、背面被覆防止装置が、被覆チャンバ内に突出し且つ基板支持面１２０上に位置決めされる側方端部を有する突出部材を各々備えたスクリーンを含む場合がある。このタイプの実施形態の例が図１１に図示される。図１０と同様に、このような背面被覆防止装置の一方のスクリーン３０００だけの断面図が図１１に図示されている。しかしながら、典型的には２つの側方スクリーン３０００が、背面被覆防止装置のこの例に含まれる。
【００４３】
図１１において、スクリーン３０００は、被覆チャンバ１０の側壁１７に取り付けられた枝部３００２と、突出部材として形成された枝部３００４とを備える。枝部３００４は枝部３００２の上端部に取り付けられ、被覆チャンバ１０内へと突出している。枝部３００４は、ガラス基板１００の側面１１４に面した側方端部３００６を有する。枝部３００４の設置高さは、側方端部３００６が基板支持面１２０上に位置決めされるようなものである。この例において、スクリーン３０００はＬ字型（即ち、枝部３００２及び３００４は、互いに直角に配置される）であるため、枝部３００４全体が基板支持面１２０上に位置決めされる。枝部３００４の長さは、その側方端部３００６が、ガラス基板１００の側面１１４から少なくとも２ｍｍ、より具体的には約２〜約１０ｍｍ、典型的には約２〜約５ｍｍ、最も典型的には約２ｍｍ離間されるようなものである。このため、枝部３００４とガラス基板１００の側面１１４との間には、少なくとも約２ｍｍの幅の狭い間隙３０１０しか形成されない。この間隙３０１０を通っては、スパッタリング陰極２６からガラス基板１００の側方端部１１２に向かって飛び出すＡｇ粒子はごく少量しか通過できない。
【００４４】
従って、被覆作業中に図１１の例による２つのスクリーン３０００を含む背面被覆防止装置を使用する場合、ガラス基板１００と側壁１７との間の側部間隙５００に向かって進む実質的に全てのＡｇ被覆粒子が、突出枝部３００４の上面、その側方端部３００６及びガラス基板１００の側面１１４上に堆積される。このため、被覆チャンバの両方の側壁１７上にスクリーン３０００を設置することによって、ガラス基板１００と側壁１７との間の側部間隙５００を通ってガラス基板１００の背面１１０に向かうＡｇ粒子の移動が減少する又は実質的に阻害される。
【００４５】
更に、図１１を参照して説明した上記の実施形態（即ち、側部間隙３０１０を示す実施形態）において、枝部、特には突出枝部の寸法は、被覆対象であるガラス基板の幅に合わせて調節されることを当業者なら理解できる。特に、当業者なら、特定の寸法のガラス基板に合わせて被覆チャンバ１０を設計して、図１０及び１１に図示の背面被覆防止装置のスクリーンの寸法、特には長さをガラス基板の寸法に合わせて特別に調節できることが理解できる。このため、被覆チャンバを合わせて設計するところのガラス基板の寸法を知ることによって、当業者なら、図１０及び１１の実施形態のスクリーンの正確な寸法を求めることができ、作業中、被覆チャンバ内において、スクリーンとガラス基板との間に特定の間隙が形成される。
【００４６】
上述したように、また本願に記載の背面被覆防止装置の実施形態の更に別の例を示す図１２〜１７に図示されるように、各ガラス基板１００は、被覆対象であり且つ搬送システム３０上での搬送中にスパッタリング陰極２６に面する基板正面１０５（本願において、正面１０５とも称される）を有する。このため、各ガラス基板１００の正面１０５によって基板表側面１２００が画成される。基板表側面１２００は、図１２において点線としてあらわされる。更に、各ガラス基板１００は、正面１０５とは反対であり且つ搬送システム３０上での搬送中に搬送システム３０に面する背面１１０を有する。加えて、各ガラス基板は２つの側方端部１１２を有し、各々が側面１１４を備える。図１２はガラス基板１００の２つの側方端部１１２の一方しか図示していないことに留意すること。当業者なら、図１２に図示の配置を、ガラス基板１００の反対側の側面にも、鏡対称にあてはめることが理解できる。
【００４７】
本願で開示の例及び実施形態の各々において、スパッタリング陰極２６ひいてはそのターゲットは、均一な厚さの（例えば、実質的に一定の厚さの）被膜を基板１００の正面１０５上にその全体にわたって（即ち、側方端部１１２の上にさえ）塗布するために、ガラス基板の側方端部１１２上にまで延び得る。ガラス基板１００の搬送中、２つの間隙５００が、搬送システム３０上に配置された矩形のプレート状ガラス基板１００の側面１１４と区画の側壁１７との間に形成される。これらの間隙５００は、被覆チャンバ１０の側壁１７に沿って実質的に搬送方法に対して平行に延びる。飛び出した多数のターゲット材料原子が、側部間隙５００を通過して、典型的には散乱に因り、望ましくないことにガラス基板の背面１１０上に堆積される場合がある。
【００４８】
以上を鑑みると、本願に記載の実施形態による背面被覆防止装置は、任意で、被覆チャンバ１０の壁のうちの少なくとも２つに設置される２つ以上のスクリーンを備えていてもよく、各スクリーンは各々の壁から突出する突出部材を有し、任意で、基板表側面より上に設置される。図１２に図示されるように、このような背面被覆防止装置の一例には、２つの側方スクリーン６００が含まれ、被覆チャンバ１０の各側壁１７には、基板表側面１２００より上にスクリーン６００の１つが設置される。
【００４９】
図１２は、本願に開示の実施形態による背面被覆防止装置のスクリーン６００の一例の拡大断面図である。図１２に図示されるようなスクリーン６００とガラス基板１００の比率が正確な縮尺ではないことに留意すること。各側方スクリーン６００は典型的にはステンレススチールから形成され、典型的にはＬ字型の断面を有する。即ち、スクリーン６００は、実質的に互いに直角に配置された２つの枝部６０２、６０４を備える。枝部６０２は被覆チャンバ１０の側壁１７の内面に取り付けられる。枝部６０４は枝部６０２の底端部に取り付けられ、また被覆チャンバの中心に向かって基板表側面１２００に対して実質的に平行に、即ち側壁１７に対して実質的に直角に突出する。従って、枝部６０４は突出部材を構成し、また側壁１７に沿って搬送経路６０に対して実質的に平行に延びる。被覆チャンバ１０における側壁１７での枝部６０２の設置高さは、枝部６０４が、基板表側面１２００より約１．５〜約１０ｍｍ、典型的には約１．５〜約５ｍｍ、最も典型的には約２ｍｍ上に位置決めされるようなものである。側方スクリーン６００の両枝部６０２、６０４は更に、基板表側面１２００に対して実質的に平行に、側壁１７に沿って、被覆チャンバ１０全体、典型的には少なくとも被覆チャンバ１０のスパッタリング領域全体にわたって延びる。これは、被覆材料供給源を構成しているスパッタリング陰極２６が、被覆チャンバ１０の少なくとも被覆領域７０へと被覆材料を供給するように構成されており、また各スクリーン６００が、少なくとも被覆領域７０に設置されることを意味する。
【００５０】
典型的には、本願で開示の実施形態の例のスクリーンの材料は真空適合性であり、また本願に記載の実施形態のいずれにおいてもアルミニウム、アルミニウム合金又はステンレススチールから成る群から選択される少なくとも１つの元素であってもよい。しかしながら、真空適合性のその他の材料も考えられる。本願に記載のどの実施形態のスクリーン又は突出部材の厚さ（例えば、本実施形態の枝部６０２、６０４いずれかの厚さ）も、例えば数ｍｍ、典型的には約１ｍｍ〜約１０ｍｍ、より典型的には約２ｍｍ〜約５ｍｍである。更に、本願に記載の実施形態において、突出部材の典型的な寸法、例えば本実施形態における搬送方向に対して実質的に平行な枝部６０４の寸法は約２０ｃｍ〜約１００ｃｍである。更に、本願に記載のどの実施形態の突出部材の典型的な寸法、例えば搬送方向に実質的に直角の本実施形態の枝部６０４の寸法も、約１０ｃｍ〜約５０ｃｍである。これは、本願に記載の実施形態において、スクリーンの突出部材の寸法がＬｘＷ（長さｘ幅）＝（１０〜５０ｃｍ）ｘ（２０〜１００ｃｍ）であることを意味し、特定の実施形態において、幅Ｗは、搬送方向に対して実質的に平行に延びる。
【００５１】
典型的な実施形態において、突出枝部６０４は、被覆中、１枚以上のプレート状基板１００から約１．５ｍｍ〜約１０ｍｍ離間されるように位置決めされる。更に、枝部６０４は、スパッタリング陰極２６と基板表側面１２００との間に位置決めされるように側壁１７から突出している。より具体的には、上述したように、基板支持面上で支持された各ガラス基板１００は、正面１０５と、各々が側面１１４を備える側方端部１１２を有する。図１２に図示されるように、間隙２１００が、ガラス基板１００の正面１０５と枝部６０４の下面との間に形成され、枝部６０４は、ガラス基板１００の正面１０５から約１．５〜約１０ｍｍ、典型的には約１．５〜約５ｍｍ、最も典型的には約２ｍｍ離間され、上で説明したように枝部６０２の設置高さに左右される。従って、間隙２１００は、約１．５ｍｍ〜約１０ｍｍ、典型的には約１．５ｍｍ〜約５ｍｍ、最も典型的には約２ｍｍの幅を有する。この狭い幅の結果、ガラス基板１００と側壁１７との間の間隙５００に向かってスパッタされたＡｇ粒子の殆どが、ガラス基板の背面１１０に達することを阻まれるが、これは粒子が枝部６０４の上面に堆積されるからである。突出枝部６０４とガラス基板１００との間の間隙２１００によって、搬送中のガラス基板１００が振動又はたわむ余裕もでき、ガラス基板１００と背面被覆防止装置の突出枝部６０４との接触又は衝突が防止される。
【００５２】
本願に記載の実施形態の一変形において、突出部材（例えば、枝部６０４として形成される）は被覆チャンバ内に突出している側方端部を有し、この側方端部は、基板支持体上の１枚以上のプレート状基板１００の少なくとも１枚の側面１１４の１つから離間され且つ実質的に整列するように位置決めされる。図１２に図示のスクリーン６００において、枝部６０４は、前方面６０６として形成された側方端部を有する。枝部６０４の側方端部は基板表側面１２００より上に位置決めされ且つガラス基板１００の側面１１４から間隙２１００によって約２ｍｍ、離間されている。同時に、スクリーン６００の前方面６０６は、搬送システム３０上に支持されたガラス基板１００の側面１１４と実質的に整列させられる。従って、ガラス基板１００と背面被覆防止装置の突出枝部６０４との接触又は衝突が回避される。更に、ガラス基板１００と側壁１７との間の間隙５００に向かってスパッタされたＡｇ粒子は直線の軌道に沿って移動し、別の粒子又は側壁１７との衝突によって逸れる又は散乱する場合もある。突出枝部６０４の前方面６０６とガラス基板１００の側面１１４とを整列させるため、ガラス基板１００と側壁１７との間の間隙５００に向かって横方向にスパッタされたＡｇ粒子の殆どが、枝部６０４の上面及び前方面６０６上で吸着される又は堆積される。
【００５３】
被覆作業中、典型的には実質的に同寸法のガラス基板１００が、基板搬入口を通って被覆チャンバ１０内に連続的に搬入され、搬送システム３０によって、基板支持面上の搬送経路６０に沿って稼働中のスパッタリング陰極２６下を連続的に運搬され、基板搬出口を通って搬出される。この結果、プレート状ガラス基板は典型的には同じ厚さを有していることから、ガラス基板の正面は、共通する基板表側面を画成する。或いは、本願に記載の実施形態においては、被覆中に、背面被覆防止装置の突出部材が１枚以上のプレート状基板から少なくとも１．５ｍｍ離間されて位置決めされるような様々な寸法又は厚さのガラス基板が連続的に被覆チャンバ１０内に搬入される。これは、本実施形態において、枝部６０４が、様々な寸法を有するガラス基板１００の正面１０５ひいてはガラス基板によって画成される基板表側面１２００から約１．５〜約１０ｍｍ、典型的には約１．５〜約５ｍｍ、最も典型的には約２ｍｍ離間されることを意味する。Ａｇ被覆材料の粒子は、スパッタリング陰極２６からガラス基板１００に向かって、また矩形のプレート状ガラス基板１００と被覆チャンバ１０の側壁１７との間に形成された間隙５００に向かっても横方向に飛び出す。これらの間隙５００に向かって横方向に飛び出した被覆粒子は、主にスクリーン６００の突出枝部６０４の上面に堆積される。これによって、ガラス基板１００と側壁１７との間の間隙５００を通ってガラス基板１００の背面１１０に向かうＡｇ粒子の移動が減少する又は実質的に阻害される。更に、基板１００の側面１１４の被覆が軽減される又は回避される。更に、ガラス基板１００の正面上の被膜は、太陽電池用のガラス基板を処理する際に特に所望されるように、その側方端部１１２でさえも均一となる。
【００５４】
ここで実施形態の更に別の変形について図１３を参照しながら説明する。図１２と同様に、このような背面被覆防止装置の一方のスクリーン７００だけの断面を図示している。しかしながら、典型的には２つの側方スクリーン７００が背面被覆防止装置に含まれる。各側方スクリーン７００は２つの枝部７０２、７０４を含み、これらは図１２に図示の実施形態について説明したように配置される。ただし、この実施形態において、背面被覆防止装置は、基板支持体上の１枚以上のプレート状基板１００の少なくとも１枚の正面１０５の側方部位上に張り出すように位置決めされる側方端部を有する突出部材を含む。枝部７０４は、枝部７０４の前方面７０６がガラス基板１００の上に位置決めされる点で図１２に図示された枝部６０４とは異なる。これは枝部７０４が、搬送中、ガラス基板１００の正面１０５の側方部位１１２上に張り出す、即ち搬送経路６０の正面上に部分的に張り出すことを意味する。これによって、たとえスパッタリング陰極２６から横方向に飛び出したある量のＡｇ粒子が、側壁１７又は突出枝部７０４とガラス基板１００の正面１０５との間の間隙２１００に向かう別の粒子のせいで逸れたり散乱したりしても、ガラス基板１００の背面への被覆が防止される。
【００５５】
図１２及び１３に各々図示の例において、スパッタ中、側壁１７に向かって横方向に飛び出すスパッタされたＡｇ材料のある量の粒子は、枝部６０２、７０２の表面上に各々堆積される。この結果、スクリーン６００、７００の背面被覆防止効果に加えて、これらの実施形態では、Ａｇ粒子による被覆チャンバ１０の側壁１７の汚染が軽減される又は阻害される。更に、被覆チャンバ１０のメンテナンスには側方スクリーン６００、７００の交換が含まれ得るが、側壁洗浄作業を必要としない。特に、枝部６０２、７０２は、チャンバの側壁１７から天壁１４にかけてカバーし得る。
【００５６】
本願に記載の実施形態の更なる変形においては、スクリーンの突出部材の前述の側方端部を、基板支持体上のプレート状基板１００の正面から先細りするように形成することができる。図１４、１５の各々において、このような背面被覆防止装置の例が図示されており、これらの例は、突出枝部の突出する側方端部のデザイン以外、図１２に図示の実施形態に対応している。例えば、図１４のＬ字型スクリーン８００は、側壁１７に取り付けられた枝部８０２と、基板表側面１２００より上で突出した枝部８０４とを含む。枝部８０４の側方端部８０６は楔形の傾斜面を有しているため、その突出した先端は、被覆チャンバ１０の天壁１４の方向を向く。図１５に図示のスクリーン８５０は、２つの枝部８５２、８５４を有する。枝部８５２は側壁１７に取り付けられ、枝部８５４は、基板表側面１２００に対して実質的に平行に突出している。加えて、枝部８５４の側方端部８５６は先細りした形状を有しているため、その突出した中央先端部は、被覆チャンバ１０の対向する側壁１７方向を向いている。図１４及び１５の例において、スクリーン６００、６５０の突出する側方端部８０６、８５６はガラス基板１００の正面から先細るように形成されているため、搬送中のガラス基板１００のクリアランスが改善される。従って、搬送中のガラス基板１００の振動又はたわみに因るガラス基板１００とスクリーン８００、８５０との接触又は衝突をより安全に回避することができ、同時にガラス基板の背面への被覆が軽減される又は防止される。同時に、十分な幅の間隙２１００が突出枝部８０４、８５４の先細り部位に形成され、これらの枝部８０４、８５４の底面は、基板表側面１２００から、この十分な最低間隙幅より狭い幅でもって離間されている。このため、ガラス基板の背面への被覆材料の不要な堆積を更に軽減することができるが、これはこの極めて狭い間隙幅のせいである。
【００５７】
本願で開示の実施形態において、背面被覆防止装置は、実質的に基板と整列する突出部材を各々備えるスクリーンを有していてもよい。更に、本願に記載の実施形態において、背面被覆防止装置は、実質的に基板表側面１２００と整列する突出部材を各々備えるスクリーンを有していてもよい。これらの実施形態の例を図１６に図示する。
【００５８】
図１６において、スクリーン１０００は、被覆チャンバ１０の側壁１７に取り付けられた枝部１００２と、突出部材として形成された枝部１００４とを備える。枝部１００４は枝部１００２の底端部に取り付けられ、また被覆チャンバ１０内に突出している。枝部１００４は、ガラス基板１００の側面１１４に面した側方端部１００６を有する。枝部１００４の設置高さを、図１６に図示されるように、枝部１００４の上面が基板表側面１２００と実質的に整列するように調節することができる。更にこの例においてスクリーン１０００はＬ字型であり、即ち枝部１００２、１００４は実質的に互いに直角に配置される。枝部１００４の長さは、その側方端部１００６が、ガラス基板１００の側面１１４から約１．５〜約１０ｍｍ、典型的には約１．５〜約５ｍｍ、最も典型的には約２ｍｍ、横方向に離間されるようなものである。この結果、約１．５〜約１０ｍｍ、典型的には約１．５〜約５ｍｍ、最も典型的には約２ｍｍの幅を有する狭い側部間隙１０１０しか、枝部１００４とガラス基板１００の側面１１４との間には形成されない。この間隙１０１０を通っては、スパッタリング陰極２６から飛び出すＡｇ粒子はごく少量しか通過できない。
【００５９】
従って、被覆処理中に図１６に図示の例による２つのスクリーン１０００を含む背面被覆防止装置を使用する場合、ガラス基板１００と側壁１７との間の間隙５００に向かって進む実質的に全てのＡｇ被覆粒子が、突出枝部１００４の上面に堆積される。このため、被覆チャンバの両方の側壁１７上にスクリーン１０００を設置することによって、ガラス基板１００と側壁１７との間の間隙５００を通ってガラス基板１００の背面１１０に向かうＡｇ粒子の移動が減少する又は実質的に阻害される。
【００６０】
従って、本願で開示の実施形態において、突出部材は、基板表側面と実質的に整列していてもよい。図１６の例に示されるように、枝部１００４の設置高さを、枝部１００４の上面が基板表側面１２００と実質的に整列するように調節して、突出部材の第１位置としてもよい。その他の例において、図１６に図示の枝部１００４の設置高さを、枝部１００４の下面が基板表側面１２００と実質的に整列するように調節して、突出部材の第２位置としてもよい。更に、突出部材を、突出部材と基板表側面とが実質的に整列するその他の位置に取り付けてもよい。例えば、図１６に図示の枝部１００４の設置高さは、突出部材が、突出部材の第１位置と第２位置との間に位置決めされるように調節される。典型的には、突出部材の側方端部は、基板表側面上に位置決めされる。例えば、図１６に図示の枝部１００４の側方端部１００６の上部は、基板表側面１２００上に位置決めされる。或いは、側方端部１００６のその他の部位が、基板表側面１２００上に位置決めされる。
【００６１】
更に、本願で開示の実施形態において、突出部材を、基板と整列するように位置決めしてもよい。このため、突出部材は、基板支持体上で支持された基板の側面とは反対側（例えば、面する）に位置決めされるいずれの位置にあってもよい。例えば、図１６に図示の例の変形において、枝部１００４は、その側方端部１００６が、少なくとも部分的に基板１００の側面１１４に面するいずれの位置もとり得る。
【００６２】
図１６に図示の例及び本願に記載の実施形態のその他の例の変形において、背面被覆防止装置のスクリーンは各々、側壁１７に対して９０度ではない傾斜でもって傾斜するように配置された突出部材を有していてもよい。更に、各スクリーンについて、側壁１７に取り付けられる枝部の側壁１７での設置高さ及び突出枝部の長さは、突出枝部の側方端部が、ガラス基板１００の側面１１４から少なくとも約１．５ｍｍ離間されて位置決めされるようなものである。図１６に図示の例のこのような変更も、図１６の例について上述したような背面防止効果をもたらす。
【００６３】
更に、本願に記載の実施形態において、背面被覆防止装置が、パネルと、各壁に設置されるホルダとを備える突出部材を各々備えるスクリーンを有していてもよい。このパネルはホルダに取り付けられる。パネルは、細長いパネルであってもよい。ホルダは細長いホルダであっても、複数のホルダ要素を含んでいてもよい。ホルダは、各壁と一体化された突出部であってもよい。或いは、ホルダは、各壁に設置される部材である。
【００６４】
従って、本願に記載の実施形態の一例の断面図を示す図１７に図示されるように、スクリーン４００は細長いパネル４００４であってもよく、その下面で側壁１７から突出している細長いホルダ４００８の取り付け具４０１０に取り付けられている。別の例（図示せず）において、パネル４００の下面はホルダ４００８に直接取り付けられ、パネル４００４の下面とホルダ４００８の上面との間には取り付け具も空間もない。パネル４００４は実質的に搬送経路６０ひいては基板表側面１２００に対して平行に延びる。図１７に図示されるように、ホルダ４００８が、側壁１７の細長い突出部の場合もある。従って、ホルダ４００８が図１７に図示されるように側壁１７に一体化した一部であってもよい。或いは、ホルダ４００８は、側壁１７に取り付けられる細長い部材である。図１７に図示の例において、ホルダ４００８及びパネル４００４は、側壁１７に沿って互いに平行に且つ搬送経路６０に対して平行に延びる。更に、本例において、パネル４００４の寸法は、パネル４００４の前方面４００６が、基板１００の側面１１４と実質的に整列するようなものである。典型的には、ホルダ４００８は、パネル４００４の下面が搬送中にガラス基板１００より上に位置決めされるような設置高さで側壁１７に設置されるため、間隙２１００がパネル４００４と基板１００との間に形成される。パネル４００４の底面と基板表側面１２００との間の間隙２１００の間隙幅は、約１．５ｍｍ〜５ｍｍ、より典型的には約２ｍｍである。図１７に図示されるような特定のデザインのスクリーン４０００において、ホルダ４００８は、ホルダ４００８の上面が基板の正面１０５と実質的に整列し且つパネル４００４と基板１００との間に間隙２１００が形成されるような設置高さで側壁１７に設置される。図１７に図示された例の上記の各デザインによって、ガラス基板１００の背面への被覆が信頼性高く軽減される又は防止されるが、これはスクリーン４０００とガラス基板１００の正面との間の間隙２１００の幅が約１．５〜５ｍｍ、典型的には約２ｍｍと狭いからである。
【００６５】
背面被覆防止装置の変形において、本願に記載の上記の実施形態及び例の各々において、突出部材の縁部を、搬送中に振動又はたわみがあった場合に鋭い縁部によってガラス基板１００が損傷するのを回避するために丸めてもよい。
【００６６】
更に、スクリーンを含む上記の実施形態及び例の各々において、実施形態及び例のいずれかにおいて上述されたような形状を有する１つ以上の追加のスクリーンも、基板表側面１２００の上及び／又は下で、即ち典型的には実質的に基板表側面１２００に対して平行なスクリーンの上及び／又は下で各側壁１７に設置することができる。これによって、ガラス基板１００の背面への被覆の防止効果が促進される。
【００６７】
加えて、上記の実施形態及び例の各々の更に別の変形において、基板１００は、被覆チャンバ内を水平方向ではなく上下方向に運搬される。このような場合、当業者なら理解できるように、スクリーンは被覆チャンバの別の位置に取り付けられ、例えば被覆チャンバの天壁及び底壁に取り付けられ、或いは側壁にとりつけられるように対応した構成の変形プロファイルを有する。
【００６８】
更に、上記の実施形態及び例の各々の別の変形において、被覆チャンバ１０は、円形の前方蓋部と後方蓋部によって閉鎖されるチューブ型の壁を有するチューブ型容器であってもよい。ガラス基板１００は、このチューブ型容器の縦軸に対して平行な方向に搬送される。更に、この変形の円形の前方蓋部及び後方蓋部は、上で定義されたような前方壁及び後方壁に対応する。上で定義されたような側壁は、搬送中にガラス基板１００の側方端部１１２に面するチューブ型の壁の領域に対応する。
【００６９】
ガラス基板１００（ベースライン基板と称される場合もある）の材料の典型的な例はソーダ石灰フロートガラスであり、標準的な量又はそれより少ない量の鉄を含有し得る。加えて、本願に記載の実施形態においては、予備被覆をしたガラス基板を使用する場合もある。例えば、ガラス基板１００を透明導電性酸化物で被覆する。更に、ガラス基板１００は、アモルファス及び／若しくは微結晶シリコンｐ−ｉ−ｎ構造又はアモルファス及び／若しくは微結晶シリコンｐ−ｉ−ｎ−ｐ−ｉ−ｎタンデムセル構造を有していてもよい。更に、太陽電池用の基板を被覆する場合、太陽電池層を積層した基板を本願に記載の実施形態において使用してもよい。更に、本願に記載の実施形態によるガラス基板１００として使用されるガラス基板の典型的な寸法は、約１ｘ１ｍ２〜約３ｘ６ｍ２、典型的には約２．２ｘ２．６ｍ２又は約１．１ｘ１．３ｍ２である。典型的には、本願に記載の実施形態によるガラス基板１００の厚さは、約２ｍｍ〜約５ｍｍである。
【００７０】
上記の説明では本発明を開示するために最良の形態も含め例を活用しているが、この説明は当業者による本発明の形成及び使用も可能にする。本発明を様々な具体的な実施形態の観点から説明してきたが、当業者なら、本発明を特許請求の範囲の精神及び範囲内で改変を加えて実施可能であることが理解できる。特に、上記の実施形態の相互に非排他的な構成を互いに組み合わせてもよい。本発明の特許性のある範囲は特許請求の範囲によって定義され、当業者が思いつく別の例も含まれ得る。このような別の例は、特許請求の範囲内にあると意図される。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【国際調査報告】
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