(57)【要約】  本発明は、一般式（Ｉ）または（ＩＩ）［式中、Ｗは、燐（Ｐ）またはホスフィット（Ｐ＝Ｏ）である］で示されるイミダゾール基含有燐化合物、該化合物を使用して製造される光学活性配位子、該配位子を含有する遷移金属錯体、および該遷移金属錯体を含む触媒に関する。本発明はさらに、該燐化合物、該光学活性配位子、該遷移金属錯体および該触媒の各製造方法、ならびに有機変換反応のための該触媒の使用に関する。
2011514887.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式ＩまたはＩＩ：
【化１】
2011514887.tif 000103
［式中、
Ｗは、燐（Ｐ）またはホスフィット（Ｐ＝Ｏ）であり；
Ｒ１およびＲ２は、異なる基であり、アルキルおよびアルキルから成る群から選択され（変形α）；
または、
Ｒ１およびＲ２は、異なる基であり、アルキルおよびアリールから成る群から選択され（変形β）；
または
Ｒ１およびＲ２は、Ｗと一緒になって、一般式１〜６から選択されるキラル７員環を形成し（変形γ）：
【化２】
2011514887.tif 000104
ここで、
Ｒ１０〜Ｒ１９は、各場合に、同じまたは異なる基であり、アルキル、アリール、アルコキシ、アリールオキシ、アシルオキシ、ヒドロキシル、トリアルキルシリル、スルホニル、ジアルキルアミノ、アシルアミノ、弗素、塩素、臭素および沃素から成る群から選択され；
または、
Ｒ１２およびＲ１３基に関して、隣接するＲ１２およびＲ１３基は、各場合に、５〜６員飽和環を形成し、該５〜６員環は、炭素原子の他に、窒素原子または酸素原子を、環骨格に有してよく；
または、
Ｒ１３基に関して、２個のＲ１３基は、７〜１２員環を形成し；
ｚは、各場合に、同じまたは異なる基を表わし、水素、アルキル、アセチル、トリフルオロアセチル、ベンゾイル、トシルおよびノシルから成る群から選択され；
または、
Ｒ１およびＲ２は、Ｗと一緒になって、一般式７〜９から選択されるキラル５員環を形成し（変形δ）：
【化３】
2011514887.tif 000105
ここで、
Ｒ２０は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、イソプロピルおよびフェニルから成る群から選択される基であり；
Ｒ２１およびＲ２２は、各場合に、同じまたは異なる基であり、水素、アルキル、アリールおよびアルコキシから成る群から選択され；
または、
Ｒ２１およびＲ２２は、４〜６員環を形成し、該環は、炭素原子の他に、２個までの酸素原子を環骨格に有してもよく；
ｚは、各場合に、同じまたは異なる基を表わし、水素、アルキル、アセチル、トリフルオロアセチル、ベンゾイル、トシルおよびノシルから成る群から選択され；
Ｒ３およびＲ４は、各場合に、同じまたは異なる基であり、水素、アルキルおよびアリールから成る群から選択され；
Ｒ５は、アルキルまたはアリールであり；
Ｒ６およびＲ７は、各場合に、同じまたは異なる基であり、水素、アルキル、アリールおよび６員脂肪族環または６員芳香族環から成る群から選択され；
Ｒ８およびＲ９は、それぞれ独立に、水素またはアルキルであり；
Ｘは、脱離基である］で示されるイミダゾール含有燐化合物。
【請求項２】
Ｗは、燐（Ｐ）であり；
変形αの場合に、
Ｒ１は、アダマンチル、ｔ−ブチル、ｓ−ブチルまたはイソプロピルであり、Ｒ２は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチルまたはヘキシルであり；
変形βの場合に、
Ｒ１は、フェニル、トリル、キシリル、メシチル、ナフチル、フルオレニル、アントラセニルであり、Ｒ２は、アダマンチル、ｔ−ブチル、ｓ−ブチル、イソプロピルまたはメチルであり；
変形γの場合に、
Ｒ１０〜Ｒ１９は、各場合に、同じまたは異なる基であり、アルキル、アルコキシ、ヒドロキシル、塩素、水素および臭素から成る群から選択され、
ｚは、それぞれ独立に、アルキル、アセチルまたはトシルであり；
変形δの場合に、
Ｒ２０は、メチル、エチルまたはイソプロピルであり、
Ｒ２１およびＲ２２は、それぞれ独立に、水素またはアルコキシであり、
ｚは、アルキル、アリールまたはトシルであり；
Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立に、水素、メチル、エチルまたはベンジルであり；
Ｒ５は、メチル、エチル、イソプロピル、ｔ−ブチル、アダマンチル、メシチル、フェニル、トリル、キシリル、ナフチル、フルオレニルまたはアントラセニルであり；
Ｒ６およびＲ７は、それぞれ独立に、水素、または６員芳香族環であり；
Ｒ８およびＲ９は、それぞれ独立に、水素、アルキルまたはアリールであり；
Ｘは、脱離基である、請求項１に記載のイミダゾール含有燐化合物。
【請求項３】
Ｗは、燐（Ｐ）であり；
変形αの場合に、
Ｒ１はｔ−ブチルであり、Ｒ２はメチルまたはエチルであり；
変形βの場合に、
Ｒ１はフェニルであり、Ｒ２はｔ−ブチルまたはメチルであり；
Ｒ３およびＲ４は、水素であり；
Ｒ５は、メチル、イソプロピル、ｔ−ブチル、アダマンチルまたはメシチルであり；
Ｒ６およびＲ７は、それぞれ独立に、水素、または６員芳香族環であり；
Ｒ８およびＲ９は、それぞれ独立に、水素、フェニル、または（ＣＨ2）4鎖であり；
Ｘは、脱離基である、請求項１に記載のイミダゾール含有燐化合物。
【請求項４】
一般式ＩまたはＩＩのイミダゾール含有燐化合物の製造法において、一般式Ａ：
【化４】
2011514887.tif 000106
の化合物を、一般式ＢまたはＣ：
【化５】
2011514887.tif 000107
の化合物と、適切であれば１つまたはそれより多い溶媒を使用して、２０〜２００℃の温度で数日間反応させることを特徴とする、前記方法。
【請求項５】
一般式ＩＩＩ：
【化６】
2011514887.tif 000108
［式中、
Ｗは、燐（Ｐ）またはホスフィット（Ｐ＝Ｏ）であり；
Ｒ１およびＲ２は、異なる基であり、アルキルおよびアルキルから成る群から選択され（変形α）；
または、
Ｒ１およびＲ２は、異なる基であり、アルキルおよびアリールから成る群から選択され（変形β）；
または
Ｒ１およびＲ２は、Ｗと一緒になって、一般式１〜６から選択されるキラル７員環を形成し（変形γ）：
【化７】
2011514887.tif 000109
ここで、
Ｒ１０〜Ｒ１９は、各場合に、同じまたは異なる基であり、アルキル、アリール、アルコキシ、アリールオキシ、アシルオキシ、ヒドロキシル、トリアルキルシリル、スルホニル、ジアルキルアミノ、アシルアミノ、弗素、塩素、臭素および沃素から成る群から選択され；
または、
Ｒ１２およびＲ１３基に関して、隣接するＲ１２およびＲ１３基は、各場合に、５〜６員飽和環を形成し、該５〜６員環は、炭素原子の他に、窒素原子または酸素原子を、環骨格に有してよく；
または、
Ｒ１３基に関して、２個のＲ１３基は、７〜１２員環を形成し；
ｚは、各場合に、同じまたは異なる基を表わし、水素、アルキル、アセチル、トリフルオロアセチル、ベンゾイル、トシルおよびノシルから成る群から選択され；
または、
Ｒ１およびＲ２は、Ｗと一緒になって、一般式７〜９から選択されるキラル５員環を形成し（変形δ）：
【化８】
2011514887.tif 000110
ここで、
Ｒ２０は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、イソプロピルおよびフェニルから成る群から選択される基であり；
Ｒ２１およびＲ２２は、各場合に、同じまたは異なる基であり、水素、アルキル、アリールおよびアルコキシから成る群から選択され；
または、
Ｒ２１およびＲ２２は、４〜６員環を形成し、該環は、炭素原子の他に、２個までの酸素原子を環骨格に有してもよく；
ｚは、各場合に、同じまたは異なる基を表わし、水素、アルキル、アセチル、トリフルオロアセチル、ベンゾイル、トシルおよびノシルから成る群から選択され；
Ｒ３およびＲ４は、各場合に、同じまたは異なる基であり、水素、アルキルおよびアリールから成る群から選択され；
Ｒ５は、アルキルまたはアリールであり；
Ｒ６およびＲ７は、各場合に、同じまたは異なる基であり、水素、アルキル、アリールおよび６員脂肪族環または６員芳香族環から成る群から選択される］の光学活性配位子。
【請求項６】
Ｗは、燐（Ｐ）であり；
変形αの場合に、
Ｒ１は、アダマンチル、ｔ−ブチル、ｓ−ブチルまたはイソプロピルであり、Ｒ２は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチルまたはヘキシルであり；
変形βの場合に、
Ｒ１は、フェニル、トリル、キシリル、メシチル、ナフチル、フルオレニル、アントラセニルであり、Ｒ２は、アダマンチル、ｔ−ブチル、ｓ−ブチル、イソプロピルまたはメチルであり；
変形γの場合に、
Ｒ１０〜Ｒ１９は、各場合に、同じまたは異なる基であり、アルキル、アルコキシ、ヒドロキシル、塩素、水素および臭素から成る群から選択され、
ｚは、それぞれ独立に、アルキル、アセチルまたはトシルであり；
変形δの場合に、
Ｒ２０は、メチル、エチル、イソプロピルまたはフェニルであり、
Ｒ２１およびＲ２２は、それぞれ独立に、水素またはアルコキシであり、
ｚは、アルキル、アリールまたはトシルであり；
Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立に、水素、メチル、エチルまたはベンジルであり；
Ｒ５は、メチル、エチル、イソプロピル、ｔ−ブチル、アダマンチル、メシチル、フェニル、トリル、キシリル、ナフチル、フルオレニルまたはアントラセニルであり；
Ｒ６およびＲ７は、それぞれ独立に、水素、または６員芳香族環である、請求項５に記載の光学活性配位子。
【請求項７】
Ｗは、燐（Ｐ）であり；
変形αの場合に、
Ｒ１はｔ−ブチルであり、Ｒ２はメチルまたはエチルであり；
変形βの場合に、
Ｒ１はフェニルであり、Ｒ２はｔ−ブチルまたはメチルであり；
Ｒ３およびＲ４は、水素であり；
Ｒ５は、メチル、イソプロピル、ｔ−ブチル、アダマンチルまたはメシチルであり；
Ｒ６およびＲ７は、それぞれ独立に、水素または６員芳香族環である、請求項５に記載の光学活性配位子。
【請求項８】
３−メシチル−１−（ｔ−ブチル（フェニル）ホスフィノメチル）−イミダゾル−２−イリデン。
【請求項９】
３−ｔ−ブチル−１−（ｔ−ブチル（メチル）ホスフィノメチル）−イミダゾル−２−イリデン。
【請求項１０】
３−ｔ−ブチル−１−［（２−ｃ，５−ｔ−ジフェニルホスホラン−１−イル）メチル］−イミダゾル−２−イリデン。
【請求項１１】
３−メシチル−１−（４−メチルジナフト［２，１−ｄ：１’，２’−ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン）−イミダゾル−２−イリデン。
【請求項１２】
一般式ＩＩＩで示される化合物の製造法において、少なくとも１つの強塩基、およびエーテル性または他の非プロトン溶媒を各場合に使用して、−８０℃〜＋２０℃の温度で、一般式Ｉの化合物を一般式ＩＩＩの化合物に変換する工程（工程（ｉｉ））、Ｗがホスフィット（Ｐ＝Ｏ）の場合、工程（ｉｉ）の前に、各場合に少なくとも１つの還元剤、ルイス酸および溶媒の存在下に、一般式Ｉの化合物を＋２０℃〜＋１００℃の温度で１〜２００時間還元する工程（工程（ｉ））を含むことを特徴とする、前記方法。
【請求項１３】
遷移金属錯体であって、一般式ＩＩＩまたはＩＶ：
【化９】
2011514887.tif 000111
［式中、
Ｗは、燐（Ｐ）またはホスフィット（Ｐ＝Ｏ）であり；
Ｒ１およびＲ２は、異なる基であり、アルキルおよびアルキルから成る群から選択され（変形α）；
または、
Ｒ１およびＲ２は、異なる基であり、アルキルおよびアリールから成る群から選択され（変形β）；
または
Ｒ１およびＲ２は、Ｗと一緒になって、一般式１〜６から選択されるキラル７員環を形成し（変形γ）：
【化１０】
2011514887.tif 000112
ここで、
Ｒ１０〜Ｒ１９は、各場合に、同じまたは異なる基であり、アルキル、アリール、アルコキシ、アリールオキシ、アシルオキシ、ヒドロキシル、トリアルキルシリル、スルホニル、ジアルキルアミノ、アシルアミノ、弗素、塩素、臭素および沃素から成る群から選択され；
または、
Ｒ１２およびＲ１３基に関して、隣接するＲ１２およびＲ１３基は、各場合に、５〜６員飽和環を形成し、該５〜６員環は、炭素原子の他に、窒素原子または酸素原子を、環骨格に有してよく；
または、
Ｒ１３基に関して、２個のＲ１３基は、７〜１２員環を形成し；
ｚは、各場合に、同じまたは異なる基を表わし、水素、アルキル、アセチル、トリフルオロアセチル、ベンゾイル、トシルおよびノシルから成る群から選択され；
または、
Ｒ１およびＲ２は、Ｗと一緒になって、一般式７〜９から選択されるキラル５員環を形成し（変形δ）：
【化１１】
2011514887.tif 000113
ここで、
Ｒ２０は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、イソプロピルおよびフェニルから成る群から選択される基であり；
Ｒ２１およびＲ２２は、各場合に、同じまたは異なる基であり、水素、アルキル、アリールおよびアルコキシから成る群から選択され；
または、
Ｒ２１およびＲ２２は、４〜６員環を形成し、該環は、炭素原子の他に、２個までの酸素原子を環骨格に有してもよく；
ｚは、各場合に、同じまたは異なる基を表わし、水素、アルキル、アセチル、トリフルオロアセチル、ベンゾイル、トシルおよびノシルから成る群から選択され；
Ｒ３およびＲ４は、各場合に、同じまたは異なる基であり、水素、アルキルおよびアリールから成る群から選択され；
Ｒ５は、アルキルまたはアリールであり；
Ｒ６およびＲ７は、各場合に、同じまたは異なる基であり、水素、アルキル、アリールおよび６員脂肪族環または６員芳香族環から成る群から選択され；
Ｒ８およびＲ９は、それぞれ独立に、水素またはアルキルである］で示される少なくとも１つの化合物を配位子として含む遷移金属錯体。
【請求項１４】
Ｗは、燐（Ｐ）であり；
変形αの場合に、
Ｒ１は、アダマンチル、ｔ−ブチル、ｓ−ブチルまたはイソプロピルであり、Ｒ２は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチルまたはヘキシルであり；
変形βの場合に、
Ｒ１は、フェニル、トリル、キシリル、メシチル、ナフチル、フルオレニル、アントラセニルであり、Ｒ２は、アダマンチル、ｔ−ブチル、ｓ−ブチル、イソプロピルまたはメチルであり；
変形γの場合に、
Ｒ１０〜Ｒ１９は、各場合に、同じまたは異なる基であり、アルキル、アルコキシ、ヒドロキシル、塩素、水素および臭素から成る群から選択され、
ｚは、それぞれ独立に、アルキル、アセチルまたはトシルであり；
変形δの場合に、
Ｒ２０は、メチル、エチルまたはイソプロピルであり、
Ｒ２１およびＲ２２は、それぞれ独立に、水素またはアルコキシであり、
ｚは、アルキル、アリールまたはトシルであり；
Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立に、水素、メチル、エチルまたはベンジルであり；
Ｒ５は、メチル、エチル、イソプロピル、ｔ−ブチル、アダマンチル、メシチル、フェニル、トリル、キシリル、ナフチル、フルオレニルまたはアントラセニルであり；
Ｒ６およびＲ７は、それぞれ独立に、水素、または６員芳香族環であり；
Ｒ８およびＲ９は、それぞれ独立に、水素、アルキルまたはアリールである、請求項１３に記載の遷移金属錯体。
【請求項１５】
Ｗは、燐（Ｐ）であり；
変形αの場合に、
Ｒ１はｔ−ブチルであり、Ｒ２はメチルまたはエチルであり；
変形βの場合に、
Ｒ１はフェニルであり、Ｒ２はｔ−ブチルまたはメチルであり；
Ｒ３およびＲ４は、水素であり；
Ｒ５は、メチル、イソプロピル、ｔ−ブチル、アダマンチルまたはメシチルであり；
Ｒ６およびＲ７は、それぞれ独立に、水素、または６員芳香族環であり；
Ｒ８およびＲ９は、それぞれ独立に、水素、フェニル、または（ＣＨ2）4鎖である、請求項１３に記載の遷移金属錯体。
【請求項１６】
３−メシチル−１−（（Ｒ）−ｔ−ブチル（フェニル）ホスフィノメチル）−イミダゾル−２−イリデン；３−ｔ−ブチル−１−（（Ｒ）−ｔ−ブチル（メチル）ホスフィノメチル）−イミダゾル−２−イリデン；３−ｔ−ブチル−１−［（２−ｃ，５−ｔ−ジフェニルホスホラン−１−イル）メチル］−イミダゾル−２−イリデン；および、３−メシチル−１−（４−メチル−（Ｒax）−ジナフト［２，１−ｄ：１’，２’−ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン）−イミダゾル−２−イリデンから成る群から選択される少なくとも１つの化合物を配位子として含む、請求項１３から１５までのいずれか１項に記載の遷移金属錯体。
【請求項１７】
遷移金属として、Ｒｕ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ａｇ、ＣｕまたはＡｕを使用する、請求項１３から１６までのいずれか１項に記載の遷移金属錯体。
【請求項１８】
遷移金属錯体の製造法において、
（ａ）  少なくとも１つの溶媒を使用して、一般式ＩＩＩの光学活性配位子を、金属錯体と、−８０℃〜＋１２０℃の温度で５分〜７２時間反応させる工程；
または
（ｂ）  少なくとも１つの強塩基、およびエーテル性または他の非プロトン溶媒を各場合に使用して、式ＩまたはＩＩのイミダゾール含有燐化合物を、金属錯体と、−８０℃〜＋１２０℃の温度で５分〜７２時間反応させる工程；を含み、
Ｗがホスフィットである場合、（ａ）および（ｂ）の両方の場合において、少なくとも１つの還元剤、およびルイス酸を各場合に使用して、一般式ＩまたはＩＩＩの化合物を別個の先行段階で還元することを特徴とする、前記方法。
【請求項１９】
請求項１３から１７までのいずれか１項に記載の一般式ＩＩＩまたはＩＶの少なくとも１つの化合物を配位子として有する、少なくとも１つの遷移金属錯体を含む触媒。
【請求項２０】
（変形１）  少なくも１つの強塩基、およびエーテル性または他の非プロトン溶媒を各場合に使用して、式ＩまたはＩＩのイミダゾール含有燐化合物を、金属錯体と、−８０℃〜＋１２０℃の温度で５分〜７２時間反応させ、
Ｗがホスフィットである場合、少なくとも１つの還元剤、およびルイス酸を各場合に使用して、一般式Ｉの化合物を別個の先行段階において還元する；
または、
（変形２）  少なくとも１つの溶媒を使用して、一般式ＩＩＩの光学活性配位子を、金属錯体と、−８０℃〜＋１２０℃の温度で５分〜７２時間反応させ、
Ｗがホスフィットである場合、少なくとも１つの還元剤、およびルイス酸を各場合に使用して、一般式ＩＩＩの化合物を別個の先行段階において還元する；
または、
（変形３）  式ＶまたはＶＩの遷移金属錯体を、少なくとも１つの溶媒に溶解させる；
のいずれかによって製造可能な、請求項１９に記載の触媒。
【請求項２１】
有機変換反応のための、請求項１９または２０に記載の触媒の使用。
【請求項２２】
水素化、ヒドロ硼素化、ヒドロアミノ化、ヒドロアミド化、ヒドロアルコキシル化、ヒドロビニル化、ヒドロホルミル化、ヒドロカルボキシル化、ヒドロシアン化、ヒドロシリル化、カルボニル化、クロスカップリング、アリル置換、アルドール反応、オレフィンメタセシス、Ｃ−Ｈ活性化または重合のための、請求項２１に記載の触媒の使用。
【請求項２３】
不飽和有機化合物の不斉水素化のための、請求項１３に記載の遷移金属錯体を含む触媒の使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、イミダゾール基含有燐化合物、それらを使用して製造される光学活性配位子、そのような配位子を含む遷移金属錯体、およびそのような遷移金属錯体を含む触媒に関する。本発明は、さらに、該燐化合物、該光学活性配位子、該遷移金属錯体および該触媒の特定の製造法、ならびに有機変換反応のための該触媒の使用に関する。
【０００２】
有機変換反応、例えば不斉水素化、ヒドロホルミル化または重合は、工業規模化学工業において重要な反応である。これらの有機変換反応は、主に均一相内で触媒される。
【０００３】
高い活性およびエナンチオ選択性を有する触媒を得るために、複雑な、多段階の、従って高コストの合成を行なう必要がある場合が多い。一般に、金属錯体の反応性を調整することができる配位子の合成は、最も困難な工程である。従って、容易に入手可能な出発物質に基づき、かつ／または簡単な合成法によって製造される配位子を探すことは、化学触媒反応のコスト削減における永続的課題である。
【０００４】
例えば、不斉水素化における立体選択性、または重合における立体規則性を調節可能にするため、キラル配位子が必要とされる。キラル配位子の１つの出発骨格はＮＨＣＰ配位子であってよく、それは、立体保護燐原子および強いσ−供与体としてのカルベンによる電位を有する。
【０００５】
この開始基本原理にも関わらず、先行技術は、これまで、非キラルおよび数個のキラルＮＨＣＰ配位子を開示しているにすぎない。Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ  ２００７，第２６巻，ｐ．２５３〜２６３；Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ−Ａ  Ｅｕｒｏｐｅａｎ  Ｊｏｕｒｎａｌ  ２００７，第１３巻，ｐ．３６５２〜３６５９；Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ２００５，第６９０巻，ｐ．５９４８〜５９５８；および、Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ  ２００３，第２２巻，ｐ．４７５０〜４７５８において、下記の種類の非キラルＮＨＣＰ配位子が記載されている：
【化１】
2011514887.tif 000003
［式中、
Ｐｈは、フェニルを表わし；
Ａｒは、２，６−ジイソプロピルフェニルまたは２，４，６−トリメチルフェニルを表わす］。
触媒変換におけるこれらの系の適用は、Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｌｅｔｔｅｒｓ  ２００１，第３巻，ｐ．１５１１〜１５１４；Ａｄｖａｎｃｅｄ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ  ＆  Ｃａｔａｌｙｓｉｓ  ２００４，第３４６巻，ｐ．５９５〜５９８；Ｉｎｏｒｇａｎｉｃａ  Ｃｈｉｍｉｃａ  Ａｃｔａ  ２００４，第３５７巻，ｐ．４３１３〜４３２１；Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ２００６，第６９１巻，ｐ．４３３〜４４３；および、Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ  ２００５，第２４巻，ｐ．４２４１〜４２５０の文献に記載されている。
【０００６】
現在までに数個のキラルＮＨＣＰ配位子が記載されているにすぎない；例えば、先行技術［（ａ）Ｓ．Ｎａｎｃｈｅｎ，Ａ．Ｐｆａｌｔｚ，Ｈｅｌｖｅｔｉｃａ  Ｃｈｉｍｉｃａ  Ａｃｔａ  ８９（２００６）１５５９−１５７３；（ｂ）Ｅ．Ｂａｐｐｅｒｔ，Ｇ．Ｈｅｌｍｃｈｅｎ，Ｓｙｎｌｅｔｔ  １０（２００４）１７８９−１７９３；（ｃ）Ｈ．Ｌａｎｇ，Ｊ．Ｖｉｔｔａｌ，Ｐ−Ｈ．Ｌｅｕｎｇ，Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  ｔｈｅ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｓｏｃｉｅｔｙ，  Ｄａｌｔｏｎ  Ｔｒａｎｓａｃｔｉｏｎｓ（１９９８）２１０９−２１１０］は、燐原子とイミダゾール基成分の窒素原子との間のエタノ架橋（Ｅｔｈａｎｏ−Ｂｒｕｅｃｋｅ）を特徴とする配位子を開示している。他のＮＨＣＰ配位子が、（ａ）Ｈ．Ｓｅｏ，Ｈ．Ｐａｒｋ，Ｂ．Ｙ．Ｋｉｍ，Ｊ．Ｈ．Ｌｅｅ，Ｓ．Ｕ．Ｓｏｎ，Ｙ．Ｋ．Ｃｈｕｎｇ，Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ（２２）２００３，６１８−６２０：（ｂ）Ｔ．Ｆｏｃｋｅｎ，Ｇ．Ｒａａｂｅ，Ｃ．Ｂｏｌｍ，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ：Ａｓｙｍｍｅｔｒｙ  １５（２００４）１６９３−１７０６；（ｃ）Ｔ．Ｆｏｃｋｅｎ，Ｊ．Ｒｕｄｏｌｐｈ，Ｃ．Ｂｏｌｍ，Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ（２００５）４２９−４３６；（ｄ）Ｒ．Ｈｏｄｇｓｏｎ，Ｒ．Ｅ．Ｄｏｕｔｈｗａｉｔｅ，Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ６９０（２００５）５８２２−５８３１の文献に記載されている。この場合も、燐原子とイミダゾール基成分の窒素原子との間に比較的長い架橋が選択されている。しかし、現在までに記載されている全てのキラルＮＨＣＰ配位子は、軽度のエナンチオ選択性を示すにすぎない。
【０００７】
さらに、先行技術（国際公開第０３／０２２８１２号（Ａ１）；国際公開第２００６／０８７３３３号（Ａ１）；国際公開第０３／０３７８３５号（Ａ２）；欧州特許出願公開第１１８２１９６号（Ａ１））は、下記のイミダゾリウム陽イオンを含有し、下記の式
【化２】
2011514887.tif 000004
［式中、
Ｒ１基は、ａ）水素、ｂ）１〜２０個の炭素原子を有する直鎖または分岐鎖、飽和または不飽和、脂肪族または脂環式アルキル基、ｃ）ヘテロアリール基に３〜８個の炭素原子を有し、Ｎ、ＯおよびＳから選択される少なくとも１個のヘテロ原子を有し、Ｃ1−Ｃ6アルキル基および／またはハロゲン原子から選択される少なくとも１個の基によって置換されてもよい、ヘテロアリール、ヘテロアリール−Ｃ1−Ｃ6アルキル基、ｄ）アリール基に５〜１６個の炭素原子を有し、少なくとも１個のＣ1〜Ｃ6アルキル基および／またはハロゲン原子によって置換されてもよい、アリール、アリールＣ1〜Ｃ6アルキル基から成る群から選択され；Ｒ基は、ａ）１〜２０個の炭素原子を有する直鎖または分岐鎖、飽和または不飽和、脂肪族または脂環式アルキル基、ｂ）ヘテロアリール基に３〜８個の炭素原子を有し、Ｎ、ＯおよびＳから選択される少なくとも１個のヘテロ原子を有し、Ｃ1−Ｃ6アルキル基および／またはハロゲン原子から選択される少なくとも１個の基によって置換されてもよい、ヘテロアリール−Ｃ1−Ｃ6アルキル基、ｃ）アリール基に５〜１６個の炭素原子を有し、Ｃ1−Ｃ6アルキル基および／またはハロゲン原子から選択される少なくとも１個によって場合により置換されてもよい、アリール−Ｃ1−Ｃ6アルキル基から成る群から選択される］で示されるイオン液体を開示しているが、これらはどのようなＮＨＣＰ組合せも含有していない。
【０００８】
引用文献は、記載しているイオン液体の種々の製造法を開示している。イオン液体を、溶媒、相間移動触媒、抽出剤、熱媒体、プロセス機または加工機における作動液、抽出媒体、または分極性不純物／基質抽出用の反応媒体の成分として、使用可能なことも記載している。
【０００９】
従って、本発明の目的は、新規光学活性配位子およびそれに基づく触媒を提供することである。これらの配位子は、工業的に安価に入手可能な出発物質および試薬を使用して、考慮すべき装置複雑性を伴わずに、合成しうるべきである。配位子または触媒は、好ましくは、一段法で製造可能であるべきである。特に、特定配位子の両鏡像異性体が、同様の効率で製造可能であるべきである。さらに、配位子またはそれから製造される触媒は、高い立体選択性および／または優れたレギオ選択性を伴って、有機変換反応に使用するのに好適であるべきである。さらに、有機変換反応は、先行技術に匹敵する歩留まりを有すべきである。
【００１０】
意外にも、以下に詳しく特徴付けるＮＨＣＰ配位子から製造された触媒は、有意により低い合成コストにおいて、先行技術と比較して優れた効率を有することが見出された。ＮＨＣＰ配位子は、製造が簡単かつ低コストであるだけでなく、極めて強い。さらに、低レベルの複雑さで、両鏡像異性体を製造することもできる。
【００１１】
本発明を説明するために、「アルキル」という用語は、直鎖および分岐鎖アルキル基を含む。それらは、好ましくは直鎖または分岐鎖Ｃ1−Ｃ20アルキル、より好ましくはＣ1−Ｃ12アルキル、特に好ましくはＣ1−Ｃ8アルキル、極めて好ましくはＣ1−Ｃ4アルキル基である。アルキル基の例は、特に下記の基：メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、２−ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、２−ペンチル、２−メチルブチル、３−メチルブチル、１，２−ジメチルプロピル、１，１−ジメチルプロピル、２，２−ジメチルプロピル、１−エチルプロピル、ｎ−ヘキシル、２−ヘキシル、２−メチルペンチル、３−メチルペンチル、４−メチルペンチル、１，２−ジメチルブチル、１，３−ジメチルブチル、２，３−ジメチルブチル、１，１−ジメチルブチル、２，２−ジメチルブチル、３，３−ジメチルブチル、１，１，２−トリメチルプロピル、１，２，２−トリメチルプロピル、１−エチルブチル、２−エチルブチル、１−エチル−２−メチルプロピル、ｎ−ヘプチル、２−ヘプチル、３−ヘプチル、２−エチルペンチル、１−プロピルブチル、ｎ−オクチル、２−エチルヘキシル、２−プロピルヘプチル、ノニル、デシルである。
【００１２】
「アルキル」という用語は、一般に、１、２、３、４または５個、好ましくは１、２または３個の置換基、より好ましくは１個の置換基を有する置換アルキル基も含む。これらは、好ましくは、アルコキシ、シクロアルキル、アリール、ヘタリール、ヒドロキシル、ハロゲン、ＮＥ1Ｅ2、ＮＥ1Ｅ2Ｅ3+、カルボキシレートおよびスルホネートから選択される。好ましいペルフルオロアルキル基は、トリフルオロメチルである。
【００１３】
本発明に関して、「アリール」という用語は、非置換および置換アリール基を含み、好ましくは、フェニル、トリル、キシリル、メシチル、ナフチル、フルオレニル、アントラセニル、フェナントレニルまたはナフタセニル、より好ましくは、フェニルまたはナフチルであり、これらのアリール基は、置換されている場合、一般に１、２、３、４または５個、好ましくは１、２または３個の置換基、より好ましくは１個の置換基を有し、該置換基は、アルキル、アルコキシ、カルボキシレート、トリフルオロメチル、スルホネート、ＮＥ1Ｅ2、アルキレン−ＮＥ1Ｅ2、ニトロ、シアノおよびハロゲンから選択される。好ましいペルフルオロアリール基は、ペンタフルオロフェニルである。
【００１４】
本発明に関して、カルボキシレートおよびスルホネートは、好ましくは、それぞれ、カルボン酸官能基およびスルホン酸官能基の誘導体、特に金属カルボン酸塩またはスルホン酸塩、カルボン酸エステルまたはスルホン酸エステル官能基、またはカルボキサミドまたはスルホンアミド官能基を表わす。これらは、例えば、Ｃ1−Ｃ4アルカノール、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓ−ブタノールおよびｔ−ブタノールとのエステルを包含する。
【００１５】
「アルキル」および「アリール」という用語についての前記の説明は、「アルコキシ」および「アリールオキシ」という用語にも相応に適用される。
【００１６】
本発明に関して、「アシル」という用語は、一般に２〜１１個、好ましくは２〜８個の炭素原子を有するアルカノイルまたはアロイル基、例えば、ホルミル、アセチル、プロパノイル、ブタノイル、ペンタノイル、ヘキサノイル、ヘプタノイル、２−エチルヘキサノイル、２−プロピルヘプタノイル、ベンゾイルまたはナフトイル基を表わす。
【００１７】
Ｅ1〜Ｅ3基は、それぞれ独立に、水素、アルキル、シクロアルキルおよびアリールから選択される。ＮＥ1Ｅ2基は、好ましくは、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−ブチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジ−ｔ−ブチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルアミノまたはＮ，Ｎ−ジフェニルアミノである。
【００１８】
ハロゲンは、弗素、塩素、臭素および沃素、好ましくは、弗素、塩素および臭素を表わす。
【００１９】
本発明に関して、「脱離基」という用語は、求核試薬の攻撃またはそれとの反応によって置換される構造要素を表わす。これらの脱離基は一般に当業者に既知であり、例えば、塩素、臭素、沃素、トリフルオロアセチル、アセチル、ベンゾイル、トシル、ノシル、トリフレート、ノナフレート、カンファー−１０−スルホネート等が使用される。
【００２０】
本特許出願の説明部分において、簡単化のために、１つだけの鏡像異性体が指定されている場合でも両鏡像異性体が含まれる。
【００２１】
本発明は、イミダゾール基を含有し、一般式ＩまたはＩＩで示される燐化合物を提供する：
【化３】
2011514887.tif 000005
［式中、
Ｗは、燐（Ｐ）またはホスフィット（Ｐ＝Ｏ）であり；
Ｒ１およびＲ２は、異なる基であり、アルキルおよびアルキルから成る群から選択され（変形α）；
または、
Ｒ１およびＲ２は、異なる基であり、アルキルおよびアリールから成る群から選択され（変形β）；
または
Ｒ１およびＲ２は、Ｗと一緒になって、一般式１〜６から選択されるキラル７員環を形成し（変形γ）：
【化４】
2011514887.tif 000006
ここで、
Ｒ１０〜Ｒ１９は、各場合に、同じまたは異なる基であり、アルキル、アリール、アルコキシ、アリールオキシ、アシルオキシ、ヒドロキシル、トリアルキルシリル、スルホニル、ジアルキルアミノ、アシルアミノ、弗素、塩素、臭素および沃素から成る群から選択され；
または、
Ｒ１２およびＲ１３基に関して、隣接するＲ１２およびＲ１３基は、各場合に、５〜６員飽和環を形成し、該５〜６員環は、炭素原子の他に、窒素原子または酸素原子を、環骨格に有してよく；
または、
Ｒ１３基に関して、２個のＲ１３基は、７〜１２員環を形成し；
ｚは、各場合に、同じまたは異なる基を表わし、水素、アルキル、アセチル、トリフルオロアセチル、ベンゾイル、トシルおよびノシルから成る群から選択され；
または、
Ｒ１およびＲ２は、Ｗと一緒になって、一般式７〜９から選択されるキラル５員環を形成し（変形δ）：
【化５】
2011514887.tif 000007
ここで、
Ｒ２０は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、イソプロピルおよびフェニルから成る群から選択される基であり；
Ｒ２１およびＲ２２は、各場合に、同じまたは異なる基であり、水素、アルキル、アリールおよびアルコキシから成る群から選択され；
または、
Ｒ２１およびＲ２２は、４〜６員環を形成し、該環は、炭素原子の他に、２個までの酸素原子を環骨格に有してもよく；
ｚは、各場合に、同じまたは異なる基を表わし、水素、アルキル、アセチル、トリフルオロアセチル、ベンゾイル、トシルおよびノシルから成る群から選択され；
Ｒ３およびＲ４は、各場合に、同じまたは異なる基であり、水素、アルキルおよびアリールから成る群から選択され；
Ｒ５は、アルキルまたはアリールであり；
Ｒ６およびＲ７は、各場合に、同じまたは異なる基であり、水素、アルキル、アリールおよび６員脂肪族環または６員芳香族環から成る群から選択され；
Ｒ８およびＲ９は、それぞれ独立に、水素またはアルキルであり；
Ｘは、脱離基である］。
Ｗは好ましくは燐である。
【００２２】
Ｒ１およびＲ２基が、アルキルおよびアルキルの組合せである場合（変形α）、一方のアルキル基は、好ましくは、アダマンチル、ｔ−ブチル、ｓ−ブチルまたはイソプロピル、特にｔ−ブチルであり、他方のアルキル基は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチルまたはヘキシル、特にメチルまたはエチル、より好ましくはメチルである。
【００２３】
Ｒ１およびＲ２基が、アリールおよびアルキルの組合せである場合（変形β）、アリール基は、好ましくは、フェニル、トリル、キシリル、メシチル、ナフチル、フルオレニル、アントラセニル、特にフェニルであり、アルキル基は、メチル、アダマンチル、ｔ−ブチル、ｓ−ブチル、イソプロピル、特にｔ−ブチルおよびメチルである。
【００２４】
アルキルおよびアルキルの組合せ（変形α）は、アルキルおよびアリールの組合せ（変形β）より好ましい。
【００２５】
Ｒ１およびＲ２基がＷと一緒になってキラル７員環を形成する場合（変形γ）、
Ｒ１０〜Ｒ１９は、好ましくは、各場合に、同じまたは異なる基であり、アルキル、特に、メチル、エチル、イソプロピル、ｔ−ブチル、アダマンチル、アルコキシ、特に、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ｔ−ブチルオキシ、アダマンチルオキシ、ヒドロキシル、塩素、臭素および水素から成る群から選択され、より好ましくは、それぞれ独立に、ヒドロキシル、臭素および水素から成る群から選択され；
Ｒ１２およびＲ１３は、それぞれ独立に、好ましくはジアルキルアミノ、特に、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルアミノまたはＮ，Ｎ−ジフェニルアミノ、またはアシルアミノ、特に、ホルミルアミノ、アセチルアミノ、プロパノイルアミノ、ブタノイルアミノ、ペンタノイルアミノ、ベンゾイルアミノ、ナフトイルアミノ、より好ましくは、それぞれ独立に、ホルミルアミノ、アセチルアミノ、プロパノイルアミノ、ブタノイルアミノ、ベンゾイルアミノであり；
隣接するＲ１２およびＲ１３基は、それぞれ５〜６員飽和環であり、該５〜６員環は、３〜４個の炭素原子の他に、好ましくは２個の窒素原子または２個の酸素原子を環骨格に有し；特に好ましくは窒素原子または酸素原子が５〜６員環を、式１、３または５のジフェニル骨格に結合させる；
さらに、２個のＲ１３基が、好ましくは少なくとも２個の酸素原子を環骨格に有する７〜１２員環を形成する。
【００２６】
ｚは、好ましくは、それぞれ独立に、アルキル、特に、メチル、エチル、イソプロピル、ｔ−ブチル、アダマンチル、アセチルまたはトシルである。
【００２７】
Ｒ１およびＲ２基がＷと一緒になってキラル７員環を形成する場合（変形γ）、一般式１〜４、特に式１および２が好ましい。
【００２８】
Ｒ１およびＲ２基がＷと一緒になってキラル５員環を形成する場合（変形δ）、
Ｒ２０は、好ましくは、メチル、エチル、イソプロピルまたはフェニルであり；
Ｒ２１およびＲ２２は、好ましくは、それぞれ独立に、水素またはアルコキシ、特に、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシおよびｔ−ブチルオキシであり；さらに、２個の酸素原子を有する５員脂肪族環も好ましく；
ｚは、好ましくは、アルキル、特に、メチル、エチル、イソプロピル、ｔ−ブチル、アダマンチル、アリール、特に、フェニル、トリル、キシリル、メシチル、ナフチル、フルオレニル、アントラセニル、アセチル、ベンゾリル、ベンジルオキシカルボニル、ｔ−ブチルオキシカルボニルまたはトシルである。
【００２９】
Ｒ１およびＲ２基がＷと一緒になってキラル５員環を形成する場合（変形δ）、一般式７および８、特に７が好ましい。
【００３０】
変形α〜δの中で、αおよびβが特に好ましい。
【００３１】
Ｒ３およびＲ４は、好ましくは、それぞれ独立に、水素、メチル、エチルまたはベンジル、特に水素である。
【００３２】
Ｒ５は、好ましくは、メチル、エチル、イソプロピル、ｔ−ブチル、アダマンチル、メシチル、フェニル、トリル、キシリル、ナフチル、フルオレニル、アントラセニル、特に、メチル、イソプロピル、ｔ−ブチル、アダマンチルおよびメシチルである。
【００３３】
Ｒ６およびＲ７は、好ましくは、それぞれ独立に水素または６員芳香族環である。
【００３４】
Ｒ８およびＲ９は、好ましくは、それぞれ独立に、水素、アルキル、特に、メチル、エチル、イソプロピル、ｔ−ブチル、アダマンチル、（ＣＨ2）4鎖、またはアリール、特に、フェニル、トリル、キシリル、メシチル、ナフチル、フルオレニル、アントラセニルである。より好ましくは、Ｒ８およびＲ９は、それぞれ独立に、水素、フェニルまたは（ＣＨ2）4鎖である。
【００３５】
特に好ましいのは、下記のイミダゾール基含有燐化合物の、陽イオンの鏡像異性形から誘導される２つの鏡像異性体またはジアステレオ異性体、およびそれらの鏡像異性体である：
【化６】
2011514887.tif 000008
１−｛［（Ｓ）−ｔ−ブチル（フェニル）ホスホリル］メチル｝−３−（２，４，６−トリメチルフェニル）−１Ｈ−イミダゾル−３−イウムトシレート
【化７】
2011514887.tif 000009
１−｛［（Ｒ）−ｔ−ブチル（フェニル）ホスファニル］メチル｝−３−（２，４，６−トリメチルフェニル）−１Ｈ−イミダゾル−３−イウムトシレート
【化８】
2011514887.tif 000010
１−｛［（Ｓ）−ｔ−ブチル（メチル）ホスホリル］メチル｝−３−ｔ−ブチル−１Ｈ−イミダゾル−３−イウムトシレート
【化９】
2011514887.tif 000011
１−｛［（Ｒ）−ｔ−ブチル（メチル）ホスファニル］メチル｝−３−ｔ−ブチル−１Ｈ−イミダゾル−３−イウムトシレート
【化１０】
2011514887.tif 000012
１−｛［（Ｓ）−ｔ−ブチル（メチル）ホスホリル］メチル｝−３−ｔ−ブチル−１Ｈ−イミダゾル−３−イウム（１Ｓ）−カンファー−１０−スルホネート
【化１１】
2011514887.tif 000013
１−｛［（Ｒ）−ｔ−ブチル（メチル）ホスファニル］メチル｝−３−ｔ−ブチル−１Ｈ−イミダゾル−３−イウム（１Ｓ）−イソボルネオール−１０−スルホネート
【化１２】
2011514887.tif 000014
１−｛［（Ｓ，Ｓ）−１−ｒ−オキソ−２ｃ，５−ｔ−ジフェニルホスホラン−１−イル］メチル｝−３−ｔ−ブチル−１Ｈ−イミダゾル−３−イウム（１Ｓ）−カンファー−１０−スルホネート
【化１３】
2011514887.tif 000015
１−｛［（Ｓ，Ｓ）−２ｃ，５−ｔ−ジフェニルホスホラン−１−イル］メチル｝−３−ｔ−ブチル−１Ｈ−イミダゾル−３−イウム（１Ｓ）−カンファー−１０−スルホネート
【化１４】
2011514887.tif 000016
１−（４−メチル−（Ｒax）−ジナフト［２，１−ｄ：１’，２’−ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン）−３−（２，４，６−トリメチルフェニル）−１Ｈ−イミダゾル−３−イウムクロリド。
【００３６】
本発明はさらに、イミダゾール基を含有する、一般式ＩまたはＩＩの燐化合物の製造法に関し、該方法は、一般式Ａ：
【化１５】
2011514887.tif 000017
の化合物を、一般式ＢまたはＣ：
【化１６】
2011514887.tif 000018
の化合物と、適切であれば１つまたはそれより多い溶媒を使用して、２０〜２００℃の温度で数日間反応させることを特徴とする。
【００３７】
化合物Ｉを得る反応は化合物Ｂを使用して行なわれ、化合物ＩＩを得る反応は化合物Ｃを使用して行なわれる。
【００３８】
反応を５０〜１５０℃の温度、特に８０〜１２０℃の温度で行なうのが好ましい。反応時間は、一般に１〜１０日間、好ましくは１０〜１５０時間である。最適反応時間は、簡単な日常試験によって当業者によって決められる。使用される溶媒は、当業者に既知のあらゆる溶媒、例えば、トルエン、キシレン、アセトニトリルであってよく、好ましくは、化合物ＢまたはＣが溶媒として作用する。
【００３９】
イミダゾール基を含有する、一般式ＩおよびＩＩの燐化合物は、一般式ＩＩＩおよびＩＶ：
【化１７】
2011514887.tif 000019
［式中、Ｒ１〜Ｒ２２、Ｗおよびｚ基の定義および選択物は、第５頁、第７行目〜第１３頁、第８行目において一般式ＩおよびＩＩに関して上記に示した選択物に対応する］の光学活性配位子（カルベン）製造用の先駆物質として作用する。
【００４０】
従って、本発明はさらに、一般式ＩＩＩの光学活性配位子を提供する：
【化１８】
2011514887.tif 000020
［式中、
Ｗは、燐（Ｐ）またはホスフィット（Ｐ＝Ｏ）であり；
Ｒ１およびＲ２は、異なる基であり、アルキルおよびアルキルから成る群から選択され（変形α）；
または、
Ｒ１およびＲ２は、異なる基であり、アルキルおよびアリールから成る群から選択され（変形β）；
または
Ｒ１およびＲ２は、Ｗと一緒になって、一般式１〜６から選択されるキラル７員環を形成し（変形γ）：
【化１９】
2011514887.tif 000021
ここで、
Ｒ１０〜Ｒ１９は、各場合に、同じまたは異なる基であり、アルキル、アリール、アルコキシ、アリールオキシ、アシルオキシ、ヒドロキシル、トリアルキルシリル、スルホニル、ジアルキルアミノ、アシルアミノ、弗素、塩素、臭素および沃素から成る群から選択され；
または、
Ｒ１２およびＲ１３基に関して、隣接するＲ１２およびＲ１３基は、各場合に、５〜６員飽和環を形成し、該５〜６員環は、炭素原子の他に、窒素原子または酸素原子を、環骨格に有してよく；
または、
Ｒ１３基に関して、２個のＲ１３基は、７〜１２員環を形成し；
ｚは、各場合に、同じまたは異なる基を表わし、水素、アルキル、アセチル、トリフルオロアセチル、ベンゾイル、トシルおよびノシルから成る群から選択され；
または、
Ｒ１およびＲ２は、Ｗと一緒になって、一般式７〜９から選択されるキラル５員環を形成し（変形δ）：
【化２０】
2011514887.tif 000022
ここで、
Ｒ２０は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、イソプロピルおよびフェニルから成る群から選択される基であり；
Ｒ２１およびＲ２２は、各場合に、同じまたは異なる基であり、水素、アルキル、アリールおよびアルコキシから成る群から選択され；
または、
Ｒ２１およびＲ２２は、４〜６員環を形成し、該環は、炭素原子の他に、２個までの酸素原子を環骨格に有してもよく；
ｚは、各場合に、同じまたは異なる基を表わし、水素、アルキル、アセチル、トリフルオロアセチル、ベンゾイル、トシルおよびノシルから成る群から選択され；
Ｒ３およびＲ４は、各場合に、同じまたは異なる基であり、水素、アルキルおよびアリールから成る群から選択され；
Ｒ５は、アルキルまたはアリールであり；
Ｒ６およびＲ７は、各場合に、同じまたは異なる基であり、水素、アルキル、アリールおよび６員脂肪族環または６員芳香族環から成る群から選択される］。
【００４１】
Ｒ１〜Ｒ７およびＲ１０〜Ｒ２２、Ｗおよびｚ基の選択物は、第８頁、第３行目〜第１３頁、第８行目において一般式Ｉに関して上記に詳しく記載した選択物に対応する。
【００４２】
特に好ましいのは、下記の光学活性配位子の両鏡像異性体である：
【化２１】
2011514887.tif 000023
３−メシチル−１−（ｔ−ブチル（フェニル）ホスフィノメチル）−イミダゾル−２−イリデン
【化２２】
2011514887.tif 000024
３−ｔ−ブチル−１−（ｔ−ブチル（メチル）ホスフィノメチル）−イミダゾル−２−イリデン
【化２３】
2011514887.tif 000025
３−ｔ−ブチル−１−［（２−ｃ，５−ｔ−ジフェニルホスホラン−１−イル）メチル］−イミダゾル−２−イリデン
【化２４】
2011514887.tif 000026
３−メシチル−１−（４−メチルジナフト［２，１−ｄ：１’，２’−ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン）−イミダゾル−２−イリデン。
【００４３】
本発明はさらに、一般式ＩＩＩの化合物の製造法にも関し、該方法は、少なくとも１つの強塩基、およびエーテル性または他の非プロトン溶媒を各場合に使用して、−８０℃〜＋２０℃の温度で、一般式Ｉの化合物を一般式ＩＩＩの化合物に変換する工程（工程（ｉｉ））、Ｗがホスフィット（Ｐ＝Ｏ）の場合、工程（ｉｉ）の前に一般式Ｉの化合物を、各場合に少なくとも１つの還元剤、ルイス酸および溶媒の存在下に、＋２０℃〜＋１００℃の温度で１〜２００時間還元する工程（工程（ｉ））を含むことを特徴とする。
【００４４】
工程（ｉ）において、使用される還元剤は、好ましくは、水素化物供与体、例えば、ＰＭＨＳ（ポリメチルヒドロシロキサン）、（ＥｔＯ）3ＳｉＨ、ＨＳｉＣｌ3、Ｈ3ＳｉＰｈ、ＡｌＨ3／Ｔｉ（ＯｉＰｒ）4、ＡｌＨ3／ＴｉＣｌ4、ＡｌＨ3／ＴｉＣｐ2Ｃｌ2（Ｃｐ＝シクロペンタジエニル）、より好ましくは、ＰＭＨＳ、（ＥｔＯ）3ＳｉＨ、またはＴｉ（ＯｉＰｒ）4である。
【００４５】
工程（ｉ）に有用なルイス酸は、当業者に既知のあらゆるルイス酸、例えば、ＴｉＣｌ4、Ｔｉ（ＯｉＰｒ）4、およびＴｉＣｐ2Ｃｌ2を包含する。
【００４６】
工程（ｉ）に使用される溶媒は、好ましくは安定溶媒またはそのような溶媒の混合物、例えば、エーテル性、ハロゲン化または芳香族溶媒、例えば、ＴＨＦ、ジエチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル、ジブチルエーテル、トルエン、ヘキサン、クロロベンゼン、クロロホルム、好ましくは、ＴＨＦ、ジエチルエーテル、クロロベンゼン、クロロホルムである。
【００４７】
工程（ｉ）の反応時間は、一般に５〜１００時間、好ましくは１０〜５０時間である。一般情報は、例えば、（ａ）Ｔ．Ｃｏｕｍｂｅ，Ｎ．Ｊ．Ｌａｗｒｅｎｃｅ，Ｆ．Ｍｕｈａｍｍａｄ，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ：Ｌｅｔｔｅｒｓ  １９９４，３５，６２５−６２８；（ｂ）Ｙ．Ｈａｍａｄａ，Ｆ．Ｍａｔｓｕｕｒａ，Ｍ．Ｏｋｕ，Ｋ．Ｈａｔａｎｏ，Ｔ．Ｓｈｉｏｉｒｉ，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ：Ｌｅｔｔｅｒｓ，１９９７，３８，８９６１−８９６４；および（ｃ）Ａ．Ａｒｉｆｆｉｎ，Ａ．Ｊ．Ｂｌａｋｅ，Ｒ．Ａ．Ｅｗｉｎ，Ｗ．−Ｓ．Ｌｉ，Ｓ．Ｓｉｍｐｋｉｎｓ，Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｐｅｒｋｉｎ  Ｔｒａｎｓ．１，１９９９，３１７７−３１８９の文献に見出すことができる。
【００４８】
工程（ｉｉ）において、当業者に既知の、好ましくは少なくとも１４のｐＫBを有する一般的な強塩基が使用される。例えば、ＫＯｔ−Ｂｕ、ＫＯＥｔ、ＫＯＭｅ、ＫＯＨ、ＮａＯｔ−Ｂｕ、ＮａＯＥｔ、ＮａＯＭｅ、ＮａＯＨ、ＬｉＯＨ、ＬｉＯｔＢｕ、ＬｉＯＭｅ、特に、ＫＯｔ−Ｂｕ、ＫＯＥｔ、ＫＯＭｅ、ＮａＯｔ−Ｂｕ、ＮａＯＥｔ、ＮａＯＭｅが使用される。
【００４９】
工程（ｉｉ）において、当業者に既知のあらゆるエーテル性または他の非プロトン溶媒、例えば、ジエチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル、ジブチルエーテル、トルエンまたはそれらの混合物を使用しうる。
【００５０】
工程（ｉｉ）の反応時間は、一般に１分〜１０時間、好ましくは１０分〜５時間、特に２〜３時間である。
【００５１】
工程（ｉｉ）の反応温度は、好ましくは−６０℃〜４０℃、特に−２０℃〜３０℃である。
【００５２】
本発明はさらに、一般式ＩＩＩまたはＩＶの少なくとも１つの化合物を、配位子として含む遷移金属錯体に関する。
【００５３】
遷移金属錯体は、一般式ＶおよびＶＩ：
【化２５】
2011514887.tif 000027
に対応する。
【００５４】
遷移金属（Ｍ）として、８〜１１族の金属、特に、Ｒｕ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ａｇ、ＣｕまたはＡｕ、より好ましくは、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｐｄを使用するのが好ましい。
【００５５】
Ｘは、異なってもよい他の配位子、好ましくは、ｃｏｄ（シクロオクタジエン）、ノルボルナジエン、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＣＯ、アリル、ベンジル、Ｃｐ（シクロペンタジエニル）、ＰＣｙ3、ＰＰｈ3、ＭｅＣＮ、ＰｈＣＮ、ｄｂａ（ジベンジリデンアセトン）、アセテート、ＣＮ、ａｃａｃ（アセチルアセトネート）、メチルおよびＨ、特に、ｃｏｄ、ノルボルナジエン、Ｃｌ、ＣＯ、アリル、ベンジル、ａｃａｃ、ＰＣｙ3、ＭｅＣＮ、メチルおよびＨを表わす。ｎは、０〜４であり、選択される遷移金属に依存する。
【００５６】
Ｒ１〜Ｒ２２、Ｗおよびｚ基の定義および選択物は、第５頁、第７行目〜第１３頁、第８行目における、一般式ＩＩＩおよびＩＶ、ならびに一般式ＩおよびＩＩの化合物に関する選択物に対応する。
【００５７】
本発明はさらに、遷移金属錯体の製造法に関し、該方法は、
（ａ）  少なくとも１つの溶媒を使用して、一般式ＩＩＩの光学活性配位子を、金属錯体と、−８０℃〜＋１２０℃の温度で５分〜７２時間反応させる工程；
または
（ｂ）  少なくとも１つの強塩基、およびエーテル性または他の非プロトン溶媒を各場合に使用して、式ＩまたはＩＩのイミダゾール含有燐化合物を、金属錯体と、−８０℃〜＋１２０℃の温度で５分〜７２時間反応させる工程を含み、
Ｗがホスフィットである場合、（ａ）および（ｂ）の両方の場合において、少なくとも１つの還元剤、およびルイス酸を各場合に使用し別個の先行段階で還元することを特徴とする。
【００５８】
好適な金属錯体、特にそれらの脱離配位子の選択は、日常試験によって当業者によって行なうことができる。例えば、有用な金属錯体は下記：［Ｉｒ（ｃｏｄ）Ｃｌ］2、［Ｒｈ（ｃｏｄ）Ｃｌ］2、［Ｉｒ（ノルボルナジエン）Ｃｌ］2、［Ｒｈ（ノルボルナジエン）Ｃｌ］2、Ｒｈ（ｃｏｄ）ａｃａｃ、［ＲｈＣｌ（Ｃ8Ｈ14）2］2、Ｒｈ（ｃｏｄ）（メタリル）、Ｒｈ（ｃｏｄ）2Ｘ、Ｒｈ（ノルボルナジエン）2Ｘ、Ｉｒ（ｃｏｄ）2Ｘ（ここで、Ｘ＝ＢＦ4、ＣｌＯ4、ＣＦ3ＳＯ3、ＣＨ3ＳＯ3、ＨＳＯ4、Ｂ（フェニル）4、Ｂ［ビス（３，５−トリフルオロメチル）フェニル］4、ＰＦ6、ＳｂＣｌ6、ＡｓＦ6、ＳｂＦ6）、Ｒｈ（ＯＡｃ）3、Ｒｈ（ａｃａｃ）（ＣＯ）2、Ｒｈ4（ＣＯ）12、ＲｈＣｌ（ＰＰｈ3）3、［ＲｈＣｌ（ＣＯ）2］2、ＲｕＣｐ2、ＲｕＣｐ（ＣＯ）3、［ＲｕＩ2（シメン）］2、［ＲｕＣｌ2（ベンゼン）］2、Ｒｕ（ｃｏｄ）（メタリル）2、ＲｕＣｌ2（ＰＣｙ3）2ＣＨＰｈ、（ＰＣｙ3）Ｃｌ2ＲｕＣｌ（ＯｉＰｒＯ−Ｐｈ）、ＲｕＣｌ2（Ｃ21Ｈ24Ｎ2）（Ｃ15Ｈ10）（ＰＣｙ3）、［Ｐｄ（アリル）Ｃｌ］2、Ｐｄ2（ｄｂａ）3、Ｐｄ（ｄｂａ）2、Ｐｄ（ＰＰｈ3）4、Ｐｄ（ＯＡｃ）2、ＰｄＣｌ2（ＭｅＣＮ）2、ＰｄＣｌ2（ＰｈＣＮ）2、Ｐｄ（ｃｏｄ）ＣｌＭｅ、Ｐｄ（ｔｍｅｄａ）Ｍｅ2、Ｐｔ（ｃｏｄ）Ｍｅ2、Ｐｔ（ｃｏｄ）Ｃｌ2、ＳｎＣｌ2、ＣｕＣｌ、ＣｕＣｌ2、ＣｕＣＮ、Ｃｕ（ＣＦ3ＳＯ3）2、［Ｎｉ（アリル）Ｃｌ］2、Ｎｉ（ｃｏｄ）2。好ましくは、［Ｉｒ（ｃｏｄ）Ｃｌ］2、［Ｒｈ（ｃｏｄ）Ｃｌ］2、［Ｉｒ（ノルボルナジエン）Ｃｌ］2、［Ｒｈ（ノルボルナジエン）Ｃｌ］2、Ｒｈ（ｃｏｄ）ａｃａｃ、Ｒｈ（ＯＡｃ）3、Ｒｈ（ｃｏｄ）2Ｘ、Ｒｈ（ノルボルナジエン）2Ｘ、Ｉｒ（ｃｏｄ）2Ｘ（ここで、Ｘ＝ＢＦ4、ＣｌＯ4、ＣＦ3ＳＯ3、ＣＨ3ＳＯ3、ＨＳＯ4、Ｂ（フェニル）4、Ｂ［ビス（３，５−トリフルオロメチル）フェニル］4、ＰＦ6、ＳｂＣｌ6、ＡｓＦ6、ＳｂＦ6）、Ｒｈ（ａｃａｃ）（ＣＯ）2、［ＲｈＣｌ（ＣＯ）2］2、ＲｕＣｐ2、ＲｕＣｐ（ＣＯ）3、［ＲｕＣｌ2（シメン）］2、ＲｕＣｌ2（ＰＣｙ3）2ＣＨＰｈ、（ＰＣｙ3）Ｃｌ2ＲｕＣｌ（ＯｉＰｒＯ−Ｐｈ）、Ｒｕ（ｃｏｄ）（メタリル）2、［Ｐｄ（アリル）Ｃｌ］2、Ｐｄ2（ｄｂａ）3、ＣｕＣＮ、Ｃｕ（ＣＦ3ＳＯ3）2、［Ｎｉ（アリル）Ｃｌ］2、Ｎｉ（ｃｏｄ）2、特に、［Ｉｒ（ｃｏｄ）Ｃｌ］2、［Ｒｈ（ｃｏｄ）Ｃｌ］2、Ｒｈ（ｃｏｄ）ａｃａｃ、Ｒｈ（ｃｏｄ）2Ｘ、Ｒｈ（ノルボルナジエン）2Ｘ、Ｉｒ（ｃｏｄ）2Ｘ（ここで、Ｘ＝ＢＦ4、ＣｌＯ4、ＣＦ3ＳＯ3、ＣＨ3ＳＯ3、ＨＳＯ4、Ｂ（フェニル）4、Ｂ［ビス（３，５−トリフルオロメチル）フェニル］4、ＰＦ6、ＳｂＣｌ6、ＡｓＦ6、ＳｂＦ6）、Ｒｈ（ａｃａｃ）（ＣＯ）2、［ＲｕＣｌ2（シメン）］2、ＲｕＣｌ2（ＰＣｙ3）2ＣＨＰｈ、Ｒｕ（ｃｏｄ）（メタリル）2、［Ｐｄ（アリル）Ｃｌ］2、Ｃｕ（ＣＦ3ＳＯ3）2、［Ｎｉ（アリル）Ｃｌ］2、Ｎｉ（ｃｏｄ）2を包含する。
【００５９】
選択肢（ａ）において、反応温度は、有利には−８０℃〜＋１２０℃、好ましくは０℃〜＋５０℃である。反応時間は、有利には５分〜７２時間、好ましくは１〜２４時間である。使用される溶媒は、当業者に周知のあらゆる溶媒、例えば、ＴＨＦ、ジエチルエーテル、ヘキサン、ペンタン、ＣＨＣｌ3、ＣＨ2Ｃｌ2、トルエン、ベンゼン、ＤＭＳＯまたはアセトニトリルであってよく、好ましくは、ＴＨＦ、ジエチルエーテル、ＣＨ2Ｃｌ2、トルエンまたはヘキサンである。
【００６０】
選択肢（ｂ）において、強塩基およびエーテル性または他の非プロトン溶媒に関して好ましい物質は、第２０頁にて段階（ｉｉ）について記載した物質である。選択肢（ｂ）において、反応温度は、好都合には−８０℃〜＋１２０℃、好ましくは０℃〜＋５０℃である。反応時間は、有利には５分〜７２時間、好ましくは１〜２４時間である。
【００６１】
本発明はさらに、一般式ＩＩＩまたはＩＶの少なくとも１つの化合物を配位子として有する少なくとも１つの遷移金属錯体を含む触媒に関する。
【００６２】
８〜１１族の遷移金属が好ましく、特に、Ｒｕ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、ＡｇまたはＡｕ、より好ましくは、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｉｒ、ＮｉまたはＰｄである。
【００６３】
一般式ＩＩＩまたはＩＶの好ましい配位子は、第１５頁〜第１９頁（式ＩＩＩ）および第５頁〜第１３頁（式ＩＶ）に記載されている。
【００６４】
下記のいずれかによって製造可能な触媒が好ましい：
（変形１）  少なくも１つの強塩基、およびエーテル性または他の非プロトン溶媒を各場合に使用して、式ＩまたはＩＩのイミダゾール含有燐化合物を、金属錯体と、−８０℃〜＋１２０℃の温度で５分〜７２時間反応させ、
Ｗがホスフィットである場合、少なくとも１つの還元剤、およびルイス酸を各場合に使用して、一般式Ｉの化合物を別個の先行段階において還元する；
または、
（変形２）  少なくとも１つのエーテル性または他の非プロトン溶媒を使用して、一般式ＩＩＩの光学活性配位子を、金属錯体と、−８０℃〜＋１２０℃の温度で５分〜７２時間反応させ、
Ｗがホスフィットである場合、少なくとも１つの還元剤、およびルイス酸を各場合に使用して、一般式ＩＩＩの化合物を別個の先行段階において還元する；
または、
（変形３）  式ＶまたはＶＩの遷移金属錯体を、少なくとも１つの溶媒に溶解させる。
【００６５】
特に好ましいのは変形（ａ）である。この変形は、均一系触媒のｉｎ  ｓｉｔｕ合成の可能性を示す。
【００６６】
変形１および２の好ましい反応パラメーターは、第２１頁、第３４行〜第３９行（変形１）、および第２１頁、第４１行〜第２２頁、第３行（変形２）に見出すことができる。
【００６７】
本発明はさらに、前記のような、一般式ＩＩＩまたはＩＶの少なくとも１つの化合物を配位子として有する少なくとも１つの遷移金属錯体を含む触媒の、有機変換反応のための使用に関する。有機変換反応は、例えば、水素化、ヒドロ硼素化、ヒドロアミノ化、ヒドロアミド化、ヒドロアルコキシル化、ヒドロビニル化、ヒドロホルミル化、ヒドロカルボキシル化、ヒドロシアン化、ヒドロシリル化、カルボニル化、クロスカップリング、アリル置換、アルドール反応、オレフィンメタセシス、Ｃ−Ｈ活性化または重合を意味するものと理解される。
【００６８】
特に好ましいのは、３−メシチル−１−（ｔ−ブチル（フェニル）ホスフィノメチル）−イミダゾル−２−イリデン、３−ｔ−ブチル−１−（ｔ−ブチル（メチル）ホスフィノメチル）−イミダゾル−２−イリデン、３−ｔ−ブチル−１−［（２−ｃ，５−ｔ−ジフェニルホスホラン−１−イル）メチル］−イミダゾル−２−イリデンおよび３−メシチル−１−（４−メチルジナフト［２，１−ｄ：１’，２’−ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン）−イミダゾル−２−イリデンから成る群から選択される少なくとも１つの化合物を、配位子として含む遷移金属錯体を含む触媒の、不飽和有機化合物の不斉水素化のための使用である。
【００６９】
従って、本発明は、先行技術に匹敵する有効性を有する極めて安価な配位子を提供することができる。
【００７０】
特に好都合な可能性は、強固なカルベン単位を含む種々の鏡像異性体の均一系触媒を製造する可能性である。
【図面の簡単な説明】
【００７１】
【図１】図１は、１−｛［（Ｓ）−ｔ−ブチル（フェニル）ホスホリル］−メチル｝−３−（２，４，６−トリメチルフェニル）−１Ｈ−イミダゾル−３−イウムトシレートのＸ線構造解析を示す。
【００７２】
実施例
１）  式Ｉのイミダゾール基含有燐化合物の合成
１．１）  （Ｒp）−および（Ｓp）−３−メシチル−１−［（ｔ−ブチル（フェニル）ホスフィノ）メチル］イミダゾリウムトシレート８の合成
１．１．１）  Ｎ−ｔ−ブチルイミダゾール１およびＮ−メシチルイミダゾール２
【化２６】
2011514887.tif 000028
【００７３】
Ｎ−ｔ−ブチルイミダゾール（１）およびＮ−メシチルイミダゾール（２）は、文献法［Ａ．Ｊ．Ａｒｄｕｅｎｇｏ，ＩＩＩら、米国特許第６１７７５７５号（Ｂ１）］によって合成した。
【００７４】
１．１．２）  （Ｓp）−および（Ｒp）−ｔ−ブチル（フェニル）ホスフィンオキシド  ３
１．１．２．１）  （Ｓp）−ｔ−ブチル（フェニル）ホスフィンオキシド  （Ｓp）−３
【化２７】
2011514887.tif 000029
【００７５】
ラセミｔ−ブチル（フェニル）ホスフィンオキシド（３）は、グリニャール反応によって合成した［Ｒ．Ｋ．Ｈａｙｎｅｓ，Ｔ−Ｌ．Ａｕ−Ｙｅｕｎｇ，Ｗ−Ｋ．Ｃｈａｎ，Ｗ−Ｌ．Ｌａｍ，Ｚ−Ｙ  Ｌｉ，Ｌ−Ｌ  Ｙｅｕｎｇ，Ａ．Ｓ．Ｃ．Ｃｈａｎ，Ｐ．Ｌｉ，Ｍ．Ｋｏｅｎ．Ｃ  Ｒ．Ｍｉｔｃｈｅｌｌ，Ｓ．Ｃ．Ｖｏｎｗｉｌｌｅｒ，Ｅｕｒ．Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，２０００，３２０５−３２１６］。キラルｔ−ブチル（フェニル）ホスフィンオキシドは、ホスフィンオキシド−（＋）−（Ｓ）−マンデル酸付加物の結晶化によって得た［Ｊ．Ｄｒａｂｏｗｉｃｚ，Ｐ．Ｌｙｚｗａ，Ｊ．Ｏｍｅｌａｎｃｚｕｋ，Ｋ．Ｍ．Ｐｉｅｔｒｕｓｉｅｗｉｃｚ，Ｍ．Ｍｉｋｏｌａｊｃｚｙｋ，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ：Ａｓｙｍｍｅｔｒｙ  １９９９，１０，２７５７−２７６３］。
【００７６】
１．１．２．２）  （Ｒp）−ｔ−ブチル（フェニル）ホスフィンオキシド（（Ｒp）−３）：（−）−（Ｒ）−マンデル酸でのラセミｔ−ブチルフェニルホスフィンオキシドの光学分割
ジエチルエーテル１００ｍＬ中のラセミｔ−ブチル（フェニル）ホスフィンオキシド（３）１８．４ｇ（０．１ｍｏｌ）の溶液に、（−）−（Ｒ）−マンデル酸１５．２ｇ（０．１ｍｏｌ）を少しずつ添加した。短時間後、多量の白色固形物が形成された。反応混合物を室温で２日間撹拌した。沈殿物を、フリットでの濾過によって取り、乾燥させた。ＮＭＲスペクトルは、唯１つのジアステレオ異性体を示した。
【００７７】
収量：１１．００ｇ、３３％；
2011514887.tif 000030
【００７８】
マンデル酸付加物５．５ｇ（１６．５ｍｍｏｌ）を、５％Ｋ2ＣＯ3水溶液４０ｍＬと混合した。相を分液漏斗で分離し、水性相をクロロホルムで繰り返し抽出した。合わせた有機相を硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧除去して、光学活性（Ｒp）−ｔ−ブチル（フェニル）ホスフィンオキシド（（Ｒp）−３）を、収量２．７ｇ（使用したラセミｔ−ブチル（フェニル）ホスフィンオキシド（３）の調整量に基づいて３０％）で得た。
【００７９】
１．１．３）  （Ｓp）−ｔ−ブチル（ヒドロキシメチル）（フェニル）ホスフィンオキシド  （Ｓp）−４
【化２８】
2011514887.tif 000031
【００８０】
アルゴン雰囲気下、還流冷却器および圧力解放弁を取り付けた２５０ｍＬの三つ口フラスコにおいて、（Ｓp）−ｔ−ブチル（フェニル）ホスフィンオキシド（（Ｓp）−３）２．６１ｇ（１４．３ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン２０ｍＬ（１４３ｍｍｏｌ）および乾燥パラホルムアルデヒド２．０ｇ（６６．６ｍｍｏｌ）を、メタノール（無水）３０ｍＬに溶解させた。反応混合物を６０℃で８時間撹拌した。次に、溶液を回転蒸発器で濃縮乾固し、クロロホルムに再び取った。有機相を、５％硫酸（各回２０ｍＬ）で２回、水２０ｍＬで１回洗浄した。有機相をＭｇＳＯ4で乾燥し、回転蒸発器で濃縮した。
【００８１】
収量：１．８５ｇ、６１％；無色固形物；
2011514887.tif 000032
ＨＰＬＣ  Ｃｈｉｒａｌｐａｋ  ＩＡ、ヘキサン／ｉ−ＰｒＯＨ＝９７／３、０．７ｍＬ／分、ｔｒ1＝３４．９０、ｔｒ2＝３６．１１。ＨＲＭＳ（ＥＳＩ+）：計算値ｍ／ｚ  ２１３．１０３８９（Ｃ11Ｈ18Ｏ2Ｐ）；実測値ｍ／ｚ  ２１３．１０３８９。元素分析：Ｃ11Ｈ17Ｏ2Ｐについての計算値（％）Ｃ６２．２５、Ｈ８．０７；実測値Ｃ６２．１９、Ｈ８．０４。
【００８２】
１．１．４）  （Ｓp）−［ｔ−ブチル（フェニル）ホスフィノオキシメチル］（１Ｓ）−カンファー−１０−スルホネート  （Ｓp）−５
【化２９】
2011514887.tif 000033
【００８３】
アルゴン雰囲気下、滴下漏斗および圧力解放弁を取り付けた５００ｍＬの三つ口フラスコに、テトラヒドロフラン（無水）８０ｍＬ中の、（Ｓp）−ｔ−ブチル（ヒドロキシメチル）（フェニル）ホスフィンオキシド（（Ｓp）−４）５．３０ｇ（２５ｍｍｏｌ）、およびトリエチルアミン（無水）６．２５ｍＬ（４４．８ｍｍｏｌ）を最初に装填し、−１５℃に冷却した。テトラヒドロフラン（無水）４０ｍＬ中の（１Ｓ）−カンファー−１０−スルホニルクロリド９．４０ｇ（３７．５ｍｍｏｌ）の溶液を滴下した。反応懸濁液を、室温で一晩撹拌した。ジクロロメタン１００ｍＬおよび水５０ｍＬを反応混合物に添加し、相を分液漏斗で分離した。水性相をジクロロメタンで繰り返し抽出し、合わせた有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、回転蒸発器で濃縮した。高真空下に乾燥した後、無色油状物を粗生成物として得、これをカラムクロマトグラフィー（ＳｉＯ2、Ｅｔ2Ｏ／ＥｔＯＨ＝１０／１）によって精製した。
【００８４】
収量：９．３４ｇ、８８％；無色固形物；
2011514887.tif 000034
ＨＰＬＣ  Ｃｈｉｒａｌｐａｋ  ＩＡ、ヘキサン／ｉ−ＰｒＯＨ＝８５／１５、１．０ｍＬ／分、ｔｒ1＝１５．３３、ｔｒ2＝２５．８２。ＨＲＭＳ（ＥＳＩ+）：計算値ｍ／ｚ  ４２７．１７０２６（Ｃ21Ｈ32Ｏ5ＰＳ）；実測値ｍ／ｚ  ４２７．１７０５２。元素分析：Ｃ21Ｈ31Ｏ5ＰＳについての計算値（％）Ｃ５９．１４、Ｈ７．３３；実測値Ｃ５８．９８、Ｈ７．２７。
【００８５】
１．１．５）  （Ｓp）−ｔ−ブチル（フェニル）（トシルメチル）ホスフィンオキシド  （Ｓp）−６
【化３０】
2011514887.tif 000035
【００８６】
アルゴン雰囲気下、滴下漏斗および圧力解放弁を取り付けた２５０ｍＬの三つ口フラスコに、テトラヒドロフラン（無水）４０ｍＬ中の（Ｓp）−ｔ−ブチル（ヒドロキシメチル）（フェニル）ホスフィンオキシド（（Ｓp）−４）２．１２ｇ（１０ｍｍｏｌ）、およびトリエチルアミン（無水）２．０９ｍＬ（１５ｍｍｏｌ、１．５当量）を最初に装填し、−１０℃に冷却した。テトラヒドロフラン（無水）１０ｍＬ中の塩化トシル２．３８ｇ（１２．５ｍｍｏｌ）の溶液を、２０分間にわたって、撹拌しながら滴下した。反応懸濁液を、室温で一晩撹拌した。ジクロロメタン５０ｍＬおよび水２５ｍＬを反応混合物に添加し、相を分液漏斗で分離した。水性相をジクロロメタンで繰り返し抽出した。合わせた有機相を、塩化ナトリウム飽和溶液５０ｍＬで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、回転蒸発器で濃縮した。粗生成物をカラムクロマトグラフィー（ＳｉＯ2、ＣＨ2Ｃｌ2／ＥｔＯＨ＝１５／１）によって精製した。
【００８７】
収量：２．６５ｇ、７２％；無色固形物；
2011514887.tif 000036
ＨＰＬＣ  Ｃｈｉｒａｌｐａｋ  ＩＡ、ヘキサン／ｉ−ＰｒＯＨ＝９０／１０、１．０ｍＬ／分、ｔｒ1＝１７．８１、ｔｒ2＝２３．４６。ＨＲＭＳ（ＥＳＩ+）：計算値ｍ／ｚ  ３６７．１１２７５（Ｃ18Ｈ24Ｏ4ＰＳ）；実測値ｍ／ｚ  ３６７．１１２９７。元素分析：Ｃ18Ｈ23Ｏ4ＰＳについての計算値（％）Ｃ５９．００、Ｈ６．３３；実測値Ｃ５８．７２、Ｈ６．３１。
【００８８】
１．１．６）  （Ｓp）−３−ｔ−メシチル−１−［（ｔ−ブチル（フェニル）ホスフィノオキシ）メチル］イミダゾリウムトシレート  （Ｓp）−７
【化３１】
2011514887.tif 000037
【００８９】
還流冷却器、圧力解放弁および磁気撹拌子を取り付けた５０ｍＬの一口フラスコにおいて、（Ｓp）−ｔ−ブチル（フェニル）（トシルメチル）ホスフィンオキシド（（Ｓp）−６）３．６６ｇ（１０ｍｍｏｌ）を、Ｎ−メシチルイミダゾール（２）１．８６ｇ（１０ｍｍｏｌ）と混合し、装置をアルゴン下に置き、４日間で１００℃に加熱した。室温に冷却後形成された黄色がかった空気安定性油状物を、少量の塩化メチレンで希釈し、ジエチルエーテルで結晶化した。沈殿した極めて多量の白色固形物を、濾過によって取り、ジエチルエーテルで洗浄した。
【００９０】
収量：３．７５ｇ、７０％；無色固形物；
2011514887.tif 000038
ＨＰＬＣ  Ｃｙｃｌｏｄｅｘ−Ｂ、ＩＤ  ５０μｍ、Ｌ  ５０ｃｍ；ＭｅＯＨ＋４０ｍｍｏｌの燐酸緩衝液ｐＨ３＋２０ｍｍｏｌのβ−Ｗ７（ベータ−シクロデキストリン）Ｍ１．８；１ｍＬ／分；ｔｒ1＝１４．５３、ｔｒ2＝１４．８９。ＨＲＭＳ（ＥＳＩ+）：計算値ｍ／ｚ  ３８１．２０９０３（Ｃ23Ｈ30Ｎ2ＯＰ）；実測値ｍ／ｚ  ３８１．２０８７５。元素分析：Ｃ21Ｈ31Ｏ5ＰＳについての計算値（％）Ｃ６５．２０、Ｈ６．７５、Ｎ５．０７；実測値Ｃ６４．９６、Ｈ６．８３、Ｎ５．２４。
【００９１】
１．１．７）  （Ｒp）−３−ｔ−メシチル−１−［（ｔ−ブチル（フェニル）ホスフィノ）メチル］イミダゾリウムトシレート  （Ｒp）−８
【化３２】
2011514887.tif 000039
【００９２】
撹拌子を取り付けた焼出しシュレンク試験管に、アルゴン雰囲気下において、テトラヒドロフラン２０ｍＬ中の、（Ｓp）−３−ｔ−メシチル−１−［（ｔ−ブチル（フェニル）ホスフィノオキシ）メチル］イミダゾリウムトシレート（（Ｓp）−７）３．００ｇ（５．４ｍｍｏｌ）およびポリ（メチルヒドロシロキサン）４．２ｍＬを最初に装填した。チタン（ＩＶ）テトライソプロポキシド１．８８ｍＬ（６．４ｍｍｏｌ）を反応溶液に添加し、反応混合物を７０℃で一晩撹拌した。ワークアップのために、室温に冷却後、ヘキサン５０ｍＬを添加した。沈殿した白色固形物を濾過によって取り、ヘキサン２０ｍＬで洗浄した。さらなる精製のために、生成物をジクロロメタンとジエチルエーテルとの混合物から再結晶した。
【００９３】
収量：１．８０ｇ、６２％；無色固形物；
2011514887.tif 000040
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ+）：計算値ｍ／ｚ  ３６５．２１４１１（Ｃ23Ｈ30Ｎ2Ｐ）；実測値ｍ／ｚ  ３６５．２１４２８。
【００９４】
１．２）  （Ｒp）−および（Ｓp）３−ｔ−ブチル−１−［（ｔ−ブチル（メチル）ホスフィノ）メチル］イミダゾリウム（１Ｓ）−イソボルネオール−１０−スルホネート  １３、ならびに（Ｒp）−および（Ｓp）−３−ｔ−ブチル−１−［（ｔ−ブチル（メチル）ホスフィノ）メチル］イミダゾリウムトシレート  １６の合成
１．２．１）  （Ｒp）−ｔ−ブチル（ヒドロキシメチル）（メチル）ホスフィン−ボラン  （Ｒp）−９
【化３３】
2011514887.tif 000041
【００９５】
ｔ−ブチルジメチルホスフィン−ボランを、三塩化燐から開始して、ワンポット反応においてグリニャール化合物およびボラン−ＴＨＦ付加物と反応させ、調製した［Ｉ．Ｄ．Ｇｒｉｄｎｅｖ，Ｙ．Ｙａｍａｎｏｉ，Ｎ．Ｈｉｇａｓｈｉ，Ｈ．Ｔｓｕｒｕｔａ，Ｍ．Ｙａｓｕｔａｋｅ，Ｔ．Ｉｍａｍｏｔｏ，Ａｄｖ．Ｓｙｎｔｈ．Ｃａｔａｌ．２００１，３４３，１１８−１３６］。（Ｒp）−ｔ−ブチル（ヒドロキシメチル）（メチル）ホスフィン−ボランを、ｓ−ブチルリチウム／（−）−スパルテインでのエナンチオ選択的脱プロトン、次に、空中酸素での酸化によって得た［Ｃ．Ｇｅｎｅｔ，Ｓ．Ｊ．Ｃａｎｉｐａ，Ｐ．Ｏ’Ｂｒｉｅｎ，Ｓ．Ｔａｙｌｏｒ，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．２００６，１２８，９３３６−９３３７］。
【００９６】
１．２．２）  （Ｓp）−および（Ｒp）−ｔ−ブチル（ヒドロキシメチル）（メチル）ホスフィンオキシド  １０
１．２．２．１）  （Ｓp）−ｔ−ブチル（ヒドロキシメチル）（メチル）ホスフィンオキシド  （Ｓp）−１０
【化３４】
2011514887.tif 000042
【００９７】
（Ｒp）−ｔ−ブチル（ヒドロキシメチル）（メチル）ホスフィン−ボラン（（Ｒp）−９）６．００ｇ（４０．５ｍｍｏｌ）を、ジクロロメタン２２５ｍＬに最初に添加し、０℃に冷却した。撹拌しながら、７０％３−クロロ過安息香酸４０．００ｇ（１６２ｍｍｏｌ）を、６０分以内で少しずつ添加した。冷却を除去し、反応懸濁液を、室温でさらに１５分間撹拌した。水１５０ｍＬ中の亜硫酸ナトリウム２０．４４ｇ（１６２ｍｍｏｌ）を反応混合物に添加し、相を分液漏斗で分離した。水性相をクロロホルムで繰り返し抽出した。合わせた有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、回転蒸発器で濃縮した。粗生成物をシリカゲルに適用し、カラムクロマトグラフィー（ＳｉＯ2、ＣＨＣｌ3／ＥｔＯＨ＝５／１）によって精製した。
【００９８】
収量：５．１８ｇ、８５％；無色固形物；
2011514887.tif 000043
ＨＲＭＳ（ＥＩ+）：計算値ｍ／ｚ  １５０．０８０４（Ｃ6Ｈ15Ｏ2Ｐ）；実測値ｍ／ｚ  １５０．０８４８。元素分析：Ｃ6Ｈ15Ｏ2Ｐについての計算値（％）Ｃ４７．９９、Ｈ１０．０７；実測値Ｃ４７．８３、Ｈ１０．１８。
【００９９】
１．２．２．２）  （Ｒp）−ｔ−ブチル（ヒドロキシメチル）（メチル）ホスフィンオキシド  （Ｒp）−１０
【化３５】
2011514887.tif 000044
【０１００】
セプタムを取り付けた２５ｍＬのシュレンク試験管に、アセトニトリル５ｍＬ中の（Ｒp）−ｔ−ブチル（ヒドロキシメチル）（メチル）ホスフィン−ボラン（（Ｒp）−９）７５ｍｇ（０．５ｍｍｏｌ）を最初に装填し、沃素６６０ｍｇ（２．６ｍｍｏｌ）および１ｍＬを添加した。赤色反応溶液を室温で３時間撹拌した。次に、チオ硫酸ナトリウム５５０ｍｇ（２．５ｍｍｏｌ）および水１０ｍＬを添加した。ワークアップのために、酢酸エチル（各回１５ｍＬ）を用いて、反応溶液を分液漏斗で３回洗浄した。水性相をクロロホルムで繰り返し抽出した。合わせたクロロホルム抽出物を硫酸ナトリウムで乾燥し、少量のシリカゲルで濾過した。濾液を回転蒸発器で濃縮し、減圧乾燥した。
【０１０１】
収量：５０ｍｇ、６５％；無色固形物；１．２．２．１に類似した分析データ。
【０１０２】
１．２．３）  （Ｓp）−［ｔ−ブチル（メチル）ホスフィノオキシメチル］（１Ｓ）−カンファー−１０−スルホネート  （Ｓp）、（１Ｓ）−１１
【化３６】
2011514887.tif 000045
【０１０３】
アルゴン雰囲気下、５０ｍＬの滴下漏斗および圧力解放弁を取り付けた２５０ｍＬの三つ口フラスコに、テトラヒドロフラン（無水）３０ｍＬ中の、（Ｓp）−ｔ−ブチル（ヒドロキシメチル）（メチル）ホスフィンオキシド（（Ｓp）−１０）１．５０ｇ（１０．０ｍｍｏｌ）、およびトリエチルアミン（無水）２．７ｍＬ（１９．５ｍｍｏｌ）を最初に装填し、−１５℃に冷却した。テトラヒドロフラン（無水）２０ｍＬ中の（１Ｓ）−カンファー−１０−スルホニルクロリド３．６０ｇ（１４．５ｍｍｏｌ）の溶液を滴下した。反応懸濁液を、室温で一晩撹拌した。水４０ｍＬおよびジクロロメタン３５ｍＬを反応混合物に添加し、相を分液漏斗で分離した。水性相をジクロロメタンで繰り返し抽出し、合わせた有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、回転蒸発器で濃縮した。高真空下に乾燥した後、無色油状物を粗生成物として得、これをカラムクロマトグラフィー（ＳｉＯ2、Ｅｔ2Ｏ／ＥｔＯＨ＝５／１）によって精製した。得られた無色油状物を、冷条件下に、ジエチルエーテルとペンタンの混合物から結晶化した。
【０１０４】
収量：２．４７ｇ、６８％；無色固形物；
2011514887.tif 000046
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ+、ＮＢＡ）：計算値ｍ／ｚ  ３６５．１５４６（Ｃ16Ｈ30Ｏ5ＰＳ）；実測値ｍ／ｚ  ３６５．１５６０。元素分析：Ｃ16Ｈ29Ｏ5ＰＳについての計算値（％）Ｃ５２．７３、Ｈ８．０２；実測値Ｃ５２．７５、Ｈ７．８９。
【０１０５】
１．２．４）  （Ｓp）−３−ｔ−ブチル−１−［（ｔ−ブチル（メチル）ホスフィノオキシ）メチル］イミダゾリウム（１Ｓ）−カンファー−１０−スルホネート  （Ｓp）、（１Ｓ）−１２
【化３７】
2011514887.tif 000047
【０１０６】
圧力解放弁を取り付けた１００ｍＬのシュレンク試験管において、［（Ｓp）−ｔ−ブチル（メチル）ホスフィノオキシメチル］（１Ｓ）−カンファー−１０−スルホネート（（Ｓp）、（１Ｓ）−１１）６．５１ｇ（１７．８ｍｍｏｌ）、およびＮ−ｔ−ブチルイミダゾール（１）２．４４ｇ（１９．６ｍｍｏｌ）を、トルエン４ｍＬ中、１０５℃にて７２時間撹拌した。赤褐色粘性油状物を、超音波浴において、ヘキサン５０ｍＬから沈殿させた。固形物を濾過によって取り、減圧下に塩化カルシウムで乾燥させた。
【０１０７】
収量：８．６７ｇ、９９％；吸湿性ベージュ色固形物；
2011514887.tif 000048
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ+）：計算値ｍ／ｚ  ２５７．１７７７３（Ｃ13Ｈ26Ｎ2ＯＰ）；実測値ｍ／ｚ  ２５７．１７７６２。
【０１０８】
１．２．５）  （Ｒp）−３−ｔ−ブチル−１−［（ｔ−ブチル（メチル）ホスフィノ）メチル］イミダゾリウム（１Ｓ）−イソボルネオール−１０−スルホネート  （Ｒp）、（１Ｓ）−１３
【化３８】
2011514887.tif 000049
【０１０９】
アルゴン雰囲気下、指形冷却器および圧力解放弁を取り付けた１００ｍＬのシュレンク試験管に、クロロホルム（無水）２０ｍＬ中の、（Ｓp）−３−ｔ−ブチル−１−［（ｔ−ブチル（メチル）ホスフィノオキシ）メチル］イミダゾリウム（１Ｓ）−カンファー−１０−スルホネート（（Ｓp）、（１Ｓ）−１２）２．４４ｇ（５．０ｍｍｏｌ）およびポリ（メチルヒドロシロキサン）３．４ｍＬを最初に装填した。チタン（ＩＶ）テトライソプロポキシド１．４８ｍＬ（５．０ｍｍｏｌ）を反応溶液に添加し、反応混合物を７５℃で６日間加熱還流した。２日間の反応時間後、チタン（ＩＶ）テトライソプロポキシド０．５０ｍＬ（１．７ｍｍｏｌ、０．３当量）をさらに添加した。室温に冷却した後、薄褐色溶液をジクロロメタン（無水）２０ｍＬで希釈し、酸素不含塩化ナトリウム飽和溶液（各回１０ｍＬ）で３回洗浄した。合わせた水性相を、ジクロロメタン（各回１０ｍＬ）で２回抽出し、合わせた有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し、保護ガスフリットで濾過した。乾燥剤をジクロロメタン（各回１５ｍＬ）で２回洗浄した。溶媒を減圧濃縮し、得られた黄色油状物を、超音波浴において、ペンタン（無水）２０ｍＬとヘキサン（無水）１０ｍＬの混合物から沈殿させた。ベージュ色固形物を濾過によって取り、ヘキサン（無水）で洗浄し、高真空下に乾燥させた。
【０１１０】
収量：２．１５ｇ、９０％；ベージュ色固形物；
2011514887.tif 000050
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ+）：計算値ｍ／ｚ  ２４１．１８２８１（Ｃ13Ｈ26Ｎ2Ｐ）；実測値ｍ／ｚ  ２４１．１８２９９。ＨＲＭＳ（ＥＳＩ−）：計算値ｍ／ｚ  ２３３．０８５３０（Ｃ10Ｈ17Ｏ4Ｓ）；実測値ｍ／ｚ  ２３３．０８５１４。
【０１１１】
１．２．６）  ｔ−ブチル（メチル）（トシルメチル）ホスフィンオキシド  １４
【化３９】
2011514887.tif 000051
【０１１２】
アルゴン雰囲気下、５０ｍＬの滴下漏斗および圧力解放弁を取り付けた１００ｍＬの三つ口フラスコに、テトラヒドロフラン（無水）１５ｍＬ中の、ｔ−ブチル（ヒドロキシメチル）（メチル）ホスフィンオキシド（１０）０．７０ｇ（４．７ｍｍｏｌ）およびトリエチルアミン（無水）１．０ｍＬ（７．０ｍｍｏｌ）を最初に装填し、−１５℃に冷却した。テトラヒドロフラン（無水）５ｍＬ中の塩化トシル１．００ｇ（５．２ｍｍｏｌ）の溶液を、撹拌しながら滴下した。反応懸濁液を室温で一晩撹拌した。ジクロロメタン１０ｍＬおよび水１０ｍＬを、反応混合物に添加し、相を分液漏斗で分離した。水性相をジクロロメタンで繰り返し抽出した。合わせた有機相を塩化ナトリウム飽和溶液１０ｍＬで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、回転蒸発器で濃縮した。高真空下に乾燥した後、油状物を粗生成物として得、これをカラムクロマトグラフィー（ＳｉＯ2、ＣＨ2Ｃｌ2／ＥｔＯＨ＝４０／１）によって精製した。
【０１１３】
収量：０．７０ｇ、４９％；無色固形物；
2011514887.tif 000052
ＨＰＬＣ  Ｃｈｉｒａｌｐａｋ  ＩＡ、ヘキサン／ｉ−ＰｒＯＨ＝９０／１０、１．０ｍＬ／分、ｔｒ1＝２４．３０、ｔｒ2＝２５．９６。ＨＲＭＳ（ＦＡＢ+、ＮＢＡ）：計算値ｍ／ｚ  ３０５．０９７１（Ｃ13Ｈ22Ｏ4ＰＳ）；実測値ｍ／ｚ  ３０５．０９９１。元素分析：Ｃ13Ｈ21Ｏ4ＰＳについての計算値（％）Ｃ５１．３０、Ｈ６．９５；実測値Ｃ５１．２３、Ｈ６．９９。
【０１１４】
１．２．７）  ３−ｔ−ブチル−１−［（ｔ−ブチル（メチル）ホスフィノオキシ）メチル］イミダゾリウムトシレート  １５
【化４０】
2011514887.tif 000053
【０１１５】
圧力解放弁を取り付けたシュレンク試験管において、ｔ−ブチル（メチル）（トシルメチル）ホスフィンオキシド（１４）１．００ｇ（３．３ｍｍｏｌ）およびＮ−ｔ−ブチルイミダゾール（１）０．４５ｇ（３．６ｍｍｏｌ）を、トルエン０．７ｍＬ中、１０５℃にて７２時間撹拌した。赤褐色粘性油状物を、超音波浴において、ヘキサン１０ｍＬから沈殿させた。固形物を濾過によって取り、減圧下に塩化カルシウムで乾燥させた。
【０１１６】
収量：０．８４ｇ、６０％；ベージュ色固形物；
2011514887.tif 000054
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ+、ＮＢＡ）：計算値ｍ／ｚ  ２５７．１７７７（Ｃ13Ｈ26Ｎ2ＯＰ）；実測値ｍ／ｚ  ２５７．１７９２。
【０１１７】
１．２．８）  ３−ｔ−ブチル−１−［（ｔ−ブチル（メチル）ホスフィノ）メチル］イミダゾリウムトシレート／クロリド  １６
【化４１】
2011514887.tif 000055
【０１１８】
アルゴン雰囲気下、滴下漏斗、還流冷却器および圧力解放弁を取り付けた焼出し２５０ｍＬ三つ口フラスコにおいて、３−ｔ−ブチル−１−［（ｔ−ブチル（メチル）ホスフィノオキシ）メチル］イミダゾリウムトシレート（１５）０．６０ｇ（１．４ｍｍｏｌ）を、クロロベンゼン（無水）１８ｍＬに溶解させ、１２０℃で加熱還流させた。この温度にて、トリクロロシラン２．３ｍＬ（２．３ｍｍｏｌ）を１時間滴下し、反応溶液を１２０℃でさらに３時間撹拌した。室温に冷却した後、ジクロロメタン（無水）１７ｍＬを添加し、過剰のトリクロロシランを、水中のアルゴン飽和１０％水酸化ナトリウム溶液５０ｍＬで０℃にて加水分解した。有機相を除去し、水性相をジクロロメタン（無水）（各回１０ｍＬ）で４回抽出した。合わせた有機相を、酸素不含硫酸ナトリウムで乾燥させた。濾過した後、溶媒を濃縮し、高真空下に乾燥させ、無色固形物を得、これにおいて、トシレートが陰イオンとして塩化物により部分的に置換されていた。
【０１１９】
収量：０．２５ｇ、６０％；無色固形物；
2011514887.tif 000056
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ+、ＮＢＡ）：計算値ｍ／ｚ  ２５７．１８２８（Ｃ13Ｈ26Ｎ2Ｐ）；実測値ｍ／ｚ  ２４１．１８０３。
【０１２０】
１．３）  （Ｒ，Ｒ）−および（Ｓ，Ｓ）−３−ｔ−ブチル−１−［（２−ｃ，５−ｔ−ジフェニルホスホラン−１−イル）メチル］イミダゾリウム（１Ｓ）−カンファー−１０−スルホネート、および３−ｔ−ブチル−１−［（２−ｃ，５−ｔ−ジフェニルホスホラン−１−イル）メチル］イミダゾリウムトシレートの合成
１．３．１）  （Ｓ，Ｓ）−および（Ｒ，Ｒ）−１−ｒ−オキソ−２−ｃ，５−ｔ−ジフェニルホスホラン  １８
【化４２】
2011514887.tif 000057
【０１２１】
文献法により、ｒａｃ−１−ヒドロキシ−１−ｒ−オキソ−２−ｃ，５−ｔ−ジフェニルホスホラン（１７）を、４段階で、（Ｅ，Ｅ）−１，４−ジフェニルブタ−１，３−ジエンから合成した。キニンを用いた光学分割により、（Ｓ，Ｓ）−および（Ｒ，Ｒ）−配置鏡像異性体（（Ｓ，Ｓ）−１７および（Ｒ，Ｒ）−１７）の両方を得た。塩化チオニルでの塩素化、および水素化アルミニウムリチウムでの還元によって、（Ｒ，Ｒ）−および（Ｓ，Ｓ）−１−ｒ−オキソ−２−ｃ，５−ｔ−ジフェニルホスホラン（（Ｒ，Ｒ）−１８および（Ｓ，Ｓ）−１８）を得た［Ｆ．Ｇｕｉｌｌｅｎ，Ｍ．Ｒｉｖａｒｄ，Ｍ．Ｔｏｆｆａｎｏ，Ｊ．−Ｙ．Ｌｅｇｒｏｓ，Ｊ．−Ｃ．Ｄａｒａｎ，Ｊ．−Ｃ．Ｆｉａｕｄ，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  ２００２，５８，５８９５−５９０４］。
【０１２２】
１．３．２）  （Ｓ，Ｓ）−１−ヒドロキシメチル−１−ｒ−オキソ−２−ｃ，５−ｔ−ジフェニルホスホラン  （Ｓ，Ｓ）−１９
【化４３】
2011514887.tif 000058
【０１２３】
アルゴン雰囲気下、指形冷却器を取り付けた焼出し１００ｍＬシュレンク試験管に、（Ｓ，Ｓ）−１−ｒ−オキソ−２−ｃ，５−ｔ−ジフェニルホスホラン（（Ｓ，Ｓ）−１８）３．９１ｇ（１５．３ｍｍｏｌ）、パラホルムアルデヒド１．２８ｇ（４２．６ｍｍｏｌ）およびナトリウムエトキシド０．１２ｇ（１．８ｍｍｏｌ）を最初に装填し、これをエタノール（無水）３０ｍＬに懸濁させた。反応混合物を１００℃で９０分間加熱還流させた。冷却した後、溶媒を蒸発し、粗生成物をカラムクロマトグラフィー（ＳｉＯ2、シクロヘキサン／アセトン、初めに１／１、次に１／２）によって精製した。
【０１２４】
収量：２．５７ｇ、５９％；無色固形物；
2011514887.tif 000059
ＨＰＬＣ  Ｃｈｉｒａｌｐａｋ  ＩＡ、ヘキサン／ｉ−ＰｒＯＨ＝８５／１５、１．０ｍＬ／分、ｔｒ1＝７．７９、ｔｒ2＝１１．０４。ＨＲＭＳ（ＦＡＢ+、ＮＢＡ）：計算値ｍ／ｚ  ２８７．１１９５（Ｃ17Ｈ20Ｏ2Ｐ）；実測値ｍ／ｚ  ２８７．１２２０。元素分析：Ｃ17Ｈ19Ｏ2Ｐについての計算値（％）Ｃ７１．３２、Ｈ６．６９；実測値Ｃ７１．２２、Ｈ６．６１。
【０１２５】
１．３．３）  （Ｓ，Ｓ）−［１−ｒ−オキソ−２−ｃ，５−ｔ−ジフェニルホスホラノメチル］（１Ｓ）−カンファー−１０−スルホネート  （Ｓ，Ｓ），（１Ｓ）−２０
【化４４】
2011514887.tif 000060
【０１２６】
アルゴン雰囲気下、滴下漏斗および圧力解放弁を取り付けた５００ｍＬの三つ口フラスコに、テトラヒドロフラン（無水）９０ｍＬ中の、（Ｓ，Ｓ）−１−ヒドロキシメチル−１−ｒ−オキソ−２−ｃ，５−ｔ−ジフェニルホスホラン（（Ｓ，Ｓ）−１９）２．３０ｇ（８．０ｍｍｏｌ）およびトリエチルアミン（無水）２．０ｍＬ（１４．５ｍｍｏｌ）を最初に装填し、−１５℃に冷却した。テトラヒドロフラン（無水）３０ｍＬ中の（１Ｓ）−カンファー−１０−スルホニルクロリド３．００ｇ（１２．０ｍｍｏｌ）をゆっくり滴下した。反応懸濁液を室温で一晩撹拌した。ジクロロメタン７５ｍＬおよび水４５ｍＬを反応混合物に添加し、相を分液漏斗で分離した。水性相をジクロロメタンで繰り返し抽出し、合わせた有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、回転蒸発器で濃縮した。高真空下に乾燥した後、粗生成物をカラムクロマトグラフィー（ＳｉＯ2、Ｅｔ2Ｏ／ＣＨ2Ｃｌ2／アセトン＝３０／２／１）によって精製した。
【０１２７】
収量：２．３５ｇ、５８％；無色固形物；
2011514887.tif 000061
ＨＰＬＣ  Ｃｈｉｒａｌｐａｋ  ＩＢ、ヘキサン／ｉ−ＰｒＯＨ＝８５／１５、１．０ｍＬ／分、ｔｒ1＝３０．１０、ｔｒ2＝５３．２７。ＨＲＭＳ（ＦＡＢ+、ＮＢＡ）：計算値ｍ／ｚ  ５０１．１８５９（Ｃ27Ｈ34Ｏ5ＰＳ）；実測値ｍ／ｚ  ５０１．１８２６。
【０１２８】
１．３．４）  （Ｓ，Ｓ）−３−ｔ−ブチル−１−［（１−ｒ−オキソ−２−ｃ，５−ｔ−ジフェニルホスホラン−１−イル）メチル］イミダゾリウム（１Ｓ）−カンファー−１０−スルホネート  （Ｓ，Ｓ），（１Ｓ）−２１
【化４５】
2011514887.tif 000062
【０１２９】
圧力開放弁を取り付けた５０ｍＬのシュレンク試験管において、（Ｓ，Ｓ）−［１−ｒ−オキソ−２−ｃ，５−ｔ−ジフェニルホスホラノメチル］（１Ｓ）−カンファー−１０−スルホネート（（Ｓ，Ｓ），（１Ｓ）−２０）２．１５ｇ（４．３ｍｍｏｌ）およびＮ−ｔ−ブチルイミダゾール（１）０．６０ｇ（４．８ｍｍｏｌ）を、トルエン０．７ｍＬ中、１０５℃にて７２時間撹拌した。褐色粘性油状物を、超音波浴において、ヘキサン１５ｍＬから沈殿させた。固形物を濾過によって取り、減圧下に塩化カルシウムで乾燥させた。
【０１３０】
収量：２．５５ｇ、９５％；吸湿性ベージュ色固形物；
2011514887.tif 000063
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ+）：計算値ｍ／ｚ  ３９３．２０９０３（Ｃ24Ｈ30Ｎ2ＯＰ）；実測値ｍ／ｚ  ３９３．２０８９１。
【０１３１】
１．３．５）  （Ｓ，Ｓ）−３−ｔ−ブチル−１−［（２−ｃ，５−ｔ−ジフェニルホスホラン−１−イル）メチル］イミダゾリウム（１Ｓ）−カンファー−１０−スルホネート  （Ｓ，Ｓ），（１Ｓ）−２２
【化４６】
2011514887.tif 000064
【０１３２】
アルゴン雰囲気下、指形冷却器および圧力開放弁を取り付けた５０ｍＬのシュレンク試験管に、テトラヒドロフラン（無水）１８ｍＬ中の、（Ｓ，Ｓ）−３−ｔ−ブチル−１−［（１−ｒ−オキソ−２−ｃ，５−ｔ−ジフェニルホスホラン−１−イル）メチル］イミダゾリウム（１Ｓ）−カンファー−１０−スルホネート（（Ｓ，Ｓ），（１Ｓ）−２１）２．３０ｇ（３．７ｍｍｏｌ）およびポリ（メチルヒドロシロキサン）２．５ｍＬを最初に装填した。チタン（ＩＶ）テトライソプロポキシド１．１０ｍＬ（３．７ｍｍｏｌ、１当量）を反応溶液に添加し、反応混合物を７５℃で１６時間加熱還流させた。次に、ヘキサン（無水）（６０ｍＬ）を添加し、混合物を７５℃でさらに２時間加熱還流させた。室温に冷却した後、溶媒を減圧除去し、得られた褐色油状物を、超音波浴において、ヘキサン（無水）から沈殿させた。ベージュ色固形物を濾過によって取り、ヘキサン（無水）で洗浄し、高真空下に乾燥させた。
【０１３３】
収量：２．１７ｇ、９７％；ベージュ色固形物
2011514887.tif 000065
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ+）：計算値ｍ／ｚ  ３７７．２１４１１（Ｃ24Ｈ30Ｎ2Ｐ）；実測値ｍ／ｚ  ３７７．２１４３１；計算値ｍ／ｚ  ９８５．４９７８８（Ｃ58Ｈ75Ｎ4Ｏ4Ｐ2Ｓ）；実測値ｍ／ｚ  ９８５．４９８７２。
【０１３４】
１．３．６）  １−トシルメチル−１−ｒ−オキソ−２−ｃ，５−ｔ−ジフェニルホスホラン  ２３
【化４７】
2011514887.tif 000066
【０１３５】
三つ口フラスコにおいて、１−ヒドロキシメチル−１−ｒ−オキソ−２−ｃ，５−ｔ−ジフェニルホスホラン（１９）２．８４ｇ（９．９ｍｍｏｌ）およびトリエチルアミン２．５ｍＬ（１８ｍｍｏｌ）を最初にテトラヒドロフラン１３０ｍＬに添加した。反応混合物を−１０℃に冷却し、テトラヒドロフラン５０ｍＬ中の塩化トシル２．４５ｇ（１２．９ｍｍｏｌ）の溶液を滴下した。反応懸濁液を室温で１６時間撹拌した。ジクロロメタン５０ｍＬを添加した後、混合物を室温でさらに４日間撹拌した。次に、水３５ｍＬを反応混合物に滴下した。相を分液漏斗で分離し、水性相をジクロロメタンで繰り返し抽出した。合わせた有機相を塩化ナトリウム飽和溶液で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、回転蒸発器で濃縮した。粗生成物をカラムクロマトグラフィー（ＳｉＯ2、石油エーテル／アセトン＝２／１）によって精製した。
【０１３６】
収量：２．６８ｇ、６１％；無色固形物；
2011514887.tif 000067
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ+、ＮＢＡ）：計算値ｍ／ｚ  ４４１．１２８４（Ｃ24Ｈ26Ｏ4ＰＳ）；実測値ｍ／ｚ  ４４１．１２７６。元素分析：Ｃ24Ｈ25Ｏ4ＰＳについての計算値（％）Ｃ６５．４４、Ｈ５．７２；実測値Ｃ６５．３６、Ｈ５．５６。
【０１３７】
１．３．７）  ３−ｔ−ブチル−１−［（１−ｒ−オキソ−２−ｃ，５−ｔ−ジフェニルホスホラン−１−イル）メチル］イミダゾリウムトシレート  ２４
【化４８】
2011514887.tif 000068
【０１３８】
１−トシルメチル−１−ｒ−オキソ−２−ｃ，５−ｔ−ジフェニルホスホラン（２３）３．００ｇ（６．８ｍｍｏｌ）、およびＮ−ｔ−ブチルイミダゾール（１）０．８６ｇ（６．９ｍｍｏｌ）を、トルエン１ｍＬ中、１０５℃にて２４時間撹拌した。テトラヒドロフラン１０ｍＬおよびジエチルエーテル１５ｍＬを添加した後、粗生成物を、超音波浴における処理によって赤褐色粘性油状物から沈殿させ、濾過した。固形物をテトラヒドロフランから再結晶し、減圧下に塩化カルシウムで乾燥させた。
【０１３９】
収量：３．４２ｇ、８９％；無色固形物；
2011514887.tif 000069
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ+、ＮＢＡ）：計算値ｍ／ｚ  ３９３．２０９０（Ｃ24Ｈ30Ｎ2ＯＰ）；実測値ｍ／ｚ  ３９３．２０６６。元素分析：Ｃ31Ｈ37Ｎ2Ｏ4ＰＳについての計算値（％）Ｃ６５．９４、Ｈ６．６０、Ｎ４．９６；実測値Ｃ６５．８０、Ｈ６．７７、Ｎ４．９５。
【０１４０】
１．３．８）  ３−ｔ−ブチル−１−［（２−ｃ，５−ｔ−ジフェニルホスホラン−１−イル）メチル］イミダゾリウムトシレート  ２５
【化４９】
2011514887.tif 000070
【０１４１】
アルゴン雰囲気下、指形冷却器および圧力解放弁を取り付けた５０ｍＬのシュレンク試験管に、クロロホルム（無水）２６ｍＬ中の３−ｔ−ブチル−１−［（１−ｒ−オキソ−２−ｃ，５−ｔ−ジフェニルホスホラン−１−イル）メチル］イミダゾリウムトシレート（２４）１．２８ｇ（２．３ｍｍｏｌ、１当量）を最初に装填し、トリクロロシラン８ｍＬ（７９．１ｍｍｏｌ、３５当量）を室温で添加した。反応溶液を１１０℃にて、撹拌しながら３時間加熱還流した。ワークアップのために、過剰のトリクロロシランおよび溶媒を減圧濃縮した。残渣をジクロロメタン（無水）（各回１０ｍＬ）で５回抽出し、珪藻土で濾過した。合わせた濾液を減圧濃縮した。粗生成物を、ヘキサン３０ｍＬの添加によって、ジクロロメタン（無水）５ｍＬから再結晶した。濾過した後、固形物を高真空下に乾燥させた。
【０１４２】
収量：０．９７ｇ、７８％；無色固形物；
2011514887.tif 000071
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ+）：計算値ｍ／ｚ  ３７７．２１４１１（Ｃ24Ｈ30Ｎ2Ｐ）；実測値ｍ／ｚ  ３７７．２１４１１、９２５．４４０３７（Ｃ55Ｈ67Ｎ4Ｏ3Ｐ2Ｓ）；実測値ｍ／ｚ  ９２５．４４０２２。
【０１４３】
１．４）  ３−メシチル−１−（４−メチル−（Ｒax）−ジナフト［２，１−ｄ：１’，２’−ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン）イミダゾリウムクロリド  ２７の合成
１．４．１）  ４−クロロメチル−（Ｒax）−ジナフト［２，１−ｄ：１’，２’−ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン  ２６
【化５０】
2011514887.tif 000072
【０１４４】
アルゴン雰囲気下、シュレンク試験管において、トリエチルアミン５００ｍｇ（４．３ｍｍｏｌ）を、ＴＨＦ５０ｍＬ中の（Ｒ）−ＢＩＮＯＬ ８５８ｍｇ（３ｍｍｏｌ）の溶液に添加した。次に、反応混合物を−７８℃に冷却した。次に、ＴＨＦ１０ｍＬ中のＣｌＣＨ2ＰＣｌ2 ４５３ｍｇ（３ｍｍｏｌ）の溶液を、カニューレによってこの混合物に導入した。反応混合物を一晩撹拌し、その間に室温に温め、トリエチルアンモニウムクロリドが白色固形物として沈殿した。生成物を、沈殿したアンモニウム塩から濾過によって取った。溶媒を減圧除去した。
【０１４５】
収量：９７０ｍｇ、８９％；無色固形物；
2011514887.tif 000073
ＭＳ（ＥＩ）：ｍ／ｚ（％）：３６４（５０）［Ｍ］+。ＨＲＭＳ（ＥＩ）：計算値ｍ／ｚ３６４．０４１１（Ｃ21Ｈ14Ｏ2ＰＣｌ）、実測値ｍ／ｚ３６４．０４１３。
【０１４６】
１．４．２）  ３−メシチル−１−（４−メチル−（Ｒax）−ジナフト［２，１−ｄ：１’，２’−ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン）イミダゾリウムクロリド  ２７
【化５１】
2011514887.tif 000074
【０１４７】
還流冷却器および過剰圧力弁および磁気撹拌子を取り付けた２５ｍＬの一口フラスコにおいて、試薬（１２）３．６４ｇ（１０ｍｍｏｌ）を、Ｎ−メシチルイミダゾール１．８６ｇ（１０ｍｍｏｌ）と混合し、装置をアルゴン下に置き、１００℃に４日間加熱した。室温に冷却後に形成された黄色がかった空気安定性油状物を、少量の塩化メチレンで希釈し、ジエチルエーテルで結晶化した。沈殿した極めて多量の白色固形物を、濾過によって取り、ジエチルエーテルで洗浄した。
【０１４８】
収量：３．６ｇ、６６％；無色固形物；
2011514887.tif 000075
【０１４９】
２）  式ＩＩＩの光学活性配位子の合成
２．１）  ３−メシチル−１−［（ｔ−ブチル（フェニル）ホスフィノ）メチル］イミダゾル−２−イリデン  ２８の合成
【化５２】
2011514887.tif 000076
【０１５０】
アルゴン雰囲気下、撹拌子を取り付けた焼出しシュレンク試験管に、３−メシチル−１−［（ｔ−ブチル（フェニル）ホスフィノ）メチル］イミダゾリウムトシレート（８）３００ｍｇ（０．５６ｍｍｏｌ）を、カリウムｔ−ブトキシド７０ｍｇ（０．６ｍｍｏｌ）と共に最初に装填し、−３０℃に冷却した。ＴＨＦ３０ｍＬを−３０℃に冷却し、カニューレで反応混合物に添加した。混合物を２時間撹拌し、その間に、温度が０℃に上昇した。次に、溶媒を室温で減圧除去した。残渣を、ペンタン（各１０ｍＬで３回、および各５ｍＬで２回）と混合し、セライトを与えた焼出しフリットで濾過した。次に、合わせたペンタン相を濃縮乾固した。
【０１５１】
収量：１７５ｍｇ、８６％；無色固形物；
2011514887.tif 000077
【０１５２】
２．２）  ３−ｔ−ブチル−１−［（ｔ−ブチル（メチル）ホスフィノ）メチル］イミダゾル−２−イリデン  ２９の合成
【化５３】
2011514887.tif 000078
【０１５３】
アルゴン雰囲気下、焼出しシュレンク試験管において、３９０μｍｏｌの３−ｔ−ブチル−１−［（ｔ−ブチル（メチル）ホスフィノ）メチル］イミダゾリウム（１Ｓ）−イソボルネオール−１０−スルホネート（１３）または３−ｔ−ブチル−１−［（ｔ−ブチル（メチル）ホスフィノ）メチル］イミダゾリウムトシレート／クロリド（１６）、およびカリウムｔ−ブトキシド１１０ｍｇ（９８０μｍｏｌ）を、ＴＨＦ６ｍＬに懸濁させた。反応溶液を室温で２時間撹拌し、次に、溶媒を減圧下に除去し、残渣を高真空下に３０分間乾燥させた。残渣を、ペンタン（各回４ｍＬ）と３回混合し、焼出しセライト充填フリットで濾過した。次に、合わせたペンタン相を濃縮乾固した。
【０１５４】
収量：８４ｍｇ、９０％；黄色油状物；
2011514887.tif 000079
【０１５５】
２．３）  ３−ｔ−ブチル−１−（（２−ｃ，５−ｔ−ジフェニルホスホラン−１−イル）メチル）イミダゾル−２−イリデン  ３０の合成
【化５４】
2011514887.tif 000080
【０１５６】
アルゴン雰囲気下、シュレンク試験管において、６７μｍｏｌの３−ｔ−ブチル−１−［（１−ｒ−オキソ−２−ｃ，５−ジフェニルホスホラン−１−イル）メチル］イミダゾリウム（１Ｓ）−１０−カンファースルホネート（２２）または３−ｔ−ブチル−１−［（２−ｃ，５−ジフェニルホスホラン−１−イル）メチル］イミダゾリウムトシレート（２５）、およびカリウムｔ−ブトキシド１３．５ｍｇ（１２０μｍｏｌ）を、トルエン（無水）２．５ｍＬに懸濁させた。反応溶液を室温で１５分間撹拌し、次に、ペンタン（無水）７．５ｍＬを添加した。沈殿した固形物を濾過によって除去し、濾液を減圧濃縮し、乾燥させた。生成物を直接的にさらに処理する。
【０１５７】
収量：２２ｍｇ、８７％；黄色油状物；
2011514887.tif 000081
【０１５８】
３）  式ＶおよびＶＩの遷移金属錯体の合成
３．１）  ［Ｐｄ（２８）Ｃｌ2］  ３１の合成
【化５５】
2011514887.tif 000082
【０１５９】
アルゴン雰囲気下、０．１ｍｍｏｌの配位子２８をＴＨＦ５ｍＬに溶解し、ＴＨＦ５ｍＬ中の［Ｐｄ（ｃｏｄ）Ｃｌ2］０．１ｍｍｏｌの懸濁液にカニューレで添加した。混合物を室温で１日撹拌し、次に、濃縮乾固した。得られた黄色固形物をペンタンで洗浄することにより過剰のｃｏｄおよびカルベンを除去し、生成物を減圧乾燥した。
【０１６０】
収量：５０ｍｇ、９１％；黄色結晶性固形物；
2011514887.tif 000083
ＭＳ（ＥＳＩ）：ｍ／ｚ（％）：５０５（１００）［Ｍ−Ｃｌ］+。ＨＲＭＳ（ＴＯＦ  ＭＳＥＳ）：計算値ｍ／ｚ５０５．０７８６（Ｃ23Ｈ29Ｎ2ＰＰｄＣｌ）。実測値ｍ／ｚ５０５．０７７８。
【０１６１】
３．２）  ［Ｐｔ（２８）Ｃｌ2］  ３２の合成
【化５６】
2011514887.tif 000084
【０１６２】
アルゴン雰囲気下、０．１ｍｍｏｌの配位子２８を、ＴＨＦ５ｍＬに溶解し、ＴＨＦ５ｍＬ中の［Ｐｔ（ｃｏｄ）Ｃｌ2］０．１ｍｍｏｌの懸濁液にカニューレで添加した。混合物を室温で１日撹拌し、次に、濃縮乾固した。得られた黄色固形物をペンタンで洗浄することによって、過剰のｃｏｄおよびカルベンを除去し、生成物を減圧乾燥した。
【０１６３】
収量：５５ｍｇ、８８％；黄色結晶性固形物；
2011514887.tif 000085
ＭＳ（ＥＳＩ）：ｍ／ｚ（％）：５９５（１００）［Ｍ−Ｃｌ］+。ＨＲＭＳ（ＴＯＦ  ＭＳＥＳ）：計算値ｍ／ｚ５９４．１３９９（Ｃ23Ｈ29Ｎ2ＰＰｔＣｌ）、実測値ｍ／ｚ５９４．０５０５。
【０１６４】
３．３）  ［Ｎｉ（２８）（アリル）］Ｃｌ  ３３の合成
【化５７】
2011514887.tif 000086
【０１６５】
０．０７５ｇ（０．２８ｍｍｏｌ）の［Ｎｉ（アリル）Ｃｌ］2  、および０．２１２ｇ（０．５８ｍｍｏｌ）の配位子２８を、シュレンク試験管に入れ、ヘキサン１５ｍｌと撹拌しながら混合した。室温で３時間撹拌した後、沈殿した錯体を濾過によって取り、ペンタン１０ｍＬで３回洗浄し、生成物を減圧乾燥した。
【０１６６】
収量：０．２２７ｇ、８１％；黄色結晶性固形物；
2011514887.tif 000087
ＭＳ（ＥＳＩ）：ｍ／ｚ（％）：４６３（１００）［Ｍ−Ｃｌ］+。ＨＲＭＳ（ＴＯＦ  ＭＳＥＳ）：計算値ｍ／ｚ４６３．１８０７（Ｃ26Ｈ34Ｎ2ＰＮｉ）、実測値ｍ／ｚ４６３．０６８２。
【０１６７】
３．４）  ［Ｎｉ（２８）アリル］Ｂ（Ａｒf）4  ３４の合成
【化５８】
2011514887.tif 000088
【０１６８】
５５ｍｇ（０．１１ｍｍｏｌ）の錯体３３、および１０２ｍｇ（０．１２ｍｍｏｌ）のＮａＢ（Ａｒf）4を、シュレンク試験管に入れ、−７８℃に冷却し、同じ温度に冷却したジエチルエーテル１０ｍＬを、この混合物に撹拌しながらカニューレで添加し、混合物を撹拌しながら室温にゆっくり温めた。溶液を濾過し、減圧下に濃縮乾固した。
【０１６９】
収量：０．１０５ｇ、７２％；黄色結晶性固形物；
2011514887.tif 000089
ＭＳ（ＥＳＩ）：ｍ／ｚ（％）：４６３（１００）［Ｍ−ＢＡＳＦ］+。
【０１７０】
３．５）  ［Ｐｄ（２９）Ｍｅ2］  ３５の合成
【化５９】
2011514887.tif 000090
【０１７１】
アルゴン雰囲気下、シュレンク試験管に、トルエン４ｍＬ中の［Ｐｄ（ｔｍｅｄａ）Ｍｅ2］６５ｍｇ（２５７μｍｏｌ）を最初に装填し、トルエン３ｍＬ中の３−ｔ−ブチル−１−［（ｔ−ブチル（メチル）ホスフィノ）メチル］イミダゾル−２−イリデン（２９）６８ｍｇ（２８０μｍｏｌ）を滴下した。黄色反応溶液を室温で１時間撹拌し、次に、濾過した。ペンタンを添加することによって生成物を沈殿させ、濾過し、ペンタンでの洗浄によって精製し、高真空化に乾燥させた。
【０１７２】
収量：６０ｍｇ、６２％；ベージュ色固形物；
2011514887.tif 000091
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ+、ＮＢＡ）：計算値ｍ／ｚ３６１．１０１９（Ｃ24Ｈ28Ｎ2ＰＰｄ）、実測値ｍ／ｚ３６１．０９８８。
【０１７３】
３．６）  ［Ｐｄ（２９）Ｍｅ］ＢＦ4  ３６の合成
【化６０】
2011514887.tif 000092
【０１７４】
アルゴン雰囲気下、［Ｐｄ（２９）Ｍｅ2］（３５）１４ｍｇ（３７μｍｏｌ）をアセトニトリル（無水）０．５ｍＬに溶解し、トリエチルオキソニウムテトラフルオロボレート７ｍｇ（３７μｍｏｌ、１当量）を室温で添加した。室温で１時間後、溶媒を減圧除去し、次に、残渣をトルエン（無水）、ジエチルエーテル（無水）およびペンタン（無水）で洗浄した。生成物を高真空下に乾燥させた。
【０１７５】
収量：１１ｍｇ、６６％；黄色固形物；
2011514887.tif 000093
【０１７６】
３．７）  ［Ｐｔ（２９）Ｍｅ2］  ３７の合成
【化６１】
2011514887.tif 000094
【０１７７】
アルゴン雰囲気下、シュレンク試験管に、トルエン０．５ｍＬ中の［（ＣＯＤ）ＰｔＭｅ2］１７ｍｇ（５０μｍｏｌ）を室温で最初に装填し、トルエン０．５ｍＬ中の３−ｔ−ブチル−１−［（ｔ−ブチル（メチル）ホスフィノ）メチル］イミダゾル−２−イリデン（２９）１６ｍｇ（６７μｍｏｌ）を滴下した。黄色反応溶液を室温で１時間撹拌し、濾過し、濃縮し、減圧乾燥した。残渣をペンタンでの洗浄によって精製し、高真空下に乾燥させた。
【０１７８】
収量：２０ｍｇ、８４％；無色固形物；
2011514887.tif 000095
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ+、ＮＢＡ）：計算値ｍ／ｚ４５０．１６３２（Ｃ24Ｈ28Ｎ2ＰＰｔ）、実測値ｍ／ｚ４５０．１６３４。
【０１７９】
３．８）  ［Ｐｔ（３０）Ｍｅ2］  ３８の合成
【化６２】
2011514887.tif 000096
【０１８０】
アルゴン雰囲気下、トルエン（無水）２．５ｍＬ中の、［３−ｔ−ブチル−１−［（２−ｃ，５−ｔ−ジフェニルホスホラン−１−イル）メチル］イミダゾリウム（１Ｓ）−カンファー−１０−スルホネート（２２）４１ｍｇ（６７μｍｏｌ）、カリウムｔ−ブトキシド１３ｍｇ（１１５μｍｏｌ）、および［Ｐｄ（ｔｍｅｄａ）Ｍｅ2］１３．５ｍｇ（５３μｍｏｌ）を、室温で１５分間撹拌した。ペンタン（無水）６ｍＬの添加によって塩を沈殿させ、濾過した。透明の淡黄色がかった溶液を濃縮し、減圧乾燥した。黄色残渣を、超音波浴において、ペンタン３ｍＬで洗浄し、濾過し、高真空下に乾燥させた。
【０１８１】
収量：２１ｍｇ、７７％；ベージュ色固形物；
2011514887.tif 000097
【０１８２】
４）  触媒的適用
４．１）  錯体１１での１−ヘキセンオリゴマー化
【化６３】
2011514887.tif 000098
【０１８３】
シュレンク試験管において、２ｍｇ（１．５ｘ１０−6ｍｏｌ）の錯体１１を、トルエン５０ｍＬおよび１−ヘキセン５ｍＬに添加した。混合物を５０℃で１日撹拌し、オリゴマーをＧＣ−ＭＳで確認した。ダイマーおよびトリマーを確認した。
【０１８４】
４．２）  エチレンオリゴマー化
【化６４】
2011514887.tif 000099
【０１８５】
触媒１１（２ｍｇ、１．５ｘ１０−6ｍｏｌ）を、グローブボックス中のオートクレーブに入れた。トルエン５０ｍＬを添加した。次に、オートクレーブを圧力装置に取り付け、エチレンで繰り返しパージし、所望の温度および圧力で撹拌した。所望の反応時間後に、オリゴマー化を停止し、オートクレーブを開けた。得られた溶液をＧＣ−ＭＳ分析によって分析した。１２時間後のオリゴマー分布は、２時間後の分布と同じであった。
【０１８６】
２時間後のオリゴマー（ＧＣ／ＭＳ）
【表１】
2011514887.tif 000100
【０１８７】
４．３）  プロピレンオリゴマー化
触媒１１（２ｍｇ、１．５ｘ１０−6ｍｏｌ）を、グローブボックス中のオートクレーブに入れた。トルエン５０ｍＬを添加した。次に、オートクレーブを圧力装置に取り付け、プロピレンで繰り返しパージし、所望の温度および圧力で撹拌した。所望の反応時間後に、オリゴマー化を停止し、オートクレーブを開けた。得られた溶液をＧＣ−ＭＳ分析によって分析した。２時間の反応時間後に、ダイマーだけを確認し、２４時間の反応時間後に、ｎ＝３〜ｎ＝７のオリゴマーを確認した。
【０１８８】
４．４）  メチルα−アセトアミドアクリレートの水素化
【化６５】
2011514887.tif 000101
Ｓ／Ｒｈ＝基質／ロジウム錯体の比率［ｍｏｌ／ｍｏｌ］；
ｔ＝時間；
Ｌ／［Ｒｈ（ｃｏｄ）2］ＢＦ4＝使用したＮＨＣＰ配位子（Ｌ）／使用した金属錯体の比率；
ｅｅ＝鏡像異性体過剰率；
ｅｅ［％］＝（鏡像異性体１−鏡像異性体２）／（鏡像異性体１＋鏡像異性体２）；ここで、鏡像異性体１および鏡像異性体２は、２つの可能な鏡像異性生成物を表わす。
【０１８９】
グローブボックスにおいて、不活性条件下に、ＣＨ2Ｃｌ2中の２ｘ１０−6ｍｏｌの配位子の保存溶液５ｍＬを、ＣＨ2Ｃｌ2中の２ｘ１０−6ｍｏｌの［Ｒｈ（ｃｏｄ）2］ＢＦ4の溶液５ｍＬに添加した。混合物を室温で５分間撹拌した。次に、１０ｍＬのＣＨ2Ｃｌ2中の１．０ｍｍｏｌのメチルα−アセトアミドアクリレートを添加した。溶解アルゴンを除去するために、オートクレーブを水素で３回パージした。水素化を、２０℃、３０バールＨ2において、２０時間行なった。触媒を除去するために、溶液を短いシリカゲルカラムに適用し、ＣＨ2Ｃｌ2で溶離した。鏡像異性体過剰率をガスクロマトグラフィーによって測定した。
【０１９０】
表１：先行技術との比較
【表２】
2011514887.tif 000102
【０１９１】
先行技術配位子は、特に２つの光学的対掌体の、複雑な合成を特徴とする。本発明の配位子は、簡単に、かつ、両方の光学的対掌体の形態において同等の有効性で、製造可能である。
【図１】
2011514887.tif 000114
【手続補正書】
【提出日】平成21年12月11日(2009.12.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式ＩまたはＩＩ：
【化１】
2011514887.tif 000115
［式中、
Ｗは、燐（Ｐ）またはホスフィット（Ｐ＝Ｏ）であり；
Ｒ１およびＲ２は、異なる基であり、アルキルおよびアルキルから成る群から選択され（変形α）；
または、
Ｒ１およびＲ２は、異なる基であり、アルキルおよびアリールから成る群から選択され（変形β）；
または
Ｒ１およびＲ２は、Ｗと一緒になって、一般式１〜６から選択されるキラル７員環を形成し（変形γ）：
【化２】
2011514887.tif 000116
ここで、
Ｒ１０〜Ｒ１９は、各場合に、同じまたは異なる基であり、アルキル、アリール、アルコキシ、アリールオキシ、アシルオキシ、ヒドロキシル、トリアルキルシリル、スルホニル、ジアルキルアミノ、アシルアミノ、弗素、塩素、臭素および沃素から成る群から選択され；
または、
Ｒ１２およびＲ１３基に関して、隣接するＲ１２およびＲ１３基は、各場合に、５〜６員飽和環を形成し、該５〜６員環は、炭素原子の他に、窒素原子または酸素原子を、環骨格に有してよく；
または、
Ｒ１３基に関して、２個のＲ１３基は、７〜１２員環を形成し；
ｚは、各場合に、同じまたは異なる基を表わし、水素、アルキル、アセチル、トリフルオロアセチル、ベンゾイル、トシルおよびノシルから成る群から選択され；
または、
Ｒ１およびＲ２は、Ｗと一緒になって、一般式７〜９から選択されるキラル５員環を形成し（変形δ）：
【化３】
2011514887.tif 000117
ここで、
Ｒ２０は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、イソプロピルおよびフェニルから成る群から選択される基であり；
Ｒ２１およびＲ２２は、各場合に、同じまたは異なる基であり、水素、アルキル、アリールおよびアルコキシから成る群から選択され；
または、
Ｒ２１およびＲ２２は、４〜６員環を形成し、該環は、炭素原子の他に、２個までの酸素原子を環骨格に有してもよく；
ｚは、各場合に、同じまたは異なる基を表わし、水素、アルキル、アセチル、トリフルオロアセチル、ベンゾイル、トシルおよびノシルから成る群から選択され；
Ｒ３およびＲ４は、各場合に、同じまたは異なる基であり、水素、アルキルおよびアリールから成る群から選択され；
Ｒ５は、アルキルまたはアリールであり；
Ｒ６およびＲ７は、各場合に、同じまたは異なる基であり、水素、アルキル、アリールおよび６員脂肪族環または６員芳香族環から成る群から選択され；
Ｒ８およびＲ９は、それぞれ独立に、水素またはアルキルであり；
Ｘは、脱離基である］で示されるイミダゾール含有燐化合物。
【請求項２】
Ｗは、燐（Ｐ）であり；
変形αの場合に、
Ｒ１は、アダマンチル、ｔ−ブチル、ｓ−ブチルまたはイソプロピルであり、Ｒ２は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチルまたはヘキシルであり；
変形βの場合に、
Ｒ１は、フェニル、トリル、キシリル、メシチル、ナフチル、フルオレニル、アントラセニルであり、Ｒ２は、アダマンチル、ｔ−ブチル、ｓ−ブチル、イソプロピルまたはメチルであり；
変形γの場合に、
Ｒ１０〜Ｒ１９は、各場合に、同じまたは異なる基であり、アルキル、アルコキシ、ヒドロキシル、塩素、水素および臭素から成る群から選択され、
ｚは、それぞれ独立に、アルキル、アセチルまたはトシルであり；
変形δの場合に、
Ｒ２０は、メチル、エチルまたはイソプロピルであり、
Ｒ２１およびＲ２２は、それぞれ独立に、水素またはアルコキシであり、
ｚは、アルキル、アリールまたはトシルであり；
Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立に、水素、メチル、エチルまたはベンジルであり；
Ｒ５は、メチル、エチル、イソプロピル、ｔ−ブチル、アダマンチル、メシチル、フェニル、トリル、キシリル、ナフチル、フルオレニルまたはアントラセニルであり；
Ｒ６およびＲ７は、それぞれ独立に、水素、または６員芳香族環であり；
Ｒ８およびＲ９は、それぞれ独立に、水素、アルキルまたはアリールであり；
Ｘは、脱離基である、請求項１に記載のイミダゾール含有燐化合物。
【請求項３】
Ｗは、燐（Ｐ）であり；
変形αの場合に、
Ｒ１はｔ−ブチルであり、Ｒ２はメチルまたはエチルであり；
変形βの場合に、
Ｒ１はフェニルであり、Ｒ２はｔ−ブチルまたはメチルであり；
Ｒ３およびＲ４は、水素であり；
Ｒ５は、メチル、イソプロピル、ｔ−ブチル、アダマンチルまたはメシチルであり；
Ｒ６およびＲ７は、それぞれ独立に、水素、または６員芳香族環であり；
Ｒ８およびＲ９は、それぞれ独立に、水素、フェニル、または（ＣＨ2）4鎖であり；
Ｘは、脱離基である、請求項１に記載のイミダゾール含有燐化合物。
【請求項４】
請求項１から３までのいずれか１項に記載の一般式ＩまたはＩＩのイミダゾール含有燐化合物の製造法において、一般式Ａ：
【化４】
2011514887.tif 000118
の化合物を、一般式ＢまたはＣ：
【化５】
2011514887.tif 000119
の化合物と、適切であれば１つまたはそれより多い溶媒を使用して、２０〜２００℃の温度で数日間反応させ、この際、
Ｗは、燐（Ｐ）またはホスフィット（Ｐ＝Ｏ）であり；
Ｒ１およびＲ２は、異なる基であり、アルキルおよびアルキルから成る群から選択され（変形α）；
または、
Ｒ１およびＲ２は、異なる基であり、アルキルおよびアリールから成る群から選択され（変形β）；
または
Ｒ１およびＲ２は、Ｗと一緒になって、一般式１〜６から選択されるキラル７員環を形成し（変形γ）：
【化６】
2011514887.tif 000120
ここで、
Ｒ１０〜Ｒ１９は、各場合に、同じまたは異なる基であり、アルキル、アリール、アルコキシ、アリールオキシ、アシルオキシ、ヒドロキシル、トリアルキルシリル、スルホニル、ジアルキルアミノ、アシルアミノ、弗素、塩素、臭素および沃素から成る群から選択され；
または、
Ｒ１２およびＲ１３基に関して、隣接するＲ１２およびＲ１３基は、各場合に、５〜６員飽和環を形成し、該５〜６員環は、炭素原子の他に、窒素原子または酸素原子を、環骨格に有してよく；
または、
Ｒ１３基に関して、２個のＲ１３基は、７〜１２員環を形成し；
ｚは、各場合に、同じまたは異なる基を表わし、水素、アルキル、アセチル、トリフルオロアセチル、ベンゾイル、トシルおよびノシルから成る群から選択され；
または、
Ｒ１およびＲ２は、Ｗと一緒になって、一般式７〜９から選択されるキラル５員環を形成し（変形δ）：
【化７】
2011514887.tif 000121
ここで、
Ｒ２０は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、イソプロピルおよびフェニルから成る群から選択される基であり；
Ｒ２１およびＲ２２は、各場合に、同じまたは異なる基であり、水素、アルキル、アリールおよびアルコキシから成る群から選択され；
または、
Ｒ２１およびＲ２２は、４〜６員環を形成し、該環は、炭素原子の他に、２個までの酸素原子を環骨格に有してもよく；
ｚは、各場合に、同じまたは異なる基を表わし、水素、アルキル、アセチル、トリフルオロアセチル、ベンゾイル、トシルおよびノシルから成る群から選択され；
Ｒ３およびＲ４は、各場合に、同じまたは異なる基であり、水素、アルキルおよびアリールから成る群から選択され；
Ｒ５は、アルキルまたはアリールであり；
Ｒ６およびＲ７は、各場合に、同じまたは異なる基であり、水素、アルキル、アリールおよび６員脂肪族環または６員芳香族環から成る群から選択され；
Ｒ８およびＲ９は、それぞれ独立に、水素またはアルキルであり；
Ｘは、脱離基である、
ことを特徴とする、前記方法。
【請求項５】
一般式ＩＩＩ：
【化８】
2011514887.tif 000122
［式中、
Ｗは、燐（Ｐ）またはホスフィット（Ｐ＝Ｏ）であり；
Ｒ１およびＲ２は、異なる基であり、アルキルおよびアルキルから成る群から選択され（変形α）；
または、
Ｒ１およびＲ２は、異なる基であり、アルキルおよびアリールから成る群から選択され（変形β）；
または
Ｒ１およびＲ２は、Ｗと一緒になって、一般式１〜６から選択されるキラル７員環を形成し（変形γ）：
【化９】
2011514887.tif 000123
ここで、
Ｒ１０〜Ｒ１９は、各場合に、同じまたは異なる基であり、アルキル、アリール、アルコキシ、アリールオキシ、アシルオキシ、ヒドロキシル、トリアルキルシリル、スルホニル、ジアルキルアミノ、アシルアミノ、弗素、塩素、臭素および沃素から成る群から選択され；
または、
Ｒ１２およびＲ１３基に関して、隣接するＲ１２およびＲ１３基は、各場合に、５〜６員飽和環を形成し、該５〜６員環は、炭素原子の他に、窒素原子または酸素原子を、環骨格に有してよく；
または、
Ｒ１３基に関して、２個のＲ１３基は、７〜１２員環を形成し；
ｚは、各場合に、同じまたは異なる基を表わし、水素、アルキル、アセチル、トリフルオロアセチル、ベンゾイル、トシルおよびノシルから成る群から選択され；
または、
Ｒ１およびＲ２は、Ｗと一緒になって、一般式７〜９から選択されるキラル５員環を形成し（変形δ）：
【化１０】
2011514887.tif 000124
ここで、
Ｒ２０は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、イソプロピルおよびフェニルから成る群から選択される基であり；
Ｒ２１およびＲ２２は、各場合に、同じまたは異なる基であり、水素、アルキル、アリールおよびアルコキシから成る群から選択され；
または、
Ｒ２１およびＲ２２は、４〜６員環を形成し、該環は、炭素原子の他に、２個までの酸素原子を環骨格に有してもよく；
ｚは、各場合に、同じまたは異なる基を表わし、水素、アルキル、アセチル、トリフルオロアセチル、ベンゾイル、トシルおよびノシルから成る群から選択され；
Ｒ３およびＲ４は、各場合に、同じまたは異なる基であり、水素、アルキルおよびアリールから成る群から選択され；
Ｒ５は、アルキルまたはアリールであり；
Ｒ６およびＲ７は、各場合に、同じまたは異なる基であり、水素、アルキル、アリールおよび６員脂肪族環または６員芳香族環から成る群から選択される］の光学活性配位子。
【請求項６】
Ｗは、燐（Ｐ）であり；
変形αの場合に、
Ｒ１は、アダマンチル、ｔ−ブチル、ｓ−ブチルまたはイソプロピルであり、Ｒ２は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチルまたはヘキシルであり；
変形βの場合に、
Ｒ１は、フェニル、トリル、キシリル、メシチル、ナフチル、フルオレニル、アントラセニルであり、Ｒ２は、アダマンチル、ｔ−ブチル、ｓ−ブチル、イソプロピルまたはメチルであり；
変形γの場合に、
Ｒ１０〜Ｒ１９は、各場合に、同じまたは異なる基であり、アルキル、アルコキシ、ヒドロキシル、塩素、水素および臭素から成る群から選択され、
ｚは、それぞれ独立に、アルキル、アセチルまたはトシルであり；
変形δの場合に、
Ｒ２０は、メチル、エチル、イソプロピルまたはフェニルであり、
Ｒ２１およびＲ２２は、それぞれ独立に、水素またはアルコキシであり、
ｚは、アルキル、アリールまたはトシルであり；
Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立に、水素、メチル、エチルまたはベンジルであり；
Ｒ５は、メチル、エチル、イソプロピル、ｔ−ブチル、アダマンチル、メシチル、フェニル、トリル、キシリル、ナフチル、フルオレニルまたはアントラセニルであり；
Ｒ６およびＲ７は、それぞれ独立に、水素、または６員芳香族環である、請求項５に記載の光学活性配位子。
【請求項７】
Ｗは、燐（Ｐ）であり；
変形αの場合に、
Ｒ１はｔ−ブチルであり、Ｒ２はメチルまたはエチルであり；
変形βの場合に、
Ｒ１はフェニルであり、Ｒ２はｔ−ブチルまたはメチルであり；
Ｒ３およびＲ４は、水素であり；
Ｒ５は、メチル、イソプロピル、ｔ−ブチル、アダマンチルまたはメシチルであり；
Ｒ６およびＲ７は、それぞれ独立に、水素または６員芳香族環である、請求項５に記載の光学活性配位子。
【請求項８】
３−メシチル−１−（ｔ−ブチル（フェニル）ホスフィノメチル）−イミダゾル−２−イリデン。
【請求項９】
３−ｔ−ブチル−１−（ｔ−ブチル（メチル）ホスフィノメチル）−イミダゾル−２−イリデン。
【請求項１０】
３−ｔ−ブチル−１−［（２−ｃ，５−ｔ−ジフェニルホスホラン−１−イル）メチル］−イミダゾル−２−イリデン。
【請求項１１】
３−メシチル−１−（４−メチルジナフト［２，１−ｄ：１’，２’−ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン）−イミダゾル−２−イリデン。
【請求項１２】
請求項５から７までのいずれか１項に記載の一般式ＩＩＩで示される化合物の製造法において、少なくとも１つの強塩基、およびエーテル性または他の非プロトン溶媒を各場合に使用して、−８０℃〜＋２０℃の温度で、請求項１から３までのいずれか１項に記載の一般式Ｉの化合物を一般式ＩＩＩの化合物に変換する工程（工程（ｉｉ））、Ｗがホスフィット（Ｐ＝Ｏ）の場合、工程（ｉｉ）の前に、各場合に少なくとも１つの還元剤、ルイス酸および溶媒の存在下に、一般式Ｉの化合物を＋２０℃〜＋１００℃の温度で１〜２００時間還元する工程（工程（ｉ））を含むことを特徴とする、前記方法。
【請求項１３】
遷移金属錯体であって、一般式ＩＩＩまたはＩＶ：
【化１１】
2011514887.tif 000125
［式中、
Ｗは、燐（Ｐ）またはホスフィット（Ｐ＝Ｏ）であり；
Ｒ１およびＲ２は、異なる基であり、アルキルおよびアルキルから成る群から選択され（変形α）；
または、
Ｒ１およびＲ２は、異なる基であり、アルキルおよびアリールから成る群から選択され（変形β）；
または
Ｒ１およびＲ２は、Ｗと一緒になって、一般式１〜６から選択されるキラル７員環を形成し（変形γ）：
【化１２】
2011514887.tif 000126
ここで、
Ｒ１０〜Ｒ１９は、各場合に、同じまたは異なる基であり、アルキル、アリール、アルコキシ、アリールオキシ、アシルオキシ、ヒドロキシル、トリアルキルシリル、スルホニル、ジアルキルアミノ、アシルアミノ、弗素、塩素、臭素および沃素から成る群から選択され；
または、
Ｒ１２およびＲ１３基に関して、隣接するＲ１２およびＲ１３基は、各場合に、５〜６員飽和環を形成し、該５〜６員環は、炭素原子の他に、窒素原子または酸素原子を、環骨格に有してよく；
または、
Ｒ１３基に関して、２個のＲ１３基は、７〜１２員環を形成し；
ｚは、各場合に、同じまたは異なる基を表わし、水素、アルキル、アセチル、トリフルオロアセチル、ベンゾイル、トシルおよびノシルから成る群から選択され；
または、
Ｒ１およびＲ２は、Ｗと一緒になって、一般式７〜９から選択されるキラル５員環を形成し（変形δ）：
【化１３】
2011514887.tif 000127
ここで、
Ｒ２０は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、イソプロピルおよびフェニルから成る群から選択される基であり；
Ｒ２１およびＲ２２は、各場合に、同じまたは異なる基であり、水素、アルキル、アリールおよびアルコキシから成る群から選択され；
または、
Ｒ２１およびＲ２２は、４〜６員環を形成し、該環は、炭素原子の他に、２個までの酸素原子を環骨格に有してもよく；
ｚは、各場合に、同じまたは異なる基を表わし、水素、アルキル、アセチル、トリフルオロアセチル、ベンゾイル、トシルおよびノシルから成る群から選択され；
Ｒ３およびＲ４は、各場合に、同じまたは異なる基であり、水素、アルキルおよびアリールから成る群から選択され；
Ｒ５は、アルキルまたはアリールであり；
Ｒ６およびＲ７は、各場合に、同じまたは異なる基であり、水素、アルキル、アリールおよび６員脂肪族環または６員芳香族環から成る群から選択され；
Ｒ８およびＲ９は、それぞれ独立に、水素またはアルキルである］で示される少なくとも１つの化合物を配位子として含む遷移金属錯体。
【請求項１４】
Ｗは、燐（Ｐ）であり；
変形αの場合に、
Ｒ１は、アダマンチル、ｔ−ブチル、ｓ−ブチルまたはイソプロピルであり、Ｒ２は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチルまたはヘキシルであり；
変形βの場合に、
Ｒ１は、フェニル、トリル、キシリル、メシチル、ナフチル、フルオレニル、アントラセニルであり、Ｒ２は、アダマンチル、ｔ−ブチル、ｓ−ブチル、イソプロピルまたはメチルであり；
変形γの場合に、
Ｒ１０〜Ｒ１９は、各場合に、同じまたは異なる基であり、アルキル、アルコキシ、ヒドロキシル、塩素、水素および臭素から成る群から選択され、
ｚは、それぞれ独立に、アルキル、アセチルまたはトシルであり；
変形δの場合に、
Ｒ２０は、メチル、エチルまたはイソプロピルであり、
Ｒ２１およびＲ２２は、それぞれ独立に、水素またはアルコキシであり、
ｚは、アルキル、アリールまたはトシルであり；
Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立に、水素、メチル、エチルまたはベンジルであり；
Ｒ５は、メチル、エチル、イソプロピル、ｔ−ブチル、アダマンチル、メシチル、フェニル、トリル、キシリル、ナフチル、フルオレニルまたはアントラセニルであり；
Ｒ６およびＲ７は、それぞれ独立に、水素、または６員芳香族環であり；
Ｒ８およびＲ９は、それぞれ独立に、水素、アルキルまたはアリールである、請求項１３に記載の遷移金属錯体。
【請求項１５】
Ｗは、燐（Ｐ）であり；
変形αの場合に、
Ｒ１はｔ−ブチルであり、Ｒ２はメチルまたはエチルであり；
変形βの場合に、
Ｒ１はフェニルであり、Ｒ２はｔ−ブチルまたはメチルであり；
Ｒ３およびＲ４は、水素であり；
Ｒ５は、メチル、イソプロピル、ｔ−ブチル、アダマンチルまたはメシチルであり；
Ｒ６およびＲ７は、それぞれ独立に、水素、または６員芳香族環であり；
Ｒ８およびＲ９は、それぞれ独立に、水素、フェニル、または（ＣＨ2）4鎖である、請求項１３に記載の遷移金属錯体。
【請求項１６】
３−メシチル−１−（（Ｒ）−ｔ−ブチル（フェニル）ホスフィノメチル）−イミダゾル−２−イリデン；３−ｔ−ブチル−１−（（Ｒ）−ｔ−ブチル（メチル）ホスフィノメチル）−イミダゾル−２−イリデン；３−ｔ−ブチル−１−［（２−ｃ，５−ｔ−ジフェニルホスホラン−１−イル）メチル］−イミダゾル−２−イリデン；および、３−メシチル−１−（４−メチル−（Ｒax）−ジナフト［２，１−ｄ：１’，２’−ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン）−イミダゾル−２−イリデンから成る群から選択される少なくとも１つの化合物を配位子として含む、請求項１３から１５までのいずれか１項に記載の遷移金属錯体。
【請求項１７】
遷移金属として、Ｒｕ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ａｇ、ＣｕまたはＡｕを使用する、請求項１３から１６までのいずれか１項に記載の遷移金属錯体。
【請求項１８】
遷移金属錯体の製造法において、
（ａ）  少なくとも１つの溶媒を使用して、一般式ＩＩＩの光学活性配位子を、金属錯体と、−８０℃〜＋１２０℃の温度で５分〜７２時間反応させる工程；
または
（ｂ）  少なくとも１つの強塩基、およびエーテル性または他の非プロトン溶媒を各場合に使用して、式ＩまたはＩＩのイミダゾール含有燐化合物を、金属錯体と、−８０℃〜＋１２０℃の温度で５分〜７２時間反応させる工程；を含み、
Ｗがホスフィットである場合、（ａ）および（ｂ）の両方の場合において、少なくとも１つの還元剤、およびルイス酸を各場合に使用して、一般式ＩまたはＩＩＩの化合物を別個の先行段階で還元することを特徴とする、前記方法。
【請求項１９】
請求項１３から１７までのいずれか１項に記載の一般式ＩＩＩまたはＩＶの少なくとも１つの化合物を配位子として有する、少なくとも１つの遷移金属錯体を含む触媒。
【請求項２０】
（変形１）  少なくも１つの強塩基、およびエーテル性または他の非プロトン溶媒を各場合に使用して、式ＩまたはＩＩのイミダゾール含有燐化合物を、金属錯体と、−８０℃〜＋１２０℃の温度で５分〜７２時間反応させ、
Ｗがホスフィットである場合、少なくとも１つの還元剤、およびルイス酸を各場合に使用して、一般式Ｉの化合物を別個の先行段階において還元する；
または、
（変形２）  少なくとも１つの溶媒を使用して、一般式ＩＩＩの光学活性配位子を、金属錯体と、−８０℃〜＋１２０℃の温度で５分〜７２時間反応させ、
Ｗがホスフィットである場合、少なくとも１つの還元剤、およびルイス酸を各場合に使用して、一般式ＩＩＩの化合物を別個の先行段階において還元する；
または、
（変形３）  式ＶまたはＶＩの遷移金属錯体を、少なくとも１つの溶媒に溶解させる；
のいずれかによって製造可能な、請求項１９に記載の触媒。
【請求項２１】
有機変換反応のための、請求項１９または２０に記載の触媒の使用。
【請求項２２】
水素化、ヒドロ硼素化、ヒドロアミノ化、ヒドロアミド化、ヒドロアルコキシル化、ヒドロビニル化、ヒドロホルミル化、ヒドロカルボキシル化、ヒドロシアン化、ヒドロシリル化、カルボニル化、クロスカップリング、アリル置換、アルドール反応、オレフィンメタセシス、Ｃ−Ｈ活性化または重合のための、請求項２１に記載の触媒の使用。
【請求項２３】
不飽和有機化合物の不斉水素化のための、請求項１３に記載の遷移金属錯体を含む触媒の使用。
【国際調査報告】
2011514887.tif 000128
2011514887.tif 000129
2011514887.tif 000130
2011514887.tif 000131