(57)【要約】  複数の基板を個々の一体型回路ユニットへと切断する組立品であって、本組立品は、第１の搭載位置、第１のアラインメント検査ステーション及び、第１の切断区域の間を移動可能な、第１の基板を受け取る第１のブロックと、第２の搭載位置、第２のアラインメント検査ステーション及び、第２の切断区域の間を移動可能な、第２の基板を受け取る第２のブロックと、第１及び第２の切断区域の間を移動可能で、基板を個々の一体型回路ユニットに切断する切断装置と、第１及び第２のアラインメント検査ステーションの間を移動可能で、第１若しくは第２のブロックに配置された基板についてのアラインメントを決定するアラインメント検査装置とを備える。
2011527947.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の基板を個々の一体型回路ユニットへと切断する組立品であって、
第１の搭載位置、第１のアラインメント検査ステーション及び、第１の切断区域の間を移動可能な、第１の基板を受け取る第１のブロックと、
第２の搭載位置、第２のアラインメント検査ステーション及び、第２の切断区域の間を移動可能な、第２の基板を受け取る第２のブロックと、
第１及び第２の切断区域の間を移動可能で、基板を個々の一体型回路ユニットに切断する切断装置と、
第１及び第２のアラインメント検査ステーションの間を移動可能で、第１若しくは第２のブロックに配置された基板についてのアラインメントを決定するアラインメント検査装置とを備える、組立品。
【請求項２】
ユニット切断中に露出していた基板表面を洗浄する洗浄ステーションを備え、
第１及び第２のブロックは洗浄ステーションへと移動可能である、請求項１に記載の組立品。
【請求項３】
第１のブロックが洗浄ステーション内にあるときに第１の基板を洗浄する第１の洗浄部と、
第２のブロックが洗浄ステーション内にあるときに第２の基板を洗浄する第２の洗浄部とを備える、請求項２に記載の組立品。
【請求項４】
請求項２に記載の組立品であって、
洗浄ステーション内に配置された第１及び第２の洗浄区域の間を移動可能な洗浄装置を備え、
第１のブロックは第１の洗浄区域へ移動可能で、第２のブロックは第２の洗浄区域へ移動可能である、組立品。
【請求項５】
交互に行き来しながら基板を第１及び第２のブロックへ搭載する搭載装置を備える、請求項１から４のいずれか１つに記載の組立品。
【請求項６】
搭載装置は、個々の基板をテーブルに搭載する搭載組立品と、基板をテーブルから移動させて各ブロックへ係合させるフレーム把持装置とを備える、請求項５に記載の組立品。
【請求項７】
個々のユニットをブロックからまとめて把持して取り除くバルクユニット把持装置を備える、請求項１から６のいずれか１つに記載の組立品。
【請求項８】
ユニットがバルクユニット把持装置に把持されている間に個々のユニットを洗浄する第３の洗浄装置を備える、請求項７に記載の組立品。
【請求項９】
バルクユニット把持装置から一体型回路ユニットを受け取ってユニットを所定のカテゴリーに分類する分類システムを備える、請求項７又は８に記載の組立品。
【請求項１０】
ユニットをバルクユニット把持装置から受け取る乾燥ブロックと、
第１の受け取り位置及び第１の分類位置の間を移動可能で、第１のユニットバッチを受け取る第１の網テーブルと、
第２の受け取り位置及び第２の分類位置の間を移動可能で、第２のユニットバッチを受け取る第２の網テーブルと、
第１及び第２のユニットバッチのそれぞれを乾燥ブロックから待機ブロックへ運び、続いて、待機ブロックから、それぞれ第１及び第２の受け取り位置にある第１及び第２の網テーブルへ運ぶ第２のバルクユニット把持装置とを備える、請求項９に記載の組立品。
【請求項１１】
乾燥ブロックは、第１及び第２の表面を備え、バルクユニット把持装置は、第１のユニットバッチを乾燥ブロックの第１の表面へ運び、第２のユニットバッチを乾燥ブロックの第２の表面へ運び、ユニットバッチは、乾燥ブロックの第１及び第２の表面上において市松模様状に配置される、請求項１０に記載の組立品。
【請求項１２】
待機ブロックは、第１及び第２の表面を備え、第２のバルクユニット把持装置は、第１のユニットバッチを待機ブロックの第１の表面へ運び、第２のユニットバッチを待機ブロックの第２の表面へ運び、ユニットバッチは、待機ブロックの第１及び第２の表面上において市松模様状に配置される、請求項１０又は１１に記載の組立品。
【請求項１３】
分類システムは、第１及び第２の運搬システムを備え、
第１及び第２の運搬システムは、第１及び第２の網テーブルがそれぞれ第１及び第２の分類位置に存在する間に、ユニットをそれぞれ第１及び第２の網テーブルから指定されたカテゴリーへ運ぶ、請求項１０に記載の組立品。
【請求項１４】
運搬システムは、分類位置及び搭載解除組立品の間を直線型レールに沿って移動可能であり外部からは比較的不可視な複数のユニット把持装置を備える、請求項１０に記載の組立品。
【請求項１５】
搭載解除装置は、カテゴリーと対応するユニットを受け取るトレイを備え、トレイは、直線型レールに沿って移動可能でありユニットをカテゴリーと対応する貯蔵所へ運ぶ、請求項１１に記載の組立品。
【請求項１６】
カテゴリーには、ダメージのないユニットに対応する「良好」と、さらなる処理を行うことで「良好」へ昇格する「再加工」と、処分すべきユニットに対応する「不良」とが含まれる、請求項１２に記載の組立品。
【請求項１７】
ユニットをユニット把持装置から受け取って各網テーブルに運ぶ前にユニットを反転させるフリッパーを備える、請求項７から１３のいずれか１つに記載の組立品。
【請求項１８】
複数の基板を個々の一体型回路ユニットへと切断する方法であって、
第１の基板を第１のブロックへ配置する工程と、
第１のブロックを第１の搭載位置、第１のアラインメント検査ステーション及び、第１の切断区域の間で移動させる工程と、
第２の基板を第２のブロックへ配置する工程と、
第２のブロックを第２の搭載位置、第２のアラインメント検査ステーション及び、第２の切断区域の間で移動させる工程と、
切断装置を第１及び第２の切断区域の間で移動させて、切断区域に存在する第１若しくは第２の基板を一体型回路ユニットへと切断する工程と、
第１若しくは第２の基板に対し、アラインメント検査装置を第１及び第２のアラインメント検査ステーションの間で移動させて、それぞれのアラインメント検査ステーションに存在する第１若しくは第２の基板のアラインメントを決定する工程とを含む、方法。
【請求項１９】
第１のブロックを洗浄ステーションへ移動させる工程と、
切断中に露出していた第１の一体型回路ユニットの表面を洗浄する工程とを含む、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
第２のブロックを洗浄ステーションへ運ぶ工程と、切断中に露出していた第２の一体型回路ユニットの表面を洗浄する工程とを含む、請求項１８又は１９に記載の方法。
【請求項２１】
バルクユニット把持装置を用いて第１のブロックからユニットを取り除く工程と、第１のブロックを洗浄するために洗浄ステーションへ戻す工程とを含む、請求項１８又は１９に記載の方法。
【請求項２２】
バルクユニット把持装置を用いて第２のブロックから第２の一体型回路ユニットを取り除く工程と、第２のブロックを洗浄するために洗浄ステーションへ戻す工程とを含む、請求項１８から２０のいずれか１つに記載の方法。
【請求項２３】
複数の基板を個々の一体型回路ユニットへ切断する組立品であって、
第１の搭載位置及び第１の切断区域の間を移動可能で、第１の基板を受け取る第１のブロックと、
第２の搭載位置及び第２の切断区域の間を移動可能で、第２の基板を受け取る第２のブロックと、
第１及び第２の切断区域の間を移動可能で、基板を個々の一体型回路ユニットに切断する切断装置とを備える、組立品。
【請求項２４】
複数の基板を個々の一体型回路ユニットへと切断する方法であって、
第１の基板を第１のブロックへ配置する工程と、
第１のブロックを第１の搭載位置及び第１の切断区域の間で移動させる工程と、
第２の基板を第２のブロックへ配置する工程と、
第２のブロックを第２の搭載位置及び第２の切断区域の間で移動させる工程と、
切断装置を第１及び第２の切断区域の間で移動させて、切断区域に存在する第１若しくは第２の基板を一体型回路ユニットへと切断する工程とを含む、方法。
【請求項２５】
個々の一体型回路ユニットを分類する分類システムであって、
ユニットをバルクユニット把持装置から受け取る乾燥ブロックと、
第１の受け取り位置及び第１の分類位置の間を移動可能で、第１のユニットバッチを受け取る第１の網テーブルと、
第２の受け取り位置及び第２の分類位置の間を移動可能で、第２のユニットバッチを受け取る第２の網テーブルと、
第１及び第２のユニットバッチのそれぞれを乾燥ブロックから待機ブロックへ運び、続いて、待機ブロックから、第１及び第２の受け取り位置にある第１及び第２の網テーブルへ運ぶ第２のバルクユニット把持装置とを備える、分類システム。
【請求項２６】
複数のユニットを受け取る乾燥ブロックと、
乾燥ブロックから複数のユニットを受け取って反転させるフリッパーと、
フリッパーからユニットを受け取る網テーブルとを備え、
網テーブルは、所定の方向に向けられた第１及び第２のユニットバッチのそれぞれを受け取る２つの表面を備える、ユニット反転システム。
【請求項２７】
ユニットを乾燥ブロックからフリッパーへ移動させてフリッパーから網テーブルへ移動させる把持装置を備える、請求項２６に記載のユニット反転システム。
【請求項２８】
フリッパーは２つの表面を含み、その表面は、第１及び第２のユニットバッチをそれぞれ所定の方向を向いた状態で受け取る、請求項２６又は２７に記載のユニット反転システム。
【請求項２９】
乾燥ブロックは２つの表面を含み、その表面は、第１及び第２のユニットバッチをそれぞれ所定の方向を向いた状態で受け取る、請求項２６から２８のいずれか１つに記載のユニット反転システム。
【請求項３０】
待機ブロックを備えるユニット反転システムであって、
複数のユニットは網テーブルへ運ぶ前に待機ブロックへ運ばれる、請求項２６から２９のいずれか１つに記載のユニット反転システム。
【請求項３１】
待機ブロックは２つの表面を含み、その表面は、第１及び第２のユニットバッチをそれぞれ所定の方向を向いた状態で受け取る、請求項３０に記載のユニット反転システム。
【請求項３２】
把持装置は、複数のユニットから選択されたユニットを把持し、そのユニットを第１及び第２の仮配置にて配置する、請求項２７から３１のいずれか１つに記載のユニット反転システム。
【請求項３３】
選択的作動が可能な真空を用いてユニットを各係合媒体と係合させる、請求項２６から３２のいずれか１つに記載のユニット反転システム。
【請求項３４】
所定の方向には、第１のユニットバッチの市松模様状配置が第２のユニットバッチの市松模様状配置と逆方向であるような市松模様状配置が含まれる、請求項２６から３３のいずれか１つに記載のユニット反転システム。
【請求項３５】
一体型回路ユニットを受け取る変換キット組立品であって、
それぞれ単一のユニットを受け取る係合部を係合面において備える係合部材と、
第１の真空源と係合可能で、第１のダクト網を備える第１のマニホールド部材と、
第２の真空源と係合可能で、第２のダクト網を備える第２のマニホールド部材とを備え、
係合部材と第１及び第２のマニホールド部材を組み立てると、第１の真空源は複数の第１の係合部と真空接続し、第２の真空源は複数の第２の係合部と真空接続し、第１及び第２の係合部はそれぞれ所定の配列を形成する、変換キット組立品。
【請求項３６】
係合部材は、係合プレートと着脱可能な係合パネルとを備える組立品を備え、係合プレートは第１のマニホールド部材への据付を行い、係合パネルは係合面を有し係合プレートに連結される、請求項３５に記載の変換キット組立品。
【請求項３７】
少なくとも一つのマニホールド部材は、内部にダクトシステムを機械加工された複数のプレートを備える、請求項３５又は３６に記載の変換キット組立品。
【請求項３８】
機械加工によって形成されたダクトシステムは、プレート中におけるドリル、圧延、若しくは経路、又はこれらの組み合わせを備える、請求項３７に記載の変換キット組立品。
【請求項３９】
組み立てられた状態において係合部材とマニホールド部材は層を形成し、その層は止め具を用いて連結される、請求項３６から３８のいずれか１つに記載の変換キット組立品。
【請求項４０】
マニホールド部材は並んで連結してマニホールドブロックを形成し、そのブロックは、係合部材において係合面と反対側にある第２の面と連結する、請求項３６から３９のいずれか１つに記載の変換キット組立品。
【請求項４１】
一体型回路を係合する把持装置組立品であって、
複数の係合指を備える係合部材と、
係合部材の係合面から突出し、それぞれが単一のユニットと係合し、真空源が付与されると係合面から離れる方向に延び、真空源の付与が止められると引っ込む係合指と、
第１の真空源と係合可能で、第１のダクト網を備える第１のマニホールド部材と、
第２の真空源と係合可能で、第２のダクト網を備える第２のマニホールド部材とを備え、
係合部材と第１及び第２のマニホールド部材を組み立てると、第１の真空源は複数の第１の係合指と真空接続し、第２の真空源は複数の第２の係合指と真空接続し、第１及び第２の係合指はそれぞれ所定の配列を形成する、把持装置組立品。
【請求項４２】
係合指は、係合部材のダクト中に設けられたシャフトと、シャフトの第１の端において係合面から突出する係合表面と、シャフトと平行な直線状に据え付けられたばねと、シャフトと一体的な封止フランジとを備え、
ばねは、封止フランジと把持装置組立品の隣接部位の間に据え付けられ、真空源を付与すると封止フランジは真空源に向かって偏り、結果的にばねを圧縮し、真空源の付与を止めるとばねが封止フランジを延びた位置まで戻す、請求項４１に記載の把持装置組立品。
【請求項４３】
待機ブロック、乾燥ブロック、網テーブル、及びフリッパーの中の１つあるいはその組み合わせの表面が、請求項３５から４０のいずれか１つに記載の変換キット組立品を備える、請求項２６に記載のユニット反転システム。
【請求項４４】
把持装置が、請求項４１又は４２に記載の把持装置組立品を備える、請求項２６に記載のユニット反転システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は集積回路の処理に関し、特に、多数の集積回路を含む基板から、個々の単体集積回路についてダイシングや単体化を行う工程に関する。
【背景技術】
【０００２】
基板を単体集積回路へと切断する単体化装置について、その設計上の経済パラメーターを決定する際には、２つの重要な基準がある。それは、単位時間あたりの処理数（以降、ＵＰＨとする）と、装置の稼働に掛かる資本コストである。
【０００３】
従来の単体化装置は、アラインメントの確認や処理後の単体の洗浄といった中間工程を含む、基板を取り付けてからその後切断して取り外すまでの間における基板の処理を目的とする線形経路を提供する。
【０００４】
他の装置では、ＵＰＨを増加させるために、平行線形経路が組み込まれている。平行線形経路を組み込むことで、同時に２以上の基板の取り付けを行い、さらに、基板の切断及び取り外しの工程において、同時に、同一機能の装置で構成される複合ステーションを用いてアラインメントの確認や洗浄を行う。例えば、同時に２つの基板を処理するためには、２つからなる１組のダイシングソーが必要であることから、２つの分離した切断ステーションが用いられる。このような平行システムのＵＰＨは、処理中において障害や固定遅延があるせいで、単一の線形経路を組み込んだ機械のＵＰＨの２倍までは達しない。とは言いながらも、その効果としてＵＰＨの増加に寄与している。しかしながら、本システムの否定的側面として、各機能のステーションに対し多数のバージョンを提供するにあたり、余分な費用が掛かるという問題がある。例えば、２つの平行な基板経路に対応する第２の切断ステーションを備えるには、かなり多くの余分な費用が掛かる。
【０００５】
したがって、資本コストの劇的な増加を伴うことなく競争力のあるＵＰＨを提供できるシステムがあれば好ましい。
【発明の概要】
【０００６】
第１態様において、本発明は、複数の基板を個々の一体型回路ユニットへと切断する組立品を提供する。組立品は、第１の基板を受け取る第１のブロックと、第２の基板を受け取る第２のブロックと、基板を個々の一体型回路ユニットに切断する切断装置と、第１若しくは第２のブロックに配置された基板についてのアラインメントを決定するアラインメント検査装置とを備える。第１のブロックは、第１の搭載位置、第１のアラインメント検査ステーション及び、第１の切断区域の間を移動可能である。第２のブロックは、第２の搭載位置、第２のアラインメント検査ステーション及び、第２の切断区域の間を移動可能である。切断装置は、第１及び第２の切断区域の間を移動可能で、アラインメント検査装置は、第１及び第２のアラインメント検査ステーションの間を移動可能である。
【０００７】
第２態様において、本発明は、複数の基板を個々の一体型回路ユニットへと切断する方法を提供する。その方法は、第１の基板を第１のブロックへ配置する工程と、第１のブロックを第１の搭載位置、第１のアラインメント検査ステーション及び、第１の切断区域の間で移動させる工程と、第２の基板を第２のブロックへ配置する工程と、第２のブロックを第２の搭載位置、第２のアラインメント検査ステーション及び、第２の切断区域の間で移動させる工程と、切断装置を第１及び第２の切断区域の間で移動させて、切断区域に存在する第１若しくは第２の基板を一体型回路ユニットへと切断する工程と、第１若しくは第２の基板に対し、アラインメント検査装置を第１及び第２のアラインメント検査ステーションの間で移動させて、それぞれのアラインメント検査ステーションに存在する第１若しくは第２の基板のアラインメントを決定する工程とを含む。
【０００８】
本発明及び各種実施形態に関する以降の記述では、様々なパーツの説明に際し、互換性のある言語を用いる。例えば、基板を受け取るブロックには、チャックテーブルや他の装置も含まれる。本発明によって定められる切断処理にはダイシングソーが含まれるので、基板を線形的に切断することも考慮して、「切断」、「ソーイング」、「ダイシング」という言葉が互換可能な意味で用いられる。本発明には、レーザー切断や水噴流切断を含む、他の切断技術も含まれる。
【０００９】
従来技術のシステムが、純粋な線形処理工程あるいは個々の線形経路を平行に並べた平行経路を採用するのに対し、本発明は、競争力のあるＵＰＨを維持しながら、複数の複製装置よりもむしろ１つだけの主要装置による重複（平行）的処理を提供する。
【００１０】
さらなる実施形態では、組立品は洗浄ステーションを備える。第１及び第２のブロックは洗浄ステーションへと移動する。例えば、切断段階の完了後にブロックが洗浄ステーションへと移動し、ユニット切断中に露出していた基板表面が洗浄される。洗浄には、ユニットに空気若しくは水による噴流を受けさせる工程が含まれる。従来のシステムにおいて、切断後における一体型回路ユニットの洗浄は、切断を補助するために、水などの液体を用いた切断装置によって行われる。このように、切断処理後において、ソーに関連する水が、一体型回路ユニットを洗浄するために用いられる。これによって当然、切断サイクルは、切断段階を越えて洗浄段階まで続くことになる。切断処理に続いて、切断ステーションと分離した洗浄ステーションを提供することにより、切断ソーは次のブロックへ移動してすぐに切断を開始する。処理工程の中で切断サイクルが最も長く時間が掛かる。したがって、洗浄段階を移動させて切断サイクルを低減することにより、切断サイクルの欠点を低減するとともに、組立品全体のＵＰＨを増加させる。
【００１１】
ブロックを初期位置に戻すとともにブロックから一体型回路ユニットを取り除き、その後、各ブロックにおいて再度洗浄を行う。この作業はしばしば「治具洗浄」と言われる。また、従来のシステムにおける治具洗浄は、ブロックを切断ステーションに戻し、切断装置に関わる水噴流によって洗浄して行われていた。切断ソーは、治具洗浄で用いられており、次の切断作業のために利用することができないため、装置のＵＰＨは低減する。本発明の実施形態に従い、切断ソーと分離した洗浄ステーションを組み込むことで、切断ソーは治具洗浄中に利用不可能にはならず、続けて第２のブロック上にある基板の切断を行うことができる。
【００１２】
さらなる実施形態では、組立品は、第３の基板を受け取る第３のブロックを備える。第３のブロックは、第３の搭載位置、第３のアラインメント検査位置及び、第３の切断区域の間を移動可能である。この場合、切断装置は第３の切断区域へ移動可能で、アラインメント検査装置は第３のアラインメント検査位置へ移動可能である。このようにして、各ステーションの容量の最大化やＵＰＨの増加を図っている。
【００１３】
さらにブロックを追加して、各ブロックを含め基板の運搬を連続して行うことは、当業者であれば自明な事項である。このようにして各ブロックを追加することで、処理を平行して行っても良い。
【００１４】
さらなる実施形態では、いくつかのブロックがあって、各ブロックは、そこに基板が備えられ、また、切断区域及び検査区域へ移動可能である。ＵＰＨの増加や処理工程における欠点の防止を目的として、追加の切断装置が組み込まれる。このように、いくつかのブロックがあることから、設計者の要求を満たすためには最適数の切断装置が必要となる。
【００１５】
さらに、いくつかのブロックや切断装置に対応する追加の検査装置があっても良い。
【００１６】
このように、所望のＵＰＨを達成するために、切断やアラインメント検査に掛かる既知のレートから、この基準を満たすような、切断装置及びアラインメント検査装置の最適な数を計算することが可能である。組立品全体の中におけるこれらの機能的装置の数はブロックの数よりも少ないので、このような本発明の実施形態は、従来技術による平行システムとは異なる。よって、各ブロックは、切断装置及びアラインメント検査装置に対応する。さらに、単一の基板装置を用いる場合よりも相当高いＵＰＨを達成するため、明らかな利点を有する。
【００１７】
説明の目的のためだけに、このようなシステムの極端な実施の形態には、３つの切断装置と、２つのアラインメント検査装置と、これらと共に稼働する５つのブロックとが組み込まれている。この極端な例は操作の困難性という問題を有するが、ここには、先行技術に対する顕著な利点を提供するために本発明がとれる幅が示される。
【００１８】
第３態様において、本発明は、複数の基板を個々の一体型回路ユニットへ切断する組立品を提供する。組立品は、第１の基板を受け取る第１のブロックと、第２の基板を受け取る第２のブロックと、基板を個々の一体型回路ユニットに切断する切断装置とを備える。第１のブロックは、第１の搭載位置及び第１の切断区域の間を移動可能であり、第２のブロックは、第２の搭載位置及び第２の切断区域の間を移動可能であり、切断装置は、第１及び第２の切断区域の間を移動可能である。
【００１９】
第４態様において、本発明は、複数の基板を個々の一体型回路ユニットへ切断する方法を提供する。その方法は、第１の基板を第１のブロックへ配置する工程と、第１のブロックを第１の搭載位置及び第１の切断区域の間で移動させる工程と、第２の基板を第２のブロックへ配置する工程と、第２のブロックを第２の搭載位置及び第２の切断区域の間で移動させる工程と、切断装置を第１及び第２の切断区域の間で移動させることで、切断区域に存在する第１若しくは第２の基板を一体型回路ユニットへと切断する工程とを含む。
【００２０】
第５態様において、本発明は、個々の一体型回路ユニットを分類する分類システムを提供する。分類システムは、ユニットをバルクユニット把持装置から受け取る乾燥ブロックと、第１のユニットバッチを受け取る第１の網テーブルと、第２のユニットバッチを受け取る第２の網テーブルと、第１及び第２のユニットバッチのそれぞれを乾燥ブロックから待機ブロックへ運び、続いて、待機ブロックから、それぞれ第１及び第２の受け取り位置にある第１及び第２の網テーブルへ運ぶ第２のバルクユニット把持装置とを備える。第１の網テーブルは、第１の受け取り位置及び第１の分類位置の間を移動可能で、第２の網テーブルは、第２の受け取り位置及び第２の分類位置の間を移動可能である。
【００２１】
第６態様において、本発明は、ユニット反転システムを提供する。ユニット反転システムは、複数のユニットを受け取る乾燥ブロックと、乾燥ブロックから複数のユニットを受け取って反転させるフリッパーと、フリッパーからユニットを受け取る網テーブルとを備え、網テーブルは２つの表面を備え、表面は、所定の方向に向けられた第１及び第２のユニットバッチのそれぞれを受け取る。
【００２２】
第７態様において、本発明は、一体型回路ユニットを受け取る変換キット組立品を提供する。変換キット組立品は、それぞれ単一のユニットを受け取る係合部を係合面において備える係合部材と、第１の真空源と係合可能で、第１のダクト網を備える第１のマニホールド部材と、第２の真空源と係合可能で、第２のダクト網を備える第２のマニホールド部材とを備え、係合部材と第１及び第２のマニホールド部材を組み立てると、第１の真空源は複数の第１の係合部と真空接続し、第２の真空源は複数の第２の係合部と真空接続し、第１及び第２の係合部はそれぞれ所定の配列を形成する。
【００２３】
第８態様において、本発明は、一体型回路を係合する把持装置組立品を提供する。把持装置組立品は、複数の係合指を備える係合部材と、係合部材の係合面から突出し、それぞれが単一のユニットと係合し、真空源が付与されると係合面から離れる方向に延び、真空源の付与が止められると引っ込む係合指と、第１の真空源と係合可能で、第１のダクト網を備える第１のマニホールド部材と、第２の真空源と係合可能で、第２のダクト網を備える第２のマニホールド部材とを備え、係合部材と第１及び第２のマニホールド部材を組み立てると、第１の真空源は複数の第１の係合指と真空接続し、第２の真空源は複数の第２の係合指と真空接続し、第１及び第２の係合指はそれぞれ所定の配列を形成する。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明の一つの実施形態によるシステムを示す平面図
【図２】本発明の別の実施形態によるシステムを示す平面図
【図３Ａ】本発明のさらなる実施形態によるチャックテーブルの配置を示す図
【図３Ｂ】図３Ａのチャックテーブルの配置を示す図
【図３Ｃ】図３Ａのチャックテーブルの配置を示す図
【図４】本発明のさらに別の実施形態によるシステムのダイシング及び分類区域を示す立面図
【図５Ａ】本発明の別の実施形態による洗浄処理の連続工程を示す図
【図５Ｂ】図５Ａの洗浄処理の連続工程を示す図
【図６Ａ】本発明のさらに別の実施形態による分類システムを示す図
【図６Ｂ】図６Ａの分類システムを示す図
【図６Ｃ】図６Ａの分類システムを示す図
【図７Ａ】本発明の一つの実施形態によるユニット反転システムを示す立面図
【図７Ｂ】本発明の別の実施形態によるユニット反転システムを示す立面図
【図７Ｃ】本発明のさらなる実施形態によるユニット反転システムを示す立面図
【図７Ｄ】本発明のさらに別の実施形態によるユニット反転システムを示す立面図
【図８Ａ】図７Ａのユニット反転システムを示す平面図
【図８Ｂ】図７Ｂのユニット反転システムを示す平面図
【図８Ｃ】図７Ｃのユニット反転システムを示す平面図
【図８Ｄ】図７Ｄのユニット反転システムを示す平面図
【図９Ａ】本発明の一つの実施形態による搭載解除組立品を示す図
【図９Ｂ】図９Ａの搭載解除組立品を示す図
【図９Ｃ】図９Ａの搭載解除組立品を示す図
【図９Ｄ】図９Ａの搭載解除組立品を示す図
【図１０Ａ】本発明のさらなる実施形態による搭載解除組立品を示す立面図
【図１０Ｂ】図１０Ａの搭載解除組立品を示す立面図
【図１１Ａ】従来技術による変換キット組立品を示す図
【図１１Ｂ】従来技術による変換キット組立品を示す図
【図１１Ｃ】従来技術による変換キット組立品を示す図
【図１１Ｄ】従来技術による変換キット組立品を示す図
【図１１Ｅ】従来技術による変換キット組立品を示す図
【図１２Ａ】本発明の一つの実施形態による変換キット組立品を示す図
【図１２Ｂ】図１２Ａの変換キット組立品を示す図
【図１２Ｃ】図１２Ａの変換キット組立品を示す図
【図１２Ｄ】図１２Ａの変換キット組立品を示す図
【図１２Ｅ】図１２Ａの変換キット組立品を示す図
【図１２Ｆ】図１２Ａの変換キット組立品を示す図
【図１２Ｇ】図１２Ａの変換キット組立品を示す図
【図１３Ａ】本発明の別の実施形態による把持装置用の変換キット組立品を示す図
【図１３Ｂ】図１３Ａの把持装置用の変換キット組立品を示す図
【発明を実施するための形態】
【００２５】
添付の図面は、本発明によって実現可能な装置を示しており、これによって本発明を詳細に説明する。本発明は、他の装置を採用することも可能であり、結果的に、添付の図面の詳細が前述した本発明の一般概念よりも優先すると解釈すべきではない。
【００２６】
本発明は、資本設備の大幅な増加を伴うことなくＵＰＨを増加させる手段に関する。本発明の目的に合致する装置を用いるためには、基板を所望の位置へと移動させるための追加設備が必要となる可能性がある。また、システム全体の中における個々の装置の機能を複製するためには、これらの装置が、移動し、かつシステムを制御するものである必要があり、さらに、線形経路によって、単純な単一基板システムの様々なところで装置に掛かる費用が増加するおそれがある。とはいうものの、本発明の実施形態によれば、カッティングソーなどの装置の利用増加のおかげで、同一機能の装置について多数のバージョンを用意する必要なく、資本コストを削減できる可能性が高い。このように、本発明は、一つの実施形態において、利用可能な装置をより有効活用するために、時間差で各基板を各処理段階に置きながら、おおよそ同時に複数の基板を処理することを可能にする。第１の基板がアラインメントの確認を受けたり、その後切断されている間に、第２の基板が取り付けられ、ダイシング段階に備えて準備される。このように、本発明は、単一基板システムによるものよりも大きく、かつ利用可能な装置を有効活用した平行システムによるＵＰＨに匹敵するＵＰＨを維持しながら、複数のダイシングソーといった重複装置に掛かるコストの低減という利点を提供する。
【００２７】
図１は、上述の利点を提供する装置５を示す。装置５は、ダイシング部１０及び分類部１５の２つの部分に分けられる。搭載ステーション２０は基板を支持回転台２５に載せ、支持回転台２５は、基板の位置を、搭載位置からダイシング位置に変える。基板は、カメラ３５を備えるフレーム把持装置４０によって把持される。基板がフレーム把持装置４０によって把持される前に正しく整列していることを確認するため、カメラは、支持回転台２５上における基板の位置を確認する。フレーム把持装置４０は、２つのブロックのうちの１つへ基板を運ぶ。ブロックは処理段階に依存するが、ここではチャックテーブル４５、５０である。チャックテーブル４５、５０が配置されている第１の搭載位置を、以降の説明において「初期位置」と定義する。
【００２８】
ダイシング部１０内には、カッティングソー４７及びアラインメント検査装置４８も存在し、両者は、直線型スライド台に据え付けられて、２区域間を選択的にスライド移動する。さらに、ダイシング部１０内には、洗浄ステーション４９ａ、４９ｂも存在する。
【００２９】
チャックテーブル４５、５０の各々は、各カッティングソー、洗浄ステーション４９ａ、４９ｂ及びアラインメント検査装置４８と一致するために、直線型スライド台の上を移動するように配置される。カッティングソー４７は一時に１つの基板しか対応することができないので、第１のチャックテーブル４５と、第２のチャックテーブル５０のレール上の１点と一致する第２の切断区域とが利用可能となるように、カッティングソー４７は、レール上の一点と一致する第１の切断位置からスライド移動しなければならない。したがって、カッティングソー４７は、その時にどちらのチャックテーブルが使用中かに依存しながら、２つの切断位置間を前後にスライド移動する。同時に、アラインメント検査装置４８は、第１のチャックテーブルと対応する第１のアラインメント検査ステーションから、第２のチャックテーブルと対応する第２のアラインメント検査ステーションへと移動する。したがって、アラインメント検査装置４８は、どちらのチャックテーブルが使用中かに依存しながら、アラインメント検査ステーション間を前後にスライド移動する。
【００３０】
洗浄ステーション４９ａ、４９ｂは、本実施形態では所定の位置に固定されているため、第１のチャックテーブル４５と関連する洗浄ステーションは、第１のチャックテーブルに対応する洗浄部４９ａと、第２のチャックテーブルに対応する洗浄部４９ｂとを備える。本発明の他の実施形態は、カッティングソー及びアラインメント検査装置に類似する単一の洗浄部を備え、洗浄位置を選択的に移動させる。
【００３１】
チャックテーブル４５、５０の各々は、基板が切断ステーション４７に移動する前に、基板を検査ステーション４８へと運び、その後、洗浄ステーション４９ａ、ｂへと運ぶ。基板は一時に１つしか運ばれないので、いかなる基板も次の基板に関して時間差で処理される。
【００３２】
処理の一つの実施形態では、アラインメント検査４８の段階、あるいは切断４７の段階において、第２の基板は第２のチャックテーブル５０に搭載される。第１の基板の切断段階が完了したら、第１の基板は洗浄ステーション４９ａへと移動し、カッティングソーに切断されて表面上に集まった材料は洗い流される。洗浄ステーション４９ａは、切断された基板の表面から微粒子状物質を取り除くために、前述の表面に空気及び水による噴流を受けさせる。第１の基板が切断ステーションから離れると、第２の基板が第２の切断区域に運ばれる。第２の切断区域は、カッティングソー４７と一致し、カッティングソー４７は、第１の切断区域からスライド移動する。基板は、設計者の目的に合致するよう設定された期間までに、互いに時間差でシステム中の経路を移動する。
【００３３】
切断工程を補助する補助手段として、液体（水が多い）が用いられる。液体は、潤滑材及び冷却材として機能し、切断区域内の温度を維持する。従来技術のシステムにおいて、前述の水は切断工程後における基板洗浄手段として用いられており、さらに、ブロックから一体型回路ユニットが取り除かれると、ブロックは洗浄のためにカッティングソーのところへ戻される（治具洗浄で知られる）。基板の切断に掛かる実際の時間は、全工程の中でも相当な期間になる。切断表面に水を用いる従来システムにおいて、一体型回路の洗浄及びその後のブロックの洗浄は、別の基板の切断中で切断源が使用できない時間にまで及ぶ。
【００３４】
洗浄ステーション４９ａ、４９ｂを用いることの利点は、最初に基板を洗浄することでカッティングソーについて同様の洗浄をしなくて済むこと、及び、その後一体型回路ユニットがブロックから取り除かれたときに、同じ洗浄ステーション４９ａ、４９ｂを用いてカッティングソーの通常の機能を阻害することなく、再度治具洗浄を行えることである。したがって、装置について、装置と関係のない洗浄作業を取り除くことにより、基板を切断するカッティングソーの有用性は大幅に向上する。
【００３５】
本発明の一つの目的は、装置内のステーションにおける停止時間をできるだけ短くすることであり、別の目的としては、特定の段階で発生する障害を制限することがある。この場合、特定の段階の利用性よりも、むしろＵＰＨを最大とすることに主眼を置いている。
【００３６】
同様の工程と同じように、基板は６つの工程により処理されていく。その工程は順に、i）搭載４０、ii）アラインメント検査４８、iii）切断４７、iv）切断ユニットの洗浄４９ａ、４９ｂ、v）搭載解除６０、vi）治具洗浄４９ａ、４９ｂである。
【００３７】
本発明の鍵となる特徴は、装置５のあらゆるステーションが最適処理能力となるように２つの基板を開始時間はずらしながらも平行して処理すること、あるいは、ＵＰＨが最大となるように装置を操作することで処理工程中の臨界ポイントにおける障害を回避することである。例えば、上述の処理段階のうち切断については、継続時間が最も長いため、第２の基板を第２のチャックテーブル５０に搭載するのは、第１の基板の切断が始まる直前、あるいは既に始まった時まで遅れてしまう。第２の基板は、次の切断に備えて搭載及びアラインメントを受けても良く、あるいは切断ステーションが利用可能となるまで多少の時間待機しても良い。
【００３８】
本実施形態において、各種ステーション４７、４８がチャックテーブルへと移動することにより、チャックテーブル４５、５０上への基板の移動が行われる。すなわち、第１及び第２のチャックテーブル４５、５０は、レールや他の手段に沿って稼働することで、基板をアラインメント検査ステーション４８や切断ステーション４７へと移動させる。
【００３９】
装置はさらに、バルクユニット把持装置６０を備える。フレーム把持装置４０と共通のレールに沿って移動するバルクユニット把持装置６０は、単体化された一体型回路ユニットを、第１及び第２のチャックテーブル４５、５０からまとめて把持する。把持されたユニットは、洗浄ボックス６５を通過して乾燥ブロック７０へと配置される。
【００４０】
ユニットは続いて、フリッパー９０及び端部ブロック９５を通過し、その後反転し、第１の網ブロック８０若しくは第２の網ブロック１００へと運ばれる。単体化されたユニットがこの地点から平行な経路を通ることにより、第１の網ブロック８０は、２連レール１１８、１２０、１２５へと運ばれる。この２連レール上において、バルクユニット把持装置は、個々のユニットをトレイ１４２、１５２で識別される各種カテゴリーへ渡す。同様に、第２の網ブロック１００が、２連レール１３０、１３５、１３６と接続できるように配置される。２連レール１３０、１３５、１３６は、個々のユニットを再度把持してカテゴリートレース１４７、１５２へと渡すユニット把持装置を備える。
【００４１】
したがって、各トレイは、レールを備える。このレール上にて、トレイは、平行な２セットのレールから個々のユニットを回収し、最終的にそれらを終点貯蔵所１４０、１４５、１５０へ渡す。ここで、「良好」ユニットは貯蔵所１４０、１４５へと運ばれ、「再加工」ユニットは第３の貯蔵所１５０へと運ばれるが、「不良」ユニットは最終貯蔵所（図示せず）へ運ばれ処分される。
【００４２】
図２は、本発明の別の実施形態における装置６を示す図である。本実施形態は、０．５ｍｍ×０．５ｍｍ以上４ｍｍ×４ｍｍ以下の小さいユニットに対して効果的である。ユニットの様々なユニット把持装置に対する付加的な隙間は、以下で詳細に記述する。
【００４３】
相違点は乾燥ブロックにある。図１の実施形態では、単一の乾燥ブロック７０が全ての一体型回路ユニットを、バルクユニット把持装置６０から受け取る。図２では、２つの乾燥ブロック７０ａ、７０ｂに対し、それらによって２分されるようにユニットが提供される。このように２分することで、図１の実施形態のように１つだけ提供されるユニットから回収するよりも、２つの網テーブル８０、１００間における分離が促進される。
【００４４】
上述した装置は、本発明の一つの実施形態によるものである。図３−１０ではさらに、装置の様々な特徴が記載されており、以下で詳細に記述する。当然のことながら、ここで記述される装置は単に本発明の一つの実施形態に過ぎないため、適宜、他の装置を加えることも可能である。
【００４５】
図３Ａには、チャックテーブル装置の昇降が示されており、ここでは、基板が、一旦切断区域に渡されて、その後、洗浄ブロック６５で洗浄するときに取り除かれる。
【００４６】
基板２１０は、回転台２５へ搭載された後に回転し、後処理の切断区域に適合するように正しいアラインメント位置に配置される。直線型レール５５に沿って移動するフレーム把持装置４０は、カメラ３５を用いて基板２１０を検査するために、回転台２５に隣接しながら移動する。パラメーターが検知されると、フレーム把持装置４０は真空源を用いて基板を把持し、チャックテーブルが利用可能かどうかによって、第１若しくは第２のチャックテーブル４５、５０へ基板を配置する。装置が基板を順次処理していく時に、フレーム把持装置４０は、基板を第１のチャックテーブル４５、次に第２のチャックテーブル５０へと配置しながら、交互に行き来する。
【００４７】
基板２１０が第１に処理される時は第１のチャックテーブル４５へと運ばれ、第２に処理される時は第２のチャックテーブル５０へと運ばれる。この交互配置によって、基板を、前後の基板に対して時間差で平行して処理していくことが可能となる。基板が切断区域へ入るタイミングを正確に決めるため、チャックテーブル４５、５０のタイミングが決められる。代わりに、搭載装置２０の機能によって、処理中の基板のタイミングを決めても良く、さらにはそれに加えて、フレーム把持装置４０によって、基板が回転台２５からチャックテーブル４５、５０へ移動する時間を決めても良い。
【００４８】
チャックテーブル４５、５０は、図３Ｂ、３Ｃに示されている。これらのテーブルは回転可能であるため、切断区域４７内のカッティングソーへのアクセスが容易であり、また、ｘ及びｙ方向の切断が有効である。テーブルが回転することにより、装置による検査４８が促進される。
【００４９】
処理には、基板を第１のチャックテーブル４５へと配置する工程が含まれ、そのように配置された基板は、その後、切断４７の前にアラインメント検査４８へと運ばれる。チャックテーブル４５は回転可能であるため、アラインメント用カメラ４８及び切断源４７における基板のいかなるポイントへもアクセス可能であり、基板を完全に処理できる。第１のチャックテーブル４５はその後洗浄ステーション４９ａへ移動し、洗浄ステーション４９ａ上において、切断された基板はその表面に水や空気の噴流を受けて洗浄され、切断によって発生した微粒子状物質が除去される。その後、第１のチャックテーブルは初期位置に戻る。第１の基板の処理が開始された後、第２の基板は、第２のチャックテーブル５０上に配置され、その後、アラインメント用カメラ４８及び切断源４７へと運ばれ、最終的に、対応する切断ステーション４９ｂへと運ばれる。なお、アラインメント用カメラ４８及び切断源４７は、平行なレール上に設けられるとともに、第１若しくは第２のチャックテーブル４５、５０が処理中かどうかによって、その位置を変える。一方で、洗浄ステーションは、第１のチャックテーブル４５に対応する第１の部位４９ａと、第２のチャックテーブル５０に対応する第２の部位４９ｂとを備え、その位置は固定である。
【００５０】
チャックテーブル４５、５０が初期位置に戻ると、単体化された一体型回路ユニットは、バルクユニット把持装置６０によって把持される。直線型レール５５（フレーム把持装置４０のレールと同一）に沿って移動するバルクユニット把持装置６０は、ユニットをまとめてチャックテーブル４５、５０から把持して、洗浄ボックス６５へと運ぶ。洗浄ステーション４９ａ、４９ｂでは一体型回路ユニットの一つの表面が洗浄されるが、一方で、洗浄ボックス６５においては、ユニット把持装置によって一体型回路ユニットが把持され、その下部に洗浄装置がアクセス可能になるため、既に洗浄された表面と反対側の表面を洗浄することが可能である。洗浄方法の詳細については、図５Ａ、５Ｂで示す。
【００５１】
その後、一体型回路ユニットは、フリッパー９０及び端部ブロック９５へと運ばれる前に、図４で示される乾燥ブロック７０へと運ばれる。一体型回路ユニットを運ぶ手段には、第２の直線型レール７５に沿って移動する第２のユニット把持装置１１０が含まれる。別の実施形態では、網テーブル８０、１００にアクセスできるほどに直線型レール５５が延びている場合、第２のユニット把持装置も直線型レール５５に沿って移動する。しかしながら、本実施形態においては、第１の直線型レール５５は、バルクユニット把持装置６０が届く範囲の中で最も遠い位置にある乾燥ブロック７０にて終了する。その後、単体化された一体型回路は、第２のユニット把持装置１１０によって動きを支配されて、乾燥ブロックからフリッパー９０へと運ばれ、続いて、第１の網ブロックテーブル８０若しくは第２の網ブロックテーブル１００へと運ばれる。基板が第１及び第２のチャックテーブル４５、５０へと運ばれるのと同様に、第２のユニット把持装置１１０は、交互に行き来しながら、ユニットを網テーブルへ運ぶ。
【００５２】
図５Ａ、５Ｂは、洗浄ボックス６５に関するもので、単体化された一体型回路ユニットについて、乾燥ブロック７０へと運ばれる前の洗浄処理を示す。まず、バルクユニット把持装置６０がユニットを洗浄ボックス６５へと下降させると、ノズル２２５がユニット２２３に対し空気噴流２３０を与え、ユニットに付着した微粒子状物質を除去する。ここで、ブラシ２３５は、空気噴流２３０を邪魔しないように、引いた位置に配置される。所定の期間経過後に空気噴流が止まり、ブラシ２３５は、ユニット２２３に接触するように拡張位置２４０まで移動する。その後、バルクユニット把持装置６０が、ブラシ上を通過しながら相互移動２４５を行うことにより、微粒子状物質の最終除去が実施される。このブラッシング動作が完了したら、ユニットは乾燥ブロック７０へ運ばれる。
【００５３】
第１及び第２の網テーブル８０、１００は、平行な２連レールに近接できるようにするため、直線型スライド台上に設けられる。各レールは、そこに設けられた個々の網把持装置を備える。図６Ａ、６Ｂ、６Ｃに示される装置においては、把持装置２４８、２５０、２５２、２５５、２６０、２６２が、網テーブル８６、１０４からユニットを把持し、そのユニットを直線型レール１１８、１２０、１２５、１３０、１３５、１３６経由でトレイ１４２、１４７、１５２へと運ぶ。
【００５４】
第１の網ブロック８０の配置を例にあげると、ブロック８０は、ユニット把持装置２４８、２５０、２５２にアクセス可能となるように、第１の２連レール１１８、１２０、１２５へと運ばれる。第１の網テーブル８６は回転可能（例えば、８５参照）であるため、各ユニットによるユニット把持装置２４８、２５０、２５２へのアクセスが促進される。なお、特に図６Ｃでは、一体型回路ユニットは、２つの網テーブル８６、１０４上に、市松模様状となるように配置される。ユニット把持装置１１０はユニットを乾燥ブロック７０から持ち上げ、ユニットの半分を第１の網テーブル８０上へ、残りの半分を第２の網テーブル１００上に載せる。その結果として、個々のユニット把持装置２４８、２５０、２５２、２５５、２６０、２６２は、前述の配置にあるユニットを把持して各トレイへと運ぶことになる。
【００５５】
各ユニット把持装置２４８、２５０、２５２が一杯であれば、ユニットを２連レール１１８、１２０、１２５と対応する「良好」トレイ１４２へ運ぶ前に、最終検査を実施するため、別の検査ステーション１０２を経由してから、対応するトレイ１４２へと運ぶ。なお、それぞれの２連レールには、単一の「良好」トレイが備えられている。例えば、トレイ１４２は第１の網ブロック８６用のレールと対応し、第２の「良好」トレイ１４７は第２の網ブロック１０４用のレールと対応する。「再加工」に該当するユニットの割合は少ないため、単一の「再加工」トレイ１５２を２組の２連レール間において利用可能にして、網テーブル８６、１０４における「再加工」ユニットを「再加工」トレイ１５２へと運ぶ。
【００５６】
なお、代替案として、より大きな単一の「良好」トレイを２組の２連レール間にて使用可能とすることも考えられる。同様に、「再加工」トレイ１５２を単一の「不良」の貯蔵所に置き換えても良いが、そこでの一体型回路の再加工は、非実用的であるか若しくは非効率なコストが掛かる。
【００５７】
さらに、１組の２連レールが使用可能であっても良く、その場合、２つの網テーブル８６、１０４が交互に移動しながらユニットをレールへ運ぶため、装置５内の設備は削減される。２組の２連レールの場合よりもむしろ、２つの単一のレールであって、それぞれが、そのレールの上を移動可能なように配置された２つのユニット把持装置を有するレールである場合には、ユニット把持装置の動きが互いに制限されず、例えば、ユニット把持装置はレールの両側に設けられているため、レールは、把持装置や当業者にとって自明な他の手段に対し２通りの接続方法を有する。
【００５８】
図７は、トレイ１４２、１４７、１５２から取り出されたユニットを内部に備える、網テーブル８０及び終点貯蔵所１４０、１４５、１５０の位置を、詳細に示す図である。
【００５９】
本実施形態では、トレイ１４２、１４７から取り出された「良好」ユニットはそれぞれ「良好」貯蔵所１４０、１４５へと運ばれ、それによって必然的に、「再加工」ユニットは「再加工」貯蔵所１５０へ、「不良」ユニットは別の貯蔵所（図示せず）へと運ばれる。
【００６０】
図７Ａ−７Ｄ及び図８Ａ−８Ｄは、切断システムと分類システム間の処理における中間段階について様々な実施形態を示す。本中間段階について、定義するために異なるステーションを内部に備えた「ユニット反転システム」と呼ぶ。本実施形態におけるステーションは、様々なものが定められており、ユニットがそこから取り出される乾燥ブロック７０、乾燥ブロックからユニットを受け取って反転させるフリッパー９０、反転したユニットをフリッパーから受け取る待機ブロック９５、マーキング視覚チェックが実施されている間に一時的にユニットを保持する網テーブル８０、１００が挙げられる。網テーブル上のユニットは、そこから、以降で記述する分類システムへと運ばれる。
【００６１】
前述のステーションに加え、図７Ａ−７Ｄには、ユニット検査ステーション１０２の１つが示されており、ここでは、ユニット反転システム内においてユニット把持装置２５２によって把持されたユニットを見るために設けられたカメラがある。
【００６２】
図７Ａに記載のユニット反転システムには、乾燥ブロック７０及び待機ブロック９５についての１つの配置が示されている。図１の実施形態では、乾燥ブロックは、一体型回路ユニットを全て、基板から単体化された時と同じ配列方向で受け取る。
【００６３】
図８Ａに記載の配置においては、乾燥ブロック７０が、一組の乾燥ブロック表面７０ａ、７０ｂを有する。ユニットがバルクユニット把持装置によって乾燥ブロック上に同一方向に置かれる代わりに、ユニットは２つの乾燥ブロック表面７０ａ、７０ｂ間において市松模様状に分けられる。このようにすることで、個々の小さなユニットへのアクセスに対し、ユニット周囲に大きな隙間がもたらされるため、運搬中のユニットの取り扱いが良好になる。図８Ａにはさらに、第１及び第２の表面９５ａ、９５ｂを有する待機ブロック９５が示されている。図８Ａの配置には、乾燥ブロック７０へ運ばれた時と同じ方向のユニットを受け取る単一のブロックとして、待機ブロック９５が示されている。本実施形態において、待機ブロックはそれぞれ、分離した真空ラインを有する２つの表面９５ａ、９５ｂに分けられ、第１及び第２のユニットのバッチは、第１の網テーブル８０への配置を強化するために第２のパッケージ把持装置１１０によって把持される。
【００６４】
明確化のために、市松模様状に配置された第１及び第２のユニットバッチをそれぞれ「Ｐ１配置」、「Ｐ２配置」と定める。両配置は、市松模様状であるものの、最初に基板から切断された時の一様な配置から分けられて、反対方向に向けられる。待機ブロック表面９５ａ、９５ｂ上に市松模様状に配置された第１及び第２のユニットバッチは、第２のパッケージ把持装置１１０によって把持され、第１の網テーブル８６へ運ばれる。続いて、第２のユニットバッチは、再度、第２のパッケージ把持装置１１０によって把持され、第２の網テーブル１０４へ運ばれる。従来技術における装置は、第２のパッケージ把持装置１１０を備えるが、その把持装置１１０は、待機ブロック９５からユニット（若しくはパッケージ）の基板全体を把持し、その後、単一の網テーブルまで移動し、パッケージの前半部分を市松模様状に配置する。この動作の間に、第２のユニット把持装置１１０によって保持されているパッケージの後半部分は、パッケージの前半部分が網テーブル表面にと接触することを防止する。それは、パッケージの前半部分が網テーブル表面と接触しない必要があるからである。本発明によれば、パッケージの前半部分は、網テーブルポケット中に提供されることにより網テーブルポケットと十分な接触を確保するが、その目的は、第２のパッケージ把持装置が、残りの部分を別の真空によって待機ブロック９５ｂに保持されたパッケージの前半部分を、待機ブロック９５ａから把持しなければならないようにするためである。
【００６５】
図７Ｂ、８Ｂは、図７Ａ、８Ａとは別の配置を示す。この配置においては、乾燥ブロック７０が１つのみ存在する。乾燥ブロック７０からユニットが取り出されるが、この時点でのユニットは、Ｐ１配置及びＰ２配置に分けられていない。その後、ユニットは、それぞれＰ１配置及びＰ２配置となるように、積み重なっている待機ブロック表面９５ａ、９５ｂへ運ばれる。ユニットを分離する手段は様々であるが、その手段には第２の把持装置１１０の使用が含まれており、第２の把持装置１１０は、ユニットを選択的にＰ１配置となるように把持し、第１の表面９５ａへと運ぶ。第２の把持装置１１０は続いて、残りのユニットをＰ２配置となるように把持し、第２の待機ブロック表面９５ｂへと運ぶ。例を挙げると、図１３Ａ、１３Ｂに示される把持装置組立品は前記利点を達成する手段の一つである。しかしながら、本発明は、ユニットをそれぞれＰ１配置及びＰ２配置に分離することが可能な１つ以上の組立品を用いることに制限されない。
【００６６】
その後、ユニットは、Ｐ１配置及びＰ２配置の状態で、第１及び第２の網テーブル８０、１００へと運ばれる。
【００６７】
図７Ｃ、８Ｃには別の実施形態が示されており、ここでは、図７Ｂ、８Ｂの実施形態のフリッパー９０が二重フリッパー９０Ａ、９０Ｂに置き換えられ、ユニットは、図７Ａ、８Ａ、７Ｂ、８Ｂの実施形態における単一バッチのように、乾燥ブロック７０からフリッパー９０を経由して待機ブロック９５へ運ばれる。また、図７Ｃ、８Ｃの実施形態においては、乾燥ブロック７０から二重フリッパー９０Ａ、９０Ｂへの運搬中に、ユニットバッチの分離が行われる。
【００６８】
図７Ｄ、８Ｄに示される次の実施形態では、ユニット反転システム内の各ステーションは、分離されたバッチ配置のユニットを把持しＰ１配置及びＰ２配置へと分離する工程を含む。このようにして待機ブロック７０Ａ、７０Ｂは、Ｐ１配置及びＰ２配置のユニットを受け取る。続いてこれらのユニットは、フリッパー９０Ａ、９０Ｂへ、さらに待機ブロックの２つの表面９５Ａ、９５Ｂへ、最終的に第１及び第２の網ブロック８０、１００へと運ばれる。
【００６９】
反転システム内の各種ステーションにおけるユニットを把持する方法は、本発明の範囲内で適宜変更しても良い。好ましい実施形態では、真空システムは、処理段階に応じて選択的にユニットを把持する若しくは離すものとして機能する。変換キット組立品であって、機械にフィットし、さらに、機械の内部若しくは外部に存在する真空源と係合する変換キット組立品を用いても良い。変換キット組立品の利点としては、機械全体を通して処理される異なった種類のユニットに対し、それと対応する着脱可能な係合プレートを備えることが挙げられる。これによって、妥当な反転時間内で把持したり離したりすることができるため、機械の高度な柔軟性が、可能な限り様々なユニットと同じぐらいの幅広さを以って達成される。このような変換キット組立品の１つがＰＣＴ／ＳＧ２００５／０００２４０に記載されており、この内容を参照することにより本明細書に組み込まれる。２００４年１１月に最初に市場に導入されたシステムは図１１Ａ−１１Ｅに示されており、本明細書に記述される発明の１つの実施形態は図１２Ａ−１２Ｇに示されている。また、このような変換キット組立品を、本明細書に記載の反転システムと組み合わせて用いても良い。
【００７０】
例外として、図７Ｃ、７Ｄで示される２重フリッパーの装置がもたらす利点は反転工程においては不要であるから、２重フリッパーは必ずしも必要でない。
【００７１】
ユニットをＰ１配置及びＰ２配置へ分離することによる利点は、反転システム内において分離手段が適用される各種ステーションによって変わる。一般的に、Ｐ１配置及びＰ２配置を有することで、空気洗浄のための有用な隙間がもたらされるため、単体化工程で発生した破片を除去することができる。さらに、水で洗浄された表面を乾燥させる際、隣接するユニット間に残存する水を介して発生する毛細管現象を考慮する必要はなく、容易に乾燥が達成される。この場合、単体化後の隣接するユニット間の隙間は０．２ｍｍ−０．３ｍｍのオーダーであり、十分な量の水が残されている。これと、Ｐ１配置及びＰ２配置によってもたらされる隙間とを比較すると、後者の場合にはユニット自身の幅が１ｍｍ×１ｍｍである。しかしながら、Ｐ１配置及びＰ２配置へとユニットを分離することで、ユニット間の空間が増加するため、さらなる毛細管現象の発生をできるだけ小さくすることができる。
【００７２】
さらに、ユニット間により大きな隙間が発生することで、画像装置による検査がしやすくなる。ユニットの直線的な縁は、分離されていないユニットの配列間における微小隙間に隠れた堆積物に対して、容易に識別可能である。さらに、ユニット間の隙間の増加により、この隙間の中に光が入射しやすくなるため、ユニットの視覚性が向上し、結果的には検査精度の向上につながる。
【００７３】
さらなる利点には、切断工程の完全性も含まれる。元の基板はプラスチックシートなどの支持物の上に置かれているので、ダイシングソーは、支持物を完全には切断せずに、基板を切断してユニットを単体化することができる。
【００７４】
また、切断工程が完了しても、ユニットの隙間が小さすぎて洗浄できないため、切断により生じた堆積物がユニット間に残存する。この現象は特に、不適切な切断器具を用いて、堆積物が多く生成されたり、あるいは除去困難なほど小さい堆積物が生成される場合に顕著である。このように、ユニットが切断されても、基板全体としては効率的に切断されていない。このような問題は通常、検査工程中において確認されるが、近接するユニット間に微小隙間があることを考慮すると、完全には切断されていない部分を識別することは、容易ではない。一方で、ユニットが異なる方向に向けて分けられているときは、プラスチック支持物が完全に切断された場合にしか前述の識別が可能とならない。したがって、Ｐ１配置及びＰ２配置に分離されない基板は、検査によって簡単に識別される。
【００７５】
図９Ａ−９Ｄは、トレイ１４２、１４７、１５２が組み込まれた搭載解除装置１３８を様々な視点から示す図であり、ここでは、搭載解除装置を組み込むことで、前記トレイについて、対応する貯蔵所１４０、１４５、１５０への運搬が促進される。
【００７６】
良好ユニット用のトレイ１４２、１４７と再加工ユニット用のトレイ１５２にユニットが搭載されたら、トレイは運搬機によってトラック２６５に沿って運ばれる。良好ユニットが搭載されたトレイ１４２、１４７は、最終的に、取り除かれるとともに積み重ねられてトレイ組立体となる。トレイ１５２も同様に、ユニットが搭載された後、トレイ１４２、１４７が積み重ねられたトレイ組立体へと運ばれる。
【００７７】
図１０Ａ、１０Ｂは、別の搭載解除装置１３９を示す。図９Ａ−９Ｄの搭載解除装置１３８とは異なり、ここでは、各種トレイはプレート１６５上へと運ばれ、レールに沿って移動するプレート１６５は、各種一体型回路ユニットを受け取る。本実施形態によれば、トレイは垂直作動装置１８０上に積み重ねられ（１７０）、作動機１８５は積み上げられたトレイを２０３へ移動させる。組立体１９０、１９５、２００がトレイで一杯になると、作動機１８５によってトレイは下方へ動かされ（２０５）、組立体２００は空になる。そこからトレイは、組立品の外へと水平方向にスライド移動し、取り除かれる（１７５）。
【００７８】
図１１Ａは先行技術による変換キット組立品２８０を示す。上述したように、２００４年１１月に出願人は、ＰＣＴ／ＳＧ２００５／０００２４０に関連して、変換キット組立品２８０に関連する装置の実用化を行っている。また、この内容を参照することにより本明細書に組み込まれる。組立品２８０は、係合プレート２８５と、マニホールドプレート２９５とを備え、マニホールドプレート２９５は、係合プレート２８５及びマニホールドプレート２９５間に嵌るガスケットプレート２９０を備える。組立品２８０は、ピン３２５など複数の留め具によって互いに固定されている。図１１Ｂ−１１Ｅは、組立品２８０の様々な特徴を示す図である。
【００７９】
マニホールドプレート２９５は、機械内部の真空源（図示せず）とマニホールドプレート内のポートとを係合させるために用いられ、ポートは、２つの分離した真空源とＰ１配置及びＰ２配置とを接続する。その目的は、切断された一体型回路ユニットに対し異なる真空源を付与することにより、ユニットを、図１１Ｄで示されるＰ１配置の市松模様や、図１１Ｂで示されるＰ２配置の市松模様状へ選択的に保持できるようにするためである。マニホールドプレートにより、全てのポートを同時に係合させることも可能であり、そのようにして各ユニットに真空源を提供することで、Ｐ１配置及びＰ２配置の両方を用いることができる。これによって、係合プレート２８５の容量をできるだけ小さくすることができる。
【００８０】
次に図１１Ｂを見ると、マニホールドプレート２９５、Ｐ１ポート３１７Ａ−３１７Ｃ及びＰ２ポート３１９Ａ−３１９Ｃの下部が示されている。これらは異なる２つの真空源の位置に対応しているため、組立品２８０の各種異なる機械への順応性が高まる。さらに、用いられる機械が異なる配置の真空源を有する場合に備えて、側部ポート３１５、３２０も設けられている。この場合、側部ポートは、マニホールド体の加工を容易にするための機械加工穴部でも良い。
【００８１】
それでもなお、全てのＰ１ポート３１７Ａ−３１７Ｃ、３１５が、係合プレート２８５内に設けられた係合部３００の半分のみに対応するダクトの集合体と接続し、これらの係合部は図１１ＤのＰ１配置に関する。
【００８２】
上記に応じて、Ｐ２ポート３１９Ａ−３１９Ｃ、３２０も同様に、係合部３００の残り半分と接続した異なるダクトと係合し、対応するユニットは、図１１Ｅで示されるような反対向きの市松模様状に配置される。続いて、Ｐ１用ダクトとＰ２用ダクトとは隔離されているので、ユニットを係合プレート２８５の全ての部分と係合させるためには、それぞれ少なくとも一つのＰ１ポート及びＰ２ポートが係合される必要があり、そうすることで係合プレート内の各部分に真空源を供給することができる。
【００８３】
Ｐ１用ダクトに関して述べると、各ポート３１７Ａ−３１７Ｃ、３１５から直接、Ｐ１用の縦方向ダクト３１８へ供給される。縦方向ダクト３１８から複数の直交ダクト３３７へと供給され、同様に、前記直交ダクト３３７から垂直ダクト３３５へ供給される。この時、垂直ダクト３３５は、係合プレート２８５内のダクトに対応し、その後、一体型回路の係合が実施される。
【００８４】
同様に、Ｐ２用ダクトに関して述べると、Ｐ２ポート３１９Ａ−３１９Ｃ、３２０において真空源との係合が実施される。前記Ｐ２ポートは、縦方向ダクト３２１と接続する。縦方向ダクト３１８と同様に、Ｐ２用縦方向ダクト３２１は、マニホールドプレート２９５の全長にわたって延びるとともに、両端にポートを備える。このようにして、Ｐ２ポート３１９Ａ−３１９Ｃは、マニホールドポート２９５における反対側の端に位置する２つの残存ポート３２０を備えるマニホールドポート２９５の土台部分から、縦方向ダクト３２１へ通じている。
【００８５】
縦方向ダクト３２１は複数の直角ダクト３３２と接続する。前記直角ダクト３３２は複数の直角ダクト３４０を備え、前記直角ダクト３４０は、マニホールドプレート２９５の上面まで上方に延びる。前記マニホールドプレート２９５の上面において、垂直ダクト３４０は、各種係合部３００に真空源を提供する係合プレート２８５内のダクトと接続する。
【００８６】
図１１Ｃは係合プレート２８５を示す。係合プレート２８５とフィットするのは挿入部３５０であり、前記挿入部３５０は、一体型回路ユニットを受け取るためのゴム製のマウントを形成する。したがって、係合部３００は、共にユニットを受け取る、垂直ダクト３５５及び挿入部３５０を備える。ユニット自身は、挿入部３５０の上面上に配置されるとともに真空を通じて所定の位置に保持される。真空は、係合プレート２８５の垂直ダクト３５５と接続する挿入部内のダクト３６０を通じて提供される。例えば、図１１Ｃの実施形態の係合プレート２８５は、ユニットの全容量を受け取るように配置された挿入部３５０を備える。以降の図１１Ｄ、１１Ｅで示されるが、挿入部３５０は、除去可能であるため、市松模様の配置を形成し、一体型回路の半分の容量を受け取るように作用する。
【００８７】
図１１Ｄに示されるＰ１配置３６５は、係合部３００内の挿入部３５０によって形成されている。係合プレート２８５は、マニホールドプレート２９５に備え付けられる。真空源の流路はポート３１７Ａ−３１７Ｃから始まり、真空は、マニホールドプレート２９５の土台部分において受けられる。前記真空は、八角形の縦方向ダクトを通じ、最終的には垂直ダクトを通じて係合プレートの垂直ダクトに達する。その後、真空は、挿入部３５０内のダクト３６０を通じて、挿入部３５０に備え付けられたユニットと接続する。このように、Ｐ１配置を用いた真空流路により、真空源を特にＰ１配置３６５内のユニットに提供することができる。
【００８８】
図１１Ｅは、Ｐ２配置について上記と同様の状況を示す。係合プレート２８５の上面は、挿入部３５０によるＰ２配置３７０を備えるが、図１１ＤのＰ１配置とは対向している。
【００８９】
この場合、マニホールドプレート２９５の土台内部にあるＰ２ポート３１９Ａ−３１９Ｃを通じて、挿入部３５０に真空がもたらされる。縦方向ダクト及び垂直ダクトを通ることで、これらのダクトは、Ｐ２配置３７０と対応する係合プレート２８５内の垂直ダクトと通じる。したがって、ユニットをＰ２配置３７０に配置するために、真空源がＰ２ポートにもたらされる。
【００９０】
図１２Ａは、本発明の一つの実施形態による変換キット組立品一式３８０を示す。ここで、組立品３８０は、Ｐ１用マニホールドプレート３８５と、分離した別個のＰ２用マニホールドプレート３９０とを備える。前記マニホールドプレートは係合プレート３９５と係合し、前記係合プレート３９５は複数のモジュール係合部材４００を備え、前記モジュール係合部材４００は、係合プレート３９５のくぼみ内に嵌り、固定プレート４０５によって所定の位置に保持される。
【００９１】
従来技術においては、単一のマニホールドプレートが備えられ、このプレート内にそれぞれの方向を向いたダクトが存在するのに対し、本発明の変換キット組立品は、別個のマニホールドプレートを提供する。別個のマニホールドプレートを提供することで、使用されているユニットの要求に合致するような異なるダクトを有する異なるプレートを備えたモジュール性を高めることができる。
【００９２】
一つのバッチにおいて、２つのマニホールドプレートが、例えば１ｍｍ×１ｍｍサイズのユニットを１１×１１の配列にしたものと、係合しても良い。しかしながら、次の配列は、３ｍｍ×３ｍｍのユニットを用いて、５×５の配列としている。ユニットの配列を所望の市松模様状や他のパターンにするために、モジュールマニホールドプレートは所望のパターンと合うように変化する。このことは、市松模様状が所望パターンではないがユニット全体のストリップが所定の位置に保持されるべきである場合に適用される。
【００９３】
図１２Ｃは、係合プレート３９５の詳細を示す図で、この係合プレート３９５は、その内部に存在するくぼみ４１２の内部に設けられたモジュールパネル４１０を備える。さらに、モジュールパネル４１０は、係合プレート３９５に備え付けられた固定プレート４０５によって所定の位置に保持される。
【００９４】
なお、係合プレートは複数の垂直ダクト４１５を備え、垂直ダクト４１５は、パネル４１０によって係合される各ユニットがとりうる位置と対応する。このように、ダクト４１５はパネル４１０内の他のダクトと対応しているため、真空源との接続が可能となり、よって、変換キット組立品３８０に備え付けられた状態で、ユニットを所定の位置に固定することができる。
【００９５】
図１２ＤはＰ２用マニホールドプレート３９０を示す。ここで、Ｐ２ポート４２０は、プレート３９０の反対側の端に配置されるとともに縦方向ダクト４２５と接続している。縦方向ダクト４２５からダクト配列４３０が延びており、ダクト配列４３０は、係合プレート３９５と共に用いられるＰ２配置と対応する。本実施形態において、Ｐ２用ダクト配列には、プレート３９０の上面内に経路として形成された格子パターンが含まれる。したがって、マニホールドプレート内に穴を開けることで形成されるダクトよりも、先行技術とは大きく異なり、本実施形態において、ダクト配列は、係合プレート３９５と係合して閉じられるダクト配列の上面に開溝が設けられているため、先行技術のように穴を開けて作られたダクトが用いられるときと同じように、閉じたダクトとして効率的に機能する。このことにより、製造の容易性はさておき、薄いプレートの使用が可能となる。なぜなら、プレート内に穴を開けるためにプレートの最小限の厚さを考慮する、ということが必要でないからである。
【００９６】
Ｐ２用ダクト配列４３０によって形成された格子の各四角形内に垂直ダクト４３５が存在し、垂直ダクト４３５は、Ｐ１用マニホールドプレート３８５の下部と接続するため、Ｐ２用マニホールドプレート３９０の厚みを超える。したがって、Ｐ２用マニホールドプレート３９０が係合プレート３９５に対し真空源との接続を提供しているため、Ｐ２用マニホールドプレート３９０を貫通する垂直ダクト４３５によって、Ｐ１配置を有する真空源による、Ｐ２用マニホールドプレート３９０へのバイパスの形成が可能になる。
【００９７】
図１２ＥはＰ１用マニホールドプレート３８５を示す。Ｐ１用マニホールドプレート３８５の土台部分には、Ｐ１ポート４５０Ａ−４５０Ｃ及びＰ２ポート４５５Ａ−４５５Ｃが存在する。Ｐ２配置と関連するポートは、Ｐ１用マニホールドプレートを貫通する垂直ダクトと接続して、Ｐ１用ダクト配列にバイバスを形成する。
【００９８】
Ｐ１ポート４５０Ａ−４５０Ｃは縦方向ダクト４４５と接続し、縦方向ダクト４４５は、プレート３８５の全長にわたって延びるとともにその片側の端にＰ１ポート４４０を有する。これにより、プレートの側部から真空源との接続がもたらされる。
【００９９】
縦方向ダクト４４５は複数の直角ダクト４６０と接続する。この場合、直角ダクトは、Ｐ１用マニホールドプレート３８５の上面における複数の平行な溝であり、さらに、Ｐ２用マニホールドプレート３９０内の垂直ダクト４３５と通じるように配置される。このように、Ｐ１配置と対応する真空源は、まずポート４５０Ａ−４５０Ｃ、４４０、次に直角ダクト（溝）４６０、その次に垂直ダクト４３５を通ることで、係合プレート３９５と接続する。
【０１００】
図１２Ｆは、変換キット組立品３８０を示しており、特に、Ｐ１配置４８５の真空通路について焦点を当てている。Ｐ１ポート４５０は、図示されていない真空源と係合する。真空は縦方向ダクト４４５と接続し、縦方向ダクト４４５も同様に八角形ダクト４６０と接続する。Ｐ１用マニホールドプレート３８５の上面に設けられた八角形ダクト４６０は、Ｐ２用マニホールドプレート３９０を貫通する垂直ダクト４３５と接続する。係合プレート３９５内には複数の垂直ダクト４１５が存在するが、前記垂直ダクト４１５の位置は、Ｐ２用マニホールドプレート３９０の垂直ダクト４３５の位置と、完全には一致しない。
【０１０１】
パネル４００には、Ｐ１配置４８５と対応する一体型回路ユニット４７５が備え付けられている。Ｐ２配置と対応する係合部４８０は結果的に空白となり、一体型回路ユニット４７５間に十分な隙間が発生するため、検査、洗浄及びアクセスなどの面で利益を享受することができる。
【０１０２】
図１２ＧはＰ２配置４９０についての別の装置を示す。ここで、Ｐ２ポート４５５は、Ｐ１用マニホールドプレート３８５に対し、ダクト４６５、４７０を通じてバイパスを形成する。垂直ダクト４６５は、Ｐ２用マニホールドプレート３９０内のダクト配列と対応し、縦方向ダクト４２５に真空を供給する。縦方向ダクト４２５も続いて水平ダクト４３０に真空を供給する。これらは、係合プレート３９５を通じて垂直ダクトに対応し、最終的にＰ２配置４９０に特有のパネル４００内の垂直ダクトと対応する。このように中間部分に空白を残すことにより、ユニットのＰ２配置への係合が促進される。
【０１０３】
図１３Ａ、１３Ｂは、ユニットを上部に係合して対応する位置へ移動させる把持装置について、真空が付与された状態及び付与されていない状態を示す。把持装置は真空のあるシステムにおいて作動し、ばねを搭載した係合プレート５３０も真空システム下で作動する。把持装置は組立品５０５を備え、組立品５０５は、ポート５５０を真空源（図示せず）と係合するための把持装置マニホールドプレート５１０を備える。ポートは水平配置ダクト５４５と接続し、水平配置ダクト５４５は垂直ダクト５５５に真空を付与し、垂直ダクト５５５は、それぞれが選択された係合指５３０に対応している。図１２Ａ−１２Ｇに記載の変換キット組立品と同じく、把持装置組立品５０５はＰ１配置若しくはＰ２配置と共に作動するため、把持装置組立品５０５は、さらに係合プレート５２０を備え、係合プレート５２０は、交互のダクト中に係合指５３０を備える。これによって、ユニットが市松模様状の配置にて係合される。
【０１０４】
図１３Ａは、真空源の作用に対応し、係合指５３０を引いた位置から示している。この位置から見ると、封止フランジ５６０は、真空によってブロック（プレート）内に引き込まれているため、係合指５３０がパネル５２１と係合する。真空を付与することにより、封止フランジ５６０が係合ブロック５２０内に引き込まれるとともに、係合指５３０が牽引されるので、結果的にばね５４０が圧縮される。
【０１０５】
図１３Ｂは、真空を解除して封止フランジ５６０にかかる力が解放された結果を示す。解放されたばねは係合指５３０を押圧するので、係合指５３０がパネル５２１から突出し、結果的に係合面５２５がパネルから離れて突出することにより、ユニットに係合するためのアクセスが可能になる。
【０１０６】
ユニットと係合面５２５が接触したら、真空を再度作用させる。そうすると、ユニットが係合面５２５と係合し、自動的に封止フランジ５６０が係合ブロック５２０内に引っ込められるという２つの効果が得られる。
【図１】
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【図２】
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【図３Ａ】
2011527947.tif 000005
【図３Ｂ】
2011527947.tif 000006
【図３Ｃ】
2011527947.tif 000007
【図４】
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【図５Ａ】
2011527947.tif 000009
【図５Ｂ】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【図６Ｃ】
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【図７Ａ】
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【図７Ｂ】
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【図７Ｃ】
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【図７Ｄ】
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【図８Ａ】
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【図８Ｂ】
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【図８Ｃ】
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【図８Ｄ】
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【図９Ａ】
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【図９Ｂ】
2011527947.tif 000023
【図９Ｃ】
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【図９Ｄ】
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【図１０Ａ】
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【図１０Ｂ】
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【図１１Ａ】
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【図１１Ｂ】
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【図１１Ｃ】
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【図１１Ｄ】
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【図１１Ｅ】
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【図１２Ａ】
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【図１２Ｂ】
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【図１２Ｃ】
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【図１２Ｄ】
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【図１２Ｅ】
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【図１２Ｆ】
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【図１２Ｇ】
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【図１３Ａ】
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【図１３Ｂ】
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